(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着法、塗布法、無電解めっき法、電解めっき法、フィルム基材を構成する樹脂と薄膜を構成する樹脂とを共押出する方法、フィルム基材の表面に熱可塑性樹脂を含有する溶液を塗布し乾燥する方法、又はフィルム基材面に硬化性樹脂の組成物を塗布し硬化する方法によって、面内の少なくとも一つの軸方向に収縮させることができるフィルム基材の少なくとも一方の表面に薄膜を形成して積層体を得る工程、および
該積層体を面内の少なくとも一つの軸方向に収縮させて薄膜を褶曲させる工程を含む、
表面に微細な凹凸形状Ｂを有する第一層と、前記凹凸形状Ｂの上に積層され且つ前記凹凸形状Ｂの形状に対応するように褶曲してなる第二層とを含んでなり且つ表面に微細な凹凸形状Ａを有するフィルムの製造方法において、
フィルム基材表面に薄膜を形成する前に褶曲誘起構造をフィルム基材の表面に形成する、又はフィルム基材表面に薄膜を形成した後で且つ該基材を収縮させる前に褶曲誘起構造を薄膜に形成する工程を有する製造方法。
【請求項２】
主たる収縮方向の収縮率ΔＬを式〔１〕、主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔＭを式〔２〕で表した時、ΔＬおよびΔＭが式〔３〕および式〔４〕を満たす、請求項１に記載のフィルムの製造方法。
式〔１〕：ΔＬ＝（Ｌ０−Ｌ１）／Ｌ０×１００（Ｌ０：主たる収縮方向の収縮前の長さ、Ｌ１：主たる収縮方向の収縮後の長さ）
式〔２〕：ΔＭ＝（Ｍ０−Ｍ１）／Ｍ０×１００（Ｍ０：主たる収縮方向に直交する方向の収縮前の長さ、Ｍ１：主たる収縮方向に直交する方向の収縮後の長さ）
式〔３〕：ΔＬ＞０
式〔４〕：−（ΔＬ×０．３）≦ΔＭ≦ΔＬ
【請求項３】
ΔＬおよびΔＭが式〔５〕を満たす、請求項２に記載のフィルムの製造方法。
式〔５〕：−（ΔＬ×０．２）≦ΔＭ≦（ΔＬ×０．２）
【請求項４】
微細な凹凸形状が、面内でストライプ状に細長く伸びた構造である、請求項３に記載のフィルムの製造方法。
【請求項５】
微細な凹凸形状は、凸部の頂点間の距離の変動係数が４０％以下である、請求項１〜４のいずれかに記載のフィルムの製造方法。
【請求項６】
前記薄膜の厚さが１ｎｍ〜５０μｍである、請求項１〜５のいずれかに記載のフィルムの製造方法。
【請求項７】
前記薄膜が無機物質からなるものであり、かつ前記薄膜の厚さが１ｎｍ〜５００ｎｍである、請求項１〜５のいずれかに記載のフィルムの製造方法。
【請求項８】
前記薄膜が有機物質からなるものであり、かつ前記薄膜の厚さが１００ｎｍ〜５０μｍである、請求項１〜５のいずれかに記載のフィルムの製造方法。
【請求項９】
前記有機物質が硬化性樹脂であり、硬化性樹脂からなる薄膜を形成する時の熱処理温度をフィルム基材のガラス転移温度より５℃以上低くする、請求項８に記載のフィルムの製造方法。
【請求項１０】
微細な凹凸形状の凸部の頂点間の平均距離が５０ｎｍ〜５０μｍである、請求項１〜９のいずれかに記載のフィルムの製造方法。
【請求項１１】
フィルム基材が、面内の少なくとも一つの方向に分子配向しているフィルムである、請求項１〜１０のいずれかに記載のフィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細な凹凸形状を有するフィルム、およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光の特性を制御する光学フィルムは、例えば、液晶ディスプレイ等に代表される光エレクトロニクス機器等に使用されている。光学フィルムとしては、光拡散フィルム、偏光フィルム、プリズムフィルム、反射フィルム、反射防止フィルム、位相差フィルム等が挙げられる。これらの光学フィルムは、フィルムを構成する材料の分子配向を制御したり、機能を付与する材料をフィルムに含有させたり、フィルム表面の立体構造を制御したりすることによって得られる。
液晶ディスプレイなどの表示装置では、表示画面の大面積化の検討が進められている。これに伴い、大面積の光学フィルムを高精度で生産することが要求されるようになった。【０００３】
フィルム表面に微細立体構造を形成する方法としては、リソグラフィーに基づく方法や表面に型を押し付ける方法が従来から知られている。
リソグラフィー法は、高精細な加工が可能であるが、大面積への加工には向かず、また加工コストが高くなる場合がある。
一方、ホットエンボス技術やナノインプリント技術など表面に型を押し付ける方法は、高精度な微細構造の形成が可能となってきているが、該手法は、高精細・大面積の型の製造が難しく、型が高価である。この方法で得られた凹凸形状を有するフィルムは、構造が微細になるほど、擦れ等により傷が付きやすく、凹凸形状が潰れるおそれがあった。また、紫外線硬化樹脂などを用いて、表面に型を押し付ける方法で得られる表面に凹凸形状を有するフィルムは、使用条件などによりそりが発生することがあった。【０００４】
フィルム表面に立体構造を形成する別の方法として、特許文献１には、基板に樹脂を塗布し、基板を湾曲させた状態で樹脂を変形させる方法が提案されている。しかし、この方法では、付与した構造の凸部頂点間の距離、凸部の高さと幅との比（アスペクト比）の形状制御が容易でなかった。
【特許文献１】特開２００３−２６６５７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、凹凸形状の凸部頂点間の距離、凸部の高さと幅との比（アスペクト比）、およびそれらの分布が自在に制御され、耐擦傷性に優れ、過酷な使用条件下でもそりなどが生じない、表面に微細凹凸形状を有するフィルムを提供することにある。
また本発明の目的は、凹凸形状の凸部頂点間の距離、凸部の高さと幅との比（アスペクト比）、およびそれらの分布が自在に制御できる表面に微細凹凸形状を有する大面積のフィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは、前記課題を解決すべく検討した結果、フィルム基材の少なくとも一方の表面に薄膜を形成して積層体を得、次いで該積層体を面内の少なくとも一つの軸方向に収縮させることによって、表面に微細凹凸形状を有するフィルムを容易に大面積で得ることができ、しかも、凸部頂点間の距離、アスペクト比およびその分布度合いを自在に制御できることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。【０００７】
すなわち、本発明は、以下の態様を含む。
（１）  フィルム基材の少なくとも一方の表面に薄膜を形成して積層体を得る工程、および
該積層体を面内の少なくとも一つの軸方向に収縮させて薄膜を褶曲させる工程を含む、
表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
