(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）：
【化１】
0005194256.tif 000039
〔式中、Ｒ１は水素原子、又は水酸基の保護基を表し、Ｒ２は水素原子、水酸基の保護基、又は一般式（III）：
【化２】
0005194256.tif 000040
（式中、Ｒ６、Ｒ７は同一または異なるアルキル基、もしくはＲ６とＲ７が互いに結合してヘテロ原子を含んでもよい環を形成した基を表し、Ｒ８はリン酸基の保護基を表す。）
で示される基を表し、Ｒ３は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表し、Ｂは保護基又は修飾基を有していてもよい核酸塩基の残基を表す。〕
で表されるリボヌクレオシド誘導体。
【請求項２】
一般式（Ｉ）においてＲ３が、メチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基を表す、請求項１に記載のリボヌクレオシド誘導体。
【請求項３】
一般式（II）：
【化３】
0005194256.tif 000041
〔式中、Ｒ１は水素原子、又は水酸基の保護基を表し、Ｒ２は水素原子、水酸基の保護基、又は一般式（III）：
【化４】
0005194256.tif 000042
（式中、Ｒ６、Ｒ７は同一または異なるアルキル基、もしくはＲ６とＲ７が互いに結合してヘテロ原子を含んでもよい環を形成した基を表し、Ｒ８はリン酸基の保護基を表す。）
で示される基を表し、Ｒ４及びＲ５は同一又は異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表し、Ｂは保護基又は修飾基を有していてもよい核酸塩基の残基を表す。〕
で表されるリボヌクレオシド誘導体。
【請求項４】
一般式（II）においてＲ４及びＲ５が、メチル基を表す、請求項３に記載のリボヌクレオシド誘導体。
【請求項５】
一般式（II）においてＲ４及びＲ５の少なくとも一方が、水素原子を表す、請求項３に記載のリボヌクレオシド誘導体。
【請求項６】
一般式（IV）：
【化５】
0005194256.tif 000043
〔式中、Ｒ１は水素原子、又は水酸基の保護基を表し、Ｒ２は水素原子、水酸基の保護基、又は一般式（III）：
【化６】
0005194256.tif 000044
（式中、Ｒ６、Ｒ７は同一または異なるアルキル基、もしくはＲ６とＲ７が互いに結合してヘテロ原子を含んでもよい環を形成した基を表し、Ｒ８はリン酸基の保護基を表す。）
で示される基を表し、Ｂは保護基又は修飾基を有していてもよい核酸塩基の残基を表す。〕
で表されるリボヌクレオシド誘導体を、一般式（Ｖ）：
【化７】
0005194256.tif 000045
〔式中、Ｒ３は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。〕
で表されるアクリル酸エステルと反応させ、一般式（Ｉ）：
【化８】
0005194256.tif 000046
〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＢは前記と同意義を示す。〕
で表されるリボヌクレオシド誘導体を得ることを特徴とする、リボヌクレオシド誘導体の製造方法。
【請求項７】
一般式（Ｉ）においてＲ３が、メチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基を表す、請求項６に記載のリボヌクレオシド誘導体の製造方法。
【請求項８】
一般式（VI）：
【化９】
0005194256.tif 000047
〔式中、Ｂ１、Ｂ２及びＢ３は同一又は異なって保護基又は修飾基を有していてもよい核酸塩基の残基を表し、Ｂ２はｎの繰り返しにおいて異なっていてもよく、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は同一又は異なって水素原子、水酸基、メトキシ基、シアノエトキシ基、一般式（VII）：
【化１０】
0005194256.tif 000048
〔式中、Ｒ３は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。〕
で示される基、又は一般式（VIII）：
【化１１】
0005194256.tif 000049
〔式中、Ｒ４及びＲ５は同一又は異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。〕
で示される基を表し、Ｘ２はｎの繰り返しにおいて異なっていてもよく、ｎは１以上の整数を表す。但し、Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３の少なくとも一つは一般式（VII）又は（VIII）で示される基を表す。〕
で表される核酸誘導体。
【請求項９】
一般式（VII）においてＲ３が、メチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基を表す、請求項８に記載の核酸誘導体。
【請求項１０】
一般式（VIII）においてＲ４及びＲ５が、メチル基を表す、請求項８に記載の核酸誘導体。
【請求項１１】
一般式（VIII）においてＲ４及びＲ５の少なくとも一方が、水素原子を表す、請求項８に記載の核酸誘導体。
【請求項１２】
一般式（Ｉ）：
【化１２】
0005194256.tif 000050
〔式中、Ｒ１は水素原子、又は水酸基の保護基を表し、Ｒ２は水素原子、水酸基の保護基、又は一般式（III）：
【化１３】
0005194256.tif 000051
（式中、Ｒ６、Ｒ７は同一または異なるアルキル基、もしくはＲ６とＲ７が互いに結合してヘテロ原子を含んでもよい環を形成した基を表し、Ｒ８はリン酸基の保護基を表す。）
で示される基を表し、Ｒ３は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表し、Ｂは保護基又は修飾基を有していてもよい核酸塩基の残基を表す。〕
で表されるリボヌクレオシド誘導体、若しくは一般式（II）：
【化１４】
0005194256.tif 000052
〔式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＢは前記と同意義を示し、Ｒ４及びＲ５は同一又は異なって置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。〕
で表されるリボヌクレオシド誘導体、又はこれらのリボヌクレオシド誘導体を構成成分として含み、一般式（VI）：
【化１５】
0005194256.tif 000053
〔式中、Ｂ１、Ｂ２及びＢ３は同一又は異なって保護基又は修飾基を有していてもよい核酸塩基の残基を表し、Ｂ２はｎの繰り返しにおいて異なっていてもよく、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は同一又は異なって水素原子、水酸基、メトキシ基、シアノエトキシ基、一般式（VII）：
【化１６】
0005194256.tif 000054
〔式中、Ｒ３は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。〕
で示される基、又は一般式（VIII）：
【化１７】
0005194256.tif 000055
〔式中、Ｒ４及びＲ５は同一又は異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。〕
で示される基を表し、Ｘ２はｎの繰り返しにおいて異なっていてもよく、ｎは１以上の整数を表す。但し、Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３の少なくとも一つは一般式（VII）又は（VIII）で示される基を表す。〕
で表される核酸誘導体をフッ化物イオンを含む試薬で処理し、対応する一般式（IV）：
【化１８】
0005194256.tif 000056
〔式中、式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＢは前記と同意義を示す。〕
で表されるリボヌクレオシド誘導体、又はそれらを構成成分として含む核酸誘導体を得る方法。
以上
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アルコキシカルボニルエチル基などで2'水酸基を修飾した新規リボヌクレオシド誘導体、及びそのリボヌクレオシド誘導体を含む核酸誘導体に関する。アルコキシカルボニルエチル基は、化学反応によりヒドロキシエチル基、カルバモイルエチル基などへの変換が可能である。これらの修飾基を持つリボヌクレオシドを含むRNAは優れたハイブリダイゼーション能や核酸分解酵素に対する抵抗性などの性質を有すると期待され、核酸検出プローブ、アンチセンス法やRNAiなどのための人工RNAとしての有用性が期待される。
【背景技術】
【０００２】
2'水酸基が修飾されたRNAの合成には2'水酸基が修飾されたリボヌクレオシドモノマー中間体が必要である。このモノマー中間体を合成する主な従来法として２つある。ひとつは、塩基部位と5'水酸基が保護されたリボヌクレオシドに対してNaHで2'あるいは3'の水酸基をアルコキシドとしたのち、ハロゲン化アルキルと反応させる方法である（非特許文献１）。この手法では、2'修飾体ばかりでなく位置異性体の3'修飾体もかなり生成するために、分離が困難なことが多い。もう一つの方法は、塩基部位と3'，5'水酸基を保護したリボヌクレオシド誘導体に対してNaHで反応させて2'位の水酸基をアルコキシドにしてアルキル化したり、BEMPなどの有機強塩基存在下ハロゲン化アルキルを反応させる方法である（非特許文献２）。この方法では、3'、5'水酸基を同時に保護できる保護基が必要であり、通常1,1,3,3-テトライソプロピルジシロキサン-1,3-ジイル（TIPS）基やジ（tert-ブチル）シラニル（DBS）基が用いられる。しかし、これらの保護基はNaHやBEMPなどの試薬に対して安定性に欠けるために、副生成物が生じてしまう大きな問題点があった。上述した２つの合成法では、いずれも塩基性条件が厳しい条件を用いているために、修飾基導入試薬として用いられるハロゲン化アルキル誘導体には通常はメチルエステルやエチルエステルなどの官能基は組み込むことができない。安定性を維持するためtert-ブチルエステルなどの立体障害の高いものしかエステル骨格としては導入不可能である。【０００３】
【非特許文献１】Richard H. Griffey, Brett P. Monia, Lendall L. Cummins, Susan Freier, Michael J. Greig, Charles J. Guinosso, Elena Lesnik, Sherilynn M. Manalili, Venkatraman Mohan, Steven Owens, Bruce R. Ross, Henri Sasmor,   Ed Wancewicz, Kurt Weiler, Patrick D. Wheeler, and P. Dan Cook J. Med. Chem. 1996, 39, 5100-5109
【非特許文献２】Grotli, M;Douglas, M; Beijer, B.;Garcia, R. G.; Eritja, R.;Sproat, B. J. Chem. Soc., Perkin Trans. 1, 1997, 2779-2788.
