(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持するための基板保持手段と、
引火点が常温以下である可燃性の有機溶剤を含む処理液を、前記基板保持手段に保持された基板に向けて吐出するための処理液ノズルと、
この処理液ノズルに処理液を供給するための処理液供給手段と、
前記基板保持手段に保持された基板を回転させることで基板上の処理液を基板の周囲に振り切る回転手段と、
前記基板保持手段に保持された基板の周端面に対向され当該基板から振り切られて排出された処理液を受け止める筒状の案内部と、前記案内部の内側に配置された筒状の内壁部と、前記案内部と前記内壁部とを接続する環状の溝底面とによって構成された平面視環状の環状溝が形成されたカップと、
洗浄液を吐出するための洗浄ノズルと、
この洗浄ノズルに洗浄液を供給するための洗浄液供給手段と、
前記処理液供給手段、洗浄液供給手段、および回転手段を制御して、前記回転手段によって基板を回転させながら前記処理液ノズルから処理液を吐出させて前記基板保持手段に保持された基板を処理する処理工程と、この処理工程と並行して前記洗浄ノズルから洗浄液を吐出させて前記溝底面を洗浄する洗浄工程とを行わせるための制御手段とを含み、
前記溝底面には、前記環状溝に導かれた処理液が排出される排液口が形成されており、
前記洗浄ノズルは、前記環状溝内の前記溝底面に向けて前記環状溝の周方向に洗浄液を吐出することにより、前記排液口に向かう洗浄液の流れを形成する第１吐出口を含む、基板処理装置。
【請求項２】
前記溝底面は、前記環状溝の中心に向けて斜め下方に傾斜する傾斜面を含む、請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記制御手段は、前記洗浄工程を行わせた後、前記処理液ノズルからの処理液の吐出を停止させた状態で、前記洗浄ノズルから洗浄液を吐出させてカップ内を洗浄する後洗浄工程をさらに行わせるものである、請求項１または２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記溝底面には、前記環状溝に導かれた処理液が前記排液口に向けて流れるように高低差が設けられており、
前記洗浄ノズルは、前記溝底面における最も高さが高い部分を含む範囲に向けて洗浄液を吐出する第２吐出口をさらに含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記洗浄ノズルは、前記溝底面における最も高さが高い位置を挟んで一対設けられている、請求項４記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記溝底面は、前記環状溝の中心を挟んで前記排液口に対向する位置が最も高くされている、請求項４または５記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、基板処理装置に関する。処理対象となる基板には、たとえば、半導体ウエハ、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ（Field Emission Display）用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板などが含まれる。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置の製造工程では、たとえば、半導体ウエハなどの基板に対して処理液を用いた処理が行われる。基板を１枚ずつ処理する基板処理装置は、たとえば、処理室内に、基板をほぼ水平に保持して回転させるスピンチャックと、このスピンチャックに保持された基板に処理液を供給するための処理液ノズルと、基板から排出される処理液を受け止めるためのカップとを備えている。
【０００３】
処理液ノズルからは、スピンチャックにより基板が回転された状態で、処理液が吐出される。処理液ノズルから吐出された処理液は、基板の上面における回転中心を含む範囲に着液する。そして、この処理液は、基板の回転による遠心力を受けて基板の周縁に向けて広がっていく。これにより、基板の上面全域に処理液が供給される。基板の周縁に達した処理液は、遠心力により振り切られて基板から排出される。また、基板から排出された処理液は、カップにより受け止められて捕獲される。
【０００４】
この基板処理装置による基板の処理では、たとえば、回転中の基板に薬液が供給され、当該基板に薬液処理が行われる。そして、薬液処理が行われた後に、回転中の基板に純水が供給され、基板上の薬液を洗い流すリンス処理が行われる。リンス処理が行われた後は、基板上に残留している純水を除去して基板を乾燥させる乾燥処理が行われる。この乾燥処理を行う方法としては、リンス処理が行われた基板の上面に、純水よりも揮発性が高い有機溶剤であるＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を供給するものがある。
【０００５】
具体的には、回転中の基板にＩＰＡが供給され、リンス処理後の基板に残留している純水にＩＰＡが溶け込みつつ洗い流されることによって、基板に残留している純水がＩＰＡに置換される。そして、スピンチャックにより基板が高速回転される。これにより、ＩＰＡおよび純水を含む基板上の液成分が振り切られ、基板が乾燥される。
【特許文献１】特開２００３−９２２８０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
基板から排出された処理液は、カップにより受け止められ捕獲される。また、カップにより捕獲された処理液は、カップに形成された排液口に向けてカップ内を流れ、排液口から排液される。しかしながら、カップにより捕獲された処理液が排液口から排出されずにカップ内に残留してしまう場合がある。たとえば、基板から排出されたＩＰＡがカップ内に残留してしまう場合がある。
【０００７】
すなわち、カップ内からの処理液の排液は、重力によって行われるため、完全にはカップ内から排液されずにＩＰＡがカップ内に留まってしまうことがある。
一方、ＩＰＡは、揮発性が高く蒸発しやすい有機溶剤である。したがって、ＩＰＡがカップ内に残留すると、ＩＰＡの蒸気がカップ内に発生し、この蒸気が処理室内に広がっていくおそれがある。ＩＰＡは、引火点が常温以下である可燃性の有機溶剤であるので、このような有機溶剤の蒸気が処理室内に広がることは好ましくない。前述の問題は、ＩＰＡに限らず、引火点が常温以下である可燃性の有機溶剤を含む処理液によって基板を処理する場合において同様に生じる問題である。