（２）  主たる収縮方向の収縮率ΔＬを式〔１〕、主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔＭを式〔２〕で表した時、ΔＬおよびΔＭが式〔３〕および式〔４〕を満たす、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
式〔１〕：ΔＬ＝（Ｌ０−Ｌ１）／Ｌ０×１００  （Ｌ０：主たる収縮方向の収縮前の長さ、Ｌ１：主たる収縮方向の収縮後の長さ）
式〔２〕：ΔＭ＝（Ｍ０−Ｍ１）／Ｍ０×１００  （Ｍ０：主たる収縮方向に直交する方向の収縮前の長さ、Ｍ１：主たる収縮方向に直交する方向の収縮後の長さ）
式〔３〕：ΔＬ＞０
式〔４〕：−（ΔＬ×０．３）≦ΔＭ≦ΔＬ
（３）  ΔＬおよびΔＭが式〔５〕を満たす、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
式〔５〕：−（ΔＬ×０．２）≦ΔＭ≦（ΔＬ×０．２）
（４）  微細な凹凸形状が、面内でストライプ状に細長く伸びた構造である、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
（５）微細な凹凸形状は、凸部の頂点間の距離の変動係数が４０％以下である、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
【０００８】
（６）  前記薄膜の厚さが１ｎｍ〜５０μｍである、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
（７）  前記薄膜が無機物質からなるものであり、かつ前記薄膜の厚さが１ｎｍ〜５００ｎｍである、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
（８）  前記薄膜が有機物質からなるものであり、かつ前記薄膜の厚さが１００ｎｍ〜５０μｍである、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。【０００９】
（９）  前記有機物質が硬化性樹脂からなるものであり、硬化性樹脂からなる薄膜を形成する時の熱処理温度を基材フィルムのガラス転移温度より５℃以上低くする、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
（１０）  微細な凹凸形状の凸部の頂点間の平均距離が５０ｎｍ〜５０μｍである、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。
（１１）  フィルム基材が、面内の少なくとも一つの方向に分子配向しているフィルムである、前記の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法。【００１０】
（１２）  表面に微細凹凸形状Ｂを有する第一層と、前記凹凸形状Ｂの上に積層され且つ前記凹凸形状Ｂの形状に対応するように褶曲している第二層とを含んでなる、凸部の頂点間の平均距離が５０ｎｍ〜５０μｍである微細な凹凸形状Ａを有するフィルム。
（１３）  第二層の平均厚さが、微細凹凸形状Ａの平均高さの１０％〜１００％である、前記の微細な凹凸形状Ａを有するフィルム。
（１４）  第二層の厚さの変動係数が２０％以下である、前記の微細な凹凸形状Ａを有するフィルム。
（１５）  微細な凹凸形状Ａは、凸部の頂点間の距離の変動係数が８０％以下である、前記の微細な凹凸形状Ａを有するフィルム。
（１６）  微細な凹凸形状Ａは、２次元フーリエ変換して得られる空間周波数のパワースペクトルが一の方向に分布している、前記の微細な凹凸形状Ａを有するフィルム。
（１７）  微細な凹凸形状Ａが、面内でストライプ状に細長く伸びた構造である、前記の微細な凹凸形状Ａを有するフィルム。
（１８）  微細な凹凸形状Ａは、凸部の頂点間距離の変動係数が４０％以下である、前記の微細な凹凸形状Ａを有するフィルム。
（１９）  ヘイズが５０％以上であることを特徴とする、前記の微細な凹凸形状Ａを有するフィルム。
（２０）  前記の製造方法で得られる微細な凹凸形状Ａを有するフィルム。
（２１）  前記の微細な凹凸形状Ａを有するフィルムを含んでなる光学素子。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の製造方法によれば、表面に微細な凹凸形状を有するフィルムを容易に大面積で得ることができ、しかも、微細な凹凸形状の凸部頂点間の距離、アスペクト比、およびそれらの分布を自在に制御できる。
本発明の微細な凹凸形状を持つフィルムは、耐擦傷性が良好で、そりも少なく、光学素子として好適である。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】実施例３で得られた凹凸構造の表面走査型電子顕微鏡写真像を示す図
【図２】図１の電子顕微鏡写真像の２次元フーリエ変換像を示す図
【図３】実施例４で得られた凹凸構造の表面走査型電子顕微鏡写真像を示す図
【図４】本発明で得られる構造の断面模式図
【図５】本発明で得られる構造の断面模式図
【図６】比較例１（従来技術）で得られる構造の断面模式図
【図７】比較例２（従来技術）で得られる構造の断面模式図
【符号の説明】
【００１３】
１，１１：第一層（フィルム基材）
２，１２：第二層（薄膜）
３，１３：フィルム基材
４：紫外線硬化層
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
〔表面に微細凹凸形状を有するフィルムの製造方法〕
本発明の表面に微細な凹凸形状を有するフィルムの製造方法は、フィルム基材の少なくとも一方の表面に薄膜を形成して積層板を得る工程、及び該積層体を面内の少なくとも一つの軸方向に収縮させて薄膜を褶曲させる工程を含むものである。【００１５】
（フィルム基材）
本発明の製造方法に用いるフィルム基材は、薄膜を積層させた後に、面内の少なくとも一つの軸方向に収縮させることができるものであれば特に限定されない。例えば、フィルム基材自身が加熱などの手段によって収縮するものであってもよいし、一軸延伸させたときに延伸方向に直交する方向が収縮するものであってもよい。【００１６】
フィルム基材の収縮前の平均厚さは、ハンドリングの観点から通常５μｍ〜１ｍｍ、好ましくは２０〜２００μｍである。【００１７】
フィルム基材は、通常、樹脂や、ゴム若しくはエラストマーで形成されている。
樹脂としては、スチレン系樹脂、アクリル樹脂、メタクリル系樹脂、有機酸ビニルエステル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、オレフィン系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹脂、ポリスルホン系樹脂（例えば、ポリエーテルスルホン、ポリスルホンなど）、ポリフェニレンエーテル系樹脂（例えば、２，６−キシレノールの重合体など）、セルロース誘導体（例えば、セルロースエステル類、セルロースカーバメート類、セルロースエーテル類など）、シリコーン樹脂（例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサンなど）などが挙げられる。【００１８】
