(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光ビームを発する発光素子とコリメータレンズと偏向器とが装置筐体に収容されており、前記発光素子から発せられた複数の光ビームを前記コリメータレンズを通過させて平行光にして、平行光にされた後の複数の光ビームを前記偏向器で偏向し、偏向後の複数の光ビームで同時に、画像形成装置の同一の像担持体を走査する光走査装置であって、
前記発光素子と前記コリメータレンズを保持するホルダーを備え、
前記装置筐体の側壁には、透孔が設けられており、
前記ホルダーは、前記装置筐体の基底部に、前記コリメータレンズの光軸周りに回転自在に支持されていると共に、
光軸方向を長手方向に第１保持部で前記コリメータレンズを保持し、第１保持部よりも光ビーム進行方向上流側の第２保持部で前記発光素子を保持し、
前記側壁の透孔を前記側壁とは非接触の状態で前記光軸方向に沿って貫通しており、
前記側壁に対して、前記コリメータレンズを保持する第１保持部が装置筐体の内側に位置すると共に前記発光素子を保持する第２保持部が装置筐体の外側に位置し、
前記発光素子からの複数の光ビームが前記側壁の透孔を通過して前記コリメータレンズに至るように構成されていることを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記発光素子から前記偏向器までの光ビームの光路途中において、前記コリメータレンズから前記偏向器までの間にのみ、前記複数の光ビームを通過させてそれぞれを副走査方向に集光するシリンドリカルレンズが配置され、
前記シリンドリカルレンズが前記ホルダーとは別の支持部材を介して前記装置筐体に支持されていることを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記ホルダーは、
前記光軸方向に沿って長尺状であり、前記側壁の透孔を貫通した状態で前記基底部に保持される第１部分と、
前記第１部分の、前記側壁に対して装置筐体の外側に存する部分から前記基底部とは反対方向に前記側壁に沿って延伸されている第２部分と、を有し、
前記第１部分のうち、前記側壁に対して装置筐体の内側の位置に前記第１保持部が設けられ、前記第２部分に前記第２保持部が設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記側壁の外側の面における前記透孔の周囲の部分と、前記第２の部分との間に、これら両方の部分の隙間を埋めるためのシール部材が介在されていることを特徴とする請求項３に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記側壁の外側の面には、
前記側壁の透孔を中心にその回りを取り囲むように筒状の壁部が設けられており、
前記第２部分は、
前記筒状の壁部に覆われるように前記筒状の壁部の内側に位置しており、
前記筒状の壁部の内面と、前記第２部分の、前記筒状の壁部の内面と対向する面との間に、これら両方の面の隙間を埋めるためのシール部材が介在されていることを特徴とする請求項３に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記第２保持部は、
前記発光素子が前記光軸に直交する方向に移動自在になるように、前記第２部分に支持されていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記ホルダーは、
前記装置筐体の基底部に２点支持されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項８】
前記ホルダーの、前記基底部に対向する側には、
前記光軸に直交する横断面が円弧状の底部が形成されており、
前記基底部の、前記ホルダーに対向する側には、
横断面がＶ字状の溝が前記光軸方向に形成されており、
前記ホルダーの円弧状の底部が前記基底部のＶ字状の溝に嵌り込むことにより、前記二点支持が行われることを特徴とする請求項７に記載の光走査装置。
【請求項９】
前記ホルダーが前記基底部に対して前記光軸方向に移動するのを規制する規制手段を備えることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項１０】
前記規制手段は、
前記ホルダーと前記基底部のうち、一方に設けられたピンと、他方に設けられ、前記ピンが嵌り込む長孔または切り欠きからなり、
前記長孔または切り欠きが前記光軸に直交する方向に延伸されており、
前記ピンが前記長孔または切り欠きに嵌り込んだ状態で前記ホルダーの前記光軸方向への移動が規制されると共に、前記ホルダーの前記光軸周りの回転が許容されるように前記ピンと、長孔または切り欠きの大きさが設定されていることを特徴とする請求項９に記載の光走査装置。
【請求項１１】
前記コリメータレンズを保持する鏡筒を備え、
前記コリメータレンズは、
前記鏡筒を介して前記ホルダーに前記光軸方向に沿って移動自在に支持されることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項１２】
前記ホルダーの、前記鏡筒を支持する部分には、
前記光軸に直交する断面がＶ字形状の溝が前記光軸方向に沿って形成されており、
前記鏡筒が前記Ｖ字形状の溝に嵌り込むことにより、前記鏡筒が前記Ｖ字形状の溝に二点支持されていることを特徴とする請求項１１に記載の光走査装置。
【請求項１３】
前記装置筐体の外側に配され、前記発光素子に駆動電力を供給し、発光タイミングおよび光量を制御する駆動基板と、
前記駆動基板を前記装置筐体に支持する１以上の支持部材と、を備え、
前記支持部材の少なくとも１つが前記装置筐体の基底部に取り付けられていることを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光走査装置。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか１項に記載の光走査装置を備えることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複数の光ビームを偏向器により偏向して、画像形成装置の像担持体上を走査する光走査装置およびこれを備える画像形成装置に関し、特に環境変動による複数の光ビームの副走査方向におけるビームピッチの変動を抑制する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
１つの半導体レーザーのｎ（複数）個の発光点から発せられるｎ本のレーザービームを、回転するポリゴンミラーの反射面で偏向して、走査レンズ等を介して同一の感光体ドラムなどの像担持体上を同時にｎ本のレーザービームで走査して、像担持体上に静電潜像を形成する光走査装置を備える画像形成装置が開発されている。
このような光走査装置は、ポリゴンミラーの１つの反射面でｎ本のレーザービームを同時に偏向するので、１本のレーザービームを用いる構成に比べて、ｎ倍の速さで像担持体上に静電潜像を形成することができ、画像形成に要する時間を短縮して、画像形成の生産性を大幅に向上することができる。
【０００３】
特許文献１には、光走査装置として、鏡筒の一方端に半導体レーザーが取り付けられ、鏡筒の他方端にコリメータレンズが取り付けられてなる光源ユニットを、装置筐体の側壁に設けられた円形の孔に、コリメータレンズの光軸回りに回転可能な状態で嵌合させてなる構成が開示されている。
鏡筒をコリメータレンズの光軸周りに回転させることにより、半導体レーザーも光軸周りに一緒に回転して、半導体レーザーから発せられる２本のレーザービームの像担持体上における副走査方向の間隔（ビームピッチ）を所定の間隔、例えば解像度が６００ｄｐｉの場合、約４２ミクロンに調整することができる。調整後には、鏡筒の回転方向の位置がずれないように鏡筒が装置筐体の側壁にネジで固定される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−９８２８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１のように光源ユニットを装置筐体の側壁部の孔に嵌合する構成をとると、装置周辺の環境変動によってビームピッチが変動し易いという問題がある。
