(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶媒に溶解された放射性化合物を含んでなる試料から前記溶媒を気化させ、残った前記放射性化合物を生理食塩水で再溶解して放射性薬剤を製造するためのロータリエバポレータであって、
調剤用フラスコと、
前記調剤用フラスコを加熱するヒータと、
前記調剤用フラスコが取り付けられてこれを自転させ、当該調剤用フラスコを傾斜させた状態と、垂直の状態と、に可変できる軸部材によって設置台に支持されたロータリホルダと、
前記調剤用フラスコ内に連通され、試料の導入及び導出を行うチューブ材と、を備え、
前記調剤用フラスコは、底部に、前記チューブ材の先端を差し入れることができる凹部を有する
ことを特徴とするロータリエバポレータ。
【請求項２】
前記調剤用フラスコの凹部は、当該調剤用フラスコの口部と対向する位置に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のロータリエバポレータ。
【請求項３】
前記ヒータは、
前記調剤用フラスコを、その外周面から一定距離離間した位置で被覆して加熱する加熱部と、
前記加熱部と前記調剤用フラスコの間に配置される送風管と、
前記送風管の一端部に設けられ、前記調剤用フラスコの前記底部と対向する位置に配置されて、前記加熱部で加熱された熱風を前記調剤用フラスコに向けて吹き出す送風口と、を有する
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載のロータリエバポレータ。
【請求項４】
前記加熱部は、
二重隔壁構造を有し、当該二重隔壁間を真空とした
ことを特徴とする請求項３に記載のロータリエバポレータ。
【請求項５】
経路内の自動洗浄及び乾燥を行うとともに、異なる放射性薬剤を繰り返し自動調剤するための放射性薬剤の自動調剤装置であって、
請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のロータリエバポレータと、
前記ロータリエバポレータに接続され、前記放射性化合物を分離精製し、前記ロータリエバポレータに移送するための分離精製装置と、
前記分離精製装置及び前記ロータリエバポレータを制御する制御装置と、を有する
ことを特徴とする放射性薬剤の自動調剤装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射性薬剤の製造を行うためのロータリエバポレータ及びこのロータリエバポレータを備えた放射性薬剤の自動調剤装置に関し、特に、複数種類の放射性薬剤を、装置を分解することなく、繰り返し調剤することのできるロータリエバポレータ及びこのロータリエバポレータを備えた放射性薬剤の自動調剤装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、放射性薬剤の調剤は、作業者が手動で操作することを前提とした調剤装置を用いて一種類の薬剤のみを調剤するのが一般的であった。しかし、放射性薬剤の調剤処理においては、各工程で、作業者が放射線被爆する危険性がある。このような危険性を低減するため、特に、放射性薬剤の調剤処理の全ての工程を自動化する技術の確立が試みられている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、円筒ロータリエバポレータ本体内に、中空の回転シャフトを回転自在に設けるとともに、回転シャフトの端部にエアヒータにより加熱される調剤用フラスコを着脱自在に設け、また試料導出用チューブから製品受槽に至る導管にはそれぞれバルブを介して生理食塩水貯層及び滅菌フィルタを設け、これらバルブ操作を４連ピンチバルブで操作するようにしてなる放射性薬剤調剤製造装置について記載されている。
この放射性薬剤調剤製造装置の一連の動作は、分離精製装置からフラスコに試料を移送し、エアヒータにより熱風を吹き付けながらフラスコを回転させて溶媒を気化させた後に、目的成分を生理食塩水に溶解させた後、滅菌・ろ過して細菌等を除去することにより放射性薬剤が調剤され、この放射性薬剤を圧送して製品受槽に回収することで、調剤処理を自動化している。
このような従来の装置には、フラスコやチューブなどの部品の洗浄機能がないため、繰り返し使用するためには、調剤した放射性薬剤を回収後、装置を分解してフラスコやチューブなどの部品を滅菌洗浄し、再度、組み立てなおすことが必要であった。
【０００４】
【特許文献１】特開平６−２７１４７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、短寿命の放射性同位元素を用いた複数種類の放射性薬剤を製造するために１日に何度も製造に供される調剤装置としては、以下の条件を満たすことが求められると考えられている。すなわち、（１）作業者の放射線被爆を避けるために、放射性薬剤の調剤及び洗浄を含む全工程の自動処理が可能であること、製造効率の向上のために、（２）迅速処理が可能であること、及び、（３）効率の良い移送が可能であること、製品として使用しうるために、（４）１台の調剤装置で複数の放射性薬剤を扱ってもクロスコンタミネーションを起こさないこと、及び、（５）１台の調剤装置で装置を分解することなく自動的に複数種類の放射性薬剤の繰り返し調剤処理が可能であること、である。
【０００６】
この点に鑑みると、特許文献１に示す放射性薬剤調剤製造装置は、放射性薬剤の調剤処理を自動で行うことが可能であるため、調剤処理に関しては、作業者の放射線被爆の危険性を低減させることができる。しかし、洗浄処理に関しては、なお自動で行うことが困難であった。
【０００７】
また、上記（２）〜（５）の条件については、なお、満たすことが困難であった。ここで、上記（２）〜（５）の条件を満たすためには、調剤された放射性薬剤を効率よく回収し、フラスコ内の放射性薬剤の残留分を最小限に抑えることが必要であると考えられる。しかしながら、特許文献１に示す放射性薬剤調剤製造装置において、放射性薬剤を回収する試料導出用チューブは、フラスコ内部に延びる側が完全に自由端であったため、フラスコ内の放射性薬剤が溜まった箇所にうまく合致しない場合があった。加えて、放射性薬剤は、フラスコ内の広範囲に拡がって溜まるため、チューブの先端では、放射性薬剤を回収しきれず、フラスコ内の放射性薬剤の残留分が多くなってしまっていた。
