(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
本体と、
光走査装置を保持し、前記本体に所定の開放位置と閉鎖位置との間で回転自在に支持された蓋体と、を備え、
前記光走査装置は、レーザ光を発する光源、レーザ光の光路を遮断する光路遮断位置とレーザ光の光路を開放する光路開放位置との間で変位自在なシャッタ部材、前記光源及び前記シャッタ部材を内蔵して前記本体に対向する底面に開口部を有する筐体、並びに弾性を有する防塵部材を有し、
前記本体は、前記開口部を通って前記シャッタ部材に当接自在な当接部材であって、前記蓋体が前記開放位置にあるとき前記シャッタ部材から離間することで前記シャッタ部材を前記光路遮断位置に配置させ、前記蓋体が前記閉鎖位置にあるとき前記シャッタ部材に当接することで前記シャッタ部材を前記光路開放位置に配置させる当接部材を有し、
前記シャッタ部材は、前記光路遮断位置において前記開口部を前記筐体の内側から閉塞する閉塞部を含み、
前記防塵部材は、前記筐体の外側であって前記開口部の周囲に配置され、前記蓋体が前記閉鎖位置にあるとき前記当接部材の周辺部に全周にわたって圧接するように構成される、画像形成装置。
【請求項２】
前記当接部材の長さ及び前記防塵部材の厚さは、前記蓋体が前記開放位置から前記閉鎖位置へ移動した際に前記防塵部材が前記周辺部に接触した後に前記閉塞部が前記開口部を開放し、前記蓋体が前記閉鎖位置から前記開放位置へ移動した際に前記閉塞部が前記開口部を閉塞した後に前記防塵部材が前記周辺部から離間するように設定される、請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記当接部材の長さ及び前記防塵部材の厚さは、前記蓋体が前記開放位置から前記閉鎖位置へ移動した際に前記防塵部材が前記周辺部に接触した後に前記シャッタ部材が前記光路遮断位置から前記光路開放位置へ変位し、前記蓋体が前記閉鎖位置から前記開放位置へ移動した際に前記シャッタ部材が前記光路開放位置から前記光路遮断位置へ変位した後に前記防塵部材が前記周辺部から離間するように設定される、請求項１又は２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記シャッタ部材は、前記当接部材が当接する突起部を有する、請求項１から３のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項５】
前記本体は、前記光走査装置によって形成された静電潜像を現像する現像ユニットを着脱自在に保持し、
前記当接部材は、前記現像ユニットに設けられる、請求項１から４のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記シャッタ部材は、前記筐体に軸支される、請求項１から５のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記シャッタ部材は、貫通孔を有し、
前記筐体は、前記貫通孔に挿通されてレーザ光の走査方向に沿った前記シャッタ部材の移動を規制するガイド部を有する、請求項１から６のいずれかに記載の画像形成装置。
【請求項８】
前記光走査装置は、前記蓋体に対して所定範囲内で揺動自在に支持されるとともに、弾性部材によって前記蓋体から離間する方向に付勢される、請求項１から３のいずれかに記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、互いに回転自在にそれぞれの一端部で互いに軸支された本体及び蓋体を備え、蓋体に光走査装置が保持された画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式の画像形成装置は、光走査装置及び画像形成部を備える。光走査装置から発せられたレーザ光は、画像形成部に備えられた静電潜像担持体に照射され、電子写真プロセスを経て用紙に画像が形成される。
