(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
循環粒子と触媒とガス化剤の存在下に原料を供給して原料を所定温度に加熱することにより所定量のガス化ガスを取り出すようにしているガス化炉と、ガス化炉でのガス化時に生成したチャーと循環粒子の混合物を供給管により導入してチャーを燃焼させることにより循環粒子を加熱する燃焼炉と、該燃焼炉からの排気ガスから循環粒子を分離し分離した循環粒子を前記ガス化炉に戻す分離器とを有する粒子循環手段と、を有するガス化システムのガス化方法であって、
前記ガス化炉に触媒を供給する触媒供給装置と、
前記ガス化炉の温度を検出する温度検出器と、前記燃焼炉からガス化炉への循環粒子の循環量を調節する循環量調節器とを有してガス化炉内の温度を所定温度に制御する温度制御手段と、
ガス化炉出口のガス濃度とガス流量を検出してガス化ガスの生成量を検出するガス生成量検出器と、
前記ガス化炉の圧力を検出する圧力検出器とを設け、
前記ガス化炉に供給する所定量の原料がガス化されて所定量のガス化ガスが生成されるように前記温度制御手段により循環粒子の循環量を調節してガス化炉の温度を制御し、このとき前記圧力検出器により検出したガス化炉の圧力を目標圧力とし、運転を継続して前記圧力検出器で検出したガス化炉の圧力が目標圧力よりも下回った際には粉化した触媒が外部に排出されてガス化炉内の触媒量が減少したとして、ガス化炉の圧力が目標圧力に回復するまで前記触媒供給装置により触媒をガス化炉に供給することを特徴とするガス化方法。
【請求項２】
前記目標圧力を得たときのガス化ガスの生成量を検出し、このガス化ガスの生成量に設定値を設定しておき、前記ガス化炉の圧力が目標圧力に回復してもガス化ガスの生成量が設定値よりも下回った際には触媒の劣化と判断し、循環している循環粒子とともに触媒の一部を抜き出し、その後圧力が低下したガス化炉の圧力が目標圧力に回復するまで触媒をガス化炉に供給する請求項１に記載のガス化方法。
【請求項３】
前記ガス化システムから排出される排気ガス中の粉化触媒を分離し、分離した粉化触媒を微粒子ゲッターとして前記ガス化炉からのガス化ガスと接触させることによりガス化ガス中の微粒子を除去する請求項１又は２に記載のガス化方法。
【請求項４】
循環粒子と触媒とガス化剤の存在下に原料を供給して原料を所定温度に加熱することにより所定量のガス化ガスを取り出すガス化炉と、ガス化炉でのガス化時に生成したチャーと循環粒子の混合物を供給管により導入してチャーを燃焼させることにより循環粒子を加熱する燃焼炉と、燃焼炉からの排気ガスから循環粒子を分離し分離した循環粒子を前記ガス化炉に戻す分離器とを有する粒子循環手段と、
を有するガス化システムであって、
前記ガス化炉に触媒を供給する触媒供給装置と、
前記ガス化炉の温度を検出する温度検出器と、前記燃焼炉からガス化炉への循環粒子の循環量を調節する循環量調節器とを有してガス化炉内の温度を制御する温度制御手段と、
ガス化炉出口のガス濃度とガス流量を検出してガス化ガスの生成量を検出するガス生成量検出器と、
前記ガス化炉の圧力を検出する圧力検出器と、
前記ガス化炉に供給する所定量の原料がガス化されて所定量のガス化ガスが生成されるように前記温度制御手段により循環粒子の循環量を調節してガス化炉の温度を制御し、このとき前記圧力検出器により検出したガス化炉の圧力を目標圧力とし、運転を継続して前記圧力検出器により検出した圧力が目標圧力よりも下回った際には粉化した触媒が外部に排出されてガス化炉内の触媒量が減少したとして、前記圧力検出器により検出した圧力が目標圧力に回復するまで触媒をガス化炉に供給するように前記触媒供給装置を制御する触媒制御器と、
を備えたことを特徴とするガス化システム。
【請求項５】
前記目標圧力を得たときのガス化ガスの生成量が前記ガス生成量検出器により検出されて前記触媒制御器に入力され、この検出したガス化ガスの生成量には設定値が設定してあり、前記ガス化炉の圧力が目標圧力に回復してもガス化ガスの生成量が設定値より下回った際には触媒の劣化と判断して、循環している循環粒子とともに触媒の一部を抜き出すように制御する抜出装置を備えた請求項４に記載のガス化システム。
【請求項６】
