(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリマー及び溶剤を含むドープを移動支持体の表面の到達位置へ流下させるドープ流下工程と、
前記流下したドープからなり前記移動支持体の表面上に形成された流延膜から前記溶剤を蒸発させる膜乾燥工程と、
前記膜乾燥工程を経た流延膜を前記移動支持体から剥離する剥離工程とを順次繰り返し行う流延膜の形成方法において、
前記膜乾燥工程後であって前記剥離工程前に行われ、自立して搬送可能な状態となるまで前記流延膜を冷却する膜冷却工程と、
前記剥離工程後であって次の膜乾燥工程前の前記移動支持体を加熱する支持体加熱工程と、
前記膜乾燥工程前に行われ、前記支持体加熱工程にて前記移動支持体に与えられた熱を用いて前記流延膜を加熱する膜加熱工程とを有し、
前記ドープ流下工程では、前記到達位置よりも幅方向両外側の前記移動支持体の表面を支持する表面両端部支持手段と、前記移動支持体の裏面の一端から他端までを支持する裏面支持手段とを用いて前記移動支持体を挟持することを特徴とする流延膜の形成方法。
【請求項２】
前記表面両端部支持手段はニップローラであり、
前記裏面支持手段は支持ローラであることを特徴とする請求項１記載の流延膜の形成方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の流延膜の形成方法を行った後、
前記移動支持体から剥離された前記流延膜から前記溶剤を蒸発させて、フィルムを得るフィルム乾燥工程を有することを特徴とする溶液製膜方法。
【請求項４】
ポリマー及び溶剤を含み流下するドープが到達する到達部、前記流下したドープから流延膜を形成する流延部、前記流下したドープからなる流延膜にて前記溶剤を蒸発させる膜乾燥部、及び前記流延膜が剥離される剥離部を順次循環して通過する移動支持体と、
前記到達部に位置する前記移動支持体を支持する到達部支持手段と、
前記剥離部に位置する前記移動支持体を支持する剥離部支持手段と、
前記移動支持体が前記膜乾燥部を離れ前記剥離部に到達するまでの間、自立して搬送可能な状態となるまで前記流延膜を冷却する膜冷却手段と、
前記剥離部を離れ前記膜乾燥部に到達するまでの間の前記移動支持体を加熱する支持体加熱手段と、
前記支持体加熱手段により与えられた熱を用いて前記膜乾燥部に到達する前の前記流延膜を加熱する膜加熱手段とを有し、
前記到達部支持手段は、
前記移動支持体の表面のうち前記流下したドープが到達する到達位置よりも幅方向両端部を支持する表面両端部支持部材と、
前記移動支持体の裏面を一端から他端までを支持する裏面支持部材と、
を備えたことを特徴とする流延膜の形成装置。
【請求項５】
前記表面両端部支持部材はニップローラであり、
前記裏面支持部材は支持ローラであることを特徴とする請求項４記載の流延膜の形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流延膜の形成方法及び装置、並びに溶液製膜方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリマーフィルム（以下、フィルムと称する）は、優れた光透過性や柔軟性および軽量薄膜化が可能であるなどの特長から光学フィルムとして多岐に利用されている。中でも、セルロースアシレートなどを用いたセルロースエステル系フィルムは、写真感光用フィルムをはじめとして、近年市場が拡大している液晶表示装置の構成部材である偏光板の保護フィルムや位相差フィルム等の光学フィルムに用いられている。
【０００３】
フィルムの製造方法として、溶液製膜方法がある。溶液製膜方法は、流延膜形成工程と、膜自立化工程と、剥離工程と、湿潤フィルム乾燥工程とを有する。流延膜形成工程では、ポリマーが溶剤に溶けたドープを流下し、ドープからなる流延膜を支持体の上に形成する。膜自立化工程では、自立して搬送可能となるまで、すなわち固化が一定以上すすむまで、流延膜から溶剤を蒸発させる。剥離工程では、流延膜を支持体から剥離して、湿潤フィルムとする。湿潤フィルム乾燥工程では、湿潤フィルムから溶剤を蒸発させて、フィルムとする。
【０００４】
特許文献１では、膜自立化工程において、流延膜から溶剤を蒸発させる膜乾燥工程と、自立して搬送可能となるまで流延膜を冷却する膜冷却工程とを順次行う方法が開示されている（特許文献１）。特許文献１の方法によれば、流延膜の固化に要する時間が膜乾燥工程に比べて短い膜冷却工程を、剥離工程の直前に行うため、流延膜の乾燥不足に起因する剥離故障（剥離された流延膜がちぎれてしまうちぎれ故障や、流延膜の一部が支持体に残ってしまうはげ残り故障）を回避できる。この結果、支持体速度の向上が可能となるため、従来に比べて、フィルムの生産効率の向上を図ることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００６−３０６０５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところが、特許文献１の方法を用いることにより、フィルムの生産効率の向上を図ることができたものの、得られたフィルムの厚みムラに起因する光学特性（面内レターデーションＲｅや厚み方向レターデーションＲｔｈ等）のムラが問題となってきた。このような光学特性のムラが顕在化した原因として、光学フィルムの要求スペックが向上したこと、及び液晶表示装置の薄型化に伴い光学フィルムの薄膜化が進んだことが挙げられる。
【０００７】
そこで本発明は、上述のような厚みムラを抑えつつ、フィルムを効率よく生産可能な溶液製膜方法、並びに、この溶液製膜方法に用いられる流延膜の乾燥方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、ポリマー及び溶剤を含むドープを移動支持体の表面の到達位置へ流下させるドープ流下工程と、前記流下したドープからなり前記移動支持体の表面上に形成された流延膜から前記溶剤を蒸発させる膜乾燥工程と、前記膜乾燥工程を経た流延膜を前記移動支持体から剥離する剥離工程とを順次繰り返し行う流延膜の形成方法において、前記膜乾燥工程後であって前記剥離工程前に行われ、自立して搬送可能な状態となるまで前記流延膜を冷却する膜冷却工程と、前記剥離工程後であって次の膜乾燥工程前の前記移動支持体を加熱する支持体加熱工程と、前記膜乾燥工程前に行われ、前記支持体加熱工程にて前記移動支持体に与えられた熱を用いて前記流延膜を加熱する膜加熱工程とを有し、前記ドープ流下工程では、前記到達位置よりも幅方向両外側の前記移動支持体の表面を支持する表面両端部支持手段と、前記移動支持体の裏面の一端から他端までを支持する裏面支持手段とを用いて前記移動支持体を挟持することを特徴とする。
【０００９】
前記表面両端部支持手段はニップローラであり、前記裏面支持手段は支持ローラであることが好ましい。
【００１１】
本発明の溶液製膜方法は、上記の流延膜の形成方法を行った後、前記移動支持体から剥離された前記流延膜から前記溶剤を蒸発させて、フィルムを得るフィルム乾燥工程を有することを特徴とする。
【００１２】
本発明の流延膜の形成装置は、ポリマー及び溶剤を含み流下するドープが到達する到達部、前記流下したドープから流延膜を形成する流延部、前記流下したドープからなる流延膜にて前記溶剤を蒸発させる膜乾燥部、及び前記流延膜が剥離される剥離部を順次循環して通過する移動支持体と、前記到達部に位置する前記移動支持体を支持する到達部支持手段と、前記剥離部に位置する前記移動支持体を支持する剥離部支持手段と、前記移動支持体が前記膜乾燥部を離れ前記剥離部に到達するまでの間、自立して搬送可能な状態となるまで前記流延膜を冷却する膜冷却手段と、前記剥離部を離れ前記膜乾燥部に到達するまでの間の前記移動支持体を加熱する支持体加熱手段と、前記支持体加熱手段により与えられた熱を用いて前記膜乾燥部に到達する前の前記流延膜を加熱する膜加熱手段とを有し、前記到達部支持手段は、前記移動支持体の表面のうち前記流下したドープが到達する到達位置よりも幅方向両端部を支持する表面両端部支持部材と、前記移動支持体の裏面を一端から他端までを支持する裏面支持部材とを備えたことを特徴とする。
【００１３】
前記表面両端部支持部材はニップローラであり、前記裏面支持部材は支持ローラであることが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、ドープ流下工程と、膜乾燥工程と、剥離工程とを行ない、膜乾燥工程と剥離工程との間で行われる膜冷却工程により、膜乾燥工程から剥離工程までに要する時間を短縮できる。そして、この剥離工程から次回の膜乾燥工程までの間では、移動支持体を加熱する支持体加熱工程を行うため、次回のドープ流下工程によって形成した流延膜を裏面側から加熱する膜加熱工程を行うことができる。膜加熱工程により流延膜の表面を平滑にすることができる。このように、本発明によれば、厚みムラを抑えつつ、流延膜やフィルムを効率よく生産することができる。
【００１６】
更に、膜冷却工程の直後に支持体加熱工程を行った場合には、熱履歴により移動支持体が反ってしまうが、本発明によれば、移動支持体の反りに起因する流延膜の厚みムラを抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】溶液製膜設備の概要を示す説明図である。
【図２】第１の流延ユニットの概要を示す側面図である。
【図３】スキン層形成装置の概要を示す斜視図である。
【図４】スキン層形成装の概要を示すＩＶ−ＩＶ線断面図である。
【図５】スキン層形成装の概要を示すＶ−Ｖ線断面図である。
【図６】第１の支持体加熱装置の概要を示す斜視図である。
【図７】第１の支持体加熱装置の概要を示すＶＩＩ−ＶＩＩ線断面図である。
【図８】第１の流延膜形成工程及び溶液製膜方法の概要を示す工程図である。
【図９】形成直後の流延膜の概要を示す断面図である。
【図１０】膜加熱工程後の流延膜の概要を示す断面図である。
【図１１】スキン層形成工程後の流延膜の概要を示す断面図である。
【図１２】膜乾燥工程後の流延膜の概要を示す断面図である。
【図１３】第２の流延ユニットの要部の概要を示す側面図である。
【図１４】第３の流延ユニットの概要を示す側面図である。
【図１５】第４の流延ユニットの要部の概要を示す側面図である。
【図１６】第５の流延ユニットの要部の概要を示す側面図である。
【図１７】第６の流延ユニットの概要を示す側面図である。
【図１８】第７の流延ユニットの概要を示す側面図である。
【図１９】第２の支持体加熱装置の概要を示す断面図である。
【図２０】第２の流延膜形成工程及び第２の溶液製膜方法の概要を示す工程図である。
【図２１】第８の流延ユニットの要部の概要を示す側面図である。
【図２２】支持体挟持装置の要部の概要を示す側面図である。
【図２３】バンド表面に設定されたラップ領域、到達位置及び抑え位置の概要を示す平面図である。
【図２４】第９の流延ユニットの要部の概要を示す側面図である。
【図２５】支持体加熱装置の概要を示すＸＸＶ−ＸＸＶ線断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
（溶液製膜設備）
図１に示すように、溶液製膜設備１０は、流延ユニット１２と、乾燥ユニット１３と、巻取ユニット１４とを有する。
【００１９】
（流延ユニット）
