(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１絶縁基板を含む第１表示板と、
前記第１絶縁基板と対向配置された第２絶縁基板と、該第２絶縁基板で前記第１絶縁基板と対向する面の反対面上に形成されたタッチ感知部とを含む第２表示板と、を具備し、
前記タッチ感知部は、
前記第２絶縁基板上に形成された静電誘導絶縁層と、
前記静電誘導絶縁層上に周縁に沿って形成された静電誘導パターン層と、
前記静電誘導絶縁層及び前記静電誘導パターン層を覆う誘電体層と、を含み、
前記第２表示板は、
前記第２絶縁基板で前記第１絶縁基板と対向する面上に形成された共通電極と、
前記共通電極と前記第２絶縁基板との間に配置された偏光層と、を含むことを特徴とする表示パネル。
【請求項２】
前記静電誘導パターン層は、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、及びインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）の中のいずれか一つ以上の素材を含んで形成されることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項３】
前記静電誘導パターン層は、
分離断線された複数の導電パターンが前記静電誘導絶縁層の周縁に沿って形成された静電誘導部と、
前記静電誘導部の角部に連結されて電気を供給する電源連結部と、を含むことを特徴とする請求項２に記載の表示パネル。
【請求項４】
前記静電誘導絶縁層及び誘電体層は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、及びＡＴＯ（ａｎｔｉｍｏｎｙ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）の中のいずれか一つ以上の素材を含んで形成されることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項５】
前記第１表示板は、前記第１絶縁基板で前記第２絶縁基板と対向する面上に形成された薄膜トランジスタ、画素電極、及びカラーフィルターを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項６】
前記静電誘導絶縁層と前記第２絶縁基板との間に配置された電磁波遮断層を更に含むことを特徴とする請求項５に記載の表示パネル。
【請求項７】
前記第１表示板は、前記第１絶縁基板から見て前記第２絶縁基板と対向する面上に形成された薄膜トランジスタ及び画素電極を含み、
前記第２表示板は、前記第２絶縁基板から見て前記第１絶縁基板と対向する面上に形成されたカラーフィルターを更に含むことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項８】
前記カラーフィルターは、前記第２絶縁基板と前記共通電極との間に配置されることを特徴とする請求項７に記載の表示パネル。
【請求項９】
前記共通電極は、前記第２絶縁基板と前記カラーフィルターとの間に配置されることを特徴とする請求項７に記載の表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示パネルに関し、より詳しくは入力機能を有する表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、急速に発展している半導体技術に伴い、小型化及び軽量化されかつ性能がさらに向上した液晶表示装置（ＬＣＤ）のような表示装置の需要が爆発的に増えている。
液晶表示装置は、小型化、軽量化、及び低電力消費化などの利点を有し、既存のブラウン管（ＣＲＴ）の短所を克服できる代替手段として次第に注目され、現在は表示装置を要する携帯電話及びＰＤＡ（携帯情報端末）などのような小型製品だけでなく、中大型製品であるモニター及びＴＶなどにも装着されて用いられる等、表示装置を要する殆ど全ての情報処理機器に装着されて使用されている。
【０００３】
表示装置で画像を表示する表示パネルには、タッチパネルが別途に装着されて使用者の便宜を図ることができる。このようなタッチパネルは、表示及び出力機能を有する表示パネルに対して入力機能を付加して、使用者が特定の情報をより容易に得ることができるようにする。
【０００４】
しかし、従来のタッチパネルは、通常別途に製作されて表示パネルの前面に装着されて使用されるものである。従って、タッチパネルが装着された表示パネルを生産する場合には、全体的な製造工程が複雑で、生産性が落ちるという問題があった。
また、従来は別途にタッチパネルを製造して表示パネル上に装着するため、タッチパネルによって表示パネルの解像度が低下するという問題があった。そして、タッチパネルの光特性劣化によって表示パネルの画質を低下させる問題があった。
また、別途のタッチパネルを表示パネル上に装着するため、表示パネルの表示面積を減少させる問題があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで、本発明は上記従来の問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、画像を表示する表示機能以外に、外部から信号を受信する入力機能も直接果たすことができる表示パネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するためになされた本発明による表示パネルは、第１絶縁基板を含む第１表示板と、前記第１絶縁基板と対向配置された第２絶縁基板と、該第２絶縁基板から見て前記第１絶縁基板と対向する面の反対面上に形成されたタッチ感知部とを含む第２表示板と、を具備し、前記タッチ感知部は、前記第２絶縁基板上に形成された静電誘導絶縁層と、前記静電誘導絶縁層上に周縁に沿って形成された静電誘導パターン層と、前記静電誘導絶縁層及び前記静電誘導パターン層を覆う誘電体層と、を含み、前記第２表示板は、前記第２絶縁基板で前記第１絶縁基板と対向する面上に形成された共通電極と、前記共通電極と前記第２絶縁基板との間に配置された偏光層と、を含むことを特徴とする。
前記静電誘導パターン層は、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、及びインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）の中からいずれか一つ以上の素材を含んで形成できる。
前記静電誘導パターン層は、分離断線した複数の導電パターンが前記静電誘導絶縁層の周縁に沿って形成された静電誘導部と、前記静電誘導部の角部に連結されて電気を供給する電源連結部と、を含んでもよい。
