(57)【要約】【課題】  薄膜形成中にゴミが落下することなく、簡便にすばやく清掃できる防着板を提供すること。【解決手段】  柔軟な可撓性を有し且耐熱温度が７００℃以上である非金属素材を使ったことを特徴とする真空薄膜形成装置用防着板。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
柔軟な可撓性を有し、かつ耐熱温度が７００℃以上である非金属素材を使用することを特徴とする真空薄膜形成装置用防着板。
【請求項２】
請求項１の防着板を使用することを特徴とする真空薄膜形成装置。
【請求項３】
請求項１の防着板を使用することを特徴とする真空薄膜形成方法。
【請求項４】
請求項１の防着板を使用することを特徴とするセラミック薄膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ等に用いられる薄膜形成装置において、薄膜を基板に形成する際に、薄膜を形成すべき基板以外に薄膜が付着するのを防ぐための防着板およびこれを用いた薄膜形成装置に関する。特に真空槽内壁に付着するのを防ぐ防着板に関する。
【背景技術】
【０００２】
真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤは各種基材上に薄膜を作成する技術として広く使われている。このとき、目的とする基材にのみに薄膜を形成することが望ましい。
しかしながら、上記のいずれの蒸着方法でも、従来の技術では、薄膜を形成しようとする基板だけではなく、その基板以外の部分、たとえば装置内部壁部にも薄膜が付着する。
そこで、真空槽内壁に薄膜が形成されるのを防ぐため、真空槽内部の主要な部分に鉄、アルミニウム、ステンレス等の金属製板による防着板を設置し汚れがひどくなれば交換、あるいは取り外して外部で清掃等行い再装着してきた。
【０００３】
防着板の清掃はへら状の金属、やすり、サンドブラスターで付着物を落とす作業を必要とし、しかも防着板への付着物は強固に付着しているため、除去するのに非常に時間がかかる。
さらに、強固に付着している付着物でも除去できずに残していると時間経過ともに剥離し始め真空槽内を汚してしまうという問題がある。
【０００４】
とくに透明ガスバリアフィルムの製造においては、薄膜材料として酸化ケイ素や酸化アルミなどのセラミックスを使用するため、これらのセラミックスが付着するとやすりやサンドブラスターで付着物を落とすことは困難である。しかも、このようなセラミックスを大面積に形成する必要があることから、大量のセラミックを使用するため防着板に堆積するセラミックも多く、蒸着する工程を頻繁に清掃しなくてはならないという問題がある。
【０００５】
このような解決方法として、付着物に水分を与え剥離を促進する方法もあるが、次に真空引きを行なうときに余分な水分を真空槽内にもちこみ好ましくない。
その他に、表面をサンドブラスト処理し粗面化し、さらに金属粒子を溶着した防着板がある（例えば、特許文献１参照。）
【特許文献１】特開２００３−２４７０５９  しかし、これらは付着力が上がって堆積物が除去しにくい、金属は熱で変形して再使用が難しい。
【０００６】
また使い捨てにしてもコストのかからないアルミホイル等を防着板に使用しようとし、ても薄膜形成時には防着板は高温になるため使用中に溶けたり劣化して使用に耐えない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本願発明は、真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ等に用いられる薄膜形成装置において、薄膜を基板に形成する際に、薄膜を形成すべき基板以外に薄膜が付着するのを防ぐための防着板に関し、特に堆積した薄膜の除去が容易であり、それゆえに防着板の掃除時間が短縮され、かつ蒸着中にも防着板に付着したゴミが落ちるのを軽減できる防着板およびこれを用いた薄膜形成装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、本発明により上記目的が達成されることを見出した。
即ち、本発明は柔軟な可撓性を有し、かつ耐熱温度が７００℃以上である非金属素材を使ったことを特徴とする真空薄膜形成装置用防着板であり、また、当該防着板を使用した薄膜形成装置および薄膜形成方法である。
この場合において、前記薄膜がセラミックであることが特に好適な実施態様である。
【０００９】
本発明で言う「柔軟な可撓性」とは紙、フィルムのような柔軟でしなやかなものを言い、落ちまげて付着したセラミックを落とせる。
このとき、ＪＩＳ  Ｌ１０９６  一般織物試験方法で規定の有る剛軟性のＡ法（４５°カンチレバー法）で１２０ｍｍ以下では変形応力が小さく蒸着途中で薄膜などが剥離することが無く、このましい。
【００１０】
柔軟で可撓性のあるものを防着板に使用することで、防着板に付着した付着物をすばやく除去できる。つまり、付着物は一般的に硬くて脆く付着した防着板を曲げる等変形することで付着した汚れが簡便に剥がれ落ちる。
