(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転軸の軸方向に複数の多面鏡が積設された回転体の組立方法であって、
前記複数の多面鏡のうち基準となる多面鏡と他の多面鏡との組み付け位置を位置調整手段によって調整する位置調整工程と、
前記多面鏡を前記回転軸に固定する工程とを有し、
前記位置調整手段は、前記複数の多面鏡のうちの一つの任意の偏向反射面を基準として他の多面鏡の回転位相差角度を検出する位相差角度検出手段と、前記基準となる多面鏡に対して前記他の多面鏡を回転させる多面鏡回転手段とを有することを特徴とする回転体の組立方法。
【請求項２】
前記位相差角度検出手段は、少なくとも一つの光源から出力された光束を前記複数の多面鏡のそれぞれに入射する光束に分割する手段と、所定の位置に配置され、各多面鏡からの反射光を検出した場合に位置情報を出力する光位置検出手段とを有することを特徴とする請求項１記載の回転体の組立方法。
【請求項３】
前記位置調整手段が、前記回転軸に対する偏向反射面の倒れ角を検出する面倒れ検出手段をさらに含むことを特徴とする請求項１又は２記載の回転体の組立方法。
【請求項４】
前記位置調整工程は、
前記基準となる多面鏡に対して、前記他の多面鏡の回転位相差角度を回転調整する工程と、
前記回転位相差角度が調整された多面鏡の全ての偏向反射面の面倒れ角を、前記面倒れ検出手段によって検出する工程と、
測定された前記各偏向反射面の倒れ角が、全て基準値を満たすか否かを判断する工程とを含むことを特徴とする請求項３記載の回転体の組立方法。
【請求項５】
請求項１から４の何れか１項に記載の回転体の組立方法に含まれる各工程を有し、前記回転体を有する光偏向器を組み立てることを特徴とする光偏向器の組立方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラー画像形成装置などに用いられる光偏向器の組立方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラー画像形成装置に用いられる光偏向器として、特許文献１には回転軸方向に複数の多面鏡が積設され、各段の多面鏡の偏向反射面が回転方向に所定角ずれて固定された光偏向器が開示されている。
【０００３】
このカラー画像形成装置は、光走査装置の光源数を減らしながらも、高速な画像出力が可能であり、画像形成装置として、省資源、低コスト化が可能である。また、光源数を減らすことで、光源の故障確率も低くできるため、画像形成装置として信頼性も高めることができる。
【特許文献１】特開２００５−９２１２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の光偏向器においては、偏向反射面が形成された二つの多面鏡を積み重ねて組み立てると、偏向反射面の面精度を高くすることが難しいという問題があった。また、小型であるため多面鏡単品の加工時にも変形しやすく、所望の面精度を得にくいという問題があった。
【０００５】
本発明は係る問題に鑑みてなされたものであり、多面鏡の加工時の変形や、積み重ねて組み立てたときの変形を小さく抑えて、所望の偏向反射面の面精度が得られる回転体の組立方法、及び光偏向器の組立方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、本発明は、第１の態様として、回転軸の軸方向に複数の多面鏡が積設された回転体の組立方法であって、複数の多面鏡のうち基準となる多面鏡と他の多面鏡との組み付け位置を位置調整手段によって調整する位置調整工程と、多面鏡を回転軸に固定する工程とを有し、位置調整手段は、複数の多面鏡のうちの一つの任意の偏向反射面を基準として他の多面鏡の回転位相差角度を検出する位相差角度検出手段と、基準となる多面鏡に対して他の多面鏡を回転させる多面鏡回転手段とを有することを特徴とする回転体の組立方法を提供するものである。
【０００７】
本発明の第１の態様においては、位相差角度検出手段は、少なくとも一つの光源から出力された光束を複数の多面鏡のそれぞれに入射する光束に分割する手段と、所定の位置に配置され、各多面鏡からの反射光を検出した場合に位置情報を出力する光位置検出手段とを有することが好ましい。こうした構成においては、位置調整手段が、回転軸に対する偏向反射面の倒れ角を検出する面倒れ検出手段をさらに含むことが好ましく、これに加えて、位置調整工程は、基準となる多面鏡に対して、他の多面鏡の回転位相差角度を回転調整する工程と、回転位相差角度が調整された多面鏡の全ての偏向反射面の面倒れ角を、面倒れ検出手段によって検出する工程と、測定された各偏向反射面の倒れ角が、全て基準値を満たすか否かを判断する工程とを含むことがより好ましい。
【０００８】
また、上記目的を達成するため、本発明は、第２の態様として、上述した本発明に係る回転体の組立方法の何れかに含まれる各工程を有し、その回転体を有する光偏向器を組み立てることを特徴とする光偏向器の組立方法を提供するものである。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、多面鏡の加工時の変形や、積み重ねて組み立てたときの変形を小さく抑えて、所望の偏向反射面の面精度が得られる回転体の組立方法、及び光偏向器の組立方法を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
〔第１の実施形態〕
本発明を好適に実施した第１の実施形態について説明する。図１に、本実施形態に係る光偏向器の構成を示す。また、図２に、光偏向器に適用される回転体１０１の構成を示す。
光偏向器の回転体１０１は、軸受シャフト１０２の外周に焼き嵌めされたフランジ１０３と、フランジ１０３に積設された二つの多面鏡１０４、１０５と、ミラー押さえ１０６と、板ばね１０７と、止め輪１０８と、ロータ磁石１０９とで構成されている。
【００１６】
