(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記酸化物基準のモル％表示で、実質的に、
ＳｉＯ２    ２０〜４５、
ＴｉＯ２    ２０〜５０、
Ｂ２Ｏ３       ０〜３０、
Ａｌ２Ｏ３     ０〜２０、
ＭｇＯ       ０〜２０、
ＣａＯ       ０〜３０、
ＳｒＯ       ０〜２０、
ＢａＯ       ０〜３０、
ＺｎＯ       ０〜２０、
ＺｒＯ２      ０〜２０、
Ｌｉ２Ｏ      ０〜１５、
Ｎａ２Ｏ      ０〜３０、
Ｋ２Ｏ        ０〜３０、
からなり、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの含有量合計が９．５モル％以上かつＳｒＯ、ＢａＯ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量合計が１０モル％以上であり、ヤング率が９０ＧＰａ以上、５０〜３５０℃における平均線膨張係数が８０×１０−７／℃以上であるガラスからなる情報記録媒体基板。
【請求項２】
下記酸化物基準のモル％表示で、実質的に、
ＳｉＯ２    ２０〜４５、
ＴｉＯ２    ２０〜５０、
Ｂ２Ｏ３       ０〜３０、
Ａｌ２Ｏ３     ０〜２０、
ＭｇＯ       ０〜２０、
ＣａＯ       ０〜３０、
ＳｒＯ       ０〜２０、
ＢａＯ       ０〜３０、
ＺｎＯ       ０〜２０、
ＺｒＯ２      ０〜２０、
Ｌｉ２Ｏ      ０〜１５、
Ｎａ２Ｏ      ０〜３０、
Ｋ２Ｏ        ０〜３０、
からなり、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの含有量合計が９．５モル％以上かつＳｒＯ、ＢａＯ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの含有量合計が１０モル％以上であり、ヤング率が８０ＧＰａ以上、５０〜３５０℃における平均線膨張係数が９０×１０−７／℃以上であるガラスからなる光回路部品基板。
【請求項３】
前記ガラスのヤング率が１００ＧＰａ以上であり、かつ、５０〜３５０℃における平均線膨張係数が９０×１０−７／℃以上である請求項２に記載の光回路部品基板。
【請求項４】
請求項３に記載の光回路部品基板であって、前記ガラスからなるガラス板を１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間保持したときにその表面に存在する、大きさが１０μｍ以上の付着物の数が１個／ｃｍ２以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数が１０５個／ｃｍ２以下である光回路部品基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、磁気ディスク、光ディスク等の情報記録媒体、バンドパスフィルタ等の光回路部品、等の基板などに用いられるガラスに関する。
【背景技術】
【０００２】  従来、情報記録媒体用基板、たとえば磁気ディスク（ハードディスク）用基板の材料としては、アルミニウム、ガラス、セラミックス、カーボンなどが知られている。現在では、サイズや用途に応じて主にアルミニウムおよびガラスが実用化されている。なかでもガラス基板は、表面の平滑性や機械的強度が優れているため、その使用範囲が拡大している。【０００３】  このような基板に従来使用されているガラスとして、モル％表示の組成が、ＳｉＯ2：６５．３％、Ａｌ2Ｏ3：８．６％、ＺｒＯ2：３．５％、Ｌｉ2Ｏ：１２．５％、Ｎａ2Ｏ：１０．１％、であるガラス（以下「従来ガラス」という。）が例示される。【０００４】  一方、情報記録媒体用基板のたわみや反りの問題を解決するために、高ヤング率のガラスが求められている。このような問題を解決するガラスとして、特開平１０−８１５４２号公報には、ヤング率が１００ＧＰａ以上であるガラスが開示されている。【０００５】  また、バンドパスフィルタ等の光回路部品においては、ガラスまたは結晶化ガラスからなる基板が用いられている。たとえば、光回路の分波用または合波用バンドパスフィルタには、結晶化ガラス基板に種々のセラミックス薄膜またはガラス薄膜を積層したものが用いられてきている。このような基板用の結晶化ガラスとして、モル％表示の組成が、ＳｉＯ2：７４．５％、Ａｌ2Ｏ3：３．８％、ＭｇＯ：１．１％、ＣａＯ：０．１％、ＺｎＯ：０．４％、ＺｒＯ2：０．６％、Ｌｉ2Ｏ：１８．１％、Ｎａ2Ｏ：０．１％、Ｋ2Ｏ：１．２％、Ｐ2Ｏ5：０．１％、である結晶化ガラス（以下「従来結晶化ガラス」という。）が例示される。この従来結晶化ガラスには、Ｌｉ2Ｏ・２ＳｉＯ2等の結晶が析出している。
