(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＦＴ基板と、
前記ＴＦＴ基板上に形成された複数の第１の電極と、
前記複数の第１の電極を区画するように形成された複数の隔壁と、
前記複数の第１の電極上に形成された複数の正孔輸送層と、
前記複数の正孔輸送層上に印刷法を用いて形成された複数の有機発光層と、
前記複数の有機発光層上に形成された第２の電極と、を備え、
前記有機発光層のストライプの幅が、前記隔壁によって区画された第１の電極の幅と隣接する前記隔壁の幅の約２分の１とを加えた値であって、前記有機発光層のストライプは前記有機発光層のストライプの幅の約２分の１の凸部が形成された凸版を用いることにより形成されることを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項２】
前記隔壁の中央部に前記有機発光層の印刷のストライプ方向と同じ方向で撥液性を有する撥液隔壁部分がストライプ状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項３】
前記撥液性を有する撥液隔壁部分のストライプの幅が、隣接する前記隔壁の幅の６分の１乃至２分の１であることを特徴とする請求項２に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項４】
前記有機発光層のストライプの幅が、前記第１の電極の幅と隣接する前記隔壁の幅の２分の１とを加えた値であり、前記隔壁の中央部に前記有機発光層の印刷のストライプ方向と同じ方向で撥液性を有する前記隔壁部分がストライプ状に形成されていることを特徴とする請求項３に有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項５】
ＴＦＴ基板を準備し、
前記ＴＦＴ基板上に複数の第１の電極を形成し、
前記複数の第１の電極を区画するように複数の隔壁を形成し、
前記複数の第１の電極上に複数の正孔輸送層を形成し、
前記複数の正孔輸送層上に印刷法を用いて複数の有機発光層を形成し、
前記複数の有機発光層上に第２の電極を形成することを含み、
前記有機発光層のストライプの幅が、前記隔壁によって区画された第１の電極の幅と隣接する前記隔壁の幅の約２分の１とを加えた値であって、
前記有機発光層のストライプを前記有機発光層のストライプの幅の約２分の１の凸部が形成された凸版を用いて形成することを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
前記隔壁の中央部に前記有機発光層の印刷のストライプ方向と同じ方向で撥液性を有する撥液隔壁部分がストライプ状に形成されていることを特徴とする請求項５に記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
前記撥液性を有する撥液隔壁部分のストライプの幅が、隣接する前記隔壁の幅の６分の１乃至２分の１であることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
前記有機発光層のストライプの幅が、前記第１の電極の幅と隣接する前記隔壁の幅の２分の１とを加えた値であり、前記隔壁の中央部に前記有機発光層の印刷のストライプ方向と同じ方向で撥液性を有する前記隔壁部分がストライプ状に形成されていることを特徴とする請求項７に有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンスパネル及びその製造方法に関し、特に有機発光層を凸版印刷法によって形成する有機エレクトロルミネッセンスパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、「有機ＥＬ素子」という。）は、ふたつの対向する電極の間に有機発光材料を有する発光層が形成され、発光層に電流を流すことで発光させるものである。有機ＥＬ素子を効率よく発光させるには発光層の膜厚が重要であり、１００ｎｍ程度の薄膜にする必要がある。さらに、これをディスプレイ化するには高精細にパターニングする必要がある。
【０００３】
発光層を形成する有機発光材料には低分子材料と高分子材料とがある。一般に低分子材料は抵抗加熱蒸着法等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほどパターニング精度が出難いという問題がある。
【０００４】
