(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示部と非表示部とを有する画像表示素子である環境感受性デバイスを、
前記表示部の上に設けられ、２族酸化物系吸湿剤を含み、かつ、脱酸素剤を含まない接着層と、
前記非表示部の上に設けられ、脱酸素剤を含む接着層を介して、
少なくとも１層の有機層と少なくとも１層の無機層とを有するバリア層を基材フィルムの上に有するガスバリアフィルムによって封止することを特徴とする環境感受性デバイスの封止方法。
【請求項２】
前記脱酸素剤が、鉄系の脱酸素剤であることを特徴とする請求項１に記載の環境感受性デバイスの封止方法。
【請求項３】
前記２族酸化物系吸湿剤は、酸化カルシウム、または、酸化ストロンチウムである、請求項１または２に記載の環境感受性デバイスの封止方法。
【請求項４】
前記表示部と非表示部とを有する画像表示素子である環境感受性デバイスは、有機ＥＬ素子である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の環境感受性デバイスの封止方法。
【請求項５】
前記表示部の上に設けられた接着層は、接着剤を８０〜９０重量％および前記２族酸化物系吸湿剤を１０〜２０重量％含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の環境感受性デバイスの封止方法。
【請求項６】
前記非表示部の上に設けられた接着層は、前記脱酸素剤を５〜３０重量％含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の環境感受性デバイスの封止方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子等の環境感受性デバイスの封止方法および画像表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子や、液晶表示素子、電子ペーパーなどの表示素子等の環境感受性デバイスはその原料となる発光材料や電極材料等が水蒸気をはじめとするガス成分で劣化しやすいため湿気防止のための封止が実用上の大きな問題となっている。ここで、少なくとも１層の有機層と少なくとも１層の無機層を有するガスバリアフィルムを封止フィルムとして用いることが検討されている（特許文献１）。しかしながら、このような有機無機積層型ガスバリアフィルムを、環境感受性デバイスの封止フィルムとして用いる場合、封止フィルムを接着するための接着層を用いる必要があり、該接着層から水分、酸素が浸入し素子が劣化してしまうという問題がある。
一方、特許文献２には、有機ＥＬ素子の表面をＵＶ硬化皮膜で被覆することが記載されており、さらに、該ＵＶ硬化皮膜に吸湿剤を添加することが記載されている。
【０００３】
【特許文献１】米国第６２６８６９５号明細書
【特許文献２】特開平１１−４０３４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記課題を解決することを目的とするものであって、有機無機積層型ガスバリアフィルムを用いて、環境感受性デバイスを封止する方法であって、接着層からの水分や酸素の浸入を抑止できる環境感受性デバイスの封止方法を提供する。
また、有機無機積層型ガスバリアフィルムで封止された画像表示素子を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題のもと、発明者が鋭意検討した結果、下記手段により上記課題を解決することが可能になった。
（１）環境感受性デバイスを、２族酸化物系吸湿剤および／または脱酸素剤を含む接着層を介して、有機領域と無機領域を含むバリア層を有するガスバリアフィルムによって封止することを特徴とする環境感受性デバイスの封止方法。
（２）環境感受性デバイスを、２族酸化物系吸湿剤および脱酸素剤を含む接着層を介して、有機領域と無機領域を含むバリア層を有するガスバリアフィルムによって封止することを特徴とする環境感受性デバイスの封止方法。
（３）前記有機領域と無機領域を含むバリア層が少なくとも１層の有機層と少なくとも１層の無機層とを有することを特徴とする（１）または（２）に記載の環境感受性デバイスの封止方法。
（４）脱酸素剤が、鉄系の脱酸素剤であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１項に記載の環境感受性デバイスの封止方法。
（５）前記環境感受性デバイスは、画像表示素子であって、表示部と非表示部とを有し、非表示部の上に設けられた接着層に脱酸素剤を含み、表示部の上に設けられた接着層には脱酸素剤を含まない、（１）〜（４）のいずれか１項に記載の環境感受性デバイスの封止方法。
（６）２族酸化物系吸湿剤は、酸化カルシウム、または、酸化ストロンチウムである、（１）〜（５）のいずれか１項に記載の環境感受性デバイスの封止方法。
（７）前記環境感受性デバイスは、有機ＥＬ素子である、（１）〜（６）のいずれか１項に記載の環境感受性デバイスの封止方法。
（８）接着層を介して、ガスバリアフィルムによって封止された画像表示素子であって、
前記ガスバリアフィルムは、有機領域と無機領域とを有し、
前記画像表示素子は表示部と非表示部を含み、該表示部の上に設けられた接着層に脱酸素剤および2族酸化物系吸湿剤を含み、かつ、前記非表示部の上に設けられた接着層には脱酸素剤を含まない、画像表示素子。
（９）脱酸素剤が、鉄系である、（８）に記載の画像表示素子。
（１０）接着層は、接着剤８０〜９０重量％および２族酸化物系吸湿剤１０〜２０重量％を含む、（８）または（９）に記載の画像表示素子。
（１１）２族酸化物系吸湿剤は、酸化カルシウム、または、酸化ストロンチウムである、（８）〜（１０）のいずれか１項に記載の画像表示素子。
（１２）前記画像表示素子は、有機ＥＬ素子である、（８）〜（１１）のいずれか１項に記載の画像表示素子。
【発明の効果】
【０００６】
本発明により、接着層からの水分や酸素の浸入を効果的に防ぎ、ガスバリアフィルムによって環境感受性デバイスを効果的に封止することが可能になった。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
【０００８】
本発明における環境感受性デバイスは、接着層を介して、有機無機積層型ガスバリアフィルムによって、封止され、該接着層には、２族酸化物系吸湿剤および脱酸素剤を含む。
【０００９】
（ガスバリアフィルム）
