(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
輪状ステータ(10)の両面に一体又は別体にて設けられる輪状絶縁カバー(12)と、前記輪状絶縁カバー(12)の一端に形成され複数の端子ピン(3)を有する端子ピン保持部(1)と、前記輪状ステータ(10)の各突出磁極(11)に前記輪状絶縁カバー(12)を介して巻回されたステータ巻線(13)と、を備え、
前記ステータ巻線(13)の端線(13a)を前記各端子ピン(3)にからげるようにしたレゾルバステータ構造において、
前記端子ピン保持部(1)の凹部(2)内に位置する前記端子ピン(3)の根元の近傍には第１溝(14)が形成され、前記第１溝(14)内にはワニス(30)が保持されることを特徴とするレゾルバステータ構造。
【請求項２】
前記第１溝(14)は、断面形状でＶ形、Ｕ形、角形の何れかよりなることを特徴とする請求項１記載のレゾルバステータ構造。
【請求項３】
前記第１溝(14)は、前記端子ピン(3)の周囲に全周にわたり連続して形成されていることを特徴とする請求項１又は２記載のレゾルバステータ構造。
【請求項４】
前記端子ピン保持部(1)の前記凹部(2)内には、前記端子ピン(3)に隣接してタルミピン取付孔(5)が設けられ、前記タルミピン取付孔(5)の近傍にはワニス(30)を溜めるための第２溝(20)が形成されていることを特徴とする請求項１ないし３の何れかよりなることを特徴とするレゾルバステータ構造。
【請求項５】
前記第２溝(20)に溜められた前記ワニス(30)は、前記端線(13a)の一部と接続していることを特徴とする請求項４記載のレゾルバステータ構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レゾルバステータ構造に関し、特に、端子ピン保持部の凹部内に位置する端子ピンの近傍に溝を形成し、ワニスのこぼれ及び再塗布をなくし、さらには、ステータ巻線の端線の浮線を防止するための新規な改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、用いられていたレゾルバとしては、例えば、後述の特許文献１に開示されている構成においては、図１２及び図１３に示される構造が採用されていた。
すなわち、図１２に示される従来構造においては、端子ピン保持部１の浅い凹部２内にインサート成形された端子ピン３が示されており、この端子ピン３の隣接位置には、ステータ巻線の端線４に対してタルミを形成するためのタルミピンを着脱自在とするためのタルミピン取付孔５が形成されている。
【０００３】
前述の図１２及び図１３のレゾルバステータ構造において、レゾルバステータ構造を組立てるために、各突出磁極（図示せず）に巻回したステータ巻線の端線４を、前記タルミピンを介して端子ピン３にからげ、このからげが完了した段階で前記タルミピンをタルミピン取付孔５から除去すると、端線４に周知のタルミが形成される。
【０００４】
前述のレゾルバステータの組立ての最終工程として、端子ピン保持部１の凹部２内に溶融したワニス３０を供給し、端子ピン３のワニス３０による被覆及びこのワニス３０による端線４の固定が行われ、組立てが完了する。
【０００５】
【特許文献１】米国特許第５９２０１３５号明細書
【特許文献２】米国特許第６０４４５４５号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来のレゾルバステータ構造は、以上のように構成されていたため、次のような課題が存在していた。
すなわち、図１２の従来構造の場合、端子ピン保持部の凹部内にワニスを充填すると、この凹部の深さが極めて浅いために、周知のように、端子ピンが下向きになるように輪状ステータを反転させても、端子ピンへの付着が少なくなり、一度、乾燥した後に、再度、ワニスを端子ピンへ再塗装しなければならないことがあり、作業性及び歩留まりが低下していた。
【０００７】
また、図１３の従来構造の場合、前述と同様に、タルミピンを抜いた後のタルミピン取付孔の近傍に付着するワニスも、凹部の平面が広いために、ステータ巻線の端線４にワニスが接続するまでには、多くのワニスを供給しなければならず、また、多くのワニスを供給すると、凹部からワニスが溢れ出ることになり、端線とワニスの接続が迅速に行われず、図１３のように、端線の浮線が発生し、端線の固定が良好ではなかった。
