(57)【要約】【課題】散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータを少ないプロセスステップだけで高精度で製造可能にする。【解決手段】散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータ（４）が一次放射線のための通過路もしくは通過スリット（５）を有する予め与え得る形状の少なくとも１つの基体（６）から構成され、通過路もしくは通過スリット（５）が基体（６）の対向する２つの表面間に延びている放射線のための散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータ（４）の製造方法において、基体（６）が、放射線を強く吸収する構造材料から、射出成形技術またはステレオリソグラフィ技術で形成される。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータ（４）が一次放射線のための通過路もしくは通過スリット（５）を有する予め与え得る形状の少なくとも１つの基体（６）から構成され、通過路もしくは通過スリット（５）が基体（６）の対向する２つの表面間に延びている放射線のための散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータ（４）の製造方法において、基体（６）が、放射線を強く吸収する構造材料から、射出成形技術またはステレオリソグラフィ技術で形成されることを特徴とする散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータの製造方法。
【請求項２】
構造材料として、熱可塑性プラスチックと放射線を強く吸収する物質とからなる複合材料が使用されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
構造材料として、放射線を強く吸収する物質を充填されたプラスチックまたはセラミックス材料が使用されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項４】
構造材料として、タングステン粉末を充填されたプラスチック材料が使用されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
構造材料として、高吸収性のセラミックス粉末を充填されたプラスチック材料が使用されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】
構造材料として、オキシ硫化ガドリニウムを充填されたプラスチック材料が使用されることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項７】
散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータ（４）が複数の基体（６）からなることを特徴とする請求項１乃至６の１つに記載の方法。
【請求項８】
基体（６）は、それらの表面が向かい合うように上下に積み重ねられることを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】
基体（６）の形状は、散乱放射線除去用集束グリッドまたはコリメータ（４）が形成されるように予め与えられることを特徴とする請求項１乃至８の１つに記載の方法。
【請求項１０】
基体（６）の形状は、通過路（５）によってセル状構造の散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータ（４）が形成されるように予め与えられることを特徴とする請求項１乃至９の１つに記載の方法。
【請求項１１】
Ｘ線用の散乱放射線除去用グリッドを製造するための請求項１乃至１０の１つに記載の方法。
【請求項１２】
ガンマ線用のコリメータを製造するための請求項１乃至１０の１つに記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータが一次放射線のための通過路もしくは通過スリットを有する予め与え得る形状の少なくとも１つの基体から構成され、通過路もしくは通過スリットが基体の対向する２つの表面間に延びている放射線のための散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
