(57)【要約】【課題】  本発明の目的は、高速化するために高温乾燥を行って製膜しても縦シワあるいは縦ツレのない平面性に優れたセルローストリアセテートフィルムの製造方法を提供することである。【解決手段】  セルローストリアセテートの有機溶媒溶液を支持体上に流延する工程、支持体からウェブを剥離する工程、次いで該ウェブの乾燥工程を有する溶液流延によるセルローストリアセテートフィルムの製造方法において、前記乾燥工程はテンターによる搬送とローラ搬送の組み合わせであり、該乾燥工程の後に複数の冷却ロールを装備した冷却工程を有し、前記ウェブが前記冷却工程の直ぐ前にある前記乾燥工程のローラ搬送を経た後に、該ウェブが前記複数の冷却ロールに巻回しながら搬送しつつ冷却することを特徴とするセルローストリアセテートフィルムの製造方法。【選択図】        図７
2005262890.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルローストリアセテートの有機溶媒溶液を支持体上に流延する工程、支持体からウェブを剥離する工程、次いで該ウェブの乾燥工程を有する溶液流延によるセルローストリアセテートフィルムの製造方法において、
前記乾燥工程はテンターによる搬送とローラ搬送の組み合わせであり、該テンターによる搬送に引き続いて該ローラ搬送を行う配置であり、該乾燥工程の後に複数の冷却ロールを装備した冷却工程を有し、
前記ウェブが前記冷却工程の直ぐ前にある前記乾燥工程のローラ搬送を経た後に、該ウェブが前記複数の冷却ロールに巻回しながら搬送しつつ冷却することを特徴とするセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
【請求項２】
前記支持体はベルトまたはドラムであり、該支持体からウェブを剥離する工程の剥離点における該ウェブの溶媒含有率は、ドラムの場合には５００質量％〜２００質量％であり、ベルトの場合には、２５０質量％〜５０質量％であることを特徴とする請求項１に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はハロゲン化銀写真感光材料や液晶画像表示装置等に有用なセルローストリアセテートフィルムの製造方法に関し、特に平面性が良好なセルローストリアセテートフィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
セルローストリアセテートフィルムは、その透明性と光学的等方性から、写真ハロゲン化銀写真感光材料用の支持体や液晶表示装置の偏光板の保護フィルム、カラーフィルターなどに用いられる。
【０００３】
セルローストリアセテートフィルムの溶液流延製膜装置について図１及び図２で概略的に説明する。一般的に、溶液流延製膜装置は、セルローストリアセテートの有機溶媒溶液（ドープと呼ぶ）をダイ２から支持体３上に流延しドープ膜（乾燥が進みウエブ１となる）とし、支持体３が約１周したところの剥離点４でウエブを剥離し、次いでロール群６のある乾燥装置５あるいはテンター８などを通して乾燥し、更に、乾燥装置５′で乾燥してセルローストリアセテートフィルムを製造する装置である。
【０００４】
ところで、上記溶液流延製膜装置を用いてセルローストリアセテートフィルムを製膜する溶液流延製膜法は、ウエブ中に残存する溶媒を蒸発させることが必要であり、高速製膜化するためには、乾燥速度を速めることが必要であった。このため、従来から乾燥温度を高くすることにより対応してきたが、乾燥温度を高くすると、セルローストリアセテートフィルムの平面性が劣化するという問題があった。すなわち、ウエブを乾燥工程で搬送する際、搬送方向に搬送張力を受けて幅方向に圧縮力が生ずるが、高温で乾燥すると高温によりウエブの弾性率が急激に低下してウエブを幅方向に寄せるような力による変形により、搬送方向に連続的な縦シワあるいは縦ツレが発生する。この様なセルローストリアセテートフィルムを写真用支持体として用いると、写真乳剤層の厚みむらを引き起こし実用に耐え得るものとはならなかった。
【０００５】
このような観点から、特許文献１、特許文献２、特許文献３には、平面性矯正工程を設けて、連続的シワを矯正する方法が提案されている。ところがこれらの方法は、いずれも平面性矯正工程という新たな工程を必要とし、設備が大型化してしまうという問題があった。さらに平面性を矯正するためには、ウエブの軟化する温度まで再度高温に加熱することが必要であり、ウエブ中からの可塑剤の揮発が多くなり過ぎ、可塑剤の析出によるロールやオーブン内壁などの汚れやウエブ面への付着の問題があった。
