(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）バス電極形成用スラリー組成物であって、
（ａ）粒子の大きさが１０〜１０００ｎｍである黒色顔料０．５〜８質量部；
（ｂ）焼成時ガラス化される平均粒子の大きさが１〜５００ｎｍであるガラスフリット原料物質０．５〜８質量部；及び
（ｃ）（ｉ）有機バインダー高分子１０〜７０質量部、（ｉｉ）架橋性モノマー１０〜５０質量部、（ｉｉｉ）開始剤０．１〜５質量部、及び（ｉｖ）溶媒５〜６０質量部を含む感光性有機成分８４〜９８質量部
を含み、
粘度が１０〜５０ｃｐであり、
テーブルコーティング方式に用いるためのものである、
ＰＤＰバス電極形成用スラリー組成物。
【請求項２】
前記（ｂ）のガラスフリット原料物質の平均粒子の大きさが１〜２００ｎｍである請求項１に記載のＰＤＰバス電極形成用スラリー組成物。
【請求項３】
前記ガラスフリット原料物質が、Ｂｉ2Ｏ3、ＺｎＯ、Ｂ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＣｕＯ、Ｖ2Ｏ5、ＳｉＯ2、Ｋ2Ｏ、Ｆｅ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＢａＯ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3及びＷＯ3からなる群より選択される１種以上である請求項１に記載のＰＤＰバス電極形成用スラリー組成物。
【請求項４】
前記ガラスフリット原料物質が、
Ｂｉ2Ｏ3  １〜７０質量部；
ＺｎＯ  １〜１５質量部；
Ｂ2Ｏ3  １〜１５質量部；
Ｉｎ2Ｏ3  １〜５質量部；
ＣｕＯ  １〜５質量部；及び
ＳｉＯ2  １〜５質量部を含有する請求項１に記載のＰＤＰバス電極形成用スラリー組成物。
【請求項５】
前記ガラスフリット原料物質が、
Ｂｉ2Ｏ3  １〜７０質量部；
ＺｎＯ  １〜１５質量部；
Ｂ2Ｏ3  １〜１５質量部；
Ａｌ2Ｏ3  １〜５質量部；
ＣｕＯ  １〜５質量部；及び
ＳｉＯ2  １〜５質量部を含有する請求項１に記載のＰＤＰバス電極形成用スラリー組成物。
【請求項６】
分散剤０．０１〜５質量部をさらに含む請求項１に記載のＰＤＰバス電極形成用スラリー組成物。
【請求項７】
ＰＤＰバス電極形成方法において、
（ａ）請求項１〜６のいずれか１項に記載のＰＤＰバス電極形成用スラリー組成物を基材上にテーブルコーティング方式により塗布し乾燥する工程；
（ｂ）前記乾燥された基板を露光し現像してパターンを形成する工程；及び
（ｃ）前記パターンが形成された基板を焼成する工程を含むことを特徴とするＰＤＰバス電極形成方法。
【請求項８】
請求項７の方法で形成されたＰＤＰバス電極。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）電極形成用スラリー組成物に関し、特に、テーブルコーティング法による生産性向上及び薄膜化が可能で、電極形成に使用されるスラリーの量が従来のブラックペースト使用量より少なく原価節減が可能なだけでなく、ナノ粒子無機物を使用してスラリーの安定性を顕著に向上させることができるＰＤＰ電極形成用スラリー組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
ディスプレイ装置において、大型化、高密度化、高精密化、及び高信頼性の要求が高まることによって、いろいろなパターン加工技術の開発が行われており、またこのような多様なパターン加工技術に適した各種の微細電極形成用ペーストに関する研究と生産費を節減できる方法に関する研究が活発に行われている。
【０００３】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は液晶パネルと比較すると応答速度が速く、大型化が容易であって、現在多様な分野に利用されている。プラズマディスプレイパネルは典型的には一対の前面及び背面パネルを含み、その前面及び背面パネルは互いに対向するように配置され、一定の間隔で支持された前記パネルとそのパネルの間に配置されたセル障壁によってそれぞれ規定されたディスプレイ素子としての複数のセルを形成している。前記パネルの内表面上に誘電体層を介して位置する２つの電極は、その間に交流電圧を印加することによってセル内で放電し、この放電によってセル障壁の表面上に形成された蛍光体スクリーンを発光させて、透明なパネルを透過した光によって画像を表示する。