【００１１】
本発明で言う「耐熱温度」とは溶融、分解、変質しない温度を意味する。
耐熱温度が７００℃以上である素材を有する使用することで、薄膜形成時の高温にも耐えることができる。
【００１２】
さらに非金属で出来ているものは熱による変形は少なくさらにヤング率等が小さいため薄膜作成時と非作成に防着板温度が変化する場合においても発生する熱による内部応力が小さく薄膜作成過程で付着物が剥離落下することがない。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば防着板の掃除時間が短縮され、かつ蒸着中にも防着板に付着したゴミが落ちるのを軽減できる。つまり、迅速に真空槽が清掃でき内部を汚すことのない防着板を得ることが出来る。
【００１４】
この場合において、上記防着板を使用することを特徴とする真空薄膜形成装置が好適である。
【００１５】
また、この場合において、上記防着板を使用することを特徴とする真空薄膜形成方法が好適である。
【００１６】
さらにまた、この場合において上記防着板を使用することを特徴とするセラミック薄膜の製造方法が好適な実施形態である。
セラミックとしては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化ホウ素、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム等およびこれらの複合体があげられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明で好適に使用される非金属素材としてはＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｂ2Ｏ3、ＣａＯ、ＭｇＯ等のガラスを主たる成分とした糸を織ったガラスクロス、繊維を使ったセラミックペーパー等が有り、耐熱性、製造コストなどの点で優れる。
例えば、ガラスクロスは上記ガラス原料を溶解し、高速巻取り機で巻き取ったガラスヤーンを製織して得られる。
また、炭素繊維を織って出来た布も使用でき、耐熱性が優れている点で特に好ましい。
炭素繊維は、ピッチ系、フェノール系、セルロース系、アクリル系等の前駆体繊維を炭化することにより得られる。
上記非金属素材は厚み２ｍｍ以下のものが扱いやすさより好ましい。
【００１８】
本発明の防着板を取り付けるには、例えば、真空槽内壁に防着板引っ掛ける場所をつけてキャンパスを張るようにすればよい。
【００１９】
本発明の防着板は工程にあわせて適宜薄膜除去を行うのが好適な使用方法である。
決めればよい。
【実施例】
【００２０】
以下に実施例をあげて本発明を説明する。
（実施例１）
防着板としてＳｉＯ2  ５３．５％、Ａｌ2Ｏ3  １４．５％、Ｂ2Ｏ3  ８．５％、ＭｇＯ  ０．８％、ＣａＯ  ２１．５％を主たる成分とする。繊維を綾織にしたガラスクロスを使用した。剛軟度は１１５ｍｍであった。真空装置内に設置しＳｉＯを蒸着源とし電子ビーム蒸着を行った。ＳｉＯｘを基板上に３０ｎｍ蒸着した。蒸着基板として１２μｍ厚み幅２０００ｍｍ長さ５００００ｍのＰＥＴフィルムを使用した。蒸着後防着板を外し清掃し再装着した。再装着までの時間は約３０分で終了した。
蒸着中は付着物は落下しなかった。
【００２１】
（比較例１）
防着板として厚み１ｍｍのステンレス板を使用した。実施例１と同じ蒸着を行ったが材料のガスだしから蒸着に移るとき防着板から付着物がルツボ内に落下した。さらに清掃を行ったが再装着まで２時間３０分必要であった。
【００２２】
（実施例２）
防着板としてＳｉＯ2  ５４％、Ａｌ2Ｏ3  ４６％を主たる成分とする単繊維（数μｍ）を紙状に成形したものを使用し蒸着を行った。剛軟度は１２０ｍｍ以上であった。アルミニウムを炭素ルツボにいれ誘導加熱により蒸発させ、酸素ガスを導入してマイクロ波により活性化しながらアルミナ蒸着を行った。Ａｌ２Ｏ３膜を基板上に５０ｎｍ形成した。蒸着基板として１２μｍ厚み幅４００ｍｍ長さ６０００ｍのＰＥＴフィルムを使用した。蒸着後防着板を外し清掃し再装着した。再装着までの時間は約１５分で終了した。また、蒸着中は付着物は落下しなかった。
【００２３】
（実施例３）
防着板としてカーボンのフィラメントを平織りにしたカーボンンクロスを使用した。剛軟度は８５ｍｍであった。Ａｌ2Ｏ3とＳｉＯ2を電子銃で加熱して蒸着を行った。基板上にＡｌ2Ｏ3含有率３０ｗ％で膜厚１５ｎｍのＡｌ2Ｏ3−ＳｉＯ2の薄膜を形成した。蒸着基板として１５μｍ厚み幅２０００ｍｍ長さ５００００ｍのＮｙフィルムを使用した。
蒸着中は付着物は落下せず、かつ再装着までの時間は約２５分で終了した。
【産業上の利用可能性】
【００２４】
本願発明は、真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ等に用いられる薄膜形成装置において、薄膜を基板に形成する際に、薄膜を形成すべき基板以外に薄膜が付着するのを防ぐための防着板に利用することができ、産業界に寄与することが大である。