(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にコーティングを形成する方法であって、液体または固液混合物からなるコーティング形成材料を超音波ノズルで霧化することと、前記霧化されたコーティング形成材料を大気圧プラズマグロー放電および／またはそれから発生するイオン化ガス流中に導入することと、前記基板を前記霧化されたコーティング形成材料へさらすこととを含む方法。
【請求項２】
前記コーティング形成材料は、直接注入によって導入される請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記コーティング形成材料は、ケイ素含有材料である請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記コーティング形成材料は、ジメチルシロキサン、およびケイ素−水素結合を有するシロキサンから選択される請求項３に記載の方法。
【請求項５】
前記プラズマは、酸素含有雰囲気中で発生される請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記コーティング形成材料は、有機材料または金属アルコキシドである請求項１または２に記載の方法。
【請求項７】
前記コーティング形成材料は、アクリル酸およびペルフルオロアルケンから選択される請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記基板は、金属、セラミック、プラスチック、織または不織繊維、天然繊維、合成繊維、セルロース系材料、および粉末を含む請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記コーティングは、基板の接着、剥離、ガスバリヤ、水分バリヤ、電気および熱伝導性、光学、誘電、親水性、疎水性、および／または疎油性特性を増大させる請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法に従って多層コーティングを有する基板を製造する方法であって、前記基板を大気圧プラズマグロー放電に繰り返し通過させるか、または前記基板を一連の大気圧グロー放電チャンバに通過させることによって、前記コーティングが施される方法。
【請求項１１】
ポリマー形成材料を重合させる方法であって、液体または固液混合物からなるポリマー形成材料を超音波ノズルで噴化することと、霧化されたポリマー形成材料を大気圧プラズマグロー放電へさらすこととを含む方法。
【請求項１２】
前記コーティング形成材料の化学特性は、結果として形成されるコーティングにおいて実質的に保持される請求項１〜４、６および７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記基板は、リールまたはリール式装置によって連続的にコーティングされる請求項１〜１０および１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記基板は、前記コーティング形成材料の導入の前にプラズマ暴露によって前処理される請求項１〜１０、１２および１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記基板上に形成された前記コーティングは、プラズマへの暴露によって後処理される請求項１〜１０および１２〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記プラズマは、大気圧グロー放電によって印加される請求項１４または１５に記載の方法。
【請求項１７】
酸素含有材料がプラズマへ添加される請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記酸素含有材料は、酸素ガスおよび水の群から選択される請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
基板上にコーティングを形成するための装置であって、使用時に前記基板がその内部に配置される、大気圧プラズマグロー放電を発生させるための手段と、プラズマ放電内に霧化されたコーティング形成材料を提供するための噴霧器と、コーティング形成材料を該噴霧器へ供給するための手段とを含み、前記噴霧器は、超音波ノズルである装置。
【請求項２０】
