(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
高さ方向に間隔を空けて対向する一対の基材と、基材内面に形成された電極及び電極表面に形成されたエレクトロクロミック層を有して構成されるエレクトロクロミック素子と、前記基材間に設けられた電解質層と、を有し、
前記基材の同じ内面には、前記エレクトロクロミック素子を構成する複数の前記電極が間隔を空けて配置されており、前記電極間に電圧を印加することで、各電極表面に形成された前記エレクトロクロミック層の間で酸化還元反応が生じ、
少なくとも一方の基材は、外面が入力操作面とされた可撓性部材で形成されており、
前記一対の基材間には各基材の内面にて高さ方向に対向配置された入力素子の対向電極が、前記エレクトロクロミック素子の各電極に対し平面視にて間隔を空けて設けられており、
前記入力操作面の押圧に伴う対向電極間の接近あるいは接触による入力操作が可能とされていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
高さ方向に間隔を空けて対向する一対の基材と、基材内面に形成された電極及び電極表面に形成されたエレクトロクロミック層を有して構成されるエレクトロクロミック素子と、前記基材間に設けられた電解質層と、を有し、
各基材の内面には、夫々、前記エレクトロクロミック素子が設けられ、各エレクトロクロミック素子の前記電極は、夫々、平面視にて間隔を空けて配置されており、前記電極間に電圧を印加することで、各電極表面に形成された前記エレクトロクロミック層の間で酸化還元反応が生じ、
少なくとも一方の基材は、外面が入力操作面とされた可撓性部材で形成されており、
前記一対の基材間には各基材の内面にて高さ方向に対向配置された入力素子の対向電極が、前記エレクトロクロミック素子の各電極に対し平面視にて間隔を空けて設けられており、
前記入力操作面の押圧に伴う対向電極間の接近あるいは接触による入力操作が可能とされていることを特徴とする表示装置。
【請求項３】
入力素子における動作電圧は、前記エレクトロクロミック素子の各電極間に印加される閾値電圧よりも低い請求項１又は２に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エレクトロクロミック素子を有する表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電気化学的な酸化還元により色が変化するエレクトロクロミズム現象を利用した表示装置が知られている。このようなエレクトロクロミズム現象を利用した表示装置では、低電圧で長時間の表示や長寿命等を期待することができる。
【０００３】
例えば下記の特許文献１には、絶縁基板上に複数の電極が形成され、更に各電極上にエレクトロクロミック材料を含む導電層が形成された表示装置の発明が開示されている。
【０００４】
また特許文献２には、内周と外周に電気的に分割された電極及びエレクトロクロミック層を有するエレクトロクロミック素子を備えた表示装置に関する発明が開示されている。
【０００５】
しかしながら従来におけるエレクトロクロミック素子を有する表示装置には、エレクトロクロミック素子による表示機能と共にスイッチ等の入力操作機能を備える構造は存在しなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−３０８２０号公報
【特許文献２】特開平４−４９６５２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、特に、安定した表示とともに入力操作を行うことが可能な薄型の表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明における表示装置は、
高さ方向に間隔を空けて対向する一対の基材と、基材内面に形成された電極及び電極表面に形成されたエレクトロクロミック層を有して構成されるエレクトロクロミック素子と、前記基材間に設けられた電解質層と、を有し、
前記基材の同じ内面には、前記エレクトロクロミック素子を構成する複数の前記電極が間隔を空けて配置されており、前記電極間に電圧を印加することで、各電極表面に形成された前記エレクトロクロミック層の間で酸化還元反応が生じ、
少なくとも一方の基材は、外面が入力操作面とされた可撓性部材で形成されており、
