(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
0005131222.tif 000055
（式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１５のアルキル基または炭素数２〜１５のアルケニル基を示し、環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３は互いに独立して、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、トランス−１，４−シラシクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジチアン−２，５−ジイル基またはテトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基を示し、Ｘ１は水素原子を示し、Ｙ１は水素原子または炭素数１〜１５のアルキル基を示し、このアルキル基中の相隣接しない任意のメチレン基（−ＣＨ２−）は酸素原子で置換されていてもよく、ｌは１〜１０の整数を示し、（−ＣＨ２−）ｌ中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子で置換されていてもよく、ｍおよびｎは互いに独立して０または１を示す。そして、環Ａ1および環Ａ2がトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、ｌが２であり、ｍが１であり、ｎが０であり、Ｒ1およびＸ1が水素原子であるとき、Ｙ1は水素原子または炭素数２〜１５のアルキル基を示す。）で表される液晶性化合物。
【請求項２】
一般式（１）において、環Ａ１がトランス−１，４−シクロヘキシレン基、ｍおよびｎが共に０である、請求項１に記載の液晶性化合物。
【請求項３】
一般式（１）において、環Ａ１および環Ａ２が互いに独立して、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基または１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基であり、ｍが１、ｎが０である請求項１に記載の液晶性化合物。
【請求項４】
一般式（１）において、環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３が互いに独立して、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基または１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基であり、ｍおよびｎが共に１である請求項１に記載の液晶性化合物。
【請求項５】
一般式（１）
【化２】
0005131222.tif 000056
（式中、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜１５のアルキル基または炭素数２〜１５のアルケニル基を示し、環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３は互いに独立して、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、トランス−１，４−シラシクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジチアン−２，５−ジイル基またはテトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基を示し、Ｘ１は水素原子を示し、Ｙ１は水素原子または炭素数１〜１５のアルキル基を示し、このアルキル基中の相隣接しない任意のメチレン基（−ＣＨ２−）は酸素原子で置換されていてもよく、ｌは１〜１０の整数を示し、（−ＣＨ２−）ｌ中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子で置換されていてもよく、ｍおよびｎは互いに独立して０または１を示す。）で表される液晶性化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする、少なくとも２成分からなる液晶組成物。
【請求項６】
第一成分として、請求項５に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（２）、（３）および（４）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【化３】
0005131222.tif 000057
（式中、Ｒ２は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、このアルキル基中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子または−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよく、またこのアルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、Ｙ２はフッ素原子、塩素原子、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、−ＣＦ３、−ＣＦ２Ｈ、−ＣＦＨ２、−ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈまたは−ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３を示し、Ｌ１およびＬ２は互いに独立して水素原子またはフッ素原子を示し、Ｚ１およびＺ２は互いに独立して１，２−エチレン基、ビニレン基、１，４−ブチレン基、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−または単結合を示し、環Ｂはトランス−１，４−シクロへキシレン基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、または水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい１，４−フェニレン基を示し、環Ｃはトランス−１，４−シクロへキシレン基，または水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい１，４−フェニレン基を示す。）
【請求項７】
第一成分として、請求項５に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（５）および（６）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【化４】
0005131222.tif 000058
（式中、Ｒ３およびＲ４は互いに独立して炭素数１〜１０のアルキル基を示し、このアルキル基中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子またはビニレン基で置換されていてもよく、またこのアルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、Ｙ３は−ＣＮまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＮを示し、環Ｄはトランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、ピリミジン−２，５−ジイル基または１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を示し、環Ｅはトランス−１，４−シクロへキシレン基、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい１，４−フェニレン基、またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｆはトランス−１，４−シクロへキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ３は１，２−エチレン基、−ＣＯＯ−または単結合を示し、Ｌ３、Ｌ４およびＬ５は互いに独立して水素原子またはフッ素原子を示し、ａ、ｂおよびｃは互いに独立して０または１を示す。）
【請求項８】
第一成分として、請求項５に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として一般式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【化５】
0005131222.tif 000059
（式中、Ｒ５およびＲ６は互いに独立して炭素数１〜１０のアルキル基を示し、このアルキル基中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子またはビニレン基で置換されていてもよく、またこのアルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、環Ｇ、環Ｉおよび環Ｊは互いに独立してトランス−１，４−シクロへキシレン基、ピリミジン−２，５−ジイル基、または１つの水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい１，４−フェニレン基を示し、Ｚ４およびＺ５は互いに独立して１，２−エチレン基、ビニレン基、−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−または単結合を示す。）
【請求項９】
第一成分として、請求項５に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（１０）、（１１）および（１２）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【化６】
0005131222.tif 000060
（式中、Ｒ７およびＲ８は互いに独立して炭素数１〜１０のアルキル基を示し、このアルキル基中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子またはビニレン基で置換されていてもよく、またこのアルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、環Ｋおよび環Ｍは互いに独立してトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｌ６およびＬ７は互いに独立して水素原子またはフッ素原子を示すが同時に水素原子を示すことはなく、Ｚ６およびＺ７は互いに独立して−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−または単結合を示す。）
【請求項１０】
第一成分として、請求項５に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、前記一般式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有し、第三成分として、前記一般式（１０）、（１１）および（１２）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項１１】
第一成分として、請求項５に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、前記一般式（２）、（３）および（４）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有し、第三成分として、前記一般式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項１２】
第一成分として、請求項５に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、前記一般式（５）および（６）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有し、第三成分として、前記一般式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項１３】
第一成分として、請求項５に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、前記一般式（２）、（３）および（４）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有し、第三成分として、前記一般式（５）および（６）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有し、第四成分として、前記一般式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項１４】
