(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを調製する方法であって、
触媒の存在下で、プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンを、電子欠損アルケンと反応させ、それによって、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを生成する工程を有してなり、
前記電子欠損アルケンが、アクリロニトリルであるか、あるいは下記式Ｃにより表され：
【化１】
0005266128.tif 000084
ここで、
Ｘは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、
Ｙは、シアノ、ニトロ、アルキルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステル、アラルキルエステル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
前記触媒が、下記化学式Ｉにより表されることを特徴とする方法：
【化２】
0005266128.tif 000085
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、置換または非置換アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アリールカルボニル、またはヘテロアリールカルボニルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
ｎは０から５までの整数であり、
ｍは０から８までの整数であり、
Ｒ4は−ＯＨを表す。
【請求項２】
キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを調製する方法であって、
触媒の存在下で、プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンを、電子欠損アルケンと反応させ、それによって、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを生成する工程を有してなり、
前記電子欠損アルケンが、アクリロニトリルであるか、あるいは下記式Ｃにより表され：
【化３】
0005266128.tif 000086
ここで、
Ｘは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、
Ｙは、シアノ、ニトロ、アルキルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステル、アラルキルエステル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
前記触媒が、下記化学式IIにより表されることを特徴とする方法：
【化４】
0005266128.tif 000087
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、置換または非置換アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アリールカルボニル、またはヘテロアリールカルボニルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
ｎは０から５までの整数であり、
ｍは０から８までの整数であり、
Ｒ4は−ＯＨを表す。
【請求項３】
キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを調製する方法であって、
触媒の存在下で、プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンを、電子欠損アルケンと反応させ、それによって、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを生成する工程を有してなり、
前記電子欠損アルケンが、アクリロニトリルであるか、あるいは下記式Ｃにより表され：
【化５】
0005266128.tif 000088
ここで、
Ｘは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、
Ｙは、シアノ、ニトロ、アルキルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステル、アラルキルエステル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
前記触媒が、下記化学式により表されることを特徴とする方法：
【化６】
0005266128.tif 000089
ここで、Ａｒは、４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ、２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ、Ｐｈ、または３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈである。  
【請求項４】
速度論的分割方法であって、
触媒の存在下で、プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンを、電子欠損アルケンと反応させ、それによって、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを生成する工程を有してなり、
前記電子欠損アルケンが、アクリロニトリルであるか、あるいは下記式Ｃにより表され：
【化７】
0005266128.tif 000090
ここで、
Ｘは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、
Ｙは、シアノ、ニトロ、アルキルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステル、アラルキルエステル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
前記触媒が、下記化学式Ｉにより表されることを特徴とする方法：
【化８】
0005266128.tif 000091
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、置換または非置換アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アリールカルボニル、またはヘテロアリールカルボニルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
ｎは０から５までの整数であり、
ｍは０から８までの整数であり、
Ｒ4は−ＯＨを表す。
【請求項５】
速度論的分割方法であって、
触媒の存在下で、プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンを、電子欠損アルケンと反応させ、それによって、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを生成する工程を有してなり、
前記電子欠損アルケンが、アクリロニトリルであるか、あるいは下記式Ｃにより表され：
【化９】
0005266128.tif 000092
ここで、
Ｘは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、
Ｙは、シアノ、ニトロ、アルキルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステル、アラルキルエステル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
前記触媒が、下記化学式ＩＩにより表されることを特徴とする方法：
【化１０】
0005266128.tif 000093
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、置換または非置換アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アリールカルボニル、またはヘテロアリールカルボニルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
ｎは０から５までの整数であり、
ｍは０から８までの整数であり、
Ｒ4は−ＯＨを表す。
【請求項６】
速度論的分割方法であって、
触媒の存在下で、プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンを、電子欠損アルケンと反応させ、それによって、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを生成する工程を有してなり、
前記電子欠損アルケンは、アクリロニトリルであるか、あるいは下記式Ｃにより表され：
【化１１】
0005266128.tif 000094
ここで、
Ｘは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、
Ｙは、シアノ、ニトロ、アルキルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステル、アラルキルエステル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
前記触媒が、下記化学式により表されることを特徴とする方法：
【化１２】
0005266128.tif 000095
ここで、Ａｒは、４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ、２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ、Ｐｈ、または３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈである。
【請求項７】
前記Ａｒが、３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈであることを特徴とする、請求項３または６記載の方法。
【請求項８】
Ｒ1がエチルであることを特徴とする、請求項１、２、４および５いずれか１項記載の方法。
【請求項９】
Ｒ1が−ＣＨ＝ＣＨ2であることを特徴とする、請求項１、２、４および５いずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンが、下記式Ｄにより表されることを特徴とする、請求項１〜９いずれか１項記載の方法：
【化１３】
0005266128.tif 000096
ここで、
Ｑは、シアノ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルコキシル、ヘテロアラルコキシル、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、またはヘテロアラルキルアミノを表す。
【発明の詳細な説明】
【政府の支援】
【０００１】
本発明は、合衆国国立保健研究所により提供された支援（ＧＭ−６１５９１）により行われた。したがって、合衆国政府は本発明に特定の権利を有する。
【技術分野】
【０００２】
本発明は、鏡像異性的に純粋な化合物に関し、特に、二官能性シンコナアルカロイドにより触媒作用が及ぼされる非対称炭素−炭素結合形成反応に関する。
【背景技術】
【０００３】
近年、鏡像異性的に純粋な化合物の要望が急激に増えてきた。そのようなキラル非ラセミ化合物の重要な用途の１つは、製薬業界における合成のための中間体としてである。例えば、鏡像異性的に純粋な化合物には、ラセミ薬剤混合物よりも優れた利点が数多くあることが次第に明らかになってきた。これらの利点としては、鏡像異性的に純粋な化合物に関連することが多い、より大きな有効性および副作用の少なさが挙げられる。
【０００４】
有機合成の従来の方法が、ラセミ材料を製造するために、しばしば最適化された。鏡像異性的に純粋な化合物の製造は、歴史的に、天然供給源（いわゆる、「キラルプール」）に由来する鏡像異性的に純粋な出発材料の使用、および従来の技法によるラセミ混合物の分割の２つの様式の内の１つで行われてきた。しかしながら、これらの各方法には、重大な欠点がある。キラルプールは、自然に見つかる化合物に限られ、それゆえ、特定の構造と立体配置のみしか容易に入手できない。分割剤を使用する必要があるラセミ化合物の分割は、不便で、時間がかかるであろう。
【０００５】
鏡像異性的に純粋な材料は、電子の不足したアルケンに求核剤を非対称共役付加することによって得られるであろう。非対称共役付加は、天然の生物学的活性な化合物の全合成のための、鏡像異性体が豊富な高官能性炭素骨格構造を構成する最も強力な結合形成反応の内の１つである。詳しくは、非特許文献１〜８を参照のこと。その戦略的な重要性は、マイケル付加が、より複雑な分子間および分子内のタンデムプロセスの開始工程になれることから考えて、明らかである。詳しくは、非特許文献９〜１２を参照のこと。
【０００６】
マイケル受容体の中でも、ニトロアルケンが非常に魅力的である。何故ならば、ニトロ基は、最も電子吸引性の強い公知の官能基であるからである。非特許文献１３および１４。しばしば「合成カメレオン」とも称されるニトロ基は、付加が行われた後にさらに転換される潜伏性(masked)官能基としても働くことができる。非特許文献１５。Ｎｅｆ反応、求核置換、アミノ基への還元、マイヤー(Myer)反応、およびニトリルオキシドへの転化は、ニトロ基が経ることのできる転換の最良の例である。非特許文献１６〜２７。ニトロアルケンの使用をさらにより一層魅力的にする多数の触媒的合成方法が近年開発されてきた。非特許文献２８〜３０。
【０００７】
炭素求核剤のニトロアルケンへの共役付加と並行したそれらのアルケニルスルホンへの共役付加は、合成的に価値のあるＣ−Ｃ結合形成反応の一群を構成する。したがって、多大な労力が、アルケニルスルホンへの非対称共役付加の進展に向けられてきた。キラル補助戦略の使用に著しい進歩が見られたが、アルケニルスルホンに関する高エナンチオ選択性の触媒反応共役付加の実現はまだよく理解されていない。エナンチオ選択的共役付加の評価には、非特許文献５，６および３１〜３３を参照のこと。非特許文献３４。キラル１−アミノピロリジンのアルケニルスルホンへの共役付加については、非特許文献３５を参照のこと。非特許文献３６〜４０。アルケニルスルホンへの分子内マイケル付加については、非特許文献４１を参照のこと。有機ボロン酸のトランス−β−置換ビニルスルホンへのＲｈ−触媒エナンチオ選択的共役付加については、非特許文献４２を参照のこと。
【０００８】
さらに、炭素求核剤のアルケニルケトンへの共役付加は、様々なマイケル供与体と受容体両方の入手し易さおよび１，４−付加物の実証された広い有用性のために、全て炭素の第四立体中心の形成のための強力な戦略を提供する。特に、触媒非対称合成における、そのときからの様々な大きな前進にもかかわらず、この課題は依然として、低下していない合成の意義の手強い挑戦である。非特許文献４３〜４７。α−フェニルα−シアノアセテートの非環式α，β−不飽和ケトンへのキラル（サレン）Ａｌ錯体−触媒共役付加については、非特許文献４８を参照のこと。非対称触媒反応に焦点を当てた特別な課題については、非特許文献４９を参照のこと。エナンチオ選択的触媒反応についての主題については、非特許文献５０を参照のこと。非特許文献５２。α−置換ケトエステルのビニルケトンへのエナンチオ選択的触媒共役付加が、１９９４年にシバサキとその共同研究者により報告された。非特許文献４５。二官能性キラルＬａ−Ｎａ−ＢＩＮＯＬ錯体により、環式および非環式α−置換ケトエステルのメチルビニルケトン（ＭＶＫ）への付加が６２〜９１％ｅｅで起こった。つい最近、ソデオカおよびその共同研究者が、α−置換ケトエステルのメチルおよびエチルビニルケトンへの共役付加について８６〜９３％ｅｅを生じたＰｄ−ＢＩＮＡＰ錯体を報告した。非特許文献４６。これらのキラル金属錯体媒介反応は、ケトエステル供与体に関する相当な研究範囲を示しながら、マイケル受容体としてＭＶＫに関してのみ９０％ｅｅを超えた。さらに、−５０から−２０℃で行われる、その反応を１５から７２時間で完了させるには、５〜１０モル％の触媒添加が必要とされる。著しい進歩が見られるが、これらの結果から、アルケニルケトンに関する広い基質範囲の作業的に単純であり、効率的であり、迅速なエナンチオ選択的触媒共役付加の開発にとって、緊急性と挑戦の両方が浮き彫りになった。
【０００９】
本発明は、ニトロアルケン、アルケニルスルホンおよびアルケニルケトンなどのプロキラル基質からのキラル化合物の触媒非対称合成に関する。
【００１０】
触媒非対称合成は、化学者に、錯体分子を効率的に合成するための新規の強力な手段を与えている。触媒系の多くは、金属ベースであり、キラルルイス酸および有機金属レドックスベースの触媒反応に依存しているが、次第に増えている非対称反応は、求核剤が極めて重要な役割を果たしている自然の状況の膨大な取り合わせで形成されるキラル求核剤により触媒作用を受ける。主な文献としては、非特許文献５２〜５８を参照のこと。非対称触媒のこの拡大している分野において、キラルアミンは中心的な役割を果たす。キラルアミンは、キラル配位子として大々的に利用されてきたが、それらは、幅広い範囲の非対称転換に触媒作用を及ぼし、代わりの非対称技術によっては到達できないであろう高い選択性と収率で光学的に向上した生成物を生じる上で大きな見込みを示してもいる。非特許文献５９。
【００１１】
歴史的に、シンコナアルカロイドは、非対称触媒反応において、その中でもとりわけ、２基置換ケテンアルコール分解についての１９６０年代からのプラセウス(Pracejus)の先駆的な研究において使用された最初のキラルアミンであった。シンコナアルカロイドは、天然の生成物に根ざした豊富で華やかな歴史と、製薬化学的性質を持つ。非特許文献６０〜６２。シンコナアルカロイドは、熱帯地域原産のキナノキ属の木の樹皮を抽出することによってまとめて単離される。有機化学を別にすれば、シンコナアルカロイドは、食品香味料として（例えば、トニック水の苦味成分として）、およびマラリアの治療に幅広い用途が見出されている。非特許文献６３および６４。さらに、配位子、クロマトグラフィー・セレクタ、およびＮＭＲ識別剤としてのそれらの役割が、過去三十年に亘り、大々的に調査されてきた。過去四十年に亘り、シンコナアルカロイドの触媒特性について、いくつかの論文が公表されてきた。非特許文献６５〜６８。
【００１２】
これらの反応は、ヘミエステル、α−アミノ酸およびα−ヒドロキシル酸などの、様々な重要なキラル構成ブロックの研究および工業規模の非対称合成に広く適用できそうである。市販の修飾された二量体シンコナアルカロイド（ＤＨＱＤ）2ＡＱＮ、（ＤＨＱ）2ＡＱＮ（図１参照）が、環式無水物のエナンチオ選択的アルコール分解のためのエナンチオ選択性の再利用可能な触媒として、デン(Deng)およびその共同研究者によって最近確認された。しかしながら、市販の（ＤＨＱＤ）2ＡＱＮは高価である。例えば、１モルの（ＤＨＱＤ）2ＡＱＮの市販価格（アルドリッチ・ケミカル社(Aldrich Chemical Company)）は、＄１００，０００より高い。さらに、この二量体触媒は、多量（例えば、キログラムの量）では入手できない。したがって、二量体触媒を用いた立体選択的反応は、比較的大規模（＞０．１モル）では実際的ではない。その結果、（ＤＨＱＤ）2ＡＱＮに対して比較的効果的であるが、製造するのに実質的に高くない新世代の単量体触媒の開発が、非常に実用的価値がある。
【００１３】
酸性および塩基性／求核性の構造部分の両方を有するキラルの金属触媒および有機触媒が、非対称触媒反応を開発するためのますます強力な基盤を構成するようになってきた。効率的であるがそれでも容易に入手できるそのような二官能性キラル触媒の設計と開発は、依然として重大な課題である。ウィンバーグ(Wynberg)とその共同研究者は、天然のシンコナアルカロイドが、それらのＣ９−ＯＨ基とアミン基により、エナンチオ選択的反応に関して、それぞれ、求核剤と求電子剤を活性化させることによって、二官能性キラル有機触媒として働いたことを示した。非特許文献６９。しかしながら、キラル有機触媒としての天然のシンコナアルカロイドにより触媒作用を受ける様々な反応のエナンチオ選択性は通常穏やかであった。ハタケヤマとその共同研究者により、キニジンから容易に入手できる硬質修飾シンコナアルカロイドが報告された。非特許文献７０および７１。その触媒は、エナンチオ選択的モリタ−ベイリス−ヒルマン(Morita-Baylis-Hillman)（ＭＢＨ）反応にとって効率的であることが分かった。Ｃ６’−ＯＨ基とアミン基の両方が、エナンチオ選択的ＭＢＨ反応の転移状態の安定化に関係すると考えられる。
【００１４】
特に、キニジンまたはキニーネいずれかから得られる容易に入手できる二官能性有機触媒が開発され、それらを非対称炭素−炭素結合形成反応にうまく使用することが示された。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【００１５】
【非特許文献１】B.E.Rossiter, N.M.Swingle, Chem.Rev. 1992, 771-806
【非特許文献２】J.Leonard, E.Diez-Barra, S.Merino, Eur.J.Org.Chem. 1998, 2051-2061
【非特許文献３】K.Tomioka, Y.Nagaoka, Comprehensive Asymmetric Catalysis (Eds.;E.N.Jacobsen, A.Pfaltz, H.Yamamoto), Springer, Berlin, 1999, vol.3, p.1105-1120
【非特許文献４】M.Yamaguchi, Comprehensive Asymmetric Catalysis (Eds.;E.N.Jacobsen, A.Pfaltz, H.Yamamoto), Springer, Berlin, 1999, vol.3, p.1121-1139
【非特許文献５】M.P.Sibi, S.Manyem, Tetrahedron 2000, 56, 8033-8061
【非特許文献６】N.Krause, A.Hoffmann-Roder Synthesis 2001, 171-196
【非特許文献７】P Perlmutter, Conjugate Addition Reactions in Organic Synthesis (Eds,: J.E.Baldwin, PD.Magnus), Pergamon Press, Oxford, 1992
【非特許文献８】M.E.Jung, Comprehensive Organic Synthesis (Ed.: B.M.Trost), Pergamon Press, Oxford, 1991, vol.4, pp.1-67
【非特許文献９】L.F Tietze, Chem.Rev. 1996, 96, 115-136
【非特許文献１０】R.A.Brunce, Tetrahedron 1995, 48, 13103-13159
【非特許文献１１】L.Tietze, U.Beifuss, Angew.Chem. 1993, 105, 137-170; Angew Chem.Int.Ed Engl. 1993, 32, 131-163
【非特許文献１２】G.H.Posner, Chem.Rev. 1986, 86, 831-844
【非特許文献１３】N.Ono, The Nitro Group in Organic Synthesis, Wiley-VCH, New York, 2001
