(57)【要約】【課題】装置を大型化することなく大面積の配線パターンを効率的に露光可能とする。【解決手段】マスク搬送部１１と配線基板搬送部１２は、マスクと配線基板２０を同期させて同方向に移動する。光源１から出射した光は、第１反射鏡３からインテグレータレンズ４に入射し、均一な照度分布を持つ例えば光軸に垂直な断面が矩形の光に変換される。そして、開口絞５で絞られた後、第２反射鏡６で反射され、コンデンサレンズ７で集光されて、マスクホルダ８によって保持されながら移動しているマスクの一部を照射する。そして、マスクの配線パターンの正立像が、投影光学系９によって配線基板ステージ１０上でマスクと同期して移動している配線基板２０に投影される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
配線基板の露光を行う配線基板用露光装置であって、
所定の照明領域を露光用の照明光で照明する照明光学系と、
前記照明領域に対して、転写用の配線パターンが形成されたマスクを、前記照明領域がマスクの面上に位置するように維持しつつ移動するマスク移動手段と、
前記マスクの移動に同期して、前記照明光による前記マスクの配線パターンの結像領域に対して、当該結像領域が前記配線基板の面上に位置するように維持しつつ、前記配線基板を移動する配線基板移動手段とを有することを特徴とする配線基板用露光装置。
【請求項２】
請求項１記載の配線基板用露光装置であって、
前記マスクの配線パターンの正立像を前記結像領域に結像させる投影光学系を有することを特徴とする配線基板用露光装置。
【請求項３】
請求項１記載の配線基板用露光装置であって、
前記照明光領域が位置する前記マスクの部分と前記結像領域が位置する前記配線基板の部分とは、狭間隔で、その間に投影光学系を備えずに配置されていることを特徴とする配線基板用露光装置。
【請求項４】
請求項３記載の配線基板用露光装置であって、
前記照明光領域が位置する前記マスクの部分と前記結像領域が位置する前記配線基板の部分との間隔は１mm以下であることを特徴とする配線基板用露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リジッド基板やフレキシブルプリント基板（FPC）やテープ状配線基板（TAB）などの配線基板のフォトリソグラフィ加工における露光行程を担う配線基板用露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
配線基板のフォトリソグラフィ加工における露光行程を担う配線基板用露光装置としては、配線基板の露光領域を一括して露光する一括露光方式による露光を行う装置や、配線基板の露光領域を複数に分割し、配線基板を所定量ずつ移動させながら、分割した各領域を順次露光するステップアンドリピート方式による露光を行う装置が知られている（たとえば、特許文献１）。
【特許文献１】特開2002−131923号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
近年のフレキシブルプリント基板（FPC）やテープ状配線基板（TAB）の幅広化や大型化に伴い、フォトリソグラフィ加工によって作成すべき配線パターンも大面積化している。一方で、一括露光方式による露光は、基本的にはマスク上の配線パターンの全てを同時に露光する必要があるため、装置を大型化することなく、大面積の配線パターンを露光することは困難である。また、ステップアンドリピート方式によれば、装置を小型化することはできるが、大面積の配線パターンの露光する場合にはランニングタイムの長時間化の程度が大きい。
【０００４】
そこで、本発明は、比較的小型の配線基板用露光装置において、効率的に大面積の配線パターンを露光することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記課題達成のために、本発明は、配線基板の露光を行う配線基板用露光装置を、所定の照明領域を露光用の照明光で照明する照明光学系と、前記照明領域に対して、転写用の配線パターンが形成されたマスクを、前記照明領域がマスクの面上に位置するように維持しつつ移動するマスク移動手段と、前記マスクの移動に同期して、前記照明光による前記マスクの配線パターンの結像領域に対して、当該結像領域が前記配線基板の面上に位置するように維持しつつ、前記配線基板を移動する配線基板移動手段とを備えて構成したものである。
【０００６】
このような露光装置によれば、マスクの配線パターン上の照射領域と配線基板上の結像領域とを同期して走査させながら、マスクの配線パターンの各部分を、順次連続的に配線基板に露光していくことにより、最終的に、配線パターンの全てを配線基板に露光することになる。したがって、装置を大型化することなく、効率的に大面積の配線パターンを配線基板に露光することができるようになる。
【０００７】
ここで、このような配線基板用露光装置には、前記マスクの配線パターンの正立像を前記結像領域に結像させる投影光学系を備えることが好ましい。