前記静電誘導絶縁層及び誘電体層は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、及びアンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）の中のいずれか一つ以上の素材を含んで形成される。
【０００７】
前記第１表示板は、前記第１絶縁基板から見て前記第２絶縁基板と対向する面上に形成された薄膜トランジスタ、画素電極、及びカラーフィルターを更に含んでもよい。
前記静電誘導絶縁層と前記第２絶縁基板との間に配置された電磁波遮断層を更に含んでもよい。
【０００８】
前記第１表示板は、前記第１絶縁基板で前記第２絶縁基板と対向する面上に形成された薄膜トランジスタ及び画素電極を含み、前記第２表示板は、前記第２絶縁基板で前記第１絶縁基板と対向する面上に形成されたカラーフィルター及び共通電極を更に含んでもよい。
前記カラーフィルターは前記第２絶縁基板と前記共通電極との間に配置される。
前記共通電極は前記第２絶縁基板と前記カラーフィルターとの間に配置される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の表示パネルによれば、画像を表示する表示機能以外に、直接外部から信号を受信する入力機能も有することができる。
そして、タッチ感知部の構成を形成する過程を別途に設けずに、表示パネルの製造過程で一貫工程によって表示機能と入力機能を共に有する表示パネルが形成される。従って、入力機能を有する表示パネルの生産性を向上することができる。
また、入力機能を有する表示パネルの有効表示面積を最大化できる。
また、入力機能を有する表示パネルが表示する画像の画質低下を最少化できる。
また、タッチ感知部の光特性劣化などによる不良の発生も防止できる。
また、電磁波遮断のための別途の構成を省略することによって、全体的な構成及び製造工程を簡素化できる。
また、共通電極をタッチ感知部に最大限近く配置して電磁波遮断効果を向上できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の表示パネルを実施するための最良の形態の具体例を、添付図を参照して説明する。このような本発明による実施形態は単に本発明を例示するためであり、本発明はこれに限られるものではない。
また、本発明の多様な実施形態においては、液晶表示パネル（ＬＣＤ）を表示パネルとして用いたが、本発明は必ずしもこれに限られるものではない。従って、プラズマ表示パネル（ＰＤＰ）及び有機発光表示パネル（ＯＬＥＤ）のような平板表示パネルにも本発明が適用できる。
【００１１】
本発明を明確に説明するために説明上不要な部分は省略し、明細書全体にわたって同一または類似する構成要素については同一参照符号を付ける。
また、説明の前に、様々な実施形態において、同一構成を有する構成要素については同一符号を付けて代表的に第１実施形態で説明し、その他の実施形態では第１実施形態と異なる構成についてだけ説明する。
【００１２】
また、図面から多様な層及び領域を明確に表現するために一部構成の厚さ及び大きさを拡大して示す。明細書全体にわたって類似する部分については同一図面符号を付ける。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の“上に”または“上部に”あるとする時、これは他の部分の“真上に”ある場合だけでなく、その中間に他の部分がある場合も含む。一方、ある部分が他の部分の“真上に”あるとする時には中間に他の部分がないことを意味する。また、本明細書で“上に”または“上部に”あるとする時には必ずしも図面を基準にその上に形成されることを意味するものではない。
【００１３】
図１乃至図４を参照して本発明の第１実施形態を説明する。図１は、表示パネル９０１の断面図である。図２は、図１のタッチ感知部５００の分解斜視図であり、図３は、タッチ感知部５００の配置図である。図４は、表示パネル９０１の具体的な説明のための主要部分の拡大断面図である。
【００１４】
図１に示したように、表示パネル９０１は、第１表示板１００、これと対向している第２表示板２００、及び第１表示板１００と第２表示板２００の間に形成されている液晶分子を含んだ液晶層３００を含む。そして、第１及び第２表示板１００、２００の両表示板は、シーラント（ｓｅａｌａｎｔ）３５０を用いて互いに付着される。ここで、第１表示板１００は背面基板となり、第２表示板２００は前面基板となる。
【００１５】
第１表示板１００は、第１絶縁基板１１０と、第１絶縁基板１１０上に形成された薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）及びカラーフィルター形成層（Ｃ）を含む。ここで、薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）及びカラーフィルター形成層（Ｃ）は、第１絶縁基板１１０で第２絶縁基板２１０と対向する面上に形成される。
【００１６】
第２表示板２００は、第２絶縁基板２１０と、第２絶縁基板２１０上に形成されたタッチ感知部５００及び共通電極２８０を含む。ここで、共通電極２８０は、第２絶縁基板２１０で第１絶縁基板１１０と対向する面上に形成され、タッチ感知部５００は共通電極２８０が形成された面の反対面上に形成される。
【００１７】
薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）は、薄膜トランジスタを形成する多様な配線層、絶縁層及び半導体層などを含む。そして、第１表示板１００は、薄膜トランジスタと連結された画素電極１８０（図４に示す）をさらに含む。
【００１８】
また、表示パネル９０１は、第２絶縁基板２１０とタッチ感知部５００の間に配置された電磁波遮断層５４０をさらに含む。電磁波遮断層５４０は、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）やＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）などのような透明な導電性物質で形成される。電磁波遮断層５４０は、薄膜トランジスタのように第１絶縁基板１１０と第２絶縁基板２１０の間に形成された多様な回路配線から発生した電磁波によってタッチ感知部５００にノイズが発生することを防止する。このような電磁波によるノイズは、タッチ感知部５００の正確性及び信頼性を落とす原因となる。
【００１９】
しかし、本発明は必ずしもこれに限定されることなく、電磁波遮断層５４０は省略できる。その場合、第２絶縁基板２１０上に形成された共通電極２８０が電磁波遮断層５４０の役割を代わりに行うように構成できる。
【００２０】
