(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶と硬化物との複合体を備えた液晶光学素子の製造方法であって、
第１の透明基板の電極形成面上に、液晶と未硬化の硬化性化合物との混合物を滴下する工程と、
大気圧より低い第１の気圧下において、前記第１の透明基板の電極形成面と第２の透明基板の電極形成面とを対向させて、前記第１の透明基板および前記第２の透明基板を貼り合わせる工程と、
この貼り合わせた一対の透明基板を前記第１の気圧よりも高い気圧下に置く工程と、
前記硬化性化合物を硬化させる工程と、を有し、
前記第１の透明基板および前記第２の透明基板を貼り合わせる工程において、
前記第１の気圧下で前記第１の透明基板および前記第２の透明基板をそれぞれヒータにより加熱することにより、前記未硬化の硬化性化合物の析出温度よりも高い温度に保持することを特徴とする液晶光学素子の製造方法。
【請求項２】
前記温度は、前記析出温度よりも５〜６０℃高いことを特徴とする請求項１に記載の液晶光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記第１の透明基板および前記第２の透明基板に直接接する温度制御機構により、前記第１の透明基板および前記第２の透明基板を前記温度に保持することを特徴とする請求項１または２に記載の液晶光学素子の製造方法。
【請求項４】
前記硬化物は光硬化性樹脂であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶光学素子の製造方法。
【請求項５】
前記液晶は負の誘電率異方性を有し、前記液晶を基板面に垂直に配向させる配向膜が少なくとも一方の基板に備えられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の液晶光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、液晶光学素子の製造方法に関し、特に、液晶と硬化物との複合体を備えた液晶光学素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶光学素子は、低消費電力、薄型、軽量等の利点を有するため、携帯電話、デジタルカメラ、携帯情報端末、テレビ等の多くの電子機器に広く用いられている。その中で、近年、電界により液晶分子の配列を制御して、光散乱状態を変化させる表示方式の液晶光学素子が提案されている。
【０００３】
特許文献１には、液晶と硬化物との複合体を備えた液晶光学素子（以下、液晶／硬化物複合体素子という）が開示されている。具体的には、液晶と未硬化の硬化性化合物との混合物中の光硬化性化合物を露光して光硬化させ、透過状態と散乱状態の透過率の差を大きくすることにより、コントラストが向上する。この液晶／硬化物複合体素子は、原理的に偏光板を必要としないため、光透過率が高い。また、非電圧印加時に、液晶が基板と垂直に配向して透明状態となり、電圧印加時に、液晶がランダム配向して散乱状態となる。このため、文字や模様を表示できるショーウィンドウ、各種掲示板、自動車のインストルメントパネル等への利用が提案されている。
【０００４】
上記液晶／硬化物複合体素子の製造方法は、従来、以下の通りであった。例えば、対向する２枚の透明基板の周縁をエポキシ樹脂等のシール材で封止し、２カ所以上に設けたシール材の切り欠きの一方を液晶と未硬化の光硬化性化合物の混合物に浸し、他方より吸引する。これにより、セル内に混合物を充満させる。この後、光硬化性化合物を硬化させることにより液晶光学素子が得られる。上記方法を吸引法ということにする。この吸引法は、吸引に時間を要するため、大型液晶光学素子の量産には適さなかった。
【０００５】
一方、生産性に優れる方法としては、ＯＤＦ（one-drop-fill）法が知られており、液晶／硬化物複合体素子でない、一般的な液晶光学素子に用いられている（特許文献２参照）。ＯＤＦ法の原理は以下の通りである。周辺部にシール材を塗布した第１の透明基板上に、液晶材料を適量滴下し、減圧下にて第２の透明基板と重ね合わせる。これを大気圧下に置くと、セル内外の圧力差により２枚の透明基板が、スペーサにより保たれるセルギャップまで引き寄せられ、セル内に上記液晶材料が充満する。なお、ＯＤＦ法は、液晶滴下法、真空滴下法などとも呼ばれる。
【特許文献１】特開２０００−１１９６５６号公報
