(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
エネルギビームにより物体を露光する露光装置であって、
少なくとも載置された前記物体に対する露光が行われる露光位置を含む第１領域と、該第１領域の第１方向の一側に位置し、少なくとも前記物体の交換が行われる第２領域と、前記第１領域と前記第２領域との間の第３領域と、を含む所定範囲内で前記物体を保持して所定平面に実質的に沿って移動可能な移動体と；
前記移動体の前記所定平面に実質的に平行な一面に対向する前記所定平面に平行な面上の前記第１、第２、及び第３領域に対応する位置にそれぞれ配置された第１、第２、及び第３グレーティング部と；
前記移動体の前記一面に設けられた複数のエンコーダヘッドを有し、第１、第２、及び第３グレーティング部のいずれかに対向する前記複数のエンコーダヘッドの出力に基づいて、前記移動体の前記所定平面内の位置情報を計測するエンコーダシステムを含む計測装置と；を備え、
前記移動体の移動に応じて、前記複数のエンコーダヘッドのうちの２つが、前記第１、第２、及び第３グレーティング部のうちのいずれか１つに同時に対向する状態と、前記２つのエンコーダヘッドが前記第１、第２、及び第３グレーティング部のうちのいずれか２つにそれぞれ個別にかつ同時に対向する状態と、が切り替え設定される露光装置。
【請求項２】
請求項１に記載の露光装置において、
前記第３グレーティング部は、前記移動体が前記第１領域と前記第２領域との間を移動する際の前記エンコーダヘッドの移動軌跡に沿って、配置される露光装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の露光装置において、
前記第１グレーティング部と前記第２グレーティング部とは、互いに離間して配置される露光装置。
【請求項４】
請求項３に記載の露光装置において、
前記第１グレーティング部と前記第２グレーティング部とは、前記第３グレーティング部を介して配置される露光装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記移動体に設けられた反射面に測長ビームを照射して前記移動体の少なくとも前記所定平面内の位置情報を計測する干渉計システムをさらに含み、
前記第３領域は、前記測長ビームが前記反射面から外れる前記移動体の移動経路を含む露光装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記複数のエンコーダヘッドは、前記第１方向及び該第１方向に前記所定平面内で垂直な第２方向の少なくとも一方を計測方向とし、前記移動体の前記一面上の異なる位置にそれぞれ配置された複数の第１ヘッドを含み、前記第１、第２、及び第３グレーティング部の少なくとも１つの前記計測方向を周期方向とする格子を有する部分に対し、前記複数の第１ヘッドが同時に対向する露光装置。
【請求項７】
請求項６に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記複数の第１ヘッドの出力に基づいて、前記移動体の前記所定平面内の回転方向の位置情報を計測する露光装置。
【請求項８】
請求項６又は７に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記複数の第１ヘッドの出力に基づいて、前記第１、第２、及び第３グレーティング部のうちの少なくとも１つの第１部分と第２部分との位置関係を取得する露光装置。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記移動体を複数備える露光装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の露光装置において、
前記複数の移動体のうちの２つの移動体を駆動するとともに、前記２つの移動体の一方が前記第１領域に位置する第１の状態から前記２つの移動体の他方が前記第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、前記２つの移動体が前記所定平面内の所定方向に関して近接又は接触するスクラム状態を維持して、前記２つの移動体を同時に前記所定方向に駆動する移動体駆動系と；をさらに備える露光装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の露光装置において、
前記所定平面に平行な面上の、前記スクラム状態にある前記２つの移動体の少なくとも一方が備えるエンコーダヘッドが対向し得る位置に、第４グレーティング部がさらに配置され、
前記計測装置は、前記第４グレーティング部に対向する前記エンコーダヘッドの出力に基づいて、前記スクラム状態にある前記２つの移動体の少なくとも一方の前記所定平面内の位置情報を計測する露光装置。
【請求項１２】
請求項１０又は１１に記載の露光装置において、
前記所定方向は、前記第１方向及び該第１方向に垂直な第２方向のいずれかである露光装置。
【請求項１３】
請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記２つの移動体の一方は、前記所定平面内の前記第１、第２、第３領域を含む第１範囲内を移動し、
前記２つの移動体の他方は、前記第１範囲と、前記第１領域以外の少なくとも一部が異なる第２範囲内を移動する露光装置。
【請求項１４】
エネルギビームにより物体を露光する露光装置であって、
少なくとも載置された前記物体に対する露光が行われる露光位置を含む第１領域と、該第１領域の第１方向の一側に位置し、少なくとも前記物体の交換が行われる第２領域と、前記第１領域と前記第２領域との間の第３領域と、を含む第１範囲内で、前記物体を保持して所定平面に実質的に沿って移動可能な第１移動体と；
前記第１領域と、該第１領域の第１方向の一側に位置し、少なくとも前記物体の交換が行われる第４領域と、前記第１領域と前記第４領域との間の第５領域と、を含む第２範囲内で、前記物体を保持して所定平面に実質的に沿って移動可能な第２移動体と；
前記第１及び第２移動体それぞれの前記所定平面に実質的に平行な一面に対向する前記所定平面に平行な面上の、前記第３及び第５領域に対応する位置にそれぞれ配置された第１、第２グレーティング部と；
前記第１移動体の前記一面上及び前記第２移動体の前記一面上にそれぞれ設けられた第１及び第２エンコーダヘッドを有し、前記第１グレーティング部に対向する前記第１エンコーダヘッドの出力、及び前記第２グレーティング部に対向する前記第２エンコーダヘッドの出力、に基づいて、それぞれ、前記第１及び第２移動体の前記所定平面内の位置情報を計測するエンコーダシステムを含む計測装置と；を備え、
前記エンコーダシステムは、前記第１、第２エンコーダヘッドの少なくとも一方である特定エンコーダヘッドを複数有し、該複数の特定エンコーダヘッドの出力に基づいて、前記第１及び第２移動体のうち、前記特定エンコーダヘッドが設けられた特定移動体の前記所定平面内の位置情報を計測し、
前記特定移動体の移動に応じて、前記複数の特定エンコーダヘッドのうちの２つが、前記第１及び第２グレーティング部のうちの１つに同時に対向する状態と、前記２つの特定エンコーダヘッドが前記第１及び第２グレーティング部にそれぞれ個別にかつ同時に対向する状態と、が切り替え設定される露光装置。
【請求項１５】
請求項１４記載の露光装置において、
前記第１範囲と前記第２範囲とは、一部重なる露光装置。
【請求項１６】
請求項１４又は１５に記載の露光装置において、
前記複数の特定エンコーダヘッドは、前記第１方向及び該第１方向に前記所定平面内で垂直な第２方向の少なくとも一方を計測方向とし、前記特定移動体の前記一面上の異なる位置にそれぞれ配置された第１ヘッドを複数含み、
前記第１及び第２グレーティング部の少なくとも１つの前記計測方向を周期方向とする格子を有する部分に対し、前記複数の第１ヘッドが同時に対向する露光装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記複数の第１ヘッドの出力に基づいて、前記特定移動体の前記所定平面内の回転方向の位置情報を計測する露光装置。
【請求項１８】
請求項１６又は１７に記載の露光装置において、
前記計測装置は、前記複数の第１ヘッドの出力に基づいて、前記第１及び第２グレーティング部のうちの少なくとも１つの第１部分と第２部分との位置関係を取得する露光装置。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか一項に記載の露光装置において、
前記露光位置に設けられた光学系と；
前記光学系と前記露光位置にある移動体との間に、液体を供給して、液浸領域を形成する液浸装置と；をさらに備える露光装置。
【請求項２０】
エネルギビームにより物体を露光する露光方法であって、
少なくとも載置された前記物体に対する露光が行われる露光位置を含む第１領域と、該第１領域の第１方向の一側に位置し、少なくとも前記物体の交換が行われる第２領域と、前記第１領域と前記第２領域との間の第３領域と、を含む所定範囲内で、前記物体を保持して所定平面に実質的に沿って移動可能な移動体の前記所定平面内の位置情報を、前記所定平面に実質的に平行な一面に対向する前記所定平面に平行な面上の前記第１、第２、及び第３領域に対応する位置にそれぞれ配置された第１、第２、及び第３グレーティング部のいずれかに対向する、前記移動体の前記一面に設けられた複数のエンコーダヘッドの出力に基づいて、計測する工程と；を含み、
前記移動体の移動に応じて、前記複数のエンコーダヘッドのうちの２つが、前記第１、第２、及び第３グレーティング部のうちのいずれか１つに同時に対向する状態と、前記２つのエンコーダヘッドが前記第１、第２、及び第３グレーティング部のうちのいずれか２つにそれぞれ個別にかつ同時に対向する状態と、が切り替え設定される露光方法。
【請求項２１】
請求項２０に記載の露光方法において、
前記第３グレーティング部は、前記移動体が前記第１領域と前記第２領域との間を移動する際の前記エンコーダヘッドの移動軌跡に沿って、配置される露光方法。
【請求項２２】
請求項２０又は２１に記載の露光方法において、
前記第１グレーティング部と前記第２グレーティング部とは、互いに離間して配置される露光方法。
【請求項２３】
請求項２２に記載の露光方法において、
前記第１グレーティング部と前記第２グレーティング部とは、前記第３グレーティング部を介して配置される露光方法。
【請求項２４】
請求項２０〜２３のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記計測する工程では、前記移動体に設けられた反射面に測長ビームを照射する干渉計システムを用いて、少なくとも前記第１領域と前記第２領域における前記移動体の位置情報をさらに計測し、
前記第３領域は、前記測長ビームが前記反射面から外れる前記移動体の移動経路を含む露光方法。
【請求項２５】
請求項２０〜２４のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記複数のエンコーダヘッドは、前記第１方向及び該第１方向に前記所定平面内で垂直な第２方向の少なくとも一方を計測方向とし、前記移動体の前記一面上の異なる位置にそれぞれ配置された複数の第１ヘッドを含み、前記第１、第２、及び第３グレーティング部の少なくとも１つの前記計測方向を周期方向とする格子を有する部分に対し、前記複数の第１ヘッドが同時に対向する露光方法。
【請求項２６】
請求項２５に記載の露光方法において、
前記計測する工程では、前記複数の第１ヘッドの出力に基づいて、前記移動体の前記所定平面内の回転方向の位置情報を計測する露光方法。
【請求項２７】
請求項２５又は２６に記載の露光方法において、
前記計測する工程では、前記複数の第１ヘッドの出力に基づいて、前記第１、第２、及び第３グレーティング部のうちの少なくとも１つの第１部分と第２部分との位置関係を取得する露光方法。
【請求項２８】
請求項２０〜２７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記移動体を複数用いる露光方法。
【請求項２９】
請求項２８に記載の露光方法において、
前記複数の移動体のうちの２つの移動体を駆動するとともに、前記２つの移動体の一方が前記第１領域に位置する第１の状態から前記２つの移動体の他方が前記第１領域に位置する第２の状態に遷移させる際に、前記２つの移動体が前記所定平面内の所定方向に関して近接又は接触するスクラム状態を維持して、前記２つの移動体を同時に前記所定方向に駆動する工程と；をさらに含む露光方法。
【請求項３０】
請求項２９に記載の露光方法において、
前記所定平面に平行な面上の、前記スクラム状態にある前記２つの移動体の少なくとも一方が備えるエンコーダヘッドが対向し得る位置に、第４グレーティング部がさらに配置され、
前記計測する工程では、前記第４グレーティング部に対向する前記エンコーダヘッドの出力に基づいて、前記スクラム状態にある前記２つの移動体の少なくとも一方の前記所定平面内の位置情報を計測する露光方法。
【請求項３１】
請求項２９又は３０に記載の露光方法において、
前記所定方向は、前記第１方向及び該第１方向に垂直な第２方向のいずれかである露光方法。
【請求項３２】
請求項２９〜３１のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記２つの移動体の一方は、前記所定平面内の前記第１、第２、第３領域を含む第１範囲内を移動し、
前記２つの移動体の他方は、前記第１範囲と、前記第１領域以外の少なくとも一部が異なる第２範囲内を移動する露光方法。
【請求項３３】
エネルギビームにより物体を露光する露光方法であって、
少なくとも載置された前記物体に対する露光が行われる露光位置を含む第１領域と、該第１領域の第１方向の一側に位置し、少なくとも前記物体の交換が行われる第２領域と、前記第１領域と前記第２領域との間の第３領域と、を含む第１範囲内で、前記物体を保持して所定平面に実質的に沿って移動可能な第１移動体と、前記第１領域と、該第１領域の第１方向の一側に位置し、少なくとも前記物体の交換が行われる第４領域と、前記第１領域と前記第４領域との間の第５領域と、を含む第２範囲内で、前記物体を保持して所定平面に実質的に沿って移動可能な第２移動体と、の前記第３及び第５領域における前記所定平面内の位置情報を、前記第１及び第２移動体それぞれの前記所定平面に実質的に平行な一面に対向する前記所定平面に平行な面上の、前記第３及び第５領域に対応する位置にそれぞれ配置された第１、第２グレーティング部に、それぞれ対向する、前記第１移動体の前記一面上及び前記第２移動体の前記一面上にそれぞれ設けられた第１及び第２エンコーダヘッドの出力に基づいて、それぞれ、計測する工程を含み、
前記第１、第２エンコーダヘッドの少なくとも一方である特定エンコーダヘッドが複数設けられ、
前記計測する工程では、前記複数の特定エンコーダヘッドの出力に基づいて、前記第１及び第２移動体のうち、前記特定エンコーダヘッドが設けられた特定移動体の前記所定平面内の位置情報を計測し、
前記特定移動体の移動に応じて、前記複数の特定エンコーダヘッドのうちの２つが、前記第１及び第２グレーティング部のうちの１つに同時に対向する状態と、前記２つの特定エンコーダヘッドが前記第１及び第２グレーティング部にそれぞれ個別にかつ同時に対向する状態と、が切り替え設定される露光方法。
【請求項３４】
請求項３３に記載の露光方法において、
前記第１範囲と前記第２範囲とは、一部重なる露光方法。
【請求項３５】
請求項３３又は３４に記載の露光方法において、
前記複数の特定エンコーダヘッドには、前記第１方向及び該第１方向に前記所定平面内で垂直な第２方向の少なくとも一方を計測方向とし、前記特定移動体の前記一面上の異なる位置にそれぞれ配置された第１ヘッドが複数含まれ、
前記第１及び第２グレーティング部の少なくとも１つの前記計測方向を周期方向とする格子を有する部分に対し、前記複数の第１ヘッドが同時に対向する露光方法。
【請求項３６】
請求項３５に記載の露光方法において、
前記計測する工程では、前記複数の第１ヘッドの出力に基づいて、前記特定移動体の前記所定平面内の回転方向の位置情報を計測する露光方法。
【請求項３７】
請求項３５又は３６に記載の露光方法において、
前記計測する工程では、前記複数の第１ヘッドの出力に基づいて、前記第１及び第２グレーティング部のうちの少なくとも１つの第１部分と第２部分との位置関係を取得する露光方法。
【請求項３８】
請求項２０〜３７のいずれか一項に記載の露光方法において、
前記露光位置に設置された光学系と前記露光位置にある移動体との間に形成される液浸領域の液体を介してエネルギビームを照射することにより、前記移動体上の物体を露光する露光方法。
【請求項３９】
請求項２０〜３８のいずれか一項に記載の露光方法を用いて物体を露光する工程と；
露光済みの前記物体を現像する工程と；を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法に係り、特に、半導体素子などのマイクロデバイスを製造するリソグラフィ工程で用いられる露光装置及び露光方法、並びに該露光方法を用いるデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子（集積回路等）、液晶表示素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するリソグラフィ工程では、ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆるステッパ）、あるいはステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが、主として用いられている。
【０００３】
この種の露光装置では、第１に高スループットであることが要請される。スループットを向上させる手法として、ウエハを保持するウエハステージを複数、例えば２つ設けて、その２つのステージで異なる動作を同時並行的に処理する手法を採用するツインウエハステージタイプの露光装置も種々提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
さらに、最近では、液浸露光法を採用したツインウエハステージタイプの露光装置も提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
しかるに、例えば特許文献２に記載される露光装置のように、２つのウエハステージを備えている場合、露光位置（投影レンズ下方の位置）とウエハ交換（及びウエハアライメント）が行われる位置との間の各ウエハステージの移動中に、そのウエハステージの位置を計測する干渉計システムの計測が不能となる位置が存在することがあった。
【０００６】
【特許文献１】米国特許第６，２６２，７９６号明細書
【特許文献２】米国特許第７，１６１，６５９号明細書
