(57)【要約】【課題】  １つの光学干渉式反射素子の短絡が、他の光学干渉式反射素子に印加される電位差に悪影響を及ぼすことを防止する。【解決手段】  光学干渉式反射素子は、光入射電極と光反射電極を有する。この２種類の電極の各々又は両方は、接続部により互いに電気的に接続している表示部と配線部からなる。複数の光学干渉式反射素子は、互いに接続し、配線部により電極ラインを形成することを特徴とする。この電極ラインは、パッシブマトリクス方式により駆動される光学干渉式反射素子により形成される光学干渉式反射構造に用いられる。【選択図】  図４Ａ
2005258385.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の表示部と、第１の配線部と、前記第１の表示部と前記第１の配線部とを電気的に接続する、少なくとも１つの第１の接続部と、
を有する第１の電極と、
第２の電極と、
前記第１の電極と前記第２の電極との間に位置し、空洞を形成する支持部と、
を備える光学干渉式反射素子を複数備え、
複数の前記第１の電極は、前記第１の配線部により電気的に接続され、複数の第１の電極ラインを形成する
ことを特徴とする光学干渉式反射構造。
【請求項２】
複数の前記第２の電極の各々は、第２の表示部と、第２の配線部と、前記第２の表示部と前記第２の配線部とを電気的に接続する少なくとも１つの第２の接続部と、
を備え、
複数の前記第２の電極は、前記第２の配線部により電気的に接続され、複数の第２の電極ラインを形成する、
ことを特徴とする請求項１に記載の光学干渉式反射構造。
【請求項３】
基板を供給し、
該基板上に、互いに電気的に接続することにより複数の第１の電極ラインを形成する、複数の第１の電極を形成し、
前記第１の電極上に、犠牲層を形成し、
前記第１の電極と前記犠牲層に、複数の第１の開口部を形成し、
前記第１の開口部の各々に支持部を形成し、
第１の表示部と、第１の配線部と、前記第１の表示部と前記第１の配線部とを電気的に接続する、少なくとも１つの第１の接続部とを各々有し、前記第１の配線部により、互いに電気的に接続されることにより、複数の第２の電極ラインを形成する、複数の第２の電極を、前記犠牲層と前記支持部の上に形成し、
リリースエッチングプロセスにより前記犠牲層を取り除くこと
を特徴とする光学干渉式反射構造の製造方法。
【請求項４】
基板を供給し、
第１の表示部と、第１の配線部と、前記第１の表示部と前記第１の配線部とを電気的に接続する、少なくとも１つの第１の接続部とを各々有し、前記第１の配線部により、互いに電気的に接続されることにより、複数の第１の電極ラインを形成する、複数の第１の電極を前記基板上に形成し、
前記第１の電極上に犠牲層を形成し、
前記第１の電極と前記犠牲層に、複数の第１の開口部を形成し、
前記第１の開口部の各々に支持部を形成し、
電気的に互いに接続し複数の第２の電極ラインを形成する、複数の第２の電極を前記犠牲層と前記支持部に形成し、
リリースエッチングプロセスにより前記犠牲層を取り除くこと
を特徴とする光学干渉式反射構造の製造方法。
【請求項５】
第１の電極と、
表示部と、配線部と、前記表示部と前記配線部と電気的に接続する少なくとも１つの接続部と、を備える第２の電極と、
を備える、
光学干渉反射素子を複数備え、
複数の前記第２の電極は、前記配線部により電気的に接続され、複数の電極ラインを形成している、
光学干渉反射構造の修理方法であって
前記光学干渉式反射構造から、欠陥のある光学干渉式反射素子を識別し、
前記欠陥のある光学干渉式反射素子の前記接続部を切断すること
を特徴とする光学干渉式反射構造の修理製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はディスプレイパネルに関するものであって、特に光学干渉式反射素子とその修理方法及び製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
