(57)【要約】【課題】粘度１００ｍＰａ・Ｓ以下の塗布液どうしを層混合することなく積層塗布し、各層固有の機能を発揮する複数層付き基材の製造方法、および製造装置を提供する。【解決手段】まず、基材の同一面に湿潤状態の高密度層と低密度層とを塗布する。その後、高密度層に対して、低密度層から高密度層に向かう方向に外力を作用させた状態で、高密度層と低密度層とを硬化することによって複数層付き基材を製造する。【選択図】  図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の同一面に湿潤状態の高密度層と低密度層とを塗布した後、前記高密度層に対して、前記低密度層から前記高密度層に向かう方向に外力を作用させた状態で、前記高密度層と前記低密度層とを硬化することを特徴とする複数層付き基材の製造方法。
【請求項２】
前記高密度層は前記低密度層の下側にあって、前記外力として重力を作用させた状態で、前記高密度層と前記低密度層とを硬化することを特徴とする請求項１に記載の複数層付き基材の製造方法。
【請求項３】
前記高密度層と前記低密度層とが前記基材の下側にある状態で、前記高密度層と前記低密度層とを硬化することを特徴とする請求項２に記載の複数層付き基材の製造方法。
【請求項４】
回転体に前記基材が巻き付き、前記低密度層および前記高密度層がこの順に前記基材上に塗布された状態で前記高密度層に対して、前記外力として遠心力を作用させた状態で、前記高密度層と前記低密度層とを硬化することを特徴とする請求項１に記載の複数層付き基材の製造方法。
【請求項５】
前記高密度層として、粒子を含むものを用いることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の複数層付き基材の製造方法。
【請求項６】
前記高密度層および前記低密度層として、塗布前の粘度が１００ｍＰａ・Ｓ以下の塗布液を用いることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の複数層付き基材の製造方法。
【請求項７】
基材の同一面に湿潤状態の磁性層と非磁性層とを塗布した後、前記磁性層に対して、前記非磁性層から前記磁性層に向かう方向に磁力を作用させた状態で、前記磁性層と前記非磁性層とを硬化することを特徴とする複数層付き基材の製造方法。
【請求項８】
前記磁性層および前記非磁性層として、塗布前の粘度が１００ｍＰａ・Ｓ以下の塗布液を用いることを特徴とする請求項７に記載の複数層付き基材の製造方法。
【請求項９】
基材の同一面に複数層の塗膜を塗布する１台以上の塗布器と、前記複数層の塗膜を硬化する磁力発生機能付塗膜硬化装置とを備えることを特徴とする複数層付き基材の製造装置。
【請求項１０】
前記磁力を前記複数層の塗膜の厚み方向に作用させることを特徴とする請求項９に記載の複数層付き基材の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、主に機能フィルムの製造分野に使用されるものであり、詳しくは、これらの分野における複数層付き基材の製造方法、および製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＲＴ等のモニター画面には、外部光の反射を防止する反射防止層、静電気の帯電を防止する帯電防止層、等を備える透明なフィルムが貼り付けられていることが多い。このうち帯電防止層には導電性微粒子が配合されており、モニター電源の入り切りでモニター画面に発生する静電気をモニターの筐体などに逃がすことによって、モニター画面に埃が付着したり、人体に静電気が伝わったりするのを防止することができる。
【０００３】
帯電防止フィルムには、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やトリアセテート（ＴＡＣ）などの透明基材の一方の面に、帯電防止層、別名アンチ・スタティック層（ＡＳ層）の他に、モニター画面の保護層であるハードコート層（ＨＣ層）が形成されている。また、透明基材の反対側の面には、モニター画面に貼り付けるための接着層あるいは粘着層の上に剥離基材がラミネートされている。また、製品によっては、ＨＣ層、ＡＳ層以外に反射防止層などがさらに形成される。
