(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、
を用いたことを特徴とする目隠し装置。
【請求項２】
前記フーリエ変換ホログラムは、位相型の計算機ホログラムとして構成されていることを特徴とする請求項１に記載の目隠し装置。
【請求項３】
前記フーリエ変換ホログラムは、窓に貼付されることを特徴とする請求項１又は２に記載の目隠し装置。
【請求項４】
前記フーリエ変換ホログラムは、２枚の透明板で構成した窓の間に挟持されることを特徴とする請求項１又は２に記載の目隠し装置。
【請求項５】
前記フーリエ変換ホログラムは、出入自在に窓を覆うことが可能なスライド式であること特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の目隠し装置。
【請求項６】
前記フーリエ変換ホログラムは、出入自在に窓を覆うことが可能なロールスクリーン式であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の目隠し装置。
【請求項７】
前記フーリエ変換ホログラムのセルは、２０μｍピッチ以下であることを特徴とする請求項２乃至６のいずれかに記載の目隠し装置。
【請求項８】
０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、
を用いた目隠し装置の製造方法であって、
前記フーリエ変換ホログラムは、原版のスタンパーを用いて複製することによって作製される
ことを特徴とする目隠し装置の製造方法。
【請求項９】
０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合には透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、
を用いた目隠し装置の製造方法であって、
前記フーリエ変換ホログラムは、原版をＵＶ樹脂に複製することによって作製される
ことを特徴とする目隠し装置の製造方法。
【請求項１０】
０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、
を用いた目隠し装置の製造方法であって、
前記フーリエ変換ホログラムは、原画をフーリエ変換したフーリエ変換像をステップアンドリピートで露光することによって作製される
ことを特徴とする目隠し装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透過する背景が鮮明に見えない目隠し装置において、特に位相型フーリエ変換ホログラムを用いて、所定位置を通して点光源を観察すると点光源の位置付近に所定の画像又はメッセージが観察できる目隠し装置及び目隠し装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、目隠し装置としては、すりガラス、型ガラス、ブラインド、ロールスクリーン等がある。
【０００３】
また、特許文献１においてはホログラムメガネが提案されている。このホログラムメガネは、図９（ａ）に斜視図を示すような構成になっている。すなわち、メガネフレーム３１の両眼用の枠内には、２つの透過型ホログラム３２、３３が嵌め込まれている。この透過型ホログラム３２、３３を用いたメガネを掛けて図９（ｂ）に示すような小面積の光源３４、３５、３６、３７を含むシーンを見ると、例えば図９（ｃ）に示すように見える。あるいは、光源３４、３５、３６、３７の近傍にパターン「ＮＯＥＬ」３８、３９、４０、４１が重なって見える。すなわち図９（ｂ）の実際のシーンにおける小面積の光源がそれぞれ予め選択されたパターン「ＮＯＥＬ」３８、３９、４０、４１に置き換わったシーンとして見える。このような特性を持つ透過型ホログラム３２、３３としては、計算機ホログラムとして構成された上記パターン「ＮＯＥＬ」のフーリエ変換ホログラム（フラウンホーファーホログラム）が用いられる。
【０００４】
