(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記式（１）で表される構造単位（１）、下記式（２）で表される構造単位（２）および下記式（３）で表される構造単位（３）を有するスチレン系共重合体と、
（Ｂ）ノルボルネン系重合体と
を含有することを特徴とする樹脂組成物；
【化１】
0005266733.tif 000011
（式（１）、式（２）および式（３）中、Ｒはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、
式（２）中のＲ0は水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、硫黄原子、窒素原子、またはケ
イ素原子を含む連結基を有してもよい置換または非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；または極性基を示し、
式（３）中のＲ’は置換もしくは非置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素基または複素環式基を示す。）。
【請求項２】
スチレン系共重合体（Ａ）が、全構造単位１００ｍｏｌ％中に構造単位（３）を１〜２０ｍｏｌ％含有することを特徴とする請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項３】
前記式（３）中のＲ’が、炭素数１〜４のアルキル基であることを特徴とする請求項１または２に記載の樹脂組成物。
【請求項４】
ノルボルネン系重合体（Ｂ）が、下記式（６）で表される単量体（６）から導かれる構造単位を有する（共）重合体であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の樹脂組成物；
【化２】
0005266733.tif 000012
（式（６）中、ａおよびｂは独立に０または１を示し、ｃおよびｄは独立に０〜２の整数を示す。
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、およびＲ13は、それぞれ独立に水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、硫黄原子、窒素原子、またはケイ素原子を含む連結基を有してもよい置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基；または極性基を示す。
Ｒ10とＲ11、またはＲ12とＲ13とは一体化して２価の炭化水素基を形成してもよく、Ｒ10またはＲ11と、Ｒ12またはＲ13とは、相互に結合して炭素環または複素環（これらの炭素環または複素環は単環構造でもよいし、他の環が縮合して多環構造を形成してもよい。）を形成してもよい。）。
【請求項５】
スチレン系共重合体（Ａ）とノルボルネン系重合体（Ｂ）の組成比（（Ａ）／（Ｂ））が、重量比で５／９５〜９０／１０の範囲であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の樹脂組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の樹脂組成物を主成分とすることを特徴とする光学フィルム。
【請求項７】
キャスト法により製膜して得られることを特徴とする請求項６に記載の光学フィルム。
【請求項８】
押出し法により製膜して得られることを特徴とする請求項６に記載の光学フィルム。
【請求項９】
請求項６〜８のいずれかに記載の光学フィルムを加熱延伸して得られる延伸フィルム。
【請求項１０】
請求項６〜９のいずれかに記載の光学フィルムを含む偏光板。
【請求項１１】
請求項６〜９のいずれかに記載の光学フィルムを含む液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スチレン系共重合体とノルボルネン系重合体とを含む樹脂組成物、該樹脂組成物からなるフィルムに関する。詳しくは、本発明は、透明性に優れ光学用途に好適な樹脂組成物、該樹脂組成物からなる光学フィルム、および該フィルムの用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から光学フィルムとして使用されているポリカーボネート、ポリエステル等のフィルムは、光弾性係数が大きいために微小な応力の変化などにより透過光に位相差が発現したりして位相差が変化する問題がある。また、トリアセチルセルロース等のフィルムには、耐熱性が低く吸水変形等の問題がある。
【０００３】
熱可塑性ノルボルネン系樹脂（環状オレフィン系樹脂）は、ガラス転移温度、光線透過率が高く、しかも屈折率の異方性が小さいことによる従来の光学フィルムに比べ低複屈折性を示すなどの特長を有しており、耐熱性、透明性、光学特性に優れた透明熱可塑性樹脂として注目されている。そしてこのような特徴を利用して、例えば、光ディスク、光学レンズ、光ファイバー、透明プラスチック基盤、低誘電材料などの電子・光学材料、光半導体封止などの封止材料などの分野において、環状オレフィン系樹脂を応用することが検討されている。
【０００４】
上記の環状オレフィン系樹脂の特性は、光学フィルム用の樹脂としてみても、前記従来の樹脂の問題点を改善できるものであり、このため、環状オレフィン系樹脂からなるフィルムが光学用の各種フィルムとして提案されている。
【０００５】
例えば、特許文献１〜３には、環状オレフィン系樹脂のフィルムを用いた位相差板が記載されている。また、特許文献４〜６には、環状オレフィン系樹脂のフィルムを、偏光板の保護フィルムに使用することが記載されている。さらに、特許文献７には、環状オレフィン系樹脂のフィルムからなる液晶表示素子用基板が記載されている。
【０００６】
一般的に位相差フィルムは、延伸配向させて得られる透過光に位相差（複屈折）を与える機能が、透過光の波長が長波長になるにつれて透過光の位相差（複屈折）の絶対値が小さくなるという特性（正の波長分散性）を有するため、可視光領域（４００〜８００ｎｍ）全てにおいて、例えば１／４波長等の特定の位相差を透過光に与えることが非常に困難であった。実際に位相差が広範囲な波長領域（４００〜８００ｎｍ）において１／４波長としての機能が反射型や半透過型の液晶ディスプレイや光ディスク用ピックアップなどに必要とされている。また、液晶プロジェクターでは、１／２λの位相差が必要であり、従来の環状オレフィン系樹脂からなる光学フィルムでは、フィルムを積層化させる以外困難であった。フィルムの積層化では、フィルムの貼り合わせ、切り出し、接着などの工程が複雑化するだけでなく、得られる光学フィルムの厚みも低減させることが困難になる。
【０００７】
この課題を解決するためには、波長が長波長になるにつれて透過光の位相差の絶対値が大きくなる特性、すなわち、逆波長分散性を示す光学フィルムが必要である。この逆波長分散性を示す光学フィルムとしては、特許文献８および特許文献９において、特定のセルロースアセテート系樹脂からなる位相差フィルム、ポリカーボネート系樹脂やスチレン系樹脂のブレンドが提案されている。しかしながら、セルロース系樹脂からなるフィルムでは、吸水による特性変化や耐熱性等の点において問題点があり、ポリカーボネート系では、ガラス転移温度が高く、高温での延伸加工が必要になるだけでなく、フィルムの光弾性係数が大きいために応力による光学ひずみが生じる。
【０００８】
また、スチレン系樹脂では、フィルム化の際に製膜性の良い塩化メチレンなどの揮発性の高い溶媒は、ほとんどの場合相分離が生じるために使用できず、特定の溶剤を選定しなければならない。そのために溶剤の乾燥時間がかかり、生産性が極端に低下し、透明度の高いフィルムを容易に得ることが困難であるという問題があった。
【０００９】
このため、相分離を抑え、透明な光学フィルムを容易に得ることができる樹脂組成物、およびその樹脂組成物を主成分とする、逆波長分散性を示し、透明度のある光学フィルムの出現が強く望まれていた。
【００１０】
このような状況において、本願出願人は、水酸基を有する構造単位を特定量含むスチレン系共重合体と、ノルボルネン系重合体とを含む樹脂組成物が、相溶性に優れ、相分離を生じることなく容易に光学フィルムを形成でき、しかも位相差フィルムとした場合には逆波長分散性を示すことを見出し、既に提案している（特願２００７−７９６７０号）。しかしながら、さらに相溶性に優れ、スチレン系共重合体の含有割合が高い場合にも安定な樹脂組成物の出現が望まれていた。
【特許文献１】特開平４−２４５２０２号公報
【特許文献２】特開平５−２１０８号公報
【特許文献３】特開平５−６４８６５号公報
【特許文献４】特開平５−２１２８２８号公報
【特許文献５】特開平６−５１１１７号公報
【特許文献６】特開平７−７７６０８号公報
【特許文献７】特開平５−６１０２６号公報
【特許文献８】特開２０００−１３７１１６号公報
【特許文献９】特開２００１−３３７２２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の課題は、スチレン系共重合体とノルボルネン系重合体からなる組成物であって、優れた相溶性を有して相分離せず、かつフィルム化が容易な樹脂組成物を提供することにある。また、この樹脂組成物を主成分とし、優れた透明性を有する光学フィルム、優れた透明性と逆波長分散性とを示す延伸フィルム、およびその用途を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の樹脂組成物は、
（Ａ）下記式（１）で表される構造単位（１）、下記式（２）で表される構造単位（２）および下記式（３）で表される構造単位（３）を有するスチレン系共重合体と、
（Ｂ）ノルボルネン系重合体と
を含有することを特徴としている。
【００１３】
【化１】
0005266733.tif 000002
【００１４】
（式（１）、式（２）および式（３）中、Ｒはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、
式（２）中のＲ0は水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、硫黄原子、窒素原子、またはケ
イ素原子を含む連結基を有してもよい置換または非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；または極性基を示し、
式（３）中のＲ’は置換もしくは非置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素基または複素環式基を示す。）
このような本発明の樹脂組成物では、スチレン系共重合体（Ａ）が、全構造単位１００ｍｏｌ％中に構造単位（３）を１〜２０ｍｏｌ％含有することが好ましい。
【００１５】
本発明の樹脂組成物では、前記式（３）中のＲ’が、炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましい。
本発明の樹脂組成物では、ノルボルネン系重合体（Ｂ）が、下記式（６）で表される単量体（６）から導かれる構造単位を有する（共）重合体であることが好ましい。
【００１６】
【化２】
0005266733.tif 000003
【００１７】
（式（６）中、ａおよびｂは独立に０または１を示し、ｃおよびｄは独立に０〜２の整数を示す。
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、およびＲ13は、それぞれ独立に水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、硫黄原子、窒素原子、またはケイ素原子を含む連結基を有してもよい置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基；または極性基を示す。
Ｒ10とＲ11、またはＲ12とＲ13とは一体化して２価の炭化水素基を形成してもよく、Ｒ10またはＲ11と、Ｒ12またはＲ13とは、相互に結合して炭素環または複素環（これらの炭素環または複素環は単環構造でもよいし、他の環が縮合して多環構造を形成してもよい。）を形成してもよい。）
本発明の樹脂組成物は、スチレン系共重合体（Ａ）とノルボルネン系重合体（Ｂ）の組成比（（Ａ）／（Ｂ））が、重量比で５／９５〜９０／１０の範囲であることが好ましい
。
【００１８】
本発明の光学フィルムは、前記本発明の樹脂組成物を主成分とすることを特徴としている。このような本発明の光学フィルムは、キャスト法により製膜して得られることが好ましく、また、押出し法により製膜して得られることも好ましい。
【００１９】
本発明の延伸フィルムは、前記本発明の光学フィルムを加熱延伸して得られる。
本発明の偏光板、あるいは液晶表示装置は、前記本発明の光学フィルムを含む。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、相溶性に優れたスチレン系共重合体を含むことにより、安定で相分離のない透明性に優れた樹脂組成物を提供できるとともに、スチレン系共重合体含有量の多い樹脂組成物を提供することができ、その結果低複屈折性に優れる光学フィルムを提供することができる。また本発明によれば、フィルム成形の際に用いられる塩化メチレンなどの溶媒を用いたキャスト成膜法や、溶融押出法で光学フィルムを製造しても相分離を抑制でき、透明性に優れ逆波長分散性を有する位相差フィルムの製造に好適な樹脂組成物を提供できる。さらに本発明によれば、透明性に優れた光学フィルム、逆波長分散性と優れた透明性とを有する光学フィルム、該光学フィルムを用いた偏光板および液晶表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明について具体的に説明する。
