(57)【要約】      （修正有）【課題】真空装置においてターボポンプ、油拡散ポンプなど作動方法の異なるポンプに対応できるように真空ポンプの位置決め可変性のあるコーティングラインを実現する。【解決手段】  真空処理装置、特にコーティングラインに沿って連続的に移動するプレート状基板の連続コーティング用コーティングラインであって；少なくとも１つの、好ましくは複数のポンプ手段２１によって排気される少なくとも１つの、好ましくは複数の連続的に配置された真空チャンバ１あるいはチャンバゾーン２〜８を有し；少なくとも１つのポンプ手段が接続されるカバー２０をチャンバ上部に備える少なくとも１つのチャンバまたは１つのチャンバゾーンを有する好ましくはガラスコーティングラインにおいて；カバーはカバースペース２８を形成して、カバースペースはチャンバまたはチャンバゾーンの上方に突出するように形成される真空処理装置。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空処理装置において、特に連続的に移動するプレート状基板の連続コーティング用コーティングラインにおいて、好適には、少なくとも１つの、好ましくは複数のポンプ手段（２１）によって排気される少なくとも１つの、好ましくは複数の連続的に配置された真空チャンバ（１）あるいはチャンバゾーン（２から８、１７）を有するガラスコーティングラインであり、少なくとも１つのポンプ手段が接続される取り外し可能カバー（２０、３０）を前記チャンバ上部に備える少なくとも１つのチャンバまたは１つのチャンバゾーンを有する前記ガラスコーティングラインにおいて、
前記カバーがカバースペース（２８）を形成して拡散ポンプ、好ましくは油拡散ポンプ用の少なくとも１つの接続手段を有するように形成されることを特徴とする真空処理装置。
【請求項２】
前記カバースペースを有する前記カバーは、前記チャンバまたは前記チャンバゾーンの上方に突出し、好ましくは、少なくとも前記チャンバの一側面側、好ましくは両側面側の基板輸送方向を横断する横方向に突出することを特徴とする請求項１に記載の真空処理装置。
【請求項３】
拡散ポンプ、好ましくは油拡散ポンプ（２１）用の少なくとも１つの接続手段（２７）が突出エリア内の前記カバーの下側に設けられ、前記接続手段は好ましくは真空気密態様で密閉可能であることを特徴とする請求項１または２に記載の真空処理装置。
【請求項４】
前記カバー内の前記カバースペース（２８）が真空チャンバのエリアにおいて少なくとも部分的に下方へ開く立方体形状の、または箱型のカバー構造により形成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか1項に記載の真空処理装置。
【請求項５】
ターボ分子ポンプ用の少なくとも１つの接続手段が前記カバーの上側に設けられ、好ましくは前記接続手段が真空気密態様で密閉可能であり、かつ／またはプロセスツールの取り付け手段が前記カバーの下側に設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか1項に記載の真空処理装置。
【請求項６】
前記チャンバが種々のカバーを取り外し可能で取り付けることができるように形成されて、真空気密態様で密閉されており、
前記カバーが、隔離プレートまたはガイドプレートを有するカバースペースを備えた突出カバー（３０）あるいは隔離プレートまたはガイドプレートのないカバースペースを備えた突出カバー（２０）、前記カバーにプロセスツール（１５）を搭載したカバー、および／またはターボ分子ポンプを備えたカバーを含むことを特徴とする請求項１〜５のいずれか1項に記載の真空処理装置。
【請求項７】
前記カバーが、好ましくは前記ポンプ手段（２１）用の前記接続手段（２７）と反対側に設けられて、好ましくは前記接続手段から引き上げ可能な密閉蓋で構成されるスロットルバルブ（２２）を有し、前記密閉蓋はリニアドライブによって前記接続手段内の開口部に対して移動可能であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか1項に記載の真空処理装置。
【請求項８】
前記カバー（３０）が、分離してポンプで排気される分離エリアに前記カバースペースを再分割する少なくとも１つの隔壁（３１）を有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか1項に記載の真空処理装置。
【請求項９】
前記チャンバの両側面側に配置された前記ポンプ手段、特に拡散ポンプによって異なる区域を排気可能にするために、隔壁（３１）が前記カバースペースを対角線上に通るように配置されることを特徴とする請求項８に記載の真空処理装置。
【請求項１０】
