(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に薄膜の積層によって光学的な機能を生じせしめた光学機能性積層体の最表面に防汚性被膜を形成するための処理剤であり、
少なくとも一つの末端に加水分解可能な官能基を２個又は３個有し、且つジメチルシロキサンユニット（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）の数が３０〜４００である直鎖状ポリジメチルシロキサン、及び
加水分解可能な官能基を有し、且つフルオロカーボンユニット（ＣＦ２又はＣＦ３）の数が６〜１２であるフルオロアルキルシラン、そして、
有機溶媒、前記直鎖状ポリジメチルシロキサン及び前記フルオロアルキルシランの加水分解可能な官能基を加水分解させる酸、及び水を混合してなる処理剤であり、
処理剤の総量に対し、重量濃度で
前記直鎖状ポリジメチルシロキサンが０．２〜３．０重量％、
前記フルオロアルキルシランが０．２〜２．０重量％、そして、
前記直鎖状ポリジメチルシロキサンと前記フルオロアルキルシランとの総量が０．５〜３．５重量％
混入されたことを特徴とする処理剤。
【請求項２】
直鎖状ポリジメチルシロキサンが加水分解可能な官能基を両側末端に有することを特徴とする請求項１に記載の処理剤。
【請求項３】
処理剤の総量に対し、重量濃度で
前記直鎖状ポリジメチルシロキサンが０．２〜２．０重量％、
前記フルオロアルキルシランが０．５〜１．４重量％、さらに、
直鎖状ポリジメチルシロキサンとフルオロアルキルシランとの総量が０．８〜２．５重量％
混入されたことを特徴とする請求項２に記載の処理剤。
【請求項４】
加水分解可能な官能基がアルコキシ基であることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の処理剤。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の処理剤を、基材上に薄膜の積層によって光学的な機能を生じせしめた光学機能性積層体の最表面に塗布後、乾燥して膜厚が１０ｎｍ以下の防汚性被膜を形成する工程を有することを特徴とする防汚性光学機能性積層体の製法。
【請求項６】
処理剤の塗布方法が手塗りによるものであることを特徴とする請求項５に記載の防汚性光学機能性積層体の製法。
【請求項７】
１５℃〜３０℃、相対湿度３０％〜６０％の環境で、５分間〜２０分間放置して乾燥することを特徴とする請求項５又は６に記載の防汚性光学機能性積層体の製法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜の積層によって、低反射性、無反射性、特定の波長光を透過又は反射させる等の光学的な機能を生じせしめる光学機能性積層体に皮脂成分、指紋、水垢等の汚れ成分に対する防汚性および除去性を付与するための処理剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
屈折率が異なる薄膜を積層することにより光学的な干渉が生じる。光学機能性積層体は、この干渉を利用して、無反射性、特定の波長光を透過又は反射させる等の光学的な機能を生じせしめている。
【０００３】
これら積層体は光学機能を奏すことを主眼に膜設計がなされているので、皮脂成分、指紋、水垢等の汚れ成分に対する防汚性が低い。防汚性が低いと、光学機能性積層体を人が取り扱ったとき、積層体の最表面に指紋を始めとする人体からの分泌物等の汚れ成分や水垢汚れが付着しやすくなる。加えて、積層体に付着した汚れ成分は、洗浄することが困難なことが多い。
【０００４】
光学機能性積層体の最表面が汚染されると、その光学的な機能が低下しやすい。特許文献１の積層体では、これを解消するために積層体の最表面に、好適には    １０ｎｍ以下の膜厚を有するフルオロアルキルシランからなる防汚層が形成されている。また、特許文献１は、防汚層の厚みを好適には１０ｎｍ以下とする理由として、反射防止積層体としての機能を損なわないようにするためとしている。
【特許文献１】特開２００２−１２２７０３号公報
【特許文献２】特開平４−３５９０８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１にあるようにフルオロアルコキシシランを有して形成される被膜は防汚性被膜として使用されていることが知られている。フルオロアルコキシシランを含む溶液から、被膜を形成する場合、十分な膜厚が得られないと、各種の耐久性試験において、比較的短時間で撥水性が低下することが指摘されている(例えば、特許文献２)。
【０００６】
光学機能性積層体上に防汚性被膜を形成する場合は、背景技術で説明したとおり、１０ｎｍ以下の極めて薄い膜厚の被膜が要求される。また、既に何らかの装置に組み込まれた光学機能性積層体又は、種々の寸法、形状を有した光学機能性積層体に防汚性を付与する際には、防汚性の付与が容易であることが好ましい。
【０００７】
本発明は、光学機能性積層体上に、薄い膜厚で防汚性と耐久性が良い防汚性被膜を形成することが容易な処理剤を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明では、前記の課題を解決するために、まずは光学機能性積層体上に被膜を形成するための過程について考察した。処理剤を積層体に塗布して被膜を形成する際、被膜の強度、耐久性を良くするために加熱工程が実施される。塗布された被膜は、加熱工程によって硬化過程等を経て所謂焼き締まった状態となる。この時、積層体を構成する薄膜も焼き締まった状態となり、該薄膜の膜厚が変化することがある。この膜厚の変化により光学機能性積層体の光学的な干渉パターンが変動し、光学的な機能が低下することがある。これを考慮すると、防汚性被膜を形成するために加熱工程が無く、風乾のみで防汚性被膜を形成できることが好ましい。
【０００９】
この好ましい条件も考慮に入れ課題を解決する手段を検討したところ、手塗りの塗布方法でも、防汚性と耐久性が良い被膜を得ることが可能な特定の処理剤が最適であるとの知見を得、本発明をなすに至った。
【００１０】
