(57)【要約】【課題】不安定かつ煩雑な工程を排除して、簡易かつ再現性よく安定的に反射防止機能を有するエンボスシートを製造できるエンボスシート及びその製法を提供する。【解決手段】シート状体の表面の略全面に規則的な凹凸を形成するエンボスシートの製法。支持体１８上に高分子溶液２０を所定厚さに塗布してシート状体４２を形成し、次いでシート状体４２を支持体１８より剥離し、シート状体の支持体に接していた面を、表面の略全面に規則的な凹凸を有するエンボス型３２に密着させて、エンボス型の表面形状をシート状体４２の表面に転写する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート状体の表面の略全面に規則的な凹凸が形成されてなるエンボスシートであって、
前記規則的な凹凸の平面方向のピッチＰが５０〜４００ｎｍであり、凹凸の高低差Ｈが０．５Ｐ〜２．０Ｐであることを特徴とするエンボスシート。
【請求項２】
前記シート状体の厚さが２０〜２００μｍである請求項１に記載のエンボスシート。
【請求項３】
前記シート状体が主にセルロースアシレートより構成される請求項１又は２に記載のエンボスシート。
【請求項４】
シート状体の表面の略全面に規則的な凹凸を形成するエンボスシートの製法であって、
支持体上に高分子溶液を所定厚さに塗布してシート状体を形成し、
次いで前記シート状体を前記支持体より剥離し、
前記シート状体の前記支持体に接していた面を、表面の略全面に規則的な凹凸を有するエンボス型に密着させて、該エンボス型の表面形状を前記シート状体の表面に転写することを特徴とするエンボスシートの製法。
【請求項５】
前記支持体が連続して走行する帯状支持体であり、前記エンボス型が回転するロール又は連続して走行するエンドレスベルトである請求項４に記載のエンボスシートの製法。
【請求項６】
前記シート状体を前記エンボス型に密着させる際の前記シート状体に含まれる溶媒の含有量が、前記シート状体に含まれる固形分の２．０倍〜４．０倍である請求項４又は５に記載のエンボスシートの製法。
【請求項７】
前記エンボス型の表面形状を前記シート状体の表面に転写した後、前記シート状体を前記エンボス型から剥離する際の前記シート状体に含まれる溶媒の含有量が、前記シート状体に含まれる固形分の０．２倍〜２．０倍である請求項４〜６のいずれか１項に記載のエンボスシートの製法。
【請求項８】
前記シート状体を前記エンボス型に密着させた際に、前記シート状体を前記エンボス型に押付ける押圧力を付与する請求項４〜７のいずれか１項に記載のエンボスシートの製法。
【請求項９】
前記シート状体を前記エンボス型に密着させた際に、シート保持手段により前記シート状体の平面方向の収縮を抑制する請求項４〜８のいずれか１項に記載のエンボスシートの製法。
【請求項１０】
前記エンボス型の表面形状を前記シート状体の表面に転写し、前記シート状体を前記エンボス型から剥離した後、前記シート状体の平面方向であって、前記シート状体の走行方向に、及び／又は前記シート状体の走行方向に垂直な方向に、０．７倍〜２．０倍の範囲で前記シート状体を収縮又は延伸させる請求項５〜９のいずれか１項に記載のエンボスシートの製法。
【請求項１１】
前記高分子溶液を２種以上使用し、前記支持体上に前記高分子溶液を２層以上に塗布形成するとともに、最上層に塗布する高分子溶液に剥離促進剤を添加する請求項４〜１０のいずれか１項に記載のエンボスシートの製法。
【請求項１２】
前記エンボス型の表面形状を前記シート状体の表面に転写し、前記シート状体を前記エンボス型から剥離した後、前記シート状体に活性エネルギー線を照射する請求項４〜１１のいずれか１項に記載のエンボスシートの製法。
【請求項１３】
