(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースエステルを含有する光学フィルム形成材料を加熱溶融し、溶融流延法によって製膜した光学フィルムにおいて、該光学フィルム形成材料に、下記一般式（２）で表されるイミド構造基を有する紫外線吸収剤を含有することを特徴とする光学フィルム。
【化１】
0005119767.tif 000027
（式中、Ｒ31、Ｒ32は各々独立に、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノまたはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基、アシル基、スルホニル基、アリールチオ基、アミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、シアノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基を表す。Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノまたはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基、アシル基、スルホニル基、アリールチオ基、アミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、シアノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基を表す。ｌ、ｍ、ｎは０〜４の整数を表す。Ｚ1は、Ｃ−Ｎ−Ｃ部と共に、５〜６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。Ｌは２価の連結基を表す。）
【請求項２】
セルロースエステルを含有する光学フィルム形成材料を加熱溶融し、溶融流延法によって製膜した光学フィルムにおいて、該光学フィルム形成材料に、下記一般式（３）で表されるイミド構造基を有する紫外線吸収剤を含有することを特徴とする光学フィルム。
【化２】
0005119767.tif 000028
（式中、Ｒ11は水素原子、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アシル基、脂肪族基又はアリール基を表す。Ｒ12及びＲ13各々独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アシル基、スルホニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、アシルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。ｍは、０〜３の整数を表し、ｎは０〜５の整数を表す。Ｚ1は、Ｃ−Ｎ−Ｃ部と共に、５〜６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。Ｌは２価の連結基を表す。）
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光学フィルムを少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の光学フィルムを鹸化処理し、偏光子と貼合することを特徴とする偏光板の製造方法。
【請求項５】
請求項３に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも１方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項４に記載の偏光板の製造方法で製造された偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、偏光板、その製造方法及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ノートパソコンの薄型軽量化、大型画面化、高精細化の開発が進んでいる。それに伴って、様々な表示装置用フィルム、特に、液晶偏光板用の保護フィルムもますます薄膜化、広幅化、高品質化の要求が強くなってきている。
【０００３】
偏光板用保護フィルムには、一般的に光学フィルムが広く使用されている。
【０００４】
これらの光学フィルムは、これまで、専ら溶液流延法によって製造されてきた。しかし、溶液流延法は多量の有機溶媒を必要とし、環境負荷やコストが大きいことから、セルロースエステルを溶融製膜する試みが行われている。
【０００５】
しかしながら、溶融流延法による光学フィルムの製造は、困難でありいまでに実用化されていない。
【０００６】
例えば溶液流延法において、光学フィルム形成材料の低分子量化合物が、加熱加工時の揮発により製造工程を汚染するという問題がある。
【０００７】
溶液流延法よりも加熱温度が高い溶融流延においては、さらに揮発による工程汚染の問題は深刻である。
【０００８】
特に、揮発物が光学フィルム表面に汚れが発生し、ハードコート層や反射防止層などの表面加工性が劣化する問題や、コントラストの低下、また、揮発物がダイスのリップに付着するため、光学フィルムの表面にスジ故障が発生する問題が起きている。
【０００９】
揮発による問題に対し、溶液流延法においては、紫外線吸収剤をポリマー化する検討が行われている（例えば特許文献１を参照）。
【００１０】
しかし、溶融流延法においては、用いた化合物によって、光学フィルムが白化しやすいという問題があり、特にポリマーや高分子量の化合物を用いた場合には、非常に白化の問題が起こりやすい。
【００１１】
溶融流延法において、ポリマーや高分子量の化合物の検討がされているものの（例えば特許文献２を参照）、光学フィルムの白化の問題の改良は十分ではなく、高温高湿化保存時の耐久性が悪いなどの問題がある。そこで、分子量が低い割には揮発性が低く、揮発による工程汚染が少ない化合物が求められている。
【特許文献１】特開２００２−１６９０２０号公報
【特許文献２】特開２００６−１１３１７５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、本発明の目的は、光学フィルムの表面のスジ故障問題がなく、ハードコート層や反射防止層などの表面加工性がよく、高いコントラスト、高温高湿時の耐久性に優れた光学フィルム、偏光板及びその製造方法、該偏光板を用いた液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の目的は下記の構成により達成される。
【００１４】
１．セルロースエステルを含有する光学フィルム形成材料を加熱溶融し、溶融流延法によって製膜した光学フィルムにおいて、該光学フィルム形成材料に、下記一般式（２）で表されるイミド構造基を有する紫外線吸収剤を含有することを特徴とする光学フィルム。
【００１５】
【化１】
0005119767.tif 000002
【００１６】
（式中、Ｒ31、Ｒ32は各々独立に、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノまたはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基、アシル基、スルホニル基、アリールチオ基、アミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、シアノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基を表す。Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリール基、アシルオキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、モノまたはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基、アシル基、スルホニル基、アリールチオ基、アミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、シアノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、アシルオキシ基、オキシカルボニル基を表す。ｌ、ｍ、ｎは０〜４の整数を表す。Ｚ1は、Ｃ−Ｎ−Ｃ部と共に、５〜６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。Ｌは２価の連結基を表す。）
【００１７】
２．セルロースエステルを含有する光学フィルム形成材料を加熱溶融し、溶融流延法によって製膜した光学フィルムにおいて、該光学フィルム形成材料に、下記一般式（３）で表されるイミド構造基を有する紫外線吸収剤を含有することを特徴とする光学フィルム。
【００１８】
【化２】
0005119767.tif 000003
【００１９】
（式中、Ｒ11は水素原子、アシルオキシ基、オキシカルボニル基、カルバモイル基、アシル基、脂肪族基又はアリール基を表す。Ｒ12及びＲ13各々独立に、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アシル基、スルホニル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、スルホンアミド基、アシルオキシ基又はオキシカルボニル基を表す。ｍは、０〜３の整数を表し、ｎは０〜５の整数を表す。Ｚ1は、Ｃ−Ｎ−Ｃ部と共に、５〜６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。Ｌは２価の連結基を表す。）
【００３７】
３．前記１又は２に記載の光学フィルムを少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。
【００３８】
４．前記１又は２に記載の光学フィルムを鹸化処理し、偏光子と貼合することを特徴とする偏光板の製造方法。
【００３９】
５．前記３に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも１方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。
【００４０】
６．前記４に記載の偏光板の製造方法で製造された偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【００４１】
本発明により、光学フィルム形成材料を熱で溶融時に発生する揮発物による工程汚染の軽減により、光学フィルムの表面のスジ故障問題がなく、ハードコート層や反射防止層などの表面加工性がよく、高いコントラスト、高温高湿時の耐久性に優れた、光学フィルム、偏光板及びその製造方法、該偏光板を用いた液晶表示装置を提供することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
以下、本発明を更に詳細に述べる。
【００４３】
本発明は、セルロースエステルを含有する光学フィルム形成材料を加熱溶融し、溶融流延法によって製膜した光学フィルムにおいて、該光学フィルム形成材料に、前記一般式（１）で表されるイミド構造基を有する化合物を含有することを特徴とする。
【００４４】
一般式（１）で表されるイミド構造基を有する化合物としては、紫外線吸収剤、透湿度調整剤、可塑剤、酸化防止剤、剥離助剤、機械物性改善剤、リタデーション制御剤、波長分散剤、平面性改良剤などが挙げられる。
【００４５】
好ましくは、一般式（１）で表されるイミド構造基を有する化合物が紫外線吸収剤、透湿度調整剤、可塑剤、酸化防止剤であることが好ましい。
【００４６】
まず、本発明の一般式（１）で表される構造を有する化合物について説明する。
【００４７】
Ｚ1は、−Ｃ−Ｎ−Ｃ−部と共に、５〜６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。
【００４８】
形成される５〜６員環としては、例えば、コハクサンイミド環、マレイミド環、ウラゾール環、ヒダントイン環、オキサゾリンジンジオン環、チアゾリンジンジオン環等があげられ、中でもコハクサンイミド環、マレイミド環が好ましい。
【００４９】
形成される環は置換基を有していても良く、またさらに別の環と縮合環を形成しても良い。
【００５０】
置換基としては、例えば、特に制限はないが、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等）、アルキニル基（例えば、プロパルギル基等）、複素環基（例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（例えば、フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基等）、アルキルスルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基等）、アリールスルフィニル基（例えば、フェニルスルフィニル基等）、ホスホノ基、アシル基（例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等）、シアノ基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、複素環オキシ基、シロキシ基、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、スルホン酸基、スルホン酸の塩、アミノカルボニルオキシ基、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等）、アニリノ基（例えば、フェニルアミノ基、クロロフェニルアミノ基、トルイジノ基、アニシジノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、イミド基、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、アルコキシカルボニルアミノ基（例えば、メトキシカルボニルアミノ基、フェノキシカルボニルアミノ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）、複素環チオ基、チオウレイド基、カルボキシル基、カルボン酸の塩、ヒドロキシル基、メルカプト基、ニトロ基等の各基が挙げられる。これらの置換基は同様の置換基によってさらに置換されていてもよい。
【００５１】
Ｌは２価に連結基を表す。
【００５２】
２価の連結基として例えば、置換基を有してもよいアルキレン基、置換基を有してもよいアリーレン基、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、あるいはこれらの連結基の組み合わせを挙げることができる。これらのうちアルキレン基、アリーレン基が好ましい。
【００５３】
次に、前記一般式（６）で表される化合物について説明する。
【００５４】
Ｚ2は、Ｃ・・・Ｃ部と共に、５〜６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。
【００５５】
好ましくは、脂肪族炭化水素環、芳香族炭化水素環、または複素環が好ましく、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環、シクロペンタン環、シクロブタン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、イミダゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、ピラゾール環、ベンゼン環が挙げられる。
【００５６】
これらのうち、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環およびベンゼン環が好ましい。
【００５７】
形成される環は置換基を有していても良く、またさらに別の環と縮合環を形成しても良い。
【００５８】
置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシ基が好ましい。
【００５９】
Ｌは２価の連結基を表す。２価の連結基としては、一般式（１）であげた連結基が好ましい。・・・は、単結合または２重結合を表す。
