(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の一般式（１）で表されるホスホロアミダイト化合物。
【化１】
0005157168.tif 000030
［式中、ＢＸは、保護基を有していてもよい核酸塩基を表す。Ｒ１は、次の一般式（２）で表される置換基を表す。
【化２】
0005157168.tif 000031
［式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３は、同一又は異なって、水素又はアルコキシを表す。］
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂは、同一又は異なって、アルキルを表すか、又は、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂが隣接する窒素原子と一緒になって形成する、５〜６員の飽和アミノ環基を表す。かかる飽和アミノ環基は、窒素原子の他に環構成原子として酸素原子又は硫黄原子を１個有していてもよい。ＷＧ１、ＷＧ２は、同一又は異なって、シアノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ５アルキルスルホニル、又はハロゲンを表す。］
【請求項２】
ＷＧ１がシアノである、請求項１に記載のホスホロアミダイト化合物。
【請求項３】
下記工程Ａ〜Ｄを含み、工程Ｂにおける核酸モノマー化合物として、請求項１又は２記載のホスホロアミダイト化合物を用いることを特徴とする、次の一般式（３）で表されるオリゴＲＮＡの製法。
【化３】
0005157168.tif 000032
［式中、各Ｂは、それぞれ独立して、アデニン、グアニン、シトシン、ウラシル又はそれらの修飾体を表す。各Ｒは、それぞれ独立して、Ｈ又は水酸基を表すが、少なくとも１つは水酸基を表す。Ｚは、Ｈ又はリン酸基を表す。ｎは、１〜１００の範囲内にある整数を表す。］
工程Ａ：
次の一般式（４）で表される化合物に酸を作用させることによって、５’位の水酸基の保護基を脱離して、次の一般式（５）で表される化合物を製造する工程、
【化４】
0005157168.tif 000033
［式中、ｎは前記と同義である。各Ｂｘは、それぞれ独立して、保護基を有していてもよい、アデニン、グアニン、シトシン、ウラシル又はそれらの修飾体を表す。Ｒ１は、次の一般式（２）で表される置換基を表す。
【化５】
0005157168.tif 000034
［式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３は、同一又は異なって、水素又はアルコキシを表す。］
各ＷＧ２は、シアノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ５アルキルスルホニル、又はハロゲンを表す。各Ｒ４は、それぞれ独立して、次の一般式（６）で表される置換基を表す。
【化６】
0005157168.tif 000035
［式中、ＷＧ１は、シアノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ５アルキルスルホニル、又はハロゲンを表す。］
Ｅは、アシル又は次の一般式（７）で表される置換基を表す。
【化７】
0005157168.tif 000036
［式中、Ｑは、単結合又は次の一般式（８）で表される置換基を表す。
【化８】
0005157168.tif 000037
［式中ＷＧ２は、前記と同義である。］］
Ｔは、Ｈ、アシルオキシ、上記一般式（６）又は（７）で表される置換基を表す。
但し、Ｅ又はＴのどちらか一方は、置換基（７）である。］
工程Ｂ：
工程Ａにおいて製造される化合物（５）に、活性化剤を用いて核酸モノマー化合物を縮合させ、次の一般式（９）で表される化合物を製造する工程、
【化９】
0005157168.tif 000038
［式中、ＢＸ、Ｅ、ｎ、Ｒ１、Ｒ４、Ｔ、ＷＧ２は、前記と同義である。］
工程Ｃ：
工程Ｂにおいて未反応である化合物（５）の５’位の水酸基をキャッピングする工程、
【化１０】
0005157168.tif 000039
［式中、ＢＸ、Ｅ、ｎ、Ｒ４、Ｔ、ＷＧ２は、前記と同義である。Ｒ５は、メチル、フェノキシメチルを表す。］
工程Ｄ：
工程Ｂにおいて製造される化合物（９）に酸化剤を作用させることによって亜リン酸基をリン酸基に変換する工程、
【化１１】
0005157168.tif 000040
［式中、ＢＸ、Ｅ、ｎ、Ｒ１、Ｒ４、Ｔ、ＷＧ２は、前記と同義である。］。
【請求項４】
下記工程Ａ〜Ｇを含み、工程Ｂにおける核酸モノマー化合物として、請求項１又は２記載のホスホロアミダイト化合物を用いることを特徴とする、次の一般式（３）で表されるオリゴＲＮＡの製法。
【化１２】
0005157168.tif 000041
［式中、各Ｂは、それぞれ独立して、アデニン、グアニン、シトシン、ウラシル又はそれらの修飾体を表す。各Ｒは、それぞれ独立して、Ｈ又は水酸基を表すが、少なくとも１つは水酸基を表す。Ｚは、Ｈ又はリン酸基を表す。ｎは、１〜１００の範囲内にある整数を表す。］
工程Ａ：
次の一般式（４）で表される化合物に酸を作用させることによって、５’位の水酸基の保護基を脱離して、次の一般式（５）で表される化合物を製造する工程、
【化１３】
0005157168.tif 000042
［式中、ｎは前記と同義である。各Ｂｘは、それぞれ独立して、保護基を有していてもよい、アデニン、グアニン、シトシン、ウラシル又はそれらの修飾体を表す。Ｒ１は、次の一般式（２）で表される置換基を表す。
【化１４】
0005157168.tif 000043
［式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３は、同一又は異なって、水素又はアルコキシを表す。］
各ＷＧ２は、シアノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ５アルキルスルホニル、又はハロゲンを表す。各Ｒ４は、それぞれ独立して、次の一般式（６）で表される置換基を表す。
【化１５】
0005157168.tif 000044
［式中、ＷＧ１は、シアノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ５アルキルスルホニル、又はハロゲンを表す。］
Ｅは、アシル又は次の一般式（７）で表される置換基を表す。
【化１６】
0005157168.tif 000045
［式中、Ｑは、単結合又は次の一般式（８）で表される置換基を表す。
【化１７】
0005157168.tif 000046
［式中ＷＧ２は、前記と同義である。］］
Ｔは、Ｈ、アシルオキシ、上記一般式（６）又は（７）で表される置換基を表す。
但し、Ｅ又はＴのどちらか一方は、置換基（７）である。］
工程Ｂ：
工程Ａにおいて製造される化合物（５）に、活性化剤を用いて核酸モノマー化合物を縮合させ、次の一般式（９）で表される化合物を製造する工程、
【化１８】
0005157168.tif 000047
［式中、ＢＸ、Ｅ、ｎ、Ｒ１、Ｒ４、Ｔ、ＷＧ２は、前記と同義である。］
工程Ｃ：
工程Ｂにおいて未反応である化合物（５）の５’位の水酸基をキャッピングする工程、
【化１９】
0005157168.tif 000048
［式中、ＢＸ、Ｅ、ｎ、Ｒ４、Ｔ、ＷＧ２は、前記と同義である。Ｒ５は、メチル、フェノキシメチルを表す。］
工程Ｄ：
工程Ｂにおいて製造される化合物（９）に酸化剤を作用させることによって亜リン酸基をリン酸基に変換する工程、
【化２０】
0005157168.tif 000049
［式中、ＢＸ、Ｅ、ｎ、Ｒ１、Ｒ４、Ｔ、ＷＧ２は、前記と同義である。］
工程Ｅ：
工程Ｄにおいて製造される化合物（１１）を固相担体から切り出し、各核酸塩基部及び各２’位の水酸基の保護基を脱離する工程、
【化２１】
0005157168.tif 000050
［式中、Ｂ、ＢＸ、Ｅ、ｎ、Ｒ、Ｒ１、Ｒ４、Ｔ、ＷＧ２、Ｚは、前記と同義である。］
工程Ｆ：
工程Ｅにおいて製造される化合物（１２）の５’位の水酸基の保護基を脱離する工程、
【化２２】
0005157168.tif 000051
［式中、Ｂ、ｎ、Ｒ、Ｒ１、Ｚは、前記と同義である。］
工程Ｇ：
工程Ｆにおいて製造されるオリゴＲＮＡ（３）を分離精製する工程。
【請求項５】
工程Ａ〜Ｄを繰り返すことにより所望の鎖長のオリゴＲＮＡ（３）を製造する、請求項３に記載のオリゴＲＮＡの製法。
【請求項６】
工程Ｅにおいて、アルキルアミン、アミジン、チオール、２−メルカプトエタノール、４−メルカプト−１−ブタノール、６−メルカプト−１−ヘキサノール、メルカプトメチルエーテル、２−メルカプトエチルエーテル、３−メルカプトプロピルエーテル、４−メルカプトブチルエーテル、５−メルカプトペンチルエーテル、６−メルカプトヘキシルエーテル又はこれらの混合物を添加することを特徴とする、請求項４に記載のオリゴＲＮＡの製法。
【請求項７】
下記工程ａ〜ｈを含む、次の一般式（１）で表されるホスホロアミダイト化合物の製法。
【化２３】
0005157168.tif 000052
［式中、ＢＸは、保護基を有していてもよい核酸塩基を表す。Ｒ１は、次の一般式（２）で表される置換基を表す。
【化２４】
0005157168.tif 000053
［式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３は、同一又は異なって、水素又はアルコキシを表す。］
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂは、同一又は異なって、アルキルを表すか、又は、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂが隣接する窒素原子と一緒になって形成する、５〜６員の飽和アミノ環基を表す。かかる飽和アミノ環基は、窒素原子の他に環構成原子として酸素原子又は硫黄原子を１個有していてもよい。ＷＧ１、ＷＧ２は、同一又は異なって、シアノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ５アルキルスルホニル、又はハロゲンを表す。］
工程ａ：
次の一般式（１４）で表されるヌクレオシド誘導体にアルキル化試薬を作用させることによって、中性条件下において脱離するエーテル型保護基を２’位の水酸基に導入する、次の一般式（１５）、（１５’）で表されるヌクレオシド誘導体を製造する工程、
【化２５】
0005157168.tif 000054
［式中、ＢＸは、保護基を有していてもよい核酸塩基を表す。Ｒ１、ＷＧ１は、前記と同義である。］
工程ｂ：
工程ａにおいて製造されるヌクレオシド誘導体（１５）を単離精製する工程、
工程ｃ：
工程ｂとは別に、次の一般式（１６）で表されるリボ核酸化合物にアルキル化試薬を作用させることによって、中性条件下において脱離するエーテル型保護基を２’位の水酸基に導入した、次の一般式（１７）で表されるリボ核酸化合物を製造する工程、
【化２６】
0005157168.tif 000055
［式中、ＢＸ、ＷＧ１は、前記と同義である。Ａは、次の一般式（１８ａ）又は（１８ｂ）で表されるケイ素置換基を表す。
【化２７】
0005157168.tif 000056
［式中、Ｒ６は、アルキルを表す。］］
工程ｄ：
工程ａ〜ｃとは別に、リボ核酸化合物（１６）にジメチルスルホキシドと酢酸と無水酢酸とを作用させることによって、次の一般式（１９）で表されるリボ核酸化合物を製造する工程、
【化２８】
0005157168.tif 000057
［式中、Ａ、ＢＸは、前記と同義である。］
工程ｅ：
工程ｄにおいて製造されるヌクレオシド誘導体（１９）に次の一般式（２０）で表されるアルコール化合物と酸と硫黄原子に対するハロゲン化剤とを作用させることによって、中性条件下において脱離するエーテル型保護基を２’位の水酸基に導入した、次の一般式（１７）で表されるリボ核酸化合物を製造する工程、
【化２９】
0005157168.tif 000058
［式中、Ａ、ＢＸ、ＷＧ１は、前記と同義である。］
工程ｆ：
工程ｃ又はｅにおいて製造されるリボ核酸化合物（１７）の３’位と５’位の水酸基の保護基を脱離する反応を行うことによって、次の一般式（２１）で表されるリボ核酸化合物を製造する工程、
【化３０】
0005157168.tif 000059
［式中、Ａ、ＢＸ、ＷＧ１は、前記と同義である。］
工程ｇ：
工程ｆにおいて製造されるリボ核酸化合物（２１）の５’位の水酸基に酸性条件下において脱離する保護基（Ｒ１）を導入する、リボ核酸化合物（１５）を製造する工程、
【化３１】
0005157168.tif 000060
［式中、ＢＸ、Ｒ１、ＷＧ１は、前記と同義である。Ｘ３は、ハロゲンを表す。］
工程ｈ：
工程ｂ又はｇにおいて製造されるヌクレオシド誘導体（１５）にホスホロアミダイト化試薬と、必要に応じて活性化剤とを作用させることによって、３’位の水酸基がホスホロアミダイト化された、次の一般式（１）で表されるホスホロアミダイト化合物を製造する工程。
【化３２】
0005157168.tif 000061
［式中、ＢＸ、Ｒ１、ＷＧ１は、前記と同義である。Ｒ２ａ、Ｒ２ｂは、同一又は異なって、アルキルを表すか、又は、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂが隣接する窒素原子と一緒になって形成する、５〜６員の飽和アミノ環基を表す。かかる飽和アミノ環基は、窒素原子の他に環構成原子として酸素原子又は硫黄原子を１個有していてもよい。ＷＧ２は、シアノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ５アルキルスルホニル、又はハロゲンを表す。］
【請求項８】
アルキル化試薬が、次の一般式（１３）で表されるエーテル化合物である、請求項７に記載のホスホロアミダイト化合物の製法。
【化３３】
0005157168.tif 000062
［式中、Ｌは、ハロゲン、アリールチオ基、アルキルスルホキシド基又はアルキルチオ基を示し、ＷＧ１は、シアノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ５アルキルスルホニル、又はハロゲンを表す。］
【請求項９】
ＷＧ１がシアノである、請求項７又は８のいずれかに記載のホスホロアミダイト化合物の製法。
【請求項１０】
ＷＧ２がシアノであり、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂがイソプロピルであり、ホスホロアミダイト化試薬が、２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロアミダイト又は２-シアノエチルＮ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホロアミダイトである、請求項７〜９のいずれかに記載のホスホロアミダイト化合物の製法。
【請求項１１】
活性化剤が、１Ｈ−テトラゾール、５−エチルチオテトラゾール、５−ベンジルメルカプト−１Ｈ−テトラゾール、４，５−ジクロロイミダゾール、４，５−ジシアノイミダゾール、ベンゾトリアゾールトリフラート、イミダゾールトリフラート、ピリジニウムトリフラート、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン又は２，４，６−コリジン／Ｎ−メチルイミダゾールである、請求項７〜１０のいずれかに記載のホスホロアミダイト化合物の製法。
【請求項１２】
次の一般式（２１）で表されるリボ核酸化合物。
【化３４】
0005157168.tif 000063
［式中、ＢＸは、保護基を有していてもよい核酸塩基を表す。ＷＧ１は、シアノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ５アルキルスルホニル、又はハロゲンを表す。］
【請求項１３】
ＷＧ１がシアノである、 請求項１２に記載のリボ核酸化合物。
【請求項１４】
次の一般式（１５）で表されるリボ核酸化合物。
【化３５】
0005157168.tif 000064
［式中、Ｂｘは、保護基を有していてもよい核酸塩基を表す。ＷＧ１は、シアノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ５アルキルスルホニル、又はハロゲンを表す。Ｒ１は、次の一般式（２）で表される置換基を表す。
