(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板加工機に設置されるガラス基板吸着テーブルにおいて、
前記ガラス基板吸着テーブルのガラス基板吸着面側に貼着されるシート材は、ＪＩＳ  Ｋ６２５３（２００６年）、又はＪＩＳ  Ｋ７２１５（１９８６年）に準拠する硬度が９０〜９５度であって、かつ厚さが０．７ｍｍ以下であり、動摩擦係数が０．３以下であり、
前記シート材が複層構造であり、
前記シート材が、すくなくともウレタンシート材と、オレフィンシート材、ニトフロンシート材又はテフロン（登録商標）シート材と、からなり、前記オレフィンシート材、前記ニトフロンシート材又は前記テフロン（登録商標）シート材がガラス基板と接するシート材であることを特徴とするガラス基板吸着テーブル。
【請求項２】
前記シート材の厚さの下限値は、０．５ｍｍである請求項１に記載のガラス基板吸着テーブル。
【請求項３】
前記ガラス基板加工機が、吸着保持されたガラス基板の縁部の面取砥石による面取りである請求項１又は２に記載のガラス基板吸着テーブル。
【請求項４】
ガラス基板吸着テーブルに貼着されたＪＩＳ  Ｋ６２５３（２００６年）、又はＪＩＳ  Ｋ７２１５（１９８６年）に準拠する硬度が９０〜９５度であって、かつ厚さが０．７ｍｍ以下であり、動摩擦係数が０．３以下であり、すくなくともウレタンシート材と、オレフィンシート材、ニトフロンシート材又はテフロン（登録商標）シート材と、からなり、ガラス基板と接する前記オレフィンシート材、前記ニトフロンシート材又は前記テフロン（登録商標）シート材に、前記ガラス基板を吸着保持させて該ガラス基板をガラス基板加工機で加工することを特徴とするガラス基板加工方法。
【請求項５】
前記ガラス基板加工機が、吸着保持されたガラス基板の縁部の面取砥石による面取りである請求項４に記載のガラス基板加工方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はガラス基板吸着テーブル、及びカラス基板加工方法に係り、面取りするガラス基板を、シート材を介して吸着保持するガラス基板吸着テーブル及びその加工方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のＦＰＤ（Flat Panel Display）用ガラス基板は、切折工程で板ガラスを所定の矩形状サイズに切り折り加工し、これを面取工程でエッジ部を面取加工することにより、製品外形寸法のガラス基板に製造される。そして、このガラス基板は、面取工程の後段に配された洗浄工程、及び検査工程を経て表面研磨工程に移送され、ここで製品厚さのガラス基板に製造される。
【０００３】
このようなガラス基板の製造工程において、板ガラスを所定サイズに精度よく切り折りしたり、切り折りされたガラス基板を精度よく面取加工したりする際には、ガラス基板をガラス基板吸着テーブル上で位置決めした後、ガラス基板をしっかりと真空吸着保持することが重要となる。特に、面取加工においては、端面形状加工に、高い精度・品質が要求されるため、吸着力を高くしてガラス基板をガラス基板吸着テーブルに吸着保持している。
【０００４】
ところが、設備の異物、ガラスカレット等の塵がガラス基板吸着テーブルとガラス基板との間に挟まっていると、その吸着力の高さゆえに、その塵に起因して、ガラス基板吸着テーブルに吸着されたガラス基板に瑕が付き、ガラス基板の品質を低下させるという問題が生じていた。また、この瑕が、工程後段の研磨工程を終えたガラス基板で発見された場合には、発見されるまでに生産された多数枚のガラス基板が欠陥品となるという問題があった。そのため一般にはガラス基板吸着テーブルにシート貼付を実施している。
【０００５】
特許文献１には、面取装置のガラス基板吸着テーブルが開示されている。このガラス基板吸着テーブルに載置されたガラス基板は、位置決めストッパによってガラス基板吸着テーブル上で位置決めされた後、ガラス基板吸着テーブルによって吸着保持され、その後に面取砥石によって面取加工される。
【０００６】
