(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学素子を保持する光学素子保持装置であって、
前記光学素子に設けられる第１の被保持部を保持する第１の保持機構と、
前記光学素子に設けられる第２の被保持部を保持する第２の保持機構と、
前記光学素子に設けられる第３の被保持部を保持する第３の保持機構と、
前記光学素子の位置を調整するための第１駆動力及び前記光学素子の形状を調整するための第２駆動力を前記第１の保持機構、前記第２の保持機構及び前記第３の保持機構の少なくとも１つに付与する駆動装置とを備え、
前記第１の保持機構、前記第２の保持機構及び前記第３の保持機構の少なくとも１つは、リンク機構を有し、
前記リンク機構は、前記第１の被保持部、前記第２の被保持部及び前記第３の被保持部の少なくとも１つに、端部が取り付けられる２つのリンク部材の組み合わせを複数備えることを特徴とする光学素子保持装置。
【請求項２】
前記駆動装置は、前記光学素子の位置を調整する場合、前記第１の保持機構、前記第２の保持機構及び前記第３の保持機構のそれぞれに、前記第１駆動力を付与することを特徴とする請求項１に記載の光学素子保持装置。
【請求項３】
前記駆動装置は、前記光学素子の形状を調整する場合、前記第１の保持機構、前記第２の保持機構及び前記第３の保持機構のそれぞれに、前記第２駆動力を付与することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学素子保持装置。
【請求項４】
前記リンク機構は、前記第１の保持機構、前記第２の保持機構及び前記第３の保持機構のそれぞれに設けられることを特徴とする請求項１〜請求項３のうち何れか一項に記載の光学素子保持装置。
【請求項５】
前記第１の保持機構は、前記第１の被保持部を複数の自由度の方向に移動させることを特徴とする請求項１〜請求項４のうち何れか一項に記載の光学素子保持装置。
【請求項６】
前記第２の保持機構は、前記第２の被保持部を複数の自由度の方向に移動させ、
前記第３の保持機構は、前記第３の被保持部を複数の自由度の方向に移動させることを特徴とする請求項１〜請求項５のうち何れか一項に記載の光学素子保持装置。
【請求項７】
前記第１の保持機構、前記第２の保持機構及び前記第３の保持機構のそれぞれが備える前記リンク機構は、前記第１の被保持部、前記第２の被保持部及び前記第３の被保持部をそれぞれ６自由度の方向に変位可能であることを特徴とする請求項４に記載の光学素子保持装置。
【請求項８】
前記リンク機構は、２つのリンク部材の組み合わせを３対有することを特徴とする請求項７に記載の光学素子保持装置。
【請求項９】
前記６つのリンク部材のそれぞれは、伸縮可能な伸縮部を有することを特徴とする請求項８に記載の光学素子保持装置。
【請求項１０】
前記駆動装置は、前記光学素子の位置を調整する場合、前記第１の保持機構、前記第２の保持機構及び前記第３の保持機構のそれぞれの前記６つのリンク部材のうち、同一の方向に伸縮する伸縮部を有するリンク部材に前記第１駆動力を付与し、
前記光学素子の形状を調整する場合、前記第１の保持機構、前記第２の保持機構及び前記第３の保持機構のそれぞれの前記６つのリンク部材のうち、少なくとも１つのリンク部材の伸縮部が他のリンク部材の伸縮部とは伸縮方向及び伸縮量のうち少なくとも一方が異なるように前記第２駆動力を付与することを特徴とする請求項９に記載の光学素子保持装置。
【請求項１１】
前記第１の保持機構、前記第２の保持機構及び前記第３の保持機構のそれぞれは、前記第１の被保持部、前記第２の被保持部及び前記第３の被保持部のそれぞれを非接触で支持する磁気浮上機構を有し、
前記駆動装置は、前記第１の被保持部、前記第２の被保持部及び前記第３の被保持部のそれぞれに、磁力を前記第１駆動力及び前記第２駆動力として作用させることを特徴とする請求項１〜請求項１０のうち何れか一項に記載の光学素子保持装置。
【請求項１２】
前記光学素子を収容する筐体と、
前記第１の被保持部、前記第２の被保持部及び前記第３の被保持部を保持する保持部を有し、前記筐体の側壁において前記光学素子と対応する位置に形成された貫通孔に挿通された３つの連結部材とを備え、
前記第１の保持機構、前記第２の保持機構及び前記第３の保持機構のそれぞれは、前記筐体外に配置され、且つ前記連結部材のうち前記筐体の外側に位置する部分を介して前記第１の被保持部、前記第２の被保持部及び前記第３の被保持部を保持することを特徴とする請求項１〜請求項１１のうち何れか一項に記載の光学素子保持装置。
【請求項１３】
前記連結部材は、前記保持部から少なくとも３方向に分岐するとともに、前記筐体の側壁に形成された貫通孔を介して該筐体の外部まで延びる３つの分岐部を有することを特徴とする請求項１２に記載の光学素子保持装置。
【請求項１４】
複数の光学素子と、
該各光学素子のうち少なくとも一つの光学素子を保持する請求項１〜請求項１３のうち何れか一項に記載の光学素子保持装置と
を備えたことを特徴とする光学系。
【請求項１５】
光源から射出された光を所定のパターンが形成されたマスクへ導く照明光学系と、
前記マスクを介した光を感光性材料が塗布された基板に照射する投影光学系とを備え、
前記照明光学系及び前記投影光学系のうち少なくとも一方は、請求項１４に記載の光学系により構成されることを特徴とする露光装置。
【請求項１６】
リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、
前記リソグラフィ工程は、請求項１５に記載の露光装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子を保持するための光学素子保持装置、該光学素子保持装置を備える光学系、該光学系を備える露光装置、及び該露光装置を用いたデバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体集積回路などのマイクロデバイスを製造するための露光装置は、パターン像を感光性材料の塗布されたウエハ、ガラスプレートなどの基板に投影するための投影光学系を備えている。このような投影光学系には、鏡筒と、該鏡筒内に収容される反射ミラーなどの光学素子とが設けられている。また、投影光学系には、光学素子を６自由度方向の位置及び姿勢を調整可能な態様で保持する光学素子保持装置が設けられている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
