(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機物質を蒸着するために複数の開口部が形成された蒸着マスクを提供する第１ステップと、
前記蒸着マスクの開口部と対応する位置にのみ反射膜パターンが形成された蒸着マスク引張用整列基板を提供する第２ステップと、
引張器で前記蒸着マスクを引張る第３ステップと、
前記開口部の中心と前記反射膜パターンの中心とが一致するように整列する第４ステップと、
前記蒸着マスクの開口部の中心と前記反射膜パターンの中心との間の整列状態を示す反射光イメージを獲得する第５ステップと、
前記反射光イメージを分析して引張後の前記蒸着マスクの開口部と前記反射膜パターンとの間の整列状態を判断する第６ステップと、
を含み、
前記反射光イメージ上で前記整列された開口部と前記反射膜パターンとの間の第１領域は暗部を構成する、
蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法。
【請求項２】
前記開口部の中心と前記反射膜パターンの中心が一致しない場合、一致しない軸を基準として前記第３ステップから第６ステップを繰り返し行う第７ステップをさらに含む、請求項１に記載の蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法。
【請求項３】
前記第１領域は、前記整列された開口部の外郭線と前記反射膜パターンの外郭線との間の領域で定義される、請求項１に記載の蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法。
【請求項４】
前記反射光イメージは、第１領域を除いた他の領域である第２領域をさらに含み、前記第２領域は明部を構成する、請求項３に記載の蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法。
【請求項５】
前記第４ステップは、
一軸を基準として前記開口部の幅を測定して前記開口部の幅の中心点を判断する第４−１ステップと、
前記一軸を基準として前記反射膜パターンの幅を測定して前記反射膜パターンの幅の中心点を判断する第４−２ステップと、
前記開口部の幅の中心点と前記反射膜パターンの幅の中心点が一致するように前記蒸着マスクまたは前記蒸着マスク引張用整列基板を移動させる第４−３ステップと、
を含む請求項１に記載の蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法。
【請求項６】
前記第４ステップは、前記一軸と他の軸を基準として前記第４−１ステップから第４−３ステップを繰り返し行う、請求項５に記載の蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法。
【請求項７】
前記第６ステップは、
一軸を基準として前記開口部の幅を測定して前記開口部の幅の中心点を判断する第６−１ステップと、
前記一軸を基準として前記反射膜パターンの幅を測定して前記反射膜パターンの幅の中心点を判断する第６−２ステップと、
前記開口部の幅の中心点と前記反射膜パターンの幅の中心点が一致するかを判断する第６−３ステップと、
を含む請求項１に記載の蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法。
【請求項８】
前記第６ステップは、前記一軸と他の軸を基準として前記第６−１ステップから第６−３ステップを繰り返し行う、請求項７に記載の蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法。
【請求項９】
蒸着マスクに形成された複数の開口部の各中心と、透明基板を含む蒸着マスク引張用整列基板に形成された複数の反射膜パターンの各中心との間の整列状態を示すように、前記開口部および前記反射膜パターンに光を入射させてそれに反射された光を獲得して反射光イメージを獲得するステップと、
前記反射光イメージを分析して引張後の前記開口部と前記反射膜パターンとの間の整列状態を判断するステップと、
を含み、
前記反射光イメージは、前記整列された開口部の外郭線と前記反射膜パターンの外郭線との間の領域で定義される第１領域と、前記第１領域を除いた他の領域である第２領域を含み、前記反射光イメージ上で前記第１領域は暗部を構成し、第２領域は明部を構成する、
蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法。
【請求項１０】
前記反射膜パターンの各々は、前記開口部それぞれのサイズより小さい請求項９に記載の蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法。
【請求項１１】