本発明の樹脂組成物は、スチレン系共重合体（Ａ）と、ノルボルネン系重合体（Ｂ）とを含有している。以下、これらについて説明する。
【００２２】
なお、本明細書中において（共）重合体とは、重合体もしくは共重合体を意味する。
＜スチレン系共重合体（Ａ）＞
本発明に係る樹脂組成物に含有されるスチレン系共重合体（Ａ）は、下記式（１）で表される構造単位（１）、下記式（２）で表される構造単位（２）、および下記式（３）で表される構造単位（３）を有する。
【００２３】
【化３】
0005266733.tif 000004
【００２４】
式（１）、式（２）および式（３）中、Ｒはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、
式（２）中のＲ0は水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、硫黄原子、窒素原子、またはケ
イ素原子を含む連結基を有してもよい置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基；または極性基を示し、
式（３）中のＲ’は置換もしくは非置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素基または複素環式基を示す。
【００２５】
スチレン系共重合体（Ａ）中の、構造単位（１）、（２）および（３）の含有率は、特に限定されるものではないが、スチレン系共重合体（Ａ）の全構造単位１００ｍｏｌ％中、構造単位（１）の含有率は、通常２０〜９９ｍｏｌ％、好ましくは４０〜９８ｍｏｌ％、より好ましくは４５〜９７ｍｏｌ％であり、構造単位（２）の含有率は、通常０．１〜５０ｍｏｌ％、好ましくは０．２〜４０ｍｏｌ％、より好ましくは６〜１０ｍｏｌ％であり、構造単位（３）の含有率は、通常０．５〜３０ｍｏｌ％、好ましくは１〜２０ｍｏｌ％、より好ましくは３〜１５ｍｏｌ％である。上記数値範囲内であると、本発明に係る樹脂組成物に含有されるスチレン系共重合体（Ａ）が、ノルボルネン系重合体（Ｂ）に対して優れた溶解性を示し、かつ、双方が良好な溶解性を示す溶媒が存在することに加え、高温下においても相分離することなく透明性を保持できるので,好ましい。
【００２６】
さらにスチレン系共重合体（Ａ）は、下記式（７）で表される構造単位を有していてもよい。
【００２７】
【化４】
0005266733.tif 000005
【００２８】
（式（７）中、Ｒ1〜Ｒ3はそれぞれ独立に、水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、硫黄原子、窒素原子もしくはケイ素原子を含む連結基を有していてもよい、置換もしくは非置換の炭素原子数１〜３０の炭化水素基；または極性基を表す。また、Ｒ1とＲ2は相互に結合して炭素環または複素環（これらの炭素環または複素環は単環構造でもよいし、他の環が縮合して多環構造を形成しても良い。）を形成してもよい。）
式（２）中のＲ0および式（７）中のＲ1〜Ｒ3において、ハロゲン原子としては、フッ
素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられる。
【００２９】
式（２）中のＲ0、式（３）中のＲ’および式（７）中のＲ1〜Ｒ3において、置換また
は非置換の炭素原子数１〜３０あるいは炭素原子数１〜２０の炭化水素基としては、たとえば、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基などが挙げられる。
【００３０】
また、上記の置換または非置換の炭化水素基は直接環構造に結合していてもよいし、あるいは連結基（linkage）を介して結合していてもよい。連結基としては、たとえば、炭
素原子数１〜１０の２価の炭化水素基（たとえば、−（ＣＨ2）m−（式中、ｍは１〜１０の整数）で表されるアルキレン基）；酸素、窒素、イオウまたはケイ素を含む連結基（たとえば、カルボニル基（−ＣＯ−）、オキシカルボニル基（−Ｏ（ＣＯ）−）、カルボニルオキシ基（−ＣＯＯ−）、スルホン基（−ＳＯ2−）、エーテル結合（−Ｏ−）、チオ
エーテル結合（−Ｓ−）、イミノ基（−ＮＨ−）、アミド結合（−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−）、シロキサン結合（−ＯＳｉ（Ｒ）−（式中、Ｒはメチル、エチル等のアルキル基））等が挙げられ、これらを複数含む連結基であってもよい。
【００３１】
式（２）中のＲ0および式（７）中のＲ1〜Ｒ3において、極性基としては、例えば、水
酸基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、カルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、シアノ基、アミド基、イミド基、トリオルガノシロキシ基、トリオルガノシリル基、アミノ基、アシル基、アルコキシシリル基、スルホニル基、およびカルボキシル基など挙げられる。さらに具体的には、上記アルコキシ基としては、
たとえば、メトキシ基、エトキシ基等；カルボニルオキシ基としては、たとえば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、およびベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基；アルコキシカルボニル基としては、たとえば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等；アリーロキシカルボニル基としては、たとえば、フェノキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、フルオレニルオキシカルボニル基、ビフェニリルオキシカルボニル基等；トリオルガノシロキシ基としては、たとえば、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基等；トリオルガノシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基等；アミノ基としては、第１級アミノ基；アルコキシシリル基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等が挙げられる。
【００３２】
上記式（７）で表される構造単位を誘導する単量体の具体例としては、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸およびその誘導体、無水マレイン酸、マレイミド類、マレイン酸およびその誘導体、フマル酸およびその誘導体、ｐ−メトキシスチレンなどが挙げられる。また、後述する脱保護反応で変換されずに部分的残存する場合のある式（４）で表されるスチレン誘導体由来の構造単位（構造単位（４））なども、前記式（７）で表される構造単位に含まれる。構造単位（４）の含有率は、全構造単位１００ｍｏｌ％中、通常２０ｍｏｌ％以下、好ましくは１５ｍｏｌ％以下、より好ましくは１０ｍｏｌ％以下である。
【００３３】
本発明に用いられるスチレン系共重合体（Ａ）は、３０℃のクロロベンゼン溶液（濃度０．５ｇ／ｄＬ）中で測定した対数粘度（η）が、０．１〜３．０ｄL／ｇであることが
好ましい。また、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗが通常３０，０００〜１，０００，０００、好ましくは４０，０００〜８００，０００、より好ましくは５０，０００〜５００，０００である。分子量が小さすぎると、得られるフィルム等の成形品の強度が低くなることがある。分子量が大きすぎると、溶液粘度が高くなりすぎて本発明に用いる樹脂組成物の生産性や加工性が悪化することがある。
【００３４】
さらに、スチレン系共重合体（Ａ）の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、通常１．０〜１０、好ましくは１．２〜５．０、より好ましくは１．２〜４．０である。
このような本発明に係るスチレン系共重合体（Ａ）は、構造単位（３）を含まない場合よりもさらにノルボルネン系重合体（Ｂ）との相溶性に優れる。
【００３５】
＜スチレン系共重合体（Ａ）の製造方法＞
本発明に係るスチレン系共重合体（Ａ）は、スチレンおよび／またはα−メチルスチレンと、下記式（４）で表される単量体（４）と、下記式（５）で表される単量体（５）と、必要に応じて下記式（８）で表される単量体とを、共重合反応させる工程によって好適に製造することができる。
【００３６】
【化５】
0005266733.tif 000006
【００３７】
（式（４）および式（５）中、Ｒ、Ｒ0およびＲ’は、前記式（２）および（３）中で定
義のとおりである。）
【００３８】
【化６】
0005266733.tif 000007
【００３９】
式（８）中、Ｒ1〜Ｒ3は、前記式（７）におけるＲ1〜Ｒ3と同義である。式（８）で表される単量体としては、たとえば、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸およびその誘導体、無水マレイン酸、マレイミド類、マレイン酸およびその誘導体、フマル酸およびその誘導体、ｐ−メトキシスチレンなどが挙げられる。
【００４０】
このような各単量体は、各単量体から導かれる各構造単位の所望の含有率と同様の割合で好適に用いることができる。
上述した単量体の共重合は、重合開始剤の存在下で好適に行うことができる。
【００４１】
共重合反応に用いられる重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤、カチオン重合開始剤（カチオン重合触媒）、またはアニオン重合開始剤（アニオン重合触媒）が挙げられる。ラジカル開始剤としては、フリーラジカルを発生する公知の有機過酸化物、またはアゾビス系のラジカル重合開始剤を用いることができる。なお、多官能開始剤または水素引き抜き反応を起こし易い開始剤は、得られるスチレン系共重合体の線状性が低下するおそれがあるので、好ましくない。
【００４２】
有機過酸化物としては、ジアセチルパーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド、ジイソブチロイルパーオキサイド、ジ（２，４−ジクロロベンゾイル）パーオキサイド、ジ（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキサイド、ジオクタノイルパーオキサオド、ジラウロイルパーオキサイド、ジステアロイルパーオキサイド、ビス｛４−（ｍ−トルオイル）ベンゾイル｝パーオキサイドなどのジアシルパーオキサイド類；
メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセトンパーオキサイドなどのケトンパーオキサイド類；
過酸化水素、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、α−クメンハイドロパーオキサイド、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、ｔ−ヘキシルハイドロパーオキサイドなどのハイドロパーオキサイド類；
ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ジラウリルパーオキサイド、α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキシン−３などのジアルキルパーオキサイド類；
ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ２−エチルヘキサノエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、１−シクロヘキシル−１−メチルエチルパーオキシ２−エチルヘキサノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシ２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−ブチルパーオキシマレエート、ｔ−ブチルパーオキシ３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシラ
ウレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｍ−トルオイルパーオキシ）ヘキサン、α，α’−ビス（ネオデカノイルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、クミルパーオキシネオデカノエート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、１−シクロヘキシル−１−メチルエチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシネオドデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）イソフタレート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシｍ−トルオイルベンゾエート、３，３’，４，４’−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノンなどのパーオキシエステル類；
