(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１主面と、第１側面と、前記第１側面とは反対側の第２側面と、を有する導光板と、
前記導光板の前記第１主面上に前記第１主面に接して設けられた第１プリズム列部と、
を含む導光体であって、
前記第１プリズム列部は、前記第１側面から前記第２側面に向かう第１方向に沿って延在する複数の第１プリズム体を含み、
前記複数の第１プリズム体は、前記第１主面に対して平行で前記第１方向に対して垂直な第２方向に沿って並び、
前記複数の第１プリズム体の前記第１主面とは反対側の頂角は、直角である導光体と、
前記第１側面及び前記第２側面の少なくともいずれかに対向して設けられ、前記第１側面及び前記第２側面の前記少なくともいずれかから前記導光板に光を入射させる複数の光源と、
を備え、
前記導光板の屈折率は、前記複数の第１プリズム体の屈折率の０．８８８倍以上０．９８７倍以下であり、
前記複数の光源のそれぞれから前記導光板に入射する光の明るさは独立して制御されることを特徴とする面光源。
【請求項２】
第１主面と、前記第１主面とは反対側の第２主面と、第１側面と、前記第１側面とは反対側の第２側面と、を有する導光板と、
前記導光板の前記第１主面上に前記第１主面に接して設けられた第１プリズム列部と、
前記導光板の前記第２主面上に前記第２主面に接して設けられた第２プリズム列部と、
を含む導光体であって、
前記第１プリズム列部は、前記第１側面から前記第２側面に向かう第１方向に沿って延在する複数の第１プリズム体を含み、
前記複数の第１プリズム体は、前記第１主面に対して平行で前記第１方向に対して垂直な第２方向に沿って並び、
前記複数の第１プリズム体の前記第１主面とは反対側の頂角は、直角であり、
前記第２プリズム列部は、前記第１方向に沿って延在する複数の第２プリズム体を含み、
前記複数の第２プリズム体は、前記第２方向に沿って並び、
前記複数の第２プリズム体の前記第２主面とは反対側の頂角は、直角である導光体と、
前記第１側面及び前記第２側面の少なくともいずれかに対向して設けられ、前記第１側面及び前記第２側面の前記少なくともいずれかから前記導光板に光を入射させる複数の光源と、
を備え、
前記導光板の屈折率は、前記複数の第１プリズム体の屈折率の０．８８８倍以上０．９８７倍以下であり、
前記導光板の屈折率は、前記複数の第２プリズム体の屈折率の０．８８８倍以上０．９８７倍以下であり、
前記複数の光源のそれぞれから前記導光板に入射する光の明るさは独立して制御されることを特徴とする面光源。
【請求項３】
前記第１プリズム列部は、前記導光板と前記複数の第１プリズム体との間に設けられ、前記導光体の前記屈折率よりも高い屈折率を有する高屈折率層をさらに含むことを特徴とする請求項１または２に記載の面光源。
【請求項４】
前記高屈折率層の前記屈折率は、前記複数の第１プリズム体の前記屈折率と同じであることを特徴とする請求項３記載の面光源。
【請求項５】
前記光が前記第１側面に入射するときの前記光の光軸の方向は、前記第１方向に対して垂直で前記第２方向に対して垂直な第３方向に対して傾斜していることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１つに記載の面光源。
【請求項６】
前記光軸の前記方向と前記第３方向との間の角度は、前記光が前記第１側面に入射するときの前記光の広がり角度よりも大きいことを特徴とする請求項５記載の面光源。
【請求項７】
前記導光板は、
前記導光板の少なくとも一部に設けられた散乱体、
前記導光板の第１主面、及び、前記導光板の前記第１主面とは反対側の第２主面の少なくともいずれかに設けられた凹凸部、並びに、
前記導光板の第１主面、及び、前記第２主面の少なくともいずれかに設けられた粗面部、
の少なくともいずれかを含む偏向部を含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか１つに記載の面光源。
【請求項８】
前記第１プリズム列部は、
前記第１プリズム列部の少なくとも一部に設けられた散乱体、
前記複数の第１プリズム体の表面の少なくとも一部に設けられた凹凸部、及び、
前記複数の第１プリズム体の表面の少なくとも一部に設けられた粗面部、
の少なくともいずれかを含む偏向部を含むことを特徴とする請求項１〜７のいずれか１つに記載の面光源。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、面光源に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶表示装置などにおいて、液晶パネルの背面に面光源が設けられる。面光源は、例えば、光源と、光源からの出射した光を導光する導光体と、を有する。板状の導光体と、導光体の屈折率よりも高い屈折率を有するプリズム列と、を組み合わせた構成も考えられる。
【０００３】
一方、面光源の面内輝度分布を表示画像に応じて制御し、コントラストを改善し、消費電力を低下させる技術がある。すなわち、導光体の側面に設けられた複数の光源のそれぞれの光量を制御して導光体に光を入射し、面光源から出射する光の面内分布を制御する。
【０００４】
このような用途に用いられる導光体において、入射し導光される光の広がりを制御性良く制御することが望まれる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平９−１５４２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の実施形態は、入射した光の広がりの制御性が優れた面光源を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の実施形態によれば、導光板と、第１プリズム列部と、を含む導光体と、複数の光源と、を備えた面光源が提供される。前記導光板は、第１主面と、第１側面と、前記第１側面とは反対側の第２側面と、を有する。前記第１プリズム列部は、前記導光板の前記第１主面上に前記第１主面に接して設けられる。前記第１プリズム列部は、前記第１側面から前記第２側面に向かう第１方向に沿って延在する複数の第１プリズム体を含む。前記複数の第１プリズム体は、前記第１主面に対して平行で前記第１方向に対して垂直な第２方向に沿って並ぶ。前記複数の第１プリズム体の前記第１主面とは反対側の頂角は、直角である。前記複数の光源は、前記第１側面及び前記第２側面の少なくともいずれかに対向して設けられ、前記第１側面及び前記第２側面の前記少なくともいずれかから前記導光板に光を入射させる。前記導光板の屈折率は、前記複数の第１プリズム体の屈折率の０．８８８倍以上０．９８７倍以下である。前記複数の光源のそれぞれから前記導光板に入射する光の明るさは独立して制御される。
本発明の別の実施形態によれば、導光板と、第１プリズム列部と、第２プリズム列部と、を含む導光体と、複数の光源と、を備えた面光源が提供される。前記導光板は、第１主面と、前記第１主面とは反対側の第２主面と、第１側面と、前記第１側面とは反対側の第２側面と、を有する。前記第１プリズム列部は、前記導光板の前記第１主面上に前記第１主面に接して設けられる。前記第２プリズム列部は、前記導光板の前記第２主面上に前記第２主面に接して設けられる。前記第１プリズム列部は、前記第１側面から前記第２側面に向かう第１方向に沿って延在する複数の第１プリズム体を含む。前記複数の第１プリズム体は、前記第１主面に対して平行で前記第１方向に対して垂直な第２方向に沿って並ぶ。前記複数の第１プリズム体の前記第１主面とは反対側の頂角は、直角である。前記第２プリズム列部は、前記第１方向に沿って延在する複数の第２プリズム体を含む。前記複数の第２プリズム体は、前記第２方向に沿って並ぶ。前記複数の第２プリズム体の前記第２主面とは反対側の頂角は、直角である。前記複数の光源は、前記第１側面及び前記第２側面の少なくともいずれかに対向して設けられ、前記第１側面及び前記第２側面の前記少なくともいずれかから前記導光板に光を入射させる。前記導光板の屈折率は、前記複数の第１プリズム体の屈折率の０．８８８倍以上０．９８７倍以下である。前記導光板の屈折率は、前記複数の第２プリズム体の屈折率の０．８８８倍以上０．９８７倍以下である。前記複数の光源のそれぞれから前記導光板に入射する光の明るさは独立して制御される。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１（ａ）〜図１（ｃ）は、第１の実施形態に係る導光体を示す模式図である。
【図２】第１の実施形態に係る面光源を示す模式的斜視図である。
【図３】第１の実施形態に係る導光体及び面光源の動作を示す模式的平面図である。
【図４】図４（ａ）〜図４（ｃ）は、参考例の導光体及び面光源を示す模式図である。
【図５】図５（ａ）及び図５（ｂ）は、導光体及び面光源の特性を示す模式図である。
【図６】図６（ａ）〜図６（ｃ）は、第１の実施形態に係る導光体の特性を示す模式図である。
【図７】図７（ａ）及び図７（ｂ）は、参考例の導光体及び面光源を示す模式的斜視図である。
【図８】図８（ａ）及び図８（ｂ）は、第１の実施形態に係る導光体及び面光源の特性を示す模式図である。
