(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに液晶層を介して対向配置された第１基板及び第２基板を有し、１画素内に透過領域と反射領域とを有する半透過型液晶表示パネルであって、
前記第１基板は、複数の画素領域を有し、
前記第２基板は、前記画素領域毎に配置された複数色のカラーフィルタ層と、
前記反射領域に対応して前記液晶層側に形成された位相差層と、
前記位相差層の側端部と平面視で少なくとも重なる領域に設けられた光透過率を低下させる部材と、を備え、
前記カラーフィルタ層は、１つの前記画素領域の前記透過領域に形成される透過領域側カラーフィルタ層と、前記反射領域に形成される前記透過領域側カラーフィルタ層と同一の色成分で且つ該透過領域側カラーフィルタ層に比してその色濃度が薄い反射領域側カラーフィルタ層と、からなり、
前記光透過率を低下させる部材は、色成分が同一で且つ色濃度が異なる前記透過領域側カラーフィルタ層と前記反射領域側カラーフィルタ層とがそれぞれ重畳された部材からなる半透過型液晶表示パネル。
【請求項２】
前記透過領域における前記液晶層の厚みをＬ１とし、前記反射領域における前記液晶層の厚みをＬ２としたとき、下記の関係となるように前記位相差層の肉厚が設定されている請求項１に記載の半透過型液晶表示パネル。
Ｌ２＝（１／２）Ｌ１
【請求項３】
前記第１基板は、前記画素領域毎に前記透過領域と前記反射領域とに亘って形成された第１電極及び第２電極を備え、
前記第１電極と前記第２電極との間に生ずる横方向電界により前記液晶層が駆動される請求項１または２に記載の半透過型液晶表示パネル。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載の半透過型液晶表示パネルを備えた電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半透過型液晶表示パネル及びこの半透過型液晶表示パネルを備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルとして、透過型と反射型の性質を併せ持つ半透過型液晶表示パネルの開発が多く進められてきている。この半透過型液晶表示パネルは、一つの画素領域内に画素電極を備えた透過領域と画素電極及び反射板の両方を備えた反射領域を有している。そして、暗い場所においてはバックライトを点灯して透過領域を利用して画像を表示し、明るい場所においてはバックライトを点灯することなく反射領域において外光を利用して画像を表示するものである。
【０００３】
ところで、従来の液晶表示パネルにおいては、その多くが一対の基板のそれぞれに電極を備えるいわゆる縦方向電界モード（例えばＴＮ（Twisted Nematic）型あるいはＶＡ（Virtical Alignment）型）のものであるが、その他のものとして一対の基板のいずれか一方にのみ電極を備えるいわゆる横方向電界モード（例えばＦＦＳ（Fringe Field Switching）型あるいはＩＰＳ（In-Plane Switching）型）のものも知られている（下記特許文献１及び２参照）。
【０００４】
そして、このＦＦＳ型の液晶表示パネルにおいても半透過型のものが近年開発されている（下記特許文献３及び４参照）。そこで、このような従来のＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネルを図１４及び図１５を用いて説明する。なお、この明細書における説明のために用いられた各図面においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせて表示しており、必ずしも実際の寸法に比例して表示されているものではない。
【０００５】
図１４は従来のＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネルの１画素分の平面図である。図１５は図１４のXIII−XIII線に沿った模式断面図である。
【０００６】
図１４及び図１５に示すように、従来のＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネル５０は、アレイ基板ＡＲとカラーフィルタ基板ＣＦとを備えている。アレイ基板ＡＲは、第１の透明基板５１の表面にそれぞれ平行に複数の走査線５２及びコモン配線５３が設けられ、これら走査線５２及びコモン配線５３に交差する方向に複数の信号線５４が設けられている。このうち、走査線５２及びコモン配線５３の表面は透明絶縁材料からなるゲート絶縁膜５５で被覆されており、信号線５４はゲート絶縁膜５５の表面に形成されている。そして、ゲート絶縁膜５５の表面には、走査線５２のゲート電極Ｇに対応する部分の表面に半導体層５６が形成され、この半導体層５６に部分的に積層されるように、信号線５４から延在されたソース電極Ｓとドレイン電極Ｄが形成されている。このゲート電極Ｇ、ソース電極Ｓ及びドレイン電極ＤがＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を形成する。さらに、これらの基板の表面全体を被覆するように保護絶縁膜５７が形成されている。
【０００７】
この保護絶縁膜５７の表面は層間膜５８で被覆され、この層間膜５８は画素毎の反射領域ＲＡにおいては表面に凹凸（図示省略）が形成され、その他の領域は表面が平らになされている。そして、反射領域ＲＡの層間膜５８の表面にはそれぞれの画素毎にアルミニウム又はアルミニウム合金からなる反射板６０が形成され、この反射板６０の表面及び層間膜５８の表面は画素毎にＩＴＯ（Indium Tin Oxide）やＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）等からなる透明導電性材料で形成された下電極６１が形成されている。この下電極６１は、コモン配線５３上の保護絶縁膜５７及びゲート絶縁膜５５に形成されたコンタクトホール６２を介して、コモン配線５３と電気的に接続されている。なお、ドレイン電極Ｄに対応する位置の層間膜５８及び保護絶縁膜５７にはドレイン電極Ｄが露出するようにコンタクトホール６３が形成されている。また、下電極６１が形成された領域のうち、反射板６０が形成された領域が反射領域ＲＡを構成し、反射板６０が形成されていない領域が透過領域ＴＡを構成している。
【０００８】
さらに、それぞれの下電極６１の表面及び層間膜５８の表面全体に亘って窒化ケイ素層ないし酸化ケイ素層からなる容量絶縁膜６４が形成されており、この容量絶縁膜６４はドレイン電極Ｄが露出するようにコンタクトホール６３の表面壁を被覆している。そして、それぞれの画素毎に容量絶縁膜６４の表面にはＩＴＯやＩＺＯ等の透明導電性材料からなり、複数の平行なスリット６５が設けられた上電極６６が形成されており、この上電極６６に設けられたスリット６５はその両端部が閉塞している。この上電極６６はコンタクトホール６３を介してドレイン電極Ｄと電気的に接続されている。そして、この上電極６６及び複数のスリット６５の表面は配向膜（図示せず）により被覆されている。
【０００９】
また、カラーフィルタ基板ＣＦは、第２の透明基板６７の表面には、遮光層６８、カラーフィルタ層６９及び平坦化膜７２が形成されている。この平坦化膜７２は遮光層６８及びカラーフィルタ層６９の表面を被覆しており、反射領域ＲＡに位置する平坦化膜７２の表面には位相差層７１が形成されている。また、位相差層７１及び平坦化膜７２の表面には配向膜（図示せず）が設けられている。そして、上電極６６とカラーフィルタ層６９とが互いに対向するようにアレイ基板ＡＲとカラーフィルタ基板ＣＦとを所定の間隔をおいて対向配置させ、その間に液晶７０を封入することにより、ＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネル５０が構成されている。
【００１０】
【特許文献１】特開２００２−１４３６３号公報
【特許文献２】特開２００２−２４４１５８号公報
【特許文献３】特開２００３−３４４８３７号公報
