(57)【要約】【課題】  現像液の供給と吸引を行うノズルヘッドと，基板の外周を囲む外周板を有する現像処理装置において，外周板と基板との隙間から液体が流出することを防止する。【解決手段】  回転基台２上に，基板Ｗの外周部を支持する枠形状の基板保持部材１０が設けられる。基板保持部材１０は，吸着保持ブロック７０と溝形成ブロック７１から構成される。吸着保持ブロック７０の水平内周面７０ａには，スリット状の吸引口７２が形成され，基板Ｗの外周部の裏面を吸着できる。溝形成ブロック７１の垂直内周面７１ａと基板Ｗの外周面との間には，助走ステージ１１と基板Ｗとの間の隙間Ｃに開口し液体が滞留する溝８０が形成される。助走ステージ１１と基板Ｗとの隙間Ｃが維持されるので，基板Ｗの受け渡しを好適に行うことができる。助走ステージ１１と基板Ｗ上の液体が隙間Ｃから流出することがないので，助走ステージ１１と基板Ｗ上に隙間のない液膜を形成できる。【選択図】  図５
2005236189.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転可能な回転基台と，
前記回転基台上に取り付けられ，基板の外周部を支持して保持する基板保持部材と，
前記基板保持部材に保持された基板の表面に沿って移動可能で，前記基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッドと，
前記回転基台と共に回転可能で，かつ前記基板保持部材に保持された基板の外周部を囲む基板の表面の同一平面上に前記基板の表面上から連続する液膜を形成するための外周板と，を備え，
前記基板と外周板との間には，隙間が設けられ，
前記基板保持部材は，基板の外周部の全周に渡って基板の外周部の裏面に密着して基板を吸着保持し，さらに前記基板保持部材の一部が前記基板の外側面との間に前記隙間に開口し液体が滞留する溝を形成するように構成されていることを特徴とする，現像処理装置。
【請求項２】
前記基板保持部材は，基板の外周部に沿った枠形状を有し，
前記枠形状の基板保持部材の内周面は，基板の外周部を全周に渡って支持して吸着する水平内周面と，当該水平内周面の外側の端部から上方向に形成され前記基板の外側面を囲んで前記溝を形成する垂直内周面を有することを特徴とする，請求項１に記載の現像処理装置。
【請求項３】
前記水平内周面には，基板を吸引する吸引口が形成されていることを特徴とする，請求項２に記載の現像処理装置。
【請求項４】
前記吸引口は，前記基板保持部材の枠形状に沿ったスリット状に形成されていることを特徴とする，請求項３に記載の現像処理装置。
【請求項５】
前記基板保持部材は，前記溝内の液体を排出する排液孔を有することを特徴とする，請求項２，３又は４のいずれかに記載の現像処理装置。
【請求項６】
前記排液孔は，前記垂直内周面に開口し，前記回転基台の回転による遠心力により前記溝内の液体が排出されるように形成されていることを特徴とする，請求項５に記載の現像処理装置。
【請求項７】
前記基板保持部材は，前記垂直内周面の上端部から水平方向に向けて前記外周板の裏面に沿って形成された上端水平周面を有し，
前記上端水平周面には，前記外周板と当該上端水平周面との間から前記溝内の液体が漏洩するのを防止するシール部材が設けられていることを特徴とする，請求項２，３，４，５又は６のいずれかに記載の現像処理装置。
【請求項８】
前記基板保持部材は，前記水平内周面を有し基板を吸着保持する吸着保持ブロックと，前記垂直周面を有し前記溝を形成する溝形成ブロックとを個別に有することを特徴とする，請求項２，３，４，５，６又は７のいずれかに記載の現像処理装置。
【請求項９】
基板を支持して昇降させる昇降ピンをさらに有し，
前記吸着保持ブロックには，前記昇降ピンが通過する貫通孔が形成されていることを特徴とする，請求項８に記載の現像処理装置。
【請求項１０】
回転可能な回転基台と，
前記回転基台上に取り付けられ，基板の外周部を支持して保持する基板保持部材と，
前記基板保持部材に保持された基板の表面に沿って移動可能で，前記基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッドと，
前記回転基台と共に回転可能で，かつ前記基板保持部材に保持された基板の外周部を囲む基板の表面の同一平面上に前記基板の表面上から連続する液膜を形成するための外周板と，を備え，
前記基板と外周板との間には，隙間が設けられ，
前記隙間には，当該隙間を覆い，可撓性を有するシート状のシール部材が設けられていることを特徴とする，現像処理装置。
【請求項１１】
前記シール部材は，前記隙間に沿った枠形状を有し，前記シール部材の内周面が前記基板保持部材の基板の外側面に接触するように形成されていることを特徴とする，請求項１０に記載の現像処理装置。
【請求項１２】
前記シール部材は，前記外周板に取り付けられていることを特徴とする，請求項１０又は１１のいずれかに記載の現像処理装置。
【請求項１３】
