(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体基板に形成された入射光量を電気信号に変換する複数のセンサ部と、
前記センサ部の側方の前記半導体基板に形成された周辺回路部と
を有する固体撮像装置であって、
前記センサ部に対する光入射側の前記半導体基板上における当該センサ部と前記周辺回路部との全面にわたって、当該センサ部の受光面にホール蓄積層を形成するための負の固定電荷を有する膜が形成され、
前記光入射側とは反対側の前記半導体基板上に、配線層が設けられ、
前記光入射側の前記半導体基板上における少なくとも前記周辺回路部上に、前記負の固定電荷を有する膜を介して遮光膜が形成され、
前記周辺回路部における前記配線層と前記負の固定電荷を有する膜との間の前記半導体基板中に、Ｎ型不純物領域が形成されている
ことを特徴とする固体撮像装置。
【請求項２】
前記Ｎ型不純物領域は、前記センサ部に重なることなく設けられた
請求項１記載の固体撮像装置。
【請求項３】
前記センサ部の側部には画素分離領域が設けられ、
前記Ｎ型不純物領域は、前記画素分離領域によって前記センサ部に対して分離した状態で設けられた
請求項１または２に記載の固体撮像装置。
【請求項４】
前記負の固定電荷を有する膜は、
酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）膜、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）膜、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）膜、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）膜、酸化チタン（ＴｉＯ2）膜、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）膜、酸化プラセオジム（Ｐｒ２Ｏ３）膜、酸化セリウム（ＣｅＯ2）膜、酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）膜、酸化プロメチウム（Ｐｍ２Ｏ３）膜、酸化サマリウム（Ｓｍ2Ｏ３）膜、酸化ユウロピウム（Ｅｕ2Ｏ３）膜、酸化ガドリニウム（Ｇｄ2Ｏ３）膜、酸化テルビウム（Ｔｂ2Ｏ３）膜、酸化ジスプロシウム（Ｄｙ2Ｏ３）膜、酸化ホルミウム（Ｈｏ2Ｏ３）膜、酸化エルビウム（Ｅｒ2Ｏ３）膜、酸化ツリウム（Ｔｍ2Ｏ３）膜、酸化イッテルビウム（Ｙｂ2Ｏ３）膜、酸化ルテチウム（Ｌｕ2Ｏ３）膜、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ３）膜、窒化ハフニウム膜、窒化アルミニウム膜、酸窒化ハフニウム膜、または酸窒化アルミニウム膜である
請求項１〜３の何れかに記載の固体撮像装置。
【請求項５】
前記半導体基板と前記負の固定電荷を有する膜との間に、当該半導体基板の界面順位を下げる膜が設けられた
請求項１〜４の何れかに記載の固体撮像装置。
【請求項６】
前記界面順位を下げる膜は、酸化シリコン膜である
請求項５記載の固体撮像装置。
【請求項７】
前記負の固定電荷を有する膜と前記遮光膜との間には、絶縁膜が設けられている
請求項１〜６の何れか１項に記載の固体撮像装置。
【請求項８】
前記絶縁膜は、酸化シリコン膜である
請求項７記載の固体撮像装置。
【請求項９】
半導体基板に形成された入射光量を電気信号に変換する複数のセンサ部と、
前記センサ部の側方の前記半導体基板に形成された周辺回路部とを有し、
前記センサ部に対する光入射側の前記半導体基板上における当該センサ部と前記周辺回路部との全面にわたって、当該センサ部の受光面にホール蓄積層を形成するための負の固定電荷を有する膜が形成され、
前記光入射側とは反対側の前記半導体基板上に、配線層が設けられ、
前記光入射側の前記半導体基板上における少なくとも前記周辺回路部上に、前記負の固定電荷を有する膜を介して遮光膜が形成される固体撮像装置の製造方法であって、
前記周辺回路部における前記配線層と前記負の固定電荷を有する膜との間の前記半導体基板中に、Ｎ型不純物領域を形成する
ことを特徴とする固体撮像装置の製造方法。
【請求項１０】
入射光を集光する集光光学部と、
前記集光光学部で集光した光を受光して光電変換する固体撮像装置と、
光電変換された信号を処理する信号処理部とを備え、
前記固体撮像装置は、
半導体基板に形成された入射光量を電気信号に変換する複数のセンサ部と、
前記センサ部の側方の前記半導体基板に形成された周辺回路部とを有し、
前記センサ部に対する光入射側の前記半導体基板上における当該センサ部と前記周辺回路部との全面にわたって、当該センサ部の受光面にホール蓄積層を形成するための負の固定電荷を有する膜が形成され、
前記光入射側とは反対側の前記半導体基板上に、配線層が設けられ、
前記光入射側の前記半導体基板上における少なくとも前記周辺回路部上に、前記負の固定電荷を有する膜を介して遮光膜が形成され、
前記周辺回路部における前記配線層と前記負の固定電荷を有する膜との間の前記半導体基板中に、Ｎ型不純物領域が形成されている
ことを特徴とする撮像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホール蓄積ダイオードを有した固体撮像装置およびその製造方法および撮像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ビデオカメラやデジタルスチルカメラなどにおいて、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）やＣＭＯＳイメージセンサで構成された固体撮像装置が広く使用されている。これらの固体撮像装置に共通して、感度の向上と並んでノイズ低減は重要な課題である。
【０００３】
特に、入射光が無い状態で、入射光の光電変換により生じる純粋な信号電荷が無いにもかかわらず、受光面の基板界面に存在する微小欠陥から発生する電荷（電子）が、信号として取り入れられて微小電流となって検知される暗電流や、センサ部と上層膜との界面における界面準位が発生源となる暗電流は、固体撮像装置として低減されるべきノイズである。
【０００４】
界面準位起因の暗電流の発生を抑制する手法として、例えば、図９（２）に示すように、センサ部（例えばフォトダイオード）１２上にＰ+層からなるホール蓄積（ホールアキュムレーション）層２３を有する埋め込み型フォトダイオード構造が用いられている。なお、本明細書では前記埋め込み型フォトダイオード構造をＨＡＤ（Hole Accumulated Diode）構造と呼ぶことにする。図９（１）に示すように、ＨＡＤ構造を設けない構造では界面準位に起因して発生した電子が暗電流としてフォトダイオード中に流れ込む。一方、図９（２）に示すように、ＨＡＤ構造では界面に形成されたホール蓄積層２３によって、界面からの電子の発生が抑制される、また界面から発生する電荷（電子）が発生したとしても、センサ部１２のＮ+層でポテンシャルの井戸になっている電荷蓄積部分に流入することなく、ホールが多数存在するＰ+層のホール蓄積層２３を流動し、消滅させることができる。よって、この界面起因の電荷が暗電流となって検知されることを防ぐことができ、界面準位起因による暗電流が抑制できる。
