(57)【要約】【課題】膜厚傾斜部における反射率の低減が可能となるＮＤフィルタ、ＮＤフィルタの製造方法、光量絞り装置、該光量絞り装置を有するカメラを提供する。【解決手段】本発明のＮＤフィルタは、基板上に少なくとも２種類以上の膜を有するＮＤフィルタであって、前記膜は、第１層から最表層までの膜（図４（ｂ））とは逆方向の膜厚傾斜を持つ該最表層と同組成の膜が該最表層上に更に成膜されることにより（図４（ｃ））、該最表層と該最表層と同組成の膜とが合わさって形成された最終形態の最表層の膜を有し、該最終形態の最表層の膜が光学膜厚において一定、もしくは中心値±１／８λ（λ＝５００ｎｍから６００ｎｍ）の膜厚分布を有する構成とする。【選択図】            図４
2005345744.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に少なくとも２種類以上の膜を有するＮＤフィルタであって、
前記膜は、第１層から最表層までの膜とは逆方向の膜厚傾斜を持つ該最表層と同組成の膜が該最表層上に更に成膜されることにより、該最表層と該最表層と同組成の膜とが合わさって形成された最終形態の最表層の膜を有し、該最終形態の最表層の膜が光学膜厚において一定、もしくは中心値±１／８λ（λ＝５００ｎｍから６００ｎｍ）の膜厚分布で構成されていることを特徴とするＮＤフィルタ。
【請求項２】
前記第１層から最表層までの膜において、第１層から最表層の手前までの膜は膜厚が連続的に変化していることを特徴とする請求項１に記載のＮＤフィルタ。
【請求項３】
前記最終形態の最表層の膜は、光学膜厚においてｎ×ｄ（但し；ｎは屈折率、ｄは機械膜厚）で１／４λ（λ＝５００ｎｍから６００ｎｍ）の膜厚分布を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載のＮＤフィルタ。
【請求項４】
前記最終形態の最表層の膜は、膜の屈折率ｎが可視域の波長域で１．５以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のＮＤフィルタ。
【請求項５】
基板上に少なくとも２種類以上の膜を成膜してＮＤフィルタを製造するＮＤフィルタの製造方法であって、
前記第１のスリット型マスクを、前記基板と一体的にドーム上を公転させ、グラデーション濃度分布をもつ第１層から最表層の膜を成膜する工程と、
前記第１のスリット型マスクと位置をずらせた第２のスリット型マスクを、前記基板と一体的にドーム上を公転させ、前記第１層から最表層とは逆方向の膜厚分布をもつ前記最表層と同組成の膜を更に成膜する工程と、
を有することを特徴とするＮＤフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記第１及び第２のスリット型マスクにおけるスリット間の幅と、該スリット型マスクと前記基板との距離とを、それぞれ調整して任意のグラデーション濃度分布を形成することを特徴とする請求項５に記載のＮＤフィルタの製造方法。
【請求項７】
前記第１層から最表層の膜及び前記最表層と同組成の膜を成膜した後に、成膜された前記基板を１００℃から１３０℃の温度で空気中で熱処理する工程を有することを特徴とする請求項５または請求項６に記載のＮＤフィルタの製造方法。
【請求項８】
相対的に駆動されて絞り開口の大きさを可変する複数の絞り羽根と、該絞り羽根により形成された開口内の少なくとも一部に配置される光量調整のためのＮＤフィルタとを備えた光量絞り装置において、
前記ＮＤフィルタが、請求項１〜４のいずれか１項に記載のＮＤフィルタ、または請求項５〜７のいずれか１項に記載の製造方法によって製造されたＮＤフィルタによって構成されていることを特徴とする光量絞り装置。
【請求項９】
