(57)【要約】【課題】薬液の希釈を再現性良く、高精度に行うことができ、かつ薬液濃度を容易に変更可能にして、洗浄機側のハードウェアばらつきに対応する。【解決手段】純水を定量する純水定量槽１ａと、薬液を定量する複数の異なる容量の薬液定量槽１ｂ，１ｃとを備えて、純水定量槽１ａと薬液定量槽１ｂ，１ｃとで定量された純水と薬液とを希釈槽１ｄに投入して希釈する薬液希釈装置であって、前記薬液定量槽１ｂ，１ｃの下部の配管を薬液を投入する配管と、希釈槽１ｄへ送る配管とに分岐させるように、それぞれの分岐部分にバルブ１ｉ〜１ｌを備え、前記薬液定量槽１ｂ，１ｃの上部の配管を薬液を流す配管と、Ｎ２を供給できる配管とに分岐させ、分岐部分にバルブ１ｍ，１ｎを備え、上下のバルブ間で薬液を定量し、Ｎ２圧送により前記希釈槽１ｄへ薬液を送る。そして前記複数の薬液定量槽１ｂ，１ｃの定量回数を適宜組み合わせて、設定濃度に薬液を希釈する。【選択図】図１
2005303188.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
純水を定量する純水定量槽と、薬液を定量する複数の異なる容量の薬液定量槽と、前記純水定量槽と前記薬液定量槽とで定量された前記純水と前記薬液を投入し、希釈する希釈槽とを備えた薬液希釈装置において、
前記複数の薬液定量槽の定量回数を組み合わせて設定濃度に前記薬液を希釈することを特徴とする薬液希釈装置。
【請求項２】
前記薬液定量槽の下部に配管を備え、薬液を投入する配管と希釈槽へ送る配管に分岐させ、それぞれの配管にバルブを備えて前記薬液定量槽の下部から前記薬液定量槽への薬液の投入および前記薬液定量槽から希釈槽への薬液の投入を可能にし、さらに前記薬液定量槽の上部に配管を備え、薬液を流す配管と窒素を供給する配管とに分岐させ、該分岐部分にバルブを備え、薬液側の配管にセンサを備え、薬液が投入されたことを検知し、前記薬液定量槽の下部に備えた配管の前記薬液定量槽への投入ラインのバルブを閉じることにより薬液の投入を停止し、さらに前記薬液定量槽の上部の配管に備えたバルブを窒素ライン側に切り替え、前記薬液定量槽の下部に備えた配管の前記希釈槽へ送る配管側のバルブを開き、窒素圧送により希釈槽への定量された薬液を投入し、目標濃度の希釈薬液を精製することを特徴とする請求項１記載の薬液希釈装置。
【請求項３】
薬液側の配管に代えて、分岐手前の配管にセンサを備えたことを特徴とする請求項２記載の薬液希釈装置。
【請求項４】
薬液定量槽へ薬液を投入するための薬液バッファタンクを備え、薬液投入後の前記薬液バッファタンクの液面が前記薬液定量槽の定量面よりも高い位置になるように、前記薬液バッファタンクを備え、薬液の自重により前記薬液定量槽へ薬液を投入した場合、前記薬液定量槽と前記薬液バッファタンクとの液面が揃う現象を利用して、定量することを特徴とする請求項１記載の薬液希釈装置。
【請求項５】
薬液定量槽へ薬液を投入するための薬液バッファタンクに液面を検知するセンサを備え、前記薬液定量槽へ薬液を投入する毎に前記薬液バッファタンクに薬液を投入し、前記薬液定量槽への薬液投入前の前記薬液バッファタンクの液面を一定に保つことを特徴とする請求項４記載の薬液希釈装置。
【請求項６】
純水定量槽下部に配管を備え、純水を投入する配管と希釈槽へ送る配管に分岐させ、それぞれの配管にバルブを備えて前記純水定量槽の下部から前記純水定量槽への純水の投入および前記純水定量槽から希釈槽への純水の投入を可能にし、さらに前記純水定量槽の上部から前記純水定量槽内部に先端を挿入したバルブを備えた配管と、窒素を供給するバルブを備えた配管を備え、前記純水定量槽に投入した純水を検知するセンサを備え、前記センサの位置は前記純水定量槽の上部から挿入した配管の先端より高い位置に備え、前記センサにより、前記純水定量槽下部に備えた純水を投入する配管のバルブを閉じ、前記純水定量槽への純水の投入を停止し、その後、窒素を供給し、前記純水槽上部より挿入した配管の先端よりも上部にある純水を排出し、純水を定量することを特徴とする請求項１記載の薬液希釈装置。