【特許文献１】特開平６−２７８１４９号公報
【特許文献２】特開平４−２８６６１１号公報
【特許文献３】特開平４−１５２１２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従って、本発明の目的は、上記の様な問題がなく、高速化するために高温乾燥を行って製膜しても、縦シワあるいは縦ツレのない平面性に優れたセルローストリアセテートフィルムの製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の上記課題は以下の構成により達成される。
【０００８】
（請求項１）
セルローストリアセテートの有機溶媒溶液を支持体上に流延する工程、支持体からウェブを剥離する工程、次いで該ウェブの乾燥工程を有する溶液流延によるセルローストリアセテートフィルムの製造方法において、
前記乾燥工程はテンターによる搬送とローラ搬送の組み合わせであり、該テンターによる搬送に引き続いて該ローラ搬送を行う配置であり、該乾燥工程の後に複数の冷却ロールを装備した冷却工程を有し、
前記ウェブが前記冷却工程の直ぐ前にある前記乾燥工程のローラ搬送を経た後に、該ウェブが前記複数の冷却ロールに巻回しながら搬送しつつ冷却することを特徴とするセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
【０００９】
（請求項２）
前記支持体はベルトまたはドラムであり、該支持体からウェブを剥離する工程の剥離点における該ウェブの溶媒含有率は、ドラムの場合には５００質量％〜２００質量％であり、ベルトの場合には、２５０質量％〜５０質量％であることを特徴とする請求項１に記載のセルローストリアセテートフィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明により、高速化するために高温乾燥を行って製膜しても、縦シワあるいは縦ツレのない平面性に優れたセルローストリアセテートフィルムの製造方法を提供することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１２】
ここで、本発明で用いる用語の定義しておく。
【００１３】
ドープとは、セルローストリアセテート及び可塑剤等を有機溶媒に溶解したセルローストリアセテート溶液をいう。
【００１４】
ウエブとは、ドープをダイを通して支持体上に流延し、支持体上で膜となったドープをドープ膜といい、ドープ膜は支持体上で直ぐ乾燥が始まり固さを増していくが、このドープ膜をウエブと呼ぶこととする。剥離点で剥離してから、最終的乾燥したセルローストリアセテートフィルムに仕上がる前までをウエブということとする。溶媒含有率がどのくらいからドープ膜で、またウエブやフィルムはどのくらいからそう呼ぶのかという区別はつきにくいので、曖昧さを残したままでドープ膜、ウエブあるいはセルローストリアセテートフィルムとを使い分けることにする。
【００１５】
以下、本発明を詳述する。
【００１６】
本発明は冷却工程を有する溶液流延製膜装置により平面性の優れたセルローストリアセテートフィルムを作製する方法であり、ウエブが冷却工程の前にある、テンターによる搬送とローラ搬送の組み合わせからなる乾燥工程の最終温度を経た後、該ウエブを複数の冷却ロール群を有する該冷却工程を巻き回し搬送しつつ冷却することによって平面性の優れたセルローストリアセテートフィルムを得る方法である。
【００１７】
一般に、上記のように、セルローストリアセテートフィルムの溶液流延製膜装置は、大まかに言うと、図１または図２に示したように、流延するダイ２（流延工程）、エンドレスに走行する支持体３、ロール群６を有する乾燥装置（乾燥工程）５あるいは５′及び／またはテンター８等の乾燥装置（乾燥工程）、巻き取り装置等を有している。
【００１８】
本発明は、一般的な装置の他に冷却工程を有している溶液流延製膜装置を用いて平面性の優れたセルローストリアセテートフィルムを製造する方法であり、これを工程的に説明すると、図３で示すように、ダイ２からドープを支持体３上に流延し、支持体３がほぼ一周する所の剥離点４でウエブ１を剥離し、テンター８を通して乾燥させ、乾燥装置５でロール群６によるローラ搬送を経た後乾燥したのち、冷却装置（冷却工程）９に装備されている複数の冷却ロール１０に巻き回しつつ搬送しながら冷却して平面性の優れたセルローストリアセテートフィルムを得るものである。