【０００８】
このようにフラスコ内の放射性薬剤の残留分が増えると、製品の回収効率が低下するばかりでなく、洗浄処理の際に、フラスコ内の洗浄回数を増やさなければならず、洗浄処理に長時間を要していた。さらに、このような洗浄効率の低下が洗浄精度の低下を招き、１台の放射性薬剤調剤製造装置で複数の放射性薬剤を扱ったり、同一のフラスコを継続使用して別の放射性薬剤を生成したりすると、クロスコンタミネーションが起こってしまうという問題があり、自動洗浄を行うことができなかった。このため、製造毎に装置を分解し、フラスコやチューブなどの部品を滅菌洗浄した後、再度組み立てる必要があったため、作業者の放射線被爆が避けられなかった。このように装置を分解して再度組み立てると、作業中にフラスコやチューブが細菌などによって汚染される危険性が高まるという問題もあった。
【０００９】
さらに、特許文献１に示す放射性薬剤調剤製造装置において、エアヒータの熱風は、フラスコの底面付近のみに吹き付けられていた。このため、フラスコの底面付近のみしか熱が行き渡らないことから、熱効率が悪く、溶媒の気化などに長時間を要していた。これにより、放射性薬剤の製造に時間が掛かってしまい、放射能が減少して製造効率が悪かった。また、局所的に加熱されると、製造した放射性薬剤を分解してしまう危険性があった。
【００１０】
本発明は、前記課題に鑑みてなされたものであり、放射性薬剤の回収効率を向上させると共に、ロータリエバポレータの洗浄効率を向上させて、クロスコンタミネーションを防止することで、作業者の放射線被爆を低減させて、短時間かつ１日に複数回、高精度な放射性薬剤を調剤することができるロータリエバポレータ及びこれを備えた放射性薬剤の自動調剤装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記課題を解決した本発明のロータリエバポレータは、溶媒に溶解された放射性化合物を含んでなる試料から前記溶媒を気化させ、残った前記放射性化合物を生理食塩水で再溶解して放射性薬剤を製造するためのロータリエバポレータであって、調剤用フラスコと、前記調剤用フラスコを加熱するヒータと、前記調剤用フラスコが取り付けられてこれを自転させ、当該調剤用フラスコを傾斜させた状態と、垂直の状態と、に可変できる軸部材によって設置台に支持されたロータリホルダと、前記調剤用フラスコ内に連通され、試料の導入及び導出を行うチューブ材と、を備え、前記調剤用フラスコは、底部に、前記チューブ材の先端を差し入れることができる凹部を有する構成とした。
【００１２】
このようなロータリエバポレータによれば、ロータリエバポレータに接続された分離精製装置から移送された試料を、調剤用フラスコ内に連通するチューブ材より調剤用フラスコ内に導入し、調剤用フラスコ内を減圧するとともに、ロータリホルダによって調剤用フラスコを自転させる。この状態で、ヒータを稼動させて調剤用フラスコの周囲を加熱しながら、試料を還流させ、試料に含まれる溶媒を気化させて放射性化合物を得る。ここで、気化された溶媒は、チューブ材から順次導出する。さらに、チューブ材から調剤用フラスコ内に生理食塩水を導入して還流させ、放射性化合物を生理食塩水に溶解させて放射性薬剤を得る。続いて、軸部材を回転させて、調剤用フラスコを傾斜させた状態から垂直な状態にする。このようにして、重力によって流下して調剤用フラスコの凹部に集まった放射性薬剤を、先端が凹部に差し入れ可能に配置されたチューブ材で導出して製品として回収する。続いて、調剤用フラスコを再び傾斜させた状態にして洗浄液を導入して加熱しながら還流させて、蒸発した洗浄液が再び容器表面などで液化して下に落ちることを利用して調剤用フラスコ及びチューブ材を洗浄し、洗浄後、調剤用フラスコを垂直にしてチューブから洗浄液を導出する。
【００１３】
本発明のロータリエバポレータによれば、ロータリホルダを回動させて調剤用フラスコを垂直にしたときに、調剤用フラスコ内の放射性薬剤が重力によって流下して底部に集まる。底部には、チューブ材の先端が差し入れ可能に配置された凹部が設けられているので、チューブ材の先端で放射性薬剤が回収されて調剤用フラスコ内の放射性薬剤の残量が少なくなるにつれて、残りの放射性薬剤が凹部内に順次集められることとなり、これにより、チューブ材の先端で放射性薬剤を回収しやすくすることができる。したがって、調剤用フラスコ内の放射性薬剤のほとんど全てを導出することができる。これにより、製品の回収効率を向上させることができる。このように、調剤用フラスコ内の放射性薬剤の残留分を非常に少なくすることができるので、調剤用フラスコの洗浄の負担が大幅に軽減され、洗浄効率及び洗浄精度を向上させることができる。また、連続して複数の放射性薬剤を調剤しても、クロスコンタミネーションが起こりにくくすることができる。さらに、本発明のロータリエバポレータによれば、調剤用フラスコ内やチューブ材を取外し等しなくても洗浄することができるので、作業者の放射線被爆の危険性を大幅に低減させることができる。
【００１４】
また、請求項１に記載のロータリエバポレータにおいて、前記調剤用フラスコの凹部は、当該調剤用フラスコの口部と対向する位置に形成されていることが好ましい。
【００１５】
このような構成を備えることにより、調剤用フラスコを垂直な状態にしたときに、放射性薬剤をより確実に凹部内に集めることができるため、調剤用フラスコ内の放射性薬剤を、より回収しやすくすることができる。
【００１６】
また、請求項１または請求項２に記載のロータリエバポレータにおいて、前記ヒータは、前記調剤用フラスコを、その外周面から一定距離離間した位置で被覆して加熱する加熱部と、前記加熱部と前記調剤用フラスコの間に配置される送風管と、前記送風管の一端部に設けられ、前記調剤用フラスコの前記底部と対向する位置に配置されて、前記加熱部で加熱された熱風を前記調剤用フラスコに向けて吹き出す送風口と、を有する構成とすることが好ましい。
【００１７】
