(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
【化１】
0005252921.tif 000078
〔式中、Ｒ１は置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基を示し、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基を示すか、あるいはＲ１は水素原子または置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基を示し、Ｒ２およびＲ３は式
【化２】
0005252921.tif 000079
で、式
【化３】
0005252921.tif 000080
（式中、環Ａは、置換基を有していてもよい３〜８員環を示す）で表される基を示す。〕で表される化合物またはその塩。
【請求項２】
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３がそれぞれ置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基である請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３がそれぞれ無置換のＣ１−６アルキル基である請求項１記載の化合物。
【請求項４】
2,2’-ビス〔ビス（4-ジメチルアミノ-3,5-ジメチルフェニル）ホスフィノ〕-1,1’-ビナフチル、2,2’-ビス〔ビス（4-ジメチルアミノ-3,5-ジエチルフェニル）ホスフィノ〕-1,1’-ビナフチルまたは2,2’-ビス〔ビス（4-ジメチルアミノ-3,5-ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ〕-1,1’-ビナフチルである請求項１記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ１が水素原子または置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基を示し、Ｒ２およびＲ３が式
【化４】
0005252921.tif 000081
で、式
【化５】
0005252921.tif 000082
（式中、環Ａは、置換基を有していてもよい３〜８員環を示す）で表される基を示す請求項１記載の化合物。
【請求項６】
2,2'-ビス[ビス[4-(ピロリジン-1-イル)フェニル]ホスフィノ]-1,1'-ビナフチルである請求項１記載の化合物。
【請求項７】
光学活性化合物である請求項１ないし６のいずれかに記載の化合物。
【請求項８】
式
【化６】
0005252921.tif 000083
〔式中、Ｒ４は水素原子または置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、Ｒ５およびＲ６はそれぞれ置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基または式
【化７】
0005252921.tif 000084
で、式
【化８】
0005252921.tif 000085
（式中、環Ｂは、置換基を有していてもよい３〜８員環を示す）で表される基を示す。〕で表される化合物を配位子とする遷移金属錯体。
【請求項９】
Ｒ４が置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基を示し、Ｒ５およびＲ６がそれぞれ置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基を示すか、あるいはＲ４が水素原子または置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基を示し、Ｒ５およびＲ６が式
【化９】
0005252921.tif 000086
で、式
【化１０】
0005252921.tif 000087
（式中、環Ｂは、置換基を有していてもよい３〜８員環を示す）で表される基を示す請求項８記載の遷移金属錯体。
【請求項１０】
Ｒ４が水素原子または無置換のＣ１−６アルキル基、Ｒ５およびＲ６がそれぞれ無置換のＣ１−６アルキル基である請求項８記載の遷移金属錯体。
【請求項１１】
Ｒ４が無置換のＣ１−６アルキル基、Ｒ５およびＲ６がそれぞれ無置換のＣ１−６アルキル基である請求項８記載の遷移金属錯体。
【請求項１２】
Ｒ４が水素原子または置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基を示し、Ｒ５およびＲ６が式
【化１１】
0005252921.tif 000088
で、式
【化１２】
0005252921.tif 000089
（式中、環Ｂは、置換基を有していてもよい３〜８員環を示す）で表される基を示す請求項８記載の遷移金属錯体。
【請求項１３】
遷移金属がロジウム、ルテニウム、イリジウム、パラジウム、ニッケルまたは銅である請求項８ないし１２のいずれかに記載の遷移金属錯体。
【請求項１４】
遷移金属がロジウム、ルテニウムまたはパラジウムである請求項８ないし１２のいずれかに記載の遷移金属錯体。
【請求項１５】
下記から選択される請求項８記載の遷移金属錯体。
(1) [Ru(OAc)2(L)]；
(2) [RuCl2(L)(dmf)n]；
(3) [RuCl(Ar)(L)]Cl；
(4) [Ru(2-methylallyl)2(L)]；
(5) [RuCl2(L)(X)]；
(6) (NH2Et2)[{RuCl(L)}2(μ-Cl)3]；
(7) [Rh(Y)(L)]Z；
(8) [Pd Cl2(L)]；または
(9) [{Pd(L)}2(μ-OH)2]Z2
〔Lは2,2’-ビス〔ビス（4-ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ〕-1,1’-ビナフチル、2,2’-ビス〔ビス（4-ジメチルアミノ-3,5-ジメチルフェニル）ホスフィノ〕-1,1’-ビナフチル、2,2’-ビス〔ビス（4-ジメチルアミノ-3,5-ジエチルフェニル）ホスフィノ〕-1,1’-ビナフチル、2,2’-ビス〔ビス（4-ジメチルアミノ-3,5-ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ〕-1,1’-ビナフチル、2,2'-ビス[ビス（4-ジエチルアミノフェニル）ホスフィノ]-1,1'-ビナフチルまたは2,2'-ビス[ビス[4-(ピロリジン-1-イル)フェニル]ホスフィノ]-1,1'-ビナフチル、Acはアセチル、dmfはN,N-ジメチルホルムアミド、nは1以上の整数、Arは置換基を有していてもよいベンゼン、2-methylallylはη3-2-メチルアリル、Xはエチレンジアミン、1,2-ジフェニルエチレンジアミンまたは1,1-ジ(4-アニシル)-2-イソプロピル-1,2-エチレンジアミン、Yは1,5-シクロオクタジエンまたはノルボルナジエン、Zはカウンターアニオンでトリフルオロメタンスルホネート、テトラフルオロボレート、パークロレート、ヘキサフルオロホスフェートまたはテトラフェニルボレートを示す。〕
【請求項１６】
請求項８ないし１５のいずれかに記載の遷移金属錯体を含む不斉合成反応用触媒。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は新規配位子、該新規配位子を有する遷移金属錯体、および該遷移金属錯体を用いた不斉合成反応に関する。
【背景技術】
【０００２】
不斉合成反応には、不斉還元、不斉異性化、不斉ヒドロシリル化等が知られ、光学活性化合物を配位子とするロジウム、ルテニウム、イリジウムなどの遷移金属錯体が主に用いられている。従来、光学活性ホスフィンとして２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル（以下、ＢＩＮＡＰと省略することもある）が汎用されているが、基質の種類によっては反応性、立体選択性、触媒効率等の点で十分ではないため、種々の光学活性ホスフィンが製造され報告されている（例えば、Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｅｎａｎｔｉｏｓｅｌｅｃｔｉｖｅ  Ｃａｔａｌｙｓｉｓ  ｗｉｔｈ  Ｔｒａｎｓｉｔｉｏｎ  Ｍｅｔａｌ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ，ＶＣＨ出版社発行，１９９３年参照）。また、光学活性ホスフィンのなかでも、ＷＯ０３／０４８１７４号パンフレットおよびＷＯ０２／０４０４９１号パンフレットには、ジアルキルアミノ基を置換基として有する光学活性ホスフィンが記載されている。
また、ＢＩＮＡＰと同様に１，１’−ビナフチル骨格を持つ化合物においても、例えば、特開昭６１−６３６９０号公報には、２，２’−ビス（ジ（ｐ−トリル）ホスフィノ）−１，１’−ビナフチルを配位子としたルテニウム錯体が炭素−炭素二重結合の不斉還元において有用であることが記載されている。特開平３−２５５０９０号公報には、２，２’−ビス（ビス（３，５−ジアルキルフェニル）ホスフィノ）−１，１’−ビナフチルを配位子としたルテニウム錯体が、特開２００４−１９６７９３号公報には、２，２’−ビス（ビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）ホスフィノ）−１，１’−ビナフチルを配位子としたルテニウム錯体が、β−ケトエステルの不斉還元において有用であることが記載されている。
しかしながら、これらの遷移金属触媒を用いる反応において、反応基質によってはエナンチオ選択性または触媒効率が不十分である場合がある。
【発明の開示】
【０００３】
本発明は、新規配位子、および該配位子を用いてなる、種々の不斉合成反応において、エナンチオ選択性および触媒効率に優れ、特に触媒活性が高いことを特徴とする新規な遷移金属錯体を提供する。
本発明者らは、式
0005252921.tif 000002
〔式中、Ｒ１は水素原子または置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基または式
0005252921.tif 000003
で、式
0005252921.tif 000004
（式中、環Ａは、置換基を有していてもよい３〜８員環を示す）で表される基を示す（但し、２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチルを除く）。〕で表される化合物（以下、化合物（Ｉ）と略記する。）またはその塩が、新規配位子として有用であり、また、化合物（Ｉ）を包含する式
0005252921.tif 000005
〔式中、Ｒ４は水素原子または置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、Ｒ５およびＲ６はそれぞれ置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基または式
0005252921.tif 000006
で、式
0005252921.tif 000007
（式中、環Ｂは、置換基を有していてもよい３〜８員環を示す）で表される基を示す。〕で表される化合物（以下、化合物（ＩＩ）と略記する。）を配位子とする遷移金属錯体が、不斉合成反応、特に不斉還元反応において、エナンチオ選択性および特に触媒効率に優れていることを見出し、これらに基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち本発明は、
〔１〕式
0005252921.tif 000008
〔式中、Ｒ１は水素原子または置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基または式
0005252921.tif 000009
で、式
0005252921.tif 000010
（式中、環Ａは、置換基を有していてもよい３〜８員環を示す）で表される基を示す（但し、２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチルを除く）。〕で表される化合物またはその塩、
〔２〕Ｒ１、Ｒ２およびＲ３がそれぞれ置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基である〔１〕記載の化合物、
〔３〕Ｒ１、Ｒ２およびＲ３がそれぞれ無置換のＣ１−６アルキル基である〔１〕記載の化合物、
〔４〕２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチルまたは２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチルである〔１〕記載の化合物、
〔５〕光学活性化合物である〔１〕ないし〔４〕のいずれかに記載の化合物、
〔６〕式
0005252921.tif 000011
〔式中、Ｒ４は水素原子または置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、Ｒ５およびＲ６はそれぞれ置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基または式
0005252921.tif 000012
で、式
0005252921.tif 000013
（式中、環Ｂは、置換基を有していてもよい３〜８員環を示す）で表される基を示す。〕で表される化合物を配位子とする遷移金属錯体、
〔７〕遷移金属がロジウム、ルテニウム、イリジウム、パラジウム、ニッケルまたは銅である〔６〕記載の遷移金属錯体、
〔８〕遷移金属がロジウム、ルテニウムまたはパラジウムである〔６〕記載の遷移金属錯体、
〔９〕Ｒ４が水素原子または無置換のＣ１−６アルキル基、Ｒ５およびＲ６がそれぞれ無置換のＣ１−６アルキル基である〔６〕記載の遷移金属錯体、
〔１０〕下記から選択される〔６〕記載の遷移金属錯体、
（１）［Ｒｕ（ＯＡｃ）２（Ｌ）］；
（２）［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（ｄｍｆ）ｎ］；
（３）［ＲｕＣｌ（Ａｒ）（Ｌ）］Ｃｌ；
（４）［Ｒｕ（２−ｍｅｔｈｙｌａｌｌｙｌ）２（Ｌ）］；
（５）［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（Ｘ）］；
（６）（ＮＨ２Ｅｔ２）［｛ＲｕＣｌ（Ｌ）｝２（μ−Ｃｌ）３］；
（７）［Ｒｈ（Ｙ）（Ｌ）］Ｚ；
（８）［Ｐｄ  Ｃｌ２（Ｌ）］；または
（９）［｛Ｐｄ（Ｌ）｝２（μ−ＯＨ）２］Ｚ２
〔Ｌは２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス［ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチルまたは２，２’−ビス［ビス［４−（ピロリジン−１−イル）フェニル］ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル、Ａｃはアセチル、ｄｍｆはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ｎは１以上の整数、Ａｒは置換基を有していてもよいベンゼン、２−ｍｅｔｈｙｌａｌｌｙｌはη３−２−メチルアリル、Ｘはエチレンジアミン、１，２−ジフェニルエチレンジアミンまたは１，１−ジ（４−アニシル）−２−イソプロピル−１，２−エチレンジアミン、Ｙは１，５−シクロオクタジエンまたはノルボルナジエン、Ｚはカウンターアニオンでトリフルオロメタンスルホネート、テトラフルオロボレート、パークロレート、へキサフルオロホスフェートまたはテトラフェニルボレートを示す。〕
〔１１〕〔６〕記載の遷移金属錯体を含む触媒、
〔１２〕式
0005252921.tif 000014
〔Ｒ４ａは水素原子または置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、Ｒ５ａおよびＲ６ａはそれぞれ置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基または式
0005252921.tif 000015
で、式
0005252921.tif 000016
（式中、環Ｂ’は、置換基を有していてもよい３〜８員環を示す）で表される基を示す（但し、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン−ボラン錯体を除く）。〕で表される化合物またはその塩、
〔１３〕Ｒ４ａ、Ｒ５ａおよびＲ６ａがそれぞれ置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基である〔１２〕記載の化合物に関する。
また、
〔１４〕式
0005252921.tif 000017
〔式中、環Ｃは置換基を有していてもよいベンゼン環、Ｒ７は置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基を示す。〕で表される化合物またはその塩を、〔６〕記載の遷移金属錯体の存在下、還元反応に付すことを特徴とする、式
0005252921.tif 000018
〔式中、＊は不斉炭素の位置を示し、その他の記号は前記と同意義である。〕で表される化合物またはその塩の製造法、
〔１５〕式
0005252921.tif 000019
〔式中、環Ｄは置換基を有していてもよいベンゼン環、Ｒ８は置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基を示す。〕で表される化合物またはその塩を、〔６〕記載の遷移金属錯体の存在下、還元反応に付すことを特徴とする、式
0005252921.tif 000020
〔式中、＊は不斉炭素の位置を示し、その他の記号は前記と同意義である。〕で表される化合物またはその塩の製造法、
〔１６〕式
0005252921.tif 000021
〔式中、環Ｅおよび環Ｆはそれぞれ置換基を有していてもよいベンゼン環、Ｒ９は置換基を有していてもよいアミノ基を示す。〕で表される化合物またはその塩を、〔６〕記載の遷移金属錯体の存在下、還元反応に付すことを特徴とする、式
0005252921.tif 000022
〔式中、＊は不斉炭素の位置を示し、その他の記号は前記と同意義である。〕で表される化合物またはその塩の製造法等にも関する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００４】
化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）は、（Ｒ）体、（Ｓ）体および（Ｒ）体と（Ｓ）体の混合物（両者の比率は限定しない）が含まれるが、光学活性体であるものが好ましい。
以下、化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）の置換基の定義を示す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６で表される「置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基」の「Ｃ１−６アルキル基」とは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどが挙げられる。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６で表される「置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基」の「置換基」とは、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ニトロ、ニトロソ、シアノ、ヒドロキシ、Ｃ１−６アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシ、ヘキシルオキシなど）、ホルミル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイルなど）、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、へキシルオキシカルボニルなど）、カルボキシル、Ｎ−モノＣ１−６アルキル−カルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−イソプロピルカルバモイル、Ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ−イソブチルカルバモイル、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイルなど）、Ｎ，Ｎ−ジＣ１−６アルキルカルバモイル基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイルなど）などが挙げられる。これらの置換基から選ばれる１ないし３個を置換可能な位置に有していてもよい。
Ｒ１としては、水素原子または無置換のＣ１−６アルキル基が好ましく、なかでも、水素原子、メチル、エチル、イソプロピルなどが特に好ましい。
Ｒ２およびＲ３としては、好ましくは置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基であり、無置換のＣ１−６アルキル基がより好ましく、なかでも、メチル、エチルなどが特に好ましい。
Ｒ４としては、水素原子または無置換のＣ１−６アルキル基が好ましく、なかでも、水素原子、メチル、エチル、イソプロピルなどが好ましい。
Ｒ５およびＲ６としては、好ましくは置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基であり、無置換のＣ１−６アルキル基がより好ましく、なかでも、メチル、エチルなどが特に好ましい。
また、式
0005252921.tif 000023
（式中、環Ａは、置換基を有していてもよい３〜８員環を示す）および
式
0005252921.tif 000024
（式中、環Ｂは、置換基を有していてもよい３〜８員環を示す）で表される環Ａおよび環Ｂは、例えば、以下の環状基があげられる。
0005252921.tif 000025
これらの環状基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、ニトロ、ニトロソ、シアノ、ヒドロキシ、Ｃ１−６アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシ、ヘキシルオキシなど）、ホルミル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイルなど）、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなど）、カルボキシル、Ｎ−モノＣ１−６アルキル−カルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−イソプロピルカルバモイル、Ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ−イソブチルカルバモイル、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイルなど）、Ｎ，Ｎ−ジＣ１−６アルキルカルバモイル基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイルなど）などが挙げられる。これらの置換基から選ばれる１ないし３個を置換可能な位置に有していてもよい。
環Ａおよび環Ｂとしては、
0005252921.tif 000026
が特に好ましい。
化合物（Ｉ）としては、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３がそれぞれ置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基であるものが好ましく、なかでもＲ１、Ｒ２およびＲ３がそれぞれ無置換のＣ１−６アルキル基であるものが好ましい。また、Ｒ１が水素原子、Ｒ２およびＲ３がそれぞれ無置換のエチルまたは
