(57)【要約】      （修正有）【課題】エッチング液の液量が比較的少ない量であっても、基材に対し均一にエッチングを施すことができるエッチング装置、エッチング方法を提供すること、そのような方法を用いて製造された凹部付き基板、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタを提供する。【解決手段】基材５にエッチング液を付与してエッチングを施すエッチング装置１００であって、前記エッチング液を貯留する槽１０１と、前記エッチング液を撹拌する撹拌部材１０３と、該撹拌部材１０３を支持する支持部材１０２とを有し、前記槽１０１内に貯留された前記エッチング液に前記基材５を浸漬した状態で、前記支持部材１０２を上下に移動させることにより、前記エッチング液を撹拌することを特徴とする。撹拌部材１０３は、支持部材１０２の上下の移動にともなって、支持部材１０２と撹拌部材１０３とのなす角が変化するよう構成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材にエッチング液を付与してエッチングを施すエッチング装置であって、
前記エッチング液を貯留する槽と、
前記槽内に貯留された前記エッチング液を撹拌する撹拌部材と、
前記撹拌部材を支持する支持部材とを有し、
前記槽内に貯留された前記エッチング液に前記基材を浸漬した状態で、前記支持部材を上下に移動させることにより、前記エッチング液を撹拌することを特徴とするエッチング装置。
【請求項２】
前記撹拌部材は、前記支持部材の上下の移動にともなって、前記支持部材と前記撹拌部材とのなす角が変化するよう構成されている請求項１に記載のエッチング装置。
【請求項３】
前記支持部材は、前記基材を保持する機能を有する請求項１または２に記載のエッチング装置。
【請求項４】
前記支持部材は、板状の部材である請求項１ないし３のいずれかに記載のエッチング装置。
【請求項５】
前記板状の部材は、上部に開口部を有する請求項４に記載のエッチング装置。
【請求項６】
前記撹拌部材は、前記板状の部材の主面のうち、一方の面側にのみ突出するよう設けられている請求項４または５に記載のエッチング装置。
【請求項７】
前記槽内に貯留されるエッチング液の温度を調整する温度調整手段を有する請求項１ないし６のいずれかに記載のエッチング装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかに記載のエッチング装置を用いることを特徴とするエッチング方法。
【請求項９】
前記基材に、開口を有するマスクを被覆した状態でエッチングを施す請求項８に記載のエッチング方法。
【請求項１０】
請求項８または９に記載のエッチング方法を用いて製造されたことを特徴とする凹部付き基板。
【請求項１１】
請求項１０に記載の凹部付き基板を用いて製造されたことを特徴とするマイクロレンズ基板。
【請求項１２】
請求項１１に記載のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１３】
請求項１２に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エッチング装置、エッチング方法、凹部付き基板、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、基材に対してエッチングを施すエッチング装置として、オーバーフロー型エッチング装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
このようなオーバーフロー型エッチング装置は、ポンプを用いてオーバーフロー槽とエッチング槽との間でエッチング液を循環させることにより、基材に対して均一にエッチングを施そうとするものである。
【０００３】
しかし、このようなオーバーフロー型エッチング装置では、液循環のために必要以上のエッチング液を使用することから、コストがかかるといった問題があった。特に、近年、需要が高まりつつあるリア型プロジェクタに用いられるような大型の基材に対して、エッチングを施す場合には、そのような問題が顕著であった。また、多くのエッチング液を用いることから、環境への負荷も高くなるといった問題も生じる。また、液循環のための装置が大きくなるため、エッチング装置全体の顕著な大型化を招くといった問題もあった。
【０００４】
【特許文献１】特開平６−２３６８６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、エッチング液の液量が比較的少ない量であっても、基材に対し均一にエッチングを施すことができるエッチング装置、エッチング方法を提供すること、そのような方法を用いて製造された凹部付き基板、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のエッチング装置は、基材にエッチング液を付与してエッチングを施すエッチング装置であって、
