(57)【要約】 【課題】  反射率の入射角度分布、波長分布を均一化した反射鏡を提供し、投影画像の明るさにムラが少ない画像投影装置（リアプロジェクタ）を提供する。【解決手段】  本発明のＳ偏光のみを反射光として利用する反射鏡は、基体上に少なくともＡｇ膜またはＡｇを主成分とする合金膜と、主波長４５０ｎｍにおける屈折率が１．２〜１．５、光学膜厚が０．８〜１．０の透明誘電体膜と、同主波長における屈折率が２．２〜２．７で、光学膜厚が０．８〜１．０の透明誘電体膜とを、順に積層して構成する。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｓ偏光のみを反射光として利用する反射鏡において、基体上に、少なくともＡｇ膜またはＡｇを主成分とする合金膜と、主波長４５０ｎｍにおける屈折率が１．２〜１．５、光学膜厚が０．８〜１．０の透明誘電体膜と、同主波長における屈折率が２．２〜２．７で光学膜厚が０．８〜１．０の透明誘電体膜とを、順に積層したことを特徴とする反射鏡。
【請求項２】
前記基体と前記Ａｇ膜またはＡｇを主成分とする合金膜との間に接着層を設けたことを特徴とする請求項１に記載の反射鏡。
【請求項３】
前記接着層が、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｔｉ、ＮｉＣｒ合金、ステンレス合金のいずれかの層であることを特徴とする請求項２に記載の反射鏡。
【請求項４】
前記接着層が、ＺｎＯを主成分とする複合酸化物またはＩｎ2Ｏ3を主成分とする複合酸化物の層であることを特徴とする請求項２に記載の反射鏡。
【請求項５】
前記Ａｇ膜またはＡｇを主成分とする合金膜と前記透明誘電体膜の界面に追加の層が設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の反射鏡。
【請求項６】
前記追加の層が、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｔａ、Ｗ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、ＮｉＣｒ合金、またはステンレス合金のいずれかの層またはこれら金属の酸化物の層であることを特徴とする請求項５に記載の反射鏡。
【請求項７】
前記追加の層が、Ａｌ添加ＺｎＯ、Ｇａ添加ＺｎＯ、Ｓｎ添加Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｂ添加ＴｉＯ2、ＮｂＯx（０＜ｘ＜２．５）、ＴｉＯx（０＜ｘ＜２）のいずれかの層であることを特徴とする請求項５に記載の反射鏡。
【請求項８】
前記Ａｇを主成分とする合金膜にＡｇに加えて添加されている成分が、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｌから選ばれる少なくともいずれか一種類であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか一項に記載の反射鏡。
【請求項９】
所定のスペクトル分布を有する光を出射する光源と、該光源が出射する前記光を照射することにより画像光を生成し投射する画像生成素子と、該画像生成素子によって生成され投射される画像光を反射する請求項１〜８のいずれか一項に記載の反射鏡と、該反射鏡によって反射された画像光を投影するスクリーンとを備えた画像投影装置。
【請求項１０】
前記画像生成素子が液晶表示素子を具備することを特徴とする請求項９に記載の画像投影装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学機器に使用される反射鏡に関し、とくに液晶プロジェクタ等の画像投影装置に適用されるＳ偏光のみを反射光として利用する反射鏡に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、画像、映像の表示において大画面化が求められており、画像表示機器の大型化、薄型化が進んでいる。大画面表示に対応する表示機器として液晶等の表示素子によって生成される画像をスクリーンに投影する投影装置（プロジェクタ）が使用される。