【０００４】
このような帯電防止フィルムの製造方法は、次の通りである。まず透明基材の一方の面にＨＣ液を塗布、乾燥、硬化してＨＣ層を形成した後、同様にＡＳ液を塗布、乾燥、硬化し、ＨＣ層の上にＡＳ層を形成する。次に、剥離基材に接着剤あるいは粘着剤を塗布、乾燥し、接着層あるいは粘着層を形成し、これを透明基材のＨＣ層、ＡＳ層を形成する面と反対側の面とラミネートで貼り合わせる。以上の製造方法で、透明基材上にＨＣ層、ＡＳ層を形成するのに一層ずつ塗布、乾燥、硬化の工程を繰り返すのは、生産性が低く、製造コストが高くなるので、ＨＣ液、ＡＳ液を同時に塗布、乾燥、硬化し、工程を短縮することが求められている。
【０００５】
このような複数の塗布液の同時塗布方法として、２種類の塗布液が吐出される２つのスリットを有する２層スリットダイを用いる塗布方法（たとえば特許文献１参照）や、複数の塗布器を基材の走行方向に並べ、上流側の塗布器から塗布した湿潤状態の下層の上に下流側の塗布器から上層を積層塗布するウェット・オン・ウェット（たとえば特許文献２参照）などが知られている。
【０００６】
これらに用いられる塗布液は、粘度がいずれも１００ｍＰａ・Ｓ以上のものであるが、１００ｍＰａ・Ｓ以下の塗布液同士を積層塗布すると層混合という問題が発生する。以下、図面を用いて説明する。図１は粘度が１００ｍＰａ・Ｓ以上のような高粘度の塗布液どうしを湿潤状態で積層塗布したときの複数層付き基材の断面図、図２は粘度が１００ｍＰａ・Ｓ以下のような低粘度の塗布液どうしを湿潤状態で積層塗布したときの複数層付き基材の断面図である。
【０００７】
図１を参照すると、基材１０上に低密度層８、高密度層６の順に湿潤状態で積層塗布されている。低密度層８と高密度層６のいずれも高粘度の塗布液であり、流動性が低いため、湿潤状態で接触しても低密度層８と高密度層６とは層混合をおこさず、界面で明瞭に層分離する。しかしながら、図１と同じ順で基材１０上に積層塗布している図２を参照すると、低密度層８と高密度層６との間に、互いの層が混合してできる混合層７が存在し、低密度層８と混合層７、および混合層７と高密度層６との界面も不明瞭である。これは、流動性の高い低粘度の塗布液どうしを湿潤状態で接触させると、塗布液中の溶媒が相溶するためである。帯電防止フィルムの製造においても、ＨＣ液とＡＳ液の混合がおこり、ＡＳ液に含まれる導電性微粒子がＨＣ液に拡散してＡＳ層に含まれる導電性粒子が減少し、帯電防止性を示す表面電気抵抗値が低下するという問題が発生した。このような１００ｍＰａ・Ｓ以下の塗布液どうしを同時に塗布する方法として、塗布液の粘度差を５０ｍＰａ・Ｓ以下にし、層境界での乱れを抑制する方法も提案されている（たとえば特許文献３参照）。しかし、特許文献に基づき検討した結果、粘度が１００ｍＰａ・Ｓ以下の塗布液どうしを積層塗布すると、粘度差が５０ｍＰａ・Ｓ以下であっても層混合を防止できないことが判明した。
【特許文献１】特開平２−２５１２６５号公報
【特許文献２】特開昭６２−１２４６３１号公報
【特許文献３】特開平３−８４７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、たとえば、１００ｍＰａ・Ｓ以下のような低粘度の塗布液どうしであっても、層混合を抑制して積層塗布することができる複数層付き基材の製造方法、および製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の本発明の目的は、以下に述べる手段によって達成される。
【００１０】
本発明によれば、基材の同一面に湿潤状態の高密度層と低密度層とを塗布した後、前記高密度層に対して、前記低密度層から前記高密度層に向かう方向に外力を作用させた状態で、前記高密度層と前記低密度層とを硬化することを特徴とする複数層付き基材の製造方法が提供される。
【００１１】
また、本発明の好ましい形態によれば、前記高密度層は前記低密度層の下側にあって、前記外力として重力を作用させた状態で、前記高密度層と前記低密度層とを硬化することを特徴とする複数層付き基材の製造方法が提供される。