前記エッチング液を貯留する槽と、
前記槽内に貯留された前記エッチング液を撹拌する撹拌部材と、
前記撹拌部材を支持する支持部材とを有し、
前記槽内に貯留された前記エッチング液に前記基材を浸漬した状態で、前記支持部材を上下に移動させることにより、前記エッチング液を撹拌することを特徴とする。
これにより、槽に貯留されているエッチング液の各部位における濃度等の諸条件を均一なものとすることができ、また、基材に均一にエッチング液を供給することができるため、基材に対して均一なエッチングを施すことができる。また、従来のオーバーフロー型エッチング装置と比べて、液循環のための装置を必要としないため、エッチング液の量を少なくすることができる。その結果、基材の大型化にともなう、エッチング装置の不本意な大型化を効果的に防止することができる。
【０００７】
本発明のエッチング装置では、前記撹拌部材は、前記支持部材の上下の移動にともなって、前記支持部材と前記撹拌部材とのなす角が変化するよう構成されていることが好ましい。
これにより、エッチング液の循環をより確実に生じさせることができ、基材に対してより均一にエッチングを施すことができる。
【０００８】
本発明のエッチング装置では、前記支持部材は、前記基材を保持する機能を有することが好ましい。
支持部材が基材を保持することにより、より確実に基材をエッチング液に浸漬させることができる。また、支持部材の上下の動きによって、エッチング液が基材の表面により均一に行き渡るため、より効率よく基材に対してエッチングを施すことができる。
【０００９】
本発明のエッチング装置では、前記支持部材は、板状の部材であることが好ましい。
これにより、支持部材の上下の移動をより容易なものとすることができる。
本発明のエッチング装置では、前記板状の部材は、上部に開口部を有することが好ましい。
これにより、エッチング液を支持部材を中心に循環させることができ、基材に対してより均一にエッチングを施すことができる。
【００１０】
本発明のエッチング装置では、前記撹拌部材は、前記板状の部材の主面のうち、一方の面側にのみ突出するよう設けられていることが好ましい。
これにより、エッチング液の循環をより確実に生じさせることができ、基材に対してより均一にエッチングを施すことができる。
本発明のエッチング装置では、前記槽内に貯留されるエッチング液の温度を調整する温度調整手段を有することが好ましい。
これにより、基材に対してより効率よくエッチングを施すことができる。
【００１１】
本発明のエッチング方法は、本発明のエッチング装置を用いることを特徴とする。
これにより、基材に対して、より均一にエッチングを施すことができるエッチング方法を提供することができる。
本発明のエッチング方法では、前記基材に、開口を有するマスクを被覆した状態でエッチングを施すことが好ましい。
これにより、基材に凹部を好適に形成することができる。
【００１２】
本発明の凹部付き基板は、本発明のエッチング方法を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、形状、大きさのバラツキの小さい凹部を有する凹部付き基板を提供することができる。
本発明のマイクロレンズ基板は、本発明の凹部付き基板を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、形状、大きさのバラツキの小さいマイクロレンズを有するマイクロレンズ基板を提供することができる。
【００１３】
本発明の透過型スクリーンは、本発明のマイクロレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、輝度分布・視野角特性に優れた透過型スクリーンを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、輝度分布・視野角特性に優れたリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明のエッチング装置、エッチング方法、凹部付き基板、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
まず、本発明のエッチング装置およびエッチング方法について説明する。
本発明のエッチング装置は、基材にエッチング液を付与してエッチングを施すエッチング装置であって、前記エッチング液を貯留する槽と、前記槽内に貯留された前記エッチング液を撹拌する撹拌部材と、該撹拌部を支持する支持部材とを有し、前記槽内に貯留された前記エッチング液に前記基材を浸漬した状態で、前記支持部材を上下に移動させることにより、前記エッチング液を撹拌することを特徴とする。
【００１５】
図１は、本発明のエッチング装置を示す模式的な縦断面図、図２は、本発明のエッチング装置の支持部材の一例を示す平面図、図３は、本発明のエッチング装置の撹拌部材の動きの一例を示す縦断面図である。なお、以下の説明では、図１中の上側を「上」、下側を「下」という。