【化３６】
0005157168.tif 000065
［式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３は、同一又は異なって、水素又はアルコキシを表す。］
【請求項１５】
ＷＧ１がシアノである、請求項１４に記載のリボ核酸化合物。
【請求項１６】
次の一般式（１７）で表されるリボ核酸化合物。
【化３７】
0005157168.tif 000066
［式中、ＢＸは、保護基を有していてもよい核酸塩基を表す。ＷＧ１は、シアノ、ニトロ、Ｃ１−Ｃ５アルキルスルホニル、又はハロゲンを表す。Ａは、次の一般式（１８ａ）又は（１８ｂ）で表されるケイ素置換基を表す。
【化３８】
0005157168.tif 000067
［式中、Ｒ６は、アルキルを表す。］］
【請求項１７】
ＷＧ１がシアノである、請求項１６に記載のリボ核酸化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２’位の水酸基に新規な保護基を導入した新規ホスホロアミダイト化合物及び該保護基の導入試薬に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
オリゴリボ核酸（オリゴＲＮＡ）は、遺伝子解析のＲＮＡプローブ、ＲＮＡ医薬品素材（アンチセンスＲＮＡ、リボザイム、ＲＮＡｉを利用した遺伝子発現制御）、人工酵素、アプタマーとして有用である。
オリゴＲＮＡの固相合成法が確立されたのは１９８０年代後半である。最初に報告されたのは、２’位の水酸基の保護基として、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＤＭＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基を用いたホスホロアミダイト化合物を使用するＲＮＡの固相合成法であった（非特許文献１）。
オリゴＲＮＡの化学合成は、デオキシリボ核酸（ＤＮＡ）のみからなるオリゴデオキシリボ核酸（オリゴＤＮＡ）の場合と比較して注意すべき問題点が多い。
まず、２’位の水酸基の保護基としてＴＢＤＭＳ基を用いる場合、例えば、３’位の水酸基をホスホロアミダイト化する際に、２’位の水酸基を保護していたＴＢＤＭＳ基が３’位に転位する副反応が起こることがある。
また、２’位の水酸基の保護基としてＴＢＤＭＳ基のように立体障害の大きい置換基を使用すると、３’位に結合するリン原子の周りの立体が混み合うため、インターヌクレオチド結合を生成する縮合反応の速度が低下したり、またオリゴマー化した後、２’位の水酸基の保護基を除去する際に、インターヌクレオチド結合の切断や転位反応が起こりうる。
上記のような問題点を克服するために、現在、より効率的なオリゴＲＮＡ合成を行うための研究が行われている。
２’位の水酸基の保護基として、１−（２−シアノエトキシ）エチル（ＣＥＥ）基は、３’位と５’位を保護するビスケイ素保護基を脱離する条件（中性条件）において、ビスケイ素保護基と同時に脱離する基として知られている（非特許文献２）。この知見から、和田は、中性条件において脱保護可能なＣＥＥ基を２’位の水酸基に導入したホスホロアミダイト化合物をオリゴＲＮＡを製造するための化合物として見出した（非特許文献３、非特許文献４）。
しかしながら、２’位の水酸基にＣＥＥ基を導入することにより、新たに不斉中心が生じるため、２’位の水酸基が保護されたオリゴＲＮＡはジアステレオ混合物となる。したがって、オリゴＲＮＡ製造の過程における精製や単離の操作が複雑になる。また、２’位の酸素原子に結合する炭素上にメチルが置換しているので、３’位の水酸基に結合するリン原子の周りにおける立体障害が考えられ、縮合効率の低下及び縮合反応速度の低下が懸念される。
【非特許文献１】Ｎ．Ａ．Ｕｓｍａｎら、Ｊｏｕｒｎａｌ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ，Ｖｏｌ．１０９，７８４５（１９８７）
【非特許文献２】Ｗｏｌｆｇａｎｇ  Ｐｆｌｅｉｄｅｒｅｒら、Ｈｅｌｖｅｔｉｃａ  Ｃｈｉｍｉｃａ  Ａｃｔａ，Ｖｏｌ．８１，１５４５（１９９８）
【非特許文献３】和田  猛、ＢＩＯ  ＩＮＤＵＳＴＲＹ，Ｖｏｌ．２１，Ｎｏ．１，１７（２００４）
【非特許文献４】Ｔ．Ｕｍｅｍｏｔｏら、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ．４５，９５２９（２００４）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、主として、簡易で高収率のオリゴＲＮＡの合成法を目指して、有用な新規なホスホロアミダイト化合物を提供することにある。また、２’位の水酸基に、中性条件下において容易に脱離可能な保護基を導入することができる新規なエーテル化合物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、上記目的を達成し得る化合物を見出し、本発明を完成するに至った。
【０００５】
Ｉ．本発明に係るホスホロアミダイト化合物
本発明として、次の一般式（１）で表されるホスホロアミダイト化合物（以下、「本発明ホスホロアミダイト化合物」という。）を挙げることができる。
【化１】
0005157168.tif 000002
［式中、ＢＸは、保護基を有していてもよい核酸塩基を表す。
Ｒ１は、次の一般式（２）で表される置換基を表す。
【化２】
0005157168.tif 000003
［式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３は、同一又は異なって、水素又はアルコキシを表す。］
Ｒ２ａ、Ｒ２ｂは、同一又は異なって、アルキルを表すか、又は、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂが隣接する窒素原子と一緒になって形成する、５〜６員の飽和アミノ環基を表す。かかる飽和アミノ環基は、窒素原子の他に環構成原子として酸素原子又は硫黄原子を１個有していてもよい。ＷＧ１、ＷＧ２は、同一又は異なって、電子吸引性基を表す。］
ＢＸに係る「核酸塩基」としては、核酸の合成に使用されるものであれば特に制限されないが、例えば、アデニン、グアニン、シトシン、ウラシル又はそれらの修飾体を挙げることができる。
核酸塩基の「修飾体」とは、核酸塩基が任意の置換基で置換されている化合物をいう。
ＢＸの「修飾体」に係る置換基としては、例えば、ハロゲン、アシル、アルキル、アリールアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、ヒドロキシ、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、カルボキシ、シアノ、ニトロを挙げることができ、これらが１〜３個置換されている。
ＢＸに係る「核酸塩基」は、保護されていてもよく、なかでもアミノ基を有する核酸塩基、例えば、アデニン、グアニン、シトシンは、アミノ基が保護されているのが好ましい。かかる「アミノ基の保護基」としては、核酸の保護基として使用されるものであれば特に制限されず、具体的には、例えば、ベンゾイル、４−メトキシベンゾイル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、フェニルアセチル、フェノキシアセチル、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシアセチル、４−イソプロピルフェノキシアセチル、（ジメチルアミノ）メチレンを挙げることができる。
Ｒ２に係る「飽和アミノ環基」としては、例えば、ピロリジン−１−イル、ピペリジン−１−イル、モルホリン−１−イル又はチオモルホリン−１−イルを挙げることができる。
ＷＧ１、ＷＧ２に係る「電子吸引性基」としては、例えば、シアノ、ニトロ、アルキルスルホニル、ハロゲンを挙げることができる。なかでも、シアノが好ましい。
本発明ホスホロアミダイト化合物における「ハロゲン」としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を挙げることができる。
本発明ホスホロアミダイト化合物における「アシル」としては、例えば、直鎖状又は分枝鎖状の炭素数１〜６のアルカノイル、炭素数７〜１３のアロイルを挙げることができる。具体的には、例えば、ホルミル、アセチル、ｎ−プロピオニル、イソプロピオニル、ｎ−ブチリル、イソブチリル、ｔｅｒｔ−ブチリル、バレリル、ヘキサノイル、ベンゾイル、ナフトイル、レブリニルを挙げることができる。
本発明ホスホロアミダイト化合物における「アルキル」としては、例えば、直鎖状又は分枝鎖状の炭素数１〜５のアルキルを挙げることができる。具体的には、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ｔｅｒｔ−ペンチルを挙げることができる。当該アルキルは置換されていてもよく、かかる置換基としては、例えば、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、シアノ、ニトロを挙げることができ、これらが１〜３個置換されている。
本発明ホスホロアミダイト化合物における「アリールアルキル」、「アルコキシアルキル」、「モノアルキルアミノ」、「ジアルキルアミノ」及び「アルキルスルホニル」の「アルキル」部分は、前記の「アルキル」と同じものを挙げることができる。
本発明ホスホロアミダイト化合物における「アルコキシ」としては、例えば、直鎖状又は分枝鎖状の炭素数１〜４のアルコキシを挙げることができる。具体的には、例えば、メトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ−ブトキシ、イソブトキシ、ｓｅｃ−ブトキシ、ｔｅｒｔ−ブトキシを挙げることができる。なかでも炭素数１〜３のものが好ましく、とりわけメトキシが好ましい。
本発明ホスホロアミダイト化合物における「アルコキシアルキル」の「アルコキシ」部分は、前記の「アルコキシ」と同じものを挙げることができる。
本発明ホスホロアミダイト化合物における「アリールアルキル」の「アリール」としては、例えば、炭素数６〜１２のアリールを挙げることができる。具体的には、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、ビフェニルを挙げることができる。当該アリールは置換されていてもよく、かかる置換基としては、例えば、ハロゲン、アルキル、アルコキシ、シアノ、ニトロを挙げることができ、これらが１〜３個置換されている。
本発明ホスホロアミダイト化合物における「アルキル」、「アリール」の置換基である「ハロゲン」、「アルキル」及び「アルコキシ」としては、各々前記と同じものを挙げることができる。
【０００６】
本発明ホスホロアミダイト化合物は、オリゴＲＮＡの製造するための試薬として使用することができる。
また、本発明ホスホロアミダイト化合物は、２’位の水酸基に中性条件下において脱離可能なエーテル型保護基を有するホスホロアミダイト化合物である。また、２’位の水酸基に導入された基が直線状の置換基であり、３’位の水酸基に結合するリン原子の周りにおける立体が混み合っていないため、従来から使用されているホスホロアミダイト化合物と比較して、オリゴＲＮＡを合成する際、非常に短時間に縮合反応が進行し、縮合収率がよいという特徴を有する。本発明ホスホロアミダイト化合物を使用することにより、オリゴＤＮＡの製造とほぼ同様の手法を用いて、高純度のオリゴＲＮＡの製造が可能となった。
本発明において「オリゴＤＮＡ」とは、デオキシリボ核酸（ＤＮＡ）のみからなるオリゴ核酸をいう。また、本発明において「オリゴＲＮＡ」とは、リボ核酸（ＲＮＡ）及びデオキシリボ核酸（ＤＮＡ）からなるオリゴ核酸であり、少なくとも１つはリボ核酸（ＲＮＡ）を含有するオリゴ核酸をいう。
【０００７】
本発明ホスホロアミダイト化合物の具体例としては、次の１．〜５．の化合物を挙げることができる。
１．  Ｎ６−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）アデノシン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
２．  Ｎ２−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
３．  Ｎ２−フェノキシアセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
４．  Ｎ４−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）シチジン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
５．  ５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）ウリジン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、逆相ＨＰＬＣ分析により得られたクロマトグラムを表す。図中、縦軸は、時間（分）を示し、横軸は、吸収強度を示す。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
ＩＩ．本発明ホスホロアミダイト化合物の製法
本発明ホスホロアミダイト化合物は、次のようにして製造することができる。
以下に示す製法において、原料が反応に影響を及ぼす置換基（例えば、ヒドロキシ、アミノ、カルボキシ）を有する場合は、原料をあらかじめ公知の方法に従い、適当な保護基で保護した後に反応を行うことが一般的である。保護基は、反応後に、接触還元、アルカリ処理、酸処理などの公知の方法に従い保護基を脱離することができる。
本発明ホスホロアミダイト化合物は、公知化合物又は容易に製造可能な中間体から、例えば、次の工程ａ〜工程ｈの操作を実施することにより製造することができる。
以下、詳細に説明する。
【００１０】
（１）工程ａ：
次の一般式（１４）で表されるヌクレオシド誘導体にアルキル化試薬を作用させることによって、中性条件下において脱離するエーテル型保護基を２’位の水酸基に導入する、次の一般式（１５）、（１５’）で表されるヌクレオシド誘導体を製造する工程。
【化３】
0005157168.tif 000004
［式中、ＢＸ、Ｒ１、ＷＧ１は、前記と同義である。］
「アルキル化試薬」として、例えば、次の一般式（１３）で表されるエーテル化合物を挙げることができる。
【化４】
0005157168.tif 000005
［式中、Ｌは、ハロゲン、アリールチオ基、アルキルスルホキシド基又はアルキルチオ基を表す。ＷＧ１は、前記と同義である。］
Ｌに係る「ハロゲン」、「アリールチオ基」の「アリール」、「アルキルスルホキシド基」及び「アルキルチオ基」の「アルキル」としては、本発明ホスホロアミダイト化合物における「ハロゲン」、「アリール」、「アルキル」と同じものを挙げることができる。
エーテル化合物（１３）の具体例としては、次の１．〜２．の化合物を挙げることができる。
１．  クロロメチル  ２−シアノエチルエーテル
２．  ２−シアノエチル  メチルチオメチルエーテル
エーテル化合物（１３）は、中性条件下において脱離可能なエーテル型置換基を、２’位の水酸基に塩基性条件下において導入することができる新規なアルキル化試薬であり、本発明ホスホロアミダイト化合物を製造するための試薬として有用である。
【００１１】
エーテル化合物（１３）は、次に示す工程１〜工程４を実施することにより製造することができる。
工程１：
次の一般式（２０）で表されるアルコール化合物をアルキルチオメチル化し、次の一般式（２４）で表される化合物を製造する工程。
【化５】
0005157168.tif 000006
［式中、ＷＧ１は、前記と同義である。Ｒ３は、アルキル又はアリールを表す。］
化合物（２４）は、Ｌがアルキルチオ基であるエーテル化合物（１３）である。
Ｒ３に係る「アルキル」としては、本発明ホスホロアミダイト化合物における「アルキル」と同じものを挙げることができる。
