(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
天板を含む移動部材と、
前記移動部材の移動を案内するためのガイドと、
前記移動部材及びガイドのいずれか一方に設けられ、前記移動部材と前記ガイドとの間に第１の加圧気体を噴出して前記移動部材を非接触に支持する力を発生させる第１の気体噴出部と、
前記移動部材及びガイドの他方に設けられ、前記移動部材と前記ガイドとの間に第２の加圧気体を噴出して前記移動部材の傾きを調整する力を発生させる第２の気体噴出部と、
前記移動部材に設けられ、前記ガイドに対向する予圧用永久磁石と、を備えることを特徴とする移動装置。
【請求項２】
前記移動部材には、高さが異なる２つの面が形成され、
前記第１の気体噴出部は前記２つの面のうちいずれか一方の面において力を発生させ、前記第２の気体噴出部は前記他方の面において力を発生させることを特徴とする請求項１に記載の移動装置。
【請求項３】
前記ガイドは、移動方向に沿って延設された凹部を含み、
前記移動部材は、前記移動方向に沿って延設され、前記凹部に係合する凸部を含み、
前記第１の気体噴出部は、前記凸部を形成する２つの面のうちいずれか一方の面において力を発生させ、前記第２の気体噴出部は前記他方の面において力を発生させることを特徴とする請求項１に記載の移動装置。
【請求項４】
前記移動部材は、移動方向に沿って延設された凹部を含み、
前記ガイドは、前記移動方向に沿って延設され、前記凹部に係合する凸部を含み、
前記第１の気体噴出部は、前記凹部を形成する２つの面のうちいずれか一方の面において力を発生させ、前記第２の気体噴出部は前記他方の面において力を発生させることを特徴とする請求項１に記載の移動装置。
【請求項５】
前記第１の気体噴出部は、前記凸部の凸面において力を発生させ、
前記凹部の側面に、前記第１の気体噴出部から噴出された気体を排出する排出口が設けられていることを特徴とする請求項３または４に記載の移動装置。
【請求項６】
前記第２の気体噴出部は複数の気体噴出口を含み、前記天板の位置に応じて気体を噴出する気体噴出口が選択されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載の移動装置。
【請求項７】
前記第２の気体噴出部は、複数の気体噴出口と、前記天板の傾き情報に基づいて前記複数の気体噴出口から噴出される気体の噴出量を調整する調整手段を含むことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の移動装置。
【請求項８】
前記第２の気体噴出部は、前記第２の気体噴出部から噴出される気体の方向を調整する方向調整手段を有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の移動装置。
【請求項９】
基板にパターンを露光する露光装置であって、
請求項１乃至８のいずれか１項に記載の移動装置を用いて前記基板を位置決めすることを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
デバイスを製造するデバイス製造方法であって、
請求項９に記載される露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光された基板を現像する工程と、を備えることを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加圧気体を噴出して移動部材を非接触に支持する気体噴出部を備える移動装置、露光装置およびデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＩＣ、ＬＳＩ、液晶ディスプレイなどの製造工程において、原版であるマスクのパターンを基板であるシリコンウエハ又はガラスプレートに転写する工程に露光装置を用いている。
この露光装置は、光源からの照明光を均一化する照明光学系、原版のパターンを基板に転写する投影光学系又は反射光学系又はその複合光学系、原版、基板を搬送・位置決めを行う搬送系であるステージと、を有する。
さらに、露光装置は、様々な原版をマスクストッカーからマスクステージへ搬送し、マスク交換を行う搬送系など、様々なユニットと、それら全てを覆い、露光装置内の雰囲気を調整・管理している筐体であるサーマルチャンバと、を有する。
近年では、基板サイズの大型化、ツインステージ等の搬送機構の複数化により、露光装置の大型化が進んでいる。
特に、液晶などの薄型ディスプレイの分野において、基板サイズが大型化し、液晶露光装置は大型化の一途を辿っている。