【０００５】
この暗電流を抑制する方法は、ＣＣＤ、ＣＭＯＳイメージセンサのどちらにも採用することができ、また、従来の表面照射型のイメージセンサに加え、裏面照射型のイメージセンサ（例えば、特許文献１参照。）にも取り入れることができる。
【０００６】
このＨＡＤ構造の作製方法としては、基板上に形成された熱酸化シリコン膜またはＣＶＤ酸化シリコン膜を介して、Ｐ+層を形成するような不純物、例えばホウ素（Ｂ）や二フッ化ホウ素（ＢＦ2）等をイオン注入した後、アニールによって注入不純物の活性化を施し、界面近傍にＰ型領域を作製することが一般的である。しかしながら、ドーピング不純物の活性化のために７００℃以上という高温の熱処理が必要不可欠であるため、４００℃以下といった低温プロセスではイオン注入によるホール蓄積層の形成が困難になっている。またドーパントの拡散を抑制するために、高温での長時間の活性化を避けたい場合も、イオン注入およびアニールを施すホール蓄積層の形成方法は好ましくない。
【０００７】
また、センサ部上層に形成される酸化シリコンや窒化シリコンを、低温のプラズマＣＶＤなどの手法で形成すると、高温で形成した膜と受光表面との界面と比較して、界面準位は悪化する。この界面準位の悪化は、暗電流の増加を発生させる。
【０００８】
以上のように、イオン注入および高温でのアニール処理を避けたい場合には、従来のイオン注入によるホール蓄積層の形成はできない上に、暗電流はより悪化する方向に向かう。それを解決すべく従来のイオン注入によらない別の手法でホール蓄積層を形成する必要が生じる。
【０００９】
その一例として、センサ部上層に負の固定電荷を有する膜を形成する方法がある。この方法では、負の固定電荷に起因した電界により、センサ部の受光面側の界面にホール蓄積（ホールアキュミュレーション）層が形成される。したがって、界面から発生する電荷（電子）が、抑制されるとともに、電荷（電子）が発生してもセンサ部でポテンシャルの井戸になっている電荷貯蓄部分に流入することなく、ホールが多数存在するホール蓄積層を流動し、消滅させることができる。よって、この界面起因の電荷による暗電流がセンサ部で検知されるのを防ぐことができ、界面準位起因による暗電流が抑制される。このように、負の固定電荷を有する膜を用いることで、イオン注入およびアニールを施すことなくＨＡＤ構造の形成が可能となる。上記負の固定電荷を有する膜は、例えば、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）膜、で形成されている。
【００１０】
しかし、上述したように、受光面上に負の固定電荷を有する膜が形成された構成を、裏面照射型ＣＣＤもしくはＣＭＯＳイメージセンサに適用した場合、例えば、図１０に示すように、センサ部１２の受光面１２ｓの全面に負の固定電荷を有する膜２２が形成されることになる。したがって、ＨＡＤを形成したい画素領域だけでなく、周辺回路部１４上の半導体基板１１表面にまでホール蓄積層２３（Ｐ+層）が形成されることになる。
【００１１】
例えば、周辺回路部１４において、半導体基板１１の裏側に負電位を作り出すようなウエル領域、拡散層、回路等（図面では一例として拡散層１５が記載されている。）が存在している場合、正の電荷を持ったホールはこの負電位に引き寄せられて拡散することになる。したがって、引き寄せられた正電荷のために、所望の負電位が得られず、設計値よりも正側に寄った電位を出力することになるので、この電位を用いたセンサ部の印加電圧に支障を来たし、画素特性自体を変動させることになるという問題が生じる。
【００１２】
【特許文献１】特開２００３−３３８６１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
解決しようとする問題点は、周辺回路部において、所望の負電位が得られず、設計値よりも正電位側に寄った電位を出力することになるので、この電位を用いたセンサ部の印加電圧に支障を来たし、画素特性自体を変動させることになる点である。
【００１４】
本発明は、周辺回路部における負の固定電荷を有する膜の影響を排除して、周辺回路部の正常の動作を可能にすることを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
第１の発明は、半導体基板に形成された入射光量を電気信号に変換する複数のセンサ部と、前記センサ部の側方の前記半導体基板に形成された周辺回路部とを有する固体撮像装置であって、前記センサ部に対する光入射側の前記半導体基板上における当該センサ部と前記周辺回路部との全面にわたって、当該センサ部の受光面にホール蓄積層を形成するための負の固定電荷を有する膜が形成されていて、前記光入射側とは反対側の前記半導体基板上に、配線層が設けられ、前記光入射側の前記半導体基板上における少なくとも前記周辺回路部上に、前記負の固定電荷を有する膜を介して遮光膜が形成され、前記周辺回路部における前記配線層と前記負の固定電荷を有する膜との間の前記半導体基板中に、Ｎ型不純物領域が形成されていることを特徴とする。
【００１６】
上記第１の発明では、周辺回路部と負の固定電荷を有する膜との間に、Ｎ型不純物領域が形成されていることから、半導体基板界面に生じるホールの移動がＮ型不純物領域によって阻止されるので、周辺回路部内に移動するのが回避され、周辺回路部に形成された負電位を作り出すようなウエル領域、拡散層、回路等の電位の変動が抑制される。
【００１７】
また第２の発明は、半導体基板に形成された入射光量を電気信号に変換する複数のセンサ部と、前記センサ部の側方の前記半導体基板に形成された周辺回路部と
を有する固体撮像装置であって、前記センサ部の光入射側に、前記センサ部の受光面にホール蓄積層を形成する負の固定電荷を有する膜が形成されていることを特徴とする。
【００１８】
上記第２の発明では、センサ部の光入射側に、センサ部の受光面にホール蓄積層を形成する負の固定電荷を有する膜が形成されていることから、この負の固定電荷を有する膜は周辺回路部には形成されていない。したがって、周辺回路部には負の固定電荷を有する膜によるホール蓄積層は形成されないため、周辺回路部にホールが集まることはなく、そのようなホールが周辺回路部内に移動することもないので、周辺回路部の負電位を作り出すようなウエル領域、拡散層、回路等の電位の変動は起こらない。
【００１９】
また本発明の固体撮像装置の製造方法は、上記第１の発明の構成の固体撮像装置の製造方法でであって、前記周辺回路部における前記配線層と前記負の固定電荷を有する膜との間の前記半導体基板中に、Ｎ型不純物領域を形成することを特徴とする
【００２０】
このような第１の発明の製造方法では、周辺回路部と負の固定電荷を有する膜との間に、Ｎ型不純物領域を形成することから、半導体基板界面に生じるホールの移動がＮ型不純物領域によって阻止されるようになるので、周辺回路部内に移動するのが回避され、周辺回路部に形成された負電位を作り出すようなウエル領域、拡散層、回路等の電位の変動が抑制されるようになる。
【００２１】