【特許文献２】特開平８−１０６１０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記液晶／硬化物複合体素子の製造では、上記液晶と未硬化の光硬化性化合物との混合物における未硬化の硬化性化合物の析出を防止するため、厳密な温度管理が必要となる。したがって、ＯＤＦ法の適用は困難であった。実際に、液晶／硬化物複合体素子の製造にＯＤＦ法を適用した場合、透明基板の貼り合わせ工程において、上記混合物が透明基板により冷却され、混合物中の未硬化の硬化性化合物すなわちモノマーやオリゴマーが析出し、この痕跡が硬化後も基板上に残存して不良品となる問題があった。
【０００７】
本発明はこのような問題に鑑みてなされたものであり、生産性に優れる、液晶／硬化物複合体素子の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の態様１にかかる液晶光学素子の製造方法は、液晶と硬化物との複合体を備えた液晶光学素子の製造方法であって、第１の透明基板の電極形成面上に、液晶と未硬化の硬化性化合物との混合物を滴下する工程と、大気圧より低い第１の気圧下において、前記第１の透明基板の電極形成面と第２の透明基板の電極形成面とを対向させて、前記第１の透明基板および前記第２の透明基板を貼り合わせる工程と、この貼り合わせた一対の透明基板を前記第１の気圧よりも高い気圧下に置く工程と、前記硬化性化合物を硬化させる工程と、を有し、前記第１の透明基板および前記第２の透明基板を貼り合わせる工程において、前記第１の気圧下で前記第１の透明基板および前記第２の透明基板をそれぞれヒータにより加熱することにより、前記未硬化の硬化性化合物の析出温度よりも高い温度に保持することを特徴とするものである。これにより、生産性に優れる、液晶／硬化物複合体素子の製造方法を提供できる。
【０００９】
本発明の態様２にかかる液晶光学素子の製造方法は、上記発明の態様における前記温度は、前記析出温度よりも５〜６０℃高いことを特徴とするものである。これにより、不良発生を低減できる。
【００１０】
本発明の態様３にかかる液晶光学素子の製造方法は、上記発明の態様において第１の透明基板および第２の透明基板に直接接する温度制御機構により、前記第１の透明基板および前記第２の透明基板を前記温度に保持することを特徴とするものである。これにより、確実に不良発生を低減できる。
【００１２】
本発明の態様４にかかる液晶光学素子の製造方法は、上記発明の態様における硬化物が、光硬化性樹脂であることを特徴とするものである。これにより、液晶光学素子の表示性能や生産性を向上できる。
【００１３】
本発明の態様５にかかる液晶光学素子の製造方法は、上記発明の態様における液晶が、負の誘電率異方性を有し、液晶を基板面に垂直に配向させる配向膜が少なくとも一方の基板に備えられているものである。これにより、透過状態での透過率を高くすることができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明により、生産性に優れる、液晶／硬化物複合体素子の製造方法を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
実施の形態．
以下に、本発明の実施の形態について説明する。ただし、本発明が以下の実施の形態に限定される訳ではない。また、説明を明確にするため、以下の記載および図面は、適宜、簡略化されている。
【００１６】
図１は、本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子の構成の一例を模式的に示す断面図である。図１に示すように、本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子１は、第１の透明基板１１、第１の透明電極１２、第２の透明基板２１、第２の透明電極２２、シール材３０、スペーサ４０および複合体層５０を備えている。
【００１７】
具体的には、液晶光学素子１は、第１の透明基板１１と第２の透明基板２１とが互いに対向し、第１および第２の透明基板１１、２１の間で液晶／硬化物の複合体層５０を挟持して構成されている。
【００１８】
第１および第２の透明基板１１、２１は絶縁基板であり、例えば、ガラス基板や、ポリカーボネート、アクリル樹脂などからなる樹脂基板または樹脂フィルム基板等が用いられる。
【００１９】
