(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
０．３μｍ〜０．５μｍの平均粒径（メジアン径）を有する銀粒子と、
２．０μｍ〜３．２μｍの平均粒径（メジアン径）を有する銀粒子と、
１つの水酸基と炭素数１〜６個とを有する低級アルコールとを含み、
接着剤を含まない
導電性ペースト。
【請求項２】
前記低級アルコールが、低級アルコキシ、アミノおよびハロゲンからなる群から選択される１以上の置換基を有する低級アルコールである請求項１に記載の導電性ペースト。
【請求項３】
前記０．３μｍ〜０．５μｍの平均粒径（メジアン径）を有する銀粒子と２．０μｍ〜３．２μｍの平均粒径（メジアン径）を有する銀粒子の重量比が、前記０．３μｍ〜０．５μｍの平均粒径（メジアン径）を有する銀粒子：２．０μｍ〜３．２μｍの平均粒径（メジアン径）を有する銀粒子＝３０〜５０％：５０〜７０％である請求項１または２に記載の導電性ペースト。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の導電性ペーストを用いて配線を形成する方法であって、前記導電性ペーストを基板上に塗布し、
塗布された前記基板を大気下または酸素ガス雰囲気下で１５０〜３００℃で加熱し、配線を形成する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性ペーストに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、銅箔を基板に張り合わせ、エッチングにより銅配線を製造する方法が主流である。しかしながら、この方法ではエッチングをするため、廃液、廃棄物等が大量に生じるという問題があった。
【０００３】
そこで、エッチングを用いない配線基板としては、粒径がミクロンオーダーの金属（例えば、銀、銅など）粒子と、接着剤（例えば、エポキシ系、アクリル系、シリコーン系など）とを含む導電性ペーストを基板の上に塗布し、１５０〜１８０℃で加熱して製造する方法が知られている（例えば、非特許文献１参照）。この製造方法によれば、加熱して接着剤が固化する際、導電性ペースト内の金属粒子の間隔が狭まり、その結果金属粒子が密集して電流が流れ、配線が製造される。ただし、この方法では、得られる電気抵抗値が１０-5Ωｃｍ-1オーダー程度と高めであり、さらに低い電気抵抗値が望まれていた。
【０００４】
また、粒径がミクロンオーダーの金属粒子と接着剤と酸化銀とを含む導電性ペーストを基板の上に塗布し、２００℃付近で加熱して配線を製造する方法も知られている（例えば、非特許文献２参照）。この製造方法によれば、前記ペーストを２００℃付近で加熱するとペースト中の酸化銀が銀に変化し、その結果、金属粒子が接続されて電流が流れ、配線が製造される。ただし、この製造方法では、形成された配線中に酸化銀由来の酸素が残存しやすく、その結果、配線が壊れやすいという問題点があった。
【０００５】
また、粒径がミクロンオーダーの金属粒子と接着剤と銀ナノ粒子とを含む導電性ペーストを基板の上に塗布し、２００℃付近で加熱して配線を製造する方法も知られている。この製造方法によれば、前記ペーストを２００℃付近で加熱すると銀ナノ粒子が金属粒子の間を接続させて電流が流れ、配線が製造される。ただしこの製造方法では、銀ナノ粒子の値段が高いという問題点があった。
【０００６】
前記の製造方法は、接着剤を含む導電性ペーストを用いる必要がある。しかしながら、粒径がミクロンオーダーの金属粒子と接着剤とを用いると、金属粒子間の密集が不十分であり、電気抵抗値が高いという問題があった。
【非特許文献１】Yi Li, C.P. Wong,"Recent advances of conductive adhesives asa lead-free alternative in electronic packaging: Materials, processing, reliability and applications", Materials Science and Engineering, 2006年、R 51、pp.1−35.
【非特許文献２】小日向  茂、「導電性ナノフィラーと応用製品」、小林征男監修、シーエムシ出版、2005年、pp.214-229.
