(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光線を生成するのに適している光源(10)と、
表面の一方の側だけから光線を放射するように光源が配置される略平坦な支持面(20)と、
前記支持面の一方の側に延在して前記支持面の方に面するそのくぼみを有しており、前記光源の支持面と略平行な主方向に前記光源から始まる光線を反射することができる湾曲した反射面(30)であって、前記光線の部分のそれぞれを受け入れるのに適している複数の反射領域(31，32，33)に分割されている反射面(30)と、を備えて、
前記複数の反射領域は、少なくとも一つの中央反射領域(31)と少なくとも一つの第一の側面反射領域(33)とを備え、前記中央反射領域(31)は、前記光源及び第一の側面反射領域(33)の間に配置されているとともに、前記光源と略一致する焦点の一つを持った前記支持面に平行な略楕円形状の水平断面と、前記支持面に略平行な軸及び前記光源と略一致する焦点を持った略放物線形状の垂直断面と、を有するとともに、
前記中央反射領域(31)及び第一の側面反射領域(33)は、該第一の側面反射領域(33)によって反射された光線の前記部分が支持面(20)に対して垂直である方向と略平行になっていて且つ或る第一の角度よりも小さな水平方向の小広がりを有し、前記中央反射領域(31)によって反射された光線の前記部分が或る第二の角度より大きな水平方向の大広がりを有するように構成されていて、
前記或る第一の角度が20度であり、前記或る第二の角度が50度であることを特徴とする、光線を投射するためのモジュール。
【請求項２】
前記光源(10)によって放射されるとともに第二の側面反射領域(32)によって反射された光線の前記部分が、下向き光線のパターンのくぼみ(I)の形成に寄与するように、前記或る第一の角度より小さな水平方向の小広がりを有する少なくとも一つの第二の側面反射領域(32)を備えることを特徴とする、請求項１記載のモジュール。
【請求項３】
ステップ状に少なくとも二つの反射領域を接続する接続面(40)をさらに備え、当該接続面は、前記光源と略一致する共通の頂点(V)を有し且つ前記反射領域のエッジ部分(31a，32a，33a)によって画定された曲線上にある直線(D)の軌跡として得られた略円錐状表面の部分によって構成されることを特徴とする、請求項１記載のモジュール。
【請求項４】
前記接続面(40)は反射することを特徴とする、請求項３記載のモジュール。
【請求項５】
前記第一の側面反射領域(33)及び第二の側面反射領域(32)は、前記支持面(20)に隣接するとともに前記モジュールの光軸(z)の対向側にあり、前記中央反射領域(31)が、前記支持面(20)から離れているとともに前記接続面が前記中央反射領域(31)を前記第一の側面反射領域(33)及び第二の側面反射領域(32)に接続することを特徴とする、請求項４記載のモジュール。
【請求項６】
前記第一の側面反射領域(33)及び第二の側面反射領域(32)は、前記光源(10)と略一致する一つの焦点(F1)を備えた支持面(20)と平行な略楕円形状の水平断面を有することを特徴とする、請求項５記載のモジュール。
【請求項７】
前記第一の側面反射領域(33)及び第二の側面反射領域(32)の少なくとも一つの水平断面の第二の焦点(F2)は、前記モジュール(1)の光軸(z)の外側にあることを特徴とする、請求項６記載のモジュール。
【請求項８】
略垂直方向と平行である光線を反射する前記第一の側面反射領域(33)は、前記下向き光線のパターンのHVポイント(HV)及びピーク(P)のまわりに前記下向き光線のパターンの領域を形成するように構成されている一方で、前記中央反射領域(31)は、前記下向き光線のパターンの残存部分をカバーするように構成されていることを特徴とする、請求項７記載のモジュール。
【請求項９】
前記支持面は反射することを特徴とする、請求項１乃至８のいずれか一つに記載のモジュール。
【請求項１０】
吸収性マスクが、前記光源(10)によって直接に放射されるとともに、前記反射面(30)又は支持面(20)に降りかからない光を遮光するために設けられていることを特徴とする、請求項９記載のモジュール。
【請求項１１】
