(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
パラジウム／炭素、パラジウム-白金／炭素、水酸化パラジウム及び白金／炭素からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物の存在下、一般式（１）
【化１】
0005266708.tif 000005
（式中、Ｐは、アラルキル基を示す。なお、ベンゼン環上の任意の水素原子は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基で置換されていても良い。）
で示されるオキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物と水素とを反応させることを特徴とする、一般式（２）
【化２】
0005266708.tif 000006
で示されるヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物の製法。
【請求項２】
塩基の存在下、一般式（４）
【化３】
0005266708.tif 000007
（式中、Ｘは、ハロゲン原子又は有機スルホニルオキシ基を示す。なお、ベンゼン環上の任意の水素原子は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基で置換されていても良い。）
で示されるハロゲノ又は有機スルホニルオキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物と一般式（５）
【化４】
0005266708.tif 000008
（式中、Ｐは、アラルキル基を示す。）
で示されるヒドロキシ化合物とを反応させてオキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物とした後、パラジウム／炭素、パラジウム-白金／炭素、水酸化パラジウム及び白金／炭素からなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物の存在下、オキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物と水素とを反応させることを特徴とする、一般式（２）
【化５】
0005266708.tif 000009
で示される、請求項１記載のヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物の製法。
【請求項３】
一般式（１）
【化６】
0005266708.tif 000010
（式中、Ｐは、アラルキル基を示す。なお、ベンゼン環上の任意の水素原子は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基で置換されていても良い。）
で示されるオキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物が、塩基の存在下、一般式（４）
【化７】
0005266708.tif 000011
（式中、Ｘは、ハロゲン原子又は有機スルホニルオキシ基を示す。なお、ベンゼン環上の任意の水素原子は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基で置換されていても良い。）
で示されるハロゲノ又は有機スルホニルオキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物と一般式（５）
【化８】
0005266708.tif 000012
（式中、Ｐは、アラルキル基を示す。）
で示されるヒドロキシ化合物とを反応させることによって得られたものである、請求項１記載のヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物の製法。
【請求項４】
Ｐがベンジル基である請求項１〜３のいずれかに記載のヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物の製法。
【請求項５】
式（６）及び（７）で示されるベンジルオキシペンタフルオロスルファニルベンゼン。
【化９】
0005266708.tif 000013
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物の製法に関する。ヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物は、例えば、医薬や液晶材料として有用な化合物である（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】独国特許出願公開第10151491号明細書
【背景技術】
【０００２】
従来、ヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物の製法としては、例えば、4-ニトロペンタフルオロスルファニルベンゼンを還元して4-アミノペンタフルオロスルファニルベンゼンとした後、亜硝酸ナトリウムと反応させてアミノ基をジアゾ化し、次いで加水分解して4-ヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物を得る方法が知られている。しかしながら、この方法では、反応工程が多く後処理が煩雑で収率も低い上に、中間体として安全性の低いジアゾ化合物を経由しなければならない等、工業的製法としては不利であった（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献２】米国特許出願第3219690号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の課題は、上記問題点を解決し、簡便で安全な方法及び容易に入手が可能な原料により、ヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物を得ることができる、工業的に好適なヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物の製法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明の課題は、一般式（１）
【０００５】
【化１】
0005266708.tif 000002
【０００６】
（式中、Ｐは、保護基を示す。なお、ベンゼン環上の任意の水素原子は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基で置換されていても良い。）
で示されるオキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物を脱保護反応させることを特徴とする、一般式（２）
【０００７】
【化２】
0005266708.tif 000003
（式中、ベンゼン環上の任意の水素原子は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基で置換されていても良い。）
【０００８】
で示されるヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物の製法によって解決される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明により、簡便で安全な方法及び容易に入手が可能な原料により、ヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物を得ることができる、工業的に好適なヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物の製法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の脱保護反応において使用するオキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物は、前記の一般式（１）で示される。その一般式（１）において、Ｐは、保護基であるが、ここでの保護基とは反応性の高い水酸基を不活性化する官能基を保護基と称する。