【非特許文献１４】D.Seebach, E.W.Colvin, F Lehr, T Weller, Chimia 1979, 33, 1-18
【非特許文献１５】G.Calderari, D.Seebach, Helv.Chim.Acta 1995, 68, 1592-1604
【非特許文献１６】H.W.Pinnick, Org.React. 1990, 38, 655-792
【非特許文献１７】J.U.Nef, Justus Liebigs Ann.Chem. 1894, 280, 263-291
【非特許文献１８】R.Tamura, A.Kamimura, N.Ono, Sythesis 1991, 423-434
【非特許文献１９】R.C.Larock, Comprehensive Organic Transformations, VCH, New York, 1989, pp.411-415
【非特許文献２０】A.K.Beck, D.Seebach, Chem.Ber. 1991, 124, 2897-2911
【非特許文献２１】R.E.Maeri, J.Heinzer, D.Seebach, Liebigs Ann. 1995, 1193-1215
【非特許文献２２】M.A.Poupart, G.Fazal, S.Goulet, T Mar, J.Org.Chem. 1999, 64, 1356-1361
【非特許文献２３】A.G.M.Barrett, C.D.Spilling, Tetrahedron Lett. 1988, 29, 5733-5734
【非特許文献２４】D.H.Loyd, D.E.Nichols, J.Org.Chem, 1986, 51, 4294-4298
【非特許文献２５】V.Meyer, C.Wurster, Ber.Dtsch.Chem.Ges. 1873, 6, 1168-1172
【非特許文献２６】M.J.Kamlet, L.A.Kaplan, J.C.Dacons, J Org. Chem. 1961, 26, 4371-4375
【非特許文献２７】T.Mukayama, T Hoshino, J.Am.Chem.Soc. 1960, 82, 5339-5342
【非特許文献２８】A.G.M.Barret, G.G.Graboski, Chem.Rev. 1986, 86, 751-762
【非特許文献２９】R.Ballini, R.Castagnani, M.Petrini, J.Org.hem. 1992, 57, 2160-2162
【非特許文献３０】G.Rosini, R.Ballini, M.Petrini, P Sorrenti, Synthesis 1985, 515-517
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【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明のある態様は、キニーネに基づく触媒とキニジンに基づく触媒に関する。ある実施の形態において、キニーネに基づく触媒とキニジンに基づく触媒は、６’位にヒドロキシル基を含む。ある実施の形態において、キニーネに基づく触媒およびキニジンに基づく触媒は、Ｃ９位にＯ−アリール基またはＯ−アロイル基を含む。ある実施の形態において、キニーネに基づく触媒およびキニジンに基づく触媒は、Ｃ９位に必要に応じて置換されたＯ−ジアゼン基または必要に応じて置換されたＯ−ベンゾイル基を含む。ある実施の形態において、キニーネに基づく触媒およびキニジンに基づく触媒は、Ｃ９位にチオ尿素を含む。ある実施の形態において、キニーネに基づく触媒およびキニジンに基づく触媒は、Ｃ９位にＮＨ（＝Ｓ）ＮＨ−アリール基を含む。
【００１７】
本発明の別の態様は、プロキラル電子欠損アルケンまたはプロキラルイミンからキラル非ラセミ化合物を調製する方法であって、触媒の存在下でプロキラルアルケンまたはイミンを求核剤と反応させ、それによって、キラル非ラセミ化合物を生成する工程を有してなり、触媒が誘導体化キニーネまたはキニジンである方法に関する。ある実施の形態において、求核剤はマロネートまたはβ−ケトエステルである。ある実施の形態において、求核剤は、アルキルまたはアリールまたはアラルキル２−シアノ−２−アルキルアセテートである。ある実施の形態において、求核剤はアルキルまたはアリールまたはアラルキル２−シアノ−２−アリールアセテートである。
【００１８】
本発明の別の態様は、速度論的分割方法であって、誘導体化されたキニーネまたはキニジンの存在下でラセミアルデヒドまたはラセミケトンを求核剤と反応させ、それによって、非ラセミキラル化合物を生成する工程を有してなる方法に関する。ある実施の形態において、速度論的分割は動的である。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】図１は本発明のいくつかのシンコナアルカロイドに基づく触媒の構造と名称集を示す。
【図２】図２は本発明のいつくかのシンコナアルカロイドに基づく触媒の二官能特性を示す。
【図３】図３は、３基置換された炭素供与体の、アルファ置換されたマイケル受容体へのエナンチオ選択的Ｃ−Ｃ結合形成求核付加および得られたエノレートのその後のジアステレオ選択的プロトン付加に関して提案された機構を示す。
【図４】図４は本発明の選択された触媒を示す。
【図５】図５は本発明の触媒を用いた触媒作用マイケル付加の結果を示す。全ての反応は、別記しない限り、１０モル％の触媒についてトルエン中の０．０５ｍｍｏｌの３ａ、０．２ｍｍｏｌの２で行った。キー：b 1Ｈ  ＮＭＲ分析により決定した。C  キラルＧＣ［β−ＣＤ、１００℃、４分、次いで、１００℃〜１５０℃（０．７５℃／分）］により決定した。d  反応は２０モル％の触媒で行った。
【図６】図６は環式マイケル供与体への非対称１，４−付加−プロトン付加反応を示す。別記しない限り、全ての反応は、表に列記した期間に亘り室温でＱｄ−１ａの触媒について１ｍｌのトルエン中の０．１ｍｍｏｌの３、０．４ｍｍｏｌの２で行った。括弧内の結果は、Ｑ−１ａにより触媒作用を受けた反応を示す。キー：b  単離された収率。c  粗製反応生成物の1Ｈ  ＮＭＲ分析により決定した。d  キラルＨＰＬＣまたはＧＣ分析により決定した。e  代わりに０．８ｍｍｏｌの２を用いた。f  立体配置はＸ線分析により決定した。
【図７】図７は非環式マイケル供与体への非対称１，４−付加−プロトン付加反応を示す。別記しない限り、全ての反応は、表に列記した期間に亘り室温で２０モル％の触媒について１ｍｌのトルエン中の０．１ｍｍｏｌの２、０．８ｍｍｏｌの１で行った。キー：b  単離された収率。c  粗製反応生成物の1Ｈ  ＮＭＲ分析により決定した。d  キラルＨＰＬＣまたはＧＣ分析（解説情報を参照にこと）により決定した。e  収率の代わりに転化率を用いた。f  ０．５ｍｌのトルエンを用いた。g  純粋なジアステレオマーを得た。h  立体配置は、後の合成研究後に確認した。
【図８】図８は、触媒Ｑ−ビスＣＦ3ＴＵを用いた、本発明の１，４−付加−プロトン付加反応―の温度の影響を示す。
【図９】図９は、アルファ−シアノカルボニル化合物のアクリロニトリルへの非対称マイケル付加を示す。別記しない限り、反応は、Ｑ−触媒について２．０ｍｌのトルエン中の０．２ｍｍｏｌの供与体、０．６ｍｍｏｌの受容体で行った。括弧内の結果は、反対の鏡像異性体を与えるためにＱＤ−触媒について得た。b  単離された収率。c  キラルＨＰＬＣ分析により決定した。d  立体配置は先の結果との比較により決定した。
【図１０】図１０は、２−クロロアクリロニトリルによるアルファ−シアノカルボニル化合物の非対称共役付加−プロトン付加を示す。別記しない限り、反応は、室温で、１０モル％の触媒について３ｍｌのトルエン中で０．３ｍｍｏｌの供与体、０．９ｍｍｏｌの受容体で行った。キー：b  単離された収率。c  粗製反応生成物の1Ｈ  ＮＭＲ分析により決定した。d  キラルＨＰＬＣまたはＧＣ分析により決定した。e  立体配置は、先に報告された結果との比較により決定した。f  括弧内の結果は、反対の鏡像異性体を与えるためにＱＤ−触媒について得た。g  反応は−２０℃で行った。
【図１１】図１１は本発明の方法において触媒として使用してよい選択されたＣ６’またはＣ９チオ尿素シンコナアルカロイド誘導体を示す。
【図１２】図１２は、マンザシジンＡの触媒作用非対称形式合成を示す。キー：ａ）ＮａＮ3、ＤＭＳＯ、室温、５６％、１０：１ｄ．ｒ．、ｂ）ＴＭＳＣｌ、ＭｅＯＨ、０℃、９５％、９：１ｄ．ｒ．、ｃ）ＮａＢＨ4、Ｈｇ（ＯＡｃ）2、ＥｔＯＨ、０℃、８３％、９：１ｄ．ｒ．、ｄ）ＴＢＤＰＳＣｌ、イミダゾール、ＤＭＦ、室温、９１％、１０：１ｄ．ｒ．、ｅ）［ＰｔＨ（ＰＭｅ2ＯＨ）（ＰＭｅ2Ｏ）2Ｈ］、ＥｔＯＨ、Ｈ2Ｏ、８０℃、９７％、９３％ｅｅ、９：１ｄ．ｒ．、ｆ）Ｐｄ／Ｃ、Ｂｏｃ2Ｏ、ＥｔＯＨ、Ｈ2、室温、６８％、９１％ｅｅ、ｇ）Ｐｂ（ＯＡｃ）4、ｔＢｕＯＨ、還流、８３％、１１：１ｄ．ｒ．、ｈ）ＴＢＡＦ、ＴＨＦ、室温、７０％、９２％ｅｅ、単一のジアステレオマー（ＴＢＤＰＳ＝ｔｅｒｔ−ブチルクロロジフェニルシラン）。
【図１３】図１３は、マロン酸ジメチル（５ａ）のＮ−Ｂｏｃ−イミン（４Ｄ）へのシンコナアルカロイド触媒付加を示す。触媒は図１１に示したものである。別記しない限り、反応は、１６時間に亘り、１０モル％の触媒について０．１０ｍｌの溶媒中０．０５ｍｍｏｌの４Ｄ、０．１５ｍｍｏｌの５ａで行った。キー：b  チオ尿素官能性を持たないシンコナアルカロイドは、中程度のｅｅを与えた。c 1Ｈ  ＮＭＲ分析により決定した。d  ＨＰＣＬ分析により決定した。e  反応は、２４時間に亘り−６０℃でＱ−１ｄ（２０モル％）について行った。
【図１４】図１４は、ＱＤ−１ｄおよびＱ−１ｄ（括弧内）により触媒作用を受けた、マロネート５のＮ−Ｂｏｃ−イミンへのエナンチオ選択的マンニッヒ反応を示す。触媒は図１１に示したものである。別記しない限り、反応は、３６時間に亘り、−６０℃で、アセトン（０．４ｍｌ）中４（０．２０ｍｍｏｌ）および５（０．３０ｍｍｏｌ）で行い、括弧内の結果はＱ−１ｄについて得た。キー：b  単離された収率。c  ＨＰＬＣ分析により決定した。d  ＱＤ−１ｄ触媒反応により調製された（＋）−６Ａｂの立体配置は、Ｓであると決定された。解説情報を参照のこと。e  反応は、６０時間に亘り−６０℃で５モル％のＱＤ−１ｄについて行った。f  反応は、１６〜２４時間に亘り０℃で１ｄ（１００モル％）の高装填率でジクロロメタン中４（０．３０ｍｍｏｌ）および５（２０ｍｍｏｌ）で行った。ＱＤ−１ｄの回収率は＞９５％であった。
【図１５】図１５は、［Ａ］ＱＤ−１ｄおよびＱ−１ｄ（括弧内）により触媒作用が及ぼされたα−ケトエステル８のＮ−Ｂｏｃ−イミン４Ａへのエナンチオ選択的マンニッヒ反応を示す。触媒は図１１に示したものである。別記しない限り、反応は、アセトン（０．４ｍｌ）中４Ａ（０．２０ｍｍｏｌ）および８（０．３０ｍｍｏｌ）で行い、括弧内の結果はＱ−１ｄについて得た。キー：b  単離された収率。c 1Ｈ  ＮＭＲ分析により決定した。d  ＨＰＬＣ分析により決定した。図１５は、［Ｂ］Ｎ−Ｂｏｃ−α−アミノ酸の合成も示す。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
非環式分子における非隣接立体中心のエナンチオ選択的構成は、一般に、２つの立体中心が異なる段階で生成される多段プロセスにより行われる。根本的により効率的な戦略は、外部キラル試薬との非対称タンデム反応により容易に入手できる非キラル出発材料から一工程で両方の立体中心を形成することである。キラル試薬の化学量論的量を用いたそのような非対称タンデム反応の開発において注目に値する実施例が報告されてきたが、効率的な触媒反応制御によるこの強力な戦略を実施するには、まだ手強い課題がある。
【００２１】
非隣接ヒドロキシル基−アミノ基の構成に関する選択された実施の形態としては、以下を参照のこと。(a)Yamagiwa,N.;Matesunaga,S. J.Am.Chem.Soc.2003,125,16178-16179. (b)Minter,A.R.;Fuller,A.A.;Mapp,A.K. J.Am.Chem.Soc.2003,125,6846-6847. (c)Josephsohn,N.S.;Snapper,M.L.;Hoveyda,A.H. J.Am.Chem.Cos.2003,125,4018-4019. (d)Kochi,T.;Tang,T.P.;Ellman,J.A. J.Am.Chem.Soc.2002,124,6518-6519. (e)Kobayashi,S.;Hamada,T.;Manabe,K. J.Am.Chem.Soc.2002,124,5640-5641.
非隣接ジアミノ基の構成については、以下を参照のこと。(f)Matsubara,R.;Nakamura,Y.;Kobayashi,S. Angew.Chem.Int.Ed.2004,43,3258-3260.   
非隣接ジオールの構成については、以下を参照のこと。
【００２２】
(g)Flamme,E.M.;Roush,W.R. J.Am.Chem.Soc.2002,124,13644-13645. (h)Evans,D.A.;Gauchet-Prunet, J.A.J.Org.Chem.1993,58,2446-2453.
１，３−関連ジアルキル基の構成については、以下を参照のこと。(i)Tan,Z.;Negishi,E.Angew.Chem.Int.Ed.2004,43,2911-2914. (j)Myers,A.G.;Yang,B.H.;Chen,H;Mckinstry,L.;Kopecky,D.J.;Gleason,J.L.J.Am.Chem.Soc.1997,119,6496-6511.
マイケル付加
特に、多くの天然の生成物において１，３−第３−第４立体中心が存在し、またそのような構造的モチーフを構成する効率的な方法がないために、１，３−第３−第４立体中心を直接エナンチオ選択的に形成するために、容易に入手できる３基置換炭素供与体のα−置換マイケル受容体への触媒非対称共役付加が開発されるに至った。Wang.X.;Meg.Q.;Perl,N.R.;Xu,Y.;Leighton,J.L.J.Am.Chem.Soc.2005,127,12806-12807; Shirakawa,S.;Lombardi,P.L.;Leighton,J.L.J.Am.Chem.Soc.2005,127,9974-9975; and Keller,L.;Camara,C.;Pinheiro,A.;Dumas,F.;d’Angelo,J.Tetrahedron Lett.2001,42,381-383. そのような戦略において合成的に有用なエナンチオ選択性およびジアステレオ選択性を得るために、キラル触媒は、Ｃ−Ｃ結合形成求核付加においてだけでなく、その後のプロトン付加段階においても、効率的な立体制御を行う必要がある。ここに、そのようなタンデム触媒共役付加−プロトン付加の最初の実現が開示されていることが注目すべきことである。さらに、本発明の方法は、ブロモピロールアルカロイドのマンザシジンＡの簡潔で融通の利く非対称合成において活用される。マンザシジンの非対称合成については、以下を参照のこと：
(a)Wehn,P.M.;DuBois, J.J.Am.Chem.Soc.2002,124,12950-12951. (b)Namba,K.;Sinada,T.;Teramoto,T.;Ohfune,Y. J.Am.Chem.Soc.2000,122,10708-10709. (c)Lanter,J.C.;Chen,H.;Zhang,X.;Sui,Z. Org.Lett.2005,ASAP. 
（−）−ダイシハーベインの非対称合成については、以下を参照のこと: 
(d)Masaki,H.;Maeyama,J.;Kamada,K.;Esumi,T.;Iwabuchi,Y.;Hatakeyama,S. J.Am.Chem.Soc.2000,122,5216-5217. 
(e)Snider,B.B.;Hawryluk,N.A. Org.Lett.2000,2,635-638. 
（−）−ナカドマリンＡの非対称合成については、以下を参照のこと:
Ono,K.;Nakagawa,M.;Nishida,A. Angew,Chem.Int.Ed.2004,43,2020-2023.
１などの容易に入手できる修飾シンコナアルカロイドは、様々な３基置換炭素求核剤のニトロアルケン、α，β−不飽和スルホンおよびケトンへの共役付加のための非常に効率的な触媒である（図１および図９を参照のこと）。３基置換炭素求核剤の１−触媒共役付加の機械論的研究から示された転移状態モデルを考慮すると、タイプ１の触媒が、図３に示されたような、３基置換炭素供与体のα−置換マイケル受容体へのエナンチオ選択的Ｃ−Ｃ結合形成求核付加と、その結果得られたエノレートのその後のジアステレオ選択的プロトン付加の両方を促進させられるであろうことが想定された。その結果、本発明のシンコナアルカロイドは、タンデム非対称反応により、第３および第４立体中心両方の立体選択的生成を制御する二重機能キラル触媒として働くことがここに示される。例えば、本発明の触媒は、３基置換炭素供与体のα−置換マイケル受容体への非対称共役付加を促進できる。
【００２３】
３基置換炭素供与体およびα−ハロゲン化物を有するα−置換マイケル受容体による１−触媒の効率的かつ一般的なタンデム非対称共役付加−プロトン付加が発明された。かなりの範囲の３基置換炭素供与体と組み合わされたハロゲン化物官能基の合成多様性により、このタンデム反応が、１，３−第４−第３立体中心の非対称形成のための非常に多様な触媒反応手法を提供することができる。
【００２４】
モデル基質としてα−シアノケトン３ａおよびα−クロロアクリロニトリルに関する触媒スクリーニング研究を、室温でトルエン中において行った（図５参照）。１ａにより触媒作用が及ぼされた反応により、最良のエナンチオ選択性およびジアステレオ選択性が得られ、１０モル％の触媒添加率で、７５％ｅｅおよび３：１のｄｒ比で対応する１，４−付加物４ａが生じた。反応を２０モル％の１ａで行い、反応濃度を１．０Ｍから０．１Ｍに減少させた場合、ｅｅおよびｄｒは、それぞれ、９１％および７：１に改善した。その合成の重要性に加えて、ＤＡＢＣＯおよび他のシンコナアルカロイドによるジアステレオ選択性よりも劇的に高い１ａで得られたジアステレオ選択性も重要な機械論的影響である。何故ならば、それにより、立体選択的プロトン付加が、１ａによる触媒制御によるのではなく、求核付加において形成された第４立体中心による基質制御によるものであるという可能性が排除されるからである。
【００２５】
これらの期待できる結果にしたがって、３基置換炭素マイケル供与体に関する１ａ−触媒タンデム共役付加−プロトン付加の領域を探求した（図６および７）。触媒１ａは、様々な環式３基置換炭素供与体について広く効果的であることが分かった。この触媒は、環のサイズ並びに求核炭素に結合した置換基の電子的性質および立体的性質に関して、環式供与体の変更を容易に受け入れた。それゆえ、様々な環式α−シアノケトン３ａ〜３ｄおよびケトエステル３ｅ〜３ｈの２との反応は、７１〜９５％の収率で進行して、７〜２０：１のｄｒで１，３−第３−第４立体中心を含有する所望の付加物４ａ〜４ｈを生じ、主要なジアステレオマーが、９１〜９９％ｅｅで生成された。
【００２６】
α−フェニルα−シアノアセテート３ｉの２への、１ａにより触媒作用を受けた付加は、２：１のｄｒ比で行われ、主要なジアステレオマーが７９％ｅｅで得られた。触媒１のＣ９−置換基の構造変更が、容易に達成できた。そのような変更は、３ａおよび２の非対称タンデム反応に関するエナンチオ選択性およびジアステレオ選択性両方に重大な影響を及ぼすことが示されたのが重要である。これらの観察は、Ｃ９−置換基を変えることによって、非環式供与体とのタンデム非対称共役付加−プロトン付加に関する触媒１の効率の改善を思い起こさせた。その結果、Ｃ９−カルボキシルレート置換基を有するＣ６’−ＯＨシンコナアルカロイド（１ｄ）により、１ａにより示されたものよりも優れた、著しく改善されたエナンチオ選択性およびジアステレオ選択性が得られることが分かった。１ｄの存在下での様々な非環式供与体の２との反応が、４〜１０：１のｄｒで生じ、８８〜９３％ｅｅで主要なジアステレオマーが生じたことが重要である。
【００２７】
チオ尿素シンコナアルカロイド誘導体により触媒作用を受けた、アルファ−シアノカルボニル化合物のアクリロニトリルおよび２−クロロアクリロニトリルへの非対称共役付加の追加の実施の形態が図８〜１０に示されている。追加のチオ尿素含有触媒が図１１に示されている。
【００２８】
立体複雑性を形成する上でのこのタンデム非対称反応の独特な能力、その高い立体選択性および相当な基質範囲により助長されて、生物学的および構造的に興味深い、１，３−第３−第４中心を含有する天然生成物の新規かつ簡潔な非対称全合成を開発した。ブロモピロールアルカロイドであるマンザシジンＡ（１３）が、天然供給源からの限られた供給のために、我々の全合成研究に関して特に魅力的な標的になった。緊密に関連したマンザシジンＤの２つの簡潔かつ立体選択性の高い非対称合成が、それぞれ、ウェン(When)とディボイス(Du Bois)およびランター(Lanter)とその共同研究者により報告されたが、マンザシジンＡ（１３）の唯一の立体選択性の高い合成は、オーフネとその共同研究者により２２工程で行われた。それらの場合、Ｎ−置換第４および第３立体中心は、キラル補助制御または基質制御のいずれかにより、別々の工程で形成された。
【００２９】
１，３−第３−第４立体中心を有するテトラヒドロピリミジンコアは、中間体４ｋの立体特異的転換により構成できると考えられた。この中間体は、１ｄにより触媒作用を受ける、ジアステレオ選択性およびエナンチオ選択性の高いタンデム共役付加−プロトン付加によって優れた収率で直接得られる（図１２）。塩化物がアジドにより置換され、その後、立体的にそれほど妨害されていないニトリル基の選択的アルコール分解によって、第３立体中心の立体化学健全性を損なわずに、４ｋが６に転化された。次いで、６におけるチオエステル基およびエステル基の両方が、水素化ホウ素ナトリウムにより還元された。得られたジオールの保護の後、８において立体的に非常に妨害されたニトリル基の水和が、パーキンの工程により行われ、アミド９が優れた収率で得られた。９におけるアジドの対応するＢｏｃ−保護アミンへのワンポット変換により、アミド１０が得られた。このアミドは、バーゲス(Burgess)により報告された条件下でホフマン(Hoffman)転移を容易に経て、８３％の収率で１１を直接形成する。ＴＢＤＰＳ基を除去した後、ジオール１２は、９２％ｅｅの純粋なジアステレオマーとして７０％の収率で単離された。ジオール１２は以前に、オーフネ（Namba,K.;Shinada,T.;Teramoto,T.;Ohfune,Y. J.Am.Chem.Soc.2000,122, 10708-10709）により４工程で１３に転化されたので、１２のこの９工程の合成は、１３工程のマンザシジンＡ（１３）の形式非対称全合成を構成する。この経路により、１３の類似物を調製できることが重要である。
【００３０】
二重機能キラル触媒としてのシンコナアルカロイドによる触媒タンデム非対称共役付加−プロトン付加反応が発見されたことが注目に値する。この反応により、１，３−立体中心の一段階構成のための新規の触媒反応手法が確立される。天然生成物の全合成に関するこの手法の合成的価値は、マンザシジンＡへの簡潔かつ融通の利くエナンチオ選択的経路の開発において、際立った。
【００３１】
マンニッヒ反応
エナンチオ選択的マンニッヒ反応は、光学活性キラルアミンの合成にとって根本的に重要である。詳しくは、以下を参照のこと：
(a)Co’rdova,A.Acc.Chem.Res.2004,37,102. 