【０００４】
ＰＤＰにおいて、画像の解像度及び輝度は、電極の幅、相互接続用導体のピッチ、及び誘電体層透明度などに依存する。電極及び相互接続用導体のパターンはスクリーン板を利用したパターン印刷で形成することができる。
【０００５】
従来の技術は黒色ペーストを３本ロールミルで配合し、コーティングはスクリーンペインティング方式で行われた。スクリーンペインティング方式では、パターン化されたスクリーンマスクを用いてペーストの圧搾（squeeze）を利用して基板に印刷し、乾燥して溶剤を除去した後、再び印刷及び乾燥を数回反復実施して所望の厚さの乾燥した膜を形成した後、焼成工程を経てパターンを形成する。この方法の問題点は工程時間が多くかかり、低い解像度及び反復された印刷作業による誤整列によって均一なパターンを形成しにくいということである。また、従来の技術は粒子の大きさが数μｍであり、粘度が５０００ｃｐ以上と高く、またテーブルコーティング法を適用するために粘度を低くすればスラリーの安定性に大きな問題があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
前記従来の技術の問題点を解決するために、本発明はテーブルコーティング法による生産性向上及び薄膜化が可能で、電極形成に使用されるスラリーの量が従来のブラックペースト使用量より少なく、原価節減が可能なだけでなく、ナノ粒子無機物を使用してスラリーの安定性を顕著に向上させることができるＰＤＰ電極形成用スラリー組成物を提供することを目的とする。
【０００７】
また、本発明は前記ＰＤＰ電極形成用スラリー組成物を使用して生産性を向上させることができ、薄膜化が可能で、原価を節減することができるだけでなく、スラリーの安定性を顕著に向上させることができるＰＤＰ電極形成方法及び前記方法によって形成されたＰＤＰ電極を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記目的を達成するために、本発明は、ＰＤＰ電極形成用スラリー組成物において、
（ａ）粒子の大きさが１０〜１０００ｎｍである黒色顔料０．５〜８質量部；
（ｂ）焼成時ガラス化される平均粒子の大きさが１〜５００ｎｍであるガラスフリット原料物質０．５〜８質量部；及び
（ｃ）感光性有機成分８４〜９８質量部を含むことを特徴とするＰＤＰ電極形成用スラリー組成物を提供する。
【０００９】
また、本発明は、ＰＤＰ電極形成方法において、
（ａ）前記ＰＤＰ電極形成用スラリー組成物を基材上に塗布し乾燥する工程；
（ｂ）前記乾燥された基板を露光し現像してパターンを形成する工程；及び
（ｃ）前記パターンが形成された基板を焼成する工程を含むＰＤＰ電極形成方法を提供する。
【００１０】
さらに、本発明は前記の方法で形成されたＰＤＰ電極を提供する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のＰＤＰ電極形成用スラリー組成物は、テーブルコーティング法を使用して生産性向上及び薄膜化が可能で、電極形成に使用されるスラリーの量が従来のペースト使用量より少なく、原価節減が可能なだけでなく、ナノ粒子無機物を使用してスラリーの安定性を顕著に向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明者は、ＰＤＰ電極形成のためのスラリー組成物において、無機物である黒色顔料とガラスフリットの粒子の大きさをナノメートル水準に維持する場合、スラリーの安定性を顕著に向上させることができ、特にガラスフリットを粒子の大きさが１〜５００ｎｍであるガラスフリット原料物質でスラリーを製造し、焼成時にガラスフリットの機能を果たすようにする場合、テーブルコーティング方式でスラリーのコーティングが可能で生産性を顕著に向上させることができることを確認して、本発明を完成した。
