(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に切削油が付着しているアルミニウム基体を洗浄する洗浄工程と、洗浄後の該アルミニウム基体上にアモルファスシリコン電子写真感光体用の堆積膜を形成する工程と、を有する電子写真感光体の製造方法において、
該洗浄工程が、少なくとも脱脂工程及びリンス工程を有し、
該脱脂工程においては、２０ｋＨｚ以上３９ｋＨｚ以下の周波数の超音波を超音波発生手段により少なくとも１つの脱脂槽の洗浄液に印加し、
該リンス工程においては、１００ｋＨｚ以上２００ｋＨｚ以下の周波数の超音波を超音波発生手段により少なくとも１つのリンス槽の洗浄液に印加し、
該超音波が印加される各リンス工程の各リンス槽内に貯留される洗浄液の量をＶ２（Ｌ）とし、該各リンス槽内に貯留される洗浄液に印加される超音波の電力をＰ２（ｋＷ）とし、該各リンス槽内に貯留される洗浄液に超音波を印加する時間をｔ２（秒）とし、該各リンス槽内に貯留される洗浄液に印加される超音波の周波数をｆ２（ｋＨｚ）としたとき、該超音波が印加される各リンス工程におけるｔ２×ｆ２×Ｐ２／Ｖ２の和が４以上２４０以下であり、
該洗浄工程においては、２０ｋＨｚ以上３９ｋＨｚ以下の周波数及び１００ｋＨｚ以上２００ｋＨｚ以下の周波数以外の超音波は用いない
ことを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【請求項２】
前記洗浄工程の開始前に前記アルミニウム基体の表面に付着している切削油の動粘度が１５ｍｍ2／ｓ以上４０ｍｍ2／ｓ以下である請求項１に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項３】
前記超音波が印加される脱脂工程及び／又はリンス工程にて用いられる洗浄液中の気体濃度を制御する脱気制御手段により、該洗浄液中の酸素濃度を１ｐｐｍ以上５ｐｐｍ以下に制御する請求項１又は２に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項４】
前記超音波が印加される脱脂工程の脱脂槽に貯留される洗浄液の液量をＶ１（Ｌ）とし、該脱脂槽内に供給される液量をＬ１（Ｌ／分）とし、前記超音波が印加されるリンス工程のリンス槽に貯留される洗浄液の液量をＶ２（Ｌ）とし、該リンス槽内に供給される液量をＬ２（Ｌ／分）としたとき、下記式（１）および（２）の少なくとも一方を満たすように制御する請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
０．７≦（１００×Ｌ１／Ｖ１）≦４．０    （１）
０．７≦（１００×Ｌ２／Ｖ２）≦４．０    （２）
【請求項５】
前記脱脂槽の洗浄液の液温が前記リンス槽の洗浄液の液温よりも高くなるように制御する請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項６】
前記超音波が印加される脱脂槽の洗浄液の液温を３０℃以上５０℃以下に制御する請求項５に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項７】
前記洗浄工程が更に前記アルミニウム基体を乾燥させるための乾燥工程を有し、前記超音波が印加されるリンス工程を該乾燥工程の直前に行う請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子写真感光体の感光層を形成するための基体としては、ガラス、半導体、耐熱性合成樹脂、ステンレス、アルミニウムなど、様々の材料の使用が提案されている。その中でも、アルミニウムは、軽く、加工性が良好である点から電子写真感光体用基体の最適な材料の１つとして、これまでに数多くの提案がなされている。
【０００３】
このような電子写真感光体用の基体は、電子写真感光体の帯電特性等の均一性向上を目的として、感光層形成前に旋盤等により切削加工が施されている。そのため、切削加工された表面には、切削油、切り粉、ダスト等が付着しており、そのままの状態では基体上に良好な感光層の形成ができない。したがって、洗浄によりそれらを除去し、その後、基体上に無機系感光層や有機系感光層を形成して電子写真感光体の作製が行われてきた。
【０００４】
近年、この基体の洗浄方法は、環境への配慮から、溶剤洗浄から水系洗浄へと移行してきた。具体的には、切削油を除去するための脱脂工程においては塩素系溶剤を用いた溶剤から界面活性剤を用いた水溶液へ移行し、また、乾燥工程においては前記溶剤による乾燥から温水引き上げ等の乾燥方法へと移行してきた。
【０００５】
そして、上記水系洗浄においては、脱脂工程に超音波を印加することで基体の全面における切削油等の除去の均一性向上と時間短縮が行われてきた。
【０００６】
更に、脱脂工程以外の工程においても同様に超音波を印加し、切削時のアルミニウム中の不純物等に起因するバリを除去することにより、画像不良の原因の更なる除去が行われてきた。これら超音波を用いた水系洗浄の基体洗浄方法やこれにより洗浄されたアルミニウム基体を用いた電子写真感光体の製造方法に関して、様々な提案が開示されている。
【０００７】
上記超音波を用いた水系洗浄による基体洗浄方法及びこれを用いた電子写真感光体の製造方法に関する技術として、例えば以下の技術が開示されている。
【０００８】
アルミニウムからなる基体を界面活性剤含有水槽に浸漬させる工程後に水槽に浸漬させる工程を行う。界面活性剤含有水槽と水槽の少なくとも１槽に９０ｋＨｚ以上８５０ｋＨｚ以下の超音波を印加して水系洗浄を行った基体上に感光層を形成することにより、画像出力時に画像欠陥の少ない電子写真感光体を作製する技術が開示されている（特許文献１参照）。
【０００９】
また、少なくとも３つの洗浄槽を有し、各洗浄槽で周波数が１０ｋＨｚ以上２００ｋＨｚ以下の範囲で、周波数が異なり、更に周波数が洗浄槽毎に順次高くなるような超音波を洗浄液に印加する。これにより、純度の低いアルミニウム基体であっても画像出力時に画像欠陥の少ない電子写真感光体を作製するという技術が開示されている（特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平６−１１８６６３号公報
【特許文献２】特開２００３−２３３２０４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
従来技術に示したように、複数の洗浄槽に超音波を印加するアルミニウム基体の水系洗浄に関する技術の開示により、切削加工時にアルミニウム基体の表面に付着する切削油、切り粉、ダストの低減や切削加工時に生じるバリ等の低減が可能となった。そのため、このような洗浄方法により洗浄されたアルミニウム基体を用いることにより、良好な画像が出力可能な電子写真装置が市場に提供されるようになってきた。
【００１１】
しかしながら、近年、電子写真装置のカラー化が進展し、画質に対する市場要求が従来以上の高画質、更には印刷画質へと変化してきている。同時に、エコロジーへの意識の高まりから、更なる電子写真感光体の高寿命化、省エネルギー化が求められている。このような観点から、アモルファスシリコン（以下：ａ−Ｓｉ）電子写真感光体を用いたカラー複写機による更なる高画質化への市場要求が高まってきている。
【００１２】
ａ−Ｓｉ電子写真感光体において、この市場要求を満たすためには、画像不良として画像に現れる感光層の異常成長を従来以上に徹底的に低減していくことが必要である。これを実現するためには、堆積膜形成方法、堆積膜形成装置の面からの改善は勿論のこと、画像不良の原因となるアルミニウム基体起因で発生する異常成長を安定して低減することが必要となってきている。
【００１３】
アルミニウム基体を用いたａ−Ｓｉ電子写真感光体において、アルミニウム基体の洗浄に起因して発生する異常成長の原因は、
（Ａ）アルミニウム基体上の粉塵
（Ｂ）アルミニウム基体の表面欠損
（Ｃ）洗浄工程起因のアルミニウム基体の表面の汚染
（Ｄ）超音波によるアルミニウム基体のダメージ
に大別できる。
【００１４】
（Ａ）のアルミニウム基体の表面に付着している粉塵には、切削加工時に発生する切り粉、切削加工や洗浄機内の空間に浮遊しているダスト、そして洗浄液中に浮遊しているダスト等が挙げられる。
【００１５】
（Ｂ）の表面欠損には、アルミニウム中に含まれるアルミニウムよりも高硬度の不純物が切削加工の際に刃にえぐられて生じるアルミニウム基体の表面のバリ等が挙げられる。
【００１６】
（Ｃ）の洗浄工程起因のアルミニウム基体の表面の汚染には、脱脂工程にてアルミニウム基体の表面から除去できなかったアルミニウム基体の表面の残留切削油や脱脂工程で用いた薬液によるリンス槽の汚染による薬液シミ等が挙げられる。
【００１７】
（Ｄ）の超音波によるアルミニウム基体のダメージには、アルミニウム基体を超音波により洗浄した際、超音波で洗浄液中に生じる定在波の腹位置に相当する部分に超音波により生成されるキャビティー（空孔）が集中するために生じる局所的な表面の粗れ等が挙げられる。
【００１８】
上述した異常成長の原因である（Ａ）〜（Ｄ）がアルミニウム基体の表面に存在した状態でａ−Ｓｉ電子写真感光体を作製すると、そこを起点に堆積膜の異常成長が生じ、このような電子写真感光体を複写機に搭載させて画像を出力すると、画像不良を生じる場合があった。
【００１９】
このため、従来技術に開示されているように、超音波を洗浄液中に印加することにより粉塵、表面欠損、薬液シミの除去が行われ、画像不良の低減がされてきた。しかし、従来以上に高画質の画像を出力可能なａ−Ｓｉ電子写真感光体を実現するためには、従来以上に異常成長の原因の低減を実現する必要がある。よって、異常成長の原因を従来以上に低減させつつも、更に超音波を用いながらも超音波によるアルミニウム基体のダメージを低減させることが求められる。
【００２０】
