(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
廃液を処理する廃液処理槽と、
前記薬液を保持する薬液タンクと、
前記薬液タンクが保持する前記薬液を該薬液タンクの外で循環させた後に前記薬液タン
クに戻す第１の薬液循環経路と、
前記薬液タンクが保持する前記薬液を該薬液タンクの外で循環させた後に前記薬液タン
クに戻す第２の薬液循環経路と、
前記第１の薬液循環経路に接続し、該第１の薬液循環経路を流れる前記薬液を前記廃液
処理槽に供給する第１の薬液導入経路と、
前記第２の薬液循環経路に接続し、該第２の薬液循環経路を流れる前記薬液を前記廃液
処理槽に供給する第２の薬液導入経路と、
前記第１及び第２の薬液循環経路を洗浄する洗浄液を保持する洗浄液タンクと、
前記洗浄液タンクが保持する前記洗浄液を前記第１の薬液循環経路に導入する第１の洗
浄液供給経路と、
前記洗浄液タンクが保持する前記洗浄液を前記第２の薬液循環経路に導入する第２の洗
浄液供給経路と、
前記第１の薬液循環経路に接続し、前記第１の薬液循環経路に供給された前記洗浄液を
排出する第１の洗浄液排出経路と
前記第２の薬液循環経路に接続し、前記第２の薬液循環経路に供給された前記洗浄液を
排出する第２の洗浄液排出経路と、
を具備する廃液処理装置。
【請求項２】
廃液を処理する廃液処理槽と、
下流側の端部が前記廃液処理槽に接続し、前記廃液を処理する為の薬液を前記廃液処理
槽内に供給する供給管と、
前記薬液を保持する薬液タンクと、
上流側の端部が前記薬液タンクに接続する薬液取出管と、
下流側の端部が前記薬液タンクに接続する薬液戻管と、
上流側の端部が前記薬液取出管の下流側の端部に接続し、下流側の端部が前記薬液戻管
の上流側の端部に接続する第１の薬液循環管と、
前記第１の薬液循環管に並列に設けられ、上流側の端部が前記薬液取出管の下流側の端
部に接続し、下流側の端部が前記薬液戻管の上流側の端部に接続する第２の薬液循環管と、
上流側の端部が前記第１の薬液循環管に接続し、下流側の端部が前記供給管に接続する
第１の薬液導入管と、
上流側の端部が前記第２の薬液循環管に接続し、下流側の端部が前記供給管に接続する
第２の薬液導入管と、
前記第１及び第２の薬液循環管、並びに前記第１及び第２の薬液導入管を洗浄する洗浄
液を保持する洗浄液タンクと、
上流側の端部が前記洗浄液タンクに接続する洗浄液取出管と、
上流側の端部が前記洗浄液取出管の下流側の端部に接続し、下流側の端部が前記第１の
薬液循環管のうち前記第１の薬液導入管との接続部より上流側の部分に接続する第１の洗
浄液供給管と、
上流側の端部が前記洗浄液取出管の下流側の端部に接続し、下流側の端部が前記第２の
薬液循環管のうち前記第２の薬液導入管との接続部より上流側の部分に接続する第２の洗
浄液供給管と、
前記第１の薬液循環管のうち前記第１の薬液導入管との接続部より下流側の部分に上流
側の端部が接続し、前記第１の薬液循環管に供給された前記洗浄液を排出する第１の洗浄
液排出管と
前記第２の薬液循環管のうち前記第２の薬液導入管との分岐部より下流側の部分に上流
側の端部が接続し、前記第２の薬液循環管に供給された前記洗浄液を排出する第２の洗浄
液排出管と、
第１の薬液循環管に設けられ、前記第１の洗浄液供給管との接続部より上流側に位置す
る第１のバルブと、
第２の薬液循環管に設けられ、前記第２の洗浄液供給管との接続部より上流側に位置す
る第２のバルブと、
第１の薬液循環管に設けられ、前記第１の洗浄液排出管との接続部より下流側に位置す
る第３のバルブと、
第２の薬液循環管に設けられ、前記第２の洗浄液排出管との接続部より下流側に位置す
る第４のバルブと、
前記第１の薬液導入管に設けられた第５のバルブと、
前記第２の薬液導入管に設けられた第６のバルブと、
前記第１の洗浄液供給管に設けられた第７のバルブと、
前記第２の洗浄液供給管に設けられた第８のバルブと、
前記第１の洗浄液排出管に設けられた第９のバルブと、
前記第２の洗浄液排出管に設けられた第１０のバルブと、
を具備する廃液処理装置。
【請求項３】
前記供給管と前記廃液処理槽を接続する継手管と、
前記継手管に取付けられ、該継手管の前記廃液処理槽側の端から前記廃液処理槽内に延
伸し、先端が前記廃液処理槽の内壁と面一又は該内壁より前記廃液処理槽の内側に位置す
る挿入管と、
を具備する請求項２に記載の廃液処理装置。
【請求項４】
廃液を処理する廃液処理槽と、
前記廃液処理槽に設けられ、前記廃液を処理する為の薬液を前記廃液処理槽内に導入す
る第１の導入口及び第２の導入口と、
前記薬液を保持する薬液タンクと、
前記薬液タンクが保持する薬液を取り出して外部を循環させた後に前記薬液タンクに戻
す第１の薬液循環管及び第２の薬液循環管と、
前記第１の薬液循環管から分岐し、前記薬液を前記第１の導入口に供給する第１の薬液
導入管と、
前記第２の薬液循環管から分岐し、前記薬液を前記第２の導入口に供給する第２の薬液
導入管と、
前記薬液が流れる配管を洗浄するための洗浄液を保持する洗浄液タンクと、
前記洗浄液タンクが保持する前記洗浄液を、前記第１の薬液導入管との分岐部より上流
側の部分から前記第１の薬液循環管に供給する第１の洗浄液供給管と、
前記洗浄液タンクが保持する前記洗浄液を、前記第２の薬液導入管との分岐部より上流
側の部分から前記第２の薬液循環管に供給する第２の洗浄液供給管と、
前記第１の薬液循環管に供給された前記洗浄液を、前記第１の薬液導入管との分岐部よ
り下流側の部分から排出する第１の洗浄液排出管と
前記第２の薬液循環管に供給された前記洗浄液を、前記第２の薬液導入管との分岐部よ
り下流側の部分から排出する第２の洗浄液排出管と、
第１の薬液循環管に設けられ、前記第１の洗浄液供給管との接続部より上流側に位置す
る第１のバルブと、
第２の薬液循環管に設けられ、前記第２の洗浄液供給管との接続部より上流側に位置す
る第２のバルブと、
第１の薬液循環管に設けられ、前記第１の洗浄液排出管との接続部より下流側に位置す
る第３のバルブと、
第２の薬液循環管に設けられ、前記第２の洗浄液排出管との接続部より下流側に位置す
る第４のバルブと、
前記第１の薬液導入管に設けられた第５のバルブと、