そこで、最近では有機発光材料に高分子材料を用い、有機発光材料を溶剤に分散または溶解させて塗工液にし、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。薄膜形成するためのウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等がある。しかし、これらのウェットコーティング法では、高精細にパターニングしたりＲＧＢ３色に塗り分けが難しくなってしまう。そこで、塗り分け・パターニングを得意とする印刷法による薄膜形成が最も有効であると考えられる。
【０００５】
さらに、各種印刷法のなかでも、ガラスを基板とする有機ＥＬディスプレイパネルでは、グラビア印刷法等のように金属製の印刷版等の硬い版を用いる方法は不向きであり、弾性を有するゴムブランケットを用いるオフセット印刷法や同じく弾性を有するゴム版や樹脂版を用いる凸版印刷法が適正である。
【０００６】
印刷法による試みとして、特許文献１には、オフセット印刷による方法が開示されている。特許文献２には、凸版印刷による方法などが開示されている。
【０００７】
一方、高分子有機発光材料は、水、アルコール系の溶剤に対する溶解性が悪く、塗工液（以下、「インキ」という）化するには、有機溶剤を用いて溶解、分散させる必要があり、中でも、トルエンやキシレンその他の有機溶剤が好適である。したがって、有機発光材料のインキ（以下、「有機ＥＬインキ」という）は有機溶剤のインキとなっている。
【０００８】
ところが、オフセット印刷に用いるゴムブランケットはトルエンやキシレン有機溶剤によって膨潤や変形を起こしやすいという問題がある。ブランケットに使用されるゴムの種類はオレフィン系のゴムからシリコーン系のゴムまで多様であるが、いづれのゴムもトルエン、キシレンその他の溶剤に対して耐性がなく、膨潤や変形が起こりやすく、よって有機ＥＬインキの印刷には不適切である。
【０００９】
また、弾性を有する凸版を使用する凸版印刷方式にも、ゴム製の版を用いるフレキソ印刷方式と樹脂性の版を用いる樹脂凸版方式とがある。この方式の中で水現像タイプの樹脂凸版方式であれば、トルエン、キシレン、その他の有機溶剤に対する耐性も高く、有機ＥＬインキの印刷に使用可能である。
【００１０】
以上に述べた理由から、ガラス基板のような硬い基材の上に、トルエン、キシレン等の芳香族溶剤からなる有機ＥＬインキを印刷する方式としては、水現像タイプの樹脂凸版を用いる凸版印刷方式が最適である。
【００１１】
一方、印刷法でＲＧＢを塗りわけして有機ＥＬディスプレイの発光層を形成する場合には、パッシブマトリックスタイプでは当然ストライプ上の画素に対してストライプ状に発光層を印刷すれば良いが、ＴＦＴ基板上にパネルを形成するアクティブマトリックスでもＲＧＢ配列が直線状に並んだストライプ配列では、同様にストライプ状に発光層を印刷することが可能である。すなわち、ＴＦＴ基板の各画素は格子状に隔壁で仕切られているが、発光層は各画素列毎にストライプ状の連続したラインで印刷して形成することが可能である。また、ストライプ状に連続したラインで印刷できるということは、印刷ラインに対して同じ方向の印刷精度はそれほど厳しくなく、ライン方向に対して垂直な方向のみの印刷精度を厳しく管理すれば足りるというメリットがあり、ストライプでの印刷を行う方が、ドット印刷を行うよりも格段に好ましい。
【００１２】
前述したＴＦＴ基板のように画素が隔壁で格子上に仕切られた基板でも、ＲＧＢの発光層を印刷方式で形成する場合、ストライプ状に連続したラインで印刷する方が、ライン方向の印刷精度をそれほど厳しくする必要がなく有利である。この場合、ラインの方向に対して垂直な方向の印刷精度を如何に高めるかが、膜厚の均一性を高めるためのポイントである。
【００１３】
図５に示すように、印刷の位置ずれに対する許容範囲を考察すると、隣接する第１の電極２間の隔壁３部分に乗り上げたインキは最も近い第１の電極２内へ流れ込む可能性がある。従ってＲＧＢの各発光インキが第１の電極２間の隔壁３部分の中央より隣接する第１の電極２側に近い側まで印刷された場合、インキが隣接する第１の電極２へ流れ込み、混色２８を引き起こす可能性がある。すなわち、印刷する有機発光層５のストライプの幅が広いほど印刷の位置ズレが起きたときの混色２８に対する許容範囲は狭くなり、ストライプの幅が、第１の電極２の幅に隣接する第１の電極２間の隔壁３の幅を加えた値より大きい場合、ズレ許容範囲は全くなくなってしまう。
【００１４】
一方、印刷の位置ずれ２７が起きた場合に、第１の電極２内でインキの乗らない部分ができないようにするには、印刷するストライプの幅はできるだけ広い方が良い。たとえば第１の電極２の幅に対してストライプの幅が１０μｍ大きければ、第１の電極２のセンターと印刷ストライプとのセンターが合った位置から左右にそれぞれ５μｍずつずれても許容範囲内となり、ストライプの幅が２０μｍ大きければ、左右にそれぞれ１０μｍずつがずれの許容範囲となる。