請求項５〜１３のいずれか１項に記載の液晶組成物に加えて、さらに１種類以上の光学活性化合物を含有することを特徴とする液晶組成物。
【請求項１５】
請求項５〜１４のいずれか１項に記載の液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶性化合物および液晶組成物に関し、さらに詳しくは化合物中にアルケニル基と２，３−ジフルオロフェニル基を同時に有する新規な液晶性化合物、およびこれらを含有する液晶組成物さらにはこの液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のＴＮ型ＴＦＴ方式およびＳＴＮ方式の表示装置では、電圧を印加すると液晶分子は基板に対して垂直方向に回転する。このような液晶分子が斜めに立ち上がった状態では液晶パネルを見る角度によって光学特性が異なり、視野角が狭いという問題がある。広い視野角を実現する方式として、櫛歯型電極が片側基盤上のみに形成されていることを特徴とするイン−プレーン−スイッチング（ＩＰＳ）方式（G.Baur,Freiburger Arbeistagung Flussigkristalle,Abstract No.22(1993)、M.Oh-e等,ASIA DISPLAY '95, 577(1995)）、垂直配向を特徴とするバーチカリーアラインド（ＶＡ）方式（K.Ohmuro等, SID 97 DIGEST, 845(1997)）が注目を浴びており、実用化もされつつある。このＩＰＳ方式では液晶分子はガラス基板と同一平面内で回転するため飛躍的に視野角が広くなった。また、ＶＡ方式では、液晶分子は基板に対して垂直方向から水平方向へ回転し、１種のマルチドメイン方式で配向制御を行うことにより、広い視野角が実現した。しかし、これらの表示方式もＣＲＴと比較すればまだ問題があり、応答速度の向上、コントラストの向上、および駆動電圧の低下が望まれている。
【０００３】
ＩＰＳ方式およびＶＡ方式ではその表示特性上液晶化合物はΔεが負に大きいこと、および応答速度を向上させるために低粘性であることが必要不可欠である。また駆動方式にアクティブマトリックス駆動を利用していることから、コントラストを向上させるには電圧保持率（Ｖ．Ｈ．Ｒ）の高い化合物が要求される。負の誘電率異方性値を有する種々の化合物が知られており、特開平２−４７２５号および特表平２−５０３４４１号にはそれぞれ下記の化合物（ａ）、（ｂ）が記載されている。
【０００４】
【化６】
0005131222.tif 000002
【０００５】
（式中、Ｒ’はアルキル基もしくはアルコキシ基を示す。）
上記の化合物（ａ）および（ｂ）はいずれも２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基をその部分構造に有し、Δεが負の液晶化合物ではあるが、｜Δε｜は充分に大きなものではなく、粘度が高い。さらに他の液晶性化合物との相溶性、特に極低温下での相溶性は良好とは言い難く、これらの化合物を含有する液晶組成物は、低温下に保存すると結晶が析出したり、スメクチック相が発現するという、不安定なものである。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、従来技術の課題を克服するため、特に液晶相温度領域が広く、Δεが負に大きく、低粘性で、さらには低温での相溶性が改善されることにより、ＩＰＳ方式およびＶＡ方式の応答速度およびコントラストの向上、駆動電圧の低下に特に寄与でき、ＳＴＮ方式においてもＫ３３／Ｋ１１の値を大きくすることで急峻性が向上し、コントラスト向上に寄与できる液晶性化合物、これを含む液晶組成物および該液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため鋭意研究の結果、本発明者らは分子中にアルケニル基と２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基とを同時に有する一般式（１）で表される化合物が、Δεが負に大きいと言う特徴を有することは勿論のこと、液晶相温度領域が広く、低粘性であり、低温下での相溶性に著しく優れ、Δε／ε⊥を小さくすることができ、かつ、アルケニル基中の二重結合の位置を選択することによりＫ３３／Ｋ１１の値を大きくすることができるという、多くの特徴を併せ持つことを見いだし、本発明を完成するに至った。本願で特許請求される発明は以下のとおりである。
〔１〕  一般式（１）
【０００８】
【化７】
0005131222.tif 000003
【０００９】
（式中、Ｒ１は水素原子、フッ素原子、炭素数１〜１５のアルキル基または炭素数２〜１５のアルケニル基を示し、環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３は互いに独立して、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、トランス−１，４−シラシクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジチアン−２，５−ジイル基またはテトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基を示し、Ｘ１は水素原子またはフッ素原子を示し、Ｙ１は水素原子または炭素数１〜１５のアルキル基を示し、このアルキル基中の相隣接しない任意のメチレン基（−ＣＨ２−）は酸素原子で置換されていてもよく、ｌは１〜１０の整数を示し、（−ＣＨ２−）ｌ中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子で置換されてもよく、ｍおよびｎは互いに独立して０または１を示す。そして、環Ａ１および環Ａ２がトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、ｌが２であり、ｍが１であり、ｎが０であり、Ｒ１およびＸ１が水素原子であるとき、Ｙ１は水素原子または炭素数２〜１５のアルキル基を示す。）で表される液晶性化合物。
【００１０】
〔２〕  一般式（１）において環Ａ１がトランス−１，４−シクロヘキシレン基、ｍおよびｎが共に０である〔１〕項に記載の液晶性化合物。
〔３〕  一般式（１）において環Ａ１、および環Ａ２が互いに独立してトランス−１，４−シクロヘキシレン基、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基または１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基であり、ｍが１、ｎが０である〔１〕項に記載の液晶性化合物。
〔４〕  一般式（１）において環Ａ１、環Ａ２、および環Ａ３が互いに独立してトランス−１，４−シクロヘキシレン基、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基または１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基であり、ｍおよびｎが共に１である〔１〕項に記載の液晶性化合物。
〔５〕  一般式（１）
【００１１】
【化１】
0005131222.tif 000004
（式中、Ｒ１は水素原子、フッ素原子、炭素数１〜１５のアルキル基または炭素数２〜１５のアルケニル基を示し、環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３は互いに独立して、トランス−１，４−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキセニレン基、トランス−１，４−シラシクロヘキシレン基、１，４−フェニレン基、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、３−フルオロ−１，４−フェニレン基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジチアン−２，５−ジイル基またはテトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基を示し、Ｘ１は水素原子またはフッ素原子を示し、Ｙ１は水素原子または炭素数１〜１５のアルキル基を示し、このアルキル基中の相隣接しない任意のメチレン基（−ＣＨ２−）は酸素原子で置換されていてもよく、ｌは１〜１０の整数を示し、（−ＣＨ２−）ｌ中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子で置換されていてもよく、ｍおよびｎは互いに独立して０または１を示す。）で表される液晶性化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする、少なくとも２成分からなる液晶組成物。
〔６〕  第一成分として前記〔５〕に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（２）、（３）および（４）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【００１２】
【化８】
0005131222.tif 000005
【００１３】
（式中、Ｒ２は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、このアルキル基中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子または−ＣＨ＝ＣＨ−で置換されていてもよく、またこのアルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、Ｙ２はフッ素原子、塩素原子、−ＯＣＦ３、−ＯＣＦ２Ｈ、−ＣＦ３、−ＣＦ２Ｈ、−ＣＦＨ２、−ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈまたは−ＯＣＦ２ＣＦＨＣＦ３を示し、Ｌ１およびＬ２は互いに独立して水素原子またはフッ素原子を示し、Ｚ１およびＺ２は互いに独立して１，２−エチレン基、ビニレン基、１，４−ブチレン基、−ＣＯＯ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＯＣＦ２−または単結合を示し、環Ｂはトランス−１，４−シクロへキシレン基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、または水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい１，４−フェニレン基を示し、環Ｃはトランス−１，４−シクロへキシレン基、または水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい１，４−フェニレン基を示す。）
〔７〕  第一成分として前記〔５〕に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（５）および（６）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【００１４】
【化９】
0005131222.tif 000006
【００１５】
（式中、Ｒ３およびＲ４は互いに独立して炭素数１〜１０のアルキル基を示し、このアルキル基中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子またはビニレン基で置換されていてもよく、またこのアルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、Ｙ３は−ＣＮまたは−Ｃ≡Ｃ−ＣＮを示し、環Ｄはトランス−１，４−シクロへキシレン基、１，４−フェニレン基、ピリミジン−２，５−ジイル基または１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基を示し、環Ｅはトランス−１，４−シクロへキシレン基、水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい１，４−フェニレン基、またはピリミジン−２，５−ジイル基を示し、環Ｆはトランス−１，４−シクロへキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｚ３は１，２−エチレン基、−ＣＯＯ−または単結合を示し、Ｌ３、Ｌ４およびＬ５は互いに独立して水素原子またはフッ素原子を示し、ａ、ｂおよびｃは互いに独立して０または１を示す。）
〔８〕  第一成分として前記〔５〕に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として一般式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【００１６】
【化１０】
0005131222.tif 000007
【００１７】
