(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
0005123171.tif 000025
［式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2はハロゲン原子、あるいはヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基を示す。複数のＲ2は同じであっても異なっていてもよい。ｍは０〜４の整数、ｎは０以上の整数である。］
で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレート。
【請求項２】
一般式（II）
【化２】
0005123171.tif 000026
［式中、Ｒ3は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ4はハロゲン原子、あるいはヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基を示す。複数のＲ4は同じであっても異なっていてもよい。ｐは０〜３の整数、ｑは０以上の整数である。］
で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレート。
【請求項３】
一般式（III)
【化３】
0005123171.tif 000027
［式中、Ｒ5は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ6はハロゲン原子、あるいはヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基を示す。複数のＲ6は同じであっても異なっていてもよい。ｒは０〜３の整数である。］
で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレート。
【請求項４】
一般式（IV）で表されるアダマンチル基含有エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸とを反応させることを特徴とする一般式（Ｉ）で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートの製造方法。
【化４】
0005123171.tif 000028
［式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2はハロゲン原子、あるいはヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基を示す。複数のＲ2は同じであっても異なっていてもよい。ｍは０〜４の整数、ｎは０以上の整数である。］
【請求項５】
一般式（Ｖ）で表されるアダマンチル基含有エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸とを反応させることを特徴とする一般式（II）で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートの製造方法。
【化５】
0005123171.tif 000029
［式中、Ｒ3は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ4はハロゲン原子、あるいはヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基を示す。複数のＲ4は同じであっても異なっていてもよい。ｐは０〜３の整数、ｑは０以上の整数である。］
【請求項６】
一般式（VI）で表されるアダマンチル基エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸とを反応させることを特徴とする一般式（III)で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートの製造方法。
【化６】
0005123171.tif 000030
［式中、Ｒ5は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ6はハロゲン原子、あるいはヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基を示す。複数のＲ6は同じであっても異なっていてもよい。ｒは０〜３の整数である。］
【請求項７】
請求項１〜３のいずれかに記載のアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートを含むことを特徴とする樹脂組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明性、耐熱性及び機械物性に優れた新規なアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレート及びそれを含む樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
アダマンタンは、シクロヘキサン環が４個、カゴ形に縮合した構造を有し、対称性が高く、安定な化合物であり、その誘導体は、特異な機能を示すことから、医薬品原料や高機能性工業材料の原料などとして有用であることが知られている。アダマンタンは、例えば、光学特性や耐熱性などを有することから、光ディスク基板、光ファイバーあるいはレンズなどに用いることが試みられている（例えば、特許文献１及び２参照）。また、アダマンタンエステル類を、その酸感応性、ドライエッチング耐性、紫外線透過性などを利用して、フォトレジスト用樹脂原料として、使用することが試みられている（例えば、特許文献３参照）。
近年、電子・光学材料分野においては、液晶や有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子などを用いたフラットパネルディスプレイの高精細化、高視野角化、高画質化、発光ダイオード（ＬＥＤ）などの光半導体を用いた光源の高輝度、短波長化、白色化、さらに電子回路の高周波数化や光を用いた回路・通信など、光学・電子部品の高性能化・改良検討が進められている。
また、半導体の技術分野における進歩は著しく、電子機器は小型軽量化、高性能化、多機能化が急速に進んでいる。それに対応して、配線基板には高密度化、高配線化が求められている。
一方、エポキシアクリレート樹脂は、各種コーティング剤、構造材料、配線基板のソルダーレジスト、液晶ディスプレイやイメージセンサーのカラーフィルター用保護膜、カラーレジストなどに用いられている。ソルダーレジストについては、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート樹脂が開示されている（例えば、特許文献４参照）。また、カラーフィルター用感光性組成物としてクレゾールノボラック型エポキシアクリレート樹脂が開示されている（例えば、特許文献５参照）。しかし、これらのエポキシアクリレート樹脂は、透明性、（長期）耐熱性、（長期）耐光性に限界があり、それらの要求特性を満たす材料が求められている。ソルダーレジストや液晶ディスプレイ関連材料にエポキシアクリレート樹脂を使用する場合、これを含む感放射性樹脂組成物として用いられる場合が多い。この場合、樹脂組成物の透明性が不充分であると露光表面のみが硬化するため、良好な機械物性を有する硬化物が得られないという問題がある。
また、半導体などを集積した電子回路についても、情報化社会の進展に伴い、情報量や通信速度の増大と装置の小型化が進んでおり、回路の小型化、集積化、高周波数化が必要となっている。さらに、より高速処理が可能となる光導波路などを用いた光回路も検討されている。これらの用途において、封止樹脂、接着用樹脂やフィルム、あるいはレンズ用の樹脂として、従来、ビスフェノールＡ型のエポキシ樹脂などが使用されている。しかしながら、このビスフェノールＡ型のエポキシ樹脂などを用いると、電子回路では誘電率が高かったり、耐熱性が不足するなどの問題があり、光導波路やＬＥＤ封止では、透明性が低下したり、劣化により樹脂が黄変するなどの問題がある。【０００３】