図１０（ａ）はこのような透過型ホログラムの一つの作成方法を示すフローチャートである（特許文献２）。図１０（ｂ）はそのフローチャートを説明するための模式図である。ステップ１０１において、原画像５１が作成される。次に、ステップ１０２において、原画像のフーリエ変換像５２を、計算機を用いて作成する。次に、ステップ１０３で、フーリエ変換像５２を二値以上に多値化して、多値化したフーリエ変換像５３を作成する。そして、ステップ１０４で、再生像のシミュレーションを行う。このシミュレーションは多値化したフーリエ変換像５３に逆フーリエ変換を施し、再生像５４を得て、上述の各工程での処理が適正に行われていたかをチェックするものである。次に、ステップ１０５で、得られた多値化したフーリエ変換像を希望の範囲まで配列する。例えば、二値化されたフーリエ変換像５３を４つ並べて、計算機ホログラム５５を得る。なお、実際には最小単位の画像５３を例えば、縦、横に１０個ずつ配列したりする。次いで、ステップ１０６で、このようにして配列された計算機ホログラム５５の複製用原版を例えば半導体プロセス（フォトリソグラフィとエッチング）を用いて作成する。そして、ステップ１０７で、その複製用原版の凹凸レリーフパターンを例えば紫外線硬化樹脂等に複製して透過型ホログラム３２、３３が得られる。
【０００５】
また、計算機ホログラム（上記多値化したフーリエ変換像５３に対応するＣＧＨ）の作成方法として、例えば、非特許文献１に記載されたようなＧｅｒｃｈｂｅｒｇ−Ｓａｘｔｏｎ反復計算法が知られている。この方法を図１１乃至図１３を参照にして簡単に説明する。
【０００６】
図１１は、計算機ホログラム６０とそれから再現される像領域７０とを模式的に示す図である。計算機ホログラム６０はフーリエ変換ホログラムであり、碁盤目状に配置された縦方向（ｙ軸方向）のピッチ寸法δy 、横方向（ｘ軸方向）のピッチ寸法δx の微小なセル６１の集合体からなり、各セル６１は位相情報のみを持つ。セル６１はｘ軸方向に２m 個、ｙ軸方向に２n 個配置されている。
【０００７】
一方、この計算機ホログラム６０から十分に遠方に配置される像領域７０は、計算機ホログラム６０に対応してｘ軸方向に同じ２m 個、ｙ軸方向に同じ２n 個配置されたセル７１の集合体からなり、各セル７１は縦方向（ｙ軸方向）寸法Δy 、横方向（ｘ軸方向）寸法Δx であり、像領域７０全体のｘ軸方向長さはＬx 、ｙ軸方向長さはＬy である。
【０００８】
なお、像領域７０のｘ軸方向長さＬx 、ｙ軸方向長さＬy は、計算機ホログラム６０のセル６１のそれぞれｘ軸方向寸法δx 、ｙ軸方向寸法δy と関係しており、計算機ホログラム６０からの回折角で表すと（計算機ホログラム６０から十分に遠方の位置に像領域７０があるので、Ｌx 、Ｌy は角度で表現した方がよい。）、Ｌx は空間周波数１／（２δx ）の回折格子の±１次回折光で挟まれる範囲に対応し、Ｌy は空間周波数１／（２δy ）の回折格子の±１次回折光で挟まれる範囲に相当する。これは、計算機ホログラム６０に記録される最大空間周波数がｘ軸方向で１／（２δx ）、ｙ軸方向で１／（２δy ）であることに対応している。
【０００９】
このような配置関係で、計算機ホログラム６０の正面から所定波長の平行光８０が入射すると、計算機ホログラム６０の裏面側に回折光８１が生じ、遠方の像領域７０に計算機ホログラム６０に記録されたパターンが再生される。
【００１０】
ここで、分かりやすくするため、再生像面７０での原画の振幅分布（画素値）をＡIMG （ｘ，ｙ）、再生像面７０での原画の位相分布をφIMG （ｘ，ｙ）、ホログラム面６０での振幅分布をＡHOLO（ｕ，ｖ）、ホログラム面６０での位相分布をφHOLO（ｕ，ｖ）とする。図１２に示すように、ステップ２０１において、再生像面７０領域で、記録する原画の画素値をＡIMG （ｘ，ｙ）として与え、原画の位相分布をランダムな値に初期化して、ステップ２０２で、その初期化した値にフーリエ変換を施す。ステップ２０３で、フーリエ変換で得られたホログラム面６０での振幅分布ＡHOLO（ｕ，ｖ）を１にし、位相分布φHOLO（ｕ，ｖ）を所定の多値化（量子化）する束縛条件が付与される。そのような束縛条件が付与された後、ステップ２０４で、その束縛条件を付与した振幅分布ＡHOLO（ｕ，ｖ）と位相分布φHOLOにフーリエ逆変換が施される。ステップ２０５で、そのフーリエ逆変換で得られた再生像面７０での振幅分布ＡIMG （ｘ，ｙ）が原画の画素値と略等しいと収束判定された場合に、ステップ２０３で多値化（量子化）された位相分布φHOLO（ｕ，ｖ）が計算機ホログラム６０のセル６１に与えられる位相分布となる。ステップ２０５の収束判定で、フーリエ逆変換で得られた振幅分布ＡIMG （ｘ，ｙ）が原画の画素値と等しくないと判定されると、ステップ２０６で、そのフーリエ逆変換で得られた振幅分布ＡIMG （ｘ，ｙ）の代わりに原画の画素値を与え、フーリエ逆変換で得られた位相分布φIMG （ｘ，ｙ）はそのままとする束縛条件が付与される。そのような束縛条件が付与された後、ステップ２０２→２０３→２０４→２０５→２０６のループがステップ２０５の条件が満足されるまで（収束するまで）繰り返され、最終的な所望の計算機ホログラム６０が得られる。