しかしながら、超音波を用いたアルミニウム基体の洗浄では、一般的に、洗浄能力は、超音波によって生成されるキャビティーの数、衝撃力及び超音波の印加時間により決まることが知られている。衝撃力は、キャビティーの生成−消滅のサイクルにおける膨張と収縮の速度差により生じることから、キャビティーが大きくなるほどその速度差は大きくなる。つまり、これら洗浄能力を決めるキャビティーの数及び衝撃力は、超音波の周波数に依存すると考えられる。
【００２１】
周波数の低い超音波を用いた場合、洗浄物に対する付着物の引き離し効果は大きくなる。それは以下の理由によるものである。周波数が低い場合、洗浄液中に発生するキャビティーは大きくなるため、生成−消滅のサイクルにおける膨張と収縮の速度差が大きくなる。したがって、洗浄物に対する付着物への引き離し効果は、印加される超音波の周波数が低いほど高い効果が得られる。しかしながら、付着物が表面にない場合には、アルミニウム基体の表面への引き離し効果がアルミニウム基体の表面に直接影響を与えるためアルミニウム基体の表面が粗くなってしまう。
【００２２】
逆に、周波数が高い場合、洗浄液中に発生するキャビティーは小さくなる。そのため、生成−消滅のサイクルにおける膨張と収縮の速度差が小さくなるため、表面へのダメージを抑えることができる。一方、周波数が高くなると音圧が高くなるため、生成するキャビティーの数が多くなる。そのため、衝撃力が小さくともアルミニウム基体にダメージを与えることなくダストを除去可能となり、洗浄能力は高くなる。しかしながら、キャビティーの生成−消滅のサイクルにおける膨張と収縮の速度差は周波数に反比例するため、周波数が高くなるとキャビティーによるダストの振動量が小さくなる。そのため、小さいダストの除去は可能であるが、大きなダスト等を動かすのに必要な振動量が得られないため、比較的大きいダストを除去することは困難となる。
【００２３】
周波数を高くすると、洗浄液中に発生するキャビティーは更に小さくなる。そのため、表面へのダメージは更に抑えられるが、キャビティーによるダストの振動量は更に小さくなる。そのため、キャビティーがダストに与える振動量のみで小さいダストを除去することもできなくなってしまう。
【００２４】
上述した理由により、（Ａ）〜（Ｄ）の各異常成長の原因に対する超音波が与える影響が周波数により異なること、また、切削油の有無等のアルミニウム基体の表面の状態によっても超音波によるアルミニウム基体への影響が異なる。したがって、アルミニウム基体の水系洗浄において、上記異常成長の原因を効率良く低減させることは困難であった。
【００２５】
そこで、本発明の目的は、超音波を用いてアルミニウム基体の表面に存在する異常成長の原因を従来以上に低減させることが可能なアルミニウム基体の洗浄方法を用いた電子写真感光体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２６】
上記目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、アルミニウム基体を洗浄するための脱脂槽及びリンス槽に使用する超音波の周波数の範囲を限定することにより、アルミニウム基体の表面に上述の（Ａ）〜（Ｄ）の異常成長の原因を低減することが可能であることを見出した。その結果、このような異常成長の原因の少ないアルミニウム基体を用いることで、安定して画像出力時に画像不良の少ない電子写真感光体の生産が可能であることを見出し、本発明を完成させるに至ったのである。
【００２７】
詳細に記述すると、本発明は、表面に切削油が付着しているアルミニウム基体を洗浄する洗浄工程と、洗浄後の該アルミニウム基体上にアモルファスシリコン電子写真感光体用の堆積膜を形成する工程と、を有する電子写真感光体の製造方法において、
【００２８】
該洗浄工程が、少なくとも脱脂工程及びリンス工程を有し、
該脱脂工程においては、２０ｋＨｚ以上３９ｋＨｚ以下の周波数の超音波を超音波発生手段により少なくとも１つの脱脂槽の洗浄液に印加し、
該リンス工程においては、１００ｋＨｚ以上２００ｋＨｚ以下の周波数の超音波を超音波発生手段により少なくとも１つのリンス槽の洗浄液に印加し、
該超音波が印加される各リンス工程の各リンス槽内に貯留される洗浄液の量をＶ２（Ｌ）とし、該各リンス槽内に貯留される洗浄液に印加される超音波の電力をＰ２（ｋＷ）とし、該各リンス槽内に貯留される洗浄液に超音波を印加する時間をｔ２（秒）とし、該各リンス槽内に貯留される洗浄液に印加される超音波の周波数をｆ２（ｋＨｚ）としたとき、該超音波が印加される各リンス工程におけるｔ２×ｆ２×Ｐ２／Ｖ２の和が４以上２４０以下であり、
該洗浄工程においては、２０ｋＨｚ以上３９ｋＨｚ以下の周波数及び１００ｋＨｚ以上２００ｋＨｚ以下の周波数以外の超音波は用いない
ことを特徴とする電子写真感光体の製造方法である。
【発明の効果】
【００２９】
本発明における脱脂工程により、アルミニウム基体の表面に付着している切削油の除去、及び比較的大きなダストや切り粉の除去が可能となる。そして、脱脂工程後の本発明におけるリンス工程により、切削により生じたバリ及び比較的小さなダストや切り粉の除去が可能となる。この結果、洗浄によりアルミニウム基体の表面から異常成長の原因を効果的に除去することが可能となるため、従来に比べ画像出力時に画像不良の少ないａ−Ｓｉ電子写真感光体を安定して提供することが可能となった。
【００３０】
すなわち、脱脂工程にて２０ｋＨｚ以上３９ｋＨｚ以下の周波数を有する超音波を洗浄液中に印加、脱脂工程後のリンス工程にて１００ｋＨｚ以上２００ｋＨｚ以下の周波数を有する超音波を洗浄液中に印加することにより、アルミニウム基体の表面上に存在する粉塵、欠損、汚染及び超音波によるダメージを効率よく低減することが可能となる。この結果、アルミニウム基体上に存在した異常成長の原因が低減されるため、従来に比べ画像出力時に画像不良の更に少ないａ−Ｓｉ電子写真感光体を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
次に、本発明の実施の形態について図面を用いて詳細に説明する。
【００３２】
［本発明に関わるアルミニウム基体の洗浄装置］
図１は、本発明の洗浄方法で用いられるアルミニウム基体の洗浄を行うための第１の実施形態を示す洗浄装置の模式的な概略断面図である。図１に示す洗浄装置は、切削加工後のアルミニウム基体１１０を置くための洗浄前ストッカー１０４と、洗浄液が貯留された３つの洗浄槽と、洗浄後のアルミニウム基体１１０を置くための洗浄後ストッカー１０５より構成されている。上記洗浄槽は、切削時にアルミニウム基体の表面に付着する切削油を除去する脱脂工程を行う脱脂槽１０１と、リンス工程を行うリンス槽１０２と、リンス工程後にアルミニウム基体の表面から水を除去し乾燥させる乾燥工程を行う乾燥槽１０３とから構成されている。
【００３３】
脱脂槽１０１には、脱脂槽に貯留される洗浄液１３１に超音波を印加するための超音波振動子１２１が脱脂槽下面に取り付けられており、超音波振動子１２１には超音波発振器１２２が接続されている。また、リンス槽１０２にもリンス槽に貯留される洗浄液１３２に超音波を印加するための超音波振動子１２３がリンス槽下面に取り付けられており、超音波振動子１２３には超音波発振器１２４が接続されている。
【００３４】
本発明における洗浄工程の流れを、図１を用いて説明する。図１に示す洗浄装置は、円筒状のアルミニウム基体を洗浄するための処理部１４１と基体搬送機構１４２とにより構成されている。処理部１４１は、切削加工後のアルミニウム基体１１０を置くための洗浄前ストッカー１０４、脱脂槽１０１、リンス槽１０２及び乾燥槽１０３、並びに洗浄後のアルミニウム基体を置くための洗浄後ストッカー１０５から構成されている。脱脂槽１０１、リンス槽１０２、乾燥槽１０３とも不図示の温度調節装置により洗浄液の温度を一定に保っている。
【００３５】
切削加工後のアルミニウム基体１１０は、投入台１５１上に置かれた後、搬送機構１５２により脱脂槽１０１に搬送される。図５は、図１の脱脂槽１０１の詳細図である。脱脂槽５０１には、純水で希釈された界面活性剤を含む洗浄液が貯留されており、脱脂槽５０１と貯槽５１１との間を循環ポンプ５３１により洗浄液の循環が行われている。
【００３６】
このとき、洗浄液は、ヒーター５３３及び冷却機構５３４により所定の温度となるように制御され、フィルター５３５により洗浄液中のダストの除去を行っている。また、脱脂槽５０１の冷却機構５３７により、超音波の印加に伴う脱脂槽に貯留された洗浄液の液温を制御している。更に、貯槽５１１から脱脂槽５０１への洗浄液の液量は、手動バルブ５４４により調整している。同時に、槽内循環ポンプ５３２により槽内循環が行われ、脱脂槽５０１に貯留された洗浄液中のダストをフィルター５３６により除去した後に脱脂槽へと送っている。
【００３７】
また、液面調整機構５０２により超音波振動子５２１上面から液面までの高さを調整することにより、超音波振動子５２１より印加される超音波が洗浄液中で安定した定在波を作ることができるようにした。
【００３８】
搬送機構５５０は、搬送レール５５１と搬送アーム５５２よりなる。上記搬送アーム５５２は、搬送レール５５１上を移動する移動機構５５３、アルミニウム基体５１０を保持するチャッキング機構５５５及びチャッキング機構５５５を上下させるためのエアーシリンダー５５４よりなる。
【００３９】
この脱脂工程では、洗浄液にアルミニウム基体５１０を浸漬させ、槽内循環ポンプ５３２を停止して槽内循環を止めた後、超音波発振子５２１から洗浄液中へと超音波を印加することにより、アルミニウム基体の表面に付着した切削油の脱脂を行う。洗浄液への超音波の印加が終了した後、受け台５５７が上昇することにより洗浄液からアルミニウム基体５１０を取り出し、エアーシリンダー５５４により引き上げられる。また、超音波の印加が終了した後に、槽内循環ポンプ５３２を起動させて、洗浄液のダスト除去を行う。
【００４０】
図１に示すアルミニウム基体１１０は、搬送機構により脱脂槽からリンス槽に搬送される。図６は、図１のリンス槽１０２の詳細図である。リンス槽６０１には、ヒーター６３３及び冷却機構６３４により所定の温度となるように制御され、フィルター６３５により洗浄液中のダストを除去された一定の導電率の純水がリンス槽６０１に供給されている。
