(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｘ）で表されるモノメチン化合物の製造の際、下記一般式（ａ−１）で表される化合物と、下記一般式（ａ−２）で表される化合物を、下記一般式（ａ−３）で表される化合物の存在下で反応させて製造することを特徴とするモノメチン化合物の製造方法。
【化１】
0005272374.tif 000019
（式中、Ｑは５員縮合環を形成するのに必要な原子団を表し、Ｒａ１は水素原子またはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基である置換基（アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基でさらに置換されていてもよい）を表し、Ｒａ２はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基である置換基（アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基でさらに置換されていてもよい）を表し、ｎａは０から２の整数を表し、ＥＷＧはハメットの置換基定数（σｐ）が０．０５以上の電子吸引性基を表し、ＨＥＴはフラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環またはチアジアゾール環を表し、Ｒａ３は水素原子またはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、���ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基である置換基（アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基でさらに置換されていてもよい）を表す。）
【化２】
0005272374.tif 000020
（式中、Ｑ、Ｒａ１及びＲａ２は、一般式（ａ−１）の、Ｑ、Ｒａ１及びＲａ２と同義であり、ＥＷＧ及びＨＥＴは、一般式（ａ−２）のＥＷＧ及びＨＥＴと同義である。ｎａは０から２の整数を表す。）
【請求項２】
ＥＷＧがハロゲン原子、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン置換アルキル基、脂肪族、芳香族もしくは芳香族複素環アシル基、脂肪族・芳香族もしくは芳香族複素環スルホニル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、置換アリール基、芳香族複素環基、アゾ基、ジトリフルオロメチルアミノ基、トリフルオロメトキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アシロキシ基、アリールスルホニルオキシ基、ホスホリル基またはスルファモイル基である、請求項１に記載のモノメチン化合物の製造方法。
【請求項３】
前記モノメチン化合物の製造方法において、前記一般式（ａ−１）で表される化合物が下記一般式（２−１）または（２−２）で表される化合物であることを特徴とする請求項１または２に記載のモノメチン化合物の製造方法。
【化３】
0005272374.tif 000021
（式中、Ｒ２１〜Ｒ２３は水素原子あるいはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基である置換基（アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基でさらに置換されていてもよい）を表す。）
【請求項４】
前記一般式（ａ−３）で表される化合物が酢酸であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のモノメチン化合物の製造方法。
【請求項５】
下記一般式（Ｘ）で表されるモノメチン化合物。
【化４】
0005272374.tif 000022
（式中、Ｑは５員縮合環を形成するのに必要な原子団を表し、Ｒａ１は水素原子またはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基である置換基（アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基でさらに置換されていてもよい）を表し、Ｒａ２はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基である置換基（アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基でさらに置換されていてもよい）を表し、ｎａは０から２の整数を表し、ＥＷＧはハメットの置換基定数（σｐ）が０．０５以上の電子吸引性基を表し、ＨＥＴはフラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環またはチアジアゾール環を表す。）
【請求項６】
下記一般式（Ｘ−１）で表されることを特徴とするモノメチン化合物。
【化５】
0005272374.tif 000023
