(57)【要約】 【課題】  基板での転写発生を抑制した現像処理装置および現像処理方法を提供する。【解決手段】  現像処理ユニット２４は、基板Ｇを略水平姿勢で搬送する第２コロ搬送機構１４ｂと、基板Ｇの表面に現像液を供給する主現像ノズル５１ａ・５１ｂと、主現像ノズル５１ａ等からの現像液吐出を制御する現像液吐出制御機構５６と、主現像ノズル５１ａ等を所定方向に移動させる現像ノズル移動機構５５と、第２コロ搬送機構１４ｂに支持された基板Ｇを基板搬送方向前後に所定距離揺動しながら、主現像ノズル５１ａ等から現像液を吐出させつつ主現像ノズル５１ａ等を基板搬送方向とは逆方向に移動させることにより、揺動する基板Ｇ上に現像液パドルが形成されるように、第２コロ搬送機構１４ｂと現像液吐出制御機構５６と現像ノズル移動機構５５を制御するパドル形成制御装置５７と、を具備する。【選択図】  図５
2005303230.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を略水平姿勢で支持して所定方向に搬送する基板搬送機構と、
前記基板搬送機構に支持された基板の表面に現像液を供給する現像ノズルと、
前記現像ノズルからの現像液吐出を制御する現像液吐出制御機構と、
前記現像ノズルを基板搬送方向および鉛直方向に移動させる現像ノズル移動機構と、
前記基板搬送機構に支持された基板を基板搬送方向前後に所定距離揺動しながら、前記現像ノズルから現像液を吐出させつつ前記現像ノズルを基板搬送方向とは逆方向に移動させることにより、前記揺動する基板上に現像液パドルが形成されるように、前記基板搬送機構と前記現像液吐出制御機構と前記現像ノズル移動機構を制御するパドル形成制御装置と、
を具備することを特徴とする現像処理装置。
【請求項２】
前記基板搬送機構は、
基板搬送方向に所定間隔で互いに平行に並べられた複数の枢軸部材と、
前記枢軸部材を回転させる回転機構と、
前記枢軸部材の所定位置に設けられ、基板を支持するとともに、前記回転機構による前記枢軸部材の回転にしたがって回転する複数の円板部材と、
を具備し、
前記枢軸部材を回転させることによって回転する円板部材と基板との間の摩擦力によって前記基板を搬送することを特徴とする請求項１に記載の現像処理装置。
【請求項３】
前記現像ノズルは、水平面において基板搬送方向に直交する方向において帯状に現像液を吐出するための、スリット状の吐出口または所定間隔で設けられた複数の穴状の吐出口を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の現像処理装置。
【請求項４】
略水平姿勢に支持された基板を水平面内で直線的に所定距離揺動させながら、現像液を吐出する現像ノズルから現像液を吐出させつつ前記現像ノズルを前記基板の揺動方向と平行に一方向にスキャンさせることにより、前記基板上に現像液パドルを形成することを特徴とする現像処理方法。
【請求項５】
前記現像ノズルとして前記現像ノズルの移動方向と垂直な方向に帯状に現像液を吐出する長尺状ノズルを用い、前記現像ノズルが前記基板の終端に達する際に前記基板の揺動を停止させ、かつ、前記現像ノズルの下端部を前記基板の終端に近接させることによって、前記基板に液盛りされた現像液が前記基板の終端からこぼれ落ちることを防止することを特徴とする請求項４に記載の現像処理方法。
【請求項６】
前記現像ノズルからの現像液吐出および前記現像ノズルのスキャンの開始に合わせて、前記現像ノズルのスキャン速度よりも遅い速度で前記基板を最初に前記現像ノズルのスキャン方向と同じ方向に所定距離移動させ、その後に前記基板を逆方向に移動させて、前記基板を揺動することを特徴とする請求項４または請求項５に記載の現像処理方法。
【請求項７】
前記現像ノズルからの現像液吐出および前記現像ノズルのスキャンの開始に合わせて、前記現像ノズルのスキャン速度よりも遅い速度で前記基板を最初に前記現像ノズルのスキャン方向とは逆方向に所定距離移動させ、その後に移動方向を反転させて、前記基板を揺動することを特徴とする請求項４または請求項５に記載の現像処理方法。
【請求項８】
現像液パドルが形成された基板を略水平姿勢で支持して所定方向に搬送する基板搬送機構と、
前記基板搬送機構によって搬送される基板の、基板搬送方向の後方側を支持するとともにその前方側を持ち上げることによって、前記基板を斜め姿勢に保持する基板傾斜機構と、
前記基板傾斜機構に支持された基板の表面にリンス液を供給するリンスノズルと、
前記リンスノズルからのリンス液吐出を制御するリンス液吐出制御機構と、
前記リンスノズルを前記基板の傾斜に沿って移動させるリンスノズル移動機構と、
前記基板傾斜機構に支持された基板の下側から上側に向かってその表面に沿って前記リンスノズルを移動させながら、前記リンスノズルからリンス液を吐出させることにより前記基板の表面がリンス処理されるように、前記リンスノズル移動機構および前記リンス液吐出制御機構を制御するリンス処理制御装置と、
を具備することを特徴とする現像処理装置。
【請求項９】
前記リンスノズルは、前記基板搬送機構による基板搬送方向に直交する方向に、略円錐状にリンス液を吐出するリンス液吐出口が複数設けられた構造を有することを特徴とする請求項８記載の現像処理装置。
【請求項１０】
略水平姿勢に保持された基板に現像液を吐出する現像ノズルを一方向にスキャンさせることにより前記現像液のパドルが形成された基板を、前記現像ノズルのスキャン方向と反対の方向に搬送し、所定位置に停止させる工程と、
前記基板の、基板搬送方向の後方側を支持するとともにその前方側を持ち上げることによって前記基板上の現像液を流下させる工程と、
前記基板を水平面に対して所定の角度で斜め姿勢に保持する工程と、
前記斜め姿勢で保持された基板の表面に、その下側から上側に向かって所定のリンス液を供給することによって、現像反応の停止およびリンス処理を行う工程と、
を有することを特徴とする現像処理方法。
【請求項１１】
前記現像液のパドルが形成された基板を水平面に対して１５度傾斜させて前記基板上の現像液を流下させた後に前記基板の傾斜角度を５度に保持し、その状態において前記基板にリンス液を供給することを特徴とする請求項１０に記載の現像処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置（ＬＣＤ）等のＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）用基板のフォトリソグラフィー工程に用いられる現像処理装置および現像処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＣＤの製造においては、ＬＣＤガラス基板（以下「ＬＣＤ基板」という）にレジスト膜を形成した後に、回路パターンに対応してこのレジスト膜を露光し、さらにこれを現像処理するという、いわゆるフォトリソグラフィー技術を用いて、ＬＣＤ基板に所定の回路パターンを形成している。例えば、水平姿勢で搬送される基板を所定位置で一時停止させて、そこで基板の表面に現像液を塗布して基板上にパドルを形成し、所定時間保持することにより現像反応を進行させる現像装置および現像方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、基板から現像液を回収し、リンスする装置として、基板を斜め姿勢にすることによって基板上の現像液を流下させ、続いて斜め姿勢に保持された基板の表面にリンス液を供給して現像液を洗い流すリンス装置およびリンス方法が知られている（特許文献２）。
