(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）（メタ）アクリルポリマー、（ｃ）一般式（１）で表されるキノンジアジド化合物および（ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
【化１】
0005181968.tif 000015
（式中、Ｒ１は水素、または炭素数１〜８から選ばれるアルキル基を示す。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は水素原子、炭素数１〜８から選ばれるアルキル基、アルコキシル基、カルボキシル基、エステル基のいずれかを示す。各Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は同じであっても異なっていても良い。Ｑは５―ナフトキノンジアジドスルホニル基、水素原子のいずれかを表し、Ｑの全てが水素原子になることはない。ａ、ｂ、ｃ、α、βは０〜４の整数を表す。ただし、α＋β≧３である。）
【請求項２】
（ａ）ポリシロキサンと（ｂ）（メタ）アクリルポリマーの重量比が２０／８０〜８０／２０であることを特徴とする請求項１記載のポジ型感光性組成物。
【請求項３】
（ａ）ポリシロキサンがエチレン性不飽和基を有するポリシロキサンであることを特徴とする請求項１あるいは２記載の感光性組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のポジ型感光性組成物を用いて、パターン形成するときの現像液が、０．２〜０．８ｗｔ％テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液であることを特徴とする硬化膜の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載のポジ型感光性組成物から形成された硬化膜。
【請求項６】
請求項５記載の硬化膜を具備する素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示素子や有機ＥＬ表示素子などの薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）基板用平坦化膜、半導体素子の層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材を形成するための感光性組成物、それから形成された硬化膜、およびその硬化膜を有する素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどにおいて、さらなる高精細、高解像度を実現する方法として、表示装置の開口率を上げる方法が知られている（特許文献１参照）。これは、透明な平坦化膜をＴＦＴ基板の上部に保護膜として設けることによって、データラインと画素電極をオーバーラップさせることを可能とし、従来技術に比べて開口率を上げる方法である。
【０００３】
このようなＴＦＴ基板用平坦化膜の材料としては、高耐熱性、高透明性の特性を有し、かつポジ型の感光性を有する材料が必要である。さらに、硬化膜においては優れたアルカリ耐性が求められている。代表的な材料としては、アクリル樹脂にキノンジアジド化合物を組み合わせた材料（特許文献２、３参照）が知られているが、これらの材料は耐熱性が不十分であり、基板の高温処理により硬化膜が強く着色する問題がある。
【０００４】
高耐熱性を有する材料としてはポリイミドが知られており、これを用いたポジ型材料も知られている（特許文献４）。しかしながら、これらの材料は初期の透過率が十分ではなかった。
【０００５】
また、高耐熱性、高透明性の特性を有する別の材料としては、ポリシロキサンが知られており、これにポジ型の感光性を付与するためにキノンジアジド化合物を組み合わせた材料（特許文献５参照）が知られている。これらの材料は透明性が高く、基板の高温処理によっても透明性は低下すること無く、高透明の硬化膜を得ることができる。またポリシロキサンと（メタ）アクリルポリマーを併用することにより、アクリル樹脂を用いる材料より高耐熱性、高透明性であり、シロキサン樹脂を用いるより高感度である。また（メタ）アクリルポリマーがカルボン酸を含有する場合は、０．２〜０．８ｗｔ％テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド（ＴＭＡＨ）水溶液等の低濃度の現像液にも可溶で、かつ良好なパターン形成が可能な材料が得られることを見いだしている。
【０００６】
ところで、近年液晶ディスプレイの製造に用いるガラス基板の大型化に伴い、透明ポジ型感光性組成物の高感度化が求められている。しかしながら特に低濃度の現像液では高感度化が困難であった。
【０００７】
また、これまでにも特定の構造を持つキノンジアジド化合物を含有するポジ型感光性組成物が報告されているが（特許文献６）、これらの多くはキノンジアジドの耐熱性あるいは溶媒への溶解性改善を目的として検討されている。
【特許文献１】特開平９−１５２６２５号公報（請求項１）
【特許文献２】特開２００１−２８１８５３号公報（請求項１）
【特許文献３】特開２００１−２８１８６１号公報（請求項１）
【特許文献４】特開２００１−５１７９号公報（請求項１〜５）
【特許文献５】特開２００６−１７８４３６号公報（請求項１）
【特許文献６】特開２００４−１１７９９９号公報（請求項１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上述のような事情に基づいてなされたものであり、高耐熱性、高透明性の特性を有し、低濃度の現像液を用いても感度良好であり、かつ硬化膜において優れたアルカリ耐性を有するポジ型感光性組成物を提供するものである。
【０００９】
また、本発明の別の目的は、上記の感光性組成物から形成されたＴＦＴ基板用平坦化膜、層間絶縁膜、コアやクラッド材などの硬化膜、およびその硬化膜を有する表示素子、半導体素子、光導波路などの素子を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
すなわち本発明は、（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）（メタ）アクリルポリマー、（ｃ）一般式（１）で表されるキノンジアジド化合物および（ｄ）溶剤を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物である。
【００１１】
【化１】
0005181968.tif 000002
【００１２】