【特許文献４】特開２００６−３３７６２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
ところで、反射領域ＲＡを用いて表示を行う場合、その表示方法は外光を一旦パネル内に入射させた後、反射板６０で反射して表示面から出射することで画像を表示する。したがって、外光は液晶７０が封入された層内を２度通過することになる。このため、上記従来技術に示す半透過型液晶表示パネル５０においては、透過領域ＴＡを用いて表示を行う場合と、反射領域ＲＡを用いて表示を行う場合との間で生ずる位相差を調整するために位相差層７１が形成されている。
【００１２】
詳しくは、透過領域ＴＡの液晶７０のリタデーション（位相差）が１／２波長に設定された状態で、反射領域ＲＡの液晶７０のリタデーションが１／４波長となるように位相差層７１の肉厚が調整されている。なお、位相差層７１のリタデーションは１／２波長である。このようにすると、透過領域ＴＡを通過する光と反射領域ＲＡに入射し出射する外光との間でリタデーションが均一（＝１／２波長）となり、表示を行うとき透過領域ＴＡ及び反射領域ＲＡのいずれを用いた場合であっても表示特性の良好な表示を行うことが可能となる。
【００１３】
しかしながら、上述の半透過型液晶表示パネル５０の位相差層７１は、通常フォトリソグラフィー法等を用いて成膜されている。したがって、その側端面７１ａは、パターニング工程における形成精度の影響を受け、形成面に対して必ずしも垂直とならず、僅かに傾斜したテーパ状になる（図１５参照）。このように位相差層７１の側端面７１ａがテーパ状となると、この側端面７１ａ部分の肉厚が変化することにより、当該部分の位相差値が変化して、所望の位相差値が得られず、その結果、透過領域ＴＡと反射領域ＲＡとの境界付近で光漏れが生じ、表示特性が低下するという課題があった。なお、このような表示特性の低下は、横方向電界モード以外の縦方向電界モードでも同様に発生する。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【００１５】
［適用例１］本適用例の半透過型液晶表示パネルは、互いに液晶層を介して対向配置された第１基板及び第２基板を有し、１画素内に透過領域と反射領域とを有する半透過型液晶表示パネルであって、前記第１基板は、複数の画素領域を有し、前記第２基板は、前記画素領域毎に配置された複数色のカラーフィルタ層と、前記反射領域に対応して前記液晶層側に形成された位相差層と、前記位相差層の側端部と平面視で少なくとも重なる領域に設けられた光透過率を低下させる部材と、を備え、前記カラーフィルタ層は、１つの前記画素領域の前記透過領域に形成される透過領域側カラーフィルタ層と、前記反射領域に形成される前記透過領域側カラーフィルタ層と同一の色成分で且つ該透過領域側カラーフィルタ層に比してその色濃度が薄い反射領域側カラーフィルタ層と、からなり、前記光透過率を低下させる部材は、色成分が同一で且つ色濃度が異なる前記透過領域側カラーフィルタ層と前記反射領域側カラーフィルタ層とがそれぞれ重畳された部材からなる。
【００１６】
位相差層の側端部は、肉厚の制御が難しい。したがって、当該側端部におけるリタデーション（位相差）の調節は困難である。この構成によれば、第２基板において、位相差層の側端部と平面視で重なる領域に光透過率を低下させる部材が設けられている。したがって、リタデーションがねらいの値から外れることによる光漏れなどの表示不具合が光透過率を低下させる部材によって目立ち難くなる。言い換えれば、リタデーションの変動に起因する表示不具合が目立ち難い半透過型液晶表示パネルを提供することができる。
【００２０】
この構成によれば、第２基板の反射領域に透過領域に比べて色濃度が薄いカラーフィルタ層を配することにより、明るい反射表示が得られると共に、位相差層の側端部におけるリタデーションの調節の困難なことに起因する表示特性の低下を抑えた半透過型液晶表示パネルを提供することができる。
【００２１】
［適用例２］上記適用例の半透過型液晶表示パネルにおいて、前記透過領域における前記液晶層の厚みをＬ１とし、前記反射領域における前記液晶層の厚みをＬ２としたとき、下記の関係となるように前記位相差層の肉厚が設定されていることが好ましい。
Ｌ２＝（１／２）Ｌ１
この構成によれば、液晶層の厚みを位相差層により調節し、反射領域の液晶層の厚みＬ２が透過領域の液晶層の厚みＬ１の１／２となるように調整したので、他の構成、例えば液晶層の厚みを調整するための透明樹脂層等を形成する必要がなくなる。また、透過領域を通過する光と反射領域に入射し再び反射して出射する外光とが同じ距離の液晶層を通過することになるので、透過領域と反射領域との間でリタデーションが均一となり、透過領域及び反射領域のいずれを用いた表示の場合にも良好な表示特性での表示を行うことが可能となる。
【００２２】
［適用例３］上記適用例の半透過型液晶表示パネルにおいて、前記第１基板は、前記画素領域毎に前記透過領域と前記反射領域とに亘って形成された第１電極及び第２電極を備え、前記第１電極と前記第２電極との間に生ずる横方向電界により前記液晶層が駆動されるとしてもよい。
この構成によれば、液晶層が横方向電界方式により駆動されるため、透過領域及び反射領域のいずれを用いた表示の場合にも良好な表示品質と広い視野角特性とを有する半透過型液晶表示パネルを提供することができる。
【００２３】
［適用例４］本適用例の電子機器は、上記適用例の半透過型液晶表示パネルを備えている。
【００２４】
この構成によれば、上記適用例の半透過型液晶表示パネルを備えることにより、透過表示と反射表示の双方において良好な表示を行うことが可能な電子機器を提供することができる。このような電子機器としては、屋外での使用が想定される携帯型電話機などの小型情報端末機器が挙げられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、図面を参照して本発明の最良の実施形態を説明する。但し、以下に示す実施形態は、本発明の技術思想を具体化するための半透過型液晶表示パネル及び電子機器として、ＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネルを例示するものであって、本発明をこのＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネルに特定することを意図するものではなく、特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のもの、他の横方向電界モード（例えばＩＰＳ型）及び縦方向電界モードの半透過型液晶表示パネルにも等しく適応し得るものである。
【００２６】
図１は実施例１に係るＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して示す３画素分の平面図である。図２は図１のII−II線で切断した断面図である。図３は実施例１の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ層の状態を示す平面図である。図４は実施例２に係るＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネルの図２に対応する断面図である。図５は実施例２の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ層の状態を示す平面図である。図６は実施例３に係るＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネルの図２に対応する断面図である。図７は実施例３の半透過型液晶表示パネルの遮光層の状態を示す平面図である。図８は実施例４に係るＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネルの図２に対応する断面図である。図９は実施例４の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ層の状態を示す平面図である。図１０は変形例に係るＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネルの図２に対応する断面図である。図１１は実施例５に係る縦方向電界モードの半透過型液晶表示パネルの画素領域を示す平面図である。図１２（ａ）は図１１のIII−III線で切った断面図、同図（ｂ）は図１１のIV−IV線で切った断面図である。図１３（ａ）は電子機器としてのパーソナルコンピュータを示す図であり、同図（ｂ）は同じく電子機器としての携帯型電話機を示す図である。なお、図３、図５、図７及び図９においては、アレイ基板ＡＲに形成された各種配線のうち、走査線１２及び信号線１７のみを図示し、他の配線等は図示を簡略化するため省略している。