流延ユニット１２は、フィルム２１の原料となるポリマー（原料ポリマーと称する）２２とポリマー２２の溶剤２３とを含むドープ２４から湿潤フィルム２５をつくる。流延ユニット１２の詳細は後述する。
【００２０】
（乾燥ユニット）
乾燥ユニット１３は、湿潤フィルム２５から溶剤２３を蒸発させて、湿潤フィルム２５からフィルム２１を得るものであり、流延ユニット１２から巻取ユニット１４に向かって順次配される、クリップテンタ３５と、スリッタ３６と、乾燥室３７と、冷却室３８とを備える。流延ユニット１２とクリップテンタ３５との間の渡り部４０では、複数のローラ４１を用いて、流延ユニット１２から送り出された帯状の湿潤フィルム２５をクリップテンタ３５へ搬送する。
【００２１】
クリップテンタ３５は、ケーシング３５ａと対のレールとクリップ３５ｂと乾燥風供給機３５ｃとを有する。ケーシング３５ａには、湿潤フィルム２５の移動路６６ｒが設けられる。ケーシング３５ａに収容されたレールは、湿潤フィルム２５の移動路６６ｒの両側に設けられる。レールに沿って並ぶ複数のクリップ３５ｂは、湿潤フィルム２５の幅方向両側縁部を把持する把持状態と幅方向両側縁部の把持を解除する解除状態との間で遷移自在であり、レールに沿って移動自在に取り付けられる。この複数のクリップ３５ｂは、図示しないチェーンにより環状に連結される。クリップ３５ｂがレール上の把持開始位置を通過すると、クリップ３５ｂが解除状態から把持状態へ遷移する。こうして、クリップ３５ｂは、湿潤フィルム２５の幅方向両側縁部を把持する。また、クリップ３５ｂがレール上の把持解除位置を通過すると、クリップ３５ｂが把持状態から解除状態へ遷移する。こうして、クリップ３５ｂは、湿潤フィルム２５の幅方向両側縁部の把持を解除する。
【００２２】
把持開始位置から把持解除位置に向かうに従い、対のレールの間隔は漸増する。把持開始位置における湿潤フィルム２５の幅をＷｆ１とし、把持開始位置から把持解除位置までの間において湿潤フィルム２５の最大幅をＷｆ２とするときに、Ｗｆ２／Ｗｆ１は、１．０５以上１．５以下であることが好ましい。湿潤フィルム２５に乾燥風をあてる乾燥風供給機３５ｃは、湿潤フィルム２５の移動路６６ｒの上方及び下方に設けられる。
【００２３】
スリッタ３６は湿潤フィルム２５の耳部を切り離す。この切り離された耳部は、送風によりクラッシャ（図示しない）に送られて、細かく切断され、ドープ等の原料として再利用される。
【００２４】
乾燥室３７には、多数のローラ４５が設けられる。湿潤フィルム２５は、ローラ４５に巻き掛けられながら搬送される。乾燥室３７には吸着回収装置４６が接続される。吸着回収装置４６は、湿潤フィルム２５から蒸発した溶剤２３を吸着により回収する。乾燥室３７内の溶剤２３を回収することにより、乾燥室３７における溶剤２３の凝縮点が一定の範囲内に調節されているため、乾燥室３７内を搬送される間、湿潤フィルム２５から溶剤２３が蒸発する。この結果、湿潤フィルム２５からフィルム２１が得られる。冷却室３８では、温度が略室温になるまでフィルム２１が冷却される。
【００２５】
（巻取ユニット）
巻取ユニット１４は、巻き芯５１と、巻き芯駆動部（図示しない）と、プレスローラ５２とを有する巻取室５４を備える。制御部（図示しない）により、巻き芯駆動部は、所定の速度で巻き芯５１を回転する。この結果、フィルム２１は、所定の巻き取り張力で巻き芯５１に巻き取られ、フィルムロール５５となる。プレスローラ５２は、巻き芯５１または巻き芯５１に巻き取られたフィルムロール５５に向けて、巻き芯５１へ巻き取られるフィルム２１を押しつける。これにより、フィルム２１の間にエアーの混入を防ぎながら、フィルム２１を巻きつけることができる。
【００２６】
巻取室５４と冷却室３８との間に、フィルム２１の幅方向両縁部にナーリングを形成するナーリング付与装置５７が設けられていることが好ましい。
【００２７】
（流延ユニットの詳細）
図２に示すように、ドープ２４から湿潤フィルム２５をつくる流延ユニット１２は、流延ケーシング７５を備える。流延ケーシング７５内には、ドープ２４を流出する流延ダイ６０と、流出したドープ２４を支持しドープ２４からなる流延膜６１を形成する移動支持体であるエンドレスバンド６２と、流延膜６１の表面６１ａにスキン層を形成するスキン層形成装置６３と、流延膜６１から溶剤２３（図１参照）を蒸発させる膜乾燥装置６４と、エンドレスバンド６２から流延膜６１を剥離する剥離ローラ６５と、エンドレスバンド６２を所定方向へ循環して移動させるバンド移動機構６６と、第１〜４シール部材７１〜７４とが設けられる。
【００２８】
（エンドレスバンド移動機構）
バンド移動機構６６は、エンドレスバンド６２を支持しながら、所定の方向へ案内するためのものであり、各ローラ６６ａ〜６６ｃと、ローラ６６ｃを駆動するモータ６６ｍとを備える。
【００２９】
ローラ６６ａ〜６６ｃは、互いに平行となるように配される。ローラ６６ｂとローラ６６ｃとは略同一平面（例えば水平面）上に配され、ローラ６６ａは、ローラ６６ｂとローラ６６ｃとの間であって、当該平面よりも上方に配される。ローラ６６ａ〜６６ｃには、シート材の両端を連結してなる環状のエンドレスバンド６２が巻きかけられる。エンドレスバンド６２のバンド裏面６２ｂは、ローラ６６ａ〜６６ｃにより支持される。モータ６６ｍの駆動によりローラ６６ｃが回転すると、エンドレスバンド６２は、ローラ６６ａ、ローラ６６ｂ、ローラ６６ｃ、ローラ６６ａ・・・と、ローラ６６ａ〜６６ｃを循環して移動する。こうして、ローラ６６ａ〜６６ｃにより、エンドレスバンド６２の移動路６６ｒが形成される。
【００３０】
ローラ６６ｘ〜ローラ６６ｚは、いずれも、エンドレスバンド６２のバンド裏面６２ｂを支持するためのものであり、エンドレスバンド６２の移動路６６ｒに沿って配される。ローラ６６ｘは、ローラ６６ｃとローラ６６ａとの間に配される。ローラ６６ｙはローラ６６ａとローラ６６ｂとの間に配され、ローラ６６ｚはローラ６６ｂとローラ６６ｃとの間に配される。
【００３１】
シート材の両端を連結することにより得られるエンドレスバンド６２は、ステンレス製であることが好ましく、十分な耐腐食性と強度とを有するＳＵＳ３１６製であることがより好ましい。エンドレスバンド６２の幅は、例えば、ドープ２４の流延幅ＣＷの１．１倍以上２．０倍以下であることが好ましい。エンドレスバンド６２の長さは、例えば、２０ｍ以上２００ｍ以下であることが好ましく、エンドレスバンド６２の厚みは、例えば、０．５ｍｍ以上〜２．５ｍｍ以下であることが好ましい。なお、エンドレスバンド６２の厚みムラは、全体の厚みに対して０．５％以下のものを用いることが好ましい。バンド表面６２ａは、研磨されていることが好ましく、バンド表面６２ａの表面粗さは０．０５μｍ以下であることが好ましい。
【００３２】
（シール部材）
第１〜第４シール部材７１〜７４は、エンドレスバンド６２の移動路６６ｒに設けられる。第１シール部材７１は、エンドレスバンド６２の移動路６６ｒを介してローラ６６ｘと対向するように配される。第２シール部材７２は、エンドレスバンド６２の移動路６６ｒを介してローラ６６ｙと対向するように配される。第３〜４シール部材７３〜７４は、エンドレスバンド６２の移動路６６ｒを介してローラ６６ｃと対向するように、エンドレスバンド６２の移動方向（以下、Ｘ方向と称する）上流側から下流側に向かって順次配される。
【００３３】
第１シール部材７１は、流延室７５ａに取り付けられた遮風板７１ａと、遮風板７１ａに取り付けられたラビリンスシール７２ｂとからなる。遮風板７１ａは、流延ケーシング７５内の気体の流れを遮る遮風面を有する。遮風板７１ａは、流延ケーシング７５の内壁面から突出し、エンドレスバンド６２のバンド表面６２ａに向かって延設される。ラビリンスシール７１ｂは、バンド表面６２ａに近接するように、遮風板７１ａの先端に設けられる。第２シール部材７２〜第４シール部材７４は、第１シール部材７１と同様の構造を有する。
【００３４】
各ローラ及び各シール部材により、流延ケーシング７５は、Ｘ方向上流側から下流側に向かって、流延室７５ａ、膜乾燥室７５ｂ、剥離室７５ｃ、及び支持体加熱室７５ｄに仕切られる。流延室７５ａは、第１シール部材７１、第２シール部材７２、ローラ６６ｘ及びローラ６６ｙにより形成される。同様に、膜乾燥室７５ｂは第２シール部材７２、第３シール部材７３、ローラ６６ｙ及びローラ６６ｃにより形成され、剥離室７５ｃは第３シール部材７３、第４シール部材７４及びローラ６６ｃにより形成され、支持体加熱室７５ｄは第１シール部材７１、第４シール部材７４、ローラ６６ｃ及びローラ６６ｘにより形成される。
【００３５】
（流延室）
流延室７５ａには流延ダイ６０が設けられる。流延ダイ６０は、エンドレスバンド６２の移動路６６ｒを介してローラ６６ａと対向するように配される。流延ダイ６０とローラ６６ａとの間には到達部が形成される。流延ダイ６０は、先端にドープ２４を流出するスリット出口を有する。流延ダイ６０は、スリット出口がエンドレスバンド６２のうちローラ６６ａによって支持された部分に近接するように配される。流延ダイ６０から流出したドープ２４は、バンド表面６２ａ上にて流れ延ばされる結果、帯状の流延膜６１となる。
【００３６】
流延室７５ａには減圧チャンバ７７が設けられることが好ましい。減圧チャンバ７７は、流延ダイ６０よりもＸ方向の上流側であって、流延ダイ６０と隣接するように設けられる。図示しない制御部の制御の下、減圧チャンバ７７は、ビードのＸ方向上流側の圧力がビードのＸ方向下流側のものよりも低くなるように、ビードのＸ方向上流側を減圧する。ここで、ビードとは、流延ダイ６０から流出しエンドレスバンド６２に到達するまでのドープ２４によって形成されるものをいう。
【００３７】
（膜乾燥室）
膜乾燥室７５ｂには、流延膜６１にスキン層形成風８０を供給するスキン層形成装置６３と、流延膜６１から溶剤を蒸発させる膜乾燥装置６４とがＸ方向上流側から下流側に向かって順次、移動路６６ｒに沿って設けられる。
【００３８】
（スキン層形成装置）
スキン層形成装置６３は、膜乾燥室７５ｂのＸ方向最上流側に配されることが好ましい。図３及び図４に示すように、膜表面６１ａに近接するように配されたスキン層形成装置６３は、給気ダクト８１とカバー８２とプレ給気ノズル８３と風調節器８４とを有する。給気ダクト８１とカバー８２とは、Ｘ方向上流側から下流側に向けて順次設けられる。
【００３９】
給気ダクト８１は、スキン層形成風８０が流通するものであり、Ｘ方向においては第２シール部材７２に近接し、膜表面６１ａから離隔して配される。給気ダクト８１の膜表面６１ａ側の面８１ａには、プレ給気ノズル８３が設けられる。プレ給気ノズル８３は膜表面６１ａに近づくに従ってＸ方向上流側からＸ方向下流側へ延びる。プレ給気ノズル８３の先端には、バンド表面６２ａに向かって開口するプレ給気口８３ａが設けられる。図５に示すように、プレ給気口８３ａは、移動路６６ｒの幅方向（以下、Ｙ方向と称する）において、エンドレスバンド６２の一の端からエンドレスバンド６２の他の端まで延設される。なお、プレ給気口８３ａは面８１ａと面一であることが好ましい。
【００４０】