本発明におけるガスバリアフィルムは大気中の酸素、水分を遮断する機能を有するフィルムである。本発明におけるガスバリアフィルムは、基材フィルムの少なくとも１方の面にガスバリア層が設置されたフィルムである。ここで、ガスバリア層はガスバリア能があると知られている層であればいかなる層でも良いが、有機領域と無機領域もしくは有機層と無機層を交互積層した有機無機積層体であることが好ましい。
なお、有機無機積層型ガスバリアフィルムとは有機領域と無機領域もしくは少なくとも１層の有機層と、少なくとも無機層が積層した構成である。
有機領域と無機領域もしくは有機層と無機層は、通常、交互に積層している。有機領域と無機領域より構成される場合、各領域が膜厚方向に連続的に変化するいわゆる傾斜材料層であってもよい。前記傾斜材料の例としては、キムらによる論文「Journal of Vacuum Science and Technology A Vol. 23 p971−977(2005 American Vacuum Society) ジャーナル オブ バキューム サイエンス アンド テクノロジー Ａ 第２３巻 ９７１頁〜９７７ページ（２００５年刊、アメリカ真空学会）」に記載の材料や、米国公開特許２００４−４６４９７号明細書に開示してあるように有機層と無機層が界面を持たない連続的な層等が挙げられる。以降、簡略化のため、有機層と有機領域は「有機層」として、無機層と無機領域は無機層として記述する。
カスバリアフィルムを構成する層数に関しては特に制限はないが、典型的には２層〜３０層が好ましく、３層〜２０層がさらに好ましい。なお、バリア層はプラスチックフィルムの片面にのみ設けられていてもよいし、両面に設けられていてもよい。
【００１０】
（基材フィルム）
本発明におけるガスバリアフィルムは、通常、基材フィルムとして、プラスチックフィルムを用いる。用いられるプラスチックフィルムは、有機層、無機層等の積層体を保持できるフィルムであれば材質、厚み等に特に制限はなく、使用目的等に応じて適宜選択することができる。前記プラスチックフィルムとしては、具体的には、金属支持体（アルミニウム、銅、ステンレス等）ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン樹脂、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィルンコポリマー、フルオレン環変性ポリカーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂、フルオレン環変性ポリエステル樹脂、アクリロイル化合物などの熱可塑性樹脂が挙げられる。
【００１１】
本発明におけるガスバリアフィルムとしては、プラスチックフィルム等の耐熱性を有する素材からなることが好ましい。具体的には、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１００℃以上および／または線熱膨張係数が４０ｐｐｍ／℃以下で耐熱性の高い透明な素材からなることが好ましい。Ｔｇや線膨張係数は、添加剤などによって調整することができる。このような熱可塑性樹脂として、例えば、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ：１２０℃）、ポリカーボネート（ＰＣ：１４０℃）、脂環式ポリオレフィン（例えば日本ゼオン(株)製 ゼオノア１６００：１６０℃）、ポリアリレート（ＰＡｒ：２１０℃）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ：２２０℃）、ポリスルホン（ＰＳＦ：１９０℃）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ：特開２００１−１５０５８４号公報の化合物：１６２℃）、ポリイミド（例えば三菱ガス化学（株）ネオプリム：２６０℃）、フルオレン環変性ポリカーボネート（ＢＣＦ−ＰＣ：特開２０００−２２７６０３号公報の化合物：２２５℃）、脂環変性ポリカーボネート（ＩＰ−ＰＣ：特開２０００−２２７６０３号公報の化合物：２０５℃）、アクリロイル化合物（特開２００２−８０６１６号公報の化合物：３００℃以上）が挙げられる（括弧内はＴｇを示す）。特に、透明性を求める場合には脂環式ポレオレフィン等を使用するのが好ましい。
【００１２】
本発明のガスバリアフィルムを偏光板と組み合わせて使用する場合、ガスバリアフィルムのバリア性積層体がセルの内側に向くようにし、最も内側に（素子に隣接して）配置することが好ましい。このとき偏光板よりセルの内側にガスバリアフィルムが配置されることになるため、ガスバリアフィルムのレターデーション値が重要になる。このような態様でのガスバリアフィルムの使用形態は、レターデーション値が１０ｎｍ以下の基材フィルムを用いたガスバリアフィルムと円偏光板（１／４波長板＋（１／２波長板）＋直線偏光板）を積層して使用するか、あるいは１／４波長板として使用可能な、レターデーション値が１００ｎｍ〜１８０ｎｍの基材フィルムを用いたガスバリアフィルムに直線偏光板を組み合わせて用いるのが好ましい。
【００１３】
レターデーションが１０ｎｍ以下の基材フィルムとしてはセルローストリアセテート（富士フイルム（株）：富士タック）、ポリカーボネート（帝人化成（株）：ピュアエース、（株）カネカ：エルメック）、シクロオレフィンポリマー（ＪＳＲ（株）：アートン、日本ゼオン（株）：ゼオノア）、シクロオレフィンコポリマー（三井化学（株）：アペル（ペレット）、ポリプラスチック（株）：トパス（ペレット））ポリアリレート（ユニチカ（株）：Ｕ１００（ペレット））、透明ポリイミド（三菱ガス化学（株）：ネオプリム）等を挙げることができる。
また１／４波長板としては、上記のフィルムを適宜延伸することで所望のレターデーション値に調整したフィルムを用いることができる。
【００１４】
本発明における基材フィルムは、画像表示素子に使われる場合、透明であることが求められる。すなわち、光線透過率が通常８０％以上、好ましくは８５％以上、さらに好ましくは９０％以上である。光線透過率は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。
本発明の環境感受性デバイスは、その用途によっては必ずしも透明性が要求されない。したがって、このような場合は、プラスチックフィルムとして不透明な材料を用いることもできる。不透明な材料としては、例えば、ポリイミド、ポリアクリロニトリル、公知の液晶ポリマーなどが挙げられる。
