(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
原反に凹凸柄を形成するエンボス装置であって、
前記原反に対面するようになるエンボス型面を、有するエンボスロールと、
前記エンボスロールに対向して配置され、前記エンボスロールとの間で前記原反を圧するようになるバックアップロールと、
前記エンボスロールおよび前記バックアップロールの下流側に配置されたセンサと、
を備え、
前記エンボスロールのエンボス型面は、前記原反に形成すべき凹凸柄に対応した凹凸形状を有する凹凸部と、前記エンボスロールの回転軸線に沿って前記凹凸部からずれた位置に形成され、前記凹凸部とは異なる凹凸形状を有する凹凸パターンと、を有し、
前記センサは、前記凹凸パターンを転写されてなる原反のパターンに関する情報を非接触状態で測定する
ことを特徴とするエンボス装置。
【請求項２】
前記センサは光沢度計である
ことを特徴とする請求項１に記載のエンボス装置。
【請求項３】
前記センサは変位測定器である
ことを特徴とする請求項１に記載のエンボス装置。
【請求項４】
前記センサに接続された制御装置であって、前記センサによる測定値に基づいて原反に形成された前記パターンを検査する制御装置を、さらに備え、
前記制御装置は、前記原反に形成された前記パターンが、予め設定された程度を越えて平坦化しているか否か、あるいは、予め設定された程度以上に平坦化しているか否か、を判定するようになっている
ことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のエンボス装置。
【請求項５】
前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数の凸部を有する
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載のエンボス装置。
【請求項６】
各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状である
ことを特徴とする請求項５に記載のエンボス装置。
【請求項７】
前記凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に沿って延びている
ことを特徴とする請求項５または６に記載のエンボス装置。
【請求項８】
前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数のパターン部を有し、
各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、
異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面における凸部の形状は互いに異なる
ことを特徴とする請求項５乃至７のいずれか一項に記載のエンボス装置。
【請求項９】
各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、
異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なる
ことを特徴とする請求項８に記載のエンボス装置。
【請求項１０】
各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、
異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なる
ことを特徴とする請求項８に記載のエンボス装置。
【請求項１１】
前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数のパターン部をそれぞれ含む第１のパターン部群および第２のパターン部群を有し、
前記第１のパターン部群および前記第２のパターン部群は、前記エンボスロールの回転軸線に沿って互いからずれた位置に配置され、
前記第１のパターン部群および前記第２のパターン部群に含まれる各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、
各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、
前記第１のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なり、
前記第２のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なる
ことを特徴とする請求項５乃至７のいずれか一項に記載のエンボス装置。
【請求項１２】
前記凹凸部は複数の凸部を有し、
前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の高さの最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の高さの最大値と同一である
ことを特徴とする請求項９または１１に記載のエンボス装置。
【請求項１３】
前記凹凸部は、断面において三角形状となっている複数の凸部を有し、
前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値と同一である
ことを特徴とする請求項１０または１１に記載のエンボス装置。
【請求項１４】
各パターン部の近傍には、それぞれ、当該パターン部に含まれる凸部の特徴を示す印が付されている
ことを特徴とする請求項８乃至１３のいずれか一項に記載のエンボス装置。
【請求項１５】
前記エンボス型面は、前記凹凸パターンの位置を特定するための見当マーク部をさらに有する
ことを特徴とする請求項１乃至１４のいずれか一項に記載のエンボス装置。
【請求項１６】
原反に凹凸柄を形成するためのエンボス型面に、形成すべき前記凹凸柄に対応した凹凸形状を有する凹凸部とともに形成される凹凸パターンであって、
前記エンボス型面上の一方向に沿って前記凹凸部からずれた位置に形成され、前記凹凸部とは異なる凹凸形状を有し、
前記凹凸部によって前記原反に形成される凹凸柄を検査するために用いられる検査用凹凸パターンを、前記原反に形成するようになる
ことを特徴とする凹凸パターン。
【請求項１７】
前記一方向と直交する前記エンボス型面上の他方向に沿って並べて配列され、前記凹凸部とは異なる前記凹凸形状を構成する複数の凸部を有する
ことを特徴とする請求項１６に記載の凹凸パターン。
【請求項１８】
各凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面において三角形状である
ことを特徴とする請求項１７に記載の凹凸パターン。
【請求項１９】
前記凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に沿って延びている
ことを特徴とする請求項１７または１８に記載の凹凸パターン。
【請求項２０】
前記エンボス型面上の前記他方向に沿って並べて配置された複数のパターン部を有し、  各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、
異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面における凸部の形状は互いに異なる
ことを特徴とする請求項１７乃至１９のいずれか一項に記載の凹凸パターン。
【請求項２１】
各凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面において三角形状であり、  異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なる
ことを特徴とする請求項２０に記載の凹凸パターン。
【請求項２２】
各凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面において三角形状であり、  異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なる
ことを特徴とする請求項２０に記載の凹凸パターン。
【請求項２３】
前記エンボス型面上の前記他方向に沿って並べて配置された複数のパターン部をそれぞれ含む第１のパターン部群および第２のパターン部群を有し、
前記第１のパターン部群および前記第２のパターン部群は、前記エンボス型面上の前記一方向に沿って互いからずれた位置に配置され、
前記第１のパターン部群および前記第２のパターン部群に含まれる各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、
各凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面において三角形状であり、  前記第１のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なり、
前記第２のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なる
ことを特徴とする請求項１７乃至１９のいずれか一項に記載の凹凸パターン。
【請求項２４】
前記凹凸部は複数の凸部を有しており、
前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の高さの最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の高さの最大値と同一である
ことを特徴とする請求項２１または２３に記載の凹凸パターン。
【請求項２５】
前記凹凸部は、断面において三角形状となっている複数の凸部を有しており、
前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値と同一である
ことを特徴とする請求項２２または２３に記載の凹凸パターン。
【請求項２６】
エンボス加工を施された加工品であって、
エンボス加工によって凹凸形状を転写された原反を備え、
前記原反は、エンボス加工によって形成された凹凸柄と、前記原反上の一方向に沿って前記凹凸柄からずれた位置に配置され、エンボス加工によって形成された検査用凹凸パターンと、を有し、
前記検査用凹凸パターンは、前記凹凸柄とは異なる凹凸形状を有し、
前記検査用凹凸パターンは、エンボス加工によって形成された前記凹凸柄を検査するために用いられる
ことを特徴とする加工品。
【請求項２７】
前記検査用凹凸パターンは、前記一方向と直交する前記原反上の他方向に沿って並べて配列された複数の凹部であって、前記凹凸部とは異なる前記凹凸形状を構成する複数の凹部を、有する
ことを特徴とする請求項２６に記載の加工品。
【請求項２８】
各凹部は、前記原反上の前記一方向に直交する断面において三角形状のへこみとなっている
ことを特徴とする請求項２７に記載の加工品。
【請求項２９】
前記凹部は、前記原反上の前記一方向に沿って溝状に延びている
ことを特徴とする請求項２７または２８に記載の加工品。
【請求項３０】
前記検査用凹凸パターンは、前記原反上の前記他方向に沿って並べて配置された複数の検査用パターン部を有し、
各検査用パターン部は複数の前記凹部を含み、各検査用パターン部内において前記複数の凹部は同一形状を有し、
異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記原反上の前記一方向に直交する断面における凹部の形状は互いに異なる
ことを特徴とする請求項２７乃至２９のいずれか一項に記載の加工品。
【請求項３１】
各凹部は、前記原反上の前記一方向に直交する断面において三角形状のへこみとなっており、
異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比は互いに同一であり、前記凹部の断面三角形における深さは互いに異なる
