(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
実質的に静止しているフレームに対してオブジェクトテーブルを位置決めするためのステージ装置であって、前記ステージ装置が、
オブジェクトテーブルと、
実質的に静止しているフレームに対して前記オブジェクトテーブルを位置決めするように構成された位置決めデバイスと、
前記オブジェクトテーブルの第１の位置依存信号を提供するように構成された測定システムであって、
前記オブジェクトテーブル上に取り付けられた第１の測定システム部品と、
前記実質的に静止しているフレーム上に取り付けられた第２の測定システム部品とを備え、使用時に、前記第１及び第２の測定システム部品が前記第１の位置依存信号を提供するために互いに協働する測定システムと、
前記位置決めデバイスを制御するために制御信号を生成するように構成されたコントローラと、
前記第２の測定システム部品を前記実質的に静止しているフレーム上に取り付けるように構成された取付けデバイスと、
前記実質的に静止しているフレームに対する前記第２の測定システム部品の位置を表す第２の位置依存信号を提供するように構成された位置センサと、
前記実質的に静止しているフレームに対する前記第２の測定システム部品の移動及び／又は変形を少なくとも部分的に補償するように構成された補償器と、
を備え、
前記コントローラが、その入力端末で前記第１及び第２の位置依存信号を受信するように構築及び配置され、前記制御信号が、前記第１及び第２の両方の位置依存信号に基づいており、
前記補償器が、前記第２の測定システム部品の移動及び／又は変形をダンピングするように構成されたダンパを備える、ステージ装置。
【請求項２】
前記コントローラが、前記第１の位置依存信号を調整するために前記第２の位置依存信号を適用するように構築及び配置される、請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記測定システムがエンコーダタイプの測定システムであり、前記第２の測定システム部品がセンサ又はセンサアレイを備え、前記第１の測定システム部品が回折格子又はグリッドを備えるセンサターゲットオブジェクトを備える、請求項１又は２のいずれかに記載のステージ装置。
【請求項４】
前記測定システムがエンコーダタイプの測定システムであり、前記第１の測定システム部品が少なくとも１つのセンサを備え、前記第２の測定システム部品が回折格子又はグリッドを備えるセンサターゲットオブジェクトを備える、請求項１又は２のいずれかに記載のステージ装置。
【請求項５】
前記補償器が、前記センサターゲットオブジェクトの移動及び／又は変形をダンピングするように構成されたダンパを備える、請求項４に記載のステージ装置。
【請求項６】
前記ダンパが、受動式ダンパ又は能動式ダンパである、請求項１から５のいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項７】
前記補償器が、フィードバック位置制御システムを備える、請求項１から６のいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項８】
前記補償器が、実質上前記センサターゲットオブジェクトの共振周波数領域内で補償するように構成されたダンパと、実質上前記共振周波数領域よりも低い周波数領域内で補償するように構成された位置コントローラとを備える、請求項５に記載のステージ装置。
【請求項９】
前記位置センサが、前記第２の位置依存信号を提供するように構成された１つ又は複数の容量センサを備える、請求項１乃至請求項９のいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項１０】
リソグラフィ装置であって、
放射ビームを調節するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構築されたパターニングデバイス支持体であって、前記パターニングデバイスが、パターニングされた放射ビームを形成するために、放射ビームの断面にパターンを付与することができるパターニングデバイス支持体と、
基板を保持するように構築された基板テーブルと、
前記パターニングされた放射ビームを前記基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと、
前記投影システムが取り付けられる実質的に静止しているフレームに対して、前記基板テーブル又はパターニングデバイス支持体を位置決めするように構成された位置決めデバイスと、
前記基板テーブル又はパターニングデバイス支持体の第１の位置依存信号を提供するように構成された測定システムであって、
前記基板テーブル又はパターニングデバイス支持体上に取り付けられた第１の測定システム部品と、
前記実質的に静止しているフレーム上に取り付けられた第２の測定システム部品とを備え、使用時に、前記第１及び第２の部品が前記第１の位置依存信号を提供するために互いに協働する測定システムと、
前記位置決めデバイスを制御するために制御信号を生成するように構成されたコントローラと、
前記第２の部品を前記実質的に静止しているフレーム上に取り付けるように構成された取付けデバイスと、
前記実質的に静止しているフレームに対する前記第２の測定システム部品の位置を表す第２の位置依存信号を提供するように構成された位置センサと、
前記実質的に静止しているフレームに対する前記第２の測定システム部品の移動及び／又は変形を少なくとも部分的に補償するように構成された補償器と、
を備え、
前記コントローラが、その入力端末で前記第１及び第２の位置依存信号を受信するように構築及び配置され、前記制御信号が、前記第１及び第２の両方の位置依存信号に基づいており、
前記補償器が、前記第２の測定システム部品の移動及び／又は変形をダンピングするように構成されたダンパを備える、リソグラフィ装置。
【請求項１１】
前記測定システムが、エンコーダタイプの測定システムである、請求項１０に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１２】
オブジェクトテーブルを位置決めするように構成された位置決めデバイスと、前記オブジェクトテーブルの第１の位置依存信号を提供するために互いに協働するように構成された第１の測定システム部品及び第２の測定システム部品を備える測定システムとを使用して実質的に静止しているフレームに対して前記オブジェクトテーブルを位置決めする方法であって、
前記実質的に静止しているフレーム上に取り付けられた前記第２の測定システム部品に対する前記オブジェクトテーブル上に取り付けられた前記第１の測定システム部品の位置を表す第１の位置依存信号を提供するステップと、
前記実質的に静止しているフレームに対する前記第２の測定システム部品の位置を表す第２の位置依存信号を提供するステップと、
前記位置決めデバイスを制御するために、コントローラの入力端末で前記第１及び第２の位置依存信号を提供するステップと、
前記コントローラによって前記位置決めデバイスを制御するための制御信号を提供するステップと、
を含み、
前記制御信号が、前記第１及び第２の両方の位置依存信号に基づいており、
前記実質的に静止しているフレームに対する前記第２の測定システム部品の移動及び／又は変形を少なくとも部分的に補償するステップをさらに含み、
前記補償するステップが、前記第２の測定システム部品の移動及び／又は変形をダンピングするステップを含む、方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