【００６０】
次に、一般式（７）で表される化合物について説明する。
【００６１】
Ｒ101は、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等）、ニトロ基、ヒドロキシル基、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）を表す。ｒは０〜８の整数を表す。
【００６２】
この中で、水素原子が特に好ましい。
【００６３】
Ｌは２価の連結基を表す。２価の連結基としては、一般式（１）であげた連結基が好ましい。
【００６４】
本発明においては、前記一般式（１）で表される部分構造（イミド部分構造基）を有する化合物が、前記一般式（６）又は前記一般式（７）で表される化合物が本発明の効果を奏する点でより好ましい。
【００６５】
（紫外線吸収剤）
紫外線吸収剤は、偏光子や表示装置の紫外線に対する劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
【００６６】
本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。
【００６７】
本発明の光学フィルムは、一般式（１）で表されるイミド構造基を有する紫外線吸収剤を含有することが好ましい。
【００６８】
更に、好ましくは、一般式（１）で表されるイミド構造基を有するベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系化合物である。
【００６９】
特に本発明において、前記一般式（２）及び（３）で表される化合物を用いることが好ましい。
【００７０】
中でも、一般式（２）で表されるイミド構造基を有する紫外線吸収剤を用いることが好ましい。
【００７１】
次に、一般式（２）で表される化合物について説明する。
【００７２】
Ｒ31、Ｒ32は各々独立に、ヒドロキシル基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、モノまたはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等）、スルホニル基、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等）、アリールアミノ基、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、シアノ基、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、オキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等）を表す。特に、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基が好ましい。
【００７３】
Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35はそれぞれ独立に、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等）、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基、１−メチル−３−プロペニル基、３−ペンテニル基、１−メチル−３−ブテニル基、４−ヘキセニル基、シクロヘキセニル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）モノまたはジアルキルアミノ基、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アシル基（例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等）、スルホニル基、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基等）、アリールアミノ基、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、シアノ基、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、オキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、フェノキシカルボニル等）を表す。
【００７４】
特に、ハロゲン原子としてはクロル基、アルキル基としてはメチル基、アルコキシ基としてはメトキシ基、プロポキシ基が好ましい。
【００７５】
ｌ、ｍ、ｎは０〜４の整数を表す。Ｚ1は、−Ｃ−Ｎ−Ｃ−部と共に、５〜６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。Ｚ1は、一般式（１）であげた構造が好ましい。Ｌは２価の連結基を表す。２価の連結基としては、一般式（１）であげた連結基が好ましい。
【００７６】
以下、本発明に好ましく用いられる一般式（２）で表される化合物の代表例を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７７】
【化９】
0005119767.tif 000004
【００７８】
【化１０】
0005119767.tif 000005
【００７９】
次に一般式（３）で表される化合物について説明する。
【００８０】
Ｒ11は水素原子、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）、オキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、アシル基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、脂肪族基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）又はアリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）を表す。Ｒ12及びＲ13各々独立に、水素原子、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子等）、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、アシル基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、スルホニル基、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基）、アリールアミノ基、（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等）、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）又はオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、を表す。ｍは、０〜３の整数を表し、ｎは０〜５の整数を表す。Ｚ1は、−Ｃ−Ｎ−Ｃ−部と共に、５〜６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。Ｚ1は、一般式（１）であげた構造が好ましい。Ｌは２価の連結基を表す。２価の連結基としては、一般式（１）であげた連結基が好ましい。
【００８１】
以下、本発明に好ましく用いられる一般式（３）で表される化合物の代表例を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００８２】
【化１１】
0005119767.tif 000006
【００８３】
また、従来公知の紫外線吸収剤を、本発明の効果を損なわない程度に、添加してもよい。
【００８４】
例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。
【００８５】
また、特開平１０−１８２６２１号、同８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号、特開２００３−１１３３１７号公報記載の高分子紫外線吸収剤などが挙げられる。
【００８６】
本発明において、紫外線吸収剤は、セルロースエステルに対して、０．１〜２０質量部添加することが好ましく、更に０．５〜１０質量部添加することが好ましく、さらに１〜５質量部添加することが好ましい。
【００８７】
これらは、２種以上を併用しても良い。
【００８８】
（可塑剤）
本発明の光学フィルムには、可塑剤を添加することが好ましい。
【００８９】
一般的に、可塑剤として知られる化合物を添加することは機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水分透過率の低減等の光学フィルムの改質の観点において好ましい。
【００９０】
また、溶融流延法においては、用いるセルロースエステル単独のガラス転移温度よりも、可塑剤の添加により光学フィルム構成材料の溶融温度を低下させる目的、または同じ加熱温度においてセルロースエステルよりも可塑剤を含む光学フィルム構成材料の粘度が低下できる目的を含んでいる。
【００９１】
ここで、本発明において、光学フィルム構成材料の溶融温度とは、該材料が加熱され流動性が発現された状態において材料が加熱された温度を意味する。
【００９２】
セルロースエステル単独では、ガラス転移温度よりも低いと光学フィルム化するための流動性は発現されない。しかしながら、セルロースエステルは、ガラス転移温度以上において熱量の吸収により弾性率あるいは粘度が低下し、流動性が発現される。光学フィルム構成材料を溶融させるためには、添加する可塑剤がセルロースエステルのガラス転移温度よりも低い融点またはガラス転移温度をもつことが上記目的を満たすために好ましい。
【００９３】
本発明において好ましく用いられる一般式（１）で表されるイミド構造基を部分構造として有する可塑剤としては、多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤、多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤、燐酸エステル系可塑剤、炭水化物エステル系可塑剤などが挙げられる。
【００９４】
本発明においては、前記一般式（４）で表される多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤を添加することが好ましい。
【００９５】
次に、一般式（４）で表される化合物について説明する。
【００９６】
一般式（４）において、Ｘはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、ヘテロ環（例えば、ピリジル基、チアゾリル基、オキサゾリル基、イミダゾリル基等）を表す。Ｚ1は、−Ｃ−Ｎ−Ｃ−部と共に、５〜６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。Ｚ1は、一般式（１）であげた構造が好ましい。Ｌは２価の連結基を表す。２価の連結基としては、一般式（１）であげた連結基が好ましい。
【００９７】
ｐは、０〜５の整数を表し、ｑは１〜６の整数を表し、２≦ｐ＋ｑ≦６であり、Ａはｐ＋ｑ価の多価アルコール残基を表す。
【００９８】
Ｘは置換または無置換のアリール基が好ましい。
【００９９】
好ましくは、Ａが３価の多価アルコールで、ｐは０〜２の整数を表し、ｑは１〜３の整数を表すことが好ましい。
【０１００】
以下、本発明に好ましく用いられる一般式（４）で表される化合物の代表例を例示するが、これらに限定されるものではない。
【０１０１】
【化１２】
0005119767.tif 000007
【０１０２】
さらに、下記のような可塑剤が好ましい。
【０１０３】
【化１３】
0005119767.tif 000008
【０１０４】
これらの可塑剤は、単独で用いても良く、また必要に応じて２種類以上を併用して用いてもよい。
【０１０５】
また、本発明の効果を損なわない程度に、従来公知の可塑剤を添加してもよい。
従来公知の可塑剤としては、多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤、多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤、燐酸エステル系可塑剤、炭水化物エステル系可塑剤、ポリマー可塑剤などが挙げられる。
また可塑剤の添加量は、セルロースエステルに対して、１〜３０質量％含有させることが好ましく、より好ましくは２〜２５質量％、特に好ましくは７〜２０質量％である。
【０１０６】
《酸化防止剤》
下記一般式（Ａ）、一般式（Ｂ）、一般式（Ｃ−１）、一般式（Ｃ−３）、一般式（Ｃ−４）、一般式（Ｃ−５）及び前記一般式（Ｃ−２）について説明する。
【０１０７】
セルロースエステルは、熱だけでなく酸素によっても分解が促進されるため、本発明の光学フィルムにおいては安定化剤として酸化防止剤を含有することが好ましい。
【０１０８】
特に、溶融製膜が行われるような高温環境下では、光学フィルム成形材料の熱、及び酸素による分解が促進されるため、酸化防止剤を含有することが好ましい。
【０１０９】
本発明において有用な酸化防止剤としては、酸素による光学フィルム成形材料の劣化を抑制する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でも有用な酸化防止剤としては、フェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物、耐熱加工安定剤、酸素スカベンジャー等が挙げられ、これらの中でも、特にフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、リン系化合物が好ましい。
【０１１０】
これらの化合物を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、熱や熱酸化劣化等による成形体の着色や強度低下を防止できる。これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１１１】
本発明において一般式（１）で表されるイミド構造基を有する酸化防止剤を用いることが好ましい。
【０１１２】
好ましくは、一般式（１）で表されるイミド構造基を有する下記一般式（Ａ）、一般式（Ｂ）、一般式（Ｃ−１）、一般式（Ｃ−３）、一般式（Ｃ−４）、一般式（Ｃ−５）及び前記一斑式（Ｃ−２）で表される化合物を用いることが好ましく、より好ましくは、一般式（１）で表されるイミド構造基を有する一般式（Ａ）、（Ｃ−２）で表される化合物を用いることが好ましい。
【０１１３】
（フェノール系化合物）
フェノール系化合物は既知の化合物であり、例えば、米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第１２〜１４欄に記載されており、２，６−ジアルキルフェノール誘導体化合物が含まれる。このような化合物のうち好ましい化合物として、一般式（１）で表されるイミド構造基を持つ下記一般式（Ａ）で表される化合物が好ましい。
【０１１４】
下記一般式（Ａ）で表される化合物について説明する。
【０１１５】
【化１４】
0005119767.tif 000009
【０１１６】
一般式（Ａ）において、Ｒ11〜Ｒ16は置換基を表す。置換基としては、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アラルキル基（例えばベンジル基、２−フェネチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、シアノ基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（ジメチルスルファモイルアミノ基等）、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、アシル基（例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、アミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基（例えばピリジン−オキシド基）、イミド基（例えばフタルイミド基等）、ジスルフィド基（例えばベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−２−ジスルフィド基等）、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基（例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等）等が挙げらる。これらの置換基はさらに置換されてもよい。