このような構成を備えることにより、ヒータは、加熱部内に吹き入れられた風を加熱して、送風管の一端部から調剤用フラスコに吹き付ける。このとき、送風管は、調剤用フラスコの底部と対向する位置に配置され、かつ、加熱部は、調剤用フラスコから一定距離離間した位置で調剤用フラスコを被覆しているため、熱風は、送風口から調剤用フラスコの底部に吹き付けられて、加熱部と調剤用フラスコの間を調剤用フラスコの外周面に沿って上方へ流れていく。これにより、調剤用フラスコの外周面の略全面を略均一に加熱することができるので、調剤用フラスコの外周面の一部が加熱される場合と比較して、熱効率を向上させることができ、より製造効率を向上させることができる。また、加熱部の外周面を断熱部で被覆することにより、調剤用フラスコに、加熱部で発生させた熱をより効率よく伝えることができる。
【００１８】
また、望ましくは、前記加熱部は、二重隔壁構造を有し、当該二重隔壁間を真空とする。
このような構成を備えることにより、外部からの熱を遮断することができ、調剤用フラスコ内の加熱効率を向上させることができる。
【００１９】
また、本発明は、経路内の自動洗浄及び乾燥を行うととともに、異なる放射性薬剤を繰り返し自動調剤するための放射性薬剤の自動調剤装置であって、請求項１から請求項４のいずれか一項に記載のロータリエバポレータと、前記ロータリエバポレータに接続され、前記放射性化合物を分離精製し、前記ロータリエバポレータに移送するための分離精製装置と、前記分離精製装置及び前記ロータリエバポレータを制御する制御装置と、を有する放射性薬剤の自動調剤装置として構成してもよい。
【００２０】
本発明の放射性薬剤の自動調剤装置によれば、分離精製装置とロータリエバポレータは制御装置により制御されているので、放射性薬剤の調剤処理からロータリエバポレータの部品の洗浄処理までの全てを自動で行うことができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明のロータリエバポレータによれば、放射性薬剤の回収効率を向上させると共に、複数の放射性薬剤を扱ってもクロスコンタミネーションを起こりにくくすることができる。さらに、洗浄効率を向上させることができる。従って、短時間で高精度な放射性薬剤を製造することができる。
また、本発明のロータリエバポレータは、装置を分解することなく、調剤用フラスコやチューブ材などの部品を自動で洗浄することができ、また、装置を分解することなく繰り返し調剤処理をすることが可能なため、作業者の放射線被爆の危険性を大幅に低減させることができ、短時間内に放射性薬剤の繰り返し製造が可能となる。
また、本発明の放射性薬剤の自動調剤装置によれば、放射性薬剤の調剤処理からロータリエバポレータの部品の洗浄処理までの全てを自動で行うことができる。このため、洗浄処理に要する時間を短縮化することができると共に、作業者の放射線被爆の危険性を大幅に低減させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
次に、本発明のロータリエバポレータの実施形態について、適宜図面を参照しながら詳細に説明する。参照する図面において、図１は、本発明のロータリエバポレータを示す全体斜視図であり、図２は、図１における調剤用フラスコの構成及び動作を説明するために一部断面にした拡大図であって、（ａ）は、通常の使用時における調剤用フラスコの状態を示し、（ｂ）は、放射性薬剤の回収時の調剤用フラスコの状態を示す図である。
【００２３】
図１に示すように、ロータリエバポレータ１は、調剤用フラスコ１０Ａと、ヒータ２０と、ロータリホルダ３０と、導入チューブ４０と、導出チューブ５０と、設置台８０と、軸部材８１と、支持部材９０と、を主に備えて構成されている。なお、導入チューブ４０及び導出チューブ５０は、特許請求の範囲における「チューブ材」に相当する。
【００２４】
図１及び図２に示すように、調剤用フラスコ１０Ａは、溶媒に溶解された放射性薬剤を含んでなる試料から溶媒を気化させ、残った放射性薬剤を生理食塩水で再溶解して調剤するためのものであって、ロータリホルダ３０に取り付けられて使用される。なお、調剤用フラスコ１０Ａは、ロータリホルダ３０の回転に合わせて自転可能となっている。
【００２５】
また、調剤用フラスコ１０Ａは、その底部に口部（図示せず）と対向する部分をさらに調剤用フラスコ１０Ａの外側に凹ませて形成した凹部１１ａを有している。
凹部１１ａは、その形成寸法が、導出チューブ５０の差し入れを容易に行うために、導出チューブ５０の先端の形成寸法よりも若干大きく、導出チューブ５０の先端が配置されたときに、導出チューブ５０の先端の周りに若干の隙間を有するように形成されるのが好ましい。このような凹部１１ａを備えることにより、後記するロータリホルダ３０を回動させて調剤用フラスコ１０Ａを垂直にしたときに、重力により流下した放射性薬剤を凹部１１ａ内に集めることができるため、導出チューブ５０で、放射性薬剤を回収しやすくすることができる。
【００２６】
また、調剤用フラスコ１０Ａ内には、放射性薬剤等の突沸防止のために、その内部を上下２室に分割・区画する隔壁１２が設けられていることが好ましい。隔壁１２は、略中央部で上下２室を連通する中空円筒状の円筒管１３を支持しており、この円筒管１３に、導入チューブ４０及び導出チューブ５０を挿通させて、調剤用フラスコ１０Ａの内部に放射性薬剤等を導入・導出している。
【００２７】
なお、調剤用フラスコ１０Ａの口部（図示せず）は、摺動・シール機能を有する蓋体１１０で密閉されている。蓋体１１０は、調剤用フラスコ１０Ａ内の気圧を調節するためのものであって、調剤用フラスコ１０Ａ内を減圧するための真空口（図示せず）と、調剤用フラスコ１０Ａ内を加圧するためのガス導入口（図示せず）と、を有しており、それぞれ、電磁弁Ｐを介して、真空ポンプ（図示せず）、窒素ガス導入装置（図示せず）及び減圧装置（図示せず）が接続されている。
【００２８】
このような調剤用フラスコ１０Ａは、ロータリホルダ３０によって自転して、放射性薬剤を還流させることでその内壁面に薄い液膜を形成して放射性薬剤の表面積を増加させる。これにより、後記するヒータ２０によって放射性薬剤が加熱されると、試料に含まれる溶媒を気化させやすくすることができる。
