(57)【要約】【課題】  発光素子の光取り出し効率を向上させることができ、かつ簡便な製造プロセスにより製造可能な電気光学装置、及びその製造方法を提供する。【解決手段】  本発明の有機ＥＬ装置は、平坦化絶縁膜２４０上に積層された画素電極１４１、有機機能層１４０、及び共通電極１５４を具備した有機ＥＬ素子２００を備えており、有機機能層１４０の下層側に、反射層１４１ａが設けられ、該反射層１４１ａが平面視で前記有機機能層１４０の外側まで延出されるとともに、当該延出部分にて前記有機機能層１４０側に臨む斜面部１４１ａ１を形成している。係る斜面部１４１ａ１は、前記平坦化絶縁膜２４０表面の凸状部２４０ａに反射層１４１ａが一部乗り上げることにより形成されている。【選択図】        図４
2005340011.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体上に、第１電極と、発光層を含む機能層と、透光性を有する第２電極とを順に積層してなる発光素子が設けられた電気光学装置であって、
前記機能層の基体側に、前記発光層で生じた光を反射させる反射層が設けられ、該反射層の基体側には、表面に凸状部を有する絶縁膜が設けられており、
前記反射層が、平面視で前記機能層の外側まで延出されるとともに、当該延出部分にて前記機能層側に臨む斜面部を形成しており、
前記斜面部が、前記反射層の延出部分と平面的に重なって配置された前記絶縁膜の凸状部に起因して形成されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記斜面部が、前記機能層を平面視で取り囲むように配置されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記斜面部が、前記第２電極と前記機能層との界面より前記第２電極側へ突出していることを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記基体上に、前記発光素子を取り囲む隔壁部材が立設されており、
前記反射層の斜面部と、前記隔壁部材とが平面的に重なって配置されていることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記絶縁膜の基体側に、前記発光素子と電気的に接続された回路層が設けられており、
前記絶縁膜表面の凸状部が、前記回路層に設けられた導電部材に起因して形成されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記絶縁膜表面の凸状部が、前記回路層に設けられた導電部材のうち、前記反射層に最も近接して配置された導電部材に起因するものであることを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置。
【請求項７】
前記反射層に最も近接して配置された導電部材が、前記回路層に設けられた導電部材のうち、最大の厚さを有していることを特徴とする請求項６に記載の電気光学装置。
【請求項８】
前記反射層に最も近接して配置された導電部材が、平面視で前記機能層をほぼ取り囲むように配置されていることを特徴とする請求項６又は７に記載の電気光学装置。
【請求項９】
前記回路層が、層間絶縁膜を介して複数の前記導電部材を積層した構造を備えており、
複数層の前記導電部材が平面的に重なって配置された位置に、前記凸状部が形成されていることを特徴とする請求項５から８のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項１０】
前記積層して配置された複数の導電部材に起因して前記凸状部が形成され、該凸状部が、平面視略枠状を成して前記機能層を取り囲んでおり、
前記凸状部の平面領域における前記導電部材の積層数が同一であることを特徴とする請求項８に記載の電気光学装置。
【請求項１１】
前記積層して配置された複数の導電部材が、それぞれの層において前記機能層を取り囲む平面視略枠状であることを特徴とする請求項９に記載の電気光学装置。
【請求項１２】
前記平面視略枠状を成す導電部材の少なくとも一部が、他の部位と絶縁されたダミー部材であることを特徴とする請求項１０に記載の電気光学装置。
【請求項１３】
前記回路層に、前記第２電極と電気的に接続された導電部材が設けられていることを特徴とする請求項５から１１のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項１４】
前記発光素子が、有機発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする請求項１から１２のいずれか１項に記載の電気光学装置。
【請求項１５】
請求項１から１２のいずれか１項に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置及び電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
平面型の表示装置（フラットパネルディスプレイ）として、陽極と陰極との間に有機発光材料からなる発光層を形成した、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子が知られている。有機化合物を含んだ従来の発光素子（有機エレクトロルミネッセンス素子；有機ＥＬ素子）の構造は、陽極／正孔注入層／有機発光層／電子注入層／陰極というそれぞれの機能層が積層された構成である。この有機化合物を含む発光層において生じた光は、等方的に発光するため、それぞれの機能層が平面状に積層される従来の構造では積層平面の法線方向に発光した光は直接ないし所定の反射面で反射させることで基板の外部に取り出すことが可能であるが、積層平面に略平行方向に発光した光は基板の外側に取り出すのが困難であり、これが発光素子の効率を低下させる原因となっていた。
そこで、特許文献１では、画素の領域内に凹凸を設けることで光の取り出し効率を高めることが提案されている。また特許文献２では、画素周辺部の反射電極をエッチングする際に反射壁面を形成することで光の取り出し効率を高めることが提案されている。
【特許文献１】特開２００２−２０２７３７号公報
【特許文献２】特開２００２−１７２７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記各特許文献に開示されている技術によれば、機能層の面方向に伝搬する光を部分的にでも取り出すことが可能であるため、確かに発光効率の向上は可能であると考えられる。しかし、特許文献１に記載の技術では、画素内に発光部分と非発光部分とが設けられるため、発光部分での光取り出し効率は向上するものの、非発光部分を含めた画素全体の効率はそれほど向上しないという課題がある。また特許文献２に記載の技術では、光の取り出し効率が反射壁面のテーパー角度に依存するため、製造時に前記テーパー角度を高精度に管理する必要があり、製造の困難性が高くなるという課題がある。さらに、テーパー角度が大きい場合には、発光素子を構成する機能層を形成するに際して、開口領域の側面において膜厚が薄くなって輝度ムラが生じたり、電極間の短絡が生じるという問題がある。
【０００４】