【００１９】
本発明に用いる冷却ロールは図４に示すような同一平面上に配置されていたり、図５または図６に示すような二つの平面（あるいは複数平面）に配置されていている。なお、１１は冷却装置の出入りのガイドロールである。前記冷却ロールの本数はウエブの溶媒含有率、製膜速度、フィルム膜厚、ウエブ温度、冷却ロール温度、冷却温度差等によって決まるもので、適宜に本数を選べばよく、５本〜４０本あれば目的を達するが、１０本〜３０本が冷却効率、設備の大きさ、設備のコスト等から好ましい。冷却ロールの直径は５〜３０ｃｍが好ましく、ウエブの接触カーブ、片面の接触時間、作製コスト等から１０〜２０ｃｍのものがより好ましい。ウエブを冷却ロールに抱かせる角度は出来るだけ大きい方が冷却効率が良いので好ましい。ウエブが接触している冷却ロールから離れ、次のロールに接触するまでの距離をフリースパンというが、フリースパンは出来るだけ短い方が冷却効率がよく、冷却ロール上での温度とフリースパンでの温度との間に差が生じない方が好ましく、図６よりも、図４や図５のような冷却ロールに抱かれ続けているのが好ましい。特にウエブの幅がより広くなると、ウエブのフリーの状態は出来るだけ少ない方がよく、ウエブの幅をＷ（ｍｍ）とし、フリースパンの長さをｂ（ｍｍ）とした時、Ｗ／ｂ≧５なる領域が好ましい。冷却ロールの冷却方法は冷却ロール内部に所定の温度の液体を循環させても、内蔵の熱源によって温度を保ってもよい。また、冷却ロール上から所定の温度の風を吹き付けてもよい。冷却ロールの温度は乾燥の最高温度以下から０℃までの範囲で、ロール毎に温度に差を付けても、数本毎同一温度にしながら徐々に温度を下げてもよい。
【００２０】
ウエブが前記乾燥工程を経てから、冷却工程に導入される間に温度が下がり過ぎると平面性を改善し難くなるので、本発明においては、該乾燥装置の最終温度より該ウエブの温度が１０℃低くならない内に、該ウエブを前記冷却工程で冷却を開始することが好ましい。
【００２１】
また、冷却装置内でのウエブの温度降下が小さいと平面性の改良にはつながり難いので、本発明では、該冷却工程内で、ウエブの温度を１０℃以上降下させるのが好ましい。
【００２２】
本発明の冷却装置内でのウエブの冷却処理時間は、冷却ロールの本数、冷却ロールの温度、全冷却距離、製膜速度、ウエブの温度等により異なるが、２秒以上１０分以下が好ましく、この範囲内で処理することによって、平面性の優れたセルローストリアセテートフィルムを得ることが出来る。２秒以下だと、平面性改良効果もほとんどなく、また１０分以上では装置が大型になりコストが掛かり過ぎる。
【００２３】
本発明においては、乾燥工程を経た後に、冷却工程を通すことが重要であって、冷却工程を通した後に、再び乾燥工程の様なより高い温度にウエブを曝すことは好ましくない。
【００２４】
図７は下引装置と冷却装置を有する溶液流延製膜装置の概略断面図である。１２は下引装置、１３は下引塗布機、１４は下引乾燥装置である。
【００２５】
本発明においては、下引工程を有する溶液流延製膜装置を用いる場合、下引工程後の乾燥工程を経た後に、冷却工程にてウエブを冷却することが好ましく、冷却後下引塗設後の乾燥工程を通してウエブが再び高い温度に曝されることは好ましくない。また下引工程では有機溶媒を含有する溶液を塗布するため、ウエブの剛性が一旦小さくなり（軟らかくなり）平面性が劣化する可能性があるので、下引工程の後の乾燥工程で十分ウエブを乾燥することが好ましく、その後にウエブを冷却することが好ましい。
【００２６】
本発明に係わるセルローストリアセテートフィルムの製造方法全般について説明する。
【００２７】
本発明に用いられるドープは、セルローストリアセテートと有機溶媒を主成分とするセルローストリアセテート溶液であって、本発明に使用するセルローストリアセテートは、５７．０％以上６２．０％以下の範囲の酢化度を持っていることが好ましく、さらに好ましくは５９．０％以上６２．０％以下である。またセルローストリアセテートの重量平均重合度は２００以上６００以下が好ましく、さらに重量平均重合度が２５０以上４００以下であることが好ましい。セルローストリアセテートの酢化度や重量平均重合度をこの範囲にすることにより、機械的強度、寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。
【００２８】
