(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）からなる紫外線吸収剤。
一般式（Ｉ）
【化１】
0005285293.tif 000023
（式中、Ｒ１がＨ、２−エチルヘキシルオキシ基のうちの一つであり、Ｒ2、Ｒ3はメチル基、ターシャリブチル基、ターシャリオクチル基から選択されるいずれかのアルキル基の組み合わせである。）
【請求項２】
下記式（II−ａ）からなる２−｛２−［５−（２−エチルヘキシルオキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチルベンジル｝−６−［２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）］−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノールである請求項１記載の紫外線吸収剤。
式（II−ａ）
【化２】
0005285293.tif 000024
【請求項３】
下記式（II−ｂ）からなるメチレンビス−２−［５−（２−エチルヘキシルオキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチルフェノールである請求項１記載の紫外線吸収剤。
式（II−ｂ）
【化３】
0005285293.tif 000025
【請求項４】
請求項１、２又は３記載の紫外線吸収剤を有する皮膚外用剤
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は新規な紫外線吸収剤及びこれを含有する皮膚外用剤、さらに新規ベンゾトリアゾール化合物に関する。本発明の紫外線吸収剤は、ＵＶ−Ａ領域、もしくはＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ａ両領域に対して優れた紫外線吸収を有するものである。
【背景技術】
【０００２】
化粧料には配合成分の紫外光に対する安定性をあげるために、あるいは、人体の皮膚を保護するために、紫外線吸収剤が配合されている。
【０００３】
一方、紫外線の波長領域としては、ＵＶ−Ａ領域（３２０〜４００ｎｍ）、ＵＶ−Ｂ領域（２９０〜３２０ｎｍ）ＵＶ−Ｃ領域（〜２９０ｎｍ）に分けられるが、このうちＵＶ−Ｃ領域の紫外線は、通常、地上に達することはない。また、ＵＶ−Ａ領域（３２０〜４００ｎｍ）の紫外線は皮膚を黒く侵すが、ＵＶ−Ｂ領域（２９０〜３２０ｎｍ）の紫外線のようにサンバーンを起こし、皮膚の老化を促進させるものではないと考えられていた。ところが近年になってＵＶ−Ｂ領域の紫外線が比較的、皮膚の表面部分にとどまるのに対してＵＶ−Ａ領域の紫外線が、皮膚の深部にまで達し、皮膚の老化はもとより皮膚癌を誘発する原因となることがわかってきた。
【０００４】
今日までに使用されてきた化粧料用紫外線吸収剤は、構造面から分類すると、（１）安息香酸誘導体、（２）ケイ皮酸誘導体、（３）ベンゾフェノン誘導体、（４）ジベンゾイルメタン誘導体、（５）サリチル酸誘導体等がある。そして近年は、（２）と（４）の紫外線吸収剤が多用されている。
【０００５】
しかしながら、上記にあげた紫外線吸収剤は、実用面から見るとそれぞれに問題がある。例えば、（１）の安息香酸誘導体では、例えばｐ−ジメチルアミノ安息香酸−２−エチルヘキシルは、液状、透明であり、扱いやすい長所はあるが、これらの誘導体を含めて安全性の疑いがあり、近年は使用されていない。また、極大吸収波長が２９０ｎｍ付近にあり、ＵＶ−Ｂ領域のみの紫外線を吸収する。
【０００６】
（２）のケイ皮酸誘導体では、現在市販されているサンケア化粧品に最もよく使用されている紫外線吸収剤として、ｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルエステルがある。極大吸収波長は３１０ｎｍ付近にあり、吸収域がＵＶ−Ａ領域には及ばない。また、日光により変質して着色性や紫外線防御効果の持続性に問題がある。
【０００７】
（３）のベンゾフェノン誘導体では、例えば２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンがＵＶ−Ａ，ＵＶ−Ｂ領域にわたって吸収があり、比較的皮膚外用剤基剤への溶解性も良いが、極大吸収波長がややＵＶ−Ｂ領域に近いところにあり、吸光度もあまり大きくない。また近年では基本骨格の構造物（ベンゾフェノン）が環境ホルモンとして指摘されていて、その使用が敬遠されている。
【０００８】
（４）のジベンゾイルメタン誘導体では、４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−４−メトキシジベンゾイルメタンがよく皮膚外用剤に使用されている。極大吸収が３６０ｎｍ付近にあり、吸光度も大きく、ＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収剤として優れている。しかしながら、光安定性に問題があり、皮膚外用剤用の油分に対しての相溶性が悪く、少量しか混合できない。
【０００９】
（５）のサリチル酸誘導体では、サリチル酸オクチルが使われている。ＵＶ−Ｂ領域に極大吸収波長をもち、オイル状であり、パラフィンオイル等の相溶性に優れるが吸光度が低いため、あまり実用化されていない。