【００１１】
前記保護基としては、例えば、ベンジル基、メトキシベンジル基、ジメトキシベンジル基、t-ブチル基、トリチル基等のエーテル系保護基；メトキシメチル基、テトラヒドロピラニル基、エトキシメチル基等のアセタール系保護基；アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等のアシル系保護基；トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、t-ブチルジメチルシリル基、t-ブチルジフェニルシリル基等のシリルエーテル系保護基などが挙げられるが、好ましくはエーテル系保護基、更に好ましくはアラルキル基、特に好ましくはベンジル基である。
【００１２】
なお、ベンゼン環上の任意の水素原子は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基で置換されていても良い。
【００１３】
前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基等の炭素原子数１〜２０のアルキル基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
【００１４】
前記シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等の炭素原子数３〜２０のシクロアルキル基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
【００１５】
前記アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等の炭素原子数７〜２０のアラルキル基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
【００１６】
前記アリール基としては、例えば、フェニル基、p-トリル基、ナフチル基、アントリル基等の炭素原子数６〜２０のアリール基が挙げられる。なお、これらの基は、各種異性体を含む。
【００１７】
なお、本発明の脱保護反応において使用するオキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物は、下記の一般式（３）で示されるように、例えば、ハロゲノ又は有機スルホニルオキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物とヒドロキシ化合物とを反応させることによって得られる（後述の参考例１及び２参照）。
【００１８】
【化３】
0005266708.tif 000004
【００１９】
（式中、Ｘは、ハロゲン原子又は有機スルホニルオキシ基を示し、Ｐは、前記と同義である。なお、ベンゼン環上の任意の水素原子は、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基又はアリール基で置換されていても良い。）
【００２０】
又、本発明の脱保護反応とは、保護基をはずす反応のことを示すが、その方法としては、例えば、ペンタフルオロスルファニル基に影響を与えない方法が好適に採用されるが、具体的には、金属化合物の存在下にて水素と反応させる方法、金属の存在下にて液体アンモニア中で反応させる方法（バーチ還元）等の還元による方法；トリフルオロ酢酸や濃塩酸等の強酸と反応させる方法；酸性条件下にて水と反応させる方法；2,3-ジシアノ-5,6-ジクロロ-p-ベンゾキノン、硝酸セリウムアンモニウム、酸化クロム等による酸化による方法；三臭化ホウ素等のホウ素化合物と接触させる方法；ヨードトリメチルシリル等のケイ素化合物と接触させる方法等が挙げられるが、好ましくは還元による方法、更に好ましくは金属化合物の存在下にて水素と反応させる方法によって行われる。
【００２１】
本発明の脱保護反応において使用する金属化合物としては、周期表第８族の金属原子を含む化合物、更にはパラジウム原子、白金原子、ニッケル原子、ロジウム原子、ルテニウム原子を含む化合物が望ましく、例えば、具体的には、パラジウム／炭素、パラジウム／硫酸バリウム、水酸化パラジウム／白金、酢酸パラジウム、塩化パラジウム、白金／炭素、硫化白金／炭素、パラジウム-白金／炭素、酸化白金、ラネーニッケル、ロジウム／炭素、ルテニウム／炭素等が挙げられるが、好ましくはパラジウム／炭素、パラジウム-白金／炭素、水酸化パラジウム、白金／炭素、更に好ましくはパラジウム-白金／炭素が使用される。なお、これらの金属化合物は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
【００２２】
前記金属化合物の使用量は、金属原子換算で、オキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物１モルに対して、好ましくは0.0005〜0.5モル、更に好ましくは0.0003〜0.3モル、特に好ましくは0.0001〜0.1モルである。
【００２３】
本発明において使用する水素の量は、オキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物１モルに対して、好ましくは0.5〜50モル、更に好ましくは0.7〜30モル、特に好ましくは1.0〜10モルである。
【００２４】
本発明の反応は、溶媒の存在下で行うのが望ましく、使用される溶媒としては、反応を阻害しないものならば特に限定されないが、例えば、水；メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、t-ブチルアルコール等のアルコール類；ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ピリジン、キノリン等の含窒素化合物類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等のアミド類；1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン、1,3-ジメチルイミダゾリジン-2,4-ジオン等の尿素類；ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類；スルホラン等のスルホン類；アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類が挙げられるが、好ましくはアルコール類、更に好ましくはメタノール、エタノールが使用される。なお、これらの溶媒は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
【００２５】
前記溶媒の使用量は、オキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物1gに対して、好ましくは0.5〜100ml、更に好ましくは0.7〜50ml、特に好ましくは1〜30mlである。
【００２６】
本発明の脱保護反応は、オキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物を適当な方法により脱保護することによって行われるが、本反応の好ましい態様としては、例えば、オキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物、金属化合物、水素及び溶媒を混合して、攪拌しながら反応させる等の方法によって行われる。その際の反応温度は、好ましくは-20〜200℃、更に好ましくは-10〜150℃、特に好ましくは0〜100℃であり、反応圧力は特に制限されないが常圧又は加圧下で行う。