光学系と、該光学系を通過する光量を制限する請求項８に記載の光量絞り装置と、該光学系によって形成される像を受ける固体撮像素子を有することを特徴とするカメラ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＮＤフィルタ、ＮＤフィルタの製造方法、光量絞り装置、該光量絞り装置を有するカメラに関し、特にビデオカメラあるいはスチルビデオカメラ等の撮影系に使用するに適したＮＤフィルタ及びＮＤフィルタの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光量絞りは銀塩フィルムあるいはＣＣＤ等への固体撮像素子へ入射する光量を制御するため、撮影光学系の光路中に設けられており、被写界が明るい場合に光量をより小さく絞り込まれるように構成されている。
従って、快晴時や高輝度の被写界を撮影すると絞りは小絞りとなり、絞りのハンチング現象や光の回折の影響も受け易く、像性能の劣化を生じる。
これに対する対策として、絞り羽根にフィルム状のＮＤ（Ｎｅｕｔｒａｌ    Ｄｅｎｓｉｔｙ）フィルタを取り付けて被写界の明るさが同一でも絞りの開口が大きくなる様な工夫がされている。
【０００３】
近年、撮像素子の感度が向上するに従い、前記ＮＤフィルタの濃度を濃くして、光の透過率をさらに低下させ、被写界の明るさが同一でも絞りの開口を大きくする様な工夫がなされてきている。しかしながら、この様にＮＤフィルタの濃度が濃くなると、図１３に示す様にフィルムを通過した光ａと通過しない光ｂの光量差が大きく異なり、画面内で明るさが異なる“シェーディング”現象が起きたり、解像度が低下してしまうという欠点がある。この欠点を解決するためにＮＤフィルタの濃度を光軸中心に向かって順次透過率が大となる様な構造を取る必要が出てきている。
【０００４】
因みに図１３で６Ａ，６Ｂ，６Ｃ，６Ｄは撮影光学系６を構成するレンズ、７は固体撮像素子で８はローパスフィルタである。また１１から１４は絞り装置で、１１がＮＤフィルタ、１２と１３が対向的に移動する絞り羽根で、２枚の絞り羽根は略菱形の開口を形成する。ＮＤフィルタは普通、絞り羽根に接着されている。１４は絞り羽根支持板である。
【０００５】
一般的にＮＤフィルタの作製方法としては、フィルム状をなす材料（セルロースアセテート、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、塩化ビニル等）中に光を吸収する有機色素または顔料を混ぜ、練り込むタイプのものと、前記材料に光を吸収する有機色素または顔料を塗布するタイプのものがある。これらの製造方法では、濃度が均一なフィルタは作製可能であるが、濃度が変化するタイプのフィルタ（グラデーションフィルタ）は作製が著しく困難である。
【０００６】
また、特許文献１、特許文献２、特許文献３等に開示されているように、マイクロ写真法による濃度が変化するタイプのフィルタの作製が提案されている。
これらが提案された当時のビデオカメラでは、この方法により作製したＮＤフィルタで画質の向上が図られたが、近年のＣＣＤの更なる高感度化、小型化、高画質対応により特に特殊条件での使用（例えば逆光下での小径絞り状態）において、銀塩粒子による光の散乱による影響により画質が劣化してしまうことがある。
【０００７】
また、特許文献４には、真空蒸着法により楕円形グラデーションフィルタの製造方法が開示されている。この方法では、微少領域（例えば３ｍｍの範囲で透過率３％から８０％までの変化等）での濃度変化ができない欠点がある。
さらに、上記高画質対応の対策として、単一濃度のＮＤフィルタを複数の絞り羽根に接着して、駆動させることにより、単一濃度フィルタでも複数重なった部分と重ならない部分とから、濃度変化させることは可能である。
しかしながら、この方法ではＮＤフィルタの枚数が増えることによるコストｕｐになること、及び絞り羽根に複数枚ＮＤフィルタが存在することにより厚くなってしまい、近年の小型・省スペース化に対応できない等の欠点がある。
さらに、近年、段階的な多濃度ＮＤフィルタが使用され始めてきているが、異なる濃度の境界部分で重なったり隙間ができたりして光学特性が変化し、画質の劣化を引き起こすことがわかってきた。
【０００８】
このような現象の解決には、連続的に濃度を変化させたグラディエントなＮＤフィルタが必要である。そのため、特許文献５、特許文献６等では、真空蒸着法等を用い、基板とスリット型マスクとの間隔を一定に保つようにして、基板に対しスリット型マスクを設け、スリット型マスクを該基板と一体的にドーム上を公転させ、成膜蒸着源と基板との位置関係から、該基板に蒸着させる蒸着粒子が該スリット型マスクを通過して基板に到達できたり、スリット型マスクに遮られ基板まで到達できなかったりすることで、グラデーション濃度分布を有するＮＤフィルタを製造する方法が提案されている。