また、ディスプレイサイズの大型化により、原版のサイズ、原版のパターンを転写する光学系の大型化、基板搬送のステージの大型化も進んでいる。
露光装置の大型化が進む一方、露光装置の性能である解像力、重ね合わせ精度、スループットの向上が求められている。
露光装置の性能に大きく関わるステージも同様であり、ステージの大型化が進む中、ステージの軽量化と精度向上が求められている。
従来、ステージは、リニアモータによる駆動手段と、加圧気体による軸受け手段とを有し、ステージ可動子に加圧気体を噴出する手段を有し、上記駆動手段、軸受け手段および加圧気体を噴出する手段により、ステージの位置・姿勢を制御している。
【０００３】
国際公開公報ＷＯ００／０３６７３４（特許文献１）で提案された平面モータ装置は、ガイドが形成されたステージ固定子と、複数の永久磁石および複数の加圧空気を噴出するエアパッドを有するステージ可動子を備える。
さらに、複数のエアパッドからガイドへ噴出される加圧空気の静圧により、ステージ可動子を、ステージ固定子のガイドに対して浮上して非接触で支持する。
また、加圧空気の噴き出し流量を調整するための流量調整手段が設けられ、上記複数の永久磁石、エアパッド、流量調整手段により、ステージ可動子の位置・姿勢制御を向上させている。
【特許文献１】国際公開公報ＷＯ００／０３６７３４
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ステージ軽量化の技術も進んでいるが、ステージの大型化によるステージの重量の増加は避けられず、このステージの重量増加に伴い、ステージを静圧軸受け支持するための加圧空気の流量も増大する。
しかしながら、特許文献１の従来例では、ステージ大型化・重量増加に伴う加圧空気流量の増大に対して、以下の点で課題が生じる。
従来、加圧空気を安定的に供給し、調整を行うために空圧機器が用いられ、空圧機器の多くを露光装置外もしくはステージ空間外に配置されることが多い。
その場合、ステージ可動子に加圧空気噴出口であるエアパッドが配置されているため、空圧機器からエアパッドまでは、チューブ、配管等による複雑な引回しの実装を行う。
そのため、ステージの大型化により、実装長さも相当な長さになり、チューブ・配管等による圧力損失も増大する。
ステージの大型化、装置の大型化がされると、重量増大による加圧空気流量の増大だけでなく、圧力損失を補填するための加圧・流量増大も必要となり、加圧空気の消費としては、非効率的なステージの構成となる。
【０００５】
また、ステージ可動子に静圧軸受けとしてのエアパッドを配置すると、ステージ大型化・重量増加に伴い、加圧空気流量が増大するため、エアパッドの個数が増える。
それにより、エアパッドによる重量の増大と、平面的にエアパッドを配置することによるスペースが増大する。
エアパッドの個数が増えることで、それ自体の重量増大だけでなく、それに付加するチューブ・配管等の個数増加、あるいはステージ可動子に配置される空圧機器等の個数増加により、重量・スペースが増大する。
スペースの増大はステージ重量を増大し、スペースの増大は装置を大型化し、圧力損失の増大にも寄与する。
このように、ステージの大型化により、直接的な要因による重量の増大だけでなく、間接的な要因による重量の増大が発生する。
ステージ重量の増大は、ステージの位置制御あるいは姿勢制御を困難にする。
また、ステージ可動子にエアベアリングによる非接触支持の加圧気体噴き出しを設けるため、ステージの姿勢調整・制御を行う場合、エアベアリングによる非接触支持のための加圧空気と、姿勢調整・制御のための加圧空気とが分離されてない。
このため、調整・制御がシステム的に容易でなく、姿勢調整・制御の精度を向上させることは困難であった。
そこで、本発明は、姿勢調整のための加圧気体の制御を容易にし、制御の精度を向上させた移動装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を達成するための本発明のエアスライダー装置は、ガイドが形成され、本体ベースに固定される固定子と、前記ガイドに沿って移動される可動子と、を有し、前記可動子は、前記ガイドに対向して配置される複数の永久磁石と、隣接する前記複数の永久磁石の間に配置され、前記ガイドに向けて第１の加圧気体を噴出する第１の気体噴出部と、を有し、前記第１の加圧気体の静圧により前記可動子を、前記ガイドに対して非接触に浮上して支持するエアスライダー装置において、前記固定子に設けられ、前記可動子に向けて第２の加圧気体を噴出する第２の気体噴出部を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、加圧空気の圧力損失を低減し、加圧気体の流量及び圧力の増大を抑制する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施例について説明する。