【０００４】
しかしながら、特許文献１に開示された現像装置および現像方法では、基板に現像液を塗布している間、基板は基板を支持するためのコロ等に常に同じ位置で接し支持されている状態であるために、その部分で転写が起こり易く、最終的に基板上に斑となって現れるという問題がある。
【０００５】
また、特許文献２に開示されたリンス処理およびリンス方法では、リンス液を斜め姿勢に保持された基板の上側から下側に向けてスキャンさせているために、基板の下側部分でリンス液の流れが速くなり、これによって最終的に基板にリンス液の流れの痕跡が現れるという問題がある。
【特許文献１】特開２００３−１００６２３号公報
【特許文献２】特開２００３−０８６４８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、基板を水平方向に搬送しながら、所定位置において現像処理およびリンス処理を連続的に行う現像処理装置において、基板における転写発生を抑制した現像処理装置および現像処理方法を提供することを目的とする。また、本発明は、リンス処理によるリンス液の流れの痕跡発生を抑制する現像処理装置および現像処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の観点によれば、基板を略水平姿勢で支持して所定方向に搬送する基板搬送機構と、
前記基板搬送機構に支持された基板の表面に現像液を供給する現像ノズルと、
前記現像ノズルからの現像液吐出を制御する現像液吐出制御機構と、
前記現像ノズルを基板搬送方向および鉛直方向に移動させる現像ノズル移動機構と、
前記基板搬送機構に支持された基板を基板搬送方向前後に所定距離揺動しながら、前記現像ノズルから現像液を吐出させつつ前記現像ノズルを基板搬送方向とは逆方向に移動させることにより、前記揺動する基板上に現像液パドルが形成されるように、前記基板搬送機構と前記現像液吐出制御機構と前記現像ノズル移動機構を制御するパドル形成制御装置と、
を具備することを特徴とする現像処理装置、が提供される。
【０００８】
本発明は上記第１の観点に係る現像処理装置による現像処理方法を提供する。すなわち、本発明の第２の観点によれば、略水平姿勢に支持された基板を水平面内で直線的に所定距離揺動させながら、現像液を吐出する現像ノズルから現像液を吐出させつつ前記現像ノズルを前記基板の揺動方向と平行に一方向にスキャンさせることにより、前記基板上に現像液パドルを形成することを特徴とする現像処理方法、が提供される。
【０００９】
本発明の第３の観点によれば、現像液パドルが形成された基板を略水平姿勢で支持して所定方向に搬送する基板搬送機構と、
前記基板搬送機構によって搬送される基板の、基板搬送方向の後方側を支持するとともにその前方側を持ち上げることによって、前記基板を斜め姿勢に保持する基板傾斜機構と、
前記基板傾斜機構に支持された基板の表面にリンス液を供給するリンスノズルと、
前記リンスノズルからのリンス液吐出を制御するリンス液吐出制御機構と、
前記リンスノズルを前記基板の傾斜に沿って移動させるリンスノズル移動機構と、
前記基板傾斜機構に支持された基板の下側から上側に向かってその表面に沿って前記リンスノズルを移動させながら、前記リンスノズルからリンス液を吐出させることにより前記基板の表面がリンス処理されるように、前記リンスノズル移動機構および前記リンス液吐出制御機構を制御するリンス処理制御装置と、
を具備することを特徴とする現像処理装置、が提供される。
【００１０】
本発明は上記第３の観点に係る現像処理装置による現像処理方法を提供する。すなわち、本発明の第４の観点によれば、略水平姿勢に保持された基板に現像液を吐出する現像ノズルを一方向にスキャンさせることにより前記現像液のパドルが形成された基板を、前記現像ノズルのスキャン方向と反対の方向に搬送し、所定位置に停止させる工程と、
前記基板の、基板搬送方向の後方側を支持するとともにその前方側を持ち上げることによって前記基板上の現像液を流下させる工程と、
前記基板を水平面に対して所定の角度で斜め姿勢に保持する工程と、
前記斜め姿勢で保持された基板の表面に、その下側から上側に向かって所定のリンス液を供給することによって、現像反応の停止およびリンス処理を行う工程と、
を有することを特徴とする現像処理方法、が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の第１の観点および第２の観点に係る現像処理装置および現像処理方法によれば、基板における転写の発生を抑制することができる。また、基板を揺動させることによって、現像液が攪拌されるため、線幅均一性等の現像精度を高めることができる。さらに、本発明の第３の観点および第４の観点に係る現像処理装置および現像処理方法によれば、現像反応を停止させるためのリンス処理において、液流跡の発生を抑制することができる。これら効果により、高い製品品質を有する基板を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。ここでは、露光処理が施されたＬＣＤ基板の現像処理を行う現像処理ユニット（ＤＥＶ）を備え、レジスト膜の形成から現像までの処理を連続して行うレジスト塗布・現像処理システムを例に本発明について詳細に説明することとする。図１はこのレジスト塗布・現像処理システム１００の概略構成を示す平面図である。
【００１３】
このレジスト塗布・現像処理システム１００は、複数のＬＣＤ基板Ｇを収容するカセットＣを載置するカセットステーション（搬入出部）１と、ＬＣＤ基板Ｇにレジスト塗布および現像を含む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理ステーション（処理部）２と、露光装置４との間でＬＣＤ基板Ｇの受け渡しを行うためのインターフェイスステーション（インターフェイス部）３とを備えており、処理ステーション２の両端にそれぞれカセットステーション１およびインターフェイスステーション３が配置されている。なお、図１において、レジスト塗布・現像処理システム１００の長手方向をＸ方向、平面上においてＸ方向と直交する方向をＹ方向とする。
【００１４】
カセットステーション１は、カセットＣをＹ方向に並べて載置できる載置台９と、処理ステーション２との間でＬＣＤ基板Ｇの搬入出を行うための搬送装置１１を備えており、この載置台９と外部との間でカセットＣの搬送が行われる。また、搬送装置１１は搬送アーム１１ａを有し、カセットＣの配列方向であるＹ方向に沿って設けられた搬送路１０上を移動可能であり、搬送アーム１１ａによりカセットＣと処理ステーション２との間でＬＣＤ基板Ｇの搬入出が行われる。
【００１５】