すなわち、本発明は、光学機能性積層体上に防汚性被膜を形成するための処理剤であり、少なくとも一つの末端に加水分解可能な官能基を２個又は３個有し、且つジメチルシロキサンユニット（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）の数が３０〜４００である直鎖状ポリジメチルシロキサン、及び加水分解可能な官能基を有し、且つフルオロカーボンユニット（ＣＦ２又はＣＦ３）の数が６〜１２であるフルオロアルキルシラン、そして、有機溶媒、酸、及び水を混合してなる処理剤であり、処理剤の総量に対し、重量濃度で前記直鎖状ポリジメチルシロキサンが０．２〜３．０重量％、前記フルオロアルキルシランが０．２〜２．０重量％、そして、前記直鎖状ポリジメチルシロキサンと前記フルオロアルキルシランとの総量が０．５〜３．５重量％混入されたことを特徴とする。（以降、本明細書において、直鎖状ポリジメチルシロキサン、フルオロアルキルシランの双方を示す場合、「機能成分」と表記することがある。また、直鎖状ポリジメチルシロキサンとフルオロアルキルシランとの総量を示す場合、「機能成分の総量」と表記することがある。）
【００１１】
前記フルオロアルキルシランは、皮脂成分、指紋、水垢等の汚れ成分に対する防汚性および除去性に優れ、さらに耐久性に優れたフルオロアルキル鎖を有するので、得られる被膜の耐久性を向上させる。前記直鎖状ポリジメチルシロキサンは、滑り性に優れたジメチルシロキサン鎖を有するので、得られる被膜の汚れ除去性に効果を奏する。
【００１２】
前記直鎖状ポリジメチルシロキサンは、少なくとも一つの末端に加水分解可能な官能基を２個又は３個有し、前記フルオロアルキルシランも加水分解可能な官能基を有する。加水分解可能な官能基は、処理剤に含まれる酸と水によって加水分解し、反応性の高いシラノール基を形成する。これにより処理剤を基材に塗布すると、基材表面とシラノール基が反応し、該直鎖状ポリジメチルシロキサン及び該フルオロアルキルシランは基材と強固に結合し、結果として得られる防汚性被膜の耐久性が改善する。
【００１３】
さらに、前記酸と水は、前記直鎖状ポリジメチルシロキサンや前記フルオロアルキルシランの加水分解可能な官能基を加水分解させて基材と結合可能なシラノール基を生成させる効果を有する。
【００１４】
そして、防汚性と耐久性とがさらに良好な被膜とするためには、ジメチルシロキサンユニット（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）の数を２００〜３００とすることが好ましい。また、処理剤中での直鎖状ポリジメチルシロキサンとフルオロアルコキシシランとの重量比を、１：１．５〜１：３．５とすることが好ましく、さらには、フルオロアルキルシランにおいて、フルオロカーボンユニット数を７〜９、好適には８とすることが好ましい。
【００１５】
さらに本発明の防汚性被膜を得るための処理方法は、前記処理剤を基材に塗布する工程、処理剤が塗布された基材を乾燥する工程、及び乾燥後に遊離状態にある被膜形成に関与しなかった未反応の又は加水分解した若しくは縮合した機能成分を除去する工程を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の処理剤は、基材に処理後、乾燥させた後に遊離状態にある被膜形成に関与しなかった未反応の又は加水分解した若しくは縮合した余剰分を除去することで、光学機能性積層体上に、薄い膜厚で耐久性と防汚性が良い防汚性被膜を形成することができる。このため、低反射性、無反射性、特定の波長光を透過又は反射させる等の光学的な機能を生じせしめる光学機能性積層体の皮脂成分、指紋、水垢汚れなどの汚れ成分に対する防汚性および汚れの除去性を付与するのに効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の処理剤は、少なくとも一つの末端に加水分解可能な官能基を２個又は３個有し、且つジメチルシロキサンユニット（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）の数が３０〜４００である直鎖状ポリジメチルシロキサン、及び加水分解可能な官能基を有し、且つフルオロカーボンユニット（ＣＦ２又はＣＦ３）の数が６〜１２であるフルオロアルキルシラン、そして有機溶媒、酸、及び水を混合してなる処理剤であり、処理剤の総量に対し、重量濃度で前記直鎖状ポリジメチルシロキサンが０．２〜３．０重量％、前記フルオロアルキルシランが０．２〜２．０重量％、さらに、機能成分の総量が０．５〜３．５重量％混入されたことを特徴とする。本発明の処理剤に使用される直鎖状ポリジメチルシロキサンは、ジメチルシロキサンユニット（Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ）の数を３０〜４００とすることが重要である。
【００１８】
前記直鎖状ポリジメチルシロキサンのジメチルシロキサンユニット数が４００を超えると、直鎖状ポリジメチルシロキサンの加水分解可能な官能基の数がジメチルシロキサンユニットに対して相対的に減少することになり、ポリジメチルシロキサンの反応性が低下する。この結果、得られる被膜は、基材との結合が弱くなり、被膜の耐久性が低下し、得られる防汚性被膜の劣化が早くなる。
【００１９】
本発明の処理剤を用いて作製した防汚性被膜を有する基材は屋外でも使用される可能性があり、太陽光や雨にもさらされる場合がある。また、清掃時に雑巾などでの払拭時に防汚性被膜の表面を磨耗されることになる。従って、防汚性はもちろんのこと耐久性、耐磨耗性に優れる被膜の形成は、実用の観点から重要である。
【００２０】
一方、本発明の処理剤を基材に処理すると、処理剤中の機能成分の加水分解可能な官能基と基材表面に存在するシラノール基に代表される水酸基等の反応性基が反応して結合することにより機能成分が基材に固定される。従って、該ユニット数が少なくなると、基材上に固定されるジメチルシロキサンユニット数が減少し、形成される被膜の耐磨耗性は、該ユニット数に影響される。そして、該ユニット数を３０以上とするとこれら特性が顕著に向上し、得られる被膜の長期使用に奏功する。また、前記直鎖状ポリジメチルシロキサンは、少なくとも一つの末端に加水分解可能な官能基を２個又は３個有することが重要である。両末端の加水分解可能な官能基の数が１個以下である場合、該ポリジメチルシロキサンの反応性が大幅に低下し、基材との結合が弱くなる。これにより得られる防汚性被膜の耐久性が低下し、被膜の劣化が早くなるので好ましくない。
【００２１】