上記光学素子保持装置は、鏡筒の側壁に支持される円環状のアウターリングと、該アウターリングに支持されるリンク機構と、該リンク機構を介してアウターリングに支持される円環状のインナーリングとを備えている。そして、このインナーリングは、周方向において等間隔に配置された複数の保持部を介して光学素子を保持するようになっている。また、リンク機構は、インナーリングをアウターリングに対して６自由度方向に移動させるべく駆動するようになっている。そのため、光学素子保持装置に保持される光学素子は、その位置がリンク機構の駆動によって調整されるようになっていた。
【特許文献１】特開２００５−２７６９３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上記光学素子保持装置に保持される光学素子は、該光学素子に対して不均一な熱膨張が局所的に加わった場合に、変形することがある。このように光学素子が変形した場合には、投影光学系の光学特性が変わってしまい、基板に対するパターン像の投影不良が発生する虞がある。そのため、上記光学素子保持装置では、光学素子の形状を積極的に変形させる変形機構を、光学素子の位置及び姿勢を調整させる調整機構とは別に設ける必要がある。しかしながら、こうした光学素子保持装置では、変形機構と、調整機構とをそれぞれ設けた構成であるため、装置全体が複雑になるという問題があった。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は装置全体の複雑化を抑制しつつ、光学素子の位置及び形状の調整を行うことができる光学素子保持装置、光学系、露光装置、デバイスの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するため、本発明は、実施形態に示す図１〜図１２に対応付けした以下の構成を採用している。
本発明の光学素子保持装置は、光学素子（２０，２１，２２，２６，２７，２８，２９，３０，３１）を保持する光学素子保持装置（４０）であって、前記光学素子（２０，２１，２２，２６，２７，２８，２９，３０，３１）の第１の被保持部（４１）を保持する第１の保持機構（５１）と、前記光学素子（２０，２１，２２，２６，２７，２８，２９，３０，３１）の第２の被保持部（４２）を保持する第２の保持機構（５２）と、前記光学素子（２０，２１，２２，２６，２７，２８，２９，３０，３１）の第３の被保持部（４３）を保持する第３の保持機構（５３）と、前記光学素子（２０，２１，２２，２６，２７，２８，２９，３０，３１）の位置を調整するための第１駆動力及び前記光学素子（２０，２１，２２，２６，２７，２８，２９，３０，３１）の形状を調整するための第２駆動力を前記第１の保持機構（５１）、前記第２の保持機構（５２）及び前記第３の保持機構（５３）の少なくとも１つに付与する駆動装置（１８）とを備え、前記第１の保持機構（５１）、前記第２の保持機構（５２）及び前記第３の保持機構（５３）の少なくとも１つは、リンク機構（５４，５５，５６）を有し、前記リンク機構（５４，５５，５６）は、前記第１の被保持部（４１）、前記第２の被保持部（４２）及び前記第３の被保持部（４３）の少なくとも１つに、端部が取り付けられる２つのリンク部材（５７，５７）の組み合わせを複数備えることを要旨とする。
【０００７】
上記構成によれば、第１駆動力が第１の保持機構、第２の保持機構、及び第３の保持機構のうち少なくとも一つに付与されることにより、３つの保持機構に保持される光学素子の位置が調整される。また、第２駆動力が第１の保持機構、第２の保持機構、及び第３の保持機構のうち少なくとも一つに付与されることにより、３つの保持機構に保持される光学素子の形状が調整される。すなわち、光学素子の位置を調整させための機構と、光学素子の形状を調整させるための機構とを個別に設けることなく、光学素子の位置及び形状の調整が実行可能である。したがって、装置全体の複雑化を抑制しつつ、光学素子の位置及び形状の調整を行うことができる。
【０００８】
なお、本発明をわかりやすく説明するために実施形態を示す図面の符号に対応づけて説明したが、本発明が実施形態に限定されるものではないことは言うまでもない。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
（第１の実施形態）
以下に、本発明を具体化した第１の実施形態について図１〜図６に基づき説明する。
図１に示すように、本実施形態の露光装置１１は、波長が１００ｎｍ程度以下の軟Ｘ線領域である極端紫外光、即ちＥＵＶ（Extreme Ultraviolet ）光を露光光として用いるＥＵＶ露光装置であって、内部が真空雰囲気となるチャンバ１２（図１では二点鎖線で示す。）内に設置されている。この露光装置１１は、露光光源１３と、照明光学系１４と、所定のパターンが形成された反射型のレチクルＲを保持するレチクルステージ１５と、投影光学系１６と、表面にレジストなどの感光性材料が塗布されたウエハＷを保持するウエハステージ１７と、露光装置１１全体を制御するための制御装置１８とを備えている。なお、本実施形態の露光光源としては、レーザ励起プラズマ光源が用いられており、該露光光源１３は、波長が５〜２０ｎｍ（例えば１３．５ｎｍ）となるＥＵＶ光を射出する。
【００１０】
照明光学系１４は、チャンバ１２の内部と同様に、内部が真空雰囲気に設定された第１鏡筒１９（図１では一点鎖線で示す。）を備えている。この第１鏡筒１９内には、露光光源１３側から順に配置された光学素子としての反射型のコリメート用ミラー２０、コンデンサミラー２１及び一対のフライアイミラー（図示略）が収容されている。これら各ミラー２０，２１及び一対のフライアイミラーの反射面には、露光光ＥＬを反射する反射層がそれぞれ形成されている。そして、一対のフライアイミラーで反射された露光光ＥＬは、一対のフライアイミラーよりもレチクルＲ側に配置された折り返し用の反射ミラー２２により、レチクルステージ１５に保持されるレチクルＲに導かれる。
【００１１】
レチクルステージ１５は、後述する投影光学系１６の物体面側に配置されており、レチクルＲを静電吸着する静電チャック２３と、レチクルＲをＹ軸方向に所定ストロークで移動させるレチクルステージ駆動部２４とを備えている。このレチクルステージ駆動部２４は、レチクルＲをＸ軸方向及びθｚ方向（Ｚ軸周りの回転方向）にも微小量移動させるように構成されている。そして、レチクルＲにおいては上記パターンが形成された被照射面（即ち、図１における下面）で反射された露光光ＥＬは、投影光学系１６に導かれる。
【００１２】