ラジアル軸受は軸受シャフト１０２と固定スリーブ１１０とからなる含油軸受であり、軸受隙間は直径で１０μｍ以下に設定されている。高速回転での安定性を確保するためラジアル軸受には不図示の動圧発生溝が形成されている。動圧発生溝は軸受シャフト１０２の外周面又は固定スリーブ１１０の内周面に設けるが、加工性が良好な焼結部材からなる固定スリーブ１１０の内周に設けることが好ましい。軸受シャフト１０２の材料としては、焼き入れが可能で表面硬度を高くでき、耐摩耗性が良好なマルテンサイト系ステンレス鋼（例えば、ＳＵＳ４２０Ｊ２）が好適である。
【００１７】
ロータ磁石１０９は、フランジ１０３の下部内面に固定されており、軸受ハウジング１１１に固定されたステータコア１１２（巻線コイル１１２ａ）とともにアウターロータ型のブラシレスモータを構成している。ロータ磁石１０９は樹脂をバインダーとして使用したボンド磁石であり、高速回転時の遠心力による破壊が発生しないように、ロータ磁石１０９の外径部がフランジ１０３により保持されている。ロータ磁石１０９を圧入固定することにより一層の高速回転、かつ高温環境においても固定部の微移動を生ずることなく、回転体のバランスを高い精度で維持できる。
【００１８】
アキシャル方向の軸受は、軸受シャフト１０２の下端面に形成された凸曲面１０２ａと、その対向面にスラスト受部材１１３を接触させるピポット軸受である。スラスト受部材１１３は、マルテンサイト系ステンレス鋼やセラミックス、又は金属部材表面にＤＬＣ（ダイヤモンド・ライク・カーボン）などの硬化処理を施したものを用いたり、あるいは、樹脂材料等を用いて潤滑性を良好にすることによって、摩耗粉の発生が抑えられている。スリーブ１１０とスラスト受部材１１３は軸受ハウジング１１１に収納され、流体シール１１４によって油の流出が防止されている。
【００１９】
回転体１０１を２５，０００ｒｐｍ以上の高速回転させる場合、振動を小さくするために回転体１０１のバランスを高精度に修正かつ維持しなければならない。回転体１０１には、アンバランスの修正部が上下２ヶ所あり、上側はミラー押さえ１０６の円周凹部１０６ａに、下側はフランジ１０３の円周凹部１０３ａに各々接着剤を塗布することによってバランス修正が行われる。アンバランス量は１０ｍｇ・ｍｍ以下である必要があり、例えば、半径１０ｍｍの箇所で修正量は１ｍｇ以下に保たれている。
なお、上記のような微小な修正を実行する際に接着剤等の付着物では管理がしにくい場合や、量が少ないために接着力が弱く４０，０００ｒｐｍ以上の高速回転時に剥離・飛散してしまうような場合には、回転体の部品の一部を削除する方法（ドリルによる切削やレーザ加工）を実施することが好適である。
【００２０】
モータは、径方向に磁気ギャップを有し、ステータコア１１２の外径部にロータ磁石１０９がレイアウトされる「アウターロータ型」と呼ばれる方式である。回転駆動は、ロータ磁石１０９の磁界により回路基板１１５に実装されているホール素子１１６から出力される信号を位置信号として参照し、駆動ＩＣ１１７により巻線コイル１１２ａの励磁切り替えを行い回転する。ロータ磁石１０９は径方向に着磁されており、ステータコア１１２の外周とで回転トルクを発生し回転する。ロータ磁石１０９は内径以外の外径及び高さ方向は磁路を開放しており、モータ励磁切り替えのためのホール素子１１６を開放磁路内に配置している。コネクタ１１８には不図示のハーネスが接続され、本体からの電力供給とモータの起動停止、回転数等の制御信号の入出力が行われている。
【００２１】
フランジ１０３には、４面の多面鏡１０４、１０５が、回転軸方向に２段に積設されて固定されている。フランジ１０３は軸受シャフト１０２に焼き嵌めされ、多面鏡が搭載される面は、平面度や軸受シャフト１０２に対する直角度が高精度に加工されている。
【００２２】
積設された二つの多面鏡１０４、１０５は、偏向反射面１０４ａ、１０５ａが形成された偏向反射部に連続する形で、それぞれ円筒状のボス部１０４ｂ、１０５ｂが形成されている。
【００２３】
多面鏡１０４、１０５は同じ部品であり、ボス部１０４ｂ、１０５ｂが接触する形で積み上げられ、偏向反射面１０４ａ、１０５ａが回転方向に４５°ずれて固定されている。すなわち、それぞれの偏向反射面１０４ａ、１０５ａは、回転軸方向（厚さ方向）に離れて固定されている。換言すると、下段の多面鏡１０４は下側に、上段の多面鏡１０５は上側に、偏向反射面が偏って固定されている。
【００２４】
多面鏡１０４、１０５は、ボス部と一体化した基本形状を鍛造加工することによって形成すれば、切削加工することによって素材から多面体形状を削り出す場合に比べて部品形状に形成するためのコストを低減できる。
【００２５】
多面鏡１０４、１０５の位相差角度の調整方法について説明する。
図３に、多面鏡の位相差角度調整装置の要部の構成を示す。
図３において、光源である半導体レーザ２０１から発せられた光ビームＬＢ１は、カップリングレンズ２０２によって以後の光学系に適した光束形態（平行光束や弱い発散性又は集束性の光束）に変換される。この例では、カップリングレンズ２０２によってカップリングされた光ビームＬＢ１は平行光束である。
【００２６】
カップリングレンズ２０２から射出し、所望の光束形態となった光ビームＬＢ１は、光束分割素子であるハーフミラープリズム２０３に入射し、ハーフミラープリズム２０３の作用によって、積設された多面鏡に対応した位置に２分割されてそれぞれが２本の光ビームＬＢ１１、ＬＢ１２に分けられる。
【００２７】
図４に、ハーフミラープリズム２０３の作用によって光ビームが分割される状態を示す。図４の上下方向が多面鏡１０４、１０５の回転軸の軸方向と一致している。ハーフミラープリズム２０３は半透鏡２０３ａと反射面２０３ｂとを回転の軸方向に並列して有する。光ビームＬＢ１はハーフミラープリズム２０３に入射すると、半透鏡２０３ａに入射し、一部は半透鏡２０３ａを直進的に透過して光ビームＬＢ１１となり、残りは反射されて反射面２０３ｂに入射し、反射面２０３ｂによって反射されて光ビームＬＢ１２となる。
この例において、半透鏡２０３ａと反射面２０３ｂとは互いに平行であり、従ってハーフミラープリズム２０３から射出する光ビームＬＢ１１、ＬＢ１２も互いに平行である。このようにして、半導体レーザ２０１からの光ビームＬＢ１は、二つの光ビームＬＢ１１、ＬＢ１２として副走査方向に２分割される。
【００２８】