さらに、前記直鎖状ポリジメチルシロキサンは、処理剤の総量に対し０．２〜３．０重量％混入されることが重要である。前記直鎖状ポリジメチルシロキサンが、処理剤の総量に対し０．２重量％未満の場合、得られる被膜の汚れ除去性が低いものとなる。処理剤の総量に対する前記直鎖状ポリジメチルシロキサンの濃度が３．０重量％を超えると、被膜形成の際、乾固物の量が増加し、この除去工程に負荷がかかり、時間を要するようになる。この長時間の払拭は、被膜を擦傷する可能性を高め、滑り性、耐久性等に悪影響を与える危険性を高める。余剰分が残留すると、水滴が余剰分に引っかかりスムーズに移動できなくなるため、滑り性が低下する。さらに、余剰分は白くまだらに被膜表面に残留するため、被膜の透光性の低下をもたらす。
【００２２】
前記直鎖状ポリジメチルシロキサンとしては、下記一般式［１］で示されるポリジメチルシロキサンが好適に用いられる。
【００２３】
【化１】
0005163022.tif 000002
【００２４】
ここで、Ｘ１及びＸ２は、それぞれ、１価の加水分解可能な官能基であり、Ａ１及びＡ２は、それぞれ、２価の炭化水素基、-(ＣＨ２)ｉ-ＮＨ-ＣＯ-Ｏ-基（［ｉ］は０〜９の整数）、若しくは、酸素である。また、［ｎ］は３０〜４００の整数でジメチルシロキサンユニットの数を表す。さらに、［ａ］及び［ｂ］は、それぞれ、０〜３の整数であり、［ａ］又は［ｂ］の少なくとも一方は２又は３でなければならない。
【００２５】
また、前記一般式［１］で示されるポリジメチルシロキサンのＡ１及びＡ２は、加水分解可能な官能基と撥水性を発現するジメチルシロキサン鎖を繋ぐ部位である。従って、この部位の安定性が低下すると、防汚性被膜からジメチルシロキサン鎖が容易に脱落するようになり、被膜の耐久性が低下する。このことから、前記一般式［１］で示されるポリジメチルシロキサンのＡ１及びＡ２は安定性に優れる２価の炭化水素基や酸素が好ましい。
【００２６】
さらに、前記ポリジメチルシロキサンは、少なくとも一つの末端に加水分解可能な官能基を２個又は３個有していれば良いが、そのようなものとして、加水分解可能な官能基を片側末端のみに有するもの、あるいは、両側末端に加水分解可能な官能基を有しているものを用いることができる。両側末端に加水分解可能な官能基を有するものは反応性が高くなる。このため、基材と強固に結合しやすく、結果として耐久性に優れた防汚性被膜が得られるが、縮合された余剰分が生成しやすいので、処理剤を塗布・乾燥後の余剰分の除去性が悪くなる傾向がある。従って、両側末端に加水分解可能な官能基を有するものを使用する場合は、処理剤中の該ポリジメチルシロキサンや前記フルオロアルキルシランの量を少なくすることが好ましく、具体的には処理剤の総量に対し、その混入量を、重量濃度で直鎖状ポリジメチルシロキサンが０．２〜２．０重量％、フルオロアルキルシランが０．５〜１．４重量％、さらに、機能成分の総量が０．８〜２．５重量％とすることが好ましい。
【００２７】
また、本発明の処理剤に使用される前記フルオロアルキルシランは、皮脂成分、指紋、水垢等の汚れ成分に対する防汚性および除去性、さらに耐久性に優れたフルオロアルキル鎖を有するので、得られる被膜の耐久性の向上に効果を奏する。そして、処理剤中でのその含有量は、得られた被膜に付着した皮脂成分、指紋、水垢等の汚れ成分に対する防汚性および除去性、耐久性に影響する。前記フルオロアルキルシランの含有量が少ないと皮脂成分、指紋、水垢等の汚れ成分に対する防汚性および除去性が乏しくなる。一方、含有量が多くなると、コスト高になるほか、処理剤の塗布・乾燥後の余剰分の除去工程において、紙タオル、布等を用いる手作業による払拭時間が長くなり、作業の負荷が大きくなり生産性低下に繋がる。
【００２８】
この観点から、被膜に付着した皮脂成分、指紋、水垢等の汚れ成分に対する防汚性および除去性、さらに耐久性に優れ、処理剤を塗布した後の余剰分の除去が容易な防汚性被膜を得るためには、前記フルオロアルキルシランは、処理剤の総量に対し、重量濃度で０．２〜２．０重量％とすることが重要である。０．２重量％未満では皮脂成分、指紋、水垢等の汚れ成分に対する防汚性および除去性、被膜の耐久性が著しく低下する。２．０重量％を超えるとコスト高になるほか、処理剤の塗布・乾燥後の余剰分の除去工程において、紙タオル、布等を用いる手作業による払拭時間が長くなり、生産性低下に繋がる。防汚性、汚れ除去性とより高い生産性を両立するためには、その混入量を、重量濃度で０．５〜１．６重量％とすることが好ましい。
【００２９】
さらに前記フルオロアルキルシランは加水分解可能な官能基を有し、さらに分子中にフルオロカーボンユニット（ＣＦ２又はＣＦ３）の数が６〜１２であるパーフルオロアルキル基（ＣＦ３（ＣＦ２）ｔ−１−）またはパーフルオロアルキレン基（−（ＣＦ２）ｕ−）を有するものが用いられる。フルオロカーボンユニット（ＣＦ２又はＣＦ３）の数が増加すると、得られる防汚性被膜の耐久性が増加する。ここで、前記ｔ、及びｕは整数を表している。
【００３０】
しかしながら、フルオロカーボンユニットの数が増加すると、該フルオロアルキルシランの凝固点が常温以上にまで上昇するため、機能成分が凝固しやすくなって塗布が困難になるほか、該フルオロアルキルシランが余剰分となった場合には、これらが基材表面により強固に固着するようになり、余剰分の除去に要する負荷が増加する。従って、得られる被膜の耐久性を向上させ、さらに乾燥後の余剰分の除去を容易にするためには、フルオロカーボンユニットの数は６〜１２とすることが重要である。
【００３１】
前記フルオロアルキルシランとしては、下記一般式［２］で示される片側末端に加水分解可能な官能基を有するフルオロアルキルシランや下記一般式［３］で示される両側末端に加水分解可能な官能基を有するフルオロアルキルシランが好適に用いられる。
【００３２】
【化２】
0005163022.tif 000003
【００３３】
ここで、Ｙ１は１価の加水分解可能な官能基である。さらに、［ｍ］は６〜１２の整数であり、フルオロカーボンユニット（ＣＦ２又はＣＦ３）の数を表す。さらに、［ｐ］は１〜３の整数であり、加水分解可能な官能基の数を表す。
【００３４】
【化３】
0005163022.tif 000004
【００３５】
ここで、Ｙ２及びＹ３は、それぞれ、１価の加水分解可能な官能基である。さらに、［ｍ］は６〜１２の整数であり、フルオロカーボンユニットの数を表す。さらに、［ｑ］及び［ｒ］は、それぞれ、１〜３の整数である。
【００３６】
