(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハニカム構造体を連続形成するハニカム構造体の製造装置であって、
ハニカム形成位置と対応した位置に貫通孔を有する第一基板と、
塗布部において前記第一基板上に塑性材料を塗布する塗布装置と、
発泡部において前記第一基板を挟むように設けられ、前記第一基板の貫通孔内の気体を膨張させ前記第一基板上に塗布された前記塑性材料をハニカム状に発泡させて凹部を形成する第二基板および第１位置決め部材と、
乾燥固化部において前記ハニカム状に発泡された前記塑性材料を乾燥固化するために位置決めする第２位置決め部材および第３位置決め部材と、
剥離部において前記ハニカム構造体を取り出すため前記乾燥固化された塑性材料を前記第一基板から剥離する剥離部材とを有し、
前記第一基板が、前記塗布装置、前記第二基板および前記第１位置決め部材、第２位置決め部材および第３位置決め部材、剥離部材の間を所定方向へ移動して前記ハニカム構造体を連続形成することを特徴とするハニカム構造体の製造装置。
【請求項２】
前記第１の位置決め部材が、塗布部の下流側に隣接した発泡部における前記第一基板上方に設けられ、前記塗布装置側と前記剥離部側とで前記第一基板に対し厚み方向で徐々に寸法差が付くように、前記第一基板側が任意の傾斜を持たせた部位になり、前記第１の位置決め部材は、前記寸法差にて、前記第二基板と協働して前記塑性材料を発泡させるようになっていることを特徴とする請求項１のハニカム構造体の製造装置。
【請求項３】
前記ハニカム構造体の製造装置が、前記第一基板と、前記第１および第２位置決め部材と、の間に介在して摺動可能な位置保持ベルトを有することを特徴とする請求項２のハニカム構造体の製造装置。
【請求項４】
前記位置保持ベルトが、前記第一基板の搬送速度と同等の速度で移動することを特徴とする請求項３のハニカム構造体の製造装置。
【請求項５】
前記第１および第２位置決め部材の一部が磁界を発生する機構を有し、前記位置保持ベルトの少なくとも一部が磁性体または、磁界を発生する機構であることを特徴とする請求項４のハニカム構造体の製造装置。
【請求項６】
前記第二基板と前記第一基板とは、前記発泡部において、お互い密着し、前記発泡部以外はお互い離れる状態となっていることを特徴とする請求項１のハニカム構造体の製造装置。
【請求項７】
前記第二基板が表面に弾力性がある円柱構造体からなり、前記第一基板が変形可能な型基板からなることを特徴とする請求項６のハニカム構造体の製造装置。
【請求項８】
前記第二基板の一部は磁界を発生する機構を有し、前記第一基板の少なくとも一部は磁性体または、磁界を発生する機構を有し、前記第二基板上を前記第一基板が摺動することにより、随時脱着を可能とする機構であることを特徴とする請求項７のハニカム構造体の製造装置。
【請求項９】
前記第１および第２の位置決め部材の前記第一基板側の面に低摩擦処理を施していることを特徴とする請求項２のハニカム構造体の製造装置。
【請求項１０】
前記塗布部に大気圧以上となる加圧機構を設けたことを特徴とする請求項７のハニカム構造体の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複写機、ファクシミリ、固体走査型プリンタ等の光走査系に用いられるプラスチックレンズやレンズ付き光伝送の導波路等およびデジタルカメラ等の受光素子レンズの製造や、光ファイバープレートに用いられるハニカム構造体の製造装置に関し、特にハニカム構造体の隔壁を薄くしたり大面積化したりした場合でも、亀裂が起きないハニカム構造体の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、複写機、ファクシミリ、固体走査型プリンタ等の光走査系に用いられるプラスチックレンズやレンズ付き光伝送の導波路等およびデジタルカメラ等の受光素子レンズの製造や、光ファイバープレート（プロジェクターのスクリーン、タッチパネル、電子写真プロセスを用いた感光体、ディスプレイ等に利用されるもの）には、高精度なプラスチック成形品が必要とされ、従来より、複数の微細な部材で構成される高精度なプラスチック成形品の成形技術が提案されている。