【図９】図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第１の実施形態に係る導光体及び面光源の特性を示すグラフ図である。
【図１０】導光体及び面光源の特性を示すグラフ図である。
【図１１】図１１（ａ）〜図１１（ｅ）は、第１の実施形態に係る導光体を示す模式図である。
【図１２】図１２（ａ）及び図１２（ｂ）は、第１の実施形態に係る導光体の構成及び動作を示す模式的断面図である。
【図１３】第１の実施形態に係る導光体を示す模式的断面図である。
【図１４】図１４（ａ）〜図１４（ｆ）は、第１の実施形態に係る導光体を示す模式的断面図である。
【図１５】図１５（ａ）及び図１５（ｂ）は、第１の実施形態に係る導光体及び面光源の構成及び動作を示す模式的断面図である。
【図１６】第１の実施形態に係る導光体及び面光源の構成及び動作を示す模式的断面図である。
【図１７】図１７（ａ）及び図１７（ｂ）は、第１の実施形態に係る導光体及び面光源の構成及び動作を示す模式的断面図である。
【図１８】図１８（ａ）〜図１８（ｃ）は、第２の実施形態に係る導光体を示す模式図である。
【図１９】第２の実施形態に係る面光源を示す模式図である。
【図２０】第２の実施形態に係る導光体及び面光源の動作を示す模式図である。
【図２１】第２の実施形態に係る導光体を示す模式的断面図である。
【図２２】第２の実施形態に係る導光体及び面光源の構成及び動作を示す模式的断面図である。
【図２３】図２３（ａ）及び図２３（ｂ）は、第２の実施形態に係る導光体及び面光源の構成及び動作を示す模式的断面図である。
【図２４】第２の実施形態に係る導光体及び面光源の構成及び動作を示す模式的断面図である。
【図２５】図２５（ａ）〜図２５（ｄ）は、第３の実施形態に係る導光体及び面光源を示す模式図である。
【図２６】第４の実施形態に係る導光体を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下に、各実施の形態について図面を参照しつつ説明する。  
なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比率などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比率が異なって表される場合もある。  
なお、本願明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
【００１０】
（第１の実施の形態）
図１（ａ）〜図１（ｃ）は、第１の実施形態に係る導光体の構成を例示する模式図である。すなわち、図１（ａ）は斜視図である。図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ１−Ａ２線断面図である。図１（ｃ）は、図１（ａ）のＢ１−Ｂ２線断面図である。
【００１１】
図１（ａ）〜図１（ｃ）に表したように、本実施形態に係る導光体１１１は、導光板１０と、第１プリズム列部２０と、第２プリズム列部３０と、を備える。
【００１２】
導光板１０は、第１主面１０ｍａと、第２主面１０ｍｂと、第１側面１０ｓａと、第２側面１０ｓｂと、を有する。第２主面１０ｍｂは、第１主面１０ｍａとは反対側の面である。第２側面１０ｓｂは、第１側面１０ｓａとは反対側の面である。
【００１３】
導光板１０において、第１側面１０ｓａから光５１が入射される。なお、実施形態はこれに限らず、後述するように、第２側面１０ｓｂからも光が入射されても良い。
【００１４】
ここで、第１側面１０ｓａから第２側面１０ｓｂに向かう方向をＺ軸方向とする。第１主面１０ｍａから第２主面１０ｍｂに向かう方向をＸ軸方向とする。Ｚ軸方向に対して垂直でＸ軸方向に対して垂直な方向をＹ軸方向とする。Ｙ軸方向は、第１主面１０ｍａに対して平行で、Ｚ軸方向に対して垂直である。Ｚ軸方向を第１方向とする。Ｙ軸方向を第２方向とする。Ｘ軸方向を第３方向とする。
【００１５】
第１プリズム列部２０は、導光板１０の第１主面１０ｍａ上に、第１主面１０ｍａに接して設けられる。  
第２プリズム列部３０は、導光板１０の第２主面１０ｍｂ上に、第２主面１０ｍｂに接して設けられる。
【００１６】
第１プリズム列部２０は、複数の第１プリズム体２１を含む。  
複数の第１プリズム体２１は、Ｚ軸方向に沿って延在する。複数の第１プリズム体２１は、Ｙ軸方向に沿って並ぶ。複数の第１プリズム体２１の第１主面１０ｍａとは反対側の頂角（第１頂角β１）は、直角である。
【００１７】
第１プリズム体２１は、２つの斜面（第１斜面及び第２斜面）と１つの底面とを有する。底面は、第１主面１０ｍａに対して平行である。２つの斜面のうちの一方（第１斜面）は、第１主面１０ｍａに対して傾斜しており、Ｚ軸方向に対して平行である。２つの斜面の他方（第２斜面）は、第１主面１０ｍａに対して傾斜しており、Ｚ軸方向に対して平行である。第１斜面及び第２斜面は実質的に平面である。第２斜面が含まれる平面は、第１斜面が含まれる平面と交差する。第２斜面が含まれる平面と、第１斜面が含まれる平面と、が交差する線は、Ｚ軸方向に対して平行である。
【００１８】
第２プリズム列部３０は、複数の第２プリズム体３１を含む。  
複数の第２プリズム体３１は、Ｚ軸方向に沿って延在する。複数の第２プリズム体３１は、Ｙ軸方向に沿って並ぶ。複数の第２プリズム体３１の第２主面１０ｍｂとは反対側の頂角（第２頂角β２）は、直角である。
【００１９】
第２プリズム体３１は、２つの斜面（第３斜面及び第４斜面）と１つの底面とを有する。底面は、第２主面１０ｍｂに対して平行である。２つの斜面のうちの一方（第３斜面）は、第２主面１０ｍｂに対して傾斜しており、Ｚ軸方向に対して平行である。２つの斜面の他方（第４斜面）は、第２主面１０ｍｂに対して傾斜しており、Ｚ軸方向に対して平行である。第３斜面及び第４斜面は実質的に平面である。第４斜面が含まれる平面は、第３斜面が含まれる平面と交差する。第４斜面が含まれる平面と、第３斜面が含まれる平面と、が交差する線は、Ｚ軸方向に対して平行である。
【００２０】
図１（ｃ）に表したように、導光板１０の第１側面１０ｓａから光５１が入射する。光５１は、第１プリズム列部２０及び第２プリズム列部３０の表面（内側面）で反射して、導光板１０を進行する。なお、例えば、第１側面１０ｓａから入射する光５１の光軸の方向は、Ｘ軸方向に対して傾斜している。すなわち、第１側面１０ｓａから入射する光５１は、Ｘ軸方向に対して傾斜した方向の成分を有する。第１側面１０ｓａから入射する光５１は、Ｘ軸方向に対して傾斜しつつＺ軸方向に対して傾斜した方向の成分を有する。これにより、光５１は、第１プリズム列部２０及び第２プリズム列部３０の表面（内側面）で反射して、導光板１０の中を伝搬する。上記の反射は、例えば全反射である。
【００２１】
図２は、第１の実施形態に係る面光源の構成を例示する模式的斜視図である。  
図２に表したように、本実施形態に係る面光源２１１は、導光体１１１と、光源５５と、を備える。  
光源５５は、導光板１０の第１側面１０ｓａに対向する。光源５５は、第１側面１０ｓａから導光板１０に光５１を入射させる。面光源２１１は、実施形態に係る導光体１１１の応用例の１つである。光源５５には、例えばＬＥＤを用いることができる。ただし、実施形態において、光源５５は任意である。
【００２２】
このような構成を有する導光体１１１及び面光源２１１により、入射した光の広がりの制御性が優れた導光体及び面光源を提供できる。
【００２３】
図３は、第１の実施形態に係る導光体及び面光源の動作を例示する模式的平面図である。  
図３に表したように、第１側面１０ｓａから入射した光５１は、Ｚ軸方向に沿って進む。このとき、光５１の幅である導光領域５１ｒの幅（Ｙ軸方向に沿った幅）が、制御される。すなわち、実施形態によれば、導光領域５１ｒの幅は狭くできる。
【００２４】
以下、参考例と共に、実施形態に係る導光体（及び面光源）の特性について説明する。  ここで、導光体１１１（及び面光源２１１）においては、第１プリズム体２１の屈折率及び第２プリズム体３１の屈折率は、導光板１０の屈折率と同じであるとする。そして、実施形態に係る別の導光体１１１ａにおいては、第１プリズム体２１の屈折率及び第２プリズム体３１の屈折率が、導光板１０の屈折率よりも高く設定されている。これ以外の構成は、導光体１１１と同様である。実施形態に係る別の面光源２１１ａは、導光体１１１ａと、光源５５と、を備える。
【００２５】
図４（ａ）〜図４（ｃ）は、参考例の導光体及び面光源の構成を例示する模式図である。  
すなわち、図４（ａ）は斜視図である。図４（ｂ）は、図４（ａ）のＡ１−Ａ２線断面図である。図４（ｃ）は、図４（ａ）のＢ１−Ｂ２線断面図である。
【００２６】
図４（ａ）〜図４（ｃ）に表したように、参考例の導光体１１９は、導光板１０を有するが、第１プリズム列部２０及び第２プリズム列部３０が設けられていない。参考例の面光源２１９は、このような導光体１１９と光源５５を有する。
【００２７】
実施形態に係る導光体１１１（及び面光源２１１）及び導光体１１１ａ（及び面光源２１１ａ）、及び、参考例の導光体１１９（及び面光源２１９）の光学特性をシミュレーションした。すなわち、導光体の第１側面１０ｓａから入射した光５１の第２側面１０ｓｂにおける強度がシミュレーションされた。