前記エンボス型が、表面の略全面に規則的な凹凸を有するシート状体をロールの表面に貼着したもの、又は表面の略全面に規則的な凹凸を有するシート状体をエンドレスベルトの表面に貼着したものである請求項５〜１２のいずれか１項に記載のエンボスシートの製法。
【請求項１４】
前記エンボス型の規則的な凹凸の一部には、凹凸のパターンが不規則的となる不連続箇所があり、前記エンボス型には前記不連続箇所を示すマークが設けられている請求項４〜１３のいずれか１項に記載のエンボスシートの製法。
【請求項１５】
前記高分子溶液に、可塑剤、ＵＶ吸収剤、無機質粒子、レターデーション上昇剤、及び疎水化剤のうち１以上を添加する請求項４〜１４のいずれか１項に記載のエンボスシートの製法。
【請求項１６】
前記エンボスシートの裏面にケン化処理を施す請求項４〜１５のいずれか１項に記載のエンボスシートの製法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はエンボスシート及びその製法に係り、特に、反射防止フイルム等の用途に好適に使用されるエンボスシート及びその製法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、光学素子、光学機能性薄膜、及び各種の微細パターンの形成に関し、各種の製法が採用されていた。このうち、反射防止フイルムとして表面に微細な凹凸状のパターンが配列されたものは、光照射、現像、エッチング等の一連の処理を経るのが一般的であった（特許文献１〜５参照。）。
【０００３】
この製法の例を挙げると、Ｓｉ等の基板上に感光性フォトレジストを塗布し、レーザー干渉露光を繰り返して感光パターンを形成し、その後現像液を使用して現像することにより反射防止機能を有する微細な凹凸状のパターンが配列された基板とする例、基板上にＥＢ（電子線）感光レジストを塗布し、ＥＢを照射することにより反射防止機能を有する微細な凹凸状のパターンが配列された基板とする例、基板上に感光性フォトレジストを塗布し、レーザー光を照射することにより直接描画して反射防止機能を有する微細な凹凸状のパターンが配列された基板とする例、基板上にＸ線感光レジストを塗布し、Ｘ線マスクを介してＸ線を照射することにより反射防止機能を有する微細な凹凸状のパターンが配列された基板とする例等がある。
【０００４】
また、反射防止フイルムの他の構成例として、防汚層である低屈折率層、及びこれより高い屈折率の中屈折率層又は高屈折率層の２層以上を透明な基板上に設けたものも使用されている。この製法としては、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法による膜形成や、ゾルゲル法による膜形成後にプラズマ処理を施す例が挙げられる。
【特許文献１】特開２００２−８２２０７号公報
【特許文献２】特開２００２−１７４７３１号公報
【特許文献３】特開平１１−３１２３３５号公報
【特許文献４】特開２００２−１０５３３９号公報
【特許文献５】特開２００２−１８２５４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記従来の反射防止フイルムの製造方法では、いずれも煩雑な工程を経て製造しなければならず、コストダウン、生産性、歩留り等の多くの点で改善が求められていた。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、シート状体の表面の略全面に規則的な凹凸が形成されてなる反射防止フイルムとしてのエンボスシートの製造において、現像工程やエッチング工程等の不安定かつ煩雑な工程を排除して、簡易かつ再現性よく安定的に反射防止機能を有するエンボスシートを製造できるエンボスシート及びその製法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するために、本発明は、シート状体の表面の略全面に規則的な凹凸が形成されてなるエンボスシートであって、前記規則的な凹凸の平面方向のピッチＰが５０〜４００ｎｍであり、凹凸の高低差Ｈが０．５Ｐ〜２．０Ｐであることを特徴とするエンボスシートを提供する。