【０００８】
そこで、この発明の目的は、基板から排出された処理液が蒸気となって処理室内に拡散することを抑制または防止することができる基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的を達成するための請求項１記載の発明は、基板（Ｗ）を保持するための基板保持手段（３）と、引火点が常温以下である可燃性の有機溶剤を含む処理液を、前記基板保持手段に保持された基板に向けて吐出するための処理液ノズル（４）と、この処理液ノズルに処理液を供給するための処理液供給手段（１２）と、前記基板保持手段に保持された基板を回転させることで基板上の処理液を基板の周囲に振り切る回転手段（７）と、前記基板保持手段に保持された基板の周端面に対向され当該基板から振り切られて排出された処理液を受け止める筒状の案内部（２５）と、前記案内部の内側に配置された筒状の内壁部（２３）と、前記案内部と前記内壁部とを接続する環状の溝底面（２８）とによって構成された平面視環状の環状溝（２７）が形成されたカップ（５）と、洗浄液を吐出するための洗浄ノズル（３８）と、この洗浄ノズルに洗浄液を供給するための洗浄液供給手段（３９）と、前記処理液供給手段、洗浄液供給手段、および回転手段を制御して、前記回転手段によって基板を回転させながら前記処理液ノズルから処理液を吐出させて前記基板保持手段に保持された基板を処理する処理工程と、この処理工程と並行して前記洗浄ノズルから洗浄液を吐出させて前記溝底面を洗浄する洗浄工程とを行わせるための制御手段（４４）とを含み、前記溝底面には、前記環状溝に導かれた処理液が排出される排液口（３２）が形成されており、前記洗浄ノズルは、前記環状溝内の前記溝底面に向けて前記環状溝の周方向に洗浄液を吐出することにより、前記排液口に向かう洗浄液の流れを形成する第１吐出口（４３）を含む、基板処理装置（１）である。
【００１０】
なお、この項において、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素等を表すものとする。
この発明によれば、制御手段が、処理液供給手段を制御して、基板保持手段により保持された基板に向けて引火点が常温以下である可燃性の有機溶剤を含む処理液を処理液ノズルから吐出させる。これにより、基板に処理液が供給され、基板を処理する処理工程が行われる。
【００１１】
基板に供給された処理液は当該基板から流下または飛散して排出される。また、基板から排出された処理液はカップの内壁面により受け止められて当該カップに捕獲される。そして、カップにより捕獲された処理液は当該カップの内壁面に形成された環状溝に導かれ、環状溝の溝底面に形成された排液口から排液される。
また、制御手段は、処理液供給手段および洗浄液供給手段を制御して、処理液ノズルから処理液を吐出させつつ、排液口に向けて環状溝の周方向に洗浄ノズルから洗浄液を吐出させる。これにより、前記処理工程と並行して、環状溝の溝底面に洗浄液が供給され、溝底面を洗浄する洗浄工程が行われる。
【００１２】
洗浄工程が行われることにより、カップにより受け止められた処理液が洗浄液によって洗い流され、排液口から排液される。これにより、カップ内に処理液が残留することが抑制または防止される。また、処理工程と並行して洗浄工程が行われることにより、カップにより受け止められた処理液が速やかに洗い流される。したがって、処理液が洗い流されるまでの間に、当該処理液の蒸気が発生することを抑制または防止することができる。これにより、基板から排出された処理液が、蒸気となって、基板保持手段等が収容された処理室内に広がることを抑制または防止することができる。
【００１３】
制御手段は、処理液供給手段および洗浄液供給手段を制御して、処理液ノズルから処理液を吐出させている全期間において、洗浄ノズルから洗浄液を吐出させることが好ましい。つまり、処理工程の全期間において洗浄工程が行われることが好ましい。
また、前記溝底面は、請求項２記載の発明のように、前記環状溝の中心に向けて斜め下方に傾斜する傾斜面（３５）を含んでいてもよい。
請求項３記載の発明は、記制御手段は、前記洗浄工程を行わせた後、前記処理液ノズルからの処理液の吐出を停止させた状態で、前記洗浄ノズルから洗浄液を吐出させてカップ内を洗浄する後洗浄工程をさらに行わせるものである、請求項１または２記載の基板処理装置である。
【００１４】
この発明によれば、洗浄工程が行われた後、制御手段が、処理液供給手段および洗浄液供給手段を制御して、処理液ノズルからの処理液の吐出を停止させた状態で、洗浄ノズルから洗浄液を吐出させる。これにより、洗浄工程が行われた後、カップ内を洗浄する後洗浄工程が行われる。したがって、洗浄工程が行われた後にカップ内に処理液が残留することを抑制または防止することができる。そのため、洗浄工程が行われた後にカップ内で処理液の蒸気が発生することが抑制または防止される。
【００１５】
後洗浄工程は、洗浄工程の直後に実施されることが好ましく、とくに、洗浄工程と連続して実施されることが好ましい。より具体的には、洗浄工程において、処理液ノズルから処理液を吐出させ、洗浄ノズルから洗浄液を吐出させている状態から、処理液ノズルからの処理液の吐出を停止させ、洗浄ノズルからの洗浄液吐出を継続させて後洗浄工程に移行することが好ましい。
【００１６】
請求項４記載の発明は、前記溝底面には、前記環状溝に導かれた処理液が前記排液口に向けて流れるように高低差が設けられており、前記洗浄ノズルは、前記溝底面における最も高さが高い部分（３６）を含む範囲に向けて洗浄液を吐出する第２吐出口（４３）をさらに含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板処理装置である。
この発明によれば、環状溝に導かれた処理液が排液口に向けて流れるように高低差が溝底面に設けられており、洗浄ノズルから吐出された洗浄液が当該溝底面における最も高さが高い部分を含む範囲に供給される。これにより、溝底面における最も高さが高い部分から排液口に向かう洗浄液の流れが形成される。また、洗浄液が溝底面に沿って流れることにより、当該溝底面の全域に洗浄液が供給される。これにより、環状溝内の処理液が洗い流され排液口から排液される。したがって、カップ内で処理液の蒸気が発生することが抑制または防止される。
【００１７】