前記反射面(30)は、前記支持面(20)によって規定され且つ道路面の方に面する半スペースに位置決めされて、前記光源(10)の周囲は、前記反射面(30)の垂直断面を構成する放物線の焦点を通って延在する直線に対して略接しており、前記モジュールの光軸(z)に直交して、その結果、前記光源(10)は、直線によって規定され且つ放物線の頂点を含む半平面に位置決めされることを特徴とする、請求項１乃至１０のいずれかの一つに記載のモジュール。
【請求項１２】
前記反射面(30)は、前記支持面(20)によって規定され且つ道路面から遠く離れた半スペースに位置決めされて、前記光源(10)の周囲は、前記反射面(30)の垂直断面を構成する放物線の焦点を通って延在する直線に対して略接しており、前記モジュールの光軸(z)に直交して、その結果、光前記源(10)は、直線によって規定され且つ放物線の頂点を含まない半平面に位置決めされることを特徴とする、請求項１乃至１０のいずれかの一つに記載のモジュール。
【請求項１３】
前記光源(10)が前記支持面(20)に配置され、該支持面(20)は、前記光源(10)が直接に組み入れられるプリント基板(21')の表面であることを特徴とする、請求項１乃至１２のいずれかの一つに記載のモジュール。
【請求項１４】
前記光源(10)がプリント基板(21')の表面上に組み入れられており、
前記プリント基板(21')の表面及び前記支持面(20)は、二つの別個で平行な面であり、
前記支持面(20)は、前記プリント基板(21')の表面上に組み込まれた前記光源(10)が貫通穴(22')の内部に収容され、前記光源(10)の主たる放射面が前記支持面(20)と略一致するような貫通穴(22')を有していることを特徴とする、請求項１乃至１２のいずれかの一つに記載のモジュール。
【請求項１５】
前記光源(10)が、発光ダイオード又はチップ型発光ダイオードである半導体光源であることを特徴とする、請求項１乃至１４のいずれかの一つに記載のモジュール。
【請求項１６】
前記光源(10)のスイッチをオフにするときに、審美的な内容を備えた色彩の効果を生み出すように、前記支持面(20)の少なくとも一つの部分が着色されていることを特徴とする、請求項１乃至１５のいずれかの一つに記載のモジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、請求項１の前文に規定された特徴を有する光線投射用のモジュールに関する。
【背景技術】
【０００２】
新規の解決策は、特に深さの点から、もっとコンパクトであり、新規の審美的な内容を有するデバイスを得るように、LED(「発光ダイオード」を表わす頭文字)又は他の発光デバイス装置のマトリックスによって形成された正面及び後面の乗り物の照明の構造のために自動車の分野でしばらくの間調査中である。
【０００３】
知られているように、従来のヘッドライトは、法令で有効である（in force）規準に従って光の配光又はパターンを形成することができるハロゲン又は放電ランプの光源及び光学システムに基づいている。文献では、例えば、下向きの（dipped）ビームの機能に関する予め決められたパターンを形成するのに適していて、半導体光源の使用に基づいた光学配置の多くの例がある。重要な二つのケース（Valeoの米国公開特許２００３−２０２３５９号（US2003/202359）及び小糸製作所のヨーロッパ公開特許１４１８３８１号（EP1418381）の(図１)）が、以下に引用される。
両方の場合において、用いられる光学配置は、
a) 半導体光源が配置される第一の焦点での楕円の反射モジュールと、
b) 楕円の反射器の第二の焦点に配置される、マスク、あるいは、いわゆるカット・オフ(次ページの定義を参照)を形成するために楕円の反射モジュールから出現する光線のうちのいくつかを阻止するのに適している表面部分と、
c)楕円の反射モジュールの第二の焦点と一致するその第一の焦点を有するレンズと、からできている。
【０００４】
この構成に関して、
1．光のうちのいくらかがマスクによって阻止されるという事実によるシステムの全効率の悪さと、
2．機械的な許容範囲の必然的な低下及びコストの増加を伴った、光学システムの整列、及び特にマスク配置の困難さという実質的に二つの困難な問題がある。
【０００５】
