(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
帯状可撓性支持体の上に、第１電極と、有機化合物層を有する有機ＥＬ層と、第２電極とをこの順番で有する有機ＥＬ素子を、供給部と、パターン塗布部・乾燥部と、回収部とを有する製造装置を用いて製造する有機ＥＬ素子の製造方法において、
前記供給部に、第１電極が形成された帯状可撓性支持体Ａをロール状態で供給し、
次いで、前記パターン塗布部・乾燥部で有機ＥＬ層形成用塗布液を塗布及び乾燥を行い、前記可撓性支持体上の前記第１電極上に前記有機ＥＬ層を形成して帯状可撓性支持体Ｂとし、
前記回収部で、前記帯状可撓性支持体Ｂを巻き芯に巻き取りロール状とし、
前記パターン塗布部・乾燥部の前に第１アキュームレータ部を、前記パターン塗布部・乾燥部の後に第２アキュームレータ部を有し、
前記第１アキュームレータ部の前もしくは第２アキュームレータ部の後の何れか一方に湿式塗布・乾燥部を有し、
前記パターン塗布部・乾燥部において、前記帯状可撓性支持体Ａの搬送を停止した状態で有機ＥＬ層形成用塗布液を塗布すると共に塗布後に移動させる間欠搬送を行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項２】
帯状可撓性支持体の上に、第１電極と、有機化合物層を有する有機ＥＬ層と、第２電極とをこの順番で有する有機ＥＬ素子を、供給部と、パターン塗布部・乾燥部と、回収部とを有する製造装置を用いて製造する有機ＥＬ素子の製造方法において、
前記供給部に、第１電極が形成された帯状可撓性支持体Ａをロール状態で供給し、
次いで、前記パターン塗布部・乾燥部で有機ＥＬ層形成用塗布液を塗布及び乾燥を行い、前記可撓性支持体上の前記第１電極上に前記有機ＥＬ層を形成して帯状可撓性支持体Ｂとし、
前記回収部で、前記帯状可撓性支持体Ｂを巻き芯に巻き取りロール状とし、
前記パターン塗布部・乾燥部の前に第１アキュームレータ部を、前記パターン塗布部・乾燥部の後に第２アキュームレータ部を有し、
前記第１アキュームレータ部の前と、第２アキュームレータ部の後に湿式塗布・乾燥部を有し、
前記パターン塗布部・乾燥部において、前記帯状可撓性支持体Ａの搬送を停止した状態で有機ＥＬ層形成用塗布液を塗布すると共に塗布後に移動させる間欠搬送を行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項３】
前記パターン塗布部・乾燥部において、前記帯状可撓性支持体Ａを保持台に吸着固定した状態で有機ＥＬ層形成用塗布液を塗布すると共に塗布後に移動させる間欠搬送を行うことを特徴とする請求の範囲第１項又は第２項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項４】
前記パターン塗布部・乾燥部は、有機ＥＬ層形成用塗布液を湿式パターン形成塗布装置により大気圧条件で発光層形成用塗膜を形成するパターン塗布部と、大気圧条件で前記有機ＥＬ層中の溶媒を除去し、前記有機ＥＬ層を形成する有機ＥＬ層乾燥部とを１ユニットとし、
前記パターン塗布部・乾燥部は、少なくとも１ユニットの前記パターン塗布部・乾燥部を有することを特徴とする請求の範囲第１項乃至第３項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項５】
前記帯状可撓性支持体Ａは、アライメントマークが設けられていることを特徴とする請求の範囲第１項乃至第４項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項６】
前記湿式パターン形成塗布装置は、帯状可撓性支持体Ａの間欠搬送に対応して稼働し、帯状可撓性支持体Ａが停止しているときに稼働し、パターン形成塗布を行うことを特徴とする請求の範囲第４項又は第５項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項７】
前記パターン塗布部は、帯状可撓性支持体の保持手段と、アライメントマークの検出手段と、湿式パターン形成塗布装置の塗布位置補正制御手段とを有していることを特徴とする請求の範囲第１項乃至第６項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項８】
前記湿式塗布・乾燥部は有機化合物層形成用塗布液を湿式塗布装置により大気圧条件で有機化合物層を形成する湿式塗布部と、大気圧条件で塗布し、前記有機化合物層中の溶媒を除去する有機化合物層乾燥部とを有することを特徴とする請求の範囲第１項乃至第７項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項９】
前記パターン塗布部・乾燥部と、湿式塗布・乾燥部との後に加熱処理部を有することを特徴とする請求の範囲第１項乃至第８項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項１０】
前記製造装置は、除電処理部を有していることを特徴とする請求の範囲第１項乃至第９項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項１１】
前記帯状可撓性支持体Ａは、湿式塗布・乾燥部で有機化合物層形成用塗布液を塗布する前、又はパターン塗布部・乾燥部で有機ＥＬ層形成用塗布液を塗布する前に洗浄表面改質処理手段により洗浄表面改質処理が施されることを特徴とする請求の範囲第１項乃至第１０項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項１２】
前記洗浄表面改質処理手段が酸素プラズマ又はＵＶ照射であることを特徴とする請求の範囲第１１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項１３】
前記有機ＥＬ層及び有機化合物層は、露点温度−２０℃以下、且つＪＩＳＢ  ９９２０に準拠し、測定した清浄度がクラス５以下で、且つ、有機ＥＬ層乾燥部と、有機化合物層乾燥部及び加熱処理部を除き１０〜４５℃の大気圧中で形成されることを特徴とする請求の範囲第１項乃至第１２項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項１４】
前記帯状可撓性支持体Ｂを回収部で、巻き芯に巻き取りロール状とした後、１０-5〜１０Ｐａの減圧条件下で保管することを特徴とする請求の範囲第１項乃至第１３項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、面光源やディスプレイパネル等として利用される有機ＥＬ（エレクトロ・ル
ミネッセンス）素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機物質を使用した有機ＥＬ素子は、固体発光型の安価な大面積フルカラー表示素子や書き込み光源アレイとしての用途が有望視されており、活発な研究開発が進められている。有機ＥＬ素子は、基板上に形成された第１電極（陽極又は陰極）と、その上に積層された発光層を含む有機化合物層を有する有機ＥＬ層と、この発光層上に積層された第２電極（陰極又は陽極）とを有する薄膜型の素子である。このような有機ＥＬ素子に電圧を印加すると、有機化ＥＬ層に陰極から電子が注入され陽極から正孔が注入される。この電子と正孔が発光層において再結合し、エネルギー準位が伝導帯から価電子帯に戻る際にエネルギーを光として放出することにより発光が得られることが知られている。【０００３】
このように、有機ＥＬ素子は薄膜型の素子であるため、１個又は複数個の有機ＥＬ素子を基板上に形成した有機ＥＬパネルをバックライト等の面光源として利用した場合には、面光源を備えた装置を容易に薄型にすることが出来る。又、画素としての有機ＥＬ素子を基板上に所定個数形成した有機ＥＬパネルをディスプレイパネルとして用いて表示装置を構成した場合には視認性が高い、視野角依存性がないなど、液晶表示装置では得られない利点がある。【０００４】
一方、有機ＥＬ素子の有機ＥＬ層を形成する際には、特開平９−１０２３９３号公報、特開２００２−１７０６７６号公報に記載されている様に、蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ、ＰＶＤ、溶剤を用いた塗布法等の様々な方法が使用出来るが、これらの方法の中で、製造工程の簡略化、製造コストの低減、加工性の改善、バックライトや照明光源等のフレキシブルな大面積素子への応用等の観点からは塗布法等の湿式製膜法が有利であることが知られている。例えば、特開２００２−１７０６７６号公報に枚葉のガラス基板上にスピンコート法により有機化合物層を形成する方法が記載されている。特開２００３−１４２２６０号公報に枚葉の基板上にインクジェット方式で順次有機化合物層を形成する方法が記載されている。これらの方式は何れも基板として枚葉基板を使用しているため生産効率を上げるのに限度がある。これらの状況から生産効率が挙げられる可能性が高いロール状の基材を使用し基材上に有機ＥＬ素子を構成する各種層を形成した後、巻き取りロール状とする有機ＥＬ素子の製造方法（ロールツーロール方式）が検討されている。【０００５】
例えば、ロール状の長尺のフィルムを供給し、搬送しながらフィルム上に発光層を、湿式塗布法により形成した後、巻き芯に巻き取りロール状とする方法が知られている（例えば、特許文献１を参照。）。透光性基板としてプラスチックフィルムを使用し、このプラスチックフィルム上に陰極と、有機物質からなる一つ又は複数の発光層と、陽極層を設けた有機ＥＬディスプレイを製造する方法として、有機物質からなる一つ又は複数の発光層のパターニング及び陰極のパターニングを真空下で蒸着方式でロールツーロール方式により作製する方法が知られている（例えば、特許文献２を参照。）。しかしながら、特許文献１に記載の方法では、フルカラーパネルの生産で必要となるパターン塗布での生産安定性を得るのは技術的に困難である。又、特許文献２に記載の方法では、１）支持体を搬送しながら発光層等を蒸着方式でパターニング形成するため、パターニングの位置精度の安定性を制御することが難しく、発光層の位置がズレる危険がある。２）有機物質からなる一つ又は複数の発光層を形成するのに使用する有機化合物の使用効率が低く、コストが高くなる原因の一つになっている。３）有機物質からなる一つ又は複数の発光層が蒸着方式で形成する方式であるため、発光層を形成するのに時間が掛かり生産性を上げることが難しい。【０００６】
これらの状況より、生産性が高く、フルカラーパネルに対応した有機ＥＬ素子形成用の有機化合物層の形成方法の開発が望まれている。
【特許文献１】特開平１０−７７４６７号公報
【特許文献２】国際公開第０１／５１９４号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記状況に鑑みなされたものであり、その目的は、生産性が高く、高品質の
有機ＥＬ素子の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成された。【０００９】
（請求の範囲第１項）
帯状可撓性支持体の上に、第１電極と、有機化合物層を有する有機ＥＬ層と、第２電極とをこの順番で有する有機ＥＬ素子を、供給部と、パターン塗布部・乾燥部と、回収部とを有する製造装置を用いて製造する有機ＥＬ素子の製造方法において、
前記供給部に、第１電極が形成された帯状可撓性支持体Ａをロール状態で供給し、
次いで、前記パターン塗布部・乾燥部で有機ＥＬ層形成用塗布液を塗布及び乾燥を行い、前記可撓性支持体上の前記第１電極上に前記有機ＥＬ層を形成して帯状可撓性支持体Ｂとし、
前記回収部で、前記帯状可撓性支持体Ｂを巻き芯に巻き取りロール状とし、
前記パターン塗布部・乾燥部の前に第１アキュームレータ部を、前記パターン塗布部・乾燥部の後に第２アキュームレータ部を有し、
前記第１アキュームレータ部の前もしくは第２アキュームレータ部の後の何れか一方に湿式塗布・乾燥部を有し、
前記パターン塗布部・乾燥部において、前記帯状可撓性支持体Ａの搬送を停止した状態で有機ＥＬ層形成用塗布液を塗布すると共に塗布後に移動させる間欠搬送を行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