なお、従来技術としては、特許文献１として、隔壁の厚みが薄く微細で細長いハニカム構造を得るため、所定の条件で塑性変形機能を有する第１素材にて、所望の位置に所定の独立した凹部を複数配置した第１基板の上記凹部に空間が生じるように同第１基版の表面を覆う第１工程と、該空間のガス圧力にて複数同時に該第１素材を膨張延伸させることで薄く細長い中空体を多数個一定方向に形成する第２工程とからなる微細なハニカム構造体の製造方法が開示されている。
【特許文献１】特開２００７−９８９３０公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記従来のハニカム構造体の製造方法においては、ハニカム構造体の隔壁を薄くしたり大面積化にするにつれて、ハニカム構造体に亀裂が入りやすくなるといった問題点があった。
特に、ハニカム材料にゼラチン水溶液等を用いた場合に、ハニカム構造体に亀裂が入りやすくなる問題点がより顕著となる。これは、ハニカム材料が乾燥固化するに伴って大きな収縮が発生するためであり、乾燥固化工程中に、基板とハニカム材料は密着しているが、ハニカム材料の収縮にて内部応力が発生し、その内部応力が大きくなったり、乾燥等により密着力が低下すると、その箇所で基板とハニカム材料間に剥離が生じるものである。
剥離前は内部応力が均等であるが、剥離が一部分のみ生じた時は、その剥離形状にて応力集中が発生するので、ハニカム材料の剛性に対してそれ以上の内部応力が発生した箇所で亀裂が生じるものである。
本発明は、上記従来の問題点を鑑みてなされたものであり、その目的は、ハニカム構造体の隔壁を薄くしたり大面積化したりした場合でも、亀裂が起きないハニカム構造体の製造装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上述の目的を達成するために、請求項１記載の発明は、ハニカム構造体を連続形成するハニカム構造体の製造装置であって、ハニカム形成位置と対応した位置に貫通孔を有する第一基板と、塗布部において前記第一基板上に塑性材料を塗布する塗布装置と、発泡部において前記第一基板を挟むように設けられ、前記第一基板の貫通孔内の気体を膨張させ前記第一基板上に塗布された前記塑性材料をハニカム状に発泡させて凹部を形成する第二基板および第１位置決め部材と、乾燥固化部において前記ハニカム状に発泡された前記塑性材料を乾燥固化するために位置決めする第２位置決め部材および第３位置決め部材と、剥離部において前記ハニカム構造体を取り出すため前記乾燥固化された塑性材料を前記第一基板から剥離する剥離部材とを有し、前記第一基板が、前記塗布装置、前記第二基板および前記第１位置決め部材、第２位置決め部材および第３位置決め部材、剥離部材の間を所定方向へ移動して前記ハニカム構造体を連続形成することを特徴とする。
また、請求項２記載の発明は、前記第１の位置決め部材が、塗布部の下流側に隣接した発泡部における前記第一基板上方に設けられ、前記塗布装置側と前記剥離部側とで前記第一基板に対し厚み方向で徐々に寸法差が付くように、その前記第一基板側が任意の傾斜を持たせた部位になり、前記第１の位置決め部材は、その寸法差にて、前記第二基板と協働して前記塑性材料を発泡させるようになっていることを特徴とする。
また、請求項３記載の発明は、前記ハニカム構造体の製造装置が、前記第一基板と、前記第１および第２位置決め部材と、の間に介在して摺動可能な位置保持ベルトを有することを特徴とする。
また、請求項４記載の発明は、前記位置保持ベルトが、前記第一基板の搬送速度と同等の速度で移動することを特徴とする。
【０００５】
また、請求項５記載の発明は、前記第１および第２位置決め部材の一部が磁界を発生する機構を有し、前記位置保持ベルトの少なくとも一部が磁性体または、磁界を発生する機構であることを特徴とする。