平面ディスプレイは、軽量で小さいがために、ポータブルな及びスペース制限のあるディスプレイ市場での人気が非常に高い。今日までに、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に加えて光学干渉式ディスプレイのモジュールが研究されてきた（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
図１Ａは、先行技術のモジュレータ（変調素子）の断面図である。すべてのモジュレータ１００は、２つの隔壁１０２と１０４とを備えている。これらの２つの隔壁は、支柱１０６によって支持され、これにより空洞１０８を形成する。これらの２つの隔壁の距離（空洞１０８の深さ）はＤである。隔壁１０２は、光を入射する電極であって、吸収率に基づいて可視光線を部分的に吸収する。隔壁１０４は、光を反射する電極であって、電圧が印加されると曲がる性質を有する。
【０００４】
入射光が隔壁１０２を通過し、空洞１０８に到達するとき、以下の式１．１に対応する波長の可視光線だけが反射して戻る。
【０００５】
２Ｄ＝Ｎλ  ・・・  （式１．１）
ここで、Ｎは自然数とする。
【０００６】
空洞１０８の深さＤが、入射光の波長λの自然数Ｎ倍であるときには、強め合う干渉が起こり、波長λ１の光が反射して戻る。したがって、入射光の方向からパネルを見る観察者は、彼に向けて反映されたある波長λ１の光を観察するだろう。ここでのモジュレータ１００は「開いた」状態にある。
【０００７】
図１Ｂは、電圧を印加した後の図１Ａのモジュレータ１００の断面図である。電圧供給下においては隔壁１０４は、隔壁１０２の方へ静電気引力によって曲げられる。この時点では、隔壁１０２と１０４の距離（空洞１０８の深さ）は、ｄとなり零に等しいかもしれない。
【０００８】
ゆえに式１．１におけるはＤは、ｄに置き換えられ、また、式１．１を満たす別のある波長λ２を備えた可視光線だけが、強め合う干渉を引き起こし、隔壁１０２を介して反射する。しかしながら、モジュレータ１００においては、隔壁１０２は、波長λ２の光に関しては高い吸収率を備えるように設計されている。したがって、波長λ２の入射可視光線は吸収されてしまい、そして、他の波長を備えた光は、弱め合う干渉を有することとなる。すべての波長の光は、フィルターされ、隔壁１０４が曲げられたときには、観察者は反射された、いかなる可視光線も見ることができない。この時点での、モジュレータ１００は「閉じた」状態である。
【０００９】
上述したように、電圧が印加された状況下では、隔壁１０４は、隔壁１０２の方へ静電気引力により曲げられ、その結果、モジュレータ１００は、「開いた」状態から「閉じた」状態へ切り替わる。モジュレータ１００が、「開いた」状態から「閉じた」状態へ切り替わるときには、隔壁１０４を曲げる印加電圧は取り除かれ、隔壁１０４は、図１Ａに示すように、「開いた」状態である元の状態に弾性的に戻ることとなる。
【００１０】
図２Ａは、パッシブマトリクス方式で駆動される従来の光学干渉式反射構造の略平面図である。図２Ａに示すように、光学干渉式反射構造２００は、ディスプレイパネルの一部であり、複数の光学干渉式反射素子を備える。光学干渉式反射素子は、横に並べられた光入射電極ライン２０２ａと、２０２ｂと、２０２ｃと、縦に並べられた光反射電極ライン２０４ａと、２０４ｂと、２０４ｃとから構成される。図２Ｂは、図２ＡにおいてＡＡ’線で切断した断面図である。そして、この図においては、光反射電極ライン２０４ａと、２０４ｂと、２０４ｃと光入射電極ライン２０２ａからなる３つの光学干渉式反射素子が、図示されている。図示するように、支持部２０６は、光反射電極ライン２０４ａと、２０４ｂと、２０４ｃと光入射電極ライン２０２ａとの間に位置し、光が干渉する空洞を形成している。
【００１１】
