(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨領域を有する研磨層に両面テープを貼り合わせる工程、
前記両面テープを張り合わせた研磨層に開口部Ａを設ける工程、
前記研磨層とクッション層とを前記両面テープを介して貼り合わせる工程、
前記開口部Ａ内のクッション層の一部を除去し、クッション層に開口部Ａよりも小さい開口部Ｂを形成する工程、
前記開口部Ｂの周囲のクッション層上に、フィルム又は網状のホットメルト接着剤シートを設ける工程、
前記開口部Ａ内かつ前記ホットメルト接着剤シート上に光透過領域を設置する工程、
レーザー光を光透過領域上から照射して前記ホットメルト接着剤シートを溶融させる工程、
及び溶融したホットメルト接着剤を硬化させることにより、該ホットメルト接着剤を介して光透過領域をクッション層に接着させる工程を含む研磨パッドの製造方法。
【請求項２】
研磨領域を有する研磨層に両面テープを貼り合わせる工程、
前記両面テープを張り合わせた研磨層に開口部Ａを設ける工程、
前記研磨層と、開口部Ａよりも小さい開口部Ｂを有するクッション層とを、開口部Ａと開口部Ｂが重なるように前記両面テープを介して貼り合わせる工程、
前記開口部Ｂの周囲のクッション層上に、フィルム又は網状のホットメルト接着剤シートを設ける工程、
前記開口部Ａ内かつ前記ホットメルト接着剤シート上に光透過領域を設置する工程、
レーザー光を光透過領域上から照射して前記ホットメルト接着剤シートを溶融させる工程、
及び溶融したホットメルト接着剤を硬化させることにより、該ホットメルト接着剤を介して光透過領域をクッション層に接着させる工程を含む研磨パッドの製造方法。
【請求項３】
研磨領域を有する研磨層に両面テープを貼り合わせる工程、
前記両面テープを張り合わせた研磨層に開口部Ａを設ける工程、
前記研磨層とクッション層とを前記両面テープを介して貼り合わせる工程、
前記開口部Ａ内のクッション層の一部を除去し、クッション層に開口部Ａよりも小さい開口部Ｂを形成する工程、
光透過領域の裏面側に凹部を形成する工程、
前記凹部に、フィルム又は網状のホットメルト接着剤シートをはめ込む工程、
前期光透過領域を、該裏面側を下にして前記開口部Ａ内かつ前記開口部Ｂ上に設置する工程、
レーザー光を光透過領域上から照射して前記ホットメルト接着剤シートを溶融させる工程、
及び溶融したホットメルト接着剤を硬化させることにより、該ホットメルト接着剤を介して光透過領域をクッション層に接着させる工程を含む研磨パッドの製造方法。
【請求項４】
研磨領域を有する研磨層に両面テープを貼り合わせる工程、
前記両面テープを張り合わせた研磨層に開口部Ａを設ける工程、
前記研磨層と、開口部Ａよりも小さい開口部Ｂを有するクッション層とを、開口部Ａと開口部Ｂが重なるように前記両面テープを介して貼り合わせる工程、
光透過領域の裏面側に凹部を形成する工程、
前記凹部に、フィルム又は網状のホットメルト接着剤シートをはめ込む工程、
前期光透過領域を、該裏面側を下にして前記開口部Ａ内かつ前記開口部Ｂ上に設置する工程、
レーザー光を光透過領域上から照射して前記ホットメルト接着剤シートを溶融させる工程、
及び溶融したホットメルト接着剤を硬化させることにより、該ホットメルト接着剤を介して光透過領域をクッション層に接着させる工程を含む研磨パッドの製造方法。
【請求項５】
前記開口部Ｂの周囲のクッション層上に、フィルム又は網状のホットメルト接着剤シートを設ける工程において、
前記ホットメルト接着剤シートは、前記開口部Ｂの全周囲に設けられることを特徴とする、請求項１又は２に記載の研磨パッドの製造方法。
【請求項６】
前記ホットメルト接着剤シートは不透明であることを特徴とする、請求項１〜５いずれかに記載の研磨パッドの製造方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の方法により製造される研磨パッド。
【請求項８】
請求項７記載の研磨パッドを用いて半導体ウエハの表面を研磨する工程を含む半導体デバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウエハ表面の凹凸をケミカルメカニカルポリシング（ＣＭＰ）で平坦化する際に使用される研磨パッドに関し、詳しくは、研磨状況等を光学的手段により検知するための窓（光透過領域）を有する研磨パッド及びその製造方法、該研磨パッドを用いた半導体デバイスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置を製造する際には、ウエハ表面に導電性膜を形成し、フォトリソグラフィー、エッチング等をすることにより配線層を形成する工程や、配線層の上に層間絶縁膜を形成する工程等が行われ、これらの工程によってウエハ表面に金属等の導電体や絶縁体からなる凹凸が生じる。近年、半導体集積回路の高密度化を目的として配線の微細化や多層配線化が進んでいるが、これに伴い、ウエハ表面の凹凸を平坦化する技術が重要となってきた。
【０００３】
ウエハ表面の凹凸を平坦化する方法としては、一般的にＣＭＰ法が採用されている。ＣＭＰは、ウエハの被研磨面を研磨パッドの研磨面に押し付けた状態で、砥粒が分散されたスラリー状の研磨剤（以下、スラリーという）を用いて研磨する技術である。
【０００４】
ＣＭＰで一般的に使用する研磨装置は、例えば、図１に示すように、研磨パッド１を支持する研磨定盤２と、被研磨対象物（ウエハ）４を支持する支持台（ポリシングヘッド）５とウエハの均一加圧を行うためのバッキング材と、研磨剤の供給機構を備えている。研磨パッド１は、例えば、両面テープで貼り付けることにより、研磨定盤２に装着される。研磨定盤２と支持台５とは、それぞれに支持された研磨パッド１と被研磨対象物４が対向するように配置され、それぞれに回転軸６、７を備えている。また、支持台５には、被研磨対象物４を研磨パッド１に押し付けるための加圧機構が設けてある。