前記分離器で循環粒子を分離した排気ガスから粉化触媒を分離する粉化触媒分離装置を備え、該粉化触媒分離装置で分離した粉化触媒を導入して該粉化触媒を微粒子ゲッターとして前記ガス化炉からのガス化ガスと接触させることによりガス化ガス中の微粒子を除去する触媒塔を備えた請求項４又は５に記載のガス化システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガス化システムにより触媒を用いて原料をガス化する際に、触媒の使用量を節減すると共に、ガス化ガス中の微粒子を安価に除去できるようにしたガス化方法及びガス化システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、石炭、バイオマス、廃棄物、石油残渣、重質油等の種々の有機物原料をガス化することにより高品位のガス化ガスを製造する技術が提案されるようになってきている。
【０００３】
ガス化システムの一例を示すものとしては特許文献１がある。特許文献１に示すガス化システムは、例えば８００℃以上の高温を有する循環粒子（砂等）をガス化炉に供給すると共に、下部から水蒸気、空気、酸素、二酸化炭素等のガス化剤を供給して形成される流動層に原料を供給して流動加熱することによりガス化しガス化ガスを生成するようにしている。ガス化炉で生成したガス化ガスは、固形分及びタールが除去された後、発電設備の燃料として供給したり、合成ガス原料として供給したり、或いは圧縮機で圧縮して液化したガス製品として取り出すようにしている。
【０００４】
又、特許文献１では、ガス化炉において原料をガス化する際に生成したチャーは、循環粒子と共に燃焼炉に供給し、燃焼炉において空気又は酸素等の酸化剤を供給してチャーを燃焼させることにより循環粒子を例えば９００℃以上の温度に加熱するようにしている。そして、排気ガスと共に燃焼炉から導出される高温の循環粒子はサイクロン等の分離器に導かれて排気ガスから分離され、分離した循環粒子は前記ガス化炉に供給されて循環するようになっている。
【０００５】
一方、前記ガス化炉におけるガス化反応を高める（反応速度を高める）ために、ガス化炉にバイオマスとゼオライト等の触媒とを混合した移動層を形成するようにしたものが特許文献２に記載されている。
【特許文献１】特開２００５−４１９５９号公報
【特許文献２】特開平０７−２０７２８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献２に示されるゼオライト又は一般に用いられている石灰石等の触媒をガス化炉に供給すると、ガス化炉でのガス化反応が高められ、原料の処理量の増加、ガス化ガスの取り出し量の増加を図ることができる。しかし、触媒は一般にガス化炉での流動による衝突等によって粉化し易く、粉化した触媒は排気ガスと共に外部に排出されてしまうために、経時的にガス化炉内の触媒量は減少し、そのためにガス化反応が経時的に低下することになる。このため、従来は所定量の触媒を連続的に供給するようにしているが、ガス化炉を安定運転するのに必要な触媒の過不足が生じることがあり、このために通常では触媒が不足しないように余裕を持たせて多目に供給するようにしている。
【０００７】
前記触媒は比較的安価ではあるが砂等の循環粒子と比較するとやはり高価（砂に対しては数倍程度の価格）であり、このために、従来のよう余裕を持たせた多目の触媒を供給する方式では、運転コストが増加してしまう問題を有していた。
【０００８】
又、ガス化炉から取り出されるガス化ガスにはカドミウム、水銀等の重金属、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属等の微粒子が含まれていると共に、タールの微粒子が含有しており、これらの微粒子はガス化ガスから除去する必要があるが、金属類の微粒子を除去するための装置及びタールの微粒子を除去するための装置を夫々設ける必要があるために、設備費が増加してしまうという問題を有していた。
【０００９】