まず、図１の全体概略構成図を参照して、本発明の実施例に係る露光装置を説明する。
本実施例の露光装置は、原版であるマスク２０のマスクパターンを液晶用のガラス基板などの基板３０に投影露光し転写する装置で、サーマルチャンバ１０は、露光装置本体を収納する収納ケースである。
水銀ランプ等から成る光源４２から射出された光束が、照明光学系４１を通って原版であるマスク２０を照明して、マスク２０上のパターンを投影光学系４３により基板３０上に転写する。
マスク２０は、マスクステージ２１により保持され、移動され、基板３０は基板チャック３２により真空吸着された状態で露光される。
基板チャック３２の下方には、移動するための基板ステージ３３が本体ベース３１上に配置されている。
マスクステージ２１および基板ステージ３３は、共に、レーザー干渉測長器５０により位置が計測されて制御される。
レーザー干渉測長器５０は、レ−ザヘッド５１、干渉ミラー５２，５３、および基板ステージ３３に取り付けられた第１の反射ミラー５４と、マスクステージ２１に取り付けられた第２の反射ミラー５５とを有する。
マスクステージ２１の上方には、マスク２０と、基板３０の像に対して投影光学系４３を介して観察できる観察光学系４０が配置される。
サーマルチャンバ１０には、露光装置本体の温度調節装置が設けられる。
この温度調節装置は、主に空気の温度調整を行う空調機室１１、微小異物を濾過し清浄空気の均一な流れを形成するフィルタボックス１２および露光装置環境を外部と遮蔽するブース１３とで構成される。ブース１３内は、温度調整、流量調整された空気による循環系を有する。
そこで、レーザー干渉測長器５０による位置計測制御に対し、計測誤差を最小限とするため、温度変化を最小限にしている。
サーマルチャンバ１０は、インラインから基板３０の受け渡しをするためのインターフェース開口部１を有し、インターフェース開口部１にシャッター２が構成される。
サーマルチャンバ１０の外部から基板３０を搬入・搬出する図示されないロボットハンドの基板受け渡し信号に応じ、シャッター２の開閉動作が行われる。
【０００９】
次に、図２の一部断面を含む構成図を参照して、本発明の実施例１の移動装置を説明する。
本体ベース３１は、露光装置の床からの振動、それ以外の外乱による振動を除振・制御する機能を有し、本体ベース３１の面上には、Ｚ方向上面に凹型の凹部６６ｃを有する凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂが左右に１個ずつ配置されている。
第１の気体噴出部であるエアパッド７２ａ，７２ｂは、可動子の突出する凸部７６ｃに設けられ、第２の気体噴出部である噴出口６４ａ，６４ｂの間のガイドの凹部６６ｃに入り込む。
固定子６１ａ，６１ｂは、本体ベース３１に固定される。
可動子６２ａ，６２ｂは、ガイドである凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂに沿って移動される。
可動子６２ａ，６２ｂは、凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂに対向して配置される複数の永久磁石である与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂを有する。
第１の気体噴出部であるエアパッド７２ａ，７２ｂは、隣接する与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂの間に配置され、凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂに向けて第１の加圧気体７６ｄを噴出する。
このため、第１の加圧気体７６ｄの静圧により可動子６２ａ，６２ｂを、凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂに対して非接触に浮上して支持する。
さらに、第２の気体噴出部である噴出口６４ａ，６４ｂは、固定子６１ａ，６１ｂに設けられ、可動子６２ａ，６２ｂに向けて第２の加圧気体６６ｄを噴出する。
【００１０】
凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂにおいて、窪んだ凹型の凹部６６ｃは上面から一段低く、上面とほぼ平行となり、凹部６６ｃはＹ方向に一様に形成され、Ｙ方向に長い形状を有する。
凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂの上面と凹部６６ｃは、精度面に形成され、凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂは、単一の部品でも、分割して組付けた部品でもよい。
凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂには、凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂの側面と上面とを貫通するＬ字形状の穴の流路６３ａ，６３ｂと、凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂの凹部６６ｃと側面とを貫通する横穴６５ａ，６５ｂとが構成される。
流路６３ａ，６３ｂは、凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂのＸ方向の各々、図示されるように２側面に配置されるか、図示されないがＸ方向の外側の側面のみに配置されるかである。
流路６３ａ，６３ｂは、各々の側面のＹ方向に複数個配置され、各々の流路のＹ方向位置は一致してもよい。
各々の流路６３ａ，６３ｂは、側面側から第２の加圧空気が供給され、第２の気体噴出部である噴出口６４ａ,６４ｂから第２の加圧空気がＺ方向に噴き出す。
横穴６５ａ，６５ｂは、凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂの凹部６６ｃと側面側を貫通し、流路６３ａ，６３ｂのＹ方向位置と異なる位置に配置されている。
横穴６５ａ，６５ｂは、凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂの凹部６６ｃに生じた第１の加圧空気の流れを、凹部６６ｃの窪み形状のＹ方向のみに流れるのではなく、凹部６６ｃから側面にも流れるようにしている。
また、横穴６５ａ，６５ｂには、凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂの凹部６６ｃ側から側面側へ、強制的に排気する機能を備える場合も有る。
【００１１】
凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂ上には、Ｙ天板７１が配置され、Ｙ天板７１のＺ方向下面側の左右に、凸型スライダーベース７６ａ，７６ｂが組付けられている。Ｙ天板７１、凸型スライダーベース７６ａ，７６ｂ、可動子６２ａ，６２ｂは、Ｙ方向に移動する移動部材を構成する。
凸型スライダーベース７６ａ，７６ｂはＺ方向下面に凸型の凸部７６ｃを有し、Ｙ方向に一様に十分長い形状である。
凸型スライダーベース７６ａ，７６ｂの凸部７６ｃ上には、第１の加圧空気の噴出口となる第１の気体噴出部であるエアパッド７２ａ，７２ｂが配置され、凸部７６ｃから一段低い左右の面には、与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂが配置されている。
エアパッド７２ａ，７２ｂは、凸型スライダーベース７６ａ，７６ｂの凸部７６ｃの上に、Ｘ，Ｙ方向に複数個配置されている。
ここで、エアパッド７２ａ，７２ｂの各々の複数個をユニットとして図示しているため、単一図示となっている。
エアパッド７２ａ，７２ｂからは、−Ｚ方向に第１の加圧空気が噴き出し、凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂの凹部６６ｃに対して第１の加圧空気を噴き出す。
Ｙ天板７１と凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂ間は、エアパッド７２ａ，７２ｂと凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂにより非接触支持となっている。
凸型スライダーベース７６ａ，７６ｂの凸部７６ｃのＸ方向幅、及びエアパッド７２ａ，７２ｂのＸ方向幅は、凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂの凹部６６ｃのＸ方向幅より狭い。
与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂは、凸型スライダーベース７６ａ，７６ｂの凸部７６ｃから一段低い両面に２ヵ所ずつ配置され、Ｘ，Ｙ方向に複数個配置されている。
与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂは、各々の複数個をユニットとして図示しているため、単一図示となっている。