図３及び図４に示すように、カバー８２は、プレ給気口８３ａから送り出されたスキン層形成風８０をＸ方向下流側へ案内するものであり、流延膜６１から離れた状態で流延膜６１を覆う。カバー８２は、板状に形成され、Ｘ方向においては給気ダクト８１から膜乾燥装置６４（例えば、後述する前膜乾燥装置）近傍まで、Ｙ方向においては、エンドレスバンド６２の一の端からエンドレスバンド６２の他の端まで延設される。カバー８２は、膜表面６１ａと略平行のガイド面８２ａを膜表面６１ａ側に有する。なお、ガイド面８２ａは面８１ａと面一であることが好ましい。
【００４１】
プレ給気口８３ａからカバー８２のＸ方向下流側端部にかけて、ガイド面８２ａ及び面８１ａとバンド表面６２ａとの間には、プレ給気口８３ａから送り出されたスキン層形成風８０の風路８６が形成される。面８１ａからバンド表面６２ａまでの間隔は、例えば、２０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下であることが好ましい。Ｙ方向における風路８６の幅は、例えば、Ｙ方向におけるエンドレスバンド６２の幅の０．８倍以上１倍以下であればよい。Ｘ方向における風路８６の長さは、製造条件（エンドレスバンド６２の表面６２ａの移動速度Ｖ等）に応じて決定すればよく、例えば、１０００ｍｍ以上５０００ｍｍ以下であることが好ましい。
【００４２】
風調節器８４は、スキン層形成風８０の温度を所定の範囲内に調節する温調機（図示しない）と、所定の風量でスキン層形成風８０を給気ダクト８１へ送る送風ファン（図示しない）とを有する。
【００４３】
スキン層形成装置６３にサイド遮風板８５を設けても良い。サイド遮風板８５は、Ｙ方向に並べられ、給気ダクト８１のＸ方向上流端からカバー８２のＸ方向下流端にかけて延設される。サイド遮風板８５は、面８１ａ及びガイド面８２ａからバンド表面６２ａに向けて延設される。図５に示すように、サイド遮風板８５のＹ方向内側の面８５ａは、プレ給気ノズル８３の内面８３ｂと面一であることが好ましい。
【００４４】
（膜乾燥装置）
図２に示すように、膜乾燥装置６４は、Ｘ方向上流側から下流側に向かって順次設けられる前膜乾燥機８８と、後膜乾燥機８９とを備える。
【００４５】
（前膜乾燥機）
前膜乾燥機８８は、エンドレスバンド６２の移動路６６ｒのうちローラ６６ｙからローラ６６ｂへ向かう部分に沿って配される。前膜乾燥機８８は、バンド表面６２ａ側に配され、前乾燥風９０を送り出す表面側送風器９１と、バンド裏面６２ｂ側に配され、前乾燥風９０を送り出す裏面側送風器９２と、前乾燥風調節器９３（図示しない）とを有する。
【００４６】
（表面側送風器）
表面側送風器９１は、給気ダクト（図示しない）と排気ダクト（図示しない）とを備える。給気ダクトの給気口及び排気ダクトの排気口は、バンド表面６２ａと正対する。更に、給気ダクトの給気口及び排気ダクトの排気口は、流延膜６１の一の端から他の端まで延設される。なお、給気ダクトの給気口と排気ダクトの排気口とは、Ｘ方向にて交互に並べられることが好ましい。
【００４７】
（裏面側送風器）   
裏面側送風器９２は、表面側送風器９１と同様に、給気ダクト（図示しない）と排気ダクト（図示しない）とを備える。給気ダクトの給気口及び排気ダクトの排気口は、バンド裏面６２ｂと正対する。更に、給気ダクトの給気口及び排気ダクトの排気口は、流延膜６１の一の端から他の端まで延設される。給気ダクトの給気口と排気ダクトの排気口とがＸ方向にて交互に並べられることが好ましい。
【００４８】
前乾燥風調節器は、前乾燥風９０の温度を所定の範囲内に調節する温調機（図示しない）と、所定の風量で前乾燥風９０を給気ダクトへ送る送風ファン（図示しない）とを有する。
【００４９】
表面側送風器９１は、給気口から前乾燥風９０を膜表面６１ａに向かって送り出し、排気口から前乾燥風９０を吸引する。同様に、裏面側送風器９２は、給気口から前乾燥風９０をバンド裏面６２ｂに向かって送り出し、排気口から前乾燥風９０を吸引する。
【００５０】
なお、表面側送風器９１は膜表面６１ａに対して垂直方向に前乾燥風９０を当てても良い。同様に、裏面側送風器９２は、バンド裏面６２ｂに対して垂直方向に前乾燥風９０を当てても良い。
【００５１】
（後膜乾燥機）
後膜乾燥機８９は、エンドレスバンド６２の移動路６６ｒのうちローラ６６ｂからローラ６６ｃへ向かう部分に沿って配される。後膜乾燥機８９は、バンド表面６２ａ側に配され、後乾燥風９４を送り出す平行送風器９５と、バンド裏面６２ｂ側に配される裏面側送風器９６と、後乾燥風調節器（図示しない）とを有する。平行送風器９５は、Ｘ方向上流側から下流側に向かって順次設けられる、平行排気ダクト９５ａと平行給気ダクト９５ｂとを有する。
【００５２】
平行排気ダクト９５ａ及び平行給気ダクト９５ｂは、それぞれバンド表面６２ａ側に配される。平行排気ダクト９５ａには、後乾燥風９４を排気する排気口が設けられる。Ｘ方向下流側に向かって開口する排気口は、Ｙ方向においてエンドレスバンド６２の一の端から他の端まで延設される。平行給気ダクト９５ｂには、後乾燥風９４が送り出される給気口が設けられる。Ｘ方向上流側に向かって開口する給気口は、流延膜６１の一の端から他の端まで延設される。
【００５３】
裏面側送風器９６は、後乾燥風９４を送り出すこと以外は、裏面側送風器９２と同様の構成を有する。後乾燥風調節器（図示しない）は、後乾燥風９４の温度を所定の範囲内に調節する温調機（図示しない）と、所定の風量で後乾燥風９４を裏面側送風器９６の給気ダクトや平行給気ダクト９５ｂへ送る送風ファン（図示しない）とを有する。
【００５４】
（剥離室）
剥離室７５ｃには剥離ローラ６５が設けられる。剥離ローラ６５とローラ６６ｃとの間には剥離部が形成される。剥離ローラ６５はモータ９９と接続する。また、剥離室７５ｃには流延ケーシング７５の出口７５ｏが開口する。剥離ローラ６５の周速度をローラ６６ｃよりも大きくすることにより、エンドレスバンド６２から流延膜６１を剥ぎ取ることができる。エンドレスバンド６２から剥ぎ取られた流延膜６１は、湿潤フィルム２５となって、出口７５ｏから乾燥ユニット１３（図１参照）へ送り出される。
【００５５】
（支持体加熱室）
支持体加熱室７５ｄには、エンドレスバンド６２に加熱風１１０を送り出す支持体加熱装置１１１が設けられる。支持体加熱装置１１１は、バンド表面６２ａ側に配される表面側加熱器１１２と、バンド裏面６２ｂ側に配される裏面側加熱器１１３と、加熱風調節器１１４とを有する。なお、表面側加熱器１１２と裏面側加熱器１１３とのいずれか一方を省略しても良い。
【００５６】
（表面側加熱器）
図６及び図７に示すように、表面側加熱器１１２は、給気ダクト１１２ａと、排気ダクト（図示しない）とを有する。給気ダクト１１２ａの給気口１１２ｏ及び排気ダクトの排気口は、バンド表面６２ａと正対する。給気口１１２ｏ及び排気口は、それぞれ、エンドレスバンド６２の一の端から他の端まで延設される。すなわち、Ｙ方向において、給気口１１２ｏ及び排気口の幅は、流延幅ＣＷよりも広い。なお、給気口１１２ｏと排気口とはＸ方向にて交互に並べられることが好ましい。
【００５７】
（裏面側送風器）
裏面側加熱器１１３は、給気ダクト１１３ａと、排気ダクト（図示しない）とを有する。給気ダクトの給気口１１３ｏ及び排気ダクトの排気口１１３ｉは、バンド裏面６２ｂと正対する。給気口１１３ｏ及び排気口１１３ｉは、それぞれ、エンドレスバンド６２の一の端から他の端まで延設される。すなわち、Ｙ方向において、給気口１１３ｏ及び排気口１１３ｉの幅は、流延幅ＣＷよりも広い。なお、給気口１１３ｏと排気口１１３ｉとはＸ方向にて交互に並べられることが好ましい。
【００５８】
加熱風調節器１１４は、加熱風１１０の温度を所定の範囲内に調節する温調機（図示しない）と、所定の風量で加熱風１１０を、表面側加熱器１１２及び裏面側加熱器１１３の給気ダクト１１２ａ、１１３ａへ送る送風ファン（図示しない）とを有する。
【００５９】
表面側加熱器１１２は、給気口１１２ｏから加熱風１１０をバンド表面６２ａに向かって送り出し、排気口から加熱風１１０を吸引する。裏面側加熱器１１３は、給気口１１３ｏから加熱風１１０をバンド裏面６２ｂに向かって送り出し、排気口１１３ｉから加熱風１１０を吸引する。
【００６０】
図１に戻って、ローラ６６ａには、ローラ６６ａの温度を調節するローラ温調器１２１が接続する。ローラ６６ｂには、ローラ６６ｂの温度を調節するローラ温調器１２２が接続する。これにより、ローラ６６ｂは、流延膜６１の加熱により、流延膜６１から溶剤を蒸発させる。この場合には、ローラ６６ｂを膜乾燥装置６４に含めても良い。ローラ６６ｃには、ローラ６６ｃを冷却するローラ温調器１２３が接続する。ローラ温調器１２３がローラ６６ｃを冷却することにより、ローラ６６ｃは、エンドレスバンド６２を介して流延膜６１を冷却する膜冷却手段として機能する。
【００６１】
また、図示は省略するが、流延ケーシング７５内の雰囲気に含まれる溶剤を凝縮する凝縮装置、凝縮した溶剤を回収する回収装置を設けることにより、流延ケーシング７５内にて気体となっている溶剤が液化する温度（凝縮点）を所定の範囲に保つことができる。
【００６２】
次に、図８に示すように、溶液製膜方法１２５では、流延膜形成工程１２６と、湿潤フィルム乾燥工程１２７とが順次行われる。
【００６３】
（流延膜形成工程の概要）
ドープ２４から湿潤フィルム２５を得る流延膜形成工程１２６が、図２に示す流延ユニット１２で行われる。流延膜形成工程１２６の詳細は後述する。
【００６４】
（湿潤フィルム乾燥工程）
湿潤フィルム２５から溶剤を蒸発させてフィルム２１とする湿潤フィルム乾燥工程１２７は、図１に示す乾燥ユニット１３で行われる。
【００６５】
クリップテンタ３５に導入された湿潤フィルム２５は、クリップ３５ｂにより幅方向両端部を把持された状態で、搬送される。乾燥風供給機３５ｃは、把持開始位置から把持解除位置までの間において、湿潤フィルム２５の表面及び裏面のそれぞれに対し、所定の乾燥風をあてる。こうして、湿潤フィルム２５から溶剤を蒸発させることができる。また、レールの間隔が把持開始位置から把持解除位置に向かうに従い漸増するため、クリップ３５ｂによる搬送により、湿潤フィルム２５に対し延伸処理を行うことができる。延伸処理により、面内レターデーションＲｅや厚み方向レターデーションＲｔｈの調節が可能となる。
【００６６】
乾燥室３７に導入された湿潤フィルム２５は、複数のローラ４５に巻き掛けられながら搬送される。ケーシング１０６ａ内の雰囲気の温度や湿度の調節により、ケーシング１０６ａ内を搬送される湿潤フィルム２５から溶剤が蒸発する。こうして、湿潤フィルム２５は、フィルム２１となる。
【００６７】
（流延膜形成工程の詳細）
図８に示すように、流延膜形成工程１２６では、ドープ流下工程１３１と、流延工程１３２と、膜加熱工程１３３と、スキン層形成工程１３４と、膜乾燥工程１３５と、膜冷却工程１３６と、剥離工程１３７と、支持体加熱工程１３８とが順次行われる。
【００６８】
図２に示すように、モータ６６ｍの駆動によりローラ６６ｃが回転すると、エンドレスバンド６２は、流延ケーシング７５内の各室７５ａ〜７５ｄを順次循環して移動する。ローラ温調器１２１〜１２３により、ローラ６６ａ〜６６ｃの温度は所定の範囲に調節される。図示しないストックタンクでは、ドープ２４の温度が所定の範囲で略一定に調節される。図示しないポンプにより、ドープ２４がストックタンクから流延ダイ６０へ送られる。流延ダイ６０に設けられた温調機により、流延ダイ６０の温度は、所定の範囲で略一定に調節される。
【００６９】
（流延室）
