(57)【要約】【課題】  圧電振動子の周波数調整に関するスループットの向上を図りつつ、装置への設備投資費をも抑えることができる圧電振動子の周波数調整方法を提供する。【解決手段】  本発明に係る圧電振動子の周波数調整方法は、イオンビームの照射により圧電振動子の周波数調整を行う方法である。本発明では前記方法において、整列配置されて規定の方向へ搬送される圧電振動子１７の周波数調整を行う１のイオンビーム照射源（イオンガン１０）から照射されるイオンビームの放射領域を利用して、近接する複数の圧電振動子１７の周波数調整を同時に行うようにした。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子のビームを圧電振動片に照射して圧電振動子の周波数を調整する圧電振動子の周波数調整方法において、最終的な周波数調整である本調整を行っている前記ビームを、本調整中の圧電振動子以外の他の圧電振動子に照射し、前記他の圧電振動子の周波数の予備調整を行った後、前記他の圧電振動子の周波数の本調整を行うことを特徴とする圧電振動子の周波数調整方法。
【請求項２】
前記周波数調整は、最終的な周波数調整である本調整と、その前段の予備調整とを有し、前記予備調整は、本調整位置に配置された圧電振動子に対して固定位置から照射されるビームと同一のビームを本調整位置の一つ手前に位置する他の圧電振動子に照射して行うことを特徴とする請求項１に記載の圧電振動子の周波数調整方法。
【請求項３】
荷電粒子のビームを圧電振動片に照射して圧電振動子の周波数を調整する圧電振動子の周波数調整方法において、周波数調整を行う圧電振動子の周波数を予め測定し、測定された周波数が予め定められた周波数より小さい場合には、最終的な周波数調整である本調整を行っている前記ビームを、本調整中の圧電振動子以外の他の圧電振動子に照射し、前記他の圧電振動子の周波数の予備調整を行った後、前記他の圧電振動子の周波数の本調整を行い、測定された周波数が予め定められた周波数以上である場合には前記予備調整を行わずに前記他の圧電振動子の周波数の本調整を行うことを特徴とする圧電振動子の周波数調整方法。
【請求項４】
周波数調整を行う圧電振動子の周波数を予め測定し、測定された周波数を予備調整時に照射されるビームにより規定の周波数へ調整するためのビーム照射時間を定め、定められた前記ビーム照射時間だけ予備調整を行い、その後に本調整を行うことを特徴とする請求項３に記載の圧電振動子の周波数調整方法。
【請求項５】
周波数の前記予備調整と前記本調整との各工程では、圧電振動子を規定の周波数に調整するために、マスクによって工程毎にビームの照射時間を制御することを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の圧電振動子の周波数調整方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、圧電振動子の周波数調整方法に係り、特にイオンビームによって圧電振動片（電極）の表面を削り、前記圧電振動子の周波数を高める周波数調整を行う周波数調整方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
圧電振動子の周波数をイオンビーム（イオンエッチング）によって調整する方法は、数十年前から知られている。しかしながら、それらの方法が実用化されてきたのは近年に到ってからである。イオンビームによる圧電振動子の周波数調整方法としては、例えば、図８に示すものが知られている。図８に示す装置は、イオンビームの照射源であるイオンガン１と、圧電振動子５を保持して、トレイ可動手段９によって規定の方向へスライド移動を可能とされたトレイ４と前記イオンガン１とトレイ４との間に配置され、照射されたイオンビームを圧電振動子５の電極（圧電振動片）７に照射するための絞り込みを行うスリットを有するマスク３とを備え、前記イオンガン１と前記マスク３との間には、圧電振動子５が周波数調整された後、さらにイオンビームに晒されることを防止するシャッタ２が備えられる。
【０００３】
前記トレイ４は、圧電振動片７を内包したパッケージ６が嵌合可能な凹部を備え、当該凹部の底部には、前記圧電振動片７に相当する大きさの開口が設けられており、前記パッケージを前記凹部へ嵌合させることにより、前記圧電振動片７が前記開口より外部へ覗くこととなる。