処理ステーション２は、基本的にＸ方向に伸びるＬＣＤ基板Ｇ搬送用の平行な２列の搬送ラインＡ・Ｂを有しており、搬送ラインＡに沿ってカセットステーション１側からインターフェイスステーション３に向けてスクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１、第１の熱的処理ユニットセクション２６、レジスト処理ユニット２３および第２の熱的処理ユニットセクション２７が配列されている。また、搬送ラインＢに沿ってインターフェイスステーション３側からカセットステーション１に向けて第２の熱的処理ユニットセクション２７、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４、現像の脱色処理を行うためのｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５および第３の熱的処理ユニットセクション２８が配列されている。スクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１の上の一部には、スクラバ洗浄に先立ってＬＣＤ基板Ｇの有機物を除去するためのエキシマＵＶ照射ユニット（ｅ−ＵＶ）２２が設けられている。
【００１６】
上記スクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１は、その中でＬＣＤ基板Ｇが略水平姿勢で搬送されつつ洗浄処理および乾燥処理が行われるようになっている。現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４も、後に詳細に説明するように、ＬＣＤ基板Ｇが略水平に搬送されつつ現像液塗布、現像後の現像液洗浄、および乾燥処理が行われるようになっている。これらスクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１および現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４では、ＬＣＤ基板Ｇの搬送は例えばコロ搬送またはベルト搬送により行われ、ＬＣＤ基板Ｇの搬入口および搬出口は相対向する短辺に設けられている。また、ｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５へのＬＣＤ基板Ｇの搬送は、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４の搬送機構と同様の機構により連続して行われる。
【００１７】
レジスト処理ユニット２３には、略水平に保持されたＬＣＤ基板Ｇにレジスト液を滴下させて、ＬＣＤ基板Ｇを所定の回転数で回転させることによってレジスト液をＬＣＤ基板Ｇ全体に拡げ、レジスト膜を形成するレジスト塗布処理装置（ＣＴ）２３ａと、ＬＣＤ基板Ｇ上に形成されたレジスト膜を減圧乾燥する減圧乾燥装置（ＶＤ）２３ｂと、ＬＣＤ基板Ｇの四辺をスキャン可能な溶剤吐出ヘッドによりＬＣＤ基板Ｇの周縁に付着した余分なレジストを除去する周縁レジスト除去装置（ＥＲ）２３ｃとがその順に配置されている。レジスト処理ユニット２３内には、これらレジスト塗布処理装置（ＣＴ）２３ａ、減圧乾燥装置（ＶＤ）２３ｂ、周縁レジスト除去装置（ＥＲ）２３ｃの間でＬＣＤ基板Ｇを搬送する搬送アームが設けられている。
【００１８】
第１の熱的処理ユニットセクション２６は、ＬＣＤ基板Ｇに熱的処理を施す熱的処理ユニットが積層して構成された２つの熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３１・３２を有しており、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３１はスクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１側に設けられ、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３２はレジスト処理ユニット２３側に設けられている。これら２つの熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３１・３２の間に第１の搬送装置３３が設けられている。
【００１９】
図２の第１の熱的処理ユニットセクション２６の側面図に示すように、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３１は、下から順にＬＣＤ基板Ｇの受け渡しを行うパスユニット（ＰＡＳＳ）６１、ＬＣＤ基板Ｇに対して脱水ベーク処理を行う２つの脱水ベークユニット（ＤＨＰ）６２・６３、ＬＣＤ基板Ｇに対して疎水化処理を施すアドーヒージョン処理ユニット（ＡＤ）６４が４段に積層された構成を有しており、また、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３２は、下から順にＬＣＤ基板Ｇの受け渡しを行うパスユニット（ＰＡＳＳ）６５、ＬＣＤ基板Ｇを冷却する２つのクーリングユニット（ＣＯＬ）６６・６７、ＬＣＤ基板Ｇに対して疎水化処理を施すアドーヒージョン処理ユニット（ＡＤ）６８が４段に積層されて構成を有している。
【００２０】
第１の搬送装置３３は、パスユニット（ＰＡＳＳ）６１を介してのスクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１からのＬＣＤ基板Ｇの受け取り、上記熱的処理ユニット間のＬＣＤ基板Ｇの搬入出、およびパスユニット（ＰＡＳＳ）６５を介してのレジスト処理ユニット２３へのＬＣＤ基板Ｇの受け渡しを行う。
【００２１】
第１の搬送装置３３は、上下に延びるガイドレール９１と、ガイドレール９１に沿って昇降する昇降部材９２と、昇降部材９２上を旋回可能に設けられたベース部材９３と、ベース部材９３上を前進後退可能に設けられ、ＬＣＤ基板Ｇを保持する基板保持アーム９４とを有している。そして、昇降部材９２の昇降はモーター９５によって行われ、ベース部材９３の旋回はモーター９６によって行われ、基板保持アーム９４の前後動はモーター９７によって行われる。このように第１の搬送装置３３は、上下動、前後動、旋回動可能であり、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３１・３２のいずれのユニットにもアクセスすることができる。
【００２２】
第２の熱的処理ユニットセクション２７は、ＬＣＤ基板Ｇに熱的処理を施す熱的処理ユニットが積層して構成された２つの熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３４・３５を有しており、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３４はレジスト処理ユニット２３側に設けられ、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３５は現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４側に設けられている。そして、これら２つの熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３４・３５の間に第２の搬送装置３６が設けられている。