与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂにより、凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂと与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂ間に吸引力を発生させる。
エアパッド７２ａ，７２ｂにより、凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂとエアパッド７２ａ，７２ｂ間に反発力を発生させる。
これにより、Ｙ天板７１と凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂ間は、高剛性のガイドを構成している。
【００１２】
Ｙ天板７１の両側には、電磁アクチュエータが設けられ、電磁アクチュエータはＹ天板７１の左右に固定された可動子６２ａ，６２ｂ、可動子６２ａ，６２ｂをＹ方向へ駆動するための左右に互いに分離・独立した固定子６１ａ，６１ｂを有する。
Ｙ天板７１の上面には、Ｘ方向に長いステージＸガイド７４が配置され、Ｘ方向の位置を計測するレーザー干渉計の反射ミラーとしてバーミラー５４ａ、Ｙ方向の位置を計測するレーザー干渉計の反射ミラーとしてバーミラー５４ｂが配置される。
この構成により、ＸＹθの位置計測が可能となる。
Ｘ，Ｙ方向のレーザー干渉計を利用した測長装置は、レーザーヘッド５１を光源としている。
Ｙ天板７１の上面には、Ｙ天板７１の傾き角度を計測するレーザーの反射ミラーとしてバーミラー５４ｃも配置されている。
Ｙ天板７１の傾き角度は、傾き角度計測器ヘッド８１を用いて計測されている。
また、複数のレーザーヘッド５１をＺ方向に配置し、各々のレーザーとバーミラー５４ａ間の光路差を計測することででもＹ天板７１の傾き角度は計測可能である。
Ｘガイド７４の上部には、Ｘ天板７５が配置され、Ｙ天板７１と同様に、エアベアリングによる非接触支持であり、エアパッドと与圧用永久磁石により高剛性のガイドを構成している。
Ｘ天板７５の上面は、基板３０を吸着する機能も有し、基板３０を保持している。
Ｘ天板７５がＸ方向に移動することで、Ｘ重心移動が発生し、Ｙ天板７１にかかる荷重もＸ天板の移動により変化し、Ｙ天板７１の左右のベアリング力におけるバランスが変化し、姿勢（傾き）変化も生じる場合がある。
【００１３】
ここで、第２の気体噴出部である噴出口６４ａ，６４ｂは、第２の加圧気体６６ｄの噴出量を調整する流量調整手段と、第２の加圧気体６６ｄの噴出される方向を調整する噴出方向調整手段とから成る流量調整手段・噴出方向制御手段１００を有する。
傾き角度計測器ヘッド８１による傾き角度計測の位置情報１０１、レーザー干渉計を利用した傾き計測のＸ方向の姿勢情報１０２を、流路６３ａ，６３ｂに加圧空気の供給を調整し、制御する流量調整手段・噴出方向制御手段１００にフィードバックする。
噴出口６４ａ，６４ｂからの第２の加圧空気をＹ天板７１の姿勢調整・制御力として使用することで、Ｙ天板７１のＸ方向の姿勢を調整・制御することができる。
噴出口６４ａ，６４ｂからの加圧空気の供給は、姿勢調整の利用のほか、エアベアリング力の全体的増加の効果もある。
噴出口６４ａ，６４ｂへの加圧空気の供給は、Ｘ方向の４箇所に全て供給するか、基板ステージ外側２箇所のみに供給するか状況に応じて選択可能である。
また、噴出口６４ａ，６４ｂからの第２の加圧空気をＹ方向の前後で、供給流量差をつけることで、Ｙ天板７１のＹ方向傾き角度の調整・制御も可能となる。
Ｘ方向の姿勢調整・制御と同様に、Ｙ方向の姿勢情報を流量調整手段・噴出方向制御手段１００にフィードバックすることで、Ｙ方向の姿勢調整・制御が可能となる。
また、固定子６１ａ，６１ｂに第２の気体噴出部である噴出口６４ａ，６４ｂが複数個配置され、可動子６２ａ，６２ｂの移動に追従して、所定の噴出口６４ａ，６４ｂのみから第２の加圧気体６６ｄが噴出される。
すなわち、レーザーヘッド５１によるレーザー干渉計からのＹ方向の位置情報を、上記と同様に流量調整手段・噴出方向制御手段１００にフィードバックさせ、噴出口６４ａ，６４ｂからの加圧空気の供給箇所をＹ天板７１の位置に追従させる。
必要な流路６３ａ，６３ｂのみへ第２の加圧空気を供給することで、第２の加圧空気の利用が最小限となり、不必要な所へ第２の加圧空気が供給されることによる、ステージへの影響を極力低減する。
【００１４】