前記基板保持部材は，基板の外周部に沿った枠形状を有し，基板の外周部の全周に渡って基板の外周部の裏面に密着して基板を吸着保持するように構成されていることを特徴とする，請求項１０，１１又は１２のいずれかに記載の現像処理装置。
【請求項１４】
前記枠形状の基板保持部材の内側には，基板の裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給部が設けられ，
前記基板保持部材は，前記基板保持部材の内側の洗浄液を外側に排出するための洗浄液排出孔を有することを特徴とする，請求項２，３，４，５，６，７，８，９又は１３のいずれかに記載の現像処理装置。
【請求項１５】
前記基板保持部材は，基板の保持位置を位置決めするために前記基板の外側面に当接する位置決めピンを有することを特徴とする，請求項１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０，１１，１２，１３又は１４のいずれかに記載の現像処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，基板の現像処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば，半導体デバイスやレクチルの製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では，基板上にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布処理，基板上のレジスト膜に対し所定のパターンの露光を行う露光処理，露光処理後の基板上に現像液を供給して基板上のレジスト膜を現像する現像処理等が行われている。
【０００３】
上述の現像処理は，通常基板に現像液を供給するノズルを有する現像処理装置で行われるが，近年，基板の表面に沿ってノズルヘッドを移動させながら，当該ノズルヘッドが基板の表面に現像液を吐出しつつ当該吐出した現像液を吸引する現像処理装置が提案されている。この現像処理装置によれば，基板上に常に新鮮な現像液が供給され，さらに現像によって生成された溶解物を基板上から直ちに除去できるので，基板の全面において同じ条件で現像が行われ，基板表面における現像の均一性を向上できる（例えば，特許文献１，２参照。）。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−２３４２８６号公報
【特許文献２】特開２００３−２４３２９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら，上記現像処理装置の場合，ノズルヘッドが現像液の吸引も行うため，その際に周囲の空気が基板の表面の現像液に混入する，いわゆる泡噛み現像が生じる恐れがある。この泡噛み現象が生じると，基板の表面上に現像の行われない部分が生じ，現像斑が生じる。かかる問題を解決するために，上記現像処理装置に，基板の外周部を囲む基板の表面の同一平面上にノズルヘッドの助走ステージを取り付けることが提案できる。そして，例えばノズルヘッドが基板の表面に現像液を供給する前に，予め基板の表面と助走ステージの表面からなる同一平面上に液膜を形成し，その液膜にノズルヘッドを浸けた状態でノズルヘッドが現像液の供給と吸引を行うことによって，現像時の泡噛み現象を防止できる。
【０００６】
しかしながら，基板の外周部を取り囲むような助走ステージを取り付けた場合，基板の受け渡しを考慮して，基板と助走ステージとの間に隙間を設ける必要がある。このため，基板の表面と助走ステージの表面に液膜を形成するときに，当該隙間から液体が流出することが懸念される。液体が流出すると，現像液の供給の前に，基板の表面と助走ステージの表面との間で繋がる連続した液膜を形成することができず，泡噛み現象を十分に防止できない。また，流出した液体が基板の裏面に回り込み基板の裏面を汚染し，この汚染がパーティクルの原因ともなり得る。
【０００７】
本発明は，かかる点に鑑みてなされたものであり，現像液の供給と吸引を行うノズルヘッドと，助走ステージなどの外周板を有する現像処理装置において，外周板と基板との隙間からの液体の流出を防止できる現像処理装置を提供することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために，本発明によれば，回転可能な回転基台と，前記回転基台上に取り付けられ，基板の外周部を支持して保持する基板保持部材と，前記基板保持部材に保持された基板の表面に沿って移動可能で，前記基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッドと，前記回転基台と共に回転可能で，かつ前記基板保持部材に保持された基板の外周部を囲む基板の表面の同一平面上に前記基板の表面上から連続する液膜を形成するための外周板と，を備え，前記基板と外周板との間には，隙間が設けられ，前記基板保持部材は，基板の外周部の全周に渡って基板の外周部の裏面に密着して基板を吸着保持し，さらに前記基板保持部材の一部が前記基板の外側面との間に前記隙間に開口し液体が滞留する溝を形成するように構成されていることを特徴とする現像処理装置が提供される。