Ｒ３がメチルである場合、アルキルチオメチル化試薬としては、例えば、ジメチルスルホキシド、無水酢酸及び酢酸の混合溶液を挙げることができる。「ジメチルスルホキシド」の使用量は、化合物（２０）に対して、１０〜２００倍モル量が適当であり、２０〜１００倍モル量が好ましい。「酢酸」の使用量は、化合物（２０）に対して、１０〜１５０倍モル量が適当であり、２０〜１００倍モル量が好ましい。「無水酢酸」の使用量は、化合物（２０）に対して、１０〜１５０倍モル量が適当であり、２０〜１００倍モル量が好ましい。反応温度は、０℃〜１００℃が適当である。反応時間は、使用する原料の種類、反応温度等によって異なるが、通常１〜４８時間が適当である。
工程２：
化合物（２４）をハロゲン化し、次の一般式（２５）で表される化合物を製造する工程。
【化６】
0005157168.tif 000007
［式中、ＷＧ１、Ｒ３は、前記と同義である。Ｘ２は、ハロゲンを表す。］
化合物（２５）は、エーテル化合物（１３）におけるＬがハロゲンである化合物である。
Ｘ２に係る「ハロゲン」としては、本発明ホスホロアミダイト化合物における「ハロゲン」と同じものを挙げることができる。
本工程は、公知の方法（例えば、Ｔ．Ｂｅｎｎｅｃｈｅら、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  ７６２（１９８３））により実施することができる。使用する溶媒は、反応に関与しなければ特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素を挙げることができる。ハロゲン化試薬としては、例えば、塩化スルフリル、オキシ塩化リンを挙げることができる。「ハロゲン化試薬」の使用量は、化合物（２４）に対して、１〜２０倍モル量が適当であり、１〜１０倍モル量が好ましい。反応温度は、０℃〜１００℃が適当である。反応時間は、使用する原料の種類、反応温度等によって異なるが、通常３０分〜２４時間が適当である。
工程３：
化合物（２５）をアリールチオ化し、次の一般式（２５ａ）で表される化合物を製造する工程。
【化７】
0005157168.tif 000008
［式中、ＷＧ１、Ｘ２は、前記と同義である。Ｒ３ａは、アリールを表す。］
化合物（２５ａ）は、エーテル化合物（１３）におけるＬがアリールチオ基である化合物である。
Ｒ３ａに係る「アリール」としては、本発明ホスホロアミダイト化合物における「アリール」と同じものを挙げることができる。
本工程は、公知の方法により実施することができる。使用する溶媒は、反応に関与しなければ特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、アセトニトリルを挙げることができる。アリールチオ化試薬としては、例えば、チオフェノール、４−メチルベンゼンチオールを挙げることができる。「アリールチオ化試薬」の使用量は、化合物（２５）に対して、１〜２０倍モル量が適当であり、１〜５倍モル量が好ましい。反応温度は、０℃〜１００℃が適当である。反応時間は、使用する原料の種類、反応温度等によって異なるが、通常１〜４８時間が適当である。
工程４：
化合物（２４）を酸化し、次の一般式（２４ａ）で表される化合物を製造する工程。
【化８】
0005157168.tif 000009
［式中、ＷＧ１、Ｒ３は、前記と同義である。］
化合物（２４ａ）は、エーテル化合物（１３）におけるＬがアルキルスルホキシド基である化合物である。
Ｒ３に係る「アルキル」としては、本発明ホスホロアミダイト化合物における「アルキル」と同じものを挙げることができる。
本工程は、公知の方法により実施することができる。使用する溶媒は、反応に関与しなければ特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、メタノールを挙げることができる。酸化剤としては、例えば、メタクロロ過安息香酸、メタ過ヨウ素酸塩、過酸化水素を挙げることができる。「酸化剤」の使用量は、化合物（２４）に対して、１〜１０倍モル量が適当であり、１〜２倍モル量が好ましい。反応温度は、０℃〜１００℃が適当である。反応時間は、使用する原料の種類、反応温度等によって異なるが、通常１〜４８時間が適当である。
【００１２】
「アルキル化試薬」として、化合物（２５）を使用する場合、以下のように実施することができる。
本工程は、公知の方法に従い、市販品として入手可能又は文献記載の方法に従い合成可能である化合物（１４）にアルキル化試薬と塩基とを作用させることにより実施することができる。使用する溶媒は、反応に関与しなければ特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素を挙げることができる。「アルキル化試薬」の使用量は、化合物（１４）に対して、１〜２０倍モル量が適当であり、１〜１０倍モル量が好ましい。本工程において、必要に応じて、化合物（１４）に金属試薬と塩基を作用させ製造される中間体を経由した後、アルキル化試薬を作用させることもできる。かかる「金属試薬」として、例えば、二塩化ジブチルスズを挙げることができる。「金属試薬」の使用量は、化合物（１４）に対して、１〜２０倍モル量が適当であり、１〜１０倍モル量が好ましい。「塩基」としては、ピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなどの有機塩基を挙げることができる。「塩基」の使用量は、化合物（１４）に対して、１〜２０倍モル量が適当であり、１〜１０倍モル量が好ましい。反応温度は、０℃〜１２０℃が適当である。反応時間は、使用する原料の種類、反応温度等によって異なるが、通常３０分〜２４時間が適当である。
【００１３】
「アルキル化試薬」として、化合物（２４）又は（２５ａ）を使用する場合、以下のように実施することができる。
本工程は、公知の方法（例えば、Ｍ．Ｍａｔｔｅｕｃｃｉ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ．３１，２３８５（１９９０））に従い、市販品として入手可能又は文献記載の方法に従い合成可能である化合物（１４）に、アルキル化試薬と酸と硫黄原子に対するハロゲン化剤とを作用させることにより実施することができる。「アルキル化試薬」の使用量は、化合物（１４）に対して、１〜５倍モル量が適当であり、１．０５〜３倍モル量が好ましい。「酸」としては、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸銀、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネートを挙げることができる。「酸」の使用量は、化合物（１４）に対して、０．０１〜２０倍モル量が適当であり、０．０２〜１０倍モル量が好ましい。使用する溶媒は、反応に関与しなければ特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル又はこれらの混合溶媒を挙げることができる。本工程において使用する「硫黄原子に対するハロゲン化剤」として、例えば、Ｎ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）、Ｎ−ヨードスクシンイミド（ＮＩＳ）を挙げることができる。「硫黄原子に対するハロゲン化剤」の使用量は、化合物（１４）に対して、１〜１０倍モル量が適当であり、１．０５〜５倍モル量が好ましい。反応温度は、−７８℃〜３０℃が適当である。反応時間は、使用する原料の種類、反応温度等によって異なるが、通常５分〜５時間が適当である。
【００１４】
「アルキル化試薬」として、化合物（２４ａ）を使用する場合、以下のように実施することができる。
本工程は、公知の方法に従い、市販品として入手可能又は文献記載の方法に従い合成可能である化合物（１４）に、アルキル化試薬と酸無水物と塩基とを作用させることにより実施することができる。「アルキル化試薬」の使用量は、化合物（１４）に対して、１〜５倍モル量が適当であり、１．０５〜３倍モル量が好ましい。「酸無水物」としては、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、無水酢酸を挙げることができる。「酸無水物」の使用量は、化合物（１４）に対して、０．０１〜２０倍モル量が適当であり、０．０２〜１０倍モル量が好ましい。塩基としては、例えば、テトラメチルウレア、コリジンを挙げることができる。「塩基」の使用量は、化合物（１４）に対して、０．０１〜２０倍モル量が適当であり、０．０２〜１０倍モル量が好ましい。使用する溶媒は、反応に関与しなければ特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン又はこれらの混合溶媒を挙げることができる。反応温度は、−７８℃〜３０℃が適当である。反応時間は、使用する原料の種類、反応温度等によって異なるが、通常５分〜２４時間が適当である。
【００１５】
（２）工程ｂ：
工程ａにおいて製造されるヌクレオシド誘導体（１５）を単離精製する工程。
本工程は、工程ａにおいて製造される混合物から通常の分離精製手段、例えば、薄層クロマトグラフィー、シリガゲルクロマトグラフィーなどの手段を用いることにより単離精製することができる。
【００１６】
（３）工程ｃ：
工程ｂとは別に、次の一般式（１６）で表されるリボ核酸化合物にアルキル化試薬を作用させることによって、中性条件下において脱離するエーテル型保護基を２’位の水酸基に導入した、次の一般式（１７）で表されるリボ核酸化合物を製造する工程。
【化９】
0005157168.tif 000010
［式中、ＢＸ、ＷＧ１は、前記と同義である。
Ａは、次の一般式（１８ａ）又は（１８ｂ）で表されるケイ素置換基を表す。
【化１０】
0005157168.tif 000011
［式中、Ｒ６は、アルキルを表わす。］］
Ｒ６に係る「アルキル」としては、本発明ホスホロアミダイト化合物における「アルキル」と同じものを挙げることができる。
「アルキル化試薬」としては、前記と同じものを挙げることができる。【００１７】
「アルキル化試薬」として、化合物（２５）を使用する場合、以下のように実施することができる。
本工程は、公知の方法に従い、市販品として入手可能又は文献記載の方法に従い合成可能である化合物（１６）にアルキル化試薬と塩基とを作用させることにより実施することができる。使用する溶媒は、反応に関与しなければ特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン系炭化水素を挙げることができる。「アルキル化試薬」の使用量は、化合物（１４）に対して、１〜２０倍モル量が適当であり、１〜１０倍モル量が好ましい。本工程において、必要に応じて、化合物（１６）に金属試薬と塩基を作用させ製造される中間体を経由した後、アルキル化試薬を作用させることもできる。かかる「金属試薬」として、例えば、二塩化ジブチルスズ、ｔ−ブチルマグネシウムクロライドを挙げることができる。「金属試薬」の使用量は、化合物（１６）に対して、１〜２０倍モル量が適当であり、１〜１０倍モル量が好ましい。「塩基」としては、ピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなどの有機塩基を挙げることができる。「塩基」の使用量は、化合物（１６）に対して、１〜２０倍モル量が適当であり、１〜１０倍モル量が好ましい。反応温度は、０℃〜１２０℃が適当である。反応時間は、使用する原料の種類、反応温度等によって異なるが、通常３０分〜２４時間が適当である。
【００１８】
「アルキル化試薬」として、化合物（２４）又は（２５ａ）を使用する場合、以下のように実施することができる。
本工程は、公知の方法（例えば、Ｍ．Ｍａｔｔｅｕｃｃｉ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ．３１，２３８５（１９９０））に従い、市販品として入手可能又は文献記載の方法に従い合成可能である化合物（１６）に、アルキル化試薬と酸と硫黄原子に対するハロゲン化剤とを作用させることにより実施することができる。「アルキル化試薬」の使用量は、化合物（１６）に対して、１〜５倍モル量が適当であり、１．０５〜３倍モル量が好ましい。「酸」としては、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸銀、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネートを挙げることができる。「酸」の使用量は、化合物（１６）に対して、０．０１〜２０倍モル量が適当であり、０．０２〜１０倍モル量が好ましい。使用する溶媒は、反応に関与しなければ特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル又はこれらの混合溶媒を挙げることができる。本工程において使用する「硫黄原子に対するハロゲン化剤」として、例えば、Ｎ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）、Ｎ−ヨードスクシンイミド（ＮＩＳ）を挙げることができる。「硫黄原子に対するハロゲン化剤」の使用量は、化合物（１６）に対して、１〜１０倍モル量が適当であり、１．０５〜５倍モル量が好ましい。反応温度は、−７８℃〜３０℃が適当である。反応時間は、使用する原料の種類、反応温度等によって異なるが、通常５分〜５時間が適当である。
【００１９】
「アルキル化試薬」として、化合物（２４ａ）を使用する場合、以下のように実施することができる。
本工程は、公知の方法に従い、市販品として入手可能又は文献記載の方法に従い合成可能である化合物（１６）に、アルキル化試薬と酸無水物と塩基とを作用させることにより実施することができる。「アルキル化試薬」の使用量は、化合物（１６）に対して、１〜５倍モル量が適当であり、１．０５〜３倍モル量が好ましい。「酸無水物」としては、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸無水物、無水酢酸を挙げることができる。「酸無水物」の使用量は、化合物（１６）に対して、０．０１〜２０倍モル量が適当であり、０．０２〜１０倍モル量が好ましい。塩基としては、例えば、テトラメチルウレア、コリジンを挙げることができる。「塩基」の使用量は、化合物（１６）に対して、０．０１〜２０倍モル量が適当であり、０．０２〜１０倍モル量が好ましい。使用する溶媒は、反応に関与しなければ特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン又はこれらの混合溶媒を挙げることができる。反応温度は、−７８℃〜３０℃が適当である。反応時間は、使用する原料の種類、反応温度等によって異なるが、通常５分〜２４時間が適当である。
【００２０】
（４）工程ｄ：
工程ａ〜工程ｃとは別に、リボ核酸化合物（１６）にジメチルスルホキシドと酢酸と無水酢酸とを作用させることによって、次の一般式（１９）で表されるリボ核酸化合物を製造する工程。
【化１１】
0005157168.tif 000012
［式中、Ａ、ＢＸは、前記と同義である。］
本工程は、公知の方法に従い、市販品として入手可能又は文献記載の方法に従い合成可能であるリボ核酸化合物（１６）に、ジメチルスルホキシドと酢酸と無水酢酸とを作用させることにより実施することができる。
「ジメチルスルホキシド」の使用量は、化合物（１６）に対して、１０〜２００倍モル量が適当であり、２０〜１００倍モル量が好ましい。「酢酸」の使用量は、化合物（１６）に対して、１０〜１５０倍モル量が適当であり、２０〜１００倍モル量が好ましい。「無水酢酸」の使用量は、化合物（１６）に対して、１０〜１５０倍モル量が適当であり、２０〜１００倍モル量が好ましい。反応温度は、１０℃〜５０℃が適当である。反応時間は、使用する原料の種類、反応温度等によって異なるが、通常３０分〜２４時間が適当である。
【００２１】
（５）工程ｅ：
工程ｄにおいて製造されるヌクレオシド誘導体（１９）に次の一般式（２０）で表されるアルコール化合物と酸と硫黄原子に対するハロゲン化剤とを作用させることによって、中性条件下において脱離するエーテル型保護基を２’位の水酸基に導入した、次の一般式（１７）で表されるリボ核酸化合物を製造する工程。
【化１２】
0005157168.tif 000013
［式中、Ａ、ＢＸ、ＷＧ１は、前記と同義である。］
本工程は、公知の方法に従い、リボ核酸化合物（１９）に、アルコール化合物（２０）と酸と硫黄原子に対するハロゲン化剤とを作用させることにより実施することができる。
