(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
多結晶の供給棒（３）から単結晶の棒（２）を製造するための装置（１）であって、この装置（１）は、前記供給棒（３）が配置された密閉チャンバ（４）を備えており、このチャンバ（４）は、前記供給棒（３）の周りに配設された、単結晶を提供するために前記棒の一端（２３）を溶融するための環状のエネルギ供給源（５）を備えており、前記装置は、前記供給棒（３）をその軸方向に移動させるための第一移動手段（６）と、前記供給棒（３）と前記環状のエネルギ供給源（５）との間を相対的に回転移動させるための第二移動手段（７）とを備えた装置において、
この装置（１）が、前記供給棒（３）の表面（９）と前記エネルギ供給源（５）における環状の半径方向内側の基準面との間の距離を記録するための監視システム（８）と、前記距離を調整するための第三移動手段（１０）と、前記監視システム（８）の記録に応じて前記第三移動手段（１０）を制御および調整するための調整システム（１１）とを備えることを特徴とする装置。
【請求項２】
前記調整システム（１１）が、前記供給棒（３）の調整を、この棒の位置の理想値に対して計算するためのマイクロプロセッサを備えることを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第三移動手段（１０）が、並進方向、好ましくは水平方向の移動を提供することを特徴とする請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
前記第三移動手段（１０）が、前記供給棒のＸ方向およびＹ方向の移動のためのアクチュエータ（１２）を備え、これら方向が水平かつ相互に垂直であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の装置。
【請求項５】
前記第一および第二移動手段（６、７）がアクチュエータ（１２）を備えることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の装置。
【請求項６】
前記環状のエネルギ供給源が誘導コイル（１３）を備えることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の装置。
【請求項７】
結晶棒を軸方向に変位させるための移動手段（２４）をさらに備えることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の装置。
【請求項８】
前記監視システム（８）が、前記チャンバの外側に配置された少なくとも一つのカメラ（１４）を備えることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の装置。
【請求項９】
多結晶の供給棒（３）から単結晶の棒（２）を製造する方法であって、前記供給棒（３）はこの棒（３）の端に溶融ゾーン（１６）を含み、この溶融ゾーン（１６）は前記供給棒（３）の周りに配設された環状のエネルギ供給源（５）によってもたらされ、前記溶融ゾーン（１６）の下の領域に単結晶が提供され、第一手段（６）によって前記供給棒（３）は軸方向に移動し、第二手段（７）によって前記供給棒（３）の表面とエネルギ供給源（５）との間に相対的な回転移動がもたらされる方法において、
前記エネルギ供給源（５）における環状の半径方向内側の基準面（１７）と前記供給棒の表面（９）との間の距離が監視システム（８）によって記録され、かつ所定のある時点で、前記表面と前記基準面との間で測定された距離が前記棒の外周全体にわたって同一となるように、第三移動手段（１０）によって調整されることを特徴とする方法。
【請求項１０】
前記溶融ゾーン（１６）に誘導コイル（１３）を設けることを特徴とする、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記基準面が、前記誘導コイル（１３）に関連付けられた熱反射体（１７）または誘導コイル自体によって提供されることを特徴とする請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記単結晶の棒（２）が、フローティングゾーン法による溶融から成長することを特徴とする請求項９〜１１のいずれかに記載の方法。
【請求項１３】
前記供給棒（３）が基本的にシリコンを含むことを特徴とする請求項９〜１２のいずれかに記載の方法。
【請求項１４】
