(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマ源でプラズマを発生させる工程と、
基板が保持された製膜室にＴＥＯＳガスを供給する工程と、
該プラズマ源から該プラズマを該製膜室に導入する導入工程と、
該プラズマを該ＴＥＯＳに接触させて該ＴＥＯＳを分解し、該基板上にＳｉＯＣＨ膜を堆積させる工程とを含み、
該プラズマ源と該製膜室とを分離することにより、該製膜室中で該ＴＥＯＳと接触するプラズマのエネルギを小さくし、
以下の式（１）：
ｅ＋Si(OC2H5)n(OH)4-n --> Si(OC2H5)n-1(OH)4-n+1＋C2H4＋ｅ
；ｎ＝１〜４............式（１）
で示されるＴＥＯＳの前駆体の分解反応を抑制しつつＳｉＯＣＨ膜を堆積し、
該ＴＥＯＳが接触した上記プラズマのイオン電流密度が、略０．０５〜略０．２ｍＡ／ｃｍ２であることを特徴とするＳｉＯＣＨ膜の製造方法。
【請求項２】
上記ＴＥＯＳが接触した上記プラズマのプラズマ密度が、略２×１０９〜略１×１０１０ｃｍ−３であることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
上記導入工程が、プラズマ源と製膜室との間の圧力差により上記プラズマを移動させる工程であることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
上記ＳｉＯＣＨ膜の堆積速度が、略４〜略５ｎｍ／分であることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項５】
上記ＳｉＯＣＨ膜の堆積中の上記基板温度が、略３０℃以下であることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＳｉＯＣＨ膜の製造方法およびその製造装置、並びにＳｉＯＣＨ膜に関し、特にＴＥＯＳを原料に用いたＳｉＯＣＨ膜の製造方法およびその製造方法に用いるプラズマＣＶＤ装置、並びにＳｉＯＣＨ膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積回路に用いられる多層配線では、信号伝達の遅延を低減するために、配線層と配線層との間を絶縁する層間絶縁膜の低誘電率化が必要とされる。
従来、層間絶縁膜として、例えば、ＴＭＣＴＳ（Tetra-Methyl-Cyclo-Tetra-Siloxane）やＴＭＳ（Tetra-Methyl-Silane）のような原料を用いて、プラズマＣＶＤ法によりＳｉＯＣＨ膜が形成されていた（例えば、非特許文献１参照）。
【非特許文献１】FUJITSU.52, 4, p.374-381 (07, 2001)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
半導体集積回路をより安価に供給するためには、層間絶縁膜の材料としてＴＥＯＳ（Tetra-Ethyl-Ortho-Silicate：Si(OC2H5)4）を使用することが望まれる。
しかしながら、ＴＥＯＳを原料に用いたプラズマＣＶＤ法では、ＳｉＯ膜は形成できるが、ＳｉＯＣＨ膜の形成は困難であった。
この原因は、図１に示すような分子構造を有するＴＥＯＳでは、熱エネルギ等が加わると、ＯとＣ２Ｈ５との間の接続部が優先的に切断され、ＳｉＯＣＨ膜ではなくＳｉＯ膜が形成されるためと考えられる。
また、層間絶縁膜に用いるためには、良質なＳｉＯＣＨ膜を、室温のような低温で作製することも必要であった。【０００４】
そこで、本発明は、ＴＥＯＳを原料に用いて、低温で良質なＳｉＯＣＨ膜を形成するＳｉＯＣＨ膜の製造方法およびかかる製造方法に用いるプラズマＣＶＤ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