【００１５】
このように、印刷のストライプ方向に対して垂直な方向への印刷ずれの許容範囲は、混色防止の観点からは印刷ストライプの幅が狭い方が好ましいが、第１の電極２へのインキの安定供給の観点からは印刷ストライプの幅が広い方が好ましい。混色防止と第１の電極２へのインキ安定供給との両方を満足させるには、印刷ストライプの最適幅の選定と仮に印刷幅が広くなっても混色を防止できるための特別な手段の考案が必要となる。
【特許文献１】特開２００１−９３６６８号公報
【特許文献２】特開２００１−１５５８５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明は、混色防止と画素へのインキ安定供給との両方を満足させるために、印刷法を用いて印刷する発光層のストライプ幅を最適化するとともに、凸版印刷方式によりＴＦＴ基板上に混色無く安定した膜厚で有機発光層を形成した有機ＥＬディスプレイパネル及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記課題を解決するために、本発明者等は、凸版印刷法を用いてＲＧＢ各色の発光層をＴＦＴ基板の各画素ラインにストライプ状に形成する手段において、ストライプ方向に垂直な方向への印刷位置ずれがあった場合に、混色及び画素へのインキ安定供給に対する許容範囲が大きくなる手段を見出した。
【００１８】
本発明の請求項１に係る発明は、ＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板上に形成された複数の第１の電極と、複数の第１の電極を区画するように形成された複数の隔壁と、複数の第１の電極上に形成された複数の正孔輸送層と、複数の正孔輸送層上に印刷法を用いて形成された複数の有機発光層と、複数の有機発光層上に形成された第２の電極と、を備え、有機発光層のストライプの幅が、第１の電極の幅と隣接する隔壁の幅の約２分の１とを加えた値であることを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネルとしたものである。なお、本件における約２分の１とは、２分の１の±２０％を含むものとする。
【００１９】
本発明の請求項２に係る発明は、隔壁の中央部に有機発光層の印刷のストライプ方向と同じ方向で撥液性を有する撥液隔壁部分がストライプ状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネルとしたものである。
【００２０】
本発明の請求項３に係る発明は、撥液性を有する撥液隔壁部分のストライプの幅が、隣接する隔壁の幅の６分の１乃至２分の１であることを特徴とする請求項２に記載の有機ＥＬディスプレイパネルとしたものである。
【００２１】
本発明の請求項４に係る発明は、有機発光層のストライプの幅が、第１の電極の幅と隣接する隔壁の幅の２分の１とを加えた値であり、隔壁の中央部に有機発光層の印刷のストライプ方向と同じ方向で撥液性を有する隔壁部分がストライプ状に形成されていることを特徴とする請求項３に有機ＥＬディスプレイパネルとしたものである。
【００２２】
本発明の請求項５に係る発明は、ＴＦＴ基板を準備し、ＴＦＴ基板上に複数の第１の電極を形成し、複数の第１の電極を区画するように複数の隔壁を形成し、複数の第１の電極上に複数の正孔輸送層を形成し、複数の正孔輸送層上に印刷法を用いて複数の有機発光層を形成し、複数の有機発光層上に第２の電極を形成することを含み、有機発光層のストライプの幅が、第１の電極の幅と隣接する隔壁の幅の約２分の１とを加えた値であることを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法としたものである。
【００２３】
本発明の請求項６に係る発明は、隔壁の中央部に有機発光層の印刷のストライプ方向と同じ方向で撥液性を有する撥液隔壁部分がストライプ状に形成されていることを特徴とする請求項５に記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法としたものである。
【００２４】
本発明の請求項７に係る発明は、撥液性を有する撥液隔壁部分のストライプの幅が、隣接する隔壁の幅の６分の１乃至２分の１であることを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法としたものである。