【００１２】
また、本発明の好ましい形態によれば、前記高密度層と前記低密度層とが前記基材の下側にある状態で、前記高密度層と前記低密度層とを硬化することを特徴とする複数層付き基材の製造方法が提供される。
【００１３】
また、本発明の好ましい形態によれば、回転体に前記基材が巻き付き、前記低密度層および前記高密度層がこの順に前記基材上に塗布された状態で前記高密度層に対して、前記外力として遠心力を作用させた状態で、前記高密度層と前記低密度層とを硬化することを特徴とする複数層付き基材の製造方法が提供される。
【００１４】
また、本発明の好ましい形態によれば、前記高密度層として、粒子を含むものを用いることを特徴とする複数層付き基材の製造方法が提供される。
【００１５】
また、本発明の好ましい形態によれば、前記高密度層および前記低密度層として、塗布前の粘度が１００ｍＰａ・Ｓ以下の塗布液を用いることを特徴とする複数層付き基材の製造方法が提供される。
【００１６】
また、本発明によれば、基材の同一面に湿潤状態の磁性層と非磁性層とを塗布した後、前記磁性層に対して、前記非磁性層から前記磁性層に向かう方向に磁力を作用させた状態で、前記磁性層と前記非磁性層とを硬化することを特徴とする複数層付き基材の製造方法が提供される。
【００１７】
また、本発明の好ましい形態によれば、前記磁性層および前記非磁性層として、塗布前の粘度が１００ｍＰａ・Ｓ以下の塗布液を用いることを特徴とする複数層付き基材の製造方法が提供される。
【００１８】
また、本発明によれば、基材の同一面に複数層の塗膜を塗布する１台以上の塗布器と、前記複数層の塗膜を硬化する磁力発生機能付塗膜硬化装置とを備えることを特徴とする複数層付き基材の製造装置が提供される。
【００１９】
また、本発明の好ましい形態によれば、前記磁力を前記複数層の塗膜の厚み方向に作用させることを特徴とする複数層付き基材の製造装置が提供される。
【００２０】
本発明において、前記外力とは前記複数層の塗膜に同一発生源から同一方向に作用する力をいう。
【００２１】
また、本発明において、前記高密度層、および前記低密度層の密度とは、溶媒、微粒子、添加物等の塗布液に含まれる全ての物質を均一に混合させたときのものであり、高密度層は低密度層と比較して密度が高いものをいう。
【発明の効果】
【００２２】
本発明は、基材の同一面に湿潤状態の高密度層と低密度層とを塗布した後、前記高密度層に対して、前記低密度層から前記高密度層に向かう方向に外力を作用させた状態で、前記高密度層と前記低密度層とを硬化することを特徴とする複数層付き基材の製造方法なのであるから、１００ｍＰａ・Ｓ以下の塗布液どうしを、層混合することなく積層塗布することができ、各層固有の機能を発揮する複数層付き基材を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の好ましい実施形態を図面に基づいて説明する。
【００２４】
図３は本発明の一実施態様例である塗布装置１の概略正面断面図、図４は本発明の別の一実施態様例である塗布装置２の概略正面断面図、図５は本発明のまた別の一実施態様例である塗布装置３の概略正面断面図、図６は本発明のさらにまた別の一実施態様例である塗布装置４の概略正面断面図である。
【００２５】
まず図３の本発明の一実施態様例である塗布装置１では、基材１０はロール１２に巻き付けられ、矢印の方向に走行している。ロール１２上の基材１０から一定隙間だけ離れた位置に、高密度層液５２と低密度層液５４を基材１０の厚さ方向に積層塗布する塗布器である２層スリットダイ２０が置かれている。２層スリットダイ２０を用いて高密度層液５２と低密度層液５４とを基材１０に塗布する方向は、基材１０が走行する方向である矢印の方向に一致する。この２層スリットダイ２０には、第１のタンク４４にある高密度層液５２が第１のポンプ４０によって第１のフィルター５６と第１の配管４８を経て供給される。供給された高密度層液５２は２層スリットダイ２０内の第１のスリット２２を通って、基材１０に塗布されて高密度層６になる。