前記カバー内の前記隔壁と平行で、好ましくは本質的に気密または真空気密態様で前記カバー隔壁に取り外し可能に接続されるチャンバ隔壁（３２）が、気体分離ステージを形成するために前記チャンバに設けられることを特徴とする請求項９に記載の真空処理装置。
【請求項１１】
真空処理装置のチャンバ用カバー、特に請求項１〜１０のいずれか１項に記載の真空処理装置のチャンバ用カバーであって、
立方体形状または箱形状の構造のカバースペース（２８）と、
好ましくは短辺側エリアの下側に形成した、拡散ポンプ（２１）、好ましくは油拡散ポンプ用の、少なくとも１つの、好ましくは２つの接続手段（２７）と
を有し、
前記カバーが好ましくは請求項５および請求項７〜９の1項に記載の特徴を有するチャンバ用カバー。
【発明の詳細な説明】
【発明の分野】
【０００１】
本発明は、請求項１のプリアンブル部による真空処理装置およびそれのための取り外し可能なカバーに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
真空処理装置、特に、建築用ガラスなどの大面積パネル状またはプレート状基板用のコーティングラインが、従来から知られており、このコーティングラインは、例えば断熱層などを設けるために当該コーティングラインに沿って連続的に移動される。種々の処理およびコーティング作業を連続的に行うことができるように多数のチャンバが次々に配置されているこれらの真空処理装置では、使用されるコーティング加工用処理チャンバにおいて、いわゆる真空状態、言い換えれば非常に低圧の大気を作り出すことが必要となる。この低いプロセス圧力を実現するために、２つの異なる種類のポンプ―１種類はターボ分子ポンプで、もう1種類は拡散ポンプ、とりわけ油拡散ポンプを使用することが慣習となっている。これらのポンプは、種々のバッキングポンプとともに用いられて、コーティング加工に必要とされる真空または高真空状態を作り出すために、コーティングラインにとって決定的な重要性をもつ。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、ターボ分子ポンプと拡散ポンプとでは配列および作動が大きく異なるため、従来のコーティングラインまたは真空装置はいずれか１種類のポンプ用に設計されている。ターボ分子ポンプは通常、真空装置の上方に直立して搭載されるが、ターボ分子ポンプとしては種々の方法で真空装置にフランジで取り付けることができ、対照的に、拡散ポンプ、特に油拡散ポンプはその作動方法のために、通常、ポンプは懸架され、すなわちポンプが垂直位置になるようにプロセスチャンバに直接フランジで取り付けられる。このような取り付け構成であること、およびポンプ配置の状況と位置が独特であることのために、拡散ポンプ位置を後から変更すること、あるいはポンプをある種類から別の種類へ変更することも最早不可能である。これを行うためには、このような真空装置のチャンバを摩擦式切断機で開口し、拡散ポンプを取り外して交換し、他の装置要素に対して溶接することが必要になる。
【０００４】
したがって、本発明の目的は、真空装置および、特に使用される真空ポンプおよびその位置決めに関して可変性のあるコーティングライン、好ましくはガラスコーティングラインを創案することである。さらに、この種の装置は組立てが容易で操作が効率的であることが望ましい。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本目的は請求項１の特徴を有する真空処理装置および真空処理装置のプロセスチャンバ用のカバー装置によって達成される。前記カバー装置は請求項１１の特徴を有する。有用な展開により本従属請求項の主題が構成される。
【０００６】
本発明者らは、ターボ分子ポンプの周知の配置形態、すなわち取り外し可能なプロセスチャンバカバー上の配置が油拡散ポンプにも可能であるならば、ポンプ手段の配置を変更し、特に異なる種類の真空ポンプ間の変更でさえもとりわけ容易であるに違いないと認識した。これは、本発明による簡易な方法で実現されるが、カバーがカバースペース（チャンバカバー）を囲み、このカバースペースを介してカバー経由でチャンバからの体積輸送が可能になるように真空処理チャンバのカバーまたはチャンバゾーン（区画）のカバーを形成することにより実現される。このように、カバーに十分に高い移動性を与えることにより、拡散ポンプを用いて装置の一様な排気が確実となる。拡散ポンプ、特に油拡散ポンプ用の接続手段により、十分に高い伝導性を有する適切なアダプターを用いて拡散ポンプをカバーの両側面もしくは下側に接続することが可能である。このようにして、アダプターはカバーとポンプの間に直線的な接続またはコーナータイプ接続を構成することができる。アダプターは、冷却バッフルプレートを用いて油がカバースペースに入り込むのを防ぐいわゆるバッフルを備えることが好ましい。
【０００７】