【００１１】
なお、ステップ２０３で位相分布φHOLO（ｕ，ｖ）を多値化する処理を行わず、ステップ２０５の条件が満足された後に、所定の多値化する処理を行うようにしてもよい。
【００１２】
このようにして求めた多値化した位相分布φHOLO（ｕ，ｖ）から、実際のホログラムの深さ分布を求める。位相分布φHOLO（ｕ，ｖ）を、次の式（１）に基づいて、計算機ホログラム６０の深さＤ（ｕ，ｖ）に変換する。
【００１３】
Ｄ（ｕ，ｖ）＝λφHOLO（ｕ，ｖ）／｛２π（ｎ1 −ｎ0 ）｝・・・（１）
ここで、λは使用中心波長、ｎ1 ，ｎ0 は透過型ホログラムを構成する２つの材質の屈折率である。透過型の場合、図１３に断面図を示すように、上記式（１）で求めたＤ（ｕ，ｖ）の深さのレリーフパターン８３を形成することによって計算機ホログラム６０が得られる。図１３の場合は、φHOLO（ｕ，ｖ）を０，π／２，π，３π／２の４段階に多値化した例である。なお、上記のホログラム面６０での座標（ｕ，ｖ）は、再生像面７０での座標（ｘ，ｙ）と区別するためのものであり、座標軸の方向としては、ｕ軸方向はｘ軸方向に、ｖ軸方向はｙ軸方向に対応する。
【特許文献１】米国特許第５５４６１９８号明細書
【特許文献２】特開平１０−１５３９４３号公報
【非特許文献１】日本光学会（応用物理学会）主催 第２２回冬期講習会テキスト「ホログラムと回折型光学素子−基礎理論から産業応用まで−」ｐｐ．３６〜３９
【非特許文献２】辻内順平著「物理学選書２２．ホログラフィー」ｐｐ．３３〜３６（（株）裳華房発行（１９９７年１１月５日））
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかしながら、これまでに提案されている上記従来の目隠し装置では、光学的に、意匠性を備えたものではなく、ただ単に透過する背景が鮮明に見えないようにした単一目的のものであり、見た目に平凡で面白みのないものが多い。また光学的な情報の伝達も不可能であった。
【００１５】
また、目隠し装置にホログラムを用いて点光源を所望のパターンに変換するものにおいては、大型化が極めて難しいため現在大型のものは作成されておらず、その製造方法も確立されていない。
【００１６】
本発明は従来技術のこのような問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、光学的に、意匠性を備え、見た目に面白みがあり、また光学的な情報の伝達も可能となり、様々な用途に適用できる目隠し装置及び目隠し装置の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の目隠し装置は、上記課題を解決するものであって、０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、を用いたことを特徴とする。
【００１８】
また、前記フーリエ変換ホログラムは、位相型の計算機ホログラムとして構成されていることを特徴とする。
【００１９】
また、前記フーリエ変換ホログラムは、窓に貼付されることを特徴とする。
【００２０】
また、前記フーリエ変換ホログラムは、２枚の透明板で構成した窓の間に挟持されることを特徴とする。
【００２１】
また、前記フーリエ変換ホログラムは、出入自在に窓を覆うことが可能なスライド式であること特徴とする。
【００２２】
また、前記フーリエ変換ホログラムは、出入自在に窓を覆うことが可能なロールスクリーン式であることを特徴とする。
【００２３】
また、前記フーリエ変換ホログラムは、２０μｍピッチ以下であることを特徴とする。
【００２４】
さらに、本発明は、上記課題を解決する方法であって、０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、を用いた目隠し装置の製造方法であって、前記フーリエ変換ホログラムは、原版のスタンパーを用いて複製することによって作製されることを特徴とする。