発明者らは、鋭意研究の結果、所定のプラズマ密度のプラズマでＴＥＯＳを分解することにより、ＯとＣ２Ｈ５との間での切断を抑制し、ＣやＨを含むＳｉＯＣＨ膜を形成できることを見出し、本発明を完成した。【０００６】
即ち、本発明は、
プラズマ源でプラズマを発生させる工程と、
基板が保持された製膜室にＴＥＯＳガスを供給する工程と、
該プラズマ源から該プラズマを該製膜室に導入する導入工程と、
該プラズマを該ＴＥＯＳに接触させて該ＴＥＯＳを分解し、該基板上にＳｉＯＣＨ膜を堆積させる工程とを含み、
該プラズマ源と該製膜室とを分離することにより、該製膜室中で該ＴＥＯＳと接触するプラズマのエネルギを小さくし、
以下の式（１）：
ｅ＋Si(OC2H5)n(OH)4-n --> Si(OC2H5)n-1(OH)4-n+1＋C2H4＋ｅ
；ｎ＝１〜４............式（１）
で示されるＴＥＯＳの前駆体の分解反応を抑制しつつＳｉＯＣＨ膜を堆積し、
該ＴＥＯＳが接触した上記プラズマのイオン電流密度が、略０．０５〜略０．２ｍＡ／ｃｍ２であることを特徴とするＳｉＯＣＨ膜の製造方法である。
【発明の効果】
【０００９】
以上の説明から明らかなように、本発明にかかる製造方法を用いることにより、低温で良質なＳｉＯＣＨ膜を形成することができる。また、本発明にかかる製造装置を用いることにより、かかるＳｉＯＣＨ膜を容易に形成することができる。更に、本発明にかかるＳｉＯＣＨ膜を用いることにより、安価な絶縁膜を供給できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
図２は、全体が１００で表される、本実施の形態にかかるＳｉＯＣＨ膜の作製に用いたプラズマＣＶＤ（ＲＦプラズマＣＶＤ）装置である。
プラズマＣＶＤ装置１００は、プラズマを発生させるプラズマ源１０と、ＳｉＯＣＨ膜を作製する製膜室２０とが分離されたリモートプラズマＣＶＤ装置となっている。プラズマ源１０と製膜室２０との間は、例えば配管３０のような接続部により接続されている。プラズマ源１０、製膜室２０、および配管３０は、例えばステンレス鋼から形成される。【００１１】
プラズマ源１０は、平行平板電極１１を備える。平行平板電極１１には、整合器１２を介して電源（１３．５６ＭＨｚ）１３が接続されている。また、プラズマ源１０には、Ａｒガス１４が導入される。【００１２】
一方、製膜室２０は、基板４０を載置するためのホルダ２１を有する。ホルダ２１は、基板加熱装置（図示せず）を備えても良い。製膜室２０には、ＴＥＯＳ２２が導入される。また、製膜室２０には、ロータリーポンプ等の排気手段２３が設けられている。【００１３】
図２に示すように、Ａｒプラズマ１５の中央とホルダ２１の表面との間の距離は、Ｌとなっている。距離Ｌは、ホルダ２１を移動させること、又は配管３０の長さを変えることにより可変となっている。【００１４】
次に、図２を参照しながら、ＳｉＯＣＨ膜の製造方法について説明する。ＳｉＯＣＨ膜の製造工程は、以下の１〜３の工程を含む。【００１５】
工程１：例えばシリコン基板（Ｓｉ（１００））４０を、ホルダ２１上に配置した後、排気手段２３によりプラズマＣＶＤ装置１００内を排気する。【００１６】
工程２：プラズマ源１０にＡｒガス１４を導入する。Ａｒガス１４の流量は、例えば２．５ｓｃｃｍとする。また、電源１３からは、５０〜１００Ｗの電力が平行平板電極１１に供給される。これにより、プラズマ源１０で、Ａｒプラズマ１５が発生する。【００１７】
工程３：製膜室２０に、ＴＥＯＳ２２を導入する。ＴＥＯＳ２２の流量は、例えば１ｓｃｃｍである。この時、シリコン基板４０の温度は、室温とする。製膜室２０は減圧状態で、真空度は２０Ｐａ程度である。かかる工程では、シリコン基板４０の温度が、５０℃以下であることが確認されているが、ホルダ２１が加熱装置（図示せず）を備えることにより、製膜中のシリコン基板４０の温度をより高くすることも可能である。【００１８】