前記洗浄ノズル（３８）は、請求項５記載の発明のように、前記溝底面における最も高さが高い位置を挟んで一対設けられていてもよい。この場合、溝底面の全域に洗浄液が均一に供給される。すなわち、たとえば請求項６記載の発明のように、前記環状溝は、前記環状溝の中心を挟んで前記排液口に対向する位置が最も高くされている場合に、溝底面の全域に洗浄液が均一に供給される。
【００１８】
より具体的には、溝底面において前記環状溝の中心を挟んで排液口に対向する位置が最も高くされている場合、溝底面における最も高さが高い位置から排液口に向かうルートが２つ（右回りのルートおよび左回りのルート）存在する。このような場合に、溝底面における最も高さが高い位置を挟んで洗浄ノズルを一対設け、さらに、溝底面における最も高さが高い部分を含む範囲に洗浄液を供給することにより、前記２つのルートの両方に向けて洗浄液を均一に供給することができる。これにより、溝底面の全域に洗浄液が均一に供給される。したがって、溝底面の全域が均一に洗浄され、カップ内での処理液の蒸気の発生が抑制または防止される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下では、本発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置１の概略構成を示す平面図である。また、図２および図３は、基板処理装置１の概略構成を示す縦断面図である。図２は、図１におけるII−II線に沿う断面であり、図３は、図１におけるIII−III線に沿う断面である。
【００２４】
この基板処理装置１は、基板の一例としての半導体ウエハＷ（以下、単に「ウエハＷ」という。）を１枚ずつ処理する枚葉型の装置である。基板処理装置１は、隔壁で区画された処理室２内に、ウエハＷをほぼ水平に保持して回転させるスピンチャック３（基板保持手段）と、ウエハＷに処理液を供給するための処理液ノズル４と、スピンチャック３から排出される処理液を受け止めて捕獲するためのカップ５とを備えている。スピンチャック３は、ウエハＷの中心を通るほぼ鉛直な軸線（以下、「回転軸線Ｃ」という。）まわりにウエハＷを回転させることができる。
【００２５】
スピンチャック３は、筒状のカバー部材６によって包囲されたモータ７と、このモータ７の駆動力によって鉛直な軸線まわりに回転される円板状のスピンベース８と、このスピンベース８上に配置された複数個の挟持部材９とを備えている。カバー部材６は、水平に延びるベース１０上にその下端が固定されており、その上端がスピンベース８の近傍にまで及んでいる。カバー部材６の上端部には、カバー部材６から外方へほぼ水平に張り出し、さらに下方に屈曲して延びる鍔状部材１１が取り付けられている。
【００２６】
複数個の挟持部材９は、スピンベース８の上面周縁部においてウエハＷの外周形状に対応する円周上で適当な間隔をあけて配置されている。複数個の挟持部材９は、互いに協働してウエハＷをほぼ水平な姿勢で挟持することができる。スピンチャック３は、複数個の挟持部材９によってウエハＷを挟持した状態で回転軸線Ｃまわりに当該ウエハＷを回転させることができる。
【００２７】
なお、スピンチャック３としては、このような構成のものに限らず、たとえば、ウエハＷの下面（裏面）を真空吸着することによりウエハＷをほぼ水平な姿勢で保持し、さらにその状態で鉛直な軸線まわりに回転することにより、その保持したウエハＷを回転させることができる真空吸着式のもの（バキュームチャック）であってもよい。
処理液ノズル４は、その吐出口をスピンベース８の上面に向けて、スピンチャック３の上方に配置されている。処理液ノズル４は、処理液供給管１２（処理液供給手段）を通じて供給される処理液を、スピンチャック３により回転されるウエハＷの上面に向けて吐出する。処理液ノズル４は、吐出された処理液がウエハＷの上面における回転中心を含む範囲に着液するように配置されている。
【００２８】
処理液供給管１２には、薬液供給管１３、リンス液供給管１４およびＩＰＡ供給管１５が接続されている。薬液供給管１３、リンス液供給管１４およびＩＰＡ供給管１５には、それぞれ、薬液バルブ１６、リンス液バルブ１７およびＩＰＡバルブ１８が介装されている。これらのバルブ１６，１７，１８の開閉は、制御部４４により制御される（図６参照）。薬液バルブ１６、リンス液バルブ１７およびＩＰＡバルブ１８の開閉が制御されることにより、処理液供給管１２に、薬液、リンス液、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）が選択的に供給される。たとえば、リンス液バルブ１７およびＩＰＡバルブ１８が閉じられた状態で薬液バルブ１６が開かれると、薬液が処理液供給管１２に供給される。
【００２９】
薬液としては、たとえば、硫酸、酢酸、硝酸、塩酸、フッ酸、アンモニア水、過酸化水素水のうちの少なくとも１つを含む液を用いることができる。また、リンス液としては、たとえば、純水、炭酸水、電解イオン水、水素水、磁気水や、希釈濃度（たとえば、１ｐｐｍ程度）のアンモニア水などを用いることができる。
ＩＰＡは、引火点が常温以下である可燃性の有機溶剤である。ＩＰＡは、純水よりも揮発性が高く、かつ、純水よりも表面張力が小さい有機溶剤である。また、ＩＰＡは、純水に容易に溶け込ませることができる有機溶剤である。
【００３０】
なお、ＩＰＡとしては、１００％のＩＰＡを供給しているが、それに限らず、ＩＰＡに純水が混合されたＩＰＡと純水の混合液であってもよい。
スピンチャック３によりウエハＷが回転された状態で、処理液ノズル４から処理液が吐出されると、当該処理液は、ウエハＷの上面の回転中心を含む範囲に着液し、その後、ウエハＷの回転による遠心力を受けて周縁に向かって広がっていく。これにより、ウエハＷの上面全域に処理液が供給される。ウエハＷの周縁に達した処理液の一部は、ウエハＷの回転による遠心力を受けてウエハＷの周囲に振り切られる。また、ウエハＷの周縁に達した処理液の一部はウエハＷから流下していく。このようにして、ウエハＷ上から処理液が排出される。
【００３１】
カップ５は、有底筒状であり、図１に示すように、平面視においてスピンチャック３を取り囲んでいる。カップ５は、互いに独立して昇降可能な内構成部材１９および外構成部材２０を備えている。内構成部材１９および外構成部材２０は、それぞれ、ウエハＷから排出される処理液を受け止めることができる。
