(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
０．５重量％を超え４０重量％以下の（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6、及び、０．１重量％を超え２０重量％以下のＨＮＯ3を含むエッチング液を用い、導電性高分子をエッチングするエッチング工程、
酸化還元電位測定、酸化還元滴定、及び、電気伝導度測定よりなる群から選ばれた少なくとも１つの分析手段により、エッチング液を分析する分析工程、並びに、
前記分析工程によって得られた結果に応じてエッチング工程を管理する管理工程、を含むことを特徴とする
エッチング方法。
【請求項２】
前記分析工程において、酸化還元電位測定又は酸化還元滴定により少なくとも分析する請求項１に記載のエッチング方法。
【請求項３】
前記分析工程において、酸化還元電位測定により少なくとも分析する請求項１又は２に記載のエッチング方法。
【請求項４】
前記管理工程において、（１）（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6を補充する手段、（２）新しいエッチング液を補充する手段、（３）新しいエッチング液と交換する手段、及び、（４）エッチング時間を調節する手段よりなる群から選ばれた少なくとも１つの管理手段によりエッチング工程を管理する請求項１〜３のいずれか１つに記載のエッチング方法。
【請求項５】
導電性高分子が、ポリアセチレン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリフェニレン類、ポリチエニレンビニレン類、ポリフルオレン類、ポリアセン類、ポリアニリン類、ポリピロール類又はポリチオフェン類である請求項１〜４のいずれか１つに記載のエッチング方法。
【請求項６】
導電性高分子が、ポリアニリン類、ポリピロール類又はポリチオフェン類である請求項１〜５のいずれか１つに記載のエッチング方法。
【請求項７】
導電性高分子がポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）である請求項１〜６のいずれか１つに記載のエッチング方法。
【請求項８】
前記エッチング液におけるＨＮＯ3の含有量が、１０重量％以上２０重量％以下である請求項１〜７のいずれか１つに記載のエッチング方法。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１つに記載のエッチング方法によりエッチングされた導電性高分子を有する基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エッチング方法、及び、導電性高分子を有する基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、透明導電膜としては、インジウム（Ｉｎ）を含むＩＴＯ（酸化インジウムスズ）が主に使われているが、Ｉｎは可採埋蔵量が３千トンという希少元素で早ければ２０１１年〜２０１３年頃には可採埋蔵量を使い切ってしまう、といった予測もあり、Ｉｎを使わないＩＴＯの代替材料が研究されている。導電性高分子の導電率は目覚しく向上しており、ＩＴＯの代替材料として導電性高分子は有望である。
この導電性高分子は、導電性、光の透過性、発光性、製膜後もフレキシブルであるという特徴をもっており、透明導電膜、電解コンデンサー、帯電防止剤、電池、及び有機ＥＬ素子等への応用が研究され、一部では実用化されている。
【０００３】
電解コンデンサーの電解液よりも導電性が高く安定性も高い導電性高分子を使うことで、周波数特性が改善でき耐熱性にも優れた電解コンデンサーを作ることができる。
導電性高分子をポリマーフィルムの表面に薄く製膜することで透明性を保ったまま静電気を防止することができるため、このようなものは使い勝手の良い帯電防止フィルムや帯電防止容器として使用されている。
【０００４】
導電性高分子を２次電池の正極として用い、リチウムポリアニリン電池やリチウムイオンポリマー電池等に使われている。
発光層に導電性高分子を用いた高分子有機ＥＬディスプレイがあり、基板にガラスではなくプラスチックを用いることで、フレキシブルなディスプレイが作製できる。また、正孔輸送層にも導電性高分子を用いることができる。高分子有機ＥＬディスプレイを含む有機ＥＬディスプレイは、自発光のディスプレイなので視野角が広く、薄型化しやすく、色の再現性に優れる。また、正孔と電子の再結合による発光なので応答速度が速い。有機ＥＬディスプレイはこのような優れた特徴を持っているために、将来有望なディスプレイである。
また、導電性高分子を使用してダイオードやトランジスタなどの電子素子を作製することができ、性能の向上が研究されている。導電性高分子を白金の代わりに色素増感型太陽電池の二酸化チタンの対極として使用することにより、現在主流となっているシリコンを利用した太陽電池よりも安価な太陽電池の開発を目指し研究されている。
このように導電性高分子は将来のエレクトロニクス産業にとって有益な材料で、導電性高分子のパターニング方法は導電性高分子を使用するにあたって重要な技術である。
【０００５】
導電性高分子をパターニングする方法は幾つかの種類がある。まず、インクジェット等の印刷法を使ったパターニングがある。（例えば、特許文献１参照）。印刷法はパターニングと同時に製膜も行うため生産工程は簡便だが、導電性高分子をインク化する必要がある。しかし、導電性高分子は凝集しやすくインク化は難しい。また、印刷後の広がり防止や、インク乾燥後に液滴周辺部が中心部より厚くなる問題も存在する。
これに対し、パターニングに広く用いられているフォトエッチング方法は均一な膜を製膜後にパターニングを行うので簡単な製膜方法を採用できる利点がある。
【０００６】
また、金属に対するエッチングにおけるエッチング液の管理方法として、例えば、特許文献２には、酸化剤としてＣｅ4+を含有するエッチング液を用いて金属薄膜基板のエッチングを行うに当たり、該エッチング液中のＣｅ4+濃度を検知し、（Ｃｅ4+濃度）／（Ｃｅ4+初期濃度）を所定濃度範囲に維持するようにＣｅ4+を追加供給することを特徴とするエッチング液管理方法が開示されている。
また、特許文献３には、繰り返して用いられる金属様材料用エッチング液の成分濃度を略一定に維持するための管理方法であって；少なくとも、前記エッチング液を前記エッチング液とは逆性を呈する溶液によって滴定を行い、それと並行して前記エッチング液の電気伝導度を導電率計によって計測する工程；前記計測工程によって得られる計測値から、前記エッチング液の成分濃度を算出し、そして前記エッチング液中の不足成分量を算出する、演算工程；ならびに、前記演算工程によって得られる前記不足成分量を、成分原液および／または補充液によって前記エッチング液に補給する、補給工程；を包含する、エッチング液管理方法が開示されている。