本発明におけるガスバリアフィルムに用いられるプラスチックフィルムの厚みは、用途によって適宜選択されるので特に制限がないが、典型的には１〜８００μｍであり、好ましくは１０〜２００μｍである。これらのプラスチックフィルムは、透明導電層、プライマー層等の機能層を有していても良い。機能層については、特開２００６−２８９６２７号公報の段落番号００３６〜００３８に詳しく記載されている。これら以外の機能層の例としてはマット剤層、保護層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、被印刷層、易接着層等が挙げられる。
【００１５】
無機層
無機層は無機物で構成されガスバリア性を有すれば特に制限はない。無機物としては、典型的には、ホウ素、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、亜鉛、スズの酸化物、窒化物、酸窒化物、炭化物、水素化物等が挙げられる。これらは純物質でもよいし、複数組成からなる混合物や傾斜材料層でもよい。これらのうち、アルミニウムの酸化物、窒化物若しくは酸窒化物、または珪素の酸化物、窒化物若しくは酸窒化物が好ましい。ガスバリアフィルムを構成する各無機層の厚みに関しては特に限定されないが、典型的には１層あたり５ｎｍ〜５００ｎｍの範囲内であることが好ましく、さらに好ましくは１層あたり１０ｎｍ〜２００ｎｍである。
【００１６】
無機層の形成方法としては、目的の薄膜を形成できる方法であればいかなる方法でも用いることができる。例えば、ゾルーゲル法、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法などが適しており、具体的には特許登録第３４００３２４号公報、特開２００２−３２２５６１号公報、特開２００２−３６１７７４号公報記載の形成方法を採用することができる。
特に、珪素の化合物を成膜する場合、誘導結合プラズマＣＶＤ、電子サイクロトロン共鳴条件に設定したマイクロ波と磁場を印加したプラズマを用いたＰＶＤまたはＣＶＤのいずれかの形成方法を採用するのが好ましく、誘導結合プラズマＣＶＤによる形成方法を採用するのが最も好ましい。誘導結合プラズマＣＶＤや電子サイクロトロン共鳴条件に設定したマイクロ波と磁場を印加したプラズマとを用いたＣＶＤ（ＥＣＲ−ＣＶＤ）は、例えば、化学工学会、ＣＶＤハンドブック、p.２８４（１９９１）に記載の方法にて実施することができる。また、電子サイクロトロン共鳴条件に設定したマイクロ波と磁場を印加したプラズマとを用いたＰＶＤ（ＥＣＲ−ＰＶＤ）は、例えば、小野他、Jpn.J.Appl.Phys.２３、No.8、L５３４（１９８４）に記載の方法にて実施することができる。前記ＣＶＤを用いる場合の原料としては、珪素供給源としてシラン等のガスソースや、ヘキサメチルジシラザン等の液体ソースを用いることができる。
【００１７】
有機層
本発明におけるガスバリアフィルムは有機層を有することが好ましい。有機層は、上記の無機物からなる無機層の脆性およびバリア性を向上させるために、これと隣接して１層以上設けられる。
【００１８】
有機層は、（１）ゾルゲル法を用いて作成した無機酸化物層を利用する方法、（２）有機物を塗布または蒸着で積層下した後、紫外線または電子線で硬化させる方法等を用いて形成することができる。また、（１）および（２）は、組み合わせて使用しても良く、例えば、樹脂フィルム上に（１）の方法で薄膜を形成した後、無機酸化物層を作成し、その後（２）の方法で薄膜を形成しても良い。以下においてこれらの方法を順に説明する。
【００１９】
（１）ゾル−ゲル法
ゾル−ゲル法は、好ましくは溶液中、または塗膜中で金属アルコキシドを加水分解、縮重合させて、緻密な薄膜を得るものである。このとき、樹脂を併用して有機−無機ハイブリッド材料にしても良い。
【００２０】
ゾル−ゲル法に用いる金属アルコキシドとしては、アルコキシシランおよび／またはアルコキシシラン以外の金属アルコキシドを挙げることができる。アルコキシシラン以外の金属アルコキシドとしては、ジルコニウムアルコキシド、チタンアルコキシド、アルミニウムアルコキシド等が好ましい。
【００２１】
ゾル−ゲル反応時に併用するポリマーは、水素結合形成基を有していることが好ましい。水素結合形成基を有する樹脂の例としては、ヒドロキシル基を有するポリマーとその誘導体（ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、フェノール樹脂、メチロールメラミン等とその誘導体）；カルボキシル基を有するポリマーとその誘導体（ポリ（メタ）アクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の重合性不飽和酸の単位を含む単独または共重合体と、これらのポリマーのエステル化物（酢酸ビニル等のビニルエステル、メタクリル酸メチル等の（メタ）アクリル酸エステル等の単位を含む単独または共重合体）等）；エーテル結合を有するポリマー（ポリアルキレンオキサイド、ポリオキシアルキレングリコール、ポリビニルエーテル、珪素樹脂等）；アミド結合を有するポリマー（＞Ｎ（ＣＯＲ）−結合（式中、Ｒは水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基を示す）を有するポリオキサゾリンやポリアルキレンイミンのＮ−アシル化物）；＞ＮＣ（Ｏ）−結合を有するポリビニルピロリドンとその誘導体；ウレタン結合を有するポリウレタン；尿素結合を有するポリマー等を挙げることができる。
【００２２】
また、ゾル−ゲル反応時にモノマーを併用し、ゾル−ゲル反応時、またはその後に重合させて有機−無機ハイブリッド材料を作成することもできる。
【００２３】
ゾル−ゲル反応時には、水、および有機溶媒中で金属アルコキシドを加水分解、および縮重合させるが、この時、触媒を用いることが好ましい。加水分解の触媒としては、一般に酸（有機または無機酸）が用いられる。
酸の使用量は、金属アルコキシド（アルコキシシランおよび他の金属アルコキシドを含有する場合には、アルコキシシラン＋他の金属アルコキシド）１モル当たり、０．０００１〜０．０５モルであり、好ましくは０．００１〜０．０１モルである。加水分解後、無機塩基やアミンなどの塩基性化合物を添加して溶液のｐＨを中性付近にし、縮重合を促進しても良い。
【００２４】
また、中心金属にＡｌ、Ｔｉ、Ｚｒを有する金属キレート化合物、スズの化合物等の有機金属化合物、有機酸のアルカリ金属塩等の金属塩類など、他のゾル−ゲル触媒も併用することができる。
ゾルゲル触媒の組成物中の割合は、ゾル液の原料であるアルコキシシランに対し、好ましくは０．０１〜５０質量％、より好ましくは０．１〜５０質量％、さらに好ましくは０．５〜１０質量％である。