[0001]  本発明は、ステージ装置、リソグラフィ装置、及びオブジェクトテーブルの位置決め方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
[0002]  リソグラフィ装置は、所望のパターンを基板に、通常は基板のターゲット部分に適用する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使用可能である。このような場合、代替的にマスク又はレチクルとも呼ばれるパターニングデバイスを使用して、ＩＣの個々の層上に形成すべき回路パターンを生成することができる。このパターンを、基板（例えばシリコンウェーハ）上のターゲット部分（例えば１つ又は幾つかのダイの一部を含む）に転写することができる。パターンの転写は通常、基板に設けた放射感応性材料（レジスト）の層への結像により行われる。一般的に、１枚の基板は、順次パターンが与えられる隣接したターゲット部分のネットワークを含んでいる。従来のリソグラフィ装置は、パターン全体をターゲット部分に１回で露光することによって各ターゲット部分が照射される、いわゆるステッパと、基板を所与の方向（「スキャン」方向）と平行あるいは逆平行に同期的にスキャンしながら、パターンを所与の方向（「スキャン」方向）に放射ビームでスキャンすることにより、各ターゲット部分が照射される、いわゆるスキャナとを含む。パターンを基板にインプリントすることによっても、パターニングデバイスから基板へとパターンを転写することが可能である。
【０００３】
[0003]  従来のリソグラフィ装置では、ステージ装置を使用して、投影システムが取り付けられるメトロロジーフレームに対してオブジェクトテーブル（例えば、基板又はパターニングデバイスを保持する）を位置決めする。このようなステージ装置は、一般に、フレームに対してオブジェクトテーブルを位置決めするための位置決めシステム（例えば、ロングストローク粗動ポジショナ及びショートストローク微動ポジショナを備える）と、高精度（例えばナノメートル精度）でフレームに対してオブジェクトテーブルの位置を決定するための測定システムとを備える。より高いスループット及びより高い精度に対する絶えざる需要があることから、特に、通常は自由度６で、基板ステージ及びレチクルステージの位置を測定する際に使用される測定システムの場合、リソグラフィ装置で使用される測定システムの精度を上げることが求められている。
【０００４】
[0004]  測定システムの従来の実施形態では、エンコーダタイプの測定システムが使用される。このようなエンコーダタイプの測定システムは、可動オブジェクト上に取り付けられた１つ又は複数のセンサと、少なくとも１つのセンサターゲットオブジェクト、例えば回折格子又はグリッドを備えるセンサターゲットプレートとを備えていてもよく、このセンサターゲットオブジェクトは、実質的に静止しているフレーム、特にいわゆるメトロロジーフレーム（メトロフレーム）上に取り付けられる。センサターゲットオブジェクトは、１次元又は多次元回折格子を備えていてもよい。センサターゲットオブジェクトは、通常、２次元直交グリッドが配置されるプレートの形をしている。このようなセンサターゲットオブジェクトは、多くの場合、グリッドプレートと呼ばれる。
【０００５】
[0005]  代替実施形態では、１つ又は複数のセンサを実質的に静止しているフレーム上に取り付けてもよく、１つ又は複数のグリッドプレートを可動オブジェクト上に取り付けてもよい。グリッドプレートは、１つ又は複数のセンサに対するグリッドプレートの位置の変化を決定するために使用される幾つかのグリッド線又は他のグリッドマーキングを備える。
【０００６】
[0006]  従来の測定システムは、実質的に静止しているフレーム上の幾つかの取付けポイントにグリッドプレートを取り付けるための取付けデバイスを備える。メトロフレーム内の温度変化及び／又は温度差により、メトロフレームの形状が変化する場合がある。また、他の影響により、メトロフレームの形状変化が生じる場合もある。結果として、グリッドプレートの取付けデバイスの取付けポイント間の距離が変化する場合があり、したがって、メトロフレームの形状変化により、グリッドプレートの形状変化が生じる場合もある。このような変形が、測定システムの測定精度に悪影響を与える場合がある。
【０００７】
[0007]  このようなメトロフレームの形状変化を補償するために、取付けデバイスは、グリッドプレートをメトロフレームに接続する幾つかのたわみ要素を備える。これらのたわみ要素は、取付けポイントの相対位置で生じる可能性のある変化を補償するために、少なくとも自由度１で曲げられる。
【０００８】
[0008]  基板ステージのための典型的なエンコーダタイプの測定システムでは、グリッドプレートは、リソグラフィ装置のレンズ列の中心軸周囲に描かれた仮想円の円周上に配置された３つのたわみ要素と共に取り付けられる。たわみ要素により、メトロフレームは、レンズ列の中心軸に対して半径方向に移動することが可能であり、これらの移動がグリッドプレートに伝達されることはない。メトロフレームは、通常、レンズ列の中心軸周囲に円対称的に変形するように設計されているため、グリッドプレートは、たわみ要素によって実質的にその位置に留まる。
【０００９】
[0009]  従来の測定システムの欠点は、グリッドプレートの取付けデバイス、特にたわみ要素が、グリッドプレートの取付け時に何らかのたわみ性を生じさせるため、グリッドプレートが外部の影響によって移動又は変形する場合があることである。例えば、基板ステージの移動によって、圧力波が生じる場合があり、これがグリッドプレートにおける移動又は変形を生じさせる場合がある。このような移動及び／又は変形は、測定システムの性能に悪影響を及ぼす。他の測定システムでも同様の影響が生じる場合があり、測定システムの精度に悪影響を及ぼす場合がある。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
[0010]  測定の精度が、擾乱、特にオブジェクトテーブルの移動によって生じる擾乱によって実質的に影響を受けない可動オブジェクトの位置依存信号を測定するための、好ましくはエンコーダタイプの高精度の測定システムを含むステージ装置を提供することが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
[0011]  本発明のある実施形態によれば、実質的に静止しているフレームに対してオブジェクトテーブルを位置決めするためのステージ装置であって、該ステージ装置が、オブジェクトテーブルと、実質的に静止しているフレームに対してオブジェクトテーブルを位置決めするように構成された位置決めデバイスと、オブジェクトテーブルの第１の位置依存信号を提供するように構成された測定システムであって、オブジェクトテーブル上に取り付けられた第１の測定システム部品と、実質的に静止しているフレーム上に取り付けられた第２の測定システム部品とを備え、使用時に、第１及び第２の測定システム部品が第１の位置依存信号を提供するために互いに協働する測定システムと、位置決めデバイスを制御するために制御信号を生成するように構成されたコントローラと、第２の測定システム部品を実質的に静止しているフレーム上に取り付けるように構成された取付けデバイスと、実質的に静止しているフレームに対する第２の測定システム部品の位置を表す第２の位置依存信号を提供するように構成された位置センサとを備え、コントローラがコントローラの入力端末で第１及び第２の位置依存信号を受信するように構築及び配置され、制御信号が第１及び第２の両方の位置依存信号に基づくステージ装置が提供される。
【００１２】