内構成部材１９は、回転軸線Ｃに対してほぼ回転対称な形状を有している。内構成部材１９は、スピンチャック３の周囲を取り囲んでいる。内構成部材１９には、たとえばボールねじ機構等を含む第１昇降駆動機構２１が接続されている。この第１昇降駆動機構２１によって内構成部材１９が昇降される。図２に、内構成部材１９が下方位置に位置する状態を示し、図３に、内構成部材１９が上方位置に位置する状態を示す。
【００３２】
内構成部材１９は、平面視において円環状をなす底部２２と、この底部２２の内周縁から上方に立ち上がる円筒状の内壁部２３と、底部２２の外周縁から上方に立ち上がる円筒状の外壁部２４と、内周縁と外周縁との間に対応する底部２２の一部から上方に立ち上がる円筒状の案内部２５とを一体的に備えている。
内壁部２３は、内構成部材１９が上方位置にある状態で、カバー部材６と鍔状部材１１との間に隙間を保って、その間に収容される長さに形成されている（図３参照）。また、案内部２５は、底部２２から立ち上がる円筒状の本体部２５ａと、この本体部２５ａの上端から滑らかな円弧を描きつつ中心側（回転軸線Ｃに近づく方向）斜め上方に延びる筒状の上端部２５ｂとを含む。案内部２５と外壁部２４との間は、ウエハＷの処理に使用された処理液を集めて回収するための回収溝２６とされている。また、内壁部２３と案内部２５との間は、ウエハＷの処理に使用された処理液を集めて廃棄するための廃棄溝２７とされている。
【００３３】
回収溝２６は、環状をなしており、案内部２５の外周面と、外壁部２４の内周面と、底部２２の上面の外周よりの部分（溝底面）とによって形成されている。図示はしないが、回収溝２６の溝底面には、回収溝２６に導かれた処理液を回収するための回収機構が接続されている。回収溝２６に導かれた処理液は、回収機構によって、回収溝２６から排出され図示しない回収タンクに回収される。
【００３４】
一方、廃棄溝２７は、環状をなしており、案内部２５の内周面と、内壁部２３の外周面と、底部２２の上面の内周よりの部分（溝底面２８）とによって形成されている。本実施形態では、案内部２５の内周面、内壁部２３の外周面および溝底面２８が、カップの内壁面とされている。
溝底面２８には、カップ５内の雰囲気を排気させるための複数の排気口３１（図２参照）と、廃棄溝２７に導かれた処理液を排液させるための排液口３２（図３参照）とが形成されている。図１に示すように、複数の排気口３１および排液口３２は、廃棄溝２７の周方向に間隔を隔てて配置されている。
【００３５】
また、図２に示すように、各排気口３１には、図示しない負圧源から延びる配管３３が接続されている。カップ５内の雰囲気は、この負圧源が発生する負圧によって各排気口３１から排気される。カップ５内の雰囲気は、たとえば常時排気されるようになっている。また、図３に示すように、排液口３２には、図示しない廃棄タンクから延びる廃棄配管３４が接続されている。廃棄溝２７に導かれた処理液は、廃棄配管３４を介して廃棄タンクに回収される。
【００３６】
溝底面２８には、廃棄溝２７に導かれた処理液が当該廃棄溝２７の内側に向けて流れるように、廃棄溝２７の径方向に関して高低差が設けられている。すなわち、溝底面２８は、廃棄溝２７の中心に向けて斜め下方に傾斜する傾斜面３５を含む。廃棄溝２７に導かれた処理液は、廃棄溝２７の内側に向けて流れていく。
また、溝底面２８には、廃棄溝２７の周方向に関して高低差が設けられている。すなわち、溝底面２８は、廃棄溝２７の周方向に関して最も高さが高い部分である頂部３６と、周方向に関して最も高さが低い部分である底辺部３７とを含む。廃棄溝２７に導かれた処理液は、廃棄溝２７の内側に向けて流れるとともに、底辺部３７に向けて廃棄溝２７の周方向に流れていく。本実施形態では、廃棄溝２７の周方向が、溝内における処理液の流通方向となっている。
【００３７】
頂部３６および底辺部３７は、溝底面２８において廃棄溝２７の中心を挟んで互いに対向する位置に設けられている。図３は、頂部３６、底辺部３７および廃棄溝２７の中心を含む基板処理装置１の断面を示している。図３において、回転軸線Ｃの左側に図示されたカップ５の断面が頂部３６を含む断面であり、回転軸線Ｃの右側に図示されたカップ５の断面が底辺部３７を含む断面である。図３に示すように、排液口３２は底辺部３７に形成されている。したがって、廃棄溝２７に導かれた処理液は、溝底面２８の傾斜によって底辺部３７に導かれた後、この底辺部３７に形成された排液口３２から排出される。これにより、廃棄溝２７内の処理液が確実に排液される。
【００３８】
また図３に示すように、頂部３６の近傍には、カップ５内を洗浄するための洗浄ノズル３８が配置されている。図１に示すように、洗浄ノズル３８は一対設けられており、これらのノズル３８，３８は、廃棄溝２７の周方向に関して頂部３６を挟んだ両側に配置されている。各洗浄ノズル３８には、共通の洗浄液供給管３９（洗浄液供給手段）に接続された分岐配管４０が接続されている。各洗浄ノズル３８には、洗浄液供給管３９および分岐配管４０を通じて洗浄液が供給される。洗浄液供給管３９には、洗浄液バルブ４１が介装されており、この洗浄液バルブ４１が開かれることにより、一対の洗浄ノズル３８，３８に洗浄液が同時に供給される。
【００３９】
各洗浄ノズル３８は、廃棄溝２７内に洗浄液を供給する。前述のように、各洗浄ノズル３８が頂部３６の近傍に配置されているので、各洗浄ノズル３８から吐出された洗浄液は、溝底面２８における頂部３６を含む範囲に着液する。
溝底面２８における頂部３６を含む範囲に着液した洗浄液は、溝底面２８の傾斜によって、排液口３２が形成された底辺部３７に向けて廃棄溝２７の周方向に流れていく。本実施形態では、廃棄溝２７が環状とされているので、廃棄溝２７内において頂部３６から底辺部３７に向かう２つのルート（右回りのルートおよび左回りのルート）が形成されている。したがって、溝底面２８における頂部３６を含む範囲に着液した洗浄液は、前記２つのルートの何れかを通って底辺部３７に向かっていく。
【００４０】
頂部３６から底辺部３７に向けて洗浄液が溝底面２８に沿って流れていくことで、溝底面２８の全域に洗浄液が供給される。また、頂部３６から底辺部３７に向けて洗浄液が流れていくことで、廃棄溝２７内の処理液が洗い流される。これにより、廃棄溝２７内が洗浄される。
外構成部材２０は、回転軸線Ｃに対してほぼ回転対称な形状を有している。外構成部材２０は、内構成部材１９の案内部２５の外側においてスピンチャック３の周囲を取り囲んでいる。外構成部材２０には、たとえばボールねじ機構等を含む第２昇降駆動機構４２が接続されている。この第２昇降駆動機構４２によって外構成部材２０が昇降される。図２において、外構成部材２０が上方位置に位置する状態を実線で示し、外構成部材２０が下方位置に位置する状態を二点鎖線で示す。