【００１３】
本発明のＰＤＰ電極形成用スラリー組成物は、（ａ）粒子の大きさが１０〜１０００ｎｍである黒色顔料０．５〜８質量部；（ｂ）焼成時ガラス化される粒子の大きさが１〜５００ｎｍであるガラスフリット原料物質０．５〜８質量部；及び（ｃ）感光性有機成分８４〜９８質量部を含むことを特徴とする。
【００１４】
本発明のＰＤＰ電極形成用スラリー組成物に使用される前記（ａ）黒色顔料は従来のＰＤＰ電極の黒色層の形成に使用された黒色顔料を用いることができ、具体的な一例としては、Ｃｕ−Ｃｏ−Ｍｎ系またはコバルト系黒色顔料である。また、前記黒色顔料の粒度は１０〜１０００ｎｍであるものを使用するのが良い。この場合、コーティング性及びスラリーの分散性と製造されるスラリーの安定性を向上させることができる。本発明のＰＤＰ電極形成用スラリー組成物に使用される前記黒色顔料は０．５〜８質量部含まれるのが良く、さらに好ましくは１〜５質量部含まれるのが良い。前記黒色顔料の含量が前記範囲内である場合、膜特性、黒度及び電気抵抗を同時に良好に示すことができる。
【００１５】
本発明のＰＤＰ電極形成用スラリー組成物に使用される前記（ｂ）ガラスフリット原料物質は、焼成時基材との密着性及び焼成強度を強化させる作用を果たす。本発明のＰＤＰ電極形成用スラリー組成物では、従来には電極形成用ペーストに１〜１０μｍのガラスフリットを使用したが、その代わりに粒子の大きさが１〜５００ｎｍであるガラスフリット原料物質を投入して焼成時にガラスフリットの機能を果たすようにする。前記ガラスフリット原料物質の粒子が前記範囲内である場合、ＰＤＰ電極形成用スラリー組成物のテーブルコーティング方式でのコーティングを可能にし、薄膜化が可能で、スラリーの安定性を顕著に向上させることができる。好ましくは、前記ガラスフリット原料物質の粒子の大きさは平均粒子が１〜２００ｎｍであり、さらに好ましくは１〜５０ｎｍである。
【００１６】
前記ガラスフリット原料物質は、具体的な例として、Ｂｉ2Ｏ3、ＺｎＯ、Ｂ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＣｕＯ、Ｖ2Ｏ5、ＳｉＯ2、Ｋ2Ｏ、Ｆｅ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＢａＯ、Ｐ2Ｏ5、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、及びＷＯ3からなる群より選択される１種以上を用いることができ、好ましくは、ガラスフリット原料物質１００質量部に対してＢｉ2Ｏ3  ０〜８０質量部、ＺｎＯ  ０〜４０質量部、Ｂ2Ｏ3  ０〜４０質量部、Ｉｎ2Ｏ3  ０〜１０質量部、ＣｕＯ  ０〜１０質量部、Ｖ2Ｏ5  ０〜１０質量部、ＳｉＯ2  ０〜１０質量部、Ｋ2Ｏ  ０〜１０質量部、Ｆｅ2Ｏ3  ０〜１０質量部、Ｓｂ2Ｏ3  ０〜１０質量部、ＢａＯ  ０〜１０質量部、Ｐ2Ｏ5  ０〜３０質量部、ＴｉＯ2  ０〜１０質量部、Ａｌ2Ｏ3  ０〜１０質量部、及びＷＯ3  ０〜１０質量部を含有するものを使用することができる。
【００１７】
特に、ＰＤＰバス電極の場合、Ｂｉ2Ｏ3  １〜８０質量部；ＺｎＯ  １〜４０質量部；Ｂ2Ｏ3  １〜４０質量部；Ｉｎ2Ｏ3  １〜１０質量部またはＡｌ2Ｏ3  １〜１０質量部；ＣｕＯ  １〜１０質量部；ＳｉＯ2  １〜１０質量部を使用するのが良い。さらに好ましくは、Ｂｉ2Ｏ3  １〜７０質量部；ＺｎＯ  １〜１５質量部；Ｂ2Ｏ3  １〜１５質量部；Ｉｎ2Ｏ3  １〜５質量部；ＣｕＯ  １〜５質量部；及びＳｉＯ2  １〜５質量部を含有し、またはＢｉ2Ｏ3  １〜７０質量部；ＺｎＯ  １〜１５質量部；Ｂ2Ｏ3  １〜１５質量部；Ａｌ2Ｏ3  １〜５質量部；ＣｕＯ  １〜５質量部；及びＳｉＯ2  １〜５質量部を含有するのが良い。
【００１８】
