(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被露光対象基板を載置して一定方向に連続搬送する基板搬送装置と、前記基板搬送装置の上方に配設されて、前記基板に近接対向させて露光マスクを保持するマスクホルダーと、
前記基板上の基準となる箇所と、前記露光マスク上の基準となる箇所と、を同時に撮像するための、前記搬送方向に直角な方向に一列に配列された複数の撮像素子と、該撮像素子と前記基板の間に配置されたレンズ系と、を備えた撮像手段と、前記撮像手段により撮像された前記基板上の基準となる箇所及び前記露光マスク上の基準となる箇所の夫々の画像に基づいて前記基板搬送装置と前記マスクホルダーとを相対的に移動し、前記基板と前記露光マスクとの位置合わせをして露光する近接露光装置であって、
前記撮像手段の受光面と前記レンズ系との間に、前記撮像手段の長さ方向の一部を覆ように配設されて、前記撮像手段の長さ方向の一部の受光面と前記露光マスクとの間の光学距離を不連続に可変にする、前記撮像手段の光軸に直角な平面に一列に配設された複数の段差を有する光学部材であって、前記各段差部における光路長調整範囲が前記レンズ系の焦点深度に等しい光学部材を有する光学距離補正手段を備えたことを特徴とする近接露光装置。
【請求項２】
前記光学部材が、基準となる平面上に、該基準となる平面と平行に、一列に配列された、複数の平面を有することを特徴とする請求項１記載の近接露光装置。
【請求項３】
前記光学部材が、対向する面が、互いに平行な六面体であって、隣り合う面の成す角度が直角である、複数の六面体によって構成されていることを特徴とする、請求項１または２に記載の近接露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光対象の基板及び露光マスクの夫々のアライメントマークを撮像し、それらの画像に基づいて基板と露光マスクとの位置合わせをして露光する近接露光装置に関するものであり、詳しくは、撮像手段の受光面に前記基板及び露光マスクの夫々のアライメントマークを同時に結像させて、位置合わせ処理を高速に行なおうとする露光装置に係るものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の露光装置は、露光対象の基板を載置するステージと、該基板に近接対向させて露光マスクを保持するマスクステージと、上記基板に形成された基板側アライメントマークと上記露光マスクに形成されたマスク側アライメントマークとをそれぞれ同一視野内に捕えて撮像する撮像手段とを備え、先ず、マスク側アライメントマークを撮像手段の受光面に結像させた状態で撮像手段を移動してその視野内中央部にマスク側アライメントマークを位置づけ、次に、基板側アライメントマークを上記受光面に結像させた状態でステージを移動して撮像手段の視野内中央部に基板側アライメントマークを位置付けて基板と露光マスクとの位置合わせを行うものが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
上記の他、前記撮像手段の受光面と基板とを結ぶ光路上に配設された所定の屈折率を有する透明な部材（光路長補正手段）を配設して、撮像手段の受光面と基板との間の光学距離及び撮像手段の受光面と露光マスクとの間の光学距離を略合致させることにより、撮像手段で基板側及びマスク側アライメントマークを同一視野内に捕えて撮像し、撮像された基板側アライメントマークとマスク側アライメントマークの画像処理を同時に行ない、基板及び露光マスクの位置合わせ処理を行なう方式のものも知られている（例えば、特許文献２参照）。
そして、前記光路長補正手段には、上記特許文献２のような固定式のものの他、楔角を有するプリズムを２枚から構成されて、光路長を自由に変更できるものが知られている（例えば、特許文献３参照）。