【０００３】
このような画像形成装置は、画像形成部等のメンテナンスを行うために内部を容易に開放可能に構成されることが好ましい。一方、レーザ光は微小スポット状に絞られて高エネルギーを有するので、メンテナンス時にレーザ光が外部へ漏れることを防止する必要がある。
【０００４】
そこで、互いに回転自在にそれぞれの一端部で結合された本体及び蓋体と、レーザ光の光路上に上下動自在に配置されたシャッタ部材とを備え、蓋体が閉じられると突起がシャッタ部材を押し上げて光路が開放され、蓋体が開かれると突起が退避してシャッタ部材が自重によって下降して光路が遮断されるように構成された画像形成装置が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平６−３０５１８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献１に記載の画像形成装置では、本体と蓋体とは一端部を支点にして互いに回転移動し、本体に設けられた突起が蓋体に設けられた貫通孔を円弧状の軌跡に沿って通過することから、突起と貫通孔との間には間隙が設けられる必要がある。このため、突起と貫通孔との間の間隙を通って光走査装置の内部へ塵埃が進入する虞がある。
【０００７】
この発明の目的は、光路遮断位置と光路開放位置との間で変位自在なシャッタ部材を備えた光走査装置の内部への塵埃の進入を防止できる画像形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明の画像形成装置は、本体及び蓋体を備える。蓋体は、光走査装置を保持し、本体に所定の開放位置と閉鎖位置との間で回転自在に支持される。光走査装置は、レーザ光を発する光源、レーザ光の光路を遮断する光路遮断位置とレーザ光の光路を開放する光路開放位置との間で変位自在なシャッタ部材、光源及びシャッタ部材を内蔵して本体に対向する底面に開口部を有する筐体、並びに弾性を有する防塵部材を有する。本体は、開口部を通ってシャッタ部材に当接自在な当接部材であって、蓋体が開放位置にあるときシャッタ部材から離間することでシャッタ部材を光路遮断位置に配置させ、蓋体が閉鎖位置にあるときシャッタ部材に当接することでシャッタ部材を光路開放位置に配置させる当接部材を有する。シャッタ部材は、光路遮断位置において開口部を筐体の内側から閉塞する閉塞部を含む。防塵部材は、筐体の外側であって開口部の周囲に配置され、蓋体が閉鎖位置にあるとき当接部材の周辺部に全周にわたって圧接するように構成される。
【０００９】
この構成では、通常動作時即ち蓋体が閉鎖位置にあるときは、当接部材がシャッタ部材に当接してシャッタ部材が光路開放位置に配置され、画像形成処理を実行可能な状態になる。また、防塵部材が当接部材の周辺部に全周にわたって圧接することで、開口部が筐体の外側から閉塞される。一方、メンテナンス時即ち蓋体が開放位置に配置されたときは、当接部材がシャッタ部材から離間してシャッタ部材が光路遮断位置に配置されるので、誤動作等によって光源からレーザ光が発せられた場合でも光走査装置の筐体内でレーザ光が遮断され、筐体の外部へのレーザ光の漏れが防止される。また、シャッタ部材によって開口部が光走査装置の内側から閉塞される。このように、通常動作時及びメンテナンス時の両方において、開口部が閉塞される。
【００１０】
上述の構成において、当接部材の長さ及び防塵部材の厚さは、蓋体が開放位置から閉鎖位置へ移動した際に防塵部材が周辺部に接触した後に閉塞部が開口部を開放し、蓋体が閉鎖位置から開放位置へ移動した際に閉塞部が開口部を閉塞した後に防塵部材が周辺部から離間するように設定されることが好ましい。これによって、開口部は筐体の外側又は内側の何れかから常に閉塞される。
【００１１】