【０００７】
【特許文献１】特開２００５−１０９４３５号公報
【特許文献２】特開平１１−１７８１号公報
【特許文献３】特開２００４−１３７５１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、特定のセリウム（IV）化合物を使用する導電性高分子のエッチングの管理を簡便かつ容易に行うことができ、安定したエッチングを行うことができるエッチング方法、及び、前記エッチング方法によりエッチングされた導電性高分子を有する基板を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記従来技術における問題点を克服するために鋭意検討した結果、特定のセリウム（IV）化合物含む導電性高分子用エッチング液で導電性高分子をエッチングするに際し、エッチング量とセリウム（IV）濃度の関係をヨードカリ（ＫＩ）を用いた酸化還元滴定により詳細に調べた結果、直線関係があることを初めて見出した。すなわち、特定のセリウム（IV）化合物を含む導電性高分子用エッチング液中に含まれるＣｅ4+が、導電性高分子を酸化することによりエッチングが進行していることを明らかとし、エッチング工程において、セリウム（IV）の酸化量を表す指標、すなわち、酸化還元滴定及び／又は酸化還元電位（ＯＲＰ）によりエッチング液が管理できることを見出した。セリウム化合物により金属等をエッチングする場合、Ｃｅ4+が金属を酸化しエッチングが進行することは知られているが、導電性高分子をエッチングするメカニズムについては知られていなかった。
また、エッチング量と電気伝導度及び吸光度との関係を調べたところ、エッチング量に比例して電気伝導度が低下すること、及び、吸光度が変化することを見出した。
【００１０】
その結果、以下の＜１＞及び＜９＞により上記課題を達成できることを見出し、本発明を完成するに至った。好ましい実施態様である＜２＞〜＜８＞と共に以下に記載する。
＜１＞０．５重量％を超え７０重量％以下の（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6、０．５重量％以上３０重量％以下のＣｅ（ＳＯ4）2、又は、０．５重量％を超え３０重量％以下の（ＮＨ4）4Ｃｅ（ＳＯ4）4を含むエッチング液を用い、導電性高分子をエッチングするエッチング工程、酸化還元電位測定、酸化還元滴定、及び、電気伝導度測定よりなる群から選ばれた少なくとも１つの分析手段により、エッチング液を分析する分析工程、並びに、前記分析工程によって得られた結果に応じてエッチング工程を管理する管理工程、を含むことを特徴とするエッチング方法、
＜２＞  前記分析工程において、酸化還元電位測定又は酸化還元滴定により少なくとも分析する上記＜１＞に記載のエッチング方法、
＜３＞前記分析工程において、酸化還元電位測定により少なくとも分析する上記＜１＞又は＜２＞に記載のエッチング方法、
＜４＞  前記管理工程において、（１）（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6、Ｃｅ（ＳＯ4）2、及び、（ＮＨ4）4Ｃｅ（ＳＯ4）4より選ばれる１種以上を補充する手段、（２）新しいエッチング液を補充する手段、（３）新しいエッチング液と交換する手段、及び、（４）エッチング時間を調節する手段よりなる群から選ばれた少なくとも１つの管理手段によりエッチング工程を管理する上記＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載のエッチング方法、
＜５＞  導電性高分子が、ポリアセチレン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリフェニレン類、ポリチエニレンビニレン類、ポリフルオレン類、ポリアセン類、ポリアニリン類、ポリピロール類又はポリチオフェン類である上記＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載のエッチング方法、
＜６＞  導電性高分子が、ポリアニリン類、ポリピロール類又はポリチオフェン類である上記＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載のエッチング方法、
＜７＞  導電性高分子がポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）である上記＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載のエッチング方法、
＜８＞  前記エッチング液が、（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6を含む上記＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載のエッチング方法、
＜９＞  上記＜１＞〜＜８＞のいずれか１つに記載のエッチング方法によりエッチングされた導電性高分子を有する基板。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、特定のセリウム（IV）化合物を使用する導電性高分子のエッチングの管理を簡便かつ容易に行うことができ、安定したエッチングを行うことができるエッチング方法、及び、前記エッチング方法によりエッチングされた導電性高分子を有する基板を提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に、本発明を詳細に説明する。なお、「％」は特に明記しない限り「重量％」を示す。
【００１３】
（エッチング方法）
本発明のエッチング方法は、０．５重量％を超え７０重量％以下の（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6、０．５重量％以上３０重量％以下のＣｅ（ＳＯ4）2、又は、０．５重量％を超え３０重量％以下の（ＮＨ4）4Ｃｅ（ＳＯ4）4を含むエッチング液を用い、導電性高分子をエッチングするエッチング工程、酸化還元電位測定、酸化還元滴定、及び、電気伝導度測定よりなる群から選ばれた少なくとも１つの分析手段により、エッチング液を分析する分析工程、並びに、前記分析工程によって得られた結果に応じてエッチング工程を管理する管理工程、を含むことを特徴とする。