【００２９】
調剤用フラスコ１０Ａとしては、通常、調剤に用いられるナス型フラスコが好適に用いられるが、これに限られるものではなく、例えば、丸型フラスコを用いてもよい。
【００３０】
ヒータ２０は、調剤用フラスコ１０Ａを加熱するためのものであって、調剤用フラスコ１０Ａを、その外周面から一定距離離間した位置で被覆して加熱する加熱部２１と、調剤用フラスコ１０Ａに熱風を吹き付ける送風管２３と、を主に有して構成される。なお、ヒータ２０は、調剤用フラスコ１０Ａを効率よく均一に加熱できるものであればよく、この形態に限られるものではない。本実施形態では、ヒータ２０の加熱温度は、１００℃から３００℃としている。ただし、これに限らず、用いる溶媒、放射性化合物（放射性薬剤）に応じて自由に設定することができ、１００℃より低い温度あるいは３００℃より高い温度とすることができることはもちろんである。
【００３１】
加熱部２１は、調剤用フラスコ１０Ａの外周面の寸法より一回り大きな寸法で、調剤用フラスコ１０Ａを収容する収容空間を有して形成されており、この空間に、調剤用フラスコ１０Ａを配置して加熱する。
【００３２】
加熱部２１には、内壁部２１ｂに添うように渦巻状に電熱線２２が配置されており、図示しない電源装置により加熱される。
【００３３】
送風管２３は、調剤用フラスコ１０Ａに吹き付ける風を移送するためのものであって、一端部に、送風口２４が形成され、他端部が、送風装置（図示せず）と接続されている。送風管２３は、内壁部２１ｂと電熱線２２の間に、内壁部２１ｂに沿うように配置されている。
【００３４】
このように構成されたヒータ２０は、送風装置（図示せず）の送風ポンプ（図示せず）から送風管２３に風を供給すると、電熱線２２により送風管２３の内部の風が加熱されて熱風となり、この熱風を、送風口２４から調剤用フラスコ１０Ａの外周面に吹き付けることで、加熱部２１で発生させた熱を、次のようにして調剤用フラスコ１０Ａに伝えて、調剤用フラスコ１０Ａを加熱している。
【００３５】
つまり、送風口２４から排出される熱風は、内壁部２１ｂの下部方向から、内壁部２１ｂと調剤用フラスコ１０Ａの外周面との間を、調剤用フラスコ１０Ａの外周面に沿って上部方向に向かって流れていくので、調剤用フラスコ１０Ａの外周面全体に略均一に行き渡らせることができる。これにより、熱効率を向上させることができ、調剤用フラスコ１０Ａ内の溶媒を迅速に気化させることができる。
【００３６】
なお、ヒータ２０は、外壁部２１ａと内壁部２１ｂとで、二重隔壁を構成しており、隔壁内は、真空状態となっている。真空状態とすることで、外乱による熱効率の低下を防止し、加熱部２１で発生させた熱を、調剤用フラスコ１０Ａに効率よく伝えることができる。
【００３７】
ロータリホルダ３０は、調剤用フラスコ１０Ａを支持するとともに自転させるためのものである。ロータリホルダ３０は、中空円筒状に形成され、その端部に、例えば、シール用Ｏリング（図示せず）を介してワンタッチクリップ（図示せず）により調剤用フラスコ１０Ａの口部側の端部が、着脱自在に取り付けられている。
【００３８】
また、ロータリホルダ３０は、回転ベルト３１によってモータ３２と接続されており、モータ３２を駆動させることにより、ギヤヘッド（図示せず）及び回転ベルト３１が回転し、この回転動作によりロータリホルダ３０が回転し、調剤用フラスコ１０Ａを自転させる。
【００３９】
導入チューブ４０は、調剤用フラスコ１０Ａ内に、分離精製装置Ｈから放射性化合物を含んでなる試料及び洗浄液槽１０２から洗浄液（例えば、消毒用エタノール）を導入するためのものであって、一端側が、ロータリホルダ３０に介挿された状態で円筒管１３を挿通して調剤用フラスコ１０Ａ内に延び、他端側が、電磁弁Ｐ（図３参照）を介して分離精製装置Ｈや洗浄液送液シリンジなどに接続されている。
【００４０】
導入チューブ４０としては、公知のものを適宜用いることができ、例えば、ガラス管や、フッ素樹脂製チューブを用いることができる。なお、洗浄液としては、消毒用エタノールを用いることができるが、これに限定されるものではなく、滅菌水などを用いることもできる。
【００４１】
導出チューブ５０は、生理食塩水で再溶解されて調剤された放射性薬剤及び洗浄に使用した液の導出を行う。導出チューブ５０は、一端側がロータリホルダ３０に介挿された状態で円筒管１３を挿通して調剤用フラスコ１０Ａ内に伸び、他端側には、電磁弁Ｐ（図３参照）が取り付けられている。なお、本実施形態において、導出チューブ５０は、生理食塩水の導入にも用いられる。
【００４２】
このような導出チューブ５０は、電磁弁Ｐ（図３参照）を開閉することで流路を切り替えて、製品受槽１００、廃液受槽１０１、生理食塩水槽１０３のそれぞれに導入・導出することができるようになっている。したがって、導出チューブ５０を、配置される槽と同数設置する必要はなく、適宜、設置数を変更することができる。
【００４３】
導出チューブ５０としては、公知のものを適宜用いることができ、例えば、フッ素樹脂製チューブを用いることができる。
なお、導出チューブ５０は、調剤用フラスコ１０Ａを挿通してその先端を凹部１１ａに配置するのに十分な長さを有するものを使用する。
【００４４】
導入チューブ４０及び導出チューブ５０は、ロータリホルダ３０の口部を密閉する蓋体１１０に対して固定具（図示せず）などにより固定・支持され、その間に介装されたＯリング（図示せず）によってシールされている。
【００４５】
設置台８０は、ロータリエバポレータ１の基台となるものであって、例えば、設置面に水平に横置きされた板状の台座部分とこの台座に立設される棒状の支持台部分とでなる。設置台８０の支持台部分の側面部には、支持部材９０を支持して回動させるための軸部材８１が、設置台８０の支持台部分に対して垂直に設置されている。軸部材８１としては、例えば、公知のエアシリンダや電動モータを用いることができる。
【００４６】