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】  磁気ディスクには多くの金属材料が用いられており、ガラス基板とその周囲で用いられる金属材料の膨張係数マッチングが重要である。たとえば、ガラス基板を固定しているクランプはステンレス鋼等の金属である。このガラス基板は磁気ディスク使用時には高速で回転し、その際、駆動モータ等の発熱によってクランプの温度は９０℃またはそれ以上に上昇する。
【０００７】  クランプとガラス基板の膨張係数の差が大きいほど、このクランプの温度上昇により次のような問題が生じる可能性が高くなる。すなわち、クランプによるガラス基板の固定が緩んだり、またはガラス基板に歪みやたわみが生じ、その結果、データ記録箇所の位置ずれが起って書き込みエラーまたは読み込みエラーが生じる。なお、金属材料の５０〜３５０℃における平均線膨張係数αは、典型的には１１０×１０-7／℃程度である。
【０００８】  また、磁気ディスクのたわみや反りの問題を解決するために、基板に用いられるガラスのヤング率が高いことが求められている。
前記従来ガラスのαは８７×１０-7／℃であり、前記膨張係数マッチングの問題の解決が図られているが、ヤング率は８３ＧＰａであり磁気ディスク用ガラス基板としては決して高くはない。
【０００９】  また、表面に積層薄膜が形成されている光回路部品用基板においても、基板とその積層薄膜との膨張係数マッチングが重要である。たとえば、該光回路部品を通過した光の中心波長（典型的には１５３０〜１５６０ｎｍ）の温度依存性を０．００３ｎｍ／℃以下にするためには、基板のαは８０×１０-7／℃以上であることが求められる。また、基板は研磨加工されるので高強度したがって高ヤング率であることが求められている。
【００１０】  前記従来結晶化ガラスのαは８７×１０-7／℃であり、またそのヤング率は９４ＧＰａであって比較的高いが、結晶化工程が必須であり、したがって製造工程がガラス基板に比べて多い問題がある。
本発明は、以上の課題を解決する、高ヤング率かつ高膨張係数のガラス、情報記録媒体基板および光回路部品基板の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】  本発明は、下記酸化物基準のモル％表示で、実質的に、
0005211415.tif 000002
からなるガラスを提供する。
【００１２】  また、ＣａＯが０〜２０モル％である前記ガラスを提供する。
また、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の合計が１０モル％以上である前記ガラスを提供する。
また、ＢａＯが３〜３０モル％である前記ガラスを提供する。
また、Ｎａ2Ｏが１〜３０モル％である前記ガラスを提供する。
また、ＳｉＯ2が１〜４０モル％、かつ、ＴｉＯ2が２５〜５０モル％である前記ガラスを提供する。
また、液相温度が１４００℃以下である前記ガラスを提供する。
また、ヤング率が８０ＧＰａ以上である前記ガラスを提供する。
また、５０〜３５０℃における平均線膨張係数が８０×１０-7／℃以上である  前記ガラスを提供する。
【００１３】  また、本発明は、前記ガラスであって基板用のガラスを提供する。
また、前記基板用のガラスであって、該基板用のガラスからなるガラス基板を１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間保持したときにその表面に存在する、大きさが１０μｍ以上の付着物の数が１個／ｃｍ2以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数が１０5個／ｃｍ2以下である基板用のガラスを提供する。
【００１４】  また、前記基板用のガラスからなる情報記録媒体基板を提供する。
また、前記基板用のガラスからなる光回路部品基板を提供する（本発明の第１の光回路部品基板）。
また、前記ガラスであって光学レンズ用のガラスを提供する。
【００１５】  また、ヤング率が１００ＧＰａ以上であり、かつ、５０〜３５０℃における平均線膨張係数が９０×１０-7／℃以上であるガラスからなる光回路部品基板を提供する（本発明の第２の光回路部品基板）。