【請求項７】
純水定量槽の上部から前記純水定量槽内部に先端を挿入したバルブを備えた配管の挿入量により、定量する純水の容量を決定することを特徴とする請求項６記載の薬液希釈装置。
【請求項８】
純水を定量する純水定量槽と、薬液を定量する複数の異なる容量の薬液定量槽と、前記純水定量槽と前記薬液定量槽とで定量された前記純水と前記薬液を投入し、希釈する希釈槽を備える薬液希釈装置に用いられる薬液希釈方法において、
複数の薬液定量槽の定量回数を組み合わせて設定濃度に薬液を希釈することを特徴とする薬液希釈方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウェハの洗浄技術に係り、洗浄に用いる薬液の希釈装置、およびその希釈方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来用いられている薬液の希釈装置について図８の構成図を参照して説明する。
【０００３】
図８において、純水定量槽８ａと、薬液定量槽８ｂと、定量した純水と薬液を投入する希釈槽８ｃとを備えており、純水定量槽８ａと薬液定量槽８ｂには、それぞれ液面センサ８ｄ，８ｅを備え、純水と薬液を定量する構造である。
【０００４】
図９は特許文献１などに記載されている従来の薬液希釈装置の構成図である。
【０００５】
図９において、純水定量槽９ａと、容量の異なる薬液定量槽９ｂ，９ｃと、希釈槽９ｄと、純水定量槽９ａと薬液定量槽９ｂにて定量した純水と薬液とを希釈して定量する希釈定量槽９ｅとを備えており、純水定量槽には液面センサ９ｆ、薬液定量槽９ｂには液面センサ９ｇ、薬液定量槽９ｃには液面センサ９ｈ、希釈定量槽９ｅには液面センサ９ｉを備えて、それぞれ純水および薬液を定量する構造であり、高濃度の希釈薬液と低濃度の希釈薬液の精製が可能である。
【特許文献１】特開平１１−７６９５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来の薬液の希釈装置では、定量槽に液面センサを設置しているため、液面センサの検出範囲のばらつきによる計量ばらつきが発生する。この計量ばらつきは薬液の濃度のばらつきを発生させることになる。
【０００７】
また、洗浄機側のブラシ交換などに代表される部材の交換によるハードウェアのばらつきにより、同じ濃度の薬液を供給しても、エッチングレートが変化する場合がある。エッチングレートが変化した場合、容易に濃度を変更することができない。薬液定量槽と純水定量槽の容量が固定されており、液面センサの位置を変えることにより、濃度を変更することはできるが、手間を必要とする。
【０００８】
本発明の目的は、半導体ウェハの洗浄に用いられる薬液を希釈し、供給する装置において、薬液の希釈を再現性良く、高精度に行うことができ、かつ薬液濃度を容易に変更できることで洗浄機側のハードウェアばらつきに対応できる薬液希釈装置と薬液希釈方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記目的を達成するため、本発明は、純水を定量する純水定量槽と、薬液を定量する複数の異なる容量の薬液定量槽と、前記純水定量槽と前記薬液定量槽とで定量された前記純水と前記薬液を投入し、希釈する希釈槽とを備えた薬液希釈装置において、前記複数の薬液定量槽の定量回数を組み合わせて設定濃度に前記薬液を希釈することを特徴とする。
【００１０】