第１の透明基板１１の内面上には、複数の第１の透明電極１２がストライプ状に形成されている。一方、第２の透明基板２１の内面上には、複数の第２の透明電極２２がストライプ状に形成されている。なお。複数の第２の透明電極２２は、複数の第１の透明電極１２に対して略直交して交差するように形成されている。第１および第２の透明電極１２、２２は、例えば、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）からなる。第１および第２の透明電極１２、２２のうち、いずれか一方は、Ａｌや誘電体多層膜の反射電極であってもよい。もちろん、電極の形状は直交するストライプ状のものに限られることはなく、特定のマークやキャラクターを表示できるものでも良い。
【００２０】
第１および第２の透明基板１１、２１に各々形成された第１および第２の透明電極１２、２２上には配向膜（不図示）が形成されている。配向膜は、複合体層５０内の液晶を所定の方向に配向させるため、液晶と接するように形成されている。ここで、透明基板１１、２１のそれぞれに形成された配向膜のうち、少なくとも一方は、液晶を透明基板１１、２１の内面に垂直に配向させることが好ましい。これにより、透過状態での透過率を高くすることができる。
【００２１】
シール材３０は、第１および第２の透明基板１１、２１の間において、第１および第２の透明基板１１、２１の周縁に沿って形成されている。第１および第２の透明基板１１、２１は、シール材３０により接合されている。シール材３０の材料には、例えば、紫外線硬化樹脂（以下、ＵＶ樹脂という）や熱硬化性樹脂が用いられる。
【００２２】
スペーサ４０は、第１および第２の透明基板１１、２１とシール材３０に囲われた空間内に、均一に散布されている。スペーサ４０は、セルギャップを制御する。セルギャップすなわちスペーサ４０の直径は２〜５０μｍが好ましく、４〜３０μｍがさらに好ましい。セルギャップが小さすぎるとコントラストが低下し、大き過ぎると駆動電圧が上昇する。スペーサ４０は、例えば、ガラス粒子、シリカ粒子、架橋したアクリル粒子等の硬質な材料からなる。なお、球状でなく、リブ状のスペーサを一方の基板に形成したものでもよい。
【００２３】
複合体層５０は、第１および第２の透明基板１１、２１とシール材３０に囲われた空間内に封入されている。複合体層５０は、液晶と光硬化性樹脂との複合体からなる。具体的な構成物質については後で詳述する。液晶は垂直配向し、ドメイン構造を有するため、電圧印加時に散乱する。そのため、散乱表示部と呼ばれる。散乱表示部は、電圧非印加時に透明状態であり、電圧印加時に透過率が変化し、散乱状態となる。したがって、散乱表示部が、電圧により液晶が動作する動作領域となる。
【００２４】
液晶としては、電界駆動型の材料であるネマティック液晶などが用いられる。２種類以上の液晶を組み合わせて用いてもよい。また、電界による表示を目的とする場合、液晶の配向方向を垂直にすることで、透過状態での透過率を高くすることができるため、誘電率異方性が負のものを用いるのが好ましい。ただし、誘電率異方性の極性は、正負どちらでもよい。また、駆動電圧を低減するためには、誘電率異方性が大きい方が好ましい。
【００２５】
本発明の実施の形態に好適な光硬化性樹脂について説明する。本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子に用いる複合体層５０は、少なくとも次の化学式（１）で示される二官能重合性化合物（Ａ）の一種以上と、化学式（２）で示される二官能重合性化合物（Ｂ）の一種以上と、非重合性の前記液晶とを含むことが好ましい。
【化１】
0005211441.tif 000002
【化２】
0005211441.tif 000003
【００２６】
二官能重合性化合物（Ａ）は、樹脂中で、剛直性を有する主骨格成分を形成する。一方、二官能重合性化合物（Ｂ）は、樹脂中で、衝撃吸収の役割を果たすことができる柔軟成分を形成する。このような異なる物性の化合物を組み合わせることにより、液晶光学素子１に好適な液晶／硬化物の複合体層５０が得られる。もちろん硬化物を形成する樹脂はこれに限定されるものではない。
【００２７】
二官能重合性化合物（Ａ）について説明する。二官能重合性化合物（Ａ）は化学式（１）を満たす化合物であれば、特に限定されない。
【００２８】
また、化学式（１）で表される二官能重合性化合物（Ａ）が下記条件を満たす化合物であることが好ましい。