【００２８】
本シミュレーションにおいては、導光板１０の屈折率は１．４９とし、Ｚ軸方向の長さは４０センチメートル（ｃｍ）、Ｙ軸方向の長さは２０ｃｍで、Ｘ軸方向の長さ（厚さ）は９．９ミリメートル（ｍｍ）とした。第１プリズム体２１及び第２プリズム体３１のＹ軸方向に沿った幅は、０．５ｍｍで、頂角（第１頂角β１及び第２頂角β２）は９０度とした。導光体１１１においては、第１プリズム体２１及び第２プリズム体３１の屈折率は、１．４９とした。導光体１１１ａにおいては、第１プリズム体２１及び第２プリズム体３１の屈折率は、１．５２とした。光５１は、広がり角度が±１０度であるとした。
【００２９】
図５（ａ）及び図５（ｂ）は、導光体及び面光源の特性を例示する模式図である。  
図５（ａ）は、光学特性の座標系及び位置を示している。図５（ａ）に表したように、光源５５の中心のＹ軸方向に沿った位置（光５１が入射する位置）を基準位置Ｙ０とする。
【００３０】
図５（ｂ）は、シミュレーション結果を例示している。図５（ｂ）の横軸は、Ｙ軸方向に沿った位置である。縦軸は、第２側面１０ｓｂにおける光の強度に対応する相対輝度ＬＩである。図５（ｂ）に表したように、参考例の導光体１１９（及び面光源２１９）においては、相対輝度ＬＩは、Ｙ軸方向に沿った広い分布を示す。すなわち、光５１の広がり角度が±１０度であるため、光５１が導光体１１９内を伝搬する際に、光５１はこの広がり角度に基づく方向に進行する。このため、第２側面１０ｓｂにおける相対輝度ＬＩは、Ｙ軸方向に沿った広い分布を示す。
【００３１】
これに対し、実施形態に係る導光体１１１（及び面光源２１１）においては、基準位置Ｙ０の位置において、相対輝度ＬＩが非常に高いピークを有している。すなわち、入射した光５１が±１０度の広がり角度を有しているにもかかわらず、導光体１１１を伝搬する際に、光５１の広がり角が狭く制御される。
【００３２】
また、実施形態に係る別の導光体１１１ａ（及び面光源２１１ａ）においては、基準位置Ｙ０の位置において、相対輝度ＬＩがさらに高いピークを有している。すなわち、導光体１１１を伝搬する際に、光５１の広がり角がさらに狭く制御される。
【００３３】
実施形態に係る導光体１１１及び１１１ａにおいては、光５１が第１側面１０ｓａから導光板１０へ入射すると、光５１は第１プリズム体２１及び第２プリズム体３１のプリズム面で、例えば全反射しながら進行する。このとき、光５１が導光体内を進行する際に、Ｙ軸方向における光５１の広がりが抑制される。
【００３４】
図６（ａ）〜図６（ｃ）は、実施形態に係る導光体の特性を例示する模式図である。  
すなわち、これらの図は、導光体１１１または導光体１１１ａをＺ軸方向からみたときの図である。光路５１ａで示した光はＺ軸方向に沿って伝搬しており、これらの図においては、光路５１ａをＸ−Ｙ平面に射影した状態を示している。
【００３５】
図６（ａ）に表したように、光５１は、第１プリズム体２１及び第２プリズム体３１の斜面で反射する。このとき、頂角が直角であるため、プリズムに進入した光は全反射によりＸＹ成分に関して再帰反射する。すなわち、例えば第１プリズム体２１の斜面に入射した光５１は、Ｘ−Ｙ平面内において、入射した方向に対して平行な方向に反射する。この反射は、例えば全反射である。反射した光５１は、第２プリズム体３１に到達し、同様に再帰反射される。これを繰り返す結果、Ｙ軸方向に沿った光５１の進行が抑制される、すなわち、導光板１０（導光体１１１及び１１１ａ）内を進行する光５１のＹ軸方向に沿った広がりが抑制される。  
このように、実施形態に係る導光体１１１及び１１１ａによれば、入射した光の広がりの制御性が優れた導光体及び面光源を提供できる。
【００３６】
さらに、導光体１１１ａにおいては、導光体１１１よりもさらに制御性が向上する。    例えば、図６（ｂ）に表したように、導光体１１１において、一部の光５１が再帰反射しない場合がある。すなわち、Ｙ軸方向の成分が大きい光５１は、第１プリズム体２１の一方の斜面で反射した後、第１プリズム体２１の他方の斜面で反射せず、導光板１０に戻ることがある。この場合には、再帰反射が成立しない。このため、Ｙ軸方向に大きく傾いた方向に光５１が進行する。このように、光５１のＹ軸方向に沿った広がりの抑制に制限が生じる場合がある。
【００３７】
このとき、第１プリズム体２１の屈折率及び第２プリズム体３１の屈折率を、導光板１０の屈折率よりも高く設定することで、光５１のＹ軸方向に沿った広がりの抑制を向上できる。
【００３８】
すなわち、図６（ｃ）に表したように、導光体１１１ａにおいては、例えば、第１プリズム体２１で反射した光５１は、第１プリズム体２１（第１プリズム列部２０）と導光板１０との界面で全反射する。そして、光５１は、第１プリズム体２１の斜面で全反射し、導光板１０に戻る。その結果、Ｙ軸方向の成分が大きい光５１においても、光５１のＹ軸方向に沿った広がりを十分に抑制できる。
【００３９】
本実施形態に係る導光体において、第１プリズム体２１の屈折率、第２プリズム体３１の屈折率、及び、導光板１０の屈折率の関係は任意である。ただし、上記のように、第１プリズム体２１の屈折率及び第２プリズム体３１の屈折率の少なくともいずれかを、導光板１０の屈折率よりも高く設定することが、より望ましい。これにより、光５１の広がり角をさらに狭く制御することができる。
【００４０】
図７（ａ）及び図７（ｂ）は、参考例の導光体及び面光源の構成を例示する模式的斜視図である。  
図７（ａ）に表したように、参考例の導光体１１９ａも導光板１０と、第１プリズム列部２９と、第２プリズム列部３９と、を含む。導光板１０は、第１主面１０ｍａと、第２主面１０ｍｂと、第１側面１０ｓａと、第２側面１０ｓｂと、を有する。そして、第１側面１０ｓａから光５１が入射される。すなわち、参考例の面光源２１９ａは、導光体１１９ａと、導光板１０の第１側面１０ｓａに対向し、第１側面１０ｓａから導光板１０に光を入射させる光源５５と、を含む。
【００４１】
導光体１１９ａにおいては、第１プリズム列部２９は、Ｙ軸方向に沿って延在する複数の第１プリズム体２９ａを含む。そして、第２プリズム列部３９は、Ｙ軸方向に沿って延在する複数の第２プリズム体３９ａを含む。
【００４２】
すなわち、参考例の導光体１１９ａにおいては、第１プリズム列部２９及び第２プリズム列部３９におけるプリズム体の延在方向が、実施形態に係る導光体１１１の場合に対して９０度回転している。なお、参考例の導光体１１９ａは、実施形態に係る導光体１１１において、第１側面１０ｓａではなく、第１側面１０ｓａ及び第２側面１０ｓｂに対して直交する別の側面から光が入射されると見なすこともできる。
【００４３】
参考例の導光体１１９ａ（及び面光源２１９ａ）においては、第１側面１０ｓａから第２側面１０ｓｂに向かって入射した光は、Ｙ軸方向に沿って延在する第１プリズム体２９ａ及び第２プリズム体３９ａによって反射され、Ｙ軸方向に沿って伝搬し易い。従って、光５１はＹ軸方向に沿って広がる。このため、参考例の導光体１１９ａ（及び面光源２１９ａ）においては、入射した光の広がりが大きく、光広がりの制御性が低い。
【００４４】
図７（ｂ）に表したように、参考例の導光体１１９ｂも導光板１０と、第１プリズム列部２０と、第２プリズム列部３９と、を含む。導光板１０は、第１主面１０ｍａと、第２主面１０ｍｂと、第１側面１０ｓａと、第２側面１０ｓｂと、を有する。そして、第１側面１０ｓａから光５１が入射される。面光源２１９ｂは、導光体１１９ｂと、導光板１０の第１側面１０ｓａに対向し、第１側面１０ｓａから導光板１０に光を入射させる光源５５と、を含む。
【００４５】
導光体１１９ｂにおいても、第１プリズム列部２０は、Ｚ軸方向に沿って延在する複数の第１プリズム体２１を含む。一方、第２プリズム列部３９は、Ｙ軸方向に沿って延在する複数の第２プリズム体３９ａを含む。すなわち、参考例の導光体１１９ａにおいては、実施形態に係る導光体１１１における第２プリズム列部３０が９０度回転されたと見なすことができる。
【００４６】
参考例の導光体１１９ｂ（及び面光源２１９ｂ）においては、Ｚ軸方向に沿って延在する第１プリズム体２１によって、第１側面１０ｓａから第２側面１０ｓｂに向けて入射した光５１のＹ軸方向に沿った広がりが抑制されると考えられる。しかしながら、Ｙ軸方向に沿って延在する第２プリズム体３９ａは、光５１のＹ軸方向に沿った広がりは抑制しない。従って、光５１はＹ軸方向に沿って広がる。このため、参考例の導光体１１９ｂ（及び面光源２１９ｂ）においては、入射した光の広がりが大きく、光広がりの制御性が低い。
【００４７】
これに対し、既に説明したように、実施形態に係る導光体１１１（及び面光源２１１）においては、Ｚ軸方向に沿って延在する第１プリズム体２１及び第２プリズム体３１の両方により、光５１のＹ軸方向に沿った広がりが抑制される。そして、第１プリズム体２１の屈折率及び第２プリズム体３１の屈折率の少なくともいずれかを、導光板１０の屈折率よりも高く設定した導光体１１１ａ（及び面光源２１１ａ）によって、光の広がりをさらに狭くすることができる。
【００４８】
図８（ａ）及び図８（ｂ）は、第１の実施形態に係る導光体及び面光源の特性を例示する模式図である。  