また、請求項６記載の発明は、前記第二基板と前記第一基板とは、前記発泡部において、お互い密着し、前記発泡部以外はお互い離れる状態となっていることを特徴とする。
また、請求項７記載の発明は、前記第二基板が表面に弾力性がある円柱構造体からなり、前記第一基板が変形可能な型基板からなることを特徴とする。
また、請求項８記載の発明は、前記第二基板の一部は磁界を発生する機構を有し、前記第一基板の少なくとも一部は磁性体または、磁界を発生する機構を有し、前記第二基板上を前記第一基板が摺動することにより、随時脱着を可能とする機構であることを特徴とする。
また、請求項９記載の発明は、前記第１および第２の位置決め部材の前記第一基板側の面に低摩擦処理を施していることを特徴とする。
また、請求項１０記載の発明は、前記塗布部に大気圧以上となる加圧機構を設けたことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、塗布工程〜剥離工程の装置間を型基板（実施例では、第一基板１）が移動する機構となっているので、塗布から剥離までが連続的に行われる。特に、剥離部側から順番に乾燥固化が進行するので、固化収縮および剥離が順次行われる。よって、応力集中を受けにくく、亀裂等の品質劣化が起きにくい。他に、連続工程であるので、大面積（長尺）のハニカム構造体の加工が可能となり、バッチ処理と比較して、加工時間の短縮が図られる。
また、本発明によれば、発泡工程において、第１の位置決め部材を傾斜して配置しているので、第一基板の移動にて、連続して塑性材料を膨張延伸させ、乾燥固化前のハニカム構造体を形成させることが出来る。
また、本発明によれば、乾燥固化工程において、第１の位置決め部材と隣接し  （一体化でも可）、型基板と平行した第２の位置決め部材を配置したことで、スムーズにハニカム構造体の乾燥固化が行える。
【０００７】
また、本発明によれば、第１および第２位置決め部材との間に介在して摺動可能な位置保持ベルトを設けることで、塑性材料の粘着によるハニカム形状の変形や破壊を阻止することが出来る。
また、本発明によれば、位置保持ベルトが、第一基板の搬送速度と同等の速度で移動するようになっているので、更に、第一素材の粘着によるハニカム形状の変形や破壊を阻止することが出来る。
また、本発明によれば、第１および第２の位置決め部材の一部が磁界を発生する機構を有し、位置保持ベルトの少なくとも一部は磁性体または、磁界を発生する機構であるので、お互いに引力が働くので、位置保持ベルトが第１および第２の位置決め部材に沿うことが出来、位置精度が狂うこと無く、高精度に膨張延伸および乾燥固化が行える。
【０００８】
また、本発明によれば、第二基板と第一基板とは、発泡工程では、お互い密着し、発泡工程以降はお互い離れる状態となっているので、連続して、塑性材料の膨張延伸および乾燥固化が行える。また、第一基板と第二基板が密着時は独立した凹部となるため、どの箇所でも均等な膨張延伸となり、第一基板と第二基板とが離れた時は、第一基板が貫通孔となるため、その箇所から、塑性材料の乾燥が可能となる。
また、本発明によれば、第二基板が表面に弾力性がある円柱構造体からなり、第一基板が、変形可能な型基板からなるので、密閉度が上がる。また、円柱構造体と型基板は、円柱構造体の接線の任意の２方向からの引っ張り力にて型基板を面接触した構造であるので、強い密閉力が働き、密閉度が上がる。また、円柱構造体を回転させると同時に型基板を移動させることで随時脱着を可能とする機構であるので、第一基板と第二基板との滑りや隙間等が発生せずスムーズな脱着となり、より確実に第一基板の貫通孔の密閉が行える。よって、独立した凹部となるため、どの箇所でも均等な膨張延伸となる。
【０００９】
また、本発明によれば、第二基板の一部は磁界を発生する機構を有し、第一基板の少なくとも一部は磁性体または、磁界を発生する機構であり、第二基板上を第一基板が摺動することにより、随時脱着を可能とするので、密閉度は向上する。また、塑性材料が固定した第二基板や位置決め部材面上を移動するので、ハニカム構造体の寸法安定性が得られる。