【０００９】
この発明によれば，基板保持部材の一部が基板の外側面との間に液体が滞留する溝を形成するので，基板と外周板との間に基板の受け渡しのための隙間を確保しつつ，例えば基板と外周板上に形成される液膜の液体が外周板と基板との隙間から流出することを防止できる。それ故，例えばノズルヘッドによって基板に対する現像液の供給と吸引が行われる前に，基板の表面上から外周板の表面上に渡って隙間のない液膜を形成することができ，現像液供給時の泡噛み現像を適切に防止できる。また，基板保持部材が基板の外周部の全周に渡って基板に密着して基板を保持しているので，溝内に滞留した液体が基板の裏面側に回り込んで基板の裏面を汚染することも防止できる。
【００１０】
前記基板保持部材は，基板の外周部に沿った枠形状を有し，前記枠形状の基板保持部材の内周面は，基板の外周部を全周に渡って支持して吸着する水平内周面と，当該水平内周面の外側の端部から上方向に形成され前記基板の外側面を囲んで前記溝を形成する垂直内周面を有していてもよい。かかる場合，前記水平内周面と垂直内周面からなるＬ字状の段部によって，基板を吸着保持しつつ基板の外側面に溝を形成できる。
【００１１】
前記水平内周面には，基板を吸引する吸引口が形成されていてもよく，当該吸引口は，前記基板保持部材の枠形状に沿ったスリット状に形成されていてもよい。
【００１２】
前記基板保持部材は，前記溝内の液体を排出する排液孔を有していてもよく，当該排液孔は，前記垂直内周面に開口し，前記回転基台の回転による遠心力により前記溝内の液体が排出されるように形成されていてもよい。かかる場合，溝内に滞留して汚れた液体を排出して，例えば当該液による溝周辺の汚染を防止できる。
【００１３】
前記基板保持部材は，前記垂直内周面の上端部から水平方向に向けて前記外周板の裏面に沿って形成された上端水平周面を有し，前記上端水平周面には，前記外周板と当該上端水平周面との間から前記溝内の液体が漏洩するのを防止するシール部材が設けられていてもよい。かかる場合，基板保持部材の上端水平周面と外周板との隙間から液体が流出するのを防止できる。
【００１４】
前記基板保持部材は，前記水平内周面を有し基板を吸着保持する吸着保持ブロックと，前記垂直周面を有し前記溝を形成する溝形成ブロックとを個別に有していてもよい。また，前記現像処理装置は，基板を支持して昇降させる昇降ピンをさらに有し，前記吸着保持ブロックには，前記昇降ピンが通過する貫通孔が形成されていてもよい。かかる場合，前記基板保持部材を有する現像処理装置において，基板の受け渡しのための基板の昇降を好適に行うことができる。
【００１５】
本発明によれば，回転可能な回転基台と，前記回転基台上に取り付けられ，基板の外周部を支持して保持する基板保持部材と，前記基板保持部材に保持された基板の表面に沿って移動可能で，前記基板に対する現像液の供給と吸引を同時に行うノズルヘッドと，前記回転基台と共に回転可能で，かつ前記基板保持部材に保持された基板の外周部を囲む基板の表面の同一平面上に前記基板の表面上から連続する液膜を形成するための外周板と，を備え，前記基板と外周板との間には，隙間が設けられ，前記隙間には，当該隙間を覆い，可撓性を有するシート状のシール部材が設けられていることを特徴とする現像処理装置が提供される。
【００１６】
この発明によれば，基板と外周板との間の隙間がシート状のシール部材で覆われているので，同一平面の基板と外周板上に形成される液膜の液体が外周板と基板の隙間から流出することを防止できる。それ故，例えばノズルヘッドが基板の表面に対し現像液の供給と吸引を行う前に，基板と外周板上に隙間のない液膜を形成することができ，現像液の供給，吸引時の泡噛み現象を防止できる。また，シール部材がシート状に形成され，過当性を有しているので，基板Ｗの接触によってシール部材が自在に変形する。それ故，シール部材が，基板の基板保持部材への受け渡しを妨げることがなく，当該基板の受け渡しを好適に行うことができる。
【００１７】
前記シール部材は，前記隙間に沿った枠形状を有し，前記シール部材の内周面が前記基板保持部材の基板の外側面と接触するように形成されていてもよい。かかる場合，基板が基板保持部材に保持された時には，シール部材の内周面が基板の外側面に当接した状態が維持される。それ故，基板と外周板との隙間が完全に閉鎖され，基板と外周板上に形成される液膜の液体が外周板と基板の隙間から流出することがない。なお，前記シール部材は，前記外周板に取り付けられていてもよい。
【００１８】
前記基板保持部材は，基板の外周部に沿った枠形状を有し，基板の外周部の全周に渡って基板の外周部の裏面に密着して基板を吸着保持するように構成されていてもよい。かかる場合，基板保持部材が基板の外周部の全周に渡って基板に密着するので，例えば基板上の液体が基板の裏面側に回り込んで基板の裏面を汚染することを防止できる。