本発明は、上記実情に鑑みてなしたもので、ガス化システムにより触媒を用いて原料をガス化する際に、触媒の使用量を節減すると共に、ガス化ガス中の微粒子を安価に除去できるようにしたガス化方法及びガス化システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、循環粒子と触媒とガス化剤の存在下に原料を供給して原料を所定温度に加熱することにより所定量のガス化ガスを取り出すようにしているガス化炉と、ガス化炉でのガス化時に生成したチャーと循環粒子の混合物を供給管により導入してチャーを燃焼させることにより循環粒子を加熱する燃焼炉と、該燃焼炉からの排気ガスから循環粒子を分離し分離した循環粒子を前記ガス化炉に戻す分離器とを有する粒子循環手段と、を有するガス化システムのガス化方法であって、
前記ガス化炉に触媒を供給する触媒供給装置と、
前記ガス化炉の温度を検出する温度検出器と、前記燃焼炉からガス化炉への循環粒子の循環量を調節する循環量調節器とを有してガス化炉内の温度を所定温度に制御する温度制御手段と、
ガス化炉出口のガス濃度とガス流量を検出してガス化ガスの生成量を検出するガス生成量検出器と、
前記ガス化炉の圧力を検出する圧力検出器とを設け、
前記ガス化炉に供給する所定量の原料がガス化されて所定量のガス化ガスが生成されるように前記温度制御手段により循環粒子の循環量を調節してガス化炉の温度を制御し、このとき前記圧力検出器により検出したガス化炉の圧力を目標圧力とし、運転を継続して前記圧力検出器で検出したガス化炉の圧力が目標圧力よりも下回った際には粉化した触媒が外部に排出されてガス化炉内の触媒量が減少したとして、ガス化炉の圧力が目標圧力に回復するまで前記触媒供給装置により触媒をガス化炉に供給することを特徴とするガス化方法、に係るものである。
【００１１】
上記ガス化方法において、前記目標圧力を得たときのガス化ガスの生成量を検出し、このガス化ガスの生成量に設定値を設定しておき、前記ガス化炉の圧力が目標圧力に回復してもガス化ガスの生成量が設定値よりも下回った際には触媒の劣化と判断し、循環している循環粒子とともに触媒の一部を抜き出し、その後圧力が低下したガス化炉の圧力が目標圧力に回復するまで触媒をガス化炉に供給することは好ましい。
【００１２】
又、上記ガス化方法において、前記ガス化システムから排出される排気ガス中の粉化触媒を分離し、分離した粉化触媒を微粒子ゲッターとして前記ガス化炉からのガス化ガスと接触させることによりガス化ガス中の微粒子を除去することは好ましい。
【００１３】
本発明は、循環粒子と触媒とガス化剤の存在下に原料を供給して原料を所定温度に加熱することにより所定量のガス化ガスを取り出すガス化炉と、ガス化炉でのガス化時に生成したチャーと循環粒子の混合物を供給管により導入してチャーを燃焼させることにより循環粒子を加熱する燃焼炉と、燃焼炉からの排気ガスから循環粒子を分離し分離した循環粒子を前記ガス化炉に戻す分離器とを有する粒子循環手段と、
を有するガス化システムであって、
前記ガス化炉に触媒を供給する触媒供給装置と、
前記ガス化炉の温度を検出する温度検出器と、前記燃焼炉からガス化炉への循環粒子の循環量を調節する循環量調節器とを有してガス化炉内の温度を制御する温度制御手段と、
ガス化炉出口のガス濃度とガス流量を検出してガス化ガスの生成量を検出するガス生成量検出器と、
前記ガス化炉の圧力を検出する圧力検出器と、
前記ガス化炉に供給する所定量の原料がガス化されて所定量のガス化ガスが生成されるように前記温度制御手段により循環粒子の循環量を調節してガス化炉の温度を制御し、このとき前記圧力検出器により検出したガス化炉の圧力を目標圧力とし、運転を継続して前記圧力検出器により検出した圧力が目標圧力よりも下回った際には粉化した触媒が外部に排出されてガス化炉内の触媒量が減少したとして、前記圧力検出器により検出した圧力が目標圧力に回復するまで触媒をガス化炉に供給するように前記触媒供給装置を制御する触媒制御器と、
を備えたことを特徴とするガス化システム、に係るものである。
【００１７】
上記ガス化システムにおいて、前記目標圧力を得たときのガス化ガスの生成量が前記ガス生成量検出器により検出されて前記触媒制御器に入力され、この検出したガス化ガスの生成量には設定値が設定してあり、前記ガス化炉の圧力が目標圧力に回復してもガス化ガスの生成量が設定値より下回った際には触媒の劣化と判断して、循環している循環粒子とともに触媒の一部を抜き出すように制御する抜出装置を備えることは好ましい。
【００１８】