ことを特徴とする請求項３０に記載の加工品。
【請求項３２】
各凹部は、前記原反上の前記一方向に直交する断面において三角形状のへこみとなっており、
異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記凹部の断面三角形における深さは互いに同一であり、前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比は互いに異なる
ことを特徴とする請求項３０に記載の加工品。
【請求項３３】
前記検査用凹凸パターンは、前記原反上の前記他方向に沿って並べて配置された複数の検査用パターン部をそれぞれ含む第１の検査用パターン部群および第２の検査用パターン部群を有し、
前記第１の検査用パターン部群および前記第２の検査用パターン部群は、前記エンボス型面上の前記一方向に沿って互いからずれた位置に配置され、
前記第１の検査用パターン部群および前記第２の検査用パターン部群に含まれる各パターン部は複数の前記凹部を含み、各検査用パターン部内において前記複数の凹部は同一形状を有し、
各凹部は、前記原反上の前記一方向に直交する断面において三角形状のへこみとなっており、
前記第１の検査用パターン部群内の異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比は互いに同一であり、前記凹部の断面三角形における深さは互いに異なり、
前記第２の検査用パターン部群内の異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記凹部の断面三角形における深さは互いに同一であり、前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比は互いに異なる
ことを特徴とする請求項２７乃至２９のいずれか一項に記載の加工品。
【請求項３４】
前記凹凸柄は、その凹凸形状を構成する複数の凹部を有しており、
前記検査用凹凸パターンに含まれた前記凹部の深さの最大値は、前記凹凸柄に含まれた前記凹部の深さの最大値と同一である
ことを特徴とする請求項３１または３３に記載の加工品。
【請求項３５】
前記凹凸柄は、断面において三角形状となっている凹部を有しており、
前記検査用凹凸パターンに含まれた前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比の最大値は、前記凹凸柄に含まれた前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比の最大値と同一である
ことを特徴とする請求項３２または３３に記載の加工品。
【請求項３６】
前記検査用凹凸パターンの位置を特定するための見当マークが設けられている
ことを特徴とする請求項２６乃至３５のいずれか一項に記載の加工品。
【請求項３７】
請求項１乃至１５のいずれか一項に記載されたエンボス装置を用いて原反に凹凸柄を形成し、加工品を製造する製造方法であって、
前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを空運転させ、前記エンボスロールのエンボス型面に形成された凹凸部および凹凸パターンに対応した凹凸形状を、前記バックアップロールの外周面に形成する第１空運転工程と、
前記第１空運転工程後に実施される工程であって、前記原反を間に挟んだ状態で前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを回転させ、前記凹凸部に対応した前記凹凸柄を前記原反に形成するとともに、前記凹凸パターンに対応した検査用凹凸パターンを前記原反に形成していく第１エンボス加工工程と、
前記第１エンボス加工工程後に実施される工程であって、前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを空運転させ、前記エンボス型面の凹凸部および凹凸パターンに対応した凹凸形状を、前記バックアップロールの外周面に再形成する第２空運転工程と、を備え、
前記第１エンボス加工工程中に、前記原反に形成されていく検査用凹凸パターンを検査し、検査結果が不良と判定された場合に、前記第１エンボス加工工程を終了して前記第２空運転工程を開始する
ことを特徴とする製造方法。
【請求項３８】
前記第２空運転工程後に実施される工程であって、前記原反を間に挟んだ状態で前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを回転させ、前記凹凸部に対応した前記凹凸柄を前記原反に形成するとともに、前記凹凸パターンに対応した前記検査用凹凸パターンを前記原反に形成していく第２エンボス加工工程と、
前記第２エンボス加工工程後に実施される工程であって、前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを空運転させ、前記エンボス型面の凹凸部および凹凸パターンに対応した凹凸形状を、前記バックアップロールの外周面に再形成する第３空運転工程と、をさらに備え、
前記第２エンボス加工工程中に、前記原反に形成されていく検査用凹凸パターンを検査し、検査結果が不良と判定された場合に、前記第２エンボス加工工程を終了して前記第３空運転工程を開始する
ことを特徴とする請求項３７に記載の製造方法。
【請求項３９】
前記エンボス加工工程中における検査用凹凸パターンについての検査は、検査対象となる原反に対して非接触の状態で実施される
ことを特徴とする請求項３７または３８に記載の製造方法。
【請求項４０】
光沢度計を用い、前記原反の前記検査用凹凸パターンが形成された部分の光沢度を非接触で測定することにより、前記検査用凹凸パターンの検査を行い、
測定された光沢度が予め設定された光沢度以上となった場合、あるいは、測定された光沢度が予め設定された光沢度よりも大きくなった場合に、不良と判定されるようになっている
ことを特徴とする請求項３９に記載の製造方法。
【請求項４１】
非接触式センサを用い、前記原反に形成された前記検査用凹凸パターンの凹凸形状を非接触で測定することにより、前記検査用凹凸パターンの検査を行い、
測定された凹凸形状が予め設定された程度を越えて平坦化している場合、あるいは、測定された凹凸形状が予め設定された程度以上に平坦化している場合に、不良と判定されるようになっている
ことを特徴とする請求項３９に記載の製造方法。
【請求項４２】
前記検査用凹凸パターンの良否の判定基準を設定する工程を、さらに備え、
前記判定基準を設定する工程は、
前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを空運転させ、前記エンボスロールのエンボス型面に形成された凹凸部および凹凸パターンに対応した凹凸形状を、前記バックアップロールの外周面に形成する予備空運転工程と、
前記予備空運転工程後に実施される工程であって、前記原反を間に挟んだ状態で前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを回転させ、前記凹凸部に対応した前記凹凸柄を前記原反に形成するとともに、前記凹凸パターンに対応した検査用凹凸パターンを前記原反に形成していく試験エンボス加工工程と、
前記試験エンボス加工工程において原反に作製されていった凹凸柄を検査して、前記凹凸柄が検査良から検査不良に移行する部分を調査し、当該部分と同時期に形成された検査用凹凸パターンに基づいて前記検査用凹凸パターンの良否の判定基準を決定する判定基準決定工程と、を有する
ことを特徴とする請求項３７乃至４１のいずれか一項に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、原反に凹凸柄を形成するエンボス装置に係り、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することができるエンボス装置に関する。
【０００２】
また、本発明は、原反に凹凸柄を形成するエンボスロールに係り、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することができるエンボスロールに関する。
【０００３】
さらに、本発明は、原反に凹凸柄を形成するためのエンボス型面に、形成すべき凹凸柄に対応した凹凸形状を有する凹凸部とともに、形成される凹凸パターンに関する。
【０００４】
さらに、本発明は、エンボス加工を施された加工品であって、とりわけ、高効率で加工され得る加工品に関する。
【０００５】
さらに、本発明は、原反に凹凸柄を形成して加工品を製造する製造方法に係り、とりわけ、高い稼働率で効率的に加工品を製造することができる加工品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００６】
今般、例えば特許文献１に示すように、エンボス加工は広く普及した加工方法となっている。特許文献１には、原反にエンボス加工を施すことにより、離型紙（加工品）を製造する方法が開示されている。この離型紙は、合皮製品、化粧シート、内装材等のシート状材料を作製するための型紙として用いられる。
【０００７】
一般的に、とりわけ原反のような比較的に薄い被加工体にエンボス加工を施す場合に、原反にエンボス加工を施す際に用いられるエンボス装置は、エンボス型面を有したエンボスロールと、エンボスロールに対向して配置されたバックアップロールと、を備えている。
【特許文献１】特開２００２−２０５３１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
通常、エンボス型面によって押圧されるようになるバックアップロールの表面層は、エンボス型面上に形成された凹凸形状に対応して変形可能であり、かつ、一時的に変形状態を維持することができるように構成されている。そして、原反に対してエンボス加工を施す前に、エンボスロールおよびバックアップロールが空運転（空転）させられ、エンボス型面の凹凸形状に対応した凹凸形状がバックアップロールの外周面に転写される。このようにしてバックアップロールにメス型を作製しておくことにより、加工圧を大幅に上昇させることなく、原反に凹凸形状を精度良く転写することができるようになる。
【０００９】
ところが、バックアップロールに予め形成された凹凸形状は、加工時間の経過にともなって次第に平坦化されていく。バックアップロールの凹凸形状が平坦化されると、原反に転写される凹凸柄も平坦化してしまう。
【００１０】
この不都合を回避するためには、エンボス加工を施された加工品の品質を都度確認しなければならない。また、加工品の凹凸形状が平坦化し過ぎている場合には、エンボスロールおよびバックアップロールを空運転し、バックアップロールの表面に凹凸形状を再形成（型入れ）しなければならない。しかしながら、加工品の検査は、柄が複雑であれば、極めて煩雑であり、長時間（例えば１時間）を要する。このため、エンボス加工を施された加工品の品質を現場で確認することなく、安全を見て、早目に、例えば４時間おきに定期的に型入れ作業を行うようにすることもある。
【００１１】