【００２３】
図３の第２の熱的処理ユニットセクション２７の側面図に示すように、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３４は、下から順にＬＣＤ基板Ｇの受け渡しを行うパスユニット（ＰＡＳＳ）６９とＬＣＤ基板Ｇに対してプリベーク処理を行う３つのプリベークユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）７０・７１・７２が４段に積層された構成となっており、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３５は、下から順にＬＣＤ基板Ｇの受け渡しを行うパスユニット（ＰＡＳＳ）７３、ＬＣＤ基板Ｇを冷却するクーリングユニット（ＣＯＬ）７４、ＬＣＤ基板Ｇに対してプリベーク処理を行う２つのプリベークユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）７５・７６が４段に積層された構成となっている。
【００２４】
第２の搬送装置３６は、パスユニット（ＰＡＳＳ）６９を介してのレジスト処理ユニット２３からのＬＣＤ基板Ｇの受け取り、上記熱的処理ユニット間のＬＣＤ基板Ｇの搬入出、パスユニット（ＰＡＳＳ）７３を介しての現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４へのＬＣＤ基板Ｇの受け渡し、および後述するインターフェイスステーション３の基板受け渡し部であるエクステンション・クーリングステージ（ＥＸＴ・ＣＯＬ）４４に対するＬＣＤ基板Ｇの受け渡しおよび受け取りを行う。なお、第２の搬送装置３６は、第１の搬送装置３３と同じ構造を有しており、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３４・３５のいずれのユニットにもアクセス可能である。
【００２５】
第３の熱的処理ユニットセクション２８は、ＬＣＤ基板Ｇに熱的処理を施す熱的処理ユニットが積層して構成された２つの熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３７・３８を有しており、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３７は現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４側に設けられ、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３８はカセットステーション１側に設けられている。これら２つの熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３７・３８の間には、第３の搬送装置３９が設けられている。
【００２６】
図４の第３の熱的処理ユニットセクション２８の側面図に示すように、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３７は、下から順に、ＬＣＤ基板Ｇの受け渡しを行うパスユニット（ＰＡＳＳ）７７、ＬＣＤ基板Ｇに対してポストベーク処理を行う３つのポストベークユニット（ＰＯＢＡＫＥ）７８・７９・８０が４段に積層された構成を有している。また、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３８は、下から順に、ポストベークユニット（ＰＯＢＡＫＥ）８１、ＬＣＤ基板Ｇの受け渡しおよび冷却を行うパス・クーリングユニット（ＰＡＳＳ・ＣＯＬ）８２、ＬＣＤ基板Ｇに対してポストベーク処理を行う２つのポストベークユニット（ＰＯＢＡＫＥ）８３・８４が４段に積層された構成を有している。
【００２７】
第３の搬送装置３９は、パスユニット（ＰＡＳＳ）７７を介してのｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５からのＬＣＤ基板Ｇの受け取り、上記熱的処理ユニット間のＬＣＤ基板Ｇの搬入出、パス・クーリングユニット（ＰＡＳＳ・ＣＯＬ）８２を介してのカセットステーション１へのＬＣＤ基板Ｇの受け渡しを行う。なお、第３の搬送装置３９も第１の搬送装置３３と同じ構造を有しており、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３７・３８のいずれのユニットにもアクセス可能である。
【００２８】
処理ステーション２では、以上のように２列の搬送ラインＡ・Ｂを構成するように、かつ基本的に処理の順になるように各処理ユニットおよび搬送装置が配置されており、これら搬送ラインＡ・Ｂ間には空間４０が設けられている。そして、この空間４０を往復動可能にシャトル（基板載置部材）４１が設けられている。このシャトル４１はＬＣＤ基板Ｇを保持可能に構成されており、シャトル４１を介して搬送ラインＡ・Ｂ間でＬＣＤ基板Ｇの受け渡しが行われる。シャトル４１に対するＬＣＤ基板Ｇの受け渡しは、上記第１から第３の搬送装置３３・３６・３９によって行われる。
【００２９】
インターフェイスステーション３は、処理ステーション２と露光装置４との間でＬＣＤ基板Ｇの搬入出を行う搬送装置４２と、バッファーカセットを配置するバッファーステージ（ＢＵＦ）４３と、冷却機能を備えた基板受け渡し部であるエクステンション・クーリングステージ（ＥＸＴ・ＣＯＬ）４４とを有しており、タイトラー（ＴＩＴＬＥＲ）と周辺露光装置（ＥＥ）とが上下に積層された外部装置ブロック４５が搬送装置４２に隣接して設けられている。搬送装置４２は搬送アーム４２ａを備え、この搬送アーム４２ａにより処理ステーション２と露光装置４との間でＬＣＤ基板Ｇの搬入出が行われる。
【００３０】
このように構成されたレジスト塗布・現像処理システム１００においては、まず、カセットステーション１の載置台９に配置されたカセットＣ内のＬＣＤ基板Ｇが、搬送装置１１により処理ステーション２のエキシマＵＶ照射ユニット（ｅ−ＵＶ）２２に直接搬入され、スクラブ前処理が行われる。次いで、搬送装置１１により、ＬＣＤ基板Ｇがスクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１に搬入され、スクラブ洗浄される。スクラブ洗浄処理後、ＬＣＤ基板Ｇは例えばコロ搬送により第１の熱的処理ユニットセクション２６に属する熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３１のパスユニット（ＰＡＳＳ）６１に搬出される。
【００３１】