【特許文献１】特許第２７５４５１８号公報
【特許文献２】特許第２７７１０７８号公報
【特許文献３】特許第２７７１０８４号公報
【特許文献４】特開平１１−３８２０６号公報
【特許文献５】特開２００４−０６１９００号公報
【特許文献６】特開２００４−０６１９０３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記特許文献５、特許文献６等によるＮＤフィルタの製造方法によれば、連続的に濃度を変化させたグラディエントなＮＤフィルタの作製が可能となる。しかしながら、これらのＮＤフィルタの場合、最高均一濃度部では反射防止条件が合っているので、反射率は所定値以下に抑えることができるが、濃度が連続的に変化する濃度傾斜部（膜厚傾斜部）においては、各層の膜厚が連続的に変化するため、反射防止条件が合わない領域が生じ、部分的に反射率が高くなり、これらによってゴースト、フレア現象が生じるという点で、必ずしも満足の行くものではなかった。
【００１０】
そこで、本発明は、膜厚傾斜部における反射率の低減が可能となり、光の散乱による画質の劣化が生ぜず、高画質化に対応することができ、各濃度において分光特性がフラットであるＮＤフィルタ、ＮＤフィルタの製造方法、光量絞り装置、該光量絞り装置を有するカメラを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、以下のように構成したＮＤフィルタ、ＮＤフィルタの製造方法、光量絞り装置、該光量絞り装置を有するカメラを提供するものである。
すなわち、本発明のＮＤフィルタは、基板上に少なくとも２種類以上の膜を有するＮＤフィルタであって、前記膜は、第１層から最表層までの膜とは逆方向の膜厚傾斜を持つ該最表層と同組成の膜が該最表層上に更に成膜されることにより、該最表層と該最表層と同組成の膜とが合わさって形成された最終形態の最表層の膜を有し、該最終形態の最表層の膜が光学膜厚において一定、もしくは中心値±１／８λ（λ＝５００ｎｍから６００ｎｍ）の膜厚分布で構成されていることを特徴としている。
また、本発明のＮＤフィルタの製造方法は、基板上に少なくとも２種類以上の膜を成膜してＮＤフィルタを製造するＮＤフィルタの製造方法であって、前記第１のスリット型マスクを、前記基板と一体的にドーム上を公転させ、グラデーション濃度分布をもつ第１層から最表層の膜を成膜する工程と、前記第１のスリット型マスクと位置をずらせた第２のスリット型マスクを、前記基板と一体的にドーム上を公転させ、前記第１層から最表層とは逆方向の膜厚分布をもつ前記最表層と同組成の膜を更に成膜する工程と、を有することを特徴としている。
また、本発明の光量絞り装置は、相対的に駆動されて絞り開口の大きさを可変する複数の絞り羽根と、該絞り羽根により形成された開口内の少なくとも一部に配置される光量調整のためのＮＤフィルタとを備えた光量絞り装置において、前記ＮＤフィルタが、上記したＮＤフィルタ、または上記した製造方法によって製造されたＮＤフィルタによって構成されていることを特徴としている。
また、本発明のカメラは、光学系と、該光学系を通過する光量を制限する上記した光量絞り装置と、該光学系によって形成される像を受ける固体撮像素子を有することを特徴としている。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、光の散乱による画質の劣化が生ぜず、高画質化に対応することが可能となり、各濃度において分光特性がフラットで、傾斜部の反射率の低減が可能であるグラデーション濃度分布を有するＮＤフィルタの製造方法及びＮＤフィルタ、並びにこれらのＮＤフィルタを有し光量の均一性の向上を図ることができる光量絞り装置及びカメラを実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明は、上記のような構成に特徴を有するものであるが、それは本発明者らが鋭意検討したつぎのような知見に基づくものである。以下の本発明の実施の形態の説明により、これらを明らかにする。