かかる工程３では、プラズマ源１０で形成されたＡｒプラズマ１５が、プラズマ源１０と製膜室２０との差圧により、プラズマ源１０から配管３０を通って製膜室２０に移動する（図２に矢印５０で記載）。製膜室２０では、Ａｒプラズマ１５の有するエネルギによりＴＥＯＳが部分的に分解され、シリコン基板４０上に堆積する。この状態で、例えば９０分間、ＳｉＯＣＨ膜の堆積が行われる。
なお、工程２のＡｒプラズマの発生と、工程３のＴＥＯＳの供給とをほぼ同時に行っても構わない。【００１９】
ＴＥＯＳを用いたプラズマＣＶＤ法では、以下の式（１）により前駆体が形成される。【００２０】
ｅ＋Si(OC2H5)n(OH)4-n --> Si(OC2H5)n-1(OH)4-n+1＋C2H4＋ｅ
；ｎ＝１〜４............式（１）【００２１】
Ａｒプラズマのエネルギにより前駆体の分解が進んだ場合（式（１）が左辺から右辺に進んだ場合）、Ｃ２Ｈ４の形成により前駆体中の炭素が減少する。【００２２】
本実施の形態では、プラズマ源１０と製膜室２０とを分離して、製膜室２０中でＴＥＯＳと接触するＡｒプラズマのエネルギを小さくしている。これにより、ＴＥＯＳの前駆体の分解が抑制され、ＣやＨを含んだＳｉＯＣＨ膜の堆積が可能となる。【００２３】
表１は、プラズマＣＶＤ装置１００を用いてＳｉＯＣＨ膜を形成中の、Ａｒプラズマのイオン電流密度とプラズマ密度の測定結果の一例である。電源１３から供給される電力（RF power）を５０Ｗ〜３００Ｗの範囲内に設定し、その条件におけるイオン電流密度とプラズマ密度を測定した。測定位置は、製膜室２０の、シリコン基板４０の表面近傍である。【００２４】
〔表１〕
RF power     イオン電流密度          プラズマ密度
(W)            (mA/cm2)                  (cm-3)
50.00            1.1465              2.6914e+09
75.00            1.6558              3.8870e+09
100.00            2.2075              5.1821e+09
125.00            2.6320              6.1784e+09
150.00            3.0139              7.0751e+09
200.00            3.4808              8.1710e+09
250.00            4.5843              1.0761e+10
300.00            5.0936              1.1957e+10【００２５】
図３は、Ａｒガスの流量が２．５ｓｃｃｍの場合の、平行平板電極１１に供給される高周波電力とＳｉＯＣＨ膜の堆積速度との関係である。図３から分かるように、供給電力が約１００Ｗ以上で、ＳｉＯＣＨ膜の堆積速度は、約４．５ｎｍ／分と略一定となる。【００２６】
このように、ＳｉＯＣＨ膜の堆積速度は、１０ｎｍ／分以下、好適には４〜５ｎｍ／分程度と、通常の熱ＣＶＤ法に比較して非常に遅くなっている。【００２７】
表２は、プラズマと基板との距離（Ｌ）を３７５ｍｍとし、供給電力（RF POWER）を５０Ｗから３５０Ｗまで変化させた場合の、ホルダ２１表面におけるイオン電流密度とプラズマ密度である。また、表３は、距離（Ｌ）を２７５ｍｍとした場合の値である。【００２８】
表２に示すイオン電流密度やプラズマ密度は、ラングミュアプローブを用いた測定結果より求めた。具体的には、ホルダ２１の表面中央にラングミュアプローブを配置し、各供給電力におけるＶｐ−Ｉｐ特性を測定し、この測定結果よりイオン電流密度やプラズマ密度を算出した。なお、図４中に、供給電力５０Ｗの時のＶｐ−Ｉｐ特性の測定結果を例示する。【００２９】