(b)Kobayashi,S.;Ueno,M. Comprehensive Asymmetric Catalysis Supplement I; Jacobsen,E.N.,Pfaltz,A.,Yamamoto,H. Eds.;Springer:Berlin,2003;Chapter 29.5. (c)Kobayashi,S.;Ishitani,H. Chem.Rev.1999,99,1069
およびその中の文献。エノールシランなどの予め活性化したエノレート求核剤およびα−ケトエステルや１，３−ジケトンなどのエノール化可能なカルボニル求核剤とのエナンチオ選択的マンニッヒ反応のための効率的なキラル金属触媒および有機触媒の開発において、多大な進歩が成し遂げられた。Kobayashi,S.;Ueno,M.;Saito,S.;Mizuki,Y.;Ishitani,H.;Yamashita,Y.Proc.Natl.Acad.Sci.U.S.A.2004,101,5476;Akiyama,T.;Itoh,J.;Yokota,K.;Fuchibe,K.Angew,Chem.Int.Ed.2004,43,1566;Josephsohn,N.S.;Snapper,M.L.;Hoveyda,A.H.J.Am.Chem.Soc.2004,126,3734;Kobayashi,S.;Matsubara,R.;Nakamura,Y.;Kitagawa,H.;Sugiura,M.J.Am.Chem.Soc.2003,125,2507;Wenzel,A.G.;Lalonde,M.P.;Jacobsen,E.N.Synlett,2003,1919;Wenzel,A.G.;Jacobsen,E.N.J.Am.Chem.Soc.2002,124,12964;Kobayashi,S.;Hamada,T.;Manabe,K.J.Am.Chem.Soc.2002,124,5640;Lou,S.;Taoka,B.M.;Ting,A.;Schaus,S.E.J.Am.Chem.Soc.2005,127,11256;Hamashima,Y.;Sasamoto,N.;Hotta,D.;Somei,H.;Umebayashi,N.;Sodeoka,M.Angew.Chem.Int.Ed.2005,44,1525;Poulsen,T.B.;Alemparte,C.;Saaby,S.;Bella,M.;Jorgensen,K.A.Angew.Chem.,Int.Ed.2005,44,2;Uraguchi,D.;Terada,M.J.Am.Chem.Soc.2004,126,5356. アルデヒドおよびケトンとのエナンチオ選択性の高い直接マンニッヒ反応が、キラル第２アミンおよびキラル金属錯体により達成された。Trost,B.M.;Jaratjaroonphong,J.;Reutrakul,V.J.Am.Chem.Soc.2006,128,2778;Mitsumori,S.;Zhang,H.;Cheong,P.;Houk,K.N.;Tanaka,F.;Barbas,C.F.,III.J.Am.CHem.Soc.2006,128,1040;Kano,T.;Yamaguchi,Y.;Tokuda,O.;Maruoka,K.J.Am.Chem.Soc.2005,127,16408;Harada,S.;Handa,S.;Matsunaga,S.;Shibasaki,M.Angew.Chem.,Int.Ed.2005,44,4365;Okada,A.;Shibuguchi,T.;Ohshima,T.;Masu,H.;Yamaguchi,K.;Shibasaki,M.Angew,Chem.,Int.Ed.205,44,4564;Notz,W.;Watanabe,S.-I.;Chowdari,N.S.;Zhong,G.;Betancort,J.M.;Tanaka,F.;Barbas,C.F.,III.Adv.Synth.Catal.2004,346,1131;Zhuang,W.;Saaby,S.;Jorgensen,K.A.Angew.Chem.,Int.Ed.2004,43,4476;Co'rdova,A.Chem.Eur.J.2004,10,1987;Notz,W.;Tanaka,F.;Barbas,C.F.,III.Acc.Chem.Res.2004,37,5801;Hayashi,Y.;Tsuboi,W.;Ashimine,I.;Urushima,T.;Shoji,M.;Sakai,K.Angew,Chem.,Int.Ed.2003,42,3805;List,B.;Pojarliev,P.;Biller,W.T.;Martin,H.J.J.Am.Chem.Soc.2002,124,827;List,B.J.Am.Chem.Soc.2000,122,9336.  しかしながら、マロネートの単純なイミンとのエナンチオ選択性の高いマンニッヒ反応は、依然として分かりにくい。マロネートおよび活性化されたＮ−トシル−リミノエステルのマンニッヒ反応が唯一３９〜８７％ｅｅで報告された：Marigo,
M.;Kjaersgaard,A.;Juhl,K.;Gathergood,N.;Jorgensen,K.A.Chem.Eur.J.2003,9,2359.  しかしながら、耐空気および耐水分(air-and moisture-tolerant)条件下で実際的に入手できるキラル触媒によりうまく促進された場合、さらなる手の込んだ合成のために適切に保護された光学活性α−アミノ酸に対して非常に魅力的な収斂的手法を提供できるであろう。α−アミノ酸の合成については、以下を参照のこと：(a)Ma,J.Angew.Chem.,Int.Ed.2003,42,4290. (b)Magriotis,P.A. Angew.Chem.,Int.Ed.2001,40,4377. 
(c)Liu,M.;Sibi,M.P. Tetrahedron 2002,58,7991.  
α−アミノ酸の最近の合成については、以下を参照のこと：(a)Berkessel,A.;Cleemann,F.;Mukherjee,S. Angew.Chem.,Int.Ed.2005,44,2. (b)Hsiao,Y.;Rivera,N.R.;Rosner,T.;Krska,S.W.;Njolito,E.;Wang,F.;Sun,Y.;Armstrong,J.D.;Grabowski,E.J.;Tillyer,R.D.;Spindler,F.;Malan,C. J.Am.Chem.Soc.2004,126,9918. (c)Zhou,Y.;Tang,W.;Wang,W.;Li,W.;Zhang,X. J.Am.Chem.Soc.2002,124,4952. (d)Sibi,M.P.;Asano,Y. J.Am.Chem.Soc.2001,123,9708. 
(e)Myers,J.;Jacobsen,E.N. J.Am.Chem.Soc.1999,121,8959. 
そのような直接のマンニッヒ反応の実施は、特に難しい。何故ならば、この反応は、１，３−ジケトンおよびα−ケトエステルと比較して、エノール化が難しく、キラルエナミン触媒反応に適していない、反応性の弱いイミンおよびカルボニル求核剤の組合せを含むからである。
【００３２】
ここに、マロネートおよびＮ−Ｂｏｃイミンとの、シンコナアルカロイドにより触媒作用を受ける、エナンチオ選択性の高いマンニッヒ反応を開発するための協同的水素結合触媒反応の用途を開示する。キラルチオ尿素およびリン酸などのキラル水素結合供与体は、エノールシランおよび１，３−ジケトンとのマンニッヒ反応を含む様々なエナンチオ選択的求核付加に対する単純なイミンの活性化のための効果的な触媒として確認された。Yoon,T.P.;Jacobsen,E.N. Angew.Chem.,Int.Ed.2005,44,466; Yoon,T.P.;Jacobsen,E.N. Science 2003,299,1691; Vachal,P.;Jacobsen,E.N. J.Am.Chem.Soc.2002,124,10012; Vachal,P.;Jacobsen,E.N. Org.Lett.2000,2,867; Sigman,M.S.;Vachal,P.;Jacobsen,E.N. Angew.Chem.,Int.Ed.2000,39,1279; Sigman,M.S.;Jacobsen,E.N. J.Am.Chem.Soc.1998,120,4901; Xu,X.;Furukawa,T.;Okino,T.;Miyabe,H.;Takemoto,Y. Chem.Eur.J.2006,12,466; Okino,T.;Nakamura,S.;Furukawa,T.;Takemoto,Y. Org.Lett.2004,6,625; Okino,T.;Hoashi,Y.;Takemoto,Y. J.Am.Chem.Soc. 2003,125,12672; Bernardi,L.;Fini,F.;Herrera,R.P.;Ricci,A.;Sgarzani,V. Tetrahedron 2006,62,375.  
しかしながら、シンコナアルカロイドなどのキラル水素結合受容体は、エナンチオ選択的共役付加のためのマロネートの活性化に効果的であることが示された。Li,H.;Wang,Y.;Tang,L.;Deng,L. J.Am.Chem.Soc.2004,126,9906. したがって、チオ尿素官能基を有するシンコナアルカロイド誘導体は、マロネートの単純なイミンとのマンニッヒ反応のための効率的な二官能性触媒として働くであろうと考えられる。キニーネまたはキニジンから二段階で得られる触媒１ｄが、Li,B.;Jiang,L.;Liu,M.;Chen,Y.;Ding,L.;Wu,Y. Synlett 2005,4,603およびVakulya,B.;Varga,S.;Csa’mpai,A.;Soo’s,T. Org Lett.2005,7,1967により報告されたことに留意されたい。最近の用途については、以下を参照のこと：
Mccooey,S.H.;Connon,S. J.Angew,Chem.,Int.Ed.2005,44,6367;および Ye,J.;Dixon,D.J.;Hynes,P. Chem.Commun.2005,35,4481。
【００３３】
したがって、ジクロロメタン中でＮ−Ｂｏｃ−保護イミン４Ｄへのマロン酸ジメチル５ａの付加のための触媒として、６’−または９−チオ尿素官能基いずれかを有するシンコナアルカロイド誘導体の研究を開始した。図１３に要約したように、電子吸引性アリール置換基を有する６’−または９−チオ尿素シンコナアルカロイドが最も効果的な触媒として浮上した。触媒のチオ尿素Ｑ−１ｄおよびチオ尿素Ｑ−３によるマンニッヒ反応は、それぞれ、７７％ｅｅおよび７２％ｅｅで起こった（番号４および７）。様々な溶媒中における合成で容易に入手できるチオ尿素Ｑ−１ｄによる反応の研究によって、アセトニトリルおよびアセトンが、ジクロロメタンに代わる適切な代替物と確認された（番号８および９）。意外なことに、これらの溶媒中の反応は、温度変化に対して異なって応答した。−２０℃での反応対室温での反応について、エナンチオ選択性は、ジクロロメタン中でわずかに増加したが、アセトニトリル中では著しく減少した。アセトン中では、エナンチオ選択性へのよりはっきりした正の温度効果が観察された。これにより、−６０℃での４Ｄの５ａとのエナンチオ選択性の高い完全な反応に到達した（番号１３）。チオ尿素Ｑ−１ｄおよびチオ尿素ＱＤ−１ｄ両方により触媒作用を受けたエナンチオ選択的マンニッヒ反応の領域を、上述した最適化条件下で調査した（図１４）。チオ尿素ＱＤ−１ｄのエナンチオ選択性は、アリールイミンの立体特性とはほぼ関係ないことが分かった。チオ尿素ＱＤ−１ｄの存在下でのｏ−，ｍ−，およびｐ−トリルイミン（４Ｂ−Ｄ）との反応は、９７〜９９％ｅｅで起こった。電子の豊富なアリールイミンを含む、様々な電子特性の幅広いヘテロアリールイミンおよびアリールイミンについて、非常に高いエナンチオ選択性が得られた。Ｒ−未分岐アルキルアミン（４Ｍ−Ｏ）を含むＮ−Ｂｏｃアルキルイミンについて非常に良好なエナンチオ選択性が達成されたことは注目に値する。有用なレベルのエナンチオ選択性を維持するにはチオ尿素ＱＤ−１ｄを高添加（１００モル％）する必要があったが、チオ尿素ＱＤ−１ｄは、９５％より高い収率で容易に再利用できた。４Ｍ〜Ｎに関するこれらの結果は、Ｎ−Ｂｏｃ−Ｒ−未分岐アルキルイミンとの最初のエナンチオ選択性の高いマンニッヒ反応を表す（番号１３〜１４）。チオ尿素触媒１ｄも、異なるバルクのマロネートを許容した。これにより、強酸または強塩基条件を使用せずに、アミン６をα−アミノ酸７に転化できる。チオ尿素ＱＤ−１ｄ触媒マンニッヒ反応は、α−ケトエステルにも適用できる（図１５［Ａ］）。ケト置換基の立体のばらつきは、チオ尿素触媒１ｄにより容易に受け入れられ、それによって、マンニッヒ反応が、様々な光学活性α−アミノケトンに到達できることが重要である。
【００３４】
結論として、容易に入手できる二官能性シンコナアルカロイド触媒による協働性水素結合触媒反応を探求することによって、Ｎ−Ｂｏｃアリールイミンおよびアルキルイミンのマロネートおよびα−ケトエステルとのエナンチオ選択性の高い直接マンニッヒ反応が開発された（マロネートおよびα−ケトエステルのＮ−Ｂｏｃアリールイミンに対するマンニッヒ反応を報告している、Tillman,A.L.;Ye,J.;Dixon,D. J.Chem.Commun. 2006,1991を参照のこと）。これにより、穏やかな、水分適合性かつ空気適合性の化合物の下で、容易に得られる出発材料からＮ−Ｂｏｃα−アミノ酸の収斂的エナンチオ選択的合成が確立されるに至った。
【００３５】
定義
便宜上、明細書、実施例および添付の特許請求の範囲で用いられているいくつかの語句をここにまとめる。
【００３６】
「求核剤」という語句は、当技術分野で認識されており、本明細書中では、反応性の高い電子対を有する化学的部分を意味する。求核剤の例としては、水、アミン、メルカプタンおよびアルコールなどの非荷電性化合物、および、アルコキシド、チオラート、カルバニオンならびに様々な有機および無機の陰イオンなどの荷電された部分が挙げられる。陰イオン求核剤の実例としては、水酸化物イオン、アジド、シアン化物イオン、チオシアン酸イオン、酢酸イオン、ギ酸イオン、クロロギ酸イオン、および亜硫酸水素イオンなどの単純陰イオンが挙げられる。適切な反応条件下では、有機クプレート、有機亜鉛、有機リチウム、グリニャール試薬、エノラート、アセチリドなどの有機金属試薬が、適した求核剤であろう。水素化物イオンもまた、基質の還元が望まれる場合には、求核剤として適しているであろう。
【００３７】
「求電子剤」という語句は、当技術分野で認識されており、先に定義された求核剤から電子対を受容可能な化学的部分のことをいう。本発明にかかる方法に有用な求電子剤としては、エポキシド、アジリジン、エピスルフィド、環状硫酸エステル、カーボネート、ラクトン、ラクタムなどの環状化合物が挙げられる。非環状の求電子剤としては、硫酸イオン、スルホン酸イオン（例えば、トシル酸イオン（tosylates））、塩化物イオン、臭化物イオン、および、ヨウ化物イオンなどが挙げられる。
【００３８】
本明細書中で用いられる「求電子性原子」、「求電子中心」および「反応中心」の語句は、求核剤によって攻撃され、新たな結合を形成する基質の原子のことをいう。ほとんどの場合（すべてではないが）、これは、また、離脱基が離れていく原子でもある。
【００３９】
「電子吸引基」という語句は、当技術分野で認識されており、本明細書中では、同じ位置における水素原子と比較して、自身へと電子を引き寄せる力が強い官能基を意味する。典型的な電子吸引基としては、ニトロ基、ケトン基、アルデヒド基、スルホニル基、トリフルオロメチル基、−ＣＮ基、塩素基などが挙げられる。「電子供与基」という語句は、本明細書中では、同じ位置における水素原子と比較して、自身へと電子を引き寄せる力が弱い官能基を意味する。典型的な電子供与基にとしては、アミノ基、メトキシ基などが挙げられる。
【００４０】
「ブレンステッド塩基」という語句は、当技術分野で認識されており、非荷電、あるいは荷電した原子または分子、例えば、酸化物、アミン、アルコキシドイオンまたはカーボネートなどのプロトン受容体のことをいう。
【００４１】
「ルイス塩基」および「ルイス塩基の」という語句は、当技術分野で認識されており、ある反応条件下で、電子対を供与可能な化学的部分のことをいう。ルイス塩基部分の例としては、アルコール、チオール、オレフィン、およびアミンなどの非荷電の化合物、ならびにアルコキシド、チオラート、カルバニオンおよび他の様々な有機陰イオンなどの荷電された部分が挙げられる。
【００４２】
「ルイス酸」および「ルイス酸の」という語句は、当技術分野で認識されており、ルイス塩基から電子対を受容可能な化学的部分のことをいう。
【００４３】
「メソ化合物」という語句は、当技術分野で認識されており、少なくとも２つのキラル中心を持つが、その構造内の対称面または対称点に起因して、アキラルである化合物のことをいう。
【００４４】
「キラル」とは、鏡像体同士が互いに重なり合うことが不可能な性質を持つ分子のことをいい、一方、「アキラル」とは、鏡像体同士が重なり合うことのできる分子のことをいう。「プロキラル分子」とは、特定の処理により、キラル分子に変化する可能性のあるアキラル分子のことをいう。
【００４５】
「立体異性体」とは、同一の化学構造を持つが、原子や基の空間配置が異なる化合物のことをいう。特に、「鏡像異性体」という語句は、鏡像の一方を他方と重ね合わせることができない、化合物の２つの立体異性体のことをいう。一方、「ジアステレオマー」という語句は、２つ以上の不斉中心を有するが、互いに鏡像ではない、対となる立体異性体同士の関係をいう。
【００４６】
さらには、「立体選択的方法」とは、他の生成する可能性のある立体異性体の生成物に優先して、反応生成物の特定の立体異性体を生成する方法のことである。「エナンチオ選択的方法」とは、反応生成物の２つの可能性のある鏡像異性体のうち、一方の生成に有利に作用する方法のことである。本課題の方法は、キラル触媒が存在しない同一の反応から得られる立体異性体の収率と比較して、生成物の特定の立体異性体の収率が、統計的に有意な量を上回る場合に、「立体選択性が高い」生成物（例えば、エナンチオ選択性が高い、または、ジアステレオ選択性が高い）を生成するといわれる。例えば、本課題のキラル触媒の1つによって触媒されたエナンチオ選択的反応では、特定の鏡像異性体のｅｅは、キラル触媒を欠いた反応のｅｅに比べて大きくなるであろう。
【００４７】
「位置異性体」という語句は、分子式は同じだが、原子の結合が異なる化合物のことをいう。したがって、「位置選択的処理」とは、例えば、その反応が、統計的に有意な優越的量で、ある位置異性体を生成するといった、他に比べて特定の位置異性体の生成を優先させる処理である。
【００４８】
「反応生成物」という語句は、求核剤と基質の反応から得られる化合物を意味する。一般に、「反応生成物」という語句は、本明細書中では、安定な単離可能な化合物のことをいい、不安定な中間体や遷移状態には用いられないであろう。
【００４９】
「基質」という語句は、本発明に従って、求核剤または環拡大試薬と反応し、立体中心を有する少なくとも１種類の生成物を生成可能な化合物のことを意味する意図である。
【００５０】
「触媒量」という語句は、当技術分野で認識されており、反応物質と比較したサブ化学量論的な（substoichiometric）量を意味する。本明細書では、触媒量は、反応物質と比較して、０．０００１〜９０モル％を意味し、約０．００１〜約５０モル％がより好ましく、約０．０１〜約１０モル％がさらに好ましく、反応物質と比較して約０．１〜約５モル％がさらになお好ましい。
【００５１】
以下にさらに十分に論じるように、本発明が意図する反応には、エナンチオ選択的、ジアステレオ選択的、および／または位置選択的な反応が含まれる。エナンチオ選択的反応は、アキラルな反応物質を、１種類のエナンチオマーが豊富なキラル生成物へと変化させる反応である。エナンチオ選択性は、通常、下記に定義する「鏡像異性体過剰率」（ｅｅ）として数量化される：
％鏡像異性体過剰率Ａ（ｅｅ） ＝ （％鏡像異性体Ａ） − （％鏡像異性体Ｂ）
ここでＡおよびＢは、生成した鏡像異性体である。エナンチオ選択性とともに用いられる追加の語句としては、「光学純度」または「光学活性」が挙げられる。エナンチオ選択的反応では、ゼロよりも大きなｅｅで生成物を生成する。エナンチオ選択的反応は、約２０％よりも大きいｅｅで生成物を生成することが好ましく、約５０％よりも大きいことがより好ましく、約７０％よりも大きいことがよりさらに好ましく、約８０％よりも大きいことが最も好ましい。
【００５２】
ジアステレオ選択的反応は、キラルな反応物質（ラセミ体、または鏡像異性的に純粋であろう）を、あるジアステレオマーが豊富な生成物に変化させる。もし、キラルな反応物質がラセミ体である場合は、キラル非ラセミ試薬または触媒（chiral non-racemic reagent or reagent）の存在下で、一方の反応物質である鏡像異性体が、他方よりもゆっくりと反応するであろう。この類の反応は速度論的分割と称され、反応物質である鏡像異性体が反応速度の差によって分割され、鏡像異性体が豊富な生成物、ならびに鏡像異性体が豊富な未反応基質の両方を生じる。速度論的分割は、通常、一方の反応物質である鏡像異性体のみとの反応に十分な量（すなわち、１モルのラセミ体基質に対して１／２モルの試薬）で用いられる。ラセミ体反応物質の速度論的分割に用いられる触媒反応の例として、シャープレスのエポキシ化反応および野依の水素化反応が挙げられる。
【００５３】
位置選択的反応は、ある反応中心において、他の同一ではない反応中心に比べて優先的に起こる反応である。例えば、非対称的に置換されたエポキシド基質の位置選択的反応には、エポキシ環の２つの炭素のうちの一方との優先的な反応が含まれるであろう。
【００５４】
キラル触媒に関する「非ラセミ」という語句は、ある鏡像異性体が５０％を超える、さらに好ましくは約７５％以上である触媒の調製を意味する。「実質的非ラセミ」は、ある鏡像異性体のｅｅが約９０％を超える、さらに好ましくは約９５％を超える、触媒の調製のことをいう。
【００５５】
「アルキル」という語句は、直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基、シクロアルキル（脂環式）基、アルキル置換シクロアルキル基、およびシクロアルキル置換アルキル基を含む飽和脂肪族のラジカルのことをいう。ある実施の形態では、直鎖または分岐鎖アルキルは、その骨格に３０個以下の炭素原子を有し（例えば、直鎖ではＣ１−Ｃ３０、分岐鎖ではＣ３−Ｃ３０）、さらには２０個以下であることがより好ましい。同様に、シクロアルキルはその環構造中に４〜１０個の炭素原子を有することが好ましく、環構造中に５、６または７個の炭素を有することがさらに好ましい。
【００５６】
炭素数が他に特定されていない限り、本明細書の「低級アルキル」は、先に定義したアルキルであって、その骨格構造に１〜１０個の炭素原子を有するものをいい、１〜６個の炭素原子を有することがさらに好ましい。さらには、「低級アルケニル」および「低級アルキニル」は同様の鎖長を有する。
【００５７】
「アルケニル」および「アルキニル」という語句は、上述のアルキルと同様の鎖長および可能性のある置換を有するが、それぞれ、少なくとも１つの二重または三重の炭素−炭素結合を含む不飽和脂肪族のことをいう。
【００５８】
本明細書では、「アミノ」は、−ＮＨ２を意味し、「ニトロ」は−ＮＯ２を意味し、「ハロゲン」は−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉを指し、「チオール」は−ＳＨを意味し、「ヒドロキシル、」は−ＯＨを意味し、「スルホニル」は−ＳＯ２−を意味し、「有機金属」という語句は金属原子（水銀、亜鉛、鉛、マグネシウムまたはリチウムなど）もしくはジフェニルメチルシリル基などの、炭素原子と直接結合する半金属（ケイ素、ヒ素またはセレンなど）のことをいう。
【００５９】
「アミン」および「アミノ」という語句は、当技術分野で認識されており、置換もしくは非置換アミンの両方をいい、例えば、次の一般式で表される部分のことをいう：
【化１】
0005266128.tif 000002
【００６０】
ここで、Ｒ５０、Ｒ５１およびＲ５２は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アルケニル、−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ６１を表すか、または、Ｒ５０とＲ５１が付加されるＮ原子と一体となって環構造中に４〜８個の原子を有する複素環を完成し、Ｒ６１は、アリール、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクリルまたは多環基を表し；ｍは０または１〜８までの整数を表す。他の実施の形態では、Ｒ５０およびＲ５１（および随意的に、Ｒ５２）は、それぞれ独立して、水素、アルキル、アルケニル、または−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ６１を表す。したがって、「アルキルアミン」には、置換もしくは非置換のアルキルが付加されている、すなわち、Ｒ５０およびＲ５１の少なくとも一方がアルキルである、先に定義されたアミン基が含まれる。
【００６１】
「アシルアミノ」という語句は、当技術分野で認識されており、下記の一般式で表される部分のことをいう：
【化２】
0005266128.tif 000003
【００６２】
ここで、Ｒ５０は先に定義したとおりであり、Ｒ５４は水素、アルキル、アルケニル、または−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ６１を表し、ここでｍおよびＲ６１は先に定義したとおりである。
【００６３】
「アミド」という語句は、アミノ置換カルボニルとして当技術分野で認識されており、下記の一般式で表される部分のことをいう：
【化３】
0005266128.tif 000004
【００６４】
ここで、Ｒ５０およびＲ５１は先に定義したとおりである。本発明におけるアミドの特定の実施の形態には、不安定なイミドは含まれないであろう。
【００６５】
「アルキルチオ」は、硫黄ラジカルが付加された、先に定義されたアルキル基のことをいう。ある実施の形態では、「アルキルチオ」部分は、−Ｓ−アルキル、−Ｓ−アルケニル、−Ｓ−アルキニル、および−Ｓ−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ６１のいずれかで表され、ここでｍおよびＲ６１は先に定義したとおりである。代表的なアルキルチオ基としては、メチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。
【００６６】
「カルボキシル」という語句は、当技術分野で認識されており、下記の一般式で表される部分のことをいう：
【化４】
0005266128.tif 000005
【００６７】
ここで、Ｘ５０は結合、もしくは酸素または硫黄を表し、Ｒ５５およびＲ５６は、水素、アルキル、アルケニル、−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ６１または医薬品的に容認可能な塩を表し、Ｒ５６は水素、アルキル、アルケニルおよび−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ６１を表す。ここで、ｍおよびＲ６１は先に定義したとおりである。Ｘ５０が酸素であり、Ｒ５５またはＲ５６が水素ではない場合、その構造式は「エステル」を表す。Ｘ５０が酸素であり、Ｒ５５が先に定義したとおりである場合、その部分は、本明細書中では、カルボキシル基のことをいい、特に、Ｒ５５が水素である場合、その構造式は「カルボン酸」を表す。Ｘ５０が酸素であり、Ｒ５６が水素である場合、構造式は「ギ酸エステル」を表す。一般に、上記構造式の酸素原子が硫黄に置き換わる場合、構造式は「チオカルボニル」基を表す。Ｘ５０が硫黄であり、Ｒ５５またはＲ５６が水素ではない場合、構造式は、「チオールエステル」を表す。Ｘ５０が硫黄であり、Ｒ５５が水素である場合、構造式は「チオカルボン酸」を表す。Ｘ５０が硫黄であり、Ｒ５６が水素である場合、その構造式は「チオギ酸エステル(thiolformate)」を表す。一方、Ｘ５０が結合であり、Ｒ５５が水素ではない場合、上記構造式は、「ケトン」基を表す。Ｘ５０が結合であり、Ｒ５５が水素である場合、上記構造式は「アルデヒド」基を表す。
【００６８】
「カルバモイル」という語句は−Ｏ（Ｃ＝Ｏ）ＮＲＲ’のことを指し、ここで、ＲおよびＲ’は、独立してＨ、脂肪族基、アリール基またはヘテロアリール基である。
【００６９】
「オキソ」とは、カルボニル酸素（＝Ｏ）のことをいう。
【００７０】
「オキシム」および「オキシムエーテル」という語句は当技術分野で認識されており、下記の一般式で表される部分のことをいう：
【化５】
0005266128.tif 000006
【００７１】
ここで、Ｒ７５は水素、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキルまたは−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ６１である。ＲがＨの場合、その部分は「オキシム」であり、Ｒがアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキルまたは−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ６１の場合は「オキシムエーテル」である。
【００７２】
「アルコキシル」または「アルコキシ」という語句は当技術分野で認識されており、酸素ラジカルが付加された、先に定義されたアルキル基のことをいう。代表的なアルコキシル基としては、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ｔ−ブトキシなどが挙げられる。「エーテル」は、２つの炭化水素が１つの酸素と共有結合している。従って、アルキルをエーテルに変化させるアルキルの置換基は、−Ｏ−アルキル、−Ｏ−アルケニル、−Ｏ−アルキニル、−Ｏ−−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ６１のうちの１つに代表されるアルコキシルか、それに類似のものであり、ここで、ｍおよびＲ６１は先に述べた通りである。
【００７３】
「スルホネート」という語句は当技術分野で認識されており、下記の一般式で表される部分のことをいう：
【化６】
0005266128.tif 000007
【００７４】
ここで、Ｒ５７は電子対、水素、アルキル、シクロアルキルまたはアリールである。
【００７５】
「スルフェート」という語句は当技術分野で認識されており、下記の一般式で表される部分のことをいう：
【化７】
0005266128.tif 000008
【００７６】
ここで、Ｒ５７は先に述べた通りである。
【００７７】
「スルホンアミド」という語句は当技術分野で認識されており、下記の一般式で表される部分のことをいう：
【化８】
0005266128.tif 000009
【００７８】
ここで、Ｒ５０およびＲ５６は先に述べた通りである。
【００７９】
「スルファモイル」という語句は当技術分野で認識されており、下記の一般式で表される部分のことをいう：
【化９】
0005266128.tif 000010
【００８０】
ここで、Ｒ５０およびＲ５１は先に述べた通りである。
【００８１】
「スルホニル」という語句は当技術分野で認識されており、下記の一般式で表される部分のことをいう：
【化１０】
0005266128.tif 000011
【００８２】
ここで、Ｒ５８は次のうちの１つである：水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールまたはヘテロアリール。
【００８３】
「スルホキシド」という語句は当技術分野で認識されており、下記の一般式で表される部分のことをいう：
【化１１】
0005266128.tif 000012
【００８４】
ここで、Ｒ５８は先に述べた通りである。
【００８５】
「ホスホリル」という語句は当技術分野で認識されており、一般に下記の構造式で表され：
【化１２】
0005266128.tif 000013
【００８６】
ここで、Ｑ５０はＳまたはＯを表し、Ｒ５９は水素、低級アルキルまたはアリールを表す。例えばアルキルなどで置換して用いる場合、ホスホリルアルキルのホスホリル基は下記の一般式で表され：
【化１３】
0005266128.tif 000014
【００８７】
ここで、Ｑ５０およびＲ５９は、それぞれ独立して、先に定義したとおりであり、Ｑ５１はＯ、ＳまたはＮを表す。Ｑ５０がＳの場合は、ホスホリル部分は「ホスホロチオエート」である。
【００８８】
「フォスフォアミダイト」という語句は当技術分野で認識されており、下記の一般式で表される：
【化１４】
0005266128.tif 000015
【００８９】
ここで、Ｑ５１、Ｒ５０、Ｒ５１およびＲ５９は先に定義した通りである。
【００９０】
「フォスフォンアミダイト（phosphonamidite）」という語句は当技術分野で認識されており、下記の一般式で表される：
【化１５】
0005266128.tif 000016
【００９１】
ここで、Ｑ５１、Ｒ５０、Ｒ５１およびＲ５９は先に定義した通りであり、Ｒ６０は低級アルキルまたはアリールを表す。
【００９２】
アルケニル基およびアルキニル基に同様の置換を行い、例えば、アミノアルケニル、アミノアルキニル、アミドアルケニル、アミドアルキニル、イミノアルケニル、イミノアルキニル、チオアルケニル、チオアルキニル、カルボニル置換アルケニル、またはカルボニル置換アルキニルを生成してもよい。
【００９３】
例えば、アルキル、ｍ、ｎなどの各表示の定義は、構造内に複数用いられる場合、同一構造中のほかの場所におけるその定義から独立していることが意図されている。
【００９４】
「セレノアルキル」という語句は当技術分野で認識されており、置換されたセレノ基が付加したアルキル基のことをいう。アルキル上で置換される典型的な「セレノエーテル」は、−Ｓｅ−アルキル、−Ｓｅ−アルケニル、−Ｓｅ−アルキニルおよび−Ｓｅ−（ＣＨ２）ｍ−Ｒ６１から選択され、ｍおよびＲ６１は先に定義されたとおりである。
【００９５】
トリフリル、トシル、メシルおよびノナフリル（nonaflyl）という語句は、当技術分野で認識されており、それぞれ、トリフルオロメタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、メタンスルホニルおよびノナフルオロブタンスルホニル基のことをいう。トリフラート、トシラート、メシラート、およびノナフラートという語句は当技術分野で認識されており、それぞれ、トリフルオロメタンスルホン酸エステル、ｐ−トルエンスルホン酸エステル、メタンスルホン酸エステルおよびノナフルオロブタンスルホン酸エステルの官能基、およびこれらの基を含む分子のことをいう。
【００９６】
略語Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｈ、Ｔｆ、Ｎｆ、ＴｓおよびＭｓは、それぞれ、メチル、エチル、フェニル、トリフルオロメタンスルホニル、ノナフルオロブタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニルおよびメタンスルホニルを表す。本技術分野における通常の技術を有する有機化学者に用いられる略語のさらなる総合的なリストは、Journal of Organic Chemistryの各巻の創刊号に掲載されており、このリストは、通常、Standard List of Abbreviationsという表題で表されている。
【００９７】
本発明にかかる組成物に含まれる特定の化合物は、とりわけ、幾何学的または立体異性体の構造で存在して差し支えない。さらには、本発明にかかるポリマーもまた光学的に活性であって差し支えない。本発明は、シスおよびトランス異性体、Ｒ−およびＳ−鏡像異性体、ジアステレオマー、（Ｄ）−異性体、（Ｌ）−異性体およびそれらのラセミ混合物、ならびにそれらの他の混合物を含む、これらすべての化合物を意図している。追加の非対称炭素原子がアルキル基などの置換基内に存在していてもよい。これらすべての異性体、およびその混合物は、本発明に包含されることが意図されている。
【００９８】
例えば、本発明にかかる化合物の特定の鏡像体が必要な場合は、不斉合成あるいはキラル補助基から誘導することによって調製して差し支えなく、ここで、得られるジアステレオマーの混合物を分割し、補助基を開裂して、純粋な所望の鏡像体を得る。あるいは、分子がアミノ基などの塩基性官能基、または、カルボキシル基などの酸性官能基を含む場合、ジアステレオマーの塩が、適切な光学活性を有する酸または塩基から生成され、次に本技術分野で周知の分別結晶またはクロマトグラフの手法によって、生じたジアステレオマーの分割を行い、その後、純粋な鏡像体を回収する。
【００９９】
「置換」および「〜で置換された」には、これらの置換が、置換された原子および置換基の許容される価数に従っており、また、その置換によって安定な化合物、例えば、転位、環化、脱離または他の反応などによって自然発生的に変化することのない化合物が得られる、という暗黙の条件が含まれることが理解されよう。
【０１００】
「置換された」という語句もまた、有機化合物の許容される置換基のすべてを含むことが意図されている。広範な態様では、許容される置換基として、非環式および環式、分枝鎖および非分枝鎖、炭素環および複素環、芳香族および非芳香族の、有機化合物の置換基が挙げられる。実例となる置換基としては、例えば、本明細書で先に述べた基が挙げられる。許容される置換基は、１つまたはそれ以上であって、適切な有機化合物と同一または異なる基であって差し支えない。本発明の目的では、窒素などのヘテロ原子は、水素置換基、および／または、ヘテロ原子の価数を満たす、本明細書で述べた有機化合物の任意の許容される置換基を有していてもよい。本発明は、有機化合物の許容される置換基によるいかなる方法によっても、限定されることが意図されるものではない。
【０１０１】
本明細書で用いられる「保護基」という語句は、望まない化学変化から、反応する可能性のある官能基を保護する、一時的な置換基を意味する。これら保護基の例としては、カルボン酸のエステル、アルコールのシリルエーテル、ならびに、アルデヒドおよびケトンの、それぞれアセタールおよびケタールが挙げられる。保護基化学の分野は、概説されている（Greene,T.W.; Wuts,P.G.M. Protective Groups in Organic Synthesis, 2nd ed.; Wiley: New York, 1991）。本発明にかかる化合物の保護された構造は、本発明の範囲に含まれる。
【０１０２】
本発明の目的では、化学元素は、Handbook of Chemistry and Physics, 67th Ed., 1986-87, CAS Versionの内表紙の元素周期表に従って同定される。
【０１０３】
「ペルフルオロアルキル」という語句は当技術分野で認識されており、すべての水素原子がフッ素に置換されたアルキルのことをいう。例えば、トリフルオロメチルおよびペンタフルオロエチルはペルフルオロアルキル基である。
【０１０４】
「１−アダマンチル」という語句は当技術分野で認識されており、下記の構造式で表される部分を含む：
【化１６】
0005266128.tif 000017
【０１０５】
「（−）−メンチル」という語句は当技術分野で認識されており、下記の構造式で表される部分を含む：
【化１７】
0005266128.tif 000018
【０１０６】
「（＋）−メンチル」という語句は当技術分野で認識されており、下記の構造式で表される部分を含む：
【化１８】
0005266128.tif 000019
【０１０７】
「イソボルニル」という語句は当技術分野で認識されており、下記の構造式で表される部分を含む：
【化１９】
0005266128.tif 000020
【０１０８】
「イソピノカンフィル（isopinocamphyl）」という語句は当技術分野で認識されており、下記の構造式で表される部分を含む：
【化２０】
0005266128.tif 000021
【０１０９】
「（＋）−フェンキル（fenchyl）」という語句は当技術分野で認識されており、下記の構造式で表される部分を含む：
【化２１】
0005266128.tif 000022
【０１１０】
略語「ＱＤ」は下記の構造式に従った部分を表す：
【化２２】
0005266128.tif 000023
【０１１１】
「Ｑ」は下記の構造式に従った部分を表す：
【化２３】
0005266128.tif 000024
【０１１２】
「β−アミノβ−シアノケトン」、「β−アミノβ−ケトエステル」、「β−アミノβ−シアノエステル」および「β−アミノ１，３−ジケトン」は下記の構造のいずれか１つに従った部分を表す：
【化２４】
0005266128.tif 000025
【０１１３】
ここで、Ｒは、それぞれ存在ごとに独立して定義される。
【０１１４】
本発明の触媒
本課題の方法に用いられる触媒は、非対称な環境を与える非ラセミ体のキラルアミンであり、アルケンの２つの立体表面間、または、２つ以上のプロキラルな部分（例えば、内部に対称面または対称点もしくはその両方を含む、プロキラルまたはメソ分子（すなわち、少なくとも２つのキラル中心を含む分子）において対称の関係にある部分）に、立体化学的な区別を与える。一般に、本発明によって意図される触媒は、多くの特性について特徴づけることができる。例えば、本発明が予定する各触媒の顕著な態様は、アミン窒素の近くに剛性もしくは半剛性の環境を提供するｔ−アミン部分を組み込んだ、非対称な二環あるいは多環の骨格の利用に関する。この特性は、骨格中に存在する１つ以上の不斉中心に近接したアミン窒素に構造的な剛性を強いることを通じて、変化全般についての対応するジアステレオマーの遷移状態におけるエネルギーの有意義な差異の創出に寄与する。さらには、置換基の選択もまた、触媒の反応性に効果をもたらす可能性がある。
【０１１５】
上述のように、触媒の置換基の選択は、触媒の電子特性にも効果をもたらすことができる。電子が豊富な（電子供与）部分（例えば、アルコキシまたはアミノ基）を有する触媒の置換基では、ｔ−アミン窒素における触媒の電子密度が増加し、より強い求核剤および／またはブレンステッド塩基および／またはルイス塩基となるであろう。逆に、電子に乏しい部分（例えば、クロロまたはトリフルオロメチル基）を伴う触媒の置換基では、ｔ−アミン窒素における触媒の電子密度が減少する結果となり、より弱い求核剤および／またはブレンステッド塩基および／またはルイス塩基にすることができる。この検討材料についてまとめると、ｔ−アミン窒素における触媒の電子密度が窒素のルイス塩基度および求核性に影響を及ぼすであろうことから、触媒の電子密度は重要であるといえる。よって、適切な置換基の選択により、反応速度の「チューニング」および反応の立体的選択が可能になる。
【０１１６】
本発明の１つの態様は、下記構造式Ｉで表される化合物に関する：
【化２５】
0005266128.tif 000026
【０１１７】
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、置換または非置換の窒素含有ヘテロアリールまたはベンゾイルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
ｎは０〜５の整数であり、
ｍは０〜８の整数であり、
Ｒ4は−ＯＨを表す。
【０１１８】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは置換または非置換のジアゼンを表す。
【０１１９】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表す。
【０１２０】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはハロベンゾイルを表す。
【０１２１】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表す。
【０１２２】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０１２３】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ１はエチルである。
【０１２４】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０１２５】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２である。
【０１２６】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、ｎは０である。
【０１２７】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、ｍは０である。
【０１２８】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1はエチルである。
【０１２９】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1はエチルである。
【０１３０】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1はエチルである。
【０１３１】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1はエチルである。
【０１３２】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２である。
【０１３３】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２である。
【０１３４】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２である。
【０１３５】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２である。
【０１３６】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０１３７】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０１３８】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０１３９】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０１４０】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０１４１】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０１４２】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０１４３】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０１４４】
本発明の別の態様は、下記化学式ＩＩで表される化合物に関する：
【化２６】
0005266128.tif 000027
【０１４５】
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、置換または非置換の窒素含有へテロアリールまたはベンゾイルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換のアルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