（式中、Ｒ５およびＲ６は互いに独立して炭素数１〜１０のアルキル基を示し、このアルキル基中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子またはビニレン基で置換されていてもよく、またこのアルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、環Ｇ、環Ｉおよび環Ｊは互いに独立してトランス−１，４−シクロへキシレン基、ピリミジン−２，５−ジイル基、または１つの水素原子がフッ素原子で置換されていてもよい１，４−フェニレン基を示し、Ｚ４およびＺ５は互いに独立して１，２−エチレン基、ビニレン基、−ＣＯＯ−、−Ｃ≡Ｃ−または単結合を示す。）
〔９〕  第一成分として、前記〔５〕に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、一般式（１０）、（１１）および（１２）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【００１８】
【化１１】
0005131222.tif 000008
【００１９】
（式中、Ｒ７およびＲ８は互いに独立して炭素数１〜１０のアルキル基を示し、このアルキル基中の相隣接しない任意のメチレン基は酸素原子またはビニレン基で置換されていてもよく、またこのアルキル基中の任意の水素原子はフッ素原子で置換されてもよく、環Ｋおよび環Ｍは互いに独立してトランス−１，４−シクロヘキシレン基または１，４−フェニレン基を示し、Ｌ６およびＬ７は互いに独立して水素原子またはフッ素原子を示すが同時に水素原子を示すことはなく、Ｚ６およびＺ７は互いに独立して−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２Ｏ−または単結合を示す。）
〔１０〕  第一成分として、前記〔５〕に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、前記一般式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有し、第三成分として、前記一般式（１０）、（１１）および（１２）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
〔１１〕  第一成分として、前記〔５〕に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、前記一般式（２）、（３）および（４）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有し、第三成分として、前記一般式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
【００２０】
〔１２〕  第一成分として、前記〔５〕に記載の液晶性化合物を少なくとも１種類含有し、第二成分として、前記一般式（５）および（６）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有し、第三成分として、前記一般式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
〔１３〕  第一成分として、前記〔５〕に記載の液晶性化合物をすくなくとも１種類含有し、第二成分として、前記一般式（２）、（３）および（４）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有し、第三成分として、前記一般式（５）および（６）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有し、第四成分として、前記一般式（７）、（８）および（９）からなる化合物群から選択される化合物を少なくとも１種類含有することを特徴とする液晶組成物。
〔１４〕  前記〔５〕〜〔１３〕のいずれか１項に記載の液晶組成物に加えて、さらに１種類以上の光学活性化合物を含有することを特徴とする液晶組成物。
〔１５〕  前記〔５〕〜〔１４〕のいずれか１項に記載の液晶組成物を用いて構成した液晶表示素子。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の化合物、すなわち化合物中にアルケニル基および２，３−ジフルオロフェニル基を同時に有する二〜四環系の化合物はいずれも；
１）広い液晶相温度領域を示すばかりでなく、極めてネマチック相発現性が高い。
２）Δεが負に大きく、低粘性であるためＩＰＳ方式およびＶＡ方式において応答速度の著しい向上および駆動電圧の低下が見られる。
３）Ｋ３３／Ｋ１１の値を大きくでき、Δε／ε⊥を小さくできるため、ＳＴＮ方式においてＶーＴ曲線の急峻性の向上が見られる。
４）極低温下においても結晶の析出、スメクチック相の発現が見られない安定したネマチック液晶組成物を調製できる。
本発明の化合物は上記１）〜４）の特性を示し、外部環境に対して安定であり、使用温度領域の増加、低電圧駆動ならびに高速応答の実現が可能な新規な液晶組成物および液晶表示素子を提供し得る。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明の一般式（１）で表される液晶性化合物は、分子内にアルケニル基と２，３−ジフルオロフェニル基とを同時に有することを特徴とする、２環〜４環の化合物である。これらの液晶性化合物は、液晶表示素子が使用される条件下において物理的にも化学的にも極めて安定であることは勿論のこと、液晶相温度領域が広く、△εが負に大きく、低粘性であり、Ｋ３３／Ｋ１１の値を大きくでき、さらには低温下でも液晶組成物への溶解性が良好であることを特徴とする。背景技術の項にも述べたように、２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基を部分構造に有する化合物は既に特許公報等に開示されているが、アルケニル基と該構造を同時に有する化合物が上述の特徴を示すことは本発明者らが初めて見いだした事実である。本発明の化合物においては、分子を構成する要素のうち環構造、結合基または側鎖の構造を適当に選ぶことで所望の物性値を任意に調整することが可能である。よって、本発明の化合物を液晶組成物の成分として用いた場合、良好な特性詳しくは
１）広い液晶相温度領域を有するため、使用可能な温度範囲が広くなる、
２）△εが負に大きく低粘性であるためＩＰＳ方式およびＶＡ方式において応答速度の向上および駆動電圧の低下が見られる、
３）ＳＴＮ方式ではＫ３３／Ｋ１１の値を大きくでき、Δε／ε⊥を小さくできるためＶーＴ曲線の急峻性の向上が見られる、
４）極低温下においても結晶の析出、スメクチック相の発現が見られない安定したネマチック液晶組成物を調製できる、などの特性を示し、外部環境に対して安定であり、使用温度領域の拡大、低電圧駆動、高速応答ならびに高コントラストの実現が可能な新規な液晶組成物および液晶表示素子を提供し得る。
【００２３】
本発明の化合物はいずれも好適な物性を示すが、一般式（１）のＲ１、環Ａ１、環Ａ２、環Ａ３、Ｘ１、Ｙ１、ｌ、ｍおよびｎを適切に選択した化合物を使用することで、目的に応じた液晶組成物を調製できる。すなわち、△εが負に大きい化合物が必要であれば環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３のいずれかの位置に２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基を適宜配置すればよく、低温側に液晶温度領域を必要とするならば２環の化合物（ｍ＝ｎ＝０）を、高温側に液晶温度領域を必要とするなら３環もしくは４環の化合物（ｍ＋ｎ＝１またはｍ＋ｎ＝２）をそれぞれ適宜選択すればよく、大きな屈折率異方性値が必要であれば、環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３にのいずれかの位置に１，４−フェニレン基を適宜配置すればよい。また、１，４−フェニレン基上の水素原子をフッ素原子で置換したものは特に優れた低温溶解性を示す。一般式（１）で表される化合物の内で特に好ましい化合物として、下記の一般式（１−１）〜（１−７）で表される化合物を挙げることができる。
【００２４】
【化１２】
0005131222.tif 000009
【００２５】
（式中、環Ａ１、環Ａ２、環Ａ３およびＹ１は前記と同一の意味を表し、Ｒは下記構造を示す。）
【００２６】
【化１３】
0005131222.tif 000010
【００２７】
（式中、Ｒ１およびＸ１は前記と同一の意味を表す。）
一般式（１−１）〜（１−７）において、Ｒは炭素数２〜１５のアルケニル基もしくはアルケニルオキシ基であるが、その中でも特に好ましい基は、ビニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、２−プロペニルオキシ、２−ブテニルオキシ、２−ペンテニルオキシ、４−ペンテニルオキシであり、Ｙ１は水素原子、炭素数１〜１５のアルキル基もしくはアルコキシ基であるが、その中でも特に好ましい基は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシである。
【００２８】
以下、本発明の液晶組成物に関して説明する。本発明の液晶組成物は、一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種類を０．１〜９９．９重量％の割合で含有することが、優良な特性を発現せしめるために好ましい。さらに詳しくは、本発明の液晶組成物は、一般式（１）で表される化合物を少なくとも１種類含有する第一成分に加え、液晶組成物の目的に応じて、一般式（２）〜（１２）で表される化合物群から選択される化合物を混合することにより完成する。一般式（２）〜（４）で表される化合物の内で特に好ましいものとして、下記の一般式（２ー１）〜（４ー２４）で表される化合物を挙げることができる。（式中、Ｒ２およびＹ２は前記と同一の意味を示す。）
【００２９】
【化１４】
0005131222.tif 000011
【００３０】
【化１５】
0005131222.tif 000012
【００３１】
【化１６】
0005131222.tif 000013
【００３２】
【化１７】
0005131222.tif 000014
【００３３】
【化１８】
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【００３４】
【化１９】
0005131222.tif 000016
【００３５】
【化２０】
0005131222.tif 000017
【００３６】
【化２１】
0005131222.tif 000018
【００３７】
【化２２】
0005131222.tif 000019
【００３８】
一般式（２）〜（４）で表される化合物は誘電率異方性値が正の化合物であり、熱的安定性や化学的安定性が非常に優れており、電圧保持率の高い、あるいは比抵抗値の大きいと言った高信頼性が要求されるＴＦＴ（ＡＭ−ＬＣＤ）用の液晶組成物を調製する場合には特に有用な化合物である。ＴＦＴ用の液晶組成物を調製する場合、一般式（２）〜（４）で表される化合物の配合量は、液晶組成物の全重量に対して０．１〜９９．９重量％の範囲であるが、１０〜９７重量％が好ましい。より好ましくは４０〜９５重量％である。この場合、粘度調整の目的でさらに一般式（７）〜（９）で表される化合物を配合してもよい。ＳＴＮ用またはＴＮ用の液晶組成物を調製する場合にも、一般式（２）〜（４）で表される化合物を使用することができる。一般式（２）〜（４）で表される化合物は一般式（５）および（６）で表される化合物に比べ、液晶組成物のしきい値電圧を小さくする効果が少ないので、５０重量％以下の配合量が好ましい。一般式（５）および（６）で表される化合物の内で特に好ましいものとして、下記の一般式（５ー１）〜（６ー３）で表される化合物を挙げることができる。（式中、Ｒ３、Ｒ４およびＹ３は前記と同一の意味を示す。）
【００３９】
【化２３】
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【００４０】
【化２４】
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【００４１】
【化２５】
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【００４２】
【化２６】
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【００４３】
【化２７】
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【００４４】