【０００４】
このような装置では、イオンガン１から照射されたイオンビームが、マスク３のスリットを通過して圧電振動子５の所定箇所（圧電振動片７）に照射され、照射された圧電振動子５は周波数を規定値に調整される。しかし、このような装置による周波数調整方法では、一つの圧電振動子の周波数調整にかかる時間が長く（約９秒）、スループットの向上は望めなかった。図９に周波数調整による圧電振動子の周波数変化と、周波数毎の圧電振動子の分布とを示す。図９において縦軸は圧電振動子の周波数を示し、横軸は圧電振動子の個数（分布）を示す。このようなグラフにおいて、縦軸におけるｆ0は調整後の目的周波数を示し、実線で示すグラフは周波数調整前の圧電振動子の周波数分布を示し、一点鎖線で示すグラフは周波数調整後の圧電振動子の周波数分布を示す。なお、上記のような圧電振動子の周波数調整は、図示しない真空チャンバ内で行われる。
【０００５】
そこで近年では特許文献１に記載されているような方法が提案されている。特許文献１によれば、トラック形状の開口部を有するイオンガンの円弧部分を閉塞し、直線平行部分（２箇所）からイオンビームが照射されるようにしたものを備え、前記直線部分に沿って複数の圧電振動子を並べるというものである。この装置によれば、トラック形状の一方の直線部分に備えられたイオンビーム照射口から照射されるイオンビームによって周波数の予備調整を行う。その後、前記圧電振動子を規定方向に送り、他方の直線部分に備えられたイオンビーム照射口から照射されるイオンビームによって周波数の本調整を行うというものである。
【特許文献１】特開２００３−２９８３７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に挙げられる方法によれば、各イオンビーム照射口で成される圧電振動子の周波数調整時間が短くなるため、圧電振動子の周波数調整におけるスループットは向上する。しかしながら、この方法は、円弧部分から照射されるイオンビームを意図的にカットしていることからエネルギの使用に無駄が多い。また、実質的にイオンビームの照射源を増やすことでスループットの向上を図っているため、前記エネルギの無駄を無くそうとした場合、高価なイオンビーム発生源（イオンガン）を複数備える必要が出てくるため、設備投資費がかさんでしまう。
【０００７】
本発明では、圧電振動子の周波数調整に関するスループットの向上を図りつつ、装置への設備投資費をも抑えることを可能とする圧電振動子の周波数調整方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明に係る圧電振動子の周波数調整方法は、荷電粒子のビームを圧電振動片に照射して圧電振動子の周波数を調整する圧電振動子の周波数調整方法において、最終的な周波数調整である本調整を行っている前記ビームを、本調整中の圧電振動子以外の他の圧電振動子に照射し、前記他の圧電振動子の周波数の予備調整を行った後、前記他の圧電振動子の周波数の本調整を行うことを特徴とする。
【０００９】
このような方法により、今まではマスク等によってカットしてしまっていた放射角度の広い領域のビームを有効に利用することができる。また、予備調整、本調整という順に周波数調整を行っていくことで、各工程に費やされるイオンビーム照射時間を短縮することができ、圧電振動子の周波数調整のスループットを向上させることができる。また、設備投資も抑えることができる。
【００１０】
また、上記圧電振動子の周波数調整方法において、前記周波数調整は、最終的な周波数調整である本調整と、その前段の予備調整とを有し、前記予備調整は、本調整位置に配置された圧電振動子に対して固定位置から照射されるビームと同一のビームを本調整位置の一つ手前に位置する他の圧電振動子に照射して行うようにすると良い。
【００１１】
これにより、上述の効果の他、ビームは固定位置から照射するようにし、周波数調整を必要とする圧電振動子のみを規定の方向へ移動させるようにすることができる。また、予備調整は本調整を行う圧電振動子のみを対象とするようにしたことより、複数の圧電振動子の予備調整を同時に行う場合に比べて制御が容易になる。
【００１２】