また上記第２の発明の製造方法は、半導体基板に形成された入射光量を電気信号に変換する複数のセンサ部と、前記センサ部の側方の前記半導体基板に形成された周辺回路部とを有し、前記センサ部の光入射側に、前記センサ部の受光面にホール蓄積層を形成する負の固定電荷を有する膜が形成される固体撮像装置の製造方法であって、前記負の固定電荷を有する膜を形成した後、前記周辺回路部上の前記負の固定電荷を有する膜を除去することを特徴とする。
【００２２】
このような第２の発明の製造方法では、センサ部の光入射側に、センサ部の受光面にホール蓄積層を形成する負の固定電荷を有する膜を形成することから、この負の固定電荷を有する膜は周辺回路部には形成されないことになる。したがって、周辺回路部には負の固定電荷を有する膜によるホール蓄積層は形成されないため、周辺回路部にホールが集まることはなく、そのようなホールが周辺回路部内に移動することもないので、周辺回路部に形成された負電位を作り出すようなウエル領域、拡散層、回路等の電位の変動は起こらないようになる。
【００２３】
また本発明の撮像装置は、入射光を集光する集光光学部と、前記集光光学部で集光した光を受光して光電変換する固体撮像装置と、光電変換された信号を処理する信号処理部とを備え、前記固体撮像装置は、上記第１の発明の個体撮像装置であることを特徴とする。
【００２４】
このような撮像装置では、本願発明の固体撮像装置を用いることから、センサ部の受光面にホール蓄積層を形成する負の固定電荷を有する膜が形成されていても、周辺回路部に形成された負電位を作り出すようなウエル領域、拡散層、回路等の電位の変動が抑制された固体撮像装置が用いられることになる。
【００２５】
また他の発明の撮像装置は、入射光を集光する集光光学部と、前記集光光学部で集光した光を受光して光電変換する固体撮像装置と、光電変換された信号を処理する信号処理部とを備え、前記固体撮像装置は、半導体基板に形成された入射光量を電気信号に変換する複数のセンサ部と、前記センサ部の側方の前記半導体基板に形成された周辺回路部とを有し、前記センサ部の光入射側に前記センサ部の受光面にホール蓄積層を形成する負の固定電荷を有する膜が形成されていることを特徴とする。
【００２６】
このような他の発明の撮像装置では、本願発明の固体撮像装置を用いることから、センサ部の受光面にホール蓄積層を形成する負の固定電荷を有する膜が形成されていても、周辺回路部に形成された負電位を作り出すようなウエル領域、拡散層、回
路等の電位の変動が起こらない固体撮像装置が用いられることになる。
【発明の効果】
【００２７】
上記第１の発明の個体撮像装置によれば、周辺回路部の回路と負の固定電荷を有する膜との間にＮ型不純物領域が形成されているため、半導体基板界面に生じるホールが周辺回路部内に移動するのが回避できるので、周辺回路部に形成された回路の電位の変動が抑制できるという利点がある。よって、周辺回路部の電位を変動させることなく、センサ部の受光面に形成された負の固定電荷を有する膜によって生じるホール蓄積層によってセンサ部の暗電流を低減することができる。
【００２８】
また第２の発明の個体撮像装置によれば、周辺回路部に負の固定電荷を有する膜が形成されていないため、周辺回路部の半導体基板界面にホールが生じることが回避できるので、周辺回路部に形成された回路の電位の変動が起こらないという利点がある。よって、周辺回路部の電位を変動させることなく、センサ部の受光面に形成された負の固定電荷を有する膜によって生じるホール蓄積層によってセンサ部の暗電流を低減することができる。
【００２９】
第１の発明の製造方法によれば、周辺回路部の回路と負の固定電荷を有する膜との間にＮ型不純物領域を形成するため、半導体基板界面に生じるホールが周辺回路部内に移動するのが回避できるので、周辺回路部に形成された回路の電位の変動が抑制できるという利点がある。よって、周辺回路部の電位を変動させることなく、センサ部の受光面に形成された負の固定電荷を有する膜によって生じるホール蓄積層によってセンサ部の暗電流を低減することができる。
【００３０】
第１の発明の製造方法によれば、周辺回路部に負の固定電荷を有する膜を形成しないため、周辺回路部の半導体基板界面にホールが生じることが回避できるので、周辺回路部に形成された回路の電位の変動が起こらないという利点がある。よって、周辺回路部の電位を変動させることなく、センサ部の受光面に形成された負の固定電荷を有する膜によって生じるホール蓄積層によってセンサ部の暗電流を低減することができる。
【００３１】
本発明の撮像装置によれば、周辺回路部の電位を変動させることなくセンサ部の暗電流を低減することができる本発明の固体撮像装置を撮像素子に用いているので、高品位な映像を記録できるという利点がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
本発明の固体撮像装置の一実施の形態（第１実施例）を、図１の概略構成断面図によって説明する。
【００３３】
図１に示すように、固体撮像装置１は、半導体基板（もしくは半導体層）１１に、入射光を光電変換するセンサ部１２を有し、このセンサ部１２の側部には画素分離領域１３を介してウエル領域、拡散層、回路等（図面では一例として拡散層１５が記載されている。）が形成された周辺回路部１４を有している。なお、以下の説明では、半導体基板１１として説明する。上記センサ部（後に説明するホール蓄積層２３も含む）１２の受光面１２ｓ上には、界面準位を下げる膜２１が形成されている。この界面準位を下げる膜２１は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ2）膜で形成されている。上記界面準位を下げる膜２１上には負の固定電荷を有する膜２２が形成されている。これによって、上記センサ部１２の受光面１２ｓ側にホール蓄積層２３が形成される。したがって、上記界面準位を下げる膜２１は、少なくともセンサ部１２上では、上記負の固定電荷を有する膜２２によって、上記センサ部１２の受光面１２ｓ側にホール蓄積層２３が形成されるような膜厚に形成されている。その膜厚は、例えば、１原子層以上、１００ｎｍ以下とする。
【００３４】
上記周辺回路部１４には、例えば、上記固体撮像装置１がＣＭＳイメージセンサの場合には、転送トランジスタ、リセットトランジスタ、増幅トランジスタおよび選択トランジスタ等のトランジスタで構成される画素回路がある。また、複数のセンサ部１２で構成される画素アレイ部の読み出し行の信号の読み出し動作を行う駆動回路、読み出した信号を転送する垂直走査回路、シフトレジスタもしくはアドレスデコーダ、水平走査回路等が含まれる。
【００３５】
また、上記周辺回路部１４には、例えば、上記固体撮像装置１がＣＣＤイメージセンサの場合には、センサ部より光電変換された信号電荷を垂直転送ゲートに読み出す読み出しゲート、読み出した信号電荷を垂直方向に転送する垂直電荷転送部がある。また、水平電荷転送部等が含まれる。
【００３６】
さらに半導体基板１１の光入射側とは反対側には、複数層の配線５１と、各配線５１の層間、各層の配線５１間を絶縁する絶縁膜５２からなる配線層５３が形成されている。
【００３７】