【実施例１】
【００２７】
実施例１のＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネル１０Ａの構成を図１及び図２を用いて説明する。図１及び図２に示すように、実施例１のＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネル１０Ａの第１基板としてのアレイ基板ＡＲは、ガラス基板等からなる透明基板１１の表面に例えばＭｏ／Ａｌの２層配線からなる複数の走査線１２が互いに平行になるように形成されている。またこの走査線１２に沿うように走査線１２と同一の材料からなるコモン配線１３が形成されている。
【００２８】
次に、後述する反射領域ＲＡに該当する領域にアルミニウム又はアルミニウム合金からなる反射板Ｒを形成する。この反射板Ｒは表面が凹凸形状となっているものであるが、図２では簡略化して平坦に示されている。そして、走査線１２及びコモン配線１３で囲まれたそれぞれの領域（画素領域）に例えばＩＴＯやＩＺＯ等の成膜後に透明な導電性材料からなる第１電極としての下電極１４が形成されている。この下電極１４は、コモン配線１３及び反射板Ｒに重畳配置され、コモン配線１３とは電気的に接続されているが、走査線１２ないしゲート電極Ｇとは接続されておらず、共通電極として作用する。
【００２９】
また、この走査線１２、コモン配線１３、反射板Ｒ及び下電極１４が形成された透明基板１１の表面全体に亘って窒化ケイ素ないしは酸化ケイ素等の透明絶縁材料からなるゲート絶縁膜１５が被覆されている。さらに、このゲート絶縁膜１５の表面のＴＦＴ形成領域には例えばアモルファスシリコン（以下「ａ−Ｓｉ」という。）層からなる半導体層１６が形成されている。この半導体層１６が形成されている位置の走査線１２の領域がＴＦＴのゲート電極Ｇを形成する。
【００３０】
また、ゲート絶縁膜１５の表面には、例えばＭｏ／Ａｌ／Ｍｏの３層構造の導電性層からなるソース電極Ｓを含む信号線１７及びドレイン電極Ｄが形成されている。この信号線１７のソース電極Ｓ部分及びドレイン電極Ｄ部分は、いずれも半導体層１６の表面に部分的に重なっている。さらに、この基板の表面全体に窒化ケイ素又は酸化ケイ素等の透明絶縁材料からなる保護絶縁膜（パッシベーション膜ともいう）１８が被覆されており、ドレイン電極Ｄに対応する位置の保護絶縁膜１８にはコンタクトホール１９が形成されている。
【００３１】
そして、図１に示したパターンとなるように、走査線１２及び信号線１７で囲まれた領域（以下、画素領域という。）の保護絶縁膜１８上に透明導電性材料、例えばＩＴＯないしＩＺＯからなる第２電極としての上電極２１が形成されている。この上電極２１は、複数のスリット２０を有すると共に、コンタクトホール１９を介してドレイン電極Ｄと電気的に接続されている。そのため、この上電極２１は画素電極として作用する。さらに、この基板の表面全体に亘り所定の配向膜３５が形成されている。
【００３２】
スリット２０を有する上電極２１は、好ましくは画素領域毎に平面視でくし歯状となるよう、スリット２０の信号線１７側の一端が開放端２０ａとなっていると共に他端が閉鎖端２０ｂとなっている。これにより、開放端２０ａ側の開口度が向上し、より明るい表示を行うことができるようになっている。なお、本実施例１ではスリット２０の一端を開放端２０ａとしたものを示したが、両端を閉鎖した形状としてもよい。
【００３３】
また、第２基板としてのカラーフィルタ基板ＣＦは、ガラス基板等からなる透明基板２５の表面にアレイ基板ＡＲの走査線１２、信号線１７及びＴＦＴに対応する位置を被覆するように遮光層２６が形成されている。さらに、遮光層２６で囲まれた透明基板２５の表面には、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の複数色（３色）からなるカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂ（図３参照）が形成され、さらに遮光層２６及びカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂの表面を被覆するように透明な樹脂等からなる平坦化膜２８が形成されている。また、平坦化膜２８を覆うように配向膜３１が形成されている。配向膜３１には、後述する位相差層２９の遅相軸の方向を規定する配向処理が施されている。この基板表面（配向膜３１の表面）のうち反射領域ＲＡとなる位置には位相差層２９が形成されている。
位相差層２９は、例えば、重合性液晶化合物からなり、モノマーやポリマーなどの液晶化合物を塗布して加熱したり、紫外線などを照射することにより重合させてパターン形成される。この重合の際に、配向膜３１に施された配向処理によって遅相軸の方向が決まる。
液晶層３０を通過する光の基準波長λを５５０ｎｍとするとき、この位相差層２９はリタデーション（位相差）が、例えば１／２λとなるように設定されている。そして、この基板の表面全体に亘り配向膜３２が形成されている。配向膜３２には、液晶層３０の液晶分子を所定の方向に配向させる配向処理が施されている。なお、位相差層２９の肉厚を調整することにより、透過領域ＴＡの液晶層３０の厚みＬ１と反射領域ＲＡの液晶層３０の厚みＬ２とが、以下の式（１）に示す関係となっている。下記式（１）に示すような関係とすることにより、透過領域ＴＡのリタデーションを１／２λとしたとき、反射領域ＲＡのリタデーションは１／４λとなる。したがって、透過領域ＴＡと反射領域ＲＡとにおいて液晶層３０を通過する光の距離が均一になることにより、最適な表示品質での表示が行えるようになる。
Ｌ２＝（１／２）Ｌ１  ・・・（１）
【００３４】
最後に、アレイ基板ＡＲの上電極２１とカラーフィルタ基板ＣＦのカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂが互いに対向するようにアレイ基板ＡＲ及びカラーフィルタ基板ＣＦを対向させ、その間に液晶を封入することにより実施例１のＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネル１０Ａが得られる。なお、両透明基板１１，２５の外側に位置する面には偏光板４１が設けられている。
このような実施例１の半透過型液晶表示パネル１０Ａは、アレイ基板ＡＲにおいてゲート絶縁膜１５と保護絶縁膜１８とを介して重畳された下電極１４と上電極２１とを備え、下電極１４と上電極２１との間に生ずる横方向電界により液晶層３０が駆動される。
【００３５】
ところで、本実施例１の半透過型液晶表示パネル１０Ａのように反射領域ＲＡ上に位相差層２９を形成すると、この位相差層２９の側端部のうち画素領域内に位置する部分、すなわち透過領域ＴＡと反射領域ＲＡとの境界領域ＢＡに位置する側端部２９ａではリタデーションの調節ができず、この部分が表示画面に表示されることでこの半透過型液晶表示パネル１０Ａの表示特性が低下してしまう。そこで、本実施例１の半透過型液晶表示パネル１０Ａにおいては、カラーフィルタ基板ＣＦ側にこの表示特性の低下を防止した構造を採用している。
【００３６】