（請求の範囲第２項）
帯状可撓性支持体の上に、第１電極と、有機化合物層を有する有機ＥＬ層と、第２電極とをこの順番で有する有機ＥＬ素子を、供給部と、パターン塗布部・乾燥部と、回収部とを有する製造装置を用いて製造する有機ＥＬ素子の製造方法において、
前記供給部に、第１電極が形成された帯状可撓性支持体Ａをロール状態で供給し、
次いで、前記パターン塗布部・乾燥部で有機ＥＬ層形成用塗布液を塗布及び乾燥を行い、前記可撓性支持体上の前記第１電極上に前記有機ＥＬ層を形成して帯状可撓性支持体Ｂとし、
前記回収部で、前記帯状可撓性支持体Ｂを巻き芯に巻き取りロール状とし、
前記パターン塗布部・乾燥部の前に第１アキュームレータ部を、前記パターン塗布部・乾燥部の後に第２アキュームレータ部を有し、
前記第１アキュームレータ部の前と、第２アキュームレータ部の後に湿式塗布・乾燥部を有し、
前記パターン塗布部・乾燥部において、前記帯状可撓性支持体Ａの搬送を停止した状態で有機ＥＬ層形成用塗布液を塗布すると共に塗布後に移動させる間欠搬送を行うことを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
（請求の範囲第３項）
前記パターン塗布部・乾燥部において、前記帯状可撓性支持体Ａを保持台に吸着固定した状態で有機ＥＬ層形成用塗布液を塗布すると共に塗布後に移動させる間欠搬送を行うことを特徴とする請求の範囲第１項又は第２項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１０】
（請求の範囲第４項）
前記パターン塗布部・乾燥部は、有機ＥＬ層形成用塗布液を湿式パターン形成塗布装置により大気圧条件で発光層形成用塗膜を形成するパターン塗布部と、大気圧条件で前記有機ＥＬ層中の溶媒を除去し、前記有機ＥＬ層を形成する有機ＥＬ層乾燥部とを１ユニットとし、
前記パターン塗布部・乾燥部は、少なくとも１ユニットの前記パターン塗布部・乾燥部を有することを特徴とする請求の範囲第１項乃至第３項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１１】
（請求の範囲第５項）
前記帯状可撓性支持体Ａは、アライメントマークが設けられていることを特徴とする請求の範囲第１項乃至第４項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１２】
（請求の範囲第６項）
前記湿式パターン形成塗布装置は、帯状可撓性支持体Ａの間欠搬送に対応して稼働し、帯状可撓性支持体Ａが停止しているときに稼働し、パターン形成塗布を行うことを特徴とする請求の範囲第４項又は第５項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１３】
（請求の範囲第７項）
前記パターン塗布部は、帯状可撓性支持体の保持手段と、アライメントマークの検出手段と、湿式パターン形成塗布装置の塗布位置補正制御手段とを有していることを特徴とする請求の範囲第１項乃至第６項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１６】
（請求の範囲第８項）
前記湿式塗布・乾燥部は有機化合物層形成用塗布液を湿式塗布装置により大気圧条件で有機化合物層を形成する湿式塗布部と、大気圧条件で塗布し、前記有機化合物層中の溶媒を除去する有機化合物層乾燥部とを有することを特徴とする請求の範囲第１項乃至第７項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１７】
（請求の範囲第９項）
前記パターン塗布部・乾燥部と、湿式塗布・乾燥部との後に加熱処理部を有することを特徴とする請求の範囲第１項乃至第８項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１８】
（請求の範囲第１０項）
前記製造装置は、除電処理部を有していることを特徴とする請求の範囲第１項乃至第９項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００１９】
（請求の範囲第１１項）
前記帯状可撓性支持体Ａは、湿式塗布・乾燥部で有機化合物層形成用塗布液を塗布する前、又はパターン塗布部・乾燥部で有機ＥＬ層形成用塗布液を塗布する前に洗浄表面改質処理手段により洗浄表面改質処理が施されることを特徴とする請求の範囲第１項乃至第１０項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００２０】
（請求の範囲第１２項）
前記洗浄表面改質処理手段が酸素プラズマ又はＵＶ照射であることを特徴とする請求の範囲第１１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００２１】
（請求の範囲第１３項）
前記有機ＥＬ層及び有機化合物層は、露点温度−２０℃以下、且つＪＩＳＢ  ９９２０に準拠し、測定した清浄度がクラス５以下で、且つ、有機ＥＬ層乾燥部と、有機化合物層乾燥部及び加熱処理部を除き１０〜４５℃の大気圧中で形成されることを特徴とする請求の範囲第１項乃至第１２項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【００２２】
（請求の範囲第１４項）
前記帯状可撓性支持体Ｂを回収部で、巻き芯に巻き取りロール状とした後、１０-5〜１０Ｐａの減圧条件下で保管することを特徴とする請求の範囲第１項乃至第１３項の何れか１項に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の効果】
【００２３】
生産性が高く、高品質の有機ＥＬ素子用の有機ＥＬ層の形成方法を提供することが出来、安定した有機ＥＬ素子を製造することが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】有機ＥＬ素子の層構成の一例を示す概略断面図である。
【図２】有機ＥＬ層までを形成するパターン塗布・乾燥部を有する製造装置の模式図である。
【図３】図２のＰで示される部分の拡大概略図である。
【図４】有機ＥＬ層までを形成する湿式塗布・乾燥部とパターン塗布・乾燥部とを有する製造装置の模式図である。
【図５】有機ＥＬ層までを形成するパターン塗布・乾燥部の前後に湿式塗布・乾燥部を有する製造装置の模式図である。
【図６】図２のＱで示される部分の拡大概略平面図である。
【符号の説明】
【００２５】
１ａ、１ｂ  有機ＥＬ素子
１０１  基材
１０２  第１電極（陽極）
１０３  正孔輸送層
１０４  発光層
１０５  電子注入層（電子輸送層）
１０６  第２電極（陰極）
１０７  封止層
１０９  封止フィルム
２、３、４  製造装置
２０１、３０１、４０１  供給部
２０１ａ  帯状可撓性支持体Ａ
２０２、３０２  浄表面改質処理部
２０３  第１除電処理部
２０４、３０６、４０７  第１アキュームレータ部
２０５、３０７、４０８  パターン塗布・乾燥部
２０５ｂ１１  ヘッド
２０６、３０８、４０５、４０９  加熱処理部
２０７  第２除電処理部
２０８、３１１、４１１  第２アキュームレータ部
２０９、３１２、４１５  回収部
３０１ｈ、４０１ｈ  帯状可撓性支持体Ｂ
３０３  除電処理部Ａ
３０４  湿式塗布・乾燥部
３０５  除電処理部Ｂ
３０９  除電処理部Ｃ
４０４  第１湿式塗布・乾燥部
４０３  除電処理部ａ
４０６  除電処理部ｂ
４１０  除電処理部ｃ
４１２  第２湿式塗布・乾燥部
４１４  除電処理部ｄ
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
本発明に係る実施の形態を図１〜図６を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。【００２７】
図１は有機ＥＬ素子の層構成の一例を示す概略断面図である。図１の（ａ）は封止膜が形成された有機ＥＬ素子の構成層を示す概略断面図である。図１の（ｂ）は接着剤を介して封止フィルムを貼着することで形成された有機ＥＬ素子の構成層を示す概略断面図である。【００２８】
図１の（ａ）に示される有機ＥＬ素子の層構成に付き説明する。図中、１ａは有機ＥＬ素子を示す。有機ＥＬ素子１ａは、基材１０１上に、第１電極（陽極）１０２と、正孔輸送層１０３と、発光層１０４と、電子注入層１０５と、第２電極（陰極）１０６と、封止層１０７とをこの順番に有している。【００２９】
図１の（ｂ）に示される有機ＥＬ素子の層構成に付き説明する。図中、１ｂは有機ＥＬ素子を示す。有機ＥＬ素子１ｂは、基材１０１上に、第１電極（陽極）１０２と、正孔輸送層（正孔注入層）１０３と、発光層１０４と、電子注入層１０５と、第２電極（陰極）１０６と、接着剤層１０８と、封止フィルム１０９とをこの順番に有している。本図に示される有機ＥＬ素子において、第１電極（陽極）１０２と発光層１０４又は正孔輸送層１０３の間に正孔注入層（不図示）を設けてもよい。又、第２電極（陰極）１０６と発光層１０４又は電子注入層１０５との間に電子輸送層（不図示）を設けてもよい。本図に示される有機ＥＬ素子１ａ及び有機ＥＬ素子１ｂでは、陽極（第１電極）１０２と基材１０１との間にガスバリア膜（不図示）を設けることが好ましい。【００３０】
本発明は、本図に示される発光層１０４の形成方法に関するものである。本図に示す有機ＥＬ素子の層構成は一例を示したものであるが、他の代表的な有機ＥＬ素子の層構成としては次の構成が挙げられる。【００３１】
（１）基材／陽極／発光層／電子輸送層／陰極／封止層
（２）基材／陽極／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極／封止層
（３）基材／陽極／正孔輸送層（正孔注入層）／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極バッファー層（電子注入層）／陰極／封止層
（４）基材／陽極／陽極バッファー層（正孔注入層）／正孔輸送層／発光層／正孔阻止層／電子輸送層／陰極バッファー層（電子注入層）／陰極／封止層
尚、本発明において有機ＥＬ層とは、図１に示す層構成において、陽極と陰極とに挟まれる層構成を言う。有機ＥＬ素子を構成している各層については後に説明する。【００３２】
図２は有機ＥＬ層までを形成するパターン塗布・乾燥部を有する製造装置の模式図である。以下に、一例としてパターン化されて形成されている第１電極を有する帯状可撓性支持体上に正孔輸送層、発光層、電子輸送層とを有する有機ＥＬ層を形成する方法を本図で説明する。【００３３】
図中、２は有機ＥＬ素子の構成層の１つである有機ＥＬ層までを大気圧条件下で形成する製造装置を示す。製造装置２は、供給部２０１と、帯状可撓性支持体の洗浄表面改質処理部２０２と、第１除電処理部２０３と、第１アキュームレータ部２０４と、パターン塗布・乾燥部２０５と、加熱処理部２０６と、第２除電処理部２０７と、第２アキュームレータ部２０８と回収部２０９とを有している。【００３４】
供給部２０１では、ガスバリア膜と第１電極を含む陽極層とがこの順番で既に形成された帯状可撓性支持体Ａ２０１ａが巻き芯に巻き取られロール状態で供給される様になっている。２０１ｂはロール状態の帯状可撓性支持体Ａ２０１ａを示す。第１電極（図１、図６を参照）はパターン化（図６を参照）されて形成されている。【００３５】
洗浄表面改質処理部２０２は、パターン塗布・乾燥部２０５で塗布する前に供給部２０１から送られてきた帯状可撓性支持体Ａ２０１ａの第１電極を含む陽極層（不図示）表面を洗浄改質する洗浄表面改質処理手段２０２ａを有している。洗浄表面改質処理手段２０２ａとしては、低圧水銀ランプ、エキシマランプ、プラズマ洗浄装置等が挙げられる。低圧水銀ランプによる洗浄表面改質処理の条件としては、例えば、波長１８４．２ｎｍの低圧水銀ランプを、照射強度５〜２０ｍＷ／ｃｍ2で、距離５〜１５ｍｍで照射し洗浄表面改質処理を行う条件が挙げられる。プラズマ洗浄装置による洗浄表面改質処理の条件としては、例えば、大気圧プラズマが好適に使用される。洗浄条件としてはアルゴンガスに酸素１〜５体積％含有ガスを用い、周波数１００ＫＨｚ〜１５０ＭＨｚ、電圧１０Ｖ〜１０ＫＶ、照射距離５〜２０ｍｍで洗浄表面改質処理を行う条件が挙げられる。【００３６】