また、前記本発明の第２の光回路部品基板であって、前記ガラスからなるガラス板を１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間保持したときにその表面に存在する、大きさが１０μｍ以上の付着物の数が１個／ｃｍ2以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数が１０5個／ｃｍ2以下である光回路部品基板を提供する。
【００１６】  本発明者は、ＳｉＯ2含有量が２５モル％超であるケイ酸塩ガラスにおいて高ヤング率および高膨張係数を同時に満たすことが困難であるのは、ケイ酸塩ガラスまたはケイ酸塩結晶化ガラスのガラス構造に由来することを見出し、本発明に至った。
【発明を実施するための形態】
【００１７】  本発明のガラスは基板に好適に用いられる。以下では、本発明のガラスであって基板に用いられるガラス、すなわち本発明のガラスであって基板用のガラス（以下本発明の基板用ガラスという。）を例にとって説明する。
【００１８】  本発明の基板用ガラスは、所望の寸法に切断されたガラス板、すなわちガラス基板に用いられる。前記ガラス板は必要に応じて研磨される、または前記切断前に研磨される。
【００１９】  本発明の基板用ガラスの液相温度ＴLは１４００℃以下であることが好ましい。１４００℃超ではガラス製造時に失透するおそれがある。より好ましくは１３５０℃以下、特に好ましくは１３００℃以下、最も好ましくは１２５０℃以下である。
【００２０】  本発明の基板用ガラスのヤング率Ｅは８０ＧＰａ以上であることが好ましい。８０ＧＰａ未満では、基板がたわんだり反ったりするおそれがある、または基板の強度が低くなりすぎるおそれがある。より好ましくは９０ＧＰａ以上、さらに好ましくは１００ＧＰａ以上、特に好ましくは１０５ＧＰａ以上、最も好ましくは１１０ＧＰａ以上である。情報記録媒体基板として用いる場合は１００ＧＰａ以上であることが好ましい。また、Ｅは１５０ＧＰａ以下であることが好ましい。１５０ＧＰａ超ではガラス研磨が困難になるおそれがある。より好ましくは１４０ＧＰａ以下、特に好ましくは１３０ＧＰａ以下である。
【００２１】  本発明の基板用ガラスの５０〜３５０℃における平均線膨張係数αは８０×１０-7／℃以上であることが好ましい。８０×１０-7／℃未満では、磁気ディスクの金属製クランプ、バンドパスフィルタの積層薄膜、等との膨張係数マッチングが困難になるおそれがある。より好ましくは９０×１０-7／℃以上、さらに好ましくは９５×１０-7／℃以上、さらに好ましくは１００×１０-7／℃以上、特に好ましくは１０５×１０-7／℃以上、最も好ましくは１１０×１０-7／℃以上である。
【００２２】  本発明の基板用ガラスをバンドパスフィルタ等の光回路部品の基板として用いる場合、−３０〜＋７０℃における平均線膨張係数α’は９０×１０-7／℃以上であることが好ましい。より好ましくは９５×１０-7／℃以上、特に好ましくは１００×１０-7／℃以上である。
【００２３】  本発明の基板用ガラスは、本発明の基板用ガラスからなるガラス基板を１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間保持したときにその表面に存在する、大きさが１０μｍ以上の付着物の数ＮLが１個／ｃｍ2以下であり、大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の数ＮSが１０5個／ｃｍ2以下であるものであることが好ましい。
【００２４】  ＮLが１個／ｃｍ2超またはＮSが１０5個／ｃｍ2超では、ガラス基板在庫中にガラス基板表面に付着物（白ヤケ）が発生し、ガラス基板上に形成される下地膜、磁性膜、保護膜等の膜がはがれやすくなる。この付着物は、空気中の水分や炭酸ガスの影響によりガラス基板に生成付着した反応生成物であると考えられ、拭いても除去できないものである。ＮLはより好ましくは０．５個／ｃｍ2以下、特に好ましくは０．２個／ｃｍ2以下である。ＮSはより好ましくは０．８×１０5個／ｃｍ2以下、特に好ましくは０．６×１０5個／ｃｍ2以下である。
【００２５】本発明の基板用ガラスは、「ＪＩＳ  Ｒ３５０２  ３．１  アルカリ溶出試験」に規定されている試験方法によって測定されたアルカリ溶出量Ｑ（Ｎａ2Ｏｍｇ数換算）が０．９０ｍｇ以下であることが好ましい。０．９０ｍｇ超ではガラス基板上に形成される膜の性能が劣化する、または前記膜がはがれやすくなるおそれがある。より好ましくは０．８０ｍｇ以下である。
【００２６】  本発明の基板用ガラスは、下記酸化物基準のモル％表示で、実質的に、
0005211415.tif 000003
からなることが好ましい。
