(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状可撓性支持体の上に、第１電極と、有機化合物層と、第２電極と、封止層又は封止フイルムとを、この順番で有する有機ＥＬ素子を、供給部と、塗布部・乾燥部と、回収部とを有する製造装置を用いて形成する有機化合物層の形成方法において、
前記供給部に、第１電極が形成された帯状可撓性支持体Ａを、巻き芯に巻かれたロール状態で供給し、
次いで、前記塗布部・乾燥部で有機化合物層形成用塗布液を塗布及び乾燥を行い、前記帯状可撓性支持体Ａに前記有機化合物層を形成して帯状可撓性支持体Ｂとし、
前記回収部で、前記帯状可撓性支持体Ｂを巻き芯に巻取りロール状とし、
前記有機化合物層は、前記乾燥部で吐出風速０．１〜５ｍ／ｓ、有機化合物層用塗膜の幅手方向の風速分布が０．１〜１０％の気流乾燥で前記有機化合物層用塗膜の溶媒を除去して形成されていることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項２】
前記塗布部・乾燥部は、有機化合物層形成用塗布液を湿式塗布装置により大気圧条件で有機化合物層を形成する塗布部と、大気圧条件で前記有機化合物層中の溶媒を除去し、有機化合物層を形成する乾燥部とを１ユニットとし、前記製造装置は少なくとも１ユニットの前記塗布部・乾燥部を有することを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項３】
前記帯状可撓性支持体Ａは、前記有機化合物層形成用塗布液を塗布する前に洗浄表面改質処理手段により洗浄表面改質処理が施されることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項４】
前記洗浄表面改質処理手段が酸素プラズマ又はＵＶ照射であることを特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項５】
前記帯状可撓性支持体Ａは、有機化合物層形成用塗布液を塗布する前に除電処理手段により除電処理が施されることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項６】
前記帯状可撓性支持体Ａは、有機化合物層形成用塗布液を塗布するときの搬送速度のバラツキが平均搬送速度に対して０．２〜１０％であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項７】
前記有機化合物層形成用塗布液は、少なくとも１種の有機化合物材料と、少なくとも１種の溶媒とを有し、表面張力が１５×１０−３〜５５×１０−３Ｎ／ｍであることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項８】
前記製造装置は、乾燥部の後に加熱処理部を有することを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項９】
前記加熱処理部は、乾燥部で有機化合物層を形成した直後に、該有機化合物層のガラス転移温度に対して−３０〜＋３０℃で、且つ有機化合物層の有機化合物の分解温度を超えない温度で裏面伝熱方式の熱処理を行うことを特徴とする請求項８に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項１０】
前記有機化合物層は、露点温度−２０℃以下、且つＪＩＳＢ  ９９２０に準拠し、測定した清浄度がクラス５以下で、且つ、乾燥部及び加熱処理部を除き１０〜４５℃の大気圧
条件下で形成されることを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項１１】
前記有機化合物層が少なくとも正孔輸送層と有機発光層とを有することを特徴とする請求項１乃至１０の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項１２】
前記帯状可撓性支持体Ｂを１０−５〜１０Ｐａの減圧条件下で保管することを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項１３】
帯状可撓性支持体の上に、第１電極と、有機化合物層と、第２電極と、封止層とを、この順番で有する有機ＥＬ素子を、供給部と、塗布部・乾燥部と、陰極層形成部と、封止層形成部と、回収部とを有する製造装置を用いて製造する有機ＥＬ素子の製造方法において、
前記供給部に、第１電極が形成された帯状可撓性支持体Ａを、巻き芯に巻かれたロール状態で供給し、
次いで、前記塗布部・乾燥部で、有機化合物層形成用塗布液を塗布及び乾燥を行い前記帯状可撓性支持体Ａに前記有機化合物層を形成して帯状可撓性支持体Ｂとし、
第１巻取り部で、帯状可撓性支持体Ｂを巻き芯に巻取りロール状とし、
ロール状の前記帯状可撓性支持体Ｂを使用し、前記陰極層形成部で前記有機化合物層上に減圧条件下で第２電極を含む陰極層を形成し、
引き続き、前記封止層形成部で前記陰極層上に減圧条件下で封止層を形成し、有機ＥＬ素子を形成した後、回収工程で巻き芯に巻取りロール状とし、
前記有機化合物層は、前記乾燥部で吐出風速０．１〜５ｍ／ｓ、有機化合物層用塗膜の幅手方向の風速分布が０．１〜１０％の気流乾燥で前記有機化合物層用塗膜の溶媒を除去して形成されていることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項１４】
帯状可撓性支持体の上に、第１電極と、有機化合物層と、第２電極と、封止フイルムとをこの順番で有する有機ＥＬ素子を、供給部と、塗布部・乾燥部と、陰極層形成部と、封止フイルム貼着部と、回収部とを有する製造装置を用いて製造する有機ＥＬ素子の製造方法において、
前記供給部に、第１電極が形成された帯状可撓性支持体Ａを、巻き芯に巻かれたロール状態で供給し、
次いで、前記塗布部・乾燥部で、有機化合物層形成用塗布液を塗布及び乾燥を行い前記帯状可撓性支持体Ａに前記有機化合物層を形成して帯状可撓性支持体Ｂとし、
ロール状の前記帯状可撓性支持体Ｂを使用し、前記陰極層形成部で前記有機化合物層上に減圧条件下で第２電極を含む陰極層を形成し帯状可撓性支持体Ｃとし、
第２巻取り部で、前記帯状可撓性支持体Ｃを巻き芯に巻取りロール状とし、
ロール状の前記帯状可撓性支持体Ｃを使用し、前記封止フイルム貼着部で、不活性ガス条件下で前記陰極層上に封止フイルムを貼着し、
前記有機化合物層は、前記乾燥部で吐出風速０．１〜５ｍ／ｓ、有機化合物層用塗膜の幅手方向の風速分布が０．１〜１０％の気流乾燥で前記有機化合物層用塗膜の溶媒を除去して形成されていることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項１５】
前記塗布部・乾燥部は、有機化合物層形成用塗布液を湿式塗布装置により大気圧条件で有機化合物層を形成する塗布部と、大気圧条件で前記有機化合物層中の溶媒を除去し、有機化合物層を形成する乾燥部とを１ユニットとし、前記製造装置は少なくとも１ユニットの前記塗布部・乾燥部を有することを特徴とする請求項１３または１４に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、面光源やディスプレイパネル等として利用される有機ＥＬ（エレクトロ・ルミネッセンス）素子の有機化合物層の形成方法、有機ＥＬ素子の製造方法及びこの方法で作製された有機ＥＬ素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機物質を使用した有機ＥＬ素子は、固体発光型の安価な大面積フルカラー表示素子や書き込み光源アレイとしての用途が有望視されており、活発な研究開発が進められている。有機ＥＬ素子は、基板上に形成された第１電極（陽極又は陰極）と、その上に積層された有機発光物質を含有する有機化合物層（単層部又は多層部）即ち発光層と、この発光層上に積層された第２電極（陰極又は陽極）とを有する薄膜型の素子である。このような有機ＥＬ素子に電圧を印加すると、有機化合物層に陰極から電子が注入され陽極から正孔が注入される。この電子と正孔が発光層において再結合し、エネルギー準位が伝導帯から価電子帯に戻る際にエネルギーを光として放出することにより発光が得られることが知られている。【０００３】
このように、有機ＥＬ素子は薄膜型の素子であるため、１個又は複数個の有機ＥＬ素子を基板上に形成した有機ＥＬパネルをバックライト等の面光源として利用した場合には、面光源を備えた装置を容易に薄型にすることが出来る。又、画素としての有機ＥＬ素子を基板上に所定個数形成した有機ＥＬパネルをディスプレイパネルとして用いて表示装置を構成した場合には視認性が高い、視野角依存性がないなど、液晶表示装置では得られない利点がある。【０００４】
一方、有機ＥＬ素子の有機化合物層を形成する際には、特開平９−１０２３９３号公報、特開２００２−１７０６７６号公報に記載されている様に、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ、ＰＶＤ、溶剤を用いた塗布法等の様々な方法が使用出来るが、これらの方法の中で、製造工程の簡略化、製造コストの低減、加工性の改善、バックライトや照明光源等のフレキシブルな大面積素子への応用等の観点からは塗布法等の湿式製膜法が有利であることが知られている。例えば、特開２００２−１７０６７６号公報に枚葉のガラス基板上にスピンコート法により有機化合物層を形成する方法が記載されている。特開２００３−１４２２６０号公報に枚葉の基板上にインクジェット方式で順次有機化合物層を形成する方法が記載されている。これらの方式は何れも基板として枚葉基板を使用しているため大面積フルカラー表示素子を作製するのは装置が大きくなり、コストも高くなるため、固体発光型の安価な大面積フルカラー表示素子や書き込み光源アレイとしての用途が有望視されている有機ＥＬ素子を製造する方法が検討されている。例えば、透光性基板としてプラスチックフィルムを使用し、このプラスチックフィルム上に陰極と、有機物質からなる一つ又は複数の発光層と、陽極層を設けた有機ＥＬディスプレイを製造する方法として、有機物質からなる一つ又は複数の発光層のパターニング及び陰極のパターニングを真空下で蒸着方式でロールツーロール方式により作製する方法が知られている（例えば、特許文献１を参照。）。【０００５】
しかしながら、特許文献１に記載のロールツーロール方式は、これまでの枚葉方式と異なり量産化が可能となるため安価な有機ＥＬ素子の製造が可能であるが次の欠点を有している。【０００６】
１）有機物質からなる一つ又は複数の発光層を形成するのに使用する有機化合物の使用効率が低く、コストが高くなる原因の一つになっている。【０００７】
２）有機物質からなる一つ又は複数の発光層が蒸着方式で形成する方式であるため大面積の表示素子を作るためには、蒸着室を大きくしなければならず、付随して付帯設備の能力も高いものにしなければならずスケールアップし難い。【０００８】
３）有機物質からなる一つ又は複数の発光層が蒸着方式で形成する方式であるため、発光層を形成するのに時間が掛かり生産性を上げることが難しい。【０００９】
４）特に照明用途に使用する有機ＥＬ素子の場合、蒸着方式では大面積に有機ＥＬ素子を形成しなければならないため、大面積でムラなく有機ＥＬ素子を形成することが難しい。【００１０】
これらの状況より、コストを上げることなく生産性が高く、大面積でムラなく有機ＥＬ素子形成用の有機化合物層の形成方法、この有機化合物層を使用した有機ＥＬ素子の製造方法及び有機ＥＬ素子の開発が望まれている。
【特許文献１】国際公開第０１／５１９４号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、上記状況に鑑みなされたものであり、その目的は、高品質でコストを上げることなく生産性が高い有機ＥＬ素子の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成された。【００１３】
１．帯状可撓性支持体の上に、第１電極と、有機化合物層と、第２電極と、封止層又は封止フイルムとを、この順番で有する有機ＥＬ素子を、供給部と、塗布部・乾燥部と、回収部とを有する製造装置を用いて形成する有機化合物層の形成方法において、