ここで、上記カラーフィルタ基板ＣＦの具体的な構成について、特に図２及び図３を参照して説明する。また、図３においては、複数色のカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂの状態が見やすいように、これらのカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂのそれぞれに異なるハッチングを施して示している。
ここで述べる境界領域ＢＡは位相差層２９の側端部２９ａに沿って延在する帯状の領域である。その幅は、位相差層２９の側端部２９ａのテーパ（傾斜）角と、カラーフィルタ基板ＣＦにおける位相差層２９の形成位置精度と、カラーフィルタ基板ＣＦとアレイ基板ＡＲとの接合位置精度とに基づいて適宜設定されるものである。言い換えれば、位相差層２９の側端部２９ａが透過領域ＴＡまたは反射領域ＲＡと平面視で重なる可能性がある領域が境界領域ＢＡである。透過領域ＴＡと反射領域ＲＡの境界は、アレイ基板ＡＲに設けられた反射板Ｒの一方の端部によって規定される。したがって、設計上、反射板Ｒの一方の端部を中心とし、相対する位相差層２９の側端部２９ａの上記位置精度を鑑みて均等に割り振られた範囲を境界領域ＢＡとする。
なお、位相差層２９のもう一方の側端部２９ｂは、画素領域を区画して遮光する遮光層２６が設けられた領域に平面視で重なるように位置している。
【００３７】
カラーフィルタ基板ＣＦに形成されるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色からなるカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂは、信号線１７に沿って形成された複数の画素領域が全て同一の色表示を行うようにストライプ配置で形成されている。そして、このＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色からなるカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂのうち、光透過率の最も低い色、つまり視感度が最も低い色光を透過するカラーフィルタ層はＢ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂである。そこで、本実施例１の半透過型液晶表示パネル１０Ａにおいては、図２及び図３に示すように、Ｂ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂ以外のカラーフィルタ層、すなわちＲ（赤）のカラーフィルタ層２７Ｒ及びＧ（緑）のカラーフィルタ層２７Ｇが形成される画素領域内の位相差層２９の側端部２９ａと平面視で重なる領域（境界領域ＢＡ部分）にはＲ（赤）のカラーフィルタ層２７Ｒ及びＧ（緑）のカラーフィルタ層２７Ｇは形成されていない。この代わりに、後に形成される位相差層２９の側端部２９ａと平面視で重なる領域（境界領域ＢＡ）に、位相差層２９の側端部２９ａに沿うように、Ｂ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂが形成されている。
【００３８】
複数色のカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂをこのような構成とする場合には、この複数色のカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂを露光形成する際に用いるマスクパターンを変更するだけで簡単に形成することが可能である。また、この露光形成において、先ず好ましくはＲ（赤）のカラーフィルタ層２７Ｒ及びＧ（緑）のカラーフィルタ層２７Ｇを対応する画素領域に沿って形成し、次いでＢ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂを対応する画素領域と境界領域ＢＡとを同時に形成すると、製造工程を増加させることなく簡単に形成することが可能となる。また、Ｂ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂの境界領域ＢＡに対応する位置に形成される部分において、その長手方向に延在する両側部は、他の色、すなわちＲ（赤）あるいはＧ（緑）のカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇに重畳するように設けられている。このように形成すれば、境界領域ＢＡ内にカラーフィルタ層が形成されていない領域が存在する恐れがなくなる。
【００３９】
上述のような構成とすることにより、本実施例１の半透過型液晶表示パネル１０Ａにおける全ての画素領域の位相差層２９の側端部２９ａと平面視で重なる領域（境界領域ＢＡ）には、最も視感度の低いＢ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂが形成されることになる。すなわち、本実施例１では、光透過率を低下させる部材として、Ｂ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂを構成する部材を使用している。したがって、この位相差層２９のテーパ状の側端部２９ａによりリタデーションのズレが発生したとしても、この部分の表示は視認し難く、表示特性が著しく低下することがなくなる。
なお、Ｇ（緑）のカラーフィルタ層２７Ｇが形成された画素領域においては、境界領域ＢＡに形成されるカラーフィルタ層は、Ｂ（青）に限定されず、Ｒ（赤）でも相応の効果を奏する。
【実施例２】
【００４０】
上記実施例１に示す半透過型液晶表示パネル１０Ａにおいては、Ｒ（赤）及びＧ（緑）のカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇが形成される画素電極の境界領域ＢＡにＢ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂのみを形成したものについて説明したが、この構成に限定されるものではない。そこで、以下にはこの境界領域ＢＡに形成されるカラーフィルタ層の構造を変更した半透過型液晶表示パネル１０Ｂを実施例２として、図４及び図５を参照して説明する。なお、実施例２の半透過型液晶表示パネル１０Ｂは、アレイ基板ＡＲの構成やカラーフィルタ基板ＣＦ１の一部の構成は上記実施例１に示したものと同様であるので、以下同様の構成のものには上記実施例１と同様の符号を付してその説明を省略し、異なる構成についてのみ説明を行うものとする。また、図５においては、複数色のカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂの状態が見やすいように、これらのカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂのそれぞれに異なるハッチングを施して示している。
【００４１】
図４に示すように、実施例２の半透過型液晶表示パネル１０Ｂのカラーフィルタ基板ＣＦ１は、外側の面に偏光板４１が形成された透明基板２５の内側の表面にアレイ基板ＡＲの走査線１２、信号線１７及びＴＦＴに対応する位置を被覆するように遮光層２６が形成されている。また、図５に示すように対応する画素領域全体を覆うようにＲ（赤）及びＧ（緑）のカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇが形成されている。そして、対応する画素領域全体を覆うと共に、Ｒ（赤）およびＧ（緑）のカラーフィルタ層２７Ｒ、２７Ｇが形成された画素領域内の境界領域ＢＡを覆うようにＢ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂが形成されている。なお、本実施例２では、位相差層２９の側端部２９ａが透過領域ＴＡと反射領域ＲＡとの境界領域ＢＡと平面視で重なるように位置する。
