(57)【要約】【課題】フローマークの発生を抑制することの可能な光ディスク用基板の製造方法、及び該外観、及び記録特性に優れた光ディスクを形成し得る光ディスク用基板を提供すること。【解決手段】スタンパを具備する第１の金型と、スタックリブを形成する凹部を有する第２の金型と、から形成されるキャビティー内に、射出シリンダのノズルを通じ溶融した樹脂を射出する光ディスク用基板の製造方法であって、前記第２の金型は、前記凹部よりも内周側に、半径方向に向って前記キャビィティーの空間を拡張し得る段差部を有することを特徴とする光ディスク用基板の製造方法、及び、該光ディスク用基板の製造方法により製造されることを特徴とする光ディスク用基板。【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
スタンパを具備する第１の金型と、スタックリブを形成する凹部を有する第２の金型と、から形成されるキャビティー内に、射出シリンダのノズルを通じ溶融した樹脂を射出する光ディスク用基板の製造方法であって、
前記第２の金型は、前記凹部よりも内周側に、半径方向に向って前記キャビィティーの空間を拡張し得る段差部を有することを特徴とする光ディスク用基板の製造方法。
【請求項２】
請求項１の光ディスク用基板の製造方法により製造されることを特徴とする光ディスク用基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスク用基板及びその製造方法に関し、特に、ＣＤやＤＶＤ等の光ディスクに使用される光ディスク用基板及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、文字情報、画像情報、音声情報等を大量に記録・再生する高密度の光情報記録媒体（ＤＶＤ）、また一回若しくは複数回の情報記録が可能な光情報記録媒体（ＤＶＤ−Ｒ若しくはＤＶＤ−ＲＷ）に対する要請は増大しつつある。かかる光情報記録媒体では、最短ピット及びトラックピッチをＣＤの半分以下にしたりする等の他、光情報記録媒体を２層に貼り合わせることにより情報記録の高密度化が図られている。
このような貼り合わせタイプの光情報記録媒体としては、基板上に記録層若しくはピット、反射層、保護層等をこの順に有する積層体（情報基板）同士を、保護層を接着面として貼り合せた構造や、上記の積層体と記録層等を有しない基板（ダミー基板）とを貼り合わせた構造が知られている。
【０００３】
ここで用いられる基板には、記録面の反対の面に、凸状のスタックリブが一体的に成形されたものがある。かかるスタックリブは、例えば、光ディスクの中心と同心円上に沿って環状に形成されており、その突出長（高さ）が０．１ｍｍ〜０．３ｍｍ程度とされている。このスタックリブは、基板を一時的に保管する、若しくは、製造完了した光ディスクを一時的に保管等するため、複数枚の基板や光ディスクを積み重ねた場合に、互いに隣接する光ディスクの面（光入射面及びレーベル面）間に一定幅の隙間を形成する機能を有する。これにより、互いに隣接する基板や光ディスクの面同士が加圧状態におかれ光ディスク同士が貼り付いてしまったり、また加圧状態で基板や光ディスクの面同士が擦れ合って、光入射面又はレーベル面に擦り傷等の損傷が生じたりすることが防止することができる。
【０００４】
しかしながら、このようなスタックリブを有する基板（例えば、特許文献１、２参照。）を、従来構造の金型にて成型した場合、その金型には、スタックリブを形成するために設けられている凹部によって溶融した樹脂の流速に変化が生じ、成型後の基板に、スタックリブにより外周側にフローマークと呼ばれる樹脂の線が発生してしまうという問題があった。このフローマークの存在は、光ディスクとして、外観上、また、記録特性上の大きな問題となっていた。
【０００５】
【特許文献１】
実開平２−１２７７０号公報
【特許文献２】
特開平７−１２５０１１号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
以上から、本発明は上記従来の課題を解決することを目的とする。すなわち、本発明は、フローマークの発生を抑制することの可能な光ディスク用基板の製造方法、及び該製造方法から製造され、外観、及び記録特性に優れた光ディスクを形成し得る光ディスク用基板を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため鋭意検討した結果、本発明者は、下記本発明により当該目的を達成できることを見出した。