前記第２の薬液導入管に設けられた第６のバルブと、
前記第１の洗浄液供給管に設けられた第７のバルブと、
前記第２の洗浄液供給管に設けられた第８のバルブと、
前記第１の洗浄液排出管に設けられた第９のバルブと、
前記第２の洗浄液排出管に設けられた第１０のバルブと、
を具備する廃液処理装置。
【請求項５】
前記第１の導入口に取付けられた第１の継手管と、
前記第２の導入口に取付けられた第２の継手管と、
を具備し、
前記第１の継手管および前記第２の継手管は、それぞれ、
当該継手管に取付けられ、当該継手管の前記導入口側の端から前記導入口内に延伸し、
先端が前記廃液処理槽の内壁と面一又は該内壁より前記廃液処理槽の内側に位置する挿入
管と、
を有する請求項４に記載の廃液処理装置。
【請求項６】
前記第１の継手管及び前記第２の継手管は、それぞれ第１１のバルブを有している請求
項５に記載の廃液処理装置。
【請求項７】
前記第１の薬液循環管に設けられ、前記第１の薬液導入管との接続部と、前記第１の洗
浄液供給管との接続部との間に位置し、又は当該接続部に位置する第１のポンプと、
前記第２の薬液循環管に設けられ、前記第２の薬液導入管との接続部と、前記第２の洗
浄液供給管との接続部との間に位置し、又は当該接続部に位置する第２のポンプと、
を具備する請求項１〜６のいずれか一項に記載の廃液処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造装置から出る廃液を、薬液を用いて処理する廃液処理装置及び継手管に関する。特に本発明は、配管詰まり対策によって半導体製造装置の稼働率が低下することを抑制できる廃液処理装置及び継手管に関する。
【背景技術】
【０００２】
図１２は、従来の廃液処理装置の構成を説明するための概略図である。本図に示す廃液処理装置は、半導体製造設備から排出される廃液（例えばフッ酸や燐酸を含む廃液）を薬液（例えば消石灰水溶液）で処理する廃液処理槽２１０、薬液を保持する薬液タンク２２０、薬液タンク２２０から薬液を取り出して外部を循環させた後に薬液タンク２２０に戻す薬液循環管２１２、薬液循環管２１２から分岐していて薬液を廃液処理槽２１０の薬液導入口２１０ａに供給する薬液導入管２１４を有する。薬液循環管２１２にはポンプ２１２ａが取付けられており、薬液導入管２１４にはバルブ２１５が設けられている。ポンプ２１２ａは常に動作しており、薬液を常に循環させている。これにより、薬液循環管２１２内で薬液の成分が析出して配管詰まりを起こすことを、ある程度抑制できる。バルブ２１５は、廃液処理槽２１０に薬液を供給する必要がある場合に開き、他の場合は閉じている。
例えば特許文献１には、カルシウム源を含む薬液を用いてフッ化物イオンを排水から除去することについて記載されている。
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−１１３２８４号公報（第２及び第３段落）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記した従来の構成において、廃液処理装置を長時間連続して使用すると、薬液が流れる配管内に薬液の成分が析出してくる為、一定期間ごとに廃液処理装置を停止させてすべての配管を交換する必要がある。全ての配管を交換する為には廃液処理装置を長時間停止させる必要があるため、交換作業中は半導体製造設備を停止させる必要がある。この結果、半導体製造装置の稼働率が低下してしまう。
【０００５】
また、廃液処理槽の薬液供給口にも析出物が付くが、薬液供給口は廃液処理層と一体であり交換が不可能である為、薬液供給口に付いた析出物を除去するしかない。しかし、析出物を除去することは時間を要する為、この結果、半導体製造装置の稼働率が低下してしまう。
【０００６】
本発明は上記のような事情を考慮してなされたものであり、その目的は、配管詰まり対策によって半導体製造装置の稼働率が低下することを抑制できる廃液処理装置及び継手管を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明に係る廃液処理装置は、  廃液を処理する廃液処理槽と、
前記薬液を保持する薬液タンクと、
前記薬液タンクが保持する前記薬液を該薬液タンクの外で循環させた後に前記薬液タンクに戻す第１の薬液循環経路と、
前記薬液タンクが保持する前記薬液を該薬液タンクの外で循環させた後に前記薬液タンクに戻す第２の薬液循環経路と、
前記第１の薬液循環経路に接続し、該第１の薬液循環経路を流れる前記薬液を前記廃液処理槽に供給する第１の薬液導入経路と、
前記第２の薬液循環経路に接続し、該第２の薬液循環経路を流れる前記薬液を前記廃液処理槽に供給する第２の薬液導入経路と、
前記第１及び第２の薬液循環経路を洗浄する洗浄液を保持する洗浄液タンクと、
前記洗浄液タンクが保持する前記洗浄液を前記第１の薬液循環経路に導入する第１の洗浄液供給経路と、
前記洗浄液タンクが保持する前記洗浄液を前記第２の薬液循環経路に導入する第２の洗浄液供給経路と、
前記第１の薬液循環経路に接続し、前記第１の薬液循環経路に供給された前記洗浄液を排出する第１の洗浄液排出経路と
前記第２の薬液循環経路に接続し、前記第２の薬液循環経路に供給された前記洗浄液を排出する第２の洗浄液排出経路と、
を具備する。
【０００８】
この廃液処理装置によれば、前記第２の薬液循環経路から前記第１の薬液導入経路を介して前記廃液処理槽に薬液を供給している間に、前記第１の洗浄液供給経路を用いて前記第１の薬液循環経路に前記洗浄液を導入し、前記第１の薬液循環経路を洗浄することができる。
また、前記第１の薬液循環経路から前記第２の薬液導入経路を介して前記廃液処理槽に薬液を供給している間に、前記第２の洗浄液導入経路を用いて前記第２の薬液循環経路に前記洗浄液を導入し、前記第２の薬液循環経路を洗浄することができる。
このため、交換が必要な部分が減少し、交換の際に廃液処理装置の動作を停止させる時間が短くなり、その結果、半導体製造装置の稼働率が低下することを抑制できる。
【０００９】
本発明に係る廃液処理装置は、廃液を処理する廃液処理槽と、
下流側の端部が前記廃液処理槽に接続し、前記廃液を処理する為の薬液を前記廃液処理槽内に供給する供給管と、