前記フルオロアルキルシランとしては、片側末端に加水分解可能な官能基を有するフルオロアルキルシランとして、ＣＦ3（ＣＦ2）11ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）11ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）11ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＣＨ3、ＣＦ3（ＣＦ2）9ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）9ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）9ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＣＨ3、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＣＨ3、ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＣＨ3、ＣＦ3（ＣＦ2）11ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3、ＣＦ3（ＣＦ2）11ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3Ｃｌ2、ＣＦ3（ＣＦ2）11ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｃｌ、ＣＦ3（ＣＦ2）9ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3、ＣＦ3（ＣＦ2）9ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3Ｃｌ2、ＣＦ3（ＣＦ2）9ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｃｌ、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3Ｃｌ2、ＣＦ3（ＣＦ2）7ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｃｌ、ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3、ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3Ｃｌ2、ＣＦ3（ＣＦ2）5ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｃｌ等のものが使用でき、さらに、両側末端に加水分解可能な官能基を有するフルオロアルキルシランとしては、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）12ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）12ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＨ3Ｏ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）12ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＣＨ3、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）10ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）10ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＨ3Ｏ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）10ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＣＨ3、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＨ3Ｏ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＣＨ3、（ＣＨ3Ｏ）3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、（ＣＨ3Ｏ）2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3（ＯＣＨ3）2、ＣＨ3Ｏ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2ＯＣＨ3、Ｃｌ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）12ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3、Ｃｌ2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）12ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3Ｃｌ2、Ｃｌ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）12ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｃｌ、Ｃｌ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）10ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3、Ｃｌ2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）10ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3Ｃｌ2、Ｃｌ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）10ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｃｌ、Ｃｌ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3、Ｃｌ2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3Ｃｌ2、Ｃｌ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）8ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｃｌ、Ｃｌ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣｌ3、Ｃｌ2ＣＨ3ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＨ2ＣＨ2ＳｉＣＨ3Ｃｌ2、Ｃｌ（ＣＨ3）2ＳｉＣＨ2ＣＨ2（ＣＦ2）6ＣＨ2ＣＨ2Ｓｉ（ＣＨ3）2Ｃｌ等のものが使用できる。