前記反射膜パターンは、光を反射させる金属材質である請求項９に記載の蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法。
【請求項１２】
前記反射膜パターンは、モリブデンまたはタングステンのうちから選択された一つ以上の物質を含む請求項１１に記載の蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着マスク引張用整列基板、それの製造方法およびそれを利用した蒸着マスク引張方法に関するものであり、より詳細には有機発光表示装置の有機発光層を蒸着するための蒸着マスクを製造することにおいて使用される蒸着マスク引張用整列基板、それの製造方法およびそれを利用した蒸着マスク引張方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
有機発光表示装置は、能動発光型表示素子として視野角が広く、コントラストが優れるだけではなく、応答速度が速いという長所を有しているため、次世代表示素子として注目をあびている。
【０００３】
有機発光表示装置は、透明な絶縁基板上に所定パターンで形成された第１電極と、この第１電極が形成された絶縁基板上には真空蒸着法によって形成された有機膜層と、有機膜層の上面に形成され、カソード電極層である第２電極を含む。
【０００４】
このように構成された有機発光表示装置の製作において、第１電極は、フォトリソグラフィ法のような湿式エッチング法によってパターニングされてもよい。しかし、有機膜層、特に所定の色相を具現する発光層はこのような湿式エッチング法によってパターニングすることができず、有機膜上に形成される第２電極もまた湿式エッチング法によってパターニングされることができない。なぜならば、有機膜の一部層であっても形成された後に湿式エッチング法を使用すると、その過程から発生する水分が有機膜に浸透または残留し、完成された有機発光表示装置の性能を低下させ、寿命を顕著に劣化させる問題を引き起こすからである。
【０００５】
このような問題点を解決するためには、有機発光層となる有機電子発光材料と第２電極となる材料を蒸着とを同時にパターニングする製造方法を使用しなければならない。大韓民国公開特許公報２０００−０６０５８９号には、薄板の筐体に相互に所定間隔隔離されたストライプ状のスロットが形成されたマスクを利用して、有機発光層またはカソード電極である第２電極を蒸着する方法が、開示されている。一方、大韓民国公開特許公報１９９８−００７１５８３号には金属薄板にスリット部とブリッジ部がマッシュ形状となるマスクを利用した蒸着方法が開示されている。
【０００６】
このような金属薄板を利用して有機発光表示装置に微細でかつ精密度の高いパターニングをするためには金属薄板と基板との密着性を高めシャドウ（ｓｈａｄｏｗ）現象などを減らさなければならない。しかし、前述した従来のマスクは、開口部が金属薄板に形成されているため、金属薄板の自重による垂れ、または有機膜を成膜する過程で温度上昇による金属薄板の熱膨張による垂れなどが原因になって金属薄板と基板との密着性を阻害する。
【０００７】
このような問題を解決するため、金属薄板に引張力（ｔｅｎｓｉｏｎ）を付与した状態で支持フレームに固定する方法が使用される。金属薄板を支持フレームに固定する方法として接着剤による接着または溶接方法など多様な方法が試みられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】韓国公開特許第１０−２００９−００５２２０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
図１に示すように、基板２上に複数の蒸着用開口部３が形成されている蒸着マスク１に引張器により張力を加えることにおいて、蒸着マスク１上に形成された複数の開口部３が所望の精密度で整列しているかを判断する必要がある。すなわち、蒸着マスク１に引張力を加えると、複数の開口部３も共に外力を受け、その形状が一定に変形され得るからである。
【００１０】
蒸着マスク上に形成された複数の開口部の整列状態を把握し、これを基に引張力を調節して蒸着マスクの精密度を高めるため、図２に示すように基板部材(base  member)６上に整列基準になる反射膜パターンが形成されている蒸着マスク引張用整列基板５を使用する。すなわち、蒸着マスク引張用整列基板５を利用して蒸着マスク１の整列状態を判断して引張力および引張方向を決定する。図２において、基板部材６上に光吸収領域７および光反射領域８が規則的に分布されている。
【００１１】