前記供給部に、第１電極が形成された帯状可撓性支持体Ａを、巻き芯に巻かれたロール状態で供給し、
次いで、前記塗布部・乾燥部で有機化合物層形成用塗布液を塗布及び乾燥を行い、前記帯状可撓性支持体Ａに前記有機化合物層を形成して帯状可撓性支持体Ｂとし、
前記回収部で、前記帯状可撓性支持体Ｂを巻き芯に巻取りロール状とし、
前記有機化合物層は、前記乾燥部で吐出風速０．１〜５ｍ／ｓ、有機化合物層用塗膜の幅手方向の風速分布が０．１〜１０％の気流乾燥で前記有機化合物層用塗膜の溶媒を除去して形成されていることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
２．前記塗布部・乾燥部は、有機化合物層形成用塗布液を湿式塗布装置により大気圧条件で有機化合物層を形成する塗布部と、大気圧条件で前記有機化合物層中の溶媒を除去し、有機化合物層を形成する乾燥部とを１ユニットとし、前記製造装置は少なくとも１ユニットの前記塗布部・乾燥部を有することを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１４】
３．前記帯状可撓性支持体Ａは、前記有機化合物層形成用塗布液を塗布する前に洗浄表面改質処理手段により洗浄表面改質処理が施されることを特徴とする請求項１または２に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１５】
４．前記洗浄表面改質処理手段が酸素プラズマ又はＵＶ照射であることを特徴とする請求項３に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１６】
５．前記帯状可撓性支持体Ａは、有機化合物層形成用塗布液を塗布する前に除電処理手段により除電処理が施されることを特徴とする請求項１乃至４の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１７】
６．前記帯状可撓性支持体Ａは、有機化合物層形成用塗布液を塗布するときの搬送速度のバラツキが平均搬送速度に対して０．２〜１０％であることを特徴とする請求項１乃至５の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１９】
７．前記有機化合物層形成用塗布液は、少なくとも１種の有機化合物材料と、少なくとも１種の溶媒とを有し、表面張力が１５×１０−３〜５５×１０−３Ｎ／ｍであることを特徴とする請求項１乃至６の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００２０】
８．前記製造装置は、乾燥部の後に加熱処理部を有することを特徴とする請求項１乃至７の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００２１】
９．前記加熱処理部は、乾燥部で有機化合物層を形成した直後に、該有機化合物層のガラス転移温度に対して−３０〜＋３０℃で、且つ有機化合物層の有機化合物の分解温度を超えない温度で裏面伝熱方式の熱処理を行うことを特徴とする請求項８に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００２２】
１０．前記有機化合物層は、露点温度−２０℃以下、且つＪＩＳＢ  ９９２０に準拠し、測定した清浄度がクラス５以下で、且つ、乾燥部及び加熱処理部を除き１０〜４５℃の大気圧条件下で形成されることを特徴とする請求項１乃至９の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００２３】
１１．前記有機化合物層が少なくとも正孔輸送層と有機発光層とを有することを特徴とする請求項１乃至１０の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００２４】
１２．前記帯状可撓性支持体Ｂを１０−５〜１０Ｐａの減圧条件下で保管することを特徴とする請求項１乃至１１の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００２５】
１３．帯状可撓性支持体の上に、第１電極と、有機化合物層と、第２電極と、封止層とを、この順番で有する有機ＥＬ素子を、供給部と、塗布部・乾燥部と、陰極層形成部と、封止層形成部と、回収部とを有する製造装置を用いて製造する有機ＥＬ素子の製造方法において、
前記供給部に、第１電極が形成された帯状可撓性支持体Ａを、巻き芯に巻かれたロール状態で供給し、
次いで、前記塗布部・乾燥部で、有機化合物層形成用塗布液を塗布及び乾燥を行い前記帯状可撓性支持体Ａに前記有機化合物層を形成して帯状可撓性支持体Ｂとし、
第１巻取り部で、帯状可撓性支持体Ｂを巻き芯に巻取りロール状とし、
ロール状の前記帯状可撓性支持体Ｂを使用し、前記陰極層形成部で前記有機化合物層上に減圧条件下で第２電極を含む陰極層を形成し、
引き続き、前記封止層形成部で前記陰極層上に減圧条件下で封止層を形成し、有機ＥＬ素子を形成した後、回収工程で巻き芯に巻取りロール状とし、
前記有機化合物層は、前記乾燥部で吐出風速０．１〜５ｍ／ｓ、有機化合物層用塗膜の幅手方向の風速分布が０．１〜１０％の気流乾燥で前記有機化合物層用塗膜の溶媒を除去して形成されていることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【００２６】
１４．帯状可撓性支持体の上に、第１電極と、有機化合物層と、第２電極と、封止フイルムとをこの順番で有する有機ＥＬ素子を、供給部と、塗布部・乾燥部と、陰極層形成部と、封止フイルム貼着部と、回収部とを有する製造装置を用いて製造する有機ＥＬ素子の製造方法において、
前記供給部に、第１電極が形成された帯状可撓性支持体Ａを、巻き芯に巻かれたロール状態で供給し、
次いで、前記塗布部・乾燥部で、有機化合物層形成用塗布液を塗布及び乾燥を行い前記帯状可撓性支持体Ａに前記有機化合物層を形成して帯状可撓性支持体Ｂとし、
ロール状の前記帯状可撓性支持体Ｂを使用し、前記陰極層形成部で前記有機化合物層上に減圧条件下で第２電極を含む陰極層を形成し帯状可撓性支持体Ｃとし、
第２巻取り部で、前記帯状可撓性支持体Ｃを巻き芯に巻取りロール状とし、
ロール状の前記帯状可撓性支持体Ｃを使用し、前記封止フイルム貼着部で、不活性ガス条件下で前記陰極層上に封止フイルムを貼着し、
前記有機化合物層は、前記乾燥部で吐出風速０．１〜５ｍ／ｓ、有機化合物層用塗膜の幅手方向の風速分布が０．１〜１０％の気流乾燥で前記有機化合物層用塗膜の溶媒を除去して形成されていることを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
１５．前記塗布部・乾燥部は、有機化合物層形成用塗布液を湿式塗布装置により大気圧条件で有機化合物層を形成する塗布部と、大気圧条件で前記有機化合物層中の溶媒を除去し、有機化合物層を形成する乾燥部とを１ユニットとし、前記製造装置は少なくとも１ユニットの前記塗布部・乾燥部を有することを特徴とする請求項１３または１４に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の効果】
【００２８】
高品質でコストを上げることなく生産性が高い有機ＥＬ素子形成用の有機化合物層の形成方法、この有機化合物層を使用した有機ＥＬ素子の製造方法及び有機ＥＬ素子を提供することが出来、主に照明用、バックライト用等の面光源用に使用可能な大面積の有機ＥＬ素子を製造することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】有機ＥＬ素子の層構成の一例を示す概略断面図である。
【図２】有機ＥＬ素子の構成層である有機化合物層までを形成する工程の模式図である。
【図３】有機ＥＬ素子を作製する工程の一例を示す模式図である。
【図４】有機ＥＬ素子を作製する工程の他の一例を示す模式図である。
【図５】図２に示す有機有機化合物層までを形成する工程を使用し、有機有機化合物層までを形成する概略フロー図である。
【図６】図３に示す有機ＥＬ素子を製造する工程とを使用し、有機ＥＬ素子を製造する概略フロー図である。
【図７】図４に示す有機ＥＬ素子を製造する工程とを使用し、有機ＥＬ素子を製造する概略フロー図である。
【符号の説明】
【００３０】
１ａ、１ｂ  有機ＥＬ素子
１０１  基材
１０２  陽極層
１０３、２０１ｃ  正孔輸送層
１０４、２０１ｅ  有機化合物層（発光層）
１０５、２０１ｉ  電子注入層（電子輸送層）
１０６、２０１ｊ  陰極層
１０７  封止層
１０８  接着剤層
１０９  封止フィルム
２、３、７  製造装置
２０１、４０１、５０１、８０１  供給部
２０１ｂ  帯状可撓性支持体Ａ
２０１ｈ、２０１ｆ  帯状可撓性支持体Ｂ
２０１ｋ、２０１ｌ  帯状可撓性支持体Ｃ
２０１ｍ  封止フィルム
２０１ｏ  第１電極層
２０２  洗浄表面改質処理部
２０３  第１塗布・乾燥部
２０３ｂ  第１湿式塗布機
２０３ｃ  第１乾燥装置
２０４  第１加熱処理部
２０６  第２塗布・乾燥部
２０６ｂ  第２湿式塗布機
２０７  第２加熱処理部
２０９、６、４０４、５０３、９  回収部
４  陰極層形成部
４０２、８０２  第１陰極層形成部
４０３、８０３  第２陰極層形成部
４０４  第２巻取り部
５  封止フィルム貼着部
５０２  貼着部
８  陰極層・封止層形成部
８０４  封止層形成部
６０１、９０１  有機ＥＬ素子
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
本発明に係る実施の形態を図１〜図７を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。【００３２】
図１は有機ＥＬ素子の層構成の一例を示す概略断面図である。図１の（ａ）は封止膜が形成された有機ＥＬ素子の構成層を示す概略断面図である。図１の（ｂ）は接着剤を介して封止フィルムを貼着することで形成された有機ＥＬ素子の構成層を示す概略断面図である。【００３３】
図１の（ａ）に示される有機ＥＬ素子の層構成に付き説明する。図中、１ａは有機ＥＬ素子を示す。有機ＥＬ素子１ａは、基材１０１上に、陽極層１０２と、正孔輸送層１０３と、有機化合物層（発光層）１０４と、電子注入層１０５と、陰極層１０６と、封止層１０７とをこの順番に有している。【００３４】
図１の（ｂ）に示される有機ＥＬ素子の層構成に付き説明する。【００３５】
図中、１ｂは有機ＥＬ素子を示す。有機ＥＬ素子１ｂは、基材１０１上に、陽極１０２と、正孔輸送層（正孔注入層）１０３と、有機化合物層（発光層）１０４と、電子注入層１０５と、陰極１０６と、接着剤層１０８と、封止フィルム１０９とをこの順番に有している。本図に示される有機ＥＬ素子において、陽極１０２と正孔輸送層１０３の間に正孔注入層（不図示）を設けてもよい。又、陰極１０６と有機化合物層（発光層）１０４と電子注入層１０５との間に電子輸送層（不図示）を設けてもよい。本図に示される有機ＥＬ素子１ａ及び有機ＥＬ素子１ｂでは、陽極１０２と基材１０１との間にガスバリア膜（不図示）を設けてもかまわない。【００３６】
本発明は、本図に示される有機化合物層（発光層）１０４、有機化合物層（正孔輸送層）１０３の形成方法と、形成された有機化合物層（発光層）１０４、有機化合物層（正孔輸送層）１０３の上に電子注入層１０５と、陰極１０６と、封止膜１０７を形成した有機ＥＬ素子１ａと、形成された有機化合物層（発光層）１０４の上に電子注入層１０５と、陰極１０６と、接着剤層１０８を介して封止フィルム１０９を貼着した有機ＥＬ素子１ｂの製造方法及びこれらの製造方法により作製された有機ＥＬ素子に関するものである。【００３７】
本図に示す有機ＥＬ素子の層構成は一例を示したものであるが、他の代表的な有機ＥＬ素子の層構成としては次の構成が挙げられる。【００３８】
（１）基材／陽極／発光層／電子輸送層／陰極／封止層
（２）基材／陽極／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極／封止層
（３）基材／陽極／正孔輸送層（正孔注入層）／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極バッファー層（電子注入層）／陰極／封止層
