(57)【要約】【課題】本発明は、有機ＥＬマルチカラーディスプレイに関して、  ＥＬ素子の発光機能を高めることを目的とする。【解決手段】少なくとも一つの基板２と、基板２上に形成された有機ＥＬ素子３からなる構造体と、有機ＥＬ素子３からなる構造体を封止する封止基板４とを有し、封止基板４は、透光性を有する基板からなり、かつ、有機エレクトロルミネセンスからなる構造体が形成される側には、カラーフィルタ５および樹脂成分を含有するスペーサ７が、形成されていることを特徴とする。これにより、有機ＥＬ素子３が形成された画素位置間に、製造工程を増やさずにスペーサ７を形成することができる。さらに、スペーサ７によって、隣接画素からの発光が、隣の画素に対応したカラーフィルタ５に漏れることを、効果的に防止でき、表示品質を向上することができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一つの基板と、
前記基板上に形成された有機エレクトロルミネセンスからなる構造体と、
前記有機エレクトロルミネセンスからなる構造体を封止する封止板と、を有し、
前記封止板は、透光性を有する基板からなり、かつ、前記有機エレクトロルミネセンスからなる構造体が形成される基板面と対向する前記封止板の基板面側には、少なくともカラーフィルタおよび樹脂成分を含有するスペーサが形成されていることを特徴とする自発光型表示装置。
【請求項２】
前記スペーサは、カラーフィルタ材料、ブラックマトリクス材料あるいはオーバーコート材料のうちの、少なくともいずれかの材料を有することを特徴とする請求項１に記載の自発光型表示装置。
【請求項３】
前記スペーサの厚みが、１μｍ乃至１００μｍであることを特徴とする請求項１あるいは２に記載の自発光型表示装置。
【請求項４】
前記カラーフィルタ、および／またはオーバーコート、および前記スペーサの上に、少なくとも無機物からなるパッシベーション膜を有することを特徴とする請求項１あるいは３に記載の自発光型表示装置。
【請求項５】
前記スペーサは、前記基板と前記封止板との貼り合せの際に用いる接着剤が、前記構造体への浸入を防止する防護壁であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の自発光型表示装置。
【請求項６】
少なくとも一つの基板と、
前記基板上に形成された有機エレクトロルミネセンスからなる構造体と、
前記有機エレクトロルミネセンスからなる構造体を封止する封止板と、を有し、
前記封止板は、少なくとも透光性を有する基板よりなり、かつ、前記有機エレクトロルミネセンスからなる構造体が形成される基板面と対向する前記封止板の基板面側には、少なくともカラーフィルタおよびブラックマトリクスが形成され、該ブラックマトリクスの厚みが、前記カラーフィルタの厚みよりも、厚いことを特徴とする自発光型表示装置。
【請求項７】
前記ブラックマトリクスの厚みが、０．２μｍ乃至１００μｍであることを特徴とする請求項６に記載の自発光型表示装置。
【請求項８】
前記構造体と、前記カラーフィルタとのギャップの最小値のおよそ１０％乃至９０％の厚みを、前記ブラックマトリクスが、少なくとも有することを特徴とする請求項６あるいは７に記載の自発光型表示装置。
【請求項９】
前記ブラックマトリクスを、前記構造体と前記カラーフィルタとのギャップを制御する、スペーサとして設けたことを特徴とする請求項８に記載の自発光型表示装置。
【請求項１０】
前記ブラックマトリクスは、前記基板と前記封止板との貼り合せの際に用いる接着剤が、前記構造体への浸入を防止する防護壁であることを特徴とする請求項６乃至９のいずれか１項に記載の自発光型表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬディスプレイなどの自発光型表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機エレクトロルミネセンス（以下、有機ＥＬという。）ディスプレイは、透明基板を使用し、一対の電極間に配置された発光機能を有する有機層が、電極間に電流を流すことで、発光が実現される。この際、透明基板側の電極を可視光に対して透過性を持たせることで、発光が基板側から放射され、パネルの機能を満たす。また、発光素子が、白色光の場合には、カラーフィルタを用いることで、カラー発光パネルが実現できる。一方で、青色発光の場合は、蛍光変換層を介して発光を取り出すことで、カラー発光パネルが実現できる。
