(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と、
ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーと、
下記一般式(I)：
【化１】
0005130082.tif 000005
［式中、Ｒ1は炭素数４〜１４のアルキル基であり、Ｒ2は水素又はメチル基である］で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）又は(メタ)アクリロイル基含有反応性シリコーン（Ｂ２）と、
光重合開始剤（Ｃ）と
を含むインプリント成形用組成物。
【請求項２】
前記アルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）の含有量が組成物全体の5〜20質量％であることを特徴とする請求項１に記載のインプリント成形用組成物。
【請求項３】
前記(メタ)アクリロイル基含有反応性シリコーン（Ｂ２）の添加量が、前記(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と前記アルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）及び前記(メタ)アクリロイル基含有反応性シリコーン（Ｂ２）以外の(メタ)アクリレートモノマーとの合計100質量部に対して4〜20質量部であることを特徴とする請求項１に記載のインプリント成形用組成物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載のインプリント成形用組成物を紫外線照射により硬化させてなる成形物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インプリント成形用組成物及びそれを用いた成形物に関し、特には、硬化後にモールドから脱型し易く、モールドへの離型剤の塗布回数を低減することが可能なインプリント成形用組成物及びそれを用いた成形物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
昨今、微細なパターンを低コストで形成する技術としてインプリント成形技術が精力的に研究されている。該インプリント成形技術は、基材上に配置した樹脂材料層に所望の凹凸を有するモールドを押し当てることで所望のパターンを基材上に形成する技術である。そして、該インプリント成形技術においては、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を用い、熱でパターンを形成する方法と、紫外線硬化型の樹脂を用い、紫外線照射でパターンを形成する方法が知られている。
【０００３】
熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を用いた場合は、加熱及び加圧に大量のエネルギーを消費せざるを得ず、また、成形時間が長くなって、生産性が低下する問題がある。一方、紫外線硬化型樹脂を用いたインプリント成形においては、成形物のモールドからの脱型を容易にするために、フッ素系の離型剤をモールドに塗布するが、通常の紫外線硬化型樹脂は、モールドに離型剤を塗布してインプリント成形を行っても、数回脱型を行うと離型剤がモールドから取り除かれ、離型剤の効果が失われ、成形物と基材との界面で剥離が生じる問題がある。
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−２７２９４７号公報
【非特許文献１】「ナノインプリントの開発と応用」，松井真二，古室昌徳監修，シーエムシー出版，（２００５）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで、本発明の目的は、硬化後にモールドから脱型し易く、モールドへの離型剤の塗布回数を低減することが可能なインプリント成形用組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討した結果、特定の(メタ)アクリレートオリゴマーと、疎水性の長鎖アルキル基を有する特定の(メタ)アクリレートモノマー又は(メタ)アクリロイル基を有する反応性シリコーンとを含む組成物が、硬化後にモールドから脱型し易く、モールドへの離型剤の塗布回数を低減できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００７】
即ち、本発明のインプリント成形用組成物は、
・ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と、
・ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーと、
・下記一般式(I)：
【化１】
0005130082.tif 000002
［式中、Ｒ1は炭素数４〜１４のアルキル基であり、Ｒ2は水素又はメチル基である］で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）又は(メタ)アクリロイル基含有反応性シリコーン（Ｂ２）と、
・光重合開始剤（Ｃ）と
を含むことを特徴とする。
【０００８】
本発明のインプリント成形用組成物の好適例においては、前記アルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）の含有量が組成物全体の5〜20質量％である。
【０００９】
本発明のインプリント成形用組成物の他の好適例においては、前記(メタ)アクリロイル基含有反応性シリコーン（Ｂ２）の添加量が、前記(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と前記アルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）及び前記(メタ)アクリロイル基含有反応性シリコーン（Ｂ２）以外の(メタ)アクリレートモノマーとの合計100質量部に対して4〜20質量部である。