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述したように、従来法では、リボヌクレオシドの2'水酸基に導入できるエステル骨格はtert-ブチルエステルなど特定のものに限られていた。本発明は、このような技術的な背景の下になされたものであり、リボヌクレオシドの2'水酸基に、より単純なエステル骨格を導入する手段を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、上記課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、α、β不飽和エステルであるアクリル酸エステルを用いたMichael反応によって、きわめて緩和な反応条件でアルコキシカルボニルエチル基をリボヌクレオシド誘導体の2'水酸基に導入できることを見出し、この知見に基づき、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、以下の（１）〜（１２）を提供するものである。【０００６】
（１）一般式（Ｉ）：
【化１】
0005194256.tif 000002
〔式中、Ｒ１は水素原子、又は水酸基の保護基を表し、Ｒ２は水素原子、水酸基の保護基、又は一般式（III）：
【化２】
0005194256.tif 000003
（式中、Ｒ６、Ｒ７は同一または異なるアルキル基、もしくはＲ６とＲ７が互いに結合してヘテロ原子を含んでもよい環を形成した基を表し、Ｒ８はリン酸基の保護基を表す。）
で示される基を表し、Ｒ３は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表し、Ｂは保護基又は修飾基を有していてもよい核酸塩基の残基を表す。〕
で表されるリボヌクレオシド誘導体。【０００７】
（２）一般式（Ｉ）においてＲ３が、メチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基を表す、（１）に記載のリボヌクレオシド誘導体。【０００８】
（３）一般式（II）：
【化３】
0005194256.tif 000004
〔式中、Ｒ１は水素原子、又は水酸基の保護基を表し、Ｒ２は水素原子、水酸基の保護基、又は一般式（III）：
【化４】
0005194256.tif 000005
（式中、Ｒ６、Ｒ７は同一または異なるアルキル基、もしくはＲ６とＲ７が互いに結合してヘテロ原子を含んでもよい環を形成した基を表し、Ｒ８はリン酸基の保護基を表す。）
で示される基を表し、Ｒ４及びＲ５は同一又は異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表し、Ｂは保護基又は修飾基を有していてもよい核酸塩基の残基を表す。〕
で表されるリボヌクレオシド誘導体。【０００９】
（４）一般式（ＩＩ）においてＲ４及びＲ５が、メチル基を表す、（３）に記載のリボヌクレオシド誘導体。
（５）一般式（ＩＩ）においてＲ４及びＲ５の少なくとも一方が、水素原子を表す、（３）に記載のリボヌクレオシド誘導体。【００１０】
（６）一般式（IV）：
【化５】
0005194256.tif 000006
〔式中、Ｒ１は水素原子、又は水酸基の保護基を表し、Ｒ２は水素原子、水酸基の保護基、又は一般式（III）：
【化６】
0005194256.tif 000007
（式中、Ｒ６、Ｒ７は同一または異なるアルキル基、もしくはＲ６とＲ７が互いに結合してヘテロ原子を含んでもよい環を形成した基を表し、Ｒ８はリン酸基の保護基を表す。）
で示される基を表し、Ｂは保護基又は修飾基を有していてもよい核酸塩基の残基を表す。〕
で表されるリボヌクレオシド誘導体を、一般式（Ｖ）：
【化７】
0005194256.tif 000008
〔式中、Ｒ３は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。〕
で表されるアクリル酸エステルと反応させ、一般式（Ｉ）：
【化８】
0005194256.tif 000009
〔式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＢは前記と同意義を示す。〕
で表されるリボヌクレオシド誘導体を得ることを特徴とする、リボヌクレオシド誘導体の製造方法。【００１１】
（７）一般式（Ｉ）においてＲ３が、メチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基を表す、（６）に記載のリボヌクレオシド誘導体の製造方法。【００１２】
（８）一般式（VI）：
【化９】
0005194256.tif 000010
〔式中、Ｂ１、Ｂ２及びＢ３は同一又は異なって保護基又は修飾基を有していてもよい核酸塩基の残基を表し、Ｂ２はｎの繰り返しにおいて異なっていてもよく、Ｘ１、Ｘ２及びＸ３は同一又は異なって水素原子、水酸基、メトキシ基、シアノエトキシ基、一般式（VII）：
【化１０】
0005194256.tif 000011
〔式中、Ｒ３は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。〕
で示される基、又は一般式（VIII）：
【化１１】
0005194256.tif 000012
〔式中、Ｒ４及びＲ５は同一又は異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。〕
で示される基を表し、Ｘ２はｎの繰り返しにおいて異なっていてもよく、ｎは１以上の整数を表す。但し、Ｘ１、Ｘ２、及びＸ３の少なくとも一つは一般式（VII）又は（VIII）で示される基を表す。〕
で表される核酸誘導体。【００１３】
（９）一般式（VII）においてＲ３が、メチル基又は２，２，２−トリフルオロエチル基を表す、（８）に記載の核酸誘導体。
（１０）一般式（VIII）においてＲ４及びＲ５が、メチル基を表す、（８）に記載の核酸誘導体。
（１１）一般式（VIII）においてＲ４及びＲ５の少なくとも一方が、水素原子を表す、（８）に記載の核酸誘導体。【００１４】
（１２）一般式（Ｉ）：
【化１２】
0005194256.tif 000013
〔式中、Ｒ１は水素原子、又は水酸基の保護基を表し、Ｒ２は水素原子、水酸基の保護基、又は一般式（III）：
【化１３】
0005194256.tif 000014
（式中、Ｒ６、Ｒ７は同一または異なるアルキル基、もしくはＲ６とＲ７が互いに結合してヘテロ原子を含んでもよい環を形成した基を表し、Ｒ８はリン酸基の保護基を表す。）
で示される基を表し、Ｒ３は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表し、Ｂは保護基又は修飾基を有していてもよい核酸塩基の残基を表す。〕
で表されるリボヌクレオシド誘導体、若しくは一般式（II）：
【化１４】
0005194256.tif 000015
〔式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＢは前記と同意義を示し、Ｒ４及びＲ５は同一又は異なって置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表す。〕
で表されるリボヌクレオシド誘導体、又はこれらのリボヌクレオシド誘導体を構成成分として含む核酸誘導体をフッ化物イオンを含む試薬で処理し、対応する一般式（IV）：
【化１５】
0005194256.tif 000016
〔式中、式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＢは前記と同意義を示す。〕
で表されるリボヌクレオシド誘導体、又はそれらを構成成分として含む核酸誘導体を得る方法。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によって、エステル官能基を2'水酸基に組み込むことが可能になり、修飾基として今後様々な置換基がこの官能基の反応性を利用して可能になり、アンチセンス法やRNAi法に新しい素材を提供できるようになる。また、修飾基にアミド基も導入できこの官能基の安定性を利用して蛍光色素やスピンラベルした官能基も導入できるためプローブ分子としても期待される。エステルに対してメチルアミンなどを反応させるとN-メチルカルバモイルエチル基が2'水酸基に導入できる。これを新しいRNA合成の2'水酸基の保護基として用いることも可能になった。今後、この保護基を活用するRNA合成法の発展も期待できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明のリボヌクレオシド誘導体は、一般式（Ｉ）又は（II）で表される。
一般式（Ｉ）又は（II）におけるＲ１は、水素原子、又は水酸基の保護基を表す。水酸基の保護基としては、ヌクレオシド5'水酸基に一般的に使用されている保護基でよく、5'水酸基のみを保護する基でも、3'水酸基と5'水酸基を同時に保護する基であってもよい。5'水酸基のみを保護する基としては、tert-ブチルジメチルシリル（TBDMS）基、tert-ブチルジフェニルシリル基などのトリアルキルシリル基、ベンゾイル基、置換ベンゾイル基（例えば、2-メチルベンゾイル基、2-tert-ブチルベンゾイル基）、ナフトイル基などを例示できる。3'水酸基と5'水酸基を同時に保護する基としては、TIPS基、DBS基などを例示できる。また、Ｒ２が一般式（III）で示される基である場合には、水酸基の保護基は、4,4'-ジメトキシトリチル（DMTr）基、4-メトキシトリチル（MMTr）基、ピキシル基などであることが好ましい。【００１７】
一般式（Ｉ）又は（II）におけるＲ２は、水素原子、水酸基の保護基、又は一般式（III）で示される基を表す。水酸基の保護基としては、ヌクレオシド3'水酸基に一般的に使用されている保護基でよく、tert-ブチルジメチルシリル（TBDMS）基、tert-ブチルジフェニルシリル基などのトリアルキルシリル基、ベンゾイル基、置換ベンゾイル基（例えば、2-メチルベンゾイル基、2-tert-ブチルベンゾイル基）、ナフトイル基、TIPS基、DBS基などを例示できる。【００１８】