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで、本発明は、低電気抵抗値を生じるための、接着剤を必要としない導電性ペーストの提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、０．１μｍ〜１５μｍの平均粒径（メジアン径）を有する銀粒子と、アルコールとを含む導電性ペーストである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の導電性ペーストは接着剤を必要とせず、電気抵抗値が低いという利点がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の導電性ペーストに含まれる銀粒子とアルコールとの割合は、重量部で例えば銀粒子：アルコールが４：１〜１６：１、好ましくは６：１〜１２：１、より好ましくは８：１〜１０：１である。
【００１１】
本発明の導電性ペーストに含まれる銀粒子は、平均粒径（メジアン径）が１種類のものであっても、２種類以上のものを混合して用いてもよい。前記銀粒子が１種類の場合、平均粒径（メジアン径）が０．１μｍ〜１５μｍであり、好ましくは０．１μｍ〜１０μｍであり、より好ましくは０．３μｍ〜５μｍである。前記銀粒子を２種類以上混合する場合には、平均粒径（メジアン径）が、例えば０．１μｍ〜１５μｍのものと、０．１μｍ〜１５μｍのものとの組み合わせ、好ましくは０．１μｍ〜１５μｍのものと、０．１μｍ〜１０μｍのものとの組み合わせ、より好ましくは０．１μｍ〜１５μｍのものと、０．３μｍ〜５μｍのものとの組み合わせである。前記銀粒子を２種類以上混合する場合には、平均粒径（メジアン径）が、０．１μｍ〜１５μｍのものの含有率は、例えば７０重量％以上、好ましくは８０重量％以上、よりこのましくは９０重量％以上である。
【００１２】
本発明の導電性ペーストに含まれる銀粒子の平均粒径（メジアン径）は、レーザーの方法により測定することができる。
【００１３】
また、本発明の導電性ペーストに含まれる銀粒子は、比表面積が０．５ｍ2／ｇ〜３ｍ2／ｇであり、好ましくは０．６ｍ2／ｇ〜２．５ｍ2／ｇであり、より好ましくは０．６ｍ2／ｇ〜２ｍ2／ｇである。本発明の導電性ペーストに含まれる銀粒子の比表面積は、ＢＥＴの方法により測定することができる。
【００１４】
本発明の導電性ペーストに含まれる銀粒子の形態は限定されないが、例えば、球状、扁平な形状、多面体等が挙げられる。前記銀粒子の形態は、平均粒径（メジアン径）が所定の範囲内の銀粒子に関して、均等であるのが好ましい。本発明の導電性ペーストに含まれる銀粒子は平均粒径（メジアン径）が２種類以上のものを混合する場合、それぞれの平均粒径（メジアン径）の銀粒子の形態は、同一であっても異なっていてもよい。例えば、平均粒径（メジアン径）が３μｍである銀粒子と平均粒径（メジアン径）が０．３μｍである銀粒子の２種類を混合する場合、平均粒径（メジアン径）が０．３μｍである銀粒子は球状であり、平均粒径（メジアン径）が３μｍである銀粒子は扁平な形状であってもよい。
【００１５】
本発明の導電性ペーストは、さらに銀以外の導電性金属の粒子を含んでもよい。前記導電性金属としては、例えば、パラジウム、白金、金、銅等が挙げられる。前記導電性金属の粒子は、平均粒径（メジアン径）が０．１μｍ〜１５μｍであり、好ましくは０．１μｍ〜１０μｍであり、より好ましくは０．３μｍ〜５μｍである。また、前記導電性金属の粒子は、比表面積が０．５ｍ2／ｇ〜３ｍ2／ｇであり、好ましくは０．６ｍ2／ｇ〜２．５ｍ2／ｇであり、より好ましくは０．６ｍ2／ｇ〜２ｍ2／ｇである。
【００１６】
本発明の導電性ペーストにおいては、前記アルコールは、低級アルコールまたは、低級アルコキシ、アミノおよびハロゲンからなる群から選択される１以上の置換基を有する低級アルコールであるのが好ましい。前記低級アルコールは、例えば、炭素原子１〜６個を有するアルキル基と、水酸基１〜３個、好ましくは１〜２個を含むものが挙げられる。前記低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉ−ペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、２−メチルブチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、および１−エチル−１−メチルプロピル基などの直鎖状または分岐状のアルキル基が挙げられる。炭素原子１〜６個を有するアルキル基と水酸基１〜３個とを有する低級アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、トリエチレングリコール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、ｉ−ペンタノール、ｓｅｃ−ペンタノール、ｔ−ペンタノール、２−メチルブタノール、ｎ−ヘキサノール、１−メチルペンタノール、２−メチルペンタノール、３−メチルペンタノール、４−メチルペンタノール、１−エチルブタノール、２−エチルブタノール、１，１−ジメチルブタノール、２，２−ジメチルブタノール、３，３−ジメチルブタノール、および１−エチル−１−メチルプロパノール等が挙げられる。