【０００８】
本発明によれば、凹凸の平面方向のピッチＰが５０〜４００ｎｍであり、凹凸の高低差Ｈが０．５Ｐ〜２．０Ｐであるエンボスシートが得られる。このような構成のエンボスシートであれば、良好な特性の反射防止機能を有する。また、後述するような製法を経て簡易かつ再現性よく安定的に製造することができる。
【０００９】
本発明において、前記シート状体の厚さが２０〜２００μｍであることが好ましい。また、本発明において、前記シート状体が主にセルロースアシレート、好ましくはセルロースアセテート、より好ましくはセルローストリアセテートより構成されることが好ましい。このような構成のエンボスシートであれば、良好な特性の反射防止機能を有するうえ、一層簡易かつ再現性よく安定的に製造することができるからである。
【００１０】
また、本発明は、シート状体の表面の略全面に規則的な凹凸を形成するエンボスシートの製法であって、支持体上に高分子溶液を所定厚さに塗布してシート状体を形成し、次いで前記シート状体を前記支持体より剥離し、前記シート状体の前記支持体に接していた面を、表面の略全面に規則的な凹凸を有するエンボス型に密着させて、該エンボス型の表面形状を前記シート状体の表面に転写することを特徴とするエンボスシートの製法を提供する。
【００１１】
本発明によれば、支持体上に高分子溶液を塗布してシート状体を形成し、次いでシート状体を支持体より剥離し、シート状体の剥離側の面をエンボス型に密着させてエンボス型の表面形状を転写する。通常、支持体上に高分子溶液を塗布した場合、自由表面、すなわち支持体に接していない面からは溶媒が気散して、その表面は所定硬度の膜状となる。一方、支持体に接している面からは溶媒が気散することはなく、その表面は塗布時と比べ変化が少ない。したがって、本発明によれば、エンボス型の表面形状の転写が良好に行え、良好な特性の反射防止機能を有するうえ、簡易かつ再現性よく安定的にエンボスシートを製造することができる。
【００１２】
本発明において、前記支持体が連続して走行する帯状支持体であり、前記エンボス型が回転するロール又は連続して走行するエンドレスベルトであることが好ましい。このような構成とすれば、エンボスシートの工業的な生産形態として各種の点で望ましいからである。すなわち、高分子溶液を塗布するのが走行する帯状支持体であり、また、エンボス型が回転（走行）するのであれば、連続生産が容易である。なお、連続して走行する帯状支持体とは、回転ドラム、エンドレスベルト等を指す。
【００１３】
また、本発明において、前記シート状体を前記エンボス型に密着させる際の前記シート状体に含まれる溶媒の含有量が、前記シート状体に含まれる固形分の２．０倍〜４．０倍であることが好ましい。このような範囲の溶媒の含有量であれば、エンボス型の表面形状の転写が良好に行えるからである。すなわち、溶媒の含有量が固形分の２．０倍未満であれば、シート状体が硬く転写不良となるからであり、溶媒の含有量が固形分の４．０倍超であれば、シート状体が柔らかく転写後に形状が崩れ、転写不良となるからである。
【００１４】
また、本発明において、前記エンボス型の表面形状を前記シート状体の表面に転写した後、前記シート状体を前記エンボス型から剥離する際の前記シート状体に含まれる溶媒の含有量が、前記シート状体に含まれる固形分の０．２倍〜２．０倍であることが好ましい。このような範囲の溶媒の含有量の状態でエンボス型から剥離するのであれば、表面形状の変形がおこりにくいからである。すなわち、溶媒の含有量が固形分の０．２倍未満であれば、シート状体の乾燥が速くなり擦り傷の発生となるからであり、溶媒の含有量が固形分の２．０倍超であれば、シート状体が柔らかく転写後に形状が崩れ、転写不良となるからである。