図１に示すエッチング装置１００は、槽１０１と、支持部材１０２と、撹拌部材１０３と、操作部材１０４とを有している。
【００１６】
槽１０１は、その内側に、エッチング液を貯留し、エッチングを施すべき基材５を浸漬できるよう構成されている。
支持部材１０２は、板状の部材で、後述する撹拌部材１０３を支持する機能を有している。
支持部材１０２の上側には、操作部材１０４が接続されており、操作部材１０４を上下に移動させることにより、支持部材１０２が上下に移動するよう構成されている。なお、このような操作部材１０４は、支持部材１０２と一体的に設けられるものであってもよいし、取り外し可能となっていてもよい。
【００１７】
撹拌部材１０３は、前記支持部材１０２によって支持され、支持部材１０２の動きにともなって、槽１０１内に貯留されるエッチング液を撹拌する機能を有している。
図示の構成では、撹拌部材１０３は、支持部材１０２の主面のうち、一方の面側にのみ突出するよう設けられている。
支持部材１０２が上下に移動するのにともない、支持部材１０２に取り付けられた撹拌部材１０３も上下に移動し、撹拌部材１０３の移動によって、槽１０１内に貯留されたエッチング液が撹拌される。
【００１８】
このように本発明では、支持部材を上下に移動させることで、撹拌部材によってエッチング液が撹拌される点に特徴を有している。このような構成とすることにより、槽に貯留されているエッチング液の各部位における濃度等の諸条件を均一なものとすることができ、また、基材に均一にエッチング液を供給することができるため、基材に対して均一なエッチングを施すことができる。また、従来のオーバーフロー型エッチング装置と比べて、液循環のための装置を必要としないため、エッチング液の量を少なくすることができる。その結果、基材の大型化にともなう、エッチング装置の不本意な大型化を効果的に防止することができる。
【００１９】
本実施形態では、支持部材１０２は、基材５を保持する機能も有している。このように支持部材１０２が基材５を保持することにより、より確実に基材５をエッチング液に浸漬させることができる。また、支持部材１０２の上下の動きによって、エッチング液が基材５の表面により均一に行き渡るため、より効率よく基材５に対してエッチングを施すことができる。
なお、このような保持機能は、例えば、基材５の縁部をクリップ状の部材で把持して保持するものであってもよいし、基材５の上端と下端とをレール状の部材で保持するものであってもよい。
【００２０】
また、支持部材１０２は、図２に示すように、その上部に開口部１０６を有している。
特に、本実施形態では、支持部材１０２に保持された基材５の上端よりも上側で開口している。
このような開口部１０６を設けることにより、例えば、撹拌部材１０３の上への移動によって、押し上げられたエッチング液が、図１中の矢印で示したように、開口部１０６を通り、支持部材１０２の撹拌部材１０３が突出した側とは反対側に回り込むようになる。これにより、エッチング液が支持部材１０２を中心に循環することとなり、基材５に対してより均一にエッチングを施すことができるようになる。特に、本実施形態のように、支持部材１０２に基材５が保持されている場合には、このような効果がより顕著なものとなる。
【００２１】
撹拌部材１０３は、支持部材１０２の上下の移動にともなって、図３に示すように、支持部材１０２と撹拌部材１０３とのなす角が変化するよう構成されている。すなわち、本実施形態では、撹拌部材１０３は、支持部材１０２との接触部を中心に図示せぬ機構により回動可能となっている。なお、撹拌部材１０３が、支持部材１０２と略垂直の位置から下に回動しないように、図３（ａ）に示すように、ストッパー１０７によって規制されている。なお、このようなストッパー１０７は、図示のようなものに限定されず、例えば、蝶番のようなものであってもよいし、支持部材１０２と垂直方向で固定されたメッシュ状の部材であってもよい。
【００２２】
このような構成とすることにより、支持部材１０２が上に移動する際には、図３（ａ）に示すように、撹拌部材１０３が支持部材１０２の主面から突出した状態（開いた状態）となる。これにより、支持部材１０２の上への移動にともなって、撹拌部材１０３がエッチング液を上方へ押し上げるため、支持部材１０２の撹拌部材１０３が突出している側（図中の右側）に、エッチング液の上方への流れを形成することができる。一方、支持部材１０２が下に移動する際には、図３（ｂ）に示すように、撹拌部材１０３が支持部材１０２の主面と略平行の状態（閉じた状態）となる。これにより、支持部材１０２の移動方向（下方向）における撹拌部材１０３のエッチング液に対する抵抗を最小限とすることができるため、前述のエッチング液の上方への流れを不本意に乱すのを防止することができる。
このような操作を繰り返すことにより、エッチング液の循環をより確実に生じさせることができ、基材５に対してより均一にエッチングを施すことができる。
