(57)【要約】      （修正有）【課題】ハロゲン化銅などの触媒を用いずとも、高分子量の有機ポリシランを収率良く簡単に合成できる技術を提供する。【解決手段】ジアルキルジハロシランとアルカリ金属とを反応させることにより有機ポリシランを製造する方法であって、アルカリ金属及びテトラヒドロフランを含む３０℃−７０℃の溶液中にジハロシランを添加し反応させ、その後反応液中に残存しているアルカリ金属を失活させ、トルエンで有機ポリシランを抽出する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ジハロシランとアルカリ金属とを反応させることにより有機ポリシランを製造する方法であって、
前記反応が下記の一般式で表される溶媒中で行われる
ことを特徴とする有機ポリシランの製造方法。
2005281518.tif 000004
［但し、Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６は、Ｈ又はアルキル基であり、全てが同一でも、異なっていても良い。］
【請求項２】
アルカリ金属および下記の一般式で表される化合物を含む溶液中にジハロシランを添加し、反応させることを特徴とする有機ポリシランの製造方法。
2005281518.tif 000005
［但し、Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６は、Ｈ又はアルキル基であり、全てが同一でも、異なっていても良い。］
【請求項３】
アルカリ金属および下記の一般式で表される化合物を含む温度が３０℃〜７０℃の溶液中にジハロシランを添加し、反応させることを特徴とする有機ポリシランの製造方法。
2005281518.tif 000006
［但し、Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６は、Ｈ又はアルキル基であり、全てが同一でも、異なっていても良い。］
【請求項４】
ジハロシランとアルカリ金属との反応後に、トルエンで有機ポリシランを抽出することを特徴とする請求項１〜請求項３いずれかの有機ポリシランの製造方法。
【請求項５】
抽出された有機ポリシランを、再度、沈殿させて精製することを特徴とする請求項１〜請求項４いずれかの有機ポリシランの製造方法。
【請求項６】
ジハロシランとアルカリ金属との反応後で、かつ、有機ポリシランを抽出する前において、反応液中に残存しているアルカリ金属を失活させることを特徴とする請求項１〜請求項５いずれかの有機ポリシランの製造方法。
【請求項７】
ジハロシランはＲ１（Ｒ２）Ｓｉ（Ｘ１）Ｘ２［但し、Ｒ１，Ｒ２は、Ｈ又はアルキル基であり、全てが同一でも、異なっていても良い。Ｘ１，Ｘ２は、ハロゲンであり、全てが同一でも、異なっていても良い。］で表されるジアルキルジハロシランであることを特徴とする請求項１〜請求項６いずれかの有機ポリシランの製造方法。
【請求項８】
ジハロシランはフェニルメチルジクロルシランであることを特徴とする請求項１〜請求項７いずれかの有機ポリシランの製造方法。
【請求項９】
溶媒がテトラヒドロフランであることを特徴とする請求項１〜請求項８いずれかの有機ポリシランの製造方法。
【請求項１０】
アルカリ金属がナトリウムであることを特徴とする請求項１〜請求項９いずれかの有機ポリシランの製造方法。
【請求項１１】
分子量が２００００以上の有機ポリシランを製造する方法であることを特徴とする請求項１〜請求項１０いずれかの有機ポリシランの製造方法。
【請求項１２】
ハロゲン化銅、酢酸銅、銅アセチルアセテート、シアン化銅の群の中から選ばれる銅化合物を触媒として用いることが無いことを特徴とする請求項１〜請求項１１いずれかの有機ポリシランの製造方法。
【請求項１３】
請求項１〜請求項１２いずれかの有機ポリシランの製造方法で得られた有機ポリシランを用いて作成されてなる有機ポリシラン膜。
【請求項１４】
