(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルム基材上に、該透明フィルム基材に近い側から、銀を含有する導電性パターンと、その上に導電性高分子化合物からなる透明導電膜とが隣接して設けられている透明導電フィルムにおいて、該導電性パターンが該透明フィルム基材上にハロゲン化銀粒子を含有する層を設け、かつ、所望するパターンで露光、現像処理することにより、所望するパターンの金属銀部を形成し、さらに物理現像処理することにより形成され、
導電性高分子化合物がポリエチレンジオキシチオフェン系またはポリアニリン系の導電性高分子化合物であり、
前記ハロゲン化銀粒子を含有する層におけるバインダー付き量が０．０５ｇ／ｍ2以上０．２５ｇ／ｍ2以下であり、
露光前の前記ハロゲン化銀粒子を含有する層におけるＡｇ／バインダー比率が体積比で０．３以上０．８以下であることを特徴とする透明導電フィルム。
【請求項２】
前記ハロゲン化銀粒子が塩臭化銀粒子であり、かつ、塩化銀含有率が５５モル％以上９５モル％以下で、臭化銀含有率が５モル％以上４５モル％以下であることを特徴とする請求項１記載の透明導電フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は大面積用のフレキシブルな透明電極に用いられる透明導電フィルム関し、より詳しくは、大面積においてもロスが小さく、また、フィルムの色が問題とならず、かつ、屈曲に強く、ＮＯｘ、ＳＯｘ等の腐食性ガスに対する耐性も高い、フレキシブルな透明電極に好適な透明導電フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
透明導電フィルムは、液晶ディスプレイ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロクロミックディスプレイ、太陽電池、タッチパネルなどの透明電極、ならびに電磁波シールド材などに用いられている。広く応用されている透明導電膜フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の透明フィルムの表面の少なくとも一方に、インジウム−スズの複合酸化物（ＩＴＯ）を真空蒸着法やスパッタリング法等のドライプロセスにて製膜する方法（例えば、特許文献１参照）である。しかしながら、ＩＴＯを真空蒸着法やスパッタリング法等のドライプロセスにて製膜する方法は、成膜に高温が必要であるとか、成膜コストが高いという問題点がある。また、塗布成膜法によるＩＴＯ膜も、成膜に高温が必要であり、その導電性はＩＴＯの分散度に左右され、ヘイズ値も低くない。さらにいずれの製法においても、ＩＴＯ膜はフィルムの曲げに弱く、クラックが入り導電性が損なわれる問題があった。
【０００３】
一方、導電性高分子を透明フィルムに製膜した透明導電フィルムが提案されている。導電性高分子により形成される透明導電性層は、膜自体に柔軟性があるため、クラックなどの問題を生じにくいが、ＩＴＯ膜並の導電性を得ることは困難であった。
【０００４】
さらに、大面積の電極では電極の長さが長くなりその抵抗値が問題となる。例えば、太陽電池などではせっかく得られた起電力が電極部分の電圧降下でロスしてしまう。導電性優位のＩＴＯでさえも大面積に対しては導電性が不十分である。
【０００５】
また、プラズマテレビなどの電磁波遮蔽として導電性メッシュフィルムが知られており、例えば、銅薄膜をフォトリソグラフィー法を利用したエッチング処理により加工する方法や、メッキ触媒を印刷法でパターン印刷した後に銅メッキする方法などが知られている。
【０００６】
さらにこうした導電性メッシュとＩＴＯなどの透明導電膜を組み合わせる技術は知られて（例えば、特許文献２〜６参照）いる。しかしながら、ＩＴＯとの組み合わせではＩＴＯ起因の前述の課題がそのまま問題となる。導電性メッシュ部についても、銅を用いる場合は着色が問題となる。また、銅の着色を改善する方法として黒化処理をすることも知れているが、処理が煩雑になるだけでなく、接着性が劣化したり、さらには、電磁遮蔽材料であれば、導電材内部の電子移動がポイントとなるので問題とならないが、導電膜と組み合わせて使用する場合、黒化処理によってメッシュと導電膜の接触部の抵抗や黒化処理部の仕事関数の関係からロスを生じることがある。
【０００７】
また、銅メッキをしていない銀メッシュについても例えば特許文献５には記載されているが、さらに検討をしたところ、銀メッシュはＮＯｘ、ＳＯｘ等に対する耐性が悪く導電性が劣化することが分かってきた。
【０００８】
なお、特許文献５には、銀塩含有層を有する感光材料を露光し現像処理し、更に物理現像および／またはメッキ処理を行うことにより製造した導電性パターン材料と透明導電膜とを含む導電性面を有することを特徴とする透光性導電性シート、さらには、透光性導電性フィルムが透明な金属酸化物および／または有機物の導電性膜と網目状金属細線を有することを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子について開示がある。
【０００９】
しかしながら、特許文献５には本発明の課題とする屈曲耐性についてや、銀を含有することで黒化処理をフリー化して導電製膜との界面ロスを低減すること、メッキ処理をフリー化して銀を含有することで銅などのメッキ金属の色の問題を解消する際に、ＮＯｘ、ＳＯｘ等の腐食性ガスに対する耐性が劣化すること、さらに導電性高分子化合物によるこうした性能の改善については示唆されていない。
【特許文献１】特開２００３−１１５２２０号公報
【特許文献２】特開平１１−１８４３８５号公報
【特許文献３】特開平１１−１６０５３２号公報
【特許文献４】特開平１１−２０４９８６号公報
【特許文献５】特開２００６−３５２０７３号公報
【特許文献６】特開平９−１４７６３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、大面積においてもロスが小さく、また、導電フィルムの色が問題とならず、かつ、屈曲に強く、ＮＯｘ、ＳＯｘ等の腐食性ガスに対する耐性も高い、フレキシブルな透明電極に好適な導電フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記課題解決には、銅を用いたフォトリソグラフィー法や銅メッキ処理を用いることなく、銀を含有する導電性パターンと導電性高分子化合物からなる透明導電膜とを基材に近い側からこの順に隣接して設けることが重要であり、より詳しくは、以下の構成により達成される。
【００１２】
１．透明フィルム基材上に、該透明フィルム基材に近い側から、銀を含有する導電性パターンと、その上に導電性高分子化合物からなる透明導電膜とが隣接して設けられている透明導電フィルムにおいて、該導電性パターンが該透明フィルム基材上にハロゲン化銀粒子を含有する層を設け、かつ、所望するパターンで露光、現像処理することにより、所望するパターンの金属銀部を形成し、さらに物理現像処理することにより形成され、
