(57)【要約】【課題】  被洗浄物の表面全体に洗浄液を均一に行き渡らせることができ、適切に洗浄を行うことが可能な洗浄方法、および洗浄装置を提供する。【解決手段】  被洗浄物１００に位置する第１の洗浄液供給中心点Ｏ５の側方部から第１の方向に向かって第１の流量で洗浄液３を流し、前記第１の洗浄液供給中心点Ｏ５に前記洗浄液３を供給する工程と、前記第１の洗浄液供給中心点Ｏ５に対して前記第１の方向と反対方向に形成された領域Ａｂに位置する第２の洗浄液供給中心点Ｏ６に前記洗浄液３を第２の流量で供給することにより、被洗浄物１００の全体に洗浄液３を行き渡らせる。【選択図】    図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下の工程を有することを特徴とする洗浄方法。
（ａ）被洗浄物に位置する第１の洗浄液供給中心点の側方部から第１の方向に向かって第１の流量で洗浄液を流して前記第１の洗浄液供給中心点に前記洗浄液を供給する工程と、
（ｂ）前記第１の洗浄液供給中心点に対して前記第１の方向と反対方向に形成された領域に位置する第２の洗浄液供給中心点に前記洗浄液を第２の流量で供給する工程。
【請求項２】
前記（ｂ）工程で、前記第２の流量を前記第１の流量よりも少なくする請求項１記載の洗浄方法。
【請求項３】
前記（ｂ）工程で、前記洗浄液を前記第１の方向に向かって流して前記第２の洗浄液供給中心点に供給する請求項１または２記載の洗浄方法。
【請求項４】
被洗浄物を保持するホルダと、前記被洗浄物に対し洗浄液を供給する第１の洗浄液供給手段と第２の洗浄液供給手段を有し、請求項１ないし３に記載する洗浄方法を用いた洗浄装置において、
前記被洗浄物に位置する第１の洗浄液供給中心点に対して前記第１の洗浄液供給手段で第１の流量で前記洗浄液を供給し、前記第２の洗浄液供給中心点に対して前記第２の洗浄液供給手段で第２の流量で前記洗浄液を供給することを特徴とする洗浄装置。
【請求項５】
前記第１の洗浄液供給手段の幅方向を２分する中央線と、前記第２の洗浄液供給手段の幅方向を２分する中央線とが、縦方向で重なる位置関係で設けられている請求項４記載の洗浄装置。
【請求項６】
前記第１の洗浄液供給手段から供給される前記洗浄液の流れ方向と、前記第２の洗浄液供給手段から供給される洗浄液の流れ方向とが同じ方向となる位置関係で、前記第１の洗浄液供給手段と前記第２の洗浄液供給手段とを設ける請求項４または５記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上にメッキ処理が施されたウエハなどの被洗浄物の洗浄方法およびその洗浄方法を用いた洗浄装置に係り、特に、被洗浄物表面に対して洗浄液を斜め方向から供給した場合でも、被洗浄物の表面全体に洗浄液を均一に行き渡らせることができ、適切に洗浄を行うことが可能な洗浄方法、および洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板上に、例えばメッキ処理などが施されたウエハは、前記メッキ処理工程の後、ウエハ表面に付着する前記メッキ液を洗浄するための洗浄工程が行われる。この洗浄工程は、ウエハ表面にメッキ液が残存していると、前記ウエハに形成されたメッキ部分が前記メッキ液によって腐食されてしまうことから、この腐食を防止するために必要な工程である。この洗浄工程では、洗浄液供給用のノズルから洗浄液をウエハ表面に供給し、ウエハ表面に存在するメッキ液などの被洗浄物を洗い流す。
【０００３】
ウエハ表面に存在するメッキ液などの被洗浄物を洗浄し、ウエハ表面を清浄にする工程に関しては、以下に示す特許文献１および特許文献２に開示されている。
【０００４】
ここで、特許文献１および特許文献２には、ウエハ表面への洗浄液の供給に関して具体的な方法は記載されていなが、図８および図９に示すような装置によって以下に述べる方法が採られるのが一般的である。