すなわち、装置周辺の環境変動、具体的に温湿度が変動すると、樹脂や金属等からなる装置筐体に微小とはいえ変形が生じ、特に装置筐体の側壁は、基底部から垂直に立っている垂直姿勢から倒れる傾倒姿勢に変化し易い。側壁が傾倒姿勢になると、鏡筒も側壁と一緒に倒れる姿勢になり、光源ユニットから発せられる２本のレーザービームの光路が変動前の光路に対してずれることになる。
【０００６】
２本のレーザービームの光路がずれると、光路のずれ量に応じた分、像担持体上における２本のレーザービームのビームピッチが本来の値（上記の例では、約４２ミクロン）に対して変動してしまう。
例えば、２本のレーザービームのビームピッチが本来の値よりも狭くなった場合、ポリゴンミラーの第１の反射面で偏向されて像担持体上を同時に走査される２本のレーザービームの走査ラインＬ１とＬ２のビームピッチは本来の値よりも狭くなる。同様に、次の第２の反射面で偏向されて像担持体上を同時に走査される２本のレーザービームの走査ラインＬ３とＬ４のビームピッチも同様に本来の値よりも狭くなる。
【０００７】
ところが、ポリゴンミラーの回転速度は一定なので、走査ラインＬ２とＬ３のビームピッチは、本来の値よりも広くなり、Ｌ１とＬ２間、Ｌ２とＬ３間、Ｌ３とＬ４間でビームピッチに粗密が生じることになる。ビームピッチが本来の値よりも広くなった場合も同様に走査ライン間でビームピッチに粗密が生じてしまう。
ビームピッチに粗密が生じると、像担持体上における静電潜像の走査位置が設計値に対して走査ライン毎に変化して、再現画像の画質劣化に繋がることになる。
【０００８】
本発明の課題は、発光素子から発せられる複数本の光ビームを偏向器で偏向して、画像形成装置の像担持体を走査する構成において、環境変動に起因するビームピッチの粗密による画質劣化を抑制することが可能な光走査装置およびこれを備える画像形成装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明に係る光走査装置は、複数の光ビームを発する発光素子とコリメータレンズと偏向器とが装置筐体に収容されており、前記発光素子から発せられた複数の光ビームを前記コリメータレンズを通過させて平行光にして、平行光にされた後の複数の光ビームを前記偏向器で偏向し、偏向後の複数の光ビームで同時に、画像形成装置の同一の像担持体を走査する光走査装置であって、前記発光素子と前記コリメータレンズを保持するホルダーを備え、前記装置筐体の側壁には、透孔が設けられており、前記ホルダーは、前記装置筐体の基底部に、前記コリメータレンズの光軸周りに回転自在に支持されていると共に、光軸方向を長手方向に第１保持部で前記コリメータレンズを保持し、第１保持部よりも光ビーム進行方向上流側の第２保持部で前記発光素子を保持し、前記側壁の透孔を前記側壁とは非接触の状態で前記光軸方向に沿って貫通しており、前記側壁に対して、前記コリメータレンズを保持する第１保持部が装置筐体の内側に位置すると共に前記発光素子を保持する第２保持部が装置筐体の外側に位置し、前記発光素子からの複数の光ビームが前記側壁の透孔を通過して前記コリメータレンズに至るように構成されていることを特徴とする。
【００１０】
また、前記発光素子から前記偏向器までの光ビームの光路途中において、前記コリメータレンズから前記偏向器までの間にのみ、前記複数の光ビームを通過させてそれぞれを副走査方向に集光するシリンドリカルレンズが配置され、前記シリンドリカルレンズが前記ホルダーとは別の支持部材を介して前記装置筐体に支持されていることを特徴とする。
【００１２】
ここで、前記ホルダーは、前記光軸方向に沿って長尺状であり、前記側壁の透孔を貫通した状態で前記基底部に保持される第１部分と、前記第１部分の、前記側壁に対して装置筐体の外側に存する部分から前記基底部とは反対方向に前記側壁に沿って延伸されている第２部分と、を有し、前記第１部分のうち、前記側壁に対して装置筐体の内側の位置に前記第１保持部が設けられ、前記第２部分に前記第２保持部が設けられていることを特徴とする。
【００１３】
ここで、前記側壁の外側の面における前記透孔の周囲の部分と、前記第２の部分との間に、これら両方の部分の隙間を埋めるためのシール部材が介在されていることを特徴とする。
ここで、前記側壁の外側の面には、前記側壁の透孔を中心にその回りを取り囲むように筒状の壁部が設けられており、前記第２部分は、前記筒状の壁部に覆われるように前記筒状の壁部の内側に位置しており、前記筒状の壁部の内面と、前記第２部分の、前記筒状の壁部の内面と対向する面との間に、これら両方の面の隙間を埋めるためのシール部材が介在されていることを特徴とする。
【００１４】
また、前記第２保持部は、前記発光素子が前記光軸に直交する方向に移動自在になるように、前記第２部分に支持されていることを特徴とする。
さらに、前記ホルダーは、前記装置筐体の基底部に２点支持されていることを特徴とする。
ここで、前記ホルダーの、前記基底部に対向する側には、前記光軸に直交する横断面が円弧状の底部が形成されており、前記基底部の、前記ホルダーに対向する側には、横断面がＶ字状の溝が前記光軸方向に形成されており、前記ホルダーの円弧状の底部が前記基底部のＶ字状の溝に嵌り込むことにより、前記二点支持が行われることを特徴とする。
【００１５】
また、前記ホルダーが前記基底部に対して前記光軸方向に移動するのを規制する規制手段を備えることを特徴とする。
ここで、前記規制手段は、前記ホルダーと前記基底部のうち、一方に設けられたピンと、他方に設けられ、前記ピンが嵌り込む長孔または切り欠きからなり、前記長孔または切り欠きが前記光軸に直交する方向に延伸されており、前記ピンが前記長孔または切り欠きに嵌り込んだ状態で前記ホルダーの前記光軸方向への移動が規制されると共に、前記ホルダーの前記光軸周りの回転が許容されるように前記ピンと、長孔または切り欠きの大きさが設定されていることを特徴とする。
【００１６】
さらに、前記コリメータレンズを保持する鏡筒を備え、前記コリメータレンズは、前記鏡筒を介して前記ホルダーに前記光軸方向に沿って移動自在に支持されることを特徴とする。
ここで、前記ホルダーの、前記鏡筒を支持する部分には、前記光軸に直交する断面がＶ字形状の溝が前記光軸方向に沿って形成されており、前記鏡筒が前記Ｖ字形状の溝に嵌り込むことにより、前記鏡筒が前記Ｖ字形状の溝に二点支持されていることを特徴とする。
【００１７】
また、前記装置筐体の外側に配され、前記発光素子に駆動電力を供給し、発光タイミングおよび光量を制御する駆動基板と、前記駆動基板を前記装置筐体に支持する１以上の支持部材と、を備え、前記支持部材の少なくとも１つが前記装置筐体の基底部に取り付けられていることを特徴とする。
本発明に係る画像形成装置は、上記の光走査装置を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
このように発光素子を保持するホルダーを装置筐体の基底部で支持しており、環境変動による装置筐体の側壁の倒れの影響を受けずに済み、側壁に保持する従来の構成に比べて複数本の光ビームにおける像担持体上でのビームピッチの変動による画質劣化を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】プリンタの構成を説明するための模式図である。
【図２】プリンタに備えられる光走査装置における主要部の構成を説明するための上面図である、
【図３】図２におけるＡ−Ａ線に沿った矢視断面図である。
【図４】図２におけるＢ−Ｂ線に沿った矢視概略断面図である。
【図５】光走査装置の下面図である。
【図６】光走査装置の側面図である。
【図７】光走査装置に備えられる光源ユニットの構成を示す斜視図である。