このＢ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂのうち、Ｒ（赤）およびＧ（緑）のカラーフィルタ層２７Ｒ、２７Ｇが形成された画素領域内の位相差層２９の側端部２９ａに形成された部分は、対応するＲ（赤）およびＧ（緑）のカラーフィルタ層２７Ｒ、２７Ｇに重畳するように形成されている。なお、複数色のカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂ上には平坦化膜２８が形成されるので、カラーフィルタ層を重畳形成しても位相差層２９や液晶層３０のリタデーション等に悪影響を与える恐れはない。
【００４２】
図４に示すように、平坦化膜２８が形成された基板上には、遅相軸方向を規定する配向膜３１を介して反射領域ＲＡに対応する位置に位相差層２９が形成され、最後に配向膜３２で表面が被覆されることにより、カラーフィルタ基板ＣＦ１が完成する。そして、上記実施例１に示したものと同様に、アレイ基板ＡＲの上電極２１とカラーフィルタ基板ＣＦ１のカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂが互いに対向するようにアレイ基板ＡＲ及びカラーフィルタ基板ＣＦ１を対向させ、その間に液晶を封入することで、本実施例２の半透過型液晶表示パネル１０Ｂが完成する。
【００４３】
以上に説明したように、実施例２に係る半透過型液晶表示パネル１０Ｂにおいては、Ｒ（赤）およびＧ（緑）のカラーフィルタ層２７Ｒ、２７Ｇが形成された画素領域内の位相差層２９の側端部２９ａに平面視で重なる領域（境界領域ＢＡ）にさらにＢ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂを重畳形成するため、このカラーフィルタ層２７Ｂが重畳された領域の光透過率はさらに低下することになる。したがって、このカラーフィルタ層２７Ｂが重畳された領域は極めて視感度の低い領域となり、この位相差層２９の側端部２９ａにおけるリタデーションの調節ができないことに基づく表示特性の低下をさらになくすることができるようになる。すなわち、実施例２では、光透過率を低下させる部材として、Ｒ（赤）およびＧ（緑）のカラーフィルタ層２７Ｒ、２７Ｇが形成された画素領域内の位相差層２９の側端部２９ａと平面視で重なる領域に重畳させたＢ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂを構成する部材を使用している。
ちなみに、Ｂ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂが形成された画素領域の位相差層２９の側端部２９ａと平面視で重なる領域（境界領域ＢＡ）においては、Ｒ（赤）およびＧ（緑）のカラーフィルタ層２７Ｒ、２７Ｇが形成された画素領域の位相差層２９の側端部２９ａと平面視で重なる領域（境界領域ＢＡ）のように異なる色のカラーフィルタ層が重畳配置されてはいない。しかし、Ｂ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂはそもそもその視感度が低いため、カラーフィルタ層を重畳配置していなくても、この位相差層２９の側端部２９ａと平面視で重なる領域（境界領域ＢＡ）の表示は見え難く、大きな問題にはならない。
なお、本実施例では、光透過率を低減させる部材として、Ｂ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂを構成する部材を使用した例を示したが、Ｒ（赤）も視感度が低いため、Ｂ（青）の代わりにＲ（赤）のカラーフィルタ２７Ｒを構成する部材を使用してもよい。また、本実施例では、Ｒ（赤）およびＧ（緑）のカラーフィルタ層２７Ｒ、２７Ｇが形成された画素領域の位相差層２９の側端部２９ａと平面視で重なる領域（境界領域ＢＡ）に、異なる色のカラーフィルタ層が重畳配置された例を示したが、Ｇ（緑）のカラーフィルタ層２７Ｇが形成された画素領域の位相差層２９の側端部２９ａと平面視で重なる領域（境界領域ＢＡ）にのみ、異なる色のカラーフィルタ層、すなわちＲ（赤）のカラーフィルタ層２７ＲまたはＢ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂを重畳配置してもよい。
【実施例３】
【００４４】
次に、実施例３として、上述の境界領域ＢＡを完全に遮光した半透過型液晶表示パネル１０Ｃを図６及び図７を参照して説明する。なお、実施例３の半透過型液晶表示パネル１０Ｃは、アレイ基板ＡＲの構成やカラーフィルタ基板ＣＦ２の一部の構成は上記実施例１に示したものと同様であるので、以下同様の構成のものには上記実施例１と同様の符号を付してその説明を省略し、異なる構成についてのみ説明を行うものとする。また、図７においては、遮光層２６の状態が見やすいようにこの遮光層２６にハッチングを施して示している。
【００４５】
図６に示すように、実施例３の半透過型液晶表示パネル１０Ｃのカラーフィルタ基板ＣＦ２は、外側の面に偏光板４１が設けられた透明基板２５の内側の表面に画素領域を平面視で規定するように遮光層２６が形成されている。そして、この遮光層２６は、図７に示すように、走査線１２、信号線１７及びＴＦＴに対応する位置に加えて、位相差層２９の側端部２９ａに対応する位置をも被覆するように形成されている。なお、実施例３では、位相差層２９の側端部２９ａが透過領域ＴＡと反射領域ＲＡとの境界領域ＢＡと、平面視で重なるように位置する。この境界領域ＢＡに形成される遮光層２６'は、画素領域を横断するように形成されており、その幅は、上記実施例１と同様に、位相差層２９の側端部２９ａのテーパ角と、カラーフィルタ基板ＣＦ２における位相差層２９の形成位置精度と、カラーフィルタ基板ＣＦ２とアレイ基板ＡＲとの接合位置精度とに基づいて適宜設定されるものである。
【００４６】
このように境界領域ＢＡに形成される遮光層２６'を含む遮光層２６が形成された後、複数色のカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂ、平坦化膜２８、配向膜３１及び位相差層２９が順次形成され、最後に配向膜３２が形成されてカラーフィルタ基板ＣＦ２が完成する。そして、上記実施例１に示したものと同様に、アレイ基板ＡＲの上電極２１とカラーフィルタ基板ＣＦ２のカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂが互いに対向するようにアレイ基板ＡＲ及びカラーフィルタ基板ＣＦ２を対向させ、その間に液晶を封入することで、実施例３の半透過型液晶表示パネル１０Ｃが完成する。
【００４７】
上述した構成により実施例３の半透過型液晶表示パネル１０Ｃを形成すると、図６に示すように、位相差層２９の側端部２９ａと平面視で重なる領域（境界領域ＢＡ）には遮光層２６'が形成されるため、この境界領域ＢＡは完全に遮光された状態となる。すなわち、実施例３では、位相差層２９の側端部２９ａが、透過領域ＴＡと反射領域ＲＡとの境界領域ＢＡと、平面視で重なるように位置する。したがって、この部分の表示は外部から視認されることがなくなる。ゆえに、位相差層２９の側端部２９ａにおけるリタデーションの調節が困難なことに起因する表示特性の低下はほぼ完全に抑えることが可能となる。
【実施例４】
【００４８】
上記実施例１〜３においては、いずれもカラーフィルタ層をＲ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の３色で形成したものについて説明したが、３色以上の種類でカラーフィルタ層を形成することも可能である。そこで以下には、実施例４として、計６種類のカラーフィルタ層を用いた半透過型液晶表示パネル１０Ｄについて図８及び図９を参照して説明する。なお、実施例４の半透過型液晶表示パネル１０Ｄは、アレイ基板ＡＲの構成やカラーフィルタ基板ＣＦ３の一部の構成は上記実施例１に示したものと同様であるので、以下同様の構成のものには上記実施例１と同様の符号を付してその説明を省略し、異なる構成についてのみ説明を行うものとする。また、図９においては、複数のカラーフィルタ層毎に異なるハッチングを施して示している。
【００４９】