【００１９】
前記枠形状の基板保持部材の内側には，基板の裏面に洗浄液を供給する洗浄液供給部が設けられ，前記基板保持部材は，前記基板保持部材の内側の洗浄液を外側に排出するための洗浄液排出孔を有していてもよい。かかる場合，基板の裏面洗浄に用いられた洗浄液の排出を好適に行うことができる。
【００２０】
前記基板保持部材は，基板の保持位置を位置決めするために前記基板の外側面に当接する位置決めピンを有していてもよい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば，ノズルヘッドによる基板表面への現像液の供給と吸引時に，泡噛み現象が生じることがなく，基板の現像を斑なく適正に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下，本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は，本実施の形態にかかる現像処理装置１の構成の概略を示す縦断面の説明図であり，図２は，現像処理装置１の横断面の説明図である。
【００２３】
図１に示すように現像処理装置１は，ケーシング１ａを有し，当該ケーシング１ａ内の中央部には，基板Ｗを回転させるための回転基台２が設けられている。回転基台２は，例えば円盤形状を有している。回転基台２は，例えば当該回転基台２の下方に設けられたモータなどの回転駆動部３に連動し，回転基台２の中心軸を回転軸として所定の回転速度で回転できる。
【００２４】
回転基台２上には，方形の基板Ｗの外周部を支持して保持するための後述する基板保持部材１０が取り付けられている。基板保持部材１０に保持される基板の外方には，当該基板Ｗの外周部を囲むように外周板としての助走ステージ１１が設けられている。
【００２５】
助走ステージ１１は，図２に示すように平面から見て円形の薄い板形状を有し，中央部に基板Ｗを収容する四角の開口部１１ａが形成されている。このように助走ステージ１１の外形を円形状に形成することにより，助走ステージ１１を回転させた際に，助走ステージ１１の外周部付近において乱流が形成されることを防止している。助走ステージ１１は，図１に示すように例えば円柱状の固定部材１２によって回転基台２に固定されている。助走ステージ１１は，基板Ｗの表面と同一平面上に位置するように固定されている。これにより，基板Ｗの表面から助走ステージ１１の表面に渡る同一平面上に連続した液膜を形成することができる。助走ステージ１１の開口部１１ａは，基板Ｗよりも僅かに大きく形成されており，基板保持部材１０に保持された基板Ｗと助走ステージ１１との間には，基板Ｗの受け渡しのための隙間Ｃが形成されている。図２に示すように隙間Ｃには，基板Ｗの外側面に当接し基板Ｗを位置決めするための複数の位置決めピン１３が設けられている。位置決めピン１３は，例えば基板Ｗの各角にそれぞれ２つずつ計８つ配置されている。
【００２６】
図１に示すように回転基台２と基板保持部材１０の基板Ｗの外周部に対応する位置には，垂直方向に貫通する貫通孔１４が形成されている。貫通孔１４内には，基板Ｗを支持して昇降させる昇降ピン１５が設けられている。昇降ピン１５は，例えばシリンダなどの昇降駆動部１６によって昇降自在であり，回転基台２上に突出して基板保持部材１０に対する基板Ｗの受け渡しを行うことができる。また，回転基台２の上面中央部には，上方に向けて洗浄液を吐出し基板Ｗの裏面を洗浄する洗浄液供給部としての裏面洗浄ノズル１７が設けられている。
【００２７】
回転基台２は，基板Ｗから飛散又は落下する液体を受け止め，回収するためのカップ１８内に収容されている。カップ１８は，回転基台２の側方と下方を覆うように，例えば下面が閉鎖され上面が開口した四角形の略筒状に形成されている。カップ１８の下面には，例えば工場の排液部に連通した排出管１９が接続されており，カップ１８において回収した液体を現像処理装置１の外部に排出できる。
【００２８】
図２に示すようにカップ１８のＹ方向負方向（図２の左方向）側には，第１の待機部２０が設けられている。第１の待機部２０には，現像液及びリンス液（洗浄液）の供給と吸引を行うノズルヘッド２１が設けられている。ノズルヘッド２１は，例えば少なくとも基板Ｗの短辺の寸法と同じかそれよりも長い，Ｘ方向に沿った略直方体形状を有している。ノズルヘッド２１は，ヘッドアーム２２に支持されている。ノズルヘッド２１は，ヘッドアーム２２が取り付けられた例えばボールネジとその回転モータ等からなる水平移動機構２３によって，第１の待機部２０から少なくともカップ１８のＹ方向正方向（図２の右方向）側の端部付近まで水平移動できる。また，ノズルヘッド２１は，例えばヘッドアーム２２に取り付けられたシリンダなどの昇降機構（図示せず）によって上下方向にも移動できる。
【００２９】