すなわち、図８（ａ）は、第１プリズム体２１及び第２プリズム体３１の屈折率と導光板１０の屈折率との差と、光の幅（Ｙ軸方向に沿った幅）と、の関係をシミュレーションした結果を示している。このシミュレーションでは、第１プリズム体２１の屈折率（屈折率ｎ２）及び第２プリズム体３１の屈折率（屈折率ｎ３）を１．５２で一定とし、導光板１０の屈折率（屈折率ｎ１）を変えた。
【００４９】
図８（ｂ）に表したように、第２側面１０ｓｂにおける光の強度（相対輝度ＬＩ）が実質的に零でない幅（Ｙ軸方向に沿った幅）を光幅ＬＷとした。  
図８（ａ）の横軸は、導光板１０の屈折率ｎ１であり、縦軸は、光幅ＬＷ（相対値）である。
【００５０】
図８（ａ）に表したように、導光板１０の屈折率ｎ１が１．３５以上１．５０以下の領域で光幅ＬＷが著しく小さくなる。なお、導光板１０の屈折率ｎ１が１．５２の条件は、実施形態に係る導光体１１１（導光板１０の屈折率が、第１プリズム体２１及び第２プリズム体３１の屈折率と等しい構成）に相当する。また、導光板１０の屈折率ｎ１が１．５２未満の条件は、実施形態に係る導光体１１１ａ（導光板１０の屈折率が、第１プリズム体２１及び第２プリズム体３１の屈折率よりも低い構成）に相当する。
【００５１】
ここで、第１プリズム体２１の屈折率ｎ２及び第２プリズム体３１の屈折率ｎ３に対する導光板１０の屈折率ｎ１の比率を、屈折率比ｎｒ＝ｎ１／ｎ２（＝ｎ１／ｎ３）とする。本シミュレーションの条件においては、導光板１０の屈折率ｎ１が１．３５であることは、屈折率比ｎｒが０．８８８に相当する。導光板１０の屈折率ｎ１が１．５０であることは、屈折率比ｎｒが０．９８７に相当する。従って、導光体１１１ａにおいて、第１プリズム体２１の屈折率ｎ２及び第２プリズム体３１の屈折率ｎ３に対する導光板１０の屈折率ｎ１の比率は、０．８８８以上０．９８７以下であることがより望ましい。これにより、光幅ＬＷをより縮小し、光の幅の広がりがより抑制できる。
【００５２】
図９（ａ）及び図９（ｂ）は、第１の実施形態に係る導光体及び面光源の特性を例示するグラフ図である。  
すなわち、これらの図は、第１プリズム体２１の頂角（第１頂角β１）と第２プリズム体３１の頂角（第２頂角β２）を変えたときの光幅ＬＷをシミュレーションした結果を表している。図９（ａ）は、ｎ１＝ｎ２＝ｎ３＝１．４９の場合に対応する。図９（ｂ）は、ｎ１＝１．４９であり、ｎ２＝ｎ３＝１．５２の場合に対応する。そして、本シミュレーションでは、第１頂角β１＝第２頂角β２とした。これらの図の横軸は、第１頂角β１（第２頂角β２）である。縦軸は光幅ＬＷである。
【００５３】
図９（ａ）に表したように、ｎ１＝ｎ２＝ｎ３＝１．４９の場合は、頂角（第１頂角β１及び第２頂角β２）が８０度以上１００度以下の範囲において光幅ＬＷは小さい。そして、頂角が８４度以上９７度以下において、光幅ＬＷは急激に小さくなる。頂角が８６度以上９４度以下において、光幅ＬＷは非常に小さい。
【００５４】
図９（ｂ）に表したように、ｎ１＝１．４９でｎ２＝ｎ３＝１．５２の場合は、頂角（第１頂角β１及び第２頂角β２）が８０度以上９５度以下の範囲において光幅ＬＷは小さい。そして、頂角が８３度以上９３度以下において、光幅ＬＷは急激に小さくなる。頂角が８５度以上９２度以下において、光幅ＬＷは非常に小さい。
【００５５】
本実施形態において、第１プリズム体２１の頂角（第１頂角β１）及び第２プリズム体３１の頂角（第２頂角β２）は、厳密な直角でなくても良い。  
すなわち、ｎ１＝ｎ２＝ｎ３である場合は、第１プリズム体２１の頂角（第１頂角β１）及び第２プリズム体３１の頂角（第２頂角β２）は、８０度以上１１０度以下に設定される。頂角は、８４度以上９７度以下が望ましい。頂角は８６度以上９４度以下であることがさらに望ましい。これにより、光幅ＬＷがより減少できる。
【００５６】
また、ｎ１よりもｎ２及びｎ３が大きい場合は、第１プリズム体２１の頂角（第１頂角β１）及び第２プリズム体３１の頂角（第２頂角β２）は、８０度以上９５度以下に設定される。頂角は８３度以上９３度以下が望ましい。頂角は８５度以上９２度以下であることがさらに望ましい。これにより、光幅ＬＷがより減少できる。
【００５７】
図１０は、導光体及び面光源の特性を例示するグラフ図である。  
同図の横軸は、Ｙ軸方向に沿った位置である。縦軸は、第２側面１０ｓｂにおける光の強度（相対輝度ＬＩ）である。  
図１０に表したように、第１プリズム体２１の頂角（第１頂角β１）及び第２プリズム体３１の頂角（第２頂角β２）が８０度以上である場合は、相対輝度ＬＩは、基準位置Ｙ０においてピークを有している。一方、頂角（第１頂角β１及び第２頂角β２）が８０度未満の場合は、ピークを持たないブロードな分布を示す。  
図９（ａ）及び図９（ｂ）において、頂角が８０度未満の場合において光幅ＬＷはほぼ一定であるが、図１０に例示した特性を示すため好ましくない。このため、実施形態においては、頂角は８０度以上に設定される。
【００５８】
図１１（ａ）〜図１１（ｅ）は、第１の実施形態に係る導光体の構成を例示する模式図である。  
図１１（ａ）に表したように、本実施形態に係る導光体１１１においては、光５１が第１側面１０ｓａに入射するときの光５１の光軸５１ａｘの方向は、Ｘ軸方向に対して傾斜している。これにより、光５１は、導光板１０を通過して、第１プリズム列部２０及び第２プリズム列部３０の表面で反射して、導光板１０の中を伝搬する。この反射は、例えば全反射である。
【００５９】
さらに、光軸５１ａｘの方向とＸ軸方向との間の角度（図１１（ａ）に示した角度θ１）は、光５１が第１側面１０ｓａに入射するときの光の広がり角度（図１１（ａ）に示した角度θ２）よりも大きい。すなわち、光５１が一定の広がりを持っている場合において、その広がりの角度よりも大きい角度で第１主面１０ｍａから傾いて、光５１は第１側面１０ｓａに入射する。
【００６０】
第１側面１０ｓａから入射する光５１は、Ｘ軸方向に対して傾斜した方向の成分を有している。この成分の光が、第１プリズム列部２０及び第２プリズム列部３０の表面で反射して、導光板１０の中を伝搬できる。
【００６１】
なお、光５１が広がりを持っている場合において、光５１が第１側面１０ｓａに入射するときの光５１の光軸５１ａｘの方向は、Ｚ軸方向に対して平行でも良い。また、光軸５１ａｘの方向は、Ｙ軸方向に対して垂直であることが望ましい。すなわち、光軸５１ａｘの方向は、Ｙ軸方向の成分を実質的に持たず、Ｘ軸方向の成分を持つことが望ましい。これにより、光５１のＹ軸方向に沿った伝搬が抑制できる。また、光５１のＹ軸方向の成分が、できるだけ小さいことが望ましい。
【００６２】
図１１（ａ）に例示した導光体１１１においては、第１側面１０ｓａは、Ｚ軸方向に対して傾斜している。さらに具体的には、第１側面１０ｓａは、Ｚ軸方向に対して傾斜しつつ、Ｘ軸方向に対して傾斜する傾斜面を含む。そして、光源５５は、この傾斜面に対して実質的に垂直に光５１を入射させることができる。これにより、より多くの光５１をプリズム列部に到達させることができる。
【００６３】
図１１（ｂ）に表したように、本実施形態に係る別の導光体１１１ｐにおいては、第１側面１０ｓａは、Ｚ軸方向に対して垂直である。この場合も、光５１が第１側面１０ｓａに入射するときの光５１の光軸５１ａｘの方向は、Ｘ軸方向に対して傾斜している。
【００６４】
図１１（ｃ）に表したように、本実施形態に係る別の導光体１１１ｑにおいては、第１側面１０ｓａは、Ｚ軸方向に対して傾斜している。第１側面１０ｓａは、Ｚ軸方向に対して傾斜し、Ｘ軸方向に対して傾斜する傾斜面を含む。本具体例では、光５１は、Ｚ軸方向に沿って第１側面１０ｓａに入射する。すなわち、光５１は、第１側面１０ｓａの傾斜面に対して傾斜した方向で第１側面１０ｓａに入射する。第１側面１０ｓａにおいては、屈折効果により、導光板１０に入射した光５１の光軸５１ａｘの方向は、Ｘ軸方向に対して傾斜する。これにより、光５１は、導光板１０を通過して、第１プリズム列部２０及び第２プリズム列部３０の表面で反射して、導光板１０の中を伝搬する。この反射は、例えば全反射である。
【００６５】
図１１（ｄ）に表したように、本実施形態に係る別の導光体１１１ｒにおいては、第１側面１０ｓａは、Ｙ軸方向に沿って延在する凹部（溝）を含む。すなわち、第１側面１０ｓａは、Ｚ軸方向に対して傾斜する２つの傾斜面を含む。第１側面１０ｓａにおいては、屈折効果により、導光板１０に入射した光５１の光軸５１ａｘの方向は、Ｘ軸方向に対して傾斜する。これにより、光５１は、導光板１０を通過して、第１プリズム列部２０及び第２プリズム列部３０の表面で反射して、導光板１０の中を伝搬する。この反射は、例えば全反射である。
【００６６】
図１１（ｅ）に表したように、本実施形態に係る別の導光体１１１ｓにおいては、第１側面１０ｓａは、Ｙ軸方向に沿って延在する凸部を含む。すなわち、第１側面１０ｓａは、Ｚ軸方向に対して傾斜する２つの傾斜面を含む。この場合も、光５１は、導光板１０を通過して、第１プリズム列部２０及び第２プリズム列部３０の表面で反射して、導光板１０の中を伝搬する。この反射は、例えば全反射である。
【００６７】
このように、第１側面１０ｓａは、Ｚ軸方向に対して傾斜する傾斜面を含むことができる。例えば、この傾斜面は、Ｙ軸方向に対して平行である。
