(57)【要約】  【課題】  耐傷性が高く形状保持性に優れた微細凹凸構造を形成することができる光学部品用硬化性樹脂組成物、該光学部品用硬化性樹脂組成物を用いることにより、光学特性に優れ、耐傷性が高く形状保持性に優れた光学部品、これを用いた画像表示装置を提供すること。  【解決手段】  加水分解を受ける離脱基上に重合性基を有するケイ素化合物を含有してなることを特徴とする光学部品用硬化性樹脂組成物であり、好ましくは、前記ケイ素化合物が、下記一般式（１）及び（２）の少なくともいずれかで表される構成単位を含み、光学部品の微細凹凸構造を形成するのに用いられる前記光学部品用硬化性樹脂組成物である。    【化１４】2005258119.tif 000016  但し、前記一般式（１）において、Ｒはラジカル重合反応性基又はカチオン重合反応性基を表わす。    【化１５】2005258119.tif 000017  但し、前記一般式（２）において、Ｒはラジカル重合反応性基又はカチオン重合反応性基を表わす。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
加水分解を受ける離脱基上に重合性基を有するケイ素化合物を含有してなることを特徴とする光学部品用硬化性樹脂組成物。
【請求項２】
ケイ素化合物が、下記構造式（１）及び（２）の少なくともいずれかで表される構成単位を含む請求項１に記載の光学部品用硬化性樹脂組成物。
【化１】
2005258119.tif 000014
但し、前記構造式（１）において、Ｒはラジカル重合反応性基又はカチオン重合反応性基を表わす。
【化２】
2005258119.tif 000015
但し、前記構造式（２）において、Ｒはラジカル重合反応性基又はカチオン重合反応性基を表わす。
【請求項３】
光学部品の微細凹凸構造を形成するのに用いられる請求項１から２のいずれかに記載の光学部品用硬化性樹脂組成物。
【請求項４】
ケイ素化合物が、シロキサン結合を有し、且つ数平均分子量が１，０００〜１，０００，０００の範囲の有機溶剤に可溶なポリマーである請求項１から３のいずれかに記載の光学部品用硬化性樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いて形成された微細凹凸構造を備えたことを特徴とする光学部品。
【請求項６】
微細凹凸構造における凹凸高さが５０〜１，０００ｎｍ、凹凸周期が１０〜４００ｎｍである請求項５に記載の光学部品。
【請求項７】
微細凹凸構造の屈折率をｎとした時に、次式、凹凸周期＜４００／ｎ（ｎｍ）、を満たす請求項５から６のいずれかに記載の光学部品。
【請求項８】
４５０〜６５０ｎｍの波長領域での鏡面平均反射率が２％以下である請求項５から７のいずれかに記載の光学部品。
【請求項９】
微細凹凸構造と相補的な微細凹凸構造を有するスタンパーを前記光学部品用硬化性樹脂組成物に圧接して該微細凹凸構造を転写してなる請求項５から８のいずれかに記載の光学部品。
【請求項１０】
光学部品が、反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、光カード、光ディスク及び偏光分離素子から選択されるいずれかである請求項５から９のいずれかに記載の光学部品。
【請求項１１】
請求項５から１０のいずれかに記載の光学部品を用いたことを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学特性、耐傷性等に優れた周期的微細凹凸構造を効率よく形成可能な光学部品用硬化性樹脂組成物、該光学部品用硬化性樹脂組成物を用いて形成され、反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、光カード、光ディスク、偏光分離素子等の種々の光学的用途に好適な光学物品、及び該光学物品を用いた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、可視光波長以下の周期的微細凹凸構造を備えた光学物品は、反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、偏光分離素子などの光学的用途への展開可能性において注目を集めている（非特許文献１参照）。
例えば、前記反射防止膜及び反射防止フィルムは、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）及び液晶表示装置（ＬＣＤ）などのディスプレイ装置、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止したショウウインドウなどに用いられている。また、太陽電池において光の反射を防止して光の利用効率高めるのに利用されている。
【０００３】
一般に、反射防止膜及び反射防止フィルムとしては、支持体上に屈折率の異なる複数の層を適切な膜厚で、蒸着、スパッタ、又は塗布などにより積層した多層膜構造のものが知られている。このような反射防止膜及び反射防止フィルムは、前記多層膜が光学干渉の原理に基づき各層界面からの反射光を互いに相殺することによって反射防止を行うものであり、層数を増やすことにより低い反射率特性、及び低い反射率波長依存性を実現できる。
前記反射防止膜及び反射防止フィルムとしては、コスト的な観点から１〜４層程度の層数のものが実用化されている。
しかしながら、この場合、前記多層膜による平均反射率は０．２〜０．３％程度が限界であり、十分な反射防止効果を得られないという問題がある。また、反射率の波長依存性が大きいため、前記反射防止膜及び反射防止フィルムからの表面反射が赤味や青味等を帯びるという問題がある。更に、光の入射角によって反射率特性が大きく変化してしまうという問題がある。
【０００４】
従来より、反射防止手段としては、サイズの大きな粒子をバインダーに混合し、皮膜表面に荒い凹凸構造を形成することによって反射光を散乱させる方法が知られており、この方法と前記多層膜による光学干渉方式とを併用することも知られている。
しかしながら、この場合、粗い凹凸構造がヘイズの上昇及びコントラストの低下を招き十分な反射防止効果が得られないという問題がある。
【０００５】
近年、皮膜表面に可視光波長以下の周期的な微細凹凸構造を形成することにより、これらの光学特性上の問題を解決するとともに、可視光を散乱させることなく低屈折率の皮膜を形成できることが知られている。また、前記微細凹凸構造を円錐、三角錐形状等の断面形状とすることにより、空気の屈折率から皮膜形成材料の屈折率まで皮膜の厚み方向で連続的に所望の屈折率を得ることができ、明確な界面を形成せず、広い波長域で低反射率を得ることができ、更に、光の入射角依存性が少なく極めて優れた反射防止効果を得ることができることが知られている（非特許文献２参照）。
一般に、前記微細凹凸構造の形成方法としては、バインダー量を減らして微粒子を充填する方式、エッチング方式（例えば、ホウ珪酸塩のゾルゲル反応で得られる皮膜を酸に浸漬し、酸の拡散に従って皮膜表面から内部に向かってホウ酸塩成分の溶出量を変化させる等の方法）等が知られている。
しかしながら、この場合、可視光波長以下の微細凹凸形状の精密なコントロールが困難であり、形成された微細凹凸構造の精度が劣るという問題がある。
【０００６】
また、従来より、前記微細凹凸構造の形成方法としては、電子線レジストやレーザーの２光束干渉露光方式による直接描画により微細なレリーフ形状を形成する方法が開発されている（非特許文献１参照）。
しかしながら、この場合、露光に時間がかかり、大面積、大量生産には適していないという問題がある。
【０００７】
一方、近年、前記微細凹凸構造の形成方法として、射出成型法、プレス加工法等の形状転写法が知られている（非特許文献３および特許文献１参照）。これらの形成方法は、電子線レジストやレーザーの２光束干渉露光方式による描画方法によってレジスト材料に微細な凹凸形状を形成したマスターを作製した後に、電鋳加工により前記マスターと相補的な微細構造を有するスタンパー（金型）を作製し、該スタンパーを利用して樹脂等に前記微細凹凸構造を転写するものである。
また、近年、前記微細凹凸構造の形成方法として、樹脂の相分離を利用した方式も知られている（特許文献２参照）。
【０００８】
しかしながら、前記微細凹凸構造が形成される樹脂として熱可塑性樹脂、紫外線硬化樹脂等の従来より公知の材料（例えば、特許文献１及び２参照）を用いた場合には、前記樹脂に形成された前記微細凹凸構造の耐傷性が小さく、該微細凹凸構造が外力によって潰れやすく、前記微細凹凸構造の形状保持性が劣るという問題がある。