【００４１】
外構成部材２０は、案内部２５と同軸円筒状をなす下端部２０ａと、下端部２０ａの上端から滑らかな円弧を描きつつ中心側（回転軸線Ｃに近づく方向）斜め上方に延びる筒状の上端部２０ｂと、上端部２０ｂの先端部を下方に折り返して形成された折返し部２０ｃとを有している。
下端部２０ａは、回収溝２６上に位置し、内構成部材１９と外構成部材２０が最も近接した状態で、回収溝２６に収容される長さに形成されている。また、上端部２０ｂは、内構成部材１９の案内部２５の上端部２５ｂと上下方向に重なるように設けられ、内構成部材１９と外構成部材２０とが最も近接した状態で、案内部２５の上端部２５ｂに対してごく微少な隙間を保って近接するように形成されている。また、折返し部２０ｃは、内構成部材１９と外構成部材２０とが最も近接した状態で、案内部２５の上端部２５ｂと水平方向に重なるように形成されている。
【００４２】
第１および第２昇降駆動機構２１，４２は、内構成部材１９を降下させ、外構成部材２０を上昇させることにより、外構成部材２０の内周面をスピンチャック３に保持されたウエハＷの周端面に対向させることができる。すなわち、図２に示すように、内構成部材１９が下方位置に配置され、外構成部材２０が上方位置に配置されることにより、内構成部材１９の案内部２５の上端部２５ｂと外構成部材２０の上端部２０ｂとの間に、ウエハＷの周端面に対向する開口が形成される。これにより、外構成部材２０の内周面がスピンチャック３に保持されたウエハＷの周端面に対向される。
【００４３】
また、第１および第２昇降駆動機構２１，４２は、内構成部材１９および外構成部材２０を上昇させることにより、内構成部材１９の内周面（案内部２５の内周面）をスピンチャック３に保持されたウエハＷの周端面に対向させることができる。すなわち、図３に示すように、内構成部材１９および外構成部材２０がそれぞれ上方位置に配置されることにより、案内部２５の内周面がスピンチャック３に保持されたウエハＷの周端面に対向される。これにより、内構成部材１９の内周面がスピンチャック３に保持されたウエハＷの周端面に対向される。
【００４４】
本実施形態では、ウエハＷの周端面に外構成部材２０の内周面が対向された状態で、スピンチャック３により回転されるウエハＷの上面に処理液ノズル４から薬液が供給される。したがって、ウエハＷの回転によりその周囲に飛散する薬液は、案内部２５の上端部２５ｂと外構成部材２０の上端部２０ｂとの間に飛入して、外構成部材２０の内周面により受け止められる。そして、外構成部材２０の内周面により受け止められた薬液は、流下して回収溝２６に導かれる。これにより、ウエハＷの処理に使用された薬液が回収溝２６に導かれる。
【００４５】
また、本実施形態では、ウエハＷの周端面に内構成部材１９の内周面が対向された状態で、スピンチャック３により回転されるウエハＷの上面に処理液ノズル４からリンス液またはＩＰＡが供給される。したがって、ウエハＷの回転によりその周囲に飛散するリンス液およびＩＰＡは、案内部２５の内周面により受け止められる。案内部２５の内周面により受け止められたリンス液およびＩＰＡは、流下して廃棄溝２７に導かれる。また、ウエハＷの周縁から流下するリンス液およびＩＰＡは、廃棄溝２７に直接飛入する。これにより、ウエハＷの処理に使用されたリンス液およびＩＰＡが廃棄溝２７に導かれる。
【００４６】
図４は、洗浄ノズル３８の一部を拡大した図である。以下では、図３および図４を参照して、洗浄ノズル３８について説明する。
各洗浄ノズル３８は、内構成部材１９に対して、内構成部材１９の底部２２から斜め上方に挿入されている。各洗浄ノズル３８の先端部は溝底面２８の傾斜面３５から突出している。各洗浄ノズル３８の先端部は廃棄溝２７内に位置している。各洗浄ノズル３８は、たとえば、先端が封止された円筒状をなしている。
【００４７】
各洗浄ノズル３８からは、当該洗浄ノズル３８の中心軸線に直交するとともに、当該中心軸線上の点を中心とする十字方向（４方向）に洗浄液が吐出される。すなわち、各洗浄ノズル３８の先端部には、当該洗浄ノズル３８の周方向に等間隔を隔てて配置された４つの吐出口４３が形成されている。洗浄ノズル３８の径方向に対向する一対の吐出口４３，４３からは、互いに逆方向に洗浄液が吐出される。
【００４８】
洗浄液の吐出方向である十字方向のうち２つの方向（上下２つの吐出口４３からの吐出方向）は、傾斜面３５とほぼ平行であるとともに、廃棄溝２７の周方向に沿わされている。また、前記十字方向のうち残る２つの方向（左右２つの吐出口４３からの吐出方向）は、傾斜面３５とほぼ平行であるとともに、平面視において廃棄溝２７の径方向に沿わされている。すなわち、各洗浄ノズル３８は、傾斜面３５と平行であり廃棄溝２７内における処理液の流通方向とほぼ平行な２方向と、傾斜面３５と平行であり前記処理液の流通方向に直交する２方向とに洗浄液を吐出するように配置されている。
【００４９】
図５は、廃棄溝２７の周方向に沿って展開した溝底面２８の断面および一対の洗浄ノズル３８，３８の配置を示す模式図である。この図５において、横軸は廃棄溝２７の周方向を示しており、縦軸は高さを示している。この横軸における０度の位置が頂部３６となっており、±１８０度の位置が底辺部３７となっている。廃棄溝２７の周方向に沿って展開した溝底面２８の断面は、たとえば、頂部３６を頂点とした山形となっている。
【００５０】
以下では、図３および図５を参照して、洗浄ノズル３８によるカップ５の洗浄について説明する。また、以下では、溝底面２８に沿って頂部３６から底辺部３７に向かう右回り方向を右側といい、左回り方向を左側という。
各洗浄ノズル３８の上下２つの吐出口４３からは、傾斜面３５と平行であり廃棄溝２７内における処理液の流通方向に直交する方向に洗浄液が吐出される。この洗浄液は、溝底面２８における頂部３６を含む範囲に着液する。より具体的には、頂部３６の右側に配置された洗浄ノズル３８の上下２つの吐出口４３から吐出された洗浄液は、頂部３６および溝底面２８における頂部３６よりも僅かに右側の位置に着液する。また、頂部３６の左側に配置された洗浄ノズル３８の上下２つの吐出口４３から吐出された洗浄液は、頂部３６および溝底面２８における頂部３６よりも僅かに左側の位置に着液する。
【００５１】