囲まれたカバースペースを備えたチャンバカバーはチャンバの上方に突出しているために、ポンプや供給ラインなどを上部または側面からだけでなく、特に下部からも取り付けることができるという利点がある。これは、油拡散ポンプを直接カバー上に搭載するか、あるいは適切なアダプター配置を介してカバー上に搭載して、拡散ポンプ、特に油拡散ポンプを用いてこのカバー下方のチャンバまたは区画を脱気することを著しく容易にする。
【０００８】
カバーがチャンバの一側面側、好ましくは両側面側で、横方向、すなわち基板の輸送方向を横断する方向に突出していれば、特にチャンバの両側面側での突出は拡散ポンプの簡易な配置に役立ち、カバー内およびチャンバ内の気体流を有利に調節することができるという効果があることがここで分かった。カバーには対応する油拡散ポンプ用接続手段を備えることが効果的であり、これら接続手段は突出エリアの下側に設置されて、好ましくは、拡散ポンプが接続されずにカバーがはめられる場合には、接続手段を閉鎖することができるように設計するのが効果的である。
【０００９】
さらなるポンプ、特にターボ分子ポンプ用の付加的な接続手段は、同様にカバー上面に設けることができ、ターボ分子ポンプと油拡散ポンプの両方に同一のカバーを使用することができる。また、カバー上面にあるこれらのターボ分子ポンプ用接続手段は、真空気密態様で閉鎖することができるように形成されるべきであることは言うまでもない。
【００１０】
プロセスツールもまたプロセスチャンバ上部の開口部を介して慣例的に挿入されるか、あるいはこれらの開口部を閉鎖する適切なカバー上に搭載されるために、付加的もしくは代替的に油拡散ポンプを同じカバーまたは好ましくは本発明による異なった構成を持つカバー上に装備することにより、真空処理装置の区画またはチャンバの特に種々変化した使用方法を確実に実現することができ、区画またはチャンバは基本設計において通常ほとんど同一である。真空処理装置の検討中の適用例あるいはその構成に依存して、チャンバまたは区画は例えばターボ分子ポンプを備えたフラットカバー、付加的にまたは代替的にプロセスツールを搭載したカバー、あるいは付加的にまたは代替的に拡散ポンプを備えたチャンバカバーなどの適切なカバーで閉鎖される。再配置あるいは交換は、チャンバまたはチャンバゾーン用のカバーを交換することで容易に行われる。例えば、ターボ分子ポンプの代わりに油拡散ポンプでチャンバを排気する場合は、ターボ分子ポンプ用の対応カバーを拡散ポンプ用カバーに取り替える。
【００１１】
気体輸送スペースまたはカバースペースを形成するためのとりわけ簡易なカバー構成は、立方体形状のまたは箱型の設計を用いることで得られ、その場合は先に述べたポンプ配置用の接続手段のほかに、真空チャンバまたは真空チャンバの区画に接続するための適切な開口部をカバー下側に設けるだけでよい。
【００１２】
好適な一実施形態によると、このカバーには少なくとも１つのスロットルバルブを設けて、このスロットルバルブを用いて接続されたポンプ手段のポンピング容量を設定し変化させることができる。そのため、ポンプ手段にアクセスする各接続手段に対して個別のスロットルバルブを提供することが好ましく、そのスロットルバルブは例えば、接続手段と反対側に設置することができる。
【００１３】
別の好ましい実施形態によれば、このスロットルバルブは接続手段内の開口部に対して、すなわちポンプ手段に対して、例えばリニアドライブにより移動可能な密閉手段を有しており、極端な場合は接続手段内の開口部を閉鎖することができ、従ってポンプ手段へのアクセスも閉鎖することができる。
【００１４】
カバーに接続されたポンプ手段で異なるチャンバゾーンまたは区画ゾーンを排気するためには、カバーが隔離プレートまたはガイドプレート（隔壁）を備えることが有利になりうる。これは、例えば、チャンバゾーン（区画）が気体分離ステージの一部として形成されれば効果的であり、チャンバの他方が直接排気される間、この区画に隣接するチャンバまたはチャンバゾーンはこの区画の一部を経由して排気される。この場合、カバー内の隔壁に対応する隔壁が区画内にも設けられる。好ましい実施形態によれば、カバースペースのほぼ対角線方向に隔壁を設けることができるため、２つの異なる区域は２つの横方向に配置されたポンプ手段を介して排気可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明のさらなる利点、特性および特徴については、添付の図面を参照しながら以下の好ましい実施形態の詳細な説明で明らかにする。図面は本質的に、純粋に図解を目的としている。
【００１６】