第１除電処理部２０３に使用する除電処理手段としては、光照射方式とコロナ放電式等が挙げられ、これらの中から必要に応じて適宜選択使用することが可能である。光照射式は微弱Ｘ線、コロナ放電式はコロナ放電により空気イオンを生成する。この空気イオンは、帯電物体に引き寄せられて反対極性の電荷を補い、静電気を中和する。コロナ放電による除電器、軟Ｘ線による除電器が利用可能である。第１除電処理部により、基材の帯電除去が図られるため、ゴミの付着や絶縁破壊が防止されるため、素子の歩留まりの向上が図られる。【００３７】
第１アキュームレータ部２０４は、ロール２０４ａが上下方向（図中の矢印方向）に移動することで、供給部２０１から搬送されてくる帯状可撓性支持体Ａ２０１ａの搬送速度とパターン塗布・乾燥部２０５のパターン塗布速度との差を調整するために配設されており、一定長さの帯状可撓性支持体Ａ２０１ａを溜める機能を有しており、第１アキュームレータ部２０４の前後で帯状可撓性支持体Ａ２０１ａの動作を変えることが可能となっている。溜める長さの調整は速度差に応じてロール２０４ａの増設が可能となっている。ロール２０４ａは、層形成面を非接触で搬送出来る非接触ロールが好ましい。【００３８】
本図に示されるパターン塗布・乾燥部２０５は、有機ＥＬ層形成用塗布液を湿式パターン形成塗布装置により大気圧条件で発光層を形成するパターン塗布部と、大気圧条件で有機ＥＬ層中の溶媒を除去し、有機ＥＬ層を形成する有機ＥＬ層乾燥部とを１ユニットとし設けられている。本図は、３ユニット（第１パターン塗布・乾燥部２０５ａと、第２パターン塗布・乾燥部２０５ｂと、第３パターン塗布・乾燥部２０５ｃ）を有している場合を示しており、これらは全て同じ構成となっている。有機ＥＬ層形成用塗布液とは、正孔輸送層形成用塗布液と、発光層形成用塗布液と、電子輸送層形成用塗布液とを示す。【００３９】
第１パターン塗布・乾燥部２０５ａは正孔輸送層形成用塗布液を湿式パターン形成塗布装置により大気圧条件で正孔輸送層を形成する第１パターン塗布部２０５ａ１と、大気圧条件で正孔輸送層中の溶媒を除去し、正孔輸送層を形成する正孔輸送層乾燥部２０５ａ２とを有している。【００４０】
第２パターン塗布・乾燥部２０５ｂは、発光層形成用塗布液を湿式パターン形成塗布装置により大気圧条件で発光層形成用塗膜を形成する第２パターン塗布部２０５ｂ１と、大気圧条件で発光層中の溶媒を除去し、発光層を形成する発光層乾燥部２０５ｂ２とを有している。尚、第２パターン塗布・乾燥部２０５ｂの前に第１除電処理部２０３と同じ除電処理部を設けることが好ましい。【００４１】
第３パターン塗布・乾燥部２０５ｂは、電子輸送層形成用塗布液を湿式パターン形成塗布装置により大気圧条件で電子輸送層を形成する第２パターン塗布部２０５ｂ１と、大気圧条件で電子輸送層中の溶媒を除去し、電子輸送層を形成する電子輸送層乾燥部２０５ｃ２とを有している。尚、第３パターン塗布・乾燥部２０５ｃの前に第１除電処理部２０３と同じ除電処理部を設けることが好ましい。【００４２】
第１パターン塗布部２０５ａ１は湿式パターン形成塗布装置２０５ａ１１と、帯状可撓性支持体Ａの保持手段である保持台２０５ａ１２とを有している。第２パターン塗布部２０５ｂ１は湿式パターン形成塗布装置２０５ｂ１１と、第１パターン塗布・乾燥部２０５ａから送られてくる正孔輸送層が形成された帯状可撓性支持体の保持手段である保持台２０５ｂ１２とを有している。第３パターン塗布部２０５ｃ１は湿式パターン形成塗布装置２０５ｃ１１と、第２パターン塗布・乾燥部２０５ｂから送られてくる発光層が形成された帯状可撓性支持体の保持手段である保持台２０５ｃ１２とを有している。【００４３】
第１パターン塗布部２０５ａ１、第２パターン塗布部２０５ｂ１及び第３パターン塗布部２０５ｃ１には保持手段の他に、アライメント検出手段（図６を参照）と、湿式パターン形成塗布装置の塗布位置補正制御手段（図６を参照）とを有している
加熱処理部２０６は正孔輸送層乾燥部２０５ａ２の後側に設けられた加熱処理部２０６ａと、発光層乾燥部２０５ｂ２の後側に設けられた加熱処理部２０６ｂと、正孔輸送層乾燥部２０５ｃ２の後側に設けられた加熱処理部２０６ｃとを有している。【００４４】
保持台２０５ａ１２（２０５ｂ１２、２０５ｃ１２）としては帯状可撓性支持体を平面性を保ち固定出来れば特に限定はなく、例えば吸引テーブルが挙げられる。吸引テーブルは、テーブル上に吸着穴を有する機構や、テーブルの載置面が多孔質を有する機構や静電吸着するもの等が挙げられ、適宜選択し使用することが可能である。好ましくは、載置面が多孔質を有する機構のテーブルが挙げられる。【００４５】
第１パターン塗布・乾燥部２０５ａは、供給部２０１から搬送されてくる帯状可撓性支持体Ａ２０１ａを保持台２０５ａ１２上に固定し、湿式パターン形成塗布装置２０５ａ１１により、帯状可撓性支持体Ａ２０１ａ上に形成されている第１電極の端部を除いた領域に正孔輸送層形成用塗布液を塗布し、正孔輸送層中の溶媒を正孔輸送層乾燥部２０５ａ２で除去し正孔輸送層２０１ｃを形成する。形成された正孔輸送層２０１ｃは加熱処理部２０６ａで加熱処理が行われる。第１パターン塗布・乾燥部２０５ａで湿式パターン形成塗布装置２０５ａ１１により塗布が行われるときは、前の工程から搬送されてくる第１電極が形成された帯状可撓性支持体Ａに設けられたアライメントマーク４（図６を参照）を第１パターン塗布部２０５ａ１に配設されたアライメント検出手段の検出機により検出し、帯状可撓性支持体Ａを保持台上に吸着固定し、アライメントマークに従って湿式パターン形成塗布装置２０５ａ１１の位置合わせが行われ、パターン化されて形成された第１電極の端部の一部を除いて第１電極の領域に、正孔層形成用塗布液が電極上に塗布される。【００４６】
第２パターン塗布・乾燥部２０５ｂは、第１パターン塗布・乾燥部２０５ａから搬送されてくる正孔輸送層２０１ｃが形成された帯状可撓性支持体を保持台２０５ｂ１２上に固定し、湿式パターン形成塗布装置２０５ｂ１１により、発光層形成用塗布液を第１電極のパターンに合わせ、形成された正孔輸送層２０１ｃの上に塗布し、発光層中の溶媒を発光層乾燥部２０５ｂ２で除去し発光層２０１ｄを形成する。形成された発光層は加熱処理部２０６ｂで加熱処理が行われる。第２パターン塗布・乾燥部２０５ｂで湿式パターン形成塗布装置２０５ｂ１１によりパターン塗布が行われるときは、前の工程から搬送されてくる正孔輸送層２０１ｃが形成された帯状可撓性支持体に設けられたアライメントマーク４（図６を参照）をパターン塗布部２０５ｂに配設されたアライメント検出手段の検出機により検出し、帯状可撓性支持体を一旦止め、アライメントマークに従って湿式パターン形成塗布装置２０５ｂ１１の位置合わせが行われ、パターン化されて形成された第１電極のパターンに従って、発光層形成用塗布液が電極上に塗布される。尚、湿式パターン形成塗布装置２０５ｂ１１によるパターン形成塗布に関しては図６で説明する。【００４７】
第３パターン塗布・乾燥部２０５ｃは、第２パターン塗布・乾燥部２０５ｂから搬送されてくる発光層２０１ｄが形成された帯状可撓性支持体を保持台２０５ｃ１２上に固定し、湿式パターン形成塗布装置２０５ｃ１１により、電子輸送層形成用塗布液を形成された発光層２０１ｄの上に塗布し、電子輸送層中の溶媒を電子輸送層乾燥部２０５ｃ２で除去し電子輸送層２０１ｅを形成する。形成された電子輸送層は加熱処理部２０６ｃで加熱処理が行われる。第３パターン塗布・乾燥部２０５ｃで湿式パターン形成塗布装置２０５ｃ１１により塗布が行われるときは、前の工程から搬送されてくる発光層が形成された帯状可撓性支持体Ａに設けられたアライメントマーク４（図６を参照）を第３パターン塗布部２０５ｃ１に配設されたアライメント検出手段の検出機により検出し、発光層が形成された帯状可撓性支持体Ａを保持台上に吸着固定し、アライメントマークに従って湿式パターン形成塗布装置２０５ｃ１１の位置合わせが行われ、発光層の上に、電子輸送層形成用塗布液が塗布される。【００４８】
第１パターン塗布・乾燥部２０５ａ〜第３パターン塗布・乾燥部２０５ｃにより、第１電極の端部を除いて正孔輸送層２０１ｃと、発光層２０１ｄと、電子輸送層２０１ｅとを有する有機ＥＬ層が形成された帯状可撓性支持体Ｂが出来上がる。【００４９】
尚、第１パターン塗布部２０５ａ１〜第３パターン塗布部２０５ｃ１での塗布は何れも保持台に吸着固定した状態で行うため、第１パターン塗布・乾燥部２０５ａから正孔輸送層が形成された帯状可撓性支持体Ａの第２パターン塗布・乾燥部２０５ｂへの移動、第２パターン塗布・乾燥部２０５ｂで発光層が形成された帯状可撓性支持体Ａの第３パターン塗布・乾燥部２０５への移動、第３パターン塗布・乾燥部２０５から回収部２０９への移動は、各部で各層の塗布が形成された後に行われるため間欠移動となる。【００５０】
湿式パターン形成塗布装置２０５ａ１１（２０５ｂ１１、２０５ｂ１１）に使用可能な湿式塗布機としては、例えば、インクジェット方式、フレキソ印刷方式、オフセット印刷方式、グラビア印刷方式、スクリーン印刷方式、マスクを用いたスプレー塗布方式等に使用する各種塗布装置が挙げられる。これらの湿式パターン形成塗布機の使用は発光層形成用塗布液の材料に応じて適宜選択することが可能となっている。本図ではインクジェット方式の場合を示している。【００５１】
第２除電処理部２０７は、第３パターン塗布・乾燥部２０５ｃで形成された電子輸送層２０１ｅを有する帯状可撓性支持体の除電を行い、次工程での静電気に伴う故障を防止する機能を有し、必要に応じ配設することが可能となっている。第２除電処理部２０７は第１除電処理部２０３に使用した除電処理手段と同じ除電処理手段を使用することが好ましい。【００５２】
第２アキュームレータ部２０８は、第２アキュームレータ部２０８の後に湿式塗布・乾燥部（不図示）が配設された場合、ロール２０８ａが上下方向（図中の矢印方向）に移動することで、パターン塗布・乾燥部２０５と湿式塗布・乾燥部（不図示）との搬送速度の差を調整するために配設されており、速度差に応じてロール２０８ａの増設が可能となっている。又、第２アキュームレータ部２０８は、パターン塗布・乾燥部２０５では帯状可撓性支持体は停止した状態で間欠搬送されるため、第２アキュームレータ部２０８で一定量を溜め、回収部２０９で溜めた量だけ連続して巻き取る方法に使用することも可能である。第２アキュームレータ部２０８は、第１アキュームレータ部２０４と同じ機能を有し、同じ構成となっていることが好ましい。【００５３】
回収部２０９では、第２除電処理部２０７で処理され、有機ＥＬ層が形成された帯状可撓性支持体Ｂ２０１ｆが巻き芯に巻かれロール状態の帯状可撓性支持体Ｂ２０１ｇとして回収され、電子注入層、第２電極、封止層等を形成する次工程に送る迄保管される。【００５４】
図３は図２のＰで示される部分の拡大概略図である。尚、回収部２０９では、有機ＥＬ層が形成された帯状可撓性支持体Ｂを室温まで冷却装置（不図示）で冷却した後、巻き取ることが好ましい。【００５５】
発光層乾燥部２０５ｂ２は、乾燥風を吐出する吐出口２０５ｂ２１と、乾燥風の供給口２０５ｂ２２とを有する乾燥風供給ヘッダー２０５ｂ２３と、排気口２０５ｂ２４と、搬送用ロール２０５ｂ２５とを有している。【００５６】
加熱処理部２０６ｂは加熱処理装置本体２０６ｂ１と、第１電極のパターンに合わせて正孔輸送層２０１ｄの上に形成された発光層２０１ｄを有する帯状可撓性支持体の裏面側から発光層２０１ｄを裏面伝熱方式で加熱する複数の加熱ローラ２０６ｂ２とを有している。加熱処理部２０６ｂで加熱処理することで、更に正孔輸送層を安定化する機能を有している。図２示す正孔輸送層乾燥部２０５ａ２と加熱処理部２０６ａ及び電子輸送層乾燥部２０５ｃ２と加熱処理部２０６ｃは本図に示す発光層乾燥部２０５ｂ２と加熱処理部２０６ｂと同じ構造を有し、同じ機能を有している。【００５７】
図４は有機ＥＬ層までを形成する湿式塗布・乾燥部とパターン塗布・乾燥部とを有する製造装置の模式図である。以下に、一例としてパターン化されて形成されている第１電極を有する帯状可撓性支持体上に正孔輸送層、発光層、電子輸送層とを有する有機ＥＬ層を形成する方法を本図で説明する。【００５８】