0005252921.tif 000027
が
0005252921.tif 000028
であるものも好ましい。
化合物（Ｉ）としては、具体的には２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス［ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチルおよび２，２’−ビス［ビス［４−（ピロリジン−１−イル）フェニル］ホスフィノ］−１，１’−ビナフチルなどが好ましく、特に２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチルが好ましい。
化合物（ＩＩ）としては、Ｒ４が水素原子または無置換のＣ１−６アルキル基、Ｒ５およびＲ６がそれぞれ無置換のＣ１−６アルキル基であるものが好ましい。また、Ｒ４が水素原子、
0005252921.tif 000029
が
0005252921.tif 000030
であるものも好ましい。
化合物（ＩＩ）としては、具体的には、２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス［ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチルおよび２，２’−ビス［ビス［４−（ピロリジン−１−イル）フェニル］ホスフィノ］−１，１’−ビナフチルなどが好ましく、さらには、２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチルおよび２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチルがより好ましく、特に２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチルが好ましい。
化合物（Ｉ）および化合物（ＩＩ）の製造法を以下に示す。なお、化合物（Ｉ）は化合物（ＩＩ）に包含されるため、化合物（ＩＩ）の製造法のみ下記に示す。
0005252921.tif 000031
〔式中Ｘは臭素、ヨウ素、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、メタンスルホニルオキシ等の脱離基を示し、その他の記号は前記と同意義である。〕
化合物（ＩＩＩ）は、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー、３３巻、３６９０頁、１９６８年記載の方法に従って製造することができる。
また、化合物（ＩＶ）は、ＷＯ２００４／１０１５８０号パンフレット記載の方法、すなわち、化合物（ＩＩＩ）をボラン試薬の存在下、溶媒中で変換することにより製造することができる。なお、化合物（ＩＶ）のうち、式
0005252921.tif 000032
〔Ｒ４ａは水素原子または置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、Ｒ５ａおよびＲ６ａはそれぞれ置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基または式
0005252921.tif 000033
で、式
0005252921.tif 000034
（式中、環Ｂ’は、置換基を有していてもよい３〜８員環を示す）で表される基を示す（但し、ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン−ボラン錯体を除く）。〕で表される化合物またはその塩、は新規化合物である。
Ｒ４ａ、Ｒ５ａおよびＲ６ａで表される「置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基」とは、前記のＲ４、Ｒ５およびＲ６で表される「置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基」と同様のものがあげられる。Ｒ４ａ、Ｒ５ａおよびＲ６ａとしては、それぞれ置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基であるものが好ましい。
また、環Ｂ’で表される「置換基を有していてもよい３〜８員環」とは、前記の環Ｂで表される「置換基を有していてもよい３〜８員環」と同様のものがあげられる。
化合物（Ｖ）は、自体公知の方法、例えばテトラヘドロンレターズ，３１巻，９８５頁，１９９０年、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー，５８巻，１９４５頁，１９９３年等に記載の方法に従って製造できる。このようにして得られる化合物（Ｖ）は、単離せずに反応混合物として、化合物（ＩＶ）との反応に用いてもよい。
化合物（ＩＩ）は、ＷＯ２００３／０４８１７４号パンフレット記載の方法、すなわち、化合物（ＩＶ）と化合物（Ｖ）とを、アミンおよびニッケル触媒存在下、溶媒中で反応させることで製造できる。
生成物は常法に従って反応混合物から単離することもでき、再結晶、蒸留、クロマトグラフィーなどの分離手段により容易に精製することができる。
化合物（Ｉ）および化合物（ＩＶ）の塩としては、例えば無機酸（例えば，塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸など）との塩、または有機酸（例えば、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フマール酸、蓚酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸など）との塩などが用いられる。また、化合物（Ｉ）および化合物（ＩＶ）がカルボキシル基等の酸性基を有している場合には、無機塩基（例えば、ナトリウム、カリウム、カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ金属またはアルカリ土類金属、アンモニアなど）との塩、または有機塩基（例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジベンジルエチレンジアミンなど）との塩などが用いられる。
本発明の遷移金属錯体における「遷移金属」とは、例えば、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、パラジウム、ニッケル、コバルト、白金、鉄、金、銀、銅等が挙げられる。なかでもロジウム、ルテニウム、イリジウム、パラジウム、ニッケルおよび銅が好ましく、ロジウム、ルテニウムおよびパラジウムが特に好ましい。
本発明の遷移金属錯体は、公知の方法に従って製造することができる。
例えば、ロジウム錯体を製造する場合、ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティー（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）、第９４巻、６４２９頁、１９７２年に記載の方法に従い、化合物（ＩＩ）とジ−μ−クロロビス［（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）］を溶媒中で反応させることで製造することができる。また、オーガニック・シンセシス（Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．）、第６７巻、３３頁、１９８９年に記載の方法に従い、化合物（ＩＩ）をジ−μ−クロロビス［（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）］と過塩素酸銀で反応させることにより製造することができる。
例えば、ルテニウム錯体を製造する場合、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）、第５７巻、４０５３頁、１９９２年に記載の方法に従い、化合物（ＩＩ）とジ−μ−クロロビス［（η６−ベンゼン）クロロルテニウム（ＩＩ）］とを、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）中、加熱攪拌し得られたものを、メタノール中、酢酸ナトリウムの存在下、攪拌することにより製造することができる。また、テトラヘドロン・アシンメトリー（Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ａｓｙｍ．）、第２巻、４３頁、１９９１年に記載の方法に従い、化合物（ＩＩ）と（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）ビス（η３−２−メチルアリル）ルテニウム（ＩＩ）とを、ヘキサン／トルエン中で加熱攪拌することにより製造することができる。また、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）、第５９巻、３０６４頁、１９９４年に記載の方法に従い、化合物（ＩＩ）とジ−μ−クロロビス［（η６−ベンゼン）クロロルテニウム（ＩＩ）］とを、エタノール／ベンゼン中で加熱攪拌することにより製造することができる。さらに、アンゲバンテ・ヘミー・インターナショナル・エディション（Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．）、第３７巻、１７０３頁、１９９８年に記載の方法に従って、上記の方法により得られた化合物（ＩＩ）からなるルテニウム錯体とジアミンをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）中、攪拌することにより製造することができる。
例えば、イリジウム錯体を製造する場合、ジャーナル・オブ・オルガノメタリック・ケミストリー（Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．）、第４２８巻、２１３頁、１９９２年に記載の方法に従って、化合物（ＩＩ）と［Ｉｒ（ｃｏｄ）（ＣＨ３ＣＮ）２］ＢＦ４を溶媒中で反応させることにより製造することができる。
例えば、パラジウム錯体を製造する場合、オルガノメタリックス（Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ）、第１２巻、４１８８頁、１９９３年に記載の方法に従って、化合物（ＩＩ）と（η３−アリル）（η５−シクロペンタジエニル）パラジウム（ＩＩ）を反応させることにより製造することができる。また化合物（ＩＩ）とジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム（ＩＩ）を反応させることにより製造することができる。得られたパラジウム錯体を、さらに、ジャーナル・オブ・ジ・アメリカン・ケミカル・ソサイエティー（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）、第１２１巻、５４５０頁、１９９９年に記載の方法に従い、テトラフルオロほう酸銀と含水ジクロロメタン中で攪拌することによりパラジウム錯体のテトラフルオロほう酸塩を製造することができる。
例えば、ニッケル錯体を製造する場合、日本化学会編（丸善）「第５版実験化学講座」第２１巻、有機遷移金属化合物、超分子錯体、２９３−２９４頁（２００４年）に記載の方法に従って、化合物（ＩＩ）と無水臭化ニッケルとを、溶媒存在下に、加熱、攪拌することにより製造することができる。
例えば、銅錯体を製造する場合、日本化学会編（丸善）「第５版実験化学講座」第２１巻、有機遷移金属化合物、超分子錯体、３５７頁（２００４年）に記載の方法に従って、化合物（ＩＩ）と塩化銅（Ｉ）を反応させることにより製造することができる。また、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）、第６３巻、６０９０頁、１９９８年に記載の方法に従い、化合物（ＩＩ）とテトラキス（アセトニトリル）銅（Ｉ）過塩素酸塩をジクロロメタン中で攪拌することにより製造することができる。
ロジウム錯体の具体例としては、例えば以下のものが挙げられる（以下の遷移金属錯体の式中、Ｌは本発明の化合物（ＩＩ）、Ａｒは置換基を有していてもよいベンゼン、Ｃｐ＊はペンタメチルシクロペンタジエニル、Ｃｐはシクロペンタジエニル、ｃｏｄは１，５−シクロオクタジエン、Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル、ｎｂｄはノルボルナジエン、Ｐｈはフェニル、Ａｃはアセチル、Ｅｔはエチル、ｄｍｆはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、２−ｍｅｔｈｙｌａｌｌｙｌはη３−２−メチルアリル、ｅｎはエチレンジアミン、ｄｐｅｎは１，２−ジフェニルエチレンジアミン、ｄａｉｐｅｎは１，１−ジ（４−アニシル）−２−イソプロピル−１，２−エチレンジアミン、ｎは１以上の整数を示す）。
１，２−ジフェニルエチレンジアミンおよび１，１−ジ（４−アニシル）−２−イソプロピル−１，２−エチレンジアミンは、（Ｒ）体、（Ｓ）体および（Ｒ）体と（Ｓ）体の混合物（両者の比率は限定しない）が含まれるが、光学活性体であるものが好ましい。
［Ｒｈ  Ｃｌ（Ｌ）］２、［Ｒｈ  Ｂｒ（Ｌ）］２、［Ｒｈ  Ｉ（Ｌ）］２、［Ｒｈ  Ｃｐ＊（Ｌ）］２、［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＯＴｆ、［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＰｈ４、［Ｒｈ（ｎｂｄ）（Ｌ））］ＯＴｆ、［Ｒｈ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｒｈ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｒｈ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｒｈ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＢＰｈ４、［Ｒｈ（Ｌ）（ＣＨ３ＯＨ）２］ＯＴｆ、［Ｒｈ（Ｌ）（ＣＨ３ＯＨ）２］ＢＦ４、［Ｒｈ（Ｌ）（ＣＨ３ＯＨ）２］ＣｌＯ４、［Ｒｈ（Ｌ）（ＣＨ３ＯＨ）２］ＰＦ６、［Ｒｈ（Ｌ）（ＣＨ３ＯＨ）２］ＢＰｈ４
ルテニウム錯体の具体例としては、例えば以下のものが挙げられる。
［ＲｕＣｌ２（Ｌ）］ｎ、［ＲｕＢｒ２（Ｌ）］ｎ、［ＲｕＩ２（Ｌ）］ｎ、［Ｒｕ（ＯＡｃ）２（Ｌ）］、［Ｒｕ（Ｏ２ＣＣＦ３）２（Ｌ）］、（ＮＨ２Ｍｅ２）［｛ＲｕＣｌ（Ｌ）｝２（μ−Ｃｌ）３］、（ＮＨ２Ｅｔ２）［｛ＲｕＣｌ（Ｌ）｝２（μ−Ｃｌ）３］、（ＮＨ２Ｍｅ２）［｛ＲｕＢｒ（Ｌ）｝２（μ−Ｂｒ）３］、（ＮＨ２Ｅｔ２）［｛ＲｕＢｒ（Ｌ）｝２（μ−Ｂｒ）３］、（ＮＨ２Ｍｅ２）［｛ＲｕＩ（Ｌ）｝２（μ−Ｉ）３］、（ＮＨ２Ｅｔ２）［｛ＲｕＩ（Ｌ）｝２（μ−Ｉ）３］、［Ｒｕ２Ｃｌ４（Ｌ）２（ＮＥｔ３）］、［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（ｄｍｆ）ｎ］、［Ｒｕ（２−ｍｅｔｈｙｌａｌｌｙｌ）２（Ｌ）］、［ＲｕＣｌ（Ａｒ）（Ｌ）］Ｃｌ、［ＲｕＣｌ（Ａｒ）（Ｌ）］Ｂｒ、［ＲｕＣｌ（Ａｒ）（Ｌ）］Ｉ、［ＲｕＣｌ（Ａｒ）（Ｌ）］ＯＴｆ、［ＲｕＣｌ（Ａｒ）（Ｌ）］ＣｌＯ４、［ＲｕＣｌ（Ａｒ）（Ｌ）］ＰＦ６、［ＲｕＣｌ（Ａｒ）（Ｌ）］ＢＦ４、［ＲｕＣｌ（Ａｒ）（Ｌ）］ＢＰｈ４、［ＲｕＢｒ（Ａｒ）（Ｌ）］Ｃｌ、［ＲｕＢｒ（Ａｒ）（Ｌ）］Ｂｒ、［ＲｕＢｒ（Ａｒ）（Ｌ）］Ｉ、［ＲｕＩ（Ａｒ）（Ｌ）］Ｃｌ、［ＲｕＩ（Ａｒ）（Ｌ）］Ｂｒ、［ＲｕＩ（Ａｒ）（Ｌ）］Ｉ、［Ｒｕ（Ｌ）］（ＯＴｆ）２、［Ｒｕ（Ｌ）］（ＢＦ４）２、［Ｒｕ（Ｌ）］（ＣｌＯ４）２、［Ｒｕ（Ｌ）］（ＰＦ６）２、［Ｒｕ（Ｌ）］（ＢＰｈ４）２、［ＲｕＨ（Ｌ）２］Ｃｌ、［ＲｕＨ（Ｌ）２］ＯＴｆ、［ＲｕＨ（Ｌ）２］ＢＦ４、［ＲｕＨ（Ｌ）２］ＣｌＯ４、［ＲｕＨ（Ｌ）２］ＰＦ６、［ＲｕＨ（Ｌ）２］ＢＰｈ４、［ＲｕＨ（ＣＨ３ＣＮ）（Ｌ）］Ｃｌ、［ＲｕＨ（ＣＨ３ＣＮ）（Ｌ）］ＯＴｆ、［ＲｕＨ（ＣＨ３ＣＮ）（Ｌ）］ＢＦ４、［ＲｕＨ（ＣＨ３ＣＮ）（Ｌ）］ＣｌＯ４、［ＲｕＨ（ＣＨ３ＣＮ）（Ｌ）］ＰＦ６、［ＲｕＨ（ＣＨ３ＣＮ）（Ｌ）］ＢＰｈ４、［Ｒｕ  Ｃｌ（Ｌ）］ＯＴｆ、［Ｒｕ  Ｃｌ（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｒｕ  Ｃｌ（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｒｕ  Ｃｌ（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｒｕ  Ｃｌ（Ｌ）］ＢＰｈ４、［ＲｕＢｒ（Ｌ）］ＯＴｆ、［Ｒｕ  Ｂｒ（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｒｕ  Ｂｒ（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｒｕ  Ｂｒ（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｒｕ  Ｂｒ（Ｌ）］ＢＰｈ４、［Ｒｕ  Ｉ（Ｌ）］ＯＴｆ、［Ｒｕ  Ｉ（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｒｕ  Ｉ（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｒｕ  Ｉ（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｒｕ  Ｉ（Ｌ）］ＢＰｈ４、［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（ｅｎ）］、［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（ｄｐｅｎ）］、［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（ｄａｉｐｅｎ）］、［ＲｕＨ（η１−ＢＨ４）（Ｌ）（ｅｎ）］、［ＲｕＨ（η１−ＢＨ４）（Ｌ）（ｄａｉｐｅｎ）］、［ＲｕＨ（η１−ＢＨ４）（Ｌ）（ｄｐｅｎ）］
前記の［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（ｅｎ）］、［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（ｄｐｅｎ）］および［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（ｄａｉｐｅｎ）］中のジアミン配位子であるｅｎ、ｄｐｅｎおよびｄａｉｐｅｎに相当するジアミン配位子の例として、これらの他にも、１，２−シクロヘキサンジアミン、１，２−シクロヘプタンジアミン、２，３−ジメチルブタンジアミン、１−メチル−２，２−ジフェニル−１，２−エチレンジアミン、１−イソブチル−２，２−ジフェニル−１，２−エチレンジアミン、１−イソプロピル−２，２−ジフェニル−１，２−エチレンジアミン、１，１−ジ（４−アニシル）−２−メチル−１，２−エチレンジアミン、１，１−ジ（４−アニシル）−２−イソブチル−１，２−エチレンジアミン、１，１−ジ（４−アニシル）−２−ベンジル−１，２−エチレンジアミン、１−メチル−２，２−ジナフチル−１，２−エチレンジアミン、１−イソブチル−２，２−ジナフチル−１，２−エチレンジアミン、１−イソプロピル−２，２−ジナフチル−１，２−エチレンジアミン、プロパンジアミン、ブタンジアミン、フェニレンジアミンなどを用いることができる。
イリジウム錯体の具体例としては、例えば以下のものが挙げられる。
［Ｉｒ  Ｃｌ（Ｌ）］２、［Ｉｒ  Ｂｒ（Ｌ）］２、［Ｉｒ  Ｉ（Ｌ）］２、［Ｉｒ  Ｃｐ＊（Ｌ）］２、［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＯＴｆ、［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＰｈ４、［Ｉｒ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＯＴｆ、［Ｉｒ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｉｒ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｉｒ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｉｒ（ｎｂｄ）（Ｌ）］ＢＰｈ４
パラジウム錯体の具体例としては、例えば以下のものが挙げられる。
［ＰｄＣｌ２（Ｌ）］、［ＰｄＢｒ２（Ｌ）］、［ＰｄＩ２（Ｌ）］、［Ｐｄ（π−ａｌｌｙｌ）（Ｌ）］Ｃｌ、［Ｐｄ（π−ａｌｌｙｌ）（Ｌ）］ＯＴｆ、［Ｐｄ（π−ａｌｌｙｌ）（Ｌ）］ＢＦ４、［Ｐｄ（π−ａｌｌｙｌ）（Ｌ）］ＣｌＯ４、［Ｐｄ（π−ａｌｌｙｌ）（Ｌ）］ＰＦ６、［Ｐｄ（π−ａｌｌｙｌ）（Ｌ）］ＢＰｈ４、［Ｐｄ（Ｌ）］（ＯＴｆ）２、［Ｐｄ（Ｌ）］（ＢＦ４）２、［Ｐｄ（Ｌ）］（ＣｌＯ４）２、［Ｐｄ（Ｌ）］（ＰＦ６）２、［Ｐｄ（Ｌ）］（ＢＰｈ４）２、［Ｐｄ（Ｌ）２］、［Ｐｄ（Ｌ）（Ｈ２Ｏ）２］（ＯＴｆ）２、［Ｐｄ（Ｌ）（Ｈ２Ｏ）２］（ＢＦ４）２、［Ｐｄ（Ｌ）（Ｈ２Ｏ）２］（ＣｌＯ４）２、Ｐｄ（Ｌ）（Ｈ２Ｏ）２］（ＰＦ６）２、［Ｐｄ（Ｌ）（Ｈ２Ｏ）２］（ＢＰｈ４）２、［｛Ｐｄ（Ｌ）｝２（μ−ＯＨ）２］（ＯＴｆ）２、［｛Ｐｄ（Ｌ）｝２（μ−ＯＨ）２］（ＢＦ４）２、［｛Ｐｄ（Ｌ）｝２（μ−ＯＨ）２］（ＣｌＯ４）２、［｛Ｐｄ（Ｌ）｝２（μ−ＯＨ）２］（ＰＦ６）２、［｛Ｐｄ（Ｌ）｝２（μ−ＯＨ）２］（ＢＰｈ４）２
ニッケル錯体の具体例としては、例えば以下のものが挙げられる。
［ＮｉＣｌ２（Ｌ）］、［ＮｉＢｒ２（Ｌ）］、［ＮｉＩ２（Ｌ）］、［Ｎｉ（π−ａｌｌｙｌ）（Ｌ）］Ｃｌ、［Ｎｉ（ｃｏｄ）（Ｌ）］、［Ｎｉ（ｎｂｄ）（Ｌ）］
銅錯体の具体例としては、例えば以下のものが挙げられる。
［ＣｕＣｌ（Ｌ）］、［ＣｕＢｒ（Ｌ）］、［ＣｕＩ（Ｌ）］、［ＣｕＨ（Ｌ）］、［Ｃｕ（η１−ＢＨ４）（Ｌ）］、［Ｃｕ（Ｃｐ）（Ｌ）］、［Ｃｕ（Ｃｐ＊）（Ｌ）］、［Ｃｕ（Ｌ）（ＣＨ３ＣＮ）２］ＯＴｆ、［Ｃｕ（Ｌ）（ＣＨ３ＣＮ）２］ＢＦ４、［Ｃｕ（Ｌ）（ＣＨ３ＣＮ）２］ＣｌＯ４、［Ｃｕ（Ｌ）（ＣＨ３ＣＮ）２］ＰＦ６、［Ｃｕ（Ｌ）（ＣＨ３ＣＮ）２］ＢＰｈ４
本発明の遷移金属錯体のうち、特に好ましいものは、
（１）［Ｒｕ（ＯＡｃ）２（Ｌ）］；
（２）［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（ｄｍｆ）ｎ］；
（３）［ＲｕＣｌ（Ａｒ）（Ｌ）］Ｃｌ；
（４）［Ｒｕ（２−ｍｅｔｈｙｌａｌｌｙｌ）２（Ｌ）］；
（５）［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（Ｘ）］；
（６）（ＮＨ２Ｅｔ２）［｛ＲｕＣｌ（Ｌ）｝２（μ−Ｃｌ）３］；
（７）［Ｒｈ（Ｙ）（Ｌ）］Ｚ；
（８）［Ｐｄ  Ｃｌ２（Ｌ）］；または
（９）［｛Ｐｄ（Ｌ）｝２（μ−ＯＨ）２］Ｚ２
〔Ｌは２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス〔ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ〕−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス［ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチルまたは
２，２’−ビス［ビス［４−（ピロリジン−１−イル）フェニル］ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル、Ａｃはアセチル、ｄｍｆはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ｎは１以上の整数、Ａｒは置換基を有していてもよいベンゼン、２−ｍｅｔｈｙｌａｌｌｙｌはη３−２−メチルアリル、Ｘはエチレンジアミン、１，２−ジフェニルエチレンジアミンまたは１，１−ジ（４−アニシル）−２−イソプロピル−１，２−エチレンジアミン、Ｙは１，５−シクロオクタジエンまたはノルボルナジエン、Ｚはカウンターアニオンでトリフルオロメタンスルホネート、テトラフルオロボレート、パークロレート、ヘキサフルオロホスフェートまたはテトラフェニルボレートを示す。〕などである。
