(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上の少なくとも一方の面に基材よりも屈折率が低い低屈折率層が形成されており、もう一方の面に基材よりも屈折率が高い高屈折率層を形成する反射防止材であって、前記基材の屈折率が１．６５であり、前記低屈折率層の屈折率が１．４１であり、前記高屈折率層の屈折率が１．７０であり、前記高屈折率層が有機系、無機系または有機無機系のマトリックス中に高屈折率微粒子を含むものからなることを特徴とする反射防止材。
【請求項２】
前記低屈折率層が、ハードコート性を有することを特徴とする請求項１に記載の反射防止材。
【請求項３】
前記低屈折率層が、ハードコート層の上に形成され、前記ハードコート層の屈折率が１．５２であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止材。
【請求項４】
前記高屈折率層が、導電性、ハードコート性、粘着性、紫外線吸収性のうちいずれか一つ以上の機能を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止材。
【請求項５】
基材の一方の面に、基材よりも屈折率が低い低屈折率層を形成する工程、その後基材のもう一方の面に基材よりも屈折率が高い高屈折率層を形成する工程、を有する反射防止材であって、前記基材の屈折率が１．６５であり、前記低屈折率層の屈折率が１．４１であり、前記高屈折率層の屈折率が１．７０であり、前記高屈折率層が有機系、無機系または有機無機系のマトリックス中に高屈折率微粒子を含むコーティング剤をコーティングして得られたものであることを特徴とする反射防止材の製造方法。
【請求項６】
前記低屈折率層がハードコート性を有することを特徴とする請求項５に記載の反射防止材の製造方法。
【請求項７】
基材の一方の面に、ハードコート層を形成する工程、さらにその上に基材よりも屈折率が低い低屈折率層を形成する工程、その後基材のもう一方の面に基材よりも屈折率が高い高屈折率層を形成する工程、を有する反射防止材であって、前記基材の屈折率が１．６５であり、前記低屈折率層の屈折率が１．４１であり、前記高屈折率層の屈折率が１．７０であり、前記ハードコート層の屈折率が１．５２であり、前記高屈折率層が有機系、無機系または有機無機系のマトリックス中に高屈折率微粒子を含むコーティング剤をコーティングして得られたものであることを特徴とする反射防止材の製造方法。
【請求項８】
前記高屈折率層が、導電性、ハードコート性、粘着性、紫外線吸収性のうちいずれか一つ以上の機能を有することを特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載の反射防止材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低反射率、機械強度、密着性、表面外観に優れた反射防止材の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
反射防止材は基板に屈折率の小さい膜を形成させることにより反射率を低減するというフィルムであり、ディスプレイを含め様々な分野で視認性向上のために用いられているフィルムである。
【０００３】
従来の反射防止材としては、例えば基板／（ハードコート性を有する層）／高屈折率層及び低屈折率層、または高屈折率層、低屈折率層及び中屈折率層からなる多層反射防止層という構成のものや、基板／（ハードコート性を有する層）／高屈折率層／低屈折率層という構成のもの、基板／（ハードコート性を有する層）／低屈折率層という構成のものが知られていた。
【０００４】
しかし、これらの構成において、反射率を低くするためには、多層化しなければならないが、多層にすると、工程が煩雑になり、また全体の光線透過率が低下する、または各層の密着性が問題になったりする。また、高屈折率層と低屈折率層の２層からなる構成や、低屈折率層１層の構成（特許文献１参照）では、十分な反射防止効果が得られない。
【０００５】
さらに、これらの反射防止材に、導電性、ハードコート性、粘着性、近赤外線吸収性、選択波長吸収性、電磁波遮蔽性を設けようとすると、一般的にはそれらの機能を有する層をさらに設けるか、またはハードコート層を有する場合、ハードコート層にそれらの機能を持たせることが考えられる。
【０００６】
これらの機能層はハードコート層に機能を持たせても、別に機能層を設けるとしても、いずれの場合も反射防止層の下層に位置し、これらの機能を有する層を設けた後に反射防止層を設けることになる。この場合、反射防止層は、塗工により設ける場合は、塗液を塗布後、紫外線や熱を加え硬化する。
機能性の材料は、これらの紫外線や熱により劣化することがあり、それによる機能の低下が問題であった。特に機能層に色素、導電性高分子などの有機系の材料を含む場合に問題であった。
【０００７】