【０１１７】
また、Ｒ11は水素原子、Ｒ12、Ｒ16はｔ−ブチル基であるフェノール系化合物が好ましい。
【０１１８】
（ヒンダードアミン系化合物）
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、一般式（１）で表されるイミド構造基を有する下記一般式（Ｂ）で表されるヒンダードアミン系化合物が好ましい。
【０１１９】
一般式（Ｂ）で表される化合物について説明する。
【０１２０】
【化１５】
0005119767.tif 000010
【０１２１】
一般式（Ｂ）において、Ｒ21〜Ｒ27は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ16で表される置換基と同義である。Ｒ24は水素原子、メチル基、Ｒ27は水素原子、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ25、Ｒ26はメチル基が好ましい。
【０１２２】
（リン系化合物）
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、一般式（１）で表されるイミド構造基を持つ下記一般式（Ｃ−１）、一般式（Ｃ−３）、一般式（Ｃ−４）、一般式（Ｃ−５）及び前記一般式（Ｃ−２）で表される部分構造を分子内に有する化合物が好ましい。
【０１２３】
一般式（Ｃ−１）で表される化合物について説明する。
【０１２４】
【化１６】
0005119767.tif 000011
【０１２５】
一般式（Ｃ−１）において、Ｐｈ1及びＰｈ′1は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ16で表される置換基と同義である。
【０１２６】
より好ましくは、Ｐｈ1及びＰｈ′1はフェニレン基を表し、該フェニレン基の水素原子はフェニル基、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基または炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよい。Ｐｈ1及びＰｈ′1は互いに同一でもよく、異なってもよい。
【０１２７】
Ｘは単結合、硫黄原子または−ＣＨＲ6−基を表す。Ｒ6は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数５〜８のシクロアルキル基を表す。また、これらは前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ16で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
【０１２８】
前記一般式（Ｃ−２）で表される化合物について説明する。
【０１２９】
一般式（Ｃ−２）において、Ｐｈ2及びＰｈ′2は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ16で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ｐｈ2及びＰｈ′2はフェニル基またはビフェニル基を表し、該フェニル基またはビフェニル基の水素原子は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基または炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよい。Ｐｈ2及びＰｈ′2は互いに同一でもよく、異なってもよい。また、これらは前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ16で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
【０１３０】
下記一般式（Ｃ−３）で表される化合物について説明する。
【０１３１】
【化１７】
0005119767.tif 000012
【０１３２】
一般式（Ｃ−３）において、Ｐｈ3は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ16で表される置換基と同義である。より好ましくは、Ｐｈ3はフェニル基またはビフェニル基を表し、該フェニル基またはビフェニル基の水素原子は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基または炭素数７〜１２のアラルキル基で置換されていてもよい。また、これらは前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ16で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
【０１３３】
下記一般式（Ｃ−４）で表される化合物について説明する。
【０１３４】
【化１８】
0005119767.tif 000013
【０１３５】
一般式（Ｃ−４）において、Ｐｈ4は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ16で表される置換基と同義である。
【０１３６】
より好ましくは、Ｐｈ4は炭素数１〜２０のアルキル基またはフェニル基を表し、該アルキル基またはフェニル基は前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ16で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
【０１３７】
下記一般式（Ｃ−５）で表される化合物について説明する。
【０１３８】
【化１９】
0005119767.tif 000014
【０１３９】
一般式（Ｃ−５）において、Ｐｈ5、Ｐｈ′5及びＰｈ″5は置換基を表す。置換基としては前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ16で表される置換基と同義である。
【０１４０】
より好ましくは、Ｐｈ5、Ｐｈ′5及びＰｈ″5は炭素数１〜２０のアルキル基またはフェニル基を表し、該アルキル基またはフェニル基は前記一般式（Ａ）のＲ11〜Ｒ16で表される置換基と同義の置換基により置換されてもよい。
【０１４１】
酸化防止剤は、前述のセルロースエステル同様に、製造時から持ち越される、あるいは保存中に発生する残留酸、無機塩、有機低分子等の不純物を除去することが好ましく、より好ましくは純度９９％以上である。残留酸及び水としては、０．０１〜１００ｐｐｍであることが好ましく、セルロースエステルを溶融製膜する上で、熱劣化を抑制でき、製膜安定性、光学フィルムの光学物性、機械物性が向上する。
【０１４２】
下記に、本発明において一般式（１）で表されるイミド構造基を有する酸化防止剤の代表例を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１４３】
【化２０】
0005119767.tif 000015
【０１４４】
【化２１】
0005119767.tif 000016
【０１４５】
【化２２】
0005119767.tif 000017
【０１４６】
【化２３】
0005119767.tif 000018
【０１４７】
【化２４】
0005119767.tif 000019
【０１４８】
また、本発明の効果を損なわない程度に、従来公知の酸化防止剤を添加してもよい。
【０１４９】
例えば、下記のような化合物が挙げられる。
【０１５０】
ＩＲＧＡＮＯＸ  １０１０：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製
ＩＲＧＡＦＯＳ  Ｐ−ＥＰＱ：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製
ＴＩＮＵＶＩＮ  ７７０：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製
ＴＩＮＵＶＩＮ  １４４：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製
ＡＤＫ  ＳＴＡＢＬＡ  ＬＡ−５２：株式会社ＡＤＫ  製
Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＰ：住友化学（株）製
ＰＥＰ−２４Ｇ：    株式会社ＡＤＫ  製
Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＴＰ−Ｄ：住友化学（株）製
ＧＳＹ−Ｐ１０１：堺化学工業株式会社  製
Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＭ：住友化学（株）製
Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＧＳ：住友化学（株）製
酸化防止剤は０．１〜１０質量％添加することが好ましく、さらに０．２〜５質量％添加することが好ましく、さらに０．５〜２質量％添加することが好ましい。これらは２種以上を併用してもよい。
【０１５１】
酸化防止剤の添加量が少なすぎると溶融時に安定化作用が低いために、効果が得られず、また添加量が多すぎるとセルロースエステルへの相溶性の観点から光学フィルムとしての透明性の低下を引き起こし、また光学フィルムが脆くなることがあるため好ましくない。
【０１５２】
また、前記一般式（５）で表される化合物を添加することにより、溶融製膜時のセルロースエステルの安定性が高められるため好ましい。
【０１５３】
一般式（５）で表される化合物について説明する。
【０１５４】
一般式（５）において、Ｒ2はアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば炭素原子数１ないし４のアルキルアミノ基）、アリールアミノ基、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等）又はオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）を表す。
【０１５５】
Ｒ6は水素原子またはアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリフルオロメチル基等）、またはアシル基（例えば、アセチル基、ピバロイル基、ベンゾイル基等）を表す。
【０１５６】
ｎは１または２を表す。Ｚ1は、−Ｃ−Ｎ−Ｃ−部と共に、５〜６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表す。Ｚ1としては、一般式（１）であげた構造が好ましい。
【０１５７】
Ｌは２価の連結基を表す。２価の連結基としては、一般式（１）であげた連結基が好ましい。
【０１５８】
ｎが１であるとき、Ｒ1はアリール基、ヒドロキシル基、アシル基を表し、ｎが２であるとき、Ｒ1は２価の連結基を表す。２価の連結基としては、一般式（１）であげた連結基が好ましい。ｍは、０〜３の整数を表す。
【０１５９】
一般式（５）において、ｎは１が好ましく、その時のＲ1は置換または無置換のフェニル基が好ましく、アルキル基、アシルオキシ基が置換したフェニル基がさらに好ましく、Ｒ2は水素原子またはアルキル基が好ましい。
【０１６０】
下記に、一般式（５）で表されるイミド構造基を有する化合物の代表例を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１６１】
【化２５】
0005119767.tif 000020
【０１６２】
また、本発明の効果を損なわない程度に、従来公知のベンゾフラノン系化合物を添加してもよい。例えば、特開平７−２３３１６０号、特開平７−２４７２７８号に記載されているようなベンゾフラノン系の化合物が挙げられる。
【０１６３】
一般式（５）で表されるこれらの化合物は、それぞれ１種あるいは２種以上組み合わせて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択されるが、セルロースエステル１００質量部に対して、通常０．００１〜１０．０質量部、好ましくは０．０１〜５．０質量部、さらに好ましくは、０．１〜３．０質量部である。
【０１６４】
（セルロースエステル）
次に、本発明に好ましく用いられるセルロースエステルについて、詳述する。
【０１６５】
本発明の光学フィルムは、溶融流延法により製造される。
【０１６６】
溶融流延法とは、セルロースエステルを加熱により溶融したもの（メルト）を支持体上に流延して光学フィルムを形成する。溶融流延法は光学フィルム製造時の有機溶媒使用量を、大幅に少なくすることができるため、従来の有機溶媒を多量に使用する従来の溶液流延法に比較して、環境適性が大幅に向上した光学フィルムが得られるため、溶融流延法により光学フィルムを製造することが好ましい。
【０１６７】
本発明における溶融流延とは、溶媒を用いずにセルロースエステルを流動性を示す温度まで加熱溶融しこれを用いて製膜する方法であり、例えば流動性のセルロースエステルをダイスから押し出して製膜する方法である。
【０１６８】
なお、溶融セルロースエステルを調製する過程の一部で溶媒を使用してもよいが、フィルム状に成形を行う溶融製膜プロセスにおいては溶媒を用いずに成形加工する。
【０１６９】
光学フィルムを構成するセルロースエステルとしては、溶融製膜可能なセルロースエステルであれば特に限定はされず、例えば芳香族カルボン酸エステル等も用いられるが、光学特性等の得られる光学フィルムの特性を鑑みると、セルロースの低級脂肪酸エステルを使用するのが好ましい。
【０１７０】
本発明に好ましく用いられるセルロースの低級脂肪酸エステルは低級脂肪酸の炭素原子数が５以下であり、具体的には、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースピバレート等がセルロースの低級脂肪酸エステルの好ましいものとして挙げられる。
【０１７１】
炭素原子数が５以下の脂肪酸で置換されたセルロースエステルであれば、溶融製膜性が良好であり、得られる光学フィルムの力学特性に優れ、光学フィルムとして用いることが容易である。
【０１７２】
力学特性と溶融製膜性の双方を両立させるために、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレート等のように混合脂肪酸エステルを用いてもよい。
【０１７３】
次に、本発明に好ましく用いられるセルロースエステルのアシル基の置換度について説明する。
【０１７４】
セルロースには、１グルコース単位の２位、３位、６位に１個ずつ、計３個の水酸基があり、総置換度とは、平均して１グルコース単位にいくつのアシル基が結合しているかを示す数値である。従って、最大の置換度は３．０である。これらアシル基は、グルコース単位の２位、３位、６位に平均的に置換していてもよいし、分布をもって置換していてもよい。
【０１７５】
混合脂肪酸エステルの置換度として、さらに好ましいセルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートの低級脂肪酸エステルは炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）、（II）及び（III）を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロース樹脂である。
【０１７６】
なお、アセチル基の置換度と他のアシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法より求めたものである。
【０１７７】