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上述の事情の下でなされたもので、第１の態様によれば、エネルギビームにより物体を露光する露光装置であって、少なくとも載置された前記物体に対する露光が行われる露光位置を含む第１領域と、該第１領域の第１方向の一側に位置し、少なくとも前記物体の交換が行われる第２領域と、前記第１領域と前記第２領域との間の第３領域と、を含む所定範囲内で前記物体を保持して所定平面に実質的に沿って移動可能な移動体と；前記移動体の前記所定平面に実質的に平行な一面に対向する前記所定平面に平行な面上の前記第１、第２、及び第３領域に対応する位置にそれぞれ配置された第１、第２、及び第３グレーティング部と；前記移動体の前記一面に設けられた複数のエンコーダヘッドを有し、第１、第２、及び第３グレーティング部のいずれかに対向する前記複数のエンコーダヘッドの出力に基づいて、前記移動体の前記所定平面内の位置情報を計測するエンコーダシステムを含む計測装置と；を備え、前記移動体の移動に応じて、前記複数のエンコーダヘッドのうちの２つが、前記第１、第２、及び第３グレーティング部のうちのいずれか１つに同時に対向する状態と、前記２つのエンコーダヘッドが前記第１、第２、及び第３グレーティング部のうちのいずれか２つにそれぞれ個別にかつ同時に対向する状態と、が切り替え設定される第１の露光装置が提供される。
【００１０】
これによれば、計測装置に含まれるエンコーダシステムにより、第１領域内と第２領域内を移動する時だけでなく、第１領域と第２領域との間を、第３領域を通って移動する時にも、移動体の所定平面内の位置情報が計測される。従って、所定平面に平行な面上の第１、第２、及び第３領域に対応する位置にそれぞれ第１、第２、及び第３グレーティング部を配置することにより、計測装置に含まれるエンコーダシステムのみを用いて、第１領域内と第２領域内を移動する時だけでなく、第１領域と第２領域との間を、第３領域を通って移動する時にも、移動体の所定平面内の位置を管理することが可能になる。
【００１１】
本発明の第２の態様によれば、エネルギビームにより物体を露光する露光装置であって、少なくとも載置された前記物体に対する露光が行われる露光位置を含む第１領域と、該第１領域の第１方向の一側に位置し、少なくとも前記物体の交換が行われる第２領域と、前記第１領域と前記第２領域との間の第３領域と、を含む第１範囲内で、前記物体を保持して所定平面に実質的に沿って移動可能な第１移動体と；前記第１領域と、該第１領域の第１方向の一側に位置し、少なくとも前記物体の交換が行われる第４領域と、前記第１領域と前記第４領域との間の第５領域と、を含む第２範囲内で、前記物体を保持して所定平面に実質的に沿って移動可能な第２移動体と；前記第１及び第２移動体それぞれの前記所定平面に実質的に平行な一面に対向する前記所定平面に平行な面上の、前記第３及び第５領域に対応する位置にそれぞれ配置された第１、第２グレーティング部と；前記第１移動体の前記一面上及び前記第２移動体の前記一面上にそれぞれ設けられた第１及び第２エンコーダヘッドを有し、前記第１グレーティング部に対向する前記第１エンコーダヘッドの出力、及び前記第２グレーティング部に対向する前記第２エンコーダヘッドの出力、に基づいて、それぞれ、前記第１及び第２移動体の前記所定平面内の位置情報を計測するエンコーダシステムを含む計測装置と；を備え、前記エンコーダシステムは、前記第１、第２エンコーダヘッドの少なくとも一方である特定エンコーダヘッドを複数有し、該複数の特定エンコーダヘッドの出力に基づいて、前記第１及び第２移動体のうち、前記特定エンコーダヘッドが設けられた特定移動体の前記所定平面内の位置情報を計測し、前記特定移動体の移動に応じて、前記複数の特定エンコーダヘッドのうちの２つが、前記第１及び第２グレーティング部のうちの１つに同時に対向する状態と、前記２つの特定エンコーダヘッドが前記第１及び第２グレーティング部にそれぞれ個別にかつ同時に対向する状態と、が切り替え設定される第２の露光装置が提供される。
【００１２】
これによれば、計測装置に含まれるエンコーダシステムにより、第３領域を通って第１領域と第２領域との間を移動する第１移動体の所定平面内の位置情報が計測される。また、計測装置により、第５領域を通って第１領域と第４領域との間を移動する第２移動体の所定平面内の位置情報が計測される。従って、所定平面に平行な面上の第３領域、第５領域に対応する位置に、それぞれ第１、第２グレーティング部を配置するのみで、第３領域を通って第１領域と前記第２領域との間を移動する際の第１移動体、及び第４領域を通って第１領域と前記第５領域との間を移動する際の第２移動体の所定平面内の位置を管理することが可能になる。
【００１５】
本発明の第３の態様によれば、エネルギビームにより物体を露光する露光方法であって、少なくとも載置された前記物体に対する露光が行われる露光位置を含む第１領域と、該第１領域の第１方向の一側に位置し、少なくとも前記物体の交換が行われる第２領域と、前記第１領域と前記第２領域との間の第３領域と、を含む所定範囲内で、前記物体を保持して所定平面に実質的に沿って移動可能な移動体の前記所定平面内の位置情報を、前記所定平面に実質的に平行な一面に対向する前記所定平面に平行な面上の前記第１、第２、及び第３領域に対応する位置にそれぞれ配置された第１、第２、及び第３グレーティング部のいずれかに対向する、前記移動体の前記一面に設けられた複数のエンコーダヘッドの出力に基づいて、計測する工程と；を含み、前記移動体の移動に応じて、前記複数のエンコーダヘッドのうちの２つが、前記第１、第２、及び第３グレーティング部のうちのいずれか１つに同時に対向する状態と、前記２つのエンコーダヘッドが前記第１、第２、及び第３グレーティング部のうちのいずれか２つにそれぞれ個別にかつ同時に対向する状態と、が切り替え設定される第１の露光方法が提供される。
【００１６】
これによれば、エンコーダヘッドの出力に基づいて、第１領域内と第２領域内を移動する時だけでなく、第１領域と第２領域との間を第３領域を通って移動する時にも、移動体の所定平面内の位置情報を計測する。従って、所定平面に平行な面上の第１、第２、及び第３領域に対応する位置にそれぞれ第１、第２、及び第３グレーティング部を配置することにより、エンコーダヘッドの出力に基づいて、第１領域内と第２領域内を移動する時だけでなく、第１領域と第２領域との間を第３領域を通って移動する時にも、移動体の所定平面内の位置を管理することが可能になる。
【００１７】
本発明の第４の態様によれば、エネルギビームにより物体を露光する露光方法であって、少なくとも載置された前記物体に対する露光が行われる露光位置を含む第１領域と、該第１領域の第１方向の一側に位置し、少なくとも前記物体の交換が行われる第２領域と、前記第１領域と前記第２領域との間の第３領域と、を含む第１範囲内で、前記物体を保持して所定平面に実質的に沿って移動可能な第１移動体と、前記第１領域と、該第１領域の第１方向の一側に位置し、少なくとも前記物体の交換が行われる第４領域と、前記第１領域と前記第４領域との間の第５領域と、を含む第２範囲内で、前記物体を保持して所定平面に実質的に沿って移動可能な第２移動体と、の前記第３及び第５領域における前記所定平面内の位置情報を、前記第１及び第２移動体それぞれの前記所定平面に実質的に平行な一面に対向する前記所定平面に平行な面上の、前記第３及び第５領域に対応する位置にそれぞれ配置された第１、第２グレーティング部に、それぞれ対向する、前記第１移動体の前記一面上及び前記第２移動体の前記一面上にそれぞれ設けられた第１及び第２エンコーダヘッドの出力に基づいて、それぞれ、計測する工程を含み、前記第１、第２エンコーダヘッドの少なくとも一方である特定エンコーダヘッドが複数設けられ、前記計測する工程では、前記複数の特定エンコーダヘッドの出力に基づいて、前記第１及び第２移動体のうち、前記特定エンコーダヘッドが設けられた特定移動体の前記所定平面内の位置情報を計測し、前記特定移動体の移動に応じて、前記複数の特定エンコーダヘッドのうちの２つが、前記第１及び第２グレーティング部のうちの１つに同時に対向する状態と、前記２つの特定エンコーダヘッドが前記第１及び第２グレーティング部にそれぞれ個別にかつ同時に対向する状態と、が切り替え設定される第２の露光方法が提供される。
【００１８】
これによれば、第１エンコーダヘッドの出力に基づいて、第３領域を通って第１領域と第２領域との間を移動する第１移動体の所定平面内の位置情報が計測される。また、第２エンコーダヘッドの出力に基づいて、第５領域を通って第１領域と第４領域との間を移動する第２移動体の所定平面内の位置情報が計測される。従って、所定平面に平行な面上の第３領域、第５領域に対応する位置に、それぞれ第１、第２グレーティング部を配置するのみで、第３領域を通って第１領域と前記第２領域との間を移動する際の第１移動体、及び第４領域を通って第１領域と前記第５領域との間を移動する際の第２移動体の所定平面内の位置を管理することが可能になる。
【００１９】
本発明の別の態様によれば、本発明の第１、第２の露光方法のいずれかを用いて物体を露光する工程と；露光済みの前記物体を現像する工程と；を含むデバイス製造方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
《第１の実施形態》
以下、本発明の第１の実施形態について、図１〜図１２に基づいて説明する。
【００２１】
図１には、第１の実施形態のツインステージ型の露光装置１００の構成が概略的に示されている。露光装置１００は、ステップ・アンド・スキャン方式の投影露光装置、いわゆるスキャナである。後述するように、本実施形態では投影光学系ＰＬとアライメント系ＡＬＧが設けられており、以下においては、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと平行な方向をＺ軸方向、これに直交する面内で投影光学系ＰＬの中心（光軸ＡＸ）とアライメント系ＡＬＧの検出中心（光軸ＡＸｐ）を結ぶ直線と平行な方向をＹ軸方向、Ｚ軸及びＹ軸に直交する方向をＸ軸方向、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸回りの回転（傾斜）方向をそれぞれθｘ方向、θｙ方向、及びθｚ方向として説明を行なう。
【００２２】
露光装置１００は、照明系１０、レチクルステージＲＳＴ、投影ユニットＰＵ、局所液浸装置８、アライメント系ＡＬＧ、ステージ装置５０、及びこれらの制御系等を備えている。なお、図１において、ステージ装置５０を構成する２つのウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２が、それぞれ投影ユニットＰＵの下方、アライメント系ＡＬＧの下方に位置している。また、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２上には、それぞれウエハＷ１、Ｗ２が載置されている。
【００２３】
照明系１０は、例えば米国特許出願公開第２００３／００２５８９０号明細書などに開示されるように、光源と、オプティカルインテグレータ等を含む照度均一化光学系及びレチクルブラインド等を含む照明光学系（いずれも不図示）と、を有している。照明系１０は、レチクルブラインド（マスキングシステムとも呼ばれる）で規定されたレチクルＲ上のスリット状の照明領域ＩＡＲを照明光（露光光）ＩＬによりほぼ均一な照度で照明する。ここで、照明光ＩＬとして、例えば、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）が用いられている。
【００２４】
レチクルステージＲＳＴ上には、回路パターンなどがそのパターン面（図１における下面）に形成されたレチクルＲが、例えば真空吸着により固定されている。レチクルステージＲＳＴは、例えばリニアモータ等を含むレチクルステージ駆動系１１（図１では不図示、図７参照）によって、ＸＹ平面内で微小駆動可能であるとともに、走査方向（ここでは、図１における紙面内左右方向であるＹ軸方向とする）に所定の走査速度で駆動可能となっている。
【００２５】
レチクルステージＲＳＴのＸＹ平面（移動面）内の位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）は、レチクルレーザ干渉計（以下、レチクル干渉計と呼ぶ）１１６によって、移動鏡１５（実際には、Ｙ軸方向に直交する反射面を有するＹ移動鏡あるいは（レトロリフレクタ）とＸ軸方向に直交する反射面を有するＸ移動鏡とが設けられている）を介して、例えば０．２５ｎｍ程度の分解能で常時検出される。レチクル干渉計１１６からの位置情報は、主制御装置２０（図１では不図示、図７参照）に送られる。主制御装置２０は、送られた位置情報に基づいて、レチクルステージ駆動系１１を介してレチクルステージＲＳＴの位置（及び速度）を制御する。
【００２６】
投影ユニットＰＵは、レチクルステージＲＳＴの図１における下方（−Ｚ方向）に配置されている。投影ユニットＰＵは、鏡筒４０と、鏡筒４０内に保持された投影光学系ＰＬと、を含む。投影光学系ＰＬとしては、例えば、Ｚ軸方向と平行な光軸ＡＸに沿って配列される複数の光学素子（レンズエレメント）から成る屈折光学系が用いられる。投影光学系ＰＬは、例えば両側テレセントリックで、所定の投影倍率（例えば１／４倍、１／５倍又は１／８倍など）を有する。このため、照明系１０からの照明光ＩＬによってレチクルＲ上の照明領域ＩＡＲが照明されると、投影光学系ＰＬの第１面（物体面）とパターン面がほぼ一致して配置されるレチクルＲを通過した照明光ＩＬにより、投影光学系ＰＬ（投影ユニットＰＵ）を介してその照明領域ＩＡＲ内のレチクルＲの回路パターンの縮小像（回路パターンの一部の縮小像）が、投影光学系ＰＬの第２面（像面）側に配置される、表面にレジスト（感光剤）が塗布されたウエハＷ１（又はＷ２）上の照明領域ＩＡＲに共役な領域（以下、露光領域とも呼ぶ）ＩＡに形成される。そして、レチクルステージＲＳＴとウエハステージＷＳＴ１（又はＷＳＴ２）との同期駆動によって、照明領域ＩＡＲ（照明光ＩＬ）に対してレチクルＲを走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させるとともに、露光領域（照明光ＩＬ）に対してウエハＷ１（又はＷ２）を走査方向（Ｙ軸方向）に相対移動させることで、ウエハＷ１（又はＷ２）上の１つのショット領域（区画領域）の走査露光が行われ、そのショット領域にレチクルのパターンが転写される。すなわち、本実施形態では照明系１０、レチクルＲ及び投影光学系ＰＬによってウエハＷ１（又はＷ２）上にパターンが生成され、照明光ＩＬによるウエハＷ１（又はＷ２）上の感応層（レジスト層）の露光によってウエハＷ１（又はＷ２）上にそのパターンが形成される。
【００２７】
本実施形態の露光装置１００には、液浸方式の露光を行うために、局所液浸装置８が設けられている。局所液浸装置８は、液体供給装置５、液体回収装置６（いずれも図１では不図示、図７参照）、液体供給管３１Ａ、液体回収管３１Ｂ、及びノズルユニット３２等を含む。ノズルユニット３２は、図１に示されるように、投影光学系ＰＬを構成する最も像面側（ウエハ側）の光学素子、ここではレンズ（以下、先端レンズとも呼ぶ）１９１を保持する鏡筒４０の下端部周囲を取り囲むように、投影ユニットＰＵを保持する不図示のメインフレームに吊り下げ支持されている。本実施形態では、ノズルユニット３２は、図１に示されるように、その下端面が先端レンズ１９１の下端面とほぼ同一面に設定されている。
【００２８】
液体供給管３１Ａは液体供給装置５（図１では不図示、図７参照）に、液体回収管３１Ｂは液体回収装置６（図１では不図示、図７参照）に接続されている。ここで、液体供給装置５は、液体を貯蔵するタンク、加圧ポンプ、温度制御装置、液体の流量を制御するためのバルブ等を備えている。液体回収装置６は、回収した液体を貯蔵するタンク、吸引ポンプ、液体の流量を制御するためのバルブ等を備えている。
【００２９】
主制御装置２０は、液体供給装置５（図７参照）を制御して、液体供給管３１Ａを介して先端レンズ１９１とウエハＷ１（又はＷ２）との間に液体Ｌｑを供給するとともに、液体回収装置６（図７参照）を制御して、液体回収管３１Ｂを介して先端レンズ１９１とウエハＷ１（又はＷ２）との間から液体Ｌｑを回収する。このとき、主制御装置２０は、供給される液体の量と回収される液体の量とが常に等しくなるように、液体供給装置５と液体回収装置６とを制御する。従って、先端レンズ１９１とウエハＷ１（又はＷ２）との間には、一定量の液体Ｌｑが常に入れ替わって保持され、それにより液浸領域１４（例えば図６、図８等参照）が形成される。本実施形態の露光装置１００では、照明光ＩＬを、液浸領域１４を形成する液体Ｌｑを介してウエハＷ１（又はＷ２）に照射することによって、ウエハＷ１（又はＷ２）に対する露光が行われる。ここで、液浸領域１４は、液浸空間とも呼ぶべき液体Ｌｑで満たされた三次元空間であるが、空間は空隙をも意味するので、かかる誤解を避けるべく、本明細書では、液浸領域なる用語を用いている。
【００３０】
上記の液体として、例えば、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍの光）が透過する純水が用いられる。なお、ＡｒＦエキシマレーザ光に対する純水の屈折率ｎは、ほぼ１．４４であり、純水の中では、照明光ＩＬの波長は、１９３ｎｍ×１／ｎ＝約１３４ｎｍに短波長化される。
【００３１】
アライメント系ＡＬＧは、投影ユニットＰＵの中心（投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ（本実施形態では、前述の露光領域ＩＡの中心に一致））から−Ｙ側に所定距離隔てた位置に配置され、不図示のメインフレームに保持されている。ここで、アライメント系ＡＬＧとして、例えば画像処理方式のＦＩＡ（Field Image Alignment）系が用いられる。アライメント系ＡＬＧは、ウエハアライメントなどに際し、主制御装置２０の指示に応じ、ウエハステージＷＳＴ１又はＷＳＴ２上の基準マーク又はウエハ上のアライメントマーク（ウエハマーク）を撮像し、その撮像信号を不図示の信号処理系を介して主制御装置２０に供給する（図７参照）。
【００３２】
その他、本実施形態の露光装置１００には、投影ユニットＰＵの近傍に、例えば米国特許第５，４４８，３３２号明細書等に開示されるものと同様の構成の斜入射方式の多点焦点位置検出系（以下、多点ＡＦ系と略述する）ＡＦ（図１では不図示、図７参照）が設けられている。ここで、多点ＡＦ系ＡＦとしては、照射系からの検出ビームを、前述のノズルユニット３２に形成された不図示の光透過部及び液浸領域の液体Ｌｑを介してウエハＷ１（又はＷ２）表面の複数の検出点にそれぞれ照射し、複数の検出点それぞれにおける検出ビームの反射光をノズルユニット３２に形成された別の光透過部を介して受光系で受光する構成のものが用いられている。多点ＡＦ系ＡＦの検出信号は、不図示のＡＦ信号処理系を介して主制御装置２０に供給される（図７参照）。主制御装置２０は、多点ＡＦ系ＡＦの検出信号に基づいて、各検出点におけるウエハＷ表面のＺ軸方向の位置情報を検出し、その検出結果に基づいて走査露光中のウエハＷのいわゆるフォーカス・レベリング制御を実行する。なお、アライメント検出系ＡＬＧの近傍に多点ＡＦ系を設けて、ウエハアライメント時にウエハ表面の面位置情報（凹凸情報）を事前に取得し、露光時には、その面位置情報とウエハステージ上面のＺ軸方向の位置を検出する別のセンサの計測値とを用いて、ウエハＷのいわゆるフォーカス・レベリング制御を実行することとしても良い。
【００３３】
さらに、露光装置１００では、レチクルステージＲＳＴの上方に、露光波長の光を用いた一対のＴＴＲ（Through The Reticle）アライメント系から成るレチクルアライメント検出系１３（図１では不図示、図７参照）が設けられている。レチクルアライメント検出系１３の検出信号は、不図示のアライメント信号処理系を介して主制御装置２０に供給される（図７参照）。