また、上記目的を達成するために、本発明に係る圧電振動子の周波数調整方法は、荷電粒子のビームを圧電振動片に照射して圧電振動子の周波数を調整する圧電振動子の周波数調整方法において、周波数調整を行う圧電振動子の周波数を予め測定し、測定された周波数が予め定められた周波数より小さい場合には、最終的な周波数調整である本調整を行っている前記ビームを、本調整中の圧電振動子以外の他の圧電振動子に照射し、前記他の圧電振動子の周波数の予備調整を行った後、前記他の圧電振動子の周波数の本調整を行い、測定された周波数が予め定められた周波数以上である場合には前記予備調整を行わずに前記他の圧電振動子の周波数の本調整を行うことを特徴とするものであっても良い。
【００１３】
このような方法によれば、今まではマスク等によってカットしてしまっていた放射角度の広い領域のビームを有効に利用することができる。また、予備調整、本調整という順に周波数調整を行っていくことで、各工程に費やされるイオンビーム照射時間を短縮することができ、圧電振動子の周波数調整のスループットを向上させることができる。また、予備調整前の圧電振動子の周波数は、個別的に大きく差が開いていることを考慮し、上記のように、予め圧電振動子の周波数を測定し、所定の周波数より以上の周波数を有する圧電振動子の予備調整は行わないようにすることで、予備調整によって最終的な（規定の）目標周波数の調整値を超えてしまうということが無くなる。
【００１４】
また、上記圧電振動子の周波数調整方法において、周波数調整を行う圧電振動子の周波数を予め測定し、測定された周波数を予備調整時に照射されるビームにより規定の周波数へ調整するためのビーム照射時間を定め、定められた前記ビーム照射時間だけ予備調整を行い、その後に本調整を行うようにすることも望ましい。
【００１５】
このような方法で周波数を調整することにより、予備調整時に個々の圧電振動子の周波数分布を一定範囲に集束させることができる。このため、本調整時には、個々の圧電振動子の周波数を目的とする周波数へ高い割合で集束させることが可能となる。
【００１６】
さらに、周波数の前記予備調整と前記本調整との各工程では、圧電振動子を規定の周波数に調整するために、マスクによって工程毎にビームの照射時間を制御すると良い。
このような方法を採ることにより、周波数の予備調整中に圧電振動片の表面を削りすぎてしまう（圧電振動子の周波数を上げ過ぎてしまう）ということを防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明に係る実施の形態を図面を参照しつつ説明する。なお、以下に示す形態は、本発明の実施形態における一部であり、本発明は発明の主要部を変えない限りにおける種々の形態を含むものとする。
【００１８】
図１は本発明の圧電振動子の周波数調整方法に係る第１の実施形態を示す図である。本実施形態では、圧電振動子１７を保持可能なトレイ１６と、前記トレイ１６を規定方向へスライド移動可能とするトレイ可動手段２６と、前記トレイに保持された圧電振動子１７の圧電振動片２０に荷電粒子のビーム（イオンビーム）を照射するイオンガン１０とを基本構成とする装置を使用する。
【００１９】
前記圧電振動子１７において、圧電振動片２０を包含したパッケージ１８は、箱状体であり、内部に備えた圧電振動片２０の電極端子に接続された外部電極端子１９を、当該パッケージ１８の底部外面に備えるようにしている。なお、前記パッケージ１８の上部には蓋を設けないようにし、前記イオンビームが前記圧電振動片２０に照射されるようにしておく。
【００２０】
また、前記トレイ１６は、前記パッケージ１８を嵌合可能な凹部を設けており、当該凹部の底部には、前記圧電振動片２０のイオンビームが照射される部分に対応した（例えば圧電振動片２０の中央部分に楕円状の）開口を有する。
【００２１】
前記パッケージ１８は、上記のように構成されたトレイ１６の凹部へパッケージ１８上部が凹部底面側を向くようにして嵌合される。これにより、前記凹部底部の開口から、前記圧電振動片２０が外部へ覗くこととなる。
前記イオンガン１０は、イオンビームを扇面状に放射するものであり、一般的にそのエネルギ特性は、放射中心部ほど高く、放射角度が広い領域ほど低くなる。
【００２２】