図３Ａは、他の従来の光学干渉式反射構造の平面図である。本図において、光学干渉式反射構造２００は、短絡した光学干渉式反射素子３０２を有する。図３Ｂは、図３Ａにおいて、短絡した光学干渉式反射素子３０２上にあるＢＢ’線で切断した断面図である。従来の光学干渉式反射素子は、パッシブマトリクス方式にて駆動されるため、光学干渉式反射素子３０２を変形させるための電位差は、光入射電極ライン２０２ａと光反射電極ライン２０４ｄの電位により、合わせて決定される。
【００１２】
光学干渉式反射素子３０２は、光学干渉式反射素子３０２に位置する光入射電極ライン２０２ａの誘電体の層における構造的欠陥のために短絡している。短絡は、不要な電圧の低下を招き、同じ縦の列（光反射電極ライン２０４ｄ）や、同じ横の列（光入射電極ライン２０２ａ）にある他の光学干渉式反射素子の電位差に悪影響を及ぼす。それゆえに、光学干渉式反射構造全体の表示を損なうこととなる。
【特許文献１】米国特許第５８３５２５５号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
一般的に、パッシブマトリクス方式で駆動される従来の光学干渉式反射構造は、複数の光学干渉式反射素子から構成される。光学干渉式反射素子は、直交して並べられた光入射電極ラインと光反射電極ラインから構成される。２つの電極ライン（光入射電極ラインと光反射電極ライン）の電位差は、それらから構成される光学干渉式反射素子に対応して印加される電位の差である。それゆえ、電極ラインは、光学干渉式反射素子の切り換えに用いられる。
【００１４】
しかしながら、ある光学干渉式反射素子が、短絡した場合には、短絡は、短絡した光学干渉式反射素子と同じ縦の列または同じ横の列にある他の光学干渉式反射素子に印加されるすべての電位差に悪影響を及ぼす。影響が作用した光学干渉式反射素子は、正しい電位差で駆動することができず、それゆえ、表示に関する深刻な問題を引き起こすこととなる。
【００１５】
本発明の目的は、短絡した光学干渉式反射素子が、正常に駆動している光学干渉式反射素子に悪影響を与えることを防止するために、切断することができる光学干渉式反射素子の接続部を有する光学干渉式反射構造を提供することにある。
【００１６】
また、本発明の他の目的は、短絡した光学干渉式反射素子と正常に駆動している光学干渉式反射素子との間の電気的接続を切断する光学干渉式反射構造の修理方法を提供することにある。
【００１７】
また、本発明の他の目的は、分かれた表示部と配線部を有する少なくとも１つの電極を備える光学干渉式反射素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明の光学干渉式反射構造は、第１の表示部と、第１の配線部と、第１の表示部と第１の配線部とを電気的に接続する、少なくとも１つの第１の接続部とを有する第１の電極と、第２の電極と、第１の電極と第２の電極との間に位置し、空洞を形成する支持部とを備える光学干渉式反射素子を複数備え、複数の前記第１の電極は、第１の配線部により電気的に接続され、複数の第１の電極ラインを形成することを特徴とする。
【００１９】
また、本発明の光学干渉式反射構造は、複数の第２の電極の各々は、第２の表示部と、第２の配線部と、第２の表示部と第２の配線部とを電気的に接続する少なくとも１つの第２の接続部とを備え、複数の第２の電極は、第２の配線部により電気的に接続され、の第２の電極ラインを形成することを特徴とする。
【００２０】
本発明の光学干渉式反射構造の製造方法は、基板を供給し、該基板上に、互いに電気的に接続することにより複数の第１の電極ラインを形成する、複数の第１の電極を形成し、第１の電極上に、犠牲層を形成し、第１の電極と犠牲層に、複数の第１の開口部を形成し、第１の開口部の各々に支持部を形成し、第１の表示部と、第１の配線部と、第１の表示部と第１の配線部とを電気的に接続する、少なくとも１つの第１の接続部とを各々有し、第１の配線部により、互いに電気的に接続されることにより、複数の第２の電極ラインを形成する、複数の第２の電極を、犠牲層と支持部の上に形成し、リリースエッチングプロセスにより犠牲層を取り除くことを特徴とする。