【０００３】
このプロジェクタの一構成であるリアプロジェクタは図１に示すように画像投射装置１０と反射鏡２０およびスクリーン３０を筐体４０に収めて構成されている。スクリーンの大型化、機器の薄型化が進むと、図１に示すように反射鏡への光の入射角度は反射鏡上端部のαが大きくなり、下端部のβは小さくなるため、αとβの差は増大する。
【０００４】
このような反射鏡としては金属膜が一般に利用されている。この場合、反射率には入射光の入射角度依存性があり、結果としてスクリーンに投影される画像の明るさに面内分布が生じ、αとβの差が大きいと面内分布が目立つようになる。また、同時に反射率の角度依存性は波長毎に異なるので、画面内で色分布も同時発生する問題ある。
【０００５】
このような問題を解決することを目的に、特許文献１には、面内の明るさ分布が解消されるように、反射膜を膜厚が面内分布を有する傾斜膜とする技術が開示されている。
【０００６】
上記画像投射装置は所定のスペクトル分布を有する光を出射する光源とこの光源が出射する光を照射することにより画像光を生成し投射する画像生成素子を備えている。リアプロジェクタの画像生成素子には、透過型液晶表示素子、反射型液晶表示素子、あるいは微小電気機械システムを用いた可動反射鏡アレイなどが利用されている。
【０００７】
なお、透過型液晶表示素子、反射型液晶表示素子を用いたリアプロジェクタでは、反射率が高いＳ偏光を利用するように光学系を設計することが一般的である。ここでＳ偏光とは図１に示すように投影画像の横方向に偏光した光を言う。
【特許文献１】特開２００３−２８００９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献１に開示される方法は、大面積に傾斜膜を設ける必要があり、反射鏡が大型化するにつれて技術的な困難さが増大する。例えば、このような反射鏡の形成には、スパッタ成膜が利用されることが一般的であるが、スパッタターゲットの侵食の進行に伴って、膜厚分布は時間とともに変化することが一般的であり、これを制御して目的の膜厚分布を得ることは極めて困難である。
【０００９】
本発明はこのような問題点を解決するためになされたもので、傾斜膜を使用することなく、反射率の入射角度分布、波長分布を均一化した反射鏡を提供することを目的とする。さらに他の目的は、投影画像の明るさにムラが少ない画像投影装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明では、透過型液晶表示素子または反射型液晶表示素子を用いたプロジェクタに一般的に利用されているＳ偏光を利用した光学系において、均一な膜厚分布の場合でも、反射率の入射角度分布、反射率の波長分布などを低分散化（均一化）できる膜構成を見出すことによってなされたものである。
【００１１】
本発明のＳ偏光のみを反射光として利用する反射鏡は、基体上に少なくともＡｇ膜またはＡｇを主成分とする合金膜と、主波長４５０ｎｍにおける屈折率が１．２〜１．５、光学膜厚が０．８〜１．０の透明誘電体膜と、同主波長における屈折率が２．２〜２．７で、光学膜厚が０．８〜１．０の透明誘電体膜とを、順に積層して構成する。
【００１２】
このような膜構成を採用することにより、可視光波長域においてＳ偏光に対する反射率の入射角度分布、波長分布を均一化した反射鏡を提供することができる。
【００１３】
また、基体とＡｇ膜またはＡｇを主成分とする合金膜との間に接着層を設けることが好ましい。接着層としては、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｔｉ、ＮｉＣｒ合金、ステンレス合金など、あるいはＺｎＯを主成分とする複合酸化物、Ｉｎ2Ｏ3を主成分とする複合酸化物を用いることができる。
接着層を設けることにより、基体とＡｇ膜またはＡｇを主成分とする合金膜との付着力を向上することができる。
【００１４】
