(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
描画装置用のマスクデータについて、表示手段にて描画装置用のマスクデータを構成する描画装置用のパターンデータを図形表示させながら、前記描画装置用のパターンデータの中の、目的とする描画装置用のパターンデータを強調表示して、目視確認するための確認装置であって、描画装置用のマスクデータを複数有する構造のＪＯＢデータと、これらを構成する各パターンデータに対応したキャッシュファイルとを、記憶蓄積する記憶手段と、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータに対応するキャッシュファイルを検索し、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータ内の四角領域パターンを抽出するパターンデータ検索手段と、前記四角形領域パターンに対して、強調処理を施し対応する強調処理パターンデータを作成する強調処理部と、強調処理パターンデータを受けとり、表示するための表示パターンデータを作成する図形表示制御手段と、図形表示を行なう表示手段とを備えており、前記強調処理部は、処理対象のパターンデータについて、表示の際、その各図形が所定の表示属性で塗りつぶされた状態のハッチング表示となるための処理を行なうものであることを特徴とする描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置。
【請求項２】
請求項１に記載の描画装置用のパターンデータの確認装置であって、領域パターンを記憶手段から抽出するパターンデータ検索手段は、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータの全の図形を含む、前記描画装置用のパターンデータのデータサイズ以下のサイズの四角形領域パターンを抽出するものであることを特徴とする描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置。
【請求項３】
請求項１ないし２のいずれか１項に記載の描画装置用のパターンデータの確認装置であって、パターンデータ検索手段は、表示画面上に各描画装置用のパターンデータの名前を配列した設定画面にて、パターンデータの名前を、マウスを用いたダブルクリックにより指定して、強調する描画装置用のパターンデータを指定するものであることを特徴とする描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置。
【請求項４】
請求項３に記載の描画装置用のパターンデータの確認装置であって、パターンデータ検索手段は、表示する描画装置用のパターンデータを選別指定する表示選別部を有するものであることを特徴とする描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の描画装置用のパターンデータの確認装置であって、前記強調処理部は、処理対象のパターンデータについて、ビットマップ化し、ビットに対応する表示手段のピクセル毎に、所定の表示属性を付与するものであることを特徴とする描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置に関し、特に、描画装置用のマスクデータについて、表示手段にて描画装置用のマスクデータを構成する描画装置用のパターンデータを図形表示させながら、前記描画装置用のパターンデータの中の、目的とする描画装置用のパターンデータを強調表示して、目視確認するための確認装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、電子機器の高機能化と軽薄短小の傾向から、ＡＳＩＣに代表される種々のＬＳｌには、ますます高集積化、高機能化が求められるようになってきた。
上記ＡＳＩＣ等のＬＳＩは、機能、論理設計、回路設計、レイアウト設計等を経て、フォトマスクパタン作製用の図形データを作製し、これを用いてフォトマスクを作製した後、フォトマスクのパタンをウエハ上に縮小投影露光等により転写して、半導体素子作製のプロセスを行うという数々の工程を経て作製されるものである。
【０００３】
このような中、ＬＳＩ産業界では、一般的に、ＬＳＩ設計工程及びフォトマスク製造工程における、ＬＳＩレイアウトデータのファイルフォーマットとし、ストリームフォーマット（Ｓｔｒｅａｍ  Ｆｏｒｍａｔ）を使用しているが、更に、このストリームフォーマットからなるＬＳＩレイアウトデータをデータフォーマット変換して、描画装置用のフォトマスクデータとして、各描画装置に供されている。
描画装置用のフォトマスクデータとしては、例えば、ラスター型の電子線描画装置用ではＭＥＢＥＳフォーマット（パーキンエルマー社製描画装置用）やＥＢＭフォーマット（東芝製描画装置用）等があり、ベクター型の電子線描画装置用としては、Ｊｅｏｌフォーマット（日本電子株式会社製描画装置用）等があるが、他にも種々ある。