【０００５】
図８に示す２００は、基板上にメッキ処理が施されたウエハの平面を示したものであり、図９は図８に示す状態を横方向（図８の図示Ｘ１−Ｘ２方向）から見た状態を示したものである。図８および図９に示すように、前記ウエハ２００の側方部（図示Ｙ１方向側）上方には、中空状のノズル２０６が設けられ、このノズル２０６の先端に形成された吐出口２１１から、図示Ｙ２方向に斜め下方に向かって、前記ウエハ２００の上面２００ａに洗浄液２０３が供給される。この洗浄液２０３によって前記ウエハ２００の上面２００ａが洗浄され、メッキ液などの被洗浄物が洗浄除去される。
【０００６】
前記ウエハ２００の上面２００ａに対して均一に洗浄液を行き渡らせ、前記ウエハ２００の洗浄を適切に行うためには、前記ウエハ２００の上面２００ａの中心点Ｏ１（図８参照）から垂直方向（図８のＺ方向）上方に前記吐出口２１１を位置させ、この吐出口２１１から前記中心点Ｏ１に向かって鉛直方向に前記洗浄液  を供給し、洗浄を行うことが好ましい。しかし、前記ウエハ２００の上方には他の装置などの構成要素が存在する場合が多く、前記ウエハ２００の上方向には、前記ノズル２０６  を設けるためのスペースを確保することが困難な場合が多い。そのため、図８および図９に示すように、前記ノズル２０６を前記ウエハ２００の側方部上方に位置するように設け、このノズル２０６から前記中心点Ｏ１に向けて前記洗浄液２０３を供給することが一般的に行われている。
【０００７】
一方、図９に示す方法では、前記ウエハ２００の上面２００ａに供給する前記洗浄液２０３の供給量を多くすると、前記領域Ａｆにおける前記洗浄液２０３の流速と、前記領域Ａｂにおける前記洗浄液２０３の流速との差が更に生じる。したがって、前記洗浄液２０３の供給量を多くすることによって前記ウエハ２００の洗浄効率を向上させるとともに、前記領域Ａｆにおける前記洗浄液２０３の流速と、前記領域Ａｂにおける前記洗浄液２０３の流速との差を極力小さくするために、図１０に示すように、前記ノズル２０６を前記ウエハ２００に対して横方向（Ｘ方向）に２本設けて横２連とし、この２本の前記ノズル２０６ａ，２０６ｂからそれぞれ同流量で洗浄液２０３を前記ウエハ２００の上面２００ａに供給することによって、前記ウエハ２００の上面２００ａの洗浄効率を向上させることも考えられる。図１０に示す洗浄方法では、前記ノズル２０６ａからの洗浄液２０３を前記ウエハ２００の上面２００ａに位置する洗浄液供給中心点Ｏ２に供給し、前記ノズル２０６ｂからの洗浄液２０３を前記ウエハ２００の上面２００ａに位置する洗浄液供給中心点Ｏ３に供給する。図１０に示す方法では、前記洗浄液２０３を２本のノズルで供給するため、ノズル２０６ａ，２０６ｂの１本当たりの洗浄液２０３の流量を少なくできることから、前記領域Ａｆにおける前記洗浄液２０３の流速と、前記領域Ａｂにおける前記洗浄液２０３の流速との差を小さくできる。また、全体としては前記洗浄液２０３の供給量を増大させることができるため、洗浄効率を向上させることが可能となる。
【特許文献１】特開２０００−２５６８９７号公報
【特許文献１】特開２００１−３１６８６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、図８および図９に示す洗浄方法では、前記ノズル２０６が前記ウエハ２００の側方部上方に位置するように設けられ、前記洗浄液２０３が前記ウエハ２００の図示Ｙ１方向から図示Ｙ２方向に向かって斜め上方から供給されるため、以下のような問題が生じる。すなわち、図８および図９に示すように、前記洗浄液２０３の落下中心点である前記中心点Ｏ１を境とし、前記洗浄液２０３の進行方向である図示Ｙ２方向側の領域Ａｆでの前記洗浄液２０３の流速Ｖ１は、前記洗浄液２０３の進行方向と逆方向である図示Ｙ１方向側の領域Ａｂでの流速Ｖ２よりも早い。