【００２１】
本発明の光学干渉式反射構造の製造方法は、基板を供給し、第１の表示部と、第１の配線部と、第１の表示部と第１の配線部とを電気的に接続する、少なくとも１つの第１の接続部とを各々有し、第１の配線部により、互いに電気的に接続されることにより、複数の第１の電極ラインを形成する、複数の第１の電極を前記基板上に形成し、第１の電極上に犠牲層を形成し、第１の電極と犠牲層に、複数の第１の開口部を形成し、第１の開口部の各々に支持部を形成し、電気的に互いに接続し複数の第２の電極ラインを形成する、複数の第２の電極を犠牲層と支持部に形成し、リリースエッチングプロセスにより前記犠牲層を取り除くことを特徴とする。
【００２２】
本発明の光学干渉反射構造の修理方法は、第１の電極と、表示部と、配線部と、表示部と配線部と電気的に接続する少なくとも１つの接続部とを備える第２の電極と備える光学干渉反射素子を複数備え、複数の第２の電極は、配線部により電気的に接続され、複数の電極ラインを形成している、光学干渉反射構造の修理方法であって光学干渉式反射構造から、欠陥のある光学干渉式反射素子を識別し、欠陥のある光学干渉式反射素子の接続部を切断することを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明の好ましい実施形態について添付図面に示す例を参照して詳細に説明をする。可能な限り図面と詳細な説明の中では、同じ部分等に関しては同じ符号を用いることとする。
【００２４】
本発明の光学干渉式反射構造において、そのすべての光学干渉式反射素子は、接続部により互いに電気的に接続した表示部と配線部とにより構成された電極を有する。さらに、上述した光学干渉式反射素子の電極は、パッシブマトリクス方式における駆動をするための配線部により接続し、電極ラインを形成している。
【００２５】
図４Ａは、本発明の好ましい実施形態の１つの平面図である。光学干渉式反射構造１００は、ディスプレイパネルの一部をなし、複数の光学干渉式反射素子４１２を備える。光学干渉式反射素子４１２は、横に並べられた光入射電極ライン４０２ａと、４０２ｂと、４０２ｃと縦に並べられた光反射電極ライン４０４ａと、４０４ｂと、４０４ｃとから構成される。光入射電極ライン４０２ａと、４０２ｂと、４０２ｃは帯状の形状である。
【００２６】
図４Ａに示すように、光学干渉式反射素子４１２においては、光反射電極は、表示部４１６と配線部４１４とを有し、それらは、接続部４１８により、互いに電気的に接続している。さらに、同じ縦の列（光反射電極ライン４０４ｂ）の２つの隣り合う光学干渉式反射素子の光反射電極は接続し、光反射電極ライン４０４ｂを形成している。加えて、好ましい実施形態において、光入射電極の幅は、光学干渉式反射素子４１２の光反射電極の幅より大きい。
【００２７】
光学干渉式反射素子４１２の表示部４１６が、短絡していると認識された場合には、図４Ｂに示すように、短絡した表示部４１６と配線部４１４との間の接続部４１８を切断する。接続部４１８を切断することで、短絡した表示部４１６により、同じ横列（光入射電極ライン４０２ａ）や同じ縦列（光反射電極ライン４０４ｂ）における他の光学干渉式反射素子の電位差に悪影響が及ぶことを防止し、さらに、短絡した表示部４１６により、光学干渉式反射構造４００全体の表示が、損なわれてしまうことを防止する。
【００２８】
本発明の好ましい実施形態の１つによれば、接続部４１８を切断する手段としてはレーザーを用いる。レーザーによる切断法は、高出力であり、１点に焦点を形成することが可能である。それゆえ、切断の間、隣り合いそして直交する光学干渉式反射素子の破壊を防止することができる。しかしながら、精密な切断が可能な他の切断方法もまた、本発明において用いることも可能である。本発明は、接続部４１７をレーザー切断方法により切断することに限定される訳ではない。
【００２９】