【００６８】
図１２（ａ）及び図１２（ｂ）は、第１の実施形態に係る導光体の構成及び動作を例示する模式的断面図である。  
図１２（ａ）に表したように、本実施形態に係る別の導光体１１２においては、第１プリズム列部２０は、高屈折率層２２をさらに含む。高屈折率層２２は、導光板１０と複数の第１プリズム体２１との間に設けられる。高屈折率層２２は、導光板１０の屈折率よりも高い屈折率を有する。例えば、高屈折率層２２の屈折率は、複数の第１プリズム体２１の屈折率と同じである。例えば、高屈折率層２２には、第１プリズム体２１に用いられる材料と同じ材料が用いられる。
【００６９】
図１２（ｂ）に表したように、高屈折率層２２が設けられる場合においても、例えば、第１プリズム体２１で反射した光５１は、高屈折率層２２（第１プリズム列部２０）と導光板１０との界面で全反射する。そして、第１プリズム体２１の斜面で全反射し、導光板１０に戻る。その結果、Ｙ軸方向の成分が大きい光５１においても、光のＹ軸方向に沿った広がりを十分に抑制できる。
【００７０】
高屈折率層２２を設ける構成においては、例えば、高屈折率層２２は複数の第１プリズム体２１を保持する機能を有することができる。例えば、高屈折率層２２と複数の第１プリズム体２１とを有する第１プリズム列部２０を作製し、その第１プリズム列部２０を導光板１０と組み合わせる製造方法を採用できる。この製造方法は生産性が高い。
【００７１】
さらに、導光体１１２において、第２プリズム列部３０は、高屈折率層３２をさらに含む。高屈折率層３２は、導光板１０と複数の第２プリズム体３１との間に設けられる。高屈折率層３２は、導光板１０の屈折率よりも高い屈折率を有する。例えば、高屈折率層３２の屈折率は、複数の第２プリズム体３１の屈折率と同じである。例えば、高屈折率層３２には、第２プリズム体３１に用いられる材料と同じ材料が用いられる。高屈折率層３２を設けることで生産性が向上できる。
【００７２】
高屈折率層２２及び高屈折率層３２の厚さ（Ｘ軸方向に沿った長さ）は、薄いことが望ましい。これにより、プリズム体の表面で反射した光５１が別のプリズム体に向けて反射されることが抑制できる。これにより、光５１のＹ軸方向に沿った広がりが抑制し易くなる。
【００７３】
高屈折率層の屈折率がプリズム体の屈折率と同じで、これらの材料が同じ場合は、母体の材料を加工して、高屈折率層及びプリズム体を同時に形成する手法を採用できる。そして、このようにして形成されたプリズム列部を導光板１０に貼り付ける方法を採用できる。この手法は生産性が高い。
【００７４】
また、プリズム列部となる例えば樹脂材料を導光板１０の主面に塗布し、その樹脂材料にプリズム体の形状を反映した型を押し当て、その樹脂を硬化することでプリズム列部を形成することもできる。この手法は生産性が高い。
【００７５】
また、プリズム列部となる材料（例えばシート）と、導光板１０となる材料（シート）と、をラミネートしつつ、プリズム列部となる材料にプリズム体となる凹凸を形成する手法を採用しても良い。この手法は生産性が高い。
【００７６】
なお、高屈折率層２２の屈折率は、複数の第１プリズム体２１の屈折率とは異なっていても良い。また、高屈折率層３２の屈折率は、複数の第２プリズム体３１の屈折率とは異なっていても良い。高屈折率層２２の屈折率は、複数の第１プリズム体２１の屈折率と導光板１０の屈折率との間の値とすることができる。高屈折率層３２の屈折率は、複数の第２プリズム体３１の屈折率と導光板１０の屈折率との間の値とすることができる。
【００７７】
図１３は、第１の実施形態に係る導光体の構成を例示する模式的断面図である。  
図１３に表したように、本実施形態に係る別の導光体１１３においては、第１プリズム列部２０は、低屈折率層２３をさらに含む。低屈折率層２３は、導光板１０と複数の第１プリズム体２１との間に設けられる。低屈折率層２３は、第１プリズム体２１の屈折率よりも低い屈折率を有する。例えば低屈折率層２３の屈折率は、導光板１０の屈折率と同じである。
【００７８】
また、第２プリズム列部３０は、低屈折率層３３をさらに含む。低屈折率層３３は、導光板１０と複数の第２プリズム体３１との間に設けられる。低屈折率層３３は、第２プリズム体３１の屈折率よりも低い屈折率を有する。例えば低屈折率層３３の屈折率は、導光板１０の屈折率と同じである。  
このような導光体１１３においても、入射した光の広がりを抑制できる。
【００７９】
図１４（ａ）〜図１４（ｆ）は、第１の実施形態に係る導光体の構成を例示する模式的断面図である。  
図１４（ａ）に表したように、実施形態に係る別の導光体１１３ａにおいては、複数の第１プリズム体２１が互いに離間している。そして、複数の第１プリズム体２１どうしの間において、導光板１０が露出している。
【００８０】
図１４（ｂ）に表したように、実施形態に係る別の導光体１１３ｂにおいては、高屈折率層２２が設けられており、複数の第１プリズム体２１が互いに離間している。そして、複数の第１プリズム体２１どうしの間において、高屈折率層２２が露出している。なお、低屈折率層２３が設けられ、そして、複数の第１プリズム体２１どうしの間において、低屈折率層２３が露出していても良い。
【００８１】
図１４（ｃ）に表したように、実施形態に係る別の導光体１１３ｃにおいては、複数の第１プリズム体２１の頂部が平坦である。この場合において、複数の第１プリズム体２１の第１主面１０ｍａとは反対側の頂角（第１頂角β１）は、複数の第１プリズム体２１の２つの斜面の角度であり、この場合も頂角は直角（例えば８０度以上１１０度以下）である。
【００８２】
図１４（ｄ）に表したように、実施形態に係る別の導光体１１３ｄにおいては、複数の第１プリズム体２１の頂部が曲面状である。この場合において、複数の第１プリズム体２１の第１主面１０ｍａとは反対側の頂角（第１頂角β１）は、複数の第１プリズム体２１の２つの斜面（実質的に平面の部分）の角度であり、この場合も頂角は直角（例えば８０度以上１１０度以下）である。
【００８３】
図１４（ｅ）に表したように、実施形態に係る別の導光体１１３ｅにおいては、複数の第１プリズム体２１の頂部が曲面状である。そして、複数の第１プリズム体２１どうしの間の部分（底部）が曲面状である。この場合において、複数の第１プリズム体２１の第１主面１０ｍａとは反対側の頂角（第１頂角β１）は、複数の第１プリズム体２１の２つの斜面（実質的に平面の部分）の角度であり、この場合も頂角は直角（例えば８０度以上１１０度以下）である。
【００８４】
図１４（ｆ）に表したように、実施形態に係る別の導光体１１３ｆにおいては、複数の第１プリズム体２１のそれぞれの一方の斜面の面積が、他方の斜面の面積とは異なる。この場合も、複数の第１プリズム体２１の第１主面１０ｍａとは反対側の頂角（第１頂角β１）は、直角（例えば８０度以上１１０度以下）である。  
このように、第１プリズム列部２０は種々の変形が可能である。
【００８５】
同様に、第２プリズム列部３０も種々の変形が可能である。  
例えば、複数の第２プリズム体３１が互いに離間することができる。このとき、高屈折率層３２または低屈折率層３３をさらに設けても良い。また、複数の第３プリズム体３１の頂部は平坦または曲面状とすることができる。また、複数の第２プリズム体３１どうしの間の部分（底部）が曲面状でも良い。また、複数の第２プリズム体３１のそれぞれの一方の斜面の面積が、他方の斜面の面積とは異なることができる。  
このような導光体においても、入射した光の広がりを抑制できる。
【００８６】
本実施形態において、第１プリズム体２１のピッチ（Ｙ軸方向に沿った幅）は、第２プリズム体３１のピッチ（Ｙ軸方向に沿った幅）と実質的に同じである。但し、実施形態はこれに限らず、第１プリズム体２１のピッチは、第２プリズム体３１のピッチと異なっても良い。
【００８７】
本実施形態において、第１プリズム体２１の頂部のＹ軸方向における位置は、第２プリズム体３１の頂部のＹ軸方向における位置と実質的に同じである。ただし、実施形態はこれに限らず、第１プリズム体２１の頂部のＹ軸方向における位置は、第２プリズム体３１どうしの間の部分（底部）のＹ軸方向における位置と実質的に同じでも良い。さらに、第１プリズム体２１の頂部のＹ軸方向における位置と、第２プリズム体３１の頂部のＹ軸方向における位置と、の関係は任意である。
【００８８】
本実施形態においては、第１プリズム体２１の軸と、第２プリズム体３１の軸と、が互いに平行（すなわち、Ｚ軸方向に対して平行）であるため、第１プリズム体２１及び第２プリズム体３１の形成が容易であるという利点がある。
【００８９】
本実施形態に係る導光体は、第１側面１０ｓａから入射した光５１のＹ軸方向に沿った幅を制御しつつ、光５１を第２側面１０ｓｂに向けて導光する。このとき、この光５１をＸ軸方向に沿った向きに取り出すことで、導光体は面光源に利用することができる。  
以下、光５１をＸ軸方向に沿った向きに取り出すための構成の例に関して説明する。
【００９０】
図１５（ａ）及び図１５（ｂ）は、第１の実施形態に係る導光体及び面光源の構成及び動作を例示する模式的断面図である。  
図１５（ａ）に表したように、本実施形態に係る別の導光体１１４及び面光源２１４においては、第１プリズム列部２０は、偏向部２５を含む。本具体例では、偏向部２５は、複数の第１プリズム体２１の表面の少なくとも一部に設けられた凹凸部２５ａである。