【０００９】
そのため、前記領域Ａｆには前記洗浄液２０３が行き渡り易く、前記ウエハ２００の上面２００ａに付着しているメッキ液が洗浄除去され易いが、前記領域Ａｂでは前記洗浄液２０３が行き渡り難く、前記ウエハ２００の上面２００ａに付着しているメッキ液が洗浄除去され難い。そのため、前記領域Ａｂでは、洗浄されずに残存した前記メッキ液によって前記ウエハ２００の上面２００ａが腐食されてしまうといった問題があった。
【００１０】
一方、前記図１０に示す洗浄方法でも、図８および図９に示す洗浄方法と同様に、前記洗浄液供給中心点Ｏ２およびＯ３を境とし、前記洗浄液２０３の進行方向である図示Ｙ２方向側の領域Ａｆでの前記洗浄液２０３の流速Ｖ１は、前記洗浄液２０３の進行方向と逆方向である図示Ｙ１方向側の領域Ａｂでの流速Ｖ２よりも早いため、前記領域Ａｆには前記洗浄液２０３が行き渡り易く、前記ウエハ２００の上面に付着しているメッキ液が洗浄除去され易いが、前記領域Ａｂでは前記洗浄液２０３が行き渡り難く、前記ウエハ２００の上面２００ａに付着しているメッキ液が洗浄除去され難い。そのため、前記領域Ａｂでは、洗浄されずに残存した前記メッキ液によって前記ウエハ２００の上面２００ａが腐食されてしまうといった問題があった。
【００１１】
また前記問題に加え、前記ノズル２０６ａから供給された洗浄液２０３は前記洗浄液供給中心点Ｏ２を中心として、図示一点鎖線で示す拡散線で示されるように、前記ウエハ２００の上面２００ａに拡散して行く。一方、前記ノズル２０６ｂから供給された洗浄液２０３は前記洗浄液供給中心点Ｏ３を中心として、前記拡散線で示すように前記ウエハ２００の上面２００ａに拡散して行く。
【００１２】
このとき、前記ノズル２０６ａから供給された前記洗浄液２０３と、前記ノズル２０６ｂから供給された前記洗浄液２０３とは、図１０にクロスハッチングで示す干渉領域２１５で互いに干渉し合い、この干渉領域２１５では洗浄液２０３と洗浄液２０３とが淀んでしまい、前記ウエハ２００の上面２００ａに付着しているメッキ液が洗浄除去され難い。そのため、前記干渉領域２１５では、洗浄されずに残存した前記メッキ液によって前記ウエハ２００の上面２００ａが腐食されてしまうといった問題があった。
【００１３】
本発明は前記従来の課題を解決するものであり、ウエハ表面に対して洗浄液を斜め方向から供給した場合でも、ウエハ表面全体に洗浄液を均一に行き渡らせることができ、適切に洗浄を行うことが可能な洗浄方法、および洗浄装置に関する。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の洗浄方法は、以下の工程を有することを特徴とするものである。
（ａ）被洗浄物に位置する第１の洗浄液供給中心点の側方部から第１の方向に向かって第１の流量で洗浄液を流して前記第１の洗浄液供給中心点に前記洗浄液を供給する工程と、
（ｂ）前記第１の洗浄液供給中心点に対して前記第１の方向と反対方向に形成された領域に位置する第２の洗浄液供給中心点に前記洗浄液を第２の流量で供給する工程。
【００１５】
この場合、前記（ｂ）工程で、前記第２の流量を前記第１の流量よりも少なくするものとして構成することが好ましい。
【００１６】
また、前記（ｂ）工程で、前記洗浄液を前記第１の方向に向かって流して前記第２の洗浄液供給中心点に供給するものとして構成することができる。
【００１７】
また本発明の洗浄装置は、被洗浄物を保持するホルダと、前記被洗浄物に対し洗浄液を供給する第１の洗浄液供給手段と第２の洗浄液供給手段を有し、前記洗浄方法を用いた洗浄装置において、
前記被洗浄物に位置する第１の洗浄液供給中心点に対して前記第１の洗浄液供給手段で第１の流量で前記洗浄液を供給し、前記第２の洗浄液供給中心点に対して前記第２の洗浄液供給手段で第２の流量で前記洗浄液を供給することを特徴とするものである。
【００１８】