すなわち、現状では、汎用のバックアップロールを用いたエンボス装置を優れた稼働率で稼働させ、原反に凹凸柄を形成して十分な生産効率で加工品を製造することができていない。本発明は、このような点を考慮してなされたものであって、原反に凹凸柄を形成するエンボス装置であって、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することができるエンボス装置を提供することを目的とする。また、本発明は、原反に凹凸柄を形成するエンボスロールであって、とりわけ、高い稼働率で効率的に原反に凹凸柄を形成することができるエンボスロールを提供することを目的とする。さらに、本発明は、原反に凹凸柄を形成するためのエンボス型面に、形成すべき凹凸柄に対応した凹凸形状を有する凹凸部とともに、形成される凹凸パターンであって、とりわけ、高い稼働率で効率的にエンボス加工を行うことを可能にする凹凸パターンを提供することを目的とする。さらに、本発明は、エンボス加工を施されてなる加工品であって、とりわけ、高効率で加工され得る加工品を提供することを目的とする。さらに、本発明は、原反に凹凸柄を形成して加工品を製造する製造方法であって、とりわけ、効率的に加工品を製造することができる加工品の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明によるエンボス装置は、原反に凹凸柄を形成するエンボス装置であって、前記原反に対面するようになるエンボス型面を、有するエンボスロールと、前記エンボスロールに対向して配置され、前記エンボスロールとの間で前記原反を圧するようになるバックアップロールと、を備え、前記エンボスロールのエンボス型面は、前記原反に形成すべき凹凸柄に対応した凹凸形状を有する凹凸部と、前記エンボスロールの回転軸線に沿って前記凹凸部からずれた位置に形成され、前記凹凸部とは異なる凹凸形状を有する凹凸パターンと、を有することを特徴とする。
【００１３】
本発明によるエンボス装置が、前記エンボスロールおよび前記バックアップロールの下流側に配置され、前記凹凸パターンを転写されてなる原反のパターンに関する情報を非接触状態で測定するセンサを、さらに備えるようにしてもよい。このような本発明によるエンボス装置において、前記センサは光沢度計であるようにしてもよい。あるいは、このような本発明によるエンボス装置において、前記センサは変位測定器であるようにしてもよい。また、このような本発明によるエンボス装置が、前記センサに接続された制御装置であって、前記センサによる測定値に基づいて原反に形成された前記パターンを検査する制御装置を、さらに備え、前記制御装置は、前記原反に形成された前記パターンが、予め設定された程度を越えて平坦化しているか否か、あるいは、予め設定された程度以上に平坦化しているか否か、を判定するようになっていてもよい。
【００１４】
また、本発明によるエンボス装置において、前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数の凸部を有するようにしてもよい。
【００１５】
このような本発明によるエンボス装置において、各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であるようにしてもよい。
【００１６】
また、このような本発明によるエンボス装置において、前記凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に沿って延びているようにしてもよい。
【００１７】
さらに、このような本発明によるエンボス装置において、前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数のパターン部を有し、各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面における凸部の形状は互いに異なるようにしてもよい。このようなエンボス装置において、各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なるようにしてもよい。あるいは、このようなエンボス装置において、各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なるようにしてもよい。
【００１８】
さらに、このような本発明によるエンボス装置において、前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数のパターン部をそれぞれ含む第１のパターン部群および第２のパターン部群を有し、前記第１のパターン部群および前記第２のパターン部群は、前記エンボスロールの回転軸線に沿って互いからずれた位置に配置され、前記第１のパターン部群および前記第２のパターン部群に含まれる各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、前記第１のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なり、前記第２のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なるようにしてもよい。
【００１９】
このような本発明によるエンボス装置において、前記凹凸部は複数の凸部を有し、前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の高さの最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の高さの最大値と同一であるようにしてもよい。
【００２０】
また、このような本発明によるエンボス装置において、前記凹凸部は、断面において三角形状となっている複数の凸部を有し、前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値と同一であるようにしてもよい。
【００２１】
さらに、このような本発明によるエンボス装置において、各パターン部の近傍には、それぞれ、当該パターン部に含まれる凸部の特徴を示す印が付されていてもよい。
【００２２】
さらに、本発明によるエンボス装置において、前記エンボス型面は、前記凹凸パターンの位置を特定するための見当マーク部をさらに有するようにしてもよい。
【００２３】
本発明によるエンボスロールは、原反に凹凸柄を形成するためのエンボスロールであって、前記原反に対面するようになるエンボス型面を備え、前記エンボス型面は、前記原反に形成すべき凹凸柄に対応した凹凸形状を有する凹凸部と、前記エンボスロールの回転軸線に沿って前記凹凸部からずれた位置に形成され、前記凹凸部とは異なる凹凸形状を有する凹凸パターンと、を有することを特徴とする。
【００２４】
本発明によるエンボスロールにおいて、前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数の凸部を有するようにしてもよい。
【００２５】
このような本発明によるエンボスロールにおいて、各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であるようにしてもよい。
【００２６】
また、このような本発明によるエンボスロールにおいて、前記凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に沿って延びているようにしてもよい。
【００２７】
さらに、このような本発明によるエンボスロールにおいて、前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数のパターン部を有し、各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面における凸部の形状は互いに異なるようにしてもよい。このようなエンボスロールにおいて、各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なるようにしてもよい。あるいは、このようなエンボスロールにおいて、各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なるようにしてもよい。
【００２８】
さらに、このような本発明によるエンボスロールにおいて、前記エンボス型面の前記凹凸パターンは、前記エンボスロールの円周方向に沿って並べて配置された複数のパターン部をそれぞれ含む第１のパターン部群および第２のパターン部群を有し、前記第１のパターン部群および前記第２のパターン部群は、前記エンボスロールの回転軸線に沿って互いからずれた位置に配置され、前記第１のパターン部群および前記第２のパターン部群に含まれる各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、各凸部は、前記エンボスロールの回転軸線に直交する断面において三角形状であり、前記第１のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なり、前記第２のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なるようにしてもよい。
【００２９】
このような本発明によるエンボスロールにおいて、前記凹凸部は複数の凸部を有し、前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の高さの最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の高さの最大値と同一であるようにしてもよい。
【００３０】
また、このような本発明によるエンボスロールにおいて、前記凹凸部は、断面において三角形状となっている複数の凸部を有し、前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値と同一であるようにしてもよい。
【００３１】
さらに、このような本発明によるエンボスロールにおいて、各パターン部の近傍には、それぞれ、当該パターン部に含まれる凸部の特徴を示す印が付されていてもよい。
【００３２】
さらに、本発明によるエンボスロールにおいて、前記エンボス型面は、前記凹凸パターンの位置を特定するための見当マーク部をさらに有するようにしてもよい。
【００３３】
本発明による凹凸パターンは、原反に凹凸柄を形成するためのエンボス型面に、形成すべき前記凹凸柄に対応した凹凸形状を有する凹凸部とともに形成される凹凸パターンであって、前記エンボス型面上の一方向に沿って前記凹凸部からずれた位置に形成され、前記凹凸部とは異なる凹凸形状を有し、前記凹凸部によって前記原反に形成される凹凸柄を検査するために用いられる検査用凹凸パターンを、前記原反に形成するようになることを特徴とする。
【００３４】
本発明による凹凸パターンは、前記一方向と直交する前記エンボス型面上の他方向に沿って並べて配列され前記凹凸部とは異なる前記凹凸形状を構成する複数の凸部を有するようにしてもよい。このような本発明による凹凸パターンにおいて、各凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面において三角形状であるようにしてもよい。また、このような本発明による凹凸パターンにおいて、前記凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に沿って延びているようにしてもよい。
【００３５】
また、本発明による凹凸パターンが、前記エンボス型面上の前記他方向に沿って並べて配置された複数のパターン部を有し、各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面における凸部の形状は互いに異なるようにしてもよい。このような本発明による凹凸パターンにおいて、各凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面において三角形状であり、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なるようにしてもよい。あるいは、このような本発明による凹凸パターンにおいて、各凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面において三角形状であり、異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なるようにしてもよい。