蒸着マスク１と整列基板５を互いに重なるように位置させると、蒸着マスク１の開口部３の内側に整列基板５の光吸収領域７が位置し、この状態で前記蒸着マスク１に撮像のための光を照射すると、図３に図示するような光反射イメージを獲得することができる。図３に示す斜線領域は、照射された光が吸収され、光反射イメージ上では暗部（暗い部分）で表現されるものを示し、斜線領域以外の領域は、照射された光が反射して、光反射イメージ上では明部（明るい部分）で表現されるものを意味する。
【００１２】
このように整列基板５を基準として蒸着マスク１の整列状態を判断することができ、引張器上で蒸着マスク１の開口部３の分布と引張力および引張方向を修正し、蒸着マスク１の開口部３の精密度を高めることができる。
【００１３】
しかし、図４に示すように整列基板５の光反射領域８と蒸着マスク１の開口部３近辺の領域で反射した光により影領域（Ｆ）が形成されるため、光反射イメージ上で蒸着マスク１の開口部３の境界領域を明確に判断しにくい。すなわち、蒸着マスク１上で開口部３を除いた他の領域は、光を反射する金属材質などで形成されるため、光を反射して光反射イメージ上では明部で表現され、同様に整列基板５の光吸収領域７を除いた他の領域すなわち光反射領域８も、光を反射させる金属材質で光反射膜がコーティングされているため、光反射イメージ上では明部で表現される。互いに反射された光が、逆に互いに影響を及ぼし、光反射イメージ上で影領域（Ｆ）を形成する。その結果、蒸着マスク１を整列するための開口部３の境界を判断しにくい。
【００１４】
すなわち、図５に示すように、獲得された光反射イメージを引張器が自動で認識および分析して整列可否を判断するが、このとき、開口部３の境界領域に形成された影領域（Ｆ）により開口部３の幅を測定するのに多数の誤差（Ｄ１〜Ｄ４）が発生する。したがって、蒸着マスク１と整列基板５の整列に誤差が発生して位置の精密度が落ち、蒸着マスク１の引張において不良品が生産される可能性が高い。
【００１５】
そこで、本発明が解決しようとする課題は、蒸着マスクおよび整列基板に光を反射させて光反射イメージを獲得することにおいて、境界が明らかでかつ明確な光反射イメージを獲得できる蒸着マスク引張用整列基板を提供することである。
【００１６】
本発明が解決しようとする他の課題は、境界が明らかでかつ明確な光反射イメージを獲得できる蒸着マスク引張用整列基板の製造方法を提供することである。
【００１７】
本発明が解決しようとするまた他の課題は、蒸着マスクおよび整列基板に光を反射させて光反射イメージを獲得することにおいて、境界が明らかでかつ明確な光反射イメージを獲得できる蒸着マスク引張用整列基板を利用して精密度が高くなるように蒸着マスクを引張できる蒸着マスク引張方法を提供することである。
【００１８】
本発明の技術的課題は、以上で言及した技術的課題に制限されず、言及されていないまた他の技術的課題は次の記載から当業者に明確に理解されるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
前記技術的課題を解決するための本発明の一実施形態による蒸着マスク引張用整列基板は、有機物質を蒸着するための蒸着マスクの引張において前記蒸着マスクに形成された複数の開口部を整列するための整列基板において、透明基板と、前記透明基板の一面にコーティングされ、光を反射させる反射膜パターンを含み、前記反射膜パターンは前記開口部と対応する位置にのみ形成される。
【００２０】
前記技術的課題を解決するための本発明の一実施形態による蒸着マスク引張用整列基板の製造方法は、有機物質を蒸着するための蒸着マスクの引張において前記蒸着マスクに形成された複数の開口部を整列するための整列基板を製造する方法において、透明基板を提供するステップと、光を反射するための反射膜パターンを前記透明基板の一面のうち前記開口部と対応される位置にのみ形成するステップを含む。
【００２１】
前記技術的課題を解決するための本発明の一実施形態による蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法は、有機物質を蒸着するために複数の開口部が形成された蒸着マスクを提供する第１ステップと、前記蒸着マスクの開口部と対応する位置にのみ反射膜パターンが形成された蒸着マスク引張用整列基板を提供する第２ステップと、引張器で前記蒸着マスクを引張る第３ステップと、前記開口部の中心と前記反射膜パターンの中心を一致させる第４ステップと、前記蒸着マスクの開口部の中心と前記反射膜パターンの中心との間の整列状態を示す反射光イメージを獲得する第５ステップと、前記反射光イメージを分析して引張後の前記蒸着マスクの開口部と前記反射膜パターンとの間の整列状態を判断する第６ステップを含み、前記反射光イメージ上で前記整列された開口部と前記反射膜パターンとの間の第１領域は暗部を構成する。
【００２２】