ｎは０〜５の整数であり、
ｍは０〜８の整数であり、
Ｒ4は−ＯＨを表す、
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは置換または非置換のジアゼンを表す。
【０１４６】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表す。
【０１４７】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはハロベンゾイルを表す。
【０１４８】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表す。
【０１４９】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０１５０】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０１５１】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０１５２】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２である。
【０１５３】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、ｎは０である。
【０１５４】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、ｍは０である。
【０１５５】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ１はエチル基である。
【０１５６】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1はエチル基である。
【０１５７】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1はエチル基である。
【０１５８】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1はエチル基である。
【０１５９】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２である。
【０１６０】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２である。
【０１６１】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２である。
【０１６２】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２である。
【０１６３】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０１６４】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０１６５】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０１６６】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０１６７】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｉおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０１６８】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０１６９】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０１７０】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０１７１】
本発明の別の態様は、下記化学式ＩＩＩで表される化合物に関する：
【化２７】
0005266128.tif 000028
【０１７２】
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、Ｈもしくは置換または非置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール、−Ｃ（＝Ｏ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクリル、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクロアルキルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ4は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ5は、Ｈまたは低級アルキルを表し、
ｎは０〜６の整数であり、
ｍは０〜８の整数である。
【０１７３】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリールである。
【０１７４】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−単環式アリールである。
【０１７５】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ６（Ｒ’）６を表し、Ｒ’はそれぞれ独立して、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、およびエステルからなる群より選択される。
【０１７６】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ６（Ｒ’）６を表し、Ｒ’はそれぞれ独立して、水素、低級アルキル、および低級フルオロアルキルからなる群より選択される。
【０１７７】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０１７８】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０１７９】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０１８０】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０１８１】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２である。
【０１８２】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ4は水素またはエーテルである。
【０１８３】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ３である。
【０１８４】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ5は水素である。
【０１８５】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、ｍは０である。
【０１８６】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、ｎは０である。
【０１８７】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ３であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０１８８】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ３であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）である。
【０１８９】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ３であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）である。
【０１９０】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ３であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）である。
【０１９１】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ３であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０１９２】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＩＩおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ２であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０１９３】
本発明の別の態様は、下記化学式ＩＶで表される化合物に関する：
【化２８】
0005266128.tif 000029
【０１９４】
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、Ｈもしくは置換または非置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール、−Ｃ（＝Ｏ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクリル、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクロアルキルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ4は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ5は、Ｈまたは低級アルキルを表し、
ｎは０〜６の整数であり、
ｍは０〜８の整数である。
【０１９５】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリールである。
【０１９６】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−単環式アリールである。
【０１９７】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、およびエステルからなる群より選択される。
【０１９８】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、低級アルキル、および低級フルオロアルキルからなる群より選択される。
【０１９９】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０２００】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０２０１】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０２０２】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０２０３】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０２０４】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ4は水素またはエーテルである。
【０２０５】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3である。
【０２０６】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ5は水素である。
【０２０７】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、ｍは０である。
【０２０８】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、ｎは０である。
【０２０９】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０２１０】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）である。
【０２１１】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）である。
【０２１２】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）である。
【０２１３】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０２１４】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式ＩＶおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０２１５】
本発明の別の態様は、下記化学式Ｖで表される化合物に関する：
【化２９】
0005266128.tif 000030
【０２１６】
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、Ｈもしくは置換または非置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール、−Ｃ（＝Ｏ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクリル、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクロアルキルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ5は、Ｈまたは低級アルキルを表し、
ｎは０〜６の整数であり、
ｍは０〜８の整数である。
【０２１７】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｖおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリールである。
【０２１８】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｖおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−単環式アリールである。
【０２１９】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｖおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシ、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、およびエステルからなる群より選択される。
【０２２０】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｖおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、低級アルキル、および低級フルオロアルキルからなる群より選択される。
【０２２１】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｖおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０２２２】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｖおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０２２３】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｖおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０２２４】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｖおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０２２５】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｖおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０２２６】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｖおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ5は水素である。
【０２２７】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｖおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、ｍは０である。
【０２２８】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｖおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、ｎは０である。
【０２２９】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｖおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ2ＣＨ3であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０２３０】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｖおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ2ＣＨ3であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）である。
【０２３１】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｖおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ2ＣＨ3であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）である。
【０２３２】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｖおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ2ＣＨ3であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）である。
【０２３３】
ある実施の形態では、本発明にかかる化合物は、構造式Ｖおよび付随する定義のいずれかで表され、ここで、Ｒ1は−ＣＨ2ＣＨ3であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０２３４】
本発明の方法〜触媒反応
本発明の１つの態様では、プロキラルまたはラセミ出発物質に由来する少なくともひとつの立体中心を有する、立体選択的に生成する化合物の製法を提供する。本発明の利点は、鏡像異性的に豊富な生成物を、プロキラルまたはラセミ反応物質から合成可能なことである。別の利点は、望まない鏡像異性体の生成に伴う収率の損失を実質的に低減するか、あるいは完全に排除可能なことである。
【０２３５】
一般に、本発明は、求核性の反応物質、プロキラルまたはキラル基質、および、少なくとも触媒量の、特別な特徴（下記に示すような）を持つ非ラセミのキラル触媒の組合せを含む、立体選択的な付加方法を特徴とする。本反応に適した触媒としては、求核剤による攻撃の影響を受けやすい、プロキラル電子欠損アルケン、プロキラルアルデヒド、およびプロキラルケトンが挙げられる。基質、求核剤および触媒の組合せをキラル触媒に適した条件下で保持し、プロキラル電子欠損アルケンまたはプロキラルアルデヒドまたはプロキラルケトンへの求核反応物質の付加を触媒する。この反応は、ジアステレオ選択的方法と同様に、エナンチオ選択的方法にも適用可能である。また、位置選択的反応にも適合するであろう。以下は、本発明にしたがって触媒されて差し支えないエナンチオ選択的およびジアステレオ選択的反応、速度論的分割、動的速度論的分割、および位置選択的反応の例である。
【０２３６】
さらには、本発明にかかる方法は、非常に高い立体選択性（例えば、エナンチオ選択性またはジアステレオ選択性）または位置選択性を有する光学活性な生成物を提供することが可能である。本課題となる反応の好ましい実施の形態では、鏡像異性体過剰率またはジアステレオマー過剰率が約５０％を超える、約７０％を超える、約９０％を超える、および約９５％を超える生成物を得ることが可能である。本発明にかかる方法は、商業的利用に適した反応条件下で行うことが可能であり、大規模な作業に適した反応速度で進行可能である。
【０２３７】
上述により明らかなように、本発明にかかる非対称合成方法によって生成するキラル生成物をさらに反応させて、それらの所望の誘導体を得ることが可能である。これらの許容される誘導体化反応は、本技術分野で知られている従来的な手法で行うことが可能である。本発明は、治療用化合物の調製または開発、もしくはその両方に有用な最終生成物および合成中間体の調製を明確に意図するものである。
【０２３８】
電子欠損アルケンへのエノラートの非対称付加
本発明の１つの態様は、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３-ジケトンを調製する方法に関するものであって、
触媒の存在下で、プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンを電子欠損アルケンと反応させ、
それによって、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを生成する、
各工程からなり、
ここで、その触媒が、化学式Ｉ：
【化３０】
0005266128.tif 000031
【０２３９】
により表され、
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、置換または非置換アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アリールカルボニル、またはヘテロアリールカルボニルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシ、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
ｎは０〜５の整数であり、
ｍは０〜８の整数であり、
Ｒ4は−ＯＨを表す。
【０２４０】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンを表す。
【０２４１】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは置換または非置換ジアゼンを表す。
【０２４２】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表す。
【０２４３】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルを表す。
【０２４４】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表す。
【０２４５】
ある実施の形態では、本発明は、前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０２４６】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０２４７】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０２４８】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０２４９】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｎは０である。
【０２５０】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｍは０である。
【０２５１】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンであり、Ｒ1はエチルである。
【０２５２】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1はエチルである。
【０２５３】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1はエチルである。
【０２５４】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1はエチルである。
【０２５５】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1はエチルである。
【０２５６】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０２５７】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０２５８】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０２５９】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０２６０】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０２６１】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンであり、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０２６２】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０２６３】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０２６４】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０２６５】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０２６６】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０２６７】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０２６８】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０２６９】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０２７０】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０２７１】
ある実施の形態では、本発明は前記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンは、Ｃ：
【化３１】
0005266128.tif 000032
【０２７２】
により表され、
ここで、
Ｘは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、
Ｙは、シアノ、ニトロ、アルキルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステル、アラルキルエステル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表す。
【０２７３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣにより表され、Ｘは塩素を表す。
【０２７４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣにより表され、Ｙはシアノを表す。
【０２７５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンが、Ｃにより表され、Ｘは塩素を表し、Ｙはシアノを表す。
【０２７６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤ：
【化３２】
0005266128.tif 000033
【０２７７】
により表され、
ここで、
Ｑは、シアノ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルコキシル、ヘテロアラルコキシル、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、またはヘテロアラルキルアミノを表す。
【０２７８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤによって表され、Ｑはシアノを表す。
【０２７９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤによって表され、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０２８０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤによって表され、Ｑはシアノを表し、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０２８１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約７０モル％未満で存在する。
【０２８２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約４０モル％未満で存在する。
【０２８３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約１０モル％未満で存在する。
【０２８４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約５モル％未満で存在する。
【０２８５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約５０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０２８６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約７０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０２８７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０２８８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９５％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０２８９】
本発明にかかる別の態様は、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを調製する方法に関するものであって、
触媒の存在下で、プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンを電子欠損アルケンと反応させ、
それによって、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを生成する、
各工程からなり、
ここで、前記触媒は、化学式ＩＩ：
【化３３】
0005266128.tif 000034
【０２９０】
により表され、
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、置換または非置換アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アリールカルボニル、またはヘテロアリールカルボニルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
ｎは０〜５の整数であり、
ｍは０〜８の整数である、
Ｒ4は−ＯＨを表す。
【０２９１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンを表す。
【０２９２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは置換または非置換ジアゼンを表す。
【０２９３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表す。
【０２９４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルを表す。
【０２９５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表す。
【０２９６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０２９７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０２９８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０２９９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０３００】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｎは０である。
【０３０１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｍは０である。
【０３０２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンであり、Ｒ1はエチルである。
【０３０３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1はエチルである。
【０３０４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1はエチルである。
【０３０５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1はエチルである。
【０３０６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1はエチルである。
【０３０７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０３０８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０３０９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０３１０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０３１１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒが４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1が−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０３１２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンであり、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０３１３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０３１４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０３１５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０３１６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０３１７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０３１８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０３１９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０３２０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０３２１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０３２２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンは、Ｃ：
【化３４】
0005266128.tif 000035
【０３２３】
により表され、
ここで、
Ｘは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、
Ｙは、シアノ、ニトロ、アルキルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステル、アラルキルエステル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表す。
【０３２４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣにより表され、Ｘは塩素を表す。
【０３２５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣにより表され、Ｙはシアノを表す。
【０３２６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣにより表され、Ｘは塩素を表し、Ｙはシアノを表す。
【０３２７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤ：
【化３５】
0005266128.tif 000036
【０３２８】
により表され、
ここで、
Ｑは、シアノ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルコキシル、ヘテロアラルコキシル、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、またはヘテロアラルキルアミノを表す。
【０３２９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｑはシアノを表す。
【０３３０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０３３１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｑはシアノを表し、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０３３２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約７０モル％未満で存在する.
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約４０モル％未満で存在する。
【０３３３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約１０モル％未満で存在する。
【０３３４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約５モル％未満で存在する。
【０３３５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約５０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０３３６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約７０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０３３７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０３３８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９５％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０３３９】
本発明の別の態様は、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを調製する方法に関するものであって、
触媒の存在下で、プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンを電子欠損アルケンと反応させ、
それによって、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを生成する、
各工程からなり、
ここで、前記触媒は化学式ＩＩＩ：
【化３６】
0005266128.tif 000037
【０３４０】
により表され、
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、Ｈもしくは置換または非置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール、−Ｃ（＝Ｏ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクリル、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクロアルキルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ4は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ5は、Ｈまたは低級アルキルを表し、
ｎは０〜６の整数であり、
ｍは０〜８の整数である。
【０３４１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリールである。
【０３４２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−単環式アリールである。
【０３４３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、およびエステルからなる群より選択される。
【０３４４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、低級アルキル、および低級フルオロアルキルからなる群より選択される。
【０３４５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０３４６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０３４７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０３４８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０３４９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０３５０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ4は水素またはエーテルである。
【０３５１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3である。
【０３５２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ5は水素である。
【０３５３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｍは０である。
【０３５４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｎは０である。
【０３５５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０３５６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）である。
【０３５７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）である。
【０３５８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）である。
【０３５９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０３６０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０３６１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンは、Ｃ：
【化３７】
0005266128.tif 000038
【０３６２】
により表され、
ここで、
Ｘは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、
Ｙは、シアノ、ニトロ、アルキルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステル、アラルキルエステル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表す。
【０３６３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣにより表され、Ｘは塩素を表す。
【０３６４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣにより表され、Ｙはシアノを表す。
【０３６５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣにより表され、Ｘは塩素を表し、Ｙはシアノを表す。
【０３６６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤ：
【化３８】
0005266128.tif 000039
【０３６７】
により表され、
ここで、
Ｑは、シアノ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
Ｇが、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルコキシル、ヘテロアラルコキシル、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、またはヘテロアラルキルアミノを表す。