流延室７５ａでは、流延ダイ６０から流出したドープ２４がバンド表面６２ａ上に到達するドープ流下工程１３１（図８参照）と、ドープ２４からなる流延膜６１がバンド表面６２ａ上に形成される流延工程１３２（図８参照）と、流延膜６１を加熱する膜加熱工程１３３（図８参照）とが行われる。
【００７０】
（ドープ流下工程）
流延ダイ６０はバンド表面６２ａに向けてドープ２４をスリット出口から連続的に流出する。スリット出口から流出したドープ２４は、ローラ６６ａにより支持されたエンドレスバンド６２の部分、すなわち、バンド表面６２ａ上の到達位置ＤＰに到達する。
【００７１】
（流延工程）
エンドレスバンド６２は移動状態であるため、到達位置ＤＰに到達したドープ２４は、バンド表面６２ａ上にて移動方向へ流れ延ばされる。こうして、バンド表面６２ａ上には、ドープ２４からなり流延幅ＣＷ（図６参照）の流延膜６１が帯状に形成される。
【００７２】
エンドレスバンド６２の移動速度Ｖは２００ｍ／分以下であることが好ましい。移動速度Ｖが２００ｍ／分を超えると、ビードを安定して形成することが困難となる。移動速度Ｖの下限値は、目標とするフィルムの生産性を考慮すればよい。移動速度Ｖの下限値は、例えば、２０ｍ／分以上としても良いし、６０ｍ／分以上としてもよい。
【００７３】
流延ダイ６０から流出するドープ２４における溶剤の含有量は、３００質量％以上４５０質量％以下であることが好ましい。流延ダイ６０から流出するドープ２４における溶剤の含有量が３００質量％未満であると、ドープ２４の粘度が高くなり、安定した流延が行えなくなるためである。流延ダイ６０から流出するドープ２４における溶剤の含有量が４５０質量％を超えると、膜乾燥室７５ｂにおける乾燥負荷が大きくなる結果、生産効率が下がるため好ましくない。
【００７４】
ここで、溶剤の含有量は、ドープ、流延膜や各フィルム中に含まれる溶剤の量を乾量基準で示したものであり、対象のフィルムからサンプルを採取し、このサンプルの重量をｘ、サンプルを乾燥した後の重量をｙとするとき、｛（ｘ−ｙ）／ｙ｝×１００と表される。
【００７５】
流延ダイ６０から流出するドープ２４の温度は、２０℃以上であって、溶剤の沸点以下であることが好ましい。流延ダイ６０から流出するドープ２４の温度が２０℃未満である場合には、ドープ２４の粘度が高くなり、安定した流延が行えなくなるためである。また、流延ダイ６０から流出するドープ２４の温度が、溶剤の沸点を超える場合には、ドープ２４の発泡が起こるため好ましくない。なお、複数の化合物の沸点のうち最も低い沸点を表す。
【００７６】
（膜加熱工程）
第２シール部材７２及びローラ６６ｙは、到達部からＸ方向下流側に向かって所定の距離だけ離れているため、到達部からＸ方向下流側に向かって所定長さの流延ゾーンＣＺ（流延部）が形成される。流延ゾーンＣＺでは、後述する支持体加熱工程１３８によって加熱されたエンドレスバンド６２を膜加熱手段として用いて、流延膜６１を加熱する膜加熱工程１３３が行われる。
【００７７】
ここで、形成直後、すなわち流延工程１３２直後の流延膜６１の膜表面６１ａは、平滑ではない（図９参照）。したがって、流延工程１３２直後の流延膜６１には厚みムラが生じている。この厚みムラは、ビードの振動に起因するものと考えられる。また、流延工程１３２直後の流延膜６１をなすドープ２４は、多量の溶剤を含んでおり、流動性を示しやすい。そこで、本発明では、加熱されたエンドレスバンド６２を用いて、流延工程１３２直後の流延膜６１を加熱する膜加熱工程１３３を行う。流延工程１３２直後の流延膜６１を加熱することにより、形成直後の流延膜６１をなすドープ２４の流動性が大きくなる結果、形成直後の流延膜６１の膜表面６１ａは、平滑となる（図１０参照）。
【００７８】
Ｘ方向における流延ゾーンＣＺの長さは、特に限定されず、形成直後の流延膜６１の膜表面６１ａが平滑となるまでに要する時間が確保できるものであれば良い。膜加熱工程１３３は、溶剤の含有量が３００質量％以上４５０質量％以下の流延膜６１に対して行うことが好ましい。
【００７９】
ローラ温調器１２１により、ローラ６６ａの温度は、剥離位置ＰＰにおけるバンド表面６２ａの温度以上溶剤の沸点以下の範囲内となる。
【００８０】
（膜乾燥室）
膜乾燥室７５ｂでは、流延膜６１の膜表面６１ａ側にスキン層６１ｘ（図１１参照）が形成するまで、膜表面６１ａにスキン層形成風８０をあてるスキン層形成工程１３４（図８参照）と、流延膜６１から溶剤を蒸発させる膜乾燥工程１３５（図８参照）とが行われる。
【００８１】
（スキン層形成工程）
図４に示すように、スキン層形成装置６３は、給気ノズル８３は吸気口８３ａからスキン層形成風８０を送り出す。吸気口８３ａから送り出されたスキン層形成風８０の方向（プレ給気ノズル８３の延設方向）とＸ方向とがなす各の角度θ１は、３０°以上６０°以下であることが好ましく、４５°であることがより好ましい。カバー６８により、吸気口８３ａから送り出されたスキン層形成風８０は、Ｘ方向上流側から下流側へ案内される。流延膜６１に近接するカバー８２により、流延膜６１の膜表面６１ａ近傍では、スキン層形成風８０の渦状流れが生じやすくなる。渦状流れが生成した箇所では、スキン層形成風８０の熱エネルギーが流延膜６１に伝わりやすいため、スキン層形成風８０の渦流流れにより、流延膜６１の膜表面６１ａでは、溶剤の蒸発が促進される。
【００８２】
スキン層形成工程１３４により、流延膜６１は、スキン層６１ｘと湿潤層６１ｙとを有するものとなる（図１１参照）。スキン層６１ｘは、流延膜６１の膜表面６１ａ側に生成し、スキン層６１ｘよりもエンドレスバンド６２側に位置する湿潤層６１ｙに比べて乾燥が進んだ部分である。したがって、スキン層６１ｘの溶剤の含有量は湿潤層６１ｙに比べて低い。
【００８３】
また、スキン層６１ｘの表面は平滑に形成される。スキン層６１ｘを有するものとなった流延膜６１について膜乾燥工程１３５を行った場合には、スキン層６１ｘの表面が、得られた流延膜６１の膜表面６１ａとなる。したがって、膜加熱工程１３３を経た流延膜６１に対しスキン層形成工程１３４を行うことにより、膜表面６１ａが平滑な流延膜６１を得ることができる。
【００８４】
スキン層形成工程１３４は、溶剤の含有量が２５０質量％以上４００質量％以下の流延膜６１に対して行うことが好ましい。スキン層形成風８０の温度は、例えば、３０℃以上８０℃以下であることが好ましい。また、スキン層形成風８０の風速は５ｍ／秒以上２５ｍ／秒以下であることが好ましい。
【００８５】
（膜乾燥工程）
膜乾燥工程１３５では、前膜乾燥工程１３５ａと後膜乾燥工程１３５ｂとが順次行われる。
【００８６】
（前膜乾燥工程）
前膜乾燥機８８は、流延膜６１から溶剤を蒸発させる前膜乾燥工程１３５ａを行う。表面側送風器９１は、膜表面６１ａに前乾燥風９０をあて、流延膜６１から溶剤を蒸発させる。また、裏面側送風器９２は、バンド裏面６２ｂに前乾燥風９０をあて、エンドレスバンド６２を介して、流延膜６１を加熱する。流延膜６１の加熱により、流延膜６１から溶剤を蒸発させる。
【００８７】
（後膜乾燥工程）
後膜乾燥機８９は、流延膜６１から溶剤を蒸発させる後膜乾燥工程１３５ｂを行う。平行送風器９５は、流延膜６１の膜表面６１ａに後乾燥風９４をあて、流延膜６１から溶剤を蒸発させる。また、裏面側送風器９６は、バンド裏面６２ｂに後乾燥風９４をあて、エンドレスバンド６２を介して、流延膜６１を加熱する。流延膜６１の加熱により、流延膜６１から溶剤を蒸発させる。後膜乾燥工程１３５ｂは、流延膜６１の溶剤の含有量が１１０質量％以上２１０質量％以下となるまで行われることが好ましい。
【００８８】
ローラ６６ｂの熱を利用して、後膜乾燥工程１３５ｂを行っても良い。ローラ温調器１２２は、ローラ６６ｂの温度が２０℃以上４０℃以下の範囲内となるように調節することが好ましい。
【００８９】
各工程１３１〜１３５（図８参照）を行うことにより、膜表面６１ａが平滑な流延膜６１を得ることができる（図１２参照）。
【００９０】
（剥離室）
剥離室７５ｃでは、エンドレスバンド６２を冷却する膜冷却工程１３６と、エンドレスバンド６２から流延膜６１を剥離する剥離工程１３７とが行われる。
【００９１】
（膜冷却工程）
ローラ温調器１２３により、ローラ６６ｃの温度は、０℃以上１７℃以下の範囲内となる。なお、ローラ６６ｃの温度は、０℃以上１５℃以下の範囲内であることが好ましい。膜乾燥工程１３５により高温状態となったエンドレスバンド６２は、ローラ６６ｃとの接触により冷却される。そして、冷却されたエンドレスバンド６２を介して、流延膜６１が冷却される。膜冷却工程１３６は、自立して搬送可能な状態となるまで行われる。
【００９２】
（剥離工程）
剥離室７５ｃでは、剥離ローラ６５を用いて、剥ぎ取り可能な状態となった流延膜６１をエンドレスバンド６２から剥ぎ取る剥離工程１３７（図８参照）が行われる。エンドレスバンド６２のうちローラ６６ｃによって支持された部分（剥離位置ＰＰ）では、剥ぎ取り可能な状態となった流延膜６１がエンドレスバンド６２から剥離される。エンドレスバンド６２から剥離された流延膜６１は、湿潤フィルム２５として、出口７５ｏから送り出される。配向角のばらつきを抑えるため、剥離工程１３７は、溶剤の含有量が２００質量％以下の流延膜６１に対して行うことが好ましい。生産効率の観点から、剥離工程１３７は、溶剤の含有量が１００質量％以上の流延膜６１に対して行うことが好ましい。
【００９３】
（支持体加熱工程）
流延膜６１が剥ぎ取られた後のエンドレスバンド６２は、支持体加熱室７５ｄを経て流延室７５ａへ戻る。膜冷却工程１３６により冷やされたエンドレスバンド６２に対し、ドープ流下工程１３１と、流延工程１３２と、スキン層形成工程１３４とを連続して行うと、膜表面６１ａが平滑でない状態（図９参照）まま、乾燥が進んでしまう。この結果、流延膜２７に厚みムラが生じてしまう。流延膜２７に生じた厚みムラは、後の工程で取り除くことができないため、最終的には、フィルム２１の厚みムラとなってしまう。
【００９４】
そこで、本発明では、（ｎ＋１）回目の流延工程１３２と（ｎ＋１）回目のスキン層形成工程１３４との間で膜加熱工程１３３を行うために、ｎ回目の剥離工程１３７と（ｎ＋１）回目のドープ流下工程１３１との間で、エンドレスバンド６２を加熱する支持体加熱工程１３８を行う。
【００９５】
支持体加熱室７５ｄでは、支持体加熱装置１１１により、エンドレスバンド６２が加熱される支持体加熱工程１３８が行われる。図６に示すように、表面側加熱器１１２は、バンド表面６２ａに加熱風１１０をあて、バンド表面６２ａの温度が所定範囲となるまで、エンドレスバンド６２を加熱する。同様に、裏面側加熱器１１３はバンド裏面６２ｂに加熱風１１０をあて、バンド表面６２ａの温度が所定範囲となるまで、エンドレスバンド６２を加熱する。
【００９６】
支持体加熱工程１３８では、流延ゾーンＣＺにおけるバンド表面６２ａの温度が範囲Ｔ１となるように、バンド表面６２ａを加熱することが好ましい。ここで、範囲Ｔ１とは、８℃以上溶剤の沸点以下であり、範囲Ｔ１の下限値は、１０℃であることが好ましく、１５℃であることがより好ましい。範囲Ｔ１の上限値は、（溶剤の沸点−５℃）であることが好ましい。なお、支持体加熱装置と機能する部品（ローラ６６ａ、６６ｘ等）の温度も範囲Ｔ１であることが好ましい。
【００９７】