現特許の光学配置は、マスク及び屈折要素の必然的な除去と共に、もっぱら反射モジュールからできている光学のつながり（chain）のラジカルな単純化によって、これらの困難な問題を克服しようとするものである。
【０００６】
単一の半導体光源(例えばLEDタイプの光源)は、ハロゲン又はガス放電の光源よりも低い光束を有している。その結果、それらの光源に基づいたヘッドライトの性能(路上の光束に関して)を達成するために、複数の半導体光源を用いることが必要である。
a)単一の光学及び複数の光源と、
b)複数のモジュール/光源・システムと、いう二つの代案がある。
【０００７】
第一の解決策は、(輝度を最大にしてランプ寸法を減少するために)従来の単一光源をできるだけ密にパックされた半導体光源のクラスタに置換することと、そしてその後に、この種のモジュール光源のために最適化される光学システムを設計することと、から実質的に成る。主たる困難さは、もし適切なシステムが生成された熱を消費するためには用いられなければ、光源の性能が相当に減少されるので、非常に緊密にパックされる光源の熱を制御することから成る。
【０００８】
第二の解決策は、各々がそれ自身の光源を有する複数の別個の光学システムを使用することから成る。デバイスのすべてがスイッチオンとすることが全てのパターンと光束を達成するための必要条件であるように、各光学システムによって生成されたパターンが異なっていてもよい。あるいは、単一のモジュールが全パターンを生成するが、必要な光束に達するために提供されるモジュールのすべてをスイッチオンにすることが必要なように、パターンは同一であってもよい。それが、様式の（stylistic）必要条件、及び半導体光源の技術開発(特に光束に関して)に適応可能であるので、モジュールの解決策はより有利である。しかしながら、特に様式のニーズが車体の非常に曲がったポイントで適応される機能を必要とするときに、単一の機能(例えばフォグランプ又は下向きビーム)を作るために並んで複数のモジュールを配置することの必要性は、モジュール間の相互干渉の問題を生じさせるであろう。モジュールの出口の開口から出現するビームは、全体としてのパターンの必然的悪化と共に、隣接したモジュールによって部分的に隠すようにしてもよい。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は、モジュールの解決策の原理に従って構築されたランプ用に設計された別個の光学システム間の相互干渉の問題を解決することである。
【００１０】
本発明によれば、この問題は、請求項1で規定された特徴を有する光線投射用のモジュールによって解決される。
【００１１】
主に集束する構成で動作するように設計されている反射表面を使用することによって、本発明に係る光学のモジュールは、モジュールの解決策でのデバイス間の相互干渉の問題を解決する。
【００１２】
本発明の好ましい実施態様は、従属クレームに規定される。
【００１３】
本発明のいくつかの好ましい実施態様であるが制限しない実施態様は、添付された図面を参照ながら説明される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
図２を参照する。図２は、自動車の正面ヘッドライト(不図示)の下向きビームの機能を実行するための1セットの同様のモジュールの一部を形成するように意図される本発明に係る光線投射用モジュール1を示す。このタイプのモジュールは、例えばフォグランプ機能のような他の自動車の正面又は後面のランプ機能として使用されるので、この種の使用は制限して考慮されるべきでない。
【００１５】
知られているように、下向きビーム(あるいはパッシングビーム)の機能でこの種のヘッドライトによって投射された光線は、ある規準を満たさなければならない。例えば、図３は、ヨーロッパ規準によってセットされた必要条件を満たす典型的な光度パターンを示す。このパターンは、ランプの光軸上にその起源を有している、1セットのデカルト軸によって表わされる。光分布曲線Bは、等しい光度のポイントをつなぎ、システムのパターンのピークが接近されるように徐々に増加する光度を示す。
【００１６】