【特許文献１】特開平６−３０５０４４号公報
【特許文献２】特開平９−３０２０７７号公報
【特許文献３】特開平４−３９６６５号公報
【特許文献４】特開平８−２８６３７１号公報
【特許文献５】特開２００２−３４１５３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
以上のような状況から、本発明は、配線基板用のソルダーレジスト、液晶ディスプレイやイメージセンサーのカラーフィルター用保護膜、カラーレジスト、液晶ディスプレイ用の層間絶縁膜、電子回路用封止剤（光半導体用封止剤及び有機ＥＬ素子用封止剤）、光学電子部材（光導波路、光通信用レンズ及び光学フィルムなど）及びこれらに用いる接着剤などとして好適な、透明性、（長期）耐光性などの光学特性、耐熱性及び良好な機械物性を与えるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレート及びそれを含む樹脂組成物を提供することを目的とするものである。ここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを指す。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果、特定のアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートにより、光学電子部材等として好適な硬化物を与える樹脂組成物が得られることを見出した。本発明はかかる知見に基づいて完成したものである。
すなわち本発明は、以下のアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレート、その製造方法及びそれを含む樹脂組成物を提供するものである。
１．  一般式（Ｉ）【０００６】
【化１】
0005123171.tif 000002
【０００７】
［式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2はハロゲン原子、あるいはヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基を示す。複数のＲ2は同じであっても異なっていてもよい。ｍは０〜４の整数、ｎは０以上の整数である。］
で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレート。
２．  一般式（II）【０００８】
【化２】
0005123171.tif 000003
【０００９】
［式中、Ｒ3は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ4はハロゲン原子、あるいはヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基を示す。複数のＲ4は同じであっても異なっていてもよい。ｐは０〜３の整数、ｑは０以上の整数である。］
で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレート。
３．  一般式（III)【００１０】
【化３】
0005123171.tif 000004
【００１１】
［式中、Ｒ5は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ6はハロゲン原子、あるいはヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基を示す。複数のＲ6は同じであっても異なっていてもよい。ｒは０〜３の整数である。］
で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレート。
４．  一般式（IV）で表されるアダマンチル基含有エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸とを反応させることを特徴とする一般式（Ｉ）で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートの製造方法。【００１２】
【化４】
0005123171.tif 000005
【００１３】
［式中、Ｒ1、Ｒ2、ｍ及びｎは上記と同じである。］
５．  一般式（Ｖ）で表されるアダマンチル基含有エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸とを反応させることを特徴とする一般式（II）で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートの製造方法。【００１４】
【化５】
0005123171.tif 000006
【００１５】
［式中、Ｒ3、Ｒ4、ｐ及びｑは上記と同じである。］
６．  一般式（VI）で表されるアダマンチル基エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸とを反応させることを特徴とする一般式（III)で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートの製造方法。【００１６】
【化６】
0005123171.tif 000007
【００１７】
［式中、Ｒ5、Ｒ6及びｒは上記と同じである。］
７．  上記１〜３のいずれかに記載のアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートを含むことを特徴とする樹脂組成物。
【発明の効果】
【００１８】
本発明のアダマンタン含有エポキシ変性（メタ）アクリレート及びこれを含有する樹脂組成物は、配線基板のソルダーレジスト、液晶ディスプレイやイメージセンサーのカラーフィルター用保護膜、カラーレジスト、電子回路用封止剤（光半導体用封止剤及び有機ＥＬ素子用封止剤）、光学電子部材（光導波路、光通信用レンズ及び光学フィルムなど）及びこれらに用いる接着剤などとして好適な透明性、（長期）耐光性などの光学特性、（長期）耐熱性、機械物性に優れた硬化物を与える。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
本発明のアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートは、下記一般式（Ｉ）〜（III)で表されるものである。【００２０】
【化７】
0005123171.tif 000008
【００２１】
［式中、Ｒ1は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ2はハロゲン原子、あるいはヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基を示す。複数のＲ2は同じであっても異なっていてもよい。ｍは０〜４の整数、ｎは０以上の整数である。］【００２２】
【化８】
0005123171.tif 000009
【００２３】
［式中、Ｒ3は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ4はハロゲン原子、あるいはヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基を示す。複数のＲ4は同じであっても異なっていてもよい。ｐは０〜３の整数、ｑは０以上の整数である。］【００２４】
【化９】
0005123171.tif 000010
【００２５】