前記技術的課題を解決するための本発明の他の実施形態による蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法は、蒸着マスクに形成された複数の開口部の各中心と蒸着マスク引張用整列基板に形成された複数の反射膜パターンの各中心との間の整列状態を示すように前記開口部および前記反射膜パターンに光を入射させてそれに反射された光を獲得して反射光イメージを獲得するステップと、前記反射光イメージを分析して引張後の前記開口部と前記反射膜パターンとの間の整列状態を判断するステップを含み、前記反射光イメージは、前記整列された開口部の外郭線と前記反射膜パターンの外郭線との間の領域として定義される第１領域と、前記第１領域を除いた他の領域である第２領域を含み、前記反射光イメージ上で前記第１領域は暗部を構成し、第２領域は明部を構成する。
【００２３】
その他実施形態の具体的な内容は詳細な説明および図面に含まれている。
【発明の効果】
【００２４】
このような本発明によれば、蒸着マスクおよび整列基板に光を反射させて光反射イメージを獲得することにおいて、境界が明らかでかつ明確な光反射イメージを獲得できる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】蒸着マスクおよび蒸着マスク引張用整列基板の一例を説明するための図である。
【図２】蒸着マスクおよび蒸着マスク引張用整列基板の一例を説明するための図である。
【図３】蒸着マスクおよび蒸着マスク引張用整列基板の一例を説明するための図である。
【図４】蒸着マスクおよび蒸着マスク引張用整列基板の一例を説明するための図である。
【図５】蒸着マスクおよび蒸着マスク引張用整列基板の一例を説明するための図である。
【図６】本発明の一実施形態による蒸着マスク引張用整列基板１０を示す斜視図である。
【図７】本発明の一実施形態による蒸着マスク引張用整列基板１０と蒸着マスク１を重なるように位置させた後、光を照射して獲得した光反射イメージのうち一部を示す図である。
【図８】図７に示す光反射イメージを拡大して示す図である。
【図９】本発明の一実施形態による蒸着マスク引張用整列基板１０により獲得された明確な境界を有する光反射イメージから測定された開口部３の幅を示す図である。
【図１０】本発明の一実施形態による蒸着マスク引張用整列基板１０の光反射パターンを示す図である。
【図１１】本発明の一実施形態による蒸着マスク引張用整列基板の製造方法を示す順序図である。
【図１２】本発明の一実施形態による蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法を示す順序図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
本発明の利点、特徴、およびそれらを達成する方法は、添付される図面と共に詳細に後述される実施形態を参照すれば明確になるであろう。しかし、本発明は、以下で開示される実施形態に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で具現されることが可能である。本実施形態は、単に本発明の開示が完全になるように、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に対して発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであり、本発明は、特許請求の範囲によってのみ定義される。図面における層および領域の大きさおよび相対的な大きさは、説明を明瞭にするために誇張されたものであり得る。
【００２７】
素子（ｅｌｅｍｅｎｔｓ）または層が、異なる素子または層の「上（ｏｎ）」と指称されるものは、他の素子あるいは層の真上だけでなく、中間に他の層または他の素子を介在した場合をすべて含む。これに対し、一つの素子が他の素子と「直接上（ｄｉｒｅｃｔｌｙ  ｏｎ）」、または「真上」と指称されるものは中間に他の素子または層を介在しないものを示す。明細書全体において、同一参照符号は同一構成要素を指す。「および／または」は、言及されたアイテムの各々および一つ以上のすべての組合せを含む。
【００２８】
空間的に相対的な用語である「下（ｂｅｌｏｗ）」、「下（ｂｅｎｅａｔｈ）」、「下部（ｌｏｗｅｒ）」、「上（ａｂｏｖｅ）」、「上部（ｕｐｐｅｒ）」などは、図面に示されているように、一つの素子または構成要素と異なる素子または構成要素との相関関係を容易に記述するために使用されてもよい。空間的に相対的な用語は、図面に示されている方向に加えて、使用時または動作時における素子の互いに異なる方向を含む用語として理解されなければならない。
【００２９】