【００３７】
また、機能成分での加水分解可能な官能基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等のアルコキシ基、クロロ基又はイソシアネート基等を用いることができる。ただし、加水分解可能な官能基の反応性が高すぎると、処理剤を調合する時の取扱いが難しくなるだけでなく、処理剤のポットライフが短くなる。一方、反応性が低すぎると、加水分解反応が十分進行しなくなり、生成するシラノール基の量が十分でなくなるため、基材と防汚性被膜の結合が不十分となり、被膜の耐久性が低くなる。取扱いの容易さ、処理剤のポットライフ、得られる防汚性被膜の耐久性を考慮すると、加水分解可能な官能基としてはアルコキシ基が好ましく、中でもメトキシ基、エトキシ基が特に好ましい。
【００３８】
また、機能成分の総量は、処理剤の総量に対し、重量濃度で０．３〜３．５重量％混入されることが重要である。０．３重量％未満では得られる被膜の耐久性が低下する。一方、３．５重量％を超える場合では余剰分の除去性が低下し、処理剤の塗布・乾燥後の余剰分の除去工程において、紙タオル、布等を用いる手作業による払拭時間が矩形のガラス基板（１ｍ×１ｍ）において６分を超える。そして、被膜の耐久性をより高いものとし、処理剤の塗布・乾燥後の余剰分の除去を容易なものとするためには、０．８〜３．０重量％とすることが好ましい。
【００３９】
処理剤に用いる溶媒には、他の成分（直鎖状ポリジメチルシロキサン、フルオロアルキルシラン、水、酸）を溶解させる有機溶媒を用いることができ、これらにはエチルアルコール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ヘキサン、トルエン、ベンゼン、キシレン等の炭化水素溶媒類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類やそれらの混合物を用いることが好ましい。中でも、メチルエチルケトン、酢酸エチル、ヘキサン、ジエチルエーテル及びジイソプロピルエーテルの中から選ばれる一種以上の溶媒とエチルアルコールやイソプロピルアルコール等の低級アルコールの混合溶媒は、直鎖状ポリジメチルシロキサン、フルオロアルキルシラン、水及び酸の溶解性が高く、さらに、処理剤の塗布性（塗り伸ばしやすさ）や処理剤の乾燥時間（作業時間）が適度になるので特に好ましい。
【００４０】
また、本発明の処理剤に使用される水は、前記直鎖状ポリジメチルシロキサン及び前記フルオロアルキルシランが有する加水分解可能な官能基の数に対して、分子数で１倍〜１００倍とするのが好ましい。１倍未満では、加水分解反応が進行せず、シラノール基が十分に生成しにくく、得られる防汚性被膜の耐久性が低下し、好ましくない。又、１００倍を超えると、前記直鎖状ポリジメチルシロキサン、前記フルオロアルキルシラン及び水が処理剤内で均一に溶解することが難しくなり好ましくない。又、水の量が増えると、反応速度が大きくなり、結果として処理剤のポットライフが短くなる。従って、ポットライフを考慮すると５０倍以下であることがより好ましい。
【００４１】
さらに処理剤に使用される酸は、機能成分の加水分解反応を促進させる触媒的な役割をし、硝酸、塩酸、酢酸、硫酸、その他有機酸等を使用することができる。そして、前記水と混合した状態でｐＨ値が好ましくは０〜５、より好ましくは、０〜２となるように混合される。 
【００４２】
次に本発明の処理剤の好ましい調製方法について説明する。防汚性被膜を得るため処理剤は、前記直鎖状ポリジメチルシロキサンと前記フルオロアルキルシランと溶媒の混合物に、加水分解反応を起こさせるための水と酸を添加、混合し、前記直鎖状ポリジメチルシロキサンと前記フルオロアルキルシランとを加水分解させることにより得られる。ここで、直鎖状ポリジメチルシロキサンとフルオロアルキルシランとを先に混合するのは、両成分を処理剤中に均質に混合させるためである。しかしながら、酸、水、直鎖状ポリジメチルシロキサン及びフルオロアルキルシランを同時に混合しても良い。
【００４３】
次に、得られた処理剤を使用して、防汚性被膜を得る方法について説明する。
上記で得られた処理剤を光学機能性積層体に塗布する塗布方法としては、手塗りによるものが好ましいが、その他にノズルフローコート法、ディッピング法、スプレー法、リバースコート法、フレキソ法、印刷法、フローコート法、スピンコート法、それらの併用等各種被膜の形成方法が適宜採用し得る。
【００４４】
尚、本発明で手塗りとは、処理剤を保持した部材を塗布面に接触させる手段であり、所謂手塗り又はそれに準ずる手段による塗布方法である。布、スポンジ、刷毛、ブラシ、不織布等部材に処理剤を含浸、浸透させる等の手段で処理剤を保持させ、該部材をロボットや人間の手等で基材に接触させることで塗布面上に処理剤を塗着させる。又、処理剤の噴霧による手段は、スプレーによる塗布方法で、ロボットや人間の手等で基材に処理剤を噴霧し、光学機能性積層体上に処理剤を塗着させる。
本発明の処理剤が塗布される光学機能性積層体は、好適には、ガラス基材、プラスチック基材上に形成された多層薄膜が使用される。該多層薄膜には、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ等の高屈折率膜と、酸化ケイ素（ＳｉＯ２膜）、フッ化マグネシウム等の低屈折率膜を交互に積層したものが好適に使用される。これらは、金属アルコキシドなどを用いたゾル−ゲル法やスパッタリング法等の製法により、各層の厚さが数十〜数百ｎｍとなるように形成されうる。
【００４５】