上記のＡｒで表される「置換基を有していてもよいベンゼン」の置換基としては、例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチルなどのＣ１−６アルキル基が挙げられ、これらの置換基から選ばれる１ないし３個を置換可能な位置に有していてもよい。Ａｒとしては、ベンゼンが好ましい。
上記のようにして得られた本発明の遷移金属錯体を触媒として使用する場合は、錯体の純度を高めてから使用してもよいが、錯体を精製することなく使用してもよい。
また、本発明の遷移金属錯体を触媒として使用する場合は、該「遷移金属錯体」を不斉合成反応の反応系内で用時調製しても良いし、前もって調製単離した物を用いても良い。
本発明の遷移金属錯体を不斉還元反応等の不斉合成反応に用いることにより、目的の立体を有する化合物の製造が可能である。以下、反応例を示す。
１．ケトンの不斉還元（１）
0005252921.tif 000035
〔式中、環Ｃは置換基を有していてもよいベンゼン環、Ｒ７は置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基を、＊は不斉炭素の位置を示す。〕
化合物（ＶＩ）を本発明の遷移金属錯体の存在下、還元反応に付すことにより、光学活性化合物（ＶＩＩ）を得ることができる。
環Ｃの置換基とは、ニトロ、ニトロソ、シアノ、ヒドロキシ、ハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルキル基（例えば、メチル、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシルなど）、Ｃ１−６アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシ、ヘキシルオキシなど）、ホルミル、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなど）、カルボキシル、Ｎ−モノＣ１−６アルキル−カルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−イソプロピルカルバモイル、Ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ−イソブチルカルバモイル、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイルなど）、Ｎ，Ｎ−ジＣ１−６アルキルカルバモイル基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイルなど）などが挙げられる。これらの置換基から選ばれる１ないし３個を置換可能な位置に有していてもよい。
また、環Ｃの置換基がそれぞれ結合してベンゼン環を形成していてもよい。
Ｒ７で表される「置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基」の「Ｃ１−６アルキル基」とは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどが挙げられる。
Ｒ７で表される「置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基」の「置換基」とは、ニトロ、ニトロソ、シアノ、ヒドロキシ、Ｃ１−６アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシ、ヘキシルオキシなど）、ホルミル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイルなど）、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなど）、カルボキシル、Ｎ−モノＣ１−６アルキル−カルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−イソプロピルカルバモイル、Ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ−イソブチルカルバモイル、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイルなど）、Ｎ，Ｎ−ジＣ１−６アルキルカルバモイル基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイルなど）などが挙げられる。これらの置換基から選ばれる１ないし３個を置換可能な位置に有していてもよい。
化合物（ＶＩ）の不斉還元反応において、本発明の遷移金属錯体の使用量は化合物（ＶＩ）１モルに対し、約０．０１ミリモルないし約１モル、好ましくは、約１ミリモルないし約１０ミリモルである。
化合物（ＶＩ）の不斉還元反応において、水素源としては、水素ガスを用いる。反応中の水素圧は約０．１ＭＰａないし１０ＭＰａ、好ましくは約０．１ＭＰａから５ＭＰａである。
化合物（ＶＩ）の不斉還元反応は、溶媒中で行われる。用いられる溶媒としては、アルコール系溶媒（例、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等）、炭化水素系溶媒（例、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、エーテル系溶媒（例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、エステル系溶媒（例、酢酸エチル、酢酸イソプロピル）、ケトン系溶媒（例、アセトン、メチルエチルケトン等）、ニトリル系溶媒（例、アセトニトリル、プロピオニトリル等）、スルホキシド系溶媒（例、ジメチルスルホキシド等）およびアミド系溶媒（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等）から選ばれる溶媒あるいはこれら二種以上の混合溶媒があげられる。なかでも、アルコール系溶媒（例、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等）、特にイソプロパノールが好ましい。
化合物（ＶＩ）の不斉還元反応における反応温度は、約０℃ないし約１８０℃、なかでも約２０℃ないし約１００℃で行うのが好ましい。
化合物（ＶＩ）の不斉還元反応においては、塩基を添加して行うのが望ましく、該「塩基」としては、無機塩基が好ましく、なかでも、水酸化カリウム、カリウムイソプロポキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシドなどがより好ましく、とりわけ、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシドが特に好ましい。該「塩基」の使用量は化合物（ＶＩ）１モルに対し、約０．００１ミリモルないし約１０モル、好ましくは、約１ミリモルないし約１００ミリモルである。
また、化合物（ＶＩ）の不斉還元反応は、同条件下で、本発明の遷移金属錯体以外の通常用いられる遷移金属錯体を用いて行うこともできる。本発明以外の遷移金属錯体としては、例えば、遷移金属がロジウム、ルテニウム、ニッケル、コバルトである遷移金属錯体があげられる。
２．オレフィンの不斉還元（１）
0005252921.tif 000036
〔式中、環Ｄは置換基を有していてもよいベンゼン環、Ｒ８は置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、＊は不斉炭素の位置を示す。〕
化合物（ＶＩＩＩ）を本発明の遷移金属錯体の存在下、還元反応（水素化反応）に付すことにより、医薬の合成中間体として有用な光学活性化合物（ＩＸ）を得ることができる。
環Ｄの置換基とは、ニトロ、ニトロソ、シアノ、ヒドロキシ、ハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルキル基（例えば、メチル、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシルなど）、Ｃ１−６アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシ、ヘキシルオキシなど）、ホルミル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイルなど）、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなど）、カルボキシル、Ｎ−モノＣ１−６アルキル−カルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−イソプロピルカルバモイル、Ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ−イソブチルカルバモイル、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイルなど）、Ｎ，Ｎ−ジＣ１−６アルキルカルバモイル基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイルなど）などが挙げられる。これらの置換基から選ばれる１ないし３個を置換可能な位置に有していてもよい。
Ｒ８で表される「置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基」の「Ｃ１−６アルキル基」とは、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシルなどが挙げられる。
Ｒ８で表される「置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基」の「置換基」とは、ニトロ、ニトロソ、シアノ、ヒドロキシ、Ｃ１−６アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシ、ヘキシルオキシなど）、ホルミル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル基（例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイルなど）、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニルなど）、カルボキシル、Ｎ−モノＣ１−６アルキル−カルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−イソプロピルカルバモイル、Ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ−イソブチルカルバモイル、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルカルバモイルなど）、Ｎ，Ｎ−ジＣ１−６アルキルカルバモイル基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルカルバモイルなど）などが挙げられる。これらの置換基から選ばれる１ないし３個を置換可能な位置に有していてもよい。
化合物（ＶＩＩＩ）および化合物（ＩＸ）の塩としては、前記の化合物（Ｉ）および化合物（ＩＶ）の塩と同様のものが用いられる。
化合物（ＶＩＩＩ）の不斉還元反応において、本発明の遷移金属錯体の使用量は化合物（ＶＩＩＩ）１モルに対し、約０．０１ミリモルないし約１モル、好ましくは、約１ミリモルないし約１０ミリモルである。
化合物（ＶＩＩＩ）の不斉還元反応において、水素源としては、水素ガスを用いる。反応中の水素圧は約０．１ＭＰａないし１０ＭＰａ、好ましくは約０．１ＭＰａから５ＭＰａである。
化合物（ＶＩＩＩ）の不斉還元反応は、溶媒中で行われる。用いられる溶媒としては、アルコール系溶媒（例、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等）、炭化水素系溶媒（例、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、エーテル系溶媒（例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、エステル系溶媒（例、酢酸エチル、酢酸イソプロピル）、ケトン系溶媒（例、アセトン、メチルエチルケトン等）、ニトリル系溶媒（例、アセトニトリル、プロピオニトリル等）、スルホキシド系溶媒（例、ジメチルスルホキシド等）およびアミド系溶媒（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等）から選ばれる溶媒あるいはこれら二種以上の混合溶媒があげられる。なかでも、アルコール系溶媒（例、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等）、特にエタノールが好ましい。
化合物（ＶＩＩＩ）の不斉還元反応における反応温度は、約０℃ないし約１８０℃、なかでも約２０℃ないし約１００℃で行うのが好ましい。
また、化合物（ＶＩＩＩ）の不斉還元反応は、同条件下で、本発明の遷移金属錯体以外の通常用いられる遷移金属錯体を用いて行うこともできる。本発明以外の遷移金属錯体としては、例えば、遷移金属がロジウム、ルテニウム、ニッケル、コバルトである遷移金属錯体があげられる。
３．ケトンの不斉還元（２）
0005252921.tif 000037
〔式中、環Ｅおよび環Ｆはそれぞれ置換基を有していてもよいベンゼン環、Ｒ９は置換基を有していてもよいアミノ基、＊は不斉炭素の位置を示す。〕
化合物（Ｘ）を本発明の遷移金属錯体の存在下、還元反応に付すことにより、光学活性化合物（ＸＩ）を得ることができる。
環Ｅおよび環Ｆが有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、ヒドロキシ基、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）を有していてもよいＣ１−６アルキル基（メチル、トリクロロメチル、トリフルオロメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシルなど）、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）を有していてもよいＣ１−６アルコキシ基（メトキシ、トリクロロメトキシ、トリフルオロメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシ、ヘキシルオキシなど）等があげられる。なかでも、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）およびＣ１−６アルコキシ基（メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシ、ペントキシ、ヘキシルオキシなど）等が好ましい。
Ｒ９で表される「置換基を有していてもよいアミノ基」の「置換基」としては、Ｃ１−６アルキル基（メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシルなど）、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、Ｃ１−６アシル基（ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリルなど）、保護基（ベンジルオキシカルボニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、イソブトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルなど）が挙げられ、置換基の数は１または２である。
化合物（Ｘ）の不斉還元反応において、本発明の遷移金属錯体の使用量は化合物（Ｘ）１モルに対し、約０．０１ミリモルないし約１モル、好ましくは、約１ミリモルないし約１０ミリモルである。
化合物（Ｘ）の不斉還元反応において、水素源としては、水素ガスを用いる。反応中の水素圧は約０．１ＭＰａないし１０ＭＰａ、好ましくは約０．１ＭＰａから５ＭＰａである。
化合物（Ｘ）の不斉還元反応は、溶媒中で行われる。用いられる溶媒としては、アルコール系溶媒（例、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等）、炭化水素系溶媒（例、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、エーテル系溶媒（例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、エステル系溶媒（例、酢酸エチル、酢酸イソプロピル）、ケトン系溶媒（例、アセトン、メチルエチルケトン等）、ニトリル系溶媒（例、アセトニトリル、プロピオニトリル等）、スルホキシド系溶媒（例、ジメチルスルホキシド等）およびアミド系溶媒（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等）から選ばれる溶媒あるいはこれら二種以上の混合溶媒があげられる。なかでも、アルコール系溶媒（例、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等）、特にイソプロパノールが好ましい。
化合物（Ｘ）の不斉還元反応における反応温度は、約０℃ないし約１８０℃、なかでも約２０℃ないし約１００℃で行うのが好ましい。
化合物（Ｘ）の不斉還元反応においては、塩基を添加して行うのが望ましく、該「塩基」としては、無機塩基が好ましく、なかでも、水酸化カリウム、カリウムイソプロポキシド、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシドなどがより好ましく、とりわけ、カリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシドが特に好ましい。該「塩基」の使用量は化合物（Ｘ）１モルに対し、約０．００１ミリモルないし約１０モル、好ましくは、約１ミリモルないし約１００ミリモルである。
また、化合物（Ｘ）の不斉還元反応は、同条件下で、本発明の遷移金属錯体以外の通常用いられる遷移金属錯体を用いて行うこともできる。本発明以外の遷移金属錯体としては、例えば、遷移金属がロジウム、ルテニウム、ニッケル、コバルトである遷移金属錯体があげられる。
４．オレフィンの不斉還元（２）
0005252921.tif 000038
〔式中、環Ｇはさらに置換基を有していてもよいベンゼン環、Ｒ１０は置換基を有していてもよいアミノ基、Ｒ１１は水素原子または置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、＊は不斉炭素の位置を示す。〕
化合物（ＸＩＩ）を本発明の遷移金属錯体の存在下、還元反応に付すことにより、光学活性化合物（ＸＩＩＩ）を得ることができる。
Ｒ１０で表される「置換基を有していてもよいアミノ基」としては、上記のＲ９で表される「置換基を有していてもよいアミノ基」と同様のものがあげられる。
Ｒ１１で表される「置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基」としては、上記のＲ８で表される「置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基」と同様のものがあげられる。
化合物（ＸＩＩ）の不斉還元反応において、本発明の遷移金属錯体の使用量は化合物（ＸＩＩ）１モルに対し、約０．０１ミリモルないし約１モル、好ましくは、約１ミリモルないし約１０ミリモルである。
化合物（ＸＩＩ）の不斉還元反応において、水素源としては、水素ガスを用いる。反応中の水素圧は約０．１ＭＰａないし１０ＭＰａ、好ましくは約０．１ＭＰａから５ＭＰａである。
化合物（ＸＩＩ）の不斉還元反応は、溶媒中で行われる。用いられる溶媒としては、アルコール系溶媒（例、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等）、炭化水素系溶媒（例、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、エーテル系溶媒（例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、エステル系溶媒（例、酢酸エチル、酢酸イソプロピル）、ケトン系溶媒（例、アセトン、メチルエチルケトン等）、ニトリル系溶媒（例、アセトニトリル、プロピオニトリル等）、スルホキシド系溶媒（例、ジメチルスルホキシド等）およびアミド系溶媒（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等）から選ばれる溶媒あるいはこれら二種以上の混合溶媒があげられる。なかでも、アルコール系溶媒（例、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等）、特にエタノールが好ましい。
化合物（ＸＩＩ）の不斉還元反応における反応温度は、約０℃ないし約１８０℃、なかでも約２０℃ないし約１００℃で行うのが好ましい。
また、化合物（ＸＩＩ）の不斉還元反応は、同条件下で、本発明の遷移金属錯体以外の通常用いられる遷移金属錯体を用いて行うこともできる。本発明以外の遷移金属錯体としては、例えば、遷移金属がロジウム、ルテニウム、ニッケル、コバルトである遷移金属錯体があげられる。
５．オレフィンの不斉還元（３）
0005252921.tif 000039
〔式中、Ｒ１２およびＲ１３は同一または異なって水素原子または置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基、＊は不斉炭素の位置を示す。〕
化合物（ＸＩＶ）を本発明の遷移金属錯体の存在下、還元反応に付すことにより、光学活性化合物（ＸＶ）を得ることができる。
Ｒ１２およびＲ１３で表される「置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基」としては、上記のＲ８で表される「置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル基」と同様のものがあげられる。
化合物（ＸＩＶ）の不斉還元反応において、本発明の遷移金属錯体の使用量は化合物（ＸＩＶ）１モルに対し、約０．０１ミリモルないし約１モル、好ましくは、約１ミリモルないし約１０ミリモルである。
化合物（ＸＩＶ）の不斉還元反応において、水素源としては、水素ガスを用いる。反応中の水素圧は約０．１ＭＰａないし１０ＭＰａ、好ましくは約０．１ＭＰａから５ＭＰａである。
化合物（ＸＩＶ）の不斉還元反応は、溶媒中で行われる。用いられる溶媒としては、アルコール系溶媒（例、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等）、炭化水素系溶媒（例、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等）、エーテル系溶媒（例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン等）、エステル系溶媒（例、酢酸エチル、酢酸イソプロピル）、ケトン系溶媒（例、アセトン、メチルエチルケトン等）、ニトリル系溶媒（例、アセトニトリル、プロピオニトリル等）、スルホキシド系溶媒（例、ジメチルスルホキシド等）およびアミド系溶媒（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等）から選ばれる溶媒あるいはこれら二種以上の混合溶媒があげられる。なかでも、アルコール系溶媒（例、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等）、特にエタノールが好ましい。