使用する溶媒は、反応に関与しなければ特に限定されないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、アセトニトリル又はこれらの混合溶媒を挙げることができる。「アルコール化合物（２０）」の使用量は、化合物（１９）に対して、１〜２０倍モル量が適当であり、１〜１０倍モル量が好ましい。「酸」としては、例えば、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸銀、トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホネートを挙げることができる。「硫黄原子に対するハロゲン化剤」としては、例えば、Ｎ−ブロモスクシンイミド（ＮＢＳ）、Ｎ−ヨードスクシンイミド（ＮＩＳ）を挙げることができる。「硫黄原子に対するハロゲン化剤」の使用量は、化合物（１９）に対して、０．１〜２０倍モル量が適当であり、０．２〜１０倍モル量が好ましい。反応温度は、−１００℃〜２０℃が適当である。反応時間は、使用する原料の種類、反応温度等によって異なるが、通常５分〜１２時間が適当である。
【００２２】
（６）工程ｆ：
工程ｃ又は工程ｅにおいて製造されるリボ核酸化合物（１７）の３’位と５’位の水酸基の保護基を脱離する反応を行うことによって、次の一般式（２１）で表されるリボ核酸化合物を製造する工程。
【化１３】
0005157168.tif 000014
［式中、Ａ、ＢＸ、ＷＧ１は、前記と同義である。］
本工程は、化合物（１７）を有機溶媒に溶解し、フッ素化剤と酸とを任意の混合比の混合試薬として反応させることにより実施することができる。本工程に使用しうる「フッ素化剤」としては、例えば、フッ化アンモニウム、テトラｎ−ブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）、トリエチルアミントリハイドロフルオリド、フッ化水素ピリジンを挙げることができる。「フッ素化剤」の使用量としては、化合物（１７）に対して、０．１〜２０倍モル量が適当であり、０．２〜１０倍モル量が好ましい。反応温度は、０℃〜１２０℃が適当である。反応時間は、使用する原料の種類、反応温度等によって異なるが、通常３０分〜２４時間が適当である
【００２３】
（７）工程ｇ：
工程ｆにおいて製造されるリボ核酸化合物（２１）の５’位の水酸基に酸性条件下において脱離する保護基（Ｒ１）を導入する、リボ核酸化合物（１５）を製造する工程。
【化１４】
0005157168.tif 000015
［式中、Ａ、ＢＸ、Ｒ１、ＷＧ１は、前記と同義である。Ｘ３は、ハロゲンを表す。］
Ｘ３に係る「ハロゲン」としては、本発明ホスホロアミダイト化合物における「ハロゲン」と同じものを挙げることができる。
本工程は、公知の方法に従い、化合物（２１）にＲ１Ｘ３を作用させることにより実施することができる。Ｒ１Ｘ３の使用量は、化合物（２１）に対して、１〜２０倍モル量が適当であり、１〜１０倍モル量が好ましい。使用する溶媒は、反応に関与しなければ特に限定されないが、例えば、アセトニトリル、テトラヒドロフランを挙げることができる。「塩基」としては、ピリジン、２，６−ジメチルピリジン、２，４，６−トリメチルピリジン、Ｎ−メチルイミダゾール、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンなどの有機塩基を挙げることができる。「塩基」の使用量は、化合物（２１）に対して、１〜２０倍モル量が適当であり、１〜１０倍モル量が好ましい。反応温度は、０℃〜１２０℃が適当である。反応時間は、使用する原料の種類、反応温度等によって異なるが、通常３０分〜２４時間が適当である。
【００２４】
（８）工程ｈ：
工程ｂ又は工程ｆにおいて製造されるヌクレオシド誘導体（１５）にホスホロアミダイト化試薬と、必要に応じて活性化剤とを作用させることによって、３’位の水酸基がホスホロアミダイト化された本発明ホスホロアミダイト化合物を製造する工程。
【化１５】
0005157168.tif 000016
［式中、ＢＸ、Ｒ１、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、ＷＧ１、ＷＧ２は、前記と同義である。］
本工程は、化合物（１５）にホスホロアミダイト試薬を作用させて、３’位の水酸基をホスホロアミダイト化する反応であり、公知の方法に従い実施することができる。必要に応じて、活性化剤を使用することもできる。使用する溶媒は、反応に関与しなければ特に限定されないが、例えば、アセトニトリル、テトラヒドロフランを挙げることができる。
「ホスホロアミダイト化試薬」の使用量は、化合物（１５）に対して、１〜２０倍モル量が適当であり、１〜１０倍モル量が好ましい。「活性化剤」としては、例えば、１Ｈ−テトラゾール、５−エチルチオテトラゾール、４，５−ジクロロイミダゾール、４，５−ジシアノイミダゾール、ベンゾトリアゾールトリフラート、イミダゾールトリフラート、ピリジニウムトリフラート、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、２，４，６−コリジン／Ｎ−メチルイミダゾールを挙げることができる。「活性化剤」の使用量は、化合物（１５）に対して、１〜２０倍モル量が適当であり、１〜１０倍モル量が好ましい。反応温度は、０℃〜１２０℃が適当である。反応時間は、使用する原料の種類、反応温度等によって異なるが、通常３０分〜２４時間が適当である。
このようにして、製造される本発明ホスホロアミダイト化合物は、それ自体公知の手段、例えば、濃縮、液性変換、転溶、溶媒抽出、結晶化、再結晶、分留、クロマトグラフィー等により分離精製することができる。
【００２５】
ＩＩＩ．オリゴＲＮＡの製法
本発明として、本発明ホスホロアミダイト化合物を用いることを特徴とする、次の一般式（３）で表されるオリゴＲＮＡの製法を挙げることができる。
以下に詳述する。
【化１７】
0005157168.tif 000017
［式中、各Ｂは独立して、アデニン、グアニン、シトシン、ウラシル、チミン又はそれらの修飾体を表す。各Ｒは、それぞれ独立して、Ｈ又は水酸基を表すが、少なくとも１つは水酸基を表す。Ｚは、Ｈ又はリン酸基を表す。ｎは、１〜１００の範囲内にある整数を表す。］
ｎは、１０〜５０の範囲内にある整数が好ましく、また、より好ましくは、１５〜３０の範囲内にある整数である。
Ｂの修飾体に係る置換基としては、例えば、ハロゲン、アシル、アルキル、アリールアルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、カルボキシ、シアノ、ニトロを挙げることができ、これらが１〜３個置換されている。
Ｂの修飾体に係る「ハロゲン」、「アシル」、「アルキル」、「アリールアルキル」、「アルコキシ」、「アルコキシアルキル」、「アミノ」、「モノアルキルアミノ」、「ジアルキルアミノ」としては、各々本発明ホスホロアミダイト化合物と同じものを挙げることができる。
本発明ホスホロアミダイト化合物を用いるオリゴＲＮＡ（３）の製法は、公知の方法に従い行うことができるが、例えば、次に示す工程Ａ〜工程Ｇの操作を実施することにより、段階的に３’から５’の方向へ核酸モノマー化合物を縮合することにより行うことができる。
下記工程に使用されている化合物及び試薬のうち、本発明ホスホロアミダイト化合物以外については、オリゴＲＮＡ又はオリゴＤＮＡの合成に一般的に使用されているものであれば特に限定されない。また、既存の核酸合成試薬を用いた場合と同様、すべての工程をマニュアル又は市販のＤＮＡ自動合成機を用いて製造することができる。自動合成機で行うことにより操作法の簡便化、また合成の正確性の点から自動合成機を用いる方法が望ましい。また、下記工程Ａ〜工程Ｇに記載されている化合物及び試薬のうち、核酸モノマー化合物以外については、オリゴＤＮＡ又はオリゴＲＮＡの合成に一般的に使用されているものであれば特に限定されない。
【００２６】
（１）工程Ａ：
次の一般式（４）で表される化合物に酸を作用させることによって、５’位の水酸基の保護基を脱離して、次の一般式（５）で表される化合物を製造する工程。
【化１８】
0005157168.tif 000018
［式中、ｎ、Ｒ１、ＷＧ２は前記と同義である。各Ｂｘは、それぞれ独立して、アデニン、グアニン、シトシン、ウラシル、チミン又はそれらの修飾体を表す。各Ｒ４は、それぞれ独立して、Ｈ、アシルオキシ又は次の一般式（６）で表される置換基を表す。
【化１９】
0005157168.tif 000019
［式中、ＷＧ１は、前記と同義である。］
Ｅは、アシル又は次の一般式（７）で表される置換基を表す。
【化２０】
0005157168.tif 000020
［式中、Ｑは、単結合又は次の一般式（８）で表される置換基を表す。
【化２１】
0005157168.tif 000021
［式中ＷＧ２は、前記と同義である。］］
Ｔは、Ｈ、アシルオキシ、上記一般式（６）又は（７）で表される置換基を表す。
但し、Ｅ又はＴのどちらか一方は、置換基（７）を表す。］
本工程は、固相担体に担持された次の一般式（２６ａ）、（２６ｂ）で表される化合物（ｎ＝１である化合物（４））、又は、工程Ａ〜工程Ｄの操作を行うことにより製造される固相担体に担持されたオリゴＲＮＡ若しくはオリゴＤＮＡ（ｎ＝２〜１００である化合物（４））（以下、「固相担体に担持された化合物」という。）に酸を作用させることにより実施することができる。
【化２２】
0005157168.tif 000022
［式中、ＢＸ、Ｒ１は、前記と同義である。Ｒ２Ｌ、Ｒ４Ｌは、置換基（７）を表す。Ｒ２は、アシルオキシを表す。Ｒ４は、Ｈ、アシルオキシ又は置換基（６）を表す。］
Ｒ２、Ｒ４の「アシルオキシ」に係る「アシル」としては、例えば、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ベンゾイル、４−メトキシベンゾイル、フェニルアセチル、フェノキシアセチル、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシアセチル、４−イソプロピルフェノキシアセチルを挙げることができる。
「固相担体」としては、例えば、定孔ガラス（ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  ｐｏｒｅ  ｇｌａｓｓ；ＣＰＧ）、オキサリル化−定孔ガラス（例えば、Ａｌｕｌら，Ｎｕｃｌｅｉｃ  Ａｃｉｄｓ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ，Ｖｏｌ．１９，１５２７（１９９１）を参照）、ＴｅｎｔａＧｅｌ支持体−アミノポリエチレングリコール誘導体化支持体（例えば、Ｗｒｉｇｈｔら，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，Ｖｏｌ．３４，３３７３（１９９３）を参照）、Ｐｏｒｏｓ−ポリスチレン／ジビニルベンゼンのコポリマーを挙げることができる。
「リンカー」としては、例えば、３−アミノプロピル、スクシニル、２，２’−ジエタノールスルホニル、ロングチェーンアルキルアミノ（ＬＣＡＡ）を挙げることができる。
化合物（２６ａ）、化合物（２６ｂ）は、公知の方法に従い製造される又は市販品として入手できる固相担体に担持された化合物であり、好ましい態様としては、例えば、次の一般式（２７）、（２８）で表される化合物を挙げることができる。
【化２３】
0005157168.tif 000023
［式中、ＢＸ、Ｒ１、Ｒ４、ＷＧ２は、前記と同義である。］
Ｒ４が置換基（６）である化合物（２７）、（２８）は、本発明ホスホロアミダイト化合物から公知の方法に従い製造することができる。
本工程に使用しうる「酸」としては、例えば、トリフルオロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸を挙げることができる。本工程に使用しうる酸は、１〜５％の濃度になるように適当な溶媒で希釈して使用することもできる。溶媒としては、反応に関与しなければ特に限定されないが、ジクロロメタン、アセトニトリル、水又はこれらの混合溶媒を挙げることができる。上記反応における反応温度は、２０℃〜５０℃が好ましい。反応時間は、使用する酸の種類、反応温度によって異なるが、通常１分〜１時間が適当である。使用する試薬の量は固相担体に担持されている化合物に対して１〜１００倍モル量がよく、より好ましくは１〜１０倍モル量である。
【００２７】
（２）工程Ｂ：
工程Ａにおいて製造される化合物（５）に、活性化剤を用いて核酸モノマー化合物を縮合させ、次の一般式（９）で表される化合物を製造する工程。
【化２４】
0005157168.tif 000024
［式中、ＢＸ、Ｅ、ｎ、Ｒ１、Ｒ４、Ｔ、ＷＧ２は、前記と同義である。］
本工程は、固相担体に担持された化合物に核酸モノマー化合物と活性化剤とを作用させることにより実施することができる。
「核酸モノマー化合物」としては、本発明ホスホロアミダイト化合物又は市販品として入手可能な次の一般式（２９）で表される化合物を挙げることができる。
【化２５】
0005157168.tif 000025
［式中、Ｒ１、Ｒ２ａ、Ｒ２ｂ、ＷＧ２は、前記と同義である。ＢＹは、保護基を有していてもよい核酸塩基を表す。］
ＢＹに係る「核酸塩基」としては、核酸の合成に使用されるものであれば特に制限されず、例えば、アデニン、グアニン、シトシン、チミン又はそれらの修飾体を挙げることができる。
当該「修飾体」は、前記ＢＸと同義である。
ＢＹの修飾体に係る置換基としては、例えば、ハロゲン、アルキル、アリールアルキル、アルコキシ、ヒドロキシ、アミノ、モノアルキルアミノ、ジアルキルアミノ、カルボキシ、シアノ、ニトロを挙げることができ、これらが１〜３個置換されている。
ＢＹの修飾体に係る「ハロゲン」、「アシル」、「アルキル」、「アリールアルキル」、「アルコキシ」、「アルコキシアルキル」、「アミノ」、「モノアルキルアミノ」、「ジアルキルアミノ」としては、各々本発明ホスホロアミダイト化合物と同じものを挙げることができる。
ＢＹに係る「核酸塩基」は、保護されていてもよく、なかでもアミノ基を有する核酸塩基、例えば、アデニン、グアニン、シトシンは、アミノ基が保護されているのが好ましい。かかるＢＹの「アミノ基の保護基」としては、前記ＢＸと同じものを挙げることができる。
「活性化剤」としては、前記と同じものを挙げることができる。
反応溶媒としては、反応に関与しなければ特に限定されないが、例えば、アセトニトリル、テトラヒドロフランを挙げることができる。上記反応における反応温度は、２０℃〜５０℃が好ましい。反応時間は、使用する活性化剤の種類、反応温度によって異なるが、通常１分〜１時間が適当である。使用する試薬の量は固相担体に担持されている化合物に対して１〜１００倍モル量がよく、より好ましくは１〜１０倍モル量である。
【００２８】
（３）工程Ｃ：
工程Ｂにおいて未反応である化合物（５）の５’位の水酸基をキャッピングする工程。
【化２６】
0005157168.tif 000026
［式中、ＢＸ、Ｅ、ｎ、Ｒ４、Ｔ、ＷＧ２は、前記と同義である。Ｒ５は、メチル、フェノキシメチルを表す。］
本工程は、工程Ｂにおいて未反応であった５’位の水酸基を保護する反応であり、固相担体に担持された化合物にキャップ化剤を作用することにより実施することができる。
「キャップ化剤」としては、例えば、無水酢酸又はフェノキシ酢酸無水物を挙げることができる。キャップ化剤は、０．０５〜１Ｍの濃度になるように適当な溶媒で希釈して使用することもできる。溶媒としては、反応に関与しなければ特に限定されないが、ピリジン、ジクロロメタン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン又はこれらの混合溶媒を挙げることができる。また、本工程において必要に応じて、「反応促進剤」として、例えば、４−ジメチルアミノピリジン、Ｎ−メチルイミダゾールを使用することができる。上記反応における反応温度は、２０℃〜５０℃が好ましい。反応時間は、使用するキャップ化剤の種類、反応温度によって異なるが、通常１分〜３０分が適当である。使用する試薬の量は固相担体に担持されている化合物に対して１〜１００倍モル量がよく、より好ましくは１〜１０倍モル量である。
【００２９】
（４）工程Ｄ：