前記基板は、前記基板の連続コーティングを可能にするために、リールまたはリール式装置へ固定される請求項１９に記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】  本発明は基板上にコーティングを形成する方法に関し、特に、大気圧プラズマ放電を用いて基板上にコーティングを形成する方法、ポリマー形成材料を重合させる方法、さらに、基板上にコーティングを形成するための装置に関する。
【０００２】  例えば、基板を腐食から保護するため、酸化に対するバリヤを提供するため、他の材料との接着性を改良するため、表面活性を増大させるため、および基板の生物医学的適合性のために種々の理由のために基板をコーティングすることができる。基板表面を修飾またはコーティングするために一般的に使用される方法は、基板を反応容器内に置いて、プラズマ放電を施すことである。このような処理の多くの例が当該技術で知られており、例えば、米国特許第５，８７６，７５３号は固体表面へ標的材料を付着させるためのプロセスを開示し、このプロセスは、低出力可変デューティサイクルパルスプラズマ蒸着によって表面に炭素系化合物を付加することを含む。また、欧州公開第０８９６０３５号は基板およびコーティングを有する装置を開示し、少なくとも１つの有機化合物またはモノマーを含む気体のプラズマ重合によって基板にコーティングが施される。本出願の最初の優先日後に始めて公開された強国特許第１９９２４１０８号は、基板上に染料および腐食防止剤をコーティングするためのプロセスを記載する。プロセスには、基板上に液体薄膜コーティングを施し、続いてプラズマポリマー保護コーティングを施すことが包含される。プラズマポリマーコーティングは、気体モノマーおよび低圧プラズマを用いて形成される。
【０００３】  しかしながら、このようなプラズマ表面処理では基板を減圧条件下に置くことが必要とされ、したがって、真空チャンバが必要とされる。通常のコーティング形成ガス圧は、５Ｎｍ-2〜２５Ｎｍ-2（１気圧＝１．０１×１０5Ｎｍ-2を参照）の範囲である。減圧を必要とする結果として、表面処理は高価であると共にバッチ処理に限定され、コーティング形成材料は、減圧条件を保持するために気体または蒸気の形態でなければならない。
【０００４】
本発明者らは、大気圧プラズマ放電と、霧化された液体または霧化された固液混合物からなるコーティング形成材料との組み合わせを用いて、基板表面プラズマ処理の上述の不利な状態を克服することができることを発見した。
【０００５】
従って、本発明によると、基板上にコーティングを形成する方法が提供され、上記方法は、液体または固液混合物からなるコーティング形成材料を超音波ノズルで霧化することと、上記霧化されたコーティング形成材料を大気圧プラズマグロー放電および／またはそれから発生するイオン化ガス流中に導入することと、上記基板を上記霧化されたコーティング形成材料へさらすこととを含む。
【０００６】  本発明によるコーティング形成材料は、例えば、薄膜を成長させるため、または現存の表面を化学的に修飾するために使用することができる材料を含む、任意の適切なコーティングを作製するために使用することができる材料であると理解されるべきである。
【０００７】
また本発明はポリマー形成材料を重合させる方法も提供し、上記方法は、液体または固液混合物からなるポリマー形成材料を超音波ノズルで噴化することと、上記霧化されたポリマー形成材料を大気圧プラズマグロー放電へさらすこととを含む。
【０００８】
本発明は、基板上にコーティングを形成するための装置をさらに提供し、上記装置は、使用時に上記基板がその内部に配置される、大気圧プラズマ放電を発生させるための手段と、プラズマ放電内に霧化されたコーティング形成材料を提供するための噴霧器と、上記噴霧器へコーティング形成材料を供給するための手段とを含み、上記噴霧器が超音波ノズルである。
【０００９】  大気圧プラズマグロー放電を発生させるための従来のどの手段も本発明において使用でき、例えば、大気圧プラズマジェット、大気圧マイクロ波グロー放電および大気圧グロー放電などが挙げられる。通常は、このような手段は、ペニングイオン化メカニズムにより大気圧で均一なグロー放電を発生させるために、ヘリウム希釈剤および高周波数（例えば、＞１ｋＨｚ）電源を使用することができる（例えば、Kanazawaら, J. Phys. D: Appl. Phys. 1988, 21, 838、Okazakiら, Proc. Jpn. Symp. Plasma Chem. 1989, 2, 95、Kanazawaら, Nuclear Instruments and Methods in Physical Research 1989, B37/38, 842、およびYokoyamaら, J. Phys. D: Appl. Phys. 1990, 23, 374を参照）。