【００３６】
さらに、本発明による凹凸パターンが、前記エンボス型面上の前記他方向に沿って並べて配置された複数のパターン部をそれぞれ含む第１のパターン部群および第２のパターン部群を有し、前記第１のパターン部群および前記第２のパターン部群は、前記エンボス型面上の前記一方向に沿って互いからずれた位置に配置され、前記第１のパターン部群および前記第２のパターン部群に含まれる各パターン部は複数の前記凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有し、各凸部は、前記エンボス型面上の前記一方向に直交する断面において三角形状であり、前記第１のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における高さは互いに異なり、前記第２のパターン部群内の異なるパターン部に含まれる凸部間において、前記凸部の断面三角形における高さは互いに同一であり、前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比は互いに異なるようにしてもよい。
【００３７】
このような本発明による凹凸パターンにおいて、前記凹凸部は複数の凸部を有しており、前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の高さの最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の高さの最大値と同一であるようにしてもよい。
【００３８】
また、このような本発明による凹凸パターンにおいて、前記凹凸部は、断面において三角形状となっている複数の凸部を有しており、前記凹凸パターンに含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値は、前記凹凸部に含まれた前記凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比の最大値と同一であるようにしてもよい。
【００３９】
本発明による加工品は、エンボス加工を施された加工品であって、エンボス加工によって凹凸形状を転写された原反を備え、前記原反は、エンボス加工によって形成された凹凸柄と、前記原反上の一方向に沿って前記凹凸柄からずれた位置に配置され、エンボス加工によって形成された検査用凹凸パターンと、を有し、前記検査用凹凸パターンは、前記凹凸柄とは異なる凹凸形状を有し、前記検査用凹凸パターンは、エンボス加工によって形成された前記凹凸柄を検査するために用いられることを特徴とする。
【００４０】
本発明による加工品において、前記検査用凹凸パターンは、前記一方向と直交する前記原反上の他方向に沿って並べて配列された複数の凹部であって、前記凹凸部とは異なる前記凹凸形状を構成する複数の凹部を、有するようにしてもよい。このような本発明による加工品において、各凹部は、前記原反上の前記一方向に直交する断面において三角形状のへこみとなっているようにしてもよい。また、このような本発明による加工品において、前記凹部は、前記原反上の前記一方向に沿って溝状に延びていてもよい。
【００４１】
また、本発明による加工品において、前記検査用凹凸パターンは、前記原反上の前記他方向に沿って並べて配置された複数の検査用パターン部を有し、各検査用パターン部は複数の前記凹部を含み、各検査用パターン部内において前記複数の凹部は同一形状を有し、異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記原反上の前記一方向に直交する断面における凹部の形状は互いに異なるようにしてもよい。このような本発明による加工品において、各凹部は、前記原反上の前記一方向に直交する断面において三角形状のへこみとなっており、異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比は互いに同一であり、前記凹部の断面三角形における深さは互いに異なるようにしてもよい。また、このような本発明による加工品において、各凹部は、前記原反上の前記一方向に直交する断面において三角形状のへこみとなっており、異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記凹部の断面三角形における深さは互いに同一であり、前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比は互いに異なるようにしてもよい。
【００４２】
さらに、本発明による加工品において、前記検査用凹凸パターンは、前記原反上の前記他方向に沿って並べて配置された複数の検査用パターン部をそれぞれ含む第１の検査用パターン部群および第２の検査用パターン部群を有し、前記第１の検査用パターン部群および前記第２の検査用パターン部群は、前記エンボス型面上の前記一方向に沿って互いからずれた位置に配置され、前記第１の検査用パターン部群および前記第２の検査用パターン部群に含まれる各パターン部は複数の前記凹部を含み、各検査用パターン部内において前記複数の凹部は同一形状を有し、各凹部は、前記原反上の前記一方向に直交する断面において三角形状のへこみとなっており、前記第１の検査用パターン部群内の異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比は互いに同一であり、前記凹部の断面三角形における深さは互いに異なり、前記第２の検査用パターン部群内の異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、前記凹部の断面三角形における深さは互いに同一であり、前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比は互いに異なるようにしてもよい。
【００４３】
このような本発明による加工品において、前記凹凸柄は、その凹凸形状を構成する複数の凹部を有しており、前記検査用凹凸パターンに含まれた前記凹部の深さの最大値は、前記凹凸柄に含まれた前記凹部の深さの最大値と同一であるようにしてもよい。
【００４４】
また、このような本発明による加工品において、前記凹凸柄は、断面において三角形状となっている凹部を有しており、前記検査用凹凸パターンに含まれた前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比の最大値は、前記凹凸柄に含まれた前記凹部の断面三角形における幅に対する深さの比の最大値と同一であるようにしてもよい。
【００４５】
さらに、本発明による加工品において、前記検査用凹凸パターンの位置を特定するための見当マークが設けられているようにしてもよい。
【００４６】
本発明による製造方法は、上述したいずれかの本発明によるエンボス装置を用いて原反に凹凸柄を形成し、加工品を製造する製造方法であって、前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを空運転させ、前記エンボスロールのエンボス型面に形成された凹凸部および凹凸パターンに対応した凹凸形状を、前記バックアップロールの外周面に形成する第１空運転工程と、前記第１空運転工程後に実施される工程であって、前記原反を間に挟んだ状態で前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを回転させ、前記凹凸部に対応した前記凹凸柄を前記原反に形成するとともに、前記凹凸パターンに対応した検査用凹凸パターンを前記原反に形成していく第１エンボス加工工程と、前記第１エンボス加工工程後に実施される工程であって、前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを空運転させ、前記エンボス型面の凹凸部および凹凸パターンに対応した凹凸形状を、前記バックアップロールの外周面に再形成する第２空運転工程と、を備え、前記第１エンボス加工工程中に、前記原反に形成されていく検査用凹凸パターンを検査し、検査結果が不良と判定された場合に、前記第１エンボス加工工程を終了して前記第２空運転工程を開始することを特徴とする。
【００４７】
本発明による製造方法において、前記第２空運転工程後に実施される工程であって、前記原反を間に挟んだ状態で前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを回転させ、前記凹凸部に対応した前記凹凸柄を前記原反に形成するとともに、前記凹凸パターンに対応した前記検査用凹凸パターンを前記原反に形成していく第２エンボス加工工程と、前記第２エンボス加工工程後に実施される工程であって、前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを空運転させ、前記エンボス型面の凹凸部および凹凸パターンに対応した凹凸形状を、前記バックアップロールの外周面に再形成する第３空運転工程と、をさらに備え、前記第２エンボス加工工程中に、前記原反に形成されていく検査用凹凸パターンを検査し、検査結果が不良と判定された場合に、前記第２エンボス加工工程を終了して前記第３空運転工程を開始するようにしてもよい。
【００４８】
また、本発明による製造方法において、前記エンボス加工工程中における検査用凹凸パターンについての検査は、検査対象となる原反に対して非接触の状態で実施されるようにしてもよい。このような本発明による製造方法において、光沢度計を用い、前記原反の前記検査用凹凸パターンが形成された部分の光沢度を非接触で測定することにより、前記検査用凹凸パターンの検査を行い、測定された光沢度が予め設定された光沢度以上となった場合、あるいは、測定された光沢度が予め設定された光沢度よりも大きくなった場合に、不良と判定されるようになっていてもよい。あるいは、このような本発明による製造方法において、非接触式センサを用い、前記原反に形成された前記検査用凹凸パターンの凹凸形状を非接触で測定することにより、前記検査用凹凸パターンの検査を行い、測定された凹凸形状が予め設定された程度を越えて平坦化している場合、あるいは、測定された凹凸形状が予め設定された程度以上に平坦化している場合に、不良と判定されるようになっていてもよい。
【００４９】
さらに、本発明による製造方法が、前記検査用凹凸パターンの良否の判定基準を設定する工程を、さらに備え、前記判定基準を設定する工程は、前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを空運転させ、前記エンボスロールのエンボス型面に形成された凹凸部および凹凸パターンに対応した凹凸形状を、前記バックアップロールの外周面に形成する予備空運転工程と、前記予備空運転工程後に実施される工程であって、前記原反を間に挟んだ状態で前記エンボスロールおよび前記バックアップロールを回転させ、前記凹凸部に対応した前記凹凸柄を前記原反に形成するとともに、前記凹凸パターンに対応した検査用凹凸パターンを前記原反に形成していく試験エンボス加工工程と、前記試験エンボス加工工程において原反に作製されていった凹凸柄を検査して、前記凹凸柄が検査良から検査不良に移行する部分を調査し、当該部分と同時期に形成された検査用凹凸パターンに基づいて前記検査用凹凸パターンの良否の判定基準を決定する判定基準決定工程と、を有するようにしてもよい。
【発明の効果】
【００５０】
本発明によれば、優れた効率で原反にエンボス加工を行うことができる。これにより、加工費用を低下させることも可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００５１】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００５２】