また、本発明によれば、第１および第２の位置決め部材の第一基板側の面は低摩擦処理を施しているので、第一素材が粘着することなく、膨張延伸および乾燥固化が行える。
また、本発明によれば、塗布部に大気圧以上となる加圧機構があるので、凹部からの大きな膨張圧力を発生させることが出来、塑性材料の影響（特に粘弾性）を受けにくく、より確実に延伸膨張することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下に添付の図を参照してこの発明の実施形態を詳細に説明する。
［実施例］
本発明の要旨は、塑性材料（ハニカム材料）の乾燥固化工程において、応力集中が発生しないような手法を用いたことである。すなわち、塑性材料を端部から徐々に乾燥させ、基板の端部から剥離するようにしている。ここで、ハニカム構造体の製法は、延伸膨張と乾燥固化が一連の工程で成り立っているので、装置も一連化する必要があり、延伸膨張装置と乾燥固化装置および剥離装置間を型基板が移動することで達成している。
図１は、本発明によるハニカム構造体の製造装置の第１実施形態を示す図であり、（ａ）は側断面概略構成図、（ｂ）は図１に示したハニカム構造体の製造装置の部分拡大図である。また、図２は図１に示したハニカム構造体の製造装置によって製造されたハニカム構造体の斜視図である。
ちなみに、ハニカム構造体とは、六角形状そのものを指しているわけではなく、複数の中空体を形成しているシート状のものを総じてハニカム構造体とここでは定義している。
【００１１】
図１（ａ）に示すように、このハニカム構造体の製造装置は、ハニカム形成位置と対応した位置に貫通孔１ａを有して磁性体（例：ニッケル）からなる環状形状の変形可能な第一基板１を有しており、この第一基板１は、第１および第２の回転部３、５に掛け回されて後述する塗布装置７および第２基板９および第１位置決め部材１１および第２位置決め部材１３および乾燥ガス供給部１５および第３位置決め部材１７および剥離部材１９間を循環するように矢印Ｘの方向へ移動するようになっている。
すなわち、このハニカム構造体の製造装置は、ハニカム構造体を連続形成するようになっており、ハニカム形成位置と対応した位置に貫通孔１ａを有する第一基板１と、第一基板１上に塑性材料７ａを塗布する塗布装置７と、第一基板１を挟むように設けられ、第一基板１の貫通孔１ａ内の気体を膨張させ塑性材料７ａをハニカム状に発泡させる第二基板９および第１位置決め部材１１と、ハニカム状に発泡された塑性材料７ｃを乾燥固化するために位置決めする第２位置決め部材１３および第３位置決め部材１７と、ハニカム構造体７ｃを取り出すため乾燥固化された塑性材料７ｃを第一基板１から剥離する剥離部材１９とを有し、第一基板１が、塗布装置７、第二基板９および第１位置決め部材１１、第２位置決め部材１３および第３位置決め部材１７、剥離部材１９の間を所定方向Ｘへ移動してハニカム構造体７ｃを連続形成する。
【００１２】
また、この第一基板１は、図示していないが、手前と奥は側板が有り、第１および第２の位置決め部材１１、１３と密閉しており、塑性材料側は剥離し易いように撥水処理（フッ素系離型剤）されている。
塗布装置７は、第一基板１の移動方向の最も上流側の塗布部Ａにおける第一基板１上方に設けられ、第一基板１に塑性材料７ａを塗布する装置であり、第一基板１の貫通孔１ａに塑性材料が入り込まないような低圧力で塗布される。なお、塗布装置７の温度は、ゼラチン水溶液のゲル化温度（３８度近傍）以上であり装置本体に固定される。また、塑性材料は２０％に希釈したゼラチン水溶液を用いている。
【００１３】