（式中、Ｒ１は水素、または炭素数１〜８から選ばれるアルキル基を示す。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は水素原子、炭素数１〜８から選ばれるアルキル基、アルコキシル基、カルボキシル基、エステル基のいずれかを示す。各Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は同じであっても異なっていても良い。Ｑは５―ナフトキノンジアジドスルホニル基、水素原子のいずれかを表し、Ｑの全てが水素原子になることはない。ａ、ｂ、ｃ、α、βは０〜４の整数を表す。ただし、α＋β≧３である。）
【発明の効果】
【００１３】
本発明のポジ型感光性組成物によれば、低濃度の現像液を用いても高感度でパターン加工が可能であり、かつ高耐熱性、高透明性を有する硬化膜を得ることができる。また、得られた硬化膜は、優れたアルカリ耐性を有し、ＴＦＴ基板用平坦化膜や層間絶縁膜として好適に用いることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明は、（ａ）ポリシロキサン、（ｂ）（メタ）アクリルポリマー、（ｃ）一般式（１）で表されるキノンジアジド化合物および（ｄ）溶剤を含有するポジ型感光性組成物である。
【００１５】
【化２】
0005181968.tif 000003
【００１６】
（式中、Ｒ１は水素、または炭素数１〜８から選ばれるアルキル基を示す。Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は水素原子、炭素数１〜８から選ばれるアルキル基、アルコキシル基、カルボキシル基、エステル基のいずれかを示す。各Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は同じであっても異なっていても良い。Ｑは５―ナフトキノンジアジドスルホニル基、水素原子のいずれかを表し、Ｑの全てが水素原子になることはない。ａ、ｂ、ｃ、α、βは０〜４の整数を表す。ただし、α＋β≧３である。）
キノンジアジド化合物を含有する感光性組成物は、露光部が現像液で除去されるポジ型を形成する。本発明で用いられるキノンジアジド化合物としては、一般式（１）で表される構造を有することが望ましい。このような剛直かつ非対称な骨格を有するキノンジアジド化合物を用いることで、キノンジアジドとポリシロキサンが持つシラノール基が相互作用することによる溶解抑制効果を低減することができる。
【００１７】
この結果、０．２〜０．８ｗｔ％ＴＭＡＨ水溶液等の低濃度な現像液を使用する場合において、一般式（１）で表される構造を持つキノンジアジド化合物を用いることによる高感度化の効果が高くなる。特に０．２〜０．５ｗｔ％ＴＭＡＨ水溶液を使用する場合は高感度化の効果がより高い。
【００１８】
一般式（１）において、Ｒ１は水素原子、炭素数１〜８までのアルキル基を表している。炭素数が８より大きいと疎水性が大きくなり過ぎて露光部のアルカリ現像液に対する溶解性が低下し、感度低下を招く恐れがある。このような点からＲ１は水素原子または炭素数１〜３までのアルキル基であることが望ましい。
【００１９】
一般式（１）においてＲ２、Ｒ３、Ｒ４は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、アルコキシル基、カルボキシル基、エステル基のいずれかを表しており、各Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は同じでも異なっていてもよい。炭素数が８より大きいと疎水性が大きくなり過ぎて露光部のアルカリ現像液に対する溶解性が低下し、感度低下を招く恐れがある。このような点からＲ２、Ｒ３、Ｒ４は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、アルコキシル基、カルボキシル基、エステル基のいずれかであることが望ましい。ａ、ｂ、ｃ、α、βは０〜４までの整数を示す。ただし、α＋β≧３である。α＋βが１または２の場合、ポリシロキサンとの相互作用が効果的に起こらないため、露光部と未露光部の溶解速度差がつかず感度低下をもたらす可能性がある。
【００２０】
一般式（１）で表される（ｃ）キノンジアジド化合物の例として、下記に示すものを挙げることができるがこれらに限られるわけではない。
【００２１】
【化３】
0005181968.tif 000004
【００２２】
一般式（１）において、Ｑは５−ナフトキノンジアジドスルホニル基、水素原子のいずれかを表している。本発明ではＱの全てが水素原子になることはない。
【００２３】
キノンジアジド化合物の添加量は特に制限されないが、好ましくは樹脂（ポリシロキサン＋（メタ）アクリルポリマー）１００重量部に対して６〜２５重量部であり、さらに好ましくは８〜１８重量部である。キノンジアジド化合物の添加量が６重量部より少ない場合、未露光部の残膜率が低くなる。一方、キノンジアジド化合物の添加量が２５重量部より多い場合、硬化膜の光透過率が低下する。
【００２４】
本発明の感光性組成物は、（ａ）ポリシロキサンを含有する。ポリシロキサンの構造は特に制限されないが、好ましい態様としては、一般式（２）で表されるオルガノシランの１種以上を混合、反応させることによって得られるポリシロキサンが挙げられる。    
【化４】
0005181968.tif 000005
【００２５】
Ｒ５は水素、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数６〜１５のアリール基のいずれかを表し、複数のＲ５はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。Ｒ６は水素、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアシル基、炭素数６〜１５のアリール基のいずれかを表し、複数のＲ５はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。ｍは０から３の整数を表す。
【００２６】
一般式（２）のＲ５で挙げられたアルキル基、アルケニル基、アリール基はいずれも置換基を有していてもよく、また置換基を有していない無置換体であってもよく、組成物の特性に応じて選択できる。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−デシル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、３−グリシドキシプロピル基、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基、３−アミノプロピル基、３−メルカプトプロピル基、３−イソシアネートプロピル基が挙げられる。アルケニル基の具体例としては、ビニル基、３−アクリロキシプロピル基、３−メタクリロキシプロピル基が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基、トリル基、ｐ−ヒドロキシフェニル基、１−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチル基、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチル基、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチル基、ナフチル基が挙げられる。