Ａ１、Ａ２が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基またはビニルエーテル基である。
Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、Ｑ４が、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基または１，４−シクロヘキシレン基である。
【００２９】
Ｘ１、Ｘ２が、それぞれ独立に、単結合、酸素原子またはエステル結合である。
Ｒ１、Ｒ２が、それぞれ独立に、単結合または炭素原子間に一個または複数個のエーテル性酸素原子を有していてもよい直鎖または分枝状炭素数２〜２０のアルキレン基である。
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３が、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２−Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ２−である。
ｐ、ｑが、いずれも０であるかまたは一方が０で他方が１である。
【００３０】
また、化学式（１）で表される二官能重合性化合物（Ａ）が下記条件を満たす化合物であることが好ましい。
Ａ１、Ａ２が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基またはメタクリロイルオキシ基である。
Ｑ１、Ｑ２がいずれも置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基であり、Ｑ３、Ｑ４が、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基または１，４−シクロヘキシレン基である。
【００３１】
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３が、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２−ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−である。
ｐ、ｑが、いずれも０であるかまたは一方が０で他方が１である。
また、化学式（１）で表される二官能重合性化合物（Ａ）が下記条件を満たす化合物であることが好ましい。
Ａ１、Ａ２がいずれもアクリロイルオキシ基である。
【００３２】
Ｑ１、Ｑ２がいずれも置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基であり、Ｑ３、Ｑ４が、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基または１，４−シクロヘキシレン基である。
Ｒ１、Ｒ２が、それぞれ独立に、直鎖または分枝状炭素数２〜２０のアルキレン基である。
Ｚ１が、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＣＨ２−ＣＨ２−または−Ｃ≡Ｃ−であり、Ｚ２、Ｚ３がいずれも単結合である。
ｐ、ｑが、いずれも０であるかまたは一方が０で他方が１である。
【００３３】
本発明の液晶光学素子１で用いる液晶／硬化物の複合体層５０を形成するための、前記二官能重合性化合物（Ａ）の具体例としては、下記化学式（３）の化合物を例示することができる。
【化３】
0005211441.tif 000004
【００３４】
二官能重合性化合物（Ａ）は、その性質から液晶性を有する化合物と液晶性を有しない化合物に分けられる。液晶性を有する二官能重合性化合物（Ａ）を混合物の一成分として用いることができる。つまり、液晶性を有しない二官能重合性化合物（Ａ）のみを用いる場合以外に、液晶性を有しない二官能重合性化合物（Ａ）と液晶性を有する二官能重合性化合物（Ａ）を組み合わせて用いることもでき、液晶性を有する二官能重合性化合物（Ａ）を単独で用いることもできる。
【００３５】
次に、二官能重合性化合物（Ｂ）について説明する。二官能重合性化合物（Ｂ）は、化学式（２）を満たすものであれば、特に限定されない。例えば、下記条件を満たす化合物である。