前記イオンガン１０と、前記トレイ１６との間には、イオンガン１０から放射されたイオンビームが、目的の範囲に照射されるように調整するためのマスク１４が備えられている。本実施形態のマスク１４は、イオンビームが照射位置ａと照射位置ｂとの位置に搬送された、圧電振動子１７に照射されるように設定されている。なお、このようなマスク１４を使用する場合、イオンビームの照射源の直上となる照射位置ａが、周波数の本調整を行う位置であり、放射角度が付く照射位置ｂが、周波数の予備調整を行う位置となる。なお、本実施形態の場合、圧電振動子１７の搬送方向は図中左側であり、前記マスク１４は前記照射位置ａ以降の位置に搬送された圧電振動子１７にはイオンビームが照射されないように構成されている。
【００２３】
前記マスク１４と前記イオンガン１０との間には、イオンビームを遮蔽し、イオンビームの照射時間を工程毎に調整するためのシャッタ（マスク）１２が備えられる。
また、上記構成の圧電振動子の周波数調整装置では、照射位置ａにおいて圧電振動子１７の周波数の本調整を行う際には、接離可能な電極パッド２２を介して、ネットワークアナライザ等の周波数測定器２４によって、逐次周波数を計測しながら調整すると良い。
【００２４】
このような構成の装置において、圧電振動子１７の周波数調整を行う場合にはまず、複数の圧電振動子１７をトレイ１６へ配置する。トレイ１６に配置された圧電振動子１７は、トレイ可動手段２６によって、圧電振動子１７の配置幅間隔で図面右側から左側へと順次搬送される際に、内部に備える圧電振動子１７の周波数調整が成される。
【００２５】
圧電振動子１７を搬送する際には、シャッタ１２を破線で示す位置へスライドさせ、イオンビームが圧電振動子１７に照射されないようにしておく。
始めに送り出された圧電振動子１７が、照射位置ｂに到達した時点でシャッタ１２を開き、イオンビームを規定時間（例えば３〜４秒）圧電振動子１７の圧電振動片２０へ照射し、周波数の予備調整を行う。イオンビームを規定時間照射した後、シャッタ１２を閉じ、圧電振動子１７の配置幅（以下工程幅という）分だけトレイ１６を左側へ移動させる。この後に再びシャッタ１２を開き、照射位置ａへ搬送された圧電振動子１７の圧電振動片２０と、新たに照射位置ｂへ搬送された圧電振動子１７の圧電振動片２０とに、イオンビームを照射する。これにより、照射位置ａに搬送された圧電振動子１７は、周波数の本調整を施され、照射位置ｂに搬送された圧電振動子１７は、周波数の予備調整を施される。その後、シャッタ１２を閉じ、再び１工程幅分トレイ１６を移動させる。このような工程で圧電振動子１７の周波数調整を行うことにより、周波数調整が予備調整と本調整の２工程に分けて施されることとなり、１工程あたりのイオンビーム照射時間が短くなる。これにより、スループットの向上を図ることができる。また、イオンビームの照射源は一つであり、従来使用されていなかったエネルギ帯域（放射角度が広い帯域）を周波数の予備調整に利用することとしたので、エネルギの有効利用となり、装置への設備投資も抑えることができる。
【００２６】
なお、圧電振動子１７の周波数の本調整は、周波数測定器２４によって逐次周波数を測定しながら成される。周波数の予備調整を施される照射位置ｂに搬送された圧電振動子１７の周波数調整は、本調整を行う圧電振動子へのイオンビーム照射時間に付随する。このため、照射位置ｂに搬送された圧電振動子１７においては圧電振動片２０が、規定時間以上イオンビームに晒されてしまう場合もある。よって、個体（圧電振動子）によっては周波数を本調整する前に規定の目標周波数に達してしまうというものが出てくる可能性もある。これを防止するために、照射位置ｂにおいて規定時間以上のイオンビームの照射が成されないように、シャッタ１２を適宜閉じることを可能にしても良い。
【００２７】
図２に圧電振動子１７の、工程毎の周波数変化と、周波数分布とを示す。図２において、縦軸は圧電振動子１７の周波数を示し、横軸は周波数毎の圧電振動子の個数（周波数分布）を示している。また、当該グラフにおいて、ｆ0は周波数調整後の目的周波数を示し、実線で示すグラフは周波数調整前の圧電振動子１７の周波数と分布を示し、破線で示すグラフは予備調整後の圧電振動子１７の周波数と分布を示し、一点鎖線で示すグラフは本調整後の圧電振動子１７の周波数と分布を示す。図２より、圧電振動子１７の周波数調整が、段階的に成されていることが解る。また、調整前の分布と周波数調整後の分布は従来技術の時と変わらないため、これらの間に予備調整を介在させることにより、１工程毎の処理時間が短縮されることが伺える。
【００２８】