また、好ましくは、前記ガラスフリット原料物質は、焼成時の黒度（色Ｌ＊）が標準白色プレートを用いて補正した分光測色計（コニカミノルタ社製ＣＭ２６００ｄ）を使用して測定する時に数値が３０以下であるのが良く、さらに好ましくは数値が２０以下であるのが良い。前記Ｌ＊は純水黒色を０とし、純水白色を１００とした場合を示すものであって、０に近いほど純粋な黒色を示す。
【００１９】
本発明のＰＤＰ電極形成用スラリー組成物に使用される前記ガラスフリット原料物質は０．５〜８質量部含まれるのが良い。０．５質量部未満である場合には基材との密着性及び付置力が低下し、８質量部を超過する場合には膜特性が低下するという問題点がある。好ましくは、１〜５質量部含まれるのが良い。
【００２０】
本発明に適用できる前記（ｃ）感光性有機成分は乾燥及び焼成時に全て除去される物質であって、従来の電極形成用ペーストに適用されるフォトリソグラフィ工程で使用される通常の有機成分が適用される。
【００２１】
好ましい具体的な感光性有機成分は、（i）有機バインダー高分子１０〜７０質量部；（ii）架橋性モノマー１０〜５０質量部；（iii）開始剤０．１〜１０質量部；及び（iv）溶媒５〜６０質量部を含むことができる。好ましくは、前記感光性有機成分に使用される溶媒は、一部を（i）有機バインダー高分子；（ii）架橋性モノマー；及び（iii）開始剤と先ず混合してビヒクルを製造し、残り溶媒を前記ビヒクルと黒色顔料、ガラスフリット原料物質と混合する時に使用するのが良い。この場合、製造されたＰＤＰ電極形成用スラリーの分散性及び安定性を向上させることができる。ビヒクル製造時に使用される溶媒は全体で使用される溶媒５〜５０質量部のうちで５〜４０質量部であるのが良い。
【００２２】
前記有機バインダーは焼成前ペースト成分の結合及び現像性を付与した作用を果たし、好ましくはアクリレート系樹脂が良く、前記アクリレート系樹脂は不飽和カルボン酸単量体、芳香族単量体、及びアクリル単量体を重合して製造することができる。
【００２３】
前記不飽和カルボン酸単量体は高分子内の水素結合を通じて高分子の弾性を増加させる作用を果たし、具体的にアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物形態などを使用することができる。
【００２４】
前記不飽和カルボン酸単量体は、アクリレート系樹脂製造時に使用される総単量体に２０〜７０質量％含まれるのが好ましい。含量が前記範囲内である場合、高分子の弾性特性、重合時ゲル化の防止、及び重合度調節を全て満足させることができる。
【００２５】
前記芳香族単量体は基材との密着性と安定的なパターンを形成させる作用を果たし、具体的にスチレン、ベンジルメタクリレート、ベンジルアクリレート、フェニルアクリレート、フェニルメタクリレート、２−ニトロフェニルアクリレート、４−ニトロフェニルアクリレート、２−ニトロフェニルメタクリレート、４−ニトロフェニルメタクリレート、２−ニトロベンジルメタクリレート、４−ニトロベンジルメタクリレート、２−クロロフェニルアクリレート、４−クロロフェニルアクリレート、２−クロロフェニルメタクリレート、または４−クロロフェニルメタクリレートなどを使用することができる。
【００２６】
前記芳香族単量体はアクリレート系樹脂製造時に使用される総単量体に１０〜４０質量％含まれるのが好ましく、さらに好ましくは１５〜２５質量％含まれるのが良い。含量が前記範囲内である場合、基材との密着性、パターンの接着力、形成されたパターンの直進性、安定的なパターン実現、焼成工程時容易な除去を全て満足させることができる。
【００２７】
前記不飽和カルボン酸単量体と芳香族単量体以外にアクリレート系樹脂製造時に使用されるアクリル単量体は、高分子のガラス転移温度と極性を調節する作用を果たす。
【００２８】
前記アクリル単量体は２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、またはｎ−ブチルアクリレートなどを用いることができ、その含量は高分子のガラス転移温度、耐熱性、基材との親密性などを考慮してアクリレート系樹脂製造時に使用される総単量体に２０〜６０質量％含まれるのが良い。