化合物（ＸＩＶ）の不斉還元反応における反応温度は、約０℃ないし約１８０℃、なかでも約２０℃ないし約１００℃で行うのが好ましい。
また、化合物（ＸＩＶ）の不斉還元反応は、同条件下で、本発明の遷移金属錯体以外の通常用いられる遷移金属錯体を用いて行うこともできる。本発明以外の遷移金属錯体としては、例えば、遷移金属がロジウム、ルテニウム、ニッケル、コバルトである遷移金属錯体があげられる。
また、上記の反応の他に、β−ケトエステルの不斉フッ素化反応、オレフィンの異性化反応等に本発明の遷移金属錯体を用いることができ、医薬の合成中間体として有用な光学活性化合物の製造を可能とした。
【実施例】
【０００５】
以下に実施例および参考例を挙げて、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。本明細書中、室温は、１０℃ないし３５℃を示す。なお、実施例の各物性の測定には次の機器を用いた。１Ｈ核磁気共鳴スペクトル（１Ｈ−ＮＭＲ）：ＤＰＸ３００（ブルカー社製）、内部基準物質：テトラメチルシラン（ＴＭＳ）、ＣＤ２Ｃｌ２。１３Ｃ核磁気共鳴スペクトル（１３Ｃ−ＮＭＲ）：ＤＰＸ３００（ブルカー社製）、内部基準物質：ＣＤＣｌ３、ＣＤ２Ｃｌ２。３１Ｐ核磁気共鳴スペクトル（３１Ｐ−ＮＭＲ）：ＤＰＸ３００（ブルカー社製）、外部基準物質：８５％Ｈ３ＰＯ４水溶液。質量分析：ＪＭＳ−７００Ｔ（日本電子社製）。元素分析：ｖａｒｉｏ  ＥＬ（ｅｌｅｍｅｎｔａｒ社製）。融点：５３０（ビュッヒ社製）。旋光計：Ｐ−１０３０（日本分光社製）。
ＴＯＦ（ｍｏＬ／ｍｏＬ・ｈ、触媒回転効率）については、反応により消費される水素の圧力変化を基質の変換率に換算し、一定時間に変換する基質量を触媒量で除して算出した。
参考例１
（Ｓ）−２，２’−ビス（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）−１，１’−ビナフチル
（Ｓ）−１，１’−ビ−２−ナフトール（２６．２ｇ，９１ｍｍｏＬ）のアセトニトリル（１３０ｍＬ）溶液に、ピリジン（１９．５ｇ，２．７当量）を室温で加えた。ついでトリフルオロメタンスルホン酸無水物（６４．２ｇ，２．５当量）を５℃で加え、５ないし１０℃で２時間撹拌した。３℃で水（１００ｍＬ）を加え、ついで酢酸エチル（１３０ｍＬ）を加えた後、室温で３０分攪拌した。反応液を分液し、有機層を水（５０ｍＬ）で洗浄後、減圧濃縮した。残渣にジイソプロピルエーテル（１５０ｍＬ）および活性炭（０．２５ｇ）を加え６０℃で３０分攪拌した。活性炭をろ去し、ろ液を減圧濃縮した。残渣をヘプタンより再結晶し、表題化合物（４８．９ｇ，白色結晶）を得た。収率９７％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：７．３３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．１４Ｈｚ），７．３４−７．４６（ｍ，２Ｈ），７．５７−７．６３（ｍ，２Ｈ），７．６８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０９Ｈｚ），８．０３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２３Ｈｚ），８．１６（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝９．０８Ｈｚ）．
参考例２
４−ブロモ−Ｎ，Ｎ，２，６−テトラメチルアニリン
0005252921.tif 000040
４−ブロモ−２，６−ジメチルアニリン（５０ｇ，０．２５０ｍｏＬ）およびギ酸（３７５ｇ，３２．６当量）溶液に３７％ホルムアルデヒド（５０．７ｇ，２．５当量）を２３℃で加えた後、還流下で２時間攪拌した。溶媒を減圧留去した。酢酸エチル（２００ｍＬ）、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（５００ｍＬ）を加え、分液し、有機層を水（１００ｍＬ）、５％炭酸水素ナトリウム水溶液（１００ｍＬ）で順次洗浄した。ついで有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、自然ろ過し、ろ液を減圧濃縮した。残渣を減圧蒸留し、表題化合物（５２．０ｇ，無色液体）を得た。収率９１％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：２．２６（ｓ，６Ｈ），２．７９（ｓ，６Ｈ），７．１２（ｓ，２Ｈ）．
［実施例１］
ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィンオキサイド
0005252921.tif 000041
アルゴン雰囲気下、マグネシウム（２．４ｇ，０．７５当量）、少量のヨウ素および少量の１，２−ジブロモエタンのテトラヒドロフラン（１５ｍＬ）溶液を室温で１時間撹拌した。参考例２で合成した４−ブロモ−Ｎ，Ｎ，２，６−テトラメチルアニリン（３１．２ｇ，０．１３７ｍｏＬ）のテトラヒドロフラン（５０ｍＬ）溶液を２５℃ないし３０℃で１時間かけて加えた後、４０℃で１時間攪拌した。ついで亜リン酸ジエチル（４．６９ｇ，０．２５当量）のテトラヒドロフラン（１５ｍＬ）溶液を２５℃ないし３０℃で１時間かけて加えた。０℃ないし５℃で水（６０ｍＬ）を加え、ついでトルエン（１００ｍＬ）を加えた後、不溶物をろ別した。ろ液を分液し、有機層を水（３０ｍＬ）で洗浄した。ついで有機層を減圧濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１００ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、表題化合物（４．６ｇ，無色液体）を得た。収率４０％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：２．３０（ｓ，１２Ｈ），２．８２（ｓ，１２Ｈ），７．２８（ｓ，２Ｈ），７．３３（ｓ，２Ｈ），７．８９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４７４Ｈｚ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＣＤＣｌ３）δ：１９．３２，１９．３８，１２６．０９，１２７．４６，１３１．００，１３１．１７，１３２．４３，１３２．５６，１３７．０９，１３７．２７，１５３．７９．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：２２．５１（ｄｑｕｉｎｔ，Ｊ＝４７４Ｈｚ，１４Ｈｚ）．
［実施例２］
ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィン−ボラン錯体
0005252921.tif 000042
アルゴン雰囲気下、実施例１で合成したビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィンオキサイド（４．６ｇ，１４ｍｍｏＬ）のトルエン（３０ｍＬ）溶液に室温でボラン−テトラヒドロフラン溶液（７１ｍＬ，５．４当量）を２時間かけて加えた。ついでシリカゲル（８．７ｇ，１０．８当量）を加えた後、室温で１．５時間攪拌した。ついでシリカゲルをろ別し、ろ液を減圧濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２０ｇ、トルエン）で精製した。残渣をｎ−ヘキサンより再結晶し、表題化合物（３．０ｇ，白色結晶）を得た。収率６５％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：０．３０−１．７５（ｍ，３Ｈ），２．２８（ｓ，１２Ｈ），２．８１（ｓ，１２Ｈ），５．４４−５．５１（ｍ，０．５Ｈ），６．７０−６．７６（ｍ，０．５Ｈ），７．２３（ｓ，２Ｈ），７．２８（ｓ，２Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＣＤＣｌ３）δ：１９．７０，４２．６９，１２１．３９，１２２．１７，１３３．６２，１３３．７５，１３７．７６，１３７．９，１５３．４６．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：−２．５−  −１．５（ｍ），０．２−１．２（ｍ）．
［実施例３］
（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
0005252921.tif 000043
アルゴン雰囲気下、［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）−エタン］ジクロロニッケル（０．１７ｇ，０．１当量）と参考例１で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）−１，１’−ビナフチル（１．７６ｇ，３．２１ｍｍｏＬ）および１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン（２．１４ｇ，６．０当量）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（２５ｍＬ）に、実施例２で合成したビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィン−ボラン錯体（２．５２ｇ，２．３当量）を室温で加えた後、室温で３０分間攪拌した。ついで１０５℃で９６時間攪拌した。Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを減圧留去し、残渣にメタノールを加えて、表題化合物（１．８６ｇ，白色結晶）を得た。収率６４％。融点２６５℃。旋光度：［α］Ｄ＝−７６．５°（２５℃，ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ３）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：２．０４（ｓ，１２Ｈ），２．０７（ｓ，１２Ｈ），２．７４（ｓ，２４Ｈ），６．６３（ｓ，２Ｈ），６．６６（ｓ，２Ｈ），６．７３（ｓ，１Ｈ），６．７６（ｓ，１Ｈ），６．８４（ｓ，２Ｈ），６．８６（ｓ，３Ｈ），７．２７−７．３３（ｍ，３Ｈ），７．５４−７．５８（ｍ，２Ｈ），７．７８（ｓ，１Ｈ），７．８３（ｓ，１Ｈ），７．８６（ｓ，１Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＣＤＣｌ３）δ：１９．０１，１９．０３，４２．４３，４２．５２，１２５．０３−１３７．１４（ｍ），１４８．９４，１４９．８７．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：−１５．５２（ｓ）．
質量分析（ＥＩ−ＭＳ）
実測値；  ９０５［Ｍ−Ｈ］＋
参考例３
４−ブロモ−２，６−ジエチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン
0005252921.tif 000044
４−ブロモ−２，６−ジエチルアニリン（３０ｇ，０．１３１ｍｏＬ）およびギ酸（１９６ｇ，４．２７ｍｏＬ）溶液に３７％ホルムアルデヒド（２６．７ｇ，２．５当量）を３７℃で加えた後、還流下で３時間攪拌した。０℃でトルエン（１００ｍＬ）、８Ｍ  水酸化ナトリウム水溶液（１５０ｍＬ）を加え、分液し、有機層を１Ｍ  水酸化ナトリウム水溶液（５０ｍＬ）、水（５０ｍＬ）で順次洗浄した。ついで有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、自然ろ過し、ろ液を減圧濃縮した。残渣を減圧蒸留し、表題化合物（２９．４ｇ，微黄色液体）を得た。
収率８８％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：１．２１（ｔ，６Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．６２（ｑ，４Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．８０（ｓ，６Ｈ），７．１６（ｓ，２Ｈ）．
［実施例４］
ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィンオキサイド
0005252921.tif 000045
アルゴン雰囲気下、マグネシウム（２．８ｇ，１．０当量）、少量のヨウ素および少量の１，２−ジブロモエタンのテトラヒドロフラン（１５ｍＬ）溶液を室温で３０分間撹拌した。参考例３で合成した４−ブロモ−２，６−ジエチル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（２９．４ｇ，０．１１５ｍｏＬ）のテトラヒドロフラン（５０ｍＬ）溶液を２０℃ないし２５℃で１時間かけて加えた後、４０℃で１時間攪拌した。ついで亜リン酸ジエチル（４．０１ｇ，０．２５当量）のテトラヒドロフラン（８ｍＬ）溶液を２０℃ないし２５℃で１時間かけて加えた。５℃ないし１０℃で水（９０ｍＬ）を加え、ついで酢酸エチル（１００ｍＬ）を加えた。分液し、ついで有機層を減圧濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１００ｇ，ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）で精製し、表題化合物（８．３４ｇ，無色液体）を得た。収率７２％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：１．２０（ｔ，１２Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ），２．６７（ｑ，８Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ），２．８３（ｓ，１２Ｈ），７．３８（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝１４Ｈｚ），７．９８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４７４Ｈｚ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＣＤＣｌ３）δ：１５．１８，１５．３１，２５．０１，４３．３１，４３．４０，１２６．８４，１２７．０１，１２８．３７，１２９．３５，１２９．５１，１３１．００，１４４．２４，１４４．４２，１５２．９３，１５２．９７．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：２２．７０（ｄｑｕｉｎｔ，Ｊ＝４７４Ｈｚ，１４Ｈｚ）．
質量分析（ＥＩ−ＭＳ）
実測値；  ４００［Ｍ］＋
［実施例５］
ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィン−ボラン錯体
0005252921.tif 000046
アルゴン雰囲気下、実施例４で合成したビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィンオキサイド（８．１２ｇ，２０ｍｍｏＬ）のトルエン（４８ｍＬ）溶液に２５℃ないし３０℃でボラン−テトラヒドロフラン溶液（６８ｍＬ，３．５当量）を２時間かけて加えた。ついでシリカゲル（８．３ｇ，７．０当量）を加えた後、室温で１時間攪拌した。ついでシリカゲルをろ別し、ろ液を減圧濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ、トルエン）で精製し、表題化合物（５．１ｇ，無色オイル）を得た。収率６４％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：０．３２−１．６５（ｍ，３Ｈ），１．２０（ｔ，１２Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ），２．６６（ｑ，８Ｈ，Ｊ＝８Ｈｚ），２．８２（ｓ，１２Ｈ），６．２０（ｄｑ，１Ｈ，Ｊ＝３７６Ｈｚ，Ｊ＝７Ｈｚ），７．３４（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝１２Ｈｚ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＣＤＣｌ３）δ：１５．２４，２４．９９，２５．５９，４３．３３，６７．９１，１２１．９４，１２２．７１，１３１．５７，１３１．７０，１４４．４４，１４４．５８，１５２．１２，１５２．１６．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：−２．６−  −１．５（ｍ），０．２−１．２（ｍ）．
［実施例６］
（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
0005252921.tif 000047
アルゴン雰囲気下、［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）−エタン］ジクロロニッケル（０．２８ｇ，０．１当量）と参考例１で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）−１，１’−ビナフチル（２．９３ｇ，５ｍｍｏＬ）および１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン（３．６１ｇ，６．０当量）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（３０ｍＬ）に、実施例５で合成したビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィン−ボラン錯体（４．７９ｇ，２．３当量）を室温で加えた後、室温で３０分間攪拌した。ついで１０５℃で９６時間攪拌した。Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを減圧留去し、残渣にメタノールを加えて、表題化合物（４．３０ｇ，帯黄白色粉末）を得た。収率８４％。旋光度：［α］Ｄ＝−３２．２°（２５℃，ｃ＝１．０１，ＣＨＣｌ３）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：１．００（ｓ，２４Ｈ），２．４３−２．４５（ｍ，１６Ｈ），２．７４−２．７６（ｍ，２４Ｈ），６．４６−８．０１（ｍ，２０Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＣＤＣｌ３）δ：１５．４８，２４．８６，２４．９７，４３．６２，４３．７５，１２５．２２−１４８．９４（ｍ）．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：−１４．４４（ｓ）．
質量分析（ＦＡＢ−ＭＳ）
実測値；  １０１７［Ｍ−Ｈ］＋，１０１９［Ｍ＋Ｈ］＋，１０５７［Ｍ＋Ｋ］＋
参考例４
４−ブロモ−２，６−ジイソプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン
0005252921.tif 000048
２，６−ジイソプロピルアニリン（２５ｇ，０．１４１ｍｏＬ）のトルエン（２５ｍＬ）溶液にジメチルスルホキシド（１２．１ｇ，１．１当量）を加えた後、９０℃に加熱した。同温度で４８％臭化水素酸水溶液（２６．１ｇ，１．１当量）を３０分間で滴下した。ついで８６℃で３時間攪拌し、１００℃で２時間攪拌した。０℃で水（２０ｍＬ）を加えた後、１Ｍ  水酸化ナトリウム水溶液（３０ｍＬ）を滴下した。分液し、有機層を１Ｍ  水酸化ナトリウム水溶液（５０ｍＬ）で洗浄した。ついで有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、自然ろ過し、ろ液を減圧濃縮した。残渣を減圧蒸留し、４−ブロモ−２，６−ジイソプロピルアニリン（２９．４ｇ，薄黄色液体）を得た。上記で合成した４−ブロモ−２，６−ジイソプロピルアニリンおよびギ酸（１８９ｇ，４．１１ｍｏＬ）溶液に３７％ホルムアルデヒド（２３．１ｇ，２．５当量）を３２℃で加えた後、還流下で２時間攪拌した。０℃でトルエン（１００ｍＬ）、８Ｍ  水酸化ナトリウム水溶液（１５０ｍＬ）を加え、分液し、有機層を１Ｍ  水酸化ナトリウム水溶液（５０ｍＬ）、水（５０ｍＬ）で順次洗浄した。ついで有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、自然ろ過し、ろ液を減圧濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー精製し、表題化合物（３５．０ｇ，無色固体）を得た。収率９５％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：１．２０（ｄ，１２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），２．８２（ｓ，６Ｈ），３．３１（ｓｅｐｔｅｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），７．２０（ｓ，２Ｈ）．
［実施例７］
ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィンオキサイド
0005252921.tif 000049
アルゴン雰囲気下、マグネシウム（２．４ｇ，０．７５当量）、少量のヨウ素および少量の１，２−ジブロモエタンのテトラヒドロフラン（１５ｍＬ）溶液を室温で１時間撹拌した。参考例４で合成した４−ブロモ−２，６−ジイソプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（３４．９ｇ，０．１２３ｍｏＬ）のテトラヒドロフラン（８０ｍＬ）溶液を２５℃ないし３５℃で１時間かけて加えた後、４０℃で１時間攪拌した。ついで亜リン酸ジエチル（４．２３ｇ，０．２５当量）のテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）溶液を２０℃ないし２５℃で１時間かけて加えた。５℃ないし１０℃で水（３０ｍＬ）を加え、ついで酢酸エチル（５０ｍＬ）を加えた後、不溶物をろ別した。ろ液に水（３０ｍＬ）を加え、ついで酢酸エチル（１００ｍＬ）を加えて分液し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、自然ろ過し、ついで有機層を減圧濃縮した。残渣をｎ−ヘキサンより再結晶し、表題化合物（８．９５ｇ，白色固体）を得た。収率６３％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：１．１９（ｄｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈｚ，２４Ｈ），２．８４（ｓ，１２Ｈ），３．３５（ｓｅｐｔｅｔ，Ｊ＝６Ｈｚ，４Ｈ），７．４０（ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ，４Ｈ），８．０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４７４Ｈｚ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＣＤＣｌ３）δ：２４．１４，２４．３２，２８．３４，４３．７１，４３．９２，１２６．６５，１２６．８１，１２７．９２，１２９．２７，１４９．８９，１５０．０６，１５１．４５，１５１．４９．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：２２．９３（ｄｑｕｉｎｔ，Ｊ＝４７４Ｈｚ，１４Ｈｚ）．
質量分析（ＦＡＢ−ＭＳ）
実測値；  ４５７［Ｍ＋Ｈ］＋，４９５［Ｍ＋Ｋ］＋．
［実施例８］
ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィン−ボラン錯体
0005252921.tif 000050