本発明のエッチング方法は、（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6、Ｃｅ（ＳＯ4）2、又は、（ＮＨ4）4Ｃｅ（ＳＯ4）4を含む導電性高分子用エッチング液を使用して、導電性高分子をエッチングする方法であり、前記エッチング工程の管理を簡便かつ容易に行うことができ、安定したエッチングを行うことができるエッチング方法である。
【００１４】
＜エッチング工程＞
本発明のエッチング方法は、０．５重量％を超え７０重量％以下の（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6、０．５重量％以上３０重量％以下のＣｅ（ＳＯ4）2、又は、０．５重量％を超え３０重量％以下の（ＮＨ4）4Ｃｅ（ＳＯ4）4を含むエッチング液（以下、「特定エッチング液」ともいう。）を用い、導電性高分子をエッチングするエッチング工程を含む。
【００１５】
導電性高分子はπ電子が移動して導電性を示す。このような導電性高分子は多数報告されている。
本発明に用いることができる導電性高分子としては、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリフェニレン、ポリフルオレン、ポリビチオフェン、ポリイソチオフェン、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、ポリイソチアナフテン、ポリイソナフトチオフェン、ポリアセチレン、ポリジアセチレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリアセン、ポリチアジル、ポリエチレンビニレン、ポリパラフェニレン、ポリドデシルチオフェン、ポリフェニレンビニレン、ポリチエニレンビニレン、ポリフェニレンスルフィド等やこれらの誘導体が例示できる。これらのうち、ポリチオフェン類、ポリピロール類、又は、ポリアニリン類が好ましく、ポリチオフェン類又はポリアニリン類がより好ましく、ポリチオフェン類がさらに好ましく、電気伝導度、空気中での安定性及び耐熱性に優れたポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）が最も好ましい。
【００１６】
また、導電性高分子を用いる際により高い電気伝導度を発現する目的で、ドーパントと呼ばれるドーピング剤を併用することができる。前記導電性高分子に用いることができるドーパントとしては、公知のドーパントを用いることができ、導電性高分子の種類に応じ、ハロゲン類（臭素、ヨウ素、塩素等）、ルイス酸（ＢＦ3、ＰＦ5等）、プロトン酸（ＨＮＯ3、Ｈ2ＳＯ4等）、遷移金属ハライド（ＦｅＣｌ3、ＭｏＣｌ5等）、アルカリ金属（Ｌｉ、Ｎａ等）、有機物質（アミノ酸、核酸、界面活性剤、色素、アルキルアンモニウムイオン、クロラニル、テトラシアノエチレン（ＴＣＮＥ）、７，７，８，８−テトラシアノキノジメタン（ＴＣＮＱ）等）等が例示できる。導電性高分子自体にドーピング効果を持つ自己ドープ型導電性高分子であってもよい。また、ポリチオフェン類を用いる場合、ドーパントとしてはポリスチレンスルホン酸を用いることが好ましい。
【００１７】
本発明に用いることができる導電性高分子の導電率は、導電性を示す値の範囲であれば特に制限はないが、１０-6〜１０4Ｓ／ｃｍであることが好ましく、１０-5.5〜１０3Ｓ／ｃｍであることがより好ましく、１０-5〜５×１０2Ｓ／ｃｍであることがさらに好ましい。導電性高分子の導電率が上記範囲であると、接続部分のパターニング等において好ましい。
また、本発明に用いることができる導電性高分子は、その使用時において、可視光域における透過率が高いものが好ましい。なお、透過率は、波長５５０ｎｍにおいて６０〜９８％であることが好ましく、７０〜９５％であることがより好ましく、８０〜９３％であることがさらに好ましい。導電性高分子自体の透過率が上記範囲であると、ディスプレイ等の用途に好適に用いることができる。
ここで、本発明において、可視光域とは４００〜７００ｎｍである。なお、透過率の測定は、分光光度計により測定することができる。
【００１８】
各種の導電性高分子が市販されている。Ｐａｎｉｐｏｌ社により製造され「Ｐａｎｉｐｏｌ」の商品名で市販されているポリアニリンは、機能性スルホン酸でドープした有機溶媒可溶型ポリアニリンである。Ｏｒｍｅｃｏｎ社により製造され「Ｏｒｍｅｃｏｎ」の商品名で市販されたポリアニリンは、有機酸をドーパントに用いた溶媒分散型ポリアニリンである。Ｂａｙｅｒ社により製造され「Ｂａｙｔｒｏｎ」の商品名で市販されているポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）はポリスチレンスルホン酸をドーパントとしている。その他に、アキレス（株）から商品名「ＳＴポリ」で市販されるポリピロール、東洋紡績（株）から商品名「ＰＥＴＭＡＸ」で市販されるスルホン化ポリアニリン、マルアイ（株）から商品名「ＳＣＳ−ＮＥＯ」で市販されるポリアニリンも本発明に使用できる。
【００１９】
特許流通促進事業として特許流通支援チャートの平成１３年度  化学６「有機導電性ポリマー」に記載されている導電性高分子も本発明に使用できる。
【００２０】
特定のセリウム（IV）化合物としては、（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6、Ｃｅ（ＳＯ4）2、Ｃｅ（ＮＯ3）4、（ＮＨ4）4Ｃｅ（ＳＯ4）4が例示でき、（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6、Ｃｅ（ＳＯ4）2、（ＮＨ4）4Ｃｅ（ＳＯ4）4が好ましく、（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6、（ＮＨ4）4Ｃｅ（ＳＯ4）4がより好ましい。また、これらのセリウム（IV）塩は水和物であってもよい。本発明においては、（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6が短時間で導電性高分子をエッチング処理できるのでさらに好ましい。
また、前記エッチング工程のエッチング液は、白濁などのような問題が生じない範囲であれば、（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6、Ｃｅ（ＳＯ4）2、及び（ＮＨ4）4Ｃｅ（ＳＯ4）4よりなる群から選ばれた２種以上の特定のセリウム（IV）化合物を併用してもよいが、１種の特定のセリウム（IV）化合物のみを用いることが好ましい。なお、２種以上特定のセリウム（IV）化合物を併用する場合の濃度は、各特定のセリウム（IV）化合物ごとに求めるものとする。
