(57)【要約】【課題】機械において実施するタスクを計画する方法を提供すること。【解決手段】この方法では、主要タスクのシーケンスに補助タスクを結合することによって順位グラフを導き出して、自動スケジューラによって解決し得るスケジュール作成問題を作成する。新しい作業の命令又は機械の例外などのトリガが発生した場合、作業の時間設定のやり直し、スケジュールのやり直し、又は計画のやり直しを行うことができる。【選択図】図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
リソグラフィ機器又はリソグラフィ処理セルの少なくともサブ・システムである機械におけるタスクを計画する方法において、
前記機械が実行すべき作業命令を受け取るステップと、
前記命令を遂行するために実行すべき主要タスクを決定するステップと、
前記主要タスクを含む主要タスクのシーケンスを作成するステップと、
１つ又は複数の輸送タスク、１つ又は複数の前処理タスク、及び／又は１つ又は複数の後処理タスクを含む、前記各主要タスクの前又は後で実行すべき補助タスクを決定するステップと、
前記主要タスクのそれぞれに結合した前記補助タスクを含むスケジュール作成問題のインスタンスを作成するステップとを含む、タスクを計画する方法。
【請求項２】
前記輸送タスクが、前記主要タスクに使用する材料を前記機械のリソース間で移動させることに関するタスクを含む請求項１に記載された方法。
【請求項３】
作業命令が、所定のロットの基板に所定のパターンを印刷することを含む請求項１に記載された方法。
【請求項４】
前記主要タスクが、前記命令された印刷を実施するのに必要な実際の露光タスクを含む請求項３に記載された方法。
【請求項５】
前記補助タスクが、
基板への放射感受性レジストの塗布と、
基板の事前位置調整と、
基板の測定又は特徴付けと、
搬送タスクと、
露光された基板の検査と、
露光後ベークと、
露光された基板の現像とを含む群から選択される１つ又は複数のタスクを含む請求項４に記載された方法。
【請求項６】
前記補助タスクが、
マスクのローディングと、
マスクの清浄化と、
マスクの検査と、
マスクの保管と、
マスクのアンローディングとを含む群から選択される１つ又は複数のタスクを含む請求項４に記載された方法。
【請求項７】
前記補助タスクが、
データ記憶装置からのデータ・ファイルの引出しと、
解凍と、
誤りのチェックと、
ラスター・データ化と、
プログラム可能なパターン付与装置のリセットとを含む群から選択される１つ又は複数のタスクを含む請求項４に記載された方法。
【請求項８】
前記スケジュール作成問題のインスタンスが順位グラフを含む請求項１に記載された方法。
【請求項９】
順位グラフの作成が、第１順位グラフ内の所定の基準を満たすすべてのノードを、関連するノードを含むサブ・グラフで置き換えて、第２順位グラフを作成することを含む請求項８に記載された方法。
【請求項１０】
順位グラフの作成が、第１順位グラフ内の所定の基準を満たすすべてのノードのところにサブ・グラフを挿入して、第２順位グラフを作成することを含む請求項８に記載された方法。
【請求項１１】
前記主要タスクのうちの異なるタスクに結合した、少なくとも２つの前記補助タスクの間に先行辺を追加するステップをさらに含む請求項１に記載された方法。
【請求項１２】
先行辺を追加するステップが、同じ材料に関するすべてのタスク間に先行辺を追加することを含む請求項１１に記載された方法。
【請求項１３】
先行辺を追加するステップが、同じ種類のすべてのタスク間に先行辺を追加することを含む請求項１１に記載された方法。
【請求項１４】
リソグラフィ機器又はリソグラフィ処理セルの少なくともサブ・システムである機械を制御する方法において、
第１計画から導き出した第１スケジュールに従ってタスクを実施するように前記機械を制御するステップと、
前記タスクの実施中に、計画策定に関係する事件の発生を示すトリガを受け取るステップと、
所定の時間にわたり前記第１スケジュールに従ってタスクを実施するように前記機械を引き続き制御するステップと、
前記所定の時間中に、前記事件を考慮に入れて第２計画を作成し、前記第２計画から第２スケジュールを導き出すステップと、
前記所定の時間の後に、前記第２スケジュールに従ってタスクを実施するように前記機械を制御するステップとを含む、機械を制御する方法。
【請求項１５】
前記トリガが、新しい作業命令である請求項１４に記載された方法。
【請求項１６】
前記トリガが、進行中の作業における例外である請求項１４に記載された方法。
【請求項１７】
前記例外が、タスクの失敗又はタスクの完了の遅れである請求項１６に記載された方法。
【請求項１８】
前記所定の時間が、計画及びスケジュールの修正を実施するのに十分なものである請求項１４に記載された方法。
【請求項１９】
前記所定の時間が、すでに進行中のタスク及び／又は前記機械にすでに送り出されたタスクを完了させるためには十分な時間である請求項１４に記載された方法。
【請求項２０】
前記所定の時間が、進行中の前記タスクに結合したタスクを完了させるのにも十分なものである請求項１９に記載された方法。
【請求項２１】
第２スケジュールを作成する前記ステップが、前記第１計画の終わりに新しい作業を追加することを含む請求項１４に記載された方法。
【請求項２２】
第２スケジュールを作成する前記ステップが、前記第１計画及び／又は前記第１スケジュールの一部又は全部の再スケジュール、再計画、又は再命令を行うことを含む請求項１４に記載された方法。
【請求項２３】
請求項１に記載された方法に従って、リソグラフィ投影機器によって実施されるタスクを計画するステップと、基板の目標部分にパターン化された放射ビームを投影することを含めて、前記計画されたタスクを実施するステップとを含む、デバイスの製造方法。
【請求項２４】
請求項１４に記載された方法に従ってリソグラフィ投影機器を制御して、基板の目標部分にパターン化された放射ビームを投影することを含めて、タスクを実施するステップを含む、デバイスの製造方法。
【請求項２５】
リソグラフィ機器又はリソグラフィ処理セルの少なくともサブ・システムである機械を制御するように構成された管理制御システムにおいて、
前記機械が実行すべき作業命令を受け取るように構成された入力装置と、
前記命令を遂行するために実行すべき主要タスクを決定するように構成された主要タスク決定機構と、
前記主要タスクを含む主要タスクのシーケンスを作成するように構成されたタスク・シーケンス生成器と、
１つ又は複数の輸送タスク、１つ又は複数の前処理タスク、及び／又は１つ又は複数の後処理タスクを含む、前記各主要タスクの前又は後で実行すべき補助タスクを決定するように構成された補助タスク決定機構と、
前記主要タスクのそれぞれに結合した前記補助タスクを含むスケジュール作成問題のインスタンスを作成するように構成されたスケジュール作成問題インスタンス生成器とを含む管理制御システム。
【請求項２６】
前記スケジュール作成問題のインスタンスが順位グラフを含む請求項２５に記載された管理制御システム。
【請求項２７】
前記スケジュール作成問題インスタンス生成器が、第１順位グラフ内の所定の基準を満たすすべてのノードを、関連するノードを含むサブ・グラフで置き換えて、第２順位グラフを作成するように構成された置換ユニットを含む請求項２５に記載された管理制御システム。
【請求項２８】
前記スケジュール作成問題インスタンス生成器が、第１順位グラフ内の所定の基準を満たすすべてのノードのところにサブ・グラフを挿入して、第２順位グラフを作成するように構成された挿入ユニットを含む請求項２５に記載された管理制御システム。
【請求項２９】
前記主要タスクのうちの異なるタスクに結合した、少なくとも２つの前記補助タスクの間に先行辺を追加するように構成された先行辺追加器をさらに含む請求項２５に記載された管理制御システム。
【請求項３０】
前記先行辺追加器が、同じ材料に関するすべてのタスク間に先行辺を追加するように構成されている請求項２９に記載された管理制御システム。
【請求項３１】
前記先行辺追加器が、同じ種類のすべてのタスク間に先行辺を追加するように構成されている請求項２９に記載された管理制御システム。
【請求項３２】
リソグラフィ機器又はリソグラフィ処理セルの少なくともサブ・システムである機械を制御するように構成された管理制御システムにおいて、
タスクのスケジュールを作成して、作業計画を実施するように構成されたスケジューラと、
前記機械に命令を送り出して、前記スケジュールに従ってタスクを実施すように構成されたタスク・ディスパッチャと、
計画策定に関係する事件の発生を示すトリガを受け取るように構成された中断機構であって、該中断機構が、前記タスク・ディスパッチャが前記スケジュールに従ってタスクを引き続き送り出す間に、所定の時間中に、前記スケジューラを制御して、前記イベントを考慮に入れて修正スケジュールを作成し、且つ、前記所定の時間の後に、前記タスク・ディスパッチャを制御して、前記修正スケジュールに従ってタスクを送り出すようにさらに適合されている中断機構とを含む管理制御システム。
【請求項３３】
前記トリガが、新しい作業命令である請求項３２に記載された管理制御システム。
【請求項３４】
前記トリガが、進行中の作業における例外である請求項３２に記載された管理制御システム。
【請求項３５】
前記例外が、タスクの失敗又はタスクの完了の遅れである請求項３４に記載された管理制御システム。
【請求項３６】
前記所定の時間が、スケジュールの修正を実施するのに十分なものである請求項３２に記載された管理制御システム。
【請求項３７】
前記所定の時間が、すでに進行中のタスク及び／又は前記機械にすでに送り出されたタスクを完了させるために十分な時間である請求項３２に記載された管理制御システム。
【請求項３８】
前記所定の時間が、進行中の前記タスクに結合したタスクを完了させるのにも十分なものである請求項３７に記載された管理制御システム。
【請求項３９】
前記スケジューラが、既存の計画の終わりに新しい作業を追加することによって、前記修正スケジュールを作成するように構成されている請求項３２に記載された管理制御システム。
【請求項４０】
前記スケジューラが、前記計画及び／又はスケジュールの一部又は全部の再スケジュール、再計画、又は再命令を行うことによって、前記修正スケジュールを作成するように構成されている請求項３２に記載された管理制御システム。
【請求項４１】
リソグラフィ機器において、
放射ビームを調整するように構成された照明器と、
前記ビームの横断面にパターンを付与するように働くパターン付与装置を保持するように構成された支持構造体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記基板の目標部分に、前記パターン化されたビームを投影するように構成された投影システムと、
請求項２５に記載された管理制御システムとを含むリソグラフィ機器。
【請求項４２】
リソグラフィ機器において、
放射ビームを調整するように構成された照明器と、
前記ビームの横断面にパターンを付与するように働くパターン付与装置を保持するように構成された支持構造体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
前記基板の目標部分に、前記パターン化されたビームを投影するように構成された投影システムと、
請求項３２に記載された管理制御システムとを含むリソグラフィ機器。
【請求項４３】
基板操作装置と、前処理及び後処理用の装置と、請求項２５に記載された管理制御システムとを含むトラック・ユニット。
【請求項４４】
リソグラフィ機器と、トラック・ユニットと、請求項２５に記載された制御システムとを含むリソグラフィ処理セル。
【請求項４５】
リソグラフィ機器又はリソグラフィ処理セルの少なくとも一部である機械を制御するように構成された、プログラム・コードを含むコンピュータ・プログラムにおいて、前記プログラム・コードは、コンピュータ・システム上で実行されると、前記コンピュータ・システムに、
前記機械が実行すべき作業命令を受け取るステップと、
前記命令を遂行するために実行すべき主要タスクを決定するステップと、
前記主要タスクを含む主要タスクのシーケンスを作成するステップと、
１つ又は複数の輸送タスク、１つ又は複数の前処理タスク、及び／又は１つ又は複数の後処理タスクを含めて、前記各主要タスクの前又は後で実行すべき補助タスクを決定するステップと、
前記主要タスクのそれぞれに結合した前記補助タスクを含むスケジュール作成問題のインスタンスを作成するステップとを含む方法を実施するように指令するコンピュータ・プログラム。
【請求項４６】
前記輸送タスクは、前記主要タスクに使用する材料を前記機械のリソース間で移動させることに関するタスクを含む請求項４５に記載されたコンピュータ・プログラム。
【請求項４７】
作業命令が、所定のロットの基板に所定のパターンを印刷することを含む請求項４５に記載されたコンピュータ・プログラム。
【請求項４８】
前記主要タスクが、前記命令された印刷を実施するのに必要な実際の露光タスクを含む請求項４７に記載されたコンピュータ・プログラム。
【請求項４９】
前記スケジュール作成問題のインスタンスが、順位グラフの形式である請求項４５に記載されたコンピュータ・プログラム。
【請求項５０】
順位グラフの作成が、第１順位グラフ内の所定の基準を満たすすべてのノードを、関連するノードを含むサブ・グラフで置き換えて、第２順位グラフを作成することを含む請求項４９に記載されたコンピュータ・プログラム。
【請求項５１】
順位グラフの作成が、第１順位グラフ内の所定の基準を満たすすべてのノードのところにサブ・グラフを挿入して、第２順位グラフを作成することを含む請求項４９に記載されたコンピュータ・プログラム。
【請求項５２】
前記主要タスクのうちの異なるタスクに結合した、少なくとも２つの前記補助タスクの間に先行辺を追加するステップをさらに含む請求項４５に記載されたコンピュータ・プログラム。