【００２５】
また、０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、を用いた目隠し装置の製造方法であって、前記フーリエ変換ホログラムは、原版をＵＶ樹脂に複製することによって作製されることを特徴とする。
【００２６】
また、０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、を用いた目隠し装置の製造方法であって、前記フーリエ変換ホログラムは、原画をフーリエ変換したフーリエ変換像をステップアンドリピートで露光することによって作製されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２７】
本発明の目隠し装置によれば、０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、を用いたので、光学的に、意匠性を備え、見た目に面白みがあり、また光学的な情報の伝達も可能となる。
【００２８】
また、本発明は、０次光の回折効率を３０％以下にすることによって光源側から見た場合に透過する背景が鮮明に見えないように目隠しすると共に、前記光源側の点光源を前記光源とは反対側から透過して見た場合及び前記光源とは反対側の点光源を前記光源側から透過して見た場合に所望のパターンに変換する１枚のレリーフ型のフーリエ変換ホログラム、を用いた目隠し装置の製造方法であって、前記フーリエ変換ホログラムは、原版のスタンパーを用いて複製する、原版をＵＶ樹脂に複製する、又は原画をフーリエ変換したフーリエ変換像をステップアンドリピートで露光することによって作製されるので、大型の目隠し装置が作成できるようになり、用途が拡大し、様々なものに適用できるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
図１は、本発明の目隠し装置の実施形態を示す図である。図１において、１はホログラム、２は基材、３は粘着層、４は窓ガラス、Ｉは室内、Ｏは屋外、Ｍ１は遮蔽対象を構成する室内にいる人、Ｚは人とホログラムとの距離、θは回折角である。通常、目隠し装置はホログラム１と基材２とから構成され、粘着層３で窓ガラス４に貼付し、屋外Ｏから室内の人Ｍ１が鮮明に見えないようにするために使用するものである。
【００３０】
ホログラム１は、本実施形態では、位相型のフーリエ変換ホログラムである。フーリエ変換ホログラムは計算機ホログラムでも良いし、また、表面レリーフ型、振幅型、体積型であっても良い。体積型ホログラムにおいては角度選択性により目隠しの角度をコントロールすることができる。さらに、フーリエ変換ホログラムは液晶等の空間変調器を用いて構成し、目隠しの程度を装置全体または部分的にコントロールすることができるようにしても良い。また、０次光（非回折光）の回折効率が３０％、好ましくは１０％以下であるフーリエ変換ホログラムであってもよい。
【００３１】
窓ガラス４の屋外Ｏから目隠し装置１を通して室内を見た場合、Ｚを遮蔽対象である人Ｍ１とホログラム１との距離、θを回折角とすると、２Ｚｔａｎθの範囲の画像が混在し、鮮明に見えなくなる。本実施形態では、レストラン等に座っている人を想定して、室内にいる人Ｍ１とホログラム１との距離Ｚを５００ｍｍに設定する。また、人間の目の画像が混在すれば人間の認識ができないと想定し、人間の目の大きさを約３０ｍｍとして、２Ｚｔａｎθを３０ｍｍに設定する。すると、２×５００ｍｍ×ｔａｎθ＝３０ｍｍとなり、θ＝arctan（３０／２／５００）＝１．７１８degreeとなる。ここで、ホログラム１を計算機ホログラムとして構成した場合のピッチをｄとすると、ｄ＝λ／ｓｉｎθ、λ＝６００ｎｍの場合（λは波長）、ｄ＝６００ｎｍ／ｓｉｎ１．７１８degree＝約２０μｍとなる。すなわち、ホログラム１のセルは約２０μｍピッチ以下のものとする。基材２はＰＥＴ、ポリカーボネート等の透明な部材であればよい。また、粘着層３及び窓ガラス４も透明な部材であればよい。
【００３２】
図２は、本実施形態の目隠し装置を通して点光源Ｌを見た場合の図を示す。Ｌ１は室内の点光源、Ｌ２は屋外の点光源、ＩＭＧ１は室内のパターン、ＩＭＧ２は屋外のパターン、Ｍ２は屋外にいる人である。まず、図１で説明したように屋外にいる人Ｍ２から室内にいる人Ｍ１は認識できない。次に、屋外にいる人Ｍ２が室内の点光源Ｌ１を見た場合、室内の点光源Ｌ１と共に室内のパターンＩＭＧ１が浮かび上がるように観察される。また、室内にいる人Ｍ１が屋外の点光源Ｌ２を見た場合、屋外の点光源Ｌ２と共に屋外のパターンＩＭＧ２が浮かび上がるように観察される。