【００２３】
また、本実施形態では、図１に示すように、槽１０１の外側に、温度調整手段１０５が設けられている。この温度調整手段は、槽１０１内に貯留されるエッチング液の温度を調整する機能を有している。これにより、基材５に対して効率よくエッチングを施すことができる。
なお、前述した説明では、支持部材１０２が、図２に示すような形状を有するものとして説明したが、これに限定されず、例えば、図４に示すように格子状に開口部が設けられたようなものであってもよいし、また、図５に示すような枠状のものであってもよい。
【００２４】
また、前述した説明では、１つの撹拌部材１０３が、図３に示すように、支持部材１０２の主面のうち、一方の面側のみに突出するように、支持部材１０２に取り付けられたものとして説明したが、これに限定されず、例えば、２つの撹拌部材１０３が、図６、図７に示すように、支持部材１０２の主面の両面側に突出するように、支持部材１０２に取り付けられたものであってもよい。例えば、撹拌部材１０３が、図７に示すように取り付けられたものである場合、図８（ａ）に示すように、支持部材１０２が上に移動する際に、一方が開いて、他方が閉じ、また、図８（ｂ）に示すように、支持部材１０２が下に移動する際に、一方が閉じて、他方が開くよう構成することができる。これにより、より確実にエッチング液を循環させることができ、基材５に対してより均一にエッチングを施すことができる。
【００２５】
次に、上述したエッチング装置１００を用いたエッチング方法（本発明のエッチング方法）により、基材にマイクロレンズ形成用の複数の凹部を形成し、凹部付き基板を製造する場合について説明する。
図９は、凹部付き基板の製造工程を示す模式的な縦断面図、図１０は、得られる凹部付き基板の縦断面図、図１１は、凹部付き基板を用いて形成したマイクロレンズ基板の縦断面図である。
まず、凹部付き基板２の製造に際し、基板（基材）５を用意する。
この基板５は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板５は、洗浄やエッチング等により、その表面が清浄化または平滑化されているものが好ましい。
【００２６】
基板５の構成材料は、特に限定されず、例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウ珪酸ガラス等が挙げられる。例えば、凹部付き基板２を用いてマイクロレンズ基板を製造する場合、基板５の構成材料としては、無アルカリガラス、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）を用いるのが好ましい。中でも、ソーダガラスは、加工が容易であるとともに、得られる凹部付き基板２を好適な光学的特性を有するものとすることができる。また、ソーダガラスは、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
基板５の厚さは、基板５を構成する材料、屈折率等の種々の条件により異なるが、通常、０．３〜２０ｍｍ程度であるのが好ましく、２〜８ｍｍ程度であるのがより好ましい。厚さをこの範囲内とすると、例えば、必要な光学特性を備えたコンパクトな凹部付き基板２を得ることができる。
【００２７】
＜１＞図９（ａ）に示すように、用意した基板５の表面に、マスク６を形成する（マスク形成工程）。また、これとともに、基板５の裏面（マスク６を形成する面と反対側の面）に裏面保護膜６９を形成する。もちろん、マスク６および裏面保護膜６９は同時に形成することもできる。
マスク６は、レーザ光の照射等により、後述する開口部６３を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク６は、エッチングレートが、基板５と略等しいか、または、基板５に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
【００２８】
かかる観点からは、このマスク６を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。また、マスク６を、Ｃｒ／Ａｕや酸化Ｃｒ／Ｃｒのように異なる材料からなる複数の層の積層構造としてもよい。
マスク６の形成方法は特に限定されないが、マスク６をＣｒ、Ａｕ等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化Ｃｒ）から構成する場合、マスク６は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク６をシリコンから構成する場合、マスク６は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００２９】