また、従来構造は、タルミ取付孔からワニスが流れ、反対側にワニスが垂れてしまう問題もあった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によるレゾルバステータ構造は、輪状ステータの両面に一体又は別体にて設けられる輪状絶縁カバーと、前記輪状絶縁カバーの一端に形成され複数の端子ピンを有する端子ピン保持部と、前記輪状ステータの各突出磁極に前記輪状絶縁カバーを介して巻回されたステータ巻線と、を備え、前記ステータ巻線の端線を前記各端子ピンにからげるようにしたレゾルバステータ構造において、前記端子ピン保持部の凹部内に位置する前記端子ピンの根元の近傍には第１溝が形成され、前記第１溝内にはワニスが保持される構成であり、また、前記第１溝は、断面形状でＶ形、Ｕ形、角形の何れかよりなる構成であり、また、前記第１溝は、前記端子ピンの周囲に全周にわたり連続して形成されている構成であり、また、前記端子ピン保持部の前記凹部内には、前記端子ピンに隣接してタルミピン取付孔が設けられ、前記タルミピン取付孔の近傍にはワニスを溜めるための第２溝が形成されている構成であり、また、前記第２溝に溜められた前記ワニスは、前記端線の一部と接続している構成である。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によるレゾルバステータ構造は、以上のように構成されているため、次のような効果を得ることができる。
すなわち、輪状ステータの両面に一体又は別体にて設けられる輪状絶縁カバーと、前記輪状絶縁カバーの一端に形成され複数の端子ピンを有する端子ピン保持部と、前記輪状ステータの各突出磁極に前記輪状絶縁カバーを介して巻回されたステータ巻線と、を備え、  前記ステータ巻線の端線を前記各端子ピンにからげるようにしたレゾルバステータ構造において、
前記端子ピン保持部の凹部内に位置する前記端子ピンの根元の近傍には第１溝が形成され、前記第１溝内にはワニスが保持されるため、この第１溝内に溜ったワニスが保持され、周知のように、その後、端子ピンが下向きになるように輪状ステータを反転させると、ワニスが下方にたれて端子ピンに対するワニスの塗布即ち被覆が形成されることにより、従来よりも少ないワニス量で、かつ、再塗布を行うこともなく、端子ピンに対するワニスの付着を形成できる。
また、前記第１溝は、断面形状でＶ形、Ｕ形、角形の何れかよりなるため、ワニスを溜めるには十分な形状を形成することができる。また、前記第１溝は、前記端子ピンの周囲に全周にわたり連続して形成されているため、前述のワニスの保持に極めて有効である。  また、前記端子ピン保持部の前記凹部内には、前記端子ピンに隣接してタルミピン取付孔が設けられ、前記タルミピン取付孔の近傍にはワニスを溜めるための第２溝が形成されているため、この第２溝に溜ったワニスの高さが従来の凹部内の高さよりも高くなり、確実に端線に届いて接続され、端線はワニスによって固定され、従来の浮線の発生を防止することができる。また、前記第２溝に溜められた前記ワニスは、前記端線の一部と接続していることによって、前述のように端線の振動等による断線等を防止することができる。
また、タルミピン孔に第２溝を付けることにより、タルミピン孔を通って反対側へワニスが垂れることを抑える効果もある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明は、端子ピン保持部の凹部内に位置する端子ピンの近傍に溝を形成し、ワニスのこぼれ及び再塗布をなくし、さらには、ステータ巻線の端線の浮線を防止するようにしたレゾルバステータ構造を提供することを目的とする。
【実施例】
【００１１】
以下、図面と共に本発明によるレゾルバステータ構造の好適な実施の形態について説明する。
尚、従来例と同一又は同等部分には、同一符号を付して説明する。
図１及び図２において符号１０で示されるものは、全体形状が輪状をなす周知の輪状ステータであり、この輪状ステータ１０の内面には、内方へ向けて所定角度間隔毎に形成された複数の突出磁極１１が設けられている。
【００１２】
前記輪状ステータ１０の両面には、成形による一体成形又は二体による別体で形成された輪状絶縁カバー１２が設けられ、この輪状絶縁カバー１２の一端には、この輪状ステータ１０の半径方向に突出する端子ピン保持部１が一体に形成されている。