この場合、前記第１の洗浄液供給手段の幅方向を２分する中央線と、前記第２の洗浄液供給手段の幅方向を２分する中央線とが、縦方向で重なる位置関係で設けられているものとして構成することができる。
【００１９】
また、前記第１の洗浄液供給手段から供給される前記洗浄液の流れ方向と、前記第２の洗浄液供給手段から供給される洗浄液の流れ方向とが同じ方向となる位置関係で、前記第１の洗浄液供給手段と前記第２の洗浄液供給手段とを設けるものとして構成することができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明では、被洗浄物に第１の洗浄液供給手段によって洗浄液が供給される際、この洗浄液が被洗浄物の側方から流されることによって、本来は洗浄液が行き渡り難い領域にも、前記第２の洗浄液供給手段から前記洗浄液の供給を行うことによって、被洗浄物の全体に洗浄液を行き渡り易くしている。
【００２１】
したがって、本来は洗浄液が行き渡り難い領域においても、被洗浄物を洗浄除去し易くでき、前記ウエハ１００の歩留まりを向上させることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
図１は本発明の洗浄装置を示す構成図、図２は図１に示す前記洗浄装置の部分斜視図、図３は図２の平面図、図４は図２を側方（図２に示すＸ２方向）から見た矢視図である。
【００２３】
図１ないし図４に示す洗浄装置１は、基板上にメッキ処理が施されたウエハ１００などを洗浄するための洗浄装置であり、前記ウエハ１０を保持するためのホルダ２と、前記ウエハ１０を洗浄するための洗浄液３を貯留しておくための貯留槽４と、前記貯留槽４に貯留された前記洗浄液３を前記ウエハ１０に供給するための供給管５を有している。前記供給管５には、ポンプなどからなる液送手段９が設けられており、前記供給管５は前記液送手段９の前記ホルダー２側で２方向へ分岐し、第１供給管５ａと第２供給管５ｂとに分岐している。図１に示すように、第１供給管５ａの先端には本発明の第１の洗浄液供給手段である第１ノズル６ａが設けられており、前記第２供給管５ｂの先端には本発明の第２の洗浄液供給手段である第２ノズル６ｂが設けられている。
【００２４】
前記第１供給管５ａには、第１バルブ１０ａが設けられている。また、前記第１供給管５ｂには、第２バルブ１０ｂが設けられている。前記第１ノズル６ａは中空状に形成され、先端は開放端となって開口しており、第１吐出口１１ａが形成されている。同様に、前記第２ノズル６ｂも中空状に形成され、先端は開放端となって開口しており、第２吐出口１１ｂが形成されている。
【００２５】
前記貯留槽４に貯留されている前記洗浄液３は、前記液送手段９によって、前記供給管５を介して前記第１ノズル６ａおよび前記第２ノズル６ｂ方向へ送られる。なお、前記液送手段９に換えて、例えば前記貯留槽４の内部をＮ２ガスなどの不活性ガスで加圧し、この不活性ガスの圧力によって、前記貯留槽４の内部に貯留されている前記洗浄液３を前記第１ノズル６ａおよび前記第２ノズル方向へ送っても良い。
【００２６】
前記洗浄液３は、例えば純水や超純水などを使用できる。また、目的に応じて酸性液体など、公知の任意の液体も使用できる。前記洗浄液３は前記液送手段９によって前記第１供給管５ａおよび前記第２供給管５ｂを介して前記第１ノズル６ａおよび前記第２ノズル６ｂに送られ、前記第１吐出口１１ａおよび第２吐出口１１ｂから吐出され、前記ウエハ１００の上面１００ａに供給される。この洗浄液３が前記ウエハ１００の上面１００ａに供給されることによって、前記ウエハ１００の上面１００ａに付着しているメッキ液などの被洗浄物が洗浄除去される。この際、前記第１バルブ１０ａおよび第２バルブ１０ｂによって、前記洗浄液３の流量が制御され、前記ウエハ１００に供給される洗浄液３の量を任意に可変できるように構成されている。
【００２７】
