(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理装置の搬出部から引き出した薄板を浮上させた状態で搬送方向へ搬送する浮上搬送装置において、
装置本体と、
前記装置本体における前記搬送方向に直交する直交方向の一端側及び他端側に前記直交方向に平行な軸心周りに回転可能かつ前記搬送方向に沿って間隔を置いてそれぞれ設けられ、薄板を前記搬送方向へ搬送する複数の搬送ローラと、
複数の前記搬送ローラを回転させるローラ回転用アクチュエータと、
前記装置本体における前記直交方向の中央側に設けられ、薄板を浮上させるセンタ浮上ユニットと、
前記装置本体における前記センタ浮上ユニットの前記直交方向の両側にのみ設けられ、前記処理装置の前記搬出部から薄板を引き出すための薄板引出領域内の前記搬送ローラに近接し、通常の浮上力を発揮する通常浮上力状態と前記通常の浮上力よりも低い浮上力を発揮する低浮上力状態とに前記センタ浮上ユニットと独立して切り替え可能に構成され、薄板を浮上させるサイド浮上ユニットと、を備えたことを特徴とする浮上搬送装置。
【請求項２】
前記サイド浮上ユニットは、通常の浮上力を発揮する通常ユニット高さ位置と、該通常ユニット高さ位置よりも低くかつ前記低い浮上力を発揮する低ユニット高さ位置との間で昇降可能に構成され、
更に、前記サイド浮上ユニットを昇降させるユニット昇降用アクチュエータを備えたことを特徴とする請求項１に記載の浮上搬送装置。
【請求項３】
前記装置本体に前記搬送方向へ移動可能に設けられ、先端側に薄板の裏面又は表面を吸着する吸着パットを有し、前記処理装置の前記搬出部から薄板を引き出す引出アームと、
前記引出アームを前記搬送方向へ移動させるアーム移動用アクチュエータと、を備えたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の浮上搬送装置。
【請求項４】
全ての前記搬送ローラのうち前記薄板引出領域内の複数の前記搬送ローラは、薄板を支持する通常ローラ高さ位置と、該通常ローラ高さ位置よりも低い低ローラ高さ位置との間で昇降可能に構成され、
更に、前記薄板引出領域内の複数の前記搬送ローラを昇降させるローラ昇降用アクチュエータを備えたことを特徴とする請求項１から請求項３のうちのいずれかの請求項に記載の浮上搬送装置。
【請求項５】
薄板に対して処理及び搬送を行う処理搬送システムにおいて、
薄板に対して処理を行う処理装置と、
前記処理装置の搬出部の引出側に配設され、請求項１から請求項４のうちのいずれかの請求項に記載の発明特定事項からなる浮上搬送装置と、を備えたことを特徴とする処理搬送システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プロセス処理装置等の処理装置の搬出部から引き出した例えばガラス基板等の薄板を浮上させた状態で搬送方向へ搬送する浮上搬送装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えばガラス基板等の薄板に対してプロセス処理を行うプロセス処理装置（処理装置の一例）の搬出部の引出側には、薄板を浮上させた状態で搬送方向へ搬送する浮上搬送装置が配設されることがあり、この浮上搬送装置の先行技術として特許文献１に示すものがある。そして、先行技術に係る浮上搬送装置の構成等について簡単に説明すると、次のようになる。
【０００３】
即ち、プロセス処理装置の搬出部の引出側には、搬送方向へ延びた装置本体が設けられており、この装置本体は、プロセス処理装置の搬出部から薄板を引き出すための薄板引出領域を超えて搬送方向へ延びている。また、装置本体における搬送方向に直交する直交方向の一端側及び他端側には、薄板を搬送方向へ搬送する複数の搬送ローラが前記直交方向に平行な軸心周りに回転可能かつ搬送方向に間隔を置いてそれぞれ設けられている。そして、装置本体の適宜位置には、複数の搬送ローラを回転させるローラ回転用モータが設けられている。更に、装置本体には、エアの圧力によって薄板を浮上させる複数の浮上ユニットが設けられており、各浮上ユニットの上面には、エアを噴出するノズルがそれぞれ形成されている。