【００４３】
１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロドデカン、２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｎ−ブチル４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ピバレート、２，２−ビス（４，４−ジ−ｔ−ブチルパーオキシシクロヘキシル）プロパンなどのパーオキシケタール類；
ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ２−エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシアリルモノカーボネートなどのパーオキシモノカーボネート類；
ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−２−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ（３−メチル−３−メトキシブチル）パーオキシジカーボネートなどのパーオキシジカーボネート類；
その他、ｔ−ブチルトリメチルシリルパーオキサイドなどが挙げられるが、本発明に用いられる有機過酸化物はこれらの例示化合物に限定されるものではない。
【００４４】
アゾビス系ラジカル重合開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリル、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２−（カルバモイルアゾ）イソブチロニトリル、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−｛１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル｝プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−｛２−（１−ヒドロキシブチル）｝プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス［２−（５−メチル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジハイドロクロライド、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジハイドロクロライド、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジサルフェート・ジハイドレート、２，２’−アゾビス［２−（３，４，５，６−テトラヒドロピリミジン−２−イル）プロパン］ジハイドロクロライド、２，２’−アゾビス［２−｛１−（２−ヒドロキシエチル）−２−イミダゾリン−２−イル｝プロパン］ジハイドロクロライド、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）ジハイドロクロライド、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−カルボキシエチル）−２−メチル−プロピオンアミジン］、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミドキシム）、ジメチル２，２’−アゾビスブチレート、４
，４’−アゾビス（４−シアノペンタノイックアシッド）、２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）などが挙げられ、これらの中では１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）が好ましい。本発明に用いられるアゾビス系ラジカル重合開始剤はこれらの例示化合物に限定されるものではない。
【００４５】
カチオン重合開始剤としては、塩酸、硫酸、p-トルエンスルホン酸、リン酸、等のブレンステッド酸、三フッ化ホウ素錯体、三塩化アルミニウム、エチルアルムニウムジクロリド、四塩化チタン、チタンテトライソプロポキシド、塩化タングステン、等のルイス酸が挙げられる。
【００４６】
アニオン重合開始剤としては、ブチルリチウム、フェニルリチウム、等の有機リチウム類、リチウムアミド、ナトリウムアミド、等の金属アミド類、エチルマグネシウムブロマイド、フェニルマグネシウムクロライド、等のグリニャール試薬、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、等の金属アルコキシド、等が挙げられる。
【００４７】
これらの重合開始剤の使用量は、前記単量体全量１００ｍｏｌ％中、通常０．０１〜５ｍｏｌ％、好ましくは０．０３〜３ｍｏｌ％、より好ましくは０．０５〜２ｍｏｌ％である。
【００４８】
前記単量体の共重合反応は、上述の重合開始剤や触媒の存在下で、塊状重合法、溶液重合法、沈殿重合法、乳化重合法、懸濁重合法または塊状−懸濁重合法などの従来公知の方法で単量体を共重合させることにより行なわれる。
【００４９】
溶液重合を実施する際に使用する溶剤としては、前記単量体および重合体を溶解するものであれば特に限定されないが、シクロヘキサン等の炭化水素系溶剤、トルエン等の芳香族炭化水素系溶剤が好ましい。溶剤の使用量は、前記単量体全量に対し、０〜３倍（重量比）の量であるのが望ましい。
【００５０】
重合反応時間は、通常１〜３０時間、好ましくは３〜２０時間であり、重合反応温度は、使用するラジカル開始剤の種類に依存するため、特に限定されないが、通常４０〜１８０℃、好ましくは５０〜１２０℃である。
【００５１】
上記のようにして得られたスチレン系共重合体（Ａ）は、必要に応じて精製を行って用いることが好適である。精製には、従来公知の方法を用いることができ、たとえば、得られた反応物溶液をトルエンまたはテトラヒドロフラン等の良溶媒で希釈後、メタノール、水、またはこれらの混合溶液を添加して重合体を適度に凝集させ、抽出処理する方法が挙げられる。抽出処理の際、反応溶媒として使用した溶媒および希釈のために添加した溶媒を合計した良溶媒量と重合体との重量比（良溶媒/重合体）は、０．５／１〜６／１、好
ましくは０．７／１〜４／１である。また、抽出に使用するメタノール、水、またはこれらの混合溶液等の貧溶媒の使用量は重量比（貧溶媒/前記良溶媒）で、０．３〜５、好ま
しくは０．５〜３である。抽出温度としては、通常４０〜１２０℃、好ましくは５０〜１００℃である。
【００５２】
前記のように抽出した後、溶液を冷却して軽重層に分離させ、遠心分離機等で軽層を除去する。これらの抽出操作を１〜１０回繰り返した後、重液を濃縮してデボラチライター、ルーダー等の脱溶装置で脱溶する。脱溶時の温度は１５０〜３５０℃、好ましくは２００〜３００℃、真空度は０．１〜５０ｍｍＨｇ、好ましくは１〜４０ｍｍＨｇである。また、脱溶前に希釈して循環濾過を実施してもよい。濾過の際、濾剤の孔径は０．１〜１０
０μｍのものを１種単独で使用してもよく、孔径の異なるフィルターを段階的に複数設置してもよい。また、脱溶後の溶融ポリマーを濾過することにより精製してもよい。この際のポリマーフィルターの孔径は０．１〜１００μｍであるのが望ましい。
【００５３】
＜ノルボルネン系重合体（Ｂ）＞
本発明に係る樹脂組成物に含有されるノルボルネン系重合体（Ｂ）は、下記式（６）で表される単量体（６）から導かれる構造単位を有する（共）重合体であり、具体的には、単量体（６）の開環重合体、単量体（６）と共重合性単量体との開環共重合体、またはこれらの水素添加物、あるいは１種単独または２種以上の単量体（６）からなる付加型（共）重合体、および単量体（６）とビニル系化合物との付加型（共）重合体である。
【００５４】
【化７】
0005266733.tif 000008
【００５５】
式（６）中、ａおよびｂは独立に０または１を示し、ｃおよびｄは独立に０〜２の整数を示す。
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、およびＲ13は、それぞれ独立に水素原子；ハロゲン原子；酸素原子、硫黄原子、窒素原子、またはケイ素原子を含む連結基を有してもよい置換または非置換の炭素数１〜３０の炭化水素基；または極性基を示す。
【００５６】
Ｒ10とＲ11、またはＲ12とＲ13とは一体化して２価の炭化水素基を形成してもよく、Ｒ10またはＲ11とＲ12またはＲ13とは相互に結合して炭素環または複素環（これらの炭素環または複素環は単環構造でもよいし、他の環が縮合して多環構造を形成してもよい。）を形成してもよい。
【００５７】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子及び臭素原子が挙げられる。
炭素原子数１〜３０の炭化水素基としては、たとえば、メチル基、エチル基、プロピル基等のアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基；ビニル基、アリル基、プロペニル基等のアルケニル基などが挙げられる。
【００５８】
また、上記の置換または非置換の炭化水素基は直接環構造に結合していてもよいし、あるいは連結基（linkage）を介して結合していてもよい。連結基としては、たとえば、炭
素原子数１〜１０の２価の炭化水素基（たとえば、−(ＣＨ2)m−（式中、ｍは１〜１０の整数）で表されるアルキレン基）；酸素、窒素、イオウまたはケイ素を含む連結基（たとえば、カルボニル基（−ＣＯ−）、オキシカルボニル基（−Ｏ（ＣＯ）−）、カルボニルオキシ基（−ＣＯＯ−）、スルホン基（−ＳＯ2−）、エーテル結合（−Ｏ−）、チオエ
ーテル結合（−Ｓ−）、イミノ基（−ＮＨ−）、アミド結合（−ＮＨＣＯ−、−ＣＯＮＨ−）、シロキサン結合（−ＯＳｉ（Ｒ）−（式中、Ｒはメチル、エチル等のアルキル基））等が挙げられ、これらを複数含む連結基であってもよい。
【００５９】
極性基としては、例えば、水酸基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、カルボニルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、シアノ基、アミド基、イミド基、トリオルガノシロキシ基、トリオルガノシリル基、アミノ基、アシル基、アルコキシシリル基、スルホニル基、およびカルボキシル基など挙げられる。さらに具体的には、上記アルコキシ基としては、たとえば、メトキシ基、エトキシ基等；カルボニルオキシ基としては、たとえば、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基等のアルキルカルボニルオキシ基、およびベンゾイルオキシ基等のアリールカルボニルオキシ基；アルコキシカルボニル基としては、たとえば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等；アリーロキシカルボニル基としては、たとえば、フェノキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、フルオレニルオキシカルボニル基、ビフェニリルオキシカルボニル基等；トリオルガノシロキシ基としては、たとえば、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基等；トリオルガノシリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基等；アミノ基としては、第１級アミノ基；アルコキシシリル基としては、例えば、トリメトキシシリル基、トリエトキシシリル基等が挙げられる。
【００６０】
前記式（６）で表される単量体（６）の具体例としては、次のような化合物が挙げられる。
ビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
トリシクロ［４.３.０.１2,5］−３−デセン、
トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］−デカ−３，８−ジエン
トリシクロ［４.４.０.１2,5］−３−ウンデセン、
テトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ドデセン、
ペンタシクロ［６.５.１.１3,6.０2,7.０9,13］−４−ペンタデセン、
ペンタシクロ［７.４.０.１2,5.１9,12.０8,13］−３−ペンタデセン、
５−メチルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−エチルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−メトキシカルボニルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−メトキシカルボニルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−シアノビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ドデセン、