【００１０】
また、本発明の成形物は、上記のインプリント成形用組成物を紫外線照射により硬化させてなる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、特定の(メタ)アクリレートオリゴマーと、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーと、疎水性の長鎖アルキル基を有する特定の(メタ)アクリレートモノマー又は(メタ)アクリロイル基を有する反応性シリコーンとを含み、エネルギー消費量が小さく、成形時間が短く、硬化後にモールドから脱型し易く、モールドへの離型剤の塗布回数を低減することが可能なインプリント成形用組成物を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に、本発明を詳細に説明する。本発明のインプリント成形用組成物は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及びエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーからなる群から選択される少なくとも一種の(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーと、上記一般式(I)で表わされるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）又は(メタ)アクリロイル基含有反応性シリコーン（Ｂ２）と、光重合開始剤（Ｃ）とを含むことを特徴とする。なお、本発明のインプリント成形用組成物は、上記アルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）及びヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマー以外の(メタ)アクリレートモノマーを更に含んでもよい。
【００１３】
本発明のインプリント成形用組成物は、モノマーに比べて分子量が大きいウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及び／又はエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーを含むため、紫外線照射で形成される成形物が高い強度を有する。また、本発明のインプリント成形用組成物においては、アルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）又は(メタ)アクリロイル基含有反応性シリコーン（Ｂ２）が紫外線硬化樹脂表面の表面張力（表面自由エネルギー）を低下させる事が出来るため、硬化後にモールドから脱型し易く、モールドへの離型剤の塗布回数を低減することが可能となる。
【００１４】
本発明のインプリント成形用組成物に用いる(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）は、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー及び／又はエポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーであり、ウレタンアクリレートオリゴマー及び／又はエポキシアクリレートオリゴマーであることが好ましい。なお、これら(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。インプリント成形用組成物がこれら(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）を含まない場合、紫外線照射で形成される成形物の強度が低下してしまう。
【００１５】
上記ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、(メタ)アクリロイルオキシ基（ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ−又はＣＨ2＝Ｃ(ＣＨ3)ＣＯＯ−）を１つ以上有し、ウレタン結合（−ＮＨＣＯＯ−）を複数有する化合物である。該ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、例えば、ポリオールとポリイソシアネートとからウレタンプレポリマーを合成し、該ウレタンプレポリマーに水酸基を有する(メタ)アクリレートを付加させることによって製造することができる。
【００１６】
上記ウレタンプレポリマーの合成に用いるポリオールは、水酸基（ＯＨ基）を複数有する化合物であり、該ポリオールとして、具体的には、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリテトラメチレングリコール、ポリブタジエンポリオール、アルキレンオキサイド変性ポリブタジエンポリオール及びポリイソプレンポリオール等が挙げられる。なお、上記ポリエーテルポリオールは、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコールに、エチレンオキシドやプロピレンオキシド等のアルキレンオキサイドを付加させて得られ、また、上記ポリエステルポリオールは、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１,４-ブタンジオール、１,６-ヘキサンジオール、プロピレングリコール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン等の多価アルコールと、アジピン酸、グルタル酸、コハク酸、セバシン酸、ピメリン酸、スベリン酸等の多価カルボン酸とから得られる。
【００１７】