【００２７】  下記酸化物基準のモル％表示で、実質的に、
0005211415.tif 000004
からなり、ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の合計が１２〜３０モル％であることがより好ましい。
【００２８】  次に、本発明の基板用ガラスの組成について、モル％を単に％と表示して説明する。
ＳｉＯ2はガラスを安定化させ、またＴLを低下させる成分であり、必須である。４５％超ではＥおよび／またはαが小さくなりすぎるおそれがある。好ましくは４０％以下、より好ましくは３８％以下、特に好ましくは３４％以下である。１％未満ではガラスが不安定になる、またはＴLが高くなりすぎる。好ましくは１０％以上、より好ましくは２０％以上である。光回路部品基板に用いる場合、特に好ましくは２５％以上、最も好ましくは２７％以上である。
【００２９】  ＴｉＯ2はＥを大きくし、また化学的耐久性を高くする成分であり、必須である。５０％超ではＴLが高くなりすぎる。好ましくは４５％以下、より好ましくは４２％以下である。２０％未満では、Ｅが小さくなりすぎる、または化学的耐久性が低下する。好ましくは２３％以上、より好ましくは２５％以上、特に好ましくは２８％以上である。
ＳｉＯ2が１〜４０モル％、かつ、ＴｉＯ2が２５〜５０モル％であることが、特に光回路部品基板に用いる場合、好ましい。
【００３０】  Ｂ2Ｏ3は必須ではないが、ガラスを安定化させるために、またはＴLを低下させるために３０％まで含有してもよい。３０％超ではＥおよび／またはαが小さくなりすぎるおそれがある。好ましくは２０％以下、より好ましくは１５％以下、特に好ましくは１０％以下、最も好ましくは５％以下である。Ｂ2Ｏ3を含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは３％以上、特に好ましくは５％以上である。なお、化学的耐久性をより向上させたい場合はＢ2Ｏ3を含有しないことが好ましい。
【００３１】  Ａｌ2Ｏ3は必須ではないが、ガラスを安定化させるために、またはＴLを低下させるために２０％まで含有してもよい。２０％超ではかえってＴLが高くなりすぎるおそれがある、または、αまたはα’が小さくなりすぎるおそれがある。好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下、特に好ましくは５％以下である。Ａｌ2Ｏ3を含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは３％以上、特に好ましくは５％以上である。αまたはα’をより高くしたい場合はＡｌ2Ｏ3を含有しないことが好ましい。
【００３２】  ＭｇＯは必須ではないが、Ｅを大きくするために、またはＴLを低下させるために、２０％まで含有してもよい。２０％超ではかえってＴLが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下である。ＭｇＯを含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは２％以上、特に好ましくは３％以上である。
【００３３】  ＣａＯは必須ではないが、ガラスを安定化させために、またはＴLを低下させるために３０％まで含有してもよい。３０％超ではかえってＴLが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは２０％以下、より好ましくは１５％以下、特に好ましくは１０％以下である。ＣａＯを含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは３％以上、特に好ましくは５％以上である。
【００３４】  ＳｒＯは必須ではないが、溶融ガラスの粘度を小さくするために、またはＴLを低下させるために、２０％まで含有してもよい。２０％超ではかえってＴLが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下である。ＳｒＯを含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは３％以上、特に好ましくは５％以上である。
【００３５】  ＢａＯは必須ではないが、ガラスを安定化させるために、αまたはα’を高くするために、またはＴLを低下させるために３０％まで含有してもよい。３０％超ではＥが小さくなりすぎるおそれがある。好ましくは２５％以下、より好ましくは２０％以下、特に好ましくは１６％以下である。ＢａＯを含有する場合、その含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは３％以上、特に好ましくは５％以上である。