【特許文献１】特開平０９−２２０７９１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明においては、簡便な工程で多層化することなく、高透明で良好な反射防止性能を得ることを目的とする。また導電性、ハードコート性、粘着性、紫外線吸収性、近赤外線吸収性、選択波長吸収性、電磁波遮蔽性の機能を容易に付与しやすく、またこれらの機能を劣化させることなく反射防止材を製造できる製造方法とすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、基材上の少なくとも一方の面に基材よりも屈折率が低い低屈折率層が形成されており、もう一方の面に基材よりも屈折率が高い高屈折率層を形成する反射防止材であって、前記基材の屈折率が１．６５であり、前記低屈折率層の屈折率が１．４１であり、前記高屈折率層の屈折率が１．７０であり、前記高屈折率層が有機系、無機系または有機無機系のマトリックス中に高屈折率微粒子を含むものからなることを特徴とする反射防止材である。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、前記低屈折率層が、ハードコート性を有することを特徴とする請求項１に記載の反射防止材である。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、前記低屈折率層が、ハードコート層の上に形成され、前記ハードコート層の屈折率が１．５２であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止材である。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、前記高屈折率層が、導電性、ハードコート性、粘着性、紫外線吸収性のうちいずれか一つ以上の機能を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止材である。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、基材の一方の面に、基材よりも屈折率が低い低屈折率層を形成する工程、その後基材のもう一方の面に基材よりも屈折率が高い高屈折率層を形成する工程、を有する反射防止材であって、前記基材の屈折率が１．６５であり、前記低屈折率層の屈折率が１．４１であり、前記高屈折率層の屈折率が１．７０であり、前記高屈折率層が有機系、無機系または有機無機系のマトリックス中に高屈折率微粒子を含むコーティング剤をコーティングして得られたものであることを特徴とする反射防止材の製造方法である。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、前記低屈折率層がハードコート性を有することを特徴とする請求項５に記載の反射防止材の製造方法である。
【００１５】
請求項７に記載の発明は、基材の一方の面に、ハードコート層を形成する工程、さらにその上に基材よりも屈折率が低い低屈折率層を形成する工程、その後基材のもう一方の面に基材よりも屈折率が高い高屈折率層を形成する工程、を有する反射防止材であって、前記基材の屈折率が１．６５であり、前記低屈折率層の屈折率が１．４１であり、前記高屈折率層の屈折率が１．７０であり、前記ハードコート層の屈折率が１．５２であり、前記高屈折率層が有機系、無機系または有機無機系のマトリックス中に高屈折率微粒子を含むコーティング剤をコーティングして得られたものであることを特徴とする反射防止材の製造方法である。
【００１６】
請求項８に記載の発明は、前記高屈折率層が、導電性、ハードコート性、粘着性、紫外線吸収性のうちいずれか一つ以上の機能を有することを特徴とする請求項５〜７のいずれかに記載の反射防止材の製造方法である。
【発明の効果】
【００１７】
本発明は、反射防止材において、低反射率にすることができ、かつ付加価値も加えやすい反射防止材とするものである。また、
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下に、本発明の実施形態について詳細に説明する。
本発明における層構成は、基材上の少なくとも一方の面に低屈折率の層、もう一方に高屈折率の層を形成することにより製造される反射防止材である。
低屈折率層の屈折率を基材よりも０．０１〜０．３低く、高屈折率の屈折率を基材よりも０．１〜１．０高くすることで、反射率をより低減できるものである。
【００１９】
本発明に用いる基材は特に限定されるものではなく、公知の透明プラスチックフィルムもしくはシートの中から適宜選択して用いることができる。
【００２０】
具体例としては、トリアセチルセルロースフィルム（屈折率約１．４９）、及びポリエチレンテレフタレート（屈折率約１．６５）などのポリエステルが透明性に優れるという点で望ましいという点で望ましい。