導電性高分子化合物がポリエチレンジオキシチオフェン系またはポリアニリン系の導電性高分子化合物であり、
前記ハロゲン化銀粒子を含有する層におけるバインダー付き量が０．０５ｇ／ｍ2以上０．２５ｇ／ｍ2以下であり、
露光前の前記ハロゲン化銀粒子を含有する層におけるＡｇ／バインダー比率が体積比で０．３以上０．８以下であることを特徴とする透明導電フィルム。
【００１６】
２．前記ハロゲン化銀粒子が塩臭化銀粒子であり、かつ、塩化銀含有率が５５モル％以上９５モル％以下で、臭化銀含有率が５モル％以上４５モル％以下であることを特徴とする前記１記載の透明導電フィルム。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、大面積においてもロスが小さく、また、導電フィルムの色が問題とならず、かつ、屈曲に強く、ＮＯｘ、ＳＯｘ等の腐食性ガスに対する耐性も高い、フレキシブルな透明電極に好適な導電フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明を更に詳しく説明する。
【００１９】
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、透明フィルム基材上に銀を含有する導電性パターンおよび導電性高分子化合物からなる透明導電膜を該基材に近い側からこの順に該導電性パターンと該透明導電膜とが隣接して設けられ、該導電性パターンが透明フィルム基材上にハロゲン化銀粒子を含有する層を設け、所望するパターンで露光、現像処理することにより、所望するパターンの金属銀部を形成し、さらに物理現像処理することにより形成されることによって、大面積においてもロスが小さく、また、導電フィルムの色が問題とならず、かつ、屈曲に強く、ＮＯｘ、ＳＯｘ等の腐食性ガスに対する耐性も高い、フレキシブルな導電フィルムが得られることを見出し、本発明に至った次第である。
【００２０】
以下、本発明を実施するための最良の形態について説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。
【００２１】
（導電性パターン）
本発明の銀を含有する導電性パターンにおいては、導電性を持った構成成分の７割以上が銀であることが好ましく、９割以上が銀であることがより好ましい。主成分を銀とすることにより、導電膜と併用する際に弊害のある黒化処理をしなくても、メッシュ部の着色を防ぐことが可能となる。パターン形状としては特に制限はないが、例えば、三角形、正方形、長方形、菱形、平行四辺形、台形等の四角形、（正）六角形、（正）八角形等を組み合わせた幾何学図形からなるメッシュ状のパターンを上げることができる。
【００２２】
導電性パターンは導電性高分子化合物からなる透明導電膜を併用しない、単独のフィルムで５０Ω／□以下の導電性を有することが好ましく、１０Ω／□以下であることが最も好ましい。５０Ω／□を超える導電性パターンでは導電性高分子化合物からなる透明導電膜単独に対する導電性改善効果が小さい。
【００２３】
こうした導電性パターンを形成する方法としては、ハロゲン化銀粒子を含有する層を設け、所望するパターンで露光、現像処理することにより、所望するパターンの金属銀部を形成し、さらに物理現像処理する方法を用いる。この方法により、容易に所望するパターンの金属銀部を形成することが可能であり、また、印刷法などで問題となる交点太りによる透過率の低下も生じない。さらに物理現像処理する方法により、透明基材の平滑性を劣化させる後加熱処理や着色が問題となる追加の銅メッキ処理を用いなくても、銀の緻密なラインが形成可能となり、前述の好ましい導電性を確保できる。
【００２４】
（導電性高分子化合物）
本発明においては、前述の導電性パターンに隣接して、基材から遠い側に導電性高分子化合物からなる透明導電膜を設ける。
【００２５】
これによって、大面積にしてもロスの少ない面電極にすることが可能で、かつ、ＩＴＯなどの無機系導電膜に比べて屈曲に強い導電性フィルムとすることができる。さらに、主たる成分が銀からなる導電性パターンのＮＯｘ、ＳＯｘ等の腐食性ガスに対する耐性も改善することができる。この改善効果は導電性高分子化合物がポリアニリン系の場合に、特に顕著であった。ポリアニリン系の導電性高分子化合物は一般に防錆作用のあることが知られているが、そうした効果が本発明においても有効に働いているのかもしれない。
【００２６】
次に本発明における導電性高分子について説明する。
【００２７】
導電性高分子としては、特に限定されず、ポリピロール、ポリインドール、ポリカルバゾール、ポリチオフェン（基本のポリチオフェンを含む、以下同様）系、ポリアニリン系、ポリアセチレン系、ポリフラン系、ポリパラフェニレンビニレン系、ポリアズレン系、ポリパラフェニレン系、ポリパラフェニレンサルファイド系、ポリイソチアナフテン系、ポリチアジル等の鎖状導電性ポリマーや、ポリアセン系導電性ポリマーも利用することができる。中でも、導電性、透明性等の観点からポリエチレンジオキシチオフェンやポリアニリン系が好ましく、前述の腐食性ガスに対する耐性の観点も考慮するとポリアニリン系の導電性高分子であることが最も好ましい。
【００２８】
また、本発明においては、上記導電性高分子の導電性をより高めるために、ドーピング処理を施すことが好ましい。導電性高分子に対するドーパントとしては、例えば、炭素数が６〜３０の炭化水素基を有するスルホン酸（以下「長鎖スルホン酸」ともいう。）あるいはその重合体（例えば、ポリスチレンスルホン酸）、ハロゲン、ルイス酸、プロトン酸、遷移金属ハロゲン化物、遷移金属化合物、アルカリ金属、アルカリ土類金属、ＭＣｌＯ4（Ｍ＝Ｌｉ+、Ｎａ+）、Ｒ4Ｎ+（Ｒ＝ＣＨ3、Ｃ4Ｈ9、Ｃ5Ｈ11）、またはＲ4Ｐ+（Ｒ＝ＣＨ3、Ｃ4Ｈ9、Ｃ5Ｈ11）からなる群から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。なかでも、上記長鎖スルホン酸が好ましい。
【００２９】
長鎖スルホン酸としては、ジノニルナフタレンジスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等が挙げられる。ハロゲンとしては、Ｃｌ2、Ｂｒ2、Ｉ2、ＩＣｌ3、ＩＢｒ、ＩＦ5等が挙げられる。ルイス酸としては、ＰＦ5、ＡｓＦ5、ＳｂＦ5、ＢＦ3、ＢＣｌ3、ＢＢｒ3、ＳＯ3、ＧａＣｌ3等が挙げられる。プロトン酸としては、ＨＦ、ＨＣｌ、ＨＮＯ3、Ｈ2ＳＯ4、ＨＢＦ4、ＨＣｌＯ4、ＦＳＯ3Ｈ、ＣｌＳＯ3Ｈ、ＣＦ3ＳＯ3Ｈ等が挙げられる。遷移金属ハロゲン化物としては、ＮｂＦ5、ＴａＦ5、ＭｏＦ5、ＷＦ5、ＲｕＦ5、ＢｉＦ5、ＴｉＣｌ4、ＺｒＣｌ4、ＭｏＣｌ5、ＭｏＣｌ3、ＷＣｌ5、ＦｅＣｌ3、ＴｅＣｌ4、ＳｎＣｌ4、ＳｅＣｌ4、ＦｅＢｒ3、ＳｎＩ5等が挙げられる。遷移金属化合物としては、ＡｇＣｌＯ4、ＡｇＢＦ4、Ｌａ（ＮＯ3）3、Ｓｍ（ＮＯ3）3等が挙げられる。アルカリ金属としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ等が挙げられる。アルカリ土類金属としては、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｂａ等が挙げられる。