また、表示パネル９０１は、第１絶縁基板１１０の背面、つまり、第２絶縁基板２１０と対向する面の反対面上に配置された第１偏光層１０１と、第２絶縁基板２１０と共通電極２８０の間に配置された第２偏光層２０１をさらに含む。第１偏光層１０１と第２偏光層２０１は互いに交差偏光されるように配置され、第１偏光層１０１は表示パネル９０１に入射する光を偏光し第２偏光層２０１は検光子の役割を果たす。
【００２１】
このように、第２表示板２００はタッチ感知部５００を含むため、第２表示板２００は表示板としての機能以外に、タッチパネルとしての機能をも有する。つまり、表示パネル９０１を使用者の指またはペンなどで接触加圧して信号情報を入力できる。
【００２２】
以下、図２及び図３を参照してタッチ感知部５００の構造を詳細に説明する。
図２に示したように、タッチ感知部５００は、第２絶縁基板２１０上に形成された静電誘導絶縁層５１０と、静電誘導絶縁層５１０上の周縁に沿って形成された静電誘導パターン層５２０、そして、静電誘導絶縁層５１０及び静電誘導パターン層５２０を覆う誘電体層５３０を含む。
【００２３】
静電誘導パターン層５２０は、分離断線した複数の導電パターンが静電誘導絶縁層５１０の周縁に沿って一定間隔に形成された静電誘導部５２２と、静電誘導部５２２の角部に静電誘導部５２２の導電パターンに隣接形成されて駆動電圧を供給する電源連結部５２１を含む。そして静電誘導パターン層５２０は、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、アルミニウム（Ａｌ）及びインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）の中のいずれか一つ以上の素材を含んで導電性を有して形成される。
【００２４】
静電誘導絶縁層５１０及び誘電体層５３０は、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）、窒化ケイ素（Ｓｉ３Ｎ４）、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）及びアンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）の中のいずれか一つ以上の素材を含んで形成される。静電誘導絶縁層５１０によって実質的な静電誘導が行われ、誘電体層５３０は静電誘導と共に静電誘導絶縁層５１０及び静電誘導パターン層５２０を保護する役割を果たす。
【００２５】
図３に示したように、静電誘導部５２２は静電誘導絶縁層５１０及び誘電体層５３０に静電荷が均等に分布できるパターンで形成される。つまり、電源連結部５２１を通して駆動電圧が印加されると、静電誘導現象により物理的に連結されていないが、隣接する静電誘導部５２２の導電パターンに駆動電圧の影響が及ぶ。従って、静電誘導部５２２の全ての導電パターンは、隣接する導電パターンの間で発生する静電誘導現象により、電源連結部５２１を通して駆動電圧が印加される。この時、互いに隣接した二つの導電パターンだけではなく、上下方向に互いに対向する二つの導電パターンはキャパシタとして動作して該当する寸法の電荷を充電する。この時、上下方向に互いに対向する複数の対の二つの導電パターンの間に形成されるキャパシタを複数のＸ軸キャパシタとし、左右方向に互いに対向する複数の対の二つの導電パターンの間に形成されるキャパシタを複数のＹ軸キャパシタとする。
【００２６】
この時、電源連結部５２１を通して印加される駆動電圧により、各導電パターンに印加される電圧の大きさは最大限均一であるのが望ましく、各導電パターンに印加される電圧の大きさは、隣接する導電パターン間の間隔または形状などを変更して調節できる。
【００２７】
このような状態で、使用者が指またはペンなどで誘電体層５３０の表面を接触すると、接触位置に形成されたキャパシタに充電されていた電荷が使用者の指またはペン（Ｐ）を通して外部に放電されて接触位置での充電容量が変わる。
【００２８】
既に所定大きさの駆動電圧が印加された後、接触が発生する前の初期状態で、一定距離単位にＸ軸キャパシタとＹ軸キャパシタに充電された電荷量を測定して、メモリ（図示せず）などのような記憶装置に記憶させておく。
【００２９】
従って、信号処理部（図示せず）は、一定距離単位にＸ軸キャパシタとＹ軸キャパシタからの電荷量を測定して、記憶装置に記憶されている電荷量と比較して接触有無及び接触位置を判断する。つまり、各対応位置での電荷量の変化有無に基づいて接触発生有無を判断し、電荷量変化が所定大きさ以上に発生するＸ軸キャパシタとＹ軸キャパシタの位置に基づいて接触位置を判断できる。この時、信号処理部は所定間隔にＸ軸キャパシタとＹ軸キャパシタからの値を読んで、接触有無及び接触位置を判断することができる。
【００３０】
代わりに、信号処理部は別の信号処理を通して、Ｘ軸キャパシタとＹ軸キャパシタの電荷量変化による電流変化または電圧変化に基づいて接触有無及び接触位置を判断することもできる。
【００３１】
図４を参照して表示パネル９０１の内部構造を詳細に説明する。図４ではカラーフィルター１７５が第１表示板１００、つまり、第１絶縁基板１１０上に形成されたＣＯＡ（アレイ上のカラーフィルター）方式で形成された表示パネル９０１を示す。
【００３２】
表示パネル９０１は、第１表示板１００、これと対向している第２表示板２００、及び第１表示板１００と第２表示板２００の間に形成されている液晶分子を含んだ液晶層３００を含む。この時、第１及び第２表示板１００、２００の各々の表示板には配向膜３０１、３０２が形成されており、配向膜３０１、３０２は、液晶層３００の液晶分子を第１表示板１００から第２表示板２００に至るまで順次に捩じられるように配向するＴＮ（ｔｗｉｓｔｅｄ  ｎｅｍａｔｉｃ）方式で配列でき、第１及び第２表示板１００、２００の両表示板に対して垂直に配列できる。
【００３３】
そして、図示していないが、表示パネル９０１は、両表示板１００、２００の間に配置されて両表示板１００、２００の間隔を維持するスペーサをさらに含んでもよい。
【００３４】
まず、第１表示板１００について詳細に説明する。
ガラス、石英、セラミックまたはプラスチックなどの絶縁性材質を含んで形成された第１絶縁基板１１０上に、主に横方向に延びている複数のゲートライン１２１が形成されている。各ゲートライン１２１は複数の部分が複数のゲート電極１２４を構成している。
また、図示していないが、第１絶縁基板１１０上には、ゲートライン１２１と同一層に維持電極配線が形成されてもよい。
【００３５】
ゲートライン１２１及びゲート電極１２４を含んだゲート配線は、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｔａ、Ｍｏなどの金属またはこれらを含む合金などで形成される。図２に示した、本発明による実施形態のゲート配線１２１、１２４は、単一層で構成されるが、物理化学的特性に優れたＣｒ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｔａまたはこれらを含む合金の金属層と比抵抗が小さいＡｌ系またはＡｇ系の金属層を含む多重層で構成されてもよい。その他、多様な金属または導電体にゲート配線１２１、１２４を形成でき、同じエッチング条件でパターニングできる多層膜であればさらに望ましい。また、ゲートライン１２１の側面は、傾いていて水平面に対する傾斜角は３０°乃至８０°であるのが望ましい。