また、その他、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメチルペンテン、ポリスルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、アクリル、ナイロン、フッ素樹脂、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフォン等のフィルムもしくはシートを用いることもできる。
【００２１】
本発明に用いる低屈折率層は、基材より屈折率が０．０１〜０．３低いものであれば特に限定するものではないが、例えば、有機系、無機系または有機無機系のマトリックス中に低屈折率微粒子を含むコーティング剤をコーティングして得られるものが挙げられる。
【００２２】
無機系のマトリックスとしては、Ｓｉ（ＯＲ）４（但し、Ｒはアルキル基である）で表される有機珪素化合物を用いることができる。具体的にはＳｉ（ＯＣＨ３）４、Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４、Ｓｉ（ＯＣ３Ｈ７）４、Ｓｉ〔ＯＣＨ（ＣＨ３）２）〕４、Ｓｉ（ＯＣ４Ｈ９）４等が例示でき、それらを単独に、あるいは２種類以上併せて用いてもよい。
【００２３】
有機無機系のマトリックスとしては、Ｒ’ｎＳｉ（ＯＲ）４−ｎ（但し、Ｒ’はフッ素含有置換基、Ｒはアルキル基であり、ｍは置換数である）で表される有機珪素化合物を用いることができる。ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３ＣＦ２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）４（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）６（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）８（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）９（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３ＣＦ２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）２（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）３（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）４（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）５（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）６（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）７（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）８（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３、ＣＦ３（ＣＦ２）９（ＣＨ２）２Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）３等が例示でき、それらを単独に、あるいは２種類以上併せて用いてもよい。
また、前記無機系マトリックスに用いられる有機珪素化合物と組み合わせて用いても良い。
【００２４】
また、無機系または有機無機系マトリックスには、さらにＲ’’ｎＳｉ（ＯＲ）４−ｎ（但し、Ｒ’ ’はビニル基、もしくはアミノ基、エポキシ基、クロル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、イソシアナート基などの官能基のうち少なくとも１つを有する置換基、Ｒはアルキル基であり、ｎは置換数である）で表される有機珪素化合物としては、ビニル基含有珪素化合物〔ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等〕、アミノ基含有珪素化合物〔Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン等〕、エポキシ基含有珪素化合物〔３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等〕、クロル基含有珪素化合物〔３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン等〕、メタクリロキシ基含有珪素化合物〔３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等〕、アクリロキシ基含有珪素化合物〔３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等〕、イソシアナート基含有珪素化合物〔３−イソシアナートプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン等〕等が例示でき、それらを単独に、あるいは２種類以上併せて用いてもよい。