すなわち、本発明光ディスク用基板の製造方法は、スタンパを具備する第１の金型と、スタックリブを形成する凹部を有する第２の金型と、から形成されるキャビティー内に、射出シリンダのノズルを通じ溶融した樹脂を射出する光ディスク用基板の製造方法であって、
前記第２の金型は、前記凹部よりも内周側に、半径方向に向って前記キャビィティーの空間を拡張し得る段差部を有することを特徴とする。
【０００８】
なお、前記第２の金型において、前記段差部は、スタックリブの内周縁部よりも０．２〜１．０ｍｍの範囲で内周に設けられることが好ましい。また、該段差部の高さは、０．００５〜０．０５ｍｍの範囲であることが好ましい。
【０００９】
また、本発明の光ディスク用基板は、前記の光ディスク用基板の製造方法により製造されることを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】
〔光ディスク用基板の製造方法〕
本発明の光ディスク用基板の製造方法は、スタンパを具備する第１の金型と、スタックリブを形成する凹部を有する第２の金型と、から形成されるキャビティー内に、射出シリンダのノズルを通じ溶融した樹脂を射出する光ディスク用基板の製造方法であって、
前記第２の金型は、前記凹部よりも内周側に、半径方向に向って前記キャビィティーの空間を拡張し得る段差部を有することを特徴とする。
以下、図を参照して、本発明の光ディスク用基板の製造方法について詳細に説明する。
【００１１】
図１は、本発明の光ディスク用基板の製造方法に用いられる基板成型用金型の例示的１態様を示す概略断面図である。なお、以下に示す図面（図１〜図３）は、本発明を明確にするために、要部のみを概略的に表し、多少誇張して表現されていることがある。
【００１２】
図１に示す基板成型用金型は、固定金型（第１の金型）１０と、可動金型（第２の金型）２０と、スタンパ３０と、スプルー孔４０と、キャビティー５０と、エジェクタピン６０と、から構成される。図１では、スタンパ３０が不図示のスタンパ固定手段により固定金型１０の固定側鏡面ブロック１２に具備されている例を示しているが、スタンパ３０は可動金型２０に具備されていてもよい。なお、スタンパ３０が可動金型２０に具備されている場合には、該可動金型２０が第１の金型となり、固定金型１０にスタックリブを形成する凹部２２（以下、適宜、単に「凹部」と称する。）と段差部２４とが設けられることになり、該固定金型１０が第２の金型となる。
【００１３】
上述のように、本発明の光ディスク用基板の製造方法においては、第１の金型（図１においては、固定金型１０に該当する。）と、スタックリブを形成する凹部よりも内周側に、半径方向に向って前記キャビィティーの空間を拡張し得る段差部を有する第２の金型（図１においては、可動金型２０に該当する。）と、を用いることを特徴とする。
【００１４】
かかる可動金型２０は、図１に示されるように、可動側鏡面ブロック２６に形成されたスタックリブを形成する凹部２２（以下、適宜、単に「凹部」と称する。）と、可動側鏡面ブロック２６及び可動側インサートブロック２７により形成された段差部２４と、を有し、更に、フローティングパンチ２８と、スプルカットパンチ２９と、を有する。
【００１５】
スタックリブを形成する凹部２２とは、即ち、基板や製造された光ディスクを一時的に積層保存する際のスペーサの機能を有するスタックリブを形成するためのものである。このようにスタックリブをスペーサとして機能させるため、可動側鏡面ブロック２６に形成された凹部２２の深さ（スタックリブの突出長）は、０．１ｍｍ〜０．４ｍｍ程度に設定されていることが好ましい。
【００１６】
また、可動金型２０に設けられている段差部２４は、スタックリブを形成する凹部２２よりも内周側であって、半径方向（溶融した樹脂の流れの方向）に向って、キャビィティー空間５０を拡張するように設けられているものである。図１に示されるように、段差部２４は、可動側鏡面ブロック２６に対して、可動側インサートブロック２７をキャビティ５０側に突出させることにより、形成されている。
以下、可動金型２０における凹部２２と段差部２４との関係について、図２及び図３を使用して詳細に説明する。ここで、図２は、図１の基板成型用金型における凹部及び段差部の形状を説明するための拡大断面図である。また、図３は、段差部の形状の他の例を説明するための拡大断面図である。なお、図２及び図３では、本発明における段差部２４の形状を明確に示すための図であるため、可動側鏡面ブロック２６と可動側インサートブロック２７との区別を付けることなく記載してある。
【００１７】