本発明では、支持体加熱工程１３８にてエンドレスバンド６２に与えられた熱を用いて、次の流延工程１３２によりエンドレスバンド６２上に形成した流延膜６１へ熱を与える膜加熱工程１３３を行う。したがって、本発明によれば、厚みムラを抑えつつ、フィルムを効率よく製造することができる。
【００９８】
なお、上記の膜加熱工程１３３は、剥離位置ＰＰから到達位置ＤＰまでの間で行えばよい。
【００９９】
次に、本発明の別の実施形態を説明する。上記実施形態と同一の部品・部材については、同一の符号を付し、その詳細の説明は省略し、上記実施形態と異なる部分の詳細の説明を行う。
【０１００】
支持体加熱手段として、バンド表面６２ａ及びバンド裏面６２ｂの少なくとも一方に加熱風１１０をあてる支持体加熱装置１１１を用いたが、本発明はこれに限られず、バンド表面６２ａ及びバンド裏面６２ｂの少なくとも一方と接触する加熱ローラを備える支持体加熱装置１４１を用いてもよい。図１３に示すように、支持体加熱装置１４１は、バンド表面６２ａと接触する表面加熱ローラ１４２と、バンド裏面６２ｂと接触する裏面加熱ローラ１４３と、表面加熱ローラ１４２及び裏面加熱ローラ１４３の温度を調節するローラ温度調節器１４４とを備える。ローラ温度調節器１４４により、支持体加熱装置１４１は、流延ゾーンＣＺ（図２参照）通過時の温度が範囲Ｔ１となるように、バンド表面６２ａを加熱する。
【０１０１】
図２に示すように、ローラ温調器１２３は、後膜乾燥機８９よりもＸ方向下流側に配されたローラ６６ｚを冷却しても良い。ローラ温調器１２３により冷却されたローラ６６ｚは、膜冷却手段となる。したがって、膜冷却工程１３６は、膜乾燥工程１３５の後であれば、膜乾燥室７５ｂにて行っても良い。
【０１０２】
上記実施形態では、ローラ温調器１２３によって冷却されたローラ６６ｃを膜冷却手段として用いたが、本発明はこれに限られない。図１４に示すように、剥離位置ＰＰに至るまでのエンドレスバンド６２を冷却する冷却ユニット１４８を、膜冷却手段として用いてもよい。膜乾燥室７５ｂにおいて後膜乾燥機８９と冷却ローラ６６ｃとの間に配される冷却ユニット１４８は、バンド裏面６２ｂに液体を供給する給液装置１４９と、バンド裏面６２ｂに乾燥風１５０をあてて、液体を蒸発させる蒸発装置１５１とを有する。給液装置１４９による液体の供給方法は、塗布、噴霧、滴状のものを噴射する方法など、いずれでもよい。給液装置１４９と蒸発装置１５１とは、エンドレスバンド６２の移動路６６ｒに沿って、バンド裏面６２ｂ側に、Ｘ方向上流側から下流側に向かって順次配される。給液装置１４９がバンド裏面６２ｂに液体を供給する。蒸発装置１５１は、バンド裏面６２ｂに乾燥風１５０をあてると、バンド裏面６２ｂ上の液体が蒸発する。バンド裏面６２ｂ上の液体が蒸発すると、液体の気化熱によりバンド裏面６２ｂの温度が低下する。こうして、冷却ユニット１４８を用いて、エンドレスバンド６２を冷却することができる。
【０１０３】
液体は、エンドレスバンド６２が剥離位置ＰＰに至るまでに蒸発するものであればよく、例えば、ジクロロメタンなどを用いることができる。
【０１０４】
膜冷却手段としては、ローラ６６ｃ、６６ｚ、冷却ユニット１４８のうち少なくともいずれか１つを用いればよく、ローラ６６ｃ、６６ｚ、冷却ユニット１４８のうち２者を組み合わせても良いし、３者全てを用いても良い。
【０１０５】
流延ゾーンＣＺにおいてバンド表面６２ａを水平に維持するために、ローラ６６ａとローラ６６ｘとを同一水平面内に配することが好ましい。また、図１５に示すように、ローラ６６ａとローラ６６ｙとの間にて、ローラ６６ａと同一水平面に配されバンド裏面６２ｂを支持するサポートローラ６６ｄを設けてもよい。
【０１０６】
また、図１６に示すように、ローラ６６ａとローラ６６ｘの間にて、ローラ６６ａと同一水平面に配されバンド裏面６２ｂを支持するサポートローラ６６ｅを設けてもよい。
ローラ温調器１２１により、サポートローラ６６ｅの温度が範囲Ｔ１となるように調節してもよい。これにより、サポートローラ６６ｅが支持体加熱手段として機能する。
【０１０７】
なお、ローラ温調器１２１により、ローラ６６ａの温度が範囲Ｔ１となるように調節してもよい。これにより、ローラ６６ａが支持体加熱手段として機能する。
【０１０８】
上記実施形態では、ローラ６６ａを、ローラ６６ｘ〜６６ｙよりも上方に配したが、本発明はこれに限られない。例えば、図１７に示すように、ローラ６６ａとローラ６６ｂとを同一平面（例えば、水平面）上に設け、ローラ６６ａとローラ６６ｂとの間に配されるローラ６６ｃを、当該平面よりも下方に設けても良い。なお、ローラ６６ｚをローラ６６ａとローラ６６ｂとの間に設けても良い。
【０１０９】
また、図２に示すローラ６６ｃは、剥離位置ＰＰにおけるエンドレスバンド６２を支持する機能と、第３〜４シール部材７３〜７４によるシーリング機能とを有するが、これらを機能分離しても良い。例えば、図１７のローラ６６ｃ、６６ｆ、６６ｇは図２に示すローラ６６ｃに相当する。そして、図１７のローラ６６ｃは、剥離位置ＰＰにおけるエンドレスバンド６２を支持する機能を有し、図１７のサポートローラ６６ｆは、第３シール部材７３とによるシーリング機能を発揮し、図１７のサポートローラ６６ｇは、第４シール部材７４とによるシーリング機能を発揮する。ローラ温調器１２３はローラ６６ｃを冷却する。ローラ温調器１２３は、ローラ６６ｆを冷却しても良い。
【０１１０】
また、ローラ温調器１２３により、ローラ６６ｇを加熱しても良い。これにより、ローラ６６ｇは、支持体加熱手段として機能する。
【０１１１】
なお、図１７に示すローラ６６ａは、図２に示すローラ６６ａ、６６ｘ、６６ｙが一体となったものに相当する。
【０１１２】
また、図１８に示すように、ローラ６６ａとローラ６６ｃとを同一平面（例えば、水平面）上に設け、ローラ６６ａとローラ６６ｃとの間にローラ６６ｂを設けてもよい。バンド裏面６２ｂを支持するローラ６６ｂは、ローラ６６ａからローラ６６ｃへ向かって移動するエンドレスバンド６２が略水平となるように配される。なお、ローラ６６ｂは、ローラ６６ａ及びローラ６６ｃよりも上方に設けても良い。図１８に示すローラ６６ａは、図２に示すローラ６６ａ、６６ｘ、６６ｙが一体となったものに相当する。
【０１１３】
上記実施形態では、支持体加熱工程１３８において、Ｙ方向全域にエンドレスバンド６２を加熱したが、エンドレスバンド６２のうち、流延幅ＣＷの流延エリアＣＡ（図６参照）の部分のみを加熱しても良い（図１９参照）。これにより、エンドレスバンド６２のうち流延エリアＣＡ（図６参照）を除く非流延エリアが必要以上に加熱されないため、膜乾燥工程１３５にて、流延膜６１のＹ方向両縁部での発泡を確実に抑えることができる。なお、流延エリアＣＡのうちＹ方向中央部を加熱部分とし、流延エリアＣＡのうちＹ方向両端部を非加熱部分としてもよい。この場合、Ｙ方向における非加熱部分の幅は、例えば、１０ｍｍである。
【０１１４】
なお、剥離工程１３７と支持体加熱工程１３８との間で、バンド表面６２ａを洗浄する支持体表面洗浄工程を行っても良い。支持体表面洗浄工程により、剥離故障を確実に抑えることができる。また、支持体表面洗浄工程により、バンド表面６２ａに残留した異物（例えば、剥げ残った流延膜の一部）を除去することができる。この異物はビードの振動の原因となる。したがって、支持体表面洗浄工程により、ビードの振動を防止することができる。バンド表面６２ａを洗浄するために、例えば、バンド表面６２ａにドライアイスを噴射するドライアイス洗浄機を用いることが好ましい。
【０１１５】
また、支持体加熱工程１３８と次のドープ流下工程１３１との間で、ドープ２４に対するバンド表面６２ａの接触角を低下させる接触角低下工程を行っても良い。接触角低下工程により、ビードとバンド表面６２ａとの間に同伴風が流入しにくくなる。したがって、接触角低下工程により、同伴風の流入に起因する流延膜の厚みムラを防ぐことができる。ここで、同伴風とは、エンドレスバンド６２の移動によりバンド表面６２ａ近傍に発生し、Ｘ方向に向かって流れる風をいう。ドープ２４に対するバンド表面６２ａの接触角を低下させるために、溶剤をバンド表面６２ａに塗布することが好ましい。接触角低下工程に用いられる溶剤は、溶剤２３と同一成分であってもよいし、溶剤２３と共通する成分を含むものであってもよい。
【０１１６】
上記実施形態では、支持体加熱工程１３８を行うタイミングを、剥離工程１３７及びドープ流下工程１３１の間としたが、流延工程１３２及び膜加熱工程１３３の間でもよい。流延工程１３２及び膜加熱工程１３３の間で支持体加熱工程１３８を行う流延膜形成工程１６１と流延膜形成工程１６１を有する溶液製膜方法１６２とを図２０に示す。
【０１１７】
流延膜形成工程１６１を行う流延ユニット１６５を図２１に示す。流延ユニット１６５は、支持体加熱手段である支持体加熱装置１６８を、流延ゾーンＣＺのバンド裏面６２ｂ側に有する。支持体加熱装置１６８は、裏面側加熱器１１３と、加熱風調節器１１４とを有する。支持体加熱装置１６８は、バンド裏面６２ｂ側からエンドレスバンド６２を加熱するため、流延膜６１の加熱は、エンドレスバンド６２側から行われる。したがって、支持体加熱装置１６８によれば、流延膜６１にスキン層の形成を抑えつつ、流延膜６１の加熱を行うことができる。流延ゾーンＣＺにて支持体加熱工程を行う場合には、バンド裏面６２ｂ側からエンドレスバンド６２を加熱する必要がある。なぜならば、バンド表面６２ａ側からエンドレスバンド６２を加熱すると、膜加熱工程１３３に先立ってスキン層形成工程１３４が行われてしまうためである。なお、ローラ温調器１２１がローラ６６ｙの温度を範囲Ｔ１にすることにより、ローラ６６ｙを支持体加熱手段として機能させてもよい。
【０１１８】
なお、膜加熱工程１３３において流延膜６１からの溶剤の蒸発を防ぐために、膜加熱工程１３３における流延膜６１の近傍の雰囲気の溶剤のガス濃度は、スキン層形成工程１３４における流延膜６１の近傍の雰囲気の溶剤のガス濃度よりも高いことが好ましい。ここで、「温度Ｔａの雰囲気における溶剤のガス濃度」は、「（温度Ｔａの雰囲気に含まれるガス状の溶剤の質量）／（温度Ｔａの雰囲気において飽和状態となるガス状の溶剤の質量）」と表される。
【０１１９】
流延膜形成工程１６１において、支持体表面洗浄工程や接触角低下工程を行うタイミングは、剥離工程１３７と次のドープ流下工程１３１との間であればよい。両工程を行う場合には、支持体表面洗浄工程、接触角低下工程の順に行うことが好ましい。
【０１２０】
また、支持体加熱工程１３８と次のドープ流下工程１３１との間で、ドープ２４に対するバンド表面６２ａの接触角を低下させる接触角低下工程を行っても良い。接触角低下工程により、ビードとバンド表面６２ａとの間に同伴風が流入しにくくなる。したがって、接触角低下工程により、同伴風の流入に起因する流延膜の厚みムラを防ぐことができる。ここで、同伴風とは、エンドレスバンド６２の移動によりバンド表面６２ａ近傍に発生し、Ｘ方向に向かって流れる風をいう。ドープ２４に対するバンド表面６２ａの接触角を低下させるために、溶剤をバンド表面６２ａに塗布することが好ましい。接触角低下工程に用いられる溶剤は、溶剤２３と同一成分であってもよいし、溶剤２３と共通する成分を含むものであってもよい。
【０１２１】