［式中、Ｒ5は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ6はハロゲン原子、あるいはヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基を示す。複数のＲ6は同じであっても異なっていてもよい。ｒは０〜３の整数である。］【００２６】
上記一般式（Ｉ）〜（III)において、Ｒ2、Ｒ4又はＲ6で示されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられる。ヘテロ原子を含んでいてもよい脂肪族炭化水素基としては、メチル基、エチル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ基及びジエチルアミノ基などが挙げられる。
上記一般式（Ｉ）で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートは、下記一般式（IV）で表されるアダマンチル基含有エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸とを反応させることにより得ることができる。【００２７】
【化１０】
0005123171.tif 000011
【００２８】
上記一般式（IV）において、Ｒ2、ｍ及びｎは、上記一般式（Ｉ）と同じである。一般式（IV）で表されるアダマンチル基含有エポキシ化合物としては、１，３−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）アダマンタン、１，３−ビス（４−グリシジルオキシ−３−メチルフェニル）アダマンタン、１，３−ビス（４−グリシジルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）アダマンタン、２，２−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）アダマンタン、２，２−ビス（４−グリシジルオキシ−３−メチルフェニル）アダマンタン及び２，２−ビス（４−グリシジルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）アダマンタンなどが挙げられる。
上記一般式（II）で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートは、下記一般式（Ｖ）で表されるアダマンチル基含有エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸とを反応させることにより得ることができる。【００２９】
【化１１】
0005123171.tif 000012
【００３０】
上記一般式（Ｖ）において、Ｒ4、ｐ及びｑは一般式（II）と同じである。一般式（Ｖ）で表されるアダマンタン含有エポキシ化合物としては、１−（２，３−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタン、１−（２，４−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタン、１−（２，５−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタン、１−（２，６−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタン及び１−（３，４−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタンなどが挙げられる。
上記一般式（III)で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートは、下記一般式（VI）で表されるアダマンチル基含有エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸とを反応させることにより得ることができる。【００３１】
【化１２】
0005123171.tif 000013
【００３２】
上記一般式（VI）において、Ｒ6及びｒは上記一般式（III)と同じである。一般式（VI）で表されるアダマンチル基含有エポキシ化合物としては、１，３−ビス（２，３−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタン、１，３−ビス（２，４−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタン、１，３−ビス（２，５−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタン、１，３−ビス（２，６−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタン、１，３−ビス（３，４−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタン、２，２−ビス（２，３−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタン、２，２−ビス（２，４−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタン、２，２−ビス（２，５−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタン、２，２−ビス（２，６−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタン及び２，２−ビス（３，４−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタンなどが挙げられる。【００３３】
上記反応は、通常５０〜２００℃程度、望ましくは７０〜１５０℃の温度において行う。反応温度が５０℃以上であると、反応速度が低下せず適度のものとなるため、反応時間が短縮される。また、反応温度が２００℃以下であると、副反応が起こらず、かつ生成物の着色が抑制される。反応の際の圧力は、絶対圧力で０．０１〜１０ＭＰａ程度、望ましくは常圧〜１ＭＰａである。圧力が１０ＭＰａ以下であると、安全性が確保されるので特別な装置が不要となり、産業上有用である。反応時間は、通常１〜５０時間程度、望ましくは１〜３０時間である。
上記反応は、通常、触媒の存在下で行う。触媒としては、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジンなどの有機アミン、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムブロミドなどの４級アンモニウム塩及びトリフェニルホスフィンなどが挙げられる。触媒の使用量は、上記一般式（IV）〜（VI）それぞれで表されるアダマンチル基含有エポキシ化合物と（メタ）アクリル酸との合計量に対して、通常０．０１〜２０質量％程度、好ましくは０．０５〜１５質量％である。【００３４】
反応は、無溶媒又は溶媒の存在下で行う。溶媒としては、上記一般式（IV）〜（VI）それぞれで表されるアダマンチル基含有エポキシ化合物の溶解度が０．５質量％以上、望ましくは５質量％以上の溶媒を用いるのが有利である。溶媒の使用量は上記アダマンチル基含有エポキシ化合物の濃度が０．５質量％以上、望ましくは５質量％以上となる量である。このとき、上記アダマンチル基含有エポキシ化合物は懸濁状態でもよいが、溶解していることが望ましい。溶媒として具体的には、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、トルエン、キシレン、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）、ＤＭＦ（ジメチルホルムアミド）、ＮＭＰ（Ｎ−メチル−２−ピロリドン）、ＤＭＡｃ（Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド）、ＤＭＳＯ（ジメチルスルホキシド）及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどが挙げられる。これらは単独で又は二種以上を組み合わせて使用することができる。