【０００４】
従って、複数の浮上ユニットのノズルからエアを噴出させつつ、プロセス処理装置の搬出部から薄板を浮上ユニット側へ引き出す。そして、ローラ回転用アクチュエータの駆動によって複数の搬送ローラを回転させることにより、プロセス処理装置の搬出部から引き出した薄板を浮上させた状態で搬送方向へ搬送することができる。
【特許文献１】特開２００６−１８２５６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、プロセス処理装置の搬出部から薄板を引き出す際には、搬送ローラに近接する浮上ユニットを含めて、薄板引出領域内の複数の浮上ユニットに通常の浮上力を発揮させて、薄板引出領域において浮上搬送装置による浮上作用を前記直交方向に広範囲に亘って及ぶようにして、薄板のたわみを十分に抑える必要がある。
【０００６】
一方、薄板の搬送中に、搬送ローラに近接する浮上ユニットが通常の浮上力を発揮すると、薄板の搬送中における薄板と搬送ローラとの接触圧が小さくなって、搬送ローラに対する薄板のすべり量が増えて、浮上搬送装置の搬送効率が低下する。
【０００７】
つまり、先行技術に係る浮上搬送装置にあっては、処理装置の搬出部から薄板を引き出す際における薄板のたわみを十分に抑えつつ、浮上搬送装置の搬送効率を高めることは困難である。
【０００８】
そこで、本発明は、前述の問題を解決することができる、新規な構成の浮上搬送装置及び処理搬送システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の第１の特徴は、処理装置の搬出部から引き出した薄板を浮上させた状態で搬送方向へ搬送する浮上搬送装置において、装置本体と、前記装置本体における前記搬送方向に直交する直交方向の一端側及び他端側に前記直交方向に平行な軸心周りに回転可能かつ前記搬送方向に沿って間隔を置いてそれぞれ設けられ、薄板を前記搬送方向へ搬送する複数の搬送ローラと、複数の前記搬送ローラを回転させるローラ回転用アクチュエータと、前記装置本体における前記直交方向の中央側に設けられ、薄板を浮上させるセンタ浮上ユニットと、前記装置本体における前記センタ浮上ユニットの前記直交方向の両側にのみ設けられ、前記処理装置の前記搬出部から薄板を引き出すための薄板引出領域内の前記搬送ローラに近接し、通常の浮上力を発揮する通常浮上力状態と前記通常の浮上力よりも低い浮上力を発揮する低浮上力状態とに前記センタ浮上ユニットと独立して切り替え可能に構成され、薄板を浮上させるサイド浮上ユニットと、を備えたことを要旨とする。
【００１０】
ここで、本願の特許請求の範囲及び明細書において、「設けられ」とは、直接的に設けられたことの他に、中間部材を介して間接的に設けられたことを含む意である。また、「通常の浮上力」とは、前記センタ浮上ユニットが発揮する浮上力と同等の浮上力のことをいい、「通常の浮上力よりも低い浮上力を発揮する」とは、浮上力を全く発揮しないことも含む意である。
【００１１】
第１の特徴によると、前記センタ浮上ユニットと同様に、前記サイド浮上ユニットを前記通常浮上力状態にすることにより、前記薄板引出領域において前記浮上搬送装置による浮上作用を前記直交方向に広範囲に亘って及ぶようにする。そして、複数の前記センタ浮上ユニット及び複数の前記サイド浮上ユニットを適宜に動作させつつ、前記処理装置の前記搬出部から薄板を前記薄板引出領域に引き出す。
【００１２】