また、一般に、樹脂材料の耐傷性を向上させるために、シリケート等の無機骨格を導入することによって、形状保持性を向上させることが知られているが、通常のゾルゲル反応では硬化収縮が大きく、樹脂材料が脆い等の問題がある。
また、近年、硬化収縮率が小さい光学部品用樹脂組成物として、無機微粒子を含有した光学部品用樹脂組成物が知られている（特許文献３参照）。
しかしながら、この場合、前記微細凹凸構造が形成される皮膜との相溶性の点で必ずしも前記微細凹凸構造の耐傷性等の形状保持性が改善されるものではないという問題がある。
【非特許文献１】菊田久雄  電子情報通信学会論文  Ｊ８３−Ｃ（３），ｐｐ．１７３−１８１（２０００年）
【非特許文献２】Ｂｅｒｎｈａｒｄ，Ｃ．Ｇ．，Ｅｎｄｅａｖｏｕｒ，Ｖｏｌ．２６，ｐｐ．７９（１９６７年）
【非特許文献３】Ａ．Ｇｏｍｂｅｒｔ  ｅｔ．ａｌ．，Ｔｈｉｎ  Ｓｏｌｉｄ  Ｆｉｌｍｓ，Ｖｏｌ．３５１，ｐｐ．７３（１９９３年）
【特許文献１】特開２００２−２６７８１６号公報
【特許文献２】欧州公開特許第１０９４１０３号公報
【特許文献３】特開２００３−８２０４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、従来における前記問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、耐傷性が高く形状保持性に優れた微細凹凸構造を形成可能な光学部品用硬化性樹脂組成物、該光学部品用硬化性樹脂組成物を用いることにより、光学特性に優れ、耐傷性が高く形状保持性に優れた光学部品、及び該光学部品を用いた画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
＜１＞  加水分解を受ける離脱基上に重合性基を有するケイ素化合物を含有してなることを特徴とする光学部品用硬化性樹脂組成物である。
＜２＞  ケイ素化合物が、下記構造式（１）及び（２）の少なくともいずれかで表される構成単位を含む前記＜１＞に記載の光学部品用硬化性樹脂組成物である。
【化３】
2005258119.tif 000002
但し、前記構造式（１）において、Ｒはラジカル重合反応性基又はカチオン重合反応性基を表わす。
【化４】
2005258119.tif 000003
但し、前記構造式（２）において、Ｒはラジカル重合反応性基又はカチオン重合反応性基を表わす。
＜３＞  光学部品の微細凹凸構造を形成するのに用いられる前記＜１＞から＜２＞のいずれかに記載の光学部品用硬化性樹脂組成物である。
＜４＞  ケイ素化合物が、シロキサン結合を有し、且つ数平均分子量が１，０００〜１，０００，０００の範囲の有機溶剤に可溶なポリマーである前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光学部品用硬化性樹脂組成物である。
＜５＞  前記＜１＞から＜４＞のいずれかに記載の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いて形成された微細凹凸構造を備えたことを特徴とする光学部品である。
＜６＞  微細凹凸構造における凹凸高さが５０〜１，０００ｎｍ、凹凸周期が１０〜４００ｎｍである前記＜５＞に記載の光学部品である。
＜７＞  微細凹凸構造の屈折率をｎとした時に、次式、凹凸周期＜４００／ｎ（ｎｍ）、を満たす前記＜５＞から＜６＞のいずれかに記載の光学部品である。
＜８＞  ４５０〜６５０ｎｍの波長領域での鏡面平均反射率が２％以下である前記＜５＞から＜７＞のいずれかに記載の光学部品である。
＜９＞  微細凹凸構造と相補的な微細凹凸構造を有するスタンパーを前記光学部品用硬化性樹脂組成物に圧接して該微細凹凸構造を転写してなる前記＜５＞から＜８＞のいずれかに記載の光学部品である。
＜１０＞  光学部品が、反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、光カード、光ディスク及び偏光分離素子から選択されるいずれかである前記＜５＞から＜９＞のいずれかに記載の光学部品である。
＜１１＞  前記＜５＞から＜１０＞のいずれかに記載の光学部品を用いたことを特徴とする画像表示装置である。
【００１１】
本発明の光学部品用硬化性樹脂組成物は、加水分解を受ける離脱基上に重合性基を有するケイ素化合物を含有してなるため、耐傷性が高く形状保持性に優れた微細凹凸構造を形成することができる。
好ましくは、これらの化合物において、加水分解・縮合によるシリケート骨格の形成と同時に、離脱基（ＲＯＨまたはＲＣＯＯＨ）に置換されたラジカル重合性基及びカチオン重合性基の少なくともいずれかを重合させることにより、該化合物に強靭な無機骨格と柔軟な有機骨格が相互に貫入して絡み合ったいわゆるＩＰＮ構造（例えば、Ｈ．Ｓｐｅｒｌｉｎｇ著、「Ｉｎｔｅｒｐｅｎｅｔｒａｔｉｎｇ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｎｅｔｗｏｒｋｓ  ａｎｄ  Ｒｅｌａｔｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｐｌｅｎｕｍ，Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ  １９８１」参照）が形成される。該ＩＰＮ構造の前記化合物は、架橋反応に伴う歪みの拘束が少なく、硬度と脆性の関係に優れ、硬化収縮に伴う微細凹凸形状の変形が少ない。
従って、各種光学物品に対し、光学特性、耐傷性が高く形状保持性に優れた微細凹凸構造を形成することができ、種々の光学的用途に好適に用いることができる。
また、本発明の光学部品は、本発明の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いて形成された微細凹凸構造を備えたことにより、光学特性が優れ、耐傷性が高く形状保持性が優れる。従って、反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、光カード、光ディスク、偏光分離素子などの光学部品に好適に用いることができる。
また、本発明の画像表示装置は、本発明の光学部品を用いることにより、周囲の風景写り込みが殆どなく、快適な視認性を示しかつ充分な光学特性、耐傷性を有するものであり、特に液晶表示装置として好適である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によると、従来における前記問題を解決し、耐傷性が高く形状保持性に優れた微細凹凸構造を形成することができる光学部品用硬化性樹脂組成物、該光学部品用硬化性樹脂組成物を用いることにより、光学特性に優れ、耐傷性が高く形状保持性に優れた光学部品、これを用いた画像表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
（光学部品用硬化性樹脂組成物）
本発明の光学部品用硬化性樹脂組成物は、加水分解を受ける離脱基上に重合性基を有するケイ素化合物を含有してなり、更に、必要に応じてその他の成分を有してなる。
【００１４】
ケイ素化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、下記構造式（１）及び（２）の少なくともいずれかで表される構成単位を含むことが好ましい。
【化５】
2005258119.tif 000004
但し、前記構造式（１）において、Ｒはラジカル重合反応性基又はカチオン重合反応性基を表わす。
【化６】
2005258119.tif 000005
但し、前記構造式（２）において、Ｒはラジカル重合反応性基又はカチオン重合反応性基を表わす。
【００１５】
前記構造式（１）及び（２）において、前記ラジカル重合反応性基としては、特に制限なく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基などが挙げられるが、これらの中でも（メタ）アクリロイル基が好ましい。
前記ラジカル重合反応性基の炭素数としては、特に制限なく、目的に応じて適宜選択することができるが、２〜３０が好ましく、炭素数２〜２０がより好ましく、３〜１０が特に好ましい。
前記ラジカル重合反応性基の具体例としては、例えば、ビニル基、アリル基、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル基などが挙げられる。
前記カチオン重合反応性基としては、特に制限なく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基などが挙げられるが、こららの中でも、エポキシ基が好ましい。