【００１５】
また、本発明において、前記シート状体を前記エンボス型に密着させた際に、前記シート状体を前記エンボス型に押付ける押圧力を付与することが好ましい。このように押圧力を付与すれば、エンボス型の表面形状の転写が良好に行えるからである。
【００１６】
また、本発明において、前記シート状体を前記エンボス型に密着させた際に、シート保持手段により前記シート状体の平面方向の収縮を抑制することが好ましい。支持体を連続して走行する帯状支持体とし、エンボス型をロール又はエンドレスベルトとする場合、走行方向と垂直な方向にシート状体が収縮するような状態となることがある。このような場合であっても、シート保持手段を導入すれば、シート状体の収縮を抑制できるからである。
【００１７】
また、本発明において、前記エンボス型の表面形状を前記シート状体の表面に転写し、前記シート状体を前記エンボス型から剥離した後、前記シート状体の平面方向であって、前記シート状体の走行方向に、及び／又は前記シート状体の走行方向に垂直な方向に、０．７倍〜２．０倍の範囲で前記シート状体を収縮又は延伸させることが好ましい。このように、シート状体の走行方向又は走行方向に垂直な方向に、所定倍率の範囲でシート状体を収縮又は延伸させれば、エンボスシートの凹凸形状を自由にコントロールでき、１つのエンボス型より多数種類のエンボスシートを製造できるからである。
【００１８】
また、本発明において、前記高分子溶液を２種以上使用し、前記支持体上に前記高分子溶液を２層以上に塗布形成するとともに、最上層に塗布する高分子溶液に剥離促進剤を添加することが好ましい。このような構成とすれば、エンボスシートの設計の自由度が拡大するからである。また、剥離促進剤を加えることにより、離型性が向上するメリットもある。
【００１９】
また、本発明において、前記エンボス型の表面形状を前記シート状体の表面に転写し、前記シート状体を前記エンボス型から剥離した後、前記シート状体に活性エネルギー線を照射することが好ましい。このように、シート状体に活性エネルギー線、たとえばＵＶ光線を照射することにより、シート状体の硬化が促進されるからである。
【００２０】
また、本発明において、前記エンボス型が、表面の略全面に規則的な凹凸を有するシート状体をロールの表面に貼着したもの、又は表面の略全面に規則的な凹凸を有するシート状体をエンドレスベルトの表面に貼着したものであることが好ましい。このようなエンボス型とすれば、電鋳等により製造した規則的な凹凸を有するシート状体を連続生産の形態に適用できるからである。
【００２１】
また、本発明において、前記エンボス型の規則的な凹凸の一部には、凹凸のパターンが不規則的となる不連続箇所があり、前記エンボス型には前記不連続箇所を示すマークが設けられていることが好ましい。前述の構成のように、電鋳等により製造した規則的な凹凸を有するシート状体をロール等の表面に貼着した場合、パターンの継ぎ目を生じる。そして、このようなパターンの継ぎ目を避けて製品取りをする場合が多い。このような場合に、継ぎ目箇所を示すマークが設けられていれば便宜だからである。
【００２２】
また、本発明において、前記高分子溶液に、可塑剤、ＵＶ吸収剤、無機質粒子、レターデーション上昇剤、及び疎水化剤のうち１以上を添加することが好ましい。また、本発明において、前記エンボスシートの裏面にケン化処理を施すことが好ましい。このような構成とすれば、エンボスシートの設計の自由度が拡大するからである。
【発明の効果】
【００２３】
以上説明したように、本発明によれば、凹凸の平面方向のピッチＰが５０〜４００ｎｍであり、凹凸の高低差Ｈが０．５Ｐ〜２．０Ｐであるエンボスシートが得られる。このような構成のエンボスシートであれば、良好な特性の反射防止機能を有する。また、後述するような製法を経て簡易かつ再現性よく安定的に製造することができる。