（式中、Ｒ２１およびＲ２２は水素原子またはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基である置換基（アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基でさらに置換されていてもよい）を表し、ＥＷＧはハメットの置換基定数（σｐ）が０．０５以上の電子吸引性基を表し、ＨＥＴはフラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環またはチアジアゾール環を表す。）
【請求項７】
前記一般式（Ｘ−１）で表される化合物のＨＥＴがピリジン環、チオフェン環、フラン環、チアゾール環及びオキサゾール環から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項６に記載のモノメチン化合物。
【請求項８】
前記一般式（Ｘ−１）で表される化合物のＥＷＧがニトロ基またはハロゲン原子であることを特徴とする請求項６または７に記載のモノメチン化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電子吸引性基が置換した芳香族複素環アルデヒド化合物と含窒素縮合５員環化合物とカルボン酸化合物を用いる事を特徴とする電子吸引性基が置換した芳香族複素環モノメチン構造を有する特定の化合物の製造方法および電子吸引性基が置換した芳香族複素環モノメチン構造を有する特定の化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、芳香族複素環モノメチン構造を有する化合物は色素（モノメチン色素）やその他有用な前駆体として様々な分野で用いられて（例えば、特許文献１参照）きた。芳香族複素環モノメチン構造を有する化合物の製造方法として、芳香族複素環アルデヒド化合物を含窒素縮合５員環化合物と反応させることが知られているが（例えば、特許文献２、３参照）、実際に用いられている芳香族複素環アルデヒド化合物は無置換もしくはアルキルアミノ基などの電子供与性基置換体であり、反応は通常、中性から塩基性条件化で行われる。しかしながら、この反応条件は芳香族複素環アルデヒド化合物に電子吸引性基が置換している場合、高い収率で目的物を得ることが難しく、高収率かつ汎用的な製造方法が望まれていた。
【０００３】
さらに、種々の芳香族複素環モノメチン構造を有する化合物が開示され（例えば、特許文献４参照）、置換可能な置換基として一般的な置換基が開示されているが、電子吸引性基が置換した芳香族複素環モノメチン構造を有する化合物について具体的に化合物例および合成例および実施例においてなんら記載されてはいない。
【特許文献１】特開平１０−３００６１号公報
【特許文献２】特開平１１−１５２４１９号公報
【特許文献３】特開２００６−３５０３００号公報
【特許文献４】特開平９−３０２０１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、電子吸引性基が置換した芳香族複素環モノメチン構造を有する特定の化合物の高収率かつ汎用的な製造方法ならびに電子吸引性基が置換した芳香族複素環モノメチン構造を有する特定の化合物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成することができる。
【０００６】
１．下記一般式（Ｘ）で表されるモノメチン化合物の製造の際、下記一般式（ａ−１）で表される化合物と、下記一般式（ａ−２）で表される化合物を、下記一般式（ａ−３）で表される化合物の存在下で反応させて製造することを特徴とするモノメチン化合物の製造方法。
【０００７】
【化１】
0005272374.tif 000002
【０００８】
（式中、Ｑは５員縮合環を形成するのに必要な原子団を表し、Ｒａ１は水素原子またはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基である置換基（アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基でさらに置換されていてもよい）を表し、Ｒａ２はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基である置換基（アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基でさらに置換されていてもよい）を表し、ｎａは０から２の整数を表し、ＥＷＧはハメットの置換基定数（σｐ）が０．０５以上の電子吸引性基を表し、ＨＥＴはフラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環またはチアジアゾール環を表し、Ｒａ３は水素原子またはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、���ルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基である置換基（アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基でさらに置換されていてもよい）を表す。）
【化２】
0005272374.tif 000003
（式中、Ｑ、Ｒａ１及びＲａ２は、一般式（ａ−１）の、Ｑ、Ｒａ１及びＲａ２と同義であり、ＥＷＧ及びＨＥＴは、一般式（ａ−２）のＥＷＧ及びＨＥＴと同義である。ｎａは０から２の整数を表す。）