又、上記ガス化システムにおいて、前記分離器で循環粒子を分離した排気ガスから粉化触媒を分離する粉化触媒分離装置を備え、該粉化触媒分離装置で分離した粉化触媒を導入して該粉化触媒を微粒子ゲッターとして前記ガス化炉からのガス化ガスと接触させることによりガス化ガス中の微粒子を除去することは好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
本発明のガス化方法及びガス化システムによれば、循環粒子と触媒とガス化剤の存在下に原料を供給して原料を所定温度に加熱することにより所定量のガス化ガスを取り出すガス化炉の圧力を検出し、検出したガス化炉の圧力が目標圧力より下回った際にガス化炉の圧力が目標圧力に回復するまで触媒をガス化炉に供給するようにしたので、触媒の粉化によってガス化炉内の実質的な触媒量が減量することによってガス化炉内の圧力が低下した場合に、ガス化炉のガス化反応が所定の状態に保持されるように必要量の触媒のみを自動供給することができ、よって供給する触媒コストを大幅に低減できる優れた効果を奏し得る。
【００２０】
又、ガス化炉出口のガス濃度とガス流量とによりガス化ガスの生成量を検出し、前記ガス化炉の圧力が目標圧力に回復してもガス化ガスの生成量が設定値より下回った際には触媒の劣化と判断して循環している循環粒子とともに触媒の一部を抜き出し、その後圧力が低下したガス化炉の圧力が目標圧力に回復するまで触媒をガス化炉に供給するようにしたので、触媒が劣化した場合にもガス化炉のガス化反応が所定の状態に保持されるように制御することができる効果がある。
【００２１】
また、前記ガス化システムから排出される排気ガス中の粉化触媒を分離し、分離した粉化触媒を微粒子ゲッターとして前記ガス化炉からのガス化ガスと接触させることによりガス化ガス中の微粒子を除去するようにしたので、粉化触媒を利用してガス化ガス中の微粒子を安価に除去できるという優れた効果を奏し得る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の形態を添付図面を参照して説明する。
【００２３】
図１は本発明のガス化システムの一例を示す概略構成図である。図１中、１はガス化炉であり、該ガス化炉１には粒子循環手段２によって循環粒子３が循環供給されるようになっており、更にガス化炉１には、石灰石等の触媒４を供給する触媒供給装置５と、水蒸気、空気、酸素、二酸化炭素等のガス化剤６を分散装置６ａにより供給して流動層７を形成するガス化剤供給装置８と、石炭、バイオマス、廃棄物、石油残渣、重質油等の原料９を流動層７に供給する原料供給装置１０が設けられている。
【００２４】
前記粒子循環手段２は、ガス化炉１でガス化時に生成したチャーと循環粒子とを供給管１１により導入して下部から分散装置１２ａにより供給される空気１２（酸化剤）により燃焼することにより循環粒子を加熱する燃焼炉１３と、該燃焼炉１３での燃焼により加熱された循環粒子を含む排気ガス１４を導入して循環粒子３と排気ガス１４とに分離する分離器１５と、該分離器１５で分離した循環粒子３をガス化炉１に戻す降下管１６とにより構成されている。即ち、図１では、ガス化炉１と燃焼炉１３が並設された２塔式と称されるガス化システムを示している。図中１７は、前記燃焼炉１３における分散装置１２ａの上部位置に供給するようにしている二次空気（酸化剤）である。
【００２５】
上記ガス化システムにおいては、ガス化炉１の温度を所定の温度に制御するようにした温度制御手段１８を備えている。該温度制御手段１８は、ガス化炉１の温度を流動層７内部及び流動層７上部のフリーボード部で検出する温度検出器１９と、前記粒子循環手段２によって燃焼炉１３からガス化炉１へ供給する循環粒子３の循環量を調節する循環量調節器２０とにより構成されている。循環量調節器２０は、燃焼炉１３の下部から供給する流動用の空気１２と前記二次空気１７との供給割合を制御する調節器２１ａ，２１ｂによって燃焼炉１３の空塔速度を変えることにより、燃焼炉１３からガス化炉１へ供給する循環粒子３の循環量を調節するようになっている。ガス化炉１への循環粒子３の供給量が増加すると、ガス化炉１内の循環粒子が増加してガス化炉１の温度は高くなり、又、ガス化炉１への循環粒子３の供給量が減少すると、ガス化炉１内の循環粒子が減少してガス化炉１の温度は低くなる。従って、前記温度制御手段１８の温度検出器１９による検出温度に基づいて循環量調節器２０による循環粒子３の循環量を制御することにより、ガス化炉１内は常に原料９のガス化に適した適正な温度に制御されて所定量のガス化ガス２２が生成されるようになっている。