【００３６】
ゲート配線１２１、１２４上には、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）などで構成されるゲート絶縁膜１３０が形成される。
【００３７】
ゲート絶縁膜１３０上には複数のデータライン１６１及びこれと連結された複数のソース電極１６５をはじめとして複数のドレーン電極１６６が形成されている。各データライン１６１は、主に縦方向に延びてゲートライン１２１と交差し、各ドレーン電極１６６に向かって複数の分枝を出してソース電極１６５をなす。ここで、ゲート電極１２４、ソース電極１６５、及びドレーン電極１６６が薄膜トランジスタの３電極となる。
【００３８】
データライン１６１、ソース電極１６５、及びドレーン電極１６６を含んだデータ配線もゲート配線１２１、１２４と同様に、クロム、モリブデン、アルミニウムまたはこれらを含む合金などの導電物質で形成され、単一層または多重層で構成できる。
【００３９】
データ配線１６１、１６５、１６６の下には半導体１４０が形成されている。非晶質シリコンなどで構成された半導体１４０は、各ゲート電極１２４、ソース電極１６５及びドレーン電極１６６の間で薄膜トランジスタのチャンネル部となる。
【００４０】
半導体１４０とデータ配線１６１、１６５、１６６の間には、両者の接触抵抗を各々減少させるための抵抗性接触（オーミックコンタクト）部材１５５、１５６が形成されている。抵抗性接触部材１５５、１５６は、シリサイドやｎ型不純物が高濃度にドーピングされた非晶質シリコンなどで形成される。これらの中で、島型の抵抗性接触部材１５６は、ゲート電極１２４を中心に他の抵抗性接触部材１５５と対向する。
【００４１】
データ配線１６１、１６５、１６６上には三原色を有するカラーフィルター１７５が各々順次に配置される。この時、カラーフィルター１７５の色は必ずしも三原色に限定されるのではなく、一つ以上の色で多様に構成できる。
【００４２】
また、図３に示したのと異なって、カラーフィルター１７５は、薄膜トランジスタ、データライン１６１、ゲートライン１２１上で互いに異なる色が重なるように形成されてもよい。この場合、重なった部位のカラーフィルター１７５は光を遮光する役割を果たす。
【００４３】
カラーフィルター１７５上には、平坦化特性が優れていて、感光性を有する有機物質またはプラズマ化学気相蒸着（ＰＥＣＶＤ）で形成されるａ−Ｓｉ：Ｃ：Ｏ、ａ−Ｓｉ：Ｏ：Ｆなどの低誘電率絶縁物質または窒化ケイ素などの無機絶縁物質などで構成される保護膜１７０が形成されている。
【００４４】
保護膜１７０とカラーフィルター１７５には、ドレーン電極１６６の少なくとも一部を露出する複数の接触孔（コンタクトホール）１７１が備えられている。
【００４５】
保護膜１７０上には複数の画素電極１８０が形成されている。画素電極１８０は、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）やＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）などのような透明導電体で形成される。
【００４６】
また、第１絶縁基板１１０で第２絶縁基板２１０と対向する面の反対面には第１偏光層１０１が形成される。
【００４７】
次に、第２表示板２００について詳細に説明する。
第１絶縁基板１１０と同様に、ガラス、石英、セラミックまたはプラスチックなどの絶縁性材質を含んで形成された第２絶縁基板２１０から見て第１絶縁基板１１０と対向する面上に第２偏光層２０１が形成される。ここで、第２偏光層２０１は、ワイヤーグリッド偏光子を用いて形成できる。そして、第２偏光層２０１上に共通電極２８０を形成する。共通電極２８０は、画素電極１８０と共に液晶分子を駆動するための電界を形成し、ＩＴＯまたはＩＺＯなどのような透明な導電性物質で形成される。
【００４８】
また、図３では図示していないが、第１絶縁基板１１０上には遮光部材をさらに形成してもよい。遮光部材は第１表示板１００の画素電極１８０と対向する開口部を有して互いに隣接する画素の間で漏洩される光を遮断する。また、遮光部材は薄膜トランジスタのチャンネル部に入射する外部光を遮断するため、薄膜トランジスタに対応する位置にも形成される。このような遮光部材は、クロム、クロムオキシド及びクロムナイトライドなどの単一またはこれらが組み合わされた多重の金属層で形成されたり、光を遮断するため、黒色系の顔料が添加された感光性有機物質で形成されたりしうる。ここで、黒色系の顔料としては、カーボンブラックや酸化チタン混合物（チタンブラック）などが用いられる。
【００４９】
一方、第２絶縁基板２１０から見て第１絶縁基板１１０と対向する面の反対面上に電磁波遮断層５４０を形成する。そして、電磁波遮断層５４０上に静電誘導絶縁層５１０を形成し、静電誘導絶縁層５１０の周縁に沿って静電誘導パターン層５２０を形成する。最後に、静電誘導絶縁層５１０及び静電誘導パターン層５２０を覆う誘電体層５３０を形成する。
【００５０】
このような構成によって、表示パネル９０１は画像を表示する表示機能以外に外部から信号を受信する入力機能も直接果たすことができる。
そしてタッチ感知部５００の構成を形成する過程を別途に設けずに、表示パネル９０１の製造過程で一貫工程によって共に形成される。従って、入力機能を有する表示パネルの生産性を向上できる。
【００５１】
また、入力機能を有する表示パネル９０１の有効表示面積を最大化できる。
また、入力機能を有する表示パネル９０１が表示する画像の画質低下を最少化できる。
また、タッチ感知部５００の光特性劣化などによる不良の発生も防止できる。
【００５２】
以下、図５及び図６を参照して本発明の第２実施形態を説明する。図５は、表示パネル９０２の断面図であり、図６は、表示パネル９０２の具体的な説明のための部分拡大断面図である。
【００５３】
表示パネル９０２は、第１表示板１００、これと対向している第２表示板２００、及び第１表示板１００と第２表示板２００の間に形成されている液晶分子を含んだ液晶層３００を含む。そして第１及び第２表示板１００、２００の両表示板はシーラント３５０を用いて互いに付着される。ここで、第１表示板１００は、背面基板となり、第２表示板２００は前面基板となる。
【００５４】