【０００５】
このようなＣＭＰを行う上で、ウエハ表面の平坦度の判定の問題がある。すなわち、希望の表面特性や平面状態に到達した時点を検知する必要がある。従来、酸化膜の膜厚や研磨速度等に関しては、テストウエハを定期的に処理し、結果を確認してから製品となるウエハを研磨処理することが行われてきた。
【０００６】
しかし、この方法では、テストウエハを処理する時間とコストが無駄になり、また、あらかじめ加工が全く施されていないテストウエハと製品ウエハでは、ＣＭＰ特有のローディング効果により、研磨結果が異なり、製品ウエハを実際に加工してみないと、加工結果の正確な予想が困難である。
【０００７】
そのため、最近では上記の問題点を解消するために、ＣＭＰプロセス時に、その場で、希望の表面特性や厚さが得られた時点を検出できる方法が望まれている。このような検知については、様々な方法が用いられているが、測定精度や非接触測定における空間分解能の点から、回転定盤内にレーザー光による膜厚モニタ機構を組み込んだ光学的検知方法（特許文献１、特許文献２）が主流となりつつある。
【０００８】
前記光学的検知手段とは、具体的には光ビームを窓（光透過領域）を通して研磨パッド越しにウエハに照射して、その反射によって発生する干渉信号をモニタすることによって研磨の終点を検知する方法である。
【０００９】
このような方法では、ウエハの表面層の厚さの変化をモニタして、表面凹凸の近似的な深さを知ることによって終点が決定される。このような厚さの変化が凹凸の深さに等しくなった時点で、ＣＭＰプロセスを終了させる。また、このような光学的手段による研磨の終点検知法およびその方法に用いられる研磨パッドについては様々なものが提案されてきた。
【００１０】
例えば、固体で均質な１９０ｎｍから３５００ｎｍの波長光を透過する透明なポリマーシートを少なくとも一部分に有する研磨パッドが開示されている（特許文献３）。また、段付の透明プラグが挿入された研磨パッドが開示されている（特許文献４）。また、ポリシング面と同一面である透明プラグを有する研磨パッドが開示されている（特許文献５）。しかし、透明プラグが挿入された研磨パッドは、透明プラグが設けられていない研磨パッドと比べてウエハの面内均一性などの研磨特性が悪くなるという問題があった。
【００１１】
また、各層の剥離を防止するために、研磨層及び窓をホットメルト接着剤層を介してベース層に貼り合わせる方法が提案されている（特許文献６）。
【００１２】
一方、スラリーが研磨領域と光透過領域との境界（継ぎ目）から漏れ出さないための提案（特許文献７〜９）もなされている。しかし、これら透明な漏れ防止シートを設けた場合でも、スラリーが研磨領域と光透過領域との境界（継ぎ目）から研磨層下部に漏れ出し、この漏れ防止シート上にスラリーが堆積して光学的終点検知に問題が生じる。
【００１３】
今後、半導体製造における高集積化・超小型化において、集積回路の配線幅はますます小さくなっていくことが予想され、その際には高精度の光学的終点検知が必要となるが、従来の終点検知用窓は、上記スラリー漏れの問題を十分に解決できていない。
【００１４】
【特許文献１】米国特許第５０６９００２号明細書
【特許文献２】米国特許第５０８１４２１号明細書
【特許文献３】特表平１１−５１２９７７号公報
【特許文献４】特開平９−７９８５号公報
【特許文献５】特開平１０−８３９７７号公報
【特許文献６】特開２００５−１６７２００号公報
【特許文献７】特開２００１−２９１６８６号公報
【特許文献８】特表２００３−５１０８２６号公報
【特許文献９】特開２００３−６８６８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明は、長期間使用した場合であっても光透過領域とクッション層との間からのスラリー漏れを防止することができる研磨パッド及びその製造方法、並びに該研磨パッドを用いた半導体デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明者は、上述のような現状に鑑み鋭意研究を重ねた結果、下記製造方法で得られる研磨パッドにより上記課題を解決できることを見出した。
【００１７】
すなわち、本発明は、研磨領域と開口部Ａとを有する研磨層にクッション層を積層する工程、前記開口部Ａ内のクッション層の一部を除去し、クッション層に開口部Ａよりも小さい開口部Ｂを形成する工程、前記開口部Ｂの周囲のクッション層上にホットメルト接着剤を設ける工程、前記開口部Ａ内かつ前記ホットメルト接着剤上に光透過領域を設置する工程、レーザー光を光透過領域上から照射して前記ホットメルト接着剤を溶融させる工程、及び溶融したホットメルト接着剤を硬化させることにより、該ホットメルト接着剤を介して光透過領域をクッション層に接着させる工程を含む研磨パッドの製造方法、に関する。
【００１８】
また、本発明は、研磨領域と開口部Ａとを有する研磨層と、開口部Ａよりも小さい開口部Ｂを有するクッション層とを、開口部Ａと開口部Ｂが重なるように積層する工程、前記開口部Ｂの周囲のクッション層上にホットメルト接着剤を設ける工程、前記開口部Ａ内かつ前記ホットメルト接着剤上に光透過領域を設置する工程、レーザー光を光透過領域上から照射して前記ホットメルト接着剤を溶融させる工程、及び溶融したホットメルト接着剤を硬化させることにより、ホットメルト接着剤を介して光透過領域をクッション層に接着させる工程を含む研磨パッドの製造方法、に関する。
【００１９】