一般式（５）および（６）で表される化合物は、誘電率異方性値が正でその値が大きく、特に液晶組成物のしきい値電圧を小さくする目的で使用される。また、屈折率異方性値の調整、透明点を高くする等のネマチックレンジを広げる目的にも使用される。さらに、ＳＴＮ用またはＴＮ用の液晶組成物のＴーＶ曲線の急峻性を改良する目的にも使用される。一般式（５）および（６）で表される化合物は、ＳＴＮ用またはＴＮ用の液晶組成物を調製する場合には特に有用な化合物である。一般式（５）および（６）で表される化合物の配合量を増加させると、液晶組成物のしきい値電圧が小さくなり、粘度が上昇する。したがって、液晶組成物の粘度が要求値を満足する限り、多量に配合することが表示素子を低電圧で駆動できるので有利である。ＳＴＮ用またはＴＮ用の液晶組成物を調製する場合には、一般式（５）〜（６）で表される化合物の配合量は、液晶組成物の全重量に対し０．１〜９９．９重量％の範囲であるが、好ましくは１０〜９７重量％、より好ましくは４０〜９５重量％である。一般式（７）〜（９）で表される化合物の内で特に好ましいものとして、下記の一般式（７ー１）〜（９ー６）で表される化合物を挙げることができる。（式中、Ｒ５およびＲ６は前記と同一の意味を示す）
【００４５】
【化２８】
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【００４６】
【化２９】
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【００４７】
【化３０】
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【００４８】
【化３１】
0005131222.tif 000028
【００４９】
一般式（７）〜（９）で表される化合物は、誘電率異方性の絶対値が小さく、中性に近い化合物である。一般式（７）で表される化合物は、主として液晶組成物の粘度調整または屈折率異方性値の調整の目的で使用される。また、一般式（８）および（９）で表される化合物は、液晶組成物の透明点を高くする等のネマチックレンジを広げる目的または屈折率異方性値の調整の目的で使用される。一般式（７）〜（９）で表される化合物の配合量を増加させると、液晶組成物のしきい値電圧が大きくなり、粘度が小さくなる。従って、液晶組成物のしきい値電圧が要求値を満足している限り、多量に配合することが望ましい。ＴＦＴ用の液晶組成物を調製する場合には、一般式（７）〜（９）で表される化合物の配合量は、液晶組成物の全重量に対し４０重量％以下であるが、より好ましくは３５重量％以下である。また、ＳＴＮ用またはＴＮ用の液晶組成物を調製する場合には、一般式（７）〜（９）で表される化合物の配合量は、液晶組成物の全重量に対し７０重量％以下、より好ましくは６０重量％以下である。一般式（１０）〜（１２）で表される化合物の内で特に好ましいものとして、下記の一般式（１０ー１）〜（１２ー３）で表される化合物を挙げることができる。（式中、Ｒ７およびＲ８は前記と同一の意味を示す）
【００５０】
【化３２】
0005131222.tif 000029
【００５１】
一般式（１０）〜（１２）で表される化合物は誘電率異方性値が負の化合物である。一般式（１０）で表される化合物は２環化合物であり、主としてしきい値電圧の調整、粘度の調整または屈折率異方性値の調整の目的で使用される。一般式（１１）で表される化合物は透明点を高くする等のネマチックレンジを広げる目的、又は屈折率異方性値の調整の目的で使用される。一般式（１２）で表される化合物はネマチックレンジを広げる目的の他、しきい値電圧を小さくする目的および屈折率異方性値を大きくする目的で使用される。一般式（１０）〜（１２）で表される化合物は主としてＮ型（誘電率異方性Δεが負）組成物に使用されるが、その配合量を増加させると、液晶組成物のしきい値電圧は小さくなるが、粘度が大きくなる。したがって、液晶組成物のしきい値電圧が要求値を満足している限り、少量の配合が望ましい。しかしながら、これらの化合物は誘電率異方性値の絶対値が５以下であるので、配合量が４０重量％より少なくなると低電圧駆動ができなくなる場合がある。ＴＦＴ用のＮ型液晶組成物を調製する場合には、一般式（１０）〜（１２）で表される化合物の配合量は、液晶組成物の全重量に対して４０重量％以上が好ましく、５０〜９５重量％が好適である。また、液晶組成物の弾性定数をコントロールし、電圧−透過率曲線（Ｖ−Ｔカーブ）を制御する目的で、一般式（１０）〜（１２）で表される化合物をＰ型液晶組成物（誘電率異方性Δεが正）に添加する場合もある。このような場合には、液晶組成物中の一般式（１０）〜（１２）で表される化合物の配合量は３０重量％以下が好ましい。また本発明の液晶組成物では、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード用液晶組成物等の特別な場合を除き、通常、液晶組成物のらせん構造を誘起して必要なねじれ角を調整し、逆ねじれ（ｒｅｖｅｒｓｅ  ｔｗｉｓｔ）を防ぐ目的で、光学活性化合物を添加する。本発明の液晶組成物に添加する光学活性化合物としては、このような目的で使用される公知のいずれの光学活性化合物を使用できるが、好ましいものとして下記の光学活性化合物を挙げることができる。
【００５２】
【化３３】
0005131222.tif 000030
【００５３】
本発明の液晶組成物は、通常、これらの光学活性化合物を添加して、ねじれのピッチ（pitch）を調整する。ねじれのピッチは、ＴＦＴ用およびＴＮ用の液晶組成物であれば、１０〜２００μｍの範囲に調整するのが好ましい。ＳＴＮ用の液晶組成物であれば、６〜２０μｍの範囲に調整するのが好ましい。また、双安定（Bistable）ＴＮモード用の場合は、１．５〜４μｍの範囲に調整するのが好ましい。また、ピッチの温度依存性を調整する目的で、２種類以上の光学活性化合物を添加してもよい。本発明の液晶組成物は、それ自体慣用な方法で調製される。一般には、種々の成分を高い温度で互いに溶解させる方法がとられている。本発明に従い使用される液晶組成物は、メロシアニン系、スチリル系、アゾ系、アゾメチン系、アゾキシ系、キノフタロン系、アントラキノン系およびテトラジン系等の二色性色素を添加して、ゲストホスト（ＧＨ）モード用の液晶組成物としても使用できる。あるいはネマチック液晶をマイクロカプセル化して作製したＮＣＡＰや、液晶中に三次元網目状高分子を作製したポリマーネットワーク液晶表示素子（ＰＮＬＣＤ）に代表されるポリマー分散型液晶表示素子（ＰＤＬＣＤ）用の液晶組成物としても使用できる。その他、複屈折制御（ＥＣＢ）モードや動的散乱（ＤＳ）モード用の液晶組成物としても使用できる。
【００５４】
化合物の製法
一般式（１）で表される化合物は通常の有機合成化学的手法を用いて容易に製造できる。例えばオーガニック・シンセシス、オーガニック・リアクションズ、新実験化学講座等の成書、雑誌に記載の既知の反応を適当に選択、組み合わせることで容易に合成できる。代表的な合成経路を以下の反応式によって説明する。下記の反応式中、ＭＳＧ１〜ＭＳＧ５はそれぞれ独立して有機化合物残基を、ＨａｌはＣｌ、ＢｒまたはＩを、環Ａはトランス−１，４−シクロヘキシレン基、または六員環上の１個以上の水素原子がハロゲン原子で置換されていてもよい１，４−フェニレン基、ピリミジン−２，５−ジイル基、ピリジン−２，５−ジイル基、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル基、テトラヒドロピラン−２，５−ジイル基、１，３−ジチアン−２，５−ジイル基またはテトラヒドロチオピラン−２，５−ジイル基を示し、Ｑ１は水素原子、基中の相隣接しない任意のメチレン基が酸素原子で置換されていてもよい炭素数１〜１３のアルキル基または炭素数２〜１３のアルケニル基を示し、ｐは０または１を示す。
【００５５】
分子中にアルケニル鎖を導入するには、以下の方法を利用できる。すなわち、テトラヒドロフラン（以下ＴＨＦと略す）、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒中でナトリウムメチラート、カリウム−ｔ−ブトキシド（ｔ−ＢｕＯＫ）、ブチルリチウム等の塩基の存在下、ウィティッヒ試薬（１２）とケトン誘導体またはアルデヒド誘導体（１１）とを反応させて、化合物（１３）を製造できる。Ｑ１が上記アルキル基もしくはアルケニル基の場合、化合物（１３）にベンゼンスルフィン酸塩またはｐ−トルエンスルフィン酸塩を作用させて異性化させることにより、トランス体の化合物（１４）を製造できる。分子中に所望の鎖長のアルケニル鎖を導入するには、以下の方法を利用できる。先と同様に、エ−テル系溶媒中で塩基の存在下に、ケトン誘導体（１５）とウィティッヒ試薬（１６）とを反応させることにより化合物（１７）を得る。次に、化合物（１７）に塩酸、硫酸等の鉱酸あるいは蟻酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸を作用させることにより、アルデヒド誘導体（１８）が得られる。さらに、先と同様にして塩基の存在下、ケトン誘導体（１９）とウィティッヒ試薬（２０）とを反応させることにより化合物（２１）を得る。次いで、トルエン／ソルミックスの混合溶媒中、パラジウム／炭素、ラネーニッケル等の金属触媒存在下水素還元を行った後、塩酸、硫酸等の鉱酸、蟻酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸を作用させることにより、アルデヒド誘導体（２２）を得ることができる。これらの操作は必要に応じて繰り返すことができる。この様にして得られたアルデヒド誘導体（１８）あるいはアルデヒド誘導体（２２）に対し、アルデヒド誘導体（１１）から化合物（１４）を得た操作を施すことにより、所望の鎖長のアルケニル鎖を有する化合物が製造できる。
【００５６】
【化３４】
0005131222.tif 000031
【００５７】
分子中に２，３−ジフルオロ−１，４−フェニレン基を導入するには、以下の反応を利用できる。ベンゼン誘導体のＭＳＧ４に対して４位の位置に導入する場合；ＴＨＦ、ジエチルエーテル等のエーテル系溶媒中、ジフルオロベンゼン誘導体（３１）にｎ−ブチルリチウムまたはｓｅｃ−ブチルリチウム、次いで塩化亜鉛を順次作用させ、さらに、パラジウム（０）の金属触媒存在下２，３−ジフルオロ−１−ブロモベンゼンとのカップリング反応を行うことにより化合物（３２）を製造できる。４位にＭＳＧ５を有するシクロヘキサノン誘導体のケトン位置に導入する場合；シクロヘキサノン誘導体（３３）にグリニャール試薬（３４）を作用させ、グリニャール反応を行い、酸触媒存在下に脱水した後、さらに水素還元することにより、化合物（３５）を製造することができる。
【００５８】
【化３５】
0005131222.tif 000032
【００５９】
また、環Ａ１、環Ａ２および環Ａ３がシラシクロヘキサン環である一般式（１）の化合物は特開平７−７０１４８号、特開平７−１１２９９０号および特開平７−１４９７７０号に開示された方法、すなわち、対応する有機金属試薬とシラシクロヘキサン化合物とのカップリング反応による方法、あるいは対応するシラン部位とハロゲン部位を併せ持つ化合物に金属を作用させることにより分子内でケイ素炭素結合形成反応を行う方法、等により製造できる。上記の反応を適宜選択することにより本願記載の化合物（１）を製造することができる。
【実施例】
【００６０】
以下、実施例により本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら制限されるものではない。なお、化合物の構造は核磁気共鳴スペクトル、質量スペクトル（以下、ＭＳと略す。）、等で確認した。実施例中、ＭＳにおいてＭ＋は分子イオンピークを表す。Ｃは結晶相を、ＳＡはスメクチックＡ相を、ＳＢはスメクチックＢ相を、Ｎはネマチック相を、Ｉｓｏは等方性液体相を示し、（  ）内はモノトロピックの液晶相を示す。相転移温度の単位は全て℃である。
【００６１】
実施例１
“２，  ３−ジフルオロ−１−エトキシ−４−（トランス−４−（３−ブテニル）シクロヘキシル）ベンゼン（一般式（１）においてＲ１、Ｘ１が水素原子、環Ａ１がトランス−１，  ４−シクロヘキシレン基、  Ｙ１がエトキシ基、ｌが２、ｍ，ｎが０である化合物（Ｎｏ．８））の製造”
第１段
窒素気流下、１−エトキシ−２，３−ジフルオロベンゼン（１４１ミリモル）をＴＨＦ２００ミリリットルに溶解し、−７０℃まで冷却した。同温度を保ちながら、ｓｅｃ−ブチルリチウム（１．３Ｍ，シクロヘキサン溶液）１３０ミリリットルを滴下し、同温度で１時間攪拌した。１，４−シクロヘキサンジオンモノエチレンアセタール（１２８ミリモル）をＴＨＦ２００ミリリットルに溶解した溶液を、同温度を保ちながら滴下し、さらに同温度で１時間攪拌した。反応温度を徐々に室温まで昇温した後、室温で２時間攪拌した。水５００ミリリットル中に反応混合物を徐々に加えることにより反応を終了させた。水層をトルエン５００ミリリットルで抽出し、有機相を水５００ミリリットルで３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、残査をトルエン３００ミリリットルに溶解し、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物１．５グラムを加え、１時間加熱還流した。有機層を水３００ミリリットルで３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／トルエン＝３／７）に付し、減圧下で溶媒を留去した。残査をトルエン／エタノール＝１／１の混合溶媒２００ミリリットルに溶解し、５ｗｔ％−パラジウム／炭素触媒４．０グラムを加え、水素圧１〜２ｋｇ／ｃｍ２条件下、室温で６時間攪拌した。触媒を濾別後、濾液から減圧下で溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／トルエン＝３／７）に付し、減圧下で溶媒を留去して、粗製の４−（２，３−ジフルオロ−４−エトキシフェニル）シクロヘキサノンモノエチレンアセタールを得た。
