(57)【要約】【課題】長いライン状のプラズマを生成させることができるようにする。【解決手段】導波管１と、マイクロ波発生源３と、マイクロ波発生源から導波管にマイクロ波を供給するマイクロ波供給路９、１０と、ガス供給源５と、ガス供給源から導波管にガスを供給するガス供給管４とを備える。導波管は、その中心軸に垂直な断面において幅が厚みより大きくなるように形成された扁平な方形導波管からなり、導波管の幅ａが、真空中におけるマイクロ波の波長λ０および導波管の内部におけるマイクロ波の波長λｇに対して、関係式、【数１】2005340079.tif 000006を満足するように選定され、かつ、導波管の内部におけるマイクロ波の波長λｇが、生成すべきプラズマの長さよりも長くなるように選定される。さらに、導波管の内部に生じた電磁界をガス電離エネルギーに変換するプラズマ生成手段２、４を備える。【選択図】図１
2005340079.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導波管と、マイクロ波発生源と、前記マイクロ波発生源から前記導波管にマイクロ波を供給するマイクロ波供給路と、ガス供給源と、前記ガス供給源から前記導波管にガスを供給するガス供給管とを備え、
前記導波管は、その中心軸に垂直な断面において幅が厚みより大きくなるように形成された扁平な方形導波管からなり、
前記導波管の幅ａが、真空中におけるマイクロ波の波長λ０および前記導波管の内部におけるマイクロ波の波長λｇに対して、関係式、
【数１】
2005340079.tif 000005
を満足するように選定され、かつ、前記導波管の内部におけるマイクロ波の波長λｇが生成すべきプラズマの長さよりも長くなるように選定され、さらに、
前記導波管の内部に生じた電磁界をガス電離エネルギーに変換するプラズマ生成手段を備えていることを特徴とするマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項２】
前記プラズマ生成手段は、前記導波管の側壁に形成され、前記導波管の内部におけるマイクロ波の伝播方向にのびるスリットと、前記ガス供給源から前記スリット内または前記スリットの近傍にガスを供給する前記ガス供給管とからなっており、前記スリットから放射される電磁界によって前記ガス供給管内を通過するガスがプラズマ化されるようになっていることを特徴とする請求項１に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項３】
前記導波管の幅を規定する側面がＨ面を形成し、厚みを規定する側面がＥ面を形成するとともに、前記スリットは、前記導波管のＥ面に設けられていることを特徴とする請求項２に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項４】
前記スリットの幅は、前記導波管の厚みの５〜２０％の大きさを有していることを特徴とする請求項２または請求項３に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項５】
前記導波管の厚みは、５〜１０ｍｍであることを特徴とする請求項４に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項６】
前記ガス供給管は、誘電体から形成されているとともに、前記導波管の外側であって、前記導波管におけるスリットが設けられた側壁に近接して配置され、かつ、前記スリットを全長にわたって被覆する幅をもって前記スリットを上下方向に横切ってのび、前記ガス供給管の上端側が前記ガス供給源に接続され、前記ガス供給管の下端は、前記スリットを越えて一定の長さのびており、それによって、前記スリットから放射される電磁界によって前記ガス供給管内を通過するガスがプラズマ化されることを特徴とする請求項２〜請求項５のいずれかに記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項７】
前記ガス供給管は、前記スリットの近傍より上流側の部分に、一定量のガスを蓄えるためのバッファータンクを備え、前記バッファータンクは誘電体から形成されていることを特徴とする請求項６に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項８】
前記導波管の外側には、前記ガス供給管を間に挟んで前記スリットに対向する金属製の電磁界反射手段が取付けられていることを特徴とする請求項６または請求項７に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項９】