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み成されたものであって、製造プロセスの負荷を増大させることなく発光素子の光取り出し効率を向上させることができる電気光学装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上記課題を解決するために、基体上に、第１電極と、発光層を含む機能層と、透光性を有する第２電極とを順に積層してなる発光素子が設けられた電気光学装置であって、前記機能層の基体側に、前記発光層で生じた光を反射させる反射層が設けられ、該反射層の基体側には、表面に凸状部を有する絶縁膜が設けられており、前記反射層が、平面視で前記機能層の外側まで延出されるとともに、当該延出部分にて前記機能層側に臨む斜面部を形成しており、前記斜面部が、前記反射層の延出部分と平面的に重なって配置された前記凸状部に起因して形成されていることを特徴とする電気光学装置を提供する。
この構成によれば、機能層の外側まで延出された反射層の一部が、直接又は他の部材を介して前記絶縁膜の凸状部上に配されていることで、反射層の延出部分が斜面部を構成している。そして係る斜面部が形成されていることで、機能層で生じた光のうち該機能層の面方向に散乱する成分を、斜面部で反射させることにより基体鉛直方向に取り出すことが可能になっている。これにより、機能層で生じた光を効率よく表示光に利用することができ、明るい表示を得られる電気光学装置となる。また、従来技術では、反射層をエッチングして画素周縁部にテーパー形状を形成しており、係る従来技術ではテーパー角度をエッチング条件により管理するため、角度管理が困難であったが、本発明では、絶縁膜上に形成した凸状部に反射層を乗り上げさせて斜面部を形成するため、傾斜角度の管理に際して反射層のエッチング条件を考慮する必要はなく、簡便な工程で製造可能なものとなっている。
【０００６】
本発明の電気光学装置では、前記斜面部が、前記機能層を平面視で取り囲むように配置されていることが好ましい。この構成によれば、機能層の面方向へ散乱する光を、それを取り囲む斜面部で効率よく反射させて取り出すことができるため、光の損失を最小限に抑えることができ、高輝度の表示を得ることができる。
【０００７】
本発明の電気光学装置では、前記斜面部が、前記第２電極と前記機能層との界面より前記第２電極側へ突出していることが好ましい。このような構成とすることで、機能層の面方向へ散乱する光の大部分を前記斜面部にて反射させることができ、光の取り出し効率を高めることができる。斜面部の高さが機能層の層厚より低い場合、斜面部の外側に漏れ出る光量が多くなる。
【０００８】
本発明の電気光学装置では、前記基体上に、前記発光素子を取り囲む隔壁部材が立設されており、前記反射層の斜面部と、前記隔壁部材とが平面的に重なって配置されていることが好ましい。このような構成とすることで、隔壁部材に囲まれる領域の底面部を平坦面にて形成することが可能になり、係る底面部に機能層を形成する場合の機能層の平坦性を向上させることができる。その結果、機能層の膜厚の不均一に起因する点欠陥や明るさのばらつきを低減し、高画質の表示を提供しうるものとなる。
【０００９】
本発明の電気光学装置では、前記絶縁膜の基体側に、前記発光素子と電気的に接続された回路層が設けられており、前記絶縁膜表面の凸状部が、前記回路層に設けられた導電部材に起因して形成されている構成とすることもできる。この構成によれば、前記回路層に形成される配線等による凹凸形状を利用して前記凸状部を形成するので、凸状部の形成自体が容易であるとともに、凸状部の突出高さ等の調整も容易になる。
【００１０】
本発明の電気光学装置では、前記絶縁膜表面の凸状部が、前記回路層に設けられた導電部材のうち、前記反射層に最も近接して配置された導電部材に起因するものであってもよい。この構成によれば、最表面側の導電部材の厚さや形成範囲によって凸状部の形成高さや平面領域等を制御できるので、凸状部の形状制御が容易になり、係る凸状部により形成される反射層の傾斜角度の調整等も容易になる。
【００１１】
本発明の電気光学装置では、前記反射層に最も近接して配置された導電部材が、前記回路層に設けられた導電部材のうち、最大の厚さを有していることが好ましい。
【００１２】
本発明の電気光学装置では、前記反射層に最も近接して配置された導電部材が、平面視で前記機能層をほぼ取り囲むように配置されていることが好ましい。この構成によれば、前記機能層を取り囲むように反射層の斜面部を形成できるため、機能層の面方向へ散乱する光の取り出し効率が高まり、表示の明るさを向上させることができる。
【００１３】
本発明の電気光学装置では、前記回路層が、層間絶縁膜を介して複数の前記導電部材を積層した構造を備えており、複数層の前記導電部材が平面的に重なって配置された位置に、前記凸状部が形成されていることが好ましい。この構成によれば、より容易に凸状部を基体鉛直方向へ突出させることができ、所望の高さの斜面部を形成するのがさらに容易になる。
【００１４】
本発明の電気光学装置では、前記積層して配置された複数の導電部材に起因して前記凸状部が形成され、該凸状部が、平面視略枠状を成して前記機能層を取り囲んでおり、前記凸状部の平面領域における前記導電部材の積層数が同一である構成とすることもできる。この構成によれば、機能層を取り囲む導電部材の積層数が、機能層の周囲で一定であるので、係る導電部材の積層構造に起因して形成される凸状部の高さも、機能層の周囲でほぼ一定の高さとなる。したがって、反射層の斜面部における反射特性が機能層の周囲で均一なものとなり、斜面部で反射されて基体鉛直方向に取り出される光の強度を均一化することができる。
【００１５】
本発明の電気光学装置における導電部材の具体的態様としては、前記積層して配置された複数の導電部材が、それぞれの層において前記機能層を取り囲む平面視略枠状であることが好ましい。本発明の電気光学装置では、前記平面視略枠状を成す導電部材の少なくとも一部が、他の部位と絶縁されたダミー部材であってもよい。
【００１６】
本発明の電気光学装置では、前記回路層に、前記第２電極と電気的に接続された導電部材が設けられている構成とすることもできる。この構成によれば、透光性導電材料により形成されるため電圧降下が生じやすい前記第２電極における電圧降下を防止するための構造を具備したものとすることができ、均一な明るさの表示を得られる電気光学装置とすることができる。
【００１７】
本発明の電気光学装置では、前記発光素子が、有機発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子であることを特徴とする。この構成によれば、明るく高画質の表示が可能な有機ＥＬ装置が提供される。
【００１８】
次に、本発明の電子機器は、先に記載の本発明の電気光学装置を備えたことを特徴とする。この構成によれば、明るく高画質の表示が可能な表示部を具備した電子機器が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して説明する。
【００２０】
（第１の実施形態）
まず、本発明の第１の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。以下では、本発明の電気光学装置の一実施の形態として、有機ＥＬ素子を画素として基体上に配列してなる有機ＥＬ装置（有機エレクトロルミネッセンス装置）を例示して説明する。この有機ＥＬ装置は、例えば電子機器等の表示手段として好適に用いることができるものである。
【００２１】
＜有機ＥＬ装置の構成＞
図１は、本実施形態の有機ＥＬ装置の回路構成図、図２は、同、平面構成図、図３は、同装置の画素領域７１の断面構造を示す図、図４は、図３に示す有機ＥＬ素子を拡大して示す部分断面構成図である。
図１に示すように、有機ＥＬ装置７０は、基板上に複数の走査線１３１と、これら走査線１３１に対して交差する方向に延びる複数の信号線１３２と、これら信号線１３２と並列に延びる複数の電源線１３３とがそれぞれ配線されたもので、走査線１３１及び信号線１３２の各交点毎に画素領域７１が設けられた構成を備えている。