【００６２】
第２段
第１段の反応で得た粗製の４−（２，３−ジフルオロ−４−エトキシフェニル）シクロヘキサノンモノエチレンアセタール（５０．３ミリモル）をトルエン２００ミリリットルに溶解し、８７％−ギ酸（５０３ミリモル）を加え４時間加熱還流した。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１００ミリリットルで２回、水１００ミリリットルで３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、粗製の４−（２，３−ジフルオロ−４−エトキシフェニル）シクロヘキサノン（５０．３ミリモル）を得た。
【００６３】
第３段
２−（１，３−ジオキサン−２−イル）エチルトリフェニルホスホニウムブロミド（６０．４ミリモル）とＴＨＦ３０ミリリットルの混合物を窒素気流下冷媒にて−３０℃に冷却した。この混合物にｔ−ＢｕＯＫ（６０．４ミリモル）を加え１時間撹拌した。この混合物に粗製の４−（２，３−ジフルオロ−４−エトキシフェニル）シクロヘキサノン（５０．３ミリモル）のＴＨＦ１００リットル溶液を−３０℃以下を保ちながら滴下した。滴下後、反応温度を徐々に室温まで昇温し、さらに２時間撹拌した。反応混合物をセライト濾過し、減圧下で溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／トルエン＝３／７）に付し、減圧下で溶媒を留去し、ヘプタンから再結晶することにより２−（２−（４−（２，３−ジフルオロ−４−エトキシフェニル）シクロヘキシリデン）エチル）−１，３−ジオキサン（３６．９ミリモル）を得た。
【００６４】
第４段
第３段の反応で得た２−（２−（４−（２，３−ジフルオロ−４−エトキシフェニル）シクロヘキシリデン）エチル）−１，３−ジオキサン（３６．９ミリモル）トルエン／エタノール＝１／１の混合溶媒１００ミリリットルに溶解し、５ｗｔ％−パラジウム／炭素触媒４．０グラムを加え水素圧１〜２ｋｇ／ｃｍ２条件下、室温で７時間攪拌した。触媒を濾別後、減圧下で溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／トルエン＝３／７）に付し、減圧下で溶媒を留去し、エタノールから再結晶することにより２−（２−（トランス−４−（２，３−ジフルオロ−４−エトキシフェニル）シクロヘキシル）エチル）−１，３−ジオキサン（３６．９ミリモル）を得た。
【００６５】
第５段
第４段の反応で得た２−（２−（トランス−４−（２，３−ジフルオロ−４−エトキシフェニル）シクロヘキシル）エチル）−１，３−ジオキサン（１９．８ミリモル）をトルエン１００ミリリットルに溶解し、８７％−ギ酸（１９８ミリモル）を加え４時間加熱還流した。飽和炭酸水素ナトリウム水溶液５０ミリリットルで２回、水５０ミリリットルで３回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒を留去し、粗製の３−（トランス−４−（２，３−ジフルオロ−４−エトキシフェニル）シクロヘキシル）プロパナール（１９．８ミリモル）得た。
【００６６】
第６段
メチルトリフェニルホスホニウムブロミド（２３．８ミリモル）とＴＨＦ５０ミリリットルの混合物を窒素気流下、冷媒にて−３０℃に冷却した。この混合物にｔ−ＢｕＯＫ（２３．８ミリモル）を加え１時間撹拌した。この混合物に粗製の３−（トランス−４−（２，３−ジフルオロ−４−エトキシフェニル）シクロヘキシル）プロパナール（１９．８ミリモル）のＴＨＦ５０リットル溶液を−３０℃以下を保ちながら滴下した。滴下後、反応温度を徐々に室温まで昇温し、さらに２時間撹拌した。反応混合物をセライト濾過し、減圧下で溶媒を留去し、残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒：酢酸エチル／ヘプタン＝１／１）に付し、減圧下で溶媒を留去し、エタノールから再結晶することにより標題化合物（９．５１ミリモル）を得た。各種スペクトルはこのものの構造をよく支持した。
ＭＳ：ｍ／ｅ＝２９４（Ｍ＋）．
相転移温度：Ｃ  ３９．４  Ｉｓｏ
実施例１の方法に準じ次の化合物が製造できる。
【００６７】
【化３６】
0005131222.tif 000033
【００６８】
【化３７】
0005131222.tif 000034
【００６９】
【化３８】
0005131222.tif 000035
【００７０】
【化３９】
0005131222.tif 000036
【００７１】
【化４０】
0005131222.tif 000037
【００７２】
【化４１】
0005131222.tif 000038
【００７３】
【化４２】
0005131222.tif 000039
【００７４】
【化４３】
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【００７５】
【化４４】
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【００７６】
【化４５】
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【００７７】
【化４６】
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【００７８】
【化４７】
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【００７９】
【化４８】
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【００８０】
【化４９】
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【００８１】
【化５０】
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【００８２】
【化５１】
0005131222.tif 000048
【００８３】
【化５２】
0005131222.tif 000049
【００８４】
【化５３】
0005131222.tif 000050
【００８５】
【化５４】
0005131222.tif 000051
【００８６】
【化５５】
0005131222.tif 000052
【００８７】
【化５６】
0005131222.tif 000053
【００８８】
この様に調製される本発明の液晶性化合物を含有するネマチック液晶組成物として、下記の組成例を示すことができる。これらの組成例において化合物の表記法は表１に示した定義に従い、組成は重量％で表示した。粘度（η）の測定は２０．０℃で行い、屈折率異方性（Δｎ）、誘電率異方性（Δε）、しきい値電圧（Ｖｔｈ）およびねじれピッチ（Ｐ）の測定は、各々２５．０℃で行った。また、下記のいずれの組成物も、−２０℃のフリーザー中に４０日間放置してもスメクチック相の発現も結晶の析出も見られなかった。
【００８９】
【表１】
0005131222.tif 000054
【００９０】
実施例２（組成例１）
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．  ６）    １５．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                １２．９％
３−ＨＥＢ−Ｏ４                                ２０．７％
４−ＨＥＢ−Ｏ２                                １５．５％
５−ＨＥＢ−Ｏ１                                １５．５％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                １０．４％
ＴＮＩ＝６０．０（℃）
η＝２０．０（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０８５
Δε＝−２．０
実施例３（組成例２）
Ｖ２−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．  ８）  １５．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                １２．９％
３−ＨＥＢ−Ｏ４                                ２０．７％
４−ＨＥＢ−Ｏ２                                １５．５％
５−ＨＥＢ−Ｏ１                                １５．５％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                １０．４％
ＴＮＩ＝６４．０（℃）
η＝２０．１（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０８６
Δε＝−２．１
【００９１】
実施例４（組成例３）
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ３  （Ｎｏ．１１）    １５．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                １２．９％
３−ＨＥＢ−Ｏ４                                ２０．７％
４−ＨＥＢ−Ｏ２                                １５．５％
５−ＨＥＢ−Ｏ１                                １５．５％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                １０．４％
ＴＮＩ＝５８．６（℃）
η＝２０．１（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０８２
Δε＝−２．０
実施例５（組成例４）
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１  （Ｎｏ．３１）  １５．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                １２．９％
３−ＨＥＢ−Ｏ４                                ２０．７％
４−ＨＥＢ−Ｏ２                                １５．５％
５−ＨＥＢ−Ｏ１                                １５．５％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                １０．４％
ＴＮＩ＝８２．１（℃）
η＝２２．４（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０９０
Δε＝−２．１
【００９２】
実施例６（組成例５）
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１（Ｎｏ．３３）  １５．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                １２．９％
３−ＨＥＢ−Ｏ４                                ２０．７％
４−ＨＥＢ−Ｏ２                                １５．５％
５−ＨＥＢ−Ｏ１                                １５．５％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                １０．４％
ＴＮＩ＝８３．３（℃）
η＝２２．０（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０８９
Δε＝−２．０
実施例７（組成例６）