図１は本実施の形態に用いる真空蒸着機の構成を説明する図であり、（ａ）は真空蒸着機におけるチャンバー内の簡易図、（ｂ）は基板の拡大図である。
図１において１０１は蒸着傘、１０２は成膜を施す基板、１０３は蒸着源、１０４は実際に成膜を実施する基材、１０５は基材１０４を固定する為の基板治具である。また、本実施の形態において説明する基板１０２とは、図１（ｂ）に示すように基板治具１０５に基材１０４がセットされた状態のものを意味している。
【００１４】
図２は、本実施の形態に用いるマスクを説明する図であり、ここでは一例として、図２（ａ）のノーマル型のスリット型マスクが用いられている。
図２において１０６はスリット型マスク、１０７はスリット型マスクにおけるスリット間の幅、１０８は基板とスリット型マスクとの距離である。
【００１５】
本実施の形態において用いる真空蒸着法においては、図１の様にチャンバー内の基板は蒸着傘１０１に備え付けられ、この蒸着傘１０１と共に基板１０２が回転し成膜が行われる。この基板１０２の成膜側に例えば図２（ａ）に示すようなスリット型マスクを設けることにより、蒸着源１０３と基板１０２との位置関係から、蒸着する蒸着粒子はスリットを通過し基板１０２に到達できたり、スリット型マスクに遮られ基板１０２まで到達できなかったりすることになり、図５（ａ）に示すような膜厚分布を得ることとなる。
【００１６】
図５（ａ）は、実際に図２（ａ）に示すスリット型マスクを用いて膜厚分布シミュレーションを実施した結果であり、図５（ｂ）は図５（ａ）のパラメータである基板上の位置Δｘの説明図、図５（ｃ−１）は蒸着傘中の位置の鳥瞰図、図５（ｃ−２）は蒸着傘中の位置の断面図をそれぞれ示している。１０９は蒸着傘１０１中の基板位置である。
【００１７】
図５（ａ）で示されている膜厚分布は、当然、蒸着傘中の基板位置１０９や、マスクのスリット間の幅１０７や、基板とマスクとの距離１０８等によっても異なったものになる。このことは図５（ａ）に示すように、蒸着傘中の基板位置１０９により、膜厚分布が一致しない結果から考慮しても明らかであろう。したがって、反対にマスクのスリット間の幅１０７や基板とマスクとの距離１０８を調整することにより、基板上に成膜される薄膜は任意のグラデーション膜厚分布を得ることになる。膜厚が増加すると言うことは、膜の濃度が濃くなり透過率が下がることを意味しているため、任意の膜厚分布を得ることとは、言い換えれば本発明が課題とする任意のグラデーション濃度分布を得ることと言える。
【００１８】
また、このような任意のグラデーション濃度分布を作製するためのスリット型マスクの形状は、本実施の形態では図２（ａ）に示すような形状のスリット型マスクを用い、図５（ａ）におけるシミュレーション結果と共に説明してきたが、実際は、図２（ｂ）に示すノコギリ歯型、あるいは図２（ｃ）に示すクシ型等、作製したいＮＤフィルタのグラデーション濃度分布によって、様々のものを用いることができる。
【００１９】
以上のＮＤフィルタの製造方法によって、グラデーション濃度分布を有する膜を成膜した場合、濃度が連続的に変化する濃度傾斜部（膜厚傾斜部）において部分的に反射率が高くなることが生じる。
これらを図４を用いて更に説明すると、図４（ａ）において領域Ｘ４からＸ３の最高均一濃度部は反射防止条件が合っているので、反射率は２％以下である。これに対して、領域Ｘ３から０の濃度傾斜部＝膜厚傾斜部においては、各層の膜厚が連続的に変化するため、反射防止条件が合わない領域が生じ、部分的には５％以上の反射率となり、これらがゴースト、フレア現象が発生する原因となる（図４（ｂ）参照。）。
【００２０】
本発明者らはこれらの問題点を解決するため、鋭意検討を重ねた結果、第１のスリット型マスクで第１層から最表層まで膜を形成した後、該第１層から最表層の膜とは逆方向の膜厚傾斜を持つ該最表層と同組成の膜を、該最表層上に更に成膜し、該最表層と該最表層と同組成の膜とが合わさって形成された最終形態の最表層の膜厚が、光学膜厚で１／４λと一定、あるいは１／４λ±１／８λ（λ＝５００ｎｍから６００ｎｍ）（光学膜厚で）の膜厚分布になるようにすることで、膜厚傾斜部の反射率を２％以下に抑え（図４（ｃ）参照。）、ゴースト・フレア現象を抑えることが可能となるという解決手段を見出したのである。