【０００４】
そして、ウエハ上の回路が所定の複数のフォトマスクを用いて投影転写され作製されることより、例えば、ラスター型の電子線描画装置に対しては、その描画用のデータを、１つ以上のセルデータとも呼ばれる描画装置用のパターンデータにて構成される描画装置用のマスクのデータ（これを、レイヤーデータとも言う）を複数有する構造の、ＪＯＢファイルとして管理している。
尚、ＪＯＢファイルは、階層構造を表すもので、１つのマスクデータは、ＪＯＢファイルの中の１つの作製するマスクに対するレイヤーとして、それを構成する描画装置用パターンデータ名や配置座標情報や他の描画条件等が組み込まれたものとして記述され、描画装置用のパターンデータとは別ファイルとして管理されるのが一般的である。
ここでは、ＪＯＢデータ、マスクデータと言う場合、それぞれ、１枚以上の複数のマスクを作製するためのデータ、マスクを１枚作製するためのデータを意味し、階層構造や描画装置用パターンデータや配置座標情報や他の描画条件等を含めたデータを意味する。
この場合、セルデータともよばれる描画装置用のパターンデータ、描画装置用のマスクデータ、ＪＯＢデータとが、図５に示すように、階層構造になっており、通常、マスクデータはそれを構成する各パターンデータを所定の位置に配置して表され、ＪＯＢデータは、このようなマスクデータを１つ以上持つ形態で表される。
図５中、ＪＯＢはＪＯＢファイル、Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３・・は描画装置用のマスクデータ、Ｐ11、Ｐ12、・・、Ｐ21、Ｐ22、・・、Ｐ31、Ｐ32、・・は描画装置用のパターンデータである。
ここでは、同じ描画装置用のパターンデータが複数のマスクデータのパターンデータとなる場合もある。
描画装置用のマスクデータは１枚のフォトマスクを作成するための、パターンデータ群からなるデータで、ＪＯＢデータは複数枚のフォトマスクを作成するためデータである。
【０００５】
このようなＪＯＢファイルを作成する際、所望の位置に指定したパターンがあるか否かを確認する場合がある。
また、ＪＯＢファイル中の描画装置用のパターンデータに誤りがあり、フォトマスクに不良が発生した際に、それがＪＯＢのどこにあるかを確認する場合がある。
従来、このような作業を簡単に行なえ、且つ、容易に確認ができる装置は無かった。
従来のものとしては、例えば、データ表示画面にて対象とするパターンデータを認識する手段として、パターンデータの表示色を変更する、又は、対象のパターンデータを非表示とするなどの方法はあった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上記のように、近年、描画装置用のフォトマスクデータの大規模化がますます進む中、図５に示すように、階層構造になっているマスクデータ（レイヤーデータ）、ＪＯＢデータについては、マスクデータ、ＪＯＢデータの作成の際の確認作業、あるいは不良部の確認作業が簡単にでき、且つ、確認が容易な確認方法が求められていた。
本発明は、これ対応するもので、描画装置用のマスクデータについて、表示手段にて描画装置用のマスクデータを構成する描画装置用のパターンデータを図形表示させながら、前記描画装置用のパターンデータの中の、目的とする描画装置用のパターンデータを容易に目視確認することができる確認装置を提供しようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置は、描画装置用のマスクデータについて、表示手段にて描画装置用のマスクデータを構成する描画装置用のパターンデータを図形表示させながら、前記描画装置用のパターンデータの中の、目的とする描画装置用のパターンデータを強調表示して、目視確認するための確認装置であって、描画装置用のマスクデータを複数有する構造のＪＯＢデータと、これらを構成する各パターンデータに対応したキャッシュファイルとを、記憶蓄積する記憶手段と、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータに対応するキャッシュファイルを検索し、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータ内の四角領域パターンを抽出するパターンデータ検索手段と、前記四角形領域パターンに対して、強調処理を施し対応する強調処理パターンデータを作成する強調処理部と、強調処理パターンデータを受けとり、表示するための表示パターンデータを作成する図形表示制御手段と、図形表示を行なう表示手段とを備えており、前記強調処理部は、処理対象のパターンデータについて、表示の際、その各図形が所定の表示属性で塗りつぶされた状態のハッチング表示となるための処理を行なうものであることを特徴とするものである。