パスユニット（ＰＡＳＳ）６１に配置されたＬＣＤ基板Ｇは、最初に、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３１の脱水ベークユニット（ＤＨＰ）６２・６３のいずれかに搬送されて加熱処理され、次いで熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３２のクーリングユニット（ＣＯＬ）６６・６７のいずれかに搬送されて冷却された後、レジストの定着性を高めるために熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３１のアドヒージョン処理ユニット（ＡＤ）６４、および熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３２のアドヒージョン処理ユニット（ＡＤ）６８のいずれかに搬送され、そこでＨＭＤＳによりアドヒージョン処理（疎水化処理）される。その後、ＬＣＤ基板Ｇは、クーリングユニット（ＣＯＬ）６６・６７のいずれかに搬送されて冷却され、さらに熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３２のパスユニット（ＰＡＳＳ）６５に搬送される。このような一連の処理を行う際のＬＣＤ基板Ｇの搬送処理は、全て第１の搬送装置３３によって行われる。
【００３２】
パスユニット（ＰＡＳＳ）６５に配置されたＬＣＤ基板Ｇは、レジスト処理ユニット２３の搬送アームによりレジスト処理ユニット２３内へ搬入される。ＬＣＤ基板Ｇは、レジスト塗布処理装置（ＣＴ）２３ａにおいてレジスト液がスピン塗布された後に減圧乾燥装置（ＶＤ）２３ｂに搬送されて減圧乾燥され、さらに周縁レジスト除去装置（ＥＲ）２３ｃに搬送されてＬＣＤ基板Ｇ周縁の余分なレジストが除去される。そして、周縁レジスト除去終了後、ＬＣＤ基板Ｇは搬送アームによりレジスト処理ユニット２３から、第２の熱的処理ユニットセクション２７に属する熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３４のパスユニット（ＰＡＳＳ）６９に受け渡される。
【００３３】
パスユニット（ＰＡＳＳ）６９に配置されたＬＣＤ基板Ｇは、第２の搬送装置３６により、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３４のプリベークユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）７０・７１・７２および熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３５のプリベークユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）７５・７６のいずれかに搬送されてプリベーク処理され、その後熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３５のクーリングユニット（ＣＯＬ）７４に搬送されて所定温度に冷却される。そして、第２の搬送装置３６により、さらに熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３５のパスユニット（ＰＡＳＳ）７３に搬送される。
【００３４】
その後、ＬＣＤ基板Ｇは第２の搬送装置３６によりインターフェイスステーション３のエクステンション・クーリングステージ（ＥＸＴ・ＣＯＬ）４４へ搬送され、インターフェイスステーション３の搬送装置４２により外部装置ブロック４５の周辺露光装置（ＥＥ）に搬送されて周辺レジスト除去のための露光が行われ、次いで搬送装置４２により露光装置４に搬送されてそこでＬＣＤ基板Ｇ上のレジスト膜が露光されて所定のパターンが形成される。場合によってはバッファーステージ（ＢＵＦ）４３上のバッファカセットにＬＣＤ基板Ｇを収容してから露光装置４に搬送される。
【００３５】
露光終了後、ＬＣＤ基板Ｇはインターフェイスステーション３の搬送装置４２により外部装置ブロック４５の上段のタイトラー（ＴＩＴＬＥＲ）に搬入されてＬＣＤ基板Ｇに所定の情報が記された後、エクステンション・クーリングステージ（ＥＸＴ・ＣＯＬ）４４に載置される。ＬＣＤ基板Ｇは、第２の搬送装置３６により、エクステンション・クーリングステージ（ＥＸＴ・ＣＯＬ）４４から第２の熱的処理ユニットセクション２７に属する熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３５のパスユニット（ＰＡＳＳ）７３へ搬送される。
【００３６】
パスユニット（ＰＡＳＳ）７３から現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４まで延長されている例えばコロ搬送機構を作用させることにより、ＬＣＤ基板Ｇはパスユニット（ＰＡＳＳ）７３から現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４へ搬入され、そこで現像処理が施される。この現像処理工程については後に詳細に説明することとする。
【００３７】
現像処理終了後、ＬＣＤ基板Ｇは現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４から連続する搬送機構、例えばコロ搬送によりｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５に搬送され、ＬＣＤ基板Ｇに対して脱色処理が施される。その後、ＬＣＤ基板Ｇはｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５内のコロ搬送機構により第３の熱的処理ユニットセクション２８に属する熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３７のパスユニット（ＰＡＳＳ）７７に搬出される。
【００３８】
パスユニット（ＰＡＳＳ）７７に配置されたＬＣＤ基板Ｇは、第３の搬送装置３９により熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３７のポストベークユニット（ＰＯＢＡＫＥ）７８・７９・８０および熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３８のポストベークユニット（ＰＯＢＡＫＥ）８１・８３・８４のいずれかに搬送されてポストベーク処理され、その後熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３８のパス・クーリングユニット（ＰＡＳＳ・ＣＯＬ）８２に搬送されて所定温度に冷却された後、カセットステーション１の搬送装置１１によって、カセットステーション１に配置されている所定のカセットＣに収容される。
【００３９】
次に、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４の構造について詳細に説明する。図５は現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４の概略構造を示す側面図、図６はその平面図である。現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４は、基板搬入ゾーン２４ａ、第１の現像液供給ゾーン２４ｂ、第２の現像液供給ゾーン２４ｃ、現像液除去ゾーン２４ｄ、リンスゾーン２４ｅ、乾燥ゾーン２４ｆから構成されている。なお、基板搬入ゾーン２４ａは熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３５のパスユニット（ＰＡＳＳ）７３に隣接し、乾燥ゾーン２４ｆはｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５に隣接している（図１参照）。