式（Ｉ）    ２．４≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（II）    ０≦Ｘ≦２．４
式（III）    ０．５≦Ｙ≦２．９
この内、特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも１．２≦Ｘ≦２．１であり、０．６≦Ｙ≦１．４であることが好ましい。さらに好ましくは、１．３≦Ｘ≦１．８であり、０．９≦Ｙ≦１．４である。
【０１７８】
アシル基の置換度の異なるセルロースエステルをブレンドして、光学フィルム全体として上記範囲に入っていてもよい。上記アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。
【０１７９】
本発明に好ましく用いられるセルロースエステルは、５０，０００〜１５０，０００の数平均分子量（Ｍｎ）を有することが好ましく、５５，０００〜１２０，０００の数平均分子量を有することがさらに好ましく、６０，０００〜１００，０００の数平均分子量を有することが最も好ましい。
【０１８０】
さらに、本発明で用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）比が１．３〜５．５のものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．５〜５．０であり、さらに好ましくは１．７〜３．５であり、さらに好ましくは２．０〜３．０のセルロースエステルが好ましく用いられる。
【０１８１】
なお、Ｍｎ及びＭｗ／Ｍｎは下記の要領で、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより算出した。
【０１８２】
測定条件は以下の通りである。
【０１８３】
溶媒      ：テトヒドロフラン
装置      ：ＨＬＣ−８２２０（東ソー（株）製）
カラム    ：ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｍ（東ソー（株）製）
カラム温度：４０℃
試料濃度  ：０．１質量％
注入量    ：１０μｌ
流量      ：０．６ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線  ：標準ポリスチレン：ＰＳ−１（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社製）Ｍｗ＝２，５６０，０００〜５８０までの９サンプルによる校正曲線を使用した。
【０１８４】
本発明で好ましく用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよく、木材パルプは針葉樹でも広葉樹でもよいが、針葉樹の方がより好ましい。
【０１８５】
製膜の際の剥離性の点からは綿花リンターが好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは適宜混合して、あるいは単独で使用することができる。
【０１８６】
例えば、綿花リンター由来セルロースエステル：木材パルプ（針葉樹）由来セルロースエステル：木材パルプ（広葉樹）由来セルロースエステルの比率が１００：０：０、９０：１０：０、８５：１５：０、５０：５０：０、２０：８０：０、１０：９０：０、０：１００：０、０：０：１００、８０：１０：１０、８５：０：１５、４０：３０：３０で用いることができる。
【０１８７】
セルロースエステルは、例えば、原料セルロースの水酸基を無水酢酸、無水プロピオン酸及び／または無水酪酸を用いて常法によりアセチル基、プロピオニル基及び／またはブチル基を上記の範囲内に置換することで得られる。
【０１８８】
このようなセルロースエステルの合成方法は、特に限定はないが、例えば、特開平１０−４５８０４号あるいは特表平６−５０１０４０号に記載の方法を参考にして合成することができる。
【０１８９】
本発明に好ましく用いられるセルロースエステルのアルカリ土類金属含有量は、１〜５０ｐｐｍの範囲であることが好ましい。
【０１９０】
アルカリ土類金属含有量が上記の範囲であればリップ付着物が軽減され、熱延伸時や熱延伸後でのスリッティング部で破断を生じない。
【０１９１】
さらに１〜３０ｐｐｍの範囲が好ましい。
【０１９２】
ここでいうアルカリ土類金属とはＣａ、Ｍｇの総含有量のことであり、Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ）を用いて測定することができる。
【０１９３】
本発明に好ましく用いられるセルロースエステル中の残留硫酸含有量は、硫黄元素換算で０．１〜４５ｐｐｍの範囲であることが好ましい。これらは塩の形で含有していると考えられる。
【０１９４】
残留硫酸含有量が上記の範囲であると、熱溶融時のダイリップ部の付着物が軽減され、また、熱延伸時や熱延伸後でのスリッティングの際の破断を生じない。
【０１９５】
さらに１〜３０ｐｐｍの範囲が好ましい。残留硫酸含有量は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法より測定することができる。
【０１９６】
本発明に好ましく用いられるセルロースエステル中の遊離酸含有量は、１〜５００ｐｐｍであることが好ましい。
【０１９７】
遊離酸含有量が上記の範囲であるとダイリップ部の付着物が軽減され、また、熱延伸時や熱延伸後でのスリッティングの際の破断を生じない。
【０１９８】
特に１〜７０ｐｐｍの範囲が好ましい。遊離酸含有量はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法より測定することができる。
【０１９９】
合成したセルロースエステルの洗浄を、溶液流延法に用いられる場合に比べて、さらに十分に行うことによって、残留酸含有量を上記の範囲とすることができ、溶融流延法によって光学フィルムを製造する際に、リップ部への付着が軽減され、平面性に優れる光学フィルムが得られ、寸法変化、機械強度、透明性、耐透湿性、Ｒｔ値、Ｒｏ値が良好な光学フィルムを得ることができる。
【０２００】
Ｒｏとは面内リタデーションを示し、面内の長手方向ＭＤの屈折率と幅方向ＴＤの屈折率との差に厚みを乗じたもの、Ｒｔとは厚み方向リタデーションを示し、面内の屈折率（長手方向ＭＤと幅方向ＴＤの平均）と厚み方向の屈折率との差に厚みを乗じたものである。
【０２０１】
また、セルロースエステルの洗浄は、水に加えて、メタノール、エタノールのような貧溶媒、あるいは結果として貧溶媒であれば貧溶媒と良溶媒の混合溶媒を用いることができ、残留酸以外の無機物、低分子の有機不純物を除去することができる。さらに、セルロースエステルの洗浄は、ヒンダードアミン、亜リン酸エステルといった酸化防止剤の存在下で行うことが好ましく、セルロースエステルの耐熱性、製膜安定性が向上する。
【０２０２】
また、セルロースエステルの耐熱性、機械物性、光学物性等を向上させるため、セルロースエステルの良溶媒に溶解後、貧溶媒中に再沈殿させ、セルロースエステルの低分子量成分、その他不純物を除去することができる。この時、前述のセルロースエステルの洗浄同様に、酸化防止剤の存在下で行うことが好ましい。
【０２０３】
さらに、セルロースエステルの再沈殿処理の後、別のポリマーあるいは低分子化合物を添加してもよい。
【０２０４】
本発明では、セルロースエステル樹脂のほか、セルロースエーテル系樹脂、ビニル系樹脂（ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂等も含む）、環状オレフイン樹脂、ポリエステル系樹脂（芳香族ポリエステル、脂肪族ポリエステル、若しくはそれらを含む共重合体）、アクリル系樹脂（共重合体も含む）等を含有させることができる。
【０２０５】
セルロースエステル以外の樹脂の含有量としては０．１〜３０質量％が好ましい。
【０２０６】
（マット剤）
また、本発明の光学フィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては無機化合物として、例えば、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。
【０２０７】
二酸化珪素微粒子の一次粒子平均径としては、５〜１６ｎｍが好ましく、５〜１２ｎｍがより好ましい。一次粒子の平均径が小さい方がヘイズが低く好ましい。また、見かけ比重は９０〜２００ｇ／Ｌが好ましく、１００〜２００ｇ／Ｌがさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０２０８】
マット剤の添加量は１ｍ2当たり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇがさらに好ましく、０．１０〜０．１８ｇが特に好ましい。
【０２０９】
二酸化珪素微粒子としては、例えば、日本アエロジル（株）製のＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００、ＮＡＸ５０等、日本触媒（株）製のＫＥ−Ｐ１０、ＫＥ−Ｐ３０、ＫＥ−Ｐ１００、ＫＥ−Ｐ１５０等が挙げらる。
【０２１０】
この中でも、ＡＥＲＯＳＩＬ２００Ｖ、Ｒ９７２Ｖが一次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／Ｌ以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましい。
【０２１１】
また、ＮＡＸ５０、ＫＥ−Ｐ３０、ＫＥ−Ｐ１００は、少量で摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
【０２１２】
また、酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０２１３】
また、ポリマーの例として、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。
【０２１４】
中でもシリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０２１５】
これら微粒子は、通常平均粒径が０．０１〜１．０μｍの二次粒子を形成させることが好ましく、０．１〜０．８μｍがさらに好ましく、０．２〜０．５μｍが最も好ましい。
【０２１６】
これらの微粒子は光学フィルム中では、一次粒子の凝集体として存在し光学フィルム表面に０．０１〜１．０μｍの凹凸を形成させる。
【０２１７】
これらの微粒子の含有量は、光学フィルムに対して０．００５〜０．３質量％が好ましく、０．０５〜０．２質量％が好ましく、０．１〜０．２質量％が最も好ましい。これらの微粒子は２種以上併用してもよい。
【０２１８】
（レタデーション制御剤）
本発明の光学フィルムは、液晶表示品質の向上のために、光学フィルム中にレターデーション制御剤を添加したり、配向膜を形成して液晶層を設け、偏光板保護フィルムと液晶層由来のレターデーションを複合化したりすることにより光学補償能を付与することができる。
【０２１９】
レターデーションを調節するために添加する化合物は、欧州特許９１１，６５６Ａ２号明細書に記載されているような、二つ以上の芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション制御剤として使用することもできる。あるいは、特開２００６−２０２５号公報に記載の棒状化合物が挙げられる。また二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。
【０２２０】
該芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む芳香族性ヘテロ環であることが特に好ましく、芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。
【０２２１】
中でも、特開２００６−２０２６号公報に記載の１，３，５−トリアジン環が特に好ましい。
【０２２２】
（溶融流延法）
本発明の光学フィルムは、溶融流延によって形成される。
【０２２３】
溶液流延法において用いられる溶媒（例えば塩化メチレン等）を用いずに、加熱溶融する溶融流延による成形法は、さらに詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法等に分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度等に優れる光学フィルムを得るためには、溶融押し出し法が優れている。
【０２２４】
以下、溶融押し出し法を例にとり、本発明の光学フィルムの製造方法について説明する。
【０２２５】
図１は、本発明の光学フィルムの製造方法を実施する装置の１つの実施形態の一例を示す概略フローシート図である。
【０２２６】
図２は、図１の製造装置の要部拡大の一例を示すフローシートである。
【０２２７】
光学フィルムの製造方法は、セルロース樹脂等の光学フィルム材料を混合した後、押出し機１を用いて、流延ダイ４から第１冷却ロール５上に溶融押し出し、第１冷却ロール５に外接させるとともに、さらに、第２冷却ロール７、第３冷却ロール８の合計３本の冷却ロールに順に外接させて、冷却固化して光学フィルム１０とする。
【０２２８】
ついで、剥離ロール９によって剥離した光学フィルム１０を、ついで延伸装置１２により光学フィルムの両端部を把持して幅方向に延伸した後、巻取り装置１６により巻き取る。
【０２２９】
また、平面性を矯正するために溶融フィルムを第１冷却ロール５表面に挟圧する６が設けられている。このタッチロール６は表面が弾性を有し、第１冷却ロール５との間でニップを形成している。タッチロール６についての詳細は後述する。
【０２３０】
光学フィルムの製造方法において、溶融押し出しの条件は、他のポリエステル等の熱可塑性樹脂に用いられる条件と同様にして行なうことができる。材料は予め乾燥させておくことが好ましい。真空または減圧乾燥機や除湿熱風乾燥機等で水分を１０００ｐｐｍ以下、好ましくは２００ｐｐｍ以下に乾燥させることが望ましい。
【０２３１】
例えば、熱風や真空または減圧下で乾燥したセルロースエステル系樹脂を押出し機１を用いて、押し出し温度２００〜３００℃程度で溶融し、リーフディスクタイプのフィルター２等で濾過し、異物を除去する。
【０２３２】
供給ホッパー（図示略）から押出し機１へ導入する際は、真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして、酸化分解等を防止することが好ましい。
【０２３３】
可塑剤等の添加剤を予め混合しない場合は、それらを押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサー等の混合装置を用いることが好ましい。
【０２３４】
本発明において、セルロース樹脂と、その他必要により添加される安定化剤等の添加剤は、溶融する前に混合しておくことが好ましく、セルロース樹脂と添加剤を加熱前に混合することがさらに好ましい。混合は、混合機等により行なってもよく、また、前記したようにセルロース樹脂調製過程において混合してもよい。混合機を使用する場合は、Ｖ型混合機、円錐スクリュー型混合機、水平円筒型混合機等、ヘンシェルミキサー、リボンミキサー等一般的な混合機を用いることができる。
【０２３５】
上記のように光学フィルム構成材料を混合した後に、その混合物を押出し機１を用いて直接溶融して製膜するようにしてもよいが、一旦、光学フィルム構成材料をペレット化した後、該ペレットを押出し機１で溶融して製膜するようにしてもよい。
【０２３６】
また、光学フィルム構成材料が、融点の異なる複数の材料を含む場合には、融点の低い材料のみが溶融する温度で一旦、いわゆるおこし状の半溶融物を作製し、半溶融物を押出し機１に投入して製膜することも可能である。
【０２３７】
光学フィルム構成材料に熱分解しやすい材料が含まれる場合には、溶融回数を減らす目的で、ペレットを作製せずに直接製膜する方法や、上記のようなおこし状の半溶融物を作ってから製膜する方法が好ましい。
【０２３８】
押出し機１は、市場で入手可能な種々の押出し機を使用可能であるが、溶融混練押出し機が好ましく、単軸押出し機でも２軸押出し機でもよい。
【０２３９】