【請求項５３】
先行辺を追加するステップが、同じ材料に関するすべてのタスク間に先行辺を追加することを含む請求項５２に記載されたコンピュータ・プログラム。
【請求項５４】
先行辺を追加するステップが、同じ種類のすべてのタスク間に先行辺を追加することを含む請求項５２に記載されたコンピュータ・プログラム。
【請求項５５】
リソグラフィ機器又はリソグラフィ処理セルの少なくともサブ・システムである機械を制御するように構成された、プログラム・コードを含むコンピュータ・プログラムにおいて、前記プログラム・コードは、コンピュータ・システム上で実行されると、前記コンピュータ・システムに、
第１計画から導き出した第１スケジュールに従ってタスクを実施するように前記機械を制御するステップと、
前記タスクの実施中に、計画策定に関係する事件の発生を示すトリガを受け取るステップと、
所定の時間にわたり前記第１スケジュールに従ってタスクを実施するように前記機械を引き続き制御するステップと、
前記所定の時間中に、前記トリガを考慮に入れて第２計画を作成し、前記第２計画から第２スケジュールを導き出すステップと、
前記所定の時間の後に、前記第２スケジュールに従ってタスクを実施するように前記機械を制御するステップとを含む方法を実施するように指令するコンピュータ・プログラム。
【請求項５６】
前記トリガが、新しい作業命令である請求項５５に記載されたコンピュータ・プログラム。
【請求項５７】
前記トリガが、進行中の作業における例外である請求項５５に記載されたコンピュータ・プログラム。
【請求項５８】
前記例外が、タスクの失敗又はタスクの完了の遅れである請求項５７に記載されたコンピュータ・プログラム。
【請求項５９】
前記所定の時間が、計画及びスケジュールの修正を実施するのに十分なものである請求項５５に記載されたコンピュータ・プログラム。
【請求項６０】
前記所定の時間が、すでに進行中のタスク及び／又は前記機械にすでに送り出されたタスクを完了させるために十分な時間である請求項５５に記載されたコンピュータ・プログラム。
【請求項６１】
前記所定の時間が、進行中の前記タスクに結合したタスクを完了させるのにも十分なものである請求項６０に記載されたコンピュータ・プログラム。
【請求項６２】
第２スケジュールを作成するステップが、前記第１計画の終わりに新しい作業を追加することを含む請求項５５に記載されたコンピュータ・プログラム。
【請求項６３】
第２スケジュールを作成するステップが、前記第１計画及び／又は前記第１スケジュールの一部又は全部の再スケジュール、再計画、又は再命令を行うことを含む請求項５５に記載されたコンピュータ・プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ機器及びリソグラフィ処理セル、計画及び制御用の方法、並びにコンピュータ・プログラムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ機器は、基板の目標部分に所望のパターンを付与する機械である。リソグラフィ機器は、例えば、ＩＣ（集積回路）の製造に使用することができる。この状況では、マスクなどのパターン付与装置を使用して、ＩＣの個々の層に対応する回路パターンを作成できる。このパターンは、放射感受性材料（レジスト）の層を有する基板（例えばシリコン・ウェハ）上の（例えば、ダイの一部、或いは１つ又は複数のダイを含む）目標部分に結像させることができる。一般に、１枚の基板は、次々に露光される網目状（ネット・ワーク）の隣接した目標部分を含む。周知のリソグラフィ機器には、目標部分にパターン全体を１回露光することによって各目標部分が照射されるいわゆるステッパと、所定の方向（「走査」方向）に投影ビームを通過してパターンを走査し、この方向と平行又は逆平行に基板を同期走査することによって各目標部分が照射されるいわゆるスキャナとがある。
【０００３】
半導体その他のデバイスを製造する、一般に「ファブ」又は「ファウンドリ」と称する工場では、各リソグラフィ機器は一般に、基板操作装置並びに前処理及び後処理用の装置を含む「トラック」とともにグループ分けされ、それによって「リソグラフィ・セル」を形成する。各リソグラフィ機器及びトラックは一般に、管理制御システムを有する。この管理制御システム自体は、別の管理制御システムの制御下にある。素材（ブランク）であることもあり、すでに処理されて１つ又は複数の処理層又はデバイス層を含むこともある基板は、（バッチとも称する）ロット単位でリソグラフィ・セルに送られて処理される。一般にロットは、リソグラフィ・セルによって同じやり方で処理される一群の基板であり、実行すべきプロセスを指定する「レシピ」を伴う。ロットの大きさは、任意とすることもできるし、ファブを回って基板を搬送するのに使用する運搬装置の大きさによって決まることもある。レシピは、塗布すべきレジスト被覆の詳細、露光前ベーク及び露光後ベークの温度及び継続時間、露光すべきパターン及びそのパターン用の露光設定の詳細、現像継続時間などを含み得る。所定のバッチについてのレシピを完了するには、多数のタスクを実施しなければならない。多くの場合、トラック及びリソグラフィ機器はともに、例えば、トラックが複数のスピン・コータ（回転塗布装置）又は多目的ステーションを含む場合、或いは、リソグラフィ機器が測定及び露光用のステーションを有する２ステージ型の機器である場合には、一度に複数のタスクを実施できるので、これらのタスクを実施できる多くの可能なやり方がある。そのため、実施すべきタスクのスケジュール作成、並びに、例えば処理能力を最大にするためにこのスケジュールを最適化することは、複雑な仕事である。
【０００４】
ほとんどの場合、実行中にスケジュール作成を行うことには限界があり、ほとんどのタスクの順番は、機器又は管理制御システムの制御ソフトウェアにハードコードされる。スケジュール作成を行うより柔軟な手法は、完了すべきタスク及びそれらの先行関係に基づいてツリー（樹形図）を構築することである。このようなツリーでは、起点から開始して、分岐は、実行し得る可能なタスクを表し、葉にあたる部分に至る。そこからの別の分岐は、その後実行し得るタスクを表し、これがさらに続く。この場合、スケジュール作成とは、このツリーを通過する経路を選択することである。
【０００５】
既存のスケジュール作成方法では、作業命令を自動的に計画に変換し、次にそれをスケジュールし得る方法が、依然として求められている。さらに、スケジュールを実行する際の追加作業の命令又は例外などの状況の変化に、好ましくは処理能力の低下を最小限に抑えた状態で適応することが依然として求められている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
したがって、例えば、リソグラフィ機器及びリソグラフィ処理セル、又はそれらの一部などの機械におけるタスクを計画する改善された方法を提供することが有利であろう。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一観点によれば、リソグラフィ機器又はリソグラフィ処理セルの少なくともサブ・システムである機械におけるタスクを計画する方法が提供される。この方法は、
この機械が実行すべき作業命令を受け取るステップと、
この命令を満足するために実行すべき主要タスクを決定するステップと、
この主要タスクを含む主要タスクのシーケンス（順序）を作成するステップと、
１つ又は複数の輸送タスク、１つ又は複数の前処理タスク、及び／又は１つ又は複数の後処理タスクを含めて、各主要タスクの前又は後で実行すべき補助タスクを決定するステップと、
主要タスクのそれぞれに関連する補助タスクを含むスケジュール作成問題のインスタンスを作成するステップとを含む。
【０００８】
例えば順位グラフ形式の計画は、命令を満足するために用いる主要タスクのシーケンスから、他の前処理タスク又は準備タスク、及び／又は後処理タスク又は仕上げタスクを論理的且つ所定のやり方で追加することによって構築できる。準備タスクは、主要タスクに使用する材料を機械のリソース間で移動させることに関するタスクである輸送タスク、及び／又は、主要タスク用の材料及び／又はリソースを準備するのに必要とされるタスクである前処理タスク又は設定タスクを含み得る。仕上げタスクは、後処理タスクだけでなく輸送タスクも含み得る。順位グラフは、２００３年１２月２３日出願の「リソグラフィ装置またはリソグラフィ処理セルの作動方法、並びにリソグラフィ装置およびリソグラフィ処理セル（ＭＥＴＨＯＤ  ＯＦ  ＯＰＥＲＡＴＩＮＧ  Ａ  ＬＩＴＨＯＧＲＡＰＨＩＣ  ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ  ＯＲ  ＬＩＴＨＯＧＲＡＰＨＩＣ  ＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧ  ＣＥＬＬ，ＬＩＴＨＯＧＲＡＰＨＩＣ  ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ  ＡＮＤ  ＬＩＴＨＯＧＲＡＰＨＩＣ  ＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧ  ＣＥＬＬ）」という名称の同時係属の米国特許出願第１０／７４３３２０号などに記載の自動スケジューラに提供し得る形式でスケジュール作成問題の構成要素となる。上記文献全体をここに参照により組み込む。
【０００９】
本発明の具体例では、作業命令は、例えばマスク又はデータ・ファイルの形で具体化される所定のパターンを、ある条件下で所定のロットの基板に印刷することを含み得る。このような場合、主要タスクは、命令された印刷を実施するのに必要な実際の露光タスクを含み得る。この場合、輸送及び前処理用のタスクは、作成された計画に従って制御されることになるシステム又はサブ・システムに応じて、基板に放射感受性レジストを塗布することから、レジストを塗布した基板の事前位置調整及び測定又は特徴付けまでの範囲のタスクを、関連する搬送タスクと併せて含み得る。さらに、輸送及び前処理用のタスクは、マスク・ローディング（装荷）、清浄化、及び検査用のタスクなどの、印刷すべきパターンを実施する１つ又は複数のマスクの提供に関係するタスク、或いは、データ記憶装置から引き出し、解凍し、誤りを調べ、且つ／又はラスター・データ化するなどの、マスクを実施するデータ・ファイルをプログラム可能なパターン付与装置に渡すことに関するタスクを含み得る。同様に、後処理タスクは、この場合も作成された計画に従って制御されることになるシステム又はサブ・システムに応じて、基板、及びマスクを使用した場合にはマスクを搬送するタスク、並びに検査、露光後ベーク、現像などのタスクを含み得る。プログラム可能なパターン付与装置を使用する場合、後処理タスクは、この装置をリセットすることを含み得る。
【００１０】
本発明の具体例では、この方法はさらに、主要タスクのうちの異なるタスクに関連する、少なくとも２つの補助タスクの間に先行辺を追加することを含む。先行辺は、例えば、基板などの材料を機械に渡す命令、又はマスクなどの材料を再度使用することを表し得る。
【００１１】
本発明の別の観点によれば、リソグラフィ機器又はリソグラフィ処理セルの少なくともサブ・システムである機械を制御する方法が提供される。この方法は、
第１計画から導き出した第１スケジュールに従ってタスクを実施するように機械を制御するステップと、
タスクの実施中に、計画策定に関係する事件（イベント）の発生を示すトリガを受け取るステップと、
所定の時間にわたり第１スケジュールに従ってタスクを実施するように機械を引き続き制御するステップと、
この所定の時間中に、事件を考慮に入れて第２計画を作成し、この第２計画から第２スケジュールを導き出すステップと、
この所定の時間の後で、第２スケジュールに従ってタスクを実施するように機械を制御するステップとを含む。
【００１２】
作業の実施中に生じ得る様々な事件により、スケジュールされた計画を変更することが必要な、又は望ましいことがある。例えば、新しい作業命令を受け取ることもあるし、進行中の作業に例外があることもある。例外の例は、タスクの失敗又はタスクの完了の遅れを含む。上記の方法では、自動制御システムは、トリガに応答して新しい計画を作成し、所定の時間にわたって作業を引き続き実施することによって処理能力を低下させずにスケジュール作成を行うことができる。作業を続けることにより、計画及びスケジュールの修正を実施する時間が得られる。こうすると、すでに進行中のタスク及び／又は機械にすでに送り出されたタスク、並びに進行中のタスクに関連するタスクを完了させるための時間も得られる。したがって、所定の時間の継続期間は、機械及び進行中の計画の特徴、並びに実施されることになる計画及びスケジュールの修正の程度に依存できる。例外の場合、特にタスクの失敗の場合には、この所定の時間により、他の関連する工程の結果を受け取ることができることがあり、それによって、この誤りから復旧するための有効な計画が確実に作成され得る。この方法では、計画策定及び／又はスケジュール作成のやり直しを実施する間、機械は引き続き有用な作業を行うので、機械の処理能力を最大にすることができる。
【００１３】
トリガが新しい作業の命令である場合、計画策定及び／又はスケジュール作成のやり直しは、いくつかの異なるやり方で実施できる。最も簡単な場合、新しい作業は単に、既存の計画の終わりに追加される。この場合に必要とされる計画策定及びスケジュール作成の計算は最も少ないが、処理能力を向上させる機会を見落とすことがある。計算の労力を増やせば、既存の計画及びスケジュールの一部又は全部の再スケジュール、再計画、又は再命令を行うことが可能である。既存のスケジュールについて変更できるところがより多いほど、例えば、異なる命令の一部を並列に実施することによって、或いは、後続の命令において材料を再度使用することによって、時間を節約できる潜在的な可能性がより大きい。命令の相対的な時間設定及び優先順位も変更することができる。