【００９１】
第１プリズム列部２０内を伝搬する光５１の一部は、凹凸部２５ａに入射する。凹凸部２５ａに入射した光５１は進行方向が変えられる。例えば、進行方向が変えられた光５１の一部においては、第１プリズム体２１の表面における全反射が成立しない。この光５１が、第１プリズム列部２０の外部に取り出される。
【００９２】
凹凸部２５ａとしては、第１プリズム体２１の表面に形成された切り欠き部を用いることができる。切り欠き部は、例えば、Ｙ−Ｚ平面からの角度が２０度程度の傾斜面を有する。切り欠き部は、例えば、Ｖ溝である。
【００９３】
図１５（ｂ）に表したように、導光板１０の第１側面１０ｓａから光５１を入射させると、Ｚ軸方向に沿って延びる帯状の光がＸ軸方向に沿って出射する。すなわち、導光板１０からＸ軸方向に沿って出射する光の強度が高い領域５１ｈ（すなわち、導光領域５１ｒ）は、Ｚ軸方向に沿って延びる帯状である。例えば、第１側面１０ｓａから入射する光５１の広がり角度が±１０度である場合、光の強度が高い領域５１ｈのＹ軸方向に沿った方向への広がりの角度は、±５度程度である。このように、導光板１０からＸ軸方向に沿って出射する光のＺ軸方向に沿って延在する帯のＹ軸方向に沿った広がりの角度は、小さい。例えば、導光板１０からＸ軸方向に沿って出射する光のＺ軸方向に沿って延在する帯のＹ軸方向に沿った広がりの角度は、導光板１０に入射する光の広がり角度以下に抑制される。
【００９４】
図１６は、第１の実施形態に係る導光体及び面光源の構成及び動作を例示する模式的断面図である。  
図１６に表したように、本実施形態に係る別の導光体１１５及び面光源２１５においては、第１プリズム列部２０は、偏向部２５を含む。本具体例では、偏向部２５は、複数の第１プリズム体２１の表面の少なくとも一部に設けられた粗面部２５ｂである。
【００９５】
第１プリズム列部２０内を伝搬する光５１の一部は、粗面部２５ｂに入射する。粗面部２５ｂに入射した光５１は進行方向が変えられ、第１プリズム列部２０の外部に取り出される。
【００９６】
粗面部２５ｂは、例えば、第１プリズム体２１の表面を処理することによって形成できる。この処理には、例えば、第１プリズム体２１の表面に粒子を衝突させる方法や、第１プリズム体２１の表面を機械加工する方法や、第１プリズム体２１の表面を薬液などで処理する方法などの任意の方法を採用できる。また、第１プリズム体２１を成形するためのモールド用の型などに粗面部２５ｂとなる部分を設けて、第１プリズム体２１を作製する方法を採用しても良い。
【００９７】
粗面部２５ｂは、第１プリズム体２１の表面（斜面）の全面に形成されても良い。粗面部２５ｂは、第１プリズム体２１の表面（斜面）一部に形成されても良い。
【００９８】
図１７（ａ）及び図１７（ｂ）は、第１の実施形態に係る導光体及び面光源の構成及び動作を例示する模式的断面図である。  
図１７（ａ）及び図１７（ｂ）に表したように、本実施形態に係る別の導光体１１６及び面光源２１６においては、第１プリズム列部２０は、偏向部２５を含む。本具体例では、偏向部２５は、複数の第１プリズム体２１の表面の少なくとも一部に設けられた散乱体２５ｃである。
【００９９】
第１プリズム列部２０内を伝搬する光５１の一部は、散乱体２５ｃに入射する。散乱体２５ｃに入射した光５１は進行方向が変えられる。進行方向が変えられた光５１の一部においては、第１プリズム体２１の斜面において全反射条件が成立しない。この光が、第１プリズム列部２０の外部に取り出される。
【０１００】
散乱体２５ｃには、例えば径が１マイクロメートル（μｍ）（例えば０．５μｍ以上３μｍ以下など）の粒子を用いることができる。このような粒子を、第１プリズム体２１となる樹脂に分散し、この状態の樹脂を用いて第１プリズム体２１を形成することで散乱体２５ｃが形成できる。散乱体２５ｃの屈折率は、第１プリズム体２１となる樹脂の屈折率とは異なる。
【０１０１】
第１プリズム体２１となる樹脂として、例えば屈折率が１．５２の材料を用いた場合は、散乱体２５ｃには、例えばシリカ（屈折率が１．４４）を用いることができる。
【０１０２】
なお、散乱体２５ｃは、第１プリズム列部２０に均一に分散されていても良い。また、第１プリズム列部２０において、散乱体２５ｃの濃度が不均一でも良い。散乱体２５ｃは、第１プリズム列部２０の一部に局所的に分散されていても良い。例えば、散乱体２５ｃは、第１プリズム列部２０（第１プリズム体２１）の表面部分に選択的に設けられても良い。
【０１０３】
このように、第１プリズム列部２０は、偏向部２５を含むことができる。偏向部２５は、第１プリズム列部２０の少なくとも一部に設けられた散乱体２５ｃ、複数の第１プリズム体２１の表面の少なくとも一部に設けられた凹凸部２５ａ、及び、複数の第１プリズム体２１の表面の少なくとも一部に設けられた粗面部２５ｂ、の少なくともいずれかを含む。
【０１０４】
このような構成により、導光体内を伝搬する光５１をＸ軸方向に沿う方向に向けて取り出すことができる。そして、導光板１０からＸ軸方向に沿って出射する光となる光の導光領域５１ｒのＹ軸方向に沿った広がりの角度は、小さい。例えば、導光板１０からＸ軸方向に沿って出射する光となる光の導光領域５１ｒのＹ軸方向に沿った広がりの角度は、導光板１０に入射する光の広がり角度以下である。
【０１０５】
本実施形態において、導光板１０には、任意の材料を用いることができる。導光板１０には、例えば、光５１に対して透光性を有する任意の樹脂などを用いることができる。導光板１０には、例えばＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート、屈折率＝１．４９）を用いることができる。導光板１０には、例えば、ふっ素系材料を用いても良い。
【０１０６】
導光板１０のＺ軸方向の長さは、例えば０．０３メートル（ｍ）以上２ｍ以下である。導光板１０のＹ軸方向の長さは、例えば０．０３ｍ以上２ｍ以下である。導光板１０のＸ軸方向の長さ（厚さ）は、例えば１ミリメートル（ｍｍ）以上３０ｍｍ以下である。ただし、導光板１０のＺ軸方向の長さ、Ｙ軸方向の長さ、及び、Ｘ軸方向の長さ（厚さ）は、任意である。
【０１０７】
第１プリズム体２１（第１プリズム列部２０）及び第２プリズム体３１（第２プリズム列部３０）には、任意の材料を用いることができる。第１プリズム体２１及び第２プリズム体３１には、例えば、光５１に対して透光性を有する任意の樹脂などを用いることができる。第１プリズム体２１及び第２プリズム体３１には、例えばＰＭＭＡ等の他に、環状オレフィン樹脂などを用いることができる。第１プリズム体２１及び第２プリズム体３１には、例えばＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ株式会社製、屈折率１．５２）を用いることができる。
【０１０８】
第１プリズム体２１及び第２プリズム体３１のＹ軸方向に沿った幅（すなわち、ピッチ）は、０．０１ｍｍ以上５ｍｍ以下とすることができる。ただし、第１プリズム体２１及び第２プリズム体３１のＹ軸方向に沿った幅は任意である。第１プリズム列部２０は、導光板１０の第１主面１０ｍａの少なくとも一部に設けられる。第２プリズム列部３０は、導光板１０の第２主面１０ｍｂの少なくとも一部に設けられる。
【０１０９】
例えば、第１プリズム列部２０及び第２プリズム列部３０として、シートの表面を加工してプリズム体を形成したものを用いることができる。このようなシートを導光板１０に接着することで、導光体を形成できる。この時に用いる接着材は、光５１に対して透光性を有する任意の材料を用いることができる。この接着材は、高屈折率層２２及び３２または、低屈折率層２３及び３３と見なすことができる。この接着材として、例えば、フォトポリマーＮＯＡ６５（Norland Optical Adhesive 65、ノーランド社製、屈折率１．５２）を用いることができる。
【０１１０】
（第２の実施の形態）
図１８（ａ）〜図１８（ｃ）は、第２の実施形態に係る導光体の構成を例示する模式図である。  
すなわち、図１８（ａ）は斜視図である。図１８（ｂ）は、図１８（ａ）のＡ１−Ａ２線断面図である。図１８（ｃ）は、図１８（ａ）のＢ１−Ｂ２線断面図である。
【０１１１】
図１８（ａ）〜図１８（ｃ）に表したように、本実施形態に係る導光体１２１は、導光板１０と、第１プリズム列部２０と、を備える。
【０１１２】
導光板１０は、第１主面１０ｍａと、第２主面１０ｍｂと、第１側面１０ｓａと、第２側面１０ｓｂと、を有する。第２主面１０ｍｂは、第１主面１０ｍａとは反対側の面である。第２側面１０ｓｂは、第１側面１０ｓａとは反対側の面である。本実施形態においても、導光板１０の第１側面１０ｓａから光５１が入射する。
【０１１３】
第１プリズム列部２０は、導光板１０の第１主面１０ｍａ上に、第１主面１０ｍａに接して設けられる。第１プリズム列部２０は、複数の第１プリズム体２１を含む。複数の第１プリズム体２１は、Ｚ軸方向に沿って延在する。複数の第１プリズム体２１は、Ｙ軸方向に沿って並ぶ。複数の第１プリズム体２１の第１主面１０ｍａとは反対側の頂角（第１頂角β１）は、直角である。  