【００３４】
ステージ装置５０は、図１に示されるように、ベース盤１２の上方に配置されたウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置情報を計測する計測システム２００（図７参照）、及びウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を駆動するステージ駆動系１２４（図７参照）等を備えている。計測システム２００は、図７に示されるように、干渉計システム１１８及びエンコーダシステム１５０などを含む。
【００３５】
ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２は、それぞれが備える後述するエアスライダにより、数μｍ程度のクリアランスを介して、ベース盤１２の上方に浮上支持されている。そして、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２は、ステージ駆動系１２４を構成する後述する平面モータにより、それぞれベース盤１２の上面（移動ガイド面）に沿ってＸＹ平面内で駆動可能である。なお、ウエハステージＷＳＴ１は、後述する露光時移動領域ＡＥとスクラム時移動領域ＡＳと第１待機領域ＡＷ１とアライメント領域ＡＡとを含む第１移動範囲内を、移動する。また、ウエハステージＷＳＴ２は、露光時移動領域ＡＥとスクラム時移動領域ＡＳと第２待機領域ＡＷ２とアライメント領域ＡＡとを含む第２移動範囲内を、移動する。
【００３６】
ウエハステージＷＳＴ１は、図１及び図２（Ａ）に示されるように、ステージ本体９１と、ステージ本体９１上に搭載されたウエハテーブルＷＴＢ１とを含む。ステージ本体９１は、図２（Ａ）に示されるように、ベース盤１２の内部に設けられた固定子５２とともに、平面モータ５１を構成する可動子５６と、該可動子５６の下半部の周囲に一体的に設けられ、複数のエアベアリングを有するエアスライダ５４とを有している。
【００３７】
可動子５６は、例えば、隣り合う磁極面の極性が互いに異なるようにマトリクス状に配列された複数の平板磁石から構成された平板上発磁体を含む磁石ユニットによって構成されている。
【００３８】
一方、固定子５２は、ベース盤１２の内部にマトリクス状に配列された複数の電機子コイル（駆動コイル）５７を有する電機子ユニットによって構成されている。電機子コイル５７として、本実施形態では、Ｘ駆動コイル及びＹ駆動コイルが設けられている。そして、固定子５２と、前述の可動子５６とによって、電磁力駆動方式（ローレンツ力駆動方式）のムービングマグネット型の平面モータ５１が構成されている。
【００３９】
複数の電機子コイル５７は、ベース盤１２の上面を構成する平板状部材５８によってカバーされる。平板状部材５８の上面は、ウエハステージＷＳＴ１（及びＷＳＴ２）の移動ガイド面かつエアスライダ５４が備えるエアベアリングからの加圧空気の受圧面を構成する。
【００４０】
ウエハテーブルＷＴＢ１は、ステージ本体９１の上に、ステージ駆動系１２４の一部を構成するＺ・レベリング機構（例えば、ボイスコイルモータ等を含む）を介して、設置されている。ウエハテーブルＷＴＢ１は、Ｚ・レベリング機構により、ステージ本体９１に対してＺ軸方向、θｘ方向及びθｙ方向に微小駆動される。従って、ウエハテーブルＷＴＢ１は、平面モータ５１とＺ・レベリング機構とを含むステージ駆動系１２４によって、ベース盤１２に対し、６自由度方向（Ｘ，Ｙ，Ｚ，θｘ，θｙ，θｚ）に駆動可能に構成されている。
【００４１】
ウエハテーブルＷＴＢ１の上面の中央には、ウエハを真空吸着等によって保持するウエハホルダ（不図示）が設けられている。ウエハホルダ（ウエハの載置領域）の外側には、図２（Ｂ）に示されるように、ウエハホルダよりも一回り大きな円形の開口が中央に形成され、かつ矩形状の外形（輪郭）を有するプレート２８が設けられている。プレート２８の表面は、液体Ｌｑに対して撥液化処理され、撥液面を形成している。なお、プレート２８は、その表面の全部（、あるいは一部）がウエハＷの表面とほぼ同一面となるように設定されている。
【００４２】
また、プレート２８の＋Ｙ側の＋Ｘ端部近傍には円形開口が形成され、該円形開口内には基準マーク板ＦＭ１が嵌め込まれている。基準マーク板ＦＭ１は、その表面が、プレート２８とほぼ同一面とされている。基準マーク板ＦＭ１の表面には、レチクルアライメント検出系１３により検出される一対の第１基準マークと、アライメント系ＡＬＧにより検出される第２基準マークとが少なくとも形成されている。
【００４３】
ウエハテーブルＷＴＢ１の＋Ｘ側の−Ｙ端部には、図２（Ｂ）に示されるように、他の部分より突出した板状の庇部２３ａが設けられている。ウエハテーブルＷＴＢ１の上面は、ウエハＷ１及び庇部２３ａを含めて、全面がほぼ同一面となっている。
【００４４】
ウエハステージＷＳＴ２は、図１、図３（Ａ）及び図３（Ｂ）などに示されるように、ステージ本体９１と、ウエハテーブルＷＴＢ２とを含んで、上述のウエハステージＷＳＴ１と、左右対称ではあるが同様に構成されている。ただし、ウエハステージＷＳＴ２では、ウエハテーブルＷＴＢ１上の基準マークＦＭ１の配置と対称な配置で、ウエハテーブルＷＴＢ２上面に基準マーク板ＦＭ２が設けられるとともに、ウエハテーブルＷＴＢ１の庇部２３ａとほぼ対称な配置で、庇部２３ｂが設けられている。
【００４５】
ここで、庇部２３ａ，２３ｂについて、その役割を含めて詳述する。
【００４６】
図４（Ａ）には、ウエハテーブルＷＴＢ１に設けられた庇部２３ａと、ウエハテーブルＷＴＢ２に設けられた庇部２３ｂとが、拡大して示されている。この図４（Ａ）に示されるように、庇部２３ａは、ウエハテーブルＷＴＢ１の＋Ｘ側の上端部から突出したほぼ平板状の部分から成るが、その先端部に上半部が下半部に比べて突出した凸部が形成されている。一方、庇部２３ｂは、ウエハテーブルＷＴＢ２の−Ｘ側の上端部から突出したほぼ平板状の部分から成るが、その先端部には、庇部２３ａの凸部に係合し、その係合状態では、図４（Ａ）に示されるように、全体で１つの板状部を形成する、下半部が上半部に比べて突出した凸部が形成されている。
【００４７】
庇部２３ａ、２３ｂそれぞれの先端は、図４（Ａ）からわかるように、ウエハステージＷＳＴ１の＋Ｘ側端部、ウエハステージＷＳＴ１の−Ｘ側端部に位置している。また、庇部２３ａ、２３ｂ同士が係合した状態における庇部２３ａと庇部２３ｂとの合計の長さは、先端部に一部重なり部があるにも拘わらず、ウエハステージＷＳＴ１とウエハステージＷＳＴ２とが接触する（より正確には、ウエハステージＷＳＴ１のエアスライダ５４の＋Ｘ側端と、ウエハステージＷＳＴ２のエアスライダ５４の−Ｘ側端とが接触する）のを阻止できる程度の長さに設定されている。この場合、庇部２３ａ、２３ｂ同士が係合した状態では、上記のエアスライダ５４同士の接触のみならず、図４（Ａ）に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１の＋Ｘ側端面に突出して設けられる反射ミラー２７ｆ（詳細は後述する）と、ウエハステージＷＳＴ２の−Ｘ側端面に突出して設けられる反射ミラー２７ｅ（詳細は後述する）とが接触するのも阻止できる。すなわち、庇部２３ａと庇部２３ｂ個々の突出長さは、特に問題ではなく、庇部２３ａ、２３ｂ同士が係合した状態で、ウエハステージＷＳＴ１とウエハステージＷＳＴ２との接触（より正確には、ウエハステージＷＳＴ１のエアスライダ５４の＋Ｘ側端と、ウエハステージＷＳＴ２のエアスライダ５４の−Ｘ側端との接触）、及び反射ミラー２７ｆと反射ミラー２７ｅとの接触を回避できれば良い。
【００４８】
本実施形態では、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２が、より正確には、庇部２３ａと庇部２３ｂとが近接又は接触する状態（すなわち両ウエハステージのスクラム状態）では、庇部２３ａ及び庇部２３ｂは、反射面２７ｆと反射面２７ｅとに、完全に覆い被さる。この時、ウエハテーブルＷＴＢ１とウエハテーブルＷＴＢ２との上面は、庇部２３ａ，２３ｂの上面を含み、全体としてほぼ同一面（フルフラットな面）となる（図４（Ａ）参照）。ここで、庇部２３ａと庇部２３ｂとが近接するとは、一例として、３００μｍ程度以下のクリアランスを介して庇部２３ａと庇部２３ｂとが接近する状態を意味する。
【００４９】
庇部２３ａの幅（Ｙ軸方向の長さ）は、図５等に示されるように、前述の液浸領域１４の幅（Ｙ軸方向の長さ）より十分大きく設定されている。従って、例えば、ウエハテーブルＷＴＢ１に載置されたウエハＷ１に対する露光が終了し、ウエハテーブルＷＴＢ２に載置されたウエハＷ２に対する露光を開始するためには、投影光学系ＰＬ近傍の露光時移動領域ＡＥ（図８参照）に位置するウエハステージＷＳＴ１を露光時移動領域ＡＥ外へ退避させ、所定の待機位置で待機しているウエハステージＷＳＴ２を露光時移動領域ＡＥに移動させなければならない。その際、主制御装置２０は、図１１に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を、それぞれが有する庇部２３ａ、２３ｂを係合させて、Ｘ軸方向に近接又は接触させる。そして、この状態（スクラム状態）を維持したまま、主制御装置２０が、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を−Ｘ方向に駆動することにより、液浸領域１４は、ウエハテーブルＷＴＢ１、庇部２３ａ、庇部２３ｂ、及びウエハテーブルＷＴＢ２の上面を順次移動する。勿論、逆順に、液浸領域１４を移動させることもできる。
【００５０】
なお、例えば図１１に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２がスクラム状態を維持して移動する概略の範囲をスクラム時移動領域ＡＳとする。また、例えば図９に示されるように、露光時移動領域ＡＥは、露光の際のウエハステージの移動によりウエハステージ上のウエハが移動する概略の範囲であり、また、後述するアライメント領域ＡＡは、ウエハアライメントの際のウエハステージの移動によりウエハステージ上のウエハが移動する概略の範囲である。
【００５１】
液浸領域１４が、庇部２３ａ、２３ｂを介して、ウエハテーブルＷＴＢ１上からウエハテーブルＷＴＢ２上へ移動する際、液浸領域１４を形成する液体Ｌｑが庇部２３ａと庇部２３ｂとの間隙に浸入し、ウエハステージＷＳＴ１及び／又はＷＳＴ２の側面を介してウエハステージＷＳＴ１及び／又はＷＳＴ２の下方に漏れることが起こり得る。そこで、例えば、図４（Ｃ）に示されるように、庇部２３ｂの庇部２３ａと係合する面の一部に、あるいは庇部２３ａの庇部２３ｂと係合する面の一部に、又は庇部２３ａと段部２３ｂとの両者の互いに係合する面の一部に、シール部材２４を貼付すると良い。かかる場合には、シール部材２４により、液体Ｌｑの庇部２３ａと庇部２３ｂとの間隙への浸入、ひいてはウエハステージＷＳＴ１及び／又はＷＳＴ２の下方への漏れを防ぐことができる。なお、シール部材２４としては、例えばフッ素ゴム等から成る弾性シール部材が用いられる。また、シール部材２４を貼付する代わりに、庇部２３ａの庇部２３ｂとの係合面、及び／又は庇部２３ｂの庇部２３ａとの係合面に、テフロン（登録商標）等により撥水コートを施しても良い。
【００５２】
本実施形態では、上述のように、液浸領域１４を、庇部２３ａ、２３ｂを介して、ウエハテーブルＷＴＢ１，ＷＴＢ２間で移動させることができる。このとき、庇部２３ａ及び２３ｂが接触又は近接した状態が維持されるので、庇部２３ａと庇部２３ｂとの間隙から液浸領域１４の液体Ｌｑが漏れるのも防止することができる。従って、液体Ｌｑで反射ミラー２７ｆ，２７ｅを濡らすことなく、液浸領域１４をウエハテーブルＷＴＢ１，ＷＴＢ２間で移動させることができる。これにより、投影光学系ＰＬの下方からの液体Ｌｑの回収作業が不要となり、液体Ｌｑの回収、供給を行う場合に比べて、スループットの向上が可能となる。
【００５３】
なお、上述の説明では、ウエハテーブルＷＴＢ１、ＷＴＢ２に、庇部２３ａ、２３ｂがそれぞれ設けられる場合について説明したが、これに限らず、例えば図４（Ｂ）に示されるように、ウエハテーブルＷＴＢ１に庇部２３ｃを設け、ウエハテーブルＷＴＢ２に庇部２３ｃが嵌合する、段部２３ｄを設けることとしても良い。あるいは、反対に、ウエハテーブルＷＴＢ１に段部、ウエハテーブルＷＴＢ２に庇部を設けることとしても良い。この場合も、庇部２３ｃと段部２３ｄとが嵌合した両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のスクラム状態において、ウエハステージＷＳＴ１とウエハステージＷＳＴ２との接触、及び反射ミラー２７ｆと反射ミラー２７ｅとの接触を回避できる長さに庇部２３ｃの長さが設定されていれば良い。
【００５４】
さらに、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２に、例えば国際公開第２００７／０９７３７９号パンフレットに開示されているようなコンフィデンシャルバー（ＣＤバー）、照度むらセンサ、空間像計測器、波面収差計測器及び照度モニタなどの各種計測装置及び計測部材を設けても良い。
【００５５】
本実施形態では、ウエハステージＷＳＴ１の−Ｘ側端部から、ベース盤１２（ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動ガイド面）の−Ｘ側に設置されたＹ軸方向に移動可能な第１ケーブルシャトル（不図示）に、配線・配管用のケーブルが接続されている。同様に、ウエハステージＷＳＴ２の＋Ｘ側端部から、ベース盤１２の＋Ｘ側に設置されたＹ軸方向に移動可能な第２ケーブルシャトル（不図示）に、配線・配管用のケーブルが接続されている。これらのケーブルにより、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２に設けられたＺ・レベリング機構、及び計測装置への電力供給、及びエアスライダに対する加圧空気の供給などが行われる。
【００５６】
次に、計測システム２００の一部を構成する干渉計システム１１８について説明する。
【００５７】
図２（Ｂ）及び図３（Ｂ）に示されるように、ウエハテーブルＷＴＢ１及びＷＴＢ２の−Ｘ側端面、＋Ｙ側端面、＋Ｘ側端面、−Ｙ側端面には、それぞれ反射面２７ａ，２７ｂ，２７ｃ，２７ｄが形成されている。さらに、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の−Ｘ側及び＋Ｘ側の面には、反射面２７ａ，２７ｃのそれぞれに対して４５度傾斜した反射面を有する反射ミラー２７ｅ，２７ｆが設けられている。また、図１及び図５に示されるように、長方形板状の反射プレート２５Ａ、２５Ｂが、その反射面をウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２（ウエハテーブルＷＴＢ１，ＷＴＢ２）に対向させて、投影ユニットＰＵの＋Ｘ側、−Ｘ側に、それぞれの長手方向をＹ軸方向に向けて配置されている。反射プレート２５Ａ、２５Ｂは、投影ユニットＰＵ等を保持するメインフレームの下面に設置されている。
【００５８】
干渉計システム１１８は、図５に示されるように、４つのＹ干渉計１６，１７，１８，１９と、４つのＸＺ干渉計１１６，１１７，１２６，１２７と、を含む。Ｙ干渉計１６，１７，１８は、ベース盤１２の＋Ｙ側に、Ｘ軸方向に関して異なる位置に配置されている。Ｙ干渉計１９は、ベース盤１２の−Ｙ側に、Ｙ干渉計１７に対向して、配置されている。ＸＺ干渉計１１６，１１７は、ベース盤１２の−Ｘ側に、Ｙ軸方向に所定間隔で配置されている。また、ＸＺ干渉計１２６，１２７はベース盤１２の＋Ｘ側に、ＸＺ干渉計１１６，１２７にそれぞれ対向して配置されている。
【００５９】
詳述すると、Ｙ干渉計１７は、図６に示されるように、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸとアライメント系ＡＬＧの検出中心とを結ぶＹ軸に平行な直線（基準軸）ＬＶ０から±Ｘ方向に等しい離間距離を隔てて、Ｙ軸に平行な２つの測長ビームＢ１７１，Ｂ１７２を、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）の反射面２７ｂに照射し、測長ビームＢ１７１，Ｂ１７２の反射光を受光して、測長ビームＢ１７１，Ｂ１７２の照射点における反射面２７ｂのＹ軸方向の変位（第１、第２位置情報とする）を計測する。第１、第２位置情報は、主制御装置２０に送られる。主制御装置２０は、第１、第２位置情報の平均値に基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のＹ軸方向に関する位置（Ｙ位置）を算出する。すなわち、Ｙ干渉計１７のＹ軸方向に関する実質的な測長軸は、基準軸ＬＶ０に一致している。また、主制御装置２０は、第１、第２位置情報の差に基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のθｚ方向の回転情報（ヨーイング量）を算出する。
【００６０】
また、Ｙ干渉計１７は、測長ビームＢ１７１，Ｂ１７２から−Ｚ方向に所定距離隔てて、もう１つの測長ビームＢ１７３を、反射面２７ｂに照射し、測長ビームＢ１７３の反射光を受光して、測長ビームＢ１７３の照射点における反射面２７ｂのＹ軸方向の変位（第３位置情報とする）を計測し、主制御装置２０に送る。主制御装置２０は、第３位置情報と、第１、第２位置情報とに基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のθｘ方向の回転情報（ピッチング量）を算出する。
【００６１】
Ｙ干渉計１６，１８，１９は、Ｙ干渉計１７と同様に、ウエハテーブルＷＴＢ１，ＷＴＢ２の一方又は両方のＹ位置、ピッチング量、及びヨーイング量を計測するために用いられる。Ｙ干渉計１６，１８は、それぞれ基準軸ＬＶ０に平行な測長軸ＬＶ１，ＬＶ２を有する。また、Ｙ干渉計１９は、実質的な測長軸を、基準軸ＬＶ０をとし、３つの測長ビームをウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）の反射面２７ｄに照射する。
【００６２】
ＸＺ干渉計１１６，１２６は、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸと基準軸ＬＶ０に直交する基準軸ＬＨをＸ軸方向に関する測長軸とする。すなわち、ＸＺ干渉計１１６は、図６に示されるように、測長軸ＬＨに沿って、測長ビームＢ１１６１を、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）の反射面２７ａに照射し、反射面２７ａにおける測長ビームＢ１１６1の反射光を受光して、測長ビームＢ１１６１の照射点における反射面２７ａのＸ軸方向の変位（第４位置情報とする）を計測する。同様に、ＸＺ干渉計１２６は、測長軸ＬＨに沿って、測長ビームＢ１２６１を、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）の反射面２７ｃに照射し、反射面２７ｃにおける測長ビームＢ１２６1の反射光を受光して、測長ビームＢ１２６１の照射点における反射面２７ｃのＸ軸方向の変位（第５位置情報とする）を計測する。第４、第５位置情報は、主制御装置２０に送られる。主制御装置２０は、第４、第５位置情報に基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のＸ位置を算出する。