【００２５】
次に、ゾル−ゲル反応に用いられる溶媒について述べる。溶媒はゾル液中の各成分を均一に混合させ、組成物の固形分調整をすると同時に、種々の塗布方法に適用できるようにし、組成物の分散安定性および保存安定性を向上させるものである。これらの溶媒は上記目的の果たせるものであれば特に限定されない。これらの溶媒の好ましい例として、例えば水、および水と混和性の高い有機溶媒が挙げられる。
【００２６】
ゾル−ゲル反応の速度を調節する目的で、多座配位可能な有機化合物を添加して、金属アルコキシドを安定化しても良い。多座配位可能な有機化合物の例としては、β−ジケトンおよび／またはβ−ケトエステル類、およびアルカノールアミンが挙げられる。
このβ−ジケトン類および／またはβ−ケトエステル類の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−ｎ−プロピル、アセト酢酸−ｉ−プロピル、アセト酢酸−ｎ−ブチル、アセト酢酸−ｓｅｃ−ブチル、アセト酢酸−ｔｅｒｔ−ブチル、２，４−ヘキサン−ジオン、２，４−ヘプタン−ジオン、３，５−ヘプタン−ジオン、２，４−オクタン−ジオン、２，４−ノナン−ジオン、５−メチル−ヘキサン−ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ−ジケトン類および／またはβ−ケトエステル類は、１種単独でまたは２種以上を混合して使用することもできる。
これらの多座配位可能な化合物は、ゾル−ゲル触媒として前記の金属キレート化合物を用いた場合、その反応速度を調節する目的にも用いることができる。
【００２７】
次にゾル−ゲル反応組成物を塗設する方法について述べる。ゾル液はカーテンフローコート、ディップコート、スピンコート、ロールコート等の塗布法によって、透明フィルム上に薄膜を形成することができる。この場合、加水分解のタイミングは製造工程中の如何なる時期であっても構わない。例えば、予め必要な組成の液を加水分解部分縮合して目的のゾル液を調製し、それを塗布−乾燥する方法、必要な組成の液を調製し塗布と同時に加水分解部分縮合させながら乾燥する方法、塗布−一次乾燥後、加水分解に必要な水含有液を重ねて塗布し加水分解させる方法等を好適に採用できる。また、塗布方法としては、様々な形態をとることが可能であるが、生産性を重視する場合には多段の吐出口を有するスライドギーサー上で下層塗布液と上層塗布液のそれぞれが必要な塗布量になる様に吐出流量を調整し、形成した多層流を連続的に支持体に乗せ、乾燥させる方法（同時重層法）が好適に用いられる。
【００２８】
塗設後の乾燥温度は好ましくは１５０〜３５０℃、より好ましくは１５０〜２５０℃、さらに好ましくは１５０〜２００℃である。
【００２９】
塗布、乾燥後のフィルムをさらに緻密にするため、エネルギー線の照射を行っても良い。その照射線種に特に制限はないが、支持体の変形や変性に対する影響を勘案し、紫外線、電子線あるいはマイクロ波の照射を特に好ましく用いることができる。照射強度は３０ｍＪ／ｃｍ2 〜５００ｍＪ／ｃｍ2 であり、特に好ましくは５０ｍＪ／ｃｍ2 〜４００ｍＪ／ｃｍ2 である。照射温度は室温から支持体の変形温度の間を制限無く採用することが可能であり、好ましくは３０℃〜１５０℃、特に好ましくは５０℃〜１３０℃である。
【００３０】
（２）有機物を塗布または蒸着で積層した後、紫外線または電子線で硬化させる方法
モノマーを架橋させて得られた高分子を主成分とする有機層を形成する方法について説明する。この方法で用いるモノマーとしては、紫外線あるいは電子線で架橋できる基を含有していれば特に限定は無いが、アクリロイル基またはメタクリロイル基、オキセタン基を有するモノマーを用いることが好ましい。例えば、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリレート、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートなどのうち、２官能以上のアクリロイル基またはメタクリロイル基を有するモノマーを架橋させて得られる高分子を主成分とすることが好ましい。これらの２官能以上のアクリロイル基またはメタクリロイル基を有するモノマーは２種類以上を混合して用いても、また１官能の（メタ）アクリレートを混合して用いてもよい。
また、オキセタン基を有するモノマーとしては、特開２００２−３５６６０７号公報の一般式（３）〜（６）に記載されている構造を有するモノマーを使うことが好ましい。この場合、これらを任意に混合しても良い。
【００３１】
また、ディスプレイ用途に要求される耐熱性、耐溶剤性の観点から、特に架橋度が高く、ガラス転移温度が２００℃以上である、イソシアヌル酸アクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレートを主成分とすることがさらに好ましい。
【００３２】
以下において、一般式（１）で表されるモノマーの具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３３】
【化１】
0005232528.tif 000002
【００３４】
【化２】
0005232528.tif 000003
【００３５】
【化３】
0005232528.tif 000004
【００３６】
【化４】
0005232528.tif 000005
【００３７】
【化５】
0005232528.tif 000006
【００３８】
【化６】
0005232528.tif 000007
【００３９】
有機層厚みについては特に限定されないが、１０ｎｍ〜５０００ｎｍが好ましく、さらに好ましくは、１０〜２０００ｎｍであり、最も好ましくは１０ｎｍ〜５０００ｎｍである。有機層の厚みが薄すぎると、厚みの均一性を得ることが困難となるため、無機層の構造欠陥を効率よく有機層で埋めることができずに、バリア性の向上は見られなくなることがある。逆に有機層の厚みが厚すぎると、曲げ等の外力により有機層がクラックを発生し易くなるためバリア性が低下してしまう不具合が発生することがある。
【００４０】
（有機層の形成方法）
有機層の形成方法としては、特に定めるものではないが、例えば、溶液塗布法や真空成膜法により形成することができる。溶液塗布法としては、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法、或いは、米国特許第２６８１２９４号明細書に記載のホッパ−を使用するエクストル−ジョンコート法により塗布することができる。真空成膜法としては、特に制限はないが、蒸着、プラズマＣＶＤ等の成膜方法が好ましい。本発明においてはポリマーを溶液塗布しても良いし、特開２０００−３２３２７３号公報、特開２００４−２５７３２号公報に開示されているような無機物を含有するハイブリッドコーティング法を用いてもよい。