【００１７】
低級アルコキシ、アミノおよびハロゲンからなる群から選択される１以上の置換基を有する前記低級アルコールにおいて、置換基については以下のとおりである。前記低級アルコキシとしては、前記低級アルキル基に−Ｏ−が置換された基が挙げられる。前記低級アルコキシとしては、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ｎ−ブトキシ、ｉ−ブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ｎ−ペンチルオキシ等が挙げられる。前記ハロゲンとしては、フッ素、臭素、塩素およびヨウ素が挙げられる。
【００１８】
低級アルコキシ、アミノおよびハロゲンからなる群から選択される１以上の置換基を有する前記低級アルコールとしては、例えば、メトキシメタノール、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−クロロエタノール、エタノールアミン等が挙げられる。
【００１９】
また、本発明は、本発明の導電性ペーストを用いて配線を形成する方法であって、前記導電性ペーストを基板上に塗布し、塗布された前記基板を１５０〜３００℃で加熱し、配線を形成することを特徴とする。
【００２０】
前記方法において、基板としてはその表面に本発明の導電性ペーストを塗布することが可能であれば特に限定されないが、例えば半導体素子、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、酸化ジルコニウム、窒化ジルコニウム、酸化チタン、窒化チタンまたはこれらの混合物を含むセラミック基板、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ａｌ、Ａｇ、Ａｕ、Ｔｉまたはこれらの合金を含む金属基板、ガラスエポキシ基板、ＢＴレジン基板、ガラス基板、樹脂基板、紙等が挙げられる。前記方法は、加熱温度が低温であるため、熱可塑性樹脂のような加熱に弱いものも用いることができる。
【００２１】
前記方法において、導電性ペーストを基板上に塗布する工程は、基板表面に本発明の導電性ペーストを塗布することが可能であれば特に限定されないが、例えば、印刷法、コーティング法等により行ってもよい。前記印刷法としては、スクリーン印刷法、オフセット印刷法、インクジェット印刷法、フレキソ印刷法、グラビア印刷法、スタンピング、ディスペンス、スキ−ジ印刷、シルクスクリ−ン印刷、噴霧、刷毛塗り等が挙げられ、スクリーン印刷法、スタンピングおよびディスペンスが好ましい。前記塗布された導電性ペーストの厚さは、例えば、２０〜５００μｍ、好ましくは３０〜３００μｍ、より好ましくは５０〜２００μｍである。
【００２２】
前記方法において、塗布された前記基板を加熱する工程は、非酸化性雰囲気下、大気下、真空雰囲気下、酸素もしくは混合ガス雰囲気下、気流中などの雰囲気下等で行ってもよい。大気雰囲気下で行えば、配線が低抵抗になり、配線形成が経済的なので好ましい。
【００２３】
前記方法において加熱して得られた配線の厚みは、例えば１５〜４００μｍ、好ましくは２０〜２５０μｍ、より好ましくは４０〜１８０μｍである。
【００２４】
前記方法は、さらに前記配線に接着剤を塗布する工程を含むのが好ましい。前記接着剤を塗布する工程により、前記基板と前記配線との接着性を高めることができる。また、接着剤を含む従来の導電性ペーストから形成された配線は、前記のように金属粒子間の密集が不十分であり、電気抵抗値が高いという問題があった。しかし、本発明の方法では、金属粒子間の密集は十分であり、その結果、電気抵抗値が低い配線が得られる。そのような本発明の方法に、前記配線に接着剤を塗布する工程をさらに含む場合、そのような配線を前記基板に強固に接着させることが可能であるので、電気抵抗値が低く、かつ、基板との接着性が高い配線を得ることができ、好ましい。
【００２５】
前記方法において用いることができる接着剤としては、エポキシ系、フェノール系、アクリル系、ポリイミド系、シリコン系、ウレタン系、熱可塑性系等が挙げられる。中でも前記接着剤としては、エポキシ系が好ましい。
【００２６】
以下において、平均粒径（メジアン径）はレーザー方法により、比表面積はＢＥＴ方法により測定した値である。
また、用いた銀粒子は、以下のとおりである。