光学フィルム構成材料からペレットを作製せずに、直接製膜を行なう場合、適当な混練度が必要であるため２軸押出し機を用いることが好ましいが、単軸押出し機でも、スクリューの形状をマドック型、ユニメルト、ダルメージ等の混練型のスクリューに変更することにより、適度の混練が得られるので、使用可能である。光学フィルム構成材料として、一旦、ペレットやおこし状の半溶融物を使用する場合は、単軸押出し機でも２軸押出し機でも使用可能である。
【０２４０】
押出し機１内及び押出した後の冷却工程は、窒素ガス等の不活性ガスで置換するか、あるいは減圧することにより、酸素の濃度を下げることが好ましい。
【０２４１】
押出し機１内の光学フィルム構成材料の溶融温度は、光学フィルム構成材料の粘度や吐出量、製造するシートの厚み等によって好ましい条件が異なるが、１５０〜３００℃が好ましく、１８０〜２７０℃がより好ましく、２００〜２５０℃がさらに好ましい。押出し時の溶融粘度は、１０〜１０００００ポイズ、好ましくは１００〜１００００ポイズである。また、押出し機１内での光学フィルム構成材料の滞留時間は短い方が好ましく、５分以内、好ましくは３分以内、より好ましくは２分以内である。
【０２４２】
滞留時間は、押出し機１の種類、押出す条件にも左右されるが、材料の供給量やＬ／Ｄ、スクリュー回転数、スクリューの溝の深さ等を調整することにより短縮することが可能である。
【０２４３】
押出し機１のスクリューの形状や回転数等は、光学フィルム構成材料の粘度や吐出量等により適宜選択される。本発明において押出し機１でのせん断速度は、１／秒〜１００００／秒、好ましくは５／秒〜１０００／秒、より好ましくは１０／秒〜１００／秒である。
【０２４４】
本発明に使用できる押出し機１としては、一般的にプラスチック成形機として入手可能である。
【０２４５】
押出し機１から押し出された光学フィルム構成材料は、流延ダイ４に送られ、流延ダイ４のスリットから光学フィルム状に押し出される。流延ダイ４はシートや光学フィルムを製造するために用いられるものであれば特に限定はされない。
【０２４６】
流延ダイ４の材質としては、ハードクロム、炭化クロム、窒化クロム、炭化チタン、炭窒化チタン、窒化チタン、超鋼、セラミック（タングステンカーバイド、酸化アルミ、酸化クロム）等を溶射もしくはメッキし、表面加工としてバフ、＃１０００番手以降の砥石を用いるラッピング、＃１０００番手以上のダイヤモンド砥石を用いる平面切削（切削方向は樹脂の流れ方向に垂直な方向）、電解研磨、電解複合研磨等の加工を施したもの等が挙げられる。流延ダイ４のリップ部の好ましい材質は、流延ダイ４と同様である。またリップ部の表面精度は０．５Ｓ以下が好ましく、０．２Ｓ以下がより好ましい。
【０２４７】
この流延ダイ４のスリットは、そのギャップが調整可能なように構成されている。
【０２４８】
これを図３（ａ）は流延ダイの要部の一例を示す外観図、図３（ｂ）は流延ダイの要部の一例を示す断面図である。
【０２４９】
流延ダイ４のスリット３２を形成する一対のリップのうち、一方は剛性の低い変形しやすいフレキシブルリップ３３であり、他方は固定リップ３４である。
【０２５０】
そして、多数のヒートボルト３５が流延ダイ４の幅方向すなわちスリット３２の長さ方向に一定ピッチで配列されている。各ヒートボルト５には、埋め込み電気ヒータ３７と冷却媒体通路とを具えたブロック３６が設けられ、各ヒートボルト３５が各ブロック３６を縦に貫通している。
【０２５１】
ヒートボルト３５の基部はダイ本体３１に固定され、先端はフレキシブルリップ３３の外面に当接している。そしてブロック３６を常時空冷しながら、埋め込み電気ヒータ３７の入力を増減してブロック３６の温度を上下させ、これによりヒートボルト３５を熱伸縮させて、フレキシブルリップ３３を変位させて光学フィルムの厚さを調整する。
【０２５２】
ダイ後流の所要箇所に厚さ計を設け、これによって検出されたウェブ厚さ情報を制御装置にフィードバックし、この厚さ情報を制御装置で設定厚み情報と比較し、同装置から来る補正制御量の信号によってヒートボルトの発熱体の電力またはオン率を制御するようにすることもできる。
【０２５３】
ヒートボルトは、好ましくは、長さ２０〜４０ｃｍ、直径７〜１４ｍｍを有し、複数、例えば数十本のヒートボルトが、好ましくはピッチ２０〜４０ｍｍで配列されている。
【０２５４】
ヒートボルトの代わりに、手動で軸方向に前後動させることによりスリットギャップを調節するボルトを主体とするギャップ調節部材を設けてもよい。
【０２５５】
ギャップ調節部材によって調節されたスリットギャップは、通常２００〜１０００μｍ、好ましくは３００〜８００μｍ、より好ましくは４００〜６００μｍである。
【０２５６】
第１〜第３冷却ロールは、肉厚が２０〜３０ｍｍ程度のシームレスな鋼管製で、表面が鏡面に仕上げられている。その内部には、冷却液を流す配管が配置されており、配管を流れる冷却液によってロール上の光学フィルムから熱を吸収できるように構成されている。
【０２５７】
一方、第１冷却ロール５に当接するタッチロール６は、表面が弾性を有し、第１冷却ロール５への押圧力によって第１冷却ロール５の表面に沿って変形し、第１ロール５との間にニップを形成する。すなわち、タッチロール６が本発明の挟圧回転体に相当する。
【０２５８】
図４は挟圧回転体の第１実施形態の一例を示す断面図である。（タッチロール６の一実施形態（以下、タッチロールＡ）の概略断面）を示す。図に示すように、タッチロールＡは、可撓性の金属スリーブ４１の内部に弾性ローラ４２を配したものである。
【０２５９】
金属スリーブ４１は厚さ０．３ｍｍのステンレス製であり、可撓性を有する。金属スリーブ４１が薄すぎると強度が不足し、逆に厚すぎると弾性が不足する。
【０２６０】
これらのことから、金属スリーブ４１の厚さとしては、０．１〜１．５ｍｍが好ましい。
【０２６１】
弾性ローラ４２は、軸受を介して回転自在な金属製の内筒４３の表面にゴム４４を設けてロール状としたものである。
【０２６２】
そして、タッチロールＡが第１冷却ロール５に向けて押圧されると、弾性ローラ４２が金属スリーブ４１を第１冷却ロール５に押しつけ、金属スリープ４１及び弾性ローラ４２は第１冷却ロール５の形状になじんだ形状に対応しつつ変形し、第１冷却ロールとの間にニップを形成する。金属スリーブ４１の内部で弾性ローラ４２との間に形成される空間には、冷却水４５が流される。
【０２６３】
図５は挟圧回転体の第２実施形態の一例（以下、タッチロールＢ）を示す回転軸に垂直な平面での断面図である。
【０２６４】
図６は挟圧回転体の第２実施形態（タッチロールＢ）の回転軸を含む平面の一例を示す断面図である。
【０２６５】
図５、図６においてタッチロールＢは、可撓性を有する、シームレスなステンレス鋼管製（厚さ４ｍｍ）の外筒５１と、この外筒５１の内側に同一軸心状に配置された高剛性の金属内筒５２とから概略構成されている。
【０２６６】
外筒５１と内筒５２との間の空間５３には、冷却液５４が流される。詳しくは、タッチロールＢは、両端の回転軸５５ａ、５５ｂに外筒支持フランジ５６ａ、５６ｂが取付けられ、これら両外筒支持フランジ５６ａ、５６ｂの外周部間に薄肉金属外筒５１が取付けられている。
【０２６７】
また、一方の回転軸５５ａの軸心部に形成されて流体戻り通路５７を形成する流体排出孔５８内に、流体供給管５９が同一軸心状に配設され、この流体供給管５９が薄肉金属外筒５１内の軸心部に配置された流体軸筒６０に接続固定されている。
【０２６８】
この流体軸筒６０の両端部に内筒支持フランジ６１ａ、６１ｂがそれぞれ取り付けられ、これら内筒支持フランジ６１ａ、６１ｂの外周部間から他端側外筒支持フランジ５６ｂにわたって約１５〜２０ｍｍ程度の肉厚を有する金属内筒５２が取付けられている。
【０２６９】
そしてこの金属内筒５２と薄肉金属外筒５１との間に、例えば１０ｍｍ程度の冷却液の流送空間５３が形成され、また金属内筒５２に両端部近傍には、流送空間５３と内筒支持フランジ６１ａ、６１ｂ外側の中間通路６２ａ、６２ｂとを連通する流出口５２ａ及び流入口５２ｂがそれぞれ形成されている。
【０２７０】
また、外筒５１は、ゴム弾性に近い柔軟性と可撓性、復元性をもたせるために、弾性力学の薄肉円筒理論が適用できる範囲内で薄肉化が図られている。
【０２７１】
この薄肉円筒理論で評価される可撓性は、肉厚ｔ／ロール半径ｒで表されており、ｔ／ｒが小さいほど可撓性が高まる。
【０２７２】
このタッチロールＢではｔ／ｒ≦０．０３の場合に可撓性が最適の条件となる。
【０２７３】
通常、一般的に使用されているタッチロールは、ロール径Ｒ＝２００〜５００ｍｍ（ロール半径ｒ＝Ｒ／２）、ロール有効幅Ｌ＝５００〜１６００ｍｍで、ｒ／Ｌ＜１で横長の形状である。
【０２７４】
そして図６に示すように、例えばロール径Ｒ＝３００ｍｍ、ロール有効幅Ｌ＝１２００ｍｍの場合、肉厚ｔの適正範囲は１５０×０．０３＝４．５ｍｍ以下であるが、溶融シート幅を１３００ｍｍに対して平均線圧を９８Ｎ／ｃｍで挟圧する場合、同一形状のゴムロールと比較して、外筒５１の肉厚を３ｍｍとすることで相当ばね定数も等しく、外筒５１と冷却ロールとのニップのロール回転方向のニップ幅ｋも約９ｍｍで、このゴムロールのニップ幅約１２ｍｍとほぼ近い値を示し、同じような条件下で挟圧できることが分かる。
【０２７５】
なお、このニップ幅ｋにおけるたわみ量は０．０５〜０．１ｍｍ程度である。
【０２７６】
ここで、ｔ／ｒ≦０．０３としたが、一般的なロール径Ｒ＝２００〜５００ｍｍの場合では、特に２ｍｍ≦ｔ≦５ｍｍの範囲とすると、可撓性も十分に得られ、また機械加工による薄肉化も容易に実施でき、極めて実用的な範囲となる。肉厚が２ｍｍ以下では加工時の弾性変形で高精度な加工ができない。
【０２７７】
この２ｍｍ≦ｔ≦５ｍｍの換算値は、一般的なロール径に対して０．００８≦ｔ／ｒ≦０．０５となるが、実用にあたってはｔ／ｒ≦０．０３の条件下でロール径に比例して肉厚も大きくするとよい。
【０２７８】
例えばロール径：Ｒ＝２００ではｔ＝２〜３ｍｍ、ロール径：Ｒ＝５００ではｔ＝４〜５ｍｍの範囲で選択する。
【０２７９】
このタッチロールＡ、Ｂは付勢手段により第１冷却ロールに向けて付勢される。その付勢手段の付勢力をＦ、ニップにおける光学フィルムの、第１冷却ロール５の回転軸に沿った方向の幅Ｗを除した値Ｆ／Ｗ（線圧）は、９．８〜１４７Ｎ／ｃｍに設定される。
【０２８０】
本発明において、タッチロールＡ、Ｂと第１冷却ロール５との間にニップが形成され、当該ニップを光学フィルムが通過する間に平面性を矯正することが好ましい。従って、タッチロールが剛体で構成され、第１冷却ロールとの間にニップが形成されない場合と比べて、小さい線圧で長時間かけて光学フィルムを挟圧するので、平面性をより確実に矯正することができる。
【０２８１】
すなわち、線圧が９．８Ｎ／ｃｍよりも小さいと、ダイラインを十分に解消することができなくなる。逆に、線圧が１４７Ｎ／ｃｍよりも大きいと、光学フィルムがニップを通過しにくくなり、光学フィルムの厚さにかえってムラができてしまう。
【０２８２】
また、タッチロールＡ、Ｂの表面を金属で構成することにより、タッチロールの表面がゴムである場合よりもタッチロールＡ、Ｂの表面を平滑にすることができるので、平滑性の高い光学フィルムを得ることができる。なお、弾性ローラ４２の弾性体４４の材質としては、エチレンプロピレンゴム、ネオプレンゴム、シリコンゴム等を用いることができる。
【０２８３】
さて、タッチロール６によってダイラインを良好に解消するためには、タッチロール６が光学フィルムを挟圧するときの光学フィルムの粘度が適切な範囲であることが重要となる。
【０２８４】
また、セルロースエステルは温度による粘度の変化が比較的大きいことが知られている。
【０２８５】
従って、タッチロール６が光学フィルムを挟圧するときの粘度を適切な範囲に設定するためには、タッチロール６がセルロースフィルムを挟圧するときの光学フィルムの温度を適切な範囲に設定することが重要となる。
【０２８６】
光学フィルムのガラス転移温度をＴｇとしたとき、光学フィルムがタッチロール６に挟圧される直前の光学フィルムの温度Ｔを、Ｔｇ＜Ｔ＜Ｔｇ＋１１０℃を満たすように設定することが好ましい。
【０２８７】
即ち、タッチロール６に挟圧される直前の光学フィルムの温度Ｔが上記の範囲にすると、光学フィルムを挟圧するときの光学フィルムの粘度を適切な範囲に設定することができ、ダイラインの矯正が可能となり、また、光学フィルム表面とロールが均一に接着し、ダイラインの矯正が可能となる。
【０２８８】
好ましくはＴｇ＋１０℃＜Ｔ＜Ｔｇ＋９０℃、さらに好ましくはＴｇ＋２０℃＜Ｔ＜Ｔｇ＋７０℃である。
【０２８９】
タッチロール６が光学フィルムを挟圧するときの光学フィルムの温度を適切な範囲に設定するには、流延ダイ４から押し出された溶融物が第１冷却ロール５に接触する位置Ｐ１から第１冷却ロール５とタッチロール６とのニップの、第１冷却ロール５の回転方向に沿った長さＬを調整すればよい。
【０２９０】
本発明において、第１ロール５、第２ロール６に好ましい材質は、炭素鋼、ステンレス鋼、樹脂、等が挙げられる。また、表面精度は高くすることが好ましく表面粗さとして０．３Ｓ以下、より好ましくは０．０１Ｓ以下とする。
【０２９１】
本発明においては、流延ダイ４の開口部（リップ）から第１ロール５までの部分を７０ｋＰａ以下に減圧させることにより、上記、ダイラインの矯正効果がより大きく発現する  好ましくは減圧は５０〜７０ｋＰａである。流延ダイ４の開口部（リップ）から第１ロール５までの部分の圧力を７０ｋＰａ以下に保つ方法としては、特に制限はないが、流延ダイ４からロール周辺を耐圧部材で覆い、減圧する等の方法がある。
【０２９２】
このとき、吸引装置は、装置自体が昇華物の付着場所にならないようヒーターで加熱する等の処置を施すことが好ましい。本発明では、吸引圧が小さすぎると昇華物を効果的に吸引できないため、適当な吸引圧とする必要がある。
【０２９３】
本発明において、Ｔダイ４から溶融状態のフィルム状のセルロースエステル系樹脂を、第１ロール（第１冷却ロール）５、第２冷却ロール７、及び第３冷却ロール８に順次密着させて搬送しながら冷却固化させ、未延伸の光学フィルム１０を得る。
【０２９４】
図１に示す本発明の実施形態では、第３冷却ロール８から剥離ロール９によって剥離した冷却固化された未延伸の光学フィルム１０は、ダンサーロール（光学フィルム張力調整ロール）１１を経て延伸機１２に導き、そこで光学フィルム１０を横方向（幅方向）に延伸する。この延伸により、光学フィルム中の分子が配向される。
【０２９５】
光学フィルムを幅方向に延伸する方法は、公知のテンター等を好ましく用いることができる。
【０２９６】
特に延伸方向を幅方向とすることで、偏光フィルムとの積層がロール形態で実施できるので好ましい。幅方向に延伸することで、セルロースエステル系樹脂フィルムからなる光学フィルムの遅相軸は幅方向になる。
【０２９７】
一方、偏光フィルムの透過軸も、通常、幅方向である。偏光フィルムの透過軸と光学フィルムの遅相軸とが平行になるように積層した偏光板を液晶表示装置に組み込むことで、液晶表示装置の表示コントラストを高くすることができるとともに、良好な視野角が得られるのである。
【０２９８】
光学フィルム構成材料のガラス転移温度Ｔｇは光学フィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率を異ならしめることにより制御できる。
【０２９９】
光学フィルムとして位相差フィルムを作製する場合、Ｔｇは１２０℃以上、好ましくは１３５℃以上とすることが好ましい。液晶表示装置においては、画像の表示状態において、装置自身の温度上昇、例えば光源由来の温度上昇によって光学フィルムの温度環境が変化する。
【０３００】
このとき光学フィルムの使用環境温度よりも光学フィルムのＴｇが１２０℃以上であると、延伸によって光学フィルム内部に固定された分子の配向状態に由来するリタデーション値及び光学フィルムとしての寸法形状に調整することが容易である。
【０３０１】
光学フィルムのＴｇを２５０℃以下にすると、光学フィルム構成材料を光学フィルム化するときの温度を最適化することができ、加熱するエネルギー消費が激減し、また光学フィルム化するときの材料自身の分解なく、着色も生じにくい。
【０３０２】
従って、Ｔｇは１２０℃〜２５０℃が好ましい。
【０３０３】
また延伸工程には公知の熱固定条件、冷却、緩和処理を行なってもよく、目的とする光学フィルムに要求される特性を有するように適宜調整すればよい。