第２のタンク４６にある低密度層液５４も第２のポンプ４２によって第２のフィルター５８と第２の配管５０を経て２層スリットダイ２０に供給され、２層スリットダイ２０内の第２のスリット２４を通って、基材１０に塗布されて低密度層８になる。塗布後、高密度層６、低密度層８は基材１０の上側に位置した状態で、２層スリットダイ２０の下流側である基材１０の矢印の方向に走行し、高密度層６、低密度層８を硬化する塗膜硬化装置６０に至る。塗膜硬化装置６０は、熱風を吹き付けて溶媒を揮発させるホットブロア、赤外線を照射して溶媒を揮発させる赤外線照射装置等の乾燥装置、あるいは紫外線、電子線で硬化する塗布液であれば、紫外線照射装置、電子線照射装置などの放射線照射装置であるが、塗膜を硬化する装置ならいかなる形態のものであってもよい。また、乾燥装置と放射線照射装置等の複数の装置を組み合わせたものであってもよく、塗膜を硬化する機能を満たすものであれば、いかなる構成であってもよい。
【００２６】
塗布装置１を用いて単なる２種の異なる低粘度液を２層に積層塗布すると、層混合する。この層混合は隣り合う塗布液の物性差が小さくなるまで進むので、各層を独立して保持することができなくなり、各層固有の機能を発揮できなくなる。しかし本実施態様では、塗布してから塗膜硬化装置６０に至るまで、高密度層６は低密度層８の下側に位置し、かつ低密度層８から高密度層６に向かう方向に、連続的に重力が作用している。この状態では、もともと高密度層６は低密度層８の下側にあるので、密度差によって両者が移動して、その位置を入れ替わろうとする作用はない。さらに２つの層の境界部分では高密度層６の液が、低密度層８の方へ上昇して混合させようとする力が重力によって減じられて混合しにくくなり、その状態で塗膜硬化装置６０にて高密度層６と低密度層８とは硬化されるので、層混合を抑制することができる。本発明は、高密度層６と低密度層８の界面付近の小さな領域での混合までを完全に防止するものではないが、高密度層６と低密度層８それぞれの膜厚に対して混合する領域は微少であり、各層の機能を発揮するに十分な非混合領域を確保することができるので、各層固有の機能を発揮する複数層付き基材を製造することができる。
【００２７】
次に基材１０上に、低密度層８、高密度層６の順に複数層の塗膜を製造する方法を図４を用いて説明する。
【００２８】
図４を参照すると、本発明の別の実施態様例である塗布装置２がある。塗布装置２は、基材１０上に低密度層８、高密度層６の順に形成するため、塗布装置１とは基材１０の走行方向が逆であることと、基材１０の下側に低密度層８、高密度層６の順に形成され、この状態を維持したまま塗膜硬化装置６０で硬化されること以外は全く同じものである。
【００２９】
塗布装置２を用いると、塗布して硬化されるまで低密度層８から高密度層６に向かう方向に、連続的に重力が作用しているので、塗布装置１と同じ原理で、高密度層６と低密度層８の層混合を抑制することができる。その結果、各層固有の機能をもつ複数層付き基材を製造することができる。
【００３０】
次に図５を参照して、本発明の別の実施態様例である塗布装置３について説明する。塗布装置３は塗布装置２とは、ロール１２の下流側にさらに基材１０が巻き付けられるロール１４があることと、塗膜硬化装置６０がロール１４と一定隙間だけ離れた位置にあること以外は全く同じである。
【００３１】
塗布装置３を用いると、基材１０上に２層スリットダイ２０から低密度層液５４、その上に高密度層液５２を塗布し、基材１０上に低密度層８、高密度層６の順に形成される。塗布してからロール１４に至るまで、高密度層６は低密度層８の下側に位置し、かつ低密度層８から高密度層６に向かう方向に、連続的に重力が作用しているので、塗布装置２と同じ原理で高密度層６と低密度層８の層混合を抑制することができる。さらにロール１４上においてロール１４の中心から見て高密度層６は低密度層８の外側に位置し、かつ低密度層８から高密度層６に向かう方向に連続的に遠心力が作用しているので、低密度層８より密度が高い高密度層６には、低密度層８より大きな遠心力が作用する。この遠心力は重力と同方向に作用するので、重力と同じ原理により、ますます層混合を抑制することができるようになる。高密度層６と低密度層８の層混合が重力と遠心力によって抑制された状態で塗膜硬化装置６０で硬化されるので、塗布装置１、２と同様に各層固有の機能をもつ複数層付き基材を製造することができる。