【００１０】  コーティング形成材料は、例えば、超音波ノズルなどの従来のどの手段を用いて噴霧されてもよい。噴霧器は、１０〜１００μｍの大きさのコーティング形成材料滴を生成するのが好ましく、更に好ましくは１０〜５０μｍである。本発明で使用するのに適切な噴霧器は、Sono‐Tek Corporation, Milton, New York, USAからの超音波ノズルである。本発明の装置は、例えば、装置が２つの異なるコーティング形成材料から基板上にコポリマーコーティングを形成するのに使用される場合や、モノマーが非混和性であるかまたは異なる相に存在する、例えば、第１の相が固体で第２の相が気体または液体である場合に、特に役に立つ複数の噴霧器を含むことができる。
【００１１】
本発明は、多くの異なるタイプの基板コーティングを形成するために使用することができる。基板上に形成されるコーティングのタイプは、使用されるコーティング形成材料（単数または複数）によって決定され、本発明の方法は、基板表面上にコーティング形成モノマー材料（単数または複数）を重合（共重合）させるために使用されてもよい。コーティング形成材料は、有機もしくは無機の、液体または液体と固体との混合物であり得る。適切な有機コーティング形成材料としては、カルボン酸エステル、メタクリル酸エステル、アクリル酸エステル、スチレン、メタクリロニトリル、アルケンおよびジエン、例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、ならびに、他のメタクリル酸アルキルおよび対応するアクリル酸エステル、（有機官能性メタクリル酸エステルおよびアクリル酸エステルを含む（メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸トリメトキシシリルプロピル、メタクリル酸アリル、メタクリル酸ヒドロキシエチル、メタクリル酸ヒドロキシプロピル、メタクリル酸ジアルキルアミノアルキル、およびメタ（アクリル）酸フルオロアルキルを含む））メタクリル酸、アクリル酸、フマル酸およびエステル、イタコン酸（およびエステル）、無水マレイン酸、スチレン、α−メチルスチレン、ハロゲン化アルケン、例えば、塩化ビニルおよびフッ化ビニルなどのハロゲン化ビニル、およびフッ素化アルケン、例えばペルフルオロアルケン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エチレン、プロピレン、アリルアミン、ハロゲン化ビニリデン、ブタジエン、Ｎ−イソプロピルアクリルアミドなどのアクリルアミド、メタクリルアミド、エポキシ化合物、例えば、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、グリシドール、スチレンオキシド、ブタジエンモノオキシド、エチレングリコール、ジグリシジルエーテル、メタクリル酸グリシジル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（およびそのオリゴマ−）、ビニルシクロヘキセンオキシド、ピロールおよびチオフェンならびにそれらの誘導体などの電導性ポリマー、ならびに例えばジメチルアリルホスホネートなどのリン含有化合物が挙げられる。適切な無機コーティング形成材料としては、コロイド金属を含む金属および金属酸化物が挙げられる。また、有機金属化合物も適切なコーティング形成材料であり、チタン酸塩、スズアルコキシド、ジルコン酸塩、ならびにゲルマニウムおよびエルビウムのアルコキシドなどの金属アルコキシドが含まれる。しかしながら、本発明者らは、ケイ素含有材料を含むコーティング形成組成物を用いて基板にシリカベースまたはシロキサンベースのコーティングを提供する際に、本発明が特に役に立つことを発見した。本発明の方法で使用するのに適切なケイ素含有材料としては、シラン類（例えば、シラン、アルキルハロシラン、アルコキシシラン）、ならびに直鎖（例えば、ポリジメチルシロキサン）および環状シロキサン（例えば、オクタメチルシクロテトラシロキサン）（有機官能性直鎖ならびに環状シロキサン（例えば、Ｓｉ−Ｈ含有、ハロ官能性、およびハロアルキル官能性の直鎖および環状シロキサン、例えばテトラメチルシクロテトラシロキサンおよび���リ（モノフルオロブチル）トリメチルシクロトリシロキサン）を含む）が挙げられる。例えば、特定の必要性に対して基板コーティングの物理特性を適合させるために、異なるケイ素含有材料の混合物を使用してもよい（例えば、熱特性、屈折率などの光学特性、および粘弾性特性）。
【００１２】