【００３６】  ＺｎＯは必須ではないが、Ｅを大きくするために、またはＴLを低下させるために、２０％まで含有してもよい。２０％超ではかえってＴLが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下、特に好ましくは５％以下である。ＺｎＯを含有する場合、その含有量は０．１％以上であることが好ましい。より好ましくは２％以上、特に好ましくは３％以上である。
【００３７】  ＺｒＯ2は必須ではないが、ガラスを安定化させるために、またはＥを大きくするために、２０％まで含有してもよい。２０％超ではＴLが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１５％以下、より好ましくは１０％以下、特に好ましくは８％以下である。ＺｒＯ2を含有する場合、その含有量は０．１％以上であることが好ましい。より好ましくは１％以上、特に好ましくは２％以上である。
【００３８】  ＴｉＯ2およびＺｒＯ2の含有量の合計は、光回路部品基板に用いる場合、３０％以上であることが好ましい。３０％未満ではＥが小さくなりすぎるおそれがある。より好ましくは３２％以上である。
【００３９】  Ｌｉ2Ｏは必須ではないが、溶融ガラスの粘度を小さくするために、またはＥを大きくするために、または、αまたはα’を大きくするために、１５％まで含有してもよい。１５％超では分相するおそれがある、またはＴLが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１０％以下、より好ましくは８％以下、特に好ましくは５％以下である。Ｌｉ2Ｏを含有する場合、その含有量は０．１％以上であることが好ましい。より好ましくは１％以上、特に好ましくは２％以上である。ＴLをより低下させたい場合はＬｉ2Ｏを含有しないことが好ましい。
【００４０】  Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏはいずれも必須ではないが、ガラスを安定化させるために、αまたはα’を大きくするために、またはＴLを低下させるために、それぞれ３０％まで含有してもよい。３０％超ではＥが小さくなりすぎるおそれがある。好ましくはそれぞれ２５％以下、より好ましくはそれぞれ２０％以下、特に好ましくはそれぞれ１６％以下である。Ｅを高くしたい場合、Ｋ2Ｏ含有量は好ましくは１１％以下、より好ましくは８％以下である。Ｎａ2Ｏを含有する場合、またはＫ2Ｏを含有する場合、それぞれの含有量は１％以上であることが好ましい。より好ましくは３％以上、特に好ましくは４％以上である。なお、ＴLをより低下させたい場合はＮａ2Ｏを含有することが好ましく、その含有量を１〜３０％とすることがより好ましい。
【００４１】  ＢａＯおよびＮａ2Ｏの含有量の合計は、光回路部品基板に用いる場合、１５％以上であることが好ましい。１５％未満ではαまたはα’が小さくなりすぎるおそれがある。より好ましくは１８％以上、特に好ましくは２０％以上、最も好ましくは２５％以上である。
【００４２】  ＳｒＯ、ＢａＯ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の合計は１０％以上であることが好ましい。１０％未満では、溶融ガラスの粘度が大きくなりすぎるおそれがある、αまたはα’が小さくなりすぎるおそれがある、またはＴLが高くなりすぎるおそれがある。好ましくは１２％以上、より好ましくは１５％以上、特に好ましくは１７％以上、最も好ましくは２０％以上である。また、前記含有量の合計は３０％以下であることが好ましい。より好ましくは２５％以下である。なお、光回路部品基板に用いる場合、前記含有量の合計は１７〜５０％であることが好ましい。より好ましくは２０〜４５％、特に好ましくは２５％〜４０％である。
本発明の基板用ガラスは実質的に上記成分からなるが、その他の成分を本発明の目的を損なわない範囲で含有してもよい。前記その他成分の含有量の合計は２５モル％以下であることが好ましい。より好ましくは１５モル％以下、特に好ましくは１０モル％以下である。
【００４３】  前記その他成分について以下に述べる。