さらに、Ａｇ膜またはＡｇを主成分とする合金膜と屈折率が１．２〜１．５である透明誘電体膜の界面に追加の層が設けることが望ましい。この追加の層としては、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｓｉ、ＮｉＣｒ、Ｚｎ、ステンレス合金、Ｔａ、Ｗ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔまたはこれら金属の酸化物の層、あるいはＡｌ添加ＺｎＯ、Ｇａ添加ＺｎＯ、Ｓｎ添加Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｂ添加ＴｉＯ2、ＮｂＯx（０＜ｘ＜２．５）、ＴｉＯx（０＜ｘ＜２）などの酸化物層を利用することが好ましい。
【００１５】
これらの材料からなる追加の層を設けることにより、Ａｇ膜またはＡｇを主成分とする合金膜と透明誘電体膜との付着力を向上させることができる。また、これらの金属膜はＡｇ膜またはＡｇを主成分とする合金膜の腐食に対する保護膜として機能する。
【００１６】
Ａｇを主成分とする合金に添加されている成分として、Ａｕ，Ｐｄ，Ｐｔ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｌの少なくともいずれか１種類が含まれていることが好ましい。なお、これらの添加成分の含有量はおよそ５％以下とし、主成分はあくまでＡｇであるとする。
【００１７】
上述の添加される成分は、環境中でＡｇ膜が腐食されることを抑制する効果があるので、耐食性の面で添加物は多い方が好ましい。しかしながら、これらの添加物量が増すと、Ａｇ層本来の高い反射率が損なわれることになる。このため、添加量としては５％以下が好ましい。
【００１８】
また本発明の画像投影装置は、所定のスペクトル分布を有する光を出射する光源と、この光源が出射する光を照射することにより画像光を生成し投射する画像生成素子と、この画像生成素子によって生成され投射される画像光を反射する上記の反射鏡と、この反射鏡によって反射された画像光を投影するスクリーンとを備える。またこの画像生成素子が液晶表示素子を具備する。
このような構成をとることにより、投影画像の明るさの均一性が高い画像投影装置を提供することができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、可視光波長域においてＳ偏光に対する反射率の入射角度分布、波長分布を均一化した反射鏡を提供することができる。またこの反射鏡を用いることにより、投影画像の均一性が高い画像投影装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に、本発明について図面を参照しながら詳細に説明する。ただし、この実施形態により本発明が限定されるものではない。
【００２１】
本発明においては、材質と厚みが均一な膜の組合せで反射率の入射角度分布、波長分布が小さい反射鏡を提供することを考える。このため、いわゆる増反射膜の構成である金属／低屈折率誘電体層／高屈折率誘電体層の構成を基礎とし、Ｓ偏光に対する反射率の入射角度および波長による変化が少ない膜構成を探索した。
【００２２】
その結果、反射率の入射角度依存性を低下させるためには、金属層の屈折率の実数部が小さいほうが好ましいことを見出した。この観点で金属を選定するとＡｇ層またはＡｇを主成分とする合金が最も好ましいことが分かった。
【００２３】
ところが、Ａｇ層またはＡｇを主成分とする層の上に低屈折率誘電体層／高屈折率誘電体層を計生成する際の主波長を可視光領域の中心波長（５５０ｎｍ）にすると、青色の反射が低くなることが分かった。そこで、中心波長を短波長側（４５０ｎｍ）に設定することで、Ｓ偏光反射率の波長分散、入射角度分散の両方が極めて小さい特異なミラーを作成することに成功した。
【００２４】
さらに具体的な検討の結果、金属としてＡｇまたはＡｇを主成分とする合金を採用し、この上に波長４５０ｎｍにおいて屈折率が１．２〜１．５、光学膜厚が０．８〜１．０の透明誘電体膜と、同波長における屈折率が２．２〜２．７で光学膜厚が０．８〜１．０の透明誘電体膜を積層した構成がもっとも優れていることを見出した。