図３に示すようにノズルヘッド２１の下面２１ａは，基板Ｗの表面と平行になるように水平に形成されている。ノズルヘッド２１の下面２１ａにおける，ノズルヘッド２１の進行方向であるＹ方向の中央部には，現像液吐出口３０が形成されている。現像液吐出口３０は，例えばノズルヘッド２１の長手方向（Ｘ方向）に沿って例えば基板Ｗの短辺より長いスリット状に形成されており，現像液を帯状に吐出できる。現像液吐出口３０は，ノズルヘッド２１の内部に形成された第１の貯留部３１に連通している。第１の貯留部３１は，例えば現像処理装置１の外部に設置された現像液供給装置３２に連通している。ノズルヘッド２１と現像液供給装置３２とは，例えば現像液供給管３３によって接続されている。現像液供給装置３２は，現像液供給管３３を通じて所定の流量の現像液をノズルヘッド２１に供給できる。ノズルヘッド２１は，供給された現像液を第１の貯留部３１に一旦貯留して圧力調整し，その後現像液吐出口３０から均一に吐出できる。
【００３０】
ノズルヘッド２１の下面２１ａの現像液吐出口３０を挟んだ両側には，基板Ｗ上の現像液を吸引する現像液吸引口４０が開口している。現像液吸引口４０は，例えば前記現像液吐出口３０と平行なスリット状に形成されている。現像液吸引口４０は，例えばノズルヘッド２１の内部に形成された第２の貯留部４１に連通している。第２の貯留部４１は，例えば現像処理装置１の外部に設置された吸引装置４２に連通している。ノズルヘッド２１と吸引装置４２とは，例えば吸引管４３によって接続されている。吸引装置４２は，吸引管４３を通じて所定の圧力で吸引できる。したがって，現像液吐出口３０から基板Ｗ上に供給された現像液を現像液吐出口３０の両側の現像液吸引口４０から所定の圧力で吸引できる。この結果，基板Ｗの表面上には，現像液吐出口３０から現像液吸引口４０に向かう現像液の流れを形成できる。
【００３１】
ノズルヘッド２１の下面２１ａの各現像液吸引口４０のさらに外側には，それぞれ純水等のリンス液を吐出するリンス液吐出口５０が形成されている。リンス液吐出口５０は，例えば前記現像液吐出口３０に平行なスリット状に形成されており，リンス液をＸ方向に沿った帯状に吐出できる。リンス液吐出口５０は，ノズルヘッド２１の内部に形成された第３の貯留部５１に連通している。第３の貯留部５１は，例えば現像処理装置１の外部に設置されたリンス液供給装置５２に連通している。ノズルヘッド２１とリンス液供給装置５２とは，例えばリンス液供給管５３によって接続されている。リンス液供給装置５２は，リンス液供給管５３を通じて所定の流量のリンス液をノズルヘッド２１に供給できる。ノズルヘッド２１は，供給されたリンス液を第３の貯留部５１に一旦貯留して圧力調整し，その後リンス液吐出口５０から一様に吐出できる。
【００３２】
図２に示すようにカップ１８のＹ方向正方向側には，第２の待機部６０が設けられている。第２の待機部６０には，リンス液吐出ノズル６１が設けられている。リンス液吐出ノズル６１は，例えば回転駆動軸６２に取り付けられたノズルアーム６３の先端部に支持されており，回転駆動軸６２の回転によって第２の待機部６０からカップ１８内の基板Ｗの中心部上方まで移動できる。リンス液吐出ノズル６１は，リンス液供給管６４によって，例えば現像処理装置１の外部に設置されたリンス液供給源６５に接続されており，リンス液供給源６５から供給されたリンス液を下方に向けて吐出できる。
【００３３】
続いて，上述の基板保持部材１０の構成について詳しく説明する。基板保持部材１０は，図４に示すように基板Ｗの外周部に対応する四角の枠形状に形成されている。基板保持部材１０は，枠形状の内側に段部を有し，当該段部に基板Ｗを収容し基板Ｗを保持できる。図５は，基板保持部材１０の縦断面の説明図であり，図６は，基板保持部材１０の平面図である。基板保持部材１０は，例えば枠形状の吸着保持ブロック７０と溝形成ブロック７１の組み合わせによって形成されている。
【００３４】
吸着保持ブロック７０は，図５に示すように溝形成ブロック７１よりも内側に位置し，例えば縦断面が外側に段部を有する略Ｌ字形状に形成されている。吸着保持ブロック７０の上端面は，基板Ｗの外周部を全周に渡って支持する水平内周面７０ａになっている。基板Ｗを支持した際に水平内周面７０ａは，基板Ｗの裏面に密着できる。水平内周面７０ａには，基板Ｗを吸引する吸引口７２が形成されている。吸引口７２は，例えば吸着保持ブロック７０の内部を通過する吸引経路７３に連通しており，この吸引経路７３は，例えば吸引管７４によって図示しない吸引装置に接続されている。
【００３５】
吸引口７２は，例えば図６に示すように水平内周面７０ａに沿ったスリット状に形成されている。例えば水平内周面７０ａには，上述した昇降ピン１５が通過する貫通孔１４が形成されており，吸引口７２は，例えば当該貫通孔１４の部分を避けた水平内周面７０ａの全周に渡って形成されている。このように吸引口７２を水平内周面７０ａのほぼ全周に渡って形成することにより，基板Ｗの外周部に渡って均等に基板Ｗを吸着保持できる。なお，この吸引口７２は，スリット形状に限定されず，吸着効果の高い形状であればよく，例えば円形状に形成されてもよい。かかる場合，吸引口７２は，基板Ｗの外周部に沿った複数箇所に均等に配置されてもよい。