【００４０】
ＬＣＤ基板Ｇは、パスユニット（ＰＡＳＳ）７３から基板搬入ゾーン２４ａへ、これらの間に設けられた第１コロ搬送機構１４ａによって略水平姿勢で搬送される。基板搬入ゾーン２４ａは、パスユニット（ＰＡＳＳ）７３と第１の現像液供給ゾーン２４ｂとの間の緩衝領域として設けられているものである。この基板搬入ゾーン２４ａは、第１の現像液供給ゾーン２４ｂからパスユニット（ＰＡＳＳ）７３へ現像液が飛散する等してパスユニット（ＰＡＳＳ）７３が汚染されることを、防止する。
【００４１】
第１コロ搬送機構１４ａは、その長手方向をＹ方向とし、基板搬送方向であるＸ方向に所定間隔で互いに平行に並べられた複数の枢軸部材１６と、枢軸部材１６を回転させる第１モータ１５ａと、枢軸部材１６の所定位置に設けられ、ＬＣＤ基板Ｇを支持するとともに第１モータ１５ａによる枢軸部材１６の回転にしたがって回転する複数のコロ（円板状部材）１７と、を具備している。
【００４２】
第１コロ搬送機構１４ａでは、複数の枢軸部材１６はベルト等により同期駆動され、枢軸部材１６を回転させることによって回転するコロ１７とＬＣＤ基板Ｇとの間の摩擦力によってＬＣＤ基板Ｇを搬送する。ＬＣＤ基板Ｇに撓み等が生じ難いように、枢軸部材１６は所定間隔でＸ方向に並べられ、コロ１７はＹ方向に所定数設けられる。なお、図６では第１コロ搬送機構１４ａは図示しておらず、以下に説明する第２コロ搬送機構１４ｂ〜第５コロ搬送機構１４ｅについても、図６での図示を省略している。
【００４３】
第１の現像液供給ゾーン２４ｂは、基板搬入ゾーン２４ａから搬送されてきたＬＣＤ基板Ｇに最初の現像液を供給して、現像液パドルを形成するゾーンである。第１の現像液供給ゾーン２４ｂには、ＬＣＤ基板Ｇを搬送するための第２コロ搬送機構１４ｂと、ＬＣＤ基板Ｇに現像液を塗布する主現像ノズル５１ａ・５１ｂが設けられている。
【００４４】
第２コロ搬送機構１４ｂは第２モータ１５ｂにより駆動される。したがって、第２コロ搬送機構１４ｂは第１コロ搬送機構１４ａと独立して駆動可能である。但し、基板搬入ゾーン２４ａから第１の現像液供給ゾーン２４ｂへＬＣＤ基板Ｇを搬送する際には、第１コロ搬送機構１４ａおよび第２コロ搬送機構１４ｂは、基板搬送速度が同じとなるように駆動される。
【００４５】
主現像ノズル５１ａ・５１ｂは、基板搬送方向と直交する方向（Ｙ方向）に長く、帯状に現像液を吐出することができる構造を有しており、現像ノズル移動機構５５により、Ｘ方向にスキャン自在であり、Ｚ方向で昇降自在となっている。
【００４６】
図７はＬＣＤ基板Ｇに現像液を供給して現像液パドルを形成する動作の制御系の概略構成を示す説明図である。主現像ノズル５１ａ・５１ｂからの現像液の吐出の開始と停止は、現像液吐出制御機構５６によって制御される。例えば、この現像液吐出制御機構５６は、現像液を貯留するタンクと、タンクから現像液を所定流量で送液するポンプと、主現像ノズル５１ａ・５１ｂへの送液ラインを開閉するバルブと、を備えている。第２コロ搬送機構１４ｂ、現像ノズル移動機構５５および現像液吐出制御機構５６は、パドル形成制御装置５７によって制御されるようになっており、パドル形成制御装置５７は、入力されまたは所定の記憶手段に記憶されたレシピに従ってこれらを制御し、ＬＣＤ基板Ｇに現像液パドルを形成する。
【００４７】
図８はＬＣＤ基板Ｇに現像液パドルを形成する過程を模式的に示す説明図である。図８（ａ）に示すように、第１の現像液供給ゾーン２４ｂに搬入され、静止しているＬＣＤ基板Ｇに対して、主現像ノズル５１ａ・５１ｂは、当初、基板搬送方向の前方側（第２の現像液供給ゾーン２４ｃ側）に位置している。パドル形成制御装置５７は現像ノズル移動機構５５を駆動し、主現像ノズル５１ａ・５１ｂを所定の高さに配置させ、ＬＣＤ基板Ｇに向けて所定の速度（例えば、１００〜３００ｍｍ／秒）でスキャンを開始させる。
【００４８】
次に、図８（ｂ）に示すように、主現像ノズル５１ａがＬＣＤ基板Ｇの右端（基板搬送方向の先方側）近傍に到達したら、パドル形成制御装置５７は、主現像ノズル５１ａ・５１ｂからの現像液吐出が開始されるように、現像液吐出制御機構５７を制御する。なお、主現像ノズル５１ａと主現像ノズル５１ｂとで、現像液吐出のタイミングをずらしてもよい。
【００４９】
そして、主現像ノズル５１ａ・５１ｂからの現像液の吐出開始後に、パドル形成制御装置５７は第２コロ搬送機構１４ｂを駆動させて、ＬＣＤ基板Ｇを矢印＋Ｂで示す方向に、つまり主現像ノズル５１ａ・５１ｂをスキャンさせる方向とは逆方向に、所定の速度（例えば、５〜２０ｍｍ／秒）で水平移動させる。
【００５０】
続いて、図８（ｃ）に示すように、主現像ノズル５１ａ・５１ｂを継続してスキャンさせながら、ＬＣＤ基板Ｇを所定時間（例えば、２〜６秒）経過時に停止させる。引き続き、図８（ｄ）に示すように、主現像ノズル５１ａ・５１ｂをスキャンさせながら、ＬＣＤ基板Ｇを矢印−Ｂで示す方向に、つまり主現像ノズル５１ａ・５１ｂをスキャンさせる方向と同方向に、所定の速度（例えば、５〜２０ｍｍ／秒）で水平移動させる。
【００５１】
図８各図に示すように、主現像ノズル５１ａは斜め後方に現像液を吐出するように傾けて配置されている。これにより、主現像ノズル５１ａの前方へ現像液が拡がることが抑制され、ＬＣＤ基板Ｇへの現像液供給時のインパクトが弱められることが抑制される。また、主現像ノズル５１ｂから吐出する現像液によって先にＬＣＤ基板Ｇに塗布された現像液が大きく撹拌されないように、主現像ノズル５１ｂもまた所定角度傾けられている。さらに、主現像ノズル５１ｂは主現像ノズル５１ａよりもＬＣＤ基板Ｇから離れた位置で保持されている。これにより、主現像ノズル５１ａから吐出された現像液が主現像ノズル５１ｂによってスキャン方向に押し出されることが抑制される。
【００５２】
次に、主現像ノズル５１ｂがＬＣＤ基板Ｇの左端近傍に到達するタイミングに合わせて、主現像ノズル５１ａ・５１ｂからの現像液の吐出を停止するとともにＬＣＤ基板Ｇを停止させ、主現像ノズル５１ｂを降下させてＬＣＤ基板Ｇの左端に近接させ、所定時間（例えば、１〜２秒）保持する。これによりＬＣＤ基板Ｇに供給された現像液がＬＣＤ基板Ｇの左端からこぼれ落ちることを抑制することができる。
【００５３】
その後、主現像ノズル５１ａ・５１ｂは所定の高さまで上昇され、当初の位置へと戻される。一方、現像液パドルが形成されたＬＣＤ基板Ｇは、第２コロ搬送機構１４ｂを駆動することにより、第２の現像液供給ゾーン２４ｃへ搬送される。なお、上述した現像液パドルの形成するための図８（ｂ）〜（ｄ）に示す一連の動作をさらに１回または複数回繰り返して行ってもよい。
【００５４】