【図８】光源ユニットの構成を示す別の斜視図である。
【図９】光源ユニットの構成を示す平面図である。
【図１０】図９における矢印Ｃで示す方向から光源ユニットを見たときの図である。
【図１１】図９におけるＤ−Ｄ線に沿った矢視断面図である。
【図１２】図９におけるＥ−Ｅ線に沿った矢視断面図である。
【図１３】図９における矢印Ｆで示す方向から光源ユニットを見たときの図である。
【図１４】図９における矢印Ｇで示す方向から光源ユニットを見たときの斜視図である。
【図１５】光源ユニットの第１ホルダーの平面図である。
【図１６】変形例に係る光源ユニットの構成例を示す平面図である。
【図１７】（ａ）は、図１６の矢印Ｆで示す方向から光源ユニットを見たときの図であり、（ｂ）は、図１６の矢印Ｇで示す方向から光源ユニットを見たときの図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明に係る光走査装置および画像形成装置の実施の形態を、タンデム型カラーデジタルプリンタ（以下、単に「プリンタ」という。）を例にして説明する。
＜プリンタの概略構成＞
図１は、プリンタ１の構成を説明するための模式図である。
プリンタ１は、ネットワーク（例えばＬＡＮ）を介して外部の端末装置等から入力される画像データ等に基づいて、周知の電子写真方式により、フルカラー画像を記録用紙等の記録シートに形成する。
【００２１】
プリンタ１は、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）、ブラック（Ｋ）の各色のトナーによるトナー像を記録シート上に形成する画像形成部１０と、画像形成部１０の下側に配置された給紙部２０とを備えている。
給紙部２０は、記録シートＳが内部に収容された給紙カセット３０を備えており、給紙カセット３０内の記録シートＳが画像形成部１０に供給される
画像形成部１０は、プリンタ１のほぼ中央部において一対のベルト周回ローラ２２および２３に水平状態で巻き掛けられて周回移動可能になった中間転写ベルト２１を備えている。中間転写ベルト２１は、図示しないモータによって、矢印Ｈで示す方向に周回移動するようになっている。中間転写ベルト２１の下方には、プロセスユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋが設けられている。
【００２２】
プロセスユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋは、中間転写ベルト２１の周回移動方向（画像形成装置の正面側（前面側）から見て左側から右側方向）に沿ってその順番に配置されている。プロセスユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋのそれぞれには、中間転写ベルト２１に対向する感光体ドラム１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋが設けられており、各感光体ドラム１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋの周面上に、対応する色のトナーによるトナー像が形成されるようになっている。
【００２３】
感光体ドラム１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋは、それぞれの軸方向が、中間転写ベルト２１の幅方向（周回移動方向とは直交する方向）に沿って相互に平行になるように配置されている。
プロセスユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋの下側には、光走査装置１８が設けられている。光走査装置１８は、感光体ドラム１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋに対して、それぞれ２本のレーザービーム（以下、「レーザービーム群」という。）ＬＹ、ＬＭ、ＬＣ、ＬＫを発し、感光体ドラム１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋを主走査方向（紙面垂直方向）に走査して、感光体ドラム１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋ上に静電潜像を形成する。光走査装置１８の構成については、後述する。なお、同図および後述する別の図においても、２本のレーザービームを１本の直線で示している。
【００２４】
プロセスユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋは、感光体ドラム１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋ上にトナー像を形成するトナーの色のみがそれぞれ異なっていること以外は、同様の機能を有していることから、以下においては、プロセスユニット１０Ｙの構成のみを説明して、他のプロセスユニット１０Ｍ〜１０Ｋの構成について説明を省略する。
プロセスユニット１０Ｙに設けられた感光体ドラム１１Ｙは、同図に示す矢印の方向に回転されるようになっており、光走査装置１８から発せられるレーザービーム群ＬＹ（図３等参照）が下方から照射されることによって露光される。感光体ドラム１１Ｙにおけるレーザービーム群ＬＹの露光位置よりも感光体ドラム１１Ｙの回転方向上流側には、感光体ドラム１１Ｙの表面を、レーザービーム群ＬＹにより照射される前に一様に帯電する帯電器１２Ｙが、感光体ドラム１１Ｙに対向して配置されている。
【００２５】
帯電器１２Ｙによって一様に帯電された感光体ドラム１１Ｙの表面には、レーザービーム群ＬＹを構成する２本のレーザービームにより同時に走査されることによって、静電潜像が形成される。プロセスユニット１０Ｙには、レーザービーム群ＬＹの露光位置よりも感光体ドラム１１Ｙの回転方向下流側に、現像器１３Ｙが設けられている。現像器１３Ｙは、感光体ドラム１１Ｙの表面に形成された静電潜像をＹ色のトナーによって現像する。
【００２６】
プロセスユニット１０Ｙの上方には、中間転写ベルト２１を挟んで感光体ドラム１１Ｙに対向する１次転写ローラ１４Ｙが設けられている。１次転写ローラ１４Ｙは、画像形成部１０に取り付けられている。１次転写ローラ１４Ｙは、転写バイアス電圧が印加されることによって、感光体ドラム１１Ｙとの間に電界を形成するようになっており、この電界の作用によって、感光体ドラム１１Ｙ上のＹ色のトナー像が中間転写ベルト２１上に１次転写される。
【００２７】
他のプロセスユニット１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋの上方にも、中間転写ベルト２１を挟んで感光体ドラム１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋに対向する１次転写ローラ１４Ｍ、１４Ｃ、１４Ｋがそれぞれ設けられており、感光体ドラム１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋ上に形成されたそれぞれのトナー像は、１次転写ローラ１４Ｍ、１４Ｃ、１４Ｋと、感光体ドラム１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋとの間にそれぞれ形成される電界の作用によって、中間転写ベルト２１上に１次転写される。
【００２８】
各色のトナー像の形成動作は、感光体ドラム１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋ上に形成されたそれぞれのトナー像が中間転写ベルト２１上の同じ領域に多重転写されるように、プロセスユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋのそれぞれの画像形成動作タイミングがずらして実行される。