（４）基材／陽極／陽極バッファー層（正孔注入層）／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極バッファー層（電子注入層）／陰極／封止層
上記（１）〜（４）で用いられる封止層は、封止層単体もしくは接着層を介した封止フィルム、またはこれらの組み合わせを含むものとする。【００３９】
有機ＥＬ素子を構成している各層については後に説明する。【００４０】
図２は有機化合物層までを形成する工程の模式図である。図２の（ａ）は有機ＥＬ素子の構成層である有機化合物層までを形成する工程の模式図である。図２の（ｂ）は図２の（ａ）のＲで示される部分の拡大模式図である。尚、本図は塗布・乾燥部が２ユニット有する製造装置の場合を示している。【００４１】
図中、２は有機ＥＬ素子の構成層の一つである有機化合物層までを大気圧条件下で形成する製造装置を示す。製造装置２は、帯状可撓性支持体の供給部２０１と、帯状可撓性支持体の洗浄表面改質処理部２０２と、第１塗布・乾燥部２０３と、第１加熱処理部２０４と、第２除電処理部と、第２塗布・乾燥部２０６と、第２加熱処理部２０７と、第３除電処理部２０８と、回収部２０９とを有している。【００４２】
供給部２０１では、ガスバリア膜と第１電極を含む陽極層とがこの順番で既に形成された帯状可撓性支持体Ａ２０１ａが巻き芯に巻取られロール状態で供給される様になっている。【００４３】
洗浄表面改質処理部２０２は、有機化合物層形成用塗布液を塗布する前に供給部２０１から送られてきた帯状可撓性支持体Ａ２０１ｂの陽極層（不図示）表面を洗浄改質する洗浄表面改質処理手段２０２ａと、第１除電処理手段２０２ｂとを有している。洗浄表面改質処理手段２０２ａとしては、低圧水銀ランプ、エキシマランプ、プラズマ洗浄装置等が挙げられる。低圧水銀ランプによる洗浄表面改質処理の条件としては、例えば、波長１８４．２ｎｍの低圧水銀ランプを、照射強度５〜２０ｍＷ／ｃｍ2で、距離５〜１５ｍｍで照射し洗浄表面改質処理を行う条件が挙げられる。プラズマ洗浄装置による洗浄表面改質処理の条件としては、例えば、大気圧プラズマが好適に使用される。洗浄条件としてはアルゴンガスに酸素１〜５体積％含有ガスを用い、周波数１００ＫＨｚ〜１５０ＭＨｚ、電圧１０Ｖ〜１０ＫＶ、照射距離５〜２０ｍｍで洗浄表面改質処理を行う条件が挙げられる。【００４４】
第１除電処理手段２０２ｂとしては、光照射方式とコロナ放電式等が挙げられ、これらの中から必要に応じて適宜選択使用することが可能である。光照射式は微弱Ｘ線、コロナ放電式はコロナ放電により空気イオンを生成する。この空気イオンは、帯電物体に引き寄せられて反対極性の電荷を補い、静電気を中和する。コロナ放電による除電器、軟Ｘ線による除電器が利用可能である。第１除電処理手段により、基材の帯電除去が図られるため、ゴミの付着や絶縁破壊が防止されるため、素子の歩留まりの向上が図られる。【００４５】
第１塗布・乾燥部２０３は、帯状可撓性支持体Ａ２０１ｂを保持するバックアップロール２０３ａと、バックアップロール２０３ａに保持された帯状可撓性支持体Ａ２０１ｂに第１有機化合物層形成用塗布液を塗布する第１湿式塗布機２０３ｂと、帯状可撓性支持体Ａ２０１ｂ上の陽極層（不図示）上に形成された第１有機化合物層２０１ｃの溶媒を除去する第１乾燥装置２０３ｃとを有している。【００４６】
２０４は第１加熱処理部を示し、第１加熱処理部は装置本体２０４ａと、第１有機化合物層２０１ｃが形成された帯状可撓性支持体の裏面側から第１有機化合物層２０１ｃを裏面伝熱方式で加熱する複数の加熱ローラ２０４ｂとを有している。【００４７】
第１乾燥装置２０３ｃは、乾燥風を吐出する吐出口２０３ｃ３と、乾燥風の供給口２０３ｃ２とを有する乾燥風供給ヘッダー２０３ｃ１と、排気口２０３ｃ４と、搬送用ロール２０３ｃ５とを有している。【００４８】
２０５は、形成された第１有機化合物層２０１ｃの除電を行う第２除電処理手段を示す。尚、本図では第１有機化合物層形成用塗布液とは正孔輸送層形成用塗布液を指し、第１有機化合物層２０１ｃとは正孔輸送層を指す。【００４９】
第２塗布・乾燥部２０６は、バックアップロール２０６ａに保持された第１有機化合物層（正孔輸送層）２０１ｃを有する帯状可撓性支持体に第２有機化合物層形成用塗布液を塗布する第２湿式塗布機２０６ｂと、第１有機化合物層（正孔輸送層）２０１ｃ上に形成された第２有機化合物層２０１ｄを乾燥する第２乾燥装置２０６ｃとを有している。尚、本図では第２有機化合物層形成用塗布液とは発光層形成用塗布液を指し、第２有機化合物層２０１ｄとは発光層を指す。【００５０】
２０７は第２加熱処理部を示し、第２加熱処理部２０７は第１加熱処理部２０４と同じ構成をしており、第１有機化合物層（正孔輸送層）２０１ｃ上に形成された、第２有機化合物層（発光層）２０１ｄを帯状可撓性支持体の裏面側から裏面伝熱方式で加熱する様になっている。【００５１】
２０８は、形成された第２有機化合物層（発光層）２０１ｅの除電を行う第３除電処理手段を示す。第２乾燥装置２０６ｃは第１乾燥装置２０３ｃと同じ構造を有している。第１除電処理手段２０２ｂと、第２除電処理手段２０５と、第３除電処理手段２０８とは同じであってもよい。【００５２】
本図では、塗布・乾燥部として第１塗布・乾燥部２０３と、第２塗布・乾燥部２０４との２ユニットを有する場合を示しているが、必要に応じて増加することが可能となっている。【００５３】
第１湿式塗布機２０３ｂにより塗布され形成される正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は単層又は複数層設けることが出来る。正孔輸送材料としては、正孔の注入又は輸送、電子の障壁性の何れかを有するものであり、有機物、無機物の何れであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、又導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。【００５４】
正孔輸送材料としては上記のものを使用することが出来るが、ポルフィリン化合物、芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第３級アミン化合物を用いることが好ましい。芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル；Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン（ＴＰＤ）；２，２−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）プロパン；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ−ｐ−トリル−４，４′−ジアミノビフェニル；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）−４−フェニルシクロヘキサン；ビス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン；ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）フェニルメタン；Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ジ（４−メトキシフェニル）−４，４′−ジアミノビフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノジフェニルエーテル；４，４′−ビス（ジフェニルアミノ）クオードリフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ（ｐ−トリル）アミン；４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−〔４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル〕スチルベン；４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−（２−ジフェニルビニル）ベンゼン；３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン；Ｎ−フェニルカルバゾール、更には米国特許第５，０６１，５６９号明細書に記載されている２個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、４，４′−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ〕ビフェニル（ＮＰＤ）、特開平４−３０８６８８号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが３つスターバースト型に連結された４，４′，４″−トリス〔Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）等が挙げられる。【００５５】
更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることも出来る。又、ｐ型−Ｓｉ、ｐ型−ＳｉＣ等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することが出来る。【００５６】
又、特開平１１−２５１０６７号公報、Ｊ．Ｈｕａｎｇ  ｅｔ．ａｌ．著文献（Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  ８０（２００２），ｐ．１３９）に記載されているような所謂ｐ型正孔輸送材料を用いることも出来る。本発明においては、より高効率の発光素子が得られることから、これらの材料を用いることが好ましい。【００５７】
正孔輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍである。この正孔輸送層は上記材料の１種又は２種以上からなる一層構造であってもよい。又、不純物をドープしたｐ性の高い正孔輸送層を用いることも出来る。その例としては、特開平４−２９７０７６号、特開２０００−１９６１４０号、特開２００１−１０２１７５号、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）などに記載されたものが挙げられる。このようなｐ性の高い正孔輸送層を用いることが、より低消費電力の有機ＥＬ素子を作製することが出来るため好ましい。【００５８】
第２湿式塗布機２０６ｂにより形成される発光層が多層の場合は、積層する数に合わせて塗布・乾燥部のユニットを配設する必要がある。例えば、発光層を多層にすることで白色素子の作製が可能である。本発明において、発光層とは青色発光層、緑色発光層、赤色発光層を指す。発光層を積層する場合の積層順としては、特に制限はなく、又各発光層間に非発光性の中間層を有していてもよい。本発明においては、少なくとも一つの青発光層が、全発光層中最も陽極に近い位置に設けられていることが好ましい。又、発光層を４層以上設ける場合には、陽極に近い順から、例えば青色発光層／緑色発光層／赤色発光層／青色発光層、青色発光層／緑色発光層／赤色発光層／青色発光層／緑色発光層、青色発光層／緑色発光層／赤色発光層／青色発光層／緑色発光層／赤色発光層のように青色発光層、緑色発光層、赤色発光層を順に積層することが、輝度安定性を高める上で好ましい。【００５９】
発光層の膜厚の総和は特に制限はないが、膜の均質性、発光に必要な電圧等を考慮し、通常２ｎｍ〜５μｍ、好ましくは２〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。更に１０〜２０ｎｍの範囲にあるのが好ましい。膜厚を２０ｎｍ以下にすると電圧面のみならず、駆動電流に対する発光色の安定性が向上する効果があり好ましい。個々の発光層の膜厚は、好ましくは２〜１００ｎｍの範囲で選ばれ、２〜２０ｎｍの範囲にあるのが更に好ましい。青、緑、赤の各発光層の膜厚の関係については、特に制限はないが、３発光層中、青発光層（複数層ある場合はその総和）が最も厚いことが好ましい。【００６０】