【００２７】
一般式（２）のＲ６で挙げられたアルキル基、アシル基はいずれも置換基を有していてもよく、また置換基を有していない無置換体であってもよく、組成物の特性に応じて選択できる。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基が挙げられる。アシル基の具体例としては、アセチル基が挙げられる。アリール基の具体例としては、フェニル基が挙げられる。
【００２８】
一般式（２）のｍは０から３の整数を表す。ｍ＝０の場合は４官能性シラン、ｍ＝１の場合は３官能性シラン、ｍ＝２の場合は２官能性シラン、ｎ＝３の場合は１官能性シランである。
【００２９】
一般式（２）で表されるオルガノシランの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラフェノキシシランなどの４官能性シラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリｎ−ブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリｎ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ｐ−ヒドロキシフェニルトリメトキシシラン、１−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチルトリメトキシシラン、２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）エチルトリメトキシシラン、４−ヒドロキシ−５−（ｐ−ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどの３官能性シラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジｎ−ブチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシランなどの２官能性シラン、トリメチルメトキシシラン、トリｎ−ブチルエトキシシランなどの１官能性シランが挙げられる。
【００３０】
これらのオルガノシランのうち、硬化膜の耐クラック性と硬度の点から３官能性シランが好ましく用いられる。また、これらのオルガノシランは単独で使用しても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００３１】
硬化膜形成後のアルカリ耐性を向上させるために本発明の（ａ）ポリシロキサンはエポキシ基を含有することが好ましく、ポリシロキサン合成に使用される、一般式（２）で表されるオルガノシランの少なくとも１つが３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランのいずれかであることが好ましい。さらに硬化膜形成後のアルカリ耐性を向上するために、（ａ）ポリシロキサンはエチレン性不飽和基を含有することが好ましい。特に、ポリシロキサン合成に使用される、一般式（２）で表されるオルガノシランの少なくとも１つがビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランのいずれかであることが好ましい。さらに好ましくは、ポリシロキサン中にあるエチレン性不飽和基の含有率はＳｉ原子に対して５〜４５モル％であることが好ましい。エチレン性不飽和基の含有率が５０モル％より大きいと現像時の抜きパターンに残渣が発生しやすくなり、エチレン性不飽和基が５モル％より小さいと十分なアルカリ耐性が得られない。
【００３２】
また、ポリシロキサン中において、膜の耐クラック性と硬度を両立させる点から、ポリシロキサン中にあるフェニル基の含有率はＳｉ原子に対して２０〜７０モル％が好ましく、さらに好ましくは４０〜６０モル％である。フェニル基の含有率が７０モル％より多いと硬度が低下し、フェニル基含有率が２０モル％より少ないと耐クラック性が低下する。フェニル基の含有率は、例えば、ポリシロキサンの２９Ｓｉ−核磁気共鳴スペクトルを測定し、そのフェニル基が結合したＳｉのピーク面積とフェニル基が結合していないＳｉのピーク面積の比から求めることができる。
【００３３】
また、本発明で用いるポリシロキサンの重量平均分子量（Ｍｗ）は特に制限されないが、好ましくはＧＰＣ（ゲルパーミネーションクロマトグラフィー）で測定されるポリスチレン換算で１０００〜１０００００、さらに好ましくは２０００〜５００００である。Ｍｗが１０００より小さいと塗膜性が悪くなり、１０００００より大きいとパターン形成時の現像液への溶解性が悪くなる。
【００３４】
本発明におけるポリシロキサンは、上述のオルガノシランを加水分解および部分縮合させることにより得られる。加水分解および部分縮合には一般的な方法を用いることができる。例えば、混合物に溶媒、水、必要に応じて触媒を添加し、加熱攪拌する。攪拌中、必要に応じて蒸留によって加水分解副生物（メタノールなどのアルコール）や縮合副生成物（水）を留去してもよい。
【００３５】
上記の反応溶媒としては特に制限は無いが、通常は後述する（ｄ）溶剤と同様のものが用いられる。溶媒の添加量はオルガノシランもしくはオルガノシランとシリカ粒子の合計量１００重量％に対して１０〜１０００重量％が好ましい。また加水分解反応に用いる水の添加量は、加水分解性基１モルに対して０．５〜２モルが好ましい。
【００３６】
必要に応じて添加される触媒に特に制限はないが、酸触媒、塩基触媒が好ましく用いられる。酸触媒の具体例としては塩酸、硝酸、硫酸、フッ酸、リン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、多価カルボン酸あるいはその無水物、イオン交換樹脂が挙げられる。塩基触媒の具体例としては、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アミノ基を有するアルコキシシラン、イオン交換樹脂が挙げられる。触媒の添加量はオルガノシラン１００重量％に対して０．０１〜１０重量％が好ましい。
【００３７】
また、塗膜性、貯蔵安定性の点から、加水分解、部分縮合後のポリシロキサン溶液には副生成物のアルコールや水、触媒が含まれないことが好ましい。必要に応じてこれらの除去を行ってもよい。除去方法は特に制限されない。好ましくはアルコールや水の除去方法としては、ポリシロキサン溶液を適当な疎水性溶剤で希釈した後、水で数回洗浄して得られた有機層をエバポレーターで濃縮する方法を用いることができる。また、触媒の除去方法としては、上記の水洗浄に加えてあるいは単独でイオン交換樹脂で処理する方法を用いることができる。