アルゴン雰囲気下、実施例７で合成したビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィンオキサイド（８．０８ｇ，１８ｍｍｏＬ）のトルエン（４８ｍＬ）溶液に２５℃ないし３０℃でボラン−テトラヒドロフラン溶液（６０ｍＬ，３．３当量）を２時間かけて加えた。ついでシリカゲル（７．０ｇ，６．３当量）を加えた後、室温で１時間攪拌した。ついでシリカゲルをろ別し、ろ液を減圧濃縮した。残渣をｎ−ヘキサンより再結晶し、表題化合物（５．５ｇ，白色結晶）を得た。収率６７％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：０．４５−１．７５（ｍ，３Ｈ），１．１８（ｄｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，２Ｈｚ，２４Ｈ），２．８３（ｓ，１２Ｈ），３．３３（ｓｅｐｔｅｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，４Ｈ），５．５７−５．６４（ｍ，０．５Ｈ），６．８２−６．８９（ｍ，０．５Ｈ），７．３４（ｄ，Ｊ＝１２Ｈｚ，４Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＣＤＣｌ３）δ：２４．１４，２４．３２，２８．３４，４３．７１，４３．９２，１２６．６５，１２６．８１，１２７．９２，１２９．２７，１４９．８９，１５０．０６，１５１．４６，１５１．４９．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：−２．６−  −１．５（ｍ），０．５−１．５（ｍ）．
質量分析（ＦＡＢ−ＭＳ）
実測値；  ４５３［Ｍ−Ｈ］＋，４９３［Ｍ＋Ｋ］＋．
［実施例９］
（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
0005252921.tif 000051
アルゴン雰囲気下、［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）−エタン］ジクロロニッケル（０．２５ｇ，０．１当量）と参考例１で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）−１，１’−ビナフチル（２．６３ｇ，５．０ｍｍｏＬ）および１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン（３．２５ｇ，６．０当量）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（２６ｍＬ）に、実施例８で合成したビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィン−ボラン錯体（５．０３ｇ，２．３当量）を室温で加えた後、室温で３０分間攪拌した。ついで１０５℃で９６時間攪拌した。Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを減圧留去し、残渣にメタノールを加えて、表題化合物（２．２６ｇ，帯赤白色結晶）を得た。収率４１％。融点２６５℃。旋光度：［α］Ｄ＝−２．７°（２５℃，ｃ＝１．００，ＣＨＣｌ３）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：０．９７−１．１９（ｍ，４８Ｈ），２．７４−２．８５（ｍ，２４Ｈ），３．１０−３．３２（ｍ，８Ｈ），６．６３−７．８５（ｍ，２０Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＣＤＣｌ３）δ：２４．０７，２４．２０，２８．１３，２８．３１，４４．０９，４４．２５，１２７．５２−１４７．９４（ｍ）．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：−１４．９０（ｓ）．
質量分析（ＦＡＢ−ＭＳ）
実測値；  １１２９［Ｍ−Ｈ］＋，１１３１［Ｍ＋Ｈ］＋，１１６９［Ｍ＋Ｋ］＋．
［実施例１０］
ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ホスフィンオキサイド
0005252921.tif 000052
窒素気流下、マグネシウム（５．３ｇ，１．００当量）、少量のヨウ素および少量の１，２−ジブロモエタンのテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）溶液を室温で３０分間撹拌した。４−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン（４９．７ｇ，０．２１７ｍｏＬ）のテトラヒドロフラン（１００ｍＬ）溶液を２５℃ないし３５℃で１時間かけて加えた後、４０℃で４０分間攪拌した。ついで亜リン酸ジエチル（９．２０ｇ，０．３０当量）のテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）溶液を２０℃ないし２５℃で１５分間かけて加えた。３℃ないし１５℃で６Ｍ塩酸（３０ｍＬ）及び水（３０ｍＬ）を加え、ついで酢酸エチル（１００ｍＬ）を加えた後、分液し有機層を水（３０ｍＬ）、５％−炭酸水素ナトリウム水溶液（３０ｍＬ）、飽和食塩水（３０ｍＬ）の順で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、自然ろ過し、ついで有機層を減圧濃縮した。残渣をｎ−ヘプタンより再結晶し、表題化合物（１９．８２ｇ，白色結晶）を得た。収率８７％。融点１２９．１℃。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：１．１６（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，１２Ｈ），３．２８（ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ，８Ｈ），６．６７（ｄｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，６Ｈｚ，４Ｈ），７．４７（ｄｄ，Ｊ＝１３Ｈｚ，９Ｈｚ，４Ｈ），７．９３（ｄ，Ｊ＝４６８Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＣＤＣｌ３）δ：１２．８２，４４．７１，１１１．２０，１１１．３７，１１６．０２，１１７．５１，１３２．７９，１３２．９６，１５０．６６，１５０．６８．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：２２．７０（ｄｑｕｉｎｔ，Ｊ＝４６８Ｈｚ，１３Ｈｚ）．
質量分析（ＦＡＢ−ＭＳ）
実測値；  ３４５［Ｍ＋Ｈ］＋，３６７［Ｍ＋Ｎａ］＋，３８３［Ｍ＋Ｋ］＋．
［実施例１１］
ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ホスフィン−ボラン錯体
0005252921.tif 000053
窒素気流下、実施例１０で合成したビス（４−ジエチルアミノフェニル）ホスフィンオキサイド（３．７６ｇ，１０ｍｍｏＬ）のテトラヒドロフラン（３５ｍＬ）溶液に２５℃ないし３０℃でボラン−テトラヒドロフラン溶液（３５ｍＬ，３．３当量）を２時間かけて加えた。ついでシリカゲル（６．３ｇ，９．７当量）を加えた後、室温で３時間攪拌した。ついでシリカゲルをろ別し、ろ液を減圧濃縮した。残渣をｎ−ヘキサン／酢酸エチル（１／１）より再結晶し、表題化合物（１．８ｇ，白色結晶）を得た。収率４９％。融点１０８．５℃。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：０．５０−１．５０（ｍ，３Ｈ），１．１４（ｔ，Ｊ＝７Ｈｚ，１２Ｈ），３．３４（ｑ，Ｊ＝７Ｈｚ，８Ｈ），５．５３−５．５９（ｍ，０．５Ｈ），６．６２−６．６６（ｍ，４Ｈ），６．７７−６．８４（ｍ，０．５Ｈ），７．４１−７．４８（ｍ，４Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＣＤＣｌ３）δ：１２．４２，４４．２８，１０９．６４，１１０．５２，１１１．２７，１１１．４２，１３４．１２，１３４．２６，１４９．６２．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：−７．７−  −４．７（ｍ），−４．６−  −１．７（ｍ）．
質量分析（ＦＡＢ−ＭＳ）
実測値；  ３４１［Ｍ−Ｈ］＋，３４３［Ｍ＋Ｈ］＋，３６５［Ｍ＋Ｎａ］＋．３８１［Ｍ＋Ｋ］＋．
［実施例１２］
（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
0005252921.tif 000054
アルゴン雰囲気下、［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）−エタン］ジクロロニッケル（０．１３ｇ，０．１当量）と参考例１で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）−１，１’−ビナフチル（１．３１ｇ，２．３ｍｍｏＬ）および１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン（１．６０ｇ，６．０当量）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（１５ｍＬ）に、実施例１１で合成したビス（４−ジエチルアミノフェニル）ホスフィン−ボラン錯体（１．８６ｇ，２．３当量）を室温で加えた後、室温で３０分間攪拌した。ついで１０５℃で１１４時間攪拌した。Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを減圧留去し、残渣にメタノールを加えて、表題化合物（０．４９ｇ，濃灰色粉末）を得た。収率２３％。旋光度：［α］Ｄ＝−２２．８°（２５℃，ｃ＝０．２０，ＣＨＣｌ３）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：１．０７−１．１６（ｍ，２４Ｈ），３．２１−３．３６（ｍ，１６Ｈ），６．３０−７．９２（ｍ，２８Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＣＤＣｌ３）δ：１３．１０，１３．１３，４４．６６，１１１．６８，１１２．０９，１２５．４２，１２５．８５，１２７．７４，１２７．９９，１２８．１９，１３０．８４，１３３．３４，１３３．９４，１３４．７２，１３４．８５，１３５．００，１３６．１７，１３６．３２，１３６．４８，１４８．０２．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：−１７．８６（ｓ）．
質量分析（ＥＩ−ＭＳ）
実測値；  ９０６［Ｍ＋］，９０５［Ｍ−Ｈ］＋．
参考例５
Ｎ−（４−ブロモフェニル）ピロリジン
0005252921.tif 000055
Ｎ−フェニルピロリジン（７３．８ｇ，０．５０１ｍｏＬ）のテトラヒドロフラン溶液（５００ｍＬ）にＮ−ブロモスクシンイミド（１２４．８ｇ，１．４当量）を２０℃ないし３０℃で加え、同温度で４時間撹拌した。２７℃で１ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液（３００ｍＬ）を加え、分液し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、自然ろ過し、ろ液を減圧濃縮した。残渣をメタノールより再結晶し、表題化合物（９７．４ｇ，褐色結晶）を得た。
収率８６％。融点８８．１℃。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：１．９４−２．０２（ｍ，４Ｈ），３．１９−３．２６（ｍ，４Ｈ），６．３９（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ），７．２５（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，２Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＣＤＣｌ３）δ：２５．９５，４８．１４，１１３．６６，１３２．１５．
質量分析（ＥＩ−ＭＳ）
実測値；  ２２５［Ｍ］＋，２２４［Ｍ−Ｈ］＋．
［実施例１３］
ビス［４−（ピロリジン−１−イル）フェニル］ホスフィンオキサイド
0005252921.tif 000056
窒素気流下、マグネシウム（９．７ｇ，１．０当量）、少量のヨウ素および少量の１，２−ジブロモエタンのテトラヒドロフラン（６０ｍＬ）溶液を室温で３０分間撹拌した。参考例５で合成したＮ−（４−ブロモフェニル）ピロリジン（９０．５ｇ，０．４００ｍｏＬ）のテトラヒドロフラン（２００ｍＬ）溶液を２０℃ないし４０℃で１時間かけて加えた後、４０℃で４０分間攪拌した。ついで亜リン酸ジエチル（１６．８０ｇ，０．３０当量）のテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）溶液を２０℃ないし３０℃で１５分間かけて加えた。−１５℃ないし１０℃で６Ｍ塩酸（６０ｍＬ）及び水（６０ｍＬ）を加え、ついで酢酸エチル（２００ｍＬ）及びアセトン（１００ｍＬ）を加えた後、分液し有機層を飽和食塩水（６０ｍＬ）で２回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、自然ろ過し、ついで有機層を減圧濃縮した。残渣を酢酸エチルより再結晶し、表題化合物（２．９１ｇ，淡黄白色結晶）を得た。収率７％。融点１９９．０℃。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：１．９８−２．０２（ｍ，８Ｈ），３．２８−３．３２（ｍ，８Ｈ），６．５４−６．５７（ｍ，４Ｈ），７．４４−７．５１（ｍ，４Ｈ），７．９５（ｄ，Ｊ＝４６８Ｈｚ，１Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＣＤＣｌ３）δ：２５．８４，４７．８４，１１１．６４，１１１．８２，１１６．２６，１１７．７６，１３２．６８，１３２．８５，１５０．５７．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：２３．２８（ｄｑｕｉｎｔ，Ｊ＝４６８Ｈｚ，１３Ｈｚ）．
質量分析（ＦＡＢ−ＭＳ）
実測値；  ３４０［Ｍ］＋，３３９［Ｍ−Ｈ］＋．
［実施例１４］
ビス［４−（ピロリジン−１−イル）フェニル］ホスフィン−ボラン錯体
0005252921.tif 000057
窒素気流下、実施例１３で合成したビス［４−（ピロリジン−１−イル）フェニル］ホスフィンオキサイド（２．５０ｇ，７．３４ｍｍｏＬ）のテトラヒドロフラン溶液（２５ｍＬ）に２５℃ないし３０℃でボラン−テトラヒドロフラン溶液（２９ｍＬ，３．９当量）を２．４時間かけて加えた。ついでシリカゲル（１０．０ｇ，２２．６当量）を加えた後、室温で１時間攪拌した。ついでシリカゲルをろ別し、ろ液を減圧濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル２５ｇ、ジクロロメタン）で精製し、表題化合物（０．７ｇ，白色結晶）を得た。収率２７％。融点１７８．３℃。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：０．３５−１．５５（ｍ，３Ｈ），１．９０−２．０３（ｍ，８Ｈ），３．２３−３．３０（ｍ，８Ｈ），５．５５−５．６１（ｍ，０．５Ｈ），６．５２−６．５５（ｍ，４Ｈ），６．７９−６．８６（ｍ，０．５Ｈ），７．４２−７．４８（ｍ，４Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＣＤＣｌ３）δ：２５．４３，４７．４２，１１０．０１，１１０．８９，１１１．６９，１１１．８４，１３３．９７，１３４．１１，１４９．６１．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：−６．７−  −４．７（ｍ），−３．１−  −１．１（ｍ）．
質量分析（ＦＡＢ−ＭＳ）
実測値；  ３３８［Ｍ］＋，３３７［Ｍ−Ｈ］＋．
［実施例１５］
（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス［４−（ピロリジン−１−イル）フェニル］ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
0005252921.tif 000058
アルゴン雰囲気下、［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）−エタン］ジクロロニッケル（３４．３ｍｇ，０．１当量）と参考例１で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）−１，１’−ビナフチル（３５８．９ｍｇ，０．６５ｍｍｏＬ）および１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン（４４０．５ｍｇ，６．０当量）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（４ｍＬ）に、実施例１４で合成したビス［４−（ピロリジン−１−イル）フェニル］ホスフィン−ボラン錯体（５１２．０ｍｇ，２．３当量）を室温で加えた後、室温で３０分間攪拌した。ついで１０５℃で１２７時間攪拌した。Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを減圧留去し、残渣にメタノールを加えて、表題化合物（３６７．０ｍｇ，濃灰色粉末）を得た。収率６２％。旋光度：［α］Ｄ＝−１８５°（２５℃，ｃ＝０．２０，ＣＨＣｌ３）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：１．９１−２．００（ｍ，１６Ｈ），３．２０−３．３０（ｍ，１６Ｈ），６．２６−７．８３（ｍ，２８Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＣＤＣｌ３）δ：２５．９０，４７．８８，１１１．８０，１１１．８５，１１１．９９，１２５．６９，１２６．１３，１２７．９１，１２８．１８，１３１．０３，１３３．４４，１３４．４８，１３４．６２，１３４．７６，１３６．１２，１４７．５６，１４８．１８．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：−１７．４５（ｓ）．
質量分析（ＦＡＢ−ＭＳ）
実測値；  ８９８［Ｍ］＋，８９７［Ｍ−Ｈ］＋
［実施例１６］
ジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ルテニウム（ＩＩ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド錯体の合成
［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（ｄｍｆ）ｎ］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（η６−ベンゼン）クロロルテニウム（ＩＩ）］（１００．９ｍｇ，０．２０２ｍｍｏＬ）及び実施例３で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（３７９．５ｍｇ，０．４１８ｍｍｏＬ）にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（４ｍＬ）を加えて１５０℃で１時間攪拌した。ついで溶媒を減圧留去し、表題化合物（０．５２ｇ，赤褐色の粉末）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：２６．３（ｓ），２７，０（ｓ），３４．１（ｄ，Ｊ＝２８Ｈｚ），４４．８（ｄ，Ｊ＝２８Ｈｚ），４８．２（ｄ，Ｊ＝３６Ｈｚ），６４．２（ｓ），７１．５（ｓ）．
［実施例１７］
ジアセタト｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ルテニウム（ＩＩ）の合成
［Ｒｕ（ＯＡｃ）２（Ｌ）］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、実施例１６で合成したジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ルテニウム（ＩＩ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド錯体（５０２．２ｍｇ，０．４３５ｍｍｏＬ）に酢酸ナトリウム（６３７．３ｍｇ，７．７７ｍｍｏＬ）のメタノール（６ｍＬ）溶液を加えて、超音波を照射し２０分間反応した。反応液にトルエン（６ｍＬ）及び水（６ｍＬ）を加え分液し、さらに有機層に水（６ｍＬ）を加え分液後、有機層の溶媒を留去し、残渣にトルエン／ｎ−ヘキサン混合溶媒を加えて再結晶して、表題化合物（２５６ｍｇ，橙色粉末）を得た。収率６２％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，ＣＤ２Ｃｌ２）δ：１．７７（ｓ，１２Ｈ），１．８５（ｓ，６Ｈ），２．３４（ｓ，１２Ｈ），２．５２（ｓ，１２Ｈ），２．９０（ｓ，１２Ｈ），６．６−６．７（ｍ，４Ｈ），６．７−６．８（ｍ，２Ｈ），６．９−７．１（ｍ，２Ｈ），７．２−７．３（ｍ，２Ｈ），７．３−７．４（ｍ，２Ｈ），７．５−７．６（ｍ，２Ｈ），７．６−７．７（ｍ，２Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，ＣＤ２Ｃｌ２）δ：１３．８，１８．７，１９．４，２２．６，２３．２，３１．５，４２．２，１２４．５，１２６．１，１２６．６，１２７．２，１２７．３，１２７．６，１２８．１，１２８．２，１２８．６，１２８．９，１２９．８，１３０．１，１３０．４，１３２．８，１３３．０，１３４．０，１３４．１，１３４．２，１３５．４，１３５．５，１３５．６，１３５．７，１３８．２，１４９．８，１５０．９，１８７．２．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：６１．４（ｓ）．
［実施例１８］
η６−ベンゼン  クロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ルテニウム（ＩＩ）塩化物の合成
［ＲｕＣｌ（ｂｅｎｚｅｎｅ）（Ｌ）］Ｃｌ  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（η６−ベンゼン）クロロルテニウム（ＩＩ）］（９９．１ｍｇ，０．１９８ｍｍｏＬ）及び実施例３で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（３６５．６ｍｇ，０．４０３ｍｍｏＬ）にエタノール（４５ｍＬ）およびベンゼン（６ｍＬ）を加えて５５℃で１時間攪拌した。ついで室温まで冷却後、不溶物をろ去し、ろ液を減圧留去し、表題化合物（４３０ｍｇ，褐色の粉末）を得た。収率９３％。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：２７．３（ｄ，Ｊ＝６２．２Ｈｚ），３４．５（ｄ，Ｊ＝６２．４Ｈｚ）．
［実施例１９］
｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ビス（η３−２−メチルアリル）ルテニウム（ＩＩ）の合成