投影光学系１６は、チャンバ１２の内部と同様に、内部が真空雰囲気に設定された第２鏡筒２５（図１では一点鎖線で示す。）を備えている。この第２鏡筒２５内には、複数枚（本実施形態では６枚）の光学素子としての反射型のミラー２６，２７，２８，２９，３０，３１が収容されている。これら各ミラー２６〜３１のうち投影光学系１６の瞳面Ｐに最も近いミラー（例えば、第１ミラー２６）は、光学素子保持装置４０（図２及び図３参照）を介して第２鏡筒２５に保持されている。そして、物体面側であるレチクルＲ側から導かれた露光光ＥＬは、第１ミラー２６、第２ミラー２７、第３ミラー２８、第４ミラー２９、第５ミラー３０、第６ミラー３１の順に反射され、ウエハステージ１７に保持されるウエハＷに導かれる。なお、各ミラー２６〜３１の反射面には、露光光ＥＬを反射する反射層がそれぞれ形成されている。
【００１３】
ウエハステージ１７は、ウエハＷを静電吸着する静電チャック３２と、投影光学系１６から射出された露光光ＥＬの波面収差を計測するための波面収差測定装置３３と、ウエハＷをＹ軸方向に所定ストロークで移動させるウエハステージ駆動部３４とを備えている。このウエハステージ駆動部３４は、ウエハＷをＸ軸方向及びＺ軸方向にも移動させるように構成されている。また、ウエハステージ１７には、静電チャック３２を保持する不図示のウエハホルダと、該ウエハホルダのＺ軸方向における位置及びθｘ方向、θｙ方向の傾斜角を調整するＺレベリング機構（図示略）とが組み込まれている。さらに、波面収差測定装置３３は、その受光面がウエハＷの表面と同一面内に配置されており、ウエハステージ１７に対して着脱可能に取付けられている。そして、投影光学系１６から射出された露光光ＥＬがウエハＷの被照射面（即ち、図１における上面）を照射することにより、ウエハＷには、レチクルＲ上の上記パターンを所定倍率に縮小したパターン像が投影される。
【００１４】
次に、第２鏡筒２５内に収容される第１ミラー２６を保持するための光学素子保持装置４０について図２〜図６に基づき説明する。
図２〜図４に示すように、光学素子保持装置４０は、第１ミラー２６の周面に接着剤を介して接着される複数（本実施形態では３つ）の被保持部４１，４２，４３を備え、該各被保持部４１〜４３は、第１ミラー２６の周方向において互いに等間隔に離間した位置にそれぞれ配置されている。また、各被保持部４１〜４３の−Ｚ方向側（図４では下側）には、平板状をなす連結部材４４がそれぞれ配設されている。被保持部４１〜４３及び連結部材４４には、図４に示すように、該連結部材４４の中央部からＺ軸方向（図４では上下方向）に延設される仮想線Ｓ（図２及び図４では一点鎖線で示す。）と対応する位置に挿通孔４５，４６がそれぞれ貫通形成されている。そして、各連結部材４４は、固定ボルト４７の雄ねじ部４７ａが各挿通孔４５，４６内を挿通し、さらに、雄ねじ部４７ａの先端が連結部材４４の−Ｚ方向側に配置されたナット４８内に螺合されることにより、被保持部４１〜４３に固定されている。なお、被保持部４１〜４３と該被保持部４１〜４３に個別対応する連結部材４４との間には、両者の当接状態の安定性を高めることを目的としてワッシャ４９がそれぞれ介在している。
【００１５】
また、図２及び図３に示すように、光学素子保持装置４０は、第２鏡筒２５の側壁２５ａに支持され、且つ第１ミラー２６の外径よりも大きな内径を有する円環状のベース部材５０を備えている。このベース部材５０は、その配置態様が第１ミラー２６の−Ｚ方向側で水平状態（ＸＹ平面と平行な状態）となるように調整されている。また、ベース部材５０は、被保持部４１〜４３を介して第１ミラー２６を保持するための第１の保持機構５１、第２の保持機構５２及び第３の保持機構５３を支持している。すなわち、第１の保持機構５１は、第１の被保持部４１と周方向において同一位置に配置されると共に、第２の保持機構５２は、第２の被保持部４２と周方向において同一位置に配置され、さらに、第３の保持機構５３は、第３の被保持部４３と周方向において同一位置に配置されている。
【００１６】
各保持機構５１〜５３は、図３及び図４に示すように、ベース部材５０の＋Ｚ方向側（図４では上側）に配置されるリンク機構５４，５５，５６をそれぞれ備えており、各リンク機構５４〜５６は、各被保持部４１〜４３に固定される連結部材４４をそれぞれ保持している。なお、各リンク機構５４〜５６は、それぞれ同じ構成を有しているため、明細書の説明理解の便宜上、第１の保持機構５１のリンク機構５４のみを説明し、他のリンク機構５５，５６については説明を省略する。
【００１７】
リンク機構５４は、第１の被保持部４１をベース部材５０に対して、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、Ｘ軸周りの回転方向（θｘ方向ともいう。）、Ｙ軸周りの回転方向（θｙ方向ともいう。）及びＺ軸周りの回転方向（θｚ方向ともいう。）の６自由度方向に移動させるように構成されている。すなわち、リンク機構５４は、２本のリンク部材５７からなるリンク対５８を複数（本実施形態では３つ）備え、該各リンク対５８は、固定ボルト４７を中心とした周方向において互いに等間隔に離間した位置にそれぞれ配置されている。
【００１８】
また、各リンク部材５７は、図５に示すように、それぞれの長手方向における両端が第１の被保持部４１に固定される連結部材４４及びベース部材５０に対して球面対偶をなすように形成されている。具体的には、各リンク部材５７は、一方向に延びる軸部５７ａをそれぞれ備えている。そして、各リンク部材５７は、それぞれの軸部５７ａの一端（図４では下端）に設けられたボールジョイント５７ｂを介してベース部材５０に取付けられると共に、それぞれの軸部５７ａの他端（図４では上端）に設けられた図示しないボールジョイントを介して連結部材４４に取付けられている。また、各リンク部材５７の各軸部５７ａ内には、それぞれの長手方向における長さを変更させるべく伸縮駆動するアクチュエータ６０（例えば圧電素子、図５にて破線で示す。）が設けられている。そして、リンク機構５４は、該リンク機構５４を構成する各リンク部材５７のアクチュエータ６０が個別に伸縮駆動することで第１の被保持部４１を任意の方向に変位させることが可能となっている。
【００１９】
そこで次に、以上のように構成された露光装置１１における光学素子保持装置４０の作用について以下説明する。
