(57)【要約】【課題】半導体レーザ装置の検査装置の光学ユニットの調整において、高精度かつ短期間で調整することを可能にする。【解決手段】調整用治具６に、位置決め装置２と光強度を測定するビームプロファイラ７を設置し、半導体レーザ装置１を位置決め装置２で固定する。半導体レーザ装置１の半導体レーザを発光させ、半導体レーザ装置１から出射した直接のレーザ光と、コリメートレンズ３にて整形された平行光１１の重心が一致するように、コリメートレンズ３のＸ−Ｙ位置の調整を行う。位置決め装置２とコリメートレンズ３の傾きについては、レーザ光の強度分布特性が対称となるように調整する。【選択図】図３
2005303187.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体レーザ装置の位置決め装置と、前記半導体レーザ装置から出射したレーザ光を整形する光学素子を有する半導体レーザ装置の検査装置において、前記半導体レーザ装置から前記光学素子を通るレーザ光路延長線上に入射されるレーザ光の光強度分布を測定する光強度測定器を配置する半導体レーザ装置の検査装置における調整方法であって、
前記光学素子を前記レーザ光路から外して、第１の光強度分布が所望の分布になるように前記位置決め装置の前記レーザ光と略垂直な平面における２次元方向の位置および傾きを調整する工程と、
前記光学素子を前記レーザ光路に入れて、第２の光強度分布が所望の分布になるように前記光学素子の前記レーザ光と略垂直な平面における２次元方向の位置および傾きを調整する工程とを有することを特徴とする半導体レーザ装置の検査装置における調整方法。
【請求項２】
前記光学素子を前記レーザ光路から外して、前記第１の光強度分布が前記レーザ光の光軸に対して対称な分布になるように、前記位置決め装置の前記レーザ光と略垂直な平面における２次元方向の位置および傾きを調整する工程と、
前記光学素子を前記レーザ光路に入れて、第２の光強度分布が前記レーザ光の光軸に対して対称な分布になり、かつ前記第１の光強度分布の重心と前記第１の光強度分布の重心とが一致するように、前記光学素子の前記レーザ光と略垂直な平面における２次元方向の位置および傾きを調整する工程とを有することを特徴とする請求項１記載の半導体レーザ装置の検査装置における調整方法。
【請求項３】
前記光学素子を前記レーザ光路から外して、前記第１の光強度分布が前記レーザ光の光軸に対して対称な分布になるように、前記位置決め装置の前記レーザ光と略垂直な平面における２次元方向の位置および傾きを調整する工程と、
前記光学素子を前記レーザ光路に入れて、第２の光強度分布が前記レーザ光の光軸に対して対称な分布になり、かつ前記第１の光強度分布のピークと前記第１の光強度分布のピークとが一致するように、前記光学素子の前記レーザ光と略垂直な平面における２次元方向の位置および傾きを調整する工程とを有することを特徴とする請求項１記載の半導体レーザ装置の検査装置における調整方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体レーザ装置の検査装置における調整に適用され、半導体レーザ装置から出射したレーザ光の強度分布特性を用いて、装置および光学系の調整を行う調整方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光ディスクのピックアップに利用されている半導体レーザ装置は、内部に半導体レーザ素子と受光素子が搭載されており、半導体レーザ装置の上部にはホログラム素子が搭載されている。半導体レーザ装置から出射されたレーザ光は、特願２００３−４０５８５４号明細書に記載されているような検査装置上で、コリメートレンズ，アクチュエータを通過し、光ディスク面にて反射して戻り、半導体レーザ装置内部の受光素子にて受光される。この受光部で検出される光信号出力を組み合わせて、再生信号，フォーカスエラー信号，トラッキングエラー信号を生成し、これらを数値化することにより、半導体レーザ装置の良否判定を行っている。
【０００３】
次に、従来の半導体レーザ装置の検査装置の調整方法について説明する。
【０００４】
従来の検査装置で用いられるコリメートレンズは、半導体レーザの出射光をビーム整形するように作用し、半導体レーザ装置に対して、Ｘ−Ｙ位置，傾きおよび距離が高精度に調整されている必要がある。
【０００５】
コリメートレンズのＸＹ位置あるいは傾きの調整については、コリメートレンズがビーム整形した平行光を、オートコリメータを用いて角度を測定し、半導体レーザ装置に対して傾きがないようにコリメートレンズのＸＹ位置と傾きの調整を行っている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、従来の技術では、オートコリメータは、レーザ光の角度測定はできるが、光軸の中心位置測定ができないため、図６に示すように、半導体レーザ装置１の位置決め装置２が傾いてもコリメートレンズ３の位置で補正することができてしまうことから、光ピックアップ装置と等価な理想の光学ユニットを有する検査装置を構成することが困難であった。したがって、基準の検査装置と所望の相関関係が得られるまでに、大幅な調整時間を要していた。
【０００７】
本発明は、前記従来技術の課題を解決し、半導体レーザ装置の検査装置の光学ユニットの調整において、高精度かつ短期間で調整することを可能にする調整方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するため、本発明の半導体レーザ装置の検査装置における調整方法は、半導体レーザ装置の位置決め装置と、半導体レーザ装置から出射したレーザ光を整形する光学素子を有する半導体レーザ装置の検査装置において、半導体レーザ装置から光学素子を通るレーザ光路延長線上に入射されるレーザ光の光強度分布を測定する光強度測定器を配置する半導体レーザ装置の検査装置の調整方法であって、光学素子をレーザ光路から外して、第１の光強度分布が所望の分布になるように、位置決め装置のレーザ光と略垂直な平面における２次元方向の位置および傾きを調整する工程と、光学素子をレーザ光路に入れて、第２の光強度分布が所望の分布になるように光学素子のレーザ光と略垂直な平面における２次元方向の位置および傾きを調整する工程とを有することを特徴とする。