【００３８】
本発明のポジ型感光性組成物は（ｂ）（メタ）アクリルポリマーを含有する。ポリシロキサンと（メタ）アクリルポリマーを併用することにより、（メタ）アクリルポリマーを用いる材料より高耐熱性、高透明性であり、ポリシロキサンを用いる材料より高感度なバランスのとれた材料が得られる。さらに、（メタ）アクリルポリマーがカルボキシル基含有することにより、０．２〜０．８ｗｔ％ＴＭＡＨ水溶液などの低濃度現像液に可溶なポジ型感光性組成物を得ることができる。カルボキシル基を有する（メタ）アクリルポリマーは不飽和カルボン酸を重合することにより得られる。
【００３９】
不飽和カルボン酸の例としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、あるいは酸無水物などがあげられる。これらは単独で用いても良いが、他の共重合可能なエチレン性不飽和化合物と組み合わせて用いても良い。共重合可能なエチレン性不飽和化合物としては、具体的には、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−プロピル、アクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎープロピル、メタクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、メタクリル酸ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸イソ−ブチル、メタクリル酸イソ−ブチル、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、メタクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル、アクリル酸ｎ−ペンチル、メタクリル酸ｎ−ペンチル、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレートなどの不飽和カルボン酸アルキルエステル、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル化合物、アミノエチルアクリレートなどの不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレートなどの不飽和カルボン酸グリシジルエステル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどのカルボン酸ビニルエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、α−クロルアクリロニトリルなどのシアン化ビニル化合物、１，３−ブタジエン、イソプレンなどの脂肪族共役ジエン、それぞれ末端にアクリロイル基、あるいはメタクリロイル基を有するポリスチレン、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリシリコーンなどのマクロモノマなどがあげられるが、これらに限定されるものではない。
【００４０】
（ｂ）（メタ）アクリルポリマーの分子量に特に制限はないが、重量平均分子量（Ｍｗ）は５０００〜４００００が好ましく、７０００〜２００００がより好ましい。分子量が５０００以下であるとパターン形成に支障をきたし、分子量が４００００以上になるとパターニング時に露光部での残査残りが発生しやすくなる。さらに（メタ）アクリルポリマーの樹脂酸価は５０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、７０〜１３０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。樹脂酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であると低濃度現像液での感度が低下してしまい、１３０ｍｇＫＯＨ／ｇより大きいと現像時に未露光部の残膜率が小さくなる。
【００４１】
またカルボキシル基含有の（メタ）アクリルポリマーはエチレン性不飽和基を有してもよい。エチレン性不飽和基にはビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基等がある。このような側鎖をアクリル系（共）重合体に付加させる方法としては、アクリル系（共）重合体のカルボン酸基にグリシジル基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸またはメタクリル酸クロライドを付加反応させる方法が一般的である。その他、イソシアネートを利用してエチレン性不飽和基を有する化合物を付加させることもできる。ここでいうグリシジル基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸またはメタクリル酸クロライドとしては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロトン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエーテル、アクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドなどが挙げられる。
【００４２】
（ａ）ポリシロキサンと（ｂ）（メタ）アクリルポリマーの含有比は、重量比で２０／８０〜８０／２０であることが好ましい。ポリシロキサンの含有比が２０より小さいと、硬化膜の透過率の向上が十分でない。またポリシロキサンの含有比が８０より大きいと、高感度化が十分でない。
【００４３】
本発明のポジ型感光性組成物は（ｄ）溶剤を含有する。溶剤は特に制限されないが、好ましくはアルコール性水酸基を有する化合物が用いられる。溶剤としてアルコール性水酸基を有する化合物を用いると、ポリシロキサンとキノンジアジド化合物とが均一に溶解し、組成物を塗布製膜しても膜は白化することなく、高透明性が達成できる。
【００４４】
アルコール性水酸基を有する化合物は特に制限されないが、好ましくは大気圧下の沸点が１００〜２５０℃である化合物である。沸点が２５０℃より高いと膜中の残存溶剤量が多くなり熱硬化時の膜収縮が大きくなり、良好な平坦性が得られなくなる。一方、沸点が１００℃より低いと、塗膜時の乾燥が速すぎて膜表面が荒れるなど塗膜性が悪くなる。
【００４５】