発光層は発光極大波長が各々４３０〜４８０ｎｍ、５１０〜５５０ｎｍ、６００〜６４０ｎｍの範囲にある発光スペクトルの異なる少なくとも３層以上の層を含む。３層以上であれば、特に制限はない。４層より多い場合には、同一の発光スペクトルを有する層が複数層あってもよい。発光極大波長が４３０〜４８０ｎｍにある層を青発光層、５１０〜５５０ｎｍにある層を緑発光層、６００〜６４０ｎｍの範囲にある層を赤発光層と言う。又、前記の極大波長を維持する範囲において、各発光層には複数の発光性化合物を混合してもよい。例えば、青発光層に、極大波長４３０〜４８０ｎｍの青発光性化合物と、同５１０〜５５０ｎｍの緑発光性化合物を混合して用いてもよい。【００６１】
発光層に使用する材料は特に限定はなく、例えば、株式会社  東レリサーチセンター  フラットパネルディスプレイの最新動向  ＥＬディスプレイの現状と最新技術動向  ２２８〜３３２頁に記載されている如き各種材料が挙げられる。【００６２】
第２湿式塗布機２０６ｂで有機化合物層形成用塗布液を塗布し、乾燥することで形成された有機化合物層（発光層）は、電極又は電子注入層、正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。【００６３】
第１乾燥装置２０３ｃにおける第１有機化合物層（正孔輸送層）用塗膜の溶媒を除去する乾燥条件としては、乾燥ムラ、塗膜表面の吹き荒れ等を考慮し、吐出口からの乾燥風の吐出風速０．１〜５ｍ／ｓ、幅手方向の風速分布が０．１〜１０％の気流乾燥が挙げられる。第２乾燥装置２０６ｃにおける第２有機化合物層（発光層）の溶媒を除去する乾燥条件は第１乾燥装置２０３ｃの条件と同じであってもよい。【００６４】
第１加熱処理部２０４における第１有機化合物層（正孔輸送層）の加熱処理条件として、第１有機化合物層（正孔輸送層）の平滑性向上、残留溶媒の除去、有機化合物層（正孔輸送層）の硬化等を考慮し、第１有機化合物層（正孔輸送層）のガラス転移温度に対して−３０〜＋３０℃、且つ、第１有機化合物層（正孔輸送層）を構成している有機化合物の分解温度を超えない温度で裏面伝熱方式の熱処理を行うことが好ましい。【００６５】
第２加熱処理部２０７における第２有機化合物層（発光層）の加熱処理条件として、第２有機化合物層（発光層）の平滑性向上、残留溶媒の除去、第２有機化合物層（発光層）の硬化等を考慮し、第２有機化合物層（発光層）のガラス転移温度に対して−３０〜＋３０℃、且つ、第２有機化合物層（発光層）を構成している有機化合物の分解温度を超えない温度で裏面伝熱方式の熱処理を行うことが好ましい。【００６６】
第１湿式塗布機２０３ｂで第１有機化合物層（正孔輸送層）形成用塗布液を塗布するときの帯状可撓性支持体Ａの搬送速度のバラツキと、第２湿式塗布機２０６ｂとで第２有機化合物層（発光層）形成用塗布液を塗布するときの帯状可撓性支持体Ａの搬送速度のバラツキは、長手方向の塗膜厚みムラに伴う発光輝度ムラ、等を考慮し、平均搬送速度に対して０．２〜１０％であることが好ましい。【００６７】
第１湿式塗布機２０３ｂで使用する第１有機化合物層（正孔輸送層）形成用塗布液、及び第２湿式塗布機２０６ｂとで使用する第２有機化合物層（発光層）形成用塗布液は、少なくとも１種の有機化合物材料と少なくとも１種の溶媒とを有し、塗布時のハジキ、塗布ムラ等を考慮し、表面張力が１５×１０-3〜５５×１０-3Ｎ／ｍであることが好ましい。【００６８】
本図で示される有機ＥＬ素子の構成層である第１有機化合物層（正孔輸送層）及び第２有機化合物層（発光層）を形成する工程は、第１有機化合物層（正孔輸送層）及び第２有機化合物層（発光層）の性能維持、異物付着に伴う故障欠陥の防止等を考慮し、露点温度−２０℃以下、且つＪＩＳＢ  ９９２０に準拠し、測定した清浄度がクラス５以下で、且つ、第１乾燥部、第２乾燥部を除き１０〜４５℃の大気圧条件下で形成されることが好ましい。本発明において清浄度がクラス５以下とは、クラス３〜クラス５を示す。【００６９】
回収部２０９で、第２有機化合物層（発光層）２０１ｄが形成された帯状可撓性支持体Ｂ２０１ｅを巻き芯に巻取りロール状とし、ロール状の帯状可撓性支持体Ｂ２０１ｆが作製される。ロール状に巻取る際は通気性のある合紙や素子面に空間を持たせるスペーサテープを介し巻取ることが好ましい。【００７０】
作製されたロール状の帯状可撓性支持体Ｂ２０１ｆは、第１有機化合物層（正孔輸送層）及び第２有機化合物層（発光層）の性能維持、未発光故障等を考慮し、１０-5〜１０Ｐａの減圧条件下で保管することが好ましい。収納期間は、第１有機化合物層（正孔輸送層）及び第２有機化合物層（発光層）の劣化に起因する酸素や微量水分の除去を考慮し、１時間〜２００時間が好ましい。場合によっては加熱環境下で保存してもよい。【００７１】
本発明に係わる第１電極を含む陽極層が既に形成された帯状可撓性支持体に使用する帯状可撓性支持体としては、透明樹脂フィルムが挙げられる。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート（ＴＡＣ）、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル或いはポリアリレート類、アートン（商品名ＪＳＲ社製）或いはアペル（商品名三井化学社製）といったシクロオレフィン系樹脂等を挙げられる。【００７２】
陽極としては、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としてはＡｕ等の金属、ＣｕＩ、インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）、ＳｎＯ2、ＺｎＯ等の導電性透明材料が挙げられる。又、ＩＤＩＸＯ（Ｉｎ2Ｏ3・ＺｎＯ）等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。陽極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により、薄膜を形成させ、フォトリソグラフィ法で所望の形状のパターンを形成してもよく、或いはパターン精度をあまり必要としない場合は（１００μｍ以上程度）、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。或いは、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式など湿式製膜法を用いることも出来る。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を１０％より大きくすることが望ましく、又陽極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましい。更に膜厚は材料にもよるが、通常１０〜１０００ｎｍ、好ましくは１０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。【００７３】
陽極と有機化合物層（発光層）又は正孔輸送層の間、正孔注入層（陽極バッファー層）を存在させてもよい。注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されている。【００７４】
陽極バッファー層（正孔注入層）は、特開平９−４５４７９号公報、同９−２６００６２号公報、同８−２８８０６９号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモルファスカーボンバッファー層、ポリアニリン（エメラルディン）やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子バッファー層等が挙げられる。陽極バッファー層（正孔注入層）はごく薄い膜であることが望ましく、素材にもよるがその膜厚は０．１ｎｍ〜５μｍの範囲が好ましい。【００７５】
帯状可撓性支持体として使用する樹脂フィルムの表面にはガスバリア膜が必要に応じて形成されることが好ましい。ガスバリア膜としては無機物、有機物の被膜又はその両者のハイブリッド被膜が挙げられる。ガスバリア膜の特性としては、水蒸気透過度が０．０１ｇ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが好ましい。更には、酸素透過度１０-3ｍｌ／ｍ2／ｄａｙ以下、水蒸気透過度１０-5ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下の高バリア性フィルムであることが好ましい。【００７６】
バリア膜を形成する材料としては、水分や酸素など素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素などを用いることが出来る。更に該膜の脆弱性を改良するためにこれら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。バリア膜の形成方法については、特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法などを用いることが出来るが、特開２００４−６８１４３号に記載されているような大気圧プラズマ重合法によるものが特に好ましい。【００７７】
第１湿式塗布機２０３ｂと、第２湿式塗布機２０６ｂとに使用可能な湿式塗布機としては、例えば、ダイコート方式、スクリーン印刷方式、フレキソ印刷方式、インクジェット方式、メイヤーバー方式、キャップコート法、スプレー塗布法、キャスト法、ロールコート法、バーコート法、グラビアコート法等の塗布機の使用が可能である。これらの湿式塗布機の使用は有機化合物層の材料に応じて適宜選択することが可能となっている。【００７８】
本図に示す製造装置を使用し、第１電極を含む陽極層が形成された帯状可撓性支持体Ａを使用し、陽極層上に第１有機化合物層（正孔輸送層）と、第２有機化合物層（発光層）とを形成し帯状可撓性支持体Ｂとした後、帯状可撓性支持体Ｂを巻き芯に巻取りロール状の帯状可撓性支持体Ｂにする有機化合物層の形成方法により蒸着方式に比べ、次の効果が得られる。【００７９】
１）有機物質からなる一つ又は複数の発光層を形成するのに使用する有機化合物の使用効率が高くコストを抑えることが可能となる。【００８０】
２）大面積の有機ＥＬ素子を作るため必要とする大面積の有機化合物層の形成が容易となる。【００８１】
３）有機化合物層の形成が短時間に出来るため、稼働率の向上が可能となる。【００８２】
４）大面積の有機ＥＬ素子を作るため必要とする大面積の有機化合物層の形成が容易となる。【００８３】
図３は有機ＥＬ素子を作製する工程の一例を示す模式図である。尚、本図は塗布・乾燥部が２ユニット有する製造装置の場合を示しており、塗布・乾燥部は図２で示した塗布・乾燥部と同じであるため説明は省略する。【００８４】
図中、３は有機ＥＬ素子を作製する製造装置を示す。製造装置３は図２で示した有機ＥＬ素子を構成する有機化合物層を大気圧条件下で形成する塗布・乾燥部（図２に示す塗布・乾燥部２０３と同じ）と、形成された有機化合物層上に第２電極を含む陰極層を減圧条件下で形成する陰極層形成部４と、形成された陰極層上に接着剤を介して封止フィルムを大気圧条件下で貼着する封止フィルム貼着部５と、回収部６とを有している。【００８５】
本図で示される有機ＥＬ素子を作製する製造装置３は、各塗布・乾燥部２〜封止フィルム貼着工程５間の物の移動は全てロール状の形態で行われ、回収部も巻き芯に巻取られたロール状態で回収される。尚、封止フィルム貼着後、シート状に断裁して回収してもよい。【００８６】
陰極層形成部４は、材料の供給部４０１と、第１陰極層形成部４０２と、第２陰極層形成部４０３と、第２巻取り部４０４とを有しており、供給部４０１から回収部４０４迄が減圧条件下で連続的に行われる様になっている。材料の供給部４０１では、製造装置２で作製された、帯状可撓性支持体上に、陽極と、正孔輸送層と、有機化合物層（発光層）とが形成され、巻き芯に巻取られたロール状の帯状可撓性支持体Ｂ２０１ｆが供給される。【００８７】
供給部４０１から巻き出された有機化合物層（発光層）を有する帯状可撓性支持体Ｂ２０１ｆの有機化合物層（発光層）上に第１陰極層形成部４０２で電子注入層２０１ｇが形成される。４０２ａは蒸着装置を示し、４０２ｂは蒸発源容器を示す。【００８８】
第２陰極層形成部４０３では、第１陰極層形成部４０２で形成された電子注入層２０１ｇ上に第２電極の陰極層２０１ｈが形成される。４０３ａは蒸着装置を示し、４０３ｂは蒸発源容器を示す。【００８９】