本明細書で記述する実施形態は、本発明の理想的な実施形態の概略的な断面図を参考にして説明する。したがって、製造技術または許容誤差などによって、例示図の形態は変形されてもよい。したがって、本発明の実施形態は、図示された特定形態に制限されるものではなく、製造工程によって生成される形態の変化も含むものである。したがって、図面に例示された領域は概略的な属性を有し、図面に例示された領域の形態は素子の領域の特定形態を例示するためのものであり、発明の範疇を制限するためのものではない。以下図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
【００３０】
図６〜図１０を参照して本発明による一実施形態について説明する。図６は、本発明の一実施形態による蒸着マスク引張用整列基板１０を示す斜視図である。図７は、本発明の一実施形態による蒸着マスク引張用整列基板１０と蒸着マスク１を重なるように位置させた後、光を照射して獲得した光反射イメージのうち一部を示す図である。図８は、図７に示す光反射イメージを拡大して示す図面である。図９は、本発明の一実施形態による蒸着マスク引張用整列基板１０により獲得された明確な境界を有する光反射イメージから測定された開口部３の幅を示す図面である。図１０は、本発明の一実施形態による蒸着マスク引張用整列基板１０の光反射パターンを示す図である。
【００３１】
本発明の一実施形態による蒸着マスク引張用整列基板１０は透明基板１１と、前記透明基板１１の一側面にコーティングされて光を反射させる反射膜パターン１３を含み、前記反射膜パターン１３は、蒸着マスクに形成された複数の開口部と対応する位置にのみ形成される。
【００３２】
透明基板１１は、光を通過させる透明な材質で形成され、プラスチックのような多様な材質で形成されてもよい。透明基板１１は、蒸着マスク１と重なるように位置して蒸着マスク１の位置精密度を判断するための精密な光反射イメージが得られるように、軟性の材質よりは変形が少ない硬性のある材質、例えばガラスのような材質で製作されてもよい。後述するように、反射膜パターン１３が形成されていない領域は透明であるため光を通過させるので光透過領域１２を構成し、引張器上で光反射イメージを獲得するとき、光を反射させないため、光反射イメージ上で暗部（暗い領域、図６〜図１０に示す斜線で区別して示すもの）を形成する。
【００３３】
反射膜パターン１３は透明基板１１上に一定のパターンに沿って形成される。反射膜パターン１３は前述したように蒸着マスク１の開口部３と対応し、図７に示すように前記反射膜パターン１３は前記開口部３のサイズより小さく形成され、引張器で蒸着マスク１と整列基板１０が正確に整列されたかを判断する基準点の役割を果たすことができる。
【００３４】
反射膜パターン１３は光を反射させるため、引張器で光反射イメージを獲得するとき、イメージ上で明部（明るい領域、図７〜図９において斜線ない領域で示すもの）を形成する。したがって、反射膜パターン１３は金属材質のように光を反射させることができる材質で形成されてもよく、前記金属材質の具体的な例として、モリブデンまたはタングステンから選択された一つ以上の物質を含んでもよい。
【００３５】
前述したように、蒸着マスク１上に形成された複数の開口部３の整列状態を把握し、これに基づいて引張力を調節して蒸着マスク１の精密度を高めるため、反射膜パターン１３が形成されている蒸着マスク引張用整列基板１０を使用する。
【００３６】
図１〜５を用いて一例として説明された技術による蒸着マスク引張用整列基板とは異なり、本実施形態による蒸着マスク引張用整列基板は光を反射させる反射膜パターン１３が蒸着マスク１の開口部３と対応する領域内にのみ形成され、その他残り領域は光を反射させない光透過領域１２で形成される。
【００３７】
したがって、蒸着マスク１と蒸着マスク引張用整列基板１０を引張器（図示せず）内で互いに重なるように位置させて光を照射し、その反射光を獲得してこれを示すと図７のような形態の反射光イメージを獲得することができる。
【００３８】
本実施形態による蒸着マスク引張用整列基板１０を使用して反射光イメージを獲得する場合、先立って調べた図３〜図５に示す影領域（Ｆ）が形成されない。すなわち、図７および図８に示すように蒸着マスク１一面の基板２により形成された反射領域と整列基板１０の反射膜パターン１３による反射領域との間の境界を明確に認知できるように光透過領域１２すなわち、非反射領域が形成されているため、隣接した反射光による影領域が形成されない。したがって、図７および図８のような境界が明らかな反射光イメージを獲得することができ、これによって図９のように反射光イメージから精密でかつ誤差のない蒸着マスク１の開口部３の境界を定義することができ、境界と境界との間の距離を計算し、蒸着マスク１と蒸着マスク引張用整列基板１０の整列状態を判断してこれを修正することができる。
【００３９】