【００１４】
例外を表すトリガの場合、この場合も、是正タスクをスケジュールに統合し得る様々なやり方がある。例えば、復旧タスクが完了するまで、或いは復旧タスクが、主要タスクとして新しい計画及びスケジュールに統合されるまで、既存のスケジュールの残りの部分の時間設定を変更することができる。
【００１５】
本発明の別の観点によれば、それぞれ上記で説明した制御システムを含むリソグラフィ処理セル、リソグラフィ機器、及びトラック・ユニットが提供される。
【００１６】
本明細書では、ＩＣの製造にリソグラフィ機器を使用することを具体的に参照することがあるが、本明細書で説明するリソグラフィ機器は、集積光学系、磁気ドメイン・メモリ用の誘導／検出パターン、ＬＣＤ（液晶ディスプレイ）、薄膜磁気ヘッドなどの製造など、他の応用が可能であることを理解されたい。このような代替応用例の状況では、本明細書で用いる「ウェハ」又は「ダイ」という用語は、それぞれより一般的な用語である「基板」又は「目標部分」と同義とみなし得ることが当業者には理解されよう。本明細書で言及する基板は、例えば、トラック（一般に、基板にレジスト層を塗布し、露光されたレジストを現像するツール）、計測ツール、及び／又は検査ツール内で、露光前又は露光後に処理することができる。該当する場合には、本明細書の開示を上記その他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板は、例えば多層ＩＣを作製するために２回以上処理することがある。そのため、本明細書で用いる基板という用語は、複数の処理済み層をすでに含む基板を指すこともある。
【００１７】
本明細書で用いる「放射」及び「ビーム」という用語は、（例えば、３６５、２４８、１９３、１５７、又は１２６ｎｍの波長を有する）ＵＶ（紫外）放射、及び（例えば、５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）ＥＵＶ（極紫外）放射、並びにイオン・ビーム又は電子ビームなどの粒子ビームを含めて、あらゆる種類の電磁放射を包含する。
【００１８】
本明細書で用いる「パターン付与装置」という用語は、投影ビームの横断面にパターンを付与して、基板の目標部分にパターンを作成するのに使用できる任意の装置を指すと広く解釈すべきである。投影ビームに付与されるパターンは、基板の目標部分における所望のパターンに厳密に対応しないことがあることに留意されたい。一般に、投影ビームに付与されるパターンは、目標部分に作製される集積回路などのデバイス中の特定の機能層に対応する。
【００１９】
パターン付与装置は、透過型又は反射型とすることができる。パターン付与装置の例には、マスク、プログラム可能なミラー・アレイ（配列）、及びプログラム可能なＬＣＤパネルが含まれる。マスクは、リソグラフィでは周知のものであり、その例には、バイナリ型、交互配置位相シフト型、及びハーフトーン位相シフト型などのマスク・タイプだけでなく、様々なハイブリッド型マスク・タイプが含まれる。プログラム可能なミラー・アレイの例では、入射する放射ビームが異なる方向に反射されるように、それぞれ個々に傾けることができるマトリックス配置の小ミラーを利用する。このようにして、反射ビームがパターン化される。パターン付与装置のそれぞれの例では、支持構造体は、例えばフレーム又はテーブルとすることができ、それらは例えば、必要に応じて固定又は移動可能とし、例えば投影システムに対してパターン付与装置が所望の位置にくるようにすることができる。本明細書で用いる「レチクル」又は「マスク」という用語は、「パターン付与装置」というより一般的な用語と同義とみなし得る。
【００２０】
本明細書で用いる「投影システム」という用語は、例えば、用いられる露光放射、或いは浸漬液の使用又は真空の使用などの他の要因に対して適宜、屈折光学系、反射光学系、及び反射屈折光学系を含めて、様々な種類の投影システムを包含すると広く解釈すべきである。本明細書で用いる「投影レンズ」という用語は、「投影システム」というより一般的な用語と同義とみなし得る。
【００２１】
照明システムも、放射投影ビームを方向付け、整形し、また制御する屈折型、反射型、及び反射屈折型光学部品を含めて、様々な種類タイプの光学部品を含み得る。このような部品も、以下では総称して或いは単独で「レンズ」と称することがある。
【００２２】
リソグラフィ機器は、２つ（２個ステージ）またはそれより多い基板テーブル（及び／又は２つ以上のマスク・テーブル）を有する種類のものとし得る。このような「複数ステージ」型の機械では、追加のテーブルを並列で使用し、即ち準備ステップを１つ又は複数のテーブル上で実施しながら、１つ又は複数の他のテーブルを使用して露光を行うことができる。
【００２３】
リソグラフィ機器は、比較的高屈折率の液体、例えば水の中に基板の表面を浸して、投影システムの最終要素と基板との間のスペースを満たす種類のものとすることもできる。浸漬液は、リソグラフィ機器内の他の空間、例えばマスクと投影システムの第１要素との間に適用することもできる。投影システムの開口数を大きくする液浸技術は、当技術分野では周知のものである。
【００２４】
本明細書で説明する方法は、ソフトウェア、ハードウェア、又はこれらの組合せとして実施することができる。ある実施例では、プログラム・コードを含むコンピュータ・プログラムが提供される。このプログラム・コードは、コンピュータ・システム上で実行されると、このコンピュータ・システムに、本明細書で説明する方法のいずれか又は全部を実施するように指令する。
【００２５】
次に、添付の概略図面を参照して、単なる例として本発明の実施例を説明する。図面では、対応する参照記号はそれに対応する部分を示す。
【実施例】
【００２６】
図１に、本発明の特定の実施例によるリソグラフィ機器を概略的に示す。この機器は、
放射（例えば、ＵＶ放射又はＤＵＶ放射）投影ビームＰＢを調整する照明システム（照明器）ＩＬと、
パターン付与装置（例えば、マスク）ＭＡを保持し、要素ＰＬに対してパターン付与装置を正確に位置決めする第１位置決め装置ＰＭに連結された（以下では参照記号がＳ０でもある）第１支持構造体（例えば、マスク・テーブル）ＭＴと、
基板（例えば、レジストを塗布したウェハ）Ｗを保持し、要素ＰＬに対して基板を正確に位置決めする第２位置決め装置ＰＷに連結された（以下では参照記号がＣ１、Ｃ２でもある）２つの基板テーブル（例えば、ウェハ・テーブル）ＷＴと、
基板Ｗの（例えば、１つ又は複数のダイを含む）目標部分Ｃに、パターン付与装置ＭＡによって投影ビームＰＢに付与されたパターンを結像する投影システム（例えば、屈折型投影レンズ）ＰＬとを含む。
【００２７】
ここで示すように、この機器は、（例えば、透過性マスクを使用する）透過型のものである。或いは、この機器は、（例えば、上記で言及した種類のプログラム可能なミラー・アレイを使用する）反射型のものでもよい。
【００２８】
照明器ＩＬは、放射源ＳＯから放射ビームを受け取る。この放射源及びリソグラフィ機器は、例えば放射源がエキシマ・レーザのときは別々の要素にできる。このような場合には、放射源はリソグラフィ機器の一部を形成するとはみなさず、放射ビームは、放射源ＳＯから、例えば適当な方向付けミラー及び／又はビーム拡大器（エキスパンダ）を含むビーム送達システムＢＤを使用して照明器ＩＬに至る。他の場合には、例えば放射源が水銀ランプのとき、放射源は機器と一体化の部分にできる。放射源ＳＯ及び照明器ＩＬは、必要な場合にはビーム送達システムＢＤとともに、放射システムと称することがある。
【００２９】
照明器ＩＬは、ビームの角度強度分布を調節する調節手段ＡＭを含み得る。一般に、照明器の瞳面内の強度分布の少なくとも外側及び／又は内側半径方向範囲（一般に、それぞれ外側σ及び内側σと称する）を調節することができる。照明器ＩＬは一般に、統合器ＩＮ及びコンデンサＣＯなど他の様々な部品をさらに含む。この照明器は、ビーム断面において所望の均一性及び強度分布を有する調整された放射ビームを提供する。この調節された放射ビームを投影ビームＰＢと称する。
【００３０】
投影ビームＰＢは、マスク・テーブルＭＴに保持されたマスクＭＡに入射する。マスクＭＡを横切った後に、投影ビームＰＢは、投影システムＰＬを通過し、投影システムＰＬによって基板Ｗの目標部分Ｃに結像する。第２位置決め装置ＰＷ及び位置センサＩＦ（例えば、干渉計測装置）を使用して、基板テーブルＷＴを正確に移動させて、例えば、ビームＰＢの経路内に異なる目標部分Ｃを位置決めすることができる。同様に、第１位置決め装置ＰＭ及び（図１には明示的に示さない）別の位置センサを使用して、例えば、マスク・ライブラリからマスクＭＡを機械的に取り出した後に、或いは走査中に、ビームＰＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。一般に、物体テーブルＭＴ及びＷＴの移動は、位置決め装置ＰＭ及びＰＷの一方又は両方の一部を形成する（粗い位置決め用の）長ストローク・モジュール及び（精密位置決め用の）短ストローク・モジュールを使用して実現される。ただし、（スキャナと異なり）ステッパの場合には、マスク・テーブルＭＴを短ストローク・アクチュエータだけに連結するか、或いは固定とすることができる。マスクＭＡ及び基板Ｗは、マスク位置調整用マークＭ１、Ｍ２及び基板位置調整用マークＰ１、Ｐ２を使用して位置調整できる。
【００３１】
図に示す機器は、下記の好ましいモードで使用することができる。
【００３２】
１．ステップ・モードでは、マスク・テーブルＭＴ及び基板テーブルＷＴは本質的に固定したまま、投影ビームに付与されたパターン全体を目標部分Ｃに１回で投影する（即ち、１回の静止露光）。次に、基板テーブルＷＴをＸ方向及び／又はＹ方向に移動させて、異なる目標部分Ｃを露光することができる。ステップ・モードでは、露光領域の最大サイズが、１回の静止露光で像形成される目標部分Ｃのサイズを制限する。
【００３３】
２．スキャン・モードでは、マスク・テーブルＭＴ及び基板テーブルＷＴを同期走査しながら、投影ビームに付与されたパターンを目標部分Ｃに投影する（即ち、１回の動的な露光）。マスク・テーブルＭＴに対する相対的な基板テーブルＷＴの速度及び方向は、投影システムＰＬの倍率（縮小率）及び像の反転特性によって決まる。スキャン・モードでは、露光領域の最大サイズが、１回の動的な露光における目標部分の（非走査方向の）幅を制限し、走査移動長により、目標部分の（走査方向の）高さが決まる。
【００３４】
３．別のモードでは、プログラム可能なパターン付与装置を保持するマスク・テーブルＭＴを本質的に固定し、基板テーブルＷＴを移動即ち走査しながら、投影ビームに付与されたパターンを目標部分Ｃに投影する。このモードでは一般に、パルス化された放射源を用い、基板テーブルＷＴの各移動動作後に、或いは走査中に連続放射パルス間で、プログラム可能なパターン付与装置を必要に応じて更新する。この動作モードは、上記で言及した種類のプログラム可能なミラー・アレイなどのプログラム可能なパターン付与装置を利用するマスクなしリソグラフィに容易に適用できる。
【００３５】
上記で説明した使用モードの組合せ及び／又は変形、或いはまったく異なる使用モードを用いることもできる。
【００３６】
上記で説明した機器の部分は、リソースとみなすことができ、総称してＲと称する。これらは、管理機械制御システムＳＭＣによって制御することができる。
【００３７】
管理機械制御から見ると、この機械は、ＴＲＳ（タスク・リソース・システム）と考えることができる。製造プロセスはタスクとみなされ、電子機械システムはリソースとみなされる。機械の挙動の最適化は、Ｎ．Ｊ．Ｍ．ｖａｎ  ｄｅｎ  Ｎｉｅｕｗｅｌａａｒ、Ｊ．Ｍ．ｖａｎ  ｄｅ  Ｍｏｒｔｅｌ−Ｆｒｏｎｃｚａｋ、およびＪ．Ｅ．Ｒｏｏｄａの「管理機械制御の設計（Ｄｅｓｉｇｎ  ｏｆ  Ｓｕｐｅｒｖｉｓｏｒｙ  Ｍａｃｈｉｎｅ  Ｃｏｎｔｒｏｌ）」、Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ  ２００３に記載されているいくつかのＴＲＳ定義レベルから開始できる。上記の文献全体を参照によりここに組み込む。この定義レベルが高いほど、選択の余地が大きい。選択を行うことによって、ＴＲＳ定義をより低いレベルに変換することができ、その結果、最終的に機械の時間的な挙動が得られる（時間設定されたＴＲＳであるＴＲＳ定義レベル０、図２参照）。「管理機械制御の設計」の論文では、下位の２つのＴＲＳ定義レベル（１、０）及びそれらの間で適用可能な変換機能（層Ａ）が正式に記載されており、より上位の定義レベル及び関連する問題が紹介されている。さらに、（ＳＭＣにより）設計時又は実行時のいずれで選択を行うかを決定する際に考慮に入れるべきいくつかの考察が示されている。最後に、ＳＭＣの設計を支援する公知の技術の概要が論じられている。
【００３８】
２００３年１２月２３日出願の「リソグラフィ装置またはリソグラフィ処理セルの作動方法、並びにリソグラフィ装置およびリソグラフィ処理セル（ＭＥＴＨＯＤ  ＯＦ  ＯＰＥＲＡＴＩＮＧ  Ａ  ＬＩＴＨＯＧＲＡＰＨＩＣ  ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ  ＯＲ  ＬＩＴＨＯＧＲＡＰＨＩＣ  ＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧ  ＣＥＬＬ，ＬＩＴＨＯＧＲＡＰＨＩＣ  ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ  ＡＮＤ  ＬＩＴＨＯＧＲＡＰＨＩＣ  ＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧ  ＣＥＬＬ）」という名称の同時係属の米国特許出願第１０／７４３３２０号では、最適化問題の開始点の定義レベルを１から２（選択が行われていないＴＲＳ）に上げ、「管理機械制御の設計」に記載されている技術的な考察を考慮に入れ、クラス２のシステム定義から開始する最適化問題の解決策を提示している。上記文献全体をここに組み込む。また、この手法についての重要な要件は、定義レベル３への拡張性及びＳＭＣにおける実行時の有用性である。本発明の実施例は、製造プロセスにおける例外の処理及び作業命令のリアルタイム受信を目的として、モデルに基づいて製造機械を管理制御するこの手法を拡張したものである。