［Ｒｕ（２−ｍｅｔｈｙｌａｌｌｙｌ）２（Ｌ）］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）ビス（η３−２−メチルアリル）ルテニウム（ＩＩ）（１６０．８ｍｇ，０．５０３ｍｍｏＬ）及び実施例３で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（４５２．４ｍｇ，０．４９９ｍｍｏＬ）にトルエン（２ｍＬ）を加えて１１０℃で５時間攪拌した。ついで室温まで冷却後、反応液を減圧留去した。残渣をトルエン（１ｍＬ）およびｎ−ヘキサン（５ｍＬ）で洗浄すると、表題化合物（８０ｍｇ，黄色の粉末）を得た。収率１４％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，ＣＤ２Ｃｌ２）δ：１．５１（ｓ，２Ｈ），１．７０（ｓ，１２Ｈ），２．１７（ｓ，６Ｈ），２．２３（ｓ，１２Ｈ），２．２７（ｓ，４Ｈ），２．３０−２．５０（ｍ，１４Ｈ），２．８２（ｓ，１２Ｈ），６．２−６．３（ｍ，４Ｈ），７．１−７．３（ｍ，４Ｈ），７．３−７．４（ｍ，２Ｈ），７．５−７．６（ｍ，１０Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，ＣＤ２Ｃｌ２）δ：１３．７，１８．８，１８．９，２４．１，３７．４，４１．５，４１．９，４２．２，９３．７，１２４．３，１２５．３，１２５．４，１２７．１，１２８．１，１３０．２，１３２．２，１３２．６，１３２．９，１３４．１，１３４．７，１３６．２，１３７．０，１４３．２，１４８．８，１４９．５．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：３４．５（ｓ）．
［実施例２０］
１−（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）−エタノンの不斉水素化
0005252921.tif 000059
実施例１６で合成したジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ルテニウム（ＩＩ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド錯体（２．２ｍｇ，０．００１９５ｍｍｏＬ）、（２Ｓ）−（＋）−１，１−ビス（４−メトキシフェニル）−３−メチル−１，２−ブタンジアミン（２．４ｍｇ，０．００７８ｍｍｏＬ）およびカリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド（１．７ｍｇ，０．０１５６ｍｍｏＬ）の２−プロパノール（１ｍＬ）溶液に１−（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）−エタノン（０．０５ｇ、０．１９５ｍｍｏＬ）の２−プロパノール（１ｍＬ）溶液を加えた。水素圧１．０ＭＰａ、２５℃で１２時間水素化を行った。反応混合物をＧＣ（カラム：ＣＨＩＲＡＳＩＬ−ＤＥＸ  ＣＢ、０．３２ｍｍ×２５ｍ）にて測定し、変換率９９．６％、光学純度９４．６％ｅｅ（Ｒ）であった。
比較例１
１−（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）−エタノンの不斉水素化
0005252921.tif 000060
実施例１６と同様の方法で合成したジクロロ［（Ｓ）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル］ルテニウム（ＩＩ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド錯体（１．７ｍｇ，０．００１９５ｍｍｏＬ）、（２Ｓ）−（＋）−１，１−ビス（４−メトキシフェニル）−３−メチル−１，２−ブタンジアミン（２．４ｍｇ，０．００７８ｍｍｏＬ）およびカリウム  ｔｅｒｔ−ブトキシド（１．７ｍｇ，０．０１５６ｍｍｏＬ）の２−プロパノール（１ｍＬ）溶液に１−（３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニル）−エタノン（０．０５ｇ、０．１９５ｍｍｏＬ）の２−プロパノール（１ｍＬ）溶液を加えた。水素圧１．０ＭＰａ、２５℃で１２時間水素化を行った。反応混合物をＧＣ（カラム：ＣＨＩＲＡＳＩＬ−ＤＥＸ  ＣＢ、０．３２ｍｍ×２５ｍ）にて測定し、変換率６０．８％、光学純度６２．９％ｅｅ（Ｒ）であった。
［実施例２１］
２−（６−メトキシ−３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−アセタミドの不斉水素化
0005252921.tif 000061
実施例１７で合成したジアセタト｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝  ルテニウム（ＩＩ）（９．２ｍｇ，０．００８１７ｍｍｏＬ）、２−（６−メトキシ−３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−アセタミド（５．０１１４ｇ、２０．４２ｍｍｏＬ）のエタノール（４０ｍＬ）溶液を室温で１０分間攪拌した。水素圧１．０ＭＰａ、２５℃で水素化を行った。ＴＯＦ（ｍｏＬ／ｍｏＬ・ｈ、触媒回転効率）は、１５３８であった。反応混合物をＨＰＬＣ（カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ−ＯＤ、４．６ｍｍ×２５ｃｍ）にて測定し、変換率９９．９％、光学純度９８．１％ｅｅ（＋）であった。
比較例２
２−（６−メトキシ−３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−アセタミドの不斉水素化
0005252921.tif 000062
実施例１７と同様の方法で合成したジアセタト｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝  ルテニウム（ＩＩ）（１０．２ｍｇ，０．０１０６９ｍｍｏＬ）、２−（６−メトキシ−３，４−ジヒドロ−ナフタレン−２−イル）−Ｎ，Ｎ−ジメチル−アセタミド（５．０３３２ｇ、２０．５２ｍｍｏＬ）のエタノール（４０ｍＬ）溶液を室温で１０分間攪拌した。水素圧１．０ＭＰａ、２５℃で水素化を行った。ＴＯＦ（ｍｏＬ／ｍｏＬ・ｈ、触媒回転効率）は、８４４であった。反応混合物をＨＰＬＣ（カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ−ＯＤ、４．６ｍｍ×２５ｃｍ）にて測定し、変換率９９．９％、光学純度９８．４％ｅｅ（＋）であった。
参考例６
ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィンオキサイド
0005252921.tif 000063
アルゴン雰囲気下、マグネシウム（３．０ｇ，１．０当量）および少量のヨウ素のテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）溶液を室温で１時間撹拌した。４−ブロモ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン（２５ｇ，０．１２５ｍｏＬ）を４５℃で加えた後、５℃で１時間攪拌した。ついで５℃で亜リン酸ジエチル（８．６３ｇ，０．５０当量）を加えた後、５℃で１時間撹拌した。３℃で水（３０ｍＬ）を加え、ついでトルエン（６０ｍＬ）、６Ｍ  塩酸（３０ｍＬ）を加えた後、室温で３０分間攪拌した。反応液を分液し、水層を水酸化ナトリウムで中和しテトラヒドロフラン（３０ｍＬ）で抽出した。ついで合わせた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、自然ろ過し、ろ液を減圧濃縮した。残渣をジイソプロピルエーテルより再結晶し、表題化合物（９．５３ｇ，微褐白色結晶）を得た。収率５２．９％。融点１５２．１℃。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：３．０１（ｓ，１２Ｈ），６．７１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．９４Ｈｚ），６．７２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．９４Ｈｚ），７．４８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．９１Ｈｚ），７．５２（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．８８Ｈｚ），７．９６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４７０．１Ｈｚ）．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：２２．７８（ｄｑｕｉｎｔ，Ｊ＝４６９．２Ｈｚ，１２．７Ｈｚ）．
元素分析  Ｃ１６Ｈ２１Ｎ２ＯＰとして
計算値；  Ｃ：６６．６５，Ｈ：７．３４，Ｎ：９．７２，Ｐ：１０．７４．
実測値：  Ｃ：６６．５６，Ｈ：７．４３，Ｎ：９．５７，Ｐ：１０．７９．
参考例７
ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン−ボラン錯体
0005252921.tif 000064
アルゴン雰囲気下、塩化セリウム（７．６９ｇ，３．０当量）のテトラヒドロフラン（２５ｍＬ）溶液を室温（２５℃）で３０分間攪拌した。水素化ホウ素ナトリウム（１．２２ｇ，３．１当量）を加えた後、室温で１時間攪拌した。ついで５℃にて参考例６で合成したビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィンオキサイド（３．０ｇ，１０．４ｍｍｏＬ）および水素化リチウムアルミニウム（０．４７ｇ，１．２当量）を順次加えた後、室温で３時間攪拌した。３℃で水（２０ｍＬ）を加え、ついでトルエン（４０ｍＬ）、６Ｍ  塩酸（１０ｍＬ）を加えた後、室温で３０分間攪拌した。反応液を水酸化ナトリウムで中和し、分液した。水層をテトラヒドロフラン（５０ｍＬ）で抽出した。合わせた有機層を５％食塩水（２０ｍＬ）で順次洗浄した。ついで有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥、自然ろ過し、ろ液を減圧濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５ｇ、ｎ−ヘキサン／酢酸エチル＝１／１）で精製した。残渣をｎ−ヘプタンより再結晶し、表題化合物（０．６１ｇ，白色結晶）を得た。収率２０．５％。融点１４２．６℃。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：０．４３−１．３３（ｍ，３Ｈ），３．０３（ｓ，１２Ｈ），６．２６（ｄｑ，１Ｈ，Ｊ＝３７５．１Ｈｚ，６．５７Ｈｚ），７．５１（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８１Ｈｚ），７．５４（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．８１Ｈｚ）．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：−６．４０−  −４．７３（ｍ），−３．３３−  −１．６６（ｍ）．
参考例８
（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
0005252921.tif 000065
アルゴン雰囲気下、［１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）−エタン］ジクロロニッケル（４８ｍｇ，０．１当量）と参考例１で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス（トリフルオロメタンスルホニルオキシ）−１，１’−ビナフチル（５０７ｍｇ，０．９２ｍｍｏＬ）および１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン（６２０ｍｇ，６．０当量）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド溶液（５ｍＬ）に、参考例７で合成したビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィン−ボラン錯体（６０６ｍｇ，２．３当量）を室温で加えた後、室温で３０分間攪拌した。ついで１１０℃で１２９時間攪拌した。Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを減圧留去し、残渣にメタノールを加えて、表題化合物（４６１ｍｇ，黄白色結晶）を得た。収率６２．９％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ：２．８８（ｓ，２４Ｈ），６．４３（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝６．７９Ｈｚ），６．５０−６．５９（ｍ，４Ｈ），６．７７−７．０３（ｍ，１２Ｈ），７．１８−７．２６（ｍ，２Ｈ），７．５１（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．１３Ｈｚ），７．７８（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．５６Ｈｚ），７．８３（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．２８Ｈｚ）．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：−１８．００（ｓ）．
［実施例２２］
ジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝  ルテニウム（ＩＩ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド錯体の合成
［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（ｄｍｆ）ｎ］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（η６−ベンゼン）クロロルテニウム（ＩＩ）］（９９．９ｍｇ，０．１９９７ｍｍｏＬ）及び参考例８で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（３１９．２ｍｇ，０．４０１５ｍｍｏＬ）にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（６ｍＬ）を加えて１２０℃で１時間攪拌した。ついで溶媒を減圧留去し、表題化合物（０．４８５ｇ）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：４４．４（ｓ），６３．４（ｓ），７３．５（ｓ），７４．４（ｓ）．
［実施例２３］
ジアセタト｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝  ルテニウム（ＩＩ）の合成
［Ｒｕ（ＯＡｃ）２（Ｌ）］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、実施例２２で合成したジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝  ルテニウム（ＩＩ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド錯体（１０５．９ｍｇ，０．１０２ｍｍｏＬ）に酢酸ナトリウム（３２０．１ｍｇ，３．９ｍｍｏＬ）のメタノール（５ｍＬ）溶液を加えて、超音波を照射し２０分間反応した。反応液にトルエン（５ｍＬ）及び水（５ｍＬ）を加え分液し、水層にトルエン（５ｍＬ）を加え分液した。全ての有機層に水（５ｍＬ）を加え分液し、有機層の溶媒を留去した。トルエン／ｎ−ヘキサン（１０ｍＬ）から再結晶化し、表題化合物（４０．２ｍｇ，褐色の粉末）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：６０．６（ｓ）．
［実施例２４］
ジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝  ルテニウム（ＩＩ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド錯体の合成
［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（ｄｍｆ）ｎ］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（η６−ベンゼン）クロロルテニウム（ＩＩ）］（１５２．２ｍｇ，０．３０４３ｍｍｏＬ）及び実施例６で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（６１６．０ｍｇ，０．６０４ｍｍｏＬ）にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（６ｍＬ）を加えて１２０℃で３．５時間攪拌した。ついで溶媒を減圧留去し、表題化合物（０．７９０５ｇ）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：３１．７（ｓ），３９．９（ｄ，Ｊ＝２６．１Ｈｚ），４６．２（ｄ，Ｊ＝２６．５Ｈｚ），５０．２（ｑ），５１．２（ｓ），６６．７（ｓ），６８．１（ｓ）．
［実施例２５］
ジアセタト｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝  ルテニウム（ＩＩ）の合成
［Ｒｕ（ＯＡｃ）２（Ｌ）］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、実施例２４で合成したジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝  ルテニウム（ＩＩ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド錯体（１２８．６ｍｇ，０．１０２ｍｍｏＬ）に酢酸ナトリウム（３１８．３ｍｇ，３．８８０ｍｍｏＬ）のメタノール（５ｍＬ）溶液を加えて、超音波を照射し２０分間反応した。反応液にトルエン（５ｍＬ）及び水（５ｍＬ）を加え分液し、水層にトルエン（５ｍＬ）を加え分液した。全ての有機層に水（５ｍＬ）を加え分液し、有機層の溶媒を留去し、表題化合物（１１６．２ｍｇ，褐色の粉末）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：６３．９（ｓ）．
［実施例２６］
ジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝  ルテニウム（ＩＩ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド錯体の合成
［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（ｄｍｆ）ｎ］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（η６−ベンゼン）クロロルテニウム（ＩＩ）］（６６．５ｍｇ，０．１３３０ｍｍｏＬ）及び実施例９で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（３００．５ｍｇ，０．２６５６ｍｍｏＬ）にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（６ｍＬ）を加えて１２０℃で３時間攪拌した。ついで溶媒を減圧留去し、表題化合物（０．３７９２ｇ）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：３４．５（ｓ），４４．０（ｓ）．
［実施例２７］
ジアセタト｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝  ルテニウム（ＩＩ）の合成
［Ｒｕ（ＯＡｃ）２（Ｌ）］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、実施例２６で合成したジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝  ルテニウム（ＩＩ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド錯体（１４６．５ｍｇ，０．１０４６ｍｍｏＬ）に酢酸ナトリウム（３２２．６ｍｇ，３．９３３ｍｍｏＬ）のメタノール（５ｍＬ）溶液を加えて、超音波を照射し２０分間反応した。反応液にトルエン（５ｍＬ）及び水（５ｍＬ）を加え分液し、水層にトルエン（５ｍＬ）を加え分液した。全ての有機層に水（５ｍＬ）を加え分液し、有機層の溶媒を留去し、表題化合物（１５２．３ｍｇ，褐色の粉末）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：６５．５（ｓ）．
［実施例２８］
ジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝  ルテニウム（ＩＩ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド錯体の合成
［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（ｄｍｆ）ｎ］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（η６−ベンゼン）クロロルテニウム（ＩＩ）］（２６．６ｍｇ，０．０５３２ｍｍｏＬ）及び実施例１２で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（９７．７ｍｇ，０．１０７７ｍｍｏＬ）にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（６ｍＬ）を加えて１２０℃で２時間攪拌した。ついで溶媒を減圧留去し、表題化合物（０．１４０ｇ）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：５１．２（ｓ）．
［実施例２９］
ジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス［４−（ピロリジン−１−イル）フェニル］ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル）ルテニウム（ＩＩ）−Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド錯体の合成
［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（ｄｍｆ）ｎ］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス［４−（ピロリジン−１−イル）フェニル］ホスフィノ）−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（η６−ベンゼン）クロロルテニウム（ＩＩ）］（２７．０ｍｇ，０．０５４ｍｍｏＬ）及び実施例１５で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス［４−（ピロリジン−１−イル）フェニル］ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（９７．３ｍｇ，０．１０８２ｍｍｏＬ）にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５ｍＬ）を加えて１２０℃で２時間攪拌した。ついで溶媒を減圧留去し、表題化合物（１４５ｍｇ）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：５２．６（ｓ）．
［実施例３０］
｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ビス（η３−２−メチルアリル）ルテニウム（ＩＩ）の合成