また、本発明は、研磨領域と開口部Ａとを有する研磨層にクッション層を積層する工程、前記開口部Ａ内のクッション層の一部を除去し、クッション層に開口部Ａよりも小さい開口部Ｂを形成する工程、裏面側の周囲にホットメルト接着剤を設けた光透過領域を、該裏面側を下にして前記開口部Ａ内かつ前記開口部Ｂ上に設置する工程、レーザー光を光透過領域上から照射して前記ホットメルト接着剤を溶融させる工程、及び溶融したホットメルト接着剤を硬化させることにより、ホットメルト接着剤を介して光透過領域をクッション層に接着させる工程を含む研磨パッドの製造方法、に関する。
【００２０】
また、本発明は、研磨領域と開口部Ａとを有する研磨層と、開口部Ａよりも小さい開口部Ｂを有するクッション層とを、開口部Ａと開口部Ｂが重なるように積層する工程、裏面側の周囲にホットメルト接着剤を設けた光透過領域を、該裏面側を下にして前記開口部Ａ内かつ前記開口部Ｂ上に設置する工程、レーザー光を光透過領域上から照射して前記ホットメルト接着剤を溶融させる工程、及び溶融したホットメルト接着剤を硬化させることにより、ホットメルト接着剤を介して光透過領域をクッション層に接着させる工程を含む研磨パッドの製造方法、に関する。
【００２１】
従来の光透過領域が挿入された研磨パッドは、スラリー漏れを防止するために研磨領域の開口部にできるだけ隙間が発生しないようはめ込んでクッション層に接着させている。しかし、ＣＭＰでは、研磨パッドとウエハなどの被研磨対象物とが共に自転・公転し、加圧下での摩擦によって研磨が実行される。研磨中においては、光透過領域、研磨領域及びクッション層に種々（特に、水平方向）の力が働いているため、各部材の境界で引き剥がし状態が常に生じている。従来の研磨パッドは各部材の境界で剥がれやすく、境界に隙間が生じてスラリー漏れが発生すると考えられる。このスラリー漏れが光終点検出部における曇りなどの光学的問題を起こし、終点検出精度を低下又は不能にすると考えられる。
【００２２】
一方、本発明の製造方法により得られる研磨パッドは、光透過領域とクッション層とがホットメルト接着剤を介して強固に接着しているため、研磨中に光透過領域とクッション層とを引き剥がす力が働いた場合でも、それに耐え得る十分な抵抗力を有する。そのため、光透過領域とクッション層との界面で隙間や剥がれが生じ難く、効果的にスラリー漏れを防止することができる。
【００２３】
本発明の製造方法は、光透過領域とクッション層との間にホットメルト接着剤を設け、光透過領域上からレーザー光を照射して該ホットメルト接着剤を溶融させることに特徴がある。ホットメルト接着剤はヒーター等を用いて加熱により溶融させるのが一般的である。しかし、研磨領域及びクッション層は通常発泡構造であるため熱を通しにくく、光透過領域とクッション層との間に設けたホットメルト接着剤を加熱により溶融させるには時間がかかり過ぎるため、製造効率上好ましくない。また、加熱時間を短縮するために温度を高くし過ぎると研磨領域、光透過領域及びクッション層が変形して研磨特性に悪影響を与える恐れがある。本発明のように、光透過領域上からレーザー光を照射することにより、ホットメルト接着剤を直接溶融させることができるため短時間での接着が可能になり、また研磨領域、光透過領域及びクッション層は加熱されないので、熱によるこれら部材の変形を防止することができる。
【００２４】
また、本発明は、前記研磨パッドを用いて半導体ウエハの表面を研磨する工程を含む半導体デバイスの製造方法、に関する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
光透過領域の形成材料は特に制限されないが、高精度の光学的終点検知のために、波長４００〜７００ｎｍの全領域における光透過率が５０％以上である材料を用いることが好ましい。また、使用するレーザー光を十分透過する材料であることが好ましい。そのような材料としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ハロゲン系樹脂（ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデンなど）、ポリスチレン、オレフィン系樹脂（ポリエチレン、ポリプロピレンなど）、及びエポキシ樹脂などが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。なお、研磨領域に用いられる形成材料や研磨領域の物性に類似する材料を用いることが好ましい。特に、研磨中のドレッシング痕による光透過領域の光散乱を抑制できる耐摩耗性の高いポリウレタン樹脂が望ましい。
【００２６】
前記ポリウレタン樹脂は、イソシアネート成分、ポリオール成分（高分子量ポリオール、低分子量ポリオールなど）、及び鎖延長剤等からなるものである。
【００２７】
イソシアネート成分としては、ポリウレタンの分野において公知の化合物を特に限定なく使用できる。イソシアネート成分としては、２，４−トルエンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、２，２’−ジフェニルメタンジイソシアネート、２，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート；エチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート；１，４−シクロヘキサンジイソシアネート、４，４’−ジシクロへキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネートが挙げられる。これらは１種で用いても、２種以上を混合しても差し支えない。
【００２８】
高分子量ポリオールとしては、ポリテトラメチレンエーテルグリコールに代表されるポリエーテルポリオール、ポリブチレンアジペートに代表されるポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリカプロラクトンのようなポリエステルグリコールとアルキレンカーボネートとの反応物などで例示されるポリエステルポリカーボネートポリオール、エチレンカーボネートを多価アルコールと反応させ、次いで得られた反応混合物を有機ジカルボン酸と反応させたポリエステルポリカーボネートポリオール、及びポリヒドキシル化合物とアリールカーボネートとのエステル交換反応により得られるポリカーボネートポリオールなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２９】