【００３６】
吸着保持ブロック７０の下端面７０ｂには，図５に示すように基板Ｗの裏面洗浄に用いられた洗浄液を基板保持部材１０の外側に排出するための排出溝７５が形成されている。この排出溝７５は，回転基台２の上面との間に洗浄液排出孔を形成する。排出溝７５は，例えば図７に示すように吸着保持ブロック７０の枠形状に沿った複数箇所に偏りなく形成されている。排出溝７５は，例えば吸着保持ブロック７０が回転した際に遠心力が働く方向に沿って形成され，回転を伴う基板裏面の洗浄時や乾燥時に吸着保持ブロック７０の内側の洗浄液を外側に排出できる。
【００３７】
溝形成ブロック７１は，例えば図５に示すように縦断面が略長方形状に形成され，吸着保持ブロック７０の外側の段部上に嵌合されている。溝形成ブロック７１の内側には，垂直内周面７１ａが形成されている。垂直内周面７１ａは，前記吸着保持ブロック７０の水平内周面７０ａの外側の端部から上方に向けて形成されている。垂直内周面７１ａと基板Ｗの外側面との間には，隙間が形成され，この隙間によって前記助走ステージ１１と基板Ｗとの間の隙間Ｃに開口する溝８０が形成されている。この溝８０には，隙間Ｃから垂れ落ちる液体を滞留することができる。
【００３８】
溝形成ブロック７１の上端水平周面７１ｂは，例えば助走ステージ１１の裏面に近接しており，当該上端水平周面７１ｂには，全周に渡ってシール部材８１が設けられている。このシール部材８１によって，溝８０内の液体が助走ステージ１１と上端水平周面７１ｂとの間から漏れることを防止できる。
【００３９】
溝形成ブロック７１には，溝８０内の液体を排出するための排液孔８２が形成されている。排液孔８２は，例えば一端部が溝８０の底部付近に対応する垂直内周面７１ａに開口し，溝形成ブロック７１の内部を水平に通過して，他端部が垂直外周面７１ｃに開口するように形成されている。排液孔８２の孔径は，回転基台２が停止している際には表面張力によって排液口８２を塞ぐ封止膜が得られて溝８０内の液体を通流させず，回転基台２が回転した際にのみ前記封止膜が回転力で崩れて液体を通流させるように，例えば０．８ｍｍ〜１．０ｍｍ程度の大きさに設定されている。排液孔８２は，例えば図８に示すように枠形状の溝形成ブロック７１に沿った複数箇所に偏り無く形成されている。例えば回転基台２の回転によって排出され易いように，遠心力が働く方向に沿って形成されている。
【００４０】
なお，溝形成ブロック７１の垂直内周面７１ａには，切欠部８３が形成され，その切欠部８３内に上述の位置決めピン１３が配置されている。また，溝形成ブロック７１と吸着保持ブロック７０とは，例えば図９に示すように溝形成ブロック７０を上方に持ち上げることによって取り外し可能であり，溝形成ブロック７０や吸着保持ブロック７０の交換やメンテナンスが容易にできるようになっている。
【００４１】
次に，上述の現像処理装置１で行われる現像処理について説明する。現像処理装置１に基板Ｗが搬入されると，基板Ｗは，予め上昇していた昇降ピン１５に受け渡され，昇降ピン１５の下降によって図１に示すように基板保持部材１０上に載置される。このとき，基板Ｗの載置位置と基板保持部材１０及び助走ステージ１１との間には，十分な隙間が設けられているため，基板保持部材１０に対する基板Ｗの受け渡しが適切に行われる。基板Ｗが基板保持部材１０上に載置されると，吸引口７２からの吸引により基板Ｗが水平内周面７０ａ上に吸着保持される。
【００４２】
続いて第１の待機部２０で待機していたノズルヘッド２１がＹ方向正方向側に移動し，基板ＷよりＹ方向負方向側の助走ステージ１１上まで移動して，ヘッド２１のリンス液吐出口５０，現像液吐出口３０及び現像液吸引口４０のある下面２１ａが助走ステージ１１上に配置される。そして，ノズルヘッド２１が下降し，スタート位置である助走ステージ１１の表面に近接される。次にノズルヘッド２１のリンス液吐出口５０からリンス液の吐出が開始される。ノズルヘッド２１は，リンス液を吐出した状態でＹ方向正方向に移動し，助走ステージ１１の表面上と基板Ｗの表面上を通過して助走ステージ１１のＹ方向正方向側の端部付近まで移動する。このとき，助走ステージ１１の表面と基板Ｗの表面の全面にリンス液が供給され，例えば助走ステージ１１の表面上から基板Ｗの表面上に渡ってリンス液の液膜が形成される。こうして，基板Ｗの表面の濡れ性を向上するプリウェット処理が行われる。このプリウェット時には，最初助走ステージ１１と基板Ｗとの隙間Ｃからリンス液が垂れ落ちるが，図５に示すように溝８０内がリンス液で充填された時点で隙間Ｃからのリンス液の漏れは無くなる。したがって，基板Ｗと助走ステージ１１の表面上には，隙間のない液膜が形成される。なお，このプリウェット処理は，リンス液吐出ノズル６１が基板Ｗの中央部上方まで移動し，基板Ｗにリンス液を吐出しながら回転基台２を回転させることによって行ってもよい。
【００４３】