アルコール性水酸基を有する化合物の具体例としては、アセトール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン、４−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン、５−ヒドロキシ−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン（ジアセトンアルコール）、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｔ−ブチルエーテル、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メチル−３−メトキシ−１−ブタノールが挙げられる。これらの中でも、さらにカルボニル基を有する化合物が好ましく、特にジアセトンアルコールが好ましく用いられる。これらのアルコール性水酸基を有する化合物は、単独、あるいは２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００４６】
また、本発明のポジ型感光性組成物は、本発明の効果を損なわない限り、その他の溶剤を含有してもよい。その他の溶剤としては、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシ−１−ブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシ−１−ブチルアセテートなどのエステル類、メチルイソブチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトンなどのケトン類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジｎ−ブチルエーテル、ジフェニルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類が挙げられる。
【００４７】
本発明のポジ型感光性組成物を用いた硬化膜の形成方法について説明する。本発明のポジ型感光性組成物をスピンナー、ディッピング、スリットなどの公知の方法によってガラス基板上に塗布し、ホットプレート、オーブンなどの加熱装置でプリベークする。プリベークは、５０〜１５０℃の範囲で３０秒〜３０分間行い、プリベーク後の膜厚は、０．１〜１５μｍとするのが好ましい。
【００４８】
プリベーク後、ステッパー、ミラープロジェクションマスクアライナー（ＭＰＡ）、パラレルライトマスクアライナー（ＰＬＡ）などの紫外可視露光機を用い、１０〜２００ｍＪ／ｃｍ２（波長３６５ｎｍ露光量換算）を所望のマスクを介してパターニング露光する。
【００４９】
パターニング露光後、現像により露光部が溶解し、パターンを得ることができる。現像方法としては、シャワー、ディッピング、パドルなどの方法で現像液に５秒〜１０分間浸漬することが好ましい。現像液としては、公知のアルカリ現像液を用いることができる。具体的例としてはアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩、リン酸塩、ケイ酸塩、ホウ酸塩などの無機アルカリ、２−ジエチルアミノエタノール、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン等のアミン類、ＴＭＡＨ、コリン等の４級アンモニウム塩を１種あるいは２種以上含む水溶液等が挙げられる。中でも金属イオンの混入の心配がない有機アルカリであり、かつ強アルカリであるＴＭＡＨ水溶液が好ましく使用される。ＴＭＡＨ水溶液は一般的にフェノール性水酸基やシラノール基、カルボキシル基のアルカリへの溶解性の観点から０．２０〜２．３８ｗｔ％の濃度で好ましく使用されている。その中でもコスト面、安全性の観点から低濃度アルカリ現像液で現像できる材料も求められており、より好ましくは０．２０〜０．８０ｗｔ％、さらに好ましくは０．２０〜０．５０ｗｔ％ＴＭＡＨ水溶液がより好ましく使用される。
現像後、水でリンスすることが好ましく、つづいて５０〜１５０℃の範囲で乾燥ベークを行うこともできる。
【００５０】
その後、ブリーチング露光を行うことが好ましい。ブリーチング露光を行うことによって、膜中に残存する未反応のキノンジアジド化合物が光分解して、膜の光透明性がさらに向上する。ブリーチング露光の方法としては、ＰＬＡなどの紫外可視露光機を用い、１００〜４００ｍＪ／ｃｍ２程度（波長３６５ｎｍ露光量換算）を全面に露光する。
【００５１】
次いで、この膜をホットプレート、オーブンなどの加熱装置で１５０〜３００℃の範囲で１時間程度熱硬化する。解像度は、好ましくは１０μｍ以下である。
【００５２】
また、本発明のポジ型感光性組成物は、ＰＬＡによるパターンニング露光での感度は１５０ｍＪ／ｃｍ２以下であることが好ましく、８０ｍＪ／ｃｍ２以下であることがより好ましい。感度が１５０ｍＪ／ｃｍ２以上必要であると、パターン形成時の放射線露光時間が長くなるために生産性が低下する。
【００５３】
前記のＰＬＡによるパターニング露光での感度は、以下の方法により求められる。組成物をガラス上にスピンコーターを用いて任意の回転数でスピンコートし、ホットプレートを用いて１００℃で２分間プリベークし、膜厚３μｍの膜を作製する。作製した膜をＰＬＡ（キヤノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ）を用いて、超高圧水銀灯を感度測定用のグレースケールマスクを介して露光した後、自動現像装置（滝沢産業（株）製ＡＤ−２０００）を用いて任意濃度のＴＭＡＨ水溶液で８０秒間シャワー現像し、次いで水で３０秒間リンスする。形成されたパターンにおいて、１０μｍのラインアンドスペースパターンを１対１の幅で解像する露光量を感度として求める。
【００５４】
本発明のポジ型感光性組成物は、波長４００ｎｍでの膜厚２μｍあたりの透過率が９０％以上である硬化膜が形成可能であり、さらに好ましくは９５％以上を有する。光透過率が９０％より低いと、液晶表示素子のＴＦＴ基板用平坦化膜として用いた場合、バックライトが通過する際に色変化が起こり、白色表示が黄色味を帯びる。
【００５５】
前記の波長４００ｎｍにおける透過率は、ガラス上に得られた硬化膜の紫外可視吸収スペクトルを（株）島津製作所製ＭｕｌｔｉＳｐｅｃ−１５００を用いて測定することにより求める。
【００５６】
この硬化膜は表示素子におけるＴＦＴ用平坦化膜、半導体素子における層間絶縁膜、あるいは光導波路におけるコアやクラッド材等に好適に使用される。
本発明の素子は、表示素子、半導体素子、あるいは光導波路材が挙げられる。また、本発明の素子は、上述の本発明の高解像度、高硬度、高透明性、高耐熱性の硬化膜を有するので、特に、ＴＦＴ用平坦化膜として用いた液晶ディスプレイや有機ＥＬ表示素子は画面の明るさと信頼性に優れている。
【実施例】
【００５７】
以下に本発明をその実施例を用いて説明するが、本発明の様態はこれらの実施例に限定されるものではない。また実施例等で用いた化合物のうち、略語を使用しているものについて、以下に示す。
【００５８】
ＤＡＡ：ジアセトンアルコール
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
また、ポリシロキサン溶液、（メタ）アクリルポリマー溶液の固形分濃度、および重量平均分子量（Ｍｗ）は、以下の通り求めた。
【００５９】
（１）ポリシロキサン溶液、（メタ）アクリルポリマー溶液の固形分濃度測定