【００４１】
このとき、リンス工程も脱脂工程と同様に、リンス槽６０１の冷却機構６３７により、超音波の印加に伴うリンス槽に貯留された洗浄液の液温の上昇を制御している。更に、リンス槽６０１に供給される洗浄液の液量は、手動バルブ６４４により調整している。同時に、槽内循環ポンプ６３２により槽内循環が行われ、リンス槽に貯留された洗浄液中のダストをフィルター６３６により除去した後にリンス槽へと送っている。
【００４２】
また、液面調整機構６０２により超音波振動子６２１上面から液面までの高さを調整することにより、超音波振動子６２１より印加される超音波が洗浄液中で安定した定在波を作れるようにした。
【００４３】
洗浄液にアルミニウム基体６１０を浸漬させ、槽内循環ポンプ６３２を停止して槽内循環を止めた後、超音波発振子６２１から洗浄液へと超音波を印加することにより、アルミニウム基体６１０表面に付着したダスト等の除去を行う。洗浄液への超音波の印加が終了した後、受け台６５７が上昇することにより洗浄液からアルミニウム基体６１０を取り出し、エアーシリンダー６５４により引き上げられる。また、超音波の印加が終了した後に、槽内循環ポンプ６３２を起動させて、洗浄液のダスト除去を行う。
【００４４】
最後に、アルミニウム基体１１０は搬送機構１５２により乾燥槽１０３へと搬送され、一定の導電率に制御された温純水にて昇降装置（図示せず）により引き上げ乾燥が行われる。乾燥工程が終了したアルミニウム基体１１０は、搬送機構１５２により洗浄後ストッカー１０５へと搬送される。
【００４５】
本発明において、脱脂工程及びリンス工程を、それぞれ複数設けても良い。図２は、本発明に関わる第２の実施形態を示す洗浄装置の模式的な概略断面図であり、洗浄槽が５槽で構成された洗浄装置である。図２に示す洗浄装置では、洗浄槽として第１脱脂槽２０１、第２脱脂槽２０２、第１リンス槽２０３、第２リンス槽２０４及び乾燥槽２０５の５槽から構成されている。超音波発振装置として第１脱脂槽２０１に超音波振動子２２１及び超音波発振器２２２、第２リンス槽２０４に超音波振動子２２３及び超音波発振器２２４が設置されている。
【００４６】
脱脂工程及び／又はリンス工程を複数設置した場合には、超音波発生装置は脱脂槽及びリンス槽の少なくとも１槽に設置されていれば良い。図３に示すように超音波発生装置を脱脂槽又はリンス槽のどちらか一方のみに複数設置しても良いし、図４に示すように超音波発生装置を脱脂槽及びリンス槽の両方にそれぞれ複数設置しても良い。
【００４７】
更に、脱脂工程、リンス工程、乾燥工程以外に、他の機能を有する工程を設置しても良い。アルミニウム基体を純水により洗浄を行う工程を有する場合、特に純度の低いアルミニウムを洗浄する場合には、腐食を防止する点から脱脂工程後に皮膜形成工程を加えた方が好ましい。
【００４８】
本発明において、洗浄工程で用いる超音波の周波数は２０ｋＨｚ以上３９ｋＨｚ以下、及び１００ｋＨｚ以上２００ｋＨｚ以下に限られ、これらの周波数範囲以外の超音波は用いない。具体的には、少なくとも１つの脱脂工程に２０ｋＨｚ以上３９ｋＨｚ以下の周波数を有する超音波を超音波発生手段により洗浄液中に印加し、更に、少なくとも１つのリンス工程に１００ｋＨｚ以上２００ｋＨｚ以下の周波数を有する超音波を超音波発生手段により洗浄液中に印加することを特徴としている。
【００４９】
まず、脱脂工程において使用する超音波の周波数を２０ｋＨｚ以上３９ｋＨｚ以下とする理由について説明する。上記周波数を３９ｋＨｚより大きくすると、アルミニウム基体の表面に付着させた切削油の除去が不十分となり、その結果堆積膜形成後にアルミニウム基体の表面に残留した切削油による異常成長が生じる場合があった。この理由としては、上述したように、周波数が高く、付着物に対する引き離し効果が低下したと考えられる。そのため、上記周波数を３９ｋＨｚ以下にすることにより、異常成長の原因を除去可能となる。一方、洗浄液中に印加される超音波の周波数が低くなるにつれて、超音波印加時の音が大きくなり騒音対策が必要となることから、上記周波数の下限は２０ｋＨｚにすることが好ましい。
【００５０】
次に、リンス工程において使用する超音波の周波数を１００ｋＨｚ以上２００ｋＨｚ以下とする理由について説明する。上記周波数を２００ｋＨｚより大きくすると、アルミニウム基体の表面に付着したダストの除去が不十分となり、その結果、堆積膜形成後にダストによる異常成長が生じる場合がある。この理由としては、上述したように、周波数が高くキャビティーが小さくなった結果、ダストの振動量が少なくなり、アルミニウム基体の表面から効率良く除去することが難しくなったと考えられる。また、上記周波数を１００ｋＨｚより小さくすると、アルミニウム表面が粗くなってしまい、その結果、堆積膜形成後に粗くなった部分による異常成長が生じる場合があった。この理由としては、リンス工程ではアルミニウム基体の表面から切削油等の付着物が非常に少なくなり、超音波による引き離し効果がアルミニウム基体の表面へと直接影響したために、アルミニウム基体の表面が粗くなったと考えられる。
【００５１】
本発明において、脱脂槽及びリンス槽で用いられる超音波の周波数は、超音波振動子の作製上、同じ超音波振動子を作製しても振れ幅を有する。そのため、本発明の超音波の周波数は、±２ｋＨｚの範囲を含む周波数に関しても同様の効果が得られる。
【００５２】
本発明においては、更なる異常成長の低減のために、超音波が印加されるリンス工程のリンス槽に貯留される洗浄液の量をＶ２（Ｌ）とし、洗浄液中に印加される超音波の電力Ｐ２を（ｋＷ）とし、洗浄液に超音波を印加する時間をｔ２（分）とし、印加する超音波の周波数をｆ２（ｋＨｚ）としたとき、これらを用いて算出されるｔ２×ｆ２×Ｐ２／Ｖ２の和が４以上２４０以下となるようにする。
【００５３】
まず、ｔ２×ｆ２×Ｐ２／Ｖ２の式について説明する。超音波洗浄における洗浄力は、前述したように、キャビティーの数、衝撃力及び超音波の印加時間によって決定される。
【００５４】
リンス槽において、本発明の周波数では衝撃力による洗浄能力の効果は十分には期待できない。そのため、キャビティーの数を増加させる、超音波の印加時間を延ばすことにより洗浄力を上げる必要がある。キャビティーの数を増加させるためには、周波数を高くする、洗浄液中に印加する超音波のエネルギーを高くする方向が良いことから、ｔ２×ｆ２×Ｐ２／Ｖ２がリンス槽における洗浄力の指標となっているものと推察される。
【００５５】
ｔ２×ｆ２×Ｐ２／Ｖ２が小さくなるとダストやバリを除去する効果が小さくなり、逆に大きくなるとアルミニウム基体の表面の粗れを低減する効果が小さくなってしまう。
【００５６】
このような観点から、ｔ２×ｆ２×Ｐ２／Ｖ２を４以上２４０以下とすることにより、更に異常成長の原因を効果的に除去可能となり、その結果、上記条件で作製されたアルミニウム基体を用いた電子写真感光体の異常成長を低減することが可能となる。
【００５７】
また、複数のリンス槽に超音波を用いる場合に関しては、各リンス工程でのｔ２×ｆ２×Ｐ２／Ｖ２の合計が４以上２４０以下にすることにより、上述した効果が得られる。例えば、超音波が印加されるリンス工程が２工程ある場合は、第１リンス槽に貯留される洗浄液の量Ｖ２（Ｌ）、洗浄液中に印加される超音波の電力Ｐ２（ｋＷ）、洗浄液に超音波を印加する時間ｔ２（分）及び超音波の周波数ｆ２（ｋＨｚ）とした際のｔ２×ｆ２×Ｐ２／Ｖ２と第２リンス槽の洗浄液の量Ｖ２’（Ｌ）、洗浄液中に印加される超音波の電力Ｐ２’（ｋＷ）、洗浄液に超音波を印加する時間ｔ２’（分）及び超音波の周波数ｆ２’（ｋＨｚ）とした際のｔ２’×ｆ２’×Ｐ２’／Ｖ２’の合計（ｔ２×ｆ２×Ｐ２／Ｖ２）＋（ｔ２’×ｆ２’×Ｐ２’／Ｖ２’）が４以上２４０以下とすれば良い。
【００５８】
本発明は、洗浄工程開始前のアルミニウム基体の表面に付着している切削油の洗浄前ストッカー１０４上の大気温度における動粘度が１５ｍｍ2／ｓ以上４０ｍｍ2／ｓ以下である場合がより顕著な効果が現れる。
【００５９】
この理由としては、以下のように推察される。洗浄前ストッカー上の大気温度における動粘度が低い切削油が付着している場合、アルミニウム基体が洗浄前ストッカーに置かれてから脱脂洗浄を行うまでの間に、切削油が重力で垂直方向に向かって流れ、アルミニウム基体の表面に切削油の層厚ムラが生じる。つまり、垂直方向下側の切削油厚が垂直方向上側よりも厚くなり、この結果、洗浄前ストッカーにアルミニウム基体を置いてから脱脂洗浄までの時間の差により切削油の層厚ムラに差が生じる。したがって、異常成長の原因の除去に対する効果の安定性の面から、ある程度の高い動粘度の切削油が求められる。
【００６０】
しかしながら、動粘度が高い切削油が付着している場合、アルミニウム基体の表面から切削油を除去しにくくなり、脱脂洗浄による切削油の除去要する時間が増加してしまう。その結果、１本当りの洗浄時間の増加に繋がってしまう。
【００６１】
以上のことから、洗浄工程開始前のアルミニウム基体の表面に付着している切削油が、洗浄前ストッカー１０４上の大気温度における動粘度が１５ｍｍ2／ｓ以上４０ｍｍ2／ｓ以下の場合に、より顕著な効果が現れる。
【００６２】
本発明において、超音波が印加される脱脂工程の脱脂槽、及び／又は超音波が印加されるリンス工程のリンス槽に貯留される洗浄液中を脱気制御手段により気体濃度を制御することで更なる異常成長の低減が可能となる。
【００６３】
一般的に純水中には酸素濃度で約７〜８ｐｐｍの気体が含有している。気体を含有していると、超音波が印加されても含有気体により超音波が全反射されたり、超音波のエネルギーが気泡形成に使われたりしてしまう。そのため、洗浄液中に安定して効率良く定在波を作るためには、洗浄液中の気体をできるだけ減らす方が良い。また、一度脱気された洗浄液であっても空気に接触している面から洗浄液中に気体が入りこんでしまうことから、安定した洗浄を行うためには、常時洗浄液中の気体濃度を制御することが好ましい。
【００６４】