図中、３は有機ＥＬ素子の構成層の１つである有機ＥＬ層までを大気圧条件下で形成する製造装置を示す。製造装置３は、供給部３０１と、帯状可撓性支持体の洗浄表面改質処理部３０２と、除電処理部Ａ３０３、湿式塗布・乾燥部３０４と、除電処理部Ｂ３０５と、第１アキュームレータ部３０６と、パターン塗布・乾燥部３０７と、加熱処理部３０８と、除電処理部Ｃ３０９と、第２アキュームレータ部３１１と回収部３１２とを有している。【００５９】
供給部３０１では、ガスバリア膜と第１電極を含む陽極層とがこの順番で既に形成された帯状可撓性支持体Ａ３０１ａが巻き芯に巻き取られロール状態で供給される様になっている。３０１ｂはロール状態の帯状可撓性支持体Ａ３０１ａを示す。第１電極（図１、図６を参照）はパターン化（図１、図６を参照）されて形成されている。【００６０】
洗浄表面改質処理部３０２は、湿式塗布・乾燥部３０４で塗布する前に供給部３０１から送られてきた帯状可撓性支持体Ａ３０１ａの第１電極を含む陽極層（不図示）表面を洗浄改質する洗浄表面改質処理手段３０２ａとを有している。洗浄表面改質処理手段３０２ａは図２で示した洗浄表面改質処理手段２０２ａと同じであり、同じ機能を有し、同じ条件で洗浄表面改質処理が行うことが可能となっている。【００６１】
除電処理部Ａ３０３は、洗浄表面改質処理部３０２で処理された帯状可撓性支持体Ａ３０１ａの除電を行い、次工程での静電気に伴う故障を防止する機能を有し、必要に応じ配設することが可能となっている。除電処理部Ａ３０３は図２に示す第１除電処理部２０３と同じ除電処理手段を有し、同じ機能を有している。【００６２】
湿式塗布・乾燥部３０４は、帯状可撓性支持体Ａ３０１ａを保持するバックアップロール３０４ａと、バックアップロール３０４ａに保持された帯状可撓性支持体Ａ３０１ａ上にパターン化されて形成されている第１電極に正孔輸送層形成用塗布液を大気圧条件下で塗布する湿式塗布機３０４ｂと、帯状可撓性支持体Ａ３０１ａ上の第１電極上に形成された正孔輸送層３０１ｃ中の溶媒を大気圧条件下で除去する正孔輸送層乾燥部３０４ｃとを有している。【００６３】
湿式塗布機３０４ｂに使用可能な湿式塗布機としては、例えば、ダイコート方式、スクリーン印刷方式、フレキソ印刷方式、メイヤーバー方式、キャップコート法、スプレー塗布法、キャスト法、ロールコート法、バーコート法、グラビアコート法等の塗布機の使用が可能である。これらの湿式塗布機の使用は有機化合物層形成用塗布液有機化合物層の材料に応じて適宜選択することが可能となっている。【００６４】
加熱処理部３０８は、正孔輸送層乾燥部３０４ｃの後に配設されている加熱処理部３０８ａ、発光層乾燥部３０７ａ２の後に配設されている加熱処理部３０８ｂ、電子輸送層乾燥部３０７ｂ２の後に配設されている加熱処理部３０８ｃより構成されており、何れも同じ構造有している。【００６５】
加熱処理部３０８ａは、正孔輸送層乾燥部３０４ｃで形成された正孔輸送層３０１ｄ、を有する帯状可撓性支持体の裏面側から裏面伝熱方式で加熱処理し、更に安定化する機能を有し、必要に応じ配設することが好ましい。【００６６】
加熱処理部３０８ｂは、発光層乾燥部３０７ａ１で形成された発光層２０１ｅを有する帯状可撓性支持体の裏面側から裏面伝熱方式で加熱処理し、更に安定した発光層２０１ｅとする機能を有し、必要に応じ配設することが好ましい。【００６７】
加熱処理部３０８ｃは、電子輸送層乾燥部３０７ｂ１で形成された電子輸送層２０１ｆを有する帯状可撓性支持体の裏面側から裏面伝熱方式で加熱処理し、更に安定した電子輸送層２０１ｆとする機能を有し、必要に応じ配設することが好ましい。【００６８】
第１アキュームレータ部３０６は、ロール３０６ａが上下方向（図中の矢印方向）に移動することで、湿式塗布・乾燥部３０４とパターン塗布・乾燥部３０７の搬送速度の差を調整するために配設されており、速度差に応じてロール３０６ａの増設が可能となっている。ロール３０６ａは、正孔輸送層面を非接触で搬送出来る非接触ロールが好ましい。【００６９】
パターン塗布・乾燥部３０７は、発光層形成用塗布液を湿式パターン形成塗布装置により大気圧条件で発光層を形成するパターン塗布部と、大気圧条件で発光層中の溶媒を除去する乾燥部とを１ユニットとした第１パターン塗布・乾燥部３０７ａと、電子輸送層形成用塗布液を湿式パターン形成塗布装置により大気圧条件で電子輸送層を形成するパターン塗布部と、大気圧条件で電子輸送層中の溶媒を除去する電子輸送層乾燥部とを１ユニットとした第２パターン塗布・乾燥部３０７ｂとを有している。第１パターン塗布・乾燥部３０７ａと第２パターン塗布・乾燥部３０７ｂとは同じ構成となっている。【００７０】
第１パターン塗布・乾燥部３０７ａは発光層形成用塗布液を湿式パターン形成塗布装置により大気圧条件で発光層を形成する第１パターン塗布部３０７ａ１と、大気圧条件で発光層中の溶媒を除去する発光層乾燥部３０７ａ２とを有している。【００７１】
第２パターン塗布・乾燥部３０７ｂは、電子輸送層形成用塗布液を湿式パターン形成塗布装置により大気圧条件下で電子輸送層を形成する第１パターン塗布部３０７ｂ１と、大気圧条件で電子輸送層中の溶媒を除去する電子輸送層乾燥部３０７ｂ２とを有している。【００７２】
除電処理部Ｂは、湿式塗布・乾燥部３０４で形成された正孔輸送層３０１ｄを有する帯状可撓性支持体の除電を行い、次工程での静電気に伴う故障を防止する機能を有し、必要に応じ配設することが可能となっている。【００７３】
第１パターン塗布部３０７ａ１は湿式パターン形成塗布装置３０７ａ１１と、正孔輸送層が形成された帯状可撓性支持体Ａの保持手段である保持台３０７ａ１２とを有している。第２パターン塗布部３０７ｂ１は湿式パターン形成塗布装置３０７ｂ１１と、第１パターン塗布・乾燥部３０７ａから送られてくる発光層が形成された帯状可撓性支持体Ａの保持手段である保持台３０７ｂ１２とを有している。【００７４】
第１パターン塗布部３０７ａ１、第２パターン塗布部３０７ｂ１には保持手段の他に、アライメント検出手段（図６を参照）と、湿式パターン形成塗布装置の塗布位置補正制御手段（図６を参照）とを有している。保持台３０７ａ１２（３０７ｂ１２）としては、図２に示した保持台と同じである。【００７５】
第１パターン塗布・乾燥部３０７ａは、湿式塗布・乾燥部３０４から搬送されてくる正孔輸送層が形成された帯状可撓性支持体Ａを保持台３０７ａ１２上に固定し、湿式パターン形成塗布装置３０７ａ１１により、帯状可撓性支持体Ａ上に形成されている正孔輸送層上に発光層形成用塗布液を塗布し、発光層中の溶媒を発光層乾燥部３０７ａ２で除去し発光層３０１ｅを形成する。形成された発光層３０１ｅは加熱処理部３０８ｂで加熱処理が行われる。第１パターン塗布・乾燥部３０７ａで湿式パターン形成塗布装置３０７ａ１１により塗布が行われるときは、前の工程から搬送されてくる正孔輸送層が形成された帯状可撓性支持体Ａに設けられたアライメントマーク４（図６を参照）を第１パターン塗布部３０７ａ１に配設されたアライメント検出手段の検出機により検出し、帯状可撓性支持体Ａを保持台上に吸着固定し、アライメントマークに従って湿式パターン形成塗布装置３０７ａ１１の位置合わせが行われ、パターン化されて形成された第１電極の端部の一部を除いて第１電極のパターンに合わせて、発光層形成用塗布液が電極上に塗布される。【００７６】
第２パターン塗布・乾燥部３０７ｂは、第１パターン塗布・乾燥部３０７ａから搬送されてくる発光層３０１ｅが形成された帯状可撓性支持体を保持台３０７ｂ１２上に固定し、湿式パターン形成塗布装置３０７ｂ１１により、電子輸送層形成用塗布液を形成された発光層２０１ｄの上に塗布し、電子輸送層中の溶媒を電子輸送層乾燥部３０７ｂ２で除去し電子輸送層３０１ｆを形成する。形成された電子輸送層は加熱処理部３０８ｃで加熱処理が行われる。第２パターン塗布・乾燥部３０７ｂで湿式パターン形成塗布装置３０７ｂ１１により塗布が行われるときは、前の工程から搬送されてくる発光層が形成された帯状可撓性支持体Ａに設けられたアライメントマーク４（図６を参照）を第３パターン塗布部３０７ｂ１に配設されたアライメント検出手段の検出機により検出し、発光層が形成された帯状可撓性支持体Ａを保持台上に吸着固定し、アライメントマークに従って湿式パターン形成塗布装置３０７ｂ１１の位置合わせが行われ、発光層の上に、電子輸送層形成用塗布液が塗布される。【００７７】
湿式塗布・乾燥部３０４〜第２パターン塗布・乾燥部３０７ｂにより、第１電極の端部を除いて正孔輸送層３０１ｄと、発光層３０１ｅと、電子輸送層３０１ｆとを有する有機ＥＬ層が形成された帯状可撓性支持体Ｂが出来上がる。【００７８】
尚、第１パターン塗布部３０７ａ１と第２パターン塗布部３０７ｂ１での塗布は何れも保持台に吸着固定した状態で行うため、第１パターン塗布・乾燥部３０７ａから発光層が形成された帯状可撓性支持体Ａの第２パターン塗布・乾燥部３０７ｂへの移動、第２パターン塗布・乾燥部３０７ｂから回収部３１２への移動は、各部で各層の塗布が形成された後に行われるため間欠移動となる。湿式パターン形成塗布装置３０７ａ１１（３０７ｂ１１）は、図２で示した湿式パターン形成塗布装置と同じである。本図ではインクジェット塗布装置を使用した場合を示している。【００７９】
除電処理部Ｃ３０９は、第２パターン塗布・乾燥部３０７ｂで形成された電子輸送層３０１ｆを有する帯状可撓性支持体の除電を行い、次工程での静電気に伴う故障を防止する機能を有し、必要に応じ配設することが可能となっている。尚、除電処理部Ｂ３０５と除電処理部Ｃ３０９に使用す除電処理手段は、除電処理部Ａに使用した除電処理手段と同じ除電処理手段を使用することが好ましい。【００８０】
第２アキュームレータ部３０９は、第２アキュームレータ部３０８の後に湿式塗布・乾燥部（不図示）が配設された場合、ロール２０８ａが上下方向（図中の矢印方向）に移動することで、パターン塗布・乾燥部３０７と湿式塗布・乾燥部（不図示）との搬送速度の差を調整するために配設されており、速度差に応じてロール３１１ａの増設が可能となっている。又、第２アキュームレータ部３１１は、パターン塗布・乾燥部２０７では帯状可撓性支持体は停止した状態で間欠搬送されるため、第２アキュームレータ部３１１で一定量を溜め、回収部３１２で溜めた量だけ連続して巻き取る方法に使用することも可能である。第２アキュームレータ部３１１は、第１アキュームレータ部３０６と同じ機能を有し、同じ構成となっていることが好ましい。【００８１】
回収部３１２では、除電処理部Ｃで処理され、有機ＥＬ層が形成された帯状可撓性支持体Ｂ３０１ｇが巻き芯に巻かれロール状態の帯状可撓性支持体Ｂ３０１ｈとして回収され、電子注入層、第２電極、封止層等を形成する次工程に送る迄保管される。尚、回収部３１２では、有機ＥＬ層が形成された帯状可撓性支持体Ｂを室温まで冷却装置（不図示）で冷却した後、巻き取ることが好ましい。【００８２】
図５は有機ＥＬ層までを形成するパターン塗布・乾燥部の前後に湿式塗布・乾燥部を有する製造装置の模式図である。以下に、一例としてパターン化されて形成されている第１電極を有する帯状可撓性支持体上に正孔輸送層、発光層、電子輸送層とを有する有機ＥＬ層を形成する方法を本図で説明する。【００８３】
図中、４は有機ＥＬ素子の構成層の１つである有機ＥＬ層までを大気圧条件下で形成する製造装置を示す。製造装置４は、供給部４０１と、帯状可撓性支持体の洗浄表面改質処理部４０２と、除電処理部ａ４０３、第１湿式塗布・乾燥部４０４と、加熱処理部４０５と、除電処理部ｂ４０６と、第１アキュームレータ部４０７と、パターン塗布・乾燥部４０８と、加熱処理部４０９と、除電処理部ｃ４１０と、第２アキュームレータ部４１１と、第２湿式塗布・乾燥部４１２と、除電処理部ｄ４１４と、回収部４１５とを有している。【００８４】
本図に示す製造装置４は、第１アキュームレータ部４０７の前に第１湿式塗布・乾燥部４０４と加熱処理部４０６と、第２アキュームレータ部４１１の後に第２湿式塗布・乾燥部４１２と加熱処理部４１３とを配設した構成となっている。【００８５】
供給部４０１では、ガスバリア膜と第１電極を含む陽極層とがこの順番で既に形成された帯状可撓性支持体Ａ４０１ａが巻き芯に巻き取られロール状態で供給される様になっている。４０１ｂはロール状態の帯状可撓性支持体Ａ４０１ａを示す。第１電極（図１、図６を参照）はパターン化（図１、図６を参照）されて形成されている。【００８６】