前記薬液を保持する薬液タンクと、
上流側の端部が前記薬液タンクに接続する薬液取出管と、
下流側の端部が前記薬液タンクに接続する薬液戻管と、
上流側の端部が前記薬液取出管の下流側の端部に接続し、下流側の端部が前記薬液戻管の上流側の端部に接続する第１の薬液循環管と、
前記第１の薬液循環管に並列に設けられ、上流側の端部が前記薬液取出管の下流側の端部に接続し、下流側の端部が前記薬液戻管の上流側の端部に接続する第２の薬液循環管と、
上流側の端部が前記第１の薬液循環管に接続し、下流側の端部が前記供給管に接続する第１の薬液導入管と、
上流側の端部が前記第２の薬液循環管に接続し、下流側の端部が前記供給管に接続する第２の薬液導入管と、
前記第１及び第２の薬液循環管、並びに前記第１及び第２の薬液導入管を洗浄する洗浄液を保持する洗浄液タンクと、
上流側の端部が前記洗浄液タンクに接続する洗浄液取出管と、
上流側の端部が前記洗浄液取出管の下流側の端部に接続し、下流側の端部が前記第１の薬液循環管のうち前記第１の薬液導入管との接続部より上流側の部分に接続する第１の洗浄液供給管と、
上流側の端部が前記洗浄液取出管の下流側の端部に接続し、下流側の端部が前記第２の薬液循環管のうち前記第２の薬液導入管との接続部より上流側の部分に接続する第２の洗浄液供給管と、
前記第１の薬液循環管のうち前記第１の薬液導入管との接続部より下流側の部分に上流側の端部が接続し、前記第１の薬液循環管に供給された前記洗浄液を排出する第１の洗浄液排出管と
前記第２の薬液循環管のうち前記第２の薬液導入管との分岐部より下流側の部分に上流側の端部が接続し、前記第２の薬液循環管に供給された前記洗浄液を排出する第２の洗浄液排出管と、
第１の薬液循環管に設けられ、前記第１の洗浄液供給管との接続部より上流側に位置する第１のバルブと、
第２の薬液循環管に設けられ、前記第２の洗浄液供給管との接続部より上流側に位置する第２のバルブと、
第１の薬液循環管に設けられ、前記第１の洗浄液排出管との接続部より下流側に位置する第３のバルブと、
第２の薬液循環管に設けられ、前記第２の洗浄液排出管との接続部より下流側に位置する第４のバルブと、
前記第１の薬液導入管に設けられた第５のバルブと、
前記第２の薬液導入管に設けられた第６のバルブと、
前記第１の洗浄液供給管に設けられた第７のバルブと、
前記第２の洗浄液供給管に設けられた第８のバルブと、
前記第１の洗浄液排出管に設けられた第９のバルブと、
前記第２の洗浄液排出管に設けられた第１０のバルブとを具備する。
【００１０】
この廃液処理装置によれば、前記第２の薬液循環管から前記第１の薬液導入管を介して前記廃液処理槽に薬液を供給している間に、前記第１の洗浄液供給管を用いて前記第１の薬液循環管に前記洗浄液を導入することができる。これにより、前記第１の薬液循環管のうち前記第１のバルブと前記第３のバルブの間の部分、及び前記第１の薬液導入管のうち前記第５のバルブより上流側の部分それぞれに付着した析出物を除去することができる。
また、前記第１の薬液循環管から前記第２の薬液導入管を介して前記廃液処理槽に薬液を供給している間に、前記第２の洗浄液導入管を用いて前記第２の薬液循環管に前記洗浄液を導入することができる。これにより、前記第２の薬液循環管のうち前記第２のバルブと前記第４のバルブの間の部分、及び前記第２の薬液導入管のうち前記第６のバルブより上流側の部分それぞれに付着した析出物を除去することができる。
このため、交換が必要な部分は、前記第１のバルブより上流側の間の部分、前記第２のバルブとより上流側の部分、前記第３のバルブとより下流側の部分、前記第４のバルブより下流側の部分、前記第５のバルブより下流側の部分、及び前記第６のバルブより下流側の部分に限定される。このため、これらの部分を交換するために廃液処理装置の動作を停止させる時間が短くなり、その結果、半導体製造装置の稼働率が低下することを抑制できる。
【００１１】
前記供給管と前記廃液処理槽を接続する継手管と、前記継手管に取付けられ、該継手管の前記廃液処理槽側の端から前記廃液処理槽内に延伸し、先端が前記廃液処理槽の内壁と面一又は該内壁より前記廃液処理槽の内側に位置する挿入管とを具備してもよい。
この場合、前記廃液処理槽の内壁のうち前記継手間との接続部分に析出物が付着せず、代わりに前記挿入管の内壁に析出物が付着する。前記挿入管は、前記継手管を交換することにより交換できる。従って、配管詰まり対策によって廃液処理装置の動作を停止させる時間が更に短くなり、半導体製造装置の稼働率が低下することを抑制できる
【００１２】
本発明に係る他の廃液処理装置は、廃液を処理する廃液処理槽と、
前記廃液処理槽に設けられ、前記廃液を処理する為の薬液を前記廃液処理槽内に導入する第１の導入口及び第２の導入口と、
前記薬液を保持する薬液タンクと、
前記薬液タンクが保持する薬液を取り出して外部を循環させた後に前記薬液タンクに戻す第１の薬液循環管及び第２の薬液循環管と、
前記第１の薬液循環管から分岐し、前記薬液を前記第１の導入口に供給する第１の薬液導入管と、
前記第２の薬液循環管から分岐し、前記薬液を前記第２の導入口に供給する第２の薬液導入管と、
前記薬液が流れる配管を洗浄するための洗浄液を保持する洗浄液タンクと、
前記洗浄液タンクが保持する前記洗浄液を、前記第１の薬液導入管との分岐部より上流側の部分から前記第１の薬液循環管に供給する第１の洗浄液供給管と、
前記洗浄液タンクが保持する前記洗浄液を、前記第２の薬液導入管との分岐部より上流側の部分から前記第２の薬液循環管に供給する第２の洗浄液供給管と、
前記第１の薬液循環管に供給された前記洗浄液を、前記第１の薬液導入管との分岐部より下流側の部分から排出する第１の洗浄液排出管と
前記第２の薬液循環管に供給された前記洗浄液を、前記第２の薬液導入管との分岐部より下流側の部分から排出する第２の洗浄液排出管と、
第１の薬液循環管に設けられ、前記第１の洗浄液供給管との接続部より上流側に位置する第１のバルブと、
第２の薬液循環管に設けられ、前記第２の洗浄液供給管との接続部より上流側に位置する第２のバルブと、
第１の薬液循環管に設けられ、前記第１の洗浄液排出管との接続部より下流側に位置する第３のバルブと、