また、第２の加圧空気の噴出口６４ａ，６４ｂが与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂの下に配置していることで、省スペースな構造となっている。
流量調整制御・噴出方向制御の加圧空気を固定された凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂから供給することで、加圧空気供給等の構成部品を可動子となるＹ天板７１から低減し、可動子の重量軽減の効果もある。
さらに、可動子となるＹ天板７１へ加圧空気を供給するための長いチューブ構成が不要となるため、圧力損失が抑えられ、加圧空気の増大を極力抑えることができる。
以上、本実施例１によれば、基板ステージのいわゆるエアベアリングによる非接触支持の加圧空気と、流量調整制御・噴出方向制御の加圧空気とを分離・独立し、そのため流量調整制御・噴出方向制御が容易となっている。
さらに、凹型ステージＹガイド６６ａ，６６ｂの凹部のＸ方向幅と、エアパッド６５ａ，６５ｂのＸ方向幅との差を極力少なくし、その差の部分から各々の加圧空気の干渉を抑えることで、流量調整制御・噴出方向制御の精度が向上する。
従って、Ｘ天板７５がＸ方向に移動した際でも、Ｙ天板７１および基板３０の姿勢を調整・制御することにより姿勢変動が極力抑えられ、かつ省スペース、省エネルギーでステージの性能を向上する。
ステージ性能の向上により、アライメント精度、重ね合わせ精度、像性能が向上し、省エネルギーで、かつ省スペースな構造で露光装置全体の性能を向上させる。
また、本実施例によればエアパッド７２ａ，７２ｂが可動子の凸部の端部に配置され、噴出口６４Ａ，６４ｂが凹部の２つの端部に配置されており、凹部に凸部が入り込む構成となっているため、両者の噴出する気体が干渉しにくい構成となっている。すなわち、噴出口６４ａ，６４ｂによる姿勢調整・制御が容易となり、ステージ性能の向上につながる。
【００１５】
次に、図３を参照して、本発明の実施例２について説明する。
図２の実施例１と同様の動作をする構成要素に関しては、同じ参照番号で示され、その説明を省略し、新規な構成要素のみについて説明する。
本体ベース３１面上には、Ｚ方向上面に凸型の凸部６７ｃを有する凸型ステージＹガイド６７ａ，６７ｂが左右に１個ずつ配置されている。
ガイドにおいて突出する凸部６７ｃは、第２の気体噴出部である噴出口６４ａ，６４ｂの間の可動子の窪んだ凹部７７ｃに入り込む。
凸型ステージＹガイド６７ａ，６７ｂにおいては、凸部６７ｃはＹ方向に一様に形成され、Ｙ方向に長い形状に形成される。
凸型ステージＹガイド６７ａ，６７ｂの凸部６７ｃの上面と、上面から一段低い面は、精度面に形成される。
凸型ステージＹガイド６７ａ，６７ｂは、単一の部品でも、分割して組付けた部品でもよい。
凸型ステージＹガイド６７ａ，６７ｂには、凸型ステージＹガイド６７ａ，６７ｂの側面と、凸部６７ｃの上面から一段低い面とを貫通するＬ字形状の穴の流路６３ａ，６３ｂが構成されている。
流路６３ａ，６３ｂは、凸型ステージＹガイド６７ａ，６７ｂのＸ方向の各々、図示されるように２側面に配置されるか、図示されないようにＸ方向の外側の側面のみに配置されるかである。
流路６３ａ，６３ｂは、各々の側面のＹ方向に複数個配置され、各々の流路のＹ方向位置は一致してもよい。
各々の流路６３ａ，６３ｂは、側面側から加圧空気が供給され、第２の気体噴出部である噴出口６４ａ，６４ｂから第２の加圧空気６７ｄがＺ方向に噴き出す。
凸型ステージＹガイド６７ａ，６７ｂ上には、Ｙ天板７１が配置され、Ｙ天板７１のＺ方向下面側の左右に、凹型スライダーベース７７ａ，７７ｂが組付けられている。
凹型スライダーベース７７ａ，７７ｂはＺ方向下面に凹型の凹部７７ｃを有し、Ｙ方向に一様に十分長い形状に形成される。
凹型スライダーベース７７ａ，７７ｂの凹部７７ｃ上には、第１の加圧空気７７ｄの噴出口である第１の気体噴出部であるエアパッド７２ａ，７２ｂが配置され、凹部７７ｃからＺ方向に一段低い下面の左右には、与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂが配置される。
エアパッド７２ａ，７２ｂは、凹型スライダーベース７７ａ，７７ｂの凹部上７７ｃに、Ｘ，Ｙ方向に複数個配置されている。
【００１６】
エアパッド７２ａ，７２ｂからは、−Ｚ方向に第１の加圧空気７７ｄが噴き出し、凸型ステージＹガイド６７ａ，６７ｂの凸部６７ｃに対して第１の加圧空気７７ｄを噴き出す。
Ｙ天板７１と凸型ステージＹガイド ６７ａ，６７ｂ間は、エアパッド７２ａ，７２ｂと凸型ステージＹガイド６７ａ，６７ｂにより非接触に支持される。