これら多層膜を通過する光には干渉効果が生じ、この効果を利用して、無反射性、低反射、特定の波長光を透過又は反射させる等の光学的な機能を生じせしめることができる。、例えば、パソコン、ＴＶなどの各種ディスプレイ用ガラス、光学レンズ、カメラ、双眼鏡、反射防止膜や光学フィルターなどの光学部材として利用されている。
【００４６】
次ぎに処理剤を基材に塗布後の処理について述べる。光学機能性積層体に処理剤を塗布後、乾燥させることで、前記ポリジメチルシロキサン及び前記フルオロアルキルシランを基材と結合させる。乾燥手段は、風乾でよく、室温で、例えば、１５℃〜３０℃、相対湿度３０％〜６０％の環境で、５分間〜２０分間で放置するだけでよい。最後に、余剰分が乾固物となって被膜上に残留するので、この余剰分を有機溶剤で湿らした紙タオルや布および／または乾いた紙タオルや布で払拭することにより防汚性が付与された光学機能性積層体が得られる。
【実施例】
【００４７】
以下に本発明の実施例について説明する。本発明で得られる防汚性被膜の評価方法を以下に示す。
【００４８】
〔防汚性被膜の評価方法〕
（１）光学機能性積層体の外観評価
光学機能性積層体として、最表層がＳｉＯ２膜である多層膜が形成されることで反射防止がなされている眼鏡レンズを準備した。該ＳｉＯ２膜表面に処理剤を塗布、乾燥し、乾燥後に塗布面を紙タオル（品名：キムタオル）で払拭することで、余剰分を除去した後、白色蛍光灯下で干渉色の変化を目視観察した。
【００４９】
（２）防汚性被膜の膜厚測定
被膜の膜厚は、防汚性被膜の有無の境界領域の段差を利用し、サーフコーダー（小坂研究所製、ＥＴ４０００Ａ）を用いて測定した。
【００５０】
（３）余剰分の除去性
処理剤を塗布して風乾させた後、目視で白くまだらに残留している余剰分をイソプロピルアルコールで湿らした紙タオル（品名：キムタオル）で拭き上げて透明なサンプル（１ｍ×１ｍサイズの矩形ガラス）を作製する際に、透明サンプルを得るのに要する時間を測定した。余剰分の除去時間（拭き取り時間）が６分以下であるものを合格とした（表１又は表２中に○と表記）。さらに３分以内で完了するものは余剰分の除去性が特に優れると判断した（表１又は表２中で◎と表記）。尚、除去時間に６分超要したものは不合格とし、表１中にて×と表記した。
【００５１】
（４）被膜の汚れ除去性
（４）−１  水垢  
サンプル表面に工業用水を噴霧し、５０℃×３ｈｒ乾燥させて、サンプル表面に水垢汚染物を付着させた。汚染物が付着したサンプル表面を綿１００％の雑巾を用いて３００ｇ／ｃｍ２の荷重で５往復払拭した。払拭後、目視観察を行い、汚れ成分の除去が確認された試料を汚れ除去性に優れる試料とした。
【００５２】
（４）−２  指紋  
サンプル表面に付着させた指紋を綿１００％の雑巾で ３００ｇ／ｃｍ２の荷重で１０往復払拭した。払拭後、目視観察を行い、汚れ成分の除去が確認された試料を汚れ除去性に優れる試料とした。
【００５３】
（５）耐セリア研磨性（セリア研磨試験）
ガラス用研磨剤ミレークＥ４０Ｔ（三井金属鉱業製）を水道水に分散させたセリア懸濁液（１０重量％）を染み込ませた綿布で、防汚性被膜に約１.５ｋｇ／ｃｍ２の過重をかけて、被膜の周縁部から被膜の中心部を経て反対側の被膜周縁部まで摺動することで研磨をした。この摺動作業にて、綿布が元の場所に戻ったときを１回の研磨回数とし、研磨領域の全領域が親水化（セリア懸濁液が弾かなくなる状態）するまでの研磨回数を評価した。４０回以上を合格とした。
【００５４】
実施例１
（１）処理剤の調製
処理剤を、直鎖状ポリジメチルシロキサンとフルオロアルキルシランと有機溶媒を混合して得られた混合物に酸、及び水として酸性水溶液を添加、攪拌して混合することによって得た。図１に処理剤の調製手順と各薬液の混入割合（重量比）を示す。又、サンプルの作製条件と結果物の評価結果を表１に示す。先ず、ジメチルシロキサンユニットの数が２５０の両末端トリアルコキシタイプ直鎖状ポリジメチルシロキサン〔（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２{Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ}２５０Ｓｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３〕；０．５０ｇ、メチルエチルケトン；４８．８５ｇ、フルオロカーボンユニットの数が８のフルオロアルキルシラン〔ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３〕；０．８０ｇとイソプロピルアルコール；４８．８５ｇを混合し、約５分間攪拌した。次いで、０．５Ｎ硝酸水溶液；１．０ｇを添加し、約２時間室温で攪拌した。
【００５５】
以上の方法により、処理剤の総量に対し、混入された直鎖状ポリジメチルシロキサンの重量濃度（以降「ポリジメチルシロキサン濃度」と記載する）が０．５重量％、処理剤の総量に対し、混入されたフルオロアルキルシランの重量濃度（以降「フルオロアルキルシラン濃度」と記載する）が０．８重量％の処理剤を得た。
【００５６】
（２）防汚性被膜の形成
上記「（１）処理剤の調製」の手順で調製した処理剤を、０．５ｍｌ量、５００ｍｍφの眼鏡レンズ（最表層がＳｉＯ２膜である多層膜が形成されることで反射防止がなされている眼鏡レンズ）の多層膜上に滴下し、綿布（商品名；ベンコット）でガラス全面に十分引き伸ばした後、５分程度風乾した。その後、目視で白くまだらに残留している余剰分をイソプロピルアルコールで湿らした紙タオルで拭き上げて透明なサンプルを得た。
【００５７】
上記［防汚性被膜の評価方法］に記載した要領で評価したところ、表１に示すとおり、干渉ムラの変化もなく良好な外観が得られた。また、余剰分の除去性は良好であった。さらに、優れた被膜の汚れ除去性を示し、セリア研磨試験においては研磨領域の全領域を親水化させるのに５０往復を要し、耐久性に優れていた。
【００５８】
【表１】
0005163022.tif 000005
【００５９】
実施例２
ジメチルシロキサンユニットの数が４００の両末端トリアルコキシタイプ直鎖状ポリジメチルシロキサン〔（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２{Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ}４００Ｓｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３〕を用いた以外はすべて実施例１と同じとした。結果、干渉ムラの変化もなく良好な外観が得られた。また、余剰分の除去性は良好であった。さらに、優れた被膜の汚れ除去性を示し、セリア研磨試験においては研磨領域の全領域を親水化させるのに４５往復を要し、耐久性に優れていた。