第１の位置決め部材１１は、塗布部Ａの下流側に隣接した発泡部Ｂにおける第一基板１上方に設けられ、塗布装置７側と剥離部１９側とで第一基板に対し厚み方向で徐々に寸法差が付くようになっている。すなわち、第１の位置決め部材１１は、移動方向Ｘの最初は、塗布装置側の第１の位置決め部材１１と第一基板１間の距離が塗布材厚みと同等となり、剥離部１９側の第二基板９を超えてから徐々に塗布材厚みが厚くなり、移動方向Ｘの最後は、第１の位置決め部材１１と第一基板１間の距離がハニカム構造体の高さと同等となるように、その第一基板１側が任意の傾斜を持たせた部位、すなわちテーパー状になっている。第１の位置決め部材１１は、その寸法差にて、塑性材料を発泡させるようになっており、装置本体に固定されている。すなわち、第１の位置決め部材１１が、塗布部Ａの下流側に隣接した発泡部Ｂにおける第一基板１上方に設けられ、塗布装置７側と剥離部１９側とで第一基板１に対し厚み方向で徐々に寸法差が付くように、その第一基板１側が任意の傾斜を持たせた部位になり、第１の位置決め部材１１は、その寸法差にて、第二基板９と協働して前記塑性材料を発泡させるようになっている。
【００１４】
第２の位置決め部材１３は、発泡部Ｂの下流側に隣接した乾燥固化部Ｃにおける第一基板１上方に設けられ、乾燥固化中の塑性材料の形状および高さ寸法を維持するようになっており、第２の位置決め部材１３と第一基板１間の距離がハニカム構造体の高さと同等となっており、装置本体に固定されている。
なお、第１および第２位置決め部材１１、１３は、塑性材料との滑りを良くするために、第１の潤滑剤１３で覆われている。
第二基板９は、発泡部Ｂにおける第一基板１の下方に第一基板と密着して設けられ、塑性材料７ａが独立した凹部７ｂとなるようにする働きがある。ここで、第一基板１を挟んで第１の位置決め部材１１があるが、第１の位置決め部材１１と第二基板９とは剥離部側ほど相対的に離れていくので、その箇所で第一基板１の貫通孔１ａ内の気体が膨張し、塑性材料７ａに凹部７ｂを形成し、ハニカム形状を形成する（図１（ｂ）参照）。なお、第二基板９は電磁石の機能を有しており、磁力にて第一基板１とは離れないようになっている。また、第二基板９の表面は、密閉度および滑りを良くするために潤滑剤で覆われており、第二基板９は装置本体に固定されている。また、第二基板９と第一基板１とは、発泡工程では、お互い密着し、発泡工程以降はお互い離れる状態である
【００１５】
第３の位置決め部材１７は、乾燥固化部Ｃにおける第一基板１下方に設けられ、貫通孔１７ａを有し、この貫通孔１７ａは、乾燥ガス供給部１５よりの乾燥ガスを通し、第一基板１を介して塑性材料の水分を乾燥させるための通路となる。また、第３の位置決め部材１７は、電磁石の機能を有しており、第一基板１とは常に接触しており、塑性材料側の面は高平面であり、第２の位置決め部材１３との平行度等が高精度に位置合わせされており、それにより、乾燥中のハニカムセル寸法を制御している。また、第３の位置決め部材１７の表面は、滑りを良くするために第２の潤滑剤２３で覆われており、第３の位置決め部材１７は、装置本体に固定されている。
剥離部材１９は、先端が鋭利になっており、第一基板１に密着している成形された塑性材料７ｂを剥がし取るようになっており、装置本体に固定されている。
なお、図２に示すように、成形された塑性材料７ｂはハニカム構造体となっており、凹部７ｂを有している。
【００１６】
次に、図３を参照して、図１に示すハニカム構造体の製造装置による製造方法について説明する。
図３に示すように、この製造方法の概略としては、塗布装置７にて第一基板１に塑性材料７ａを塗布する塗布工程（ステップ１０１）と、第１の位置決め部材１１と第二基板９に挟まれた発泡部Ｂで負圧を発生させ塑性材料７ａをハニカム形状に発泡させる発泡工程（ステップ１０３）と、第２の位置決め部材１３と第３の位置決め部材１７とに挟まれた乾燥固化部Ｃで塑性材料７ａを乾燥させハニカム形状を固化形成する乾燥工程（ステップ１０５）と、剥離部１９で第一基板１から塑性材料（ハニカム構造体）７ｃを剥離する剥離工程（ステップ１０７）とからなっている。
【００１７】
次に、各工程の具体例について、図３および図４を参照して詳しく説明する。
図４は、図１に示すハニカム構造体の製造装置における発泡部Ｂおよび乾燥固化部Ｃの詳細説明図である。