下向きビームの機能パターンの主な臨界のアスペクトは、角度が水平軸よりも１乃至２度下であり、強度値が水平軸より上の0近くであり、配光の最大又はピークPからの非常に急峻な遷移を規準が必要とする水平軸に近い領域によって構成される。ヨーロッパ規準に係る下向きビームのランプでは、光度配光は、図３に示される特徴的な形式を採用する。水平軸での境界（demarcation）ラインCは、遮断（cut off）ラインとして知られている。ヨーロッパの下向きビームでは、遮断ラインCは、その右側に、水平軸で約15度の角度を形成するくぼみ（indentation）Iを有している。このくぼみは、アメリカの下向きビームには不在であり、英国及び日本においては水平方向に逆である。実質的に水平方向の遮断ラインCと、くぼみIとの間の移行ゾーンHVが、一般に「HVポイント」と呼ばれている。
【００１７】
図２に戻る。モジュール1は、
a) 好ましい実施態様で、LED又はチップ型のLEDの半導体光源である光源10と、
b) 支持面20の一方の側だけからの光を放射するように光源10が配置される実質的に平坦な支持面20と、
c) 支持面の一方の側に延在するとともに支持面の方に面するそのくぼみを有しており、光源の中心を通って延在する軸として規定され、乗り物の進行方向と平行である、モジュール1の光軸zと実質的に平行な方向に光源から始まる光を反射することができる湾曲した反射面30であって、複数の領域に分割されている反射面30と、
d)ステップ状に少なくとも二つの反射領域を接続する接続面40と、を備えている。
【００１８】
図４及び５は、光軸zを通って、支持面20に対して直角に延在するともに、モジュール1の二つの異なった変形例を示す、モジュール1の縦断面である。図４の変形例では、支持面20は、光源10が直接に組み込まれた(例えば、光源は「チップ」又は「ダイ」の形をしたLED、すなわち、パッケージ無しの半導体の形で、チップ・オン・ボード型の技術によってプリント基板に組み入れられた)プリント基板21の表面であろう。図５の変形例では、光源10が組込まれるプリント基板21'の表面と、平坦な支持面20とが、プリント基板21'の表面に組み込まれた光源１０が貫通穴22'の内部に収容され、光源10の主要な放射面が平坦な支持面20と実質的に一致するような貫通穴22'を有している。好ましい実施態様では、平坦な支持面20も反射する。
【００１９】
上述したように、湾曲した反射面30は複数の反射領域に分割される。反射領域の各々は、所定の実質的に方形波パターンを形成するように設計されている。それの水平方向の範囲(すなわち、実質的に方形波パターンの長い側に沿った範囲)は、光源10によって放射されてその領域によって反射された光線のビームの水平方向の広がり（divergence）によって、すなわち、光源10によって放射されてその領域によって反射される光線のエンベロープの、水平面に投射された角度の幅によって、決定される。同様に、パターンの垂直の範囲(すなわち、実質的に方形波パターンの短い側に沿った範囲)は、光源10によって放射され、その領域によって反射された光線のビームの垂直方向の広がりによって、すなわち、光源10によって放射されてその領域によって反射される光線のエンベロープの、鉛直面に投射された角度の幅（amplitude）によって、決定される。
【００２０】
反射領域の垂直のプロフィールが実質的に放物線であるときに、湾曲した反射面30のその領域の所与のポイントでの垂直方向の広がりは、そのポイントで光源10によって定められた最大の対頂角（vertical angle）θと一致する。
【００２１】
好ましい実施態様では、その領域の少なくとも一つは、支持面20に対して垂直であるとともに、支持面20と実質的に平行な軸と、光源10と実質的に一致する焦点とを有する光軸zと平行である実質的に放物線状の垂直断面と、光源10と実質的に一致するその第一の焦点Fを有する実質的に楕円状の水平断面(垂直断面に直交して、平坦な支持面と平行である)と、を有する複雑な表面（complex surface）である。この実施態様は、光源10によって放射されてその領域によって反射された光線が、水平断面において20度より小さな広がり（divergence）を有することを特徴としている。水平断面は、放物線状であってもよく、その焦点Fが光源10と実質的に一致して、水平断面における広がりが、もっぱら光源10の伸張された（extended）寸法によって決定される。この領域は平坦な支持面20に隣接していて、光源10によって放射され、その領域によって反射された光線が、垂直断面において３度未満の広がりを有するように、制限のある距離のために平坦な支持面20に垂直な方向に延在する。