【００３０】
また、導電性高分子に対するドーパントは、水素化フラーレン、水酸化フラーレン、スルホン酸化フラーレンなどのフラーレン類に導入されていてもよい。本発明の透明導電材料及び透明導電素子において、上記ドーパントは、導電性高分子１００質量部に対して、０．００１質量部以上含まれていることが好ましい。さらには、０．５質量部以上含まれていることがより好ましい。尚、本実施形態の透明導電性フィルムは、長鎖スルホン酸、長鎖スルホン酸の重合体（例えば、ポリスチレンスルホン酸）、ハロゲン、ルイス酸、プロトン酸、遷移金属ハロゲン化物、遷移金属化合物、アルカリ金属、アルカリ土類金属、ＭＣｌＯ4、Ｒ4Ｎ+、およびＲ4Ｐ+からなる群から選ばれる少なくとも１種のドーパントと、フラーレン類との双方を含んでいてもよい。
【００３１】
本発明の透明導電フィルムは、２ｎｄ．ドーパントとして水溶性有機化合物を含有してもよい。本発明で用いることができる水溶性有機化合物には特に制限はなく、公知のものの中から適宜選択することができ、例えば、酸素含有化合物が好適に挙げられる。前記酸素含有化合物としては、酸素を含有する限り特に制限はなく、例えば、水酸基含有化合物、カルボニル基含有化合物、エーテル基含有化合物、スルホキシド基含有化合物などが挙げられる。前記水酸基含有化合物としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、１，４−ブタンジオール、グリセリンなどが挙げられ、これらの中でも、エチレングリコール、ジエチレングリコールが好ましい。前記カルボニル基含有化合物としては、例えば、イソホロン、プロピレンカーボネート、シクロヘキサノン、γ−ブチロラクトンなどが挙げられる。前記エーテル基含有化合物としては、例えば、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、などが挙げられる。前記スルホキシド基含有化合物としては、例えば、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよいが、ジメチルスルホキシド、エチレングリコール、ジエチレングリコールから選ばれる少なくとも１種を用いることが特に好ましい。
本発明の透明導電材料及び透明導電素子において、導電性高分子１００質量部に対する上記２ｎｄ．ドーパントの含有量は０．００１質量部以上が好ましく、０．０１〜５０質量がより好ましく、０．０１〜１０質量部が特に好ましい。
【００３２】
［透明フィルム基材］
本発明に用いられる透明フィルム基材としては、プラスチックフィルムを用いることができる。
【００３３】
プラスチックフィルムの原料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、環状オレフィン系樹脂などのポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリサルホン（ＰＳＦ）、ポリエーテルサルホン（ＰＥＳ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などを用いることができる。
【００３４】
中でも透明性、耐熱性、取り扱いやすさ及びコストの点から、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、アクリル樹脂フィルム、トリアセチルセルロースフィルムであることが好ましく、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムであることが最も好ましい。
【００３５】
透明フィルム基材は塗布液の濡れ性や接着性を確保するために、表面処理や易接着層を設けることが好ましい。表面処理や易接着層については従来公知の技術を使用できるが、透明フィルム基材が二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムである場合は、フィルムに隣接する易接着層の屈折率が１．５７〜１．６３とすることで、フィルム基材と易接着層との界面反射を低減して透過率を向上させることができるのでより好ましい。屈折率を調整する方法としては、酸化スズゾルや酸化セリウムゾルなどの比較的屈折率の高い酸化物ゾルとバインダー樹脂との比率を適宜調整して塗設することで作製できる。易接着層は単層でも良いが、接着性を向上させるためには２層以上の構成にしても良い。
【００３６】
本発明において、透明フィルム基材とは透過率が８５％以上のものをいい、好ましくは９０％以上である。
【００３７】
〔ハロゲン化銀粒子含有層〕
本発明に係るハロゲン化銀粒子含有層において、ハロゲン化銀粒子を均一に分散させ、かつハロゲン化銀粒子を支持体上に担持し、ハロゲン化銀粒子乳剤含有層と支持体の接着性を確保する目的でバインダーを用いる。本発明に用いることができるバインダーには、特に制限がなく、非水溶性ポリマー及び水溶性ポリマーのいずれも用いることができるが、現像性向上の観点からは、水溶性ポリマーを用いることが好ましい。
【００３８】
本発明に係る感光材料には、バインダーとしてゼラチンを用いることが有利であるが、必要に応じてゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高分子のグラフトポリマー、ゼラチン以外のタンパク質、糖誘導体、セルロース誘導体、単一あるいは共重合体のごとき合成親水性高分子物質等の親水性コロイドも用いることができる。
【００３９】
本発明においては、後述する感光性ハロゲン化銀粒子及びバインダーを含有するハロゲン化銀粒子含有層が透明フィルム基材上に設けられるが、ハロゲン化銀粒子乳剤含有層は、この他に、硬膜剤、硬調化剤、活性剤等を含有することができる。
【００４０】
本発明において、露光前の感光性ハロゲン化銀粒子含有層のハロゲン化銀粒子の銀／バインダー体積比は０．３以上０．８以下であることが好ましく、０．４以上０．７以下であることが最も好ましい。０．３よりも小さいと物理現像を施しても十分な導電性を得ることが難しくなり、また０．８より大きいと、バインダーがハロゲン化銀粒子を十分に保持することが出来なくなり、塗布液においてはハロゲン化銀粒子の凝集が発生したり、パターン形成後はパターン保持性が劣りパターンの剥がれを生じたりするため好ましくない。
【００４１】