【００２６】
前記ガス化炉１でのガス化によって生成したガス化ガス２２は、固体分離器２３に導かれて固体粒子２４が分離され、更にタール除去装置２５に導かれてタールが除去されることにより、清浄なガス化ガス２２となって導かれる。
【００２７】
上記ガス化システムにおいて、ガス化炉１に、流動層７内部の圧力と流動層７上部のフリーボード部の圧力を検出する圧力検出器２６と、ガス化ガス２２のガス濃度とガス流量を検出し、検出したガス濃度とガス流量からガス化ガス２２の生成量を検出するようにしたガス生成量検出器２７を設け、前記圧力検出器２６からのガス化炉１の圧力２８と、ガス生成量検出器２７からの生成量２９を入力する触媒制御器３０を設けている。
【００２８】
触媒制御器３０は、前記圧力検出器２６によって検出した圧力２８に基づいて、ガス化炉１の圧力が目標圧力に保持されるように触媒供給装置５からの触媒４の供給を調節する触媒調節器３１を制御するようにしている。ここで、目標圧力とは、ガス化炉１において原料４が適正にガス化されて所定量のガス化ガス２２が生成されている状態の時のガス化炉１内圧力である。
【００２９】
更に、触媒制御器３０は、前記ガス生成量検出器２７によって検出される生成量２９に設定値を設けており、前記したようにガス化炉１の圧力２８が目標圧力に回復しても、ガス化ガス２２の生成量が設定値より下回った際には触媒が劣化したと判断して、ガス化炉１に備えた抜出装置３２を作動してガス化炉１の循環粒子と触媒の一部を抜き出す制御を行うようにしている。循環粒子と触媒の抜き出しは経験に基づいて所定量を抜き出すようにする。
【００３０】
なお、図示例では、ガス化炉１に備えた抜出装置３２で循環粒子と触媒の一部を抜き出す場合を示したが、ガス化炉１、燃焼炉１３、降下管１６（ダウンカマ）のいずれかひとつもしくは複数から取り出すようにしてもよい。
【００３１】
このとき、より好ましくは、チャーが全て燃焼してしまっている燃焼炉１３、降下管１６（ダウンカマ）のいずれかひとつもしくは両者から取り出すようにすることが望ましい。
【００３２】
上記形態例の作動を説明する。
【００３３】
図１のガス化システムにおいては、ガス化炉１には粒子循環手段２によって所定量の循環粒子３が循環供給されていると共に、触媒供給装置５により所定量（連続投入ではない）の触媒４が供給され、更にガス化剤供給装置８によりガス化剤６が連続供給されて流動層７が形成されており、この状態において、原料供給装置１０により所定量の原料９を供給するとガス化されてガス化ガス２２を生成し、生成したガス化ガス２２はガス化炉１から取り出される。この時、ガス化炉１内が原料９のガス化に適した適正温度になるように温度制御手段１８によって循環粒子３の循環量が制御されており、これによりガス化炉１では所定量のガス化ガス２２が生成される。
【００３４】
上記したガス化システムの運転を継続すると、循環粒子３と共にガス化炉１と燃焼炉１３を循環する触媒は流動による衝突等によって粉化し、粉化した触媒は分離器１５から排気ガス１４と共に外部に排出され、又、ガス化ガス２２と共に取り出されるために、ガス化炉１内の実質的な触媒量は経時的に減少し、ガス化反応が低下するためにガス化ガス２２の生成量が低下し、ガス化炉１内の圧力は徐々に低下する。
【００３５】
ここで、圧力検出器２６により検出したガス化炉１の圧力２８と、ガス生成量検出器２７で検出したガス化ガス２２の生成量２９が触媒制御器３０に入力されているので、触媒制御器３０は、図２に示すように、検出したガス化炉１の圧力２８が目標圧力より下回った際には、触媒調節器３１に制御信号を送って触媒４の供給を開始し、ガス化炉１の圧力が目標圧力に回復するまで触媒４の供給を継続し、ガス化炉１の圧力が目標圧力に回復したら触媒４の供給を停止する。これにより、ガス化炉１のガス化性能は回復される。このように、触媒４の粉化によってガス化炉１内の実質的な触媒量が減量することによってガス化炉１内の圧力が低下した場合に、ガス化炉１のガス化反応が所定の状態に保持されるように必要量の触媒４のみを自動供給するようにしているので、供給する触媒コストを大幅に低減することができる。