また、当接部材の長さ及び防塵部材の厚さは、蓋体が開放位置から閉鎖位置へ移動した際に防塵部材が当接部材の周辺部に接触した後にシャッタ部材が光路遮断位置から光路開放位置へ変位し、蓋体が閉鎖位置から開放位置へ移動した際にシャッタ部材が光路開放位置から光路遮断位置へ変位した後に防塵部材が当接部材の周辺部から離間するように設定することもできる。これによっても、開口部は筐体の外側又は内側の何れかから常に閉塞される。
【００１２】
さらに、シャッタ部材は、当接部材が当接する突起部を有することが好ましい。シャッタ部材が突起部を有することで、突起部の長さ分だけ当接部材の突出長さを短くすることができ、当接部材の突出による作業性の低下が抑制される。
【００１３】
また、本体は、光走査装置によって形成された静電潜像を現像する現像ユニットを着脱自在に保持し、当接部材は、現像ユニットに設けられることが好ましい。これによって、現像ユニットが本体から取り外された状態ではシャッタ部材は光路開放位置に変位することがなく常に光路遮断位置に配置されるので、誤動作等によって光源からレーザ光が発せられた場合でも光走査装置の筐体内でレーザ光が遮断され、画像形成処理を実行不可能な状態でレーザ光が光走査装置の筐体の外部へ出射されることが防止される。
【００１４】
さらに、シャッタ部材は、光走査装置の筐体に軸支されることが好ましい。これによって、シャッタ部材は光路遮断位置と光路開放位置とに回転移動するので、直線移動するように構成された場合と比較して、光走査装置の小型化が可能になる。
【００１５】
また、シャッタ部材は貫通孔を有し、光走査装置の筐体は、貫通孔に挿通されてレーザ光の走査方向に沿ったシャッタ部材の移動を規制するガイド部を有することが好ましい。これによって、レーザ光の走査方向に沿った方向へのシャッタ部材の位置ずれが防止されるので、閉塞部が開口部に対して位置ずれすることによる筐体の内部と外部との連通が防止される。
【００１６】
さらに、光走査装置は、蓋体に対して所定範囲内で離接自在に支持されるとともに、弾性部材によって蓋体から離間する方向に付勢されることが好ましい。光走査装置が蓋体に対して離間する方向に付勢されることで、蓋体が閉鎖位置に配置されたときに、防塵部材と本体との圧接力が高まり、開口部の閉塞性が向上する。
【発明の効果】
【００１７】
この発明によれば、光路遮断位置と光路開放位置との間で変位自在なシャッタ部材を備えた光走査装置の内部への塵埃の進入を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】（Ａ）は、この発明の実施形態に係る画像形成装置の閉鎖状態の概略構成を示す側面断面図であり、（Ｂ）は、この発明の実施形態に係る画像形成装置の開放状態の概略構成を示す側面断面図である。
【図２】光走査装置の概略構成を示す平面断面図である。
【図３】シャッタ部材が光路開放位置に配置された光走査装置を筐体の一部を取り外した状態で背面側から見た斜視図である。
【図４】図３に示すシャッタ部材の第１端部の拡大図である。
【図５】図３に示すシャッタ部材の第２端部の拡大図である。
【図６】シャッタ部材が光路遮断位置に配置された光走査装置を筐体の一部を取り外した状態で背面側から見た斜視図である。
【図７】図６に示すシャッタ部材の第１端部の拡大図である。
【図８】図６に示すシャッタ部材の第２端部の拡大図である。
【図９】上下反転させた状態の蓋体を背面側から見た斜視図である。
【図１０】（Ａ）は、閉鎖状態における画像形成装置の一部拡大断面図であり、（Ｂ）は、閉鎖状態から開放状態への移行中における画像形成装置の一部拡大断面図である。
【図１１】一部の部材が取り外された状態における画像形成装置の側面断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下に、この発明を実施するための形態について、図面に基づいて説明する。
【００２０】