各工程が順次繰り返し行われる流延膜形成工程において、エンドレスバンド６２は、膜冷却工程１３６による冷却の直後に、支持体加熱工程１３８による加熱が行われる。冷却の直後に加熱が行われたエンドレスバンド６２は、反りが発生しやすい。特に各ロールに巻き掛けられたエンドレスバンド６２では、Ｙ方向における反りが問題となる。すなわち、反ったままのエンドレスバンド６２に対しドープ流下工程１３１を行うと、ドープ２４が流下するスリット出口からバンド表面６２ａまでの間隔がＹ方向においてばらつくため、Ｙ方向におけるビード長ＬＢもばらついてしまう。ドープ流下工程１３１におけるＹ方向のビード長ＬＢのばらつきは、流延工程１３２にて形成された流延膜６１において、Ｙ方向における厚みムラとなって現れてしまう。
【０１２２】
そこで、エンドレスバンド６１の反りに起因する厚みムラを防ぐために、ドープ流下工程１３１において、支持体挟持工程を行うことが好ましい。
【０１２３】
支持体挟持工程を行う支持体挟持装置２０１は、図２２及び図２３に示すように、ローラ６６ａと、ニップローラ２０２とからなる。ニップローラ２０２は、移動路６６ｒを介して、ローラ６６ａと対向するように流延室７５ａ（図２参照）に配される。ニップローラ２０２はエンドレスバンド６２のラップ領域ＬＡと接触する。エンドレスバンド６２のラップ領域ＬＡとは、バンド表面６２ａのうち、ローラ６６ａに向かって移動しているエンドレスバンド６２がローラ６６ａと接触し始める位置ＴＰ１から、ローラ６６ａと接触していたエンドレスバンド６２がローラ６６ａから離れる位置ＴＰ２までの部分である。付勢部材により、ニップローラ２０２がエンドレスバンド６２側に付勢されていることが好ましい。流延ダイ６０から流下したドープ２４が到達する到達位置ＤＰは、ラップ領域ＬＡ内に設定される。また、ニップローラ２０２は、バンド表面６２ａのうち到達位置ＤＰのＹ方向両外側に設けられた抑え位置ＮＰと接触するように、移動路６６ｒ（図２参照）のＹ方向両端側に配される。
【０１２４】
なお、抑え位置ＮＰは、Ｘ方向において、到達位置ＤＰと重なる位置または、到達位置ＤＰよりも上流側に設定される。Ｘ方向における到達位置ＤＰと抑え位置ＮＰとの間隔は、例えば、０ｍｍ以上３００ｍｍ以下である。
【０１２５】
こうして、支持体挟持装置２０１は、Ｙ方向全域においてバンド裏面６２ｂを支持するローラ６６ａと、到達位置ＤＰのＹ方向両外側のバンド表面６２ａを支持するニップローラ２０２とを用いて、エンドレスバンド６２のＹ方向両端部を挟持する支持体挟持工程を行う。
【０１２６】
支持体挟持装置２０１によれば、Ｙ方向に反ったエンドレスバンド６２が、流延ダイ６０とローラ６６ａとの間に案内されても、ニップローラ２０２とローラ６６ａとにより、エンドレスバンド６２のＹ方向両端部を挟持する。この結果、少なくとも到達位置ＤＰにおいてはエンドレスバンド６２の反りが矯正される。したがって、支持体挟持装置２０１によれば、エンドレスバンド６１の反りに起因する厚みムラを防ぐことができる。
【０１２７】
なお、流延膜形成工程１２６（図８参照）において、到達位置ＤＰがＸ方向に変動する場合には、到達位置ＤＰの変動する範囲に応じて、ニップローラ２０２を設ければよい。
【０１２８】
エンドレスバンド６１の反りに起因する厚みムラを防ぐために、支持体加熱工程１３８（図８参照）において、Ｙ方向中央部のみを加熱してもよい。これにより、エンドレスバンド６２のＹ方向両端部では、加熱による膨張や冷却による収縮の規模が小さくなるため、反りの発生を抑えることができる。
【０１２９】
図２４及び図２５に示すように、表面側加熱器１１２とエンドレスバンド６２との間に設けられた遮風ブロック２１０は、給気口１１２ｏのＹ方向両側を塞ぐように、対となって配される。遮風ブロック２１０により、Ｙ方向における給気口１１２ｏの開口幅は、Ｙ方向におけるエンドレスバンド６２の幅よりも小さい。同様に、裏面側加熱器１１３とエンドレスバンド６２との間に設けられた遮風ブロック２１１は、給気口１１３ｏのＹ方向両側を塞ぐように対となって配される。遮風ブロック２１１により、Ｙ方向における給気口１１３ｏの開口幅は、Ｙ方向におけるエンドレスバンド６２の幅よりも小さい。
【０１３０】
Ｙ方向において対となって配された遮風ブロック２１０の間隔は、流延幅ＣＷより大きくても良いし、流延幅ＣＷと等しくても良い。同様に、Ｙ方向において、対となる遮風ブロック２１１の間隔は、流延幅ＣＷより大きくても良いし、流延幅ＣＷと等しくても良い。
【０１３１】
なお、図２４に示すように、遮風ブロック２１０、２１１を、前膜乾燥機８８の表面側送風器９１や裏面側送風器９２に設けても良い。また、後膜乾燥機８９の平行送風器９５や裏面側送風器９６の各給気口のＹ方向両側を塞ぐように設けても良い。
【０１３２】
本発明により得られるフィルム２１は、特に、位相差フィルムや偏光板保護フィルムに用いることができる。
【０１３３】
フィルム２１の幅は、６００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下であることが好ましく、２０００ｍｍ以上３０００ｍｍ以下であることが好ましい。また、フィルム２１の幅は、３０００ｍｍを超える場合にも本発明を適用することができる。フィルム２１の膜厚は、３０μｍ以上１２０μｍ以下であることが好ましい。
【０１３４】
また、フィルム２１の面内レターデーションＲｅは、１０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、フィルム２１の厚み方向レターデーションＲｔｈは、−１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましい。
【０１３５】
面内レターデーションＲｅの測定方法は次の通りである。面内レターデーションＲｅは、サンプルフィルムを温度２５℃，湿度６０％ＲＨで２時間調湿し、自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ  王子計測（株））にて６３２．８ｎｍにおける垂直方向から測定したレターデーション値を用いる。なおＲｅは以下式で表される。
Ｒｅ＝｜ｎ１−ｎ２｜×ｄ
ｎ１は遅相軸の屈折率，ｎ２は進相軸２の屈折率，ｄはフィルムの厚み（膜厚）を表す
【０１３６】
厚み方向レターデーションＲｔｈの測定方法は次の通りである。サンプルフィルムを温度２５℃，湿度６０％ＲＨで２時間調湿し、エリプソメータ（Ｍ１５０  日本分光（株）製）で６３２．８ｎｍにより垂直方向から測定した値と、フィルム面を傾けながら同様に測定したレターデーション値の外挿値とから下記式に従い算出する。
Ｒｔｈ＝｛（ｎ１＋ｎ２）／２−ｎ３｝×ｄ
ｎ３は厚み方向の屈折率を表す。
【０１３７】
（ポリマー）
上記実施形態では、ポリマーフィルムの原料となるポリマー２２は、特に限定されない。溶液製膜方法を行う場合には、ポリマーとして、例えば、セルロースアシレートや環状ポリオレフィン等がある。一方、溶融製膜方法を行う場合には、原料ポリマーとして、例えば、セルロースアシレート、ラクトン環含有重合体、環状ポリオレフィン、ポリカーボネイト等が挙げられる。中でも好ましいのがセルロースアシレート、環状ポリオレフィンであり、中でも好ましいのがアセテート基、プロピオネート基を含むセルロースアシレート、付加重合によって得られた環状ポリオレフィンであり、さらに好ましくは付加重合によって得られた環状ポリオレフィンである。
【０１３８】
（セルロースアシレート）
セルロースアシレートとしては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が特に好ましい。そして、セルロースアシレートの中でも、セルロースの水酸基をカルボン酸でエステル化している割合、すなわち、アシル基の置換度が下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満足するものがより好ましい。なお、以下の式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）において、Ａ及びＢは、アシル基の置換度を表わし、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度である。なお、ＴＡＣの９０重量％以上が０．１ｍｍ〜４ｍｍの粒子であることが好ましい。
（Ｉ）      ２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
（ＩＩ）    ０≦Ａ≦３．０
（ＩＩＩ）  ０≦Ｂ≦２．９
【０１３９】
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位，３位及び６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部を炭素数２以上のアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位，３位及び６位それぞれについて、セルロースの水酸基がエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１である）を意味する。
【０１４０】
全アシル化置換度、即ち、ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６は２．００〜３．００が好ましく、より好ましくは２．２２〜２．９０であり、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。また、ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）は０．２８以上が好ましく、より好ましくは０．３０以上、特に好ましくは０．３１〜０．３４である。ここで、ＤＳ２はグルコース単位の２位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「２位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ３は３位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「３位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ６は６位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「６位のアシル置換度」とも言う）である。
【０１４１】
本発明のセルロースアシレートに用いられるアシル基は１種類だけでも良いし、あるいは２種類以上のアシル基が使用されていても良い。２種類以上のアシル基を用いるときは、その１つがアセチル基であることが好ましい。２位，３位及び６位の水酸基による置換度の総和をＤＳＡとし、２位，３位及び６位の水酸基のアセチル基以外のアシル基による置換度の総和をＤＳＢとすると、ＤＳＡ＋ＤＳＢの値は、より好ましくは２．２２〜２．９０であり、特に好ましくは２．４０〜２．８８である。また、ＤＳＢは０．３０以上であり、特に好ましくは０．７以上である。さらにＤＳＢはその２０％以上が６位水酸基の置換基であるが、より好ましくは２５％以上が６位水酸基の置換基であり、３０％以上がさらに好ましく、特には３３％以上が６位水酸基の置換基であることが好ましい。また更に、セルロースアシレートの６位の置換度が０．７５以上であり、さらには０．８０以上であり特には０．８５以上であるセルロースアシレートも挙げることができる。これらのセルロースアシレートにより溶解性の好ましい溶液（ドープ）が作製できる。特に非塩素系有機溶剤において、良好な溶液の作製が可能となる。さらに粘度が低く、濾過性の良い溶液の作製が可能となる。