図１乃至図１１は本発明による一実施の形態を説明するための図である。このうちまず、図１乃至図５を参照して、原反に凹凸柄を形成して加工品を製造するエンボス装置について説明する。ここで、図１はエンボス装置およびエンボス装置による加工品の製造方法を説明するための斜視図であり、図２は図１のエンボス装置を示す上面図であり、図３は図１のエンボス装置に組み込まれたエンボスロールの凹凸パターンを示す図であり、図４は図２のＩＶ−ＩＶ線に沿った断面図であり、図５は図２のＶ−Ｖ線に沿った断面図である。
【００５３】
図１に示すように、エンボス装置１０は、エンボスロール２０と、エンボスロール２０に対向して配置され、エンボスロール２０との間で原反７０を圧するようになるバックアップロール１３と、を備えている。また、エンボス装置１０は、エンボスロール２０およびバックアップロール１３の間に向けて原反７０を供給する原反供給装置（図示せず）をさらに備えている。
【００５４】
図１に示すように、エンボスロール２０およびバックアップロール１３は、それぞれ、円柱状または円筒状に形成されている。エンボスロール２０およびバックアップロール１３は、それぞれの外周面が対向するように配置されている。また、エンボスロール２０およびバックアップロール１３は、それぞれの中心軸線Ｌ１，Ｌ２が平行となるように配置されている。エンボスロール２０およびバックアップロール１３は、それぞれの中心軸線Ｌ１，Ｌ２を中心として回転可能となっている。
【００５５】
エンボスロール２０は、その外周面上に形成された凹凸形状を含むエンボス型面３０を有している。エンボス型面３０は、図１に示すように、原反供給装置から供給される原反７０に当接するようになる。図１および図２に示すように、エンボス型面３０は、原反７０に形成すべき凹凸柄８５に対応した凹凸形状を有する凹凸部３５と、凹凸部３５とは異なる凹凸形状を有する凹凸パターン４０と、を含んでいる。凹凸パターン４０は、エンボス型面３０上の一方向に沿って、図示する例ではエンボスロール２０の回転軸線Ｌ１に沿って、凹凸部３５からずれた位置に形成されている。凹凸部３５は、製造される加工品の用途に応じ、種々の粗さや深さを含んだ凹凸形状として構成される。一例として、製造されるべき加工品８０が合成皮革用の離型紙（型紙）である場合には、凹凸部３５は、原反７０に皮模様を付与し得るように構成される。
【００５６】
一方、凹凸パターン４０は、加工品の一部として加工品の用途に応じて有効に機能するのではなく、加工品を製造する上で機能する凹凸形状である。より具体的には、凹凸パターン４０は、凹凸部３５によって原反７０に形成される凹凸柄８５を検査するために用いられ得る検査用凹凸パターン９０を、原反７０に形成するようになる。
【００５７】
以下、主に図３乃至図５を参照して、原反７０に凹凸柄８５を形成するためのエンボス型面３０に凹凸部３５とともに形成された凹凸パターン４０について詳述する。ここで図３は、円周面として形成されたエンボス型面３０のうちの凹凸パターン４０の周辺を、当該エンボス型面３０を切り開いた平面として、示している。
【００５８】
本実施の形態において、凹凸パターン４０は、エンボス型面３０上の前記一方向（本例ではエンボスロール２０の回転軸線Ｌ１）に沿って互いからずれた位置に配置された第１のパターン部群４２および第２のパターン部群４６を有している。第１のパターン部群４２および第２のパターン部群４６は、前記一方向と直交するエンボス型面３０上の他方向に沿って、図示する例ではエンボスロール２０の回転軸線Ｌ１に直交するエンボスロール２０の円周方向に沿って、並べて配置された複数のパターン部４３，４７をそれぞれ含んでいる。
【００５９】
図４および図５に示すように、第１のパターン部群４２および第２のパターン部群４６に含まれる各パターン部４３，４７は複数の凸部４３ａ，４７ａを含んでいる。この凸部４３ａ，４７ａによって、凹凸部３５とは異なる凹凸パターン４０の凹凸形状が、構成されている。
【００６０】
凸部４３ａ，４７ａは、エンボス型面３０上の他方向（本例ではエンボスロール２０の回転軸線Ｌ１に直交するエンボスロール２０の円周方向）に沿って並べて配列されている。各凸部４３ａ，４７ａは、エンボス型面３０上の一方向に直交する断面（本例ではエンボスロール２０の回転軸線Ｌ１に直交する断面）において三角形状（厳密には二等辺三角形）となっている。さらに、図１、図５および図６に示すように、各凸部４３ａ，４７ａは、エンボス型面３０上の前記一方向に沿って延びており、したがって、三角柱状に形成されている。
【００６１】
図５および図６に示すように、各パターン部４３，４７内において、複数の凸部４３ａ，４７ａは同一形状を有し、異なるパターン部４３，４７間において、凸部４３ａ，４７ａは異なる形状を有している。
【００６２】
図４に示すように、第１のパターン部群４２内の異なるパターン部４３に含まれる凸部４３ａ間において、凸部４３の断面三角形における底辺の長さｗａに対する高さｈａの比（ｈａ／ｗａ、以下において単に「凸部のアスペクト比」とも呼ぶ）は互いに同一であり、凸部４３の断面三角形における高さｈａは互いに異なっている。とりわけ、図３に示すように、第１のパターン部群４２は１０のパターン部４３を有しており、この結果、第１のパターン部群４２内には、１０種類の異なる高さｈａを有する凸部４３ａが含まれている。また、第１のパターン部群４２に含まれた凸部４３ａの高さｈａの最大値は、凹凸部３５の凹凸形状を構成する凸部の高さのうちの最大値と同一となっている。具体例として、製造される加工品８０が合成皮革用の離型紙（型紙）である場合、第１のパターン部群４２に含まれる凸部４３ａの高さの最大値は、例えば５０μｍとすることができる。
【００６３】
一方、図５に示すように、第２のパターン部群４６内の異なるパターン部４７に含まれる凸部４７ａ間において、凸部４７ａの断面三角形における高さｈａは互いに同一であり、凸部４７ａの断面三角形における底辺の長さｗａに対する高さｈａの比（凸部のアスペクト比（ｈａ／ｗａ））は互いに異なっている。とりわけ、図３に示すように、第２のパターン部群４６は１０のパターン部４７を有しており、この結果、第２のパターン部群４６内には、１０種類の異なるアスペクト比（ｈａ／ｗａ）を有する凸部４７ａが含まれている。また、第２のパターン部群４６に含まれた凸部４７ａの断面三角形における底辺の長さｗａに対する高さｈａの比の最大値は、凹凸部３５に含まれた断面三角形状の凸部のアスペクト比のうちの最大値と同一となっている。具体例として、製造される加工品８０が合成皮革用の離型紙（型紙）である場合、第２のパターン部群４６に含まれる凸部４７ａのアスペクト比の最大値は、例えば１．０とすることができる。
【００６４】
なお、第１のパターン部群４２に含まれた凸部４３ａのアスペクト比（ｈａ／ｗａ）は、上述のように、一定である。ここで、第１のパターン部群４２に含まれた凸部４３ａのアスペクト比は、例えば、凹凸部３５の凹凸形状を構成する凸部のアスペクト比のうちの最大値の半分の値や、凹凸部３５の凹凸形状を構成する凸部のアスペクト比の略平均値等に設定することができる。また、第２のパターン部群４６に含まれた凸部４７ａの高さｈａは、上述のように、一定である。ここで、第２のパターン部群４６に含まれた凸部４７ａの高さは、例えば、凹凸部３５の凹凸形状を構成する凸部の高さのうちの最大値の半分の値や、凹凸部３５の凹凸形状を構成する凸部の高さの略平均値等に設定することができる。
【００６５】
エンボス型面３０における凸部の高さｈａおよび凸部のアスペクト比（ｈａ／ｗａ）は、原反７０への凹凸形状の転写効率に対して重大な影響を与え得る二つのパラメータである。そして、凹凸パターン４０は、凹凸部３５の凹凸形状に含まれ得る種々の高さと、凹凸部３５の凹凸形状に含まれ得る種々のアスペクト比と、を含んだ凹凸形状を有している。すなわち、凹凸パターン４０によって原反７０に形成される検査用凹凸パターン９０は、凹凸部３５によって原反７０に形成される凹凸柄８５の凹凸形状と、非常に関連性の高い凹凸形状を有するようになる。そして、凹凸パターン４０が検査用凹凸パターン９０として原反７０に転写される際の転写効率は、凹凸部３５が凹凸柄８５として原反７０に転写される際の転写効率と強い相関性を有するようになる。このため、凹凸パターン４０によって原反７０に形成される検査用凹凸パターン９０を検査することにより、凹凸部３５によって原反７０に形成され複雑な凹凸形状を有する凹凸柄８５の凹凸形状を精度良く確認することが可能となる。
【００６６】
なお、エンボス型面３０に形成された凹凸形状の種々の点について詳細に説明してきたが、上述した形状に関する種々の点、例えば、凸部の断面形状（三角形状等）、凸部の高さ、凸部のアスペクト比等は、必ずしも厳密性を要するものではなく、おおよそのものとして考えれば十分である。例えば、製造誤差等に起因した上述の説明からのずれ等を当然に無視してもよい。
【００６７】
また、図３に示すように、エンボス型面３０の各パターン部４３，４７の近傍には、それぞれ、当該パターン部４３，４７に含まれる凸部４３ａ，４７ａの形状の特徴を示す印３９ａ，３９ｂが付されている。さらに、図３および図２に示すように、エンボス型面３０は、凹凸パターン４０の位置を特定するための見当マーク部３７をさらに有している。見当マーク部３７は、例えば図３に示すように、十字状の突出部として構成することができる。図示する例において、見当マーク部３７は、第１のパターン部群４２に含まれる複数のパターン部４３および第２のパターン部群４６に含まれる複数のパターン部４７と、エンボスロール２０の円周方向に並べて配列されている。これらの印３９ａ，３９ｂおよび見当マーク部３７により、第１のパターン部群４２に含まれる複数のパターン部４３および第２のパターン部群４６に含まれる複数のパターン部４７の位置を特定しやすくなる。これにともなって、凹凸パターン４０によって原反７０に形成される検査用凹凸パターン９０の位置も特定しやすくなる。これにより、凹凸パターン４０の取り扱い、並びに、凹凸パターン４０によって原反７０に形成される検査用凹凸パターン９０の取り扱いを容易にすることができる。
【００６８】
次に、エンボスロール２０に対向して配置されたバックアップロール１３について説明する。バックアップロール１３は、エンボスロール２０と略同一の径を有している。バックアップロール１３は、エンボスロール２０と同期して、エンボスロール２０の周速度と略同一の周速度で回転することができるように構成されている。
【００６９】
また、バックアップロール１３は、エンボス型面３０に押圧されて、エンボス型面３０上に形成された凹凸形状に対応して変形可能であり、かつ、変形状態を少なくとも一定の期間維持し得る表面層を有している。すなわち、バックアップロール１３は、エンボス型面３０として種々の凹凸形状を有したエンボスロール２０に対し、汎用性を有したメス型として機能するようになる。このようなバックアップロール１３として、例えばペーパーロールと呼ばれるロール状部材が広く普及している。ペーパーロールの表面層は、羊毛や紙等の繊維を押し固めて形成されている。
【００７０】
ところで、図１および図２に示すように、エンボス装置１０は、エンボスロール２０およびバックアップロール１３の下流側に配置され、凹凸パターン４０を転写されてなる原反７０の検査用凹凸パターン９０に関する情報を非接触状態で測定するセンサ１５を、さらに備えている。本実施の形態において、センサ１５は、検査対象物上での鏡面反射率に基づいて、検査対象物の光沢度を測定することができる光沢度計によって構成されている。なお、本件における「光沢度」とは、ＪＩＳＳ６００７に準拠して測定される光沢度のことである。
【００７１】