【００２５】
本発明の請求項８に係る発明は、有機発光層のストライプの幅が、第１の電極の幅と隣接する隔壁の幅の２分の１とを加えた値であり、隔壁の中央部に有機発光層の印刷のストライプ方向と同じ方向で撥液性を有する隔壁部分がストライプ状に形成されていることを特徴とする請求項７に有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法としたものである。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、混色防止と画素へのインキ安定供給との両方を満足させるために、印刷法を用いて印刷する発光層のストライプ幅を最適化するとともに、凸版印刷方式によりＴＦＴ基板上に混色無く安定した膜厚で発光層を形成した有機ＥＬディスプレイパネル及びその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。実施の形態において、同一構成要素には同一符号を付け、実施の形態の間において重複する説明は省略する。なお、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２８】
図１に示すように、本発明の実施の形態に係るアクティブマトリックスタイプの有機ＥＬディスプレイパネル１００は、薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」という）が形成された基板１、第１の電極２、隔壁３、正孔輸送層４、有機発光層５、図示しない第２の電極及び封止層を備えている。ここで、有機ＥＬ素子は、第１の電極２、隔壁３、正孔輸送層４、有機発光層５及び第２の電極をいう。
【００２９】
本発明の実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイパネル１００は、アクティブマトリックスタイプに限定されるものではなく、例えば、パッシブマトリクスタイプの有機ＥＬディスプレイパネルに適用できる。
【００３０】
本発明の実施の形態に係る基板１には、ＴＦＴと有機ＥＬ素子とが設けられている。基板１の材料としては、機械的強度、絶縁性を有して寸法安定に優れていることものを用いることができる。基板１の材料として、例えば、ガラスや石英、プラスチックシートやフィルムまたは透光性基材、非透光性基材などを用いることができる。
【００３１】
図３（ａ）に示すように、本発明の実施の形態に係る薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」という）基板１は、第１の電極２がポリイミドなどの絶縁材料を有する隔壁３によって区画されて、第１の電極２が独立したマトリックス状の開口部を有する画素６になる。有機発光層ストライプの幅２９は、画素の幅２３と隣接する隔壁の幅の２分の１（２４）を加えた値になっている。
【００３２】
図３（ｂ）に示すように、本発明の実施の形態に係るＴＦＴ基板１は、第１の電極２を区画する隔壁３上の中央付近に撥液性の材料を有するストライプ状の撥液隔壁部分７を備えている。隔壁３上の中央付近にストライプ状の撥液隔壁部分７を形成する場合は、ＴＦＴ基板１上に形成された隔壁３に、フォトリソグラフ法を用いることができるフッ素系レジスト材料を用いて、スピンコート、マスク露光、現像により形成できる。
【００３３】
本発明の実施の形態に係る第１の電極２は、画素電極であり、基板１上のＴＦＴのソース電極またはドレイン電極に電気的に接続されて、必要に応じてパターニングで形成される。第１の電極２は隔壁３によって区画され、各画素に対応した画素電極（第１の電極２）となる。第１の電極２の材料としては、ＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物）などの仕事関数の高い材料を選択することが好ましい。
【００３４】
本発明の実施の形態に係る隔壁３は、画素６に対応した発光領域を区画するように形成することができる。図１に示すように、第１の電極２の端部を覆うように形成するのが好ましい。アクティブマトリクス駆動型の有機ＥＬ表示装置１００は各画素６に対して第１の電極２が形成され、各画素ができるだけ広い面積を占有しようとする。そのため、第１の電極２の端部を覆うように形成される隔壁３の最も好ましい形状は各第１の電極２を最短距離で区切る格子状を基本とする。隔壁３の材料には、ポリイミド系、アクリル樹脂系、ノボラック樹脂系、フレオレン系等を用いることができる。
【００３５】