【０００３】
この有機ＥＬディスプレイに使用される有機層は、水分に弱く、有機層を外気から遮断する構造が必要である。また、遮断された構造において、遮断空間内で発生したガスを吸着し、外部からの水分を除去する目的で、乾燥剤を遮断された空間に配置する技術が知られている（たとえば、特許文献１参照）。
【０００４】
この有機ＥＬディスプレイに使用される有機ＥＬ素子構造体は、カラーフィルタや蛍光変換層が形成された基板上に形成される。そのため、製造工程に時間を要するという問題点があった。また、カラーフィルタや蛍光変換層が形成された基板上は、表面あれが大きく、電極間でショートやリークが発生するという問題点もあった。さらに、カラーフィルタや蛍光変換層から発生するアウトガスが、直接有機ＥＬ素子を通過するため、ダークスポットと呼ばれる黒点不良が発生することもある。
【０００５】
そのため、有機ＥＬ素子が形成された基板と、それと対向する基板に、カラーフィルタや蛍光変換層を形成して、カラー発光パネルを実現するものがある（たとえば、特許文献２乃至３参照）。
【０００６】
一方で、有機ＥＬ素子が形成された基板と、カラーフィルタや蛍光変換層を形成する基板を、対向配置させることにより生じるギャップ管理のために、ビーズを分散配置させるものもある（たとえば、特許文献４参照）。
【０００７】
さらに、有機ＥＬ素子が形成された基板と、カラーフィルタや蛍光変換層を形成する基板間は、両者を同一の基板上に形成するのに比較して、かなり広い間隔が発生してしまう。これにより、隣接する画素からの光の回り込みが生じてしまい、有機ＥＬディスプレイの色度の変化が生じてしまう。これを防止するために、有機ＥＬ素子が形成された基板と、カラーフィルタや蛍光変換層を形成された基板との間に、隣接する他の発光画素から遮光する遮光部材を設けるものもある（たとえば、特許文献５参照）。
【特許文献１】特開２００３−２０３７６１号公報
【特許文献２】特開平１１−１８５９５５号公報
【特許文献３】特開２００１−１２６８６２号公報
【特許文献４】特開２００３−５１７１８２号公報
【特許文献５】特開２００２−２９９０４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上述のように、有機ＥＬ素子が形成された基板と、対向する基板にカラーフィルタや蛍光変換層を対向配置した場合に、前記遮光部材やビーズなどを配置すると、却って製造工程が複雑化してしまう。従って、工程の簡素化が必要である。
【０００９】
本発明において、有機ＥＬ素子が形成された基板と、対向する基板にカラーフィルタや蛍光変換層を対向配置した場合のギャップ管理は、何ら製造工程を増やすことなくスペーサを形成することで容易に行うことが出来る。
【００１０】
本発明において、パネル全体として製造工程を減少させ、有機ＥＬ素子が形成された画素位置間に、何ら製造工程を増やさずにスペーサを形成することで、隣接画素からの発光が、隣の画素に対応したカラーフィルタや蛍光変換層に漏れることも、効果的に防止できる。
【００１１】
このように、本発明においては、製造工程を短縮しつつ、ダークスポットと呼ばれる黒点不良の発生を、効果的に抑えることができる。カラーフィルタや蛍光変換層が形成された基板から発生するアウトガスは、遮断された空間に拡散されるので、黒点不良の発生率を抑えることができる。そして、基板上に直接、有機ＥＬ素子を形成するので、リークやショートの発生率を抑えることができる。又、少なくとも無機物からなるパッシベーション膜を形成することでカラーフィルタ、オーバーコートなどからのアウトガスが抑制され有機ＥＬ素子の発光寿命を延ばすことができる。