図４Ａに示すように、表示部と配線部と接続部を有する電極であれば、光反射電極の他に、本発明の他の実施形態に従う光入射電極であってもよい。そして、本実施形態の光反射電極は、帯状の形状である。加えて、いくつかのバリエーションを以下に示す。
【００３０】
図５Ａは、本発明の他の好ましい実施形態を示す平面図である。図５Ａと図４Ａとに示す光学干渉式反射構造５００ａと４００との間の差異は、光入射電極ライン５０２の幅は、光学干渉式反射素子５１２ａの光反射電極ライン５０４の幅より大きいことなどである。図４Ａと図５Ａは、表示部と配線部とを有する電極の幅には制限がないことを説明している。本発明の特徴構造を有する電極の幅は、表示部や配線部のような特徴構造を有する場合でも有さない場合でも、他の電極の幅は大きくてもよいし、小さくてもよいし、同じでもよい。
【００３１】
図５Ｂは、本発明の他の好ましい実施形態の平面図である。図５Ｂと図４Ａの光学干渉式反射構造５００ｂと４００との間の差異は、表示部５１６と配線部５１４とを電気的に接続している接続部５１８ａの位置が、光学干渉式反射素子５１２ｂの表示部５１６のほぼ中間に位置することなどである。図４Ａと図５Ｂは、本発明においては、表示部と接続部との間の接続位置に制限がないことを説明している。すなわち、本発明の特徴構造を有する電極の接続位置は、製造方法や設計の要求に従って変えることが可能である。
【００３２】
図５Ｃは、本発明の他の好ましい実施形態の平面図である。図５Ｃと図４Ａの光学干渉式反射構造５００Ｃと４００との差異は、表示部５１６と配線部５１４とを電気的に接続する接続部５１８ｂの数量が、光学干渉式反射素子５１２ｃにおいて２つあることなどである。図４Ａと図５Ｃは、本発明は接続部の数量に制限がないことを説明している。すなわち、本発明の特徴構造を有する電極において、接続位置と接続部の数量は変化してもよいし、表示部５１６と配線部５１４との接合力を強めるために増加させてもよい。
【００３３】
図６Ａと図６Ｂは、本発明の他の実施形態の平面図である。上述したように、本発明の特徴構造を有する電極は、光学干渉式反射素子において、光入射電極として、及び／又は、光反射電極として用いてもよい。これら２つの実施形態は、光入射電極と光反射電極の両方が、本発明の特徴構造を有することを示している。
【００３４】
図６Ａに示すように、光学干渉式反射素子６１２ａにおいては、光入射電極ライン６０２ａは、表示部６１６ａと配線部６１４と接続部６１８を有し、光反射電極ライン６０４ａは、表示部６２６ａと配線部６２４と接続部６２８とを有する。表示部６２６ａの幅は、表示部６１６ａの幅より大きい。図６Ｂは、他の実施形態を示す図である。この実施形態において、光反射電極ライン６０４ｂの表示部６１６ｂの幅は、光入射電極ライン６０２ｂの表示部６２６ｂの幅より大きい。
【００３５】
前述の実施形態の接続部は、直線に加えて、製造方法や設計上の要求に応じて、屈曲した線であってもよい。図７Ａと図７Ｂは、本発明の２つの実施形態の接続部の平面図である。図７Ａにおいて、光反射電極ライン７０４の接続部７１８は、屈曲した線である。図７Ｂにおいて、光入射電極ライン７０２の接続部７２８は、屈曲した線である。それらの屈曲した線の転向する角部は、直角（９０°）に限られず、また、図７Ａと図７Ｂに示すように、転向する角部の数は１つに限られるものではない。すなわち、１つの接続部がいくつかの転向部を有することもまた、本発明の範囲に入るものである。
【００３６】
続く説明は、図６に示す光学干渉式反射構造６００を用いることにより、本発明の光学干渉式反射構造の製造方法を簡単に説明するものである。最初に、透明基板のような基板の上に、光入射電極ライン６０２ａを形成する。光入射電極ライン６０２ａの各々には、複数の光入射電極が、パターン形成されている。そして、光入射電極の各々は、表示部６１６ａと配線部６１４と接続部６１８を有する。同じ横列にあり隣り合う光入射電極は、それらの接続部６１６ａにより電気的に接続しており、第１の電極ライン、すなわち、光入射電極ライン６０２ａ、を形成している。