マスク６の厚さは、マスク６を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０３〜０．２μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、後述する初期孔形成工程において形成される開口部６３の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板５のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、後述する初期孔形成工程において、貫通する開口部６３を形成するのが困難になるほか、マスク６の構成材料等によっては、マスク６の内部応力によりマスク６が剥がれ易くなる場合がある。
【００３０】
＜２＞次に、図９（ｂ）に示すように、マスク６に、後述するエッチングの際のマスク開口となる、複数個の開口部６３を形成する（開口部形成工程）。
開口部６３は、いかなる方法で形成されるものであってもよく、物理的方法やレーザ光の照射等により形成することができる。これにより、例えば、凹部付き基板を生産性良く製造することができる。特に、大面積の基板にも簡単に凹部を形成することができる。
【００３１】
開口部６３を形成する物理的方法としては、例えば、ショットブラスト、サンドブラスト等のブラスト処理、エッチング、プレス、ドットプリンタ、タッピング、ラビング等の方法が挙げられる。ブラスト処理により開口部６３を形成する場合、比較的大きい面積（凹部３を形成すべき領域の面積）の基板５でも、より短時間で効率良く、開口部６３を形成することができる。
【００３２】
また、レーザ光の照射により開口部６３を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。レーザ光の照射により開口部６３を形成する場合、形成される開口部６３の大きさや、隣接する開口部６３同士の間隔等を容易かつ精確に制御することができる。
【００３３】
形成された開口部６３は、マスク６の全面に亘って偏りなく形成されているのが好ましい。
このような開口部６３の大きさは、比較的小さいものとするのが好ましい。このように開口部６３の大きさが小さいものであると、後述するエッチング工程において形成される凹部３の中心部付近の曲率半径を好適なものとすることができ、最終的に得られるマイクロレンズ４の中心部付近での光の屈折率をより好適なものとすることができる。また、凹部３内に含まれる平坦部面積を少なくできるため、最終的に得られるマイクロレンズスクリーン（マイクロレンズ基板）の視野角特性を向上させることができる。
このような開口部６３の平均径は、具体的には、１０μｍ以下であるのが好ましく、５μｍ以下であるのがより好ましく、０．１〜３μｍであるのがさらに好ましい。
【００３４】
＜３＞次に、図９（ｃ）および（ｄ）に示すように、マスク６を用いて基板５にエッチング処理を施し、基板５上に多数の凹部３を形成する（エッチング工程）。
エッチング処理は、マスク６を形成した基板（基材）５を、図１に示すようなエッチング装置１００の支持部材１０２に設置し、槽１０１内に貯留されたエッチング液に浸漬することにより施される。
【００３５】
マスク６で被覆された基板５に対して、エッチング装置１００を用いて、エッチング処理を施すことにより、図２（ｃ）および（ｄ）に示すように、基板５は、マスク６が存在しない部分、すなわち開口部６３より食刻され、基板５上に多数の凹部３が形成される。
このようにして形成された凹部３は、前述したようなエッチング装置１００（本発明のエッチング装置）を用いて形成されているため、各凹部３間での形状、大きさのバラツキが特に小さいものとなっている。
【００３６】
エッチング液としては、特に限定されず、例えば、基板５を構成する材料としてガラスを用いて場合、フッ酸を含むエッチング液（フッ酸系エッチング液）を用いることができる。フッ酸を含むエッチング液としては、特に、主として一水素二フッ化アンモニウムで構成されたものを用いるのが好ましい。４ｗｔ％以下の一水素二フッ化アンモニウム溶液は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。
【００３７】
エッチングを行う際のエッチング液の温度は、１０〜８０℃であるのが好ましく、２０〜３０℃であるのがより好ましい。この温度範囲内のものであると、好適に基板５を食刻することができる。
なお、エッチングを施した後、純水等を用いて洗浄し、Ｎ２ガス等を用いて乾燥（純水等の除去）を行ってもよい。
【００３８】
＜４＞次に、図１０（ｅ）に示すように、マスク６を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク６の除去とともに、裏面保護膜６９も除去する。
マスク６の除去は、マスク６を構成する材料によって方法が異なるが、例えば、マスク６を構成する材料としてＣｒ、ＣｒＯを用いた場合、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングを行うことによって行うことができる。