【００２２】
信号線１３２に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、及びアナログスイッチ等を備えるデータ側駆動回路７２が設けられている。一方、走査線１３１に対しては、シフトレジスタ及びレベルシフタ等を備える走査側駆動回路７３が設けられている。また、画素領域７１の各々には、走査線１３１を介して走査信号が供給されるゲート電極を含むスイッチング用ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１４２と、このスイッチング用ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）１４２を介して信号線１３２から供給される画像信号（電力）を保持する保持容量ｃａｐと、保持容量ｃａｐによって保持された画像信号が供給されるゲート電極を含む駆動用ＴＦＴ１４３と、この駆動用ＴＦＴ１４３を介して電源線１３３に電気的に接続したときに電源線１３３から駆動電流が流れ込む画素電極１４１（第１電極）と、この画素電極１４１と共通電極（第２電極）１５４との間に挟み込まれる発光部１４０と、が設けられている。そして、前記画素電極１４１と共通電極１５４と、発光部１４０とによって構成される素子が有機ＥＬ素子である。
【００２３】
このような構成のもとに、走査線１３１が駆動されてスイッチング用ＴＦＴ１４２がオンとなると、そのときの信号線１３２の電位が保持容量ｃａｐに保持され、該保持容量ｃａｐの状態に応じて、駆動用ＴＦＴ１４３のオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用ＴＦＴ１４３のチャネルを介して電源線１３３から画素電極１４１に電流が流れ、さらに発光部１４０を通じて共通電極１５４に電流が流れることにより、発光部１４０は、これを流れる電流量に応じて発光するようになる。
【００２４】
図１に示す回路構成を具備した有機ＥＬ装置７０は、図２に示すように、電気絶縁性および透光性を有する基板２０１上に、スイッチング用ＴＦＴ（図示せず）に接続された画素電極が基板２０１上にマトリクス状に配置されてなる平面視略矩形の画素部３（図２中の一点鎖線枠内）を具備して構成される。画素部３は、中央部分の表示領域４（画素部３内の一点鎖線枠内）と、表示領域４の周囲に配置されたダミー領域５とに区画されている。表示領域４には、それぞれ画素電極を有する３色の表示ドットＲ、Ｇ、Ｂが、紙面の縦方向および横方向にそれぞれ離間してマトリクス状に配置されている。本実施形態の場合、前記各表示ドットに対応して画素領域７１が設けられている。
また、図２における表示領域４の左右には走査線駆動回路７３が配置される一方、図２における表示領域４の上下にはデータ線駆動回路７２が配置されている。これら走査線駆動回路７３、データ線駆動回路７２はダミー領域５の周縁部に配置されている。
【００２５】
さらに、図２におけるデータ線駆動回路７２の上側には、検査回路９０が配設されている。この検査回路９０は、有機ＥＬ装置７０の作動状況を検査する回路であって、例えば検査結果を外部に出力する検査情報出力手段（図示せず）を備え、製造途中や出荷時の表示装置の品質、欠陥を検査できるようになっている。なお、この検査回路９０も、ダミー領域５の下層側に配置されている。また、基板２０１には、フレキシブルプリント基板等からなる駆動用外部基板１０１が接続され、駆動用外部基板１０１上に外部駆動回路１００が搭載されている。
【００２６】
次に、図３及び図４を用いて有機ＥＬ装置７０の断面構造について説明する。
図３は、図２の表示領域４に設けられた画素領域７１の断面構成図である。有機ＥＬ装置７０の画素領域７１には、ガラス等の透光性を有する基板２０１上に、駆動用ＴＦＴ１４３が設けられており、駆動用ＴＦＴ１４３を覆って形成された複数の絶縁膜を介した基板２０１上に、有機ＥＬ素子２００が形成されている。有機ＥＬ素子２００は、基板２０１上に立設されたバンク（隔壁部材）１５０に囲まれる区画領域１５１内に設けられた有機機能層１４０を主体としてなり、この有機機能層１４０を画素電極（第１電極）１４１と共通電極（第２電極）１５４との間に挟持した構成を備える。
【００２７】
駆動用ＴＦＴ１４３は、下地絶縁膜２１５を介して基板２０１上にパターン形成された半導体層２１０を備えており、この半導体層２１０に形成されたソース領域１４３ａ、ドレイン領域１４３ｂ、及びチャネル領域１４３ｃと、半導体層表面に形成されたゲート絶縁膜２２０を介してチャネル領域１４３ｃに対向するゲート電極１４３Ａとを主体として構成されている。符号２３１を付して示す部材は、ゲート電極１４３Ａと同層に設けられた導電部材であり、他の配線とは電気的に絶縁されたダミー部材であってもよく、あるいは図１に示した保持容量ｃａｐの電極等を構成するものであってもよい。
【００２８】
半導体層２１０及びゲート絶縁膜２２０上には、これらを覆う形にて層間絶縁膜２３０が形成されており、この層間絶縁膜２３０を貫通して半導体層２１０に達するコンタクトホール２３２，２３４内に、それぞれソース電極２３６、ドレイン電極２３８が埋設され、各々の電極はソース領域１４３ａ、ドレイン領域１４３ｂに導電接続されている。層間絶縁膜２３０には、下層側に設けられた前記導電部材２３１に起因する凸状部２３０ａが形成されており、係る凸状部２３０ａ上に、前記ソース電極２３６及びドレイン電極２３８と同層の導電部材２３９が設けられている。係る導電部材２３９は、凸状部２３０ａ上に形成されているので、この凸状部２３０ａの突出形状に起因して、同一層に形成されたソース電極２３６、ドレイン電極２３８等よりも基板鉛直方向に突出されている。この導電部材２３９は、画素を駆動するＴＦＴ１４２，１４３等と接続される配線を成すものであってもよく、他の配線と電気的に絶縁されたダミー部材であってもよい。
【００２９】
ソース電極２３６及びドレイン電極２３８を覆う層間絶縁膜２３０上には保護絶縁膜２３５が形成され、保護絶縁膜２３５を覆って平坦化絶縁膜２４０が形成されている。平坦化絶縁膜２４０に貫設されたコンタクトホール２４０ｂに画素電極１４１の一部が埋設されている。そして、この画素電極１４１のコンタクトホール２４０ｂに埋設された部分がドレイン電極２３８に導電接続されることで、駆動用ＴＦＴ１４３と画素電極１４１（有機ＥＬ素子２００）とが電気的に接続されている。本実施形態の場合、画素電極１４１は、アルミニウムや銀等の光反射性の金属膜からなる反射層１４１ａと、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透光性導電膜からなる透明電極１４１ｂとを積層した構造を備える。
【００３０】
平坦化絶縁膜２４０の形成領域のうち、後述の有機機能層１４０が形成されるべき領域は平坦領域とされる一方、前記導電部材２３９に対応する領域には、導電部材２３９の突出形状に倣って基板鉛直方向に突出する凸状部２４０ａが形成されている。そして、上記画素電極１４１は、上記平坦化絶縁膜２４０の平坦領域に形成されるとともに、その外周部を凸状部２４０ａに乗り上げている。その結果、画素電極１４１は画素領域７１の中央部分では平坦面を成し、その外周部に基板鉛直方向に立ち上がる斜面部を有する形状となっている。
【００３１】