今日、Ｘ線技術ではＸ線撮影の高度の画質が要求される。特に医療上のＸ線診断技術において行なわれるようなこの種の撮影においては、被検体がほぼ点状のＸ線源のＸ線によって照射され、Ｘ線源に対向している被検体側のＸ線の減弱分布が二次元で検出される。被検体によって減弱されたＸ線を列状に検出することも、例えばコンピュータ断層撮影において行なわれている。Ｘ線検出器として、Ｘ線フィルムおよびガス検出器のほかに、ますます固体検出器が使用されるようになった。固体検出器は一般にマトリックス状に配置された光電半導体素子を光電受信器として有する。Ｘ線撮影の各画素には、理想的には、点状Ｘ線源から画素に相当するＸ線検出器面位置に至る直線軸線上の被検体を通るＸ線の減弱が対応すべきである。点状Ｘ線源からこの軸線上を通って直線的にＸ線検出器に入射するＸ線は一次Ｘ線と呼ばれる。
【０００３】
しかしながら、Ｘ線源から出射するＸ線は被検体において不可避の相互作用により散乱させられるので、一次Ｘ線のほかに散乱Ｘ線いわゆる二次Ｘ線も検出器に入射する。この散乱Ｘ線は被検体の特性に依存して診断画像においてはＸ線検出器の全信号制御の９０％以上に生じることがある。散乱Ｘ線は付加的な雑音源であり、従って繊細なコントラスト差の認識能力を低下させる。この散乱Ｘ線の著しい欠点は、散乱Ｘ線の量子特性により、画像撮影における有意義な付加的な雑音成分が生じさせられることによって理由付けされている。
【０００４】
そこで、検出器に入射する散乱Ｘ線成分を減少させるために、被検体と検出器との間に散乱放射線除去用グリッドが使用される。散乱放射線除去用グリッドは、規則的に配列されたＸ線吸収構造体からなり、構造体間には一次Ｘ線をできるだけ減弱させずに通過させるための通過路または通過スリットが形成されている。散乱放射線除去用集束グリッドの場合、これらの通過路もしくは通過スリットは、点状Ｘ線源までの距離、すなわちＸ線管の焦点までの距離に応じて、焦点に向けられている。散乱放射線除去用平行グリッドの場合、通過路もしくは通過スリットは、散乱放射線除去用平行グリッドの全面に亘って、散乱放射線除去用平行グリッドの表面に対して垂直に向けられている。しかしながら、これは画像撮影の周辺部において一次Ｘ線のかなりの損失をもたらす。なぜならば、これらの個所では入射する一次Ｘ線の大部分が散乱放射線除去用平行グリッドの吸収範囲に当たるからである。
【０００５】
高画質を得るために、Ｘ線用の散乱放射線除去用グリッド（すなわち散乱Ｘ線除去用グリッド）の特性に高度の要求がなされる。散乱Ｘ線は一方ではできるだけ良好に吸収されるべきであるのに対して、他方では一次Ｘ線のできるだけ高い成分が減弱されないで散乱放射線除去用グリッドを通過すべきである。検出器面に入射する散乱Ｘ線成分の低減は、通過路もしくは通過スリットの幅もしくは直径に対する散乱放射線除去用グリッドの高さの大きな比によって、すなわち高い縦横比によって達成される。しかしながら、通過路もしくは通過スリットの間にある吸収性構造要素もしくは壁要素の厚みのために、一次Ｘ線の一部の吸収による画像障害がもたらされる。まさに固体検出器の使用時には、散乱放射線除去用グリッドの不均一性、すなわち理想位置からの吸収範囲のずれが、Ｘ線画像に散乱放射線除去用グリッドの結像による画像障害をもたらす。例えばマトリックス状に配置された検出器要素の場合に、検出器要素および散乱放射線除去用グリッドの構造の投影が互いに干渉し合う。それによって障害となるモアレ現象が発生する。
【０００６】
全ての公知の散乱放射線除去用グリッドにおける特別の欠点は、吸収性の構造要素が任意に薄く且つ精密に作ることができず、その結果いずれの場合にも一次Ｘ線の重要な部分がこれらの構造要素によって奪われことにある。
【０００７】
同じ問題点が核医療、特に、例えばアンガーカメラのようなガンマカメラを用いる場合に生じる。この撮影技術の場合にも、Ｘ線診断におけると同様に、検出器に到達する散乱ガンマ量子ができるだけ少なくなるように配慮されなければならない。Ｘ線診断とは異なり核診断の場合にはガンマ量子の線源が被検体の内部に存在する。この場合に患者には特定の不安定な核種により標識された物質代謝剤が注入され、注入された物質代謝剤はその後器官特有に集積される。被検体から相応に放出された崩壊量子の検出によって器官の画像が得られる。器官における活動度の時間的経過から器官の働きを逆推論することができる。被検体内部の画像を取得するために、ガンマ検出器の前に、画像の投影方向を決定するコリメータが設置されなければならない。この種のコリメータは動作態様および構造からＸ線診断における散乱放射線除去用グリッドに相当する。コリメータの優先方向によって定められるガンマ量子のみがコリメータを通過し、コリメータに対して斜めに入射する量子はコリメータ壁に吸収される。Ｘ線量子に比べてガンマ量子の高エネルギーにより、コリメータはＸ線用の散乱放射線除去用グリッド（すなわち散乱Ｘ線除去用グリッド）よりも何倍も高く実施されなければならない。