【００２９】
このような単量体を重合して製造されるアクリレート系樹脂は不飽和カルボン酸単量体、芳香族単量体、及びアクリル単量体のゲル化を防止し適切な揮発性を制御することができるように重合溶媒の存在下で重合して製造することができる。
【００３０】
このような単量体を重合溶媒の存在下で重合して得られた前記アクリレート系樹脂は重量平均分子量が１０，０００〜１００，０００であるのが好ましく、さらに好ましくは２０，０００〜５０，０００であるのが良い。前記範囲内である場合、現像性が良くなる長所がある。
【００３１】
前記重合溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、エチルエーテルプロピオネート、テルピネオール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルアミノホルムアルデヒド、メチルエチルケトン、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、ガンマブチロラクトン、または乳酸エチルなどを単独または２種以上混合して使用することができる。
【００３２】
本発明においては、前記有機バインダーは感光性有機成分に１０〜７０質量部含まれるのが好ましい。前記範囲内である場合、膜形成、スラリー粘度、焼結性を同時に向上させることができる。
【００３３】
また、前記架橋性モノマーはスラリーに光硬化性を付与し現像性を促進する作用を果たし、具体的な例としてビスフェノールＡエトキシジメタクリレート（Ａ）、ポリオキシメチル−１，２−エタネジル、アルファヒドロオメガ−１−ヨウ素−２−プロフェニルオキシ−エーテル−２−エチル−２−ヒドロオキシメチル−１，３−プロパンジオール、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチルアクリレートなどを単独または混合して使用したり、またはフタル酸、イタコン酸、マレイン酸、コハク酸などの多塩基酸とヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとのポリエステルを使用することができる。
【００３４】
前記架橋性モノマーは感光性有機成分に１０〜５０質量部含まれるのが良い。前記範囲内である場合、微細電極パターンの形成に適合する。
【００３５】
また、前記光開始剤は光反応を開示させる成分であって、具体的な例として、２−ヒドロキシ−１−４−４−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピニル−ベンジル−ベンジル−２−メチル−プロパン−１−ウォン；１−ブタノン，２−ジメチルアミノ−２−４−メチルフェニルメチル−１−４−４モフォリールフェニル系；２，４−ビストリクロロメチル−６−ｐ−メトキシスチリル−ｓ−トリアジン、２−ｐ−メトキシスチリル−４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル−４−メチルナフチル−６−トリアジンなどのトリアジン系化合物；ベンゾフェノン、ｐ−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンなどのベンゾイン系化合物；２，２−ジクロロ−４−フェノキシアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジブトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルトリクロロアセトフェノンなどのアセトフェノン系化合物；キサントン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソブチルチオキサントン、２−ドデシルチオキサントン、２，４−ジメチルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントンなどのキサントン系化合物；または２，２−ビス−２−クロロフェニル−４，５，４，５−テトラフェニル−２−１，２−ビスイミダゾール、２，２−ビス（２，４，６−トリシアノフェニル）−４，４，５，５−テトラフェニル−１，２−ビスイミダゾールなどのイミダゾール系化合物などを単独または２種以上混合して使用することができる。