工程Ｂにおいて製造される化合物（９）に酸化剤を作用させることによって亜リン酸基をリン酸基に変換する工程。
【化２７】
0005157168.tif 000027
［式中、ＢＸ、Ｅ、ｎ、Ｒ１、Ｒ４、Ｔ、ＷＧ２は、前記と同義である。］
本工程は、３価のリンから５価のリンに酸化剤を使用して変換する反応であり、固相担体に担持された化合物に酸化剤を作用させることにより実施することができる。
「酸化剤」としては、例えば、ヨウ素、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドを挙げることができる。また、本工程に使用する酸化剤は、０．０５〜２Ｍの濃度になるように適当な溶媒で希釈して使用することもできる。溶媒としては、反応に関与しなければ特に限定されないが、ピリジン、テトラヒドロフラン、水又はこれらの混合溶媒を挙げることができる。例えば、ヨウ素／水／ピリジン―テトラヒドロフランあるいはヨウ素／ピリジン―酢酸や過酸化剤（ｔ−ブチルハイドロパーオキシド／メチレンクロライドなど）を用いることができる。反応温度は、２０℃〜５０℃が好ましい。反応時間は、使用する酸化剤の種類、反応温度によって異なるが、通常１分〜３０分が適当である。使用する試薬の量は固相担体に担持されている化合物に対して１〜１００倍モル量がよく、より好ましくは１０〜５０倍モル量である。
【００３０】
（５）工程Ｅ：
工程Ｄにおいて製造される化合物（１１）を固相担体から切り出し、各核酸塩基部及び各２’位の水酸基の保護基を脱離する工程。
【化２８】
0005157168.tif 000028
［式中、Ｂ、ＢＸ、Ｅ、Ｒ、Ｒ１、Ｒ４、ｎ、Ｔ、ＷＧ２、Ｚは、前記と同義である。］
切り出し工程は、所望の鎖長のオリゴＲＮＡを切り出し剤によって、固相担体及びリンカーから外す反応であり、所望の鎖長のオリゴＲＮＡが担持された固体担体に切り出し剤を添加することにより実施することができる。本工程において、核酸塩基部の保護基を脱離することができる。
「切り出し剤」としては、例えば、濃アンモニア水、メチルアミンを挙げることができる。本工程に使用しうる「切り出し剤」は、例えば、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトニトリル、テトラヒドロフラン又はこれらの混合溶媒で希釈して使用することもできる。なかでも、エタノールが好ましい。
反応温度は、１５℃〜７５℃が適当であり、１５℃〜３０℃が好ましく、１８℃〜２５℃がより好ましい。脱保護反応時間は、１〜３０時間が適当であり、１〜２４時間が好ましく、１〜４時間がより好ましい。脱保護に使用される溶液中の水酸化アンモニウムの濃度は、２０〜３０重量％が適当であり、２５〜３０重量％が好ましく、２８〜３０重量％がより好ましい。使用する試薬の量は、固相担体に担持されている化合物に対して１〜１００倍モル量が適当であり、１０〜５０倍モル量が好ましい。
２’位の水酸基の保護基を脱離する工程は、「２’位の水酸基の保護基を脱離する試薬」として、例えば、テトラブチルアンモニウムフルオリド、三フッ化水素・トリエチルアミン塩を作用させることにより行うことができる。使用する溶媒としては、反応に関与しなければ特に限定されないが、例えば、テトラヒドロフラン、Ｎ−メチルピロリドン、ピリジン、ジメチルスルホキシド又はこれらの混合溶媒を挙げることができる。必要であれば、本工程における副生成物であるアクリロニトリルを補足する化合物として、例えば、アルキルアミン、アミジン、チオール、チオール誘導体又はこれらの混合物を添加することができる。「アルキルアミン」としては、例えば、直鎖状の炭素数１〜６のアルキルアミンを挙げることができる。具体的には、例えば、メチルアミン、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ｎ−ペンチルアミン、ｎ−ヘキシルアミンを挙げることができる。「アミジン」としては、例えば、ベンズアミジン、ホルムアミジンを挙げることができる。「チオール」としては、例えば、直鎖状の炭素数１〜６のチオールを挙げることができる。具体的には、例えば、メタンチオール、エタンチオール、１−プロパンチオール、１−ブタンチオール、１−ペンタンチオール、１−ヘキサンチオールを挙げることができる。「チオール誘導体」としては、例えば、同一又は異なる直鎖状の炭素数１〜６のアルキルチオール基を有するアルコール又はエーテルを挙げることができる。具体的には、例えば、２−メルカプトエタノール、４−メルカプト−１−ブタノール、６−メルカプト−１−ヘキサノール、メルカプトメチルエーテル、２−メルカプトエチルエーテル、３−メルカプトプロピルエーテル、４−メルカプトブチルエーテル、５−メルカプトペンチルエーテル、６−メルカプトヘキシルエーテルを挙げることができる。反応温度は、２０℃〜８０℃が好ましい。反応時間は、使用する脱保護剤の種類、反応温度によって異なるが、通常１時間〜１００時間が適当である。使用する試薬の量は除去される保護基に対して５０〜５００倍モル量がよく、より好ましくは５０〜１００倍モル量である。
上記反応混合物から通常の分離精製手段、例えば、抽出、濃縮、中和、濾過、遠心分離、再結晶、シリカゲルカラムクロマトグラフィー、薄層クロマトグラフィー、逆層ＯＤＳカラムクロマトグラフィー、イオン交換カラムクロマトグラフィー、ゲルろ過カラムクロマトグラフィー、透析、限界ろ過などの手段を用いることにより、５’位が保護されたオリゴＲＮＡを単離精製することができる。
【００３１】
（６）工程Ｆ：
工程Ｅにおいて製造される化合物（１２）の５’位の水酸基の保護基を脱離する工程。
【化２９】
0005157168.tif 000029
［式中、Ｂ、ｎ、Ｒ、Ｒ１、Ｚは、前記と同義である。］
本工程は、最終的にオリゴＲＮＡの５’位の水酸基の保護基を脱離する反応であり、固体担体から切り出されたオリゴＲＮＡに酸を作用させることにより実施することができる。
本工程において使用しうる「酸」としては、例えば、トリクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、酢酸等を挙げることができる。本工程に使用しうる酸は、適当な溶媒で希釈して使用することもできる。溶媒としては、反応に関与しなければ特に限定されないが、ジクロロメタン、アセトニトリル、水、ｐＨが２〜５の緩衝液又はこれらの混合溶媒を挙げることができる。緩衝液としては、例えば、酢酸緩衝液を挙げることができる。上記反応における反応温度は、２０℃〜５０℃が好ましい。反応時間は、使用する酸の種類、反応温度によって異なるが、通常１分〜１時間が適当である。使用する試薬の量は固相担体に担持されている化合物に対して１〜１００倍モル量がよく、より好ましくは１〜１０倍モル量である。
【００３２】
（７）工程Ｇ：
工程Ｆにおいて製造される化合物（３）を分離精製する工程。
「分離精製工程」とは、上記反応混合物から通常の分離精製手段、例えば、抽出、濃縮、中和、濾過、遠心分離、再結晶、Ｃ８からＣ１８の逆相カラムクロマトグラフィー、Ｃ８からＣ１８逆相カートリッジカラム、陽イオン交換カラムクロマトグラフィー、陰イオン交換カラムクロマトグラフィー、ゲルろ過カラムクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー、透析、限界ろ過などの手段を単独若しくは組み合わせて用いることにより、所望のオリゴＲＮＡを単離精製する工程である。
「溶出溶媒」としては、例えば、アセトニトリル、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、水の単独溶媒もしくは任意の比率の混合溶媒を挙げることができる。この場合添加物として、例えば、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、塩化ナトリウム、塩化カリウム、酢酸アンモニウム、酢酸トリエチルアンモニウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、トリス塩酸、エチレンジアミン四酢酸を１ｍＭ〜２Ｍの濃度で添加し、溶液のｐＨを１〜９の範囲で調整することもできる。
【００３３】
工程Ａ〜工程Ｄの操作を繰り返すことにより、所望の鎖長のオリゴＲＮＡ（３）を製造することができる。なお、本製法においてオリゴＲＮＡ（３）を製造するための出発原料として、Ｒ４が置換基（６）である化合物（２６ａ）、Ｒ４がＨ若しくはアシルオキシである化合物（２６ａ）、又はＲ２がアルキルオキシである化合物（２６ｂ）等を使用することができる。但し、出発原料として、Ｒ４がＨ若しくはアシルオキシである化合物（２６ａ）、又はＲ２がアルキルオキシである化合物（２６ｂ）を使用した場合、核酸モノマー化合物として、少なくとも１つは本発明ホスホロアミダイト化合物を使用する必要がある。
また、本製法において、工程Ｅの操作を行う前に工程Ｆの操作を行い、その後工程Ｅの操作を行い、次いで工程Ｇの操作を行うことによりオリゴＲＮＡを単離精製することもできる。
【実施例】
【００３４】
以下に実施例を揚げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらのみに限定されない。
【００３５】
実施例１  クロロメチル  ２−シアノエチルエーテル
工程１  メチルチオメチル  ２−シアノエチルエーテルの製造
３−ヒドロキシプロピオニトリル３２ｇ（４５０ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド４５０ｍｌに溶解し、無水酢酸３２４ｍＬ、酢酸２３１ｍＬを加え室温で２４時間攪拌した。炭酸水素ナトリウム９９０ｇを水４．５Ｌに溶解したものを調製し、これに反応液を一時間かけて滴下した。そのまま一時間攪拌し、反応液を酢酸エチルにて抽出し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥、溶媒留去し得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、無色油状物のメチルチオメチル  ２−シアノエチルエーテルを４１ｇ得た（収率７０％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：  ２．１８（ｓ，３Ｈ）；２．６６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）；３．７７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）；４．６９（ｓ，２Ｈ）
工程２  クロロメチル  ２−シアノエチルエーテルの製造
工程１で得られたメチルチオメチル  ２−シアノエチルエーテル３．３ｇ（２５ｍｍｏｌ）を７０ｍＬの塩化メチレンに溶解させ、氷冷下２ｍＬ（２５ｍｍｏｌ）の塩化スルフリルを滴下し、さらに室温にて一時間反応させた。反応後、溶媒を留去し真空中にて蒸留し、目的化合物を無色油状物として２．５ｇ得た（収率８５％）。
沸点：８４−８５℃（０．３Ｔｏｒｒ）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：  ２．７２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）；３．９２（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）；５．５２（ｓ，２Ｈ）
【００３６】
実施例２  ５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）ウリジン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
工程１  ５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）ウリジンの製造
５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）ウリジン５４６ｍｇ（１ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン４ｍＬに溶解し、ジイソプロピルエチルアミン４５２ｍｇ（３．５ｍｍｏｌ）を加え、ついで３６５ｍｇ（１．２ｍｍｏｌ）の二塩化ジブチルスズを加えた後、室温で一時間反応した。その後８０℃にしクロロメチル  ２−シアノエチルエーテル１５５．４ｍｇ（１．３ｍｍｏｌ）を滴下、そのまま３０分間攪拌した。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に反応液を加え塩化メチレンにて抽出を行い無水硫酸マグネシウムにて乾燥、溶媒留去し、得られた混合物を３０ｇのシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）ウリジンを得た（１９７ｍｇ；収率３４％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：  ２．４７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）；２．６９（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）；３．５５（ｄｄ，１Ｈ，１１．３，２．２Ｈｚ）；３．６２（ｄｄ，１Ｈ，１１．３，２．２Ｈｚ）；３．８３（ｓ，６Ｈ）；３．８７（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．３Ｈｚ）；４．０７−４．０８（ｍ，１Ｈ）；４．３２（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．３，１．９Ｈｚ）；４．５４（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）；４．９４，５．１１（２ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）；５．３２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）；６．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）；６．８５−６．８８（ｍ，４Ｈ）；７．２９−７．４１（ｍ，９Ｈ）；８．０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）；８．５３（ｂｒ．ｓ，１Ｈ）
ＥＳＩ−Ｍａｓｓ：６５２［Ｍ＋Ｎａ］＋
工程２  ５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）ウリジン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）の製造
工程１で得られた５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）ウリジン２０９ｍｇ（０．３３２ｍｍｏｌ）、テトラゾール２３ｍｇ（０．３３２ｍｍｏｌ）をアセトニトリル２ｍＬに溶解し１５０ｍｇの（０．４９８ｍｍｏｌ）の２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロジアミダイトを滴下し、４５℃で１．５時間反応させた。反応後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え酢酸エチルにて抽出し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥、溶媒留去し得られた混合物を２０ｇのシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的化合物を得た（２００ｍｇ；収率７３％）。
ＥＳＩ−Ｍａｓｓ：８５２［Ｍ＋Ｎａ］＋
【００３７】
実施例３  ２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）ウリジン
工程１  ３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）ウリジンの製造