前述したＴＦＴ基板１を用いて、まず第１の電極２（画素６）上に正孔輸送層４を形成する。正孔輸送層４を形成する正孔輸送材料としては、ポリアニリン誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）誘導体、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）（ＰＥＤＯＴ）等が挙げらる。これらの材料は溶媒に溶解または分散させて正孔輸送層４の材料インキとし、スピンコート法で全面塗布して薄膜形成できる。
【００３６】
正孔輸送層４の形成後に、有機発光層５を形成する。有機発光層５を形成する有機発光材料は、例えばクマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクドリン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクドリン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系、イリジウム錯体系等の発光性色素を、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に分散させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリオレフィン系の高分子材料が挙げられる。これらの有機発光材料は溶媒に溶解または分散させて有機発光インキとすることができる。有機発光材料を溶解または分散させる溶媒としては、トルエン、キシレン、アセトン、アニソール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等の単独またはこれらの混合溶媒が挙げられる。中でもトルエン、キシレン、アニソールといった芳香族有機溶媒が有機発光材料の溶解性の面から好適である。
【００３７】
有機発光層５の形成方法は、水現像タイプの樹脂凸版を用いて凸版印刷法で行うことができる。本発明の実施の形態に係る樹脂凸版を構成する水現像タイプの感光性樹脂としては、例えば親水性のポリマーと不飽和結合を含むモノマーいわゆる架橋性モノマー及び光重合開始剤を構成要素とするタイプが挙げられる。このタイプでは、親水性ポリマーとしてポリアミド、ポリビニルアルコール、セルロース誘導体等が用いられる。また、架橋性モノマーとしては、例えばビニル結合を有するメタクリレート類が挙げられ、光重合開始剤としては例えば芳香族カルボニル化合物が挙げられる。中でも、印刷適正の面からポリアミド系の水現像タイプの感光性樹脂が好適である。
【００３８】
本発明の実施の形態に係る樹脂凸版は、ＲＧＢのうち一色分の画素に合わせて、その一色分の配置に対応したストライプ状の凸部が形成された凸版を用いることが好ましく、凸部の幅は、所望する有機発光層５の印刷ストライプ幅の約２分の１が好ましい。これは種々実験の結果、例示した有機発光層５のインキをＴＦＴ基板１上に印刷した場合、印刷された有機発光層５のストライプの幅は、凸版の凸部の幅の約２倍になるからである。
【００３９】
有機発光層５の形成に用いる印刷機は、平板に印刷する方式の凸版印刷機であれば使用できるが、以下に示すような印刷機が望ましい。図２に示すように、本発明の実施の形態に係る凸版印刷装置３００は、インクタンク３２とインキチャンバ３３とアニロックスロール３４と樹脂凸版３６を取り付けした版胴３７とを有している。インクタンク３２には、溶剤で希釈された正孔輸送材料インキまたは有機発光インキが収容されており、インキチャンバ３３にはインクタンク３２より正孔輸送材料インキまたは有機発光インキが送り込まれるようになっている。アニロックスロール３４は、インキチャンバ３３のインキ供給部及び版胴３７に接して回転するようになっている。
【００４０】
アニロックスロール３４の回転にともない、インキチャンバ３３から供給されたインキ３５はアニロクスロール３４の表面に均一に保持されたあと、版胴３７に取り付けされた樹脂凸版３６の凸部に均一な膜厚で転移する。さらに、被印刷基板３１は摺動可能な基板固定台３８上に固定され、凸版３６のパターンと基板のパターンの位置調整機構により、位置調整しながら印刷開始位置まで移動して、版胴３７の回転に合わせて版３６の凸部が基板に接しながらさらに移動し、基板の所定位置にパターニングしてインキを転移する。
【００４１】
有機発光層５の形成後、第２の電極（図示せず）を形成する。第２の電極の材料としては、有機発光層５の発光特性に応じたものを使用でき、例えば、リチウム、マグネシウム、カルシウム、イッテルビウム、アルミニウム等の金属単体やこれらと金、銀などの安定な金属との合金などが挙げられる。また、インジウム、亜鉛、錫などの導電性酸化物を用いることもできる。第２の電極の形成方法としては、マスクを用いた真空蒸着法による形成方法が挙げられる。