請求項１〜請求項１２いずれかの有機ポリシランの製造方法で得られた有機ポリシランを用いて作成されてなる有機ポリシラン膜に光が照射され、一部の屈折率が変化してなる光導波路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ポリシラン、特に、分子量が２００００以上の有機ポリシランの製造方法、並びに前記の有機ポリシランを用いて作成された膜や光導波路に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機ポリシランは、光照射によって屈折率が変化する性質を持つことから、光導波路用材料として注目されている。しかしながら、重合度が低い有機ポリシランは光の伝送損失が大きく、高重合度の有機ポリシランが求められている。
【０００３】
従来より、有機ポリシランの製造方法が幾つか提案されている。
例えば、特開平４−１８５６４２号公報では、Ｒ１（Ｒ２）ＳｉＸ２（Ｒ１，Ｒ２はＨ又はアルキル基、Ｘはハロゲン）で表されるジハロシランをアルカリ金属の存在下で不活性溶媒中で反応させて有機ポリシランを製造する方法において、前記ジハロシランをハロゲン化銅を触媒として１００℃以上で、かつ、前記不活性溶媒の沸点以下の温度で反応させる有機ポリシランの製造方法が開示されている。
ここで、不活性溶媒としては、トルエン、キシレン、デカン、デカリン等の炭化水素が挙げられている。しかしながら、その他のタイプの化合物を想起せしめるような開示は無い。
【０００４】
そして、同公報においては、その発明の実施の形態の欄において、次の開示も有る。
すなわち、四ツ口フラスコに金属にナトリウム微粒子４．８ｇ、及びキシレン６０ｇを収め、１３８℃で加熱・撹拌してナトリウムディスパージョンを形成させた後、この中にＣｕＩを０．０１９ｇ添加した。反応温度を１３２℃とし、加熱・撹拌しながらフェニルメチルジクロルシラン１９．１ｇを滴下したところ、反応は発熱的に進行し、溶液が紫色に呈色した。加熱・撹拌６時間後、ナトリウムはほぼ消失し、反応溶液の温度を室温に戻して反応終了とした。反応溶液に約５ｍｌのメタノールを添加して金属ナトリウムを死活化させ、その後、上記の加熱反応の過程で生成した塩化ナトリウムを約１００ｍｌの水で溶解分解させる為に水洗を数回行なった。次いで、有機層を取り出し、濃縮後、トルエン／アセトン系から分別沈殿を行ない、分子量１０２００００のポリシランを１５％の収率で得た。
【０００５】
しかしながら、ハロゲン化銅触媒であるＣｕＩ０．０１９ｇを添加しない以外は上記と同様な方法でポリシランを製造した処、得られたポリシランの分子量は１０００００で、収率は１０％であった。
【０００６】
このことから、ジハロシランとアルカリ金属とを反応させる際に、ハロゲン化銅触媒を用いない場合には、高分子量のポリシランが収率良く得られ無いとされている。
【０００７】
又、特開平１１−２６３８４５号公報では、銅化合物とエーテル化号物とアルカリ金属とを溶媒に加え、加熱してアルカリ金属分散物を得る工程と、この分散物の中に溶媒に溶解したハロシラン化合物を滴下して反応物を得る工程と、前記反応物中に溶媒に溶解したトリメチルシランを加えて更に反応させる工程とを具備するポリシランの製造方法が開示されている。
ここで、銅化合物としては、特開平４−１８５６４２号公報で用いられているハロゲン化銅と同様なハロゲン化銅、その他にも酢酸銅、銅アセチルアセテートとか、シアン化銅が挙げられている。溶媒としては、非極性溶媒、例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、クメン、エチルベンゼン、及びこれ等の混合溶媒が挙げられている。エーテル化号物としては、クラウンエーテル及びその誘導体、テトラヒドロフラン、ジグライム等のエチレングリコール誘導体、ジオキサン、テトラオキサン、及びクリプタント等が挙げられている。
【０００８】
そして、同公報においては、その発明の実施の形態の欄において、次の開示も有る。