上記負の固定電荷を有する膜２２は、例えば、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）膜、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）膜、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）膜、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）膜、もしくは酸化チタン（ＴｉＯ2）膜で形成される。上記あげた種類の膜は、絶縁ゲート型電界効果トランジスタのゲート絶縁膜等に用いられている実績があり、そのため、成膜方法が確立されているので容易に成膜することができる。成膜方法としては、例えば、化学気相成長法、スパッタリング法、原子層蒸着法等が挙げられるが、原子層蒸着法を用いれば、成膜中に界面準位を低減するＳｉＯ2層を同時に１ｎｍ程度形成することができるので好適である。また、上記以外の材料としては、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）、酸化プラセオジム（Ｐｒ２Ｏ３）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）、酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）、酸化プロメチウム（Ｐｍ２Ｏ３）、酸化サマリウム（Ｓｍ2Ｏ３）酸化ユウロピウム（Ｅｕ2Ｏ３）、酸化ガドリニウム（Ｇｄ2Ｏ３）、酸化テルビウム（Ｔｂ2Ｏ３）、酸化ジスプロシウム（Ｄｙ2Ｏ３）、酸化ホルミウム（Ｈｏ2Ｏ３）、酸化エルビウム（Ｅｒ2Ｏ３）、酸化ツリウム（Ｔｍ2Ｏ３）、酸化イッテルビウム（Ｙｂ2Ｏ３）、酸化ルテチウム（Ｌｕ2Ｏ３）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ３）等があげられる。さらに、上記負の固定電荷を有する膜２２は、窒化ハフニウム膜、窒化アルミニウム膜、酸窒化ハフニウム膜または酸窒化アルミニウム膜で形成することも可能である。
【００３８】
上記負の固定電荷を有する膜２２は、絶縁性を損なわない範囲で、膜中にシリコン（Ｓｉ）や窒素（Ｎ）が添加されていてもよい。その濃度は、膜の絶縁性が損なわれない範囲で適宜決定される。このように、シリコン（Ｓｉ）や窒素（Ｎ）が添加されることによって、膜の耐熱性やプロセスの中でのイオン注入の阻止能力を上げることが可能になる。
【００３９】
上記周辺回路部１４と上記負の固定電荷を有する膜２２との間の半導体基板１１中にはＮ型不純物領域１６が形成されている。このＮ型不純物領域１６は、例えば、リン（Ｐ）、ヒ素（Ａｓ）等のＮ型不純物により形成され、例えばイオン注入により形成されている。このＮ型不純物領域は、例えばチャネルストップに相当する不純物プロファイルを有する。
【００４０】
上記負の固定電荷を有する膜２２上には、絶縁膜４１が形成され、上記周辺回路部１４上方の上記絶縁膜４１上には遮光膜４２が形成されている。また図示はしていないが、上記遮光膜４２の一部によって、センサ部１２に光が入らない領域が作られ、そのセンサ部１２の出力によって画像での黒レベルが決定される。また上記遮光膜４２によって、周辺回路部１４に光が入ることが防止されるので、周辺回路部に光が入り込むことによる特性変動が抑制される。さらに、上記入射光に対して透過性を有する絶縁膜４３が形成されている。この絶縁膜４３の表面は平坦化されていることが好ましい。さらに絶縁膜４３上には、反射防止膜（図示せず）、カラーフィルター層４４および集光レンズ４５が形成されている。
【００４１】
上記第１実施の形態の固体撮像装置１では、周辺回路部１４と負の固定電荷を有する膜２２との間に、Ｎ型不純物領域１６が形成されていることから、半導体基板１１界面に生じるホールの移動がＮ型不純物領域１６によって阻止されるので、周辺回路部１４内に移動するのが回避され、周辺回路部１４に形成された負電位を作り出すようなウエル領域、拡散層１５、回路等の電位の変動が抑制される。よって、周辺回路部１４の電位を変動させることなく、センサ部１２の受光面１２ｓに形成された負の固定電荷を有する膜２２によって生じるホール蓄積層２３によってセンサ部１２の暗電流を低減することができる。
【００４２】
次に、本発明の固体撮像装置の一実施の形態（第２実施例）を、図２の概略構成断面図によって説明する。
【００４３】
図２に示すように、固体撮像装置２は、半導体基板（もしくは半導体層）１１に、入射光を光電変換するセンサ部１２を有し、このセンサ部１２の側部には画素分離領域１３を介してウエル領域、拡散層、回路等（図面では一例として拡散層１５が記載されている。）が形成された周辺回路部１４を有している。なお、以下の説明では、半導体基板１１として説明する。上記センサ部（後に説明するホール蓄積層２３も含む）１２の受光面１２ｓ上には、界面準位を下げる膜２１が形成されている。この界面準位を下げる膜２１は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ2）膜で形成されている。上記界面準位を下げる膜２１上には負の固定電荷を有する膜２２が形成されている。これによって、上記センサ部１２の受光面１２ｓ側にホール蓄積層２３が形成される。したがって、上記界面準位を下げる膜２１は、少なくともセンサ部１２上では、上記負の固定電荷を有する膜２２によって、上記センサ部１２の受光面１２ｓ側にホール蓄積層２３が形成されるような膜厚に形成されている。その膜厚は、例えば、１原子層以上、１００ｎｍ以下とする。
【００４４】
上記周辺回路部１４には、例えば、上記固体撮像装置１がＣＭＯＳイメージセンサの場合には、転送トランジスタ、リセットトランジスタ、増幅トランジスタおよび選択トランジスタ等のトランジスタで構成される画素回路がある。また、複数のセンサ部１２で構成される画素アレイ部の読み出し行の信号の読み出し動作を行う駆動回路、読み出した信号を転送する垂直走査回路、シフトレジスタもしくはアドレスデコーダ、水平走査回路等が含まれる。
【００４５】
また、上記周辺回路部１４には、例えば、上記固体撮像装置１がＣＣＤイメージセンサの場合には、センサ部より光電変換された信号電荷を垂直転送ゲートに読み出す読み出しゲート、読み出した信号電荷を垂直方向に転送する垂直電荷転送部がある。また、水平電荷転送部等が含まれる。
【００４６】
さらに半導体基板１１の光入射側とは反対側には、複数層の配線５１と、各配線５１の層間、各層の配線５１間を絶縁する絶縁膜５２からなる配線層５３が形成されている。
【００４７】