【００１２】
本発明は、以上の問題を鑑み、製造工程の簡素化を実現しつつ、十分な発光機能を実現する有機ＥＬ表示装置の構造を提案するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記目的を達成するため、本願における自発光型表示装置の第一の解決手段として代表的な発明は、少なくとも一つの基板と、基板上に形成された有機エレクトロルミネセンスからなる構造体と、有機エレクトロルミネセンスからなる構造体を封止する封止板とを有し、封止板は、透光性を有する基板からなり、かつ、有機エレクトロルミネセンスからなる構造体が形成される基板面と対向する封止板の基板面側には、少なくともカラーフィルタおよび樹脂成分を含有するスペーサが形成されていることを特徴とする。
【００１４】
前記スペーサは、カラーフィルタ材料、ブラックマトリクス材料あるいはオーバーコート材料のうちの、少なくともいずれかの材料を有することを特徴としてもよい。
【００１５】
前記スペーサの厚みが、１μｍ乃至１００μｍであることを特徴としてもよい。
【００１６】
前記カラーフィルタ、および／またはオーバーコート、およびスペーサの上に、少なくとも無機物からなるパッシベーション膜を有することを特徴としてもよい。
【００１７】
前記スペーサは、前記基板と前記封止板との貼り合せの際に用いる接着剤が、前記構造体への浸入を防止する防護壁であることを特徴としてもよい。
【００１８】
上記目的を達成するため、本願における自発光型表示装置の第二の解決手段として代表的な発明は、少なくとも一つの基板と、基板上に形成された有機エレクトロルミネセンスからなる構造体と、有機エレクトロルミネセンスからなる構造体を封止する封止板と、を有し、封止板は、少なくとも透光性を有する基板よりなり、かつ、有機エレクトロルミネセンスからなる構造体が形成される基板面と対向する封止板の基板面側には、少なくともカラーフィルタおよびブラックマトリクスが形成され、該ブラックマトリクスの厚みが、カラーフィルタの厚みよりも、厚いことを特徴とする。
【００１９】
前記ブラックマトリクスの厚みが、０．２μｍ乃至１００μｍであることを特徴としてもよい。
【００２０】
前記構造体と、カラーフィルタとのギャップの最小値のおよそ１０％乃至９０％の厚みを、ブラックマトリクスが、少なくとも有することを特徴としてもよい。
【００２１】
前記ブラックマトリクスを、構造体とカラーフィルタとのギャップを制御する、スペーサとして設けたことを特徴としてもよい。
【００２２】
前記ブラックマトリクスは、基板と封止板との貼り合せの際に用いる接着剤が、構造体への浸入を防止する防護壁であることを特徴としてもよい。
【発明の効果】
【００２３】
ＥＬ素子の発光機能を高めることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
図１は、実施例１に使用される有機ＥＬパネルの断面図を示す。有機ＥＬパネル１は、基板２、有機ＥＬ素子３、封止基板４、カラーフィルタ５、ブラックマトリクス６、スペーサ７、オーバーコート８およびパッシベーション層９（図示しない。）から構成されている。
【００２５】
基板２は、たとえばガラス、石英などの非晶質基板で、有機ＥＬ素子３が形成される。あるいは、基板２にＳｉ、ＧａＡｓなどの不透明な結晶性基板を使用しても良い。封止基板４側から光を取り出すからである。又、基板２にスイッチング素子が形成された基板を使用しても良い。なお、本実施例では、コーニング製１７３７のガラス基板を採用している。
【００２６】
有機ＥＬ素子３は、発光機能を有する化合物である蛍光性物質が用いられる。このような蛍光性物質としては、例えば、以下の化合物１乃至４の化合物から構成される。
【化１】
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【化２】