Ａ３、Ａ４が、それぞれ独立に、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基またはビニルエーテル基である。
Ｒ３が、−Ｒ４−または−（Ｒ５−Ｏ）ｎ−Ｒ５−である。
【００３６】
ただし、Ｒ４は炭素数２〜２０の直鎖または分枝状アルキレン基であり、Ｒ５は炭素数２〜８の直鎖または分枝状アルキレン基であり、ｎは１〜１０の整数である。
または、Ｒ４が炭素数２〜２０の直鎖アルキレン基であり、Ｒ５が−（ＣＨ2）ｒ−、−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ3）−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ3）−または−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（ＣＨ3）２−であり（ただし、ｒは２〜５の整数）、ｎが１〜６の整数である、化合物である。
【００３７】
二官能重合性化合物（Ｂ）は、単独で用いてもよく、２種類以上組み合わせて用いてもよい。下記化学式（４）に具体例を示す。
【化４】
0005211441.tif 000005
【００３８】
二官能重合性化合物（Ｂ）は重合性基Ａ３，Ａ４を有し、重合性基間を連結するＲ３を有する。Ｒ３としては原子間に単結合を有し分子内回転の自由度の高い基を選択する。このように構成することで、重合された高分子の柔軟性を向上させることができる。また、重合相分離の反応性を高めることもできる。
【００３９】
Ａ３，Ａ４間の炭素原子数、エーテル性酸素原子数が多いほど、柔軟性は向上する。一方、液晶との相溶性は原子数が多いほど低下する。そのため、原子数を適切に選択する。また、ＯＤＦ法を採用する場合、揮発性を考慮して、炭素原子数は８以上、好ましくは１１以上とする。エーテル性酸素原子は含まれていても含まれていなくてもよい。エーテル性酸素原子を含んでいる場合は、高分子の柔軟性が向上するので、好ましい。
【００４０】
化学式（Ｂ）の化合物は分子内にＱ１のような基を含まないためＲ３に含まれる炭素原子数を増やすことが比較的容易である。この構造の採用により、高分子の柔軟性が大きく向上する。
重合性モノマーを重合させるためには、重合開始剤を用いることが好ましい。このような重合開始剤としては、公知の重合触媒から適宜選択できる。例えば、光重合相分離法を用いる場合、ベンゾインエーテル系、アセトフェノン系、フォスフィンオキサイド系などの一般的な光重合開始剤を用いることができる。
【００４１】
さらに、コントラスト比や安定性の向上を目的として、種々の化合物を添加することもできる。例えば、コントラストの向上を目的として、アントラキノン系、スチリル系、アゾメチン系、アゾ系等の各種二色性色素を用いることができる。その場合、二色性色素は、基本的に液晶化合物と相溶し、硬化性化合物とは不相溶であることが好ましい。この他に、酸化防止剤、紫外線吸収剤、各種可塑剤の添加も、安定性や耐久性向上の点から好ましい。
【００４２】
次に、上述した液晶光学素子１の動作について説明する。第１および第２の透明電極１２、２２の間に電圧を印加すると電極間の電界により液晶がランダムに配向して、複合体層５０は散乱状態となる。一方、第１および第２の透明電極１２、２２の間に電圧を印加していないときは、液晶が配向しているため、複合体層５０は透明状態となる。透明状態の複合体層５０は、液晶光学素子１の背面（反観察面）を観察することができる。このように電圧の印加、非印加により、散乱状態と透明状態が変化するため、所望の画像などを表示することができる。
【００４３】
なお、電圧印加時に透過状態となり、電圧非印加時に散乱状態となる液晶光学素子でもよい。ただし、車両用途などではフェールセーフの観点から、電圧印加時に散乱状態となり、電圧非印加時に透過状態となる液晶光学素子が好ましい。
【００４４】
次に、液晶光学素子１の製造方法について説明する。図２は、本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子の製造フローの一例を示す図である。図２に示すように、本製造フローはＳＴ２０１〜ＳＴ２０８までの８ステップからなる。
【００４５】
まず、第１および第２の透明基板１１、２１の内面上に第１および第２の透明電極１２、２２を形成するための透明電極膜を、スパッタリング法、真空蒸着法等により形成する（ＳＴ２０１）。透明電極膜としては、上述の通り、ＩＴＯが好適である。この透明電極膜を、例えば、フォトリソグラフィ法によりパターニングして、第１および第２の透明電極１２、２２を形成する。