【００１０】
このため、ＵＶ−Ｂ領域においては、（２）のｐ−メトキシケイ皮酸−２−エチルヘキシルが、ＵＶ−Ａ領域に関しては（４）の４−ｔｅｒｔ−ブトキシ−４−メトキシジベンゾイルメタンが使用されることが多い。特に近年では、ＵＶ−Ａ領域の紫外線吸収に対する要求が高まっているが、耐光性や吸収波長域において必ずしも満足できるものではない。
【００１１】
耐光性に関しては、特開２００５−２０６４７３の図４における経時光安定性試験結果からも明らかである。吸収波長域に関しては、さらに４００ｎｍに近い紫外線をより多く吸収することが求められているが、３５０ｎｍ付近にλmaxを持ち、３５０〜４００ｎｍの紫外線を多く吸収するものはあまりない。
【特許文献１】特開２００５−２０６４７３号公報
【００１２】
化粧品以外の用途や紫外線吸収剤で市販までにいたらず、文献に見られるだけのものを含めてλmax ≧ ３５０ｎｍ のものとなると、６−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）レゾルシノール（III、λmax＝３５１ｎｍ：シプロ化成市販品）、２，４−ジ−tert−ブチル−６−（５−フェニルチオ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール（IV、λmax＝３６５ｎｍ）｛Ｃｉｂａ−Ｇｅｉｇｙ  ＡＧ、ＰＣＴ  Ｉｎｔ.Ａｐｐｌ.ＷＯ  ９２｝｛１４，７１８；Ｃ．Ａ、１１８，１２５８０６ｄ（１９９３）｝、メチレンビス−［２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）］−４−（１，１，３，３−テトラメチル）フェノール（Ｖ、λmax＝３５０ｎｍ）｛ＡｄｅｃａＡｒｇｕｓ  Ｃｈｅｍ．Ｃｏ．Ｌｔｄ．，Ｊｐｎ．Ｋｏｋａｉ  Ｔｏｋｋｙｏ  Ｋｏｈｏ  ＪＰ ６１，１１８，３７３；  Ｃ．Ａ．，１０６，６８２６５ｃ（１９８７）｝、２，４−ビス−（２，４−ジメチルフェニル）−６−（２−ヒドロキシカルバゾール−３−イル）−１，３，５−トリアジン（VI、λmax＝３６７ｎｍ）｛旭電化工業，特開平８−１５１４８０（８．６．１１）｝，２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン（VII、λmax＝３７１ｎｍ）｛旭電化工業，特開平８−１５１４８０（８．６．１１）、特開平６−２９５１３９（６．１１．２９）｝、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−フェニル）−１，３，５−トリアジン（YIII，λmax＝３６０ｎｍ）［Ｈ，Ｂｒｕｎｅｔｔｉ  ａｎｄＣ．Ｅ．Ｌuthi，Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ，５５，１５６６（１９７２）｝，２−（４−ジメチルアミノフェニル）−４−メチル−６−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン（IX，λmax＝３８０ｎｍ）｛Ｆａｒｂｗｅｒｋｅ  Ｈｏｅｃｈｅｓｔ  Ａｇ，Ｇｅｒ．Ｏｆｆｅｎ．２，３５０，４１４；Ｃ．Ａ．，８３，９７３８６ｅ（１９７８）｝等だけである。
【特許文献２】特開平８−１５１４８０号公報
【００１３】
【化１】
0005285293.tif 000002
【００１４】
【化２】
0005285293.tif 000003
【００１５】
【化３】
0005285293.tif 000004
【００１６】
【化４】
0005285293.tif 000005
【００１７】
【化５】
0005285293.tif 000006
【００１８】
【化６】
0005285293.tif 000007
【００１９】
【化７】
0005285293.tif 000008
【００２０】
これらの化合物の中で実際に市販され、化粧用途にも事業展開されている化合物として（V）のメチレンビス−２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノールが上げられる。
この化合物は商品名ＬＡ−３１（ＡＤＥＫＡ社製）としてポリカーボネート樹脂に対しての耐光性や熱安定性に優れた紫外線吸収剤として市販されている。
【００２１】
一般的なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤であり、この化合物のモノ体である２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチル）フェノール（商品名ＳＥＥＳＯＲＢ７０９：シプロ化成社製）と比べて耐熱性が高く、λｍａｘが、後者は３４２ｎｍに対して前者は３４６ｎｍと若干長波長域にシフトすることが知られている。また、モル吸光係数εは前者が３４８２１に対して後者は１５７８０である。
【００２２】
また化合物（V）は、化粧用途として下記名でポジティブリストにも収載されている。
（メチレンビスベンゾトリゾリルテトラメチルブチルフェノール（ビスオクトリゾール））
この化合物の短所として、有機溶媒や化粧基材の油分に対する溶解性が悪い点が上げられる。
従って化粧用途として使用するには微粉化して基材に分散させる必要がある。