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【化３】
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【化４】
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【００２７】
有機ＥＬ素子が、陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／無機電子注入層／陰極である場合は、正孔注入層は、Ｎ、Ｎ´−ジフェニル−Ｎ、Ｎ´−ビス（Ｎ−（４−メチルフェニル）−Ｎ−フェニル（４−アミノフェニル））−１、１´−ビスフェニル−４、４´−ジアミンから形成される。正孔輸送層は、Ｎ、Ｎ´−ジフェニル−Ｎ、Ｎ´−ビス（１−ナフチル）−１、１´−ジフェニル−４、４´−ジアミンから形成される。発光層は、下部発光層と上部発光層とを有する。下部発光層は、下記化学式５で表される化合物Ｘ、下記化学式６で表される化合物Ｙを１００：３の体積比率で含む材質から形成される。上部発光層は、下記化学式７で表される化合物Ｘ、下記化学式８で表される化合物Ｚを１００：３の体積比率で含む材質から形成される。電子輸送層は、ｔｒｉｓ（８−ｈｙｄｒｏｘｙｑｕｉｎｏｌｉｎｅ）ａｌｕｍｉｎｉｕｍから形成される。無機電子注入層は、ＬｉＦから形成される。なお、この場合、それぞれの膜厚は、発光層４０ｎｍ、正孔注入層４０ｎｍ、正孔輸送層３０ｎｍ、電子輸送層３０ｎｍ、無機電子注入層０．５ｎｍとしている。
【化５】
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【化６】
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【化７】
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【化８】
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【００２８】
封止基板４は、基板２と対向して配置され、たとえばガラス、石英などの非晶質基板を用い、本発明において封止基板４側は、光取り出し側になるため、光透過性の高い材質が利用される。本実施例では、コーニング製１７３７のガラス基板を採用している。
【００２９】
封止基板４としては、発光の透過率が８０％以上であれば良く、上述のガラスに限らず樹脂等の透明な材料を用いてもよい。封止基板４は、外部からの湿気の侵入を防ぐために、市販の低吸湿性の光硬化性接着剤、エポキシ系接着剤、シリコーン系接着剤、架橋エチレン−酢酸ビニル共重合体接着剤シート等の接着性樹脂層を用いて、基板２と接着し密封する。
【００３０】
カラーフィルタ５は、本発明では、封止基板４側の表示領域内の一部又は全てに少なくとも形成されており、各画素に対応して設けられたＲＧＢの各色の組み合わせによって、カラー表示を可能にするものである。
【００３１】
具体的には、カラーフィルタ５は、封止基板４上に、青色透過層、緑色透過層、赤色透過層として、フジフィルムオーリン社製のカラーフィルタで、カット光が青は４９０ｎｍ以上の波長の光、緑は５６０ｎｍ以上の波長の光および４８０ｎｍ以下の光、赤は５８０ｎｍ以下の波長の光であるものを用いている。そして、本実施例では、このカラーフィルタ５をそれぞれ１００μｍの幅でストライプ状に形成した。なお、本実施例では、カラーフィルタ５を採用しているが、これにかぎられず、蛍光変換層を利用してもよい。
【００３２】
このように、カラーフィルタ５を封止基板４側に形成することによって、基板２と封止基板４を、それぞれ独立に製造工程に投入することが可能となる。そして、基板２と封止基板４を貼りあわせることにより、製造工程の短縮化を実現できる。また、カラーフィルタ５を、基板２上に形成する場合のカラーフィルタ５またはオーバーコート８上の表面あれに起因する問題や、有機ＥＬ素子３を形成する電極間ショートの問題や、リークが発生するという問題も防止できる。さらに、カラーフィルタ５またはオーバーコート８から発生するアウトガスが、直接有機ＥＬ素子３を通過することを防止し、ダークスポットと呼ばれる黒点不良の発生を抑えることもできる。