【特許文献１】特開平５−１９６４２０号公報
【特許文献２】特開２００７−１０２０９４号公報
【特許文献３】特開２００７−８６３７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、このような従来の露光装置（前者）においては、撮像手段からの基板側アライメントマークとマスク側アライメントマークとの光路長が異なるため、マスク側アライメントマークを撮像手段の受光面に結像させて位置調整し、次に撮像手段を光軸方向に移動させて、基板側アライメントマークを上記受光面に結像させる必要があり、位置合わせの処理時間が長くなっていた。
【０００５】
また、従来の露光装置（後者）においては、光路長補正手段が光路長を自由に補正できるものではないため、前記基板と露光マスクとの隙間を変える都度、光路長補正手段を最適厚さのものに取替える必要があり、その作業が大変であった。
また、光路長補正手段を前記特許文献３のような方式にすれば、前記基板と露光マスクとの隙間の変更に対し、対応が容易であるが、この特許文献３のような光路長補正手段では、構造が複雑で、取り付けスペースも大きくなるため、撮像手段の受光面と露光マスクとの間に配設することが困難である他、２枚のプリズムの楔角度を同一に製作する必要があるため、プリズムの製造コストが高くなるなどの問題がある。
さらに、２枚のプリズムを光が透過するため、夫々のプリズムの雰囲気温度の変化による、プリズムの変形が生じると、光軸のズレが起きるという問題がある。
そこで、本発明は、このような問題点に対処し、安価に、精度よく基板及び露光マスクの位置合わせ行なうことができる近接露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、請求項１に係る発明は、被露光対象基板を載置して一定方向に連続搬送する基板搬送装置と、前記基板搬送装置の上方に配設されて、前記基板に近接対向させて露光マスクを保持するマスクホルダーと、前記基板上の基準となる箇所と、前記露光マスク上の基準となる箇所と、を同時に撮像するための、前記搬送方向に直角な方向に一列に配列された複数の撮像素子と、該撮像素子と前記基板の間に配置されたレンズ系と、を備えた撮像手段と、前記撮像手段により撮像された前記基板上の基準となる箇所及び前記露光マスク上の基準となる箇所の夫々の画像に基づいて前記基板搬送装置と前記マスクホルダーとを相対的に移動し、前記基板と前記露光マスクとの位置合わせをして露光する近接露光装置であって、前記撮像手段の受光面と前記レンズ系との間に、前記撮像手段の長さ方向の一部を覆ように配設されて、前記撮像手段の長さ方向の一部の受光面と前記露光マスクとの間の光学距離を不連続に可変にする、前記撮像手段の光軸に直角な平面に一列に配設された複数の段差を有する光学部材であって、前記各段差部における光路長調整範囲が前記レンズ系の焦点深度に等しい光学部材を有する光学距離補正手段を備えたことを特徴としている。
【０００７】
請求項２に係る発明は、請求項１において、前記光学部材が、基準となる平面上に、該基準となる平面と平行に、一列に配列された、複数の平面を有することを特徴としている。
【０００８】
請求項３に係る発明は、請求項１または２において、前記光学部材が、対向する面が、互いに平行な六面体であって、隣り合う面の成す角度が直角である、複数の六面体によって構成されていることを特徴としている。
【発明の効果】
【０００９】
本件発明によれば、撮像手段の光軸方向に基板と露光マスクとが互いにずれて配置されている場合にも、基板上の基準となる箇所と露光マスク上の基準となる箇所を撮像手段の受光面に同時に結像させることができる。