【００６０】
実施例３
ジメチルシロキサンユニットの数が５０の両末端トリアルコキシタイプ直鎖状ポリジメチルシロキサン〔（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２{Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ}５０Ｓｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３〕を用いた以外はすべて実施例１と同じとした。結果、干渉ムラの変化もなく良好な外観が得られた。また、余剰分の除去性は良好であった。さらに、優れた被膜の汚れ除去性を示し、セリア研磨試験においては研磨領域の全領域を親水化させるのに５０往復を要し、耐久性に優れていた。
【００６１】
実施例４
ジメチルシロキサンユニットの数が２５０の片末端トリアルコキシタイプ直鎖状ポリジメチルシロキサン〔（ＣＨ３）３ＳｉＯ{Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ}２５０Ｓｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３〕を用いた以外はすべて実施例１と同じとした。結果、干渉ムラの変化もなく良好な外観が得られた。また、余剰分の除去性は良好であった。さらに、優れた被膜の汚れ除去性を示し、セリア研磨試験においては研磨領域の全領域を親水化させるのに５５往復を要し、耐久性に優れていた。
【００６２】
実施例５
フルオロアルキルシラン濃度を１．６重量％とした以外はすべて実施例１と同じとした。結果、干渉ムラの変化もなく良好な外観が得られた。また、余剰分の除去性は良好であった。さらに、優れた被膜の汚れ除去性を示し、セリア研磨試験においては研磨領域の全領域を親水化させるのに５５往復を要し、耐久性に優れていた。
【００６３】
実施例６
フルオロアルキルシラン濃度を０．４重量％とした以外はすべて実施例１と同じとした。結果、干渉ムラの変化もなく良好な外観が得られた。また、余剰分の除去性は良好であった。さらに、優れた被膜の汚れ除去性を示し、セリア研磨試験においては研磨領域の全領域を親水化させるのに４０往復を要し、耐久性に優れていた。
【００６４】
実施例７
フルオロカーボンユニットの数が１０のフルオロアルキルシラン〔ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３〕を用いた以外はすべて実施例１と同じとした。結果、干渉ムラの変化もなく良好な外観が得られた。また、余剰分の除去性は良好であった。さらに、優れた被膜の汚れ除去性を示し、セリア研磨試験においては研磨領域の全領域を親水化させるのに５０往復を要し、耐久性に優れていた。
【００６５】
実施例８
フルオロカーボンユニットの数が６のフルオロアルキルシラン〔ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３〕を用いた以外はすべて実施例１と同じとした。
結果、干渉ムラの変化もなく良好な外観が得られた。また、余剰分の除去性は良好であった。さらに、優れた被膜の汚れ除去性を示し、セリア研磨試験においては研磨領域の全領域を親水化させるのに４５往復を要し、耐久性に優れていた。
【００６６】
実施例９
フルオロカーボンユニットの数が６であり、両末端トリアルコキシタイプのフルオロアルキルシラン〔（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３〕を用いた以外はすべて実施例１と同じとした。結果、干渉ムラの変化もなく良好な外観が得られた。また、余剰分の除去性は良好であった。さらに、優れた被膜の汚れ除去性を示し、セリア研磨試験においては研磨領域の全領域を親水化させるのに４０往復を要し、耐久性に優れていた。
【００６７】
実施例１０
ポリジメチルシロキサン濃度を１．３重量％とした以外はすべて実施例１と同じとした。結果、干渉ムラの変化もなく良好な外観が得られた。また、余剰分の除去性は良好であった。さらに、優れた被膜の汚れ除去性を示し、セリア研磨試験においては研磨領域の全領域を親水化させるのに４５往復を要し、耐久性に優れていた。
【００６８】
実施例１１
ポリジメチルシロキサン濃度を０．２５重量％とした以外はすべて実施例１と同じとした。結果、干渉ムラの変化もなく良好な外観が得られた。また、余剰分の除去性は良好であった。さらに、優れた被膜の汚れ除去性を示し、セリア研磨試験においては研磨領域の全領域を親水化させるのに４５往復を要し、耐久性に優れていた。
【００６９】
実施例１２
ポリジメチルシロキサン濃度を１．０重量％、フルオロアルキルシラン濃度を１．６重量％、すなわち、直鎖状ポリジメチルシロキサンとフルオロアルキルシランの総量を処理剤の総量に対して２．６重量％とした以外はすべて実施例１と同じとした。結果、干渉ムラの変化もなく良好な外観が得られた。また、余剰分の除去性は良好であった。さらに、優れた被膜の汚れ除去性を示し、セリア研磨試験においては研磨領域の全領域を親水化させるのに４５往復を要し、耐久性に優れていた。
【００７０】
実施例１３
ポリジメチルシロキサン濃度を０．２５重量％、フルオロアルキルシラン濃度を０．４重量％、すなわち、直鎖状ポリジメチルシロキサンとフルオロアルキルシランの総量を処理剤の総量に対して０．６５重量％とした以外はすべて実施例１と同じとした。結果、干渉ムラの変化もなく良好な外観が得られた。また、余剰分の除去性は良好であった。さらに、優れた被膜の汚れ除去性を示し、セリア研磨試験においては研磨領域の全領域を親水化させるのに４０往復を要し、耐久性に優れていた。
【００７１】
比較例１
ジメチルシロキサンユニットの数が２２の両末端トリアルコキシタイプ直鎖状ポリジメチルシロキサン〔（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２{Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ}２２Ｓｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３〕を用いた以外はすべて実施例１と同じとした。結果、物性は表１に示すとおり、干渉ムラの変化もなく良好な外観が得られたが、セリア研磨試験において３５往復で研磨領域の全領域が親水化し、耐久性が低かった。