【０３０４】
位相フィルムの物性と液晶表示装置の視野角拡大のための位相フィルムの機能付与するために、上記延伸工程、熱固定処理は適宜選択して行なわれている。このような延伸工程、熱固定処理を含む場合、加熱加圧工程は、それらの延伸工程、熱固定処理の前に行なうようにする。
【０３０５】
光学フィルムとして位相差フィルムを製造し、さらに偏光板保護フィルムの機能を複合させる場合、屈折率制御を行う必要が生じるが、その屈折率制御は延伸操作により行なうことが可能であり、また延伸操作が好ましい方法である。以下、その延伸方法について説明する。
【０３０６】
位相差フィルムの延伸工程において、セルロース樹脂の１方向に１．０〜２．０倍及び光学フィルム面内にそれと直交する方向に１．０１〜２．５倍延伸することで、必要とされるリタデーションＲｏ及びＲｔｈを制御することができる。ここで、Ｒｏとは面内リタデーションを示し、面内の長手方向ＭＤの屈折率と幅方向ＴＤの屈折率との差に厚みを乗じたもの、Ｒｔｈとは厚み方向リタデーションを示し、面内の屈折率（長手方向ＭＤと幅方向ＴＤの平均）と厚み方向の屈折率との差に厚みを乗じたものである。
【０３０７】
延伸は、例えば光学フィルムの長手方向及びそれと光学フィルム面内で直交する方向、即ち幅方向に対して、逐次または同時に行なうことができる。このとき少なくとも１方向に対しての延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が得られず、大き過ぎると延伸が困難となりフィルム破断が発生してしまう場合がある。
【０３０８】
互いに直交する２軸方向に延伸することは、光学フィルムの屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを所定の範囲に入れるために有効な方法である。ここで、ｎｘとは長手ＭＤ方向の屈折率、ｎｙとは幅手ＴＤ方向の屈折率、ｎｚとは厚み方向の屈折率である。
【０３０９】
例えば溶融流延方向に延伸した場合、幅方向の収縮が大き過ぎると、ｎｚの値が大きくなり過ぎてしまう。この場合、光学フィルムの幅収縮を抑制、あるいは幅方向にも延伸することで改善できる。幅方向に延伸する場合、幅方向で屈折率に分布が生じることがある。
【０３１０】
この分布は、テンター法を用いた場合に現れることがあり、光学フィルムを幅方向に延伸したことで、光学フィルム中央部に収縮力が発生し、端部は固定されていることにより生じる現象で、いわゆるボーイング現象と呼ばれるものと考えられる。この場合でも、流延方向に延伸することで、ボーイング現象を抑制でき、幅方向の位相差の分布を少なくできる。
【０３１１】
互いに直行する２軸方向に延伸することにより、得られる光学フィルムの膜厚変動が減少できる。位相差フィルムの膜厚変動が大き過ぎると位相差のムラとなり、液晶ディスプレイに用いたとき着色等のムラが問題となることがある。
【０３１２】
光学フィルムの膜厚変動は、±３％、さらに±１％の範囲とすることが好ましい。以上のような目的において、互いに直交する２軸方向に延伸する方法は有効であり、互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に１．０〜２．０倍、幅方向に１．０１〜２．５倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に１．０１〜１．５倍、幅方向に１．０５〜２．０倍に範囲で行なうことが必要とされるリタデーション値を得るためにより好ましい。
【０３１３】
長手方向に偏光子の吸収軸が存在する場合、幅方向に偏光子の透過軸が一致することになる。長尺状の偏光板を得るためには、位相差フィルムは、幅方向に遅相軸を得るように延伸することが好ましい。
【０３１４】
応力に対して、正の複屈折を得るセルロースエステルを用いる場合、上述の構成から、幅方向に延伸することで、位相差フィルムの遅相軸が幅方向に付与することができる。
【０３１５】
この場合、表示品質の向上のためには、位相差フィルムの遅相軸が、幅方向にある方が好ましく、目的とするリタデーション値を得るためには、下記式の条件を満たすことが必要である。
【０３１６】
式    （幅方向の延伸倍率）＞（流延方向の延伸倍率）
延伸後、光学フィルムの端部をスリッター１３により製品となる幅にスリットして裁ち落とした後、エンボスリング１４及びバックロール１５よりなるナール加工装置によりナール加工（エンボッシング加工）を光学フィルム両端部に施し、巻取り機１６によって巻き取ることにより、光学フィルム（元巻き）Ｆ中の貼り付きや、すり傷の発生を防止する。
【０３１７】
ナール加工の方法は、凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。なお、光学フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、変形しており、光学フィルム製品として使用できないので、切除されて、原料として再利用される。
【０３１８】
次に、光学フィルムの巻取り工程は、円筒形巻き光学フィルムの外周面とこれの直前の移動式搬送ロールの外周面との間の最短距離を一定に保持しながら光学フィルムを巻取りロールに巻き取るものである。かつ巻取りロールの手前には、光学フィルムの表面電位を除去または低減する除電ブロア等の手段が設けられている。
【０３１９】
本発明の光学フィルムの製造に係わる巻き取り機は一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等の巻き取り方法で巻き取ることができる。なお、光学フィルムの巻取り時の初期巻取り張力が９０．２〜３００．８Ｎ／ｍであるのが好ましい。
【０３２０】
本発明の方法における光学フィルムの巻き取り工程では、温度２０〜３０℃、湿度２０〜６０％ＲＨの環境条件にて、光学フィルムを巻き取ることが好ましい。
【０３２１】
このように、光学フィルムの巻き取り工程での温度及び湿度を規定することにより、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）の湿度変化の耐性が向上する。
【０３２２】
巻き取り工程における温度が２０〜３０℃の範囲であれば、シワが発生がなく、光学フィルム巻品質劣化もない。
【０３２３】
また、光学フィルムの巻き取り工程における湿度が２０〜６０％ＲＨであれば、帯電しにくく、光学フィルム巻品質劣化も削減され、巻品質に優れ、貼り付き故障もなく、搬送性の劣化もない。
【０３２４】
光学フィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、どのような材質のものであってもよいが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度にも耐える耐熱性プラスチックであればどのようなものであってもよく、フェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。
【０３２５】
またガラス繊維等の充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。例えば、中空プラスチックコア：ＦＲＰ製の外径６インチ（以下、１インチは２．５４ｃｍである。）、内径５インチの巻きコアが用いられる。
【０３２６】
これらの巻きコアへの巻き数は、１００巻き以上であることが好ましく、５００巻き以上であることがさらに好ましく、巻き厚は５ｃｍ以上であることが好ましく、光学フィルム基材の幅は８０ｃｍ以上であることが好ましく、１ｍ以上であることが特に好ましい。
【０３２７】
本発明により得られる製造的効果は、特に光学フィルムの長さが１００ｍ以上の長尺で、フィルムの幅が１．３５ｍ以上の広幅の巻物においてより顕著となり、長さが１５００ｍ、２５００ｍ、５０００ｍとより長尺化する程、幅が２ｍ、４ｍと広幅になるほど、光学フィルムの製造に適している。
【０３２８】
本発明の光学フィルムの製造において、ロール長さは、生産性と運搬性を考慮すると、長さは１０〜５０００ｍが好ましく、より好ましくは５０〜４５００ｍである。
【０３２９】
このときの光学フィルムの幅は、偏光子の幅や製造ラインに適した幅を選択することができるが、０．５〜４．０ｍ、好ましくは０．６〜３．０ｍの幅で光学フィルムを製造してロール状に巻き取ることが好ましい。
【０３３０】
《光学フィルム》
本発明の光学フィルムとは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等の各種表示装置に用いられる機能フィルムのことであり、詳しくは液晶表示装置用の偏光板保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコートフィルム、防眩フィルム、帯電防止フィルム、視野角拡大等の光学補償フィルム等である。
【０３３１】
本発明の光学フィルムは、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、光学補償フィルムに好ましく用いられ、特に、偏光板保護フィルムに好ましく用いられる。
【０３３２】
位相差フィルムを偏光板保護フィルムとする場合、該保護フィルムの厚さは、１０〜５００μｍが好ましい。
【０３３３】
特に、下限は２０μｍ以上、好ましくは３５μｍ以上である。上限は１５０μｍ以下、好ましくは１２０μｍ以下である。特に好ましい範囲は２５〜９０μｍである。
【０３３４】
位相差フィルムの厚さが５００μｍ以下であると、ノート型パソコンやモバイル型電子機器に用いる液晶表示においては、特に薄型軽量の目的に適しており好ましい。
【０３３５】
一方、位相差フィルムの厚さ１０μｍ以上であると、位相差フィルムとしてのリタデーションの発現が可能となり、加えて光学フィルムの透湿性が低くなり、偏光子を湿度から保護する能力が向上し好ましい。
【０３３６】
位相差フィルムの遅相軸または進相軸がフィルム面内に存在し、製膜方向とのなす角度をθ１とすると、θ１は−１〜＋１°、好ましくは−０．５〜＋０．５°となるようにする。
【０３３７】
このθ１は配向角として定義でき、θ１の測定は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器社製）を用いて行なうことができる。
【０３３８】
θ１が各々上記関係を満たすことは、表示画像において高い輝度を得ること、光漏れを抑制または防止することに寄与し、カラー液晶表示装置においては忠実な色再現に寄与する。
【０３３９】
位相差フィルムがマルチドメイン化されたＶＡモードに用いられるとき、位相差フィルムの配置は、位相差フィルムの進相軸がθ１として上記領域に配置することで、表示画質の向上に寄与し、偏光板及び液晶表示装置としてＭＶＡモードとしたとき、例えば図７に示される構成をとることができる。
【０３４０】
図７は液晶表示装置の構成図の概略を示す分解の一例を示す斜視図である。
【０３４１】
図７において、２１ａ、２１ｂは保護フィルム、２２ａ、２２ｂは位相差フィルム、２５ａ、２５ｂは偏光子、２３ａ、２３ｂは光学フィルムの遅相軸方向、２４ａ、２４ｂは偏光子の透過軸方向、２６ａ、２６ｂは偏光板、２７は液晶セル、２９は液晶表示装置を示している。
【０３４２】
光学フィルムの面内方向のリタデーションＲｏ分布は、５％以下に調整することが好ましく、より好ましくは２％以下であり、特に好ましくは、１．５％以下である。
【０３４３】
また、光学フィルムの厚み方向のリタデーションＲｔ分布を１０％以下に調整することが好ましいが、さらに好ましくは、２％以下であり、特に好ましくは、１．５％以下である。
【０３４４】
位相差フィルムにおいて、リタデーション値の分布変動が小さい方が好ましく、液晶表示装置に位相差フィルムを含む偏光板を用いるとき、該リタデーション分布変動が小さいことが色ムラ等を防止する観点で好ましい。
【０３４５】
位相差フィルムを、ＶＡモードまたはＴＮモードの液晶セルの表示品質の向上に適したリタデーション値を有するように調整し、特にＶＡモードとして上記のマルチドメインに分割してＭＶＡモードに好ましく用いられるようにするには、面内リタデーションＲｏを３０ｎｍよりも大きく、９５ｎｍ以下に、かつ厚み方向リタデーションＲｔを７０ｎｍよりも大きく、４００ｎｍ以下の値に調整することが求められる。
【０３４６】
上記の面内リタデーションＲｏは、２枚の偏光板がクロスニコルに配置され、偏光板の間に液晶セルが配置された、例えば図７に示す構成であるときに、表示面の法線方向から観察するときを基準にしてクロスニコル状態にあるとき、表示面の法線から斜めに観察したとき、偏光板のクロスニコル状態からのずれが生じ、これが要因となる光漏れを、主に補償する。
【０３４７】
厚さ方向のリタデーションは、上記ＴＮモードやＶＡモード、特にＭＶＡモードにおいて液晶セルが黒表示状態であるときに、同様に斜めから見たときに認められる液晶セルの複屈折を主に補償するために寄与する。
【０３４８】
図７に示すように、液晶表示装置において、液晶セルの上下に偏光板が二枚配置された構成である場合、図中の２２ａ及び２２ｂは、厚み方向リタデーションＲｔの配分を選択することができ、上記範囲を満たしかつ厚み方向リタデーションＲｔの両者の合計値が１４０ｎｍよりも大きくかつ５００ｎｍ以下にすることが好ましい。
【０３４９】
このとき２２ａ及び２２ｂの面内リタデーションＲｏ、厚み方向リタデーションＲｔが両者同じであることが、工業的な偏光板の生産性向上において好ましい。特に好ましくは面内リタデーションＲｏが３５ｎｍよりも大きくかつ６５ｎｍ以下であり、かつ厚み方向リタデーションＲｔが９０ｎｍよりも大きく１８０ｎｍ以下で、図７の構成でＭＶＡモードの液晶セルに適用することである。
【０３５０】
液晶表示装置において、一方の偏光板に例えば市販の偏光板保護フィルムとして面内リタデーションＲｏ＝０〜４ｎｍ及び厚み方向リタデーションＲｔ＝２０〜５０ｎｍで厚さ３５〜８５μｍのＴＡＣフィルムが、例えば図７の２２ｂの位置で使用されている場合、他方の偏光板に配置される偏光フィルム、例えば、図７の２２ａに配置する位相差フィルムは、面内リタデーションＲｏが３０ｎｍよりも大きく９５ｎｍ以下であり、かつ厚み方向リタデーションＲｔが１４０ｎｍよりも大きく４００ｎｍ以下であるものを使用することにより、表示品質が向上し、かつ光学フィルムの生産面からも好ましい。
【０３５１】
《偏光板》
本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。
【０３５２】
本発明の光学フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理した光学フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。
【０３５３】
もう一方の面にも本発明の光学フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。
【０３５４】
本発明の光学フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは市販の光学フィルムを用いることができる。
【０３５５】
例えば、市販の光学フィルムとして、ＫＣ８ＵＸ２Ｍ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３、ＫＣ８ＵＣＲ−４、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ（以上、コニカミノルタオプト（株）製）等が好ましく用いられる。
【０３５６】
あるいはさらにディスコチック液晶、棒状液晶、コレステリック液晶等の液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることも好ましい。
【０３５７】
例えば、特開２００３−９８３４８記載の方法で光学異方性層を形成することができる。
【０３５８】
本発明の光学フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができる。
【０３５９】
あるいは、光学フィルム以外の環状オレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート等の光学フィルムをもう一方の面の偏光板保護フィルムとして用いてもよい。