したがって、撮像された基板上の基準となる箇所と露光マスク上の基準となる箇所の画像の画像処理を、リアルタイムに行なうことができ、基板及び露光マスクの位置合わせ処理を高速に行なうことができる。また、従来技術のように撮像手段をその光軸方向に移動して基板側及び露光マスク側アライメントマークをそれぞれ撮像するものではないので、撮像手段の移動ずれによる位置ずれが生じることがない。したがって、位置合わせ精度を向上することができる。
【００１０】
また、光路長補正手段の光学部材が、階段状の複数の互いに平行な平面を有する構成（即ち、厚みの異なる複数の平板）であるため、熱による変形が生じても、楔角を有するプリズムのような光軸ズレの心配が少ない。
また、光学部材が上記構成であるため、光路長補正手段の構造を単純でコンパクトにできる他、互いに平行な複数の平面を有する構成であるため、露光マスクと基盤の隙間を変更した際に、その間隙に適合した、光学部材光軸方向の厚みの部分を容易に選択できる。
さらに、光学部材の制作費を安くすることができる。
【００１１】
更に、前記光学部材が該基準となる平面と平行に、一列に配列された、複数の平面を有する構成であるため、その基準となる平面を光学距離補正手段の組み立て基準とすることができ、光学距離補正手段の組み立てが容易に行える。
更にまた、前記光学部材が、独立した前記複数の六面体で構成されているため、さらに光学部材が容易に製造することができる他、隣り合う光学部材の熱膨張による影響を少なくすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。
【実施例１】
【００１３】
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る近接露光装置１示す概念図である。
近接露光装置１は、露光用光源ユニット２と、露光マスクユニット３と、露光対象基板を搬送するワーク搬送装置４と、撮像手段５と、照明用光源６と、これらを制御する制御装置（図示せず）と、を備えている。
以下の説明では、前記露光対象基板が、後述の感光性樹脂としてのカラーレジストを塗布したカラーフィルタ基板（以下、単に「ワークＷ」という。）（図９）の場合について述べる。
【００１４】
露光用光源ユニット２は、露光光（紫外線）を放射する光源２ａ（例えば超高圧水銀ランプ、キセノンランプ又は紫外線発光レーザ）と、光源２ａから放射される光を所定の平行光の束にするための光学系２ｂと、を備えており、露光マスクユニット３の上方に配設され、光学系２ｂが後述の露光マスク３１に対向している。そして、光源１１ａは、図示しない光源コントローラを経て前記制御装置に接続している。
また、照明用光源６は、平行な白色光を露光マスク３１側に照射するものである。
【００１５】
露光マスクユニット３は、図２のように、マスクホルダー３０と、マスクホルダー３０に搭載する少なくとも１枚以上の露光マスク３１と、マスクホルダー３０をＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θ軸、α軸の各軸で位置、姿勢の制御を行うマスクホルダー駆動手段（図示せず）とを有している。
そして、マスクホルダー３０は、露光マスク３１を、所定のギャップ（例えば100〜300μm）を隔てて、ワークＷに近接対向させた状態で、保持するものである。
【００１６】
露光マスク３１は、図３のように、紫外線及び可視光を高効率で透過する透明基材３１ａ（例えば石英ガラス）と、透明基材３１ａに塗布されて露光光を遮光する遮光膜３１ｂと、遮光膜３１ｂに形成されて露光光を通す所定形状の開口部である複数のマスクパターン３１ｃと、マスク側覗き窓３１ｅと、マスク側アライメントマーク３１ｄとからなっている。
そして、マスク側覗き窓３１ｅの表面には、白色光を通過させ、紫外光を遮断する波長選択性の膜（図示せず）が塗布されている。