【００３６】
前記光開始剤は感光性有機成分に０．１〜１０質量部含まれるのが好ましい。前記範囲内である場合、硬化性、パターン形成、直進性、保存安定性及び解像度を同時に向上させることができる。好ましくは、前記光開始剤の含量は０．１〜５質量部である。
【００３７】
また、前記溶媒は本発明のＰＤＰ電極形成用スラリーの粘度調節及び分散性を良好であるようにし、具体的な一例としてプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、エチルエーテルプロピオネート、テルピネオール、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルアミノホルムアルデヒド、メチルエチルケトン、ブチルカルビトール、ブチルカルビトールアセテート、ガンマブチロラクトン、または乳酸エチルなどを単独または２種以上混合して使用することができる。前記溶媒は感光性有機成分に５〜６０質量部含まれるのが良い。前記範囲内である場合、コーティング性、分散性及び安定性を同時に満足させることができる。
【００３８】
また、本発明で前記感光性有機成分はレベリング剤をさらに含むことができる。前記レべリング剤はコーティング時にコーティング面の表面を均一にするために混合して使用する。具体的な例として、レべリング剤は１−メトキシ−２−プロパノール、またはプロピレングリコールモノメチルエーテルシロキサンを含むフルオロカーボン系化合物を使用する。好ましくは、前記レべリング剤の含量は０．０１〜５質量部である。前記範囲内である場合、コーティング性、現像、焼結状態及びスラリーの安定性を同時に満足させることができる。
【００３９】
また、前記感光性有機成分は基板との接着力を増大させ、現像マージンを増大させるために重量平均分子量が３００〜１０００である架橋性オリゴマーをさらに含むことができる。具体的な例として、前記架橋性オリゴマーはグリセリンプロポキシレイテッドトリアクリレート（ＧＰＴＡ）であるのが良く、感光性有機成分の０．１〜１０質量部を使用するのが良い。
【００４０】
本発明のＰＤＰ電極形成用スラリー組成物に前記感光性有機成分は８４〜９８質量部含まれるのが良い。前記範囲内である場合、スラリーの安定性、現像性及び作業性を同時に満足させることができる。
【００４１】
また、本発明のＰＤＰ電極形成用スラリー組成物は無機物の分散性向上のために分散剤をさらに含むことができる。前記分散剤はスラリー組成物に０．０１〜５質量部含まれるのが良い。前記分散剤の具体的な例としてはＢＹＫ社製の１８０、１５１、１９１、３３３、３４５、３４８、２０２５等を単独または２種以上混合して使用することができる。
【００４２】
また、このような成分を含む本発明の電極形成用スラリー組成物は、必要によって通常の添加剤である着色剤、染料、分散剤、擦痕防止剤、可塑剤、接着促進剤、速度増進剤、または界面活性剤などを、通常添加剤として使用される含量である０．０１〜５質量部の範囲で追加的に含むことができる。これにより個別工程の特性による性能向上を図ることができるのはもちろんである。
【００４３】
本発明に適用できる前記ＰＤＰ電極形成用スラリー組成物は、前記記載した必須成分と任意の成分を所定の比率によって配合して製造することができる。特に本発明のＰＤＰ電極形成用スラリー組成物は従来のペーストの配合方法である３本ロールミルの代わりにビーズミルを使用して配合することによってスラリー製造の生産性を向上させることができる。
【００４４】
本発明のＰＤＰ電極形成用スラリー組成物は前記配合後の粘度が１０〜８０ｃｐであるのが好ましく、さらに好ましくは１０〜５０ｃｐであるのが良い。前記範囲の粘度を有することによって本発明のＰＤＰ電極形成用スラリー組成物は電極形成時テーブルコーティング法によるコーティングが可能になり、薄膜化が可能で、ＰＤＰ電極製造の生産性を顕著に向上させることができる。