【００２５】
上記有機珪素化合物、若しくはその重合体を用いて共重合体を作製する方法は特に限定されるものではないが、加水分解によって作製するにあたっての触媒としては、公知の、塩酸、蓚酸、硝酸、酢酸、フッ酸、ギ酸、リン酸、蓚酸、アンモニア、アルミニウムアセトナート、ジブチルスズラウレート、オクチル酸スズ化合物、メタンスルホン酸、トリクロロメタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフロロ酢酸等が例示でき、それらを単独に、或いは２種類以上併せて用いてもよい。
【００２６】
有機系マトリクスとしては、活性エネルギー線硬化型樹脂を含む組成物を用いることができる。活性エネルギー線硬化型樹脂を含む組成物は、光重合性プレポリマー、光重合性モノマー、光重合開始剤等を含有するものである。
前記光重合性プレポリマーとしては、例えば、ポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。これらの光重合性プレポリマーは１種用いても良いし、２種以上を組み合わせて用いても良い。
また、光重合性モノマーとしては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。特に本発明では、プレポリマーとしてウレタンアクリレート系、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を用いることが好ましい。
【００２７】
更に、光重合開始剤としては例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチュウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルフォスフィン等を混合して用いることができる。
活性エネルギー線としては、紫外線、電子線などが挙げられるが、特にこれらに制限されるものではない。
また、活性エネルギー線を照射する際、その雰囲気に限定されるものではなく、大気、窒素やアルゴンなどの不活性ガスなど様々な雰囲気下で照射することができる。
【００２８】
前述のマトリックス中に、低屈折率微粒子を添加することにより、低屈折率化が可能となる。
低屈折微粒子としては、屈折率の低い金属化合物粒子などが挙げられる。例えばシリカ粒子やフッ化マグネシウム粒子などがある。またこれらの複合粒子でも良い。
また、これらの粒子は多孔質であっても良い。
これらの粒子の平均粒径は、０．５〜２００ｎｍの範囲内であれは良い。この平均粒径が２００ｎｍよりも大きくなると、低屈折率層の表面においてレイリー散乱によって光が散乱され、白っぽく見え、その透明性が低下する。また、この平均粒径が０．５ｎｍ未満であると、中空シリカ微粒子が凝集しやすくなってしまう。
【００２９】
これらのマトリクス及び粒子を含むコーティング剤は、通常、揮発性溶媒に希釈して塗布される。希釈溶媒として用いられるものは、特に限定されないが、組成物の安定性、ハードコート層に対する濡れ性、揮発性などを考慮して、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール、ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられる。また、溶媒は１種類のみならず２種類以上の混合物として用いることも可能である。
【００３０】
前記コーティング剤は、ウェットコーティング法（ディップコーティング法、スピンコーティング法、フローコーティング法、スプレーコーティング法、ロールコーティング法、グラビアロールコーティング法、エアドクターコーティング法、プレードコーティング法、ワイヤードクターコーティング法、ナイフコーティング法、リバースコーティング法、トランスファロールコーティング法、マイクログラビアコーティング法、キスコーティング法、キャストコーティング法、スロットオリフィスコーティング法、カレンダーコーティング法、ダイコーティング法等）により表面処理を行ったハードコート層上に塗工される。
塗工後、加熱乾燥により塗膜中の溶媒を揮発させ、その後、加熱、加湿、紫外線照射、電子線照射等を行い塗膜を硬化させる。
【００３１】
また、低屈折率層として酸化ケイ素、フッ化マグネシウムなどの無機系薄膜を蒸着法、スパッタリング法、化学蒸着法などの気相法により設けてもかまわない。
【００３２】
本発明の高屈折率層は、基材よりも０．１〜１．０高いものであれば特に限定するものではないが、有機系、無機系または有機無機系のマトリックス中に高屈折率微粒子を含むコーティング剤をコーティングして得られるものが挙げられる。