【００６３】
また、ＸＺ干渉計１１６は、測長軸ＬＨと平行に、測長ビーム（Ｚ測長ビーム）Ｂ１１６２を、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）に設けられた反射ミラー２７ｅの反射面に照射する。測長ビームＢ１１６２は反射ミラー２７ｅで＋Ｚ方向に反射され、前述の反射プレート２５Ｂの反射面上に照射される。反射プレート２５Ｂの反射面からの測長ビームＢ１１６2の反射光は、元の光路を逆に辿って、ＸＺ干渉計１１６に受光される。ＸＺ干渉計１１６は、測長ビームＢ１１６２の光路長（の変化）を計測し、その計測結果を主制御装置２０に送る。同様に、ＸＺ干渉計１２６は、測長軸ＬＨと平行に、測長ビーム（Ｚ測長ビーム）Ｂ１２６２を、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）に設けられた反射ミラー２７ｆの反射面に照射する。測長ビームＢ１２６２は反射ミラー２７ｆで＋Ｚ方向に反射され、前述の反射プレート２５Ａの反射面上に照射される。反射プレート２５Ａの反射面からの測長ビームＢ１２６2の反射光は、元の光路を逆に辿って、ＸＺ干渉計１２６に受光される。ＸＺ干渉計１２６は、測長ビームＢ１２６２の光路長（の変化）を計測し、その計測結果を主制御装置２０に送る。
【００６４】
主制御装置２０は、前述の第４位置情報から得られる測長ビームＢ１１６１の光路長と、測長ビームＢ１１６２の光路長との差より、測長ビームＢ１１６２の反射ミラー２７ｅの反射面上の照射点のＺ位置（Ｚｅと表記する）を算出する。
【００６５】
また、主制御装置２０は、前述の第５位置情報から得られる測長ビームＢ１２６１の光路長と、測長ビームＢ１２６２の光路長との差より、測長ビームＢ１２６２の反射ミラー２７ｆの反射面上の照射点のＺ位置（Ｚｆと表記する）を算出する。さらに、主制御装置２０は、２つのＺ位置Ｚｅ，Ｚｆの平均値と差より、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のＺ位置とθｙ方向の回転情報（ローリング量）を算出する。
【００６６】
さらに、ＸＺ干渉計１１６，１２６は、図６に示されるように、測長軸ＬＨに平行に、ただし測長ビームＢ１１６1，Ｂ１２６1から−Ｚ方向に所定距離隔てて、それぞれ測長ビームＢ１１６３，Ｂ１２６３を反射面２７ａ，２７ｃに照射する。そして、ＸＺ干渉計１１６，１２６は、測長ビームＢ１１６３，Ｂ１２６３の反射光を受光して、測長ビームＢ１１６３，Ｂ１２６３の照射点における反射面２７ａ，２７ｃのＸ軸方向の変位（第６、第７位置情報とする）を計測する。第６、第７位置情報は、主制御装置２０に送られる。主制御装置２０は、第４位置情報と第６位置情報とに基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のローリング量(θｙ１とする)を算出する。また、主制御装置２０は、第５位置情報と第７位置情報とに基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のローリング量（θｙ２とする）を算出する。また、主制御装置２０は、Ｚ位置（Ｚｅ）と上記のローリング量θｙ１とに基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のＺ位置を算出する。また、主制御装置２０は、Ｚ位置（Ｚｆ）と上記のローリング量θｙ２とに基づいて、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のＺ位置を算出する。
【００６７】
ただし、測長ビームＢ１１６１，Ｂ１１６３の離間距離及び測長ビームＢ１２６１，Ｂ１２６３の離間距離は、測長ビーム（Ｚ測長ビーム）Ｂ１１６２，Ｂ１２６２の反射ミラー２７ｅ，２７ｆの反射面上の照射点のＸ軸方向の距離と比べて短い。従って、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のローリング量の計測精度は、前述のＺ測長ビームＢ１１６2，Ｂ１２６2を用いる計測に比べ、劣る。そこで、主制御装置２０は、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のθｙ方向の位置情報（ローリング量）及びＺ位置の計測を、原則として、Ｚ測長ビームＢ１１６２，Ｂ１２６２を用いる、すなわち両ＸＺ干渉計１１６，１２６を用いて行い、例外的に代替法として、ＸＺ干渉計１１６，１２６のいずれか一方のみを用いて行うものとする。なお、代替法の使用例については、後述する。
【００６８】
ＸＺ干渉計１１７，１２７は、ＸＺ干渉計１１６，１２６と同様に、ウエハアライメント時などにウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のＸ位置、Ｚ位置、及びθｙ方向の位置（ローリング量）を計測するために用いられる。なお、計測方法は、アライメント系ＡＬＧの検出中心において基準軸ＬＶ０と直交するＸ軸に平行な基準軸ＬＡ（図５参照）を測長軸とする点を除けば、ＸＺ干渉計１１６，１２６を用いる計測と同様である。
【００６９】
このように、Ｙ干渉計１６，１７，１８，１９及びＸＺ干渉計１１６，１１７，１２６，１２７を含む干渉計システム１１８を用いることにより、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）の６自由度（Ｘ，Ｙ，Ｚ，θｘ，θｙ，θｚ）方向の位置情報を計測することができる。なお、本実施形態では、個々の干渉計の配置に基づき、主制御装置２０は、露光時移動領域ＡＥではＹ干渉計１７とＸＺ干渉計１１６，１２６とを用い、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２がウエハアライメント時に移動するアライメント系ＡＬＧ近傍のアライメント領域ＡＡ（図９参照）ではＹ干渉計１９とＸＺ干渉計１１７，１２７とを用いる。また、主制御装置２０は、例えば図１２に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１が露光時移動領域ＡＥとアライメント領域ＡＡとの間を往来するための第１待機領域（ベース盤１２上の−Ｘ側の領域）ＡＷ１内ではＹ干渉計１６とＸＺ干渉計１１６，１２６又は１１７，１２７とを用い、例えば図１０に示されるように、ウエハステージＷＳＴ２が露光時移動領域ＡＥとアライメント領域ＡＡの間を往来するための第２待機領域（ベース盤１２の＋Ｘ側の領域）ＡＷ２内ではＹ干渉計１８とＸＺ干渉計１１６，１２６又は１１７，１２７とを用いる。
【００７０】
本実施形態では、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のＸＹ平面内の位置情報を計測するために、上述の干渉計システム１１８とは別に、エンコーダシステム１５０（図７参照）が、設けられている。そこで、主制御装置２０は、主として干渉計システム１１８を用いてウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）の位置計測を行い、エンコーダシステム１５０は、後述するように、ウエハステージＷＳＴ１（又はＷＳＴ２）が干渉計システム１１８の計測領域外に位置する際に用いることとする。勿論、主制御装置２０は、干渉計システム１１８とエンコーダシステム１５０とを併用して、ウエハテーブルＷＴＢ１（又はＷＴＢ２）のＸＹ平面内の位置計測を行うこととしても良い。
【００７１】
次に、計測システム２００の一部を構成するエンコーダシステム１５０について説明する。エンコーダシステム１５０は、前述の干渉計システム１１８とは独立に、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２のＸＹ平面内での位置（Ｘ，Ｙ，θｚ）を計測することができる。本実施形態では、エンコーダシステム１５０は、主として、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２が、それぞれ、露光時移動領域ＡＥとアライメント領域ＡＡの間の第１、第２待機領域ＡＷ１，ＡＷ２内の移動経路に沿って移動するときの、両ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２の位置計測のために使用される。
【００７２】
ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のそれぞれには、３つのエンコーダヘッド（以下、適宜ヘッドと略述する）、具体的には、Ｘ軸方向を計測方向とする２つのＸヘッドと、Ｙ軸方向を計測方向とする１つのＹヘッドとが、それぞれ計測ビームを上方（＋Ｚ方向）に射出するように上向きに搭載されている。これをさらに詳述すると、ウエハテーブルＷＴＢ１の上面には、図２（Ｂ）に示されるように、−Ｘ側端部かつ−Ｙ側端部付近にＸヘッドＥＸ１とＹヘッドＥＹとがＸ軸方向に隣接して配置され、−Ｘ側端部のＹ軸方向中央付近にＸヘッドＥＸ２が配置されている。
【００７３】
また、ウエハテーブルＷＴＢ２の上面には、図３（Ｂ）に示されるように、ウエハテーブルＷＴＢ１の上面の３つのヘッドと左右対称の配置で、ＸヘッドＥＸ１，ＥＸ2と、ＹヘッドＥＹとが搭載されている。上記各エンコーダヘッドとして、例えば米国特許第７，２３８，９３１号明細書などに開示される、干渉型のエンコーダヘッドが用いられている。
【００７４】
本実施形態では、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２に搭載された各エンコーダヘッドから射出される計測ビームを、前述の反射プレート２５Ａ、２５Ｂに形成されたスケール（グレーティング部）に向けて照射する構成を採用する。詳述すると、図５に示されるように、反射プレート２５Ｂの反射面のＸ軸方向の中心より幾分−Ｘ側には、Ｙ軸方向を長手方向とするＸスケールＳＸ１が形成されている。ＸスケールＳＸ１は、Ｙ軸方向を長手方向とする格子線がＸ軸方向に所定のピッチ（例えば１μｍ）で配列された回折格子から構成されている。
【００７５】
また、反射プレート２５Ｂの反射面のＸスケールＳＸ１の＋Ｘ側に隣接して、ＹスケールＳＹ１が形成されている。ＹスケールＳＹ１は、Ｙ軸方向を長手方向とする細長い矩形の主領域と、該主領域の±Ｙ側の両端から＋Ｘ方向に延びる矩形領域から成る一対の副領域（延接領域）とを有する。ＹスケールＳＹ１は、Ｘ軸方向を長手方向とする格子線がＹ軸方向に所定のピッチ（例えば１μｍ）で配列された回折格子から構成されている。
【００７６】
反射プレート２５Ａの反射面には、ＸスケールＳＸ2、ＹスケールＳＹ2が、ＸスケールＳＸ１、ＹスケールＳＹ１と左右対称の配置で形成されている。ＸスケールＳＸ2、ＹスケールＳＹ2は、ＸスケールＳＸ１、ＹスケールＳＹ１と同様の構成の回折格子から成る。
【００７７】
本実施形態では、Ｘ軸方向を計測方向とするＸヘッドＥＸ１，ＥＸ２は、ＸスケールＳＸ１，ＳＸ２に、計測ビームをそれぞれ照射し、その反射光を受光することで、計測ビームを照射したＸスケールに対するＸヘッド自身のＸ軸方向の相対変位を検出する。
【００７８】
同様に、Ｙ軸方向を計測方向とするＹヘッドＥＹは、ＹスケールＳＹ１，ＳＹ２に、計測ビームを照射し、その反射光を受光することで、計測ビームを照射したＹスケールに対するＹヘッド自身のＹ軸方向の相対変位を検出する。
【００７９】
本実施形態では、例えば図５に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１が、露光時移動領域ＡＥから第１待機領域ＡＷ１を経由して第１ローディングポジション及びアライメント領域ＡＡに向かって移動する移動経路の−Ｘ側端部かつ＋Ｙ側の端部の位置に位置する際には、ウエハステージＷＳＴ１上に搭載されたＸヘッドＥＸ１，ＥＸ２がＸスケールＳＸ１と、ＹヘッドＥＹがＹスケールＳＹ１と、対向する。ここで、対応するスケールに対向した各ヘッドからは、それぞれの計測方向についての対応するスケールに対するヘッドの相対変位の計測情報が、主制御装置２０に送られる。主制御装置２０は、各ヘッドの計測情報に基づいて、ウエハステージＷＳＴ１のＸＹ平面内での位置（Ｘ軸方向，Ｙ軸方向，及びθｚ方向の位置）を算出する。
【００８０】
ここで、第１ローディングポジションとは、ウエハステージＷＳＴ１上でウエハ交換が行われる位置であって、本実施形態では、第１待機領域ＡＷ１内に配置され、アライメント系ＡＬＧの直下に基準マーク板ＦＭ１が位置決めされるウエハステージＷＳＴ１の位置と定められているものとする。
【００８１】
なお、図５に示された状態から、ウエハステージＷＳＴ１が＋Ｘ方向に移動すると、ＸヘッドＥＸ１，ＥＸ２がＸスケールＳＸ１から外れる。この場合、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１の位置を、ＹヘッドＥＹ、ＸＺ干渉計１１６（あるいはＸＺ干渉計１１６，１２６）、及びＹ干渉計１６を用いて、計測する。ウエハステージＷＳＴ１がさらに所定距離＋Ｘ方向に移動すると、ＹヘッドＥＹもＹスケールＳＹ１から外れる。この場合、主制御装置２０は、干渉計システム１１８、詳しくはＹ干渉計１６及びＸＺ干渉計１１６（あるいはＹ干渉計１６及びＸＺ干渉計１１６，１２６）を用いて、ウエハステージＷＳＴ１の位置を、計測する。
【００８２】
また、ウエハステージＷＳＴ２が、露光時移動領域ＡＥから第２待機領域ＡＷ２を経由して第２ローディングポジション及びアライメント領域ＡＡに向かって移動する移動経路の＋Ｘ側端部かつ＋Ｙ側の端部の位置に位置する際には、ウエハステージＷＳＴ２上に搭載されたＸヘッドＥＸ１，ＥＸ２がＸスケールＳＸ２と、ＹヘッドＥＹがＹスケールＳＹ２と、対向する。主制御装置２０は、これら３つのヘッドの計測結果に基づいて、ウエハステージＷＳＴ２の移動面内でのＸＹ平面内での位置を算出する。なお、ヘッドが対応するスケールから外れた際には、前述と同様に、干渉計システム１１８を用いた位置計測に切り換える。
【００８３】
ここで、第２ローディングポジションとは、ウエハステージＷＳＴ２上でウエハ交換が行われる位置であって、本実施形態では、第２待機領域ＡＷ２内に配置され、アライメント系ＡＬＧの直下に基準マーク板ＦＭ２が位置決めされるウエハステージＷＳＴ２の位置と定められているものとする。
【００８４】
図５に示されるようなスケールＳＸ１，ＳＹ１の配置とウエハステージＷＳＴ１に搭載されるヘッドＥＸ１，ＥＸ２，ＥＹの配置とを採用することにより、ウエハステージＷＳＴ１が、露光時移動領域ＡＥから第１待機領域ＡＷ１を経由して第１ローディングポジション及びアライメント領域ＡＡに移動する際の、またその逆に移動する際のウエハステージＷＳＴ１の移動経路のうち、少なくともＹ軸方向に延びる直線経路において、エンコーダシステム１５０のみを用いる位置計測が可能となっている。同様に、スケールＳＸ２，ＳＹ２の配置とウエハステージＷＳＴ２に搭載されるヘッドＥＸ１，ＥＸ２，ＥＹの配置とを採用することにより、ウエハステージＷＳＴ２が、露光時移動領域ＡＥから第２待機領域ＡＷ２を経由して第２ローディングポジション及びアライメント領域ＡＡに移動する際の、またその逆に移動する際のステージＷＳＴ２の移動経路のうち、少なくともＹ軸方向に延びる直線経路において、エンコーダシステム１５０のみを用いる位置計測が可能となっている。これにより、干渉計システム１１８を用いて、上述の直線経路を移動するウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２の位置計測を行う場合に必須となるＸＺ干渉計１１６と１１７との切り換え処理、及びＸＺ干渉計１２６と１２７との切り換え処理、並びに切り換え後に使用する干渉計のリセット（原点の再設定）が不要となる。従って、干渉計システム１１８を用いる場合に比べて、スループットの向上が可能になる。
【００８５】
図７には、露光装置１００の制御系の主要な構成が示されている。この制御系は、装置全体を統括的に制御するマイクロコンピュータ（又はワークステーション）から成る主制御装置２０を中心として構成されている。
【００８６】
次に、２つのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を用いた並行処理動作について、図８〜図１２、及び図５に基づいて、説明する。なお、以下の動作中、主制御装置２０によって、液体供給装置５と液体回収装置６とが前述の如く制御され、投影光学系ＰＬの先端レンズ１９１の直下に、一定量の液体Ｌｑが保持されることにより、常時、液浸領域１４が形成されている。
【００８７】
図８には、露光時移動領域ＡＥにおいて、ウエハステージＷＳＴ１上に載置されたウエハＷ１に対して、ステップ・アンド・スキャン方式の露光が行われ、これと並行して、第２待機領域ＡＷ２内の第２ローディングポジションにおいて、ウエハ搬送機構（不図示）とウエハステージＷＳＴ２との間でウエハ交換が行なわれている状態が、示されている。
【００８８】
上記のウエハ交換中、及びそのウエハ交換後、ウエハステージＷＳＴ２が第２ローディングポジションに停止している間に、主制御装置２０は、新しいウエハＷ２に対するウエハアライメント（及びその他の前処理計測）の開始に先立って、Ｙ干渉計１９とＸＺ干渉計１１７，１２７のリセット（原点の再設定）を実行している。
【００８９】
ウエハ交換（新しいウエハＷ２のローディング）と干渉計１９，１１７，１２７のリセットが終了すると、主制御装置２０は、アライメント系ＡＬＧを用いて基準マーク板ＦＭ２上の第２基準マークを検出する。そして、主制御装置２０は、アライメント系ＡＬＧの指標中心を基準とする第２基準マークの位置を検出し、その検出結果と、検出時の干渉計１９，１１７,１２７によるウエハステージＷＳＴ２の位置計測の結果とに基づいて、基準軸ＬＡ及び基準軸ＬＶ0を座標軸とする直交座標系（アライメント座標系）における第２基準マークの位置座標を算出する。
【００９０】
次に、主制御装置２０は、図９に示されるように、ウエハステージＷＳＴ２をアライメント領域ＡＡに移動させる。そして、主制御装置２０は、干渉計１９，１１７，１２７を用いて、アライメント領域ＡＡにおける（アライメント座標系における）ウエハステージＷＳＴ２の位置座標を計測しつつ、エンハンスト・グローバル・アライメント（ＥＧＡ）を行う。詳述すると、主制御装置２０は、干渉計１９，１１７，１２７を用いてウエハステージＷＳＴ２の位置座標を管理しつつ、アライメント系ＡＬＧを用いて、ウエハＷ２上の特定の複数のショット領域（サンプルショット領域）に付設された複数のアライメントマークを検出して、それらの位置座標を求める。求められた位置座標と設計上の位置座標とに基づいて、例えば米国特許第４，７８０，６１７号明細書などに開示されている統計演算を実行し、複数のショット領域のアライメント座標系における位置座標を算出する。さらに、算出された位置座標から、先に検出された第２基準マークの位置座標を減算して、第２基準マークの位置を原点とするウエハＷ２上の複数のショット領域の位置座標を求める。
【００９１】