【００４５】
また、本発明は前記ＰＤＰ電極形成用スラリー組成物を利用してＰＤＰ電極を製造する方法及び前記方法によって製造されたＰＤＰ電極を提供する。本発明のＰＤＰ電極製造方法は前記ＰＤＰ電極形成用スラリー組成物を用いて公知のＰＤＰ電極製造方法によって電極を形成することができるのはもちろんである。
【００４６】
具体的なＰＤＰ電極形成の例としては、（ａ）前記ＰＤＰバス電極形成用スラリー組成物を透明基板上に塗布する工程；（ｂ）前記ＰＤＰバス電極形成用スラリー組成物が塗布された透明基板を露光し現像してパターンを形成する工程；及び（ｃ）前記パターンが形成された透明基板を焼成する工程を含む方法によってＰＤＰ電極を製造することができる。
【００４７】
前記透明基板はＩＴＯなど通常の基板であっても良く、前記塗布は通常の印刷方法またはコーティング方法を用いることができ、好ましくはテーブルコーティング法が好ましい。前記テーブルコーティング法は、従来技術の電極形成時に使用されたスクリーンプリンティング方式と比較して、電極形成の薄膜化及び生産性、原価節減をもたらすことができる。
【００４８】
また、基板上にスラリーを塗布した後の、乾燥、露光、現像及び焼成の一連の電極形成においては、ＰＤＰ電極形成時に使用される公知の工程を適用することができる。
【実施例】
【００４９】
以下、本発明の理解のために好ましい実施例を提示するが、下記の実施例は本発明を例示するものに過ぎず、本発明の範囲が下記の実施例に限定されるのではない。
【００５０】
製造例１〜３：
有機バインダー高分子としてはプロピレングリコールモノメチルエーテルを溶媒としてメタクリル酸（ＭＡ）：ベンジルアクリレート（ＢＡ）：２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート（２−ＨＥＭＡ）：メチル（メタ）アクリレート（ＭＭＡ）を単量体として３０：２０：１０：４０の質量比率で重合して製造された重量平均分子量が２５，０００であるアクリレート系樹脂、架橋性モノマーとしてはビスフェノールＡエトキシジメタクリレート（Ａ）及びポリオキシメチル−１，２−エタネジル：アルファヒドロオメガ−１−ヨウ素−２−プロフェニルオキシ−エーテル−２−エチル−２−ヒドロオキシメチル−１、３−プロパンジオールを３：１の質量比で混合した混合物（Ｂ）、開始剤としては２−ヒドロキシ−１−４−４−２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピニル−ベンジル−ベンジル−２−メチル−プロパン−１−ウォン（Ｃ）及び１−ブタノン，２−ジメチルアミノ−２−４−メチルフェニルメチル−１−４−４モフォリールフェニル系（Ｄ）、レべリング剤としては１−メトキシ−２−プロパノール（Ｅ）、溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルを下記表１の組成として常温で２時間撹拌して感光性有機成分を製造した。単位は質量部である。
【００５１】
【表１】
0005143683.tif 000002
【００５２】
実施例１〜４、比較例１：
前記製造例１〜３で製造した感光性有機成分と無機成分を下記表２の組成としてビーズミル（ダイノミル）を用いてスラリーを製造した。下記表２で黒色顔料はＣｕ−Ｍｎ−Ｃｏ系の粒子の大きさが１０〜１０００ｎｍであるものを使用し、ガラスフリット原料物質は粒子の大きさが１〜５００ｎｍのＢｉ2Ｏ3  ６６質量部、ＺｎＯ  １４質量部、Ｂ2Ｏ3  １４質量部、Ｉｎ2Ｏ3  ２質量部、ＣｕＯ  ２質量部、ＳｉＯ2  ２質量部の混合物（Ａ）またはＢｉ2Ｏ3  ６６質量部、ＺｎＯ  １４質量部、Ｂ2Ｏ3  １４質量部、Ａｌ2Ｏ3  ２質量部、ＣｕＯ  ２質量部、ＳｉＯ2  ２質量部の比率で混合された混合物（Ｂ）である。
【００５３】
【表２】
0005143683.tif 000003
【００５４】