【００３３】
ブラックマトリクス６は、本実施例では、図１に示すように、カラーフィルタ５のそれぞれの間に配置される。ブラックマトリクス６は、黒色顔料が含有されたアクリル型の樹脂膜で構成されている。この樹脂膜は、液晶表示装置用のブラックマスクに通常用いられるものを採用してもよい。本実施例では、感光性の樹脂の中に黒色化するための着色剤を添加して塗布後、ホトリソグラフィープロセスを用いて、所望のブラックマトリクス６のパターンを形成する。なお、ブラックマトリクス６は、本実施例においては、必ずしも必要ではなく、省略してもよい。
【００３４】
スペーサ７は、基板２と封止基板４の間のギャップを維持する一方で、隣接する画素からの光の回り込みを防止するために設けられている。本実施例においては、スペーサ７は、カラーフィルタ５によって形成されている。具体的には、本実施例では、青色透過層、緑色透過層および赤色透過層のそれぞれを積層して、スペーサ７が形成されている。
【００３５】
このように、スペーサ７をカラーフィルタ５によって形成することによって、有機ＥＬ素子が形成された画素位置間に、製造工程を増やさずにスペーサ７を形成することができる。さらに、スペーサ７によって、隣接画素からの発光が、隣の画素に対応したカラーフィルタ５に漏れることを、効果的に防止でき、表示品質を向上することができる。なお、スペーサ７の厚みは、１μｍ〜１００μｍの範囲内であればよい。本実施例において、スペーサ７の厚みは、３μｍ〜４０μｍとしている。
【００３６】
オーバーコート８は、カラーフィルタ５およびブラックマトリクス６を覆って形成される保護層であって、本実施例では、紫外線硬化型アクリル樹脂を用いており、１μｍの厚さで形成している。
【００３７】
そして、その上に、図示されない無機物からなるパッシベーション層９を、組成ＳｉＯｘＮｙ（モル比：ｘ＝１．７７、ｙ＝０．２６）とし、成膜速度３３０ｎｍ／ｍｉｎで１μｍの厚さに、プラズマＣＶＤ（化学気相成長）成膜法で形成した。この時のガス圧は９０Ｐａで、温度条件は２００℃、投入電力は６００Ｗ（高周波１３．５６ＭＨｚ）、ＧＡＰは３３ｍｍとした。
【００３８】
このように、本実施例においては、カラーフィルタ５が形成された封止基板４と、有機ＥＬ素子３が形成された基板２をそれぞれ用意しているので、製造工程が大幅に短縮される。また、カラーフィルタ５が形成された封止基板４から発生するアウトガスは、遮断された空間に拡散されるので、黒点不良の発生率を抑えることが可能となる。さらに、基板２上に直接有機ＥＬ素子３を形成するので、リークやショートの発生率を抑えることが可能となる。また、本実施例においては、有機ＥＬ素子３が形成された画素位置間にスペーサ７を形成することで、隣接画素からの発光が、隣の画素に対応したカラーフィルタ５に漏れることも防止することができる。
【００３９】
図２は、実施例２に使用される有機ＥＬパネルの断面図を示す。本実施例が、実施例１と異なる点は、ブラックマトリクス６がスペーサ７としての機能を有している点である。具体的には、ブラックマトリクス６は、表示領域外（画素形成領域外）において、基板２と封止基板４の間に配置されるブラックマトリクス２０と、表示領域内（画素形成領域内）に配置されるブラックマトリクス２１がある。
【００４０】
そして、ブラックマトリクス２０は、本図で示すとおり、表示領域外（画素形成領域外）で、カラーフィルタ５とブラックマトリクス２０を積層させ、画素領域内のブラックマトリクス２１の厚さより厚くして、スペーサ７として機能している。
【００４１】