凹型スライダーベース７７ａ，７７ｂの凹部のＸ方向幅は、エアパッド７２ａ，７２ｂのＸ方向幅、及び凸型ステージＹガイド６７ａ，６７ｂの凸部６７ｃのＸ方向幅より広い。
与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂは、凹型スライダーベース７７ａ，７７ｂの最下面の左右に２ヵ所ずつ配置され、Ｘ,Ｙ方向に複数個配置されている。
与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂより、凸型ステージＹガイド６７ａ，６７ｂと与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂ間に吸引力を発生させている。
そして、エアパッド７２ａ，７２ｂより、凸型ステージＹガイド６７ａ，６７ｂとエアパッド７２ａ，７２ｂ間に反発力を発生させている。
これによりＹ天板７１と凸型ステージＹガイド６７ａ，６７ｂ間は、高剛性のガイドを構成している。
また、加圧空気の噴出口６４ａ，６４ｂが与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂの下に配置していることで、省スペースな構造となっている。
基板ステージのＸ,Ｙ方向の姿勢調整・制御、噴出口６４ａ，６４ｂからの第２の加圧空気６７ｄの供給箇所をＹ天板７１の位置に追従させることにより、可動子６２ａ，６２ｂの重量を軽減し、圧力損失を低減し、第１の第２の加圧空気の干渉を抑制する。この本実施例２の効果は実施例１の効果と同様である。
従って、Ｘ天板７５がＸ方向に移動した際でも、Ｙ天板７１および基板３０の姿勢を調整・制御することにより姿勢変動が極力抑えられ、かつ省スペース、省エネルギーでステージの性能向上を実現することができる。
ステージＹガイド、スライダーベースの形状は実施例１のみではなく、本実施例２のような形状でも可能である。
よって、基板ステージを製作・加工するための、工程、精度等の制約を緩和することができる。
また、本実施例によればエアパッド７２ａ，７２ｂが可動子の凹部に配置され、噴出口６４Ａ，６４ｂが凸部の両脇に配置されており、凹部に凸部が入り込む構成となっているため、両者の噴出する気体が干渉しにくい構成となっている。すなわち、噴出口６４ａ，６４ｂによる姿勢調整・制御が容易となり、ステージ性能の向上につながる。
【００１７】
次に、図４を参照して、本発明の実施例３について説明する。
図２の実施例１と同様の動作をする構成要素に関しては、同じ参照番号を振り、その説明を省略し、新規な構成要素のみについて説明を行う。
本体ベース３１面上には、Ｚ方向上面が平面の平面型ステージＹガイド６８ａ，６８ｂが左右に1個ずつ配置されている。
平面型ステージＹガイド６８ａ，６８ｂの上面は精度面で、上面の平面はＹ方向に一様に形成され、Ｙ方向に長い形状に形成される。
平面型ステージＹガイド６８ａ，６８ｂには、平面型ステージＹガイドの側面と、上面とを貫通するＬ字形状の穴の流路６３ａ，６３ｂが構成されている。
流路６３ａ，６３ｂは、平面型ステージＹガイド６８ａ，６８ｂのＸ方向の各々、図示されるように２側面に配置されるか、図示されないようにＸ方向の外側の側面のみに配置されるかである。
流路６３ａ，６３ｂは、各々の側面のＹ方向に複数個配置され、各々の流路のＹ方向位置は一致してもよい。
各々の流路６３ａ，６３ｂは、側面側から第２の加圧空気６８ｄが供給され、噴出口６４ａ,６４ｂから第２の加圧空気６８ｄがＺ方向に噴き出すようになっている。
平面型ステージＹガイド６８ａ，６８ｂ上には、Ｙ天板７１が配置され、Ｙ天板７１のＺ方向下面側の左右に、平面型スライダーベース７８ａ，７８ｂが組付けられている。
平面型スライダーベース７８ａ，７８ｂはＺ方向下面が平面であり、Ｙ方向に一様に形成され、長い形状に形成される。
平面型スライダーベース７８ａ，７８ｂの下面には、第１の加圧空気の噴出口となる第１の気体噴出部であるエアパッド７２ａ，７２ｂが配置され、左右には、与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂが配置されている。
エアパッド７２ａ，７２ｂは、平面型スライダーベース７８ａ，７８ｂの下面の中央部に、Ｘ,Ｙ方向に複数個配置されている。
【００１８】
エアパッド７２ａ，７２ｂからは、−Ｚ方向に第１の加圧空気７８ｄが噴き出し、平面型ステージＹガイド６８ａ，６８ｂの上面に対して第１の加圧空気７８ｄを噴き出す。
Ｙ天板７１と平面型ステージＹガイド６８ａ，６８ｂ間は、エアパッド７２ａ，７２ｂと平面型ステージＹガイド６８ａ，６８ｂとにより非接触に支持される。