一般式（Ｉ）におけるＲ３は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表し、好適には、置換基を有していてもよいアルキル基を表し、更に好適には、メチル基又は2,2,2-トリフルオロエチル基を表す。ここで、「アルキル基」とは、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などである。「アラルキル基」とは、例えば、ベンジル基などである。「アルケニル基」とは、例えば、アリル基、ホモアリル基などである。「アルキニル基」とは、例えば、プロパルギル基などである。「アリール基」とは、例えば、フェニル基、ナフチル基などである。「置換基を有するアルキル基」とは、例えば、2,2,2-トリフルオロエチル基、シアノメチル基、2,2,2-トリクロロエチル基などである。「置換基を有するアラルキル基」とは、例えば、４−クロロベンジル基、４−ニトロベンジル基などである。「置換基を有するアルケニル基」とは、例えば、ジクロロアリル基などである。「置換基を有するアリール基」とは、例えば、４‐ニトロフェニル基などである。【００１９】
一般式（II）におけるＲ４及びＲ５は、同一又は異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、又は置換基を有していてもよいアリール基を表し、好適には、水素原子、又は置換基を有していてもよいアルキル基を表し、更に好適には、水素原子、又はメチル基を表す。なお、「アルキル基」等の意味は、上記と同様である。【００２０】
後述するように、Ｒ４及びＲ５の基の種類によって、一般式（II）の2'修飾基（カルバモイルエチル部分）の脱離の仕方が変わってくる。即ち、Ｒ４及びＲ５のいずれも水素原子でない場合は、カルバモイルエチル部分はテトラブチルアンモニウムフルオリド（Bu4NF）によって脱離し、Ｒ４及びＲ５の少なくとも一方が水素原子である場合は、カルバモイルエチル部分はBu4NFに対して安定である。従って、カルバモイルエチル部分を2'水酸基の保護基として使用する場合は、Ｒ４及びＲ５は水素原子以外のものとし、標識物質等を結合させるための修飾基として使用する場合は、Ｒ４及びＲ５は少なくとも一方は水素原子とすることが好ましい。【００２１】
一般式（Ｉ）又は（II）におけるＢは保護基又は修飾基を有していてもよい核酸塩基の残基を表す。核酸塩基としては、例えば、アデニン、シトシン、グアニン、ウラシル、チミンを挙げることができる。保護基又は修飾基としては、アデニン塩基にあっては、N6位のアミノ基が一つまたは２つのアシル基で保護されるか、アミジン型保護基でもよい。グアニン塩基にあっては、N2位のアミノ基が一つまたは２つのアシル基で保護されるか、アミジン型保護基でもよい。また、グアニン塩基のO6位はシアノエチル基などのアルキル基や、ジフェニルカルバモイル基などのアシル基などで保護されてもよい。ウラシル塩基及びチミン塩基にあっては、N3位がアルキル基、アシル基で保護されてもよい。また、ピリミジン塩基では、５位にアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基などあるいはそれらに蛍光性官能基、ビオチニル基、アミノ基、スピンラベルなどの置換基が含まれていてもよい。【００２２】
一般式（III）におけるＲ６及びＲ７は同一または異なってアルキル基、もしくはＲ６とＲ７が互いに結合してヘテロ原子を含んでもよい環を形成した基を表す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、tert-ブチル基などを例示することができ、これらの中ではイソプロピル基が好ましい。
一般式（III）におけるＲ８はリン酸基の保護基を表す。リン酸基の保護基としては、2-シアノエチル基、4-ニトロフェニルエチル基、N-（トリフルオロアセチル）-4-アミノブチル基、又は、N-メチル-N-（トリフルオロアセチル）-4-アミノブチル基などを例示することができ、これらの中では2-シアノエチル基が好ましい。【００２３】
一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例としては、2'-O-(2-メトキシカルボニルエチル)アデノシン、2'-O-(2-メトキシカルボニルエチル)シチジン、2'-O-(2-メトキシカルボニルエチル)グアノシン、2'-O-(2-メトキシカルボニルエチル)ウリジンなどを挙げることができる。
一般式（II）で表される化合物の具体例としては、2'-O-(N-メチルアミノカルボニルエチル）アデノシン、2'-O-(N-メチルアミノカルボニルエチル）シチジン、2'-O-(N-メチルアミノカルボニルエチル）グアノシン、2'-O-(N-メチルアミノカルボニルエチル）ウリジン、2'-O-(N,N-ジメチルアミノカルボニルエチル）アデノシン、2'-O-(N,N-ジメチルアミノカルボニルエチル）シチジン、2'-O-(N,N-ジメチルアミノカルボニルエチル）グアノシン、2'-O-(N,N-ジメチルアミノカルボニルエチル）ウリジンなどを挙げることができる。【００２４】
一般式（Ｉ）で表されるリボヌクレオシド誘導体は、一般式（IV）で表されるリボヌクレオシド誘導体を、一般式（Ｖ）で表されるアクリル酸エステルと反応させることにより製造できる。
一般式（Ｖ）におけるＲ３は上記と同様である。
上記反応は、適当な触媒存在下で行う。触媒としては、Cs2CO3、K2CO3、Na2CO3、DBUなどを例示できる。
また、上記反応は、反応を阻害しない溶媒中で行う。このような溶媒としては、tert-ブタノールなどを例示できる。
反応温度は特に限定されないが、０  ℃〜１００  ℃の範囲内であることが好ましい。
反応時間は特に限定されないが、１〜５０時間とすることが好ましい。【００２５】
反応に用いるリボヌクレオシド誘導体とアクリル酸エステルとの量比は特に限定されないが、前者と後者のモル比が１：１〜１：１００の範囲内になるように反応させるのが好ましい。
一般式（II）で表されるリボヌクレオシド誘導体は、一般式（Ｉ）で表されるリボヌクレオシド誘導体を、アミンと反応させることにより製造できる。
使用するアミンとしては、メチルアミン、エチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミンなどを例示できる。
上記反応は、反応を阻害しない溶媒中で行う。このような溶媒としては、エタノール、メタノール、テトラヒドロフランなどを例示できる。【００２６】
反応温度は特に限定されないが、０  ℃〜１００  ℃の範囲内であることが好ましい
反応時間は特に限定されないが、１〜４８時間とすることが好ましい
反応に用いるリボヌクレオシド誘導体とアミンとの量比は特に限定されないが、前者と後者のモル比が１：１〜１：１０００の範囲内になるように反応させるのが好ましい。
本発明の核酸誘導体は、一般式（VI）で表される。
一般式（VI）におけるＢ１、Ｂ２及びＢ３は同一又は異なって保護基又は修飾基を有していてもよい核酸塩基の残基を表し、Ｂ２はｎの繰り返しにおいて異なっていてもよい。保護基又は修飾基を有していてもよい核酸塩基の残基は、前述したＢの基と同様の基を表す。【００２７】
一般式（VI）におけるＸ１、Ｘ２及びＸ３は同一又は異なって水素原子、水酸基、メトキシ基、一般式（VII）で示される基、又は一般式（VIII）で示される基を表し、Ｘ２はｎの繰り返しにおいて異なっていてもよい。
一般式（VI）におけるｎは１以上の整数を表すが、好適には１〜２００の整数を表し、更に好適には８〜１００の整数を表す。
一般式（VI）におけるＸ１、Ｘ２、及びＸ３は、上述した基を表せばよいが、これらの少なくとも一つは一般式（VII）又は一般式（VIII）で示される基を表を表す。また、Ｘ２はｎ個の基を表すが、ｎ個中の５〜１００％が一般式（VII）又は一般式（VIII）で示される基であることが好ましい。なお、一般式（VII）及び一般式（VIII）におけるＲ３〜Ｒ５は前記と同様の基を表す。【００２８】
本発明の核酸誘導体は、上述した本発明のリボヌクレオシド誘導体から公知の核酸合成法（例えば、ホスホロアミダイト法など）によって合成することができる。
本発明には、一般式（Ｉ）で表されるリボヌクレオシド誘導体、若しくは一般式（II）で表されるリボヌクレオシド誘導体（但し、Ｒ４及びＲ５は水素原子以外の基を表わす。）、又はこれらのリボヌクレオシド誘導体を構成成分として含む核酸誘導体をフッ化物イオンを含む試薬で処理し、対応する一般式（IV）で表されるリボヌクレオシド誘導体、又はそれらを構成成分として含む核酸誘導体を得る方法も含まれる。ここで、「フッ化物イオンを含む試薬」としては、例えば、テトラブチルアンモニウムフルオリドを挙げることができる。
【実施例】
【００２９】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明する。【００３０】
〔実施例１〕  Ｎ３−ベンゾイル−２’−Ｏ−（２−メトキシカルボニルエチル）３’,５’−Ｏ−（１,１,３,３−テトライソプロピルジシロキサン−１,３−ジイル）ウリジン
【化１６】
0005194256.tif 000017
文献公知のＮ３−ベンゾイル−３’,５’−Ｏ−（１,１,３,３−テトライソプロピルジシロキサン−１,３−ジイル）ウリジン（１．８０  ｇ，３．０３  ｍｍｏｌ）をtert-ブチルアルコール（１５  ｍｌ）に溶解させた。その溶液にアクリル酸メチル（５．４  ｍｌ，６０．２  ｍｍｏｌ），炭酸セシウム (４８９  ｍｇ，  １．３９  ｍｍｏｌ)を加えた。室温で４時間激しく撹拌させた後、反応液をセライトろ過した。溶媒と過剰な試薬を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用い、ヘキサン‐酢酸エチル（９：１，ｖ/ｖ）にて溶出させ上記化合物（１．４７  ｇ，７１％）を白色泡状物質として得た。【００３１】