一方で、表示領域内（画素形成領域内）においては、カラーフィルタ５およびブラックマトリクス２１が、封止基板４に交互に形成され、ブラックマトリクス２１の厚みが、カラーフィルタ５の厚みよりも厚く構成されている。具体的には、ブラックマトリクス２１の厚みは、０．２μｍ乃至１００μｍの範囲内であればよい。本実施例において、ブラックマトリクス２１の厚みは、１μｍ〜４０μｍとしている。あるいは単層のカラーフィルタ上に、直接ブラックマトリクスを形成することで、画素に対応するカラーフィルタより、ブラックマトリクスを厚くすることができる。このように構成することにより、有機ＥＬパネル１のコントラストの向上が期待できる。
【００４２】
また、ブラックマトリクス２１の厚みは、有機ＥＬ素子３と、カラーフィルタ５とのギャップの最小値のおよそ１０％乃至９０％の厚みを、少なくとも有するように構成されている。この数値範囲内に、ブラックマトリクス２１の厚みをコントロールすることによって、隣接画素からの発光が、隣の画素に対応したカラーフィルタ５に漏れることを、効果的に防止することができる。
【００４３】
本図で示しているように、ブラックマトリクス２１は、表示領域内では、基板２とは接触しないように配置されている。すなわち、本実施例においては、表示領域内のブラックマトリクス２１は、基板２と封止基板４の間のギャップを維持する目的ではなく、隣接する画素からの光の回り込みを防止するために設けられている。
【００４４】
さらに、表示領域外（画素形成領域外）のブラックマトリクス２０は、接着性樹脂層５１が画素部への浸入を防止する防護壁としても機能する。ブラックマトリクス２０は、封止基板４上にスペーサ７として画素部を囲んで形成されている。そのため、ブラックマトリクス２１は、基板２と封止基板４との貼り合せの際に用いる接着性樹脂層５１が、有機ＥＬ素子３への浸入を防止する防護壁となる。
【００４５】
なお、表示領域内外のブラックマトリクス２０および２１の上には、オーバーコート８およびパッシベーション層９をさらに被覆してもよい。
【００４６】
図３は、実施例３に使用される有機ＥＬパネルの断面図を示す。本実施例が、実施例１と異なる点は、オーバーコート８がスペーサ７としての機能を有している点である。すなわち、スペーサ７を覆ってオーバーコート８が厚く形成されている。これにより、オーバーコート８自身が、スペーサ７の一部になっている。
【００４７】
このように構成することにより、本実施例では実施例１乃至２に比べ、スペーサ７の平坦性がよくなり、スペーサ７の高さのばらつきを低下することができる。
【００４８】
スペーサ７は、カラーフィルタ５あるいはブラックマトリクス６で形成されている。カラーフィルタ５で形成された場合は、製造工程の簡素化の効果が生じ、ブラックマトリクス６で形成された場合は、高コントラストを実現することができる。さらに、スペーサ７をオーバーコート８で構成しても、製造工程の簡素化の効果がある。
【００４９】
図４は、本実施の形態に使用される有機ＥＬディスプレイの有機ＥＬ素子３が形成される基板の鳥瞰図を示す。なお、本実施例の有機ＥＬディスプレイ４０は、実施例１乃至３で説明した有機ＥＬパネル１を用いたディスプレイ全体の鳥瞰図である。
【００５０】
具体的には、基板２には、補助配線４１、電極４２、エッジカバー層４３、開口部４４、陰極引き出し配線４５、陽極引き出し配線４６、コンタクトパッド形成領域４７およびシール材領域４８が形成されている。
【００５１】
補助配線４１、電極４２は、本図に示すようにそれぞれ基板２に配置され、その上には、開口部４４およびシール材を除いてエッジカバー層４３が被覆されている。そして、それぞれの画素に、陰極引き出し配線４５とコンタクトパッド形成領域４７を介して陽極引き出し配線４６が引き回されており、表示エリアをシール材領域４８が囲んでいる。
【００５２】