これによって、露光マスク３１に照射された露光光は、遮光膜３１ｂで反射されて、マスクパターン３１ｃ以外の面を通ってワークＷを照射することがないようになっている。
なお、露光マスク３１は、マスク側覗き窓３１ｅがワークＷの搬送方向Ａの上流側（図３（ａ）の紙面の下側）になるようにマスクホルダー３０にセットされる。
【００１７】
マスクパターン３１ｃは、後述のワークＷのピクセルＷＰの幅ＷＰｂ（図１０）と略一致した幅（Ｍｂ）を有して、前記矢印Ａの方向に長い矩形状とされ、矢印Ａに直交する方向に並列に、前記ピクセルＷＰの３ピッチ（Ｐｙ）間隔と一致した間隔で形成されている。
そして、図３のように、例えば中央部に位置するマスクパターン３１ｃのＹ軸方向のエッジＳ１（図３ａ）が基準位置として予め設定されている。
そして、マスク側アライメントマーク３１ｄは、マスク側覗き窓３１ｅの中に白色光及び紫外光を共に遮断する材質によって、マスク側アライメントマーク３１ｄのＹ軸方向のエッジＳ２（図３ａ）が、前記マスクパターン３１ｃのエッジＳ１と一致するように描かれている。
【００１８】
ワーク搬送装置４は、露光マスクユニット２の下方に配置されて、ステージ４０と図示しないワーク搬送手段とを有している。
ステージ４０は、上面に、図示しない、気体を噴出する多数の噴出孔と気体を吸引する多数の吸引口を有し、図示しない圧縮気体供給装置及び気体吸引装置に接続されて、気体の噴出、吸引のバランスによりワークＷをステージ４０の上に浮上させるようになっており、露光マスク３１に対向する部分は、開口しており、この開口部分４１には、露光マスク３１による露光位置の手前側の位置（図１の紙面に向かって右側）で、ワークＷを下側から撮像するための撮像手段５が、ワークＷに向かって設けられている。
【００１９】
前記ワーク搬送手段は、ワークＷの一部（ワークＷの搬送方向に平行な縁の一方）を図示しない把持手段で把持した状態で、ワークＷを前記矢印Ａの方向にステージ４０上を搬送できるようになっており、更に、ワークＷの前記矢印Ａの方向における位置を検出するワーク位置センサ（図示せず）を備えている。
【００２０】
また、撮像手段５は、露光マスク３１のマスク側覗き窓３１ｅの下方に、ワークＷの下面に対向して（図４）、開口部４１に設けられ、図５のように、前記矢印Ａの方向に直角な方向に一列に配列した複数の撮像素子５０ａからなるラインセンサ５０と、ラインセンサ５０とワークＷの間に設けられた、所定の焦点深度を有するレンズ系５１と、レンズ系５１とラインセンサ５０との間に配設された、光路長補正手段５２とを有している。
【００２１】
光路長補正手段５２は、図７のように、段階的に厚みの異なる光学部材５２ａ（図８）と、光学部材５２ａをＸ軸方向に平行に矢印Ｂ方向（図６）に前進後退させる光学部材駆動装置５２ｂを有している。
そして、光学部材駆動装置５２ｂは、光学部材５２ａを保持するホルダー５２ｂ１と、ホルダー５２ｂ１の対向する２辺を支持し前記矢印Ｂの方向に移動可能にする一対のガイド５２ｂ２、５２ｂ２と、前記一方のガイド５２ｂ２に沿って設けられたボールスクリュー図示せず）と、このボールスクリューに勘合し、ホルダー５２ｂ１に取り付けられたボールナット（図示せず）と、前記ボールスクリューの一端に取り付けられて、このボールスクリューを回転させる駆動用モータ５２ｂ３と、駆動用モータ５２ｂ３に取り付けられたロータリーエンコーダ（図示せず）を有している。
【００２２】
そして、駆動用モータ５２ｂ３は、図示しないモータコントローラを経て前記制御装置に接続されており、前記ロータリーエンコーダは、前記制御装置に接続されている。
そして、ラインセンサ５０は、ラインセンサ５０を構成する一列の受光素子５０ａ群のうちの所定の受光素子５０ａが、露光マスク３１のマスク側アライメントマーク３１ｄのエッジＳ２に対応するように、配置されている。
【００２３】