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＣＤＣｌ3，  ５００  ＭＨｚ） δ  ０．９７‐１．１１ （２８  Ｈ，  ｍ）， ２．５８‐２．６０ （２ Ｈ， ｍ）， ３．６２ （３ Ｈ， ｓ）， ３．８８ （１ Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ４．１５）， ４．００ （１ Ｈ， ｄｄ， Ｊ ＝ ２．４４， １３．６７）， ４．０２‐４．２７ （６ Ｈ， ｍ）， ５．７５ （１Ｈ， ｓ）， ５．７７ （１Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ８．０６）， ７．４８‐７．９４ （５ Ｈ， ｍ）， ８．００ （１Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ８．０６）； 13Ｃ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３，  ５００  ＭＨｚ） δ １２．６， １３．０, １３．２， １３．６， １７．０， １７．１， １７．３， １７．４, １７．６， ３５．２， ５１．７， ５９．５， ６６．７， ６８．２， ８１．９， ８２．６， ８９．２， １０１．６， １２９．３， １３０．７， １３１．４， １３５．４， １３９．３， １４９．１, １６２．３， １６８．９， １７１．７． ＨＲＭＳ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３２Ｈ４８Ｎ２Ｏ１０Ｓｉ２ （Ｍ＋Ｈ＋）： ６７７．２９２６， Ｆｏｕｎｄ ６７７．２９３１．【００３２】
〔実施例２〕
２’−Ｏ−（２−メトキシカルボニルエチル）３’,５’−Ｏ−（１,１,３,３−テトライソプロピルジシロキサン−１,３−ジイル）ウリジン
【化１７】
0005194256.tif 000018
３−ベンゾイル−３’,５’−Ｏ−（１,１,３,３−テトライソプロピルジシロキサン−１,３−ジイル）ウリジン（１４９４  ｍｇ，２．５３  ｍｍｏｌ）をtert-ブチルアルコール（１５  ｍｌ）に溶解させた。その溶液にアクリル酸メチル（５．４  ｍｌ，６０．２  ｍｍｏｌ），炭酸セシウム (４８９  ｍｇ，  １．３８  ｍｍｏｌ)を加えた。室温で１４時間を激しく撹拌させた後、反応液をセライトろ過した。溶媒と過剰な試薬を減圧下留去した。得られた残渣を脱水テトラヒドロフラン  （１５  ｍｌ）に溶解させた。その溶液にノルマル‐プロピルアミン（１．５  ｍｌ，  １８．０  ｍｍｏｌ）を加え１時間撹拌した。溶媒と過剰な試薬を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用い、ヘキサン‐酢酸エチル（３：１，ｖ/ｖ）にて溶出させ上記化合物（１０３０  ｍｇ，  ７１％）を白色泡状物質として得た。【００３３】
1Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３， ５００ ＭＨｚ） δ ０．９２‐１．０９ （２８  Ｈ， ｍ）， ２．６３‐２．６７ （２ Ｈ， ｍ）， ３．６８ （３ Ｈ， ｓ）， ３．８３ （１ Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ４．１５）， ３．９３ （１ Ｈ， ｄｄ， Ｊ ＝ ２．２０， １３．４３）， ４．０８‐４．１１ （３Ｈ， ｍ） ４．１３ （１ Ｈ， ｄｄ， Ｊ ＝ ４．１５， ９．７８）, ４．２３‐４．２１ （１ Ｈ， ｍ）， ５．６６ （１Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ８．０６）， ５．７３ （１Ｈ， ｓ）， ７．８８ （１Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ８．０６）; 13Ｃ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３， ５００ ＭＨｚ） δ １２．６， １３．０， １３．２， １３．５， １７．０， １７．１， １７．２， １７．３， １７．４， １７．５， １７．６， ３５．２， ５１．８， ５９．５， ６６．８， ６８．３， ８１．７， ８２．７， ８９．０, １０１．６， １３９．７， １５０．１， １６３．９， １７１．９． 【００３４】
〔実施例３〕２’−Ｏ−[２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル]−３’,５’−Ｏ−（１,１,３,３−テトライソプロピルジシロキサン−１,３−ジイル）ウリジン
【化１８】
0005194256.tif 000019
３−ベンゾイル−３’,５’−Ｏ−（１,１,３,３−テトライソプロピルジシロキサン−１,３−ジイル）ウリジン（１．８０  ｇ，３．０３  ｍｍｏｌ）をtert-ブチルアルコール（１５  ｍｌ）に溶解させた。その溶液にアクリル酸メチル（５．４  ｍｌ，６０．２  ｍｍｏｌ），炭酸セシウム (４８９  ｍｇ，  １．３９  ｍｍｏｌ)を加えた。室温で４時間激しく撹拌させた後、反応液をセライトろ過した。溶媒と過剰な試薬を減圧下留去した。得られた残渣を４０％メチルアミン‐メタノール溶液  （３０ｍｌ）に溶解させ、室温で２時間撹拌した。その後、溶媒並びに過剰な試薬を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用い、ヘキサン‐酢酸エチル（４：１‐２：１，ｖ/ｖ）にて溶出させ上記化合物（１．１４  ｇ，６６％）を白色泡状物質として得た。【００３５】
1Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３，  ５００  ＭＨｚ）δ ０．９４‐１．１５ （２８  Ｈ, ｍ）， ２．４７‐２．６３ （２ Ｈ， ｍ）， ２．７９‐２．８１ （３ Ｈ， ｍ）， ３．８５‐４．２９ （７ Ｈ， ｍ）， ５．７１‐５．７３ （２ Ｈ， ｍ）， ６．９０ （１ Ｈ， ｂｒ）， ７．９１ （１ Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ８．０６）， ９．９０ （１Ｈ， ｂｒ）； 13Ｃ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３，  ５００  ＭＨｚ） δ １２．５， １３．０， １３．１， １３．６， １６．９， １７．０， １７．１， １７．２， １７．３， １７．４， １７．５, １７．６， ２３．０， ２６．３， ３６．６， ５９．４, ６７．７， ６８．１， ８２．０， ８２．４, ８８．９， １０２．０， １３９．３, １５０．４， １６３．８， １７２．３.  ＨＲＭＳ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ２５Ｈ４５Ｎ３Ｏ８Ｓｉ２ （Ｍ＋Ｈ＋）: ５７２．２８２３， Ｆｏｕｎｄ ５７２．２８２６.【００３６】
〔実施例４〕２’−Ｏ−[２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル]−３’,５’−Ｏ−（１,１,３,３−テトライソプロピルジシロキサン−１,３−ジイル）アデノシン
【化１９】
0005194256.tif 000020
文献公知の６−Ｎ−ジメチルアミノメチレン−３’,５’−Ｏ−（１,１,３,３−テトライソプロピルジシロキサン−１,３−ジイル）アデノシン（１．６２ｇ,  ２．８７  mmol）をtert-ブチルアルコール（１５  ｍｌ）に溶解した。ここにアクリル酸メチル（５．２  ｍL,５８ｍｍol）と炭酸セシウム（９４  ｍｇ,  ０．２９  ｍｍｏｌ）を加え、室温で激しく２０時間攪拌した。反応系をセライトを用いてろ過し、ろ液を減圧下濃縮した。【００３７】
残渣に４０％メチルアミン／エタノール（３０  ｍL）を加え、室温で６時間攪拌し、反応系を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに充填し、クロロホルム：メタノ‐ル（９９．５：０．５,ｖ／ｖ）で溶出し、上記化合物を白色固体（１．１ｇ,６７％）として得た。【００３８】
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３, ５００ ＭＨｚ）  δ  ０．９４−１．２４  （２８ Ｈ, ｍ）, ２.４３−２．４７ （１ Ｈ, ｍ）, ２．６５−２．７０ （１Ｈ, ｍ）, ２．８２−２．８１ （３ Ｈ, ｍ）, ３．９９−４．０４ （２ Ｈ, ｍ）, ４.１２−４．２２ （４ Ｈ, ｍ）, ４.６１ （１Ｈ, ｄｄ, Ｊ ＝ ４．６４, ９．２８）, ５．８７ （２ Ｈ, ｂｒ）, ６．０１ （１Ｈ, ｓ）, ７．２８−７.２９ （１Ｈ, ｂｒ）, ８.１５ （１ Ｈ, ｓ）, ８．３１ （１Ｈ, ｓ）； １３Ｃ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３）  δ  １２．６,  １３.０, １３．１, １３．６, １６.９, １７．０, １７．１, １７．２, １７．３, １７．４, １７．５, １７．６, ２６．４, ３６．７, ５９．７, ６８.１, ６９．０, ８１．７, ８２．０, ８８.８, １２０．６, １３８.５, １４８．９, １５３.１, １５５．７, １７２．１.  ＨＲＭＳ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ２６Ｈ４６Ｎ６Ｏ６Ｓｉ２ （Ｍ＋Ｈ＋）： ５９５．３０２６, Ｆｏｕｎｄ ５９５．３０９３.【００３９】
〔実施例５〕２’−Ｏ−[２−（メトキシカルボニル）エチル]ウリジン
【化２０】
0005194256.tif 000021
実施例１で得られた化合物（３３２  ｍｇ,０．５０  ｍｍｏｌ）を乾燥テトラヒドロフラン（５  ｍL）に溶解した。ここにｎ−プロピルアミン（１８３  μL,  ２．２  ｍｍｏｌ）を加え、室温で一時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、残渣を乾燥テトラヒドロフラン（２  ｍL）に溶解した。反応系にトリエチルアミン・３フッ化水素（２４８  μL,  １．５４  ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン（１０８  μL,  ０．７７  ｍｍｏｌ）を加え室温で一時間攪拌した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに充填し、クロロホルム：メタノール（９９：１,ｖ／ｖ）で溶出し、上記化合物（１８３ｍｇ,９６％）を得た。【００４０】