２．ＥＷＧがハロゲン原子、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン置換アルキル基、脂肪族、芳香族もしくは芳香族複素環アシル基、脂肪族・芳香族もしくは芳香族複素環スルホニル基、カルバモイル基、アルコキシカルボニル基、置換アリール基、芳香族複素環基、アゾ基、ジトリフルオロメチルアミノ基、トリフルオロメトキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アシロキシ基、アリールスルホニルオキシ基、ホスホリル基またはスルファモイル基である、前記１に記載のモノメチン化合物の製造方法。
３．前記モノメチン化合物の製造方法において、前記一般式（ａ−１）で表される化合物が下記一般式（２−１）または（２−２）で表される化合物であることを特徴とする前記１または２に記載のモノメチン化合物の製造方法。
【化３】
0005272374.tif 000004
（式中、Ｒ２１〜Ｒ２３は水素原子あるいはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基である置換基（アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基でさらに置換されていてもよい）を表す。）
４．前記一般式（ａ−３）で表される化合物が酢酸であることを特徴とする前記１〜３のいずれか１項に記載のモノメチン化合物の製造方法。
５．下記一般式（Ｘ）で表されるモノメチン化合物。
【化４】
0005272374.tif 000005
（式中、Ｑは５員縮合環を形成するのに必要な原子団を表し、Ｒａ１は水素原子またはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基である置換基（アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基でさらに置換されていてもよい）を表し、Ｒａ２はアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基である置換基（アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基でさらに置換されていてもよい）を表し、ｎａは０から２の整数を表し、ＥＷＧはハメットの置換基定数（σｐ）が０．０５以上の電子吸引性基を表し、ＨＥＴはフラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環またはチアジアゾール環を表す。）
６．下記一般式（Ｘ−１）で表されることを特徴とするモノメチン化合物。
【化５】
0005272374.tif 000006
（式中、Ｒ２１およびＲ２２は水素原子またはアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基である置換基（アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホスホリル基、スルファモイル基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、カルバモイル基、ウレイド基、スルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アミノ基、アゾ基、アルキルスルホニルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子もしくはヒドロキシル基でさらに置換されていてもよい）を表し、ＥＷＧはハメットの置換基定数（σｐ）が０．０５以上の電子吸引性基を表し、ＨＥＴはフラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環またはチアジアゾール環を表す。）
７．前記一般式（Ｘ−１）で表される化合物のＨＥＴがピリジン環、チオフェン環、フラン環、チアゾール環及びオキサゾール環から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする前記６に記載のモノメチン化合物。
８．前記一般式（Ｘ−１）で表される化合物のＥＷＧがニトロ基またはハロゲン原子であることを特徴とする前記６または７に記載のモノメチン化合物。
【発明の効果】
【００１９】
本発明により、電子吸引性基が置換した芳香族複素環モノメチン構造を有する特定の化合物の高収率かつ汎用的な製造方法ならびに電子吸引性基が置換した芳香族複素環モノメチン構造を有する特定の化合物を提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明を更に詳しく説明する。
【００２１】
以下、電子吸引性基が置換した芳香族複素環モノメチン構造を有する特定の化合物の製造方法（以下、本発明の製造方法とも記載する）ならびに電子吸引性基が置換した芳香族複素環モノメチン構造を有する特定の化合物（以下本発明の化合物とも記載する）について説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【００２２】
本発明の一般式（ａ−１）で表される化合物について説明する。
【００２３】
一般式（ａ−１）中、Ｑは５員縮合環を形成するのに必要な原子団を表し、具体的には炭素原子または窒素原子を任意に組み合わせた下記構造が好ましい。
【００２４】
【化６】
0005272374.tif 000007
【００２５】