【０３６８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｑはシアノを表す。
【０３６９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０３７０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｑはシアノを表し、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０３７１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約７０モル％未満で存在する。
【０３７２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約４０モル％未満で存在する。
【０３７３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約１０モル％未満で存在する。
【０３７４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒が、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約５モル％未満で存在する。
【０３７５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約５０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０３７６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約７０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０３７７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０３７８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９５％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０３７９】
本発明の別の態様は、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを調製する方法に関するものであって、
触媒の存在下で、プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンを電子欠損アルケンと反応させ、
それによって、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを生成する、
各工程からなり、
ここで、前記触媒は、化学式ＩＶ：
【化３９】
0005266128.tif 000040
【０３８０】
により表され、
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、Ｈもしくは置換または非置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール、−Ｃ（＝Ｏ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクリル、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクロアルキルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ4は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ5は、Ｈまたは低級アルキルを表し、
ｎは０〜６の整数であり、
ｍは０〜８の整数である。
【０３８１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリールである。
【０３８２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−単環式アリールである。
【０３８３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、およびエステルからなる群より選択される。
【０３８４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、低級アルキル、および低級フルオロアルキルからなる群より選択される。
【０３８５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０３８６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０３８７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０３８８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０３８９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０３９０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ4は水素またはエーテルである。
【０３９１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3である。
【０３９２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ5は水素である。
【０３９３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｍは０である。
【０３９４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｎは０である。
【０３９５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０３９６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）である。
【０３９７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）である。
【０３９８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）である。
【０３９９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０４００】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０４０１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣ：
【化４０】
0005266128.tif 000041
【０４０２】
により表され、
ここで、
Ｘは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、
Ｙは、シアノ、ニトロ、アルキルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステル、アラルキルエステル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表す。
【０４０３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣにより表され、Ｘは塩素を表す。
【０４０４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣにより表され、Ｙはシアノを表す。
【０４０５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣにより表され、Ｘは塩素を表し、Ｙはシアノを表す。
【０４０６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤ：
【化４１】
0005266128.tif 000042
【０４０７】
により表され、
ここで、
Ｑは、シアノ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルコキシル、ヘテロアラルコキシル、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、またはヘテロアラルキルアミノを表す。
【０４０８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｑはシアノを表す。
【０４０９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０４１０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｑはシアノを表し、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０４１１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約７０モル％未満で存在する。
【０４１２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約４０モル％未満で存在する。
【０４１３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約１０モル％未満で存在する。
【０４１４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約５モル％未満で存在する。
【０４１５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約５０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０４１６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約７０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０４１７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０４１８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９５％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０４１９】
本発明の別の態様は、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを調製する方法に関するものであって、
触媒の存在下で、プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンを電子欠損アルケンと反応させ、
それによって、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを生成する、
各工程からなり、
ここで、前記触媒は、化学式Ｖ：
【化４２】
0005266128.tif 000043
【０４２０】
により表され、
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、Ｈもしくは置換または非置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール、−Ｃ（＝Ｏ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクリル、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクロアルキルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ5は、Ｈまたは低級アルキルを表し、
ｎは０〜６の整数であり、
ｍは０〜８の整数である。
【０４２１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリールである。
【０４２２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−単環式アリールである。
【０４２３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、およびエステルからなる群より選択される。
【０４２４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、低級アルキル、および低級フルオロアルキルからなる群より選択される。
【０４２５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０４２６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０４２７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０４２８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０４２９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０４３０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ5は水素である。
【０４３１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｍは０である。
【０４３２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｎは０である。
【０４３３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ2ＣＨ3であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０４３４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ2ＣＨ3であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）である。
【０４３５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ2ＣＨ3であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）である。
【０４３６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ2ＣＨ3であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）である。
【０４３７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ2ＣＨ3であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０４３８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣ：
【化４３】
0005266128.tif 000044
【０４３９】
により表され、
ここで、
Ｘは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、
Ｙは、シアノ、ニトロ、アルキルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステル、アラルキルエステル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表す。
【０４４０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣにより表され、Ｘは塩素を表す。
【０４４１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣにより表され、Ｙはシアノを表す
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣにより表され、Ｘは塩素を表し、Ｙはシアノを表す。
【０４４２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤ：
【化４４】
0005266128.tif 000045
【０４４３】
により表され、
ここで、
Ｑは、シアノ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルコキシル、ヘテロアラルコキシル、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、またはヘテロアラルキルアミノを表す。
【０４４４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｑはシアノを表す。
【０４４５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０４４６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｑはシアノを表し、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０４４７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約７０モル％未満で存在する。
【０４４８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約４０モル％未満で存在する。
【０４４９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約１０モル％未満で存在する。
【０４５０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約５モル％未満で存在する。
【０４５１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約５０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０４５２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約７０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０４５３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０４５４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９５％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０４５５】
エノラートのイミンへの非対称付加（マンニッヒ反応）
本発明の１つの態様は、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンを調製する方法に関するものであって、
触媒の存在下で、プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンをイミンと反応させ、
それによって、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンを生成する、
各工程からなり、
ここで、その触媒は化学式ＩＩＩ：
【化４５】
0005266128.tif 000046
【０４５６】
により表され、
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、Ｈもしくは置換または非置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール、−Ｃ（＝Ｏ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクリル、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクロアルキルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ4は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ5は、Ｈまたは低級アルキルを表し、
ｎは０〜６の整数であり、
ｍは０〜８の整数である。
【０４５７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリールである。
【０４５８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−単環式アリールである。
【０４５９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、およびエステルからなる群より選択される。
【０４６０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、低級アルキル、および低級フルオロアルキルからなる群より選択される。
【０４６１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０４６２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０４６３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０４６４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０４６５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０４６６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ4は水素またはエーテルである。
【０４６７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3である。
【０４６８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ5は水素である。
【０４６９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここでｍは０である。
【０４７０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｎは０である。
【０４７１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０４７２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）である。
【０４７３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）である。
【０４７４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）である。
【０４７５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０４７６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０４７７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥ：
【化４６】
0005266128.tif 000047
【０４７８】
により表され、
ここで、
Ｒは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、へテロアラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、またはヘテロアラルキルオキシカルボニルを表し、
Ｘは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、またはヘテロアラルキルを表し、
Ｙは、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、またはヘテロアラルキルを表す。
【０４７９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはアリルまたはアルキルオキシカルボニルを表す。
【０４８０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはｔ−ブチルオキシカルボニルを表す。
【０４８１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｘはアルキル、アリール、またはヘテロアリールを表す。
【０４８２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｘは、２−Ｍｅ−Ｐｈ−、３−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｆ−Ｐｈ−、４−Ｃｌ−Ｐｈ−、４−ＣＦ３−Ｐｈ−、２−フリル−、２−チエニル−、４−ＯＨ３−Ｐｈ−、３，４−ＯＣＨ３Ｏ−Ｐｈ−、３−ビニル−Ｐｈ−、ＣＨ３ＣＨ２−、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、シクロヘキシル−、またはＰｈ−を表す。
【０４８３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｙは水素を表す。
【０４８４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはｔ−ブチルオキシカルボニルを表し、Ｘは、２−Ｍｅ−Ｐｈ−、３−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｆ−Ｐｈ−、４−Ｃｌ−Ｐｈ−、４−ＣＦ３−Ｐｈ−、２−フリル−、２−チエニル−、４−ＯＨ３−Ｐｈ−、３，４−ＯＣＨ３Ｏ−Ｐｈ−、３−ビニル−Ｐｈ−、ＣＨ３ＣＨ２−、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、シクロヘキシル−、またはＰｈ−を表し、Ｙは水素を表す。
【０４８５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦ：
【化４７】
0005266128.tif 000048
【０４８６】
により表され、
ここで、
Ｑは、シアノ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
Ｇは、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルコキシル、ヘテロアラルコキシル、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、またはヘテロアラルキルアミノを表す。
【０４８７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑはアルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表す。
【０４８８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、またはアラルキルカルボニルを表す。
【０４８９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３、−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２、または、−ＣＨ２Ｐｈを表す。
【０４９０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｇは、アルキルオキシ、アラルキルオキシ、またはアルケニルオキシを表す。
【０４９１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｇはメチル、ベンジル、またはアリルを表す。
【０４９２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３を表し、Ｇは−ＣＨ３を表す。
【０４９３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２を表し、Ｇは−ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２を表す。
【０４９４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２Ｐｈを表し、Ｇは−ＣＨ２Ｐｈを表す。
【０４９５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約７０モル％未満で存在する。
【０４９６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約４０モル％未満で存在する。
【０４９７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約１０モル％未満で存在する。
【０４９８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約５モル％未満で存在する。
【０４９９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約５０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０５００】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約７０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０５０１】
本発明の１つの態様は、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンを調製する方法に関するものであって、
触媒の存在下で、プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンをイミンと反応させ、
それによって、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンを生成する、
各工程からなり、
ここで、前記触媒は化学式IＶ：
【化４８】
0005266128.tif 000049
【０５０２】
により表され、
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、Ｈもしくは置換または非置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール、−Ｃ（＝Ｏ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクリル、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクロアルキルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ4は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ5は、Ｈまたは低級アルキルを表し、
ｎは０〜６の整数であり、
ｍは０〜８の整数である。
【０５０３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリールである。
【０５０４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−単環式アリールである。
【０５０５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、およびエステルからなる群より選択される。
【０５０６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、低級アルキル、および低級フルオロアルキルからなる群より選択される。
【０５０７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０５０８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０５０９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０５１０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０５１１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０５１２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ4は水素またはエーテルである。
【０５１３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3である。
【０５１４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ5は水素である。
【０５１５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここでｍは０である。
【０５１６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｎは０である。
【０５１７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０５１８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）である。
【０５１９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）である。
【０５２０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）である。
【０５２１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０５２２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０５２３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥ：
【化４９】
0005266128.tif 000050
【０５２４】
により表され、
ここで、
Ｒは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、へテロアラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、またはヘテロアラルキルオキシカルボニルを表し、
Ｘは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、またはヘテロアラルキルを表し、
Ｙは、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、またはヘテロアラルキルを表す。
【０５２５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはアリルまたはアルキルオキシカルボニルを表す。
【０５２６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはｔ−ブチルオキシカルボニルを表す。
【０５２７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｘはアルキル、アリール、またはヘテロアリールを表す。
【０５２８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｘは、２−Ｍｅ−Ｐｈ−、３−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｆ−Ｐｈ−、４−Ｃｌ−Ｐｈ−、４−ＣＦ３−Ｐｈ−、２−フリル−、２−チエニル−、４−ＯＨ３−Ｐｈ−、３，４−ＯＣＨ３Ｏ−Ｐｈ−、３−ビニル−Ｐｈ−、ＣＨ３ＣＨ２−、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、シクロヘキシル−、またはＰｈ−を表す。
【０５２９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｙは水素を表す。
【０５３０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはｔ−ブチルオキシカルボニルを表し、Ｘは、２−Ｍｅ−Ｐｈ−、３−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｆ−Ｐｈ−、４−Ｃｌ−Ｐｈ−、４−ＣＦ３−Ｐｈ−、２−フリル−、２−チエニル−、４−ＯＨ３−Ｐｈ−、３，４−ＯＣＨ３Ｏ−Ｐｈ−、３−ビニル−Ｐｈ−、ＣＨ３ＣＨ２−、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、シクロヘキシル−、またはＰｈ−を表し、Ｙは水素を表す。
【０５３１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦ：
【化５０】
0005266128.tif 000051
【０５３２】
により表され、
ここで、
Ｑは、シアノ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
Ｇは、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルコキシル（aralkoxyl）、ヘテロアラルコキシル（heteroaralkoxyl）、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、またはヘテロアラルキルアミノを表す。
【０５３３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑはアルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表す。
【０５３４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、またはアラルキルカルボニルを表す。
【０５３５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３、−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２、または、−ＣＨ２Ｐｈを表す。
【０５３６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｇは、アルキルオキシ、アラルキルオキシ、またはアルケニルオキシを表す。
【０５３７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｇはメチル、ベンジル、またはアリルを表す。
【０５３８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３を表し、Ｇは−ＣＨ３を表す。
【０５３９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２を表し、Ｇは−ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２を表す。
【０５４０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２Ｐｈを表し、Ｇは−ＣＨ２Ｐｈを表す。
【０５４１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約７０モル％未満で存在する。
【０５４２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約４０モル％未満で存在する。
【０５４３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約１０モル％未満で存在する。
【０５４４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約５モル％未満で存在する。
【０５４５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約５０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０５４６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約７０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０５４７】
本発明の１つの態様は、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンを調製する方法に関するものであって、
触媒の存在下で、プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンをイミンと反応させ、
それによって、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンを生成する、
各工程からなり、
ここで、前記触媒は化学式Ｖ：
【化５１】
0005266128.tif 000052
【０５４８】
によって表され、
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、Ｈもしくは置換または非置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール、−Ｃ（＝Ｏ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクリル、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクロアルキルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ5は、Ｈまたは低級アルキルを表し、
ｎは０〜６の整数であり、
ｍは０〜８の整数である。
【０５４９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリールである。
【０５５０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−単環式アリールである。
【０５５１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、およびエステルからなる群より選択される。
【０５５２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、低級アルキル、および低級フルオロアルキルからなる群より選択される。
【０５５３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０５５４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０５５５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０５５６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０５５７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０５５８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ5は水素である。
【０５５９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここでｍは０である。
【０５６０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｎは０である。
【０５６１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ2ＣＨ３であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０５６２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ2ＣＨ３であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）である。
【０５６３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ2ＣＨ３であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）である。
【０５６４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ2ＣＨ３であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）である。
【０５６５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ2ＣＨ３であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０５６６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥ：
【化５２】
0005266128.tif 000053
【０５６７】
により表され、
ここで、
Ｒは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、へテロアラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、またはヘテロアラルキルオキシカルボニルを表し、
Ｘは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、またはヘテロアラルキルを表し、
Ｙは、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、またはヘテロアラルキルを表す。
【０５６８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはアリル(alyl)〜アルキル？またはアルキルオキシカルボニルを表す。
【０５６９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはｔ−ブチルオキシカルボニルを表す。
【０５７０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｘはアルキル、アリール、またはヘテロアリールを表す。
【０５７１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｘは、２−Ｍｅ−Ｐｈ−、３−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｆ−Ｐｈ−、４−Ｃｌ−Ｐｈ−、４−ＣＦ３−Ｐｈ−、２−フリル−、２−チエニル−、４−ＯＣＨ３−Ｐｈ−、３，４−ＯＣＨ３Ｏ−Ｐｈ−、３−ビニル−Ｐｈ−、ＣＨ３ＣＨ２−、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、シクロヘキシル−、またはＰｈ−を表す。