３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）ウリジン１５０ｍｇ（０．３ｍｍｏｌ）をアルゴン雰囲気下テトラヒドロフラン７ｍＬに溶解し、メチルチオメチル  ２−シアノエチルエーテル５４ｍｇ（０．４ｍｍｏｌ）、モレキュラーシーブス４Ａ１００ｍｇを加え、１０分攪拌した。０℃にしトリフルオロメタンスルホン酸１０ｍｇ（０．０６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン２ｍＬ溶液を加え攪拌した後、Ｎ−ヨードスクシンイミド９２ｍｇ（０．４ｍｍｏｌ）を加え、１時間攪拌した。反応液をセライトろ過し、塩化メチレンにて洗浄した後、有機相を１Ｍのチオ硫酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥、溶媒留去した。得られた残渣を薄層クロマトグラフィーにて精製し、３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）ウリジンを得た（１５０ｍｇ；収率８５％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：  ０．９７−１．１２（ｍ，２８Ｈ）；２．６８−２．７３（ｍ，２Ｈ）；３．７８−３．８６（ｍ，１Ｈ）；３．９６−４．０５（ｍ，２Ｈ）；４．１２−４．３０（ｍ，４Ｈ）；５．０−５．０４（ｍ，２Ｈ）；５．７０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）；５．７５（ｓ，１Ｈ）；７．９０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）；９．６２（ｂｒ．ｓ，１Ｈ）
ＥＳＩ−Ｍａｓｓ：５７０［Ｍ＋Ｈ］＋
工程２  ２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）ウリジンの製造
工程１で得られた３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）ウリジン２００ｍｇ（０．３５ｍｍｏｌ）をメタノール２ｍＬに溶解し、フッ化アンモニウム６５ｍｇ（１．７６ｍｍｏｌ）を加え５０℃にて５時間加熱攪拌した。放冷後アセトニトリルを加え攪拌し、ろ過濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的化合物を得た（１０８ｍｇ；収率９４％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ３ＯＤ）：  ２．７２−２．７６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）；３．６８−３．９２（ｍ，４Ｈ）；４．００−４．０３（ｍ，１Ｈ）；４．２６−４．３２（ｍ，２Ｈ）；４．８１−４．９５（ｍ，２Ｈ）；５．７１（ｄ，１Ｈ，  Ｊ＝８．１Ｈｚ）；６．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝３．３Ｈｚ）；８．１０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）
ＥＳＩ−Ｍａｓｓ：３５０［Ｍ＋Ｎａ］＋
【００３８】
実施例４  ５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）ウリジンの製造
２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）ウリジン１４ｇ（４３ｍｍｏｌ）をピリジンで共沸し真空ポンプで３０分乾燥した。テトラヒドロフラン３００ｍＬに溶解し、アルゴン雰囲気下ピリジン６８ｇ（８５６ｍｍｏｌ）、モレキュラーシーブス４Ａ２０ｇを加え１０分攪拌した。これに４，４’−ジメトキシトリチルクロライド１９．６ｇ（５７．８ｍｍｏｌ）を３回に分けて１時間ごとに加え、さらに１時間攪拌した。メタノール１０ｍＬを加え２分攪拌した後、セライトろ過し酢酸エチルにて洗浄した。ろ液を濃縮後、残渣を酢酸エチルに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と分液した。有機相を飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、目的化合物を得た（２６．５ｇ；収率９８％）。
【００３９】
実施例５  Ｎ４−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）シチジン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
工程１  Ｎ４−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）シチジンの製造
Ｎ４−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）シチジン５８８ｍｇ（１ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン４ｍＬに溶解し、ジイソプロピルエチルアミン４５２ｍｇ（３．５ｍｍｏｌ）を加え、ついで３６５ｍｇ（１．２ｍｍｏｌ）の二塩化ジブチルスズを加えた後、室温で一時間反応した。その後８０℃にしクロロメチル  ２−シアノエチルエーテル１５５．４ｍｇ（１．３ｍｍｏｌ）を滴下、そのまま６０分間攪拌した。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に反応液を加え塩化メチレンにて抽出を行い無水硫酸マグネシウムにて乾燥、溶媒留去し、得られた混合物を３０ｇのシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、Ｎ４−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）シチジンを得た（２１９ｍｇ；収率３５％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：  ２．１９（ｓ，３Ｈ）；２．５６（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）；２．６５（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）；３．５５（ｄｄ，１Ｈ，１０．５，２．５Ｈｚ）；３．６３（ｄｄ，１Ｈ，１０．５，２．５Ｈｚ）；３．８２（ｓ，６Ｈ）；３．８６（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）；４．０９−４．１４（ｍ，１Ｈ）；４．２８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）；４．４４−４．４９（ｍ，１Ｈ）；４．９７，５．２４（２ｄ，２Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）；５．９６（ｓ，１Ｈ）；６．８６−６．８８（ｍ，４Ｈ）；７．０９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）；７．２６−７．４２（ｍ，９Ｈ）；８．４８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．９Ｈｚ）；８．５９（ｂｒ．ｓ，１Ｈ）
ＥＳＩ−Ｍａｓｓ：６９３［Ｍ＋Ｎａ］＋
工程２  Ｎ４−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）シチジン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）の製造
工程１で得られたＮ４−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）  シチジン２０５ｍｇ（０．３０６ｍｍｏｌ）を塩化メチレン２ｍＬに溶解し、ジイソプロピルエチルアミン１０５ｍｇ（０．８１２ｍｍｏｌ）を加え２−シアノエチルＮ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホロアミダイト１１６ｍｇ（０．４９ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１時間反応させた。反応後、溶媒を留去し得られた混合物を２０ｇのシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的化合物を得た（２４２ｍｇ；収率９１％）。
ＥＳＩ−Ｍａｓｓ：８７１［Ｍ＋Ｈ］＋
【００４０】
実施例６  Ｎ４−アセチル−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）シチジン
工程１  Ｎ４−アセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）シチジンの製造
Ｎ４−アセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）シチジン１．００ｇ（１．８９ｍｍｏｌ）とメチルチオメチル  ２−シアノエチルエーテル５００ｍｇ（３．７９ｍｍｏｌ）を混合し、トルエン１０ｍＬとテトラヒドロフラン１０ｍＬの混合溶媒に溶解した。ついでトリフルオロメタンスルホン酸銀９７５ｍｇ（３．７９ｍｍｏｌ）を加え、モレキュラーシーブス４Ａを加え、乾燥した。氷冷下、Ｎ−ブロモスクシンイミド３７０ｍｇ（２．０８ｍｍｏｌ）を加え、反応容器を遮光し、１０分間撹拌した。さらにＮ−ブロモスクシンイミド７０ｍｇ（０．３９ｍｍｏｌ）を追加し、２５分間撹拌した。反応終了後、塩化メチレンを加えて希釈し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄を行い、無水硫酸ナトリウムにて乾燥、溶媒留去し、得られた混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、Ｎ４−アセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）シチジンを得た。（９３６ｍｇ；収率８１％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：  ０．９０−１．１１（ｍ，２８Ｈ）；２．２８（ｓ，３Ｈ）；２．６２−２．７９（ｍ，２Ｈ）；３．７８−３．８９（ｍ，１Ｈ）；３．９６−４．０４（ｍ，２Ｈ）；４．１９−４．２３（ｍ，３Ｈ）；４．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３．６Ｈｚ）；５．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）；５．０９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）；５．７７（ｓ，１Ｈ）；７．４４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）；８．３０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）；１０．１３（ｓ，１Ｈ）
ＥＳＩ−Ｍａｓｓ：６１１［Ｍ＋Ｈ］＋
工程２  Ｎ４−アセチル−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）シチジンの製造
工程１で得られたＮ４−アセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）シチジン５００ｍｇ（０．８１９ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン２．５ｍＬとメタノール２．５ｍＬの混合溶媒に溶解し、フッ化アンモニウム１５０ｍｇ（４．１０ｍｍｏｌ）を加え、５０℃で４時間反応させた。反応終了後、アセトニトリルにて希釈、濾過し、溶媒を留去し得られた混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的化合物を得た（２１０ｍｇ；収率７０％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）：  ２．１３（ｓ，３Ｈ）；２．６６−２．７１（ｍ，２Ｈ）；３．７２−３．７８（ｍ，３Ｈ）；３．９０（ｄｄ，１Ｈ，１３．０，２．６Ｈｚ）；４．０６−４．１１（ｍ，１Ｈ）；４．２０（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．１，５．２Ｈｚ）；４．２９（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１，２．９Ｈｚ）；４．８３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）；４．９４（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）；５．９５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝２．９Ｈｚ）；７．２５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）；８．２５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）
ＥＳＩ−Ｍａｓｓ：３９１［Ｍ＋Ｎａ］＋
【００４１】
実施例７  Ｎ４−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）シチジンの製造
２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）シチジン９．９ｇ（２６．８ｍｍｏｌ）をピリジンで共沸し真空ポンプで３０分乾燥した。テトラヒドロフラン１９０ｍＬに溶解し、アルゴン雰囲気下ピリジン４３ｇ（５３８ｍｍｏｌ）、モレキュラーシーブス４Ａ２０ｇを加え１０分攪拌した。これに４，４’−ジメトキシトリチルクロライド１１．８ｇ（３４．９ｍｍｏｌ）を３回に分けて１時間ごとに加え、さらに１時間攪拌した。メタノール２ｍＬを加え２分攪拌した後、セライトろ過し酢酸エチルにて洗浄した。ろ液をエバポレーターで濃縮後残渣を酢酸エチルに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と分液した。有機相を飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、目的化合物を得た（１５ｇ；収率８３％）。
【００４２】
実施例８  Ｎ２−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
工程１  Ｎ２−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシンの製造
Ｎ２−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）グアノシン６２７ｍｇ（１ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン４ｍＬに溶解し、ジイソプロピルエチルアミン４５２ｍｇ（３．５ｍｍｏｌ）を加え、ついで３６５ｍｇ（１．２ｍｍｏｌ）の二塩化ジブチルスズを加えた後、室温で一時間反応した。その後８０℃にしクロロメチル  ２−シアノエチルエーテル１５５．４ｍｇ（１．３ｍｍｏｌ）を滴下、そのまま６０分間攪拌した。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に反応液を加え塩化メチレンにて抽出を行い無水硫酸マグネシウムにて乾燥、溶媒留去し、得られた混合物を３０ｇのシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、Ｎ２−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシンを得た（４５０ｍｇ；収率６３％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：  １．９２（ｓ，３Ｈ）；２．４７−２．５１（ｍ，２Ｈ）；２．６８（ｂｒ．ｓ，１Ｈ）；３．３０（ｄｄ，１Ｈ，１０．７，３．８Ｈｚ）；３．４７（ｄｄ，１Ｈ，１０．７，３．８Ｈｚ）；３．５５−３．６０（ｍ，１Ｈ）；３．６５−３．７０（ｍ，１Ｈ）；３．７４，３．７５（２ｓ，６Ｈ）；４．２２−４．２３（ｍ，１Ｈ）；４．５５−４．５８（ｍ，１Ｈ）；４．７８，４．８３（２ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）；５．０１（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）；５．９９（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）；６．７６−６．７９（ｍ，４Ｈ）；７．１７−７．４４（ｍ，９Ｈ）；７．８８（ｓ，１Ｈ）；８．３６（ｂｒ．ｓ，１Ｈ）；１２．０６（ｂｒ．ｓ，１Ｈ）