前記ガス供給管は、誘電体から形成されているとともに、前記導波管の外側から内部にのび、先端開口が前記導波管のスリットに接続されており、それによって、前記スリットから吹き出すガスがプラズマ化されることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれかに記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項１０】
前記導波管の内部であって、前記ガス供給管における前記スリットの近傍より上流側の部分には、一定量のガスを蓄えるためのバッファータンクが接続され、前記バッファータンクは誘電体から形成されていることを特徴とする請求項９に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項１１】
前記導波管の前記スリットは、その幅が可変になっていることを特徴とする請求項２〜請求項１０のいずれかに記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項１２】
前記導波管の前記スリットは、複数の箇所で分断されていることを特徴とする請求項２〜請求項１０のいずれかに記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項１３】
前記ガス供給管から供給されるガスは、ヘリウム、アルゴン、キセノン、クリプトン、炭素、フッ素、塩素、塩素、窒素および水素のうちの少なくとも１つの元素を含んでいることを特徴とする請求項１〜請求項１２のいずれかに記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項１４】
前記プラズマ生成手段は、前記導波管の内部空間内に配置され、マイクロ波の伝播方向に沿ってのびる誘電体製のプラズマ発生チャンバからなっており、前記導波管の側壁には、前記マイクロ波の伝播方向に沿ってのびる少なくとも１本の貫通穴の列が設けられ、前記貫通穴のそれぞれと前記プラズマ発生チャンバとを接続する各１本の誘電体製のプラズマ放出管が配置され、前記プラズマ放出管は、関係する前記貫通穴を通って前記導波管の外側に突出し、前記ガス供給管は、誘電体からなっているとともに、前記ガス供給源から前記導波管の側壁を通って前記導波管の内部空間内にのびた後、前記プラズマ発生チャンバに接続され、それによって、前記プラズマ発生チャンバ内に供給されたガスが、前記導波管内に生じた電磁界によってプラズマ化され、前記プラズマ放出管から放出されることを特徴とする請求項１に記載にマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項１５】
前記貫通穴の列は、前記マイクロ波の伝播方向に沿って互いに所定の間隔をあけて配置され、前記貫通穴は、前記導波管からのマイクロ波の漏れが生じないようなサイズに形成されていることを特徴とする請求項１４に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項１６】
前記プラズマ発生チャンバおよび前記プラズマ放出管、および前記ガス供給管における前記導波管の内部に配置された部分が、前記導波管の側壁内に埋め込まれ、かつ前記プラズマ発生チャンバの外面の一部分が前記導波管の内部空間に露出していることを特徴とする請求項１４または請求項１５に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項１７】
前記ガス供給管は、前記導波管の外側に位置する部分にバッファータンクを備えていることを特徴とする請求項１４〜請求項１６のいずれかに記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導波管と、マイクロ波発生源と、マイクロ波発生源からマイクロ波を導波管に供給するマイクロ波供給路と、ガス供給源と、ガス供給源から導波管にガスを供給するガス供給管とを備え、導波管内に生じた電磁界によってガスをプラズマ化させるマイクロ波プラズマ発生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来のこの種のマイクロ波プラズマ発生装置においては、一般に方形導波管が用いられている。そして、この方形導波管の内部においては、マイクロ波の伝播方向（方形導波管の長さ方向）に直角な方向（方形導波管の幅方向）のプラズマ生成電界強度が強くなることが知られており、このため、方形導波管の幅方向または方形導波管の長さ方向を横切る方向にスリットが設けられるとともに、導波管の長さ方向にマイクロ波が導入されることにより、プラズマが生成されるようになっている（特許文献１、２参照）。
しかしながら、この構成においては、長いライン状のプラズマを生成することは難しく、面積の大きな対象をプラズマ処理するのに適したプラズマを発生させることができなかった。
【特許文献１】特開２０００−４８９９７号公報