そして、上記の描画装置用のパターンデータの確認装置であって、領域パターンを記憶手段から抽出するパターンデータ検索手段は、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータの全の図形を含む、前記描画装置用のパターンデータのデータサイズ以下のサイズの四角形領域パターンを抽出するものであることを特徴とするものである。
そしてまた、上記いずれかの描画装置用のパターンデータの確認装置であって、パターンデータ検索手段は、表示画面上に各描画装置用のパターンデータの名前を配列した設定画面にて、パターンデータの名前を、マウスを用いたダブルクリックにより指定して、強調する描画装置用のパターンデータを指定するものであることを特徴とするものであり、パターンデータ検索手段は、表示する描画装置用のパターンデータを選別指定する表示選別部を有するものであることを特徴とするものである。
また、上記いずれか１項に記載の描画装置用のパターンデータの確認装置であって、前記強調処理部は、処理対象のパターンデータについて、ビットマップ化し、ビットに対応する表示手段のピクセル毎に、所定の表示属性を付与するものであることを特徴とするものである。
【０００８】
【作用】
本発明の描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置は、このような構成にすることにより、描画装置用のマスクデータについて、表示手段にて描画装置用のマスクデータを図形表示させながら、前記のマスクデータを構成する描画装置用のパターンデータの中の、目的とする描画装置用のパターンデータを容易に目視確認することができる確認装置の提供を可能としている。
即ち、目的とする描画装置用のパターンデータを強調して図形表示ができ、パターンデータの配置位置、サイズ等の目視確認を容易にできるものとしている。
具体的には、描画装置用のマスクデータを複数有する構造のＪＯＢデータと、これらを構成する各パターンデータに対応したキャッシュファイルとを、記憶蓄積する記憶手段と、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータに対応するキャッシュファイルを検索し、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータ内の四角領域パターンを抽出するパターンデータ検索手段と、前記四角形領域パターンに対して、強調処理を施し対応する強調処理パターンデータを作成する強調処理部と、強調処理パターンデータを受けとり、表示するための表示パターンデータを作成する図形表示制御手段と、図形表示を行なう表示手段とを備えており、前記強調処理部は、処理対象のパターンデータについて、表示の際、その各図形が所定の表示属性で塗りつぶされた状態のハッチング表示となるための処理を行なうものであることにより、これを達成している。
【０００９】
パターンデータ検索手段としては、表示画面上に各描画装置用のパターンデータの名前を配列した設定画面にて、パターンデータの名前を、マウスを用いたダブルクリック等により指定して、強調する描画装置用のパターンデータを指定するものが挙げられる。
また、強調処理部としては、処理対象のパターンデータについて、表示の際、その各図形が所定の表示属性で塗りつぶされた状態のハッチング表示となるための処理を行なうものが挙げられる。
例えば、処理対象のパターンデータについて、ビットマップ化し、ビットに対応する表示手段のピクセル毎に、所定の表示属性を付与しておくことにより、表示手段にて、ビットマップ化されたパターンデータ領域に対し、ベタ等のハッチング表示ができる。
そして、表示手段において、このビットマップ化されたパターンデータ領域のベタ等のハッチング表示を、描画装置用のマスクデータを構成する描画装置用のパターンデータのデータの表示に重ねて表示して、重なった部分が強調された表示状態となるのである。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明の実施の形態例を挙げ、図に基づいて説明する。
図１は本発明の描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置の実施の形態の１例の構成図で、図２は図１に示す装置の動作の１例を説明するためのフロー図で、図３（ａ）はパターンデータ検索手段の設定画面の１例で、図３（ｂ）はパターンデータを反転表示した図で、図４（ａ）はマスクデータの表示状態を示した図で、図４（ｂ）はその実行画面において強調表示された図で、図４（ｂ１）、図４（ｂ２）は強調処理されたパターンデータに対応する表示図形の一部を示した図である。