第１表示板１００は、第１絶縁基板１１０と、第１絶縁基板１１０上に形成された薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）及びカラーフィルター形成層（Ｃ）を含む。ここで、薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）及びカラーフィルター形成層（Ｃ）は、第１絶縁基板１１０から見て第２絶縁基板２１０と対向する面上に形成される。
【００５５】
第２表示板２００は、第２絶縁基板２１０と、第２絶縁基板２１０上に形成されたタッチ感知部５００及び共通電極２８０を含む。ここで、共通電極２８０は、第２絶縁基板２１０から見て第１絶縁基板１１０と対向する面上に形成され、タッチ感知部５００は共通電極２８０が形成された面の反対面上に形成される。
【００５６】
また、表示パネル９０２は、第２絶縁基板２１０とタッチ感知部５００の間に配置された電磁波遮断層５４０をさらに含む。電磁波遮断層５４０は、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）やＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）などのような透明な導電性物質で形成される。電磁波遮断層５４０は、薄膜トランジスタのように第１絶縁基板１１０と第２絶縁基板２１０の間に形成された多様な回路配線から発生した電磁波によってタッチ感知部５００にノイズが発生することを防止する。このような電磁波によるノイズは、タッチ感知部の正確性及び信頼性を落とす原因となる。
【００５７】
しかし、本発明は必ずしもこれに限定されることなく、電磁波遮断層５４０は省略してもよい。この時、第２絶縁基板２１０上に形成された共通電極２８０が電磁波遮断層５４０の役割を代わりに果たすように構成できる。
【００５８】
また、表示パネル９０２は、第１絶縁基板１１０の背面、つまり、第２絶縁基板２１０と対向する面の反対面上に配置された第１偏光層１０１と、第２絶縁基板２１０の前面、つまり、第１絶縁基板１１０と対向する面の反対面上に配置された第２偏光層２０１を含む。第２偏光層２０１は、第２絶縁基板２１０とタッチ感知部５００の間に配置される。図５及び図６における第２偏光層２０１は、第２絶縁基板２１０と電磁波遮断層５４０の間に配置されることを示したが、本発明は必ずしもこれに限られるものではない。従って、第２偏光層２０１は、電磁波遮断層５４０とタッチ感知部５００の静電誘導絶縁層５１０の間に配置されてもよい。
【００５９】
第１偏光層１０１と第２偏光層２０１は、互いに交差偏光されるように配置され、第１偏光層１０１は、表示パネル９０２に入射する光を偏光し、第２偏光層２０１は検光子の役割を果たす。
【００６０】
このような構成によっても、表示パネル９０２は画像を表示する表示機能以外に、外部から信号を受信する入力機能も果たすことができる。
【００６１】
また、第２偏光層２０１が第２絶縁基板２１０と第１絶縁基板１１０の間ではなくその外に配置されるため、第２偏光層２０１を形成できる素材が多様になってさらに経済的に生産できる。
【００６２】
以下、図７及び図８を参照して本発明の第３実施形態を説明する。図７は、表示パネル９０３の断面図であり、図８は、表示パネル９０３の具体的な説明のために部分を拡大した断面図である。
【００６３】
表示パネル９０３は、第１表示板１００、これと対向している第２表示板２００、及び第１表示板１００と第２表示板２００の間に形成されている液晶分子を含んだ液晶層３００を含む。そして第１及び第２表示板１００、２００の両表示板は、シーラント３５０を用いて互いに付着される。ここで、第１表示板１００は背面基板となり、第２表示板２００は前面基板となる。
【００６４】
第１表示板１００は、第１絶縁基板１１０と、第１絶縁基板１１０上に形成された薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）及びカラーフィルター形成層（Ｃ）を含む。ここで、薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）及びカラーフィルター形成層（Ｃ）は、第１絶縁基板１１０で第２絶縁基板２１０と対向する面上に形成される。
【００６５】
第２表示板２００は、第２絶縁基板２１０と、第２絶縁基板２１０上に形成されたタッチ感知部５００及び共通電極２８０を含む。ここで、共通電極２８０は、第２絶縁基板２１０から見て第１絶縁基板１１０と対向する面上に形成され、タッチ感知部５００は共通電極２８０が形成された面の反対面上に形成される。
【００６６】
また、表示パネル９０３は、第１絶縁基板１１０の背面、つまり、第２絶縁基板２１０と対向する面の反対面上に配置された第１偏光層１０１と、共通電極２８０上に配置された第２偏光層２０１をさらに含む。そして第２偏光層２０１は共通電極２８０から見て第１絶縁基板１１０と対向する面上に形成される。ここで、第２偏光層２０１は、ワイヤーグリッド偏光子を用いて形成されてもよい。
【００６７】
第１偏光層１０１と第２偏光層２０１は、互いに交差偏光するように配置され、第１偏光層１０１は表示パネル１０に入射する光を偏光し、第２偏光層２０１は検光子の役割を果たす。
【００６８】
また、本発明による第３実施形態における共通電極２８０は、第１表示板１００の画素電極１８０と共に液晶分子を駆動するための電界を形成すると共に、薄膜トランジスタのように第１絶縁基板１１０と第２絶縁基板２１０の間に形成された多様な回路配線から発生した電磁波によってタッチ感知部にノイズが発生することを防止する役割をも果たす。つまり、電磁波遮断だけをする別途の構成は省略される。
【００６９】
このような構成によっても、表示パネル９０３は、画像を表示する表示機能以外に外部から信号を受信する入力機能も果たすことができる。
【００７０】
また、電磁波遮断のための別途の構成を省略すると、全体的な構成及び製造工程を簡素化できる。
【００７１】
以下、図９及び図１０を参照して本発明の第４実施形態を説明する。図９は、表示パネル９０４の断面図であり、図１０は、表示パネル９０４の具体的な説明のために部分を拡大した断面図である。
【００７２】
表示パネル９０４は、第１表示板１００、これと対向している第２表示板２００、及び第１表示板１００と第２表示板２００の間に形成されている液晶分子を含んだ液晶層３００を含む。そして、両表示板１００、２００はシーラント３５０を用いて互いに付着される。ここで、第１表示板１００は背面基板となり、第２表示板２００は前面基板となる。
【００７３】