実験方法としては、実施例１〜４及び比較例１で製造した電極形成用スラリーをガラス基板上に３０、３５、４０μｍの湿潤厚さ別にスピンコーターを使用して全面印刷パターンを形成した後、ボックス型乾燥炉を使用して１１０℃で５分間乾燥させて溶媒成分を完全に揮発させた。乾燥した試験片に露光量５０、７０、１００ｍＪ／ｃｍ2でそれぞれＵＶ照射した後、Ｎａ2ＣＯ3  ０．４質量％水溶液を使用して現像し蒸留水を使用して洗浄した。前記過程でパターンが形成された基板を焼成過程において１０℃／分で５７０℃まで昇温し２５分間維持した後、常温に冷却して試験片を製造した。
【００５５】
前記製造された試験片で現像性、解像性、焼結性、収縮率、黒度及び安定性をそれぞれ以下の方法で測定して、表３に示した。すなわち、現像性は現像マージン（明瞭化時間（Time To Clear）×３倍）で現像してＳＥＭ測定を通じて１００ｕｍ、５０ｕｍパターン形成を観察して、アンダーカット（Under−cut）が発生した場合は×、アンダーカット（Under−cut）が発生しない場合は○と示し、解像性は現像マージン（明瞭化時間（Time To Clear）×３倍）で現像して顕微鏡観察を通じて何μｍまでパターン形成がされたか観察し、焼結性は焼成後表面及び断面をＳＥＭ測定を通じて組織観察して、気泡が発生して表面と断面状態がち密でない場合は×、気泡は発生しなかったが表面と断面状態がち密でない場合は△、気泡が発生せず表面と断面状態が緻密な場合は○と示し、収縮率はＳＥＭ測定を通じて現像後パターン線幅と焼成後パターン線幅との差異値を％で計算し、黒度（色Ｌ＊）は焼成物質を標準白色プレートを用いて補正した分光測色計（コニカミノルタ社製ＣＭ２５００ｄ）を使用して測定し（純水黒色を０、純水白色を１００）、安定性は３０日基準に沈降安定性を固形分で測定した。すなわち、測定しようとするスラリーを３０ｍｌ容器に入れて、最上と下部をそれぞれ２ｍｌ採取して１５０℃オーブンに１時間乾燥して固形分を測定した。測定結果、１０％以上の変化率を見せた場合は×、５〜１０％変化率を見せた場合は△、５％未満の変化率を見せた場合は○と示した。
【００５６】
【表３】
0005143683.tif 000004
【００５７】
表３に示したように、本発明による実施例１〜４のＰＤＰ電極形成用スラリー組成物は現像性、解像性、焼結性、収縮率、黒度及び安定性面で全て同時に優れた結果を示したが、比較例１の場合、現像性、焼結性、安定性面で実施例に比べて顕著に落ちる結果を示した。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】一般的なプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の構造を概略的に示した図面である。
【図２】従来の黒色層を有するプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の一例に関する上部基板構造一部の断面を示した図面である。
【図３】本発明のプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の一実施例に関する上部基板構造一部の断面を示した図面である。
【符号の説明】
【００５９】
１０      蛍光層
２０      誘電体層
３０      保護層
４０      ブラックストライプ
１００      上部基板
１１０      透明基板
１２０      スキャン電極
１２１      透明電極（スキャン電極側）
１２２      黒色層（スキャン電極側）
１２３      バス電極（スキャン電極側）
１３０      維持電極
１３１      透明電極（維持電極側）
１３２      黒色層（維持電極側）
１３３      バス電極（維持電極側）
２００      プラズマディスプレイパネル
２１０      アドレス電極
２２０      障壁
【図１】
0005143683.tif 000005
【図２】
0005143683.tif 000006
【図３】
0005143683.tif 000007