【００３９】
図３に、本発明の実施例によって制御が行われる２ステージ式走査型リソグラフィ機器の概略配置を示す。この図では、円は、電子機械サブ・システム又はリソースを示し、矢印は、可能な搬送経路を示す。括弧内に、リソースが担持し得る材料インスタンスの数を示す。さらに、この図の下側部分は基板に関するものであり、上側部分は、マスクに関するものである。
これらのリソースは、
投影すべきパターンを実施するマスクを保持するマスク・テーブルＳ０（図１ではＭＴ）と、
それぞれ基板を保持し、測定ステーションと露光ステーションとの間で移動可能な２つの基板テーブルＣ０、Ｃ１（図１ではＷＴ）と、
放射源、照明システム、及び投影システムＯ０（図１での参照記号は、別々にＳＯ、ＩＬ、ＰＬ）と、
基板テーブルの１つに基板を移動させる前に、所定の向きに基板を位置調整する事前位置調整ユニットＡ０と、
未露光基板に放射感受性レジストを塗布し、露光された基板を現像し、基板を位置調整システムに送る、ほとんどの場合に分離された機器であるトラックＴ０と、
事前位置調整ユニットＡ０から基板テーブルに基板を搬送するローディング・ロボットＬ０と、
基板テーブルから排出ユニットＤ０に基板を搬送するアンローディング・ロボットＵ０（排出ユニットＤ０から、トラックによって基板が取り上げられる）と、
機器にマスクを入れ、機器からマスクを取り出すマスク・ポッド（容器）Ｐ０と、
マスクを露光に使用する前に、すべてのマスクを検査する検査ステーションＩ０と、
検査済みマスクを保管するのに使用できるバッファ・ステーションＢ０と、
マスクをマスク・テーブルに搬入し、マスク・テーブルから搬出する２つのエレベータＥ０及びＥ１と、
ポッド、エレベータ、検査ステーション、およびバッファの間でマスクを搬送するマスク・ロボットＲ０とを含む。
【００４０】
本目的のため、時間設定変換を無視すると、この機器についてのスケジュール作成モデルは、（Ｔ２，Ｌ２，Ｇ２，Ｎ２，Ｌｎ２，Ｇｎ２，Ｇａ２，Ｒ，Ｃ，Ｉ２，Ａ，Ｐ２，Ｐｔ２，Ｍ２，Ｃｂ２，Ｃｅ２，Ｒｍ，Ｍｆ）の１８個の要素によって定義できる。
ここで、Ｔ２は、タスクと呼ばれる要素を有する有限な組であり、Ｌ２は、クラスタと呼ばれる要素を有する有限な組、Ｇ２は、グループと呼ばれる要素を有する有限な組、Ｎ２は、ノードと呼ばれる要素を有する有限な組であり、且つモデル要素の一般化、すなわち、Ｎ２＝Ｔ２∪Ｌ２∪Ｇ２である。
【００４１】
Ｌｎ２：Ｌ２→Ｐ（Ｎ２）は、あるクラスタに含まれるノードの組を与える。
【００４２】
Ｇｎ２：Ｇ２→Ｐ（Ｎ２）は、あるグループの含むノード（代替手段）の組を与える。
【００４３】
【数１】
2005340848.tif 000003
は、あるグループから選択されるノードの（０を含む）許容数を与える。
【００４４】
Ｒは、リソースと呼ばれる要素を有する有限な組である。
【００４５】
Ｃは、ケイパビリティと呼ばれる要素を有する有限な組である。
【００４６】
Ｉ２：Ｔ２→Ｐ（Ｃ）は、あるタスクに関わるケイパビリティの組を与える。
【００４７】
Ａ：Ｃ→Ｐ（Ｒ）は、あるケイパビリティについて利用可能なリソースの組を与える。
【００４８】
Ｐ２∈Ｐ（Ｎ２×Ｎ２）は、ノード間の先行関係である。
【００４９】
Ｃｂ２，Ｃｅ２：ＴＣ→Ｐ（Ｍ）は、あるタスクに関わる各ケイパビリティの開始及び終了の材料構成を与える。ここで、ＴＣ＝｛（ｔ，ｃ）｜ｔ∈ｔ２，ｃ∈Ｉ２（ｔ）｝である。
【００５０】
【数２】
2005340848.tif 000004
は、所定のリソースに存在できる材料インスタンスの数を与える。
【００５１】
Ｍｆ⊆Ｒ→Ｒは、リソースからどのリソースに材料が流れ得るかを定義する要素の組として、物理的に可能な材料の流れを表す。
【００５２】
これらの要素の一部は、図２の定義レベルを表す添字を有する。添字を含まない要素は、レベルに依存しないものである。
【００５３】
複雑な機械におけるスケジュール作成モデルは、システムに依存する要素及び作業に依存する要素の２つの区分に分割できる。システムに依存する要素は、特定の機械又は機械の種類に固有な１つ又は複数の構成ファイルの形で提供される。異なる構成ファイルは、この機器の異なるサブ・システムに関係し、それによって、この機械の異なる部分が別々に展開できる。汎用計画策定エンジンは、これらの構成ファイルを参照し、したがっていくつかの異なる機械に使用することができ、例えばアップグレードによる機械のケイパビリティの変更に応答して容易に更新され、多くの異なる機械に使用できる。作業に依存する要素は、各命令とともに提供することができる。この実施例のシステムに依存する要素は、図３を用いて以下のように定義できる。
【００５４】
ケイパビリティは１３個ある。基板に関しては、基板テーブル、ロード及びアンロード用のロボット、事前位置調整及び排出用のユニット、及びトラックである。マスクに関しては、マスク・テーブル、エレベータ、ロボット、検査及びバッファ用のステーション、及びポッドである。これらに加えて、放射システム及び投影システム用のケイパビリティがある。
Ｃ＝｛Ｃ，Ｌ，Ｕ，Ａ，Ｄ，Ｔ，Ｓ，Ｅ，Ｒ，Ｉ，Ｂ，Ｐ，Ｏ｝
【００５５】
リソースは１５個ある。２つの基板テーブル及び２つのエレベータがある他、各ケイパビリティに１つずつである。
Ｒ＝｛Ｃ０，Ｃ１，Ｌ０，Ｕ０，Ａ０，Ｄ０，Ｔ０，Ｓ０，Ｅ０，Ｅ１，Ｉ０，Ｂ０，Ｒ０，Ｐ０，Ｏ０｝
【００５６】
各ケイパビリティに利用可能なリソースは、以下のように定義される。
Ａ＝｛（Ｃ，｛Ｃ０，Ｃ１｝），（Ｌ，｛Ｌ０｝），（Ｕ，｛Ｕ０｝），（Ａ，｛Ａ０｝），（Ｄ，｛Ｄ０｝），（Ｔ，｛Ｔ０｝），（Ｓ，｛Ｓ０｝），（Ｅ，｛Ｅ０，Ｅ１｝），（Ｉ，｛Ｉ０｝），（Ｂ，｛Ｂ０｝），（Ｒ，｛Ｒ０｝），（Ｐ，｛Ｐ０｝），（Ｏ，｛Ｏ０｝）｝
【００５７】
これらのリソースの材料キャパシティは、トラック、ポッド、及びバッファのほかは、各リソースに１つある。
Ｒｍ＝｛（Ｃ０，１），（Ｃ１，１）（Ｌ０，１），（Ｕ０，１），（Ａ０，１），（Ｄ０，１），（Ｔ０，９９），（Ｓ０，１），（Ｅ０，１），（Ｅ１，１），（Ｉ０，１），（Ｂ０，６），（Ｒ０，１），（Ｐ０，６），（Ｏ０，１）｝
【００５８】
可能な材料の流れは、以下のように定義される。
Ｍｆ＝｛（Ｔ０，Ａ０），（Ａ０，Ｌ０），（Ｌ０，Ｃ０），（Ｌ０，Ｃ１），．．．｝
【００５９】
作業に依存する要素を定義するために、この実施例における基板Ｗ１及びマスクＲＡの製造プロセスのステップを１回の露光について分析する。図４の順位グラフに、基板及びマスクの「基本」ライフを示す。まず、トラックから事前位置調整ユニット上に基板を搬送する（Ｔ２Ａ）。その後、事前位置調整を行う（Ａｌｉ）。その後で、ローディング・ロボットが事前位置調整ユニットから基板を取り出し（Ａ２Ｌ）、この基板を（「チャック」と称することがある）基板テーブルに置く（Ｌ２Ｃ）。基板テーブル上で、この基板を測定し（ｍｅａ）、その後、露光を行う（ｅｘｐ）。次に、アンローディング・ロボットが基板テーブルから基板を取り出し（Ｃ２Ｕ）、この基板を排出ユニットに置く（Ｕ２Ｄ）。最後に、トラックが排出ユニットから基板を取り出す（Ｄ２Ｔ）。
【００６０】
マスクのライフは、以下のステップを含む。ロボットが、ポッドからマスクを取り出し（Ｐ２Ｒ）、このマスクを検査ステーションに置き（Ｒ２Ｉ）、そこでマスクを検査する（Ｉｎｓ）。検査ステーションからマスクを取り出した後で（Ｉ２Ｒ）、このマスクを保管する可能性がある（ｓｔ？）。その後、ロボットがこのマスクをエレベータに置き（Ｒ２Ｅ）、エレベータがこのマスクをマスク・ステージに置く（Ｅ２Ｓ）。ステージで、このマスクを使用して露光を行う（ｅｘｐ）。露光が行われた後で、エレベータがこのマスクを取り上げ（Ｓ２Ｅ）、その後、ロボットがこのマスクを運び（Ｅ２Ｒ）、それをポッドに戻す（Ｒ２Ｐ）。図４のノードは、二重円で示す発生し得る保管ノード（ｓｔ？）を除き、すべてタスクである。このノードは、図４の下側に示すように拡大できる。このノードの階層は以下の通りである。上側のノード（ｓｔ？）は、グループ型のノードであり、このグループから、代替形態を１つも選択しないか、或いは１つの代替形態を選択しなければならない。このグループのノードは、マスクをバッファに搬送し（Ｒ２Ｂ）、その後、マスクを搬送して元に戻すこと（Ｂ２Ｒ）を記述する２つの連続タスクを含むノード型のクラスタの１つの代替形態（ｓｔ！）を含む。
【００６１】
上記で述べたタスクの多くは、関係するリソースによって実施される準備タスク又は設定タスクを必要とし得ることに留意されたい。本明細書では、これ以上これらのタスクについて論じないが、いくつかのスケジュールの実施例に現れることがある。
【００６２】
図４に示す基板Ｗ１及びマスクＲＡの材料の基本ライフに関して、作業に依存する要素は、以下のようにインスタンス化できる。
Ｔ２＝｛Ｗ１−Ｔ２Ａ，Ｗ１−Ａｌｉ，．．．，ＲＡ−Ｐ２Ｒ，ＲＡ−Ｒ２Ｉ，．．．｝
Ｌ２＝｛ＲＡ−ｓｔ！｝
Ｇ２＝｛ＲＡ−ｓｔ？｝
Ｉ２＝｛（Ｗ１−Ｔ２Ａ，｛Ｔ，Ａ｝），（Ｗ１−Ａｌｉ，｛Ａ｝），．．．｝
Ｐ２＝｛（Ｗ１−Ｔ２Ａ，Ｗ１−Ａｌｉ），（Ｗ１−Ａｌｉ，Ｗ１−Ａ２Ｌ），．．．｝
Ｐｔ２＝｛（ＲＡ−Ｐ２Ｒ，ＲＡ−Ｒ２Ｉ），（ＲＡ−Ｉ２Ｒ，ＲＡ−ｓｔ？），（ＲＡ−ｓｔ？，ＲＡ−Ｒ２Ｅ），（ＲＡ−Ｅ２Ｒ，ＲＡ−Ｒ２Ｐ）｝
【００６３】
これらの先行関係は、マスク・ロボットに関与するあらゆる搬送タスクに関わるものである。
Ｌｎ２＝｛（ＲＡ−Ｓｔ！，｛ＲＡ−Ｒ２Ｂ，ＲＡ−Ｂ２Ｒ｝）｝
Ｇｎ２＝｛（ＲＡ−Ｓｔ？，｛ＲＡ−ｓｔ！｝）｝
Ｇａ２＝｛（ＲＡ−Ｓｔ？，｛０，１｝）｝
Ｍ２＝｛ＲＡ，Ｗ１｝
Ｃｂ２＝｛（（Ｗ１−Ｔ２Ａ，Ｔ），｛Ｗ１｝），（（Ｗ１−Ｔ２Ａ，Ａ），｛｝），（（Ｗ１−Ａｌｉ，Ａ），｛Ｗ１｝），．．．｝
Ｃｅ２＝｛（（Ｗ１−Ｔ２Ａ，Ｔ），｛｝），（（Ｗ１−Ｔ２Ａ，Ａ），｛Ｗ１｝），．．．｝
【００６４】
図４に示す基板Ｗ１及びマスクＲＡの材料の基本ライフに関して、作業に依存する要素は、以下のようにインスタンス化できる。
Ｔ２＝｛Ｗ１−Ｔ２Ａ，Ｗ１−Ａｌｉ，．．．，ＲＡ−Ｐ２Ｒ，ＲＡ−Ｒ２１，．．．｝
Ｌ２＝｛ＲＡ−ｓｔ！｝
Ｇ２＝｛ＲＡ−ｓｔ？｝
Ｉ２＝｛（Ｗ１−ｔ２Ａ，｛Ｔ，Ａ｝），（Ｗ１−Ａｌｉ，｛Ａ｝），．．．｝
Ｐ２＝｛（Ｗ１−Ｔ２Ａ，Ｗ１−Ａｌｉ），（Ｗ１−Ａｌｉ，Ｗ１−Ａ２Ｌ），．．．｝
Ｐｔ２＝｛ＲＡ−Ｐ２Ｒ，ＲＡ−Ｒ２１），（ＲＡ−Ｉ２Ｒ，ＲＡ−ｓｔ？），（ＲＡ−ｓｔ？，ＲＡ−Ｒ２Ｅ），（ＲＡ−Ｅ２Ｒ，ＲＡ−Ｒ２Ｐ）｝
【００６５】
これらの先行関係は、マスク・ロボットに関与するあらゆる搬送タスクに関わるものである。
Ｌｎ２＝｛（ＲＡ−ｓｔ！，｛ＲＡ−Ｒ２Ｂ，ＲＡ−Ｂ２Ｒ｝）｝
Ｇｎ２＝｛（ＲＡ−ｓｔ？，｛ＲＡ−ｓｔ！｝）｝
Ｇａ２＝｛ＲＡ−ｓｔ？，｛０，１｝）｝
Ｍ２＝｛ＲＡ，Ｗ１｝
Ｃｂ２＝｛（（Ｗ１−Ｔ２Ａ，Ｔ），｛Ｗ１｝），（（Ｗ１−Ｔ２Ａ，Ａ），｛｝），（（Ｗ１−Ａｌｉ，Ａ），｛Ｗ１｝），．．．｝
Ｃｅ２＝｛（（Ｗ１−Ｔ２Ａ，Ｔ），｛｝），（（Ｗ１−Ｔ２Ａ，Ａ），｛Ｗ１｝），．．．｝
【００６６】
慣例により、タスクの名前は、大文字であり、関連する材料インスタンスの識別子ｉｄから始まることに留意されたい。
【００６７】
図５に、この基本的なスケジュール作成問題についてのスケジュールを示す。
【００６８】
リソグラフィでは、それぞれパターンの一部を含む複数のマスクを使用して、単一のＩＣを露光することが一般的である。典型的な例は、一方が回路の粗い部分を含み、他方が微細な細部を含む２枚のマスクを使用することである。他の場合には、１枚のマスクが水平形状を担持し、第２のマスクが垂直形状を担持することがある。これら２回の露光には、異なる照明設定が用いられる。次に、本発明の方法の実施例として、２枚の基板からなるバッチについてのこのような２重露光命令（命令１）の計画策定を論じる。必要とされるマスクはＲＡ及びＲＢであり、露光は「ＡＢＢＡ」のパターンに従って行われるべきである。即ち、まずマスクＲＡを使用し、次いで、マスクＲＢを使用して第１基板を露光する。後続の基板については、露光に用いるこのマスク命令を交互に行う。
【００６９】
計画策定プロセスにおける第１ステップとして、主要な製造プロセスである露光に注目する。命令１について、４つの露光ステップからなるシーケンスを決定できる。即ち、まず、マスクＲＡで基板Ｗ１を露光し、次いで、マスクＲＢで基板Ｗ１を露光し、その後、マスクＲＢで基板Ｗ２を露光し、最後に、マスクＲＡで基板Ｗ２を露光する。次に、副次的な製造プロセスである輸送及び前処理を追加することができる。基板テーブル上で基板を露光し得る前に、前の節で説明し、図４の左下の部分で示したように、輸送による入力及び前処理のステップからなるシーケンスを基板に対して実施しなければならない。以下、複数のステップからなるこのシーケンスを「基板のロード」と呼ぶ。基板を露光した後で、図４の右下の部分で示したように、輸送による出力ステップからなるシーケンスを基板に対して実施しなければならない。以下、このシーケンスを「基板のアンロード」と呼ぶ。図６の右側に、命令１についての基板に関する順位グラフを示す。破線の囲み内に４つの露光ステップを示す。各基板の第１露光ステップの前に、「基板のロード」シーケンスを示し、基板の「アンロード」シーケンスは、各基板の最後の露光ステップの後に示す。まず、トラックが基板Ｗ１を送り、次いで、基板２を送るので、先行辺は、最初の２つの「Ｔ２Ａ」ノードの間に引かれる。
【００７０】