【０５７２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｙは水素を表す。
【０５７３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはｔ−ブチルオキシカルボニルを表し、Ｘは、２−Ｍｅ−Ｐｈ−、３−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｆ−Ｐｈ−、４−Ｃｌ−Ｐｈ−、４−ＣＦ３−Ｐｈ−、２−フリル−、２−チエニル−、４−ＯＣＨ３−Ｐｈ−、３，４−ＯＣＨ３Ｏ−Ｐｈ−、３−ビニル−Ｐｈ−、ＣＨ３ＣＨ２−、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、シクロヘキシル−、またはＰｈ−を表し、Ｙは水素を表す。
【０５７４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦ：
【化５３】
0005266128.tif 000054
【０５７５】
により表され、
ここで、
Ｑは、シアノ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
Ｇは、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、アリールオキシル、ヘテロアリールオキシル、アラルコキシル（aralkoxyl）、ヘテロアラルコキシル（heteroaralkoxyl）、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、またはヘテロアラルキルアミノを表す。
【０５７６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑはアルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表す。
【０５７７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、またはアラルキルカルボニルを表す。
【０５７８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３、−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２、または、−ＣＨ２Ｐｈを表す。
【０５７９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｇは、アルキルオキシ、アラルキルオキシ、またはアルケニルオキシを表す。
【０５８０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｇはメチル、ベンジル、またはアリルを表す。
【０５８１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３を表し、Ｇは−ＣＨ３を表す。
【０５８２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２を表し、Ｇは−ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２を表す。
【０５８３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２Ｐｈを表し、Ｇは−ＣＨ２Ｐｈを表す。
【０５８４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約７０モル％未満で存在する。
【０５８５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約４０モル％未満で存在する。
【０５８６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約１０モル％未満で存在する。
【０５８７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約５モル％未満で存在する。
【０５８８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約５０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０５８９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約７０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０５９０】
本発明の方法〜速度論的分割
本発明の別の態様では、基質あるいは求核剤の鏡像異性体またはジアステレオマーの速度論的分割を、本発明にかかる非ラセミのキラル触媒によって触媒する。例えば、ラセミ基質の本課題となる速度論的分割方法では、変換が完了するか中断される際に、１つの鏡像異性体を未反応基質として選択的に回収することができると同時に、他方の鏡像異性体を所望の生成物へと優先的に変換することが可能である。言い換えれば、基質の速度論的分割を行うことによって、所望の鏡像異性体またはジアステレオマー生成物を提供することができる。当然ながら、基質の速度論的分割は、求核剤と反応させて望ましくない鏡像異性体を取り除き、反応混合物から変化していない基質の所望の鏡像異性体を回収することによっても行いうることは、理解されよう。同様に、求核剤の速度論的分割も、基質との反応によって望まない鏡像異性体を取り除き、反応混合物から変化していない求核剤の所望の鏡像異性体を回収することによって行うことができる。速度論的分割の重要な利点の１つは、高価で鏡像異性体的に純粋な出発物質よりも、むしろ安価なラセミ出発物質を利用できることである。
【０５９１】
動的でない速度論的分割方法では、ラセミ基質へ適用したように、１つの鏡像異性体が未反応基質として回収されると同時に、他方は所望の生成物へと変換させることができる。もちろん、速度論的分割による所望の生成物が、反応による鏡像異性体またはジアステレオマー、反応しない鏡像異性体またはジアステレオマー、もしくはその両方でありうるということは、当業者に認識されよう。本発明にかかる方法の重要な利点の１つは、高価で鏡像異性的にあるいはジアステレオマー的に純粋な出発物質よりも、むしろ安価なラセミあるいはジアステレオマー混合物を出発物質として利用できることである。
【０５９２】
本方法は、また、動的速度論的分割に適用することも可能であり、例えば、求核剤の触媒攻撃よりも前に、基質の鏡像異性体あるいはジアステレオマーをその場平衡することにより、ラセミ基質の速度論的分割からの鏡像異性的あるいはジアステレオマー的に純粋な生成物の収率は５０％を超える。動的速度論的分割方法は、この理由から、好まれている。
【０５９３】
ある実施の形態では、本発明は、キラル非ラセミ触媒の存在下で、キラル基質のラセミ混合物またはジアステレオマー混合物を求核剤と混合する工程を含む、キラル基質のラセミ混合物またはジアステレオマー混合物の速度論的分割を行う方法に関し、ここで、前記キラル非ラセミ触媒は、前記キラル基質への前記求核剤の付加を触媒して、１つの鏡像異性体またはジアステレオマーが豊富になったキラル生成物、または未反応キラル基質、もしくはその両方を与える。ある実施の形態では、本発明は、速度論的分割を行う前述の方法に関し、ここで、前記速度論的分割は動的である。
【０５９４】
電子欠損アルケンへの非対称付加を経由するエノラートの速度論的分割
本発明の１つの態様は、速度論的分割方法に関するものであって、
触媒の存在下で、ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンを電子欠損アルケンと反応させ、
それによって、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを生成する、
各工程からなり、  
ここで、その触媒は、化学式Ｉ：
【化５４】
0005266128.tif 000055
【０５９５】
により表され、
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、置換または非置換アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アリールカルボニル、またはヘテロアリールカルボニルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
ｎは０〜５の整数であり、
ｍは０〜８の整数であり、
Ｒ4は−ＯＨを表す。
【０５９６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンを表す。
【０５９７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは置換または非置換ジアゼンを表す。
【０５９８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表す。
【０５９９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルを表す。
【０６００】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表す。
【０６０１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０６０２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０６０３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０６０４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０６０５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｎは０である。
【０６０６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここでｍは０である。
【０６０７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンであり、Ｒ1はエチルである。
【０６０８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1はエチルである。
【０６０９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1はエチルである。
【０６１０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1はエチルである。
【０６１１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1はエチルである。
【０６１２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０６１３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０６１４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０６１５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０６１６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０６１７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンであり、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６１８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６１９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６２０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６２１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６２２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６２３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６２４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６２５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６２６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６２７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンは、Ｃ：
【化５５】
0005266128.tif 000056
【０６２８】
により表され、
ここで、
Ｘは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、
Ｙは、シアノ、ニトロ、アルキルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステル、アラルキルエステル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表す。
【０６２９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣで表され、Ｘは塩素を表す。
【０６３０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣで表され、Ｙはシアノを表す。
【０６３１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣで表され、Ｘは塩素を表し、Ｙはシアノを表す。
【０６３２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンはＥ：
【化５６】
0005266128.tif 000057
【０６３３】
により表され、
ここで、
Ｍはアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、またはヘテロアラルキルを表し、
Ｑは、シアノ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルコキシル、ヘテロアラルコキシル、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、またはヘテロアラルキルアミノを表す。
【０６３４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンはＥで表され、Ｍはアルキルまたはアラルキルを表す。
【０６３５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンはＥで表され、Ｑはシアノを表す。
【０６３６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンはＥで表され、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０６３７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンはＥで表され、Ｑはシアノを表し、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０６３８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンはＥで表され、Ｍはアルキルまたはアラルキルを表し、Ｑはシアノを表し、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０６３９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒が、前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンに対して、約７０モル％未満で存在する。  
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒が、前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンに対して、約４０モル％未満で存在する。
【０６４０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒が、前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンに対して、約１０モル％未満で存在する。
【０６４１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒が、前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンに対して、約５モル％未満で存在する。
【０６４２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約５０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０６４３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約７０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。  ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０６４４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９５％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０６４５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記方法が完了するかまたは中断するとき、未反応のβ−シアノケトン、β−ケトエステル、β−シアノエステルまたは１，３−ジケトンはラセミ体ではなく、生成物の鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰はゼロよりも大きい。
【０６４６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記方法が完了または中断されるとき、未反応のβ−シアノケトン、β−ケトエステル、β−シアノエステルまたは１，３−ジケトンはラセミ体であり、生成物の鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰はゼロよりも大きい。
【０６４７】
本発明の１つの態様は、速度論的分割方法に関するものであり、
触媒の存在下で、ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンを電子欠損アルケンと反応させ、
それによって、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを生成する、
各工程からなり、  
ここで、その触媒が、化学式ＩＩ：
【化５７】
0005266128.tif 000058
【０６４８】
により表され、
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、置換または非置換アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アリールカルボニル、またはヘテロアリールカルボニルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
ｎは０〜５の整数であり、
ｍは０〜８の整数であり、
Ｒ4は−ＯＨを表す。
【０６４９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンを表す。
【０６５０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは置換または非置換ジアゼンを表す。
【０６５１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表す。
【０６５２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルを表す。
【０６５３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表す。
【０６５４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０６５５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０６５６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０６５７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０６５８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｎは０である。
【０６５９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここでｍは０である。
【０６６０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンであり、Ｒ1はエチルである。
【０６６１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1はエチルである。
【０６６２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1はエチルである。
【０６６３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1はエチルである。
【０６６４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1はエチルである。
【０６６５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０６６６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０６６７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０６６８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０６６９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０６７０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンであり、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６７１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６７２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６７３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６７４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1はエチルであり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６７５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはフェナントレンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６７６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはジアゼンであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６７７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒはハロベンゾイルであり、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６７８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは５−クロロ−３，６−ジフェニル−２，４−ジアゼンを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６７９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは４−クロロベンゾイルを表し、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０である。
【０６８０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンは、Ｃ：
【化５８】
0005266128.tif 000059
【０６８１】
により表され、
ここで、
Ｘは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、
Ｙは、シアノ、ニトロ、アルキルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステル、アラルキルエステル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表す。
【０６８２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣで表され、Ｘは塩素を表す。
【０６８３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣで表され、Ｙはシアノを表す。
【０６８４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣで表され、Ｘは塩素を表し、Ｙはシアノを表す。
【０６８５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンはＥ：
【化５９】
0005266128.tif 000060
【０６８６】
により表され、
ここで、
Ｍはアルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、またはヘテロアラルキルを表し、
Ｑは、シアノ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルコキシル、ヘテロアラルコキシル、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、またはヘテロアラルキルアミノを表す。
【０６８７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンはＥで表され、Ｍはアルキルまたはアラルキルを表す。
【０６８８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンはＥで表され、Ｑはシアノを表す。
【０６８９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンはＥで表され、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０６９０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンはＥで表され、Ｑはシアノを表し、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０６９１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンはＥで表され、Ｍはアルキルまたはアラルキルを表し、Ｑはシアノを表し、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０６９２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒が、前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンに対して、約７０モル％未満で存在する。  
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒が、前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンに対して、約４０モル％未満で存在する。
【０６９３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒が、前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンに対して、約１０モル％未満で存在する。
【０６９４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒が、前記ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンに対して、約５モル％未満で存在する。
【０６９５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約５０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０６９６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約７０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。  
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０６９７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９５％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０６９８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記方法が完了するかまたは中断するとき、未反応のβ−シアノケトン、β−ケトエステル、β−シアノエステルまたは１，３−ジケトンはラセミ体ではなく、生成物の鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰はゼロよりも大きい。
【０６９９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記方法が完了または中断されるとき、未反応のβ−シアノケトン、β−ケトエステル、β−シアノエステルまたは１，３−ジケトンはラセミ体であり、生成物の鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰はゼロよりも大きい。
【０７００】
本発明の１つの態様は、速度論的分割方法に関するものであって、
触媒の存在下で、ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンを電子欠損アルケンと反応させ、
それによって、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを生成する、
各工程を有してなり、  
ここで、前記触媒は、化学式ＩＩＩ：
【化６０】
0005266128.tif 000061
【０７０１】
により表され、
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、Ｈもしくは置換または非置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール、−Ｃ（＝Ｏ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクリル、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクロアルキルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ4は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ5は、Ｈまたは低級アルキルを表し、
ｎは０〜６の整数であり、
ｍは０〜８の整数である。
【０７０２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリールである。
【０７０３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−単環式アリールである。
【０７０４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、およびエステルからなる群より選択される。
【０７０５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、低級アルキル、および低級フルオロアルキルからなる群より選択される。
【０７０６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０７０７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０７０８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０７０９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０７１０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０７１１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ4は水素またはエーテルである。
【０７１２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3である。
【０７１３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ5は水素である。
【０７１４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここでｍは０である。
【０７１５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｎは０である。
【０７１６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０７１７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）である。
【０７１８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）である。
【０７１９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）である。
【０７２０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０７２１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０７２２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンは、Ｃ：
【化６１】
0005266128.tif 000062
【０７２３】
により表され、
ここで、
Ｘは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、
Ｙは、シアノ、ニトロ、アルキルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステル、アラルキルエステル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表す。
【０７２４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣで表され、Ｘは塩素を表す。
【０７２５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣで表され、Ｙはシアノを表す。
【０７２６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣで表され、Ｘは塩素を表し、Ｙはシアノを表す。
【０７２７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンは、Ｄ：
【化６２】
0005266128.tif 000063
【０７２８】
により表され、
ここで、
Ｑは、シアノ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルコキシル、ヘテロアラルコキシル、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、またはヘテロアラルキルアミノを表す。
【０７２９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｑはシアノを表す。
【０７３０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０７３１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｑはシアノを表し、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０７３２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約７０モル％未満で存在する.
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約４０モル％未満で存在する。
【０７３３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約１０モル％未満で存在する。
【０７３４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約５モル％未満で存在する。
【０７３５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約５０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０７３６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約７０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０７３７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０７３８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９５％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０７３９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記方法が完了または中断されるとき、未反応のβ−シアノケトン、β−ケトエステル、β−シアノエステルまたは１，３−ジケトンはラセミ体ではなく、生成物の鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰はゼロよりも大きい。
【０７４０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記方法が完了または中断されるとき、未反応のβ−シアノケトン、β−ケトエステル、β−シアノエステルまたは１，３−ジケトンはラセミ体であり、生成物の鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰はゼロよりも大きい。
【０７４１】
本発明の１つの態様は、速度論的分割方法に関するものであって、
触媒の存在下で、ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンを電子欠損アルケンと反応させ、
それによって、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを生成する、
各工程からなり、  
ここで、その触媒は、化学式ＩＶ：
【化６３】
0005266128.tif 000064
【０７４２】
により表され、
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、Ｈもしくは置換または非置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール、−Ｃ（＝Ｏ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクリル、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクロアルキルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ4は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ5は、Ｈまたは低級アルキルを表し、
ｎは０〜６の整数であり、
ｍは０〜８の整数である。
【０７４３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリールである。
【０７４４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−単環式アリールである。
【０７４５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、およびエステルからなる群より選択される。
【０７４６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、低級アルキル、および低級フルオロアルキルからなる群より選択される。
【０７４７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０７４８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０７４９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０７５０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０７５１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０７５２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ4は水素またはエーテルである。
【０７５３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3である。
【０７５４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ5は水素である。
【０７５５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここでｍは０である。
【０７５６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｎは０である。
【０７５７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０７５８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）である。
【０７５９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）である。
【０７６０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）である。
【０７６１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０７６２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０７６３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンは、Ｃ：
【化６４】
0005266128.tif 000065
【０７６４】
により表され、
ここで、
Ｘは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、
Ｙは、シアノ、ニトロ、アルキルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステル、アラルキルエステル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表す。
【０７６５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣで表され、Ｘは塩素を表す。
【０７６６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣで表され、Ｙはシアノを表す。
【０７６７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣで表され、Ｘは塩素を表し、Ｙはシアノを表す。
【０７６８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤ：
【化６５】
0005266128.tif 000066
【０７６９】
により表され、
ここで、
Ｑは、シアノ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルコキシル、ヘテロアラルコキシル、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、またはヘテロアラルキルアミノを表す。
【０７７０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｑはシアノを表す。
【０７７１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０７７２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｑはシアノを表し、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０７７３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約７０モル％未満で存在する.