【００１３】
前記端子ピン保持部１には、全体形状がほぼクランク形状をなす複数の端子ピン３がインサート成形によって設けられており、この端子ピン３よりも半径方向で内側位置には、複数のタルミピン取付孔５が形成されている。
前記端子ピン保持部１の前記各端子ピン３及び各タルミピン取付孔５は、前記端子ピン保持部１の一面に形成された浅い形状の凹部２に対応して配設されている。
【００１４】
前記輪状ステータ１０の前記各突出磁極１１には、前記輪状絶縁カバー１２を介してステータ巻線１３が巻回されており、このステータ巻線１３の端線１３ａ（図１１で示す）は前記端子ピン3にからげて接続されている。
【００１５】
前記各端子ピン３の根元における前記端子ピン保持部１の上面には、この端子ピン３の近傍である周囲を全周又は部分的に囲む状態で第１溝１４が形成され、この第１溝１４の形状としては、図３及び図４の断面Ｕ形、図５の断面角形、図６の第１溝１４内に端子ピン３が直接位置している形状、図７及び図８のＶ形等として用いることができる。
【００１６】
前述のステータ巻線１３の端線１３ａが各端子ピン３にからげられた組立後の状態において、前記凹部２内に溶融状のワニスを供給すると、ワニスが凹部２内及び第１溝１４内に溜まり、この第１溝１４内に溜まったワニスが端子ピン３の根元に位置するため、端子ピン３に供給されたワニスが凹部２内に逃げにくく、端子ピン３に被覆された状態となり、従来のように、端子ピン３に対するワニスの再塗布等の追加作業を不要とすることができる。
【００１７】
次に、前述の輪状ステータ１０の組立後の状態では、前記端線１３ａを各端子ピン３にからげる際に、前記各端子ピン３の半径方向に沿う内側に位置する各タルミピン取付孔５に、図示しない周知のタルミピンを挿入し、このタルミピンを介して端線１３ａを端子ピン３にからげ、このからげ後にタルミピンを除去することにより、端線１３ａに図示しない周知のタルミ部が形成されている。
【００１８】
前述の状態において、前記各端子ピン３に対してワニスを供給した場合に、ワニスは各端子ピン３と共に、タルミピンが除去された後のタルミピン取付孔５の近傍である周囲の全周又は部分的に形成された第２溝２０内にも溜まり、この第２溝２０内のワニスが上方へ盛り上がるため、ワニスが端線１３ａの一部と接続して固定されることにより、ワニスによる端線１３ａの固定を確実に達成し、ワニスの追加塗布を行うことなく固定することができる。
尚、この第２溝２０の形状も、図９のＵ状の場合、図１０の角状の場合、図１１のＶ状の場合等とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明によるレゾルバステータ構造を示す断面図である。
【図２】図１の平面図である。
【図３】図１のＡ部の拡大図である。
【図４】図３の他の形態を示す断面図である。
【図５】図３の他の形態を示す断面図である。
【図６】図３の他の形態を示す断面図である。
【図７】図３の他の形態を示す断面図である。
【図８】図３の他の形態を示す断面図である。
【図９】図１の要部の拡大断面図である。
【図１０】図９の他の形態を示す断面図である。
【図１１】図９の他の形態を示す断面図である。
【図１２】従来のレゾルバステータ構造の要部を示す断面図である。
【図１３】従来のレゾルバステータ構造の要部を示す断面図である。
【符号の説明】
【００２０】
１    端子ピン保持部
２    凹部
３    端子ピン
１０    輪状ステータ
１１    突出磁極
１２    輪状絶縁カバー
１３    ステータ巻線
１３ａ    端線
１４    第１溝
２０    第２溝
【図１】
0005194220.tif 000002
【図２】
0005194220.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
0005194220.tif 000006
【図６】
0005194220.tif 000007
【図７】
0005194220.tif 000008
【図８】
0005194220.tif 000009
【図９】
0005194220.tif 000010
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
0005194220.tif 000013
【図１３】
0005194220.tif 000014