平坦化絶縁膜２４０上には、画素電極１４１の周縁部に一部乗り上げるようにして無機絶縁材料からなる無機バンク（第１隔壁層）１４９が形成されている。また、無機バンク１４９上には、有機材料からなるバンク（第２隔壁層）１５０が積層され、この有機ＥＬ装置７０における隔壁部材を成している。本実施形態の有機ＥＬ装置７０では、画素電極１４１の周縁部に設けられた斜面部において光を反射させるようになっているため、上記無機バンク１４９及びバンク１５０は、いずれも透光性を有する材料により形成されることが好ましく、無機バンク１４９では酸化シリコンや酸化窒化シリコン、バンク１５０ではアクリル樹脂等の透明樹脂材料を用いることが好ましい。
【００３２】
上記有機ＥＬ素子２００は、画素電極１４１の平面領域のうち、平坦面を成して形成された領域に、正孔注入層（電荷輸送層）や発光層、電子注入層等を含む有機機能層１４０を積層し、さらにバンク１５０を覆う共通電極１５４を前記有機機能層１４０上に形成することで構成されている。有機機能層１４０は、画素電極１４１を覆い、バンク１５０の下層側に設けられた無機バンク１４９の内側に形成されている。有機機能層１４０の具体的な構成については、後段の製造方法の説明において詳述している。
【００３３】
本実施形態の有機ＥＬ装置７０は、有機ＥＬ素子２００が配設された側から光を取り出すトップエミッション型であるので、基板２０１としては、ガラス等の透明基板のほか、不透明基板も用いることができる。不透明基板としては、例えばアルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、また熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂、さらにはそのフィルム（プラスチックフィルム）などが挙げられる。
【００３４】
共通電極１５４は、有機機能層１４０とバンク１５０の上面、さらにはバンク１５０の側面部を形成する壁面を覆った状態で基板２０１上に形成されている。この共通電極１５４を形成するための材料としては透光性導電材料が用いられる。係る透光性導電材料としてはＩＴＯが好適であるが、他の透光性導電材料であっても構わない。
【００３５】
共通電極１５４の上層側には、陰極保護層を形成してもよい。係る陰極保護層を設けることで、製造プロセス時に共通電極１５４が腐食されるのを防止する効果が得られ、無機化合物、例えば、シリコン酸化物、シリコン窒化物、シリコン窒酸化物等のシリコン化合物により形成できる。このように共通電極１５４を無機化合物からなる陰極保護層で覆うことにより、無機酸化物からなる共通電極１５４への酸素等の侵入を良好に防止することができる。なお、この陰極保護層は、平面的には、図２に示した基板２０１の外周部まで延設され、その厚みは１０ｎｍから３００ｎｍ程度とされる。
【００３６】
上記構成を備えた本実施形態の有機ＥＬ装置７０では、図４の拡大断面図に示すように、平坦化絶縁膜２４０の表面に凸状部２４０ａが形成され、それに乗り上げた反射層１４１ａの周縁部に斜面部１４１ａ１が形成されている。また反射層１４１ａに積層された透明電極１４１ｂも同様の形状である。また、画素電極１４１の外周側から中央部へ延出された無機バンク１４９の周縁部も、反射層１４１ａの斜面部１４１ａ１に倣う傾斜形状とされている。そして、有機機能層１４０は、無機バンク１４９の内側の平坦面を成す画素電極１４１上に形成されている。有機機能層１４０は、本実施形態の場合、画素電極１４１上に正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂとを順に積層した構成を備えている。
【００３７】
係る構成において、有機機能層１４０の発光層１４０Ｂにおいて生じる光は、発光位置から等方的に散乱するため、従来構成の如く反射層及び有機機能層が平面形状である場合には、基板２０１の法線方向（図示上方向）に散乱する光は、直接又は反射層で反射した後に表示光として取り出すことが可能であるが、基板２０１の面方向（図示左右方向）に散乱する光は、そのまま画素外へ放射されてしまうため、表示に寄与する光として取り出すことができなかった。また先の特許文献２に記載の技術では、画素の周縁部にテーパー部を形成し、上記面方向に散乱する光を取り出すようになっているが、テーパー角度の管理が困難である等の製造上の課題を有していた。
【００３８】
これに対して、本発明の有機ＥＬ装置７０では、上記の如く反射層１４１ａの周縁部に、平坦化絶縁膜２４０に形成された凸状部２４０ａに倣う斜面部１４１ａ１が形成される一方、有機機能層１４０は、斜面部１４１ａ１の内側で平面形状を成して形成されているので、有機機能層１４０の法線方向に散乱する光（図４に示す光Ｌｄ）を良好に表示光として取り出せるのは勿論のこと、有機機能層１４０の面方向に散乱する光（図４に示す光Ｌｒ）も、有機機能層１４０を取り囲むように配された反射層１４１ａの斜面部１４１ａ１により反射させ、観察者側（図示上方）へ取り出すことができるようになっている。
【００３９】
このように、上記構成を備えた有機ＥＬ素子２００によれば、有機機能層１４０で生じた光を高効率に出力することができるので、明るい表示を得ることができる。有機ＥＬ素子２００では、同一の輝度を得るための消費電力を従来に比して低減でき、換言すれば、同一の注入電流に対して明るい表示を得られるものである。また、有機機能層１４０は全体が平面形状を成しているため、基板面方向で均一な膜厚に形成しやすく、斜面上に形成する場合のように画素領域内に点欠陥を生じるという問題も生じない。そして、大型ディプレイ用途等で大型の画素領域７１を形成した場合にも画素領域内で輝度のばらつきが生じ難く、高輝度高画質の表示を提供することができる。
【００４０】
また、本実施形態の場合、面方向に散乱する光を鉛直方向へ取り出す構造は、反射層１４１の平面領域内に斜面部１４１ａ１として形成されているが、反射層１４１の下層側に設けた凸状部２４０ａの形状に起因して形成されるものであるので、従来技術のように反射層をエッチングしてテーパーを形成する場合のようにエッチング条件の高精度制御によりテーパー角度を制御する必要はない。本実施形態で斜面部１４１ａ１の傾斜角度を変更する場合、例えば凸状部２４０ａの下層側に配されている導電部材２３９や導電部材２３１の膜厚を変更するのみで足りるため、極めて容易に斜面部１４１ａ１の傾斜角度を調整することができる。
【００４１】
上記有機ＥＬ素子２００においては、有機機能層１４０で発光した光のうち、有機機能層１４０の面方向に散乱する光は、上記の如く反射層１４１の斜面部１４１ａ１にて反射されて有機ＥＬ素子２００から射出される。したがって係る光Ｌｒの取り出し効率を高めるためには、この斜面部１４１ａ１は、有機機能層１４０の膜厚に対して十分な高さを有して形成されていることが好ましい。
【００４２】
＜平面構成の形態＞
本実施形態では、画素領域７１の断面構成図を参照して有機ＥＬ装置の構成及び作用に付き説明したが、本実施形態において上記画素領域７１の平面構成は種々の構成を採用することができる。図５及び図６は、当該画素領域７１における走査線１３１、信号線１３２、及び電源線１３３の配置についての複数の形態を示す概略平面図である。なお、図５及び図６では、説明に不要な構成要素の表示は省略している。
【００４３】
図５（ａ）、図５（ｂ）は、本実施形態に係る画素領域７１の平面構成を示している。この図では、図示左右方向に延びる走査線１３１と直交する向きに、互いに平行に延びる信号線１３２と電源線１３３とが配置されている。そして、走査線１３１と、信号線１３２、電源線１３３に囲まれた矩形状の領域内に、有機機能層１４０が設けられるようになっている。また有機機能層１４０の下層に設けられる画素電極１４１は、図５に示すように、その周縁部と前記走査線１３１、信号線１３２、電源線１３３とが一部平面的に重なるように配置される。