Ｒa1は水素原子または置換基を表し、Ｒa1が置換基を表す場合、具体的には、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、トリフルオロメチル基等）、シクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基等）、アルキニル基（例えば、エチニル基、プロパルギル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、芳香族複素環基（例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリダジル基、ピリミジル基、ピラジル基、トリアジル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、キナゾリル基、フタラジル基等）、複素環基（例えば、ピロリジル基、イミダゾリジル基、モルホリル基、オキサゾリジル基等）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ドデシルオキシ基等）、シクロアルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ナフチルオキシ基等）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、オクチルチオ基、ドデシルチオ基等）、シクロアルキルチオ基（例えば、シクロペンチルチオ基、シクロヘキシルチオ基等）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基、ナフチルチオ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メチルオキシカルボニル基、エチルオキシカルボニル基、ブチルオキシカルボニル基、オクチルオキシカルボニル基、ドデシルオキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基等）、ホスホリル基（例えばジメトキシホスホニル、ジフェニルホスホリル）、スルファモイル基（例えば、アミノスルホニル基、メチルアミノスルホニル基、ジメチルアミノスルホニル基、ブチルアミノスルホニル基、ヘキシルアミノスルホニル基、シクロヘキシルアミノスルホニル基、オクチルアミノスルホニル基、ドデシルアミノスルホニル基、フェニルアミノスルホニル基、ナフチルアミノスルホニル基、２−ピリジルアミノスルホニル基等）、アシル基（例えば、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、シクロヘキシルカルボニル基、オクチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基、ドデシルカルボニル基、フェニルカルボニル基、ナフチルカルボニル基、ピリジルカルボニル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ブチルカルボニルオキシ基、オクチルカルボニルオキシ基、ドデシルカルボニルオキシ基、フェニルカルボニルオキシ基等）、アミド基（例えば、メチルカルボニルアミノ基、エチルカルボニルアミノ基、ジメチルカルボニルアミノ基、プロピルカルボニルアミノ基、ペンチルカルボニルアミノ基、シクロヘキシルカルボニルアミノ基、２−エチルヘキシルカルボニルアミノ基、オクチルカルボニルア��ノ基、ドデシルカルボニルアミノ基、フェニルカルボニルアミノ基、ナフチルカルボニルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、シクロヘキシルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ドデシルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基、２−ピリジルアミノカルボニル基等）、ウレイド基（例えば、メチルウレイド基、エチルウレイド基、ペンチルウレイド基、シクロヘキシルウレイド基、オクチルウレイド基、ドデシルウレイド基、フェニルウレイド基、ナフチルウレイド基、２−ピリジルアミノウレイド基等）、スルフィニル基（例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、ブチルスルフィニル基、シクロヘキシルスルフィニル基、２−エチルヘキシルスルフィニル基、ドデシルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ナフチルスルフィニル基、２−ピリジルスルフィニル基等）、アルキルスルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、ブチルスルホニル基、シクロヘキシルスルホニル基、２−エチルヘキシルスルホニル基、ドデシルスルホニル基等）、アリールスルホニル基（フェニルスルホニル基、ナフチルスルホニル基、２−ピリジルスルホニル基等）、アミノ基（例えば、アミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ブチルアミノ基、ジブチルアミノ基、シクロペンチルアミノ基、２−エチルヘキシルアミノ基、ドデシルアミノ基、アニリノ基、ナフチルアミノ基、２−ピリジルアミノ基等）、アゾ基（例えば、フェニルアゾ）、アルキルスルホニルオキシ基（例えば、メタンスルホニルオキシ）、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、ヒドロキシル基などが挙げられ、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基であり、より好ましくはアルキル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、カルバモイル基であり、さらに好ましくはアルキル基、カルバモイル基である。またこれら置換基は更に上述したＲa1の置換基の例と同義の置換基によって置換されても良い。