第２の薬液循環管に設けられ、前記第２の洗浄液排出管との接続部より下流側に位置する第４のバルブと、
前記第１の薬液導入管に設けられた第５のバルブと、
前記第２の薬液導入管に設けられた第６のバルブと、
前記第１の洗浄液供給管に設けられた第７のバルブと、
前記第２の洗浄液供給管に設けられた第８のバルブと、
前記第１の洗浄液排出管に設けられた第９のバルブと、
前記第２の洗浄液排出管に設けられた第１０のバルブとを具備する。
【００１３】
この廃液処理装置によれば、上記した廃液処理装置と同様の理由により、半導体製造装置の稼働率が低下することを抑制できる。
【００１４】
前記第１の導入口と前記第１の薬液導入管を接続する第１の継手管と、
前記第２の導入口と前記第２の薬液導入管を接続する第２の継手管と、
を具備し、
前記第１の継手管および前記第２の継手管は、それぞれ、当該継手管に取付けられ、当該継手管の前記導入口側の端から前記導入口内に延伸し、先端が前記廃液処理槽の内壁と面一又は該内壁より前記廃液処理槽の内側に位置する挿入管とを有していてもよい。
【００１５】
前記第１の継手管及び前記第２の継手管は、それぞれ第１１のバルブを有していてもよい。この場合、前記洗浄液を前記第１の薬液循環管に供給している間に前記第５のバルブを開いて前記第１の継手管の前記第１１のバルブを閉じることにより、前記第１の薬液導入管のすべてから析出物を除去することができる。同様に、前記洗浄液を前記第２の薬液循環管に供給している間に前記第６のバルブを開いて前記第２の継手管の前記第１１のバルブを閉じることにより、前記第２の薬液導入管のすべてを洗浄することができる。
【００１６】
前記第１の薬液循環管に設けられ、前記第１の薬液導入管との接続部と、前記第１の洗浄液供給管との接続部との間に位置し、又は当該接続部に位置する第１のポンプと、前記第２の薬液循環管に設けられ、前記第２の薬液導入管との接続部と、前記第２の洗浄液供給管との接続部との間に位置し、又は当該接続部に位置する第２のポンプとを具備してもよい。この場合、前記第１のポンプ一台のみで、前記薬液及び前記洗浄液の双方を前記第１の薬液導入管内に流すことができる。また、前記第２のポンプ一台のみで、前記薬液及び前記洗浄液の双方を前記第２の薬液導入管内に流すことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。図１は、本発明の第１の実施形態に係る廃液処理装置の構成を説明するための概略図である。本図に示す廃液処理装置は、半導体製造装置から排出される廃液を、薬液を用いて廃液処理槽３０で処理する装置である。廃液にフッ酸及び燐酸の少なくとも一方が含まれる場合、処理に用いられる薬液は消石灰水溶液である。また廃液が銅メッキを剥離するための剥離液である場合、薬液はＦｅＣｌ３溶液である。
【００２１】
薬液は、薬液タンク１０に保持されている。薬液タンク１０の薬液供給口１３には、継手管４０を介して配管１７が接続しており、配管１７は、薬液循環管１１，１２に分岐している。薬液循環管１１，１２は、例えば１００ｍ以上あり、下流側の端部が配管１８に接続している。配管１８は、継手管４０を介して薬液タンク１０の薬液戻口１４に接続している。薬液循環管１１は、上流側の端部近傍にバルブ５１を有しており、下流側の端部近傍にバルブ５３を有している。同様に薬液循環管１２は、上流側の端部近傍にバルブ５２を有しており、下流側の端部近傍にバルブ５４を有している。薬液供給口１３からバルブ５１，５２までの配管の長さは、それぞれ２ｍ以下であり、バルブ５３，５４から薬液戻口１４までの配管の長さは、それぞれ２ｍ以下である。
【００２２】
薬液循環管１１のうちバルブ５１，５３の間の部分からは、薬液導入管１５が分岐しており、薬液循環管１２のうちバルブ５２，５４の間の部分からは、薬液導入管１６が分岐している。薬液導入管１５，１６は、下流側の端部が配管１９ａに接続している。配管１９ａは、継手管４０を介して廃液処理槽３０の薬液導入口３１に接続している。薬液導入管１５，１６は、それぞれバルブ５５，５６を有している。バルブ５５，５６から薬液導入口３１までの長さは、それぞれ２ｍ以下である。
【００２３】
また薬液循環管１１のうち薬液導入管１５との分岐部分とバルブ５１の間の部分、詳細にはバルブ５１の直ぐ下流側の部分には、洗浄液供給管２３の下流側の端部が接続している。同様に薬液循環管１２のうち薬液導入管１６との分岐部分とバルブ５２の間の部分、詳細にはバルブ５２の直ぐ下流側の部分には、洗浄液供給管２２の下流側の端部が接続している。洗浄液供給管２２，２３は、それぞれバルブ５８，５７を有している。洗浄液供給管２２，２３の上流側の端部は、配管２１の下流側の端部に接続している。配管２１の上流側の端部は、洗浄液タンク２０の洗浄液供給口に接続している。洗浄液タンク２０には、薬液が流れる配管（例えば薬液循環管１１，１２）を洗浄するための洗浄液が保持されている。薬液タンク１０が保持している薬液が消石灰水溶液又はＦｅＣｌ３溶液である場合、洗浄液は塩酸である。上記した各管が塩化ビニール管である場合、塩酸の濃度は、例えば１％〜５％であるのが好ましい。
【００２４】
また薬液循環管１１のうち薬液導入管１５との分岐部分とバルブ５３の間の部分からは、洗浄液排出管２４が分岐している。同様に薬液循環管１２のうち薬液導入管１６との分岐部分とバルブ５４の間の部分からは、洗浄液排出管２５が分岐している。バルブ５３,５４と薬液導入管１５，１６の分岐部分までの配管の長さは、例えば３００ｍ以下である。洗浄液排出管２４，２５は、それぞれバルブ５９，６０を有している。洗浄液排出管２４，２５の下流側の端部は配管１９ｂの上流側の端部に接続している。配管１９ｂの下流側の端部は、洗浄液タンク２０の洗浄液戻口に接続している。
【００２５】
薬液循環管１１，１２には、それぞれポンプ７１，７２が取り付けられている。ポンプ７１は、薬液循環管１１と洗浄液供給管２３の接続部分又はこの接続部分より下流側に位置している。このような位置にポンプ７１を配置することにより、一台のポンプで薬液及び洗浄液の双方を薬液循環管１１の中に流すことができる。ポンプ７２も、薬液循環管１２と洗浄液供給管２２の接続部分又はこの接続部分より下流側に位置している。このため、一台のポンプで薬液及び洗浄液の双方を薬液循環管１２の中に流すことができる。