【００２５】
以下に上記の好ましい範囲における膜構成の反射鏡の実施例をその製造方法に沿って説明する。
【００２６】
［実施例１］
インライン型のスパッタ装置にＡｇ、Ｓｉ、Ｔｉの３種類のターゲットを取り付け、また透明で表面が平滑なソーダライムガラスを反射鏡の基体としてスパッタ装置内に挿入し、装置を真空に排気した。その後、Ａｒガスをスパッタ装置内に導入し、装置内の圧力が０．３Ｐａになるようにガス流量および排気速度を調整した。
【００２７】
ＡｇターゲットにＤＣパワーを投入して放電を開始させ、パワーを０．４ｋＷに調整した。その後、基体（ソーダライムガラス）を搬送し、ターゲット前面を通過させ、厚みが２００ｎｍのＡｇ膜を形成した。
【００２８】
次に、Ａｒガス雰囲気中でＴｉターゲットを放電させ、基体を搬送し、Ｔｉターゲットの前面を通過させ、厚みが２ｎｍのＴｉ膜を形成した。この膜は後に形成されるＳｉＯ2の成膜プロセスで酸化され、ＴｉＯx（０＜ｘ＜２）に変化する。このＴｉＯx膜は光学的な機能のない追加の層であるが、Ａｇ膜とＳｉＯ2膜の付着力を高めるために挿入するのが望ましい。
【００２９】
また、Ａｇ膜またはＡｇを主成分とする合金膜の上に透明誘電体膜を形成するために酸素含有プラズマを用いる場合、Ａｇ膜またはＡｇを主成分とする膜が酸素プラズマにより腐食しやすい。この腐食現象に対してこれらの金属膜は保護膜として機能する。
【００３０】
その後、スパッタガスをＡｒからＡｒを３０％混合したＯ2に変更し、ガス圧力を０．３Ｐａに調整した。次いでＳｉターゲットにＤＣパルス電力を供給し、放電を開始し、放電パワーを２ｋＷに調整した。基体を搬送し、Ｓｉターゲットの前面を通過させ、厚みが７６．５ｎｍの透明なＳｉＯ2膜を形成した。このＳｉＯ2膜は主波長４５０ｎｍにおける屈折率が１．４７であり、光学膜厚は１．００に相当する。
【００３１】
さらに、Ａｒを３０％混合したＯ2ガス雰囲気下で、ＴｉターゲットにＤＣパルス電力を供給し、放電を開始した。その後、放電パワーを２ｋＷに調整した。基体を搬送し、Ｔｉターゲットの前面を通過させ、厚みが４２．８ｎｍの透明なＴｉＯ2膜を形成した。このＴｉＯ2膜は主波長４５０ｎｍにおける屈折率が２．６３で、光学膜厚は１．００に相当する。膜構成（各層の材料と積層順序、および各層の膜厚）について表１に示す（以下の実施例、比較例についても同様）。
【００３２】
得られた試料の膜面側反射特性について、波長が４５０nm、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの３波長において、反射率の入射角度依存性を、分光光度計を用いて測定した。
【００３３】
波長４５０ｎｍ、入射角度０°（垂直入射）のときのＳ偏光反射率は９５．７％であり、同波長で入射角度＝７５°のときのＳ偏光反射率は９９．５％であった。その間の入射角度でのＳ偏光反射率は、９５．７％以上９９．５％以下であり、反射率の入射角度依存性は非常に小さかった。
【００３４】
波長５５０ｎｍ、入射角度＝０°（垂直入射）のときのＳ偏光反射率は９７．７％であり、同波長で入射角度＝７５°のときのＳ偏光反射率は９９．４％であった。その間の入射角度でのＳ偏光反射率は、９７．７％以上９９．４％以下であり、反射率の入射角度依存性は非常に小さかった。
【００３５】
波長６５０ｎｍ、入射角度＝０°（垂直入射）のときのＳ偏光反射率は９７．５％であり、同波長で入射角度＝７５°のときのＳ偏光反射率は９９．１％であった。その間の入射角度でのＳ偏光反射率は、９７．５％以上９９．１％以下であり、反射率の入射角度依存性は非常に小さかった。
【００３６】
各波長におけるＳ偏光反射率の入射角度分散の均一性を示す指標として反射率比を次式、
反射率比  ＝（最大反射率／最小反射率）
で定義すると、
４５０ｎｍでは、反射率比＝１．０４
５５０ｎｍでは、反射率比＝１．０２
６５０ｎｍでは、反射率比＝１．０２