図６の左側に、命令１についてのマスクの順位グラフの図を示す。見やすいように、４つの露光ノードを含む破線の囲みを写す。マスク・ステージのところで一回必要とされるマスクＲＢは、基板と同様に類似のロード及びアンロードを必要とする。ただし、マスクＲＡはそれを２回必要とする。マスクＲＡを使用する各露光の間で、マスクはポッドに完全に戻る必要はなく、エレベータ上に留まることができる。したがって、マスクについてのロード／アンロードの全シーケンスは２つに分割される。「マスクのロード」シーケンス及び「マスクのアンロード」シーケンスはそれぞれ、「Ｅ２Ｓ」及び「Ｓ２Ｅ」の１つのステップしか含まない。「基板のロード」及び「基板のアンロード」と同様に、これらのシーケンスはそれぞれ、マスクが必要とされる最初と最後の露光ステップに追加される。ポッドからエレベータにマスクを搬送し、その逆に戻すために、エレベータのところでマスクが必要とされる最初と最後の時点でそれぞれ、「マスクの事前ロード」及び「マスクの事後アンロード」のシーケンスを追加する。基板の場合と同様に、マスクの事前ロード及びロードのシーケンスの第１ノードは、先行辺によって結合される。
【００７１】
本発明のこの実施例では、このグラフは、ある所定のステップに従って自動的に構築される。例えばいくつかのポイントのところで、既存のグラフにサブ・グラフ（「基板のロード」など）を挿入する。これらのサブ・グラフは、構成単位とみなし得る。主要な製造プロセスである露光シーケンスは、サブ・グラフを追加すべきかどうかを決定する重要な基準である。１回のステップでサブ・グラフを挿入する代わりに、まず、構成単位全体を表す単一ノードを挿入し、次いで、このノードをサブ・グラフ自体で置き換えることが好都合である。実際、図６のノードの一部は、電子機械システムがこれらを実行する前に、例えば、準備又は設定用のタスクを追加することによって、より小さな粒サイズに拡張する必要がある。これらのノードは例えば、測定及び露光のノードであり、これらは、複数の基本タスク、例えば、１つのマークを測定すること、又は１つのダイを露光することを含む。構成単位でノードを置き換えることによってこれらのノードをより小さな粒サイズのノードに拡張することは、別の自動計画策定ステップである。ある種のレシピ依存ステップを区別することもできる。この実施例では、露光ステップのシーケンスの作成は、このようなステップの１つである。他の例は、ノードの粒サイズがより小さなところで見られる。測定するマーク又は露光する目標部分の数もレシピに依存する。しかし、ここでも、マスクによる基板の露光、単一マークの測定、又は目標部分（ダイ）の露光という構成単位を区別することができる。別の自動計画策定ステップは、ノードの先行結合である。例えば、ある材料インスタンス（例えば、マスクＲＡ）のサブ・ライフの結合、又は同じ挙動タイプのノード（例えば「Ｔ２Ａ」）の結合がそうである。システムの状態及びグラフがある種の基準を満たす場合にのみ、計画策定又はグラフ構築のすべてのステップを実行する。適用可能な基準を含む構築ステップのシーケンスは、計画策定ルールとみなし得る。
【００７２】
この実施例では、以下に示す１組の汎用グラフ構築関数を使用する。
【００７３】
ｒｅｐｌａｃｅａｌｌ関数は、順位グラフ内の、ある種の基準を満たすすべてのノードをサブ・グラフで置き換える。置き換えられるノードを「親」ノードと呼び、サブ・グラフのノードを「子」ノードと呼ぶ。
【００７４】
ｉｎｓｅｒｔａｌｌ関数は、「里親ノード」と呼ぶ、ある種の基準を満たすすべてのノードのところにサブ・グラフを挿入する。挿入されたサブ・グラフにおけるノードを「孤児」ノードと呼ぶ。
【００７５】
さらに、材料インスタンスのサブ・ライフ間の先行辺をインスタンス化するｌｉｎｋｍａｔ、及び同じ挙動タイプのノード間の先行辺をインスタンス化するｌｉｎｋｂｅｈという、先行辺を導入する結合関数を定義する。例として、付属部分にレシピ依存生成関数を記載する。例えば、ある材料インスタンスが、後に露光シーケンス中で必要とされるかどうかを判定するように機能する特定領域検査も提供される。このような検査関数は、その時点までに構築されたグラフ及びシステムの状態に関する情報を必要とする。
【００７６】
システムの状態Ｓは、以下の４つの構成要素を含む。
１つのリソースごとの最終タスクの完了時間。
１つのリソースごとの材料構成。
１つのリソースごとの物理的な状態。
１つの材料インスタンスごとの製造の状態。
【００７７】
グラフの構築中に、わずかに変更したＴＲＳ定義Ｄ２ｃを用いる。インスタンス化されているが、選択が行われていないシステム定義Ｄ２との違いは、Ｉ２ｃ、Ｓｂ２ｃ、Ｓｅ２ｃ、Ｃｂ２ｃ、Ｃｅ２ｃが、タスクではなくノードについて定義されることである。
【００７８】
さらに、構築プロセスを追跡するために、以下の２つの要素を導入する。
Ｎｒ２ｃ：ｎ２→Ｐ（Ｎ２）は、ノード間の親−子関係を与える追加の要素である。
Ｎｉ２ｃ：ｎ２→Ｐ（Ｎ２）は、ノード間の里親−孤児関係を与える追加の要素である。
【００７９】
計画ルールには、例えば「Ｔ２Ａ」、「ｅｘｐ」、「基板のロード」などのノードの挙動タイプを必要とする。これを定義するために、以下の要素を導入する。
ｂは、すべての可能な挙動タイプの組である。
Ｎｂ２ｃ：Ｎ２→Ｂは、各ノードにその挙動タイプを与える。
これに加えて、ノードは、いくつかのレシピ・パラメータを有する。これらのパラメータから、構成単位を作成することができ、材料インスタンスをインスタンス化することができる。
Ｎｐ２ｃ：Ｎ２→Ｐｍは、ノードのパラメータを与える追加の要素である。
【００８０】
まとめると、Ｄ２ｃの作業依存部分は、以下に示す１７個の要素からのすべての可能な要素の組である。
（Ｎ２ｃ，Ｌ２ｃ，Ｌｎ２ｃ，Ｇ２ｃ，Ｇｎ２ｃ，Ｇａ２ｃ，Ｉ２ｃ，Ｓｂ２ｃ，Ｓｅ２ｃ，Ｃｂ２ｃ，Ｃｅ２ｃ，Ｐ２ｃ，Ｐｔ２ｃ，Ｎｒ２ｃ，Ｎｉ２ｃ，Ｎｂ２ｃ，Ｎｐ２ｃ）
【００８１】
計画策定プロセスの開始点は、順位グラフにおけるノードとして計画するための命令を含む構築システム定義Ｄ２ｃである。これは、命令待ち行列を表す命令ノードのシーケンスとすることができるが、優先順位がない場合には、命令ノードを並列にモデル化することもできる。計画策定ルールを適用した後で、より詳細なシステム定義が得られ、これを、インスタンス化されているが選択が行われていないシステム定義Ｄ２ｃに変換する。この変換で、Ｄ２で必要とされない情報がＤ２ｃから取り除かれる。この情報は、親及び里親のノードに関係する要素並びにノードの挙動に関するものである。さらに、クラスタでもなく、グループでもないノードはすべてタスクになる。この変換は直接的なので、本明細書ではこの変換関数の説明は行わない。どのノードに構築ステップを適用しなければならないかを決定するために、以下の関数が必要とされる。組
【数３】
2005340848.tif 000005
は、何らかのシステム定義及びシステムの状態が与えられたあるノードについて、ある種の基準が当てはまるかどうかを判定するチェック関数ｃｘのライブラリである。関数ｎｏｄｅｓｔｏｂｅｈａｎｄｌｅｄ：Ｄ２ｃ×Ｐ（Ｂ）×Ｐ（Ｃ）×Ｓ→Ｐ（Ｎ２ｃ）は、どのノードを処理すべきかを決定する関数である。これらのノードがｒｅｐｌａｃｅ（置換）関数内で用いられている場合、これらを親ノードと呼び、これらのノードがｉｎｓｅｒｔ（挿入）関数内で用いられている場合、これらを里親ノードと呼ぶ。処理すべきノードは、１組の挙動ｂｒに含まれる挙動を有し、且つこの条件では、チェックｃｒがある種のシステム状態ｓｓｔａｔｅに当てはまる、既存のシステム定義
【数４】
2005340848.tif 000006
のノードである。
【００８２】
【数５】
2005340848.tif 000007
【００８３】
露光シーケンスの作成に関して、ノード・パラメータは、レシピ情報の一部を含むことが必要とされる。これらのノード・パラメータは、１組のケイパビリティ及び一覧の材料インスタンスの組の表ＮＰ２ｃ：Ｎ２→Ｐ（Ｃ）×Ｐ（Ｍ）＊）２を含む複数の要素からなる組である。慣例により、この要素の第１要素は基板に関するものであり、第２要素はマスクに関するものである。さらに、基板及びマスクの処理に関わるケイパビリティの組は分離していると仮定する。基板及びマスクについて、この種類の材料及び材料インスタンス自体に関わるケイパビリティを説明する。これらのノード・パラメータを用いて露光シーケンスを作成する関数であるｇｅｎｅｓを、本明細書の付属部分でさらに説明する。
【００８４】
所定の基本構成単位におけるノードはインスタンス化されない。これは、これらのノードには材料が割り当てられていないことを示唆している。基本構成単位を用いて作成されたものである、作成された構成単位におけるノードは、それらに割り当てられる材料を有する。これに必要な情報は、作成された構成単位の親ノードのパラメータから得られる。実際の置換ステップでは、作成された構成単位におけるノードに割り当てられた材料は変化しないはずである。ノードを基本構成単位で置き換える場合、又は基本構成単位を挿入する場合、材料は、親ノード又は里親ノードから継承されたものであるべきである。構成単位ノードに材料を割り当てるために、パラメータｍを伴う関数ｍａｔａｓｓｉｇｎを定義して、親ノード又は里親ノードのパラメータｎｐから材料を取得するべきであるかどうかを定義する。他のパラメータは、構成単位ノードの開始及び終了の材料構成であるｃｂａ及びｃｂｅである。
【００８５】
関数
【数６】
2005340848.tif 000008
は、次のように定義される。
【００８６】
【数７】
2005340848.tif 000009
【００８７】
材料が継承されない場合、新しいノードの開始及び終了の材料構成は、追加と呼ぶ構成単位から複製される。材料が継承され、（既定の）材料が追加のノードにおいて構成される場合、材料インスタンスの組は、一覧から第１要素を取得することによって、関与するケイパビリティと一致する親ノード・パラメータの要素から継承される。追加のノードにおいて構成される材料がない場合、このノードは、このノードの得られたインスタンス化された材料構成について同じままである。
【００８８】
上記で定義した関数を用いて、構成単位によってノードを置き換える関数及び構成単位を挿入する関数を定義できる。関数
【数８】
2005340848.tif 000010
を、（最後のパラメータｍに応じて）関与する材料が継承されなければならないかどうかを考慮に入れて、追加
【数９】
2005340848.tif 000011
によって親ノードｎｅを既存のシステム定義
【数１０】
2005340848.tif 000012
において置き換える関数とする。
【００８９】
以下では、既存のシステム定義
【数１１】
2005340848.tif 000013
におけるノードが、追加
【数１２】
2005340848.tif 000014
におけるノードに交差しないと仮定する。これは、追加におけるノードの名前の変更を示唆していることがある。
【００９０】
関数ｒｅｐｌａｃｅｏｎｅは、
【数１３】
2005340848.tif 000015
になるように、
【数１４】
2005340848.tif 000016
と定義できる。
【００９１】
ここで、
【数１５】
2005340848.tif 000017
は、
【数１６】
2005340848.tif 000018
を除き、すべての組の定義要素の２つ１組の和集合である。
【００９２】
関数ｒｅｐｌａｃｅｏｎｅから得られるシステム定義は、関与する材料の割当て、並びに置き換えられた親ノードからの先行関係及びパラメータの（強い）継承を除き、既存のシステム定義と追加との和集合と同じである。関与する材料の割当ては、関数ｍａｔａｓｓｉｇｎによって行われる。先行関係に関しては、追加におけるすべての上位前側のノード（即ち、ノード階層の上位及び順位グラフの前側のノード）は、親ノードへの（結合した）先行辺を継承し、すべての上位後側のノードは、親ノードからの（結合した）先行辺を継承する。親ノードへの先行辺及び親ノードからの先行辺は消去される。弱い先行継承は有用なことがあることに留意されたい。さらに、追加されたノードは、親ノードの子としてインスタンス化される。
【００９３】
これを利用して、関数
【数１７】
2005340848.tif 000019
を、以下のように帰納的に定義できる。
【００９４】
【数１８】
2005340848.tif 000020
【００９５】
１組の挙動ｂｒに含まれる挙動を有し、且つこの条件では、チェックｃｒがある種のシステム状態に当てはまる、既存のシステム定義
【数１９】
2005340848.tif 000021
におけるすべてのノードを、ある種の追加
【数２０】
2005340848.tif 000022
によって置き換えるために、（ｍに応じて）関与する材料を継承するかどうかにかかわらず、以下の表現を用いることができる。
【００９６】
【数２１】
2005340848.tif 000023
【００９７】
関数
【数２２】
2005340848.tif 000024
を、（ｂに応じて）追加
【数２３】
2005340848.tif 000025
における里親ノードｎｅの前又は後に（以下のシステム定義を参照）、既存のシステム定義
【数２４】
2005340848.tif 000026
に挿入する関数とする。
【００９８】
これは、（ｍに応じて）関与する材料をｎｅから継承しなければならないかどうか、及び（結合に応じて）里親への先行関係を結合しなければならないかどうかを考慮に入れている。追加は、以下のノードの挙動がｏｒに含まれる場合（「両側の」ノード）、里親ノードと、（ｂに応じて）この里親ノードに先行するか、或いはこの里親ノードの後に続くノードとの間に挿入される。
【００９９】
関数ｉｎｓｅｒｔｏｎｅは、
【数２５】
2005340848.tif 000027
を除き、
【数２６】
2005340848.tif 000028
になるように、
【数２７】