図９に示すように、実施例４の半透過型液晶表示パネル１０Ｄにおいて使用されているカラーフィルタ層は、色濃度の濃いＲ（赤）のカラーフィルタ層２７Ｒ１と、色濃度の濃いＧ（緑）のカラーフィルタ層２７Ｇ１と、色濃度の濃いＢ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂ１と、色濃度の薄いＲ（赤）のカラーフィルタ層２７Ｒ２と、色濃度の薄いＧ（緑）のカラーフィルタ層２７Ｇ２と、色濃度の薄いＢ（青）のカラーフィルタ層２７Ｂ２と、からなる。これらのカラーフィルタ層のうち、色濃度の濃いＲ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）のカラーフィルタ層２７Ｒ１，２７Ｇ１，２７Ｂ１は、画素領域内の透過領域ＴＡに対応する位置に形成されるものであり、色濃度の薄いＲ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）のカラーフィルタ層２７Ｒ２，２７Ｇ２，２７Ｂ２は、画素領域内の反射領域ＲＡに対応する位置に形成されるものである。そして、これらのカラーフィルタ層は、互いに同一の色成分からなるもの同士が対になって画素領域毎にそれぞれ形成される。
【００５０】
このように、１つの画素領域の透過領域ＴＡと反射領域ＲＡとで同一の色成分で且つ異なる色濃度を有する２つのカラーフィルタ層（２７Ｒ１と２７Ｒ２、２７Ｇ１と２７Ｇ２、２７Ｂ１と２７Ｂ２）を形成するのは、反射領域ＲＡにおける表示方式が、外光を一旦半透過型液晶表示パネル１０Ｄ内に入射させ、反射板Ｒにより反射させて表示画面に出射するようになっているためである。すなわち、反射領域ＲＡの表示に供される外光は半透過型液晶表示パネル１０Ｄへの入射時と出射時の合計２回カラーフィルタ層（２７Ｒ２、２７Ｇ２、２７Ｂ２）を通過する。そのため、例えば透過領域ＴＡと反射領域ＲＡとで同一のカラーフィルタ層を採用している場合、反射領域ＲＡを用いて表示を行う場合の方が透過領域ＴＡを用いて表示を行う場合より濃い色で表示がなされることになる。したがって、実施例４においては、反射領域ＲＡに対応する位置に形成されるカラーフィルタ層を色濃度の薄いものとし、透過領域ＴＡに対応する位置に形成されるカラーフィルタ層を色濃度の濃いものとしている。なお、反射領域ＲＡに対応する位置に形成されるカラーフィルタ層２７Ｒ２，２７Ｇ２，２７Ｂ２の色濃度は、透過領域ＴＡに対応する位置に形成されるカラーフィルタ層２７Ｒ１，２７Ｇ１，２７Ｂ１の色濃度の約半分とすると、表示方法に拘わらずコントラストが一定となるので好ましい。
【００５１】
図８に示すように、実施例４の半透過型液晶表示パネル１０Ｄのカラーフィルタ基板ＣＦ３は、外側の面に偏光板４１が形成された透明基板２５の内側の表面にアレイ基板ＡＲの走査線１２、信号線１７及びＴＦＴに対応する位置を被覆するように遮光層２６が形成された状態で、上述した複数のカラーフィルタ層２７Ｒ１，２７Ｇ１，２７Ｂ１，２７Ｒ２，２７Ｇ２，２７Ｂ２が形成される。この複数のカラーフィルタ層２７Ｒ１，２７Ｇ１，２７Ｂ１，２７Ｒ２，２７Ｇ２，２７Ｂ２の形成方法としては、先ず、色濃度の濃い３つのカラーフィルタ層２７Ｒ１、２７Ｇ１及び２７Ｂ１を透過領域ＴＡ及び境界領域ＢＡを覆うように形成し、次いで、色濃度の薄い他の３つのカラーフィルタ層２７Ｒ２、２７Ｇ２及び２７Ｂ２を反射領域ＲＡ及び境界領域ＢＡを覆うように形成する。複数のカラーフィルタ層２７Ｒ１，２７Ｇ１，２７Ｂ１，２７Ｒ２，２７Ｇ２，２７Ｂ２をこのように形成することで、図８に示すように、画素領域内の境界領域ＢＡでは色成分が同一で且つ色濃度の異なる２つのカラーフィルタ層（２７Ｒ１と２７Ｒ２、２７Ｇ１と２７Ｇ２、２７Ｂ１と２７Ｂ２）が重畳配置される。その後、平坦化膜２８、配向膜３１及び位相差層２９が順次形成され、最後に配向膜３２が形成されてカラーフィルタ基板ＣＦ３が完成する。そして、上記実施例１に示したものと同様に、アレイ基板ＡＲの上電極２１とカラーフィルタ基板ＣＦ３のカラーフィルタ層２７Ｒ１，２７Ｇ１，２７Ｂ１，２７Ｒ２，２７Ｇ２，２７Ｂ２が互いに対向するようにアレイ基板ＡＲ及びカラーフィルタ基板ＣＦ３を対向させ、その間に液晶を封入することで、実施例４の半透過型液晶表示パネル１０Ｄが完成する。
【００５２】
上述のように、実施例４の半透過型液晶表示パネル１０Ｄの位相差層２９の側端部２９ａと平面視で重なる領域（境界領域ＢＡ）には、常に同一の色成分で且つ色濃度の異なる２つのカラーフィルタ層（２７Ｒ１と２７Ｒ２、２７Ｇ１と２７Ｇ２、２７Ｂ１と２７Ｂ２）が重畳配置されるので、この部分の光透過率は著しく低下している。すなわち、実施例４では、光透過率を低下させる部材として、透過領域ＴＡ及び反射領域ＲＡにそれぞれ形成された同一の色成分で且つ色濃度が異なる２つのカラーフィルタ層が重畳されたものを使用している。したがって、この境界領域ＢＡの視感度が低下するため、位相差層２９の側端部２９ａを透過する光は表示画面にほとんど表示されなくなる。よって、リタデーションの調節が困難な位相差層２９の側端部２９ａに起因する表示特性の低下を抑えることが可能となる。
【００５３】
ところで、上記実施例１〜４において示したアレイ基板ＡＲの構造は限定されるものではない。そこで、変形例として、以下にアレイ基板ＡＲの構造を変更した半透過型液晶表示パネルの例を図１０を参照して説明する。なお、図１０に示す変形例は実施例１の図２に対応する形で記載しているが、上記全ての実施例において変形可能なものであるので、特に画素領域の透過領域ＴＡと反射領域ＲＡとの境界部分の構造については図示を省略している。また、上記実施例１〜４において説明した構成と同一のものについては同一の符号を付してその説明を省略するものとする。
【００５４】
図１０に示すように、変形例に係る半透過型液晶表示パネル１０Ｅのアレイ基板ＡＲ１は、ガラス基板等からなる透明基板１１の表面に例えば複数の走査線１２及び複数のコモン配線１３が互いに平行になるように形成されている。そして、この走査線１２及びコモン配線１３が形成された透明基板１１の表面全体に亘ってゲート絶縁膜１５が被覆されている。さらに、このゲート絶縁膜１５の表面のＴＦＴ形成領域には半導体層１６が形成されている。この半導体層１６が形成されている位置の走査線１２の領域がＴＦＴのゲート電極Ｇを形成する。
【００５５】
また、ゲート絶縁膜１５の表面には、ソース電極Ｓを含む信号線１７及びドレイン電極Ｄが形成されている。このソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄは、いずれも半導体層１６の表面に部分的に重なっている。さらに、この基板の表面全体に保護絶縁膜１８が被覆されており、さらにこの保護絶縁膜１８上に透明絶縁材料からなる層間膜３３が形成されている。この層間膜３３は画素毎の反射領域ＲＡにおいては表面に凹凸（図示省略）が形成され、透過領域ＴＡを含むその他の領域は表面が平らになされている。
【００５６】
さらに、コモン配線１３の一部を被覆しているゲート絶縁膜１５、保護絶縁膜１８及び層間膜３３にはコンタクトホール３９が設けられている。また、反射領域ＲＡの層間膜３３の表面にはそれぞれの画素領域毎に反射板Ｒが形成され、この反射板Ｒの表面及び層間膜３３の表面は同じく画素領域毎に下電極１４が形成されている。この下電極１４はコンタクトホール３９を介してコモン配線１３と電気的に接続されている。そのため、下電極１４は共通電極として作用する。なお、ドレイン電極Ｄに対応する位置の層間膜３３及び保護絶縁膜１８にはドレイン電極Ｄが露出するようにコンタクトホール１９が形成されている。
【００５７】
さらに、それぞれの下電極１４の表面及び層間膜３３の表面全体に亘って窒化ケイ素ないし酸化ケイ素等の透明絶縁材料からなる容量絶縁膜３４が形成されており、この容量絶縁膜３４はドレイン電極Ｄが露出するようにコンタクトホール１９の表面壁を被覆している。この容量絶縁膜３４は下電極１４と上電極２１との距離を調整するために設けられるものである。そして、平面視でくし歯状となるように、容量絶縁膜３４上に複数のスリット２０を有する上電極２１が形成されている。この上電極２１はコンタクトホール１９を介してドレイン電極Ｄと電気的に接続されている。そのため、上電極２１は画素電極として作用する。そして最後に、この基板の表面全体に亘り所定の配向膜３５が形成されてアレイ基板ＡＲ１が完成する。