図１（Ａ）及び図１（Ｂ）に示すように、画像形成装置１０は、本体２０、及び蓋体３０を備えている。蓋体３０は、本体２０に対して所定範囲内で回転自在となるように、一端部が本体２０の一端部に軸支されている。これによって、画像形成装置１０が本体２０を下にして置かれたとき、蓋体３０は、本体２０に対して、図１（Ａ）に示す閉鎖位置と、図１（Ｂ）に示す開放位置との間で回転自在である。画像形成装置１０は、画像形成時には、蓋体３０が閉鎖位置に配置された閉鎖状態にされ、後述する現像ユニット７３の交換時、及び後述する感光体ドラム７１を含む感光体ユニットの交換時等の、メンテナンス時には、蓋体３０が開放位置に配置された開放状態にされる。
【００２１】
蓋体３０は、スキャナユニット４０及び光走査装置５０を保持している。
【００２２】
スキャナユニット４０は、蓋体３０の上部に配置されている。スキャナユニット４０は、原稿台４１、原稿台カバー４２、及びＣＩＳ（contact image sensor）４３を有している。ＣＩＳ４３は、画像読取部の一例であって、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）センサ及び光学系部材を搭載した走査ユニットで代用することもできる。
【００２３】
原稿台カバー４２は、本体２０と蓋体３０とが軸支された端部と同じ側の端部を軸として、原稿台４１の上面を開閉自在に揺動する。ＣＩＳ４３は、原稿台４１の下側に配置され、原稿台４１に沿って副走査方向に移動することで、原稿台４１に載置された原稿の画像を読み取って画像データを生成する。
【００２４】
光走査装置５０は、蓋体３０の底部に配置されている。図２に示すように、光走査装置５０は、半導体レーザ（光源）５１、コリメータレンズ５２、シリンドリカルレンズ５３、ポリゴンミラー５４、第１ｆθレンズ５５、第２ｆθレンズ５６、反射ミラー５７、シャッタ部材６０、及びこれらの部材を内部に収容する筐体５８を備えている。筐体５８は、反射ミラー５７の下方に、レーザ光の走査方向である主走査方向９１に長い防塵ガラス５９を有している。
【００２５】
ポリゴンミラー５４は、図示しないモータによって、所定方向に高速回転する。半導体レーザ５１は、画像データに基づいてレーザ光を発する。半導体レーザ５１から発せられたレーザ光は、コリメータレンズ５２及びシリンドリカルレンズ５３を透過して、偏向手段であるポリゴンミラー５４によって等角速度で偏向された後、第１ｆθレンズ５５及び第２ｆθレンズ５６に入射し、防塵ガラス５９を通って本体側へ向かうように反射ミラー５７によって向きを変えられて、等速度で主走査方向９１の走査を行う。
【００２６】
シャッタ部材６０は、第２ｆθレンズ５６と反射ミラー５７との間の光路上に配置されている。シャッタ部材６０の詳細については、後述する。
【００２７】
本体２０は、電子写真プロセス部７０及び給紙部８０を備えている。
【００２８】
電子写真プロセス部７０は、静電潜像担持体である感光体ドラム７１、帯電器７２、現像ユニット７３、転写器７４、クリーニングユニット７５、及び定着装置７６を有している。
【００２９】
帯電器７２は、感光体ドラム７１の周面を所定電位に帯電させる。半導体レーザ５１から発せられて防塵ガラス５９を通過したレーザ光は、感光体ドラム７１の周面に照射され、これによって感光体ドラム７１の周面に画像データに基づく静電潜像が形成される。
【００３０】
現像ユニット７３は、本体２０に対して着脱自在に装着されている。現像ユニット７３は、感光体ドラム７１の周面にトナー（現像剤）を供給することで、静電潜像をトナー像に現像する。転写器７４は、トナー像を、給紙部８０から供給された用紙に転写する。クリーニングユニット７５は、トナー像が用紙に転写された後に感光体ドラム７１の周面に残留するトナーを回収する。定着装置７６は、トナー像を担持した用紙を加熱及び加圧することで、トナー像を用紙に堅牢に固着させる。
【００３１】