本実施例において、有機ＥＬ素子３を形成する電極４２は、特に制限されないが、正孔を注入するための電極である。この電極４２は、特に制限されないが、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＩＺＯ（亜鉛ドープ酸化インジウム）、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３等が利用される。特に好ましくは、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＩＺＯ（亜鉛ドープ酸化インジウム）が利用される。また、ＩＴＯの下側に反射電極を形成しても良い。本実施例では、２５６ドット×６４ラインの画素（１画素３００×３００μｍ）を構成する。
【００５３】
有機ＥＬ素子３を形成する電極１０（図示されない。）は、特に制限されないが、本実施例では電子を注入するための電極であって、低仕事関数の物質が好ましい。例えば、Ｋ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ａｌ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｚｒ等の金属元素単体がある。また、安定性を向上させるために、それらを含む２成分、３成分の合金系を用いることが好ましい。合金系としては、例えばＡｇ・Ｍｇ（Ａｇ：０．１〜５０ａｔ％）、Ａｌ・Ｌｉ（Ｌｉ：０．０１〜１４ａｔ％）、Ｉｎ・Ｍｇ（Ｍｇ：５０〜８０ａｔ％）、Ａｌ・Ｃａ（Ｃａ：０．０１〜２０ａｔ％）等が好ましい。また、電極１０は透光性を持つことが必要であり、ＺｎＯ−Ａｌ（アルミドープ酸化亜鉛）と低仕事関数の積層構造を含むことが好ましい。
【００５４】
そして、有機ＥＬ素子３は、電極４２から注入された正孔と、電極１０（図示されない。）から注入された電子との再結合によって、有機ＥＬ素子３内で励起子が生じ、この励起子が再結合する過程で光を放ち、この光が、電極１０（図示されない。）及び封止基板４を通過して、外部に放出される。
【００５５】
各画素の詳細な説明は、画素拡大図４９に示すとおり、補助配線４１と電気的に接続された電極４２の上にエッジカバー層４３が被覆され、開口部４４が開口されている。そして、このような画素が複数構成されて、カラー表示の有機ＥＬディスプレイ４０を実現している。
【００５６】
具体的には、本実施例では、有機ＥＬパネル1を２５６×６４ドット（画素）のパターンで形成し、線順次駆動電圧１５Ｖで駆動している。
【００５７】
補助配線４１は、特に制限されないが、本実施例では、陽極引き出し配線４６と電気的に接続されている。そして、陰極引き出し配線４５は、コンタクトパッド形成領域４７に合わせてパターン形成されている。コンタクトパッド形成領域４７は、本図では、エッジカバー層４３で陰極引き出し配線４５が被覆され、陰極引き出し配線４５の一部で開口されている部分である。
【００５８】
図５（ａ）（ｂ）は、本実施の形態に使用される有機ＥＬディスプレイの概念図を示す。図５（ａ）は、有機ＥＬディスプレイ４０の平面図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）のＣ−Ｃ’断面の断面図である。図５（ｂ）に示すように、有機ＥＬディスプレイ４０は、有機ＥＬパネル１に封止基板４を貼り合わせ、両基板の間には封止ガスが充填されている。これは、有機層や電極の劣化を防ぐためで、封止基板４は、湿気の浸入を防ぐために、図５（ａ）に示すシール材領域４８に接着性樹脂層５１を用いて、封止基板４を基板２と接着し密封する。
【００５９】
封止ガスは、Ａｒ、Ｈｅ、Ｎ２ 等の不活性ガス等が好ましい。また、この封止ガスの水分含有量は、１００ｐｐｍ以下、より好ましくは１０ｐｐｍ以下、特には１ｐｐｍ以下であることが好ましい。この水分含有量に下限値はないが、通常０．１ｐｐｍ程度である。なお、必要に応じて乾燥剤を、表示領域外に配置してもよい。また、透明あるいは半透明の乾燥剤であれば、表示領域内に配置してもよい。
【００６０】
有機ＥＬディスプレイ４０は、図５（ａ）に示すように、陰極引き出し配線４５および陽極引き出し配線４６を有しており、陰極引き出し配線４５と電極１０との接続は、図５（ｂ）に示すように、コンタクトパッド形成領域４７でコンタクトパッドによって行われる。そして、カラーフィルタ５やスペーサ７は、図５（ｂ）に示すように、形成されている。