本発明に用いられるドープの有機溶媒としては、セルローストリアセテートを単独であるいは他の溶媒と混合して溶解できる溶媒であれば特に制限はなく、例えばメチレンクロライド、エチレンクロライド等のハロゲン化炭化水素類、酢酸メチル、アセト酢酸メチルなどのエステル類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類、ニトロメタン、ニトロプロパンなどのニトロ化合物、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン等の環状ジエーテル化合物、２，２，２−トリフルオロエタノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノールなどの炭素数２〜１０のフッ化アルコール等を挙げることができる。これらの中で、特にセルローストリアセテートに対して溶解性が高く、かつ沸点が低く乾燥負荷の少ないメチレンクロライド、１，３−ジオキソラン、２，２，２−トリフルオロエタノール、アセトン、酢酸メチル等が好ましい。もちろんこれらの溶媒は混合して用いてもよい。上記有機溶媒には、さらに貧溶媒（セルローストリアセテートを単独では溶解せず、膨潤するか溶解しない溶媒）を混合してもよい。つまり、あらかじめ貧溶媒によりセルロースエステルを湿潤状態または膨潤状態になるまで処理することで、良溶媒への溶解性を向上させることができる。さらに良溶媒と貧溶媒を併用したドープを支持体上に流延したドープ膜は、溶媒を多く含んだ状態でも膜の機械的強度が強く、支持体のベルトやドラム上からウエブを早く剥離出来る。貧溶媒としては、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、シクロヘキサノールなどの炭素数が１から６の低級アルコール、シクロヘキサン、などを挙げることができる。中でもメタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサンが好ましい。良溶媒と貧溶媒を併用する場合、良溶媒の割合は全溶媒に対して６０質量％以上、さらに７５質量％以上９５質量％以下が好ましい。
【００２９】
本発明のドープには、フィルムの機械的強度を向上するために、またフィルムの耐水性を増すために可塑剤を添加することが好ましい。可塑剤としては、リン酸エステル、カルボン酸エステル、グリコール酸エステルなどが好ましく用いられる。リン酸エステルの例としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェートなどがあり、カルボン酸エステルの例としては、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエチルヘキシルフタレート、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリメリット酸エステルなどがあり、グリコール酸エステルの例としては、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレートなどがある。中でもトリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、トリブチルホスフェート、ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジエチルヘキシルフタレート、トリアセチン、エチルフタリルエチルグリコレートが好ましい。特にトリフェニルホスフェート、ジエチルフタレート、エチルフタリルエチルグリコレートが好ましい。これらの可塑剤は１種でもよいし２種以上併用してもよい。可塑剤の添加量はセルローストリアセテートフィルムに対して５質量％以上３０質量％以下、特に８質量％以上１６質量％以下が好ましい。可塑剤の添加量がこの範囲を超えるとブリードアウトが発生する場合があり、少ないと機械的強度が改良されない場合がある。これらの化合物は、ドープの調製の際に、セルローストリアセテートや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。
【００３０】
本発明に使用するドープは、通常の方法により調製してよく、セルローストリアセテートおよび溶媒を容器に入れ、常温で、あるいは溶媒が沸騰しない温度条件下で攪拌混合することにより得られる。攪拌混合は、容器内部の液膜残りのないような装置、方式であることが好ましい。また容器内には窒素ガスなどの不活性ガスで充満させて分解を抑制してもよい。必要により、加圧容器などを用いて加圧条件下で攪拌混合してもよい。溶液中のセルローストリアセテートの濃度は５質量％以上５０質量％以下、特に１０質量％以上４０質量％以下が好ましい。セルローストリアセテート溶液の粘度は、製膜の際、流延可能な範囲であればよく、通常５０ｐｓから２０００ｐｓの範囲に調製される。