次に本発明の圧電振動子の周波数調整方法に係る第２の実施形態について図３を参照して説明する。本実施形態は、第１の実施形態で挙げた、照射位置ｂにおいて圧電振動子１７の圧電振動片２０に規定時間以上イオンビームが照射されてしまうことを防止するための具体的形態である。したがって、基本的には第１の実施形態と同じ形態を成す。
【００２９】
詳細としては、照射位置ｂにおいて圧電振動子１７の予備調整を行う際に、圧電振動子１７の周波数分布を集束させるべき周波数を予め定めておく（例えばｆ１：図４参照）。そして、圧電振動子が照射位置ｂへ搬送される前段において周波数測定器（２４以外のもの：不図示）を用いて照射位置ｂへ搬送される圧電振動子の周波数を予め測定する。ここで、前記照射位置ｂの前段で測定された周波数の値が、前記ｆ１よりも大きい場合（例えばｆａであった場合：図４参照）には、その圧電振動子１７に対する周波数の予備調整は行わない。予備調整を行うことにより本調整後の目的周波数を越えてしまう可能性があり、予備調整を行わない場合であっても、本調整時に所定以上のイオンビーム照射時間を要することが無く、スループットに悪影響を及ぼす虞が無いからである。
【００３０】
また、照射位置ｂの前段において圧電振動子１７の周波数を測定した場合には、通常、図４に示すようにｆｂやｆｃといった圧電振動子毎の周波数ズレがあるものである。このような場合には、ｆｂやｆｃの周波数を持つ圧電振動子１７の周波数を予備調整にて予め定めた周波数値へ集束させておくことで、本調整を行う際の周波数調整をより高精度なものとすることができる。このため、予備調整を行う場合には予め圧電振動子の周波数を集束させる目標周波数ｆ１を定め、当該ｆ１へ周波数を調整するためのイオンビーム照射時間を算出する。これは、イオンビーム照射時間対、周波数変化量との関係より、ｆｂやｆｃの周波数値をｆ１へ変化させるために必要とされるイオンビームの照射時間を算出すれば良いのである。なお当然に、イオンビームのエネルギ特性としては、照射位置ｂにおいて照射されるものを考慮して計算を行う必要がある。
【００３１】
照射位置ｂにおいて、イオンビーム照射時間の調整行う場合、及び予備調整を行わないようにする場合には、図３に示すようにシャッタ１２を半分閉じた状態に調整し、イオンガン１０から照射されるイオンビームが照射位置ａに配置された圧電振動子１７のみに照射されるようにすれば良い。
【００３２】
以下、照射位置ｂにおいてイオンビームの照射を行わない場合、及びイオンビームの照射時間を調整する場合の実施例を説明する。
トレイ１６に保持された圧電振動子１７は、照射位置ｂの前段において図示しない周波数調整器によって個々の周波数を予め測定される。この段階において、測定された周波数と、予備調整後の周波数の目標値とする周波数ｆ１とを対比する。
【００３３】
対比した際に圧電振動子１７の周波数（測定された周波数）がｆ１以上である場合には、該当する圧電振動子１７に対する周波数の予備調整は行わないようにする。このため、該当する圧電振動子１７が照射位置ｂへ搬送された場合には、シャッタ１６を半閉じにし、その圧電振動子１７にイオンビームが照射されないようにする。
【００３４】
一方、対比した際に圧電振動子１７の周波数が、ｆ１よりも低いｆｂやｆｃであった場合には、当該周波数をｆ１へと変化させるために必要とするイオンビームの照射時間を個々に算出する。そして、照射位置ｂへ搬送された圧電振動子には、本調整を行う圧電振動子と同時にイオンビームが照射される。この後、前述のようにして算出した圧電振動子毎の予備調整時のイオンビーム照射時間が経過した場合には、シャッタ１６が半閉じにされ、照射位置ｂに搬送された圧電振動子１７にイオンビームが照射されないように制御される。
【００３５】
以下、第１の実施形態と同様に、圧電振動子１７を照射位置ａに搬送し、最終的な目標周波数であるｆ0へ各圧電振動子１７の周波数を調整するために本調整を行う。
上記のような周波数調整方法により、予備調整段階において規定周波数ｆ１へ圧電振動子の周波数を集束させるように調整しているため、本調整を行う際には目標周波数に精度良く調整することが可能となる。このため、図４に示すように、圧電振動子の個数分布（周波数分布）が、第１の実施形態よりも目標周波数ｆ０の周辺に集束することとなる。
【００３６】