その際、このような膜の形成方法としては、第１のスリット型マスク（図４（ｂ）の４０１参照）で１層から最表層まで形成した後、第１のスリット型マスクと位置をずらせた第２のスリット型マスク（図４（ｃ）の４０２参照）を基板と一体的にドームを公転させて成膜することにより、前記１層から最表層とは逆方向の膜厚傾斜を持つ該最表層と同組成の膜を、該最表層上に更に形成する方法を用いた。
【００２１】
以上において本実施の形態について説明したが、本発明はこれらの実施の形態によって何ら限定されるものではない。特に、図１等の説明においては、ＮＤフィルタの成膜の実施方法として、真空蒸着法を用いた場合を例にとって説明しているが、本発明はスパッタリング法・インクジェットプリンティング法・スプレー法などにおいても同様な効果を得ることができ、これらの成膜法は一般的に知られていることでもあるから、ここでは記述を省略している。
【実施例】
【００２２】
つぎに、本発明の実施例について説明する。
本実施例は、上記した本発明の構成及び実施の形態を適用したものであり、これらを図を用いて説明する。
図３の（ａ−１）は本実施例の第１層から最表層までの成膜時の基板上にセットされたスリットマスクを上から見た図であり、図３の（ａ−２）は（ａ−１）を矢印方向から見た図で、スリットマスクと基板にスペースを設けることにより第１層から最表層までの膜の付き方を表した図である。また、図３の（ｂ−１）は本実施例の最表層と同組成の膜の成膜時の基板上にセットされたスリットマスクを上から見た図であり、図３の（ｂ−２）は（ｂ−１）を矢印方向から見た図で、スリットマスクと基板にスペースを設けることにより最表層と同組成の膜の付き方を表わした図である。
図３において、３０１、３０１’はスリットマスク、３０２はＰＥＴ基板、３０３は成膜治具、３０４は第１層から最表層の膜、３０５は最表層と同組成の膜である。
【００２３】
以下に、本実施例によるＮＤフィルタの製造方法について説明する。
まず、材質厚７５μｍのプラスチック基材（以下、ＰＥＴ基材と記す）上に、真空蒸着法により図６に示す膜構成のうち、その第１層から最表層までを次のようにして形成した。
本実施例においては、スリットマスクは図２（ａ）のノーマル型を使用し、図３に示す様に配置した。図３のようにマスク３０１を基板３０２から離して設定することにより、第１層から最表層までの膜は図３の（ａ−２）の３０４に示すような膜厚分布となる。
【００２４】
また、膜生成法として、膜厚を比較的容易に制御でき、かつ可視域の波長域で散乱が非常に小さいことから、真空蒸着法を選択した。また、基材の材質としては、耐熱性（ガラス転移点Ｔｇ）が高く、可視域の波長域で透明性が高く、また吸水性が低いＰＥＴを選択した。
【００２５】
次に、このスリットマスク３０１を外し、図３の（ｂ−２）に示すように、別のスリットマスク３０１’を用いて、最表層と同組成の膜を第１層から最表層までの膜厚傾斜方向と逆方向の膜厚傾斜になるように、前記最表層上に成膜した。これにより最表層と同組成の膜は図３の（ｂ−２）の３０５に示すような膜厚分布となる。
前記最表層及び最表層と同組成の膜を合わせた層を、ここでは改めて最表層と称す。
理由は、第１層から最表層までの連続膜厚傾斜する部分の最表層膜と、最表層と同組成の膜を逆方向の膜厚傾斜になるように成膜した膜は、最終形態では足されて、最表層になるためである。
【００２６】
最表層及び最表層と同組成の膜、つまりは最終形態の最表層の膜は、光学膜厚ｎ×ｄ（ｎは屈折率、ｄは機械膜厚）で１／４λ（λ：５４０ｎｍ）の条件により成膜した。この最終形態の最表層の膜の屈折率ｎは可視域の波長域で１．５以下のものを選んだ。具体的にはＭｇＦ２を使用した。
これにより、斜め部分の反射率は３％以下にすることが可能になった。
【００２７】