図２に示すように、段差部２４は、凹部２２の内周縁部から０．２〜１．０ｍｍの範囲で、凹部２２よりも内周側に設けられることが好ましい。つまり、図２に示す、凹部２２の内周縁部と段差部２４の外周縁部との距離Ｄは、０．２〜１．０ｍｍの範囲であることが好ましいことになる。また、かかる距離Ｄは、より好ましくは、０．２〜０．８ｍｍの範囲であり、０．２〜０．６ｍｍの範囲であることが更に好ましい。
【００１８】
また、図２に示すように、段差部２４の高さ（高さの変位量）Ｔは、０．００５〜０．０５ｍｍの範囲であることが好ましく、０．０１〜０．０４ｍｍの範囲であることがより好ましく、０．０１〜０．０３ｍｍの範囲であることが更に好ましい。
【００１９】
なお、図２に示す段差部２４は、Ｌ字型の形状を有しているが、本発明においては、この形状に限定される必要はなく、半径方向に向ってキャビティ空間の拡張を可能とするものならばよい。例えば、図３（ａ）のように傾斜面を有している段差部２４ａであってもよいし、図３（ｂ）多段階状になっている段差部２４ｂであってもよい。更には、段差部は、曲線からなる傾斜面を有しているものであってもよい。
ここで、段差部が図３（ａ）及び（ｂ）のような形状（段差部２４ａ及び段差部２４ｂ）である場合であっても、凹部２２との距離Ｄや高さＴが上記の範囲にあることが好ましい。なお、段差部２４ａ又は段差部２４ｂと、凹部２２と、の距離Ｄは、段差部２４の外周縁部から凹部の内周縁部までの距離となり、段差部２４ａ又は段差部２４ｂの高さＴは、高さの変位量の最大値を指すことになる。
【００２０】
このような可動金型２０を有する基板成型用金型を用いると、スプール孔４０から注入された溶融した樹脂は、キャビティ空間５０の外周部（半径方向）に向って流れることになるが、スタックリブを形成するための凹部２２の直前に段差部２４があることで、キャビティ空間５０を拡張することができ、そのキャビティ空間５０の拡張により樹脂の流速が落ち、キャビティ空間５０の中でも特に、スタックリブを形成するための凹部２２に存在する空気を残存させることなく外周部へと運ぶことができるようになる。従って、キャビティ空間５０における、空気の残存や、空気の排出の遅れなどが防止され、結果的に、フローマークの発生が抑制されるものと推測される。
なお、このフローマーク発生の抑制効果は、少なくとも、段差部においてキャビティ空間を拡張することにより得られるが、より高い抑制効果を達成するためには、凹部２２と段差部２４との距離Ｄや、段差部２４の高さＴの値が、上述の範囲に調整することが好ましい。
【００２１】
そして、可動金型２０を有する基板成型用金型のキャビティ空間５０内に樹脂を充填した後は、一般的な成形方法と同じ条件で、型締め力を付与し、かかる樹脂のガラス転移点より低い温度まで冷却する。その後、スプルカットパンチ２９を用いて中心孔を形成し、可動金型２０を開く際に、エジェクタピン６０及びフローティングパンチ２８を用いて、成形された基板を押し出し、取り出せばよい。
このようにして成型された基板には、フローマークの発生が抑制されており、スタンパ３０により形成されたピットもしくはグルーブが良好に転写されていることになる。
【００２２】
本発明において、基板を構成する樹脂としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネートが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、０．５〜１．２ｍｍとすることが好ましく、０．６〜１．１ｍｍとすることがより好ましい。
【００２３】
本発明の製造方法により製造される光ディスク用基板を、例えば、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒ等の記録可能な光ディスクに使用する場合、成形後の基板には、トラッキング用の案内溝又はアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プリグルーブ）が、スタンパ３０により形成されることになる。
ＤＶＤ−Ｒ又はＤＶＤ−ＲＷの場合は、プリグルーブのトラックピッチは、３００〜９００ｎｍの範囲とすること好ましく、３５０〜８５０ｎｍとすることがより好ましく、４００〜８００ｎｍとすることが更に好ましい。
３００ｎｍ未満では、プリグルーブを正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、９００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