【００３７】
それから、犠牲層が、第１の電極ライン上に形成される。犠牲層は、誘電性材料のような透明な材料から作られうるか、または、金属材料やポリシリコンやアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）のような不透明な材料から作られうる。開口部が、第１の電極ラインと中に支持部を形成するのに好適な犠牲層とに形成される。例として、写真平板（photolithography）エッチングなどの方法が、第１の電極や犠牲層に開口部を形成するために用いられる。そして、すべての開口部は、その中に支持部を形成するために好適である。
【００３８】
次に、犠牲層に材料層が形成され、開口部が満たされる。材料層は支持部を形成するのに好適であり、一般的に、フォトレジストのような感光性の材料や、もしくは、ポリエステルやポリイミド等のような非感光性の材料を用いる。材料層の形成に非感光性材料が用いられるときには、付加的な写真平板エッチング方法が材料層の中の支持部の輪郭をはっきりさせるために必要となる。
【００３９】
光反射電極ライン６０４ａが、支持部と犠牲層の上に形成される。光反射電極ライン６０４ａの各々は、複数の光反射電極をパターン形成し、光反射電極の各々は、表示部６２６ａと配線部６２４と接続部６２８を有する。同じ縦列にあり隣り合う光反射電極は接続部６２６ａにより電気的に接続し、第２の電極ライン、すなわち光反射電極ライン６０４ａ、を形成する。
【００４０】
最後に、犠牲層は、リモートプラズマエッチング法などの、リリースエッチングプロセスにより取り除かれ、空洞（犠牲層の当初の場所に位置する）が形成される。リモートプラズマエッチング法は、前駆体としてＣＦ４やＢＣｌ３やＮＦ３やＳＦ６のような、フッ化物類や塩化物類を有するエッチング試薬により生成されるリモートプラズマを用いることにより、犠牲層をエッチングする。このようにして、図６Ａに示すような光学干渉式反射構造６００に到達する。
【００４１】
以上、説明したように本発明の実施形態に係る光学干渉式反射素子によれば、表示部が短絡したとき、表示部と配線部との間の電気的接続を、切断することが可能である。これにより、短絡した光学干渉式反射素子は、光学干渉式反射構造全体の正常な駆動に悪影響を与えることはない。
【００４２】
表示部が短絡したとき、表示部と配線部との間の電気的接続を、切断することが可能である。これにより、短絡した光学干渉式反射素子は、光学干渉式反射構造全体の正常な駆動に悪影響を与えることはない。
【００４３】
前述に対応して、光学干渉式反射素子は、光入射電極と光反射電極とを有する。この２種の電極の内の１つ又は各々は、表示部と配線部を有し、表示部と配線部は、接続部により電気的に接続している。
【００４４】
光学干渉式反射構造は、上述した光学干渉式反射素子をマトリクスアレイとして配置し接続することにより形成される。光学干渉式反射素子の光入射電極は、配線部により電気的に接続し、複数の第１の電極ラインを形成している。光学干渉式反射素子の光反射電極は、配線部により電気的に接続し、複数の第２の電極ラインを形成している。第１及び第２の電極ラインは、だいたい直交して配置されている。
【００４５】
いずれかの光学干渉式反射素子の表示部が短絡した場合には、表示部と配線部の電気的接続が切断される。すなわち、接続部が切断され、単独の光学干渉式反射素子の短絡が、同じ縦の列や横の列に配置されている正常に動作している光学干渉式反射素子に悪影響を及ぼすことを防止する。
【００４６】
そして、上述した電極、すなわち表示部と配線部と接続部を有する電極、は光学干渉式反射素子の光反射電極に加えて、光入射電極として用いることも可能である。さらに、この２種類の電極の幅には制限はない。たとえば、光入射電極の幅は、光反射電極の幅より多くても良いし、逆に、光入射電極の幅は、光反射電極の幅より小さくてもよい。