反応に際しては、必要によりヒドロキノン、メトキノン、フェノチアジン及びメトキシフェノチアジンなどの重合禁止剤を添加してもよい。重合禁止剤の使用割合は、（メタ）アクリル酸に対して、通常１０〜１００００質量ｐｐｍ程度、好ましくは５０〜５０００質量ｐｐｍである。
反応生成物は、蒸留、晶析、カラム分離などにより精製することができ、精製方法は、反応生成物の性状と不純物の種類により選択することができる。【００３５】
本発明の樹脂組成物は、上記一般式（Ｉ）〜（III）それぞれで表されるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートを含む。本発明の樹脂組成物においては、透明性や耐熱性等に悪影響を与えない限り、上記アダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートと、他の重合性モノマーとの混合樹脂も使用することができる。他の重合性モノマーとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、１−アダマンチル（メタ）アクリレート、エチレングリコール ジ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオール ジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオール ジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール テトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール ペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトール ヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン トリ（メタ）アクリレート及びジトリメチロールプロパン テトラ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらは単独で又は二種以上を組み合わせて使用することができる。【００３６】
また、本発明の樹脂組成物においては、上記アダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートと、以下のエポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応で得られるエポキシ樹脂変性（メタ）アクリレートとの混合樹脂も使用することができる。エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＧ型エポキシ樹脂、テトラメチルビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂のような含フッ素エポキシ樹脂及びビスフェノールＣ型エポキシ樹脂などのグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂やクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート、ヒダントインエポキシ樹脂等の含窒素環エポキシ樹脂、脂肪族系エポキシ樹脂、低吸水率硬化体タイプの主流であるビフェニル型エポキシ樹脂及びジシクロ環型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル等の多官能エポキシ樹脂などが挙げられる。これらは単独で又は二種以上を組み合わせて使用することができる。【００３７】
上記一般式（Ｉ）〜（III）それぞれで表されるアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートと、上記他の重合性モノマー及び／又はエポキシ樹脂変性（メタ）アクリレートとの混合樹脂中、上記アダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートの含有量は５質量％以上が好ましく、より好ましくは１０質量％以上である。このアダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレートの含有量が５質量％以上であると、本発明の樹脂組成物の光学特性、長期耐熱性及び電気特性が充分なものとなる。【００３８】
本発明の樹脂組成物は、熱重合開始剤及び／又は光重合開始剤を用いた重合により硬化させることができる。熱重合開始剤としては、熱により、不飽和結合を有する基、アクリロイル基あるいはメタクリロイル基が反応するものであればよく、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド、メチルイソブチルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド及びｔ−ブチルハイドロパーオキサイド等の有機過酸化物並びにアゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系開始剤などが挙げられる。これらは単独で又は二種以上を組み合わせて使用することができる。
光重合開始剤としては、光により、不飽和結合を有する基、アクリロイル基あるいはメタクリロイル基が反応するものであればよく、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ベンジル類、ベンゾインエーテル類、ベンジルジケタール類、チオキサントン類、アシルホスフィンオキサイド類及びアシルホスフィン酸エステル類などが挙げられる。これらは単独で又は二種以上を組み合わせて使用することができる。
重合開始剤及び／又は光重合開始剤の使用量は、上記アダマンチル基含有エポキシ変性（メタ）アクリレート又は上記混合樹脂（以下、「樹脂成分」と称することがある。）１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部であることが好ましく、より好ましくは０．０５〜５質量部である。重合開始剤の含有率を上記範囲とすることにより、良好な重合及び光学特性などの物性が発現される。【００３９】
本発明の樹脂組成物には、必要に応じて、従来から用いられている、例えば、劣化防止剤、変性剤、シランカップリング剤、脱泡剤、無機粉末、溶剤、レベリング剤、離型剤、染料、顔料などの、公知の各種の添加剤を適宜配合してもよい。
劣化防止剤としては、例えば、フェノール系化合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物、リン系化合物などの、従来から公知の劣化防止剤が挙げられる。
フェノール系化合物としては、イルガノクス１０１０（Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商標）、イルガノクス１０７６（Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商標）、イルガノクス１３３０（Ｉｒｇａｎｏｘ１３３０、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商標）、イルガノクス３１１４（Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商標）、イルガノクス３１２５（Ｉｒｇａｎｏｘ３１２５、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商標）、イルガノクス３７９０（Ｉｒｇａｎｏｘ３７９０、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商標）ＢＨＴ、シアノクス１７９０（Ｃｙａｎｏｘ１７９０、サイアナミド社製、商標）、スミライザーＧＡ−８０（ＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＡ−８０、住友化学社製、商標）などの市販品を挙げることができる。【００４０】