また、前記薬液定量槽下部に配管を備え、薬液を投入する配管と希釈槽へ送る配管に分岐させ、それぞれの配管にバルブを備えて前記薬液定量槽の下部から前記定量槽への薬液の投入および前記薬液定量槽から希釈槽への薬液の投入ができる構造とする。さらに前記薬液定量槽の上部に配管を備え、薬液を流す配管と窒素（Ｎ２）を供給する配管に分岐させ、該分岐部分にバルブを備えた構造とし、前記薬液定量槽の上部に備えた薬液側の配管にセンサを備え、薬液が投入されたことを検知し、前記薬液定量槽の下部に備えた配管の前記薬液定量槽への投入ラインのバルブを閉じることにより薬液の投入を停止し、前記薬液定量槽の上下のバルブ間で薬液を定量し、前記薬液定量槽の上部に備えたバルブをＮ２ライン側に切り替え、前記薬液定量槽の下部に備えた希釈槽側の配管のバルブを開いて前記希釈槽へ薬液を投入することを特徴とする。
【００１１】
前記薬液定量槽の上下のバルブ間に定量される薬液量は一定であり、再現性よく定量できる。さらにＮ２圧送により前記希釈槽へ薬液を送るため、前記薬液定量槽および前記希釈槽への配管に薬液残りがなく、前記希釈槽へ投入する薬液量の再現性も良い。
【００１２】
さらに、洗浄機側のハードウェアの変化、ばらつきによるエッチングレート変動に対して濃度の変更が必要な場合には、複数備えた前記薬液槽を用い、定量回数を組み合わせて設定濃度に薬液を希釈することを特徴とする。
【００１３】
目標濃度に対してやや低濃度を実現する容量の大きい薬液定量槽と所望とする濃度の調整幅にあたる濃度を実現する容量の小さい薬液定量槽を備え、目標濃度に対しては、容量の大きい前記薬液定量槽にて１回定量したものと、容量の小さい前記薬液定量槽にて必要回数定量する。前記の容量の小さい薬液定量槽の定量回数を変更させることにより、設定希釈濃度を変更する。容量の異なる濃度調整用の薬液定量槽を複数用意することにより、目標濃度に合わせこむことができる。
【００１４】
また、前記薬液の定量において、前記薬液定量槽の上部に備えた配管の薬液を流す方に分岐させた配管にセンサを備えて薬液の投入を検知すると、前記分岐バルブからセンサまでの薬液をムダにしてしまうことになるが、分岐手前の配管にセンサを備え、前記センサにより薬液の投入を検知することで、薬液のムダをなくすことができる。センサ検知による薬液計量値のばらつきはあるが、配管径が小さいため、定量槽に壁面にセンサを備えて検知するよりも計量値のばらつきは小さくなり、洗浄機側でのエッチングレート特性等の特性に影響を及ぼすレベルではない。
【００１５】
前記センサの検知ばらつきによる薬液計量値のばらつきを低減するためには、前記薬液定量槽に薬液を投入するための薬液バッファタンクを備え、薬液投入後の前記薬液バッファタンクの液面が前記薬液定量槽の定量面よりも高い位置になるように、前記薬液バッファタンクを備えることにより、薬液の時間あたりの投入量をＮ２圧送あるいはポンプ圧送よりも小さくすることができ、前記センサの検知ばらつきを小さくできる。このとき、薬液定量槽へ薬液を投入するための薬液バッファタンクに液面を検知するセンサを備え、前記薬液定量槽へ薬液を投入する毎に前記薬液バッファタンクに薬液を投入し、前記薬液定量槽への薬液投入前の前記薬液バッファタンクの液面を一定に保つことにより、前記薬液定量槽へ薬液を投入する時間あたりの投入量を一定にできる。このため、前記センサでの検知ばらつきがさらに低減できる。
【００１６】
前記のように、薬液濃度は前記薬液槽を用い、定量回数を組み合わせで変更する。そのため、純水の定量については、再現性、精度ともに良いことが必要とされ、容量を変更することはほとんどない。
【００１７】
純水を再現性良く、高精度に計量するために、純水定量槽では、前記純水定量槽下部に配管を備え、純水を投入する配管と希釈槽へ送る配管に分岐させ、それぞれの配管にバルブを備えて前記純水定量槽の下部から前記純水定量槽への純水の投入および前記純水定量槽から希釈槽への純水の投入ができる構造とし、さらに前記純水定量槽の上部から前記純水定量槽内部に先端を挿入したバルブを備えた配管と、Ｎ２を供給できるバルブを備えた配管を備え、前記純水定量槽に投入した純水を検知するセンサを備える。前記センサの位置は前記純水定量槽の上部から挿入した配管の先端より高い位置に備え、前記センサにより、前記純水定量槽下部に備えた純水を投入する配管のバルブを閉じ、前記純水定量槽への純水の投入を停止し、その後、Ｎ２を供給し、前記純水槽上部より挿入した配管の先端よりも上部にある純水を排出し、純水を定量する。計量される純水の容量は前記純水定量槽の上部から挿入した配管の挿入量により決まり、再現性良く計量できる。