すなわち、滴下漏斗と還流冷却管とを備えた４つ口フラスコ中に無水トルエン１３６ｍＬと無水ヘプタン２４ｍＬとの混合溶媒を収容し、この混合溶媒中に塩化銅（Ｉ）０．５０ｇ、１５−クラウン−５−エーテル１３．２６ｇ（０．０６０２ｍｏｌ）、及び金属ナトリウム２７．６ｇ（１．２０ｍｏｌ）を加え、アルゴン雰囲気下、溶媒還流温度まで加熱してナトリウム分散物を調整した。この分散物を溶媒還流温度に保持したまま、無水トルエン３４ｍＬと無水ヘプタン６ｍＬとの混合溶媒に溶解したメチルジクロロシラン５８．５３ｇ（０．５００ｍｏｌ）を、約３０分間かけて滴下漏斗から前述の分散物中に滴下し、更に溶媒還流温度で３時間反応させた。次いで、無水トルエン２０ｍＬに溶解したトリメチルクロロシラン１０．８ｇ（０．１０ｍｏｌ）を加えて、更に２時間反応させた後、反応溶液を室温まで冷却した。冷却後の反応溶液にトルエン５００ｍｌを加えて生成した沈殿物を窒素下で加圧濾過し、得られた濾液を濃縮した。この溶液にエタノール５００ｍＬを加えて、ポリマーを沈殿させた。こうして得られたポリマーを濾過した後、トルエンに溶解して得られた溶液をイオン交換水で洗浄し、次いで無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を除いた後、減圧下で溶媒を除去し、トルエン１００ｍＬを加えて溶解し、このトルエン溶液をエタノール１０００ｍｌ中に滴下した。最後に、沈殿物を濾過し、空乾燥して、淡黄色固体の有機ポリシラン６．５６ｇ（２９．７％）を得た。尚、この有機ポリシランの重量平均分子量は５０００であった。
【０００９】
しかしながら、次のようにした場合には問題が有った。
すなわち、滴下漏斗と還流冷却管とを備えた４つ口フラスコに、無水トルエン１６０ｍＬを収容し、この溶媒中に塩化銅（Ｉ）０．５０ｇ、及び金属ナトリウム２７．６ｇ（１．２０ｍｏｌ）を加え、アルゴンガス雰囲気下、溶媒還流温度まで加熱してナトリウム分散物を調製した。この分散物を溶媒還流温度に保持したまま、無水トルエン４０ｍＬに溶解したメチルジクロロシラン５８．５３ｇ（０．５００ｍｏｌ）を約３０分間かけて滴下漏斗から前述の分散物中に滴下し、更に溶媒還流温度で３時間反応させた。次いで、無水トルエン２０ｍＬに溶解したトリメチルクロロシラン１０．８ｇ（０．１０ｍｏｌ）を加えて、更に２時間反応させた後、反応溶液を室温まで冷却した。冷却後の反応溶液にトルエン５００ｍｌを加えて生成した沈殿物を窒素下で加圧濾過し、得られた濾液を濃縮した。この溶液にエタノール５００ｍＬを加えたが、ポリマーは沈殿しなかった。そこで、混合液を濃縮し、メタノールでポリマーを再沈殿させた。得られたポリマーを濾過した後、トルエンに溶解して得られた溶液をイオン交換水で洗浄し、次いで無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を除いた後、減圧下で溶媒を除去し、トルエン５０ｍＬを加えて溶解し、このトルエン溶液をメタノール５００ｍＬ中に滴下したが、沈殿物は極微量しか得られなかった。
【００１０】
又、滴下漏斗と還流冷却管とを備えた４つ口フラスコに、無水トルエン１３６ｍＬと無水ヘプタン２４ｍＬとの混合溶媒を収容し、この混合溶媒中に１５−クラウン−５−エーテル１３．２６ｇ（０．０６０ｍｏｌ）、及び金属ナトリウム２７．６ｇ（１．２０ｍｏｌ）を加え、アルゴン雰囲気下、溶媒還流温度まで加熱してナトリウム分散物を調製した。この分散物を溶媒還流温度に保持したまま、無水トルエン３４ｍＬと無水ヘプタン６ｍＬとの混合溶媒に溶解したメチルジクロロシラン５８．５３ｇ（０．５００ｍｏｌ）を約３０分間かけて滴下漏斗から前述の分散物中に滴下し、更に溶媒還流温度で３時間反応させた。次いで、無水トルエン２０ｍＬに溶解したトリメチルクロロシラン１０．８ｇ（０．１０ｍｏｌ）を加えて、更に２時間反応させた後、反応溶液を室温まで冷却した。冷却後の反応溶液にトルエン５００ｍｌを加えて生成した沈殿物を窒素下で加圧濾過し、得られた濾液を濃縮した。この溶液にエタノール５００ｍＬを加え、ポリマーを沈殿させた。こうして得られたポリマーを濾過した後、トルエンに溶解して得られた溶液をイオン交換水で洗浄し、次いで無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を除いた後、減圧下で溶媒を除去し、トルエン１００ｍＬを加えて溶解し、このトルエン溶液をエタノール１０００ｍｌ中に滴下した。最後に、沈殿物を濾過し真空乾燥して、ポリマー１．６１ｇ（７．３％）を得た。尚、この有機ポリシランの重量平均分子量は２０００であった。
【００１１】
このような結果から、反応性の高いＳｉ−Ｈ結合を持つジハロシランモノマーの重合において、エーテル化合物としてのクラウンエーテルが存在しなければ、銅化合物を添加した効果が得られないことが謳われている。