続いて，ノズルヘッド２１が再び助走ステージ１１のＹ方向負方向側のスタート位置まで戻される。ノズルヘッド２１の下面２１ａがリンス液の液膜に接触した状態で，今度はリンス液吐出口５０からリンス液，現像吐出口３０から現像液を吐出し，現像液吸引口４０からそのリンス液と現像液を吸引しながらＹ方向正方向側に移動する。この時，ノズルヘッド２１の下面２１ａと助走ステージ１１の表面との間が常にリンス液と現像液で満たされており，ノズルヘッド２１の下面２１ａへの泡噛み現象が防止されている。ノズルヘッド２１がＹ方向正方向側に進んで，基板Ｗの表面上を移動している時には，現像液吐出口３０から基板Ｗ上に吐出された現像液は，ノズルヘッド２１の進行方向の前方側と後方側にある現像液吸引口４０から吸引され，基板Ｗの表面の一部の領域に帯状の現像液の流れが形成される。この現像液の流れによって基板Ｗの表面が現像される。現像によって生じた溶解生成物は直ちに現像液吸引口４０から排出される。なお，このような基板Ｗへの現像液の供給は，基板Ｗと助走ステージ１１上にリンス液の液膜が形成された後，ノズルヘッド２１がスタート位置まで戻る際に行われてもよい。
【００４４】
ノズルヘッド２１は，例えば現像液の供給と吸引を連続的に行いながら，助走ステージ１１のＹ方向正方向側の端部付近まで移動する。こうすることによって，現像液の流れが生じる領域が次第に移動し，基板Ｗの表面全体が現像される。ノズルヘッド２１が助走ステージ１１のＹ方向正方向側の端部付近まで移動すると，現像液及びリンス液の供給とその吸引が停止され，ノズルヘッド２１は，第１の待機部２０に戻される。続いて，第２の待機部６０で待機していたリンス液吐出ノズル６１が基板Ｗの中心部上方まで移動し，回転基台２によって基板Ｗが回転される。リンス液吐出ノズル６１から回転された基板Ｗ上にリンス液が吐出され，基板Ｗが洗浄される。このとき，例えば裏面洗浄ノズル１７からも洗浄液を吐出し，基板Ｗの裏面に洗浄液を供給してもよい。
【００４５】
基板Ｗが所定時間洗浄された後，基板Ｗが高速回転され，基板Ｗが乾燥される。このとき，遠心力により，溝８０内に滞留していた液体が基板保持部材１０の排液孔８２を通じて排出される。また，基板Ｗの裏面の洗浄液も排出溝７５を通じて排出される。
【００４６】
基板Ｗが乾燥されると，基板Ｗの吸着が解除され，再び昇降ピン１５によって持ち上げられ，図示しない搬送アームによって基板処理装置１の外部に搬出される。
【００４７】
以上の実施の形態によれば，基板保持部材１０が基板Ｗの外周部の裏面を全周に渡って吸着保持し，さらに当該基板Ｗの外側面との間に液体が滞留する溝８０を形成したので，基板Ｗと助走ステージ１１との間に基板Ｗの受け渡しのための隙間Ｃを維持しながら，当該隙間Ｃからの液体の流出を防止できる。この結果，基板Ｗの表面上から助走ステージ１１の表面上に渡って隙間の無い液膜を形成することができ，この結果，ノズルヘッド２１による現像液の供給と吸引時に現像液内への泡噛みを防止できる。
【００４８】
基板保持部材１０の水平内周面７０ａに，ほぼ全周に渡ってスリット状の吸引口７２を形成したので，基板Ｗの外周部を均等に吸着し基板Ｗの裏面を基板保持部材１０に完全に密着することができ，基板Ｗ上の液体が基板Ｗの裏面側に回り込むことを防止できる。
【００４９】
基板保持部材１０に，遠心力により溝８０内の液体が排出される排液孔８２を形成したので，溝８０内に滞留した液体を排出することができ，溝８０内に液体が残存して当該液体がパーティクルの原因となるのを防止できる。
【００５０】
溝形成ブロック７１の上端水平周面７１ｂにシール部材８１を設けたので，助走ステージ１１と基板保持部材１０との間から溝８０内の液体が漏れることを防止できる。
【００５１】
基板保持部材１０の下端面７０ｂに排出溝７５を形成したので，例えば裏面洗浄に使われた洗浄液を基板保持部材１０の外部に適切に排出することができる。
【００５２】
以上の実施の形態では，基板保持部材１０と基板Ｗの外側面との間に液体が滞留する溝８０を形成することによって，助走ステージ１１と基板Ｗとの隙間Ｃから液体が流出することを防止していたが，助走ステージ１１と基板Ｗとの隙間Ｃに，弾性を有するシート状のシール部材を付けることによって液体の流出を防止してもよい。図１０は，かかる一例を示すものであり，シール部材１００は，助走ステージ１１と基板Ｗとの隙間の形状に適合する例えば四角の枠形状に形成される。シール部材１００は，少なくともその内周部が助走ステージ１１と基板Ｗとの隙間を覆うように形成される。シール部材１００の内周面は，例えば基板保持部材１０１に保持された基板Ｗの外側面に僅かに接触するように形成される。シール部材１００は，例えば０．２ｍｍ以下程度の薄いシート状に形成され，例えばシール部材１００の材質には，例えば可撓性のあるＰＣＴＦＥ（ポリクロロトリフルオロエチレン），ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）などの樹脂，又は例えばシリコンを含有する耐薬性に優れたゴム材などが用いられる。これにより，シール部材１００は，全体として弾性を有する。例えばシール部材１００の外周部側は，助走ステージ１１の例えば裏面側にネジ等の固定部材１０２によって固定される。なお，基板保持部材１０１は，例えば上述の実施の形態の吸着保持ブロック７０と同じ構成を有し，上面に吸引口１０３を有している。