１Ｈ ＮＭＲ （Ｄ２Ｏ, ５００ ＭＨｚ）  δ２．７０−２．７３ （２Ｈ, ｍ）, ３．７２ （３Ｈ, ｓ）, ３．８０ （１Ｈ, ｄｄ, Ｊ ＝ ４．４０, １２．９４）, ３.９０−４．００ （４Ｈ, ｍ）, ４.１２−４．１４ （１Ｈ, ｍ）, ４.１７ （１Ｈ, ｍ）, ４．３２ （１Ｈ, ｔ, Ｊ ＝ ５.３７）, ５．９３ （１Ｈ, ｄ, Ｊ ＝ ８．０６）, ５．９７ （１Ｈ, ｄ, Ｊ ＝ ４．４０）, ７．９０ （１Ｈ, ｄ, Ｊ ＝ ８．０６） ； １３Ｃ ＮＭＲ （Ｄ２Ｏ） δ３５．０, ５２．８, ６１.１, ６６.８, ６８．９, ８２.０, ８５．１, ８８．１, １０２．９, １４２．３, １５２．０, １６６．７, １７５．２； ＨＲＭＳ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ１３Ｈ１９Ｎ３Ｏ７ （Ｍ＋Ｈ＋） ３３１．１１４１，  Ｆｏｕｎｄ  ３３１．１１４３．【００４１】
〔実施例６〕２’−Ｏ−[２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル]ウリジン
【化２１】
0005194256.tif 000022
実施例３で得られた化合物（５６３  ｍｇ,０．９８  ｍｍｏｌ）を乾燥テトラヒドロフラン（２  ｍL）に溶解し、ここにトリエチルアミン・３フッ化水素（ ５７０ μl,  ３．５０ ｍｍｏｌ）, トリエチルアミン（２５３ μl, １．８０ ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応系を水で希釈し、酢酸エチルで洗浄した。水層をＤｏｗＸ （Ｈ＋ ｆｏｒｍ）に通し溶液を濃縮し、上記化合物（２５０ ｍｇ, ７３％）を得た。【００４２】
１Ｈ ＮＭＲ （Ｄ２Ｏ, ５００ ＭＨｚ） δ  ２．５３−２．５７ （２Ｈ, ｍ）, ２．６８−２.７２ （３Ｈ, ｍ）, ３.７９ （１Ｈ, ｄｄ, Ｊ ＝ ４．４０, １２．９４）, ３．８８−３．９８ （３Ｈ, ｍ）, ４．１２−４．１７ （２Ｈ, ｍ）, ４．３３ （１Ｈ, ｔ，  Ｊ  ＝  ５．４０），  ５．９２ （１Ｈ, ｄ, Ｊ ＝ ８．３０）, ５.９５ （１Ｈ, ｄ, Ｊ ＝ ４．６４）. ； １３Ｃ ＮＭＲ （Ｄ２Ｏ）  δ２６．４,  ３６．５,  ６１．１, ６７．２, ６８.９, ８１．８, ８５．１, ８８．２, １０２．９, １４２．３, １５２．０, １６６．７, １７５.０. ； ＨＲＭＳ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ１３Ｈ１９Ｎ３Ｏ７ （Ｍ＋Ｈ＋） ３３０．１３０１, ｆｏｕｎｄ ３３０．１３０７.【００４３】
〔実施例７〕
２’−Ｏ−[２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル]アデノシン
【化２２】
0005194256.tif 000023
実施例４で得られた化合物を１９１ ｍｇ, ０．３２ ｍｍｏｌ）を乾燥テトラヒドロフラン（３  ｍＬ）に 溶解した。ここに、トリエチルアミン・３フッ化水素（１８２ μｌ,  １．１２ ｍｍｏｌ）とトリエチルアミン （８１ μｌ, ０．５８ ｍｍｏｌ）を加え室温で一時間攪拌した。反応系を水で希釈し、酢酸エチルで洗浄した結晶をろ取し、上記化合物（４４ ｍｇ, ３９％）を得た。【００４４】
１Ｈ ＮＭＲ （Ｄ２Ｏ, ５００  ＭＨｚ）  δ  ２．４０−２.４３ （２Ｈ, ｍ）, ２．４７ （３Ｈ, ｓ）, ３．７１−３.７６ （１Ｈ, ｍ）, ３．８６ （１Ｈ, ｄｄ, Ｊ ＝ ３．４２, １２．６７）, ３．９２−４．００ （２Ｈ, ｍ）, ４．３４−４．３６ （１Ｈ, ｍ）, ４．５８ （１Ｈ, ｄｄ, Ｊ ＝ ２．４４, ５．１２）, ４．６１ （１Ｈ, ｄｄ, Ｊ ＝ ５．１２, ６．８３）, ６.０９ （１Ｈ, ｄ, Ｊ ＝ ６．８３）, ８．２９ （１Ｈ, ｓ）, ８．３４ （１Ｈ, ｓ）.； １３Ｃ ＮＭＲ （Ｄ２Ｏ） ＨＲＭＳ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ１４Ｈ２０Ｎ６Ｏ５ （Ｍ＋Ｎａ＋） ３７５．１３９３, ｆｏｕｎｄ  ３７５．１３４７．【００４５】
〔実施例８〕５’−Ｏ−（４,４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−[２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル]ウリジン
【化２３】
0005194256.tif 000024
実施例６で得られた化合物（５５８ ｍｇ, １．６７ ｍｍｏｌ）を乾燥ピリジン（８ ｍｌ）に溶解し、ここに４,４’−ジメトキシトリチルクロリド（６２２ ｍｇ, １．８４ ｍｍｏｌを加え、室温で攪拌した。反応系を減圧下濃縮し、酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過後、ろ液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに充填し、０．５％のトリエチルアミンを含むクロロホルム：メタノール（９８：２,ｖ／ｖ）で溶出し、上記化合物（７４９ｍｇ,７０％）を得た。【００４６】
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３, ５００ ＭＨｚ）δ ２.４３−２.６１ （２Ｈ, ｍ）, ２．８１ （３Ｈ, ｍ）, ３.４８−３．５４ （２Ｈ, ｍ）, ３．７９ （３Ｈ, ｓ）, ３.９０−３．９７ （２Ｈ, ｍ）, ５.２３ （１Ｈ, ｄ, Ｊ ＝ ８．０６）, ５．８６ （１Ｈ, ｂｒ）, ５.９３ （１Ｈ, ｄ, Ｊ ＝ ２．９３）, ６.８３−６．８６ （４Ｈ, ｍ）, ７.２２−７.３９ （９Ｈ, ｍ）, ７.９５ （１Ｈ, ｄ, Ｊ ＝ ８．０６）； １３Ｃ ＮＭＲ  （ＣＤＣｌ３）  δ  ２６．５, ３５．９, ５５．４, ６２.１, ６６.６, ６９．２, ８２．９, ８３.７, ８７.２, ８７．９, １０２.４, １１３．４, １２７．３, １２８.１, １２８．３，  １３０．２，  １３０.３, １３５.３, １３５．５, １４０．３, １４４．５, １５０.８, １５８.８, １６３．６, １７２．２； ＨＲＭＳ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ３４Ｈ３７Ｎ３Ｏ９ （Ｍ＋Ｎａ＋） ６５４．２４２７，  Ｆｏｕｎｄ  ６５４．２４４６．【００４７】
〔実施例９〕２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル基のテトラブチルアンモニウムフルオリドに対する安定性
実施例８で合成した化合物（４  ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）に１Ｍ  テトラブチルアンモニウムフルオリド／ＴＨＦ（１  ｍＬ）を加え、室温で６日間反応を行った。シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム−メタノール，３：１，ｖ／ｖ）で分析したところ、化合物の分解は起こらず安定に存在することが明らかになった。【００４８】
〔実施例１０〕５’−Ｏ−（４,４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−[２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル]ウリジン  ３’−（２−シアノエチル  Ｎ,Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
【化２４】
0005194256.tif 000025
実施例８で得られた化合物（４９０ ｍｇ, ０．７７ ｍｍｏｌ）を乾燥アセトニトリル（２  ｍＬ）に溶解し、乾燥アセトニトリル（２ｍＬ）に溶解した２−シアノエトキシ  Ｎ，Ｎ,Ｎ’,Ｎ’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト （３５８ ｍｇ, １．１９ ｍｍｏｌ）を加えた。ここにジイソプロピルアンモニウム  １Ｈテトラゾリド  （１０１ ｍｇ, ０．５９ ｍｍｏｌ）を加え、室温で８時間攪拌した。反応を水を加えて停止させて、酢酸エチルで希釈した。有機層を 飽和食塩水で３回、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で３回洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過した後、ろ液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに充填し、０．５％のトリエチルアミンを含むクロロホルム：メタノ‐ル（９９：１,ｖ／ｖ）で溶出し、上記化合物（３８４ｍｇ,６６％）を得た。【００４９】
１Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３, ５００ ＭＨｚ） δ １．０３−１．２９ （１２Ｈ, ｍ）, ２.４２−２．６４ （４Ｈ, ｍ）, ２．７７−２.８０ （３Ｈ, ｍ）, ３.４３−３.７５ （６Ｈ, ｍ）, ３．７９−３．８０ （６Ｈ, ｍ）, ３.８６−４．２５ （４Ｈ, ｍ）, ４．４８−４．６１ （１Ｈ, ｍ）, ５.２１−５.２８ （１Ｈ, ｍ）, ５．９０ （１Ｈ, ｍ）, ６．４９ （１Ｈ, ｂｒ）, ６．８２−６．８５ （４Ｈ, ｍ）, ７.２７−７．４７ （９Ｈ, ｍ）, ８.０１−８．０９ （１Ｈ, ｍ）； １３Ｃ  ＮＭＲ  （ＣＤＣｌ３)  δ  ２０．３,  ２０.４, ２０．５, ２１.５, ２４．５, ２４．６, ２４.７, ２４．６, ２４．７, ２４．８, ２６．３, ３６.９, ４３．２, ４３．３, ４５．９, ５５．３, ５７．８, ５８．０, ５８．１, ６０.５, ６０．８, ６７．７, ６７.８, ６９．４, ７０．２, ８１．８, ８１．９, ８２．０，  ８２．１，  ８２．２,  ８２.３, ８７.０, ８７．１, ８８．８, ８９．１, １０２.３, １１３．３, １１７．６, １１７．９, １２７．２, １２７．３, １２８．０, １２８．３, １３０．３, １３５．０, １３５．１, １３５．２, １４０.０, １４４．２, １４４．３, １５０．９, １５１.０, １５８．７, １５８．８, １６３．８, １６３．９, １７１.８, １７１．９.；  ３１ＰＮＭＲ  （ＣＤＣｌ３）  δ  １５１．３, １５０.５； ＨＲＭＳ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ４３Ｈ５４Ｎ５Ｏ１０Ｐ （Ｍ＋Ｈ＋） ８３２．３６８７, Ｆｏｕｎｄ ８３２．３６５０.【００５０】