【０３６０】
上記アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号公報、同６−１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施して偏光板加工を行なってもよい。
【０３６１】
偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。
【０３６２】
偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。
【０３６３】
偏光膜の膜厚は５〜４０μｍ、好ましくは５〜３０μｍであり、特に好ましくは５〜２０μｍである。
【０３６４】
該偏光膜の面上に、本発明のセルロースエステルフィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。
【０３６５】
偏光膜は一軸方向（通常は長手方向）に延伸されているため、偏光板を高温高湿の環境下に置くと延伸方向（通常は長手方向）は縮み、延伸と垂直方向（通常は幅方向）には伸びる。偏光板保護用フィルムの膜厚が薄くなるほど偏光板の伸縮率は大きくなり、特に偏光膜の延伸方向の収縮量が大きい。
【０３６６】
通常、偏光膜の延伸方向は偏光板保護用フィルムの流延方向（ＭＤ方向）と貼り合わせるため、偏光板保護用フィルムを薄膜化する場合は、特に流延方向の伸縮率を抑えることが重要である。本発明の光学フィルムは極めて寸法安定性に優れるため、このような偏光板保護フィルムとして好適に使用される。
【０３６７】
即ち６０℃、９０％ＲＨの条件での耐久性試験によっても波打ち状のむらが増加することはなく、裏面側に光学補償フィルムを有する偏光板であっても、耐久性試験後に視野角特性が変動することなく良好な視認性を提供することができる。
【０３６８】
偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、さらに該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することができる。
【０３６９】
プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。
【０３７０】
この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。
【０３７１】
また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶セルへ貼合する面側に用いられる。
【０３７２】
《液晶表示装置》
本発明の光学フィルムを偏光板保護フィルム（位相差フィルムを兼ねる場合も含む）として含む偏光板は、通常の偏光板と比較して高い表示品質を発現させることができ、特にマルチドメイン型の液晶表示装置、より好ましくは複屈折モードによってマルチドメイン型の液晶表示装置への使用に適している。
【０３７３】
本発明の偏光板は、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉ−ｄｏｍｅｉｎ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＰＶＡ（Ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＣＰＡ（Ｃｏｎｔｉｎｕｏｕｓ  Ｐｉｎｗｈｅｅｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）モード等に用いることができ、特定の液晶モード、偏光板の配置に限定されるものではない。
【０３７４】
液晶表示装置はカラー化及び動画表示用の装置としても応用されつつあり、本発明により表示品質が改良され、コントラストの改善や偏光板の耐性が向上したことにより、疲れにくく忠実な動画像表示が可能となる。
【０３７５】
位相差フィルムを含む偏光板を少なくとも含む液晶表示装置においては、本発明の光学フィルムとしての偏光板保護フィルムを含む偏光板を、液晶セルに対して、一枚配置するか、あるいは液晶セルの両側に二枚配置する。
【０３７６】
このとき偏光板に含まれる偏光板保護フィルム側が液晶表示装置の液晶セルに面するように用いることで表示品質の向上に寄与できる。
【０３７７】
図７においては２２ａ及び２２ｂの光学フィルムが液晶表示装置の液晶セルに面することになる。
【０３７８】
このような構成において、本発明の光学フィルムとしての偏光板保護フィルムは、液晶セルを光学的に補償することができる。
【０３７９】
本発明の偏光板を液晶表示装置に用いる場合は、液晶表示装置の偏光板の内の少なくとも一つの偏光板を、本発明の偏光板とすればよい。
【０３８０】
本発明の偏光板を用いることで、表示品質が向上し、視野角特性に優れた液晶表示装置が提供できる。
【０３８１】
本発明の偏光板において、偏光子からみて本発明の光学フィルムとしての偏光板保護フィルムとは反対側の面には、セルロース誘導体の偏光板保護フィルムが用いられ、汎用のＴＡＣフィルム等を用いることができる。液晶セルから遠い側に位置する偏光板保護フィルムは、表示装置の品質を向上する上で、他の機能性層を配置することも可能である。
【０３８２】
例えば、反射防止、防眩、耐キズ、ゴミ付着防止、輝度向上のためにディスプレイとしての公知の機能層を構成物として含む光学フィルムや、または本発明の偏光板表面に貼付してもよいがこれらに限定されるものではない。
【０３８３】
一般に位相差フィルムでは、上述のリタデーション値としてＲｏまたはＲｔの変動が少ないことが安定した光学特性を得るために求められている。
【０３８４】
特に複屈折モードの液晶表示装置は、これらの変動が画像のムラを引き起こす原因となることがある。
【０３８５】
本発明に従い溶融流延製膜法により製造される偏光板保護フィルムは、セルロースエステルを主体として構成されるため、セルロースエステル固有のケン化を活用してアルカリ処理工程を活用することができる。
【０３８６】
これは、偏光子を構成する樹脂がポリビニルアルコールであるとき、従来の偏光板保護フィルムと同様に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて偏光板保護フィルムと貼合することができる。このために本発明は、従来の偏光板加工方法を適用できる点で優れている。
【０３８７】
本発明において、特に１００ｍ以上の長尺の巻物において偏光板製造の生産性の向上が顕著となり、１５００ｍ、２５００ｍ、５０００ｍとより長尺化する程、生産性の向上が顕著となるため、ロール長さを長くすることが好ましい。
【０３８８】
例えば、偏光板保護フィルム製造において、ロール長さは、生産性と運搬性を考慮すると、１０〜５０００ｍ、好ましくは５０〜４５００ｍであり、このときのフィルムの幅は、偏光子の幅や製造ラインに適した幅を選択することができる。
【０３８９】
光学フィルムの幅を、０．５〜４．０ｍ、好ましくは０．６〜３．０ｍで製造してロール状に巻き取り、偏光板加工に供してもよく、また、目的の倍幅以上の光学フィルムを製造してロールに巻き取った後、断裁して目的の幅のロールを得て、このようなロールを偏光板加工に用いるようにしてもよい。
【０３９０】
偏光板保護フィルム製造に際し、延伸の前及び／または後で帯電防止層、ハードコート層、易滑性層、接着層、防眩層、バリアー層等の機能性層を塗設してもよい。この際、コロナ放電処理、プラズマ処理、薬液処理等の各種表面処理を必要に応じて施すことができる。
【０３９１】
製膜工程において、カットされた光学フィルム両端のクリップ把持部分は、粉砕処理された後、あるいは必要に応じて造粒処理を行なった後、同じ品種の光学フィルム用原料としてまたは異なる品種の光学フィルム用原料として再利用してもよい。
【０３９２】
前述の可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤等の添加物濃度が異なるセルロースエステルを含む組成物を共押出しして、積層構造の光学フィルムを作製することもできる。
【０３９３】
例えば、スキン層／コア層／スキン層といった構成の光学フィルムを作ることができる。
【０３９４】
例えば、マット剤は、スキン層に多く、またはスキン層のみに入れることができる。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多く入れることができ、コア層のみに入れてもよい。
【０３９５】
また、コア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えば、スキン層に低揮発性の可塑剤及び／または紫外線吸収剤を含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、あるいは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。
【０３９６】
スキン層とコア層のガラス転移温度が異なっていてもよく、スキン層のガラス転移温度よりコア層のガラス転移温度が低いことが好ましい。
【０３９７】
このとき、スキン層とコア層の両者のガラス転移温度を測定し、これらの体積分率より算出した平均値を上記ガラス転移温度Ｔｇと定義して同様に扱うこともできる。
【０３９８】
また、溶融流延時のセルロースエステルを含む溶融物の粘度もスキン層とコア層で異なっていてもよく、スキン層の粘度＞コア層の粘度でも、コア層の粘度≧スキン層の粘度でもよい。
【０３９９】
本発明の光学フィルムは、寸度安定性が、２３℃、５５％ＲＨに２４時間放置した光学フィルムの寸法を基準としたとき、８０℃、９０％ＲＨにおける寸法の変動値が±２．０％未満であり、好ましくは１．０％未満であり、さらに好ましくは０．５％未満である。
【０４００】
本発明の光学フィルムを位相差フィルムとして偏光板保護フィルムに用いる際に、位相差フィルム自身に上記の範囲以上の変動を有すると、偏光板としてのリタデーションの絶対値と配向角が当初の設定とずれるために、表示品質の向上能の減少あるいは表示品質の劣化を引き起こすことがあるため好ましくない。
【実施例】
【０４０１】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらにより限定されるものではない。なお、以下に記載の「部」は「質量部」を表す。
【０４０２】
実施例１
（光学フィルムＮｏ．１−１の作製）
下記の添加剤、セルロースエステルを用いて、溶融流延法により光学フィルムＮｏ．１−１を作製した。
【０４０３】
セルロースエステルＣ−１（セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．４、プロピオニル基置換度１．３、分子量Ｍｎ＝８６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．５））                                                              １００質量部
ＴＭＰＴＢ                                                        １０質量部
ＩＲＧＡＮＯＸ−１０１０（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．５質量部
ＧＳＹ−Ｐ１０１  （堺化学工業株式会社製）                      ０．３質量部
Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ−ＧＳ  （住友化学社製）                      ０．３質量部
本発明の化合物  ２−５                                          ２．５質量部
以下に本発明の実施例に使用した比較化合物及びＴＭＰＴＢ化合物の構造式をあげる。
【０４０４】
【化２６】
0005119767.tif 000021
【０４０５】
【化２７】
0005119767.tif 000022
【０４０６】
セルロースエステルを７０℃、３時間減圧下で乾燥を行い室温まで冷却した後、添加剤を混合した。
【０４０７】
以上の混合物を２軸式押し出し機を用いて２３０℃で溶融混合しペレット化した。
【０４０８】
このペレットを用いて窒素雰囲気下、２５０℃にて溶融して流延ダイ４から第１冷却ロール５上に押し出し、第１冷却ロール５とタッチロール６との間に光学フィルムを挟圧して成形した。
【０４０９】
また押出し機１中間部のホッパー開口部から、滑り剤としてシリカ粒子２００Ｖ（日本アエロジル社製）を０．５質量部となるよう添加した。
【０４１０】
流延ダイ４のギャップの幅が光学フィルムの幅方向端部から３０ｍｍ以内では０．５ｍｍ、その他の場所では１ｍｍとなるようにヒートボルトを調整した。タッチロールとしては、タッチロールＡを使用し、その内部に冷却水として８０℃の水を流した。
【０４１１】
流延ダイ４から押し出された樹脂が第１冷却ロール５に接触する位置Ｐ１から第１冷却ロール５とタッチロール６とのニップの第１冷却ロール５回転方向上流端の位置Ｐ２までの、第１冷却ローラ５の周面に沿った長さＬを２０ｍｍに設定した。
【０４１２】
タッチロール６の第１冷却ロール５に対する線圧は１４．７Ｎ／ｃｍとした。
【０４１３】
さらに、テンターに導入し、巾方向に１６０℃で１．１５倍延伸した後、巾方向に３％緩和しながら３０℃まで冷却し、その後クリップから開放し、クリップ把持部を裁ち落とし、光学フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ５μｍのナーリング加工を施し、巻取り張力２２０Ｎ／ｍ、テーパー４０％で巻芯に巻き取った。
【０４１４】
なお、光学フィルムは、厚さが８０μｍとなるように、押出し量及び引き取り速度を調整し、仕上がりの光学フィルム幅は、１４３０ｍｍ幅になるようにスリットし、巻き取った。
【０４１５】
さらに、表１に記載の添加剤に変更する以外は、光学フィルムＮｏ．１−１と同様な方法で、本発明の光学フィルムＮｏ．１−２〜１−６、比較の光学フィルムＮｏ．１−７〜１−９を作製した。
【０４１６】
なお添加剤の添加量は、Ｎｏ．１−１の化合物２−５と同量で置き換えた。
【０４１７】
得られた光学フィルム試料に対して、下記方法で評価を行った。
【０４１８】
（ダイラインの評価）
光学フィルムを通して蛍光灯を見たとき、その歪みあるいは細かい乱れを観察してダイランを評価し、下記レベルにランク分けした。
【０４１９】
Ｂ，Ｃランクは商品価値がない。評価の結果を表１に示す。
【０４２０】
Ａ：蛍光灯が歪まず真っすぐに見える
Ｂ：蛍光灯が部分的にギザギザゆがんで見える
Ｃ：蛍光灯の輪郭がギザギザに見える
＜偏光板の作製＞
本発明の光学フィルムＮｏ．１−１〜１−６及び比較の光学フィルムＮｏ．１−７〜１−９を用いて、その一方の面にハードコート層を形成し、本発明のハードコート層付き光学フィルムＮｏ．１−１〜１−６及び比較のハードコート層付き光学フィルムＮｏ．１−７〜１−９を作製した。
【０４２１】
これを用いて、本発明の偏光板１〜６及び比較の偏光板７〜９を作製した。
【０４２２】
＜ハードコート層付き光学フィルムの作製＞
下記の組成物を調製した。
【０４２３】
（帯電防止層塗布組成物（１））
ポリメチルメタアクリレート（重量平均分子量５５万、Ｔｇ：９０℃）    ０．５部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                                ６０部
メチルエチルケトン                                                    １６部
乳酸エチル                                                              ５部
メタノール                                                              ８部
導電性ポリマー樹脂Ｐ−１（０．１〜０．３μｍ粒子）                  ０．５部
（ハードコート層塗布組成物（２））