[0012]  本発明のある実施形態によれば、リソグラフィ装置であって、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、パターニングデバイスを支持するように構築されたパターニングデバイス支持体であって、パターニングデバイスが、パターニングされた放射ビームを形成するために、放射ビームの断面にパターンを付与することができるパターニングデバイス支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターニングされた放射ビームを基板のターゲット部分上に投影するように構成された投影システムと、投影システムが取り付けられる実質的に静止しているフレームに対して、基板テーブル又はパターニングデバイス支持体を位置決めするように構成された位置決めデバイスと、基板テーブル又はパターニングデバイス支持体の第１の位置依存信号を提供するように構成された測定システムであって、基板テーブル又はパターニングデバイス支持体上に取り付けられた第１の測定システム部品と、実質的に静止しているフレーム上に取り付けられた第２の測定システム部品とを備え、使用時に、第１及び第２の部品が第１の位置依存信号を提供するために互いに協働する測定システムと、位置決めデバイスを制御するために制御信号を生成するように構成されたコントローラと、第２の部品を実質的に静止しているフレーム上に取り付けるように構成された取付けデバイスと、実質的に静止しているフレームに対する第２の測定システム部品の位置を表す第２の位置依存信号を提供するように構成された位置センサとを備え、コントローラがコントローラの入力端末で第１及び第２の位置依存信号を受信するように配置され、制御信号が第１及び第２の両方の位置依存信号に基づくリソグラフィ装置が提供される。
【００１３】
[0013]  本発明のある実施形態によれば、オブジェクトテーブルを位置決めするための位置決めデバイスと、オブジェクトテーブルの第１の位置依存信号を提供するために協働する第１の測定システム部品及び第２の測定システム部品を備える測定システムとを使用して実質的に静止しているフレームに対してオブジェクトテーブルを位置決めする方法であって、実質的に静止しているフレーム上に取り付けられた第２の測定システム部品に対するオブジェクトテーブル上に取り付けられた第１の測定システム部品の位置を表す第１の位置依存信号を提供するステップと、実質的に静止しているフレームに対する第２の測定システム部品の位置を表す第２の位置依存信号を提供するステップと、位置決めデバイスを制御するために、コントローラの入力端末で第１及び第２の位置依存信号を提供するステップと、コントローラによって位置決めデバイスを制御するための制御信号を提供するステップとを含み、制御信号が第１及び第２の両方の位置依存信号に基づく方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
[0014]  対応する参照符号が対応する部分を示す添付の概略図を参照しながら以下に本発明の実施形態について説明するが、これは単に例示としてのものに過ぎない。
【図１】[0015]本発明のある実施形態によるリソグラフィ装置を示す図である。
【図２】[0016]本発明のある実施形態によるステージ装置を示す概略図である。
【図３】[0017]ステージ装置のある実施形態で適用できる測定システムを示す概略図である。
【図４】[0018]本発明のある実施形態によるステージ装置を示す概略図である。
【図５】[0019]リソグラフィ装置において基板ステージの位置を測定するための本発明のある実施形態によるステージ装置を示す概略側面図である。
【図６】[0020]図５の実施形態を示す概略上面図である。
【図７】[0021]本発明のある実施形態によるステージ装置を示す概略側面図である。
【図８】[0022]本発明のある実施形態によるステージ装置を示す概略側面図である。
【図９】[0023]本発明のある実施形態によるステージ装置を示す概略側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
[0024]  図１は、本発明の一実施形態によるリソグラフィ装置を概略的に示す。この装置は、放射ビームＢ（例えば、ＵＶ放射又は任意の他の適切な放射）を調節するように構成された照明システム（イルミネータ）ＩＬと、パターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡを支持するように構築され、特定のパラメータに従ってパターニングデバイスを正確に配置するように構成された第１の位置決めデバイスＰＭに接続されたパターニングデバイス支持体又は支持構造（例えば、マスクテーブル）ＭＴとを含む。この装置は、また、基板（例えば、レジストコートウェーハ）Ｗを保持するように構築され、特定のパラメータに従って基板を正確に配置するように構成された第２の位置決めデバイスＰＷに接続された基板テーブル（例えば、ウェーハテーブル）ＷＴ又は「基板支持体」を含む。さらに、この装置は、基板Ｗのターゲット部分Ｃ（例えば、１つ又は複数のダイを含む）上にパターニングデバイスＭＡによって放射ビームＢへ付与されたパターンを投影するように構成された投影システム又はレンズ列（例えば、レンズ列などを含む屈折投影レンズシステム）４を含む。
【００１６】
[0025]  照明システムは、放射の誘導、整形、又は制御を行うための、屈折、反射、磁気、電磁気、静電気型等の光学コンポーネント、又はその任意の組合せなどの種々のタイプの光学コンポーネントを含んでいてもよい。
【００１７】
[0026]  パターニングデバイス支持体は、パターニングデバイスの方向、リソグラフィ装置の設計等の条件、例えばパターニングデバイスが真空環境で保持されているか否かに応じた方法で、パターニングデバイスを保持する。このパターニングデバイス支持体は、パターニングデバイスを保持するために、機械的、真空、静電気等のクランプ技術を使用することができる。パターニングデバイス支持体は、例えばフレーム又はテーブルでよく、必要に応じて固定式又は可動式でよい。パターニングデバイス支持体は、パターニングデバイスが例えば投影システムに対して確実に所望の位置にくるようにできる。本明細書において「レチクル」又は「マスク」という用語を使用した場合、その用語は、より一般的な用語である「パターニングデバイス」と同義と見なすことができる。
【００１８】
[0027]  本明細書において使用する「パターニングデバイス」という用語は、基板のターゲット部分にパターンを生成するように、放射ビームの断面にパターンを与えるために使用し得る任意のデバイスを指すものとして広義に解釈されるべきである。ここで、放射ビームに与えられるパターンは、例えばパターンが位相シフトフィーチャ又はいわゆるアシストフィーチャを含む場合、基板のターゲット部分における所望のパターンに正確には対応しないことがある点に留意されたい。一般的に、放射ビームに与えられるパターンは、集積回路などのターゲット部分に生成されるデバイスの特定の機能層に相当する。
【００１９】
[0028]  パターニングデバイスは透過性又は反射性でよい。パターニングデバイスの例には、マスク、プログラマブルミラーアレイ、及びプログラマブルＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、バイナリマスク、レベンソン型(alternating)位相シフトマスク、ハーフトーン型(attenuated)位相シフトマスクのようなマスクタイプ、さらには様々なハイブリッドマスクタイプも含まれる。プログラマブルミラーアレイの一例として、小さなミラーのマトリクス配列を使用し、そのミラーは各々、入射する放射ビームを異なる方向に反射するよう個々に傾斜することができる。傾斜したミラーは、ミラーマトリクスによって反射する放射ビームにパターンを与える。