前記ホルダ２の周囲には、前記ウエハ１００の上面１００ａを洗浄した後の洗浄液３を回収するための回収部７が形成されており、この回収部７で回収された洗浄後の前記洗浄液３は廃液とされ、配管８を介して廃液処理手段（図示せず）に搬送されて処理される。
【００２８】
前記洗浄装置１は、前記第１ノズル６ａおよび前記第２ノズル６ｂに形成された前記第１吐出口１１ａおよび前記第２吐出口１１ｂから、前記洗浄液３を前記ウエハ１００の上面１００ａに供給する方法に特徴を有している。以下に、この特徴を説明する。
【００２９】
図２ないし図４に示すように、前記第１ノズル６ａおよび前記第２ノズル６ｂは、前記ウエハ１００の側方（図示Ｙ１方向）部の上方に位置するように設けられている。また、図３に示すように、平面から見た場合に、前記第１ノズル６ａの幅方向を２分する中央線Ｃ１−Ｃ１線と、前記第２ノズル６ｂを幅方向に２分する中央線Ｃ２−Ｃ２線とが重なる位置関係で、前記第１ノズル６ａおよび前記第２ノズル６ｂとが設けられている。すなわち、前記第１ノズル６ａと前記第２ノズル６ｂとは、縦方向（図示Ｚ方向）に並んで縦２連に設けられている。
【００３０】
図３に示すように、前記第１ノズル６ａに形成された前記第１吐出口１１ａから吐出される前記洗浄液３は、前記ウエハ１００の上面１００ａに位置する第１の洗浄液供給中心点Ｏ５に向かって供給される。図３に示す実施形態では、前記第１の洗浄液供給中心点Ｏ５は、前記ウエハ１００の上面１００ａの中心点Ｏ１０と同じ位置に構成されている。ここで、前記洗浄装置１では、前記第１ノズル６ａが前記ウエハ１００の側方部上方に位置するように設けられているため、前記洗浄液３が前記ウエハ１００の図示Ｙ１方向から図示Ｙ２方向（第１の方向）に向かって流れるため、図３に示すように、前記洗浄液３の落下中心点である前記第１の洗浄液供給中心点Ｏ５を境とし、前記洗浄液３の進行方向である図示Ｙ２方向側の領域Ａｆでの前記洗浄液３の流速Ｖ１は、前記洗浄液３の進行方向と反対方向（第２の方向）側である図示Ｙ１方向側の領域Ａｂでの流速Ｖ２よりも早い。
【００３１】
そのため、前記領域Ａｆには前記洗浄液３が拡散して行き渡り易い。図３に示す一点鎖線は、前記第１ノズル６ａから供給された前記洗浄液３が前記ウエハ１００の上面１００ａで拡散して行く状態を模式的に表現した第１拡散線である。前記第１拡散線に示すように、前記第１ノズル６ａから供給された前記洗浄液３は、前記ウエハ１００の上面１００ａを、図示Ｙ２方向へ広がりながら拡散して行くのである。
【００３２】
したがって、前記ウエハ１００の上面１００ａに付着しているメッキ液などの被洗浄物が洗浄除去され易いが、前記領域Ａｂでは前記洗浄液３が淀み易くなっているため前記洗浄液３が行き渡り難く、前記ウエハ１００の上面１００ａに付着しているメッキ液などの被洗浄物が洗浄除去され難い。そのため、前記第１ノズル６ａからの前記洗浄液３の供給のみでは、前記領域Ａｂにおいて、洗浄されずに残存した前記メッキ液によって前記ウエハ１００の上面１００ａが腐食されてしまい、ウエハ１００の歩留まりが低下し易い。
【００３３】
しかし本発明の前記洗浄装置１では、前記洗浄液３が行き渡り難い前記領域Ａｂに位置する第２の洗浄液供給中心点Ｏ６に向かって、前記第２ノズル６ｂから前記洗浄液３の供給を行うことによって、前記洗浄液３の淀みを減少させ、前記洗浄液３を行き渡り易くしている。図３に示す破線は、前記第２ノズル６ｂから供給された前記洗浄液３が前記ウエハ１００の上面１００ａで拡散して行く状態を模式的に表現した第２拡散線である。前記第２拡散線に示すように、前記第２ノズル６ｂから供給された前記洗浄液３は、前記領域Ａｂの全域に広がりながら拡散して行くのである。
【００３４】
したがって、前記領域Ａｂにおいても、メッキ液などの被洗浄物を洗浄除去し易くでき、例えばメッキ液による腐食を抑制し、前記ウエハ１００の歩留まりを向上させることが可能となるのである。