第２陰極層形成部４０３で第２電極の陰極層２０１ｈが形成さた帯状可撓性支持体Ｃ２０１ｉは回収部４０４で巻き芯に巻取られロール状の帯状可撓性支持体Ｃ２０１ｊとなる。【００９０】
本図では、第１陰極層形成部４０２、第２陰極層形成部４０３が蒸着装置の場合を示したが、陰極層形成方法については、特に限定はなく、例えばスパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法などを用いることが出来る。【００９１】
封止フィルム貼着部５は、材料の供給部５０１と、貼着部５０２と、回収部５０３とを有しており、供給部５０１から回収部６迄が工程を大気圧条件下で連続的に行われる様になっている。供給部５０１では、陰極層形成部４でで作製された、帯状可撓性支持体上に、陽極と、正孔輸送層と、有機化合物層（発光層）と、電子注入層と、陰極層が形成が形成された帯状可撓性支持体Ｃ２０１ｉが、巻き芯に巻取られたロール状の帯状可撓性支持体Ｃ２０１ｊが供給される。尚、封止フィルム貼着工程５は、有機化合物層（発光層）の劣化を防止するために不活性ガス環境下で行うことが好ましい。【００９２】
貼着部５０２は、供給部５０１から繰り出された帯状可撓性支持体Ｃ２０１ｉの陰極層上に接着剤を塗工する塗工装置５０２ａと、封止フィルム供給部５０２ｂと、圧着ロール５０２ｃと、硬化処理部５０２ｄとを有している。５０２ｂ１は巻き芯に巻取られたロール状の封止フィルムを示す。【００９３】
供給部５０１から巻き出され、塗工装置５０２ａで帯状可撓性支持体Ｃ２０１ｉの陰極層上に接着剤が連続的に塗工された後、封止フィルムが連続的に貼合され圧着ロール５０２ｃを通過することで陰極層上に封止フィルムが接着剤を介して連続的に貼着される。封止フィルム５０２ｂ２が接着剤を介して貼着された後、封止フィルムの貼着の硬化処理が行われる。接着剤の硬化処理が終了した段階で封止フィルム５０２ｂ２で保護された有機ＥＬ素子が作製され、回収部６で巻き芯に巻取りロール状とすることで封止フィルムで保護されたロール状の有機ＥＬ素子６０１の作製が終了する。この場合、封止フィルムを貼着した後、巻取らず断裁してシート状にしてもよい。他の符号は図２と同じである。【００９４】
第１陰極層形成部４０２で形成される電子注入層とは、電子を輸送する機能を有する材料からなり広い意味で電子輸送層に含まれる。電子注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されている。電子注入層（陰極バッファー層）は、特開平６−３２５８７１号公報、同９−１７５７４号公報、同１０−７４５８６号公報等にもその詳細が記載されており、具体的にはストロンチウムやアルミニウム等に代表される金属バッファー層、フッ化リチウムに代表されるアルカリ金属化合物バッファー層、フッ化マグネシウムに代表されるアルカリ土類金属化合物バッファー層、酸化アルミニウムに代表される酸化物バッファー層等が挙げられる。上記バッファー層（注入層）はごく薄い膜であることが望ましく、素材にもよるがその膜厚は０．１ｎｍ〜５μｍの範囲が好ましい。他に陰極側に隣接する電子輸送層に用いられる電子輸送材料（正孔阻止材料を兼ねる）としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることが出来、例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。更に、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることが出来る。更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることも出来る。【００９５】
又、８−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ）、トリス（５，７−ジクロロ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（２−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）亜鉛（Ｚｎｑ）等、及びこれらの金属錯体の中心金属がＩｎ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｃａ、Ｓｎ、Ｇａ又はＰｂに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることが出来る。その他、メタルフリーもしくはメタルフタロシアニン、又はそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることが出来る。又、ジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることが出来るし、正孔注入層、正孔輸送層と同様に、ｎ型−Ｓｉ、ｎ型−ＳｉＣ等の無機半導体も電子輸送材料として用いることが出来る。電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍである。電子輸送層は上記材料の１種又は２種以上からなる一層構造であってもよい。又、不純物をドープしたｎ性の高い電子輸送層を用いることも出来る。その例としては、特開平４−２９７０７６号公報、特開平１０−２７０１７２号公報、特開２０００−１９６１４０号公報、特開２００１−１０２１７５号公報、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）などに記載されたものが挙げられる。このようなｎ性の高い電子輸送層を用いることがより低消費電力の素子を作製することが出来るため好ましい。電子輸送層は上記電子輸送材料を、例えば、湿式塗布、真空蒸着法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することも出来る。本発明においては、例えば、図３に示される第３除電処理手段２０８の後に、図３に示される第２塗布・乾燥部２０６、第２加熱処理部２０７を配設し、電子輸送層を形成することも可能である。【００９６】
陰極としては、仕事関数の小さい（４ｅＶ以下）金属（電子注入性金属と称する）、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが用いられる。このような電極物質の具体例としては、ナトリウム、ナトリウム・カリウム合金、マグネシウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）混合物、インジウム、リチウム／アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。これらの中で、電子注入性及び酸化等に対する耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例えば、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）混合物、リチウム／アルミニウム混合物、アルミニウム等が好適である。陰極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することが出来る。又、陰極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましく、膜厚は通常１０ｎｍ〜５μｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。尚、発光した光を透過させるため、有機ＥＬ素子の陽極又は陰極の何れか一方が、透明又は半透明であれば発光輝度が向上し好都合である。【００９７】
又、陰極に上記金属を１〜２０ｎｍの膜厚で作製した後に、陽極の説明で挙げた導電性透明材料をその上に作製することで、透明又は半透明の陰極を作製することが出来、これを応用することで陽極と陰極の両方が透過性を有する素子を作製することが出来る。【００９８】
使用する封止フィルムとしては、ガスバリア膜と同じ材質のバリアフィルム及び金属膜を使用することが可能である。接着剤として具体的には、アクリル酸系オリゴマー、メタクリル酸系オリゴマーの反応性ビニル基を有する光硬化及び熱硬化型接着剤、２−シアノアクリル酸エステルなどの湿気硬化型等の接着剤、エポキシ系などの熱及び化学硬化型（二液混合）等の接着剤、又、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリオレフィン系のホットメルト型接着剤、カチオン硬化タイプの紫外線硬化型エポキシ樹脂接着剤を挙げることが出来る。【００９９】
尚、有機化合物層が熱処理により劣化する場合があるので、室温から８０℃までに接着硬化出来るものが好ましい。又、前記接着剤中に乾燥剤を分散させておいてもよい。封止部分への接着剤の塗布は、ダイコートや印刷法が利用可能である。【０１００】
本図に示す様に、大気圧中で湿式塗布方式で塗布し有機化合物層用塗膜を形成する工程と、有機化合物層上に減圧条件下で電子注入層、陰極層を形成する工程と、陰極層上に封止フィルムを大気圧中で貼着する工程を有し、各工程間の物流をロール状態で行い、これらの各工程を経て有機ＥＬ素子を作製することで、図２で示した有機化合物層形成方法の効果に加えて次の効果が得られる。【０１０１】
１）有機化合物層形成する塗布・乾燥工程と、第２電極を含む陰極層を形成する陰極層形成工程と、封止フィルム貼着工程とを分離することで、各工程での最適化を図ることが容易になり、品質が安定すると共に生産性の向上が可能となった。【０１０２】
２）有機物質からなる一つ又は複数の発光層を形成するのに使用する有機化合物の使用効率が高くコストを抑えることが可能となる。【０１０３】
図４は有機ＥＬ素子を作製する工程の他の一例を示す模式図である。尚、本図は塗布・乾燥部が２ユニット有する製造装置の場合を示しており、塗布・乾燥部は図２で示した塗布・乾燥部と同じであるため説明は省略する。【０１０４】
図中、７は有機ＥＬ素子を作製する製造装置を示す。製造装置７は図２で示した有機ＥＬ素子を構成する有機化合物層を大気圧条件下で形成する塗布・乾燥部（図２に示す塗布・乾燥部２０３と同じ）と、形成された有機化合物層上に第２電極を含む陰極層と、封止層とを減圧条件下で形成する陰極層・封止層形成部８と、回収部９を有している。本図で示される有機ＥＬ素子を作製する製造装置７は、各塗布・乾燥部２と、陰極層・封止層形成部８との間の物の移動はロール状の形態で行われ、回収部も巻き芯に巻取られたロール状態で回収される。【０１０５】
陰極層・封止層形成部８は、供給部８０１と、第１陰極層形成部８０２と、第２陰極層形成部８０３と、封止層形成部８０４と、回収部９とを有しており、材料供給部８０１から回収部９迄が減圧条件下で連続的に行われる様になっている。材料供給部８０１では、製造装置２で作製された、帯状可撓性支持体上に、陽極と、正孔輸送層と、有機化合物層（発光層）とが形成され、巻き芯に巻取られたロール状の帯状可撓性支持体Ｂ２０１ｆが供給される。【０１０６】
供給部８０１から巻き出された有機化合物層（発光層）を有する帯状可撓性支持体Ｂ２０１ｆの有機化合物層（発光層）上に第１陰極層形成部８０２で電子注入層２０１ｉが形成される。８０２ａは蒸着装置を示し、８０２ｂは蒸発源容器を示す。【０１０７】
第２陰極層形成部８０３では、第１陰極層形成部８０２で形成された電子注入層２０１ｉ上に陰極層２０１ｊが形成される。８０３ａは蒸着装置を示し、８０３ｂは蒸発源容器を示す。封止層形成部８０４では、陰極層の上に封止層が形成され、封止層で保護された有機ＥＬ素子が作製され、回収部９で巻き芯に巻取りロール状とすることで封止フィルムで保護されたロール状の有機ＥＬ素子９０１の作製が終了する。他の符号は図２と同じである。【０１０８】