前記カチオン重合反応性基の炭素数としては、特に制限なく、目的に応じて適宜選択することができるが、２〜３０が好ましく、炭素数２〜２０がより好ましく、３〜１０が特に好ましい。
前記カチオン重合反応性基の具体例としては、例えば、４−スチリル基、グリシジル基、３,４−エポキシシクロへキシル基、グリシドキシエチル基、グリシドキシプロピル基、２−（２−オキサゾリル）エチル基などが挙げられる。
但し、前記（メタ）アクリロイルは、アクリロイル又はメタクリロイルを表す。
【００１６】
前記ケイ素化合物としては、１分子中に珪素原子が１〜３程度含まれる低分子量化合物であってもよい。また、前記ケイ素化合物としては、前記一般式（１）及び（２）の少なくともいずれかで表される構成単位を１分子中に複数有していてもよい。
前記ケイ素化合物としては、該化合物１分子中に、ＲＯ又はＲＣＯＯで表わされる置換基が１つのケイ素原子上に複数置換されていることが好ましく、前記化合物１分子中に３個以上置換されていることがより好ましい。前記化合物１分子中に複数のＲＯまたはＲＣＯＯで表わされる置換基が複数置換されている場合には、それらは互いに同じであっても異なっていてもよい。
【００１７】
前記ケイ素化合物が、シロキサン結合を有し、且つ数平均分子量（Ｍｎ）が１０００〜１００万の範囲の有機溶剤に可溶なポリマーであることが好ましい。
前記ケイ素化合物の数平均分子量（Ｍｎ）としては、１０００〜１００万であることが好ましく、２０００〜１０万がより好ましく、３０００〜３万が更に好ましい。
前記数平均分子量（Ｍｎ）が、１０００未満であると、皮膜の硬化が不十分であったり、硬化収縮が大きくなることがあり、１００万を超えると、溶剤溶解性が低下して扱いにくくなったり、硬化性樹脂組成物の保存安定性が低下したりすることがある。
【００１８】
前記有機溶剤としては、特に制限なく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸ブチル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール等のアルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類などが挙げられる。
【００１９】
前記ケイ素化合物の具体例としては、特に制限なく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、以下に示す化合物、該化合物部分加水分解・縮合物などが好適に挙げられる。
【００２０】
【化７】
2005258119.tif 000006
【００２１】
【化８】
2005258119.tif 000007
【００２２】
【化９】
2005258119.tif 000008
【００２３】
【化１０】
2005258119.tif 000009
【００２４】
【化１１】
2005258119.tif 000010
【００２５】
【化１２】
2005258119.tif 000011
【００２６】
前記光学部品用硬化性樹脂組成物における前記ケイ素化合物の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記光学部品用硬化性樹脂組成物の全固形分にたいして３０〜１００質量％が好ましく、５０〜１００質量％がより好ましく、６０〜１００質量％が特に好ましい。
前記含有量が３０質量％未満であると、低硬化収縮性、高強度皮膜の迅速形成といった前記ケイ素化合物の特徴が十分に発現されないことがある。
【００２７】
前記その他の成分としては、特に制限はなく、硬度、脆性、基材への密着性、防塵性（帯電防止性）、防汚性、離型性等の観点から目的に応じて適宜選択することができ、例えば、硬化剤、微粒子、シランカップリング剤、界面活性剤、離型剤、硬化触媒又は開始剤、活性エネルギー線の作用により酸又は塩基を発生する化合物、脱水剤、などが挙げられる。
【００２８】
前記硬化剤の具体例としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、ビニルオキシ基、アリル基等のエチレン性不飽和基、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基等の開環重合性基、アルコキシシリル基、アセトキシシリル基、ヒドロキシシリル基等の反応性シリル基、イソシアネート基＋水酸基等、ビニル基＋ヒドロシリル基等の重付加反応性基、多塩基酸あるいはその無水物、Ｎ−メチロール基、アルデヒド基、カルボニル基、活性メチレン基、ヒドラジン基等の重縮合反応性基などを分子中に有するモノマー、オリゴマー、プレポリマー、ブロックイソシアネートのように分解反応の結果として架橋性を示す官能基を有するもの、などが挙げられるが、こららの中でも、前記エチレン性不飽和基、前記開環重合性基を有する化合物が好適に挙げられる。
前記エチレン性不飽和基を有する化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、多価アルコールの（メタ）アクリル酸エステル類、ビニルベンゼン又はその誘導体、ビニルスルホン、（メタ）アクリルアミドなどが挙げられる。
前記多価アルコールの（メタ）アクリル酸エステル類の具体例としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ジクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラ（メタ）アクリレート、ポリウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、などが挙げられる。
前記ビニルベンゼン又はその誘導体の具体例としては、例えば、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノンなどが挙げられる。
前記ビニルスルホンの具体例としては、例えば、ジビニルスルホンなどが挙げられる。
前記（メタ）アクリルアミドの具体例としては、例えば、メチレンビスアクリルアミド、メタクリルアミド、などが挙げられる。
前記開環重合性基を有する化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記エチレン性不飽和基を有する硬化剤をエポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基などの開環重合性基に置換した化合物、グリシジル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
前記開館重合性基を有する化合物の市販品の例としては、デナコールＥＸ３１４，同４１１，同４２１，同５２１，同６１１，同６１２等（以上、ナガセ化成工業株式会社製、）、セロキサイド、ＧＴ３０１，同４０１等（以上、ダイセル工業株式会社製）、などが挙げられる。
前記光学部品用硬化性樹脂組成物における前記硬化剤の含有量としては、１〜７０質量％が好ましく、５〜５０質量％がより好ましく、１０〜３０質量％が更に好ましい。
但し、前記（メタ）アクリル酸は、アクリル酸又はメタクリル酸を表し、前記(メタ)アクリレートは、アクリレート又はメタクリレートを表す。
【００２９】
前記微粒子の粒子径としては、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍがより好ましく、５〜３０ｎｍが更に好ましい。
前記微粒子としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＩＴＯなどの無機微粒子が好適に挙げられ、これらの中でもＳｉＯ２が特に好適である。また、前記微粒子としては、バインダーを形成する前記光学部品用硬化性樹脂組成物とより強固に結合させるために、前記微粒子の表面を(メタ)アクリロイル基、エポキシ基等の反応性基によって修飾することが好ましい。前記微粒子の表面修飾する方法としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基等の官能基を有するシランカップリング剤を用いて表面修飾することが挙げられる。
前記微粒子の市販品の例としては、スノーテックスＩＰＡ−ＳＴ、同ＭＩＢＫ−ＳＴ（日産化学工業会株式会社製）、ＡＥＲＯＳＩＬ３００、同ＡＥＲＯＳＩＬ１３０、
同ＡＥＲＯＳＩＬ５０（日本エアロジル株式会社製）などが挙げられる。