【００４１】
さらに、本発明で用いるガスバリアフィルムには、上記の他、基材フィルム、有機層、無機層の間、或いは、ガスバリアフィルムと接着剤層の間、該フィルムの最外側に所望の機能層を設置することができる。このような機能層の例としては、基材フィルムで述べた様に平滑化層・密着改良層、反射防止層等が挙げられる。
【００４２】
本発明で用いるガスバリアフィルムの４０℃・相対湿度９０％における水蒸気透過率は、０．０１ｇ／ｍ2・ｄａｙ以下であることが好ましく、０．００１ｇ／ｍ2・ｄａｙ以下であることがより好ましく、０．０００１ｇ／ｍ2・ｄａｙ以下であることが特に好ましい。
また、本発明で用いるガスバリアフィルムの厚さは、１０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２５０μｍであることがより好ましい。
【００４３】
接着剤
接着層は、接着剤を主成分とする層であり、通常、接着層の７０重量％以上が、接着剤であることをいい、接着層の８０〜９０重量％が接着剤であることが好ましい。
接着剤としては、環境感受性デバイスの接着剤として用いられるものが広く採用できるが、好ましくは、エポキシ系接着剤である。ここでエポキシ系接着剤としては、熱硬化型、紫外線硬化型が挙げられる。バリアフィルムが紫外線を吸収するものである場合、熱硬化型が好ましい。熱硬化型の中には１液型、２液混合型があるが、本発明ではいずれでも好ましく用いられる。本発明においては硬化後に無色透明となる接着剤が好ましい。市販品としては、ダイゾーニチモリ製エポテックシリーズ、ナガセケムテックス製ＸＮＲ−５０００シリーズ、スリーボンド製３０００シリーズ等が挙げられる。
【００４４】
２族酸化物系吸湿剤
本発明では、接着層に、２族酸化物系吸湿剤を含む。２族酸化物系吸湿剤としては、酸化カルシウム、酸化ストロンチウムが好ましい。市販品としては、和光純薬製試薬、アルドリッチ社製試薬、関東化学製試薬（いずれも粉末）等が挙げられる。このような２族酸化物を用いることにより、ダークスポットの生成を効率よく抑制するという効果が得られる。また、本発明では２族酸化物系吸湿剤を含む接着剤を用いてもよい。
２族酸化物系吸湿剤は、接着層中に、該層中の５〜３０重量％の割合で含まれていることが好ましく、１０〜２０重量％の割合で含まれていることがより好ましい。
【００４５】
脱酸素剤
本発明では、接着層に、脱酸素剤を含む。脱酸素剤としては、不飽和ポリマー系や鉄系の脱酸素剤が好ましく、鉄系の脱酸素剤がより好ましい。市販品としては、三菱ガス化学製、エージレスシリーズ等が挙げられる。脱酸素剤は、接着層中に、該層中の５〜３０重量％の割合で含まれていることが好ましく、１０〜２０重量％の割合で含まれていることがより好ましい。
接着層には、上記以外の他の成分を含んでいてもよく、例えば、色素、紫外線吸収剤、フィラーが挙げられる。
【００４６】
２族酸化物系吸湿剤及び脱酸素剤を含む位置
環境感受性デバイスである画像表示素子を有機無機積層型ガスバリアフィルムで封止する場合、接着層中に２族酸化物系吸湿剤および脱酸素剤を混合して劣化を防ごうとすると、一般的な脱酸素剤（鉄系、アスコルビン酸系、没食子酸系など）は脱酸素機能発揮のために水分を必要とするため、吸湿剤との共存下では、脱酸素効果が小さい。一方、樹脂酸化型脱酸素剤（不飽和結合を有するポリマー）は水分を必要としないが、脱酸素効果が小さい。
そこで、画像表示素子に用いる場合、画像表示素子上であって、非表示部の上に設けられた接着層に脱酸素剤を含み、かつ、表示部の上に設けられた接着層には脱酸素剤を含まない構成とすることが好ましい。この点について、図１に従ってさらに詳細に説明する。尚、本発明は図１に限定されるものではない。
【００４７】
図１（ａ）および（ｂ）は、有機無機積層型ガスバリアフィルムで封止した画像表示素子の概略図であって、（ｂ）は、（ａ）を側面とした場合、上面から見た図となる。図１中、１は画像表示素子であり、２および３は接着層であり、４は有機無機積層型ガスバリアフィルムである。ここで、図２に示すように、通常、画像表示素子１は、基板１１上に、表示部１２が設けられた構造となっている。本発明では、この表示部１２の上に設けられた接着層３の部分と、該表示部以外の部分、すなわち、非表示部の上に設けられた接着層２の部分とで、接着層の組成を変えることが好ましい。これを、図１（ｂ）の方向から見ると、周辺部（非表示部２）と中心部（表示部３）とで接着層の組成が、該図１（ｂ）に示すように変わる。具体的には、非表示部の上に設けられた接着層に脱酸素剤を含み、表示部の上に設けられた接着層には脱酸素剤を含まない構成となっている。このように、接着層の周辺部に脱酸素剤を配することで、表示品質に悪影響を及ぼさずに、水分、酸素の両方を遮断することができる。特に、ガスバリアフィルムのガスバリア性能が高い場合、接着層からの水分や酸素の侵入については、層の積層方向ではなく、層の断面方向の周囲から侵入しやすいので、非表示部を特に集中的に抑制することは効果的である。結果として、デバイスの表示品質を劣化させずに水、酸素からデバイスを隔離することができる。
脱酸素剤は、非表示部の上に設けられた接着層中に、該非表示部接着層中の５〜３０重量％の割合で含まれていることが好ましく、１０〜２０重量％の割合で含まれていることがより好ましい。
【００４８】
2族酸化物系吸湿剤は、表示部および非表示部の両方に含んでいてもよいし、一方にのみ含んでいてもよく、一方にのみ含んでいる場合、表示部に含んでいる方が好ましい。本発明においては、表示部には2族酸化物系吸湿剤、非表示部には脱酸素剤を含むような組み合わせとすることが特に好ましい。
【００４９】
（環境感受性デバイス）
本発明における環境感受性デバイスとは、環境中に存在する物質、たとえば酸素、水分による影響をうけて性能が変化するデバイスをいい、例えば、画像表示素子、有機メモリー、有機電池、有機太陽電池等が挙げられる。
本発明における画像表示素子とは、円偏光板・液晶表示素子、タッチパネル、有機ＥＬ素子などを意味する。
【００５０】
円偏光板