本図に示される封止層形成部８０４では、陰極層の外側に無機物、有機物の層を形成する方法で封止膜を形成する方法をとることが好ましい。この場合、膜を形成する材料としては、水分や酸素など素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素などを用いることが出来る。更に、膜の脆弱性を改良するためにこれら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることが好ましい。これらの膜の形成方法については、特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法などを用いることが出来る。陰極層・封止層形成部８で形成される電子注入層、陰極層は図３で示した陰極層形成部４で形成される電子注入層、陰極層と同じである。【０１０９】
本図に示す様に、大気圧中で湿式塗布方式で塗布し有機化合物層用塗膜を形成する工程と、有機化合物層上に減圧条件下で電子注入層、陰極層と、封止層を形成する工程を有し、各工程間の物流をロール状態で行い、これらの各工程を経て有機ＥＬ素子を作製することで図２で示した有機化合物層形成方法の効果に加えて次の効果が得られる。【０１１０】
１）有機化合物層形成する塗布・乾燥工程と、第２電極を含む陰極層を形成する陰極層形成工程と、封止フィルム貼着工程とを分離することで、各工程での最適化を図ることが容易になり、品質が安定すると共に生産性の向上が可能となった。【０１１１】
２）有機物質からなる一つ又は複数の発光層を形成するのに使用する有機化合物の使用効率が高くコストを抑えることが可能となる。【０１１２】
図５は図２に示す有機有機化合物層までを形成する製造装置を使用し、有機有機化合物層までを形成する概略フロー図である。【０１１３】
Ｓ１では巻き芯に巻かれ、少なくとも第１電極を含む陽極層が形成されロール状の帯状可撓性支持体２０１ａが供給部に用意される。本図に示される帯状可撓性支持体２０１ｎ上には既に、第１電極層２０１ｏが形成された状態となっている。第１電極層２０１ｏは、帯状可撓性支持体２０１ｎ上に一定の大きさと間隔で長さ方向に連続してバリア層上に形成されている。尚、帯状可撓性支持体２０１ｎと第１電極層２０１ｏとの間にバリア層を設けてもよい。この場合、バリア層は、帯状可撓性支持体２０１ｎの全面に形成されている。ロール状の帯状可撓性支持体２０１ａは、第１電極層２０１ｏが内側に巻かれた状態となっている。【０１１４】
Ｓ２では、洗浄表面改質処理部により基材供給部から巻き出された帯状可撓性支持体の洗浄表面改質処理が行われる。【０１１５】
Ｓ３では、第１塗布部で湿式塗布機により、大気圧中で第１有機化合物層（正孔輸送層）形成用塗布液が塗布される。このとき第１有機化合物層（正孔輸送層）形成用塗布液は第１電極層２０１ｏの片方の端部２０１ｏ１を残して塗布される。塗布後は、第１乾燥部の第１乾燥装置により乾燥が行われ第１有機化合物層（正孔輸送層）２０１ｃが形成される。引き続き、第１加熱処理装置により第１有機化合物層（正孔輸送層）の加熱処理が行われる。この後、除電処理手段により形成された正孔輸送層の表面の除電処理がなされる。【０１１６】
Ｓ４では、形成された第１有機化合物層（正孔輸送層）２０１ｃの上に第２塗布部で湿式塗布機により、大気圧中で第２有機化合物層（発光層）形成用塗布液が塗布され、第２乾燥部の第２乾燥装置により乾燥が行われ第２有機化合物層（発光層）２０１ｄが形成される。引き続き、第２加熱処理装置により第２有機化合物層（発光層）２０１ｅの加熱処理が行われる。第２有機化合物層（発光層）２０１ｄは、第１有機化合物層（正孔輸送層）２０１ｃと同じ塗布幅で塗布される。尚、第２有機化合物層（発光層）が複数の場合は、積層される第２有機化合物層（発光層）の数に合わせて塗布・乾燥・加熱処理が繰り返されることで積層された有機化合物層（発光層）が形成される。この後、除電処理手段により形成された第２有機化合物層（発光層）２０１ｅの表面の除電処理がなされる。【０１１７】
Ｓ５では、第２有機化合物層（発光層）を有する帯状可撓性支持体が、第２有機化合物層（発光層）を内側にして巻き芯に巻取られロール状の帯状可撓性支持体２０１ｈの形態で、次工程に移動する間、１０-5〜１０Ｐａの減圧条件下で保管される。【０１１８】
図６は図３に示す有機ＥＬ素子を製造する工程とを使用し、有機ＥＬ素子を製造する概略フロー図である。尚、有機化合物層（発光層）を形成するまでは、図５に示すＳ１〜Ｓ５までと同じであるため省略する。【０１１９】
Ｓ′１では、図５のＳ５で示した第２有機化合物層（発光層）２０１ｅを有する帯状可撓性支持体が巻き芯に巻取られ、ロール状の帯状可撓性支持体Ｂ２０１ｆが用意される。【０１２０】
Ｓ′２では、帯状可撓性支持体上の第２有機化合物層（発光層）２０１ｅ上に５×１０-4Ｐａの減圧条件下で厚さ０．５ｎｍの電子注入層（ＬｉＦ層）２０１ｇが蒸着方式で形成される。電子注入層の形成は、蒸着時に第１電極層２０１ｏの片方の端部２０１ｏ１が被覆されないようにマスクを掛けた状態で行われる。【０１２１】
Ｓ′３では、形成された電子注入層２０１ｇ上に５×１０-4Ｐａの減圧条件下で電子注入層２０１ｉと厚さ１００ｎｍの第２電極層（アルミニウム層）２０１ｈが蒸着方式で形成される。第２電極層の形成は、第１電極層の片方の端部２０１ｏ１と反対側の端部が電子注入層の幅より広くし、帯状可撓性支持体２０１ｎ上になるように形成される。【０１２２】
Ｓ′４では、第２電極を含む陰極層（電子注入層２０１ｇと第２電極層２０１ｈ）が形成された、帯状可撓性支持体が減圧条件下で巻き芯に巻取られロール状の帯状可撓性支持体２０１ｊとし、次工程に移動される。【０１２３】
Ｓ′５では、第１電極層の片方の端部２０１０１と、第２電極を含む陰極層の片方の端部２０１ｈ１とを外した状態で、第２電極を含む陰極層上を覆う様に接着剤２０１ｐが大気圧中で塗布される。接着剤としては、例えばＵＶ硬化性のエポキシ樹脂（ナガセケムテックス（株）製ＵＶレジン  ＸＮＲ５５７０−Ｂ１）をダイコートにより塗布した。引き続き、塗工された接着剤の面積に合わせ封止フィルム供給部から供給された封止フィルム５０２ｂ２が貼合され、圧着ロールにより貼着し、ＵＶランプを陰極側から照射し硬化処理することで有機ＥＬ素子が形成された帯状可撓性支持体（封止フィルムで保護された有機ＥＬ素子）が作製される。尚、接着剤のエポキシ樹脂は熱硬化型であってもよい。その場合は、貼り合せ時にヒートロール間を通すことにより加熱圧着を行う。【０１２４】
Ｓ′６では、有機ＥＬ素子が形成された帯状可撓性支持体（封止フィルムで保護された有機ＥＬ素子）を巻き芯に巻取りロール状とすることで封止フィルムで保護されたロール状の有機ＥＬ素子６０１の作製が終了する。尚、必要に応じて、連続的に第１電極層の大きさに合わせシート状に断裁してもよい。尚、断裁した場合は、接着剤を有機化合物層（発光層）の外周のみにディスペンサ、スクリーン印刷等で形成することが好ましい。【０１２５】
図７は図４に示す有機ＥＬ素子を製造する工程とを使用し、有機ＥＬ素子を製造する概略フロー図である。尚、有機化合物層（発光層）を形成するまでは、図５に示すＳ１〜Ｓ５までと同じであるため省略する。【０１２６】
Ｓ′′１では、図５のＳ５で示した第２有機化合物層（発光層）２０１ｅを有する帯状可撓性支持体が巻き芯に巻取られ、ロール状の帯状可撓性支持体２０１ｆが用意される。【０１２７】
Ｓ′′２では、帯状可撓性支持体上の第２有機化合物層（発光層）２０１ｅ上に５×１０-4Ｐａの減圧条件下で厚さ０．５ｎｍの電子注入層（ＬｉＦ層）２０１ｇが蒸着方式で形成される。電子注入層の形成は、蒸着時に第１電極層の片方の端部２０１ｏ１が被覆されないようにマスクを掛けた状態で行われる。【０１２８】
Ｓ′′３では、形成された電子注入層２０１ｇ上に５×１０-4Ｐａの減圧条件下で厚さ１００ｎｍの第２電極層（アルミニウム層）２０１ｈが蒸着方式で形成される。第２電極を含む陰極層の形成は、第１電極層の片方の端部２０１ｏ１と反対側の端部が電子注入層２０１ｇの幅より広くし、帯状可撓性支持体２０１ｎ上になるように形成される。【０１２９】
Ｓ′′４では、引き続き形成された第２電極層（陰極層）２０１ｈ上に、第１電極層（陽極層）２０１ｏの片方の端部２０１ｏ１と、第２電極層（陰極層）２０１ｈの片方の端部２０１ｈ１とを外した状態で、第２電極層２０１ｊ上を覆う様に封止層２０１ｑが減圧条件下で蒸着方式で形成され、有機ＥＬ素子が形成された帯状可撓性支持体が作製される。【０１３０】
Ｓ′′５では、有機ＥＬ素子が形成された帯状可撓性支持体（封止層で保護された有機ＥＬ素子）を巻き芯に巻取りロール状とすることで封止層で保護されたロール状の有機ＥＬ素子９０１の作製が終了する。尚、必要に応じて、連続的に第１電極層の大きさに合わせシート状に断裁してもよい。尚、断裁した場合は、接着剤を有機化合物層（発光層）の外周のみにディスペンサ、スクリーン印刷等で形成することが好ましい。【０１３１】
この後、連続的に第１電極層の大きさに合わせシート状に断裁してもよいし、一旦、巻き芯に巻取りロール状としてもかまわない。【０１３２】
次に、本発明に係る有機ＥＬ素子の構成に使用される他の構成部材に付き説明する。有機化合物層（発光層）に隣接して設けられる層として阻止層が挙げられる。阻止層としては正孔阻止層、電子阻止層が挙げられる。阻止層は、有機化合物薄膜の基本構成層の他に必要に応じて設けられるものである。例えば、特開平１１−２０４２５８号公報、同１１−２０４３５９号公報、及び「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の２３７頁等に記載されている正孔阻止（ホールブロック）層がある。正孔阻止層とは広い意味では電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることが出来る。又、後述する電子輸送層の構成を必要に応じて、本発明に係わる正孔阻止層として用いることが出来、正孔阻止層は、有機化合物層（発光層）に隣接して設けられていることが好ましい。【０１３３】
有機化合物層（発光層）が、複数の発光色の異なる発光層を有する場合には、その発光極大波長が最も短波にある発光層が、全発光層中、最も陽極に近いことが好ましいが、このような場合、該最短波層と、該層の次に陽極に近い発光層との間に正孔阻止層を追加して設けることが好ましい。更には、該位置に設けられる正孔阻止層に含有される化合物の５０質量％以上が、前記最短波発光層のホスト化合物に対し、そのイオン化ポテンシャルが０．３ｅＶ以上大きいことが好ましい。【０１３４】
イオン化ポテンシャルは化合物のＨＯＭＯ（最高被占分子軌道）レベルにある電子を真空準位に放出するのに必要なエネルギーで定義され、例えば下記に示すような方法により求めることが出来る。（１）米国Ｇａｕｓｓｉａｎ社製の分子軌道計算用ソフトウェアであるＧａｕｓｓｉａｎ９８（Ｇａｕｓｓｉａｎ９８、Ｒｅｖｉｓｉｏｎ  Ａ．１１．４，Ｍ．Ｊ．Ｆｒｉｓｃｈ，ｅｔ  ａｌ，Ｇａｕｓｓｉａｎ，Ｉｎｃ．，Ｐｉｔｔｓｂｕｒｇｈ  ＰＡ，２００２．）を用い、キーワードとしてＢ３ＬＹＰ／６−３１Ｇ＊を用いて構造最適化を行うことにより算出した値（ｅＶ単位換算値）の小数点第２位を四捨五入した値としてイオン化ポテンシャルを求めることが出来る。この計算値が有効な背景には、この手法で求めた計算値と実験値の相関が高いためである。（２）イオン化ポテンシャルは光電子分光法で直接測定する方法により求めることも出来る。例えば、理研計器社製の低エネルギー電子分光装置「Ｍｏｄｅｌ  ＡＣ−１」を用いて、或いは紫外光電子分光として知られている方法を好適に用いることが出来る。【０１３５】
一方、電子阻止層とは広い意味では正孔輸送層の機能を有し、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることが出来る。又、後述する正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることが出来る。本発明に係わる正孔阻止層、電子輸送層の膜厚としては好ましくは３ｎｍ〜１００ｎｍであり、更に好ましくは５ｎｍ〜３０ｎｍである。【０１３６】
本発明の有機ＥＬ素子を構成している有機化合物層（発光層）には、有機化合物層（発光層）の発光効率を高くするために公知のホスト化合物と公知のリン光性化合物（リン光発光性化合物とも言う）を含有することが好ましい。【０１３７】