本発明において、感光性ハロゲン化銀粒子含有層の付き量としては、バインダー量が、０．０５ｇ／ｍ2以上０．２５ｇ／ｍ2以下であることが好ましい。０．０５ｇ／ｍ2より小さいと十分な導電性を得ることが難しくなり、０．２５ｇ／ｍ2より大きいとパターン部の基材に近い側に導電性に寄与しない現像銀粒子が多数存在するようになって（基材に近い側では露光の光が減衰していたり、物理現像がかかりにくくなるためと推察）同じ導電性のフィルムで比較した場合にヘイズが上昇したり、また、湿度によりバインダー膜が収縮／伸張してカールを生じやすくなる為好ましくない。
【００４２】
〔ハロゲン化銀粒子〕
本発明で用いられるハロゲン化銀粒子の組成は、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、塩沃臭化銀、塩沃化銀等任意のハロゲン組成を有するものであってもよいが、本発明の効果を得るには、ハロゲン化銀粒子の組成が塩臭化銀であり、塩化銀含有率が５５モル％以上であって、かつ、臭化銀含有率が５から４５モル％であることが好ましく、塩化銀含有率が７０モル％以上であって、かつ、臭化銀含有率が１０から３０モル％であることが更に好ましい。塩化銀が５５モル％未満では感度、硬調化の点で、物理現像に適した銀濃度を得ることが難しく、臭化銀が５モル％未満では現像銀のフィラメント構造が広がらないために、現像銀粒子間の距離が遠くなり、物理現像がうまくかからないために、望ましい導電性が得にくくなる。
【００４３】
ハロゲン化銀粒子が現像され金属銀粒子になった後の表面比抵抗を下げるためには、現像銀粒子同士の接触面積ができるだけ大きくなる必要がある。そのためには表面積比を高めるためにハロゲン化銀粒子サイズが小さい程よいが、小さすぎる粒子は凝集して大きな塊状になりやすく、その場合接触面積は逆に少なくなってしまうので最適な粒子径が存在する。本発明において、ハロゲン化銀粒子の平均粒子サイズは、立方体換算径で０．０１〜０．５μｍが好ましく、より好ましくは０．０３〜０．３μｍである。なお、ハロゲン化銀粒子の立方体換算径とは、個々の粒子の体積と等しい体積を立方体に換算したときの一辺の長さを表す。ハロゲン化銀粒子の平均粒子サイズは、ハロゲン化銀粒子の調製時の温度、ｐＡｇ、ｐＨ、銀イオン溶液とハロゲン溶液の添加速度、粒子径コントロール剤（例えば、１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、ベンズトリアゾール、テトラザインデン化合物類、核酸誘導体類、チオエーテル化合物類等）を適宜組み合わせて制御することができる。
【００４４】
本発明においては、ハロゲン化銀粒子の形状は特に限定されず、例えば、球状、立方体状、平板状（６角平板状、３角形平板状、４角形平板状等）、８面体状、１４面体状等、さまざまな形状であることができる。粒子サイズの分布には特に限定はないが、露光によるパターン形成時に、パターンの輪郭をシャープに再現させ、高い導電性を維持しながら透明性を高めるという観点からは、狭い分布が好ましい。本発明に係る感光材料に用いられるハロゲン化銀粒子の粒径分布は、好ましくは変動係数が０．２２以下、さらに好ましくは０．１５以下の単分散ハロゲン化銀粒子である。ここで変動係数は、粒径分布の広さを表す係数であり、次式によって定義される。
【００４５】
変動係数＝Ｓ／Ｒ
（式中、Ｓは粒径分布の標準偏差、Ｒは平均粒径を表す。）
本発明で用いられるハロゲン化銀粒子は、さらに他の元素を含有していてもよい。例えば、写真乳剤において、硬調な乳剤を得るために用いられる金属イオンをドープすることも有用である。特に鉄イオン、ロジウムイオン、ルテニウムイオンやイリジウムイオン等の第８〜１０族金属イオンは、金属銀像の生成の際に露光部と未露光部の差が明確に生じやすくなるため好ましく用いられる。
【００４６】
これらの金属イオンは、塩や錯塩の形でハロゲン化銀粒子乳剤に添加することができる。ロジウムイオン、イリジウムイオンに代表される遷移金属イオンは、各種の配位子を有する化合物であることもできる。そのような配位子としては、例えば、シアン化物イオンやハロゲンイオン、チオシアナートイオン、ニトロシルイオン、水、水酸化物イオン等を挙げることができる。具体的な化合物の例としては、臭化ロジウム酸カリウムやイリジウム酸カリウム等が挙げられる。
【００４７】
本発明において、ハロゲン化銀粒子に含有される前記金属イオン化合物の含有率は、ハロゲン化銀１モル当たり、１０-10〜１０-2モル／モルＡｇであることが好ましく、１０-9〜１０-3モル／モルＡｇであることがさらに好ましい。
【００４８】
ハロゲン化銀粒子に上述の金属イオンを含有させるためには、該金属化合物をハロゲン化銀粒子の形成前、ハロゲン化銀粒子の形成中、ハロゲン化銀粒子の形成後等、物理熟成中の各工程における任意の場所で添加すればよい。また、添加においては、重金属化合物の溶液を粒子形成工程の全体あるいは一部にわたって連続的に行うことができる。
【００４９】
本発明では、感度を向上させるため、写真乳剤で行われる化学増感を施すことが好ましい。化学増感としては、例えば、金、パラジウム、白金増感等の貴金属増感、無機イオウ、または有機イオウ化合物によるイオウ増感等のカルコゲン増感、塩化錫、ヒドラジン等還元増感等を利用することができる。
【００５０】
また、ハロゲン化銀粒子には分光増感を施すことが好ましい。好ましい分光増感色素としては、シアニン、カルボシアニン、ジカルボシアニン、複合シアニン、ヘミシアニン、スチリル色素、メロシアニン、複合メロシアニン、ホロポーラー色素等を挙げることができ、当業界で用いられている分光増感色素を単用あるいは併用して使用することができる。
【００５１】
特に有用な色素は、シアニン色素、メロシアニン色素、及び複合メロシアニン色素である。これらの色素類には、その塩基性異節環核として、シアニン色素類に通常利用される核の何れをも通用できる。すなわち、ピロリン核、オキサゾリン核、チアゾリン核、ピロール核、オキサゾール核、チアゾール核、セレナゾール核、イミダゾール核、テトラゾール核、ピリジン核及びこれらの核に脂環式炭化水素環が融合した核、及びこれらの核に芳香族炭化水素環が融合した核、即ち、インドレニン核、ベンズインドレニン核、インドール核、ベンズオキサゾール核、ナフトオキサゾール核、ベンゾチアゾール核、ナフトチアゾール核、ベンゾセレナゾール核、ベンズイミダゾール核、キノリン核等である。これらの核は、炭素原子上で置換されてもよい。
【００５２】
メロシアニン色素または複合メロシアニン色素には、ケトメチレン構造を有する核として、ピラゾリン−５−オン核、チオヒダントイン核、２−チオオキサゾリジン−２，４−ジオン核、チアゾリジン−２，４−ジオン核、ローダニン核、チオバルビツール酸核等の５から６員異節環核を適用することができる。
【００５３】
これらの増感色素は単独に用いてもよいが、それらの組み合わせを用いてもよい。増感色素の組み合わせは特に、強色増感の目的でしばしば用いられる。
【００５４】