【０００９】
ここで、光学素子をレーザ光路から外して、第１の光強度分布がレーザ光の光軸に対して対称な分布になるように位置決め装置のレーザ光と略垂直な平面における２次元方向の位置および傾きを調整する工程と、光学素子をレーザ光路に入れて、第２の光強度分布がレーザ光の光軸に対して対称な分布になり、かつ第１の光強度分布の重心と第１の光強度分布の重心とが一致するように、光学素子のレーザ光と略垂直な平面における２次元方向の位置および傾きを調整する工程とを有するものであってよい。
【００１０】
また、光学素子をレーザ光路から外して、第１の光強度分布がレーザ光の光軸に対して対称な分布になるように位置決め装置のレーザ光と略垂直な平面における２次元方向の位置および傾きを調整する工程と、光学素子をレーザ光路に入れて、第２の光強度分布がレーザ光の光軸に対して対称な分布になり、かつ第１の光強度分布のピークと第１の光強度分布のピークとが一致するように、光学素子のレーザ光と略垂直な平面における２次元方向の位置および傾きを調整する工程とを有するものであってもよい。
【００１１】
このように、本発明に係わる半導体レーザ装置の検査装置における調整方法により、コリメートレンズがない状態で光強度分布測定器を用いて、半導体レーザ装置から出射したレーザ光の光強度分布を測定し、さらにコリメートレンズをレーザ光の光路に挿入した状態で光強度分布測定器を用いて、レーザ装置から出射したレーザ光の光強度分布を測定し、両者の光強度分布の重心あるいはピーク位置が一致するように、コリメートレンズのＸ−Ｙ位置（レーザ光と略垂直な平面における２次元方向の位置）を調整し、かつ強度分布の対称性でコリメートレンズの傾きを調整する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、半導体レーザ装置の検査装置の調整において、強度分布特性からコリメートレンズのＸ−Ｙ位置と傾きを検知することが可能になる。そのため、検査装置の光学ユニットを、光ピックアップ装置と等価な光学ユニットに容易に高精度で調整することができ、また光学ユニットの調整に要する時間を短縮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明に係る検査装置の調整方法の実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００１４】
図１は半導体レーザ装置の検査装置の構成図であって、半導体レーザ装置の検査装置は、半導体レーザと受光素子とホログラム素子を一体化した半導体レーザ装置１と、半導体レーザ装置１を固定する位置決め装置２と、半導体レーザ装置から出射したレーザ光を平行光に整形するコリメートレンズ３と、アクチュエータ４と、ディスク５とにより構成されている。
【００１５】
本実施形態の検査装置における調整方法について説明する。
【００１６】
位置決め装置の傾き調整において、図２に示すように、位置決め装置２を調整用治具６に設置し、理想的な強度分布特性を有する半導体レーザ装置１を固定する。Ａの位置に光強度分布を測定するビームプロファイラ７を設置し、半導体レーザを発光させ、第１の光強度分布を測定する。
【００１７】
半導体レーザ装置の位置決め装置が傾いていると、図４に示す強度分布特性８のように対称性のない特性を示す。この強度分布特性が対称性のある強度分布特性９になるように、位置決め装置の傾きを調整する。
【００１８】
前記傾きのない状態で半導体レーザ直接のレーザ光を測定し、図５に示すような第１の光強度分布の重心（あるいはピーク）１０を測定して記憶しておく。
【００１９】
次に、コリメートレンズ３の調整において、図３に示すように、Ｂの位置にコリメートレンズ３を設置する。半導体レーザを発光させ、コリメートレンズ３で整形された光が、集光または拡散していない平行光１１になるように高さ位置を調整する。
【００２０】
そして、コリメートレンズ３の傾き調整は、平行光１１をビームプロファイラ７で測定し、第２の光強度分布を測定する。この第２の光強度分布特性が、図４に示す対称性のある光強度分布特性９になるように調整する。
【００２１】
また、コリメートレンズ３のＸ−Ｙ位置調整は、第２の光強度分布の重心（ピーク）１２が第１の光強度分布の重心（ピーク）１０と一致し、かつ強度分布特性が対称性をキープするように調整する。
【産業上の利用可能性】
【００２２】
本発明は、半導体レーザ装置の検査における調整方法および調整装置に適用され、半導体レーザ装置の組立調整装置においても有用である。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施形態を説明するための半導体レーザ装置の検査装置の構成図
【図２】本実施形態の半導体レーザ装置における位置決め装置の調整に係る説明図
【図３】本実施形態の半導体レーザ装置におけるコリメートレンズの調整に係る説明図
【図４】本実施形態のビーププロファイラで測定した半導体レーザ装置の光強度分布特性を示す図
【図５】本実施形態のビーププロファイラで測定した半導体レーザ装置の光強度分布の重心を示す図
【図６】従来の半導体レーザ装置の検査装置を調整する際の課題に係る説明図
【符号の説明】
【００２４】
１  半導体レーザ装置
２  位置決め装置
３  コリメートレンズ
４  アクチュエータ
５  ディスク
６  調整用治具
７  ビームプロファイラ
８  非対称の光強度分布
９  対称の光強度分布
１０  レーザ光直接の光強度分布の重心
１１  平行光
１２  平行光の光強度分布の重心
【図１】
2005303187.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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