前記光学部品用硬化性樹脂組成物における前記微粒子の添加量としては、前記硬化性樹脂組成物の全固形分に対し、１〜５０質量％が好ましく、５〜４０質量％がより好ましく、１０〜３０質量％が更に好ましい。
【００３０】
前記シランカップリング剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ＣＦ３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシシリルプロピルイソシアネート、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、アミノプロピルメチルトリエトキシシラン、メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、1,４−ジトリメトキシシリルブタンなどが挙げられる。
前記光学部品用硬化性樹脂組成物に前記シランカップリング剤を含有することにより、防汚性、密着性等を向上させることができ、シリカ等の微粒子を併用することにより、マトリクスと粒子間の結合力を高めることができる。
前記光学部品用硬化性樹脂組成物における前記シランカップリング剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記硬化性樹脂組成物の全固形分の０．１〜３０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がより好ましく、１〜１０質量％が更に好ましい。
【００３１】
前記界面活性剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤などが挙げられる。
前記フッ素系の界面活性剤としては、パーフルオロアルキルスルホン酸アミド基含有ノニオン、パーフルオロアルキル基含有オリゴマーなどが挙げられ、これらの市販品の例としてはフロラードＦＣ−４３１（スリーエム社製）、メガファックＦ−１７１、Ｆ−１７２、Ｆ−１７３、Ｆ−１７６ＰＦ（大日本インキ社製）などが好適に挙げられる。
前記シリコーン系の界面活性剤としては、エチレングリコール、プロピレングリコール等のオリゴマー等の各種の置換基で側鎖や主鎖の末端が変性されたポリジメチルシロキサン等が挙げられる。
前記光学部品用硬化性樹脂組成物における前記界面活性剤の含有量としては、  前記光学部品用硬化性樹脂組成物における硬化性樹脂組成物の全固形分に対し０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましく、０．５〜５質量％が更に好ましい。
【００３２】
前記離型剤成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、シリコーン系素材が好適に挙げられる。前記離型剤成分の市販品の例としては、ＡＫ−５、ＡＫ−３０、ＡＫ−３２（東亜合成株式会社製）、サイラプレーンＦＭＯ２７５、サイラプレーンＦＭＯ７２１(チッソ株式会社製)、ＫＦ−１００Ｔ、Ｘ−２２−１６９ＡＳ、ＫＦ−１０２、Ｘ−２２−３７０１ＩＥ、Ｘ−２２−１６４Ｂ、Ｘ−２２−１６４Ｃ、Ｘ−２２−５００２、Ｘ−２２−１７３Ｂ、Ｘ−２２−１７４Ｄ、Ｘ−２２−１６７Ｂ、Ｘ−２２−１６１ＡＳ(信越化学工業株式会社製)、ＲＭＳ０３３(商品名；Ｇｅｌｅｓｔ社製、メタクリロイル変性シリコーンオイル)、などが挙げられる。
前記光学部品用硬化性樹脂組成物における前記離型成分の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、硬化皮膜の全固形分に対して１〜２０質量％が好ましく、２〜１５質量％がより好ましく、３〜１０質量％が更に好ましい。
【００３３】
前記硬化触媒としては、ゾルゲル反応、イオン重合、脱水縮合等の反応を促進するために用いられる触媒であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、酸触媒、塩基触媒などが挙げられるが、これらの中でも、酸触媒が好適に挙げられる。
前記酸触媒の具体例としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機ブレンステッド酸類、シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有機ブレンステッド酸類、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクテート、トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等のルイス酸類、などが挙げられる。
前記塩基触媒の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基、トリエチルアミン、ピリジン、テトラメチルエチレンジアミン等の有機塩基、などが挙げられる。
前記光学部品用硬化性樹脂組成物における前記硬化触媒の含有量としては、特に制限はなく、前記触媒の種類、硬化反応性部位の違い等によって、目的に応じて適宜選択することができ、硬化性樹脂組成物の全固形分に対し０．００１〜１５質量％が好ましく、０．１〜５質量％がより好ましい。
前記開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記ケイ素化合物がラジカル重合性基の場合に、該ラジカル重合性化合物の重合を開始するためにはラジカル重合開始剤が添加される。
前記ラジカル重合開始剤としては、熱の作用によりラジカルを発生する重合開始剤、又は、活性エネルギー線の作用によりラジカルを発生する重合開始剤が挙げられる。
前記熱の作用によりラジカル重合を開始する重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択する事ができ、例えば、有機過酸化物、無機過酸化物、有機アゾ化合物、ジアゾ化合物などが好適に挙げられる。
前記有機過酸化物の具体例としては、過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、などが挙げられる。
前記無機過酸化物の具体例としては、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウムなどが挙げられる。
前記有機アゾ化合物の具体例としては、２−アゾービスーイソブチロニトリル、２−アゾービスープロピオニトリル、２−アゾ−ビスーシクロヘキサンジニトリルなどが挙げられる。
前記ジアゾ化合物の具体例としては、ジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウムなどが挙げられる。
前記活性エネルギー線の作用によりラジカル重合を開始する重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択する事ができ、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、などが挙げられる。
前記アセトフェノン類の具体例としては、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンなどが挙げられる。
前記ベンゾイン類の具体例としては、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルなどが挙げられる。
前記ベンゾフェノン類の具体例としては、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンなどが挙げられる。
前記ホスフィンオキシドの具体例としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドなどが挙げられる。
前記活性エネルギー線の作用によりラジカル重合を開始する重合開始剤には増感色素を併用することも可能である。
前記光学部品用硬化性樹脂組成物における前記ラジカル重合開始剤の含有量としては、炭素−炭素二重結合の重合が開始する量であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記硬化性樹脂組成物の全固形分に対し、０．１〜１５質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。
【００３４】