なお、脂環式オレフィン樹脂としては、特開平０５−３１０８４５号公報や米国特許第５１７９１７１号公報に記載されている環状オレフィンランダム共重合体、特開平０５−９７９７８号公報や米国特許第５２０２３８８号公報に記載されている水素添加重合体、特開平１１−１２４４２９号公報や国際公開９９／２０６７６号公報に記載されている熱可塑性ジシクロペンタジエン系開環重合体及びその水素添加物等が挙げられる。【００１９】
またゴム／エラストマーとしては、ポリブタジエン、ポリイソプレンなどのジエン系ゴム、スチレン−ブタジエン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴムなどが挙げられる。
フィルム基材の材料は、これらのうち、製造が容易な点から熱可塑性樹脂が好ましい。【００２０】
フィルム基材を構成する熱可塑性樹脂は、特に限定されないが、加工の容易さの観点からガラス転移温度が６０〜２００℃であるものが好ましく、１００〜１８０℃であるものがより好ましい。なお、ガラス転移温度は示差走査熱量分析（ＤＳＣ）により測定することができる。【００２１】
また、フィルム基材を構成する熱可塑性樹脂は、ポリスチレン換算の重量平均分子量が、好ましくは５，０００〜５００，０００、より好ましくは８，０００〜２００，０００、特に好ましくは１０，０００〜１００，０００である。重量平均分子量がこの範囲にあることにより成形加工性が良好となり、機械的強度を向上させることができる。この重量平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより測定することができる。【００２２】
フィルム基材を構成する樹脂や、ゴム又はエラストマーは、顔料や染料のごとき着色剤、蛍光増白剤、分散剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、酸化防止剤、塩素捕捉剤、難燃剤、結晶化核剤、ブロッキング防止剤、防曇剤、離型剤、有機又は無機の充填剤、中和剤、滑剤、分解剤、金属不活性化剤、汚染防止剤、蛍光増白剤、抗菌剤、拡散粒子、熱可塑性エラストマーその他の配合剤が適宜配合されたものであってもよい。【００２３】
フィルム基材は、その製法によって特に制限されない。フィルム基材の原反は、前述の樹脂等を公知のフィルム成形法で形成すること等によって得られる。フィルム成形法としては、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。【００２４】
加熱などの手段によってそれ自身が収縮するフィルム基材は、通常、面内で分子配向していることが好ましい。本来、分子は原子間結合角に応じた低いエネルギー配置状態になろうとする。分子が面内で規則的に並んだ状態は分子の結合状態に歪を含んでおり、高エネルギーの配置状態と言える。この高エネルギーの配置状態になっているフィルム基材を加熱などしたときに、分子が低エネルギーの配置状態に戻ろうとし、フィルム基材全体が収縮するのである。分子配向の状態は、公知の方法で測定することでき、例えば、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨを用いて測定することもできる。【００２５】
加熱などの手段によってそれ自身が収縮するフィルム基材は、例えば、前述の樹脂等を公知の成形法で原反フィルムに形成し、該原反フィルムを延伸することによって得ることができる。また、延伸処理の代わりに、磁場や電場を掛けて又はラビング処理して分子を配向させ収縮性を示すフィルム基材とすることができる。ゴム又はエラストマーを公知の成形法で弾性フィルムに形成し、該弾性フィルムを面内方向に引っ張った状態にすることで、弾性による復元力を利用した収縮性を示すフィルム基材とすることができる。さらに硬化性樹脂からなるフィルムをあらかじめ溶剤等で膨潤させ、該膨潤フィルムが乾燥する時に生じる収縮を利用して本発明に用いるフィルム基材とすることができる。これらのうち、原反フィルムを延伸することによって得られる収縮性を示すフィルム基材が好ましい。【００２６】
原反フィルムを延伸することによって得られる収縮性を示すフィルム基材は、その延伸方法によって特に制限されず、一軸延伸法、二軸延伸法のいずれで延伸したものであってもよい。二軸延伸の場合は、通常、フィルム面内の二つの方向に収縮することになる。
延伸処理する方法としては、ロール側の周速の差を利用して縦方向に一軸延伸する方法；テンター延伸機を用いて横方向に一軸延伸する方法等の一軸延伸法；固定するクリップの間隔を開いての縦方向の延伸と同時に、ガイドレールの広がり角度により横方向に延伸する同時二軸延伸法や、ロール間の周速の差を利用して縦方向に延伸した後、その両端部をクリップ把持してテンター延伸機を用いて横方向に延伸する逐次二軸延伸法などの二軸延伸法；横又は縦方向に左右異なる速度の送り力若しくは引張り力又は引取り力を付加できるようにしたテンター延伸機を用いてフィルムの幅方向に対して任意の角度θの方向に連続的に斜め延伸する方法；などが挙げられる。【００２７】
主たる収縮方向の収縮率が大幅に高くなると、主たる収縮方向に直交する方向に伸びが生じることがあり、その伸びによって凹凸形状に亀裂が生じることがある。この収縮時の亀裂発生を抑制することができるという観点から、（ｉ）延伸時の縦方向の収縮を好ましくは２０％以下、より好ましくは１５％以下に抑えて横方向に一軸延伸する（横一軸延伸法）か、（ｉｉ）縦方向及び横方向に二軸延伸するの（二軸延伸法）が好ましい。【００２８】
延伸に用いる装置として、例えば、縦一軸延伸機、テンター延伸機、バブル延伸機、ローラー延伸機等が挙げられる。【００２９】
延伸時の温度は、フィルム基材を構成する材料のガラス転移温度をＴｇとしたときに、好ましくは（Ｔｇ−３０℃）と（Ｔｇ＋６０℃）の間、より好ましくは（Ｔｇ−１０℃）と（Ｔｇ＋５０℃）の間の温度から選択される。
延伸倍率は、使用するフィルムの引張り特性に応じて、所望する凹凸形状のアスペクト比になるように適宜選択すればよい。なお、ここで言うアスペクト比とは凹凸形状中の凸部の垂直断面形状の高さと幅との比（＝高さ／幅）である。なお、凸部の垂直断面の形状が長方形または正方形以外のときには、アスペクト比を求めるときの凸部の幅は凸部の高さの１／２の高さにおける凸部の幅である。【００３０】