【００３３】
有機系のマトリクスとしては、アクリル系モノマーを重合させたものが挙げられる。
アクリル系モノマーとしては、１、４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−（メタ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２、３−ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１、２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１、２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３、８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２、２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１、４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。多官能モノマーは、一種類のみを使用しても良いし、二種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。
【００３４】
また、ビフェニル骨格を有するものであればより好ましい。このようなものとしては、ビフェニル骨格を有するアルコールと（メタ）アクリロイル基を有するカルボン酸をエステル化反応させるものが挙げられる。
【００３５】
無機系、有機無機系マトリクスとしては、Ｍ（ＯＲ）ｘ（ＭはＺｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｉｎなどの金属、ｘは自然数）またはＲｙＭ（ＯＲ）ｚ（ＭはＺｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｉｎなどの金属、ｙ、ｚは自然数）などであらわされる金属化合物を加水分解して得られるものを用いることができる。また、これらの金属化合物は２種類以上混ぜても良い。
【００３６】
また、高屈折粒子としては、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｉｎなどの金属を含む金属酸化物粒子を用いることができる。
【００３７】
また、高屈折率層は、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｉｎなどの金属を含む金属酸化物薄膜を蒸着法、スパッタリング法、化学蒸着法などの気相法により設けてもかまわない。
【００３８】
また、高屈折率相には導電性、ハードコート性、粘着性、紫外線吸収性、近赤外線吸収性、選択波長吸収性、電磁波遮蔽性のうちいずれか一つ以上の機能を有することができる。
これらの機能を有することで
【００３９】
近赤外線吸収剤としては、４００〜８００ｎｍまでの波長領域の透過率が高く、８００〜１２００ｎｍ波長領域の透過率が低いものであればよい。
このような近赤外線吸収剤は、必要な近赤外線吸収機能を有していればよいが、高屈折率層との相性、複数の近赤外線吸収剤を用いる場合はそれら同士での相性、溶剤との相性等と考慮して適宜選択するとよい。
また、可視光領域における光吸収率が極めて小さいこと近赤外線領域を出来得る限り吸収すること、塗膜形成、光、熱、湿度に耐え、塗料の経時安定性が高いことが好ましい。
【００４０】
近赤外線吸収剤としては、ジイモニウム系、フタロシアニン系、ジチオール金属錯体系、シアニン系、金属錯体系、金属微粉、金属酸化物微粉が挙げられ、樹脂も含めた組み合わせは自在であるが、拮抗作用、相乗作用を見極めて、適宜使用するとよい。ジイモニウム系化合物は、近赤外域の遮断が大きく、遮断域も広く、可視域の透過率も高い。
【００４１】
紫外線吸収剤としては、無機系あるいは有機系のいずれも使用できるが、有機系の紫外線吸収剤が実用的である。有機系の紫外線吸収剤としては、３００〜４００ｎｍの間に極大吸収を有し、その領域の光を効率よく吸収ものであり、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、オギザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいが、数種類組み合わせて用いることがより好ましい。また、上記紫外線吸収剤とヒンダードアミン系光安定剤、あるいは酸化防止剤をブレンドすることで安定化が向上できる。
【００４２】
色補正機能は、表示色の色バランスを補正するためのものであり、例えばプラズマディスプレイにおける、ネオン等からでる波長５８０〜６１０ｎｍのオレンジ光をカットするものなどが挙げられる。