福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」は、平均粒径（メジアン径）が２．０〜３．２μｍ、比表面積が０．６〜０．９ｍ2／ｇである。
三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＦＨＤ」は、平均粒径（メジアン径）が０．３μｍ、比表面積が２．５４ｍ2／ｇである。
三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＥＨＤ」は、平均粒径（メジアン径）が０．５μｍ、比表面積が１．７０ｍ2／ｇ、である。
【００２７】
［参考例１］
銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」、２．５ｇ）と、メタノール（０．３ｇ）とを２５℃で混合して導電性ペーストを得た。得られた導電性ペーストを、ガラス基板（厚み１ｍｍ）にスクリーン印刷法により厚み２００μｍに塗布した。前記導電性ペーストが塗布されたガラス基板を、２００℃で３０分間、大気雰囲気下で加熱した。得られた配線の厚みは、１７５〜１９５μｍである。前記得られた配線の電気抵抗値は７．１×１０-6Ω・ｃｍであった。
【００２８】
［参考例２］
メタノールの代わりにエタノール（０．３ｇ）用いた以外は、参考例１と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値は、５．３×１０-6Ω・ｃｍであった。
【００２９】
［参考例３］
メタノールの代わりにエチレングリコール（０．３ｇ）用いた以外は、参考例１と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値は１．０×１０-5Ω・ｃｍであった。
【００３０】
［参考例４］
メタノールの代わりに２ーエトキシエタノール（０．３ｇ）用いた以外は、参考例１と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値は６．２×１０-6Ω・ｃｍであった。
【００３１】
［比較例１］
メタノールを用いない以外は、参考例１と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値は１．１×１０-5Ω・ｃｍであった。
【００３２】
［比較例２］
メタノールの代わりに水（０．３ｇ）用いた以外は、参考例１と同様にして行った。得られた配線に電気抵抗値は得られず、測定不能であった。
【００３３】
［実施例５］
銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」、２ｇ）の代わりに、銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」、１ｇ）と銀粒子（三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＦＨＤ」、１ｇ）との混合物を用いた以外は、参考例１と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値は６．７×１０-6Ω・ｃｍであった。
【００３４】
［実施例６］
メタノールの代わりにエタノール（０．４５ｇ）用いた以外は、実施例５と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値は、３．９×１０-6Ω・ｃｍであった。
【００３５】
［参考例７］
メタノールの代わりにエチレングリコール（０．２ｇ）用いた以外は、実施例５と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値は６．７×１０-6Ω・ｃｍであった。
【００３６】
［実施例８］
メタノールの代わりに２ーエトキシエタノール（０．２ｇ）用いた以外は、実施例５と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値は５．６×１０-6Ω・ｃｍであった。
【００３７】
［比較例３］
メタノールを用いない以外は、実施例５と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値は２．０×１０-5Ω・ｃｍであった。
【００３８】
［比較例４］
メタノールの代わりに水（０．２ｇ）用いた以外は、実施例５と同様にして行った。得られた配線に電気抵抗値は得られず、測定不能であった。
【００３９】
［実施例９］
銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」、２ｇ）の代わりに、銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」、１ｇ）と銀粒子（三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＥＨＤ」、１ｇ）との混合物を用いた以外は、参考例１と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値は７．５×１０-6Ω・ｃｍであった。