更に、酸化条件下では、本発明の方法を使用して、基板上に酸素含有コーティングを形成することができる。例えば、霧化されたケイ素含有コーティング形成材料から、基板表面にシリカベースのコーティングを形成することができる。還元条件下では、本発明を使用して酸素を含まないコーティングを形成でき、例えば、霧化されたケイ素含有コーティング形成材料から、炭化ケイ素ベースのコーティングを形成することができる。
【００１３】  また、例えば、希ガス、空気、水素、窒素およびアンモニアなどの酸素以外の気体を含有するプラズマ発生条件を用いることもできる。窒素含有雰囲気中では窒素が基板表面に結合でき、窒素および酸素含有雰囲気中ではナイトレートが基板表面上に結合および／または形成することができる。このような気体は、コーティング形成物質へさらす前に基板表面を前処理するためにも使用することができる。例えば、基板の酸素含有プラズマ処理は、施されたコーティングとの接着の改良を提供することができる。酸素含有プラズマは、酸素含有材料を酸素ガスまたは水などのプラズマへ導入することによって発生されている。更に、基板上に形成されたコーティングは、種々のプラズマ条件で後処理されてもよい。例えば、シロキサン由来のコーティングは、さらに、酸素含有プラズマ処理によって酸化されてもよい。酸素含有プラズマは、酸素含有材料を酸素ガスまたは水などのプラズマへ導入することによって発生されている。
【００１４】
従来技術を越える本発明の利点は、本発明の方法が大気圧条件下で行われるために、液体と固体の両方の霧化されたコーティング形成材料を使用して、基板コーティングを形成することができることである。さらには、コーティング形成材料は、キャリアガスの非存在下で、プラズマ放電または結果として発生する流れの中に導入することができる、すなわち、例えば直接注入によって直接導入することができ、それによって、コーティング形成材料はプラズマ中に直接注入される。
【００１５】
上述のように、本発明者らは、ケイ素含有材料を用いて基板上にシリカベースおよびシロキサンベースのコーティングを形成するために本発明が特に役に立つことを発見した。例えば酸素含有雰囲気などの酸化条件下では、霧化されたケイ素含有材料から基板表面にシリカベースのコーティングを形成することができるが、非酸化条件下では、ケイ素含有モノマーの噴霧から基板表面に例えば直鎖、分枝または樹脂状シロキサンポリマーなどのシロキサンポリマーを形成することができる。有機およびケイ素含有モノマーの混合物の使用によって、基板表面にシロキサン−有機コポリマーを形成することができる。さらに、シリカベースのコーティングを基板表面に形成し、次にこれを、例えば有機またはシロキサンポリマーなどの更なる材料によってコーティングしてもよい。例えば、シロキサンが有機ポリマーと混合され、該混合物から基板が形成される場合、有機ポリマーとシロキサンの間の表面エネルギーの相違のために、シロキサンは基板の有機ポリマー本体表面へ移動することができる。次にこの基板に大気圧プラズマ処理が施されると、基板表面のシロキサンは酸化されて、シリカベースのコーティングを形成する。このシリカベースのコーティングには、次に、霧化されたケイ素含有モノマーの存在下で大気圧プラズマ処理を更に施すことによって本発明に従う処理が行われ、シロキサンコーティングがその上に形成される。しかしながら、本発明は、例えば、ポリアクリル酸またはペルフルオロ有機コーティングなどの有機コーティングを基板上に形成するためにも有用である。
【００１６】  コーティングされる基板は、例えば金属、セラミック、プラスチック、シロキサン、織または不織繊維、天然繊維、合成繊維、セルロース系材料および粉末などの任意の材料を含むことができる。しかしながら、基板のサイズは、大気圧プラズマ放電が発生される容積の寸法、すなわちプラズマ発生手段の電極間の距離によって制限される。典型的なプラズマ発生装置では、プラズマは、５ｍｍから５０ｍｍ、例えば１２ｍｍから２５ｍｍの間隙内で発生される。したがって、本発明は、薄膜、繊維および粉末をコーティングするために、特に役に立つ。
【００１７】  本発明の方法によってコーティングされる基板は種々の効用を有することができる。例えば、酸化雰囲気中で発生されるシリカベースのコーティングは、基板のバリヤおよび／または拡散特性を強化でき、基板表面へ更なる材料が接着する能力を高めることができる。ハロ官能性有機またはシロキサンコーティング（例えば、ペルフルオロアルケン）は、基板の疎水性、疎油性、燃料および土壌耐性、および／または剥離特性を増大することができる。ポリジメチルシロキサンコーティングは基板の耐水性および剥離特性を強化でき、繊維の手触りの柔らかさを高めることができる。ポリアクリル酸重合体コーティングは、基板表面への接着を促進するための接着層としてまたは積層構造の一部として使用することができる。コーティングにコロイド金属種を含有させると、基板へ表面伝導性が提供されるか、あるいはその光学特性が高められる。ポリチオフェンおよびポリピロールは、金属基板に耐腐食性も提供することができる導電性高分子コーティングを与える。