【００２６】
なお、上記したバルブ５１〜６０、及びポンプ７１，７２の動作は、制御装置１によって制御されている。
【００２７】
図２（Ａ）は、廃液処理槽３０の薬液導入口３１と配管１９ａの接続構造を説明するための断面図である。薬液導入口３１と配管１９ａは、継手管４０を介して接続している。継手管４０は、ステンレス製の外管４１の両端部にフランジ４２，４３を設け、さらに外管４１の薬液導入口３１側の端から挿入管４４を薬液導入口３１の内部に延伸させた構成を有している。挿入管４４は、外周面の上流側の端部が、外管４１のフランジ４３の内周面に取付けられている。挿入管４４の下流側の端部は、薬液導入口３１の内部に延伸し、その先端４４ａが廃液処理槽３０の内壁３０ａと面一、又は内壁３０ａより廃液処理槽３０の内側に位置している。このため、薬液からの析出物６２は、薬液導入口３１には付着しない。
【００２８】
そして図２（Ｂ）に示すように、継手管４０を薬液導入口３１から取り外すと、挿入管４４も薬液導入口３１から引き出される。そして継手管４０を交換することにより、析出物６２を除去することができる。このため、薬液導入口３１近傍で生成した析出物６２の除去に必要な時間は短い。
【００２９】
なお、薬液タンク１０の薬液供給口１３と配管１７の接続構造、及び薬液タンク１０の薬液戻口１４と配管１８の接続構造も、廃液処理槽３０の薬液導入口３１と配管１９ａの接続構造と同様である。このため、薬液供給口１３及び薬液戻口１４近傍における析出物６２の除去に必要な時間も短い。
【００３０】
図３及び図４は、図１に示した廃液処理装置の動作を説明するための図である。まず制御装置１は、図３（Ａ）に示すように、バルブ５１，５３を開き、かつポンプ７１を動作させる。これにより、薬液タンク１０に保持されている薬液は、配管１７、薬液循環管１１、及び配管１８内をこの順に流れることにより外部を循環し、その後薬液タンク１０に戻る。そして制御装置１は、必要なタイミングでバルブ５５を必要な時間だけ開く。これにより、薬液循環管１１内を流れる薬液の一部が薬液導入管１５及び配管１９ａを介して、薬液導入口３１から廃液処理槽３０内に導入される。
【００３１】
なお、図３（Ａ）に示す動作を行っている間に、配管１７、薬液循環管１１、配管１８、薬液導入管１５、及び配管１９ａの内壁に、析出物が付着していく。
【００３２】
一定時間ほど図３（Ａ）の状態で廃液処理装置を動作させた後、制御装置１は、ポンプ７１を停止させ、かつバルブ５１，５３，５５を閉じる。
次いで図３（Ｂ）に示すように、制御装置１は、バルブ５２，５４を開き、かつポンプ７２を動作させる。これにより、薬液タンク１０に保持されている薬液は、配管１７、薬液循環管１２、及び配管１８内をこの順に流れることにより外部を循環し、その後薬液タンク１０に戻る。そして制御装置１は、必要なタイミングでバルブ５６を必要な時間だけ開く。これにより、薬液循環管１２内を流れる薬液の一部が薬液導入管１６及び配管１９ａを介して、薬液導入口３１から廃液処理槽３０内に導入される。
【００３３】
また制御装置１は、ポンプ７１を動作させ、かつバルブ５７，５９を開く。これにより、洗浄液タンク２０に保持されている洗浄液が洗浄液供給管２１，２３、薬液循環管１１、洗浄液排出管２４、及び配管１９ｂ内をこの順に流れ、その後洗浄液タンク２０に戻される。これにより、薬液循環管１１のうちポンプ７１とバルブ５３の間の部分、及び薬液導入管１５のうちバルブ５５より上流側の部分それぞれに付着した析出物が、洗浄液によって除去される。ここでポンプ７１の構造によっては、薬液循環管１１のうちポンプ７１とバルブ５１の間の部分に付着した析出物も除去される。なお、上記したように、薬液循環管１１を洗浄している間においても薬液循環管１２から廃液処理槽３０に薬液が供給される為、半導体製造装置を停止させる必要はない。
【００３４】
一定時間ほど図３（Ｂ）の状態で廃液処理装置を動作させた後、制御装置１は、薬液循環管１１の洗浄が終了したと判断し、図４（Ａ）に示すようにポンプ７１を停止させ、かつバルブ５７，５９を閉じる。
【００３５】
なお、図３（Ｂ）及び図４（Ａ）に示す動作を行っている間に、配管１７、薬液循環管１２、配管１８、薬液導入管１６、及び配管１９ａの内壁に、析出物が付着していく。
【００３６】
そして、一定時間ほど図４（Ａ）の状態で廃液処理装置を動作させた後、制御装置１は、ポンプ７２を停止させ、かつバルブ５２，５４，５６を閉じる。
次いで図４（Ｂ）に示すように、制御装置１は、バルブ５１，５３を開き、かつポンプ７１を動作させる。これにより、薬液タンク１０に保持されている薬液は、配管１７、薬液循環管１１、及び配管１８内をこの順に流れ、その後薬液タンク１０に戻される。そして制御装置１は、必要なタイミングでバルブ５５を必要な時間だけ開く。これにより、薬液循環管１１内を流れる薬液の一部が薬液導入管１５及び配管１９ａを介して、薬液導入口３１から廃液処理槽３０内に導入される。
【００３７】
また制御装置１は、ポンプ７２を動作させ、かつバルブ５８，６０を開く。これにより、洗浄液タンク２０に保持されている洗浄液が配管２１，２２、薬液循環管１２、洗浄液排出管２５、及び配管１９ｂ内をこの順に流れ、その後洗浄液タンク２０に戻される。これにより、薬液循環管１２のうちポンプ７２とバルブ５４の間の部分、及び薬液導入管１６のうちバルブ５６より上流側の部分それぞれに付着した析出物が、洗浄液によって除去される。ここでポンプ７２の構造によっては、薬液循環管１２のうちポンプ７２とバルブ５２の間の部分に付着した析出物も除去される。なお、上記したように、薬液循環管１２を洗浄している間においても薬液循環管１１から廃液処理槽３０に薬液が供給される為、半導体製造装置を停止させる必要はない。
【００３８】
一定時間ほど図４（Ｂ）の状態で廃液処理装置を動作させた後、制御装置１は、薬液循環管１２の洗浄が終了したと判断し、に示すようにポンプ７２を停止させ、かつバルブ５８，６０を閉じて、図３（Ａ）の状態に戻す。
【００３９】