上記負の固定電荷を有する膜２２は、例えば、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）膜、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）膜、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）膜、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）膜、もしくは酸化チタン（ＴｉＯ2）膜で形成される。上記あげた種類の膜は、絶縁ゲート型電界効果トランジスタのゲート絶縁膜等に用いられている実績があり、そのため、成膜方法が確立されているので容易に成膜することができる。成膜方法としては、例えば、化学気相成長法、スパッタリング法、原子層蒸着法等が挙げられるが、原子層蒸着法を用いれば、成膜中に界面準位を低減するＳｉＯ2層を同時に１ｎｍ程度形成することができるので好適である。また、上記以外の材料としては、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）、酸化プラセオジム（Ｐｒ２Ｏ３）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）、酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）、酸化プロメチウム（Ｐｍ２Ｏ３）、酸化サマリウム（Ｓｍ2Ｏ３）酸化ユウロピウム（Ｅｕ2Ｏ３）、酸化ガドリニウム（Ｇｄ2Ｏ３）、酸化テルビウム（Ｔｂ2Ｏ３）、酸化ジスプロシウム（Ｄｙ2Ｏ３）、酸化ホルミウム（Ｈｏ2Ｏ３）、酸化エルビウム（Ｅｒ2Ｏ３）、酸化ツリウム（Ｔｍ2Ｏ３）、酸化イッテルビウム（Ｙｂ2Ｏ３）、酸化ルテチウム（Ｌｕ2Ｏ３）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ３）等があげられる。さらに、上記負の固定電荷を有する膜２２は、窒化ハフニウム膜、窒化アルミニウム膜、酸窒化ハフニウム膜または酸窒化アルミニウム膜で形成することも可能である。
【００４８】
上記負の固定電荷を有する膜２２は、絶縁性を損なわない範囲で、膜中にシリコン（Ｓｉ）や窒素（Ｎ）が添加されていてもよい。その濃度は、膜の絶縁性が損なわれない範囲で適宜決定される。このように、シリコン（Ｓｉ）や窒素（Ｎ）が添加されることによって、膜の耐熱性やプロセスの中でのイオン注入の阻止能力を上げることが可能になる。
【００４９】
上記負の固定電荷を有する膜２２は、センサ部１２の受光面１２ｓにホール蓄積層２３を形成するようにセンサ部１２上にのみ形成されていて、周辺回路部１４上（光入射側）には形成されていない。
【００５０】
上記負の固定電荷を有する膜２２上には、絶縁膜４１が形成され、上記周辺回路部１４上方の上記絶縁膜４１上には遮光膜４２が形成されている。また図示はしていないが、上記遮光膜４２の一部によって、センサ部１２に光が入らない領域が作られ、そのセンサ部１２の出力によって画像での黒レベルが決定される。また上記遮光膜４２によって、周辺回路部１４に光が入ることが防止されるので、周辺回路部に光が入り込むことによる特性変動が抑制される。さらに、上記入射光に対して透過性を有する絶縁膜４３が形成されている。この絶縁膜４３の表面は平坦化されていることが好ましい。さらに絶縁膜４３上には、反射防止膜（図示せず）、カラーフィルター層４４および集光レンズ４５が形成されている。
【００５１】
上記第２実施例の固体撮像装置２では、センサ部１２の受光面１２ｓにホール蓄積層２３を形成する負の固定電荷を有する膜２２が形成されていることから、この負の固定電荷を有する膜２２は周辺回路部１４には形成されていない。したがって、周辺回路部１４には負の固定電荷を有する膜２２によるホール蓄積層２３は形成されないため、周辺回路部１４にホールが集まることはなく、そのようなホールが周辺回路部１４内に移動することもないので、周辺回路部１４に形成された負電位を作り出すようなウエル領域、拡散層１５、回路等の電位の変動は起こらない。よって、周辺回路部１４の電位を変動させることなく、センサ部１２の受光面１２ｓに形成された負の固定電荷を有する膜２２によって生じるホール蓄積層２３によってセンサ部１２の暗電流を低減することができる。
【００５２】
また、上記第１実施例、第２実施例においては、負の固定電荷を有する膜２２を形成した直後から、膜中に存在する負の固定電荷による電界によって、界面近傍をホール蓄積層２３にすることが可能となる。したがって、センサ部１２と界面準位を下げる膜２１との界面での界面準位により発生する暗電流が抑制される。すなわち、その界面から発生する電荷（電子）が抑制されるとともに、界面から電荷（電子）が発生したとしても、センサ部１２でポテンシャルの井戸になっている電荷貯蓄部分に流入することなく、ホールが多数存在するホール蓄積層２３を流動し、消滅させることができる。よって、この界面起因の電荷による暗電流がセンサ部１２で検知されるのを防ぐことができ、界面準位起因による暗電流が抑制される。さらに、センサ部１２の受光面１２ｓに界面準位を下げる膜２１が形成されていることから、界面準位に起因する電子の発生がさらに抑制されるので、界面準位に起因する電子が暗電流としてセンサ部１２中に流れ込むことが抑制される。
【００５３】
上記各実施例では、入射光量を電気信号に変換するセンサ部１２を有する複数の画素部と、画素部が形成された半導体基板１１の一面側に配線層５３を備え、配線層５３が形成されている面とは反対側より入射される光をセンサ部１２で受光する裏面照射型固体撮像装置で説明した。本発明の構成は、配線層等が形成された側からセンサ部に入射光が入射される表面照射型の固体撮像装置にも適用することができる。
【００５４】
次に、本発明の固体撮像装置の製造方法の一実施の形態（第１実施例）を、図３〜図４の要部を示した製造工程断面図によって説明する。図３〜図４では、一例として、前記固体撮像装置１の製造工程を示す。
【００５５】
図３（１）に示すように、半導体基板（もしくは半導体層）１１に、入射光を光電変換するセンサ部１２、このセンサ部１２を分離する画素分離領域１３、センサ部１２に対し画素分離領域１３を介してウエル領域、拡散層、回路等（図面では一例として拡散層１５が記載されている。）を有する周辺回路部１４を形成する。また、半導体基板１１の光入射側とは反対側には、複数層の配線５１と、各配線５１の層間、各層の配線５１間を絶縁する絶縁膜５２からなる配線層５３を形成する。上記構成の製造方法は、既存の製造方法を用いる。
【００５６】
次に、上記センサ部１２の受光面１２ｓ上、実際には上記半導体基板１１上に界面準位を下げる膜２１を形成する。この界面準位を下げる膜２１は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ2）膜で形成される。次いで上記界面準位を下げる膜２１上に負の固定電荷を有する膜２２を形成する。これによって、上記センサ部１２の受光面側にホール蓄積層２３が形成される。したがって、上記界面準位を下げる膜２１は、少なくともセンサ部１２上では、上記負の固定電荷を有する膜２２によって、上記センサ部１２の受光面１２ｓ側にホール蓄積層２３が形成されるような膜厚に形成される必要がある。その膜厚は、例えば、１原子層以上、１００ｎｍ以下とする。
【００５７】