工程２  Ｎ２−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）の製造
工程１で得られたＮ２−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシン４００ｍｇ（０．５６３ｍｍｏｌ）を塩化メチレン２ｍＬに溶解し、ジイソプロピルエチルアミン１８１ｍｇ（１．４ｍｍｏｌ）を加え２−シアノエチルＮ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホロアミダイト１６１ｍｇ（０．６８ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１時間反応させた。反応後、溶媒を留去し得られた混合物を２０ｇのシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的化合物を得た（４７１ｍｇ；収率９２％）。
【００４３】
実施例９  Ｎ６−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）アデノシン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
工程１  Ｎ６−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）アデノシンの製造
Ｎ６−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）アデノシン２２．０ｇ（３６．０ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン１７０ｍＬに溶解し、ジイソプロピルエチルアミン１６．３ｇ（１２６ｍｍｏｌ）を加え、ついで１２．１ｇ（３９．７ｍｍｏｌ）の二塩化ジブチルスズを加えた後、室温で一時間反応した。その後８０℃にし１５分間撹拌後、クロロメチル  ２−シアノエチルエーテル４．３０ｇ（３６．０ｍｍｏｌ）を滴下、そのまま３０分間撹拌した。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に反応液を加え塩化メチレンにて抽出を行い無水硫酸マグネシウムにて乾燥、溶媒留去し、得られた混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、Ｎ６−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）アデノシンを得た。（７．４７ｇ；収率３３％）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：  ２．５１（ｔ，２Ｈ，Ｊ＝６．２Ｈｚ）；２．５８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）；２．６１（ｓ，３Ｈ）；３．４５（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．７，４．０Ｈｚ）；３．５４（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１０．７，３．２Ｈｚ）；３．６２−３．７９（ｍ，２Ｈ）；３．７９（ｓ，６Ｈ）；４．２５（ｂｒ．ｑ，１Ｈ，Ｊ〜４．６Ｈｚ）；４．５９（ｑ，１Ｈ，Ｊ＝５．２Ｈｚ）；４．８７−４．９４（ｍ，３Ｈ）；６．２３（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．４Ｈｚ）；６．８０−６．８３（ｍ，４Ｈ）；７．２２−７．３２（ｍ，７Ｈ）；７．４０−７．４３（ｍ，２Ｈ）；８．２０（ｓ，１Ｈ）；８．６１（ｂｒ．ｓ，１Ｈ）；８．６２（ｓ，１Ｈ）
ＥＳＩ−Ｍａｓｓ：６９５［Ｍ＋Ｈ］＋
工程２  Ｎ６−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）アデノシン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）の製造
工程１で得られたＮ６−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）アデノシン１０．０ｇ（１４．４ｍｍｏｌ）を塩化メチレン７５ｍＬに溶解し、ジイソプロピルエチルアミン４．７ｇ（３６ｍｍｏｌ）を加え２−シアノエチルＮ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホロアミダイト４．８２ｇ（２０．３ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１時間反応させた。反応後、溶媒を３０ｍＬ程度残して留去し得られた反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的化合物を得た（１２．０ｇ；収率９３％）。
ＥＳＩ−Ｍａｓｓ：８９５［Ｍ＋Ｈ］＋
【００４４】
実施例１０  Ｎ６−アセチル−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）アデノシン
工程１  Ｎ６−アセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）アデノシンの製造
Ｎ−ヨードスクシンイミド２４５ｍｇ（１．０９ｍｍｏｌ）とトリフルオロメタンスルホン酸銀２８０ｍｇ（１．０９ｍｍｏｌ）を塩化メチレン８ｍＬに懸濁させ、モレキュラーシーブス４Ａを加え、乾燥した。ここに、Ｎ６−アセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）アデノシン４００ｍｇ（０．７３ｍｍｏｌ）とメチルチオメチル  ２−シアノエチルエーテル１４５ｍｇ（１．１１ｍｍｏｌ）を塩化メチレン４ｍＬに溶解し、氷冷下で加えた。そのまま３時間撹拌した。反応終了後、塩化メチレンを加えて希釈し、チオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄を行い、無水硫酸マグネシウムにて乾燥、溶媒留去し、得られた混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、Ｎ６−アセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）アデノシンを得た。（２０１ｍｇ；収率４５％）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：  ０．９８−１．１１（ｍ，２８Ｈ）；２．６２（ｓ，３Ｈ）；２．６９（ｔｄ，２Ｈ，６．５，Ｊ＝１．５Ｈｚ）；３．８１−３．８９（ｍ，１Ｈ）；４．０２−４．０９（ｍ，２Ｈ）；４．１７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．４Ｈｚ）；４．２８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ）；４．５０（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝４．５Ｈｚ）；４．６７（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝８．８，４．５Ｈｚ）；５．０２（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）；５．０８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）；６．１０（ｓ，１Ｈ）；８．３４（ｓ，１Ｈ）；８．６６（ｓ，１Ｈ）；８．６７（ｓ，１Ｈ）
ＥＳＩ−Ｍａｓｓ：６３６［Ｍ＋Ｈ］＋
工程２  Ｎ６−アセチル−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）アデノシンの製造
工程１で得られたＮ６−アセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）アデノシン３００ｍｇ（０．４７ｍｍｏｌ）を、酢酸０．１ｍＬと０．５Ｍテトラブチルアンモニウムフルオリドのテトラヒドロフラン溶液２ｍＬの混合溶液に溶解し、室温で２時間撹拌した。反応終了後、得られた反応混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的化合物を得た。（１６０ｍｇ；収率８６％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：  ２．２５（ｓ，３Ｈ）；２．５３−２．６８（ｍ，２Ｈ）；３．４１−３．４６（ｍ，１Ｈ）；３．５６−３．６４（ｍ，２Ｈ）；３．６９−３．７３（ｍ，１Ｈ）；４．００−４．０１（ｍ，１Ｈ）；４．３６−４．３７（ｍ，１Ｈ）；４．７２−４．７８（ｍ，３Ｈ）；５．２０（ｂｔ，２Ｈ）；５．４１（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．２Ｈｚ）；６．１７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈｚ）；８．６６（ｓ，１Ｈ）；８．７２（ｓ，１Ｈ）；１０．７２（ｓ，１Ｈ）
ＥＳＩ−Ｍａｓｓ：４１５［Ｍ＋Ｎａ］＋
【００４５】
実施例１１  Ｎ６−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）アデノシンの製造
Ｎ６−アセチル−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）アデノシン９．５０ｇ（２４．２ｍｍｏｌ）を脱水ピリジン１００ｍＬに溶解し、濃縮して乾燥した後、アルゴン雰囲気下、脱水ピリジン１００ｍＬに溶解した。氷冷下、４，４’−ジメトキシトリチルクロリド１０．７ｇ（３１．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間２０分反応した。反応終了後、塩化メチレンにて希釈し、水にて洗浄を行い無水硫酸ナトリウムにて乾燥、溶媒留去し、得られた混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的化合物を得た。（１３．８ｇ；収率８２％）
【００４６】
実施例１２  Ｎ２−フェノキシアセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）
工程１  Ｎ２−フェノキシアセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシンの製造
Ｎ２−フェノキシアセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）グアノシン７２０ｍｇ（１ｍｍｏｌ）を１，２−ジクロロエタン４ｍＬに溶解し、ジイソプロピルエチルアミン４５２ｍｇ（３．５ｍｍｏｌ）を加え、ついで３６５ｍｇ（１．２ｍｍｏｌ）の二塩化ジブチルスズを加えた後、室温で一時間反応した。その後８０℃にしクロロメチル  ２−シアノエチルエーテル１５５．４ｍｇ（１．３ｍｍｏｌ）を滴下、そのまま６０分間攪拌した。反応終了後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に反応液を加え塩化メチレンにて抽出を行い無水硫酸マグネシウムにて乾燥、溶媒留去し、得られた混合物を３０ｇのシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、Ｎ２−フェノキシアセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシンを得た（３８４ｍｇ；収率４８％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：  ２．４７−２．５１（ｍ，２Ｈ）；２．５８（ｂｒ．ｓ，１Ｈ）；３．４２（ｄｄ，１Ｈ，１０．１，３．８Ｈｚ）；３．４６（ｄｄ，１Ｈ，１０．１，３．８Ｈｚ）；３．５３−３．５７（ｍ，１Ｈ）；３．６９−３．７３（ｍ，１Ｈ）；３．７７（ｓ，６Ｈ）；４．２４−４．２６（ｍ，１Ｈ）；４．４８−４．５０（ｍ，１Ｈ）；４．６１−４．６５（ｍ，２Ｈ）；４．８３，４．８７（２ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）；４．８８（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈｚ）；６．０５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝５．７Ｈｚ）；６．８０−６．８２（ｍ，４Ｈ）；６．９２−６．９６（ｍ，３Ｈ）；７．０７−７．１１（ｍ，２Ｈ）；７．２０−７．４２（ｍ，９Ｈ）；７．８４（ｓ，１Ｈ）；８．９９（ｓ，１Ｈ）；１１．８１（ｂｒ．ｓ，１Ｈ）
ＥＳＩ−Ｍａｓｓ：８２５［Ｍ＋Ｎａ］＋
工程２  Ｎ２−フェノキシアセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイトの製造
工程１で得られたＮ２−フェノキシアセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシン３２０ｍｇ（０．３９９ｍｍｏｌ）を塩化メチレン４ｍＬに溶解し、ジイソプロピルエチルアミン１２８．８ｍｇ（０．９９６ｍｍｏｌ）を加え２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルクロロホスホロアミダイト１４１．５ｍｇ（０．５９８ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で１時間反応させた。反応後、溶媒を留去し得られた混合物を３０ｇのシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的化合物を得た（３１６ｍｇ；収率７９％）。
ＥＳＩ−Ｍａｓｓ：１００３［Ｍ＋Ｈ］＋
【００４７】
実施例１３  Ｎ２−フェノキシアセチル−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシン
工程１  Ｎ２−フェノキシアセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシンの製造