光学部材５２ａは、均質な透明素材で作られており、図８のように、基準面５２ａ１と、これに平行な複数の階段状の平面を有している。
そして、前記複数の階段状の平面（以下、単に「階段部」という）（５２ａ２〜５２ａ７）の基準面５２ａ１からの厚みは夫々ｔ１〜ｔ６になっている。
なお、光学部材５２ａは図８のような形状に限らず、図１３〜１６に示すような形状にしてもよい。
図１３の光学部材（５２Ａ）は、基準となる平面（５２Ａ１）上に一列に並べられた、厚みの異なる複数の板状の均質な透明素材で作られており、光学部材５２Ａの温度が変化しても、各光学部材（５２Ａ２〜５２Ａ７）が隣り合う光学部材の熱膨張による影響を受けにくい特徴がある。
図１４の光学部材（５２Ｂ）は、図１４の紙面の上下方向に対象な構造になっているため、光学部材（５２Ｂ）の温度が変化しても、光学部材５２Ｂの反りが生じにくく、光路のズレが生じにくい特徴がある。
図１５の光学部材（５２Ｃ）は、図１５の光学部材５２Ｂの階段部５２Ｂ１〜５２Ｂ７を独立した部材５２Ｃ１〜５２Ｃ７によって置き換えたものであり、光学部材５２Ｃの製造が容易に行える特長がある。
図１６の光学部材（５２Ｄ）は、図１３の各部（５２Ａ２〜５２Ａ７）の並べ方を変えたものであり、各部（５２Ａ２〜５２Ａ７）のうち、各使用頻度順に並べることによって、ホルダー５２ｂ１の作動が簡略化できる特徴がある。
なお、上記光学部材の他、図１６の光学部材５２Ｄの各部（５２Ａ２〜５２Ａ７）に相当する部分が一体的に構成されたものであってもよい。
【００２４】
そして、この厚みｔ１〜ｔ６は、レンズ系５１の倍率、焦点深度、必要とする光路長差、光学部材５２ａの材質によって異なるが、例えば、レンズ系５１の倍率が５倍、光学部材５２ａの材質の屈折率が１．５１６８、焦点深度が±２０μｍであって、必要とする光路長差が１５０μｍ〜３５０μｍの範囲で、この光路長差の補正を１μｍ単位で設定する場合、ｔ１からｔ６は、夫々７．３ｍｍ、９．４ｍｍ、１１．６ｍｍ、１３．７ｍｍ、１５．８ｍｍ、１８ｍｍになる。
なお、上記光路長差は以下の式によって求められるものである。
光路長差＝Ｔ×（Ｎ−１）／（Ｎ×Ｍ２）
但し、Ｔ：光学部材の厚さ、Ｎ：光学部材の屈折率、Ｍ：レンズ系倍率
【００２５】
即ち、前記レンズ系の焦点深度が±２０μｍである場合、一つの平面部で±２０μｍの光路長差までは撮像可能であるが、それ以上の光路長差の場合は次の厚みの階段部を撮像素子５０ａの光軸上に移動させて、その光路長の補正をするものである。
したがって、前記レンズ系の焦点位置を各光学部材の平面部の表面に一致させた状態にすると、各光学部材の平面部（前記ｔ１からｔ６）の光路長調整可能範囲は、夫々１１７〜１５７μｍ、１５７〜１９７μｍ、１９７〜２３７μｍ、２３７〜２７７μｍ、２７７〜３１７μｍ、３１７〜３５７μｍとなる。
【００２６】
そして撮像手段５は、上記の構成によって、後述のワークＷに形成された基板側アライメントマークＷＢと露光マスク３１に形成されたマスク側アライメントマーク３１ｄとを、それぞれ同一視野内に捕えて撮像できるものである。
即ち、図４のように、撮像手段５によりワークＷの基板側アライメントマークＷＢを撮像している状態（集光点Ｆがラインセンサ５０上に一致している状態）においては、撮像手段５のレンズ系５１からの光学的距離がワークＷの基板側アライメントマークＷＢよりも遠い露光マスク３１のマスク側アライメントマーク３１ｄから発した光イは、そのままでは、撮像素子５０ａの手前側に結像してしまうが、光路長補正手段５２の光学部材５２ａを通過することにより、光路長が長くなり、光イをラインセンサ５０上に集光させることができる。これにより、マスク側アライメントマーク３１ｄと基板側アライメントマークＷＢを同時にラインセンサ５０上に結像させることができる。
【００２７】
次に、上記のように構成された近接露光装置１の露光動作について、添付図面を用いて説明する。