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．３６）  １５．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                １２．９％
３−ＨＥＢ−Ｏ４                                ２０．７％
４−ＨＥＢ−Ｏ２                                １５．５％
５−ＨＥＢ−Ｏ１                                １５．５％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                １０．４％
ＴＮＩ＝８４．７（℃）
η＝２１．７（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０９２
Δε＝−２．０
【００９３】
実施例８（組成例７）
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（Ｎｏ．３８）  １５．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                １２．９％
３−ＨＥＢ−Ｏ４                                ２０．７％
４−ＨＥＢ−Ｏ２                                １５．５％
５−ＨＥＢ−Ｏ１                                １５．５％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                １０．４％
ＴＮＩ＝８７．１（℃）
η＝２１．４（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０９２
Δε＝−１．７
実施例９（組成例８）
ＶＦＦ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（Ｎｏ．３０１）１５．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                １２．９％
３−ＨＥＢ−Ｏ４                                ２０．７％
４−ＨＥＢ−Ｏ２                                １５．５％
５−ＨＥＢ−Ｏ１                                １５．５％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                １０．４％
ＴＮＩ＝６２．０（℃）
η＝２１．３（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０８４
Δε＝−１．９
【００９４】
実施例１０（組成例９）
Ｖ２−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．  ８）  １４．０％
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１（Ｎｏ．３３）  １４．０％
４−ＨＥＢ−Ｏ２                                ２０．０％
５−ＨＥＢ−Ｏ１                                ２０．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                １８．０％
５−ＨＥＢ−Ｏ２                                １４．０％
ＴＮＩ＝７９．７（℃）
η＝２２．７（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０９７
Δε＝−２．５
実施例１１（組成例１０）
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ３  （Ｎｏ．１１）      ８．０％
Ｖ２−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．  ８）    ８．０％
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（Ｎｏ．３８）    ８．０％
３−ＨＨ−２                                      ５．０％
３−ＨＨ−４                                      ６．０％
３−ＨＨ−Ｏ１                                    ４．０％
３−ＨＨ−Ｏ３                                    ５．０％
５−ＨＨ−Ｏ１                                    ４．０％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    １２．０％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    １１．０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                  １４．０％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                  １５．０％
ＴＮＩ＝７１．７（℃）
Δｎ＝０．０７９
Δε＝−４．４
【００９５】
実施例１２（組成例１１）
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１  （Ｎｏ．３１）    ４．０％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．３６）    ４．０％
３−ＨＨ−４                                      ５．０％
３−ＨＨ−５                                      ５．０％
３−ＨＨ−Ｏ１                                    ６．０％
３−ＨＨ−Ｏ３                                    ６．０％
３−ＨＢ−Ｏ１                                    ５．０％
３−ＨＢ−Ｏ２                                    ５．０％
３−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    １０．０％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    １０．０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                  １２．０％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                  １３．０％
３−ＨＨＥＨ−３                                  ５．０％
３−ＨＨＥＨ−５                                  ５．０％
４−ＨＨＥＨ−３                                  ５．０％
ＴＮＩ＝８９．１（℃）
Δｎ＝０．０７９
Δε＝−３．３
実施例１３（組成例１２）
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１  （Ｎｏ．３１）    ４．０％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    １２．０％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４                    １０．０％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４                    １０．０％
２−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ−３                    ２５．０％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ−５                    １３．０％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ−５                    １４．０％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ−７                    １２．０％
ＴＮＩ＝７３．９（℃）
Δｎ＝０．１９４
Δε＝−３．５
【００９６】
実施例１４（組成例１３）
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．６）        ６．０％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    １０．０％
５−ＢＢ−５                                      ９．０％
５−ＢＢ−Ｏ６                                    ９．０％
５−ＢＢ−Ｏ８                                    ８．０％
３−ＢＥＢ−５                                    ６．０％
５−ＢＥＢ−５                                    ３．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                ２０．０％
５−ＢＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−７                      ９．０％
３−Ｈ２ＢＢ（２Ｆ）−５                        ２０．０％
ＴＮＩ＝７１．６（℃）
Δｎ＝０．１４６
Δε＝−３．３
実施例１５（組成例１４）
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ３  （Ｎｏ．１１）      ５．０％
Ｖ２−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．  ８）    ５．０％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．３６）    ５．０％
３−ＨＢ−Ｏ２                                    ６．０％
３−ＨＥＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    ９．０％
４−ＨＥＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    ９．０％
５−ＨＥＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    ９．０％
２−ＢＢ２Ｂ−Ｏ２                                ６．０％
３−ＢＢ２Ｂ−Ｏ２                                ６．０％
５−ＢＢ２Ｂ−Ｏ１                                ６．０％
５−ＢＢ２Ｂ−Ｏ２                                ６．０％
１−Ｂ２ＢＢ（２Ｆ）−５                          ７．０％
３−Ｂ２ＢＢ（２Ｆ）−５                          ７．０％
５−Ｂ（Ｆ）ＢＢ−Ｏ２                            ７．０％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ−３                      ７．０％
ＴＮＩ＝８１．６（℃）
η＝２９．０（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１６２
Δε＝−２．７
【００９７】
実施例１６（組成例１５）
Ｖ２−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．  ８）    ９．０％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．３６）    ９．０％