そして、複数の第１プリズム体２１の屈折率は、導光板１０の屈折率よりも高い。
【０１１４】
図１９は、第２の実施形態に係る面光源の構成を例示する模式図である。  
図１９に表したように、本実施形態に係る面光源２２１は、導光体１２１と、光源５５と、を備える。光源５５は、導光板１０の第１側面１０ｓａに対向する。光源５５は、第１側面１０ｓａから導光板１０に光５１を入射させる。  
このような構成を有する導光体１２１及び面光源２２１により、入射した光の広がりの制御性が優れた導光体及び面光源を提供できる。
【０１１５】
図２０は、第２の実施形態に係る導光体及び面光源の動作を例示する模式図である。  
図２０に表したように、光５１は、第１プリズム体２１の斜面で反射する。光５１は、例えば全反射により再帰反射する。そして、第１プリズム体２１で反射した光５１の一部は、第１プリズム体２１（第１プリズム列部２０）と導光板１０との界面で全反射し、第１プリズム体２１の別の斜面で全反射し、導光板１０に戻る。その結果、Ｙ軸方向の成分が大きい光５１においても、光５１のＹ軸方向に沿った広がりを十分に抑制できる。
【０１１６】
すなわち、本実施形態に係る導光体１２１及び面光源２２１においては、第２プリズム列部３０が設けられない。このため、導光板１０の第２主面１０ｍｂにおいては、光５１の幅をＹ軸方向に沿って狭くする機能が設けられない。このため、この構成においては、複数の第１プリズム体２１の屈折率を、導光板１０の屈折率よりも高く設定する。これにより、第１主面１０ｍａの側だけにプリズム体が設けられた構成においても、光５１のＹ軸方向に沿った幅を実用上十分に狭くできる。本実施形態によれば、入射した光の広がりの制御性を向上できる。
【０１１７】
なお、参考例として、第１プリズム体の延在方向をＹ軸方向とし、さらに、第１プリズム体の屈折率が導光板１０の屈折率よりも高い構成が考えられる。すなわち、図７（ａ）に例示した参考例の導光体１１９ａ及び面光源２１９ａにおいて、第３プリズム列部３９を省略し、第１プリズム体２９ａの屈折率を導光板１０の屈折率よりも高く設定した構成である。この構成においては、第１プリズム体２９ａがＹ軸方向に沿って延在しているため、光５１のＹ軸方向に沿った幅を狭めることは困難である。すなわち、この参考例の場合は、Ｚ軸方向に伝搬する光５１の幅をＹ軸方向に沿って広げる。この参考例の構成の場合は、光５１の強さがＹ軸方向に沿って均一化される。
【０１１８】
本実施形態に係る導光体及び面光源においては、第２プリズム列部３０が省略されるので、第１実施形態に比べてコストを低くできる。
【０１１９】
本実施形態において、導光板１０及び第１プリズム列部２０の構成及び材料には、第１実施形態において導光板１０及び第１プリズム列部２０に関して説明した構成及び材料を適用できる。
【０１２０】
例えば、図１１（ａ）〜図１１（ｅ）に関して説明したのと同様に、光５１が第１側面１０ｓａに入射するときの光５１の光軸５１ａｘの方向は、Ｘ軸方向に対して傾斜している。さらに、光軸５１ａｘの方向とＸ軸方向との間の角度θ１は、光５１が第１側面１０ｓａに入射するときの光の広がり角度θ２よりも大きい。第１側面１０ｓａから入射する光５１は、Ｘ軸方向に対して傾斜した方向の成分を有している。
【０１２１】
光５１の第１側面１０ｓａに入射するときの光軸５１ａｘの方向は、Ｚ軸方向に対して平行とすることができる。また、光軸５１ａｘの方向は、Ｙ軸方向の成分を実質的に持たず、Ｘ軸方向の成分を持つことが望ましい。
【０１２２】
第１側面１０ｓａは、Ｚ軸方向に対して傾斜し、Ｘ軸方向に対して傾斜する傾斜面を含むことができる。第１側面１０ｓａは、Ｙ軸方向に沿って延在する凹部（溝）を含むことができる。また、第１側面１０ｓａは、Ｙ軸方向に沿って延在する凸部を含むことができる。  
このように、本実施形態においても、第１側面１０ｓａは、Ｚ軸方向に対して傾斜する傾斜面を含むことができる。例えば、この傾斜面は、Ｙ軸方向に対して平行である。
【０１２３】
図２１は、第２の実施形態に係る導光体の構成を例示する模式的断面図である。  
図２１に表したように、本実施形態に係る別の導光体１２２においては、第１プリズム列部２０は、高屈折率層２２をさらに含む。高屈折率層２２は、導光板１０と複数の第１プリズム体２１との間に設けられる。高屈折率層２２は、導光板１０の屈折率よりも高い屈折率を有する。例えば高屈折率層２２の屈折率は、複数の第１プリズム体２１の屈折率と同じである。例えば、高屈折率層２２には、第１プリズム体２１に用いられる材料と同じ材料が用いられる。この構成によれば、生産性を向上し易い。
【０１２４】
本実施形態に係る導光体においては、第２主面１０ｍｂの側から光を取り出すことができる。例えば、導光板１０に、光５１をＸ軸方向に沿った向きに取り出すための偏向部が設けられる。
【０１２５】
図２２は、第２の実施形態に係る導光体及び面光源の構成及び動作を例示する模式的断面図である。  
図２２に表したように、本実施形態に係る別の導光体１２３及び面光源２２３においては、導光板１０は、偏向部１５を含む。本具体例では、偏向部１５は、導光板１０の第１主面１０ｍａ及び第２主面１０ｍｂの少なくともいずれかに設けられた凹凸部１５ａである。本具体例では、凹凸部１５ａは、第２主面１０ｍｂに設けられている。  
光５１の一部は、凹凸部１５ａに入射する。凹凸部１５ａに入射した光５１は進行方向が変えられ、光５１の一部が導光板１０の外部に取り出される。
【０１２６】
凹凸部１５ａとしては、導光板１０の第２主面１０ｍｂに形成された切り欠き部を用いることができる。切り欠き部は、例えば、Ｙ−Ｚ平面からの角度が２０度程度の傾斜面を有する。切り欠き部は、例えば、Ｖ溝である。  
実施形態によれば、導光板１０からＸ軸方向に沿って出射する光となる光の導光領域５１ｒのＹ軸方向に沿った広がりの角度が小さくできる。
【０１２７】
図２３（ａ）及び図２３（ｂ）は、第２の実施形態に係る導光体及び面光源の構成及び動作を例示する模式的断面図である。  
図２３（ａ）及び図２３（ｂ）に表したように、本実施形態に係る別の導光体１２４及び面光源２２４においては、導光板１０は、偏向部１５を含む。本具体例では、偏向部１５は、導光板１０の第１主面１０ｍａ及び第２主面１０ｍｂの少なくともいずれかに設けられた粗面部１５ｂである。本具体例では、粗面部１５ｂは、第２主面１０ｍｂに設けられている。  
光５１の一部は、粗面部１５ｂに入射する。粗面部１５ｂに入射した光５１は進行方向が変えられ、光５１の一部が導光板１０の外部に取り出される。
【０１２８】
粗面部１５ｂは、粒子を衝突させる表面処理、機械加工による表面処理、薬液を用いた表面処理などの任意の方法により形成できる。また、導光板１０を成形する際に用いる型などに粗面部１５ｂとなる部分を設けて、導光板１０を作製する方法を採用しても良い。
【０１２９】
粗面部１５ｂは、導光板１０の表面（第２主面１０ｍｂ）の全面に形成されても良い。粗面部１５ｂは、導光板１０の表面（第２主面１０ｍｂ）の一部に形成されても良い。
【０１３０】
図２４は、第２の実施形態に係る導光体及び面光源の構成及び動作を例示する模式的断面図である。  
図２４に表したように、本実施形態に係る別の導光体１２５及び面光源２２５においては、導光板１０は、偏向部１５を含む。本具体例では、偏向部１５は、導光板１０の少なくとも一部に設けられた散乱体１５ｃである。  
光５１の一部は、散乱体１５ｃに入射する。散乱体１５ｃに入射した光５１は進行方向が変えられ、光５１の一部が、導光板１０の外部に取り出される。
【０１３１】
散乱体１５ｃには、例えば径が０．５μｍ以上３μｍ以下の粒子を用いることができる。このような粒子を、導光板１０となる樹脂に分散し、この状態の樹脂を用いて導光板１０を形成することで散乱体１５ｃが形成できる。散乱体１５ｃの屈折率は、導光板１０に用いられる樹脂の屈折率とは異なる。散乱体１５ｃには、例えばシリカを用いることができる。
【０１３２】
なお、散乱体１５ｃは導光板１０に均一に分散されていても良い。また、導光板１０において、散乱体１５ｃの濃度が不均一でも良い。散乱体１５ｃは、導光板１０の一部に局所的に分散されていても良い。例えば、散乱体１５ｃは、導光板１０の表面（第２主面１０ｍｂ）の側の部分に選択的に設けられても良い。
【０１３３】
このように、本実施形態において、導光板１０は偏向部１５を含むことができる。偏向部１５は、導光板１０の少なくとも一部に設けられた散乱体１５ｃ、導光板１０の第１主面１０ｍａ及び第２主面１０ｍｂの少なくともいずれかに設けられた凹凸部１５ａ、並びに、導光板１０の第１主面１０ｍａ及び第２主面１０ｍｂの少なくともいずれかに設けられた粗面部１５ｂ、の少なくともいずれかを含む。
【０１３４】
（第３の実施の形態）
図２５（ａ）〜図２５（ｄ）は、第３の実施形態に係る導光体及び面光源の構成を例示する模式図である。  
これらの図においては、第１プリズム列部２０及び第２プリズム列部３０は省略され、導光板１０及び光源５５が描かれている。  
本実施形態に係る導光体及び面光源には、第１の実施形態及び第２の実施形態に関して説明した導光体のいずれか及び面光源のいずれかが用いられる。そして、第１の実施形態及び第２の実施形態に関して説明した偏向部１５及び偏向部２５の少なくともいずれかが設けられている。