【００２４】
また、本発明によれば、支持体上に高分子溶液を塗布してシート状体を形成し、次いでシート状体を支持体より剥離し、シート状体の剥離側の面をエンボス型に密着させてエンボス型の表面形状を転写する。通常、支持体上に高分子溶液を塗布した場合、自由表面、すなわち支持体に接していない面からは溶媒が気散して、その表面は所定硬度の膜状となる。一方、支持体に接している面からは溶媒が気散することはなく、その表面は塗布時と比べ変化が少ない。したがって、本発明によれば、エンボス型の表面形状の転写が良好に行え、良好な特性の反射防止機能を有するうえ、簡易かつ再現性よく安定的にエンボスシートを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、添付図面に従って本発明に係るエンボスシート及びその製法の好ましい実施の形態について詳説する。図１に、本発明に係るエンボスシートの製法に使用される転写装置１０の概要を示す。この転写装置１０は、前段のシート形成部１２と後段の転写部１４とより構成される。
【００２６】
シート形成部１２は、装置本体１６と、装置本体１６に支持される回転ドラム１８（支持体）と、回転ドラム１８の上方に配され高分子溶液２０の供給を行うダイ２２とより構成される。
【００２７】
転写部１４は、装置本体３０と、装置本体３０に支持されるエンボスロール３２（エンボス型）と、エンボスロール３２の右上方に配される押圧ロール３４と、エンボスロール３２の左上方に配されるガイドロール３６とより構成される。なお、装置本体３０の内部には、給気手段３８と排気手段４０とが設けられている。
【００２８】
次に、転写装置１０の各構成部分の詳細について説明する。
【００２９】
ダイ２２は、下端に設けられたスリットより高分子溶液２０を供給し、回転ドラム１８の表面に高分子溶液２０を所定膜厚のシート状体に形成する液状体供給手段である。なお、本実施形態で採用されているダイ２２以外の液状体供給手段、たとえば、ロールコータ、エクストルージョンコータ等の各種の液状体供給手段も、高分子溶液２０の組成、粘度、設計膜厚等に応じて適宜のものが採用できる。
【００３０】
回転ドラム１８は、連続して走行する帯状支持体であり、一定速度で回転することにより、表面（円筒表面）に供給（塗布）された高分子溶液２０を所定膜厚のシート状体４２に形成する。回転ドラム１８の長さ（紙面に垂直方向）は、シート状体４２の設計幅よりも若干大きくすることが好ましい。また、回転ドラム１８の表面（円筒表面）は、シート状体の片側表面の性状を左右することより、鏡面仕上の状態、たとえば、鋼材に硬質クロムメッキを施したもの、ステンレス鋼を研磨仕上げしたもの等が好ましい。
【００３１】
回転ドラム１８は、図示のように時計回り方向の回転となっており、略１２時の位置で供給（塗布）された高分子溶液２０が、回転するにつれて溶媒を気散させ、略１０時の位置でシート状体４２となって剥離できるようになっている。すなわち、回転ドラム１８の左上方にはガイドローラ４４が設けられており、シート状体４２の回転ドラム１８からの剥離を支持できるようになっている。
【００３２】
エンボスロール３２は、外形が回転ドラム１８と略同様の円筒状体であり、表面（円筒表面）の略全面に規則的な凹凸が形成されている。エンボスシートの表面に形成される規則的な凹凸の平面方向のピッチＰが５０〜４００ｎｍであり、凹凸の高低差Ｈが０．５Ｐ〜２．０Ｐであることが好ましいことより、エンボスロール３２表面（円筒表面）の凹凸もこの反転した形状であることが好ましい。エンボスシート表面の凹凸形状として特に制限はないが、たとえば、錐体、球面の一部等が好ましく採用できる。したがって、エンボスロール３２表面の凹凸は、この反転した形状を採用できる。
【００３３】