図１及び図２（ａ）、（ｂ）に示すように、支持部材９０は、ロータリホルダ３０を傾斜させた状態と、垂直の状態と、に可変させるためのものであって、軸部材８１に軸着され、この軸部材８１の回転に伴って回動する。支持部材９０は、ロータリホルダ３０が垂直の状態であるときに設置台８０と略平行の背面板９１とこの背面板９１に対して直角方向に延びる上段の上支持板９２と、下段の下支持板９３と、を有する。
【００４７】
上支持板９２は、ロータリホルダ３０を介して調剤用フラスコ１０Ａの口部（図示せず）側の端部付近を支持している。このとき、調剤用フラスコ１０Ａは、背面板９１と略平行になるように、上支持板９２に支持されている。
なお、上支持板９２は、軸部材８１の回転軸と回転自在に固定されており、軸部材８１を回転させると、支持部材９０が回動するようになっている。
【００４８】
下支持板９３は、調剤用フラスコ１０Ａにその外周面から当接するとともに、ヒータ２０を保持する。
【００４９】
次に、前記したロータリエバポレータ１を備えた放射性薬剤の自動調剤装置１Ａの構成について説明する。図３及び適宜図１、図２を参照して説明する。図３は、本発明の自動調剤装置の構成図である。
【００５０】
図３に示すように、自動調剤装置１Ａは、ロータリエバポレータ１に加えて、さらに、分離精製装置Ｈと、制御装置１２０と、を備えて構成されている。なお、自動調剤装置１Ａは、窒素ガス供給装置、減圧装置、液体トラップなどを備えた、ユーティリティユニット（いずれも図示せず）と接続されている。
【００５１】
分離精製装置Ｈは、小型サイクロトロンなどで製造した放射性化合物を分離・精製し、溶媒に溶解された状態で当該放射性化合物を含んだ試料を合成する。また、分離精製装置Ｈは、導入チューブ４０を介して、合成した試料を調剤用フラスコ１０Ａへ移送する。このような分離精製装置Ｈとしては、例えば、公知の高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）を用いることができる。
【００５２】
制御装置１２０は、分離精製装置Ｈ及びロータリエバポレータ１を構成する各部材と接続されて、その動作を制御するためのものであって、ホットセル（図示せず）外に配置されており、操作パネル（図示せず）を有して構成されている。作業者が操作パネル（図示せず）に入力した入力信号が送信されると、制御装置１２０で制御信号が生成され、この制御信号を分離精製装置Ｈ及びロータリエバポレータ１の各部材に送信して動作させている。
【００５３】
次に、自動調剤装置１Ａの動作について適宜図面を参照して説明する。
自動調剤装置１Ａの動作は、調剤処理と、調剤処理に続く洗浄処理と、でなる。まず、図４及び適宜図１から図３を参照して、自動調剤装置１Ａにより行われる調剤処理について説明する。図４は、自動調剤装置により行われる調剤処理を説明するためのフローチャートである。
【００５４】
以下の説明では、予め放射性同位元素を用いて放射性化合物を合成した後、分離精製装置Ｈによって、反応混合物から、目的とする放射性化合物が分離精製された状態であるものとする。また、各部材（ディスポーザブル製品・製品受槽１００・生理食塩水槽１０１・洗浄液槽１０２・廃液受槽１０３等）は、各所に配置されたルア継手（図示せず）により、図３に示す所定位置に配置・接続された状態であるものとする。さらに、調剤用フラスコ１０Ａは、４５°に傾斜した状態であるものとする。
【００５５】
図４に示すように、まず、分離精製装置Ｈから導入チューブ４０を通じて調剤用フラスコ１０Ａ内へ試料を導入する（ステップＳ１）。次に、真空ポンプ（図示せず）により、調剤用フラスコ１０Ａ内の減圧を開始する（ステップＳ２）。続いて、ヒータ２０により調剤用フラスコ１０Ａを加熱するとともに、モータ３２を駆動させてロータリホルダ３０を回転させることにより、調剤用フラスコ１０Ａを自転させ、この状態を所定時間維持して試料から溶媒を蒸発させて放射性化合物を得る（ステップＳ３）。なお、ヒータ２０の設定温度は、必要に応じて適宜変更するものとする。なお、ステップＳ２とステップＳ３は、同時に開始してもよい。
【００５６】
次に、調剤用フラスコ１０Ａ内の溶媒が底部に塊として見えなくなったら（約０．２ｍＬ程度）、ヒータ２０を停止して調剤用フラスコ１０Ａの加熱を停止し、余熱で溶媒を完全に蒸発させる（ステップＳ４）。
そして、調剤用フラスコ１０Ａの回転動作を持続させたままで、生理食塩水槽１０１から電磁弁Ｐ及び導出チューブ５０を通じて、調剤用フラスコ１０Ａ内に、生理食塩水を真空圧により吸引して導入し、還流させ、放射性化合物を生理食塩水に溶解させて放射性薬剤を合成する（ステップＳ５）。
【００５７】
続いて、モータ３２を停止してロータリホルダ３０及び調剤用フラスコ１０Ａの回転を停止する。この状態から、図示しないモータにより、軸部材８１を、図２（ｂ）に示す矢印方向に回転させ、この軸部材８１を支点として、支持部材９０で支持するロータリホルダ３０を回動させる。この動作により、図２（ｂ）に示すように、ロータリホルダ３０に取り付けられた調剤用フラスコ１０Ａ及びヒータ２０を垂直な状態にする。このようにすることで、傾斜させていたために調剤用フラスコ１０Ａ内の側壁部及び底部にわたって拡がっていた放射性薬剤を底部及び凹部１１ａに集めることができる。そして、窒素ガス導入装置（図示せず）から窒素ガスを調剤用フラスコ１０Ａ内に圧送することによって、放射性薬剤を導出チューブ５０から製品受槽１００に導出する（ステップＳ６）。導出チューブ５０は凹部１１ａに差し入れ可能に配置されているため、放射性薬剤の略全量を吸出することが可能となっている。
【００５８】
なお、放射性薬剤の残量が少なくなると、放射性薬剤が、凹部１１ａ内に自然に流下するので、調剤用フラスコ１０Ａ内の放射性薬剤を、ほとんど全て導出することができる。
以上のようにして、自動調剤装置１Ａにより放射性薬剤を調剤する。
【００５９】
次に、図５及び適宜図１から図３を参照して、自動調剤装置１Ａにより行われる洗浄処理について説明する。図５は、自動調剤装置により行われる洗浄処理を説明するためのフローチャートである。
【００６０】