これらの増感色素をハロゲン化銀粒子乳剤中に含有せしめるには、それらを直接乳剤中に分散してもよいし、あるいは水、メタノール、プロパノール、メチルセロソルブ、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等の溶媒の単独もしくは混合溶媒に溶解して乳剤へ添加してもよい。また、特公昭４４−２３３８９号、同４４−２７５５５号、同５７−２２０８９号公報等に記載のように、酸または塩基を共存させて水溶液としたり、米国特許第３，８２２，１３５号、同第４，００６，０２５号明細書等に記載のようにドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等の界面活性剤を共存させて水溶液あるいはコロイド分散物としたものを乳剤へ添加してもよい。また、フェノキシエタノール等の実質上水と非混和性の溶媒に溶解した後、水または親水性コロイド分散したものを乳剤に添加してもよい。特開昭５３−１０２７３３号、同５８−１０５１４１号公報に記載のように親水性コロイド中に直接分散させ、その分散物を乳剤に添加してもよい。
【００５５】
〔露光〕
本発明では、支持体上に設けられた銀塩含有層に、所望の導電性金属パターンが得られるよう露光を行う。
【００５６】
露光は、電磁波を用いて行うことができる。電磁波としては、例えば、可視光線、紫外線等の光、Ｘ線等の放射線等が挙げられる。さらに露光には波長分布を有する光源を利用してもよく、特定の波長の光源を用いてもよい。
【００５７】
上記光源としては、例えば、陰極線（ＣＲＴ）を用いた走査露光を挙げることができる。陰極線管露光装置は、レーザーを用いた装置に比べて、簡便でかつコンパクトであり、低コストになる。また、光軸や色の調整も容易である。画像露光に用いる陰極線管には、必要に応じてスペクトル領域に発光を示す各種発光体が用いられる。例えば、赤色発光体、緑色発光体、青色発光体のいずれか１種または２種以上が混合されて用いられる。スペクトル領域は、上記の赤色、緑色及び青色に限定されず、黄色、橙色、紫色あるいは赤外領域に発光する蛍光体も用いられる。特に、これらの発光体を混合して白色に発光する陰極線管がしばしば用いられる。また、紫外線ランプも好ましく、水銀ランプのｇ線、水銀ランプのｉ線等も利用される。
【００５８】
また、本発明では、露光は種々のレーザービームを用いて行うことができる。例えば、ガスレーザー、発光ダイオード、半導体レーザー、半導体レーザーまたは半導体レーザーを励起光源に用いた固体レーザーと非線形光学結晶を組合わせた第二高調波発光光源（ＳＨＧ）等の単色高密度光を用いた走査露光方式を好ましく用いることができ、さらにＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー、Ｆ2レーザー等も用いることができる。システムをコンパクトで、安価なものにするために、露光は、半導体レーザー、半導体レーザーあるいは固体レーザーと非線形光学結晶を組合わせた第二高調波発生光源（ＳＨＧ）を用いて行うことが好ましい。特にコンパクトで、安価、さらに寿命が長く、安定性が高い装置を設計するためには、露光は半導体レーザーを用いて行うことが好ましい。
【００５９】
レーザー光源としては、具体的には、波長４３０〜４６０ｎｍの青色半導体レーザー（２００１年３月の第４８回応用物理学関係連合講演会で日亜化学発表）、半導体レーザー（発振波長約１０６０ｎｍ）を導波路状の反転ドメイン構造を有するＬｉＮｂＯ3のＳＨＧ結晶により波長変換して取り出した約５３０ｎｍの緑色レーザー、波長約６８５ｎｍの赤色半導体レーザー（日立タイプＮｏ．ＨＬ６７３８ＭＧ）、波長約６５０ｎｍの赤色半導体レーザー（日立タイプＮｏ．ＨＬ６５０１ＭＧ）等が好ましく用いられる。
【００６０】
銀塩含有層をパターン状に露光する方法は、フォトマスクを利用した面露光で行ってもよいし、レーザービームによる走査露光で行ってもよい。この際、レンズを用いた屈折式露光でも反射鏡を用いた反射式露光でもよく、コンタクト露光、プロキシミティー露光、縮小投影露光、反射投影露光等の露光方式を用いることができる。
【００６１】
〔化学現像処理〕
本発明では、感光材料を露光した後、化学現像処理（単に「化学現像」ともいう。）が行われる。化学現像処理は、発色現像主薬を含有しない、いわゆる黒白現像処理であることが好ましい。
【００６２】
化学現像処理液としては、現像主薬としてハイドロキノン、ハイドロキノンスルホン酸ナトリウム、クロルハイドロキノン等のハイドロキノン類の他に、１−フェニル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４，４−ジメチル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−メチル−４−ヒドロキシメチル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−メチル−３−ピラゾリドン等のピラゾリドン類及びＮ−メチルパラアミノフェノール硫酸塩等の超加成性現像主薬と併用することができる。また、ハイドロキノンを使用しないでアスコルビン酸やイソアスコルビン酸等レダクトン類化合物を上記超加成性現像主薬と併用することが好ましい。
【００６３】
また、化学現像処理液には保恒剤として亜硫酸ナトリウム塩や亜硫酸カリウム塩、緩衝剤として炭酸ナトリウム塩や炭酸カリウム塩、現像促進剤としてジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチルアミノプロパンジオール等を適宜使用できる。
【００６４】
化学現像処理で用いられる現像処理液は、画質を向上させる目的で、画質向上剤を含有することができる。画質向上剤としては、例えば、１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール、５−メチルベンゾトリアゾール等の含窒素へテロ環化合物を挙げることができる。
【００６５】
本発明における化学現像処理においては、化学現像後に、未露光部分のハロゲン化銀粒子を除去して安定化させる目的で行われる定着処理を行う。本発明における定着処理は、ハロゲン化銀粒子を用いた写真フィルムや印画紙等で用いられる定着液処方を用いることができる。定着処理で使用する定着液は、定着剤としてチオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸カリウム、チオ硫酸アンモニウム等を使用することができる。定着時の硬膜剤として硫酸アルミウム、硫酸クロミウム等を使用することができる。定着剤の保恒剤としては、化学現像処理液で述べた亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、アスコルビン酸、エリソルビン酸等を使用することができ、その他にクエン酸、蓚酸等を使用することができる。