アミン系化合物としては、イルガスタブＦＳ０４２（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商標）、ＧＥＮＯＸ ＥＰ（クロンプトン社製、商標、化合物名；ジアルキル−Ｎ−メチルアミンオキサイド）など、さらにはヒンダードアミン系である旭電化社製のＡＤＫ ＳＴＡＢ ＬＡ−５２、ＬＡ−５７、ＬＡ−６２、ＬＡ−６３、ＬＡ−６７、ＬＡ−６８、ＬＡ−７７、ＬＡ−８２、ＬＡ−８７、ＬＡ−９４、ＣＳＣ社製のTinuvin１２３、１４４、４４０、６６２、Chimassorb２０２０、１１９、９４４、Hoechst 社製のHostavin Ｎ３０、Cytec社製の Cyasorb ＵＶ−３３４６、ＵＶ−３５２６、ＧＬＣ社製のUval ２９９、Clariant社製の SanduvorＰＲ−３１等を挙げることができる。
有機硫黄系化合物としては、ＤＳＴＰ（ヨシトミ）（吉富社製、商標）、ＤＬＴＰ（ヨシトミ）（吉富社製、商標）、ＤＬＴＯＩＢ（吉富社製、商標）、ＤＭＴＰ（ヨシトミ）（吉富社製、商標）、Ｓｅｅｎｏｘ ４１２Ｓ（シプロ化成社製、商標）、Ｃｙａｎｏｘ １２１２（サイアナミド社製、商標）などの市販品を挙げることができる。【００４１】
変性剤としては、例えば、グリコール類、シリコーン類、アルコール類などの、従来から公知の変性剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、例えば、シラン系、チタネート系などの、従来から公知のシランカップリング剤が挙げられる。脱泡剤としては、例えば、シリコーン系などの、従来から公知の脱泡剤が挙げられる。無機粉末としては、用途に応じて粒径が数ｎｍ〜１０μｍのものが使用でき、例えば、ガラス粉末、シリカ粉末、チタニア、酸化亜鉛、アルミナなどの公知の無機粉末が挙げられる。溶剤としては、樹脂成分が粉末の場合や、コーティングの希釈溶剤として、トルエンやキシレンなどの芳香族系溶剤やメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶剤などが使用可能である。【００４２】
本発明の樹脂組成物は、上記の樹脂成分、熱重合開始剤及び／又は光重合開始剤と、各種添加剤を混合し、成型する金型（樹脂金型）への注入、あるいはコーティングにより所望の形状にした後に、加熱硬化あるいは紫外線等の照射により光硬化する。熱硬化の場合、硬化温度としては、通常３０〜２００℃程度、好ましくは５０〜１５０℃である。３０℃以上とすることにより硬化不良となることがなく、２００℃以下とすることにより着色などを生じることがなくなる。硬化時間は使用する樹脂成分や重合開始剤などによって異なるが、０．５〜６時間が好ましい。
紫外線の照射により光硬化する場合、紫外線の照射強度は、樹脂成分や重合開始剤の種類、硬化物の膜厚などから決められるので任意であるが、通常１００〜５０００ｍＪ／ｃｍ2程度、好ましくは５００〜４０００ｍＪ／ｃｍ2である。紫外線照射後に後加熱を行ってもよく、７０〜２００℃で０．５〜１２時間行うことが好ましい。
成形方法としては射出成形、ブロー成形、プレス成形等、特に限定されるものではないが、好ましくはペレット状の樹脂組成物を射出成形機に用いて、射出成形することにより製造される。【００４３】
本発明の樹脂組成物を硬化してなる硬化物は、透明性、耐熱性、硬度等の機械物性に優れており、配線基板用のソルダーレジスト、液晶ディスプレイやイメージセンサーのカラーフィルター用保護膜、カラーレジスト、電子回路用封止剤（光半導体用封止剤及び有機ＥＬ素子用封止剤）、光学電子部材（光導波路、光通信用レンズ及び光学フィルムなど）及びこれらに用いる接着剤などとして好適に用いることができる。
また、本発明の樹脂組成物は、半導体素子／集積回路（ＩＣ他），個別半導体（ダイオード、トランジスタ、サーミスタなど）として、ＬＥＤ（ＬＥＤランプ、チップＬＥＤ、受光素子、光半導体用レンズ），センサー（温度センサー、光センサー、磁気センサー）、受動部品（高周波デバイス、抵抗器、コンデンサなど）、機構部品（コネクター、スイッチ、リレーなど）、自動車部品（回路系、制御系、センサー類、ランプシールなど）、接着剤（光学部品、光学ディスク、ピックアップレンズ）などにも用いられ、表面コーティング用として光学用フィルムなどにも用いることができる。
【実施例】
【００４４】
次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。
合成例１（１，３−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）アダマンタンの合成）
還流冷却管、攪拌機及び温度計を備え付けた内容積３００ｍｌのセパラブルフラスコに、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン２０．０ｇ（０．０６ｍｏｌ）、エピクロロヒドリン４６ｇ（０．５０ｍｏｌ）、ＭＩＢＫ ３０ｍｌ及びＤＭＳＯ ６０ｍｌを仕込み、４５℃に加熱した。この溶液に水酸化ナトリウム５．５ｇ（０．１４ｍｏｌ）を少量ずつ１．５時間かけて添加した。添加終了後、反応温度を７５℃に上げ、４時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、ＭＩＢＫ ２５ｍｌを加え、水層が中性になるまで水洗した後、有機層を濃縮し、淡黄色の固体を得た。この淡黄色の固体をＭＥＫ ２８５ｇに溶解させ、２５質量％水酸化ナトリウム水溶液３．４ｇを加えて２時間攪拌し、加熱還流させた。その後、室温まで冷却し、水層がアルカリ性から中性になるまで水洗を行い、さらに２回水洗した。有機層を濃縮し、得られた淡黄色の固体をＴＨＦ（テトラヒドロフラン）とイソプロピルエーテルとの混合溶媒で再結晶し、下記式で表される１，３−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）アダマンタン２４．１ｇを得た（ＬＣ（液体クロマトグラフィ）純度９４％、エポキシ当量２２４）。【００４５】
【化１３】
0005123171.tif 000014
【００４６】
この１，３−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）アダマンタンを、核磁気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ）により同定した。スペクトルデータを以下に示す。核磁気共鳴スペクトルは、溶媒としてクロロホルム−ｄを用いて、日本電子株式会社製のＪＮＭ−ＥＣＡ５００により測定した。【００４７】
1H-NMR（500MHz）：1.75(s,2H)，1.90(s,8H)，1.96(s,2H)，2.28(s,2H)，2.72(dd,2H)，2.87(dd,2H)，3.32(m,2H)，3.94(dd,2H)，4.17(dd,2H)，6.87(d,4H)，7.29(d,4H)
13C-NMR（125MHz）：29.6，35.8，36.7，42.4，44.7，49.3，50.2，68.8，114.2，125.9，143.5，156.4【００４８】
合成例２（１−（２，４−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタンの合成）