【００６１】
接着性樹脂層５１は、基板２と封止基板４との貼り合せの際に用いる接着剤である。本実施例２においては、この接着性樹脂層５１が画素部への浸入を防止することができる。具体的には、ブラックマトリクス６は、封止基板４上にマトリクス状に画素部を囲んで形成されている。そして、ブラックマトリクス６は、接着性樹脂層５１が画素部への浸入を防止する防護壁として機能する。
【００６２】
図６は、本実施の形態に使用される自発光型表示装置の概念図を示す。自発光型表示装置６０は、有機ＥＬディスプレイ４０に、走査信号ドライバＩＣ６１、走査信号ドライバ回路６２、映像信号ドライバＩＣ６３、映像信号ドライバ回路６４、ＦＰＣ６５およびコントローラ６６を取り付けて構成されている。
【００６３】
走査信号ドライバＩＣ６１は、陰極引き出し配線４５に信号を伝達するドライバで、走査信号ドライバ回路６２によって構成されている。映像信号ドライバＩＣ６３は、陽極引き出し配線４６に信号を伝達するドライバで、映像信号ドライバ回路６４によって構成されている。そして、それぞれのドライバ回路は、ＦＰＣ６５を介して、コントローラ６６に接続されている。コントローラ６６は、有機ＥＬディスプレイ４０に表示する表示データを制御するコントローラである。
【００６４】
なお、本発明においては、必要に応じて種々の変更が可能であって、たとえば、実施例１において、ブラックマトリクス５はなくともよい。
【００６５】
又、本発明においては、有機エレクトロルミネセンス素子からなる構造体が形成される基板にスイッチング素子を形成した基板を使用することも可能である。  
【００６６】
さらに、実施例３において、スペーサ７を構成する部材は種々選択が可能で、カラーフィルタ５、ブラックマトリクス６、オーバーコート８あるいはパッシベーション層９のいずれから選ぶことができる。
【産業上の利用可能性】
【００６７】
本発明は、有機ＥＬ画像表示に代表される画像表示装置に関して、携帯機器、ＴＶなどのカラーディスプレイに使用できる。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】実施例１に使用される有機ＥＬパネルの断面図である。
【図２】実施例２に使用される有機ＥＬパネルの断面図である。
【図３】実施例３に使用される有機ＥＬパネルの断面図である。
【図４】本実施の形態に使用される有機ＥＬディスプレイの発光層が形成される基板の鳥瞰図である。
【図５】本実施の形態に使用される有機ＥＬディスプレイの概念図である。
【図６】本実施の形態に使用される自発光型表示装置の概念図である。
【符号の説明】
【００６９】
１      有機ＥＬパネル
２      基板
３      有機ＥＬ素子
４      封止基板
５      カラーフィルタ
６      ブラックマトリクス
７      スペーサ
８      オーバーコート
９      パッシベーション層
１０    電極
２０    ブラックマトリクス（表示領域外）
２１    ブラックマトリクス（表示領域内）
４０    有機ＥＬディスプレイ
４１    補助配線
４２    電極
４３    エッジカバー層
４４    開口部
４５    陰極引き出し配線
４６    陽極引き出し配線
４７    コンタクトパッド形成領域
４８    シール材領域
４９    画素拡大図
５１    接着性樹脂層
６０    自発光型表示装置
６１    走査信号ドライバＩＣ
６２    走査信号ドライバ回路
６３    映像信号ドライバＩＣ
６４    映像信号ドライバ回路
６５    ＦＰＣ
６６    コントローラ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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