〔実施例１１〕オリゴヌクレオチド合成
【化２５】
0005194256.tif 000026
合成したオリゴヌクレオチドは（Ｕ＊）１２の配列を有する１２量体である。ここでＵ＊は２’−Ｏ−[２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル]ウリジン残基を表わしている。オリゴヌクレオチドはアプライドバイオシステムズ３９２オリゴヌクレオチドシンセサイザーを用いて１μｍｏｌスケールで行った。固相担体にはユニバーサルサポートＩＩ（グレンリサーチ社製）を用いた。実施例１０にて合成したホスホロアミダイトを乾燥アセトニトリルに０．１Ｍになるように溶解し、上記オリゴヌクレオチドシンセサイザーに適用した。ホスホロアミダイトの活性化剤に０．２５  Ｍ  ５−ベンジルチオ−１Ｈ−テトラゾールを用い縮合時間を１０分に延長した以外は、上記シンセサイザーの標準的ＲＮＡ合成プロトコール（トリチルオン）に従った。オリゴヌクレオチドの鎖伸長終了後、固相担体を２Ｍ  アンモニア／メタノールに浸し室温で６時間放置した。上澄みを減圧下濃縮し、残渣をＣ１８逆相カートリッジカラムに通し、副生物を除去した。カラムに２％トリフルオロ酢酸水溶液を添加し、ジメトキシトリチル基を除去した後、アセトニトリルを含む蒸留水で目的物を溶出した。溶出液を減圧下濃縮し、残渣をイオン交換ＨＰＬＣで精製して目的物を単離収率１１％で得た。イオン交換ＨＰＬＣはＧｅｎＰａｋ  Ｆａｘカラムを用い溶離液に２５ ｍＭ リン酸ナトリウム （ｐＨ ６．０）に１Ｍ  ＮａＣｌの勾配を１分につき１％の割合で負荷し、カラム温度５０℃、流速１ｍＬ／分で行った。【００５１】
〔実施例１２〕２−メトキシカルボニル基のテトラブチルアンモニウムフルオリドによる除去
実施例５で合成した化合物（４  ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）に１Ｍ  テトラブチルアンモニウムフルオリド／ＴＨＦ（１  ｍＬ）を加え、室温で１０分間反応を行った。シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム−メタノール，３：１，ｖ／ｖ）で分析したところ、完全にウリジン（Ｒｆ値  ０．３２）に変換されていることを確認した。【００５２】
〔実施例１３〕Ｎ３−ベンゾイル−３’,５’−Ｏ−（１,１,３,３−テトライソプロピルジシロキサン−１,３−ジイル）−２’−Ｏ−［２−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）カルボニルエチル］ウリジン
【化２６】
0005194256.tif 000027
文献公知のＮ３−ベンゾイル−３’,５’−Ｏ−（１,１,３,３−テトライソプロピルジシロキサン−１,３−ジイル）ウリジン（５９１  ｍｇ，１  ｍｍｏｌ）をtert-ブチルアルコール（５  ｍｌ）に溶解させた。その溶液に炭酸セシウム (１６２  ｍｇ，  ０．５  ｍｍｏｌ)ついでアクリル酸トリフルオロエチル（２．５  ｍｌ，２０  ｍｍｏｌ），を加えた。室温で３時間激しく撹拌させた後、反応液をセライトろ過した。溶媒と過剰な試薬を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用い、ヘキサン‐酢酸エチル（５：１，ｖ/ｖ）にて溶出させ上記化合物（３８７  ｍｇ，５３％）を白色泡状物質として得た。【００５３】
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＣＤＣｌ３，  ５００  ＭＨｚ） δ  ０．９６‐１．１１ （２８  Ｈ，  ｍ）， ２．６７‐２．６９ （２ Ｈ， ｍ）， ３．６２ （３ Ｈ， ｓ）， ３．９０ （１ Ｈ， ｄ， Ｊ ＝４．１５Ｈｚ ）， ３．９６（１ Ｈ， ｄｄ， Ｊ ＝ １３．４，  ２．０  Ｈｚ）， ４．０６（２ Ｈ， ｍ）， ４．１０ （１ Ｈ， ｄｄ，Ｊ  ＝  ９．５  Ｈｚ,  １．５  Ｈｚ）， ４．１８ （１ Ｈ， ｍ）， ４．２５  （１Ｈ,ｄ,Ｊ  ＝１３．４  Ｈｚ）,４．４０（１Ｈ,  ｍ）,  ５．７２（１Ｈ，ｓ），５．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ  ＝  ８．３Ｈｚ），７．４９（２Ｈ，ｍ），７．６４（１Ｈ，ｍ），７．９２（２Ｈ，ｍ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３  Ｈｚ）【００５４】
〔実施例１４〕Ｎ３−ベンゾイル−２’−Ｏ−[２−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）カルボニルエチル]ウリジン
【化２７】
0005194256.tif 000028
実施例１３にて合成した、Ｎ３−ベンゾイル−３’,５’−Ｏ−（１,１,３,３−テトライソプロピルジシロキサン−１,３−ジイル）−２’−Ｏ−[２−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）カルボニルエチル]ウリジン（１．５  ｇ，２  ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（８  ｍｌ）に溶解させた。その溶液にトリエチルアミン (７８０  μＬ，  ３．５  ｍｍｏｌ)ついでトリエチルアミン・３フッ化水素（１．１  ｍｌ，７  ｍｍｏｌ）を加えた。室温で３０分撹拌させた後、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用い、クロロホルム‐メタノール（１００：１，ｖ/ｖ）にて溶出させ上記化合物（８０３  ｍｇ，８０％）を白色泡状物質として得た。【００５５】
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＣＤＣｌ３，  ５００  ＭＨｚ） δ   ３．７９−２．６５ （３ Ｈ， ｍ），３．７０  （１ Ｈ， ｓ）， ４．１３−３．８０  （６ Ｈ， ｍ），４．３４ （１ Ｈ， ｔ，  Ｊ  ＝  ０．０１），４．５２−４．４９ （２ Ｈ， ｍ），５．８２−５．７７ （２ Ｈ， ｍ）， ７．５２−７．４８ （１ Ｈ， ｍ），７．６８−７．６４ （１   Ｈ，  ｍ），７．９４−７．９２ （１Ｈ， ｍ），７．９７ （１  Ｈ，  ｄ，  Ｊ  ＝０．０３）．【００５６】
〔実施例１５〕Ｎ３−ベンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−[２−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）カルボニルエチル]ウリジン
【化２８】
0005194256.tif 000029
実施例１４にて合成した、Ｎ３−ベンゾイル−２’−Ｏ−[２−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）カルボニルエチル]ウリジン（７５０  ｍｇ，１．５  ｍｍｏｌ）を乾燥ピリジン（１５  ｍｌ）に溶解させた。その溶液に４，４’−ジメトキシトリチルクロリド（７６３  ｍｇ，２．３  ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１．５時間撹拌させた後、反応を水を加えて停止させた。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いヘキサン−クロロホルム（１：１，ｖ/ｖ）にて溶出させ上記化合物（７５０  ｍｇ，６２％）を白色泡状物質として得た。【００５７】
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＣＤＣｌ３，  ５００  ＭＨｚ） δ２．５２−２．７９（２Ｈ，ｍ），３．５７（２Ｈ，ｍ），３．８１（６Ｈ，ｓ），３．９０−３．９６（１Ｈ，ｍ），３．９９−４．０８（２Ｈ，ｍ），４．１３−４．１７（１Ｈ，ｍ），４．４４−４．５９（２Ｈ，ｍ），５．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３  Ｈｚ），５．９２（１Ｈ，ｍ），６．８６（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７９Ｈｚ），７．３０−７．３４（７Ｈ，ｍ），７．４０（２Ｈ，ｍ），７．５０（２Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｍ），７．９５（２Ｈ、ｍ），８．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ  ＝８．３  Ｈｚ）【００５８】
〔実施例１６〕５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−[２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル）エチル]ウリジン
【化２９】
0005194256.tif 000030