請求項９〜１３のいずれかに記載の方法を実行するための請求項１〜８のいずれかに記載の装置の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多結晶の供給棒から単結晶の棒を製造するための装置であって、供給棒が配置されており、単結晶を提供するためにこの棒の一端を溶融させるために供給棒の周りに配設された環状のエネルギ供給源を含む密閉チャンバと、供給棒の軸方向の移動のための第一移動手段と、供給棒と環状エネルギ供給源との間の相対的な回転移動のための第二移動手段とを備えた装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
本発明はまた、多結晶の供給棒から単結晶の棒を製造する方法であって、前記供給棒が棒の端に溶融ゾーンを含み、この溶融ゾーンは、供給棒の周りに配設された環状のエネルギ供給源によってもたらされ、溶融ゾーンの下の領域に単結晶が提供され、第一手段によって供給棒が軸方向に移動され、第二手段によって供給棒の表面とエネルギ供給源との間の相対的な回転移動がもたらされる方法に関する。
【０００３】
単結晶の製造に関連して、いわゆるフロートゾーン技術を使用することが知られている。この技術は、特にシリコン単結晶の製造に使用される。
【０００４】
シリコン単結晶の成長にフロートゾーン、別名フローティングゾーン、別名フロートゾーン技術（ＦＺ）を適用することは、ＫｅｃｋおよびＧｏｌａｙによって初めて報告された。ＦＺ結晶は、結晶の成長に使用されるシリコン融液がるつぼによって収容されないので、チョコラルスキー（Ｃｚｏｃｈｒａｌｓｋｙ）ゾーン技術（Ｃｚ）のインゴットより純粋である。大径のシリコンインゴットは、ＦＺの方がＣｚ技術の場合より成長しにくい。しかし、ＦＺ技術はこれまでずっとＣｚと歩調を合わせて進歩することができ、研究開発では１５０から２００ｍｍの間の直径を持つ結晶が生産中に成長している。
【０００５】
最初に、ポリシリコン棒の底端が予熱される。棒のこの端はＶ字形に研磨され、水冷式単巻銅コイルの中心に配置される。次いで、導電性サセプタ、例えばグラファイトが、ポリシリコン棒の下に最小限の間隙をおいて配置される。銅コイルに高周波電流が印加されると、サセプタに渦電流が誘導され、サセプタの温度が上昇する。次いで熱は輻射によってポリシリコン棒に移動する。ポリシリコンのサセプタに近接する部分が成長し始めると、シリコンのこの部分に高周波エネルギによって渦電流を誘導することができる。グラファイトサセプタはもはや必要ではなく、高周波コイルから除去される。熱は、ポリシリコン棒の円錐状部分が溶融するまで、連続的に加えられる。その後、溶融シリコンに下からシードが浸漬される。
【０００６】
ひとたびシードが溶融シリコンによって湿潤すると、シードを下降させることによって、結晶の成長を開始させることができる。ポリシリコン棒もまた、ただしずっと遅い速度で、下降させる必要がある。Ｃｚ技術の場合と同様に、シードプロセス中に高速の引上げ速度を使用することによって、無転移成長を開始しなければならない。ひとたび無転移構造が観察されると（強いサイドファセットの外観のため）、シードとポリロッドとの間の引上げ速度の比は、徐々に低下するので、結晶の直径は徐々に増大する。成長プロセス中にドーパントガスを導入することもできる。
【０００７】
フロートゾーン成長の成功のための重要な要素は、溶融ゾーンの安定性を維持することである。ゾーンの内向きの圧力が外向きの圧力より高いときに、ゾーンは安定である。内向きの圧力は表面張力、固体と液体との間の凝集力、および高周波電磁界による電磁的圧力を含む。後者の二つの項は、表面張力に比較して比較的小さい。外向きの圧力は主に、溶融ゾーンの重力から結果的に生じる静水圧を含む。静水圧は、ゾーンの高さに正比例する。したがって、溶融ゾーンはできるだけ狭隘に維持しなければならない。
【０００８】
高周波エネルギの周波数もまた重要なパラメータである。それは融液に対する高周波エネルギおよび電磁力の浸透の深さに反比例する。最適周波数は２から３ＭＨｚの間であることが示唆されている。周波数が５００ｋＨｚ未満である場合、望ましくない表面溶融が発生し得る。他方、周波数が３ＭＨｚより高い場合、アーク放電の可能性が増大する。
【０００９】
ＦＺ技術は例えば国際公開第０１／０６０４１号パンフレットで使用されている。
【００１０】