実際においてこの化合物はチバスペシャルティーケミカル社よりビスオクトリゾールを約５０％含む水分散体として商品化されている（商品名ＴＩＮＯＳＯＲＢ  Ｍ）。さらに、この化合物をもってしても４００ｎｍに近い波長域の紫外線を効率的に吸収させることにおいては不十分である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２３】
従って本発明が解決しようとする課題は、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチル）フェノールのメチレンビス化による化合物（V）の耐光性の良さを維持しながら、さらに効率よく４００ｎｍに近いＵＶ−Ａ領域の紫外線を吸収し、各種皮膚外用剤基材の油分との相溶性に優れ、長期にわたって紫外線吸収効果を持続可能な紫外線吸収剤及びこれを配合した皮膚外用剤を提供することである。
【００２４】
ところで、このような観点から、新規紫外線吸収剤を開発しても、合成方法が非常に困難であり、また、その構造が複雑で実際の製造において多大な手間とコストを要するようなものでは、工業的には全く意味がない。
【００２５】
すなわち、従来の紫外線吸収剤の製造とほぼ同等の手間とコストで、新規に設備投資することなく既存の設備により容易に生産が可能であり、安定して、化粧品企業等のユーザーに供給することが重要である。
【００２６】
本発明は、上記課題を下記解決手段により解決したものであり、新規な紫外線吸収剤を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００２７】
すなわち、本発明は、下記一般式（Ｉ）からなる紫外線吸収剤を提供するものである。
一般式（Ｉ）
【化８】
0005285293.tif 000009
（式中、Ｒ１がＨ、２−エチルヘキシルオキシ基のうちの一つであり、Ｒ2、Ｒ3はメチル基、ターシャリブチル基、ターシャリオクチル基から選択されるいずれかのアルキル基の組み合わせである。）
【００２８】
また本発明は、下記式（II−a）からなる２−｛２−［５−（２−エチルヘキシルオキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチルベンジル｝−６−［２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）］−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノールを提供するものである。
【００２９】
この化合物は、上記一般式（I）に示された化合物において、
Ｒ１＝−Ｈ、
Ｒ２＝−ＣＨ３、
Ｒ３＝−Ｃ（ＣＨ３）２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）３のアルキル基である場合の新規なベンゾトリアゾール化合物である。
【００３０】
式（II−a）
【化９】
0005285293.tif 000010
【００３１】
また本発明は、下記式（II−ｂ）からなるメチレンビス−２−［５−（２−エチルヘキシルオキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチルフェノールを提供するものである。
【００３２】
この化合物は、上記一般式（I）に示された化合物において、
Ｒ１＝−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、
Ｒ２＝Ｒ３＝−ＣＨ３のアルキル基である場合の新規なベンゾトリアゾール化合物である。
【００３３】
式（II−ｂ）
【化１０】
0005285293.tif 000011
【００３４】
さらに本発明は一般式（１）、式（II−a）または式（II−b）の紫外線吸収剤を含有する皮膚外用剤を提供するものである。
【発明の効果】
【００３５】
本発明の紫外線吸収剤は、λmax３５０nm付近のＵＶ−Ａ領域において高いモル吸光係数を示し、かつ耐熱性、蒸散性に優れた安定性の高い化合物である。
【００３６】
特に（II−a）化合物においては、前記化合物（V）よりも格段に吸光度が高く、モル吸光係数も大きい。従って図に示したように３５０〜４００ｎｍの紫外線をより多く、効率よく吸収することが出来る。また、λmax３０３nmの大きな吸収があり、ＵＶ−Ｂ領域の紫外線も効率よく吸収することが出来る。
【００３７】
また（II−b）化合物においては、そのモノ体である２−［５−（２−エチルヘキシルオキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチルフェノールや、さらにその原料の２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチルフェノール  （商品名ＳＥＥＳＯＲＢ７０１  シプロ化成社製）よりもλｍａｘが３５３ｎｍと長波長にあり、そのときのモル吸光係数が４７５４３あり、３５０〜４００ｎｍの紫外線を効率よく吸収することが出来る。
【００３８】
また、本発明による新規の紫外線吸収剤は結晶化せずに非晶質のアモルファスの性質を有するので化粧基材の油分中に分散させたときに透明度の高い化粧品をとして配合することが出来る。さらにベンゾトリアゾールの５位において、２−エチルヘキシル基の代わりにヘキサメチルトリシロキサンのようなシリコーンを付加して、より機能性の高い化粧用紫外線吸収剤とすることも可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