前記一対の基材間には各基材の内面にて高さ方向に対向配置された入力素子の対向電極が、前記エレクトロクロミック素子の各電極に対し平面視にて間隔を空けて設けられており、
前記入力操作面の押圧に伴う対向電極間の接近あるいは接触による入力操作が可能とされていることを特徴とするものである。
【０００９】
このように本発明では、エレクトロクロミック素子を構成する複数の電極を基材の同じ内面側に間隔を空けて配置した。そして本発明では、入力素子を一対の基材間に配置したが、このとき、入力素子を構成する対向電極を、前記エレクトロクロミック素子の各電極に対し平面視にて間隔を空けて配置した。
【００１０】
このため、入力操作面を押圧して、対向電極間を近接あるいは接触させて入力素子を動作させたときに、エレクトロクロミック素子の各電極間がショートする不具合を防止できる。
【００１１】
よって本発明の表示装置によれば、一対の基材間の間隔を広げることなく、安定した表示とともに入力操作を行うことが可能である。
【００１２】
また本発明における表示装置は、
高さ方向に間隔を空けて対向する一対の基材と、基材内面に形成された電極及び電極表面に形成されたエレクトロクロミック層を有して構成されるエレクトロクロミック素子と、前記基材間に設けられた電解質層と、を有し、
各基材の内面には、夫々、前記エレクトロクロミック素子が設けられ、各エレクトロクロミック素子の前記電極は、夫々、平面視にて間隔を空けて配置されており、前記電極間に電圧を印加することで、各電極表面に形成された前記エレクトロクロミック層の間で酸化還元反応が生じ、
少なくとも一方の基材は、外面が入力操作面とされた可撓性部材で形成されており、
前記一対の基材間には各基材の内面にて高さ方向に対向配置された入力素子の対向電極が、前記エレクトロクロミック素子の各電極に対し平面視にて間隔を空けて設けられており、
前記入力操作面の押圧に伴う対向電極間の接近あるいは接触による入力操作が可能とされていることを特徴とするものである。
【００１３】
本発明では、一対の基材の内面に、夫々、エレクトロクロミック素子を設けたが、このとき、各エレクトロクロミック素子の電極を、平面視にて間隔を空けて配置した。さらに本発明では、入力素子を一対の基材間に配置したが、このとき、入力素子を構成する対向電極を、前記エレクトロクロミック素子の各電極に対し平面視にて間隔を空けて配置した。
【００１４】
このため、入力操作面を押圧して、対向電極間を近接あるいは接触させて入力素子を動作させたときに、エレクトロクロミック素子の各電極間がショートする不具合を防止できる。
【００１５】
よって本発明の表示装置によれば、一対の基材間の間隔を広げることなく、安定した表示とともに入力操作を行うことが可能である。
【００１６】
また本発明では、一対の基材の内面に夫々、エレクトロクロミック素子を設けることで、電解質層内でのイオンの移動距離を短くでき、スムースな酸化還元反応により各エレクトロクロミック素子による表示変化を速めることが可能である。
【００１７】
さらに本発明では、入力素子における動作電圧は、前記エレクトロクロミック素子の各電極間に印加される閾値電圧よりも低いことが好ましい。これにより、安定した表示とともに、入力操作を適切に行うことが出来る。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の表示装置によれば、一対の基材間の間隔を広げることなく、安定した表示とともに入力操作を行うことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】図１（ａ）（ｂ）は、本発明の第１実施形態における表示装置の部分縦断面図を示し、図１（ｂ）は、図１（ａ）の状態（非入力操作状態）から入力操作を行った状態を示している。
【図２】図２（ａ）（ｂ）は、本発明の第２実施形態における表示装置の部分縦断面図を示し、図２（ｂ）は、図２（ａ）の状態（非入力操作状態）から入力操作を行った状態を示している。
【図３】比較例の表示装置の部分縦断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
図１（ａ）（ｂ）は、本発明の第１実施形態における表示装置の部分縦断面図を示し、図１（ｂ）は、図１（ａ）の状態（非入力操作状態）から入力操作を行った状態を示している。
【００２１】