【００２６】
Ｒa2は置換基を表し、具体的には上述したＲa1の置換基の例と同義の置換基であり、好ましくはアルキル基、アルケニル基、アリール基、芳香族複素環基、複素環基、シアノ基、ニトロ基であり、より好ましくはアルキル基、アリール基、芳香族複素環基、である。またこれら置換基は更に上述したＲa1の置換基の例と同義の置換基によって置換されても良い。Ｒa2が複数存在する場合には、各々同一の置換基でも異なる置換基でも良い。
【００２７】
ｎａは０から２の正の整数を表し、好ましくは１または２であり、最も好ましくは１である。
【００２８】
次に一般式（ａ−２）について説明する。
【００２９】
一般式（ａ−２）中、ＥＷＧは電子吸引性基を表し、電子吸引性の度合いを示す指標としてハメット置換基定数（σｐ）が０．０５以上であることが好ましい。
【００３０】
電子吸引性の度合いを示すハメットの置換基定数（σｐ）が０．０５以上の置換基について説明する。ここでいうハメットの置換基定数σｐの値としては、Ｈａｎｓｃｈ，Ｃ．Ｌｅｏらの報告（例えば、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１６、１２０７（１９７３）；ｉｂｉｄ．２０、３０４（１９７７））に記載の値を用いるのが好ましい。
【００３１】
例えば、σｐの値が０．１０以上の置換基または原子としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、カルボキシル基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン置換アルキル基（例えばトリクロロメチル、トリフルオロメチル、クロロメチル、トリフルオロメチルチオメチル、トリフルオロメタンスルホニルメチル、パーフルオロブチル）、脂肪族、芳香族もしくは芳香族複素環アシル基（例えばホルミル、アセチル、ベンゾイル）、脂肪族・芳香族もしくは芳香族複素環スルホニル基（例えばトリフルオロメタンスルホニル、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル）、カルバモイル基（例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、フェニルカルバモイル、２−クロロ−フェニルカルバモイル）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ジフェニルメチルカルボニル）、置換アリール基（例えばペンタクロロフェニル、ペンタフルオロフェニル、２，４−ジメタンスルホニルフェニル、２−トリフルオロメチルフェニル）、芳香族複素環基（例えば２−ベンゾオキサゾリル、２−ベンズチアゾリル、１−フェニル−２−ベンズイミダゾリル、１−テトラゾリル）、アゾ基（例えばフェニルアゾ）、ジトリフルオロメチルアミノ基、トリフルオロメトキシ基、アルキルスルホニルオキシ基（例えばメタンスルホニルオキシ）、アシロキシ基（例えばアセチルオキシ、ベンゾイルオキシ）、アリールスルホニルオキシ基（例えばベンゼンスルホニルオキシ）、ホスホリル基（例えばジメトキシホスホニル、ジフェニルホスホリル）、スルファモイル基（例えば、Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル、Ｎ−（２−ドデシルオキシエチル）スルファモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−ドデシルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル）などが挙げられる。
【００３２】
より好ましくは、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン置換アルキル基、脂肪族、芳香族もしくは芳香族複素環アシル基であり、さらに好ましくはハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン置換アルキル基、であり、最も好ましくはハロゲン原子、ニトロ基である。
【００３３】
ＨＥＴは芳香族複素５員環または芳香族複素６員環を表し、具体的には例えば、フラン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、トリアジン環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環等をあげることができ、好ましくはフラン環、チオフェン環、ピロール環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、オキサゾール環、チアゾール環、であり、さらに好ましくはフラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環、オキサゾール環、チアゾール環であり、最も好ましくはピリジン環またはチオフェン環またはフラン環またはチアゾール環またはオキサゾール環である。ＨＥＴで表される芳香族複素５員環または芳香族複素６員環はさらに縮合環を有していてもよく、ＥＷＧおよびホルミル基以外の箇所に置換基を有していても良い。置換基の例としては上述したＲa1の置換基の例と同義の置換基を挙げることが出来る。