また、プリグルーブの深さ（溝深さ）は、８０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましく、１００〜１８０ｎｍとすることがより好ましく、１１０〜１６０ｎｍとすることが更に好ましい。
８０ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、２００ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
更に、プリグルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２３０〜３８０ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜３５０ｎｍとすることが更に好ましい。
２００ｎｍ未満では、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、４００ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【００２４】
ＣＤ−Ｒ又はＣＤ−ＲＷの場合は、プリグルーブのトラックピッチは、１．２〜２．０μｍの範囲とすることが好ましく、１．４〜１．８μｍとすることがより好ましく、１．５５〜１．６５μｍとすることが更に好ましい。
プリグルーブの深さ（溝深さ）は、１００〜２５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、１５０〜２３０ｎｍとすることがより好ましく、１７０〜２１０ｎｍとすることが更に好ましい。
プリグルーブの半値幅は、４００〜６５０ｎｍの範囲とすることが好ましく、４８０〜６００ｎｍとすることがより好ましく、５００〜５８０ｎｍとすることが更に好ましい。
なお、上記プリグルーブの数値範囲の臨界的意義については、前記ＤＶＤ−Ｒ又はＤＶＤ−ＲＷの場合と同様である。
【００２５】
以上、本発明の光ディスク用基板の製造方法を図面を参照して説明したが、当該図面は例示であって、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２６】
本発明の光ディスク用基板の製造方法により製造された光ディスク用基板は、フローマークの発生が抑制されているため、その光ディスク用基板を備えてなる光ディスクは、まず、外観上の問題が発生しない、また、トラッキング不良が発生せず、記録再生を良好に行うことができるという優れた効果を有する。
【００２７】
〔光ディスク〕
以上のようにして作製された光ディスク用基板は、レーザ光により情報の記録及び再生が可能な記録層を有する光ディスクや、レーザ光により再生可能な情報が記録された記録部（ピット）を有する光ディスクに適用することができる。
なお、前者はＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＡＭ等の情報の書き込みが可能な追記型もしくは書き換え可能型の光ディスクであり、後者はＣＤ、ＤＶＤ等のあらかじめ情報が書き込まれた光ディスクである。
【００２８】
例えば、記録層を有する光記録媒体の構成としては、本発明により製造された基板上に、記録層、光反射層、保護層が順次形成された構成、又は、当該基板上に、少なくとも、記録層、光反射層、接着層、保護基板（ダミー基板）が順次形成された構成が挙げられる。
以下、上記各層について説明する。なお、層構成や材料等は、単なる例示である。
【００２９】
（記録層）
ＣＤ−Ｒ又はＤＶＤ−Ｒの場合、記録層は、記録物質である色素を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液をスピンコート法により基板のプリグルーブが形成された面に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。
スピンコート法を適用する際の温度は、２３℃以上とすることが好ましく、２５℃以上とすることがより好ましい。温度の上限は特にないが、溶剤の引火点より低い温度とする必要があり、好ましくは３５℃とする。
２３℃未満とすると、溶剤の乾燥が遅くなり、目的とする色素膜厚（記録層の厚み）が得られない場合や塗布乾燥時間が長くなり、生産性が低下することがある。
【００３０】
当該色素としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられ、なかでも、フタロシアニン色素が好ましい。
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、及び同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素も好適に用いられる。