薄板を前記薄板引出領域に引き出した後に、前記サイド浮上ユニットを前記通常浮上力状態から前記低浮上力状態に切り替える。そして、複数の前記センタ浮上ユニットを適宜に動作させつつ、前記ローラ回転用アクチュエータの駆動によって複数の前記搬送ローラを回転させることにより、前記処理装置の前記搬出部から引き出した薄板を浮上させた状態で搬送方向へ搬送することができる。ここで、前記装置本体における前記センタ浮上ユニットの前記直交方向の両側にのみ、前記薄板引出領域内の前記搬送ローラに近接した前記サイド浮上ユニットが設けられ、薄板の搬送前に前記サイド浮上ユニットを前記低浮上力状態に切り替えているため、薄板の搬送中に、薄板と前記搬送ローラとの接触圧を十分に確保して、前記搬送ローラに対する薄板のすべり量を小さくできる。
【００１３】
本発明の第２の特徴は、薄板に対して処理及び搬送を行う処理搬送システムにおいて、薄板に対して処理を行う処理装置と、前記処理装置の搬出部の引出側に配設され、第１の特徴からなる浮上搬送装置と、を備えたことを要旨とする。
【００１４】
ここで、本願の特許請求の範囲及び明細書において、「処理」とは、プロセス処理、搬送処理、保管処理等を含む意であって、プロセス処理には、エッチング処理、ＣＶＤ処理、ＰＶＤ処理等が含まれる。また、前記処理装置の前記搬出部から薄板を引き出す引出アーム等の引出機構は、前記浮上搬送装置又は前記処理装置のいずれに設けられてあれば構わない。
【００１５】
なお、第２の特徴においても、第１の特徴による作用と同様の作用を奏する。
【発明の効果】
【００１６】
以上の如き、本発明によれば、前記薄板引出領域において前記浮上搬送装置による浮上作用を前記直交方向に広範囲に亘って及ぶようにすることができると共に、薄板の搬送中における薄板と前記搬送ローラとの接触圧を十分に確保して、前記搬送ローラに対する薄板のすべり量を小さくすることができるため、前記処理装置の前記搬出部から薄板を引き出す際における薄板のたわみを十分に抑えつつ、前記浮上搬送装置の搬送効率を高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の実施形態について図１から図５を参照して説明する。
【００１８】
ここで、図１は、本発明の実施形態に係る処理搬送システムの模式的な平面図、図２は、図１における矢視部IIの拡大図、図３は、図２におけるIII-III線に沿った図、図４は、図２におけるIV-IV線に沿った図、図５は、図２におけるV-V線に沿った図である。なお、図面中、「Ｆ」は、前方向、「Ｐ」は、後方向、「Ｌ」は、左方向、「Ｒ」は、右方向を指す。
【００１９】
図１及び図２に示すように、本発明の実施形態に係る処理搬送システム１は、クリーン搬送の分野で用いられ、例えばガラス基板等の薄板Ｗに対してプロセス処理及び搬送を行うシステムである。そして、処理搬送システム１について概説すると、次のようになる。
【００２０】
処理搬送システム１は、薄板Ｗに対してエッチング処理又はＣＶＤ処理等のプロセス処理を行うプロセス処理装置３を備えており、このプロセス処理装置３の搬出部５には、薄板Ｗを浮上させる浮上ユニット（図示省略）が設けられている。また、プロセス処理装置３の搬出部５の引出側（本発明の実施形態にあっては、右側）には、薄板Ｗを浮上させた状態で搬送方向（本発明の実施形態にあっては、右方向）へ搬送する浮上搬送装置７が配設されている。
【００２１】
処理搬送システム１の浮上搬送装置７の具体的な構成は、次のようになる。
【００２２】
即ち、浮上搬送装置７は、装置本体９を備えており、この装置本体９は、プロセス処理装置３の搬出部５から薄板Ｗを引き出すための薄板引出領域Ｓを超えて搬送方向へ延びている。
【００２３】
装置本体９の前端側及び後端側（換言すれば、搬送方向に直交する直交方向（本発明の実施形態にあっては、前後方向）の一端側と他端側）には、薄板Ｗを搬送方向へ搬送する複数の搬送ローラ１１が前記直交方向に平行な軸心周りに回転可能かつ搬送方向に沿って間隔を置いて設けられている。
【００２４】