これら２本の光ビームＬＢ１１、ＬＢ１２は、シリンドリカルレンズ２０４ａ、２０４ｂに入射し、これらのシリンドリカルレンズ２０４ａ、２０４ｂの作用によって回転軸の方向に集光され、多面鏡１０４、１０５の偏向反射面１０４ａ、１０５ａに結像する。
【００２９】
図４に示したように、半導体レーザ２０１から発せられ、ハーフミラープリズム２０３によって分割された光ビームのうち、ハーフミラープリズム２０３の半透鏡２０３ａを直進的に透過した光ビームＬＢ１１がシリンドリカルレンズ２０４ａに入射し、半透鏡２０３ａによって反射され、さらに反射面２０３ｂで反射された光ビームＬＢ１２がシリンドリカルレンズ２０４ｂに入射する。
【００３０】
２本の光ビームＬＢ１１、ＬＢ１２は、多面鏡１０４、１０５に入射し、多面鏡からの反射光ビームＬＢ１１ａ、ＬＢ１２ａが位置検出素子側に出射する。
【００３１】
位置検出素子側は簡略化し、反射光ビームＬＢ１１ａ、ＬＢ１２ａと位置検出素子２０５、２０６のみを示しているが、位置検出素子２０５、２０６上で適切なビームスポット形状となるように、適宜、ビーム整形用のレンズなどを設けるようにしても良い。
【００３２】
位置検出素子としては、光半導体素子であるＰＳＤ（Position Sensitive Detector）を用いることができる。ＰＳＤはフォトダイオードの表面抵抗を利用したスポット光の位置センサである。一次元のＰＳＤでも位相差角度の調整が可能であるが、後述のように二次元のＰＳＤを用いると、回転軸に対する偏向反射面の傾きを同時に検出するのに好適である。
【００３３】
多面鏡１０４、１０５の位相差角度を４５°に調整する場合は、図５のように、二つの位置検出素子２０５、２０６が略９０°の位置に配置される。第１の位置検出素子２０５は、多面鏡１０４の反射光を検出し、第２の位置検出素子２０６は多面鏡１０５の反射光を検出する。
【００３４】
位相差角度の調整の流れを図６に示す。
まず、第１の位置検出素子２０５の出力が所望の値となるように基準となる下側の多面鏡１０４の位置を調整する（ステップＳ１０１）。続いて、第２の位置検出素子２０６の出力が所望の値となるように上側の多面鏡１０５を回転させる（ステップＳ１０２）。この時、連れ回るのを防止するため、多面鏡１０４の位置を調整した段階で多面鏡１０４とフランジ１０３とを仮に固定しておくと良い。多面鏡１０４の固定にはボス部１０４ｂを利用すると、偏向反射面１０４ａを傷つけることが無いため好適である。
多面鏡１０５を回転させる手段は図示しないが、ボス部１０５ｂをつかんで回転させる方法や、多面鏡１０５の端面を吸着して回転させる方法を適用できる。
【００３５】
上側の多面鏡１０５を回転させた後、位置検出素子２０５、２０６で多面鏡１０４、１０５の反射光を検出し位相差角を算出する（ステップＳ１０３）。そして、位相差角が基準値内となっているか否かを判断する（ステップＳ１０４）。位相差角が基準値内となっていなければ（ステップＳ１０４／Ｎｏ）、基準値内となるまでステップＳ１０２〜Ｓ１０４を繰り返す。
位置検出素子２０５、２０６は、多面鏡の位相差角度が調整できる位置に配置され、位置検出素子２０６の出力と位相差角度とが１対１で対応する関係になっている。したがって、位置検出素子２０６の出力が所望の範囲に入るように多面鏡１０５の位置を回転調整することで、位相差角度を正確に設定できる。
【００３６】
位相差角度が基準値内となったら（ステップＳ１０４／Ｙｅｓ）、多面鏡の位置調整を完了し（ステップＳ１０５）、ミラー押さえ１０６、板ばね１０７及び止め輪１０８を用いて多面鏡１０４、１０５をフランジ１０３に固定することで、回転体として一体化する（ステップＳ１０６）。
【００３７】
位相差角度の精度としては、図７に示すように、下側の多面鏡１０４の偏向反射面１０４ａをＡ１面、Ａ２面、Ａ３面、Ａ４面とし、上側の多面鏡１０５の偏向反射面１０５ａをＡ１面に近い面から回転方向である反時計回りにＢ１面、Ｂ２面、Ｂ３面、Ｂ４面とするとき、Ａ１面の法線とＢ１面の法線とで形成される角度θ１、Ａ２面の法線とＢ２面の法線とで形成される角度θ２、Ａ３面の法線とＢ３面の法線とで形成される角度θ３、及びＡ４面の法線とＢ４面の法線とで形成される角度θ４が略同一（その誤差が±０．５°以下）となるように調整される。
【００３８】
角度θ１〜θ４の誤差が大きくなると、有効な走査期間（走査角度）が小さくなり、画像形成ができる範囲が狭くなってしまうため、光偏向器としては、角度θ１〜θ４の誤差を±０．５°以下とする必要がある。位相差角度θ１〜θ４の誤差を±０．５°以下とすることで、各偏向反射面の有効な走査期間（走査角度）を確保し、必要な走査幅の画像形成が可能となる。
【００３９】
角度θ１〜θ４の誤差を０．５°以下の精度で調整する方法について具体例を挙げると、多面鏡の回転中心からの距離が１００ｍｍの位置に位置検出素子２０５、２０６を配置した場合には、±０．５の角度誤差は約±０．８７ｍｍの誤差で検出される。位置検出素子２０５、２０６において測定される反射光の位置を±０．８７ｍｍ以内の精度で位置合わせすることで、位相角度の誤差を０．５°以下にできる。
【００４０】
図８に、一次元ＰＳＤの構造、及び受光面を示す。
一次元のＰＳＤの位置検出誤差は受光面のサイズによって異なり、受光面が小さいほど位置検出誤差が小さくなる。一次元のＰＳＤは、位置検出誤差が±５μｍ程度のものから有り、受光面の長さＬｘが１０ｍｍ程度のものを用いた場合でも、数十μｍの位置検出誤差となり、十分な位置検出精度が得られる。ＰＳＤに入射するビームスポット径としてはφ０．２ｍｍ以上が推奨されるため、適宜、位置検出素子２０５、２０６の前にレンズを入れてビームを整形すると良い。
【００４１】
次に、偏向反射面の回転軸に対する倒れ角（面倒れ）のばらつきを小さく調整する方法について説明する。
多面鏡を積み重ねて構成すると、多面鏡の取り付け基準面と偏向反射面との角度誤差が積み上がり、特に上側の多面鏡１０５の偏向反射面の回転軸に対する倒れ角のばらつきが大きくなってしまう。偏向反射面の回転軸に対する倒れ角のばらつきは、走査ピッチのむらや、走査線曲がりの原因となる。
【００４２】