上記理由により、洗浄液中の気体濃度は、酸素濃度で５ｐｐｍ以下に制御することにより安定した定在波を洗浄液中に作ることが可能となる。定性的には洗浄液中の気体濃度は少ない程安定した洗浄が可能となるが、必要以上に低い気体濃度で制御しようとすると脱気装置が大型化してしまう。そのため、実質上十分な効果が得られかつ簡易であるという視点から、１ｐｐｍ程度以上にすることが好ましい。
【００６５】
以上のことから、洗浄液中の気体濃度は、酸素濃度で１ｐｐｍ以上５ｐｐｍ以下に制御することが好ましい。脱気制御手段に関して、脱気方式に関しては特に制限はないが、脱気能力の安定性及び価格の点から真空脱気方式による脱気制御手段が好ましい。
【００６６】
超音波が印加される脱脂工程及び超音波が印加されるリンス工程で用いられる洗浄液を温度調整手段により一定温度に制御することが、超音波洗浄の安定性を得るためには好ましい。
【００６７】
超音波を印加する脱脂工程では切削油を超音波によりアルミニウム基体から引き離し、界面活性剤により除去するため、界面活性剤による除去効率を高めるためには、洗浄液の液温は高い方が好ましい。また、超音波を印加するリンス工程ではダストやバリをキャビティーにより除去するので、キャビティーの数を増やすためには洗浄液の液温は低い方が好ましい。このことから、超音波が印加される脱脂工程の洗浄液の液温を超音波が印加されるリンス工程の洗浄液の液温より高くすると、より良好な洗浄が可能となる。
【００６８】
更に、超音波が印加される脱脂工程の脱脂槽に貯留される洗浄液の液温は適宜調整すればよいが、切削油の除去効率を高く維持するために３０℃以上が好ましい。また、脱脂洗浄工程引き上げ時にアルミニウム基体の温度上昇に伴い、アルミニウム基体の表面に付着した洗剤が乾燥することで生じる洗剤シミを低減させるためには、５０℃以下が好ましい。
【００６９】
また、超音波が印加されるリンス工程のリンス槽に貯留される洗浄液の液温に関しても適宜調整すればよいが、結露等によるアルミニウム基体の表面への水分付着やキャビティーの発生数の減少の点から室温以上３５℃以下が好ましい。ここで示す室温とは、結露等によるアルミニウム基体の表面への水分付着が見られない範囲であればよく、１５℃から２０℃の範囲が好ましい。
【００７０】
本発明において、洗浄液中で超音波による定在波を安定して作るために、超音波が印加されているときの超音波が印加される脱脂工程の脱脂槽内に貯留される洗浄液の液量をＶ１（Ｌ）とし、脱脂槽内に供給される液量をＬ１（Ｌ／分）としたときの１００×Ｌ１／Ｖ１、及び／又は、前記超音波が印加されるリンス工程のリンス槽に貯留される洗浄液の液量をＶ２（Ｌ）とし、リンス槽内に供給される液量Ｌ２（Ｌ／分）としたときの１００×Ｌ２／Ｖ２が、０．７以上４．０以下に制御することが好ましい。
【００７１】
これは、１分間あたりに脱脂槽及びリンス槽に供給及びオーバーフローにより排出される洗浄液量を表している。このように上記洗浄液の供給量を制御することにより、脱脂槽、リンス槽の液面に浮遊しているダストの効果的な排出と、供給された洗浄液による乱流低減による洗浄液中での超音波による定在波の安定性の向上が同時に達成される。したがって、異常成長の原因の低減が可能となる。
【００７２】
図５に示す脱脂槽のように、脱脂槽への洗浄液の供給が貯槽からの循環ライン５４１と槽内循環ライン５４２のように、複数の洗浄液供給ラインが存在する場合には、各ラインから洗浄槽に供給される液量の合計Ｌ、脱脂槽、リンス槽に貯留させている洗浄液の液量Ｖとしたときの１００×Ｌ／Ｖが、０．７以上４．０以下に制御すればよい。
【００７３】
また、洗浄槽への洗浄液の供給方法に関して特に制限はないが、洗浄槽内に乱流が起こらないように、複数の供給口に分配した後に供給する、又は洗浄槽内部でリング状の供給管等を用いることが好ましい。
【００７４】
本発明において、超音波が印加されるリンス槽の配置には特に制限はないが、より効果的な異常成長の原因の除去の観点から、乾燥工程の直前のリンス工程にて超音波を印加する方が好ましい。すなわち、超音波が印加されるリンス槽におけるリンス工程に次いで連続して乾燥工程を行うことが好ましい。
【００７５】
また、超音波が印加される脱脂工程の脱脂槽及びリンス工程のリンス槽への超音波振動子の設置位置は、定在波の制御性と安定性の面から各槽の下面に設置することが好ましい。
【００７６】
次に、本発明で用いられる洗浄装置の洗浄槽について詳細に説明する。
【００７７】
＜脱脂槽＞
脱脂槽は、切削工程にてアルミニウム基体の表面に付着した切削油を薬液により除去する洗浄槽である。この脱脂槽で用いられる薬液は、環境等への配慮から水系の洗浄液を用いることが望ましく、特に界面活性剤等を含有した薬液を用いることが好ましい。水系の洗浄を行う場合、界面活性剤を溶解するための水の水質は、特に半導体グレードの純水を用いるのが好ましい。
【００７８】
脱脂工程で用いられる界面活性剤は、陰イオン性界面活性剤、陽イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤、又はそれらの混合したもの等、特に制限はない。そのなかでも、カルボン酸塩、スルホン酸塩、硫酸エステル塩、燐酸エステル塩等の陰イオン性界面活性剤、又は脂肪酸エステル等の非イオン性界面活性剤を用いることが好ましい。
【００７９】
＜リンス槽＞
脱脂槽での脱脂工程後、アルミニウム基体の表面から洗剤を除去するためにリンス槽によりアルミニウム基体の表面を清浄化する必要がある。このリンス槽で用いる水は、前述したグレードの純水を用いることが好ましい。また、リンス方法に関しては、アルミニウム基体の表面を薬液で適切に清浄化できればいずれの形式でも可能であるが、ディップ形式とシャワー形式を組み合わせて使用することが好ましい。シャワー形式でアルミニウム基体の表面に水を吹き付ける場合には、水の圧力は、２ｋｇ・ｆ／ｃｍ2以上、３００ｋｇ・ｆ／ｃｍ2以下が好ましい。
【００８０】
＜乾燥槽＞
リンス工程後は、アルミニウム基体の表面及び内面を乾燥させるための乾燥工程を設けることが好ましい。乾燥工程は、温風乾燥、真空乾燥、温水乾燥等いずれの乾燥方法も有効であるが、アルミニウム基体の表面のダスト低減のためには、温水による引き上げ乾燥が好ましい。
【００８１】
温水乾燥における水の温度は、感光層の剥れや乾燥性の点から、３０℃以上９０℃以下が好ましい。引き上げ乾燥する際の引き上げ速度は、１００ｍｍ／ｍｉｎ以上２０００ｍｍ／ｍｉｎ以下程度の範囲にする方が好ましい。
【００８２】
＜皮膜形成槽＞
純度の低いアルミニウムを使用する場合には、アルミニウム表面に部分的に露出したＳｉ、Ｆｅ、Ｃｕ原子が多い部分は周囲の通常のアルミニウムの部分と局所的な電池を形成して、特に純水等では腐食が促進される。したがって、インヒビターを添加して皮膜を形成し、アルミニウム基体が純水等に接触する前に皮膜を形成することが好ましい。
【００８３】
本発明の洗浄工程で用いられるインヒビターとしては、リン酸塩、珪酸塩、ホウ酸塩等が挙げられいずれも可能であるが、珪酸塩が特に好ましい。珪酸塩では、珪酸カリウム、珪酸ナトリウム等が好適なものとして挙げられる。
【００８４】
洗浄水中に含まれる珪酸塩の濃度は、高すぎると痕跡によるシミが発生してしまい、感光層の剥れの原因となり、低すぎると皮膜形成効果が小さくなってしまう。よって、珪酸塩の濃度は０．０５％以上２％以下にすることが好ましい。この皮膜形成槽で用いる水は、前述したグレードの純水を用いること、また水温は室温以上７０℃以下であることが好ましい。
【００８５】
＜使用するアルミニウム基体＞
本発明においてアルミニウム基体の材質はアルミニウムを母体とするものであればいずれも可能であるが、通常、純度９９．５％以上のアルミニウムが用いられる。また、純度が９９．９９％を超える高純度のアルミニウムを母材としたアルミニウム基体であれば、図１のような洗浄装置が好ましく、それよりも低い純度であれば皮膜形成槽を有する洗浄装置が好ましい。
【００８６】
＜切削工程＞
本発明でアルミニウム基体を洗浄する前の切削工程について詳細に説明する。
【００８７】
本発明の表面加工は、精密切削用の旋盤の回転フランジに、アルミニウム基体をチャックし、所望する外径及び表面性に切削加工を行う。表面加工時は、切削油を塗布又は吹き付けながら切削を行う。
【００８８】
例えば、精密切削用のエアダンパー付旋盤（ＰＮＥＵＭＯ  ＰＲＥＣＩＳＩＯＮ  ＩＮＣ．製）に、ダイヤモンドバイト（商品名：ミラクルバイト、東京ダイヤモンド製）を、アルミニウム基体中心線に対して５°のすくい角を得るようにセットする。次に、この旋盤の回転フランジに、アルミニウム基体を真空チャックし、付設したノズルから切削油噴霧、同じく付設した真空ノズルから切り粉の吸引を併用しつつ、周速１０００ｍ／ｍｉｎ、送り速度０．０１ｍｍ／Ｒの条件で所望の外径となるように切削を施す。
【００８９】
以下、図面に従って本発明の電子写真感光体について説明する。
【００９０】
図９は、本発明の電子写真感光体用光受容部材の好適な層構成の一例を示した模式的構成図である。電子写真感光体は、アルミニウム基体９０１の上に光受容層９００が設けられており、光受容層９００は、アルミニウム基体９０１側から順に、下部阻止層９０２、光導電層９０３、表面層９０４から構成されている。
【００９１】
次に、本発明の電子写真感光体を形成する装置について説明する。
【００９２】
図１０は、本発明の電子写真感光体を作製するために供される、１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用いたＲＦプラズマＣＶＤ法による堆積装置の一例を模式的に示した図である。この装置は大別すると、反応容器１００１、反応容器内を減圧する為の排気装置１００８から構成されている。反応容器１００１内にはアースに接続された導電性の受け台１００７の上にアルミニウム基体１００２が設置され、更にアルミニウム基体の支持体加熱ヒーター１００３、原料ガス導入管１００５が設置されている。又、カソード電極１００６は導電性材料からなり、絶縁碍子１０１３によって絶縁されている。カソード電極はマッチングボックス１０１１を介して１３．５６ＭＨｚの高周波電源１０１２が接続されている。不図示の原料ガス供給装置の各構成ガスのボンベは原料ガス導入バルブ１００９を介して反応容器１００１内のガス導入管１００５に接続されている。