洗浄表面改質処理部４０２は、第１湿式塗布・乾燥部４０４で塗布する前に供給部４０１から送られてきた帯状可撓性支持体Ａ４０１ａの第１電極を含む陽極層（不図示）表面を洗浄改質する洗浄表面改質処理手段４０２ａとを有している。【００８７】
除電処理部ａ４０３は、洗浄表面改質処理部４０２で処理された帯状可撓性支持体Ａ４０１ａの除電を行い、次工程での静電気に伴う故障を防止する機能を有し、必要に応じ配設することが可能となっている。除電処理部ａ４０３は図２に示す第１除電処理部２０３と同じ除電処理手段を有し、同じ機能を有している。【００８８】
第１湿式塗布・乾燥部４０４は、帯状可撓性支持体Ａ４０１ａを保持するバックアップロール４０４ａと、バックアップロール４０４ａに保持された帯状可撓性支持体Ａ４０１ａに正孔輸送層形成用塗布液を大気圧条件下で塗布する湿式塗布機４０４ｂと、帯状可撓性支持体Ａ４０１ａ上の第１電極上に形成された正孔輸送層の溶媒を大気圧条件下で除去する正孔輸送層乾燥部４０５ｃとを有している。【００８９】
湿式塗布機４０４ｂは、図４に示した湿式塗布機３０４ｂと同じである。加熱処理部４０５は、正孔輸送層乾燥部４０５ｃで形成された正孔輸送層４０１ｃを有する帯状可撓性支持体Ａの裏面側から裏面伝熱方式で加熱処理し、更に安定した正孔輸送層４０１ｄとする機能を有し、必要に応じ配設することが好ましい。【００９０】
除電処理部ｂ４０６は、第１湿式塗布・乾燥部で形成された正孔輸送層４０１ｄが形成された帯状可撓性支持体Ａの除電を行い、次工程での静電気に伴う故障を防止する機能を有し、必要に応じ配設することが可能となっている。除電処理部ｂ４０６は図２に示す第１除電処理部２０３に使用した除電処理手段と同じ除電処理手段を使用することが好ましい。【００９１】
第１アキュームレータ部４０７は、ロール４０７ａが上下方向（図中の矢印方向）に移動することで、湿式塗布・乾燥部４０４とパターン塗布・乾燥部４０８の搬送速度の差を調整するために配設されており、速度差に応じてロール４０７ａの増設が可能となっている。ロール４０６ａは、正孔輸送層面を非接触で搬送出来る非接触ロールが好ましい。【００９２】
第１パターン塗布・乾燥部４０８は、パターン塗布部４０８ａと、発光層乾燥部４０８ｂを有している。パターン塗布部４０８ａは正孔輸送層４０１ｄが形成された帯状可撓性支持体の保持台４０８ａ２と、正孔輸送層４０１ｄ上に第１電極のパターンに合わせ発光層形成用塗布液を大気圧条件下でパターン塗布する湿式パターン形成塗布装置４０８ａ２とを有している。発光層乾燥部４０８ｂは発光層中の溶媒を大気圧条件下で除去する機能を有しており、図３に示す発光層乾燥部２０５ｂ２と同じ構成を有している。保持台４０８ａ２としては帯状可撓性支持体を平面性を保ち固定出来れば特に限定はなく、図２に示す保持台と同じ構造の保持台の使用が好ましい。【００９３】
パターン塗布・乾燥部４０８で湿式パターン形成塗布装置４０８ａ１により塗布が行われるときは、前の工程から搬送されてくる正孔輸送層が形成された帯状可撓性支持体Ａに設けられたアライメントマーク４（図６を参照）をパターン塗布部４０８ａに配設されたアライメント検出手段の検出機により検出し、正孔輸送層が形成された帯状可撓性支持体Ａを保持台上に吸着固定し、アライメントマークに従って湿式パターン形成塗布装置４０８ａ１の位置合わせが行われ、パターン化されて形成された第１電極の端部の一部を除いて第１電極のパターンに合わせて、発光層形成用塗布液が電極上に塗布される。【００９４】
加熱処理部４０９は、発光層乾燥部４０８ｂで形成された発光層４０１ｅを有する帯状可撓性支持体の裏面側から裏面伝熱方式で加熱処理し、更に安定した発光層とする機能を有し、必要に応じ配設することが好ましい。加熱処理部４０９は図３に示す加熱処理部２０６ｂと同じ構成を有している。【００９５】
除電処理部ｃ４１０は、発光層が形成された帯状可撓性支持体の除電を行い、次工程での静電気に伴う故障を防止する機能を有し、必要に応じ配設することが可能となっている。除電処理部ｃ４１０は図２に示す第１除電処理部２０３に使用した除電処理手段と同じ除電処理手段を使用することが好ましい。【００９６】
第２アキュームレータ部４１１は、ロール４１１ａが上下方向（図中の矢印方向）に移動することで、パターン塗布・乾燥部４０８と湿式塗布・乾燥部４１２との搬送速度の差を調整するために配設されており、速度差に応じてロール４１１ａの増設が可能となっている。第２アキュームレータ部４１１は、第１アキュームレータ部４０７と同じ構成をしている。【００９７】
第２湿式塗布・乾燥部４１２は、発光層４０１ｅが形成された帯状可撓性支持体を保持するバックアップロール４１２ａと、バックアップロール４１２ａに保持された発光層４０１ｅが形成された帯状可撓性支持体に電子輸送層形成用塗布液を大気圧条件下で塗布する湿式塗布機４１２ｂと、形成された電子輸送層の溶媒を大気圧条件下で除去する電子輸送層乾燥部４１２ｃとを有している。電子輸送層乾燥部４１２ｃは図３に示す発光層乾燥部２０５ｂ２と同じ構成を有している。湿式塗布機４１２ｂは、図４に示した湿式塗布機３０４ｂと同じである。加熱処理部４１３は、電子輸送層乾燥部４１２ｃで形成された電子輸送層４０１ｆを有する帯状可撓性支持体の裏面側から裏面伝熱方式で加熱処理し、更に安定した電子輸送層４０１ｆとする機能を有し、必要に応じ配設することが好ましい。加熱処理部４１３は、図３に示す加熱処理部２０６ｂと同じ構成を有している。【００９８】
除電処理部ｄ４１４は、第２湿式塗布・乾燥部４１２で形成された電子輸送層４０１ｆを有する帯状可撓性支持体の除電を行い、次工程での静電気に伴う故障を防止する機能を有し、必要に応じ配設することが可能となっている。除電処理部ｄ４１４は図２に示す第１除電処理部２０３に使用した除電処理手段と同じ除電処理手段を使用することが好ましい。【００９９】
回収部４１５では、除電処理部ｄ４１４で処理され、有機ＥＬ層が形成された帯状可撓性支持体Ｂ４０１ｇが巻き芯に巻かれロール状態の帯状可撓性支持体Ｂ４０１ｈとして回収され、電子注入層、第２電極、封止層等を形成する次工程に送る迄保管される。尚、回収部４１５では、有機ＥＬ層が形成された帯状可撓性支持体Ｂを室温まで冷却装置（不図示）で冷却した後、巻き取ることが好ましい。【０１００】
本図で示す塗布装置４は、パターン塗布・乾燥部４０８での発光層形成用塗布液の塗布が停止した状態で行われ、発光層の塗布が終了した時点で、次の発光層形成用塗布液の塗布を行う間欠搬送となっている。一方、第１湿式塗布・乾燥部４０４では連続的に正孔輸送層が塗布されており、第１湿式塗布・乾燥部４０４とパターン塗布・乾燥部４０８との速度差を調整するのが第１アキュームレータ部４０７となっており、必要とする長さが溜められる様に調整されている。又、第２湿式塗布・乾燥部４１２では、連続的に電子輸送層が塗布されており、パターン塗布・乾燥部４０８と第２湿式塗布・乾燥部４１２との速度差を調整するのが第２アキュームレータ部４１１となっており、必要とする長さが溜められる様に調整されている。【０１０１】
図２〜図５に示される製造装置を使用して、有機ＥＬ層を形成した帯状可撓性支持体を巻き芯に巻き取る際、通気性のある合紙や有機ＥＬ層面に空間を持たせるスペーサテープを介し巻き取ることが好ましい。【０１０２】
図６は図２のＱで示される部分の拡大概略平面図である。図６の（ａ）は図２のＱで示されるパターン塗布部の拡大概略平面図である。図６の（ｂ）は湿式塗布・乾燥部から搬送されてくる第１電極の上に正孔輸送層が形成された状態の帯状可撓性支持体の拡大概略平面図である。【０１０３】
図中、Ａは青色発光層形成用塗布液をパターン塗布する湿式パターン形成塗布装置を示し、Ｂは緑色発光層形成用塗布液をパターン塗布する湿式パターン形成塗布装置を示し、Ｃは赤色発光層形成用塗布液をパターン塗布する湿式パターン形成塗布装置を示し、本図の場合は湿式パターン形成塗布装置２０５ｂ１を構成している。本図に示す各湿式パターン形成塗布装置Ａ〜Ｃはインクジェットヘッドを使用している場合を示しており、以下、単にヘッドとも言う。【０１０４】
２０５ｂ１３はヘッド２０５ｂ１１を取り付けるステージを示し、ヘッド２０５ｂ１１１は幅方向（図中の矢印方向）に移動可能となる様に、ステージ２０５ｂ１３に配設されている。２０５ｂ１４はステージ２０５ｂ１３を第１電極１０２の上に正孔輸送層２０１ｃが形成された状態の帯状可撓性支持体の搬送方向（図中の矢印方向）に移動可能となる様に取り付けるステージを示す。第１電極１０２は帯状可撓性支持体２０１ｍ上にパターン化して、一定間隔で連続して帯状可撓性支持体２０１ｍの長さ方向に設けられている。３は第１電極１０２を含む陽極層が帯状可撓性支持体２０１ｍ上に形成された帯状可撓性支持体Ａに設けられたアライメントマーク４の検出装置を示す。検出装置３はアライメントマーク４の位置に合わせ湿式パターン形成塗布装置２０５ｂ１のフレーム（不図示）に配設されている。ヘッドのステージ２０５ｂ１３への配設方法は特に限定はなく、例えば各湿式パターン形成塗布装置Ａ〜Ｃを単独に配設してもよく、各湿式パターン形成塗布装置Ａ〜Ｃを纏めてもよく、必要に合わせて適宜選択することが好ましい。本図は各湿式パターン形成塗布装置Ａ〜Ｃを纏めて配設した場合を示している。【０１０５】
アライメントマーク４は帯状可撓性支持体Ａの搬送方向（図中の矢印方向）に対して第１電極１０２の右下端と左上端（或いは右上端と左下端）の少なくとも２箇所に設けることが、ヘッド２０５ｂ１１の位置を決める関係から好ましい。勿論、アライメントマーク４を第１電極１０２の右下端、右上端、左下端、左上端に設けてもかまわない。正孔輸送層２０１ｃは第１電極１０２の端部１０２ａを残して第１パターン塗布・乾燥部２０５ｂ（図２を参照）で全面に塗布・乾燥し形成されている。検出装置３としては、ＣＣＤカメラ等が挙げられる。正孔輸送層２０１ｃを有する帯状可撓性支持体と、ステージ２０５ｂ１３と、ステージ２０５ｂ１４と、ヘッド２０５ｂ１１の駆動は、検出装置３によりアライメントマーク４の検出情報に従って塗布位置補正制御手段（不図示）により制御可能となっている。【０１０６】
本図に示すパターン塗布部で、パターン化されて配設された第１電極１０２上に、第１電極１０２のパターンに合わせて発光層形成用塗布液を塗布する過程を図５に示す製造装置を使用し場合に付き、以下に示す。【０１０７】
Ｓ１では、前工程の第１湿式塗布・乾燥部４０４と加熱処理部４０５でパターン化されて配設された第１電極１０２上に正孔輸送層４０１ｄが形成された帯状可撓性支持体が、パターン塗布・乾燥部４０８のパターン塗布部４０８ａに送られてくる。【０１０８】
Ｓ２では、第１電極１０２に設けられたアライメントマーク４をパターン塗布・乾燥部４０８に配設された検出装置により検知することで正孔輸送層４０１ｄが形成された帯状可撓性支持体が保持台４０８ａ２上に吸引固定される。【０１０９】
Ｓ３では、帯状可撓性支持体が保持台４０８ａ２上に吸引固定された情報に基づき、ステージ２０５ｂ１３（図６を参照）が移動し、ヘッドの位置が決められる。【０１１０】
Ｓ４では、第１電極１０２のパターに合わせ、青色発光層形成用塗布液をヘッドＡ（図６を参照）から、緑色発光層形成用塗布液をヘッドＢ（図６を参照）から、赤色発光層形成用塗布液をヘッドＣ（図６を参照）から第１電極１０２上に塗布する。ステージ２０５ｂ１３が幅方向に移動することで、青色発光層形成用塗布液、緑色発光層形成用塗布液、赤色発光層形成用塗布液がパターン化された第１電極１０２の各１本毎に塗布される。【０１１１】
Ｓ５では、Ｓ４で幅方向の塗布が終了すると、ステージ２０５ｂ１４（図６を参照）が第１電極１０２のピッチ分だけ搬送方向に移動し、Ｓ４と同じ様にして青色発光層形成用塗布液、緑色発光層形成用塗布液、赤色発光層形成用塗布液がパターン化された第１電極１０２の各１本毎に塗布される。以下、パターン化された第１電極１０２の全てに青色発光層形成用塗布液、緑色発光層形成用塗布液、赤色発光層形成用塗布液が塗布される迄、Ｓ４とＳ５を繰り返す。【０１１２】
Ｓ６では、パターン化された第１電極１０２の全てに青色発光層形成用塗布液、緑色発光層形成用塗布液、赤色発光層形成用塗布液が塗布終了すると、吸引固定が解除され塗布された部分が発光層乾燥部４０８ｂに送られる。【０１１３】