ガラス基板吸着テーブルに貼着される一般的なシート材は、図３に示すように、ガラス繊維シート材１にテフロン（登録商標）２をコーティングしたシート材３が用いられている。このテフロン（登録商標）２の性質によってシート材３に対するガラス基板Ｇの滑り性が向上し、シート材３上での、すなわち、ガラス基板吸着テーブル上でのガラス基板Ｇの位置決めが円滑に行われる。なお、図３の符号４は、シート材３をガラス基板吸着テーブルのガラス基板吸着面側に貼着するための接着剤、または離型紙付接着剤である。また、シート材３には、ガラス基板Ｇを真空吸着するための吸着孔が多数形成されるとともに、ガラス基板をガラス基板吸着テーブル上で浮上支持して位置決めするためのブロー孔が多数形成されている。
【特許文献１】特開２００３−１１０４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、図３に示したシート材３は、テフロン（登録商標）２によって滑り性はよいものであるが、シート材３とガラス基板Ｇとの間にガラスや金属粉のような塵が介在することによるガラス基板の瑕発生を完全には抑制することができず、入念な清掃等の作業により、対応をとっていた。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、ガラス基板の位置決め時に要求される滑り性および吸着テーブルに対するガラス基板保持力を維持しつつ、ガラス基板を吸着保持した時のガラス基板の瑕発生を抑制することができるガラス基板吸着テーブル、及びガラス基板加工方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、前記目的を達成するために、ガラス基板加工機に設置されるガラス基板吸着テーブルにおいて、前記ガラス基板吸着テーブルのガラス基板吸着面側に貼着されるシート材は、ＪＩＳ  Ｋ６２５３（２００６年）、又はＪＩＳ  Ｋ７２１５（１９８６年）に準拠する硬度が９０〜９５度であって、かつ厚さが０．７ｍｍ以下であり、動摩擦係数が０．３以下であり、前記シート材が複層構造であり、前記シート材が、すくなくともウレタンシート材と、オレフィンシート材、ニトフロンシート材又はテフロン（登録商標）シート材と、からなり、前記オレフィンシート材、前記ニトフロンシート材又は前記テフロン（登録商標）シート材がガラス基板と接するシート材であるガラス基板吸着テーブルを提供する。
【００１０】
本発明は、前記目的を達成するために、ガラス基板吸着テーブルに貼着されたＪＩＳ  Ｋ６２５３（２００６年）、又はＪＩＳ  Ｋ７２１５（１９８６年）に準拠する硬度が９０〜９５度であって、かつ厚さが０．７ｍｍ以下であり、動摩擦係数が０．３以下であり、すくなくともウレタンシート材と、オレフィンシート材、ニトフロンシート材又はテフロン（登録商標）シート材と、からなり、ガラス基板と接する前記オレフィンシート材、前記ニトフロンシート材又は前記テフロン（登録商標）シート材に、前記ガラス基板を吸着保持させて該ガラス基板をガラス基板加工機で加工することを特徴とするガラス基板加工方法を提供する。
【００１４】
更に、本発明のガラス基板加工方法において、前記ガラス基板の加工機が、吸着保持されたガラス基板の縁部の面取砥石による面取りであることが好ましい。
【００１５】
面取装置の前工程に配置される切折装置のガラス基板吸着テーブルに、本発明のガラス基板吸着テーブルを適用してもよく、また、ガラス基板を吸着保持するものであれば、どの工程に配置されるガラス基板吸着テーブルであっても、本発明のガラス基板吸着テーブルを適用してもよいが、加工精度の高い面取加工を要求される面取機に好適である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明に係るガラス基板吸着テーブル、及びガラス基板加工方法によれば、シート材の硬度を９０〜９５度に規定し、厚さを０．７ｍｍ以下と規定し、動摩擦係数を０．３以下と規定したので、ガラス基板の位置決め時に要求される滑り性、及び吸着テーブルに対するガラス基板保持力を維持しつつ、ガラス基板を吸着保持した時のガラス基板の瑕発生を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、添付図面に従って本発明に係るガラス基板吸着テーブル、及びガラス基板加工方法の好ましい実施の形態について説明する。