色補正剤としては、シアニン（ポリメチン）系、キノン系、アゾ系、インジゴ系、ポリエン系、スピロ系、ポルフィリン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、シアニン系等の色素が挙げられるがこれに限られたものではない。また、プラズマディスプレイにおける、ネオン等からでる波長５８０〜６１０ｎｍのオレンジ光をカットする目的であれば、シアニン系、ポルフィリン系、ピロメテン系などを用いることができる。
【００４３】
帯電防止剤としては、五酸化アンチモン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウムなどの導電性の金属化合物や、アンチモン含有複合酸化物やＩｎ−Ｓｎ複合酸化物、リン系化合物などの複合金属化合物、第四級アンモニウム塩、アミンオサイド等のアミン誘導体、ポリアニリン等の導電性ポリマーなどを用いることができる。
【００４４】
また、上記導電性材料を加えることにより、電磁波遮蔽機能をもたせることもできる。
【００４５】
また、粘着性または接着性の材料を加えることにより粘着性または接着性を付与することもできる。また、前記マトリクス自体が粘着性を有していても良い。
【００４６】
ハードコート層は、透明プラスチック基材表面の硬度を向上させ、鉛筆等の荷重のかかる引っ掻きによる傷を防止し、また、透明プラスチックフィルム基材の屈曲による反射防止層のクラック発生を抑制することができ、反射防止フィルムの機械的強度が改善できる。
【００４７】
ハードコート層としては、アクリル系モノマーを重合させたものなどを用いることができる。特に多官能性モノマーであることが好ましく、多官能性モノマーとしては、１、４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチルペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールビスβ−（メタ）アクリロイルオキシプロピネート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（２−ヒドロキシエチル）イソシアネートジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、２、３−ビス（メタ）アクリロイルオキシエチルオキシメチル［２．２．１］ヘプタン、ポリ１、２−ブタジエンジ（メタ）アクリレート、１、２−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルヘキサン、ノナエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラデカンエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１０−デカンジオール（メタ）アクリレート、３、８−ビス（メタ）アクリロイルオキシメチルトリシクロ［５．２．１０］デカン、水素添加ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、２、２−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシジエトキシフェニル）プロパン、１、４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、エポキシ変成ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。多官能モノマーは、一種類のみを使用しても良いし、二種類以上を併用しても良い。また、必要で有れば単官能モノマーと併用して共重合させることもできる。ハードコート層は基材と屈折率が同等もしくは近似していることがより好ましい。
【００４８】
ハードコート層は前述のモノマーと溶剤などを含む塗液を前記低屈折率層と同様のコーティング法により形成することができる。
【００４９】
また、前記ハードコート層中に平均粒径０．０１〜３μｍの無機或いは有機物微粒子を混合分散させ、表面形状を凹凸させることで一般的にアンチグレアと呼ばれる光拡散性処理を施すことが出来る。これらの微粒子は透明であれば特に限定されるものではないが、低屈折率材料が好ましく、酸化珪素、フッ化マグネシウムが安定性、耐熱性等で好ましい。膜厚は３μｍ以上あれば十分な強度となるが、透明性、塗工精度、取り扱いから４〜７μｍの範囲が好ましい。
【００５０】
また、前述した高屈折率層に機能性の材料を含ませることが好ましいが、ハードコート層中に、帯電防止、紫外線吸収、赤外線吸収、可塑、滑剤、着色、酸化防止、難燃等の機能を持たせても良い。
【００５１】
本発明では、高屈折率層と低屈折率層を設ける順番はどちらでもよいが、基材の一方の面上に低屈折率層を設けた後に、基材のもう一方の面上に低屈折率層を設ける法が好ましい。このようにすれば、高屈折率層に有機系の機能材料を含む場合、低屈折率層の形成時の紫外線または熱などによる有機材料の劣化がないからである。