【０００８】
定められたエネルギーの量子のみが画像内に考慮されることによって、画像撮影中に散乱した量子を淘汰することができる。もちろん、検出された散乱量子は、ガンマカメラに他の事象を全く記録できない例えば１マイクロ秒の不感時間を必要とする。従って、散乱量子の記録後直ぐに一次量子が入射した場合、その一次量子は記録されず、画像にとっては失われてしまう。散乱量子が時間的に（ある限界内で）一次量子と一致したとしても、同様な結果が生じる。評価電子装置はもはや両方の事象を分離することができないので、過大なエネルギーが検出され、事象は記録されない。引き合いに出した両ケースは、高い効果的な散乱放射線抑制が核医学においても量子効率の改善をもたらすことを根拠づける。結局、それによって、適用された放射性核種の等しい線量の場合には画質の改善が達成されるか、あるいは同じ画質の場合には放射性核種の少ない線量が可能になるので、患者の放射線被曝を減少させ、画像撮影時間の短縮を達成することができる。
【０００９】
Ｘ線用の散乱放射線除去用グリッドおよびガンマ線用のコリメータの製造に関して、今日では種々の技術が存在する。例えば、鉛帯および紙帯を並べられた薄層状の散乱放射線除去用グリッドが公知である。鉛帯は二次放射線の吸収に役立ち、鉛帯の間にある紙帯は一次放射線の通過スリットを形成する。しかしながら、この種の散乱放射線除去用グリッドの製造時における制限された精密さおよび鉛薄層の更には低減できない厚みが一方では一次放射線の願わしくない損失をもたらし、他方では固体検出器のマトリックス状に配置された検出器要素の場合にモアレおよび／またはグリッド帯による画質問題をもたらす。
【００１０】
ガンマカメラのコリメータは一般に機械的に折り重ねられた鉛薄層から製造される。これは価格的に比較的手頃な手段であるが、しかし、特にマトリックス状に配置された検出器要素、例えばカドミウム−亜鉛−テルル化物検出器を有する固体カメラを使用する場合、このコリメータの比較的粗い構造のために、障害となるエイリアシング作用が発生する欠点を有する。
【００１１】
Ｘ線用の散乱放射線除去用グリッドの製造について、散乱放射線除去用グリッドを個々の薄い金属箔層から形成する方法が知られている（特許文献１参照）。個々の薄い金属箔層は、Ｘ線を強く吸収する材料からなり、写真蝕刻法により相応の通過口を持った構造が与えられる。このためにはそれぞれの箔の両側にフォトレジストが設けられ、フォトマスクを介して露光されなければならない。引続いて、箔材料中に通過口をエッチング形成するエッチングステップが行なわれる。残されたフォトレジスト層の除去後、エッチングされた金属箔に接着層が設けられる。引続いて金属箔が正確に上下に位置決めされ、散乱放射線除去用グリッドの形成のために互いに接続される。引き続く温度処理によって構造が固定される。このようにして、通過路としての空隙を有するセル状の散乱放射線除去用グリッドが製造され、この散乱放射線除去用グリッドは乳房撮影および一般的なＸ線撮影への使用に適している。この場合に写真蝕刻法によるエッチング技術は、鉛薄層により可能であるよりも、散乱放射線除去用グリッドにおける吸収範囲および非吸収範囲の精密な決定を可能にする。金属箔ごとに異なるマスクを使用することによって、（それぞれ僅かに互いにずらされた通過口を持たせることによって）散乱放射線除去用集束グリッドをこの技術により製造することもできる。Ｘ線用の散乱放射線除去用グリッドに関しては、もちろん多数のこの種の金属箔層が必要であり、これらの金属箔層はここでも多数の異なるマスクおよび製造ステップを要する。従って、この方法は非常に時間がかかり費用が割高である。
【００１２】
同様に個々の金属箔が写真蝕刻法によりエッチングされ上下に積層されるＸ線およびガンマ線用の散乱放射線除去用グリッドの他の製造方法も知られている（特許文献２参照）。しかしながら、この方法では散乱放射線除去用集束グリッドの製造のために、通過口の正確に等しい配置を有する金属箔層のグループがまとめられ、個々のグループだけが相互にずらされた通過口を有する。この技術によって散乱放射線除去用グリッドの製造のための必要な写真蝕刻法のマスクの個数が削減される。
【００１３】