【００３４】
次に一般式（ａ−３）について説明する。
【００３５】
一般式（ａ−３）中、Ｒa3は水素原子または置換基を表し、好ましくは置換基であり、該置換基の例としては上述したＲa1の置換基の例と同義の置換基を挙げることが出来、好ましくはアルキル基またはアリール基であり、より好ましくはアルキル基であり、さらに好ましくはブチル基、プロピル基、エチル基、メチル基であり、最も好ましくはメチル基である。
【００３６】
一般式（ａ−１）は好ましくは一般式（２−１）または一般式（２−２）で表され、より好ましくは一般式（２−１）である。一般式（２−１）または一般式（２−２）中、Ｒ２１〜Ｒ２３は水素原子あるいは置換基を表し、好ましくは置換基であり、置換基の例としては、Ｒ２１は上述した一般式（ａ−１）中のＲa1と同義の基を、Ｒ２２およびＲ２３は上述した一般式（ａ−１）中のＲa2と同義の基である。
【００３７】
以下に一般式（ａ−１）、一般式（ａ−２）、一般式（Ｘ）で表される化合物の具体例を記載するが、本発明はこれらに限定されない。
【００３８】
一般式（ａ−１）の具体例
【００３９】
【化７】
0005272374.tif 000008
【００４０】
一般式（ａ−２）の具体例
【００４１】
【化８】
0005272374.tif 000009
【００４２】
【化９】
0005272374.tif 000010
【００４３】
一般式（Ｘ）の具体例
【００４４】
【化１０】
0005272374.tif 000011
【００４５】
【化１１】
0005272374.tif 000012
【００４６】
【化１２】
0005272374.tif 000013
【００４７】
一般式（ａ−１）で表される化合物および一般式（ａ−２）で表される化合物および一般式（ａ−３）で表される化合物を用いて一般式（Ｘ）で表される化合物を製造する場合、一般式（ａ−１）で表される化合物は一種類でも複数種類を混合して用いても良い。同様に、一般式（ａ−２）で表される化合物は一種類でも複数種類を混合して用いても良い。
【００４８】
本発明において、一般式（ａ−１）で表される化合物と一般式（ａ−２）で表される化合物が反応して一般式（Ｘ）で表される化合物を生成し、一般式（ａ−３）で表される化合物は溶媒もしくは触媒として作用すると推察される。
【００４９】
一般式（ａ−１）で表される化合物と一般式（ａ−２）で表される化合物は各々の構造や反応系に応じて、種々最適な使用方法、使用量を選択すればよく、各々を任意の割合で混合して用いることができ、具体的には、一般式（ａ−１）で表される化合物１モル当量に対して、一般式（ａ−２）で表される化合物を０．７モル当量〜１．５モル当量の範囲で用いることが好ましく、０．８モル当量〜１．２モル当量の範囲で用いることがより好ましく、０．９モル当量〜１．１モル当量の範囲で用いることがさらに好ましく、０．９５モル当量〜１．０５モル当量の範囲で用いることが最も好ましい。
【００５０】
一般式（ａ−３）で表される化合物は、一般式（ａ−１）および一般式（ａ−２）の構造や反応系に応じて、種々最適な使用方法、使用量を選択すればよく、具体的には、一般式（ａ−３）で表される化合物は一種類でも複数種類を混合して用いても良く、溶媒として用いても良く、また、触媒として用いてもよい。一般式（ａ−１）および一般式（ａ−２）の総質量に対して、０．００１〜５０質量倍の範囲で用いることが好ましく、０．０１〜１０質量倍の範囲で用いることがより好ましく、０．０５〜１０質量倍の範囲で用いることがさらに好ましく、０．５〜５質量倍の範囲で用いることが最も好ましい。
【００５１】
一般式（ａ−１）で表される化合物および一般式（ａ−２）で表される化合物および一般式（ａ−３）で表される化合物を用いて一般式（Ｘ）で表される化合物を製造する場合、さらに汎用的な種々の溶媒を用いても良い。用いることの可能な溶媒としては常温常圧で液体であれば特に制限はないが、具体的には、水、アルコール類（メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ベンジルアルコール、フェネチルアルコールなど）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノンなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル）、芳香族炭化水素類（ベンゼン、トルエン、キシレンなど）、脂肪族炭化水素類（ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサンなど）、エーテル類（ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）など）、ハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素など）、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ），Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ），などをあげることが出来る。