通常、上述のウエハ交換・ウエハアライメントシーケンスは、露光シーケンスより早く終了する。そのため、ウエハアライメントが終了すると、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ２を、前述の第２待機領域ＡＷ２内のＹ軸方向に延びる直線経路上の所定の待機位置へ移動させる。このとき、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ２を、一旦、前述の第２ローディングポジションに戻す。これにより、ウエハステージＷＳＴ２に搭載されたＹヘッドＥＹがＹスケールＳＹ２に対向する（図８参照）。そこで、主制御装置２０は、ＹスケールＳＹ２にＹヘッドＥＹが対向した時点で、ウエハステージＷＳＴ２のＹ位置の計測を、Ｙ干渉計１９を用いた計測から、ＹヘッドＥＹを用いた計測に切り換える。そして、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ２を＋Ｘ方向に駆動する。これにより、ＸヘッドＥＸ１，ＥＸ２がＸスケールＳＸ２に対向する。そこで、主制御装置２０は、ＸスケールＳＸ２にＸヘッドＥＸ１，ＥＸ２が対向した時点で、ウエハステージＷＳＴ２のＸ位置及びθｚ位置の計測を、干渉計システム１１８を用いた計測から、ＸヘッドＥＸ１，ＥＸ２を用いた計測に切り換える。そして、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１上のウエハＷ１に対する露光が終了するまで、ウエハステージＷＳＴ２を、上記所定の待機位置に待機させる。
【００９２】
ウエハテーブルＷＴＢ１上のウエハＷ１に対する露光が終了すると、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を、図１１に示されるスクラム時移動領域ＡＳ内のそれぞれの所定の位置（右側スクラムポジション）に向けて駆動を開始する。ウエハステージＷＳＴ１の右側スクラムポジションへの移動開始後、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１の位置計測に用いるＹ干渉計を、Ｙ干渉計１７からＹ干渉計１６に切り換える。また、この時、主制御装置２０は、図１０に示されるように、エンコーダヘッドＥＸ１，ＥＸ２，ＥＹを用いてウエハステージＷＳＴ２の位置を計測し、その計測結果に基づいて、ヘッドＥＸ１，ＥＸ２，ＥＹと対応するスケールＳＸ２，ＳＹ２の配置より規定される経路（直線経路）に沿って、ウエハステージＷＳＴ２を移動させる。
【００９３】
また、このとき、右側スクラムポジションに向かって移動するウエハステージＷＳＴ２によって、ウエハステージＷＳＴ１に照射されていたＸＺ干渉計１２６の３つの測長ビームが遮られ、ＸＺ干渉計１２６を用いたウエハステージＷＳＴ１の位置の計測ができなくなる。そこで、主制御装置２０は、ＸＺ干渉計１１６のみを用いてウエハテーブルＷＴＢ１のＸ，Ｚ，θｙ位置を計測する。ここで、主制御装置２０は、θｙ位置及びＺ位置を計測するために、前述の代替法を使用する。
【００９４】
また、主制御装置２０は、図１１に示される右側スクラムポジションにウエハステージＷＳＴ２が到着すると、ウエハステージＷＳＴ２のＸ位置及びθｚ位置の計測を、ヘッドＥＸ１，ＥＸ２を用いた計測から、ＸＺ干渉計１２６及びＹ干渉計１８を用いた計測に切り換える。このとき、主制御装置２０は、ヘッドＥＸ１，ＥＸ２，ＥＹの計測値に基づいて、ＸＺ干渉計１２６及びＹ干渉計１８をプリセットする（ただし、ＹヘッドＥＹによる計測は続行する）。また、図１１から明らかなように、ウエハステージＷＳＴ２が右側スクラムポジションに移動した状態では、ウエハステージＷＳＴ１によってＸＺ干渉計１１６の３つの測長ビームが遮られるため、主制御装置２０は、ＸＺ干渉計１２６のみを用いてウエハテーブルＷＴＢ２のＸ，Ｚ，θｙ位置を計測する。ここでも、主制御装置２０は、θｙ位置及びＺ位置を計測するために、前述の代替法を採用する。
【００９５】
そして、両ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２が、スクラム時移動領域ＡＳ内の右側スクラムポジションに移動した状態では、図１１に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１の庇部２３ａとウエハステージＷＳＴ２の庇部２３ｂとが係合して、両ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２が庇部２３ａ、２３ｂを介して近接又は接触するスクラム状態となる。また、このとき、図１１に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１に搭載されたＹヘッドＥＹがＹスケールＳＹ１に対向する。そこで、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１のＹ位置を計測するのに用いる計測器を干渉計１６からＹヘッドＥＹに切り換える。そして、主制御装置２０は、このスクラム状態を保ったまま、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を−Ｘ方向に駆動する。なお、この時、ウエハステージＷＳＴ１に搭載されたＹヘッドＥＹとＸＺ干渉計１１６とを用いてウエハステージＷＳＴ１のＸ，Ｙ位置の計測を行い（ただし、θｚ位置の計測には、Ｙ干渉計１６が用いられる）、ウエハステージＷＳＴ２に搭載されたＹヘッドＥＹとＸＺ干渉計１２６とを用いてウエハステージＷＳＴ２のＸ，Ｙ位置計測を行い（ただし、θｚ位置の計測には、Ｙ干渉計１８が用いられる）、それらの計測結果に従って両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を駆動する。なお、このとき、Ｙ干渉計１６、１８をそれぞれ用いて、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２のＹ位置を計測することは可能である。
【００９６】
ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２が、スクラム時移動領域ＡＳ内を、スクラム状態を保ったまま−Ｘ方向に移動するに従い、先端レンズ１９１とウエハテーブルＷＴＢ１との間に形成されていた液浸領域１４は、ウエハテーブルＷＴＢ１、庇部２３ａ、庇部２３ｂ、ウエハテーブルＷＴＢ２上へと、順次移動する。図５には、このようにして、液浸領域１４が庇部２３ａ上を渡り、ウエハテーブルＷＴＢ１上からウエハテーブルＷＴＢ２上へ移動した直後の状態が示されている。
【００９７】
液浸領域１４のウエハテーブルＷＴＢ２上への移動が完了すると、ウエハステージＷＳＴ１に搭載されたエンコーダヘッドＥＸ１，ＥＸ２，ＥＹがそれぞれの対応するスケールＳＸ1、ＳＹ1に対向する。そこで、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１のＸＹ平面内の位置計測をＸＺ干渉計１１６とＹヘッドＥＹを用いる計測からＸヘッドＥＸ１，ＥＸ２とＹヘッドＥＹとを用いる計測に切り換える。そして、主制御装置２０は、３つのヘッドＥＸ１，ＥＸ２，ＥＹとそれぞれの対応するスケールＳＸ１，ＳＹ１の配置より規定される第１待機領域ＡＷ１内の経路に沿って、ウエハステージＷＳＴ１を、図１２に示される第１ローディングポジションに移動させる。第１ローディングポジションにウエハステージＷＳＴ１が到着後、主制御装置２０は、Ｙ干渉計１９とＸＺ干渉計１１７，１２７を用いるウエハステージＷＳＴ１の位置計測に切り換える。
【００９８】
上記のウエハステージＷＳＴ１の移動と並行して、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ２を駆動し、投影光学系ＰＬの直下に基準マーク板ＦＭ２を位置決めする。これに先立ち、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ２に搭載されたＹヘッドＥＹとＸＺ干渉計１２６を用いるウエハステージＷＳＴ２のＸＹ平面内の位置計測から、Ｙ干渉計１７とＸＺ干渉計１１６，１２６とを用いるウエハステージＷＳＴ２のＸＹ平面内の位置計測に、切り換えている。そして、レチクルアライメント検出系１３（図７参照）を用いて基準マーク板ＦＭ２上の一対の第１基準マークを検出し、第１基準マークと対応するレチクルＲ上のレチクルアライメントマークのウエハ面上投影像の相対位置を検出する。なお、この検出は、投影光学系ＰＬ及び液浸領域１４を形成する液体Ｌｑを介して行われる。
【００９９】
主制御装置２０は、ここで検出された相対位置情報と、先に求めた第２基準マークを基準とするウエハＷ２上の各ショット領域の位置情報と、に基づいて、レチクルＲのパターンの投影位置（投影光学系ＰＬの投影中心）とウエハＷ２上の各ショット領域の相対位置関係を算出する。その算出結果に基づいて、主制御装置２０は、前述したウエハＷ１の場合と同様に、ウエハステージＷＳＴ２の位置を管理しつつ、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷ２上の各ショット領域にレチクルＲのパターンを転写する。図１２には、このようにして、ウエハＷ２上の各ショット領域にレチクルＲのパターンが転写されているときの様子が示されている。
【０１００】
上記のウエハステージＷＳＴ２上のウエハＷ２に対する露光動作と並行して、主制御装置２０は、第１ローディングポジションにおいて、ウエハ搬送機構（不図示）とウエハステージＷＳＴ１との間でウエハ交換を行い、ウエハテーブルＷＴＢ１の上に新しいウエハＷ１を載置する。そして、主制御装置２０は、アライメント系ＡＬＧを用いて基準マーク板ＦＭ１上の第２基準マークを検出する。なお、第２基準マークの検出に先立って、ウエハステージＷＳＴ１が第１ローディングポジションにある状態で、主制御装置２０は、Ｙ干渉計１９とＸＺ干渉計１１７，１２７のリセット（原点の再設定）を実行している。その後、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１の位置を管理しつつ、ウエハＷ１に対して、前述と同様のアライメント系ＡＬＧを用いたウエハアライメント（ＥＧＡ）を行う。
【０１０１】
ウエハテーブルＷＴＢ１上のウエハＷ１に対するウエハアライメント（ＥＧＡ）が終了し、かつウエハテーブルＷＴＢ２上のウエハＷ２に対する露光も終了すると、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を、スクラム時移動領域ＡＳ内の左側スクラムポジションに向けて駆動する。この左側スクラムポジションは、図１１に示される右側スクラムポジションとは、前述の基準軸ＬＶ0に関して左右対称の位置に、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２が位置する位置を指す。左側スクラムポジションに向けての駆動中のウエハステージＷＳＴ１の位置の計測は、前述のウエハステージＷＳＴ２の位置計測と同様の手順で行なわれる。
【０１０２】
この左側スクラムポジションでも、ウエハステージＷＳＴ１の庇部２３ａとウエハステージＷＳＴ２の庇部２３ｂとが係合して、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２がスクラム状態となる。主制御装置２０は、このスクラム状態を保ったまま、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を、先とは逆の＋Ｘ方向に駆動する。それに伴い、先端レンズ１９１とウエハテーブルＷＴＢ２との間に形成されていた液浸領域１４が、先とは逆に、ウエハテーブルＷＴＢ２、庇部２３ｂ、庇部２３ａ、ウエハテーブルＷＴＢ１上へと、順次移動する。勿論、スクラム状態を保って移動する際にも、先と同様に、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置計測が行われている。液浸領域１４の移動が完了すると、主制御装置２０は、前述と同様の手順でウエハステージＷＳＴ１上のウエハＷ１に対する露光を開始する。この露光動作と並行して、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ２を、前述と同様にして、第２待機領域ＡＷ２を経由して第２ローディングポジションに向けて駆動し、ウエハステージＷＳＴ２上の露光済みのウエハＷ２を新しいウエハＷ２に交換し、新しいウエハＷ２に対するウエハアライメントを実行する。
【０１０３】
以降、主制御装置２０は、上述したウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を用いた並行処理動作を、繰り返し実行する。
【０１０４】
これまでの説明から明らかなように、ＸスケールＳＸ1に対向する一対のＸヘッドＥＸ1，ＥＸ2によって構成される一対のＸエンコーダと、ＹスケールＳＹ1に対向するＹヘッドＥＹによって構成されるＹエンコーダとによって、ウエハＷ１を液浸領域１４が形成される露光位置に位置させる第１の状態とウエハＷ１を露光位置から退避させる第２の状態との間の状態遷移を行なう際のＸ軸方向の経路、すなわちスクラム時移動領域ＡＳ内の移動経路と第１待機領域ＡＷ１内の移動経路を含む、露光時移動領域ＡＥと第１ローディングポジション近傍の領域との間の移動経路に沿った移動時のウエハステージＷＳＴ１のＸＹ平面内の位置情報を計測する第１エンコーダシステムが構成されている。また、ＸスケールＳＸ2に対向する一対のＸヘッドＥＸ1，ＥＸ2によって構成される一対のＸエンコーダと、ＹスケールＳＹ2に対向するＹヘッドＥＹによって構成されるＹエンコーダとによって、ウエハＷ２を液浸領域１４が形成される露光位置に位置させる第１の状態とウエハＷ１を露光位置から退避させる第２の状態との間の状態遷移を行なう際のＸ軸方向の経路、すなわちスクラム時移動領域ＡＳ内の移動経路と第２待機領域ＡＷ２内の移動経路を含む、露光時移動領域ＡＥと第２ローディングポジション近傍の領域との間の移動経路に沿った移動時のウエハステージＷＳＴ２のＸＹ平面内の位置情報を計測する第２エンコーダシステムが構成されている。そして、第１エンコーダシステムと第２エンコーダシステムとを含んで前述のエンコーダシステム１５０が構成されている。
【０１０５】
以上説明したように、本実施形態の露光装置１００によると、ＸスケールＳＸ1に対向する一対のＸヘッドＥＸ1，ＥＸ2によって構成される一対のＸエンコーダと、ＹスケールＳＹ1に対向するＹヘッドＥＹによって構成されるＹエンコーダとによって、露光時移動領域ＡＥと第１ローディングポジション近傍の領域との間の第１待機領域ＡＷ１内の移動経路、具体的には前述のＹ軸に平行な移動経路に沿った移動時のウエハステージＷＳＴ１のＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）が計測される。同様に、ＸスケールＳＸ2に対向する一対のＸヘッドＥＸ1，ＥＸ2によって構成される一対のＸエンコーダと、ＹスケールＳＹ2に対向するＹヘッドＥＹによって構成されるＹエンコーダとによって、露光時移動領域ＡＥと第２ローディングポジション近傍の領域との間の第２待機領域ＡＷ２内の移動経路、具体的には前述のＹ軸に平行な移動経路に沿った移動時のウエハステージＷＳＴ２のＸＹ平面内の位置情報（θｚ方向の回転情報を含む）が計測される。従って、露光装置１００では、干渉計システム１１８によるウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置計測が困難となる領域では、エンコーダシステム１５０によってウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置をそれぞれ計測することが可能になり、干渉計システム１１８とエンコーダシステム１５０とを含む計測システム２００によって、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のＸＹ平面内の位置情報を常時計測することが可能になる。また、上記各移動経路に沿ったウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２の移動中に、ＸＺ干渉計１１６，１１７間、及び１２６，１２６間の切り換え処理を必要としない。従って、干渉計の切り換え処理による時間の浪費を回避することができ、これにより高いスループットを維持することが可能になる。
【０１０６】
また、本実施形態の露光装置１００によると、ＸＹ平面に平行な反射プレート２５Ａの反射面上にウエハステージＷＳＴ１の移動経路に対応するヘッドＥＸ1，ＥＸ2及びＥＹの移動軌跡に沿ってそれぞれＸスケールＳＸ1及びＹスケールＳＹ1を配置するのみで、露光時移動領域ＡＥと第１ローディングポジション近傍の領域との間の第１待機領域ＡＷ１内の移動経路に沿った移動時のウエハステージＷＳＴ１のＸＹ平面内の位置の管理が可能になっている。同様に、ＸＹ平面に平行な反射プレート２５Ｂの反射面上にウエハステージＷＳＴ２の移動経路に対応するヘッドＥＸ1，ＥＸ2及びＥＹの移動軌跡に沿ってそれぞれＸスケールＳＸ2及びＹスケールＳＹ2を配置するのみで、露光時移動領域ＡＥと第２ローディングポジション近傍の領域との間の第２待機領域ＡＷ２内の移動経路に沿った移動時のウエハステージＷＳＴ２のＸＹ平面内の位置の管理が可能になっている。従って、露光装置１００によると、露光位置と第１、第２ローディングポジションとの間の領域の全面（すなわち反射プレート２５Ａ、２５Ｂの全面にほぼ一致）にグレーティングを設置する場合などと比べて、コストの低減を図ることができる。
【０１０７】
また、ウエハＷ１を液浸領域１４が形成される露光位置に位置させる第１の状態とウエハＷ１を露光位置から退避させる第２の状態との間の状態遷移を行なう際のウエハステージＷＳＴ１のＸ軸方向の移動経路、すなわちスクラム時移動領域ＡＳ内のウエハステージＷＳＴ２とのスクラム状態での移動経路では、対応するＹスケールＳＹ1に対向するウエハステージＷＳＴ１に搭載されたＹヘッドＥＹを用いて、ウエハステージＷＳＴ１のＹ位置が主制御装置２０によって計測される。同様に、ウエハＷ２を液浸領域１４が形成される露光位置に位置させる第１の状態とウエハＷ２を露光位置から退避させる第２の状態との間の状態遷移を行なう際のウエハステージＷＳＴ２のＸ軸方向の移動経路、すなわちスクラム時移動領域ＡＳ内のウエハステージＷＳＴ１とのスクラム状態での移動経路では、対応するＹスケールＳＹ2に対向するウエハステージＷＳＴ２に搭載されたＹヘッドＥＹを用いて、ウエハステージＷＳＴ２のＹ位置が主制御装置２０によって計測される。従って、スクラム時移動領域ＡＳ内のスクラム状態での移動の際のウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のＹ軸方向の位置を干渉システムを用いて計測する場合に比べて高精度に計測することが可能になる。
【０１０８】
また、露光装置１００によると、投影光学系ＰＬ（投影ユニットＰＵ）とその直下にあるウエハテーブル（あるいはウエハテーブル上に載置されたウエハ)との間に液浸領域１４を形成したままの状態で、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の間隙から液体を漏らすことなく、前述の第１の状態から第２の状態へ、逆に第２の状態から第１の状態へ、移行させることが可能になる。これにより、スクラム状態で互いに対向する側の面に設けられた反射ミラー２７ｅ，２７ｆの反射面を液体で濡らすことがなくなり、ＸＺ干渉計１１６，１１７，１２６，１２７による、反射ミラー２７ｅ，２７ｆの反射面を用いたウエハステージの位置計測の高い安定性が保証される。
【０１０９】