【００３９】
その後、純水等を用いて洗浄し、Ｎ２ガス等を用いて乾燥（純水等の除去）を行う。
以上により、図１０（ｅ）に示すように、基板５上に多数の凹部３が形成された凹部付き基板２（本発明の凹部付き基板）が得られる。
このようにして得られた凹部付き基板２は、エッチング装置１００（本発明のエッチング装置）を用いたエッチング方法（本発明のエッチング方法）により製造されているため、各凹部３間での形状、大きさのバラツキが特に小さいものとなっている。
【００４０】
凹部付き基板２を平面視した際の凹部３の直径は、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜２００μｍであるのがより好ましい。これにより、凹部付き基板２を用いて得られるマイクロレンズ基板１の光学特性を優れたものとすることができる。
また、凹部３は、比較的緻密に形成されているのが好ましい。具体的には、凹部付き基板２を平面視したときに、凹部３が形成されている有効領域において、凹部３が占める面積の割合が９０％以上であるのが好ましく、９６％以上であるのがより好ましい。
【００４１】
このようにして得られた凹部付き基板２を用いて、マイクロレンズ基板を形成することができる。
例えば、得られた凹部付き基板２の凹部３に、所定の屈折率、特にガラス基板５より高い屈折率の材料（例えば樹脂（接着剤）など）を充填することにより、図１１に示すような凸レンズとしてのマイクロレンズ４を有するマイクロレンズ基板１（本発明のマイクロレンズ基板）を形成することができる。
【００４２】
このマイクロレンズ基板１は、凹部付き基板２と付いた状態で用いられるものであってもよいし、凹部付き基板２をはずして用いられるものであってもよい。
凹部付き基板２（本発明の凹部付き基板）を用いて形成されたマイクロレンズ基板は、マイクロレンズの形状、大きさのバラツキが特に小さく、優れた光学特性を示す。
なお、凹部付き基板２をそのままマイクロレンズ基板として用いてもよい。この場合、マイクロレンズが凹レンズとなる。
以上のようにして得られるマイクロレンズ基板１は、例えば、透過型スクリーン、リア型プロジェクタ、投射型表示装置の液晶ライトバルブの構成部材等に用いることができる。
【００４３】
次に、上述したようなマイクロレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
図１２は、図１１に示すマイクロレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンを示す模式的な縦断面図である。
図１２に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部２と、前述したマイクロレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部２は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部２を透過した光が、マイクロレンズ基板１に入射する構成になっている。
【００４４】
フレネルレンズ部２は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ２１を有している。このフレネルレンズ部２は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、マイクロレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。
以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部２によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板１に入射し、各マイクロレンズ４によって集光された後、光は拡散し、観察者に平面画像として観測される。
【００４５】
次に、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図１３は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
そして、このリア型プロジェクタ３００は、その透過型スクリーン１０として、上述した透過型スクリーン１０を用いているので、表示品質の良い優れたリア型プロジェクタとなる。
【００４６】
以上、本発明のエッチング装置、エッチング方法、凹部付き基板、マイクロレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、本発明のエッチング装置は、前述した実施形態のようなものに限定されず、装置を構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。
【００４７】
また、本発明のエッチング方法では、必要に応じて、任意の目的の工程を追加することもできる。