なお、「錐体」とは、平面状の閉じた曲線（又は折線）の周上を一周する点と、この平面外の一定点とを結ぶ直線によってつくられる曲面（又は幾つかの平面の一部）で囲まれた空間の一部分であり、円錐、角錐の類を指す。
【００３４】
エンボスロール３２表面の凹凸の形成方法としては、凹凸形状、ピッチＰ、高低差Ｈ等に応じて適宜の手段が採用できる。たとえば、レーザ加工、電子ビーム加工、表面の略全面に規則的な凹凸を有するシート状体をエンボスロール３２の表面に貼着する方法等が採用できる。
【００３５】
また、この表面の略全面に規則的な凹凸を有するシート状体を作製する方法としては、基板の表面にアゾベンゼン骨格を有する高分子層を形成し、この高分子層の所定箇所に２以上の方向よりレーザ光を照射し、この高分子層においてレーザ光を干渉させるとともに、基板を回転させる露光を行い、この高分子層の表面に複数の微細な錐体を形成し、更にこの基板の反転型を電鋳等により形成する方法が採用できる。
【００３６】
押圧ロール３４は、シート状体４２を巻き掛けてガイドするとともに、シート状体４２をエンボスロール３２とで挟み、シート状体４２に押圧力を付与する役割を果たす。押圧ロール３４は、支持軸４６を中心に揺動自在に設けられる支持腕４８により回転自在に支持されている。また、図示しない押圧手段により所定の押圧力が付与される。押圧ロール３４の材質としては、たとえば、表面にゴムを所定厚さにコートした金属ロールが採用できる。
【００３７】
エンボスロール３２は、図示のように時計回り方向の回転となっており、略２時の位置で供給されたシート状体４２を表面に密着させて、表面形状をシート状体４２の表面に転写し、略１０時の位置でエンボスシート５０となって剥離できるようになっている。すなわち、エンボスロール３２の左上方にはガイドロール３６が設けられており、エンボスシート５０のエンボスロール３２からの剥離を支持できるようになっている。ガイドロール３６の左方の延長線上には、図示しないエンボスシート５０の巻取り手段が設けられる。
【００３８】
転写装置１０において、走行するシート状体４２に必要以上の張力を加えないために、回転ドラム１８の周速度とエンボスロール３２の周速度とは略同一に設定するのが好ましい。但し、エンボスロール３２の周速度を回転ドラム１８の周速度より若干大きめにし、走行するシート状体４２に若干の張力を加える構成も採用できる。
【００３９】
転写部１４の装置本体３０の内部に設けられている給気手段３８より乾燥エア又は窒素ガス等が供給され、この乾燥エア又は窒素ガス等は装置本体３０とエンボスロール３２との隙間を半時計方向に流動し、排気手段４０より排出される。これにより、エンボス成型中のシート状体４２より気散する溶媒が効率よく回収される。なお、図示は省略してあるが、シート形成部１２の装置本体１６の内部にも、同様の給気手段及び排気手段を設けることが好ましい。
【００４０】
次に、転写装置１０を使用したエンボスシート５０の製造の流れについて説明する。
【００４１】
シート形成部１２において、ダイ２２の下端に設けられたスリットより高分子溶液２０が供給され、回転ドラム１８の表面に高分子溶液２０が所定膜厚のシート状体に形成される。回転ドラム１８が一定速度で回転する間に、高分子溶液２０より所定量の溶媒が気散し、略１０時の位置でシート状体４２となって剥離される。
【００４２】
転写部１４において、シート状体４２は、押圧ロール３４に巻き掛けられてガイドされるとともに、押圧ロール３４とエンボスロール３２とで挟まれ、押圧力が付与されて、エンボスロール３２の表面形状が表面に転写される。すなわち、転写部１４においては、押圧ロール３４によりシート状体４２が反転され、シート状体４２の回転ドラム１８の表面に接していた面にエンボスロール３２の表面形状が転写される。
【００４３】