上述した現像液パドルの形成方法においては、ＬＣＤ基板Ｇの水平移動の停止と主現像ノズル５１ｂがＬＣＤ基板Ｇの左端近傍に到達することによるスキャン停止とのタイミングが合うように、主現像ノズル５１ａ・５１ｂのスキャン速度とＬＣＤ基板Ｇの揺動周期とを合わせることが好ましい。例えば、主現像ノズル５１ａ・５１ｂがＬＣＤ基板Ｇの右端から左端までを移動する時間の間にＬＣＤ基板Ｇが水平移動を１往復または複数回往復できるように、主現像ノズル・５１ａ・５１ｂのスキャン速度とＬＣＤ基板Ｇの水平移動速度および移動時間を調整することが好ましい。
【００５５】
このような現像液パドルの形成方法によれば、ＬＣＤ基板Ｇに現像液が塗布されている間に、ＬＣＤ基板Ｇはコロ１７によって常に同じ点で支持されることがないために、コロ１７の接触部が斑とならない。つまり、転写の発生を防止することができる。また、最初にＬＣＤ基板Ｇを主現像ノズル５１ａ・５１ｂのスキャン方向と逆の方向に移動させることにより、現像均一性を高め、また、ＬＣＤ基板Ｇからの液こぼれを抑制することができる。
【００５６】
図８に示した現像液パドルの形成方法では、ＬＣＤ基板Ｇの水平移動開始時の移動方向を主現像ノズル５１ａ・５１ｂのスキャン方向と逆にしたが、図９に示すように、ＬＣＤ基板Ｇの水平移動開始時の移動方向を主現像ノズル５１ａ・５１ｂのスキャン方向に合わせてもよい。すなわち、図９（ａ）（図８（ａ）と同じ状態を示している）に示すように、先ず、静止しているＬＣＤ基板Ｇに向かって、主現像ノズル５１ａ・５１ｂのスキャンを開始する。
【００５７】
次に、図９（ｂ）に示すように、主現像ノズル５１ａがＬＣＤ基板Ｇの右端（基板搬送方向の先方側）近傍に到達したら、主現像ノズル５１ａ・５１ｂからの現像液吐出を開始し、その後にＬＣＤ基板Ｇを主現像ノズル５１ａ・５１ｂをスキャンさせる方向と同じ矢印−Ｂの方向に所定速度で水平移動させる。続いて、図９（ｃ）に示すように、主現像ノズル５１ａ・５１ｂを継続してスキャンさせながら、ＬＣＤ基板Ｇを所定時間が経過した時点で停止させる。
【００５８】
引き続き、図９（ｄ）に示すように、主現像ノズル５１ａ・５１ｂを継続してスキャンさせながら、ＬＣＤ基板Ｇを矢印＋Ｂの方向に所定の速度で水平移動させる。次いで、図９（ｅ）に示すように、主現像ノズル５１ｂがＬＣＤ基板Ｇの左端近傍に到達するタイミングに合わせて、主現像ノズル５１ａ・５１ｂからの現像液の吐出を停止するとともにＬＣＤ基板Ｇを停止させ、主現像ノズル５１ｂを降下させてＬＣＤ基板Ｇの左端に近接させ、所定時間保持する。
【００５９】
この現像液パドルの形成方法によっても、ＬＣＤ基板Ｇに現像液が塗布されている間に、ＬＣＤ基板Ｇはコロ１７によって常に同じ点で支持されることがないために、コロ１７の接触部が斑とならない。また、先に図８に示した方法と比較すると現像均一性の点では不利ではあるが品質不良には至らないこと、および装置構成（ハード構成）上、制御が容易であり、装置コストを抑えることができる点で好ましい。
【００６０】
さらに、図１０に示す方法で現像液パドルを形成してもよい。すなわち、静止しているＬＣＤ基板Ｇに向かって、主現像ノズル５１ａ・５１ｂのスキャンを開始し（図１０（ａ））、主現像ノズル５１ａがＬＣＤ基板Ｇの右端（基板搬送方向の先方側）近傍に到達したら、主現像ノズル５１ａ・５１ｂからの現像液吐出を開始し（図１０（ｂ））、ＬＣＤ基板Ｇを水平移動させることなく、主現像ノズル５１ａ・５１ｂをスキャンさせ（図１０（ｃ））、主現像ノズル５１ｂがＬＣＤ基板Ｇの左端近傍に到達したら、主現像ノズル５１ａ・５１ｂからの現像液の吐出を停止するとともに主現像ノズル５１ｂを降下させてＬＣＤ基板Ｇの左端に近接させる（図１０（ｄ））。その後、主現像ノズル５１ａ・５１ｂをＬＣＤ基板Ｇから離間させて、ＬＣＤ基板Ｇを、例えば、最初に矢印＋Ｂの方向に移動させ、次いで矢印−Ｂの方向に引き戻す。
【００６１】
このような方法によっても、ＬＣＤ基板Ｇはコロ１７によって同じ点で支持される時間を短くすることができるために、コロ１７の接触部における転写の発生を抑制することができる。なお、図８および図９に示したように、主現像ノズル５１ａ・５１ｂから現像液を吐出させて現像液パドルを形成している間にＬＣＤ基板Ｇを揺動し、さらに現像液パドル形成後にもＬＣＤ基板Ｇを揺動し、所定時間経過後に、第２の現像液供給ゾーン２４ｃに搬送してもよい。
【００６２】
このようにして第１の現像液供給ゾーン２４ｂで現像液が液盛りされたＬＣＤ基板Ｇを現像液除去ゾーン２４ｄへ搬送する間に、ＬＣＤ基板Ｇ上から現像液がこぼれ落ちる場合がある。第２の現像液供給ゾーン２４ｃは、こうしてＬＣＤ基板の搬送途中にＬＣＤ基板Ｇから現像液がこぼれ落ちることによって現像反応が進まなくなることを防止するために、新たにＬＣＤ基板Ｇに現像液を補充するゾーンである。
【００６３】
第２の現像液供給ゾーン２４ｃにおいては、第３モータ１５ｃより駆動する第３コロ搬送機構１４ｃが設けられており、第３コロ搬送機構１４ｃは第２コロ搬送機構１４ｂと独立して駆動可能である。第１の現像液供給ゾーン２４ｂから第２の現像液供給ゾーン２４ｃへＬＣＤ基板Ｇを搬送する際には、第２コロ搬送機構１４ｂおよび第３コロ搬送機構１４ｃは、基板搬送速度が同じとなるように駆動される。
【００６４】
第２の現像液供給ゾーン２４ｃには、主現像ノズル５１ａと同様の構造を有する現像液補充ノズル５１ｃが、その長手方向をＹ方向として、固定配置されている。現像液補充ノズル５１ｃからは、第３コロ搬送機構１４ｃによって搬送されるＬＣＤ基板Ｇ上に所定量の現像液が供給され、これによりＬＣＤ基板Ｇからこぼれ落ちた現像液が補充される。
【００６５】
現像液除去ゾーン２４ｄには、ＬＣＤ基板Ｇを、例えば、斜め姿勢に変換する姿勢変換機構６０（図５には図示せず）と、ＬＣＤ基板Ｇの表面に現像液を洗い流すためのリンス液（例えば、純水）をＹ方向に長く帯状に吐出する第１リンスノズル５２と、第４モータ１５ｄにより駆動される第４コロ搬送機構１４ｄが設けられている。ＬＣＤ基板Ｇの現像反応は、第１の現像液供給ゾーン２４ｂから現像液除去ゾーン２４ｄに搬送される間に行われる。
【００６６】
図１１は姿勢変換機構６０の概略構造と現像液除去ゾーン２４ｄにおける現像液除去過程を模式的に示す説明図である。なお、図１１では現像液パドルの図示を略している。姿勢変換機構６０は、フレーム５８ｃと、フレーム５８ｃに設けられた複数の支持ピン５８ｂと、ＬＣＤ基板Ｇを傾斜姿勢に変換した際にその下端を支える基板支持部材５８ａと、フレーム５８を昇降させる第１昇降機構５９ａおよび第２昇降機構５９ｂと、を備えている。なお、フレーム５８ｃは第１昇降機構５９ａの取り付け部分で回動自在となっている。
【００６７】
図１２は第１リンスノズル５２の制御系を示す説明図である。リンス液吐出制御機構４６は、第１リンスノズル５２からのリンス液吐出の開始／停止を制御する。リンスノズル移動機構４７は第１リンスノズル５２をＬＣＤ基板Ｇの傾斜に沿って移動させる。リンス処理制御装置４８はこれらリンス液吐出制御機構４６およびリンスノズル移動機構４７ならびに第１昇降機構５９ａ、第２昇降機構５９ｂを、レシピにしたがって制御する。
【００６８】