以上のように第１層から最表層と同組成の膜まで成膜した後、１１０℃  １時間、空気中で熱処理を行った。１１０℃を選んだのは、１００℃未満では環境安定性向上の効果が不十分であり、１３０℃を超えると基材の熱的劣化を生じて膜にクラックが発生する等問題が発生する。したがって、熱処理の温度は、１１０℃から１３０℃の間が適当である。
【００２８】
環境安定性を調べるため、前記プラスチックＮＤフィルタを６０℃８５％２４０時間の放置試験を行い、試験前後での透過率を測定すると、その差が０．２％以下とほとんど差は見られなかった。参考として、熱処理を行わないものを同様な環境試験を行い、試験前後での透過率を測定すると２％前後増加していた。
このような現象が起きる要因としては、真空蒸着時の基板温度が低いことがあげられる。
膜の封止密度は成膜時の基板温度が大きく影響し、温度が低いと封止密度が低くなり、水分・酸素等を透過しやすく、そのため吸収膜であるＴｉｘＯｙ自体の酸化が促進されること、及びそれを保護するＡｌ２Ｏ３膜等の誘電体膜の保護効果が少ないことの両方の影響から透過率が上昇するものと考えられる。熱処理を行うと環境安定性が向上するのは、“エージング効果”であると考えられる。
通常、ガラス基板を用いる場合、基板温度は２００℃〜２５０℃、望ましくは３００℃前後まで加熱して成膜する。
しかし、今回のように基板がプラスチックの場合、基板が熱収縮を起こさない温度で成膜する必要があり、その基板温度は１５０℃未満に制約される。
【００２９】
ここで、ＮＤフィルタの一例を示すと、図１１（ａ）のようなパターンを作製して、図１１（ｂ）のように略三角形の形状に切り抜き、その後、この切り抜いたフィルタ１１を羽根１２に貼って図１２の状態になる。絞り装置は、図１３を用いて説明したものと同様のもので、相対的に駆動されて絞り開口の大きさを可変する複数の絞り羽根を備えている。フィルター１枚は図１１（ｂ）のようになっていて、０が端面部でそこからＸ１Ｘ２Ｘ３までが濃度変化領域である。Ｘ３からＸ４は最も濃い均一濃度が形成されている。Ｘ４からＸ５はフィルターを羽根に接着するための接着領域である。
【００３０】
図４（ａ）に、ＮＤグラデーションフィルタとそれに対応した各膜厚の状態を示す。
まず、第１層から最表層までについて述べる。
０，Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３領域では連続的にそれぞれの膜厚が増加している。この変化の仕方は前記スリットマスクのスリット幅と基板とスリット間のスペースで所望のパターンに設定できる。
Ｘ３，Ｘ４領域では一定濃度のため、各膜厚も一定膜厚である。
【００３１】
次に、最表層と最表層と同組成の膜（最表層と該最表層と同組成の膜とが合わさって形成された最終形態の最表層）であるが、これは反射防止・環境安定性も兼ねている膜で光学膜厚ｎ×ｄで１／４λ（λ＝５００ｎｍ〜６００ｎｍ）と０〜Ｘ５までの領域で一定膜厚が最も好ましいが、１／４λ±１／８λの膜厚分布内であれば、反射率３％以下になった。
また、最表層と同組成の膜は、０，Ｘ１，Ｘ２，Ｘ３領域では、第１層から最表層までとは反対に、連続的に膜厚が減少している。この変化の仕方は概ねスリット幅を広げると傾斜は緩やかになり、浮かせ距離を増やしていくと均一濃度領域が増える傾向にある。
最表層と同組成の膜の膜厚は、第１層から最表層までの膜厚変化を補正する膜厚に設定する。この２つのパラメータにより所望の傾斜状態、均一濃度の領域の制御が可能である。
このような膜構成にすることにより、各領域における傾斜部の反射率の低減が可能となり、“ゴースト”“フレア”現象が抑えられた。
【００３２】
この時の距離と濃度の関係は図７、距離と反射率の関係は図８に示すようになった。
さらに、分光透過率は図９、分光反射率は図１０に示すようになった。
因みにスリット幅は０．０２ｍ、マスクと基板との浮かせ距離は０．０１ｍの結果である。
距離と濃度の関係における変化の仕方は、概ねスリット幅を広げると傾斜は緩やかになり、浮かせ距離を増やしていくと均一濃度領域が増える傾向にある。この２つのパラメータにより所望の傾斜状態、均一濃度の領域の制御が可能である。さらに、図２（ｂ），（ｃ）のようにスリットを直線からノコギリ歯型、クシ歯型にすることにより、より細かな制御が可能となる。例えば、裾を長く取りたい時は、ノコギリ歯型の方が有利である。