塗布工程（ステップ１０１）は、塗布装置７にて、ピッチ１５０μｍで穴径１００μｍで送り速度５ｍｍ／ｓｅｃの第一基板１に塑性材料７ａを塗布厚み１０μｍ程度に塗布する。
発泡工程（ステップ１０３）は、第１の位置決め部材１１と第二基板９に挟まれた発泡部Ｂで負圧を発生させ塑性材料７ａをハニカム形状に発泡させるわけであるが、前述したように、第１の位置決め部材１１と第一基板１とが相対的に距離が離れる（１０μｍ→５０μｍ）ようにすることで、塑性材料７ａに掛かる圧力は大気圧（０．１Ｍｐａ）以下となるようになっている。
【００１８】
そして、第一基板１内の貫通孔１ａには大気圧の気体が存在し、気体の状態方程式の関係の基、塑性材料７ａの圧力低下とともに気体は体積膨張（約２倍）し、中空体（ハニカム形状）を形成する。ここで、第一基板１と第二基板９は磁力で密着しているので、第一基板１の貫通孔１ａは片側がふさがれ独立した凹部となる。凹部体積および塑性材料に掛かる圧力はどの箇所もほぼ同じであるので、どの箇所もほぼ同等の体積膨張となる。すなわち、均一なハニカム形状となる。
ちなみに、第二基板９の密着を用いない場合は、塑性材料７ａの強度（粘弾性係数）の影響を直接受ける。例えば、相対的に強度が弱い塑性材料の箇所から、膨張が始まり、膨張することで塑性材料は薄くなり、益々強度が弱くなり、その箇所から更に膨張が広まる。よって、均一なハニカム形状は得られなくなる。
そして、乾燥工程（ステップ１０５）は、第２の位置決め部材１３と第３の位置決め部材１７とに挟まれた乾燥固化部Ｃで塑性材料７ａを温度９０℃、湿度５％以下、乾燥時間約５分で乾燥させハニカム形状を固化形成する。
【００１９】
発泡工程の発泡完了後、第一基板１と第二基板９とを離す。第一基板１と第二基板９とを離してもハニカム形状の変形は起きなくなる。また、第一基板１の貫通孔１ａを通して、塑性材料７ａの水分が蒸発する（＝乾燥する）。ここで、乾燥に伴って、大きな収縮力が働き、第一基板１を引き上げようとする力が働くので、第一基板１の変形および位置変動を抑制するために、第３の位置決め部材１７に磁力を発生させ、第一基板１を第３の位置決め部材１７面に沿わせる。
なお、第３の位置決め部材１７も乾燥を妨げないように貫通孔（直径数ｍｍ程度）１７ａを有する。また、ここでは、乾燥ガス供給装置１５にて乾燥を早めている。なお、第２の位置決め部材１３および第３の位置決め部材１７に加熱機構を持たせ、塑性材料７ａを加熱することで乾燥を早めることも出来る。
剥離工程（ステップ１０７）は、剥離部１９で第一基板１から塑性材料（ハニカム構造体）７ｃを剥離する。乾燥工程での第２の位置決め部材１３と第３の位置決め部材１７を塑性材料（ハニカム構造体）７ｃが通過した時点で、殆どが自然と剥離するが、多少剥離出来ない部分も生じるので、補助的に剥離部１９を設け、確実に剥離するようにしている。
【００２０】
次に、図５を参照して、本発明によるハニカム構造体の製造装置の第２実施形態について説明する。
図５は、本発明によるハニカム構造体の製造装置の第２実施形態を示す図であり、（ａ）は、側断面概略構成図であり、（ｂ）は、図１に示したハニカム構造体の製造装置の部分拡大図である。
図５に示すように、この第２実施形態は、第１実施形態において、第一基板１と、第１および第２位置決め部材１１、１３との間に介在して第一基板１と同速度で移動する位置保持ベルト２５を新たに設けた構成となっている。位置保持ベルト２５は磁性材料（例：ステンレス）で厚み約０．１ｍｍであり、第３および第４の回転部２７、２９に掛け回されており、塑性材料７ａ側は剥離し易いように撥水処理（フッ素系離型剤）されている。そして、第１および第２位置決め部材１１、１３は磁力を発生する機構（電磁石）が設けられている。
他の構成は第１実施形態と同様であるので、説明を省略する。
【００２１】
次に、上記第２実施形態の動作を説明する。
第１実施形態では、塑性材料７ａの第１および第２位置決め部材１１、１３との摩擦を低減するために、潤滑剤２１を用いたが、ハニカム構造体形成後、潤滑剤２１を除去する工程が必要となる。