【００４４】
図５（ａ）では、走査線１３１と平面的に重なる上層側に、信号線１３２、電源線１３３と同層のダミー配線１３４が形成されており、図５（ｂ）では、信号線１３２、電源線１３３と平面的に重なる下層側に、走査線１３１と同層のダミー配線１３５が形成されている。これらのダミー配線１３４，１３５は、実質的に配線として機能せず、他の配線（走査線１３１、信号線１３２、電源線１３３等）とは電気的に絶縁されている導電部材を指すものである。
【００４５】
図３に示した断面構成図における凸状部２４０ａは、その下層側に複数層の導電部材が積層されることにより基板鉛直方向に突出されているものである。したがって、係る凸状部２４０ａの平面的な位置を図５（ａ）にて示すならば、ダミー配線１３４と走査線１３１とが平面的に重なって配された部位に相当し、図３の導電部材２３１に図５（ａ）の走査線１３１が対応し、導電部材２３９にはダミー配線１３４が対応している。また、図５（ｂ）に示す形態では、凸状部２４０ａの位置は、ダミー配線１３５と信号線１３２、電源線１３３とが平面的に重なって配された部位に相当し、図３の導電部材２３１に図５（ｂ）のダミー配線１３５が対応し、導電部材２３９には信号線１３２又は電源線１３３が対応する。
【００４６】
また、図５（ａ）において、画素電極１４１の周縁部は信号線１３２又は電源線１３３とも平面的に重なって形成されており、この領域でも、先の凸状部２４０ａに対応する部位（複数層の導電部材が積層された部位）ほどではないが、平坦化絶縁膜２４０の表面が基板鉛直方向に突出されるので、係る突出部位に一部乗り上げることで、画素電極１４１は有機機能層１４０側に臨む斜面部を有することとなる。また図５（ｂ）の走査線１３１と画素電極１４１とが平面的に重なっている部位でも同様である。
【００４７】
したがって、図５（ａ）及び図５（ｂ）に示す画素領域７１においては、画素電極１４１の周縁部に形成された斜面部が有機機能層１４０を取り囲むように形成されており、有機機能層１４０の層厚方向に散乱する光のみならず、同層の面方向に散乱する光も、前記画素電極１４１に含まれる反射層１４１ａの斜面部によって反射させることで基板鉛直方向に取り出すことができるようになっており、有機機能層１４０で生じた光を極めて効率よく表示光として利用できるようになっている。
【００４８】
次に、図６に示す形態について説明する。図６に示す形態においても、画素領域７１の基本的な平面構成は同様であり、有機機能層１４０を取り囲む格子状に、走査線１３１、信号線１３２及び電源線１３３が設けられている。そして、図６（ａ）に示す形態は、図５に示したようなダミー配線１３４，１３５が設けられていない形態であり、図６（ｂ）に示す形態は、ダミー配線１３４，１３５の双方が設けられている形態である。
【００４９】
図６（ａ）に示す形態においては、有機機能層１４０を取り囲む配線の上層または下層には、それと重なる他の配線が形成されていないため、図３に示した凸状部２４０ａのように顕著に突出する部位は、走査線１３１と、信号線１３２（又は電源線１３３）との交点部以外では形成されないが、先に記載したように、係る構成であっても、配線が設けられていることにより、平坦化絶縁膜２４０の表面を部分的に突出させることはでき、係る突出部位に乗り上げるように画素電極１４１を形成するならば、有機機能層１４０側に臨む斜面部を形成することが可能である。したがって図６（ａ）に示す形態においても、有機機能層１４０を取り囲むように画素電極１４１（反射層１４１ａ）の斜面部が配され、有機機能層１４０の面方向に散乱する光を前記斜面部で反射させて表示光として取り出せるようになっている。
【００５０】
一方、図６（ｂ）に示す形態は、有機機能層１４０の周囲を取り囲む配線形成領域のほぼ全域において、複数層の導電部材が積層された構造を備えている。この構成によれば、図３に示した凸状部２４０ａが有機機能層１４０を取り囲むように配されるため、有機機能層１４０の面方向に散乱した光は、画素電極１４１の斜面部において極めて効率よく反射され、表示に寄与する光として利用される。したがって係る形態によれば、さらに高輝度の表示を得ることができる。
【００５１】
＜有機ＥＬ装置の製造方法＞
以下、本実施形態の有機ＥＬ装置７０の製造方法の概略を図面を参照して説明する。本実施形態では、液滴吐出ヘッドから所定の液体材料を吐出して基板上に選択的に配置する液滴吐出法を用いて有機機能層１４０を形成する場合を例示する。
【００５２】
＜液滴吐出ヘッド＞
まず、有機ＥＬ装置７０の具体的な製造方法の説明に先立ち、液滴吐出法に用いられる吐出ヘッドの一例について説明する。図７（ａ）、（ｂ）に示すように吐出ヘッド３４は、例えばステンレス製のノズルプレート１２と振動板１３とを備え、両者を仕切部材（リザーバプレート）１４を介して接合したものである。ノズルプレート１２と振動板１３との間には、仕切部材１４によって複数のキャビティ１５…とリザーバ１６とが形成されており、これらキャビティ１５…とリザーバ１６とは流路１７を介して連通している。
【００５３】
各キャビティ１５とリザーバ１６の内部とは液体材料で満たされるようになっており、これらの間の流路１７はリザーバ１６からキャビティ１５に液体材料を供給する供給口として機能するようになっている。また、ノズルプレート１２には、キャビティ１５から液体材料を噴射するための孔状のノズル１８が縦横に整列した状態で複数形成されている。一方、振動板１３には、リザーバ１６内に開口する孔１９が形成されており、この孔１９には図示略の液状体タンクがチューブを介して接続され、液体材料の供給を行うようになっている。
また、振動板１３のキャビティ１５に向く面と反対の側の面上には、図７（ｂ）に示すように圧電素子（ピエゾ素子）２０が接合されている。この圧電素子２０は、一対の電極２１、２１間に挟持され、通電により外側に突出するようにして撓曲するよう構成されたものである。
【００５４】
このような構成のもとに圧電素子２０を接合された振動板１３は、圧電素子２０と一体になって同時に外側へ撓曲し、これによりキャビティ１５の容積を増大させる。すると、キャビティ１５内とリザーバ１６内とが連通しており、リザーバ１６内に液体材料が充填されている場合には、キャビティ１５内に増大した容積分に相当する液体材料が、リザーバ１６から流路１７を介して流入する。
そして、このような状態から圧電素子２０への通電を解除すると、圧電素子２０と振動板１３はともに元の形状に戻る。よって、キャビティ１５も元の容積に戻ることから、キャビティ１５内部の液体材料の圧力が上昇し、ノズル１８から所定量の液体材料の液滴２２が吐出される。
【００５５】
本実施形態に係る製造方法では、このように所定量の液滴を所定位置に吐出配置可能な液滴吐出ヘッド３４を用いることで、バンク１５０に囲まれる領域内に、有機機能層１４０の形成材料を含む液体材料を選択的に配置し、所定膜厚の有機機能層１４０を形成する。
【００５６】
なお、吐出ヘッドの吐出手段としては、前記の圧電素子（ピエゾ素子）２０を用いた電気機械変換体以外でもよく、例えば、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いた方式や、帯電制御型、加圧振動型といった連続方式、静電吸引方式、さらにはレーザーなどの電磁波を照射して発熱させ、この発熱による作用で液状体を吐出させる方式を採用することもできる。
【００５７】
＜有機ＥＬ装置の製造方法＞
次に、上述した液滴吐出ヘッドを用いた有機ＥＬ装置（有機エレクトロルミネッセンス装置）の製造方法について説明するが、以下に示す手順や液体材料の材料構成は一例であってこれに限定されるものではない。