すなわち、図７および図８に示すように、引張後の蒸着マスク１の整列状態を判断するため、本実施形態による蒸着マスク引張用整列基板１０を蒸着マスク１の背面に密着させた後、開放された蒸着マスク１の開口部３の内側に整列基板１０の光透過領域１２および反射膜パターン１３が位置するように整列させた状態で、微細座標および微細整列のために、光を照射して光反射イメージを獲得する。
【００４０】
このとき、一例として説明された整列基板５とは異なり、本実施形態による蒸着マスク引張用整列基板１０は、所定の間隔でパターン化されて配置され、整列基準点の役割を果たす反射膜パターン１３が形成され、他の領域は光透過領域１２として形成される。これによって獲得される光反射イメージは、図７および図８のように、開口部３内で反射膜パターン１３を光透過領域１２が取り囲む形態で獲得される。
【００４１】
したがって、このような光反射イメージに基づいて図９のように開口部３の境界を明確に判断し、境界間の距離Ｄ５を正確に測定して蒸着マスク１の整列状態を精密に判断することができる。
【００４２】
続いて、図１０を参照すると、蒸着マスク引張用整列基板１０の反射膜パターン１３および光透過領域１２を示す。すなわち、透明基板１１上で光を反射させる反射膜パターン１３が所定の間隔で配置され、反射膜パターン１３が形成された領域では光を反射させる。したがって、光反射イメージ上で反射膜パターン１３は明部で表示される。反面、反射膜パターン１３が形成されていない光透過領域１２では光を透過させるため、光反射イメージ上では暗部で表示される。
【００４３】
このように、本実施形態による蒸着マスク引張用整列基板１０は、一例として説明された整列基板５の光反射および光透過領域と異なるように形成されることによって、これを利用して引張器で蒸着マスク１を引張った後、整列状態を把握するために光反射イメージを撮像する場合、境界が明確な光反射イメージを獲得することができ、安定した位置精密度の蒸着マスクを製作することができる。
【００４４】
続いて、図１１を参照して本発明の一実施形態による蒸着マスク引張用整列基板の製造方法について説明する。図１１は、本発明の一実施形態による蒸着マスク引張用整列基板の製造方法を示す順序図である。
【００４５】
有機物質を蒸着するための蒸着マスクの引張において前記蒸着マスクに形成された複数の開口部を整列するための整列基板を製造する方法であって、本実施形態による蒸着マスク引張用整列基板の製造方法は透明基板を提供するステップと、光を反射するための反射膜パターンを前記透明基板の一側前面のうち前記開口部と対応する位置にのみ形成するステップと、を含む。
【００４６】
まず、透明基板を提供する（Ｓ１０）。透明基板１１は光を通過させる透明な材質で形成され、プラスチックのような多様な材質で形成されてもよい。透明基板１１は、蒸着マスク１と重なるように位置し、蒸着マスク１の位置精密度を判断するための精密な光反射イメージが得られるように、軟性の材質よりは変形が少ない硬性の材質、例えばガラスのような材質で製作されてもよい。前述したように反射膜パターン１３が形成されていない領域は透明な領域で光を通過させるため、光透過領域１２を構成し、引張器上で光反射イメージを獲得するとき、光を反射させないため、光反射イメージ上で暗部（暗い領域、図６〜図１０において斜線で区別して示すもの）を形成する。
【００４７】
続いて、前記透明基板１１の一面に反射膜パターンを形成する（Ｓ２０）。反射膜パターン１３は透明基板１１上に一定のパターンに沿って形成される。反射膜パターン１３は、前述のとおり蒸着マスク１の開口部３と対応する。また、上記図８に示すように前記反射膜パターン１３は、前記開口部３のサイズより小さく形成され、引張器で蒸着マスク１と整列基板１０が正確に整列されているかを判断する基準点の役割を果たすことができる。
【００４８】
反射膜パターン１３は、光を反射させるため、引張器から光反射イメージを獲得するときにイメージ上で明部（明るい領域、図７〜図９において斜線がない領域に示すもの）を形成する。したがって、反射膜パターン１３は、金属材質のように光を反射させることができる材質で形成されてもよく、前記金属材質の具体的な例として、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）の金属から選択された一つ以上の物質を含むことができる。また、これ以外にも金属酸化物例えば、アルミニウム酸化物（Ａｌ２Ｏ３）、亜鉛酸化物（ＺｎＯ）、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）またはインジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）のような金属酸化物が使用されてもよい。
【００４９】
透明基板１１上に反射膜パターン１３を形成する方法は、一般的なスピンコーティング、ロールコーティングなどのコーティング方法が使用されてもよく、特に反射膜パターン１３が金属材質で形成される場合にはスパッタリング蒸着などの多様な蒸着方法が使用されてもよい。