【００２０】
[0029]  本明細書において使用する「投影システム」という用語は、例えば使用する露光放射、又は液浸液の使用や真空の使用などの他の要因に合わせて適宜、例えば屈折光学システム、反射光学システム、反射屈折光学システム、磁気光学システム、電磁気光学システム及び静電気光学システム、又はその任意の組合せを含む任意のタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。本明細書において「投影レンズ」という用語を使用した場合、これはさらに一般的な「投影システム」という用語と同義と見なすことができる。
【００２１】
[0030]  本明細書で示すように、本装置は透過タイプである（例えば透過マスクを使用する）。あるいは、装置は反射タイプでもよい（例えば上記で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイを使用する、又は反射マスクを使用する）。
【００２２】
[0031]  リソグラフィ装置は２つ（デュアルステージ）又はそれ以上の基板テーブル又は「基板支持体」（及び／又は２つ以上のマスクテーブル又は「マスク支持体」）を有するタイプでよい。このような「マルチステージ」機械においては、追加のテーブル又は支持体を並行して使用するか、又は１つ又は複数の他のテーブル又は支持体を露光に使用している間に１つ又は複数のテーブル又は支持体で予備工程を実行することができる。
【００２３】
[0032]  リソグラフィ装置は、投影システムと基板との間の空間を充填するように、基板の少なくとも一部を水などの比較的高い屈折率を有する液体で覆えるタイプでもよい。液浸液は、例えばパターニングデバイス（例えばマスク）と投影システムの間など、リソグラフィ装置の他の空間に適用することもできる。液浸技術は、投影システムの開口数を上げるために使用することができる。本明細書で使用する「液浸」という用語は、基板などの構造を液体に沈めなければならないという意味ではなく、露光中に投影システムと基板の間に液体が存在するというほどの意味である。
【００２４】
[0033]  図１を参照すると、イルミネータＩＬは放射源ＳＯから放射ビームを受ける。放射源とリソグラフィ装置とは、例えば放射源がエキシマレーザである場合に、別々の構成要素であってもよい。このような場合、放射源はリソグラフィ装置の一部を形成すると見なされず、放射ビームは、例えば適切な誘導ミラー及び／又はビームエクスパンダなどを含むビームデリバリシステムＢＤの助けにより、放射源ＳＯからイルミネータＩＬへと渡される。他の事例では、例えば放射源が水銀ランプの場合は、放射源がリソグラフィ装置の一体部分であってもよい。放射源ＳＯ及びイルミネータＩＬは、必要に応じてビームデリバリシステムＢＤとともに放射システムと呼ぶことができる。
【００２５】
[0034]  イルミネータＩＬは、放射ビームの角度強度分布を調整するように構成されたアジャスタＡＤを含んでいてもよい。通常、少なくともイルミネータの瞳面における強度分布の外側及び／又は内側半径範囲（一般にそれぞれ、σ-outer及びσ-innerと呼ばれる）を調整することができる。また、イルミネータＩＬは、インテグレータＩＮ及びコンデンサＣＯなどの他の種々のコンポーネントを含んでいてもよい。イルミネータを用いて放射ビームを調節し、その断面にわたって所望の均一性と強度分布とが得られるようにしてもよい。
【００２６】
[0035]      放射ビームＢは、パターニングデバイス支持体（例えば、マスクテーブル）ＭＴ上に保持されたパターニングデバイス（例えば、マスク）ＭＡに入射し、パターニングデバイスによってパターニングされる。パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを横断した放射ビームＢは、投影システム４を通過し、投影システム４は、ビームを基板Ｗのターゲット部分Ｃ上に合焦させる。第２の位置決めデバイスＰＷ及び測定システムＭＳ（例えばエンコーダタイプの測定システム）の助けにより、例えば放射ビームＢの経路内で異なるターゲット部分Ｃを位置決めするために、基板テーブルＷＴを正確に移動させることができる。本発明のある実施形態によれば、測定システムＭＳを使用して、基板テーブルＷＴ（又は同様に、マスク支持構造ＭＴ）の位置を決定する。これを実行するために、測定システムは、基板テーブルＷＴに取り付けられた第１の測定システム部品ＭＳ１（一般に、オブジェクトテーブル）と、メトロロジーフレーム３などの実質的に静止しているフレームに取り付けられた第２の測定システム部品ＭＳ２とを備える。一実施形態によれば、実質的に静止しているフレームに対するシステム部品ＭＳ２の「取付け」は、直接取付け、すなわち両方の部品の接続、又は両方の部品を互いに接続するために中間デバイス（すなわち、例えば板ばねのフレームを含むことができる取付けデバイス）が使用される間接取付けの両方を含むものとみなされる。測定システムＭＳは、さらに、第２の測定システム部品ＭＳ２に対する第１の測定システム部品ＭＳ１の位置を表す第１の位置依存信号を、位置決めデバイスＰＷを制御するように構成されたコントローラＣＵへと提供するように配置される。リソグラフィ装置は、実質的に静止しているフレーム３に対する第２の測定システム部品（ＭＳ２）の位置を表す第２の位置依存信号をコントローラＣＵへと提供するように構成された位置センサ（図示せず）をさらに備える。本発明の一実施形態によれば、コントローラＣＵは、位置決めデバイスＰＷを制御する制御信号を提供するように構成され、制御信号は、第１及び第２の位置依存信号に基づく。したがって、メトロロジーフレーム３に対する第２の測定システム部品ＭＳ２のいずれの変位又は変形も、少なくとも部分的に補償又は補正することができる。その結果、投影システム４に対するオブジェクトテーブル（ＷＴ）のより正確な位置決めが得られ、結果として、パターニングされたビームが基板Ｗのターゲット部分Ｃ上により正確に投影される。
【００２７】
[0036]  第２の測定システム部品ＭＳ２の変位又は変形は、様々なタイプのセンサによって、及び様々な自由度で観察することができることが理解されよう。一例として、メトロロジーフレームに対する第２の測定システム部品ＭＳ２の隅のＺ位置を監視するために、矩形回折格子プレート、４つの容量センサ、又は加速度計を備える第２の測定システム部品ＭＳ２が適用できるものとする。
【００２８】
[0037]      同様に、第１の位置決めデバイスＰＭと別の位置センサ（図１には明示されていない）を用いて、パターニングデバイスライブラリからの機械的な取り出し後又はスキャン中などに放射ビームＢの経路に対してパターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡを正確に位置決めできる。一般に、パターニングデバイス支持体（例えばマスクテーブル）ＭＴの移動は、第１の位置決めデバイスＰＭの部分を形成するロングストロークモジュール（粗動位置決め）及びショートストロークモジュール（微動位置決め）の助けにより実現できる。同様に、基板テーブルＷＴ又は「基板支持体」の移動は、第２のポジショナＰＷの部分を形成するロングストロークモジュール及びショートストロークモジュールを用いて実現できる。ステッパの場合（スキャナとは対照的に）、パターニングデバイス支持体（例えばマスクテーブル）ＭＴをショートストロークアクチュエータのみに接続するか、又は固定してもよい。パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡ及び基板Ｗは、パターニングデバイスアライメントマークＭ１、Ｍ２及び基板アライメントマークＰ１、Ｐ２を使用して位置合わせすることができる。図示のような基板アライメントマークは、専用のターゲット部分を占有するが、ターゲット部分の間の空間に位置してもよい（スクライブレーンアライメントマークとして周知である）。同様に、パターニングデバイス（例えばマスク）ＭＡ上に複数のダイを設ける状況では、パターニングデバイスアライメントマークをダイ間に配置してもよい。