調剤用フラスコ１０Ａ内の放射性薬剤を導出後、図示しないモータにより軸部材８１を回転させて、支持部材９０を回動させ、支持部材９０で支持するロータリホルダ３０（調剤用フラスコ１０Ａ）を例えば４５°傾斜させた位置まで回動させ、導入チューブ４０から調剤用フラスコ１０Ａ内へ、洗浄液を例えば６ｍＬ流し入れるとともに調剤用フラスコ１０Ａを自転させる。これにより、濃度の高い放射性薬剤を希釈するとともに、調剤用フラスコ１０Ａの内部を洗浄する（ステップＳ１０）。
【００６１】
続いて、調剤用フラスコ１０Ａの自転を停止させるとともに、軸部材８１を、図２（ｂ）に示す矢印方向に回転させて支持部材９０を回動させることにより、ロータリホルダ３０を回動させる。そして、図２（ｂ）に示すように、ロータリホルダ３０に取り付けられた調剤用フラスコ１０Ａ及び調剤用フラスコ１０Ａに取り付けられたヒータ２０を垂直な状態とする。そして、窒素ガス導入装置（図示せず）から圧送された窒素ガスを調剤用フラスコ１０Ａ内に送る。これにより、凹部１１ａに残った放射能を含む液を、適宜の電磁弁Ｐ及び導出チューブ５０を通じて廃液受槽１０３へ導出する（ステップＳ１１）。
【００６２】
このようにして調剤用フラスコ１０Ａ内の濃度の高い残液を回収した後、軸部材８１により、再び、調剤用フラスコ１０Ａを４５°傾斜させた位置まで回動させる。これと同時に、ヒータ２０の温度を例えば１００℃に設定し、調剤用フラスコ１０Ａに熱風を吹き付けて加熱するとともに調剤用フラスコ１０Ａを自転させる（ステップＳ１２）。
【００６３】
次に、洗浄液槽１０２から導入チューブ４０を通じて、調剤用フラスコ１０Ａ内に洗浄液を例えば１０ｍＬ流し入れ、この洗浄液を、例えば５分間還流させて導入チューブ４０及び調剤用フラスコ１０Ａの内壁に残った放射性薬剤などを還流雰囲気で洗浄する（ステップＳ１３）。
【００６４】
次に、ヒータ２０の駆動を停止させ、調剤用フラスコ１０Ａの自転を停止させるとともに、軸部材８１を、図２（ｂ）に示す矢印方向に回転させて支持部材９０を回動させることにより、ロータリホルダ３０を回動させる。そして、図２（ｂ）に示すように、ロータリホルダ３０に取り付けられた調剤用フラスコ１０Ａ及び調剤用フラスコ１０Ａに取り付けられたヒータ２０を垂直な状態とする。
【００６５】
この動作により、それまで傾斜させていたために調剤用フラスコ１０Ａ内の側壁部及び底部にわたって拡がっていた洗浄液を底部及び凹部１１ａに集めることができる。そして、窒素ガス導入装置（図示せず）から調剤用フラスコ１０Ａ内に窒素ガスを圧送することで、凹部１１ａに差し入れ可能に配置された導出チューブ５０の先端から、洗浄液を廃液受槽１０３に導出する（ステップＳ１４）。
【００６６】
なお、洗浄液の残量が少なくなると、洗浄液が流下して凹部１１ａ内に集まるので、調剤用フラスコ１０Ａ内の洗浄液のほとんど全てを導出することができる。
【００６７】
続いて、再び、ロータリホルダ３０は、調剤用フラスコ１０Ａを４５°傾斜させて自転させ、導入チューブ４０から洗浄液を、例えば１０ｍＬ流し入れる。このようにして例えば３分間、調剤用フラスコ１０Ａ内をすすぐ（ステップＳ１５）。
【００６８】
次に、調剤用フラスコ１０Ａの回転を停止させ、調剤用フラスコ１０Ａを垂直にし、洗浄液を導出チューブ５０から廃液受槽１０３へ導出する（ステップＳ１６）。
【００６９】
次に、ステップＳ１５及びステップＳ１６を再度繰り返す。なお、ステップＳ１５及びステップＳ１６は、調剤用フラスコ１０Ａ内をすすぐ目的で行うものであるため、ヒータ２０による調剤用フラスコ１０Ａの加熱は行わなくてもよい。なお、ステップＳ１５、ステップＳ１６は、３回以上行ってもよいことはいうまでもない。
【００７０】
次に、調剤用フラスコ１０Ａを４５°傾斜させて自転させるとともに、窒素ガス導入装置（図示せず）から移送された窒素ガスを調剤用フラスコ１０Ａ内に送り、例えば１００℃に温度設定されたヒータ２０から、調剤用フラスコ１０Ａの外周面に向けて熱風を送って、例えば４分間加熱し、調剤用フラスコ１０Ａ及び導出チューブ５０内を乾燥させる（ステップＳ１７）。
【００７１】
このようにして、調剤用フラスコ１０Ａ、導入チューブ４０及び導出チューブ５０の洗浄・滅菌を行うことで一連の洗浄処理が終了する。
【００７２】
本発明の自動調剤装置１Ａによれば、以下のような優れた効果が得られる。
本発明の自動調剤装置１Ａによれば、連続して、他の異なる試料から放射性薬剤を製造する場合などにおいても、クロスコンタミネーションの発生を防止することができ、製品としての高精度な放射性薬剤を得ることができる。
また、本発明の自動調剤装置１Ａは、自動洗浄機能を有するため、短時間内に製造を繰り返しても作業者の放射線被爆の危険性を低減させることができる。
【実施例】
【００７３】
以下、本発明のロータリエバポレータを用いた自動調剤装置の実施例について説明する。
実施例では、実験装置として、調剤用フラスコと、調剤用フラスコを加熱するヒータと、調剤用フラスコが取り付けられてこれを自転させ、調剤用フラスコを傾斜させた状態と、垂直の状態と、に可変できる軸部材によって設置台に支持されたロータリホルダと、調剤用フラスコ内に連通され、試料の導入及び導出を行うチューブ材と、を備え、調剤用フラスコは、チューブ材の先端を差し入れることができる凹部を有するロータリエバポレータを使用した。なお、実施例に係るロータリエバポレータは、合成装置（図示せず）・分離精製装置及び制御装置と接続されている。
【００７４】
まず、実施例に係るロータリエバポレータに接続された合成装置（図示せず）を用いて、「ＰＥＴ用放射性薬剤の製造及び品質検査−合成と臨床使用へのてびき（ＰＥＴ化学ワークショップ編）−第３版 （平成１９年改定版）」（石渡喜一ら編著）に記載の方法にてドーパミンＤ２受容体計測用［11Ｃ］ラクロプライド（以下、単に「ラクロプライド」ともいう。）を合成した。
(参考ＵＲＬ：http://kakuyaku.cyric.tohoku.ac.jp/index-j.htm）。
【００７５】
ドーパミンＤ２受容体計測用［11Ｃ］ラクロプライドを合成装置（図示せず）により合成後、分離精製装置から導入チューブを通じて調剤用フラスコ内へ反応混合液を導入した。次に、真空ポンプにより、調剤用フラスコ内の減圧を開始し、続いて、ヒータにより調剤用フラスコを加熱するとともに、モータを駆動させてロータリホルダを回転させることにより、調剤用フラスコを自転させ、この状態を所定時間維持して反応混合液から溶媒を蒸発させた。