【００９３】
図１０の装置を用いた電子写真感光体の形成方法の一例について説明する。
【００９４】
アルミニウム基体１００２を導電性受け台１００７に取り付け、反応容器１００１内の支持体加熱ヒーター１００３を包含するように取り付ける。
【００９５】
次に、ガス供給装置内の排気を兼ねて、原料ガス導入バルブ１００９を開き、メインバルブ１０１５を開いて反応容器１００１及び原料ガス導入管１００５内を排気する。真空計１０１０の読みが０．６７Ｐａ以下になった時点で原料ガス導入バルブ１００９から加熱用の不活性ガス、一例としてアルゴンを原料ガス導入管１００５より反応容器１００１に導入する。反応容器１００１内が所望の圧力になるように加熱用ガスの流量及び、メインバルブ１０１５の開口あるいは排気装置１００８の排気速度を調整する。その後、不図示の温度コントローラーを作動させてアルミニウム基体１００２を支持体加熱ヒーター１００３により加熱し、アルミニウム基体１００２の温度を２０℃〜５００℃の所定の温度に制御する。所望の温度に加熱されたところで、不活性ガスを徐々に止めると同時に、成膜用の所定の原料ガス、例えばＳｉＨ4、Ｓｉ2Ｈ6、ＣＨ4、Ｃ2Ｈ6などの材料ガスを、またＢ2Ｈ6、ＰＨ3などのドーピングガスを不図示のミキシングパネルにより混合した後に反応容器１００１内に徐々に導入する。次に、不図示のマスフローコントローラーによって、各原料ガスが所定の流量になるように調整する。その際、反応容器１００１内が０．１Ｐａ〜数１００Ｐａの圧力に維持するよう真空計１０１０を見ながらメインバルブ１０１５の開口あるいは排気装置１００８の排気速度を調整する。
【００９６】
以上の手順によって成膜準備を完了した後、アルミニウム基体１００２上に光受容層の形成を行う。内圧が安定したのを確認後、高周波電源１０１２を所望の電力に設定して高周波電力をカソード電極１００６に供給し高周波グロー放電を生起させる。このときマッチングボックス１０１１を調整し、反射波が最小となるように調整し、高周波の入射電力から反射電力を差し引いた値を所望の値に調整する。この放電エネルギーによって反応容器１００１内に導入させた各原料ガスが分解され、アルミニウム基体１００２上に所定の光受容層が形成される。なお、膜形成を行っている間はアルミニウム基体１００２を駆動装置（不図示）によって所定の速度で回転させても良い。
【００９７】
所望の膜厚の形成が行われた後、高周波電力の供給を止め、反応容器１００１への各原料ガスの流入を止めて反応容器内を一旦高真空に排気した後に層の形成を終える。上記のような操作を繰り返し行うことによって、堆積膜を形成し、感光体が完成する。
【実施例】
【００９８】
以下、実施例及び比較例により本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらにより何ら制限されるものではない。
【００９９】
アルミニウム（神戸製鋼製  材質：ＭＢ２）よりなる外径約８０〜８１ｍｍ、長さ３５８ｍｍ、肉厚３ｍｍのアルミニウム基体を、以下の手順により表面加工を行った。
【０１００】
＜切削工程１＞
表面加工は、精密切削用のエアダンパー付旋盤（ＰＮＥＵＭＯ  ＰＲＥＣＩＳＩＯＮ  ＩＮＣ．製）に、ダイヤモンドバイト（商品名：ミラクルバイト、東京ダイヤモンド製）を、アルミニウム基体中心線に対して５°のすくい角を得るようにセットする。次に、この旋盤の回転フランジに、アルミニウム基体を真空チャックし、付設したノズルから切削油として炭化水素系合成油ポリブデン（商品名；日石ポリブデンＬＶ−７）を用いアルミニウム基体に噴霧しながら、同じく付設した真空ノズルから切り粉の吸引を併用しつつ、周速１０００ｍ／ｍｉｎ、送り速度０．０１ｍｍ／Ｒの条件で外径が７９．９２〜７９．９８ｍｍとなるように鏡面切削を施した。
【０１０１】
（実施例１）
＜洗浄工程１＞
切削加工が終了したアルミニウム基体を、脱脂槽で用いる超音波の周波数は表２に示す条件、その他の洗浄条件は表１に示す条件にて、図１に示す洗浄装置により洗浄を行った。
【０１０２】
また、脱脂槽は図５のような貯槽を有し、槽の大きさは縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さは液面調整機構により表２のように調整した。リンス槽及び乾燥槽は図６のような貯槽がなく、リンス槽の大きさは縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ８０１ｍｍとした。
【０１０３】
図１、図５及び図６に示す脱脂槽及びリンス槽は、各槽内に供給された洗浄液を洗浄槽上面から排出するオーバーフロータイプであるため、図１２に示すように超音波振動子１２０２上面から液面までの高さが洗浄槽の高さと同じとなる。
【０１０４】
具体的な洗浄方法としては、シャッターにより洗浄前ストッカーと脱脂槽、リンス槽、乾燥槽及び洗浄後ストッカーを分離した。そして、分離された洗浄前ストッカーをブースで覆い、ブース内の温度を４０℃に調整した。また、シャッターにより洗浄前ストッカーから分離された洗浄装置内を２０℃に調整した。ブース内、洗浄装置内及び各貯留槽に貯留されている洗浄液の温度が安定した後、洗浄前ストッカーにアルミニウム基体を置き、３分間保持した。
【０１０５】
３分経過後、シャッターを開き、アルミニウム基体を搬送アームにより洗浄前ストッカーから脱脂槽へと搬送し、シャッターを閉じる。搬送されたアルミニウム基体は、界面活性剤として、アルミ用侵食低起泡性液状脱脂剤（ヘンケルジャパン（株）社、商品名；ａｌｍｅｃｏ  ＣＴ−２９）を純水で３０倍に希釈した洗浄液に浸透させ、超音波を印加して脱脂洗浄を行った。
【０１０６】
次に、脱脂槽からリンス槽にアルミニウム基体を搬送して純水に浸漬させ、超音波を印加してリンス洗浄を行った。リンス槽には常に酸素濃度約７ｐｐｍの純水を供給した。
【０１０７】
最後に、リンス槽から乾燥槽にアルミニウム基体を搬送して純水に表１の処理時間浸透させた後、５００ｍｍ／ｍｉｎの速度でゆっくり引き上げながら温水引き上げ乾燥を行った後、搬送機構により洗浄後ストッカーへアルミニウム基体を搬出した。
【０１０８】
以上の切削工程及び洗浄工程を繰り返し行い、処理されたアルミニウム基体３本を用いて、図１０の１３．５６ＭＨｚ電源を用いたＲＦプラズマ装置を用いて、表３に示す条件にてａ−Ｓｉ電子写真感光体を作製した。ただし、洗浄条件（１）で洗浄されたアルミニウム基体を用いて作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体を１とし、他の洗浄条件においても同様に電子写真感光体番号をつけることにした。
【０１０９】
【表１】
0005153317.tif 000002
【０１１０】
【表２】
0005153317.tif 000003
【０１１１】
【表３】
0005153317.tif 000004
【０１１２】
表３の条件により作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の異常成長の数を下記［異常成長の数の測定］により評価した。
【０１１３】
（比較例１）
切削工程１により切削加工されたアルミニウム基体を、実施例１と同様に洗浄を行い、表３の条件にてａ−Ｓｉ電子写真感光体を作製した。但し、脱脂工程で用いる超音波の周波数、脱脂槽の高さを表４に示す条件にて脱脂洗浄を行った。
【０１１４】
作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の異常成長の数を下記［異常成長の数の測定］により評価した。
【０１１５】
【表４】
0005153317.tif 000005
【０１１６】
（比較例２）
切削工程１により切削加工されたアルミニウム基体を、表５に示す洗浄条件にて図１１に示す洗浄装置により洗浄を行った。図１１に示す洗浄装置には、リンス槽に超音波を印加するための超音波振動子及び超音波発振器がないものである。
【０１１７】
また、脱脂槽は図５のような貯槽を有し、槽の大きさは、縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ７８９ｍｍとした。リンス槽及び乾燥槽は図６のような貯槽がなく、リンス槽の大きさは縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ８０１ｍｍとした。
【０１１８】
以上の切削工程１及び洗浄工程を繰り返し行い、実施例１と同様に洗浄後のアルミニウム基体上にａ−Ｓｉ電子写真感光体を作製した。但し、比較例２の洗浄条件（表５）を（７）とし、作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体番号を７とした。
【０１１９】
【表５】
0005153317.tif 000006
【０１２０】
作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の異常成長の数を下記［異常成長の数の測定］により評価した。
【０１２１】
［異常成長の数の測定］
異常成長の数の測定は、作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体をラインセンサＣＣＤ（竹中システム機器株式会社製、ＴＬ−７４００ＣＬ）を用いて、電子写真感光体全面スキャンを行い、長径１０μｍ以上の異常成長の数を測定した。同様に合計３本の電子写真感光体を測定して得られた異常成長の数の平均値を異常成長の数として求めた。
【０１２２】
実施例１、比較例１及び比較例２により得られた異常成長の数を、比較例２に示す電子写真感光体７の異常成長の数に対する割合（％）を求め比較した。評価基準は次の通りである。その評価結果を表６に示す。
Ｆ  ‥比較例２の異常成長の数に対する割合が１１０％以上。