【００３３】
なお、ホログラム１は、ガラス窓４を２枚の透明板で構成し、その間に挟持することで取付が容易になるようにしてもよい。さらに、ホログラム１は、出入自在に窓を覆うことが可能なスライド式やロールスクリーン式にすることで、必要なときだけ使用することができるようにしてもよい。その際、壁に収納できるようにしてもよい。
【００３４】
また、ホログラム１のピッチｄは、認識できない位置をどこに設定するかによって変更可能とし、室内と屋外を分離する窓だけではなく、車両、電車、航空機、船舶等の乗り物、衝立、ショーウインドウ等の様々な場所に適応できるようにしてもよい。特に、２０μｍピッチ以下にすると、レストラン、車両等の窓に最適なものとなる。また、乗り物に適用する際は、該乗り物に点光源を備えるようにしてもよい。
【００３５】
以下、図面を参照にして、本発明の目隠し装置に使用するホログラム１の製造方法を説明する。図３は、本発明のホログラムの原版の製造方法を実施する工程を示す図である。５は原画、６はフーリエ変換像、７は基板、８はクロム層、９はフォトレジスト、１０は原版である。なお、基板７は、ガラスやシリコン原板等である。
【００３６】
まず、ステップ（１）において、原画５を作成し、次に、ステップ（２）において、原画５のフーリエ変換像６を、計算機でＦＦＴ等の計算をして作成する。フーリエ変換像６は二値以上に多値化したフーリエ変換像６である。次に、ステップ（３）において、基板７上に、クロム層８、フォトレジスト９を積層したものに電子ビーム描画露光やマスク露光等を施し、凹凸パターンの潜像をフォトレジスト９に形成する。次に、ステップ（４）において、フォトレジストの潜像をポジ現像する。次に、ステップ（５）において、フォトレジストパターンにあわせてウェットエッチングによりクロム層８をエッチングし、余分なクロムを除去する。続いて、ステップ（６）において、ドライエッチングにより基板７を所定深さエッチングし、除去する。次に、ステップ（７）において、残りのフォトレジスト９を剥離する。
【００３７】
次に、ステップ（８）において、全面にフォトレジスト９を再塗布する。次にステップ（９）において電子ビーム描画露光やマスク露光を施し、ステップ（１０）において現像する。続いて、ステップ（１１）において、フォトレジストパターンにあわせてウェットエッチングによりクロム層８をエッチングする。次に、ステップ（１２）において、ドライエッチングにより基板７をエッチングする。この際、ステップ（６）でしたエッチングの半分の深さだけ行う。続いて、ステップ（１３）において、残りのフォトレジストを剥離し、ステップ（１４）において、残りのクロムを全て除去する。このような処理を施すことで、原版１０が得られる。
【００３８】
図４乃至図７は、本発明のフーリエ変換ホログラムを作製する方法を示す図である。図４及び図５は、第１実施形態としてスタンパーを用いる場合を示す。図４は、スタンパーを作製する工程を示す図である。１０は原版、１１は導電性膜、１２はスタンパーである。まず、ステップ（１５ａ）において、ステップ（１４）で得られた原版１０に導電性膜１１を蒸着する。次に、ステップ（１６ａ）において、ニッケルメッキ（電鋳）を行い、ステップ（１７ａ）において、原版１０をはがしてスタンパー１２としての金型を形成する。
【００３９】
次に、図５は、図４で作成したスタンパーによりフーリエ変換ホログラムを大型化する工程を示す。１２はスタンパー、１３は熱可塑性樹脂である。ステップ（１８ａ）において、ステップ（１７ａ）で作成したスタンパー１２により、熱可塑性樹脂１３に押圧スタンプを行い、スタンパー１２の幅だけ熱可塑性樹脂１３を搬送して止める。ステップ（１９ａ）において、熱可塑性樹脂１３のステップ（１８ａ）で押圧スタンプされた部分の隣接部分に別に押圧スタンプを行い、再度スタンパー１２の幅だけ熱可塑性樹脂１３を搬送して止める。これを繰り返すことで、大型化することができる。
【００４０】