【００２９】
[0038]  図示のリソグラフィ装置は、以下のモードのうち少なくとも１つにて使用可能である。
１．ステップモードにおいては、パターニングデバイス支持体（例えばマスクテーブル）ＭＴ又は「マスク支持体」及び基板テーブルＷＴ又は「基板支持体」は、基本的に静止状態に維持される一方、放射ビームに与えたパターン全体が１回でターゲット部分Ｃに投影される（すなわち単一静的露光）。次に、別のターゲット部分Ｃを露光できるように、基板テーブルＷＴ又は「基板支持体」がＸ方向及び／又はＹ方向に移動される。ステップモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一静的露光で像が形成されるターゲット部分Ｃのサイズが制限される。
２．スキャンモードにおいては、パターニングデバイス支持体（例えばマスクテーブル）ＭＴ又は「マスク支持体」及び基板テーブルＷＴ又は「基板支持体」は同期的にスキャンされる一方、放射ビームに与えられるパターンがターゲット部分Ｃに投影される（すなわち単一動的露光）。パターニングデバイス支持体（例えばマスクテーブル）ＭＴ又は「マスク支持体」に対する基板テーブルＷＴ又は「基板支持体」の速度及び方向は、投影システムＰＳの拡大（縮小）及び像反転特性によって求めることができる。スキャンモードでは、露光フィールドの最大サイズによって、単一動的露光におけるターゲット部分の（非スキャン方向における）幅が制限され、スキャン動作の長さによってターゲット部分の（スキャン方向における）高さが決まる。
３．別のモードでは、パターニングデバイス支持体（例えばマスクテーブル）ＭＴ又は「マスク支持体」はプログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、基板テーブルＷＴ又は「基板支持体」を移動又はスキャンさせながら、放射ビームに与えられたパターンをターゲット部分Ｃに投影する。このモードでは、一般にパルス状放射源を使用して、基板テーブルＷＴ又は「基板支持体」を移動させる毎に、又はスキャン中に連続する放射パルスの間で、プログラマブルパターニングデバイスを必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニングデバイスを使用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
【００３０】
[0039]  上述した使用モードの組合せ及び／又は変形、又は全く異なる使用モードも利用できる。
【００３１】
[0040]  図２では、ステージ装置の一実施形態の側面図が概略的に示されている。ステージ装置は、オブジェクトテーブルＯＴと、オブジェクトテーブルＯＴを位置決めするように構成された位置決めデバイスＰＷとを備える。ステージ装置は、オブジェクトテーブルに取り付けられた第１の部品ＭＳ１（例えばエンコーダセンサ）と、取付けデバイス７を使用してステージ装置の実質的に静止しているフレーム３に取り付けられた第２の部品ＭＳ２とを有する測定システムをさらに備える。測定システムは、第２の測定システム部品ＭＳ２に対する第１の測定システム部品ＭＳ１の位置を表す第１の位置依存信号（Ｓ１）を、位置決めデバイスＰＷを制御するように構成されたコントローラＣＵへと提供するように配置される。ステージ装置は、実質的に静止しているフレーム３に対する第２の部品ＭＳ２の位置を決定するように構成された位置センサＰｏＳをさらに備える。本発明の一実施形態によれば、第２の部品ＭＳ２は剛体とみなしてもよく、位置は、相対変位（ｘ，ｙ，ｚ）及び回転によって特徴付けられることに留意されたい。別の方法としては、第２の部品ＭＳ２の位置への参照は、第２の部品ＭＳ２の形状又は形を参照するものであってもよく、位置は第２の部品ＭＳ２の変形を特徴付ける。このような変形は、フレーム３に対する第２の部品ＭＳ２の複数の位置測定によって特徴付けられるものとしてもよい。本発明の一実施形態によれば、位置センサは、実質的に静止しているフレーム３に対する第２の測定システム部品（ＭＳ２）の位置を表す第２の位置依存信号（Ｓ２）を、位置決めデバイスＰＷを制御するコントローラＣＵへと提供するように構成される。位置センサＰｏＳは、実質的に静止しているフレーム３に対する第２の部品ＭＳ２のＺ位置を測定するように配置することができる。例として、位置センサＰｏＳは１つ又は複数の容量センサを備えてもよい。容量センサは、比較的低周波の偏移（例えば、２Ｈｚ未満の周波数域内でオブジェクトテーブルの移動によって発生する圧力波によって発生する偏移など）を観察するために特に有用である。また、このようなセンサによって（例えば、周波数領域約２００〜４００Ｈｚでの第２の部品ＭＳ２の典型的な共振モード）、比較的高い周波数偏移が捕捉されてもよい。別の方法としては、位置センサとして加速度計を使用することができ、それによって第２の部品ＭＳ２の加速度が観察され、二重積分の後、加速度計（及び加速度計に取り付けられたオブジェクト）の位置を表す信号が使用可能となる。通常、１ｋＨｚを超える比較的高い周波数での偏移を観察するために、加速度計が好ましい。さらに別の方法としては、エンコーダベースの位置センサを等しく適用することができる。このような構成では、位置センサＰｏＳは、第２の測定システム部品ＭＳ２に取り付けられた回折格子と、回折格子と協働する検出器とを備えることができ、この検出器は静止しているフレーム３に取り付けられている。別の方法としては、回折格子は静止しているフレーム３に取り付けることができるが、回折格子と協働する検出器は第２の測定システム部品ＭＳ２に取り付けられる。ある実施形態では、位置センサは圧力センサである。オブジェクトテー���ルの移動によって生じる圧力波は、絶対圧力センサ又は差圧センサで検出することができる。圧力センサを使用して、オブジェクトテーブルと第１の部品ＭＳ１又は静止しているフレーム３に接続された第２の部品ＭＳ２との間の圧力を測定してもよい。他の圧力センサを使用して、第１の部品ＭＳ１又は第２の部品ＭＳ２と静止しているフレーム３との間の圧力を測定してもよい。圧力センサ及び他の圧力センサによって測定された圧力を比較することによって、第１の部品ＭＳ１又は第２の部品ＭＳ２上に働く力を決定することができる。リソグラフィ装置の関連部品の剛性、例えば静止しているフレーム３に対する回折格子の剛性がわかった場合、第１の部品ＭＳ１又は第２の部品ＭＳ２の変形を決定することができる。ある実施形態では、差圧センサを使用して圧力差が直接測定される。圧力センサは、リソグラフィ装置内の複数の場所に配置されてもよい。ある実施形態では、特定の周波数領域にわたって、第２の測定システム部品ＭＳ２の偏移（すなわち変位又は変形）を査定する際に、異なるタイプのセンサの組合せが有用であることを証明し得る。
【００３２】
[0041]  ある実施形態では、ステージ装置で適用されるような測定システムは、エンコーダベースの測定システムであり、これによって自由度６でのオブジェクトテーブルＯＴの位置を決定することが可能となる。このような構成では、オブジェクトテーブルに第１の測定システム部品ＭＳ１を形成する複数のセンサを提供することができ、このセンサは第２の測定システム部品ＭＳ２を形成する１つ又は複数のグリッドプレート又は回折格子と協働し、第２の部品ＭＳ２は取付けデバイスによって実質的に静止しているフレーム３に取り付けられている。別の方法としては、１つ又は複数の回折格子は、オブジェクトテーブルに取り付けられた第１の測定システム部品ＭＳ１を形成してもよく、第２の測定システム部品ＭＳ２は、１つ又は複数の回折格子と協働するセンサアレイを備える。このようなセンサアレイは、グリッドプレート又は回折格子と同様にフレーム３に取り付けられてもよい。