【００１８】
図１（Ａ）〜（Ｃ）は、実施の形態に係るガラス基板加工機のガラス基板吸着テーブル１０の構成を示す説明図であり、（Ａ）〜（Ｃ）の左図はガラス基板吸着テーブル１０の平面図、右図はガラス基板吸着テーブル１０の側断面図をそれぞれ示している。このガラス基板吸着テーブル１０は、ガラス基板の面取機に設置されたテーブルであり、図１では長尺の矩形状に構成された３台のテーブル１２、１４、１６に分割され、全体としてガラス基板Ｇの形状に対応した平面矩形状に構成されている。なお、ガラス基板吸着テーブル１０の分割台数は３台に限定されず、２台以上であってもよい。また、分割されず１台の構成であっても構わない。
【００１９】
これらのテーブル１２、１４、１６は所定の間隔をもって配置されており、各々のテーブル１２、１４、１６のガラス基板吸着面側に本発明におけるシート材１８がそれぞれ貼着されている。また、ガラス基板吸着テーブル１０の周囲には、ガラス基板吸着テーブル１０上でガラス基板を位置決めするための位置決め部材、例えば位置決めローラ２０、２０…が各辺に応じて２台ずつ配置されている。
【００２０】
テーブル１２、１４、１６に貼着された各シート材１８、１８、１８には、吸着孔２２、２２…とブロー孔２４、２４…とが所定の位置に形成されている。これら吸着孔２２、２２…はガラス基板加工時にガラス基板を確実に固定できる位置であればどこに形成してもよく、ガラス基板吸着テーブル１０上に吸着面積を上げるための吸着溝を設けて吸着孔２２、２２・・・と連結してもよい。また、ブロー孔２４、２４…はガラス基板の位置決めを行う際に、ガラス基板がガラス基板吸着テーブル１０上でスムースに動く様フローティングさせることが出来ればどこにどの様に形成してもよい。
【００２１】
次に、ガラス基板吸着テーブル１０によるガラス基板の位置決め手順について説明する。
【００２２】
まず、ガラス基板吸着テーブル１０の各テーブル１２、１４、１８に形成された多数のブロー孔２４、２４…から所定圧力のエアーを噴出させる。次に、図１（Ｂ）の如く矩形状に切り折り加工されたガラス基板Ｇを切折機（不図示）から搬出し、ガラス基板吸着テーブル１０上に載置する。これにより、ガラス基板Ｇがガラス基板吸着テーブル１０上で浮上支持される。なお、この浮上支持とは、ガラス基板Ｇ全体がガラス基板吸着テーブル１０に対して完全に浮上されている状態ではなく、一部分が浮上され、他の部分はガラス基板吸着テーブル１０のシート材１８に接触し、滑動自在な状態を言っている。
【００２３】
次に、浮上支持された状態で、図１（Ｂ）の如く位置決めローラ２０、２０…をガラス基板Ｇの各辺に向けて進出移動させて各辺に当接させ、ガラス基板Ｇをシート材１８上で滑動させてガラス基板Ｇを正規な位置（面取位置）に位置決めする。
【００２４】
位置決めが終了すると、ガラス基板吸着テーブル１０のブロー孔２４、２４…から噴射しているエアーを停止する。そして、その直後に吸着孔２２、２２…からエアーを吸引し、ガラス基板Ｇをガラス基板吸着テーブル１０にシート材１８、１８、１８を介して真空吸着保持するとともに、またはその後に位置決めパッド２０、２０…がガラス基板Ｇから退避する。これにより、位置決めされたガラス基板Ｇがガラス基板吸着テーブル１０に確実に吸着保持される。
【００２５】
次いで、図１（Ｃ）の如く面取砥石３０、３０をガラス基板Ｇの対向する二辺に沿って移動させて対向する二辺の面取加工を実施する。この二辺の面取加工が終了すると、ガラス基板吸着テーブル１０を利用してガラス基板Ｇを９０度回動させ、残りの二辺の面取加工を面取砥石３０、３０の動作によって実施する。なお、面取機は、面取手段を２箇所設けて残りの二辺の面取加工は、下流の面取手段によって実施してもよい。この場合、ガラス基板Ｇはガラス基板吸着テーブル１０に吸着保持された状態で、ガラス基板吸着テーブル１０によって下流の面取手段機に搬送される。また、面取加工は、面取砥石と面取りされるガラス基板が相対的に動作すればよく、どちらが動いてもよい。
【００２６】