【００３１】
本発明に係わるドープを流量が精密に送液出来るギヤポンプ等でダイに送り、支持体に流延する。支持体としては、表面研磨により鏡面化したステンレスベルト、あるいは鋳物のドラムを表面を精密に仕上げた後クロム等のメッキを施した鏡面仕上げされたドラムが好ましく用いられる。
【００３２】
支持体がベルトの場合は裏面から液体による伝熱や風による伝熱とを行うことが出来る。流延直後のウエブの含有溶媒を早く蒸発させるには、特公昭６１−３９８９０号公報に記載されているような方法でベルトの裏面に熱液体を接触させて効率良く伝熱する方法は本発明に特に有用である。ベルトの表面からの加熱は、ウエブの表面を荒らさない程度に伝熱効率を高めるべくパンチ板やスリット板からウエブ表面に風量の多い熱風を当てるのが好ましい。
【００３３】
ドラムの場合には、ドラムの内側に精密に張り巡らせたパイプに熱液体を通し伝熱する方法が好ましい。しかし、このドラムにおいては、剥離させるまでの時間を早めるためには、ドラムの直径を大きくしなければならいという欠点があるが、この方法も本発明では使用出来る。これに対して小さな−１０℃位に冷却したドラムに流延してドープ膜を固化させ、溶媒を多く含んだ状態で早く剥離する方法がある。この方法は剥離後両面から急激に乾燥させるので、平面性を損なう虞があるが、注意深く乾燥させることによって、本発明でも用いることが出来る。
【００３４】
流延する際の支持体温度としては、使用する溶媒によって異なるが、−１０〜７０℃が好ましく、小さなドラムの場合には−１０〜５℃が特に好ましく、ベルトの場合には５℃〜溶媒の沸点より１℃低い温度以下が好ましい。
【００３５】
ベルト上での乾燥温度は、溶媒の沸点より１℃低い温度〜沸点より３０℃高い温度位の範囲で乾燥させるのがよい。
【００３６】
高速で製膜出来る他の方法は、特公昭６０−３９８９０号公報に記載されているような、ベルト支持体上の別位置の二基のダイから全膜厚の例えば１／２づつ流延することによって、ウエブをベルト上で乾燥を早める方法もあり、本方法は本発明では好ましく用いられる。
【００３７】
剥離点におけるウエブの好ましい溶媒含有率は冷却した小さなドラムの場合には、５００質量％〜２００質量％が好ましく、ベルトの場合には、２５０質量％〜５０質量％が好ましい。
【００３８】
乾燥工程では、テンターで幅保持しながら収縮を押さえて乾燥する方法は本発明においても好ましく用いられる。ロール群を有する乾燥装置ではロール群を引き回して乾燥する方法も本発明では有用である。ロール群乾燥やテンターによる乾燥は色々組み合わせて行ってもよい。乾燥工程での乾燥温度は、３０〜２００℃の範囲で行うのが好ましいが、特に最高乾燥温度はドープ溶媒の種類によって異なり、その溶媒の沸点より１００℃高い温度位が好ましい。
【００３９】
これら流延から後乾燥までの工程は、空気雰囲気下で行ってもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。
【００４０】
最終的な溶媒含有率は２．０質量％以下が好ましく、さらに１．０質量％以下が好ましい。乾燥時間は、フィルムの溶媒含有率が上記の範囲になるように設定するのがよい。
【００４１】
仕上がりのセルローストリアセテートフィルムの厚さは、乾燥後の厚さで２０〜２５０μｍの範囲が好ましく、４０〜１２５μｍの範囲が最も好ましい。
【００４２】
ここで、ウエブの溶媒含有率は下記の式で表され、測定するウエブの質量をＡとし、１１５℃で１時間乾燥したウエブの質量をＢとすると、
溶媒含有率（質量％）＝｛（Ａ−Ｂ）／Ｂ｝×１００である。
【００４３】
なお、ウエブの温度の測定は、下記の如き赤外線温度計で計測した。（メーカー：キーエンス（株）、型番：ＩＴ２−６０、品名：ポイントマーカー付きハンディ赤外線温度計）
【実施例】
【００４４】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されない。
【００４５】
〈フィルム平面性の評価〉
平坦な机の上に黒紙を貼り、その上に大きさ１００ｃｍ×４０ｃｍの試料フィルムを置き、斜め上方に配置した３本の蛍光灯をフィルムに映して蛍光灯の曲がり具合でランク付けした。尚、評価におけるランク付けは、写真用フィルムとしての実用性に基づいて決定されており、ランクＢ以上であることが好ましい。