具体的には、図６および図７に示すように、センサ１５は、光を照射する発光部１５ａと、光を受ける受光部１５ｂと、を有している。発光部１５ａおよび受光部１５ｂは、発光部１５ａからの光が、原反７０の検査用凹凸パターン９０上で鏡面反射した場合に、受光部１５ｂに入射するように、位置決めされている。これにより、図６に示すように、原反７０の検査用凹凸パターン９０の粗度が粗い場合、発光部１５ａからの光は検査用凹凸パターン９０上で比較的に強く散乱反射し、受光部１５ｂに入射する光の量は減少する。この場合、光沢度計により測定される光沢度は低い数値を取るようになる。一方、図７に示すように、原反７０の検査用凹凸パターン９０が平坦化されている場合、発光部１５ａからの光の多くは検査用凹凸パターン９０上で鏡面反射し、受光部１５ｂに入射する光の量は増大する。この場合、光沢度計により測定される光沢度は高い数値を取るようになる。すなわち、センサ１５によって測定される検査用凹凸パターン９０の光沢度は、検査用凹凸パターン９０の粗さの度合い（例えば面粗度や凹凸深さ等）と関連して変動するようになる。例えば、図８に示すように、光沢度計としてのセンサ１５によって測定された光沢度と、検査対象物の粗面の粗さ（ＪＩＳＢ０４０１に準拠して測定された十点平均粗さＲｚ）と、は強い相関性を有している。したがって、光沢度計からなるセンサ１５によって、検査用凹凸パターン９０の粗さの度合い（平坦化の程度）に関する情報を非接触状態で精度良く測定することができる。
【００７２】
また、図２に示すように、エンボス装置１０は、センサ１５に接続された制御装置１１であって、センサ１５による測定値に基づいて原反７０に形成された検査用凹凸パターン９０を検査する制御装置１１を、さらに備えている。制御装置１１は、原反７０に形成された検査用凹凸パターン９０が、予め設定された程度を越えて平坦化しているか否か、あるいは、予め設定された程度以上に平坦化しているか否か、を判定するようになっている。また、制御装置１１は、エンボスロール２０の回転駆動機構、バックアップロール１３の回転駆動機構および原反供給装置にも接続されている。そして、制御装置１１は、センサ１５による測定値に基づき、エンボスロール２０の回転、バックアップロール１３の回転、原反７０の供給等を制御することができる。
【００７３】
次に、以上のような構成からなるエンボス装置１０によって製造され得る加工品８０について、説明する。
【００７４】
上述したように、加工品８０は、エンボスロール２０およびバックアップロール１３の間で原反７０を挟圧し、原反７０の表面に凹凸形状を形成することにより作製される。すなわち、加工品８０は、エンボス加工によってエンボス型面３０の凹凸形状を転写された原反７０を備えている。原反７０は、例えば、紙、より具体的には、８０ｇ／ｍ2〜２００ｇ／ｍ2程度の坪量を有したクラフト紙から構成され得る。原反７０の厚みは、数百μｍ、より具体的には２５μｍ〜５００μｍ程度とすることができる。
【００７５】
原反７０は、凹凸柄８５と、原反７０上の一方向に沿って凹凸柄８５からずれた位置に配置された検査用凹凸パターン９０と、を有している。この検査用凹凸パターン９０は、上述したように、凹凸柄３５の凹凸の程度を検査するために用いられる。
【００７６】
上述してきたように、凹凸柄８５は、エンボス型面３０の凹凸部３５を転写されることによって形成されている。したがって、凹凸柄８５は、上述したエンボス型面３０の凹凸部３５の凹凸形状に対応した凹凸形状を有するようになる。一例として、製造される加工品が合成皮革用の離型紙（型紙）である場合には、凹凸柄８５は皮模様を有するように構成される。同様に、検査用凹凸パターン９０は、エンボス型面３０の凹凸パターン４０を転写されることによって形成されている。したがって、検査用凹凸パターン９０は、上述したエンボス型面３０の凹凸パターン４０の凹凸形状に対応した凹凸形状を有するようになり、凹凸柄３５とは異なる凹凸形状を有する。
【００７７】
以下、図１、図２、図４および図５を主に参照して、検査用凹凸パターン９０について詳述するが、いずれも、エンボス型面３０の凹凸パターン４０に対応した凹凸形状であることが容易に理解されるだろう。また、本件で説明する加工品８０の凹凸は、原反７０のエンボス型面３０に対面する側の面を基準として「凸」および「凹」を用いる。
【００７８】
図１および図２に示すように、検査用凹凸パターン３０は、原反７０上の前記一方向（本例では、原反７０の長手方向に直交する幅方向）に沿って互いからずれた位置に配置された第１の検査用パターン部群９２および第２の検査用パターン部群９６を有している。第１の検査用パターン部群９２および第２の検査用パターン部群９６は、前記一方向と直交する原反７０上の他方向（本例では、原反７０の長手方向）に沿って並べて配列された複数の検査用パターン部９３，９７をそれぞれ含んでいる。
【００７９】
図４および図５に示すように、第１の検査用パターン部群９２および第２の検査用パターン部群９６に含まれる各検査用パターン部９３，９７は複数の凹部９３ａ，９７ａを含んでいる。この凹部９３ａ，９７ａによって、検査用凹凸パターン９０の凹凸形状が構成されている。
【００８０】
凹部９３ａ，９７ａは、原反７０上の他方向（原反の長手方向）に沿って並べて配列されている。各凹部９３ａ，９７ａは、原反７０上の一方向（原反の幅方向）に直交する断面において三角形状（厳密には二等辺三角形）のへこみとなっている。さらに、図１、図５および図６に示すように、各凹部９３ａ，９７ａは、原反７０上の前記一方向に沿って溝状に延びている。
【００８１】
図５および図６に示すように、各検査用パターン部９３，９７内において、複数の凹部９３ａ，９７ａは同一形状を有し、異なる検査用パターン部９３，９７間において、凹部９３ａ，９７ａは異なる形状を有している。
【００８２】
図４に示すように、第１の検査用パターン部群９２内の異なる検査用パターン部９３に含まれる凹部９３ａ間において、凹部９３の断面三角形における幅ｗｂに対する深さｈｂの比（ｈｂ／ｗｂ、以下において単に「凹部のアスペクト比」とも呼ぶ）は互いに同一であり、凹部９３の断面三角形における深さｈｂは互いに異なっている。とりわけ、図３に示すように、エンボス型面３０の第１のパターン部群４２は１０のパターン部４３を有しており、この結果、第１の検査用パターン部群９２内には、１０種類の異なる深さｈｂを有する凹部９３ａが含まれている。また、第１の検査用パターン部群９２に含まれた凹部９３ａの深さｈｂの最大値は、凹凸柄８５の凹凸形状を構成する凹部の深さのうちの最大値と同一となっている。
【００８３】
一方、図５に示すように、第２の検査用パターン部群９６内の異なる検査用パターン部９７に含まれる凹部９７ａ間において、凹部９７ａの断面三角形における深さｈｂは互いに同一であり、凹部９７ａの断面三角形における幅ｗｂに対する深さｈｂの比（凹部のアスペクト比（ｈｂ／ｗｂ））は互いに異なっている。とりわけ、図３に示すように、エンボス型面３０の第２のパターン部群４６は１０のパターン部４７を有しており、この結果、第２の検査用パターン部群９６内には、１０種類の異なるアスペクト比（ｈｂ／ｗｂ）を有する凹部９７ａが含まれている。また、第２の検査用パターン部群９６に含まれた凹部９７ａの断面三角形における幅ｗｂに対する深さｈｂの比の最大値は、凹凸柄８５に含まれた断面三角形状の凹部のアスペクト比のうちの最大値と同一となっている。
【００８４】
なお、第１の検査用パターン部群９２に含まれた凹部９３ａのアスペクト比は、例えば、凹凸柄８５の凹凸形状を構成する凹部のアスペクト比のうちの最大値の半分の値や、凹凸柄８５の凹凸形状を構成する凹部のアスペクト比の略平均値等に設定することができる。また、第２の検査用パターン部群９６に含まれた凹部９７ａの深さは、例えば、凹凸柄８５の凹凸形状を構成する凹部の深さのうちの最大値の半分の値や、凹凸柄８５の凹凸形状を構成する凹部の深さの略平均値等に設定することができる。
【００８５】
転写されるべき凹凸形状の凹部の深さｈｂおよび凹部のアスペクト比（ｈｂ／ｗｂ）は、原反７０への凹凸形状の転写効率に対して重大な影響を与え得る二つのパラメータである。そして、検査用凹凸パターン９０は、凹凸柄８５の凹凸形状に含まれ得る種々の深さおよびアスペクト比を含んだ凹凸形状を有している。すなわち、凹凸パターン４０によって原反７０に形成された検査用凹凸パターン９０は、凹凸部３５によって原反７０に形成された凹凸柄８５の凹凸形状と、非常に関連性の高い凹凸形状を有している。そして、凹凸パターン４０が検査用凹凸パターン９０として原反７０に転写される際の転写効率は、凹凸部３５が凹凸柄８５として原反７０に転写される際の転写効率と強い相関性を有するようになる。このため、凹凸パターン４０によって原反７０に形成される検査用凹凸パターン９０を検査することにより、凹凸部３５によって原反７０に形成され複雑な凹凸形状を有する凹凸柄８５の凹凸形状を精度良く確認することが可能となる。
【００８６】
なお、原反７０に形成される凹凸形状の種々の点について詳細に説明してきたが、上述した形状に関する種々の点、例えば、凹部の断面形状（三角形状等）、凹部の深さ、凹部のアスペクト比等は、必ずしも厳密性を要するものではなく、おおよそのものとして考えれば十分である。例えば、加工誤差等に起因した上述の説明からのずれ等を当然に無視してもよい。
【００８７】
また、図２に示すように、エンボス型面３０上において凹凸パターン４０に対して所定の位置に位置決めされて形成された見当マーク部３７によって、加工品８０には、検査用凹凸パターン９０の位置を特定するための見当マーク８７が転写されている。見当マーク８７は、第１の検査用パターン部群９２に含まれる複数の検査用パターン部９３および第２の検査用パターン部群９６に含まれる複数の検査用パターン部９７と、原反７０上の他方向（原反の長手方向）に並べて配列されている。この見当マーク８７により、第１の検査用パターン部群９２に含まれる複数の検査用パターン部９３および第２の検査用パターン部群９６に含まれる複数の検査用パターン部９７の位置を特定しやすくすることができる。これにより、検査用凹凸パターン９０の取り扱いを容易にすることができる。
【００８８】
次に、上述した構成のエンボス装置１０を用いて原反７０に凹凸柄８５を形成し、加工品８０を製造する方法の一例について説明する。
【００８９】
まず、検査用凹凸パターン９０の良否の判定基準を設定する工程が実施される。この工程では、エンボスロール２０およびバックアップロール１３を空運転させる予備空運転工程と、原反７０に凹凸形状を形成する試験エンボス加工工程と、検査用凹凸パターン９０の良否の判定基準を決定する判定基準決定工程と、が順に行われていく。
【００９０】
このうち、予備空運転工程では、図９に示すようにして、エンボスロール２０およびバックアップロール１３が空運転させられる。ここで、「空運転（空転）」とは、エンボスロール２０およびバックアップロール１３との間に原反７０が供給されることなく、エンボスロール２０およびバックアップロール１３が回転させられることである。この空運転中、エンボスロール２０のエンボス型面３０がバックアップロール１３の外周面に当接し、エンボス型面３０の凹凸形状の凸部がバックアップロール１３の外周面を押圧するようになる。このとき、エンボスロール２０およびバックアップロール１３の位置関係は、原反７０に対して実際にエンボス加工を行う場合と概ね同様の条件に設定されていることが好ましい。
【００９１】
上述したように、バックアップロール１３の表面層は変形可能に構成され、かつ、変形状態を少なくとも一定期間維持し得るように構成されている。このため、この予備空運転工程では、エンボス型面３０の凹凸部３５の凹凸形状および凹凸パターン４０の凹凸形状が、バックアップロール１３の表面層（外周面）へしだいに転写されていく。そして、この工程は、バックアップロール１３の表面層の変形が概ね飽和し、バックアップロール１３の表面層が略一定の形状を保つようになるまで実施される。