【００３３】
[0042]  本発明の一実施形態によれば、適用されるような測定システムは、干渉計ベースの測定システムであってもよい。このような実施形態では、第１の測定システム部品ＭＳ１が、第２の測定システム部品ＭＳ２を形成する１つ又は複数のミラーと協働する１つ又は複数の（レーザ）干渉計を備えてもよい。別の方法としては、第２の測定システム部品ＭＳ２が、第１の測定システム部品ＭＳ１を形成する１つ又は複数のミラーと協働する１つ又は複数の（レーザ）干渉計を備えてもよい。
【００３４】
[0043]  本発明の一実施形態によれば、オブジェクトテーブルを位置決めするために使用される位置決めデバイスは、位置依存信号Ｓ１及びＳ２の両方によって制御される。ある実施形態では、測定システムから取得された際に信号Ｓ１を調整又は補正するために位置依存信号Ｓ２が適用される。当業者であれば理解されるように、信号Ｓ１は、第２の測定システム部品ＭＳ２がフレーム３に対して公称位置にあることを条件として、フレーム３に対するオブジェクトテーブルの位置を正確に表すものとしてもよい。偏移が観察された場合、すなわち第２の測定システム部品ＭＳ２がフレーム３に対して公称位置にない場合、信号Ｓ１に対して補正が適用でき、補正された信号Ｓ１は、その後、位置決めデバイスを制御するためにコントローラによって適用される。信号Ｓ１の所望の補正又は調整を決定するために、信号Ｓ２の変換が望ましい場合がある。例として、信号Ｓ２は、第２の測定システム部品ＭＳ２の回転などの変形を表すものとしてもよい。測定システムによって測定された位置でのこのような変形の効果は、測定システムの幾何形状に依存するか、又はオブジェクトテーブルの位置に依存するものとしてもよい。したがって、フレーム３に対する第２の部品ＭＳ２の位置の観察された偏移に基づき（信号Ｓ２により）、補正されたＳ１信号にモデル関数又は伝達関数を適用してもよい。
【００３５】
[0044]  例として、位置センサＰｏＳは、実質的に静止しているフレームに取り付けられた第２の測定システム部品ＭＳ２に沿って配置されたセンサ（例えば容量センサ）のアレイを備えてもよい。このような実施形態の詳細が、図３に概略的に示されている。図３では、第２の測定システム部品ＭＳ２が、取付けデバイス７を形成する板ばねによって実質的に静止しているフレーム３に取り付けられている。この実施形態では、第２の測定システム部品ＭＳ２は、第１の位置依存信号Ｓ１を生成するためにオブジェクトテーブル（図示せず）に取り付けられた回折格子又はグリッドプレートと協働するように配置されたセンサＳＡのアレイを備えている。この実施形態は、フレーム３に対するシステム部品ＭＳ２の位置（例えばＺ位置）を測定するために、システム部品ＭＳ２に沿って（ｙ方向に）配置された位置センサＰｏＳ（例えば容量センサ）のアレイをさらに備えている。位置センサＰｏＳの出力信号Ｓ２は、コントローラＣＵに提供され、オブジェクトテーブル（図示せず）の位置を制御するための制御信号を提供するために、測定システムによって提供された信号Ｓ１（図示せず）と共に使用される。位置センサＰｏＳのアレイを使用することによって、第２の測定システム部品ＭＳ２の変位又は変形、したがって測定システムによって実行される位置測定に与える変位又は変形の影響をより正確に計算することが可能となる。図３に概略的に示されるように、システム部品ＭＳ２の変形の結果、１つ又は複数のセンサのアレイＳＡは、システム部品ＭＳ２が変形しなかった場合の公称測定方向であるＺ方向をもはや指し示さない。位置センサＰｏＳから取得された信号Ｓ２を使用して、測定システム部品ＭＳ２の形状を導出又は推定することができ、位置依存信号Ｓ１を補正して、システム部品ＭＳ２の形状を考慮することができる。
【００３６】
[0045]  本発明の一実施形態で、第２の測定システム部品ＭＳ２を実質的に静止しているフレーム３に取り付けるために使用される取付けデバイスは、図４に示された比較的大型で剛性の構造であってもよい。図４では、取付けデバイス７はフレーム３に取り付けられた１対の剛性アームを備え、その上に測定システム部品ＭＳ２（例えばエンコーダベースのセンサ）が取り付けられる。このアームにより、実質的に静止しているフレーム３に対する測定システム部品ＭＳ２の変形又は変位を測定するために、測定システム（例えばオブジェクトテーブルＯＴに取り付けられた回折格子である部品ＭＳ１、及び例えばエンコーダセンサである部品ＭＳ２を構成する）をオブジェクトテーブルＯＴの下に配置することができる。このような変形又は変位は、実質的に静止しているフレーム３に対する取付けデバイスの位置測定からも導出することができ、これによって、本発明の範囲内で、実質的に静止しているフレーム３に対する測定システム部品ＭＳ２の変形又は変位の間接測定が構成されることを理解することができるだろう。したがって、（例えば容量センサ又は加速度計又はエンコーダベースのセンサを使用して）フレーム３に対する取付けデバイス７の位置を観察することにより、測定システム（ＭＳ１、ＭＳ２）から取得された位置依存信号Ｓ１を補正するために適用できる位置依存信号Ｓ２を位置センサＰｏＳから取得することができる。その後、補正された位置依存信号を使用して、ベースフレームＢＦに取り付けられた位置決めデバイス（図示せず）を用いてオブジェクトテーブルＯＴを変位させてもよい。
【００３７】
[0046]  ある実施形態では、ステージ装置又はリソグラフィ装置は、例えば１次元又は２次元のグリッドプレート又は回折格子あるいはエンコーダベースのセンサアレイなどの第２の測定システム部品ＭＳ２の変位又は変形を少なくとも部分的に軽減するように構成された補償デバイス又は補償器をさらに備える。このような補償デバイス又は補償器は、取付けデバイスに組み込むか又はその一部とすることができる。
【００３８】
[0047]  以下でより詳細に説明するように、実質的に静止しているフレームに第２の測定システム部品ＭＳ２を取り付けるように構成された取付けデバイスは、板ばね及び能動式ダンパ又は受動式ダンパなどの補償デバイス又は補償器、あるいは、例えば、第２の部品ＭＳ２の変位又は変形を少なくとも部分的に抑制するために第２の測定システム部品ＭＳ２に対して力又はトルクを働かせるように構成された１つ又は複数のアクチュエータを備えることができる位置制御システムなどの様々なコンポーネントを備えてもよい。
【００３９】
[0048]  図５及び図６は、ステージ装置又はリソグラフィ装置で適用できる測定システム及び取付けデバイスの一実施形態の側面図及び底面図を示し、測定システムは、一般に参照番号１で示されている。測定システム１は、基板ステージ２、一般に、いわゆるメトロロジーフレーム又はメトロフレーム３に対して基板２ａを支持するオブジェクトテーブルの位置を測定するように構成される。メトロフレーム３は、レンズ列４、一般には投影システムが取り付けられる実質的に静止しているフレームである。この点で、実質的に静止しているフレームは、実質的に静止した位置で受動的又は能動的に保持された任意のフレームであってもよい。従来のリソグラフィ装置のメトロフレーム３は、工場の床の振動などのいかなる外部擾乱をもフィルタリングするために、受動式又は能動式エアマウントと共にベースフレーム上に取り付けられる。このようにして、レンズ列は実質的に静止した位置に保持される。基板ステージの移動をスキャンしている間、レンズ列に対する基板ステージの位置を認識することが望ましい。したがって、位置測定システム１が提供され、これによってメトロフレーム３に対する基板ステージの位置を決定することができる。