上記ポリイソシアネートは、イソシアネート基（ＮＣＯ基）を複数有する化合物であって、該ポリイソシアネートとして、具体的には、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）、ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）、粗製ジフェニルメタンジイソシアネート（クルードＭＤＩ）、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）や、これらのイソシアヌレート変性物、カルボジイミド変性物、グリコール変性物等が挙げられる。
【００１８】
上記ウレタンプレポリマーの合成においては、ウレタン化反応用の触媒を用いることが好ましい。該ウレタン化反応用触媒としては、有機スズ化合物、無機スズ化合物、有機鉛化合物、モノアミン類、ジアミン類、トリアミン類、環状アミン類、アルコールアミン類、エーテルアミン類、有機スルホン酸、無機酸、チタン化合物、ビスマス化合物、四級アンモニウム塩等が挙げられ、これらの中でも、有機スズ化合物が好ましい。また、好適な有機スズ化合物としては、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズチオカルボキシレート、ジブチルスズジマレエート、ジオクチルスズチオカルボキシレート、オクテン酸スズ、モノブチルスズオキシド等が挙げられる。
【００１９】
また、上記ウレタンプレポリマーに付加させる水酸基を有する(メタ)アクリレートは、水酸基を１つ以上有し、(メタ)アクリロイルオキシ基を１つ以上有する化合物である。該水酸基を有する(メタ)アクリレートは、上記ウレタンプレポリマーのイソシアネート基に付加することができる。該水酸基を有する(メタ)アクリレートとしては、２-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、２-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート等が挙げられる。
【００２０】
また、上記エポキシ(メタ)アクリレートオリゴマーは、グリシジル基を有する化合物、好ましくは、グリシジル基を有し且つベンゼン環、ナフタレン環、スピロ環、ジシクロペンタジエン、トリシクロデカン等の環状構造を有する化合物と(メタ)アクリル酸とを反応させることによって製造することができる。
【００２１】
上記グリシジル基を有する化合物としては、ビスフェノールＡ又はビスフェノールＦとエピクロロヒドリンとの反応によって得られるビスフェノール型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂等が挙げられる。
【００２２】
本発明のインプリント成形用組成物において、上記(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）の含有量は、組成物全体の20〜60質量％の範囲が好ましい。(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）の含有量が20質量％以上であれば、十分な強度を有する成形物を得ることができ、また、(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）の含有量が60質量％以下であれば、組成物の粘度が十分に低く、モールドへ流れ込み易くなる。
【００２３】
本発明のインプリント成形用組成物に用いられるアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）は、上記一般式(I)で表わされる。式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）は、Ｒ1として炭素数４〜１４の疎水性の長鎖アルキル基を有するため、成形物のモールドからの脱型を容易にする作用を有する。なお、Ｒ1が炭素数３以下の低級アルキル基である場合、(メタ)アクリレートモノマーの疎水性が不十分で、成形物のモールドからの脱型性が悪い。また、モールドからの脱型性の観点から、Ｒ1は炭素数１２以上のアルキル基であることが好ましい。一方、Ｒ1が炭素数１５以上の長鎖アルキル基である場合、(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）の取り扱い性が悪い上、(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）との相溶性も悪い。
【００２４】
上記一般式(I)において、Ｒ1は炭素数４〜１４のアルキル基であって、直鎖状でも分岐鎖状であってもよく、Ｒ2は水素又はメチル基である。Ｒ1において、炭素数４〜１４のアルキル基として、具体的には、各種ブチル基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、各種ヘプチル基、各種オクチル基、各種ノニル基、各種デシル基、各種ウンデシル基、各種ドデシル基（例えば、ラウリル基等）、各種トリデシル基、各種テトラデシル基（例えば、ミリスチル基、イソミリスチル基等）が挙げられ、これらの中でも、ラウリル基及びイソミリスチル基が好ましい。
【００２５】
上記式(I)の(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）として、具体的には、ラウリル(メタ)アクリレート、イソミリスチル(メタ)アクリレート、ミリスチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、ｎ-ブチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート等が挙げられ、これらの中でも、イソミリスチル(メタ)アクリレート及びラウリル(メタ)アクリレートが好ましい。なお、これら式(I)の(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）は、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２６】