８−エトキシカルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ドデセン、
【００６１】
８−ｎ−プロポキシカルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ドデセ
ン、
８−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ドデセ
ン、
８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ドデセン
、
８−フェノキシカルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ドデセン、
８−（１−ナフトキシ）カルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ド
デセン、
８−（２−ナフトキシ）カルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ド
デセン、
８−〈４−フェニルフェノキシ〉カルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］
−３−ドデセン、
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ド
デセン、
８−メチル−８−エトキシカルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−
ドデセン、
８−メチル−８−ｎ−プロポキシカルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］
−３−ドデセン、
８−メチル−８−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］
−３−ドデセン、
８−メチル−８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−
３−ドデセン、
８−メチル−８−フェノキシカルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３
−ドデセン、
【００６２】
８−メチル−８−（1−ナフトキシ）カルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−（２−ナフトキシ）カルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ドデセン、
８−メチル−８−〈４−フェニルフェノキシ〉カルボニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ドデセン、
ペンタシクロ［８.４.０.１2,5.１9,12.０8,13］−３−ヘキサデセン、
ヘプタシクロ［８.７.０.１3,6.１10,17.１12,15.０2,7.０11,16］−４−エイコセン、
ヘプタシクロ［８.８.０.１4,7.１11,18.１13,16.０3,8.０12,17］−５−ヘンエイコセン、
５−エチリデンビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
８−エチリデンテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ドデセン、
５−フェニルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−フェニル−５―メチルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
８−フェニルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ドデセン、
５−ｎ−ブチルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−ｎ−ヘキシルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−シクロヘキシルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−（２−シクロヘキセニル）ビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−ｎ−オクチルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−ｎ−デシルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−イソプロピルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−（１−ナフチル）ビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−（２−ナフチル）ビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−（２−ナフチル）−５−メチルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−（４−ビフェニル）ビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−（４−ビフェニル）−５−メチルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−アミノメチルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−トリメトキシシリルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−トリエトキシシリルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−トリn-プロポキシシリルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−トリn-ブトキシシリルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−クロロメチルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−ヒドロキシメチルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−シクロヘセニルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−フルオロビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−フルオロメチルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−トリフルオロメチルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５,５−ジフルオロビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５,６−ジフルオロビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５,５−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５,６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−トリフルオロメチルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５,５,６−トリフルオロビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
５,５,６,６−テトラフルオロビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、
８−フルオロテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ドデセン、
８−フルオロメチルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ドデセン、
８−トリフルオロメチルテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ドデセン、
８,８−ジフルオロテトラシクロ［４.４.０.１2,5.１7,10］−３−ドデセン
スピロ［フルオレン−９,８'−トリシクロ［４.３.０.１2.5］[３]デセン］
などを挙げることができる。
これらの化合物は、１種単独でまたは２種以上を組み合わせて単量体（６）として用いることができる。
【００６３】
これらの単量体（６）のうち、上記式（６）におけるＲ10〜Ｒ13のうちの少なくとも１つが、下記式（I）
−（ＣＨ2）nＣＯＯＲ17      （I）
（式中、ｎは通常、０または１〜５の整数、Ｒ17は炭素数１〜１５の炭化水素基である。）で表される特定の極性基である上記特定単量体が、得られる樹脂組成物および光学フィルムの耐熱性と耐湿（水）性とが良好なバランスを保つ点で好ましい。
【００６４】
上記式（I）において、ｎの値が小さいほど、また、Ｒ17の炭素数が小さいほど、得ら
れる樹脂組成物のガラス転移温度が高くなり、耐熱性が向上する点で好ましい。すなわち、ｎは通常、０または１〜５の整数であるが、好ましくは０または１であり、また、Ｒ17は通常、炭素数１〜１５の炭化水素基であるが、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基が望ましい。
【００６５】
さらに、上記式（６）において、上記式（I）で表される極性基が結合した炭素原子に
さらにアルキル基が結合している上記単量体は、得られる樹脂組成物および光学フィルムの耐熱性と耐湿（水）性とが良好なバランスを保つ点で好ましい。このアルキル基の炭素数は１〜５であることが好ましく、さらに好ましくは１〜２、特に好ましくは１である。
【００６６】
このような単量体（６）のうち、８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ〔４.４.０.１2,5.１7,10〕−３−ドデセン、８−メチル−８−エトキシカルボニルテトラ
シクロ〔４.４.０.１2,5.１7,10〕−３−ドデセン、８−メチル−８−ブトキシカルボニ
ルテトラシクロ〔４.４.０.１2,5.１7,10〕−３−ドデセン、および８−メチル−８−メ
トキシカルボニルテトラシクロ〔４.４.０.１2,5.１7,10〕−３−ドデセンと５−メチル
−５−メトキシカルボニル−ビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エンとの併用は、得られる樹脂組成物および光学フィルムが耐熱性に優れる点で好ましく、特に、８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ〔４.４.０.１2,5.１7,10〕−３−ドデセンおよび８
−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ〔４.４.０.１2,5.１7,10〕−３−ドデ
センと５−メチル−５−メトキシカルボニル−ビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エンとの併用は、スチレン系共重合体（Ａ）との相溶性に優れたノルボルネン系重合体（Ｂ）が得られる点で好ましい。ノルボルネン系重合体（Ｂ）が８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ〔４.４.０.１2,5.１7,10〕−３−ドデセンと５−メチル−５−メトキ
シカルボニル−ビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エンとの共重合体である場合、共重合比８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ〔４.４.０.１2,5.１7,10〕−３−
ドデセン／５−メチル−５−メトキシカルボニル−ビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エンは、重量比で好ましくは９５／５〜５５／４５、より好ましくは９０／１０〜６５／３５の範囲である。
【００６７】
その他の式（６）で表される単量体（６）の内で好ましい例としては、ビシクロ［２.
２.１］ヘプト−２−エン、トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］−デカ−３，８−ジエン
、５−エチリデンビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、５−フェニルビシクロ［２.