本発明におけるガスバリアフィルムを基板としλ／４板と偏光板とを積層し、円偏光板を作製することができる。この場合、λ／４板の遅相軸と偏光板の吸収軸とが４５°になるように積層する。このような偏光板は、長手方向（ＭＤ）に対し４５°の方向に延伸されているものを用いることが好ましく、例えば、特開２００２−８６５５５４号公報に記載のものを好適に用いることができる。
【００５１】
液晶表示素子
反射型液晶表示装置は、下から順に、下基板、反射電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、透明電極、上基板、λ／４板、そして偏光膜からなる構成を有する。本発明におけるガスバリアフィルムは、前記透明電極基板および上基板として使用することができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を反射電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。
透過型液晶表示装置は、下から順に、バックライト、偏光板、λ／４板、下透明電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、上透明電極、上基板、λ／４板および偏光膜からなる構成を有する。このうち本発明の基板は、前記上透明電極および上基板として使用することができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を下透明電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。
液晶セルの種類は特に限定されないが、より好ましくはＴＮ（Twisted Nematic）型、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）型またはＨＡＮ（Hybrid Aligned Nematic）型、ＶＡ(Vertically Alignment)型、ＥＣＢ型（Electrically Controlled Birefringence）、ＯＣＢ型（Optically Compensated Bend）、ＣＰＡ型(Continuous Pinwheel Alignment) 、ＩＰＳ型（ In Plane Switching）であることが好ましい。
【００５２】
タッチパネル
タッチパネルは、特開平５-１２７８２２号公報、特開２００２-４８９１３号公報等に記載されたものに応用することができる。
【００５３】
有機ＥＬ素子
有機ＥＬ素子とは、有機エレクトロルミネッセンス素子のことをいう。本発明におけるガスバリアフィルムは、有機ＥＬ素子の封止フィルムとなる。有機ＥＬ素子は、基板上に陰極と陽極を有し、両電極の間に発光層を含む有機化合物層を有する。発光素子の性質上、陽極および陰極のうち少なくとも一方の電極は、透明である。
【００５４】
本発明における有機化合物層の積層の態様としては、陽極側から、正孔輸送層、発光層、電子輸送層の順に積層されている態様が好ましい。さらに、正孔輸送層と発光層との間、または、発光層と電子輸送層との間には、電荷ブロック層等を有していてもよい。陽極と正孔輸送層との間に、正孔注入層を有してもよく、陰極と電子輸送層との間には、電子注入層を有してもよい。また、発光層としては一層だけでもよく、また、第一発光層、第二発光層、第三発光層等に発光層を分割してもよい。さらに、各層は複数の二次層に分かれていてもよい。
【００５５】
次に、有機ＥＬ素子を構成する各要素について、詳細に説明する。
基板
本発明における有機ＥＬ素子に用いられる基板は、公知の有機ＥＬ素子に用いられる基板が広く採用できる。有機ＥＬ基板は、樹脂フィルムであってもよいし、ガスバリアフィルムであってもよい。ガスバリアフィルムの場合、上述した封止フィルムにおけるガスバリアフィルムのほか、特開２００４−１３６４６６号公報、特開２００４−１４８５６６号公報、特開２００５−２４６７１６号公報、特開２００５−２６２５２９号公報等に記載のガスバリアフィルムも好ましく用いることができる。
【００５６】
本発明で用いる基板の厚みは、特に規定されないが３０μｍ〜７００μｍが好ましく、より好ましくは４０μｍ〜２００μｍ、さらに好ましくは５０μｍ〜１５０μｍである。さらにいずれの場合もヘイズは３％以下が好ましく、より好ましくは２％以下、さらに好ましくは１％以下、全光透過率は７０％以上が好ましく、より好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。
【００５７】
陽極
陽極は、通常、有機化合物層に正孔を供給する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。上述のごとく、陽極は、通常透明陽極として設けられる。透明陽極については、沢田豊監修「透明電極膜の新展開」シーエムシー刊（１９９９）に詳述がある。基板として耐熱性の低いプラスチック基材を用いる場合は、ＩＴＯまたはＩＺＯを使用し、１５０℃以下の低温で成膜した透明陽極が好ましい。
【００５８】
陰極
陰極は、通常、有機化合物層に電子を注入する電極としての機能を有していればよく、その形状、構造、大きさ等については特に制限はなく、発光素子の用途、目的に応じて、公知の電極材料の中から適宜選択することができる。
【００５９】
陰極を構成する材料としては、例えば、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、これらの混合物などが挙げられる。具体例としては２属金属（たとえばＭｇ、Ｃａ等）、金、銀、鉛、アルミニウム、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−銀合金、インジウム、イッテルビウム等の希土類金属などが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいが、安定性と電子注入性とを両立させる観点からは、２種以上を好適に併用することができる。
【００６０】
これらの中でも、陰極を構成する材料としては、アルミニウムを主体とする材料が好ましい。
アルミニウムを主体とする材料とは、アルミニウム単独、アルミニウムと０．０１〜１０質量％のアルカリ金属または２属金属との合金（例えば、リチウム−アルミニウム合金、マグネシウム−アルミニウム合金など）をいう。なお、陰極の材料については、特開平２−１５５９５号公報、特開平５−１２１１７２号公報に詳述されている。また、陰極と前記有機化合物層との間に、アルカリ金属または２属金属のフッ化物、酸化物等による誘電体層を０．１〜５ｎｍの厚みで挿入してもよい。この誘電体層は、一種の電子注入層と見ることもできる。