【００３２】
塗布装置３の塗膜硬化装置６０では、短時間で塗膜を硬化させることが好ましい。そのために高密度層液５２、および低密度層液５４として、紫外線または電子線で硬化する特性のものを使用し、塗膜硬化装置６０として、紫外線または電子線等の放射線照射装置を用いることが好ましい。
【００３３】
高密度層液５２には、金属、金属化合物、カーボン、樹脂等の粒子が均一に分散され構成されるものが好ましい。粒子の材料には、特に制約はない。平均粒子径としては、分散性のため１００μｍ以下であることが好ましく、塗膜に透明性が求められる場合は１μｍ以下であることがより好ましい。また、重力の影響を受けやすくするため１０ｎｍ以上であることが好ましい。粒子の形状は、球状、楕円状や繊維状等のいかなるものであってもよい。
【００３４】
高密度層液５２と低密度層液５４の密度比は好ましくは１．２以上、より好ましくは２以上である。１．２より小さいと、重力差が層混合力より小さくなって、層混合をおこすことがある。上記における密度は、ＪＩＳ  Ｂ７５２５（１９９２年）による浮ひょうを用いて温度１５度で測定する。後述の実施例においては、日本計器株式会社の標準比重計を用いて測定した。
【００３５】
これまで２層を積層塗布する場合について説明したが、３層以上の積層塗布であっても、外力が作用する方向に対し、低密度層８から順に密度が高くなる方向に並ぶ層構成であれば、同様に本発明を適用することができる。
【００３６】
本発明は、粘度が１００ｍＰａ・Ｓ以下の塗布液どうしの積層塗布に好適に用いることができる。上記における粘度は、ＪＩＳ  Ｋ７１１７（１９８７年）による回転式粘度計を用いて温度２５℃、シェアレート１０Ｓ-1の条件で測定する。後述の実施例においては、ビスコテック社のレオメーターＲＣ２０を用いて測定した。
【００３７】
以上の実施態様例では、塗布器が２層スリットダイ２０の場合について説明したが、同じく積層塗布が可能なスライドダイ、カーテンダイ等を用いてもよい。さらに単層塗布できる複数の塗布器を走行方向に並べ、上流側の塗布器から塗布された湿潤状態の層に重ねて、下流側の塗布器から別の層を塗布するウェット・オン・ウェットであってもよい。
【００３８】
基材１０は、フィルムの他に紙、あるいは金属板等、いかなるものを用いてもよい。
【００３９】
次に、基材１０上に磁性層６２と非磁性層６４を重ねる複数層付き基材の製造方法を図６を用いて説明する。
【００４０】
図６には、本発明の一実施態様例である塗布装置４の概略正面断面図が示されている。塗布装置４では、高密度層液５２が磁性層液６２に、低密度層液５４が非磁性層液６４に、高密度層６が磁性層１６に、低密度層８が非磁性層１８になり、塗膜硬化装置６０が磁力発生機能付塗膜硬化装置７０になっていること以外は、塗布装置１と同じである。磁性層液６４は、磁性粒子を分散させたものを含有している。磁力発生機能付塗膜硬化装置７０は、磁性層１６から非磁性層１８に向かう方向、または非磁性層１８から磁性層１６に向かう方向に磁力を発生させることができる。磁力を作用させる方法としては、磁力発生機能付塗膜硬化装置７０の内部に永久磁石や電磁石等を配置させてもよいし、その他の電気的に磁力を発生させるものであってもよい。
【００４１】
塗布装置４を用いて、２層スリットダイ２０の第１のスリット２２から磁性層液６２、第２のスリット２４から非磁性層液６４、を基材１０上に塗布し、磁性層１６、その上に非磁性層１８を形成すると、粘度の低い磁性層液６２と非磁性層液６４とは層混合をおこす。層混合は、互いの塗布液の物性差が小さくなるまで進むので、各層を独立して保持することができなくなり、各層固有の機能を発揮できなくなる。しかし、本実施態様では磁力発生機能付塗膜硬化装置７０を用いて、２層の境界部分で磁性層液６２と非磁性層液６４とが層混合しようとするのが磁力によって抑制され、その状態で硬化されるので層混合を抑制することができる。本実施態様例では、基材１０上に磁性層１６，非磁性層１８の順に積層塗布する場合について説明したが、磁力の作用方向を反対にすれば、基材１０上に非磁性層１８、磁性層１６の順で形成することもできる。