〔表２〕
Ｌ＝３７５ｍｍ
RF power     イオン電流密度          プラズマ密度
(W)            (mA/cm2)                  (cm-3)
50            0.0614                 2.43e+09
100            0.147                  6.06e+09
150            0.221                  9.64e+09
200            0.323                  1.46e+10
250            0.421                  1.95e+10
300            0.514                  2.53e+10
350            0.656                  3.36e+10【００３０】
〔表３〕
Ｌ＝２７５ｍｍ
RF power     イオン電流密度          プラズマ密度
(W)            (mA/cm2)                  (cm-3)
50            0.244                  9.55e+09
100            0.396                  1.62e+10
150            0.535                  2.32e+10
200            0.613                  2.67e+10
250            0.797                  3.51e+10
300            0.916                  4.17e+10
350            1.02                   4.72e+10【００３１】
図４は、距離（Ｌ）が３７５ｍｍ、２７５ｍｍの場合の、供給電力（RF POWER）とイオン電流密度（Iis）との関係であり、表２、３の値をプロットしたものである。【００３２】
次に、表４は、距離（Ｌ）が３７５ｍｍ、２７５ｍｍの場合の、供給電力（RF POWER）と、基板の飽和温度との関係である。【００３３】
〔表４〕
Ｌ＝３７５ｍｍ      Ｌ＝２７５ｍｍ
RF power           飽和温度      飽和温度
(W)              （℃）            （℃）
50                30                32
75                33                36
100                38                43
200                50                58
300                59                68【００３４】
図５は、距離（Ｌ）が３７５ｍｍ、２７５ｍｍの場合の、供給電力（RF POWER）と基板の飽和温度（Ｔｓ）との関係であり、表４の値をプロットしたものである。図５中に、飽和温度を求める場合に用いた堆積時間と基板温度との関係の一例を示す。この場合、基板の飽和温度は３０℃となる。【００３５】
図４から分かるように、供給電力が大きくなるのに従ってイオン飽和電流も大きくなり、また、距離（Ｌ）が小さいほどイオン飽和電流が大きくなる。このように、供給電力や距離（Ｌ）を変えることにより、基板表面におけるイオン電流密度（Iis）の制御が可能となる。【００３６】