図２及び図４に示すように、全ての搬送ローラ１１のうち薄板引出領域Ｓ内の複数の搬送ローラ１１Ａは、薄板Ｗを支持する通常ローラ高さ位置（図４において仮想線で示す位置）と通常ローラ高さ位置よりも低い低ローラ高さ位置（図４において実線で示す位置）との間で昇降可能に構成されている。具体的には、装置本体９の左部の前端側及び後端側には、搬送方向へ延びたローラ支持部材１３が複数の昇降ガイド機構１５を介して昇降可能それぞれ設けられており、各ローラ支持部材１３には、複数の搬送ローラ１１Ａが前記直交方向に平行な軸心周りに回転可能にそれぞれ設けられている。換言すれば、複数の搬送ローラ１１Ａは、装置本体９の左部の前端側及び後端側にローラ支持部材１３及び複数の昇降ガイド機構１５を介して設けられてあって、ローラ支持部材１３を昇降させることにより通常ローラ高さ位置と低い低ローラ高さ位置との間でローラ支持部材１３と一体的に昇降するようになっている。また、装置本体９の左部の前端側及び後端側には、複数の搬送ローラ１１Ａをローラ支持部材１３と一体的に昇降させるローラ昇降用エアシリンダ（ローラ昇降用アクチュエータの一例）１７がそれぞれ設けられている。
【００２５】
なお、全ての搬送ローラ１１のうち薄板引出領域Ｓ外の複数の搬送ローラ１１Ｂは、薄板Ｗを支持する通常ローラ高さ位置（図４において実線で示す位置）に位置している。
【００２６】
各ローラ支持部材１３の後部には、対応関係にある複数の搬送ローラ１１Ａ（複数の前寄りの搬送ローラ１１Ａ又は複数の後寄りの搬送ローラ１１Ａ）を回転させる搬送ローラ回転用モータ（搬送ローラ回転用アクチュエータの一例）１９Ａがそれぞれ設けられており、各搬送ローラ回転用モータ１９Ａの出力軸（図示省略）は、対応関係にある複数の搬送ローラ１１Ａのローラ軸（図示省略）にウォーム及びホイール等からなるローラ用連動機構（図示省略）を介してそれぞれ連動連結してある。また、装置本体９の左部の適宜位置には、対応関係にある複数の搬送ローラ１１Ｂ（複数の前寄りの搬送ローラ１１Ｂ又は複数の後寄りの搬送ローラ１１Ｂ）を回転させる搬送ローラ回転用モータ１９Ｂがそれぞれ設けられており、各搬送ローラ回転用モータ１９Ｂの出力軸（図示省略）は、対応関係にある複数の搬送ローラ１１Ｂのローラ軸（図示省略）にローラ用連動機構（図示省略）を介してそれぞれ連動連結してある。
【００２７】
図２及び図５に示すように、装置本体９の左部には、搬送方向へ延びた一対の支持ブラケット２１（前寄りの支持ブラケット２１と後寄りの支持ブラケット２１）が前後に離隔して設けられており、各支持ブラケット２１には、スライダ２３が搬送方向へ移動可能にそれぞれ設けられている。また、各スライダ２３には、プロセス処理装置３の搬出部５から薄板Ｗを引き出す引出アーム２５が昇降ガイド機構２７を介して昇降可能にそれぞれ設けられてあって、各引出アーム２５は、先端側に、薄板Ｗの裏面を吸着する吸着パッド２９をそれぞれ有している。換言すれば、装置本体９には、一対の引出アーム２５がスライダ２３及び昇降ガイド機構２７を介して搬送方向へ移動可能かつ昇降可能に設けられている。更に、各スライダ２３には、対応関係にある引出アーム２５を昇降させるアーム昇降用エアシリンダ（アーム昇降用アクチュエータの一例）３１がそれぞれ設けられている。
【００２８】
各支持ブラケット２１には、搬送方向へ延びたエンドレス状のタイミングベルト３３が複数のプーリ３５を介して走行可能にそれぞれ設けられており、各スライダ２３は、対応関係にあるタイミングベルト３３の適宜位置にそれぞれ連結されている。そして、前寄りの支持ブラケット２１の適宜位置には、一対の引出アーム２５をスライダ２３と一体的に搬送方向へ移動させるアーム移動用モータ（アーム移動用アクチュエータの一例）３７が設けられており、このアーム移動用モータ３７の出力軸（図示省略）は、連結軸等からなるアーム用連結機構（図示省略）を介して一対のタイミングベルト３３に連動連結してある。
【００２９】