【００２２】
好ましい実施態様では、その領域の少なくとも一つの他のものは、光軸と実質的に平行な軸を中心に15度の角度で、複雑な表面（complex surface）の左回りの回転によって得られる。複雑な表面（complex surface）は、支持面20に実質的に平行な軸と光源10と実質的に一致する焦点とを持った、支持面20に直交して光軸zと平行である実質的に放物線状の垂直断面と、光源10と実質的に一致するその第一の焦点Fを有する実質的に楕円状の水平断面(垂直断面に直交して平坦な支持面と平行である)と、を回転に先立って有している。この実施態様は、光源10によって放射されてその領域によって反射された光線が、水平断面で20度未満の広がりを有していることを特徴とする。その回転は、光源10によって放射されて15度の角度で左回りの領域によって反射された光によって形成された実質的に方形波パターンを回転させる目的を有する。この領域は、平坦な支持面20に隣接していて、平坦な支持面20に直交する方向に延在する。
【００２３】
好ましい実施態様では、その領域の少なくとも一つの他のものは、その第一の焦点が光源10と実質的に一致する実質的に楕円状の水平断面の複雑な表面である。この実施態様は、光源10によって放射されてその領域によって反射された光線が、50度より大きな水平方向の広がりを有していることを特徴としている。
【００２４】
好ましい実施態様では、湾曲した反射面30は、
a) 20度未満の水平方向の広がりと、3度未満の垂直方向の広がりと、を備えた反射ビームを生成する平坦な支持面20に隣接した領域32と、
b) 20度未満の水平方向の広がりと、3度未満の垂直方向の広がりと、を備えた反射ビームを原始的に生成する表面の、モジュールの光軸と実質的に平行な軸を中心に15度の角度での左回りの回転によって得られる領域33と、
c) 平坦な支持面20に隣接していなくて、50度より大きな水平方向の広がりを備えたビームを生成する第三の領域31と、であるところの三つの領域に分割される。これらの領域は、下記の接続面によって接続される。
【００２５】
図６は、実施態様におけるモジュール1の、支持面20と平行であり光源10を通って延在する水平断面である。その実施態様において、側面領域32は楕円の水平断面を有して、側面領域33は、楕円の水平断面を持った表面の、光軸zと実質的に平行な軸を中心に15度の角度で回転させることによって得られる。中央の反射領域31の楕円の水平断面、及び光源10と一致して、その焦点F1のそれぞれの一つを各々実質的に有する側面の反射領域32，33の水平断面は、この図面で見ることができる。この図は、側面領域33によって反射され、側面領域33のもとの表面を画定する楕円の第二の焦点(不図示)の方を向いている光線C1、C2、C3だけでなく、中央領域31で反射され、また中央領域31を画定する楕円の第二の焦点(不図示)の方を向いている光線B1、B2、B3も示している。それによって反射される光源10によって生成された光線のそれぞれの部分が、所定の角度の未満の水平方向の広がりを有するように、側面の反射領域32，33が設計されている。好ましくは、この角度は20度である。
【００２６】
図７は、モジュール1の変形例を示している。図７は、側面領域32が楕円の水平断面を有する実施態様において、水平断面において、幾つかの側面の反射領域のうちの一つの側面の反射領域32を示している。この図面から、光源10と一致するその第一の焦点F1を有する楕円Eの一部分によって水平断面に、領域32が構成されることは理解されるであろう。楕円Eの第二の焦点F2が、モジュール1の光軸zの外にあることも理解されるであろう。反射領域32によって反射されたビームによって生成されたパターンが、焦点F2が光軸z上にある配置に対して水平方向に移動させられることになっているならば、この配置は必要である。また、この配置は、もとの表面に適用可能である。その回転がくぼみと一致するパターンの一部分を生成する領域を生成する。この場合、光軸と実質的に平行な軸を中心にした15度の回転に加えて、前の軸に実質的に垂直であり且つ支持面20と平行である軸を中心にした回転が必要であろう。