また、図５から分かるように、供給電力が大きくなるのに従って飽和温度も大きくなり、また、距離（Ｌ）が小さいほど飽和温度が大きくなる。このように、供給電力や距離（Ｌ）を変えることにより、基板の飽和温度（Ｔｓ）の制御が可能となる。【００３７】
図６は、ＳｉＯＣＨ膜作製中の基板温度と、膜中の炭素等の含有量との関係である。ＳｉＯＣＨ膜の製膜条件は、ＴＥＯＳ流量：１．０ｓｃｃｍ、Ａｒ流量：３．５ｓｃｃｍ、供給電力：５０Ｗである。図６から分かるように、製膜中の基板温度（飽和温度）は炭素の脱離に影響し、基板温度は５０℃以下とするのが好ましく、更には３０℃以下とするのが好ましい。【００３８】
ＳｉＯＣＨ膜の製膜中に、基板温度を５０℃以下にするには、例えば、イオン電流密度は０．３ｍＡ／ｃｍ２程度、プラズマ密度は１．５×１０１０ｃｍ−３程度となる（Ｌ＝３７５ｍｍ、RF Power：２００Ｗ）。また、基板温度を３０℃以下にするには、例えば、基板表面でのイオン電流密度は０．０５ｍＡ／ｃｍ２程度、プラズマ密度は２．４×１０９ｃｍ−３程度となる（Ｌ＝３７５ｍｍ、RF Power：５０Ｗ）。
従って、好適な製膜条件では、イオン電流密度は、０．０５〜０．２ｍＡ／ｃｍ２程度、プラズマ密度は、２×１０９〜１×１０１０ｃｍ−３程度となる。【００３９】
次に、かかる製造方法で作製したＳｉＯＣＨ膜の分析結果を示す。図７は、ＳｉＯＣＨ膜のＸＰＳ法を用いた分析結果であり、横軸に電源１３から供給される高周波電力（RF power）、縦軸に炭素含有量（ＣとＳｉの含有量の比（Ｃ／Ｓｉ））を示す。【００４０】
図７からわかるように、電力が７５Ｗ近傍でＣとＳｉの含有量の比（Ｃ／Ｓｉ）が最大となり、電力を大きくすると比の値が減少する傾向にある。これは、電力が７５Ｗ近傍で、ＳｉＯＣＨ膜の炭素（Ｃ）の含有量が最も多くなることを示す。即ち、図７の製膜条件に対応する表１より、Ａｒプラズマのイオン電流密度が１．６６（ｍＡ／ｃｍ２）、プラズマ密度が３．８９×１０９ｃｍ−３近傍で、ＳｉＯＣＨ膜に取り込まれる炭素量が最も多くなるといえる。
また、図７に示した電力の範囲では、ＳｉＯＣＨ膜中のＣの含有量は２０％を超えている。【００４１】
図８は、ＳｉＯＣＨ膜のＦＴ−ＩＲ（フーリエ変換型赤外分光）法を用いた分析結果であり、横軸に電源１３から供給される高周波電力（RF power）を、縦軸にＣＨ結合の積分強度とＳｉＯＨ結合の積分強度を示す。【００４２】
図８から分かるように、電力が７５Ｗ近傍でＣＨ結合の積分強度が最大になり、電力を大きくすると積分強度が減少する傾向にある。これは、電力が７５Ｗ近傍で、ＳｉＯＣＨ膜に含まれるＣ−Ｈ結合の含有率が最も多くなることを示している。【００４３】
一方、ＳｉＯＨ結合の積分強度は、電力を大きくするほど増大する傾向にある。これは、電力が大きくなるほど、ＳｉＯＣＨ膜に含まれるＳｉ−ＯＨ結合の含有率が多くなることを示している。【００４４】
なお、本実施の形態で作製したＳｉＯＣＨ膜では、リーク電流は、ＳｉＯ２膜に比較して一桁程度大きいだけで、層間絶縁膜として十分に使用できることが確認されている。【００４５】
例えば、図９は、ＳｉＯＣＨ膜に電界を印加した場合のリーク電流を示す。ＳｉＯＣＨ膜は、ＴＥＯＳ流量：１．０ｓｃｃｍ、Ａｒ流量：３．５ｓｃｃｍ、供給電力：５０Ｗの条件でシリコン基板上に作製し、膜厚は６８０ｎｍ、２６０ｎｍ、１３０ｎｍとした。また、比較のために、膜厚５００ｎｍの熱酸化膜（ＳｉＯ２膜）についても同様の測定を行った。【００４６】
図９から分かるように、ＳｉＯＣＨ膜の膜厚を６８０ｎｍとすれば、１．０ＭＶ／ｃｍの電界を印加した場合のリーク電流密度が、２〜３×１０−１０Ａ／ｃｍ２程度となる。この値は、最も絶縁特性が良いとされる熱酸化膜（ＳｉＯ２膜）のリーク電流密度６〜７×１０−１２Ａ／ｃｍ２に比較しても数十倍大きいだけであり、本実施の形態にかかるＳｉＯＣＨ膜が非常に良好な絶縁特性を有することが分かる。【００４７】