頂部３６に着液した洗浄液は、溝底面２８に沿って右側または左側に流れていく。また、溝底面２８における頂部３６よりも僅かに右側の位置に着液した洗浄液は、溝底面２８に沿って右側に流れていく。また、溝底面２８における頂部３６よりも僅かに左側の位置に着液した洗浄液は、溝底面２８に沿って左側に流れていく。頂部３６から底辺部３７に向けて洗浄液が溝底面２８に沿って流れていくことで、溝底面２８の全域に洗浄液が供給される。これにより、廃棄溝２７内の処理液が洗い流され、廃棄溝２７内が洗浄される。
【００５２】
本実施形態では、頂部３６の近傍であり、かつ、廃棄溝２７の周方向に頂部３６を挟んだ両側に一対の洗浄ノズル３８，３８が設けられているので、溝底面２８における頂部３６を挟んだ左右両側の位置に洗浄液が確実に供給される。したがって、廃棄溝２７内における２つのルートに洗浄液が確実に供給される。これにより、廃棄溝２７内の全域が確実に洗浄される。
【００５３】
一方、各洗浄ノズル３８の左右２つの吐出口４３からは、傾斜面３５と平行であり廃棄溝２７内における処理液の流通方向に沿う方向に洗浄液が吐出される。より具体的には、図５に示すように、頂部３６の右側に配置された洗浄ノズル３８の左右２つの吐出口４３からは、右側の溝底面２８とほぼ平行であり、廃棄溝２７内における処理液の流通方向に沿う方向に洗浄液が吐出される。また、図５に示すように、頂部３６の左側に配置された洗浄ノズル３８の左右２つの吐出口４３からは、左側の溝底面２８とほぼ平行であり、廃棄溝２７内における処理液の流通方向に沿う方向に洗浄液が吐出される。
【００５４】
処理液の流通方向に沿って吐出された洗浄液は、右側または左側の溝底面２８に着液し、溝底面２８に沿って流れていく。また、処理液の流通方向に沿う方向に吐出された洗浄液には、底辺部３７に向かう勢いが付与されているので、この洗浄液が溝底面２８に着液することにより、底辺部３７に向かう洗浄液の流れが廃棄溝２７内に形成される。
本実施形態では、各洗浄ノズル３８から吐出された洗浄液により、底辺部３７に向かう洗浄液の流れが廃棄溝２７内に形成されるので、廃棄溝２７内に導かれた処理液が、確実に底辺部３７に流れていく。したがって、廃棄溝２７内に導かれる処理液が少量であったとしても、洗浄液の流れにより処理液が押し流され、当該処理液が確実に排液口３２に導かれる。これにより、廃棄溝２７内に導かれた処理液が確実に排液される。
【００５５】
また、本実施形態では、傾斜面３５とほぼ平行な方向に各洗浄ノズル３８から洗浄液が吐出されるので、吐出された洗浄液が確実に傾斜面３５を伝って廃棄溝２７内に供給される。すなわち、たとえば装置の隙間や回転機構などの洗浄液が進入してはいけない部分に、各洗浄ノズル３８から吐出された洗浄液が進入することが抑制されている。
図６は、基板処理装置１の電気的構成を説明するためのブロック図である。
【００５６】
基板処理装置１は、マイクロコンピュータを含む構成の制御部４４を備えている。この制御部４４には、薬液バルブ１６、リンス液バルブ１７、ＩＰＡバルブ１８、洗浄液バルブ４１ならびに第１および第２昇降駆動機構２１，４２が制御対象として接続されている。
図７は、基板処理装置１によるウエハＷの処理の一例を説明するための工程図である。また、図８は、ウエハＷの処理の一例における各バルブ６，７，８，４１の開閉状態およびスピンチャック３によるウエハＷの回転速度を示すグラフである。
【００５７】
処理対象のウエハＷは、内構成部材１９および外構成部材２０が下方位置に配置された状態で処理室２内に搬入され、たとえば、デバイス形成面であるウエハＷの表面を上に向けてスピンチャック３に保持される（ステップＳ１）。ウエハＷがスピンチャック３に保持されると、制御部４４により第２昇降駆動機構４２が制御されて、外構成部材２０が上方位置まで上昇される。これにより、内構成部材１９の案内部２５の上端部２５ｂと外構成部材２０の上端部２０ｂとの間に、ウエハＷの周端面に対向する開口が形成される（図２参照）。
【００５８】
次いで、制御部４４によりモータ７が制御されて、所定の回転速度（たとえば８００ｒｐｍ）でスピンチャック３に保持されたウエハＷが回転される（ステップＳ２）。その後、制御部４４により薬液バルブ１６が開かれて、ウエハＷの上面に向けて薬液（たとえばフッ酸）が吐出される（ステップＳ３）。処理液ノズル４から吐出された薬液は、ウエハＷの上面の回転中心を含む範囲に着液し、その後、ウエハＷの回転による遠心力を受けて周縁に向かって広がっていく。これにより、ウエハＷの上面全域に薬液が供給され、薬液処理がウエハＷの上面に行われる。
【００５９】
一方、ウエハＷの周縁に達した薬液はウエハＷの回転による遠心力を受けてウエハＷの周囲に振り切られる。さらに、ウエハＷの周囲に振り切られた薬液は、案内部２５の上端部２５ｂと外構成部材２０の上端部２０ｂとの間に飛入して、回収溝２６に導かれる。これにより、ウエハＷの処理に使用された薬液が回収溝２６に導かれる。
薬液処理が所定時間にわたって行われると、制御部４４により薬液バルブ１６が閉じられて、処理液ノズル４からウエハＷへの薬液の供給が停止される（ステップＳ４）。そして、制御部４４により第１昇降駆動機構２１が制御されて、内構成部材１９が上方位置まで上昇される（図３参照）。これにより、案内部２５の内周面がスピンチャック３に保持されたウエハＷの周端面に対向される。
【００６０】
案内部２５の内周面がスピンチャック３に保持されたウエハＷの周端面に対向されると、制御部４４によりリンス液バルブ１７が開かれて、処理液ノズル４からウエハＷの上面に向けてリンス液（たとえば純水）が吐出される（ステップＳ５）。処理液ノズル４から吐出されたリンス液は、ウエハＷの上面の回転中心を含む範囲に着液し、その後、ウエハＷの回転による遠心力を受けて周縁に向かって広がっていく。これにより、ウエハＷの上面全域にリンス液が供給され、ウエハＷ上の薬液を洗い流すリンス処理がウエハＷの上面に行われる。なお、リンス液が吐出される前に、制御部４４によりモータ７が制御されて、薬液処理時よりも低速の回転速度（たとえば６００ｒｐｍ）でスピンチャック３に保持されたウエハＷが回転された状態でリンス処理が行われる。
【００６１】
また、リンス液によりウエハＷ上から洗い流される薬液や、ウエハＷの周縁に達した後にウエハＷから排出されるリンス液は、案内部２５の内周面に受け止められたり、廃棄溝２７に直接飛入したりして、廃棄溝２７に導かれる。これにより、ウエハＷの処理に使用された薬液およびリンス液が廃棄溝２７に導かれる。