上記負の固定電荷を有する膜２２は、例えば、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）膜、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ３）膜、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）膜、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）膜、もしくは酸化チタン（ＴｉＯ2）膜で形成される。上記あげた種類の膜は、絶縁ゲート型電界効果トランジスタのゲート絶縁膜等に用いられている実績があり、そのため、成膜方法が確立されているので容易に成膜することができる。成膜方法としては、例えば、化学気相成長法、スパッタリング法、原子層蒸着法等を用いることができるが、原子層蒸着法を用いれば、成膜中に界面準位を低減するＳｉＯ2層を同時に１ｎｍ程度形成することができるので好適である。
【００５８】
また、上記以外の材料としては、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）、酸化プラセオジム（Ｐｒ２Ｏ３）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）、酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）、酸化プロメチウム（Ｐｍ２Ｏ３）、酸化サマリウム（Ｓｍ2Ｏ３）酸化ユウロピウム（Ｅｕ2Ｏ３）、酸化ガドリニウム（Ｇｄ2Ｏ３）、酸化テルビウム（Ｔｂ2Ｏ３）、酸化ジスプロシウム（Ｄｙ2Ｏ３）、酸化ホルミウム（Ｈｏ2Ｏ３）、酸化エルビウム（Ｅｒ2Ｏ３）、酸化ツリウム（Ｔｍ2Ｏ３）、酸化イッテルビウム（Ｙｂ2Ｏ３）、酸化ルテチウム（Ｌｕ2Ｏ３）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ３）等を用いることができる。さらに、上記負の固定電荷を有する膜２２は、窒化ハフニウム膜、窒化アルミニウム膜、酸窒化ハフニウム膜または酸窒化アルミニウム膜で形成することも可能である。これらの膜も、例えば、化学気相成長法、スパッタリング法、原子層蒸着法等を用いることができる。
【００５９】
また、上記負の固定電荷を有する膜２２は、絶縁性を損なわない範囲で、膜中にシリコン（Ｓｉ）や窒素（Ｎ）が添加されていてもよい。その濃度は、膜の絶縁性が損なわれない範囲で適宜決定される。このように、シリコン（Ｓｉ）や窒素（Ｎ）が添加されることによって、膜の耐熱性やプロセスの中でのイオン注入の阻止能力を上げることが可能になる。
【００６０】
次に、図３（２）に示すように、周辺回路部１４と負の固定電荷を有する膜２２との間の半導体基板１１中に、Ｎ型不純物を導入してＮ型不純物領域１６を形成する。このＮ型不純物領域１６の具体的な製造方法の一例としては、上記負の固定電荷を有する膜２２上に、レジスト膜６１を形成した後、リソグラフィー技術によって、上記周辺回路部１４上の上記レジスト膜６１に開口部６２を形成する。その後、上記レジスト膜６１をイオン注入マスクに用いて、周辺回路部１４上の半導体基板１１にＮ型不純物をイオン注入して、周辺回路部１４と負の固定電荷を有する膜２２との間の半導体基板１１中にＮ型不純物領域１６を形成する。
【００６１】
上記Ｎ型不純物領域１６は、例えばチャネルストップと同様な不純物プロファイルを有していて、半導体基板１１界面に生じるホールが半導体基板１１内に移動するのを回避して、半導体基板１１内に形成されたウエル領域（図示せず）の電位や、拡散層１５の電位の変動を抑制する。その後、上記レジスト膜６１を除去する。
【００６２】
次に、図３（３）に示すように、上記負の固定電荷を有する膜２２上に、絶縁膜４１を形成し、さらに上記絶縁膜４１上に遮光膜４２を形成する。上記絶縁膜４１は、例えば、酸化シリコン膜で形成される。また、上記遮光膜４２は、例えば、遮光性を有する金属膜で形成する。このように、上記負の固定電荷を有する膜２２上に絶縁膜４１を介して遮光膜４２を形成することによって、酸化ハフニウム膜等で形成される負の固定電荷を有する膜２２と遮光膜４２の金属との反応を防止することができる。また、遮光膜をエッチングした際に絶縁膜４２がエッチングストッパとなるので、負の固定電荷を有する膜２２へのエッチングダメージを防止することができる。
【００６３】
また図示はしていないが、上記遮光膜４２の一部によって、センサ部１２に光が入らない領域が作られ、そのセンサ部１２の出力によって画像での黒レベルが決定される。また上記遮光膜４２によって、周辺回路部１４に光が入ることが防止されるので、周辺回路部に光が入り込むことによる特性変動が抑制される。
【００６４】
次に、図４（４）に示すように、上記絶縁膜４１上に、上記遮光膜４２による段差を低減する絶縁膜４３を形成する。この絶縁膜４３は、その表面が平坦化されることが好ましく、例えば塗布絶縁膜で形成される。
【００６５】
次に、既存の製造技術によって、上記センサ部１２上方の絶縁膜４３上に、反射防止膜（図示せず）、カラーフィルター層４４を形成し、さらに、カラーフィルター層４４上に集光レンズ４５を形成する。その際、カラーフィルター層４４と集光レンズ４５との間に、レンズ加工の際のカラーフィルター層４４への加工ダメージを防止するために、光透過性の絶縁膜（図示せず）が形成されてもよい。このようにして、固体撮像装置１が形成される。
【００６６】
上記固体撮像装置の製造方法（第１製造方法）の第１実施例では、周辺回路部１４と負の固定電荷を有する膜２２との間に、Ｎ型不純物領域１６を形成することから、半導体基板１１界面に生じるホールの移動がＮ型不純物領域１６によって阻止されるようになるので、周辺回路部１４内に移動するのが回避され、周辺回路部１４に形成されたウエル領域、拡散層１５、回路等の電位の変動が抑制されるようになる。したがって、周辺回路部１４において所望の負電位を得ることができるようになる。
【００６７】
よって、周辺回路部１４の電位を変動させることなく、センサ部１２の受光面１２ｓに形成された負の固定電荷を有する膜２２によって生じるホール蓄積層２３によって、センサ部１２の暗電流を低減することができる。すなわち、ホール蓄積層２３が形成されることによって、界面から発生する電荷（電子）が抑制されるとともに、仮に電荷（電子）が発生しても、センサ部１２でポテンシャルの井戸になっている電荷貯蓄部分に流入することなく、ホールが多数存在するホール蓄積層２３を流動し、消滅させることができる。よって、この界面起因の電荷による暗電流がセンサ部で検知されるのを防ぐことができ、界面準位起因による暗電流が抑制される。さらに、センサ部１２の受光面に界面準位を下げる膜２１が形成されていることから、界面準位に起因する電子の発生がさらに抑制されるので、界面準位に起因する電子が暗電流としてセンサ部１２中に流れ込むことが抑制される。
【００６８】
上記Ｎ型不純物領域１６は、負の固定電荷を有する膜２２を形成する前に形成しても、前記説明したように、負の固定電荷を有する膜２２を形成した後に形成してもよい。
【００６９】
例えば、図５（１）に示すように、界面準位を下げる膜２１（図示せず）を形成する前に、半導体基板１１上に、上記説明したのと同様に、周辺回路部１４上に開口部６４を設けたレジスト膜６３によるイオン注入マスクを形成して、イオン注入法により周辺回路部１４上の半導体基板１１にＮ型不純物領域１６を形成する。その後、レジスト膜６３を除去した後、図示はしないが、界面準位を下げる膜２１、負の固定電荷を有する膜２２を順に形成する。