また、かかるＳｉＯＣＨ膜の表面粗さ（表面のＲＭＳ（Root Mean Square）値）は、約０．４ｎｍ以下となり、表面が原子層レベルでの平坦性を有している。なお、表面粗さは、製膜時の供給電力には影響されず、即ち、膜中の炭素量には依存しない。【００４８】
図１０は、ＳｉＯＣＨ膜に含まれる炭化水素基の熱処理温度依存性を示し、横軸に熱処理温度、縦軸にＦＴ−ＩＲ法で測定した吸収強度を示す。ＳｉＯＣＨ膜の製膜条件は、ＴＥＯＳ流量：１．０ｓｃｃｍ、Ａｒ流量：２．０ｓｃｃｍ、供給電力：１００Ｗであり、熱処理時間は１時間である。【００４９】
図１０から分かるように、熱処理温度が４００℃より高くなると、炭化水素（Ｃ−Ｈｎ）基の吸収強度が急激に減少し、代わって水酸（Ｏ−Ｈ）基の吸収強度が大きくなる。このように、本実施の形態にかかる方法で作製したＳｉＯＣＨ膜は、約４００℃以下で良好な耐熱特性を示すことがわかる。即ち、半導体製造プロセス等において、約４００℃以下で使用する限り、ＳｉＯＣＨ膜の膜質は変化せず、良好な絶縁膜として使用できることがわかる。【００５０】
このように、本実施の形態にかかる製造方法を用いることにより、ＴＥＯＳと接触するＡｒプラズマのエネルギ（プラズマ密度）を小さく制御してＴＥＯＳの前駆体からのＣやＨの離脱を抑制し、ＣやＨを含んだＳｉＯＣＨ膜の形成が可能となる。【００５１】
なお、ＳｉＯＣＨ膜中のＨは離脱しやすいため、ＳｉＯＣＨ膜から部分的にＨが離脱し、ＳｉＯＣＨ膜がポーラスな膜となっている場合もある。このため、ＳｉＯＣＨ膜は、ＳｉＯＣ：Ｈ膜と表記される場合もある。【００５２】
また、本実施の形態では、製膜中の基板温度は室温（５０℃以下、好適には３０℃以下）に保持したが、基板加熱装置を用いることにより、基板の温度を高く保持しながらＳｉＯＣＨ膜を作製することも可能である。製膜中の基板温度を上げることにより、室温の場合に比較してＳｉＯＣＨ膜をより緻密な膜にすることができる。【００５３】
なお、本実施の形態では、Ａｒプラズマを用いたが、Ａｒに代えて、Ｎ２やＨｅも使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】ＴＥＯＳの構造図である。
【図２】本実施の形態にかかるプラズマＣＶＤ装置の概略図である。
【図３】平行平板電極に供給される高周波電力とＳｉＯＣＨ膜の堆積速度との関係である。
【図４】供給電力とイオン電流密度との関係である。
【図５】供給電力と基板の飽和温度との関係である。
【図６】基板温度と膜中の炭素等の含有量との関係である。
【図７】ＸＰＳ法を用いたＳｉＯＣＨ膜の分析結果である。
【図８】ＦＴ−ＩＲ法を用いたＳｉＯＣＨ膜の分析結果である。
【図９】ＳｉＯＣＨ膜に印加する電界とリーク電流密度との関係である。
【図１０】ＳｉＯＣＨ膜の熱処理温度と吸収強度との関係である。
【符号の説明】
【００５５】
１０  プラズマ源、  １１  平行平板電極、１２  整合器、１３  電源、１４  Ａｒガス、２０  製膜室、２１  ホルダ、２２  ＴＥＯＳ、２３  排気手段、３０  配管、４０基板、１００  プラズマＣＶＤ装置。
【図１】
0005152972.tif 000002
【図２】
0005152972.tif 000003
【図３】
0005152972.tif 000004
【図４】
0005152972.tif 000005
【図５】
0005152972.tif 000006
【図６】
0005152972.tif 000007
【図７】
0005152972.tif 000008
【図８】
0005152972.tif 000009
【図９】
0005152972.tif 000010
【図１０】
0005152972.tif 000011