［Ｒｕ（２−ｍｅｔｈｙｌａｌｌｙｌ）２（Ｌ）］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）ビス（η３−２−メチルアリル）ルテニウム（ＩＩ）（１９．４ｍｇ，０．０６０７ｍｍｏＬ）及び参考例８で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（５５．０ｍｇ，０．０６９２ｍｍｏＬ）にトルエン（２ｍＬ）を加えて１１０℃で１４時間攪拌した。ついで室温まで冷却後、ろ過し、ろ液を減圧留去し、表題化合物（６８ｍｇ，褐色の粉末）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：３８．２（ｓ）．
［実施例３１］
（η６−ベンゼン）クロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ルテニウム（ＩＩ）塩化物の合成
［ＲｕＣｌ（ｂｅｎｚｅｎｅ）（Ｌ）］Ｃｌ  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（η６−ベンゼン）クロロルテニウム（ＩＩ）］（５０．９ｍｇ，０．１０２ｍｍｏＬ）及び参考例８で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（１６１．４ｍｇ，０．２０３ｍｍｏＬ）にエタノール（５ｍＬ）および塩化メチレン（５ｍＬ）を加えて５０℃で１時間攪拌した。ついで室温まで冷却後、ろ液を減圧留去し、表題化合物（２２５．４ｍｇ，褐色の粉末）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：２６．０（ｄ，Ｊ＝６３．３Ｈｚ），３３．１（ｄ，Ｊ＝６２．７Ｈｚ）．
［実施例３２］
｛トリ−μ−クロロビス［クロロ［（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル］ルテニウム（ＩＩ）］｝酸ジエチルアンモニウムの合成
（ＮＨ２Ｅｔ２）［｛ＲｕＣｌ（Ｌ）｝２（μ−Ｃｌ）３］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、実施例３１で合成した（η６−ベンゼン）クロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ルテニウム（ＩＩ）塩化物（１００．６ｍｇ，０．０９７ｍｍｏＬ）及びジエチルアミン塩酸塩（１１．６ｍｇ，０．１０６ｍｍｏＬ）にテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）を加えて８０℃で２０時間攪拌した。ついで室温まで冷却後、ろ液を減圧留去し、表題化合物（１５０．８ｍｇ，褐色の粉末）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：４７．３（ｄ，Ｊ＝３７．５Ｈｚ），５２．４（ｄ，Ｊ＝３８．８Ｈｚ）．
［実施例３３］
ジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝［（１Ｓ，２Ｓ）−（−）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン］ルテニウム（ＩＩ）の合成
［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（Ｘ）］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル，Ｘ＝（１Ｓ，２Ｓ）−（−）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（η６−ベンゼン）クロロルテニウム（ＩＩ）］（２１．２ｍｇ，０．０４２ｍｍｏＬ）及び参考例８で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（７０．３ｍｇ，０．０８８ｍｍｏＬ）にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）を加えて１２０℃で１時間攪拌した。ついで溶媒を減圧留去し得られた化合物に（１Ｓ，２Ｓ）−（−）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン（１８．８ｍｇ，０．０８９ｍｍｏＬ）の２−プロパノール（５ｍＬ）溶液を加えて室温で９０分間攪拌し、表題化合物（５３．１ｍｇ，黄土色の粉末）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：４２．６（ｓ）．
［実施例３４］
ジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝［（１Ｓ，２Ｓ）−（−）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン］ルテニウム（ＩＩ）の合成
［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（Ｘ）］  Ｌ＝［（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル，Ｘ＝（１Ｓ，２Ｓ）−（−）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（η６−ベンゼン）クロロルテニウム（ＩＩ）］（５０．４ｍｇ，０．１０１ｍｍｏＬ）及び実施例３で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（１９１．１ｍｇ，０．２１１ｍｍｏＬ）にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３ｍＬ）を加えて１２０℃で１時間攪拌した。ついで溶媒を減圧留去し得られた化合物に（１Ｓ，２Ｓ）−（−）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン（４４．４ｍｇ，０．２０９ｍｍｏＬ）の２−プロパノール（７ｍＬ）溶液を加えて室温で６時間攪拌し、表題化合物（２７６．７ｍｇ，黄土色の粉末）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：４２．６（ｓ）．
［実施例３５］
ジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝［（１Ｓ，２Ｓ）−（−）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン］ルテニウム（ＩＩ）の合成
［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（Ｘ）］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル，Ｘ＝（１Ｓ，２Ｓ）−（−）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（η６−ベンゼン）クロロルテニウム（ＩＩ）］（１３．８ｍｇ，０．０２８ｍｍｏＬ）及び実施例６で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（５７．９ｍｇ，０．０５７ｍｍｏＬ）にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）を加えて１２０℃で１時間攪拌した。ついで溶媒を減圧留去し得られた化合物に（１Ｓ，２Ｓ）−（−）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン（６．１ｍｇ，０．０２９ｍｍｏＬ）の２−プロパノール（５ｍＬ）溶液を加えて室温で９０分間攪拌し、表題化合物（７５．９ｍｇ，黄土色の粉末）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：４５．０（ｓ）．
［実施例３６］
ジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝［（１Ｓ，２Ｓ）−（−）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン］ルテニウム（ＩＩ）の合成
［ＲｕＣｌ２（Ｌ）（Ｘ）］  Ｌ（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル，Ｘ＝（１Ｓ，２Ｓ）−（−）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（η６−ベンゼン）クロロルテニウム（ＩＩ）］（１９．８ｍｇ，０．０４０ｍｍｏＬ）及び実施例９で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（９０．８ｍｇ，０．０８０ｍｍｏＬ）にＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２ｍＬ）を加えて１２０℃で１時間攪拌した。ついで溶媒を減圧留去し得られた化合物に（１Ｓ，２Ｓ）−（−）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン（１９．０ｍｇ，０．０９０ｍｍｏＬ）の２−プロパノール（５ｍＬ）溶液を加えて室温で９０分間攪拌し、表題化合物（１１５．４ｍｇ，黄土色の粉末）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：４７．７（ｓ）．
［実施例３７］
（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ロジウム（Ｉ）過塩素酸塩の合成
［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＣｌＯ４  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）］（４８．０ｍｇ，０．０９７３ｍｍｏＬ）及び過塩素酸銀（４３．４ｍｇ，０．２０９ｍｍｏＬ）にアセトン（７．５ｍＬ）を加えて室温で１時間攪拌し、不溶物をろ過し、ろ液を参考例８で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（１５６．１ｍｇ，０．１９６ｍｍｏＬ）に加えて室温で１時間攪拌し、不溶物をろ過後、溶媒を減圧留去し、表題化合物（０．２３１２ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，ＣＤ２Ｃｌ２）δ：２．８（ｓ，１２Ｈ），３．１（ｓ，１２Ｈ），４．６（ｍ，２Ｈ），４．９（ｍ，２Ｈ），５．９（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），６．８（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．９（ｍ，２Ｈ），７．１（ｍ，４Ｈ），７．３−７．５（ｍ，６Ｈ），７．６−７．７（ｍ，４Ｈ），７．８−７．９（ｍ，２Ｈ）．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：２１．６（ｓ），２２．８（ｓ）．
［実施例３８］
（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ロジウム（Ｉ）過塩素酸塩の合成
［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＣｌＯ４  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）］（１０１．６ｍｇ，０．２０６ｍｍｏＬ）及び過塩素酸銀（８６．７ｍｇ，０．４１８ｍｍｏＬ）にアセトン（２０ｍＬ）を加えて室温で１時間攪拌し、不溶物をろ過し、ろ液を実施例３で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（３７５．１ｍｇ，０．４１３ｍｍｏＬ）に加えて室温で１時間攪拌し、不溶物をろ過後、溶媒を減圧留去し、表題化合物（０．５４２７ｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，ＣＤ２Ｃｌ２）δ：１．９（ｓ，１２Ｈ），２．３（ｓ，１２Ｈ），２．２−２．５（ｍ，８Ｈ），２．６（ｓ，１２Ｈ），２．９（ｓ，１２Ｈ），４．６１（ｍｂ，２Ｈ），４．９（ｍｂ，２Ｈ），６．５（ｄ，２Ｈ，Ｊ＝８．６Ｈｚ），６．９−７．０（ｍ，４Ｈ），７．０−７．１（ｍ，２Ｈ），７．１−７．２（ｍ，４Ｈ），７．３−７．４（ｍ，２Ｈ），７．７−７．９（ｍ，６Ｈ）．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：２２．９（ｓ），２４．１（ｓ）．
［実施例３９］
（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ロジウム（Ｉ）過塩素酸塩の合成
［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＣｌＯ４  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）］（４７．２ｍｇ，０．０９５７ｍｍｏＬ）及び過塩素酸銀（４０．０ｍｇ，０．１９３ｍｍｏＬ）にアセトン（１０ｍＬ）を加えて室温で１時間攪拌し、不溶物をろ過し、ろ液を実施例６で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（１９８．８ｍｇ，０．１９５ｍｍｏＬ）に加えて室温で１時間攪拌し、不溶物をろ過後、溶媒を減圧留去し、表題化合物（０．２７ｇ）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：２５．２（ｓ），２６．４（ｓ）．
［実施例４０］
（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ロジウム（Ｉ）過塩素酸塩の合成
［Ｒｕ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＣｌＯ４  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）］（２５．２ｍｇ，０．０５１１ｍｍｏＬ）及び過塩素酸銀（２１．３ｍｇ，０．１０３ｍｍｏＬ）にアセトン（５ｍＬ）を加えて室温で１時間攪拌し、不溶物をろ過し、ろ液を実施例９で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジイソプロピルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（１２２．２ｍｇ，０．１０８ｍｍｏＬ）に加えて室温で１時間攪拌し、不溶物をろ過後、溶媒を減圧留去し、表題化合物（０．１５１ｇ）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：２６．２（ｓ），２７．４（ｓ）．
［実施例４１］
（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ロジウム（Ｉ）トリフルオロメタンスルホン酸塩の合成
［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＯＴｆ  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ビス（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）トリフルオロメタンスルホン酸塩（４９．３ｍｇ，０．１０５３ｍｍｏＬ）及び実施例３で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（９５．５ｍｇ，０．１０５３ｍｍｏＬ）にテトラヒドロフラン（１０ｍＬ）を加えて４０℃で１時間攪拌し、溶媒を減圧留去し、表題化合物（１３４ｍｇ）を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：２２．９（ｓ），２４．１（ｓ）．
［実施例４２］
（π−アリル）｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチルパラジウム（ＩＩ）過塩素酸塩の合成
［Ｐｄ（π−ａｌｌｙｌ）（Ｌ）］ＣｌＯ４  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（π−アリル）パラジウム（ＩＩ）］（１３．１５ｍｇ，０．０５ｍｍｏｌ）及び実施例３で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（９０．７ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）にメタノール（２ｍＬ）を加え、室温で２０分攪拌し、メタノール（２ｍＬ）を追加し、室温で５０分攪拌する操作を２回繰り返した。この中に過塩素酸リチウム三水和物（１６ｍｇ，０．１ｍｍｏｌ）のメタノール（２ｍＬ）溶液を加え、室温で１時間攪拌した。水（１２ｍＬ）を加え、表題化合物（８７ｍｇ）を得た。収率７５．２％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：１．８１（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１２Ｈ），２．３４（ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，１２Ｈ），２．５６（ｄ，Ｊ＝４．１Ｈｚ，１２Ｈ），２．８７（ｄ，Ｊ＝３．７Ｈｚ，１２Ｈ），２．９４−３．０２（ｍ，１Ｈ），３．９３−４．２５（ｍ，３Ｈ），５．６７−５．７９（ｍ，１Ｈ），６．４２（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，１Ｈ），６．５０（ｄ，Ｊ＝１２．７Ｈｚ，２Ｈ），６．６１（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），６．７６（ｄ，Ｊ＝１２．９Ｈｚ，２Ｈ），６．９８−７．１１（ｍ，２Ｈ），７．２５−７．４２（ｍ，８Ｈ），７．６０−７．６７（ｍ，４Ｈ）．
１３Ｃ−ＮＭＲ（７５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：１９．１，１９．７，４２．２，４２．４，１２６．０，１２６．２，１２６．５，１２６．６，１２６．９，１２７．１，１２７．３，１２７．６，１２７．８，１２８．２，１３３．４，１３３．７，１３３．９，１３４．１，１３５．１，１３５．４，１３５．６，１３５．８，１３６．０，１３７．０，１３７．１，１３７．２，１５２．３
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：２０．０（ｄ，Ｊ＝４９．３Ｈｚ），２２．６（ｄ，Ｊ＝４９．１Ｈｚ）．
ＭＳ（ＦＡＢ），ｍ／ｚ＝１０５３（Ｍ＋）．
［実施例４３］
ジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝パラジウム（ＩＩ）の合成
［ＰｄＣｌ２（Ｌ）］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム（ＩＩ）（１０４ｍｇ，０．４０ｍｍｏｌ）のベンゼン（４ｍＬ）の溶液に実施例３で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（３６３ｍｇ，０．４０ｍｍｏｌ）のベンゼン（４ｍＬ）溶液を加え、室温で１７時間攪拌し、溶媒留去して、表題化合物（４４０ｍｇ）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：１．８３（ｓ，１２Ｈ），２．２９（ｓ，１２Ｈ），２．５７（ｓ，１２Ｈ），２．８２（ｓ，１２Ｈ），６．５９（ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ，２Ｈ），７．０４−７．５０（ｍ，１４Ｈ），７．５８−７．６３（ｍ，４Ｈ）．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ  ２８．５（ｓ）．
ＭＳ（ＦＡＢ），ｍ／ｚ＝１０８１（Ｍ−Ｈ＋），ｍ／ｚ＝１０４７（Ｍ−Ｃｌ＋）．
［実施例４４］
｛ジ−μ−ヒドロキソビス［［（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル］パラジウム（ＩＩ）］｝ビステトラフルオロほう酸塩の合成
［｛Ｐｄ（Ｌ）｝２（μ−ＯＨ）２］（ＢＦ４）２  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、実施例４３で合成したジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝パラジウム（ＩＩ）（１０８．４ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１０．８ｍＬ）、水（１ｍＬ）、テトラフルオロほう酸銀（３８．９ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）、モレキュラーシーブス４Ａ（１．５ｇ）とともに、室温で２９時間攪拌後、不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を留去し、表題化合物（６７ｍｇ）を得た。収率６０．０％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：−２．８８（ｓ，２Ｈ），１．９８（ｂｒ  ｓ，２４Ｈ），２．０８（ｓ，２４Ｈ），２．４５（ｓ，２４Ｈ），２．６３（ｓ，２４Ｈ），６．２６（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，４Ｈ），６．９８−７．１２（ｍ，２０Ｈ），７．２８−７．３９（ｍ，８Ｈ），７．７３（ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，４Ｈ），７．８３（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，４Ｈ）．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：２８．４（ｓ）．
［実施例４５］
（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝イリジウム（Ｉ）テトラフルオロほう酸塩の合成
［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＦ４  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ビス（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）イリジウム（Ｉ）テトラフルオロほう酸塩（９．９ｍｇ，０．０２０ｍｍｏＬ）、参考例８で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（１５．７ｍｇ，０．０２０ｍｍｏＬ）にジクロロメタン（１ｍＬ）を加えて室温で攪拌し、表題化合物を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：１２．８（ｓ）．
［実施例４６］
（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝イリジウム（Ｉ）テトラフルオロほう酸塩の合成
［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＦ４  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ビス（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）イリジウム（Ｉ）テトラフルオロほう酸塩（１０．９ｍｇ，０．０２２ｍｍｏＬ）、実施例３で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（２０．１ｍｇ，０．０２２ｍｍｏＬ）にジクロロメタン（１ｍＬ）を加えて室温で攪拌し、表題化合物を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：１４．１（ｓ）．