【００６６】
更に、定着処理後、水洗処理を行うことが好ましい。本発明に使用する水洗水には、防黴剤としてＮ−メチル−イソチアゾール−３−オン、Ｎ−メチル−イソチアゾール−５−クロロ−３−オン、Ｎ−メチル−イソチアゾール−４，５−ジクロロ−３−オン、２−ニトロ−２−ブロム−３−ヒドロキシプロパノール，２−メチル−４−クロロフェノール、過酸化水素等を使用することができる。
【００６７】
〔物理現像処理〕
本発明においては、主たる成分が銀からなる導電性パターンに好ましい導電性を付与するために、化学現像処理後、物理現像処理（単に「物理現像」ともいう）を行う。本発明でいう「物理現像処理」とは、化学現像処理により感光性材料中のハロゲン化銀粒子から生成された現像銀以外に、新たに外部から銀イオンを供給し、化学現像処理で生される現像銀を補強するプロセスのことを示す。物理現像処理液から銀イオンを供給するための具体的な方法としては、例えば予め物理現像処理液中に硝酸銀等を溶解しておき銀イオンを溶かしておく方法、あるいは物理現像処理液中に、チオ硫酸ナトリウム、チオシアン酸アンモニウム等のようなハロゲン化銀溶剤を溶解しておき、現像時に未露光部のハロゲン化銀粒子を溶解させ、潜像を有するハロゲン化銀粒子の現像を補力する方法等が挙げられるが、本発明においては、前者であることが好ましい。
【００６８】
なお、本発明においては従来技術で用いられるような、さらなる追加のメッキ処理やメッキ後に実施される黒化処理は実施しない。
【００６９】
〔酸化処理〕
本発明においては、化学現像処理後、または／及び物理現像処理後に酸化処理を行ってもよい。酸化処理により、不要な金属成分をイオン化して溶解除去することが可能となり、フィルムの透過率をより高めることが可能となる。
【００７０】
酸化処理に用いる処理液としては、例えばＦｅ（III）イオンを含む水溶液を用いて処理する方法、あるいは過酸化水素、過硫酸塩、過硼酸塩、過燐酸塩、過炭酸塩、過ハロゲン酸塩、次亜ハロゲン酸塩、ハロゲン酸塩、有機過酸化物等の過酸化物を含む水溶液を用いて処理する方法など、従来公知の酸化剤を含有する処理液を用いることができる。酸化処理は、化学現像処理終了後から、物理現像処理終了後までのどのタイミングで実施しても良いが、好ましくは、物理現像処理終了後に行う。
【実施例】
【００７１】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。なお、実施例において「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量％」を表す。
【００７２】
（下引き済みＰＥＴフィルム支持体）
１００μｍの二軸延伸ＰＥＴ支持体の両面に１２Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2のコロナ放電処理を施し、それぞれの面に下引き塗布液Ｂ−１を乾燥膜厚０．１μｍになるように塗布し、さらに、それぞれの面のＢ−１乾燥膜上に１２Ｗ・ｍｉｎ／ｍ2のコロナ放電処理を施し、下引き塗布液Ｂ−２を乾燥膜厚０．０６μｍになるように塗布した。その後、１２０℃で１．５分の熱処理を実施し、下引き済みＰＥＴフィルム支持体を得た。
【００７３】
〈下引き塗布液Ｂ−１〉
スチレン２０質量部、グリシジルメタクリレート４０質量部、ブチルアクリレート４０質量部の共重合体ラテックス液（固形分質量３０％）                        ５０ｇ
ＳｎＯ2ゾル（Ａ）                                                  ４４０ｇ
化合物（ＵＬ−１）                                                  ０．２ｇ
水で仕上げる                                                    １０００ｍｌ
〈下引き塗布液Ｂ−２〉
ゼラチン                                                              １０ｇ
化合物（ＵＬ−１）                                                  ０．２ｇ
化合物（ＵＬ−２）                                                  ０．２ｇ
シリカ粒子（平均粒径３μｍ）                                        ０．１ｇ
硬膜剤（ＵＬ−３）                                                      １ｇ
水で仕上げる                                                    １０００ｍｌ
【００７４】
【化１】
0005298491.tif 000002
【００７５】
ＳｎＯ2ゾル（Ａ）
（ＳｎＯ2ゾル（Ａ）の合成例）
ＳｎＣｌ4・５Ｈ2Ｏ  ６５ｇを蒸留水２０００ｍｌに溶解して均一溶液とし、次いでこれを煮沸し沈澱物を得た。生成した沈澱物をデカンテーションにより取り出し、蒸留水にて何度も水洗する。沈澱を水洗した蒸留水中に硝酸銀を滴下し、塩素イオンの反応がないことを確認後、洗浄した沈澱物に蒸留水を添加し全量を２０００ｍｌとする。これに３０％アンモニア水４０ｍｌを加え加温することにより、均一なゾルを得た。更に、アンモニア水を添加しながらＳｎＯ2の固型分濃度が８．３質量％になるまで加熱濃縮し、ＳｎＯ2ゾル（Ａ）を得た。
【００７６】
〔ハロゲン化銀微粒子乳剤１の調製〕
反応容器内で下記溶液Ａを３４℃に保ち、特開昭６２−１６０１２８号公報記載の混合撹拌装置を用いて高速に撹拌しながら、硝酸（濃度６％）を用いてｐＨを２．９５に調整した。引き続き、ダブルジェット法を用いて下記溶液Ｂと下記溶液Ｃを一定の流量で８分６秒間かけて添加した。添加終了後に、炭酸ナトリウム（濃度５％）を用いてｐＨを５．９０に調整し、続いて下記溶液Ｄと溶液Ｅを添加した。
【００７７】
（溶液Ａ）
アルカリ処理不活性ゼラチン（平均分子量１０万）                    １８．７ｇ
塩化ナトリウム                                                    ０．３１ｇ
溶液Ｉ（下記）                                                  １．５９ｍｌ
純水                                                            １２４６ｍｌ
（溶液Ｂ）
硝酸銀                                                          １６９．９ｇ
硝酸（濃度６％）                                                ５．８９ｍｌ