【００４０】
［実施例１０］
メタノールの代わりにエタノール（０．４５ｇ）用いた以外は、実施例９と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値は、４．９×１０-6Ω・ｃｍであった。
【００４１】
［参考例１１］
メタノールの代わりにエチレングリコール（０．２ｇ）用いた以外は、実施例９と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値は７．８×１０-6Ω・ｃｍであった。
【００４２】
［実施例１２］
メタノールの代わりに２ーエトキシエタノール（０．２ｇ）用いた以外は、実施例９と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値は７．６×１０-6Ω・ｃｍであった。
【００４３】
［比較例５］
メタノールを用いない以外は、実施例９と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値は２．１×１０-5Ω・ｃｍであった。
【００４４】
［比較例６］
メタノールの代わりに水（０．２ｇ）用いた以外は、実施例９と同様にして行った。得られた配線に電気抵抗値は得られず、測定不能であった。
【００４５】
前記参考例１〜４、実施例５、実施例６、参考例７、実施例８〜１０、参考例１１、実施例１２および比較例１〜６で得られた電気抵抗値を表１および図１に示す。
【００４６】
【表１】
0005207281.tif 000002
【００４７】
前記表１および図１に示すように、実施例５、６、８、９、１０および１２の結果から、本発明の導電性ペーストを用いると、概ね１０-6オーダーの低い電気抵抗値が得られることが確認できた。また、本発明の導電性ペーストを用いると、加熱温度が低くても低電気抵抗値の配線が得られることを確認できた。
【００４８】
［実施例１３および参考例１３］
銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」）と、銀粒子（三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＥＨＤ」）とアルコール（０．２〜０．５ｇ）とを２５℃で混合して導電性ペーストを得た。アルコールとしては、メタノール（ＭｅＯＨ）、エタノール（ＥｔＯＨ）またはエチレングリコール（ＥＧ）［参考例１３］を用いた。銀粒子全体における銀粒子（三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＥＨＤ」）の含有率は、０重量％［参考例１３］、３０重量％、５０重量％または１００重量％［参考例１３］である。得られた導電性ペーストを、ガラス基板（厚み１ｍｍ）にスクリーン印刷法により厚み２００μｍに塗布した。前記導電性ペーストが塗布されたガラス基板を、２００℃で３０分間、大気雰囲気下で加熱した。得られた配線の厚みは、１７５〜１９５μｍである。得られた配線の電気抵抗値を表２および図２に示す。
【００４９】
［実施例１４および参考例１４］
銀粒子（三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＥＨＤ」の代わりに銀粒子（三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＦＨＤ」）を用いた以外は、参考例１３と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値を表２および図２に示す。
【００５０】
【表２】
0005207281.tif 000003
【００５１】
前記表２および図２に示すように、実施例１３および１４の結果から、粒径が０．３〜０．５μｍの範囲の銀粒子を３０〜５０％と、粒径が２．０〜３．２μｍの範囲の銀粒子を７０〜５０％とを含有する導電性ペーストを用いると、２．０〜３．２μｍの範囲の銀粒子のみを含有する導電性ペーストよりさらに低い電気抵抗率を達成できることが確認できた。
【００５２】
［実施例１５］
銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」、１ｇ）と、銀粒子（三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＥＨＤ」、１ｇ）とエチレングリコール（０．２ｇ）とを２５℃で混合して導電性ペーストを得た。得られた導電性ペーストを、ガラス基板（厚み１ｍｍ）にスクリーン印刷法により厚み２００μｍに塗布した。前記導電性ペーストが塗布されたガラス基板を、１８０℃、２００℃、２５０℃または３００℃で３０分間、大気雰囲気下で加熱した。得られた配線の厚みは、１７５〜１９５μｍである。得られた配線の電気抵抗値を表３および図３に示す。