【００４６】
次に、第１および第２の透明基板１１、２１の透明電極を形成した面上に、配向膜（不図示）を形成する（ＳＴ２０２）。配向膜は、複合体層５０内の液晶を所定の方向に配向させるため、液晶と接するように形成する。上述の通り、透明基板１１、２１のそれぞれに形成された配向膜のうち、少なくとも一方を、液晶を透明基板１１、２１の内面に垂直に配向させるように形成する。
【００４７】
次に、第１または第２の透明基板１１、２１の内面上に、散布機を用いてスペーサ４０を散布する（ＳＴ２０３）。
【００４８】
次に、第１または第２の透明基板１１、２１の内面上に、当該第１または第２の透明基板１１、２１の周縁に沿って、シール材３０を塗布する（ＳＴ２０４）。ここで、シール材３０には、ＵＶ樹脂、熱硬化性樹脂等を用いることができる。なお、第１および第２の透明基板１１、２１の両方に分割して塗布してもよい。
【００４９】
次に、ＯＤＦ法を用いて、第１または第２の透明基板１１、２１の内面に、ネマティック液晶と未硬化の光硬化性化合物との混合物からなる液晶材料を滴下する（ＳＴ２０５）。このＯＤＦ法は、上述の吸引法と比較して、簡単に、且つ、短時間で、液晶材料を透明基板１１、２１の間に配置することができる。このＯＤＦ法は、大型液晶光学素子を製造するのに、特に効果的である。
【００５０】
次に、減圧下で、第１および第２の透明基板１１、２１の間をシール材３０により貼り合わせる（ＳＴ２０６）。具体的には、２０Ｐａ以下の気圧が好ましく、一般的に真空中ともいえる。この貼り合わせの前後において、両透明基板の温度は厳密に制御されている。具体的には、各々の透明基板を保持し、直接接する定盤にヒータおよび熱電対を設置し、熱電対からの信号によりＰＩＤコントローラにて温度制御する。これにより、設定温度±０．１℃以内で制御できる。この結果、両透明基板およびその間に挟持される液晶材料を全体にわたり一定温度に保持できる。ここで、当該液晶材料において、未硬化の硬化性化合物すなわちモノマーやオリゴマーが析出する温度より５〜６０℃高い温度範囲に保持するのが好ましい。５℃未満では、未硬化の硬化性化合物が析出するおそれがある。一方、６０℃を越えると、液晶材料にダメージを与えるおそれがあり、また、硬化性化合物が硬化するおそれもある。これにより、未硬化の硬化性化合物の析出を効果的に防止できる。また、真空チャンバー壁面にも適宜ヒータを設置し、壁面からの輻射熱を利用すると、さらに効果的である。
【００５１】
次に、貼り合わされた透明基板１１、２１を減圧下から大気圧下に取り出す（ＳＴ２０７）。セル内外の圧力差により、２枚の透明基板が、スペーサにより保たれるセルギャップまで引き寄せられ、セル内に上記混合物が充満する。
【００５２】
次に、シール材３０および液晶材料中の未硬化の光硬化性化合物を紫外線光源などにより露光し、硬化させる（ＳＴ２０８）。露光により、光硬化性化合物が硬化し、液晶／硬化物の複合体層５０が形成される。なお、シール材３０が光硬化性硬化物でない場合、シール材の硬化は別途行う必要がある。
【００５３】
以上説明した通り、本発明にかかる液晶光学素子の製造方法は、透明基板の貼り合わせ工程において、両透明基板の温度を厳密に制御することにより、液晶と未硬化の光硬化性化合物との混合物における未硬化の硬化性化合物の析出を効果的に防止し、液晶／硬化物複合体素子の生産性を向上することができる。
【００５４】
なお、上記実施の形態の説明ではパッシブ型の液晶光学素子を用いて例示したが、これに限らず、本発明を、スタティック型、アクティブ型などの他の駆動方式の液晶光学素子に適用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子の構成を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明の実施の形態にかかる液晶光学素子の製造フローの一例を示す図である。
【符号の説明】
【００５６】
１  液晶光学素子
１１  第１の透明基板
２１  第２の透明基板
１２  第１の透明電極
２２  第２の透明電極
３０  シール材
４０  スペーサ
５０  複合体層
【図１】
0005211441.tif 000006
【図２】
0005211441.tif 000007