特定のセリウム（IV）化合物を含むエッチング液の溶媒としては、前記セリウム塩を溶解でき、エッチング処理に影響のない媒体であれば、特に制限はないが、水であることが好ましい。また、溶媒として、水と無機酸との混合物を用いることも好ましい。
【００２１】
エッチング液に（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6を用いる場合、（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6の添加量は、エッチング能力から、０．５％を超える添加量であり、１．０％以上が好ましく、２．０％以上がより好ましく、５．０％以上がさらに好ましく、また、濃度と共に処理速度が上がるが、溶解度の点から、７０％以下であり、４０％以下が好ましく、３０％以下がより好ましく、１５％以下がさらに好ましい。（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6を用いたエッチング液において、上記範囲の濃度であるとエッチング能力が優れる。
【００２２】
（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6を含むエッチング液において、当該エッチング液の分解を防止するため、安定剤を用いることができるが、当該エッチング液については安定剤を配合した方が好ましい。当該安定剤としてはＨＮＯ3又はＨＣｌＯ4が好ましい。当該安定剤としてＨＮＯ3を用いた場合、その濃度は、０．１％より多いことが好ましく、また、７０％以下が好ましく、１．０〜６０％であることがより好ましく、５〜５０％であることがさらに好ましく、１０〜２０％であることが最も好ましい。また、当該安定剤としてＨＣｌＯ4を用いた場合、その濃度は、０．１％より多いことが好ましく、また、６０％以下が好ましく、１．０〜５０％であることがより好ましく、５〜４０％であることがさらに好ましい。なお、硫酸は、（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6エッチング液を白濁させるので安定剤として好ましくない。（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6を用いたエッチング液において、安定剤が上記範囲の濃度であるとエッチング液の安定性が向上する。
【００２３】
エッチング液にＣｅ（ＳＯ4）2を用いる場合は、Ｃｅ（ＳＯ4）2の含有量は、エッチング能力から、０．５％以上であり、１．０％以上が好ましく、また、濃度と共に処理速度が上がるが、溶解度の点から、３０％以下であり、２０％以下が好ましく、２．０〜２５％がより好ましく、５〜１５％がさらに好ましい。Ｃｅ（ＳＯ4）2を用いたエッチング液において、上記範囲の濃度であるとエッチング能力が優れる。
【００２４】
Ｃｅ（ＳＯ4）2を用いたエッチング液において、Ｃｅ（ＳＯ4）2のエッチング能力の低下を防止するため、安定剤を用いることができるが、当該エッチング液については安定剤を配合した方が好ましい。当該安定剤としてはＨＮＯ3又はＨ2ＳＯ4が好ましく、ＨＮＯ3がより好ましい。当該安定剤としてＨＮＯ3を用いた場合、その濃度は、０．１％より多いことが好ましく、また、７０％以下が好ましく、１．０〜６０％であることがより好ましく、５．０〜５０％であることがさらに好ましい。また、当該安定剤としてＨ2ＳＯ4を用いた場合、その濃度は、０．１％より多いことが好ましく、１．０％以上がより好ましく、２．０％以上がさらに好ましく、５．０％以上が特に好ましく、また、４０％以下が好ましく、３０％以下がより好ましく、２０％以下がさらに好ましい。Ｃｅ（ＳＯ4）2を用いたエッチング液において、安定剤が上記範囲の濃度であるとエッチング液のエッチング能の低下を防止することができるので好ましい。
【００２５】
エッチング液に（ＮＨ4）4Ｃｅ（ＳＯ4）4を用いる場合、（ＮＨ4）4Ｃｅ（ＳＯ4）4の添加量は、エッチング能力から、０．５％を超える添加量であり、１．０％以上が好ましく、２．０％以上がより好ましく、５．０％以上がさらに好ましく、また、濃度と共に処理速度が上がるが、溶解度の点から、３０％以下であり、２５％以下が好ましく、１５％以下がさらに好ましい。（ＮＨ4）4Ｃｅ（ＳＯ4）4を用いたエッチング液において、上記範囲の濃度であるとエッチング能力が優れる。
【００２６】
（ＮＨ4）4Ｃｅ（ＳＯ4）4を含むエッチング液において、当該エッチング液の分解を防止するため、安定剤を用いることができるが、当該エッチング液については安定剤を配合した方が好ましい。当該安定剤としてはＨ2ＳＯ4又はＨＣｌＯ4を用いた場合、その濃度は、１．０％より多いことが好ましく、また、４０％以下が好ましく、２．０〜３０％であることがより好ましく、３〜２０％であることがさらに好ましい。なお、硝酸は、（ＮＨ4）4Ｃｅ（ＳＯ4）4エッチング液を白濁させるので安定剤として好ましくない。（ＮＨ4）4Ｃｅ（ＳＯ4）4を用いたエッチング液において、安定剤が上記範囲の濃度であるとエッチング液の安定性が向上する。
【００２７】
特定のセリウム（IV）化合物を含むエッチング液は、Ｃｅ（ＮＯ3）4を用いてもよい。Ｃｅ（ＮＯ3）4の使用量としては、０．５％以上３０％以下であり、５．０〜２０％であることが好ましい。
Ｃｅ（ＮＯ3）4を用いる場合、使用直前に合成し、エッチング液に用いることが好ましい。Ｃｅ（ＮＯ3）4の合成方法としては、公知の方法により合成することができるが、例えば、イオン交換水中に水酸化セリウム及び硝酸を加えて加熱し合成する方法が挙げられる。また、Ｃｅ（ＮＯ3）4を用いる場合、当該安定剤としてＨＮＯ3を用いることが好ましい。
【００２８】
なお、特定のセリウム（IV）化合物を含むエッチング液に安定剤を用いた場合、安定剤の種類や、溶液の温度、溶液のｐＨ、溶液の極性、共通イオン効果等の影響により、（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6、Ｃｅ（ＳＯ4）2、（ＮＨ4）4Ｃｅ（ＳＯ4）4、又はＣｅ（ＮＯ3）4を含有するエッチング液における溶解度が変化することは言うまでもない。例えば、（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6を用いた場合、前記の種々の条件により、溶解度が７０％以下となることもある。その場合、前記エッチング液における（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6の使用量は、０．１重量％を超え飽和濃度となる量以下であり、Ｃｅ（ＳＯ4）2又はＣｅ（ＮＯ3）4についても同様である。