Ｘ線用の散乱放射線除去用グリッドを製造する他の公知の方法では、光感応材料からなる基板が使用され、作成すべき通過路に応じたフォトマスクを用いて露光される（特許文献３参照）。この基板から通路が露光範囲に応じてエッチング形成される。通過路の内壁を含む基板表面は十分な厚さのＸ線吸収材料で被覆される。縦横比を高めるために、場合によってはこのように加工された複数の基板が上下に積み重ねられる。Ｘ線用のセル状散乱放射線除去用グリッドを製造するための類似の製造技術が他にも知られているが、しかしながら厚い基板内に通過路をエッチング形成することによって通路形状の精密さに損失が生じる（特許文献４および特許文献５参照）。
【００１４】
セル状に構成されたガンマ線用コリメータの公知の製造方法では、コリメータがこの場合にも金属箔、特にタングステンからなるラミネート層から作られ、このラミネート層が光化学的にエッチングされる（非特許文献１参照）。従って、この製造方法も非常に労力を要し、費用的に割高である。
【００１５】
ラピッドプロトタイピング（Ｒａｐｉｄ−Ｐｒｏｔｏｔｙｐｉｎｇ）法を用いた散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータの製造方法も公知である（特許文献６参照）。この方法では、まず散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータの透過範囲および非透過範囲の形状が決定される。続いてラピッドプロトタイピング技術によりビーム作用下での構造材料の層ごとの硬化によって透過範囲の形状に応じた基体が形成され、そして形成された通過路の内面並びに前側表面および裏側表面にＸ線またはガンマ線を強く吸収する材料が被覆される。この場合に、層厚は、入射する二次放射線がほぼ完全にこの層に吸収されるように選ばれる。
【特許文献１】米国特許第５８１４２３５号明細書
【特許文献２】米国特許第６１８５２７８号明細書
【特許文献３】米国特許第５３０３２８２号明細書
【特許文献４】欧州特許第０６８１７３６号明細書
【特許文献５】米国特許第５９７０１１８号明細書
【特許文献６】独国特許第１０１４７９４７号明細書
【非特許文献１】Ｇ．Ａ．Ｋａｓｔｉｓ  ｅｔ  ａｌ．，“Ａ  Ｓｍａｌｌ−Ａｎｉｍａｌ  Ｇａｍｍａ−Ｒａｙ  Ｉｍａｇｅｒ  Ｕｓｉｎｇ  ａ  ＣｄＺｎＴｅ  Ｐｉｘｅｌ  Ａｒｒａｙ  ａｎｄ  ａ  Ｈｉｇｈ  Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ  Ｐａｒａｌｌｅｌ  Ｈｏｌｅ  Ｃｏｌｌｉｍａｔｏｒ（ＣｄＺｎＴｅピクセルアレイを用いた小動物ガンマ線画像および高分解能平行孔コリメータ）”
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明の課題は、散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータを少ないプロセスステップだけで高い精度で製造することができる散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
この課題は請求項１による方法によって解決される。方法の好ましい構成は、従属請求項の対象であり、以下の記載並びに実施例から引き出すことができる。
【００１８】
本発明による方法において、それぞれの放射線、特にＸ線および／またはガンマ線の一次放射線のための通過路もしくは通過スリットを有する予め与え得る形状の少なくとも１つの基体から構成されている散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータは、基体が、放射線を強く吸収する構造材料から、射出成形技術またはステレオリソグラフィ技術で形成されることによって製造される。構造材料として、直接的に放射線を強く吸収する材料が使用される。この強く吸収する構造材料は、熱可塑性プラスチックと放射線を強く吸収する物質とからなる複合材料であると好ましい。構造材料は、例えばタングステン粉末を充填されたプラスチック材料、高吸収性のセラミックス粉末を充填されたプラスチック材料あるいはオキシ硫化ガドリニウムを充填されたプラスチック材料であってよい。
【００１９】