【００２７】
好ましくは、側面の反射領域32は、光源10によって放射されて領域32によって反射された光線の一部分が、3度未満の垂直方向の広がりθを有するような距離で、平坦な支持面20に直交する方向に延在する。図８から分かるように、側面の反射領域32の形を確立するために、出願人のヨーロッパ公開特許１５０５３３９号（EP 1 505 339 A1）(参照することにより本願に組み込まれる)に記述されるように、反射面30で、等しく広がる（isospread）ラインとして知られている一定のθのラインのマッピングを利用することは可能である。図８は、これらの等しく広がる（isospread）ラインの例を示す。それはILで示される。側面の反射領域33の高さは、側面の反射領域32の高さと同等であってもよい。
【００２８】
光源10によって生成されてその領域31によって反射される光線の一部分が、所定の角度より大きな水平方向の広がりを有するように、中央の反射領域31が設計されている。好ましくは、この角度は50度である。
【００２９】
図２及び９を参照する。接続面40は、直線の軌跡（locus）として得られた円錐状表面の部分によって構成される。直線の軌跡（locus）は、光源10と一致する共通の頂点Vを有しており、反射領域31，32，33のエッジ部分31a，32a，33aのそれぞれによって画定された曲線上にある。言いかえれば、側面の反射領域32，33の下部エッジ32a，33aは、光源10でその頂点Vを有してその一部分が接続面40によって構成されている実質的に円錐状表面の準線（directrix）の一部分を形成する。これは図９においてより明確に示されている。図９は、側面の反射領域32，33に加えて、接続面40が形成される実質的に円錐形の表面の母線（generatrix）Dを示す。中央の反射領域31の上部エッジ31aは、Vでその頂点を有する実質的に円錐形の表面上に存する。接続面40は、母線Dの方向に、一方の側の中央の反射領域31の上部エッジ31a、及び他方の側の側面の反射表面32，33の下部エッジ32a，33aによってこのように定められる。
【００３０】
中央領域31と側面領域32，33との間の接続面40は、以下の二つの必要条件に適合するように構築される。
a. スプリアス反射を最小にするために、光源10によって放射された光によって直接には照明されないこと、
b. 光源10から最も遠い側面領域32，33に降りかかる光の量を最大にすること。
【００３１】
本発明の変形例に係る接続面40は、どんな場合も反射するであろう。
【００３２】
好ましい実施態様では、モジュールは、下向きビーム用パターンのためにパターンを形成することを意図している。上述したように、そのパターンは、配光の最大又はピークから水平軸上の0近くの強度値まで非常に急峻な遷移を規準が必要とする水平軸に近い配光ゾーンに向けて光を投射する、ランプの領域に対して特に臨界である投射ビームの広がりによって特徴づけられる。配光の最大又はピークは、水平軸より下の1乃至2度の角度で位置している。水平軸の境界（demarcation）ラインは、遮断ラインとして知られている。ヨーロッパの下向きビームでは、遮断ラインは、右側に、水平軸の軸で約15度の角度を形成するくぼみを有している。このくぼみは、アメリカの下向きビームには不在で、英国と日本の下向きビームで水平方向で逆になっている。承認（approval）を備えた下向きビームの機能に関する好ましい実施態様において、例えばヨーロッパ、英国又は日本において、3度未満の垂直方向の広がりを特徴とする二つの領域32，33のうちの一方の領域は、水平軸に傾いている「遮断」ラインの一部分の形成に専用である。また、3度未満の垂直方向の広がりを特徴とする二つの領域32，33のうちの他方の領域は、いわゆるHVポイントと配光（distribution）強度ピークとを備えるパターンの一部分の形成に専用である。しかしながら、第三の領域31がパターンの残存部分に専用である。モジュール1によって全体として生成された配光は、図１３に示される。