また、当該溶解度の一例として、ＨＮＯ3水溶液を用いた場合の各温度における（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6の飽和濃度を測定した。結果を下記表１及び２に示す。
【００２９】
【表１】
0005303994.tif 000002
【００３０】
【表２】
0005303994.tif 000003
【００３１】
前記エッチング工程におけるエッチング時の液温は、１０〜７０℃であることが好ましく、２０〜６０℃であることがより好ましく、３０〜５０℃であることがさらに好ましい。上記範囲の液温であるとエッチング能力が優れる。
前記エッチング工程におけるエッチング時間は、特に制限はないが、０．２〜３０分間が好ましく、０．３〜２５分間がより好ましく、０．４〜１５分間がさらに好ましい。上記範囲のエッチング時間であるとエッチング処理において基板等に与えるダメージが少ない。
また、前記エッチング工程におけるエッチング時間は、後述する分析工程によって得られた結果に応じて、長さを調節することが好ましい。
【００３２】
前記エッチング工程におけるエッチングの方法には、特に制限はなく、例えば、浸漬法とスプレー法どちらでも使用可能である。
前記エッチング液を使用して、導電性高分子をエッチングによりパターニングするには、エッチング液で導電性高分子が溶解しない部分を保護する、フォトレジストが必要になる。当該フォトレジストは紫外線を照射した部分が現像液に溶解するポジ型と紫外線を照射した部分が現像液に不溶化するネガ型がある。
ポジ型は液体のレジストが多くディスプレイではＬＣＤ等の線幅が数μｍオーダーのエッチングに用いられる。
ネガ型はドライフィルムレジストが多く、ディスプレイではＰＤＰ（プラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel））等の線幅が数十μｍオーダーのエッチングに用いられる。
ポジ型とネガ型どちらのレジストも本発明において使用可能なので、目的とするパターンの精細度によってポジ型とネガ型を選べばよい。
フォトレジストとしては、アルカリを用いて除去することの可能なレジストであることが好ましく、液体のレジストであることがより好ましい。
【００３３】
基板としては、特に制限はなく、使用用途に応じて選択することができ、具体的には、ガラス、石英、ポリエステル（例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリオレフィン（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）、ポリイミド、ポリアクリレート、メタクリレート等が挙げられる。また、基板が、透明な基板（透明基板）である場合に、非常に有効である。
【００３４】
前記エッチング工程の一例について、図１を参照して説明する。
図１Ａ〜図１Ｇは、前記エッチング液を用いて導電性高分子をエッチングして、導電性高分子の回路パターンを得る一例の概略工程図である。
前記エッチング液の使用例として、基板１（図１Ａ）上に導電性高分子膜２（図１Ｂ）をコーティングし、この基板１（図１Ｂ）上にレジスト３（図１Ｃ）を塗布し（図１Ｃ）、回路図に従って露光する（図１Ｄ）。そして露光した部分のレジストを現像液で除去し導電性高分子膜を露出させる（図１Ｅ）。現像した基板に前記エッチング液を用いてエッチングし（図１Ｆ）、導電性高分子膜をパターニングする。その後、洗浄し、残存するレジスト部を除去して導電性高分子膜がパターニングされた基板を得ることができる（図１Ｇ）。
なお、図１ではレジスト３として、ポジ型レジストを使用したが、本発明はこれに限定されるものではなく、ネガ型のレジストを使用することもできる。
【００３５】
（分析工程）
本発明のエッチング方法は、例えば、酸化還元電位測定、酸化還元滴定、及び、電気伝導度測定等のような分析手段により、エッチング液を分析する分析工程を含む。
前記分析手段としては、酸化還元電位測定、酸化還元滴定、電気伝導度測定、吸光度測定、比色測定、エッチング量測定、及び、エッチング速度測定等が例示できる。これらの中でも、前記分析手段は、酸化還元電位測定、酸化還元滴定、電気伝導度測定、及び、吸光度測定よりなる群から選ばれた少なくとも１つであることが好ましく、酸化還元電位測定、酸化還元滴定、及び、電気伝導度測定よりなる群から選ばれた少なくとも１つであることがより好ましく、酸化還元電位測定又は酸化還元滴定により少なくとも分析することがさらに好ましく、酸化還元電位測定により少なくとも分析することが特に好ましい。
【００３６】
特定のセリウム（IV）化合物を含むエッチング液は、その使用によって液中の酸化剤としてのＣｅ4+濃度が低下するが、本発明のエッチング方法では、このＣｅ4+濃度を分析し、その分析結果に応じて、エッチング液の管理を行うことが好ましい。
エッチング液中のＣｅ4+の減少量を求める手段としては、エッチング液の酸化還元滴定、及び／又は、酸化還元電位測定が好ましく例示できる。
また、エッチング液の疲労度、すなわち、現在のエッチング液における導電性高分子のエッチング可能量は、エッチング液の電気伝導度によっても判断することが可能である。電気伝導度は、液中に存在するイオンの量の指標である。本発明においては、硝酸イオン量の変化が電気伝導度を変化させる主要因と考えられるが詳細は明らかではない。
さらに、エッチング液の疲労度は、エッチング液の色の変化により判断することも好ましい手段である。すなわち、エッチング液の吸光度測定や、色見本等を用意し、それと比較する方法（比色測定）も好ましい方法である。
その他にも、エッチングされる導電性高分子のエッチング量を計る手段、エッチング液の導電性高分子のエッチング速度を測定する手段などを用いて求めてもよい。
特定のセリウム（IV）化合物を含むエッチング液中の酸化剤であるＣｅ4+濃度を測定すれば、Ｃｅ4+の減少量を直接的に求めることができるが、Ｃｅ3+濃度を測定することによってもＣｅ3+の増加量はそのままＣｅ4+の減少量になるため、Ｃｅ4+の減少量を求めることができる。
【００３７】
エッチング液中のＣｅ4+減少量は、例えば、エッチング液の酸化還元電位を測定することによって求めることができる。すなわち、エッチング液の酸化還元電位の測定したところ、Ｃｅ4+とＣｅ3+の割合から酸化還元電位をフィッティングすることが可能でることが確認され、よって全Ｃｅ濃度が判れば、酸化還元電位を測定することによりＣｅ4+の減少量を求めることができるのである。
【００３８】