図２及び図３に示すように、装置本体９における前後方向の中央側には、エアの圧力によって薄板Ｗを浮上させる複数のセンタ浮上ユニット３９が設けられており、各センタ浮上ユニット３９の上面には、エアを噴出する枠状のノズル４１がそれぞれ形成されている。また、各センタ浮上ユニット３９の上面と薄板Ｗの裏面との間に略均一な圧力の空気溜まり層をそれぞれ発生させるため、各センタ浮上ユニット３９の枠状のノズル４１は、特開２００６−１８２５６３号公報に示すように、垂直方向に対してユニット中心側へ傾斜するように構成されている。なお、センタ浮上ユニット３９は、通常の浮上力を発揮する通常高さ位置（図３において実線で示す位置）に位置している。
【００３０】
装置本体９におけるセンタ浮上ユニット３９の前側及び後側（換言すれば、前記直交方向の両側）にのみ、エアの圧力によって薄板を浮上させるサイド浮上ユニット４３が設けられてあって、各サイド浮上ユニット４３は、薄板引出領域Ｓ内の搬送ローラ１１Ａに近接してある。また、各サイド浮上ユニット４３の上面には、エアを噴出する枠状のノズル４５がそれぞれ形成されている。更に、各サイド浮上ユニット４３の上面と薄板Ｗの裏面との間に略均一な圧力の空気溜まり層をそれぞれ発生させるため、各サイド浮上ユニット４３の枠状のノズル４５は、垂直方向に対してユニット中心側へ傾斜するように構成されている。
【００３１】
各サイド浮上ユニット４３は、通常の浮上力を発揮する通常浮上力状態と、通常の浮上力よりも低い浮上力を発揮する低浮上力状態に独立して切り替え可能にそれぞれ構成されている。具体的には、各サイド浮上ユニット４３は、通常の浮上力を発揮する通常高さ位置（図３において仮想線で示す高さ位置）と、該通常高さ位置よりも低くかつ前記低い浮上力を発揮する低高さ位置（図３において実線で示す高さ位置）との間で複数の昇降ガイド機構４７を介して昇降可能にそれぞれ構成されている。そして、装置本体９の前部及び後部には、対応関係にあるサイド浮上ユニット４３を昇降させるユニット昇降用エアシリンダ（ユニット昇降用アクチュエータの一例）４９がそれぞれ設けられている。
【００３２】
次に、本発明の実施形態の作用及び効果について説明する。
【００３３】
複数のセンタ浮上ユニット３９と同様に、一対のユニット昇降用エアシリンダ４９の駆動によって一対のサイド浮上ユニット４３を通常ユニット高さ位置まで上昇させて通常浮上力状態にすることにより、薄板引出領域Ｓにおいて浮上搬送装置７による浮上作用を前記直交方向に広範囲に亘って及ぶようにする。また、複数の搬送ローラ昇降用エアシリンダ１７の駆動によって薄板引出領域Ｓ内の複数の搬送ローラ１１Ａを低ローラ高さ位置まで下降させる。更に、アーム移動用モータ３７の駆動によって一対の引出アーム２５を左方向へ移動させることにより、一対の引出アーム２５における吸着パッド２９をプロセス処理装置３の搬出部５において待機状態にある薄板Ｗの下方位置に位置させる。そして、一対のアーム昇降用エアシリンダ３１の駆動によって一対の引出アーム２５を上昇させて、一対の引出アーム２５における吸着パッド２９によって薄板Ｗの裏面を吸着する。続いて、複数のセンタ浮上ユニット３９のノズル４１及び複数のサイド浮上ユニット４３のノズル４５からエアを噴出させつつ、アーム移動用モータ３７の駆動によって一対の引出アーム２５を右方向へ移動させることにより、プロセス処理装置３の搬出部５から薄板Ｗを引き出す。
【００３４】
プロセス処理装置３の搬出部５から薄板Ｗを引き出した後に、複数の搬送ローラ昇降用エアシリンダ１７の駆動によって薄板引出領域Ｓ内の複数の搬送ローラ１１Ａを通常ローラ高さ位置まで上昇させて、薄板引出領域Ｓ内の複数の搬送ローラ１１Ａによって薄板Ｗを支持する。また、一対のユニット昇降用エアシリンダ４９の駆動によって一対のサイド浮上ユニット４３を低ユニット高さ位置まで下降させて通常浮上力状態から低浮上力状態に切り替える。