［実施例４７］
（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝イリジウム（Ｉ）テトラフルオロほう酸塩の合成
［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＦ４  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ビス（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）イリジウム（Ｉ）テトラフルオロほう酸塩（１０．７ｍｇ，０．０２２ｍｍｏＬ）、実施例６で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジエチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（２２．０ｍｇ，０．０２２ｍｍｏＬ）にジクロロメタン（１ｍＬ）を加えて室温で攪拌し、表題化合物を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：１５．４（ｓ）．
［実施例４８］
（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝イリジウム（Ｉ）テトラフルオロほう酸塩の合成
［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＦ４  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ビス（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）イリジウム（Ｉ）テトラフルオロほう酸塩（９．５ｍｇ，０．０１９ｍｍｏＬ）、実施例１２で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（１７．４ｍｇ，０．０１９ｍｍｏＬ）にジクロロメタン（１ｍＬ）を加えて室温で攪拌し、表題化合物を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：１２．５（ｓ）．
［実施例４９］
（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス［４−（ピロリジン−１−イル）フェニル］ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝イリジウム（Ｉ）テトラフルオロほう酸塩の合成の合成
［Ｉｒ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＢＦ４  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス［４−（ピロリジン−１−イル）フェニル］ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ビス（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）イリジウム（Ｉ）テトラフルオロほう酸塩（５．２ｍｇ，０．０１１ｍｍｏＬ）、実施例１５で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス［４−（ピロリジン−１−イル）フェニル］ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（１３．３ｍｇ，０．０１１ｍｍｏＬ）にジクロロメタン（１ｍＬ）を加えて室温で攪拌し、表題化合物を得た。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：１３．１（ｓ）．
［実施例５０］
｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ビス（アセトニトリル）銅（Ｉ）過塩素酸塩の合成
［Ｃｕ（Ｌ）（ＣＨ３ＣＮ）２］ＣｌＯ４  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、テトラキス（アセトニトリル）銅（Ｉ）過塩素酸塩（１６３ｍｇ，０．５０ｍｍｏｌ）、実施例３で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（４５４ｍｇ，０．５０ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（２５ｍＬ）を加え、室温で４０分攪拌した。２５℃で減圧濃縮後、室温で真空乾燥し、表題化合物（５６５ｍｇ）を得た（黄色結晶、収率９８．１％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：１．７６（ｓ，１２Ｈ），２．２９（ｓ，６Ｈ），２．３５（ｓ，１２Ｈ），２．５２（ｓ，１２Ｈ），２．８６（ｓ，１２Ｈ），６．５９−６．６３（ｍ，６Ｈ），６．９９−７．０４（ｍ，２Ｈ），７．１６−７．３２（ｍ，４Ｈ），７．４６−７．６１（ｍ，８Ｈ）．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：−２．０４（ｓ）．
［実施例５１］
｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ビス（アセトニトリル）銅（Ｉ）過塩素酸塩の合成
［Ｃｕ（Ｌ）（ＣＨ３ＣＮ）２］ＣｌＯ４  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、テトラキス（アセトニトリル）銅（Ｉ）過塩素酸塩（１６３ｍｇ，０．５０ｍｍｏｌ）、参考例８で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（３９７ｍｇ，０．５０ｍｍｏｌ）、ジクロロメタン（２５ｍＬ）を加え、室温で３０分攪拌した。２５℃で減圧濃縮後、室温で真空乾燥し、表題化合物（５２３ｍｇ）を得た（黄色結晶、収率１００．５％）。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：−３．０（ｓ）．
［実施例５２］
ジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝パラジウム（ＩＩ）の合成
［ＰｄＣｌ２（Ｌ）］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ジクロロビス（アセトニトリル）パラジウム（ＩＩ）（５２ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）、参考例８で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（１５９ｍｇ，０．２０ｍｍｏｌ）、ベンゼン（２４ｍＬ）を加え、室温で２４時間攪拌した。不溶物をろ去し、ろ液を２５℃で減圧濃縮後、室温で真空乾燥し、表題化合物１１５ｍｇを得た（橙色結晶、収率５９．１％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：２．７（ｓ，１２Ｈ），３．０（ｓ，１２Ｈ），５．９（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，４Ｈ），６．７（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，４Ｈ），６．８（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ），７．１（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，２Ｈ），７．３−７．５（ｍ，１０Ｈ），７．６（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），７．６−７．７（ｍ，４Ｈ）．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１．５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ：２７．４（ｓ）．
ＭＳ（ＦＡＢ）ｍ／ｚ＝９６９（Ｍ−Ｈ＋），ｍ／ｚ＝９３５（Ｍ−Ｃｌ＋）．
［実施例５３］
２−アミノ−５−クロロ−２’，３’−ジメトキシベンゾフェノンの不斉水素化
0005252921.tif 000066
アルゴン雰囲気下、ジクロロ（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）ルテニウム（ＩＩ）１１９．７ｍｇ（０．４３ｍｍｏｌ）、実施例３で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（４２９．８ｍｇ，０．４７ｍｍｏｌ）にトルエン（７．５ｍＬ）、トリエチルアミン（０．３５ｍＬ）を加えて、１３５℃で３時間加熱攪拌し、減圧下、溶媒を留去したもの（２４．３ｍｇ，１０．７１μｍｏｌ）及び、（１Ｓ，２Ｓ）−（−）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン（（Ｓ，Ｓ）−ＤＰＥＮ）（４９．０ｍｇ，６８．８μｍｏｌ）に２−プロパノール／テトラヒドロフラン（１４／１１）混合液（１５ｍＬ）を加えて、１時間攪拌したものを２−アミノ−５−クロロ−２’，３’−ジメトキシベンゾフェノン（６．２５ｇ，２１．４２ｍｍｏｌ）、水酸化カリウム（４７．７ｍｇ，０．８５ｍｍｏｌ）に加えて、水素圧１ＭＰａ，２３℃で水素化を行った。ＴＯＦ（ｍｍｏＬ／μｍｏＬ・ｈ、触媒回転効率）は、２９．０×１０−３であった。反応混合物をＨＰＬＣ（カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＪ−ＲＨ、４．６ｍｍ×１５ｃｍ）にて測定し、光学純度９６．０％ｅｅ（Ｓ）であった。
比較例３
２−アミノ−５−クロロ−２’，３’−ジメトキシベンゾフェノンの不斉水素化
0005252921.tif 000067
アルゴン雰囲気下、ジクロロ（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）ルテニウム（ＩＩ）（１４９．６ｍｇ，０．５３ｍｍｏｌ）、（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（４３３．７ｍｇ，０．５９ｍｍｏｌ）にトルエン（９ｍＬ）、トリエチルアミン（０．４５ｍＬ）を加えて、１３５℃で３時間加熱攪拌し、減圧下、溶媒を留去したもの（２０．６ｍｇ，１０．７１μｍｏｌ）及び、（１Ｓ，２Ｓ）−（−）−１，２−ジフェニルエチレンジアミン（（Ｓ，Ｓ）−ＤＰＥＮ）（４９．０ｍｇ，６８．８μｍｏｌ）に２−プロパノール／テトラヒドロフラン（１４／１１）混合液（１５ｍＬ）を加えて、１時間攪拌したものを２−アミノ−５−クロロ−２’，３’−ジメトキシベンゾフェノン（６．２５ｇ，２１．４２ｍｍｏｌ）、水酸化カリウム（４７．７ｍｇ，０．８５ｍｍｏｌ）に加えて、水素圧１ＭＰａ，２３℃で水素化を行った。ＴＯＦ（ｍｍｏＬ／μｍｏＬ・ｈ、触媒回転効率）は、１０．０×１０−３であった。反応混合物をＨＰＬＣ（カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＪ−ＲＨ、４．６ｍｍ×１５ｃｍ）にて測定し、光学純度９６．０％ｅｅ（Ｓ）であった。
［実施例５４］
（Ｚ）−３−アセチルアミノ−３−フェニル−アクリル酸エチルエステルの不斉水素化
0005252921.tif 000068
アルゴン雰囲気下、ビス（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）トリフルオロメタンスルホン酸塩（１．１ｍｇ，０．００２３ｍｍｏｌ）、実施例１２で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジエチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル３．０ｍｇ（０．００３３ｍｍｏｌ）にメタノール（２ｍＬ）を加えて３０分間攪拌した溶液を、（Ｚ）−３−アセチルアミノ−３−フェニル−アクリル酸エチルエステル（３７．４ｍｇ，０．１６０ｍｍｏｌ）にメタノール（０．５ｍＬ）を加えた溶液に、水素圧１ＭＰａ，２５℃で１５時間反応させた。得られた反応液を液体クロマトグラフ（カラム：ＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＪ−Ｈ）で分析したところ、光学純度５０．９％ｅｅ（Ｒ）であった。転化率は１Ｈ−ＮＭＲで分析したところ、１００％であった。
［実施例５５−５８］
実施例５４の方法に準じて、実施例３、６、１５、参考例８の光学活性配位子にて反応を行った。その結果を表１に示した。
【表１】
0005252921.tif 000069
比較例４
（Ｚ）−３−アセチルアミノ−３−フェニル−アクリル酸エチルエステルの不斉水素化
0005252921.tif 000070
実施例５４の方法に準じて、配位子に（Ｓ）−２，２’−ビス［ジフェニルホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）を用いて反応を行った。その結果、光学純度３６．９％ｅｅ（Ｒ）を示した。転化率は１Ｈ−ＮＭＲで分析したところ、１００％であった。
［実施例５９］
イタコン酸の不斉水素化
0005252921.tif 000071
アルゴン雰囲気下、ビス（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）トリフルオロメタンスルホン酸塩（１．０ｍｇ，０．００２１ｍｍｏｌ）、参考例８で合成した（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（４．６ｍｇ，０．００５８ｍｍｏｌ）にメタノール（４ｍＬ）を加えて３０分間攪拌した溶液を、イタコン酸（２１．８ｍｇ，０．１６８ｍｍｏｌ）にメタノール（１ｍＬ）を加えた溶液に加えた後、水素圧１ＭＰａ，２５℃で１５時間水素化させた。この反応液２ｍＬを量り、硫酸を加えて、８５℃で１時間還流させてメチル化させた溶液をガスクロマトグラフ（カラム：βＤＥＸ−２２５（０．２５ｍｍ  ｉ．ｄ．×３０ｍ，０．２５μｍ））で分析したところ、転化率１００％、光学純度５６．２％ｅｅであった。
［実施例６０−６３］
実施例５９の方法に準じて、実施例３、６、１２、１５の光学活性配位子にて反応を行った。その結果を表２に示した。
【表２】
0005252921.tif 000072
比較例５
イタコン酸の不斉水素化
0005252921.tif 000073
実施例５７の方法に準じて、配位子に（Ｓ）−２，２’−ビス［ジフェニルホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）を用いて反応を行った。その結果、転化率１００％、光学純度６．９％ｅｅ（Ｒ）を示した。
［実施例６４］
Ｎ，Ｎ−ジエチルネリルアミンの不斉異性化
0005252921.tif 000074
実施例３８で合成した（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ロジウム（Ｉ）過塩素酸塩（２５．９ｍｇ，０．０２１３ｍｍｏＬ）、Ｎ，Ｎ−ジエチルネリルアミン（４８０ｍｇ、２．２９６ｍｍｏＬ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）に溶解し、４０℃で異性化を行った。ＴＯＦ（ｍｏＬ／ｍｏＬ・ｈ、触媒回転効率）は、１３１．９であった。反応混合物をガスクロマトグラフ（カラム：Ｉｎｅｒｔ  Ｃａｐ  ＣＨＩＲＡＭＩＸ、０．３２ｍｍ×３０ｍ）で分析したところ、変換率１００％、光学純度１００％ｅｅ（Ｓ）であった。
参考例９
（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ジフェニルホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ロジウム（Ｉ）過塩素酸塩の合成
［Ｒｈ（ｃｏｄ）（Ｌ）］ＣｌＯ４  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ジフェニルホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ジ−μ−クロロビス［（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）ロジウム（Ｉ）］（３１０．５ｍｇ，０．６３０ｍｍｏＬ）及び過塩素酸銀（２６７．５ｍｇ，１．２９０ｍｍｏＬ）にアセトン（６０ｍＬ）を加えて室温で１時間攪拌し、不溶物をろ過し、ろ液を（Ｓ）−２，２’−ビス［ジフェニルホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（（Ｓ）−ＢＩＮＡＰ）（７８４．９ｍｇ，１．２０６ｍｍｏＬ）に加えて室温で１時間攪拌し、不溶物をろ過後、溶媒を減圧留去し、アセトンとジエチルエーテルから再結晶化し、表題化合物（０．６５ｇ）を得た。収率５５％。
１Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，ＣＤ２Ｃｌ２）δ：２．１−２．６（ｍ，８Ｈ），４．６（ｍ，２Ｈ），４．９（ｂｓ，２Ｈ），６．５２（ｄ，２Ｈ），６．７（ｔ，４Ｈ），６．８（ｔ，２Ｈ），７．０（ｔ，２Ｈ），７．４（ｍ，６Ｈ），７．５５（ｍ，１０Ｈ），７．６−７．７（ｄ，２Ｈ），７．７−７．８（ｄ，２Ｈ），７．８−７．９（ｍ，２Ｈ）．
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，ＣＤ２Ｃｌ２，８５％Ｈ３ＰＯ４）δ：２５．２（ｓ），２６．４（ｓ）．
比較例６
Ｎ，Ｎ−ジエチルネリルアミンの不斉異性化
0005252921.tif 000075
参考例９で合成した（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ジフェニルホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ロジウム（Ｉ）過塩素酸塩（２７．０ｍｇ，０．０２８９ｍｍｏＬ）、Ｎ，Ｎ−ジエチルネリルアミン（５４６．２ｍｇ、２．６０９ｍｍｏＬ）をテトラヒドロフラン（５ｍＬ）に溶解し、４０℃で異性化を行った。ＴＯＦ（ｍｏＬ／ｍｏＬ・ｈ、触媒回転効率）は、７８．１であった。反応混合物をガスクロマトグラフ（カラム：Ｉｎｅｒｔ  Ｃａｐ  ＣＨＩＲＡＭＩＸ、０．３２ｍｍ×３０ｍ）で分析したところ、変換率１００％、光学純度１００％ｅｅ（Ｓ）であった。
［実施例６５］
２−メチル−３−オキソ−３−フェニル−プロピオン酸  ｔｅｒｔ−ブチルエステルの不斉フッ素化
0005252921.tif 000076
アルゴン雰囲気下、実施例４４で合成した｛ジ−μ−ヒドロキソビス［［（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル］パラジウム（ＩＩ）］｝ビステトラフルオロほう酸塩（２２．４ｍｇ，０．０１ｍｍｏＬ）、エタノール（０．３ｍＬ）、２−メチル−３−オキソ−３−フェニル−プロピオン酸  ｔｅｒｔ−ブチルエステル（４６．９ｍｇ、０．２ｍｍｏＬ）、Ｎ−フルオロベンゼンスルホンイミド（９５ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）を加えて室温で４８時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム溶液（２ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラム精製（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）し、化合物を得た。高速液体クロマトグラフ（カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＤ−Ｈ、４．６ｍｍ×１５ｃｍ、ｎ−ヘキサン／２−プロパノール＝２００／１）から光学純度７２．５％ｅｅ（Ｓ）であった。
参考例１０
｛ジ−μ−ヒドロキソビス［［（Ｓ）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル］パラジウム（ＩＩ）］｝ビステトラフルオロほう酸塩の合成
［｛Ｐｄ（Ｌ）｝２（μ−ＯＨ）２］（ＢＦ４）２  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ジクロロ｛（Ｓ）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル｝パラジウム（ＩＩ）（１００ｍｇ，０．１２５ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（１０ｍＬ）、水（１ｍＬ）、テトラフルオロほう酸銀（４８ｍｇ，０．２５ｍｍｏｌ，２当量）、モレキュラーシーブス４Ａ（１．５ｇ）とともに、室温で２８時間攪拌した。不溶物をろ去し、ろ液の溶媒を留去し、表題化合物（５９ｍｇ）を得た。収率４８．４％。
比較例７
２−メチル−３−オキソ−３−フェニル−プロピオン酸  ｔｅｒｔ−ブチルエステルの不斉フッ素化
0005252921.tif 000077
アルゴン雰囲気下、参考例１０で合成した｛ジ−μ−ヒドロキソビス［［（Ｓ）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル］パラジウム（ＩＩ）］｝ビステトラフルオロほう酸塩（１９．５ｍｇ，０．０１ｍｍｏＬ）、エタノール（０．３ｍＬ）、２−メチル−３−オキソ−３−フェニル−プロピオン酸  ｔｅｒｔ−ブチルエステル（４６．９ｍｇ、０．２ｍｍｏＬ）、Ｎ−フルオロベンゼンスルホンイミド（９５ｍｇ、０．３ｍｍｏｌ）を加えて室温で４８時間攪拌した。飽和塩化アンモニウム溶液（２ｍＬ）を加え、酢酸エチル（２０ｍＬ）で抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄し、減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラム精製（酢酸エチル／ｎ−ヘキサン）し、化合物を得た。高速液体クロマトグラフ（カラム：ＣＨＩＲＡＬＰＡＫ  ＡＤ−Ｈ、４．６ｍｍ×１５ｃｍ、ｎ−ヘキサン／２−プロパノール＝２００／１）から光学純度５８．１％ｅｅ（Ｓ）であった。
［実施例６６］
（η２，η２−１，５−シクロオクタジエン）｛（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル｝ニッケル（Ｏ）の合成
［Ｎｉ（ｃｏｄ）（Ｌ）］  Ｌ＝（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル
アルゴン雰囲気下、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（Ｏ）（４８．３ｍｇ，０．１７５６ｍｍｏｌ）、（Ｓ）−２，２’−ビス［ビス（４−ジメチルアミノ−３，５−ジメチルフェニル）ホスフィノ］−１，１’−ビナフチル（１７５．３ｍｇ，０．１９３２ｍｍｏｌ）をトルエン（２ｍＬ）中、６０℃で１０分間攪拌後、室温で１５時間反応させた。反応液をろ過後、減圧溶媒留去し、表題化合物（１９８．０ｍｇ）を得た。濃紫色の粉末。
３１Ｐ−ＮＭＲ（１２１ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６，８５％Ｈ３ＰＯ４）：δ  ３０．６（ｓ）．
【産業上の利用可能性】
【０００６】
本発明の化合物（ＩＩ）を配位子とする遷移金属錯体を不斉合成反応（持に、不斉還元）に用いることにより、目的とする絶対配置の化合物を効率的に得ることができる。
本出願は、日本で出願された特願２００５−２７２５９９を基礎としており、その内容は本明細書に包含されるものである。