さて、露光装置１１において、投影光学系１６のメンテナンスを開始する場合、まず、波面収差測定装置３３からの入力信号が入力された制御装置１８によって、投影光学系１６の波面収差が検出される。すると、検出された波面収差に対応した第１ミラー２６の移動量が、制御装置１８によって設定され、該制御装置１８からは、該移動量に対応した第１駆動力、即ち制御信号が各保持機構５１〜５３に対して出力される。
【００２０】
第１ミラー２６を＋Ｘ方向（図３における下側）又は−Ｘ方向（図３における上側）に移動させる場合、各保持機構５１〜５３は、各被保持部４１〜４３の＋Ｘ方向又は−Ｘ方向への移動量が同一量となるようにそれぞれ駆動する。例えば、第１ミラー２６を＋Ｘ方向に移動させる場合、第１の保持機構５１において、該第１の保持機構５１によって保持される連結部材４４に直交する仮想線Ｓを含むＹＺ平面よりも−Ｘ方向側に位置するリンク部材５７のアクチュエータ６０が伸張すると共に、ＹＺ平面よりも＋Ｘ方向側に位置するリンク部材５７のアクチュエータ６０が収縮する。また、第２の保持機構５２において、該第２の保持機構５２によって保持される連結部材４４に直交する仮想線Ｓを含むＹＺ平面よりも−Ｘ方向側に位置するリンク部材５７のアクチュエータ６０が伸張すると共に、ＹＺ平面よりも＋Ｘ方向側に位置するリンク部材５７のアクチュエータ６０が収縮する。そして、第３の保持機構５３において、該第３の保持機構５３によって保持される連結部材４４に直交する仮想線Ｓを含むＹＺ平面よりも−Ｘ方向側に位置するリンク部材５７のアクチュエータ６０が伸張すると共に、ＹＺ平面よりも＋Ｘ方向側に位置するリンク部材５７のアクチュエータ６０が収縮する。すると、各被保持部４１〜４３が＋Ｘ方向にそれぞれ移動し、第１ミラー２６が＋Ｘ方向に移動する。なお、第１ミラー２６を−Ｘ方向に移動させる場合は、各アクチュエータ６０のうち、第１ミラー２６を＋Ｘ方向に移動させる際に伸張したアクチュエータ６０を収縮させると共に、第１ミラー２６を＋Ｘ方向に移動させる際に収縮したアクチュエータ６０を伸張させる。
【００２１】
また、第１ミラー２６を＋Ｙ方向（図３における右側）又は−Ｙ方向（図３における左側）に移動させる場合、各保持機構５１〜５３は、各被保持部４１〜４３の＋Ｙ方向又は−Ｙ方向への移動量が同一量となるようにそれぞれ駆動する。例えば、第１ミラー２６を＋Ｙ方向に移動させる場合、第１の保持機構５１において、該第１の保持機構５１によって保持される連結部材４４に直交する仮想線Ｓを含むＸＺ平面よりも−Ｙ方向側に位置するリンク部材５７のアクチュエータ６０が伸張すると共に、ＸＺ平面よりも＋Ｙ方向側に位置するリンク部材５７のアクチュエータ６０が収縮する。また、第２の保持機構５２において、該第２の保持機構５２によって保持される連結部材４４に直交する仮想線Ｓを含むＸＺ平面よりも−Ｙ方向側に位置するリンク部材５７のアクチュエータ６０が伸張すると共に、ＸＺ平面よりも＋Ｙ方向側に位置するリンク部材５７のアクチュエータ６０が収縮する。そして、第３の保持機構５３において、該第３の保持機構５３によって保持される連結部材４４に直交する仮想線Ｓを含むＸＺ平面よりも−Ｙ方向側に位置するリンク部材５７のアクチュエータ６０が伸張すると共に、ＸＺ平面よりも＋Ｙ方向側に位置するリンク部材５７のアクチュエータ６０が収縮する。すると、各被保持部４１〜４３が＋Ｙ方向に移動し、第１ミラー２６が＋Ｙ方向に移動する。なお、第１ミラー２６を−Ｙ方向に移動させる場合は、各アクチュエータ６０のうち、第１ミラー２６を＋Ｙ方向に移動させる際に伸張したアクチュエータ６０を収縮させると共に、第１ミラー２６を＋Ｘ方向に移動させる際に収縮したアクチュエータ６０を伸張させる。
【００２２】
また、第１ミラー２６を＋Ｚ方向（図３における紙面手前側方向）又は−Ｚ方向（図３における紙面奥手側方向）に移動させる場合、各保持機構５１〜５３は、各被保持部４１〜４３の＋Ｚ方向又は−Ｚ方向への移動量が同一量となるようにそれぞれ駆動する。例えば、第１ミラー２６を＋Ｚ方向に移動させる場合、全てのリンク部材５７のアクチュエータ６０が同一量だけ伸張する。すると、各被保持部４１〜４３が同一量だけ＋Ｚ方向に移動し、第１ミラー２６が＋Ｚ方向に移動する。一方、第１ミラー２６を−Ｚ方向に移動させる場合、全てのリンク部材５７のアクチュエータ６０が同一量だけ収縮する。すると、各被保持部４１〜４３が同一量だけ−Ｚ方向に移動し、第１ミラー２６が−Ｚ方向に移動する。
【００２３】
また、第１ミラー２６をＸ軸周りに＋θｘ方向に回転させる場合、各保持機構５１〜５３は、第２の被保持部４２及び第３の被保持部４３の＋Ｚ方向への移動量が第１の被保持部４１の＋Ｚ方向への移動量よりも多くなるようにそれぞれ駆動する。この際、第１の保持機構５１は、第１の被保持部４１を−Ｚ方向に移動させてもよいし、第１の被保持部４１をＺ軸方向に移動させなくてもよい。一方、第１ミラー２６をＸ軸周りに−θｘ方向に回転させる場合、各保持機構５１〜５３は、第１の被保持部４１の＋Ｚ方向への移動量が第２の被保持部４２及び第３の被保持部４３の＋Ｚ方向への移動量よりも多くなるようにそれぞれ駆動する。この際、第２の保持機構５２及び第３の保持機構５３は、第２の被保持部４２及び第３の被保持部４３を−Ｚ方向に移動させてもよいし、第２の被保持部４２及び第３の被保持部４３をＺ軸方向に移動させなくてもよい。
【００２４】
また、第１ミラー２６をＹ軸周りに＋θｙ方向に回転させる場合、各保持機構５１〜５３は、第２の被保持部４２の＋Ｚ方向への移動量を最も少なくすると共に、第１の被保持部４１の＋Ｚ方向への移動量を２番目に少なく、さらに、第３の被保持部４３の＋Ｚ方向への移動量を最も多くするようにそれぞれ駆動する。すなわち、第３の被保持部４３が、各被保持部４１〜４３の中で最も＋Ｚ方向側に配置されると共に、第２の被保持部４２が、各被保持部４１〜４３の中で最も−Ｚ方向側に配置される。さらに、第１の被保持部４１は、Ｚ軸方向において第２の被保持部４２及び第３の被保持部４３の中間位置に配置される。一方、第１ミラー２６をＹ軸周りに−θｙ方向に回転させる場合、各保持機構５１〜５３は、第３の被保持部４３の＋Ｚ方向への移動量を最も少なくすると共に、第１の被保持部４１の＋Ｚ方向への移動量を２番目に少なく、さらに、第２の被保持部４２の＋Ｚ方向への移動量を最も多くするようにそれぞれ駆動する。
【００２５】
また、第１ミラー２６をＺ軸周りに＋θｚ方向又は−θｚ方向に回転させる場合、各保持機構５１〜５３は、第１ミラー２６を中心とした周方向一方側又は周方向他方側に各被保持部４１〜４３を移動させるようにそれぞれ駆動する。この際、各被保持部４１〜４３の移動量、即ち回動量は、同一量となる。
【００２６】