Ｅ  ‥比較例２の異常成長の数に対する割合が９０％以上１１０％未満で変化無し。
Ｄ  ‥比較例２の異常成長の数に対する割合が５０％以上９０％未満。
Ｃ  ‥比較例２の異常成長の数に対する割合が３０％以上５０％未満。
Ｂ  ‥比較例２の異常成長の数に対する割合が１０％以上３０％未満。
Ａ  ‥比較例２の異常成長の数に対する割合が１０％未満。
【０１２３】
【表６】
0005153317.tif 000007
【０１２４】
脱脂工程で用いる超音波の周波数が３９ｋＨｚ以下の場合には電子写真感光体７よりも異常成長の数が減少し、３９ｋＨｚよりも大きい場合には周波数の増加にともない異常成長の数が増加した。３９ｋＨｚよりも大きくすると、周波数が高くなり衝撃力が小さくなるため、切削油を除去するための洗浄力が足りなくなったためだと思われる。
【０１２５】
電子写真感光体１〜２をｉＲ−６０００に搭載させて画像を出力したところ、電子写真感光体７よりも良好な画像が得られた。
【０１２６】
（実施例２）
切削工程１により切削加工されたアルミニウム基体を、リンス槽で用いる超音波の周波数は表８に示す条件、その他の洗浄条件は表７に示す条件にて図１に示す洗浄装置により洗浄を行った。
【０１２７】
脱脂槽は図５のような貯槽を有し、槽の大きさは縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ７９８ｍｍとした。リンス槽及び乾燥槽は図６のような貯槽がなく、リンス槽の大きさは縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さは液面調整機構により表８のように調整した。その他、洗浄工程は実施例１と同様に行った。
【０１２８】
以上の切削工程及び洗浄工程を繰り返し行い、実施例１と同様に洗浄後のアルミニウム基体上に表３の条件にてａ−Ｓｉ電子写真感光体を作製し、作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の異常成長の数を［異常成長の数の測定］により評価した。
【０１２９】
【表７】
0005153317.tif 000008
【０１３０】
【表８】
0005153317.tif 000009
【０１３１】
（比較例３）
切削工程１により切削加工されたアルミニウム基体を、実施例２と同様に洗浄を行い、表３の条件にてａ−Ｓｉ電子写真感光体を作製した。但し、リンス工程で用いる超音波の周波数、リンス槽の高さを表９に示す条件にてリンス洗浄を行った。作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の異常成長の数を［異常成長の数の測定］により評価した。
【０１３２】
【表９】
0005153317.tif 000010
【０１３３】
実施例２及び比較例３により得られた異常成長の数を比較例２の電子写真感光体７の異常成長の数に対する割合（％）を求め比較した。評価基準は実施例１及び比較例１と同様である。その評価結果を表１０に示す。
【０１３４】
【表１０】
0005153317.tif 000011
【０１３５】
リンス工程で用いる超音波の周波数を１００ｋＨｚ以上２００ｋＨｚ以下とすることで、電子写真感光体７よりも異常成長の数が減少した。周波数を１００ｋＨｚ未満にすると脱脂工程のみで超音波を印加したときよりも異常成長の数が増加し、２００ｋＨｚより大きくすると異常成長の数には大きな変化が見られなかった。
【０１３６】
周波数が１００ｋＨｚ未満の場合、脱脂槽でアルミニウム基体に切削油が除去されているため、衝撃力の強い周波数の超音波を印加したことで、アルミニウム基体の表面に直接衝撃がかかる。その結果、アルミニウム基体の表面が粗くなったためと思われる。また、２００ｋＨｚより高い場合、キャビティーによる変化量が少なくなるため、ダストの除去が効果的に行われなかったために、脱脂工程のみで超音波を印加したときと大きな変化がなかったと思われる。
【０１３７】
電子写真感光体番号８をｉＲ−６０００に搭載させて画像を出力したところ、電子写真感光体番号８は、７よりも良好な画像が得られた。
【０１３８】
（実施例３）
切削工程１により切削加工されたアルミニウム基体を、リンス槽で用いる超音波の印加電力及び超音波の印加時間は表１２に示す条件、その他の洗浄条件は表１１に示す条件にて図１に示す洗浄装置により洗浄を行った。
【０１３９】
また、脱脂槽は図５のような貯槽を有し、槽の大きさは縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ７９８ｍｍとした。リンス槽及び乾燥槽は図６のような貯槽がなく、リンス槽の大きさは縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ７９９ｍｍとした。その他、洗浄工程は実施例１と同様に行った。
【０１４０】
以上の切削工程及び洗浄工程を繰り返し行い、実施例１と同様に洗浄後のアルミニウム基体上に表３の条件にてａ−Ｓｉ電子写真感光体を作製し、作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の異常成長の数を［異常成長の数の測定］により評価した。
【０１４１】
【表１１】
0005153317.tif 000012
【０１４２】
【表１２】
0005153317.tif 000013
【０１４３】
実施例３により得られた異常成長の数を実施例１に示す電子写真感光体２の異常成長の数に対する割合（％）を求め比較した。評価基準は次の通りである。その評価結果を表１３に示す。なお、電子写真感光体１３は、ｆ２×ｔ２×Ｐ２／Ｖ２の値が２であり、４未満であることから、比較例である。
Ｆ  ‥電子写真感光体２の異常成長の数に対する割合が１１０％より大きい
Ｅ  ‥電子写真感光体２の異常成長の数に対する割合が９０％以上１１０％未満で変化無し
Ｄ  ‥電子写真感光体２の異常成長の数に対する割合が５０％以上９０％未満
Ｃ  ‥電子写真感光体２の異常成長の数に対する割合が３０％以上５０％未満
Ｂ  ‥電子写真感光体２の異常成長の数に対する割合が１０％以上３０％未満
Ａ  ‥電子写真感光体２の異常成長の数に対する割合が１０％未満。
【０１４４】
【表１３】
0005153317.tif 000014
【０１４５】
リンス工程で用いる超音波の印加電力及び印加時間を変更したところ、リンス槽におけるｆ２×ｔ２×Ｐ２／Ｖ２の値が４以上の範囲になると、異常成長の数がより減少することが確認された。この場合、超音波によりリンス槽内の洗浄液中で発生するキャビティーの数が増加し、その結果、ダスト等の異常成長の原因をアルミニウム基体から除去する洗浄力が増加するためと思われる。
【０１４６】
電子写真感光体１３〜２１をｉＲ−６０００に搭載させて画像を出力したところ、１４〜２１に関しては、より良好な画像が得られた。
【０１４７】
（実施例４）
切削工程１により切削加工されたアルミニウム基体を、リンス槽で用いる超音波の印加電力及び超音波の印加時間は表１５に示す条件、その他の洗浄条件は表１４に示す条件にて図１に示す洗浄装置により洗浄を行った。
【０１４８】
また、脱脂槽は図５のような貯槽を有し、槽の大きさは縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ７９８ｍｍとした。リンス槽及び乾燥槽は図６のような貯槽がなく、リンス槽の大きさは縦３０１ｍｍ、横３０１ｍｍ、高さ５０１ｍｍとした。その他、洗浄工程は実施例１と同様に行った。
【０１４９】
以上の切削工程及び洗浄工程を繰り返し行い、実施例１と同様に洗浄後のアルミニウム基体上に表３の条件にてａ−Ｓｉ電子写真感光体を作製し、作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の異常成長の数を［異常成長の数の測定］により評価した。
【０１５０】
【表１４】
0005153317.tif 000015
【０１５１】
【表１５】
0005153317.tif 000016
【０１５２】
実施例４により得られた異常成長の数を実施例１に示す電子写真感光体２の異常成長の数に対する割合（％）を求め比較した。評価基準は実施例３と同様である。その評価結果を表１６に示す。なお、電子写真感光体３０は、ｆ２×ｔ２×Ｐ２／Ｖ２の値が３２０であり、２４０を超えることから、比較例である。
【０１５３】
【表１６】
0005153317.tif 000017
【０１５４】
リンス工程で用いる超音波の印加電力及び印加時間を変更したところ、リンス槽におけるｆ２×ｔ２×Ｐ２／Ｖ２の値が２４０以下と範囲になると、異常成長の数がより減少することが確認された。この場合には、超音波によりリンス槽内の洗浄液中で発生したキャビティーの数の増加を適正に制御できるため、アルミニウム基体の表面へのダメージを最小限に抑えつつも、効果的にダストやバリの除去が可能であるためと思われる。
【０１５５】
電子写真感光体２２〜３０をｉＲ−６０００に搭載させて画像を出力したところ、２２〜２９に関しては、より良好な画像が得られた。
【０１５６】
＜切削工程２＞
切削加工時に用いる切削油として動粘度が異なる２種類の炭化水素系合成油ポリブデン（商品名；日石ポリブデンＬＶ−７、日石ポリブデンＬＶ−５０）を表１７の条件で混合した切削油を用いて切削加工を行った。その他切削工程は、切削加工１と同様に行った。
【０１５７】
【表１７】
0005153317.tif 000018
【０１５８】
（実施例５）
切削工程２により切削油番号ａ〜ｆを用いて切削加工されたアルミニウム基体を、表１８に示す洗浄条件にて図１に示す洗浄装置により洗浄を行った。
【０１５９】
また、脱脂槽は図５のような貯槽を有し、槽の大きさは縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ７９３ｍｍとした。リンス槽及び乾燥槽は図６のような貯槽がなく、リンス槽の大きさは縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ８０１ｍｍとした。その他、洗浄工程は実施例１と同様に行った。