【００５３】
［実施例１６］
銀粒子（三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＥＨＤ」の代わりに銀粒子（三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＦＨＤ」、１ｇ）を用いた以外は、実施例１５と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値を表３および図３に示す。
【００５４】
【表３】
0005207281.tif 000004
【００５５】
前記表３および図３に示すように、実施例１５および１６の結果から、粒径が０．３〜０．５μｍの範囲の銀粒子と、粒径が２．０〜３．２μｍの範囲の銀粒子とを含有する導電性ペーストを用いると、２００℃程度３０分間の加熱で、低い電気抵抗率を達成できることが確認できた。
【００５６】
［参考例１７］
銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」、２．５ｇ）とエタノール（０．３ｇ）とを２５℃で混合して導電性ペーストを得た。得られた導電性ペーストを、ガラス基板（厚み１ｍｍ）にスクリーン印刷法により厚み２００μｍに塗布した。前記導電性ペーストが塗布されたガラス基板を、１５０℃、１６０℃、１７０℃、１８０℃、２００℃、２２０℃、２５０℃または３００℃で３０分間、大気雰囲気下で加熱した。得られた配線の厚みは、１７５〜１９５μｍである。得られた配線の電気抵抗値を表４および図４に示す。
【００５７】
［参考例１８］
銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」、２．５ｇ）とエチレングリコール（０．９ｇ）とを２５℃で混合して導電性ペーストを得た。得られた導電性ペーストを、ガラス基板（厚み１ｍｍ）にスクリーン印刷法により厚み２００μｍに塗布した。前記導電性ペーストが塗布されたガラス基板を、１５０℃、１６０℃、１７０℃、１８０℃、２００℃、２２０℃、２５０℃または３００℃で３０分間、大気雰囲気下で加熱した。得られた配線の厚みは、１７５〜１９５μｍである。得られた配線の電気抵抗値を表４および図４に示す。
【００５８】
［参考例１９］
前記エチレングリコールの量を、０．９ｇの代わりに０．３ｇ用いる以外は、参考例１８と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値を表４および図４に示す。
【００５９】
【表４】
0005207281.tif 000005
【００６０】
前記表４および図４に示すように、参考例１７〜１９の結果から、粒径が０．３〜０．５μｍの範囲の銀粒子を含有する導電性ペーストを用いると、１８０℃程度３０分間の加熱で、低い電気抵抗率を達成できることが確認できた。
【００６１】
［参考例２０］
銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」、４ｇ）と、銀粒子（三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＥＨＤ」、２ｇ）とエチレングリコール（０．６ｇ）とを２５℃で混合して導電性ペーストを得た。得られた導電性ペーストを、ガラス基板
（厚み１ｍｍ）にスクリーン印刷法により厚み２００μｍに塗布した。前記導電性ペーストが塗布されたガラス基板を、２００℃で５分、１０分、２０分、３０分、または６０分間、大気雰囲気下で加熱した。得られた配線の厚みは、１７５〜１９５μｍである。得られた配線の電気抵抗値を表５および図５に示す。
【００６２】
［参考例２１］
銀粒子（三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＥＨＤ」の代わりに銀粒子（三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＦＨＤ」、２ｇ）を用いた以外は、参考例２０と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値を表５および図５に示す。
【００６３】
【表５】
0005207281.tif 000006
【００６４】
前記表５および図５に示すように、参考例２０および２１の結果から、粒径が０．３〜０．５μｍの範囲の銀粒子と、粒径が２．０〜３．２μｍの範囲の銀粒子とを含有する導電性ペーストを用いると、２００℃で３０分間程度の加熱で、低い電気抵抗率を達成できることが確認できた。
【００６５】
［実施例２２］
銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」、１ｇ）と、銀粒子（三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＦＨＤ」、１ｇ）とエタノール（０．４５ｇ）とを２５℃で混合して導電性ペーストを得た。得られた導電性ペーストを、ガラス基板（厚み１ｍｍ）にスクリーン印刷法により厚み２００μｍに塗布した。前記導電性ペーストが塗布されたガラス基板を、２００℃で３０分間、大気雰囲気下で加熱した。得られた配線の厚みは、１７５〜１９５μｍである。得られた配線の電気抵抗値は３．９×１０-6Ω・ｃｍであった。また、得られた配線の断面のＳＥＭ写真を図６（ａ）に示す。
【００６６】
［比較例７］
エタノールを用いない以外は、実施例２２と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値は２．０×１０-5Ω・ｃｍであった。また、得られた配線の断面のＳＥＭ写真を図６（ｂ）に示す。
【００６７】
前記図６に示すように、実施例２２および比較例７の結果から、本発明の導電性ペーストを用いると、２００℃で３０分間程度の加熱で、低い電気抵抗率を達成できることが確認できた。また、得られた配線において、金属粒子が密集していることを確認できた。
【００６８】
［参考例２３］
銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」、２．５ｇ）と、エタノール（０．３ｇ）とを２５℃で混合して導電性ペーストを得た。得られた導電性ペーストを、ガラス基板（厚み１ｍｍ）にスクリーン印刷法により厚み２００μｍに塗布した。前記導電性ペーストが塗布されたガラス基板を、２００℃で３０分間、大気雰囲気下で加熱した。得られた配線の厚みは、１７５〜１９５μｍである。得られた配線の電気抵抗値は５．３×１０-6Ω・ｃｍであった。また、得られた配線の断面のＳＥＭ写真を図７（ａ）に示す。
【００６９】
［比較例８］
エタノールを用いない以外は、参考例２３と同様にして行った。得られた配線の電気抵抗値は１．１×１０-5Ω・ｃｍであった。また、得られた配線の断面のＳＥＭ写真を図７（ｂ）に示す。
【００７０】
前記図７に示すように、参考例２３および比較例８の結果から、本発明の導電性ペーストを用いると、２００℃で３０分間程度の加熱で、低い電気抵抗率を達成できることが確認できた。また、得られた配線において、金属粒子が密集していることを確認できた。
【００７１】
［参考例A］
銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」、２ｇ）と、溶媒（０．２〜０．５ｇ）とを２５℃で混合して導電性ペーストを得た。得られた導電性ペーストを、ガラス基板（厚み１ｍｍ）にスクリーン印刷法により厚み２００μｍに塗布した。溶媒としては、水、メタノール、エタノール、エチレングリコールまたは２−エトキシエタノールを用いた。得られた前記導電性ペーストの塗布しやすさ（印刷性）を、表６に示す。表中の評価は、以下のとおりである。
【００７２】
［参考例B］
導電性ペーストを、銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」、１ｇ）と、銀粒子（三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＦＨＤ」、１ｇ）とアルコール（０．２〜０．５ｇ）とを２５℃で混合して導電性ペーストを得た以外は、参考例Aと同様にして行った。前記導電性ペーストの塗布しやすさ（印刷性）を、表６に示す。
【００７３】
［参考例C］
導電性ペーストを、銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」、１ｇ）と、銀粒子（三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＥＨＤ」、１ｇ）とアルコール（０．２〜０．５ｇ）とを２５℃で混合して導電性ペーストを得た以外は、参考例Aと同様にして行った。前記導電性ペーストの塗布しやすさ（印刷性）を、表６に示す。
【００７４】
【表６】
0005207281.tif 000007
【００７５】
表６に示すように、参考例Ａ〜Ｃの結果から、本発明の導電性ペーストを用いると、印刷性に優れることが確認できた。また、アルコールとしてエチレングリコールを用いる場合、導電性ペーストが安定したペーストであった。
【００７６】
［参考例２４］
銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」、４ｇ）とエチレングリコール（０．４ｇ）とを２５℃で混合して導電性ペーストを得た。得られた導電性ペーストを、Ａｕ／Ｎｉ基板（Ｎｉ厚み１ｍｍ。Ａｕ基板にＮｉでメッキした基板。）にスクリーン印刷法により厚み１００μｍに塗布した。次にその導電性ペーストの上にＡｕ／Ｎｉ基板（寸法４ｍｍ×４ｍｍ。Ｎｉ厚み１ｍｍ。Ａｕ基板にＮｉでメッキした基板。）を載せた。前記導電性ペーストが塗布された基板を、２２０℃で４０分間、大気雰囲気下で加熱した。得られた配線の厚みは、７５〜９５μｍである。