以下、本発明について詳述する。
本発明は、前記化合物（V）のメチレンビス−２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、商品名ＬＡ−３１（ＡＤＥＫＡ社製）が、そのモノ体化合物である２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチルフェノール（商品名ＳＥＥＳＯＲＢ７０９：シプロ化成社製）と比べて耐熱性が高く、λｍａｘが、後者は３４２ｎｍに対して前者は３４６ｎｍと若干長波長域にシフトすることに着目した。
【００４０】
この化合物は、チバスペシャルティーケミカルズ社により微粉末化されて５０％を含む水分散体として化粧用途として使われているが、化粧基材の油分には不溶であり、ただし微粉末としているために紫外線散乱剤としての用途が主である。
【００４１】
従って、化粧基材の油分に対しての相溶性を良くする、あるいは分散させることで、本来の紫外線吸収剤としての機能を果たし、併せて３２０〜４００ｎｍのいわゆるＵＶ−Ａ域の紫外線吸収、特に３５０〜４００ｎｍの紫外線吸収を多く吸収する化合物となることを目的とした。
【００４２】
そこで本発明者らはベンゾトリアゾールの５位に水酸基を入れ、その水酸基を官能基として２−エチルヘキシル基を修飾し、さらにメチレンビス化することによる溶解性に優れた化合物の設計に鋭意工夫した結果、結晶化せず、非晶性のアモルファスを保つ化合物が得られることを見出した。
【００４３】
さらに驚くべき事にこれらの化合物は吸光度が高く、λｍａｘがより長波長にシフトする傾向があり、モル吸光係数が非常に大きい。
【００４４】
これは前記化合物（V）のメチレンビス−２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、商品名ＬＡ−３１（ＡＤＥ
ＫＡ社製）等における耐熱性や耐光性の長所を保持しながら、ＵＶ−Ａ紫外線吸収剤の欠点である３５０〜４００ｎｍの波長の紫外線吸収能の不足を著しく改善し、化粧基材の油分に対する溶解性を改善できるものである。
【００４５】
一般式（Ｉ）
【化１１】
0005285293.tif 000012
（式中、Ｒ１がＨ、２−エチルヘキシルオキシ基のうちの一つであり、Ｒ2、Ｒ3はメチル基、ターシャリブチル基、ターシャリオクチル基から選択されるいずれかのアルキル基の組み合わせである。）
【００４６】
本発明の紫外線吸収剤は、一般式（I）式中、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に任意の置換基を表し、該任意の置換基の例として
Ｒ１は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、等の枝分かれしても良いアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基等の枝分かれしても良いアルコキシ基、
Ｒ２、Ｒ３は、メチル基、ブチル基、オクチル基等の枝分かれしても良いアルキル基等が上げられる。
【００４７】
上記一般式（I）に示された化合物において、
Ｒ１＝Ｈ、
Ｒ２＝ＣＨ３、
Ｒ３＝−（ＣＨ３）３ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）３である化合物、すなわち
２−｛２−［５−（２−エチルヘキシルオキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチルベンジル｝−６−［２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）］−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノールおよび、
Ｒ１＝−ＯＣＨ２ＣＨ（ＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ３、
Ｒ２＝Ｒ３＝−ＣＨ３である化合物、
すなわちメチレンビス−２−［５−（２−エチルヘキシルオキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチルフェノールは、本発明者によって始めて合成された新規なベンゾトリアゾール化合物である。
【００４８】
これらの新規化合物は、室温以下に冷却して長期にわたって保管しても結晶体とならず、透明性のある非晶性のアモルファスの性質を保ち、また蒸散性がわずかであり、長期にわたって紫外線吸収効果が持続し、化学的に安定である。
【００４９】
本発明の新規ベンゾトリアゾール化合物は、例えば次のようにして合成することが出来る。
【化１２】
0005285293.tif 000013
【化１３】
0005285293.tif 000014
【化１４】
0005285293.tif 000015
【００５０】