【００９２】
次に、試験エンボス加工工程について説明する。この工程では、図１０に示すように、エンボスロール２０およびバックアップロール１３を回転させたままの状態で、原反７０が、エンボスロール２０およびバックアップロール１３との間に原反供給装置（図示せず）から供給される。この結果、エンボス型面３０の凹凸部３５に対応した凹凸柄８５が原反７０に形成されるとともに、エンボス型面３０の凹凸パターン４０に対応した検査用凹凸パターン９０が原反７０に形成され、試験加工品８１が形成されていく。
【００９３】
なお、この試験エンボス工程中、エンボスロール２０およびバックアップロール１３の下流側に配置されたセンサ１５によって、連続的に製造されていく試験加工品８１の検査用凹凸パターン９０の凹凸の度合いに関する情報が収集されていく。上述したように、センサ１５は非接触式の光沢度計として構成されている。したがって、エンボス装置１０による原反７０への連続的な加工を中断させることなく、検査用凹凸パターン９０の情報を収集することができる。とりわけ、センサ１５は光沢度計であって、試験加工品８１の検査用凹凸パターン９０の部分における光沢度を瞬時に測定することができる。したがって、検査用凹凸パターン９０の情報を連続的に収集することができ、これにより、第１の検査用パターン部群９２および第２の検査用パターン部群９６に含まれ、順次形成されていく各検査用パターン部９３，９７の情報を採取していくことができる。また、見当マーク８７が原反７０に設けられていることから、センサ１５によって得られた測定結果が、どの検査用パターン部９３，９７に対応しているかを、正確に特定することも可能である。
【００９４】
ところで、試験エンボス加工工程では、エンボスロール２０およびバックアップロール１３の間にある程度の厚みを有した原反７０が位置している。したがって、バックアップロール１３の外周面（表面層）にエンボスロール２０のエンボス型面３０から試験エンボス工程中に付加される圧力は、空運転工程よりも、平均化されている。このため、試験エンボス加工工程が進行していくにつれて、空運転工程中にバックアップロール１３の外周面（表面層）に形成されたエンボス型面３０の凹凸形状に対応した凹凸形状は、しだいに平坦化されてなだらかになっていく。また、メス型として機能するバックアップロール１３の外周面の凹凸形状の平坦化にともなって、エンボス型面３０の凹凸部３５および凹凸パターン４０を精度よく原反７０に転写していくことができなくなる。すなわち、試験エンボス加工工程の進行にともない、原反７０に形成された凹凸柄８５の凹凸形状および検査用凹凸パターン９０の凹凸形状はしだいに平坦化されていく。
【００９５】
このためセンサ１５によって測定される検査用凹凸パターン９０の部分での光沢度の値も、試験エンボス加工工程の進行にともなって変化していく。具体的には、検査用凹凸パターン９０の部分についてセンサ１５によって測定される光沢度の値は、試験エンボス加工工程の進行にともなって、大きくなっていく。一例として、図１１には、第１の検査用パターン部群９２に含まれる各パターン部９３での光沢度の測定値の変化を示す。
【００９６】
次に、検査用凹凸パターン９０の良否の判定基準を決定する工程について説明する。この工程では、製造された試験加工品８１の凹凸柄８５の凹凸形状を実際に検査する。上述したように、原反７０に形成される凹凸柄８５の凹凸形状は、試験エンボス加工工程の進行にともなって平坦化されていく。最終的には、加工品８０の用途に応じて種々設定される規格を満足できない程度にまで、凹凸柄８５の凹凸形状が平坦化されるようになる。ここでは、試験エンボス加工工程において原反７０に作製されていった凹凸柄８５を検査して、凹凸柄８５が品質良の状態から品質不良に移行する部分を調査し、当該部分と同時期に形成された検査用凹凸パターン９０の凹凸形状の状況を特定する。
【００９７】
上述したように、凹凸形状の凹凸のギャップ（深さ、高さ）および凹凸のアスペクト比について、検査用凹凸パターン９０は、凹凸柄８５が有している範囲と同一範囲を有している。そして、そして、凹凸形状の転写効率は、転写されるべき凹凸形状の凹凸のギャップ（深さ、高さ）および凹凸のアスペクト比に大きく依存する。したがって、エンボス加工工程の進行にともなった検査用凹凸パターン９０の平坦化の進行は、凹凸柄８５の平坦化の進行と強い相関性を有して進む。また、上述したように、センサ１５によって測定される光沢度は、粗さの程度（平坦化の程度）と強い相関性を有している（図８参照）。このため、エンボス加工工程の進行にともなった凹凸柄８５の平坦化の進行と、エンボス加工工程の進行にともなった検査用凹凸パターン９０の光沢度の変化と、の関係を調査しておけば、形成されていく検査用凹凸パターン９０の光沢度を測定していくことにより、凹凸柄８５の凹凸形状の平坦化の度合い（粗さの程度）を特定することができるようになる。
【００９８】
ここではさらに、凹凸柄８５が要求されている品質基準を満たさなくなる際の検査用凹凸パターン９０の光沢度の値を、凹凸柄８５の検査を行う代わりに実施される検査用凹凸パターン９０の検査における、検査用凹凸パターン９０の良否の判定基準として決定する。一例として、エンボス加工工程を開始してから６時間以降に形成された凹凸柄８５が品質不良となる場合に、仮に検査用凹凸パターン９０の光沢度がエンボス加工工程の進行にともなって図１１に示すように変化するならば、検査用凹凸パターン９０の良否の判定基準として、エンボス加工工程を開始してから６時間後に形成された検査用凹凸パターン９０の各検査用パターン部９３ａ，９７ａの光沢度の値を、当該各検査用パターン部９３ａ，９７ａに対する判定基準とすることができる。
【００９９】
このようにして、所定の品質基準を満たさなくなる凹凸柄８５と同時期に作製された検査用凹凸パターン９０の光沢度が特定され、検査用凹凸パターン９０の良否の判定基準として制御装置１１に設定される。
【０１００】
以上のようにして、検査用凹凸パターン９０の良否の判定基準が設定された後、エンボスロール２０およびバックアップロール１３を空運転させる第１空運転工程と、原反７０に凹凸形状を形成する第１エンボス加工工程と、エンボスロール２０およびバックアップロール１３を空運転させる第２空運転工程と、が順に行われていく。
【０１０１】
第１空運転工程では、エンボスロール２０およびバックアップロール１３が空運転させられ、エンボスロール２０のエンボス型面３０に形成された凹凸部３５および凹凸パターン４０に対応した凹凸形状が、バックアップロール１３の外周面に再び形成される。具体的には、図９に示すように、エンボスロール２０およびバックアップロール１３との間に原反７０が供給されることなく、エンボスロール２０およびバックアップロール１３が空運転させられる。したがって、エンボスロール２０のエンボス型面３０がバックアップロール１３の外周面に当接し、エンボス型面３０の凹凸形状の凸部がバックアップロール１３の外周面を押圧するようになる。これにより、エンボス型面３０の凹凸部３５の凹凸形状および凹凸パターン４０の凹凸形状が、バックアップロール１３の表面層（外周面）へしだいに転写されていく。そして、この第１空運転工程は、バックアップロール１３の表面層の変形が概ね飽和し、バックアップロール１３の表面層が略一定の形状を維持し得るようになるまで実施される。
【０１０２】
次に、第１エンボス加工工程では、図１０に示すように、エンボスロール２０およびバックアップロール１３を回転させたままの状態で、原反供給装置（図示せず）から原反７０をエンボスロール２０およびバックアップロール１３との間に供給する。この結果、エンボス型面３０の凹凸部３５に対応した凹凸柄８５が原反７０に形成されるとともに、エンボス型面３０の凹凸パターン４０に対応した検査用凹凸パターン９０が原反７０に形成され、加工品８０が形成されていく。
【０１０３】
なお、この試験エンボス工程中、エンボスロール２０およびバックアップロール１３の下流側に配置されたセンサ１５によって、連続的に製造されていく加工品８０の検査用凹凸パターン９０が検査されていく。具体的には、センサ１５を用いて、加工品８０の検査用凹凸パターン９０の部分での光沢度が測定されていく。上述したように、センサ１５は非接触式の光沢度計として構成されている。したがって、エンボス装置１０による原反７０への連続的な加工を中断させることなく、検査用凹凸パターン９０の情報を収集することができる。とりわけ、光沢度計からなるセンサ１５によれば、検査用凹凸パターン９０の情報を連続的に収集していくことができる。これにより、第１の検査用パターン部群９２および第２の検査用パターン部群９６に含まれ、順次形成されていく各検査用パターン部９３，９７の情報を連続的に採取していくことができる。また、見当マーク８７が原反７０に設けられていることから、センサ１５によって得られた測定結果が、どの検査用パターン部９３，９７に対応しているかを、正確に特定することができる。
【０１０４】
光沢度の測定値はセンサ１５から制御装置１１に送信される。上述したように、光沢度の測定値は、エンボス加工工程の進行にともなって変化し、しだいに大きくなっていく。制御装置１１は、測定された光沢度の値を、予め設定された検査用凹凸パターン９０の良否の判定基準の値と比較する。制御装置１１は、判定基準が検査用凹凸パターン９０の許容最大値として設定されている場合には、順次測定されていく検査用凹凸パターン９０の光沢度の値が判定基準を超えているか否かを判断する。そして、検査用凹凸パターン９０の光沢度の値が判定基準を超えていると判断した場合には、第１エンボス加工工程を終了する。同様に、制御装置１１は、判定基準が検査用凹凸パターン９０の許容外最小値として設定されている場合には、順次測定されていく検査用凹凸パターン９０の光沢度の値が判定基準以上であるか否かを判断する。そして、検査用凹凸パターン９０の光沢度の値が判定基準以上であると判断した場合には、第１エンボス加工工程を終了する。
【０１０５】
すなわち、検査用凹凸パターン９０の凹凸形状の状態を検査することにより、加工品８０の凹凸柄８５が品質基準を満たさない程度にまで平坦化されているか否かを判断する。そして、加工品８０の凹凸柄８５が品質基準を満たさないと考えられる場合、言い換えると、メス型として機能するバックアップロール１３の外周面の凹凸形状が平坦化し過ぎていると考えられる場合には、第１エンボス加工工程が終了し、第２空運転工程が開始される。
【０１０６】
第２空運転工程では、エンボスロール２０およびバックアップロール１３が空運転させられ、バックアップロール１３の外周面（表面層）へ再びメス型の型入れが行われる。すなわち、エンボスロール２０のエンボス型面３０に形成された凹凸部３５および凹凸パターン４０に対応した凹凸形状が、バックアップロール１３の外周面に再び形成される。この工程は、バックアップロール１３の表面層の変形が概ね飽和し、バックアップロール１３の表面層が概ね一定の形状を維持し得るようになるまで実施される。
【０１０７】
その後、上述した方法と同様の方法で第２エンボス加工工程および第３空運転工程、並びに、任意でさらなるエンボス加工工程および空運転工程が実施される。以降のエンボス加工工程中、上述した第１エンボス加工工程と同様に、原反７０に形成されていく検査用凹凸パターン９０が検査される。検査用凹凸パターン９０の検査結果が不良と判定された場合、当該エンボス加工工程が終了する。そして、空運転工程が実施され、エンボス型面３０の凹凸形状に対応した凹凸形状がバックアップロール１３の外周面（表面層）へ再び形成されていく。
【０１０８】