【００４０】
[0049]  測定システム１は、センサターゲットプレートなどの回折格子又はグリッドを備えるセンサターゲットオブジェクトに対する基板ステージの位置の変化を決定するために使用される１つ又は複数のセンサ５を備える。図５及び図６に示された実施形態では、センサターゲットオブジェクトは２次元グリッドを備えるグリッドプレート６である。グリッドプレート６は、グリッドプレート６に対する１つ又は複数のセンサ５の位置を決定するために使用される多数のグリッド線又はスポットを備える。本明細書で使用されるグリッドプレートという用語は、測定システムの一部としてグリッド又は回折格子を備える任意のタイプのセンサターゲットオブジェクトを意味するものであってもよい。このような測定システムは、通常エンコーダタイプの測定システムと呼ばれ、当分野では周知である。
【００４１】
[0050]  グリッドプレート６は、レンズ列４のための中心孔を有し、例えば板ばねなどの３つのたわみ要素８を備える取付けデバイス７と共に、メトロフレーム３上に取り付けられる。たわみ要素８は、仮想円９の円周上に等しい角度で実質的に水平面に配置される。仮想円９の中心は、リソグラフィ装置のレンズ列４の中心軸Ａ−Ａに実質的に対応する。メトロフレーム３は、温度又は他の外部の影響によって形状を変化させる場合がある。従来のリソグラフィ装置では、このメトロフレームの形状変化は、レンズ列４の中心軸に対して実質的に対称である。たわみ要素８は、グリッドプレート６内に大幅な形状変化をもたらすことなく、レンズ列４の中心軸に対して半径方向へのメトロフレーム３の変化を可能にするように配置される。グリッドプレート６の形状又は位置の比較的小さな変化は依然として発生し得る。たわみ要素８のメトロフレーム側の移動方向は、図６の両方向矢印で示されている。メトロフレーム２の形状変化はレンズ列の中心軸Ａ−Ａに対して実質的に対称であるため、グリッドプレート６はその位置から移動することはない。
【００４２】
[0051]  しかし、基板ステージ２の移動時に、基板ステージ２の作業スペース内の空気が変位する。結果として圧力波が作業スペースを通して伝搬し得る。特に、グリッドプレートの取付けデバイスはグリッドプレートの支持体内に何らかの柔軟性を導入するため、これらの圧力波によってグリッドプレート６の移動及び／又は変形が発生し得る。しかし、たとえグリッドプレート６のより堅固な取付けが使用される場合であっても、圧力波はグリッドプレート６を移動又は変形させ得る。
【００４３】
[0052]  図５及び図６の実施形態では、これらの移動又は変形を補償するために、ダンピングデバイス又はダンパ１０を備える補償デバイス又は補償器が３カ所に提供される。この点で、補償という用語は、グリッドプレートの移動及び／又は変形が、ダンパの提供によって、又はより一般的には適用される補償器によって、かなり抑制されることを意味する。ダンパ１０は永久磁石１１を備える受動式ダンパであり、この永久磁石が、グリッドプレート６上にアルミニウムが提供されている場合、要素１２の変位に対して反対の方向に向かう力を発生させる。
【００４４】
[0053]  代替実施形態では、受動式ダンパは、グリッドプレート６の移動又は変形に対してダンピング効果を与える任意のデバイスであってもよい。
【００４５】
[0054]  他の実施形態では、ダンパは、グリッドプレート６の位置を測定するように構成された１つ又は複数のセンサと、メトロフレーム３に対するグリッドプレート６の任意の変位をダンピングするように構成された１つ又は複数のアクチュエーションデバイス又はアクチュエータとを備える能動式ダンパであってもよい。
【００４６】
[0055]  受動式又は能動式ダンパは、特に、グリッドプレート６の共振周波数において、グリッドプレート３の変位、すなわち移動又は変形の効率的な補償を提供することがわかっているが、ダンパは、また他の周波数領域でも適切なダンピングを提供することができる。
【００４７】
[0056]  図５及び図６の実施形態では、ダンパ１０は垂直方向、すなわち、グリッドプレートの主平面に対して実質的に垂直の方向のグリッドプレート６の変位をダンピングするように構成される。他の方向での、例えば１つ又は複数の水平方向、すなわちグリッドプレート６の主平面に対して実質的に平行な方向、あるいは任意の他の所望の方向でのグリッドプレート６の変位に対しても同様の備えが提供されてよい。
【００４８】
[0057]  さらに、円形に配置された３つのダンパ１０が提供される。本発明の一実施形態によるダンパ又はより一般的な補償器の数、及びその位置は、グリッドプレート６の移動及び／又は変形を補償するための任意の好適な構成とすることができる。
【００４９】
[0058]  図７は、本発明の一実施形態のステージ装置又はリソグラフィ装置で適用できる測定システムを示す。この実施形態では、フィードバック位置制御システム又はコントローラ１５が、メトロフレーム３に対するグリッドプレート６の位置を制御するための補償器として提供される。フィードバック位置制御システム１５は、１つ又は複数のセンサ１６と、コントローラ１７と、１つ又は複数のアクチュエータ１８とを備える。フィードバック制御システムは、グリッドプレート６をメトロフレーム３に対して実質的に同じ位置に維持するために提供される。さらに位置制御システム１５は、当分野で周知の任意の制御システムによって設計されてもよい。
【００５０】
[0059]  図７の実施形態では、フィードバック位置制御システム１５は、図ではグリッドプレート６の主平面に対して実質的に垂直の方向である垂直方向のグリッドプレート６の変位を抑制するために適用されている。位置制御システム１５は、また、１つ又は複数の他の方向の変位を抑制するために適用することもできる。
【００５１】
[0060]  位置制御システムの提供は、低周波数領域、すなわち共振周波数領域よりも低い周波数領域での移動又は変形の抑制に特に有用であることがわかっている。しかし、フィードバック位置制御システムの提供は、また、他の周波数領域でのグリッドプレート６の変位を抑制するためにも有益であり得る。ある実施形態では、位置制御システムは、共振周波数領域でのダンピング、並びに低周波数領域での位置制御の両方を提供するように設計することもできる。
【００５２】
[0061]  図８は、本発明の一実施形態によるステージ装置又はリソグラフィ装置に適用できる測定システムを示す。この実施形態では、第２の実施形態の受動式ダンパ及びフィードバック位置制御システム１５が組み合わされる。ダンパ及び位置制御システム１５は両方とも、グリッドプレート６の主平面に対して実質的に垂直の方向のグリッドプレート６の変位を抑制するために提供される。受動式ダンパは、特に共振周波数領域での変位を抑制するために提供される一方、フィードバック位置制御システム１５は、特により低い周波数領域での変位を抑制するように設計される。
【００５３】
[0062]  受動式ダンパは、グリッドプレート上に提供された第１のダンピング要素２１と、メトロフレーム３上に取り付けられた第２のダンピング要素２２とを備える。この２つのダンピング要素２１、２２の間に小さな空隙が形成され、これが摩擦のないダンピングデバイスとして機能する。この空隙は、例えば５０〜１５０μｍであってよく、一実施形態では、例えば２００ｃｍ２などの比較的広い区域にわたって延在する。
【００５４】
[0063]  図５のダンパ１０又は他のダンパなどの任意のタイプのダンパも提供することができる。ダンピングは、また、第２の実施形態に関して説明した位置制御システム１５によって実行することもできる。