前記活性エネルギー線の作用により酸を発生する化合物としては、活性エネルギー線の照射によって皮膜の硬化が可能となる化合物であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、有機エレクトロニクス材料研究会（ぶんしん出版）編「イメージング用有機材料」１８７〜１９８頁、特開平１０−２８２６４４号等に例示される公知の化合物が挙げられる。前記活性エネルギー線の作用により酸を発生する化合物の具体例としては、ＲＳＯ３−（Ｒはアルキル基、アリール基を表す）、ＡｓＦ６−、ＳｂＦ６−、ＰＦ６−、ＢＦ４−等をカウンターイオンとするジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等の各種オニウム塩、トリハロメチル基が置換したオキサジアゾール誘導体やＳ−トリアジン誘導体等の有機ハロゲン化物、有機酸のＯ−ニトロベンジルエステル、ベンゾインエステル、イミノエステル、ジスルホン化合物などが挙げられ、これらの中でも、各種オニウム塩が好ましく、スルホニウム塩、ヨードニウム塩がより好ましい。
【００３５】
前記活性エネルギー線の作用により塩基を発生する化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、公知の具体例としては、ニトロベンジルカルバメート類、ジニトロベンジルカルバメート類等が好適に挙げられる。
【００３６】
前記活性エネルギー線の作用により酸又は塩基を発生する化合物には、増感色素を併用することができる。
【００３７】
前記光学部品用硬化性樹脂組成物における前記活性エネルギー線の作用によって酸又は塩基を発生する化合物及び増感色素の添加量としては、それぞれ硬化性樹脂組成物中の全固形分に対して０．１〜１５質量％が好ましく、０．５〜５質量％がより好ましい。
【００３８】
前記脱水剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択する事ができ、例えば、オルト蟻酸メチル、オルト蟻酸エチル、オルト酢酸メチル等のカルボン酸オルトエステル、無水酢酸等の酸無水物などが挙げられる。
【００３９】
前記光学部品用硬化性樹脂組成物における前記脱水剤の含有量としては、前記硬化性樹脂組成物の全固形分に対して０．５〜５００質量％が好ましく、５〜２００質量％がより好ましく、１０〜１００質量％が特に好ましい。
【００４０】
前記光学部品用硬化性樹脂組成物の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、前記ケイ素化合物を必須成分として、更に、必要に応じて前記その他の成分を適宜配合して製造することができる。
前記硬化性樹脂組成物における各成分に液状化合物が含まれる場合には、該液状化合物を溶剤として他の成分を溶解することができるが、溶剤を用いて前記硬化性樹脂組成物における各成分を溶解することもできる。
【００４１】
前記溶剤としては、組成物が沈殿を生じることなく、均一に溶解又は分散されるものであれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、エチレングリコール等のアルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、水などが挙げられる。これらは、１種単独で使用しても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００４２】
（光学部品）
本発明の光学部品は、本発明の前記光学部品用硬化性樹脂組成物を用いて形成された微細凹凸構造を備えてなり、更に、必要に応じてその他の部材を備える。
【００４３】
前記光学部品としては、前記微細凹凸構造を該光学部品の最表面に備えた単層構造のものでもよく、中間層に備えた複層構造のものでもよい。前記微細凹凸構造を中間層に備えた複層構造のものでは、例えば、前記その他の部材としての表面保護層、異なる特性を有する他の微細凹凸構造などが挙げられる。
【００４４】
前記光学部品としては、４５０〜６５０ｎｍの波長領域での鏡面平均反射率が２％以下であることが好ましく、１％以下であることがより好ましく、０．５％以下であることが更に好ましい。
なお、前記４５０〜６５０ｎｍの波長領域での鏡面平均反射率は、例えば、分光光度計を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの鏡面平均反射率を算出して求めることができる。
【００４５】
前記微細凹凸構造の凹凸周期としては、１０〜４００ｎｍであることが好ましい。
前記微細凹凸構造の高さ（深さ）としては、５０〜１０００ｎｍが好ましく、２００〜１０００ｎｍがより好ましく、３００〜１０００ｎｍが更に好ましい。
また、前記微細凹凸構造の屈折率をｎとした時に、前記凹凸周期＜４００／ｎ（ｎｍ）の条件を満たすことが好ましい。このような条件を外れると可視光の散乱が起こることがある。
【００４６】
前記微細凹凸構造の断面形状としては、特に限定はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、反射防止膜の用途に用いる場合には、円錐型、三角錘型、釣り鐘型、空気界面側がすぼまった一軸方向に波打った型などの形状が挙げられるが、これらの中でも、空気界面（屈折率約１）から支持体までの平均屈折率が連続的に変化する構造が好ましく、円錐型、三角錘型、釣り鐘型等の微細凹凸構造に方向性のないものがより好ましく、円錐型、三角錘型等の厚み方向の屈折率連続変化が直線的(一次関数)であるものが特に好ましい。
なお、前記微細凹凸構造の断面形状として、矩形等の断面形状を有するものは、厚み方向の屈折率の連続変化がなく、多層膜の低屈折率層として利用することができる。
【００４７】
前記微細凹凸形状の形成方法としては、特に制限はなく、公知の方法の中から目的に応じて適宜選択することができるが、安価であり、大面積加工の安定製造の観点から、前記光学部品が備える前記微細凹凸形状と相補的な微細凹凸構造を有するスタンパーを樹脂に圧接して形状を転写する形状転写法、２種類の樹脂等の相分離を利用し適切な溶剤を用いて１成分のみを溶出することにより微細凹凸構造を形成する方法などが好適に挙げられ、これらの中でも、特に前記形状転写法が好ましい。
前記形状転写方法によれば、例えば、シート状の光学部品をフィルム押出成形装置で成形する場合に、金属ロールの周囲に装着したエンボスロールに代えて前記スタンパーを用いることにより、ロール−トウ−ロールのプロセスで連続的に大面積の光学部品を加工することが可能となる。
【００４８】
前記形状転写法に用いられる樹脂としては、本発明の前記光学部品用硬化性樹脂組成物であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、紫外線硬化樹脂（ＵＶ硬化樹脂）、電子線硬化樹脂（ＥＢ硬化樹脂）、熱硬化樹脂等が好適に挙げられる。
前記形状転写法における形状転写を行う際の前記光学部品用硬化性樹脂組成物の性状としては、特に制限はなく、目的に応じて、未硬化、半硬化の樹脂などから適宜選択される。
前記形状転写法における形状転写を行う際の温度条件、圧力条件としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、該温度条件としては、５０〜２５０℃が好ましく、５０〜２００℃がより好ましく、５０〜１５０℃が更に好ましい。該圧力条件としては、０．１〜１５ＭＰaが好ましく、０．５〜１０ＭＰaがより好ましく、１〜５ＭＰaが更に好ましい。
【００４９】
前記形状転写法に前記ＵＶ又はＥＢ硬化樹脂が用いられる場合における形状転写方法の具体例としては、（１）未硬化または半硬化の樹脂を支持体に塗設した上に、前記スタンパーを圧接し、更に支持体の裏側から紫外線又は電子線を照射して形状を転写しながら樹脂層を硬化させた後、スタンパーを剥離する方法、（２）未硬化または半硬化の樹脂層にスタンパーを圧接して形状転写を行い、スタンパーを剥離した後に、紫外線又は電子線の照射を行い樹脂層を硬化させる方法、などが挙げられる。
前記ＵＶ又はＥＢ硬化樹脂の硬化方法としては、例えば、電離放射線の作用によって硬化する方法などが挙げられる。前記電離放射線の照射は、電磁波型の電離放射線の場合には、例えば、高圧水銀ランプを用いて行う方法が挙げられる。
前記ＵＶ硬化樹脂の硬化方法として紫外線を照射する場合における酸素濃度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．５％以下が好ましく、０．３％以下がより好ましく、０．２％以下が更に好ましい。