【００５８】
以下、上記有機ＥＬ装置７０の製造方法について図８を参照しながら説明する。なお、図８には、説明を簡略化するために単一の画素領域７１についてのみ図示しているが、有機ＥＬ装置７０の各画素領域７１は、共通の構成を具備しているものとする。
【００５９】
まず、図８（ａ）に示すように、基板２０１上に、駆動用ＴＦＴ１４３や電極２３６，２３８、層間絶縁膜２３０等を含む回路層２５０を形成し、さらにその上に平坦化絶縁膜２４０と、反射層１４１ａと、透明電極１４０ｂとを形成し、さらに無機バンク１４９、バンク１５０を形成したものを用意する。
なお、平坦化絶縁膜２４０には、下層側の回路層２５０に設けられた配線等の導電部材による凸形状に倣う凸状部２４０ａが形成されており、反射層１４１ａ及び透明電極１４１ｂは凸状部２４０ａに一部乗り上げて配置されている。無機バンク１４９及びバンク１５０は、凸状部２４０ａに対応する領域に積層形成されている。
【００６０】
トップエミッション型では、基板は不透明であってもよいため、アルミナ等のセラミックス、ステンレス等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂なども用いることができるが、従来から液晶装置等に用いられているガラス基板であってもよい。
反射層１４１ａはアルミニウムや銀等の光反射性材料をスパッタ法などにより成膜し、パターニングすることで形成できる。透明電極１４１ｂはその形成材料としてＩＴＯ等の透光性導電材料を用いて反射層１４１ａと同様にして形成できる。
【００６１】
無機バンク１４９は、透明電極１４１ｂ及び平坦化絶縁膜２４０を覆うように酸化シリコン膜を形成した後、公知のフォトリソグラフィ技術を用いて酸化シリコン膜をパターニングし、透明電極１４１ｂの表面を部分的に開口させることで形成できる。なお、無機バンク１４９の開口領域にて露出された透明電極１４１ｂの表面は、平坦面を成している。
【００６２】
バンク１５０は、アクリル、ポリイミド等の有機絶縁材料により形成することができる。バンク１５０の高さは、例えば１〜２μｍ程度に設定され、基板２０１上で有機ＥＬ素子の仕切部材として機能する。このような構成のもと、有機ＥＬ素子の正孔注入層や発光層の形成場所、すなわちこれらの形成材料の塗布位置とその周囲のバンク１５０との間に十分な高さの段差からなる開口部（区画領域）１５１が形成される。また、このバンク１５０を形成するに際しては、バンク１５０の壁面を、無機バンク１４９の開口部から若干外側へ後退させて形成するのがよい。すなわち、バンク１５０に囲まれる区画領域１５１内に無機バンク１４９を一部露出させておくことで、バンク１５０内での液体材料の濡れ広がりを良好なものとすることができる。
【００６３】
バンク１５０を形成したならば、次に、バンク１５０及び透明電極１４１ｂを含む基体上の領域に対して撥液処理を施す。バンク１５０は、有機ＥＬ素子を区画する仕切部材として機能するので、液滴吐出ヘッド３４から吐出される液体材料に対して非親和性（撥液性）を示すものであることが好ましく、前記撥液処理により、バンク１５０に選択的に非親和性を発現させることができる。係る撥液処理として、例えばバンクの表面をフッ素系化合物などで表面処理するといった方法を採用できる。フッ素化合物としては、例えばＣＦ４、ＳＦ６、ＣＨＦ３などがあり、表面処理としては、例えばプラズマ処理、ＵＶ照射処理などが挙げられる。
【００６４】
このような撥液処理では、基体の一面側全体に処理を施したとしても、ＩＴＯ膜等からなる無機材料の透明電極１４１ｂ表面は有機材料からなるバンク１５０の表面よりも撥液化されにくく、バンク１５０の表面のみが選択的に撥液化され、バンク１５０に囲まれる領域内に液体材料に対する親和性の異なる複数の領域が形成される。なお、区画領域１５１内に表面特性（撥液／親液性）の異なる複数の領域を形成するには、上記撥液処理によるほか、バンク１５０の形成材料としてフッ素化合物等を混入した樹脂材料を用いることもできる。この場合、上記撥液処理を施すことなくバンク１５０表面に撥液性を発現させることができる。
【００６５】
その後、図８（ａ）に示すように、基板２０１の上面を上に向けた状態で正孔注入層形成材料を含む液体材料１１４ａを液滴吐出ヘッド３４によりバンク１５０に囲まれた塗布位置に選択的に塗布する。正孔注入層を形成するための液体材料１１４ａは、正孔注入層形成材料及び溶媒を含むものである。
【００６６】
正孔注入層形成材料としては、ポリマー前駆体がポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、１，１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサン、トリス（８−ヒドロキシキノリノール）アルミニウム、バイトロンＰ、ポリスチレンスルフォン酸等を例示することができる。また、溶媒としては、イソプロピルアルコール、Ｎ−メチルピロリドン、１，３−ジメチル−イミダゾリノン等の極性溶媒を例示することができる。
【００６７】
上述した正孔注入層形成材料を含む液体材料１１４ａが液滴吐出ヘッド３４より基板２０１上に吐出されると、流動性が高いため水平方向に広がろうとするが、塗布された位置を囲んでバンク１５０が形成されているので、液体材料１１４ａはバンク１５０を越えてその外側に広がらないようになっている。また本実施形態では、透明電極１４１ｂの表面が親液領域となっており、その表面は凹面状を成しているので、透明電極１４１ｂ上に塗布された液体材料１１４ａは、透明電極１４１ｂ上に良好に保持される。
【００６８】
続いて、加熱あるいは光照射により液体材料１１４ａの溶媒を蒸発させて透明電極１４１ｂ上に固形の正孔注入層１４０Ａを形成する（図８（ｂ）参照）。または、大気環境下又は窒素ガス雰囲気下において所定温度及び時間（一例として２００℃、１０分）焼成するようにしてもよい。あるいは大気圧より低い圧力環境下（真空環境下）に配置することで溶媒を除去するようにしてもよい。
図８（ｂ）に示すように、透明電極１４１ｂ上に形成される正孔注入層１４０Ａは、透明電極１４１ｂの表面が平坦面であることにより、良好な膜厚均一性を有して形成される。
【００６９】
続いて、図８（ｂ）に示すように、基板２０１の上面を上に向けた状態で液滴吐出ヘッド３４から発光層形成材料と溶媒とを含む液体材料１１４ｂをバンク１５０内の正孔注入層１４０Ａ上に選択的に塗布する。この発光層形成材料としては、例えば共役系高分子有機化合物の前駆体と、得られる発光層の発光特性を変化させるための蛍光色素とを含んでなるものを好適に用いることができる。共役系高分子有機化合物の前駆体は、蛍光色素等とともに液滴吐出ヘッド３４から吐出されて薄膜に成形された後、加熱硬化されることによって共役系高分子有機ＥＬ層となる発光層を生成し得るものをいい、例えば前駆体のスルホニウム塩の場合、加熱処理されることによりスルホニウム基が脱離し、共役系高分子有機化合物となるもの等である。
【００７０】
このような共役系高分子有機化合物は固体で強い蛍光を持ち、均質な固体超薄膜を形成することができる。しかも形成能に富みＩＴＯ電極との密着性も高い。さらに、このような化合物の前駆体は、硬化した後は強固な共役系高分子膜を形成することから、加熱硬化前においては前駆体溶液を後述する液滴吐出パターニングに適用可能な所望の粘度に調整することができ、簡便かつ短時間で最適条件の膜形成を行うことができる。
【００７１】