また、ポリオールとして上述した高分子量ポリオールの他に、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，４−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン等の低分子量ポリオールを併用してもよい。
【００３０】
鎖延長剤としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、１，４−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン等の低分子量ポリオール、あるいは２，４−トルエンジアミン、２，６−トルエンジアミン、3 ，5 −ジエチル−2 ，4 −トルエンジアミン、４，４’−ジ−ｓｅｃ−ブチルージアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、２，２’，３，３’−テトラクロロ−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジエチル−５，５’−ジメチルジフェニルメタン、３，３’−ジエチル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−メチレン−ビスーメチルアンスラニレート、４，４’−メチレン−ビスーアンスラニリックアシッド、４，４’−ジアミノジフェニルスルフォン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、４，４’−メチレン−ビス（３−クロロ−２，６−ジエチルアミン）、３，３’−ジクロロ−４，４’−ジアミノ−５，５’−ジエチルジフェニルメタン、１，２−ビス（２−アミノフェニルチオ）エタン、トリメチレングリコールージ−ｐ−アミノベンゾエート、３，５−ビス（メチルチオ）−２，４−トルエンジアミン等に例示されるポリアミン類を挙げることができる。これらは１種で用いても、２種以上を混合しても差し支えない。
【００３１】
前記ポリウレタン樹脂におけるイソシアネート成分、ポリオール成分、及び鎖延長剤の比は、各々の分子量やこれらから製造される光透過領域の所望物性などにより適宜変更できる。
【００３２】
前記ポリウレタン樹脂は、溶融法、溶液法など公知のウレタン化技術を応用して製造することができるが、コスト、作業環境などを考慮した場合、溶融法で製造することが好ましい。
【００３３】
前記ポリウレタン樹脂の重合手順としては、プレポリマー法、ワンショット法のどちらでも可能であるが、研磨時のポリウレタン樹脂の安定性及び透明性の観点から、事前にイソシアネート成分とポリオール成分からイソシアネート末端プレポリマーを合成しておき、これに鎖延長剤を反応させるプレポリマー法が好ましい。また、前記プレポリマーのＮＣＯ重量％は２〜８重量％程度であることが好ましく、さらに好ましくは３〜７重量％程度である。ＮＣＯ重量％が２重量％未満の場合には、反応硬化に時間がかかりすぎて生産性が低下する傾向にあり、一方ＮＣＯ重量％が８重量％を超える場合には、反応速度が速くなり過ぎて空気の巻き込み等が発生し、ポリウレタン樹脂の透明性や光透過率等の物理特性が悪くなる傾向にある。
【００３４】
光透過領域の作製方法は特に制限されず、公知の方法により作製できる。例えば、前記方法により製造したポリウレタン樹脂のブロックをバンドソー方式やカンナ方式のスライサーを用いて所定厚みにする方法や所定厚みのキャビティーを持った金型に樹脂を流し込み硬化させる方法や、コーティング技術やシート成形技術を用いた方法などが用いられる。
【００３５】
光透過領域の形状は特に制限されるものではないが、研磨領域の開口部Ａと同様の形状、大きさにすることが好ましい。
【００３６】
光透過領域の厚さは特に制限されるものではないが、研磨領域の厚みと同一厚さ、またはそれ以下にすることが好ましい。光透過領域が研磨領域より厚い場合には、研磨中に突き出た部分によりウエハを傷つける恐れがあるからである。
【００３７】
研磨領域の形成材料は、研磨層の材料として通常用いられるものであれば特に制限なく使用できるが、本発明においては微細発泡体を用いることが好ましい。例えば、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ハロゲン系樹脂（ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデンなど）、ポリスチレン、オレフィン系樹脂（ポリエチレン、ポリプロピレンなど）、エポキシ樹脂、及び感光性樹脂などが挙げられる。これらは単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。なお、研磨領域の形成材料は、光透過領域と同組成でも異なる組成であってもよい。
【００３８】
ポリウレタン樹脂は耐摩耗性に優れ、原料組成を種々変えることにより所望の物性を有するポリマーを容易に得ることができるため、研磨領域の形成材料として特に好ましい材料である。ポリウレタン樹脂は、イソシアネート成分、ポリオール成分、及び鎖延長剤等からなるものである。
【００３９】
使用するイソシアネート成分は特に制限されず、例えば前記のイソシアネートが挙げられる。
【００４０】