それぞれの放射線、特にＸ線および／またはガンマ線を強く吸収する材料から基体を直接的に形成することによって、散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータを射出成形型によって予め与え得る任意の形状で少ない処理ステップだけで製造することができる。高価な組み立てまたはエッチング技術を基体の付加的に必要な被覆と同様に省略することができる。同様のことがステレオリソグラフィによりビーム作用下で構造材料を層ごとに硬化させて基体を構成する場合にも当てはまる。この技術では、精巧な加工の構造および高い正確さを有する基体を、簡単に、多数の高価な方法ステップを実行しなければならないということなしに製造することができる。従って、完成した散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータを得るまでの全製造プロセスは、従来技術の他の公知の方法に比べて簡単化され、価格的に手頃に実現される。
【００２０】
ステレオリソグラフィ（光造形法）技術の場合、３Ｄ−ＣＡＤ構造ここでは基体の形状がＣＡＤシステムにおけるボリュームデータに変換される。引続いて、ステレオリソグラフィのための３Ｄボリュームモデルがコンピュータにおいて横断面に分割される。横断面は１００μｍ以下のスライス厚である。ステレオリソグラフィ装置へデータを伝送後に、本来の形状が層（スライス）ごとに構成される。この場合に、本方法では層構成をビーム作用、特にレーザビームによって行なう技術が使用される。この技術では、液状エポキシ樹脂が好ましくはＵＶ（紫外線）レーザの露光によって硬化される。レーザは光学レンズ−スキャナーシステムによって集束されて硬化すべき面上を案内される。３Ｄボリュームデータを介して樹脂表面上における構成部分の形状がレーザにより模写され、このようにして硬化される。硬化後に新たな層が形成され、もしくは硬化された範囲を有する構成部分がスライス厚だけ沈下させられ、新たな層が露光される。構成部分が完全な輪郭を有するまで、全プロセスが層ごとに繰り返される。本発明による散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータを製造するためには、２５０×２５０ｍｍ2の構成面を有するステレオリソグラフィ装置が使用されるとよい。散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータを製造するためにステレオリソグラフィ技術を使用する場合の特異性は、プラスチック材料が基体に高い放射線吸収を持たせる充填材料を備えていることにある。この充填材料としては、例えばオキシ硫化ガドリニウム（ＧＯＳ）、高吸収性のセラミックス粉末またはタングステン粉末を使用するとよい。プラスチック材料が硬化すると、この充填材料は基体中に固く包み込まれる。
【００２１】
用語“ソリッド・グラウンド・カーリング（Ｓｏｌｉｄ  Ｇｒｏｕｎｄ  Ｃｕｒｉｎｇ）”でも知られているステレオリソグラフィの他の可能な技術では、グラフィックゼネレータによって各層の構造がネガティブマスクとしてガラス担持体上に形成される。ネガティブマスクはリソグラフィ構造として利用され、各露光後に消去され、そして新たに形成される。作業板上に、充填材料を備えたＵＶ硬化する樹脂の薄い層が形成される。引続いて、マスクを通してＵＶ光による露光が行なわれるので、構造がマスク下で硬化される。露光されない範囲は液状に留まり、吸い取られる。形成された空所は熱い液状ワックスを充填され、引続いて硬化される。最後に新たに完成した層の表面が平らに削られる。この層の作製後、新しい層に樹脂を設けて同じように選択的に硬化させることができる。完全な構成部分が完成するまで全プロセスが続けられる。
【００２２】
本発明による方法の一つの実施態様において、散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータは、単一の基体からではなく、複数の基体から構成される。これらの基体は互いに並べて配置されるか、または放射線の通過方向に上下に積み重ねられる。散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータを複数の基体から構成することは、大きな中間壁長さの際に特に僅かな中間壁幅、すなわち通過路間のまたは通過スリットによる小さい間隔が必要である場合に、中間壁の十分な機械的安定性を保証するのに有利である。
【００２３】