ここで、使用されるワークＷは、図９のように、透明なガラス基板の一面にＣｒ等からなる不透明膜が形成され、その不透明膜上の露光領域内に複数のピクセルＷＰがマトリクス状に形成された面に紫外線硬化性のカラーレジスト（赤、青、緑）が塗布されている。
そして、非露光領域には、不透明膜が形成されていない基板側覗き窓ＷＷと、基板側覗き窓ＷＷ内に白色光及び紫外光を共に遮断する材質によって描かれた、基板側アライメントマークＷＢと、が設けられており、基板側アライメントマークＷＢは、図１０のように、所定のピクセルＷＰＫ１のエッジＳ４に一致するような位置に設けられている。
【００２８】
まず、初期準備としてワークＷのピクセルＷＰの像が撮像手段５に結像されるように、撮像手段５のレンズ系５１がセットされる。この場合、レンズ系５１の焦点深度の略中央位置で、ワークＷのピクセルＷＰの像がラインセンサ５０に結像される状態が好ましい。
次に、ワークＷ及び露光マスク３１の撮像手段５からの光学的距離（Ｌ１、Ｌ２）の差に基づいて、光学的距離の差を補正するに見合った、光学部材５２ａの厚み部（例えば、５２ａ３）を、光学部材駆動装５２ｂの駆動用モータ５２ｂ３を作動させることによって、ラインセンサ５０のマスク側アライメントマーク３１ｄの撮像を行なう所定の撮像素子５０ａの領域の光軸上に位置させる。
これによって、ワークＷの基板側アライメントマークＷＢと、露光マスク３１のマスク側アライメントマーク３１ｄとが、同時にラインセンサ５０に結像できる状態になる。
【００２９】
次に、前記ワーク搬送手段によって、ワークＷが、ワーク側覗き窓ＷＷを先にして矢印Ａの方向に連続的に搬送される。そして、ワークＷが撮像手段５の上方を通過する際に、撮像手段５によって、ワークＷの基板側アライメントマークＷＢ及びマスク側アライメントマーク３１ｄが撮像手段５によって同時に撮像される。
【００３０】
その後、前記同時に撮像されワークＷの基板側アライメントマークＷＢ及びマスク側アライメントマーク３１ｄの画像が図示しない画像処理部で同時に処理される。
このとき、ワークＷの基板側アライメントマークＷＢのエッジＳ５を、検出したラインセンサ５０の受光素子５０ａのセル番号と、露光マスク３１のマスク側アライメントマーク３１ｄのエッジＳ２を検出したラインセンサ５０の受光素子５０ａのセル番号とが読み取られ、その距離Ｌｘが演算される。そして、予め設定して記憶された所定の距離Ｌ０と比較される。
【００３１】
そして、露光マスク３１に対してワークＷがＹ軸方向にずれている場合（距離Ｌｘ≠Ｌ０±α（αは許容値））には、前記マスクホルダー駆動手段によって、距離ＬｘがＬ０又はＬ０±α（αは許容値）となるように露光マスク３１がＹ軸方向に移動される。これにより、露光マスク３１のマスク側アライメントマーク３１ｄとワークＷの基板側アライメントマークＷＢと、の距離Ｌｘが所定の許容範囲内で合致することとなる。
なお、所定の許容範囲内（距離Ｌｘ＝Ｌ０±α）である状態ということは、露光光によって各マスクパターン３１ｄが各ピクセルＷＰ上にズレなく転写される状態に位置決めされている状態でもある。
【００３２】
そして、前記距離Ｌｘが所定の許容範囲内で合う致した場合には、アライメントが確実に行なわれたと判断して露光光が露光マスク３１に照射される。これにより、露光マスク３１のマスクパターン３１ｄの像がワークＷのピクセルＷＰ上に転写される。なお、上記距離Ｌｘが所定の許容範囲内でない場合には、例えばワークＷが別種類のもの、又は前記ワークＷの不透明膜の形成不良品と判断し、この場合には露光が停止されて警報が出される。
【００３３】