５−ヒドロキシ−２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−フェノールの５位に２−エチルヘキシルクロリドもしくは２−エチルヘキシルブロマイドのようなハロゲン化アルキルをアルカリ触媒下で反応させる。このときフェノールの水酸基は、窒素原子との水素結合により反応しにくい状態にあり、ほぼ優先的にベンゾトリアゾールの５位の水酸基にアルキル基が置換される。
【００５１】
次にベンゾトリアゾール誘導体に高沸点溶媒である商品名「ソルベッソ１５０」（エクソンモービル社製）溶媒下、パラホルムアルデヒドとジエチルアミン等の低級アミンを反応させてマンニッヒベースとし、さらにベンゾトリアゾール誘導体と縮合させることで本発明の上記ベンゾトリアゾール誘導体化合物を合成できる。
【００５２】
反応の溶媒としては、上記「ソルベッソ１５０」以外に例えばキシレン等の芳香族系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、ヘプタン、オクタン等の鎖状炭化水素、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の環状炭化水素を用いることができる。また、再結晶の際に用いる再結晶溶媒としては、メチルイソブチルケトン以外に例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、酢酸エチル、酢酸イソプロピル等の低級エステル類等が挙げられる。
【００５３】
本発明の皮膚外用剤は、上記一般式（１）の紫外線吸収剤を、化粧料等の皮膚外用剤に配合することにより製造される。配合量は目的の製品に応じて適宜決定されるが、皮膚外用剤全量に対して通常０．０１〜１０質量％であり、皮膚外用剤油分に溶解して配合される。
【００５４】
また、本発明の皮膚外用剤には、ＵＶ−Ｂ領域の紫外線吸収剤としてｐ−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルを皮膚外用剤全量に対して通常０．０１〜２０質量％併用して配合しても好ましい。この場合に、一般式（Ｉ）のベンゾトリアゾール誘導体とｐ−メトキシケイ皮酸２−エチルヘキシルの配合重量比は８：２〜２：８が好ましい。この比を逸脱してベンゾトリアゾール誘導体の配合量が低いと、ＵＶ−Ａ領域における優れた吸収効果や紫外線防御の持続性が発揮されにくい場合がある。また、多いと衣服への汚着などの問題が起こりやすい場合がある。
【００５５】
本発明の皮膚外用剤には、上記必須成分以外に、通常化粧品や医薬品等の皮膚外用剤に用いられる成分、例えば、美白剤、保湿剤、酸化防止剤、油性成分、その他の紫外線吸収剤、界面活性剤、増粘剤、アルコール類、粉末成分、色剤、水性成分、水、各種皮膚栄養剤等を必要に応じて適宜配合して常法により製造することができる。例えば配合成分としては次のようなものが挙げられる。
【００５６】
アボカド油、マカデミアナッツ油、トウモロコシ油、オリーブ油、ナタネ油、月見草油、ヒマシ油、ヒマワリ油、茶実油、コメヌカ油、ホホバ油、カカオ脂、ヤシ油、スクワレン、牛脂、モクロウ、ミツロウ、キャンデリラロウ、カルナバロウ、鯨ロウ、ラノリン、流動パラフィン、ポリオキシエチレン（８モル）オレイルアルコールエーテル、モノオレイン酸グリセリル、シクロメチコン、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサンなどの油分。
カプリルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、コレステロール、フィトステロールなどの高級アルコール。
カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸、ラノリン脂肪酸、リノール酸、リノレン酸などの高級脂肪酸。
ポリエチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、キシリトール、マルチトール、ムコ多糖、ヒアルロン酸、コンドロイチン硫酸、キトサンなどの保湿剤。
メチルセルロース、エチルセルロース、アラビアガム、ポリビニルアルコールなどの増粘剤。
エタノール、１，３−ブチレングリコールなどの有機溶剤。
ブチルヒドロキシトルエン、トコフェロール、フィチン酸などの酸化防止剤。
安息香酸、サリチル酸、ソルビン酸、パラオキシ安息香酸エステル（エチルパラベン、ブチルパラベンなど）、ヘキサクロロフェンなどの抗菌防腐剤。
グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、セリン、トレオニン、フェニルアラニン、チロシン、アスパラギン酸、アスパラギン、グルタミン、タウリン、アルギニン、ヒスチジンなどのアミノ酸と塩酸塩。
アシルサルコシン酸（例えばラウロイルサルコシンナトリウム）、グルタチオン、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、乳酸などの有機酸。
ビタミンＡ及びその誘導体、ビタミンＢ６塩酸塩、ビタミンＢ６トリパルミテート、ビタミンＢ６ジオクタノエート、ビタミンＢ２及びその誘導体、ビタミンＢ１２、ビタミンＢ１５及びその誘導体などのビタミンＢ類、アスコルビン酸、アスコルビン酸リン酸エステル（塩）、アスコルビン酸ジパルミテートなどのビタミンＣ類、α―トコフェロール、β―トコフェロール、γ―トコフェロール、ビタミンＥアセテート、ビタミンＥニコチネートなどのビタミンＥ類、ビタミンＤ類、ビタミンＨ、パントテン酸、パンテチンなどのビタミン類。