３−ＨＢ−Ｏ２                                    ９．０％
２−ＢＴＢ−Ｏ１                                  ５．０％
１−ＢＴＢ−Ｏ２                                  ５．０％
３−ＢＴＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                  １３．０％
５−ＢＴＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                  １３．０％
３−Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）ＴＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４      ４．０％
５−Ｂ（２Ｆ，３Ｆ）ＴＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ４      ４．０％
３−ＨＢＴＢ−Ｏ１                                ５．０％
３−ＨＢＴＢ−Ｏ２                                ５．０％
３−ＨＢＴＢ−Ｏ３                                ５．０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    ６．０％
５−ＨＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    ５．０％
５−ＢＰｒ（Ｆ）−Ｏ２                            ３．０％
ＴＮＩ＝９５．０（℃）
η＝３０．２（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．２２３
実施例１７（組成例１６）
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ３  （Ｎｏ．１１）    １０．０％
Ｖ２−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．  ８）    ６．０％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１  （Ｎｏ．３１）    ５．０％
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１（Ｎｏ．３３）    ６．０％
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（Ｎｏ．３８）    ６．０％
３−ＨＢ−Ｏ２                                    ４．０％
５−ＨＢ−３                                      ８．０％
５−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    １０．０％
５−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                      ８．０％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                    ４．０％
５−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−１Ｏ１                  ４．０％
３−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−１                      ５．０％
３−ＨＢＢ−２                                    ６．０％
３−ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）Ｂ−３                      ８．０％
５−Ｂ２ＢＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２                １０．０％
ＴＮＩ＝７２．３（℃）
Δｎ＝０．１２８
Δε＝−４．２
【００９８】
実施例１８（組成例１７）
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．  ６）      ９．０％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．３６）    ３．０％
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１（Ｎｏ．３３）    ３．０％
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（Ｎｏ．３８）    ７．０％
３−ＨＢ−Ｏ２                                  ２０．０％
１Ｏ１−ＨＨ−３                                  ６．０％
１Ｏ１−ＨＨ−５                                  ５．０％
３−ＨＨ−ＥＭｅ                                １２．０％
５−ＨＥＢ−Ｏ１                                  ８．０％
３−ＨＨＢ−１                                    ６．０％
３−ＨＨＢ−３                                    ６．０％
３−ＨＥＢ（２ＣＮ，３ＣＮ）−Ｏ５                ４．０％
４−ＨＥＢ（２ＣＮ，３ＣＮ）−Ｏ５                ３．０％
５−ＨＥＢ（２ＣＮ，３ＣＮ）−Ｏ５                ２．０％
２−ＨＢＥＢ（２ＣＮ，３ＣＮ）−Ｏ２              ２．０％
４−ＨＢＥＢ（２ＣＮ，３ＣＮ）−Ｏ４              ４．０％
ＴＮＩ＝７５．８（℃）
η＝３３．２（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０８７
Δε＝−６．３
実施例１９（組成例１８）
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．  ６）      ５．０％
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（Ｎｏ．３８）    ３．０％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ                      ５．０％
３−ＨＢ−Ｃ                                    ２０．０％
Ｖ２−ＨＢ−Ｃ                                    ６．０％
２−ＢＴＢ−１                                  １０．０％
１Ｏ１−ＨＨ−３                                  ３．０％
３−ＨＨ−４                                    １１．０％
３−ＨＨＢ−１                                  １１．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２                                ４．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−３                                ４．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−４                                ４．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−２                            ６．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＴＢ−３                            ５．０％
３−ＨＨＢ−Ｃ                                    ３．０％
ＴＮＩ＝８９．０（℃）
η＝１７．３（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１５４
Δε＝６．７
Ｖｔｈ＝２．１９（Ｖ）
上記の組成物１００重量部に光学活性化合物ＣＭ３３を０．８重量部添加して得た組成物のピッチは、Ｐ＝１１．３μｍであった。
【００９９】
実施例２０（組成例１９）
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１  （Ｎｏ．３１）    ３．０％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．３６）    ３．０％
２Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ                          ５．０％
３Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ                        １２．０％
５Ｏ１−ＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ                          ４．０％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ                    １０．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ４                                  ４．０％
３−ＨＨ−ＥＭｅ                                  ６．０％
３−ＨＢ−Ｏ２                                  １８．０％
７−ＨＥＢ−Ｆ                                    ２．０％
３−ＨＨＥＢ−Ｆ                                  ２．０％
５−ＨＨＥＢ−Ｆ                                  ２．０％
３−ＨＢＥＢ−Ｆ                                  ４．０％
２Ｏ１−ＨＢＥＢ（Ｆ）−Ｃ                        ２．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＥＢ（Ｆ）−Ｃ                      ２．０％
３−ＨＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ                        ２．０％
３−ＨＨＢ−Ｆ                                    ４．０％
３−ＨＨＢ−Ｏ１                                  ４．０％
３−ＨＨＢ−３                                    ３．０％
３−ＨＥＢＥＢ−Ｆ                                ２．０％
３−ＨＥＢＥＢ−１                                ２．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｃ                              ４．０％
ＴＮＩ＝７６．４（℃）
η＝３８．０（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１１７
Δε＝２３．９
Ｖｔｈ＝１．１２（Ｖ）
【０１００】
実施例２１（組成例２０）
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．  ６）      ５．０％
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ３  （Ｎｏ．１１）      ５．０％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１  （Ｎｏ．３１）    ４．０％