以上のような本実施の形態によれば、エンボス加工時間の経過にともなった凹凸柄８５の凹凸形状の変化と、検査用凹凸パターン９０の凹凸形状の変化と、の関連性を予め調査しておく。そして、この調査結果に基づき、検査用凹凸パターン９０の凹凸形状を検査することによって、凹凸柄８５の凹凸形状を確認することが可能となる。これにより、原反７０に形成されていく検査用凹凸パターン９０を検査することにより、凹凸柄８５の平坦化の原因となるバックアップロール１３に形成された凹凸形状の平坦化の進行を、確認することができる。すなわち、複雑な凹凸形状を有することがあり、その検査が極めて煩雑で長時間を要するようになり得る凹凸柄８５の検査を行うことなく、バックアップロール１３の平坦化を確認することができる。また、検査用凹凸パターン９０の凹凸形状は、原反７０に形成される凹凸柄８５とは異なり、単純化されたパターンとすることができる。したがって、検査用凹凸パターン９０の検査、および、これにともなってバックアップロール１３に形成された凹凸形状の検査を、精度良く容易に行うことが可能となる。これにより、バックアップロール１３への型入れが必要な状況を正確に検出し、不必要なエンボス装置１０の稼働停止を回避することができる。したがって、エンボス装置１０を高い稼働率で稼働させて、優れた加工効率で原反７０にエンボス加工を施していくことができる。また、所望の凹凸形状を有する凹凸柄８５が形成された加工品８０を安定して製造することができる。
【０１０９】
また、本実施の形態によれば、検査用凹凸パターン９０の検査は非接触で行われる。したがって、検査用凹凸パターン９０を検査するためにエンボス装置１０を停止させる必要がない。さらには、インラインで検査用凹凸パターン９０を検査し、バックアップロール１３に形成された凹凸形状の平坦化を確認することができる。これにより、エンボス装置１０を極めて高い稼働率で稼働させて、極めて優れた加工効率で原反７０にエンボス加工を施していくことができる。
【０１１０】
さらに、本実施の形態によれば、光沢度計により検査用凹凸パターン９０の光沢度を非接触で検査して、バックアップロール１３に形成された凹凸形状の平坦化の有無を確認するようになっている。このような方法によれば、帯状に延びる原反７０に順次形成されていく検査用凹凸パターン９０を、連続的に検査していくことができる。これにより、バックアップロール１３に形成された凹凸形状の変化を連続的に確認することができる。このため、バックアップロール１３への型入れが必要な場合を極めて正確に検出し、エンボス装置１０を極めて高い稼働率で稼働させることができる。
【０１１１】
さらに、本実施の形態において、エンボス型面３０の凹凸パターン４０は、エンボスロール２０の円周方向に沿って並べて配置された複数の凸部４３ａ，４７ａを有している。また、凸部４３ａ，４７ａは、エンボスロール２０の回転軸線Ｌ１に直交する断面において三角形状を有している。さらに、凸部４３ａ，４７ａは、エンボスロール２０の回転軸線Ｌ１に沿って延びている。これらのような凸部４３ａ，４７ａを有する凹凸パターン４０によって原反７０に形成される検査用凹凸パターン９０は、極めて単純化された凹凸形状を有するようになる。したがって、原反７０に形成された検査用凹凸パターン９０の凹凸形状の平坦化を、種々の方法により、容易かつ正確に確認することができる。これにより、バックアップロール１３への型入れが必要な場合を極めて正確に検出し、エンボス装置１０を極めて高い稼働率で稼働させることができる。
【０１１２】
さらに、本実施の形態によれば、原反７０に形成される検査用凹凸パターン９０は、原反７０に凹凸柄８５として形成された種々のアスペクト比の凹凸形状ならびに原反７０に凹凸柄８５として形成された種々の深さの凹凸形状に対応した凹凸形状を含むようになる。凹凸形状のアスペクト比および凹凸形状の深さは、エンボス型面３０の凹凸形状がどの程度の正確さで原反７０に転写されるかを支配する最も重要な二つのパラメータとされている。したがって、検査用凹凸パターン９０の凹凸形状を検査することにより、凹凸柄８５が所望の凹凸形状を有しているか否かを極めて正確に判断することができる。これにより、バックアップロール１３への型入れが必要な場合を極めて正確に検出し、エンボス装置１０を極めて高い稼働率で稼働させることができる。
【０１１３】
なお、上述した実施の形態に関し、本発明の要旨の範囲内で種々の変更が可能である。
【０１１４】
例えば、上述した実施の形態において、凹凸パターン４０の第１のパターン部群４２および第２のパターン部群４６が、エンボス型面３０上の一方向に沿って隣接して配置されている例を示したが、これに限られない。例えば、エンボス型面３０上の一方向に沿って、第１群のパターン部群４２および第２のパターン部群４６の間に凹凸部３５が配置されていてもよい。この場合、第１群のパターン部群４２に対応して形成される第１の検査用パターン部群９２と、第２のパターン部群４６に対応して形成される第２の検査用パターン部群９６と、が原反７０上の一方向に沿って離間して配置されるようになる。
【０１１５】
また、上述した実施の形態において、エンボス型面２０の凹凸パターン４０が、それぞれ複数のパターン部を有している第１群のパターン部４２および第２のパターン部４６を含んでいる例を示したが、これに限られない。
【０１１６】
例えば、エンボス型面２０の凹凸パターン４０が、エンボス型面２０の他方向（エンボスロール２０の円周方向）に沿って一列に並べて配置された複数のパターン部のみからなるようにしてもよい。この例において、各パターン部は複数の凸部を含み、各パターン部内において前記複数の凸部は同一形状を有する一方で、異なるパターン部間において凸部が異なる形状を有するようにしてもよい。この場合、異なるパターン部に含まれる凸部間において、凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比（凸部のアスペクト比）が互いに同一であり、凸部の断面三角形における高さが互いに異なるようにしてもよい。あるいは、異なるパターン部に含まれる凸部間において、凸部の断面三角形における高さが互いに同一であり、凸部の断面三角形における底辺の長さに対する高さの比（凸部のアスペクト比）が互いに異なるようにしてもよい。
【０１１７】
このように凹凸パターンの変形例に対応して、原反７０に形成される検査用凹凸パターン９０は、原反７０上の他方向（原反の長手方向）に沿って一列に並べて配置された複数の検査用パターン部のみからなるようになる。また、各検査用パターン部は複数の凹部を含み、各検査用パターン部内において複数の凹部は同一形状を有する一方で、異なるパターン部間において凸部が異なる形状を有するようにしてもよい。この場合、異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、凹部の断面三角形における幅に対する深さの比（凹部のアスペクト比）が互いに同一であり、凹部の断面三角形における深さが互いに異なるようにしてもよい。あるいは、異なる検査用パターン部に含まれる凹部間において、凹部の断面三角形における深さが互いに同一であり、凹部の断面三角形における幅に対する深さの比（凹部のアスペクト比）が互いに異なるようにしてもよい。
【０１１８】
このような変形例においても、加工品８０の検査用凹凸パターン９０の凹凸形状を検査することにより、加工品８０の凹凸柄８５が所望の凹凸形状を有しているか否かを極めて正確に判断することができる。これにより、バックアップロール１３への型入れが必要な場合を極めて正確に検出し、エンボス装置１０を極めて高い稼働率で稼働させることができる。
【０１１９】
さらに、上述した実施の形態において、エンボス型面３０の凹凸パターン部４０が、互いに異なる凹凸形状を有した複数のパターン部４３，４７を有する例を示したが、これに限られない。エンボス型面３０の凹凸パターン部４０は、例えば、同一の形状の凸部を一定間隔で並べて構成されるようにしてもよい。この場合、原反７０に形成される検査用凹凸パターン９０は、同一の形状の凹部を一定間隔で並べてなる凹凸形状を有するようになる。
【０１２０】
さらに、上述した実施の形態において、センサ１５が、光沢度計として構成され検査用凹凸パターン９０の光沢度を測定するように構成されている例を示したが、これに限られない。例えば、センサが、変位測定器、とりわけレーザ変位測定器として構成されていてもよい。変位測定器からなるセンサによれば、原反に形成された検査用凹凸パターンの凹凸形状を非接触で測定することにより、前記検査用凹凸パターンの検査を行うことができる。そして、制御装置１１は、測定された凹凸形状が予め設定された程度を越えて平坦化している場合、あるいは、測定された凹凸形状が予め設定された程度以上に平坦化している場合に、検査用凹凸パターンを不良と判定することができる。
【０１２１】
なお、変位測定器からなるセンサによっても、帯状に延びる原反７０に連続的に形成されていく検査用凹凸パターン９０を連続的に検査していくことができる。したがって、バックアップロール１３に形成された凹凸形状の変化を連続的に確認することができる。これにより、バックアップロール１３への型入れが必要な場合を極めて正確に検出し、エンボス装置１０を極めて高い稼働率で稼働させることができる。
【０１２２】
さらに、上述した実施の形態において説明した検査用凹凸パターンの良否の判定基準の設定方法は単なる例示にすぎず、他の方法で検査用凹凸パターンの良否の判定基準を設定するようにしてもよい。
【０１２３】
さらに、上述した実施の形態において、合成皮革用の離型紙を加工品８０として製造する例を挙げたが、これに限られず、その他の用途に用いられる加工品８０を製造することも当然に可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１２４】
【図１】図１は、本発明による一実施の形態を説明するための図であり、エンボス装置およびエンボス装置による加工品の製造方法を示す斜視図である。
【図２】図２は、図１のエンボス装置を示す上面図である。
【図３】図３は、図１のエンボス装置に組み込まれたエンボスロールの凹凸パターンを説明するための図である。
【図４】図４は、図２のＩＶ−ＩＶ線に沿った断面図である。
【図５】図５は、図２のＶ−Ｖ線に沿った断面図である。
【図６】図６は、図１のエンボス装置に組み込まれたセンサの作用を説明するための図である。
【図７】図７は、図１のエンボス装置に組み込まれたセンサの作用を説明するための図である。
【図８】図８は、光沢度と表面粗さとの関係を示すグラフである。
【図９】図９は、空運転工程を説明するための図である。
【図１０】図１０は、エンボス加工工程を説明するための図である。
【図１１】図１１は、エンボス加工工程の経過にともなった検査用凹凸パターンの光沢度の変化を示すグラフである。
【符号の説明】
【０１２５】
１０  エンボス装置
１１  制御装置
１３  バックアップロール
１５  センサ
２０  エンボスロール
３０  エンボス型面
３５  凹凸部
３７  見当マーク部
３９ａ，３９ｂ  印
４０  凹凸パターン
４２  第１のパターン部群
４３  パターン部
４３ａ  凸部
４６  第２のパターン部群
４７  パターン部
４７ａ  凸部
７０  原反
８０  加工品
８５  凹凸柄
８７  見当マーク部
９０  検査用凹凸パターン
９２  第１の検査用パターン部群
９３  検査用パターン部
９３ａ  凹部
９６  第２の検査用パターン部群
９７  検査用パターン部
９７ａ  凹部
Ｌ１  回転軸線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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