ところで、第１ミラー２６の光学特性、即ち投影光学系１６の光学特性を調整するためには、第１ミラー２６の位置や姿勢を調整するだけではなく、第１ミラー２６の形状を調整、即ち変形させることがある。そこで、第１ミラー２６の形状を調整する際の作用のうち、第１ミラー２６の中心が凸又は凹となるように該第１ミラー２６を変形させる際の作用について説明する。
【００２７】
さて、第１ミラー２６の中心が凸となるように第１ミラー２６の形状を調整する場合、制御装置１８からは、第１ミラー２６を所望する形状に変形させるための第２駆動力、即ち制御信号が各保持機構５１〜５３に対して出力される。すると、各保持機構５１〜５３は、各被保持部４１〜４３を径方向内側に移動させるようにそれぞれ駆動する。すなわち、各リンク部材５７のうち、各固定ボルト４７よりも径方向内側に位置するリンク部材５７が収縮すると共に、各固定ボルト４７よりも径方向外側に位置するリンク部材５７が伸張する。すると、各被保持部４１〜４３が径方向内側にそれぞれ移動し、第１ミラー２６は、その径方向における中心が凸となるように変形する。
【００２８】
また、第１ミラー２６の中心が凹となるように第１ミラー２６の形状を調整する場合、制御装置１８からは、第１ミラー２６を所望する形状に変形させるための第２駆動力、即ち制御信号が各保持機構５１〜５３に対して出力される。すると、各保持機構５１〜５３は、各被保持部４１〜４３を径方向外側に移動させるようにそれぞれ駆動する。すなわち、各リンク部材５７のうち、各固定ボルト４７よりも径方向外側に位置するリンク部材５７が収縮すると共に、各固定ボルト４７よりも径方向内側に位置するリンク部材５７が伸長する。すると、各被保持部４１〜４３が径方向内側にそれぞれ移動し、第１ミラー２６は、その径方向における中心が凹となるように変形する。
【００２９】
したがって、本実施形態では、以下に示す効果を得ることができる。
（１）各保持機構５１〜５３は、制御装置１８からの制御情報によって、第１ミラー２６の位置を調整させるべく各被保持部４１〜４３を移動させる。また、各保持機構５１〜５３は、制御装置１８からの制御情報によって、第１ミラー２６の形状を調整させるべく各被保持部４１〜４３のうち少なくとも１つの被保持部を移動させる。すなわち、本実施形態の光学素子保持装置４０では、第１ミラー２６の位置を調整させるための各保持機構５１〜５３を用いて第１ミラー２６の形状の調整が行われる。そのため、第１ミラー２６の位置を調整する機構と第１ミラー２６の形状を調整する機構とを個別に設けた場合と比較して、光学素子保持装置４０の構成を簡略化させることができる。
【００３０】
（２）各保持機構５１〜５３は、第１ミラー２６をベース部材５０に対して任意の方向に移動させることができる。そのため、一方向（例えばＹ軸方向）のみ調整可能な保持機構を備えた場合と比較して、第１ミラー２６の位置の調整を高精度に実行することができる。
【００３１】
（３）もし仮に第２の保持機構５２及び第３の保持機構５３がアクチュエータ６０などの駆動源を有しない構成であるとすると、第１の保持機構５１の駆動のみによって第１ミラー２６の位置の調整及び形状の調整が実行されることになる。こうした光学素子保持装置４０では、第１ミラー２６を複雑に移動させたり、変形させたりすることができない。そこで、本実施形態では、第１ミラー２６を保持する全ての保持機構５１〜５３を用いて第１ミラー２６の位置及び形状が調整される。そのため、１つの保持機構（例えば第１の保持機構５１）のみで第１ミラー２６の位置及び形状を調整する場合と比較して、第１ミラー２６の位置及び形状をより精密に調整することができる。
【００３２】
（４）例えば、第１ミラー２６の一部が熱膨張によって変形し、投影光学系１６の光学特性が変化した場合には、第１ミラー２６の形状を、熱膨張前の第１ミラー２６の形状に戻すように各保持機構５１〜５３をそれぞれ駆動させる。その結果、投影光学系１６の光学特性を、第１ミラー２６の変形前の光学特性に戻すことができる。
【００３３】
（５）一般に、露光光ＥＬは、レチクルＲ側から各ミラー２６〜３１により反射されてウエハＷ側に導かれる過程で第１ミラー２６の側面側の空間を通過することとなる。この点、本実施形態では、第１ミラーの位置及び形状を調整するリンク機構５４〜５６が第１ミラー２６の裏面側（−Ｚ方向側）の空間に配置されている。そのため、リンク機構５４〜５６を第１ミラー２６の側面側の空間に配置した場合と比較して、露光光ＥＬがリンク機構５４〜５６により干渉されることを抑制できる。
【００３４】
（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態を図６及び図７に従って説明する。なお、第２の実施形態は、第１ミラー２６と保持機構５１〜５３との位置関係が第１の実施形態と異なっている。したがって、以下の説明においては、第１の実施形態と相違する部分について主に説明するものとし、第１の実施形態と同一又は相当する部材構成には同一符号を付して重複説明を省略するものとする。
【００３５】
図６及び図７に示すように、本実施形態の光学素子保持装置４０は、第２鏡筒２５の側壁２５ａに支持され、第１ミラー２６とＺ軸方向において略同一位置に配置される３つの保持機構５１〜５３を備えており、該各保持機構５１〜５３は、第１ミラー２６を中心として周方向において互いに等間隔に離間した位置にそれぞれ配置されている。また、各保持機構５１〜５３のリンク機構５４〜５６は、第１ミラー２６の被保持部４１〜４３を、該被保持部４１〜４３の径方向外側に配置される連結部材４４を介してそれぞれ保持している。
【００３６】
各リンク機構５４〜５６は、３対のリンク対５８から構成されており、１つのリンク機構（例えばリンク機構５４）のリンク対５８は、固定ボルト４７を中心とした周方向において互いに等間隔に離間した位置にそれぞれ配置されている。こうした各リンク対５８を構成するリンク部材５７は、それぞれの軸部５７ａの一端に設けられたボールジョイント５７ｂを介して第２鏡筒２５の側壁２５ａに取付けられると共に、それぞれの軸部５７ａの他端に設けられた図示しないボールジョイントを介して連結部材４４に取付けられている。
【００３７】