Ｅを大きくするために、Ｖ2Ｏ5、Ｃｒ2Ｏ3、ＭｎＯ、Ｆｅ2Ｏ3、ＣｏＯ、ＮｉＯ、ＣｕＯ、Ｇａ2Ｏ3、ＧｅＯ2、Ｙ2Ｏ3、Ｎｂ2Ｏ5、ＭｏＯ3、Ｌａ2Ｏ3、ＣｅＯ2、Ｐｒ2Ｏ3、Ｎｄ2Ｏ3、Ｐｍ2Ｏ3、Ｓｍ2Ｏ3、Ｅｕ2Ｏ3、Ｇｄ2Ｏ3、Ｔｂ2Ｏ3、Ｄｙ2Ｏ3、Ｈｏ2Ｏ3、Ｅｒ2Ｏ3、Ｔｍ2Ｏ3、Ｙｂ2Ｏ3、ＨｆＯ2、Ｔａ2Ｏ5およびＷＯ3からなる群（以下この群を群Ａという。）から選ばれる１種以上の成分を含有してもよい。群Ａの成分の含有量の合計は２０モル％以下であることが好ましい。２０モル％超では、ＴLが高くなりすぎるおそれがある。より好ましくは１５モル％以下、特に好ましくは１０モル％以下、最も好ましくは３モル％以下である。また、群Ａの成分を含有する場合、それらの含有量の合計は０．１モル％以上であることが好ましい。より好ましくは１モル％以上、特に好ましくは２モル％以上である。
【００４４】  ガラス溶解を促進するために、またはガラスを安定化させるために、Ｐ2Ｏ5、ＴｅＯ2、ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ3等を含有してもよい。これらの含有量の合計は１０モル％以下であることが好ましい。
ガラスの清澄促進のために、ＳＯ3、Ａｓ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ5等を含有してもよい。これらの含有量の合計は２モル％以下であることが好ましい。
【００４５】  以上、本発明のガラスを本発明の基板用ガラスを用いて説明したが、本発明のガラスは基板用に限定されるわけではなく、その他の用途、たとえば光学レンズにも使用できる。
本発明の基板用ガラスは溶融後板状に成形され、その後、徐冷工程、切断工程を経てガラス基板とされる。本発明においては結晶化工程は不要である。
【００４６】  次に、本発明の情報記録媒体用基板および光回路部品用基板について説明する。
本発明の情報記録媒体基板は、本発明の基板用ガラスからなり、所望の寸法に切断されているガラス板であって、情報記録媒体の基板に用いられる。ここでいう情報記録媒体として、磁気ディスク、光ディスク等が例示される。
【００４７】  本発明の第１の光回路部品基板は、本発明の基板用ガラスからなり、所望の寸法に切断されているガラス板であって、光回路部品の基板に用いられる。該本発明の基板用ガラスは、Ｅが８０ＧＰａ以上かつα’が１００×１０-7／℃以上、または、Ｅが８０ＧＰａ以上かつαが１１５×１０-7／℃以上であることが好ましい。ここでいう光回路部品として、高密度波長分割多重（ＤＷＤＭ）光通信システムで使用される光合波用／光分波用バンドパスフィルタ、利得平坦化フィルタ等が例示される。
【００４８】  本発明の第２の光回路部品基板は、Ｅが１００ＧＰａ以上であり、かつ、αが９０×１０-7／℃以上であるガラスからなる。該ガラスのＮLは１個／ｃｍ2以下であり、ＮSは１０5個／ｃｍ2以下であることが好ましい。このようなガラスとして本発明の基板用ガラスが例示される。
本発明の第１および第２の光回路部品基板の表面には、通常、積層薄膜が形成される。
【００４９】  次に、光学レンズ、特に金型を用いる加熱成形によって製造される光学レンズに用いる場合の本発明のガラスの好ましい態様について述べる。
αは１１０×１０-7／℃以上であることが好ましい。１１０×１０-7／℃未満では、超硬合金等の低膨張金属からなる金型を用いないかぎり、加熱成形後冷却されたガラスを金型から外すことが困難になる。なお、超硬合金等の低膨張金属には、精密加工が難しい、したがって金型の精度向上が困難という問題があり、前記金型には使用しないことが好ましい。より好ましくはαは１１５×１０-7／℃以上である。
【００５０】  ガラス転移点ＴGは５３０℃以下であることが好ましい。５３０℃超では加熱成形温度が高くなりすぎるおそれがある。より好ましくは５１０℃以下である。  波長５８７ｎｍでの屈折率ｎは１．７０以上であることが好ましい。１．７０未満ではレンズ設計が困難になるおそれがある。より好ましくは１．７５以上である。
【００５１】  ＴｉＯ2含有量およびＺｒＯ2含有量は、ｎを大きくするためにそれぞれ２３モル％以上、１モル％以上とすることが好ましい。
ＴｉＯ2およびＺｒＯ2の含有量の合計は、ｎを大きくするために３０モル％以上とすることが好ましい。より好ましくは３５モル％以上である。
【００５２】  Ｎａ2ＯまたはＫ2Ｏは、ＴGを低下させるために、少なくともいずれか一方を含有することが好ましい。この場合、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の合計は１０モル％以上であることが好ましい。より好ましくは１５モル％以上である。
【実施例】