また、このとき案内部２５の上端部２５ｂおよび外構成部材２０の上端部２０ｂはごく微小な隙間を保った状態で近接しており、外構成部材２０の折返し部２０ｃは案内部２５の上端部２５ｂと水平方向において重なっている。したがって、案内部２５と外構成部材２０との間にリンス液が進入することが防止されている。これにより、回収溝２６内で、薬液とリンス液とが混触することが防止されている。
【００６２】
リンス処理が所定時間にわたって行われると、制御部４４によりリンス液バルブ１７が閉じられて、処理液ノズル４からウエハＷへのリンス液の供給が停止される（ステップＳ６）。そして、制御部４４によりＩＰＡバルブ１８および洗浄液バルブ４１が、たとえば同時に開かれる（ステップＳ７）。これにより、処理液ノズル４からＩＰＡが吐出され、一対の洗浄ノズル３８，３８から洗浄液（たとえば純水）が吐出される。
【００６３】
一対の洗浄ノズル３８，３８から吐出された洗浄液は、溝底面２８における頂部３６を含む範囲に着液する。そして、溝底面２８に着液した洗浄液は、溝底面２８の傾斜によって、排液口３２が形成された底辺部３７に向けて廃棄溝２７の周方向に流れていく。これにより、溝底面２８の全域に洗浄液が供給される。また、各洗浄ノズル３８からは廃棄溝２７の周方向に沿う方向に洗浄液が吐出されるので、廃棄溝２７内に底辺部３７に向かう洗浄液の流れが形成される。
【００６４】
一方、処理液ノズル４から吐出されたＩＰＡは、ウエハＷの上面の回転中心を含む範囲に着液する。そして、ウエハＷの回転による遠心力を受けて周縁に向かって広がっていく。これにより、ウエハＷの上面全域にＩＰＡが供給され、ウエハＷの上のリンス液がＩＰＡによって洗い流される。ＩＰＡは、この処理の一例でリンス液として用いられている純水を容易に溶け込ませることができる有機溶剤である。したがって、ウエハＷ上に付着しているリンス液にＩＰＡが溶け込みつつ、ウエハＷ上のリンス液をＩＰＡに置換する置換処理がウエハＷの上面に行われる（処理工程）。
【００６５】
また、ＩＰＡによりウエハＷ上から洗い流されるリンス液や、ウエハＷの周縁に達した後にウエハＷから排出されるＩＰＡは、案内部２５の内周面に受け止められたり、廃棄溝２７に直接飛入したりして、廃棄溝２７に導かれる。これにより、ウエハＷの処理に使用されたリンス液およびＩＰＡが廃棄溝２７に導かれる。
前述のように、廃棄溝２７には洗浄液が供給されており、廃棄溝２７内には、底辺部３７に向かう洗浄液の流れが形成されている。そのため、廃棄溝２７に導かれたリンス液およびＩＰＡは、洗浄液によって速やかに洗い流され、排液口３２を介してカップ５内から排液される（洗浄工程）。これにより、ＩＰＡによる処理が終了した後も、リンス液およびＩＰＡが廃棄溝２７内に残留することを抑制でき、廃棄溝２７に導かれたリンス液およびＩＰＡが廃棄溝２７内で蒸発して、リンス液およびＩＰＡの蒸気が発生することが抑制されている。また、リンス液およびＩＰＡは、廃棄溝２７に到達するとすぐに洗い流されるので、リンス液およびＩＰＡが洗い流されるまでの間に、リンス液およびＩＰＡの蒸気が発生することが抑制または防止されている。
【００６６】
ＩＰＡバルブ１８が開かれてから所定時間が経過すると、制御部４４によりＩＰＡバルブ１８が閉じられる（ステップＳ８）。
また、洗浄液バルブ４１は開かれており、一対の洗浄ノズル３８，３８からの洗浄液の吐出は継続されている。すなわち、制御部４４は、処理液ノズル４からのＩＰＡの吐出を停止させた状態で、一対の洗浄ノズル３８，３８から洗浄液を吐出させている（後洗浄工程）。
【００６７】
ＩＰＡバルブ１８が閉じられると、制御部４４によりモータ７が制御されて、ウエハＷの回転速度が所定の高回転速度（たとえば３０００ｒｐｍ）に変更される（ステップＳ９）。これにより、ウエハＷ上に付着しているＩＰＡがウエハＷの周囲に振り切られる。したがって、ウエハＷの上面はリンス液が完全に除去された状態で乾燥される。これにより、ウエハＷの上面にウォータマークなどの乾燥不良が発生することが抑制されている。また、ＩＰＡは、揮発性の高い有機溶剤であるので、ウエハＷの乾燥に要する時間が短縮されている。
【００６８】
一方、ウエハＷが高速回転される間、洗浄液バルブ４１は開かれており、一対の洗浄ノズル３８，３８からの洗浄液の吐出は継続されている。すなわち、制御部４４は、処理液ノズル４からのＩＰＡの吐出を停止させた状態で、一対の洗浄ノズル３８，３８から洗浄液を吐出させる後洗浄工程を継続して行わせている。したがって、廃棄溝２７内には底辺部３７に向かう洗浄液の流れが形成されており、ウエハＷから振り切られて廃棄溝２７に導かれたＩＰＡは、洗浄液によって速やかに洗い流される。これにより、廃棄溝２７に導かれたＩＰＡが排液口３２を介して廃棄溝２７内から排液される。
【００６９】
ＩＰＡは、揮発性が高く蒸発しやすい有機溶剤である。したがって、廃棄溝２７に導かれたＩＰＡを速やかに洗い流すことで、廃棄溝２７内にＩＰＡの蒸気が発生することを確実に抑制または防止することができる。これにより、ウエハＷから排出されたＩＰＡが、蒸気となって処理室２内に広がることが抑制または防止される。
ウエハＷの高速回転が所定時間にわたって続けられると、制御部４４によりモータ７が停止されて、スピンチャック３によるウエハＷの回転が停止される（ステップＳ１０）。そして、制御部４４により洗浄液バルブ４１が閉じられて、洗浄ノズル３８から廃棄溝２７への洗浄液の供給が停止される（ステップＳ１１）。また、制御部４４により第１および第２昇降駆動機構２１，４２が制御されて、内構成部材１９および外構成部材２０がそれぞれの下方位置まで降下される。その後、処理済みのウエハＷが処理室２から搬出されていく（ステップＳ１２）。
【００７０】
以上のように本実施形態では、ウエハＷの処理において、処理液ノズル４からＩＰＡを吐出させつつ、一対の洗浄ノズル３８，３８から洗浄液を吐出させる（ステップＳ７〜Ｓ８）。また、それに続いて、処理液ノズル４からのＩＰＡの吐出を停止させた状態で、一対の洗浄ノズル３８，３８から洗浄液を吐出させる（ステップＳ８〜Ｓ１１）。
処理液ノズル４からＩＰＡを吐出させつつ、一対の洗浄ノズル３８，３８から洗浄液を吐出させることにより、ウエハＷから排出され廃棄溝２７に導かれたＩＰＡを速やかに洗い流して、排液口３２から排液させることができる。これにより、ウエハＷから排出されたＩＰＡが廃棄溝２７内に残留することにより廃棄溝２７内にＩＰＡの蒸気が発生することを抑制または防止することができる。これにより、ウエハＷから排出されたＩＰＡが、蒸気となって処理室２内に広がることが抑制または防止される。