高アスペクト比の凹凸形状を得たい場合には、薄膜の膜質や厚さにもよるが、おおむね延伸倍率を高く設定する。低アスペクト比の凹凸形状を得たい場合には、延伸倍率を低く設定する。具体的には、主たる延伸方向の倍率Ｒ１を、通常１．０１〜３０倍、より好ましくは１．０１〜１０倍、より好ましくは１．０５〜５倍にする。主たる方向の延伸倍率Ｒ１が１．０１倍より小さい倍率では、凹凸形状が発生せず、３０倍より大きい倍率では、フィルム強度が低下する恐れがある。【００３１】
（薄膜）
次に、フィルム基材の少なくとも一方の表面に薄膜を形成する。薄膜の収縮率は、フィルム基材を収縮させる条件下において、フィルム基材の収縮率の２０％以下であることが好ましく、１０％以下であることがさらに好ましい。薄膜の収縮率が大きすぎると微細な凹凸形状が形成しない場合がある。【００３２】
薄膜の収縮前の平均厚さは、１ｎｍ〜５０μｍであることが好ましい。薄膜の厚さは、透過電子顕微鏡にて、薄膜の垂直断面を写真撮影し、該写真像から厚さの平均値を求める。【００３３】
薄膜としては、無機薄膜及び有機薄膜がある。
本発明に用いる無機薄膜は無機物質からなるものである。薄膜を構成する無機物質としては、金属；金属酸化物や金属窒化物などの金属化合物；非金属；非金属酸化物などの非金属化合物などが挙げられ、具体的には、アルミニウム、珪素、マグネシウム、パラジウム、白金、亜鉛、錫、ニッケル、銀、銅、金、アンチモン、イットリウム、インジウム、ステンレス鋼、クロム、チタン、タンタル、ジルコニウム、ニオブ、ランタン、セリウム、等の金属若しくは非金属；またはこれらの酸化物や窒化物；又はそれらの混合物が挙げられる。本発明の製造方法で得られるフィルムを光学素子として使用する場合には、可視光を透過する無機物質を選択することが好ましく、その具体的な例としてＩＴＯ、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＳｉＯ2、ＣｕＩ、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2等が挙げられる。これらのうち、薄膜の柔軟性という観点からＳｉＯ2が好ましい。【００３４】
無機薄膜の平均厚さは、１ｎｍ〜５００ｎｍであることが好ましい。１ｎｍより薄すぎると凹凸形状が形成しづらくなり、５００ｎｍより厚すぎると収縮時に無機薄膜層にクラックが発生しやすくなる。無機薄膜を用いると、凸部頂点間の平均距離が５０ｎｍ〜１０００ｎｍの微細な凹凸形状が容易に得られる。【００３５】
無機薄膜を形成する方法は、特に制限されず、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング、ＣＶＤ（化学蒸着）等の蒸着法；スピンコート法、ディッピング法、ロールコート法、スプレー法、ベーパー法、グラビアコータやブレードコータなどのコータ法、スクリーン印刷法、インクジェット法等の塗布法；無電解めっき法、電解めっき法などが挙げられる。【００３６】
本発明に用いる有機薄膜は、収縮によって薄膜が褶曲構造をとるものであれば特に制限されない。
有機薄膜は、フィルム基材を収縮させる温度条件下での収縮率が、フィルム基材の収縮率より小さいものであることが好ましい。
有機薄膜の平均厚さは、１００ｎｍ〜５０μｍであることが好ましい。１００ｎｍより薄すぎると凹凸形状が形成しづらくなり、５０μｍより厚すぎるとアスペクト比の制御が難しくなる。有機薄膜を用いると、凸部頂点間の平均距離が５００ｎｍ〜５０μｍの微細な凹凸形状が容易に得られる。【００３７】
有機薄膜としては熱可塑性樹脂からなるものと、硬化性樹脂からなるものとが挙げられる。【００３８】
熱可塑性樹脂としては、前記フィルム基材に用いることができるものとして例示したものと同様のものを挙げることができる。また、薄膜には、前記フィルム基材に用いる樹脂同様に配合剤を含んでいてもよい。【００３９】
熱可塑性樹脂からなる有機薄膜の形成方法としては、（１）フィルム基材を構成する樹脂と、薄膜を構成する樹脂とを共押出する方法；（２）熱可塑性樹脂を薄膜に成形し、これをフィルム基材に貼り合わせる方法；（３）フィルム基材の表面に熱可塑性樹脂を含有する溶液を塗布し乾燥する方法等が挙げられる。【００４０】
本発明においては、前記フィルム基材が熱可塑性樹脂１からなるものであり、前記有機薄膜が熱可塑性樹脂２からなるものであり、熱可塑性樹脂２のガラス転移温度が、熱可塑性樹脂１のガラス転移温度よりも２０℃以上高いことが好ましい。なお、ガラス転移温度は示差走査熱量分析（ＤＳＣ）により測定することができる。【００４１】
硬化性樹脂としては、熱硬化性のものと、エネルギー線硬化性のものとがある。なお、エネルギー線とは、可視光線、紫外線、電子線、などのことをいう。
【００４２】
熱硬化性樹脂の具体例としては、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。【００４３】
エネルギー線硬化型樹脂としては特に限定されないが、例えば、ラジカル重合性不飽和基（例えば、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、スチリル基、ビニル基等）及び/又はカチオン重合性基（エポキシ基、チオエポキシ基、ビニルオキシ基、オキセタニル基等）の官能基を有する樹脂で、具体的には、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹 脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等が挙げられる。【００４４】
エネルギー線として紫外線や可視光線を用いる場合には、硬化性樹脂の中に光重合開始剤、光増感剤などを含ませる。光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等を挙げられる。【００４５】
硬化性樹脂からなる薄膜には、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等の配合剤が含まれていてもよい。【００４６】
硬化性樹脂からなる有機薄膜の形成方法は、特に限定されない。硬化性樹脂からなる有機薄膜は、例えば、フィルム基材面に硬化性樹脂の組成物を塗布し、硬化することによって得られる。硬化性樹脂薄膜を形成する際、フィルム基材のガラス転移温度Ｔ１より５℃以上低い温度で熱処理することが望ましい。薄膜形成の際に高い温度がかかると、フィルム基材がアニールされ、設計どおりに収縮しなくなるおそれがある。
有機薄膜としては、微細な凹凸形状のアスペクト比の制御が容易な場合があるため、硬化性樹脂薄膜を用いることが好ましい。【００４７】
（褶曲誘起構造）
本発明の製造方法においては、フィルム基材表面に薄膜を形成する前に、薄膜の褶曲を引き起こさせるための構造（褶曲誘起構造）をフィルム基材の表面に形成すること、又はフィルム基材表面に薄膜を形成した後で且つ該基材を収縮させる前に、該薄膜の褶曲を引き起こさせるための構造（褶曲誘起構造）を薄膜に形成することを含むことが、凹凸形状の凸部の頂点間の距離の均一性を向上させたい場合には、好ましい。