【００３１】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、２−メトキシエチルアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００３２】
結合剤を使用する場合に、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【００３３】
塗布方法としては、既述のようにスピンコート法を適用するが、その際に使用する装置等については、従来公知のものを使用することができる。
また、記録層は単層でも重層でもよく、その層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。
【００３４】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、及び同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００３５】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００３６】
ＣＤ−ＲＷ又はＤＶＤ−ＲＷの場合、記録層は、結晶状態と非晶状態の少なくとも２つの状態をとり得る少なくともＡｇ、Ａｌ、Ｔｅ、Ｓｂからなる相変化型の光記録材料からなることが好ましい。かかる記録層は、公知の方法で形成することができる。
なお、当該記録層上には、必要に応じて、公知の誘電体層が形成される。
【００３７】
（光反射層）
記録層形成後、該記録層上に光反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングして光反射層を形成する。光反射層の形成に際しては、通常マスクが使用され、これによって光反射層の形成領域を調節することができる。
【００３８】
光反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、７０％以上であることが好ましい。
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。
光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００３９】
（保護層、保護基板）
光反射層を形成した後は、該光反射層上に保護層が形成される。
保護層は、スピンコート法により形成される。スピンコート法を適用することで、記録層にダメージ（色素の溶解、色素と保護層材料との化学反応等）を与えることなく保護層を形成することができる。スピンコートする際の回転数は、均一な層形成及び記録層へのダメージの防止の観点から、５０〜８０００ｒｐｍとすることが好ましく、１００〜５０００ｒｐｍとすることがより好ましい。
なお、保護層に紫外線硬化樹脂を使用した場合は、スピンコート法により保護層を形成した後、該保護層上から紫外線照射ランプ（メタルハライドランプ）により紫外線を照射して、紫外線硬化樹脂を硬化させる。
また、形成する保護層の厚みムラを無くすため、樹脂を硬化させる前に一定時間放置する等の処理を適宜行ってもよい。
【００４０】
保護層は、水分の侵入やキズの発生を防止する。保護層を構成する材料としては、紫外線硬化樹脂、可視光硬化樹脂、熱硬化性樹脂、二酸化ケイ素等であることが好ましく、なかでも紫外線硬化樹脂であることが好ましい。該紫外線硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業社製の「ＳＤ−６４０」等の紫外線硬化樹脂を挙げることができる。また、ＳＤ−３４７（大日本インキ化学工業社製）、ＳＤ−６９４（大日本インキ化学工業製）、ＳＫＣＤ１０５１（ＳＫＣ社製）等を使用することができる。保護層の厚さは、１〜２００μｍの範囲が好ましく、５０〜１５０μｍの範囲がより好ましい。
また、保護層が、レーザー光路として使用される層構成においては、透明性を有することが必要とされる。ここで、「透明性」とは、記録光及び再生光に対して、該光を透過する（透過率：９０以上）ほどに透明であることを意味する。
【００４１】
ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷの場合は、保護層に代わって、紫外線硬化樹脂等からなる接着層及び保護基板としての基板（厚さ：０．６ｍｍ程度、材質については前記基板と同様）を積層する。