【００５８】
上記のように、アレイ基板ＡＲ１の保護絶縁膜１８と反射板Ｒ及び下電極１４との間に層間膜３３を形成することにより、下電極１４と上電極２１の形成領域を大きくすることが可能となる。したがって、上記実施例１に比して電界発生領域が大きくなるため、開口度が大きく明るい表示を行うことができるようになる。
【００５９】
また、変形例の半透過型液晶表示パネル１０Ｅにおいては、下電極１４を共通電極、上電極２１を画素電極としてそれぞれ作用するように配線された例について説明したが、これに限らず、例えば上電極２１をコモン配線１３に接続させることで共通電極とし、下電極１４をドレイン電極Ｄに接続させることで画素電極とすることも可能である。
【００６０】
なお、上記実施例１〜４及び変形例に係る半透過型液晶表示パネル１０Ａ〜１０Ｅにおいては、全て反射板Ｒをアレイ基板ＡＲ側に形成したものについて説明したが、これに限らず、カラーフィルタ基板ＣＦの複数色のカラーフィルタ層の下層に形成しても同様の半透過型液晶表示パネルを得ることが可能である。ただしこの場合には、ユーザはアレイ基板ＡＲ側から表示画像を視認することになる。
【実施例５】
【００６１】
次に、実施例５の半透過型液晶表示パネルについて図１１及び図１２を参照して説明する。実施例５の半透過型液晶表示パネルは、上記実施例１〜４が横方向電界モード（ＦＦＳ型）であるのに対して縦方向電界モードにより表示がなされる。
図１１は実施例５の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して示す３画素分の平面図である。図１２（ａ）は図１１のIII−III線で切った断面図、同図（ｂ）は図１１のIV−IV線で切った断面図である。なお、上記実施例１と同様な構成については、同じ符号を付して詳しい説明は省略する。
【００６２】
図１１に示すように、実施例５の半透過型液晶表示パネル１０Ｆは、走査線１２と信号線１７とによりマトリクス状に区画された複数の画素領域を有し、画素領域は反射領域ＲＡと透過領域ＴＡとに区分されている。
画素領域は、反射領域ＲＡと透過領域ＴＡとに跨って設けられた画素電極８１と、画素電極８１にドレイン電極Ｄが電気的に接続した半導体層１６を有するＴＦＴとを備えている。
画素電極８１には、反射領域ＲＡと透過領域ＴＡとの境界領域ＢＡに対応した位置に２つのスリット（切り欠き）８１ａが設けられている。２つのスリット８１ａにより狭められた部分８１ｂによって、反射領域ＲＡと透過領域ＴＡの画素電極８１が電気的に繋がっている。
２つのスリット８１ａは、反射領域ＲＡと透過領域ＴＡとにおける液晶分子の配向制御のために設けられたものである。
画素電極８１に対向する共通電極８２には、反射領域ＲＡのほぼ中央付近に設けられた平面視で略円状の突起８３と、透過領域ＴＡのほぼ中央付近に設けられた平面視で帯状の突起８４とを有する。これらの突起８３，８４は、上記スリット８１ａと同様に液晶分子の配向制御のために設けられている。液晶分子の配向制御については、後述する。なお、カラーフィルタ基板ＣＦ４（図１２参照）には、このようにマトリクス状に設けられた画素領域に対応してＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）、３色のカラーフィルタ層２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂが設けられている。
【００６３】
図１２（ａ）に示すように、半透過型液晶表示パネル１０Ｆは、画素電極８１とＴＦＴとを有するアレイ基板ＡＲ２と、共通電極８２とカラーフィルタ層２７とを有するカラーフィルタ基板ＣＦ４と、アレイ基板ＡＲ２とカラーフィルタ基板ＣＦ４とによって挟持された液晶層８０とを有する。
【００６４】
アレイ基板ＡＲ２は、透明基板１１上に形成された走査線１２（ゲート電極Ｇ）と、走査線１２を覆うように形成されたゲート絶縁膜１５と、走査線１２のほぼ直上の位置のゲート絶縁膜１５上に設けられた半導体層１６とを有している。
また、半導体層１６のソース側を覆うように形成されたソース電極Ｓと、半導体層１６のドレイン側を覆うように形成されたドレイン電極Ｄと、ソース電極Ｓ及びドレイン電極Ｄを覆うように形成された保護絶縁膜１８とを有している。これらがＴＦＴを構成している。
さらに、保護絶縁膜１８を覆うように形成された平坦化膜としての層間膜８６と、層間膜８６上に形成された画素電極８１と、画素電極８１を覆うように形成された配向膜３５とを有する。
なお、ゲート絶縁膜１５、保護絶縁膜１８は、例えば酸化シリコンなどの無機絶縁膜であり、光透過性を有している。層間膜８６は、例えばアクリル樹脂など有機絶縁膜からなり、同様に光透過性を有している。
【００６５】
層間膜８６は、反射領域ＲＡにおいて液晶層８０側の表面が凸凹に形成されており、その表面を覆うように光反射性を有する材料、例えばＡｌなどが成膜され、反射板８７を形成している。ＩＴＯなどの透明導電材料からなる画素電極８１は、反射板８７を覆うように形成されると共に、層間膜８６に設けられたコンタクトホール１９を介してドレイン電極Ｄと電気的に接続している。
【００６６】
カラーフィルタ基板ＣＦ４は、透明基板２５上に形成された遮光層２６と、遮光層２６を覆うように形成されたカラーフィルタ層２７と、カラーフィルタ層２７を覆うように形成された平坦化膜２８とを有している。
また、平坦化膜２８を覆うように形成された配向膜３１と、反射領域ＲＡに対応した位置で配向膜３１上に形成された位相差層２９と、位相差層２９を覆うと共に、少なくとも画素電極８１に対向するように形成された共通電極８２とを有する。
反射領域ＲＡの位相差層２９を覆う共通電極８２上には、前述した配向制御用の突起８３が形成されている。透過領域ＴＡの共通電極８２上には、前述した配向制御用の帯状の突起８４が形成されている。さらに、これらの突起８３，８４を覆うと共に、液晶層８０に面する側を覆うように配向膜３２が設けられている。
【００６７】
液晶層８０は負の誘電異方性を有するものであり、液晶層８０に面して形成された配向膜３２，３５は、いわゆる垂直配向膜である。したがって、液晶層８０を挟んで対向する画素電極８１と共通電極８２との間に駆動電位が与えられていないＯＦＦ状態では、液晶分子は、配向膜３２，３５の表面に対してほぼ垂直な状態で配列する（垂直配向している）。駆動電位が与えられたＯＮ状態では、電界方向に対して交差するように液晶分子が傾く。これにより、液晶層８０を通過する光を制御して表示を行うものである。
配向制御用の突起８３，８４は、ＯＦＦ状態で垂直配向している液晶分子がＯＮ状態となったときに、所定の方向に傾くように配向制御を行わせる。この場合、反射領域ＲＡでは突起８３を中心に放射状に液晶分子が傾く。透過領域ＴＡでは帯状の突起８４を境にして液晶分子が傾く方向が異なる（図１１においては突起８４を境にして左右に液晶分子が傾くことになる）。
【００６８】
液晶層８０を挟持したカラーフィルタ基板ＣＦ４とアレイ基板ＡＲ２とからなる液晶セルの表面及び裏面には、偏光板４１が設けられている。表裏一対の偏光板４１の光学的な軸方向を相互に同一とさせるか、あるいは略直交させるかにより、ＯＦＦ状態の表示状態を白表示（ノーマリーホワイト）または黒表示（ノーマリーブラック）とすることができる。このような縦方向電界モードの半透過型液晶表示パネル１０Ｆは、ＶＡ（Virtical  Alignment）方式と呼ばれている。
この半透過型液晶表示パネル１０Ｆにおいても、反射領域ＲＡと透過領域ＴＡとにおいて液晶層８０を通過する光の距離が均一となるように、透過領域ＴＡにおける液晶層８０の厚み（距離）Ｌ１に対して反射領域ＲＡにおける液晶層８０の厚み（距離）Ｌ２は、半分に設定されている。言い換えれば、Ｌ２＝（１／２）Ｌ１となるように、位相差層２９の肉厚が調整されている。これにより、反射表示、透過表示のいずれにおいても最適な表示がなされる。