なお、トナー像が１次転写された後の感光体ドラム１１Ｙの表面は、プロセスユニット１０Ｙに設けられたクリーニング部材１５Ｙによってクリーニングされる。他のプロセスユニット１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋにおいても同様である。
【００２９】
トナー像が形成された中間転写ベルト２１の周回方向下流側の端部（画像形成装置における正面側から見て右側の端部）には、２次転写ローラ３５が圧接されており、中間転写ベルト２１と２次転写ローラ３５との間に転写ニップが形成されている。２次転写ローラ３５には転写バイアス電圧が印加されるようになっており、これにより、中間転写ベルト２１との間に電界が形成される。
【００３０】
２次転写ローラ３５と中間転写ベルト２１によって形成される転写ニップには、給紙部２０の給紙カセット３０から繰り出されて、搬送路３１上を搬送される記録シートＳが供給される。
中間転写ベルト２１上に転写された各色のトナー像は、２次転写ローラ３５と中間転写ベルト２１との間の電界の作用により、記録シートＳが転写ニップを通過する際に記録シートＳに２次転写される。
【００３１】
転写ニップを通過した記録シートＳは、２次転写ローラ３５の上方に配置された定着装置４０に搬送される。定着装置４０では、記録シートＳ上の未定着のトナー画像が加熱および加圧されることによって定着される。トナー像が定着された記録シートＳは、排紙ローラ３８によって、排紙トレイ３９上に排出される。
＜光走査装置の構成＞
図２は、光走査装置１８における主要部の構成を説明するための上面図であり、図３は、図２におけるＡ−Ａ線に沿った矢視断面図であり、図３は、図２におけるＢ−Ｂ線に沿った矢視概略断面図であり、図５は、下面図であり、図６は、側面図である。
【００３２】
なお、図２では、下側が画像形成装置の正面側（前面側）であり、上側が画像形成装置の背面側（奥側）になり、図４では右側が正面側であり、左側が背面側になる。図２のＢ−Ｂ線は、主走査方向に平行であり、ポリゴンミラー５４ａの回転軸に直交する直線に相当する。図３では光走査装置１８の上方に位置するプロセスユニット１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋにおける感光体ドラム１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋとの位置関係も示している。また、図６では、後述する駆動基板が省略されている。
【００３３】
図２〜図６に示すように光走査装置１８は、光源部５１と、反射ミラー５２Ｙ、５２Ｋと、ビーム合成器５２Ｍ、５２Ｃと、シリンドリカルレンズ５３ａ、５３ｂと、偏向器５４と、走査レンズ５５ａ、５５ｂと、折り返しミラー群５６と、第２ｆθレンズ群５７（５７ａ〜５７ｄ）が装置筐体５０に収容されてなる。
装置筐体５０は、平板状であり平面視で略矩形状をした基底部５０ａと、基底部５０ａの端辺から垂直方向に上方に向かって立てられるように設けられた側壁（外周壁）５０ｂとを有する樹脂または金属製の部材であり、上方が開放されてなる。
【００３４】
上方を開放するのは、製造工程において、装置筐体５０内に配される偏向器５４や走査レンズ５５ａなどの光学素子を上方から開口を介して装置筐体５０の基底部５０ａに向かって差し入れて、基底部５０ａ上の所定位置に配置させる操作を行い易いからである。
なお、装置筐体５０が開放状態のままであれば、外部から埃や塵などが装置筐体５０内部に侵入し、侵入した埃などが光学素子に付着して、付着した埃などで光路が乱されて画質が低下するおそれが生じるので、埃などの侵入を防止するために、薄板状の蓋１８１（図１）が開口を被うように側壁５０ｂに取り付けられるようになっている。
【００３５】
この蓋１８１には、後述のレーザービーム群の光路に相当する部分にレーザービームを通過させるための孔（不図示）が設けられており、その孔に透明ガラス（不図示）が嵌め込まれる構成になっている。
基底部５０ａは、装置本体フレーム（不図示）に固定支持されており、図４に示すように第１底部５０ｃと、第１底部５０ｃと連続しており、第１底部５０ｃよりも段差により高くなった第２底部５０ｄとを有する。
【００３６】
第１底部５０ｃの上面に、シリンドリカルレンズ５３ａ、５３ｂ（図２）、偏向器５４、走査レンズ５５ａ、５５ｂなどが配置され、第２底部５０ｄの下面に、光源部５１（図５）、反射ミラー５２Ｙ、５２Ｋ、ビーム合成器５２Ｍ、５２Ｃなどが配置される構成になっている。
光源部５１は、感光体ドラム１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋを走査するためのレーザービーム群ＬＹ、ＬＭ、ＬＣ、ＬＫを発する光源ユニット５１Ｙ、５１Ｍ、５１Ｃ、５１Ｋを備える。光源ユニット５１Ｙ、５１Ｍ、５１Ｃ、５１Ｋの近傍には、光源ユニットに駆動用の電力を供給し、発光タイミングおよび光量を制御するための駆動基板６５Ｙ、６５Ｍ、６５Ｃ、６５Ｋが取り付けられている。光源ユニット５１Ｙ〜５１Ｋの構成については、後述する。なお、第２底部５０ｄは、それぞれ光源ユニット５１Ｙ、５１Ｍ、５１Ｃ、５１Ｋ毎に異なる高さ位置になっている。ここで、各光源ユニット５１Ｙ、５１Ｍ、５１Ｃ、５１Ｋ毎に高さ位置が異なるように第２底部５０ｄに段差を設けても良く、後述するＶ字状の溝５０ｇ（図１０）の深さを変えても良い。
【００３７】
反射ミラー５２Ｙは、光源ユニット５１Ｙから発せられたレーザービーム群ＬＹを反射して、ビーム合成器５２Ｍに導く。
ビーム合成器５２Ｍは、例えば二つの研磨したプリズムを貼り合わせてなるビームスプリッターからなり、反射ミラー５２Ｙにより反射された後のレーザービーム群ＬＹを９０°偏向させると共に、光源ユニット５１Ｍから発せられたレーザービーム群ＬＭをそのまま通過させて、レーザービーム群ＬＹとＬＭの進行方向を揃える。
【００３８】
ビーム合成器５２Ｍで偏向されたレーザービーム群ＬＹと、ビーム合成器５２Ｍを通過したレーザービーム群ＬＭは、基底部５０ａの段差部に設けられた透孔５０ｅ（図５）を通過後、シリンドリカルレンズ５３ａ（図２）に導かれる。
シリンドリカルレンズ５３ａは、レーザービーム群ＬＹ、ＬＭを副走査方向に集光して偏向器５４に導くレンズであり、支持部材５９ａにより基底部５０ａに支持される。
【００３９】
反射ミラー５２Ｋ（図５）は、光源ユニット５１Ｋから発せられたレーザービーム群ＬＫを反射させて、ビーム合成器５２Ｃに導く。
ビーム合成器５２Ｃは、ビーム合成器５２Ｍと同じ構成のものであり、反射ミラー５２Ｋにより反射された後のレーザービーム群ＬＫを９０°偏向させると共に、光源ユニット５１Ｃから発せられたレーザービーム群ＬＣをそのまま通過させて、レーザービーム群ＬＣとＬＫの進行方向を揃える。
【００４０】
ビーム合成器５２Ｃで偏向されたレーザービーム群ＬＫと、ビーム合成器５２Ｃを通過したレーザービーム群ＬＣは、基底部５０ａの段差部に設けられた透孔５０ｆ（図５）を通過した後、シリンドリカルレンズ５３ｂ（図２）に導かれる。
シリンドリカルレンズ５３ｂは、レーザービーム群ＬＣ、ＬＫを副走査方向に集光して偏向器５４に導くレンズであり、支持部材５９ｂにより基底部５０ａに支持される。
【００４１】
偏向器５４は、６つの反射面を有するポリゴンミラー５４ａをその回転軸を中心にモータで等速回転させ、入射されるレーザービーム群ＬＹ〜ＬＫを偏向する。
本実施の形態では、ポリゴンミラー５４ａの回転軸を含み、かつＢ−Ｂ線（主走査方向に平行な直線）を含む仮想平面を挟んで一方の側にレーザービーム群ＬＹ、ＬＭが入射される第１入射位置が設けられ、他方の側にレーザービーム群ＬＣ、ＬＫが入射される第２入射位置が設けられている。
【００４２】
第１入射位置で偏向された後のレーザービーム群ＬＹ、ＬＭは、走査レンズ５５ａに導かれ、第２入射位置で偏向された後のレーザービーム群ＬＣ、ＬＫは、走査レンズ５５ｂに導かれる。