走査ピッチむらの原因となる偏向反射面の倒れのばらつきは、レンズによって小さく補正可能であるが、完全に無くすことはできない。感光体上での走査ピッチむらを数μｍ以下にするには、積設した全ての多面鏡において、隣り合う偏向反射面の回転軸に対する倒れ角の差を６０秒以下とする必要がある。このため、全ての多面鏡において、偏向反射面の回転軸に対する倒れ角は、隣り合う偏向反射面での差が全て６０秒以下に調整されていることが好ましい。
【００４３】
特に、カラー画像では後述のように４色の静電潜像を重ねて画像を形成するため、走査ピッチむらによって色ズレが発生すると、画像品質が著しく低下してしまうため、感光体上での走査ピッチのむらを数μｍ以下にする必要がある。画像上では隣り合う走査線でのピッチのむらが認識されやすいため、隣り合う偏向反射面でのピッチむらを小さくすることが重要である。
【００４４】
本実施形態においては、図９に示す手順で調整することで、積設した全ての多面鏡において、隣り合う偏向反射面の回転軸に対する倒れ角の差が６０秒以下となされている。
まず、第１の位置検出素子２０５の出力が所望の値となるように基準となる下側の多面鏡１０４の位置を調整する（ステップＳ２０１）。続いて、第２の位置検出素子２０６の出力が所望の値となるように上側の多面鏡１０５を回転させる（ステップＳ２０２）。このとき、連れ回るのを防止するために、多面鏡１０４の位置を調整した段階で、多面鏡１０４とフランジ１０３とを仮に固定しておくと良い。多面鏡１０４の固定にはボス部１０４ｂを利用すると、偏向反射面１０４ａを傷つけることがないため好適である。
【００４５】
上側の多面鏡１０５を回転させた後、位置検出素子２０５、２０６で多面鏡１０４、１０５の反射光を検出し位相差角を算出する（ステップＳ２０３）。そして、位相差角が基準値内となっているか否かを判断する（ステップＳ２０４）。位相差角が基準値内となっていなければ（ステップＳ２０４／Ｎｏ）、基準値内となるまでステップＳ２０２〜Ｓ２０４を繰り返す。
位置検出素子２０５、２０６は、多面鏡の位相差角度が調整できるように配置されており、位置検出素子２０６の出力と位相差角度とが１対１で対応する関係になっている。したがって、位置検出素子２０６の出力が所望の範囲に入るように多面鏡１０５の位置を回転調整することで、位相差角度を正確に設定できる。
【００４６】
次に、偏向反射面の回転軸に対する倒れ角を測定する（ステップＳ２０５）。位置検出素子２０５、２０６に二次元のＰＳＤを用いると、位相差角度の測定と一緒に偏向反射面の回転軸に対する倒れ角を測定することができるため好適である。多面鏡への入射光ビームＬＢ１１、ＬＢ１２と反射光ビームＬＢ１１ａ、ＬＢ１２ａとの角度差が大きい場合には、位置検出素子２０５、２０６の検出値を換算することで、偏向反射面の回転軸に対する倒れ角を測定できる。
【００４７】
図１０に、二次元ＰＳＤの構造及び受光面形状を示す。
二次元のＰＳＤは、図１０の受光面のＸ軸で位相差角度を測定し、Ｙ軸で偏向反射面の回転軸に対する倒れ角を測定するように配置されている。偏向反射面の回転軸に対する倒れ角の測定は、多面鏡１０４、１０５をフランジ１０３と仮固定し、回転軸中心に回転体全体を略９０°ずつ回転させて全ての偏向反射面の回転軸に対する倒れ角を測定する。隣り合う偏向反射面の回転軸に対する倒れ角の差が６０秒以下となっていなければ、多面鏡１０５を多面鏡１０４に対して回転軸中心に略９０°回転させ、位相差角度を再設定して、再度多面鏡１０４、１０５をフランジ１０３に仮固定し、回転体全体を略９０°ずつ回転させて全ての偏向反射面の回転軸に対する倒れ角を測定する。
【００４８】
全ての偏向反射面の回転軸に対する倒れ角が基準値内となっていなければ（ステップＳ２０６／Ｎｏ）、ステップＳ２０２へ進んで、位相差角度の調整からやり直す。全ての偏向反射面の回転軸に対する倒れ角が基準値内であれば（ステップＳ２０６／Ｙｅｓ）、多面鏡の位置調整を完了し（ステップＳ２０７）、ミラー押さえ１０６、板ばね１０７及び止め輪１０８を用いて多面鏡１０４、１０５をフランジ１０３に固定し、回転体として一体化する（ステップＳ２０８）。
【００４９】
上記の位相差角度の調整と、偏向反射面の倒れ角の測定とを繰り返し行い、隣り合う偏向反射面の回転軸に対する倒れ角の差が６０秒以下になった段階でミラー押さえ１０６、板ばね１０７及び止め輪１０８を用いて多面鏡１０４、１０５をフランジ１０３に固定し、回転体として一体化する。以上により、すべての多面鏡で隣り合う偏向反射面の回転軸に対する倒れ角の差を６０秒以下とできる。
【００５０】
このように、上記の光偏向器の組立方法では、位置調整手段によって基準となる多面鏡１０４と他の多面鏡１０５の組み付け位置が調整され、固定されているため、多面鏡１０４、１０５を積み重ねて組み立てた時の多面鏡１０４、１０５の位置が所望の位置に固定され、所望の位置からの誤差が小さい光偏向器とすることができる。
【００５１】
また、位置調整手段が多面鏡１０４、１０５のうち多面鏡１０４の任意の偏向反射面を基準として、多面鏡１０５の回転位相差角度を検出する位相差角度検出手段と、基準となる多面鏡１０４に対して他の多面鏡１０５を回転させる多面鏡回転手段とで構成することによって、多面鏡間で偏向反射面の位置が所望の位置で揃うため、多面鏡１０４、１０５間の位相差角度の誤差が小さくなる。
【００５２】
位相差角度検出手段は、光源である半導体レーザ２０１から出力された光束を複数の多面鏡１０４、１０５に入射させるために分割するハーフミラープリズム２０３と、所定の位置に配置され、各多面鏡１０４、１０５からの反射光を検出し位置情報を出力する位置検出素子２０５、２０６とからなる非接触型の位相差角度検出手段として構成されるため、非接触で高精度に多面鏡１０４、１０５の角度位置を検出して所望の位置で固定でき、偏向反射面を傷つけることがない。
【００５３】
また、位置調整手段が多面鏡１０４、１０５のうち多面鏡１０４の任意の偏向反射面を基準として、多面鏡１０５の回転位相差角度を検出する位相差角度検出手段と、基準となる多面鏡１０４に対し他の多面鏡１０５を回転させる手段と、回転軸に対する偏向反射面の倒れ角を検出する面倒れ検出手段とから構成され、多面鏡１０４、１０５の組み付け位置を調整する工程は、少なくとも、基準となる多面鏡１０４に対して他の多面鏡１０５の回転位相差角度を回転調整する工程と、面倒れ検出手段により回転位相差角度が調整された多面鏡１０５の全ての偏向反射面の倒れ角を検出する工程と、測定された偏向反射面の倒れ角が全て基準値を満足するかを判定する工程とからなるため、多面鏡１０４、１０５を積み重ねて組み立てた場合でも、面倒れを小さく抑え、偏向反射面の回転軸に対する角度誤差を全ての多面鏡１０４、１０５で小さくできる。