【００７６】
調剤用フラスコ内の溶媒が底部に塊として見えなくなったら（約０．２ｍＬ程度）、ヒータを停止して調剤用フラスコの加熱を停止し、余熱により溶媒を完全に蒸発させた。そして、調剤用フラスコの回転動作を持続させたままで、生理食塩水槽から電磁弁及び導出チューブを通じて、調剤用フラスコ内に、生理食塩水を真空圧により吸引して導入し、還流させ、放射性化合物を生理食塩水１０ｍＬに溶解させて放射性薬剤を製造した。
【００７７】
そして、このようにして製造した放射性薬剤を、次のようにして回収した。すわなち、モータを停止してロータリホルダ及び調剤用フラスコの回転を停止した。この状態から、モータにより、ロータリホルダを回動させて、ロータリホルダに取り付けられた調剤用フラスコ及びヒータを垂直な状態にして、調剤用フラスコ内の放射性薬剤を底部及び凹部に集めた。そして、窒素ガス導入装置から窒素ガスを調剤用フラスコ内に圧送することによって、放射性薬剤を導出チューブから製品受槽に導出した。
【００７８】
次に、実施例の自動調剤装置を用いて、調剤用フラスコ内及び導出チューブ内の洗浄を１７分間行った。すなわち、放射性薬剤を回収後、調剤用フラスコを垂直な状態から傾斜させた状態に戻し、導入チューブから調剤用フラスコ内へ洗浄液１０ｍＬを流し入れて、調剤用フラスコ内に残った放射性薬剤を希釈し、調剤用フラスコを回転させ、内部を洗浄した。
【００７９】
続いて、調剤用フラスコを垂直な状態とし、窒素ガス導入装置（図示せず）から圧送された窒素ガスを調剤用フラスコ内に送ることによって、凹部に残った放射能を含む洗浄液を、適宜の電磁弁及び導出チューブを通じて廃液受槽へ導出した。そして、調剤用フラスコ内に残った放射性薬剤を回収後、調剤用フラスコを傾斜させた状態とした。次に、ヒータから調剤用フラスコに熱風を吹き付けて加熱するとともに調剤用フラスコを自転させ、洗浄液槽から導入チューブを通じて調剤用フラスコ内に洗浄液１０ｍＬを流し入れ、この洗浄液を還流させて、導入チューブ及び調剤用フラスコの内壁に残った放射性薬剤などを還流雰囲気で洗浄した。次に、ヒータ及び調剤用フラスコの回転を停止させるとともに、調剤用フラスコを垂直な状態として、調剤用フラスコ内の洗浄液を底部及び凹部に集めた。そして、窒素ガス導入装置から調剤用フラスコ内に窒素ガスを圧送することで、凹部に差し入れ可能に配置された導出チューブの先端から、洗浄液を廃液受槽へ導出した。
【００８０】
再び調剤用フラスコを傾斜させた状態として自転させ、導入チューブから洗浄液１０ｍＬを流し入れ、調剤用フラスコ内をすすいだ。次に、調剤用フラスコの回転を停止させ、調剤用フラスコを垂直な状態とし、洗浄液を導出チューブから廃液受槽へ導出した。このようなすすぎ処理を２回繰り返した。
【００８１】
次に、調剤用フラスコを傾斜させて自転させるとともに、窒素ガス導入装置から移送された窒素ガスを調剤用フラスコ内に送り、ヒータから、調剤用フラスコの外周面に向けて熱風を送って加熱し、調剤用フラスコ内及び導出チューブ内を乾燥させた。
このようにして、調剤用フラスコ内及び導出チューブ内を洗浄した。
【００８２】
回収した製品８．７５ｍＬを分析した結果、原料の濃度が、製品中０．９４５μｇ／８．７５ｍＬ、ラクロプライドの濃度が製品中０．８６６μｇ／８．７５ｍＬであった。
【００８３】
次に、上述の方法で調剤用フラスコ及び導出チューブ内を洗浄乾燥させた後、合成装置（図示せず）により、「ＰＥＴ用放射性薬剤の製造及び品質検査−合成と臨床使用へのてびき（ＰＥＴ化学ワークショップ編）−第３版 （平成１９年改定版）」（石渡喜一ら編著）に記載の方法にて、ベンゾジアゼピン受容体計測用［11Ｃ］Ｒｏ１５−１７８８（以下、単に「Ｒｏ１５−１７８８」ともいう。）を合成した。分離精製装置で分離精製後、前記実施例と同様の調剤処理を行い、製品とした。
(参考ＵＲＬ：http://kakuyaku.cyric.tohoku.ac.jp/index-j.htm）。
回収した製品８．７５ｍＬをラクロプライドの分析条件で分析した結果、原料及びラクロプライドの濃度は、共に、０．０１μｇ／ｍＬ以下であり、検出限界以下であった。
【００８４】
また、回収した製品８．７５ｍＬをＲｏ１５−１７８８の分析条件で分析した結果、Ｒｏ１５−１７８８の原料の濃度が１１．３７５μｇ／８．７５ｍＬ、Ｒｏ１５−１７８８の濃度が７．３４１μｇ／８．７５ｍＬであった。
【００８５】
次に、前記実施例と同様の洗浄処理を行い、調剤用フラスコ内及び導出チューブ内を洗浄した。洗浄処理後に、調剤用フラスコ内に生理食塩水を１０ｍＬ導入して取り出し、Ｒｏ１５−１７８８の分析条件を用いて取り出した液体（生理食塩水）を分析した。
その結果、調剤用フラスコ内の、Ｒｏ１５−１７８８の原料及びＲｏ１５−１７８８の残留濃度は、共に０．０１μｇ／ｍＬ以下であり、検出限界以下であることがわかった。また、放射能による分析では、洗浄処理を行った後には、前製品であるラクロプライドからの放射能ピークは検出されなかった。また、製品Ｒｏ１５−１７８８中には、細菌やエンドトキシンなども検出されなかった。
【００８６】
以上のように、本発明のロータリエバポレータによれば、複数種類の放射性薬剤を連続して調剤しても、クロスコンタミネーションを起こすことなく、高精度な放射性薬剤が得られることがわかった。また、本発明の自動調剤装置によれば、使用の都度、洗浄のために装置を分解する必要がないため、放射線被爆の危険性を低減することができる。
さらに、洗浄に要する時間を飛躍的に短縮することができるので、放射性薬剤の製造にかかる一連の作業時間を短縮することができ、放射性薬剤の製造効率を向上させることができる。
［比較例］
【００８７】
次に、実施例に係る自動調剤装置と比較例に係る調剤装置の比較例として放射能を持たないコールド試料を用いて洗浄機能の性能実験を行った。
【００８８】