【特許文献２】特開２００３−２８２４４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
したがって、本発明の課題は、長いライン状のプラズマを生成させることができるようにすることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記課題を解決するため、本発明は、導波管と、マイクロ波発生源と、前記マイクロ波発生源から前記導波管にマイクロ波を供給するマイクロ波供給路と、ガス供給源と、前記ガス供給源から前記導波管にガスを供給するガス供給管とを備え、前記導波管は、その中心軸に垂直な断面において幅が厚みより大きくなるように形成された扁平な方形導波管からなり、前記導波管の幅ａが、真空中におけるマイクロ波の波長λ０および前記導波管の内部におけるマイクロ波の波長λｇに対して、関係式、
【数１】
2005340079.tif 000003
を満足するように選定され、かつ、前記導波管の内部におけるマイクロ波の波長λｇが、生成すべきプラズマの長さよりも長くなるように選定され、さらに、前記導波管の内部に生じた電磁界をガス電離エネルギーに変換するプラズマ生成手段を備えていることを特徴とするマイクロ波プラズマ発生装置を構成したものである。
【０００５】
上記構成において、好ましくは、前記プラズマ生成手段は、前記導波管の側壁に形成され、前記導波管の内部におけるマイクロ波の伝播方向にのびるスリットと、前記ガス供給源から前記スリット内または前記スリットの近傍にガスを供給する前記ガス供給管とからなっており、それによって、前記スリットから放射される電磁界によって前記ガス供給管内を通過するガスがプラズマ化されるようになっている。
さらに好ましくは、前記導波管の幅を規定する側面がＨ面を形成し、厚みを規定する側面がＥ面を形成するとともに、前記スリットは、前記導波管のＥ面に設けられている。
【０００６】
また、前記スリットの幅は、前記導波管の厚みの５〜２０％の大きさを有しており、また、前記導波管の厚みは、５〜１０ｍｍである。
【０００７】
また、好ましい実施例によれば、前記ガス供給管は、誘電体から形成されているとともに、前記導波管の外側であって、前記導波管におけるスリットが設けられた側壁に近接して配置され、かつ、前記スリットを全長にわたって被覆する幅をもって前記スリットを上下方向に横切ってのび、前記ガス供給管の上端側が前記ガス供給源に接続され、前記ガス供給管の下端は、前記スリットを越えて一定の長さのびており、それによって、前記スリットから放射される電磁界によって前記ガス供給管内を通過するガスがプラズマ化される。
【０００８】
前記ガス供給管は、前記スリットの近傍より上流側の部分に、一定量のガスを蓄えるためのバッファータンクを備え、前記バッファータンクは誘電体から形成されていることが好ましい。
また、前記導波管の外側には、前記ガス供給管を間に挟んで前記スリットに対向する金属製の電磁界反射手段が取付けられていることが好ましい。
【０００９】
また、好ましい実施例によれば、前記ガス供給管は、誘電体から形成されているとともに、前記導波管の外側から内部にのび、先端開口が前記導波管のスリットに接続されており、それによって、前記スリットから吹き出すガスがプラズマ化される。
また、前記導波管の内部であって、前記ガス供給管における前記スリットの近傍より上流側の部分には、一定量のガスを蓄えるためのバッファータンクが接続され、前記バッファータンクは誘電体から形成されていることが好ましい。
【００１０】
また好ましい実施例によれば、前記導波管の前記スリットは、その幅が可変になっており、あるいは、前記導波管の前記スリットは、複数の箇所で分断されている。
【００１１】
前記ガス供給管から供給されるガスは、ヘリウム、アルゴン、キセノン、クリプトン、炭素、フッ素、塩素、塩素、窒素および水素のうちの少なくとも１つの元素を含んでいることが好ましい。
【００１２】
本発明のさらに別の好ましい実施例によれば、前記プラズマ生成手段は、前記導波管の内部空間内に配置され、マイクロ波の伝播方向に沿ってのびる誘電体製のプラズマ発生チャンバからなっており、前記導波管の側壁には、前記マイクロ波の伝播方向に沿ってのびる少なくとも１本の貫通穴の列が設けられ、前記貫通穴のそれぞれと前記プラズマ発生チャンバとを接続する各１本の誘電体製のプラズマ放出管が配置され、前記プラズマ放出管は、関係する前記貫通穴を通って前記導波管の外側に突出し、前記ガス供給管は、誘電体からなっているとともに、前記ガス供給源から前記導波管の側壁を通って前記導波管の内部空間内にのびた後、前記プラズマ発生チャンバに接続され、それによって、前記プラズマ発生チャンバ内に供給されたガスが、前記導波管内に生じた電磁界によってプラズマ化され、前記プラズマ放出管から放出されるようになっている。