還流冷却管、攪拌機、温度計及び窒素導入管を備え付けた内容積３００ｍｌのセパラブルフラスコに、ＭＩＢＫ ３０ｍｌ、ＤＭＳＯ ６０ｍｌ及びエピクロロヒドリン６５ｇ（０．７０ｍｏｌ）を加えて窒素置換した。これに１−（２，４−ジヒドロキシフェニル）アダマンタン２０．６ｇ（０．０９ｍｏｌ）を加え、攪拌しながら４５℃に加熱した。この溶液に０．５時間かけて水酸化ナトリウム７．６ｇ（０．１９ｍｏｌ）を少量ずつ３０分間で加え、さらに２時間攪拌した。その後、反応液を室温まで冷却し、ＭＩＢＫ ２５ｍｌを加え、水層が中性になるまで水洗した後、有機層を濃縮し、淡黄色粘性液体を得た。この淡黄色粘性液体をＭＥＫ ２８５ｇに溶解させ、２５質量％水酸化ナトリウム水溶液３．４ｇを加えて２時間攪拌し、加熱還流させた。その後、室温まで冷却し、水層がアルカリ性から中性になるまで水洗を行い、さらに２回水洗した。有機層を濃縮し、下記式で表される１−（２，４−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタン２８．３ｇを得た（ＬＣ純度９３％、エポキシ当量１８５）。【００４９】
【化１４】
0005123171.tif 000015
【００５０】
この１−（２，４−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタンを、核磁気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ）により同定した。スペクトルデータを以下に示す。核磁気共鳴スペクトルは、溶媒としてＤＭＳＯ−ｄ6を用いて、日本電子株式会社製のＪＮＭ−ＥＣＡ５００により測定した。【００５１】
1H-NMR（500MHz）：1.72(s,6H)，2.02(s,9H)，2.69(dd,1H)，2.76(dd,1H)，2.83(dd,1H)，2.87(dd,1H)，3.30(m,1H)，3.37(m,1H)，3.80(dd,1H)，3.87(dd,1H)，4.26(dd,1H)，4.32(dd,1H)，6.48(dd,1H)，6.56(d,1H)，7.02(d,1H)
13C-NMR（125MHz）：28.4，35.8，36.6，40.4，43.6，43.7，49.7，49.8，68.7，68.9，100.8，105.3，126.5，130.5，157.3，158.0【００５２】
合成例３（１，３−ビス（２，４−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタンの合成）
還流冷却管、攪拌機、温度計及び窒素導入管を備え付けた内容積３００ｍｌのセパラブルフラスコに、ＭＩＢＫ ３０ｍｌ、ＤＭＳＯ ６０ｍｌ及びエピクロロヒドリン８０ｇ（０．８６ｍｏｌ）を加えて窒素置換した。これに１，３−ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）アダマンタン２０．５ｇ（０．０６ｍｏｌ）を加え、攪拌しながら４５℃に加熱した。この溶液に０．５時間かけて水酸化ナトリウム１２．２ｇ（０．３０ｍｏｌ）を加え、さらに２時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、ＭＩＢＫ ２５ｍｌを加え、水層が中性になるまで水洗した後、有機層を濃縮し、淡黄色粘性液体を得た。この淡黄色粘性液体をＭＥＫ ２８５ｇに溶解させ、２５質量％水酸化ナトリウム水溶液３．４ｇを加えて２時間攪拌し、加熱還流させた。その後、室温まで冷却し、水層がアルカリ性から中性になるまで水洗を行い、さらに２回水洗した。有機層を濃縮し、下記式で表される１，３−ビス（２，４−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタン２４．１ｇを得た（ＬＣ純度８４％、エポキシ当量１６４）。【００５３】
【化１５】
0005123171.tif 000016
【００５４】
この１，３−ビス（２，４−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタンを、核磁気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ）により同定した。スペクトルデータを以下に示す。核磁気共鳴スペクトルは、溶媒としてＤＭＳＯ−ｄ6を用いて、日本電子株式会社製のＪＮＭ−ＥＣＡ５００により測定した。【００５５】
1H-NMR（500MHz）：1.73(s,2H)，1.98(br,4H)，2.11(br,6H)，2.30(s,2H)，2.70(m,4H)，2.82(m,4H)，3.31(m,4H)，3.84(m,4H)，4.29(m,4H)，6.49(dd,2H)，6.60(d,2H)，7.08(d,2H)
13C-NMR（125MHz）：29.7，36.5，37.4，40.4，44.2，44.3，44.7，50.3，50.4，69.3，69.5，101.5，106.0，127.2，131.1，157.9，158.7【００５６】
合成例４（２，２−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）アダマンタンの合成）
還流冷却管、攪拌機及び温度計を備え付けた内容積３００ｍｌのセパラブルフラスコに、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマンタン２０．０ｇ（０．０６ｍｏｌ）、エピクロロヒドリン４６ｇ（０．５０ｍｏｌ）、ＭＩＢＫ ３０ｍｌ及びＤＭＳＯ ６０ｍｌを仕込み、４５℃に加熱した。この溶液に水酸化ナトリウム５．５ｇ（０．１４ｍｏｌ）を少量ずつ１．５時間かけて添加した。添加終了後、反応温度を７５℃に上げ、４時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、ＭＩＢＫ ２５ｍｌを加え、水層が中性になるまで水洗した後、有機層を濃縮し、淡黄色の固体を得た。この淡黄色の固体をＭＥＫ ２８５ｇに溶解させ、２５質量％水酸化ナトリウム水溶液３．４ｇを加えて２時間攪拌し、加熱還流させた。その後、室温まで冷却し、水層がアルカリ性から中性になるまで水洗を行い、さらに２回水洗した。有機層を濃縮し、得られた淡黄色の固体をＴＨＦとイソプロピルエーテルとの混合溶媒で再結晶し、下記式で表される２，２−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）アダマンタン２３．２ｇを得た（ＬＣ純度９６％、エポキシ当量２２４）。【００５７】
【化１６】
0005123171.tif 000017
【００５８】
この２，２−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）アダマンタンを、核磁気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ）により同定した。スペクトルデータを以下に示す。核磁気共鳴スペクトルは、溶媒としてクロロホルム−ｄを用いて、日本電子株式会社製のＪＮＭ−ＥＣＡ５００により測定した。【００５９】
1H-NMR（500MHz）：1.70(s,6H)，1.79(s,2H)，2.00(d,2H)，2.67(dd,2H)，2.83(dd,2H)，3.16(s,2H)，3.27(m,2H)，3.86(dd,2H)，4.07(dd,2H)，6.77(d,4H)，7.27(d,4H)
13C-NMR（125MHz）：27.5，32.1，33.3，38.0，44.8，49.4，50.1，68.6，114.5，126.7，141.5、155.5【００６０】
合成例５（２，２−ビス（４−グリシジルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）アダマンタンの合成）