該構造は、基材が収縮したときに薄膜の褶曲を引き起こさせる構造であれば特に限定されず、例えば、ラビング処理やその他の方法で表面に付けた傷、インクジェットプリンターや印刷機等で載せたインク印、エンボス加工やインプリントなどで付与した凹凸などが挙げられる。
褶曲誘起構造は一定間隔の位置に形成されることが好ましい。褶曲誘起構造の間隔は、所望する凹凸形状の凸部頂点間の距離とは直接に関係無いので、所望の凹凸形状の凸部頂点間の距離よりも狭くても、広くても良いが、凹凸形状の凸部頂点間の所望距離の０．０５倍〜１００倍の褶曲誘起構造の間隔にすることが好ましい。【００４８】
本発明の製造方法においては、次に前記薄膜を表面に形成したフィルム基材を収縮させ、薄膜を褶曲させる。フィルム基材を収縮させる方法は、フィルム基材の種類に応じて適宜選択すればよい。【００４９】
フィルム基材の収縮率は、フィルム基材の収縮によって薄膜が褶曲したときに薄膜等に亀裂などが生じないようにするために、主たる収縮方向の収縮率ΔＬ、および主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔＭが、式〔３〕および式〔４〕を満たすことが好ましい。なお、ΔＬ及びΔＭは式〔１〕及び式〔２〕でそれぞれ定義される。【００５０】
式〔１）：ΔＬ＝（Ｌ０−Ｌ１）／Ｌ０×１００  （Ｌ０：主たる収縮方向の収縮前の長さ、Ｌ１：主たる収縮方向の収縮後の長さ）
式〔２）：ΔＭ＝（Ｍ０−Ｍ１）／Ｍ０×１００  （Ｍ０：主たる収縮方向に直交する方向の収縮前の長さ、Ｍ１：主たる収縮方向に直交する方向の収縮後の長さ）
式〔３〕：ΔＬ＞０
式〔４〕：−（ΔＬ×０．３）≦ΔＭ≦ΔＬ【００５１】
微細凹凸形状の異方性を強くしたい場合、すなわち、凹凸形状を面内でストライプ状に細長く伸びた構造にしたい場合には、式〔３〕及び式〔５〕を満たすことが好ましい。
式〔５〕：−（ΔＬ×０．２）≦ΔＭ≦（ΔＬ×０．２）【００５２】
本発明の製造方法は、このように収縮条件を変更するだけで、凸部頂点間距離、アスペクト比等を任意に調整できるので各種光学フィルムの製造に好適である。またグリッド偏光子等で要求される面内でストライプ状に細長く伸びた構造も本発明の製造方法によって容易に製造できる。【００５３】
微細な凹凸形状は、ランダムに配置されていてもよいし、規則的に配置されていてもよいが、凸部の頂点間の距離の変動係数が４０％以下であることが、回折機能や集光機能や偏光機能を付与した光学素子として用いるのに好適である。なお、変動係数は、凸部の頂点間の距離の平均値に対する標準偏差の割合（＝標準偏差／平均値×１００）である。【００５４】
なお、主たる収縮方向は、収縮する度合い（収縮率）が最も大きい方向である。例えば、熱可塑性樹脂からなるフィルムを延伸して得られたフィルム基材は加熱によって収縮する。フィルムの延伸を一軸方向にだけ行った場合には、通常、該延伸方向が主たる収縮方向になる。また二軸方向に延伸を行った場合には、通常、延伸した二つの方向のうち延伸倍率の大きい方向が主たる収縮方向になる。【００５５】
熱可塑性樹脂からなるフィルムを一軸延伸すると、延伸時に延伸方向に直交する方向にフィルムが収縮する。この延伸時の収縮を利用したフィルム基材では、延伸方向に直交する方向が主たる収縮方向である。なお、主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔＭの値がマイナスのときは、収縮処理においてフィルムが伸びたことを表す。主たる収縮方向にフィルムが収縮したときに、主たる収縮方向に直交する方向の伸びが大きくなりすぎると薄膜に亀裂が生じやすくなる。【００５６】
主たる収縮方向に直交する方向の収縮率は、１％〜９０％であることが好ましく、１％〜５０％であることがより好ましい。
本発明の製造方法によって、下記のような微細な凹凸形状を有するフィルムが容易に得られる。【００５７】
〔微細凹凸形状を有するフィルム〕
本発明のフィルムは、表面に微細凹凸形状Ｂを有する第一層と、前記凹凸形状Ｂの上に積層され且つ前記凹凸形状Ｂの形状に対応するように褶曲している第二層とを含んでなる、凸部の頂点間の平均距離が５０ｎｍ〜５０μｍである微細な凹凸形状Ａを有するフィルムである。【００５８】
第一層は、樹脂や、ゴム若しくはエラストマーで形成されている。第一層を構成する樹脂や、ゴム若しくはエラストマーとしては、前記のフィルム基材を構成する材料として列挙したものと同様のものを挙げることができる。第一層の平均厚さは、通常５μｍ〜１ｍｍ、好ましくは２０〜２００μｍである。【００５９】
第一層の表面に在る微細凹凸形状Ｂは、凸部の頂点間の平均距離が５０ｎｍ〜５０μｍであることが好ましい。微細凹凸形状Ｂ中の凸部は、その形状によって特に制限されず、畝状、台状、点状などの形状のものが挙げられる。微細凹凸形状Ｂ中の凸部は、第一層の表面にランダムに配置されていてもよいし、規則的に配置されていてもよいが、凸部の頂点間の距離の変動係数が８０％以下となっていることが光学素子として用いるのに好適である。なお、この変動係数は、凸部の頂点間の距離の平均値に対する標準偏差の割合（＝標準偏差／平均値×１００）である。微細な凹凸形状Ｂが畝状凸部がストライプ状に配列されたものである場合には、凸部の頂点間の距離の変動係数は４０％以下が好ましく、３０％以下がさらに好ましい。ストライプ状に配列されたものである場合、凸部の頂点間の距離の変動係数が小さいことは、ストライプの周期性が高いことを意味する。【００６０】
第二層は有機物質または無機物質で形成されている。第二層を構成する有機物質または無機物質としては、前記の薄膜を構成する材料として列挙したものと同様のものを挙げることができる。第二層の平均厚さは、１ｎｍ〜５０μｍであることが好ましい。また、第二層の平均厚さは、微細凹凸形状Ａの凸部の平均高さの１０％〜１００％であることが好ましい。第二層の平均厚さが、微細凹凸形状Ａの凸部の平均高さの１０％より薄い場合には、耐擦傷性が損なわれる可能性があり、逆に１００％より厚い場合には、過酷な条件で使用した場合、そりが出る可能性がある。【００６１】
第二層の厚さの変動係数は２０％以下であることが好ましい。第二層の厚さの変動係数が２０％より大きい場合には、第二層の厚さ分布が大きくなり、そりの原因となる場合がある。なお、第二層の厚さは、以下のようにして計測できる。フィルムを周期性が強い方向で垂直に切断し超薄切片を得、透過電子顕微鏡にて超薄切片を写真撮影する。撮影した画像から第二層の厚さを、凸部頂点および凹部底点のそれぞれ少なくとも１５点以上で計測し、それら計測値から、平均値、標準偏差、変動係数を算出する。フィルムの周期性が強い方向は、フィルム表面の走査型電子顕微鏡写真像を２次元フーリエ変換して得られる空間周波数のパワースペクトル分布から空間周波数の強度が強い２点を抽出し、この２点で結ばれる直線の方向である。この方向は、凹凸形状が面内でストライプ状である場合、ストライプの長手方向に直交する方向であることを意味する。【００６２】