【００７１】
また、処理液ノズル４からのＩＰＡの吐出を停止させた状態で、一対の洗浄ノズル３８，３８から洗浄液を吐出させることにより、処理液ノズル４からのＩＰＡの吐出が停止された後も、引き続きカップ５内を洗浄することができる。これにより、処理液ノズル４からのＩＰＡの吐出が停止された後に、廃棄溝２７内でＩＰＡの蒸気が発生することを抑制または防止することができる。
【００７２】
ＩＰＡは、引火点が常温以下である可燃性の有機溶剤である。そのため、このような有機溶剤の蒸気が処理室２内に広がることは好ましくない。なお、溝底面２８に形成された複数の排気口３１からカップ５内を常時排気しているので、ＩＰＡの蒸気が発生したとしても、ＩＰＡの蒸気が処理室２内に広がることを基本的には抑制または防止することができるが、本実施形態のように、カップ５内を洗浄することでＩＰＡの蒸気の発生を抑制することにより、このような有機溶剤の蒸気が処理室２内に広がることを確実に抑制または防止することができる。
【００７３】
この発明の実施の形態の説明は以上であるが、この発明は、前述の実施形態の内容に限定されるものではなく、請求項記載の範囲内において種々の変更が可能である。たとえば、前述の実施形態では、一対の洗浄ノズル３８，３８が、洗浄液を吐出するための洗浄ノズルとして用いられている場合について説明したが、これに限らない。すなわち、図９に示すように、内構成部材１９の案内部２５の内周面に沿って廃棄溝２７の周方向に延びる環状の配管４５が前記洗浄ノズルとして用いられてもよい。この図９において、前述の図１〜図８に示された各部と同等の構成部分については、図１〜図８と同一の参照符号を付している。
【００７４】
配管４５には、洗浄液を吐出するための複数の吐出口４６が形成されている。これらの吐出口４６は、配管４５の長手方向に所定間隔を隔てて並んで配置されている。また、これらの吐出口４６は、配管４５の断面中心を挟んで対向するように、配管４５の一方側（上側）および他方側（下側）に配置されている。配管４５からは互いに逆方向となる二方向に洗浄液が吐出される。配管４５は、洗浄液の吐出方向が案内部２５の内周面に沿うように、保持部材４７によって案内部２５の内側で保持されている。
【００７５】
配管４５から吐出された洗浄液は、廃棄溝２７内における周方向に離れた複数の位置に直接着液する。したがって、廃棄溝２７内における複数の位置に確実に洗浄液が供給され、これらの位置が確実に洗浄される。そのため、ウエハＷから排出された処理液（ＩＰＡ等）の蒸気の発生が確実に抑制または防止される。
また、前述の実施形態では、ＩＰＡが、引火点が常温以下である可燃性の有機溶剤を含む処理液として用いられている場合について説明したが、これに限らない。すなわち、たとえばメタノールやエタノール等のアルコール系の有機溶剤が、前記有機溶剤を含む処理液として用いられていてもよい。また、これらの有機溶剤と他の処理液との混合液が、前記有機溶剤を含む処理液として用いられていてもよい。
【００７６】
また、前述のウエハＷの処理の一例（ステップＳ７）では、制御部４４によりＩＰＡバルブ１８および洗浄液バルブ４１が同時に開かれる場合について説明したが、これに限らず、たとえば、ＩＰＡバルブ１８が開かれる前に洗浄液バルブ４１が開かれてもよい。すなわち、制御部４４は、前記置換処理（処理工程）を行わせる前に、処理液ノズル４からの処理液の吐出を停止させた状態で、洗浄ノズル３８から洗浄液を吐出させてカップ５内を洗浄する前洗浄工程を行わせてもよい。この場合、溝底面２８にＩＰＡが付着することを抑制または防止することができる。
【００７７】
すなわち、ＩＰＡバルブ１８よりも先に洗浄液バルブ４１を開くことで、溝底面２８を予め洗浄液で覆うことができる。したがって、ウエハＷから排出されたＩＰＡは、洗浄液によって溝底面２８がコーティングされた状態で廃棄溝２７内に導かれる。これにより、ＩＰＡが溝底面２８に接触することが抑制または防止され、溝底面２８にＩＰＡが付着することが抑制または防止される。
【００７８】
また、前述の実施形態では、処理対象となる基板としてウエハＷを取り上げたが、ウエハＷに限らず、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、ＦＥＤ用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板などの他の種類の基板が処理対象とされてもよい。
その他、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図である。
【図２】前記基板処理装置の概略構成を示す縦断面図である。
【図３】前記基板処理装置の概略構成を示す縦断面図である。
【図４】洗浄ノズルの一部を拡大した図である。
【図５】廃棄溝の周方向に沿って展開した溝底面の断面および一対の洗浄ノズルの配置を示す模式図である。
【図６】前記基板処理装置の電気的構成を説明するためのブロック図である。
【図７】前記基板処理装置によるウエハの処理の一例を説明するための工程図である。
【図８】前記ウエハの処理の一例における各バルブの開閉状態およびスピンチャックによるウエハの回転速度を示すグラフである。
【図９】本発明の他の実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示す縦断面図である。
【符号の説明】
【００８０】
１      基板処理装置
３      スピンチャック（基板保持手段）
４      処理液ノズル
５      カップ
１２    処理液供給管（処理液供給手段）
２７    廃棄溝（溝、環状溝）
２８    溝底面
３２    排液口
３６    頂部（溝底面における最も高さが高い部分）
３８    洗浄ノズル
３９    洗浄液供給管（洗浄液供給手段）
４４    制御部（制御手段）
４５    配管（洗浄液ノズル）
４６    吐出口（複数の吐出口）
Ｗ      ウエハ（基板）
【図１】
0005265943.tif 000002
【図２】
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【図３】
0005265943.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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