【００５０】
本実施形態による蒸着マスク引張用整列基板では、光を反射させる反射膜パターン１３が、蒸着マスク１の開口部３と対応する領域内にのみ形成され、その他残り領域は、光を反射させない光透過領域１２で形成される。すなわち、反射膜パターン１３は、透明基板１１上に所定の形状を有する一定のパターンで形成される。例えば、図６に示すように、反射膜パターン１３は、６角形形状であり、所定の間隔に沿って長四角形態のパターンに配置されてもよく、その他に多様な形態に配置されてもよい。また、反射膜パターン１３は、光反射イメージの獲得において蒸着マスク１の開口部３と反射膜パターン１３を一致させて整列するため、反射膜パターン１３は、開口部３内に位置できるように開口部３のサイズより小さく形成されてもよい。また、図７で説明したように、反射膜パターン１３の各々は、開口部３それぞれの形状と所定の比を有する類似の形態で形成されてもよい。
【００５１】
このように、本実施形態による蒸着マスク引張用整列基板１０は、一例として説明された整列基板５の光反射および光透過領域と異なるように形成される。これを利用して引張器で蒸着マスク１を引張った後、整列状態を把握するために光反射イメージを撮像する場合、境界が明確な光反射イメージを獲得することができ、安定した位置精密度の蒸着マスクを製作することができる。
【００５２】
続いて、図１２を参照して本発明の実施形態による蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法について説明する。図１２は、本発明の一実施形態による蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法を示す順序図である。
【００５３】
本実施形態による蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法は、有機物質を蒸着するために複数の開口部が形成された蒸着マスクを提供する第１ステップと、前記蒸着マスクの開口部と対応する位置にのみ反射膜パターンが形成された蒸着マスク引張用整列基板を提供する第２ステップと、前記蒸着マスクを引張る第３ステップと、蒸着マスク引張装置内で前記開口部の中心と前記反射膜パターンの中心を一致させる第４ステップと、引張後の前記蒸着マスクの開口部の中心と前記反射膜パターンの中心間の整列状態を示す反射光イメージを獲得する第５ステップと、前記反射光イメージを分析して引張後の前記蒸着マスクの開口部と前記反射膜パターンとの間の整列状態を判断する第６ステップを含み、前記反射光イメージ上で前記整列された開口部と前記反射膜パターンとの間の第１領域は暗部を構成する。
【００５４】
本発明の他の実施形態による蒸着マスク引張用整列基板を利用した蒸着マスク引張方法は、蒸着マスクに形成された複数の開口部の各中心と蒸着マスク引張用整列基板に形成された複数の反射膜パターンの各中心との間の整列状態を示すように前記開口部および前記反射膜パターンに光を入射させ、それに反射された光を獲得して反射光イメージを獲得するステップと、前記反射光イメージを分析して引張後の前記開口部と前記反射膜パターンとの間の整列状態を判断するステップを含み、前記反射光イメージは前記整列された開口部の外郭線と前記反射膜パターンの外郭線との間の領域で定義される第１領域と、前記第１領域を除いた他の領域である第２領域を含み、前記反射光イメージ上で前記第１領域は暗部を構成し、第２領域は明部を構成する。
【００５５】
まず、引張器による引張の対象である蒸着マスクと、前記蒸着マスクの引張後の引張状態および整列状態を判断する基準になる蒸着マスク引張用整列基板とを提供する（Ｓ１１０，Ｓ１２０）。
【００５６】
前述したように、精密度高くかつ堅い蒸着マスクを構成する方法であって、金属薄板に引張力（ｔｅｎｓｉｏｎ）を付与した状態で支持フレームに固定する方法が使用される。このような方法を使う場合、変形が生じにくく、垂れる現象が生じないため、耐久性が向上し、反復使用後にも精密な有機物蒸着が可能である。一方、このように蒸着マスクに引張力を印加するとき、引張状態と蒸着マスク上に形成された開口部のパターンが所望するとおりに引張および整列されているのかを判断するために蒸着マスク引張用整列基板が提供される。蒸着マスク引張用整列基板については前述した実施形態で説明した内容と同様であるため、重複する説明は省略する。
【００５７】
続いて、引張器内で蒸着マスクを引張って追って蒸着マスクで反復使用時に支持フレーム上で変形がないようにする（Ｓ１３０）。前記引張過程は蒸着マスクの一方向に沿って行われてもよく、一方向とは異なる複数の方向に沿って繰り返して数回行われてもよい。
【００５８】