第二層は、前記凹凸形状Ｂの上に積層され且つ前記凹凸形状Ｂの形状に対応するように褶曲している。図４及び図５は、本発明のフィルムの垂直断面を示す模式図である。第一層の表面の凹凸形状Ｂに対応して、第二層が褶曲し、フィルムの第二層側の表面に凹凸形状Ａが形成されている。
なお、図６は、樹脂フィルム表面をエンボス加工して得られる凹凸形状を示すものである。また図７は、紫外線硬化性樹脂などを用いて型を押し付けて得られる凹凸形状を示すものである。【００６３】
微細な凹凸形状Ａは、凸部の頂点間の平均距離が５０ｎｍ〜５０μｍである。また、微細凹凸形状Ａ中の凸部は、その形状によって特に制限されず、畝状、台状、点状などの形状のものが挙げられる。微細凹凸形状Ａ中の凸部は、面内にランダムに配置されていてもよいし、規則的に配置されていてもよいが、凸部の頂点間の距離の変動係数が８０％以下であることが好ましい。なお、変動係数は、凸部の頂点間の距離の平均値に対する標準偏差の割合（＝標準偏差／平均値×１００）である。微細な凹凸形状が畝状凸部がストライプ状に配列されたものである場合には、凸部の頂点間の距離の変動係数は４０％以下が好ましく、３０％以下がさらに好ましい。【００６４】
凸部の頂点間の平均距離及び凸部の頂点間の距離の変動係数は、表面に微細凹凸構造を有するフィルムの周期性が最も強い方向の垂直断面を走査型電子顕微鏡で観察し、該観察像から隣接する凸部と凸部との間の距離を複数計測し、それら計測値の平均値、標準偏差を求め、そして変動係数（％）＝標準偏差σ／平均値×１００を算出する。なお、フィルムの幅方向に１０ｃｍ以上離れた場所から最低２箇所選択し、さらにフィルムの流れ方向に１０ｃｍ以上離れた場所から最低２箇所選択し、選択した箇所の凹凸構造断面からそれぞれ３０点以上の距離を計測する。【００６５】
微細な凹凸形状Aの凸部の高さは、目的に応じて５ｎｍ〜５０μｍの範囲で選択され、本発明のフィルムを光学素子として使用する場合には、好ましくは５０ｎｍ〜１０μｍの範囲である。凸部の幅（高さの半分の場所の幅）は、好ましくは５ｎｍ〜５０μｍであり、本発明のフィルムを光学素子として使用する場合には好ましくは５０ｎｍ〜１０μｍである。またアスペクト比は、通常０．１〜１０である。アスペクト比は凸部の高さ／凸部の幅で定義される。アスペクト比は薄膜の膜質、薄膜の膜厚、フィルム基材の収縮率等を制御することで調整することができる。【００６６】
微細な凹凸形状Ａは、フィルム表面の走査型電子顕微鏡写真像を２次元フーリエ変換して得られる空間周波数のパワースペクトルが一つの方向に分布していることが好ましい。前記パワースペクトルが一つの方向に分布していると、所望する光学素子に、拡散機能や回折機能や集光などの光学特性に異方性を持たせたい場合に、好適に使用できる。図１は、本発明フィルム表面の走査顕微鏡写真を示す図である。図２は、図１の画像を２次元フーリエ変換した像を示す図である。図２は縦方向に空間周波数の強度の強い部分が分布しており、この方向にフィルムの周期性が強くなっていることを示している。【００６７】
また、微細凹凸形状Ａが、図１のように、面内でストライプ状に細長く伸びた構造であることが好ましい。面内でストライプ状に細長く伸びた構造である場合には、後述するように回折格子や、グリッド偏光子等に利用できる。【００６８】
本発明のフィルムは、光学素子、特に光拡散素子に適用するために、ヘイズが５０％以上であることが好ましい。なお、ヘイズは、ＪＩＳ  Ｋ７３６１に基づき、濁度計（日本電色製  ＮＤＨ２０００型）を用いて測定する。【００６９】
本発明の微細な凹凸形状Ａを有するフィルムは、その表面の微細凹凸形状Ａを利用して様々な光学素子等に適用できる。凸部頂点間の距離、アスペクト比、およびその分布を変更することによって、光拡散機能、集光機能、光回折機能、偏光機能を有するフィルムを容易自在に大面積で製造できる。【００７０】
微細凹凸形状Ａに光拡散機能を付与した場合には、反射防止フィルム、光拡散フィルム、照明カバー、反射型スクリーン、透過型スクリーンなどに用いることができ、微細凹凸形状Ａに光集光機能を付与した場合には集光シートなどに用いることができる。【００７１】
微細凹凸形状が面内でストライプ状に細長く伸びた構造であり、該微細凹凸形状の凸部頂点間の距離が光の波長と同程度かやや大きい場合には、光を回折したり、集光させたり、散乱させたりする機能を有するフィルムが得られる。このようなフィルムは、回折格子として用いることができる。【００７２】
微細凹凸形状が面内でストライプ状に細長く伸びた構造であり、該微細凹凸形状の凸部頂点間の距離が光や電磁波の波長よりも小さい場合には、該微細凹凸形状の凸部上にアルミニウムなどの吸光性材料を成膜することによって、グリッド偏光フィルム、電磁波遮蔽フィルム、電磁波吸収フィルムなどの素子に応用することが可能となる。
【実施例】
【００７３】
以下に実施例、比較例を挙げて、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。【００７４】
（製造例１）フィルム基材の製造
脂環式オレフィン樹脂（日本ゼオン社製、ＺＥＯＮＯＲ１４２０、ガラス転移温度１３６℃）のペレットを、窒素を流通させた熱風乾燥機を用いて、１００℃で４時間乾燥した。次いでこのペレットを、５０ｍｍφのスクリューを備えたＴダイ式フィルム溶融押出成形機を使用して、溶融樹脂温度２６０℃で押出し成形することにより、幅６５０ｍｍ、厚さ１８８μｍのフィルムを製造し、両端２５ｍｍずつをトリミングして幅６００ｍｍの脂環式オレフィン樹脂からなる原反フィルムを得た。【００７５】
（フィルム基材１Ａ）
幅６００ｍｍの原反フィルムの両端をクリップに把持させて、テンター延伸機内に導入し、温度１５０℃でフィルム幅方向に１．５倍、フィルム流れ方向に１倍の延伸倍率になるように横一軸延伸し、延伸機から出た延伸フィルムをクリップから外し、両端を連続的にトリミングして幅８００ｍｍのフィルム基材１Ａを得た。
フィルム基材１Ａから４０ｍｍ角の試験片を切り出し、切り出した試験片の中央部において、複屈折計測装置（王子計測機器（株）、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ）を用いてフィルム基材の位相差を測定することにより配向角を計測した。フィルム基材１Ａは、幅方向に分子配向していることが確認された。【００７６】
（フィルム基材１Ｂ）
上記の幅６００ｍｍの原反フィルムを、縦一軸延伸装置を用いて温度１４５℃で縦方向に１．３倍に延伸した。延伸されたフィルムをテンター延伸（横一軸延伸）装置に送り温度１５０℃で横方向に１．６倍延伸し、フィルム基材１Ｂを得た。フィルム基材１Ｂから４０ｍｍ角の試験片を切り出し、切り出した試験片の中央部において、複屈折計測装置［王子計測機器（株）、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ］を用いて配向角を計測した。フィルム基材１Ｂは、幅方向に分子配向していることが確認された。【００７７】