走査レンズ５５ａと５５ｂは、ポリゴンミラー５４ａを挟んで対向配置されており、それぞれが第１ｆθレンズ群からなり、レーザービーム群ＬＣ〜ＬＫを折り返しミラー群５６、第２ｆθレンズ群５７を介して感光体ドラム１１Ｙ〜１１Ｋに導く。
【００４３】
具体的には、レーザービーム群ＬＹ（図３）は、走査レンズ５５ａを通過した後、折り返しミラー５６ａで反射され、第２ｆθレンズ５７ａを通過する際に副走査方向に集光されて、感光体ドラム１１Ｙ上に結像される。
レーザービーム群ＬＭは、走査レンズ５５ａを通過した後、折り返しミラー５６ｂで反射され、第２ｆθレンズ５７ｂを通過する際に副走査方向に集光され、折り返しミラー５６ｃで反射された後、感光体ドラム１１Ｍ上に結像される。
【００４４】
レーザービーム群ＬＣは、走査レンズ５５ｂを通過した後、折り返しミラー５６ｅで反射され、第２ｆθレンズ５７ｃを通過する際に副走査方向に集光され、折り返しミラー５６ｄで反射された後、感光体ドラム１１Ｃ上に結像される。
レーザービーム群ＬＫは、走査レンズ５５ｂを通過した後、折り返しミラー５６ｆで反射され、第２ｆθレンズ５７ｄを通過する際に副走査方向に集光されて、感光体ドラム１１Ｋ上に結像される。
【００４５】
＜光源ユニットの構成＞
図７と図８は、光源ユニット５１Ｙの構成を示す斜視図であり、図９は、光源ユニット５１Ｙの構成を示す平面図である。図１０は、図９における矢印Ｃで示す方向から光源ユニット５１Ｙを見たときの図であり、図１１は、図９におけるＤ−Ｄ線に沿った矢視断面図であり、図１２は、図９におけるＥ−Ｅ線に沿った矢視断面図である。また、図１３は、図９における矢印Ｆで示す方向から光源ユニット５１Ｙを見たときの図であり、図１４は、図９における矢印Ｇで示す方向から光源ユニット５１Ｙを見たときの斜視図である。図１５は、光源ユニット５１Ｙの第１ホルダー６３の平面図である。
【００４６】
なお、光源ユニット５１Ｙは、上記のように基底部５０ａの第２底部５０ｄの下面に装着されているが、図７以降の各図では、説明を判り易くするために上下を逆転させて上方から見たように視点を変えて示している。
また、相互に直交するＸ、Ｙ、Ｚ軸を矢印で示しており、矢印Ｘに沿う方向がレーザービームの進行方向に相当する。以下、レーザービームの進行方向を特定する場合に、矢印Ｘに沿う方向をビーム進行方向という場合がある。
【００４７】
図７〜図１４に示すように、光源ユニット５１Ｙは、半導体レーザー６１と、コリメータレンズ部６２と、第１ホルダー６３と、第２ホルダー６４を備える。
第１ホルダー６３は、例えば樹脂製の部材であり、Ｘ軸方向を長手方向とする水平部６３ａ（第１部分）と、水平部６３ａのビーム進行方向上流側の端部から第２底部５０ｄとは反対方向にＺ軸に沿って延伸された垂直部６３ｂ（第２部分）とを有する（図１５）。
【００４８】
水平部６３ａは、Ｘ軸に直交する断面形状が円弧状の本体部６３ｐと、本体部６３ｐのＸ軸方向に略中央の位置であり、本体部６３ｐの周方向両端部からＹ軸方向に沿って外側に突出された突出片６３ｑ、６３ｒを有する。
本体部６３ｐの内周面側がコリメータレンズ部６２を保持する側になり、外周面側（基底部５０ａに対向する側）が装置筐体５０の第２底部５０ｄに保持される側になっている。本体部６３ｐの外周面は、Ｘ軸に直交する断面形状が円弧状になっている。
【００４９】
第２底部５０ｄには、Ｘ軸に直交する断面形状がＶ字状の溝５０ｇ（図１０）がＸ軸に沿って形成されている。このＶ字状の溝５０ｇに、第１ホルダー６３における本体部６３ｐの円弧状の外周面が周方向に間隔をおいた２箇所の位置で支持（二点支持）されるように、第１ホルダー６３の本体部６３ｐが嵌められる。
突出片６３ｑ、６３ｒのそれぞれには、Ｙ方向に長い長孔６３ｆ、６３ｇが設けられており、長孔６３ｆ、６３ｇには、第２底部５０ｄにＺ方向に立てられたピン８１、８２が嵌め込まれている。長孔６３ｆ、６３ｇのＹ方向長さは、ピン８１、８２の径よりも長く、長孔６３ｆ、６３ｇの幅は、ピン８１、８２の径よりもやや小さくなっている。
【００５０】
第２底部５０ｄに設けられたピン８１、８２が、第１ホルダー６３に設けられた長孔６３ｆ、６３ｇに嵌り込むことにより、第１ホルダー６３は、Ｘ方向への移動を規制されると共に、図７に示す矢印方向（後述するコリメータレンズ６２ａの光軸ＡＹの周りを回る方向：光軸周り）への回転が、ピン８１、８２の径と長孔６３ｆ、６３ｇの長さとの関係で回転方向への遊びの分だけ、自在になる。第１ホルダー６３が第２底部５０ｄに対して光軸周りへの回転を自在に支持されているのは、半導体レーザー６１から出射されるレーザービーム群ＬＹを構成する２本のレーザービームによる感光体ドラム１１Ｙ上におけるビームピッチの大きさを調整するビームピッチ調整を行うためである。ビームピッチ調整については、後述する。
【００５１】
本体部６３ｐの底部には、Ｘ方向に沿って長孔６３ｈ（図１５）が形成されると共に、内周面側には、長孔６３ｈを挟んで周方向の両側に、コリメータレンズ部６２を保持するレンズ保持部６３ｄ、６３ｅ（第１保持部）が設けられている。
コリメータレンズ部６２は、コリメータレンズ６２ａ（図１２）と、コリメータレンズ６２ａを保持する鏡筒６２ｂを備える。
【００５２】
コリメータレンズ６２ａは、半導体レーザー６１から出射される２本のレーザービーム（拡散光）のそれぞれを平行光にするレンズであり、光軸ＡＹがＸ軸に平行になるように鏡筒６２ｂに保持されている。
鏡筒６２ｂは、Ｘ軸方向に長く、横断面が円筒状である。鏡筒６２ｂの、レーザービームの進行方向上流側の端部にコリメータレンズ６２ａが保持され、レーザービームの進行方向下流側の端部は、Ｙ方向に長い長孔６２ｃが設けられた蓋で閉じられている。
【００５３】
鏡筒６２ｂの底部には、Ｘ軸方向に沿って形成された突条部６２ｄが設けられており、突条部６２ｄは、第１ホルダー６３の本体部６３ｐの底部に形成されている長孔６３ｈに嵌合している。突条部６２ｄのＸ軸方向長さは、長孔６３ｈのＸ軸方向長さよりも短くなっており、その長さの差分だけ、鏡筒６２ｂの突条部６２ｄが第１ホルダー６３の長孔６３ｈに嵌合した状態で、鏡筒６２ｂが第１ホルダー６３に対してＸ軸方向に移動自在に支持されるようになっている。
【００５４】
鏡筒６２ｂを第１ホルダー６３に対してＸ軸方向に移動自在に支持する構成をとっているのは、コリメータレンズ６２ａの光軸方向における焦点合わせ（フォーカス調整）を行うためである。フォーカス調整については、後述する。
なお、突条部６２ｄの幅（Ｙ軸方向の厚み）は、長孔６３ｈの幅よりもやや狭くなっているが、Ｙ軸方向へのがたつきが生じないように両者の幅の大きさが決められている。また、長孔６３ｈは、本体部６３ｐを貫通する貫通孔になっており、突条部６２ｄが長孔６３ｈに嵌合した状態で、突条部６２ｄの突出端が本体部６３ｐを貫通することがないように、突条部６２ｄの高さ（Ｚ軸方向長さ）と長孔６３ｈの深さが決められる。
【００５５】
鏡筒６２ｂは、本体部６３ｐとは、鏡筒６２ｂの外周面の、本体部６３ｐのレンズ保持部６３ｄ、６３ｅに対向する部分だけで当接することにより、本体部６３ｐに保持される構成になっている。なお、突条部６２ｄは、本体部６３ｐの長孔６３ｈを介して本体部６３ｐに接するが、Ｚ軸方向にはほとんど自由といえるので、本体部６３ｐに保持される部分とまではいえない。
【００５６】
レンズ保持部６３ｄ、６３ｅは、コリメータレンズ６２ａの光軸ＡＹの位置を決めるための基準面に相当し、鏡筒６２ｂの外周面が当接した状態で、コリメータレンズ６２ａの光軸ＡＹの、第１ホルダー６３に対するＺ軸方向における位置が所定位置になるように、大きさ、形状などが予め決められている。
本実施の形態では、レンズ保持部６３ｄ、６３ｅは、図１０と図１１に示すように、コリメータレンズ６２ａの光軸ＡＹとＺ軸を含む仮想平面を挟んで対称な状態で配置されており、当該仮想平面に対して所定の傾斜角をもって傾斜して、光軸に直交する断面で見るとＶ字状の溝のような形状になっている。
【００５７】