アルミカップにポリシロキサン（（メタ）アクリルポリマー）溶液を１ｇ秤取し、ホットプレートを用いて２５０℃で３０分間加熱して液分を蒸発させた。加熱後のアルミカップに残った固形分を秤量して、ポリシロキサン（（メタ）アクリルポリマー）溶液の固形分濃度を求めた。
【００６０】
（２）（メタ）アクリルポリマーの重量平均分子量
ポリマーの重量平均分子量はＧＰＣ（Ｗａｔｅｒｓ社製９９６型デテクター、展開溶剤：テトラヒドロフラン、）にてポリスチレン換算により求めた。
【００６１】
合成例１  ポリシロキサン（ＰＳ−１）溶液の合成
５００ｍｌの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを５４．４８ｇ（０．４０ｍｏｌ）、フェニルトリメトキシシランを９９．１５ｇ（０．５０ｍｏｌ）、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランを２４．６４ｇ（０．１０ｍｏｌ）、ジアセトンアルコール（以下、ＤＡＡと略する）を１６６．０７ｇ仕込み、室温で攪拌しながら水５５．８０ｇにリン酸０．０８９ｇ（仕込みモノマーに対して０．０５重量％）を溶かしたリン酸水溶液を１０分かけて添加した。その後、フラスコを４０℃のオイルバスに浸けて３０分攪拌した後、オイルバスを３０分かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから２時間加熱攪拌し（内温は１００〜１１０℃）、ポリシロキサン（ＰＳ−１）溶液を得た。なお、加熱攪拌中、窒素を０．０５ｌ（リットル）／ｍｉｎ流した。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計１２３ｇ留出した。得られたポリシロキサン（ＰＳ−１）溶液の固形分濃度は４０重量％であった。
【００６２】
合成例２  ポリシロキサン（ＰＳ−２）溶液の合成
５００ｍｌの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを５４．４８ｇ（０．４０ｍｏｌ）、フェニルトリメトキシシランを９９．１５ｇ（０．５０ｍｏｌ）、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランを２４．６４ｇ（０．１０ｍｏｌ）、ＤＡＡを１６６．０７ｇ仕込み、室温で攪拌しながら水５５．８０ｇにリン酸０．５３５ｇ（仕込みモノマーに対して０．３重量％）を溶かしたリン酸水溶液を１０分かけて添加した。その後、フラスコを４０℃のオイルバスに浸けて３０分攪拌した後、オイルバスを３０分かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから２時間加熱攪拌し（内温は１００〜１１０℃）、ポリシロキサン（ＰＳ−２）溶液（ＰＳ−２）を得た。なお、加熱攪拌中、窒素を０．０５ｌ（リットル）／ｍｉｎ流した。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計１２３ｇ留出した。得られたポリシロキサン（ＰＳ−２）溶液の固形分濃度は４０重量％であった。
【００６３】
合成例３  ポリシロキサン（ＰＳ−３）溶液の合成
５００ｍｌの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを４７．６７ｇ（０．３５ｍｏｌ）、フェニルトリメトキシシランを９９．１５ｇ（０．５０ｍｏｌ）、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランを２４．６４ｇ（０．１０ｍｏｌ）、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランを１１．７２ｇ（０．０５ｍｏｌ）、ＤＡＡを１６６．０７ｇ仕込み、室温で攪拌しながら水５５．８０ｇにリン酸０．０９２ｇ（仕込みモノマーに対して０．０５重量％）を溶かしたリン酸水溶液を１０分かけて添加した。その後、フラスコを４０℃のオイルバスに浸けて３０分攪拌した後、オイルバスを３０分かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから２時間加熱攪拌し（内温は１００〜１１０℃）、ポリシロキサン（ＰＳ−３）溶液を得た。なお、加熱攪拌中、窒素を０．０５ｌ（リットル）／ｍｉｎ流した。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計１２３ｇ留出した。得られたポリシロキサン（ＰＳ−３）溶液の固形分濃度は４０重量％であった。
【００６４】
合成例４  ポリシロキサン（ＰＳ−４）溶液の合成
５００ｍｌの三口フラスコにメチルトリメトキシシランを２０．４３ｇ（０．１５ｍｏｌ）、フェニルトリメトキシシランを９９．１５ｇ（０．５０ｍｏｌ）、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランを２４．６４ｇ（０．１０ｍｏｌ）、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランを５８．６０ｇ（０．２５ｍｏｌ）、ＤＡＡを１６６．０７ｇ仕込み、室温で攪拌しながら水５５．８０ｇにリン酸０．１０１ｇ（仕込みモノマーに対して０．０５重量％）を溶かしたリン酸水溶液を１０分かけて添加した。その後、フラスコを４０℃のオイルバスに浸けて３０分攪拌した後、オイルバスを３０分かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから２時間加熱攪拌し（内温は１００〜１１０℃）、ポリシロキサン（ＰＳ−４）溶液を得た。なお、加熱攪拌中、窒素を０．０５ｌ（リットル）／ｍｉｎ流した。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計１２３ｇ留出した。得られたポリシロキサン（ＰＳ−４）溶液の固形分濃度は４０重量％であった。
【００６５】
合成例５  ポリシロキサン（ＰＳ−５）溶液の合成
５００ｍｌの三口フラスコにフェニルトリメトキシシランを９９．１５ｇ（０．５０ｍｏｌ）、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランを２４．６４ｇ（０．１０ｍｏｌ）、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシランを９３．７６ｇ（０．４０ｍｏｌ）、ＤＡＡを１６６．０７ｇ仕込み、室温で攪拌しながら水５５．８０ｇにリン酸０．０９２ｇ（仕込みモノマーに対して０．０５重量％）を溶かしたリン酸水溶液を１０分かけて添加した。その後、フラスコを４０℃のオイルバスに浸けて３０分攪拌した後、オイルバスを３０分かけて１１５℃まで昇温した。昇温開始１時間後に溶液の内温が１００℃に到達し、そこから２時間加熱攪拌し（内温は１００〜１１０℃）、ポリシロキサン（ＰＳ−５）溶液を得た。なお、加熱攪拌中、窒素を０．０５ｌ（リットル）／ｍｉｎ流した。反応中に副生成物であるメタノール、水が合計１２３ｇ留出した。得られたポリシロキサン（ＰＳ−５）溶液の固形分濃度は４０重量％であった。