【００７７】
得られたドット状に形成した配線の基板への接合強度を測定した。測定方法は、ＪＩＳＺ３１９８−７に準じる方法に従い行った。
【００７８】
その後、基板と配線の上に配置された基板との間に存在する配線に、導電性接着剤（藤倉化成株式会社製、製品名「ＸＢ−５１２７」）を塗布した。１５０℃で３０分間加熱して前記接着剤を硬化させた。その後、得られた配線の基板への接合強度を前記と同様にして測定した。得られた接合強度を表７に示す。
【００７９】
［参考例２５］
導電性ペーストを、銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−２３９」、２ｇ）と、銀粒子（三井金属鉱業株式会社製、製品名「ＦＨＤ」、２ｇ）エチレングリコール（０．４ｇ）とを２５℃で混合して導電性ペーストを得た以外は、実施例２４と同様にして行った。得られた配線の厚みは、７５〜９５μｍである。得られた接合強度を表
７に示す。
【００８０】
［参考例Ｄ］
銀粒子（福田金属箔粉工業株式会社製、製品名「ＡｇＣ−Ａ」、４ｇ）と、エタノール（０．４ｇ）とを２５℃で混合して導電性ペーストを得た。次にその導電性ペーストの上にＡｕ／Ｎｉ基板（寸法４ｍｍ×４ｍｍ。Ｎｉ厚み１ｍｍ。Ａｕ基板にＮｉでメッキした基板。）を載せた。前記導電性ペーストが塗布された基板を、４３０℃で３０分間、大気雰囲気下で加熱した。得られた配線の厚みは、７５〜９５μｍである。得られた接合強度を表７に示す。
【００８１】
［参考例Ｅ］
導電性接着剤（藤倉化成株式会社製、製品名「ＸＡ−５５５４」）を、Ａｕ／Ｎｉ基板（Ｎｉ厚み1ｍｍ。Ａｕ基板にＮｉでメッキした基板。）にスクリーン印刷法により厚み１００μｍに塗布した。次にその接着剤の上にＡｕ／Ｎｉ基板（寸法４ｍｍ×４ｍｍ。Ｎｉ厚み１ｍｍ。Ａｕ基板にＮｉでメッキした基板。）を載せた。前記接着剤が塗布された基板を、１５０℃で３０分間加熱して前記接着剤を硬化させた。その後、得られた基板への接合強度を参考例２４と同様にして測定した。得られた接合強度を表７に示す。
【００８２】
［参考例Ｆ］
銀ナノペースト（ハリマ化成株式会社製、製品名「ＮＰＳ−ＨＴＢ」、４ｇ）を、Ａｕ／Ｎｉ基板（Ｎｉ厚み１ｍｍ。Ａｕ基板にＮｉでメッキした基板。）にスクリーン印刷法により厚み１００μｍに塗布した。次にその導電性ペーストの上にＡｕ／Ｎｉ基板（寸法４ｍｍ×４ｍｍ。Ｎｉ厚み１ｍｍ。Ａｕ基板にＮｉでメッキした基板。）を載せた。前記導電性ペーストが塗布された基板を、４３０℃で３０分間、大気雰囲気下で加熱した。得られた配線の厚みは、７５〜９５μｍである。その後、得られた基板への接合強度を参考例２４と同様にして測定した。得られた接合強度を表７に示す。
【００８３】
【表７】
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【００８４】
表７に示すように、参考例２４および２５の結果から、本発明の導電性ペーストを用い、配線を形成後に導電性接着剤を用いると、低い電気抵抗率と高い接合強度を両立できることが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【００８５】
本発明の導電性ペーストは、耐熱パワー配線、部品電極、ダイアタッチ、微細バンプ、フラットパネル、ソーラ配線等の製造用途およびウエハ接続等の用途にも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】図１は、参考例１〜４、実施例５、実施例６、参考例７、実施例８〜１０、参考例１１、実施例１２および比較例１〜６で得られた電気抵抗値を表わすグラフである。
【図２】図２は、実施例１３および１４で得られた電気抵抗値を表すグラフである。
【図３】図３は、実施例１５および１６で得られた電気抵抗値を表すグラフである。
【図４】図４は、参考例１７〜１９で得られた電気抵抗値を表すグラフである。
【図５】図５は、参考例２０および２１で得られた電気抵抗値を表すグラフである。
【図６】図６（ａ）は、実施例２２で得られた配線の断面のＳＥＭ写真である。図６（ｂ）は、比較例７で得られた配線の断面のＳＥＭ写真である。
【図７】図７（ａ）は、参考例２３で得られた配線の断面のＳＥＭ写真である。図７（ｂ）は、比較例８で得られた配線の断面のＳＥＭ写真である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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