【００３６】
又、触媒制御器３０には、ガス化炉１出口のガス濃度とガス流量とにより検出したガス化ガス２２の生成量２９が入力されているため、図２に示すように、前記ガス化炉１の圧力２８が目標圧力に回復してもガス化ガス２２の生成量２９が目標圧力より下回った状態、即ちガス化炉１の性能が回復しない場合には、触媒制御器３０は触媒４の劣化と判断して、抜出装置３２に制御信号を送って循環している循環粒子とともに触媒の一部を抜き出すよう制御する。ガス化炉１から循環粒子と触媒の一部を抜き出した後、ガス化炉１の圧力が目標圧力に回復するまで触媒調節器３１に制御信号を送って触媒４の供給を行う。これにより、ガス化炉１のガス化性能は回復される。このように、触媒４が劣化した場合には触媒４の入れ換えを自動的に行ってガス化炉１のガス化反応が所定の状態に保持されるように制御することができる。
【００３７】
図１には前記構成に加えて、ガス化ガス中の微粒子を除去する構成が備えられている。
【００３８】
即ち、前記分離器１５で循環粒子３を分離した排気ガス１４から微細な固体粒子３３を分離するようにしたサイクロン等の固体分離器３４と、該固体分離器３４で分離した固体粒子３３を、風力を用いた比重分離器或いは多段サイクロン等によって粉化触媒３５と灰分３６とに分離するようにした粉化触媒分離装置３７を備えている。そして、該粉化触媒分離装置３７で分離した粉化触媒３５を導入して該粉化触媒３５を前記ガス化炉１からのガス化ガス２２と接触させるようにした触媒塔３８を設け、前記粉化触媒３５を微粒子ゲッターとしてガス化ガス２２中の微粒子を吸着除去するようにしている。微粒子を吸着した粉化触媒３５'は、セメント等の原料として利用したり、或いは埋立て廃棄するようにしている。
【００３９】
また、ガス化炉１から取り出されるガス化ガス２２が固体分離器２３に導かれて分離される固体粒子２４もその多くが粉化触媒と灰分からなっているので、この固体粒子２４を粉化触媒分離装置３９によって粉化触媒３５と灰分３６とに分離し、分離した粉化触媒３５を微粒子ゲッターとして前記触媒塔３８に供給するようにしている。
【００４０】
上記したように、ガス化システムから排出される排気ガス１４から粉化触媒３５を分離し、或いはガス化ガス２２から粉化触媒３５を分離し、分離した粉化触媒３５を触媒塔３８に導いて微粒子ゲッターとしてガス化炉１からのガス化ガス２２と接触させることにより、ガス化ガス２２中に含まれるカドミウム、水銀等の重金属、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属及びタール等の微粒子は吸着除去される。前記粉化触媒３５は表面積が非常に大きくなっているため微粒子を効果的に吸着除去することができる。このように、粉化触媒３５を利用することによりガス化ガス２２中の微粒子を安価に除去することができる。
【００４１】
尚、上記形態では２塔式のガス化システムに適用した場合について例示したが、従来から知られている固定層式ガス化炉、移動層式ガス化炉、流動層式ガス化炉等の種々のガス化炉に適用できること、その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明のガス化システムの一例を示す概略構成図である。
【図２】ガス化炉の制御方法を示すフローシートである。
【符号の説明】
【００４３】
１  ガス化炉
２  粒子循環手段
３  循環粒子
４  触媒
５  触媒供給装置
６  ガス化剤
７  流動層
８  ガス化剤供給装置
９  原料
１０  原料供給装置
１１  供給管
１３  燃焼炉
１４  排気ガス
１５  分離器
１６  降下管（ダウンカマ）
１８  温度制御手段
１９  温度検出器
２０  循環量調節器
２２  ガス化ガス
２６  圧力検出器
２７  ガス生成量検出器
２８  圧力
２９  生成量
３０  触媒制御器
３２  抜出装置
３５  粉化触媒
３７  粉化触媒分離装置
３８  触媒塔
３９  粉化触媒分離装置
【図１】
0005256661.tif 000002
【図２】
0005256661.tif 000003