（フィルム基材１Ｃ）
上記の幅６００ｍｍの原反フィルムを、縦一軸延伸装置を用い、温度１４５℃で縦方向に１．５倍に延伸し、フィルム基材１Ｃを得た。フィルム基材１Ｃから４０ｍｍ角の試験片を切り出し、切り出した試験片の中央部において、複屈折計測装置［王子計測機器（株）、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ］を用いて配向角を計測した。フィルム基材１Ｃは、流れ方向に分子配向していることが確認された。【００７８】
（製造例２）熱可塑性樹脂薄膜用溶液の製造
脂環式オレフィン樹脂（日本ゼオン社製、ＺＥＯＮＯＲ１６００、ガラス転移温度１６３℃）のペレットをシクロヘキサンに溶解し、濃度２重量％の脂環式オレフィン樹脂溶液を得た。
この樹脂溶液を支持フィルムにバーコーターで塗布し、１００℃で３０分間乾燥して薄膜を得た。該薄膜を支持フィルムから剥がし、１０ｃｍ角に裁断し、１４０℃で１時間放置した。放置後、辺の長さを計測した。該薄膜の収縮率は０．８％（＝［裁断後の長さ（１０ｃｍ）−１４０℃放置後の長さ］／１０ｃｍ×１００）であった。【００７９】
（製造例３）硬化性樹脂薄膜用溶液の製造
６官能ウレタンアクリレートオリゴマー（商品名：ＮＫオリゴ  Ｕ−６ＨＡ、新中村化学社製）  ３０重量部、ブチルアクリレート  ４０重量部、イソボルニルメタクリレート（商品名：ＮＫエステル１Ｂ、新中村化学社製）  ３０重量部、および２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン  １０重量部をホモジナイザーで混合し、次いでトルエンで濃度２０重量％に希釈して、紫外線硬化性樹脂溶液を調製した。
この紫外線硬化性樹脂溶液を支持フィルムにバーコーターで塗布し、８０℃で５分間乾燥させ、次いで紫外線を照射（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2）し、樹脂を硬化させ薄膜を得た。製造例２と同様に薄膜の収縮率を計測したところ、収縮率は１．４％であった。【００８０】
（実施例１）
フィルム基材１Ａ上に、成膜カソードを備えたフィルム巻き取り式真空成膜装置を用いて、スパッタリング法によって厚さ１０ｎｍのＳｉＯ2層を成膜し積層フィルムを得た。次いでＳｉＯ2層表面をフィルム流れ方向にラビング処理した。走査型電子顕微鏡で観察したところ、ＳｉＯ2層表面にフィルム流れ方向に沿った線状の傷が一様に付いていた。【００８１】
次に該積層フィルムを温度１４０℃の温風を循環させた温風乾燥機を通過させて、主たる収縮方向の収縮率ΔＬ＝３３％、主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔＭ＝０．１％で収縮させた。【００８２】
前記収縮フィルムを、日立製作所製電界放出型走査電子顕微鏡Ｓ−４７００にて観察したところ、図１に示すような、ストライブ状に細長く伸びた微細な凹凸形状が表面に均一に形成されていた。
走査電子顕微鏡像を画像解析ソフト（ＳｏｆｔＩｍａｇｉｎｇＳｙｓｔｅｍ製、ＡｎｌｙＳＩＳ）を用いて、２次元高速フーリエ変換し、空間周波数のパワースペクトル分布を求め、周期性を強く示す方向を読み取った。この方向にウルトラミクロトームを用いて切断し、その断面を走査型電子顕微鏡（日立製作所製、Ｓ−４７００）で写真撮影した。この写真撮影をフィルム幅方向および流れ方向に少なくとも１０ｃｍ以上離れた３箇所の点で行った。走査型電子顕微鏡写真像から、凸部頂点間距離を３０点計測した。凸部頂点間の平均距離は１２４ｎｍ、凸部頂点間の距離の変動係数は３．６％であった。また、アスペクト比は２．１であった。【００８３】
また、収縮フィルムから、集束イオンビーム加工観察装置（日立製作所製、ＦＢ−２１００）のマイクロサンプリング装置を使用して透過型電子顕微鏡観察用断面片を作製した。透過電子顕微鏡（日立製作所製、Ｈ−７５００）にてその断面を観察した。観察画像からＳｉＯ2層が図４に示すように褶曲していることが確認された。ＳｉＯ2層の厚さを凸部頂点及び凹部底点でそれぞれ１５点ずつ計測した。ＳｉＯ2層（第二層）の厚さは、平均が１０．４ｎｍ、変動係数が４．２％であった。第二層の平均厚さは凹凸形状の平均高さの１０．４％であった。【００８４】
収縮フィルムの凹凸形状面に、厚さ１００ｎｍのアルミニウム層を真空蒸着によって形成した。次いでリン酸を主成分とするエッチング液に浸漬してグリッド偏光フィルムを得た。
分光光度計（日本分光製、紫外可視近赤外分光光度計Ｖ−５７０）を用い偏光分離性能を調べた。波長５５０ｎｍにおけるｐ偏光透過率が８３％、ｓ偏光透過率が０．３％と良好な偏光分離性能を示した。【００８５】
（実施例２）
フィルム基材１Ａ上に、製造例２で得られた樹脂薄膜用溶液をダイコーターを用いて塗布し、１００℃の温風乾燥炉中で３０分間乾燥させて、薄膜を形成し積層フィルムを得た。薄膜の平均厚さは１３．４μｍであった。
次に積層フィルムを温度１４０℃の温風を循環させた温風乾燥機を通過させて、主たる収縮方向の収縮率ΔＬ＝３２％、主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔＭ＝０．２％で収縮させた。
収縮フィルムを、実施例１と同様の方法で表面観察したところ、ストライブ状に細長く伸びた微細な凹凸形状が形成されており、凸部頂点間の距離は、平均が１２．７μｍ、変動係数が１９．２％であった。アスペクト比は０．５９であった。凹凸形状下の薄膜（第二層）の厚さは、平均が１２．４μｍ、変動係数が５．４％であった。第二層の平均厚さは凹凸形状の平均高さの７５．２％であった。
濁度計（日本電色製  ＮＤＨ２０００型）にてへイズを計測したところ、８５％であった。
得られた収縮フィルムに、スポット径２ｍｍのコリメート光をフィルム法線方向から入射させ、透過してきた光の出射角度と輝度との関係を測定した。該収縮フィルムが散乱特性と回折特性を有することを確認できた。
該収縮フィルムを、１０ｃｍ角に切断し、６０℃、８５％ＲＨの環境下に５００時間放置したが、そりは生じなかった。【００８６】
（実施例３）
フィルム基材１Ａ上に、製造例３で得られた溶液を、ダイコーターを用いて連続的に塗布した。次いで、８０℃で５分間乾燥させ、紫外線を照射（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2）し、樹脂を硬化させ、薄膜を形成し積層フィルムを得た。この積層フィルムを、ロール状に巻き取った。硬化後の薄膜の平均厚さは９０３ｎｍであった。