【００４２】
最後にこれらの有機ＥＬ素子を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤とを用いて密封封止し、有機ＥＬディスプレイ装置１００を得ることができる。
【００４３】
本発明の実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイ１００は、凸版印刷法を用いて、ＲＧＢ各色の有機発光層５をＴＦＴ基板１の各画素ライン毎にストライプ状に形成する場合に、印刷される有機発光層５のストライプの幅を、第１の電極２の幅と隣接する隔壁３の幅の約２分の１とを加えた値にすることが好ましい。なお、約２分の１とは、２分の１の±２０％を含むものとする。
【００４４】
有機発光層５のストライプの中心と第１の電極２の中心とが一致するように印刷した場合、有機発光層５の印刷ストライプの端部が、第１の電極２の中心と第１の電極２の端部との丁度中間に位置することになる。したがって、この状態で印刷ストライプに対して垂直な方向への印刷ずれが生じた場合、有機発光層５の印刷ストライプの端部が第１の電極２の中心より隣接する第１の電極２側へ寄るまでのずれ幅と第１の電極２の端部より内側に寄るまでのずれ幅とが等しい値になり、印刷ずれに対する許容範囲がこのとき最大となる。
【００４５】
隔壁３の中央部に有機発光層５の印刷のストライプ方向と同じ方向で撥液性の材料を有する撥液隔壁部分７がストライプ状に形成されていることで、仮に有機発光層５の印刷ストライプの端部が第１の電極２の中心部から隣接する第１の電極２側へずれようとしても撥液隔壁部分７の撥液効果によりずれを補正する効果が得られる。
【実施例１】
【００４６】
ＴＦＴ基板１には、第１の電極２、取り出し電極（図示せず）、ＴＦＴ回路（図示せず）、ＴＦＴ回路を保護するためのＳｉＮｘ膜を有する絶縁層及びポリイミドを有する隔壁３を備えている。隔壁３は第１の電極２を仕切るように形成されている。
【００４７】
図３（ａ）に示すように、隔壁３で仕切られた第１の電極２の開口部２０のサイズは、縦５４μｍ、横１８μｍの長方形状であった。また、横方向のピッチは４２μｍであり、よって第１の電極２の一端から隣接する第１の電極２の端部までの距離は２４μｍとなる。ここで、縦方向は印刷する有機発光層５のストライプの方向と同一であり、横方向は印刷ストライプに対して垂直な方向である。
【００４８】
第１の電極２上に形成する正孔輸送層４は、第１の電極２上にＰＥＤＯＴ／ＰＳＳの水分散液をスピンコート法で塗布して膜厚５０ｎｍの薄膜を得ることができた。
【００４９】
正孔輸送層４上に形成する有機発光層５は、有機発光材料であるポリフルオレン系のＲ材料、Ｇ材料、Ｂ材料をそれぞれ濃度１％になるようにトルエンに溶解させたＲＧＢ３色の有機発光インキを用い、ストライプ状の凸版で、各画素にＲＧＢを塗り分けて、凸版印刷法で印刷した。このとき、有機発光層５の印刷には水現像タイプの感光性樹脂版を使用した。
【００５０】
印刷する有機発光層５のストライプの幅が３０μｍとなるよう設定した。これは、画素の幅１８μｍに第１の電極２の端部から隣接する第１の電極２の端部までの距離である２４μｍの２分の１の値である１２μｍを加えた値である。印刷する有機発光層５のストライプの幅を３０μｍに設定するため、版の凸部の幅は１５μｍとした。
【００５１】
このように、印刷する有機発光層５のストライプの幅を３０μｍとしたことで、第１の電極２の中心とストライプの中心を合わせたときにストライプの端部が第１の電極２の端部より６μｍ隔壁３に乗り上げたところにあり、隣接する第１の電極２間の中心まで６μｍ、第１の電極２の端部まで６μｍとそれぞれ距離があり、したがて印刷ずれに対する許容範囲は印刷する画素へのインキ供給のムラに対する許容範囲および混色に対する許容範囲ともに６μｍずつとなる。
【００５２】
このようにして、パネル１０枚についてＲＧＢ３色の有機発光層５の印刷を行い、すなわち３０回印刷したが、隣接する第１の電極２間の混色はみられず、またパネル内の膜厚分布も均一であった。
【００５３】
次に、有機発光層５上に形成する第２の電極６は、Ｃａ、Ａｌを抵抗過熱蒸着法により真空蒸着して形成した。最後にこれらの有機ＥＬ素子を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤とを用いて密閉封止し、有機ＥＬディスプレイパネル１００を作製した。得られた有機ＥＬディスプレイパネル１００の表示部の周縁部には、各第１の電極２に接続されている陽極側及び陰極側それぞれの取り出し電極があり、これらをドライバを介して駆動装置に接続することでパネルの点灯表示確認を行い、発光状態のチェックを行った。