【００５２】
一般式（ａ−１）で表される化合物および一般式（ａ−２）で表される化合物および一般式（ａ−３）で表される化合物を用いて一般式（Ｘ）で表される化合物を製造する場合、反応温度は一般式（ａ−１）で表される化合物および一般式（ａ−２）で表される化合物および生成する一般式（Ｘ）で表される化合物の構造や安定性や沸点、溶媒を用いる場合には用いた溶媒の沸点などに応じて最適な温度を選択すればよく、一般的には−２０℃〜１５０℃の範囲であり、０℃〜１２０℃であることが好ましく、１５℃〜１１０℃であることがより好ましく、３０℃〜１００℃の範囲であることがもっとも好ましい。
【００５３】
本発明の製造方法では操作性の向上や反応収率向上を目的として、さらに他の汎用的な種々の添加剤を使用しても良い。具体的には、酸（ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩化水素酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸など）、塩基（ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、苛性ソーダ、苛性カリ、重炭酸ソーダ、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、酢酸アンモニウムなど）、塩（塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化カルシウム、硫酸ナトリウム、硫酸水素ナトリウムなど）、酸化剤、還元剤、酸化防止剤などをあげることが出来る。これらは一種類でも複数種類を混合して使用しても良い。
【００５４】
本発明のモノメチン化合物は色素もしくは色素前駆体として、光学記録媒体、電子ペーパー、カラーフィルター、色調調整フィルター、感熱転写、インクジェット、カラー写真、及び印刷等の様々な材料に適用することが出来る。また、本発明のモノメチン化合物は色素合成の原料として用いることもでき、本発明のモノメチン化合物を用いて製造した色素を上述した材料に適用することもできる。
【実施例】
【００５５】
以下、実施例によって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５６】
実施例１
（例示化合物Ｘ−１の合成）
【００５７】
【化１３】
0005272374.tif 000014
【００５８】
製造例１
化合物ＡII−３（東京化成工業社製）７．６ｇを酢酸７ｍｌ中に溶解させ、反応液を５０℃に保ち、メカニカルスターラーで撹拌しながらこれにＡＩ−１  １０．８ｇの酢酸溶液４０ｍｌを滴下し、１０時間激しく撹拌した。この反応液に水２００ｍｌを加え、１時間撹拌した後、析出物を濾取し、Ｘ−１の粗結晶を得た。この粗結晶を水２００ｍｌ中に分散し、２時間撹拌後再び濾取した。５０℃の恒温に保った送風乾燥機で８時間乾燥した後、酢酸エチル１００ｍｌに分散し、１時間加熱還流した。反応液を室温まで放冷した後、ｎ−ヘキサン１００ｍｌを加え、固体を濾取し、Ｘ−１を得た。収量１５．９ｇ、収率９０％、オレンジ色の粉末。
【００５９】
ＴＬＣ（シリカゲル、酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／２（Ｖ／Ｖ））  Ｒｆ＝０．４
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ６）（ピークトップケミカルシフト、多重度、プロトン数）（１．５４、ｓ、９Ｈ）（３．９４、ｓ、３Ｈ）（７．２２、ｔ、１Ｈ）（７．３３、ｄ，１Ｈ）（７．６６、ｍ、２Ｈ）（８．０２、ｄ、１Ｈ）（８．５９，ｓ，１Ｈ）（８．６１５，ｄ，１Ｈ）
紫外可視光吸収スペクトル（メタノール）極大吸収波長４０９ｎｍ、モル吸光係数２８０００（ｌ／ｍｏｌ・ｃｍ）
マススペクトル：Ｍ+：４４５
Ｘ−１の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルチャートを図１、紫外可視光吸収スペクトルを図２に、マススペクトルチャートを図３に示す。
【００６０】
比較製造例１
化合物ＡII−３  ４．０ｇ、化合物ＡＩ−１  ５．４ｇをトルエン２０ｍｌに懸濁し、ディーンスターク管を装着した後、６時間加熱還流した。反応の進行をＴＬＣで確認したところ、原料ＡＩ−１の残存と副生成物の生成を確認した。ＡII−３を０．５ｇ追加した後さらに１０時間加熱還流を継続し、同様に反応の進行をＴｌｃで確認したところ、原料ＡＩ−１の残存と副生成物の生成を確認した。さらにＡII−３を０．５ｇ追加した後さらに１０時間加熱還流を継続し、放冷後、この反応液に水を加え、希塩酸および飽和食塩水で洗浄した後、有機層をカラムクロマトグラフィーによって精製し、Ｘ−１を得た。収量２．２ｇ。収率２５％、オレンジ色の粉末。また、原料のＡＩ−１  １．９ｇ、ＡII−３  １．６ｇ、副生成物（混合物）４．４ｇもあわせて回収した。
【００６１】
比較製造例２
比較製造例１にさらにｐ−トルエンスルホン酸  ２０ｍｇを追加して同様の操作を行ったが、比較製造例１と同様に、原料の残存と副生成物が多く生成することを確認した。
【００６２】
比較製造例３
比較製造例１にさらにトリエチルアミン  ２．０ｇを追加して同様の操作を行ったが、比較製造例１と同様に、原料の残存と副生成物が多く生成することを確認した。