また、一方のウエハステージで投影光学系ＰＬと液浸領域１４の液体Ｌｑとを介したウエハの露光が行われた後、他方のウエハステージで投影光学系ＰＬと液浸領域１４の液体Ｌｑとを介したウエハの露光を開始するまでの間に、液浸領域１４を形成する液体Ｌｑの全回収、及び再供給をする工程が不要になる。従って、一方のウエハステージでの露光の終了から他方のウエハステージでの露光の開始までの時間を、非液浸方式の露光装置と同程度にまで短縮して、スループットの向上を図ることが可能となる。また、投影光学系ＰＬの像面側には、液体が常に存在するので、投影光学系ＰＬの像面側の光学部材（例えば先端レンズ１９１）に、水染み（ウォーターマーク）が発生するのを効果的に防止することができ、長期に渡って、投影光学系ＰＬの結像性能を良好に維持することができる。
【０１１０】
また、前述した２つのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の並行動作により、１つのウエハステージのみを用いて、ウエハ交換、ウエハアライメント、及び露光動作を、シーケンシャルに行う従来のシングルウエハステージを備えた露光装置に比べてスループットの向上を図ることが可能である。
【０１１１】
また、液浸露光により、高解像度かつ空気中と比べて大焦点深度の露光を行うことで、レチクルＲのパターンを精度良くウエハ上に転写することができる。
【０１１２】
なお、上記実施形態では、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２上に、ＸスケールＳＸ1に対向する一対のＸヘッドＥＸ1，ＥＸ2とＹスケールＳＹ1に対向するＹヘッドとを、それぞれ搭載するものとしたが、これに限らず、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２上に、一対のＹヘッドと１つのＸヘッドとを搭載することとしても良い。要は、各ウエハステージ上にＹヘッドとＸヘッドとが合計で少なくとも３つあれば良い。かかる場合には、各ウエハステージのＸ軸方向及びＹ軸方向の位置情報に加え、θｚ方向の回転情報をも計測することができるからである。ただし、各ウエハステージのＸ軸方向及びＹ軸方向の位置情報の計測のみを目的とするのであれば、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２上に、ＸスケールＳＸ1に対向する１つのＸヘッドとＹスケールＳＹ1に対向する１つのＹヘッドとが搭載されていれば良い。
【０１１３】
また、前述の実施形態において、図１３（Ａ）及び図１３（Ｂ）に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１上のＸヘッドＥＸ1の近傍に、ＹヘッドＥＹ1，ＥＹ2を配置しても良い。この場合、ＹヘッドＥＹ1は、前述のＹヘッドＥＹと同じ位置に配置され、ＹヘッドＥＹ2は、ＹヘッドＥＹ1の＋Ｙ側に隣接して、すなわちＹヘッドＥＹ1，ＥＹ2が、ＹスケールＳＹ1の副領域（延接領域）に同時に対向可能となる位置関係で配置されている。この図１３（Ａ）及び図１３（Ｂ）に示される変形例（以下、便宜上、第１の変形例と呼ぶ）では、次のような利点がある。
【０１１４】
すなわち、例えばＹスケールＳＹ１の製造コストを低減させるため、前述の主領域と一対の副領域との３部分を、別々に作り、これらを並べてＹスケールＳＹ1を作ることが考えられる。この場合、ＹスケールＳＹ1の主領域（以下、スケール部ＳＹ11と記述する）と副領域（以下スケール部ＳＹ12と記述する）とを誤差なく、すなわち分割されたグレーティング同士を誤差なく（設計値どおりに）配設することは困難である。
【０１１５】
そこで、この第１の変形例では、次のような手法により、誤差の影響を排除する。
【０１１６】
ａ．図１３（Ａ）に示されるように、ＹヘッドＥＹ1，ＥＹ2がスケール部ＳＹ12と対向可能な位置にウエハステージＷＳＴ１があるときには、主制御装置２０は、スケール部ＳＹ12に対向するＹヘッドＥＹ1，ＥＹ2の計測情報をそれぞれ取り込む。
ｂ．  そして、ウエハステージＷＳＴ１が−Ｙ方向に移動し、図１３（Ｂ）に示されるような状態になると、スケール部ＳＹ12に対向するＹヘッドＥＹ2の計測情報と、スケール部ＳＹ11に対向するＹヘッドＥＹ1の計測情報とを取り込む。
ｃ．  そして、主制御装置２０は、ａ．で取得したＹヘッドＥＹ1，ＥＹ2の計測情報同士の関係と、ｂ．で取得したＹヘッドＥＹ2，ＥＹ2の計測情報同士の関係とに基づいて、スケール部ＳＹ12とスケール部ＳＹ11との継ぎ誤差を求め、ＹヘッドＥＹ1の計測情報を補正する。これにより、以後、ウエハステージＷＳＴ１のＹ位置は、ＹヘッドＥＹ1，ＥＹ2の少なくとも一方を用いて精度良く計測することが可能になる。
【０１１７】
スケール部ＳＹ11と−Ｙ側の端部のスケール部ＳＹ12との継ぎ部においても、上記と同様の処理を行なえば良い。なお、スケール部ＳＹ11とスケール部ＳＹ12との回転誤差をも補正する必要がある場合には、スケール部ＳＹ12にＹヘッドＥＹ1，ＥＹ2とともに、同時に対向可能となる位置関係でもう１つＹヘッドを設ける、例えばウエハステージＷＳＴ１上でＹヘッドＥＹ1又はＥＹ2の＋Ｘ側に隣接して設ければ良い。
【０１１８】
また、他方のウエハステージＷＳＴ２側においても、ウエハステージＷＳＴ２上に、上記と左右対称の配置でＹヘッドを２つ設け、同様の処理を行なえば良い。
【０１１９】
このようにすることで、主領域と一対の副領域との３部分を一枚のプレート上に形成することで製作されたＹスケールを用いる場合と同程度の精度で、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のＹ軸方向に関する位置を管理することが可能になる。
【０１２０】
また、前述の実施形態において、前述のＸスケールＳＸ1、ＳＸ2の代わりに、図１４の第２の変形例に示されるＸスケールＳＸ1’，ＳＸ2’を用いることとしても良い。これらのＸスケールＳＸ1’，ＳＸ2’は、Ｙ軸方向を長手方向とする細長い矩形の主領域と、該主領域の＋Ｙ側の端部とＹスケールＳＹ1の＋Ｙ側端部とからＸ軸方向に延びる矩形領域から成る一対の副領域（延接領域）とを有する。これに応じて、ＸヘッドＥＸ1の各ウエハステージ上の位置を、図１４中に示されるように、ＹヘッドＥＹ1（このＹヘッドＥＹ1はウエハステージ上でＹヘッドＥＹと同じ位置に設けられている）に対し所定距離＋Ｙ側にずれた位置に変更することとしても良い。
【０１２１】
この第２の変形例によると、ウエハＷ１を液浸領域１４が形成される露光位置に位置させる第１の状態とウエハＷ１を露光位置から退避させる第２の状態との間の状態遷移を行なう際のウエハステージＷＳＴ１の移動経路、すなわちスクラム時移動領域ＡＳ内のウエハステージＷＳＴ２とのスクラム状態での移動経路と第１待機領域ＡＷ１内の移動経路を含み、露光時移動領域ＡＥと第１ローディングポジション近傍の領域との間の移動経路の全域で、その移動経路に沿った移動時のウエハステージＷＳＴ１のＸＹ平面内の位置情報を、ＸスケールＳＸ1’に対向するＸヘッドＥＸ1，ＥＸ2から成る２つのＸエンコーダと、ＹスケールＳＹ1に対向するＹヘッドＥＹ1から成るＹエンコーダと、を含む第１エンコーダシステムによって、高精度に計測することが可能になる。
【０１２２】
また、この第２の変形例によると、ウエハＷ２を液浸領域１４が形成される露光位置に位置させる第１の状態とウエハＷ２を露光位置から退避させる第２の状態との間の状態遷移を行なう際のウエハステージＷＳＴ２の移動経路、すなわちスクラム時移動領域ＡＳ内のウエハステージＷＳＴ１とのスクラム状態での移動経路と第２待機領域ＡＷ２内の移動経路を含み、露光時移動領域ＡＥと第２ローディングポジション近傍の領域との間の移動経路の全域で、その移動経路に沿った移動時のウエハステージＷＳＴ２のＸＹ平面内の位置情報を、ＸスケールＳＸ2’に対向するＸヘッドＥＸ1，ＥＸ2から成る２つのＸエンコーダと、ＹスケールＳＹ2に対向するＹヘッドＥＹ1から成るＹエンコーダと、を含む第２エンコーダシステムによって、高精度に計測することが可能になる。
【０１２３】
従って、この第２の変形例では、前述のＹ干渉計１６、１８を必ずしも設けなくても良いと言う利点もある。ただし、この第２の変形例において、前述のＹ干渉計１６、１８を設けても良い。一般的に、干渉計は、空気揺らぎの影響をエンコーダより受け易く、このため、エンコーダに比べて計測の短期安定性に劣る反面、スケール（格子）の経時変化などがないので、エンコーダに比べて計測の長期安定性に優るなど、干渉計とエンコーダとは計測特性が異なる場合がある。従って、エンコーダと干渉計とを併用することにより、計測される位置情報の総合的な信頼性を向上させることができる。
【０１２４】
なお、図１４の第２の変形例においても、図１５に示されるように、ＸヘッドＥＸ1、ＸヘッドＥＸ2、ＹヘッドＥＹ1のそれぞれに隣接して、対応するスケールに同時に対向可能となる配置で、ＸヘッドＥＸ3、ＸヘッドＥＸ4、ＹヘッドＥＹ2を設けても良い。このようにすると、上記第１の変形例と同様の理由により、各スケールの製造コストの低減が可能になる。
【０１２５】
《第２の実施形態》
次に、本発明の第２の実施形態を、図１６〜図２０に基づいて説明する。この第２の実施形態の露光装置は、前述した第１の実施形態とエンコーダシステムの構成、及びそのエンコーダシステムを用いた位置計測を伴う、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の並行処理動作などが相違するが、その他の部分の構成などは、前述した第１の実施形態同様である。そこで、以下では、重複説明を避ける観点から、同一若しくは同等の構成部分については、同一の符号を用いるとともに、その説明を省略するものとする。また、以下では、相違点を中心として説明する。
【０１２６】
前述の第１実施形態では、各エンコーダ（ヘッド）として一軸方向に感度をもつリニアエンコーダを採用したが、本第２の実施形態の露光装置では、互いに直交する二軸方向に感度をもつ、すなわち直交二軸方向を計測方向とする２次元エンコーダ（２Ｄエンコーダ）を採用している。２次元エンコーダとしては、例えば直交２軸方向に配置された２対の固定スケールを有し、各対の固定スケールで２次元格子から発生する直交２軸方向の同一次数の回折光を、それぞれ共通のインデックスケールに集光する３格子回折干渉方式のエンコーダを用いることができる。
【０１２７】
本第２の実施形態の露光装置では、図１６に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のそれぞれに、少なくとも各２つの２次元エンコーダヘッド（２Ｄヘッド）Ｅ１，Ｅ２が搭載されている。ウエハステージＷＳＴ１の上面には、−Ｘ側端部かつ−Ｙ側端部付近に第１ヘッドＥ１が配置され、−Ｘ側端のＹ軸方向中央付近に第２ヘッドＥ２が配置されている。また、ウエハステージＷＳＴ２の上面には、２つの２ＤヘッドＥ１，Ｅ２が、ウエハステージＷＳＴ１に搭載された２つの２Ｄヘッドと、左右対称（Ｙ軸に関して対称）な配置で搭載されている。
【０１２８】
図１６に示されるように、反射プレート２５Ｂの反射面のＸ軸方向の中心より幾分−Ｘ側には、Ｙ軸方向を長手方向とする細長い矩形状の主領域と、該主領域のＹ軸方向の両端から＋Ｘ方向に延びる一対の矩形状の副領域（延接領域）と、さらにこれら一対の副領域（延接領域）からＹ軸方向に所定距離隔てた位置で主領域から＋Ｘ方向に延びる一対の副領域（延接領域）とを備える、２次元スケール（２Ｄスケール）Ｓ１が形成されている。ここで、Ｙ軸方向についての所定距離とは、２つの２ＤヘッドＥ１，Ｅ２のＹ軸方向の離間距離である。一方、反射プレート２５Ａの反射面には、２次元スケール（２Ｄスケール）Ｓ2が２ＤスケールＳ１と左右対称となるように形成されている。
【０１２９】
２ＤスケールＳ１，Ｓ２は、Ｘ軸及びＹ軸方向に所定のピッチで設けられた２次元回折格子から構成されている。
【０１３０】
本実施形態では、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２のそれぞれは、２ＤスケールＳ１，Ｓ２に、計測ビームを照射し、該計測ビームの２ＤスケールＳ１，Ｓ２からの反射光（回折光）を受光することで、計測ビームを照射した２Ｄスケールに対する２Ｄヘッド自身のＸ軸方向及びＹ軸方向の相対変位を検出する。
【０１３１】
本第２の実施形態では、例えば図１６に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１が、第１待機領域ＡＷ１を経由して、露光時移動領域ＡＥから第１ローディングポジション及びアライメント領域ＡＡに向かって移動する移動経路の−Ｘ側端部かつ＋Ｙ側の端部の位置に位置する際には、ウエハステージＷＳＴ１上に搭載された２ＤヘッドＥ１，Ｅ２が、２ＤスケールＳ１の主領域と対向する。ここで、対応する２ＤスケールＳ1に対向した２ＤヘッドＥ１，Ｅ２からは、Ｘ軸とＹ軸の両軸方向についての対応する２ＤスケールＳ1に対する２ＤヘッドＥ１，Ｅ２の相対変位の計測値が、主制御装置２０に送られる。主制御装置２０は、各２ＤヘッドＥ１，Ｅ２の計測値に基づいて、ウエハステージＷＳＴ１のＸＹ平面内での位置（Ｘ軸方向，Ｙ軸方向，及びθｚ方向の位置）を算出する。
【０１３２】
なお、図１６に示された状態から、ウエハステージＷＳＴ１が＋Ｘ方向に移動すると、２つの２ＤヘッドＥ１，Ｅ２は、２ＤスケールＳ１の＋Ｙ側の一対の副領域（延接領域）と対向する。同様に、ウエハステージＷＳＴ１が上記移動経路の−Ｙ側の端部に位置する際にも、同じＸ位置において、２つの２ＤヘッドＥ１，Ｅ２は、２ＤスケールＳ１の−Ｙ側の一対の副領域（延接領域）と対向する。これらの場合においても、先と同様に、主制御装置２０は、両２ＤヘッドＥ１，Ｅ２の計測値に基づき、ウエハステージＷＳＴ１のＸＹ平面内での位置を算出することができる。
【０１３３】
ウエハステージＷＳＴ１が、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２が２ＤスケールＳ１の＋Ｙ側の一対の副領域（延接領域）と対向した状態から、さらに＋Ｘ方向に所定距離移動すると、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２が２ＤスケールＳ１から外れる。これに先立って、主制御装置２０は、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２を用いるウエハステージＷＳＴ１の位置計測から干渉計システム１１８を用いるウエハステージＷＳＴ１の位置計測に切り換える。例えば、Ｙ干渉計１７及びＸＺ干渉計１１６，１２６の計測結果から、ウエハステージＷＳＴ１のＸＹ平面内での位置（Ｘ軸方向，Ｙ軸方向，及びθｚ方向の位置）を算出する。
【０１３４】
同様に、ウエハステージＷＳＴ２が、第２待機領域ＡＷ２を経由して、露光時移動領域ＡＥから第２ローディングポジション及びアライメント領域ＡＡに向かって移動する移動経路の＋Ｘ側端部かつ＋Ｙ側の端部の位置に位置する際には、ウエハステージＷＳＴ２上に搭載された２ＤヘッドＥ１，Ｅ２が２ＤスケールＳ２の主領域と対向する。主制御装置２０は、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２の計測値に基づいて、ウエハステージＷＳＴ２のＸＹ平面内での位置を算出する。また、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２が２ＤスケールＳ２の延接領域に対向する場合も、同様である。なお、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２が２ＤスケールＳ２から外れる際にはそれに先立って、前述のウエハステージＷＳＴ１の場合と同様に、干渉計システム１１８を用いるウエハステージＷＳＴ２の位置計測に切り換える。
【０１３５】
なお、図１６に示されるような２ＤスケールＳ１の配置とウエハステージＷＳＴ１に搭載される２ＤヘッドＥ１，Ｅ２の配置とを採用することにより、ウエハステージＷＳＴ１が、第１待機領域ＡＷ１を経由して、露光時移動領域ＡＥから第１ローディングポジションに移動する際の、またその逆に移動する際のウエハステージＷＳＴ１の移動経路の全域において、２Ｄエンコーダのみを用いるステージ位置計測が可能となっている。同様に、２ＤスケールＳ２の配置とウエハステージＷＳＴ２に搭載される２ＤヘッドＥ１，Ｅ２の配置とを採用することにより、ウエハステージＷＳＴ２が、第２待機領域ＡＷ２を経由して、露光時移動領域ＡＥから第２ローディングポジションに移動する際の、またその逆に移動する際のウエハステージＷＳＴ２の移動経路の全域において、２Ｄエンコーダのみを用いる位置計測が可能となっている。これにより、干渉計システム１１８を用いて、上述の直線経路を移動するウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２の位置計測を行う場合に必須となるＸＺ干渉計１１６と１１７との切り換え処理、及びＸＺ干渉計１２６と１２７との切り換え処理、並びに切り換え後に使用する干渉計のリセット（原点の再設定）が不要となる。従って、干渉計システム１１８を用いる場合に比べて、スループットの向上が可能になる。また、上記の理由により、本第２の実施形態では、前述のＹ干渉計１６、１８を設ける必要がない。
【０１３６】
次に、図１６〜図２０に基づいて、２つのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を用いた並行処理動作について、説明する。なお、以下の動作中、前述の第１の実施形態と同様に、常時、液浸領域１４が形成されている。
【０１３７】
図１７には、露光時移動領域ＡＥにおいて、ウエハステージＷＳＴ１上に載置されたウエハＷ１に対するステップ・アンド・スキャン方式の露光が行われ、これと並行してアライメント領域ＡＡにおいて、ウエハステージＷＳＴ２上に載置されたウエハＷ２に対するエンハンスト・グローバル・アライメント（ＥＧＡ）が行われている状態が、示されている。このとき、主制御装置２０は、Ｙ干渉計１７とＸＺ干渉計１１６，１２６とを用いてウエハステージＷＳＴ１の位置を、Ｙ干渉計１９とＸＺ干渉計１１７，１２７とを用いてウエハステージＷＳＴ２の位置を、計測している。
【０１３８】
ウエハＷ２に対するウエハアライメント（ＥＧＡ）が終了すると、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ２を、第２待機領域ＡＷ２内の２ＤスケールＳ2の主領域で規定されるＹ軸方向に延びる直線経路上の所定の待機位置へ移動させる。このとき、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ２を、一旦、前述の第２ローディングポジションに戻す。これにより、ウエハステージＷＳＴ２に搭載された２ＤヘッドＥ１，Ｅ２が２ＤスケールＳ２の一対の延接領域に対向する。そこで、主制御装置２０は、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２が２ＤスケールＳ２に対向した時点で、干渉計１９，１１７，１２７を用いるウエハステージＷＳＴ２のＸＹ平面内の位置計測から２ＤエンコーダＥ１，Ｅ２を用いるウエハステージＷＳＴ２のＸＹ平面内の位置計測に切り換える。そして、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１上のウエハＷ１に対する露光が終了するまで、ウエハステージＷＳＴ２を、上記所定の待機位置に待機させる。