Ｓ７では、新たな第１電極１０２部がパターン塗布部４０８ａに送られてくる。以下、Ｓ６迄のステップが繰り返され、順次、帯状可撓性支持体の搬送方向に設けられた第１電極１０２上に青色発光層形成用塗布液、緑色発光層形成用塗布液、赤色発光層形成用塗布液が塗布される。【０１１４】
Ｓ１〜Ｓ７では、パターン塗布部４０８ａで帯状可撓性支持体の搬送は停止しており、一方湿式塗布・乾燥部４０４と加熱処理部４０６では連続して搬送しながらされ正孔輸送層が形成されており、パターン塗布部４０８ａと湿式塗布・乾燥部４０４と加熱処理部４０５との速度差を調整するのに第１アキュームレータ部４０７が作動し、速度差分だけ正孔輸送層が形成された帯状可撓性支持体が溜められる様になっている。【０１１５】
図２〜図６に示される各乾燥部における乾燥条件としては、形成された各塗布膜の乾燥ムラ、塗膜表面の吹き荒れ等を考慮し、吐出口からの乾燥風の吐出風速０．１〜５ｍ／ｓ、幅手方向の風速分布が０．１〜１０％の気流乾燥が挙げられる。【０１１６】
図２〜図６に示される加熱処理部における加熱条件は、正孔輸送層、発光層、電子輸送層等の平滑性向上、残留溶媒の除去、硬化等を考慮し、正孔輸送層、発光層、電子輸送層等のガラス転移温度に対して−３０〜＋３０℃、且つ、正孔輸送層、発光層、電子輸送層等を構成している有機化合物の分解温度を超えない温度で裏面伝熱方式の熱処理を行うことが好ましい。【０１１７】
図４、図５に示される湿式塗布機で正孔輸送層形成用塗布液及び電子輸送層形成用塗布液等を塗布するときの帯状可撓性支持体の搬送速度のバラツキは、長手方向の塗膜厚みムラ等を考慮し、平均搬送速度に対して０．２〜１０％であることが好ましい。【０１１８】
図２、図４、図５で示される製造装置は、正孔輸送層、発光層、電子輸送層等の形成は、正孔輸送層、発光層、電子輸送層等の性能維持、異物付着に伴う故障欠陥の防止等を考慮し、露点温度−２０℃以下、且つＪＩＳＢ  ９９２０に準拠し、測定した清浄度がクラス５以下で、且つ、乾燥部、加熱処理部を除き１０〜４５℃の大気圧条件下で形成されることが好ましい。【０１１９】
本発明においては、有機ＥＬ層（正孔輸送層、発光層、電子輸送層等）が形成された帯状可撓性支持体Ｂが巻き芯に巻かれロール状態として回収され、有機ＥＬ層の性能維持、未発光故障等を考慮し、１０-5〜１０Ｐａの減圧条件下で保管することが好ましい。収納期間は、有機ＥＬ層の劣化に起因する酸素や微量水分の除去を考慮し、１時間〜２００時間が好ましい。場合によっては加熱環境下で保存してもよい。【０１２０】
図２〜図６に示す製造装置で、第１電極を含む陽極層が形成された帯状可撓性支持体Ａを使用し、第１電極上に有機ＥＬ層（正孔輸送層、発光層、電子輸送層）を形成し帯状可撓性支持体Ｂとした後、帯状可撓性支持体Ｂを巻き芯に巻き取りロール状の帯状可撓性支持体Ｂにする有機化合物層の形成方法により蒸着方式に比べ、次の効果が得られる。【０１２１】
１）パターン塗布・乾燥部の前後にアキュームレータ部を配置したことで、発光層形成用塗布液を塗布するとき、一旦止めて塗布することが可能になり、正確で安定な発光層の形成が可能となった。【０１２２】
２）更に、塗布位置補正制御手段により、アライメントマークに従って正確な位置に湿式パターン形成塗布装置を配置することが可能になり、発光層の位置ズレがなくなり、正確で安定な発光層の形成が可能となった。【０１２３】
３）パターン塗布・乾燥部の前後にアキュームレータ部を配置したことで、塗布速度が異なる湿式塗布装置とパターン塗布装置の組合せ使用が可能となり、連続生産が可能となり、生産性向上が可能となった。【０１２４】
４）有機物質からなる１つ又は複数の発光層を形成するのに使用する有機化合物の使用効率が高くコストを抑えることが可能となる。【０１２５】
本発明に係わる正孔輸送層とは、正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層、電子阻止層も正孔輸送層に含まれる。正孔輸送層は単層又は複数層設けることが出来る。正孔輸送層を複数層設ける場合、湿式塗布・乾燥部は層の数に合わせ増設する必要があり、同時に加熱処理部も増設することが好ましい。【０１２６】
発光層（青色発光層、緑色発光層、赤色発光層）の個々の膜厚は、好ましくは２〜１００ｎｍの範囲で選ばれ、２〜２０ｎｍの範囲にあるのが更に好ましい。青、緑、赤の各発光層の膜厚の関係については、特に制限はないが、３色の光層中、青発光層が最も厚いことが好ましい。【０１２７】
本発明に係わる発光層は、発光極大波長が４３０〜４８０ｎｍにある層を青発光層、５１０〜５５０ｎｍにある層を緑発光層、６００〜６４０ｎｍの範囲にある層を赤発光層と言う。これらの発光極大波長の範囲にある発光スペクトルの異なる少なくとも３層以上の層を含む。３層以上であれば、特に制限はない。４層より多い場合には、同一の発光スペクトルを有する層が複数層あってもよい。又、前記の極大波長を維持する範囲において、各発光層には複数の発光性化合物を混合してもよい。例えば、青発光層に、極大波長４３０〜４８０ｎｍの青発光性化合物と、同５１０〜５５０ｎｍの緑発光性化合物を混合して用いてもよい。発光層に使用する材料は特に限定はなく、例えば、株式会社  東レリサーチセンター  フラットパネルディスプレイの最新動向  ＥＬディスプレイの現状と最新技術動向  ２２８〜３３２頁に記載されている如き各種材料が挙げられる。【０１２８】
湿式パターン形成塗布機で発光層形成用塗布液を塗布し、乾燥することで形成された発光層は、電極又は電子注入層、正孔輸送層から注入されてくる電子及び正孔が再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接層との界面であってもよい。【０１２９】
本発明に係わる第１電極を含む陽極層が既に形成された帯状可撓性支持体Ａに使用する帯状可撓性支持体としては、透明樹脂フィルムが挙げられる。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート（ＴＡＣ）、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル或いはポリアリレート類、アートン（商品名ＪＳＲ社製）或いはアペル（商品名三井化学社製）といったシクロオレフィン系樹脂等を挙げられる。【０１３０】
陽極としては、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金属、合金、電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられる。このような電極物質の具体例としてはＡｕ等の金属、ＣｕＩ、インジウムチンオキシド（ＩＴＯ）、ＳｎＯ2、ＺｎＯ等の導電性透明材料が挙げられる。又、ＩＤＩＸＯ（Ｉｎ2Ｏ3・ＺｎＯ）等非晶質で透明導電膜を作製可能な材料を用いてもよい。陽極はこれらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により、薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状のパターンを形成してもよく、或いはパターン精度をあまり必要としない場合は（１００μｍ以上程度）、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。或いは、有機導電性化合物のように塗布可能な物質を用いる場合には、印刷方式、コーティング方式など湿式製膜法を用いることも出来る。この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を１０％より大きくすることが望ましく、又陽極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましい。更に膜厚は材料にもよるが、通常１０〜１０００ｎｍ、好ましくは１０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。【０１３１】
陽極と発光層又は正孔輸送層の間、正孔注入層（陽極バッファー層）を存在させてもよい。注入層とは、駆動電圧低下や発光輝度向上のために電極と有機層間に設けられる層のことで、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されている。【０１３２】
陽極バッファー層（正孔注入層）は、特開平９−４５４７９号公報、同９−２６００６２号公報、同８−２８８０６９号公報等にもその詳細が記載されており、具体例として、銅フタロシアニンに代表されるフタロシアニンバッファー層、酸化バナジウムに代表される酸化物バッファー層、アモルファスカーボンバッファー層、ポリアニリン（エメラルディン）やポリチオフェン等の導電性高分子を用いた高分子バッファー層等が挙げられる。陽極バッファー層（正孔注入層）はごく薄い膜であることが望ましく、素材にもよるがその膜厚は０．１ｎｍ〜５μｍの範囲が好ましい。【０１３３】
帯状可撓性支持体として使用する樹脂フィルムの表面にはガスバリア膜が必要に応じて形成されていてもよい。ガスバリア膜としては無機物、有機物の被膜又はその両者のハイブリッド被膜が挙げられる。ガスバリア膜の特性としては、水蒸気透過度が０．０１ｇ／ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ以下であることが好ましい。更には、酸素透過度１０-3ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下、水蒸気透過度１０-5ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下の高バリア性フィルムであることが好ましい。【０１３４】
バリア膜を形成する材料としては、水分や酸素など素子の劣化をもたらすものの浸入を抑制する機能を有する材料であればよく、例えば、酸化珪素、二酸化珪素、窒化珪素などを用いることが出来る。更に該膜の脆弱性を改良するためにこれら無機層と有機材料からなる層の積層構造を持たせることがより好ましい。無機層と有機層の積層順については特に制限はないが、両者を交互に複数回積層させることが好ましい。バリア膜の形成方法については、特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、分子線エピタキシー法、クラスタ−イオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、コーティング法などを用いることが出来るが、特開２００４−６８１４３号に記載されているような大気圧プラズマ重合法によるものが特に好ましい。【０１３５】
正孔輸送材料としては、正孔の注入又は輸送、電子の障壁性の何れかを有するものであり、有機物、無機物の何れであってもよい。例えば、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、アニリン系共重合体、又導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴマー等が挙げられる。【０１３６】