【００６３】
比較製造例４
比較製造例３のトリエチルアミンをピリジンに変更して他は同様の操作を行ったが、比較製造例１と同様に、原料の残存と副生成物が多く生成することを確認した。
【００６４】
比較製造例５
比較製造例３のトリエチルアミンをジメチルアニリンに変更して他は同様の操作を行ったが、比較製造例１と同様に、原料の残存と副生成物が多く生成することを確認した。
【００６５】
製造例２
化合物ＡII−３  ７．６ｇをトルエン２０ｍｌプロピオン酸  ７ｍｌ中に溶解させ、反応液を５０℃に保ち、メカニカルスターラーで撹拌しながらこれにＡＩ−１  １０．８ｇのプロピオン酸溶液４０ｍｌを滴下し、１０時間激しく撹拌した。この反応液に水２００ｍｌを加え、１時間撹拌した後、析出物を濾取し、Ｘ−１の粗結晶を得た。この粗結晶を水２００ｍｌ中に分散し、２時間撹拌後再び濾取した。５０℃の恒温に保った送風乾燥機で８時間乾燥した後、酢酸エチル１００ｍｌに分散し、１時間加熱還流した。反応液を室温まで放冷した後、ｎ−ヘキサン１００ｍｌを加え、固体を濾取し、Ｘ−１を得た。
【００６６】
以上の実施例１の製造例１および製造例２より、本発明製造方法を用いれば本発明の目的が達成されたことがわかり、本発明に属さない比較製造例１〜５では減量の残存、副生成物の生成が生じることがわかり、操作も煩雑であり、収量も低いことがわかる。
【００６７】
実施例２
（例示化合物Ｘ−３の合成）
【００６８】
【化１４】
0005272374.tif 000015
【００６９】
製造例３
化合物ＡII−１１（東京化成工業社製）  １．９ｇを酢酸４ｍｌ中に溶解させ、反応液を５０℃に保ち、メカニカルスターラーで撹拌しながらこれにＡＩ−３  ２．４ｇの酢酸溶液１０ｍｌを滴下し、１０時間激しく撹拌した。この反応液に水１００ｍｌを加え、１時間撹拌した後、析出物を濾取し、Ｘ−３の粗結晶を得た。この粗結晶を水５０ｍｌ中に分散し、２時間撹拌後再び濾取した。５０℃の恒温に保った送風乾燥機で８時間乾燥した後、酢酸エチル５０ｍｌに分散し、１時間加熱還流した。反応液を室温まで放冷した後、ｎ−ヘキサン２５ｍｌを加え、固体を濾取し、Ｘ−３を得た。収量３．８ｇ、収率８７％、オレンジ色の粉末。
【００７０】
ＮＭＲ、マススペクトルによって目的物を確認した。
【００７１】
（例示化合物Ｘ−５の合成）
【００７２】
【化１５】
0005272374.tif 000016
【００７３】
製造例４
化合物ＡII−２３（東京化成工業社製）  １．４ｇを酢酸３ｍｌ中に溶解させ、反応液を５０℃に保ち、メカニカルスターラーで撹拌しながらこれにＡＩ−５  １．９ｇの酢酸溶液６ｍｌを滴下し、１０時間激しく撹拌した。この反応液に水５０ｍｌを加え、１時間撹拌した後、析出物を濾取し、Ｘ−５の粗結晶を得た。この粗結晶を水５０ｍｌ中に分散し、２時間撹拌後再び濾取した。５０℃の恒温に保った送風乾燥機で８時間乾燥した後、酢酸エチル５０ｍｌに分散し、１時間加熱還流した。反応液を室温まで放冷した後、ｎ−ヘキサン２５ｍｌを加え、固体を濾取し、Ｘ−５を得た。収量２．６ｇ、収率８３％、濃燈色の粉末。
【００７４】
ＮＭＲ、マススペクトルによって目的物を確認した。
【００７５】
（例示化合物Ｘ−９の合成）
【００７６】
【化１６】
0005272374.tif 000017
【００７７】
製造例５
化合物ＡII−２３（アルドリッチ社製）  １．９ｇを酢酸４ｍｌ中に溶解させ、反応液を５０℃に保ち、メカニカルスターラーで撹拌しながらこれにＡＩ−１  ２．７ｇの酢酸溶液９ｍｌを滴下し、１０時間激しく撹拌した。この反応液に水６０ｍｌを加え、１時間撹拌した後、析出物を濾取し、Ｘ−９の粗結晶を得た。この粗結晶を水５０ｍｌ中に分散し、２時間撹拌後再び濾取した。５０℃の恒温に保った送風乾燥機で８時間乾燥した後、酢酸エチル６０ｍｌに分散し、１時間加熱還流した。反応液を室温まで放冷した後、ｎ−ヘキサン３５ｍｌを加え、固体を濾取し、Ｘ−９を得た。収量３．７ｇ、収率８５％、濃燈色の粉末。
【００７８】
ＮＭＲ、マススペクトルによって目的物を確認した。
【００７９】
（例示化合物Ｘ−７の合成）
【００８０】
【化１７】
0005272374.tif 000018
【００８１】
製造例６
化合物ＡII−２（東京化成工業社製）  １．５ｇを酢酸６ｍｌ中に溶解させ、反応液を５０℃に保ち、メカニカルスターラーで撹拌しながらこれにＡＩ−７  ５．１ｇの酢酸溶液１０ｍｌを滴下し、１０時間激しく撹拌した。この反応液に水６０ｍｌを加え、１時間撹拌した後、酢酸エチル１００ｍｌで抽出した。酢酸エチル層を十分に水洗し、溶媒を減圧留去して、Ｘ−７の粗結晶を得た。この粗結晶を酢酸エチル１０ｍｌに溶解した後、ｎ−ヘキサン３５ｍｌを加え、固体を濾取し、Ｘ−７を得た。収量５．１ｇ、収率８０％、赤紫の固体。ＮＭＲ、マススペクトルによって目的物を確認した。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】本発明の例示化合物Ｘ−１の1Ｈ−ＮＭＲスペクトルチャートである。
【図２】本発明の例示化合物Ｘ−１の紫外可視光吸収スペクトルである。
【図３】本発明の例示化合物Ｘ−１のマススペクトルチャートである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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