Ｎ２−フェノキシアセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）グアノシン２．０ｇ（３．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン１６ｍＬに溶解し、メチルチオメチル  ２−シアノエチルエーテル０．９９ｇ（７．６ｍｍｏｌ）、モレキュラーシーブス４Ａ１．０ｇを加え、アルゴン雰囲気下−４５℃で１０分攪拌した。トリフルオロメタンスルホン酸０．６８ｇ（４．５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン５ｍＬ溶液を加え攪拌した後、Ｎ−ヨードスクシンイミド１．０２ｇ（４．５ｍｍｏｌ）を加え、１５分攪拌した。反応液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、ろ過後酢酸エチルにて抽出、有機相を１Ｍのチオ硫酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄、水、次いで飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄し、無水硫酸マグネシウムにて乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、Ｎ２−フェノキシアセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシンを得た（２．０ｇ；収率８９％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：  ０．９９−１．１１（ｍ，２８Ｈ）；２．５９−２．７７（ｍ，２Ｈ）；３．８２−４．０５（ｍ，３Ｈ）；４．１５（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．３Ｈｚ）；４．２５−４．３５（ｍ，２Ｈ）；４．５２−４．５６（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．３，４．３Ｈｚ）；５．００，５．０７（２ｄ，２Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）；５．９５（ｓ，１Ｈ）６．９９−７．１２（ｍ，３Ｈ）；７．３５−７．４０（ｍ，２Ｈ）；８．０９（ｓ，１Ｈ）；９．３８（ｂｒ．ｓ，１Ｈ）；１１．８５（ｂｒ．ｓ，１Ｈ）
ＥＳＩ−Ｍａｓｓ：７６６［Ｍ＋Ｎａ］＋
工程２  Ｎ２−フェノキシアセチル−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシンの製造
１Ｍテトラブチルアンモニウムフルオリド／テトラヒドロフラン溶液２．８３ｍＬ（２．８３ｍｍｏｌ）に酢酸０．１４ｍＬ（０．１４ｍｍｏｌ）を加えた溶液を調整する。工程１で得られたＮ２−フェノキシアセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシン１．０ｇ（１．３５ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン２．８３ｍＬに溶解し、上で調整した溶液を加えアルゴン雰囲気下室温で１時間攪拌した。反応液を減圧下濃縮後、塩化メチレンに溶解しシリカゲルクロマトグラフィーにのせ精製し、目的化合物を得た。（０．６７ｇ；収率９９％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）：  ２．５９−２．６６（ｍ，２Ｈ）；３．４１−３．６３（ｍ，４Ｈ）；３．９８（ｍ，１Ｈ）；４．３２（ｍ，１Ｈ）；４．５８−４．６２（ｔ，１Ｈ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）；４．７１−４．７８（ｄｄ，２Ｈ，Ｊ＝１３．１，６．８Ｈｚ）；４．８７（ｓ，２Ｈ）；５．１２（ｓ，１Ｈ）５．３７（ｓ，１Ｈ）；５．９７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝６．１Ｈｚ）６．９６−６．９９（ｍ，３Ｈ）；７．２８−７．３４（ｍ，２Ｈ）；８．３０（ｓ，１Ｈ）；１１．７８（ｂｒ．ｓ，２Ｈ）
ＥＳＩ−Ｍａｓｓ：５００［Ｍ−Ｈ］−
【００４８】
実施例１４  Ｎ２−フェノキシアセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシンの製造
Ｎ２−フェノキシアセチル−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシン６６０ｍｇ（１．３２ｍｍｏｌ）をピリジンで共沸し真空ポンプで３０分乾燥した。テトラヒドロフラン９ｍＬに溶解し、アルゴン雰囲気下ピリジン２．１ｇ（２６．４ｍｍｏｌ）、モレキュラーシーブス４Ａ６００ｍｇを加え１０分攪拌した。これに４，４’−ジメトキシトリチルクロライド５４０ｍｇ（１．５８ｍｍｏｌ）を３回に分けて１時間ごとに加え、さらに１時間攪拌した。メタノール２ｍＬを加え２分攪拌した後、セライトろ過し酢酸エチルにて洗浄した。ろ液をエバポレーターで濃縮後残渣を酢酸エチルに溶解し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と分液した。有機相を飽和塩化ナトリウム水溶液にて洗浄、無水硫酸マグネシウムにて乾燥後溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーにて精製し、目的化合物を得た（８００ｍｇ；収率７５％）。
【００４９】
実施例１５  Ｎ６−アセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）アデノシン
工程１  Ｎ６−アセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−メチルチオメチルアデノシンの製造
Ｎ６−アセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）アデノシン２．００ｇ（３．６２ｍｍｏｌ）をジメチルスルホキシド２５ｍＬに溶解し、無水酢酸１７．５ｍＬ、酢酸１２．５ｍＬを加え室温で１４時間撹拌した。反応終了後、水２００ｍＬに反応液を加え、酢酸エチルにて抽出を行い、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄を行い、無水硫酸ナトリウムにて乾燥、溶媒留去し、得られた混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、Ｎ６−アセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−メチルチオメチルアデノシンを得た。（１．３６ｇ；収率６１％）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：  ０．９６−１．１１（ｍ，２８Ｈ）；２．２０（ｓ，３Ｈ）；２．６１（ｓ，３Ｈ）；４．０３（ｄｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３．４，２．４Ｈｚ）；４．１８（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）；４．２７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１３．４Ｈｚ）；４．６３−４．７１（ｍ，２Ｈ）；５．００（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ）；５．０７（ｄ，１Ｈ，Ｊ＝１１．５Ｈｚ）；６．０９（ｓ，１Ｈ）；８．３１（ｓ，１Ｈ）；８．６５（ｓ，１Ｈ）；８．６９（ｓ，１Ｈ）
ＥＳＩ−Ｍａｓｓ：６３５［Ｍ＋Ｎａ］＋
工程２  Ｎ６−アセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）アデノシンの製造
工程１で得られたＮ６−アセチル−３’，５’−Ｏ−（テトライソプロピルジシロキサン−１，３−ジイル）−２’−Ｏ−メチルチオメチルアデノシン１．００ｇ（１．６３ｍｍｏｌ）を、テトラヒドロフラン２５ｍＬに溶解した。３−ヒドロキシプロピオニトリル５．８８ｇ（８２．７ｍｍｏｌ）を加え、モレキュラーシーブス４Ａを加えて乾燥し、−４５℃に冷却した。Ｎ−ヨードスクシンイミド４４０ｍｇ（１．９６ｍｍｏｌ）を加え、ついでトリフルオロメタンスルホン酸４９０ｍｇ（３．２６ｍｍｏｌ）を加えた後、−４５℃で１５分間撹拌した。反応終了後、冷却したままトリエチルアミンを加えて中和し、塩化メチレンにて希釈、チオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和炭酸水素ナトリウム水溶液にて洗浄を行い、無水硫酸ナトリウムにて乾燥、溶媒留去し、得られた混合物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、目的化合物を得た。（７２２ｍｇ；収率７１％）。
【００５０】
実施例１６  ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジン
市販の２’／３’−Ｏ−ベンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）ウリジンを担持したＣＰＧ固相担体（３７ｍｇ，１μｍｏｌ）をグラスフィルター付きカラムに入れ、核酸自動合成機（ＥｘｐｅｄｉｔｅＴＭ：アプライドバイオシステムズ社）を使用して、標記化合物のオリゴＲＮＡの合成を行った。
核酸モノマー化合物として、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）ウリジン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）を、縮合触媒としてテトラゾールを、酸化剤としてヨウ素溶液を、キャッピング溶液として無水酢酸とＮ−メチルイミダゾール溶液を使用した。核酸モノマー化合物を２０回縮合させた後、切り出し剤として１０Ｍのメチルアミンのエタノール水溶液を用いて、室温中１〜２時間かけてＣＰＧ固相担体からの切り出し及び各リン酸部位の保護基の脱離反応を行った。反応混合物を減圧下、濃縮後、逆相カラム（ＯＤＳ）にて不要ピークを除去後、溶出溶媒（アセトニトリル−５０ｍＭ  トリエチルアミン−酢酸緩衝液）を用いて精製した。残渣を減圧下濃縮後、１ＭのテトラブチルアンモニウムフルオリドのＴＨＦ溶液を用いて室温１時間反応し、２’位の水酸基の保護基を脱離した。溶液を脱塩処理後、８０％酢酸にて５’末端の保護基を除去した（室温下１０分）。減圧下濃縮後、水層をエーテル洗浄し、精製をすることなく、高純度の目的化合物を得た。
ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳ：計算値  ６３６７．５２  ［Ｍ＋Ｈ］＋
実測値  ６３６６．５０  ［Ｍ＋Ｈ］＋
高純度であることは、図１の逆相ＨＰＬＣ分析の結果から明らかである。測定条件は下記のとおりである。
測定条件：
ＨＰＬＣ  装置  
送液ユニット：ＬＣ−６Ａ（島津製作所社製）
検出器：ＳＰＤ−６Ａ（島津製作所社製）
逆相ＨＰＬＣカラム
Ｍｉｇｈｔｙｓｉｌ  ＲＰ−１８ＧＰ＜４．６ｍｍφｘ１５ｃｍ＞（関東化学社製）
カラム温度  ：３５℃
移動相
グラジエント：リニアグラジエント２０分（Ｂ液：０％−７０％）
Ａ液：５％アセトニトリルを含む５０ｍＭトリエチルアミン−酢酸緩衝液
Ｂ液：９０％アセトニトリルを含む５０ｍＭトリエチルアミン−酢酸緩衝液
移動相の流量  ：１ｍｌ／分
紫外線可視分光器検出波長：２６０ｎｍ
【００５１】
実施例１７  シチジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−ウリジン
市販の２’／３’−Ｏ−ベンゾイル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）ウリジンを担持したＣＰＧ固相担体（３７ｍｇ，１μｍｏｌ）をグラスフィルター付きカラムに入れ、核酸自動合成機（ＥｘｐｅｄｉｔｅＴＭ：アプライドバイオシステムズ社）を使用して、標記化合物のオリゴＲＮＡの合成を行った。
核酸モノマー化合物として、５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）ウリジン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）、Ｎ４−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）シチジン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）、Ｎ６−アセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）アデノシン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）、Ｎ２−フェノキシアセチル−５’−Ｏ−（４，４’−ジメトキシトリチル）−２’−Ｏ−（２−シアノエトキシメチル）グアノシン  ３’−Ｏ−（２−シアノエチル  Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）を、縮合触媒として５−エチルチオテトラゾールを、酸化剤としてヨウ素溶液を、キャッピング溶液としてフェノキシ酢酸無水物とＮ−メチルイミダゾール溶液を使用した。核酸モノマー化合物を１９回縮合させた後、固相上で、５’末端の水酸基の保護基の除去を行った後、切り出し剤として、濃アンモニア水−エタノール混合液（３：１）を用いて、４０℃、４時間かけてＣＰＧ固相担体からの切り出し及び各リン酸部位の保護基の脱離反応及び塩基の保護基の除去を行った。反応混合物を減圧下、濃縮後、１０％のｎ−プロピルアミン、０．６％の２−メルカプトエチルエーテルを含む１ＭのテトラブチルアンモニウムフルオリドのＴＨＦ溶液を用いて室温１時間反応し、２’位の水酸基の保護基を脱離した。溶液を脱塩処理後、ＤＥＡＥ−イオン交換樹脂（ＴＯＹＯＰＥＡＲＬ  ＤＥＡＥ−６５０）にて精製し、高純度の目的化合物を得た（１１２ＯＤ２６０；収率５８％）。
ここで、目的化合物の収量として、波長２６０ｎｍの紫外線の吸光度（ＯＤ２６０）を用いた。以下、同様に吸光度（ＯＤ２６０）を目的化合物の収量とした。
ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳ：計算値  ６３０５．９  ［Ｍ＋Ｈ］＋
実測値  ６３０４．８  ［Ｍ＋Ｈ］＋
【００５２】
実施例１８  アデニリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−ウリジン
実施例１７と同様にして目的化合物を得た（９２ＯＤ２６０；収率３１％）。
ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳ：計算値  ９５１９．８  ［Ｍ＋Ｈ］＋
実測値  ９５２０．４  ［Ｍ＋Ｈ］＋
【００５３】
実施例１９  ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジン
実施例１７と同様にして目的化合物を得た（２５４ＯＤ２６０；収率６５％）。
ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳ：計算値  １２１８５．８  ［Ｍ＋Ｈ］＋
実測値  １２１８３．３  ［Ｍ＋Ｈ］＋
【００５４】
実施例２０  アデニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−チミジン
実施例１７と同様にして目的化合物を得た（７５ＯＤ２６０；収率１９％）。
ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳ：計算値  １２７３１．８  ［Ｍ＋Ｈ］＋
実測値  １２７３１．７  ［Ｍ＋Ｈ］＋
【００５５】
実施例２１  ウリジリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−グアニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−シチジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−ウリジリル−〔３’→５’〕−アデニリル−〔３’→５’〕−チミジン
実施例１７と同様にして目的化合物を得た（８３ＯＤ２６０；収率１５％）。
ＭＡＬＤＩ−ＴＯＦ−ＭＳ：計算値  １７４７６．６  ［Ｍ＋Ｈ］＋
実測値  １７４７４．６  ［Ｍ＋Ｈ］＋
【産業上の利用可能性】
【００５６】
本発明ホスホロアミダイト化合物は、２’位の水酸基に導入されたエーテル型保護基が直線状の置換基であり、３’位の水酸基に結合するリン原子の周りにおける立体が混み合っていないため、従来から使用されているホスホロアミダイト化合物と比較して、オリゴＲＮＡを合成する際、非常に短時間に縮合反応が進行し、縮合収率がよい。
したがって、本発明ホスホロアミダイト化合物を使用することにより、オリゴＤＮＡの製造とほぼ同様の手法を用いて、高純度のオリゴＲＮＡの製造が可能となった。
【図１】
0005157168.tif 000068