【００１８】  プラズマ処理を含むプロセスを用いて基板をコーティングする場合に発生しやすい１つの主要な問題は、コーティングの形成に使用される材料の化学特性が損失されるかもしれないことである。したがって、本発明の主要な利点は、コーティング形成材料の化学特性が、形成されたコーティングにおいて実質的に保持されることである。例えば、コーティング形成材料としてアクリル酸が使用される場合、カルボン酸の官能性は、形成されたコーティングにおいて実質的に保持される。
【００１９】  また本発明は、上記のプロセスによって多層コーティングを有する基板を製造する方法を提供する。この場合、基板に大気圧プラズマグロー放電を繰返し通過させるたびにコーティング層が施される。好ましくは、このような場合、基板は、オープンリール式プロセスとして大気圧プラズマグロー放電を通って輸送されることによって連続的にコーティングでき、ここで、基板全体がグロー放電内で所定の滞留時間を有することを保証するために、基板は一定の速度で第１のリールからグロー放電を通過して第２のリール上へ移動する。各基板はグロー放電を１回または複数回通過されることができ、これにより、第１の通過の第１の、即ち供給リールは第２の通過では基板回収リールになり、第１の通過の基板回収リールは次に第２の通過では供給リールであり、２つのリールは各通過の最後に交換される。あるいは、基板は一連の大気圧グロー放電チャンバを通過させられてもよい。
【００２０】  本発明に従ってコーティングされた基板のコーティングの好ましい用途には、積層体の接着剤、例えば食品パッケージング用途のための酸素および／または水分のバリヤ、ならびに例えばフラットパネルディスプレイなどにおける有機発光ダイオードデバイスの中または上の構成要素としての用途が含まれる。
【００２１】  本発明をここに、添付図面を参照して詳細に説明する。
【００２２】  図１に示される本発明に従う装置は大気圧プラズマ放電を発生させるための手段（概略的に１０で示される）および噴霧器（概略的に１２で示される）を備えており、噴霧器１２は、コーティング形成材料を噴霧器１２へ供給するためのシリンジポンプ１４へ接続される。放電を発生させるための手段１０には、１２ｍｍ離間された２つのアルミニウム電極２２および２４にわたって供給される高電圧１５ｋＨｚのａｃ電源２０が含まれ、下部ライブ電極（live electrode）２２は、ガラス誘電プレート２６によって遮断される。噴霧器１２はＳｏｎｏ−ｔｅｋ*８７００−１２０超音波ノズル３０を有し、Ｓｏｎｏ−ｔｅｋ*０６−０５１０８広帯域超音波発生器３２へ接続される。噴霧器１２はＯリング３４上でアース電極２４内に固定される。コーティングされる基板４０は、電極２２および２４間のガラス誘電プレート２６上に配置される。
【００２３】  図１を参照して上文で説明した装置を、下記の全ての手順のために使用した。
（*Sono-tek Corporation, Milton, New York 12547, USA）
【００２４】実施例１
イソプロピルアルコールおよびシクロヘキサンの１：１混合物中で一片のポリエチレン薄膜基板を超音波洗浄し、ガラスプレート上に配置した。残留ガスを排気した後、流速１９００ｓｃｃｍおよび圧力１．０２×１０5Ｎｍ-2でプラズマ放電ガスを導入した。ヘリウムおよび９９％ヘリウム／１％酸素混合物の２種の放電ガスを使用した。１０分間パージした後、シリンジポンプ１４のスイッチを入れ、コーティング形成材料を３×１０-5ｍｌｓ-1の速度で流動させた。オクタメチルシクロテトラシロキサン（以下、「Ｄ4」と称する）およびテトラメチルシクロテトラシロキサン（以下、「Ｄ4Ｈ」と称する）の２種のコーティング形成材料を使用した。コーティング形成材料が超音波ノズルへ到達したら、コーティング形成材料の噴霧を開始するために超音波発生器のスイッチを入れ（２．５Ｗ）、電極に１．５ｋＶを印加することによって、大気圧プラズマ放電を引き起こした。コーティング形成材料の蒸着を１０分間続行させた後、基板を取り出し、減圧下に２０分間配置して不安定材料を除去した。