又、クラウンエーテルを添加した場合でも、銅化合物が存在しない場合には、得られるポリシランの重量平均分子量が２０００程度と低く、更に収率も７％と低いことも謳われている。
【００１２】
尚、特開平１１−２６３８４５号公報においては、銅化合物とエーテル化号物とアルカリ金属とを溶媒に加え、加熱してアルカリ金属分散物を得、この分散物の中に溶媒に溶解したハロシラン化合物を滴下して反応物を得、この反応物中に溶媒に溶解したトリメチルシランを加えて更に反応させることの開示が有る。
又、エーテル化号物の一般記載としてテトラヒドロフランの開示が有る。
このようなことから、銅化合物とテトラヒドロフランとアルカリ金属とを溶媒（但し、この溶媒がテトラヒドロフランであることを想起せしめる開示は皆無。）に加え、加熱してアルカリ金属分散物を得、この分散物の中に溶媒に溶解したハロシラン化合物を滴下して反応物を得、この反応物中に溶媒に溶解したトリメチルシランを加えて更に反応させることが考えられると思われるかも知れない。
【００１３】
しかしながら、特開平１１−２６３８４５号公報における発明の実施例において、エーテル化号物や溶媒としてテトラヒドロフランを用いた例は無いこと、かつ、銅化合物を用いなくても良い場合も有ると言ったことを想起させる記載は皆無である。
更に、特開平１１−２６３８４５号公報では、銅化合物とクラウンエーテル化号物とアルカリ金属との三者が存在しなければ、高重合度の有機ポリシランは得られ無いと言われている。
【特許文献１】特開平４−１８５６４２号公報
【特許文献２】特開平１１−２６３８４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
ところで、上記特許公報に開示されている有機ポリシランの製造方法は、それ程、簡単なものでは無い。例えば、原料であるジハロシランやアルカリ金属の他に、ハロゲン化銅などの触媒を必要とする。又、反応温度も高かったりする。よって、製造コストも高く付く。
【００１５】
従って、本発明が解決しようとする課題は、ハロゲン化銅などの触媒を用いずとも、高分子量の有機ポリシランを簡単、かつ、低廉なコストで、更には収率良く合成できる技術を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明者によって、ハロゲン化銅などの触媒を用いないで高分子量の有機ポリシランを合成する手法についての研究が鋭意押し進められて行った結果、反応に溶媒を用い、溶媒としてテトラヒドロフランを用いた場合、ハロゲン化銅などを用いずとも、高分子量の有機ポリシランを収率良く合成できることを見出すに至った。
【００１７】
ところで、これまでの技術では、高分子量の有機ポリシランを収率良く合成するには、ハロゲン化銅などの触媒が絶対に必要と信じられて来たのに対して、ハロゲン化銅などの触媒が無くても良いとする本発明は画期的なものとも言える。
【００１８】
そして、本発明の実施により得られた有機ポリシランを用いて作成した膜による光の伝送損失は、従来の合成手法により得られた有機ポリシランを用いて作成した膜の光の伝送損失に比べて低いものであることも判った。
【００１９】
すなわち、前記の課題は、ジハロシランとアルカリ金属とを反応させることにより有機ポリシランを製造する方法であって、
前記反応が下記の一般式で表される溶媒中で行われる
ことを特徴とする有機ポリシランの製造方法によって解決される。
【００２０】
或いは、アルカリ金属および下記の一般式で表される化合物を含む溶液中にジハロシランを添加し、反応させることを特徴とする有機ポリシランの製造方法によって解決される。
【００２１】
特に、アルカリ金属および下記の一般式で表される化合物を含む温度が３０℃〜７０℃の溶液中にジハロシランを添加し、反応させることを特徴とする有機ポリシランの製造方法によって解決される。
2005281518.tif 000002
［但し、Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６は、Ｈ又はアルキル基であり、全てが同一でも、異なっていても良い。］
【００２２】
更には、上記ジハロシランとアルカリ金属との反応後に、トルエンで有機ポリシランを抽出する有機ポリシランの製造方法によって解決される。