【００６１】
陰極の厚みは、陰極を構成する材料により適宜選択することができ、一概に規定することはできないが、通常１０ｎｍ〜５μｍ程度であり、５０ｎｍ〜１μｍが好ましい。
また、陰極は、透明であってもよいし、不透明であってもよい。なお、透明な陰極は、陰極の材料を１〜１０ｎｍの厚さに薄く成膜し、さらにＩＴＯやＩＺＯ等の透明な導電性材料を積層することにより形成することができる。
【００６２】
発光層
有機ＥＬ素子は、発光層を含む少なくとも一層の有機化合物層を有しており、有機発光層以外の他の有機化合物層としては、前述したごとく、正孔輸送層、電子輸送層、電荷ブロック層、正孔注入層、電子注入層等の各層が挙げられる。
【００６３】
−有機発光層−
有機発光層は、電界印加時に、陽極、正孔注入層、または正孔輸送層から正孔を受け取り、陰極、電子注入層、または電子輸送層から電子を受け取り、正孔と電子との再結合の場を提供して発光させる機能を有する層である。発光層は、発光材料のみで構成されていてもよく、ホスト材料と発光材料の混合層とした構成でもよい。発光材料は蛍光発光材料でも燐光発光材料であってもよく、ドーパントは１種であっても２種以上であってもよい。ホスト材料は電荷輸送材料であることが好ましい。ホスト材料は１種であっても２種以上であってもよく、例えば、電子輸送性のホスト材料とホール輸送性のホスト材料とを混合した構成が挙げられる。さらに、発光層中に電荷輸送性を有さず、発光しない材料を含んでいてもよい。また、発光層は１層であっても２層以上であってもよく、それぞれの層が異なる発光色で発光してもよい。
【００６４】
前記蛍光発光材料の例としては、例えば、ベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、縮合芳香族化合物、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、オキサジン誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、ジケトピロロピロール誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、８−キノリノール誘導体の金属錯体やピロメテン誘導体の金属錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物、有機シラン誘導体などの化合物等が挙げられる。
【００６５】
前記燐光発光材料は、例えば、遷移金属原子またはランタノイド原子を含む錯体が挙げられる。
前記遷移金属原子としては、特に限定されないが、好ましくは、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、タングステン、レニウム、オスミウム、イリジウム、および白金が挙げられ、より好ましくは、レニウム、イリジウム、および白金である。
前記ランタノイド原子としては、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビウム、ルテシウムが挙げられる。これらのランタノイド原子の中でも、ネオジム、ユーロピウム、およびガドリニウムが好ましい。
【００６６】
錯体の配位子としては、例えば、G.Wilkinson等著，Comprehensive Coordination Chemistry, Pergamon Press社１９８７年発行、H.Yersin著，「Photochemistry and Photophysics of Coordination Compounds」 Springer−Verlag社１９８７年発行、山本明夫著「有機金属化学−基礎と応用−」裳華房社１９８２年発行等に記載の配位子などが挙げられる。
【００６７】
また、発光層に含有されるホスト材料としては、例えば、カルバゾール骨格を有するもの、ジアリールアミン骨格を有するもの、ピリジン骨格を有するもの、ピラジン骨格を有するもの、トリアジン骨格を有するものおよびアリールシラン骨格を有するものや、後述の正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層の項で例示されている材料が挙げられる。
【００６８】
−正孔注入層、正孔輸送層−
正孔注入層、正孔輸送層は、陽極または陽極側から正孔を受け取り陰極側に輸送する機能を有する層である。正孔注入層、正孔輸送層は、具体的には、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、有機シラン誘導体、カーボン、等を含有する層であることが好ましい。
【００６９】
−電子注入層、電子輸送層−
電子注入層、電子輸送層は、陰極または陰極側から電子を受け取り陽極側に輸送する機能を有する層である。電子注入層、電子輸送層は、具体的には、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレン、ペリレン等の芳香環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体、有機シラン誘導体、等を含有する層であることが好ましい。
【００７０】
−正孔ブロック層−
正孔ブロック層は、陽極側から発光層に輸送された正孔が、陰極側に通りぬけることを防止する機能を有する層である。本発明において、発光層と陰極側で隣接する有機化合物層として、正孔ブロック層を設けることができる。また、電子輸送層・電子注入層が正孔ブロック層の機能を兼ねていてもよい。
正孔ブロック層を構成する有機化合物の例としては、ＢＡｌｑ等のアルミニウム錯体、トリアゾール誘導体、ＢＣＰ等のフェナントロリン誘導体、等が挙げられる。
また、陰極側から発光層に輸送された電子が陽極側に通りぬけることを防止する機能を有する層を、発光層と陽極側で隣接する位置に設けることもできる。正孔輸送層・正孔注入層がこの機能を兼ねていてもよい。
【００７１】
ＴＦＴ表示素子
本発明におけるガスバリアフィルムは、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）画像表示素子用基板として用いることができる。ＴＦＴアレイの作製方法としては、特表平１０−５１２１０４号公報に記載されている方法等が挙げられる。さらにこの基板はカラー表示のためのカラーフィルターを有していてもよい。カラーフィルターはいかなる方法を用いて作製されてもよいが、好ましくはフォトリソグラフィー手法を用いることが好ましい。
また、本明細書における有機ＥＬ素子とは、有機エレクトロルミネッセンス素子のことをいう。