上記前駆体としては、例えばＰＰＶ（ポリ（パラ−フェニレンビニレン））またはその誘導体の前駆体が好ましい。ＰＰＶまたはその誘導体の前駆体は、水あるいは有機溶媒に可溶であり、また、ポリマー化が可能であるため光学的にも高品質の薄膜を得ることができる。さらに、ＰＰＶは強い蛍光を持ち、また二重結合のπ電子がポリマー鎖上で非極在化している導電性高分子でもあるため、高性能の有機ＥＬ素子を得ることができる。このようなＰＰＶまたはＰＰＶ誘導体の前駆体として、例えばＰＰＶ（ポリ（パラ−フェニレンビニレン））前駆体、ＭＯ−ＰＰＶ（ポリ（２，５−ジメトキシ−１，４−フェニレンビニレン））前駆体、ＣＮ−ＰＰＶ（ポリ（２，５−ビスヘキシルオキシ−１，４−フェニレン−（１−シアノビニレン）））前駆体、ＭＥＨ−ＰＰＶ（ポリ［２−メトキシ−５−（２'−エチルヘキシルオキシ）］−パラ−フェニレンビニレン）前駆体等が挙げられる。
【００７２】
ＰＰＶまたはＰＰＶ誘導体の前駆体は、前述したように水に可溶であり、成膜後の加熱により高分子化してＰＰＶ層を形成する。前記ＰＰＶ前駆体に代表される前駆体の含有量は、液体材料組成物全体に対して０．０１〜１０．０ｗｔ％が好ましく、０．１〜５．０ｗｔ％がさらに好ましい。前駆体の添加量が少な過ぎると共役系高分子膜を形成するのに不十分であり、多過ぎると液体材料組成物の粘度が高くなり、液滴吐出法（インクジェット法）による精度の高いパターニングに適さない場合がある。
【００７３】
さらに、発光層形成材料としては、少なくとも１種の蛍光色素を含むのが好ましい。これにより、発光層の発光特性を変化させることができ、例えば、発光層の発光効率の向上、または光吸収極大波長（発光色）を変えるための手段としても有効である。
【００７４】
蛍光色素としては、赤色発光層を形成する場合、赤色に発光するローダミンまたはローダミン誘導体を好ましく用いることができる。これらの蛍光色素は、低分子であるため水溶液に可溶であり、またＰＰＶと相溶性がよく、均一で安定した発光層の形成が容易である。このような蛍光色素として具体的には、ローダミンＢ、ローダミンＢベース、ローダミン６Ｇ、ローダミン１０１過塩素酸塩等が挙げられ、これらを２種以上混合したものであってもよい。また、緑色発光層を形成する場合、緑色に発光するキナクリドンおよびその誘導体を好ましく用いることができる。これらの蛍光色素は前記赤色蛍光色素と同様、低分子であるため水溶液に可溶であり、またＰＰＶと相溶性がよく発光層の形成が容易である。さらに、青色発光層を形成する場合、青色に発光するジスチリルビフェニルおよびその誘導体を好ましく用いることができる。これらの蛍光色素は前記赤色蛍光色素と同様、低分子であるため水・アルコール混合溶液に可溶であり、またＰＰＶと相溶性がよく発光層の形成が容易である。
【００７５】
また、青色に発色する他の蛍光色素としては、クマリンおよびその誘導体を挙げることができる。これらの蛍光色素は、前記赤色蛍光色素と同様、低分子であるため水溶液に可溶であり、またＰＰＶと相溶性がよく発光層の形成が容易である。
【００７６】
これらの蛍光色素については、前記共役系高分子有機化合物の前駆体固型分に対し、０．５〜１０ｗｔ％添加するのが好ましく、１．０〜５．０ｗｔ％添加するのがより好ましい。蛍光色素の添加量が多過ぎると発光層の耐候性および耐久性の維持が困難となり、一方、添加量が少なすぎると、前述したような蛍光色素を加えることによる効果が十分に得られないからである。
また、前記前駆体および蛍光色素については、極性溶媒に溶解または分散させて液体材料とし、この液体材料を液滴吐出ヘッド３４から吐出するのが好ましい。極性溶媒は、前記前駆体、蛍光色素等を容易に溶解または均一に分散させることができるため、液滴吐出ヘッド３４のノズル孔での発光層形成材料中の固型分が付着したり目詰りを起こすのを防止することができる。
【００７７】
このような極性溶媒として具体的には、水、メタノール、エタノール等の水と相溶性のあるアルコール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルイミダゾリン（ＤＭＩ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、キシレン、シクロヘキシルベンゼン、２，３−ジヒドロベンゾフラン等の有機溶媒または無機溶媒が挙げられ、これらの溶媒を２種以上適宜混合したものであってもよい。
【００７８】
更に、前記形成材料中に湿潤剤を添加しておくのが好ましい。これにより、形成材料が液滴吐出ヘッド３４のノズル孔で乾燥・凝固することを有効に防止することができる。かかる湿潤剤としては、例えばグリセリン、ジエチレングリコール等の多価アルコールが挙げられ、これらを２種以上混合したものであってもよい。この湿潤剤の添加量としては、形成材料の全体量に対し、５〜２０ｗｔ％程度とするのが好ましい。なお、その他の添加剤、被膜安定化材料を添加してもよく、例えば、安定剤、粘度調整剤、老化防止剤、ｐＨ調整剤、防腐剤、樹脂エマルジョン、レベリング剤等を用いることができる。  
【００７９】
上記、液体材料１１４ｂを液滴吐出ヘッド３４から吐出することによる発光層の形成は、赤色の発色光を発光する発光層形成材料を含む液体材料、緑色の発色光を発光する発光層形成材料を含む液体材料、青色の発色光を発光する発光層形成材料を含む液体材料を、それぞれ対応する画素領域７１（区画領域１５１）に吐出し塗布することによって行う。なお、各色に対応する画素領域７１は、これらが規則的な配置となるように予め決められている。
【００８０】
このようにして各色の発光層形成材料を含む液体材料１１４ｂを吐出し塗布したならば、液体材料１１４ｂ中の溶媒を蒸発させる。この工程により、図８（ｃ）に示すように正孔注入層１４０Ａ上に固形の発光層１４０Ｂが形成され、これにより正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂとからなる有機機能層１４０が得られる。この発光層１４０Ｂも正孔注入層１４０Ａと同様に、均一な膜厚の平面形状を成して形成される。
【００８１】
ここで、発光層形成材料を含む液体材料１１４ｂ中の溶媒の蒸発については、必要に応じて加熱あるいは減圧等の処理を行うが、発光層形成材料は通常乾燥性が良好で速乾性であることから、特にこのような処理を行うことなく、したがって各色の発光層形成材料を順次吐出塗布することにより、その塗布順に各色の発光層１４０Ｂを形成することができる。
【００８２】
その後、図８（ｃ）に示すように、基板２０１の表面全体に、あるいはストライプ状に、ＩＴＯ等の透明導電材料からなる共通電極１５４を形成する。こうして、有機ＥＬ素子２００を製造することができる。なお、本実施形態において有機ＥＬ素子２００は、反射層１４１ａと透明電極１４１ｂと正孔注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂと共通電極１５４とを含むものである。
【００８３】
このような有機ＥＬ素子の製造方法において、正孔注入層１４０Ａや発光層１４０Ｂといった有機ＥＬ素子の構成要素となる薄膜は、液滴吐出ヘッドから吐出される液体材料により形成されるので、正孔注入層１４０Ａや発光層１４０Ｂの形成材料となる液体材料のロスは少なく、正孔注入層１４０Ａや発光層１４０Ｂは比較的安価にしかも安定して形成される。
【００８４】
上記実施形態では、液滴吐出ヘッド３４を用いた液滴吐出法により液体材料を塗布することで有機機能層１４０を形成する場合について説明したが、液滴吐出法に限らず、例えばスピンコート法、スリットコート（或いはカーテンコート）、ダイコート法など他の塗布方法を用いることもできる。また、液体材料の生成工程や成膜工程は大気環境下で行ってもよいし窒素ガス等の不活性ガス雰囲気下で行ってもよい。なお、液体材料の調製工程や液滴吐出ヘッド３４による成膜工程はクリーンルーム内でパーティクル及びケミカル的にクリーン度を維持された環境下で行うのが望ましい。