前記ＵＶ硬化樹脂の硬化方法として紫外線を照射する場合における照射エネルギーとしては、硬化反応が十分に進むに必要な量であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３００ｍＪ／ｃｍ２〜１５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、４００ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましく、５００ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２が更に好ましい。
【００５０】
前記形状転写法に前記熱硬化樹脂が用いられる場合における形状転写方法の具体例としては、（１）未硬化または半硬化の樹脂を支持体に塗設した上に、前記スタンパーを圧接し、更に支持体の裏側から加熱して形状を転写しながら樹脂層を硬化させた後、スタンパーを剥離する方法、（２）未硬化または半硬化の樹脂層にスタンパーを圧接して形状転写を行い、スタンパーを剥離した後に、加熱して樹脂層を硬化させる方法、などが挙げられる。
前記熱硬化樹脂の硬化条件は、加熱温度としては、３０〜２００℃が好ましく、８０〜１８０℃がより好ましく、１００〜１５０℃が更に好ましく、また、加熱時間としては、３０秒〜１００時間が好ましく、１分〜１時間がより好ましく、２分〜１５分が更に好ましい。
【００５１】
更に、前記光学部品用硬化性樹脂組成物の硬化方法としては、前記スタンパーを圧接して形状を転写する前に前記電子線、紫外線照射、加熱等の手段によって樹脂を部分硬化させてもよい。また、形状転写時には電子線又は紫外線、及び、熱の２つのエネルギーを同時に与えて硬化反応を行ってもよく、一方のみのエネルギーで硬化させてもよい。形状転写後に前記光学部品を完全硬化させる際も、上記の光及び熱の少なくともいずれかを加える方法を利用できる。
【００５２】
前記光学物品が多層構造である場合には、各層を順次十分硬化させた後に上層を塗設することが好ましい。
【００５３】
前記形状転写法に利用されるスタンパーの作製方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、感光性樹脂に対するレーザー干渉露光法、電子線露光法などにより微細凹凸形状を有する原型を作製し、更に、該原型に対してＮｉ等で電鋳加工する等の公知の手法によって作製する方法が挙げられる。
【００５４】
前記光学部品としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、具体例として、反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、光カード、光ディスク、偏光分離素子などが好適に挙げられる。
【００５５】
―反射防止膜―
前記反射防止膜としては、前記光学部品用硬化性樹脂組成物を用いて可視光波長以下の周期的微細凹凸構造が膜表面に形成され、反射防止機能を有する膜などが挙げられる。
前記反射防止膜としては、更に、可視光波長以上のなだらかな凹凸構造が形成され、外光を散乱させるアンチグレア機能を有する膜などが挙げられる。
前記反射防止膜がアンチグレア機能を有する膜の構造としては、可視光波長以上の大きななだらかな凹凸形状の上に、可視光波長以下の微細凹凸形状を有するものが挙げられる。
前記反射防止膜のヘイズとしては、前記アンチグレア機能を有さない場合には、３％以下が好ましく、１％以下がより好ましく、０．５％以下が更に好ましい。前記アンチグレア機能を有する場合には、ヘイズは３〜３０％が好ましく、５〜２０％がより好ましく、７〜２０％が更に好ましい。
前記反射防止膜の表面硬度としては、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、１Ｈ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましく、３Ｈ以上が更に好ましい。
前記アンチグレア機能を有する前記反射防止膜の作製方法としては、前記微細凹凸形状と前記なだらかな凹凸形状とが複合的に形成されたスタンパーを用いる方法、微粒子により大きな凹凸構造を有する表面を形成した後にスタンパーを圧接する方法、微粒子を利用して大きな凹凸構造を形成し更に相分離を利用して小さな凹凸構造の形成する方法、などが挙げられる。
前記反射防止膜は、前記微細凹凸構造が空気界面側となるように配置して使用される。
前記反射防止膜は、前記反射防止膜を前記画像表示装置装置のディスプレイ面、レンズ面、偏光板面などに直接形成して使用することもできるが、プラスチック、ガラスなどの透明な板状、フィルム状支持体の上に前記反射防止膜を接着等により積層して反射防止板又はフィルムを形成し、該反射防止板又はフィルムをディスプレイ等の画像表示装置、偏光板などに装着して使用することが好ましい。
反射防止膜を前記フィルム状支持体に積層して、反射防止フィルムとして用いる場合には、前記支持体側を画像表示装置の画像表示面に接着して使用する。
前記画像表示装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）などが挙げられる。
前記反射防止膜は、前記画像表示装置以外にも、ケースカバー、光学用レンズ、眼鏡用レンズ、ウインドウシールド、ライトカバーやヘルメットシールドにも利用できる。
【００５６】
―反射防止フィルム−
前記反射防止フィルムとしては、支持体と、該支持体上に前記光学部品用硬化性樹脂組成物を用いて可視光波長以下の周期的微細凹凸構造が形成された反射防止層とを備えたものであり、さらに必要に応じてその他の層を備えてなる。
【００５７】
前記周期的微細凹凸構造が形成された反射防止層としては、例えば、前記反射防止膜が挙げられる。
【００５８】
前記支持体としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、ガラス板よりもプラスチックフイルムが、成形性、量産性などの点から好ましい。
前記支持体の光透過率としては、８０％以上が好ましく、８６％以上がより好ましい。前記支持体のヘイズとしては、２．０％以下であることが好ましく、１．０％以下であることがより好ましい。
前記支持体の屈折率としては、１．４〜１．７が好ましく、反射防止膜用途とする場合、前記樹脂層との屈折率差が小さいものが好ましい。
前記支持体の厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば５０〜２００μｍが好ましい。
前記プラスチックフイルムとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、セルロースエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエーテルケトンなどが挙げられる。
前記セルロースエステルの具体例としては、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセルロース、ニトロセルロース、セルローストリアセテート等が挙げられるが、これらの中でも、セルローストリアセテートが好適である。
尚、前記セルローストリアセテート等のセルロースアシレートフィルムとしては、例えば、公技番号２００１−１７４５（発明協会公開技報）に記載のものを用いることも可能である。
前記ポリエステルの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエタン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテレフタレート等が挙げられるが、これらの中でもポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好適である。
前記ポリスチレンの具体例としては、シンジオタクチックポリスチレン等が挙げられる。
前記ポリオレフィンの具体例としては、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン等が挙げられる。
前記支持体には、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤などを添加することが好適である。
前記支持体を構成する組成物に対する前記赤外線吸収剤、前記紫外線吸収剤などの添加量としては、０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％がより好ましい。