そして、制御装置１８から第１駆動力、即ち第１ミラー２６を移動させるために必要な制御情報が出力された場合、該制御情報に応じてリンク部材５７毎に設けられたアクチュエータ６０がそれぞれ伸縮駆動する。その結果、各リンク部材５７に保持される第１ミラー２６は、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、θｘ方向、θｙ方向及びθｚ方向の６自由度方向に移動するようになっている。また、制御装置１８から第２駆動力、即ち第１ミラー２６の形状を調整させるために必要な制御情報が出力された場合、該制御情報に応じてリンク部材５７毎に設けられたアクチュエータ６０がそれぞれ伸縮駆動する。その結果、各リンク部材５７に保持される第１ミラー２６は、その形状が上記制御情報に応じた所望の形状に調整されるようになっている。
【００３８】
したがって、本実施形態では、上記第１の実施形態の効果（１）〜（４）に加えて以下に示す効果を得ることができる。
（６）本実施形態では、第１ミラー２６の位置及び形状を調整するリンク機構５４〜５６が第１ミラー２６の側面側の空間に配置されている。そのため、リンク機構５４〜５６を第１ミラー２６の−Ｚ方向側の空間に配置した場合と比較して、第１ミラー２６とＺ軸方向において互いに隣り合う他のミラー（例えば、第６ミラー３１）を、Ｚ軸方向において第１ミラー２６に接近させた位置に配置することができる。
【００３９】
（第３の実施形態）
次に、本発明の第３の実施形態を図８及び図９に従って説明する。なお、第３の実施形態は、保持機構５１〜５３が第２鏡筒２５の外部に配置されている点が第１及び第２の各実施形態と異なっている。したがって、以下の説明においては、第１及び第２の各実施形態と相違する部分について主に説明するものとし、第１及び第２の各実施形態と同一又は相当する部材構成については同一符号を付して重複説明を省略するものとする。
【００４０】
図８及び図９に示すように、本実施形態の第２鏡筒２５には、その側壁２５ａから径方向外側に向けて張り出した円環状の鍔部２５ｂが設けられており、該鍔部２５ｂは、第１ミラー２６よりも−Ｚ方向側に配置されている。また、第２鏡筒２５の側壁２５ａには、第１ミラー２６を中心とした周方向において各被保持部４１〜４３と略同一位置に貫通孔６５がそれぞれ形成されている。これら各貫通孔６５の内側面のうち−Ｚ方向側に位置する部分には、三角錐状の支持部材６６（コロともいう。）がそれぞれ設けられている。
【００４１】
第１ミラー２６に設けられる各被保持部４１〜４３には、第１ミラー２６を中心とした径方向に延びる長尺状の連結部材４４がそれぞれ固定されている。これら各連結部材４４の径方向外側の部分は、貫通孔６５を介して第２鏡筒２５外にそれぞれ突出している。また、各連結部材４４の径方向における中途部分は、貫通孔６５内に配置される支持部材６６にそれぞれ支持されている。
【００４２】
鍔部２５ｂ上には、第１ミラー２６を中心とした周方向において互いに等間隔に離間した位置に配置される３つの保持機構５１〜５３が配置されている。そして、これら各保持機構５１〜５３の各リンク機構５４〜５６は、第２鏡筒２５内から突出する連結部材４４の径方向外側の部分をそれぞれ保持している。すなわち、本実施形態では、第１ミラー２６は、第２鏡筒２５の外側に配置された各保持機構５１〜５３によって保持されている。
【００４３】
そして、各保持機構５１〜５３を構成するリンク部材５７毎のアクチュエータ６０がそれぞれ伸縮駆動することにより、第１ミラー２６は、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、θｘ方向、θｙ方向及びθｚ方向の６自由度方向に移動したり、その形状が調整されたりするようになっている。すなわち、第１の保持機構５１によって保持される第１の被保持部４１を＋Ｚ方向に移動させる場合、第１の保持機構５１の各リンク部材５７のアクチュエータ６０は、それぞれ収縮駆動する。すると、連結部材４４の径方向外側の部分は、−Ｚ方向側に変位する一方、連結部材４４の径方向内側の部分は、＋Ｚ方向側に変位する。その結果、連結部材４４を介して第１の保持機構５１に保持される第１の被保持部４１は、＋Ｚ方向に移動する。なお、第２の保持機構５２及び第３の保持機構５３によって保持される第２の被保持部４２及び第３の被保持部４３を＋Ｚ方向に移動させる場合は、第１の被保持部４１を＋Ｚ方向に移動させる場合とほぼ同等であるため、その説明を省略する。
【００４４】
したがって、本実施形態では、上記各実施形態の効果（１）〜（４）に加えて以下に示す効果を得ることができる。
（７）本実施形態では、第１ミラー２６の位置及び形状を調整する各リンク機構５４〜５６が第２鏡筒２５の外部に配置されている。そのため、各リンク機構５４〜５６を第２鏡筒２５の内部に配置する場合と比較して、各リンク機構５４〜５６の保守及び交換を容易に行うことができる。また、各リンク機構５４〜５６の構成を変更する際に、第２鏡筒２５内に設けられた他の各種ミラー２７〜３１に対する支持構成を変更することが不要となる。
【００４５】
（第４の実施形態）
次に、本発明の第４の実施形態を図１０に従って説明する。なお、第４の実施形態は、各保持機構５１〜５３を構成する連結部材４４が第２鏡筒２５の外部に向けて分岐した構成を有する点が第３の実施形態と異なっている。したがって、以下の説明においては、第３の実施形態と相違する部分について主に説明するものとし、第３の実施形態と同一又は相当する部材構成については同一符号を付して重複説明を省略するものとする。
【００４６】
図１２に示すように、本実施形態の第２鏡筒２５の側壁２５ａにおいて、第１ミラー２６を中心とした周方向において各被保持部４１〜４３と同一位置には、貫通孔６５がそれぞれ形成されている。また、第２鏡筒２５の側壁２５ａにおける周方向において互いに隣り合う貫通孔６５同士の間には、各貫通孔６５よりも大きな開口を有する貫通孔６７がそれぞれ形成されている。
【００４７】
第１ミラー２６に設けられる各被保持部４１〜４３には、連結部材４４がそれぞれ固定されている。これら各連結部材４４は、第１ミラー２６の被保持部４１〜４３に固定される固定部４４ａと、該固定部４４ａから放射状に延設された複数（本実施形態では３つ）の分岐部４４ｂとをそれぞれ有している。具体的には、１つの固定部４４ａから延設された各分岐部４４ｂは、固定部４４ａを中心とした周方向において略１２０度間隔にそれぞれ配置されている。そのため、固定部４４ａは、各分岐部４４ｂの先端部分を結ぶことにより形成される三角形の内側に位置している。
【００４８】
また、各分岐部４４ｂのうち固定部４４ａから第１ミラー２６と中心とした径方向外側に延びる一の分岐部４４ｂの先端は、貫通孔６５を介して第２鏡筒２５の外側にそれぞれ突出している。なお、一の分岐部４４ｂは、貫通孔６５の内周面に当接していない。
【００４９】