【０１６０】
以上の切削工程及び洗浄工程を繰り返し行い、実施例１と同様に洗浄後のアルミニウム基体上に表３の条件にてａ−Ｓｉ電子写真感光体を作製し、作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の異常成長の数を［異常成長の数の測定］により評価した。但し、切削油番号ａの切削油を用いて切削加工されたアルミニウム基体を用いて作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の電子写真感光体番号をＡとし、ｂ〜ｆに関しても同様にＢ〜Ｆとした。
【０１６１】
【表１８】
0005153317.tif 000019
【０１６２】
実施例５により得られた異常成長の数を実施例１に示す電子写真感光体２の異常成長の数に対する割合（％）を求め比較した。評価基準は実施例３と同様である。その評価結果を表１９に示す。
【０１６３】
【表１９】
0005153317.tif 000020
【０１６４】
表１９の結果より、切削加工に用いる切削油の動粘度ａを変更したところ、切削油の動粘度ａが１５以上の範囲になると、更に異常成長の数が減少することが確認された。電子写真感光体Ａ〜ＦをｉＲ−６０００に搭載させて画像を出力したところ、Ａ〜Ｅに関しては、より良好な画像が得られた。
【０１６５】
（実施例６）
切削工程２により切削油番号ａ〜ｆを用いて切削加工されたアルミニウム基体を、表２０に示す洗浄条件にて図１に示す洗浄装置により洗浄を行った。但し、ブースで覆われた洗浄前ストッカーのブース内の温度を２０℃に調整した。ブース内の温度が安定した後、洗浄工程１と同様に切削加工後のアルミニウム基体を３分間洗浄前ストッカーで保持した後に洗浄を行うこと以外は、洗浄工程１と同様である。
【０１６６】
また、脱脂槽は図５のような貯槽を有し、槽の大きさは縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ７９８ｍｍとした。リンス槽及び乾燥槽は図６のような貯槽がなく、リンス槽の大きさは縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ８０１ｍｍとした。その他、洗浄工程は実施例１と同様に行った。
【０１６７】
以上の切削工程及び洗浄工程を繰り返し行い、実施例１と同様に洗浄後のアルミニウム基体上に表３の条件にてａ−Ｓｉ電子写真感光体を作製し、作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の異常成長の数を［異常成長の数の測定］により評価した。但し、切削油番号ａの切削油を用いて切削加工されたアルミニウム基体を用いて作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の電子写真感光体番号をＡ２とし、ｂ〜ｆに関しても同様にＢ２〜Ｆ２とした。
【０１６８】
【表２０】
0005153317.tif 000021
【０１６９】
実施例６により得られた異常成長の数を実施例１に示す電子写真感光体２の異常成長の数に対する割合（％）を求め比較した。評価基準は実施例３と同様である。評価結果を表２１に示す。
【０１７０】
【表２１】
0005153317.tif 000022
【０１７１】
切削加工に用いる切削油の動粘度ａを変更したところ、切削油の動粘度ａが４０以下の範囲となると、更に異常成長の数が減少することが確認された。電子写真感光体番号Ａ２〜Ｆ２をｉＲ−６０００に搭載させて画像を出力したところ、Ｃ２〜Ｆ２に関しては、より良好な画像が得られた。
【０１７２】
＜切削工程３＞
切削加工時に用いる切削油として炭化水素系合成油ポリブデン（商品名；日石ポリブデンＬＶ−１０）を用いて切削加工を行った。その他切削工程は、切削加工１と同様に行った。
【０１７３】
（実施例７）
＜洗浄工程２＞
切削工程３により切削加工されたアルミニウム基体を、表２２に示す洗浄条件にて図１に示す洗浄装置により洗浄を行った。但し、脱脂槽は、図７に示す真空脱気装置（千代田電気工業株式会社製  ＴＫＦ−１１）を洗浄液の供給ラインに有するものを、リンス槽は、図８に示す真空脱気装置（千代田電気工業株式会社製  ＴＫＦ−１１）を洗浄液の供給ラインに有するものを用いて、脱脂槽及びリンス槽内の洗浄液の酸素濃度を表２３となるように制御した。
【０１７４】
また、脱脂槽は槽の大きさは、縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ７９８ｍｍとした。リンス槽の大きさは、縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ７９９ｍｍとした。乾燥槽は図６のような貯槽がないものとした。その他、洗浄工程は実施例１と同様に行った。
【０１７５】
以上の切削工程及び洗浄工程を繰り返し行い、実施例１と同様に洗浄後のアルミニウム基体上に表３の条件にてａ−Ｓｉ電子写真感光体を作製し、作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の異常成長の数を［異常成長の数の測定］により評価した。
【０１７６】
【表２２】
0005153317.tif 000023
【０１７７】
【表２３】
0005153317.tif 000024
【０１７８】
実施例７により得られた異常成長の数を実施例１に示す電子写真感光体２の異常成長の数に対する割合（％）を求め比較した。評価基準は実施例３と同様である。評価結果を表２４に示す。
【０１７９】
【表２４】
0005153317.tif 000025
【０１８０】
脱脂槽及びリンス槽内の洗浄液を脱気したところ、脱脂槽又はリンス槽の洗浄液の酸素濃度が５ｐｐｍ以下の範囲となると異常成長の数が減少した。更に、脱脂槽及びリンス槽ともに酸素濃度が５ｐｐｍ以下の範囲となると、更に異常成長の数が減少することが確認された。
【０１８１】
電子写真感光体番号３１〜４０をｉＲ−６０００に搭載させて画像を出力したところ、３２〜３７に関しては、より良好な画像が得られ、３８〜４０に関しては、更に良好な画像が得られた。
【０１８２】
（実施例８）
切削工程３により切削加工されたアルミニウム基体を、脱脂槽及びリンス槽の液温を表２６の条件に制御して、その他の洗浄条件は表２５の洗浄条件にて図１に示す洗浄装置により洗浄を行った。
【０１８３】
また、脱脂槽は槽の大きさは、縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ７９８ｍｍとした。リンス槽の大きさは、縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ８０１ｍｍとした。乾燥槽は図６のような貯槽がないものとした。その他、洗浄工程は実施例１と同様に行った。
【０１８４】
以上の切削工程及び洗浄工程を繰り返し行い、実施例１と同様に洗浄後のアルミニウム基体上に表３の条件にてａ−Ｓｉ電子写真感光体を作製し、作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の異常成長の数を［異常成長の数の測定］により評価した。
【０１８５】
【表２５】
0005153317.tif 000026
【０１８６】
【表２６】
0005153317.tif 000027
【０１８７】
実施例８により得られた異常成長の数を実施例７に示す電子写真感光体３８の異常成長の数に対する割合（％）を求め比較した。評価基準は次の通りである。その評価結果を表２７に示す。
Ｆ  ‥電子写真感光体３８の異常成長の数に対する割合が１１０％以上
Ｅ  ‥電子写真感光体３８の異常成長の数に対する割合が９０％以上１１０％未満で変化無し
Ｄ  ‥電子写真感光体３８の異常成長の数に対する割合が５０％以上９０％未満
Ｃ  ‥電子写真感光体３８の異常成長の数に対する割合が３０％以上５０％未満
Ｂ  ‥電子写真感光体３８の異常成長の数に対する割合が１０％以上３０％未満
Ａ  ‥電子写真感光体３８の異常成長の数に対する割合が１０％未満。
【０１８８】
【表２７】
0005153317.tif 000028
【０１８９】
脱脂槽及びリンス槽内の洗浄液の温度を制御したところ、リンス槽の液温よりも脱脂槽の液温を高くすると異常成長の数が減少し、脱脂槽の液温を３０℃以上５０℃以下、リンス槽の液温を３５℃以下の範囲とすると、その数がより減少した。更に、脱脂槽の液温を３０℃以上５０℃以下、及びリンス槽の液温を３５℃以下の範囲とすると、その数が特に減少することが確認された。
【０１９０】
電子写真感光体番号４１〜５０をｉＲ−６０００に搭載させて画像を出力したところ、４５〜４７、５０に関しては、より良好な画像が得られ、４２〜４４、４８〜４９に関しては、更に良好な画像が得られた。
【０１９１】
（実施例９）
切削工程３により切削加工されたアルミニウム基体を、脱脂槽及びリンス槽に供給される洗浄液の供給量を表２９の条件に制御して、その他の洗浄条件は表２８の洗浄条件にて図１に示す洗浄装置により洗浄を行った。
【０１９２】
また、脱脂槽は槽の大きさは、縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ７９８ｍｍとした。リンス槽の大きさは、縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ８０１ｍｍとした。乾燥槽は図６のような貯槽がないものとした。脱脂槽及びリンス槽の洗浄液の供給量は、バイパスラインの手動バルブにより調整を行った。その他、洗浄工程は、実施例１と同様に行った。
【０１９３】
以上の切削工程及び洗浄工程を繰り返し行い、実施例１と同様に洗浄後のアルミニウム基体上に表３の条件にてａ−Ｓｉ電子写真感光体を作製し、作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の異常成長の数を［異常成長の数の測定］により評価した。