2005340848.tif 000029
と定義できる。
【０１００】
関数ｉｎｓｅｒｔｏｎｅは、先行関係を除き、ｒｅｐｌａｃｅｏｎｅと類似している。里親ノードの前に挿入が行われる場合、追加の上位後側のノードはすべて、（該当する場合には結合した）里親ノードへの先行辺を得る。さらに、先行辺は、両側のノードから、追加の上位前側のノードすべてに継承される。挿入が里親ノードの（前ではなく）後で行われる場合、先行辺は、その逆にインスタンス化される。
【０１０１】
この関数を用いて、
【数２８】
2005340848.tif 000030
を、以下のように帰納的に定義できる。
【０１０２】
【数２９】
2005340848.tif 000031
【０１０３】
【数３０】
2005340848.tif 000032
における要素が、里親ノードの挙動を定義し、里親ノードへの先行関係が結合されていなければならないかどうかを定義する。
【０１０４】
既存のシステム定義
【数３１】
2005340848.tif 000033
に、（ｂに応じて）すべての里親ノードの前又は後で、ある種の追加
【数３２】
2005340848.tif 000034
を挿入するために、（ｍに応じて）関与する材料を継承するかどうかにかかわらず、ｏｒに含まれる挙動を有し、里親ノードに先行するか、或いは里親ノードの後に続く両側のノード間にあるかどうかにかかわらず、以下の表現を用いることができる。
【数３３】
2005340848.tif 000035
【０１０５】
材料インスタンスのサブ・ライフに結合するために、まず、関数Ｐ２ｍ：Ｄ２ｃ×Ｍ２ｃ→Ｐ（Ｎ２ｃ×Ｎ２ｃ）を用いて、システム定義からサブ・ライフを抽出する。関数Ｐ２ｍは、ＴＲＳ定義
【数３４】
2005340848.tif 000036
における材料ｍ⊆Ｍ２ｃについて、冗長な辺を伴わない関係するノード間の先行関係を記述する関数である。
【０１０６】
【数３５】
2005340848.tif 000037
【０１０７】
関数
【数３６】
2005340848.tif 000038
は、先行関係Ｐにおいて先行辺（ｎ，ｎ’）が冗長であるかどうかを判定する。
ｒｅｄｕｎｄａｎｔ（ｎ，ｎ’，Ｐ）＝（∃ｎ”：ｎ”∈Ｎ２ｃ∧ｎ”≠ｎ∧ｎ”≠ｎ’：ｐａｔｈ（ｎ，ｎ”，Ｐ）∧ｐａｔｈ（ｎ”，ｎ，Ｐ））    （８）
【０１０８】
上記で用いた関数
【数３７】
2005340848.tif 000039
は、先行関係Ｐにおける２つのノードｎとｎ’との間に経路があるかどうかを判定する。
【０１０９】
【数３８】
2005340848.tif 000040
【０１１０】
関数ｌｉｎｋｍａｔ：Ｄ２ｃ×Ｂ→Ｄ２ｃは、材料インスタンスのサブ・ライフを、主要な挙動ｐｂ∈Ｂの関連するノードと同じ命令内で結合させる関数である。
【０１１１】
ｌｉｎｋｍａｔは、
【数３９】
2005340848.tif 000041
を除き、
【数４０】
2005340848.tif 000042
になるように、
【数４１】
2005340848.tif 000043
とする。
【０１１２】
関数
【数４２】
2005340848.tif 000044
は、タスクと、ある種の挙動とを、主要な挙動ｐｂ∈Ｂの関連するノードと同じ命令内で結合させる関数である。この関数は、組
【数４３】
2005340848.tif 000045
における要素の第１要素の挙動を考慮に入れる。ただし、各要素の第２要素は、この挙動が、前処理又は後処理のいずれに関するものであるかを示す（それぞれ、真又は偽）。
【０１１３】
ｌｉｎｋｂｅｈは、
【数４４】
2005340848.tif 000046
を除き、
【数４５】
2005340848.tif 000047
になるように、
【数４６】
2005340848.tif 000048
とする。
【０１１４】
典型的な実施例である命令１について、上記で説明した自動計画策定関数を示す。
【０１１５】
計画策定は、計画策定ルールの以下のシーケンスを適用することを必要とする。
【０１１６】
１）まず、命令ノードを、関数ｇｅｎｅｓを用いてこの命令ノードのパラメータから作成される露光シーケンスで置換する。
【０１１７】
この関数コールは、以下のようになる。
【０１１８】
【数４７】
2005340848.tif 000049
【０１１９】
ここで、
【数４８】
2005340848.tif 000050
は、この時点での命令１のノードｎ１を含む既存のシステム定義である。
ｃ０は、常に真を返すダミー・チェック関数である。
【数４９】
2005340848.tif 000051
は、１つの露光ノードを含む構成単位のシステム定義である。
【数５０】
2005340848.tif 000052
は、空のシステム定義である。
【０１２０】
２）次いで、以下の基準を満たす挙動「ｅｘｐ」の各ノードの前に、「基板のロード」を挿入する。
ａ）「ｍｅａ」ノードが先行しない。
ｂ）同じ基板に関わる挙動「ｅｘｐ」のノードが先行しない。
ｃ）基板はまだ基板テーブルのところに存在しない。
【０１２１】
この関数コールは、以下のようになる。
【数５１】
2005340848.tif 000053
【０１２２】
ここで、
【数５２】
2005340848.tif 000054
は、計画策定ステップ１の結果である既存のシステム定義である。
ｃａ、ｃｂ、およびｃｃは、上記で列挙したａ〜ｃの基準を実施するチェック関数である。
【０１２３】
３）以下の基準を満たす挙動「ｅｘｐ」の各ノードの後に、「基板のアンロード」を挿入する。
ａ）「Ｃ２Ｕ」ノードが先行しない。
ｂ）同じ基板に関わる挙動「ｅｘｐ」のノードが先行しない。
【０１２４】
４）以下の基準を満たす挙動「ｅｘｐ」の各ノードの前に、「マスクのロード」を挿入する。
ａ）「Ｅ２Ｓ」が先行しない。
ｂ）同じマスクに関わる挙動「ｅｘｐ」のノードが先行しない。
ｃ）マスクはまだステージのところに存在しない。
【０１２５】
５）以下の基準を満たす挙動「ｅｘｐ」の各ノードの後に、「マスクのアンロード」を挿入する。
ａ）「Ｅ２Ｓ」が先行しない。
ｂ）同じマスクに関わる挙動「ｅｘｐ」のノードが先行しない。
【０１２６】
６）以下の基準を満たす挙動「Ｅ２Ｓ」の各ノードの前に、「マスクの事前ロード」を挿入する。
ａ）「Ｒ２Ｅ」が先行しない。
ｂ）前の露光及びマスクのアンロードの後で、マスクがエレベータのところに残っていない。
ｃ）マスクはまだエレベータのところに存在しない。
【０１２７】
７）以下の基準を満たす挙動「Ｓ２Ｅ」の各ノードの後に、「マスクの事後アンロード」を挿入する。
ａ）「Ｅ２Ｒ」が先行しない。
ｂ）後で「ｅｘｐ」に必要とされない。
ｃ）マスクはまだエレベータのところに存在しない。
注：これらのルールは、この実施例及び以下で論じる他の実施例に十分なものである。あらゆる状況においてエレベータの材料の容量に違反しないように、マスクの事前ローディング及び事後アンローディングについての追加のルールを追加すべきである。
【０１２８】
８）
【数５３】
2005340848.tif 000055
を用いて、露光シーケンスの周りで、材料のサブ・ライフを結合させる。
【０１２９】
９）
【数５４】
2005340848.tif 000056
を用いて、同じ挙動の連続ノード間に先行辺を追加する。
【０１３０】
１０）この構築システム定義を変換して、インスタンス化されているが選択が行われていないシステム定義にする。
【０１３１】
これら１０個の計画策定ステップの結果は、図６に一致する。図７に、命令１についてのスケジュールを示す。
【０１３２】
図８に、本発明の実施例によるＴＲＳ構成（フレームワーク）を実施する管理機械制御システムＳＭＣを示す。このＳＭＣは、その環境からのトリガに応答する。これらのトリガは、機械のリソースからだけでなく、ユーザからも発せられ（フィードバック）、スケジュールの修正を求めることがある。機械のリソースからは、現在の作業の遅れ及び例外の発生という２つの範疇のトリガが発せられる。他の範疇のトリガは、ユーザから発せられる新しい作業の到着である。これらのトリガに応答して、ＳＭＣは、以下で説明する機能及び定義を用いて修正スケジュールを作成する。
【０１３３】
このＳＭＣフレームワークは、予測及び送出しという２つの部分を含む。予測部分は、トリガをスケジュールに変換する予測スケジュール作成機能を含む。送出し部分は、この予測部分をリソースに結合するリアルタイム部分である。この部分の主な機能は、スケジュールされたタスクをリソースに送り出すことである。予測部分には、階層化されたＴＲＳフレームワークが埋め込まれる（破線の囲みを参照）。これは、ｐｌａｎ、ｓｃｈｅｄｕｌｅ、及びｔｉｍｅの３つの変換関数によって実施される。ｐｌａｎ関数は、上記で説明したものであり、変換のインスタンス化を実施する。ｔｉｍｅ関数は、時間設定変換を実施し、ｓｃｈｅｄｕｌｅ関数は、選択及び時間設定の変換をともに実施する。
【０１３４】
重要な望ましいことは、制御の経費（オーバーヘッド）を最小限に抑えることである。したがって、応答又は予測の活動は、可能な場合にはリアルタイム活動の裏で行うべきである。この理由から、ディスパッチャ内で実行されるスケジュールのうち、スケジュールを適合させる応答活動と並列に実行できる部分は修正されない。命令の到着から、最大で作業が完了する時点までの完全な経路を辿ると、作業を以下の段階に区別することができる。
命令された作業ＷＯ
計画策定された作業ＷＰ
スケジュールされた作業ＷＳ
送り出される作業ＷＤ。これは、作業のうち、まだ進行中でない部分であるが、（結合を含む）応答活動後に進行中になるようにスケジュールされる部分である（安全範囲）。応答は、（時間的に）ＷＤの実行の裏で行われる。
進行中の作業ＷＩ
実行された作業ＷＥ
完了した作業ＷＦ。これは、実行された作業のうち、もはや問題にならない部分である。この部分に続く部分がすべて実行される。このような「履歴」は、制御にはもはや必要とされず、除去することができる。
【０１３５】
スケジュールされたタスクＤ０は、ＷＳ、ＷＤ、ＷＩ、ＷＥ、又はＷＦに含めることができ、また、計画（Ｄ２、Ｄ２ｃ）におけるノードはＷＯ又はＷＰに含めることができる。
【０１３６】
慣例により、定義の一部における問題の段階は、上付き文字で示す。例えば、
【数５５】
2005340848.tif 000057
は、スケジュール（下付き文字の０）のうち、進行中の、又は送り出されることになる（上付き文字のｉｄ）部分を示す。
【０１３７】
この節では、構成パラメータを含まず、そのため、前の節の機能を省略形にしたｐｌａｎ関数
【数５６】
2005340848.tif 000058
を用いる。
【０１３８】
さらに、パラメータとして履歴スケジュール
【数５７】
2005340848.tif 000059
を有するｓｃｈｅｄｕｌｅ関数及びｔｉｍｅ関数を用いる。この履歴スケジュールは、先行関係が初期状態と交差する違反を避けるために必要とされる（時間コンター）。
【０１３９】
【数５８】
2005340848.tif 000060
【０１４０】
ここで、Ｄ２は、スケジュールすべき作業の（選択されていない）定義であり、
【数５９】
2005340848.tif 000061
は、履歴スケジュール及びスケジュールすべき作業の両方に関する全体定義である。
【０１４１】
【数６０】
2005340848.tif 000062
【０１４２】
ここで、Ｄ１は、時間設定すべき作業の（選択された）定義であり、
【数６１】
2005340848.tif 000063
は、履歴スケジュール及び時間設定すべき作業の両方に関する全体選択である。
【０１４３】
さらに、要求される段階に応じて、ｐｌａｎ、ｓｃｈｅｄｕｌｅ、及びｔｉｍｅの関数についてのパラメータとして、全体システム定義の区画が必要とされる。この目的のために、抽出関数を用いて全体定義から、ある１組のノードに関する区画を抽出する。この抽出関数のフォーマットを以下に示す。
【０１４４】
ｅｘｔｒａｃｔ２ｃは、選択が行われていないＴＲＳ定義Ｄ２ｃから、１組のノードＮに関係する部分を抽出する関数である。
【数６２】
2005340848.tif 000064
【０１４５】
ｅｘｔｒａｃｔ２は、選択が行われていないＴＲＳ定義Ｄ２から、１組のノードＮに関係する部分を抽出する関数である。
【数６３】
2005340848.tif 000065
【０１４６】
ｅｘｔｒａｃｔ１は、選択が行われたＴＲＳ定義Ｄ１から、１組のタスクＴに関係する部分を抽出する関数である。
【数６４】
2005340848.tif 000066
【０１４７】
ｅｘｔｒａｃｔ０は、時間設定されたＴＲＳ定義Ｄ０から、１組のタスクＴに関係する部分を抽出する関数である。
【数６５】
2005340848.tif 000067
ＴＲＳ定義Ｄ０は、コア・タスク及び設定タスクの２つの種類のタスクを含む。コア・タスクは、ＴＲＳ定義のより高いレベルにも存在し、設定タスクは、物理的なリソースのタスク終了状態が、このリソースの連続タスク開始状態と確実に一致するように追加される。
【０１４８】
様々な理由から、タスクの実際の継続時間は、スケジュールされた予測継続時間と異なることがある。このことに対して堅固なものとなるように、タスクを送り出す前に、以下の３つのガード条件を調べる。
１）タスクの開始時間に到達したか。
２）関与するリソースは稼働していない状態か。
３）前のタスクは完了したか。
【０１４９】
第１の条件により、時間が超過しないタスクは、実際の実行の残りの部分に影響を及ぼさないことが保証される。しかし、スケジュールされた時間よりも長くかかるタスクにより、スケジュール予測と実際の実行との同期がずれる虞がある。図９に、命令１におけるマスクＲＡの検査の遅延について、この影響を示す。拡張子が「＿ｓ」のリソースのところにスケジュールされた時間設定を示し、拡張子がないリソースのところに実際の時間設定を示す。
【０１５０】