図１は、実質的に基本設計が同一である２から８の全７区画を包含する連続運転ガラスコーティングラインのチャンバ１の側面図であり、部分的に断面を示している。これらの区画は基本設計が実質的に等しくあらゆる目的に適宜利用可能であり、コーティングプロセス（区画３、５および７）での多種多様なステージに対する種々のプロセスツール（１３および１４）を備えたり、あるいはチャンバ１または区画２から８におけるコーティングプロセスに必要とされる真空状態を作り出すためのポンプ区画（区画２、４、６および８）としても機能し；ポンプ区画（２、４、６、８）はまた、隣接する加工区画をポンプで排気する。
【００１７】
ガラスコーティングラインを完成させるために、いくつかのこのようなチャンバは、チャンバフランジとして形成されるチャンバ壁９および１０によって真空気密態様で相互に接続されて、連続して配置することができる。
【００１８】
この個々の区画２から８は、個々の区画間での大気交換を妨げるために隔壁１６により互いに分離される。これは、特に１つのコーティングプロセスの後に別のプロセスが続く場合に不可欠である。
【００１９】
コーティングされる基板は、ローラコンベヤ１２として形成された輸送手段によりチャンバ１すなわち区画２から８を通って水平に輸送される。それぞれの隔壁１６にはスリット状のロック（図示せず）が設けられているため、この基板がチャンバ１すなわち区画２から８を通って連続的に移動できるようになっている。この基板の輸送面１１は、図１に波線で示されている。
【００２０】
各区画はその上部に開口部を有し、例えばこの開口部を介してプロセスツールを挿入することができる。
【００２１】
ポンプ区画２、４、６および８はそれぞれチャンバの上側に取り外し可能カバー２０を備えており、プロセス区画３、５および７はそれぞれ取り外し可能カバー１５を備えており、これらのカバーは区画またはチャンバ１内の対応する開口部を真空気密状態で閉鎖する。カバー１５は部分的にプロセスツール１４を具備する。基板の輸送方向を横断する断面図の図２から特に明らかなように、カバー２０は基板の輸送方向を横断するカバーの寸法がチャンバ１よりも大きく設計されているため、カバー２０の両側部が突出している。
【００２２】
カバー２０の突出エリアそれぞれの下側には、油拡散ポンプ２１がいわゆるバッフルであるアダプター２６を介してこのカバーに設けられた接続手段２７に搭載される。接続手段２７は、油拡散ポンプ２１とカバー２０で囲まれたスペース２８との間の接続部を提供する開口部を含み、また拡散ポンプ２１を接続するための手段（図では詳述されていない）、すなわち接続手段２７と拡散ポンプ２１との間に真空気密態様で設けられたアダプター２６を含む。アダプターまたはバッフル２６は、複数の水冷ラメラ（ｌａｍｅｌｌａｅ）から構成されたバッフルプレートを備えており、ラメラを貫通する直線的なつながりが妨げられ（視覚的に覆い隠される）、同時に気体流がわずかな抵抗を受けるように互いに重複しているために、油拡散ポンプからの油蒸気がカバーまたはチャンバに入り込むのを防ぐが、引き抜きは可能である。
【００２３】
正方形のまたは箱型の構造のカバー２０で形成されたカバースペース２８は、区画をポンプで排気するために、油拡散ポンプ２１とチャンバ１の対応する区画２、４、６および８との間の効果的に機能する接続部を確保する。
【００２４】
ポンピング容量の変化を可能にするために、バルブ手段２２は接続手段２７の反対側であるカバー２０の上部に設けられる。このバルブはポンピング容量の絞り調節を可能にする。このため、図１および図２に破線で示されているように、スロットルバルブ２２は、極端な場合、接続手段２７内の開口部を閉鎖することのできるバルブディスク２３を有する。したがって、スロットルバルブ２２は接続手段２７の密閉部としても機能することができる。
【００２５】
バルブディスク２３は、リニアドライブ２４を用いて直動的に垂直方向に移動することができ、接続手段２７内の開口部から上昇しまた開口部へ下降することができる。このようにして油拡散ポンプ２１のポンピング容量は必要に応じて調整することができる。
【００２６】
例えば冷却ラインや電源用などの接続部に加えてバッキングポンプへの接続部２５などへの油拡散ポンプ２１の接続部は、真空チャンバ１の側面側にあってカバー２０で覆われるスペースに、真空チャンバ１の横方向に沿って有利に設置することができる。その限りにおいて、本発明の構成はこの装置の周辺機器のスペースを取らない保護された配置を可能にする。
【００２７】
図３および図４は、ガラスコーティングラインのコーティングチャンバ１の異なった実施形態による種々の部品を示す側面図であり、部分的に断面を示しており、このコーティングチャンバ１は複数の区画２〜８および１７を有する。このチャンバの設計の特徴の多くは図１および図２に表わす実施形態のものと同一かあるいは非常に類似しているために、同じ部品あるいはほぼ同じ部品には同じ参照番号を使用する。それ以外に関しては、主に相違点を中心に説明を進める。
【００２８】