ホスト化合物とは、発光層に含有される化合物の内で、その層中での質量比が２０％以上であり、且つ室温（２５℃）においてリン光発光のリン光量子収率が、０．１未満の化合物と定義される。好ましくはリン光量子収率が０．０１未満である。ホスト化合物を複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機ＥＬ素子を高効率化することが出来る。又、リン光性化合物を複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることが出来る。リン光性化合物の種類、ドープ量を調整することで白色発光が可能であり、照明、バックライトへの応用も出来る。【０１３８】
これらのホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、且つ発光の長波長化を防ぎ、尚且つ高Ｔｇ（ガラス転移温度）である化合物が好ましい。公知のホスト化合物としては、例えば、特開２００１−２５７０７６号公報、同２００２−３０８８５５号公報、同２００１−３１３１７９号公報、同２００２−３１９４９１号公報、同２００１−３５７９７７号公報、同２００２−３３４７８６号公報、同２００２−８８６０号公報、同２００２−３３４７８７号公報、同２００２−１５８７１号公報、同２００２−３３４７８８号公報、同２００２−４３０５６号公報、同２００２−３３４７８９号公報、同２００２−７５６４５号公報、同２００２−３３８５７９号公報、同２００２−１０５４４５号公報、同２００２−３４３５６８号公報、同２００２−１４１１７３号公報、同２００２−３５２９５７号公報、同２００２−２０３６８３号公報、同２００２−３６３２２７号公報、同２００２−２３１４５３号公報、同２００３−３１６５号公報、同２００２−２３４８８８号公報、同２００３−２７０４８号公報、同２００２−２５５９３４号公報、同２００２−２６０８６１号公報、同２００２−２８０１８３号公報、同２００２−２９９０６０号公報、同２００２−３０２５１６号公報、同２００２−３０５０８３号公報、同２００２−３０５０８４号公報、同２００２−３０８８３７号公報等に記載の化合物が挙げられる。【０１３９】
有機化合物層（発光層）が複数の発光層を有する場合、これら各層のホスト化合物の５０質量％以上が同一の化合物であることが、有機層全体に渡って均質な膜性状を得やすいことから好ましく、更にはホスト化合物のリン光発光エネルギーが２．９ｅＶ以上であることが、ドーパントからのエネルギー移動を効率的に抑制し、高輝度を得る上で有利となることからより好ましい。リン光発光エネルギーとは、ホスト化合物を基板上に１００ｎｍの蒸着膜のフォトルミネッセンスを測定し、そのリン光発光の０−０バンドのピークエネルギーを言う。【０１４０】
ホスト化合物は、有機ＥＬ素子の経時での劣化（輝度低下、膜性状の劣化）、光源としての市場ニーズ等を考慮し、リン光発光エネルギーが２．９ｅＶ以上且つＴｇが９０℃以上のものであることが好ましい。即ち、輝度と耐久性の両方を満足するためには、リン光発光エネルギーが２．９ｅＶ以上且つＴｇが９０℃以上のものであることが好ましい。Ｔｇは、更に好ましくは１００℃以上である。【０１４１】
リン光性化合物（リン光発光性化合物）とは、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、室温（２５℃）にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が、２５℃において０．０１以上の化合物である。先に説明したホスト化合物と合わせ使用することで、より発光効率の高い有機ＥＬ素子とすることが出来る。【０１４２】
本発明に係るリン光性化合物は、リン光量子収率は好ましくは０．１以上である。上記リン光量子収率は、第４版実験化学講座７の分光IIの３９８頁（１９９２年版、丸善）に記載の方法により測定出来る。溶液中でのリン光量子収率は種々の溶媒を用いて測定出来るが、本発明に用いられるリン光性化合物は、任意の溶媒の何れかにおいて上記リン光量子収率が達成されればよい。【０１４３】
リン光性化合物の発光は原理としては２種挙げられ、一つはキャリアが輸送されるホスト化合物上出来ャリアの再結合が起こってホスト化合物の励起状態が生成し、このエネルギーをリン光性化合物に移動させることでリン光性化合物からの発光を得るというエネルギー移動型、もう一つはリン光性化合物がキャリアトラップとなり、リン光性化合物上でキャリアの再結合が起こりリン光性化合物からの発光が得られるというキャリアトラップ型であるが、何れの場合においても、リン光性化合物の励起状態のエネルギーはホスト化合物の励起状態のエネルギーよりも低いことが条件である。【０１４４】
リン光性化合物は、有機ＥＬ素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることが出来る。リン光性化合物としては、好ましくは元素の周期表で８族〜１０族の金属を含有する錯体系化合物であり、更に好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、又は白金化合物（白金錯体系化合物）、希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。【０１４５】
本発明においては、リン光性化合物のリン光発光極大波長としては特に制限されるものではなく、原理的には中心金属、配位子、配位子の置換基等を選択することで得られる発光波長を変化させることが出来る。【０１４６】
本発明の有機ＥＬ素子や本発明に係る化合物の発光する色は、「新編色彩科学ハンドブック」（日本色彩学会編、東京大学出版会、１９８５）の１０８頁の図４．１６において、分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング社製）で測定した結果をＣＩＥ色度座標に当てはめたときの色で決定される。【０１４７】
本発明で言うところの白色素子とは、２℃視野角正面輝度を上記方法により測定した際に、１０００Ｃｄ／ｍ2でのＣＩＥ１９３１  表色系における色度がＸ＝０．３３±０．０７、Ｙ＝０．３３±０．０７の領域内にあることを言う。【０１４８】
本発明の有機ＥＬ素子の発光の室温における外部取り出し効率は１％以上であることが好ましく、より好ましくは５％以上である。ここに、外部取り出し量子効率（％）＝有機ＥＬ素子外部に発光した光子数／有機ＥＬ素子に流した電子数×１００である。【０１４９】
又、カラーフィルター等の色相改良フィルター等を併用しても、有機ＥＬ素子からの発光色を蛍光体を用いて多色へ変換する色変換フィルターを併用してもよい。色変換フィルターを用いる場合においては、有機ＥＬ素子の発光のλｍａｘは４８０ｎｍ以下が好ましい。【０１５０】
封止部材（図１に示される封止膜、封止フィルム）と有機ＥＬ素子の表示領域との間隙には、気相及び液相では、窒素、アルゴン等の不活性気体や、フッ化炭化水素、シリコンオイルのような不活性液体を注入することが好ましい。又、真空とすることも可能である。又、内部に吸湿性化合物を封入することも出来る。吸湿性化合物としては例えば金属酸化物（例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム等）、硫酸塩（例えば、硫酸ナトリウム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸コバルト等）、金属ハロゲン化物（例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、フッ化セシウム、フッ化タンタル、臭化セリウム、臭化マグネシウム、沃化バリウム、沃化マグネシウム等）、過塩素酸類（例えば過塩素酸バリウム、過塩素酸マグネシウム等）等が挙げられ、硫酸塩、金属ハロゲン化物及び過塩素酸類においては無水塩が好適に用いられる。【０１５１】
本発明の有機ＥＬ素子は、発光層で発生した光を効率よく取り出すために以下に示す方法を併用することが好ましい。有機ＥＬ素子は、空気よりも屈折率の高い（屈折率が１．７〜２．１程度）層の内部で発光し、発光層で発生した光の内１５％から２０％程度の光しか取り出せないことが一般的に言われている。これは、臨界角以上の角度θで界面（透明基板と空気との界面）に入射する光は、全反射を起こし素子外部に取り出すことが出来ないことや、透明電極ないし発光層と透明基板との間で光が全反射を起こし、光が透明電極ないし発光層を導波し、結果として、光が素子側面方向に逃げるためである。【０１５２】
この光の取り出しの効率を向上させる手法としては、例えば、透明基板表面に凹凸を形成し、透明基板と空気界面での全反射を防ぐ方法（米国特許第４，７７４，４３５）。基板に集光性を持たせることにより効率を向上させる方法（特開昭６３−３１４７９５号公報）。素子の側面等に反射面を形成する方法（特開平１−２２０３９４号公報）。基板と発光体の間に中間の屈折率を持つ平坦層を導入し、反射防止膜を形成する方法（特開昭６２−１７２６９１号公報）。基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法（特開２００１−２０２８２７号公報）。基板、透明電極層や発光層の何れかの層間（含む、基板と外界間）に回折格子を形成する方法（特開平１１−２８３７５１号公報）などがある。【０１５３】
本発明においては、これらの方法を有機ＥＬ素子と組み合わせて用いることが出来るが、基板と発光体の間に基板よりも低屈折率を持つ平坦層を導入する方法、或いは基板、透明電極層や発光層の何れかの層間（含む、基板と外界間）に回折格子を形成する方法を好適に用いることが出来る。本発明においては、これらの手段を組み合わせることにより、更に高輝度或いは耐久性に優れた素子を得ることが出来る。【０１５４】
透明電極と透明基板の間に低屈折率の媒質を光の波長よりも長い厚みで形成すると、透明電極から出てきた光は、媒質の屈折率が低いほど、外部への取り出し効率が高くなる。低屈折率層としては、例えば、エアロゲル、多孔質シリカ、フッ化マグネシウム、フッ素系ポリマーなどが挙げられる。透明基板の屈折率は一般に１．５〜１．７程度であるので、低屈折率層は、屈折率がおよそ１．５以下であることが好ましい。又、更に１．３５以下であることが好ましい。低屈折率媒質の厚みは、媒質中の波長の２倍以上となるのが望ましい。これは、低屈折率媒質の厚みが、光の波長程度になってエバネッセントで染み出した電磁波が基板内に入り込む膜厚になると、低屈折率層の効果が薄れるからである。全反射を起こす界面もしくは何れかの媒質中に回折格子を導入する方法は、光取り出し効率の向上効果が高いという特徴がある。この方法は、回折格子が１次の回折や、２次の回折といった所謂ブラッグ回折により、光の向きを屈折とは異なる特定の向きに変えることが出来る性質を利用して、発光層から発生した光の内、層間での全反射等により外に出ることが出来ない光を、何れかの層間もしくは、媒質中（透明基板内や透明電極内）に回折格子を導入することで光を回折させ、光を外に取り出そうとするものである。導入する回折格子は、二次元的な周期屈折率を持っていることが望ましい。これは、発光層で発光する光はあらゆる方向にランダムに発生するので、ある方向にのみ周期的な屈折率分布を持っている一般的な１次元回折格子では、特定の方向に進む光しか回折されず、光の取り出し効率がさほど上がらない。しかしながら、屈折率分布を二次元的な分布にすることにより、あらゆる方向に進む光が回折され、光の取り出し効率が上がる。【０１５５】
回折格子を導入する位置としては前述のとおり、何れかの層間もしくは、媒質中（透明基板内や透明電極内）でもよいが、光が発生する場所である有機発光層の近傍が望ましい。このとき、回折格子の周期は、媒質中の光の波長の約１／２〜３倍程度が好ましい。回折格子の配列は、正方形のラチス状、三角形のラチス状、ハニカムラチス状など、２次元的に配列が繰り返されることが好ましい。【０１５６】
更に、本発明の有機ＥＬ素子は、発光層で発生した光を効率よく取り出すために、基板の光取出し側に、例えばマイクロレンズアレイ上の構造を設けるように加工したり、或いは、所謂集光シートと組み合わせることにより、特定方向、例えば素子発光面に対し正面方向に集光することにより、特定方向上の輝度を高めることが出来る。マイクロレンズアレイの例としては、基板の光取り出し側に一辺が３０μｍでその頂角が９０度となるような四角錐を２次元に配列する。一辺は１０μｍ〜１００μｍが好ましい。これより小さくなると回折の効果が発生して色付く、大きすぎると厚みが厚くなり好ましくない。【０１５７】