【００１３】
また好ましくは、前記貫通穴の列は、前記マイクロ波の伝播方向に沿って互いに所定の間隔をあけて配置され、前記貫通穴は、前記導波管からのマイクロ波の漏れが生じないようなサイズに形成されている。
また好ましくは、前記プラズマ発生チャンバおよび前記プラズマ放出管、および前記ガス供給管における前記導波管の内部に配置された部分が、前記導波管の側壁内に埋め込まれ、かつ前記プラズマ発生チャンバの外面の一部分が前記導波管の内部空間に露出している。
また好ましくは、前記ガス供給管は、前記導波管の外側に位置する部分にバッファータンクを備えている。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、方形導波管の幅を小さくすることによって導波管内のマイクロ波の波長を長くし、そのマイクロ波の電磁界をガス電離エネルギーに変換し、ガスをプラズマ化させるようにしたので、長いライン状のプラズマを発生させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施例について説明する。図１は、本発明の１実施例によるマイクロ波プラズマ発生装置の全体構成を示した図であり、図２は、図１のマイクロ波プラズマ発生装置の主要部の斜視図である。図１を参照して、本発明のマイクロ波プラズマ発生装置は、導波管１と、マイクロ波発生源（マイクロ波電源）３と、マイクロ波発生源３から導波管１にマイクロ波を供給するマイクロ波供給管路（この実施例では、テーパ導波管１０およびＬ字形導波管９から構成される。）と、ガス供給源５と、ガス供給源５から導波管１にガスを供給するガス供給管４とを備えている。
ガス供給源５から供給されるガスは、ヘリウム、アルゴン、キセノン、クリプトン、炭素、フッ素、塩素、塩素、窒素および水素のうちの少なくとも１つの元素を含んでいる。
【００１６】
導波管１は、その始端が、テーパ導波管１０およびＬ字形導波管９（マイクロ波供給管路）を介してマイクロ波発生源３に接続されている。Ｌ字形導波管９には、マイクロ波発生源３側から、アイソレータ７およびスリースタブ８が取付けられている。また、導波管１の終端には、テーパ導波管１１を介してプランジャー１２が接続されている。
【００１７】
図２を参照して、導波管１は、その中心軸に垂直な断面において幅ａが厚みｂより大きくなるように形成された扁平な方形導波管からなっている。そして、導波管１の幅ａを規定する側面１ａがＨ面を形成し、厚みｂを規定する側面１ｂがＥ面を形成するようになっており、スリット２は、導波管１のＥ面に設けられている。
【００１８】
さらに、導波管１の幅ａが、真空中におけるマイクロ波の波長λ０および導波管１の内部におけるマイクロ波の波長λｇに対して、関係式、
【数２】
2005340079.tif 000004
を満足するように選定され、かつ、導波管１の内部におけるマイクロ波の波長λｇが、生成すべきプラズマの長さよりも長くなるように選定される。例えば、導波管１の幅ａが６０〜６５ｍｍのとき、導波管１内における７００ｍｍ以上の波長を実現することができる。
【００１９】
好ましくは、スリットの幅ａは、導波管１の厚みの５〜２０％の大きさに形成され、また、導波管１の厚みｂが薄くなるほど、導波管１内のマイクロ波の電力密度が増加するので、導波管１の厚みｂはできるだけ薄くなるように、好ましくは、５〜１０ｍｍとなるように設計される。
【００２０】
本発明のマイクロ波プラズマ発生装置は、さらに、導波管１の内部に生じた電磁界をガス電離エネルギーに変換するプラズマ生成手段を備えている。
この実施例では、プラズマ生成手段は、導波管１の側壁に形成され、導波管１の内部におけるマイクロ波の伝播方向（図２の矢印Ｘ方向）にのびるスリット２と、ガス供給源５からスリット２の近傍にガスを供給するガス供給管４とからなっている。
【００２１】
ガス供給管４は、誘電体から形成されており、導波管１のスリット２の近傍よりも上流側の部分に、誘電体から形成されたバッファータンク６を備え、ガス供給源５から導入されたガスの一定量が蓄えられるようになっている。ガス供給管４のバッファータンク６より下流側の部分４ｅは、細長い長方形断面の単一の管として構成される一方、ガス供給管４のバッファータンク６より上流側は、複数本（この実施例では４本）の管４ａ〜４ｄの集合体として構成されている。
【００２２】
ガス供給管４のバッファータンク６より下流側の部分４ｅは、導波管１の外側であって、導波管１におけるスリット２が設けられた側壁１ｂに近接して配置され、かつ、スリット２を全長にわたって被覆する幅をもってスリット２を上下方向に横切ってのびており、ガス供給管４の下流側部分４ｅの下端は、スリット２を越えて一定の長さのびている。
【００２３】