しかし、単結晶の製造に関しては単結晶棒を形成するための出発点を形成する供給棒それ自体は、基本的に壁が円筒の長手軸と平行である円筒形でなければならないことは問題である。同様に、多結晶棒の供給棒の表面は平滑であり、かつ低粗度を持つことも要求される。したがって、最初に単結晶の製造の基礎を形成するために、供給棒は、精製に加えて研磨をも含む処理を受け、よって表面をかなり平滑に見えるようにすること、および円筒状の棒が円筒形であり、このようにして不完全度を除去することが必要とされる。
【００１１】
先行技術では、非円筒形の棒がバナナ状または湾曲形状とみなされる程度までのたわみを有する場合、それらを使用することはできない。したがって、一方では凹凸のある表面を有し、かつ他方では、湾曲した多少バナナ状の形状をはじめ、真の円筒形の棒以外の形状をも取る供給棒を使用することができるように、先行技術を改善することが望ましい。これにより、より安価かつ低仕上げ度の供給棒を、それは、例えば半導体産業で使用されかつ半導体光起電力セルの製造に関連しても使用される、単結晶棒の製造に使用することができる。単結晶棒の製造の後、それはウェハに裁断される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の目的は、最適な円筒形状以外の形状を取る、上述した不揃いの形状の供給棒の使用を可能にし、かつ凹凸のある表面を持つ湾曲した円筒形状および楕円形状の棒の使用をも可能にする、装置および方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本目的は、請求項１の前提部分に記載の装置であって、供給棒の表面とエネルギ供給源に関連する環状の半径方向に内向きの基準面との間の距離を記録するための監視システムと、前記距離を調整するための第三移動手段とを備えた装置によって達成される。
【００１４】
本目的はまた、請求項１０の前提部分に記載の方法であって、環状の半径方向に内向きの基準面と供給棒の表面との間の距離が監視システムによって記録され、かつ所定のある時点で、表面と基準面との間で測定された距離が棒の外周全体にわたって同一となるように、第三移動手段によって調整される方法によって達成される。
【００１５】
供給棒、主としてシリコン供給棒は、例えば国際公開第０１／０６０４１号パンフレットに記載されているような密閉チャンバ内に配置される。棒の一端の環状の凹所は最初にフライス加工され、それにより例えばグリッパフックが棒のこの部分の周囲を掴持することが可能になる。装置は供給棒を回転しかつ垂直方向に変位させるアクチュエータを備え、チャンバ内で、供給棒の下にはシードが位置し、ＦＺの使用によって供給棒からの融液がそこに配置されたときに、そこから単結晶が形成される。供給棒の溶融は、供給棒の前記凹所が構成された端と反対側に配置された、単巻誘導リングによって起きる。供給棒の溶融端であるこの端部は、誘導コイルに対して正確な配置を可能にするために、テーパを付けることができる。誘導コイルには、その技術的特徴を本明細書の一部をなすものとする独国特許出願公開第１９６１０６５０号明細書に記載されているように、熱反射体が補足される。さらに、チャンバはプロセスウィンドウを備え、そこを通してチャンバの外側に配置されたカメラシステムが画像を記録することができ、ここでレンズは誘導コイルに対応する登録領域に合焦している。カメラは毎秒約１〜３０枚に対応する映像を撮影し、これらの記録は、供給棒の表面に対する誘導コイルの位置を記録するコンピュータユニットに送信される。いわゆる登録システムからのこれらの記録は調整システムに中継され、そこで、供給棒の外周と誘導コイルとの間の全周にわたる均等な距離を確実にするために、未溶融表面に対する誘導コイルのＸおよびＹ方向の位置の値がそれぞれ算出される。Ｘ方向は供給棒の中心線上で半径方向および水平方向に測定され、Ｙ方向はそこから垂直および水平方向に同一面内で測定される。計算値は事前に入力された理想値と比較される。
【００１６】
これらの理想値は、棒の直径及びたわみを登録し、それによって棒の中心点を設定することによって得られる。理想値は、基準点である棒の中心が棒の計算された中心と同一である場合である。
【００１７】
基準面は、誘導コイルの内面、または状況によっては、誘導コイルと一致するリングと同一である。
【００１８】