【００２５】  上記手順の結果は以下の表１に示される。ｘ線光電子分光分析（Ｋｒａｔｏｓ ＥＳ３００）を用いて基板表面の元素分析を実行し、分光光度計（Aquila Instrumentsのnkd-6000）を用いて膜厚を決定した。脱イオン水の定着性２μｌの液滴を使用し、ビデオキャプチャ装置（AST Products のＶＣＡ２５００ＸＥ）を用いて接触角測定を行った。
【００２６】  また、質量分析計を用いて、基板表面の気体透過度測定も行った。結果は表２に示される。バリヤの改良因子は、［コーティングされた基板の気体透過］／［リファレンスサンプルの気体透過］として計算される。
【００２７】
【表１】
0005349726.tif 000002
【００２８】
【表２】
0005349726.tif 000003
【００２９】  基板表面のＡＴＲ−ＦＴＩＲ研究は、Ｄ4およびＤ4Ｈコーティング形成材料の開環重合が発生して、基板表面にポリシロキサンが形成されたことを示した。特に、後者に関するＡＴＲ−ＦＴＩＲ研究によって、ポリシロキサンコーティングは、Ｄ4ＨのＳｉ−Ｈ官能性の多くを保持することが示された。
【００３０】  上記のようにガラス表面に調製したコーティングのＮＭＲ研究によって、Ｄ4およびＤ4Ｈコーティング形成材料の重合で基板表面に形成されたポリシロキサンは、二価の（ＣＨ3）2ＳｉＯ2/2単位および三価のＣＨ3ＳｉＯ3/2単位を含む、すなわちポリシロキサンは樹脂状であることが示された。
【００３１】実施例２
ガラス基板、コーティング形成材料としてアクリル酸、および放電ガスとしてヘリウムだけを使用して、上記実施例１の方法を繰り返した。分析の前に基板からコーティングを取り外した。
【００３２】  コーティングのＦＴＩＲおよび固体ＮＭＲ分析では、アクリル酸が重合してポリアクリル酸が形成されたことを確認した。ＦＴＩＲおよびＮＭＲデータはいずれも、不飽和Ｃ＝Ｃ結合の消費を示した。
【００３３】実施例３
ナイロンおよびポリエチレン基板を用いて、実施例２の方法を繰り返した。
【００３４】  市販のポリアクリル酸でのコーティングのＦＴＩＲ分析の比較によって、アクリル酸コーティング形成材料が重合して、基板表面にポリアクリル酸コーティングが形成されたことを確認した。
【００３５】  上記の実施例１によってｘ線光電子分光分析、膜厚分析、および接触角測定を実施した。結果を以下の表３に示す。
【００３６】
【表３】
0005349726.tif 000004
【００３７】  質量分析によって、コーティングされたポリエチレン薄膜を通る気体輸送を決定した。上記実施例１により計算されるバリヤ改良因子は、未処理のポリエチレン基板および市販のポリアクリル酸よりも大きかった。結果を以下の表４に示す。
【００３８】
【表４】
0005349726.tif 000005
【００３９】  コーティングされたナイロン基板において次にようにラップせん断試験（lap shear test）を実施した。コーティングされたナイロン基板の２つの対向面を重ね合わせて、１ｃｍ2を被覆するジョイントを形成し、７０℃で６０分間、２ｋｇの重量下で基板を硬化させた。次に、張力計（tensilometer）（Instron）を用いて５ｍｍ／分の速度で基板を引き離し、破壊する前に達した最大負荷を記録することによって、各ジョイントの接着強度を決定した。コーティングされた基板は、破壊の前に、７４±１１Ｎｃｍ-2の最大負荷に耐えた。コーティングされていないナイロンから製造した比較ジョイントは接着特性を全く示さなかった。
【００４０】実施例４
ガラス基板、およびコーティング形成材料として１Ｈ、１Ｈ、２Ｈ−ペルフルオロ−１−オクテン（ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ＝ＣＨ2）を用いて、実施例２の方法を繰り返した。
【００４１】  上記の実施例１によってｘ線光電子分光分析、ＦＴＩＲ分析および接触角測定（水およびデカンを用いて）を実施した。結果を以下の表５に示す。ＸＰＳおよびＦＴＩＲ分析により、ガラス基板コーティングはＣＦ2およびＣＦ3が豊富であることが示された。水およびデカンに対する接触角は実施例１によって決定した。
【００４２】
【表５】
0005349726.tif 000006
【００４３】  接触角の測定結果では、ガラス基板はコーティングによって実質的に疎水性および疎油性にされたことが示された。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明における装置の実施形態を説明するための図である。
【図１】
0005349726.tif 000007