第１ホルダー６３の水平部６３ａは、装置筐体５０の側壁５０ｂに設けられた透孔５０ｍを側壁５０ｂとは非接触の状態で光軸方向に沿って貫通して、透孔５０ｍを介して水平方向に沿って横たわるように配置され、側壁５０ｂを挟んで、側壁５０ｂよりもレーザービームの進行方向下流側（装置筐体５０の内側）の部分にレンズ保持部６３ｄ、６３ｅ、突出片６３ｑ、６３ｒが設けられ、側壁５０ｂよりもレーザービームの進行方向上流側（装置筐体５０の外側）の端部に、垂直部６３ｂが設けられている。
【００５８】
垂直部６３ｂは、板状体であり、中央部に透孔６３ｃが設けられている。透孔６３ｃには、半導体レーザー６１が嵌め込まれるようになっており、半導体レーザー６１から出射される２本のレーザービームが垂直部６３ｂの透孔６３ｃ、装置筐体５０の側壁５０ｂの透孔５０ｍを通過して、コリメータレンズ６２ａに入射される構成になっている。
半導体レーザー６１は、複数、ここでは２つの発光点を有する発光素子であり、発光部側の面６１ａ（図１２）上に間隔をおいて設けられた２つの発光点のそれぞれからレーザービームを発する。この２本のレーザービームがレーザービーム群ＬＹを構成する。
【００５９】
半導体レーザー６１は、板状の第２ホルダー６４（第２保持部）に保持されており、第２ホルダー６４は、第１ホルダー６３の垂直部６３ｂに支持されている。第２ホルダー６４と垂直部６３ｂとが、側壁５０ｂに対して装置筐体５０の外側に出ているので、製造時に半導体レーザー６１を保持する第２ホルダー６４を第１ホルダー６３の垂直部６３ｂに取り付ける工程などの操作を外側から行い易くなる。
【００６０】
図１３と図１４に示すように、側面視で略矩形状の第２ホルダー６４には、中央に設けられた透孔６４ｚと、透孔６４ｚを挟んでＺ軸方向に間隔をおいて設けられた２つの透孔６４ａと６４ｂと、透孔６４ｚを挟んでＹ軸方向に間隔をおいて設けられた２つの透孔６４ｃと６４ｄを有する。
半導体レーザー６１は、発光部側の面６１ａがコリメータレンズ６２ａの方を向く姿勢になるように、第２ホルダー６４の中央に設けられた透孔６４ｚに嵌合されている。
【００６１】
Ｙ軸方向に沿って並ぶ２つの透孔６４ｃ、６４ｄは、第２ホルダー６４を第１ホルダー６３の垂直部６３ｂに固定するためのネジ１６９、６９が通る孔であり、ネジ１６９、６９が透孔６４ｃ、６４ｄを介して、垂直部６３ｂに設けられた台座６３ｍ、６３ｎのネジ孔６３ｐ、６３ｑにネジ止めされることにより、第２ホルダー６４が第１ホルダー６３の垂直部６３ｂに固定支持される。
【００６２】
この固定支持の前に、半導体レーザー６１の、コリメータレンズ６２ａに対する位置（Ｙ−Ｚ平面における位置）を調整する調芯工程が実行される。調芯工程の方法については、後述する。
第１ホルダー６３の垂直部６３ｂと装置筐体５０の側壁５０ｂとの間には、図１２に示すように、垂直部６３ｂと側壁５０ｂの隙間を埋めるためのシール部材６６が介在されている。シール部材６６は、装置筐体５０の外部から側壁５０ｂの透孔５０ｍを介して装置筐体５０の内部に塵や埃などが侵入するのを防止するための防塵用の部材である。
【００６３】
本実施の形態ではシール部材６６は、スポンジなどの弾性部材が用いられ、側壁５０ｂの外側であり、透孔５０ｍの周囲を取り囲むようにリング状に形成されて、側壁５０ｂと垂直部６３ｂとの間に両者の面と密着する状態になるように挟み込まれることにより、外部から装置筐体内部への塵などの侵入が防止される。
半導体レーザー６１とコリメータレンズ６２ａは、第１ホルダー６３に保持されており、第１ホルダー６３は、装置筐体５０の第２底部５０ｄに支持されている。
【００６４】
このように装置筐体５０の第２底部５０ｄに第１ホルダー６３を介して半導体レーザー６１を支持するのは、装置周辺の環境（温湿度）変動に起因するレーザービームの光路の変位が極力生じないようにするためである。
すなわち、装置筐体５０は、基底部５０ａと側壁５０ｂとから構成され、上方が開口されてなり、基底部５０ａの一部である第２底部５０ｄは、側壁５０ｂと連続しており、自由端になる部分がないが、側壁５０ｂは、基底部５０ａとは反対側の上端が自由端になる。また、第２底部５０ｄ（基底部５０ａ）は、装置本体フレームに固定支持されている。
【００６５】
装置周辺の環境（温湿度）変動に起因する熱膨縮などにより、例えば装置筐体５０の全体的な歪みなどの原因になる応力が生じた場合、第２底部５０ｄの方が自由端側である側壁５０ｂよりも剛性が高いために変位が生じ難い。このことを理由に、高速回転するポリゴンミラー５４ａを有する偏向器５４も基底部５０ａに支持する構成をとっている。
このように偏向器５４と同様に、半導体レーザー６１を基底部５０ａに支持する構成をとることにより、環境変動によるレーザービームの光路の変位を極力少なくして、２本のレーザービームの光路が本来の位置からずれ難く、感光体ドラム１１Ｙ上のビームピッチの変動が生じ難くなり、ビームピッチの粗密による画質劣化を抑制することができる。
【００６６】
なお、上記の基底部５０ａは、偏向器５４を支持する第１底部５０ｃと光源ユニット５１Ｙを支持する第２底部５０ｄの間に段差部が介在されてなるが、この段差部があることにより強度が低下することにはならない。なぜなら、第１底部５０ｃも第２底部５０ｄも基底部５０ａの一部であり、段差部が第１底部５０ｃと第２底部５０ｄに連続しており、自由端になっているわけでもなく、第１底部５０ｃと第２底部５０ｄを一体とみることができ、自由端を有する側壁５０ｂに比べて環境変動の影響を受け難い構成であることに変わりはないからである。また、第１ホルダー６３の垂直部６３ｂがシール部材６６を介して側壁５０ｂに接しているが、シール部材６６はスポンジなどの弾性体であり、側壁５０ｂの変位を吸収するので、変位の影響が第１ホルダー６３に及ぼされることは生じない。
【００６７】
半導体レーザー６１の発光部側の面６１ａとは反対側の面からは、電力受電用および制御信号受信用の複数本のリード６１ｂが延出されており、リード６１ｂの先端部は、駆動基板６５Ｙに半田付けされている。
駆動基板６５Ｙは、プリント基板であり、本実施の形態では、図８や図１２に示すように、平面視で矩形状の形状をしている。なお、第１ホルダー６３と半導体レーザー６１との位置関係を判り易くするため、一部の図面では駆動基板６５Ｙが省略されている。
【００６８】
駆動基板６５Ｙは、４本の棒状の支持部材６５ａ〜６５ｄにより装置筐体５０に固定支持されている。ここでは、支持部材６５ｃ、６５ｄは、一方端が装置筐体５０の第２底部５０ｄに固定されており、他方端が駆動基板６５Ｙにおける第２底部５０ｄ側の２隅に固定されている。支持部材６５ａ、６５ｂは、一方端が装置筐体５０の側壁５０ｂに固定されており、他方端が駆動基板６５Ｙにおける第２底部５０ｄとは反対側の２隅に固定されている。
【００６９】
駆動基板６５Ｙは、第２底部５０ｄに固定されている２本の支持部材６５ｃ、６５ｄを介して装置筐体５０に支持されるので、４本共が側壁５０ｂに支持される構成よりも高強度になる。駆動基板６５Ｙは、装置筐体５０の側壁５０ｂの外側に配置されているので、例えば製造時やメンテナンス時などに人の手が当たって外力が加えられる場合があるが、外力が加えられても支持部材６５ａ、６５ｄを介して、強度の高い第２底部５０ｄに伝わって、第２底部５０ｄで受け止められ、光源ユニット５１Ｙに直接加わることがない。
【００７０】
従って、外力による衝撃が光源ユニット５１Ｙに作用して、光源ユニット５１Ｙの取り付け位置が機械的にずれるといったことが生じ難く、位置ずれによりビームピッチの変動が生じるなどの画質劣化の発生を抑制することができる。この意味で、支持部材６５としては、少なくとも１つが基底部５０ａに取り付けられる構成とすることが望ましい。
なお、本実施の形態の構成では、製造時において駆動基板６５Ｙの装置筐体５０への取り付けが、上記の調芯工程からビームピッチ調整までの全工程の終了後に行われる。
【００７１】
以下、調芯工程、フォーカス調整、ビームピッチ調整の方法を順に説明する。
＜調芯工程について＞