還流冷却管、攪拌機及び温度計を備え付けた内容積５００ｍｌのセパラブルフラスコに、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）アダマンタン５０．２ｇ（０．１３ｍｏｌ）、エピクロロヒドリン９９．６ｇ（１．０６ｍｏｌ）、ＭＩＢＫ ７５ｍｌ及びＤＭＳＯ １５０ｍｌを仕込み、４５℃に加熱した。この溶液に水酸化ナトリウム１３．２ｇ（０．３３ｍｏｌ）を少量ずつ１．０時間かけて添加した。その後、６５℃に昇温し、２時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、ＭＩＢＫ ２５０ｍｌ加え、水層が中性になるまで水洗した後、有機層を濃縮し、黄色粘性液体の粗生成物を得た。この粗生成物をＴＨＦ ７０ｍｌに溶解させた後、メタノール３５０ｍｌにこの溶液を滴下し固体を析出させた。固体をろ過して集め乾燥させ、下記式で表される２，２−ビス（４−グリシジルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）アダマンタン６０．５ｇを得た（ＬＣ純度９４％、エポキシ当量２５９）。【００６１】
【化１７】
0005123171.tif 000018
【００６２】
この２，２−ビス（４−グリシジルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）アダマンタンを、核磁気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ）により同定した。核磁気共鳴スペクトルは、溶媒としてクロロホルム−ｄを用いて、日本電子株式会社製のＪＮＭ−ＥＣＡ５００により測定した。【００６３】
1H-NMR(500MHz)：1.64-1.69(m,6H), 1.76(s,2H), 1.99(d,4H), 2.21(s,12H), 2.66(dd,2H), 2.84(t,2H), 3.11(s,2H), 3.29-3.32(m,2H), 3.69(dd,2H), 3.95(dd,2H), 7.00(s,4H)
13C-NMR(127MHz)：16.8, 27.6, 32.1, 33.5, 38.2, 44.7, 49.4, 50.8, 72.9, 126.4, 130.1, 144.0, 152.6【００６４】
実施例１（アダマンチル基含有エポキシ変性アクリレートの合成）
還流冷却管、攪拌機、温度計及びエアー導入管を備え付けた内容積３００ｍｌのセパラブルフラスコに、合成例１で得られた１，３−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）アダマンタン２２．４ｇ、アクリル酸７．６ｇ、ＭＩＢＫ ２０ｍｌ、テトラエチルアンモニウムブロミド０．７６ｇ及びｐ−メトキシフェノール７．６ｍｇを加え、少量の空気を流しながら１２０℃に加熱し、２０時間攪拌した。その後、ＭＩＢＫ ８０ｍｌを加え、反応液を室温まで冷却した。このＭＩＢＫ 溶液を５質量％塩化ナトリウム水溶液で２回、純水で１回洗浄した後、有機層を濃縮し、下記式で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性アクリレート２６．８ｇを得た（ＬＣ純度９１％）。【００６５】
【化１８】
0005123171.tif 000019
【００６６】
このエポキシ変性アクリレートを、核磁気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ）により同定した。スペクトルデータを以下に示す。核磁気共鳴スペクトルは、溶媒としてクロロホルム−ｄを用いて、日本電子株式会社製のＪＮＭ−ＥＣＡ５００により測定した。【００６７】
1H-NMR（500MHz）：1.75(s、2H)，1.89(s,8H)，1.95(s,2H)，4.0-4.44(10H)，5.85(d,2H)，6.16(dd,2H)，6.42(d,2H)，6.86(d,4H)，7.29(d,4H)
13C-NMR（125MHz）：29.5，35.8，36.7，42.4，49.3，65.5，68.5，68.7，114.2，125.9，127.9，131.5，143.6，156.3，166.3【００６８】
実施例２（アダマンチル基含有エポキシ変性アクリレートの合成）
還流冷却管、攪拌機、温度計及びエアー導入管を備え付けた内容積３００ｍｌのセパラブルフラスコに、合成例２で得られた１−（２，４−ジグリシジルオキシフェニル）アダマンタン１８．５ｇ、アクリル酸７．９ｇ、トルエン５０ｍｌ、テトラエチルアンモニウムブロミド０．７９ｇ及びｐ−メトキシフェノール７．９ｍｇを加え、少量の空気を流しながら１２０℃に加熱し、１０時間攪拌した。その後トルエン８０ｍｌを加え、反応液を室温まで冷却した。このトルエン溶液を５質量％塩化ナトリウム水溶液で２回、純水で１回洗浄した後、有機層を濃縮し、下記式で表されるアダマンチル基含有エポキシアクリレート２４．１ｇを得た（ＬＣ純度８７％）。【００６９】
【化１９】
0005123171.tif 000020
【００７０】
このエポキシ変性アクリレートを、核磁気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ）により同定した。スペクトルデータを以下に示す。核磁気共鳴スペクトルは、溶媒としてクロロホルム−ｄを用いて、日本電子株式会社製のＪＮＭ−ＥＣＡ５００により測定した。【００７１】
1H-NMR（500MHz）：1.74(s,6H)，2.05(s,9H)，3.97-4.48(10H)，5.85(d,H)，5.87(d,1H)，6.14(dd,1H)，6.18(dd,1H)，6.43-6.50(m,4H)，7.16(d,1H)
13C-NMR（125MHz）：29.0，36.5，37.1，40.8，41.1，65.5，65.8，68.3，68.5，68.7，68.8，100.9，105.0，127.3，127.8，127.9，131.7，131.8，131.9，157.4，158.2，166.0，166.3【００７２】
実施例３（アダマンチル基含有エポキシ変性アクリレートの合成）
還流冷却管、攪拌機、温度計及びエアー導入管を備え付けた内容積３００ｍｌのセパラブルフラスコに、合成例３で得られた１，３−ビス（２，４−ジグリシジルオキシフェニルアダマンタン１６．４ｇ、アクリル酸７．９ｇ、トルエン５０ｍｌ、テトラエチルアンモニウムブロミド０．７９ｇ及びｐ−メトキシフェノール７．９ｍｇを加え、少量の空気を流しながら１２０℃に加熱し、１２時間攪拌した。その後トルエン８０ｍｌを加え、反応液を室温まで冷却した。このトルエン溶液を５質量％塩化ナトリウム水溶液で２回、純水で１回洗浄した後、有機層を濃縮し、下記式で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性アクリレート１４．８ｇを得た（ＬＣ純度８７％）。【００７３】
【化２０】
0005123171.tif 000021
【００７４】
このエポキシ変性アクリレートを、核磁気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ）により同定した。スペクトルデータを以下に示す。核磁気共鳴スペクトルは、溶媒としてクロロホルム−ｄを用いて、日本電子株式会社製のＪＮＭ−ＥＣＡ５００により測定した。【００７５】
1H-NMR（500MHz）：1.75(s,2H)，2.00-2.22(m,10H)，2.33(s,2H)，3.90-4.45(20H)，5.86(d,4H)，6.15(dd,4H)，6.41-6.53(m,8H)，7.15(d,2H)
13C-NMR（125MHz）：29.6，36.4，40.5，44.9，65.5，65.8，68.5，68.7，68.8，68.9，101.1，105.1，127.2，127.8，127.9，131.7，131.8，131.9，157.5，158.2，166.2，166.3【００７６】
実施例４(アダマンチル基含有エポキシ変性アクリレートの合成)
