(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクティブ基板上に複数の有機ＥＬ素子からなる画素をマトリクス配列して有する表示パネルで構成した有機ＥＬ表示装置であって、
前記有機ＥＬ素子は、前記アクティブ基板に複数の副画素で構成される単位カラー画素ごとに設けられて副画素開口を形成する一方の電極と、該一方の電極上に成膜された有機ＥＬ層と、前記有機ＥＬ層を覆って成膜された他方の電極からなり、
互いに異なる色に対応する前記副画素における前記有機ＥＬ層は、それぞれ色の有機ＥＬ層に対応するマスクを使って蒸着され、
前記表示パネルの任意の位置における単位カラー画素における各副画素開口の中心をその中心とする前記有機ＥＬ層のそれぞれの成膜中心のズレを示すベクトル間の角度が９０度以内にあることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記副画素開口に成膜される前記有機ＥＬ層の発光は、赤色、緑色、青色の３色であり、前記副画素開口に前記３色の有機ＥＬ層を成膜して前記単位カラー画素を構成することを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記３色の有機ＥＬ層の前記ベクトルの角度および大きさが互いに異なることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項４】
請求項１において、
前記一方の電極は反射電極で、前記他方の電極は透明電極であることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項５】
請求項１において、
前記一方の電極は透明電極で、前記他方の電極は反射電極であることを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示装置にかかり、特に有機ＥＬ層の成膜ズレを解析した結果を反映させて色度ムラや輝度ムラを抑制した有機ＥＬ表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）を用いた表示装置は、液晶表示装置のようなバックライトを必要としないため、より薄型・軽量化が可能である。有機ＥＬ素子の色再現手法は、旧来のＣＲＴと同様に、３原色発光による加色混合理論を踏襲したものである。青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、赤色（Ｒ）のドット（画素：フルカラーでは副画素）がそれぞれ発光し、それぞれが特徴を持った分光スペクトルを持つこともＣＲＴと同様である。
【０００３】
有機ＥＬ表示装置には、発光の取り出し方向により、ボトムエミッション方式とトップエミッション方式に分類することができる。ボトムエミッション方式は、（１）薄膜トランジスタ型の液晶表示装置と同様のプロセスで基板製造が可能で、（２）陰極成膜が容易であり、（３）封止も容易である、というメリットがある。デメリットとしては画素の開口が薄膜トランジスタの配置で制限されるために低開口率となる。
【０００４】
一方、トップエミッション方式は、画素が薄膜トランジスタの配置に左右されず、画素領域に薄膜トランジスタを配置できるため、高い開口率となる。しかし、画素の断面構造が複雑で、封止缶（封止ガラス）を透光性とする必要がある。
【０００５】
何れの方式の有機ＥＬ表示装置でも、薄膜トランジスタを形成したアクティブ基板上に複数の有機ＥＬ素子からなる画素をマトリクス配列した表示パネルに駆動回路などの周辺部材を組み込んで構成される。有機ＥＬ素子は、アクティブ基板に複数の副画素で構成される単位カラー画素ごとに設けられて副画素開口を形成する一方の電極と、該一方の電極上に成膜された有機ＥＬ層と、有機ＥＬ層を覆って成膜された他方の電極からなる。
【０００６】
量産プロセスでは、副画素開口への有機ＥＬ層の成膜に蒸着法が多く用いられる。特許文献１にはマスクを用いた有機ＥＬパネルへの有機ＥＬ層の蒸着法を開示する。
【特許文献１】特開２００３‐２９７５６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
有機ＥＬ表示装置を構成する有機ＥＬパネルの有機ＥＬ層は、多数の有機ＥＬパネル分を並べたサイズの大判ガラス（マザーガラス）に、各有機ＥＬパネルの副画素開口に相当した開口パターンを有するマスクを介して蒸着することで形成される。マスクを用いた蒸着では、マスクの熱膨張による成膜位置のズレ（成膜ズレ）が生じ、色度ムラや輝度ムラの原因となる。特許文献１では、マザーガラスよりも小サイズのマスクを用意し、このマスクに対して相対的にマザーガラスを移動させて蒸着することで熱膨張による成膜位置のズレを抑制している。
【０００８】
しかし、特許文献１では、成膜ズレの発生がどのように発生するものかの解析はなされておらず、またその成膜ズレに対する製品化での対応に関しては開示がない。
【０００９】
本発明の目的は、有機ＥＬ層の成膜ズレを解析した結果を反映させることで色度ムラや輝度ムラを抑制することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の有機ＥＬ表示装置は、アクティブ基板上に複数の有機ＥＬ素子からなる画素をマトリクス配列して有する表示パネルで構成される。そして、前記有機ＥＬ素子は、前記アクティブ基板に複数の副画素で構成される単位カラー画素ごとに設けられて副画素開口を形成する一方の電極と、該一方の電極上に成膜された有機ＥＬ層と、前記有機ＥＬ層を覆って成膜された他方の電極からなり、前記表示パネルの任意の位置における前記副画素開口の中心をその中心とする前記有機ＥＬ層のそれぞれの成膜中心のズレを示すベクトル間の角度が９０度以内にあることを特徴とする。