続いて、引張器内で前記開口部の中心と前記反射膜パターンの中心が一致するように整列する（Ｓ１４０）。前述した図７で獲得された反射光イメージのように、蒸着マスク１の開口部３と前記蒸着マスク引張用整列基板１０の反射膜パターン１３の中心が互いに一致するように整列する。
【００５９】
引張器内で前記開口部の中心と前記反射膜パターンの中心が一致するように整列するステップは、一軸を基準とし、前記開口部の幅を測定して前記開口部の幅の中心点を判断するステップと、前記一軸を基準とし、前記反射膜パターンの幅を測定して前記反射膜パターンの幅の中心点を判断するステップと、前記開口部の幅の中心点と前記反射膜パターンの幅の中心点が一致するように前記蒸着マスクまたは前記蒸着マスク引張用整列基板を移動させるステップと、を含んでもよい。また、引張器内で前記開口部の中心と前記反射膜パターンの中心が一致するように整列するステップは、前記一軸と他の軸を基準として、前記ステップ全体を順次繰り返して行ってもよい。すなわち、一軸を基準として幅を測定し、幅の中心点を判断する過程を経て整列するステップが行われた後、前記一軸と他の軸例えば、前記一軸と直交する他軸を基準として幅を定め、幅の中心点を判断する過程を経て整列するステップがさらに行われてもよい。
【００６０】
続いて、引張後の前記蒸着マスクの開口部の中心と前記反射膜パターンの中心との間の整列状態を示す反射光イメージを獲得し（Ｓ１５０）、前記反射光イメージを分析して引張後の前記蒸着マスクの開口部と前記反射膜パターンとの間の整列状態を判断する（Ｓ１６０）。反射光イメージの例は図７〜図９で調べたものと同様である。
【００６１】
一方、図３〜図５に示すように、一例として説明された反射光イメージの場合には蒸着マスク１上の開口部３領域で反射する光と整列基板５の光反射領域８から反射する光が互いに干渉および相殺し、影領域（Ｆ）を形成するため、開口部３の境界が不明であるという問題がある。
【００６２】
反面、本実施形態による引張方法では蒸着マスク引張用整列基板１０を利用して引張状態を明確に判断することができる。すなわち、蒸着マスク引張用整列基板１０で、反射光イメージ上で開口部の境界線と反射膜パターンとの間の第１領域が暗部を構成するように、光を反射しない素材で前記第１領域を形成する。具体的に第１領域は前記整列された開口部の外郭線と前記反射膜パターンの外郭線との間の領域で定義され、第１領域は蒸着マスク引張用整列基板１０の透明基板１１で維持されることができる。したがって、第１領域は光を反射せず透過させるため、反射光イメージ上で暗部を構成する。前記反射光イメージは第１領域を除いた他の領域である第２領域をさらに含み、前記第２領域は明部を構成する。
【００６３】
このように、本実施形態による引張方法では獲得される光反射イメージで光を反射させる領域が互いに分離(離隔)するようにすることによって、影領域が形成されないため、反射光イメージ上で開口部３の境界が明確であるので、引張器でこれを認知して蒸着マスクと蒸着マスク引張用整列基板の整列状態を明確に判断することができる。
【００６４】
蒸着マスクと蒸着マスク引張用整列基板の整列状態を判断するステップは、一軸を基準として前記開口部の幅を測定して前記開口部の幅の中心点を判断するステップと、前記一軸を基準として前記反射膜パターンの幅を測定し、前記反射膜パターンの幅の中心点を判断するステップと、前記開口部の幅の中心点と前記反射膜パターンの幅の中心点が一致するかを判断するステップと、を含んでもよい。また、より精密に幅および中心点を判断して整列状態を判断するため、蒸着マスクと蒸着マスク引張用整列基板の整列状態を判断するステップは、前記一軸と他の軸を基準として、前記ステップ全体を繰り返し行ってもよい。
【００６５】
整列状態を判断した後、前記開口部の中心と前記反射膜パターンの中心が一致しない場合、一致しない軸を基準として前記引張器で前記蒸着マスクを引張るステップ（Ｓ１３０）から前記反射光イメージを分析して引張後の前記蒸着マスクの開口部と前記反射膜パターンとの間の整列状態を判断するステップ（Ｓ１６０）を繰り返し行うステップをさらに含んでもよい。
【００６６】
以上添付する図面を参照して本発明の実施形態について説明したが、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者は、本発明が、その技術的思想や必須の特徴を変更しない範囲で他の具体的な形態で実施され得ることを理解できるものである。したがって、上記実施形態はすべての面で例示的なものであり、限定的でないものと理解しなければならない。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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