２.１］ヘプト−２−エン、５−ｎ−ブチルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン、５
−ｎ−デシルビシクロ［２.２.１］ヘプト−２−エン等を挙げることができる。
【００６８】
［開環（共）重合体］
上述した単量体（６）を開環重合して得られるノルボルネン系重合体（Ｂ）としては、例えば下記一般式（II）で表される構造単位を有する重合体が挙げられる。
【００６９】
【化８】
0005266733.tif 000009
【００７０】
（式（II）中、a、b、c、dおよびＲ4〜Ｒ13は、それぞれ上記式（６）におけるa、b、c、dおよびＲ4〜Ｒ13の定義と同義である。Ｘは式：−ＣＨ＝ＣＨ−で表される基または式：−ＣＨ2ＣＨ2−で表される基であり、複数存在するＸは同一または異なる。）。
【００７１】
［共重合性単量体］
上記単量体（６）は単独で開環重合してもよいが、さらに、上記単量体（６）と他の共重合性単量体と開環共重合させてもよい。
【００７２】
上記共重合性単量体として、具体的には、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどのシクロオレフィンを挙げることができる。シクロオレフィンの炭素数は、４〜２０が好ましく、さらに好ましくは４〜１２である。
【００７３】
さらに、ポリブタジエン、ポリイソプレン、スチレン−ブタジエン共重合体、エチレン−非共役ジエン共重合体、ポリノルボルネンなどの、主鎖に炭素−炭素間二重結合を含む不飽和炭化水素系ポリマーなどの存在下で、上記単量体（６）を開環重合させてもよい。この場合、得られる開環共重合体およびその水素添加共重合体は、耐衝撃性の大きい樹脂組成物の原料として有用である。
【００７４】
上記開環重合体（式（II）で表される構造単位を有する（共）重合体）は、開環重合触媒の存在下、必要に応じて分子量調節剤および開環重合用溶媒を用いて、上記単量体（６）の１種以上、および必要に応じて共重合性単量体を、従来公知の方法で開環（共）重合させることにより得ることができる。
【００７５】
また、上記単量体（６）と上記共重合性単量体とを共重合させる場合、上記単量体（６）と上記共重合性単量体との合計１００重量％に対して、上記単量体（６）を通常５０重量％以上、好ましくは６０重量％以上、より好ましくは７０重量％以上、かつ１００重量％以下、上記共重合性単量体を、０重量％以上、通常５０重量％以下、好ましくは４０重量％以下、より好ましくは３０重量％以下の割合で共重合させることが望ましい。
【００７６】
本発明で用いる開環重合体としては、単量体（６）の単独重合体、または２種以上の単量体（６）の共重合体が最も好ましい。
〈開環（共）重合触媒〉
本発明に用いられる開環（共）重合用の触媒としては、Olefin Metathesis and Metathesis Polymerization(K.J.IVIN,J.C.MOL, Academic Press 1997)に記載されている触媒が好ましく用いられる。
【００７７】
このような触媒としては、たとえば、（ａ）Ｗ、Ｍｏ、Ｒｅ、ＶおよびＴｉの化合物から選ばれた少なくとも１種と、（ｂ）Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｐｂなどの化合物であって、少なくとも１つの当該元素−炭素結合あるいは当該元素−水素結合を有するものから選ばれた少なくとも１種との組合せからなるメタセシス重合触媒が挙げられる。この触媒は、触媒の活性を高めるために、後述の添加剤（ｃ）が添加されたものであってもよい。また、その他の触媒として（ｄ）助触媒を用いない周期表第４族〜８族遷移金属−カルベン錯体やメタラシクロブタン錯体などからなるメタセシス触媒が挙げられる。
【００７８】
上記（ａ）成分として適当なＷ、Ｍｏ、Ｒｅ、ＶおよびＴｉの化合物の代表例としては、ＷＣｌ6、ＭｏＣｌ5、ＲｅＯＣｌ3、ＶＯＣｌ3、ＴｉＣｌ4など特開平１−２４０５１
７号公報に記載の化合物を挙げることができる。
【００７９】
上記（ｂ）成分としては、ｎ−Ｃ4Ｈ9Ｌｉ、（Ｃ2Ｈ5）3Ａl、（Ｃ2Ｈ5）2ＡｌＣｌ、
（Ｃ2Ｈ5）1.5ＡｌＣｌ1.5、（Ｃ2Ｈ5）ＡｌＣｌ2、メチルアルモキサン、ＬｉＨなど特
開平１−２４０５１７号公報に記載の化合物を挙げることができる。
【００８０】
添加剤である（ｃ）成分の代表例としては、アルコール類、アルデヒド類、ケトン類、アミン類などが好適に用いることができ、さらに特開平１−２４０５１７号公報に示される化合物を使用することができる。
【００８１】
上記触媒（ｄ）の代表例としては、Ｗ(＝Ｎ−２,６−Ｃ6Ｈ3 iＰｒ2)(＝ＣＨ tＢｕ)(
Ｏ tＢｕ)2、Ｍｏ(＝Ｎ−２,６−Ｃ6Ｈ3 iＰｒ2)(＝ＣＨ tＢｕ)(Ｏ tＢｕ)2、Ｒｕ(＝ＣＨＣＨ＝ＣＰｈ2)(ＰＰｈ3)2Ｃｌ2、Ｒｕ(＝ＣＨＰｈ)(ＰＣ6Ｈ11)2Ｃｌ2などが挙げられる。
【００８２】
メタセシス触媒の使用量としては、上記（ａ）成分と、全単量体（ノルボルネン系単量体（Ｉｍ）、（IIｍ）および他の共重合可能な単量体。以下、同じ）とのモル比で「（ａ）成分：全単量体」が、通常１：５００〜１：５００,０００となる範囲、好ましくは１
：１,０００〜１：１００,０００となる範囲であるのが望ましい。（ａ）成分と（ｂ）成分との割合は、金属原子比で「（ａ）：（ｂ）」が１：１〜１：１００、好ましくは１：２〜１：５０の範囲であるのが望ましい。また、このメタセシス触媒に上記（ｃ）添加剤を添加する場合、（ａ）成分と（ｃ）成分との割合は、モル比で「（ｃ）：（ａ）」が０．００５：１〜１５：１、好ましくは０．０５：１〜７：１の範囲であるのが望ましい。また、触媒（ｄ）の使用量は、（ｄ）成分と全単量体とのモル比で「（ｄ）成分：全単量体」が、通常１：５０〜１：１００,０００となる範囲、好ましくは１：１００〜１：５
０,０００となる範囲であるのが望ましい。
【００８３】
〈分子量調節剤〉
開環（共）重合体の分子量の調節は重合温度、触媒の種類、溶媒の種類によっても行うことができるが、本発明においては、分子量調節剤を反応系に共存させることにより調節することが好ましい。ここに、好適な分子量調節剤としては、たとえば、エチレン、プロ
ピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセンなどのα−オレフィン類、スチレン、ビニルトルエンなどのスチレン類、アリル酢酸、アリルベンゼンなどアリル化合物類を挙げることができ、これらのうち、１−ブテン、１−ヘキセン、１−オクテンが特に好ましい。これらの分子量調節剤は、単独であるいは２種以上を混合して用いることができる。分子量調節剤の使用量としては、開環（共）重合反応に供される全単量体１モルに対して０．００１〜０．６モル、好ましくは０．０２〜０．５モルであるのが望ましい。
【００８４】
〈開環（共）重合反応用溶媒〉
開環（共）重合反応において用いられる溶媒、すなわち、ノルボルネン系単量体、メタセシス触媒および分子量調節剤を溶解する溶媒としては、たとえば、石油エーテル、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカンなどの炭化水素類；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、デカリン、ノルボルナンなどの環状炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類；ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロブタン、クロロホルム、テトラクロロエチレンなどのハロゲン化炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉｓｏ−ブチル、プロピオン酸メチルなどのエステル類；ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジオキサンなどのエーテル類；Ｎ，Ｎ−１１ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどを挙げることができ、これらは単独であるいは混合して用いることができる。本発明では、これらのうち、芳香族炭化水素が好ましい。
【００８５】
溶媒の使用量としては、「溶媒：全単量体（重量比）」が、通常０．５：１〜２０：１となる量とされ、好ましくは０．５：１〜１０：１となる量であるのが望ましい。
［水素添加］
本発明では、上記の開環重合のみによりノルボルネン系重合体（Ｂ）を製造してもよいが、開環重合で得た開環重合体をさらに水素添加することが好ましい。開環重合のみでは、得られるノルボルネン系重合体は、上述の式（II）で表される構造単位（II）中のＸが、いずれも、式：−ＣＨ＝ＣＨ−で表されるオレフィン性不飽和基の状態である。かかる開環重合体は、そのまま使用することもできるが、耐熱安定性の観点から、上記のオレフィン性不飽和基が水素添加されて前記Ｘが−ＣＨ2−ＣＨ2−で表される基に転換された水素添加物であることが好ましい。ただし、本発明でいう水素添加物とは、上記のオレフィン性不飽和基が水素添加されたものであり、ノルボルネン系単量体に基づく側鎖の芳香環は実質的に水素添加されていないものである。
【００８６】
なお、水素添加する割合としては、上記構造単位（II）におけるＸの９０モル％以上、好ましくは９５％以上、さらに好ましくは９７％以上であるのが望ましい。水素添加する割合が高いほど、熱による着色や劣化が抑制することができるため好ましい。
【００８７】
この製造方法では、水素添加反応は、単量体（６）に基づく側鎖の芳香環が実質的に水素添加されない条件で行われる必要がある。このため通常は、開環重合体の溶液に水素添加触媒を添加し、これに常圧〜３０ＭＰａ、好ましくは２〜２０ＭＰａ、更に好ましくは３〜１８ＭＰａで水素を作用させることによって行うのが望ましい。