図１、図３、図４において、１１０は記憶手段、１２０はパターンデータ検索手段、１３０は強調処理部、１４０は図形表示制御手段、１５０は表示手段（ディスプレイ）、１６０は制御部、１６５は入力部、１７０は強調処理対象の描画装置用パターンデータ、１７１は強調処理パタンデータ、１８０は強調処理対象でない描画装置用パターンデータ、１７１は強調処理パタンデータ、１９０は表示パターンデータ、２１０は設定画面、２１１は描画装置用パターンデータ名、２１２は表示色指定部、２２１、２２２、２２３は表示画面、２３１、２３２、２３３は表示されたマスクデータ、２４０は強調処理パターンデータ、２４１は（強調処理パターンデータの）強調処理図形である。
【００１１】
本発明の描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置の実施の形態の１例を、図１に基づいて説明する。
本例は、描画装置用のマスクデータについて、表示手段にて描画装置用のマスクデータを構成する描画装置用のパターンデータを図形表示させながら、前記描画装置用のパターンデータの中の、目的とする描画装置用のパターンデータを強調表示して、目視確認するための確認装置で、記憶手段１１０、パターンデータ検索手段１２０、強調処理部１３０、図形表示制御手段１４０、表示手段１５０とこれら各部を制御し全体を制御する制御部１６０と制御部への入力手段１６５とを備えている。
記憶手段１１０は、パターンデータ群からなる描画装置用のマスクデータあるいは描画装置用のマスクデータを１つ以上有する構造のＪＯＢデータと、これらを構成する各パターンデータに対応したキャッシュファイルとを記憶蓄積するものである。
尚、本例では、１つの記憶手段１１０にこれらを蓄積するが、複数の記憶手段を用いても良いことは言うまでもない。
本例におけるパターンデータ検索手段１２０は、強調表示を行なう描画装置用のパターンデータを指定し、記憶手段１１０から該当する描画装置用のパターンデータに対応するキャッシュファイルを検索し、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータの全の図形を含むそのデータサイズ以下の四角形領域パターンを抽出するものである。
ここでのキャッシュファイルは、簡単には、パターンデータ毎に、記憶装置１１０に格納されているアドレスに対応したシークアドレスを持たせたもので、キャッシュファイルを用いることにより、ＪＯＢファイルサイズが大規模化した場合でも、サイズに依存せず、描画装置用パターンデータの検索を容易とする。
更に、ここでのキャッシュファイルには、強調処理を行なうため、このパターンデータの領域であるデータサイズ（チップサイズとも言う）以下の、このパターンデータの全の図形を含む四角領域であるフィットゾーンを指定する領域情報を備えている。
フィットゾーン領域に対応したパターンが前述の四角形領域パターンである。
尚、パターンデータ検索手段１２０は、表示する描画装置用のパターンデータを選別指定する表示選別部（図示していないが、図３（ａ）の表示ＯＮ／ＯＦＦにて判断する）を有するものである。
強調処理部１３０は、パターンデータ検索手段１２０により抽出された四角形領域パターンに対して、強調処理を施し、対応する強調処理パターンデータ１７１を作成するものである。
本例の強調処理部１３０は、パターンデータ検索手段１２０にて得られたフィットゾーン領域に対応した四角形領域パターンを処理対象のパターンデータとして、処理対象のパターンデータについて、表示の際、その各図形が所定の表示属性で塗りつぶされた状態のハッチング表示となるための処理を行なうもので、処理対象のパターンデータについて、ビットマップ化し、ビットに対応する表示手段のピクセル毎に、所定の表示属性を付与しておくものである。
これにより、表示手段にて、ビットマップ化されたパターンデータ領域に対し、ベタ等のハッチング表示ができる。
図形表示制御手段１４０は、パターンデータ検索手段１２０により抽出された強調処理対象でない描画装置用のパターンデータ１８０、あるいは、強調処理が施された強調処理パターンデータ１７１を受けとり、表示するための表示パターンデータ１９０を作成するものである。
表示手段１５０は、図形表示制御手段１４０により作製された表示パターンデータ１９０の図形表示を、指示された表示属性にしたがい行なうものである。
【００１２】
次いで、図２を基に、図１、図３、図４を参照にしながら、本例の描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置の動作の１例を説明する。
尚、図２中、Ｓ１１〜Ｓ２２は処理ステップを示す。
先ず、入力手段１６５にて処理対象とするＪＯＢファイルをオープンする。（Ｓ１１）
ここでは、対象のマスクデータについて、検索を容易とするため、予め、キャッシュファイルを用意しておく。
また、ＪＯＢファイルについての階層情報を抽出し、これをデータとして保管しておく。
尚、抽出されたＪＯＢファイルについての階層情報は、通常、記憶手段１１０とはことなる所定のメモリーに蓄積しておく。