【００８５】
（第２の実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について図９及び図１０を参照して説明する。図９（ａ）は本実施形態に係る有機ＥＬ装置の画素領域７１の概略平面構成を示す図であり、（ｂ）は（ａ）図のＡ−Ａ’線に沿う部分断面構成図である。図１０は、図９に示す画素領域７１の回路構成図である。
【００８６】
本実施形態の有機ＥＬ装置は、先の第１実施形態の有機ＥＬ装置に、さらに補助配線１３６が設けられている点に特徴を有しており、係る補助配線１３６と当該配線への接続構造以外の構成は第１実施形態とほぼ同様である。したがって、図９及び図１０において、図１から図８と同一の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【００８７】
図９（ａ）に示すように、本実施形態に係る画素領域７１には、走査線１３１と、それに直交して延びる信号線１３２及び電源線１３３とが設けられており、これらの配線に囲まれる平面視略矩形状の領域が有機機能層１４０が形成されるべき領域とされている。また、画素電極１４１は有機機能層１４０の平面領域を含み、その周縁部で走査線１３１、信号線１３２及び電源線１３３と一部平面的に重なる領域に形成される。そして本実施形態では、走査線１３１、信号線１３２及び電源線１３３と平面的に重なる平面視略格子状の補助配線１３６が設けられている。また補助配線１３６は、走査線１３１と信号線１３２との交差点の近傍に設けられる矩形状の中継電極１４１ｃとコンタクトホール１４１ｈを介して導電接続されている。
【００８８】
図９（ｂ）は、上記補助配線１３６と中継電極１４１ｃとの導電接続構造における部分断面構造を示しており、同図に示すように、補助配線１３６は、信号線１３２、電源線１３３を覆って形成された層間絶縁膜２４１上に形成されており、補助配線１３６及び層間絶縁膜２４１を覆って層間絶縁膜２４２が形成されている。層間絶縁膜２４１と層間絶縁膜２４２とは、平坦化絶縁膜２４０を構成し、図示は省略したが、有機機能層１４０が形成されるべき領域に平坦面を形成する。
そして、層間絶縁膜２４２を貫通して補助配線１３６に達するコンタクトホール１４１ｈを介して補助配線１３６と中継電極１４１ｃとが導電接続されている。なお、中継電極１４１ｃは、層間絶縁膜２４２上の画素電極１４１と同層に形成され、画素電極１４１のパターニングの際に同時に形成できる。
【００８９】
中継電極１４１ｃは、図示は省略したが、図３に示したバンク１４９，１５０を貫通して設けた貫通孔を介して共通電極１５４と導電接続されるようになっている。あるいは中継電極１４１ｃを設けない構成も適用でき、その場合には層間絶縁膜２４２、バンク１４９，１５０等を一括に貫通するコンタクトホールを形成し、係るコンタクトホールを介して共通電極１５４と補助配線１３６とを直接に導電接続する。
【００９０】
図９に示す画素領域７１の回路構成を図１０に示す。同図に示すように、先の図１に示した回路構成に対して、走査線１３１と平行に延びる補助配線１３６が設けられたものとなっており、補助配線１３６は、有機機能層（発光部）１４０と接続された共通電極１５４に電気的に接続されている。補助配線１３６は、信号線１３２及び電源線１３３に平行に延在していてもよい。
【００９１】
上記構成を備えた本実施形態の有機ＥＬ装置では、共通電極１５４と導電接続される補助配線１３６が設けられていることで、特に大画面の表示装置を構成する場合に好適なものとなっている。つまり、トップエミッション型の有機ＥＬ装置では、表示面側（光射出側）に配される共通電極１５４がＩＴＯ等の透光性導電材料により形成されるが、このような透光性導電材料は電気抵抗が大きく、特に大型の表示領域においてはその電圧降下が顕著に現れ、パネル中央部の画素における電流量が低下して輝度の低下を招く。そこで金属材料等の低抵抗材料により補助配線１３６を形成し、各画素領域７１において共通電極１５４と接続しておけば、共通電極１５４における電圧降下を防止でき、パネル全面で均一な輝度の表示を得ることができる。
【００９２】
また、図９に示したように、本実施形態に係る画素領域７１においては、信号線１３２及び電源線１３３と補助配線１３６とが平面的に重なって配置されている。これにより、信号線１３２、電源線１３３等が形成された領域においては、これらの配線の高さに補助配線１３６の高さが加わって、平坦化絶縁膜２４０を基板鉛直方向に大きく突出させることができ、より大きな高さを有る凸状部２４０ａを平坦化絶縁膜２４０表面部に形成することができる。したがって、係る凸状部２４０ａに乗り上げて形成される画素電極１４１の周縁部には、より大きな高さを有する斜面部が形成されることとなり、画素電極１４１に含まれる反射層１４１ａの斜面部によって有機機能層１４０の面方向の散乱光を基板鉛直方向へ反射させる効果をより顕著なものとすることができる。
【００９３】
（電子機器）
図１１は、本発明に係る電子機器の一例を示す斜視構成図である。
図１１に示す映像モニタ１２００は、先の実施形態の有機ＥＬ装置を備えた表示部１２０１と、筐体１２０２と、スピーカ１２０３等を備えて構成されている。そして、この映像モニタ１２００は、先の有機ＥＬ装置により高輝度、高画質であり、かつムラの少ない表示が可能である。
【００９４】
上記実施の形態の有機ＥＬ装置は、上記映像モニタに限らず、携帯電話、電子ブック、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、ビューファインダ型あるいはモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器等々の画像表示手段として好適に用いることができ、いずれの電子機器においても、明るく高画質の表示が得られるものとなっている。
【図面の簡単な説明】
【００９５】
【図１】図１は、実施形態に係る有機ＥＬ装置の回路構成図。
【図２】図２は、同、平面構成図。
【図３】図３は、同、画素領域の部分断面構成図。
【図４】図４は、有機ＥＬ素子を拡大して示す断面構成図。
【図５】図５は、同、画素領域の平面構成図。
【図６】図６は、画素領域の他の形態を示す平面構成図。
【図７】図７は、液滴吐出ヘッドの概略構成図。
【図８】図８は、第１実施形態に係る有機ＥＬ装置の製造工程を示す図。
【図９】図９は、第２実施形態に係る画素領域を示す図。
【図１０】図１０は、同、画素領域の回路構成図。
【図１１】図１１は、本発明に係る電子機器の一例を示す斜視構成図。
【符号の説明】
【００９６】
７０  有機ＥＬ装置（電気光学装置）、７１  画素領域、１３１  走査線、１３２  信号線、１３３  電源線、１４０  有機機能層（機能層）、１４１  画素電極（第１電極）、１４１ａ  反射層、１４１ｂ  透明電極、１５０  バンク（隔壁部材）、１５４  共通電極（第２電極）、１４２  スイッチング用ＴＦＴ（スイッチング素子）、１４３  駆動用ＴＦＴ（スイッチング素子）、２００  有機ＥＬ素子（発光素子）、２０１  基板（基体）、２４０  平坦化絶縁膜、２４０ａ  凸状部、２３１  導電部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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