次に、本発明の圧電振動子の周波数調整方法に係る第３の実施形態について図５を参照して説明する。本実施形態の特徴は、第１、第２の実施形態と比べ、圧電振動子１７へのイオンビームの照射範囲を広げたことにある。本実施形態では、周波数の本調整を行う圧電振動子１７の他、搬送方向において、手前２個のロット（照射位置ｂ、照射位置ｃ）に対してもイオンビームを照射することとした（第１、第２の実施形態においては、本調整を行う圧電振動子の一つ手前のロットのみに対してイオンビームを照射していた）。このため、照射位置ｃは周波数の一次予備調整を行う場所であり、照射位置ｂは周波数の二次予備調整を行う場所となる。なお、イオンビームの照射範囲を広げる方法としては、イオンビームの照射源と圧電振動子１７との距離を第１の実施形態よりも長く採るようにすれば良い。もちろんイオンビームの放射角度の広いイオンガンを用いることでも足りるが、設備投資を抑えるという面では、前者が有効である。他の構成は第１の実施形態と同一なため、同一符号を付して詳細な説明は省略する。
【００３７】
上記第３の実施形態のような圧電振動子の周波数調整方法では、イオンビームの照射範囲を広げ、同時に周波数調整を行うことができる圧電振動子１７の数を増やし、一次予備調整、二次予備調整、本調整としたことにより、それぞれの工程でイオンビームを施す時間を短縮することができ、第１、第２の実施形態よりもさらにスループットの向上を図ることが可能となる。
【００３８】
図６に本実施形態での周波数調整による圧電振動子１７の周波数変化と、周波数毎の圧電振動子１７の分布とを示す。当該グラフの構成は第１の実施形態と略同様であるが、二点鎖線で示す二次予備調整を行っている点が異なる。
【００３９】
次に、本発明の圧電振動子の周波数調整方法に係る第４の実施形態について図７を参照して説明する。本実施形態は、３つの圧電振動子１７にイオンビームを照射可能とする点で第３の実施形態に類似している。第３の実施形態と、本実施形態との相違点は、マスク（第１のマスク）１４に圧電振動子１７の配置間隔でスリットを設け、そこからイオンビームが照射されるようにした点と、マスク１４の近傍に、第２のマスク可動手段１５によって可動する第２のマスク１４ａを備え、前記スリットを個々に塞ぐことを可能としてイオンビームの照射時間を調整できるようにした点にある。なお、他の構成は、第１の実施形態乃至第３の実施形態と同様なため、同一作用を奏するものに関しては、同一符号を付して詳細な説明は省略することとした。
【００４０】
本実施形態において、図７に示す第２のマスク１４ａは一枚構造としているが、複数に分割し、第１のマスク１４の個々のスリット毎に閉塞領域を指定する物であっても良い。また、本発明を実施するにあたっては、イオンビームの照射角度に応じて同時に予備調整を行う圧電振動子の数を、さらに増やしても良い。また、実施形態ではイオンガンを固定とし、圧電振動子を搬送する手段を採用していたが、本発明を実施する上では、イオンガンを移動させるようにしても良いし、両者を相対的に動かすようにしても良い。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明の圧電振動子の周波数調整方法に係る第１の実施形態を示す図である。
【図２】第１の実施形態によって調整される圧電振動子の周波数と個数分布の変化を示す図である。
【図３】本発明の圧電振動子の周波数調整方法に係る第２の実施形態を示す図である。
【図４】第２の実施形態によって調整される圧電振動子の周波数と個数分布の変化を示す図である。
【図５】本発明の圧電振動子の周波数調整方法に係る第３の実施形態を示す図である。
【図６】第３の実施形態によって調整される圧電振動子の周波数と個数分布の変化を示す図である。
【図７】本発明の圧電振動子の周波数調整方法に係る第４の実施形態を示す図である。
【図８】従来の圧電振動子の周波数調整方法を示す図である。
【図９】従来の圧電振動子の周波数と個数分布の変化を示す図である。
【符号の説明】
【００４２】
１０………イオンガン、１２………シャッタ、１４………マスク、１６………トレイ、１７………圧電振動子、１８………パッケージ、１９………外部電極端子、２０………圧電振動片、２２………電極パッド、２４………周波数測定器、２６………トレイ可動手段。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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