また、ここでのキャッシュファイルは、先にも述べた通り、シークアドレスと強調処理を行なうためのフィットゾーンデータとを備えている。
次いで、表示レイヤーを指定し（Ｓ１２）、マスクデータ毎に画面表示する。（Ｓ１３）
ここでは、表示するマスクパターンデータを１つ以上指定し、マスクパターンデータ毎に表示画面を持たせる。
勿論、実行画面は指定された１つである。
先に抽出し、保管されている階層構造の情報に基づき、マスクデータ単位で、これを構成する表示対象のパターンデータが図形表示制御手段１４０を介して表示手段１５０へ送られる。
図４（ａ）に示すように１つの表示手段の表示部に複数の表示画面（ウインドウとも言う）を持たす。
尚、パターンデータ検索手段１２０にて、表示する描画装置用のパターンデータを選別指定し、不要のパターンデータの図形表示はしないようにしても良い。
【００１３】
次に、パターンデータ検索手段１２０の設定画面を表示する。（Ｓ１４）
設定画面は、例えば図３（ａ）にようになっており、表示されているパターンデータ名毎に表示色指定や、表示のＯＦＦもできる。
次いで、強調処理対象のパターンデータ名をダブルクリックすると（Ｓ１５）、そのパターンデータ名が反転表示される。（Ｓ１６）
これにより、ダブルクリックされたパターンデータ名のパターンデータが強調処理対象に指定される。
例えば、図３（ａ）のパターンデータ名「・・・ＰＡＴ１１」の部分Ｃ１がダブルクリックされると、その部分Ｃ１は図３（ｂ）のように反転表示され、これにより、パターンデータ名「・・・ＰＡＴ１１」が強調表示に指定されたことが分かる。
【００１４】
次いで、実行画面である、マスクデータ表示画面をクリックし（Ｓ１７）、強調表示対象のパターンデータを検索する。（Ｓ１８）
実行画面に強調表示対象のパターンデータが有るか否かを確認する。（Ｓ１９）
先に抽出し、保管されている階層構造の情報に基づき、マスクデータ単位で行なう。
実行画面に強調表示対象のパターンデータが有る場合には、パターンデータ検索手段１２０は、記憶手段１１０から該当する描画装置用のパターンデータに対応するキャッシュファイルを検索し、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータのフィットゾーンに対応する四角形領域パターンを抽出し、抽出された四角形領域パターンを強調処理対象パターンデータ１７０とする。
次いで、強調処理部１３０にて強調対象パターンデータ１７０に強調処理を施し、強調処理された強調処理パターンデータ１７１とし、図形表示制御手段１４０に送り、対応した表示パターンデータ１９０を作成し、実行画面にこれをあわせて表示することにより、強調対象パターンデータの強調表示を行ない（Ｓ２０）、所望の確認をすることができる。
この場合、強調処理されたパターンデータに対応する表示図形は、例えば図４（ｂ１）のようになる。
そして、更に、別のレイヤーのマスクデータの画面を実行画面として、強調表示を行なう必要があるか否かを判断し（Ｓ２１）、必要がある場合には、同様にＳ１７〜Ｓ２０の処理ステップを行ない、必要が無い場合には終了する。
【００１５】
実行画面に強調表示対象のパターンデータが無い場合には、更に、別のレイヤーのマスクデータの画面を実行画面として、強調表示を行なう必要があるか否かを判断し（Ｓ２１）、必要がある場合には、同様にＳ１７〜Ｓ２０の処理ステップを行ない、必要が無い場合には終了する。
このようにして、マスクデータ毎に、強調対象パターンデータの強調表示を行ない、所望の確認をすることができる。
【００１６】
本例においては、強調処理として、描画装置用パターンデータのフィットゾーンをビットマップ化し、塗りつぶしを行ったが、塗りつぶす領域はフィットゾーンに限定されるものでない。
【００１７】
別の実施の形態例としては、フィットゾーンに代え、強調処理の対象の描画装置用パターンデータの各図形をビットマップ化し、ビットに対応する表示手段のピクセル毎に、所定の表示属性を付与しておくものも挙げられる。
この例の場合も、同様、パターンデータ群からなる描画装置用のマスクデータをあるいは描画装置用のマスクデータを１つ以上有する構造のＪＯＢデータと、これらを構成する各パターンデータに対応したキャッシュファイルとを記憶蓄積する記憶手段と、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータを指定して、該当する描画装置用のパターンデータを検索し、検索した描画装置用のパターンデータを記憶手段から抽出する、パターンデータ検索手段と、パターンデータ検索手段により抽出された、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータに対して、強調処理を施し対応する強調処理パターンデータを作成する強調処理部と、描画装置用のパターンデータおよび／または強調処理パターンデータを受けとり、表示するための表示パターンデータを作成する図形表示制御手段と、図形表示を行なう表示手段とを備えていることが必要であるが、キャッシュファイルには、フィットゾーン情報を持たせておく必要はない。