なお、前記スタンパーを用いて前記微細凹凸構造を形成する際、支持体側から活性エネルギー線を照射して樹脂層を硬化させる場合には、前記紫外線吸収剤等の活性エネルギー線を吸収する物質を添加しないことが好ましく、また、支持体も該露光波長域に吸収を持たないものを選択することが好ましい。
前記支持体には、高強度化、低熱膨張性等の観点から、無機化合物の粒子を添加してもよい。無機化合物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＢａＳＯ4、ＣａＣＯ3、タルク、カオリンなどが挙げられる。
前記支持体は表面処理が施されていてもよい。前記表面処理としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、薬品処理、機械的処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理、混酸処理、オゾン酸化処理などが挙げられるが、これらの中でも、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理、火焔処理が好ましく、グロー放電処理、紫外線処理が特に好ましい。
【００５９】
前記支持体上に形成される前記微細凹凸構造層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書記載）による塗布により形成することができる。二層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、２５３頁、朝倉書店(1973)に記載がある。
【００６０】
前記その他の層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ハードコート層、接着層、防湿層、帯電防止層、下塗り層、電磁波や赤外線を遮蔽するためのシールド層、帯電防止層などが挙げられる。
前記ハードコート層は、透明支持体に耐傷性を付与するために設けられ、支持体とその上の層との接着を強化する機能も有する。
前記ハードコート層の表面硬度としては、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で、Ｈ以上が好ましく、２Ｈ以上がより好ましく、３Ｈ以上が更に好ましい。
前記ハードコート層を形成する組成物としては、アクリル系ポリマー、ウレタン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、シリコン系ポリマー、シリカ系化合物などが挙げられる。また、顔料を前記ハードコート層に添加してよい。
前記アクリル系ポリマーとしては、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等の多官能アクリレートモノマーを重合反応して合成されたものが好適に挙げられる。
前記ウレタン系ポリマーとしては、例えば、メラミンポリウレタンなどが挙げられる。
前記シリコン系ポリマーとしては、例えば、テトラアルコキシシラン、アルキルトリアルコキシシラン等のシラン化合物と、エポキシ基、(メタ)アクリロイル基等の反応性基を有するシランカップリング剤との共加水分解物などが好適に挙げられる。
前記シリカ系化合物としては、コロイダルシリカが好適に挙げられる。
前記ハードコート層を形成する組成物としては、一種単独で使用してもよく、二種類以上を併用してもよい。
【００６１】
（画像表示装置）
本発明の画像表示装置は、前記光学部品を用いてなり、更に、必要に応じてその他の部材を備える。
前記画像表示装置としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）、などが挙げられる。これらの中でも、液晶表示装置が好適に挙げられる。
【００６２】
前記液晶表示装置は、互いに対向して配される一対の基板間に液晶が封入されて構成される表示装置である。
前記液晶表示装置における液晶としては、例えば、ＳＴＮ型、ＴＮ型、ＧＨ型、ＥＣＢ型、強誘電性液晶、反強誘電性液晶、ＶＡ型、ＡＳＭ型、その他種々のものが好適に挙げられる。
本発明の液晶表示装置の基本的な構成態様としては、例えば、（１）薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」と称することがある。）等の駆動素子と画素電極（導電層）とが配列形成された駆動側基板と、カラーフィルタ及び対向電極（導電層）を備えるカラーフィルタ側基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その間隙部に液晶材料を封入して構成されるもの、（２）カラーフィルタが前記駆動側基盤板に直接形成されたカラーフィルタ一体型駆動基板と、対向電極（導電層）を備える対向基板とをスペーサーを介在させて対向配置し、その隙部に液晶材料を封入して構成されるもの等が挙げられる。
【実施例】
【００６３】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
なお、以下の実施例及び比較例において、「％」及び「部」は質量基準である。
【００６４】
（実施例１）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
前記例示化合物Ｐ−1（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ,２４,５４８１−５４８３（１９９１）に準じて合成）８０質量部、トリメチロールプロパントリアクリレート（アルドリッチ社製、多官能アクリル系硬化剤）１５質量部、離型剤として商品名：ＲＭＳ０３３（商品名；Ｇｅｌｅｓｔ社製、メタクリロイル変性シリコーンオイル）５質量部、光ラジカル重合開始剤として商品名：ＩＲＧ９０７（チバスペシャリティーケミカル社製）５質量部、光酸発生剤として商品名：ＵＶＩ６９９０（ユニオンカーバイド日本（株）社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となる様に溶解し、実施例１の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に前記実施例１の光学部品用硬化性樹脂組成物をバーコーターを用いて膜厚３μｍとなるように塗布した後、９０℃、５分間の条件で乾燥させた。
次に、前記ＰＥＴフィルムの前記光学部品用硬化性樹脂組成物が塗布された面上に、凹凸周期約２５０ｎｍ、凹凸高さ約２５０ｎｍの円錐形状の周期的微細凹凸構造を有するＮｉ材質よりなるスタンパーを押し当て、１ＭＰaの圧力、１分間の条件で前記スタンパーと前記フィルムを圧接した後、前記ＰＥＴフィルムの裏面から７５０ｍｊ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して樹脂層を硬化させた。その後、前記ＰＥＴフィルムとスタンパーを剥離し、更に、窒素雰囲気下（酸素濃度０．１％）で、樹脂層の表面から７５０ｍｊ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射し、引き続き１２０℃、１０分間の条件で加熱することにより、実施例１の表面に微細凹凸構造の形成されたフィルムを得た。
【００６５】
（実施例２）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
例示化合物Ｐ−６（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ,２４,５４８１−５４８３（１９９１）に準じて合成）８０質量部、セロキサイド（商品名；ダイセル工業株式会社製、多官能エポキシ系硬化剤）１５質量部、離型剤としてＸ−２２−１６３Ｂ（商品名、信越シリコーン株式会社製、エポキシ変性シリコーンオイル）５質量部、光酸発生剤としてＵＶＩ６９９０（商品名；ユニオンカーバイド日本（株）社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となる様に溶解し、実施例２の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
前記実施例２の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いたこと以外は、前記実施例１の反射防止フィルムと同様にして実施例２の反射防止フィルムを作製した。
【００６６】
（実施例３）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