基体の形状は本発明による方法では任意に予め与えることができる。とりわけ、本発明による方法により散乱放射線除去用集束グリッドまたはコリメータが形成され、この散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータでは通過路または通過スリットの境界壁の傾斜が定められたＸ線焦点位置に向けられている。更に、この散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータは通過スリットを備えるだけでなく、セル状またはハニカム状の構造が生じるようにマトリック状に配置された通過路を備えると有利である。このようにして、第２の次元における、特にＸ線装置のｚ方向へのコリメートも達成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下において本発明による方法を図面を参照しながら実施例に基づいてもう一度簡潔に説明する。
図１は被検体のＸ線画像撮影時の散乱放射線除去用グリッドの作用を概略的に示す。
図２は被検体の核医学撮影中にコリメータを使用する場合の状況を概略的に示す。
図３はステレオリソグラフィ技術の説明図を示す。
図４は射出成形の具体例の説明図を示す。
図５は本発明による方法により製造されたコリメータもしくは散乱放射線除去用グリッドの第１の例を示す。
図６は本発明による方法により製造されたコリメータもしくは散乱放射線除去用グリッドの第２の例を示す。
【００２５】
Ｘ線診断における被検体３のＸ線画像撮影時の典型的な状況を図１に基づいて説明する。被検体３は、ほぼ点状のＸ線源と見なすことのできるＸ線管の管焦点１と、検出器面７との間に存在する。Ｘ線源の焦点１から出射するＸ線２はＸ線検出器７の方向に直線状に伝播し、その際に被検体３を透過する。Ｘ線焦点１から出射し直線状に被検体３を透過して検出器面７に入射する一次Ｘ線２ａは、検出器面７上に、被検体３についての位置分解された減弱値分布を生じさせる。この際に生じる散乱Ｘ線２ｂは所望の画像情報には寄与せず、検出器７に入射したならば著しく信号雑音比を悪化させる。従って、画質改善のために、散乱放射線除去用グリッド（散乱Ｘ線除去用グリッド）４が検出器７の前に配置される。この散乱放射線除去用グリッド４は基体６内に通過路５を有し、この基体６はこの場合Ｘ線を透過させない材料からなる。通過路５は管焦点１の方向に向けられているので、通過路５は直線状経路で入射する一次Ｘ線２ａを検出器面へ当てる。この方向に入射しないＸ線、特に散乱Ｘ線２ｂは基体６の吸収材料によって阻止され、または著しく減弱される。もちろん基体６の吸収性の中間壁は、従来公知の製造技術によっては、定められた最小厚みでしか実現することができないので、それによってなおも一次Ｘ線２ａのかなりの部分が吸収され、画像結果に寄与しない。
【００２６】
図２は核医療における画像撮影時の状況を示す。図２では器官３ａが示されている被検体３を認識することができる。器官３ａに集積するガンマ線放出材料の注入によって、この範囲からガンマ量子８ａが放出され、検出器７すなわちアンガーカメラに入射する。検出器７の前に配置されたコリメータ４は基体６のガンマ線吸収範囲の間に直線状に向けられた通過路５を有し、このコリメータ４によってその都度の画像撮影の投影方向が決定される。直線経路でこの投影方向に由来しない他の方向に放出または散乱されたガンマ量子８ｂは、コリメータ４によって吸収される。しかしながら、この技術の場合にも、基体６の任意に薄くないガンマ線吸収範囲により、なおも一次ガンマ線８ａのかなりの部分が吸収される。
【００２７】
本発明により、通過路５間に薄い中間壁を有する散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータの非常に精密な製造を可能にする方法が提供される。この場合に散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータの製造のために、本発明による方法の構成では、図３に模範例で示されているように、ステレオリソグラフィ技術が使用される。この技術ではＵＶ（紫外線）レーザビーム１２が、タンク９内にある液状のＵＶ網状結合ポリマー１０の表面に向けられる。ＵＶレーザビーム１２は、基体６を層ごとに構成するために、作製すべき基体６の３次元ボリュームモデルに基づいて液状ポリマー１０の表面上を移動する。１つの層の硬化後に、この層は構築台１１上において他の層厚だけ沈下させられるので、ＵＶレーザビーム１２が次の層を３次元ボリュームモデルに応じて硬化させることができる。このようにして、基体６の一層一層が、この方法ではＸ線を強く吸収する材料からなる充填物を備えた網状結合されたＵＶ硬化ポリマーから形成される。例えば、構造材料としてタングステン粉末の充填物を備えるＵＶ硬化ポリマーが使用される。この場合に、ＵＶレーザビーム１２の良好な集束可能性によって、非常に精巧な加工の構造を非常に高精度で実現することができる。基体６は直接に構築台１１上に、または構築台１１上にある図示されていない付加的な支持板上に構成することができる。更に、基板をステレオリソグラフィ技術により直接に構成し、その後この基板上に基体６を所望の形状に従って形成することができる。