【００３３】
すでに述べたように、湾曲した反射面30は、複数の反射領域31，32，33からなる。反射領域31，32は、実質的に放物線状の垂直断面を有している。反射領域33は、実質的に放物線状の垂直断面によって元来特徴づけられた表面の15度の左回りの回転によって生成される。
【００３４】
好ましい実施態様では、照明された領域と、下向きビームのパターンに典型的である暗い領域との間を分離する明瞭な水平軸の形成を保証するために、湾曲した反射面30は、平坦な支持面20によって画定され、道路面の方へ面する半スペースに位置決めされる。また、光源10の周囲は、放物線の焦点Fを通って延在する直線に対して実質的に接線であり、光軸zに直交している。その結果、直線によって画定されて放物線の頂点を含む半平面に発光源10が完全に位置決めされる。
【００３５】
他の好ましい実施態様では、照明された領域と、下向きビームのパターンに典型的である暗い領域との間を分離する明瞭な水平軸の形成を保証するために、湾曲した反射面30は、平坦な支持面20によって画定され、道路面からそれている半スペースに位置決めされる。また、光源10の周囲は、放物線の焦点Fを通って延在する直線に対して実質的に接線であり、光軸zに直交している。その結果、直線によって画定されて放物線の頂点を含まない半平面に発光源10が完全に位置決めされる。
【００３６】
さらに好ましい実施態様において、「直接」光(それは光源10によって直接に放射され、湾曲した反射面30又は平坦な支持面20に降りかからない光である)は、適切で、実質的に吸収性のマスクによって覆われる。マスクの形状及び寸法は、マスクが排他的に直射光をブロックする、すなわち、マスクによって生成された影のアウトラインは、湾曲した反射面30によって反射された光線が出現する部分として形成されている反射器の出口開口のエッジと一致するように構成されている。マスクに降りかかる湾曲した反射面30によって反射された光のほんの少し（fraction）が最小となるように、マスクは光源10のすぐ近くの平坦な支持面20に固定される。
【００３７】
本願に記載された実施態様は、本発明の実施のほんの一例として考慮されることを意図している。しかしながら、本発明は、当業者に適切と思われる多くの可能な変形に従って、部分の形状や配置及び構造上や操作上の細部に関して修正することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１ａ】先行技術を構成する下向きビームのパターンを生成するための光学のつながり（chain）の模式図である。
【図１ｂ】先行技術を構成する下向きビームのパターンを生成するための光学のつながり（chain）の模式図である。
【図２】本発明に係る光線を投射するためのモジュールの実施態様の模式的正面斜視図である。
【図３】ヨーロッパ規準に係る自動車の正面ヘッドライトの下向きビームの機能に対する典型的なパターンを示すグラフである。
【図４】そのモジュールの二つの異なった変形例を示す、図２のモジュールの縦断面図である。
【図５】そのモジュールの二つの異なった変形例を示す、図２のモジュールの縦断面図である。
【図６】図２のモジュールの横断面である。
【図７】図２のモジュールの表面の一つの光学配置の可能な変形例の横断面を示す模式図である。
【図８】反射光ビームの垂直方向の広がりθの一定値を備えたいくつかのカーブを示す図２のモジュールの正面図である。
【図９】図２のモジュールのいくつかの表面の模式的正面斜視図である。
【図１０】図２のモジュールの個々の反射表面で達成することができる光度の配光を示す。
【図１１】図２のモジュールの個々の反射表面で達成することができる光度の配光を示す。
【図１２】図２のモジュールの個々の反射表面で達成することができる光度の配光を示す。
【図１３】図２のモジュールで達成することができる全体としての光度の配光の中央部分を示す。
【図１ａ】
0005148900.tif 000002
【図１ｂ】
0005148900.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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