与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂは、平面型スライダーベース７８ａ，７８ｂの下面の左右に２ヵ所ずつ配置され、Ｘ,Ｙ方向に複数個配置されている。
与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂより、平面型ステージＹガイド６８ａ，６８ｂと与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂ間に吸引力を発生させている。
そして、エアパッド７２ａ，７２ｂより、平面型ステージＹガイド６８ａ，６８ｂとエアパッド７２ａ，７２ｂ間に反発力を発生させている。
これによりＹ天板７１と平面型ステージＹガイド６８ａ，６８ｂ間は、高剛性のガイドを構成している。
平面型スライダーベース７８ａ，７８ｂの同一面上に配置した、エアパッド７２ａ，７２ｂと与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂとの間の位置はある程度離れている。
また、加圧空気の噴出口６４ａ，６４ｂが与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂの下、または与圧用永久磁石７３ａ，７３ｂより内側でエアパッド７２ａ，７２ｂよりは外側に配置していることで、省スペースな構造となっている。
基板ステージをＸ,Ｙ方向に姿勢調整・制御し、噴出口６４ａ，６４ｂからの第２の加圧空気６８ｄの供給箇所をＹ天板７１の位置に追従させ、可動子６２ａ，６２ｂの重量を軽減し、圧力損失を低減し、加圧空気の干渉を抑制する。
この本実施例３の効果は実施例１での効果と同様である。
このため、Ｘ天板７５がＸ方向に移動した際でも、Ｙ天板７１および基板３０の姿勢を調整・制御することにより姿勢変動が極力抑えられ、かつ省スペース、省エネルギーでステージの性能を向上させる。
ステージＹガイド、スライダーベースの形状は実施例１または実施例２のみではなく、最も実現の可能性の高い本実施例のような形状でも可能である。
よって、基板ステージを製作・加工するための、工程、精度等の制約を大幅に緩和することができる。
【００１９】
（デバイス製造方法の実施例）
デバイス（半導体集積回路素子、液晶表示素子等）は、前述のいずれかの実施例の露光装置を使用して、感光剤を塗布した基板（ウェハ、ガラスプレート等）を露光する工程と、その基板を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の実施例に係る露光装置の全体概略構成図である。
【図２】本発明の実施例１の移動装置の構成図である。
【図３】本発明の実施例２の移動装置の構成図である。
【図４】本発明の実施例３の移動装置の構成図である。
【符号の説明】
【００２１】
１：インターフェース開口部      ２：シャッター
１０：サーマルチャンバ          １１：空調機室
１２：フィルタボックス          １３：ブース
２０：マスク                    ２１：マスクステージ
３０：基板(プレート)            ３１：本体ベース
３２：基板チャック              ３３：基板ステージ
４０：観察光学系                ４１：照明光学系
４２：光源                      ４３：投影光学系
５０：レーザー干渉測長器        ５１：レーザーヘッド
５２，５３：干渉ミラー
５４，５４ａ，５４ｂ，５４ｃ，５５：反射ミラー、あるいはバーミラー
６１ａ，６１ｂ：固定子          ６２ａ，６２ｂ：可動子
６３ａ，６３ｂ：流路            ６４ａ，６４ｂ：噴出口
６５ａ，６５ｂ：横穴
６６ｄ、６７ｄ、６８ｄ：第１の加圧気体
７６ｄ、７７ｄ、７８ｄ：第２の加圧気体
６６ａ，６６ｂ：凹型ステージＹガイド    ６６ｃ：凹部
６７ａ，６７ｂ：凸型ステージＹガイド    ６７ｃ：凸部
６８ａ，６８ｂ：平面型ステージＹガイド
７１：Ｙ天板                            ７２ａ，７２ｂ：エアパッド
７３ａ，７３ｂ：与圧用永久磁石          ７４：ステージＸガイド
７５：Ｘ天板
７６ａ，７６ｂ：凸型スライダーベース    ７６ｃ：凸部
７７ａ，７７ｂ：凹型スライダーベース    ７７ｃ：凹部
７８ａ，７８ｂ：平面型スライダーベース
８１：傾き角度計測器ヘッド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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