図６及び図７は第２実施形態としてのＵＶ複製原版を使用する場合を示す。図６は、ＵＶ複製原版を作成する工程を示す図である。１０は原版、１４は複製原版用基板、１５はＵＶ硬化樹脂、１６はＵＶ複製原版である。まず、ステップ（１５ｂ）において、ステップ（１４）で得られた原版１０にＵＶ硬化樹脂１５を塗布し、その上に複製原版用基板１４を押し付ける。複製原版用基板１４は、ＰＥＴフィルム又はポリカーボネートフィルム等を使用する。次に、ステップ（１６ｂ）において、ＵＶ照射をし、ＵＶ硬化樹脂１５を硬化させる。続いて、ステップ（１７ｂ）において、原版１０をはがすと、ＵＶ複製原版１６が形成される。
【００４１】
次に、図７は図６で作成したＵＶ複製原版１６によりフーリエ変換ホログラムを大型化する工程を示す。１６はＵＶ複製原版、１７はエンボスローラ、１８はＵＶ硬化樹脂を塗布した基材、１９はＵＶ照射装置である。ステップ（１８ｂ）において、ステップ（１７ｂ）で作成したＵＶ複製原版１６をエンボスローラ１７の周囲に配置する。続いて、ステップ（１９ｂ）において、ＵＶ複製原版１６を周囲に配置したエンボスローラ１７と、エンボスローラ１７の下に設けた他のローラとでＵＶ硬化樹脂を塗布した基材１８を挟持し、エンボスローラ１７を回転させることで、ＵＶ硬化樹脂を塗布した基材１８はエンボスパターンが形成されながら搬送され、その下流でＵＶ照射装置によりＵＶ照射され、硬化され、大型化される。
【００４２】
次に、図８において他の大型化の実施形態を説明する。図８は、原版１０を作成せずに、直接大型化するステップアンドリピートの方法を示す図である。２０は大型の基板である。ステップ（１）及びステップ（２）は前記図３で説明したものと同様な工程であり、フーリエ変換像６を作成する。ＵＶ複製原版１６として、図５のステップ（１９ａ）で得られた大型化されたフーリエ変換ホログラムを用いても良い。
【００４３】
次に、ステップ（３−１）において、大型の基板２０には、前記図３のステップ（３）で示したのと同様にクロム層８、フォトレジスト９が塗布されており、大型の基板２０に、電子ビーム描画露光やマスク露光等を施し、凹凸パターンの潜像をフォトレジストに形成し、次いで、大型の基板２０をフーリエ変換像６の幅の寸法分搬送し止める。続いてステップ（３−２）において、再度大型の基板２０に、電子ビーム描画露光やマスク露光等を施し、凹凸パターンの潜像をフォトレジストに形成し、次いで、大型の基板２０をフーリエ変換像６の幅の寸法分搬送し止める。これを繰り返すことで大型の基板２０に露光する。
【００４４】
次に、図３で示したステップ（４）からステップ（１４）までの工程を大型の基板２０に施すことで大型化される。したがって、大型の目隠し装置が作成できるようになり、用途が拡大し、様々なものに適用できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の目隠し装置の実施形態を示す図
【図２】本発明の目隠し装置の有する他の機能を示す図
【図３】本発明の目隠し装置の原版の製造方法を示す図
【図４】本発明のスタンパーの製造方法を示す図
【図５】本発明の大型化した目隠し装置の第一の製造方法を示す図
【図６】本発明のＵＶ複製の製造方法を示す図
【図７】本発明の大型化した目隠し装置の第二の製造方法を示す図
【図８】本発明の大型化した目隠し装置の他の製造方法を示す図
【図９】従来のホログラムを示す図
【図１０】従来の複製の製造方法を示す図
【図１１】従来の計算機ホログラムとそれから再現される像領域とを模式的に示す図
【図１２】従来の計算機ホログラムを得るためのフローチャートを示す図
【図１３】従来の計算機ホログラムの構成例を示す断面図
【符号の説明】
【００４６】
１…ホログラム、２…基材、３…粘着層、４…窓ガラス、５…原画、６…フーリエ変換像、７…基板、８…クロム、９…フォトレジスト、１０…原版、１１…導電性膜、１２…スタンパー、１３…熱可塑性樹脂、１４…複製原版用基板、１５…ＵＶ硬化樹脂、１６…ＵＶ複製原版、１７…エンボスローラ、１８…ＵＶ硬化樹脂を塗布した基材、１９…ＵＶ照射装置、２０…大型の基板、Ｉ…室内、Ｏ…屋外、Ｚ…人とホログラムとの距離、θ…回折角、Ｌ１…室内の点光源、Ｌ２…屋外の点光源、ＩＭＧ１…室内のパターン、ＩＭＧ２…屋外のパターン、Ｍ１…室内にいる人、Ｍ２…屋外にいる人
【図１】
0005206915.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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