【発明の効果】
【００１８】
以上のように本発明によれば、薬液定量槽の下部に配管を備え、薬液を投入する配管と希釈槽へ送る配管に分岐させ、それぞれの配管にバルブを備えて前記薬液定量槽の下部からの薬液の投入および前記薬液定量槽から希釈槽への薬液の投入ができる構造とし、前記薬液定量槽の上部に配管を備え、薬液を流す配管とＮ２を供給できる配管に分岐させ、分岐部分にバルブを備えた構造とし、薬液を薬液定量槽の上下バルブ間に定量することにより定量する薬液量を一定にでき、再現性よく定量することができる。さらにＮ２圧送により希釈槽へ薬液を送るため、前記薬液定量槽および前記希釈槽への配管に薬液残りがなく、前記希釈槽へ投入する薬液量の再現性も良い。
【００１９】
さらに、洗浄機側のハードウェアの変化、ばらつきによるエッチングレート変動に対して濃度の変更が必要な場合において、前記薬液定量槽を複数備え、定量回数を組み合わせて設定濃度に薬液を希釈することにより、容易に濃度変更が可能である。
【００２０】
また、前記薬液定量槽の上部に備えた配管の分岐手前の配管にセンサを備え、前記センサにより薬液の投入を検知することにより、薬液のムダを無くすことができる。さらに、前記薬液定量槽に薬液を投入する薬液バッファタンクを備え、薬液を自重で投入することにより、前記センサの検出ばらつきを少なくすることができる。
【００２１】
純水の計量においても、前記純水定量槽の上部から前記純水定量槽内部に先端を挿入したバルブを備えた配管と、Ｎ２を供給できるバルブを備えた配管を備え、前記純水定量槽に投入した純水のうち、前記純水槽上部より挿入した配管の先端よりも上部にある純水をＮ２により排出し、純水を定量することにより、計量される純水の容量は前記純水定量槽の上部から挿入した配管の挿入量により決まり、再現性良く計量することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
【００２３】
（第１の実施の形態）
図１は本発明の第１の実施の形態を説明するための薬液希釈装置の構成図である。
【００２４】
図１に示す例では、純水を定量する純水定量槽１ａと容量の異なる２つの薬液定量槽１ｂと１ｃで定量された純水と薬液を投入し、希釈する希釈槽１ｄを備える薬液希釈装置において、４９％のＨＦ（フッ化水素）から１％のＨＦ希釈溶液を約２０ｌ精製する場合を説明する。
【００２５】
純水定量槽１ａに１９．６Ｌ定量し、薬液定量槽１ｂの容量を２７０ｍｌ、薬液定量槽１ｃの容量を３５ｍｌとする。この場合、薬液定量槽１ｂにて１回定量したＨＦを純水定量槽１ａにて定量した１９．６Ｌで希釈すると、０．８％のＨＦ希釈溶液を精製することができる。さらに、薬液定量槽１ｃにて１回定量したＨＦを追加投入すると、０．９％のＨＦ希釈溶液を精製することができる。薬液定量槽１ｃは、０．１％幅の濃度調整用として、その定量回数によりＨＦ濃度を変更することができる。１％のＨＦ希釈溶液を精製する場合、薬液定量槽１ｂにて定量を１回、薬液定量槽１ｃにて定量を２回実施すれば可能である。
【００２６】
０．１％のＨＦ希釈溶液の精製する場合を、図１と図３に示すフローチャートを参照して説明する。
【００２７】