【０１３９】
ウエハテーブルＷＴＢ１上のウエハＷ１に対する露光が終了すると、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を、図１９に示されるスクラム時移動領域ＡＳ内のそれぞれの所定の位置（右側スクラムポジション）に向けて駆動する。この時、主制御装置２０は、図１８に示されるように、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２を用いてウエハステージＷＳＴ２の位置を計測し、その計測結果に従って、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２と２ＤスケールＳ２の配置により規定される第２待機領域ＡＷ２内の経路（直線経路）に沿って、ウエハステージＷＳＴ２を移動させる。
【０１４０】
また、ウエハステージＷＳＴ１がスクラム時移動領域ＡＳ内の右側スクラムポジションに到着すると、図１９に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１に搭載された２ＤヘッドＥ１，Ｅ２が２ＤスケールＳ１の一対の延接領域に対向するので、主制御装置２０は、干渉計１７，１１６，１２６を用いるウエハステージＷＳＴ１の位置計測から、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２を用いる位置計測に切り換える。
【０１４１】
両ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２がスクラム時移動領域ＡＳ内の右側スクラムポジションに移動した状態では、図１９に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１の庇部２３ａとウエハステージＷＳＴ２の庇部２３ｂとが係合して、両ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２が庇部２３ａ、２３ｂを介して近接又は接触するスクラム状態となる。そして、主制御装置２０は、このスクラム状態を保ったまま、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を−Ｘ方向に駆動する。この時、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２それぞれに搭載された２ＤエンコーダＥ１，Ｅ２を用いて位置計測を行い、その計測結果に基づいて、両ステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を駆動している。
【０１４２】
ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２が、スクラム時移動領域ＡＳ内を、スクラム状態を保ったまま−Ｘ方向に移動するに従い、先端レンズ１９１とウエハテーブルＷＴＢ１との間に形成されていた液浸領域１４は、ウエハテーブルＷＴＢ１、庇部２３ａ、庇部２３ｂ、ウエハテーブルＷＴＢ２上へと、順次移動する。図１６には、このようにして、液浸領域１４が庇部２３ａ上を渡り、ウエハテーブルＷＴＢ１上からウエハテーブルＷＴＢ２の庇部２３ｂ上へ移動した直後の状態が示されている。
【０１４３】
液浸領域１４のウエハテーブルＷＴＢ２上への移動が完了すると、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１を、第１待機領域ＡＷ１を経由して、図２０に示される第１ローディングポジションに移動させる。この移動中のウエハステージＷＳＴ１の位置は、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２を用いて計測される。第１ローディングポジションにステージＷＳＴ１が到着後、主制御装置２０は、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２を用いるウエハステージＷＳＴ1の位置計測から、Ｙ干渉計１９とＸＺ干渉計１１７，１２７を用いるステージＷＳＴ１の位置計測に切り換える。
【０１４４】
上記のウエハステージＷＳＴ１の移動と並行して、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ２を露光時移動領域ＡＥに移動させ、投影光学系ＰＬの直下に基準マーク板ＦＭ２を位置決めする。これに先立ち、主制御装置２０は、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２を用いるウエハステージＷＳＴ２のＸＹ平面内の位置計測から、干渉計１７，１１６，１２６を用いるウエハステージＷＳＴ２のＸＹ平面内の位置計測に切り換えている。そして、前述と同様の手順で、レチクルアライメント（基準マーク板ＦＭ２上の一対の第１基準マークを検出）及びステップ・アンド・スキャン方式によるウエハＷ２に対する露光を開始する。
【０１４５】
上記のウエハステージＷＳＴ２上のウエハＷ２に対する露光動作と並行して、主制御装置２０は、第１ローディングポジションにおいて、ウエハ搬送機構（不図示）とウエハステージＷＳＴ１との間でウエハ交換を行い、ウエハテーブルＷＴＢ１の上に新しいウエハＷ１を載置する。そして、アライメント系ＡＬＧを用いて基準マーク板ＦＭ１上の第２基準マークを検出する。その後、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ１をアライメント領域ＡＡに移動させ、ウエハステージＷＳＴ１の位置を管理しつつ、ウエハＷ１に対して、前述と同様のアライメント系ＡＬＧを用いたウエハアライメント（ＥＧＡ）を行う。
【０１４６】
ウエハテーブルＷＴＢ１上のウエハＷ１に対するウエハアライメント（ＥＧＡ）が終了し、かつウエハテーブルＷＴＢ２上のウエハＷ２に対する露光も終了すると、主制御装置２０は、先の移動経路を逆に辿って、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を、スクラム時移動領域ＡＳ内の左側スクラムポジションに向けて駆動する。両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２が左側スクラムポジションに移動すると、主制御装置２０は、スクラム状態を保ったまま、両ステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を、先とは逆の＋Ｘ方向に駆動する。これにより、液浸領域１４が、先とは逆に、ウエハテーブルＷＴＢ２、庇部２３ｂ、庇部２３ａ、ウエハテーブルＷＴＢ１上へと、順次移動する。液浸領域１４の移動が完了すると、主制御装置２０は、前述と同様の手順でウエハステージＷＳＴ１上のウエハＷ１に対する露光を開始する。この露光動作と並行して、主制御装置２０は、ウエハステージＷＳＴ２を、前述と同様にして、第２待機領域ＡＷ２を経由して第２ローディングポジションに向けて駆動し、ウエハステージＷＳＴ２上の露光済みのウエハＷ２を新しいウエハＷ２に交換し、新しいウエハＷ２に対するウエハアライメントを実行する。
【０１４７】
以降、主制御装置２０は、上述したウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２との並行動作を、繰り返し実行する。
【０１４８】
以上説明したように、本第２の実施形態の露光装置によると、前述の第１の実施形態の露光装置と同等の作用効果を得ることができる。これに加え、本第２の実施形態の露光装置によると、上述の２Ｄエンコーダを用いたウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２との並行処理動作では、主制御装置２０は、各スクラムポジションと各ローディングポジションとの間のスクラム時移動領域ＡＳ内と各待機領域ＡＷ１，ＡＷ２内の経路を移動中の両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のＸＹ平面内の位置をエンコーダシステムのみを用いて計測するので、前述のＹ干渉計１６、１８を設ける必要がなくなる。
【０１４９】
また、本第２の実施形態では、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２上に、２ＤスケールＳ１，Ｓ2にそれぞれ対向する各２つの２ＤヘッドＥ1，Ｅ2を、搭載するものとしたので、各ウエハステージのＸ軸方向及びＹ軸方向の位置情報に加え、θｚ方向の回転情報をも計測することができる。ただし、各ウエハステージのＸ軸方向及びＹ軸方向の位置情報の計測のみを目的とするのであれば、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２上に、２Ｄヘッドが１つのみ搭載されていても良い。
【０１５０】
なお、上記第２の実施形態と同様に、２Ｄエンコーダを用いる場合に、例えば図２１に示される第１の変形例のように、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２上に、それぞれ、２次元エンコーダヘッド（２Ｄヘッド）Ｅ１，Ｅ２を、例えばＹ軸方向に隣接して、すなわち、２Ｄスケールに同時に対向可能となる位置関係で、搭載することとしても良い。この変形例では、主制御装置は、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２の計測値に基づいて、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２のＸＹ平面内での位置（Ｘ軸方向，Ｙ軸方向，及びθｚ方向の位置）を算出することができる。また、この変形例では、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２の配置に対応して、図２１に示されるような略Ｕ字状の２ＤスケールＳ1’，Ｓ2’を用いてスケールの配設面積を小さくすることによって、コストの低減を図ることもできる。なお、この変形例では、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２上に、それぞれ、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２を、Ｘ軸方向に隣接配置しても良いし、その他の位置関係で配置しても良い。要は、２ＤスケールＳ1’，Ｓ2’に２ＤヘッドＥ１，Ｅ２が同時に対向する配置であれば良い。
【０１５１】
なお、上記各実施形態では、露光時移動領域ＡＥ内とアライメント領域ＡＡ内では干渉計システム１１８を用いて、スクラム時移動領域ＡＳ内及び第１、第２待機領域ＡＷ１，ＡＷ２内では干渉計システム１１８とエンコーダシステム１５０とを併用して、あるいはエンコーダシステム１５０のみを用いて、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置計測を行った。それに対して、全ての移動範囲において、エンコーダシステムのみを用いて、両ステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置計測を行うことも可能である。
【０１５２】
ここで、一例として、図２２に示される、上記第２実施形態の第２の変形例を説明する。図１及び図５に示される反射プレート２５Ａ、２５Ｂに替えて、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動面（ベース盤１２）のほぼ全面に対向する矩形状の反射プレート２５Ｃが配置されている。ただし、反射プレート２５Ｃには、鏡筒４０とアライメント系ＡＬＧとの下端部を挿入するための２つの円形状の開口が形成されている。なお、反射プレート２５Ｃは、投影ユニットＰＵ等を保持するメインフレームの下面に設置されている。
【０１５３】
反射プレート２５Ｃのベース盤１２に対向する一面上のスクラム時移動領域ＡＳと第１、第２待機領域ＡＷ１，ＡＷ２に対応する位置には、上記第２の実施形態において導入した２つの２ＤスケールＳ1，Ｓ2（図１６参照）が形成されている。さらに、鏡筒４０とアライメント系ＡＬＧが貫通する開口部を除く露光時移動領域ＡＥとアライメント領域ＡＡに対応する位置にも、同様の２ＤスケールＳＥ，ＳＡが形成されている。これらの２ＤスケールＳＥ，ＳＡは、２ＤスケールＳ1，Ｓ2を介して接続されている。
【０１５４】
ウエハステージＷＳＴ１及びＷＳＴ２に搭載された２ＤヘッドＥ１，Ｅ２は、それぞれ、２ＤスケールＳ1，ＳＥ，ＳＡ及びＳ2，ＳＥ，ＳＡに計測ビームを照射し、該計測ビームの２Ｄスケールからの反射光（回折光）を受光することで、計測ビームを照射した２Ｄスケールに対する２Ｄヘッド自身のＸ軸方向及びＹ軸方向の相対変位を検出する。ウエハステージＷＳＴ１及びＷＳＴ２に搭載された２ＤヘッドＥ１，Ｅ２の計測値は、主制御装置２０に送られる。主制御装置２０は、各２ＤヘッドＥ１，Ｅ２の計測値に基づいて、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のＸＹ平面内での位置（Ｘ軸方向，Ｙ軸方向，及びθｚ方向の位置）を算出する。
【０１５５】
このように２ＤスケールＳ1，Ｓ2に加えて２ＤスケールＳＥ，ＳＡを導入することにより、露光時及びウエハアライメント時にも、エンコーダシステム１５０のみを用いるウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置計測が可能になる。従って、干渉計システムを用いることなく、上記各実施形態と同様のウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２を用いた並列処理動作が可能になる。勿論、上記各実施形態と同様に、干渉計システムを設け、干渉計システムとエンコーダシステムとを、併用することとしても良い。
【０１５６】
また、図１３及び図１５に示される第１の実施形態に対する２つの変形例と同様に、図２３に示されるように、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２上に、２ＤヘッドＥ１，Ｅ２のそれぞれに近接して２ＤヘッドＥ３，Ｅ４を設けても良い。２ＤスケールＳ1，Ｓ2，ＳＥ，ＳＡはそれぞれ個別に作成され、また２ＤスケールＳ1，Ｓ2については主領域と副領域（延接領域）とが個別に作成され、これらの各領域を反射プレート２５Ｃ上で互いに繋いで配置することによって、一体の２ＤスケールＳ1，Ｓ2，ＳＥ，ＳＡとなる。そこで、上記の２つの変形例と同様に、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２上に互いに近接して配置される各２つの２ＤヘッドＥ１，Ｅ３とＥ２，Ｅ４を併用することにより、各２Ｄヘッドが２ＤスケールＳ1，Ｓ2，ＳＥ，ＳＡ間の継ぎ部を、また２ＤスケールＳ1，Ｓ2の主領域と副領域の間の継ぎ部を跨ぐ際に、近接する２つの２Ｄヘッド間でウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置計測の結果を繋ぐことができる。図２３には、ウエハステージＷＳＴ１上の２ＤヘッドＥ１，Ｅ３及びＥ２，Ｅ４が、２ＤスケールＳＡ，Ｓ1間の継ぎ部を、ウエハステージＷＳＴ２上の２ＤヘッドＥ１，Ｅ３及びＥ２，Ｅ４が、２ＤスケールＳＥ，Ｓ2間の継ぎ部を、跨ぐ瞬間の状態が示されている。この状態において、前述の継ぎ誤差の補正が行われる。これにより、２Ｄスケールの継ぎ誤差が補正されるので、高精度なウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の位置計測が可能になる。
【０１５７】
なお、上記各実施形態では、庇部２３ａ及び２３ｂ（又は庇部２３ｃ（及び段部２３ｄ））によって液浸領域１４をウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２間で受け渡す受け渡し部が構成されているものとしたが、これに限らず、互いに係合することで、ウエハステージＷＳＴ１とウエハステージＷＳＴ２とが所定間隔を隔てて（ウエハステージＷＳＴ１とウエハステージＷＳＴ２との接触、及び反射ミラー２７ｆと反射ミラー２７ｅとの接触を回避できる間隔を隔てて）対向した状態を維持でき、その上面を液浸領域が通ることができるのであれば、受け渡し部は庇部のような形状でなくても良い。
【０１５８】
また、上記各実施形態では、前述したウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動経路を前提に、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２が、平面モータによりＸＹ平面に沿って独立して駆動されるものとした。しかし、必ずしも平面モータを用いる必要はなく、移動経路によっては、リニアモータなどを用いても良い。
【０１５９】
また、上記各実施形態及び変形例では、互いに係合する庇部２３ａ，２３ｂ（あるいは互いに係合する庇部２３ｃと段部２３ｄ）は、ウエハステージＷＳＴ１の＋Ｘ側の面、ウエハステージＷＳＴ２の−Ｘ側の面、それぞれの−Ｙ端部に設けられるもとした。これは、例えば図５及び図１１などに示されるスクラム時の両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動経路に対応させるべく、このようにしたものである。従って、スクラム時の両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２の移動経路が異なる場合には、その移動経路に応じて、庇部２３ａと庇部２３ｂ（あるいは庇部２３ｃと段部２３ｄ）の設置場所を、適宜設定すればよい。庇部などの受け渡し部は、２つのウエハステージが対向する側の面の少なくとも一方の面に設けられるのであれば、−Ｙ端部に限らず、何処に設けられていても良い。ただし、設置場所は、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２に設けられる反射ミラー２７ｅ，２７ｆの反射面に照射される測長ビームを用いたウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２のＺ軸方向に関する位置情報の計測を実質的に阻害しない位置（反射ミラー２７ｅ，２７ｆの反射面の非有効領域の上方）であることが望ましい。また、庇部などの受け渡し部は、２つのウエハステージが対向する側の面の少なくとも一方の面に設けられるのであれば、その数も１つに限られない。例えば、受け渡し部を複数も受ける場合には、次の露光対象であるウエハの露光の開始を最も効率良く行うことを可能にするスクラム（最も効率の良いスクラム）が、可能となるように、複数の受け渡し部の配置を定めると良い。この場合、ウエハＷ１、Ｗ２のショット領域の露光順序に応じて、次の露光対象であるウエハの露光の開始を、基準マーク板上の基準マークの検出をも含めて、最も効率良く行うことができるように、庇部などの受け渡し部の配置、さらに必要な場合には、基準マーク板のウエハステージ上の配置を定めることとしても良い。
【０１６０】