【００５４】
本実施形態に係る光偏向器は、面数が同一の多面鏡１０４、１０５で、多面鏡１０４の偏向反射面を回転方向に順番にＡ１面、Ａ２面、Ａ３面、Ａ４面とし、多面鏡１０５の偏向反射面をＡ１面に近い面から回転方向に順番にＢ１面、Ｂ２面、Ｂ３面、Ｂ４面とするとき、Ａ１面の法線とＢ１面の法線とで形成される角度θ１、Ａ２面の法線とＢ２面の法線とで形成される角度θ２、Ａ３面の法線とＢ３面の法線とで形成される角度θ３、Ａ４面の法線とＢ４面の法線とで形成される角度θ４が略同一であって、その誤差が０．５°以下となっているため、積設された多面鏡１０４、１０５間の回転位相差角度のばらつきが小さく抑えられており、多面鏡１０４、１０５で必要な走査期間が確保される。
【００５５】
さらに、多面鏡１０４、１０５において、偏向反射面の回転軸に対する倒れ角は、隣り合う偏向反射面での差が全て６０秒以下となっているため、積設された多面鏡１０４、１０５の面倒れが小さく抑えられ、各多面鏡において、偏向反射面ごとの走査ビーム位置ばらつきが小さくなる。
【００５６】
なお、以上の説明においては、偏向反射面１０４ａ、１０５ａが回転方法へ４５°ずれて固定された場合を例としたが、偏向反射面のずれは４５°に限定されることはなく、任意の角度に調整可能である。例えば、位相差角度が０°、すなわち偏向反射面１０４ａ、１０５ａが回転方向にずれていない場合でも適用可能である。
【００５７】
〔第２の実施形態〕
本発明を好適に実施した第２の実施形態について説明する。
図１１に本実施形態に係る光偏向器の構成を示す。第１の実施形態に係る光偏向器と同様の構成には同じ符号を付して示し、説明を省略する。
本実施形態に係る光偏向器の回転体１２１は、軸受シャフト１０２の外周に焼き嵌めされたフランジ１０３と、フランジ１０３に積設された二つの多面鏡１２４、１２５と、ミラー押さえ１０６と、板ばね１０７と、止め輪１０８と、ロータ磁石１０９とを有する。
【００５８】
積設された二つの多面鏡１２４、１２５には、偏向反射面１２４ａ、１２５ａと、これらの面に略平行な平面が形成された四角柱状のボス部１２４ｂ、１２５ｂとが形成されている。多面鏡１２４と１２５とは同じ部品であり、ボス部１２４ｂ、１２５ｂ同士が接触する形で積み上げられ、偏向反射面１２４ａ、１２５ａが回転方向に４５°ずれて固定されている。
【００５９】
本実施形態に係る光偏向器は第１の実施形態と同様の方法によって、二つの多面鏡１２４、１２５を精度良く所定角度で位置決めされ、固定されている。
【００６０】
本実施形態においては、ボス部１２４ｂ、１２５ｂが四角柱状に形成されているため、多面鏡１２４、１２５の位置を回転調整する際に、回転トルクを与える部分、又は連れ回りを防止するために保持する部分として利用することで、小さな回転トルクや小さな保持力で多面鏡１２４、１２５を保持することが可能となる。これにより、過剰な回転トルクや保持力をボス部１２４ｂ、１２５ｂに加えることによる偏向反射面１２４ａ、１２５ａの変形を防止できる。
【００６１】
なお、ボス部１２４ｂ、１２５ｂは、必ずしも偏向反射面１２４ａ、１２５ａと略平行に設置する必要はないが、平行にすることが好ましい。
【００６２】
板ばね１０７が回転軸方向に圧縮され、弾性変形した状態で固定されることによって、多面鏡１２４、１２５にも回転軸方向に圧縮力が働くが、ボス部１２４ｂ、１２５ｂを偏向反射面１２４ａ、１２５ａと平行に形成すると、偏向反射面１２４ａ、１２５ａの光走査方向（長手方向）変形を略均一とし、偏向反射面１２４ａ、１２５ａとして必要な面精度を確保できる。
【００６３】
第１の実施形態と同様に、多面鏡１２４、１２５は、ボス部１２４ｂ、１２５ｂと一体化した基本形状を鍛造加工することによって形成すると、切削加工によって素材から多面体形状を削り出す場合と比較して、部品形状形成のコストを低減できるため好ましい。
【００６４】
なお、ここではボス部１２４ｂ、１２５ｂが形成された多面鏡１２４、１２５を例に説明したが、ボス部が形成されていない平板状の多面鏡を積設する場合でも組立可能である。
また、偏向反射面１２４ａ、１２５ａが回転方向へ４５°ずれて固定された構成をれいとして挙げたが、偏向反射面のずれは４５°に限定されることはなく、任意の角度とすることができる。さらに、偏向反射面１２４ａ、１２５ａが回転方向にずれていない構成であってもよい。
【００６５】
〔第３の実施形態〕
本発明を好適に実施した第３の実施形態について説明する。
図１２に、本実施形態に係る光走査装置の構成を示す。半導体レーザ１、１’は「一つの光源を構成する二つの発光源」であり、それぞれが１本の光ビームを発する。半導体レーザ１、１’は、ホルダ２によって所定の位置関係で保持されている。半導体レーザ１、１’から発せられた各ビームはそれぞれカップリングレッズ３、３’によって以後の光学系に適した光束形態（平行光束、弱い発散性又は収束性の光束）に変換される。この例ではカップリングレンズ３、３’によってカップリングされた光ビームは共に平行光束である。
【００６６】
カップリングレンズ３、３’から射出し、所望の光束形態となった各光ビームは、光ビーム幅を規制するアパーチャ１２の開口部を通過して「ビーム整形」された後、ハーフミラープリズム４に入射し、ハーフミラープリズム４の作用によって副走査方向に２分割されてそれぞれが２本の光ビームに分けられる。
【００６７】
図１３に、ハーフミラープリズムによって光ビームが分割される状態を示す。図の煩雑化を避けるために。半導体レーザ１から発せられた光ビームＬ１を代表して示している。図１３の上下方向が副走査方向であるが、ハーフミラープリズム４は半透鏡４ａと反射面４ｂとを副走査方向に並列して有する。光ビームＬ１は、ハーフミラープリズム４に入射すると半透鏡４ａに入射し、一部は半透鏡４ａを透過して光ビームＬ１１となり、残りは反射されて反射面４ｂに入射し、反射面４ｂで全反射されて光ビームＬ１２となる。