【００４６】
Ａ：蛍光灯が３本とも真っ直ぐに見える。
【００４７】
Ｂ：蛍光灯が若干曲がって見えるところがある。
【００４８】
Ｃ：蛍光灯が曲がって見える。
【００４９】
Ｄ：蛍光灯が大きく畝って見える。
【００５０】
〈塗布ムラ（縦シワと縦ツレを見る）〉
各フィルムに下記の処方の下引層とバック層を、図７に示したような下引装置１２を用いて塗布乾燥させ、下引面に下記染料入りのゼラチン溶液を塗布乾燥させた。なお、下引層塗設済みの試料の場合は、下引塗布を省略して行った。
【００５１】
（下引塗布液）
酢酸ビニル：無水マレイン酸交互共重合体                        ３ｇ
アセトン                                                  ８１０ｇ
イソプロパノール                                          １５０ｇ
（バック層塗布液）
酸化スズ：酸化アンチモン複合微粒子（平均粒径０．０５μｍ）  １４ｇ
セルロースジアセテート                                        ６ｇ
アセトン                                                  ８００ｇ
シクロヘキサノン                                          ２００ｇ
（ゼラチン塗布液）
ゼラチン                                                      ４ｇ
水                                                        １００ｇ
メチルバイオレット（染料）                                ０．２ｇ
サポニン                                                  ０．１ｇ
各試料をシャーカステンの上に乗せ、塗布ムラを下記のように評価した。
【００５２】
Ａ：ムラがなく非常にスムースである
Ｂ：細かいムラが若干ある
Ｃ：ややムラがあるような感じ
Ｄ：はっきりとムラが見える
Ｅ：非常に大きなムラが見える。
【００５３】
実施例１
セルローストリアセテート（酢化度６１．０％）１００質量部、トリフェニルフォスフェート１２質量部、メチレンクロライド３６０質量部、エタノール４０質量部からなるセルローストリアセテート溶液（ドープ）を調製し、図７に示すようなベルト型の溶液流延製膜装置を用いて製膜した。ドープをダイ２から、３０ｍ／ｍｉｎの速さで走行している支持体３（流延位置で３０℃に制御される）に流延し、流延したドープが乾燥されたウエブの溶媒含有率が１００質量％になるまで乾燥して剥離点４でウエブ１を支持体３から剥離した。その後、オーブン内を１００℃に温度制御した乾燥装置５に送り、ロール群６で搬送しつつ乾燥し、続いてテンター８で幅保持をしながら乾燥し、ついで下引装置１２の下引塗布機１３を用いて、ハロゲン化銀乳剤層を塗布出来るように、下引層を塗布し、さらにオーブン内を１２０℃に温度制御した乾燥装置５′に送り、同様に乾燥を続けた。１１５℃になったウエブを冷却装置９の冷却ロール１０に巻回し搬送しながら冷却した。冷却ロール１０は、直径２００ｍｍで、全部で２０本、同一平面上に配列されており、４本づつ１組の温度にそれぞれブロック分けして制御し、最初のブロックの冷却ロールは８５℃、第２のブロックの冷却ロールは６５℃、第３部ブロックの冷却ロールは５５℃、第４のブロックの冷却ロールは４５℃、そして第５ブロックの冷却ロールは３０℃とした。ウエブの冷却ロールの巻き回しは図４のようにフリースパンをゼロ（Ｗ／ｂは∞である）にして半円づつの巻き回しとした。ウエブ１が冷却装置９を出てからは、２５℃の部屋を通り室温まで冷やして巻き取り、幅２ｍ、膜厚１２０μｍのセルローストリアセテートフィルムを得た。得られたセルローストリアセテートフィルム中の溶媒含有率は０．８質量％であった。
【００５４】
実施例２〜４
実施例１において、冷却装置の複数の冷却ロールを図６のように二平面上に配置し、ウエブの冷却ロール間のフリースパンの長さをそれぞれ５０ｍｍ、２００ｍｍ、３００ｍｍに変更した以外は、実施例１と同様にして行った。
【００５５】
実施例５〜７
実施例２において、乾燥装置から冷却装置へ導入するまでの時間を変化させて、冷却装置へウエブを導入する時のウエブの温度をそれぞれ１１０℃、１０５℃、１００℃とした以外は実施例２と同様にして行った。