図１１（ａ）に示すように、姿勢変換機構６０は、ＬＣＤ基板Ｇが現像液除去ゾーン２４ｄに搬送される間は、第４コロ搬送機構１４ｄのコロ１７の下側に配置されている。第４コロ搬送機構１４ｄの駆動を停止させて、ＬＣＤ基板Ｇを静止させたら、図１１（ｂ）に示すように、第１昇降機構５９ａと第２昇降機構５９ｂを同時駆動して、同じ高さだけフレーム５８ｃを持ち上げる。このとき、複数の支持ピン５８ｂがＬＣＤ基板Ｇの裏面に一様に当接することができる構成となっている。
【００６９】
次に、図１１（ｃ）に示すように、第２昇降機構５９ｂのみを駆動することによって、基板支持部材５８ａ回りにフレーム５８ｃを所定角度、例えば、１５度回動させ、これによってＬＣＤ基板Ｇを１５度傾けた状態として、ＬＣＤ基板Ｇ上の現像液を流下させる。なお、ＬＣＤ基板Ｇの下端は基板保持部材５８ａによって支えられているので、ＬＣＤ基板Ｇ滑り落ちることはない。また、傾斜姿勢のＬＣＤ基板Ｇの撓みが小さくなるように、フレーム５８ｃの形状と支持ピン５８ｂの配置が考慮されている。
【００７０】
ＬＣＤ基板Ｇ上の現像液の殆どを流下させた後に、図１１（ｄ）に示すように、ＬＣＤ基板Ｇの傾斜角度が例えば、５度となるように第２昇降機構５９ｂを駆動し、ＬＣＤ基板Ｇを５度の傾斜姿勢に保持した状態で、ＬＣＤ基板Ｇの下方端から上方端へとＬＣＤ基板Ｇの表面に沿って第１リンスノズル５２をスキャンさせながらＬＣＤ基板Ｇの表面に純水を吐出する。これにより、ＬＣＤ基板Ｇ上の現像液が洗い流され、現像反応を完全に停止させることができる。
【００７１】
例えば、第１リンスノズル５２は、短時間で現像液を洗い流すことができるように、例えば、５００ｍｍ／秒の速度でスキャンさせることができるようになっている。実際には、第１リンスノズル５２のスキャン速度を、１００ｍｍ／秒〜３００ｍｍ／秒の間、より好ましくは２００ｍｍ／秒〜３００ｍｍ／秒の間とすることにより、現像パターンの線幅均一性が高められる。
【００７２】
なお、第１リンスノズル５２をスキャンさせる方向をＬＣＤ基板Ｇの上方端から下方端へとした場合には、ＬＣＤ基板Ｇの下側で現像液を含むリンス液の流れが急となり、これによってＬＣＤ基板Ｇに液流跡が発生する。しかし、上述のように、第１リンスノズル５２をスキャンさせる方向をＬＣＤ基板Ｇの下方端から上方端へとすることにより、ＬＣＤ基板Ｇの下端側で現像液を含むリンス液が急流となること防止され、これによって液流跡の発生が抑制される。
【００７３】
リンスゾーン２４ｅには、純水等のリンス液をＬＣＤ基板Ｇに向けて吐出する第２リンスノズル５３と、ＬＣＤ基板Ｇを搬送するための第５コロ搬送機構１４ｅが設けられている。この第５コロ搬送機構１４ｅは第５モータ１５ｅにより駆動され、乾燥ゾーン２４ｆにおける基板搬送をも行うことができるようになっている。
【００７４】
第２リンスノズル５３は、ＬＣＤ基板Ｇの幅よりも長い形状を有しており、ＬＣＤ基板Ｇの幅方向全体にリンス液を吐出することができるようになっている。リンスゾーン２４ｅにおいては、ＬＣＤ基板Ｇを所定速度で搬送しながらＬＣＤ基板Ｇの表面と裏面にリンス液を吐出して、ＬＣＤ基板Ｇに付着している現像液残渣の除去と基板洗浄が行われる。
【００７５】
リンスゾーン２４ｅを通過したＬＣＤ基板Ｇが搬送される乾燥ゾーン２４ｆには、所定の風圧で窒素ガス等の乾燥ガスを噴射するエアーノズル（エアーナイフ）５４が設けられている。乾燥ゾーン２４ｆにおいては、ＬＣＤ基板Ｇを所定速度で搬送しながらＬＣＤ基板Ｇの表面と裏面に乾燥ガスを噴射して、ＬＣＤ基板Ｇに付着したリンス液を吹き飛ばしてＬＣＤ基板Ｇを乾燥する。なお、エアーノズル５４は、ＬＣＤ基板Ｇの幅よりも長い形状を有しており、ＬＣＤ基板Ｇの幅方向全体に乾燥ガスを吐出することができるようになっている。乾燥処理が終了したＬＣＤ基板Ｇは、第５コロ搬送機構１４ｅにより、ｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５に搬送される。
【００７６】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。例えば、第１の現像液供給ゾーン２４ｂに配置される主現像ノズルは１本でもよく、３本以上であってもよい。１本の主現像ノズルを用いる場合には、主現像ノズルから吐出させる現像液の流量を増大させなければならないために、現像液の吐出勢いが強くなってＬＣＤ基板Ｇに吐出した現像液がＬＣＤ基板Ｇからこぼれ落ちることのないように、主現像ノズルからの現像液の吐出状態、例えば、現像液の吐出方向や吐出勢いを制御することが必要となる。
【産業上の利用可能性】
【００７７】
本発明はＬＣＤガラス基板等の大型基板の現像処理装置および現像処理方法に好適である。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】本発明の塗布膜形成装置の一実施形態であるレジスト塗布装置を具備するレジスト塗布・現像処理システムの概略平面図。
【図２】図１に示したレジスト塗布・現像処理システムの第１の熱的処理ユニットセクションを示す側面図。
【図３】図１に示したレジスト塗布・現像処理システムの第２の熱的処理ユニットセクションを示す側面図。
【図４】図１に示したレジスト塗布・現像処理システムの第３の熱的処理ユニットセクションを示す側面図。
【図５】現像処理ユニット（ＤＥＶ）の概略構造を示す側面図。
【図６】現像処理ユニット（ＤＥＶ）の概略構造を示す平面図。
【図７】現像液パドルを形成するための制御系の概略構成を示す説明図。
【図８】現像液パドルを形成する過程を模式的に示す説明図。
【図９】現像液パドルを形成する別の過程を模式的に示す説明図。
【図１０】現像液パドルを形成するさらに別の過程を模式的に示す説明図。
【図１１】姿勢変換機構の概略構造と現像液除去ゾーンにおける現像液除去過程を模式的に示す説明図。
【図１２】第１リンスノズルの制御系を示す説明図。
【符号の説明】
【００７９】
１；カセットステーション
２；処理ステーション
３；インターフェイスステーション
１４ｂ；第２コロ搬送機構
２４；現像処理ユニット
２４ａ；基板搬入ゾーン
２４ｂ；第１の現像液供給ゾーン
２４ｃ；第２の現像液供給ゾーン
２４ｄ；現像液除去ゾーン
２４ｅ；リンスゾーン
２４ｆ；乾燥ゾーン
４６；リンス液吐出制御機構
４７；リンスノズル移動機構
４８；リンス処理制御装置
５１ａ・５１ｂ；主現像ノズル
５２；第１リンスノズル
５５；ノズル移動機構
５６；現像液吐出制御機構
５７；パドル形成制御装置
６０；姿勢変換機構
１００；レジスト塗布・現像処理システム
Ｇ；ＬＣＤ基板
【図１】
2005303230.tif 000003
【図３】
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【図４】
2005303230.tif 000005
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2005303230.tif 000009
【図９】
2005303230.tif 000010
【図１０】
2005303230.tif 000011
【図１１】
2005303230.tif 000012
【図１２】
2005303230.tif 000013
【図２】
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