【００８８】
水素添加触媒としては、通常のオレフィン性化合物の水素添加反応に用いられるものを使用することができる。この水素添加触媒としては、公知の不均一系触媒および均一系触媒をいずれも用いることができる。不均一系触媒としては、パラジウム、白金、ニッケル、ロジウム、ルテニウムなどの貴金属触媒物質を、カーボン、シリカ、アルミナ、チタニアなどの担体に担持させた固体触媒を挙げることができる。また、均一系触媒としては、ナフテン酸ニッケル／トリエチルアルミニウム、ビス（アセチルアセトナト）ニッケル（
II）／トリエチルアルミニウム、オクテン酸コバルト／ｎ−ブチルリチウム、チタノセンジクロリド／ジエチルアルミニウムモノクロリド、酢酸ロジウム、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、クロロヒドロカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ジクロロカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウムなどを挙げることができる。触媒の形態は粉末でも粒状でもよい。また、この水素添加反応触媒は、１種単独でも２種以上を組み合わせても使用することができる。
これらの水素添加触媒は、単量体（６）もしくは他の単量体に基づく側鎖の芳香環が実質的に水素添加されないようにするために、その添加量を調整する必要があるが、通常は、「開環（共）重合体：水素添加触媒（重量比）」が、１：１×１０-6〜１：２となる割合で使用するのが望ましい。
精製方法としてはスチレン系共重合体（Ａ）と同様の方法を採用することができる。
【００８９】
［付加型（共）重合体］
本発明では、ノルボルネン系重合体（Ｂ）として、上記開環（共）重合体およびその水素添加重合体の他に、１種単独または２種以上の上記単量体（６）からなる付加型（共）重合体、および上記単量体（６）と不飽和二重結合含有化合物との付加型（共）重合体を使用することができる。１種単独または２種以上の上記単量体（６）の（共）重合反応により生成する付加型（共）重合体は、従来公知の方法により得ることができる。また、上記単量体（６）と不飽和二重結合含有化合物は、これらの合計量１００重量％に対して、上記単量体（６）を通常５０〜９０重量％、好ましくは６０〜９０重量％、より好ましくは７０〜９０重量％、不飽和二重結合含有化合物を通常１０〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％、より好ましくは１０〜３０重量％の割合で共重合させることが望ましい。
上記不飽和二重結合含有化合物としては、たとえば、エチレン、プロピレン、ブテンなどの炭素数２〜１２、好ましくは２〜８のオレフィン系化合物を挙げることができる。
【００９０】
上記単量体（６）と不飽和二重結合含有化合物との共重合反応に用いられる触媒としては、バナジウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる触媒が挙げられる。バナジウム化合物としては、ＶＯ（ＯＲ）aＸbまたはＶ（ＯＲ）cＸd（ただし、Ｒは炭化水素基、０≦ａ≦３、０≦ｂ≦３、２≦ａ＋ｂ≦３、０≦ｃ≦４、０≦ｄ≦４、３≦ｃ＋ｄ≦４）で表されるバナジウム化合物、あるいはこれらの電子供与体付加物が挙げられる。電子供与体としてはアルコール、フェノール類、ケトン、アルデヒド、カルボン酸、有機酸または無機酸のエステル、エーテル、酸アミド、酸無水物、アルコキシシラン等の含酸素電子供与体、アンモニア、アミン、ニトリル、イソシアナート等の含窒素電子供与体などが挙げられる。上記有機アルミニウム化合物としては、アルミニウム−炭素結合またはアルミニウム−水素結合を少なくとも１つ有する化合物から選ばれた少なくとも１種の有機アルミニウム化合物が挙げられる。上記触媒におけるバナジウム化合物と有機アルミニウム化合物との割合は、バナジウム原子に対するアルミニウム原子の比（Ａｌ／Ｖ）で、通常２以上、好ましくは２〜５０、特に好ましくは３〜２０である。
上記共重合反応に用いられる溶媒としては、たとえば、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン等の炭化水素類；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の環状炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素およびそのハロゲン誘導体を挙げることができる。これらのうち、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンが好ましい。
【００９１】
精製方法としては、上記スチレン系共重合体（Ａ）と同様の方法を採用することができる。
本発明に用いられるノルボルネン系重合体（Ｂ）は、３０℃のクロロベンゼン溶液（濃度０．５ｇ／ｄＬ）中で測定した対数粘度（η）が、０．３〜２．０ｄＬ／ｇであること
が好ましい。また、ノルボルネン系重合体（Ｂ）のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定されるポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は、通常１，０００〜５００，０００、好ましくは３，０００〜３００，０００、さらに好ましくは５，０００〜１００，０００であり、重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常１０，０００〜１，０００，０００、好ましくは２０，０００〜５００，０００、さらに好ましくは３０，０００〜２００，０００であることが望ましい。
【００９２】
分子量が小さすぎると、得られる成形品やフィルムの強度が低くなることがある。分子量が大きすぎると、溶液粘度が高くなりすぎて本発明に用いる樹脂組成物の生産性や加工性が悪化することがある。
【００９３】
また、ノルボルネン系重合体（Ｂ）の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、通常１．５〜１０、好ましくは２〜８、さらに好ましくは２〜６であることが望ましい。
ノルボルネン系重合体（Ｂ）のガラス転移温度（Ｔｇ）は、通常１００〜２５０℃であり、好ましくは１１０〜２２０℃、さらに好ましくは１１５〜２００℃である。Ｔｇが低すぎると、熱変形温度が低くなるため、耐熱性に問題が生じるおそれがあり、また、得られる成形品やフィルムの温度による光学特性の変化が大きくなるという問題が生じることがある。一方、Ｔｇが高すぎると、加工温度を高くする必要があり、これにより樹脂組成物が熱劣化することがある。
【００９４】
＜樹脂組成物＞
本発明に係る樹脂組成物は、上記スチレン系共重合体（Ａ）とノルボルネン系重合体（Ｂ）との組成比（（Ａ）／（Ｂ））が、重量比で５／９５〜７０／３０、好ましくは１５／８５〜６０／４０、より好ましくは２０／８０〜５０／５０の範囲であることが好ましい。スチレン系共重合体（Ａ）の配合量が上記範囲にあると、樹脂組成物を製膜後、延伸することにより逆波長分散性を有する光学フィルムを得ることができる。また、フィルムとした場合の強度も向上する。スチレン系共重合体（Ａ）の配合量が上記下限未満になると、樹脂組成物から得られる延伸フィルムが逆波長分散性を示さないことがある。また、スチレン系共重合体（Ａ）の配合量が上記上限を超えると、得られる樹脂組成物や光学フィルムの耐熱性が低下したり、光学フィルムの強度が低下したりすることがある。
【００９５】
本発明の樹脂組成物は、さらに炭化水素樹脂を含有していてもよい。この炭化水素樹脂としては、Ｃ5系樹脂、Ｃ9系樹脂、Ｃ5系／Ｃ9系混合樹脂、シクロペンタジエン系樹脂、オレフィン／ビニル置換芳香族系化合物の共重合体系樹脂、シクロペンタジエン系化合物／ビニル置換芳香族系化合物の共重合体系樹脂、これらの樹脂の水素添加物およびビニル置換芳香族系樹脂の水素添加物などを挙げることができる。炭化水素樹脂の含有量は、ノルボルネン系重合体（Ｂ）１００重量部に対して、通常０．０１〜５０重量部、好ましくは０．１〜２５重量部である。
【００９６】
本発明の樹脂組成物は、耐熱劣化性や耐光性の改良のために下記に示す酸化防止剤、紫外線吸収剤等を添加しても良い。
酸化防止剤としては、２,６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２,２'−ジオ
キシ−３,３'−ジ−ｔ−ブチル−５,５'−ジメチルジフェニルメタン、テトラキス［メチレン−３−（３,５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタ
ン、１,１,３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１,３,５−トリメチル−２,４,６−トリス（３,５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）ベンゼン、ステアリル−β−（３,５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネート、２,２'−ジオキシ−３,３'−ジ−ｔ−ブチル−５,５'−ジエチルフェニルメタン、３,９−ビス［１,１−ジメチル−２−（β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］、２,４,８,１０−テト
ラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、トリス（２,４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホス
ファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２,４−ジ−ｔ−ブチルフェニル
）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（２,６−ジ−ｔ−ブチル−
４−メチルフェニル）ホスファイト、２,２−メチレンビス（４,６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイトが挙げられる。
【００９７】
紫外線吸収剤としては、２,４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−
メトキシベンゾフェノン、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール-２-イル）-４,６-ビス（１-メチル-１-フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール-２-イル）-
４,６-ジ-tert-ペンチルフェノール、２-ベンゾトリアゾール-２-イル４,６-ジ-tert-ブ
チルフェノール、２,２'-メチレンビス〔４-（１,１,３,３-テトラメチルブチル）-６-[
（２Ｈ−ベンゾトリアゾール-２-イル）フェノール]〕などが挙げられる。
【００９８】
また、本発明の樹脂組成物を必要に応じて着色する場合には、溶液に染料、顔料等の着色剤を適宜添加することもできる。さらに、光学フィルム等の用途に用いる場合には、表面平滑性を向上させるためにレベリング剤を添加してもよい。一般的なレベリング剤であれば何れも使用できるが、たとえば、フッ素系ノニオン界面活性剤、特殊アクリル樹脂系レベリング剤、シリコーン系レベリング剤などが使用できる。
これらの添加剤の添加量は、本樹脂組成物１００重量部に対して、通常、０．０１〜５重量部、好ましくは０．０５〜４重量部である。
さらに、加工性を向上させる目的で滑剤などの添加剤を添加することもできる。
【００９９】
本発明の樹脂組成物は、スチレン系共重合体（Ａ）が、ノルボルネン系重合体（Ｂ）に対して優れた相溶性を示すため、スチレン系共重合体（Ａ）を任意の量で含むものとすることができ、スチレン系共重合体（Ａ）の含有率が高い樹脂組成物をも安定した組成物として好適に製造することができる。
【０１００】
本発明の樹脂組成物は、光学用途に好適に使用でき、高分子量の重合体を含有するため、これを用いてフィルム強度に優れた光学フィルムを製造することができる。
＜樹脂組成物の製造方法＞
本発明の樹脂組成物は、例えば、下記（ｉ）〜（iii）の方法により得ることができる
。
（ｉ）スチレン系共重合体（Ａ）とノルボルネン系重合体（Ｂ）と任意成分とを、二軸押出機またはロール混練機などを用いて混合する方法。
（ii）ノルボルネン系重合体（Ｂ）を適当な溶媒に溶解した溶液に、スチレン系共重合体（Ａ）を添加、混合する方法。
（iii）スチレン系共重合体（Ａ）またはその溶液とノルボルネン系重合体（Ｂ）または
その溶液とを混合溶解し、デボラチライターやルーダー等を用いて脱溶する方法。
【０１０１】
この際に使用する溶剤としては、スチレン系共重合体（Ａ）またはノルボルネン系重合体（Ｂ）の製造に使用する重合溶媒や、光学フィルムの溶剤キャスト法で用いる一般的な溶剤を用いることができる。
【０１０２】
実施例
以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、以下の実施例および比較例において、「部」および「％」は、特に断りのない限り、「重量部」および「重量％」を意味する。また、室温とは２５℃である。
【０１０３】
以下の実施例、比較例において、各種測定および評価は以下のようにして行った。
［ガラス転移温度（Ｔｇ）］
セイコーインスツルメンツ社製ＤＳＣ６２００を用いて、昇温速度を毎分２０℃、窒素気流下で測定した。ガラス転移温度（Ｔｇ）は、微分示差走査熱量の最大ピーク温度（Ａ点）および最大ピーク温度より−２０℃の温度（Ｂ点）を示差走査熱量曲線上にプロットし、Ｂ点を起点とするベースライン上の接線とＡ点を起点とする接線との交点として求めた。
【０１０４】
［メルトフローレート（ＭＦＲ）］
ＪＩＳ  Ｋ７２１０に準拠して、９８N荷重、２６０℃でのＭＦＲを測定した。
［重量平均分子量（Ｍｗ）および分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）］
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（東ソー（株）製ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ、カラム：東ソー（株）製ガードカラムＨXL−Ｈ、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ７０００ＨXL、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨXL２本、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ２０００ＨXLを順次連結、溶媒：テトラヒドロ
フラン、流速：１ｍＬ／ｍｉｎ、サンプル濃度：０．７〜０．８重量％、注入量：７０μＬ、測定温度：４０℃とし、検出器：ＲＩ（４０℃）、標準物質：東ソー（株）製ＴＳＫスタンダードポリスチレン）を用い、重量平均分子量（Ｍｗ）および分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を測定した。なお、前記Ｍｎは数平均分子量である。
【０１０５】
［重合反応率］
アルミニウム製容器中に秤量した重合反応溶液を、３００℃に熱したホットプレートで恒温となるまで加熱し、残留モノマーおよび溶媒を除去した後、残留した重合体重量を計測し、理論上の重合体生成量との比から反応率を求めた。
【０１０６】
［重合体分子構造］
超伝導核磁気共鳴吸収装置（ＮＭＲ、Ｂｒｕｋｅｒ社製、商品名：ＡＶＡＮＣＥ５００）を用い、重水素化クロロホルム中で13Ｃ−ＮＭＲを測定し、共重合組成比およびブトキシ基のＯＨ基への変換率（変換率）を算出した。
【０１０７】
［引き裂き強度］
フィルムの引き裂き強度をＪＩＳ  Ｋ６７７２に準じて測定した。
［ブレンドフィルムのＣｒ値］
樹脂組成物から厚さ約１００μｍのブレンドフィルムを製造し、８０×１０ｍｍ程度の大きさに切り出した試験片を５つ作成する。試験片にそれぞれ重さが異なる荷重をかけ、試験片のＴｇ＋２０℃に設定した熱風乾燥機に入れ３０分間放置し、延伸させた。３０分後、扉を開けずに熱風乾燥機の電源を落とし、約２時間かけて室温まで冷却する。冷却完了後、試験片を取り出し、延伸後の膜厚・幅・長さを測り、延伸された試験片の５５０ｎｍにおける位相差を測定した。
【０１０８】
位相差はＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器社製）を用いて測定した。下記式に従い、それぞれの試験片について応力（σ）と複屈折（ΔＮ）を求め、σ―ΔＮプロットの傾きから下記式によりＣｒ値を求めた。
【０１０９】
式：σ＝Ｆ／（ｄ・ｗ）
（Ｆ：荷重、ｄ＝延伸後の試験片厚み、ｗ＝延伸後の試験片幅）
式：ΔＮ＝Ｒｅ／ｄ
（Ｒｅ：位相差、ｄ：延伸後の試験片厚み）
式：Ｃｒ＝ΔＮ／σ
（単位：Ｂｒ＝１０-12Ｐａ-1）
［成形品のＣｒ値］
樹脂組成物をプレス成形により０．５×５×５０ｍｍ程度の大きさに加工して得た成形
品（プレス成形シート）を試験片とし、これを用いたこと以外は上記のブレンドフィルムと同じ方法でＣｒ値を求めた。
【０１１０】
［位相差測定］
フィルムあるいは成形品について、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおける位相差（レターデーション）を自動複屈折計（王子計測機器（株）製、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用いて測定した。
【０１１１】
［合成例１］
単量体として８−メチル−８−カルボキシメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．
１7,10］−３−ドデセン１００重量部、分子量調節剤として１−ヘキセン４重量部、および溶媒としてトルエン２００重量部を窒素置換した反応容器に加え、８０℃に加熱した。これにトリエチルアルミニウムのトルエン溶液（０．６ｍｏｌ／ｌ）０．２１ｍｌ、およびメタノール変性ＷＣｌ6のトルエン溶液（０．０２５ｍｏｌ／ｌ）０．８６ｍｌを加え
、８０℃で１時間反応させることにより開環重合体を得た。
【０１１２】
得られた開環重合体の溶液に水素添加反応触媒であるＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ6Ｈ5）3］3を０．０４ｇ添加し、水素ガス圧を９〜１０ＭＰａとし、１６０〜１６５℃の温度で、３時間反応させた。反応終了後、得られた生成物を多量のメタノール中で沈殿させることにより水素添加物を得た［ガラス転移温度（Ｔｇ）＝１６７℃、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１４．４×１０4、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝５．０、対数粘度０．７９ｄＬ／
ｇ、収量９０ｇ（収率９０％）］。この水素添加物をメタノールで再沈殿させて回収した後、乾燥して環状オレフィン系重合体（Ｂ−１）を得た。
【０１１３】
［合成例２］
５−メチル−５−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン（ＮＭ）２５重量部、８−メチル−８−カルボキシメチルテトラシクロ［４．４．０．１2,5．