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約４０モル％未満で存在する。
【０７７４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約１０モル％未満で存在する。
【０７７５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約５モル％未満で存在する。
【０７７６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約５０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０７７７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約７０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０７７８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０７７９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９５％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０７８０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記方法が完了または中断されるとき、未反応のβ−シアノケトン、β−ケトエステル、β−シアノエステルまたは１，３−ジケトンはラセミ体ではなく、生成物の鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰はゼロよりも大きい。
【０７８１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記方法が完了または中断されるとき、未反応のβ−シアノケトン、β−ケトエステル、β−シアノエステルまたは１，３−ジケトンはラセミ体であり、生成物の鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰はゼロよりも大きい。
【０７８２】
本発明の１つの態様は、速度論的分割方法に関するものであって、
触媒の存在下で、ラセミβ−シアノケトン、ラセミβ−ケトエステル、ラセミβ−シアノエステルまたはラセミ１，３−ジケトンを電子欠損アルケンと反応させ、
それによって、キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンを生成する、
各工程からなり、
ここで、その触媒は、化学式Ｖ：
【化６６】
0005266128.tif 000067
【０７８３】
により表され、
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、Ｈもしくは置換または非置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール、−Ｃ（＝Ｏ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクリル、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクロアルキルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ5は、Ｈまたは低級アルキルを表し、
ｎは０〜６の整数であり、
ｍは０〜８の整数である。
【０７８４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリールである。
【０７８５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−単環式アリールである。
【０７８６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、およびエステルからなる群より選択される。
【０７８７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、低級アルキル、および低級フルオロアルキルからなる群より選択される。
【０７８８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０７８９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０７９０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０７９１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０７９２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０７９３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ5は水素である。
【０７９４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここでｍは０である。
【０７９５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｎは０である。
【０７９６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ２ＣＨ３であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０７９７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ２ＣＨ３であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）である。
【０７９８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ２ＣＨ３であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）である。
【０７９９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ２ＣＨ３であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）である。
【０８００】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ２ＣＨ３であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０８０１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ２ＣＨ３であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０８０２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンは、Ｃ：
【化６７】
0005266128.tif 000068
【０８０３】
により表され、
ここで、
Ｘは、フッ素、塩素、臭素、またはヨウ素を表し、
Ｙは、シアノ、ニトロ、アルキルエステル、アリールエステル、ヘテロアリールエステル、アラルキルエステル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表す。
【０８０４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣで表され、Ｘは塩素を表す。
【０８０５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣで表され、Ｙはシアノを表す。
【０８０６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記電子欠損アルケンはＣで表され、Ｘは塩素を表し、Ｙはシアノを表す。
【０８０７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤ：
【化６８】
0005266128.tif 000069
【０８０８】
により表され、
ここで、
Ｑは、シアノ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルコキシル、ヘテロアラルコキシル、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、またはヘテロアラルキルアミノを表す。
【０８０９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｑはシアノを表す。
【０８１０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０８１１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＤにより表され、Ｑはシアノを表し、Ｇは、アルキル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、またはアラルコキシルを表す。
【０８１２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約７０モル％未満で存在する.
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約４０モル％未満で存在する。
【０８１３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約１０モル％未満で存在する。
【０８１４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約５モル％未満で存在する。
【０８１５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約５０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０８１６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約７０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０８１７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０８１８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミ１，３−ジケトンは、約９５％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０８１９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記方法が完了または中断されるとき、未反応のβ−シアノケトン、β−ケトエステル、β−シアノエステルまたは１，３−ジケトンはラセミ体ではなく、生成物の鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰はゼロよりも大きい。
【０８２０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記方法が完了または中断されるとき、未反応のβ−シアノケトン、β−ケトエステル、β−シアノエステルまたは１，３−ジケトンはラセミ体であり、生成物の鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰はゼロよりも大きい。
【０８２１】
イミンへの非対称付加を経由するエノラートの速度論的分割
本発明の１つの態様は、速度論的分割方法に関するものであって、
触媒の存在下で、プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンをイミンと反応させ、
それによって、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンを生成する、
各工程からなり、
ここで、その触媒は、化学式ＩＩＩ：
【化６９】
0005266128.tif 000070
【０８２２】
により表され、
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、Ｈもしくは置換または非置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール、−Ｃ（＝Ｏ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクリル、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクロアルキルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ4は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ5は、Ｈまたは低級アルキルを表し、
ｎは０〜６の整数であり、
ｍは０〜８の整数である。
【０８２３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリールである。
【０８２４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−単環式アリールである。
【０８２５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、およびエステルからなる群より選択される。
【０８２６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、低級アルキル、および低級フルオロアルキルからなる群より選択される。
【０８２７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０８２８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０８２９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０８３０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０８３１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０８３２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ4は水素またはエーテルである。
【０８３３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3である。
【０８３４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ5は水素である。
【０８３５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここでｍは０である。
【０８３６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｎは０である。
【０８３７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０８３８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）である。
【０８３９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）である。
【０８４０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）である。
【０８４１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０８４２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０８４３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥ：
【化７０】
0005266128.tif 000071
【０８４４】
により表され、
ここで、
Ｒは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、へテロアラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、またはヘテロアラルキルオキシカルボニルを表し、
Ｘは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、またはヘテロアラルキルを表し、
Ｙは、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、またはヘテロアラルキルを表す。
【０８４５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはアリル(alyl)〜アルキル？またはアルキルオキシカルボニルを表す。
【０８４６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはｔ−ブチルオキシカルボニルを表す。
【０８４７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｘはアルキル、アリール、またはヘテロアリールを表す。
【０８４８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｘは、２−Ｍｅ−Ｐｈ−、３−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｆ−Ｐｈ−、４−Ｃｌ−Ｐｈ−、４−ＣＦ３−Ｐｈ−、２−フリル−、２−チエニル−、４−ＯＨ３−Ｐｈ−、３，４−ＯＣＨ３Ｏ−Ｐｈ−、３−ビニル−Ｐｈ−、ＣＨ３ＣＨ２−、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、シクロヘキシル−、またはＰｈ−を表す。
【０８４９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｙは水素を表す。
【０８５０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはｔ−ブチルオキシカルボニルを表し、Ｘは、２−Ｍｅ−Ｐｈ−、３−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｆ−Ｐｈ−、４−Ｃｌ−Ｐｈ−、４−ＣＦ３−Ｐｈ−、２−フリル−、２−チエニル−、４−ＯＨ３−Ｐｈ−、３，４−ＯＣＨ３Ｏ−Ｐｈ−、３−ビニル−Ｐｈ−、ＣＨ３ＣＨ２−、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、シクロヘキシル−、またはＰｈ−を表し、Ｙは水素を表す。
【０８５１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦ：
【化７１】
0005266128.tif 000072
【０８５２】
により表され、
ここで、
Ｑは、シアノ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
Ｇは、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルコキシル、ヘテロアラルコキシル、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、またはヘテロアラルキルアミノを表す。
【０８５３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑはアルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表す。
【０８５４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、またはアラルキルカルボニルを表す。
【０８５５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３、−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２、または、−ＣＨ２Ｐｈを表す。
【０８５６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｇは、アルキルオキシ、アラルキルオキシ、またはアルケニルオキシを表す。
【０８５７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｇはメチル、ベンジル、またはアリルを表す。
【０８５８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３を表し、Ｇは−ＣＨ３を表す。
【０８５９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２を表し、Ｇは−ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２を表す。
【０８６０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２Ｐｈを表し、Ｇは−ＣＨ２Ｐｈを表す。
【０８６１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約７０モル％未満で存在する。
【０８６２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約４０モル％未満で存在する。
【０８６３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約１０モル％未満で存在する。
【０８６４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約５モル％未満で存在する。
【０８６５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約５０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０８６６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約７０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０８６７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約９０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０８６８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約９５％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０８６９】
本発明の１つの態様は、速度論的分割方法に関するものであって、
触媒の存在下で、プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンをイミンと反応させ、
それによって、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンを生成する、
各工程からなり、
ここで、前記触媒は、化学式ＩＶ：
【化７２】
0005266128.tif 000073
【０８７０】
により表され、
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、Ｈもしくは置換または非置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール、−Ｃ（＝Ｏ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクリル、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクロアルキルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ4は、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ5は、Ｈまたは低級アルキルを表し、
ｎは０〜６の整数であり、
ｍは０〜８の整数である。
【０８７１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリールである。
【０８７２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−単環式アリールである。
【０８７３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、およびエステルからなる群より選択される。
【０８７４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、低級アルキル、および低級フルオロアルキルからなる群より選択される。
【０８７５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０８７６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０８７７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０８７８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０８７９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０８８０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ4は水素またはエーテルである。
【０８８１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3である。
【０８８２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ5は水素である。
【０８８３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここでｍは０である。
【０８８４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｎは０である。
【０８８５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素または−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０８８６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）である。
【０８８７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）である。
【０８８８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）である。
【０８８９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は−ＯＣＨ3であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０８９０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ4は水素であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０８９１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、前記イミンはＥ：
【化７３】
0005266128.tif 000074
【０８９２】
により表され、
ここで、
Ｒは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、へテロアラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、またはヘテロアラルキルオキシカルボニルを表し、
Ｘは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、またはヘテロアラルキルを表し、
Ｙは、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、またはヘテロアラルキルを表す。
【０８９３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはアリルまたはアルキルオキシカルボニルを表す。
【０８９４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはｔ−ブチルオキシカルボニルを表す。
【０８９５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｘはアルキル、アリール、またはヘテロアリールを表す。
【０８９６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｘは、２−Ｍｅ−Ｐｈ−、３−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｆ−Ｐｈ−、４−Ｃｌ−Ｐｈ−、４−ＣＦ３−Ｐｈ−、２−フリル−、２−チエニル−、４−ＯＨ３−Ｐｈ−、３，４−ＯＣＨ３Ｏ−Ｐｈ−、３−ビニル−Ｐｈ−、ＣＨ３ＣＨ２−、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、シクロヘキシル−、またはＰｈ−を表す。
【０８９７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｙは水素を表す。
【０８９８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはｔ−ブチルオキシカルボニルを表し、Ｘは、２−Ｍｅ−Ｐｈ−、３−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｆ−Ｐｈ−、４−Ｃｌ−Ｐｈ−、４−ＣＦ３−Ｐｈ−、２−フリル−、２−チエニル−、４−ＯＨ３−Ｐｈ−、３，４−ＯＣＨ３Ｏ−Ｐｈ−、３−ビニル−Ｐｈ−、ＣＨ３ＣＨ２−、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、シクロヘキシル−、またはＰｈ−を表し、Ｙは水素を表す。
【０８９９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦ：
【化７４】
0005266128.tif 000075
【０９００】
により表され、
ここで、
Ｑは、シアノ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
Ｇは、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルコキシル、ヘテロアラルコキシル、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、またはヘテロアラルキルアミノを表す。
【０９０１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑはアルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表す。
【０９０２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、またはアラルキルカルボニルを表す。
【０９０３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３、−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２、または、−ＣＨ２Ｐｈを表す。
【０９０４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｇは、アルキルオキシ、アラルキルオキシ、またはアルケニルオキシを表す。
【０９０５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｇはメチル、ベンジル、またはアリルを表す。
【０９０６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３を表し、Ｇは−ＣＨ３を表す。
【０９０７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２を表し、Ｇは−ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２を表す。
【０９０８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２Ｐｈを表し、Ｇは−ＣＨ２Ｐｈを表す。
【０９０９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約７０モル％未満で存在する。
【０９１０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約４０モル％未満で存在する。
【０９１１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約１０モル％未満で存在する。
【０９１２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約５モル％未満で存在する。
【０９１３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約５０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０９１４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約７０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０９１５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約９０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０９１６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約９５％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０９１７】
本発明の１つの態様は、速度論的分割方法に関するものであって、
触媒の存在下で、プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンをイミンと反応させ、
それによって、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンを生成する、
各工程を有してなり、
ここで、前記触媒は、化学式Ｖ：
【化７５】
0005266128.tif 000076
【０９１８】
により表され、
ここで、それぞれ存在毎に独立して、
Ｒは、Ｈもしくは置換または非置換アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｏ）−アリール、−Ｃ（＝Ｏ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクリル、−Ｃ（＝Ｏ）−ヘテロシクロアルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルケニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アルキニル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアリール、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロアラルキル、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクリル、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−ヘテロシクロアルキルを表し、
Ｒ1は、置換または非置換アルキルまたはアルケニルを表し、
Ｒ2およびＲ3は、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、またはエステルを表し、
Ｒ5は、Ｈまたは低級アルキルを表し、
ｎは０〜６の整数であり、
ｍは０〜８の整数である。
【０９１９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−アリールである。
【０９２０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−単環式アリールである。
【０９２１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、アルキル、アルケニル、アリール、シクロアルキル、アラルキル、ヘテロアルキル、ハロゲン、ヒドロキシル、シアノ、アミノ、アシル、アルコキシル、シリルオキシ、ニトロ、チオール、アミン、イミン、アミド、ホスホネート、ホスフィン、カルボニル、カルボキシル、シリル、エーテル、チオエーテル、スルホニル、セレノエーテル、ケトン、アルデヒド、およびエステルからなる群より選択される。