転写部１４において、シート状体４２がエンボスロール３２と密着して時計方向に走行している間に、シート状体４２より所定量の溶媒が気散し、略１０時の位置でエンボスシート５０となって剥離され、図示しないエンボスシート５０の巻取り手段によって巻き取られる。
【００４４】
以上説明した、本発明に係るエンボスシートの製法の実施形態によれば、支持体上に高分子溶液を塗布してシート状体を形成し、次いでシート状体を支持体より剥離し、シート状体の剥離側の面をエンボス型に密着させてエンボス型の表面形状を転写する。通常、支持体上に高分子溶液を塗布した場合、自由表面、すなわち支持体に接していない面からは溶媒が気散して、その表面は所定硬度の膜状となる。一方、支持体に接している面からは溶媒が気散することはなく、その表面は塗布時と比べ変化が少ない。したがって、本発明によれば、エンボス型の表面形状の転写が良好に行え、良好な特性の反射防止機能を有するうえ、簡易かつ再現性よく安定的にエンボスシートを製造することができる。
【００４５】
以上、本発明に係るエンボスシートの製造方法の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００４６】
たとえば、図１に示されるように、エンボスロール３２がエンボス型として採用され、ロール成型加工により連続生産がなされているが、シート状のエンボス型をスタンパーとして使用し、このスタンパーを複数枚使用し多段プレスによりバッチ処理の生産形態とすることもできる。
【実施例】
【００４７】
次に、本発明の実施例を、比較例と対比して説明する。なお、以下の各例において、「部」の表示は「重量部」 を意味する。
【００４８】
この実施例及び比較例においては、高分子溶液を３種使用し、支持体上に高分子溶液を３層に塗布形成する構成を採用した。すなわち、塗布時に最下層となる支持体面の層に下記の高分子溶液２を、中間層に下記の高分子溶液１を、塗布時に最上層となるエアー面の層に下記の高分子溶液３をそれぞれ使用した。すなわち、図１の転写装置１０の構成において、前段のシート形成部１２を３段直列に連結する構成で実施した。
【００４９】
（１）高分子溶液１
木材パルプから合成されたセルロースアセテート：２０部
可塑剤：２．２部
紫外線吸収剤：０．０２部
レターデーション上昇剤：１部
溶媒：８０部
（溶媒重量比率：ジクロロメタン／メタノール／ｎブタノール＝８０／１９／１）
（２）高分子溶液２
木材パルプから合成されたセルロースアセテート：２０部
可塑剤：２．２部
紫外線吸収剤：０．０２部
レターデーション上昇剤：０．１部
無機質粒子（ＳｉＯ2 、平均粒子径：０．１μｍ）：０．００２部
疎水化剤：０．０１部
溶媒：７５部
（溶媒重量比率：ジクロロメタン／メタノール／ｎブタノール＝８０／１９／１）
（３）高分子溶液３
木材パルプから合成されたセルロースアセテート：２０部
可塑剤：２．２部
紫外線吸収剤：０．０２部
無機質粒子（ＳｉＯ2 、平均粒子径：０．２μｍ）：０．０１部
溶媒：７８部
（溶媒重量比率：ジクロロメタン／メタノール／ｎブタノール＝８０／１９／１）
回転ドラム１８における高分子溶液２０の膜の搬送速度、及び、エンボスロール３２におけるシート状体４２の搬送速度は、６０ｍ／分とした。
【００５０】
エンボスロール３２表面の凹凸形状は、四角錐状の孔とし、この平面方向のピッチＰを１００ｎｍ、凹凸の高低差Ｈを１５０ｎｍとした。この凹凸の高低差Ｈは平面方向のピッチＰの１．５倍に相当する。
【００５１】
図１の転写装置１０により処理されたエンボスシート５０は、図示しない延伸装置によりエンボスシート５０の走行方向に垂直な方向に１．０５倍に延伸され、また、図示しない巻取り手段の速度調整ローラによりエンボスシート５０の走行方向に１．０５倍に延伸された。
【００５２】