【００５３】  表のＳｉＯ2〜Ｙ2Ｏ3の欄にモル％表示で示した組成となるように原料を調合して白金るつぼに入れ、１４５０〜１６５０℃に加熱し３〜５時間溶融した。この際白金スターラにより２時間撹拌し溶融ガラスを均質化した。なお、ＳｒＢａＮａＫの欄にＳｒＯ、ＢａＯ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏの含有量の合計を示す。【００５４】  次いで溶融ガラスを流し出して板状に成形後、徐冷を行った。例１〜５６は実施例、例５７および例５８は比較例である。なお、例５７は前記従来ガラス、例５８は特開平１０−８１５４２号公報に実施例３として開示されているガラスである。【００５５】  得られたガラスについて、密度ｄ（単位：ｇ／ｃｍ3）、ヤング率Ｅ（単位：ＧＰａ）、５０〜３５０℃における平均線膨張係数α（単位：１０-7／℃）、−３０〜＋７０℃における平均線膨張係数α’、液相温度ＴL（単位：℃）、前記ＮL（単位：個／ｃｍ2）およびＮS（単位：１０5個／ｃｍ2）を測定した。ｄ、Ｅ、α、α’、ＴL、ＮL、ＮSの測定方法は以下のとおりである。測定結果を表に示す。なお、表中の「−」は未測定であることを示す。【００５６】  ｄ：約２０ｇのガラスについて、アルキメデス法により測定した。ｄは３．９ｇ／ｃｍ3以下であることが好ましい。より好ましくは３．８ｇ／ｃｍ3以下である。
Ｅ：４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面が平行になるように研磨して、厚さを１０〜２０ｍｍとした試料について、超音波パルス法により測定した。【００５７】  α、α’：直径５ｍｍ、長さ２０ｍｍの円柱状に加工し、熱機械分析装置（リガク（株）製、商品名ＴＭＡ８１４０）を用いて５℃／分の昇温速度で測定し、５０〜３５０℃、−３０〜＋７０℃における平均線膨張係数を算出した。なお、例３６〜４６のαは組成から計算によって求めた。
ＴL：ガラスを乳鉢で２ｍｍ程度のガラス粒に粉砕し、このガラス粒を白金ボートの上に並べて置いた。この白金ボートを温度傾斜炉に入れて２４時間熱処理し、結晶が析出しているガラス粒が位置していた部分の温度の最高値を液相温度とした。【００５８】  ＮL、ＮS：厚さが１〜２ｍｍ、大きさが４ｃｍ×４ｃｍのガラス板の両面を鏡面研磨し、炭酸カルシウムおよび中性洗剤を用いて洗浄した後、超加速寿命試験器（不飽和型プレッシャークッカーＴＰＣ−４１０、タバイエスペック（株））に入れて１２０℃、２気圧の水蒸気雰囲気に２０時間静置した。取り出したガラス板の表面２００μｍ角の範囲を微分干渉顕微鏡で観察し、大きさが１０μｍ以上の付着物の個数と大きさが１μｍ以上１０μｍ未満の付着物の個数をカウントした。これらの個数からＮLおよびＮSを算出した。【００５９】  また、例３９、４０についてはＴG、ｎおよびＱも測定した。例３９、４０のＴGはそれぞれ５１０℃、４９７℃、例３９、４０のｎはそれぞれ１．７９、１．７８、例３９、４０のＱはそれぞれ０．３６ｍｇ、０．６１ｍｇであった。【００６０】
【表１】
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【００６１】
【表２】
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【００６２】
【表３】
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【００６３】
【表４】
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【００６４】
【表５】
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【００６５】
【表６】
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【発明の効果】
【００６６】  本発明により、書き込みエラーまたは読み込みエラー等のトラブルが起りにくい磁気ディスク等の情報記録媒体を提供できる。また、強度が大きく温度依存性の小さいバンドパスフィルタ等の光回路部品を提供できる。
また、結晶化工程が不要であり、結晶化ガラス基板に比べて製造工程が少ない情報記録媒体用ガラス基板または光回路部品用ガラス基板を提供できる。
【００６７】  また、耐候性に優れ、在庫中に付着物が発生しにくく、したがってこの付着物に起因する、下地膜、磁性膜、保護膜等の膜はがれが起こりにくい情報記録媒体用ガラス基板または光回路部品用ガラス基板を提供できる。
さらに、低膨張金属ではない金属からなる金型によっても加熱成形可能な光学レンズ用ガラスを提供できる。