【０９２２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−Ｃ6（Ｒ’）6であり、Ｒ’は、それぞれ存在毎に独立して、水素、低級アルキル、および低級フルオロアルキルからなる群より選択される。
【０９２３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０９２４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルキルである。
【０９２５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はエチルである。
【０９２６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1はアルケニルである。
【０９２７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ＝ＣＨ2である。
【０９２８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ5は水素である。
【０９２９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここでｍは０である。
【０９３０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、ｎは０である。
【０９３１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ２ＣＨ３であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）、−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）、または−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０９３２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ２ＣＨ３であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（４−ｔ−Ｂｕ−Ｐｈ）である。
【０９３３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ２ＣＨ３であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（２−ｉ−Ｐｒ−Ｐｈ）である。
【０９３４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ２ＣＨ３であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（Ｐｈ）である。
【０９３５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ２ＣＨ３であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０９３６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、Ｒ1は−ＣＨ２ＣＨ３であり、ｍは０であり、ｎは０であり、Ｒ5は水素であり、Ｒは−Ｃ（＝Ｓ）Ｎ（Ｈ）−（３，５−ビスＣＦ3−Ｐｈ）である。
【０９３７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで、前記イミンはＥ：
【化７６】
0005266128.tif 000077
【０９３８】
により表され、
ここで、
Ｒは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、へテロアラルキルカルボニル、アルキルオキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ヘテロアリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、またはヘテロアラルキルオキシカルボニルを表し、
Ｘは、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、またはヘテロアラルキルを表し、
Ｙは、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、またはヘテロアラルキルを表す。
【０９３９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはアリルまたはアルキルオキシカルボニルを表す。
【０９４０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはｔ−ブチルオキシカルボニルを表す。
【０９４１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｘはアルキル、アリール、またはヘテロアリールを表す。
【０９４２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｘは、２−Ｍｅ−Ｐｈ−、３−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｆ−Ｐｈ−、４−Ｃｌ−Ｐｈ−、４−ＣＦ３−Ｐｈ−、２−フリル−、２−チエニル−、４−ＯＨ３−Ｐｈ−、３，４−ＯＣＨ３Ｏ−Ｐｈ−、３−ビニル−Ｐｈ−、ＣＨ３ＣＨ２−、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、シクロヘキシル−、またはＰｈ−を表す。
【０９４３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｙは水素を表す。
【０９４４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記イミンはＥにより表され、Ｒはｔ−ブチルオキシカルボニルを表し、Ｘは、２−Ｍｅ−Ｐｈ−、３−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｍｅ−Ｐｈ−、４−Ｆ−Ｐｈ−、４−Ｃｌ−Ｐｈ−、４−ＣＦ３−Ｐｈ−、２−フリル−、２−チエニル−、４−ＯＨ３−Ｐｈ−、３，４−ＯＣＨ３Ｏ−Ｐｈ−、３−ビニル−Ｐｈ−、ＣＨ３ＣＨ２−、ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、シクロヘキシル−、またはＰｈ−を表し、Ｙは水素を表す。
【０９４５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦ：
【化７７】
0005266128.tif 000078
【０９４６】
により表され、
ここで、
Ｑは、シアノ、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表し、
Ｇは、アルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、アルコキシル、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルコキシル、ヘテロアラルコキシル、アルキルアミノ、アリールアミノ、アラルキルアミノ、またはヘテロアラルキルアミノを表す。
【０９４７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑはアルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、アルキニルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、アラルキルカルボニル、またはヘテロアラルキルカルボニルを表す。
【０９４８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは、アルキルカルボニル、アルケニルカルボニル、またはアラルキルカルボニルを表す。
【０９４９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３、−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２、または、−ＣＨ２Ｐｈを表す。
【０９５０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｇは、アルキルオキシ、アラルキルオキシ、またはアルケニルオキシを表す。
【０９５１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｇはメチル、ベンジル、またはアリルを表す。
【０９５２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ３を表し、Ｇは−ＣＨ３を表す。
【０９５３】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２を表し、Ｇは−ＣＨ２ＣＨ２＝ＣＨ２を表す。
【０９５４】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンはＦにより表され、Ｑは−Ｃ（＝Ｏ）ＣＨ２Ｐｈを表し、Ｇは−ＣＨ２Ｐｈを表す。
【０９５５】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約７０モル％未満で存在する。
【０９５６】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約４０モル％未満で存在する。
【０９５７】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約１０モル％未満で存在する。
【０９５８】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記触媒は、前記プロキラルβ−シアノケトン、プロキラルβ−ケトエステル、プロキラルβ−シアノエステルまたはプロキラル１，３−ジケトンに対して、約５モル％未満で存在する。
【０９５９】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約５０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０９６０】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約７０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０９６１】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約９０％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０９６２】
ある実施の形態では、本発明は上記方法および付随する定義のいずれかに関するものであり、ここで前記キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノケトン、キラル非ラセミβ−アミノβ−ケトエステル、キラル非ラセミβ−アミノβ−シアノエステルまたはキラル非ラセミβ−アミノ１，３−ジケトンは、約９５％を超える鏡像異性過剰またはジアステレオマー過剰を有する。
【０９６３】
求核剤
本発明における有用な求核剤は、いくつかの基準に従い、熟練した当業者によって決定されて差し支えない。それぞれの基質に適した求核剤が、選択可能であり、基質の構造および所望の生成物によって変化するであろう。ある変換に好ましい求核剤を決定するには、所定の実験が必要とされる。例えば、窒素を含んだ求核剤が必要な場合は、アンモニア、フタルイミド、ヒドラジン、アミンなどから選択されるであろう。同様に、水、水酸化物、アルコール、アルコキシド、シロキサン、カルボキシラート、または過酸化物などの酸素求核剤は、酸素の導入に用いられるであろうし、メルカプタン、チオラート、亜硫酸水素、チオシアン酸などは、硫黄含有部分の導入に用いられるであろう。追加の求核剤については、当業者にとって明白であろう。陰イオンとして存在する求核剤にとって、対イオンは、アルカリおよびアルカリ土類金属の陽イオン、およびアンモニウム陽イオンを含む、様々な従来的な陽イオンのいずれかであってよい。ある実施の形態では、求核剤は基質の一部であり、それによって、分子内反応が起こって差し支えない。
【０９６４】
基質
前述のように、様々な基質が、本発明にかかる方法において有用である。基質の選択は、用いられる求核剤および所望の生成物などの要素次第であり、適切な基質は、熟練した当業者にとって明白であろう。基質が、干渉する官能基を含まないことが好ましいことは、理解されよう。一般に、適切な基質には、識別できる立体面を有する、少なくとも１つの反応性求電子中心または部分が含まれる。求電子中心における、触媒された、求核剤の立体選択的攻撃によって、キラル非ラセミ生成物が生成するであろう。本発明にかかる方法に利用することが意図される基質の多くは、少なくとも１つのカルボニル部分を含む。本課題の方法による求核剤攻撃の影響を受けやすい、適切なカルボニル含有基質の例としては、ケトン、アルデヒド、アルデヒドケトン、ジケトン、ケトエステル、アルデヒドエステルなどが挙げられる。
【０９６５】
別の実施の形態では、求電子性の基質は、キラル化合物である。ある実施の形態では、基質はラセミ混合物である。ある実施の形態では、基質はジアステレオマーの混合物である。ある実施の形態では、本発明は速度論的分割をもたらす。ある実施の形態では、本発明は動的速度論的分割をもたらす。
【０９６６】
反応条件
本発明にかかる非対称反応は、幅広い条件下で行って差し支えなく、本明細書中に掲げる溶媒および温度範囲は限定されるものではなく、単に本発明の方法の好ましい形態に関するものであることが理解されよう。
【０９６７】
一般に、反応は、基質、触媒もしくは生成物に悪影響を与えない、穏やかな条件を用いて行われることが望ましいであろう。例えば、反応温度は、反応物質、生成物および触媒の安定性のみならず、反応速度にも影響を与える。反応は、通常、−７８℃〜１００℃の範囲の温度で行われ、−２０℃〜５０℃の範囲がさらに好ましく、−２０℃〜２５℃の範囲がさらになお好ましいであろう。
【０９６８】
一般に、本発明にかかる非対称反応は、液体の反応媒質中で行われる。反応は、溶媒を加えずに行っても差し支えない。あるいは、反応は不活性溶媒中で行ってもよく、その場合、触媒を含めた反応材料は、実質的に溶解性であることが好ましい。適切な溶媒としては、ジエチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテル（diglyme）、ｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼンなどのハロゲン化溶剤；ベンゼン、トルエン、ヘキサン、ペンタンなどの脂肪族または芳香族の炭化水素溶剤；酢酸エチル、アセトンおよび２−ブタノンなどのエステル；ケトン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドなどの極性非プロトン溶剤；もしくは２種類以上の溶剤の組合せが挙げられる。さらには、ある実施の形態では、例えば、エタノールが所望の求核剤の場合、溶媒としてエタノールを使用するなど、用いられる条件の下で基質に対して不活性ではない溶媒を用いることは、有利であろう。水または水酸化物が好ましい求核剤ではない実施の形態では、反応は、無水条件下で行うことができる。ある実施の形態では、エーテル溶媒が好ましい。水または水酸化物が好ましい求核剤である実施の形態では、反応は、適切な量の水および／または水酸化物を含む混合溶媒中で行う。
【０９６９】
本発明は、さらに、溶媒の二層混合物中での反応、エマルションまたは懸濁液中での反応、もしくは脂質ベシクルまたは脂質二重層での反応をも予定している。ある実施の形態では、触媒反応を固相で行うことが、好ましいであろう。
【０９７０】
一部の実施の形態では、反応は、反応ガス雰囲気下で行って差し支えない。例えば、求核剤としてシアニドを用いた脱対称化反応は、ＨＣＮガス雰囲気下で行なってもよい。反応ガスの分圧は、１０ｋＰａ〜１．０×１０5ｋＰａ（０．１〜１０００ａｔｍ）であり、５１ｋＰａ〜１．０×１０4ｋＰａ（０．５〜１００ａｔｍ）がさらに好ましく、１．０×１０２ｋＰａ〜１．０×１０３ｋＰａ（１〜１０ａｔｍ）の範囲が最も好ましい。
【０９７１】
ある実施の形態では、窒素またはアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で反応を行なうことが好ましい。
【０９７２】
本発明にかかる非対称合成方法は、連続的、半連続的、またはバッチ方式にて行うことが可能であり、必要に応じて、液体循環および／またはガス循環を含めてもよい。本発明の方法は、バッチ方式で行われることが好ましい。同様に、反応材料、触媒および溶媒の添加の方法または順番も重要ではなく、任意の従来法で達成して差し支えない。
【０９７３】
本反応は、単一の反応帯または複数の反応帯で、連続的にまたは同時進行で行うことができ、あるいは、細長い管状の領域または連続したこれらの領域内で、バッチ方式で、または継続して、行われて差し支えない。用いられる構成材料は、反応の間、出発物質に対して不活性であるべきであり、装置は、反応温度および圧力に耐えうるように製作されるべきである。反応過程において、反応帯にバッチ方式または連続的に導入される出発物質または材料の量を、導入および／または調節する手段は、特に、出発物質の所望のモル比を維持する目的で、本方法に便利に活用することができる。出発物質の１つを他方に追加的に付加することによって、反応工程を達成してもよい。また、出発物質を光学活性な金属−配位子錯体触媒に共有付加（joint addition）することにより、反応工程を組み合わせることができる。完全な転換が望ましくないか、あるいは得られない場合は、出発物質を生成物から分離し、再度、反応帯へ戻すことができる。
【０９７４】
本方法は、ガラスライニングされたステンレス鋼、または類似の反応装置のいずれかで行って差し支えない。過度の温度の変動を制御するため、または反応温度の「暴走」の可能性を未然に防ぐために、反応帯に、１つ以上の熱交換器を内部および／または外部に取り付けてもよい。
【０９７５】
さらには、例えば、１つまたはそれ以上の置換基でポリマーまたは固体担体に共有結合させることなどにより、キラル触媒をポリマーまたは他の不溶性の基材に固定または導入することができる。固定された触媒は、反応後、例えば、ろ過または遠心分離などによって、容易に回収することができる。
【実施例】
【０９７６】
本発明を一般的に説明してきたが、本発明の特定の態様および実施の形態の説明目的のためだけに含まれ、本発明を制限することが意図されていない以下の実施例を参照することによって、本発明がより容易に理解されるであろう。
【０９７７】
一般情報
1Ｈおよび13Ｃ  ＮＭＲスペクトルが、バリアン(Varian)機器で記録され（それぞれ、４００ＭＨｚおよび１００ＭＨｚ）、テトラメチルシラン信号または残留プロトン性溶媒信号に対して内部参照された。1Ｈ  ＮＭＲに関するデータは以下のように記録される：化学シフト（δ、ｐｐｍ）、多重度（ｓ，一重；ｄ，二重；ｔ，三重；ｑ，四重；ｍ，多重）、積分、結合定数（Ｈｚ）。13Ｃ  ＮＭＲに関するデータは化学シフト（δ、ｐｐｍ）に関して報告される。赤外線スペクトルは、パーキン・エルマー(Perkin Elmer)ＦＴ−ＩＲ分光計で記録され、吸収周波数が報告される。２０ｅＶのＣＨ4／ＣＩまたはＮＨ3／ＣＩいずれかにより行われた新たな化合物全てに関する低分解能質量スペクトルは、ヒューレット・パッカード(Hewlett-Packard)５９８９Ａ  ＧＣ／ＭＳで記録し、正確な質量スペクトルは、ＶＧ７０７０高分解能質量分析計で記録した。比旋光度をジャスコ(Jasco)・デジタル旋光計で測定した。
【０９７８】
高圧液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）分析を、Ｒｅｇｉｓ（Ｒ，Ｒ）Ｗｈｅｌｋ−Ｏ１リバーシブルカラム（２５０×４．６ｍｍ）またはＤａｉｃｅｌ  Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＯＤカラム（２５０×４．６ｍｍ）を用いて、クォータナリポンプを備えたヒューレット・パッカード１１００シリーズ機器で行った。ＵＶ検出を、２２０ｎｍまたは２５４ｎｍでモニタした。
【０９７９】
実施例１：  キニジン９−Ｏ−（９’−フェナンスリル）エーテル（ＱＤ−ＰＨＮ）の調製
0005266128.tif 000079
攪拌装置、還流冷却器、および不活性ガスの注入−排気口を備えた５００ｍＬの三口丸底フラスコに、キニジン（ＱＤ−１、１２．８ｇ、３９．５ｍｍｏｌ、１．２当量）を入れた。フラスコにアルゴンガスを、３０分間、穏やかに流した。無水ジメチルスルホキシド（１３０ｍｌ、ＣａＨ２存在下で新たに蒸留した）を加え、キニジンがすべて溶解するまで、反応混合物を室温で攪拌した。水素化ナトリウム（６０％油分散、２．０ｇ、１．５当量）を少しずつ加え、相当するナトリウムアルコキシドのオレンジ色の若干濁った溶液を得た。室温でピリジン（６．４ｍｌ、２．４当量）およびヨウ化銅（Ｉ）（７．８ｇ、１．２当量）を反応混合物に加えると、反応混合物の色はオレンジから暗緑色へと変化した。３０分後、沈殿物はすべて溶解し、透明な溶液となった。９−ヨードフェナントレン（１０．０ｇ、３２．９ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を１１３℃で７０時間（油浴、温度：１２０℃）保持した。反応混合物を室温まで冷却した。水（１００ｍｌ）、ジクロロメタン（１００ｍｌ）、およびジメチルエーテル（１００ｍｌ）を連続して茶色の溶液に加え、次に、エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム無水物（２０ｇ）および濃アンモニア水溶液（２０ｍｌ、２９重量％）を加えた。不活性アルゴンガスを除去し、反応混合物をよく攪拌しながら、およそ１時間、空気を穏やかに流入した。反応混合物を分液漏斗に移し、青緑色の水層を暗褐色の有機層から分離した。水層をジクロロメタン（１００ｍｌ）で２度洗浄し、合わせた有機層を、水層に着色が見られなくなるまで、アンモニア水溶液（２００ｍｌ、５重量％）で３回抽出した。次に、有機層をＨＣｌ水溶液（１Ｎ、２×５０ｍｌ）で２回、および水で３回（３×５０ｍｌ）洗浄し、残留キニジンを除去した。有機層をＮＨ４ＯＨで洗浄して塩を中和し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を真空下で除去し、粗生成物を得た。粗生成物をエチルエーテル（３００ｍｌ）に溶解し、沈殿が生じなくなるまで、ＨＣｌ（１Ｎ、ジエチルエーテル溶媒）で処理した。沈殿を回収し、ＣＨ２Ｃｌ２に溶解し、ＮＨ４ＯＨで塩基性化し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、溶媒を真空下で除去し、黄色っぽい泡状のＱＤ−ＰＨＮ（５．６ｇ、収率６６％）を得た。[α]D23 = + 310.7 (C 0.89 EtOH); 1HNMR(CDCl3, 400 Hz): δ8.65-8.71(m, 2H), 8.61(d, J = 4.8 Hz, 1H), 8.52(d, J = 8 Hz, 1H), 8.07(d, J = 9.2 Hz, 1H), 7.70-7.75(m, 2H), 7.55(d, J = 2.4 Hz, 1H), 7.38-7.46(m, 5H), 6.66(s, 1H), 6.35(br, 1H), 6.12-6.21(m, 1H), 5.18(d, J = 10.4 Hz, 1H), 5.12(m, 1H), 4.03(s, 3H), 3.32-3.42(m, 2H), 2.97-3.06(m, 2H), 2.79-2.87(m, 1H), 2.44-2.50(t, J = 10 Hz, 1H), 2.34-3.25(m, 1H), 1.97(br, 1H), 1.55-1.62(m, 3H)； 13CNMR:(CDCl3, 100Hz): 158.1, 150.4, 147.71, 144.7, 143.7, 140.3, 132.3, 132.2, 131.5, 127.5, 127.3, 126.8, 126.7, 126.6, 126.4, 124.5, 122.8, 122.7, 122.3, 121.8, 118.2, 114.7, 104.8, 100.8, 78.8, 60.5, 55.8, 50.2, 49.9, 39.6, 27.8, 26.5, 22.1; IR: 3062, 2935, 2863, 1622, 1594, 1507, 1454, 1226, 1117, 750。
【０９８０】
実施例２:  キニジン９−Ｏ−ベンジルエーテル（ＱＤ−ＯＢｎ）の調製
0005266128.tif 000080
ＤＭＦ溶液（２０ｍｌ、ＤＭＦに溶解したＣＡＨ２懸濁液から新たに蒸留した）に溶解したＱＤ（２．０ｇ、６．２ｍｍｏｌ）にＮａＨ（０．６８ｇ、鉱物油中５７％懸濁液、２．５当量）を加え、室温で２時間攪拌した。次に、ＢｎＣｌ（０．７８ｍｌ、１．１当量）を１０分間かけてシリンジで滴下し、一晩攪拌した。反応させた後、塩水（２０ｍｌ）を慎重に加え、得られた混合物を酢酸エチル（１００ｍｌ）で抽出した。有機層を塩水（３×５０ｍｌ）で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥した。溶媒を真空下で除去し、フラッシュ・クロマトグラフィー（ＭｅＯＨ/酢酸エチル：１／４０）で精製し、黄色っぽい油（２．３ｇ、９０％収率）を得た。1HNMR (400 MHz, CDCl3) δ: 8.77 (d, J = 5.2 Hz, 1H), 8.05 (d, J = 9.2 Hz, 1H), 7.49 (d, J = 4.0 Hz, 1H), 7.40-7.31 (m, 7H), 6.00-5.92 (m, 1H), 5.23 (br, 1H), 5.02-5.00 (m, 1H), 4.97 (s, 1H), 4.49-4.37 (AB, 2H), 3.90 (s, 3H), 3.26(m, 1H), 3.09-3.08 (m, 1H), 2.93-2.71 (m, 3H), 2.26-2.22 (m, 1H), 2.11-2.05 (m, 1H), 1.75 (br, 1H), 1.51-1.43 (m, 2H), 1.29-1.24 (m, 1H)； 13CNMR (100Hz, CDCl3) δ157.8, 147.6, 144.7, 137.8,  31.9, 128.4, 128.0, 127.8, 127.5, 121.9, 119.1, 114.5, 101.2, 71.3, 60.1, 55.7, 50.1, 49.4, 40.0, 28.1, 26.4。
【０９８１】
実施例３:  ＱＤ−４ａ、ＱＤ−４ｂ、ＱＤ−４ｃおよびＱ−４ａの調製のための一般的手順
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Ｎ２雰囲気下で、乾燥ＤＭＦ（５０ｍｌ、ＤＭＦに溶解したＣＡＨ２懸濁液から新たに蒸留した）中のＱＤ（８．０ｍｍｏｌ）の懸濁液を、ＴＬＣ分析でＱＤが完全に消費されるまで、１１０℃で４〜６時間加熱した。反応生成物を室温まで冷却し、次に、飽和ＮＨ４Ｃｌ（４０ｍｌ）およびＨ２Ｏ（５０ｍｌ）と混合し、ｐＨが７になるまでｐＨ試験紙で観察した。得られた混合物を酢酸エチル（２×２００ｍｌ）で抽出し、有機層を塩水(４×５０ｍｌ)で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、真空下で濃縮した。残留物をフラッシュ・クロマトグラフィー（酢酸エチル／ＭｅＯＨ／ＮＥｔ３系）にかけ、所望の生成物を得た。
【０９８２】
ＱＤ−４ａは、キニジンから収率９２％の黄色っぽい固体として得られた。[α]D25 = + 240.3 (c 1.13, EtOH); 1HNMR (400 MHz, CD3OD)δ: 8.58 (d, 1 H, J = 4.4 Hz), 7.88 (d, 1 H, J = 9.2 Hz ), 7.62(d, 1H, J = 5.2 Hz ), 7.31 ( dd, 1H, J = 2.4 Hz, 9.2 Hz ), 7.25 (d, 1H, J = 2.4 Hz ), 6.10-6.19 ( m, 1H ), 5.58 (d, 1H, J = 2.8 Hz), 5.10 (d, 1H, J = 18.8 Hz), 5.06 (d, 1H, J = 10.4 Hz), 3.60 (ddd,  1H, J = 2.0Hz, 8.0 Hz, 13.6 Hz), 3.03 (dt, 1H, J = 2.4 Hz, 9.2 Hz), 2.87-2.94(m, 2H), 2.74-2.82(m, 1H), 2.30 (dt, 1H, J = 8.8 Hz, 8.4 Hz), 2.18-2.23 (m, 1H), 1.71 ( br, 1H), 1.50-1.58 (m, 2H), 1.00-1.07 (m, 1H) ; 13CNMR (100Hz, CD3OD)δ: 158.0, 149.8, 147.4, 143.9, 141.6, 131.4, 128.4, 123.3, 119.7, 115.2, 105.1, 72.2, 60.6, 50.8, 50.4, 41.3, 29.7, 27.0, 21.2 ;  IR(CHCl3) ν 3062, 2929, 2300-3500 (br), 1616, 1505, 1229, 739 cm-1; HRMS (FAB) m/z (C19H22N2O2 + H+)  計算値: 311.1760, 実測値: 311.1755。
【０９８３】
ＱＤ−４ｂは、ＱＤ−Ｂｎから、収率８７％の黄色っぽい固体として得られた。[α]D25 = -138.9 (c 1.05, CHCl3); 1HNMR (400 MHz, CDCl3)δ: 10.92 (br, 1H), 8.67 (d, J = 4.4 Hz, 1H), 8.01(d, J = 9.2 Hz, 1H), 7.86 (s, 1H), 7.44 (br, 1H), 7.35 (dd, J = 2.4 Hz, 8.8 Hz, 1H), 7.24-7.28 (m, 5H), 5.97-5.89 (m, 1H), 5.53 (br, 1H), 4.97 (d, J = 10.0 Hz, 1H), 4.94 (s, 1H), 4.34-4.25 (AB, 2H), 3.56 (br, 1H),3.05-3.03 (m, 2H), 2.87-2.78 (m, 2H), 2.26-2.24 (m, 2H), 1.74 (br, 1H), 1.52-1.39 (m, 2H), 1.13 (br, 1H); 13CNMR (100Hz, CDCl3)δ: 157.0, 146.5, 143.6, 139.9, 137.7, 131.3, 128.3, 127.9, 127.8, 127.7, 127.6, 123.4, 114.9, 106.7, 79.0, 71.2, 59.0, 49.7, 49.2, 39.6, 28.0, 25.9。
【０９８４】
ＱＤ−４ｃは、ＱＤ−ＰＨＮから、収率９１％の黄色っぽい固体として得られた。[α]D25 = - 304.6 (c 0.98, CHCl3); 1HNMR (400 MHz, CDCl3)δ: 8.69-8.67 (m, 1H), 8.63-8.61 (m, 1H), 8,46 (d, J = 8.0 Hz, 1H), 8.20 (d, 1H, J = 2.0 Hz, 1H), 7.78 (d, J = 9.2 Hz, 1H), 7.74-7.70 (m, 2H), 7.35 (d, J = 5.2 Hz, 1H), 7.25-7.26 (m, 1H), 7.20 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 6.80 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 6.64 (s, 1H), 6.50 (d, J = 7.2 Hz, 1H), 6.33(s, 1H), 6.23-6.15 (m, 1H), 5.27 (d, J = 14.4 Hz, 1H), 5.12 (d, J = 17.2 Hz, 1H), 3.58-3.53 (m, 1H), 3.36 (t, J = 9.2 Hz, 1H), 3.09-2.99(m, 2H), 2.79-2.68 (m, 2H), 2.30-2.28 (m, 1H), 2.00 (br, 1H), 1.54-1.52 (m, 2H), 1.43-1.34 (m, 1H); 13CNMR (100Hz, CDCl3)δ: 157.0, 149.6, 146.9, 143.7, 142.4, 139.4, 131.9, 131.8, 131.5, 127.3, 127.2, 127.1, 126.6, 126.4, 126.3, 126.1, 124.5, 123.4, 122.8, 122.6, 121.9, 117.5, 115.3, 106.1, 105.0, 76.8, 59.2, 49.7, 49.5, 38.8, 27.4, 25.7, 20.3; IR(CHCl3)ν: 3300-2800 (br), 3070, 2939, 2870, 1622, 1506, 1455, 1225, 1115, 753 cm-1。
【０９８５】
Ｑ−４ａは、キニンから、収率８０％の白色の固体として得られた。[α]D25 = - 162.8 (c 0.93, EtOH); 1HNMR (400 MHz, CD3OD)δ: 8.58 (d, 1H, J = 4.8 Hz), 7.89 (d, J = 9.2 Hz, 1H), 7.61 (d, J = 4.8 Hz, 1H), 7.32 ( dd, J = 2.4 Hz, 9.2 Hz, 1 H), 7.28 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 5.69-5.78 (m, 1H), 5.51 (d, J = 3.2 Hz, 1H), 4.95 (d, J = 17.2 Hz, 1H), 4.88 ( d, J = 9.2 Hz, 1H),  3.66-3.73 (m, 1H), 3.05-3.13(m, 2H), 2.63-2.74 (m, 2H), 2.34 (br, 1H), 1.80-1.89 (m, 2H), 1.77-1.78 (m, 1H), 1.54-1.61(m, 1H), 1.39-1.46(m, 1H)； 13CNMR (100Hz, CD3OD)δ: 157.9, 149.8, 147.4, 144.0, 142.6, 131.4, 128.4, 123.3, 119.8, 115.0, 105.1, 72.2, 60.9, 57.6, 48.4, 44.2, 40.9, 29.2, 28.1, 21.8; IR(CHCl3) ν 3055, 2937, 2870, 2300-3500(br), 1616, 1457, 1236, 1067 cm-1; HRMS (FAB) m/z (C19H22N2O2 + H+)計算値: 311.1760、実測値: 311.1761。
【０９８６】
実施例４:  チオ尿素触媒を用いた非対称共役付加のための一般的な手順
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α-シアノカルボニル化合物（０．２ｍｍｏｌまたは０．３ｍｍｏｌ）およびチオ尿素触媒（０．０４ｍｍｏｌまたは０．０３ｍｍｏｌ）のトルエン（２ｍｌまたは３ｍｌ）溶液にアクリロニトリルまたは２−クロロアクリロニトリルを加えた。α-シアノカルボニル化合物が完全に消費されるまで、反応混合物を室温または５０℃に保った。触媒を除去するため、粗反応混合物をシリカゲルのショートプラグを通じてろ過し、ジエチルエーテル（５．０ｍｌ）で洗浄した。ろ液を真空下で濃縮し、残留物をシリカゲルのフラッシュ・クロマトグラフィーにかけ、純粋な付加化合物を得た。
【０９８７】
実施例５：  脱ハロゲン化のための一般的手順
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亜鉛（１５０ｍｇ、２．３ｍｍｏｌ、粉末）を、３（８０．０ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル（１．５ｍｌ）溶液へ加えた。得られた懸濁液に、ＡｃＯＨ（１．５ｍｌ）を一度に加えた。得られた混合物を室温で２４時間攪拌した。亜鉛粉末をシリカゲル−綿栓で除去し、ジエチルエーテルで栓から４を洗い出した。エーテルを加えて水で洗い、ＮａＨＣＯ３と塩水で飽和し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、濃縮して無色の油４を得た。ジニトリル４をジエチルエーテルで希釈し、直接、ＨＰＬＣ分析にかけた。
【０９８８】
等価
本明細書に記載された発明の特定の実施の形態についての多くの等価物は、当業者に認識されるであろうし、わずかな所定の実験によって確認できるであろう。これらの等価物は、添付の特許請求の範囲に含まれることが意図されている。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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