以下では、第１実施形態の表示装置１の構成を主に図１（ａ）を用いて説明する。
図１（ａ）に示すように、表示装置１を構成する第１の絶縁基材２と第２の絶縁基材３とが高さ方向（Ｚ）にて間隔を空けて対向している。
【００２２】
第２の絶縁基材３は、その外面が入力操作面３ａである可撓性基材（フレキシブルな基材）で形成されている。第２の絶縁基材３には樹脂フィルムを好ましく適用できる。樹脂フィルムとしては、ＰＥＴ基材、ＰＥＮ基材、ＰＰＳ基材、ＰＣ基材等を提示できる。一方、第１の絶縁基材２は可撓性基材であってもよいし、ガラス基材のようにリジッドな材質であってもよい。
【００２３】
入力操作面３ａが表示面でもある第２の絶縁基材３は少なくとも透明な基材である。ここで「透明」とは可視光線透過率が６０％以上（好ましくは８０％以上）の状態を指す。
【００２４】
図１（ａ）に示すように、同じ第１の絶縁基材２の内面２ａには、第１のエレクトロクロミック素子４と第２のエレクトロクロミック素子５とが間隔を空けて形成されている。
【００２５】
図１（ａ）に示すように、第１のエレクトロクロミック素子４は、第１の電極６と第１のエレクトロクロミック層７とを有して構成されている。また、第２のエレクトロクロミック素子５は、第２の電極９と第２のエレクトロクロミック層１０とを有して構成されている。
【００２６】
図１（ａ）に示すように、第１のエレクトロクロミック素子４を構成する第１の電極６と、第２のエレクトロクロミック素子５を構成する第２の電極９は、間隔を空けて同じ第１の絶縁基材２の内面２ａに配置されている。
【００２７】
第１の電極６及び第２の電極９は、透明電極で形成される。材質は特に限定されないが、酸化スズインジウム（ＩＴＯ）が好ましく使用される。
【００２８】
図１（ａ）に示すように、第１の電極６及び第２の電極９は、第１の絶縁基材２の内面２ａにスパッタ等の既存の方法で形成される。
【００２９】
図１（ａ）に示すように、各電極６，９の表面にはエレクトロクロミック層７，１０が形成される。
【００３０】
エレクトロクロミック層７，１０は、エレクトロクロミック材料（エレクトロクロミック色素）やエレクトロクロミック材料を担持可能な担持体（例えば、金属酸化物や多孔質物質等のナノ粒子）を有して構成される。エレクトロクロミック材料としては電気化学的な酸化還元反応により可逆的な色の変化（有色と無色の間での変化；エレクトロクロミズム）を示すものであれば、特に限定されない。このような材料としては、金属錯体、金属酸化物、ポリマー系等の既存のエレクトロクロミック化合物を用いることが出来る。金属錯体としては、例えばプルシアンブルー錯体を提示できる。プルシアンブルー錯体をナノ粒子化し、インク化することで、エレクトロクロミック材料を有するエレクトロクロミック層７，１０を印刷等により形成できる。これによりエレクトロクロミック層７，１０を電極６，９の表面に簡単に形成でき、且つ、電極６，９に比べて薄い膜厚で形成できる。
【００３１】
図１（ａ）に示すように、一対の絶縁基材２，３間には電解質層１１が設けられている（充填されている）。電解質には、液体状電解質のみならず、ゲル状の電解質、固体電解質を用いることが出来る。電解質としては、過塩素酸塩、鉄錯体、金属ハロゲン化物、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等を提示でき、溶媒としては、エーテル類、カーボネート類、アルコール類等を提示できる。
【００３２】
図１（ａ）に示すように、各エレクトロクロミック素子４，５の各電極６，９に接続されている電気回路１５にて、各電極６，９間に電圧が印加されると各エレクトロクロミック素子４，５間に介在する電解質層１１の陽イオン及び電子の移動に伴う例えば酸化反応により、プルシアンブルー錯体を有する第１のエレクトロクロミック層７が青色に発色し、還元反応により第２のエレクトロクロミック層１０が消色する（透明になる）。このとき、透明基材から成る第２の絶縁基材３を通して、第１のエレクトロクロミック素子４の表示を、第２の絶縁機材３の入力操作面（表示面）３ａ側から見ることが出来る。一方、図１（ａ）に示す電気回路１５内のスイッチ部ＳＷ１，ＳＷ２が切換えられると酸化還元反応が上記と逆になり、例えば、還元反応により第１のエレクトロクロミック層７が消色し（透明になる）、プルシアンブルー錯体を有する第２のエレクトロクロミック層１０が青色に発色する。よって、透明基材から成る第２の絶縁基材３を通して、第２のエレクトロクロミック素子５の表示を、第２の絶縁機材３の入力操作面３ａ側から見ることが出来る。