例示化合物Ｐ−２６（日本接着協会誌第３９（２）巻、５６頁（２００３）に準じて合成）８０質量部、トリメチロールプロパントリアクリレート（アルドリッチ社製多官能アクリル系硬化剤）１５質量部、離型剤としてＲＭＳ０３３（商品名；Ｇｅｌｅｓｔ社製、メタクリロイル変性シリコーンオイル）５質量部、光ラジカル重合開始剤としてＩＲＧ９０７（商品名；チバスペシャリティーケミカル社製）５質量部、光酸発生剤としてＵＶＩ６９９０（商品名；ユニオンカーバイド日本（株）社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となる様に溶解し、実施例３の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
前記実施例３の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いたこと以外は、前記実施例１の反射防止フィルムと同様にして実施例３の反射防止フィルムを作製した。
【００６７】
（実施例４）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
例示化合物Ｐ−３０（Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ,５（６）,４２９（１９９３）に準じて合成）８０質量部、トリメチロールプロパントリアクリレート（アルドリッチ社製多官能アクリル系硬化剤）１５質量部、離型剤としてＲＭＳ０３３（商品名；Ｇｅｌｅｓｔ社製  メタクリロイル変性シリコーンオイル）５質量部、光ラジカル重合開始剤としてＩＲＧ９０７（商品名；チバスペシャリティーケミカル社製）５質量部、光酸発生剤としてＵＶＩ６９９０（商品名；ユニオンカーバイド日本（株）社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となる様に溶解し、実施例４の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
前記実施例４の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いたこと以外は、前記実施例１の反射防止フィルムと同様にして実施例４の反射防止フィルムを作製した。
【００６８】
（実施例５）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
例示化合物Ｐ−３４（Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ,５（６）,４２９（１９９３）に準じて合成）８０質量部、セロキサイド（商品名；ダイセル工業株式会社製、多官能エポキシ系硬化剤）１５質量部、離型剤としてＸ−２２−１６３Ｂ（商品名、信越シリコーン株式会社製、エポキシ変性シリコーンオイル）５質量部、光酸発生剤としてＵＶＩ６９９０（商品名；ユニオンカーバイド日本（株）社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となる様に溶解し、実施例５の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
前記実施例５の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いたこと以外は、前記実施例１の反射防止フィルムと同様にして実施例５の反射防止フィルムを作製した。
【００６９】
（比較例１）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
トリメチロールプロパントリアクリレート（アルドリッチ社製）９５質量部、離型剤としてＲＭＳ０３３（商品名；Ｇｅｌｅｓｔ社製  メタクリロイル変性シリコーンオイル）５質量部、光ラジカル重合開始剤としてＩＲＧ９０７（商品名；チバスペシャリティーケミカル社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質量％（固形分）となる様に溶解し、比較例１の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
−反射防止フィルムの作製−
前記比較例１の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いたこと以外は、前記実施例１の反射防止フィルムと同様にして比較例１の反射防止フィルムを作製した。
【００７０】
（比較例２）
−光学部品用硬化性樹脂組成物の調製−
特開２００３−８２０４３号公報の実施例１記載の方法に従って合成した下記構造式（３）で示されるバインダー樹脂Ａを３９質量部、硬化剤としてＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ（商品名、日本化薬株式会社製）１７質量部、シリカ微粒子分散物としてＭＥＫ−ＳＴ（商品名、日産化学工業社製  シリカ微粒子分散物）３９質量部、離型剤としてＫＦ−８６０（商品名、信越シリコーン社製  アミノ変性シリコーンオイル）５質量部、光ラジカル開始剤としてイルガキュア（ＩＲＧ）１８４（商品名、チバスペシャリティーケミカル社製）５質量部をメチルエチルケトンに３０質料％（固形分）となる様に溶解し、比較例２の光学部品用硬化性樹脂組成物を調製した。
【００７１】
【化１３】
2005258119.tif 000012
−反射防止フィルムの作製−
前記比較例２の光学部品用硬化性樹脂組成物を用いたこと以外は、前記実施例１の反射防止フィルムと同様にして比較例２の反射防止フィルムを作製した。
【００７２】
＜反射防止フィルムの性能評価＞
以上により得られた、実施例１〜５及び比較例１〜２の反射防止フィルムについて、以下のようにして鏡面平均反射率及び耐傷性の評価を行った。
＜＜鏡面平均反射率＞＞
分光光度計（日本分光株式会社製、Ｖ−５５０）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの鏡面平均反射率で結果を示した。
＜＜耐傷性試験＞＞
膜表面をスチールウール＃００００を用いて、２００ｇの荷重下で１０回擦った後に、傷のつくレベルを下記の規準に従って評価した。
全く傷がつかない        ：◎
わずかに傷がつく        ：○
細かい傷が目立つ        ：△
傷が著しい              ：×
得られた結果を表１に示す。
【００７３】
【表１】
2005258119.tif 000013
【００７４】
表１の結果から、実施例１〜５の反射防止フィルムは、比較例１〜２の反射防止フィルムに比べて、広い波長域で低い表面反射率を有すると共に、優れた耐傷性を有していることが認められる。
【００７５】
（実施例６）
―画像表示装置の作製―
前記実施例１の反射防止フィルムをパーソナルコンピューターＰＣ９８２１ＮＳ／３４０Ｗ（日本電気株式会社）の液晶ディスプレイ表面に貼り付け、実施例６の画像表示装置を作製した。
【００７６】
（実施例７〜１０及び比較例３〜４）
前記実施例２〜５の各反射防止フィルムを用いたこと以外は前記実施例６と同様にして実施例７〜１０の画像表示装置を作製した。
また、前記比較例１〜２の反射防止フィルムを用いたこと以外は前記実施例６と同様にして比較例３〜４の画像表示装置を作製した。
【００７７】
前記実施例６〜１０並びに比較例３及び４の各画像表示装置の風景映り込み程度を目視にて評価した。その結果、実施例６〜１０の画像表示装置は、周囲の風景映り込みが殆どなく、快適な視認性を示しかつ充分な耐傷性を有するものであったのに対し、比較例３〜４の画像表示装置は、周囲の映り込みは同様に低減できるものの耐傷性に劣るものであった。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
本発明の光学部品用硬化性樹脂組成物は、耐傷性が高く形状保持性に優れた微細凹凸構造を形成することができ、該光学部品用硬化性樹脂組成物を用いることにより、光学特性に優れ、耐傷性が高く形状保持性に優れた光学部品を得ることができ、反射防止膜、反射防止フィルム、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、光カード、光ディスク、偏光分離素子などに好適に使用可能である。また、本発明の画像表示装置は、前記光学部品を備えた、例えば、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）、などに好適に使用可能である。