又、上記のようにして抽出された有機ポリシランを、再度、沈殿させて精製する有機ポリシランの製造方法によって解決される。
【００２３】
又、上記ジハロシランとアルカリ金属との反応後で、かつ、トルエンで有機ポリシランを抽出する前において、反応液中に残存しているアルカリ金属を失活させる有機ポリシランの製造方法によって解決される。
【００２４】
本発明で用いられるジハロシランは、Ｒ１（Ｒ２）Ｓｉ（Ｘ１）Ｘ２［但し、Ｒ１，Ｒ２は、Ｈ又はアルキル基であり、全てが同一でも、異なっていても良い。Ｘ１，Ｘ２は、ハロゲンであり、全てが同一でも、異なっていても良い。］で表される化合物（ジアルキルジハロシラン）である。中でも、フェニルメチルジクロルシランである。
【００２５】
本発明で用いる溶媒は、上記一般式で表される化合物におけるＲ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６はＨ又はアルキル基（中でも、好ましくは炭素数が１〜４（特に、１又は２）のアルキル基）であるが、中でもテトラヒドロフランである。
【００２６】
本発明で用いるアルカリ金属は、触媒を用いてポリシランを合成する場合に用いられているアルカリ金属と同じアルカリ金属、例えばＮａ，Ｋ等が用いられるものの、特に好ましくはナトリウムである。
【００２７】
そして、上記技術が実施されると、ハロゲン化銅などを用いずとも、高分子量、例えば重量平均分子量が２００００以上（特に、重量平均分子量が２５０００以上、更には３００００以上）の有機ポリシランが収率良く合成できる。
【００２８】
そして、上記の有機ポリシランの製造方法で得られた有機ポリシランを用いて作成されてなる有機ポリシラン膜、特に上記の有機ポリシランの製造方法で得られた有機ポリシランを用いて作成されてなる有機ポリシラン膜に光が照射され、一部の屈折率が変化してなる光導波路は、光の伝送特性が非常に優れたものである。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、例えば重量平均分子量が２００００以上（特に、重量平均分子量が２５０００以上、更には３００００以上）の有機ポリシランを、簡単、かつ、低廉なコストで、収率良く合成できる。
【００３０】
例えば、従来では、ハロゲン化銅などの触媒を用いなければ、高分子量の有機ポリシランを収率良く合成できないと言われて来たのに対して、このような触媒を用いないでも合成できると言うことは非常に画期的なことである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
本発明になる有機ポリシランの製造方法は、ジハロシランとアルカリ金属とを反応させることにより有機ポリシランを製造する方法である。特に、ハロゲン化銅、酢酸銅、銅アセチルアセテート、或いはシアン化銅などの銅化合物を触媒として用いずに、ジハロシランとアルカリ金属とを反応させることにより有機ポリシランを製造する方法である。そして、前記の反応が下記の一般式で表される溶媒中で行われるものである。或いは、アルカリ金属および下記の一般式で表される化合物（溶媒）を含む溶液中にジハロシランを添加し、反応させるものである。特に、アルカリ金属および下記の一般式で表される化合物（溶媒）を含む温度が３０℃〜７０℃（特に、３５℃以上。６７℃以下。更には、６５℃以下。）の溶液中にジハロシランを添加し、反応させるものである。そして、ジハロシランとアルカリ金属との反応後に、トルエンで有機ポリシランは抽出される。又、上記のようにして抽出された有機ポリシランが、再度、沈殿させられて精製される。又、ジハロシランとアルカリ金属との反応後で、かつ、トルエンで有機ポリシランを抽出する前において、反応液中に残存しているアルカリ金属は、例えばトルエン、メタノール、水、塩酸を加えることによって、失活させられる。
2005281518.tif 000003
［但し、Ｒ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６は、Ｈ又はアルキル基であり、全てが同一でも、異なっていても良い。］
【００３２】