次いで調整システムは、供給棒の位置のＸおよびＹ方向それぞれの調整を実行するアクチュエータ／モータを備えた、いわゆる第三移動手段に情報を送信する。これらのアクチュエータは、軸方向移動のためのアクチュエータと同様にチャンバの外側に配置されるが、そういうものとして装置の不可欠な一部を構成する。この閉ループによって、供給棒はそれが湾曲形状を有するかどうかに関係なく、かつしたがってその回転中に、代わりに基準面までの距離が変化する場合、調整ループの機能のため連続的に変位するように、誘導コイルの中心に対してＸおよびＹ方向に測定された供給棒の位置の連続調整が連続的に実行される。これにより、基準面と未溶融供給棒の表面との間の距離は、事前に入力された基準距離、いわゆる理想値を取るように連続的に補正され、それにより湾曲形状に対する補償が行なわれ、かつそれにより表面は誘導コイルまで、所与の一時点に供給棒の外周全体で測定して絶えず同一距離を取る。これにより、供給棒が溶融して下にある単結晶に落下することが確保され、それによりそれが単結晶棒に成長するような単結晶品質が確保される。
【００１９】
この場合、供給棒の基準点は、供給棒の中心線に沿って配置されることに注目されたい。しかし、他の基準点を選択することができる。重要なことは、供給棒の基準点を得るために、溶融が発生する前に棒の直径及びたわみが確立されることである。
【００２０】
請求項２および３にさらに記載する本発明に係る装置を提供することによって、環状エネルギ供給源に対して相対的に供給棒を制御および移動させるための便利なループが達成される。
【００２１】
請求項４および５にさらに記載する本発明に係る装置を提供することによって、第三移動手段の機能が達成される。
【００２２】
本請求項６にさらに記載する本発明に係る装置を提供することによって、第一および第二移動手段の機能は便利に達成され、他の種類のモータを使用することも選択肢である。
【００２３】
請求項７にさらに記載する本発明に係る装置を提供することによって、環状電源供給機能が達成される。エネルギ供給装置は熱反射体を含むことができる。
【００２４】
請求項８にさらに記載する本発明に係る装置を提供することによって、ＦＺを達成するための技術的要素が提供される。
【００２５】
請求項９にさらに記載する本発明に係る装置を提供することによって、フローティングゾーンと指定される溶融領域のそのような監視の便利な備えも達成されるが、しかし、代替的変位システム、例えばレーザビーム、電気インパルスなどを考えることもできる。
【００２６】
上述の通り、本発明はまた、請求項１１〜１４に記載した簡便な例示的実施形態を特徴とする方法にも関係する。
【００２７】
最後に、本発明は、前記方法を実行するための装置の使用に関係する。
【００２８】
以下、好ましい実施形態の詳細な説明により、本発明をさらに開示する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
図１は、密閉チャンバ４を備えた本発明に係る装置１の例示的実施形態を示し、このチャンバ内で、いわゆるＦＺプロセス、フローティングゾーンプロセスが行なわれる。チャンバ内には多結晶供給棒３が配置されており、この供給棒は、キャリア底板２８を含む保持システムを介して、上軸１８”と接続されている。この軸はチャンバの外側まで延びている。軸１８”の出口とチャンバの壁との間には可撓性シール１９が設けられており、チャンバを周囲に対して閉鎖かつ密封された状態に維持することを確実にする。上軸１８”は、アクチュエータ１２形式の移動手段６を介して、軸方向に変位可能となるように懸架されている。このアクチュエータはまた、回転をもたらす第二移動手段７をも備える。これらの移動手段は、多結晶の供給棒３がその溶融中に、回転を行ないながら同時に軸方向に下方に移動することを確実にし、それによって供給棒の周囲全体で連続的に溶融を発生させる。
【００３０】
さらに、移動手段はまた、同じくアクチュエータ形式の第三移動手段１０をも含み、それによって供給棒の並進および水平方向、つまりＸおよびＹ方向それぞれの移動を達成する。これらの座標は相互に直交し、かつしたがって上述したＺ方向である軸方向の移動に対しても直交する。
【００３１】
チャンバにおいて、単巻コイルである誘導コイル１３が供給棒の周囲に提供される。誘導コイルは独国特許出願公開第１９６１０６５０号明細書に教示されているように形成することができ、基準面としても働く熱反射体をさらに備える。これのより詳細な記述は、図７に関連して示す。
【００３２】