【０１４２】
セルロースアシレートの原料であるセルロースは、リンター，パルプのどちらから得られたものでも良い。
【０１４３】
本発明のセルロースアシレートの炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族基でもアリール基でも良く特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していても良い。これらの好ましい例としては、プロピオニル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉｓｏ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどがより好ましく、特に好ましくはプロピオニル、ブタノイルである。
【０１４４】
（溶剤）
ドープを調製するための溶剤２３としては、芳香族炭化水素（例えば、ベンゼン，トルエンなど）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン，クロロベンゼンなど）、アルコール（例えば、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，ｎ−ブタノール，ジエチレングリコールなど）、ケトン（例えば、アセトン，メチルエチルケトンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル，酢酸エチル，酢酸プロピルなど）及びエーテル（例えば、テトラヒドロフラン，メチルセロソルブなど）などが挙げられる。なお、本発明において、ドープとはポリマーを溶剤に溶解または分散して得られるポリマー溶液，分散液を意味している。
【０１４５】
これらの中でも炭素原子数１〜７のハロゲン化炭化水素が好ましく用いられ、ジクロロメタンが最も好ましく用いられる。ＴＡＣの溶解性、流延膜の支持体からの剥ぎ取り性、フィルムの機械的強度など及びフィルムの光学特性などの物性の観点から、ジクロロメタンの他に炭素原子数１〜５のアルコールを１種ないし数種類混合することが好ましい。アルコールの含有量は、溶剤全体に対し２重量％〜２５重量％が好ましく、５重量％〜２０重量％がより好ましい。アルコールの具体例としては、メタノール，エタノール，ｎ−プロパノール，イソプロパノール，ｎ−ブタノールなどが挙げられるが、メタノール，エタノール，ｎ−ブタノールあるいはこれらの混合物が好ましく用いられる。
【０１４６】
ところで、最近、環境に対する影響を最小限に抑えることを目的に、ジクロロメタンを使用しない場合の溶剤組成についても検討が進み、この目的に対しては、炭素原子数が４〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステル、炭素原子数１〜１２のアルコールが好ましく用いられる。これらを適宜混合して用いることがある。例えば、酢酸メチル，アセトン，エタノール，ｎ−ブタノールの混合溶剤が挙げられる。これらのエーテル、ケトン，エステル及びアルコールは、環状構造を有するものであってもよい。また、エーテル、ケトン，エステル及びアルコールの官能基（すなわち、−Ｏ−，−ＣＯ−，−ＣＯＯ−及び−ＯＨ）のいずれかを２つ以上有する化合物も、溶剤として用いることができる。
【０１４７】
なお、セルロースアシレートの詳細については、特開２００５−１０４１４８号の［０１４０］段落から［０１９５］段落に記載されている。これらの記載も本発明にも適用できる。また、溶剤及び可塑剤，劣化防止剤，紫外線吸収剤（ＵＶ剤），光学異方性コントロール剤，レターデーション制御剤，染料，マット剤，剥離剤，剥離促進剤などの添加剤についても、同じく特開２００５−１０４１４８号の［０１９６］段落から［０５１６］段落に詳細に記載されている。
【０１４８】
本発明は、ドープを流延する際に、２種類以上のドープを同時に共流延させて積層させる同時積層共流延、または、複数のドープを逐次に共流延して積層させる逐次積層共流延を行うことができる。なお、両共流延を組み合わせてもよい。同時積層共流延を行う場合には、フィードブロックを取り付けた流延ダイを用いてもよいし、マルチポケット型の流延ダイを用いてもよい。
【０１４９】
第１ポリマーを含む第１ドープと、第１ポリマーと異なる第２ポリマーを含む第２ドープとを用いて同時積層共流延や逐次積層共流延を行うことにより、流延膜の支持体側の層（支持体面層）と、流延膜の表面側の層（エアー面層）と、支持体面層とエアー面層との間の層（基層）とからなる積層流延膜を形成することができる。基層は第１ドープからなり、エアー面層及び支持体面層は第２ドープからなる。
【０１５０】
第１ポリマー及び第２ポリマーがセルロースアシレートである場合、第１ポリマーにおけるアシル基の総アシル置換度Ｚ１は、第２ポリマーにおけるアシル基の総アシル置換度Ｚ２よりも低いことが好ましい。特に、第１ポリマーにおけるアシル基の総アシル置換度Ｚ１は式（１）を満たし、第２ポリマーにおけるアシル基の総アシル置換度Ｚ２は式（２）を満たす。
式（１）  ２．０＜Ｚ１＜２．７
式（２）  ２．７＜Ｚ２
【０１５１】
レターデーションの波長分散性の観点から、第１ポリマーに用いるセルロースアシレートのアセチル基の置換度Ｘ１、及び炭素数３以上のアシル基の置換度の合計Ｙ１は、下記式（３）および（４）を満たすことが、好ましい。なお、Ｘ１とＹ１は前記式（１）の前記Ｚ１との間にＸ１＋Ｙ１＝Ｚ１の関係が成り立つ。
式（３）  １．０＜Ｘ１＜２．７
式（４）      ０≦Ｙ１＜１．５  
【０１５２】
レターデーションの波長分散性の観点から、第２ポリマーに用いるセルロースアシレートのアセチル基の置換度Ｘ２、及び炭素数３以上のアシル基の置換度の合計Ｙ２は、下記式（５）および（６）を満たすことが好ましい。なお、Ｘ２とＹ２は前記式（２）のＺ２との間にＸ２＋Ｙ２＝Ｚ２の関係が成り立つ。
式（５）  １．２＜Ｘ２＜３．０
式（６）      ０≦Ｙ２＜１．５
【０１５３】
第２ドープは第１ドープよりも粘度が低い。各ドープの粘度は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１１７に基づいて求めることができる。
【０１５４】
第２ポリマーがセルロースアシレートであり、第１ポリマーがセルロースアシレート以外のポリマーでも良い。第１ポリマーとしては、アクリル樹脂を用いることが好ましい。
【０１５５】
（アクリル樹脂）
アクリル樹脂には、メタクリル系樹脂も含まれ、アクリレート／メタクリレートの誘導体、特にアクリレートエステル／メタクリレートエステルの（共）重合体がよく知られている。アクリル樹脂としては特に制限されるものではないが、メチルメタクリレート単位５０〜９９質量％、及びこれと共重合可能な他の単量体単位１〜５０質量％からなるものが、光弾性係数の小さいフィルムを得るために好ましい。
【０１５６】
アクリル樹脂において、前記共重合可能な他の単量体としては、アルキル基の炭素数が２〜１８のアルキルメタクリレート、アルキル数の炭素数が１〜１８のアルキルアクリレート、アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸、スチレン、α−メチルスチレン等の芳香族ビニル化合物、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル、無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物等が挙げられ、これらは単独で、あるいは２種以上の単量体を併用して共重合成分として用いることができる。
【０１５７】
これらの中でも、共重合体の耐熱分解性や流動性の観点から、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓ−ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート等が好ましく、メチルアクリレートやｎ−ブチルアクリレートが特に好ましく用いられる。
【０１５８】
高温、高湿の環境にも性能変化の少ない透明性の高い光学フィルムを形成できる樹脂として、アクリル樹脂は、共重合成分として脂環式アルキル基を含有するか、又は分子内環化により分子主鎖に環状構造を形成させたアクリル樹脂が好ましい。分子主鎖に環状構造を形成させたアクリル樹脂の例としては、一つの好ましい態様としてラクトン環含有重合体を含むアクリル系の熱可塑性樹脂が挙げられ、好ましい樹脂組成や合成方法は特開２００６−１７１４６４号公報に記載されている。また、別の好ましい態様としてグルタル酸無水物を共重合成分として含有する樹脂が挙げられ、共重合成分や具体的合成方法については特開２００４−０７０２９６号公報に記載されている。
【０１５９】
アクリル樹脂の重量平均分子量が６０万〜４００万であり、８０万〜３００万であることが好ましく、１００万〜１８０万であることが特に好ましい。アクリル樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。
【０１６０】
アクリル樹脂の製造方法としては、特に制限は無く、懸濁重合、乳化重合、塊状重合、あるいは溶液重合等の公知の方法を用いることができる。本発明では、複数のアクリル樹脂を併用することもできる。
【０１６１】
アクリル樹脂は、更に別の熱可塑性樹脂を含むことができる。本発明において熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が１００℃以上、全光線透過率が８５％以上の性能を有するものが、前記アクリル樹脂と混合してフィルム状にした際に、耐熱性や機械強度を向上させる点において好ましい。
【０１６２】
前記アクリル樹脂層中におけるアクリル樹脂とその他の熱可塑樹脂成分の含有割合は、［アクリル樹脂／（全熱可塑樹脂）］×１００の質量割合で、好ましくは３０〜９９質量％、より好ましくは５０〜９７質量％、更に好ましくは６０〜９５質量％である。前記アクリル樹脂層中のアクリル樹脂の含有割合が３０質量％以上であれば、耐熱性を十分に発揮できるため好ましい。
【０１６３】
前記その他の熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリ（４−メチル−１−ペンテン）等のオレフィン系ポリマー；塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂等の含ハロゲン系ポリマー；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ナイロン６、ナイロン６６、ナイロン６１０等のポリアミド；ポリアセタール；ポリカーボネート；ポリフェニレンオキシド；ポリフェニレンスルフィド；ポリエーテルエーテルケトン；ポリサルホン；ポリエーテルサルホン；ポリオキシベンジレン；ポリアミドイミド；ポリブタジエン系ゴム、アクリル系ゴムを配合したＡＢＳ樹脂やＡＳＡ樹脂等のゴム質重合体；などが挙げられる。ゴム質重合体は、表面に本発明における環重合体と相溶し得る組成のグラフト部を有するのが好ましく、また、ゴム質重合体の平均粒子径は、フィルム状とした際の透明性向上の観点から、１００ｎｍ以下である事が好ましく、７０ｎｍ以下である事が更に好ましい。