また、ハードコート層を設ける場合は、最初に基材の一方の面上に設け、その上に低屈折率層を設けた後に基材のもう一方の面上に低屈折率層を設ける。
【００５２】
本発明の反射防止材は、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイなどの各種ディスプレイの前面に設けて使用することができる。また、高屈折率相に近赤外線吸収能などを有することで好適にプラズマディスプレイの前面板として用いることができる。
【００５３】
以下、本発明を具体的な実験例を元に詳細に説明する。
各実験例で作成したフィルムの性能は、下記の方法に従って評価した
（反射率）
日立製作所製Ｕ−４０００を用い５°反射にて測定した。
（鉛筆硬度）
ＪＩＳ  Ｋ５４００に準拠し、試験機法により５００ｇ荷重で評価した。
（碁盤目剥離試験）
密着性はＪＩＳ  Ｋ５４００に準拠し、１ｍｍ幅クロスカットテープ剥離試験で残存するピールの割合を％で示した
（全光線透過率およびヘーズ）
全光線透過率およびヘーズは日本電色製  Ｈａｚｅ  Ｍｅｔｅｒ  ＮＤＨ  ２０００で測定を行った。
（粘着力）
ＪＩＳ    Ｚ−０２３７に準じてインストロン型引張試験機によって３００ｍｍ／分の引張速度で１８０°の角度で剥離した際の荷重を測定した。
（表面抵抗値）
ダイアインスツルメンツ製ハイレスタを用い５００Ｖにて測定した。結果を表１に示す。
【実施例１】
【００５４】
東洋紡製ＰＥＴフィルムＡ４３００（屈折率＝１．６５）の片面にペンタエリスルトールトリアクリレートをイソプロピルアルコールで固形分５０％に希釈し、開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を添加し、よく攪拌してバーコート法により塗布した。７０℃の乾燥炉で乾燥後、紫外線硬化により４μｍ塗布し硬化させた。屈折率は１．５２であった。その塗膜上に低屈折率層としてペンタエリスルトールトリアクリレート１２．７重量部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を２．２部、トルエンを６．０部、メタノール４０．１部及びＩＰＡを４０．１部加えて良く撹拌して得た紫外線硬化性樹脂組成物５０部を、シリカ−フッ化マグネシウム水和物の複合コロイド粒子から成るメタノールゾル（固形分１２．３重量％；日産化学工業製）５０部に加えて良く攪拌して紫外線硬化性低屈折率塗液とし、バーコート法により塗布、紫外線にて硬化させた。屈折率は１．４１であった。またＰＥＴフィルムのもう一方の面に大日本塗料製ＥＩ−３をバーコート法により０．１μｍ塗布し、紫外線硬化させ、高屈折率層を形成させた。屈折率は１．７０であった。このフィルムの最小反射率は２．０％であり、表面抵抗値５．０＋Ｅ１１（Ω／□）、密着性もクロスカット試験残存ピール数１００／１００（両面）、全光線透過率９１％という結果が得られた。結果を表１に示す。
【実施例２】
【００５５】
東洋紡製ＰＥＴフィルムＡ４３００（屈折率＝１．６５）の片面にペンタエリスルトールトリアクリレートをイソプロピルアルコールで固形分５０％に希釈し、開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を添加し、よく攪拌してバーコート法により塗布した。７０℃の乾燥炉で乾燥後、紫外線硬化により４μｍ塗布し硬化させた。屈折率は１．５２であった。その塗膜上に低屈折率層としてペンタエリスルトールトリアクリレート１２．７重量部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を２．２部、トルエンを６．０部、メタノール４０．１部及びＩＰＡを４０．１部加えて良く撹拌して得た紫外線硬化性樹脂組成物５０部を、シリカ−フッ化マグネシウム水和物の複合コロイド粒子から成るメタノールゾル（固形分１２．３重量％；日産化学工業製）５０部に加えて良く攪拌し、紫外線硬化性低屈折率塗液とし、バーコート法により０．１μｍ塗布、紫外線にて硬化させた。屈折率は１．４１であった。またＰＥＴフィルムのもう一方の面には総研化学製粘着剤１８８８を３０重量部とシーアイ化成製ＮａｎｏＴｅｋ  Ｓｌｕｒｒｙ  ＴｉＯ２  ７０重量部を混合した塗液をバーコート法により０．５μｍ塗布し、１００℃にて２分乾燥後、１週間２５℃にて養生した。屈折率は１．７０であった。このフィルムの最小反射率は２．０％であり、密着性はクロスカット試験残存ピール数１００／１００（低屈折率面）、ガラス面に対する粘着力は１Ｎ／２５ｍｍ（１８０°ピール試験）という結果が得られた。結果を表１に示す。
【実施例３】
【００５６】