次に該積層フィルムを温度１４０℃の温風を循環させた温風乾燥機を通過させて、主たる収縮方向の収縮率ΔＬ＝３１％、主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔＭ＝０．１％で収縮させた。【００８７】
収縮フィルムを、実施例１と同様の方法で表面観察したところ、ストライブ状に細長く伸びた微細な凹凸形状が形成されており、凸部頂点間の距離は、平均が１．９μｍ、変動係数が１２．８％であった。アスペクト比は０．３８であった。凹凸形状下の薄膜（第二層）の厚さは、平均が９３８ｎｍ、変動係数が８．３％であった。第二層の平均厚さは凹凸形状の平均高さの３６．０％であった。
濁度計（日本電色製  ＮＤＨ２０００型）にてへイズを計測したところ、６９％であった。
得られた収縮フィルムに、スポット径２ｍｍのコリメート光を法線方向から入射し、透過してきた光の出射角度と輝度との関係を測定した。該収縮フィルムが強い回折特性を示すことが確認できた。【００８８】
（実施例４）
フィルム基材１Ｂ上に、製造例３で得られた溶液を塗布し、８０℃で５分間乾燥し、次いで紫外線を照射して樹脂を硬化させ薄膜を形成し積層フィルムを得た。硬化後の薄膜の平均厚さは２．４μｍであった。第二層の平均厚さは凹凸形状の平均高さの５０．１％であった。
次に積層フィルムを温度１４０℃の温風を循環させた温風乾燥機を通過させて、主たる収縮方向の収縮率ΔＬ＝３６％、主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔＭ＝２０％で収縮させた。【００８９】
収縮フィルムを実施例１と同様の方法で表面確認したところ、図３に示すような、ストライプが折れ曲がったようなランダムに分布した凹凸形状が形成されていた。凸部頂点間の距離は、平均が４．５μｍ、変動係数が６３％であった。アスペクト比は０．９であった。凹凸形状下の薄膜の厚さは、平均が２．５μｍ、変動係数が６．９％であった。
濁度計（日本電色製  ＮＤＨ２０００型）にてへイズを計測したところ、８２％であった。【００９０】
得られた収縮フィルムに、スポット径２ｍｍのコリメート光を法線方向から入射し、透過してきた光の出射角度と輝度との関係を測定した。該収縮フィルムが散乱特性を有することが確認できた。
凹凸形状が形成された面にスチールウール♯００００をあて、荷重０．０５ＭＰａで１０回往復させた。その後、表面状態を目視で観察したが、傷は認められず、往復前と同じであった。【００９１】
（実施例５）
フィルム基材１Ｃ上に、製造例３で得られた溶液を塗布し、８０℃で５分間乾燥し、さらに紫外線を照射して樹脂を硬化させて薄膜を形成し積層フィルムを得た。硬化後の薄膜の平均厚さは５８４ｎｍであった。
次に該積層フィルムを温度１４０℃の温風を循環させた温風乾燥機を通過させて、主たる収縮方向の収縮率ΔＬ＝３０％、主たる収縮方向に直交する方向の収縮率ΔＭ＝−９．２％で収縮させた。【００９２】
収縮フィルムを実施例１と同様の方法で表面確認したところ、ストライプ状の凹凸形状が観察された。凹凸に亀裂は見られなかった。凸部頂点間の距離は、平均が１．０μｍ、変動係数が１３．４％であった。アスペクト比は０．８であった。凹凸形状下の薄膜の厚さは、平均が５９０ｎｍ、変動係数が３．８％であった。第二層の平均厚さは凹凸形状の平均高さの９８．３％であった。
濁度計（日本電色製  ＮＤＨ２０００型）にてへイズを計測したところ、５４％であった。【００９３】
得られた収縮フィルムに、スポット径２ｍｍのコリメート光を法線方向から入射し、透過してきた光の出射角度と輝度との関係を測定した。該収縮フィルムが回折特性を示すことを確認できた。【００９４】
（実施例６）
ＳｉＯ2層成膜後に行ったラビング処理をＳｉＯ2層成膜前に行った他は、実施例１と同様にして凹凸形状を有するフィルムを作製した。形成された凹凸形状は、実施例１と同様であることが確認された。【００９５】
（比較例１）
原反フィルムをＡ４サイズに裁断した。このフィルムに、凸部頂点間の距離が１０．０μｍ、凸部の高さが１０μｍ、凸部断面形状が三角形をした、ストライプ状に細長く伸びた構造を有する金型を用いて、金型温度２００℃で、５分間ホールドして熱インプリントした。図６に示すような断面形状が三角で、面内にストライプ状に細長く伸びた微細な凹凸形状を持ち、凸部頂点間距離のの変動係数が０．１％のフィルムを得た。
濁度計（日本電色製  ＮＤＨ２０００型）にてへイズを計測したところ、３２％であった。
凹凸形状が形成された面にスチールウール♯００００をあて、荷重０．０５ＭＰａで１０回往復させた。その後、表面状態を目視で観察したところ、はっきりと確認できる傷が多数見られた。【００９６】
（比較例２）
原反フィルムをＡ４サイズに裁断した。このフィルムに、東洋合成工業社製のＰＡＫ−０１をバーコーターで乾燥膜厚５μｍになるように塗布し、８０℃で５分間乾燥させた。
比較例１で用いた金型を塗布面に押し当て、フィルム側から紫外線を照射（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2）し、樹脂を硬化させた。金型を外し、図７に示すような断面構造の微細凹凸構造を有するフィルムを得た。
濁度計（日本電色製  ＮＤＨ２０００型）にてへイズを計測したところ、３２％であった。
得られたフィルムを、１０ｃｍ角に切断し、６０℃、８５％ＲＨの環境下に５００時間放置したところ、周辺部にそりが生じた。【００９７】
（比較例３）
特開２００３−２６６５７０号公報に記載の方法に従い、メチルエチルケトンにポリエステル樹脂（東洋紡バイロン５００）  １００重量部、メラミン樹脂（会社名大日本インキ製）  ２０重量部、およびパラトルエンスルホン酸  ０．２５重量部を溶解して塗布液を調製した。
この塗布液をポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ１００μｍ）の上にバーコーターで乾燥厚さ５μｍになるように塗布し、１００℃で５分間乾燥し薄膜を形成させた。このフィルムを直径が０．３ｍの円筒に巻きつけ、１８０℃のオーブン中に１分間放置した。
得られたフィルムを走査型電子顕微鏡観察したところ、わずかにうねったような凸形状が見られた。実施例１と同様にして表面形状を計測すると、凸部頂点間の距離は平均が１６．７μｍ、変動係数が８２．１％であった。アスペクト比は０．１であった。
該フィルムは、ポリエチレンテレフタレートフィルム層表面は元の平らな形状を維持しており、硬化性樹脂層のみが変形している構造を有していた。
濁度計（日本電色製  ＮＤＨ２０００型）にてへイズを計測したところ、２５％であった。
得られたフィルムを、１０ｃｍ角に裁断し、６０℃、８５％ＲＨの環境下に５００時間放置したところ、周辺部にそりが生じた。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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