この例において、半透鏡４ａと反射面４ｂとは互いに平行であり、従ってハーフミラープリズム４から射出する光ビームＬ１１、Ｌ１２も互いに平行である。このようにして、半導体レーザ１からの光ビームは、二つの光ビームＬ１１、Ｌ１２として副走査方向に２分割される。半導体レーザ１’からの光ビームも同様にして２分割される。
【００６８】
このようにして、一つの光源（ｍ＝１）から２本の光ビームが発せられ、これら２本の光ビームが副走査方向に２分割（ｑ＝２）されて２ｍ×ｑ＝４本の光ビームが得られる。
【００６９】
これら４本の光ビームは、シリンドリカルレンズ５ａ、５ｂに入射し、シリンドリカルレンズ５ａ、５ｂの作用によって副走査方向に集光され、多面鏡式光偏向器７の偏向反射面近傍に「主走査方向に長い線像」として結像する。
図１２に示したように、半導体レーザ１、１’から発せられ、ハーフミラープリズム４によって分割された光ビームのうち、ハーフミラープリズム４の半透鏡４ａを直線的に透過した光ビーム（図１３に示す光ビームＬ１２）がシリンドリカルレンズ５ａに入射し、半透鏡４ａによって反射され、さらに反射面４ｂで反射された光ビーム（図１３の光ビームＬ１２）がシリンドリカルレンズ５ｂに入射する。
【００７０】
多面鏡式光偏向器７の防音ハウジングには防音ガラス６が設けられている。光源側からの４本の光ビームは防音ガラス６を介して多面鏡式光偏向器７に入射し、偏向された光ビームは防音ガラス６を介して走査結像光学系側へ射出する。
多面鏡式光偏向器７は、上ポリゴンミラー７ａ、下ポリゴンミラー７ｂを回転軸方向に上下２段に積設して一体とし、不図示のモータによって回転軸回りに回転させられる。
【００７１】
上ポリゴンミラー７ａ、下ポリゴンミラー７ｂは、この例において共に「４面の偏向反射面」を持つ同一形状のものであるが、上ポリゴンミラー７ａの偏向反射面に対し、下ポリゴンミラー７ｂの偏向反射面が、回転方向に所定角：θ（＝４５°）ずれている。
【００７２】
第１走査レンズ８ａと、第２走査レンズ１０ａと、光路折り曲げミラー９ａとは、多面鏡式光偏向器７の上ポリゴンミラー７ａにより偏向される２本の光ビーム（半導体レーザ１、１’から射出し、ハーフミラープリズム４の半透鏡４ａを透過した２本の光ビーム）を、対応する光走査位置である光導電性感光体１１ａ上に導光して、副走査方向に分離した二つの光スポットを形成する一組の走査結像光学系を構成する。
第１走査レンズ８ｂと、第２走査レンズ１０ｂと、光路折り曲げミラー９ｂとは、多面鏡式光偏向器７の下ポリゴンミラー７ｂにより偏向される２本の光ビーム（半導体レーザ１、１’から射出し、ハーフミラープリズム４の半透鏡４ａによって反射された２本の光ビーム）を、対応する光走査位置である光導電性感光体１１ｂ上に導光して、副走査方向に分離した二つの光スポットを形成する一組の走査結像光学系を構成する。
【００７３】
半導体レーザ１、１’から発せられた光ビームは、多面鏡式光偏向器７の回転軸方向から見て「偏向反射面位置の近傍において主光線が交差する」ように光学配置が定められており、従って、偏向反射面に入射してくる二つの光束の各対は光ビーム相互が「開き角（偏向反射面の側から見たとき、２本の光ビームの回転軸に直交する面への射影がなす角）」を有する。
この開き角により、多面鏡式光偏向器７の上ポリゴンミラー７ａによって偏向される二つの光ビームにより、光導電性感光体１１ａが２本の光ビームによってマルチビーム走査され、多面鏡式光偏向器７の下ポリゴンミラー７ｂによって偏向される二つの光ビームにより、光導電性感光体１１ｂが２本の光ビームによりマルチビーム走査される。
【００７４】
多面鏡式光偏向器の上ポリゴンミラー７ａと下ポリゴンミラー７ｂの偏向反射面は互いに回転方向に４５°ずれているため、上ポリゴンミラー７ａによる偏向光ビームが光導電性感光体１１ａの光走査を行うとき、下ポリゴンミラー７ｂによる偏向光ビームは、光導電性感光体１１ｂには導光されず、下ポリゴンミラー７ｂによる偏向光ビームが光導電性感光体１１ｂの光走査を行うとき、上ポリゴンミラー７ａによる偏向光ビームは、光導電性感光体１１ａには導光されない。
【００７５】
すなわち、光導電性感光体１１ａ、１１ｂの光走査は、時間的にずれて交互に行われることとなる。図１４に、光走査の状態を示す。図の煩雑化を避けるために、多面鏡式光偏向器へ入射する光ビーム（実際には４本）を入射光、偏向される光ビームを偏向光ａ、偏向光ｂとして示している。
図１４（ａ）は、入射光が多面鏡式光偏向器７に入射し、上ポリゴンミラー７ａで反射されて偏向された偏向光ａが光走査位置へ導光される時の状態を示している。このとき、下ポリゴンミラー７ｂによる偏向光ｂは光走査位置へ向かわない。図１４（ｂ）は、下ポリゴンミラー７ｂで反射されて偏向された偏向光ｂが光走査位置へ導光される時の状態を示している。このとき、上ポリゴンミラー７ａによる偏向光ａは光走査位置へは向かわない。
【００７６】
なお、一方のポリゴンミラーによる偏向光が光走査位置へ導光されている間に、他方のポリゴンミラーによる偏向光が「ゴースト光」として作用しないように、図１２に示すように遮光手段ＳＤを適宜設け、光走査位置へ導光されない方の偏向光を遮光すると良い。これは、実際には、防音ハウジングの内壁を非反射性とすることにより容易に実現できる。
【００７７】
上記のように、光導電性感光体１１ａ、１１ｂの（マルチビーム方式の）光走査は交互に行われるので、例えば、光導電性感光体１１ａの光走査が行われるときは光源の光強度を黒画像の画像信号で変調し、光導電性感光体１１ｂの光走査が行われるときは光源の光強度をマゼンタ画像の画像信号で変調すれば、光導電性感光体１１ａには黒画像の静電潜像を、光導電性感光体１１ｂにはマゼンタ画像の静電潜像を書き込むことができる。
【００７８】
図１５は、共通の光源（半導体レーザ１、１’）によって黒画像とマゼンタ画像とを書き込みを行う場合において、有効走査領域において全点灯する場合のタイムチャートである。実線は黒画像の書き込みに相当する部分、破線はマゼンタ画像の書き込みに相当する部分を示す。黒画像、マゼンタ画像の書き出しタイミングは、上記のごとく有効走査領域外に配置される同期受光手段（図１２では不図示。一般的にはフォトダイオード。）で光走査位置へ向かう光ビームを検知することによって決定される。