【００６９】
半透過型液晶表示パネル１０Ｆのカラーフィルタ基板ＣＦ４の遮光層２６は、画素領域を区画するだけでなく、画素領域において反射領域ＲＡと透過領域ＴＡとを実質的に区分するように形成されている。
【００７０】
カラーフィルタ基板ＣＦ４の位相差層２９は、遮光層２６が配置された領域に位相差層２９の両側端部２９ａ，２９ｂが平面視で重なるように形成されている。具体的には、反射領域ＲＡと透過領域ＴＡとの境において、位相差層２９の一方の側端部２９ａは、遮光層２６が設けられた境界領域ＢＡ内に位置している。すなわち、実施例５における光透過率を低下させる部材は、遮光層２６である。
遮光層２６を設ける境界領域ＢＡの範囲は、上記実施例１〜４と同様に、側端部２９ａにおけるテーパ角度と、カラーフィルタ基板ＣＦ４における位相差層２９の形成位置精度と、カラーフィルタ基板ＣＦ４とアレイ基板ＡＲ２との接合位置精度とを少なくとも考慮して決める必要がある。位相差層２９の他方の側端部２９ｂについても同様である。
【００７１】
図１２（ｂ）に示すように、位相差層２９は、複数の画素領域における反射領域ＲＡに跨るように形成されている。言い換えれば、複数の反射領域ＲＡに跨って帯状に形成されている。したがって、同図（ｂ）において画素領域間に設けられた遮光層２６に平面視で重なる領域には、位相差層２９の側端部は存在しない。ゆえに、この部分におけるリタデーションはほぼねらいの値となっており、光漏れなどの表示不具合は発生しない。
【００７２】
上記実施例５の半透過型液晶表示パネル１０Ｆは、画素領域において帯状に設けられた位相差層２９の両側端部２９ａ，２９ｂがいずれも遮光層２６が形成された領域内に平面視で重なるようになっている。したがって、上記両側端部２９ａ，２９ｂにおけるリタデーションが調節できないこと（リタデーションが変化すること）に起因する光漏れなどの表示不具合が発生しても、遮光層２６によって実質的に視認出来ないので、表示ムラが目立たない半透過型液晶表示パネル１０Ｆを実現している。
なお、ＶＡ方式の半透過型液晶表示パネル１０Ｆの構成は、これに限定されるものではない。例えば、配向制御の方法は、突起８３，８４によらず、画素電極８１や共通電極８２において、所定の方向に配向制御用のスリットを設けたものでもよい。
また、例えば、アレイ基板ＡＲ２の透明基板１１上に走査線１２を形成する過程で、画素電極８１の一部と平面視で重なるように容量線を設けてもよい。
さらには、カラーフィルタ基板ＣＦ４において、位相差層２９の一方の側端部２９ａが平面視で重なる領域（境界領域ＢＡ）に設けられた光透過率を低下させる部材は遮光層２６に限定されず、最も視感度が低いカラーフィルタ層２７Ｂや、少なくとも２色のカラーフィルタ層あるいは色濃度が異なるカラーフィルタ層が重畳されたものでもよい。
【００７３】
（電子機器）
次に、本実施形態の電子機器について図１３を参照して説明する。図１３（ａ）は電子機器としてのパーソナルコンピュータを示す概略図、同図（ｂ）は電子機器としての携帯型電話機を示す概略図である。
上記実施例１〜４及び変形例として説明したＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネル１０Ａ〜１０Ｅ、実施例５のＶＡ方式の半透過型液晶表示パネル１０Ｆは、パーソナルコンピュータ、携帯型電話機、携帯情報端末などの電子機器に使用することができる。
図１３（ａ）に示すように、電子機器としてのパーソナルコンピュータ１００は、キーボードなどを備える本体１０１と、表示部１０２とを有している。表示部１０２には、上記実施例及び上記変形例の半透過型液晶表示パネル１０Ａ〜１０Ｆのいずれかと、これを背面側（アレイ基板側）から照明する照明装置とが搭載されている。
図１３（ｂ）に示すように、電子機器としての携帯型電話機１１０は、入力用のボタン類が設けられた本体１１１と、本体１１１に対して折り畳み可能な状態に取り付けられた表示部１１２とを有している。表示部１１２には、同様にして上記実施例及び上記変形例の半透過型液晶表示パネル１０Ａ〜１０Ｆのいずれかと、これを背面側（アレイ基板側）から照明する照明装置とが搭載されている。
なお、これらのパーソナルコンピュータ１００及び携帯型電話機１１０の基本的構成は当業者に周知であるので、詳細な説明は省略する。
このようなパーソナルコンピュータ１００、携帯型電話機１１０によれば、表示ムラが目立ち難い半透過型液晶表示パネルを用いているので、屋外屋内を問わず使用環境における照度が変化しても、表示された情報をきちんと確認することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】実施例１に係るＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して示す３画素分の平面図。
【図２】図１のII−II線で切断した断面図。
【図３】実施例１の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ層の状態を示す平面図。
【図４】実施例２に係るＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネルの図２に対応する断面図。
【図５】実施例２の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ層の状態を示す平面図。
【図６】実施例３に係るＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネルの図２に対応する断面図。
【図７】実施例３の半透過型液晶表示パネルの遮光層の状態を示す平面図。
【図８】実施例４に係るＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネルの図２に対応する断面図。
【図９】実施例４の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ層の状態を示す平面図。
【図１０】変形例に係るＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネルの図２に対応する断面図。
【図１１】実施例５の半透過型液晶表示パネルのカラーフィルタ基板を透視して示す３画素分の平面図。
【図１２】（ａ）は図１１のIII−III線で切った断面図、（ｂ）は図１１のIV−IV線で切った断面図。
【図１３】（ａ）は電子機器としてのパーソナルコンピュータを示す概略図、（ｂ）は電子機器としての携帯型電話機を示す概略図。
【図１４】従来のＦＦＳ型の半透過型液晶表示パネルの１画素分の平面図。
【図１５】図１４のXIII−XIII線に沿った模式断面図。
【符号の説明】
【００７５】
１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０Ｄ，１０Ｅ，１０Ｆ…半透過型液晶表示パネル、１１，２５…透明基板、１２…走査線、１３…コモン配線，１４…第１電極としての下電極、１５…ゲート絶縁膜、１６…半導体層、１７…信号線、１８…保護絶縁膜、１９，３９…コンタクトホール、２０…スリット、２０ａ…開放端、２０ｂ…閉鎖端、２１…第２電極としての上電極、２６，２６'…遮光層、２７Ｒ，２７Ｇ，２７Ｂ…カラーフィルタ層、２８…平坦化膜、２９…位相差層、２９ａ…側端部、３０，８０…液晶層、３３，８６…層間膜、３４…容量絶縁膜、４１…偏光板、１００…電子機器としてのパーソナルコンピュータ、１１０…電子機器としての携帯型電話機、ＡＲ，ＡＲ１，ＡＲ２…第１基板としてのアレイ基板、ＣＦ，ＣＦ１〜ＣＦ４…第２基板としてのカラーフィルタ基板、Ｒ…反射板、Ｇ…ゲート電極、Ｓ…ソース電極、Ｄ…ドレイン電極、ＴＡ…透過領域、ＲＡ…反射領域、ＢＡ…位相差層の側端部と平面視で重なる領域としての境界領域。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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