Ｃｅ4+＋ｅ-→Ｃｅ3+の反応に可逆の酸化還元電位は以下のように表される。
Ｅ＝Ｅ0＋（ＲＴ／ｎＦ）ｌｎ［（Ｃｅ4+）／（Ｃｅ3+）］
Ｅ＝Ｅ0＋０．０５９×ｌｏｇ［（Ｃｅ4+）／（Ｃｅ3+）］
全Ｃｅ濃度は初期に投入するＣｅ量と供給したＣｅ量から推算できる。Ｅ0は文献値又は［Ｃｅ4+］＝［Ｃｅ3+］での酸化還元電位を実測することにより求められる。よってエッチング液の酸化還元電位Ｅを実測すれば、Ｃｅ3+の生成量が求まり、Ｃｅ4+の減少量が求められるのである。
【００３９】
さらにエッチング速度はエッチング液中のＣｅ4+濃度に対応し、その濃度が低下するとエッチング速度が遅くなる。そこでエッチング液中のＣｅ4+濃度を一定の範囲にすることにより速度を一定に維持できるから、エッチング速度を測定し、その速度を一定にするようにＣｅ4+を供給することによってもエッチング液の管理が可能である。エッチングの速度の測定は、エッチング処理する基板等に光を当て透過光の量を測定することにより、エッチングに要する時間を求めることができ、その値からエッチングの速度を求めることが可能である。
上記のエッチング液中のＣｅ4+の減少量を求める手段は、単独でも２つ以上組み合わせて行うことも可能である。
【００４０】
酸化還元電位（ＯＰＲ）測定は、簡便かつ連続的にモニターすることが可能であり、また、精度に優れた手段である。酸化還元滴定は、精度に優れた手段である。電気伝導度（ＥＣ）測定は、簡便かつ連続的にモニターすることが可能であり、分析数値の再現性の高い手段である。
また、酸化還元滴定は、導電性高分子やその分解物などの有機物の影響を受けないため、ヨウ化カリウムを用いた酸化還元滴定であることが好ましい。
具体的には、エッチング液にヨウ化カリウムを作用させ、遊離したヨウ素をチオ硫酸ナトリウムによる還元滴定手法により、溶解した四価のセリウムを定量することができる。
また、前記分析工程において、酸化還元電位（ＯＰＲ）測定と、電気伝導度（ＥＣ）測定とを併用して分析することが好ましい。ＯＲＰ測定が四価のセリウム（Ｃｅ4+）と三価のセリウム（Ｃｅ3+）の存在比に大きく影響を受けるのに対し、ＥＣ測定では硝酸やそれ以外の分子種によっても大きな影響を受ける。よって、ＯＲＰ測定とＥＣ測定とを併用することにより、ＥＣの変動がいつもと違う動きをした場合や、ＯＲＰの変化とＥＣの変化とが大きく異なる変化を起こした場合、何らかの異常（例えば、硝酸濃度が極端に低下したなど）が考えられ、より安定したエッチング液の管理が可能となる。
【００４１】
また、前記分析工程においては、特に分析対象に制限はなく、エッチング液の種々の要素に関する分析や、導電性高分子や基板等の被エッチング物に関する分析を行ってもよいことは言うまでもない。例えば、Ｃｅ4+濃度の分析だけでなく、種々の点からエッチングに関する分析を行うことにより、より安定したエッチング液の管理、また、より安定したエッチング方法全体の管理が可能となる。
【００４２】
（管理工程）
本発明のエッチング方法は、前記分析工程によって得られた結果に応じてエッチング工程を管理する管理工程を含む。
前記管理工程においては、前記分析工程によって得られたＣｅ4+濃度などの結果に応じて、様々な手段により、エッチング工程の管理を行えばよい。前記手段としては、特に制限はないが、下記に示す（１）〜（４）の手段のうち、少なくとも１つの手段を用いて管理することが好ましい。
（１）特定のセリウム（IV）化合物を１種以上補充する手段
（２）新しいエッチング液を補充する手段
（３）エッチング液の一部又は全てを交換する手段
（４）エッチング時間やエッチング温度を調節する手段
【００４３】
（１）特定のセリウム（IV）化合物を１種以上補充する手段としては、特定のセリウム（IV）化合物をエッチング液中へ固体として直接加える手段、及び／又は、Ｃｅ3+をＣｅ4+に酸化する手段が例示できる。
特定のセリウム（IV）化合物をエッチング液中へ固体として直接加える場合には、エッチング液を撹拌できることが好ましい。
特定のセリウム（IV）化合物としては、前述した（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6、Ｃｅ（ＳＯ4）2、Ｃｅ（ＮＯ3）4又は（ＮＨ4）4Ｃｅ（ＳＯ4）4が例示できる。この中でも、（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6（硝酸セリウムアンモニウム）を補充することが好ましい。
Ｃｅ3+をＣｅ4+に酸化する手段としては、電気的に酸化する手段や、酸化剤により酸化する手段が例示できる。電気的に酸化する手段における電極や、酸化剤により酸化する手段における酸化剤は、公知のものを用いることができる。
【００４４】
（２）新しいエッチング液を補充する手段としては、特定のセリウム（IV）化合物を含む溶液（補充液）をエッチング液に加える手段が好ましく例示できる。
特定のセリウム（IV）化合物を含む溶液をエッチング液に加える手段における溶液は、特定のセリウム（IV）化合物のみを含む溶液であっても、特定のセリウム（IV）化合物だけでなく、酸等の他の成分を含む溶液であってもよい。また、特定のセリウム（IV）化合物のみを含む溶液を添加する場合であっても、酸等の他の成分を含む溶液を別途添加してもよいことは言うまでもない。
エッチング液の安定性の面からは、特定のセリウム（IV）化合物の加える方法や添加の有無にかかわらず、安定剤の濃度を管理するのが好ましい。管理する方法としては公知の方法が利用できる。
特定のセリウム（IV）化合物を含む溶液をエッチング液に加える手段における特定のセリウム（IV）化合物を含む溶液の濃度は、特に制限はないが、エッチング装置における容積の点から、導電性高分子をエッチングする前のエッチング液の濃度（初期濃度）と同じであるか、エッチング液の初期濃度よりも濃い溶液であることが好ましく、エッチング液の初期濃度よりも濃い溶液であることがより好ましい。
【００４５】
新しいエッチング液を補充する手段としては、硝酸セリウムアンモニウム溶液を補充液として補充する手段であることが特に好ましい。
また、エッチング液には、前記特定のセリウム（IV）化合物以外にも、エッチング液が含有していてもよい他の成分を添加してもよい。
例えば、エッチング液中の酸の濃度を一定に保つために酸、例えば、硝酸や硫酸、又は、その溶液を添加することも好ましい。
また、エッチング液へ供給する際、各成分を混合した一液として供給することは必ずしも必要でなく、複数の溶液に分けて供給してもよい。また、エッチング液への供給方法に特に制限はなく、例えば、一時に添加しても、連続的に添加しても、間歇的に添加してもよい。