【００７９】
なお、本実施形態においては、多面鏡式光偏向器７として、第１の又は第２の実施形態にかかる動圧軸受ユニットを用いた光偏向器が適用される。これにより、多面鏡の角偏向反射面の光走査が均一で高精度であり、また、光源部の部品点数、材料が削減され、環境負荷が低減され、光源の故障確率も低く抑えたマルチビーム光走査装置を実現できる。
【００８０】
〔第４の実施形態〕
本発明を好適に実施した第４の実施形態について説明する。
図１６、図１７に、本実施形態にかかる画像形成装置の構成を示す。
図１６は、光走査装置の光学系部分を副走査方向（すなわち、多面鏡式光偏向器７の回転軸方向）から見た状態を示す図である。煩雑化を避けるため、多面鏡式光偏向器７から光走査位置に至る光路上の光路屈曲用のミラーの図示を省略し、光路が直線となるように描いている。
【００８１】
この光走査装置は、ｍ＝ｑ＝２、ｐ＝１、ｎ＝４の場合であり（ｍ：光源数、ｑ：分割数、ｐ：光ビーム数、ｎ：光走査位置）、四つの光走査位置をそれぞれ１本の光ビームで光走査する。また、光走査位置１１Ｙ〜１１Ｋの個々には、光導電性感光体が一つずつ配置されており、これら４個の光導電性感光体に形成される静電潜像をマゼンタ、イエロー、シアン、黒のトナーで個別に可視化し、カラー画像を形成する。
【００８２】
半導体レーザ１ＹＭ、１ＣＫは、それぞれが１本の光ビームを発する。半導体レーザ１ＹＭの発光強度は、イエロー画像に対応する画像信号とマゼンタ画像に対応する画像信号とで交互に変調される。一方、半導体レーザ１ＣＫの発光強度は、シアン画像に対応する画像信号と黒画像に対応する画像信号とで交互に変調される。
【００８３】
半導体レーザ１ＹＭから発せられた光ビームは、カップリングレンズ３ＹＭによって平行光束化され、アパーチャ１２ＹＭを通過してビーム整形されたのち、ハーフミラープリズム４ＹＭに入射して、副走査方向に分離した２本の光ビームに分割される。ハーフミラープリズム４ＹＭは、図１２に示したハーフミラープリズム４と同様のものである。分割された光ビームの一方はイエロー画像を書き込むのに使用され、他方はマゼンタ画像を書き込むのに使用される。
【００８４】
副走査方向に分割された２本の光ビームは、副走査方向に配列されたシリンドリカルレンズ５Ｙ、５Ｍ（副走査方向に重なり合うように配置されている）により、それぞれ副走査方向へ集光され、多面鏡式光偏向器７へ入射する。多面鏡式光偏向器７は、４面の偏向反射面を持つポリゴンミラーを回転軸方向に２段に積設し、ポリゴンミラー相互の偏向反射面を回転方向にずらして一体化した構成である。シリンドリカルレンズ５Ｙ、５Ｍによる主走査方向に長い線像は、各ポリゴンミラーの偏向反射面位置近傍に結像する。
【００８５】
多面鏡式光偏向器７によって偏向される光ビームは、それぞれ第１走査レンズ８Ｙ、８Ｍ、第２走査レンズ１０Ｙ、１０Ｍを透過し、これらのレンズの作用により光走査位置１１Ｙ、１１Ｍに光スポットを形成し、これらの光走査位置を光走査する。
【００８６】
同様に、半導体レーザ１ＣＫから発せられた光ビームは、カップリングレンズ３ＣＫによって平行光束化され、アパーチャ１２ＣＫを通過してビーム整形されたのち、ハーフミラープリズム４ＣＫによって副走査方向に分離した２本の光ビームに分割される。ハーフミラープリズム４ＣＫはハーフミラープリズム４ＹＭと同様のものである。分割された光ビームの一方はシアン画像を書き込むのに使用され、他方は黒画像を書き込むのに使用される。
【００８７】
副走査方向に分割された２本の光ビームは、副走査方向に配列されたシリンドリカルレンズ５Ｃ、５Ｋ（副走査方向に重なり合うように配置されている）により、それぞれ副走査方向へ集光され、多面鏡式光偏向器７へ入射して偏向され、それぞれ第１走査レンズ８Ｃ、８Ｋ、第２走査レンズ１０Ｃ、１０Ｋを透過し、これらのレンズの作用により光走査位置１１Ｃ、１１Ｋに光スポットを形成し、これらの光走査位置を光走査する。
【００８８】
図１７に示すように、多面鏡式光偏向器７の上段のポリゴンミラーにより偏向される光ビームのうち一方は、光路折り曲げミラーｍＭ１、ｍＭ２、ｍＭ３によって屈曲された光路により、光走査位置１１Ｍの実体をなす光導電性感光体へ導光され、他方の光ビームは、光路折り曲げミラーｍＣ１、ｍＣ２、ｍＣ３によって屈曲された光路により光走査位置１１Ｃの実体をなす光導電性感光体へ導光される。
【００８９】
また、多面鏡式光偏向器７の下段のポリゴンミラーにより偏向される光ビームのうち一方は、光路折り曲げミラーｍＹによって屈曲された光路により、光走査位置１１Ｙの実体をなす光導電性感光体へ導光され、他方のビームは、光路折り曲げミラーｍＫによって屈曲された光路により光走査位置１１Ｋの実体をなす光導電性感光体へ導光される。
【００９０】
したがって、ｍ＝２個の半導体レーザ１ＹＭ、１ＣＫからの光ビームがそれぞれハーフミラープリズム４ＹＭ、４ＣＫで２本の光ビームに分割されて４本の光ビームとなり、これら４本の光ビームにより４個の光走査位置１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋの実体をなす光導電性感光体が光走査される。光走査位置１１Ｙ及び１１Ｍは、半導体レーザ１ＹＭからの光ビームを２分割した各光ビームにより、多面鏡式光偏向器７の回転に伴い交互に光走査され、光走査位置１１Ｃ及び１１Ｋは、半導体レーザ１ＣＫからの光ビームを２分割した各光ビームにより、多面鏡式光偏向器７の回転に伴い交互に光走査される。
【００９１】
光走査位置１１Ｙ〜１１Ｋの実体をなす光導電性感光体は、いずれも時計回りに等速回転され、帯電手段をなす帯電ローラＴＹ、ＴＭ、ＴＣ、ＴＫによって均一帯電され、それぞれ対応する光ビームの光走査を受けてイエロー、マゼンタ、シアン、黒の各色画像が書き込まれ、対応する静電潜像（ネガ潜像）が形成される。
【００９２】
これらの静電潜像は、それぞれ現像装置ＧＹ、ＧＭ、ＧＣ、ＧＫによって反転現像され、光走査位置１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋの実体をなす各光導電性感光体上にそれぞれイエロートナー画像、マゼンタトナー画像、シアントナー画像、黒トナー画像が形成される。