【００５３】
そして，基板Ｗが基板保持部材１０１上に載置される際には，基板Ｗの外側面がシール部材１００の内周面に接触する。このとき，シール部材１００の内周部は，弾性を有するため，図１０に示すように僅かに下方向に撓み，シール部材１００の内周面と基板Ｗの外側面との接触は維持される。こうすることによって，基板Ｗの受け渡しを適切に行いつつ，基板Ｗの外側面と助走ステージ１１との間を閉鎖することができる。そして，基板Ｗと助走ステージ１１上に液膜が形成された際には，基板Ｗと助走ステージ１１の間から液体が流出することはない。
【００５４】
なお，シール部材１００が基板Ｗの外形よりも僅かに大きく形成され，シート１００の内周面と基板Ｗの外側面とが接触しないようにしてもよい。かかる場合，シール部材１００と基板Ｗの外側面の間に僅かな隙間があっても，液体の表面張力によって当該隙間から液体が流出することはない。このとき，シート１００の内周面と基板の外側面との隙間は，０．１ｍｍ以下であることが望ましい。
【００５５】
また，以上の実施の形態で記載したシール部材１００の代えて，助走ステージ１１の内側に流体によって膨縮する膨縮部材としてのチューブを配置してもよい。図１１は，かかる一例を示すものであり，例えば助走ステージ１１の内側には，助走ステージ１１と基板Ｗとの隙間に沿った四角の枠形状のチューブ収容部１１０が設けられる。チューブ収容部１１０の内周面には，開口部１１０ａが形成されている。チューブ収容部１１０内には，枠形状のチューブ収容部１１０に沿ってチューブ１１１が収容される。チューブ１１１は，例えばエア導入管１１２からのエアの給排気によって基板Ｗの外周面側に膨縮できる。
【００５６】
そして，基板Ｗが基板保持部材１０１上に載置される際には，チューブ１１１を縮小させ，助走ステージ１１と基板Ｗとの間に隙間が形成される。基板Ｗが基板保持部材１０１上に載置され保持されると，チューブ１１１にエアが供給されチューブ１１１が膨張される。このチューブ１１１の膨張によって，助走ステージ１１と基板Ｗとの間の隙間が閉鎖される。そして，基板Ｗが搬出される際には，再びチューブ１１１が縮小され，助走ステージ１１と基板Ｗとの間に隙間が形成される。かかる例によれば，基板Ｗの受け渡し時に助走ステージ１１と基板Ｗとの間に隙間を設けて，基板Ｗの受け渡しを好適に行うことができる。また，助走ステージ１１と基板Ｗ上に液膜を形成するときには，助走ステージ１１と基板Ｗとの隙間を閉鎖して，液膜の流出を防止できる。また，チューブ１１１の膨張によって基板Ｗの位置決めを行うこともできる。
【００５７】
以上の実施の形態は，本発明の一例を示すものであり，本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。例えば，本発明は，レクチル，ＬＣＤ，ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）等の方形の基板に限られず，ウェハ等の円形の基板など他の基板にも適用できる。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明は，現像液の供給と吸引を行うノズルヘッドと，基板の外周部を囲む外周板を有する現像処理装置において，外周板と基板との隙間から液体が流出することを防止する際に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本実施の形態にかかる現像処理装置の構成の概略を示す縦断面の説明図である。
【図２】現像処理装置の構成の概略を示す横断面の説明図である。
【図３】ノズルヘッドの構成の概略を示す縦断面の説明図である。
【図４】基板保持部材の概略を示す斜視図である。
【図５】基板保持部材の縦断面の説明図である。
【図６】基板保持部材の平面図である。
【図７】基板保持部材の吸着ブロックの裏面図である。
【図８】基板保持部材の溝形成ブロックの横断面図である。
【図９】溝形成ブロックと吸着保持ブロックとを取り外した状態を示す基板保持部材の斜視図である。
【図１０】シート状のシール部材を備えた場合の基板保持部材周辺の縦断面の説明図である。
【図１１】チューブを備えた場合の基板保持部材周辺の縦断面の説明図である。
【符号の説明】
【００６０】
１    現像処理装置
２    回転基台
１０  基板保持部材
１１  助走ステージ
２１  ノズルヘッド
７０  吸着保持ブロック
７０ａ  水平内周面
７１  溝形成ブロック
７１ａ  垂直内周面
７２  吸引口
８０  溝
Ｃ    隙間
Ｗ    基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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