次に、ガラス基板吸着テーブル１０に貼着されたシート材１８の構造について説明する。
【００２７】
面取加工前に実施される位置決めパッド２０によるガラス基板Ｇの位置決めとガラス基板吸着テーブル１０の吸着保持において、シート材１８には、ガラス基板吸着テーブル１０上におけるガラス基板Ｇの位置決めを円滑に行うための滑り性と、シート材１８とガラス基板Ｇとの間にガラスや金属粉のような塵が存在していても、その塵に起因する瑕をガラス基板Ｇに付けさせないための柔軟性、及びガラス基板加工時においてガラス基板がガラス基板吸着テーブルに対して相対的な位置を保持できる剛性を満たす硬度が要求される。
【００２８】
そこで、実施の形態のシート材１８は、ＪＩＳ  Ｋ６２５３（２００６年）、又はＪＩＳ  Ｋ７２１５（１９８６年）に準拠する硬度が９０〜９５度であって、かつ厚さが０．７ｍｍ以下であり、動摩擦係数が０．３以下のシート材１８をガラス基板吸着テーブル１０に貼着している。すなわち、硬度が９０度未満であると、シート材１８が柔らか過ぎるため加工精度が悪化する。例えば、ガラス基板加工機が図１（Ｃ）に示した面取機の場合には、シート材１８の柔らかさがゆえに、面取砥石３０による加工圧によってシート材１８が変形し、この変形に起因してガラス基板Ｇが、位置決めされたガラス基板吸着テーブル１０に対して動くため、面取精度が悪化する。面取機では、ガラス基板Ｇに対する面取砥石３０の追込量に基づいて面取量を制御しているため、シート材１８が上述の如く変形すると、追込量はその変形量を加えたものになったり、辺に沿って均一でない加工形状となったりしてしまう。よって、精度の高い加工が不可能になる。一方で、シート材１８の硬度が９５度を超えると、シート材１８が硬くなり過ぎるため、前記塵に起因するガラス基板Ｇに瑕が付くという従来の不具合を解消できない。
【００２９】
また、厚さに関しては、０．７ｍｍを超えると、ガラス基板Ｇを吸着してガラス基板Ｇを面取加工する際に、その加工圧によりガラス基板Ｇがガラス基板吸着テーブル１０に対して動くため、精度よくガラス基板Ｇを加工することができない。
【００３０】
したがって、９０〜９５度の硬度を持ち、厚さが０．７ｍｍ以下のシート材１８とすることにより、ガラス基板加工時においてガラス基板Ｇがガラス基板吸着テーブル１０に対して相対的な位置を保持できる剛性を満たすことができ、精度の高い面取加工を実現できるとともに、前記塵介入による瑕発生の問題を同時に解消することができる。なお、シート材１０の硬度は、株式会社テクロック製の硬度測定機（ＧＳ−７１９Ｇ）によって測定した。
【００３１】
更に、動摩擦係数が０．３以下であることが、シート材１８に対するガラス基板Ｇの滑り性を確保する点で必要である。動摩擦係数が０．３を超えると、滑り性に不具合が生じ、ガラス基板吸着テーブル１０に対するガラス基板Ｇの円滑な位置決めが困難となり面取加工不良及び未面取りなどが発生する。
【００３２】
したがって、実施の形態の面取機のガラス基板吸着テーブル１０によれば、シート材１８の硬度を９０〜９５度に規定し、動摩擦係数を０．３以下と規定し、厚さを０．７ｍｍ以下と規定したので、ガラス基板Ｇの位置決め時に要求される滑り性および吸着テーブルに対するガラス基板保持力を維持しつつ、ガラス基板Ｇを吸着保持した時のガラス基板Ｇの瑕発生を抑制することができる。また、このガラス基板吸着テーブル１０を使用したガラス基板面取加工方法では、ガラス基板Ｇを精度よく面取加工することができる。
【００３３】
ここで、シート材１８の動摩擦係数の測定方法について説明する。
【００３４】
測定装置として、新東科学社製の表面性測定機（商品名：ＨＥＩＤＯＮ  ＴＹＰＥ：１４ＤＲ）を使用し、以下の試験条件で動摩擦係数の測定を実施した。
【００３５】
試験条件
試験荷重：１０００ｇ
摺動速度：１００ｍｍ／ｍｉｎ
摺動距離：３０ｍｍ
摺動回数：ｎ３
温    度：室温
試験条件：ＤＲＹ、ＷＥＴ（純水２ｃｃ滴下）
対象材料：オレフィンシート材、ニトフロンシート材、
スウェードシート材
試験結果
オレフィンシート材：０．２０２（ＤＲＹ平均）、０．１５９（ＷＥＴ平均）
ニトフロンシート材：０．０８０（ＤＲＹ平均）、０．０５８（ＷＥＴ平均）