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体                        ６０部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体                        ２０部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分              ２０部
ジエトキシベンゾフェノン光反応開始剤                                    ６部
シリコーン系界面活性剤                                                  １部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                                ７５部
メチルエチルケトン                                                    ７５部
（カール防止層塗布組成物（３））
アセトン                                                              ３５部
酢酸エチル                                                            ４５部
イソプロピルアルコール                                                  ５部
ジアセチルセルロース                                                ０．５部
超微粒子シリカ２％アセトン分散液（アエロジル：２００Ｖ、日本アエロジル（株）製）                                                                    ０．１部
下記に従って、ハードコート層付き光学フィルムを作製した。
【０４２４】
光学フィルムの片面に、カール防止層塗布組成物（３）をウェット膜厚１３μｍとなるようにグラビアコートし、乾燥温度８０±５℃にて乾燥させた。
【０４２５】
この光学フィルムのもう１方の面に帯電防止層塗布組成物（１）を２８℃、８２％ＲＨの環境下でウェット膜厚で７μｍとなるように光学フィルムの搬送速度３０ｍ／ｍｉｎで塗布幅１ｍで塗布し、次いで８０±５℃に設定された乾燥部で乾燥して乾燥膜厚で約０．２μｍの樹脂層を設け、帯電防止層付き光学フィルムを得た。
【０４２６】
さらに、この帯電防止層の上にハードコート層塗布組成物（２）をウェット膜厚で１３μｍとなるように塗設し、乾燥温度９０℃にて乾燥させた後、紫外線を１５０ｍＪ／ｍ2となるように照射して、乾燥膜厚で５μｍのクリアハードコート層を設けた。
【０４２７】
（偏光膜の作製）
厚さ、１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。
【０４２８】
次いで、下記工程１〜５に従って偏光膜と本発明のハードコート層付き光学フィルムＮｏ．１−１〜１−６及び比較のＮｏ．１−７〜１−９、裏面側に光学フィルムを貼り合わせて偏光板を作製した。
【０４２９】
裏面側の光学フィルムには市販の光学フィルムであるコニカミノルタタックＫＣ８ＵＣＲ−４（コニカミノルタオプト（株）製）を用いてそれぞれ本発明の偏光板Ｎｏ．１〜６及び比較の偏光板Ｎｏ．７〜９とした。
【０４３０】
工程１：６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光膜と貼合する側を鹸化した本発明の本発明のハードコート層付き光学フィルムＮｏ．１−１〜１−６及び比較のＮｏ．１−７〜１−９を得た。
【０４３１】
コニカミノルタタックについても、同様にけん化処理を行った。
【０４３２】
工程２：前記偏光膜を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒浸漬した。
【０４３３】
工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、偏光膜の一方を、ハードコート層付き光学フィルム、もう一方にはコニカミノルタタックを、工程１のアルカリケン化処理面を偏光膜側として積層した偏光板を作製した。
【０４３４】
工程４：工程３で積層した前記ハードコート層付き光学フィルムと偏光膜と光学フィルムを圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ2、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。
【０４３５】
工程５：８０℃の乾燥機中に工程４で作製した偏光膜、光学フィルム及びハードコート層付き光学フィルムとを貼り合わせた試料を２分間乾燥し、偏光板を作製した。
【０４３６】
（液晶表示装置としての特性評価）
３２型ＴＦＴ型カラー液晶ディスプレーベガ（ソニー社製）の偏光板を剥がし、上記作製した各々の偏光板を液晶セルのサイズに合わせて断裁した。
【０４３７】
液晶セルを挟むようにして、前記作製した偏光板２枚を偏光板の偏光軸が元と変わらないように互いに直交するように貼り付け、３２型ＴＦＴ型カラー液晶ディスプレイを作製し、光学フィルムの偏光板としての特性を評価した。
【０４３８】
（正面コントラスト評価）
２３℃、５５％ＲＨの環境で、この液晶ディスプレイのバックライトを点灯して、３０分そのまま放置してから、測定を行った。
【０４３９】
測定にはＥＬＤＩＭ社製ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄを用いて、液晶ＴＶで白表示と黒表示の正面輝度を測定し、その比を正面コントラストとした。
【０４４０】
値が高いほど、コントラストに優れている。評価の結果を表１に示す。
【０４４１】
正面コントラスト＝白表示の正面輝度／黒表示の正面輝度
（高温高湿下保存時の耐久性評価）
作製した偏光板を、８０℃、９０％ＲＨ条件下で２００時間処理した後、２３℃、５５％ＲＨ条件下で２４時間放置後、偏光板／バックライトの構成の偏光板の正面から観察し、下記の基準で評価を行った。評価の結果を表１に示す。
【０４４２】
Ａ：処理前と変化がなく良好である
Ｂ：かすかに白く劣化が見られるものの、実用上問題ないレベルである
Ｃ：部分的に白濁しており、実用上問題がある
Ｄ：かなりの面積で白濁が認められ、実用上問題がある。
【０４４３】
【表１】
0005119767.tif 000023
【０４４４】
本発明の化合物を使用した本発明の試料Ｎｏ．１−１〜１−６は、比較化合物と同程度の分子量の化合物を使用しているにも関わらず、ダイラインの発生がなく、平面性が良好で、ハードコート層を付与しても、ブラッシングを起こすこともなく、乾燥後の亀裂の発生も認められず、塗布性は良好であった。
【０４４５】
さらに、偏光板にした際にコントラストが高く、高温高湿耐性も良く、良好な性能を示した。
【０４４６】
実施例２（参考例）
（光学フィルムＮｏ．２−１の作製）
下記の添加剤、セルロースエステルを用いて、光学フィルムＮｏ．１−１と同様な方法で、溶融流延により光学フィルムＮｏ．２−１を作製した。
【０４４７】
セルロースエステルＣ−１（セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．４、プロピオニル基置換度１．３、分子量Ｍｎ＝８６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．５））  １００質量部
化合物４−１  １０質量部
ＩＲＧＡＮＯＸ−１０１０（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）０．５質量部
ＧＳＹ−Ｐ１０１  （堺化学工業株式会社製）  ０．３質量部
Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ−ＧＳ （住友化学社製）  ０．３質量部
さらに、表２に記載の添加剤に変更する以外は、光学フィルムＮｏ．１−１と同様な方法で、光学フィルムＮｏ．２−２〜２−５、比較の光学フィルムＮｏ．２−６〜２−８を作製した。なお添加剤の添加量は、Ｎｏ．２−１の化合物４−１と等量で置き換えた。
【０４４８】
得られた光学フィルム試料に対して、実施例１と同様に、ダイラインの評価及び偏光板、液晶表示装置を作製し、正面コントラスト評価、高温高湿下保存時の耐久性評価を行った。結果を表２に示す。
【０４４９】
【表２】
0005119767.tif 000024
【０４５０】
表２に示すように、試料Ｎｏ．２−１〜２−５は、比較化合物と同程度の分子量の化合物を使用しているにも関わらず、ダイラインの発生がなく、偏光板にした際に良好な性能を示すことがわかる。
【０４５１】
さらに、試料Ｎｏ．２−１〜２−５に、ハードコート層を塗布した光学フィルムは、ブラッシング、亀裂の発生が見られず、良好な塗布性を示した。
【０４５２】
実施例３（参考例）
（光学フィルムＮｏ．３−１の作製）
下記の添加剤、セルロースエステルを用いて、光学フィルムＮｏ．１−１と同様な方法で、溶融流延により光学フィルムＮｏ．３−１を作製した。
【０４５３】
セルロースエステルＣ−１（セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．４、プロピオニル基置換度１．３、分子量Ｍｎ＝８６，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．５））  １００質量部
ＴＭＰＴＢ  １０質量部
化合物Ａ１  ０．５質量部
化合物Ｃ３  ０．３質量部
Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ−ＧＳ  （住友化学社製）  ０．３質量部
さらに、化合物Ａ１及びＣ３を、表３に記載のように変更する以外は、実施例Ｎｏ．１−１と同様な方法で、光学フィルムＮｏ．３−２〜３−７、比較の光学フィルムＮｏ．３−８〜３−１０を作製した。
【０４５４】
なお添加量は、化合物Ａ１に対して変更した場合は、化合物Ａ１と等量、化合物Ｃ３に対して変更した場合は、化合物Ｃ３と等量で置き換えた。
【０４５５】
得られた試料について、実施例１と同様に、ダイラインの評価及び偏光板、液晶表示装置を作製し、正面コントラスト評価、高温高湿下保存時の耐久性評価を行った。結果を表３に示す。
【０４５６】
【表３】
0005119767.tif 000025
【０４５７】
その結果、試料Ｎｏ．３−１〜３−７は、比較化合物と同程度の分子量を用いているにも関わらず、ダイラインの発生がなく、偏光板にした際に良好な性能を示した。
【０４５８】
さらに、試料Ｎｏ．３−１〜３−７に、ハードコート層を付与した光学フィルムは、ブラッシングを起こすこともなく、乾燥後の亀裂の発生も認められず、塗布性は良好であった。
【０４５９】
実施例４（参考例）
（光学フィルムＮｏ．４−１の作製）
実施例１の光学フィルムＮｏ．１−１において、Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ−ＧＳ（住友化学社製）０．３質量部を、化合物５−１、０．３質量部に置き換えて、光学フィルムＮｏ．４−１を作製した。
【０４６０】
さらに、化合物５−１を、表４に記載のように変更する以外は、実施例Ｎｏ．１−１と同様な方法で、光学フィルムＮｏ．４−２、比較の光学フィルムＮｏ．４−３を作製した。
【０４６１】
なお添加量は、化合物５−１と等量で置き換えた。
【０４６２】
得られた試料について、実施例１と同様に、ダイラインの評価、及び偏光板、液晶表示装置を作製し、正面コントラスト評価、高温高湿下保存時の耐久性評価を行った。結果を表４に示す。
【０４６３】
【表４】
0005119767.tif 000026
【０４６４】
その結果、試料Ｎｏ．４−１〜４−２は、比較化合物と同程度の化合物を用いているにも関わらず、ダイラインの発生がなく、偏光板にした際に良好な性能を示した。
【０４６５】
さらに、光学フィルムＮｏ．４−１〜４−２に、ハードコート層を塗布した光学フィルムは、ブラッシング、亀裂の発生が見られず、良好な塗布性を示した。
【０４６６】
実施例５（参考例）
（光学フィルムＮｏ．５−１の作製）
光学フィルムＮｏ．１−１で使用したセルロースエステルＣ−１を下記のＣ−２〜Ｃ−４に変更する以外は、全く同様な方法で、溶融流延により光学フィルムＮｏ．５−１〜５−３を作製した。
【０４６７】
Ｃ−２：セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．３、プロピオニル基置換度１．２、分子量Ｍｎ６５，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．０、アシル基総炭素数６．２）
Ｃ−３：セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．５、プロピオニル基置換度１．３、分子量Ｍｎ６４，０００＝２００，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．０、アシル基総炭素数６．９）
Ｃ−４：セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度２．１、プロピオニル基置換度０．７、分子量Ｍｎ９０，０００、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．５、アシル基総炭素数６．３）
得られた試料について、実施例１と同様に、ダイラインの評価、正面コントラスト評価、高温高湿下保存時の耐久性評価を行った。
【０４６８】
その結果、試料Ｎｏ．５−１〜５−３はダイラインの発生がなく、平面性が良好で、ハードコート層を塗布した光学フィルムは、ブラッシング、亀裂の発生が見られず、良好な結果を示した。
さらに、偏光板にした際に、コントラストが高く、高温高湿耐性も良く、良好な性能を示した。
【０４６９】
特に、セルロースエステルＣ−２、Ｃ−３を使用した光学フィルムは、Ｃ−４を使用した場合と比較して、より平面性に優れ、塗布性が良好な光学フィルムが得られた。
【図面の簡単な説明】
【０４７０】
【図１】本発明の光学フィルムの製造方法を実施する装置の１つの実施形態の一例を示す概略フローシートである。
【図２】図１の製造装置の要部拡大の一例を示すフローシートである。
【図３】図３（ａ）は流延ダイの要部の一例を示す外観図、図３（ｂ）は流延ダイの要部の一例を示す断面図である。
【図４】挟圧回転体の第１実施形態の一例を示す断面図である。
【図５】挟圧回転体の第２実施形態の一例を示す回転軸に垂直な平面での断面図である。
【図６】挟圧回転体の第２実施形態の回転軸を含む平面の一例を示す断面図である。
【図７】液晶表示装置の構成図の概略を示す分解の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
【０４７１】
１  押出し機
２  フィルター
３  スタチックミキサー
４  流延ダイ
５  回転支持体（第１冷却ロール）
６  挟圧回転体（タッチロール）
７  回転支持体（第２冷却ロール）
８  回転支持体（第３冷却ロール）
９、１１、１３、１４、１５  搬送ロール
１０  光学フィルム
１６  巻取り装置
２１ａ、２１ｂ  保護フィルム
２２ａ、２２ｂ  位相差フィルム
２３ａ、２３ｂ  フィルムの遅相軸方向
２４ａ、２４ｂ  偏光子の透過軸方向
２５ａ、２５ｂ  偏光子
２６ａ、２６ｂ  偏光板
２７  液晶セル
２９  液晶表示装置
３１  ダイ本体
３２  スリット
４１  金属スリーブ
４２  弾性ローラ
４３  金属製の内筒
４４  ゴム
４５  冷却水または加熱媒体
５１  外筒
５２  内筒
５３  空間
５４  冷却液
５５ａ、５５ｂ  回転軸
５６ａ、５６ｂ  外筒支持フランジ
６０  流体軸筒
６１ａ、６１ｂ  内筒支持フランジ
６２ａ、６２ｂ  中間通路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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