図３に示すように、シャッタ部材６０は、主走査方向９１に長く、主走査方向９１の両端部を筐体５８に軸支されている。シャッタ部材６０は、図３〜図５に示すようにレーザ光の光路を開放する光路開放位置と、図６〜図８に示すようにレーザ光の光路を遮断する光路遮断位置との間で変位自在に構成されている。
【００３２】
シャッタ部材６０は、シャッタ部材６０の位置でレーザ光が通過する主走査方向９１の領域（以下、光路領域という。）の外側であって主走査方向９１の両端部に、貫通孔６１，６２を有している。筐体５８には、貫通孔６１，６２に挿通されるガイド部５８１，５８２が設けられている。ガイド部５８１，５８２の主走査方向９１の寸法は、貫通孔６１，６２の主走査方向９１の寸法よりも若干小さい。ガイド部５８１，５８２は、シャッタ部材６０の変位方向に沿って延びており、シャッタ部材６０が光路開放位置と光路遮断位置との間のいずれの位置にある場合でも貫通孔６１，６２に挿通される長さを有している。このため、シャッタ部材６０の主走査方向９１への位置ずれが防止される。
【００３３】
シャッタ部材６０の主走査方向９１における両端部には、付勢部材の一例であるコイルバネ６３，６４（但し、コイルバネ６３は図示されていない。）が配置されている。シャッタ部材６０は、コイルバネ６３，６４によって、光路開放位置から光路遮断位置へ向かう方向へ付勢されている。
【００３４】
図９に示すように、筐体５８は、本体２０に対向する底面に開口部５８３，５８４を有している。開口部５８３，５８４は、光路領域の外側であって主走査方向９１におけるシャッタ部材６０の両端部に対向する位置に設けられている。
【００３５】
シャッタ部材６０は、開口部５８３，５８４のそれぞれに対向する位置に、閉塞部６５，６６を有している。閉塞部６５，６６は、シャッタ部材６０が光路遮断位置に配置された状態で開口部５８３，５８４を光走査装置５０の内側から閉塞する。閉塞部６５，６６は、一例として、プレート状に構成されている。
【００３６】
図１（Ａ）、図１（Ｂ）、図１０（Ａ）、及び図１０（Ｂ）に示すように、閉塞部６５，６６には、本体２０側へ突起する突起部６７，６８（但し、突起部６７は図示されていない。）を有している。
【００３７】
本体２０は、蓋体３０側へ向けて突出する当接部材２１，２２（但し、当接部材２１は図示されていない。）を備えている。当接部材２１，２２は、それぞれ開口部５８３，５８４を通ってシャッタ部材６０の突起部６７，６８に当接自在に構成されている。
【００３８】
図１（Ａ）に示すように蓋体３０が閉鎖位置にあるとき、図１０（Ａ）に示すように、当接部材２１，２２は、開口部５８３，５８４を通って突起部６８に当接してシャッタ部材６０を押し上げ、シャッタ部材６０を光路開放位置に配置させる。これによって、通常動作時即ち蓋体が閉鎖位置にあるときは、レーザ光が、シャッタ部材６０に遮断されることなく感光体ドラム７１に照射されるようになる。
【００３９】
筐体５８の外側であって開口部５８３，５８４の周囲には、弾性を有する防塵部材５８５，５８６（但し、防塵部材５８５は図示されていない。）がそれぞれ配置されている。防塵部材５８５，５８６は、環状を呈し、開口部５８３，５８４のそれぞれの周囲の全域に配置されている。防塵部材５８５，５８６は、蓋体３０が閉鎖位置にあるとき当接部材２１，２２の周辺部に全周にわたって圧接するように構成されている。防塵部材５８５，５８６は、例えばウレタンスポンジで形成される。蓋体３０が閉鎖位置にあるとき、防塵部材５８５，５８６が当接部材２１，２２の周辺部に全周にわたって圧接するので、開口部５８３，５８４が筐体５８の外側から閉塞される。
【００４０】
一方、蓋体３０が図１（Ａ）に示す閉鎖位置から図１（Ｂ）に示す開放位置への変位を開始すると、図１０（Ｂ）に示すように、光走査装置５０が当接部材２１，２２に対して離間するので、シャッタ部材６０は、コイルバネ６３，６４の弾性力によって下向きに回転し、光路遮断位置に配置される。これによって、シャッタ部材６０の閉塞部６５，６６が開口部５８３，５８４に筐体５８の内側から圧接する。閉塞部６５，６６が開口部５８３，５８４に接触した後に、防塵部材５８５，５８６が当接部材２１，２２の周辺部から離間する。