（１）第２ホルダー６４（図１４）を第１ホルダー６３の垂直部６３ｂにネジ６９、１６９で仮締めした状態で、調芯治具９８（図１４において破線で示す）に設けられた２本の棒状部材９９、１９９の先端部を第２ホルダー６４の透孔６４ａ、６４ｂに嵌め込む。当該治具９８は、光軸ＡＹに直交する平面、すなわちＹ−Ｚ平面上を移動可能になっている。なお、コリメータレンズ６２ａのフォーカス調整は、次の工程で行うが、調芯工程では、フォーカスがある程度、大まかに調整された状態で実行され、フォーカスは、次の工程で微調整されるようになっている。
【００７２】
（２）半導体レーザー６１の一方の発光点からレーザービームを出射させて、感光体ドラム１１Ｙと同じ光学的位置関係に配置されるＣＣＤなどの光電センサの検出面（被照射面）上にビームスポットを結像させる。なお、この調芯工程では、まだ半導体レーザー６１に駆動用の電力を供給するための駆動基板６５Ｙ（後述）が取り付けられていないので、半導体レーザー６１の、発光部側の面６１ａとは反対側の面から延出されている受電用の複数本のリード６１ｂに、検査用の電力供給コネクタ（不図示）が接続されて、電力が供給される。
【００７３】
（３）ビームスポットの中心が検出面上に予め印刷されている十字の画像の中心位置に来るように、治具９８を移動させて半導体レーザー６１のＹ−Ｚ平面上における位置を調整する。ここでは検出面に入射されるレーザービームのビーム強度分布からビームスポットの中心（強度分布のピーク）の位置を検出することにより、ビームスポットの中心が検出面上における十字の画像の中心位置に対してどの位置にあるのかが検出される。
【００７４】
なお、検出面上における十字の画像の中心位置は、コリメータレンズ６２ａの光軸の位置を示すようにコリメータレンズ６２ａと検出面との位置関係が予め決められている。また、ここでは一方の発光点からのレーザービームによるビームスポットの中心とコリメータレンズ６２ａの光軸とが一致することを調芯としているが、例えば一方の発光点と他方の発光点の中間位置とコリメータレンズ６２ａの光軸とが一致することを調芯としても良い。この場合、一方の発光点からのレーザービームのビームスポットの中心から検出面上における十字の画像の中心位置までの距離と、他方の発光点からのレーザービームのビームスポットの中心から検出面上における十字の画像の中心位置までの距離とが同じになるように、各発光点から交互にレーザービームを出射させて、治具９８の移動による半導体レーザー６１のＹ−Ｚ平面上における位置が調整される。
【００７５】
（４）ビームスポットの中心が十字の画像の中心位置に来たことが検出されると、治具９８を停止させ、仮締め状態のネジ６９、１６９を締め込んで固定する。これにより、コリメータレンズ６２ａに対する半導体レーザー６１の位置の調整（調芯）が終了する。
＜フォーカス調整について＞
フォーカス調整は、調芯工程が終了した後、次の手順で実行される。
【００７６】
（１）半導体レーザー６１の一方の発光点からレーザービームを出射させて、上記の光電センサの検出面上にビームスポットを結像させる。
（２）結像しているビームスポットの焦点が合っているか否かを光電センサにより検出されるビーム強度分布から算出されるビーム径から判断する。
（３）ビームスポットの焦点が合っていないことが検出されると、焦点が合っていることが検出されるまで、鏡筒６２ｂを第１ホルダー６３の水平部６３ａに対して光軸ＡＹの方向に沿って少しずつ移動させる。
【００７７】
（４）焦点が合っていることが検出されると、鏡筒６２ｂの移動を停止させて、焦点が合った位置で鏡筒６２ｂを第１ホルダー６３の水平部６３ａに固定する。本実施の形態では、鏡筒６２ｂの外周面と、第１ホルダー６３の水平部６３ａのレンズ保持部６３ｄ、６３ｅとが当接する部位に接着剤を流し込んで接着により固定する。
＜ビームピッチ調整について＞
ビームピッチ調整は、フォーカス調整が終了した後に、次の手順で実行される。
【００７８】
（１）半導体レーザー６１から２本のレーザービームを同時に出射させて、上記の光電センサの検出面上に２つのビームスポットを結像させる。
（２）結像している２つのビームスポットの、検出面上における副走査方向に相当する方向のビームピッチ（間隔）を、２つのビームスポットのビーム強度分布から求める。
（３）ビームピッチが所定の値になっていないことが検出されると、ビームピッチが所定値になったことが検出されるまで、第１ホルダー６３の水平部６３ａを装置筐体５０の第２底部５０ｄに対して光軸周りに少しずつ回転させる。
【００７９】
（４）ビームピッチが所定値になったことが検出されると、第１ホルダー６３の回転を停止させて、第１ホルダー６３の水平部６３ａを装置筐体５０の第２底部５０ｄに固定する。本実施の形態では、第１ホルダー６３の水平部６３ａの底面と、装置筐体５０の第２底部５０ｄの溝５０ｇとの当接部位に接着剤を流し込んで接着により固定する。
なお、第１ホルダー６３の、装置筐体５０の第２底部５０ｄに対する光軸周りの回転量が、ビームピッチ調整を行うのに十分な量になるように、第２底部５０ｄに設けられたピン８１、８２の、第１ホルダー６３に設けられた長孔６３ｆ、６３ｇに対する遊びの量が予め決められている。
【００８０】
このように半導体レーザー６１のコリメータレンズ６２ａに対する位置をＹ−Ｚ平面（Ｘ軸に直交する平面）に沿って調整する調芯工程と、半導体レーザー６１を光軸（Ｘ軸）周りに回転させるビームピッチ調整を別々に分けて実行することができるので、例えば半導体レーザー６１をＹ−Ｚ平面に沿って移動させながら、これに直交するＸ軸周りに回転する操作を同時に行う、いわゆる３軸調整の方法をとるよりも調整が容易になる。
【００８１】
また、半導体レーザー６１が第１ホルダー６３により装置筐体５０に支持され、シリンドリカルレンズ５３ａが第１ホルダー６３とは別の支持部材５９ａにより装置筐体５０に支持されているので、ビームピッチ調整において第１ホルダー６３を光軸周りに回転させても、シリンドリカルレンズ５３ａが一緒に回転することが生じない。
例えば、シリンドリカルレンズも第１ホルダー６３に支持する構成をとった場合、第１ホルダー６３を光軸周りに回転させると、シリンドリカルレンズも一緒に同方向に同じ量だけ回転する。シリンドリカルレンズが回転すると、シリンドリカルレンズにより直線状に集光された後のレーザービームのその直線の、ポリゴンミラー５４ａの回転軸に対する傾斜角が正規の角度に対して変動することになる。この傾斜角が正規の角度から変動すると、偏向後のレーザービームによる感光体ドラム１１Ｙ上での走査ビームにねじれが発生して、画質劣化に繋がる。従って、ビームピッチ調整の際に、ビームピッチと同時にシリンドリカルレンズ５３ａの回転方向の位置合わせも行う必要があり、調整に手間がかかる場合が生じる。
【００８２】
これに対して、本実施の形態のように第１ホルダー６３とシリンドリカルレンズ５３ａを別の支持部材で支持する構成をとれば、ビームピッチとレーザービームのねじれを別々に調整することができ、調整の容易化を図ることができる。
なお、上記では第１ホルダー６３の垂直部６３ｂと側壁５０ｂの隙間をシール部材６６で塞ぎ、外部から塵などが装置筐体５０の内部に入るのを防止する構成をとったが、この構成に限られない。例えば、図１６と図１７に示す構成をとることもできる。
【００８３】
図１６は、変形例に係る光源ユニット５１Ｙの構成例を示す平面図であり、図１７（ａ）は、図１６の矢印Ｆで示す方向から光源ユニット５１Ｙを見たときの図であり、図１７（ｂ）は、図１６の矢印Ｇで示す方向から光源ユニット５１Ｙを見たときの図である。なお、図１６においては、構成を判り易くするため、壁部２０１とシール部材２０２を光軸ＡＹを通りＺ軸に直交する面で切断した断面で示している。
【００８４】
図１６と図１７に示すように、側壁５０ｂの装置外側の面には、筒状の壁部（リブ）２０１が側壁５０ｂに設けられた透孔５０ｍを中心に、その周囲を取り囲むように１周に亘って設けられている。筒状の壁部２０１の内側に壁部２０１に覆われるように第１ホルダー６３の垂直部６３ｂが位置する関係になっている。