１7,10］−３−ドデセン（ＤＮＭ）５０重量部、トルエン２００重量部、１−ヘキセン４．４重量部を仕込み、８０℃に昇温した。これに、トリエチルアルミウム０．０４０重量部、メタノール変性ＷＣｌ6（無水メタノール：ＰｈＰＯＣｌ２：ＷＣｌ6＝１０３：６３０：４２７（重量比））０．０７０重量部を加えて反応を開始した。反応開始と同時にＤＮＭ２５重量部を１２分かけて滴下し、さらに１時間反応させた。反応後のＮＭとＤＮＭのコンバージョンはそれぞれ、９６．２％、９７．２％であった。
【０１１４】
トルエン１１０重量部、ＲｕＨ(ＯＣＯＰｈ-Ｃ5Ｈ11)(ＣＯ)(ＰＰｈ3)2ルテニウム水素化触媒０．０４１８重量部を加え、水素置換を３回行い８ＭＰａに昇圧した。その後反応機の内温を１６０℃に上げて、１０ＭＰａに圧力を設定し、３ｈの水添反応を行なった。水添後の1Ｈ−ＮＭＲ分析により９９．９％以上の水添率であった。
【０１１５】
反応終了後、トルエン１００重量部を加え希釈して、蒸留水３重量部、乳酸０．７２重量部、過酸化水素０．００２１４重量部を加え６０℃、３０分加熱した。その後メタノール２３４重量部を加え６０℃、３０分加熱した。２５℃まで冷却すると２層に分離した。上澄み液３３３重量部を除去し、トルエン２０２重量部、水３重量部を加え６０℃、３０分加熱した。その後メタノール１３２重量部を加え６０℃、３０分加熱した。２５℃まで冷却すると２層に分離した。再度、上澄み液３３３重量部を除去し、トルエン２０２重量部、水３重量部を加え６０℃、３０分加熱した。その後メタノール１３２重量部を加え６０℃、３０分加熱した。２５℃まで冷却すると２層に分離した。最後に上澄み液３３３重量部を除去後、乾燥して環状オレフィン系重合体（Ｂ−２）を得た。
【０１１６】
［合成例３］
攪拌機、コンデンサー、温度計を備えたガラス製フラスコにスチレン８３．３２ｇ（０．８００ｍｏｌ）、ｐ−イソプロペニルフェノール１２．６３ｇ（０．０９４ｍｏｌ）、アクリル酸メチル４．０５ｇ（０．０４７ｍｏｌ）、溶媒としてトルエン５０ｇ、およびラジカル開始剤として１，１'−アゾビス（シクロヘキサン−1−カルボニトリル）０．９２ｇ（３．８ｍｍｏｌ）を加え、これを窒素で１０分間バブリングした後、９０℃で１５時間反応させて、スチレン／ｐ−イソプロペニルフェノール／アクリル酸メチル共重合体であるスチレン系共重合体（Ａ−１）を得た。
【０１１７】
得られた共重合体（Ａ−１）は、反応率７５％、重量平均分子量（Ｍｗ）＝４３０００、数平均分子量（Ｍｎ）＝２５０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．７、ガラス転移温度（Ｔｇ）＝１０５℃であった。
【０１１８】
［合成例４］
スチレン７９．０９ｇ（０．７５９ｍｏｌ）、ｐ−イソプロペニルフェノール１２．７４ｇ（０．０９５ｍｏｌ）、アクリル酸メチルを８．１７ｇ（０．０９５ｍｏｌ）用いたこと以外は合成例３と同様にしてスチレン／ｐ−イソプロペニルフェノール／アクリル酸メチル共重合体であるスチレン系共重合体（Ａ−２）を得た。
【０１１９】
得られた共重合体（Ａ−２）は、反応率７２％、重量平均分子量（Ｍｗ）＝３９０００、数平均分子量（Ｍｎ）＝２１０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．９、ガラス転移温度（Ｔｇ）＝１０１℃であった。
【０１２０】
［合成例５］
スチレン７０．４１ｇ（０．６７６ｍｏｌ）、ｐ−イソプロペニルフェノール１２．９６ｇ（０．０９７ｍｏｌ）、アクリル酸メチルを１６．６３ｇ（０．１９３ｍｏｌ）用いたこと以外は合成例３と同様にしてスチレン／ｐ−イソプロペニルフェノール／アクリル酸メチル共重合体であるスチレン系共重合体（Ａ−３）を得た。
【０１２１】
得られた共重合体（Ａ−３）は、反応率７０％、重量平均分子量（Ｍｗ）＝４８０００、数平均分子量（Ｍｎ）＝２５０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．９、ガラス転移温度（Ｔｇ）＝９７℃であった。
【０１２２】
［合成例６］
スチレン８７．４８ｇ（０．８３９９ｍｏｌ）、ｐ−イソプロペニルフェノール１２．５２ｇ（０．０９３３ｍｏｌ）を用い、アクリル酸メチルを用いなかったこと以外は合成例３と同様にしてスチレン／ｐ−イソプロペニルフェノール共重合体であるスチレン系共重合体（Ａ−４）を得た。
【０１２３】
得られた共重合体（Ａ−４）は、反応率７７％、重量平均分子量（Ｍｗ）＝４５０００、数平均分子量（Ｍｎ）＝２６０００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝１．７、ガラス転移温度（Ｔｇ）＝１０８℃であった。
【０１２４】
［実施例１］
合成例１で得た環状オレフィン系共重合体（Ｂ−１）のペレット８．５８ｇと、合成例３で得たスチレン系共重合体（Ａ−１）のペレット４．６２ｇとをブレンドした樹脂組成物を、ジクロロメタンに溶解した後、A４ガラス板に流して、厚さ１００μｍのブレンド
フィルムを作製した。得られたブレンドフィルムを用いて、上記の方法によりＣｒ値を測定した。また、ブレンドフィルムをＴｇ＋５℃において１．８倍に一軸延伸し、得られた延伸フィルムの位相差を測定したところ、５５０ｎｍにおける位相差（Ｒｅ ５５０）は
１６２ｎｍであった。樹脂組成物のＴｇおよびＭＦＲ、ブレンドフィルムのＣｒ値および
引裂き強度、延伸フィルムの位相差測定結果を、表１に示す。
【０１２５】
［実施例２］
合成例１で得た環状オレフィン系共重合体（Ｂ−１）のペレット５５重量部と、合成例３で得たスチレン系共重合体（Ａ−１）のペレット４５重量部とをブレンドした樹脂組成物を、射出成形機「ＳＧ７５Ｍ−Ｓ」（住友重機製：シリンダー径２８ｍｍ、型締め力７５ｔｏｎ）を用いて、樹脂温度３００℃、金型温度１３０℃、射出速度１００ｍｍ／ｓｅｃ、ホッパーおよびシリンダーを窒素シールした条件で射出成形することにより、幅６０ｍｍ、長さ８０ｍｍ、厚さ１ｍｍの短冊状射出成形体を得た。なお、成形材料は予め真空乾燥機にて、１００℃、４時間の条件で乾燥を行い、射出成形はホッパーとシリンダーを窒素で充満した条件下で行った。得られた射出成形体の位相差（Ｒｅ ５５０）は３．２
ｎｍであった。また、樹脂組成物の性状を表１に示す。また、上記の方法にて測定したプレス成形体のＣｒ値を表１に併せて示す。
【０１２６】
［実施例３］
合成例１で得た環状オレフィン系共重合体（Ｂ−１）のペレット８．５８ｇと、合成例４で得たスチレン系共重合体（Ａ−２）のペレット４．６２ｇとを用いたことの他は、実施例１と同様にして樹脂組成物、ブレンドフィルムおよびＴｇ＋５℃において１．８倍に延伸した延伸フィルムを得た。得られた延伸フィルムの位相差を測定したところ、５５０ｎｍにおける位相差（Ｒｅ ５５０）は１６２ｎｍであった。樹脂組成物のＴｇおよびＭ
ＦＲ、ブレンドフィルムのＣｒ値および引裂き強度、延伸フィルムの位相差測定結果を、表１に示す。
【０１２７】
［実施例４］
合成例１で得た環状オレフィン系共重合体（Ｂ−１）のペレット８．５８ｇと、合成例５で得たスチレン系共重合体（Ａ−３）のペレット４．６２ｇとを用いたことの他は、実施例１と同様にして樹脂組成物、ブレンドフィルムおよびＴｇ＋５℃において１．８倍に延伸した延伸フィルムを得た。得られた延伸フィルムの位相差を測定したところ、５５０ｎｍにおける位相差（Ｒｅ ５５０）は１６１ｎｍであった。樹脂組成物のＴｇおよびＭ
ＦＲ、ブレンドフィルムのＣｒ値および引裂き強度、延伸フィルムの位相差測定結果を、表１に示す。
【０１２８】
［実施例５］
合成例２で得た環状オレフィン系共重合体（Ｂ−２）のペレット８．５８ｇと、合成例３で得たスチレン系共重合体（Ａ−１）のペレット４．６２ｇとを用いたことの他は、実施例１と同様にして樹脂組成物、ブレンドフィルムおよびＴｇ＋５℃において１．８倍に延伸した延伸フィルムを得た。得られた延伸フィルムの位相差を測定したところ、５５０ｎｍにおける位相差（Ｒｅ ５５０）は５３ｎｍであった。樹脂組成物のＴｇおよびＭＦ
Ｒ、ブレンドフィルムのＣｒ値および引裂き強度、延伸フィルムの位相差測定結果を、表１に示す。
【０１２９】
［比較例１］
合成例１で得た環状オレフィン系共重合体（Ｂ−１）のペレット４．６２ｇと、合成例６で得たスチレン系共重合体（Ａ−４）のペレット８．５８ｇとを用いたことの他は、実施例１と同様にして樹脂組成物、ブレンドフィルムおよびＴｇ＋５℃において１．８倍に延伸した延伸フィルムを得た。得られた延伸フィルムの位相差を測定したところ、５５０ｎｍにおける位相差（Ｒｅ ５５０）は１４１ｎｍであった。樹脂組成物のＴｇおよびＭ
ＦＲ、ブレンドフィルムのＣｒ値および引裂き強度、延伸フィルムの位相差測定結果を、表１に示す。
【０１３０】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【０１３１】
本発明の樹脂組成物は、高分子量のスチレン系共重合体を含む場合にも、相溶性に特に優れるとともに透明性に優れ、製膜性にも優れる。このため本発明の樹脂組成物は、各種光学材料の成形用途に好適に用いられ、特に光学フィルム用途に好適に用いることができ、光学特性および強度に優れた光学フィルムの製造に好適に使用できる。また、本発明の樹脂組成物から得られる光学フィルムを延伸すると、入射光波長が長波長になるに従い位相差が増大する、いわゆる逆波長分散性を発現させることもできるため、各種液晶表示装置や偏光板等に使用することができる。また、スチレン系共重合体（Ａ）とノルボルネン系重合体（Ｂ）との組成比をコントロールすることにより、位相差の大きさや波長分散性を容易にコントロールすることが可能であるため、低複屈折性を要求される光学部品等にも使用することができる。