【００４１】
メンテナンス時即ち蓋体３０が開放位置に配置されたときは、シャッタ部材６０が光路遮断位置に配置されるので、誤動作等によって半導体レーザ５１からレーザ光が発せられた場合でも筐体５８内でレーザ光が遮断され、筐体５８の外部へのレーザ光の漏れが防止される。
【００４２】
また、蓋体３０が開放位置に配置されたときは、シャッタ部材６０の閉塞部６５，６６が開口部５８３，５８４に筐体５８の内側から圧接するので、開口部５８３，５８４が筐体５８の内側から閉塞される。
【００４３】
このように、画像形成装置１０によれば、通常動作時にはレーザ光を感光体ドラム７１へ照射できるようにし、メンテナンス時には筐体５８の外部へのレーザ光の漏れを防止できるとともに、通常動作時及びメンテナンス時の両方において、開口部５８３，５８４が閉塞される。このため、光路遮断位置と光路開放位置との間で変位自在なシャッタ部材６０を備えた光走査装置５０の筐体５８の内部への塵埃の進入を防止することができる。したがって、光走査装置５０の筐体５８内部に塵埃が進入して塵埃がレーザ光の光路上を浮遊することによる画質低下が防止される。
【００４４】
当接部材２１，２２の長さ及び防塵部材５８５，５８６の厚さは、蓋体３０が開放位置から閉鎖位置へ移動した際に防塵部材５８５，５８６が当接部材２１，２２の周辺部に接触した後に閉塞部６５，６６が開口部５８３，５８４を開放し、蓋体３０が閉鎖位置から開放位置へ移動した際に閉塞部６５，６６が開口部５８３，５８４を閉塞した後に防塵部材５８５，５８６が当接部材２１，２２の周辺部から離間するように設定されることが好ましい。これによって、開口部５８３，５８４は筐体５８の外側又は内側の何れかから常に閉塞される。
【００４５】
また、当接部材２１，２２の長さ及び防塵部材５８５，５８６の厚さは、蓋体３０が開放位置から閉鎖位置へ移動した際に防塵部材５８５，５８６が当接部材２１，２２の周辺部に接触した後にシャッタ部材６０が光路遮断位置から光路開放位置へ変位し、蓋体３０が閉鎖位置から開放位置へ移動した際にシャッタ部材６０が光路開放位置から光路遮断位置へ変位した後に防塵部材５８５，５８６が当接部材２１，２２の周辺部から離間するように設定することもできる。
【００４６】
閉塞部６５，６６に突起部６７，６８が設けられることは必須要件ではないが、閉塞部６５，６６に突起部６７，６８が設けられることで、突起部６７，６８の長さ分だけ当接部材２１，２２の突出長さを短くすることができ、当接部材２１，２２の突出によるユーザの操作性の低下が抑制される。
【００４７】
図１（Ａ）及び図１（Ｂ）に示すように、当接部材２１，２２は、現像ユニット７３に設けられることが好ましい。上述のように、現像ユニット７３は、本体２０に対して着脱自在に装着されている。これによって、現像ユニット７３が本体２０から取り外された状態ではシャッタ部材６０は光路開放位置に変位することがなく常に光路遮断位置に配置される。このため、誤動作等によって半導体レーザ５１からレーザ光が発せられた場合でも光走査装置５０の筐体５８内でレーザ光が遮断され、画像形成処理を実行不可能な状態でレーザ光が光走査装置５０の筐体５８の外部へ出射されることが防止される。
【００４８】
ガイド部５８１，５８２は、シャッタ部材６０が光路開放位置と光路遮断位置との間のいずれの位置にある場合でも貫通孔６１，６２に挿通される長さを有していることで、シャッタ部材６０の主走査方向９１への位置ずれが防止されるので、閉塞部６５，６６が開口部５８３，５８４に対して位置ずれすることによる筐体５８の内部と外部との連通が防止される。これによっても、光走査装置５０の筐体５８の内部への塵埃の進入が防止される。
【００４９】