【００６６】
合成例６  キノンジアジド化合物（ＱＤ−１）の合成
乾燥窒素気流下、Ｐｈ−ｃｃ−ＡＰ−ＭＦ（商品名、本州化学工業（株）製）１５．３２ｇ（０．０５ｍｏｌ）と５−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド３７．６２ｇ（０．１４ｍｏｌ）を１，４−ジオキサン４５０ｇに溶解させ、室温にした。ここに、１，４−ジオキサン５０ｇと混合させたトリエチルアミン１５．５８ｇ（０．１５４ｍｏｌ）を系内が３５℃以上にならないように滴下した。滴下後３０℃で２時間攪拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入させた。その後、析出した沈殿を濾過で集めた。この沈殿を真空乾燥機で乾燥させ、下記構造のキノンジアジド化合物（ＱＤ−１）を得た。
【００６７】
【化５】
0005181968.tif 000006
【００６８】
合成例７  キノンジアジド化合物（ＱＤ−２）の合成
５−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリドの添加量を３３．５９ｇ（０．１２５ｍｏｌ）に変更する以外は合成例３と同様に、下記構造のキノンジアジド化合物（ＱＤ−２）を得た。
【００６９】
【化６】
0005181968.tif 000007
【００７０】
合成例８  キノンジアジド化合物（ＱＤ−３）の合成
５−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリドの添加量を３０．９０ｇ（０．１１５ｍｏｌ）に変更する以外は合成例３と同様に、下記構造のキノンジアジド化合物（ＱＤ−３）を得た。
【００７１】
【化７】
0005181968.tif 000008
【００７２】
合成例９  キノンジアジド化合物（ＱＤ−４）の合成
乾燥窒素気流下、ＴｒｉｓＰ−ＰＡ（商品名、本州化学工業（株）製）２１．２３ｇ（０．０５ｍｏｌ）と５−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド３７．６２ｇ（０．１４ｍｏｌ）を１，４−ジオキサン４５０ｇに溶解させ、室温にした。ここに、１，４−ジオキサン５０ｇと混合させたトリエチルアミン１５．５８ｇ（０．１５４ｍｏｌ）を系内が３５℃以上にならないように滴下した。滴下後３０℃で２時間攪拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入させた。その後、析出した沈殿を濾過で集めた。この沈殿を真空乾燥機で乾燥させ、下記構造のキノンジアジド化合物（ＱＤ−４）を得た。
【００７３】
【化８】
0005181968.tif 000009
【００７４】
合成例１０  キノンジアジド化合物（ＱＤ−５）の合成
乾燥窒素気流下、ＴｒｉｓＰ−ＨＡＰ（商品名、本州化学工業（株）製）１５．３２ｇ（０．０５ｍｏｌ）と５−ナフトキノンジアジドスルホニル酸クロリド２６．８７ｇ（０．１ｍｏｌ）を１，４−ジオキサン４５０ｇに溶解させ、室温にした。ここに、１，４−ジオキサン５０ｇと混合させたトリエチルアミン１１．１３ｇ（０．１１ｍｏｌ）を系内が３５℃以上にならないように滴下した。滴下後３０℃で２時間攪拌した。トリエチルアミン塩を濾過し、濾液を水に投入させた。その後、析出した沈殿を濾過で集めた。この沈殿を真空乾燥機で乾燥させ、下記構造のキノンジアジド化合物（ＱＤ−５）を得た。
【００７５】
【化９】
0005181968.tif 000010
【００７６】
合成例１１  （メタ）アクリルポリマー（ＡＰ−１）溶液の合成
５００ｍｌのフラスコに２,２’−アゾビス（イソブチロニトリル）を５ｇ、ｔ−ドデカンチオールを５ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（以下、ＰＧＭＥＡと略する）を１５０ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を３０ｇ、ベンジルメタクリレートを３５ｇ、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルメタクリレートを３５ｇ仕込み、室温でしばらく攪拌し、フラスコ内を窒素置換した後、７０℃で５時間加熱攪拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸グリシジルを１５ｇ、ジメチルベンジルアミンを１ｇ、ｐ−メトキシフェノールを０．２ｇ添加し、１００℃で４時間加熱攪拌し、（メタ）アクリルポリマー（ＡＰ−１）溶液を得た。得られた（メタ）アクリルポリマー（ＡＰ−１）溶液の固形分濃度は４０重量％、また、得られた（メタ）アクリルポリマー（ＡＰ−１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は１０６００、酸価は１１８ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【００７７】
合成例１２  （メタ）アクリルポリマー（ＡＰ−２）溶液の合成
５００ｍｌのフラスコに２,２’−アゾビス（イソブチロニトリル）を３ｇ、ｔ−ドデカンチオールを３ｇ、ＰＧＭＥＡを１５４ｇ仕込んだ。その後、メタクリル酸を３０ｇ、ベンジルメタクリレートを３５ｇ、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン−８−イルメタクリレートを３５ｇ仕込み、室温でしばらく攪拌し、フラスコ内を窒素置換した後、７０℃で５時間加熱攪拌した。次に、得られた溶液にメタクリル酸グリシジルを１５ｇ、ジメチルベンジルアミンを１ｇ、ｐ−メトキシフェノールを０．２ｇ添加し、１００℃で４時間加熱攪拌し、（メタ）アクリルポリマー（ＡＰ−２）溶液を得た。得られた（メタ）アクリルポリマー（ＡＰ−２）溶液の固形分濃度は４０重量％、また、得られた（メタ）アクリルポリマー（ＡＰ−２）の重量平均分子量（Ｍｗ）は１７６００、酸価は１１６ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【００７８】
実施例１
黄色灯下にてキノンジアジド化合物（ＱＤ−１）０．１０ｇ（５重量部）をＤＡＡ１．６５ｇ、ＰＧＭＥＡ１．６５ｇに溶解させた後、ポリシロキサン（ＰＳ−１）溶液２．５０ｇ、（メタ）アクリルポリマー（ＡＰ−１）溶液２．５０ｇ加えて攪拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、ポジ型感光性組成物（ＰＰ−１）を得た。