残りの予測スケジュールが実際のものと同期がずれていると、時間窓の制約又は部分最適性に違反することになる。したがって、遅れているタスクが実際に完了するときに、スケジュールを修正するためのトリガを形成できるはずである。図９に、トリガ時間Ｔｔ及び（最悪の場合の）応答の継続時間Ｔｒを垂直線で示す。応答の完了前に開始するようにスケジュールされたタスクにより、送り出される作業（図９のＷＤ）が形成され、これは修正されない。スケジュールされた作業（図９のＷＳ）は、ディスパッチャから引き出され、修正後に返される。
【０１５１】
現在の作業から発せられるこの種類のトリガに対して２つの応答のシナリオを定義する。
Ｃ１ａ  現在の作業を更新する。時間設定のやり直し。
Ｃ１ｂ  現在の作業を更新する。スケジュールのやり直し。
【０１５２】
これらのシナリオはともに、以下の２つのステップを含む。
【０１５３】
１）第１ステップの目的は、ＷＳ（スケジュールされた作業）を修正するための良好な開始点を得ることである。これは、この作業を最大で、これから送り出される作業まで時間設定をやり直し（ａ）、応答時間を補償する（ｂ）ことによって行われる。
【０１５４】
ａ）まず、時間設定し直す作業を決定する。この時間設定し直す作業は、ＷＩから、最大でＷＤまでを含む。
【０１５５】
【数６６】
2005340848.tif 000068
を対象とする時間設定されたタスクの組は、以下の３つのステップで決まる。
【０１５６】
ｉ）応答時間の後に進行中になるようにスケジュールされた、ＷＩの後のコア・タスク
【数６７】
2005340848.tif 000069
を決定する。
【０１５７】
【数６８】
2005340848.tif 000070
【０１５８】
ｉｉ）
【数６９】
2005340848.tif 000071
又は
【数７０】
2005340848.tif 000072
に結合したコア・タスク
【数７１】
2005340848.tif 000073
を決定する。
【０１５９】
【数７２】
2005340848.tif 000074
【０１６０】
ｉｉｉ）
【数７３】
2005340848.tif 000075
と
【数７４】
2005340848.tif 000076
との間に、設定タスク
【数７５】
2005340848.tif 000077
を含める。
【０１６１】
【数７６】
2005340848.tif 000078
次に
【数７７】
2005340848.tif 000079
【０１６２】
【数７８】
2005340848.tif 000080
により、最大でＷＤまでの作業を時間設定し直す。
【０１６３】
ここで、
【数７９】
2005340848.tif 000081
Ｅｓｔａｔｅは、ＷＥ後の状態である。
Ｄ１は、ＷＤまでに少なくともＷＥを含む（ＷＳも与えられるので、抽出する必要はない）。
【数８０】
2005340848.tif 000082
【０１６４】
ｂ）その後の作業は、（ｔｔ＋ｔｒ）よりも早く開始することができないので、この作業後の状態を完了形態（コンター）に関して更新する。
Ｄｓｔａｔｅ’＝Ｄｓｔａｔｅ、ただし、（∀ｒ：ｒ∈Ｒ：ｆｉｎｉｓｈ（ｒ）＝ｍａｘ（ｆｉｎｉｓｈ（ｒ），ｔｔ＋ｔｒ））を除く。
【０１６５】
２）第２ステップの目的は、このスケジュールされた作業を、時間設定し直す（Ｃ１ａ）か、或いはスケジュールし直す（Ｃ１ｂ）ことである。
【０１６６】
Ｃ１ａ
【数８１】
2005340848.tif 000083
により、現在の作業の残りの部分を時間設定し直す。
【０１６７】
ここで、
【数８２】
2005340848.tif 000084
Ｄｓｔａｔｅ’は、ステップ１から得られる、応答時間を含むＷＤ後の状態である。
【数８３】
2005340848.tif 000085
【０１６８】
Ｃ１ｂ
【数８４】
2005340848.tif 000086
により、現在の作業の残りの部分をスケジュールし直す。
【０１６９】
ここで、
【数８５】
2005340848.tif 000087
である。
【０１７０】
図１０に、再度実際のものと同期した修正スケジュールを示す。
【０１７１】
任意の時点で、ユーザは、新しい作業又は現在の作業の修正に関わるトリガを与えることができる。許容される現在の作業の修正は、予測されているが、まだ進行中ではない命令の優先順位を取り除くか、或いは組み替えることに関するものである。したがって、このような修正トリガは、対応する予測を消去し、新しい作業を追加することによって処理することができる。例として、別の実施例の命令（命令２）のマスクの図を使用する。このトリガは、５５０秒の時点で受信され、この場合も、「ＡＢＢＡ」のパターンに従って２枚の基板を露光するように要求する。しかし、ここではマスクはそれぞれ、ＲＢおよびＲＣである。
【０１７２】
新しい作業の追加を示唆するユーザからのトリガに応答するために、以下の６つの応答シナリオを定義する。
Ｎ１ａ  現在の作業を伴わずに新しい作業を追加する。この場合には、前の節で説明したように、新しい作業が追加されるときに、この機械は稼働していない。
Ｎ１ｂ  現在の作業に新しい作業を追加し、現在の作業は修正しない。この場合、前に命令した作業は、依然として実行されており、そのスケジュールは修正しない。
Ｎ２ａ  新しい作業を追加し、現在の作業を時間設定し直す。この場合、前に命令した作業の一部は、実際の実行がスケジュールと再度同期するように時間設定し直す。
Ｎ２ｂ  新しい作業を追加し、現在の作業をスケジュールし直す。この場合、前に命令した作業の一部は、新しい作業と合わせてスケジュールし直す。
Ｎ３ａ  新しい作業を追加し、現在の作業を計画し直す。この場合、前に命令した作業の一部は、新しい作業と合わせて計画し直す。
Ｎ３ｂ  新しい作業を追加し、現在の作業を命令し直す。この場合、前に命令した作業の一部は、新しい作業と合わせて命令し直す。こうすると、命令を飛ばすことができ、それらの優先順位を変更できる。
【０１７３】
シナリオＮ１ａは、前の節で説明したものである。現在の作業に新しい作業を追加するシナリオＮ１ｂは、以下の２つのステップを含む。
【０１７４】
１）新しい作業（命令２）用の計画
【数８６】
2005340848.tif 000088
は、現在のスケジュールされた作業後の状態Ｓｓｔａｔｅ及び命令定義
【数８７】
2005340848.tif 000089
から決定する。
【０１７５】
【数８８】
2005340848.tif 000090
【０１７６】
命令２用に得られた順位グラフは、図５の命令１用の順位グラフに類似のものであり、基板Ｗ１及びＷ２の代わりにＷ３及びＷ４がそれぞれ用いられ、マスクＲＡ及びＲＢの代わりにＲＢ及びＲＣがそれぞれ用いられる。
【０１７７】
２）新しい作業用のスケジュールは、現在の作業と新しい作業との間にリソース間の先行関係がないと仮定して、以下のよう決定される。
【０１７８】
【数８９】
2005340848.tif 000091
【０１７９】
図１１に、このトリガの実施例に対するこの応答から得られたスケジュールを示す。
【０１８０】
新しい作業を追加し、現在の作業を時間設定し直すか、或いはスケジュールし直すシナリオＮ２ａ及びＮ２ｂ（Ｎ２）は、Ｃ１とＮ１の組合せであり、以下の３つのステップを含む。
【０１８１】
１）まず、Ｃ１のシナリオに関して説明したスケジュール作成ステップを実施する。
【０１８２】
２）これに加えて、以下の２つのサブ・ステップを含む計画ステップを行う。
ａ）既存の計画の後に新しい命令（ｎｏ）を挿入し、その結果、
【数９０】
2005340848.tif 000092
を得る。
【０１８３】
ｂ）この結果を計画する。
【数９１】
2005340848.tif 000093
ここで、Ｆｓｔａｔｅは、ＷＦ後の状態である。
【０１８４】
３）ここで、ケースＮ２ａとケースＮ２ｂとの間に区別を設ける。
Ｎ２ａ：Ｃ１ａの第２ステップの場合と同様に、現在の作業の残りの部分を時間設定し直す。
【０１８５】
【数９２】
2005340848.tif 000094
その後、新しい作業のスケジュールを行う。
【０１８６】
【数９３】
2005340848.tif 000095
【０１８７】
この実施例について、この応答から得られるスケジュールが図１０と等価であり、再時間設定の影響はない。
【０１８８】
Ｎ２ｂ：ケースＮ２ｂでは、すべての作業の残りの部分をスケジュールし直す。
【数９４】
2005340848.tif 000096
【０１８９】
図１２に、このトリガの実施例について、この応答から得られるスケジュールを示す。このスケジュールは、再スケジュール中にこれら２つの命令が織り込まれたので、図１１のスケジュールよりも早く完了する。
【０１９０】
新しい作業を追加し、現在の作業を計画し直すか、或いは命令し直すＮ３のシナリオでは、（最大でＷＤまで）ディスパッチャに残ったままなのでスケジュールし直されない作業に加えて、計画し直されない作業がある。これは、スケジュールされた作業のうち、最大でＷＤまでの作業に含まれる作業と同じ計画策定ステップを用いて作成される部分である。スケジュールされた作業のこの部分を、スケジュールされ開始された作業と呼ぶ。この実施例について、命令２が到着した時点での図１３の順位グラフのノードの状態を、ＷＳの開始された部分ＷＳ−Ｉを含めて示す。
【０１９１】
ＷＳにおける開始されたノードを区別するために、いくつかの関数を定義する。
【０１９２】
ノードｎが、実行された、又は進行中のタスク、或いはこれから送り出すタスクであるか、或いは、すべて
【数９５】
2005340848.tif 000097
であるノードの１つの先祖、又はこれらのノードの親であるかを判定する関数を
【数９６】
2005340848.tif 000098
とする。
【０１９３】
ノードｎが開始されたかどうかを判定する関数を、
【数９７】
2005340848.tif 000099
とし、
【数９８】
2005340848.tif 000100
によって定義する。
【０１９４】
次に、
【数９９】
2005340848.tif 000101
によって、
【数１００】
2005340848.tif 000102
を定義することができ、
【数１０１】
2005340848.tif 000103
によって、開始されたノード
【数１０２】
2005340848.tif 000104
を定義できる。
【０１９５】
これを用いて、新しい作業の追加、現在の作業の計画のやり直し（Ｎ３ａ）又は命令のやり直し（Ｎ３ｂ）用のトリガを、（Ｎ２と同様に）以下の３つのステップで処理することができる。
【０１９６】
１）Ｃ１のシナリオに関して説明したスケジュール作成ステップを実施する。
２）これに加えて（必ずしもこの後である必要はないが）、以下の４つのサブ・ステップで残りの部分の計画を導き出す。
【０１９７】
ａ）
【数１０３】
2005340848.tif 000105
を用いて、最大で開始された作業まで作業を導き出す。
ｂ）開始された作業の後に、現在の作業の開始されていない命令ノードを挿入する。
【０１９８】
【数１０４】
2005340848.tif 000106
必要な場合には、別の先行命令に（Ｎ３ａ）を挿入する。
【０１９９】
ｃ）この新しい命令の後に、
【数１０５】
2005340848.tif 000107
を（それがある場合には）挿入する。
【０２００】
ステップ２の結果を計画する。
【数１０６】
2005340848.tif 000108
ここで、Ｆｓｔａｔｅは、ＷＦ後の状態である。図１４に、このステップを視覚化する。
【０２０１】
３）ステップ２の結果をスケジュールする。
【数１０７】
2005340848.tif 000109
【０２０２】
図１５に、このトリガの実施例について、この応答シナリオから得られたスケジュールを示す。このスケジュールは、図１２のスケジュールよりも早く完了する。というのは、計画策定をやり直す間に、この時点でマスクＲＢの事後アンロード及び事前ロードが飛ばされるからである。
【０２０３】
上記で対処された「視界良好な」トリガの他に、状況が悪くなることもある。即ち、現在の作業中のタスクが失敗したことを示唆する例外が生じることがある。失敗の原因の性質によっては、復旧が可能なこともあるし、不可能なこともある。一般に、機械又は材料の欠陥に起因する例外を復旧させることはできない。しかし、例外の多くは元の状態に戻すことができる。ＳＭＣは、このような例外の原因に影響を及ぼすことはできないが、それらの作用に影響を及ぼすことはでき、自動復旧によって生産の損失を防止できる。
【０２０４】
復旧応答のシナリオは、以下で説明するように、「視界良好な」トリガに対する応答と同じ機能を利用して実施できる。
【０２０５】
例として、別の命令（命令３）に関する基板の図を用いる。この命令は、１０５０秒の時点で受信され、１枚のマスク（ＲＤ）によって６枚の基板（基板Ｗ５〜Ｗ１０）を露光するように要求する。図１６に、この命令についてのスケジュールを示す。基板７の測定タスクが失敗している。図１７に、この時点でのノードの状態を示す。
【０２０６】
基板を位置調整し直すことによって、かなりの確率でこの例外から復旧することができる。位置調整ユニットには、図３の破線矢印として示す挙動「Ｕ２Ａ」を用いて、アンロード・ロボットによって到達できる。ＦＩＦＯ（先入れ先出し）要件によれば、基板は、それらが機器に入った順序と同じ順序で機器から出なければならない。Ｗ７の後で機器に入った基板が、Ｗ７の後に続いてやはりサイクルを形成する場合、この要件は満たされる。
【０２０７】
復旧によって例外から元の状態に戻すために、３つのステップを実施する。
【０２０８】
１）ディスパッチャが、タスクが失敗したことを示すトリガを受け取ると、ディスパッチャは送出しを停止する。この障害メッセージは、例外コードを伴う。ディスパッチャは、進行中の作業が実行されるまで待ち、失敗した他のタスクからの他の例外コードを、それらが存在する場合には収集する。
【０２０９】