また、前述した実施形態では、本発明のエッチング装置およびエッチング方法を、基板に凹部を形成するのに適用した場合について説明したが、これに限定されず、例えば、基板の表面の清浄化や平滑化等に適用してもよい。
【００４８】
また、前述した実施形態では、支持部材と撹拌部材とが別の部材として設けられたものとして説明したが、これに限定されず、支持部材と撹拌部材とが一体的に形成されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、支持部材に１つまたは２つの撹拌部材が取り付けられたものについて説明したが、これに限定されず、例えば、３つであってもよいし、４つ以上であってもよい。
【００４９】
また、前述した実施形態では、支持部材と撹拌部材とを１組有するものとして説明したが、これに限定されず、２組あってもよいし、３組以上あってもよい。このように複数設けることにより、より効果的にエッチング液を循環させることができる。
また、前述した実施形態では、支持部材が板状の形状を有するものとして説明したが、支持部材の形状はこれに限定されない。
【００５０】
また、前述した実施形態では、エッチング装置が温度調整手段を有するものとして説明したが、このような温度調整手段はなくてもよい。
また、前述した実施形態では、支持部材に接続された操作部材を移動させることで支持部材を移動させるものとして説明したが、これに限定されず、例えば、前述したような操作部材はなくてもよく、直接支持部材を動かすものであってもよい。
【００５１】
また、本発明のエッチング装置は、液循環させる装置を備えていてもよい。
また、前述した実施形態では、基板５に裏面保護膜６９を形成してエッチングを施すものとして説明したが、このような裏面保護膜６９は無くてもよい。
また、前述した実施形態では、本発明のエッチング方法を用いて、マイクロレンズ形成用の凹部を有する凹部付き基板を製造するものとして説明したが、これに限定されず、レンチキュラレンズ形成用やフレネルレンズ形成用等の凹部を有する凹部付き基板を製造するものであってもよい。
【００５２】
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、マイクロレンズ基板とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明のマイクロレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材であるものとして説明したが、本発明のマイクロレンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタに適用されるものに限定されず、いかなる用途のものであってもよい。例えば、本発明のマイクロレンズ付き基板は、投射型表示装置の液晶ライトバルブの構成部材に適用されるものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明のエッチング装置を示す模式的な縦断面図である。
【図２】本発明のエッチング装置の支持部材の一例を示す平面図である。
【図３】本発明のエッチング装置の撹拌部材の動きの一例を示す縦断面図である。
【図４】本発明のエッチング装置の支持部材の他の一例を示す平面図である。
【図５】本発明のエッチング装置の支持部材の他の一例を示す平面図である。
【図６】本発明のエッチング装置の撹拌部材の他の一例を示す縦断面図である。
【図７】本発明のエッチング装置の撹拌部材の他の一例を示す縦断面図である。
【図８】本発明のエッチング装置の撹拌部材の動きの一例を示す縦断面図である。
【図９】凹部付き基板の製造工程を示す模式的な縦断面図である。
【図１０】本発明のエッチング装置（方法）を用いて得られる凹部付き基板の縦断面図である。
【図１１】凹部付き基板を用いて製造したマイクロレンズ基板の縦断面図である。
【図１２】図１１に示すマイクロレンズ基板を備えた、本発明の透過型スクリーンを示す模式的な縦断面図である。
【図１３】本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【００５４】
１……マイクロレンズ基板  ２……凹部付き基板  ２１……フレネルレンズ  ３……凹部  ４……マイクロレンズ  ５……基材（基板）  ６……マスク  ６３……開口部  ６９……裏面保護膜  １００……エッチング装置  １０１……槽  １０２……支持部材  １０３……撹拌部材  １０４……操作部材  １０５……温度調整手段  １０７……ストッパー  １０……透過型スクリーン  ３００……リア型プロジェクタ  ３１０……投写光学ユニット  ３２０……導光ミラー  ３４０……筐体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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