初めに、図３および図４のチャンバ１は、付加的な区画、すなわち区画１７が設けられている点で図１および図２の実施形態とは異なる。これを除いた主な相違点は、隣接する区画６および７が気体分離ステージとして形成されていることであり、その目的は区画５および８および／または１７において隣接するコーティングおよび／または処理プロセスに対して、特に信頼性があり非常に効果的な大気空間の分離を確実にすることである。
【００２９】
区画６および７における気体分離ステージは、基板の輸送方向を横断して区画スペースまたはカバースペースを２つの部分に分離する隔壁３１または３２がそれぞれのカバー３０およびそれぞれの区画６および７に設けられるように構成される。
【００３０】
従って、それぞれの区画６および７には、その隣接する区画５または８に隣接して残りの区画スペースから分離される区画スペース３４が形成されている。この輸送方向のほかに、区画スペース３４はスリット状ロック３３を用いて切り離される。隣接する区画に開放されるこの区画スペース３４を通じて、隣接する区画５および８はポンプで排気される。隣合う区画６または７に各場合に接する残りの区画スペース３５は、独立してポンプで排気される。
【００３１】
この目的のために、カバー内の隔壁３１はカバー３０によって囲まれたスペース内を本質的には対角線方向に延びるように配置され（図６参照）、チャンバ１の横方向に隣接して配置された一方の油拡散ポンプ２１は隣接する加工区画５または８と接続される区画スペース３４をポンプで排気して、他方の油拡散ポンプは中央区画エリア３５をポンプで排気する。
【００３２】
カバー２０と３０は交換可能であり、さらにチャンバ１または対応する区画２から８または１７に容易に取り付けられるため、例えば図１による実施形態において区画６および７からカバー２０および１５を外し、区画６および７から対応するツールを取り外し、それらと隔壁挿入部３２および３３とを差し替えてから、新しい気体分離ステージカバー３０を取り付けることにより、基本設計が等しい区画２から８および１７はコーティング区画または単純なポンプ区画から気体分離ステージの要素区画に容易に変更することができる。これは、ターボ分子ポンプ、拡散ポンプおよび／またはプロセスツールを備えたカバーも交換可能であるように形成されていることを考えると特に、この画期的なカバー構造を有する真空処理装置がいかに可変性があるかを示している。
【００３３】
図５は図６に類似した図であり、気体分離ステージ用のカバーとポンプ区画用のカバーとの間の差異を示す。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】ガラスコーティングラインの基板輸送方向における側面図であり、部分的に断面が示されている。
【図２】図１のガラスコーティングラインにおける輸送方向を横断する断面図である。
【図３】ガラスコーティングラインおよび／またはチャンバゾーンの異なった実施形態の基板輸送方向における側面図であり、部分的に断面が示され、この図では明瞭性を確保するためにある部品が省略されている。
【図４】図３に対応する図であるが、図３に示されていないいくつかの部品を示す。
【図５】拡散ポンプ用の接続部が図式的に示されるカバーの上面図である。
【図６】隔壁を備えたガラスコーティングラインカバーの上面図であり、拡散ポンプの接続部が図式的に示されている。
【符号の説明】
【００３５】
１：  真空チャンバ
２：  チャンバゾーン（ポンプ区画）
３：  チャンバゾーン（加工区画）
４：  チャンバゾーン（ポンプ区画）
５：  チャンバゾーン（加工区画）
６：  チャンバゾーン（ポンプ区画、区画、気体分離ステージ）
７：  チャンバゾーン（加工区画、区画、気体分離ステージ）
８：  チャンバゾーン（ポンプ区画）
９：  チャンバ壁
１０：  チャンバ壁
１１：  基板‐輸送面
１２：  ローラコンベヤ
１３：  プロセツツール
１４：  プロセツツール
１５：  取り外し可能カバー
１６：  隔壁
１７：  区画（処理加工）
２０：  取り外し可能カバー
２１：  油拡散ポンプ
２２：  バルブ手段（スロットルバルブ）
２３：  バルブディスク
２４：  リニアドライブ
２５：  接続部
２６：  アダプター（バッフル）
２７：  接続手段
２８：  カバースペース
３０：  カバー
３１：  隔壁
３２：  隔壁
３３：  スリット状ロック
３４：  区画スペース
３５：  区画スペース
【図１】
2005281864.tif 000003
【図２】
2005281864.tif 000004
【図３】
2005281864.tif 000005
【図４】
2005281864.tif 000006
【図５】
2005281864.tif 000007
【図６】
2005281864.tif 000008
【外国語明細書】
2005281864000001.pdf