【００４６】
（３）エッチング液の一部又は全てを交換する場合、前記分析工程によって得られた結果に応じ、エッチング液の一部をどの程度の量交換するか、又は、エッチング液の全てを交換するか判断すればよい。また、エッチング液の交換時期も、前記分析工程によって得られた結果に応じ、判断すればよい。
エッチング液の全てを交換する場合、エッチングを行うエッチング槽の洗浄を行うことが好ましい。洗浄方法としては、特に制限はないが、水洗及び／又はエッチング液での共洗いが好ましく例示できる。また、必要に応じて、有機溶媒による洗浄や、エッチング槽に塩が生成している場合は塩の除去などを行ってもよい。
このような交換操作や洗浄操作は、装置に自動化装置を組み込み自動で行ってもよく、また、使用者自身が手動にて行ってもよい。
【００４７】
（４）エッチング時間やエッチング温度を調節する手段としては、前記分析工程によって得られた結果に応じて、例えば、エッチング液中のＣｅ4+濃度が低い場合においては、通常よりエッチングを行う時間を長くする、及び／又は、エッチング温度を高くするといった対応や、Ｃｅ4+濃度が高い場合においては、通常よりエッチングを行う時間を短くする、及び／又は、エッチング温度を低くするといった対応が例示できる。また、エッチング時間やエッチング温度の調節は、エッチング液中のＣｅ4+濃度についてだけでなく、エッチング液の現在の温度、Ｃｅ3+濃度（全セリウム濃度）、エッチングした導電性高分子の量のようなエッチング液の含有物の量や物性を考慮して、行うこともできる。
【００４８】
前記管理工程において、エッチング液中のＣｅ4+濃度は最適値にコントロールすることが好ましいが、実際の管理操作では最適値を含むある濃度範囲内で行われる。通常、Ｃｅ4+濃度の上限はエッチングが速すぎてエッチングのコントロールができなくなる値であり、下限値はエッチングが進まなくなる値で決められるが、実際には、これに経済性を加味して濃度範囲が決められることになる。
【００４９】
また、前記管理工程においては、エッチング液の特定のセリウム（IV）化合物の含有量が前記エッチング工程にて記載した濃度範囲未満、より好ましくは１．０％未満、さらに好ましくは２．０％未満、特に好ましくは５．０％未満になった場合、前記（１）又は（２）の手段を行うことが好ましい。
【００５０】
また、エッチング処理された基板に付着して系外に持ち出されて排出されるエッチング液相当量を、新たなエッチング液又はエッチング液の構成成分をエッチング液中に供給し、エッチング液の液量を一定に保つことにより、さらに安定したエッチング処理が可能になり好ましい。
【００５１】
また、前記管理工程における管理は、エッチング液中のＣｅ4+濃度の管理だけではなく、エッチング液のＣｅ4+濃度以外の要素に関する管理や、導電性高分子や基板等の被エッチング物に関する管理を行ってもよいことは、言うまでもない。上記に例示したＣｅ4+濃度の管理だけでなく、エッチング液の他の成分（酸濃度、全セリウム量、導電性高分子の分解物量など）についてもエッチングに関する管理を行うことにより、より安定したエッチング液の管理、また、より安定したエッチング方法全体の管理が可能となる。
【００５２】
本発明のエッチング方法を実施するための装置としては、本発明のエッチング方法を行うことが可能であれば特に制限はないが、エッチング槽又はエッチング散布器を備えたエッチング装置へエッチング液のＣｅ4+濃度を所定範囲に維持するためにエッチング液を供給する装置を有しており、この供給装置にはエッチング液中のＣｅ4+濃度￥の検知用装置が付設され、該供給装置は、検知結果に基づいて操作されることよりなるエッチング液管理装置であることが好ましい。
前記分析工程において各測定装置により得られた結果をコンピューター等により管理し、前記管理工程を行ってもよく、また、前記結果を使用者に通知し、使用者自身が前記管理工程を行ってもよい。
【００５３】
この管理装置に付設されるＣｅ4+濃度の検知用装置としては、検知手段に応じて決められ、具体的には、酸化還元電位を測定する装置、酸化還元滴定を行う装置、電気伝導度を測定する装置などが挙げられる。このような酸化還元電位測定、酸化還元滴定、電気伝導度測定を行う方法やその装置は、例えば、「改訂五版 分析化学便覧」社団法人日本分析化学会編、２００１年、丸善（株）発行など参照することができる。
また、基板のエッチング速度を測定する装置も使用することができる。基板のエッチング量検知用装置としては、エッチング処理した基板数を検知する装置が挙げられる。
【００５４】
本発明の導電性高分子を有する基板は、本発明のエッチング方法によりエッチングされた導電性高分子を有する基板であり、本発明のエッチング方法によりエッチングされた導電性高分子を有する透明基板である場合に有効である。
本発明のエッチング方法は、電解コンデンサー、電池、タッチパネル、液晶パネル、電子ペーパー、有機ＥＬを用いた照明、及び、有機ＥＬ素子等に用いる導電性高分子のエッチングに適用することができる。
したがって、高分子有機ＥＬディスプレイに代表されるディスプレイの表示画素部分の導電性高分子及び周辺回路と導電性高分子の接続部分のパターニング、タッチパネルの検出部分の導電性高分子及び周辺回路と導電性高分子の接続部分のパターニング、コンデンサー製造時に不要部分に付着した導電性高分子の除去などといったエッチングの必要な用途において導電性高分子の利用を促進することが期待できる。
また、本発明の導電性高分子を有する基板は、電解コンデンサー、電池、タッチパネル、液晶パネル、電子ペーパー、有機ＥＬを用いた照明、及び、有機ＥＬ素子等に好適に用いることができる。
【実施例】
【００５５】
以下、実施例を用いて本発明を説明するが、これらの実施例で本発明が限定されるものではない。
【００５６】
（実施例１）
水に、所定量の硝酸セリウムアンモニウム（（ＮＨ4）2Ｃｅ（ＮＯ3）6（以下、「ＣＡＮ」ともいう。）と濃硝酸とを表３に示した割合で添加し、エッチング液１を作製した。
別に２．５×５ｃｍ角のポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）シートの表面にポリチオフェン系導電性高分子（エイチ・シー・スタルク株式会社製Ｂａｙｔｒｏｎ  ＰＨ  ５００）を、導電性高分子の重量が１００ｍｇになるように製膜したものを作製し、エッチング試験に供した。
このエッチング液１００ｇに製膜した導電性高分子試験片を浸漬し、室温にて２７時間撹拌させ溶解させた。
ついで、ＣＡＮ濃度を、ヨウ化カリウムを用いた滴定法（酸化還元滴定法）により求めた。結果を表４及び図２に示した。