【００５６】
実施例８
実施例２において、乾燥装置での制御温度を１１０℃とし、冷却装置へ導入する時のウエブ温度を１００℃とした以外は、実施例２と同様にして行った。
【００５７】
実施例９
実施例２において、乾燥装置での制御温度を１００℃とし、冷却装置へ導入する時のウエブ温度を９０℃とした以外は、実施例２と同様にして行った。
【００５８】
実施例１０
実施例２において、冷却ロールの温度を全て１００℃とした以外は、実施例２と同様にして行った。
【００５９】
実施例１１
実施例８において、冷却ロールの温度を第１及び第２ブロックの冷却ロールを９５℃、第３から第５ブロックの冷却ロールを９０℃とした以外は、実施例８と同様にして行った。
【００６０】
実施例１２
実施例９において、冷却ロールの温度を第１及び第２ブロックの冷却ロールを８５℃、第３から第５ブロックの冷却ロールを８０℃とした以外は、実施例９と同様にして行った。
【００６１】
実施例１３
実施例２において、支持体の走行速度を７０ｍ／ｍｉｎとし、冷却ロールの温度を第１ブロックの冷却ロールを８５℃、第２ブロックの冷却ロールを３０℃とし、第３ブロック以降の冷却ロールを使用せずにパスさせた以外は、実施例２と同様に行い、膜厚８０μｍのセルローストリアセテートフィルムを得た。得られたセルローストリアセテートフィルム中の溶媒含有率は０．８質量％であった。
【００６２】
実施例１４
実施例１３において、乾燥装置での制御温度を１１０℃、冷却装置へ導入する時のウエブの温度を１０５℃とし、更に冷却ロールの温度を第１ブロックの冷却ロールを９５℃とした以外は、実施例１３と同様にして行った。
【００６３】
実施例１５
実施例２において、支持体の走行速度を７０ｍ／ｍｉｎとし、更に下引装置、下引乾燥機を使用しなかった他は実施例２と同様にして行い、膜厚８０μｍのセルローストリアセテートフィルムを得た。得られたセルローストリアセテートフィルム中の溶媒含有率は０．４質量％であった。
【００６４】
比較例１
実施例１で冷却装置を用いなかった以外は実施例１と同様にして行った。
【００６５】
比較例２
実施例１のウエブを冷却装置で冷却した後、再び１００℃の温度の乾燥工程を通した他は実施例１と同様にして行った。
【００６６】
得られたセルローストリアセテートフィルムの平面性及び縦ツレを評価する塗布ムラの評価を行い、その結果を表１に示した。
【００６７】
【表１】
2005262890.tif 000003
【００６８】
（結果）
冷却装置を用いなかった比較例１は平面性、塗布ムラともに非常に悪く、比較例２では冷却後に再び乾燥工程を通したことによって平面性、塗布ムラ共に劣化したのに対し、本発明により得られたセルローストリアセテートフィルムの平面性、塗布ムラはいずれも良好な結果が得られた。また、本発明では、従来の加熱ロールを用いた平面性矯正方法に見られるような可塑剤等のロール汚れは認められず、セルローストリアセテートフィルム品質に何ら影響はなかった。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】溶液流延製膜装置の概略断面図。
【図２】テンターを有する溶液流延製膜装置の概略断面図。
【図３】テンターと冷却装置を有する溶液流延製膜装置の概略断面図。
【図４】一平面上に配置された冷却ロール群を装備した冷却装置の概略断面図。
【図５】二平面に配置された冷却ロール群を装備した冷却装置の概略断面図。
【図６】フリースパンを有し、二平面に配置された冷却ロール群を装備した冷却装置の概略断面図。
【図７】テンター、下引装置及び冷却装置を有する溶液流延製膜装置の概略断面図。
【符号の説明】
【００７０】
１  ウエブ
２  ダイ
３  支持体
４  剥離点
５、５′  乾燥装置
６  ロール（群）
７  乾燥風
８  テンター
９  冷却装置
１０  冷却ロール
１１  ガイドロール
１２  下引装置
１３  下引塗布機
１４下引乾燥装置
【図１】
2005262890.tif 000004
【図２】
2005262890.tif 000005
【図３】
2005262890.tif 000006
【図４】
2005262890.tif 000007
【図５】
2005262890.tif 000008
【図６】
2005262890.tif 000009
【図７】
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