【００２７】
本発明の脱保護反応においては、反応性を高めるために、酸を存在させることが望ましく、使用される酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、クロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸；塩酸、硫酸等の無機酸が挙げられる。なお、これらの酸は、単独又は二種以上を混合して使用しても良い。
【００２８】
前記酸の使用量は、オキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物１モルに対して、好ましくは0.01〜20モル、更に好ましくは0.05〜10モル、特に好ましくは0.1〜6モルである。
【００２９】
本発明の脱保護反応によってヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物が得られるが、反応終了後、例えば、中和、抽出、濾過、濃縮、蒸留、再結晶、晶析、昇華、カラムクロマトグラフィー等の一般的な製法によって単離・精製される。
【実施例】
【００３０】
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
【００３１】
参考例１（［Ｐ＝ベンジル基］；4-ベンジルオキシペンタフルオロスルファニルベンゼンの合成）
攪拌装置及び温度計を備えた内容量100mlのガラス製容器に、4-フルオロペンタフルオロスルファニルベンゼン5.0g(22.5mmol)、60％水素化ナトリウム1.35g(33.8mmol)、及び予め乾燥させた1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン25mlを加えた後、攪拌させながら、室温でベンジルアルコール3.65g(33.8mmol)を加え、同温度で12時間反応させた。反応終了後、反応液にトルエン50ml及び酢酸エチル50mlを加えて有機層を飽和食塩水100mlで５回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、得られた濾液を濃縮した後、再び水200ml中に添加して混入している1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノンを除いて濾過した。得られた濾物を減圧下で乾燥させ、白色固体として、4-ベンジルオキシペンタフルオロスルファニルベンゼン5.62gを得た（単離収率；81％）。
なお、4-ベンジルオキシペンタフルオロスルファニルベンゼンは、以下の物性値で示される新規な化合物である。
【００３２】
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm))；5.10(2H,s)、6.96〜6.99(2H,m)、7.29〜7.43(5H,m)、7.65〜7.70(2H,m)
CI-MS；310(M)
【００３３】
実施例１（4-ヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼンの合成）
攪拌装置及び温度計を備えた内容量100mlのガラス製容器に、4-ベンジルオキシペンタフルオロスルファニルベンゼン4.0g(12.9mmol)、白金-パラジウム／炭素（50％含水品、商品名；ASCA2（エヌ・イー・ケムキャット製））1.0g、酢酸420mg(6.99mmol)及びエタノール50mlを加え、水素雰囲気下（常圧）、攪拌させながら、70℃で2時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却した後に濾過した。得られた濾液を濃縮し、淡黄色固体として、4-ヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン2.67gを得た（単離収率；94％）。
なお、4-ヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼンの物性値は以下の通りであった。
【００３４】
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm))；5.33(1H,s)、6.85(2H,d,J=9.0Hz)、7.62〜7.67(2H,m)
CI-MS；220(M)
【００３５】
参考例２（［Ｐ＝ベンジル基］；2-ベンジルオキシペンタフルオロスルファニルベンゼンの合成）
攪拌装置及び温度計を備えた内容量200mlのガラス製容器に、2-フルオロペンタフルオロスルファニルベンゼン20g(90mmol)、60％水素化ナトリウム5.4g(135mmol)及び予め乾燥させた1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン100mlを加えた後、攪拌させながら、室温でベンジルアルコール14.6g(135mmol)を加え、同温度で18時間反応させた。反応終了後、反応液にトルエン500ml及び飽和塩化ナトリウム水溶液300mlを加えて分液し、有機層（トルエン層）を飽和塩化ナトリウム水溶液300mlで３回、水300mlで２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾過後、濾液を濃縮して得られた濃縮物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製（展開溶媒；ヘキサン）し、白色固体として、2-ベンジルオキシペンタフルオロスルファニルベンゼン23.47gを得た（単離収率；84％）。
なお、2-ベンジルオキシペンタフルオロスルファニルベンゼンは、以下の物性値で示される新規な化合物である。
【００３６】
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm))；5.19(2H,s)、6.98〜7.10(2H,m)、7.31〜7.46(6H,m)、7.75〜7.88(1H,m)
CI-MS；310(M)
【００３７】
実施例２（2-ヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼンの合成）
攪拌装置及び温度計を備えた内容量200mlのガラス製容器に、2-ベンジルオキシペンタフルオロスルファニルベンゼン22g(70.9mmol)、白金-パラジウム／炭素（50％含水品、商品名；ASCA2（エヌ・イー・ケムキャット製））4.4g、トリフルオロ酢酸33.8g(297mmol)及びメタノール100mlを加え、水素雰囲気下（常圧）、攪拌させながら、室温で2時間反応させた。反応終了後、反応液を室温まで冷却した後に濾過した。得られた濾液を濃縮し、10％塩化ナトリウム水溶液300mlを加えた後に分液し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥させた。濾物をクロロホルム200mlで洗浄した後に、濾液を減圧下で濃縮して、薄紫色固体として、2-ヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン10.3gを得た（単離収率；66％）。
なお、2-ヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼンは以下の物性値で示される新規な化合物である。
【００３８】
1H-NMR(CDCl3,δ(ppm))；5.98(1H,brs)、6.96〜7.09(2H,m)、7.37〜7.43(1H,m)、7.63〜7.67(1H,m)
CI-MS；220(M)
【産業上の利用可能性】
【００３９】
本発明は、ヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物の製法に関する。ヒドロキシペンタフルオロスルファニルベンゼン化合物は、例えば、医薬や液晶材料として有用な化合物である。