【００２８】
図４は、模範的に基体を製造するための射出成形技術における進行を示す。この技術の場合、散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータ４の基体の雌型を構成する上部射出成形型１３および下部射出成形型１４が準備される。この種の射出成形型は公知のように型取りによってまたはラピッドプロトタイピング技術により作ることができる。両部分型１３，１４がつなぎ合わされた後に、注入口１５を介して、液化された構造材料が部分型１３，１４間に形成された空間に注入される。この構造材料の硬化後、両部分型１３，１４が再び分離される。このようにして形成された散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータ４は例えば次の図５および図６の例から明らかな構造を有する。タングステン粉末の充填物を有するこの場合に使用されたプラスチック材料、例えばＥＣＯＭＡＳＳ（登録商標）またはエポキシ樹脂が基体の通過路間における中間壁の十分な放射線吸収を生じる。充填材料の他の例はＣｏ−６０およびＮ−１６であり、これらにより鉛と同様の高い遮蔽能力を得ることができる。
【００２９】
図５は、本発明により製造可能である散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータ４の第１の例を示す。本例では上下に積み重ね可能である２つの基体６が示されている。固定のために、これらの基体４は両基体６間の簡単且つ着脱可能な固定接続を可能にするスナップ結合１６を有する。これらの基体は図の拡大部分から明らかのように多数の通過路５を有する。通過路５を画成している縦横に延びる中間壁６ａによって、セル状の散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータが形成され、これによりΦ方向にもｚ方向にもコリメートが行なわれる。
【００３０】
図６は、本方法により製造されるコリメータまたは散乱放射線除去用グリッドの積重ね構造の他の例を示す。この図にも上下に積み重ね可能な両基体６が間隔をおいた形で認めることができる。この場合に基体はそれぞれ多数の平行配置された通過スリット５を有し、これらの通過スリット５はそれぞれ縦に延びる中間壁６ａによって互いに分離されている。ここでも拡大平面図を図の左下に認めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】被検体のＸ線画像撮影時の散乱放射線除去用グリッドの作用の説明図
【図２】被検体の核医学撮影中にコリメータを使用する際の状況の説明図
【図３】ステレオリソグラフィ技術の説明図
【図４】射出成形の具体例の説明図
【図５】本発明による方法により製造されたコリメータもしくは散乱放射線除去用グリッドの第１の例を示す概略図
【図６】本発明による方法により製造されたコリメータもしくは散乱放射線除去用グリッドの第２の例を示す概略図
【符号の説明】
【００３２】
１        管焦点
２        Ｘ線
２ａ      一次Ｘ線
２ｂ      散乱Ｘ線
３        被検体
３ａ      器官
４        散乱放射線除去用グリッドまたはコリメータ
５        通過路
６        基体
６ａ      中間壁
７        検出器、検出器面
８ａ      ガンマ量子、一次ガンマ線
８ｂ      散乱されたガンマ量子
９        タンク
１０        液状ポリマー
１１        構築台
１２        ＵＶレーザビーム
１３        上部射出成形型
１４        下部射出成形型
１５        注入口
１６        スナップ結合
【図１】
2005345467.tif 000003
【図２】
2005345467.tif 000004
【図３】
2005345467.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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