であり、４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの全波長範囲では、表２に示すように反射率比は１．０４となる。
【００３７】
このことから波長が４５０〜６５０ｎｍの範囲内で、かつ入射角度が０〜７５°の範囲内で、反射率の均一性が極めて高い反射鏡であることが分かる。
【００３８】
［実施例２］
本実施例ではソーダライムガラスの基体表面にＣｒ膜を膜厚５ｎｍだけ真空蒸着により形成し、以後は実施例１と同様な膜厚のＡｇ／ＴｉＯx／ＳｉＯ2／ＴｉＯ2の構成による反射鏡を作製した。挿入したＣｒ膜は基体のソーダライムガラスとＡｇ膜の付着性を向上させる接着層として機能する。接着層の存在は光学特性には影響を与えないので、実施例１と同様に測定した反射率は表２に示す通り実施例１と同様な結果であった。
【００３９】
［実施例３］
本実施例の膜構成は実施例１と同様のＡｇ／ＴｉＯx／ＳｉＯ2／ＴｉＯ2であるが、ＳｉＯ2の膜厚を６１．２ｎｍ（光学膜厚：０．８０に相当）とし、ＴｉＯ2の膜厚を３４．２ｎｍ（光学膜厚：０．８０に相当）とした。
表２に示す通り、波長が４５０〜６５０ｎｍの範囲内で、かつ入射角度が０〜７５°の範囲内で、反射率比が１．０４と均一性が極めて高い反射鏡が得られた。
【００４０】
［実施例４］
本実施例の膜構成は低屈折率層にＭｇＦ2を使用し、高屈折率層にＮｂＴｉＯxを採用したＡｇ／ＭｇＦ2／ＮｂＴｉＯxの構成であるが、ＭｇＦ2の膜厚を７３．０ｎｍ（光学膜厚：０．９０に相当）とし、ＮｂＴｉＯxの膜厚を３８．５ｎｍ（光学膜厚：０．９０に相当）とした。このＭｇＦ2膜の主波長４５０ｎｍにおける屈折率は１．３９で、光学膜厚は０．９０に相当する。またＮｂＴｉＯx膜の主波長４５０ｎｍにおける屈折率は２．６３で、光学膜厚は０．９０に相当する。本膜試料はＭｇＦ2、ＮｂＴｉ合金、Ａｇをターゲットして用いて、スパッタリング法で作成した。
【００４１】
表２に示す通り、波長が４５０〜６５０ｎｍの範囲内で、かつ入射角度が０〜７５°の範囲内で、反射率比が１．０２〜１．０３と均一性が極めて高い反射鏡が得られた。
【００４２】
［実施例５］
本実施例の膜構成は金属膜としてＰｄを３％含有するＡｇＰｄ合金を使用した。低屈折率層にはＭｇＦ2を使用し、高屈折率層にＴｉＯ2を採用した。膜構成はＡｇＰｄ／ＴｉＯx／ＭｇＦ2／ＴｉＯ2である。ＭｇＦ2の膜厚を７３．０ｎｍ（光学膜厚：０．９０に相当）とし、ＴｉＯ2の膜厚を３８．５ｎｍ（光学膜厚：０．９０に相当）とした。
【００４３】
表２に示す通り、波長が４５０〜６５０ｎｍの範囲内で、かつ入射角度が０〜７５°の範囲内で、反射率比が１．０３〜１．０４と均一性が極めて高い反射鏡が得られた。
【００４４】
［比較例１］
実施例１の膜構成に対して、金属膜のみＡｌに代えた。表１に示す通り、全波長域での反射率比が１．０７となり、反射率の分散が大きい結果が得られた。
【００４５】
［比較例２］
実施例１の膜構成に対して、ＳｉＯ2の膜厚を５７．４ｎｍ（光学膜厚：０．７５に相当）とした。ＴｉＯ2の膜厚を３２．１ｎｍ（光学膜厚：０．７５に相当）とした。表２に示す通り、全波長域での反射率比が１．０５となり、反射率の分散が大きい結果が得られた。
【００４６】
［比較例３］
実施例１の膜構成に対して、ＳｉＯ2の膜厚を９５．６ｎｍ（光学膜厚：１．２５に相当）とし、ＴｉＯ2の膜厚を５３．５ｎｍ（光学膜厚：１．２５に相当）とした。表２に示す通り、短波長４５０ｎｍでの反射率比が１．１７、全波長範囲でも１．１８となり、反射率の分散が大きい結果が得られた。
【００４７】
［比較例４］
実施例１の膜構成に対して、低屈折率層のＳｉＯ2の代わりにＡｌ2Ｏ3を用いた。Ａｌ2Ｏ3膜の主波長４５０ｎｍにおける屈折率は１．６５で、膜厚は光学膜厚が１．００に相当する６８．３ｎｍとした。表２に示す通り、全波長範囲での反射率比が１．０５となり、反射率の分散が大きい結果が得られた。
【００４８】
［比較例５］