ニコチン酸アミド、ニコチン酸ベンジル、γ―オリザノール、アラントイン、グリチルリチン酸（塩）、グリチルレチン酸及びその誘導体、ヒノキチオール、ムシジン、ビサボロール、ユーカリプトール、チモール、イノシトール、サポニン類（サイコサポニン、ニンジンサポニン、ヘチマサポニン、ムクロジサポニンなど）、パントテニルエチルエーテル、エチニルエストラジオール、トラネキサム酸、セファランチン、プラセンタエキスなどの各種薬剤。
ギシギシ、クララ、コウホネ、オレンジ、セージ、タイム、ノコギリソウ、ゼニアオイ、センキュウ、センブリ、トウキ、トウヒ、バーチ、スギナ、ヘチマ、マロニエ、ユキノシタ、アルニカ、ユリ、ヨモギ、シャクヤク、アロエ、クチナシ、サワラなどの有機溶剤、アルコール、多価アルコール、水、水性アルコールなどで抽出した天然エキス。
ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、塩化ベンザルコニウム、ラウリルアミンオキサイドなどのカチオン界面活性剤。
エデト酸二ナトリウム、エデト酸三ナトリウム、クエン酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム、メタリン酸ナトリウム、グルコン酸等の金属封鎖剤。
香料、スクラブ剤、精製水など。
【００５７】
本発明の皮膚外用剤の特に好ましい基剤は、流動パラフィン、スクワラン、イソオクタン酸セチル、イソオクタン酸トリグリセライド、コハク酸ジ２−エチルヘキシルの油分である。本発明は特にコハク酸ジ２−エチルヘキシルを主成分基剤とする皮膚外用剤に好ましく利用される。
【００５８】
本発明の皮膚外用剤は、例えば、軟膏、クリーム、乳液、ローション、パック等である。その製品形態は問わない。特には日焼け止め化粧料として最適である。またその剤型も特に問わない。
【実施例】
【００５９】
以下に実施例により本発明を具体的に説明する。本発明はこれらの実施例に限定されない。
（実施例１）
［化合物II−ａの合成］
Ａ．  ２−［５−（２−エチルヘキシルオキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチルフェノールの合成例
【化１５】
0005285293.tif 000016
【００６０】
２００ｍＬの四つ口フラスコに温度計、玉付きコンデンサー、撹拌装置を取り付け、常法にて合成した２−（５−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−メチルフェノール１０．０ｇ（０．０４モル）、２−エチルヘキシルブロマイド１６．０ｇ（０．０８３モル）、炭酸カリ５．７ｇ（０．０．０４１モル）、ヨウ化カリ０．２ｇ、ジメチルホルムアマイド１．０ｇ、メチルイソブチルケトン５０ｍＬを加えて加熱還流させながら２０時間反応させた。内容物を７０〜８０℃に冷却し、温水２０ｍＬを加えて生成した無機塩を溶解させ、静置して下層の無機塩水層を分離し、さらに２０ｍＬの温水で同様に２回、洗浄した。この粗製オイルを２５ｍｍＨｇの減圧下で１２０℃に達するまで加熱して溶媒のメチルイソブチルケトンを留去し、１９８〜２０５℃／０．０８〜０．０９ｍｍＨｇの条件下で減圧蒸留し、目的物の２−｛［５−（２−エチルヘキシルオキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］｝−４−メチルフェノールである淡黄色オイル１３．１ｇを得た。収率８９．４％、ＨＰＬＣによる面積百分率純度は８９．７％であった。
１Ｈ−ＮＭＲで構造を確認し、チャートを図５に示す。
【００６１】
＜ＵＶスペクトルの測定＞
この化合物のＵＶスペクトルを以下の条件で測定したところ、λｍａｘ３４８ｎｍのときのεは、２０９００であった。このスペクトル図については図２に示す。
（測定条件）
装置：ＵＶ−２４５０（（株）島津製作所製）
クロロホルム溶状にて１０ｐｐｍ濃度で測定
測定波長：２５０〜５００ｎｍ
【００６２】
また以下の実施例も本実施例と同様の測定条件で紫外〜近紫外吸収スペクトルの測定を行った。
Ｂ．２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−ジエチルアミノメチル−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノールの合成
【化１６】
0005285293.tif 000017
【００６３】
１０００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−（２，４，４−トリメチルペンタン−２−イルフェノール）（商品名「シーソーブ７０９」シプロ化成社製）９６．９ｇ（０．３０モル）、ジエチルアミン６５．７ｇ（０．９０モル）、９２％パラホルムアルデヒド２９．４ｇ（０．９０モル）、を入れ、９５〜１００℃にて８時間撹拌した。
【００６４】
次いでｎ−ヘキサン２４０ｍLを加えて７０℃の温水１００ｍＬで３回洗浄し、冷却して析出した結晶をブフナーロートに濾過し取った。乾燥機にて６０℃で乾燥し、微黄色の結晶であるマンニッヒ塩基体９８．０ｇを得た。融点１０２．２〜１０３．１℃、収率８０％であった。
【００６５】
Ｃ．  化合物（II−ａ）  