その後は、ワークＷの連続搬送に伴って、予め設定されている基準ピクセルＷＰＫ２のエッジＳ３と、この基準ピクセルＷＰＫ２のＸ軸方向並びのピクセルＷＰの夫々のエッジ（ピクセルＷＰＫ２のエッジＳ３の延長線上のエッジ）を連続的に撮像するラインセンサ５０の撮像素子５０ａのセル番号が、初期時（前記ＬｘがＬ０±α以内にセティングされた状態）と異なる場合は、夫々の撮像素子５０ａのセル番号から、前記制御装置において、ワークＷのＹ軸方向の距離（ズレ量）が算出される。
【００３４】
そして、上記ズレ量に基づいて、前記制御装置からのマスクホルダー駆動手段に信号が送られて、マスクホルダー３０が、Ｙ軸方向に移動されて、ピクセルＷＰの夫々のエッジ（ピクセルＷＰＫ２のエッジＳ３のＸ軸方向の延長線上のエッジ）を撮像する撮像素子５０ａのセル番号が、常に初期時のセル番号になるように維持される。
これにより、ワークＷが矢印Ａで示す搬送方向と直交する方向に振れながら搬送されても露光マスク３１はそれに追従して動かされて、目標とする位置に露光マスク３１のマスクパターン３１ｃの像が精度よく転写されることになる。
【００３５】
なお、以上の実施の形態においては、ワークＷに基板側アライメントマークＷＢを形成した場合について説明したが、これに限られず、上記基板側アライメントマークＷＢはなくてもよい。この場合、前記Ｌｘの検出には、基板側アライメントマークＷＢのエッジＳ５の代わりに、基準ピクセルＷＰＫ１のエッジＳ４を撮像手段５で検出した結果を使用してもよい。
【００３６】
次に、図１１は、本発明の第２の実施の形態に係る近接露光装置１００示す概念図である。
なお、本実施の形態に係る近接露光装置１００と、近接露光装置１と同じ各構成機器については同じ番号を付している。
近接露光装置１００は、露光用光源ユニット２と、露光マスクユニット３と、露光対象基板を搬送するワーク搬送装置４と、撮像手段５と、照明光源６と、露光マスクユニット３と撮像手段５との間に設けられたハーフミラー６ｂと、これらを制御する制御装置（図示せず）と、を備えている。
【００３７】
近接露光装置１００における、撮像手段５は、露光マスクユニット３の上方に、配設されており、その光軸が露光光の光軸と直交する方向になっている。
その他の構成については、近接露光装置１と、近接露光装置１００とは同じである。
そこで以下、上記相違点について主に説明をする。なお、近接露光装置１００の露光対象基板は、前記ワークＷと同じものである場合について述べる。
【００３８】
ハーフミラー６ｂは、反射面を、撮像手段５の光軸に対して略４５度の角度をもって、図１１の紙面の下側に向けて配設されている。
そして、ハーフミラー６ｂは、照明用光源６からの白色光を透過させて、その白色光を露光マスク３１に照射すると共に、露光マスク３１のマスク側覗き窓３１ｅを経て、ワークＷ上に照射すると共に、ワークＷから反射された白色光を撮像手段５に向けるものである。
【００３９】
また、撮像手段５には、マスク側アライメントマーク３１ｄと、基板側アライメントイマークＷＢとが、同時に結像されるように、光路長補正手段５２が、図１２に示すように、基板側アライメントイマークＷＢと撮像手段５との光路上に配置されている。（本実施の形態では、露光マスク３１よりワークＷの方が、撮像手段５からの光学的距離が長いためである。）
なお、図１２は光路長補正手段５２とワークＷと露光マスク３１の光学的位置関係を表すもので、前記ハーフミラー６ｂについては、省略している。
【００４０】
近接露光装置１００における、光路長補正手段５２の光学部材５２ａの各厚み部分（５２ａ２〜５２ａ７）の選択及び露光動作は、前述の近接露光装置１と同様に行われる。
また、近接露光装置１００の露光動作は、初期準備として露光マスク３１のマスク側アライメントマーク３１ｄが撮像手段５に結像されるように、撮像手段５のレンズ系５１がセットされる。この場合、レンズ系５１の焦点深度の略中央位置で、マスク側アライメントマーク３１ｄが撮像手段５に結像される状態が好ましい。
【００４１】