なお、ポンプ７１、７２と薬液供給口１３の間の部分、バルブ５３，５４と薬液戻口１４の間の部分、及びバルブ５５，５６と薬液導入口３１の間の部分は、必要なタイミングでポンプ７１，７２を停止させ、かつ全てのバルブを閉じた状態で交換される。この交換タイミングは、例えば図３（Ｂ）に示す動作と図４（Ａ）に示す動作の間、又は図４（Ｂ）に示す動作と図３（Ａ）に示す動作の間であるが、薬液循環管１１，１２の大部分は交換しなくてよい為、交換に必要な作業時間は短くて済む。なお、この交換タイミングにおいて、図２に示した継手管４０も交換される。交換された各部材（継手管４０を含む）は、専用の水槽において洗浄液で洗浄され、その後再利用される。このため、析出物による詰まりを理由として破棄される部材は無くなる。
【００４０】
以上、本発明の第１の実施形態によれば、薬液循環管１２から廃液処理槽３０に薬液を供給している間に、薬液循環管１１のうちポンプ７１とバルブ５３の間の部分（又はバルブ５１とバルブ５３の間の部分）、及び薬液導入管１５のうちバルブ５５より上流側の部分それぞれに付着した析出物が、洗浄液によって除去される。また、薬液循環管１１から廃液処理槽３０に薬液を供給している間に、薬液循環管１２のうちポンプ７２とバルブ５４の間の部分（又はバルブ５２とバルブ５４の間の部分）、及び薬液導入管１６のうちバルブ５６より上流側の部分それぞれに付着した析出物が、洗浄液によって除去される。このため、交換が必要な部分は、ポンプ７１、７２と薬液供給口１３の間の部分、バルブ５３，５４と薬液戻口１４の間の部分、及びバルブ５５，５６と薬液導入口３１の間の部分に限定される。このため、これらの部分を交換するために廃液処理装置の動作を停止させる時間が短くなる。
【００４１】
また、継手管４０に設けられた挿入管４４の下流側の端部は、薬液導入口３１の内部に延伸し、その先端４４ａが廃液処理槽３０の内壁３０ａと面一、又は内壁３０ａより廃液処理槽３０の内側に位置している。このため、薬液からの析出物６２は、挿入管４４に付着し、薬液導入口３１には付着しない。このため継手管４０を交換することにより、薬液導入口３１近傍における析出物６２を除去することができる。このため、薬液導入口３１近傍で析出した析出物６２の除去に必要な時間が短くなる。
【００４２】
この結果、廃液処理装置の動作を停止させる時間がさらに短くなる。薬液は廃液処理槽３０に常時供給される必要はない。従って、半導体製造装置の動作を停止する必要がなくなり、半導体製造装置の稼働率低下が抑制される。
また、析出物による詰まりを理由として破棄される部材は無くなる。従って、廃液処理装置のランニングコストが低くなる。
【００４３】
図５は、本発明の第２の実施形態に係る廃液処理装置の構成を説明するための概略図である。本図に示す廃液処理装置は、以下の点を除いて、第１の実施形態に係る廃液処理装置と同様の構成である。まず、薬液タンク１０には、２つの薬液供給口１３ａ，１３ｂが設けられており、かつ２つの薬液戻口１４ａ，１４ｂが設けられている。廃液処理槽３０には、２つの薬液導入口３１ａ，３１ｂが設けられている。薬液循環管１１の上流側の端部は、継手管４０ａを介して薬液供給口１３ａに接続しており、薬液循環管１１の下流側の端部は、継手管４０ｃを介して薬液戻口１４ａに接続している。薬液循環管１２の上流側の端部は、継手管４０ｂを介して薬液供給口１３ｂに接続しており、薬液循環管１１の下流側の端部は、継手管４０ｄを介して薬液戻口１４ｂに接続している。薬液導入管１５の下流側の端部は、継手管４０ｅを介して薬液導入口３１ａに接続しており、薬液導入管１６の下流側の端部は、継手管４０ｆを介して薬液導入口３１ｂに接続している。また洗浄液供給管２２，２３の上流側の端部、及び洗浄液排出管２４，２５の下流側の端部は、それぞれ洗浄液タンク２０に直接接続している。継手管４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄ，４０ｅ，４０ｆは、それぞれバルブ５１ａ，５２ａ，５３ａ，５４ａ，５５ａ，５６ａが設けられている点を除いて、第１の実施形態に示した継手管４０と同様の構成である。
以下、第１の実施形態と同様の構成については同一の符号を付して、説明を省略する。
【００４４】
図６及び図７の各図は、図５に示した廃液処理装置の動作を説明するための図である。まず制御装置１は、図６（Ａ）に示すように、バルブ５１，５１ａ，５３，５３ａを開き、かつポンプ７１を動作させる。これにより、薬液タンク１０に保持されている薬液は、薬液循環管１１内を流れることにより外部を循環し、その後薬液タンク１０に戻される。そして制御装置１は、必要なタイミングでバルブ５５，５５ａを必要な時間だけ開く。これにより、薬液循環管１１内を流れる薬液の一部が薬液導入管１５を介して、薬液導入口３１ａから廃液処理槽３０内に導入される。
なお、図６（Ａ）に示す動作を行っている間に、薬液循環管１１及び薬液導入管１５の内壁に、析出物が付着していく。
【００４５】
一定時間ほど図６（Ａ）の状態で廃液処理装置を動作させた後、制御装置１は、ポンプ７１を停止させ、かつ全てのバルブを閉じる。
そして図６（Ｂ）に示すように、バルブ５２，５２ａ，５４，５４ａを開き、かつポンプ７２を動作させる。これにより、薬液タンク１０に保持されている薬液は、薬液循環管１２内を流れ、その後薬液タンク１０に戻される。そして制御装置１は、必要なタイミングでバルブ５６，５６ａを必要な時間だけ開く。これにより、薬液循環管１２内を流れる薬液の一部が薬液導入管１６を介して、薬液導入口３１ｂから廃液処理槽３０内に導入される。
【００４６】
また制御装置１は、ポンプ７１を動作させ、かつバルブ５１，５３，５５，５７，５９を開く。これにより、洗浄液タンク２０に保持されている洗浄液が洗浄液供給管２３、薬液循環管１１、及び洗浄液排出管２４内をこの順に流れ、その後洗浄液タンク２０に戻される。これにより、薬液循環管１１、継手管４０ｃのうちバルブ５３ａより上流側の部分、薬液導入管１５、及び継手管４０ｅのうちバルブ５５ａより上流側の部分それぞれに付着した析出物が、洗浄液によって除去される。なお、上記したように、薬液循環管１１等を洗浄している間においても薬液循環管１２から廃液処理槽３０に薬液が供給される為、半導体製造装置を停止させる必要はない。
【００４７】