この筒状の壁部２０１の内周面と、垂直部６３ｂの外周面（壁部２０１の内周面と対向する面）との間に、両方の面に密着するようにシール部材２０２が介在され、壁部２０１と垂直部６３ｂとの隙間を埋めるようになっている。垂直部６３ｂと側壁５０ｂの間には、上記のシール部材６６が設けられていない。
【００８５】
側壁５０ｂに設けられた壁部２０１が光軸周りに環状に１周に亘って設けられ、この壁部２０１に取り囲まれるように第１ホルダー６３の垂直部６３ｂがシール部材２０２を介して配置されるので、側壁５０ｂに設けられた透孔５０ｍを介して外部の塵などが装置筐体５０の内部に入り込むことが防止される。なお、装置筐体５０内部に塵などが侵入することがほとんど生じない場合や、塵などが侵入しても画質劣化にまでは至らないような場合などには、シール部材を設けない構成をとることも可能である。
【００８６】
上記では、光源ユニット５１Ｙについて説明したが、光源ユニットの構成は、他の光源ユニット５１Ｍ〜５１Ｋについても同じなので、光源ユニット５１Ｍ〜５１Ｋの構成については説明を省略する。
（変形例）
以上、本発明を実施の形態に基づいて説明してきたが、本発明は、上述の実施の形態に限定されないのは勿論であり、以下のような変形例が考えられる。
【００８７】
（１）上記実施の形態では、基底部５０ａが第１底部５０ｃと第２底部５０ｄの間に段差部が介在されてなる構成例を説明したが、この構成に限られることはない。例えば、基底部５０ａを段差部のない平坦な形状にしたものを用いて、平坦状の基底部５０ａの同一平面上に光源ユニット、偏向器、走査レンズなどの光学素子を配置するとしても良い。
また、上記では、装置筐体の基底部５０ａに保持される第１ホルダー６３を介して半導体レーザー６１とコリメータレンズ６２ａを保持する構成としたが、これに限られず、例えばコリメータレンズを第１ホルダー６３とは別の部材で装置筐体に保持する構成をとることもできる。さらに、上記では第１ホルダー６３と第２ホルダー６４が別体であり、ネジ止め固定するとしたが、これらを一体にして、１つのホルダーで構成し、この１つのホルダーが少なくとも半導体レーザー（発光素子）を保持した状態で、基底部５０ａに保持される構成をとるとしても良い。１つのホルダーに半導体レーザーを保持する保持部を設け、その保持部において調芯を可能な構成をとることができる。
【００８８】
なお、装置構成によって調芯とフォーカス調整が不要であれば、上記のように半導体レーザー６１を光軸に直交する方向に移動自在にしたり、コリメータレンズ６２ａを光軸方向に沿って移動自在にしたりする構成をとらないとしても良い。
（２）上記実施の形態では、第１ホルダー６３の水平部６３ａの外周面を断面円弧状に形成し、第２底部５０ｄの、第１ホルダー６３の水平部６３ａに対向する面に断面Ｖ字状の溝を形成するとしたが、水平部６３ａにＶ字状の溝を、第２底部５０ｄを円弧状に形成するとしても良い。鏡筒６２ｂと第１ホルダー６３の支持構成についても同様である。
【００８９】
また、第１ホルダー６３の水平部６３ａを第２底部５０ｄに対して、およびコリメータレンズ６２ａの鏡筒６２ｂを水平部６３ａに対して、それぞれ二点支持する構成をとったが、二点支持に限られない。
第１ホルダー６３を第２底部５０ｄに対して光軸周りに回転自在に保持し、鏡筒６２ｂを第１ホルダー６３に対して光軸に沿って移動自在に保持する構成であれば良い。
【００９０】
例えば、第１ホルダー６３の外周面と第２底部５０ｄの溝５０ｇの横断面形状を両方共、略同じ曲率の円弧状にして、第１ホルダー６３の外周面と第２底部５０ｄの溝５０ｇの内周面を面接触する構成をとることもできる。鏡筒６２ｂと第１ホルダー６３の支持構成についても同様である。
（３）上記実施の形態では、第１ホルダー６３の装置筐体５０に対する光軸方向への移動を規制し、光軸周りの回転を許容する構成として、第１ホルダー６３の突出片６３ｑ、６３ｒのそれぞれに、光軸に直交する方向に沿って長い長孔６３ｆ、６３ｇを設け、第２底部５０ｄには、垂直に立てられたピン８１、８２を設け、ピン８１、８２を長孔６３ｆ、６３ｇに嵌め込む構成をとったが、これに限られることはない。例えば、規制手段としては長孔６３ｆ、６３ｇの外側の縁部を開口（開放）して平面視で、Ｕ字形状などの切り欠きを設ける構成をとるとしても良い。また、ピンを第１ホルダー側に、長孔を基底部側に設けるとしても良い。
【００９１】
（４）上記実施の形態では、第１ホルダー６３の水平部６３ａを側壁５０ｂに設けられた透孔５０ｍに貫通させた状態にして、半導体レーザー６１を側壁５０ｂに対して装置筐体５０の外側に位置させる構成をとることにより、半導体レーザー６１の取り付けや調整などを行い易くするとしたが、これに限られない。装置構成によっては、光源ユニット５１Ｙ〜５１Ｋを装置筐体５０の内部に収容する構成をとるとしても構わない。この構成の場合、側壁５０ｂに透孔５０ｍを設ける必要がなく、光源ユニット５１Ｙ〜５１Ｋを含む光学素子の全部が装置筐体５０の内部に配されて側壁５０ｂに取り囲まれるようになり、シール部材６６、２０２、壁部２０１が不要になる。
【００９２】
（５）上記実施の形態では、本発明に係る光走査装置をタンデム型カラーデジタルプリンタに適用した場合の例を説明したが、これに限られない。カラーやモノクロの画像形成に関わらず、また１つの半導体レーザーから出射されるレーザービームの数が２本に限られることもなく、２以上であっても良い。さらに、発光素子は半導体レーザーに限られず、感光体ドラムなどの像担持体を露光するのに適した光ビームを出射可能な別の種類の発光素子を用いるとしても構わない。
【００９３】
すなわち、複数の光ビームを偏向器で偏向して、偏向された後の複数の光ビームで同時に、同一の像担持体を主走査方向に露光走査して、当該同一の像担持体上に静電潜像を形成する光走査装置およびこれを備える画像形成装置であれば、例えば複写機、ＦＡＸ、ＭＦＰ（Multiple Function Peripheral）等に適用できる。また、像担持体としては、感光体ドラムに限られず、ベルト状のものであっても良い。
【００９４】
また、上記実施の形態及び上記変形例の内容をそれぞれ組み合わせるとしても良い。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明は、複数本の光ビームを偏向して像担持体を走査する光走査装置に広く適用することができる。
【符号の説明】
【００９６】
１      プリンタ
１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋ      感光体ドラム
１８      光走査装置
５０      装置筐体
５０ａ      基底部
５０ｂ      側壁
５０ｃ、５０ｄ      基底部の一部
５０ｇ      Ｖ字状の溝
５０ｍ      側壁の透孔
５１Ｙ、５１Ｍ、５１Ｃ、５１Ｋ      光源ユニット
５３ａ、５３ｂ      シリンドリカルレンズ
５４      偏向器
５９ａ、５９ｂ      シリンドリカルレンズの支持部材
６１      半導体レーザー
６２ａ      コリメータレンズ
６２ｂ      鏡筒
６３      第１ホルダー
６３ａ      水平部（第１部分）
６３ｂ      垂直部（第２部分）
６３ｄ、６３ｅ      レンズ保持部（第１保持部）
６３ｆ、６３ｇ、６３ｈ      長孔
６３ｐ      断面円弧状の本体部
６３ｑ、６３ｒ      突出片
６４      第２ホルダー（第２保持部）
６５Ｙ、６５Ｍ、６５Ｃ、６５Ｋ      駆動基板
６５ａ、６５ｂ、６５ｃ、６５ｄ      駆動基板の支持部材
６６、２０２      シール部材
８１、８２      ピン
２０１      筒状の壁部
ＡＹ      コリメータレンズの光軸
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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