作製したポジ型感光性組成物（ＰＰ−１）をガラス基板（日本電子硝子（株）製ＯＡ−１０）にスピンコーター（ミカサ（株）製１Ｈ−３６０Ｓ）を用いて任意の回転数でスピンコートした後、ホットプレート（大日本スクリーン製造（株）製ＳＣＷ−６３６）を用いて１００℃で２分間プリベークし、膜厚３．０μｍのプリベーク膜を作製した。作製したプリベーク膜をパラレルライトマスクアライナー（キヤノン（株）製ＰＬＡ−５０１Ｆ、以下ＰＬＡという）ならびにグレースケールマスクを用いて２００ｍＪ／ｃｍ２（波長３６５ｎｍ露光量換算）照射した。なおグレースケールマスクとはマスク上から露光することにより、マスク下に１％から１００％までを段階的に一括で露光することができるマスクのことである。その後、自動現像装置（ＡＤ−２０００、滝沢産業（株）製）を用いて０．４ｗｔ％テトラメチルアンモニウムハイドロオキシド水溶液で８０秒間シャワー現像し、次いで水で３０秒間リンスした。次に、ＰＬＡを用いて、膜全面に超高圧水銀灯を３００ｍＪ／ｃｍ２（波長３６５ｎｍ露光量換算）露光した。その後、オーブン（エスペック（株）製ＩＨＰＳ−２２２）を用いて空気中２２０℃で１時間キュアして硬化膜を作製した。
【００７９】
評価結果を表１に示す。なお、表中の評価は以下の方法で行った。
【００８０】
（１）膜厚測定
大日本スクリーン製造（株）製ラムダエースＳＴＭ−６０２を用いて、屈折率１．５５でプリベーク膜及び、硬化膜の厚さを測定した。
【００８１】
（２）残膜率
残膜率は組成物をガラス基板上に塗布し、１００℃のホットプレート上で１２０秒プリベークした後に現像を行い、プリベーク後の膜厚（ｉ）、現像後の未露光部膜厚（ｉｉ）とすると、
残膜率（％）＝（ｉｉ）×１００／（ｉ）
で算出される。
【００８２】
（３）感度
指定濃度のＴＭＡＨ水溶液で８０秒間シャワー現像、水で３０秒間リンスした際に得られるパターンにおいて、１０μｍのラインアンドスペースパターンを１対１の幅に形成する露光量（以下、これを最適露光量という）を感度とした。
【００８３】
（４）光透過率の測定
硬化膜をＭｕｌｔｉＳｐｅｃ−１５００（（株）島津製作所製）を用いてシングルビームで測定し、波長４００ｎｍでの光透過率を求め、膜厚２μｍあたりの透過率を算出した。
【００８４】
実施例２〜８，比較例１，２
キノンジアジド化合物（ＱＤ−１）５重量部を７、１０、１５、２０あるいは２５重量部、またはキノンジアジド化合物（ＱＤ−２）、（ＱＤ−３）、（ＱＤ−４）あるいは（ＱＤ−５）１５重量部に換えた他は、実施例１と同様に行い、ポジ型感光性組成物（ＰＰ―２）〜（ＰＰ−１０）を得た。得られた各組成物を用いて、実施例１と同様にして各組成物の評価を行った。各評価結果については表１に示した。
【００８５】
実施例９〜１２、比較例３、４
ポリシロキサン（ＰＳ−１）溶液／（メタ）アクリルポリマー（ＡＰ−１）の添加量を１０重量部／９０重量部、３０重量部／７０重量部、７０重量部／３０重量部、９０重量部／１０重量部に換えた他は、実施例１と同様に行い、ポジ型感光性組成物（ＰＰ―１１）〜（ＰＰ−１６）を得た。得られた各組成物を用いて、実施例１と同様にして各組成物の評価を行った。各評価結果については表２に示した。
【００８６】
実施例１３〜１６
ポジ型感光性組成物（ＰＰ−４）を用いて、現像液濃度をＴＭＡＨ０．１０％、０．２５％、０．４０％、０．７０％あるいは０．９０％に変更する以外は実施例１と同様にして各組成物の評価を行った。各評価結果については表３に示した。
【００８７】
比較例５〜８
ポジ型感光性組成物（ＰＰ−９）を用いて、現像液濃度をＴＭＡＨ０．１０％、０．２５％、０．４０％、０．７０％あるいは０．９０％に変更する以外は実施例１と同様にして各組成物の評価を行った。各評価結果については表３に示した。
【００８８】
実施例１７
黄色灯下にてキノンジアジド化合物（ＱＤ−１）０．３０ｇ（１５重量部）をＤＡＡ１．６５ｇ、ＰＧＭＥＡ１．６５ｇに溶解させた後、ポリシロキサン（ＰＳ−１）溶液２．５０ｇ、（メタ）アクリルポリマー（ＡＰ−１）溶液２．５０ｇ加えて攪拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、ポジ型感光性組成物（ＰＰ−１７）を得た。
【００８９】
組成物（ＰＰ−１７）を用いて、現像液濃度をＴＭＡＨ２．３８％に変更する以外は実施例１と同様にして各組成物の評価を行った。各評価結果については表３に示した。
【００９０】
比較例９
黄色灯下にてキノンジアジド化合物（ＱＤ−４）０．３０ｇ（１５重量部）をＤＡＡ１．６５ｇ、ＰＧＭＥＡ１．６５ｇに溶解させた後、ポリシロキサン（ＰＳ−１）溶液２．５０ｇ、（メタ）アクリルポリマー（ＡＰ−１）溶液２．５０ｇ加えて攪拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、ポジ型感光性組成物（ＰＰ−１８）を得た。
【００９１】
組成物（ＰＰ−１８）を用いて、現像液濃度をＴＭＡＨ２．３８％に変更する以外は実施例１と同様にして各組成物の評価を行った。各評価結果については表３に示した。
【００９２】
実施例１８
黄色灯下にてキノンジアジド化合物（ＱＤ−１）０．３０ｇ（１５重量部）をＤＡＡ１．６５ｇ、ＰＧＭＥＡ１．６５ｇに溶解させた後、ポリシロキサン（ＰＳ−３）溶液２．５０ｇ、（メタ）アクリルポリマー（ＡＰ−１）溶液２．５０ｇ加えて攪拌した。次いで０．４５μｍのフィルターでろ過を行い、ポジ型感光性組成物（ＰＰ−１９）を得た。
【００９３】
組成物（ＰＰ−１９）を用いて、実施例１と同様にして感光特性評価を行い、硬化膜を作製した。
【００９４】
得られた硬化膜をアルカリ溶剤のモノエタノールアミン／２−ブトキシエトキシ）エタノール＝１５／６５／２０（重量比）中に６０℃で５分間浸漬した後、５分間純水リンスを行い、水を窒素ブローで除去した。
【００９５】
評価結果を表４に示した。なお、表中の評価は実施例１と同様の評価に加え、以下の方法で行った。
【００９６】
（５）膜厚変化率
大日本スクリーン製造（株）製ラムダエースＳＴＭ−６０２を用いて、屈折率１．５５で得られた膜の厚さを測定した。膜厚変化率は、アルカリ溶剤浸積前の膜厚（ｉｉｉ）と、浸積後の膜厚（ｉｉｉｉ）とすると、
膜厚変化率（％）＝（ｉｉｉｉ）×１００／（ｉｉｉ）
で算出される。
【００９７】
実施例１９〜２０、比較例１０
ポリシロキサン溶液（ＰＳ−３）をポリシロキサン溶液（ＰＳ−４）、（ＰＳ−５）、あるいは（ＰＳ−１）に換えた他は、実施例１７と同様に行い、ポジ型感光性組成物（ＰＰ―２０）〜（ＰＰ−２３）を得た。得られた各組成物を用いて、実施例１８と同様にして各組成物の評価を行った。各評価結果については表４に示した。
【００９８】
【表１】
0005181968.tif 000011
【００９９】
【表２】
0005181968.tif 000012
【０１００】
【表３】
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【０１０１】
【表４】
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