【００１８】
この例の場合の処理の１例も、図２に基づいて簡単に説明する。
図２に示すＳ１１〜Ｓ１７までを行った後、実行画面である、強調表示対象のパターンデータを検索し（Ｓ１８）、実行画面に強調表示対象のパターンデータが有るか否かを確認する。（Ｓ１９）
この場合も、保管されている階層構造の情報に基づき、マスクデータ単位で行なう。
実行画面に強調表示対象のパターンデータが有る場合には、パターンデータ検索手段１２０は、記憶手段１１０から該当する描画装置用のパターンデータを検索し、強調表示を行なう対象の描画装置用のパターンデータを抽出し、これを強調処理対象パターンデータ１７０とする。
次いで、強調処理部１３０にて強調対象パターンデータ１７０に強調処理を施し、強調処理された強調処理パターンデータ１７１とし、図形表示制御手段１４０に送り、対応した表示パターンデータ１９０を作成し、実行画面にこれをあわせて表示することにより、強調対象パターンデータの強調表示を行ない（Ｓ２０）、所望の確認をすることができる。
この場合、強調処理されたパターンデータに対応する表示図形は、例えば図４（ｂ２）のようになる。
そして、更に、別のレイヤーのマスクデータの画面を実行画面として、強調表示を行なう必要があるか否かを判断し（Ｓ２１）、必要がある場合には、同様にＳ１７〜Ｓ２０の処理ステップを行ない、必要が無い場合には終了する。
【００１９】
実行画面に強調表示対象のパターンデータが無い場合には、更に、別のレイヤーのマスクデータの画面を実行画面として、強調表示を行なう必要があるか否かを判断し（Ｓ２１）、必要がある場合には、同様にＳ１７〜Ｓ２０の処理ステップを行ない、必要が無い場合には終了する。
このようにして、この例の場合も、マスクデータ毎に、強調対象パターンデータの強調表示を行ない、所望の確認をすることができる。
【００２０】
【発明の効果】
本発明は、上記のように、描画装置用のマスクデータについて、表示手段にて描画装置用のマスクデータを構成する描画装置用のパターンデータを図形表示させながら、前記描画装置用のパターンデータの中の、目的とする描画装置用のパターンデータを容易に目視確認することができる確認装置の提供を可能とした。
これにより、実用レベルでＪＯＢファイル作成が容易になり、データの誤りがＪＯＢファイルのどこにあるかを容易に確認できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は本発明の描画装置用のマスクデータにおける描画装置用のパターンデータの確認装置の実施の形態の１例の構成図である。
【図２】図１に示す装置の動作の１例を説明するためのフロー図である。
【図３】図３（ａ）はパターンデータ検索手段の設定画面の１例で、図３（ｂ）はパターンデータを反転表示した図である。
【図４】図４（ａ）はマスクデータの表示状態を示した図で、図４（ｂ）はその実行画面において強調表示された図で、図４（ｂ１）、図４（ｂ２）は強調処理されたパターンデータに対応する表示図形の一部を示した図である。
【図５】ＪＯＢファイルのデータの階層構造を説明するための図である。
【符号の説明】
１１０                記憶手段
１２０                パターンデータ検索手段
１３０                強調処理部
１４０                図形表示制御手段
１５０                表示手段（ディスプレイ）
１６０                制御部
１６５                入力部
１７０                強調処理対象の描画装置用パターンデータ
１７１                強調処理パタンデータ
１８０                強調処理対象でない描画装置用パターンデータ
１７１                強調処理パタンデータ
１９０                表示パターンデータ
２１０                設定画面
２１１                描画装置用パターンデータ名
２１２                表示色指定部
２２１、２２２、２２３    表示画面
２３１、２３２、２３３    表示されたマスクデータ
２４０                強調処理パターンデータ
２４１              （強調処理パターンデータの）強調処理図形
【図１】
0005181405.tif 000002
【図２】
0005181405.tif 000003
【図３】
0005181405.tif 000004
【図４】
0005181405.tif 000005
【図５】
0005181405.tif 000006