【実施例２】
【００５４】
図３（ｂ）に示すように、第１の電極２間の隔壁３の中央部に撥液材料を有する撥液隔壁部分７がストライプ状に形成されているＴＦＴ基板１を用い、撥液隔壁部分７のストライプの幅は４μｍとした。その他は実施例１と同様に、有機ＥＬディスプレイパネル１００を作製した。
【００５５】
印刷する有機発光層５のストライプの幅は実施例１と同様に３０μｍであるから、第１の電極２の中心とストライプの中心を合わせたときにストライプの端部が第１の電極２の端部より６μｍ隔壁３に乗り上げたところにあり、隣接する第１の電極２間の中心までは６μｍであるが、撥液隔壁部分７の幅が４μｍあり第１の電極２間の中央より隣接する第１の電極２方向への幅も２μｍあり、この範囲までは隣接する第１の電極２への混色を防止できるから、実際には隣接する第１の電極２の方向への印刷ずれに対する許容範囲は本来の６μｍに撥液隔壁部分７の効果による２μｍを加えて８μｍとなる。また、有機発光層５のストライプの端部が隔壁３に乗り上げる幅は６μｍであるから、印刷する第１の電極２方向への印刷ズレにたいする許容範囲も６μｍであり、したがって印刷ずれに対する許容範囲は印刷する第１の電極２へのインキ供給ムラに対する許容範囲は６μｍであるが、隣接する第１の電極２への混色に対する許容範囲が８μｍと広がる。
【００５６】
実施例１と同様に、パネル１０枚についてＲＧＢ３色の有機発光層５の印刷を行い、すなわち３０回印刷したが、隣接する第１の電極２間の混色はみられず、またパネル内の膜厚分布も均一であった。
【実施例３】
【００５７】
図３（ｂ）に示すように、第１の電極２間の隔壁３の中央部に撥液材料からなる撥液隔壁部分７がストライプ状に形成されているＴＦＴ基板１を用い、撥液隔壁部分７のストライプの幅は１２μｍとした。その他は実施例１と全く同様にして有機ＥＬディスプレイパネル１００を作製した。
【００５８】
印刷する有機発光層５のストライプの幅は実施例１と同様に３０μｍであるから、第１の電極２の中心とストライプの中心を合わせたときにストライプの端部が第１の電極２の端部より６μｍ隔壁３に乗り上げたところにあり、隣接する第１の電極２間の中心までは実施例１と同様に６μｍであるが、撥液隔壁部分７の幅が１２μｍあり第１の電極２間の中央より隣接する第１の電極２方向への幅も６μｍあり、この範囲までは隣接する第１の電極２への混色を防止できるから、実際には隣接する第１の電極２方向への印刷ずれに対する許容範囲は本来の６μｍに撥液隔壁部分７の効果による６μｍを加えて１２μｍとなる。また、有機発光層５のストライプの端部が隔壁３に乗り上げる幅は実施例１と同様６μｍであるから、印刷する第１の電極２方向への印刷ズレにたいする許容範囲も６μｍであり、したがて印刷ずれに対する許容範囲は印刷する第１の電極２へのインキ供給ムラに対する許容範囲は６μｍで実施例１と同じであるが、隣接する第１の電極２への混色に対する許容範囲が１２μｍと広がる。
【００５９】
また、実施例３でも実施例１と同様に、パネル１０枚についてＲＧＢ３色の有機発光層５の印刷を行い、すなわち３０回印刷したが、隣接する第１の電極２間の混色はみられず、またパネル内の膜厚分布も均一であった。
【００６０】
［比較例１］
印刷する有機発光層５のストライプ幅を３８μｍとした他は、実施例１と全く同様にして有機ＥＬディスプレイパネル１００を作製した。
【００６１】
印刷する有機発光層５のストライプの幅を３８μｍとした場合、第１の電極２の中心とストライプの中心を合わせたときにストライプの端部が第１の電極２の端部より１０μｍ隔壁３に乗り上げたところにあり、隣接する第１の電極２間の中心まで２μｍと実施例１の場合よりも狭くなってしまう。したがって隣接する第１の電極２への混色に対する印刷ずれの許容範囲すなわち隣接する第１の電極２方向への印刷ずれの許容範囲は２μｍとなる。
【００６２】
実施例１と同様に、パネル１０枚についてＲＧＢ３色の有機発光層５の印刷を行い、すなわち３０回印刷したところ、１枚のパネルに混色がみられた。
【００６３】
［比較例２］
図３（ａ）に示すように、印刷する有機発光層５のストライプ幅を２４μｍとした他は、実施例１と全く同様にして有機ＥＬディスプレイパネル１００を作製した。
【００６４】