この第２実施形態では、その潤滑剤除去工程を削除するために、第一基板１と、第１および第２位置決め部材１１、１３との間に介在して第一基板１と同速度で移動する位置保持ベルト２５を新たに設けている。
そして、発泡工程での負圧発生において、第１位置決め部材１１に磁力を発生する機構（電磁石）を設けることで、位置保持ベルト２５を第１位置決め部材１１に沿わせるようにしている。そして、乾燥工程での塑性材料７ａの収縮力に打ち勝つため、上記と同様に磁力にて位置保持ベルト２５を第２位置決め部材１３に沿わせるようにしている。
【００２２】
次に、図６を参照して、本発明によるハニカム構造体の製造装置の第３実施形態について説明する。
図６は、本発明によるハニカム構造体の製造装置の第３実施形態を示す図であり、  図６に示すように、この第３実施形態は、第２実施形態において、第二基板９を第１の回転部３の円周上に設けるようにしており、これに伴って、塗布装置７の位置も、第１の回転部３の上に設けるようになっている。また、位置保持ベルト２５は、第３および第４および第５の回転部２７、２９、３１に掛け回されている。すなわち、  第二基板９が表面に弾力性がある円柱構造体からなっている。他の構成は第２実施形態と同様であるので、説明を省略する。
この第３実施形態によれば、第二基板９と第一基板１との滑りが発生させずにすむので、確実に第一基板１の貫通孔１ａを第二基板９にて塞ぐことが出来る。なお、この場合、第二基板９の材質は、ゴムやウレタン等の柔らかく密閉し易い材料が良い。
【００２３】
次に、図７を参照して、本発明によるハニカム構造体の製造装置の第３実施形態の変形例について説明する。
図７は、本発明によるハニカム構造体の製造装置の第３実施形態の変形例の側断面概略構成図である。
図７に示すように、この第３実施形態の変形例は、第３実施形態において、塗布装置７の周りに気体の圧力を調整（約０．２ＭＰａ）する加圧機構３３を設けるようになっている。このことにより、発泡工程での塑性材料の発泡がより確実に行えるので、強制的に位置保持ベルトで負圧を発生する必要がなくなる。また、ガス圧力が大きいので、塑性材料の粘弾性による反力の影響を受けにくくなる。
他の構成は第３実施形態と同様であるので、説明を省略する。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】図１は、本発明によるハニカム構造体の製造装置の第１実施形態を示す図であり、（ａ）は側断面概略構成図、（ｂ）は図１に示したハニカム構造体の製造装置の部分拡大図である。
【図２】図１に示したハニカム構造体の製造装置によって製造されたハニカム構造体の斜視図である。
【図３】図１に示すハニカム構造体の製造装置による製造方法のフローチャートである。
【図４】図１に示すハニカム構造体の製造装置における発泡部Ｂおよび乾燥固化部Ｃの詳細説明図である。
【図５】本発明によるハニカム構造体の製造装置の第２実施形態を示す図であり、（ａ）は側断面概略構成図り、（ｂ）は図１に示したハニカム構造体の製造装置の部分拡大図である。
【図６】本発明によるハニカム構造体の製造装置の第３実施形態を示す図である。
【図７】本発明によるハニカム構造体の製造装置の第３実施形態の変形例の側断面概略構成図である。
【符号の説明】
【００２５】
１…第一基板、１ａ…貫通孔、３…第１の回転部、５…第２の回転部、７…塗布装置、７ａ…塑性材料、７ｂ…凹部、７ｃ…ハニカム構造体、９…第二基板、１１…第１の位置決め部材、１３…第２の位置決め部材、１５…乾燥ガス供給装置、１７…第３の位置決め部材、１７ａ…貫通孔、１９…剥離部材、２１…第１の潤滑剤、２３…第２の潤滑剤、２５…位置保持ベルト、２７…第４の回転部、２７…第５の回転部、３３…加圧機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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