【００７０】
この場合、半導体基板１１にイオン注入するため、半導体基板１１中にイオン注入ダメージが生じる可能性がるが、Ｎ型不純物領域１６が形成される半導体基板１１部分は、ウエハ領域、拡散層等が形成されない領域であるため、たとえイオン注入ダメージが生じたとしても実害はない。
【００７１】
または、例えば、図５（２）に示すように、界面準位を下げる膜２１を形成した後、上記説明したのと同様に、周辺回路部１４上に開口部６６を設けたレジスト膜６５によるイオン注入マスクを形成して、イオン注入法により周辺回路部１４上の半導体基板１１にＮ型不純物領域１６を形成する。その後、レジスト膜６５を除去した後、図示はしないが、界面準位を下げる膜２１上に負の固定電荷を有する膜２２を形成する。
【００７２】
この場合、界面準位を下げる膜２１がイオン注入の緩衝膜となり、半導体基板１１へのイオン注入ダメージが緩和される。
【００７３】
このように、負の固定電荷を有する膜２２を形成する前に、Ｎ型不純物領域１６を形成することもできる。
【００７４】
次に、本発明の固体撮像装置の製造方法の一実施の形態（第２実施例）を、図６〜図７の要部を示した製造工程断面図によって説明する。図６〜図７では、一例として、前記固体撮像装置２の製造工程を示す。
【００７５】
図６（１）に示すように、半導体基板（もしくは半導体層）１１に、入射光を光電変換するセンサ部１２、このセンサ部１２を分離する画素分離領域１３、センサ部１２に対し画素分離領域１３を介してウエル領域、拡散層、回路等（図面では一例として拡散層１５が記載されている。）を有する周辺回路部１４を形成する。また、半導体基板１１の光入射側とは反対側には、複数層の配線５１と、各配線５１の層間、各層の配線５１間を絶縁する絶縁膜５２からなる配線層５３を形成する。上記構成の製造方法は、既存の製造方法を用いる。
【００７６】
次に、上記センサ部１２の受光面１２ｓ上、実際には上記半導体基板１１上に界面準位を下げる膜２１を形成する。この界面準位を下げる膜２１は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯ2）膜で形成される。次いで上記界面準位を下げる膜２１上に負の固定電荷を有する膜２２を形成する。これによって、上記センサ部１２の受光面１２ｓ側にホール蓄積層２３が形成される。したがって、上記界面準位を下げる膜２１は、少なくともセンサ部１２上では、上記負の固定電荷を有する膜２２によって、上記センサ部１２の受光面１２ｓ側にホール蓄積層２３が形成されるような膜厚に形成される必要がある。その膜厚は、例えば、１原子層以上、１００ｎｍ以下とする。
【００７７】
上記負の固定電荷を有する膜２２は、例えば、酸化ハフニウム（ＨｆＯ2）膜、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）膜、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2）膜、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）膜、もしくは酸化チタン（ＴｉＯ2）膜で形成される。上記あげた種類の膜は、絶縁ゲート型電界効果トランジスタのゲート絶縁膜等に用いられている実績があり、そのため、成膜方法が確立されているので容易に成膜することができる。成膜方法としては、例えば、化学気相成長法、スパッタリング法、原子層蒸着法等を用いることができるが、原子層蒸着法を用いれば、成膜中に界面準位を低減するＳｉＯ2層を同時に１ｎｍ程度形成することができるので好適である。
【００７８】
また、上記以外の材料としては、酸化ランタン（Ｌａ２Ｏ３）、酸化プラセオジム（Ｐｒ２Ｏ３）、酸化セリウム（ＣｅＯ2）、酸化ネオジム（Ｎｄ２Ｏ３）、酸化プロメチウム（Ｐｍ２Ｏ３）、酸化サマリウム（Ｓｍ2Ｏ３）酸化ユウロピウム（Ｅｕ2Ｏ３）、酸化ガドリニウム（Ｇｄ2Ｏ３）、酸化テルビウム（Ｔｂ2Ｏ３）、酸化ジスプロシウム（Ｄｙ2Ｏ３）、酸化ホルミウム（Ｈｏ2Ｏ３）、酸化エルビウム（Ｅｒ2Ｏ３）、酸化ツリウム（Ｔｍ2Ｏ３）、酸化イッテルビウム（Ｙｂ2Ｏ３）、酸化ルテチウム（Ｌｕ2Ｏ３）、酸化イットリウム（Ｙ2Ｏ３）等を用いることができる。さらに、上記負の固定電荷を有する膜２２は、窒化ハフニウム膜、窒化アルミニウム膜、酸窒化ハフニウム膜または酸窒化アルミニウム膜で形成することも可能である。これらの膜も、例えば、化学気相成長法、スパッタリング法、原子層蒸着法等を用いることができる。
【００７９】
また、上記負の固定電荷を有する膜２２は、絶縁性を損なわない範囲で、膜中にシリコン（Ｓｉ）や窒素（Ｎ）が添加されていてもよい。その濃度は、膜の絶縁性が損なわれない範囲で適宜決定される。このように、シリコン（Ｓｉ）や窒素（Ｎ）が添加されることによって、膜の耐熱性やプロセスの中でのイオン注入の阻止能力を上げることが可能になる。
【００８０】
次に、図６（２）に示すように、上記負の固定電荷を有する膜２２上に、レジスト膜６７を形成した後、リソグラフィー技術によって、上記周辺回路部１４上の上記レジスト膜６７を除去する。
【００８１】
その後、図６（３）に示すように、上記レジスト膜６７（前記図６（２）参照）をエッチングマスクに用いて、周辺回路部１４上の負の固定電荷を有する膜２２を除去する。
【００８２】
上記負の固定電荷を有する膜２２の除去加工において、ドライエッチングを用いる場合には、上記レジスト膜６７はドライエッチング用のレジスト膜を用いる。また、ドライエッチングには、例えばエッチングガスにアルゴンとサルファーヘキサフルオライド（ＳＦ6）を用いる。上記記載した負の固定電荷を有する膜２２であれば、上記エッチングガスによりエッチングが可能である。また、その他の金属酸化物をエッチングするエッチングガスを用いてドライエッチングを行ってもよい。その後、上記レジスト膜６７を除去する。
【００８３】
上記ドライエッチングでは、負の固定電荷を有する膜２２の下地に酸化シリコン膜からなる界面準位を下げる膜２１が形成されていることから、半導体基板１１を直接イオンでたたくことがないので、半導体基板１１へのエッチングダメージが緩和されている。
【００８４】
上記負の固定電荷を有する膜２２の除去加工において、ウエットエッチングを用いる場合には、上記レジスト膜６７はウエットエッチング用のレジスト膜を用いる。また、ウエットエッチングには、例えばエッチング液にフッ酸とフッ化アンモニウムを用いる。上記記載した負の固定電荷を有する膜２２であれば、上記エッチング液によりエッチングが可能である。また、その他の金属酸化物をエッチングするエッチング液を用いてウエルエッチングを行ってもよい。その後、上記レジスト膜６７を除去する。
【００８５】
上記ウエットエッチングでは、負の固定電荷を有する膜２２の下地に酸化シリコン膜からなる界面準位を下げる膜２１が形成されていることから、周辺部から画素領域へのエッチング液の染み込みが抑えられる。
【００８６】