【０１３５】
図２５（ａ）に表したように、本実施形態に係る導光体１３１及び面光源２３１においては、光源５５は複数設けられる。すなわち、本具体例では、光源５５は、第１側面１０ｓａに複数設けられる。
【０１３６】
複数の光源５５の互いの位置は適切に調整される。本具体例では、複数の光源５５から出射した光５１のそれぞれの導光領域５１ｒが互いに重なっている。これにより、面内の明るさが均一な面光源が実現できる。
【０１３７】
図２５（ｂ）に表したように、本実施形態に係る導光体１３２及び面光源２３２においては、第１側面１０ｓａに光源５５が設けられ、第２側面１０ｓｂに光源５６が設けられる。すなわち、面光源２３２は、導光板１０の第２側面１０ｓｂに対向し、第２側面１０ｓｂから導光板１０に光を入射させる別の光源（光源５６）をさらに備える。
【０１３８】
本具体例では、第１側面１０ｓａに複数の光源５５が設けられ、第２側面１０ｓｂに複数の光源５６が設けられる。そして、第１側面１０ｓａに設けられた光源５５と、第２側面１０ｓｂに設けられた光源５６とは、Ｚ軸方向に沿って互いに対向していない。
【０１３９】
この場合も、複数の光源５５及び複数の光源５６の互いの位置は適切に調整される。例えば、複数の光源５５及び複数の光源５６から出射した光５１のそれぞれの導光領域５１ｒが互いに重なるように設定される。これにより、面内の明るさが均一な面光源が実現できる。
【０１４０】
図２５（ｃ）に表したように、本実施形態に係る導光体１３３及び面光源２３３においては、第１側面１０ｓａに設けられた光源５５と、第２側面１０ｓｂに設けられた光源５６とは、Ｚ軸方向に沿って互いに対向している。
【０１４１】
例えば、偏向部（偏向部１５及び偏向部２５）の設計によっては、導光体のＺ軸方向における中央に光が到達するまでに、光の多くが導光体外に出射することがある。この場合には、第１側面１０ｓａと第２側面１０ｓｂとにそれぞれ光源５５及び光源５６を設けることで、導光体の全体（Ｚ軸方向に沿った全体）で明るさを均一化できる。
【０１４２】
また、隣接する導光領域５１ｒどうしの間でのクロストークが抑えられる。これにより、導光領域５１ｒをより狭い範囲で精度よく制御することができる。各光源の光量を調整することで面光源の面内輝度分布を小さい範囲で精度良く調整することが、より容易になる。
【０１４３】
図２５（ｄ）に表したように、本実施形態に係る導光体１３４及び面光源２３４においては、第１側面１０ｓａ及び第２側面１０ｓｂは、導光板１０の側面のうちで長さが長い側面である。そして、本具体例では、第１側面１０ｓａに複数の光源５５が設けられ、第２側面１０ｓｂに複数の光源５６が設けられる。第１側面１０ｓａに設けられた光源５５と、第２側面１０ｓｂに設けられた光源５６とは、Ｚ軸方向に沿って互いに対向している。  
このように、光源５５（及び光源５６）は複数設けることができ。光源５５（及び光源５６）の配置は任意である。
【０１４４】
光源５５が複数設けられる面光源において、複数の光源５５のそれぞれから導光板１０に入射する光の明るさのそれぞれは、独立して制御されることができる。すなわち、導光板１０の第１主面１０ｍａに平行な面内で、光の強度が高い第１領域と、その領域よりも光の強度が低い第２領域と、を設けることができる。面光源が用いられる表示装置などにおいて、この第１領域及び第２領域は、表示画像に応じて制御されることができる。これにより、表示装置のコントラストが改善される。また、消費電力を低下させることができる。
【０１４５】
すなわち、本実施形態に係る面光源においては、第１主面１０ｍａに対して垂直な方向に出射する光の明るさのＹ軸方向に沿った分布が変更可能である。
【０１４６】
（第４の実施の形態）
図２６は、第４の実施形態に係る導光体の構成を例示する模式図である。  
図２６に表したように、本実施形態に係る導光体１４１においては、第１側面１０ｓａにおいて、光源５５から光５１が導光板１０に入射する。そして、第２側面１０ｓｂに対向して、第２側面１０ｓｂから出射する光を受光する受光部６０が設けられている。受光部６０は、第２側面１０ｓｂから出射する光に含まれる信号を、例えば電気信号に変換する。光源５５には、例えばＬＥＤが用いられる。受光部６０には、例えばフォトダイオードが用いられる。
【０１４７】
導光体１４１には、第１実施形態及び第２実施形態に関して説明した任意の導光体を用いることができる。なお、図２６においては、第１プリズム列部２０（及び第２プリズム列部３０）は省略されている。
【０１４８】
例えば、光源５５は複数設けられ、受光部６０は複数設けられる。光源５５のＹ軸方向に沿った位置は、受光部６０のＹ軸方向に沿った位置と実質的に一致している。
【０１４９】
実施形態に係る導光板１４１においては、第１側面１０ｓａから入射した光５１のＹ軸方向に沿った広がりが抑制される。このため、複数の光源５５のうちの１つから出射した光５１は、その光源５５とＺ軸方向において対向する受光部６０に入射し、他の受光部６０には実質的には入射しない。他の受光部６０に光５１が入射する場合においても、その光５１の強度は著しく低い。このため、所定の光源５５から出射した光に含まれる信号（例えばデジタル信号）は、所定の受光部６０においてのみ実質的に受信される。
【０１５０】
複数の光源５５から同時に出射する光に含まれる信号のそれぞれは、複数の光源５５にそれぞれ対応する複数の受光部６０において、独立して受信される。すなわち、複数の信号が並列して送受信できる。
【０１５１】
本実施形態においては、１種類の設計仕様の導光体を、第１光源５５の数及び光源５５のピッチが異なる場合に適用できる。
【０１５２】
実施形態における導光体は、可撓性を有することができる。これにより、伝送経路の配置に柔軟性を持たせることができる。例えば、導光板１０及びプリズム列部の厚さ及び材料などを適切に設定することで、導光体に可撓性が生じる。例えば、導光体の厚さを１ｍｍ以下にすると、可撓性が得られる。
【０１５３】
実施形態によれば、入射した光の広がりの制御性が優れた導光体及び面光源が提供される。
【０１５４】
なお、本願明細書において、「垂直」及び「平行」は、厳密な垂直及び厳密な平行だけではなく、例えば製造工程におけるばらつきなどを含むものであり、実質的に垂直及び実質的に平行であれば良い。
【０１５５】
以上、具体例を参照しつつ、本発明の実施の形態について説明した。しかし、本発明の実施形態は、これらの具体例に限定されるものではない。例えば、導光体に含まれる導光板、プリズム列部、プリズム体、高屈折率層、低屈折率層及び偏向部、並びに、面光源に含まれる光源などの各要素の具体的な構成に関しては、当業者が公知の範囲から適宜選択することにより本発明を同様に実施し、同様の効果を得ることができる限り、本発明の範囲に包含される。  
また、各具体例のいずれか２つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
【０１５６】
その他、本発明の実施の形態として上述した導光体及び面光源を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての導光体及び面光源も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
【０１５７】
その他、本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。
【０１５８】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【０１５９】
１０…導光板、  １０ｍａ…第１主面、  １０ｍｂ…第２主面、  １０ｓａ…第１側面、  １０ｓｂ…第２側面、  １５…偏向部、  １５ａ…凹凸部、  １５ｂ…粗面部、  １５ｃ…散乱体、  ２０…第１プリズム列部、  ２１…第１プリズム体、  ２２…高屈折率層、  ２３…低屈折率層、  ２５…偏向部、  ２５ａ…凹凸部、  ２５ｂ…粗面部、  ２５ｃ…散乱体、  ２９…第１プリズム列部、  ２９ａ…第１プリズム体、  ３０…第２プリズム列部、  ３１…第２プリズム体、  ３２…高屈折率層、  ３３…低屈折率層、  ３９…第２プリズム列部、  ３９ａ…第２プリズム体、  ５１…光、  ５１ａ…光路、  ５１ａｘ…光軸、  ５１ｈ…領域、  ５１ｒ…導光領域、  ５５、５６…光源、  ６０…受光部、  β１、β２…第１、第２頂角、  １１１、１１１ａ、１１１ｐ〜１１１ｓ、１１２、１１３、１１３ａ〜１１３ｆ、１１４、１１５、１１６、１１９、１１９ａ、１１９ｂ、１２１〜１２５、１３１〜１３４、１４１…導光体、  ２１１、２１１ａ、２１４〜２１６、２１９、２１９ａ、２１９ｂ、２２１〜２２５、２３１〜２３４…面光源、  ＬＩ…相対輝度、  ＬＷ…光幅、  ｎ１〜ｎ３…屈折率、  ｎｒ…屈折率比
【図１】
0005351126.tif 000002
【図２】
0005351126.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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