バッファータンク６は、両端開口が閉じた円筒形状を有し、バッファータンク６の上側周壁部分には、４本の管４ａ〜４ｄの集合体からなるガス供給管４の上流側部分の一端が接続され、４本の管４ａ〜４ｄの他端はガス供給源５に接続されている。バッファータンク６に蓄えられたガスは、ガス供給管４の下流側部分４ｅに、その細長い長方形断面の全体にわたって均一に導入され、導波管１のスリット２の近傍に供給される。
【００２４】
この構成において、マイクロ波発生源３で発生せしめられたマイクロ波が、Ｌ字形導波管９およびテーパ導波管１０を通じて導波管１に導入されるとともに、ガスがガス供給源５からガス供給管４を通って導波管１のスリット２の近傍に供給される。そして、スリット２から放射される電磁界によってガス供給管４（下流側部分４ｅ）内を通過するガスがプラズマ化され、ガス供給管４の下端開口から放出される。
【００２５】
こうして、この実施例によれば、方形導波管内のマイクロ波の波長が生成すべきプラズマの長さより長くなるような導波管の幅を設定し、当該導波管の側壁（Ｅ面）にスリットを形成し、スリットから放射される電磁界により、スリットの長さに対応する幅のガス供給管内を流れるガスをプラズマ化させることによって、従来よりも長いライン状のプラズマを発生させることができる。
【００２６】
図３は、本発明の別の実施例によるマイクロ波プラズマ発生装置の主要部を示す、図２に類似の斜視図である。図３の実施例は、図１〜図２の実施例と、導波管のスリットに対向して電磁界反射手段を設けた点だけが相違する。したがって、図２に示された構成要素と同じ構成要素には同一番号を付して詳細な説明を省略する。
図３を参照して、導波管１の外側には、ガス供給管の下流側部分４ｅを間に挟んで、スリット２に対向する金属製の電磁界反射手段１３が取付けられている。電磁界反射手段１３は、スリット２に対向する細長い板状の本体部分１３ａと、本体部分１３ａの両側に接続された支持脚１３ｂ、１３ｂとからなるコ字形状を有していて、支持脚１３ｂ、１３ｂの下端が導波管１の側壁１ｂに対し適当な手段によって接合されている。
【００２７】
この実施例によれば、導波管１のスリット２から放射された電磁界が電磁界反射手段１３によって反射され、図１〜２の実施例よりも強いプラズマ発生電界が得られるので、より安定した長いライン状のプラズマの生成が可能となる。
【００２８】
なお、導波管のスリットの構成はこの実施例に限定されるものではなく、例えば、導波管のスリットの幅が可変になっていてもよいし、スリットが複数の箇所で分断されていてもよい。
【００２９】
図４は、本発明のさらに別の実施例によるマイクロ波プラズマ発生装置の主要部の構成を示す図であり、導波管の長さ方向に垂直な断面をとった斜視図である。
この実施例は、ガスが導波管の内部からスリット内に供給される点のみが、図１〜２の実施例と相違している。よって、図４において、図２に示された構成要素と同じ構成要素には同一番号を付して詳細な説明を省略する。
図４を参照して、この実施例によれば、導波管１の内部に、誘電体から形成された長方形断面のバッファータンク１４が入れ子状に配置される。また、４本の管４ａ〜４ｄの集合体からなるガス供給管４の上流側部分は、導波管１のスリット２が設けられた側壁１ｂに対向する側壁１ｃに取付けられ、導波管１の外側から内部にのび、バッファータンク１４に接続される。
【００３０】
バッファータンク１４の導波管１のスリット２に対向する側壁には、スリット２に整合する細長い孔１４ａが設けられる。さらに、ガス供給管４におけるバッファータンク１４より下流側の部分４’は、細長い長方形断面の単体の管状部分として形成され、一端がバッファータンク４’の孔１４ａに接続され、他端が導波管１のスリット２に接続される。
【００３１】
この実施例においては、マイクロ波発生源３で発生せしめられたマイクロ波が、Ｌ字形導波管９およびテーパ導波管１０を通じて導波管１に導入される。それと同時に、ガスが、ガス供給源からガス供給管の上流側部分４ａ〜４ｄを通じて、バッファータンク１４内に導入され、一旦蓄えられる。バッファータンク１４に蓄えられたガスは、均一な流れとして、ガス供給管４の下流側部分４‘を通ってスリット２内に供給され、導波管１に生じた電磁界によってプラズマ化され、スリット２からプラズマが放出される。こうして、スリット２の長さに対応するライン状のプラズマが得られる。
【００３２】
図５は、本発明のさらに別の好ましい実施例によるマイクロ波プラズマ発生装置の主要部の構成を示す図であり、（Ａ）は導波管の長さ方向に垂直な断面をとった斜視図であり、（Ｂ）は下面から見た平面図である。
この実施例は、プラズマ生成手段は、導波管２０の内部空間２１内に配置され、マイクロ波の伝播方向（矢印Ｙ方向）に沿ってのびる誘電体製のプラズマ発生チャンバ２２からなっている点が、図１〜２の実施例と異なっている。
【００３３】