環状エネルギ供給源５と呼ばれるこの誘導コイルは、チャンバの外側に配設されたエネルギ供給源２２からエネルギを受け取る。ここではまた、チャンバが周囲に対して密封されることを確実にするために、内部チャンバ４内に配置された誘導コイルは、可撓性シール１９によって包囲されて、チャンバと接続されている。プロセスの開始時に、供給棒３の下には、単結晶棒２の成長の基礎を形成するシード３５が配設される。シードは下軸１８’の上に配置され、この下軸は、チャンバの外側に配設されたアクチュエータ形式の手段の使用によって、シードおよびそれに続いて形成される単結晶棒２を軸方向に変位させて、その成長中に誘導コイル１３に対する好都合な距離を維持するようになっている。
【００３３】
さらに、チャンバ４の外側には、個々の映像を記録することのできるカメラシステム形式の監視システム８がある。一般的に、それは毎秒１〜３０枚の映像を記録する。カメラのレンズは、チャンバ４に配置されたプロセスウィンドウ２０に向けられ、それを通してカメラは、溶融ゾーン１６と呼ばれる溶融が行なわれる領域の映像を撮影する。カメラはこのようにして、誘導コイルまたは熱反射体１７との間の距離や、供給棒３の未溶融または溶融表面９までの距離を記録／登録する。
【００３４】
記録は、Ｙ方向のみならずＸ方向の距離も登録し、供給棒の回転は、熱反射体または誘導コイルに対する供給棒の外周の位置に関する情報を連続的に得ることを確実にする。また熱反射体も円形であり、供給棒自体より大きい直径を有する。供給棒の溶融は、懸架システムと反対側であるその上端２３で行なわれる。
【００３５】
図２は、上軸１８”と供給棒３自体の他端２５との間の接続を示し、環状に延びる凹所２６が、溶融領域とは反対側に向けられた供給棒の他端に設けられ、その中にグリッパフック２７が設けられる。これらのグリッパフックは、ねじ山２９を介して、キャリア底板２８に関連して取り付けられ、ボルト３０を介して固定され、それによって、グリッパフックの内向きに突起する部分が、供給棒に形成されたカラー３４に固定され、ボルト３０を固定することにより、供給棒の基部がキャリア底板２８の下面に確実に当接する。キャリア底板２８の上面には雄ねじ３１が切られたピンが設けられている。雄ねじは、上軸１８”の一端内に切られた雌ねじ３２と螺合し、一般的に公知のスピンドル装置に対応する。
【００３６】
前述の通り、使用される供給棒３は湾曲形状を取ることができ、それは全く新しく、調整システムは、後述するように、湾曲形状／バナナ状の供給棒の溶融端と誘導コイルとの間の距離が棒の全周にわたって、絶えず同一値を取ることを考慮に入れる。供給棒を溶融する前に、誘導コイルの中心の登録および棒の直径およびたわみの登録が行われる。これは棒を一回転させることによって映像を介して行なわれ、あるいはこのプロセス中に行なわれる一組の測定により寸法を計算し、登録する。
【００３７】
この文脈において棒の品質を測定するために、平滑な面を有する円筒状の棒が軸と並行に配設されたときに生じるクリアリングの測定が実行され、湾曲の最高点と基部との間の最大距離が測定されることに注目されたい。今まで、溶融を実行することが可能であったのは、３〜４ｍｍまでの反りであった。この新規の装置および新規の方法によれば、１５から２０ｍｍの間までのクリアランスで溶融を実行することが可能である。
【００３８】
また、反射体をも含む誘導コイルを使用して、非常に窪んだ、かつ成長した表面のような基本的に密に隣接したポップコーンのようにみえる表面を有する供給棒を使用することが可能であることも、言及しておく必要がある。反射体は、熱平衡を促進するために使用される。粗い表面を持たない平滑な表面を有する供給棒を使用する場合、供給棒が湾曲していても、誘導コイルだけで充分である。一般的に供給棒は９０〜１６０ｍｍの直径を有し、最高２．５ｍまでの長さを有する。さらに、供給棒の典型的な断面は楕円形の断面であり、それもまた本装置および方法によって考慮される。
【００３９】
言い換えると、本装置および方法は、以下の理由から生じる問題を解消する。
・表面の形態、
・バナナ状の湾曲した円筒形状、および
・円形の形状から逸脱し楕円形に近い供給棒の断面。
【００４０】
したがって、図３は、プロセスの調整に関与し、様々な装置部品を含む、閉ループシステムの原理を示す。Ｆｚプロセスそれ自体は、密閉チャンバ４内で行なわれる。カメラシステム１４などの形式の監視システム８は、プロセスウィンドウを通して処理の実時間描画を実行する。これらの映像はコンピュータユニット形式の登録システム１５に送信され、それは、環状エネルギ供給源に対する供給棒の位置を記録しかつ計算し、それを、調整システム１１に中継されるデータに変換する。均等な溶融を確実にするために、未溶融面と誘導コイルとの間で測定される距離は、その全周にわたって誘導コイル１３に対して同一値を取らなければならないので、調整システム１１では、環状エネルギ源に対して供給棒が実行すべき調整の計算が実行される。