第１表示板１００は、第１絶縁基板１１０と、第１絶縁基板１１０上に形成された薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）を含む。ここで、薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）は第１絶縁基板１１０から見て第２絶縁基板２１０と対向する面上に形成される。薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）は、薄膜トランジスタを形成する多様な配線層、絶縁層及び半導体層などを含む。そして、第１表示板１００は薄膜トランジスタと連結された画素電極１８０をさらに含む。
【００７４】
第２表示板２００は、第２絶縁基板２１０と、第２絶縁基板２１０上に形成されたタッチ感知部５００、共通電極２８０及びカラーフィルター形成層（Ｃ）を含む。ここで、共通電極２８０及びカラーフィルター形成層（Ｃ）は、第２絶縁基板２１０から見て第１絶縁基板１１０と対向する面上に形成され、タッチ感知部５００は共通電極２８０が形成された面の反対面上に形成される。また、カラーフィルター形成層（Ｃ）は、第２絶縁基板２１０と共通電極２８０の間に配置される。そしてカラーフィルター形成層（Ｃ）はカラーフィルター２３０、遮光部材２２０及び平坦化層２５０などを含む。
【００７５】
また、表示パネル９０４は、第２絶縁基板２１０とタッチ感知部５００の間に配置された電磁波遮断層５４０をさらに含む。しかし、本発明は必ずしもこれに限定されるものではなく、電磁波遮断層５４０は省略できる。この時、第２絶縁基板２１０上に形成された共通電極２８０が電磁波遮断層５４０の役割を代わりに果たすように構成できる。
【００７６】
また、表示パネル９０４は、第１絶縁基板１１０の背面、つまり、第２絶縁基板２１０と対向する面の反対面上に配置された第１偏光層１０１と、第２絶縁基板２１０とカラーフィルター形成層（Ｃ）の間に配置された第２偏光層２０１をさらに含む。
【００７７】
図１０を参照して表示パネル９０４の内部構造をさらに詳細に説明する。
第１表示板１００は、第１絶縁基板１１０と、第１絶縁基板１１０上に順次に形成されたゲート配線１２１、１２４、ゲート絶縁膜１３０、半導体１４０、抵抗性接触部材１５５、１５６、データ配線１６１、１６５、１６６、保護膜１７０及び画素電極１８０を含む。ここで、第１表示板１００は、第１実施形態とは異なって、カラーフィルターを含まない。
【００７８】
第２表示板２００は、第２絶縁基板２１０と、第２絶縁基板２１０から見て第１絶縁基板１１０と対向する面上に形成された第２偏光層２０１と、第２偏光層２０１上に順次に形成された遮光部材２２０、カラーフィルター２３０及び平坦化層２５０と、平坦化層２５０上に形成された共通電極２８０を含む。ここで、第２偏光層２０１はワイヤーグリッド偏光子を用いて形成できる。
【００７９】
遮光部材２２０は、第１表示板１００の画素電極１８０と対向する開口部を有して互いに隣接する画素の間で漏洩される光を遮断する。また、遮光部材２２０は、薄膜トランジスタのチャンネル部に入射する外部光を遮断するため、薄膜トランジスタに対応する位置にも形成される。
【００８０】
一方、第２絶縁基板２１０から見て第１絶縁基板１１０と対向する面の反対面上に電磁波遮断層５４０を形成する。そして、電磁波遮断層５４０上に静電誘導絶縁層５１０を形成し、静電誘導絶縁層５１０の周縁に沿って静電誘導パターン層５２０を形成する。最後に、静電誘導絶縁層５１０及び静電誘導パターン層５２０を覆う誘電体層５３０を形成する。
【００８１】
このような構成によっても、表示パネル９０４は画像を表示する表示機能以外に外部から信号を受信する入力機能も果たすことができる。つまり、カラーフィルター２３０が第２表示板２００に形成された構造でも入力機能を有する表示パネル９０４を提供できる。
【００８２】
以下、図１１及び図１２を参照して本発明の第５実施形態を説明する。図１１は、表示パネル９０５の断面図であり、図１２は、表示パネル９０５の具体的な説明のための部分拡大断面図である。
【００８３】
表示パネル９０５は、第１表示板１００、これと対向している第２表示板２００、及び第１表示板１００と第２表示板２００の間に形成されている液晶分子を含んだ液晶層３００を含む。そして、両表示板１００、２００はシーラント３５０を用いて互いに付着される。ここで、第１表示板１００は背面基板となり、第２表示板２００は前面基板となる。
【００８４】
第１表示板１００は、第１絶縁基板１１０と、第１絶縁基板１１０上に形成された薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）を含む。ここで、薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）は、第１絶縁基板１１０から見て第２絶縁基板２１０と対向する面上に形成される。そして、第１表示板１００は、薄膜トランジスタと連結された画素電極１８０をさらに含む。
【００８５】
第２表示板２００は、第２絶縁基板２１０、第２絶縁基板２１０上に形成されたタッチ感知部５００、及び共通電極２８０及びカラーフィルター形成層（Ｃ）を含む。ここで、共通電極２８０及びカラーフィルター形成層（Ｃ）は、第２絶縁基板２１０で第１絶縁基板１１０と対向する面上に形成され、タッチ感知部５００は共通電極２８０が形成された面の反対面上に形成される。また、カラーフィルター形成層（Ｃ）は、第２絶縁基板２１０と共通電極２８０の間に配置される。そしてカラーフィルター形成層（Ｃ）は、カラーフィルター２３０、遮光部材２２０及び平坦化層２５０などを含む。
【００８６】
また、表示パネル９０５は、第２絶縁基板２１０とタッチ感知部５００の間に配置された電磁波遮断層５４０をさらに含む。しかし、本発明は必ずしもこれに限定されるものではなく、電磁波遮断層５４０は省略できる。この時、第２絶縁基板２１０上に形成された共通電極２８０が電磁波遮断層５４０の役割を代わりに果たすように構成できる。
【００８７】
また、表示パネル９０５は、第１絶縁基板１１０の背面、つまり、第２絶縁基板２１０と対向する面の反対面上に配置された第１偏光層１０１と、第２絶縁基板２１０の前面、つまり、第１絶縁基板１１０と対向する面の反対面上に配置された第２偏光層２０１を含む。第２偏光層２０１は、第２絶縁基板２１０とタッチ感知部５００の間に配置される。図１１及び図１２において、第２偏光層２０１は、第２絶縁基板２１０と電磁波遮断層５４０の間に配置されることを示したが、本発明は必ずしもこれに限られるものではない。従って、第２偏光層２０１は、電磁波遮断層５４０とタッチ感知部５００の静電誘導絶縁層５１０の間に配置されてもよい。
【００８８】
第１偏光層１０１と第２偏光層２０１は、互いに交差偏光されるように配置され、第１偏光層１０１は、表示パネル９０５に入射する光を偏光し第２偏光層２０１は検光子の役割を果たす。
【００８９】
このような構成によっても、表示パネル９０５は画像を表示する表示機能以外に外部から信号を受信する入力機能も有することができる。つまり、カラーフィルター２３０が第２表示板２００に形成された構造でも入力機能を有する表示パネル９０５を提供できる。