【００９３】
これら各色トナー画像は、不図示の転写シート上に転写される。すなわち、転写シートは搬送ベルト１７によって搬送され、転写器１５Ｙによって光導電性感光体１１Ｙ上からイエロートナー画像が転写され、転写器１５Ｍ、１５Ｃ、１５Ｋによってそれぞれ光導電性感光体１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋからマゼンタトナー画像、シアントナー画像、黒トナー画像が順次転写される。このようにしてイエロートナー画像〜黒トナー画像が重ね合わされてカラー画像が合成される。このカラー画像が定着装置１９によって転写シート上に定着させられることでカラー画像が得られる。
【００９４】
すなわち、複数の光導電性感光体に光走査により個別的に静電潜像を形成し、これら静電潜像を可視化してトナー画像とし、得られるトナー画像を同一のシート状記録媒体上に転写して合成的に画像形成を行うタンデム式の画像形成装置において、光導電性感光体の数が４であり、光走査装置として２個の光源１ＹＭ、１ＣＫを用いて各光源からの光ビームがそれぞれ２個の光導電性感光体を光走査するように構成され、４個の光走査位置１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋの実体をなす光導電性感光体に形成される静電潜像をイエロー、マゼンタ、シアン、黒のトナーで個別に可視化し、カラー画像を形成する。
【００９５】
光走査装置には、多面鏡式光偏向器７として、上記第１〜第３の実施形態と同様の光偏向器が用いられる。
【００９６】
なお、ここでは、各光導電性感光体の光走査をシングルビーム方式で行っているが、各光源側を図１２のような構成とすれば、光導電性感光体の光走査をマルチビーム方式で行えることはいうまでもない。
【００９７】
なお、上記各実施形態は本発明の好適な実施の一例であり、本発明はこれに限定されることはなく、様々な変形が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００９８】
【図１】本発明を好適に実施した第１の実施形態に係る光偏向器の構成を示す断面図である。
【図２】第１の実施形態に係る光偏向器に適用される回転体の構成を示す斜視図である。
【図３】多面鏡の位相差角度調整装置の要部の構成を示す図である。
【図４】ハーフミラープリズムの作用によって光ビームが分割される状態を示す図である。
【図５】二つの位置検出素子が略９０°の位置に配置をされた状態を示す図である。
【図６】積設された多面鏡の位相差角度の調整方法の流れを示す図である。
【図７】積設された多面鏡の位相差角度を示す図である。
【図８】一次元ＰＳＤの構造及び光受光面の形状を示す図である。
【図９】積設された多面鏡の偏向反射面の倒れの調整方法の流れを示す図である。
【図１０】二次元ＰＳＤの構造及び光受光面の形状を示す図である。
【図１１】本発明を好適に実施した第２の実施形態に係る光偏向器に適用される回転体の構成を示す図である。
【図１２】本発明を好適に実施した第３の実施形態に係る光走査装置の構成を示す図である。
【図１３】ハーフミラープリズムによって光ビームが分割される状態を示す図である。
【図１４】光偏向器で反射される二つの偏向光の方向の関係を示す図である。
【図１５】光走査装置における光ビームの走査タイミングを示す図である。
【図１６】本発明を好適に実施した第４の実施形態に係る画像形成装置に用いられる光走査装置の構成を示す図である。
【図１７】第４の実施形態に係る画像形成装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００９９】
１、１’、１ＹＭ、１ＣＫ、２０１    半導体レーザ
２    ホルダ
３、３’、３ＹＭ、３ＣＫ、２０２    カップリングレンズ
４、４ＹＭ、４ＣＫ、２０３    ハーフミラープリズム
４ａ、２０３ａ    半透鏡
４ｂ、２０３ｂ    反射面
５ａ、５ｂ、５Ｙ、５Ｍ、５Ｃ、５Ｋ、２０４ａ、２０４ｂ    シリンドリカルレンズ
６  防音ガラス
７    多面鏡式光偏向器
７ａ    上ポリゴンミラー
７ｂ    下ポリゴンミラー
８ａ、８ｂ、８Ｙ、８Ｍ、８Ｃ、８Ｋ    第１走査レンズ
９ａ、９ｂ、ｍＭ１、ｍＭ２、ｍＭ３、ｍＣ１、ｍＣ２、ｍＣ３、ｍＹ、ｍＫ    光路折り曲げミラー
１０ａ、１０ｂ、１０Ｙ、１０Ｍ、１０Ｃ、１０Ｋ    第２走査レンズ
１１ａ、１１ｂ    光導電性感光体
１１Ｙ、１１Ｍ、１１Ｃ、１１Ｋ    光走査位置
１５Ｙ、１５Ｍ、１５Ｃ、１５Ｋ    転写器
１７    搬送ベルト
１９    定着装置
１０１    回転体
１０２    軸受シャフト
１０２ａ    凸曲面
１０３    フランジ
１０４、１０５    多面鏡
１０４ａ、１０４ｂ、１０５ａ、１０５ｂ    偏向反射面
１０６    ミラー押さえ
１０７    板ばね
１０８    止め輪
１０９    ロータ磁石
１１０    固定スリーブ
１１１    軸受ハウジング
１１２    ステータコア
１１２ａ    巻線コイル
１１３    スラスト受部材
１１４    流体シール
１１５    回路基板
１１６    ホール素子
１１７    駆動ＩＣ
１１８    コネクタ
２０５、２０６    位置検出素子
ＴＹ、ＴＭ、ＴＣ、ＴＫ    帯電ローラ
ＧＹ、ＧＭ、ＧＣ、ＧＫ    現像装置
【図１】
0005181590.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0005181590.tif 000008
【図８】
0005181590.tif 000009
【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
0005181590.tif 000014
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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