【００３３】
第１のエレクトロクロミック層７と第２のエレクトロクロミック層１０は、例えば所定の文字や数字、マーク等に画定されており、発色するとその所定形状が操作画面（表示面）３ａから浮かび上がる。電極６，９間に印加される電圧（閾値電圧）は、数十ｍＶ〜数Ｖ程度であり、電圧印加後、電源を切っても発色状態を長時間保つことができる。
【００３４】
図１（ａ）に示すように、本実施形態では、第１の絶縁基材２と第２の絶縁基材３との間には、エレクトロクロミック素子４，５の他に入力素子２０が設けられている。入力素子２０は第１の対向電極２１、第２の対向電極２２及び、各対向電極２１，２２に接続される電気回路２３等を有して構成される。第１の対向電極２１は、第１の絶縁基材２の内面２ａであって、各エレクトロクロミック素子４，５の電極６，９と間隔を空けて配置されている。なお図１（ａ）では、第１の対向電極２１は、第１のエレクトロクロミック素子４と第２のエレクトロクロミック素子５の間であって、各エレクトロクロミック素子４，５と間隔を空けた位置に形成されているが、第１の対向電極２１の形成位置は図１（ａ）の形態に限定されるものではない。
【００３５】
図１（ａ）に示すように、第２の対向電極２２は、第２の絶縁基材３の内面３ｂであって第１の対向電極２１と高さ方向（Ｚ）で対向する位置に形成されている。
【００３６】
よって、各対向電極２１，２２は、各エレクトロクロミック素子４，５の電極６，９に対し平面視（矢印Ａ方向からの矢視）にて間隔を空けて設けられている。
【００３７】
第１の対向電極２１及び第２の対向電極２２は共に、電極６，９と同様の透明電極で形成されることが好ましい。すなわち本実施形態では、第１の対向電極２１、第２の対向電極２２及び電極６，９を例えば、酸化スズインジウム（ＩＴＯ）で形成することができる。これにより、対向電極２１，２２を電極６，９と同工程により同じ膜厚で形成でき、簡単な構造及び製法で入力素子２０を有する薄型の表示装置１を構成できる。
【００３８】
上記したように少なくとも入力操作面３ａを備える第２の絶縁基材３は、可撓性基材で形成されており、図１（ｂ）に示すように、指Ｆ等で入力操作面３ａを下方向（第１の絶縁基材２の方向）に押圧して変形させることが出来る。この押圧により、第１の対向電極２１と第２の対向電極２２とを接触あるいは接近させることができ、電圧変化に応じて電気回路２３にて入力操作信号（例えばＯＮ、ＯＦＦのスイッチ信号）を出力することができる。
【００３９】
図３は、比較例における表示装置の部分縦断面図である。図３に示す比較例では、一対の絶縁基材５０，５１の内面に夫々、対向させて電極５５，５６及びエレクトロクロミック層５７，５８を有するエレクトロクロミック素子５３，５４が形成されている。符号５９は電解質層である。比較例の構成では、絶縁基材５１の外面を入力操作面５１ａとして、入力操作面５１ａを下方向（絶縁基材５０の方向）に押圧すると、エレクトロクロミック素子５３，５４を構成する電極５５，５６同士が接触してショートし、適切な表示ができなくなるといった不具合があった。
【００４０】
これに対して本実施形態では、エレクトロクロミック素子４，５を構成する電極６，９を第１の絶縁基材２の内面２ａに間隔を空けて配置した。そして本実施形態では、入力素子２０を一対の絶縁基材２，３間に配置したが、このとき、入力素子２０を構成する対向電極２１，２２を、エレクトロクロミック素子の各電極６，９に対し平面視にて間隔を空けて配置した。
【００４１】
よって図１（ｂ）に示すように、入力操作面３ａを押圧して入力素子２０を動作させたときに、エレクトロクロミック素子４，５の各電極６，９間がショートする不具合を防止することが出来る。なお、入力操作面３ａを押圧することで、各エレクトロクロミック素子４，５と第２の絶縁基材３の内面３ｂとが接触する場合があるが、エレクトロクロミック素子４，５の各電極６，９間がショートすることはないので問題はない。
【００４２】
このように本実施形態の表示装置１によれば、入力素子２０を一対の絶縁基材２，３間に設けたため、一対の絶縁基材２，３間の間隔を広げることなく薄型を実現できるとともに、入力素子２０を動作させるため押圧しても、エレクトロクロミック素子４，５の各電極６，９間がショートしないので、安定した表示とともに入力操作を行うことが可能である。