本発明のインプリント成形用組成物がアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）を含む場合、該アルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）の含有量は、組成物全体の5〜20質量％の範囲が好ましい。式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）の割合が5質量％以上であれば、成形物のモールドからの脱型性を十分に向上させることができ、一方、式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）の割合が20質量％以下であれば、硬化速度を維持出来、硬化物がべたつく事はない。
【００２７】
本発明のインプリント成形用組成物に用いられる反応性シリコーン（Ｂ２）は、(メタ)アクリロイル基［ＣＨ2＝ＣＨＣＯ−又はＣＨ2＝Ｃ(ＣＨ3)ＣＯ−］を一つ以上有し、シロキサン単位［−ＳｉＲ32−Ｏ−、式中、Ｒ3はそれぞれ独立して水素、メチル基等のアルキル基、フェニル基等のアリール基である］を複数有する。該反応性シリコーン（Ｂ２）としては、特に限定されず、公知の反応性シリコーン（Ｂ２）を使用することができる。
【００２８】
本発明のインプリント成形用組成物が(メタ)アクリロイル基含有反応性シリコーン（Ｂ２）を含む場合、該(メタ)アクリロイル基含有反応性シリコーン（Ｂ２）の添加量は、前記(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と前記アルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）及び前記(メタ)アクリロイル基含有反応性シリコーン（Ｂ２）以外の(メタ)アクリレートモノマーとの合計100質量部に対して4〜20質量部の範囲が好ましい。(メタ)アクリロイル基含有反応性シリコーン（Ｂ２）の添加量が4質量部以上であれば、成形物のモールドからの脱型性を十分に向上させることができ、一方、(メタ)アクリロイル基含有反応性シリコーン（Ｂ２）の添加量が20質量部以下であれば、硬化速度を維持出来、硬化物がべたつかない。
【００２９】
本発明のインプリント成形用組成物は、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーを含み、ヒドロキシル基含有アクリレートモノマーを含むことが好ましい。インプリント成形用組成物がヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーを含むことで、ＩＺＯやＩＴＯ等の金属酸化物に対する接着性が向上し、脱型時に基材から成形物が剥離するのを抑制できる。
【００３０】
上記ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーは、水酸基を１つ以上有し、(メタ)アクリロイルオキシ基を１つ以上有する化合物である。かかるヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーとして、具体的には、２-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、２-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート及び２-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートが挙げられ、これらの中でも、２-ヒドロキシエチルアクリレートが好ましい。なお、これらヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーは、一種単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３１】
上記ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーの割合は、特に限定されるものではないが、上記(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と(メタ)アクリレートモノマーとの総配合量中40〜60質量％の範囲が好ましい。ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーの割合が40質量％以上であれば、インプリント成形用組成物の金属酸化物に対する接着性を十分に向上させることができ、一方、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーの割合が60質量％以下であれば、紫外線照射で形成される成形物の強度が十分に高い。
【００３２】
本発明のインプリント成形用組成物に用いる光重合開始剤（Ｃ）は、紫外線を照射されることによって、上述した(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）、アルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）、(メタ)アクリロイル基含有反応性シリコーン（Ｂ２）及びヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーの重合を開始させる作用を有する。