【００３５】
前記洗浄装置１では、前記第１ノズル６ａから前記ウエハ１００の上面１００ａに供給される洗浄液３の流量と、前記第２ノズル６ｂから前記ウエハ１００の上面１００ａに供給される前記洗浄液３の流量とは異なっており、前記第１ノズル６ａからの流量の方が、前記第２ノズル６ｂからの流量よりも大きくなるように構成されている。仮に、前記第１ノズル６ａからの流量と前記第２ノズル６ｂからの供給量とが同じであると、前記第１ノズル６ａからの洗浄液と前記第２ノズル６ｂからの洗浄液３とが互いに干渉し易くなってしまい、前記洗浄液３が前記ウエハ１００の前記上面１００ａに充分拡散しなくなり、メッキ液などの被洗浄物を充分に洗浄除去することができなくなってしまう。
【００３６】
しかし、本発明の前記洗浄装置１のように前記第１ノズル６ａからの洗浄液３の流量と前記第２ノズル６ｂからの洗浄液３の流量とが異なるように構成すると、前記第１ノズル６ａからの前記洗浄液３と前記第２ノズル６ｂからの前記洗浄液３との干渉を抑制することができるので、前記ウエハ１００の上面１００ａの全体に前記洗浄液３を拡散させ易くできるため、メッキ液などの被洗浄物を洗浄除去し易くできる。したがって、前記ウエハ１００の上面１００ａに残存している前記メッキ液によって、前記ウエハ１００の上面１００ａが腐食することを効果的に防止することができるのである。
【００３７】
前記第１ノズル６ａから前記ウエハ１００の上面１００ａに供給する前記洗浄液３の流量は、例えば１０ｌ／ｍｉｎであり、前記第２ノズル６ｂから前記ウエハ１００の上面１００ａに供給される前記洗浄液３の流量は、例えば４ｌ／ｍｉｎである。
【００３８】
図５は、本発明の洗浄方法を用いて、前記ウエハ１００の上面１００ａを洗浄液３で洗浄したときの実施例と、従来例である図１０に示す方法で洗浄したときの比較例１ないし３について、前記ウエハ１００の上面１００ａの腐食状態を観察した結果を示す表である。なお、図５に示す実施例および比較例１ないし３では、前記洗浄液３として純水を使用して洗浄した結果である。ここで図５において、前記実施例では第１ノズル６ａと第２ノズル６ｂとを図３および図４に示すように縦２連で設け、第１ノズル６ａからの洗浄液の流量を１０ｌ／ｍｉｎ、第２ノズル６ｂからの流量を４ｌ／ｍｉｎとして観察した。一方、前記比較例１ないし３では、第１ノズル６ａと第２ノズル６ｂとを図１０に示すように横２連で設け、第１ノズル６ａからの洗浄液の流量を１０ｌ／ｍｉｎ、第２ノズル６ｂからの流量を１０ｌ／ｍｉｎとして観察した。なお、ウエハ１００の上面１００ａ測定箇所は、比較例１および比較例３では６箇所、比較例２では１２箇所、実施例では１２箇所について行った。また、図５に示す表中で、「△」で示すのは腐食が認められたことを示し、「○」で示すのは腐食が認められなかったことを示す。
【００３９】
図５に示すように、比較例１ないし３ではウエハ１００に腐食が認められたのに対し、実施例ではウエハ１００には腐食が認められなかった。
【００４０】
このように本発明では、前記ウエハ１００の上面１００ａに洗浄液３を均一に充分行き渡らせることができ、洗浄効果を向上させることが可能となるのである。
【００４１】
なお、前記第１ノズル６ａから供給する前記洗浄液３の洗浄液供給中心点Ｏ５は、前記ウエハ１００の上面１００ａの中心点Ｏ１０と同じ位置に構成されていることが好ましいが、本発明では、前記第１の洗浄液供給中心点Ｏ５が前記中心点Ｏ１０と異なる位置となるように構成しても良い。例えば、前記第１ノズル６ａからの洗浄液３の流量が１０ｌ／ｍｉｎよりも多い場合には、前記ウエハ１００の前記上面１００ａに流れる前記洗浄液３の流速が速くなるため、前記洗浄液供給中心点Ｏ５を、前記中心点Ｏ１０よりも前記第１ノズル６ａ側（図３におけるＹ１方向側）の位置としても、前記ウエハ１００の上面１００ａに行き渡り易くすることが可能となる。