【００４２】
なお磁力が作用する範囲は、磁力発生機能付塗膜硬化装置７０の内部に限定されるものではなく、磁力発生機能付塗膜硬化装置７０の上流側に磁石、磁力発生装置等を設置し、磁力発生機能付塗膜硬化装置７０の上流側から磁力を作用させ、磁性層の移動作用を促進してもよい。磁石は、フェライト磁石、ネオジム磁石、電磁磁石等、いかなるものであってもよい。
【００４３】
磁力発生機能付塗膜硬化装置７０の磁力の残留磁束密度は、磁性粒子に磁力の影響を与えるため、好ましくは１００ｍＴ以上であり、より好ましくは２００ｍＴ以上である。
【００４４】
磁性粒子としては、鉄、ニッケルなどの金属の磁性材料粒子以外に、カーボン、シリカ等の非磁性材料粒子にニッケルメッキ等を施して磁性をもたせたものであってもよい。また、上記のような磁性粒子にさらに他の機能を付与させたものを用いてもよい。磁性粒子の平均粒子径としては、特に制約はないが、分散性のため１００μｍ以下であることが好ましく、塗膜に透明性を求められる場合は１μｍ以下であることがより好ましい。また、磁力の影響を受けやすくするため１０ｎｍ以上であることが好ましい。粒子の形状は、球状、楕円状や繊維状等のいかなる形状であってもよい。
【００４５】
本発明は、粘度が１００ｍＰａ・Ｓ以下の塗布液どうしの積層塗布に好適に用いることができる。上記における粘度は、ＪＩＳ  Ｋ７１１７（１９８７年）による回転式粘度計を用いて温度２５℃、シェアレート１０Ｓ-1の条件で測定する。
【００４６】
以上の実施態様例では、塗布器が２層スリットダイ２０の場合について説明したが、同じく積層塗布が可能なスライドライ、カーテンダイ等を用いてもよい。さらに単層塗布できる複数の塗布器を走行方向に並べ、上流側の塗布器から塗布された湿潤状態の層に重ねて、下流側の塗布器から別の層を塗布するウェット・オン・ウェットであってもよい。
【００４７】
基材１０は、フィルムの他に紙、あるいはアルミ等のような非磁性材料からなるものであればいかなるものを用いてもよい。
【実施例】
【００４８】
[実施例１]
塗布装置２を用いて、５ｍ／分で直径２００ｍｍのロール１２上を走行する巾４００ｍｍ、厚み１８８μｍのＰＥＴ基材１０の同一面に、２層スリットダイ２０からＨＣ液、その上にＡＳ液をともに巾３７０ｍｍ、ｗｅｔ膜厚１５μｍで積層塗布した。ＨＣ液は、ウレタンアクリルレート、トルエン、メチルエーテルの混合物を溶媒に、光開始剤、レベリング剤を添加して混合し、粘度を１０ｍＰａ・Ｓ、密度を０．９ｇ／ｃｍ3にしたものであった。ＡＳ液は、ウレタンアクリルレート、メタノールと酢酸ブチルの混合物を溶媒に、平均粒子径１００ｎｍのニッケル粒子（密度８ｇ／ｃｍ3)、光開始剤(紫外線を照射されると重合反応を開始する触媒)、レベリング剤を添加して混合し、粘度を５ｍＰａ・Ｓ、密度を１．７５ｇ／ｃｍ3にしたものであった。
【００４９】
塗布後、ＰＥＴ基材１０は矢印の方向に走行し、上からＰＥＴ基材１０、ＨＣ層、ＡＳ層の順に並んだ状態で塗膜硬化装置６０に搬送される。塗膜硬化装置６０は熱風による乾燥装置と紫外線照射によるキュア装置を組み合わせたものである。まず、乾燥装置で８０℃で１分間乾燥してＡＳ層とＨＣ層中の溶媒を揮発させた。その後、キュア装置で照度３２０ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を３秒間照射してＡＳ層とＨＣ層を硬化させた。最後に剥離基材である厚み１００μｍのＰＥＴに、粘着剤を巾３７０ｍｍ、ウェット膜厚８０μｍで塗布、８０℃で１分間乾燥させて粘着層を形成し、最後に粘着層と厚み１８８μｍのＰＥＴ基材１０のＨＣ層、ＡＳ層を形成した面の反対側の面とをラミネートし、帯電防止フィルムを製作した。
【００５０】