【００４３】
図１（ａ）の構成において、各エレクトロクロミック素子４，５を入力操作面３ａがある第２の絶縁基材３の内面３ｂに設けてもよい。また各エレクトロクロミック素子４，５のエレクトロクロミック層７，１０を一体的に形成することもできる。
【００４４】
図２（ａ）（ｂ）は、本発明の第２実施形態における表示装置の部分縦断面図を示し、図２（ｂ）は、図２（ａ）の状態（非入力操作）から入力操作を行った状態を示している。
【００４５】
以下では、第２実施形態の表示装置３０の構成を主に図２（ａ）を用いて説明する。なお図２において図１と同じ部材は図１と同じ符号を付すこととした。
【００４６】
図２（ａ）に示す表示装置３０も図１（ａ）に示す表示装置１と同様に、第１の絶縁基材２と第２の絶縁基材３との間に電解質層１１が設けられた構造である。
【００４７】
図２（ａ）に示すように、第１の絶縁基材２の内面２ａには第３のエレクトロクロミック素子３１が形成されている。第３のエレクトロクロミック素子３１は、第１の絶縁基材２の内面２ａに形成された第３の電極３２と、第３の電極３２の表面に形成されたエレクトロクロミック層３３とを有して構成される。図２（ａ）では、複数の第３のエレクトロクロミック素子３１が断面に現れており、そのうちの一つの第３のエレクトロクロミック素子３１にのみ符号を付した。また図２（ａ）の断面に現れる複数の第３のエレクトロクロミック素子３１の各電極３２は、図示しない位置で繋がって一体化していてもよいし、繋がっておらず個々に分離した状態であってもよい。
【００４８】
また第２の絶縁基材３の内面３ｂには、第４のエレクトロクロミック素子３４が形成されている。第４のエレクトロクロミック素子３４は、第２の絶縁基材３の内面３ｂに形成された第４の電極３５と、第４の電極３５の表面に形成されたエレクトロクロミック層３６とを有して構成される。図２（ａ）では、複数の第４のエレクトロクロミック素子３４が断面に現れており、そのうちの一つの第４のエレクトロクロミック素子３４にのみ符号を付した。また、図２（ａ）の断面に現れる複数の第４のエレクトロクロミック素子３４の各電極３５は、図示しない位置で繋がって一体化していてもよいし、繋がっておらず個々に分離した状態であってもよい。
【００４９】
図２（ａ）に示す構成では、各エレクトロクロミック素子３１，３４の電極３２，３５に接続されている電気回路１５にて各電極３２，３５間に電圧が印加されると各エレクトロクロミック素子３１，３４間に介在する電解質層１１の陽イオン及び電子の移動に伴う例えば酸化反応により、プルシアンブルー錯体を有する第３のエレクトロクロミック層３３が青色に発色し、還元反応により第４のエレクトロクロミック層３６が消色する（透明になる）。このとき、透明基材から成る第２の絶縁基材３を通して、第３のエレクトロクロミック素子３１の表示を入力操作面３ａ側から見ることが出来る。一方、図２（ａ）に示す電気回路１５内のスイッチ部ＳＷ１，ＳＷ２が切換えられると酸化還元反応が上記と逆になり、例えば、還元反応により第３のエレクトロクロミック層３３が消色し（透明になる）、プルシアンブルー錯体を有する第４のエレクトロクロミック層３６が青色に発色する。よって、透明基材から成る第２の絶縁基材３を通して、第４のエレクトロクロミック素子３４の表示を入力操作面３ａ側から見ることが出来る。
【００５０】
図２（ａ）に示すように、第３の電極３２（第３のエレクトロクロミック素子３１）と第４の電極３５（第４のエレクトロクロミック素子３４）は高さ方向（Ｚ）で対向しないように平面視（矢印Ｂ方向から見た矢視）にて間隔を空けて配置されている。
【００５１】
図２（ａ）に示すように、本実施形態では、第１の絶縁基材２と第２の絶縁基材３との間には、エレクトロクロミック素子３１，３４の他に入力素子２０が設けられている。入力素子２０は第１の対向電極２１、第２の対向電極２２及び、各対向電極２１，２２に接続される電気回路３７等を有して構成される。第１の対向電極２１は、第１の絶縁基材２の内面２ａであって、第３エレクトロクロミック素子３１の電極３２と間隔を空けて形成されている。
【００５２】
図２（ａ）に示すように、第２の対向電極２２は、第２の絶縁基材３の内面３ｂであって第１の対向電極２１と高さ方向（Ｚ）で対向する位置に且つ、第４のエレクトロクロミック素子３４の電極３５と間隔を空けて形成されている。