２）失敗したタスク、これらの例外コード、及びシステムの状態の組である例外情報ｘｉｎｆｏを用いて、スケジュールされた残りの作業（ＷＳ）を計画し直して復旧の処理を行う。
【０２１０】
【数１０８】
2005340848.tif 000110
【０２１１】
復旧計画関数ｒｅｃｐｌａｎは、計画ルール及び構成単位上に例外情報を地図化（マッピング）するデータベースを使用する。この実施例の場合、これらの計画ルールは、基板Ｗ７、Ｗ８、及びＷ９の残りのライフの前に、追加のサイクルを定義する復旧構成単位を挿入することに帰着する。この循環復旧構成単位は、図１８に示す循環構成単位から作成できる。この作成は、関与する基板について図１８に示すように、これらの基板を、このサイクルに関与するこれらの基板の現在のケイパビリティから次のケイパビリティに搬送するタスクに至る先行辺を除去することに帰着する。これを実施する生成関数である関数ｇｅｎｃｒｂｂを付属部分に示す。さらに、Ｗ７についての測定タスクを追加しなければならない。この実施例には当てはまらないが、冗長な「Ａｌｉ」ノードが生じることがあり、その場合には、このノードを除去しなければならない。図１９に、３つの挿入の後で得られる修正ＴＲＳ定義を示す。
【０２１２】
３）復旧を含む修正スケジュールを得るには２つの可能性がある。
Ｃ２ａ  １つのシナリオは、復旧部分だけをスケジュールし、古いスケジュールの残りの部分を時間設定し直すことである。しかし、このシナリオは、この実施例の場合には直接適用することはできない。というのは、復旧部分の後のシステムの材料構成が、復旧前のシステムの材料構成と異なることがあるからである。即ち、基板Ｗ７〜Ｗ９は、他の基板テーブルのところに存在することがある。
Ｃ２ｂ  安全なシナリオは、ステップ２の結果全体をスケジュールすることである。
【０２１３】
【数１０９】
2005340848.tif 000111
これによれば、図２０に示すスケジュールになる。
【０２１４】
所望の場合には、例外に対する解決策のデータベースを使用して、スケジュールの修正を決定することもできるし、これらのジョブを変更せずにそのままにすることもできる。シナリオＣ１ａ及びＣ２ａの最終ステップは、「スケジュール修正」として分類することができ、シナリオＣ１ｂ及びＣ２ｂは、「完全な再生」として分類できる。
【０２１５】
上記で説明したスケジュール作成及び計画策定の方法では、単層の制御を用いる。しかし、制御階層の異なるレベルで計画策定及びスケジュール作成を実施する多層手法も採用することができる。このような構成では、より低い制御レベルは、上記の１つ（又は複数）のレベルの計画及び／又はスケジュールを、より小さな粒サイズに拡張する。図２１に、上記でより詳細に説明したようなリソグラフィ機器用の制御階層を示す。この構成は、制御システムの異なる層を別々に設計し、機器の設計の最終段階でのみ一緒にできるという利点を有する。単一のソフトウェア・コントローラと、各サブ・コントローラに１つの、最終設計段階で組み合わせられる別々の構成ファイルによっても同じ利点が得られる。
【０２１６】
図２１の制御階層では、最上位制御レベルは、上位レベルの計画を作成するロット制御ユニットＬＯによって形成されるロット制御層である。この上位レベルの計画から、高いレベル即ち大きな粒サイズで表現されるマスク及び基板のレベルのタスクを、マスク及び基板の制御ユニットＲＬ、ＷＬに渡す。これらのユニットが、輸送制御層を形成し、高いレベルの基板及びマスクのタスクを、より低いレベルのタスク・シーケンスに拡張する。最後に、コントローラＣＭ、ＣＥを含む経路又はサイクル用の制御層が、測定及び露光のプロセスを制御する。
【０２１７】
完全なスケジュールに到達するために、制御層間の「ネゴシエーション」プロセスを実施する。図２２に、ロット制御層及び輸送制御層について、このプロセスの実施例を示す。図２２では、Ａに、順位グラフの形式で、ロット制御ユニットＬＯによって構築された初期上位レベルの計画を示す。この計画は、マスク及び基板用の制御ユニットＲＬ、ＷＬによってさらに制御されるマスク及び基板用のタスク、並びにその両方に関与する露光タスクを含む。次いで、これらマスク用のタスクを、マスク制御ユニットＲＬにおいて、より細かい粒サイズで計画する。この実施例では、Ｂに示すように、この計画は、リソース記憶部ＳＴ、ターレットＴＵ、及びマスク・ステージＲＳを用いて、マスク搬送タスク記憶部をターレットに（ＳＴ２ＴＵ）、且つターレットをマスク・ステージに（ＴＵ２ＲＳ）スケジュールすることを含む。同様に、基板制御ユニットＷＬは、基板搬送タスク用トラックを基板操作器に（ＴＲ２ＷＨ）、且つ基板操作器を基板ステージに（ＷＨ２ＷＳ）スケジュールする。
【０２１８】
Ｄに示すように、輸送層制御ユニットＲＬ、ＷＬによって作成されたスケジュールは、ロット制御ユニットＬＯに戻して報告され、時間設定は、初期タスクに帰することができる。こうすると、Ｅに示すように、ロット制御ユニットＬＯが露光タスクをスケジュールすることができる。この露光タスクは、マスク層及び基板層のリソースをともに必要とするので、Ｆ及びＧに示すように、そのスケジュールは、マスク及び基板用の制御ユニットに送られて、それらのスケジュールに追加される。Ｈ、Ｉ、及びＪに示すように、各コントローラのところで完全なスケジュールが作成されるまで、この手順が継続する。
【０２１９】
このサイクルの第１部分でマスク搬送タスクにかかる時間が、並列に行われる基板搬送タスクよりも長いと、基板レベルのリソースのスケジュールにギャップが生じる。同様に、このサイクルの後半では、マスク・レベルのリソースが稼動しない状態になる。これらのギャップは、この時間を使って、追加の測定、較正、又は予防的な保守のタスクをスケジュールし、それによって、露光品質又はプロセスの歩留まりを向上させることができるロット制御ユニットＬＯによって確認できる。基板レベルのリソースが先行する命令を完了しつつある間、次の命令に関係するマスク・レベルのリソースにおけるタスクを開始することも可能である。
【０２２０】
付属
露光シーケンスの作成
露光パターンの場合の目的では、パラメータは、１組のケイパビリティ及び一覧の材料インスタンスの組を含む要素からなる組である。
【０２２１】
Ｎｐ２ｃ：Ｎ２→（Ｐ（Ｃ）×Ｐ（Ｍ）＊）２は、ノードのパラメータを与える追加の要素である。
【０２２２】
既存のシステム定義
【数１１０】
2005340848.tif 000112
の後に、ｎｐから継承した材料を伴う基本システム定義
【数１１１】
2005340848.tif 000113
を追加する関数を、関数ａｄｄｏｎｅ：Ｄ２ｃ，Ｄ２ｃ×（Ｐ（Ｃ）×Ｐ（Ｍ）＊）２→Ｄ２ｃとする。
【０２２３】
関数ａｄｄｏｎｅは、
【数１１２】
2005340848.tif 000114
を除き、
【数１１３】
2005340848.tif 000115
になるように、
【数１１４】
2005340848.tif 000116
と定義できる。
【０２２４】
この関数を用いて、
【数１１５】
2005340848.tif 000117
を帰納的に定義できる。関数ｇｅｎｅｓは、広範囲の露光パターンに用いることができ、対になった基板を処理することができ、且つ、例えば、Ａ、ＡＢＢＡ、ＡＢＡＢ、ＡＢＣＡＢＣ、ＡＡＢＢ、ＡＡＢＢＣＣＤＤＤＤＣＣＢＢＡＡなどの任意の数のマスクに用いることができる露光シーケンスを作成するのに適したものである。
【０２２５】
【数１１６】
2005340848.tif 000118
【０２２６】
ここで、
【数１１７】
2005340848.tif 000119
は、例えば、関与するすべての要素を含む露光タスクを作成するのに用いる基本システム定義である。
ｐｒｓは、基板を１対ごとに処理するかどうかを定義する。例えば、「ＡＢＢＡ」（ＤＥＴ）に対しては偽、「ＡＡＢＢ」（ＤＥＴ  ＩＩ）に対しては真である。
ｎｐは、ノード・パラメータである。例えば、マスクＲ１及びＲ２によって「ＡＢＢＡ」のパターンに従って露光しなければならない基板Ｗ１〜Ｗ５の５枚の基板ロットについては、（（｛ＷＳ，ＰＡ，．．．｝，［｛Ｗ１｝，｛Ｗ２｝，｛Ｗ３｝，｛Ｗ４｝，｛Ｗ５｝］），（｛ＲＳ，Ｔｕｒｒｅｔ，．．．｝，［｛Ｒ１｝，｛Ｒ２｝，｛Ｒ２｝，｛Ｒ１｝］））である。
ＲｐＰは、この時点から出発して、この対の基板（又は１枚の基板）を完了させるためのマスクの数である。
ＷｐＰは、この時点から出発して、このマスクについてこの対の基板を完了させるための基板の数である。
【０２２７】
【数１１８】
2005340848.tif 000120
は、最大でこの時点までに作成される追加である。
【０２２８】
以下の表に、上記の定義で使用する最も重要な変数をまとめる。
【０２２９】
【表１】
2005340848.tif 000121
【０２３０】
関数ｇｅｎｃｒｂｂ：Ｄ２ｃ×Ｍ×Ｃ→Ｄ２ｃは、ケイパビリティｍのところに存在する材料ｍについて、図１８に示す循環構成単位
【数１１９】
2005340848.tif 000122
からの循環復旧構成単位
【数１２０】
2005340848.tif 000123
をインスタンス化する。このような作成された構成単位は、この計画の残りの部分の前に挿入される一般復旧ノードの代わりに用いることができる。
【０２３１】
【数１２１】
2005340848.tif 000124
を除き
【数１２２】
2005340848.tif 000125
となるように
【数１２３】
2005340848.tif 000126
である。
【０２３２】
以上、本発明の特定の実施例を説明してきたが、本発明は上記で説明した以外の形でも実施できることを理解されたい。この説明は本発明を限定するためのものではない。
【図面の簡単な説明】
【０２３３】
【図１】本発明の実施例によるリソグラフィ機器を示す図。
【図２】本発明の実施例によるＴＲＳ（タスク・リソース・システム）の定義レベルを示す図。
【図３】本発明の実施例によるリソグラフィ機器のリソースを示す図。
【図４】リソグラフィ・プロセスの例におけるマスク及び基板のライフに含まれるタスクを示す図。
【図５】図４のタスク図に対応するガント・チャートを示す図。
【図６】本発明の実施例による方法の実施に関して作成された順位グラフ。
【図７】本発明の実施例による方法によって作成されたタスク・スケジュールの実施例のガント・チャート。
【図８】本発明の実施例による管理機械制御システムを示す図。
【図９】本発明の実施例による方法によって作成されたタスク・スケジュールの第２実施例のガント・チャートであり、スケジュールされた時間設定と実際の時間設定の関係を示すガント・チャート。
【図１０】本発明の実施例による方法によって作成されたタスク・スケジュールの第３実施例のガント・チャートであり、スケジュールの更新結果を示すガント・チャート。
【図１１】本発明の実施例による方法によって作成されたタスク・スケジュールの第４実施例のガント・チャート。
【図１２】本発明の実施例による方法によって作成されたタスク・スケジュールの第５実施例のガント・チャート。
【図１３】本発明の実施例による方法によって計画されたプロセスの実施例において、新しい命令が到着した時点での機器の状態を示す順位グラフ。
【図１４】本発明の実施例による方法によって計画されたプロセスの実施例において、新しい命令が計画された前後の順位グラフ。
【図１５】本発明の実施例による方法によって作成されたタスク・スケジュールの第６実施例のガント・チャート。
【図１６】本発明の実施例による方法によって作成されたタスク・スケジュールの第７実施例のガント・チャート。
【図１７】本発明の実施例による方法によって計画されたプロセスの実施例において、例外が生じた場合の機器の状態を示す順位グラフ。
【図１８】本発明の実施例による方法によって計画されたプロセスの実施例において、例外から復旧するために用いる循環構成単位の図。
【図１９】本発明の実施例による方法によって計画されたプロセスの実施例において、例外から復旧するための計画の順位グラフ。
【図２０】図１９の計画のガント・チャート。
【図２１】多レベル制御階層の異なるレベルを示す図。
【図２２】多レベル制御階層のレベル間のネゴシエーション・プロセスを示す図。
【図１】
2005340848.tif 000127
【図２】
2005340848.tif 000128
【図３】
2005340848.tif 000129
【図４】
2005340848.tif 000130
【図５】
2005340848.tif 000131
【図６】
2005340848.tif 000132
【図７】
2005340848.tif 000133
【図８】
2005340848.tif 000134
【図９】
2005340848.tif 000135
【図１０】
2005340848.tif 000136
【図１１】
2005340848.tif 000137
【図１２】
2005340848.tif 000138
【図１３】
2005340848.tif 000139
【図１４】
2005340848.tif 000140
【図１５】
2005340848.tif 000141
【図１６】
2005340848.tif 000142
【図１７】
2005340848.tif 000143
【図１８】
2005340848.tif 000144
【図１９】
2005340848.tif 000145
【図２０】
2005340848.tif 000146
【図２１】
2005340848.tif 000147
【図２２】
2005340848.tif 000148
【外国語明細書】
2005340848.tif 000149
2005340848.tif 000150
2005340848.tif 000151
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2005340848.tif 000155
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