【実施例】
【００７２】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
【００７３】
実施例１
（有機無機積層型ガスバリアフィルムの作製）
基材フィルムとして、帝人デュポン社からテオネックスＱ６５ＦＡの商品名で市販されているポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルム（厚さ:２００μｍ）を用い、これを２０ｃｍ角に裁断し、その平滑面側に以下のような有機層および無機層からなるガスバリア層を塗布した。
【００７４】
ヴァイテックス・システムズ社製、有機無機積層成膜装置（Ｇｕａｒｄｉａｎ２００）を用いて、この基材フィルムの平滑面側に、紫外線硬化型のポリマー前駆体（Ｖｉｔｅｘ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製、ＢＲＳ−０１０１）をフラッシュ蒸着した後、紫外線を照射して、重合させ、有機層を形成した。膜厚は１．１μｍとした。重合のための紫外線の照射エネルギーは２Ｊ／ｃｍ2であった。
ここで、Ｇｕａｒｄｉａｎ２００は有機無機積層型のガスバリア層を作製できる装置である。有機層と無機層を真空一貫成膜するため、ガスバリア層が完成するまで大気に開放されることが無い。
引き続き、有機無機積層成膜装置（Ｇｕａｒｄｉａｎ２００）を用いて、基材フィルムを真空から取り出すことなく、有機層の上に無機層を形成した。無機層は、アルミニウムをターゲットとする直流パルスによる反応性スパッタ法（反応性ガスは酸素）による酸化アルミニウム成膜である。得られた無機層の膜厚は４０ｎｍであった。
上記の作業を繰り返して、基材フィルムに近い側から、有機層、無機層の順に、有機層を４層、無機層を３層交互に積層して有機無機積層型ガスバリアフィルムを作製した。
【００７５】
（有機ＥＬ素子の作製）
酸素プラズマ処理を行ったＩＴＯ基板上に、順次、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、正孔ブロッキング層、電子輸送層、および電子注入層を設け、陰極をシャドウマスクによりパターニングして設けた。各層はいずれも抵抗加熱真空蒸着により設けた。
酸素プラズマ条件および各層の構成は、下記の通りである。
酸素プラズマ条件：Ｏ2流量＝１０ｓｃｃｍ、ＲＦパワー２００Ｗ、処理時間１分。
正孔注入層：４，４’，４’’−トリス（２−ナフチルフェニルアミノ）トリフェニルアミン（２−ＴＮＡＴＡと略記する）、厚み１４０ｎｍ。
正孔輸送層：Ｎ，Ｎ’−ジナフチル−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミン（α−ＮＰＤと略記する）、厚み１０ｎｍ。
発光層：4,4'-ビス-(９-カルバゾリル)-ビフェニル（ＣＢＰと略記する）およびfac-トリス(2-フェニルピリジナト-N,C2')イリジウム（III）（Ｉｒ（ｐｐｙ）3と略記する）をＣＢＰに対して５質量％含有する層、厚み２０ｎｍ。
正孔ブロック層：ビス（２−メチルー８−ヒドロキシキノリナト）−４−フェニルフェノラトアルミニウム（III）（ＢＡｌｑと略記する）、厚み１０ｎｍ。
電子輸送層：トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム（Ａｌｑ3と略記する）、厚み２０ｎｍ。
電子注入層：ＬｉＦ、厚み１ｎｍ。
陰極（上部電極）：Ａｌ、厚み２００ｎｍ。ＩＴＯ電極とＡｌ電極の交差面積（発光部面積）は２ｍｍ×２ｍｍである。
保護膜：ＳｉＮX膜、厚み２μｍ。プラズマＣＶＤ（ＰＥＣＶＤ）により成膜した。
【００７６】
（有機無機積層型ガスバリアフィルムによる有機ＥＬ素子の封止）
上記で作製した有機ＥＬ素子上に、有機無機積層型ガスバリアフィルムを表１に記載の組成からなる接着層組成物を用いて接着した。
得られた有機無機積層型ガスバリアフィルムで封止した有機ＥＬ素子について、湿度環境下における経時変化および発光効率の経時変化について、評価し、下記表１に示した。
【００７７】
（湿度環境下における経時変化）
温度４０℃、相対湿度９０％の条件で、５００時間静置し、ダークスポットの発生について、評価した。評価は、Ａ、Ｂ、Ｃの三段階で行った。Ｂ以上が実用レベルである。
【００７８】
（発光効率の経時変化）
発光効率の経時変化について、有機EL素子を（株）島津製作所製の発光スペクトル測定システム（ＥＬＳ１５００）にセットし、輝度が１００Ｃｄ／ｍ2時の発光効率（外部量子効率）を測定した。この有機EL素子を常温常圧下で、５００時間静置したのち、再び発光効率を測定し発光効率の変化を調べた。評価は、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅの三段階で行った。Ｄ以上が実用レベルである。
【００７９】
【表１】
0005232528.tif 000008
【００８０】
湿度環境下における経時変化に対する効果
実施例４および５より、吸湿剤として、酸化カルシウムを接着層の１０％（接着剤：吸湿剤＝９：１）の割合で添加した方が、５％（接着剤：吸湿剤＝１９：１）の割合で添加した場合より、良好であることが分かった。
【００８１】
また、基材フィルムをポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）フィルムから、東レ社からルミラーＴ６０の商品名で市販されている二軸延伸ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚み：１００μｍ）に変えた以外は、実施例１と同様に行ったところ、実施例１と同様の効果が得られた。
【産業上の利用可能性】
【００８２】
本発明の封止方法により、環境感受性デバイスの品質劣化を伴わずに、水、酸素から隔離することができる。また、本発明では、ダークスポットの発生を抑止できることから、環境感受性デバイスの寿命を向上させることができる。さらに、有機ＥＬ素子に本発明の技術を用いた場合、発光効率の経時劣化が抑制される。
【図面の簡単な説明】
【００８３】
【図１】図１は、本発明におけるガスバリアフィルムで封止した画像表示素子の概略図の一例を示したものである。
【図２】図２は、図１の画像表示素子部分の概略図を示す。
【符号の説明】
【００８４】
１      画像表示素子
２、３接着層
４      有機無機積層型ガスバリアフィルム
１１    基板
１２    表示部
【図１】
0005232528.tif 000009
【図２】
0005232528.tif 000010