実施例１５にて合成した、Ｎ３−ベンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−[２−（２，２，２−トリフルオロエトキシ）カルボニルエチル]ウリジン（１２０  ｍｇ，０．１５  ｍｍｏｌ）に２  Ｍ  ジメチルアミン／テトラヒドロフラン（４  ｍＬ）を加え、室温で１５時間撹拌させた後、４０℃で２時間反応を行った。溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いクロロホルムにて溶出させ上記化合物（８０  ｍｇ，８３％）を白色泡状物質として得た。【００５９】
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＣＤＣｌ３，  ５００  ＭＨｚ） δ  ２．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ  ＝１７．１  Ｈｚ），２．７８（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ  ＝  ３．２  Ｈｚ，１０．８  Ｈｚ，１７．１  Ｈｚ），２．９７（３Ｈ，ｓ），３．０１（３Ｈ，ｓ），３．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．２  Ｈｚ，１０．７Ｈｚ），３．５２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ  ＝  ２．７  Ｈｚ，１０．７  Ｈｚ），３．７９  （３Ｈ，ｓ），３．８９（１Ｈ，ｍ），３．９９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝４．２  Ｈｚ），４．１０（２Ｈ，ｍ），４．５８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ  ＝５．９  Ｈｚ，１０．７  Ｈｚ），５．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１  Ｈｚ），５．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．６  Ｈｚ），５．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．７  Ｈｚ），６．８３（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝  ８．５  Ｈｚ），７．２３−７．２９（７Ｈ，ｍ），７．３９（２Ｈ，ｍ），７．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３０  Ｈｚ），８．７２（１Ｈ，ｂｒ）．【００６０】
〔実施例１７〕２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルエチル）基のテトラブチルアンモニウムフルオリドによる除去
実施例１６で合成した化合物（６  ｍｇ，０．０１ｍｍｏｌ）に１Ｍ  テトラブチルアンモニウムフルオリド／ＴＨＦ（１  ｍＬ）を加え、室温で２時間反応を行った。シリカゲル薄層クロマトグラフィー（展開溶媒：クロロホルム−メタノール，１０：１，ｖ／ｖ）で分析したところ、完全に５’−Ｏ−ジメトキシトリチルウリジン（Ｒｆ値  ０．５０）に変換されていることを確認した。【００６１】
〔実施例１８〕６‐Ｎ−アセチル‐２‘−Ｏ−（２−メチルアミノカルボニルエチル）−５’−Ｏ−ジメトキシトリチルアデノシン
【化３０】
0005194256.tif 000031
実施例４にて合成した、２’−Ｏ−[２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル]−３’,５’−Ｏ−（１,１,３,３−テトライソプロピルジシロキサン−１,３−ジイル）アデノシン（７．２０  ｇ，１２．１２  ｍｍｏｌ）を無水ピリジン（１２０  ｍｌ）に溶解させた。その溶液に塩化アセチル（１  ｍｌ，１４．０  ｍｍｏｌ）を加えた。室温で５時間撹拌させた後、反応液にメタノールを加えて反応を停止した。溶媒と過剰な試薬を減圧下留去した。得られた残渣をクロロホルムで希釈し飽和食塩水、及び飽和炭酸水素ナトリウムにて洗浄し、有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥後ろ過した。溶媒を減圧下留去した。得られた残渣を無水ＴＨＦに溶解させ、トリエチルアミン3フッ化水素（６．９ｍｌ、４２．３７ｍｍｏｌ），トリエチルアミン（３ ｍｌ，２１．９３  ｍｍｏｌ）を加え室温で1時間撹拌した。その後、溶媒を減圧留去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに吸着させ、クロロホルム‐メタノール（１００：０‐９８：２‐９６：４，ｖ/ｖ）にて粗精製を行った。得られた残渣を無水ピリジンにて4回共沸脱水を行い、無水ピリジン１００ｍｌに溶解させた。反応液にジメトキシトリチルクロリド（４．１ｇ，１２．１３  ｍｍｏｌ）を加えて室温にて1時間撹拌した。その後、メタノールを加えて反応を停止し溶媒を減圧留去した。【００６２】
得られた残渣をクロロホルムに溶解させ飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄し、無水硫酸ナトリウムにて乾燥させた。溶媒を減圧下留去し得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに吸着させた。クロロホルム‐メタノール（９９：１-９８：２-９７：３，ｖ/ｖ，０．５％トリエチルアミン）にて溶出させ上記化合物（４．６７  ｇ，５５％）を白色泡状物質として得た。【００６３】
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＣＤＣｌ3，  ５００  ＭＨｚ） δ  ２．２９‐２．４７ （２  Ｈ，  ｍ）， ２．５１ （３ Ｈ， ｓ）， ２．７３-２．７４ （３ Ｈ， ｍ）， ３．３３-３．４０ （２ Ｈ， ｍ）， ３．６６-３．７１ （７ Ｈ， ｍ）， ３．９４-３．９９ （１ Ｈ， ｍ）， ４．２１-４．２４ （１ Ｈ， ｍ）， ４．５４-４．６３ （３ Ｈ， ｍ）， ５．８７‐５．９０ （１ Ｈ， ｍ）， ６．０５ （１ Ｈ， ｄ， Ｊ ＝ ５．６２），  ６．７１-６．７３  （４Ｈ，ｍ），  ７．１２-７．３６  （９Ｈ，ｍ），  ８．１０  （１Ｈ，ｓ），  ８．５１  （１Ｈ，ｓ），  ８．７３  （１Ｈ，  ｂｒ） 【００６４】
〔実施例１９〕６‐Ｎ−アセチル‐２’−Ｏ−（２−メチルアミノカルボニルエチル）−５’−Ｏ−ジメトキシトリチルアデノシン  ３’−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
【化３１】
0005194256.tif 000032
６‐Ｎ−アセチル‐２’−Ｏ−（２−メチルアミノカルボニルエチル）−５’−Ｏ−ジメトキシトリチルアデノシン（１．４８  ｇ，２．１２  ｍｍｏｌ）を無水トルエンにて３回共沸脱水を行い、アルゴン置換した。無水ジクロロメタンに溶解させジイソプロピルエチルアミン（５５５  μl，３．１８  ｍｍｏｌ）、２−シアノエチル‐Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノクロロホスフィン（５５１  ｍｇ，  ２．３３  ｍｍｏｌ）を無水ジクロロメタン（１ｍｌ）溶液として反応系に加えた。室温で２時間撹拌した後、クロロホルムで希釈し飽和食塩水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥後、溶媒を減圧留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに吸着させ、クロロホルム‐メタノール（１００：１‐９９：１，ｖ/ｖ，０．５％トリエチルアミン）にて溶出させ上記化合物（１１０７  ｍｇ，  ５８％）を白色泡状物質として得た。【００６５】
1Ｈ ＮＭＲ （ＣＤＣｌ３， ５００ ＭＨｚ） δ  １．０４‐１．１８ （１２  Ｈ，  ｍ）， ２．３１‐２．７０ （１０ Ｈ， ｍ）， ３．３４‐３．３７ （１ Ｈ， ｍ）， ３．５１‐４．０５ （１７ Ｈ， ｍ）， ４．３３‐４．４１ （１ Ｈ， ｍ）， ４．５７‐４．６８ （１ Ｈ， ｍ）， ６．１５‐６．１６ （１ Ｈ， ｍ）， ６．４２−６．４３ （１ Ｈ， ｍ）， ６．７７−６．８１ （４ Ｈ， ｍ）， ７．１８‐７．４２ （９ Ｈ， ｍ），  ８．２６‐８．３０  （１Ｈ，ｍ），  ８．６０‐８．６２  （１Ｈ，ｍ），  ８．９７  （１Ｈ，ｂｒ），  ８．５１  （１Ｈ，ｓ），  ８．７３  （１Ｈ，  ｂｒ）【００６６】
〔実施例２０〕合成したオリゴヌクレオチドのハイブリダイゼーション能評価
実施例１１にて合成したオリゴヌクレオチドとその相補鎖ＲＮＡであるアデニル酸１２量体（ＡＡＡＡＡＡＡＡＡＡＡＡ）とのＴｍを測定した。各オリゴヌクレオチドの濃度が２μMになるように、１０ｍＭ  リン酸ナトリウム緩衝液(pH7.0) -０．1  M NaCl中に溶解した。この溶液を７０度に温め１５分間保った後、1分１度の割合で5度まで冷却し、再度同じ速度で７０度まで加熱した。この間の２６０ｎｍでのUV吸収を測定してUV-融解曲線を得た。得られたUV融解曲線を微分し、極大値をあたえる温度をTｍ値とした。
Tm値は２６  ℃であった。
一方、比較のために測定したウリジル酸１２量体とアデニル酸１２量体とのＴｍは１４℃であり、実施例１１で合成したオリゴヌクレオチドは天然型オリゴヌクレオチドよりも高いハイブリダイゼーション能を有していることが明らかとなった。【００６７】
〔実施例２１〕２’−Ｏ−［２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル］−３’−５’−Ｏ−（１，１，３，３−テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）シチジン
【化３２】
0005194256.tif 000033