【０１６４】
前記その他の熱可塑性樹脂としては、アクリル樹脂と熱力学的に相溶する樹脂が好ましく用いられる。このような他の熱可塑性樹脂としては、シアン化ビニル系単量体単位と芳香族ビニル系単量体単位とを有するアクリロニトリル−スチレン系共重合体やポリ塩化ビニル樹脂等が好ましく挙げられる。それらの中でもアクリロニトリル−スチレン系共重合体が、ガラス転移温度が１２０℃以上、面方向の１００μｍ当たりの位相差が２０ｎｍ以下で、全光線透過率が８５％以上である光学フィルムが容易に得られるので好ましい。アクリロニトリル−スチレン系共重合体としては、具体的には、その共重合比がモル単位で、１：１０〜１０：１の範囲のものが有用に使用される。
【０１６５】
第１ポリマーがアクリル樹脂である場合、第１ドープと第２ドープとを用いて、同時積層共流延や逐次積層共流延を行うと、積層流延膜に厚みムラが多発してしまう。この厚みムラは、第１ドープからなる基層と第２ドープからなる層（支持体面層やエアー面層）との界面の不安定化に起因する。界面の不安定化とは、基層をなす第１ドープの一部が隣り合う支持体面層やエアー面層へ入り込む現象を指す。この界面の不安定化を回避するために、第１ドープと、第２ドープと、第１ドープ及び第２ドープの間を流れる緩衝液とからなる合流ドープを用いて、同時積層共流延や逐次積層共流延を行うことが好ましい。
【０１６６】
緩衝液は、第１ドープ及び第２ドープよりも低粘度である。また、緩衝液は、各ドープに含まれる溶剤と相溶性の液からなることが好ましい。緩衝液の粘度は、１Ｐａ・秒以上１５Ｐａ・秒以下であることが好ましく、１Ｐａ・秒以上１０Ｐａ・秒以下であることがより好ましい。なお、緩衝液の粘度は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１１７に基づいて求めることができる。
【０１６７】
緩衝液は、各ドープに含まれる溶剤と同一のものであることが好ましい。緩衝液には、ポリマーが含まれていても良い。緩衝液に含まれるポリマーとしては、例えば、第１ポリマーや第２ポリマーが挙げられ、これらのうちいずれか一方が含まれることが好ましい。緩衝液におけるポリマーの含有濃度は５質量％未満であることが好ましい。
【０１６８】
第１ポリマーとしてアクリル樹脂を用いることにより、厚みムラを抑えつつ、応力の発生や湿度の変化により光学特性が変化しにくい光学フィルムを効率よく製造することができる。
【実施例】
【０１６９】
（実験１〜８）
以下の方法により、実験１〜８を行った。各実験の詳細は、実験１について詳細に行い、実験２〜８について、実験１と同じ箇所の説明は省略し、異なる部分の説明をする。
【０１７０】
（実験１）
ドープ２４の調製に用いた化合物の処方を下記に示す。
セルローストリアセテート（置換度２．８６）                １００      質量部
トリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）                          １０      質量部
マット剤（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２）                          ０．０３質量部
の組成比からなる固形分を
ジクロロメタン                                              ８０      質量部
メタノール                                                  １３．５  質量部
ｎ−ブタノール                                                ６．５  質量部
からなる混合溶剤に適宜添加し、攪拌溶解してドープ２４を調製した。
【０１７１】
ドープ２４を濾紙（東洋濾紙（株）製，＃６３ＬＢ）にて濾過後さらに焼結金属フィルタ（日本精線（株）製０６Ｎ，公称孔径１０μｍ）で濾過し、さらにメッシュフイルタで濾過した後にストックタンクに入れた。
【０１７２】
［セルローストリアセテート］
なお、ここで使用したセルローストリアセテート（ＴＡＣ）は、残存酢酸量が０．１質量％以下であり、Ｃａ含有率が５８ｐｐｍ、Ｍｇ含有率が４２ｐｐｍ、Ｆｅ含有率が０．５ｐｐｍであり、遊離酢酸４０ｐｐｍ、さらに硫酸イオンを１５ｐｐｍ含むものであった。また６位水酸基の水素に対するアセチル基の置換度は０．９１であった。また、全アセチル基中の３２．５％が６位の水酸基の水素が置換されたアセチル基であった。また、このＴＡＣをアセトンで抽出したアセトン抽出分は８質量％であり、その質量平均分子量／数平均分子量比は２．５であった。また、得られたＴＡＣのイエローインデックスは１．７であり、ヘイズは０．０８、透明度は９３．５％であった。このＴＡＣは、綿から採取したセルロースを原料として合成されたものである。
【０１７３】
得られたドープ２４を用いて、図１に示す溶液製膜設備１０において、フィルム２１（幅１９５０ｍｍ）を製造した。流延ユニット１２は図２に示すものを用いた。流延ユニット１２では、図８に示す、ドープ流下工程１３１、流延工程１３２、膜加熱工程１３３、スキン層形成工程１３４、膜乾燥工程１３５、膜冷却工程１３６、剥離工程１３７、支持体加熱工程１３８を順次行う流延膜形成工程１２６を繰り返し行った。エンドレスバンドの移動速度Ｖは、１００ｍ／分であった。ｎ回目の流延膜形成工程１２６における剥離工程１３７において、剥離位置ＰＰにおけるバンド表面６２ａの温度はＴＰＰ（表１参照）であった。また、そのときの流延膜における溶剤の含有量は、ＺＹＰＰ（表１参照）であった。（ｎ＋１）回目の流延膜形成工程１２６における到達位置ＤＰにおけるバンド表面６２ａの温度を測定したところ、Ｙ方向中央部の温度はＴＤＰｃ（表１参照）であり、Ｙ方向両端部の温度はＴＤＰｅ（表１参照）であった。なお、Ｙ方向両端部は、エンドレスバンド６２のＹ方向両端から内側へ１０ｍｍ離れた部分である。
【０１７４】
【表１】
0005298153.tif 000002
【０１７５】
（実験２〜８）
膜冷却工程１３６の有無、膜加熱工程１３３の有無、支持体加熱工程１３８の有無、剥離位置ＰＰにおけるバンド表面６２ａの温度ＴＰＰ、剥離位置ＰＰにおける流延膜における溶剤の含有量ＺＹＰＰ、到達位置ＤＰにおけるバンド表面６２ａの温度ＴＤＰｃ、ＴＤＰｅを表１に示すものとしたこと以外は、実験１と同様にして、ドープ２４からフィルム２１をつくった。
【０１７６】
（評価）
実験１〜８の溶液製膜方法において、以下の観点で評価を行った。表１における評価結果の番号は、各評価項目に付した番号を表す。
【０１７７】
１．剥ぎ取り評価
剥離故障の有無について調べた。
○：剥離工程において、剥離故障が起こらなかった。
×：剥離工程において、剥離故障が起こった。
【０１７８】
２．厚みムラ評価
以下の手順で、フィルム２１の厚みムラの有無を評価した。フィルム２１について、厚みムラ測定を行った。この厚みムラ測定の手順は、次のとおりである。第１に、フィルム２１から、略６ｃｍ四方のサンプルフィルムを切り出した。第２に、サンプルフィルムの屈折率差を厚み差に換算できる装置を用いてサンプルフィルムの屈折率差を測定した。この装置として、ＦＸ−０３  ＦＲＩＮＧＥＡＮＡＬＹＺＥＲ（ＦＵＪＩＮＯＮ（株）社製）を用いた。第３に、サンプルフィルムの全域にわたりこの屈折率差を測定し、この平均値を積層フィルムの厚みムラとした。このようにして得られた厚みムラについて、以下基準で評価した。なお、積層フィルムの厚みは、マイクロメータにより計測されたサンプルフィルムの６箇所の厚みの平均値である。
○：厚みムラがフィルムの厚みに対して１．５％未満であった。
△：厚みムラがフィルムの厚みに対して１．５％以上１．８％未満であった。
×：厚みムラがフィルムの厚みに対して１．８％以上であった。
【０１７９】
３．発泡評価
得られた流延膜を目視観察して、発泡の有無を調べた。
◎：耳部における発泡を確認できなかった。
○：耳部において発泡が確認されたが、スリッタ３６により切り落とされる部分に限られたため、製品用のフィルムとしては問題がなかった。
×：製品用のフィルムとなる部分にまで発泡が確認された。
【０１８０】
以下の方法により、実験２１〜２２、５１〜５２を行った。
【０１８１】
（実験２１）
上記の実験２において、ニップローラ２０２（図２２参照）を設けたこと以外は、実験２と同様にして、ドープ２４からフィルム２１をつくった。なお、Ｘ方向における抑え位置ＮＰと到達位置ＤＰとの間隔ΔＸは、０ｍｍであった。
【０１８２】
（実験２２）
上記の実験２において、ニップローラ２０２（図２２参照）を設けたこと以外は、実験２と同様にして、ドープ２４からフィルム２１をつくった。間隔ΔＸは、２００ｍｍであった。
【０１８３】
（実験５１）
上記の実験５において、ニップローラ２０２（図２２参照）を設けたこと以外は、実験２と同様にして、ドープ２４からフィルム２１をつくった。間隔ΔＸは、０ｍｍであった。
【０１８４】
（実験５２）
上記の実験５において、ニップローラ２０２（図２２参照）を設けたこと以外は、実験２と同様にして、ドープ２４からフィルム２１をつくった。間隔ΔＸは、２００ｍｍであった。
【０１８５】
実験２１〜２２、５１〜５２において、バンドの浮き量Ｊを測定した。そして、浮き量Ｊについて以下基準にして判定した。
◎：浮き量Ｊが５０μｍ未満であった。
○：浮き量Ｊが５０μｍ以上１００μｍ未満であった。
△：浮き量Ｊが１００μｍ以上２００μｍ未満であった。
×：浮き量Ｊが２００μｍ以上であった。
【０１８６】
なお、バンドの浮き量Ｊは、次のようにして測定した。まず、ローラ６６ａ〜６６ｃに巻き掛けられたバンド６２に移動テンション（６０Ｎ／ｍｍ２）を印加して移動路６６ｒを循環移動させる。次に、ラップ領域ＬＡにおいて、ローラ６６ａ及びバンド裏面６２ｂの間隔ΔＣＬを測定する。そして、Ｘ方向及びＹ方向における間隔ΔＣＬの最大値をバンドの浮き量Ｊとした。
【０１８７】
【表２】
0005298153.tif 000003
【０１８８】
表２では、実験２１〜２２、５１〜５２とともに、実験２、５のバンド浮き量Ｊについての評価結果を示す。
【符号の説明】
【０１８９】
１０  溶液製膜設備
１２  流延ユニット
２４  ドープ
２５  湿潤フィルム
６１  流延膜
６２  エンドレスバンド
６５  剥離ローラ
６６ａ〜６６ｚ  ローラ
１１１  支持体加熱装置
【図１】
0005298153.tif 000004
【図２】
0005298153.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
0005298153.tif 000020
【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
0005298153.tif 000026
【図２４】
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【図２５】
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