すなわち、光反射層を形成した後、紫外線硬化樹脂（大日本インキ化学工業（株）製ＳＤ６４０等）をスピンコート法によって、２０〜６０μｍの厚さに塗布して、接着層を形成する。形成した接着層上に、例えば、保護基板としてのポリカーボネート基板（厚さ０．６ｍｍ）を載置し、基板上から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させて貼り合わせる。
【００４２】
以上のようにして、本発明で製造された光ディスク用基板の上に記録層、光反射層、保護層又は接着層を介した保護基板（ダミー基板）、等が設けられた積層体からなる光ディスクが作製される。
なお、基板に形成されるプリグルーブのトラックピッチや、記録層を構成する材料等を適宜設定することで、従来のＤＶＤ等よりトラックピッチが狭く、使用されるレーザ光より小さい波長のレーザ光で情報の記録再生を行うことが可能な光ディスクにも適用することができる。
【００４３】
【実施例】
本発明を以下に示す実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４４】
（実施例）
射出成型機（住友重機械工業（株）製）に、図１に示される基板成型用金型を設置した。具体的には、スタンパ３０を固定側鏡面ブロック１２に具備した固定金型１０と、可動側鏡面ブロック２６に形成された凹部２２、及び、可動側鏡面ブロック２６に対して可動側インサートブロック２７をキャビティ５０側に０．０２ｍｍ突出させて形成した段差部２４を有する可動金型２０と、を用いた。可動側インサートブロック２７の外径は３３．５ｍｍφであり、凹部２２は、内周縁部の位置が３４．２ｍｍφ、外周縁部の位置が３７．０ｍｍφ、深さ０．２２ｍｍであった。
かかる射出成型機を使用して、スパイラル状のグルーブ（溝深さ１３０ｎｍ、溝幅３００ｎｍ、トラックピッチ０．７４μｍ）を有する外径φ１２０ｍｍ、内径φ１５ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの透明な光ディスク用基板（ポリカーボネート樹脂製）を作製した。
【００４５】
ここで、本実施例における基板成型用金型を用いて基板を作成する際の射出成型の諸条件について、以下に示す。
・樹脂温度（最高値）：３９０℃
・ノズル温度：３１０℃
・金型温度：スプール孔４０を構成するスプールブッシュ（１１５℃）
固定側鏡面ブロック１２（１２４℃）
可動側鏡面ブロック２６（１２５℃）
・初期射出速度：１５０ｍｍ／ｓ
・型締方式：位置制御による射出圧縮成型
・初期型開量：０．６ｍｍ
・型締力（圧縮力）：４０ｔｏｎ
【００４６】
（比較例）
実施例において、射出成型機（住友重機械工業（株）製）に設置した基板成型用金型において、可動側鏡面ブロック２６に対して可動側インサートブロック２７をキャビティ５０側に突出させず、段差部２４が設けられていない可動金型２０を用いた他は、実施例と同様にして、比較例の光ディスク用基板を作製した。
【００４７】
実施例及び比較例に記載の方法で、光ディスク用基板を１００枚ずつ作製し、フローマークの発生を歪検査器（ヘイドン社製）にて確認し、不良発生率を求めた。
その結果、比較例の不良発生率は、９０％と高いものであったのに対し、実施例の不良発生率は、４％以下であった。
【００４８】
【発明の効果】
以上、本発明によれば、フローマークの発生を抑制することの可能な光ディスク用基板の製造方法、及び該外観、及び記録特性に優れた光ディスクを形成し得る光ディスク用基板を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光ディスク用基板の製造方法に用いられる基板成型用金型の例示的１態様を示す概略断面図である。
【図２】図１の基板成型用金型における凹部及び段差部の形状を説明するための拡大断面図である。
【図３】段差部の形状の他の例を説明するための拡大断面図であり、図３（ａ）は段差部が傾斜面を有しているものを示し、図３（ｂ）は段差部が多段階状になっているものを示している。
【符号の説明】
１０…固定金型
１２…固定側鏡面ブロック
２０…可動金型
２２…スタックリブを形成する凹部
２６…可動側鏡面ブロック
２７…可動側インサートブロック
２８…フローティングパンチ
２９…スプルカットパンチ
２４、２４ａ、２４ｂ…段差部
３０…スタンパ
４０…スプール孔
５０…キャビティ
６０…エジェクタピン
Ｄ…凹部２２と段差部２４との距離
Ｔ…段差部２４の高さ（高さの変位量）
【図１】
2005001292.tif 000003
【図２】
2005001292.tif 000004
【図３】
2005001292.tif 000005