また、一の分岐部４４ｂ以外の他の分岐部４４ｂの先端は、一の分岐部４４ｂが挿通する貫通孔６５の周方向における両側に位置する貫通孔６７を介して第２鏡筒２５の外側にそれぞれ突出している。そのため、各貫通孔６７内には、２つの分岐部４４ｂが挿通されることになる。そこで、各他の分岐部４４ｂは、分岐部４４ｂ同士の当接を回避するために、それぞれの長手方向における中途部位、即ち他の分岐部４４ｂ同士が交差する部位がクランク状にそれぞれ形成されている。なお、各分岐部４４ｂの先端部分は、Ｚ方向における位置が互いに同一位置となっている。
【００５０】
そして、各連結部材４４は、第２鏡筒２５の外部に配置される保持機構５１〜５３のリンク機構５４〜５６によってそれぞれ保持されている。具体的に、各リンク機構５４〜５６は、互いに離間した位置に配置される３つのリンク対５８をそれぞれ備えている。そして、各分岐部４４ｂの先端部分は、１つのリンク対５８によってそれぞれ保持されている。
【００５１】
したがって、本実施形態では、上記各実施形態の効果（１）〜（４）及び（６）に加えて以下に示す効果を得ることができる。
（８）本実施形態では、第１ミラー２６の位置及び形状を調整するためのリンク対５８が第２鏡筒２５の周囲に分散して配置されている。そのため、第３の実施形態のように３つのリンク対５８を一箇所に集めてリンク機構５４〜５６、即ち保持機構５１〜５３を構成する場合と比較して、各保持機構５１〜５３の径方向におけるサイズを小型化させることができる。また、鍔部２５ｂ上に配置される各保持機構５１〜５３の径方向におけるサイズが小型化されるため、鍔部２５ｂの径方向におけるサイズも小型化でき、結果として、投影光学系１６を小型化させることができる。
【００５２】
（９）また、連結部材４４は、３箇所で保持され、しかも、固定部４４ａは、連結部材４４が保持される各保持点を結ぶことにより形成される三角形の内側に位置している。そのため、保持機構５１〜５３は、貫通孔６５，６７の内周面に連結部材４４を支持する支持部材を設けなくても、連結部材４４、即ち第１ミラー２６を安定に保持することができる。
【００５３】
なお、上記各実施形態は以下のような別の実施形態に変更してもよい。
・上記各実施形態において、第１ミラー２６の各被保持部を非接触で保持する磁気浮上機構を保持機構として適用してもよい。すなわち、各保持機構には、被保持部４１〜４３をＸ軸方向に移動させるための第１磁力付与部（例えば、電磁石）と、Ｙ軸方向に移動させるための第２磁力付与部と、Ｚ軸方向に移動させるための第３磁力付与部とがそれぞれ設けられている。この場合、第１ミラー２６の各被保持部４１〜４３に固定される各連結部材４４は、磁性材料により構成されることが望ましい。このように構成すると、各磁力付与部で発生させる電磁力を調整することにより、第１ミラー２６を、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、θｘ方向、θｙ方向及びθｚ方向の６自由度方向に移動させることができる。また、第１ミラー２６の形状を調整させることができる。したがって、磁気浮上機構を備える光学素子保持装置であっても、第１ミラー２６を移動させるための機構を用いて、第１ミラー２６の形状を調整させることができる。
【００５４】
・上記各実施形態において、第１ミラー２６を４つ以上の任意数（例えば６つ）の保持機構により保持する構成としてもよい。
・上記各実施形成において、第１ミラー２６の形状を調整は、熱膨張に伴う第１ミラー２６の変形を解消することを目的として実行してもよい。
【００５５】
・上記各実施形態において、アクチュエータ６０は、伸縮駆動するアクチュエータであれば、任意のアクチュエータ（例えば、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical System））であってもよい。
【００５６】
・上記各実施形態において、投影光学系１６を構成する各ミラー２６〜３１のうち最も中間結像面に近い位置に配置されたミラー（例えば第３ミラー２８）を、光学素子保持装置４０によって保持させてもよい。
【００５７】
・上記各実施形態において、投影光学系１６を構成する各ミラー２６〜３１のうち少なくとも２つのミラー（例えば、第１ミラー２６と第２ミラー２７）を、光学素子保持装置４０によって保持してもよい。勿論、全てのミラー２６〜３１を光学素子保持装置４０によって保持してもよい。
【００５８】
・上記各実施形態において、照明光学系１４を構成する各ミラー２０，２１や折り返し用の反射ミラー２２を、光学素子保持装置４０にて保持してもよい。また、こうした露光装置１１としては、投影光学系１６を用いることなく、マスクと基板とを密接させてマスクのパターンを露光するコンタクト露光装置であってもよい。
【００５９】
・上記各実施形態において、露光装置１１は、半導体素子などのマイクロデバイスだけでなく、光露光装置、ＥＵＶ露光装置、Ｘ線露光装置、及び電子線露光装置などで使用されるレチクルまたはマスクを製造するために、マザーレチクルからガラス基板やシリコンウエハなどへ回路パターンを転写する露光装置であってもよい。また、露光装置１１は、液晶表示素子（ＬＣＤ）などを含むディスプレイの製造に用いられてデバイスパターンをガラスプレート上へ転写する露光装置、薄膜磁気ヘッド等の製造に用いられて、デバイスパターンをセラミックウエハ等へ転写する露光装置、及びＣＣＤ等の撮像素子の製造に用いられる露光装置などであってもよい。また、露光装置１１は、縮小露光型の露光装置に限定されるものではなく、例えば等倍露光型、拡大露光型の露光装置であってもよい。
【００６０】
・上記各実施形態の露光装置１１は、マスクと基板とが相対移動した状態でマスクのパターンを基板へ転写し、基板を順次ステップ移動させるスキャニング・ステッパ、及び、マスクと基板とが静止した状態でマスクのパターンを基板へ転写し、基板を順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式のステッパを問わず適用することができる。
【００６１】
・上記各実施形態において、ＥＵＶ光を出力可能な露光光源１３として、放電型プラズマ光源を用いてもよい。
・上記各実施形態において、露光装置１１は、ＥＢ（Electron Beam ）を露光光ＥＬとして用いる露光装置であってもよい。
【００６２】