純水にて３１７．１ｍｌに仕上げる
（溶液Ｃ）
アルカリ処理不活性ゼラチン（平均分子量１０万）                    ５．６６ｇ
塩化ナトリウム                                                    ５８．８ｇ
臭化カリウム                                                      １３．３ｇ
溶液Ｉ（下記）                                                  ０．８５ｍｌ
溶液II（下記）                                                  ２．７２ｍｌ
純水にて３１７．１ｍｌに仕上げる
（溶液Ｄ）
２−メチル−４ヒドロキシ−１，３，３ａ，７−テトラアザインデン    ０．５６ｇ
純水                                                          １１２．１ｍｌ
（溶液Ｅ）
アルカリ処理不活性ゼラチン（平均分子量１０万）                    ３．９６ｇ
溶液Ｉ（下記）                                                  ０．４０ｍｌ
純水                                                          １２８．５ｍｌ
（溶液Ｉ）
界面活性剤：ポリイソプロピレンポリエチレンオキシジコハク酸エステルナトリウム塩の１０質量％メタノール溶液
（溶液II）
六塩化ロジウム錯体の１０質量％水溶液
上記操作終了後に、常法に従い４０℃にてフロキュレーション法を用いて脱塩及び水洗処理を施し、溶液Ｆと防バイ剤を加えて６０℃でよく分散し、４０℃にてｐＨを５．９０に調整して、最終的に臭化銀を１０モル％含む平均粒子径０．０９μｍ、変動係数１０％の塩臭化銀立方体粒子乳剤を得た。
【００７８】
（溶液Ｆ）
アルカリ処理不活性ゼラチン（平均分子量１０万）                    １６．５ｇ
純水                                                          １３９．８ｍｌ
上記ハロゲン化銀乳剤に対し、チオ硫酸ナトリウムをハロゲン化銀１モル当たり２０ｍｇ用い、４０℃にて８０分間化学増感を行い、化学増感終了後に４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン（ＴＡＩ）をハロゲン化銀１モル当たり５００ｍｇ、１−フェニル−５−メルカプトテトラゾールをハロゲン化銀１モル当たり１５０ｍｇ添加して、ハロゲン化銀乳剤ＥＭ−１を得た。このハロゲン化銀乳剤ＥＭ−１のハロゲン化銀粒子とゼラチンの体積比（ハロゲン化銀粒子／ゼラチン）は０．６２５であった。さらに硬膜剤（Ｈ−１：テトラキス（ビニルスルホニルメチル）メタン）をゼラチン１ｇ当たり２００ｍｇの比率となるようにして添加し、また塗布助剤として、界面活性剤（ＳＵ−２：スルホ琥珀酸ジ（２−エチルヘキシル）・ナトリウム）を添加し、表面張力を調整した。こうして得られた塗布液を、ゼラチンの付き量が表１記載量となるように上記易接着ポリエステルフィルム支持体の片方の面上に塗布した後、５０℃、２４時間のキュア処理を実施した。
【００７９】
上述のようにして作製したフィルムに対して、ライン幅が６μｍ、ライン同士の間隔が２４４μｍの格子状のフォトマスクを介して、紫外線ランプを用いて露光を行い、下記現像液（ＤＥＶ−１）を用いて２５℃で６０秒間現像処理を行った後、下記定着液（ＦＩＸ−１）を用いて２５℃で１２０秒間の定着処理を行った。さらに、下記物理現像液（ＰＤＥＶ−１）を用いて２５℃で１０分間物理現像を行った後、水洗、乾燥処理を行った。
【００８０】
（ＤＥＶ−１）
純水                                                              ５００ｍｌ
メトール                                                                ２ｇ
無水亜硫酸ナトリウム                                                  ８０ｇ
ハイドロキノン                                                          ４ｇ
ホウ砂                                                                  ４ｇ
チオ硫酸ナトリウム                                                    １０ｇ
臭化カリウム                                                        ０．５ｇ
水を加えて全量を１リットルとする
（ＦＩＸ−１）
純水                                                              ７５０ｍｌ
チオ硫酸ナトリウム                                                  ２５０ｇ
無水亜硫酸ナトリウム                                                  １５ｇ
氷酢酸                                                              １５ｍｌ
カリミョウバン                                                        １５ｇ
水を加えて全量を１リットルとする
（ＰＤＥＶ−１）
下記Ａ液、Ｂ液を処理の直前に混合する
（Ａ液）
純水                                                              ４００ｍｌ
クエン酸                                                              １０ｇ
リン酸水素２ナトリウム                                                  １ｇ
アンモニア水（２８％水溶液）                                      １．２ｍｌ
ハイドロキノン                                                          ３ｇ
（Ｂ液）
純水                                                                １０ｍｌ