次に、図７（４）に示すように、上記負の固定電荷を有する膜２２上に、絶縁膜４１を形成し、さらに上記絶縁膜４１上に遮光膜４２を形成する。上記絶縁膜４１は、例えば、酸化シリコン膜で形成される。また、上記遮光膜４２は、例えば、遮光性を有する金属膜で形成する。このように、上記負の固定電荷を有する膜２２上に絶縁膜４１を介して遮光膜４２を形成することによって、酸化ハフニウム膜等で形成される負の固定電荷を有する膜２２と遮光膜４２の金属との反応を防止することができる。また、遮光膜をエッチングした際に絶縁膜４２がエッチングストッパとなるので、負の固定電荷を有する膜２２へのエッチングダメージを防止することができる。
【００８７】
また図示はしていないが、上記遮光膜４２の一部によって、センサ部１２に光が入らない領域が作られ、そのセンサ部１２の出力によって画像での黒レベルが決定される。また上記遮光膜４２によって、周辺回路部１４に光が入ることが防止されるので、周辺回路部に光が入り込むことによる特性変動が抑制される。
【００８８】
次に、図７（５）に示すように、上記絶縁膜４１上に、上記遮光膜４２による段差を低減する絶縁膜４３を形成する。この絶縁膜４３は、その表面が平坦化されることが好ましく、例えば塗布絶縁膜で形成される。
【００８９】
次に、既存の製造技術によって、上記センサ部１２上方の絶縁膜４３上に、反射防止膜（図示せず）、カラーフィルター層４４を形成し、さらに、カラーフィルター層４４上に集光レンズ４５を形成する。その際、カラーフィルター層４４と集光レンズ４５との間に、レンズ加工の際のカラーフィルター層４４への加工ダメージを防止するために、光透過性の絶縁膜（図示せず）が形成されてもよい。このようにして、固体撮像装置２が形成される。
【００９０】
上記固体撮像装置の製造方法の第２実施例では、周辺回路部１４上の負の固定電荷を有する膜２２が除去されていることから、負の固定電荷を有する膜２２は周辺回路部１４上には形成されないことになる。したがって、周辺回路部１４には負の固定電荷を有する膜２２によるホール蓄積層２３は形成されないため、周辺回路部１４にホールが集まることはなく、そのようなホールが周辺回路部１４内に移動することもないので、周辺回路部１４に形成された負電位を作り出すようなウエル領域、拡散層１５、回路等の電位の変動は起こらないようになる。
【００９１】
よって、周辺回路部１４の電位を変動させることなく、センサ部１２の受光面１２ｓに形成された負の固定電荷を有する膜２２によって生じるホール蓄積層２３によって、センサ部１２の暗電流を低減することができる。すなわち、ホール蓄積層２３が形成されることによって、界面から発生する電荷（電子）が抑制されるとともに、仮に電荷（電子）が発生しても、センサ部１２でポテンシャルの井戸になっている電荷貯蓄部分に流入することなく、ホールが多数存在するホール蓄積層２３を流動し、消滅させることができる。よって、この界面起因の電荷による暗電流がセンサ部で検知されるのを防ぐことができ、界面準位起因による暗電流が抑制される。さらに、センサ部１２の受光面に界面準位を下げる膜２１が形成されていることから、界面準位に起因する電子の発生がさらに抑制されるので、界面準位に起因する電子が暗電流としてセンサ部１２中に流れ込むことが抑制される。
【００９２】
上記各実施例の固体撮像装置１〜２は、入射光量を電気信号に変換する受光部を有する複数の画素部と、各画素部が形成された半導体基板の一面側に配線層を備え、この配線層が形成されている面とは反対側より入射される光を上記各受光部で受光する構成の裏面照射型固体撮像装置に適用することができる。当然のことながら、受光面側に配線層が形成され、かつ受光部へ入射される入射光の光路を上記配線層の未形成領域として受光部に入射される入射光を遮らないようにした、表面照射型固体撮像装置にも適用することができる。
【００９３】
次に、本発明の撮像装置に係る一実施の形態（実施例）を、図８のブロック図によって説明する。この撮像装置には、例えば、ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ、携帯電話のカメラ等がある。
【００９４】
図８に示すように、撮像装置１００は、撮像部１０１に固体撮像装置（図示せず）を備えている。この撮像部１０１の集光側には像を結像させる結像光学系１０２が備えられ、また、撮像部１０１には、それを駆動する駆動回路、固体撮像装置で光電変換された信号を画像に処理する信号処理回路等を有する信号処理部１０３が接続されている。また上記信号処理部によって処理された画像信号は画像記憶部（図示せず）によって記憶させることができる。このような撮像装置１００において、上記固体撮像素子には、前記実施の形態で説明した固体撮像装置１、固体撮像装置２を用いることができる。
【００９５】
本発明の撮像装置１００では、撮像部１０１に、周辺回路部の電位を変動させることなくセンサ部の暗電流を低減することができる本願発明の固体撮像装置１もしくは固体撮像装置２を用いているので、高品位な映像を記録できるという利点があるという利点がある。
【００９６】
なお、本発明の撮像装置１００は、上記構成に限定されることはなく、固体撮像装置を用いる撮像装置であれば如何なる構成のものにも適用することができる。
【００９７】
上記固体撮像装置１、固体撮像装置２等はワンチップとして形成された形態であってもよいし、撮像部と、信号処理部または光学系とがまとめてパッケージングされた撮像機能を有するモジュール状の形態であってもよい。また、本発明は、固体撮像装置のみではなく、撮像装置にも適用可能である。この場合、撮像装置として、高画質化の効果が得られる。ここで、撮像装置は、例えば、カメラや撮像機能を有する携帯機器のことを示す。また「撮像」は、通常のカメラ撮影時における像の撮りこみだけではなく、広義の意味として、指紋検出なども含むものである。
【図面の簡単な説明】
【００９８】
【図１】本発明の固体撮像装置の一実施の形態（第１実施例）を示した概略構成断面図である。
【図２】本発明の固体撮像装置の一実施の形態（第２実施例）を示した概略構成断面図である。
【図３】本発明の固体撮像装置の製造方法の一実施の形態（第１実施例）を示した製造工程断面図である。
【図４】本発明の固体撮像装置の製造方法の一実施の形態（第１実施例）を示した製造工程断面図である。
【図５】製造方法の第１実施例の変形例を示した製造工程断面図である。
【図６】本発明の固体撮像装置の製造方法の一実施の形態（第２実施例）を示した製造工程断面図である。
【図７】本発明の固体撮像装置の製造方法の一実施の形態（第２実施例）を示した製造工程断面図である。
【図８】本発明の撮像装置の一実施の形態（実施例）を示したブロック図である。
【図９】界面準位起因の暗電流の発生を抑制する手法を示した受光部の概略構成断面図である。
【図１０】負の固定電荷を有する膜を形成した従来の固体撮像装置の問題点を説明する概略構成断面図である。
【符号の説明】
【００９９】
１…固体撮像装置、１１…半導体基板、１２…センサ部、１２ｓ…受光面、１４…周辺回路部、１６…Ｎ型不純物領域、２２…負の固定電荷を有する膜、２３…ホール蓄積層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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