【００４２】
反対に、前記第１ノズル６ａからの洗浄液３の流量が１０ｌ／ｍｉｎよりも少ない場合には、前記ウエハ１００の前記上面１００ａに流れる前記洗浄液３の流速が遅くなるため、前記第１の洗浄液供給中心点Ｏ５を、前記中心点Ｏ１０よりも前記第１ノズル６ａ側と反対側（図３におけるＹ２方向側）とすれば、前記第１ノズル６ａと離れた箇所にも前記洗浄液３が前記ウエハ１００の上面１００ａに行き渡り易くなる。この場合、前記第１の洗浄液供給中心点Ｏ５よりも第１ノズル６ａ側の前記領域Ａｂでは、前記第１ノズル６ａから供給された洗浄液３の流速が遅いために、前記洗浄液３が行き渡り難くなってしまうため、前記第２ノズル６ｂからの洗浄液３の供給流量を４ｌ／ｍｉｎよりも多くすることにより、前記領域Ａｂにも前記洗浄液３を行き渡らせるようにすることができる。
【００４３】
本発明では図６に示すように、前記第２ノズル６ｂを、前記ウエハ１００の縦方向側（Ｘ１−Ｘ２方向側）の任意の場所に設けて、前記ウエハ１００の縦方向側から前記領域Ａｂに第２ノズル６ｂからの洗浄液３の供給を行っても良い。
【００４４】
ただし、図２ないし図４に示すように、前記第１ノズル６ａと前記第２ノズル６ｂとが重なるように前記縦２連の位置関係で設け、前記第１ノズル６ａからの洗浄液３と前記第２ノズル６ｂからの洗浄液３の流れる方向が同じように構成すると、前記領域Ａｆと領域Ａｂとの洗浄液３の干渉を少なくすることができるため好ましい。
【００４５】
また、前記第１ノズル６ａおよび第２ノズル６ｂとを縦２連の位置関係で設けると、前記第１ノズル６ａと前記第２ノズル６ｂの双方をクランプなどの固定手段によって保持し易くでき、前記第１ノズル６ａと前記第２ノズル６ｂの固定姿勢（角度）を確実に維持し易くい。
【００４６】
また図７に示すように、前記ウエハ１００の上面１００ａに形成されたメッキ処理部２０の配列方向（Ｙ１−Ｙ２方向）と交差する方向（Ｘ１−Ｘ２方向）に前記洗浄液３を流すことが可能なように、前記第１ノズル６ａを設けることが好ましい。さらには、第２ノズル６ｂも、メッキ処理部２０の配列方向と交差する方向に洗浄液３が流すことが可能なように設けることが好ましい。このように前記第１ノズル６ａおよび第２ノズル６ｂを設けると、前記メッキ処理部２０に形成された素子（図示せず）の長手方向（例えば前記素子が薄膜磁気ヘッドである場合は、ハイト方向）と同軸方向に、前記洗浄液３が流れるようにすることができるため、前記素子が前記洗浄液３の水圧によって損傷することを抑制し易い。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明の洗浄装置を示す構成図、
【図２】図１に示す前記洗浄装置の部分斜視図、
【図３】図１に示す洗浄装置の部分平面図、
【図４】図１に示す洗浄装置の部分矢視図、
【図５】本発明の洗浄方法を用いた場合のウエハ上面と比較例の洗浄方法を用いた場合のウエハ上面を観察した結果を示す図、
【図６】本発明の変形例を示す部分平面図、
【図７】好ましい洗浄液の流れ方向の説明図、
【図８】従来の洗浄装置を示す部分平面図、
【図９】従来の洗浄装置を示す部分矢視図、
【図１０】従来の洗浄装置を示す部分平面図、
【符号の説明】
【００４８】
１  洗浄装置
２  ホルダー
３  洗浄液
４  貯留槽
５  供給管
６ａ  第１ノズル
６ｂ  第２ノズル
７  回収部
８  配管
９  液送手段
１０ａ  第１バルブ
１０ｂ  第２バルブ
１１ａ  第１吐出口
１１ｂ  第２吐出口
１００  ウエハ
１００ａ  上面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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