硝酸銀                                                              ０．４ｇ
（水洗処理及び乾燥処理）
水洗処理は、水道水で１０分間洗い流した。また乾燥処理は、乾燥風（５０℃）を用いてドライ状態になるまで乾燥した。
【００８１】
（透明導電膜）
導電性高分子化合物として、スルホン酸系ドーパントを含有する導電性ポリアニリンの分散液ＯＲＭＥＣＯＮ  Ｄ１０３３（ドイツ  オルメコン社製）を用いて、乾燥膜厚が１３０ｎｍとなるように作製した銀メッシュ上に塗布し、本発明の透明導電フィルム１０１を作製した。
【００８２】
ＡｇＢｒ／ＡｇＣｌ比、Ａｇ／バインダー比、バインダー付き量が表１記載となるように変更した以外は同様にして本発明の透明導電フィルム１０２から１１７を、さらに、導電性高分子化合物としてＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ＝１：２．５の分散液であるＢａｙｔｒｏｎ  ＰＨ５１０（Ｈ．Ｃ．Ｓｔａｒｃｋ社製）にジメチルスルホキシドを５質量％添加した液に変更した以外は透明導電フィルム１０１と同様にして本発明の透明導電フィルム１１８を作製した。
【００８３】
さらに、導電性高分子化合物として導電性ポリアニリンの分散液ＯＲＭＥＣＯＮ  ＮＸＣ００１Ｘ（ドイツ  オルメコン社製）を用いた以外は透明導電フィルム１０１と同様にして本発明の透明導電フィルム１１９を作製した。
【００８４】
（比較試料）
比較試料として以下の試料を準備した。
【００８５】
試料２０１；試料１０１の物理現像後、導電性高分子化合物を塗布していない試料
試料２０２；易接着済み支持体上にハロゲン化銀乳剤層を設けず、直接ＯＲＭＥＣＯＮ  Ｄ１０３３（ドイツ  オルメコン社製）を塗布した試料
試料２０３；試料１０１の物理現像後下記メッキ液（ＰＬ−１）を用いて２５℃で５分間の条件で電解銅メッキ処理をした後、ＯＲＭＥＣＯＮ  Ｄ１０３３（ドイツ  オルメコン社製）を塗布した試料
試料２０４；４試料２０３のメッキ処理後、下記黒化処理液（ＢＫ−１）を用いて８０℃で１分間の条件で黒化処理を施した後にＯＲＭＥＣＯＮ  Ｄ１０３３（ドイツ  オルメコン社製）を塗布した試料
試料２０５；試料１０１のＯＲＭＥＣＯＮ  Ｄ１０３３（ドイツ  オルメコン社製）の代わりにＩＴＯ膜を蒸着した試料
（ＰＬ−１）
純水                                                            １０００ｍｌ
硫酸銅                                                              ２００ｇ
硫酸                                                                  ５０ｇ
（ＢＫ−１）
純水                                                            １０００ｍｌ
亜塩素酸ナトリウム                                                    ３１ｇ
水酸化ナトリウム                                                      １５ｇ
リン酸三ナトリウム                                                    １２ｇ
各試料について以下の評価を行った。結果を表１に示す。
【００８６】
（表面比抵抗の測定）
抵抗率計（ロレスタＧＰ（ＭＣＰ−Ｔ６１０型）：（株）ダイヤインスツルメンツ社製）を用いて表面比抵抗を測定した。なお、本発明の試料については導電性高分子化合物を塗布する前の物理現像後の試料についても表面比抵抗を測定した。
【００８７】
×    １００Ω／□以上
△×  ５０Ω／□以上１００Ω／□未満
△    ３０Ω／□以上５０Ω／□未満
○△  １０Ω／□以上３０Ω／□未満
○    １０Ω／□未満。
【００８８】
（透過率の測定）
分光光度計（日立分光光度計Ｕ−３２１０：（株）日立製作所製）を用いて透過率を測定した。
【００８９】
○    ８０％以上
○△  ７５％以上８０％未満
△    ７０％以上７５％未満
△×  ６５％以上７０％未満
×    ６５％未満。
【００９０】
（屈曲耐性）
１０ｃｍ×１０ｃｍに切り出した試料を直径３ｃｍの円筒状に丸め、指で断面が∞のような形状になるように１０回押し込みを繰り返して、ひび割れが発生するかを確認した。
【００９１】
○    発生なし
×    ひび割れ発生
（ガス耐性）
ＪＩＳ  Ｃ００４８  環境試験方法  −電気・電子−  混合ガス流腐食試験  試験方法４に準拠した方法で、１０日間ガス環境下に保存した試料の表面比抵抗を保存前後で比較した。保存条件の詳細は表２参照。
保存後の表面比抵抗値が保存前に対して
×    １０倍以上に上昇
△×  ５倍以上１０倍未満
△    ３倍以上５倍未満
○△  ２倍以上３倍未満
○    ２倍未満
とした。
【００９２】
（ヘイズ）
東京電色  ＴＵＲＢＩＤＩＴＹ  ＭＥＴＥＲ  Ｔ−２６００ＤＡ型により評価した。
【００９３】
○    ２％未満
○△  ２％以上３％未満
△    ３％以上５％未満
△×  ５％以上８％未満
×    ８％以上。
【００９４】
（着色）
試料を目視で観察した。
【００９５】
×    明らかにメッシュの色が分かる
○    メッシュの色が気にならない。
【００９６】
（接着性）
メッシュに対して４５度の角度で１ｍｍ×１ｍｍで１０個×１０個＝１００個の升目の切込みをカミソリ刃を使って入れる。この升目部に日東電工製セロハンテープＮｏ．２９を貼り、力強く剥離した際の残存升数をカウントした。
【００９７】
○    ９０個以上
○△  ７０個以上９０個未満
△    ５０個以上７０個未満
△×  ３０個以上５０個未満
×    ３０個未満。
【００９８】
（カール）
試料を３．５ｃｍ×１５ｃｍで切り出し、２３℃で２０％ＲＨ、８０％ＲＨの各環境下で３時間放置した際にそれぞれカールの様子を観察した。
【００９９】
○    いずれの環境においてもカールなし
△    わずかにカール発生するが取り扱いには問題なし
×    強いカールが発生。
【０１００】
【表１】
0005298491.tif 000003
【０１０１】
【表２】
0005298491.tif 000004
【０１０２】
表１の通り、全てのサンプルにおいて電磁波遮蔽能の指標である表面抵抗率は満足行く値が得られたが、ディスプレイ前面フィルター用として非常に重要な透明性に関して、本発明においては汚れのない高品質でかつ透過率の高い透光性導電性膜が得られたが、比較例においては汚れの付着が認められ、ムラとなって視認されるだけでなく透過率も低く満足のいくものは得られなかった。