【００５５】
[0064]  １つ又は複数の他の方向でのダンピング／位置制御のために、ダンパ及び／又は位置制御システムの同様の組合せにより提供されてもよい。
【００５６】
[0065]  図９は、一実施形態に従ってステージ装置又はリソグラフィ装置に適用できる測定システムを示す。この実施形態では、測定システムは、メトロフレーム上に取り付けられ、保持位置及び自由位置の２つの位置の間を移動可能な把持デバイス又はグリッパ２５を備える。図９の左側に示された保持位置では、グリッドプレート６は少なくともグリッドプレート６の主平面に対して実質的に垂直の方向に固定される。図９の右側に示された自由位置では、把持デバイスはグリッドプレート６を保持せず、好ましくは把持デバイス２５とグリッドプレート６との間に物理的な接触がない。
【００５７】
[0066]  上述のように、たわみ要素８は、グリッドプレート６に対するメトロフレームの移動を補償するために提供される。このため、一般に、メトロフレーム３の相対的な移動がグリッドプレート６に伝達されるため、自由度６でグリッドプレート６を固定する取付けデバイスを提供することは望ましくない。しかし、メトロフレームの移動は、特に温度変化又は温度差によって生じる場合、比較的遅い。
【００５８】
[0067]  さらに、基板ステージのスキャン移動中、すなわち基板のスキャン中又は露光中は、特に高精度の測定システムが望ましい。把持デバイス２５を使用して、基板ステージのスキャン移動中にグリッドプレート６を固定し、これらのスキャン移動中の外部擾乱によるグリッドプレートの移動又は変形を実質的に抑制することができる。スキャン移動の前後に把持デバイス２５を自由位置に配置することができるため、２つのスキャン移動間のメトロフレーム３のいかなる形状変化も補償することができる。このようにして、メトロフレーム３内の擾乱及びグリッドプレート３上の外部擾乱の両方を補償でき、測定システムの精度が向上する。
【００５９】
[0068]  本出願で使用される把持デバイスという用語は、ある一定の期間中、少なくとも１つの方向にグリッドプレート６を実質的に固定し、他の期間中、グリッドプレート６を解放することが可能な任意のデバイスを意味する。
【００６０】
[0069]  この実施形態では、把持デバイス２５は、少なくともグリッドプレートの主平面に実質的に垂直な方向にグリッドプレート６の位置を固定するための固定デバイスとして使用される。他の実施形態では、把持デバイス２５は、より多くの方向又は他の方向にグリッドプレートを固定するように設計されてもよい。ある実施形態では、グリッドプレートを自由度６で保持位置に固定するように構成された１つ又は複数の把持デバイスが提供される。
【００６１】
[0070]  本発明の代替実施形態では、測定システムは、１つの大きなグリッドプレートの機能を引き継ぐ、実質的に同じ平面内に配置された２つ又はそれ以上のグリッドプレートを備えてもよい。これらのグリッドプレートはそれぞれ、本出願で説明した補償デバイスを備えるものとしてよい。
【００６２】
[0071]  他の実施形態では、１つ又は複数のセンサを実質的に静止しているフレーム上に配置してもよく、一方グリッドプレートはオブジェクトテーブル上に配置される。このような実施形態では、可動オブジェクトに対するグリッドプレートの移動及び／又は変形を補償するために、各グリッドプレートに補償器を提供してもよい。このような移動／変形は、可動オブジェクトの移動による圧力波などの擾乱によって発生し得る。このような他の実施形態は、本発明の範囲内に入るものとみなされる。
【００６３】
[0072]  上記の説明では、リソグラフィ装置のメトロフレームに対するグリッドプレートの移動及び／又は変形の補償について説明してきた。また、補償器を使用して、それぞれのシステム部品が取り付けられたフレームに対する測定システムの他のシステム部品の移動又は変位を補償してもよい。このような実施形態は本発明の範囲内に入る。
【００６４】
[0073]  本文ではＩＣの製造におけるリソグラフィ装置の使用に特に言及しているが、本明細書で説明するリソグラフィ装置には他の用途もあることを理解されたい。例えば、これは、集積光学システム、磁気ドメインメモリ用誘導及び検出パターン、フラットパネルディスプレイ、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造である。こうした代替的な用途に照らして、本明細書で「ウェーハ」又は「ダイ」という用語を使用している場合、それぞれ、「基板」又は「ターゲット部分」という、より一般的な用語と同義と見なしてよいことが、当業者には認識される。本明細書に述べている基板は、露光前又は露光後に、例えばトラック（通常はレジストの層を基板に塗布し、露光したレジストを現像するツール）、メトロロジーツール及び／又はインスペクションツールで処理することができる。適宜、本明細書の開示は、以上及びその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに基板は、例えば多層ＩＣを生成するために、複数回処理することができ、したがって本明細書で使用する基板という用語は、既に複数の処理済み層を含む基板も指すことができる。
【００６５】
[0074]  光リソグラフィの分野での本発明の実施形態の使用に特に言及してきたが、本発明は文脈によってはその他の分野、例えばインプリントリソグラフィでも使用することができ、光リソグラフィに限定されないことを理解されたい。インプリントリソグラフィでは、パターニングデバイス内のトポグラフィが基板上に作成されたパターンを画定する。パターニングデバイスのトポグラフィは基板に供給されたレジスト層内に刻印され、電磁放射、熱、圧力又はそれらの組合せを印加することでレジストは硬化する。パターニングデバイスはレジストから取り除かれ、レジストが硬化すると、内部にパターンが残される。
【００６６】
[0075]  本明細書で使用する「放射」及び「ビーム」という用語は、イオンビーム又は電子ビームなどの粒子ビームのみならず、紫外線（ＵＶ）放射（例えば、３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍ若しくは１２６ｎｍ、又はこれら辺りの波長を有する）及び極端紫外線光（ＥＵＶ）放射（例えば、５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）を含むあらゆるタイプの電磁放射を網羅する。
【００６７】
[0076]  「レンズ」という用語は、状況が許せば、屈折、反射、磁気、電磁気及び静電気光学コンポーネントを含む様々なタイプの光学コンポーネントのいずれか一つ、又はその組合せを指すことができる。
【００６８】
[0077]  以上、本発明の特定の実施形態を説明したが、説明とは異なる方法でも本発明を実践できることが理解される。例えば、本発明は、上記で開示したような方法を述べる機械読み取り式命令の１つ又は複数のシーケンスを含むコンピュータプログラム、又はこのようなコンピュータプログラムを内部に記憶したデータ記憶媒体（例えば半導体メモリ、磁気又は光ディスク）の形態をとることができる。
【００６９】
[0078]  上記の説明は例示的であり、限定的ではない。それ故、添付の特許請求の範囲から逸脱することなく、記載されたような本発明を変更できることが当業者には明白である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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