本発明に係わる正孔輸送に使用する材料としては、ポルフィリン化合物、芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、特に芳香族第３級アミン化合物を用いることが好ましい。芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノフェニル；Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−〔１，１′−ビフェニル〕−４，４′−ジアミン（ＴＰＤ）；２，２−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）プロパン；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラ−ｐ−トリル−４，４′−ジアミノビフェニル；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）−４−フェニルシクロヘキサン；ビス（４−ジメチルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン；ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）フェニルメタン；Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，Ｎ′−ジ（４−メトキシフェニル）−４，４′−ジアミノビフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，４′−ジアミノジフェニルエーテル；４，４′−ビス（ジフェニルアミノ）クオードリフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ（ｐ−トリル）アミン；４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４′−〔４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル〕スチルベン；４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−（２−ジフェニルビニル）ベンゼン；３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノスチルベンゼン；Ｎ−フェニルカルバゾール、更には米国特許第５，０６１，５６９号明細書に記載されている２個の縮合芳香族環を分子内に有するもの、例えば、４，４′−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ〕ビフェニル（ＮＰＤ）、特開平４−３０８６８８号公報に記載されているトリフェニルアミンユニットが３つスターバースト型に連結された４，４′，４″−トリス〔Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴＡ）等が挙げられる。【０１３７】
更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることも出来る。又、ｐ型−Ｓｉ、ｐ型−ＳｉＣ等の無機化合物も正孔注入材料、正孔輸送材料として使用することが出来る。【０１３８】
又、特開平１１−２５１０６７号公報、Ｊ．Ｈｕａｎｇ  ｅｔ．ａｌ．著文献（Ａｐｐｌｉｅｄ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  ８０（２００２），ｐ．１３９）に記載されているような所謂ｐ型正孔輸送材料を用いることも出来る。本発明においては、より高効率の発光素子が得られることから、これらの材料を用いることが好ましい。【０１３９】
正孔輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍである。この正孔輸送層は上記材料の１種又は２種以上からなる一層構造であってもよい。又、不純物をドープしたｐ性の高い正孔輸送層を用いることも出来る。その例としては、特開平４−２９７０７６号、特開２０００−１９６１４０号、特開２００１−１０２１７５号、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）などに記載されたものが挙げられる。このようなｐ性の高い正孔輸送層を用いることが、より低消費電力の有機ＥＬ素子を作製することが出来るため好ましい。【０１４０】
次に、本発明に係る有機ＥＬ層の構成に使用される他の構成部材に付き説明する。発光層に隣接して設けられる層として阻止層が挙げられる。阻止層としては正孔阻止層、電子阻止層が挙げられる。阻止層は、有機化合物薄膜の基本構成層の他に必要に応じて設けられるものである。例えば、特開平１１−２０４２５８号公報、同１１−２０４３５９号公報、及び「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の２３７頁等に記載されている正孔阻止（ホールブロック）層がある。正孔阻止層とは広い意味では電子輸送層の機能を有し、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることが出来る。又、後述する電子輸送層の構成を必要に応じて、本発明に係わる正孔阻止層として用いることが出来、正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。【０１４１】
発光層が、複数の発光色の異なる発光層を有する場合には、その発光極大波長が最も短波にある発光層が、全発光層中、最も陽極に近いことが好ましいが、このような場合、該最短波層と、該層の次に陽極に近い発光層との間に正孔阻止層を追加して設けることが好ましい。更には、該位置に設けられる正孔阻止層に含有される化合物の５０質量％以上が、前記最短波発光層のホスト化合物に対し、そのイオン化ポテンシャルが０．３ｅＶ以上大きいことが好ましい。【０１４２】
イオン化ポテンシャルは化合物のＨＯＭＯ（最高被占分子軌道）レベルにある電子を真空準位に放出するのに必要なエネルギーで定義され、例えば下記に示すような方法により求めることが出来る。（１）米国Ｇａｕｓｓｉａｎ社製の分子軌道計算用ソフトウェアであるＧａｕｓｓｉａｎ９８（Ｇａｕｓｓｉａｎ９８、Ｒｅｖｉｓｉｏｎ  Ａ．１１．４，Ｍ．Ｊ．Ｆｒｉｓｃｈ，ｅｔ  ａｌ，Ｇａｕｓｓｉａｎ，Ｉｎｃ．，Ｐｉｔｔｓｂｕｒｇｈ  ＰＡ，２００２．）を用い、キーワードとしてＢ３ＬＹＰ／６−３１Ｇ＊を用いて構造最適化を行うことにより算出した値（ｅＶ単位換算値）の小数点第２位を四捨五入した値としてイオン化ポテンシャルを求めることが出来る。この計算値が有効な背景には、この手法で求めた計算値と実験値の相関が高いためである。（２）イオン化ポテンシャルは光電子分光法で直接測定する方法により求めることも出来る。例えば、理研計器社製の低エネルギー電子分光装置「Ｍｏｄｅｌ  ＡＣ−１」を用いて、或いは紫外光電子分光として知られている方法を好適に用いることが出来る。【０１４３】
一方、電子阻止層とは広い意味では正孔輸送層の機能を有し、正孔を輸送する機能を有しつつ電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることが出来る。又、後述する正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることが出来る。本発明に係わる正孔阻止層、電子輸送層の膜厚としては好ましくは３ｎｍ〜１００ｎｍであり、更に好ましくは５ｎｍ〜３０ｎｍである。【０１４４】
本発明の有機ＥＬ層を構成している発光層には、発光層の発光効率を高くするために公知のホスト化合物と公知のリン光性化合物（リン光発光性化合物とも言う）を含有することが好ましい。ホスト化合物とは、発光層に含有される化合物の内で、その層中での質量比が２０％以上であり、且つ室温（２５℃）においてリン光発光のリン光量子収率が、０．１未満の化合物と定義される。好ましくはリン光量子収率が０．０１未満である。ホスト化合物を複数種併用して用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機ＥＬ層を高効率化することが出来る。又、リン光性化合物を複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることが出来る。リン光性化合物の種類、ドープ量を調整することで白色発光が可能であり、照明、バックライトへの応用も出来る。【０１４５】
これらのホスト化合物としては、正孔輸送能、電子輸送能を有しつつ、且つ発光の長波長化を防ぎ、尚且つ高Ｔｇ（ガラス転移温度）である化合物が好ましい。公知のホスト化合物としては、例えば、特開２００１−２５７０７６号公報、同２００２−３０８８５５号公報、同２００１−３１３１７９号公報、同２００２−３１９４９１号公報、同２００１−３５７９７７号公報、同２００２−３３４７８６号公報、同２００２−８８６０号公報、同２００２−３３４７８７号公報、同２００２−１５８７１号公報、同２００２−３３４７８８号公報、同２００２−４３０５６号公報、同２００２−３３４７８９号公報、同２００２−７５６４５号公報、同２００２−３３８５７９号公報、同２００２−１０５４４５号公報、同２００２−３４３５６８号公報、同２００２−１４１１７３号公報、同２００２−３５２９５７号公報、同２００２−２０３６８３号公報、同２００２−３６３２２７号公報、同２００２−２３１４５３号公報、同２００３−３１６５号公報、同２００２−２３４８８８号公報、同２００３−２７０４８号公報、同２００２−２５５９３４号公報、同２００２−２６０８６１号公報、同２００２−２８０１８３号公報、同２００２−２９９０６０号公報、同２００２−３０２５１６号公報、同２００２−３０５０８３号公報、同２００２−３０５０８４号公報、同２００２−３０８８３７号公報等に記載の化合物が挙げられる。【０１４６】
発光層が複数の発光層を有する場合、これら各層のホスト化合物の５０質量％以上が同一の化合物であることが、発光層全体に渡って均質な膜性状を得やすいことから好ましく、更にはホスト化合物のリン光発光エネルギーが２．９ｅＶ以上であることが、ドーパントからのエネルギー移動を効率的に抑制し、高輝度を得る上で有利となることからより好ましい。リン光発光エネルギーとは、ホスト化合物を基板上に１００ｎｍの蒸着膜のフォトルミネッセンスを測定し、そのリン光発光の０−０バンドのピークエネルギーを言う。【０１４７】
ホスト化合物は、本発明の有機ＥＬ層を使用して有機ＥＬ素子としたとき、有機ＥＬ素子の経時での劣化（輝度低下、膜性状の劣化）、光源としての市場ニーズ等を考慮し、リン光発光エネルギーが２．９ｅＶ以上且つＴｇが９０℃以上のものであることが好ましい。即ち、輝度と耐久性の両方を満足するためには、リン光発光エネルギーが２．９ｅＶ以上且つＴｇが９０℃以上のものであることが好ましい。Ｔｇは、更に好ましくは１００℃以上である。【０１４８】
リン光性化合物（リン光発光性化合物）とは、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、室温（２５℃）にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が、２５℃において０．０１以上の化合物である。先に説明したホスト化合物と合わせ使用することで、より発光効率の高い有機ＥＬ素子とすることが出来る。【０１４９】
本発明に係るリン光性化合物は、リン光量子収率は好ましくは０．１以上である。上記リン光量子収率は、第４版実験化学講座７の分光IIの３９８頁（１９９２年版、丸善）に記載の方法により測定出来る。溶液中でのリン光量子収率は種々の溶媒を用いて測定出来るが、本発明に用いられるリン光性化合物は、任意の溶媒の何れかにおいて上記リン光量子収率が達成されればよい。【０１５０】
リン光性化合物の発光は原理としては２種挙げられ、１つはキャリアが輸送されるホスト化合物上出来ャリアの再結合が起こってホスト化合物の励起状態が生成し、このエネルギーをリン光性化合物に移動させることでリン光性化合物からの発光を得るというエネルギー移動型、もう１つはリン光性化合物がキャリアトラップとなり、リン光性化合物上でキャリアの再結合が起こりリン光性化合物からの発光が得られるというキャリアトラップ型であるが、何れの場合においても、リン光性化合物の励起状態のエネルギーはホスト化合物の励起状態のエネルギーよりも低いことが条件である。【０１５１】
リン光性化合物は、有機ＥＬ層の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることが出来る。リン光性化合物としては、好ましくは元素の周期表で８族〜１０族の金属を含有する錯体系化合物であり、更に好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、又は白金化合物（白金錯体系化合物）、希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。【０１５２】