次に、ワークＷと露光マスク３１の夫々の撮像手段５からの光学的距離（Ｌ１、Ｌ２）の差に基づいて、光学的距離の差を補正するに見合った、光学部材５２ａの厚み部（例えば、５２ａ３）を、光学部材駆動装５２ｂの駆動用モータ５２ｂ３を作動させることによって、ラインセンサ５０の基板側アライメントマークＷＢの撮像を行なう所定の撮像素子５０ａの領域の光軸上に位置させる。
これによって、ワークＷの基板側アライメントマークＷＢと、露光マスク３１のマスク側アライメントマーク３１ｄとが、同時にラインセンサ５０に結像できる状態になる。
その後の露光動作は近接露光装置１と同じであるため、説明を省略する。
【００４２】
以上の説明においては、ワークＷが露光動作中に所定方向（矢印Ａ）に連続的に搬送される場合について述べたが、これに限られず、搬送手段４をステップ送りにして、ワークＷに所定の露光パターン３１ｃをステップ露光するものであってもよい。
【００４３】
そして、以上の説明においては、ワークＷがカラーフィルタ基板である場合について述べたが、これに限られず、所定の露光パターンを形成するものであれば半導体基板等如何なるものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明による近接露光装置の第１の実施形態の概略構成を示す正面図である。
【図２】上記露光装置において使用されるマスクホルダーの一構成例を示す概略斜視図である。
【図３】上記露光装置において使用される露光マスクを説明するための概略図であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は斜視図である。
【図４】上記露光装置において使用される撮像手段を説明するための概念図である。
【図５】上記露光装置において使用される光学距離補正の原理を示す説明図である。
【図６】上記露光装置において使用される光学部材の動きを説明するための説明図である。
【図７】上記露光装置において使用される光学距離補正手段の概念図である。
【図８】上記露光装置において使用される光学距離補正手段の光学部材を説明する説明図である。
【図９】上記露光装置において供給されるワークを説明するための説明図である。
【図１０】上記露光装置におけるワークと露光マスク、撮像手段の関係を説明するための概念図である。
【図１１】本発明による近接露光装置の第２の実施形態の概略構成を示す正面図である。
【図１２】第２の実施形態の露光装置において使用される光学距離補正の原理を示す説明図である。
【図１３】本発明による近接露光装置に使用される光学部材のその他の例を説明するための概念図である。
【図１４】本発明による近接露光装置に使用される光学部材のその他の例を説明するための概念図である。
【図１５】本発明による近接露光装置に使用される光学部材のその他の例を説明するための概念図である。
【図１６】本発明による近接露光装置に使用される光学部材のその他の例を説明するための概念図である。
【符号の説明】
【００４５】
１：第１の実施形態の近接露光装置
２：露光用光源ユニット
２ａ：露光用光源
２ｂ：光学系
３：露光マスクユニット
４：ワーク搬送装置
５：撮像手段
６：照明ユニット
６ａ：照明用光源
７：偏向ミラー
３０：マスクホルダー
３１：露光マスク
３１ｄ：マスク側アライメントマーク
３１ｅ：マスク側覗き窓
４０：ステージ
５０：ラインセンサ
５０ａ：受光素子
５１：レンズ系
５２：光路長補正手段
５２ａ、５２Ａ、５２Ｂ、５２Ｃ、５２Ｄ、５２Ｅ：光学部材
Ｗ：ワーク
ＷＢ：基板側アライメントマーク
ＷＰ：ピクセル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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