まず、薬液投入バルブ１ｉを開、薬液投入バルブ１ｊを閉、分岐バルブ１ｍを薬液側へ切り替え、薬液定量槽１ｂへＨＦを投入する（Ｓ１）。薬液投入検知センサ１ｐにてＨＦの投入を検知し、薬液投入バルブ１ｉを閉にする（Ｓ２）。その後、分岐バルブ１ｍをＮ２側に切り替え、薬液投入バルブ１ｊを開にし、Ｎ２圧送により希釈槽１ｄへＨＦを投入する（Ｓ３）。続いて、薬液定量槽１ｃについても同様に、薬液投入バルブ１ｋを開、薬液投入バルブ１ｌを閉、分岐バルブ１ｎを薬液側へ切り替え、薬液定量槽１ｃへＨＦを投入する（Ｓ４）。薬液投入検知センサ１ｑにてＨＦの投入を検知し、薬液投入バルブ１ｋを閉にする（Ｓ５）。その後、分岐バルブ１ｎをＮ２側に切り替え、薬液投入バルブ１ｌを開にし、Ｎ２圧送により希釈槽１ｄへＨＦを投入する。薬液定量槽１ｃでのＨＦの定量を２回実施し、希釈槽１ｄへ投入する（Ｓ６）。薬液定量槽１ｂ，１ｃ上部に備えた分岐バルブ１ｍ，１ｎは３方弁を使用しているが、Ｎ２ライン側、薬液ライン側にそれぞれバルブを設置してもよい。
【００２８】
純水定量槽１ａでの純水の定量は、純水投入バルブ１ｆを閉、純水投入バルブ１ｅを開、Ｎ２ラインのバルブ１ｈを閉、純水定量槽の上部より挿入された配管のバルブ１ｇを開とし、純水定量槽１ａへ純水を投入する（Ｓ７）。純水投入検知センサ１ｏにより純水の投入を検出し、純水投入バルブ１ｅを閉とする（Ｓ８）。純水投入検知センサ１ｏの位置は、純水定量槽１ａの上部より挿入した配管１ｒの先端よりも１０ｍｍ程度高い位置とする。配管１ｒの先端と純水投入検知センサ１ｏの設置位置の差は、純水投入検知センサ１ｏの検出ばらつき範囲よりも離れた位置であればよい。純水定量槽１ａに純水が投入された後、Ｎ２ラインのバルブ１ｈを開き、Ｎ２を圧送する。Ｎ２により、配管１ｒが純水と接している部分が配管１ｒから排出される（Ｓ９）。
【００２９】
図２（ａ），（ｂ）に純水の定量の状態を示す。図２（ａ）に示す状態は、純水定量槽２ａに純水が投入された状態であり、純水投入バルブ２ｂ，２ｃが閉、投入された純水の液面は純水投入検知センサ２ｅの位置であり、配管２ｆの先端は純水中に差し込まれた状態である。この状態からバルブ２ｇを開き、Ｎ２圧送することにより、図２（ｂ）に示すように、純水が配管２ｆから排出されて純水の液面が配管２ｆの先端と同じ位置まで下がる状態となり、それ以上、配管２ｆから純水が排出されることはない。配管２ｆの純水定量槽２ａの上部からの挿入量が一定である限り、常に同じ高さの液面になるため、再現性良く、高精度に計量することができる。純水定量槽２ａの下部に備えた純水投入バルブ２ｂ，２ｃから配管２ｆの先端までの純水の量が１９．６Ｌとなるよう配管２ｆを挿入する。その後、純水投入バルブ２ｃと開とし、Ｎ２圧送により希釈槽へ純水を投入する。
【００３０】
図１では、排出バルブ１ｇ閉、純水投入バルブ１ｆ開とし、Ｎ２圧送により純水定量槽１ａから希釈槽１ｄへ純水を投入する（Ｓ１０）。希釈槽１ｄでは、図１に示すようにＨＦと純水が投入された後、循環ポンプＰなどを用いて循環させ、濃度が均一になるよう希釈する（Ｓ１１）。
【００３１】
本実施の形態の薬液希釈装置を用いることにより、再現性良く、高精度の希釈薬液を精製できるが、洗浄機側でのブラシ交換等消耗部材の交換、あるいはノズルの交換時、供給先洗浄機の変更時に、同じ濃度のＨＦ希釈溶液を供給しても、目標のエッチングレートを確保できない場合がある。
【００３２】
このような洗浄機側のハードウェアのばらつきに対し、本実施の形態の希釈装置では図１に示す薬液定量槽１ｃの定量回数を変更して対応する。エッチングレートが低い場合には、薬液定量槽１ｃの定量回数を増加させ、反対にエッチングレートが高い場合には、薬液定量槽の定量回数を減少させことにより、容易にＨＦの濃度を変更することができる。前述の１％のＨＦ希釈溶液を精製する場合を例にとると、図１に示す薬液定量槽１ｃの定量回数を変更することにより、０．８％から０．１％刻みでＨＦ濃度を変更することができる。
【００３３】
（第２の実施の形態）