図５を参照して、プラズマ発生チャンバ２２は、両端開口が閉じられた円筒形状を有している。導波管２０の側壁２０ａには、マイクロ波の伝播方向に沿ってのびる少なくとも１本の貫通穴の列２３が設けられている。貫通穴の列２３は、マイクロ波の伝播方向（矢印Ｙ方向）に沿って互いに所定の間隔をあけて配置される。貫通穴２４は、導波管２０からのマイクロ波の漏れが生じないようなサイズに形成されている。
【００３４】
また、貫通穴２４のそれぞれとプラズマ発生チャンバ２２とを接続する各１本の誘電体製のプラズマ放出管２５が配置される。各プラズマ放出管２５は、関係する貫通穴２４を通って導波管２０の外側に突出している。
【００３５】
ガス供給管２６ａ、２６ｂは、誘電体からなっているとともに、ガス供給源から導波管２０の側壁を通って導波管２０の内部空間２１内にのびた後、プラズマ発生チャンバ２２に接続されている。ガス供給管における導波管２０の外側に位置する部分には、バッファータンク２７が備えられている。バッファータンク２７は、金属製または誘電体製の両端開口が閉じられた円筒形状を有している。
ガス供給管２６ａ、２６ｂは、複数本の管の集合体からなっている。
【００３６】
この実施例によれば、プラズマ発生チャンバ２２内に供給されたガスが、導波管２０内に生じた電磁界によってプラズマ化され、各プラズマ放出管２５から放出され、並列するプラズマ放出管２５の長さに対応するライン状のプラズマが得られる。この場合、図１〜４の実施例より、強いプラズマ発生電界が得られ、その結果、より安定した長いライン状のプラズマを得ることができる。
【００３７】
図６は、本発明のさらに別の実施例によるマイクロ波プラズマ発生装置の主要部の構成を示す図であり、導波管の長さ方向に垂直にとった断面図である。図６の実施例は、図５の実施例において、プラズマ発生チャンバ２２およびプラズマ放出管２５、およびガス供給管における導波管の内部に配置された部分２６ｂを、導波管２０の側壁内に埋め込むとともに、プラズマ発生チャンバ２２の外面の一部分を導波管２０の内部空間２１に露出させたものからなっている。この実施例では、プラズマ発生チャンバ２２の上側外周面の長さ方向にのびる一部分が、導波管２０の内壁に設けられた長さ方向にのびる開口部２１ａを介して導波管２０の内部空間２１に露出するようになっている。したがって、図６において、図５の実施例と同じ構成要素には同一の番号を付して詳細な説明を省略する。
この実施例によれば、誘電体から形成される構成要素（プラズマ発生チャンバおよびプラズマ放電管、およびガス供給管における導波管の内部に配置された部分）の誘電率によって、導波管内に生じるマイクロ波の波長が理論値より短くなってしまうことが防止される。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
本発明によれば、長いライン状のプラズマを安定して発生させることができるので、面積の大きい対象に効率的にプラズマを照射することができる。したがって、本発明によるマイクロ波プラズマ発生装置を、公知のエッチング装置、ＣＶＤ装置、表面処理装置、材料改質装置等に適用することによって、それによって、大きな面積の対象を効率的に処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の１実施例によるマイクロ波プラズマ発生装置の全体構成を示した図である。
【図２】図１のマイクロ波プラズマ発生装置の主要部の斜視図である。
【図３】本発明の別の実施例によるマイクロ波プラズマ発生装置の主要部の、図２に類似の斜視図である
【図４】本発明のさらに別の実施例によるマイクロ波プラズマ発生装置の主要部の構成を示す図であり、導波管の長さ方向に垂直な断面をとった斜視図である。
【図５】本発明のさらに別の好ましい実施例によるマイクロ波プラズマ発生装置の主要部の構成を示した図であり、（Ａ）は導波管の長さ方向に垂直な断面をとった斜視図であり、（Ｂ）は下面から見た平面図である。
【図６】本発明のさらに別の実施例によるマイクロ波プラズマ発生装置の主要部の構成を示す図であり、導波管の長さ方向に垂直にとった断面図である。
【符号の説明】
【００４０】
１  導波管
２  スリット
３  マイクロ波発生源
４  ガス供給管
５  ガス供給源
６  バッファータンク
７  アイソレータ
８  スリースタブ
９  Ｌ字形導波管
１０  テーパ導波管
１１  テーパ導波管
１２  プランジャー
【図１】
2005340079.tif 000007
【図２】
2005340079.tif 000008
【図３】
2005340079.tif 000009
【図４】
2005340079.tif 000010
【図５】
2005340079.tif 000011
【図６】
2005340079.tif 000012