【００４７】
光学干渉式反射素子は、１以上の接続部を有してもよい。表示部と接続部の接続位置に制限はなく、製造方法や設計にの要求に応じて変化させてもよい。加えて、接続部は、屈曲した線であってもよい。そしてこの線は、１以上の転向する角部を有し、該角部の角度は、９０°に限られるものではない。
【００４８】
本発明の実施形態に係る光学干渉式反射素子の修理方法によれば、光学干渉式反射構造は、すべての光学干渉式反射素子は表示部と配線部を有し、表示部と配線部とは接続部により電気的に接続する構造を備えている。ある光学干渉式反射素子の表示部が短絡した場合のように、光学干渉式反射構造から、欠陥のあるした光学干渉式反射素子が認識された場合には、欠陥のある光学干渉式反射素子の接続部を切断する。これにより、短絡した表示部が、欠陥のある光学干渉式反射素子と同じ縦列や横列にある他の光学干渉式反射素子の電位差に悪影響を及ぼすことを防止することができる。
【００４９】
本発明の実施形態に係る光学干渉式反射構造とその製造方法及び修理方法によれば、分かれた表示部と配線部は接続部により電気的に接続し、そして、表示部が短絡した場合には、接続部が切断され、連関する他の光学干渉式反射素子に悪影響が及ぶことを防止する。光学干渉式反射構造は、製造方法や設計の要求に応じて簡単に、そして柔軟に変更することができ、それゆえ、有用であり、ディスプレイパネルにとり低コストの構造となりうる。
【００５０】
本発明の精神と範囲を逸脱することなく、本発明の構成の種々の変更や変形が可能であることは、当該技術に精通している人々に明白であろう。上記に鑑みて、本発明は、規定された発明の種々の変更例や変形例をも対象とし、それらは、請求項及びそれらの等価物の範囲内にあることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１Ａ】従来技術のモジュレータの断面図である。
【図１Ｂ】電圧を印加したあとの図１Ａのモジュレータの断面図である。
【図２Ａ】パッシブマトリクス方式で駆動される従来の光学干渉式反射構造の平面図である。
【図２Ｂ】図２ＡのＡＡ’線で切断した断面図である。
【図３Ａ】他の従来技術の光学干渉式反射構造の平面図である。
【図３Ｂ】図３ＡのＢＢ’線で切断した断面図である。
【図４Ａ】本発明の好ましい実施形態の１つの平面図である。
【図４Ｂ】接続部を切断したあとの図４Ａに示す実施形態の平面図である。
【図５Ａ】本発明の他の好ましい実施形態の平面図である。
【図５Ｂ】本発明の他の好ましい実施形態の平面図である。
【図５Ｃ】本発明の他の好ましい実施形態の平面図である。
【図６Ａ】本発明の他の好ましい実施形態の平面図である。
【図６Ｂ】本発明の他の好ましい実施形態の平面図である。
【図７Ａ】本発明の他の好ましい実施形態の平面図である。
【図７Ｂ】本発明の他の好ましい実施形態の平面図である。
【符号の説明】
【００５２】
１００：光学干渉式反射構造
４０２：光入射電極ライン
４０４：光反射電極ライン
４１２：光学干渉式反射素子
４１４：配線部
４１６：表示部
４１８：接続部
【図１Ａ】
2005258385.tif 000003
【図１Ｂ】
2005258385.tif 000004
【図２Ａ】
2005258385.tif 000005
【図２Ｂ】
2005258385.tif 000006
【図３Ａ】
2005258385.tif 000007
【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
2005258385.tif 000009
【図４Ｂ】
2005258385.tif 000010
【図５Ａ】
2005258385.tif 000011
【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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