第１の実施の形態において説明したように、薬液定量槽の上部の配管を分岐させ、薬液を流すラインに薬液投入用のセンサを備えた場合、バルブ〜センサ間の薬液を使用せず排出することになり、コスト面において問題である。
【００３４】
この対応策として、第２の実施の形態では、図４に示すように、薬液定量槽４ａの上部の配管の分岐バルブ４ｂの手前の配管に薬液投入検知センサ４ｃを備え、薬液の投入を検知する構造とし、薬液のムダをなくす。
【００３５】
この際、薬液投入検知センサ４ｃの検知ばらつきによって薬液の計量値にばらつきが生じる可能性があるが、配管を６〜７ｍｍ程度の細い配管にすることにより、薬液投入検知センサ４ｃの検知ばらつきが最終的な希釈溶液の濃度ばらつきに与える影響は少ない。センサの検知ばらつきは数ｍｍであり、さらに希釈溶液の濃度ばらつきは少なくなる。
【００３６】
（第３の実施の形態）
第２の実施の形態において、センサを薬液定量槽の上部の分岐前の配管に供えた場合、薬液をポンプおよびＮ２圧送で薬液定量槽へ投入すると、時間あたりに投入される薬液量が多くなるため、６〜７ｍｍ程度の細い配管では、センサの位置では投入を止めることができずに、薬液計量のばらつきが生じる。
【００３７】
この対応策として、第３の実施の形態では、図５に示すように薬液定量槽５ｂに薬液を投入するための薬液バッファタンク５ａを備え、薬液バッファタンク５ａに一旦薬液を投入し、薬液バッファタンク５ａから、薬液の自重により、薬液定量槽５ｂへ薬液を投入する構造とする。
【００３８】
薬液の自重により投入するために、ポンプあるいはＮ２圧送で投入する場合よりも時間あたりの投入量を遅くすることができ、薬液投入検知センサ５ｃの検知ばらつきが少なくできる。このとき、薬液バッファタンク５ａは、薬液を投入した後の薬液バッファタンク５ａの液面が薬液定量槽５ｂの薬液の投入を検知する液面よりも高い位置になるように設置する。これにより、薬液定量槽５ｂに投入される薬液が設定量以下になることはない。複数の薬液定量槽を備えている場合は、想定される最大量の薬液が使用された状態でも、前記薬液定量槽の液面よりも高い位置に薬液バッファタンク５ａの液面がくるように、前記薬液定量槽への最初の薬液投入前の薬液量を設定しておく。
【００３９】
（第４の実施の形態）
第４の実施の形態では、第３の実施の形態の構成において、図６に示すように、さらに薬液バッファタンク６ａに薬液投入検知センサ６ｄを備え、薬液バッファタンク６ａの薬液を定量し、薬液定量槽６ｂへ薬液を投入する際の薬液バッファタンク６ａの液面を一定にしている。
【００４０】
この状態で薬液定量槽６ｂへ薬液を投入すると、薬液バッファタンク６ａと薬液定量槽６ｂは同じ高さの液面で停止する。このとき、薬液定量槽６ｂの上部の配管に備えた薬液投入検知センサ６ｃは、定量されたときの液面よりも低い位置に設置し、投入の確認のみに使用するか、センサ自体を設置しないものとする。センサを設置しない場合は、タイマなどにより次工程の動作を行うようにする。
【００４１】
新規に薬液定量槽６ｂへ薬液を投入する場合、あるいは複数の薬液定量槽に続けて薬液を投入する場合など各薬液定量槽に薬液を投入するごとに、薬液バッファタンク６ａに薬液を投入し、薬液バッファタンク６ａに備えた薬液投入検知センサセンサ６ｄにより薬液定量槽６ｂへの薬液投入開始時の液面高さを揃える。
【００４２】
（第５の実施の形態）
第５の実施の形態では、第４の実施の形態において、図７に示すように、さらに薬液バッファタンク７ａの定量方法に、第１の実施の形態にて説明した薬液定量槽の定量方式を導入し、薬液バッファタンク７ａに薬液を投入し、分岐バルブ７ｄを薬液側に切り替え、薬液投入検知センサ７ｅにより薬液の投入を検出するようにしている。
【００４３】
分岐バルブ７ｄを開放側に切り替え、薬液定量槽７ｂへ薬液を投入すると、薬液バッファタンク７ａと薬液定量槽７ｂは同じ高さの液面で停止する。このとき、薬液定量槽７ｂの上部の配管に備えた薬液投入検知センサ７ｃは、定量されたときの液面よりも低い位置に設置し、投入の確認のみに使用するか、センサ自体を設置しないものとする。センサを設置しない場合は、タイマなどにより次工程の動作を行うようにする。