【００３３】
以上で説明した実施例によれば、各濃度において分光特性がフラットなグラデーションＮＤフィルタの作製が可能となり、グラデーションの変化に対する様々なニーズに対応できる。さらに、蒸着後に熱処理を行うことにより、環境安定性を向上させることができる。
また、部分的に膜厚が変化する時に発生する、反射防止条件の変化による反射率の増大を抑制することが可能となり、高画質対応の要請に応えられる絞り装置を実現することができる。また、光学系と、該光学系を通過する光量を制限する上記した光量絞り装置と、該光学系によって形成される像を受ける固体撮像素子を有するカメラを実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の実施の形態に用いる真空蒸着機の構成を説明する図であり、（ａ）は真空蒸着機におけるチャンバー内の簡易図、（ｂ）は基板の拡大図である。
【図２】本発明の実施の形態に用いるマスクを説明する図である。
【図３】（ａ−１）は本発明の実施例の第１層から最表層までの成膜時の基板上にセットされたスリットマスクを上から見た図であり、（ａ−２）は（ａ−１）を矢印方向から見た図で、スリットマスクと基板にスペースを設けることにより第１層から最表層までの膜の付き方を表した図、（ｂ−１）は本実施例の最表層と同組成の膜の成膜時の基板上にセットされたスリットマスクを上から見た図であり、（ｂ−２）は（ｂ−１）を矢印方向から見た図で、スリットマスクと基板にスペースを設けることにより最表層と同組成の膜の付き方を表わした図である。
【図４】本発明の実施の形態を説明する図であり、（ａ）はＮＤグラデーションフィルタとそれに対応した各膜厚の状態を表わした図、（ｂ）は第１のスリット型マスクで最表層まで成膜した時の各膜厚の状態を表わした図、（ｃ）は第２のスリット型マスクで最表層と同組成の膜を成膜した時の各膜厚の状態を表わした図である。
【図５】本発明の実施の形態におけるスリット型マスクによる膜厚分布シミュレーション例を示す図である。
【図６】本発明の実施例によって作製される蒸着ＮＤフィルタの膜構成を示す図である。
【図７】本発明の実施例における距離と濃度の関係を表わしたグラフである。
【図８】本発明の実施例における距離と反射率の関係を表わしたグラフである。
【図９】本発明の実施例における分光透過率を表わしたグラフである。
【図１０】本発明の実施例における分光反射率を表わしたグラフである。
【図１１】本発明の実施例におけるフィルタ製造の際のプレス抜き状態を説明する図であり、（ａ）は略三角形状の切り抜きパターンを示す図、（ｂ）は切り抜かれた略三角形状のＮＤフィルタの構成を示す図である。
【図１２】本発明の実施例により作製されたＮＤグラデーションフィルタの図である。
【図１３】従来例におけるビデオカメラに使用される撮影光学系を表した図である。
【符号の説明】
【００３５】
１０１：蒸着傘
１０２：基板
１０３：蒸着源
１０４：基材
１０５：基板治具
１０６：スリット型マスク
１０７：マスクのスリット間の幅
１０８：基板とマスクの距離
１０９：蒸着傘中の基板位置
３０１、３０１’：スリットマスク
３０２：ＰＥＴ基板
３０３：成膜治具
３０４：第１層から最表層の膜
３０５：最表層と同組成の膜
４０１：第１のスリットマスク
４０２：第２のスリットマスク
【図１】
2005345744.tif 000003
【図２】
2005345744.tif 000004
【図３】
2005345744.tif 000005
【図４】
2005345744.tif 000006
【図５】
2005345744.tif 000007
【図６】
2005345744.tif 000008
【図７】
2005345744.tif 000009
【図８】
2005345744.tif 000010
【図９】
2005345744.tif 000011
【図１０】
2005345744.tif 000012
【図１１】
2005345744.tif 000013
【図１２】
2005345744.tif 000014
【図１３】
2005345744.tif 000015