【０１９４】
【表２８】
0005153317.tif 000029
【０１９５】
【表２９】
0005153317.tif 000030
【０１９６】
実施例９により得られた異常成長の数を実施例７に示す電子写真感光体３８の異常成長の数に対する割合（％）を求め比較した。評価基準は実施例８と同様である。その評価結果を表３０に示す。
【０１９７】
【表３０】
0005153317.tif 000031
【０１９８】
脱脂槽及びリンス槽内への洗浄液の供給量を制御したところ、Ｌ１／Ｖ１又はＬ２／Ｖ２、すなわちいずれか一方が０．７以上４．０以下の範囲を満たす場合には異常成長の数が減少し、Ｌ１／Ｖ１とＬ２／Ｖ２との両方が上記範囲を満たす場合にはその数は特に減少することが確認された。
【０１９９】
電子写真感光体番号５１〜５９をｉＲ−６０００に搭載させて画像を出力したところ、５２〜５３、５６〜５７に関してはより良好な画像が得られ、５８〜５９に関しては、特に良好な画像が得られた。
【０２００】
（実施例１０）
切削工程３により切削加工されたアルミニウム基体を、表３１の洗浄条件にて図２に示す洗浄装置により洗浄を行った。但し、超音波が印加されるリンス槽は乾燥槽から見て１つ前の洗浄槽に設置し、その他のリンス槽には超音波を設置しなかった。
【０２０１】
また、脱脂槽は槽の大きさは、縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ７９８ｍｍとした。リンス槽の大きさは、縦４００ｍｍ、横４００ｍｍ、高さ８０１ｍｍとした。乾燥槽は図６のような貯槽がないものとした。その他、洗浄工程は実施例７と同様に行った。
【０２０２】
以上の切削工程１及び洗浄工程１を繰り返し行い、実施例１と同様に洗浄後のアルミニウム基体上に表３の条件にてａ−Ｓｉ電子写真感光体を作製し、作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の異常成長の数を［異常成長の数の測定］により評価した。但し、実施例１０で作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の電子写真感光体番号は６０とした。
【０２０３】
【表３１】
0005153317.tif 000032
【０２０４】
（実施例１１）
切削工程３により切削加工されたアルミニウム基体を、表３２の洗浄条件にて図３に示す洗浄装置により洗浄を行った。但し、超音波が印加されるリンス槽は乾燥槽から見て２つ前のリンス槽に設置し、１つ前のリンス槽は超音波の印加を行わなかった。
【０２０５】
脱脂槽の大きさ、リンス槽の大きさ、乾燥槽は、実施例１０と同様のものを用いた。その他、切削工程及び洗浄工程、ａ−Ｓｉ電子写真感光体作製及び評価についても実施例１０と同様に行った。実施例１１で作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の電子写真感光体番号は６１とした。
【０２０６】
【表３２】
0005153317.tif 000033
【０２０７】
（実施例１２）
切削工程３により切削加工されたアルミニウム基体を、表３３の洗浄条件にて図３に示す洗浄装置により洗浄を行った。但し、超音波が印加されるリンス槽は乾燥槽から見て１つ前及び２つ前のリンス槽ともに超音波を印加した。
【０２０８】
脱脂槽の大きさ、リンス槽の大きさ、乾燥槽は、実施例１０と同様のものを用いた。その他、切削工程及び洗浄工程、ａ−Ｓｉ電子写真感光体作製及び評価についても実施例１０と同様に行った。実施例１２で作製されたａ−Ｓｉ電子写真感光体の電子写真感光体番号は６２とした。
【０２０９】
【表３３】
0005153317.tif 000034
【０２１０】
実施例１０〜１２により得られた異常成長の数を、実施例７に示す電子写真感光体３８の異常成長の数に対する割合（％）を求め比較した。評価基準は実施例８と同様である。その評価結果を表３４に示す。
【０２１１】
【表３４】
0005153317.tif 000035
【０２１２】
乾燥槽直前のリンス槽にて超音波を印加することにより、異常成長の数が減少することが確認された。電子写真感光体番号６０〜６２をｉＲ−６０００に搭載させて画像を出力したところ、６０、６２に関しては特に良好の画像が得られた。
【図面の簡単な説明】
【０２１３】
【図１】本発明の電子写真感光体製造方法で使用するアルミニウム基体の洗浄を行うための第１の実施形態を示す洗浄装置の模式的な概略断面図である。
【図２】本発明の電子写真感光体製造方法で使用するアルミニウム基体の洗浄を行うための第２の実施形態を示す洗浄装置の模式的な概略断面図である。
【図３】本発明の電子写真感光体製造方法で使用するアルミニウム基体の洗浄を行うための第３の実施形態を示す洗浄装置の模式的な概略断面図である。
【図４】本発明の電子写真感光体製造方法で使用するアルミニウム基体の洗浄を行うための第４の実施形態を示す洗浄装置の模式的な概略断面図である。
【図５】本発明における脱脂槽を示す詳細な概略断面図である。
【図６】本発明におけるリンス槽を示す詳細な概略断面図である。
【図７】本発明における脱気装置を有する脱脂槽を示す詳細な概略断面図である。
【図８】本発明における脱気装置を有するリンス槽を示す詳細な概略断面図である。
【図９】本発明に係わる電子写真感光体の層構成を模式的に示す概略断面図である。
【図１０】ａ−Ｓｉ系感光体を形成可能な、本発明の一実施形態で用いられるプラズマＣＶＤ感光層形成装置の模式図である。
【図１１】従来の洗浄装置における詳細な洗浄槽の概略断面図である。
【図１２】洗浄槽を説明するための概略図である。
【符号の説明】
【０２１４】
１０１、２０１、３０１、４０１、４０２、５０１、７０１、１１０１  ‥  超音波が印加される脱脂槽
１０２、２０４、３０３、３０４、４０３、４０４、６０１、８０１、１１０２  ‥  超音波が印加されるリンス槽
１０３、２０５、３０５、４０５、１１０３  ‥  乾燥槽
１０４、２０６、３０６、４０６、１１０４  ‥  洗浄前ストッカー
１０５、２０７、３０７、４０７、１１０５  ‥  洗浄後ストッカー
１１０、２１０、３１０、４１０、５１０、６１０、７１０、８１０、１００２、１１１０  ‥  アルミニウム基体
１２１、１２３、２２１、２２３、３２１、３２３、３２５、４２１、４２３、４２５、４２７、５２１、６２１、７２１、８２１、１１２１、１２０１  ‥  超音波振動子
１２２、１２４、２２２、２２４、３２２、３２４、３２６、４２２、４２４、４２６、４２８、５２２、６２２、７２２、８２２、１１２２  ‥  超音波発振器
１３１、２３１、２３２、３３１、３３２、４３１、４３２、１１３１  ‥  脱脂槽に貯留される洗浄液
１３２、２３３、２３４、３３３、３３４、４３３、４３４、１１３２  ‥  リンス槽に貯留される洗浄液
１３３、２３５、３３５、４３５、１１３３  ‥  乾燥槽に貯留される洗浄液
１４１、２４１、３４１、４４１、１１４１  ‥  処理部
１４２、２４２、３４２、４４２、１１４２  ‥  基体搬送機構
１５１、２５１、３５１、４５１、１１５１  ‥  投入台
１５２、２５２、３５２、４５２、１１５２  ‥  搬送機構
１５３、２５３、３５３、４５３、５５７、６５７、７５７、８５７、１１５３  ‥  基体載置台
１５４、２５４、３５４、４５４、１１５４  ‥  シャッター
２０２、３０２  ‥  脱脂槽
２０３、１１０２  ‥  リンス槽
５０２、６０２、７０２、８０２  ‥  液面調整機構
５１１、７１１  ‥  貯槽
５３１、６３１、７３１、８３１  ‥  循環ライン
５３２、６３２、７３２、８３２  ‥  槽内循環ポンプ
５３３、６３３、７３３、８３３  ‥  ヒーター
５３４、６３４、７３４、８３４  ‥  冷却機構
５３５、５３６、６３５、６３６、７３５、７３６、８３５、８３６  ‥  フィルター
５３７、６３７、７３７、８３７  ‥  槽の冷却機構
５３８、６３８、７３８、８３８  ‥  チラー
５４１、６４１、７４１、８４１  ‥  循環ライン
５４２、６４２、７４２、８４２  ‥  槽内循環ライン
５４３、６４３、７４３、８４３  ‥  排水ライン
５４４、６４４、７４４、８４４  ‥  手動バルブ
５５０、６５０、７５０、８５０  ‥  搬送機構
５５１、６５１、７５１、８５１  ‥  搬送レール
５５２、６５２、７５２、８５２  ‥  搬送アーム
５５３、６５３、７５３、８５３  ‥  移動機構
５５４、６５４、７５４、８５４  ‥  エアーシリンダー
５５５、６５５、７５５、８５５  ‥  チャッキング機構
７３９、８３９  ‥  脱気装置
９００  ‥  光受容層
９０１  ‥  アルミニウム基体
９０２  ‥  下部阻止層
９０３  ‥  光導電層
９０４  ‥  表面層
１００１  ‥  反応容器
１００３  ‥  支持体加熱ヒーター
１００５  ‥  原料ガス導入管
１００６  ‥  カソード電極
１００７  ‥  導電性受け台
１００８  ‥  排気装置
１００９  ‥  原料ガス導入バルブ
１０１０  ‥  真空計
１０１１  ‥  マッチングボックス
１０１２  ‥  高周波電源
１０１３  ‥  絶縁碍子
１０１５  ‥  メインバルブ
１２０１  ‥  洗浄槽
【図１】
0005153317.tif 000036
【図２】
0005153317.tif 000037
【図３】
0005153317.tif 000038
【図４】
0005153317.tif 000039
【図５】
0005153317.tif 000040
【図６】
0005153317.tif 000041
【図７】
0005153317.tif 000042
【図８】
0005153317.tif 000043
【図９】
0005153317.tif 000044
【図１０】
0005153317.tif 000045
【図１１】
0005153317.tif 000046
【図１２】
0005153317.tif 000047