一定時間ほど図６（Ｂ）の状態で廃液処理装置を動作させた後、制御装置１は、薬液循環管１１等の洗浄が終了したと判断し、図７（Ａ）に示すようにポンプ７１を停止させ、かつバルブ５１，５３，５５，５７，５９を閉じる。そして、必要に応じて継手管４０ａ，４０ｃ，４０ｅを交換する。
【００４８】
なお、図６（Ｂ）及び図７（Ａ）に示す動作を行っている間に、薬液循環管１２、薬液導入管１６の内壁に、析出物が付着していく。
【００４９】
そして、一定時間ほど図７（Ａ）の状態で廃液処理装置を動作させた後、制御装置１は、ポンプ７２を停止させ、かつ全てのバルブを閉じる。
そして図７（Ｂ）に示すように、バルブ５１，５１ａ，５３，５３ａを開き、かつポンプ７１を動作させる。これにより、薬液タンク１０に保持されている薬液は、薬液循環管１１内を流れ、その後薬液タンク１０に戻される。そして制御装置１は、必要なタイミングでバルブ５５，５５ａを必要な時間だけ開く。これにより、薬液循環管１１内を流れる薬液の一部が薬液導入管１５を介して、薬液導入口３１ａから廃液処理槽３０内に導入される。
【００５０】
また制御装置１は、ポンプ７２を動作させ、かつバルブ５２，５４，５６，５８，６０を開く。これにより、洗浄液タンク２０に保持されている洗浄液が薬液循環管１２内を流れ、その後洗浄液タンク２０に戻される。これにより、薬液循環管１２、継手管４０ｄのうちバルブ５４ａより上流側の部分、薬液導入管１６、及び継手管４０ｆのうちバルブ５６ａより上流側の部分それぞれに付着した析出物が、洗浄液によって除去される。なお、上記したように、薬液循環管１２等を洗浄している間においても薬液循環管１１から廃液処理槽３０に薬液が供給される為、半導体製造装置を停止させる必要はない。
【００５１】
一定時間ほど図７（Ｂ）の状態で廃液処理装置を動作させた後、制御装置１は、薬液循環管１２等の洗浄が終了したと判断し、に示すようにポンプ７１を停止させ、かつバルブ５２，５４，５６，５８，６０を閉じて、図６（Ａ）の状態に戻す。そして、必要に応じて継手管４０ｂ，４０ｄ，４０ｆを交換する。
【００５２】
図８（Ａ）は、継手管４０ｅによる薬液導入管１５と薬液導入口３１ａの接続構造を説明するための断面図である。図８（Ａ）に示すように、継手管４０ｅは、第１の実施形態に示した継手管４０ｅにバルブ５５ａを設けた構成である。バルブ５５ａは、外管４１に設けられている。以下、第１の実施形態における継手管４０ｅと同様の構成については同一の符号を付して、説明を省略する。また、図６（Ａ）に示した動作を行い、継手管４０ｅを介して廃液処理槽３０に薬液を導入していくうちに、外管４１及び挿入管４４それぞれの内壁には、析出物６２が付着する。
【００５３】
図８（Ｂ）は、図７（Ａ）の状態、すなわち洗浄液を用いて薬液導入管１５を洗浄した後の継手管４０ｅ、薬液導入管１５、及び薬液導入口３１ａの状態を説明するための断面図である。本図に示すように、薬液導入管１５、及び継手管４０ｅの外管４１のうちバルブ５５ａより上流側の部分からは、析出物６２が除去されている。そして、継手管４０ｅを交換することにより、洗浄液で除去できなかった全ての析出物６２を除去することができる。
【００５４】
なお、継手管４０ａ〜４０ｄ，４０ｆも、継手管４０ｅと同様の構成であり、このため、継手管継手管４０ａ〜４０ｄ，４０ｆを交換することにより、洗浄液で除去できなかった全ての析出物６２を除去することができる。また、使用後の継手管４０ａ〜４０ｆは、専用の水槽において洗浄液で洗浄され、その後再利用される。
【００５５】
以上、本発明の第２の実施形態によれば、薬液循環管１２から廃液処理槽３０に薬液を供給している間に、薬液循環管１１及び薬液導入管１５それぞれに付着した析出物を洗浄液によって除去することができる。また、薬液循環管１１から廃液処理槽３０に薬液を供給している間に、薬液循環管１２及び薬液導入管１６それぞれに付着した析出物を洗浄液によって除去することができる。さらに継手管４０ａ〜４０ｆを交換することにより、洗浄液で除去できなかった全ての析出物を除去することができる。継手管４０ａ，４０ｃ，４０ｅは、薬液循環管１２から廃液処理槽３０に薬液を供給している間に交換することができ、また薬液循環管１１から廃液処理槽３０に薬液を供給している間に継手管４０ｂ，４０ｄ，４０ｆを交換することができる。従って、析出物を除去する際に、廃液処理装置の動作を停止させる必要がなくなり、その結果、半導体製造装置の稼働率低下が抑制される。
また、析出物による詰まりを理由として破棄される部材は無くなる。従って、廃液処理装置のランニングコストが低くなる。
【００５６】
図９は、本発明の第３の実施形態に係る廃液処理装置の構成を説明するための概略図である。本図に示す廃液処理装置は、半導体製造装置１００が排出する廃液を処理する装置であり、廃液を保持する廃液タンク１１０、半導体製造装置１００と廃液タンク１１０を接続する廃液排出管１０１，１０２を有している。廃液排出管１０１，１０２の上流側端部近傍には、バルブ１２１，１２２が取付けられており、廃液排出管１０１，１０２の下流側端部近傍にはバルブ１２５，１２６が取付けられている。
【００５７】
廃液排出管１０１のうちバルブ１２１，１２５相互間に位置する部分、詳細にはバルブ１２１の直ぐ下流側の部分には、洗浄液供給管１３１ａの下流側の端部が接続されており、廃液排出管１０１のうち洗浄液供給管１３１ａとの接続部分とバルブ１２５の間に位置する部分、詳細にはバルブ１２５の直ぐ上流側の部分には、洗浄液排出管１３２ａの上流側の端部が接続されている。同様に、廃液排出管１０２のうちバルブ１２２，１２６相互間に位置する部分、詳細にはバルブ１２２の直ぐ下流側の部分には、洗浄液供給管１３１ｂの下流側の端部が接続されており、廃液排出管１０２のうち洗浄液供給管１３１ｂとの接続部分とバルブ１２６の間に位置する部分、詳細にはバルブ１２６の直ぐ上流側の部分には、洗浄液排出管１３２ｂの上流側の端部が接続されている。洗浄液供給管１３１ａ，１３１ｂの上流側の端部は、配管１３１を介して洗浄液タンク１３０に接続しており、洗浄液排出管１３２ａ，１３２ｂの下流側の端部は、配管１３２を介して洗浄液タンク１３０に接続している。洗浄液タンク１３０は、廃液排出管１０１，１０２を洗浄する洗浄液を保持している。廃液が有機排水である場合、洗浄液は、アルカリ性の水溶液である。