なお、上記各実施形態及び変形例では、ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２に固定の庇部などの突出部が設けられる場合について説明したが、これに限らず、突出部は、可動であっても良い。この場合、例えば、突出部は、両ウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２のスクラム時のみほぼ水平状態とし、スクラム時以外、すなわち非使用時には、折り畳んでおくこととしても良い。
【０１６１】
また、上記実施形態及び変形例では、庇部のＹ軸方向の幅は液浸領域よりも僅かに大きく設定するものとしたが、これに限らず、庇部のＹ軸方向の幅は、さらに大きく設定しても良い。
【０１６２】
また、上記各実施形態及び変形例では、液浸領域の受け渡し等の際に、２つのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２がスクラム状態を維持したまま、Ｘ軸方向に駆動される場合について説明したが、これに限らず、Ｘ軸方向のみでなくＹ軸方向にも駆動されることとしても良い。このようにすると、スクラム後に液浸領域が受け渡されたウエハステージに保持された次の露光対象のウエハに対する露光開始までの時間を、２つのウエハステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２がスクラム状態を維持したまま、Ｘ軸方向にのみ駆動される場合に比べて少しでも短縮できる。
【０１６３】
なお、これまでの説明では、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴの少なくとも一方の、Ｘ軸方向の少なくとも一側に庇部などの突出部が形成される場合について説明した。しかし、例えば上記変形例で説明したような、両ステージのＹ軸方向の位置ずれ（オフセット）を伴うスクラム状態を、庇部などの突出部が存在しない２つのウエハステージ同士で採用しても良い。この場合、そのスクラム時のオフセット量は、上述した最も効率の良いスクラムとなるように、設定しても良い。あるいは、例えば、一方のウエハステージＷＳＴ１の＋Ｘ側の側面の＋Ｙ側端部近傍に他の部分より突出した構成部品（以下、突起物と呼ぶ）があり、他方のウエハステージＷＳＴ２の−Ｘ側の側面の−Ｙ側端部近傍に上記構成部品をその内部に収容可能な凹部が形成されているような場合には、突起物と凹部とが対向するようにスクラム時のオフセット量を定めても良い。かかる場合には、突起物がウエハステージＷＳＴ２に接触して損傷するのを防止しつつ、液浸領域をウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ上で往来させることができる。
【０１６４】
また、上記各実施形態では、第１、第２の移動体として、ウエハステージＷＳＴ１、ＷＳＴ２を備える露光装置に本発明が適用された場合について説明したが、これに限らず、米国特許第６,８９７,９６３号明細書などに開示されるように、ウエハステージと、計測部材（基準マーク、センサなど）を有する計測ステージとを備える露光装置などにも本発明を適用することができる。かかる場合には、計測ステージは、投影光学系ＰＬ及び液体Ｌｑを介して照明光ＩＬを受光する、所定の計測、例えば照明むら計測、照度計測、空間像計測、及び波面収差計測などに用いられる。そして、ウエハステージなどを駆動する移動体駆動系は、その計測結果少なくとも一部に基づいて、照明光（エネルギビーム）によりウエハステージ上のウエハを露光する際に、ウエハステージを駆動することで、高精度な露光が可能となる。
【０１６５】
この他、ウエハステージを１つのみ有し、計測ステージなどを持たないタイプのステッパ、あるいはスキャナなどにも、第１、第２移動体を構成要素としない本発明は適用可能である。
【０１６６】
なお、上記各実施形態では、ウエハステージＷＳＴ１の＋Ｘ側の面とウエハステージＷＳＴ２の−Ｘ側の面とを対向させることを前提として、これらの面にのみに互いに係合する庇部２３ａ，２３ｂを設けるものとした。しかし、これに限らず、ウエハステージＷＳＴ１の−Ｘ側端面とウエハステージＷＳＴ２の＋Ｘ側端面とを対向させることができる場合には、これらの面にも互いに係合する庇部を設けて、該庇部同士を介して２つのウエハステージが近接又は接触するようにしても勿論良い。
【０１６７】
なお、上記各実施形態では、液浸領域１４の受け渡しのため、ステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２が、主制御装置２０により、Ｘ軸方向に関して一部接触又は近接するスクラム状態を維持してＸ軸方向に駆動される場合について説明したが、本発明がこれに限定されるものではない。すなわち、液浸領域１４の受け渡しのため、ステージＷＳＴ１，ＷＳＴ２が、主制御装置２０により、Ｙ軸方向に関して一部接触又は近接するスクラム状態を維持してＹ軸方向に駆動される構成を採用しても良い。
【０１６８】
なお、上記各実施形態ではノズルユニット３２の下面と投影光学系ＰＬの先端光学素子の下端面とがほぼ同一面であるものとしたが、これに限らず、例えばノズルユニット３２の下面を、先端光学素子の射出面よりも投影光学系ＰＬの像面（すなわちウエハ）の近くに配置しても良い。すなわち、局所液浸装置８は上述の構造に限られず、例えば、欧州特許出願公開第１４２０２９８号明細書、米国特許公開第２００６／０２３１２０６号明細書、米国特許公開第２００５／０２８０７９１号明細書、米国特許第６,９５２,２５３号明細書などに記載されているものを用いることができる。また、例えば米国特許出願公開第２００５／０２４８８５６号明細書に開示されているように、先端光学素子の像面側の光路に加えて、先端光学素子の物体面側の光路も液体で満たすようにしても良い。さらに、先端光学素子の表面の一部（少なくとも液体との接触面を含む）又は全部に、親液性及び／又は溶解防止機能を有する薄膜を形成しても良い。なお、石英は液体との親和性が高く、かつ溶解防止膜も不要であるが、蛍石は少なくとも溶解防止膜を形成することが好ましい。
【０１６９】
なお、上記各実施形態では、液体として純水（水）を用いるものとしたが、本発明がこれに限定されないことは勿論である。液体としては、化学的に安定で、照明光ＩＬの透過率が高く安全な液体、例えばフッ素系不活性液体を使用しても良い。このフッ素系不活性液体としては、例えばフロリナート（米国スリーエム社の商品名）が使用できる。このフッ素系不活性液体は冷却効果の点でも優れている。また、液体として、照明光ＩＬに対する屈折率が、純水（屈折率は１．４４程度）よりも高い、例えば１．５以上の液体を用いても良い。この液体としては、例えば、屈折率が約１．５０のイソプロパノール、屈折率が約１．６１のグリセロール（グリセリン）といったＣ−Ｈ結合あるいはＯ−Ｈ結合を持つ所定液体、ヘキサン、ヘプタン、デカン等の所定液体（有機溶剤）、あるいは屈折率が約１．６０のデカリン(Decalin: Decahydronaphthalene)などが挙げられる。あるいは、これら液体のうち任意の２種類以上の液体が混合されたものであっても良いし、純水にこれら液体の少なくとも１つが添加（混合）されたものであっても良い。あるいは、液体としては、純水に、Ｈ＋、Ｃｓ＋、Ｋ＋、Ｃｌ−、ＳＯ４２−、ＰＯ４２−等の塩基又は酸を添加（混合）したものであっても良い。更には、純水にＡｌ酸化物等の微粒子を添加（混合）したものであっても良い。これら液体は、ＡｒＦエキシマレーザ光を透過可能である。また、液体としては、光の吸収係数が小さく、温度依存性が少なく、投影光学系（先端の光学部材）、及び／又はウエハの表面に塗布されている感光材（又は保護膜（トップコート膜）あるいは反射防止膜など）に対して安定なものであることが好ましい。また、Ｆ2レーザを光源とする場合は、フォンブリンオイルを選択すれば良い。さらに、液体としては、純水よりも照明光ＩＬに対する屈折率が高い液体、例えば屈折率が１．６〜１．８程度のものを使用しても良い。液体として、超臨界流体を用いることも可能である。また、投影光学系ＰＬの先端光学素子を、例えば石英（シリカ）、あるいは、フッ化カルシウム（蛍石）、フッ化バリウム、フッ化ストロンチウム、フッ化リチウム、及びフッ化ナトリウム等のフッ化化合物の単結晶材料で形成しても良いし、石英や蛍石よりも屈折率が高い（例えば１．６以上）材料で形成しても良い。屈折率が１．６以上の材料としては、例えば、国際公開第２００５／０５９６１７号パンフレットに開示される、サファイア、二酸化ゲルマニウム等、あるいは、国際公開第２００５／０５９６１８号パンフレットに開示される、塩化カリウム（屈折率は約１．７５）等を用いることができる。
【０１７０】
また、上記各実施形態で、回収された液体を再利用するようにしても良く、この場合は回収された液体から不純物を除去するフィルタを液体回収装置、又は回収管等に設けておくことが望ましい。
【０１７１】
また、上記各実施形態では、ステップ・アンド・スキャン方式等の走査型露光装置に本発明が適用された場合について説明したが、これに限らず、ステッパなどの静止型露光装置に本発明を適用しても良い。また、ショット領域とショット領域とを合成するステップ・アンド・スティッチ方式の縮小投影露光装置、プロキシミティー方式の露光装置、又はミラープロジェクション・アライナーなどにも本発明は適用することができる。
【０１７２】
また、上記各実施形態の露光装置における投影光学系は縮小系のみならず等倍および拡大系のいずれでも良いし、投影光学系ＰＬは屈折系のみならず、反射系及び反射屈折系のいずれでも良いし、その投影像は倒立像及び正立像のいずれでも良い。また、前述の照明領域及び露光領域はその形状が矩形であるものとしたが、これに限らず、例えば円弧、台形、あるいは平行四辺形などでも良い。
【０１７３】
なお、上記各実施形態の露光装置の光源は、ＡｒＦエキシマレーザに限らず、ＫｒＦエキシマレーザ（出力波長２４８ｎｍ）、Ｆ2レーザ（出力波長１５７ｎｍ）、Ａｒ2レーザ（出力波長１２６ｎｍ）、Ｋｒ2レーザ（出力波長１４６ｎｍ）などのパルスレーザ光源、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）などの輝線を発する超高圧水銀ランプなどを用いることも可能である。また、ＹＡＧレーザの高調波発生装置などを用いることもできる。この他、例えば米国特許７,０２３,６１０号明細書に開示されているように、真空紫外光としてＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイッテルビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。
【０１７４】
また、上述の各実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスク（レチクル）を用いたが、このレチクルに代えて、例えば米国特許第６，７７８，２５７号明細書に開示されているように、露光すべきパターンの電子データに基づいて、透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する電子マスク（可変成形マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれ、例えば非発光型画像表示素子（空間光変調器）の一種であるＤＭＤ（Digital Micro-mirror Device）などを含む）を用いても良い。
【０１７５】
また、例えば干渉縞をウエハ上に形成することによって、ウエハ上にライン・アンド・スペースパターンを形成する露光装置（リソグラフィシステム）にも本発明を適用することができる。
【０１７６】
さらに、例えば米国特許第６，６１１，３１６号明細書に開示されているように、２つのレチクルパターンを投影光学系を介してウエハ上で合成し、１回のスキャン露光によってウエハ上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置にも本発明を適用することができる。
【０１７７】
なお、上記各実施形態でパターンを形成すべき物体（エネルギビームが照射される露光対象の物体）はウエハに限られるものではなく、ガラスプレート、セラミック基板、フィルム部材、あるいはマスクブランクスなど、他の物体でも良い。
【０１７８】
露光装置の用途としては半導体製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに液晶表示素子パターンを転写する液晶用の露光装置、有機ＥＬ、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシン及びＤＮＡチップなどを製造するための露光装置にも広く適用できる。また、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクル又はマスクを製造するために、ガラス基板又はシリコンウエハなどに回路パターンを転写する露光装置にも本発明を適用できる。
【０１７９】
半導体素子などの電子デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、この設計ステップに基づいたレチクルを製作するステップ、シリコン材料からウエハを製作するステップ、前述した実施形態の露光装置（パターン形成装置）及びその露光方法によりマスク（レチクル）のパターンをウエハに転写するリソグラフィステップ、露光されたウエハを現像する現像ステップ、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト除去ステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査ステップ等を経て製造される。この場合、リソグラフィステップで、上記実施形態の露光装置を用いて前述の露光方法が実行され、ウエハ上にデバイスパターンが形成されるので、高集積度のデバイスを生産性良く製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１８０】
以上説明したように、本発明の露光装置及び露光方法は、物体を露光するのに適している。また、本発明のデバイス製造方法は、半導体素子又は液晶表示素子などの電子デバイスを製造するのに適している。
【図面の簡単な説明】
【０１８１】
【図１】第１の実施形態の露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図２】図２（Ａ）は図１のウエハステージＷＳＴ１を示す正面図、図２（Ｂ）はウエハステージＷＳＴ１を示す平面図である。
【図３】図３（Ａ）は図１のウエハステージＷＳＴ２を示す正面図、図３（Ｂ）はウエハステージＷＳＴ２を示す平面図である。
【図４】図４（Ａ）〜図４（Ｃ）は、受け渡し部について説明するための図である。
【図５】図１の露光装置が備えるステージ装置を示す平面図である。
【図６】３つの多軸干渉計を用いたウエハステージの位置計測を説明するための図である。
【図７】一実施形態の露光装置の制御系の主要な構成を示すブロック図である。
【図８】ウエハステージＷＳＴ１上に載置されたウエハに対して露光が行われ、ウエハステージＷＳＴ２上ではウエハ交換が行われている状態を示す図である。
【図９】ウエハステージＷＳＴ１上に載置されたウエハに対して露光が行われ、ウエハステージＷＳＴ２上に載置されたウエハに対してウエハアライメントが行われている状態を示す図である。
【図１０】ウエハステージＷＳＴ２が、エンコーダを用いる位置計測の結果に従って、エンコーダヘッドとスケールの配置より規定される経路に沿って、第２待機領域を経由してアライメント領域から露光領域へ移動している状態を示す図である。
【図１１】ウエハステージＷＳＴ１とウエハステージＷＳＴ２とのスクラム時移動領域内のスクラムポジションへの移動が終了した状態を示す図である。
【図１２】ウエハステージＷＳＴ２上に載置されたウエハに対して露光が行われ、ウエハステージＷＳＴ１上ではウエハ交換が行われている状態を示す図である。
【図１３】図１３（Ａ）及び図１３（Ｂ）は、第１の実施形態の第１の変形例を説明するための図である。
【図１４】第１の実施形態の第２の変形例を説明するための図である。
【図１５】別の変形例を説明するための図である。
【図１６】第２の実施形態の露光装置のステージ装置を示す平面図である。
【図１７】第２の実施形態の露光装置で、ウエハステージＷＳＴ１上に載置されたウエハに対して露光が行われ、ウエハステージＷＳＴ２上に載置されたウエハに対してウエハアライメントが行われている状態を示す図である。
【図１８】第２の実施形態の露光装置で、ウエハステージＷＳＴ２が、エンコーダを用いる位置計測の結果に従って、エンコーダヘッドとスケールの配置より規定される経路に沿って、第２待機領域を経由してアライメント領域から露光領域へ移動している状態を示す図である。
【図１９】第２の実施形態の露光装置で、ウエハステージＷＳＴ１とウエハステージＷＳＴ２とのスクラム時移動領域内のスクラムポジションへの移動が終了した状態を示す図である。
【図２０】第２の実施形態の露光装置で、ウエハステージＷＳＴ２上に載置されたウエハに対して露光が行われ、ウエハステージＷＳＴ１上ではウエハ交換が行われている状態を示す図である。
【図２１】第２の実施形態の第１の変形例を説明するための図である。
【図２２】第２の実施形態の第２の変形例を説明するための図である。
【図２３】第２の実施形態の別の変形例を説明するための図である。
【符号の説明】
【０１８２】
８…局所液浸装置、１４…液浸領域、１６，１７，１８，１９…Ｙ干渉計、５０…ステージ装置、１００…露光装置、１１６，１１７…ＸＺ干渉計、１１８…干渉計システム、１２４…ステージ駆動系、１２６，１２７…ＸＺ干渉計、１５０…エンコーダシステム、ＡＡ…アライメント領域、ＡＥ…露光時移動領域、ＡＳ…スクラム時移動領域、ＡＷ１…第１待機領域、ＡＷ２…第２待機領域、ＰＬ…投影光学系、ＰＵ…投影ユニット、Ｗ１，Ｗ２…ウエハ、ＷＳＴ１，ＷＳＴ２…ウエハステージ、ＷＴＢ１，ＷＴＢ２…ウエハテーブル、Ｒ…レチクル、ＲＳＴ…レチクルステージ、ＳＸ１，ＳＸ2…Ｘスケール、ＳＹ1，ＳＹ2…Ｙスケール、ＥＸ1，ＥＸ2…Ｘヘッド、ＥＹ…Ｙヘッド。
【図１】
0005169786.tif 000002
【図２】
0005169786.tif 000003
【図３】
0005169786.tif 000004
【図４】
0005169786.tif 000005
【図５】
0005169786.tif 000006
【図６】
0005169786.tif 000007
【図７】
0005169786.tif 000008
【図８】
0005169786.tif 000009
【図９】
0005169786.tif 000010
【図１０】
0005169786.tif 000011
【図１１】
0005169786.tif 000012
【図１２】
0005169786.tif 000013
【図１３】
0005169786.tif 000014
【図１４】
0005169786.tif 000015
【図１５】
0005169786.tif 000016
【図１６】
0005169786.tif 000017
【図１７】
0005169786.tif 000018
【図１８】
0005169786.tif 000019
【図１９】
0005169786.tif 000020
【図２０】
0005169786.tif 000021
【図２１】
0005169786.tif 000022
【図２２】
0005169786.tif 000023
【図２３】
0005169786.tif 000024