【００４４】
この方式により、薬液バッファタンク７ａも薬液定量槽７ｂにおいても、センサなどを用いた場合に発生する計量ばらつきがなく、再現性、精度はさらに良くなる。
【００４５】
複数の薬液定量槽に薬液を投入する場合、各薬液定量槽に薬液を投入するごとに、薬液バッファタンク７ａに薬液を投入、すりきり秤量を実施して薬液定量槽への薬液投入開始時の液面高さを揃える。薬液バッファタンク７ａの定量方法は、前述の第１の実施の形態の方法の他に、第２の実施の形態にて説明した薬液定量槽の定量方法を適用してもよい。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明は、半導体ウェハの洗浄技術に適用され、特に薬液の希釈を再現性良く、高精度に行うことができ、かつ薬液濃度を容易に変更できることが要求される薬液の希釈装置に用いて有効である。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の第１の実施の形態を説明するための薬液希釈装置の構成図
【図２】実施の形態１における純水定量方法の説明図
【図３】実施の形態１における１％ＨＦ希釈溶液を精製する場合の作業工程に係るフローチャート
【図４】本発明の第２の実施の形態を説明するための要部を示す構成図
【図５】本発明の第３の実施の形態を説明するための要部を示す構成図
【図６】本発明の第４の実施の形態を説明するための要部を示す構成図
【図７】本発明の第５の実施の形態を説明するための要部を示す構成図
【図８】従来の薬液希釈装置の構成図
【図９】他の従来の薬液希釈装置の構成図
【符号の説明】
【００４８】
１ａ  純水定量槽
１ｂ  薬液定量槽
１ｃ  薬液定量槽
１ｄ  希釈槽
１ｅ  純水定量槽への純水投入バルブ
１ｆ  純水定量槽から希釈槽への純水投入バルブ
１ｇ  純水定量槽から純水定量時に純水を排出する配管のバルブ
１ｈ  純水定量槽に接続するＮ２ラインのバルブ
１ｉ  薬液定量槽への薬液投入バルブ
１ｊ  薬液定量槽から希釈槽への薬液投入バルブ
１ｋ  薬液定量槽への薬液投入バルブ
１ｌ  薬液定量槽から希釈槽への薬液投入バルブ
１ｍ  薬液定量槽の上部に備えた配管の分岐バルブ
１ｎ  薬液定量槽の上部に備えた配管の分岐バルブ
１ｏ  純水定量槽の純水投入検知センサ
１ｐ  薬液定量槽の薬液投入検知センサ
１ｑ  薬液定量槽の薬液投入検知センサ
１ｒ  純水定量槽から純水定量時に純水を排出する配管
２ａ  純水定量槽
２ｂ  純水定量槽への純水投入バルブ
２ｃ  純水定量槽から希釈槽への純水投入バルブ
２ｄ  純水定量槽から純水定量時に純水を排出する配管のバルブ
２ｅ  純水定量槽の純水投入検知センサ
２ｆ  純水定量槽から純水定量時に純水を排出する配管
２ｇ  純水定量槽に接続するＮ２ラインのバルブ
４ａ  薬液定量槽
４ｂ  薬液定量槽の上部に備えた配管の分岐バルブ
４ｃ  薬液定量槽の薬液投入検知センサ
５ａ  薬液バッファタンク
５ｂ  薬液定量槽
５ｃ  薬液定量槽の薬液投入検知センサ
６ａ  薬液バッファタンク
６ｂ  薬液定量槽
６ｃ  薬液定量槽の薬液投入検知センサ
６ｄ  薬液バッファタンクの薬液投入検知センサ
７ａ  薬液バッファタンク
７ｂ  薬液定量槽
７ｃ  薬液定量槽の薬液投入検知センサ
７ｄ  薬液バッファタンクの上部に備えた配管の分岐バルブ
７ｅ  薬液バッファタンクの薬液投入検知センサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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