【００４１】
このようにして調整システムは、Ｘ−Ｙ方向の供給棒の位置に適用される理想値を組み込み、それは、コンピュータユニットによってそれがカウントする値として中継される実際の数字と比較される。さらに、上軸１８”の角度位置に関する入力３５が、アクチュエータによって生成される。これに基づき、アクチュエータドライブ形式の第三移動手段１０に出力が送信され、それは、供給棒を誘導コイルに対して正確かつ均等に配置させるように、供給棒のＸおよびＹ方向それぞれの調整に関する信号をアクチュエータ１２に中継する。
【００４２】
図４は、上軸１８”と、軸上に配置された第三移動手段の形式の二つのアクチュエータとを含むフローティングゾーンプロセスチャンバを示す平面図であり、これらアクチュエータがＸおよびＹ方向の並進運動を実行することができ、これらはそれぞれ前後運動が実行される。同様に、この平面図は、レンズ３３がプロセスウィンドウ２０を通してクリティカルフローティングゾーン領域へのアクセスを有するカメラ１４形式の監視システムの位置を示す。
【００４３】
さらに、これと反対側に、誘導コイルへの供給源であるエネルギ供給源２２が示される。
【００４４】
図５は、上軸１８”と供給棒３自体との間のサポートを示し、楕円形状の供給棒３とは明確に区別される円形のキャリア底板２８を示す。誘導コイル１３は、供給棒自体の周囲に、可能な限りそれに対し均等な距離に配置される。
【００４５】
図６は、湾曲した供給棒３の典型例を示し、このような湾曲した形状の外観の場合に、誤回転が発生する。キャリア底板２８を介して、供給棒３が上軸１８”に固定される。
【００４６】
上述の通り、供給棒３が窪みのある表面を有する場合、誘導コイルに熱反射体１７を設けることが必要であるかもしれない。棒の表面が平滑である場合、誘導コイルだけで充分である。
【００４７】
上述の通り、図７は誘導コイル１３に熱反射体１７が装備される場合を示す。熱反射体１７は形状的に円形であり、供給棒３を中心に同軸的に軸支される。供給棒はその底部に未溶融面９を有し、カメラによって記録された未溶融面９と熱反射体１７の内面との間の距離が、所与のある時に全体的に同一の値となるように、この未溶融面９と熱反射体１７の内面との間の距離をＸ−Ｙ系で変化させる。
【００４８】
これにより、供給棒３と単結晶２の中心軸が同軸に軸支される溶融ゾーン１６も達成され、したがって均一な構成の単結晶２が得られる。
【００４９】
供給棒の材料は、元素周期律表のＩＶ族の単一元素、ＩＶ族元素から選ばれる元素の対、ＩＩＩ族元素とＶ族元素とから選ばれる元素の対、ＩＩ族元素とＶＩ族元素とから選ばれる元素の対、及びＩＶ族元素とＶＩ族元素とから選ばれる元素の対からなる群から選択される元素または元素の組み合わせを含む半導体材料であることに留意されたい。
【００５０】
さらに詳しくは、好ましい実施形態では、半導体材料はＳｉ、Ｇｅ、Ｃ、およびＳｉＣ、またはそれらの組合せから成る群から選択される。
【００５１】
最も好ましい実施形態では、供給棒の材料は基本的にシリコンを含む。
【００５２】
用語「基本的に含む」とは、主要な成分以外に、供給棒の材料が他の成分、他の所望の特性をもたらすドーパントのような、例えば不純物または添加物を含むかもしれないことを意味する。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】様々な移動手段とチャンバに対して相対的な位置にあるカメラとを備えた本発明に係る装置の例示的実施形態である。
【図２】供給棒を装置の可動ユニットに保持するための保持システムを示す。
【図３】供給棒のＸ移動の補正のための閉ループシステムを示す。
【図４】Ｘ−Ｙ軸アクチュエータを備えたフローティングゾーンプロセスチャンバの平面図である。
【図５】誘導コイル、上軸及び非筒形／楕円形の多結晶シリコン棒の平面図である。
【図６】シリコン棒がＦＺプロセス中にいかにして回転誤差を生じるかを示す。
【図７】供給棒の溶融が誘導コイルによって生じる領域、およびそれに対する熱反射体の位置をも示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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