そして、複数のセンタ浮上ユニット３９のノズル４１及び複数のサイド浮上ユニット４３のノズル４５からエアを噴出させつつ、一対の搬送ローラ回転用モータ１９Ａ及び一対の搬送ローラ回転用モータ１９Ｂの駆動によって複数の搬送ローラ１１Ａ及び複数の搬送ローラ１１Ｂを同期して回転させることにより、プロセス処理装置３の搬出部５から引き出した薄板Ｗを浮上させた状態で搬送方向へ搬送することができる。ここで、装置本体９におけるセンタ浮上ユニット３９の前側及び後側にのみ、薄板引出領域Ｓ内の搬送ローラ１１Ａに近接したサイド浮上ユニット４３が設けられ、薄板Ｗの搬送前にサイド浮上ユニット４３を低浮上力状態に切り替えているため、薄板Ｗの搬送中に、薄板Ｗと搬送ローラ１１Ａとの接触圧を十分に確保して、搬送ローラ１１Ａに対する薄板Ｗのすべり量を小さくできる。
【００３５】
従って、本発明の実施形態によれば、薄板引出領域Ｓにおいて浮上搬送装置７による浮上作用を前記直交方向に広範囲に亘って及ぶようにすることができると共に、薄板Ｗの搬送中における薄板Ｗと搬送ローラ１１Ａとの接触圧を十分に確保して、搬送ローラ１１Ａに対する薄板Ｗのすべり量を小さくすることができるため、プロセス処理装置３の搬出部５から薄板Ｗを引き出す際における薄板Ｗのたわみを十分に抑えつつ、浮上搬送装置７の搬送効率を高めることができる。
【００３６】
なお、本発明は、前述の実施形態の説明に限られるものではなく、例えば、エアの圧力によって薄板Ｗを浮上させるセンタ浮上ユニット３９及びサイド浮上ユニット４３の代わりに、超音波を利用して薄板Ｗを浮上させる浮上ユニットを用いたり、サイド浮上ユニット４３を昇降させる代わりに、サイド浮上ユニット４３のノズル４５からのエアの噴出量を変更することによってサイド浮上ユニット４３を通常浮上力状態と低浮上力状態に独立して切り替えるようにしたりする等、その他、種々の態様で実施可能である。また、本発明に包含される権利範囲は、これらの実施形態に限定されないものである。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の実施形態に係る処理搬送システムの模式的な平面図である。
【図２】図１における矢視部IIの拡大図である。
【図３】図２におけるIII-III線に沿った図である。
【図４】図２におけるIV-IV線に沿った図である。
【図５】図２におけるV-V線に沿った図である。
【符号の説明】
【００３８】
Ｓ            薄板引出領域
Ｗ            薄板
１            処理搬送システム
３            プロセス処理装置
５            搬出部
７            浮上搬送装置
９            装置本体
１１            搬送ローラ
１１Ａ          薄板引出領域内の搬送ローラ
１１Ｂ          薄板引出領域外の搬送ローラ
１３            ローラ支持部材
１７            搬送ローラ昇降用エアシリンダ
１９Ａ          搬送ローラ回転用モータ
１９Ｂ          搬送ローラ回転用モータ
２１            支持ブラケット
２３            スライダ
２５            引出アーム
２９            吸着パッド
３１            アーム昇降用エアシリンダ
３７            アーム移動用モータ
３９            センタ浮上ユニット
４１            ノズル
４３            サイド浮上ユニット
４５            ノズル
４９            ユニット昇降用エアシリンダ
【図１】
0005125290.tif 000002
【図２】
0005125290.tif 000003
【図３】
0005125290.tif 000004
【図４】
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【図５】
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