【００９０】
また、第２偏光層２０１が第２絶縁基板２１０と第１絶縁基板１１０の間ではなくその外に配置されるので、第２偏光層２０１を形成できる素材が多様になってさらに経済的に生産できる。
【００９１】
以下、図１３及び図１４を参照して本発明の第６実施形態を説明する。図１３は、表示パネル９０６の断面図であり、図１４は、表示パネル９０６の具体的な説明のための部分拡大断面図である。
【００９２】
表示パネル９０６は、第１表示板１００、これと対向している第２表示板２００、及び第１表示板１００と第２表示板２００の間に形成されている液晶分子を含んだ液晶層３００を含む。そして両表示板１００、２００はシーラント３５０を用いて互いに付着される。ここで、第１表示板１００は背面基板となり、第２表示板２００は前面基板となる。
【００９３】
第１表示板１００は、第１絶縁基板１１０と、第１絶縁基板１１０上に形成された薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）を含む。ここで、薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）は、第１絶縁基板１１０で第２絶縁基板２１０と対向する面上に形成される。そして、第１表示板１００は、薄膜トランジスタと連結された画素電極１８０をさらに含む。
【００９４】
第２表示板２００は、第２絶縁基板２１０と、第２絶縁基板２１０上に形成されたタッチ感知部５００、共通電極２８０及びカラーフィルター形成層（Ｃ）を含む。ここで、共通電極２８０及びカラーフィルター形成層（Ｃ）は、第２絶縁基板２１０で第１絶縁基板１１０と対向する面上に形成され、タッチ感知部５００は共通電極２８０が形成された面の反対面上に形成される。また、共通電極２８０は、第２絶縁基板２１０とカラーフィルター形成層（Ｃ）の間に配置される。そしてカラーフィルター形成層（Ｃ）は、カラーフィルター２３０、遮光部材２２０及び平坦化層２５０などを含む。
【００９５】
また、表示パネル９０６は、第１絶縁基板１１０の背面、つまり、第２絶縁基板２１０と対向する面の反対面上に配置された第１偏光層１０１と、第２絶縁基板２１０と共通電極２８０の間に配置された第２偏光層２０１をさらに含む。第１偏光層１０１と第２偏光層２０１は、互いに交差偏光するように配置され、第１偏光層１０１は表示パネル１０に入射する光を偏光し第２偏光層２０１は検光子の役割を果たす。
【００９６】
また、本発明による第６実施形態における共通電極２８０は、第１表示板１００の画素電極１８０と共に液晶分子を駆動するための電界を形成する役割以外に、薄膜トランジスタのように第１絶縁基板１１０と第２絶縁基板２１０の間に形成された多様な回路配線から発生した電磁波によってタッチ感知部５００にノイズが発生することを防止する役割をも果たす。つまり、電磁波遮断だけを行う別途の構成は省略される。
【００９７】
このような構成によっても、表示パネル９０６は画像を表示する表示機能以外に外部から信号を受信する入力機能も有することができる。つまり、カラーフィルター２３０が第２表示板２００に形成された構造でも入力機能を有する表示パネル９０６を提供できる。
【００９８】
また、電磁波遮断のための別途の構成を省略することによって、全体的な構成及び製造工程を簡素化できる。
【００９９】
以下、図１５及び図１６を参照して本発明の第７実施形態を説明する。図１５は、表示パネル９０７の断面図であり、図１６は、表示パネル９０７の具体的な説明のための部分拡大断面図である。
【０１００】
表示パネル９０７は、第１表示板１００、これと対向している第２表示板２００、及び第１表示板１００と第２表示板２００の間に形成されている液晶分子を含んだ液晶層３００を含む。そして、両表示板１００、２００はシーラント３５０を用いて互いに付着される。ここで、第１表示板１００は背面基板となり、第２表示板２００は前面基板となる。
【０１０１】
第１表示板１００は、第１絶縁基板１１０と、第１絶縁基板１１０上に形成された薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）を含む。ここで、薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）は、第１絶縁基板１１０で第２絶縁基板２１０と対向する面上に形成される。そして、第１表示板１００は、薄膜トランジスタと連結された画素電極１８０をさらに含む。
【０１０２】
第２表示板２００は、第２絶縁基板２１０と、第２絶縁基板２１０上に形成されたタッチ感知部５００、共通電極２８０及びカラーフィルター形成層（Ｃ）を含む。ここで、共通電極２８０及びカラーフィルター形成層（Ｃ）は、第２絶縁基板２１０で第１絶縁基板１１０と対向する面上に形成され、タッチ感知部５００は、共通電極２８０が形成された面の反対面上に形成される。また、共通電極２８０は、第２絶縁基板２１０とカラーフィルター形成層（Ｃ）の間に配置される。そしてカラーフィルター形成層（Ｃ）は、カラーフィルター２３０、遮光部材２２０及び平坦化層２５０などを含む。
【０１０３】
また、表示パネル９０７は、第１絶縁基板１１０の背面、つまり、第２絶縁基板２１０と対向する面の反対面上に配置された第１偏光層１０１と、共通電極２８０とカラーフィルター形成層（Ｃ）の間に配置された第２偏光層２０１をさらに含む。第１偏光層１０１と第２偏光層２０１は、互いに交差偏光するように配置され、第１偏光層１０１は表示パネル１０に入射する光を偏光し第２偏光層２０１は検光子の役割を果たす。
【０１０４】
また、本発明による第７実施形態における共通電極２８０は、第１表示板１００の画素電極１８０と共に液晶分子を駆動するための電界を形成する役割以外に、薄膜トランジスタのように第１絶縁基板１１０と第２絶縁基板２１０の間に形成された色々な回路配線から発生した電磁波によってタッチ感知部５００にノイズが発生することを防止する役割をも果たす。つまり、電磁波遮断だけを行う別途の構成は省略される。
【０１０５】
このような構成によっても、表示パネル９０６は画像を表示する表示機能以外に外部から信号を受信する入力機能も有することができる。つまり、カラーフィルター２３０が第２表示板２００に形成された構造でも入力機能を有する表示パネル９０６を提供できる。
【０１０６】
また、電磁波遮断のための別途の構成を省略することによって、全体的な構成及び製造工程を簡素化できる。
また、共通電極２８０をタッチ感知部５００に最大限近く配置することで、電磁波遮断効果を向上させることができる。
【０１０７】
以下、図１７及び図１８を参照して、本発明の第８実施形態を説明する。図１７は、表示パネル９０８の断面図であり、図１８は、表示パネル９０８の具体的な説明のための部分拡大断面図である。