・上記各実施形態において、露光光源１３は、例えばｇ線（４３６ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）、Ｋｒ２レーザ（１４６ｎｍ）、Ａｒ２レーザ（１２６ｎｍ）等を出力可能な光源であってもよい。また、露光光源１３は、ＤＦＢ半導体レーザまたはファイバレーザから発振される赤外域、または可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（またはエルビウムとイッテルビウムの双方）がドープされたファイバアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を出力可能な光源であってもよい。このような光源を用いる場合、照明光学系１４及び投影光学系１６には、透過型の光学素子が用いられる。このような透過型の光学素子を、光学素子保持装置４０にて保持してもよい。
【００６３】
次に、本発明の実施形態の露光装置１１によるデバイスの製造方法をリソグラフィ工程で使用したマイクロデバイスの製造方法の実施形態について説明する。図１１は、マイクロデバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造例のフローチャートを示す図である。
【００６４】
まず、ステップＳ１０１（設計ステップ）において、マイクロデバイスの機能・性能設計（例えば、半導体デバイスの回路設計等）を行い、その機能を実現するためのパターン設計を行う。引き続き、ステップＳ１０２（マスク製作ステップ）において、設計した回路パターンを形成したマスク（レチクルＲなど）を製作する。一方、ステップＳ１０３（基板製造ステップ）において、シリコン、ガラス、セラミックス等の材料を用いて基板（シリコン材料を用いた場合にはウエハＷとなる。）を製造する。
【００６５】
次に、ステップＳ１０４（基板処理ステップ）において、ステップＳ１０１〜ステップＳ１０４で用意したマスクと基板を使用して、後述するように、リソグラフィ技術等によって基板上に実際の回路等を形成する。次いで、ステップＳ１０５（デバイス組立ステップ）において、ステップＳ１０４で処理された基板を用いてデバイス組立を行う。このステップＳ１０５には、ダイシング工程、ボンティング工程、及びパッケージング工程（チップ封入）等の工程が必要に応じて含まれる。最後に、ステップＳ１０６（検査ステップ）において、ステップＳ１０５で作製されたマイクロデバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経た後にマイクロデバイスが完成し、これが出荷される。
【００６６】
図１２は、半導体デバイスの場合におけるステップＳ１０４の詳細工程の一例を示す図である。
ステップＳ１１１（酸化ステップ）おいては、基板の表面を酸化させる。ステップＳ１１２（ＣＶＤステップ）においては、基板表面に絶縁膜を形成する。ステップＳ１１３（電極形成ステップ）においては、基板上に電極を蒸着によって形成する。ステップＳ１１４（イオン打込みステップ）においては、基板にイオンを打ち込む。以上のステップＳ１１１〜ステップＳ１１４のそれぞれは、基板処理の各段階の前処理工程を構成しており、各段階において必要な処理に応じて選択されて実行される。
【００６７】
基板プロセスの各段階において、上述の前処理工程が終了すると、以下のようにして後処理工程が実行される。この後処理工程では、まず、ステップＳ１１５（レジスト形成ステップ）において、基板に感光性材料を塗布する。引き続き、ステップＳ１１６（露光ステップ）において、上で説明したリソグラフィシステム（露光装置１１）によってマスクの回路パターンを基板に転写する。次に、ステップＳ１１７（現像ステップ）において、ステップＳ１１６にて露光された基板を現像して、基板の表面に回路パターンからなるマスク層を形成する。さらに続いて、ステップＳ１１８（エッチングステップ）において、レジストが残存している部分以外の部分の露出部材をエッチングにより取り去る。そして、ステップＳ１１９（レジスト除去ステップ）において、エッチングが済んで不要となった感光性材料を取り除く。すなわち、ステップＳ１１８及びステップＳ１１９において、マスク層を介して基板の表面を加工する。これらの前処理工程と後処理工程とを繰り返し行うことによって、基板上に多重に回路パターンが形成される。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】第１の実施形態の露光装置を示す概略構成図。
【図２】第１の実施形態の光学素子保持装置を示す一部破断斜視図。
【図３】第１の実施形態の光学素子保持装置を模式的に示す平面図。
【図４】第１の実施形態の光学素子保持装置を模式的に示す側断面図。
【図５】第１の実施形態の光学素子保持装置の一部を示す要部拡大斜視図。
【図６】第２の実施形態の光学素子保持装置を模式的に示す平面図。
【図７】第２の実施形態の光学素子保持装置を模式的に示す側断面図。
【図８】第３の実施形態の光学素子保持装置を模式的に示す平面図。
【図９】第３の実施形態の光学素子保持装置の一部を模式的に示す側断面図。
【図１０】第４の実施形態の光学素子保持装置を模式的に示す平面図。
【図１１】デバイスの製造例のフローチャート。
【図１２】半導体デバイスの場合の基板処理に関する詳細なフローチャート。
【符号の説明】
【００６９】
１１…露光装置、１３…露光光源、１４…照明光学系、１６…投影光学系、１８…駆動装置としての制御装置、１９，２５…筐体としての鏡筒、２５ａ…側壁、２０〜２２，２６〜３１…光学素子としてのミラー、４１…第１の被保持部、４２…第２の被保持部、４３…第３の被保持部、４４…連結部材、４４ａ…保持部としての固定部、４４ｂ…分岐部、５１…第１の保持機構、５２…第２の保持機構、５３…第３の保持機構、５４〜５６…リンク機構、５７…リンク部材、６０…伸縮部としてのアクチュエータ、６５，６７…貫通孔、Ｒ…マスクとしてのレチクル、Ｗ…基板としてのウエハ。
【図１】
0005206132.tif 000002
【図２】
0005206132.tif 000003
【図３】
0005206132.tif 000004
【図４】
0005206132.tif 000005
【図５】
0005206132.tif 000006
【図６】
0005206132.tif 000007
【図７】
0005206132.tif 000008
【図８】
0005206132.tif 000009
【図９】
0005206132.tif 000010
【図１０】
0005206132.tif 000011
【図１１】
0005206132.tif 000012
【図１２】
0005206132.tif 000013