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１（Ｎｏ．３３）    ４．０％
１Ｖ２−ＢＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｃ                      ６．０％
３−ＨＢ−Ｃ                                    １８．０％
２−ＢＴＢ−１                                  １０．０％
５−ＨＨ−ＶＦＦ                                ２０．０％
１−ＢＨＨ−ＶＦＦ                                ８．０％
１−ＢＨＨ−２ＶＦＦ                            １１．０％
３−Ｈ２ＢＴＢ−２                                ５．０％
３−ＨＨＢ−１                                    ４．０％
ＴＮＩ＝７１．８（℃）
η＝１６．８（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１２３
Δε＝５．３
Ｖｔｈ＝２．５１（Ｖ）
実施例２２（組成例２１）
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（Ｎｏ．３８）  １０．０％
５−ＨＢ−Ｆ                                    １２．０％
６−ＨＢ−Ｆ                                      ９．０％
７−ＨＢ−Ｆ                                      ７．０％
２−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                              ７．０％
３−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                              ７．０％
４−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                              ７．０％
５−ＨＨＢ−ＯＣＦ３                              ５．０％
３−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３                            ４．０％
５−ＨＨ２Ｂ−ＯＣＦ３                            ４．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ３                    ５．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                            １０．０％
３−ＨＨ２Ｂ（Ｆ）−Ｆ                            ３．０％
３−ＨＢ（Ｆ）ＢＨ−３                            ３．０％
５−ＨＢＢＨ−３                                  ３．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−ＯＣＦ２Ｈ                  ４．０％
ＴＮＩ＝９２．１（℃）
η＝１５．８（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０９１
Δε＝３．３
Ｖｔｈ＝２．７３（Ｖ）
【０１０１】
実施例２２（組成例２１）
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．３６）    ５．０％
７−ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                            ５．０％
３−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      １２．０％
４−Ｈ２ＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        ６．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        １０．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        １０．０％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                      １０．０％
４−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        ３．０％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        ３．０％
２−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        ３．０％
３−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        ５．０％
５−ＨＨＥＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        ３．０％
３−ＨＧＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        １５．０％
３−ＨＢＣＦ２ＯＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                  ４．０％
３−ＨＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        ６．０％
ＴＮＩ＝８０．１（℃）
η＝３３．６（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．０８７
Δε＝１２．８
Ｖｔｈ＝１．５１（Ｖ）
上記の組成物１００重量部に光学活性化合物ＣＮを０．３重量部添加して得た組成物のピッチは、Ｐ＝７７．０μｍであった。
【０１０２】
実施例２３（組成例２２）
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１  （Ｎｏ．３１）    ５．０％
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１（Ｎｏ．３３）    ５．０％
２−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              ２．０％
３−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              ２．０％
５−ＨＨＢ（Ｆ）−Ｆ                              ２．０％
２−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                              ６．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ）−Ｆ                              ６．０％
２−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ                            ９．０％
３−Ｈ２ＢＢ（Ｆ）−Ｆ                            ９．０％
３−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        ２５．０％
５−ＨＢＢ（Ｆ，Ｆ）−Ｆ                        １９．０％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−４                              ５．０％
１Ｏ１−ＨＢＢＨ−５                              ５．０％
ＴＮＩ＝１０１．０（℃）
η＝３５．８（ｍＰａ・ｓ）
Δｎ＝０．１３４
Δε＝６．１
Ｖｔｈ＝２．１７（Ｖ）
上記の組成物１００重量部に光学活性化合物ＣＭ４３Ｌを０．２重量部を添加して得た組成物のピッチは、Ｐ＝７７．７μｍであった。
【０１０３】
実施例２４（組成例２３）
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ３  （Ｎｏ．１１）    １５．０％
Ｖ２−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．  ８）  １５．０％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１  （Ｎｏ．３１）  １０．０％
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１（Ｎｏ．３３）  １０．０％
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（Ｎｏ．３８）  １０．０％
３−ＨＨ−ＥＭｅ                                ２５．０％
５−ＨＨ−ＥＭｅ                                １５．０％
実施例２５（組成例２４）
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ３  （Ｎｏ．１１）    １３．０％
Ｖ２−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．  ８）  １３．０％
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１（Ｎｏ．３３）  １０．０％
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２（Ｎｏ．３８）  １０．０％
３−ＨＨ−ＥＭｅ                                ２０．０％
５−ＨＨ−ＥＭｅ                                １０．０％
３−ＨＨ−４                                    １０．０％
３−ＨＢ−Ｏ２                                    ５．０％
３−ＨＨＢ−１                                    ９．０％
【０１０４】
実施例２６（組成例２５）
Ｖ−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ３  （Ｎｏ．１１）    １２．０％
Ｖ２−ＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ２  （Ｎｏ．  ８）  １２．０％
Ｖ−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１  （Ｎｏ．３１）    ８．０％
Ｖ２−ＨＨＢ（２Ｆ，３Ｆ）−Ｏ１（Ｎｏ．３３）    ８．０％
３−ＨＨ−ＥＭｅ                                １２．０％
５−ＨＨ−ＥＭｅ                                  ５．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ２                                  ６．０％
３−ＨＥＢ−Ｏ４                                  ８．０％
４−ＨＥＢ−Ｏ２                                  ６．０％
５−ＨＥＢ−Ｏ１                                  ６．０％
５−ＨＥＢ−Ｏ２                                  ４．０％
３−ＨＨＢ−１                                  １３．０％