還流冷却管、攪拌機、温度計及びエアー導入管を備え付けた内容積３００ｍｌのセパラブルフラスコに、合成例４で得られた２，２−ビス（４−グリシジルオキシフェニル）アダマンタン２２．４ｇ、アクリル酸７．９ｇ、トルエン５０ｍｌ、テトラエチルアンモニウムブロミド０．７９ｇ及びｐ−メトキシフェノール７．９ｍｇを加え、少量の空気を流しながら１２０℃に加熱し、２０時間攪拌した。その後、トルエン８０ｍｌを加え、反応液を室温まで冷却した。このトルエン溶液を５質量％塩化ナトリウム水溶液で２回、純水で１回洗浄した後、有機層を濃縮し、下記式で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性アクリレート２６．３ｇを得た（ＬＣ純度９３％）。【００７７】
【化２１】
0005123171.tif 000022
【００７８】
このエポキシ変性アクリレートを、核磁気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ）により同定した。スペクトルデータを以下に示す。核磁気共鳴スペクトルは、溶媒としてクロロホルム−ｄを用いて、日本電子株式会社製のＪＮＭ−ＥＣＡ５００により測定した。【００７９】
1H-NMR（500MHz）：1.71(s,6H)，1.80(s,2H)，2.01(d,2H)，3.16(s,2H)，3.86-4.41(10H)，5.82(d,2H)，6.12(dd,2H)，6.41(d,2H)，6.76(d,4H)，7.28(d,4H)
13C-NMR（125MHz）：27.5，32.0，33.3，38.0，49.4，65.4，68.4，68.5，114.5，126.7，127.9，131.6，141.7，155.3，166.2【００８０】
実施例５（アダマンチル基含有エポキシ変性アクリレートの合成）
還流冷却管、攪拌機、温度計、エアー導入管を備え付けた内容積３００ｍｌのセパラブルフラスコに、合成例５で得られた２，２−ビス（４−グリシジルオキシ−３，５−ジメチルフェニル）アダマンタン２５．９ｇ、アクリル酸７．９ｇ、トルエン５０ｍｌ、テトラエチルアンモニウムブロミド０．７９ｇ及びｐ−メトキシフェノール７．９ｍｇを加え、少量の空気を流しながら１２０℃に加熱し、２０時間攪拌した。その後、トルエン８０ｍｌを加え、反応液を室温まで冷却した。このトルエン溶液を５質量％塩化ナトリウム水溶液で２回、純水で１回洗浄した後、有機層を濃縮し、下記式で表されるアダマンチル基含有エポキシ変性アクリレート３０．３ｇを得た（ＬＣ純度９３％）。【００８１】
【化２２】
0005123171.tif 000023
【００８２】
このエポキシ変性アクリレートを、核磁気共鳴スペクトル（1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ）により同定した。核磁気共鳴スペクトルは、溶媒としてクロロホルム−ｄを用いて、日本電子株式会社製のＪＮＭ−ＥＣＡ５００により測定した。
1H-NMR(500MHz)：1.64-1.68 (m,6H), 1.77(s,2H), 2.00(d,4H), 2.19(s,12H), 3.11(s,2H), 3.73-4.42(m,10H), 5.80(d,2H), 6.12(dd,2H), 6.39(d,2H),6.98(s,4H)
13C-NMR(127MHz)：16.6, 27.5, 32.0, 33.4, 38.1, 49.4, 65.3, 69.1, 72.0, 126.4, 127.9, 129.9, 131.4,144.1, 151.9, 166.2【００８３】
実施例６
実施例１で得られたアダマンチル基含有エポキシ変性アクリレート３０質量部、ベンゾインイソブチルエーテル０．０３質量部、溶媒としてプロピレグリコールモノメチルエーテルアセテート７０質量部を混合し、樹脂組成物を調製した。この樹脂組成物を溶剤乾燥後の膜厚が１００μｍとなるようにガラス基板上にコーティングし、溶媒を乾燥させた。水銀灯にて紫外線を１０００ｍＪ／ｃｍ2の強度で照射し、硬化物を得た。得られた硬化物を下記の方法により評価した。評価結果を表１に示す。【００８４】
（１）ガラス転移温度
示差走査型熱量計（パーキン・エルマー社製，ＤＳＣ−７）を用い、試料１０ｍｇを窒素雰囲気下５０℃で５分間保持した後、１０℃／分で昇温させることにより得られた熱流束曲線に観測される不連続点をガラス転移温度Ｔｇとした。
（２）光線透過率
ガラス基板に密着した試料を用いてＪＩＳ Ｋ７１０５に準拠し、測定波長４００ｎｍで測定した。測定装置として株式会社島津製作所製の分光光度計ＵＶ−３１００Ｓを用いた。
（３）耐光性試験
株式会社東洋精機製作所製のサンテストＣＰＳ＋を用いて、ガラス基板に密着した試料を６０℃で５００時間光照射し、サンシャインテスターを用いて照射前後の４００ｎｍの光線透過率の変化を測定し、光線透過率の低下率が２０％未満の場合を「○」、２０％以上の場合を「×」とした。
（４）長期耐熱性試験
ガラス基板に密着した試料を用い、１４０℃の恒温槽に１００時間放置した後の試料と恒温槽に放置する前の試料について、サンシャインテスターを用いて、４００ｎｍの光線透過率の変化を測定し、恒温槽に放置した後の試料の光線透過率の低下率が２０％未満の場合を「○」、２０％以上の場合を「×」とした。【００８５】
実施例７
実施例６において、実施例１で得られたアダマンチル基含有エポキシ変性アクリレートの替わりに実施例２で得られたアダマンチル基含有エポキシ変性アクリレートを用いた以外は実施例６と同様にして硬化物を製造し、同様の評価を行った。評価結果を表１に示す。【００８６】
実施例８
実施例６において、実施例１で得られたアダマンチル基含有エポキシ変性アクリレートの替わりに実施例３で得られたアダマンチル基含有エポキシ変性アクリレートを用いた以外は実施例６と同様にして硬化物を製造し、同様の評価を行った。評価結果を表１に示す。【００８７】
実施例９
実施例６において、実施例１で得られたアダマンチル基含有エポキシ変性アクリレートの替わりに実施例４で得られたアダマンチル基含有エポキシ変性アクリレートを用いた以外は実施例６と同様にして硬化物を製造し、同様の評価を行った。評価結果を表１に示す。【００８８】
実施例１０
実施例６において、実施例１で得られたアダマンチル基含有エポキシ変性アクリレートの替わりに実施例５で得られたアダマンチル基含有エポキシ変性アクリレートを用いた以外は実施例６と同様にして硬化物を製造し、同様の評価を行った。評価結果を表１に示す。【００８９】
比較例１
還流冷却管、攪拌機、温度計、エアー導入管を備え付けた内容積３００ｍｌのセパラブルフラスコに、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン株式会社製、エピコート８２８）１８．６ｇ、アクリル酸７．９ｇ、トルエン５０ｍｌ、テトラエチルアンモニウムブロミド０．７９ｇ及びｐ−メトキシフェノール７．９ｍｇを加え、少量の空気を流しながら１２０℃に加熱し、２０時間攪拌した。その後、トルエン８０ｍｌを加え、反応液を室温まで冷却した。このトルエン溶液を５質量％塩化ナトリウム水溶液で２回、純水で１回洗浄した後、有機層を濃縮し、ビスフェノールＡ型エポキシ変性アクリレート２４．５ｇを得た（ＬＣ純度９３％）。
実施例６において、実施例１で得られたアダマンチル基含有エポキシ変性アクリレートの替わりに上記で得られたビスフェノールＡ型エポキシ変性アクリレートを用いた以外は実施例６と同様にして硬化物を製造し、同様の評価を行った。評価結果を表１に示す。【００９０】
【表１】
0005123171.tif 000024
【産業上の利用可能性】
【００９１】
本発明のアダマンタン含有エポキシ変性（メタ）アクリレート及びこれを含有する樹脂組成物は、透明性、（長期）耐光性などの光学特性、（長期）耐熱性及び機械物性に優れた硬化物を与え、配線基板のソルダーレジスト、液晶ディスプレイやイメージセンサーのカラーフィルター用保護膜、カラーレジスト、電子回路用封止剤（光半導体用封止剤及び有機ＥＬ素子用封止剤）、光学電子部材（光導波路、光通信用レンズ及び光学フィルムなど）及びこれらに用いる接着剤などとして好適である。