使用するポリオール成分は特に制限されず、例えば前記の高分子量ポリオールが挙げられる。なお、高分子量ポリオールの数平均分子量は、特に限定されるものではないが、得られるポリウレタンの弾性特性等の観点から５００〜２０００であることが好ましい。数平均分子量が５００未満であると、これを用いたポリウレタンは十分な弾性特性を有さず、脆いポリマーとなる。そのためこのポリウレタンから製造される研磨パッドは硬くなりすぎ、被研磨対象物の研磨面のスクラッチの原因となる。また、摩耗しやすくなるため、パッド寿命の観点からも好ましくない。一方、数平均分子量が２０００を超えると、これを用いたポリウレタンは軟らかくなるため、このポリウレタンから製造される研磨パッドは平坦化特性に劣る傾向にある。
【００４１】
また、ポリオール成分としては、上述した高分子量ポリオールの他に、前記低分子量ポリオールを併用してもよい。ポリオール成分中の高分子量ポリオールと低分子量ポリオールの比は、これらから製造される研磨領域に要求される特性により決められる。
【００４２】
鎖延長剤としては、上述したポリアミン類又は低分子量ポリオールを挙げることができる。これらは１種で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００４３】
前記ポリウレタン樹脂における有機イソシアネート、ポリオール、及び鎖延長剤の比は、各々の分子量やこれらから製造される研磨領域の所望物性などにより種々変え得る。研磨特性に優れる研磨領域を得るためには、ポリオールと鎖延長剤の合計官能基（水酸基＋アミノ基）数に対する有機イソシアネートのイソシアネート基数は０．９５〜１．１５であることが好ましく、さらに好ましくは０．９９〜１．１０である。
【００４４】
前記ポリウレタン樹脂は、前記方法と同様の方法により製造することができる。なお、必要に応じてポリウレタン樹脂に酸化防止剤等の安定剤、界面活性剤、滑剤、顔料、充填剤、帯電防止剤、その他の添加剤を添加してもよい。
【００４５】
前記ポリウレタン樹脂を微細発泡させる方法は特に制限されないが、例えば中空ビーズを添加する方法、機械的発泡法、及び化学的発泡法等により発泡させる方法などが挙げられる。なお、各方法を併用してもよいが、特にポリアルキルシロキサンとポリエーテルとの共重合体であるシリコン系界面活性剤を使用した機械的発泡法が好ましい。該シリコン系界面活性剤としては、ＳＨ−１９２及びＬ−５３４０（東レダウコーニングシリコーン社製）等が好適な化合物として例示される。
【００４６】
研磨領域に用いられる独立気泡タイプのポリウレタン発泡体を製造する方法の例について以下に説明する。かかるポリウレタン発泡体の製造方法は、以下の工程を有する。
１）イソシアネート末端プレポリマーの気泡分散液を作製する発泡工程
イソシアネート末端プレポリマー（第１成分）にシリコン系界面活性剤を添加し、非反応性気体の存在下で撹拌し、非反応性気体を微細気泡として分散させて気泡分散液とする。前記プレポリマーが常温で固体の場合には適宜の温度に予熱し、溶融して使用する。
２）硬化剤（鎖延長剤）混合工程
上記の気泡分散液に鎖延長剤（第２成分）を添加、混合、撹拌して発泡反応液とする。
３）注型工程
上記の発泡反応液を金型に流し込む。
４）硬化工程
金型に流し込まれた発泡反応液を加熱し、反応硬化させる。
【００４７】
前記微細気泡を形成するために使用される非反応性気体としては、可燃性でないものが好ましく、具体的には窒素、酸素、ヘリウムやアルゴン等の希ガスやこれらの混合気体が例示され、乾燥して水分を除去した空気の使用がコスト的にも最も好ましい。
【００４８】
非反応性気体を微細気泡状にしてシリコン系界面活性剤を含む第１成分に分散させる撹拌装置としては、公知の撹拌装置は特に限定なく使用可能であり、具体的にはホモジナイザー、ディゾルバー、２軸遊星型ミキサー（プラネタリーミキサー）等が例示される。撹拌装置の撹拌翼の形状も特に限定されないが、ホイッパー型の撹拌翼の使用にて微細気泡が得られ好ましい。
【００４９】
なお、発泡工程において気泡分散液を作成する撹拌と、混合工程における鎖延長剤を添加して混合する撹拌は、異なる撹拌装置を使用することも好ましい態様である。特に混合工程における撹拌は気泡を形成する撹拌でなくてもよく、大きな気泡を巻き込まない撹拌装置の使用が好ましい。このような撹拌装置としては、遊星型ミキサーが好適である。発泡工程と混合工程の撹拌装置を同一の撹拌装置を使用しても支障はなく、必要に応じて撹拌翼の回転速度を調整する等の撹拌条件の調整を行って使用することも好適である。
【００５０】
ポリウレタン発泡体の製造方法においては、発泡反応液を型に流し込んで流動しなくなるまで反応した発泡体を、加熱、ポストキュアすることは、発泡体の物理的特性を向上させる効果があり、極めて好適である。金型に発泡反応液を流し込んで直ちに加熱オーブン中に入れてポストキュアを行う条件としてもよく、そのような条件下でもすぐに反応成分に熱が伝達されないので、気泡径が大きくなることはない。硬化反応は、常圧で行うと気泡形状が安定するため好ましい。
【００５１】
ポリウレタン発泡体の製造において、第３級アミン系、有機スズ系等の公知のポリウレタン反応を促進する触媒を使用してもかまわない。触媒の種類、添加量は、混合工程後、所定形状の型に流し込む流動時間を考慮して選択する。
【００５２】
ポリウレタン発泡体の製造は、容器に各成分を計量して投入し、撹拌するバッチ方式であっても、また撹拌装置に各成分と非反応性気体を連続して供給して撹拌し、発泡反応液を送り出して成形品を製造する連続生産方式であってもよい。
【００５３】
研磨領域は、以上のようにして作製されたポリウレタン発泡体を、所定のサイズに裁断して製造される。
【００５４】