本発明で用いられるジハロシランは、Ｒ１（Ｒ２）Ｓｉ（Ｘ１）Ｘ２［但し、Ｒ１，Ｒ２は、Ｈ又はアルキル基（炭素数は、好ましくは１〜１５である。特に、１以上。１２以下。更には１０以下。）であり、全てが同一でも、異なっていても良い。Ｘ１，Ｘ２は、ハロゲンであり、全てが同一でも、異なっていても良い。］で表される化合物（ジアルキルジハロシラン）である。その中でも、ジアルキルジハロシランとして好ましいものはフェニルメチルジクロルシランである。
本発明で用いられる溶媒は、上記一般式で表される化合物におけるＲ３，Ｒ４，Ｒ５，Ｒ６はＨ又はアルキル基（中でも、好ましくは炭素数が１〜４（特に、１又は２）のアルキル基）であるが、特にテトラヒドロフランである。
本発明で用いられるアルカリ金属は、例えばナトリウムやカリウム等であるが、特に好ましくはナトリウムである。
以下、具体的な実施例を挙げて説明する。
【実施例】
【００３３】
［分子量が２００００以上の有機ポリシランの合成］
先ず、反応容器に、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）とナトリウムとをアルゴン雰囲気下で入れ、反応容器を５０℃に加温した。このＮａ−ＴＨＦ（ＴＨＦは溶媒）溶液中に、フェニルメチルジクロルシランをゆっくり滴下した。この滴下により反応が開始され、反応液は８５℃程度まで発熱した。そして、数時間撹拌後、トルエン、メタノール、水、塩酸の順に加えて、過剰のナトリウムを失活させた。そして、トルエンで有機成分を抽出後、メタノールにて再沈澱を行い、更にイソプロパノールにて二回目の再沈澱をすることによって目的の有機ポリシランを得た。
【００３４】
得られた有機ポリシランの分子量をゲル浸透クロマトグラフによって測定した処、重量平均分子量は２００００〜３５０００のものであった。そして、収率は５０〜７０％であった。
【００３５】
［他の溶媒を用いた有機ポリシランの合成（比較例）］
上記実施例において、ＴＨＦの代わりにキシレン、ジグリム、ジブチルエーテル、或いはトルエンを用いて同様に行った。
この方法により得られた有機ポリシランの分子量を測定した処、下記の表−１に示す通りであった。
表−１
溶媒                有機ポリシランの重量平均分子量
キシレン                ５６００
ジグリム                ６６００
ジブチルエーテル        ６７００
トルエン                ３９００
【００３６】
又、溶媒としてトルエンを用い、又、触媒（ＣｕＣｌ）を用い、そして特開平４−１８５６４２号公報に開示の技術により有機ポリシランを合成した。この比較例になる場合でも、得られた有機ポリシランの重量平均分子量は８３００程度のものであった。
【００３７】
すなわち、本発明によれば、重合度が高い有機ポリシランが効率良く簡単に得られる。
【００３８】
［有機ポリシラン薄膜の作成］
上記実施例によって合成された有機ポリシランのキシレン５０％溶液を、スピンコート法（毎分３０００回転の速度で３０秒間）を用いてシリコン基板上に２回塗布した。この後、１３０℃の温度で１時間保持し、溶媒を除いて薄膜を作成した。
【００３９】
このようにして得られた膜は、その厚さが４μｍのもので、表面が均一なものであった。
そして、この薄膜を２００〜２５０℃の温度で熱処理したものは、１５５０ｎｍの波長の光において、伝送損失は０．０７ｄＢ／ｃｍの低いものであった。
【００４０】
［導波路の作成］
基板上に下部クラッド層を形成し、次に上記実施例で得た有機ポリシランの薄膜をスピンコート法によって作成した。そして、コアとする部分に６０ｍＷ／ｃｍ２の強さの紫外光を照射してパターニングした。引き続いて上部クラッド層を形成し、図１に示される如くの導波路を作成した。
そして、このものは、紫外光照射部（コア部）と非照射部（サイドクラッド部）のポリシランの屈折率は５％の差があり、境界はシャープで、光の漏れがない良好な導波路が作成された。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】導波路の概略断面図                                               代理人  宇  高    克  己
【図１】
2005281518.tif 000007