２−｛２−［５−（２−エチルヘキシルオキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチルベンジル｝−６−［２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）］−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノールの合成例
３００ｍＬの四つ口フラスコに温度計、玉付きコンデンサー、撹拌装置を取り付けＡで合成した中間体化合物５．７ｇ（０．０１６モル）、Ｂで合成したマンニッヒ塩基体６．５ｇ（０．０１６モル）、２８％ナトリウムメチラートメタノール溶液１．０ｇ、キシレン５０ｍＬを加え、キシレンを留去させながら１５０℃まで温度を上げ、さらに２時間撹拌しながら反応させた。さらに１５０〜１６０℃／４５０ｍｍＨｇの減圧下で５時間反応させた。
【００６６】
次に１００℃以下に冷却し、トルエン５０ｍＬおよび温水２０ｍＬを加えて撹拌しながら、酢酸２ｍＬで酸性化し、静置後、下層の水層を分離した。さらに２０ｍＬの温水で同様に洗浄した。さらに同量の温水で２回洗浄した。次いでこの反応物の中にイソプロピルアルコール５０ｍＬを加え、内容物を溶解させてから活性炭を少量加えて還流下で２時間処理し、７５℃で濾過して瀘滓を除去し、イソプロピルアルコールを減圧下で留去した後、ｎ−ヘキサン５０ｍＬを加えて結晶を析出させた。析出した結晶をブフナーロートで濾過し取った。
この粗製結晶をカラムクロマトグラフィーにて精製し、ＨＰＬＣ面積百分率で純度９６．７％の目的物を得た。
黄色の透明な液状物であり、徐々に流動性を失ったが、結晶化しなかった。
１Ｈ−ＮＭＲおよび１３Ｃ−ＮＭＲで構造を確認し、チャートを図３〜図４に示す。
【００６７】
＜ＵＶスペクトルの測定＞
この化合物のＵＶスペクトルを測定し、λｍａｘ３０３ｎｍのとき、εは５１４００、
λｍａｘ３４６ｎｍのとき、εは６４４００であった。
このスペクトル図を図１に示す。
【００６８】
（実施例２）
Ａ．２−ジエチルアミノメチル−６−［５−（２−エチルヘキシルオキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチルフェノールの合成
【化１７】
0005285293.tif 000018
【００６９】
１００ｍＬの四つ口フラスコに玉付きコンデンサー、温度計、撹拌装置を取り付け、実施例１のＡで合成した２−［５−（２−エチルヘキシルオキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチルフェノール５．６ｇ（０．０１６モル）、ジエチルアミン４．１２ｇ（０．０５６モル）、９２％パラホルムアルデヒド０．９２ｇ（０．０３モル）、ソルベッソ１５０（エクソンモービル社製）１５ｍＬを入れ、１０２〜１０４℃にて６時間撹拌した。  さらにジエチルアミン４．１２ｇ（０．０５６モル）、９２％パラホルムアルデヒド０．９２ｇ（０．０３モル）を追加し、１００〜１０５℃にて２時間撹拌した。
【００７０】
ＨＰＬＣにて分析し、マンニッヒ塩基体が７４％、未反応のベンゾトリアゾール体が１７％であったのでベンゾトリゾール体０．９６ｇ（０．００３モル）を追加して、マンニッヒ塩基体と未反応のベンゾトリアゾール体との混合比率が約６対４になるように調製した後、１０ｍＬの温水で４回、洗浄した。
【００７１】
化合物（II−ｂ）
メチレンビス−２−［５−（２−エチルヘキシルオキシ）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−メチルフェノールの合成例
Ａ．で調製した反応物の中に２８％ナトリウムメチラートメタノール溶液１．０ｍＬを加え、徐々に温度を上げながら、生成するジエチルアミンを留去した。
最後１４５〜１４７℃にて２時間、撹拌しながら加熱した後、さらに減圧にして、最後１３７℃／５００ｍｍＨｇの条件で８時間反応させた。
【００７２】
ＨＰＬＣの分析により、未反応の原料が消失しているのを確認し、トルエン３０ｍＬと水１０ｍＬを加えて撹拌しながら、酢酸２ｍＬを加えて酸性化した。次いで温水１０ｍＬで３回洗浄し、トルエンと共沸にて水分を除去し、トルエン１０ｍＬを加えて１００℃に加熱後、濾過して不溶解分を除去してから減圧下でトルエンを留去した。カラムクロマトグラフィーにより精製して、ＨＰＬＣ面積百分率で純度９９．２％の目的物を得た。
黄色の透明な液状物であり、徐々に流動性を失ったが、結晶化しなかった。
【００７３】
＜ＵＶスペクトルの測定＞
この化合物のＵＶスペクトルを測定し、λｍａｘ３５３ｎｍのとき、εは４７５００であった。このスペクトル図を図２に示す。
【００７４】
［比較例］
（比較例１）
実施例１および実施例２で得られた化合物と、化合物（V）であるメチレンビス−２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、商品名ＬＡ−３１（ＡＤＥＫＡ社製）について２００℃、２時間加熱後の変化を調べた。この結果を表１に示す。
【００７５】
【表１】
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【００７６】
（比較例２）