微細発泡体からなる研磨領域は、被研磨対象物と接触する研磨側表面に、スラリーを保持・更新するための溝が設けられていることが好ましい。該研磨領域は、微細発泡体により形成されているため研磨表面に多くの開口を有し、スラリーを保持する働きを持っているが、更なるスラリーの保持性とスラリーの更新を効率よく行うため、また被研磨対象物との吸着による被研磨対象物の破壊を防ぐためにも、研磨側表面に溝を有することが好ましい。溝は、スラリーを保持・更新する表面形状であれば特に限定されるものではなく、例えば、ＸＹ格子溝、同心円状溝、貫通孔、貫通していない穴、多角柱、円柱、螺旋状溝、偏心円状溝、放射状溝、及びこれらの溝を組み合わせたものが挙げられる。また、溝ピッチ、溝幅、溝深さ等も特に制限されず適宜選択して形成される。さらに、これらの溝は規則性のあるものが一般的であるが、スラリーの保持・更新性を望ましいものにするため、ある範囲ごとに溝ピッチ、溝幅、溝深さ等を変化させることも可能である。
【００５５】
前記溝の形成方法は特に限定されるものではないが、例えば、所定サイズのバイトのような治具を用い機械切削する方法、所定の表面形状を有した金型に樹脂を流しこみ硬化させる方法、所定の表面形状を有したプレス板で樹脂をプレスして形成する方法、フォトリソグラフィを用いて形成する方法、印刷手法を用いて形成する方法、及び炭酸ガスレーザーなどを用いたレーザー光により形成する方法などが挙げられる。
【００５６】
研磨領域の厚みは特に限定されるものではないが、０．８〜２．０ｍｍ程度である。前記厚みの研磨領域を作製する方法としては、前記微細発泡体のブロックをバンドソー方式やカンナ方式のスライサーを用いて所定厚みにする方法、所定厚みのキャビティーを持った金型に樹脂を流し込み硬化させる方法、及びコーティング技術やシート成形技術を用いた方法などが挙げられる。
【００５７】
クッション層は、研磨層の特性を補うものである。クッション層は、ＣＭＰにおいて、トレードオフの関係にあるプラナリティとユニフォーミティの両者を両立させるために必要なものである。プラナリティとは、パターン形成時に発生する微小凹凸のある被研磨対象物を研磨した時のパターン部の平坦性をいい、ユニフォーミティとは、被研磨対象物全体の均一性をいう。研磨層の特性によって、プラナリティを改善し、クッション層の特性によってユニフォーミティを改善することを行う。本発明の研磨パッドにおいては、クッション層は研磨層より柔らかいものを用いることが好ましい。
【００５８】
クッション層の形成材料は特に制限されないが、例えば、ポリエステル不織布、ナイロン不織布、アクリル不織布などの繊維不織布、ポリウレタンを含浸したポリエステル不織布のような樹脂含浸不織布、ポリウレタンフォーム、ポリエチレンフォームなどの高分子樹脂発泡体、ブタジエンゴム、イソプレンゴムなどのゴム性樹脂、及び感光性樹脂などが挙げられる。
【００５９】
以下、本発明の研磨パッドの製造方法について説明する。図２は本発明の研磨パッドの一例を示す概略断面図である。
【００６０】
まず、研磨領域９と、光透過領域８を設けるための開口部Ａ（１１）とを有する研磨層１０にクッション層１２を貼り合わせる。
【００６１】
研磨領域９を開口する手段は特に制限されるものではないが、例えば、切削能力をもつ治具をプレスして開口する方法、炭酸レーザーなどのレーザーを用いて切断する方法、及びバイトのような治具にて研削する方法などが挙げられる。なお、開口部Ａ（１１）の大きさや形状は特に制限されない。
【００６２】
研磨領域９とクッション層１２とを貼り合わせる手段としては、例えば、研磨領域９とクッション層１２を両面テープで挟みプレスする方法、又はゴム系接着剤やアクリル系接着剤などの接着剤を塗布する方法が挙げられる。
【００６３】
両面テープは、不織布やフィルム等の基材の両面に接着層を設けた一般的な構成を有するものである。接着層の組成としては、例えば、ゴム系接着剤やアクリル系接着剤等が挙げられる。金属イオンの含有量を考慮すると、アクリル系接着剤は金属イオン含有量が少ないため好ましい。また、研磨領域とクッション層は組成が異なることもあるため、両面テープの各接着層の組成を異なるものとし、各層の接着力を適正化することも可能である。
【００６４】
次に、開口部Ａ（１１）内のクッション層の一部を除去し、クッション層１２に開口部Ａ（１１）よりも小さい開口部Ｂ（１３）を形成する。クッション層１２を開口する手段は特に制限されず、前記と同様の方法が挙げられる。なお、開口部Ｂ（１３）の形状は特に制限されない。
【００６５】
一方、研磨領域９と開口部Ａ（１１）とを有する研磨層１０と、開口部Ａ（１１）よりも小さい開口部Ｂ（１３）を有するクッション層１２とを、開口部Ａ（１１）と開口部Ｂ（１３）が重なるように貼り合わせてもよい。
【００６６】
次に、開口部Ｂ（１３）の周囲のクッション層１２上にホットメルト接着剤１４を設ける。光透過領域８とクッション層１２との間からのスラリー漏れを完全に防止するために、開口部Ｂ（１３）の全周囲にホットメルト接着剤１４を設けることが好ましい。
【００６７】
ホットメルト接着剤１４は、公知の物を特に制限なく使用できる。例えば、ポリエステル系、エチレン−酢酸ビニル樹脂系、ポリアミド樹脂系、ポリウレタン樹脂系、及びポリオレフィン樹脂系などが挙げられる。光透過領域８がポリウレタン樹脂で形成されている場合には、接着性の観点からポリウレタン樹脂系ホットメルト接着剤を用いることが好ましい。ホットメルト接着剤はレーザー光の吸収を高めるために不透明タイプのものを用いることが好ましい。不透明タイプのホットメルト接着剤としては、例えばカーボン等の黒色フィラーを含有するものが挙げられる。また、ホットメルト接着剤の形状は、例えば、粉体、ペレット、フィルム又は網状などが挙げられ、使用方法に応じて適宜選択する。
【００６８】
クッション層１２上にホットメルト接着剤１４を設ける方法としては、例えば、固体のホットメルト接着剤を設置する方法、ホットメルトガン等を用いて加熱溶融したホットメルト接着剤を塗布し、冷却して硬化させる方法などが挙げられる。