【００５３】
図２（ａ）に示すように本実施形態では、一対の絶縁基材２，３の内面に、夫々、エレクトロクロミック素子３１，３４を設けたが、このとき、各エレクトロクロミック素子３１，３４の電極３２，３５を、平面視にて間隔を空けて配置した。さらに本実施形態では、入力素子２０を一対の絶縁基材２，３間に配置したが、このとき、入力素子２０を構成する対向電極２１，２２を、エレクトロクロミック素子３１，３４の各電極３２，３５に対し平面視にて間隔を空けて配置した。
【００５４】
このため、入力操作面３ａを押圧して、対向電極２１，２２間を近接あるいは接触させて入力素子２０を動作させたときに、エレクトロクロミック素子３１，３４の各電極３２，３５間がショートする不具合を防止できる。なお図２（ｂ）では、入力操作面３ａを押圧することで、第４のエレクトロクロミック素子３４が第１の絶縁基材２の内面２ａに、第３のエレクトロクロミック素子３１が第２の絶縁基材３の内面３ｂに夫々、当接することがあるが、各エレクトロクロミック素子３１，３４の各電極３２，３５は接触しないので問題はない。
【００５５】
このように本実施形態の表示装置３０によれば、一対の絶縁基材２，３の間に入力素子２０を設けたため、一対の絶縁基材２，３間の間隔を広げることなく薄型を実現できるとともに、入力素子２０を動作させるため押圧しても、エレクトロクロミック素子３１，３４の各電極３２，３５間がショートしないので、安定した表示とともに入力操作を行うことが可能である。
【００５６】
また図２に示す実施形態では、一対の絶縁基材２，３の内面２ａ，３ｂに夫々、エレクトロクロミック素子３１，３４を設けることで、電解質層１１内でのイオンの移動距離を短くでき、スムースな酸化還元反応により各エレクトロクロミック素子３１，３４による表示変化を速めることが可能である。
【００５７】
図２（ｂ）（ａ）に示すように、入力素子２０の電気回路３７では、押圧によって各対向電極２１，２２間の間隔が徐々に変化することに伴う電圧変化（抵抗変化）に基づいて、アナログ信号（入力信号）を得ることが可能である。
【００５８】
また、図２（ａ）の構成では、電解質層１１に酸化チタン等の反射層を設けることができる。これにより第４のエレクトロクロミック素子３４のみを表示させることができる。
【００５９】
エレクトロクロミック素子を３つ以上形成することも可能である。これらのエレクトロクロミック素子は、異なる形状に画定されていたり、異なるエレクトロクロミック材料を用いて異なる色に発色するものである。３つ以上のエレクトロクロミック素子を設ける場合には、図１（ａ）に示すように、一方の絶縁基材２，３の内面２ａ，３ｂに３つ以上のエレクトロクロミック素子を間隔を空けて並設させることもできるし、両方の絶縁基材２，３の内面２ａ，３ｂに夫々、計３つ以上のエレクトロクロミック素子を高さ方向で対向しないように形成することもできる。
【００６０】
図１，図２における入力素子２０における動作電圧は、各エレクトロクロミック素子の電極間に印加される閾値電圧よりも低い。ここで閾値電圧とは、各エレクトロクロミック素子を発色（あるいは消色）させるのに必要な電圧値である。図１、図２に示すように同じ電解質層１１内に、入力素子２０の各対向電極２１，２２及び各エレクトロクロミック素子の電極が存在するため、上記の閾値電圧よりも入力素子２０における動作電圧が高くなると、前記動作電圧により、各エレクトロクロミック層での酸化還元反応が促進されてしまい、エレクトロクロミック素子の表示に異常を来たす恐れがある。よって、入力素子２０における動作電圧を、各エレクトロクロミック素子の電極間に印加される閾値電圧よりも低くすることで、エレクトロクロミック素子の安定した表示とともに、入力操作を適切に行うことが出来る。
【符号の説明】
【００６１】
Ｆ  指
１、３０  表示装置
２、３  絶縁基材
３ａ  入力操作面
２ａ、３ｂ  内面
４、５、３１、３４  エレクトロクロミック素子
６、９、３２、３５  電極
７、１０、３３、３６  エレクトロクロミック層
１１  電解質層
１５、２３  電気回路
２０  入力素子
２１、２２  対向電極
【図１】
0005374468.tif 000002
【図２】
0005374468.tif 000003
【図３】
0005374468.tif 000004