４−ジメチルホルムアミジニル−３’，５’−Ｏ−（１，１，３，３，−テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）シチジン（６．６４  ｍｇ，１２．３  ｍｍｏｌ)をtert-ブチルアルコール（１２０  ｍｌ）に溶解させた。その溶液にアクリル酸メチル（２３  ｍｌ，  ２４６  ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（１．９５  ｍｇ，  １．２０  ｍｍｏｌ）を加えた。室温で４時間激しく攪拌させた後、反応液をセライトろ過した後、溶媒と過剰な試薬を減圧下留去した。得られた残渣を４０％メチルアミン・メタノール溶液（１２０  ｍｌ）に溶解させ、室温で１０時間攪拌した。その後、溶媒と過剰な試薬を減圧留去した。反応生成物をＮＨ−シリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて、クロロホルム−メタノール溶液（９９：１−９５：５，ｖ／ｖ）にて溶出させ、上記化合物（２．５０  ｇ，  ４．３０  ｍｍｏｌ）を白色泡状物質として得た。【００６８】
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ５００  ＭＨｚ）σ０．８６−１．０６（２８  Ｈ，  ｍ），２．３３−２．３８（２  Ｈ，  ｍ），２．５８−２．６４（２  Ｈ，  ｍ），２．７４−２．７５（３  Ｈ，  ｄ），３．８４−４．２２（７  Ｈ，  ｍ），５．６４（１  Ｈ，  ｓ），５．７８−５．７９（１  Ｈ，  ｄ），７．２９−７．３１（１  Ｈ，  ｄｄ），７．８４−７．８６（１  Ｈ，  ｄ）【００６９】
〔実施例２２〕２’−Ｏ−［２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル］−シチジン
【化３３】
0005194256.tif 000034
実施例２１にて得られた化合物（１．５５  ｇ，  ２．７２  ｍｍｏｌ）を乾燥テトラヒドロフラン（１５  ｍｌ）に溶解させた。その溶液にトリエチルアミン・３フッ化水素（１．５５  ｍｌ，  １．６５  ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間激しく攪拌させた。溶媒と過剰な試薬を減圧下留去し、反応生成物をＮＨ−シリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて、クロロホルム−メタノール溶液（８０：２０−７０：３０，ｖ／ｖ）にて溶出させ上記化合物（６００  ｍｇ，  １．８２  ｍｍｏｌ）を得た。【００７０】
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ，  ５００  ＭＨｚ）σ２．３５−２．４５（２  Ｈ，  ｍ），２．５９−２．６０（３  Ｈ，  ｄ），３．５７−３．６１（１  Ｈ，  ｍ），３．６７−３．６９（１  Ｈ，  ｓ），３．７３−３．８１（２  Ｈ，  ｍ），３．８３−３．８５（２  Ｈ，  ｍ），５．１５−５．１６（２  Ｈ，  ｄ），５．７３−５．７６（１  Ｈ，  ｄ），５．８３−５．８４（１  Ｈ，  ｄ）７．２１−７．２３（２  Ｈ，  ｄ），７．９０−７．９３（２  Ｈ，  ｍ）【００７１】
〔実施例２３〕２’−Ｏ−［２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル］−４−Ｎ−アセチルシチジン
【化３４】
0005194256.tif 000035
実施例２２にて得られた化合物（６１４  ｍｇ，  １．８７  ｍｍｏｌ）をエタノール（１０  ｍｌ）に溶解させた。その溶液に無水酢酸（３００  μｌ，  ３．６７  ｍｍｏｌ）を加え、還流条件下８０℃で２時間激しく攪拌させた。溶媒と過剰な試薬を減圧下留去し、エタノールと酢酸エチルを用いて再沈殿を行い、上記化合物（６２５  ｍｇ，  １．６９  ｍｍｏｌ）を得た。【００７２】
１Ｈ  ＮＭＲ（ＤＭＳＯ，  ５００  ＭＨｚ）σ２．０９（３  Ｈ，  ｓ），２．３３−２．３９（２  Ｈ，  ｍ），２．５５−２．５６（３  Ｈ，  ｄ），３．６３−４．０８（ｍ），５．２１−５．２６（２  Ｈ，  ｍ），５．７９−５．８０（１  Ｈ，  ｄ），７．１７−７．１９（１  Ｈ，  ｄ），７．８５−７．８０（１  Ｈ，  ｔ），８．４１−８．４３（１  Ｈ，  ｄ），１０．８６（１  Ｈ，  ｓ）【００７３】
〔実施例２４〕５'−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−［２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル］−４−Ｎ−アセチルシチジン
【化３５】
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実施例２３にて得られた化合物（５５０  ｍｇ，  １．４８  ｍｍｏｌ）を乾燥ピリジン（１５  ｍｌ）に溶解させた。その溶液に４，４'−ジメトキシトリチルクロリド（５５２  ｍｇ，  １．６３  ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間激しく攪拌させた。少量の水で反応を停止させた後、反応系を減圧下濃縮し、クロロホルムで希釈後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて、クロロホルム：メタノール：トリエチルアミン（９８：１．５：０．５）にて溶出し、上記化合物（４４５  ｍｇ，  １．００  ｍｍｏｌ）を得た。【００７４】
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ５００  ＭＨｚ）σ２．０８（１  Ｈ，  ｓ），２．１８（３  Ｈ，  ｓ），２．３９−２．４３（１  Ｈ，  ｍ），２．５３−２．６１（１  Ｈ，  ｍ），２．７５−２．７６（３  Ｈ，  ｄ），３．５４−３．５５（２  Ｈ，  ｄ），３．７９−３．８０（６  Ｈ，  ｍ），３．９２−３．９３（１  Ｈ，  ｄ），４．００−４．１５（３  Ｈ，  ｍ），４．４５−４．４９（２  Ｈ，  ｍ）
５．８９（１  Ｈ，  ｓ），６．５２（１  Ｈ，  ｓ），６．８３−６．８５（３  Ｈ，  ｄ），７．１０−７．１１（１  Ｈ，  ｓ），７．２３−７．４１（８  Ｈ，  ｍ）８．４７−８．４９（１  Ｈ，  ｄ），９．４９（１  Ｈ，  ｓ）【００７５】
〔実施例２５〕５'−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−［２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル］−４−Ｎ−アセチルシチジン  ３’−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
【化３６】
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実施例２４にて得られた化合物（４８０  ｍｇ，  ０．７１  ｍｍｏｌ）を乾燥アセトニトリル（２  ｍｌ）に溶解させた。その溶液に乾燥アセトニトリル（２  ｍｌ）に溶解させた２−シアノエトキシ  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロジアミダイト（３４３  μｌ，  １．０７  ｍｍｏｌ）を加え、さらにジイソプロピルアンモニウム  １Ｈテトラゾリド（９２  ｍｇ，  ０．５４  ｍｍｏｌ）を加えた。室温で１５時間激しく攪拌させた。少量の水で反応を停止させた後、反応系を減圧下濃縮し、クロロホルムで希釈後、飽和食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、ろ液を減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて、クロロホルム：メタノール：トリエチルアミン（９８：１．５：０．５）にて溶出し、上記化合物（３００  ｍｇ，  ０．３４  ｍｍｏｌ）を得た。【００７６】
１Ｈ  ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ５００  ＭＨｚ）σ０．９９−１．２３（１４  Ｈ，  ｍ），２．２２-２．３６（３  Ｈ，  ｍ），２．３７−２．４１（２  Ｈ，  ｍ），２．５８−２．７８（５  Ｈ，  ｍ），３．４５−３．７９（１３  Ｈ，  ｍ），３．９７−４．２６（４  Ｈ，  ｍ），４．４０−４．５４（１  Ｈ，  ｍ），５．８９−５．９０（１  Ｈ，  ｄ），６．８２−７．４３（２０  Ｈ，  ｍ），８．５２−８．６０（１  Ｈ，  ｍ），１０．１３−１２．１６（１  Ｈ，  ｄ）【００７７】
〔実施例２６〕オリゴリボヌクレオチド合成
【化３７】
0005194256.tif 000038
合成したオリゴヌクレオチドは、（Ａ＊）１２の配列を有する１２量体である。ここで、Ａ＊は２’−Ｏ−［２−（Ｎ−メチルカルバモイル）エチル］アデノシン残基を表している。実施例１９にて合成したホスホロアミダイトを用いて、実施例１１と同様の方法で合成し、目的化合物を得た。【００７８】
〔実施例２７〕酵素耐性
実施例１１で得られたオリゴヌクレオチド（５０  μｍｏｌ）を、５０  ｍＭ  トリス塩酸バッファー（９９０  μｌ，  ｐＨ  ８．５，  ７２  ｍＭ  塩化ナトリウム，  １４ｍＭ  塩化マグネシウム）に溶解させた。次に、５０  ｍＭ  トリス塩酸バッファー（１０  μｌ，  ｐＨ  ８．５，  ７２  ｍＭ  塩化ナトリウム，  １４ｍＭ  塩化マグネシウム）に溶解させたスネークベノムホスホジエステラーゼ（シグマアルドリッチ社製）（２．５  μｇ，  ５×１０−４  ｕｎｉｔ）を加え、３７℃で反応させた。０℃で酵素反応を停止させた後、反応液を純水で薄めた。陰イオン交換クロマトグラフィーにて、完全長のオリゴヌクレオチドが残る割合を分析した。５分後では９４％、１０分後では９５％、２０分後では８７％、４０分後では７８％、８０分後では６０％、１６０分後では４１％のオリゴが完全長で残存していた。【００７９】
本明細書は、本願の優先権の基礎である日本国特許出願（特願2006-063358号）の明細書に記載されている内容を包含する。また、本発明で引用した全ての刊行物、特許および特許出願をそのまま参考として本明細書にとり入れるものとする。