実施例１および実施例２で合成した化合物について２００℃  Ｘ  ２時間後のＵＶ吸収スペクトル分析を行った。表２にその結果を示す。  
また、ｐａｒｓｏｌ１７８９（比較例２）についても同様に実施した結果、加熱後のＵＶ吸収の低下が著しいことがわかる。
【００７７】
【表２】
0005285293.tif 000020
【００７８】
表１からは、耐熱性、蒸散性に関してＴＩＮＯＳＯＲＢ  Ｍ（チバスペシャルティーケミカルズ社製）である化合物のメチレンビス−２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノールと何ら遜色なく、かつ表２からは、高温での加熱後のモル吸光係数に変化がなく、非常に大きいモル吸光係数を維持することが分かる。
【００７９】
化粧用途のＵＶ−Ａ紫外線吸収剤として最もよく使用されているＰａｒｓｏｌ１７８９よりも紫外線照射線に対して遙かに能力が高いサンケア−化粧品の製造が可能である事を示唆している。  
【００８０】
以下に本発明の皮膚外用剤の実施例を示す。
（実施例３）  サンスクリーン乳液
Ａ．油相
揮発性環状シリコーン                                       ２７．０重量％
二酸化チタン（疎水化処理品）                      
１０．０
酸化亜鉛（疎水化処理品）                                   １０．０
タルク（疎水化処理品）                             
４．０
化合物（II−ａ）のベンゾトリアゾール                          ３．０
オクチルメトキシシンナメート                       
３．０
4-メトキシ-4'-t-ブチルジベンゾイルメタン              
１．０
有機変性モンモリロナイト                           
０．５
ポリオキシエチレン・メチルポリシロキサン                      ２．０
防腐剤                                          
適 量
香料                                            
適 量
Ｂ．水相
ジプロピレングリコール                 
７．０
精製水                                          
残余
【００８１】
（製法及び評価）油相部と水相部をそれぞれ混合溶解させる。油相部は二酸化チタンの分散を十分に行い、水相部を加え、ホモジナイザーを用い乳化する。得られたサンスクリーン乳液は、さっぱりさに優れていた。
【００８２】
（実施例４）  ：  日焼け止め（Ｗ／Ｏ）
製造方法は、油相（Ｏ）に水相（Ｗ）を徐々に添加し添加終了後、攪拌機を用いて乳化粒子が均一になるように調製した。得られたサンスクリーン乳液は、さっぱりさに優れ、外観の黄色味もなく、安定性に優れていた。
【００８３】
【表３】
0005285293.tif 000021
【００８４】
（実施例５）  ：日焼け止め（Ｏ／Ｗ）
製造方法は、水相（Ｗ）を調製後、油相（Ｏ）に徐々に添加し、最後にホモミキサーを用いて攪拌した。得られたサンスクリーン乳液は、使用性、肌へのなじみに優れていた。
【００８５】
【表４】
0005285293.tif 000022
【産業上の利用可能性】
【００８６】
本発明は、新規ベンゾトリアゾール化合物を提供する。従って、新規な紫外線吸収剤及びこれを含有する皮膚外用剤を提供する。本発明の紫外線吸収剤は、ＵＶ−Ａ領域、もしくはＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ａ両領域に対して優れた紫外線吸収を有するものである。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】実施例１で得られた化合物（II−ａ）および、化合物（V）である商品名ＴＩＮＯＳＯＲＢ  Ｍの（チバスペシャルティーケミカルズ社）主成分ベンゾトリアゾールおよびそのモノ体である商品名ＳＥＥＳＯＲＢ７０９（シプロ化成社製）のＵＶスペクトル図である。（クロロホルム溶状にて濃度１０ｐｐｍで測定）
【図２】実施例１で得られた化合物Ａの紫外吸収スペクトルおよび実施例２で得られたそのメチレンビス体である化合物（II−ｂ）および、商品名ＳＥＥＳＯＲＢ７０１（シプロ化成社製）のＵＶスペクトル図である。（クロロホルム溶状にて濃度１０ｐｐｍで測定）
【００８８】
【図３】化合物（II−ａ）の１Ｈ−ＮＭＲ図である。
【図４】化合物（II−ａ）の１３Ｃ−ＮＭＲ図である。
【図５】実施例１で得られた化合物Ａの１Ｈ−ＮＭＲ図である。
【図６】化合物（II−ｂ）の１Ｈ−ＮＭＲ図である。
【図１】
0005285293.tif 000026
【図２】
0005285293.tif 000027
【図３】
0005285293.tif 000028
【図４】
0005285293.tif 000029
【図５】
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【図６】
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