東洋紡製ＰＥＴフィルムＡ４３００（屈折率＝１．６５）の片面にペンタエリスルトールトリアクリレートをイソプロピルアルコールで固形分５０％に希釈し、開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を添加し、よく攪拌してバーコート法により塗布した。７０℃の乾燥炉で乾燥後、紫外線硬化により４μｍ塗布し硬化させた。屈折率は１．５２であった。その塗膜上に低屈折率層としてペンタエリスルトールトリアクリレート１２．７重量部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を２．２部、トルエンを６．０部、メタノール４０．１部及びＩＰＡを４０．１部加えて良く撹拌して得た紫外線硬化性樹脂組成物５０部を、シリカ−フッ化マグネシウム水和物の複合コロイド粒子から成るメタノールゾル（固形分１２．３重量％；日産化学工業製）５０部に加えて良く攪拌し、紫外線硬化性低屈折率塗液とし、バーコート法により０．１μｍ塗布、紫外線にて硬化させた。屈折率は１．４１であった。またＰＥＴフィルムのもう一方の面にはペンタエリスリトール３０重量部、ＮａｎｏＴｅｋ  Ｓｌｕｒｒｙ  ＴｉＯ２（シーアイ化成製）  ７０重量部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）  １．５重量部を加え、イソプロピルアルコールで固形分５０％に希釈しよく攪拌した塗料をバーコート法により５μｍ塗布し紫外線にて硬化させた。屈折率は１．７０であった。このフィルムの最小反射率は２．０％であり、鉛筆硬度３Ｈ、密着性はクロスカット試験残存ピール数１００／１００（両面）、全光線透過率９１．５％という結果が得られた。結果を表１に示す。
【００５７】
＜比較例１＞
東洋紡製ＰＥＴフィルムＡ４３００（屈折率＝１．６５）の片面にペンタエリスルトールトリアクリレートをイソプロピルアルコールで固形分５０％に希釈し、開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を添加し、よく攪拌してバーコート法により塗布した。７０℃の乾燥炉で乾燥後、紫外線硬化により４μｍ塗布し硬化させた。屈折率は１．５２であった。その塗膜上に低屈折率層としてペンタエリスルトールトリアクリレート１２．７重量部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を２．２部、トルエンを６．０部、メタノール４０．１部及びＩＰＡを４０．１部加えて良く撹拌して得た紫外線硬化性樹脂組成物５０部を、シリカ−フッ化マグネシウム水和物の複合コロイド粒子から成るメタノールゾル（固形分１２．３重量％；日産化学工業製）５０部に加えて良く攪拌し、紫外線硬化性低屈折率塗液とし、バーコート法により０．１μｍ塗布、紫外線にて硬化させた。屈折率は１．４１であった。このフィルムの最小反射率は２．５％であり、鉛筆硬度２Ｈ、密着性はクロスカット試験残存ピール数１００／１００（両面）、全光線透過率９１．５％だった。結果を表１に示す。
【００５８】
＜比較例２＞
東洋紡製ＰＥＴフィルムＡ４３００の片面（屈折率＝１．６５）にペンタエリスルトールトリアクリレートをイソプロピルアルコールで固形分５０％に希釈し、開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を添加し、よく攪拌してバーコート法により塗布した。７０℃の乾燥炉で乾燥後、紫外線硬化により４μｍ塗布し硬化させた。屈折率は１．５２であった。その塗膜上に低屈折率層としてペンタエリスルトールトリアクリレート１２．７重量部、Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を２．２部、トルエンを６．０部、メタノール４０．１部及びＩＰＡを４０．１部加えて良く撹拌して得た紫外線硬化性樹脂組成物５０部を、シリカ−フッ化マグネシウム水和物の複合コロイド粒子から成るメタノールゾル（固形分１２．３重量％；日産化学工業製）５０部に加えて良く攪拌し、紫外線硬化性低屈折率塗液とし、バーコート法により０．１μｍ塗布、紫外線にて硬化させた。屈折率は１．４１であった。さらにＰＥＴフィルムの他方の面にペンタエリスルトールトリアクリレートをイソプロピルアルコールで固形分５０％に希釈し、開始剤としてＩｒｇａｃｕｒｅ１８４（チバスペシャルティケミカルズ）を添加し、よく攪拌してバーコート法により塗布した。７０℃の乾燥炉で乾燥後、紫外線硬化により４μｍ塗布し硬化させた膜を形成させた。屈折率は１．５２であった。このフィルムの最小反射率は２．８％、鉛筆硬度３Ｈ、密着性はクロスカット試験残存ピール数１００／１００（両面）、全光線透過率９２％だった。結果を表１に示す。
【００５９】
【表１】
0005162813.tif 000002
【００６０】
表より、実施例のサンプルは比較例のサンプルに比べ、反射率が低く、良好な反射防止効果が得られた。また、他の機能も低下することのないものとなった。