本発明においては、リン光性化合物のリン光発光極大波長としては特に制限されるものではなく、原理的には中心金属、配位子、配位子の置換基等を選択することで得られる発光波長を変化させることが出来る。【０１５３】
本発明の有機ＥＬ層や本発明に係る化合物の発光する色は、「新編色彩科学ハンドブック」（日本色彩学会編、東京大学出版会、１９８５）の１０８頁の図４、図１６において、分光放射輝度計ＣＳ−１０００（コニカミノルタセンシング社製）で測定した結果をＣＩＥ色度座標に当てはめたときの色で決定される。【０１５４】
本発明に係わる有機ＥＬ層を使用した有機ＥＬ素子の発光の室温における外部取り出し効率は１％以上であることが好ましく、より好ましくは５％以上である。ここに、外部取り出し量子効率（％）＝有機ＥＬ素子外部に発光した光子数／有機ＥＬ素子に流した電子数×１００である。【０１５５】
又、カラーフィルター等の色相改良フィルター等を併用しても、有機ＥＬ素子からの発光色を蛍光体を用いて多色へ変換する色変換フィルターを併用してもよい。色変換フィルターを用いる場合においては、有機ＥＬ素子の発光のλｍａｘは４８０ｎｍ以下が好ましい。【０１５６】
電子輸送層に用いられる電子輸送材料（正孔阻止材料を兼ねる）としては、陰極より注入された電子を発光層に伝達する機能を有していればよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることが出来、例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体等が挙げられる。更に、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることが出来る。更にこれらの材料を高分子鎖に導入した、又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることも出来る。【０１５７】
又、８−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ）、トリス（５，７−ジクロロ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（２−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）亜鉛（Ｚｎｑ）等、及びこれらの金属錯体の中心金属がＩｎ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｃａ、Ｓｎ、Ｇａ又はＰｂに置き替わった金属錯体も、電子輸送材料として用いることが出来る。その他、メタルフリーもしくはメタルフタロシアニン、又はそれらの末端がアルキル基やスルホン酸基等で置換されているものも、電子輸送材料として好ましく用いることが出来る。又、ジスチリルピラジン誘導体も、電子輸送材料として用いることが出来るし、正孔注入層、正孔輸送層と同様に、ｎ型−Ｓｉ、ｎ型−ＳｉＣ等の無機半導体も電子輸送材料として用いることが出来る。電子輸送層の膜厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍである。電子輸送層は上記材料の１種又は２種以上からなる一層構造であってもよい。【０１５８】
又、不純物をドープしたｎ性の高い電子輸送層を用いることも出来る。その例としては、特開平４−２９７０７６号公報、特開平１０−２７０１７２号公報、特開２０００−１９６１４０号公報、特開２００１−１０２１７５号公報、Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）などに記載されたものが挙げられる。このようなｎ性の高い電子輸送層を用いることがより低消費電力の素子を作製することが出来るため好ましい。【０１５９】
以下、実施例を挙げて本発明の具体的な効果を示すが、本発明の態様はこれに限定されるものではない。
【実施例】
【０１６０】
実施例１
〈ガスバリア層と第１電極層とをこの順番で有する帯状可撓性支持体の準備〉厚さ２００μｍのポリエーテルスルホン（住友ベークライト社製フィルム、以下、ＰＥＳと略記する）を用い、以下に示す方法でガスバリア層と第１電極層とを形成し、巻き芯に巻き取りロール状としたガスバリア層と第１電極層とをこの順番で有する帯状可撓性支持体を準備した。【０１６１】
（透明性ガスバリア層の形成）
準備したＰＥＳ上に、大気圧プラズマ放電処理法で、厚さ約９０ｎｍの透明ガスバリア層を形成した。ＪＩＳｋ−７１２９Ｂに準拠した方法により水蒸気透過率を測定した結果、１０-3ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であった。ＪＩＳｋ−７１２６Ｂに準拠した方法により酸素透過率を測定した結果、１０-3ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であった。【０１６２】
（第１電極層の形成）
形成したバリア層の上に厚さ１２０ｎｍのＩＴＯ（インジウムチンオキシド）をプラズマイオンプレーティング装置にて形成した。その後、フォトリソ工程を経て幅１１０μｍで間隔３４μｍのパターンを形成した。【０１６３】
（正孔輸送層形成用塗布液の準備）
ポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、Ｂａｙｅｒ社製  Ｂｙｔｒｏｎ  Ｐ  ＡＩ  ４０８３）を純水で６５％、メタノール５％で希釈した溶液を正孔輸送層形成用塗布液として準備した。【０１６４】
（発光層形成用塗布液の準備）
青色発光層形成用塗布液の準備ホスト材のポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）にドーパント材Ｆｉｒ（ｐｉｃ）３を５質量％を１，２−ジクロロエタン中に溶解し１％溶液とし有機化合物層形成用塗布液として準備した。【０１６５】
緑色発光層形成用塗布液の準備
ホスト材のポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）にドーパント材Ｉｒ（ｐｐｙ）３を５質量％を１，２−ジクロロエタン中に溶解し１％溶液とし有機化合物層形成用塗布液として準備した。【０１６６】
赤色発光層形成用塗布液の準備
ホスト材のポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）にドーパント材Ｂｔｃ2Ｉｒ（ａｃａｃ）３を５質量％を１，２−ジクロロエタン中に溶解し１％溶液とし有機化合物層形成用塗布液として準備した。【０１６７】
電子輸送層形成用塗布液の準備
電子輸送層はＡｌｑ3を１，２−ジクロロエタン中に溶解し０．５質量％溶液とし電子輸送層形成用塗布液とした。【０１６８】
〈発光層の形成〉
図３に示す製造装置を使用し、準備した巻き芯に巻き取りロール状としたガスバリア層と第１電極層とをこの順番で有する帯状可撓性支持体の第１電極層の上に正孔輸送層、発光層、電子輸送層を形成するまでの環境条件（露点温度、清浄度）を表１に示す様に変えて有機ＥＬ層を形成し、加熱処理した後、除電処理し、室温と同じ温度になるまで冷却した後、巻き芯に巻き取りロール状とし試料Ｎｏ．１０１〜１０７とした。尚、清浄度はＪＩＳＢ  ９９２０に準拠し測定した値を示し、清浄度の変化はフィルターを変えることで行った。【０１６９】
尚、正孔輸送層は以下に示す正孔輸送層形成用塗布液をエクストルージョン塗布機を使用した湿式塗布方式により塗布・乾燥した後加熱処理を行い形成した。発光層は、アライメントマークに従って湿式パターン塗布装置の位置合わせを行い、保持手段で保持した状態で図６に示す様にパターン化して形成されている第１電極のパターンに合わせ発光層形成用塗布液を湿式パターン塗布装置により形成した。電子輸送層は以下に示す電子輸送層形成用塗布液をエクストルージョン塗布機を使用した湿式塗布方式により塗布・乾燥した後加熱処理を行い形成した。【０１７０】
正孔輸送層形成用塗布液を塗布する前に、帯状可撓性支持体の洗浄表面改質処理を、波長１８４．９ｎｍの低圧水銀ランプを使用し、照射強度１５ｍＷ／ｃｍ2、距離１０ｍｍで実施した。帯電除去処理は、微弱Ｘ線による除電器を使用し行った。【０１７１】
正孔輸送層形成用塗布液は乾燥後の厚みが５０ｎｍになるように塗布した。発光層形成用塗布液は乾燥後の厚みが１００ｎｍになるように塗布した。【０１７２】
電子輸送層形成用塗布液は乾燥後の厚みが３０ｎｍになるように塗布した。尚、搬送速度は２ｍ／ｍｉｎで実施した。【０１７３】
（塗布条件）
正孔輸送層形成用塗布液、発光層形成用塗布液及び電子輸送層形成用塗布液の塗布温度を２５℃とし、乾燥装置及び加熱処理装置は除き他の環境温度は２５℃で大気圧条件で行った。【０１７４】
（乾燥及び加熱処理条件）
正孔輸送層形成用塗布液を塗布した後、図３に示す発光層乾燥部及び加熱処理部と同じ構造の乾燥部及び加熱処理装置を使用し、乾燥部ではスリットノズル形式の吐出口から製膜面に向け高さ１００ｍｍ、吐出風速１ｍ／ｓ、幅手の風速分布５％、温度１００℃で溶媒を除去した後、引き続き、加熱処理装置で温度２００℃で裏面伝熱方式の熱処理を行い正孔輸送層を形成した。【０１７５】
発光層形成用塗布液を塗布した後、図３に示す発光層乾燥部及び加熱処理部を使用し、発光層乾燥部ではスリットノズル形式の吐出口から製膜面に向け高さ１００ｍｍ、温度６０℃で溶媒を除去した後、引き続き、加熱処理部で温度２２０℃で加熱処理を行い発光層を形成した。【０１７６】
電子輸送層形成用塗布液を塗布した後、図３に示す発光層乾燥部及び加熱処理部と同じ構造の乾燥部及び加熱処理装置を使用し、乾燥部ではスリットノズル形式の吐出口から製膜面に向け高さ１００ｍｍ、温度６０℃で溶媒を除去した後、引き続き、加熱処理部で温度２００℃で加熱処理を行い電子輸送層を形成した。尚、吐出風速はカノマックス（株）製  熱風風速計  モデル６１１３で測定し、幅手方向の風速分布は次式により計算で求めた。【０１７７】
風速分布＝（最大風速−最小風速）／平均風速×１００
評価
作製した試料Ｎｏ．１０１〜１０７に付き、５×１０−４Ｐａ真空下にて厚さ０．５ｎｍのＬｉＦ層（電子注入層）を全面蒸着し、マスクを介して第１電極とは直交するように幅３５０μｍ、間隔８０μｍのパターン形成された厚さ１００ｎｍのアルミ層（第２電極）を蒸着方式で形成した後、引き続き封止層の形成を蒸着で行い、室温まで冷却し、巻き芯に巻き取りロール状とした。この状態で作製した試料Ｎｏ．１０１〜１０７に付き未発光故障を目視で確認し、次の評価ランクに従って評価した結果を表１に示す。【０１７８】
未発光故障の確認方法
作製した試料を１週間８０℃の恒温条件で保管した後、２．５ｍＡ／ｃｍ２の一定電流で駆動したとき、発光しない箇所の有無を目視で確認した。未発光故障の評価ランク
○：未発光故障が確認されない
△：実技上問題とならない僅かな未発光故障が認められる
×：実技上問題となる未発光故障が散見される【０１７９】
【表１】
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【０１８０】
試料Ｎｏ．１０１の場合は、試料中に含まれる水分量により、又、試料Ｎｏ．１０４の場合は、付着した異物により未発光故障が発生したものと推測される。本発明の有効性が確認された。【０１８１】
実施例２
実施例１で作製した試料Ｎｏ．１０４を保管する条件を表２に示す様に変えて処理した他は全て同じ条件とし試料Ｎｏ．２０１〜２０６とした。尚、保管期間５日間とした。【０１８２】
評価
作製した試料Ｎｏ．２０１〜２０６に付き、発光層の寿命は、２．５ｍＡ／ｃｍ２の一定電流で駆動したときの輝度が初期の輝度の半分になるのに要した時間（半減時間）を寿命の指標とし、評価を行った結果を表２に示す。尚、寿命（相対値）は保管条件が１×１０-5Ｐａのときの寿命を１００としたときの相対値を示す。【０１８３】
【表２】
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【０１８４】
本発明の有効性が確認された。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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