【００６９】
次に、開口部Ａ（１１）内かつホットメルト接着剤１４上に光透過領域８を設置する。その後、光透過領域８上（研磨表面側）からレーザー光１５を照射して、光透過領域８とクッション層１２との間に設けたホットメルト接着剤１４を溶融させる。そして、再びホットメルト接着剤１４を冷却して硬化させ、硬化したホットメルト接着剤１４を介して光透過領域８の周端部とクッション層１２とを接着させる。ホットメルト接着剤１４を冷却して硬化さる際には、光透過領域８とクッション層１２との間に隙間が生じないようにして各部材間の接着を強固にするために光透過領域８の上から圧力をかけておくことが好ましい。
【００７０】
一方、開口部Ｂ（１３）の周囲のクッション層１２上にホットメルト接着剤１４を設ける代わりに、光透過領域８の裏面側の周囲にホットメルト接着剤１４を設けてもよい。
【００７１】
光透過領域８の裏面側の周囲にホットメルト接着剤１４を設ける方法としては、例えば、ホットメルトガン等を用いて加熱溶融したホットメルト接着剤を光透過領域８の裏面側の平面上に塗布し、冷却して硬化させる方法が挙げられる。また、図３に示すように、光透過領域８の裏面側の周囲に凹部を設けておき、該凹部内にホットメルト接着剤１４を充填してもよい。凹部内にホットメルト接着剤１４を設けることにより、レーザー光の照射によって溶融したホットメルト接着剤が光透過領域及びクッション層表面に広がることを防止することができる。それにより、接着力の低下を防止でき、またホットメルト接着剤による光透過領域及びクッション層表面の汚染を防止することができる。凹部を形成する方法は特に制限されず、機械切削により形成してもよく、光透過領域を作製する際に所定の表面形状を有した型を用いて形成してもよい。また、光透過領域８とクッション層１２との間からのスラリー漏れを完全に防止するために、光透過領域８の裏面側の全周囲にホットメルト接着剤１４を設けることが好ましい。
【００７２】
そして、裏面側の周囲にホットメルト接着剤１４を設けた光透過領域８を、該裏面側を下にして前記開口部Ａ（１１）内かつ前記開口部Ｂ（１３）上に設置する。その後、上記と同様の方法でホットメルト接着剤１４を介して光透過領域８の周端部とクッション層１２とを接着させる。
【００７３】
使用するレーザーは、光透過領域８に吸収されにくく、ホットメルト接着剤１４を溶融させることができるレーザーであれば特に制限されず、例えば、紫外光吸収による熱的加工が可能で紫外線を放射するレーザー、及び赤外光吸収による熱的加工が可能で赤外線を放射するレーザーなどが挙げられる。具体的には、発振波長２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザー、ＹＡＧレーザーの第四高調波（波長２６６ｎｍ）、及びＹＡＧレーザーの基本波（波長１０６４ｎｍ）などが挙げられる。特に光透過領域８に吸収されにくい赤外線レーザーを用いることが好ましい。
【００７４】
レーザー光の照射条件は特に制限されないが、レーザー出力０．１〜５０Ｗ、走査速度１〜２００ｍｍ／ｓｅｃ、スポット径０．１〜３ｍｍであることが好ましい。
【００７５】
クッション層１２の他面側には、プラテンに貼り合わせるための両面テープが設けられていてもよい。
【００７６】
半導体デバイスは、前記研磨パッドを用いて半導体ウエハの表面を研磨する工程を経て製造される。半導体ウエハとは、一般にシリコンウエハ上に配線金属及び酸化膜を積層したものである。半導体ウエハの研磨方法、研磨装置は特に制限されず、例えば、図１に示すように研磨パッド１を支持する研磨定盤２と、半導体ウエハ４を支持する支持台（ポリシングヘッド）５とウエハへの均一加圧を行うためのバッキング材と、研磨剤３の供給機構を備えた研磨装置などを用いて行われる。研磨パッド１は、例えば、両面テープで貼り付けることにより、研磨定盤２に装着される。研磨定盤２と支持台５とは、それぞれに支持された研磨パッド１と半導体ウエハ４が対向するように配置され、それぞれに回転軸６、７を備えている。また、支持台５側には、半導体ウエハ４を研磨パッド１に押し付けるための加圧機構が設けてある。研磨に際しては、研磨定盤２と支持台５とを回転させつつ半導体ウエハ４を研磨パッド１に押し付け、スラリーを供給しながら研磨を行う。スラリーの流量、研磨荷重、研磨定盤回転数、及びウエハ回転数は特に制限されず、適宜調整して行う。
【００７７】
これにより半導体ウエハ４の表面の突出した部分が除去されて平坦状に研磨される。その後、ダイシング、ボンディング、パッケージング等することにより半導体デバイスが製造される。半導体デバイスは、演算処理装置やメモリー等に用いられる。
【実施例】
【００７８】
以下、本発明の構成と効果を具体的に示す実施例等について説明する。なお、実施例等における評価項目は下記のようにして測定した。
【００７９】
（水漏れ評価）
研磨装置としてＳＰＰ６００Ｓ（岡本工作機械社製）を用い、作製した研磨パッドを用いて、水漏れ評価を行った。８インチのダミーウエハを３０分間連続研磨し、その後、研磨パッド裏面側の光透過領域のはめこみ部分を目視にて観察し、水漏れの有無を確認した。研磨条件としては、アルカリ性スラリーとしてシリカスラリー（ＳＳ１２、キャボット  マイクロエレクトロニクス社製）を研磨中に流量１５０ｍｌ／ｍｉｎにて添加し、研磨荷重３５０ｇ／ｃｍ２、研磨定盤回転数３５ｒｐｍ、及びウエハ回転数３０ｒｐｍとした。また、ウエハの研磨は、♯１００ドレッサーを用いて研磨パッド表面のドレッシングを行いながら実施した。ドレッシング条件は、ドレス荷重８０ｇ／ｃｍ２、ドレッサー回転数３５ｒｐｍとした。
【００８０】
〔光透過領域の作製〕