集光シートとしては、例えば液晶表示装置のＬＥＤバックライトで実用化されているものを用いることが可能である。このようなシートとして例えば、住友スリーエム社製輝度上昇フィルム（ＢＥＦ）などを用いることが出来る。プリズムシートの形状としては、例えば基材に頂角９０度、ピッチ５０μｍの△状のストライプが形成されたものであってもよいし、頂角が丸みを帯びた形状、ピッチをランダムに変化させた形状、その他の形状であってもよい。又、発光素子からの光放射角を制御するために光拡散板・フィルムを、集光シートと併用してもよい。例えば、（株）きもと製拡散フィルム（ライトアップ）などを用いることが出来る。【０１５８】
以下、実施例を挙げて本発明の具体的な効果を示すが、本発明の態様はこれに限定されるものではない。
【実施例】
【０１５９】
実施例１
〈ガスバリア層と第１電極層とをこの順番で有する帯状可撓性支持体の準備〉
厚さ２００μｍのポリエーテルスルホン（住友ベークライト社製フィルム、以下、ＰＥＳと略記する）を用い、以下に示す方法でガスバリア層と第１電極層とを形成し、巻き芯に巻取りロール状としたガスバリア層と第１電極層とをこの順番で有する帯状可撓性支持体を準備した。【０１６０】
（透明性ガスバリア層の形成）
準備したＰＥＳ上に、大気圧プラズマ放電処理法で、厚さ約９０ｎｍの透明ガスバリア層を形成した。ＪＩＳｋ−７１２９Ｂに準拠した方法により水蒸気透過率を測定した結果、１０-3ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であった。ＪＩＳｋ−７１２６Ｂに準拠した方法により酸素透過率を測定した結果、１０-3ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であった。【０１６１】
（第１電極層の形成）
形成したバリア層の上に厚さ１２０ｎｍのＩＴＯ（インジウムチンオキシド）を蒸着法によりパターニングを行い、第１電極層を形成した。【０１６２】
〈有機化合物層（発光層）の形成〉
図２に示す工程を使用し、準備した巻き芯に巻取りロール状としたガスバリア層と第１電極層とをこの順番で有する帯状可撓性支持体の第１電極層の上に以下に示す正孔輸送層形成用塗布液をエクストルージョン塗布機を使用した湿式塗布方式により塗布・乾燥した後、除電処理を行い、引き続き引き正孔輸送層上に、有機化合物層（発光層）形成用塗布液をエクストルージョン塗布機を使用した湿式塗布方式により表１に示す様に有機化合物層（発光層）形成用塗布液を塗布するときの搬送速度のバラツキを変えて以下に示す条件で塗布・乾燥し有機化合物層（発光層）を形成した後、除電処理し、室温と同じ温度になるまで冷却した後、巻き芯に巻取りロール状とし試料Ｎｏ．１０１〜１０８とした。尚、搬送速度は三菱電機（株）製  レーザドップラ速度計ＬＶ２０３で測定し、搬送速度のバラツキは平均速度に対する二乗平均平方根を％表示した値を示す。搬送速度のバラツキの変化は搬送速度を変化させることで行った。【０１６３】
正孔輸送層形成用塗布液を塗布する前に、帯状可撓性支持体の洗浄表面改質処理を、波長１８４．９ｎｍの低圧水銀ランプを使用し、照射強度１５ｍＷ／ｃｍ2、距離１０ｍｍで実施した。帯電除去処理は、微弱Ｘ線による除電器を使用し行った。【０１６４】
正孔輸送層形成用塗布液は乾燥後の厚みが５０ｎｍになるように塗布した。有機化合物層（発光層）形成用塗布液は乾燥後の厚みが１００ｎｍになるように塗布した。尚、搬送速度は２ｍ／ｍｉｎで実施した。【０１６５】
正孔輸送層形成用塗布液の準備
ポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、Ｂａｙｅｒ社製  Ｂｙｔｒｏｎ  Ｐ  ＡＩ  ４０８３）を純水で６５％、メタノール５％で希釈した溶液を正孔輸送層形成用塗布液として準備した。正孔輸送層形成用塗布液の表面張力は０．０４Ｎｍ（協和界面化学社製：表面張力計ＣＢＶＰ−Ａ３）であった。【０１６６】
有機化合物層形成用塗布液の準備
ホスト材のポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）にドーパント材Ｉｒ（ｐｐｙ）３を５質量％を１，２−ジクロロエタン中に溶解し１０％溶液とし有機化合物層形成用塗布液として準備した。有機化合物層形成用塗布液の表面張力は０．０３２Ｎｍ（協和界面化学社製：表面張力計ＣＢＶＰ−Ａ３）であった。有機化合物層のガラス転移温度は２２５℃であった。尚、本例は緑色の発光を有する材料を用いたが、更に青色、赤色及びドーパント材を使用し積層させることで、白色の有機ＥＬ素子を作製することが可能である。【０１６７】
乾燥及び加熱処理条件
正孔輸送層形成用塗布液を塗布した後、図２示す第１乾燥装置及び第１加熱処理装置を使用し、第１乾燥装置ではスリットノズル形式の吐出口から製膜面に向け高さ１００ｍｍ、吐出風速１ｍ／ｓ、幅手の風速分布５％、温度１００℃で溶媒を除去した後、引き続き、第１加熱処理装置で温度２００℃で裏面伝熱方式の熱処理を行い正孔輸送層を形成した。【０１６８】
有機化合物層（発光層）形成用塗布液を塗布した後、図２の（ｂ）に示す第２乾燥装置及び第２加熱処理装置を使用し、第２乾燥装置ではスリットノズル形式の吐出口から製膜面に向け高さ１００ｍｍ、吐出風速１ｍ／ｓ、幅手の風速分布５％、温度６０℃で溶媒を除去した後、引き続き、第２加熱処理装置で温度２２０℃で加熱処理を行い有機化合物層（発光層）を形成した。【０１６９】
塗布条件
正孔輸送層形成用塗布液の塗布時の温度は、２５℃、有機化合物層形成用塗布液の塗布時の温度は、２５℃の環境の大気環境下で行った。尚、湿式塗布工程は露点温度−２０℃以下且つ清浄度クラス５以下（ＪＩＳ  Ｂ  ９９２０）とした。【０１７０】
評価
作製した試料Ｎｏ．１０１〜１０８に付き、発光輝度ムラを以下に示す評価ランクに従って評価した結果を表１に示す。【０１７１】
発光輝度ムラの測定方法
１０Ｖの直流電圧を印加したときの発光輝度（ｃｄ／ｍ2）をコニカミノルタ（株）製
ＣＳ−１０００を用いて測定し、以下に示す計算式より求めた。【０１７２】
発光輝度ムラ（％）＝（最大発光輝度−最小発光輝度の差）／最大発光輝度×１００
発光輝度ムラの評価ランク
○：発光輝度ムラが１０％未満
△：発光輝度ムラが１０％以上、１５％未満
×：発光輝度ムラが１５％以上【０１７３】
【表１】
0005157440.tif 000002
【０１７４】
尚、試料Ｎｏ．１０１発光輝度ムラは良好な結果を示したが、搬送速度のバラツキをおさえるためには平均搬送速度を高めることが有効であるが搬送速度が上がるため、乾燥装置が必要以上に大きくなり、エネルギー効率が低下する懸念がある。本発明の有効性が確認された。【０１７５】
実施例２
実施例１で作製した試料Ｎｏ．１０３を作製するとき、有機化合物層（発光層）形成用塗布液を塗布した後の乾燥条件（吐出風速、有機化合物層（発光層）塗膜の幅手方向の風速分布）を表２に示す様に変えて乾燥した他は全て同じ条件とし、有機化合物層を形成した後室温まで冷却し、巻き芯に巻取りロール状とし試料Ｎｏ．２０１〜２１４とした。尚、吐出風速はカノマックス（株）製  熱風風速計  モデル６１１３で測定し、幅手方向の風速分布は次式により計算で求めた。【０１７６】
風速分布＝（最大風速−最小風速）／平均風速×１００
評価
作製した試料Ｎｏ．２０１〜２１４に付き、目視により塗膜面の状態を評価し、以下に示す評価ランクに従って評価した結果を表２に示す。【０１７７】
○：塗膜面ムラ、面荒れがない
△：実技上問題ならないわずかな塗膜面ムラ、面荒れが一部に認められる
×：塗膜面ムラ、面荒れが全面に認められる【０１７８】
【表２】
0005157440.tif 000003
【０１７９】
本発明の有効性が確認された。【０１８０】
実施例３
実施例１で作製した試料Ｎｏ．１０３を作製するとき、有機化合物層形成用塗布液の（発光層）の表面張力を表３に示す様に変えた他は全て同じ条件で有機化合物層を形成した後、室温まで冷却し、巻き芯に巻取りロール状とし試料Ｎｏ．３０１〜３０７とした。表面張力は、協和界面化学社製：表面張力計ＣＢＶＰ−Ａ３で測定した値を示す。【０１８１】
評価
作製した試料Ｎｏ．３０１〜３０７に付き、目視により塗膜面の状態を評価し、以下に示す評価ランクに従って評価した結果を表３に示す。【０１８２】
○：塗膜面ムラ、面荒れがない
△：実技上問題ならないわずかな塗膜面ムラ、面荒れが一部に認められる
×：塗膜面ムラ、面荒れが全面に認められる【０１８３】
【表３】
0005157440.tif 000004
【０１８４】
本発明の有効性が確認された。【０１８５】
実施例４
実施例１で作製した試料Ｎｏ．１０３を作製するとき、有機化合物層（発光層）形成用塗布液を塗布し、乾燥した後の熱処理の条件を表４に示す様に変えて処理した他は全て同じ条件とし、有機化合物層（発光層）を形成した後、室温まで冷却し、巻き芯に巻取りロール状とし試料Ｎｏ．４０１〜４０８とした。【０１８６】
評価
作製した試料Ｎｏ．４０１〜４０８に付き、有機化合物層（発光層）の寿命を評価した結果を表４に示す。尚、有機化合物層（発光層）の寿命は、２．５ｍＡ／ｃｍ２の一定電流で駆動したときの輝度が初期の輝度の半分になるのに要した時間（半減時間）を寿命の指標とし、熱処理をしない場合を１００として、その相対値で評価を行った。熱処理温度は有機化合物層（発光層）のガラス転移温度（２２５℃）に対する温度を示す。【０１８７】
【表４】
0005157440.tif 000005
【０１８８】
本発明の有効性が確認された。【０１８９】
実施例５
実施例１で作製した試料Ｎｏ．１０３を作製するとき、正孔輸送層形成用塗布液及び有機化合物層（発光層）形成用塗布液を塗布し、正孔輸送層及び有機化合物層（発光層）を形成するまでの環境条件（露点温度、清浄度）を表５に示す様に変えて処理した他は全て同じ条件とし、有機化合物層（発光層）を形成した後、室温まで冷却し、巻き芯に巻取りロール状とし試料Ｎｏ．５０１〜５０７とした。尚、清浄度はＪＩＳＢ  ９９２０に準拠し測定した値を示し、清浄度の変化はフィルターを変えることで行った。尚、正孔輸送層形成用塗布液及び有機化合物層（発光層）形成用塗布液の塗布温度が２５℃で行ったため、乾燥装置及び加熱処理装置は除き他は温度は２５℃で大気圧条件で行った。【０１９０】
評価
作製した試料Ｎｏ．５０１〜５０７に付き、未発光故障を目視で確認し、次の評価ランクに従って評価した結果を表５に示す。【０１９１】
未発光故障の確認方法
作製した試料を１週間、８０℃の恒温室で保管した後、２．５ｍＡ／ｃｍ２の一定電流で駆動したとき、発光しない箇所の有無を目視で確認した。未発光故障の評価ランク
○：未発光故障が確認されない
△：実技上問題とならないわずかな未発光故障が認められる
×：実技上問題となる未発光故障が散見される【０１９２】
【表５】
0005157440.tif 000006
【０１９３】
試料Ｎｏ．５０１の場合は、試料中に含まれる水分量により、又、試料Ｎｏ．５０４の場合は、付着した異物により未発光故障が発生したものと推測される。本発明の有効性が確認された。【０１９４】
実施例６
実施例１で作製した試料Ｎｏ．１０３を保管する条件を表６に示す様に変えて処理した他は全て同じ条件とし試料Ｎｏ．６０１〜６０６とした。尚、保管期間５日間とした。【０１９５】
評価
作製した試料Ｎｏ．６０１〜６０６に付き、実施例４と同じ評価項目を同じ測定方法で測定した結果を表６に示す。尚、寿命（相対値）は保管条件が１０-5Ｐａのときの寿命を１００としたときの相対値を示す。【０１９６】
【表６】
0005157440.tif 000007
【０１９７】
試料Ｎｏ．６０６は寿命（相対値）は良好な値を示したが、得られる効果に対して高真空度を保つのに大掛かりの設備になってしまい設備の維持管理、コストアップが懸念される。本発明の有効性が確認された。
【図１】
0005157440.tif 000008
【図２】
0005157440.tif 000009
【図３】
0005157440.tif 000010
【図４】
0005157440.tif 000011
【図５】
0005157440.tif 000012
【図６】
0005157440.tif 000013
【図７】
0005157440.tif 000014