【００７２】
比較例２
ジメチルシロキサンユニットの数が５００の両末端トリアルコキシタイプ直鎖状ポリジメチルシロキサン〔（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２{Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ}５００Ｓｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３〕を用いた以外はすべて実施例１と同じとした。結果、セリア研磨試験において３５往復で研磨領域の全領域が親水化し、耐久性が低かった。
【００７３】
比較例３
フルオロアルキルシラン濃度を０．０５重量％とした以外はすべて実施例１と同じとした。結果、水垢の除去性がやや劣っており、さらにセリア研磨試験において２０往復で研磨領域の全領域が親水化し、耐久性が低かった。
【００７４】
比較例４
フルオロカーボンユニットの数が１のフルオロアルキルシラン〔ＣＦ３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３〕を用いた以外はすべて実施例１と同じとした。結果、物性は表１に示すとおり、セリア研磨試験において１０往復で研磨領域の全領域が親水化し、耐久性が低かった。
【００７５】
比較例５
ポリジメチルシロキサン濃度を３．５重量％とした以外はすべて実施例１と同じとした。結果、物性は表１に示すとおり、余剰分の除去性が悪く、容易に透明なものが得られなかった。
【００７６】
比較例６
ポリジメチルシロキサン濃度を２．０重量％、フルオロアルキルシラン濃度を２．０重量％、すなわち、直鎖状ポリジメチルシロキサンとフルオロアルキルシランの総量を処理剤の総量に対して４．０重量％とした以外はすべて実施例１と同じとした。結果、物性は表１に示すとおり、余剰分の除去性が悪く、容易に透明なものが得られなかった。
【００７７】
比較例７
ポリジメチルシロキサン濃度を０．２重量％、フルオロアルキルシラン濃度を０．２重量％、すなわち、直鎖状ポリジメチルシロキサンとフルオロアルキルシランの総量を処理剤の総量に対して０．４重量％とした以外はすべて実施例１と同じとした。結果、物性は表１に示すとおり、セリア研磨試験において２５往復で研磨領域の全領域が親水化し、耐久性が低かった。
【００７８】
比較例８
（１）シリカゾルの調製
シリカゾルは、アルコキシシランのテトラエトキシシラン〔Ｓｉ(ＯＣ２Ｈ５)４：ＴＥＯＳ〕の加水分解および重縮合反応を進めることにより調製した。図２に、シリカゾルの調製手順と各成分の混合割合（重量比）を示す。先ず、ＴＥＯＳ；３１２.５ｇと低級アルコールの混合溶媒（９０重量％のエチルアルコールと１０重量％のイソプロピルアルコールからなる混合物）；４５０.０ｇを混合し、３０分間攪拌し溶液Ａを得た。これとは別に、６０重量％硝酸水溶液；７.５ｇ、蒸留水；２１０.０ｇおよび上記と同じ低級アルコールの混合溶媒；２０.０ｇを混合し、３０分間攪拌し溶液Ｂを得た。次いで、溶液Ａと溶液Ｂを混合後、約１５時間室温で攪拌することによってシリカゾルＸを得た。
【００７９】
（２）処理剤の調製
処理剤は、フルオロアルキルシランと直鎖状ポリジメチルシロキサンを混合して得られた混合物に上記シリカゾルＸを添加、混合することによって得た。図３に塗布液の調製手順と各薬液の混合割合（重量比）を示す。そして、試料の作製条件を以下に述べる。
【００８０】
イソプロピルアルコールで１重量％に希釈したフルオロカーボンユニットの数が８のフルオロアルキルシラン〔ＣＦ３ＣＦ２〕７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３〕溶液；０．７８ｇ、ｎ−ヘキサンで０．２重量％に希釈した直鎖状ポリジメチルシロキサン〔（ＣＨ３Ｏ）３ＳｉＣＨ２ＣＨ２{Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｏ}２５０Ｓｉ（ＣＨ３）２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３〕；０．５３ｇ、メチルエチルケトン；７．００ｇとイソプロピルアルコール；７．００ｇを混合し、約５分間攪拌した。次いで、上記シリカゾルＸ；１．５６ｇを添加し、約１５時間室温で攪拌した。次いで、メチルエチルケトン；２６．５３ｇとイソプロピルアルコール；２６．５３ｇとｎ−ブチルアルコール；１．４０ｇを添加し、３０分間攪拌した。以上の方法により、シリカに換算すると塗布液に対して０．２重量％となるアルコキシシランの重縮合物を有し、塗布液中にフルオロアルキルシランが０．００１６重量％、シリコーンが０．０００１５重量％となる塗布液を得た。
【００８１】
（３）防汚性被膜の形成
本比較例での「（２）処理剤の調製」の手順で調製した処理剤を、５００ｍｍφの眼鏡レンズ（最表層がＳｉＯ２膜である多層膜が形成されることで反射防止がなされている眼鏡レンズ）の多層膜上に、スピンコート法により塗布した。
【００８２】
次いで、１２０℃で１０分間加熱処理を行い、室温まで冷却させて防汚性被膜を得た。上記［防汚性被膜の評価方法］に記載した要領で評価したところ、表１に示すとおり、干渉色の変化があり、良好な外観は得られなかった。
【００８３】
比較例９
アルコキシシランの重縮合物の濃度を０．３重量％となるよう調製した以外はすべて比較例８と同じとした。結果、干渉色の変化があり、良好な外観は得られなかった。
【００８４】
比較例１０
アルコキシシランの重縮合物の濃度を０．４重量％となるよう調製した以外はすべて比較例８と同じとした。結果、干渉色の変化があり、良好な外観は得られなかった。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】実施例１における処理剤の調製手順を示す図である。
【図２】比較例８におけるシリカゾルＸの調製手順を示す図である。
【図３】比較例８における塗布液の調製手順を示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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