その結果、導電性高分子のエッチング量につれてＣＡＮ濃度が減少することが確認された。このことから、エッチング液のＣＡＮ濃度を酸化還元滴定により求めることにより、エッチング液の液管理が可能であることがわかった。
この図中の近似式よりＣＡＮ濃度が０となる導電性高分子量を求めると、エッチング液１  １００ｇあたり４４４ｍｇであった。
【００５７】
【表３】
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【００５８】
【表４】
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【００５９】
（実施例２）
実施例１と同様にして表３に示したエッチング液２を作製した。また、同様に２．５×５ｃｍ角のＰＥＴシートの表面にポリチオフェン系導電性高分子（エイチ・シー・スタルク株式会社製Ｂａｙｔｒｏｎ  ＰＨ  ５００）を、導電性高分子の重量が５０ｍｇになるように製膜したものを作製し、エッチング試験に供した。実施例１と同じ方法で導電性高分子を溶解させた。
ついで、ＣＡＮ濃度を、ヨウ化カリウムを用いた滴定法（酸化還元滴定法）により求めた。結果を表５及び図３に示した。
その結果、ＣＡＮ濃度及び硝酸濃度を変えても、導電性高分子添加量が増すにつれてＣＡＮ濃度が減少することが確認された。
【００６０】
【表５】
0005303994.tif 000006
【００６１】
（実施例３）
エッチング液１及び２それぞれ１００ｇに導電性高分子試験片を浸漬し、室温にて２７時間撹拌させ溶解させた。ついで、酸化還元電位（ＯＲＰ）を測定した。結果を表６に示した。
その結果、導電性高分子添加量が増すにつれてＯＲＰが減少することが確認された。このことから、ＯＲＰにより、エッチング液の液管理が可能であることがわかった。
【００６２】
【表６】
0005303994.tif 000007
【００６３】
（実施例４）
エッチング液１  １３０ｇに、導電性高分子（エイチ・シー・スタルク株式会社製Ｂａｙｔｒｏｎ  ＰＨ  ５００）３４ｍｇを添加し、経時的にＯＲＰを測定した。ついで同様に１０８．８ｍｇ、１６４．２ｍｇ、２６５．２ｍｇと添加し同様にＯＲＰを測定した。ここまでのトータルの添加量が５７２．２ｍｇである。実施例１より求めた式より算出されるＣＡＮ濃度が０となる値は５７７ｍｇであるため、ほぼすべてのＣＡＮがエッチングで費やされたことになる。
一晩放置後、さらに２０ｍｇ添加したところ、ＯＲＰの大幅な低下が見られた。すなわち、ＣＡＮ濃度がほぼ０になることによりＯＲＰが急激に低下することがわかった。
このことから、エッチング液のエッチング能力の限界をＯＲＰ測定により把握できることがわかった。また、液の色が濃橙色か黄色へと薄くなったことより、吸光度測定や色見本等を用いることにより、エッチング液管理、及び、エッチング能力の限界を把握できることもわかった。ＯＲＰの測定データを図４及び図５に示す。
【００６４】
（実施例５）
エッチング液１及び２それぞれ１００ｇに導電性高分子試験片を浸漬し室温にて２７時間撹拌させ完全に溶解させた。
ついで、電気伝導度（ＥＣ）を測定した。結果を表７に示した。
その結果、導電性高分子添加量が増すにつれてＥＣが減少することが確認された。このことから、ＥＣにより、エッチング液の液管理が可能であることがわかった。
【００６５】
【表７】
0005303994.tif 000008
【００６６】
（実施例６）
ＰＥＴシートの表面に導電性高分子（エイチ・シー・スタルク株式会社製Ｂａｙｔｒｏｎ  ＰＨ  ５００）を用いて約５０ｎｍの薄膜を作製したものをテスト基板とした。
ドライフィルムレジスト製品名ＯＲＤＹＬ  ＬＦ５２５（東京応化工業（株）製）を、ラミネーターを用いてテスト基板に貼り付けた。ドライフィルムレジストを貼り付けた前述のテスト基板に、型枠式真空露光機を用いてマスターパターンを密着させながら紫外線を照射して露光した。１％Ｎａ2ＣＯ3水溶液を現像液として、３０℃に調節しながら露光済みのテスト基板にスプnレー圧力１ＭＰａで噴霧し、現像した。
【００６７】
現像済みのテスト基板を水洗後、エッチング液１  １００ｇ（液温３０℃）で浸漬してエッチングを１分間行った。
テスト基板のエッチングを繰り返し、エッチング液のＣＡＮ濃度が５％未満となった時点で、各テスト基板のエッチング時間を５分に変更し、さらにテスト基板のエッチングを行った。
エッチング液のＣＡＮ濃度が０．５％未満となる直前で、エッチングを停止し、ＣＡＮ濃度が２０％のエッチング液（エッチング液１の２倍のＣＡＮ濃度）を５０ｇ添加し、再度、テスト基板を液温３０℃にて１分間エッチングを行ったところ、十分にエッチングされたテスト基板が得られた。
また、エッチング液のＣＡＮ濃度が０．５％未満となる直前、又は、０．５％未満となった際に、エッチング液を新しいエッチング液１に交換して、さらなるエッチングを行うこともできる。
【００６８】
なお、エッチング済みのテスト基板は、３％ＮａＯＨ水溶液を液温３０℃に調節しながら２分間浸漬しドライフィルムレジストを剥離した。
ドライフィルムレジストを剥離したテスト基板を水洗し、エアーを吹き付けて乾燥したところ、パターニングされた導電性高分子を有する基板が得られた。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】エッチング液を用いて導電性高分子をエッチングして導電性高分子の回路パターンを得る概略工程図の一例である。
【図２】実施例１において、ヨウ化カリウムを用いた滴定法（酸化還元滴定法）により求めたＣＡＮ濃度をプロットした図である。
【図３】実施例２において、ヨウ化カリウムを用いた滴定法（酸化還元滴定法）により求めたＣＡＮ濃度をプロットした図である。
【図４】実施例４において測定した酸化還元電位（ＯＲＰ）を経時（０〜７００分）でプロットした図である。
【図５】実施例４において測定した酸化還元電位（ＯＲＰ）を経時（６００〜２，０００分）でプロットした図である。
【符号の説明】
【００７０】
Ａ：基板のみの概念図
Ｂ：基板に導電性高分子膜を取付けた概念図
Ｃ：導電性高分子膜の上にレジストを塗布したものの概念図
Ｄ：回路パターンに従ってレジストを露光した概念図
Ｅ：露光したレジストを除去した後の概念図
Ｆ：導電性高分子膜をエッチングした後の概念図
Ｇ：レジストを除去して導電性高分子を用いた回路図が完成した概念図
１：基板
２：導電性高分子膜
３：レジスト
４：露光したレジスト
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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