比較例に係る調剤装置として、実施例に係る自動調剤装置との性能を比較するため、従来公知のロータリエバポレータに、洗浄液の自動導入・導出機能を付加した調剤装置を製造して使用した。なお、この調剤装置に設置される調剤用フラスコは、実施例で用いた調剤用フラスコのように凹部が形成されたものではない。通常用いられるナス型フラスコを使用した。調剤用フラスコは、予め傾斜させた状態で固定される。また、ヒータは、調剤用フラスコと離間した下方に配置されているものである。また、このように構成された比較例に係る調剤装置は、制御装置に接続されている。
【００８９】
試料として、水溶性の試薬Ａ（第一製薬社製  アスコルビン酸注射液  ビスコリン注２５％［日本薬局方］）を１００,０００μｇ、脂溶性の試薬Ｂ（Ｓｉｇｍａ社製  Verapamil塩酸塩［＞９９．９％］）を１,０００μｇ溶かした溶液１０ｍＬを作製して使用した。また、洗浄液として、公知の注射用蒸留水（大塚製薬社製  注射用水［日本薬局方］）を使用した。
【００９０】
まず、実施例に係る自動調剤装置を用いて、導入チューブより上記試料を導入して、前記実施例の手順によりコールド薬剤を製品受槽に導出した。その後、前記実施例と同様の洗浄処理を行った。
【００９１】
また、比較例に係る調剤装置を用いて、以下のようにして、コールド薬剤の製造を行った。すなわち、導入チューブを通じて調剤用フラスコ内へ試料Ａ、試料Ｂを溶かした溶液を導入した。次に、真空ポンプにより、調剤用フラスコ内の減圧を開始した。続いて、ヒータにより調剤用フラスコを加熱するとともに、モータを駆動させてロータリホルダを回転させることにより、調剤用フラスコを自転させ、この状態を所定時間維持して試料Ａ、試料Ｂを溶かした溶液から溶媒を蒸発させてコールド試料を得た。なお、次に、調剤用フラスコ内の溶媒が底部に塊として見えなくなったら（約０．２ｍＬ程度）、ヒータを停止して調剤用フラスコの加熱を停止し、余熱により溶媒を完全に蒸発させた。そして、調剤用フラスコの回転動作を持続させたままで、生理食塩水槽から電磁弁及び導出チューブを通じて、調剤用フラスコ内に、生理食塩水を真空圧により吸引して導入し、還流させ、コールド試料を生理食塩水１０ｍＬに溶解させてコールド薬剤を製造した。
【００９２】
そして、このようにして製造したコールド薬剤を、次のようにして回収した。すわなち、モータを停止してロータリホルダ及び調剤用フラスコの回転を停止した。そして、窒素ガス導入装置から窒素ガスを調剤用フラスコ内に圧送することによって、調剤用フラスコ内に拡がったコールド薬剤を導出チューブから製品受槽に導出した。
【００９３】
次に、コールド薬剤を製品受槽に回収後、次のようにして、調剤用フラスコ内及び導出チューブ内の洗浄を約３０分間行った。すなわち、調剤用フラスコ内に洗浄液１０ｍＬを導入して自転させ、濃度の高いコールド薬剤を希釈した。そして、ヒータで調剤用フラスコを加熱しながら洗浄液を還流させて、調剤用フラスコ内を洗浄した。最後に、残った廃液を廃液受槽に回収した。このような洗浄処理を３回繰り返した。
【００９４】
洗浄処理後、実施例に係る自動調剤装置と比較例に係る調剤装置のそれぞれの調剤用フラスコに、注射用蒸留水１０ｍＬを入れて、取り出し分析した。
【００９５】
その結果、比較例に係る調剤装置によると、洗浄処理後における調剤用フラスコ内の、水溶性の試薬Ａの残留濃度は３９．３μｇ／１０ｍＬとなり、脂溶性の試薬Ｂの残留濃度は３．０μｇ／１０ｍＬとなり、水溶性の試薬Ａに関しては合格基準を満たしたが、脂溶性の試薬Ｂに関しては合格基準を満たさなかった。
【００９６】
これに対し、実施例に係る自動調剤装置によれば、洗浄処理後における調剤用フラスコ、導入チューブ及び導出チューブ内の水溶性の試薬Ａの残留濃度は、２０．０μｇ／１０ｍＬとなり、脂溶性の試薬Ｂの残留濃度は、０．２μｇ／ｍＬ以下（検出限界以下）となり、いずれも上記の基準を満足した。
【００９７】
以上のように、本実施形態に係る自動調剤装置によれば、短い洗浄時間で、調剤用フラスコ、導入チューブ及び導出チューブの洗浄精度を飛躍的に高くすることができる。このため、異なる薬剤を繰り返し調剤してもクロスコンタミネーションが起こりにくく、製品としての高精度な放射性薬剤を得ることができる。また、本実施形態の自動調剤装置によれば、調剤処理から洗浄処理までの全工程を自動で処理することができるため、作業者の放射線被ばく無しに、異なる放射性薬剤を連続的に調剤処理することが可能となる。
【００９８】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は、前記した実施形態に限られるものではなく、種々の変更が可能である。例えば、支持部材９０を設けなくてもよく、ロータリホルダ３０を軸部材８１に直接軸着させて回動させてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００９９】
【図１】本発明の主要部を構成するロータリエバポレータを示す全体斜視図である。
【図２】図１における調剤用フラスコの構成及び動作を説明するために一部断面にした拡大図であって、（ａ）は、通常の使用時における調剤用フラスコの設置角度、（ｂ）は、放射性薬剤の回収時の調剤用フラスコの設置角度を示す図である。
【図３】本発明の自動調剤装置の構成図である。
【図４】本発明の自動調剤装置により行われる調剤処理を説明するためのフローチャートである。
【図５】本発明の自動調剤装置により行われる洗浄処理を説明するためのフローチャートである。
【符号の説明】
【０１００】
１      ロータリエバポレータ
１Ａ    自動調剤装置
１０Ａ  調剤用フラスコ
１１ａ  凹部
２０    ヒータ
２３    送風管
２４    送風口
３０    ロータリホルダ
４０    導入チューブ
５０    導出チューブ
８０    設置台
８１    軸部材
９０    支持部材
１２０  制御装置
Ｈ      分離精製装置
【図１】
0005246842.tif 000002
【図２】
0005246842.tif 000003
【図３】
0005246842.tif 000004
【図４】
0005246842.tif 000005
【図５】
0005246842.tif 000006