【００１１】
また、前記副画素開口に成膜される前記有機ＥＬ層の発光は、赤色、緑色、青色の３色であり、前記副画素開口に前記３色の有機ＥＬ層を成膜して前記単位カラー画素を構成する。前記３色の有機ＥＬ層の前記ベクトルの角度および大きさが互いに異なることを特徴とする。
【００１２】
また、本発明は、前記一方の電極は反射電極で、前記他方の電極は透明電極であることを特徴とするトップエミッション方式の有機ＥＬ表示装置にも、また、前記一方の電極が透明電極で、前記他方の電極が反射電極であるボトムエミッション方式の有機ＥＬ表示装置にも適用できる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、有機ＥＬ層の成膜ズレを解析した結果を蒸着マスクの設計と蒸着プロセスに反映させて色度ムラや輝度ムラを抑制した有機ＥＬ表示装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の最良の実施形態について、実施例により詳細に説明する。ここで先ず、成膜ズレの定義について図１により説明する。有機ＥＬ素子では、アクティブ基板に複数の副画素で構成される単位カラー画素ごとに副画素開口１を形成してある。この副画素開口１に有機ＥＬ層２が蒸着される。隣接した３つの副画素開口１は赤色、緑色、青色の３色に対応し、この３色でフルカラー表示を行う。図中、Ｘはマトリクスの行方向（通常は、走査線方向）、Ｙはマトリクスの列方向（通常は、データ線方向）を示す。
【００１５】
副画素開口１について、線Ａ−Ａ’はＹ方向中心線、線Ｂ−Ｂ’はＸ方向中心線であり、それらの交点Ｐ１が副画素開口１の中心である。また、蒸着で成膜された有機ＥＬ層２について、線Ｃ−Ｃ’はＹ方向中心線、線Ｄ−Ｄ’はＸ方向中心線であり、それらの交点Ｐ２が有機ＥＬ層２の中心である。有機ＥＬ層の成膜ズレは、副画素開口１の中心Ｐ１から有機ＥＬ層２の交点Ｐ２にいたるベクトルＶで示す。ベクトルＶは副画素開口１に対する有機ＥＬ層２のズレ量（ＬＥ（Ｘ）,ＬＥ（Ｙ））と方向を示す。
【実施例１】
【００１６】
図２は、本発明の実施例を説明する３色副画素開口における有機ＥＬ層の成膜ズレ状態の模式図である。また、図３は、図２の成膜ズレを表すベクトル図である。フルカラー表示のためのカラー画素は３色副画素開口１Ｒ、１Ｇ、１Ｂを単位とする。図２では表示パネルの任意の点における成膜ズレを示す。図３に示したように、マスクの熱膨張、マスク中心からの距離、蒸着源の位置により、各色の成膜ズレが異なる。この例では、３色の有機ＥＬ層の成膜ズレベクトルＶＢ、ＶＧ、ＶＲはすべて第１象限内で９０度以内にある。
【００１７】
図４は、マザーガラス基板上の成膜ズレベクトルの全体像を説明する模式図である。この例はマスクによる成膜ズレベクトル分布が正、すなわち成膜ズレベクトルがマザーガラス基板３の外側に向かっている場合を示す。各位置の矢印は図３に示したものと同様である。
【００１８】
図５は、マザーガラス基板上の成膜ズレベクトルの他の全体像を説明する模式図である。この例はマスクによる成膜ズレベクトル分布が負、すなわち成膜ズレベクトルがマザーガラス基板３の内側に向かっている場合を示す。図５でも、各位置の矢印は図３に示したものと同様である。
【００１９】
図６は、図４と同様の成膜ズレベクトル分布が正であるマスクを用いた場合の模式図である。図７は、図６のＤで示した部分の表示パネルの拡大図である。表示パネル４は、下方の短辺に駆動回路チップ６が実装され、その端縁に外部装置（ホスト）と接続するための端子部７が設けられている。なお、図示しない封止ガラスがシール８で固着される。図６のＤで示した部分の表示パネル４では、その表示領域５内の任意の点における副画素の成膜ズレベクトルは第１象限内で９０度以内にあることが分かる。
【００２０】
マザーガラス基板上の周囲では、図６に示した方向に成膜ズレベクトルを顕著に示すことができる。マスクはＸ方向とＹ方向にそれぞれ均等に張力を印加してある。マザーガラス基板上の中心を除く中央領域ではマスクの熱膨張量は周囲よりも少ないが傾向は同じである。このような解析に基づいてマスクを政策し、蒸着を行うことで色度ムラや輝度ムラを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】成膜ズレの定義を説明する模式図である。
【図２】本発明の実施例を説明する３色副画素開口における有機ＥＬ層の成膜ズレ状態の模式図である。
【図３】図２の成膜ズレを表すベクトル図である。
【図４】マザーガラス基板上の成膜ズレベクトルの全体像を説明する模式図である。
【図５】マザーガラス基板上の成膜ズレベクトルの他の全体像を説明する模式図である。
【図６】図４と同様の成膜ズレベクトル分布が正であるマスクを用いた場合の模式図である。
【図７】図６のＤで示した部分の表示パネルの拡大図である。
【符号の説明】
【００２２】
１・・・副画素開口、１Ｒ・・・赤色の副画素開口、１Ｇ・・・緑色の副画素開口、１Ｂ・・・青色の副画素開口、２・・・蒸着された有機ＥＬ層、３・・・ガラス基板、４・・・有機ＥＬパネル（表示パネル）、５・・・表示領域、６・・・ドライバＩＣ、７・・・端子部、８・・・シール。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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