【００５８】
また配管１３１にはポンプ１３３が取付けられている。さらに洗浄液供給管１３１ａ，１３１ｂには、それぞれバルブ１２３，１２４が設けられており、洗浄液排出管１３２ａ，１３２ｂには、それぞれバルブ１２７，１２８が設けられている。なお、各バルブ及びポンプ１３３の動作は、制御装置１０３によって制御されている。
【００５９】
図１０及び図１１の各図は、図９に示した廃液処理装置の動作を説明するための図である。まず制御装置１０３は、バルブ１２１，１２５を開き、廃液排出管１０１を介して廃液を、半導体製造装置１００から廃液タンク１１０に排出させる。このとき、廃液排出管１０１の内壁に付着物が付着していく。
【００６０】
一定時間ほど図１０（Ａ）の状態で廃液を排出させた後、図１０（Ｂ）に示すように、制御装置１は、バルブ１２２，１２６を開き、かつバルブ１２１，１２５を閉じる。次いで、制御装置１は、バルブ１２３，１２７を開き、かつポンプ１３３を動作させる。これにより、廃液は、廃液排出管１０２を介して半導体製造装置１００から廃液タンク１１０に排出される。また廃液排出管１０１のうちバルブ１２１，１２５相互間に位置する部分は洗浄液によって洗浄され、付着物が除去される。
【００６１】
一定時間ほど経過した後、図１１（Ａ）に示すように、制御装置１は、廃液排出管１０１の洗浄が終了したと判断し、バルブ１２３，１２７を閉じ、かつポンプ１３３を停止させる。そして必要に応じて、廃液排出管１０１のうちバルブ１２１より上流側の部分及びバルブ１２５より下流側の部分それぞれを交換する。この間、廃液は、廃液排出管１０２を介して半導体製造装置１００から廃液タンク１１０に排出される。
【００６２】
一定時間が経過した後、図１１（Ｂ）に示すように、制御装置１は、バルブ１２１，１２５を開き、かつバルブ１２２，１２６を閉じる。そして、制御装置１は、バルブ１２４，１２８を開き、かつポンプ１３３を動作させる。これにより、廃液は、廃液排出管１０１を介して半導体製造装置１００から廃液タンク１１０に排出される。また廃液排出管１０２のうちバルブ１２２，１２６相互間に位置する部分は洗浄液によって洗浄され、付着物が除去される。
【００６３】
一定時間ほど経過した後、制御装置１は廃液排出管１０２の洗浄が終了したと判断し、バルブ１２４，１２８を閉じ、かつポンプ１３３を停止させて、廃液処理装置を図１０（Ａ）の状態に戻す。そして、必要に応じて廃液排出管１０２のうちバルブ１２２より上流側の部分及びバルブ１２６より下流側の部分それぞれを交換する。この間、廃液は、廃液排出管１０１を介して半導体製造装置１００から廃液タンク１１０に排出される。
【００６４】
以上、本発明の第３の実施形態によれば、廃液排出管１０１が廃液を排出している間に、廃液排出管１０２のうちバルブ１２２，１２６相互間に位置する部分を洗浄して、付着物を除去することができ、かつ、廃液排出管１０２のうちバルブ１２２より上流側の部分及びバルブ１２６より下流側の部分それぞれを交換することができる。また、廃液排出管１０２が廃液を排出している間に、廃液排出管１０１のうちバルブ１２１，１２５相互間に位置する部分を洗浄して、付着物を除去することができ、かつ、廃液排出管１０１のうちバルブ１２１より上流側の部分及びバルブ１２５より下流側の部分それぞれを交換することができる。
従って、付着物を除去する際に、半導体製造装置の動作を停止させる必要がなくなり、その結果、半導体製造装置の稼働率低下が抑制される。
【００６５】
尚、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲内で種々変更して実施することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】第１の実施形態に係る廃液処理装置の構成を説明するための概略図。
【図２】（Ａ）は廃液処理槽３０の薬液導入口３１と配管１９ａの接続構造を説明するための断面図、（Ｂ）は継手管４０を薬液導入口３１から取り外した状態を示す断面図。
【図３】（Ａ），（Ｂ）は図１に示した廃液処理装置の動作を説明するための図。
【図４】（Ａ），（Ｂ）は図１に示した廃液処理装置の動作を説明するための図。
【図５】第２の実施形態に係る廃液処理装置の構成を説明するための概略図。
【図６】（Ａ），（Ｂ）は図５に示した廃液処理装置の動作を説明するための図。
【図７】（Ａ），（Ｂ）は図５に示した廃液処理装置の動作を説明するための図。
【図８】（Ａ）は継手管４０ｅによる薬液導入管１５と薬液導入口３１ａの接続構造を説明するための断面図、（Ｂ）は洗浄後の継手管４０ｅ、薬液導入管１５、及び薬液導入口３１ａの状態を説明するための断面図。
【図９】第３の実施形態に係る廃液処理装置の構成を説明するための概略図。
【図１０】（Ａ），（Ｂ）は図９に示した廃液処理装置の動作を説明するための図。
【図１１】（Ａ），（Ｂ）は図９に示した廃液処理装置の動作を説明するための図。
【図１２】従来の廃液処理装置の構成を説明するための概略図。
【符号の説明】
【００６７】
１，１０３…制御装置、１０，２２０…薬液タンク、１１，１２，２１２…薬液循環管、１３，１３ａ，１３ｂ…薬液供給口、１４，１４ａ，１４ｂ…薬液戻口、１５，１６，２１４…薬液導入管、１７，１８，１９，１９ａ，１９ｂ，２１，１３１，１３２…配管、２０，１３０…洗浄液タンク、２２，２３，１３１ａ，１３１ｂ…洗浄液供給管、２４，２５，１３２ａ，１３２ｂ…洗浄液排出管、３０，２１０…廃液処理槽、３０ａ…内壁、３１，３１ａ，３１ｂ…薬液導入口、４０、４０ａ〜４０ｆ…継手管、４１…外管、４２，４３…フランジ、４４…挿入管、４４ａ…先端、５１〜６０、５１ａ〜５６ａ，１２１〜１２８，２１５…バルブ、７１，７２，１３３，２１２ａ…ポンプ、１００…半導体製造装置、１０１，１０２…廃液排出管、１１０…廃液タンク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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