このようにマスクの配線パターンの正立像を露光することにより、実際に配線基板上に設けたい配線形状と相似形な形状を配線パターンとして形成するだけでマスクを製作することができるので、マスク製作の作業を容易化することができる。
また、これに代えて、前記照明光領域が位置する前記マスクの部分と前記結像領域が位置する前記配線基板の部分とは、狭間隔で、その間に投影光学系を備えずに配置するようにしてもよい。なお、この場合、前記照明光領域が位置する前記マスクの部分と前記結像領域が位置する前記配線基板の部分との間隔は１mm以下することが好ましい。このようにすることにより、投影光学系を廃した、よりシンプルな構造によって、大面積の配線パターンを配線基板に露光することができるようになる。
【発明の効果】
【０００８】
以上のように、本発明によれば、配線基板用露光装置を大型化することなく、効率的に大面積の配線パターンを露光することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の第１の実施形態について説明する。
図１に、本実施形態に係る配線基板用露光装置の構成を示す。
図示するように配線基板用露光装置は、光源１、集光鏡２、第１反射鏡３、フライアイレンズなどであるインテグレータレンズ４、開口絞５、第２反射鏡６、コンデンサレンズ７、配線パターンを形成したマスクを保持するマスクホルダ８、投影光学系９、配線基板を支持する配線基板ステージ１０、マスクを移動するマスク搬送部１１、配線基板２０を移動する配線基板搬送部１２、制御部１３とを備えている。
【００１０】
このような構成において、光源１から出射した光は集光鏡２で集光され第１反射鏡３に入射する。そして、第１反射鏡３で反射された光は、インテグレータレンズ４で、均一な照度分布を持つ例えば光軸に垂直な断面が矩形の光に変換される。そして、開口絞５で絞られた後、第２反射鏡６で反射され、コンデンサレンズ７で集光されて、マスクホルダ８によって保持されたマスクの一部を照射する。
【００１１】
そして、マスクの配線パターンの正立像が、投影光学系９によって配線基板ステージ１０上の配線基板２０に投影され、配線基板２０の露光が行われる。
ここで、このような露光は、制御部１３の制御下において、マスク搬送部１１と配線基板搬送部１２によって、マスクと配線基板２０を同期させて同方向に移動しながら行われる。また、このマスクの移動速度に対する配線基板２０の移動速度の比は、配線基板２０の上に結像される、マスクの配線パターン像の結像倍率と等しく制御される。
【００１２】
ここで、このような配線基板用露光装置によれば、図２に示すように、マスク３０の配線パターン上を、照射領域３１を走査させながら配線パターンの各部分を、順次連続的に配線基板２０上の配線パターン像が結像する領域である露光領域２１に露光していくことにより、最終的に、配線パターンの全てを配線基板２０に露光することになる。
【００１３】
したがって、装置を大型化することなく、大面積の配線パターンを配線基板２０に露光することができるようになる。
また、マスクの配線パターンの正立像を露光するので、実際に配線基板２０上に設けたい配線形状と相似形な形状を配線パターンとして形成するだけでマスクを製作することができるので、マスク製作の作業を容易化することができる。
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。
図３に、本第２実施形態に係る配線基板用露光装置の構成を示す。
図示するように、本第２実施形態に係る配線基板用露光装置は、図１に示した第１実施形態に係る配線基板用露光装置の投影光学系９を廃し、マスクホルダ８と配線基板ステージ１０との間の間隔を狭め、マスクと配線基板２０との距離を近接させるようにしたものである。ここで、マスクと配線基板２０との距離は１mm以下とすることが好ましい。
【００１４】
本第２実施形態に係る配線基板用露光装置における露光動作は、前記第１実施形態に係る配線基板用露光装置の露光動作と同様であるが、マスクの移動速度と配線基板２０の移動速度とは等しく設定される。
本第２実施形態に係る配線基板用露光装置によれば、投影光学系９を廃した、よりシンプルな構造によって、大面積の配線パターンを配線基板２０に露光することができるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の第１実施形態に係る配線基板用露光装置の構成を示す図である。
【図２】本発明の第１実施形態に係る配線基板用露光装置の露光動作を示す図である。
【図３】本発明の第２実施形態に係る配線基板用露光装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００１６】
１…光源、２…集光鏡、３…第１反射鏡、４…インテグレータレンズ、５…開口絞、６…第２反射鏡、７…コンデンサレンズ、８…マスクホルダ、９…投影光学系、１０…配線基板ステージ、１１…マスク搬送部、１２…配線基板搬送部、１３…制御部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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