エンボスシート５０の各層の厚さは、エンボスシート５０の完成時で、支持体面の層が３μｍに、中間層が５４μｍに、エアー面の層が３μｍになるように、シート形成部１２における各高分子溶液の塗布量、回転ドラム１８における高分子溶液２０の膜の搬送速度、及び、エンボスロール３２におけるシート状体４２の搬送速度が調整された。
【００５３】
以上のようにして製造されたエンボスシート５０の実施例と比較例との比較結果が図２の表に示される。同表において、転写開始揮発分とは、シート状体４２をエンボスロール３２に密着させる際の、シート状体４２に含まれる溶媒の含有量のシート状体４２に含まれる固形分に対する倍率であり、転写終了揮発分とは、シート状体４２をエンボスロール３２から剥離する際の、シート状体４２に含まれる溶媒の含有量のシート状体４２に含まれる固形分に対する倍率である。
【００５４】
図２の表において、転写状態は、反射光の目視による官能検査を行い、以下のようにランク分けをした。反射ムラが見えないものを○と、反射ムラが僅かに観察できるが、許容範囲であるものを△と、反射ムラが大きく、不良となるものを×とした。
【００５５】
図２の表において、反射率は、鏡面反射率測定法による値である。この測定法は、特開２００２−８２２０７号公報等に開示されている測定法である。また、同表において、凹凸高さ、凹凸ピッチは、ＡＦＭ（測定モード：ＤＦＭ）により測定した。
【００５６】
図２の表の比較結果によれば、転写開始揮発分においては、実施例１、２、比較例１、３はいずれも２６０％であり、溶媒の含有量が固形分の２．０〜４．０倍の範囲であった。一方、比較例２は１９０％であり、溶媒の含有量が固形分の２．０倍未満であった。
【００５７】
転写終了揮発分においては、実施例１が１２０％、実施例２が５０％、比較例２が１２０％であり、溶媒の含有量が固形分の０．２倍〜２．０倍の範囲であった。一方、比較例１は２１０％であり、溶媒の含有量が固形分の２．０倍超であり、比較例３は１０％であり、溶媒の含有量が固形分の０．２倍未満であった。
【００５８】
転写状態を比較した場合、実施例１、２はいずれも○であり、比較例１は×であり、比較例２は△であり、比較例３は擦り傷を生じたので、反射光の目視による評価をしなかった。
【００５９】
反射率を比較した場合、実施例１は０．８％であり、実施例２は０．６％であり、比較例３は０．５％であり、いずれも良好な反射防止機能が確認された。一方、比較例１は１．２％であり、比較例２は１．５％であり、反射防止機能が劣ることが確認された。
【００６０】
凹凸ピッチを比較した場合、実施例、比較例のいずれも、いずれの方向においても良好な転写状態にあることが確認された。
【００６１】
凹凸高さを比較した場合、実施例１は１１２ｎｍであり、実施例２は１２０ｎｍであり、比較例３は１３５ｎｍであり、いずれも凹凸の高低差Ｈが凹凸の平面方向のピッチＰの０．５倍〜２．０倍の範囲であった。一方、比較例１は７１ｎｍであり、凹凸の高低差Ｈが凹凸の平面方向のピッチＰの０．５倍〜２．０倍の範囲であるものの、転写性が良好とは言い難い。また、比較例２は５０ｎｍであり、凹凸の高低差Ｈが凹凸の平面方向のピッチＰの０．５倍未満であった。
【００６２】
以上の結果を総合的に評価したところ、実施例の比較例に対する優位性がよく確認できた。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明に係るエンボスシートの製法に使用される転写装置の概念図
【図２】エンボスシートの製法の実施例と比較例との比較結果を示す表
【符号の説明】
【００６４】
１０…転写装置、１２…シート形成部、１４…転写部、１６…装置本体、１８…回転ドラム、２０…高分子溶液、２２…ダイ、３０…装置本体、３２…エンボスロール、３４…押圧ロール、３６…ガイドロール、４２…シート状体、５０…エンボスシート
【図１】
2005258055.tif 000003
【図２】
2005258055.tif 000004