スウェードシート材：０．４９８（ＤＲＹ平均）、０．４８６（ＷＥＴ平均）
上記オレフィンシート材、ニトフロンシート材は、動摩擦係数が０．３以下であり、これら材料を貼着したガラス基板吸着テーブル１０では、ガラス基板Ｇが円滑に滑動し、ガラス基板Ｇが正規の位置に常に位置決めされた。
【００３６】
これに対してスウェードシートは、動摩擦係数が０．３を超え、これを貼着したガラス基板吸着テーブル１０では、ガラス基板Ｇの位置決め不良が発生した。
【００３７】
一方、シート材１８は図２に示すように、ウレタンシート材３２とオレフィンシート材（又はニトフロンシート材）３４からなる２層構造であることが好ましく、総厚が０．７ｍｍ以下とされている。オレフィンシート材（又はニトフロンシート材）３４がガラス基板Ｇと接するシート材である。また、ウレタンシート材には発泡ウレタンシート材も含む。図２において、符号３６は、ウレタンシート材３２とオレフィンシート材（又はニトフロンシート材）３４とを接着する接着剤であり、符号３８は、シート材１８をガラス基板吸着テーブル１０のガラス基板吸着面側に貼着するための接着剤又は接着剤付の離型紙である。
【００３８】
好ましい実施態様によれば、ウレタンシート材３２によって９０〜９５度の硬度を確保でき、オレフィンシート材（又はニトフロンシート材）３４によって、ガラス基板接触面の動摩擦係数０．３以下を確保することができる。総厚に関しては、これら材質の硬度においては０．７ｍｍを超えると、ガラス基板Ｇを吸着してガラス基板Ｇを面取加工する際に、その加工圧によりガラス基板Ｇがガラス基板吸着テーブル１０に対して動くため、精度よくガラス基板Ｇを加工することができない。よって、シート材１８の総厚は０．７ｍｍ以下とされている。
【００３９】
なお、総厚の下限値は２枚のシート材３２、３４の製造限界から約０．２ｍｍと決定することもできるが、本発明の目的を十分に達成するための下限値は０．５ｍｍであることが好ましい。また、平坦度と耐久度を得ることができれば、一種類の材質で単層構造でも、２種類以上の複層構造でもよく、オレフィン系樹脂等をウレタンシート材にコーティングしてシート材を製造してもよい。なお、複層構造とは、このようなコーティングも含むものとする。更に、実施の形態では、面取装置に適用されるガラス基板吸着テーブル１０について説明したが、これに限定されるものではなく、切折装置のガラス基板吸着テーブルや、孔明装置のガラス基板吸着テーブルに実施の形態のガラス基板吸着テーブル１０を適用してもよい。また、ガラス基板Ｇを吸着保持するものであれば、どの工程に配置されるガラス基板吸着テーブルであっても、実施の形態のガラス基板吸着テーブル１０を適用することができる。
【００４０】
本実施の形態では、厚さ０．３ｍｍのウレタンシート材に厚さ０．２ｍｍのオレフィンシート材（ニトフロンシート材の場合には厚さ０．１３ｍｍ）を接着剤によって接着した２層シート材について記載したが、０．２ｍｍ〜０．３ｍｍのウレタンシート材に０．１３ｍｍのテフロン（登録商標）シート材を接着剤によって接着した２層シート材なども適用できる。なお、シート材質、シート材の厚さは上記に限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】（Ａ）は実施の形態のガラス基板吸着テーブルの平面図、（Ｂ）は、（Ａ）のガラス基板吸着テーブルにガラス基板が位置決めされた説明図、（Ｃ）は、（Ａ）のガラス基板吸着テーブルに吸着保持されたガラス基板が面取加工されている説明図
【図２】本発明の実施の形態のシート材の構造を示した断面図
【図３】従来のシート材の構造を示した断面図
【符号の説明】
【００４２】
１０…ガラス基板吸着テーブル、１２…テーブル、１８…シート材、２０位置決めパッド、２２…吸着孔、２４…ブロー孔、３０…面取砥石、３２…ウレタンシート材、３４…オレフィンシート材（又はニトフロンシート材）、３６…接着剤、３８…接着剤又は離型紙
【図１】
0005246583.tif 000002
【図２】
0005246583.tif 000003
【図３】
0005246583.tif 000004