該光重合開始剤（Ｃ）としては、４-ジメチルアミノ安息香酸、４-ジメチルアミノ安息香酸エステル、２,２-ジメトキシ-２-フェニルアセトフェノン、アセトフェノンジエチルケタール、アルコキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾフェノン及び３,３-ジメチル-４-メトキシベンゾフェノン、４,４-ジメトキシベンゾフェノン、４,４-ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、ベンゾイル安息香酸アルキル、ビス(４-ジアルキルアミノフェニル)ケトン、ベンジル及びベンジルメチルケタール等のベンジル誘導体、ベンゾイン及びベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾインイソプロピルエーテル、２-ヒドロキシ-２-メチルプロピオフェノン、１-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、キサントン、チオキサントン及びチオキサントン誘導体、フルオレン、２,４,６-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ビス(２,６-ジメトキシベンゾイル)-２,４,４-トリメチルペンチルホスフィンオキシド、ビス(２,４,６-トリメチルベンゾイル)-フェニルホスフィンオキシド、２-メチル-１-(４-メチルチオフェニル)-２-モルホリノプロパン-１-オン、２-ベンジル-２-ジメチルアミノ-１-(モルホリノフェニル)-ブタノン-１等が挙げられる。これら光重合開始剤（Ｃ）は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００３３】
本発明のインプリント成形用組成物における上記光重合開始剤（Ｃ）の含有量は、組成物全体の0.5〜10質量％の範囲が好ましい。光重合開始剤（Ｃ）の含有量が0.5質量％以上であれば、インプリント成形用組成物の紫外線硬化を十分に開始させることができ、一方、10質量％を超えると、紫外線硬化を開始させる効果が飽和する一方、インプリント成形用組成物の原料コストが高くなる。
【００３４】
上述のように、本発明のインプリント成形用組成物は、紫外線照射により硬化後、モールドから脱型し易く、モールドへの離型剤の塗布回数を低減することができる。なお、本発明のインプリント成形用組成物を硬化させる際の紫外線の照射条件は特に限定されず、適宜設定することができる。また、インプリント成形においては、モールドにフッ素系離型剤等を塗布しておくことが好ましい。
【実施例】
【００３５】
以下に、実施例を挙げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明は下記の実施例に何ら限定されるものではない。
【００３６】
表１及び２に示す配合のインプリント成形用組成物を調製して、下記の方法で、Ｎｉ電鋳製の板に対する繰り返し剥離回数、及びＮｉ電鋳製のモールドに対する繰り返し脱型回数を測定した。結果を表１及び２に示す。
【００３７】
（１）Ｎｉ電鋳製の板に対する繰り返し剥離回数
Ｎｉ電鋳製の板に対してフッ素系離型剤を塗布しておき、基材フィルムに対し紫外線硬化配合液をバーコーターで塗布し、離型処理済のＮｉ電鋳製の板を貼り、基材フィルムに向け紫外線照射を行い、硬化させ、所定の大きさにカットした後、Ｎｉ電鋳製の板から硬化後の成形物の剥離を試み、100 N/m以下の剥離力で剥離できた場合を剥離回数としてカウントし、剥離力が100 N/mを超えるまで、試験を繰り返した。
【００３８】
（２）Ｎｉ電鋳製のモールドに対する繰り返し脱型回数
Ｎｉ電鋳製のモールドに対してフッ素系離型剤を塗布しておき、対象となる紫外線硬化樹脂とインプリント成形機を用い、一定の加圧力で押し当て、紫外線照射した後、Ｎｉ電鋳製のモールドから硬化後の成形物の脱型を試み、成形物が破壊されず、且つ成形物が基材から剥離せずに脱型できた場合を脱型回数としてカウントし、成形物が破壊されるか、成形物が基材から剥離するまで、試験を繰り返した。
【００３９】
【表１】
0005130082.tif 000003
【００４０】
【表２】
0005130082.tif 000004
【００４１】
*1  共栄社化学製, 商品名「３００２Ａ」, エポキシアクリレートオリゴマー, 重量平均分子量（Ｍw）＝600, ビスフェノールＡ骨格
*2  共栄社化学製, 商品名「ＨＯ−Ａ」, ２-ヒドロキシエチルアクリレート
*3  共栄社化学製, 商品名「ＬＡ」, ラウリルアクリレート, 式(I)で表わされＲ1が炭素数１２のアルキル基でＲ2が水素であるモノマー
*4  共栄社化学製, 商品名「ＩＭ−Ａ」, イソミリスチルアクリレート, 式(I)で表わされＲ1が炭素数１４のアルキル基でＲ2が水素であるモノマー
*5  信越シリコーン製, 商品名「Ｘ−２２−１６０２」, シリコーンアクリレート, 官能基当量＝1600
*6  信越シリコーン製, 商品名「Ｘ−２２−１６０３」, シリコーンアクリレート, 官能基当量＝930
*7  チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製, 商品名「ＩＲＧＡＣＵＲＥ １８４」, １-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン
*8  新中村化学製, 商品名「Ａ−ＭＯ」, アクリロイルモルホリン
*9  共栄社化学製, 商品名「ＳＡ」, ステアリルアクリレート, 式(I)で表わされＲ1が炭素数１８のアルキル基でＲ2が水素であるモノマー
*10  大阪有機化学工業製, 商品名「ビスコート４Ｆ」, ２,２,３,３-テトラフルオロプロピルアクリレート
*11  大阪有機化学工業製, 商品名「ビスコート８Ｆ」, １Ｈ,１Ｈ,５Ｈ-オクタフルオロペンチルアクリレート
【００４２】
表１から、(メタ)アクリレートオリゴマー（Ａ）と、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレートモノマーと、式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）又は(メタ)アクリロイル基含有反応性シリコーン（Ｂ２）を含む実施例のインプリント成形用組成物は、モールドに対する脱型性に優れることが分かる。
【００４３】
一方、表２から、式(I)のアルキル基含有(メタ)アクリレートモノマー（Ｂ１）及び(メタ)アクリロイル基含有反応性シリコーン（Ｂ２）のいずれも含まない比較例１〜５のインプリント成形用組成物は、モールドに対する脱型性が悪いため、実施例に比べて早期に、脱型不能となり、離型剤の塗布頻度の増加を引き起こすことが示唆された。