上述のように、シャッタ部材６０は、光走査装置５０の筐体５８に軸支されるので、シャッタ部材６０は光路遮断位置と光路開放位置との間を回転移動する。このため、直線移動するように構成された場合と比較して、光走査装置５０が小型化される。
【００５０】
図１１に示すように、光走査装置５０は、蓋体３０に対して所定範囲内で搖動自在に支持されるとともに、弾性部材の一例であるバネ３１，３２，３３，３４（図９参照）によって蓋体３０から離間する方向に付勢されることが好ましい。この実施形態では、光走査装置５０は、段ビス３５，３６，３７，３８によって所定範囲内で蓋体３０に対して離接自在に支持され、段ビス３５〜３８のそれぞれに挿通されたバネ３１〜３４によって蓋体３０から離間する方向に付勢されている。
【００５１】
光走査装置５０が蓋体３０に所定範囲内で搖動自在に支持されるとともに蓋体３０に対して離間する方向に付勢されることで、蓋体３０が閉鎖位置に配置された状態において光走査装置５０が本体２０に圧接する。これによって、蓋体３０が閉鎖位置に配置された状態における光走査装置５０と感光体ドラム７１との距離が、一定化される。したがって、感光体ドラム７１の周面に対する光走査装置５０の走査の位置精度が高くなる。
【００５２】
また、光走査装置５０が蓋体３０に所定範囲内で搖動自在に支持されるとともに蓋体３０に対して離間する方向に付勢されることで、蓋体３０が閉鎖位置に配置された状態における防塵部材５８５，５８６と本体２０との圧接力が高まり、開口部５８３，５８４の閉塞性が向上する。
【００５３】
なお、画像形成装置１０は、本体２０を上にし蓋体３０を下にして置かれた場合でも、通常動作時及びメンテナンス時の両方において開口部５８３，５８４が閉塞されるので、光走査装置５０の筐体５８内部への塵埃の進入を防止できるという効果が奏される。
【００５４】
また、貫通孔６１，６２及びガイド部５８１，５８２は、主走査方向９１におけるいずれか一端部に一対のみ設けた場合でも、シャッタ部材６０の主走査方向９１への位置ずれを防止できるという効果を奏することができる。
【００５５】
さらに、シャッタ部材６０の主走査方向９１における一方の端部のみに付勢部材を配置し、一方の端部の付勢部材によってシャッタ部材６０を光路開放位置から光路遮断位置へ向かう方向へ付勢するように構成することもできる。
【００５６】
また、開口部５８３，５８４及び閉塞部６５，６６は、シャッタ部材６０の主走査方向９１における一方の端部に一対のみ設けることもできる。
【００５７】
さらに、本発明においてスキャナユニット４０を備えることは必須要件ではない。
【００５８】
上述の実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
【符号の説明】
【００５９】
１０  画像形成装置
２０  本体
２１，２２  当接部材
３０  蓋体
３１〜３４  バネ（弾性部材）
３５〜３８  段ビス
４０  スキャナユニット
５０  光走査装置
５１  半導体レーザ（光源）
５８  筐体
５８１，５８２  ガイド部
５８３，５８４  開口部
５８５，５８６  防塵部材
６０  シャッタ部材
６１，６２  貫通孔
６３，６４  コイルバネ（付勢部材）
６５，６６  閉塞部
６７，６８  突起部
【図１】
0005153854.tif 000002
【図２】
0005153854.tif 000003
【図３】
0005153854.tif 000004
【図４】
0005153854.tif 000005
【図５】
0005153854.tif 000006
【図６】
0005153854.tif 000007
【図７】
0005153854.tif 000008
【図８】
0005153854.tif 000009
【図９】
0005153854.tif 000010
【図１０】
0005153854.tif 000011
【図１１】
0005153854.tif 000012