作成した帯電防止フィルムの表面電気抵抗値は３．１×１０8Ωであり、ＨＣ層とＡＳ層を逐次塗布、乾燥、硬化させて作成した帯電防止フィルムの表面電気抵抗値１．２×１０8Ωとほぼ同等の性能であった。また、帯電防止フィルムの断面をＳＥＭで観察したところ、ＨＣ層とＡＳ層の境界は不明瞭であったが、金属粒子はＡＳ層中に均一に分散していた。
[実施例２]
塗布装置３を用いて、実施例１とは走行速度が３０ｍ／分である以外は全く同じ条件で積層塗布した。
【００５１】
塗布後、基材１０はロール１４から一定隙間を隔てた場所に置かれている塗膜硬化装置６０に搬送される。塗膜硬化装置６０は熱風による乾燥装置と紫外線照射によるキュア装置を組み合わせたものであるが、実施例１とは熱風装置とキュア装置の順が逆である。照度６８０ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を０．５秒間照射し、ＨＣ層とＡＳ層を硬化させた。ついで、乾燥装置で８０℃で１分間乾燥させてＨＣ層、ＡＳ層中の溶媒を揮発させた。最後に実施例１と同様にして帯電防止フィルムを作成した。
【００５２】
作成した帯電防止フィルムの表面電気抵抗値は８．２×１０8Ωであり、ＨＣ層とＡＳ層を逐次塗布、乾燥、硬化させて作成した帯電防止フィルムの表面電気抵抗値１．２×１０8Ωと比べるとやや性能は劣っていたが、製品としては問題ないレベルであった。また、帯電防止フィルムの断面をＳＥＭで観察したところ、ＨＣ層とＡＳ層の境界は不明瞭であったが、金属粒子はＡＳ層中に均一に分散していた。
[比較例]
塗布装置１を用いて、実施例１と同じＨＣ液、ＡＳ液をＰＥＴ基材１０の上にＨＣ液、ＡＳ液の順に積層塗布した。塗布後は、実施例１と同様にして帯電防止フィルムを作成した。
【００５３】
作成した帯電防止フィルムの表面電気抵抗値は１０12Ω以上であった。また、フィルムの断面をＳＥＭで観察したところ、ＨＣ層とＡＳ層の境界は不明瞭であり、金属粒子は複数層全体に分散していた。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明は、ＰＥＴ、ＴＡＣ等の透明基材上にＨＣ層、およびＡＳ層を順次形成する場合に限定されるものではなく、あらゆる基材上に密度差のある低粘度の複数の塗布液を順次重ねて形成する複数層の塗膜を形成する場合に広く適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】図１は、高粘度の塗布液どうしを積層塗布したときの２層の塗膜の断面図である。
【図２】図２は、低粘度の塗布液どうしを積層塗布したときの２層の塗膜の断面図である。
【図３】図３は、本発明の塗布装置１の概略正面断面図である。
【図４】図４は、本発明の塗布装置２の概略正面断面図である。
【図５】図５は、本発明の塗布装置３の概略正面断面図である。
【図６】図６は、本発明の塗布装置４の概略正面断面図である。
【符号の説明】
【００５６】
１    塗布装置１
２    塗布装置２
３    塗布装置３
４    塗布装置４
６    高密度層
７    混合層
８    低密度層
１０    基材
１２    ロール
１４    ロール
１６    磁性層
１８    非磁性層
２０    ２層スリットダイ
２２    第１のスリット
２４    第２のスリット
４０    第１のポンプ
４２    第２のポンプ
４４    第１のタンク
４６    第２のタンク
４８    第１の配管
５０    第２の配管
５２    高密度層液
５４    低密度層液
５６    第１のフィルター
５８    第２のフィルター
６０    塗膜硬化装置
６２    磁性層液
６４    非磁性層液
７０    磁力発生機能付塗膜硬化装置
【図１】
2005262121.tif 000003
【図２】
2005262121.tif 000004
【図３】
2005262121.tif 000005
【図４】
2005262121.tif 000006
【図５】
2005262121.tif 000007
【図６】
2005262121.tif 000008