実施例１の膜構成に対して、高屈折率層のＴｉＯ2の代わりにＳｎＯ2を用いた。ＳｎＯ2膜の主波長４５０ｎｍにおける屈折率は２．０３で、膜厚は光学膜厚が１．００に相当する５５．３ｎｍとした。表２に示す通り、全波長範囲での反射率比が１．０７となり、反射率の分散が大きい結果が得られた。
【００４９】
比較例１〜５の各種膜構成では、波長が４５０〜６５０ｎｍの範囲内で、かつ入射角度が０〜７５°の範囲内での反射率比は、１．０５〜１．１８であり、Ｓ偏光反射率の波長依存性または入射角度依存性が高い反射鏡であることが分かった。
【００５０】
これらの反射鏡を、透過型液晶表示素子を用いたリアプロジェクタの反射鏡として利用した場合、スクリーンの面内で明確な明るさ分布が認められた。
【００５１】
以上の結果を総合すると、Ｓ偏光のみを反射光として利用する反射鏡は、基体上に少なくともＡｇ膜またはＡｇを主成分とする合金膜と、主波長４５０ｎｍにおける屈折率が１．２〜１．５、光学膜厚が０．８〜１．０の透明誘電体膜と、同主波長における屈折率が２．２〜２．７で、光学膜厚が０．８〜１．０の透明誘電体膜とを、順に積層して構成するのが好ましいことがわかる。
【００５２】
また実施例１〜５の反射鏡を図１に示す構成のリアプロジェクタに搭載したところ、スクリーン面内の明るさ分が解消され、均質な画質を得ることができた。したがって、上記の条件範囲内に入る反射鏡を用いれば、スクリーン内の明るさの均一性が高い画像投影装置であるリアプロジェクタを提供することができる。
【００５３】
なお、屈折率が１．２〜１．５の低屈折率透明誘電体層としては、上記のようにＳｉＯ2、ＭｇＦ2などを利用できるが、特にこれに限定されるものではない。また屈折率が、２．２〜２．５の高屈折率透明誘電体層としては、上記のＴｉＯ2の他、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5など、あるいはＴｉＯ2を主成分とする上記のＮｂＴｉＯxのような複合酸化物を利用できるが、特にこれらに限定されるものではない。
【００５４】
また追加の層としては上記のＴｉの他、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｔａ、Ｗ、Ａｌ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、ＮｉＣｒ合金、またはステンレス合金のいずれかの層またはこれら金属の酸化物の層であってもよい。金属膜は膜欠点が生じにくいので好ましいが、上記実施例のように成膜工程で膜を酸化させて使用するためには膜厚２ｎｍ程度以下が得られるように制御しなければならない。
【００５５】
追加の層は酸化物焼結体のターゲットを用い、低酸素濃度雰囲気で酸化物膜を成膜してもよい。この場合、Ａｌ添加ＺｎＯ、Ｇａ添加ＺｎＯ、Ｓｎ添加Ｉｎ2Ｏ3、Ｎｂ添加ＴｉＯ2、ＮｂＯx（０＜ｘ＜２．５）、ＴｉＯx（０＜ｘ＜２）などが好ましい材料である。膜厚は５〜１０ｎｍ程度でよい。
【００５６】
Ａｇを主体とする金属層とガラス基体との間に挿入する接着層としては、上記のＣｒの他、Ｐｔ、Ｔｉ、ＮｉＣｒ合金、ステンレス合金などを用いても同様の効果が得られる。また、ＺｎＯを主成分とする複合酸化物またはＩｎ2Ｏ3を主成分とする複合酸化物の層などを用いることもできる。
【００５７】
また金属層としてＡｇの合金を使用する場合、添加する成分は上記のＰｄの他、Ａｕ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｌのうちの１種類または複数種類であってもよい。
【００５８】
【表１】
2005258050.tif 000002
【００５９】
【表２】
2005258050.tif 000003
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】画像投影装置（リアプロジェクタ）の基本構成を示す図である。
【符号の説明】
【００６１】
１０  画像投射装置
２０  反射鏡
３０  スクリーン
４０  筐体
【図１】
2005258050.tif 000004