印刷する有機発光層５のストライプの幅を２２μｍとした場合、第１の電極２の中心とストライプの中心を合わせたときにストライプの端部が第１の電極２の端部より２μｍ隔壁に乗り上げたところにあり、印刷する第１の電極２の端部まで２μｍと実施例１の場合よりも狭くなってしまう。したがって印刷する第１の電極２へのインキ供給ムラに対する印刷ずれの許容範囲すなわち印刷する第１の電極２方向への印刷ずれの許容範囲は２μｍとなる。
【００６５】
実施例１と同様に、パネル１０枚についてＲＧＢ３色の有機発光層５の印刷を行い、すなわち３０回印刷したところ、パネル内の膜厚分布の悪くバラツキの大きいパネルが数枚みられた。
【００６６】
［比較例３］
図３（ｂ）に示すように、第１の電極２の隔壁３の中央部に撥液材料からなる撥液隔壁部分７がストライプ状に形成されているＴＦＴ基板１を用い、撥液隔壁部分７のストライプの幅は１６μｍとした。その他は実施例１と同様にして有機ＥＬディスプレイパネル１００を作製した。
【００６７】
印刷する有機発光層５のストライプの幅は実施例１と同様に３０μｍであるから、第２の電極２の中心とストライプの中心を合わせたときにストライプの端部が第２の電極２の端部より６μｍ隔壁３に乗り上げたところにあるが、本比較例では撥液隔壁部分７の幅が１６μｍあるため通常の隔壁３の部分は第２の電極２の端部から４μｍの幅しかないため、印刷した有機発光層５のストライプの端部が撥液効果で印刷する第２の電極２側へ２μｍ分押し戻されることになり、印刷する第２の電極２へのインキ供給の不安定化を招きやすい。
【００６８】
実施例１と同様に、パネル１０枚についてＲＧＢ３色の有機発光層５の印刷を行い、すなわち３０回印刷したところ、パネル内の膜厚分布の悪くバラツキの大きいパネルが数枚みられた。
【００６９】
実施例１〜３及び比較例１〜３のように作製した有機ＥＬディスプレイパネル１００の画素内の混色状態及び膜厚バラツキを評価した結果を表１に示す。
混色評価、○：混色パネル無し、×：混色パネル有り
発光層膜分布評価、○：分布悪いパネル無し、×：分布悪いパネル有り
【００７０】
【表１】
0005374892.tif 000002
【００７１】
表１の実施例１〜３では、印刷したパネル１０枚いずれも混色はみられず、またパネル内の有機発光層５の膜厚バラツキも小さく良好であった。これは、実施例１〜３の場合、混色及びインキ供給ムラに対する印刷ずれの許容範囲が６μｍ以上あり、印刷精度の５μｍに対してゆとりがあったためと思われる。
【００７２】
一方、比較例１では印刷したパネル１０枚の内１枚に混色がみられ、比較例２及び比較例３では印刷したパネル１０枚のうち膜厚分布の悪いパネルが数枚みられた。これは比較例１では混色に対する印刷ずれの許容範囲が２μｍと印刷精度の５μｍより狭く、ゆとりが無かったためであり、比較例２及び比較例３ではインキ供給ムラに対する印刷ずれの許容範囲が２μｍまたはそれ以下であり、印刷精度の５μｍより狭く、ゆとりが無かったためと推測される。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】本発明の実施の形態に係る有機ＥＬディスプレイパネルの一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る凸版印刷装置の一例を示す概略断面図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る有機発光層のストライプの幅の関係を示す図であり、（ａ）は撥液隔壁がない場合を示す図であり、（ｂ）は撥液隔壁がある場合を示す図である。
【図４】本発明の実施の形態に係る印刷法を用いた場合の印刷ずれの許容幅を示す図である。
【図５】印刷法を用いた場合の印刷ずれ時の不具合を示す図である。
【符号の説明】
【００７４】
１：基板
２：第１の電極
３：隔壁
４：正孔輸送層
５：有機発光層
２０：第１の電極の開口部
２１：隔壁の幅
２２：第１の電極間の隔壁の幅
２３：第１の電極の幅
２４：隔壁の幅の２分の１
２５：印刷位置に対する許容幅
２６：混色に対する許容幅
２７：印刷位置のずれ
２８：混色の恐れ
３１：被印刷基板
３２：インキタンク 
３３：インキチャンバ
３４：アニロックスロール
３５：インキ
３６：版
３７：版胴
３８：基板固定台
１００：有機ＥＬディスプレイ
３００：凸版印刷装置
【図１】
0005374892.tif 000003
【図２】
0005374892.tif 000004
【図３】
0005374892.tif 000005
【図４】
0005374892.tif 000006
【図５】
0005374892.tif 000007