【０１０８】
表示パネル９０８は、第１表示板１００、これと対向している第２表示板２００、及び第１表示板１００と第２表示板２００の間に形成されている液晶分子を含んだ液晶層３００を含む。そして、両表示板１００、２００はシーラント３５０を用いて互いに付着される。ここで、第１表示板１００は背面基板となり、第２表示板２００は前面基板となる。
【０１０９】
第１表示板１００は、第１絶縁基板１１０と、第１絶縁基板１１０上に形成された薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）を含む。ここで、薄膜トランジスタ形成層（Ｔ）は、第１絶縁基板１１０から見て第２絶縁基板２１０と対向する面上に形成される。そして、第１表示板１００は、薄膜トランジスタと連結された画素電極１８０をさらに含む。
【０１１０】
第２表示板２００は、第２絶縁基板２１０と、第２絶縁基板２１０上に形成されたタッチ感知部５００、共通電極２８０及びカラーフィルター形成層（Ｃ）を含む。ここで、共通電極２８０及びカラーフィルター形成層（Ｃ）は、第２絶縁基板２１０で第１絶縁基板１１０と対向する面上に形成され、タッチ感知部５００は、共通電極２８０が形成された面の反対面上に形成される。また、共通電極２８０は、第２絶縁基板２１０とカラーフィルター形成層（Ｃ）の間に配置される。そしてカラーフィルター形成層（Ｃ）は、カラーフィルター２３０、遮光部材２２０及び平坦化層２５０などを含む。
【０１１１】
また、表示パネル９０８は、第１絶縁基板１１０の背面、つまり、第２絶縁基板２１０と対向する面の反対面上に配置された第１偏光層１０１と、第２絶縁基板２１０の前面、つまり、第１絶縁基板１１０と対向する面の反対面上に配置された第２偏光層２０１を含む。第２偏光層２０１は、第２絶縁基板２１０とタッチ感知部５００の間に配置される。つまり、第２偏光層２０１は、第２絶縁基板２１０とタッチ感知部５００の静電誘導絶縁層５１０の間に配置される。
【０１１２】
第１偏光層１０１と第２偏光層２０１は、互いに交差偏光するように配置され、第１偏光層１０１は、表示パネル１０に入射する光を偏光し第２偏光層２０１は検光子の役割を果たす。
【０１１３】
また、本発明による第８実施形態における共通電極２８０は、第１表示板１００の画素電極１８０と共に液晶分子を駆動するための電界を形成する役割以外に、薄膜トランジスタのように第１絶縁基板１１０と第２絶縁基板２１０の間に形成された色々な回路配線から発生した電磁波によってタッチ感知部にノイズが発生することを防止する役割をも果たす。つまり、電磁波遮断だけを行う別途の構成は省略される。
【０１１４】
このような構成によっても、表示パネル９０６は画像を表示する表示機能以外に外部から信号を受信する入力機能も果たすことができる。つまり、カラーフィルター２３０が第２表示板２００に形成された構造でも入力機能を有する表示パネル９０６を提供できる。
また、電磁波遮断のための別途の構成を省略することによって、全体的な構成及び製造工程を簡素化できる。
【０１１５】
また、共通電極２８０をタッチ感知部５００に最大限近く配置することで、電磁波遮断効果を向上することができる。
【０１１６】
また、第２偏光層２０１が第２絶縁基板２１０と第１絶縁基板１１０の間でなく、その外に配置されるため、第２偏光層２０１を形成できる素材が多様になってさらに経済的に生産できる。
【０１１７】
以上、本発明の実施形態を上述のように説明したが、特許請求の範囲を逸脱しない限り、多様な修正及び変形が可能であることは、本発明の属する技術分野に従事する者にとって容易に理解することができる。
【図面の簡単な説明】
【０１１８】
【図１】本発明の第１実施形態による表示パネルの断面図である。
【図２】図１のタッチ感知部の分解斜視図である。
【図３】図１のタッチ感知部の配置図である。
【図４】図１の表示パネルの部分拡大断面図である。
【図５】本発明の第２実施形態による表示パネルの断面図である。
【図６】図５の表示パネルの部分拡大断面図である。
【図７】本発明の第３実施形態による表示パネルの断面図である。
【図８】図７の表示パネルの部分拡大断面図である。
【図９】本発明の第４実施形態による表示パネルの断面図である。
【図１０】図９の表示パネルの部分拡大断面図である。
【図１１】本発明の第５実施形態による表示パネルの断面図である。
【図１２】図１１の表示パネルの部分拡大断面図である。
【図１３】本発明の第６実施形態による表示パネルの断面図である。
【図１４】図１３の表示パネルの部分拡大断面図である。
【図１５】本発明の第７実施形態による表示パネルの断面図である。
【図１６】図１５の表示パネルの部分拡大断面図である。
【図１７】本発明の第８実施形態による表示パネルの断面図である。
【図１８】図１７の表示パネルの部分拡大断面図である。
【符号の説明】
【０１１９】
１０、９０１、９０２、９０３、９０４、９０５、９０６、９０７、９０８    表示パネル
１００、２００    表示板
１０１、２０１    偏光層
１１０、２１０    絶縁基板
１２１    ゲートライン
１２４    ゲート電極
１３０    ゲート絶縁膜
１４０    半導体
１５５、１５６    抵抗性接触（オーミックコンタクト）部材
１６１    データライン
１６５    ソース電極
１６６    ドレーン電極
１７０    保護膜
１７１    接触孔（コンタクトホール）
１７５、２３０    カラーフィルター
１８０    画素電極
２２０    遮光部材
２５０    平坦化層
２８０    共通電極
３００    液晶層
３０１、３０２    配向膜
３５０    シーラント
５００    タッチ感知部
５１０    静電誘導絶縁層
５２０    静電誘導パターン層
５２１    電源連結部
５２２    静電誘導部
５２２    静電誘導部
５３０    誘電体層
５４０    電磁波遮断層
【図１】
0005144122.tif 000002
【図２】
0005144122.tif 000003
【図３】
0005144122.tif 000004
【図４】
0005144122.tif 000005
【図５】
0005144122.tif 000006
【図６】
0005144122.tif 000007
【図７】
0005144122.tif 000008
【図８】
0005144122.tif 000009
【図９】
0005144122.tif 000010
【図１０】
0005144122.tif 000011
【図１１】
0005144122.tif 000012
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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