アジピン酸とヘキサンジオールとエチレングリコールからなるポリエステルポリオール（数平均分子量２４００）１２８重量部、及び１，４−ブタンジオール３０重量部を混合し、７０℃に温調した。この混合液に、予め７０℃に温調した４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート１００重量部を加え、約１分間撹拌した。そして、１００℃に保温した容器中に該混合液を流し込み、１００℃で８時間ポストキュアを行ってポリウレタン樹脂を作製した。作製したポリウレタン樹脂を用い、インジェクション成型にて光透過領域（縦５６ｍｍ、横２０ｍｍ、厚さ１．２５ｍｍ）を作製した。
【００８１】
〔研磨領域の作製〕
製造例１
反応容器内に、ポリエーテル系プレポリマー（ユニロイヤル社製、アジプレンＬ−３２５、ＮＣＯ濃度：２．２２ｍｅｑ／ｇ）１００重量部、及びシリコン系界面活性剤（東レダウコーニングシリコーン社製、ＳＨ−１９２）３重量部を混合し、温度を８０℃に調整した。撹拌翼を用いて、回転数９００ｒｐｍで反応系内に気泡を取り込むように約４分間激しく撹拌を行った。そこへ予め１２０℃で溶融した４，４’−メチレンビス（ｏ−クロロアニリン）（イハラケミカル社製、イハラキュアミンＭＴ）２６重量部を添加した。その後、約１分間撹拌を続けてパン型のオープンモールドへ反応溶液を流し込んだ。この反応溶液の流動性がなくなった時点でオーブン内に入れ、１１０℃で６時間ポストキュアを行いポリウレタン樹脂発泡体ブロックを得た。このポリウレタン樹脂発泡体ブロックをバンドソータイプのスライサー（フェッケン社製）を用いてスライスし、ポリウレタン樹脂発泡体シートを得た。次にこのシートをバフ機（アミテック社製）を使用して、所定の厚さに表面バフをし、厚み精度を整えたシートとした（シート厚み：１．２７ｍｍ）。このバフ処理をしたシートを所定の直径（６１ｃｍ）に打ち抜き、溝加工機（東邦鋼機社製）を用いて表面に溝幅０．２５ｍｍ、溝ピッチ１．５０ｍｍ、溝深さ０．４０ｍｍの同心円状の溝加工を行って研磨領域を作製した。
【００８２】
〔研磨パッドの作製〕
実施例１
作製した研磨領域の溝加工面と反対側の面にラミ機を使用して、両面テープ（積水化学工業社製、ダブルタックテープ）を貼り合わせた。その後、研磨領域の所定位置に光透過領域をはめ込むための開口部Ａ（５６ｍｍ×２０ｍｍ）を打ち抜いて両面テープ付き研磨領域を作製した。  
表面をバフがけし、コロナ処理したポリエチレンフォーム（東レ社製、トーレペフ、厚さ：０．８ｍｍ）からなるクッション層を、両面テープ付き研磨領域の粘着面にラミ機を用いて貼り合わせた。次に、クッション層表面に両面テープを貼り合わせた。そして、光透過領域をはめ込むために打ち抜いた穴部分のうち、５０ｍｍ×１４ｍｍの大きさでクッション層を打ち抜き、開口部Ｂを形成した。そして、開口部Ｂの全周囲のクッション層上にポリウレタン樹脂系ホットメルト接着剤シート（シーダム株式会社製、ＤＵ２１７−ＣＤ）を設け、開口部Ａ内かつホットメルト接着剤シート上に光透過領域を設置した。その後、光透過領域上にガラス板を設置して圧力を掛けつつ、研磨表面側から光透過領域下のホットメルト接着剤シートに向けて赤外線レーザー光をレーザー出力６Ｗ、走査速度５ｍｍ／ｓｅｃ、及びスポット径１ｍｍの条件で照射し、該ホットメルト接着剤シートを溶融させた。その後、溶融したホットメルト接着剤を冷却して再び硬化させることにより、該ホットメルト接着剤を介して光透過領域の周端部とクッション層とを接着させて研磨パッドを作製した。水漏れ評価を行ったところ、光透過領域のはめ込み部分でのスラリー漏れは全く認められなかった。
【００８３】
実施例２
作製した光透過領域の裏面側の全周囲に旋盤を用いて凹部（幅２ｍｍ、深さ０．２ｍｍ）を形成した。その後、前記凹部の形状に合うようにポリウレタン樹脂系ホットメルト接着剤シート（シーダム株式会社製、ＤＵ２１７−ＣＤ）を打ち抜き、それを凹部内にはめ込んでホットメルト接着剤付き光透過領域を作製した。実施例１において、開口部Ｂの全周囲のクッション層上にポリウレタン樹脂系ホットメルト接着剤シートを設けず、開口部Ａ内かつ開口部Ｂ上に前記ホットメルト接着剤付き光透過領域を裏面側を下にして設置した以外は実施例１と同様の方法で研磨パッドを作製した。水漏れ評価を行ったところ、光透過領域のはめ込み部分でのスラリー漏れは全く認められなかった。
【００８４】
比較例１
作製した研磨領域の所定位置に光透過領域をはめ込むための開口部Ａ（５６ｍｍ×２０ｍｍ）を打ち抜いて開口部Ａを有する研磨領域を作製した。また、表面をバフがけし、コロナ処理したポリエチレンフォーム（東レ社製、トーレペフ、厚さ：０．８ｍｍ）からなるクッション層の片面に両面テープ（積水化学工業社製、ダブルタックテープ）を貼り合わせた。次に、クッション層の粘着面に開口部Ａを有する研磨領域を貼り合わせた。そして、光透過領域をはめ込むために打ち抜いた穴部分のうち、５０ｍｍ×１４ｍｍの大きさでクッション層を打ち抜き、開口部Ｂを形成した。そして、作製した光透過領域を開口部Ａ内にはめ込んで研磨パッドを作製した。水漏れ評価を行ったところ、光透過領域のはめ込み部分でスラリー漏れが認められた。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】ＣＭＰ研磨で使用する従来の研磨装置の一例を示す概略構成図
【図２】本発明の研磨パッドの一例を示す概略断面図
【図３】本発明の研磨パッドの他の一例を示す概略断面図
【符号の説明】
【００８６】
１：研磨パッド
２：研磨定盤
３：研磨剤（スラリー）
４：被研磨対象物（ウエハ）
５：支持台（ポリシングヘッド）
６、７：回転軸
８：光透過領域
９：研磨領域
１０：研磨層
１１：開口部Ａ
１２：クッション層
１３：開口部Ｂ
１４：ホットメルト接着剤
１５：レーザー光
【図１】
0005274798.tif 000002
【図２】
0005274798.tif 000003
【図３】
0005274798.tif 000004