(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学部品本体の光入射面及び／又は光出射面を被覆するように反射防止膜が設けられた光学部品であって、
上記反射防止膜は、光学部品本体側の高屈折率層と該高屈折率層の外側の低屈折率層とが積層されてなる２層構造を有し、
上記高屈折率層はＴａ２Ｏ５、ＨｆＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、又はＺｒＯ２で形成され、かつ、上記低屈折率層はＳｉＯ２で形成され、
上記高屈折率層は上記低屈折率層よりも光学的膜厚が小さく、
上記高屈折率層の厚さが３０〜７０ｎｍ、及び上記低屈折率層の厚さが２３０〜２５５ｎｍであることを特徴とする光学部品。
【請求項２】
請求項１に記載された光学部品において、
上記光学部品本体が高出力レーザー用光学素子本体であることを特徴とする光学部品。
【請求項３】
高出力レーザー用光学素子本体の光入射面及び／又は光出射面を被覆するように反射防止膜が設けられた高出力レーザー用光学素子にレーザー光を伝送するレーザー光伝送方法であって、
上記反射防止膜は、光学部品本体側の高屈折率層と該高屈折率層の外側の低屈折率層とが積層されてなる２層構造を有し、
上記高屈折率層はＴａ２Ｏ５、ＨｆＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、又はＺｒＯ２で形成され、且つ、上記低屈折率層はＳｉＯ２で形成され、
上記高屈折率層は上記低屈折率層よりも光学的膜厚が小さく、
上記高屈折率層の厚さが３０〜７０ｎｍ、及び上記低屈折率層の厚さが２３０〜２５５ｎｍであり、
上記伝送するレーザー光は、波長が１０２０〜１１３０ｎｍであることを特徴とするレーザー光伝送方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止膜を備えた光学部品、特に反射防止膜を備えた高出力レーザー用光学素子や、それを用いたレーザー光伝送方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学部品の光透過率を高めるために光入射面あるいは光出射面を被覆するように反射防止膜を設けることが行われている。
【０００３】
反射防止膜を単一層の膜として構成する場合、フレネルの式から導かれる次の式を満たすことが必要である。
【０００４】
Ｎｆ２＝Ｎ０・Ｎｓ
ここで、Ｎｆ、Ｎｓ及びＮ０は、それぞれ、膜の屈折率、膜が設けられる基板の屈折率、及び媒質の屈折率である。基板が石英ガラス（屈折率：約１．４５）及び媒質が空気（屈折率：約１．００）の場合、Ｎｆ＝１．２０であれば上記式を満たすが、一般に、反射防止膜として用いられる材料はＭｇＦ２（屈折率：約１．３６）、ＳｉＯ２（屈折率：約１．４４）、Ａｌ２Ｏ３（屈折率：約１．６０）、Ｔａ２Ｏ５（屈折率：約２．１０）、ＴｉＯ２（屈折率：約２．２０）等である。従って、通常、反射防止膜を単一層からなる膜として構成することができない。
【０００５】
特許文献１には、ＳｉＯ２からなる表面側層と、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２、ＨｆＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２の中から選ばれる一種からなる中間層と、ＳｉＯ２からなる素子側層とからなる３層構造の反射防止膜が記載されている。
【０００６】
特許文献２には、反射防止膜が２〜６層の薄膜積層体であり、その中に１層以上ＹＡＧ（Ｙ３Ａｌ５Ｏ１２：イットリウム・アルミニウム・ガーネット）を主成分とする層を含むことが記載されている。
【特許文献１】特開平４−３８８８５号公報
【特許文献２】特開２００４−２８７２７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
宇宙、航空、エレクトロニクス等をはじめとする様々な産業分野において、レーザー加工等に用いる高出力レーザーの性能向上の要求が高まっている。中でも、反射率が低く、しかも、優れたレーザー耐性を有する反射防止膜を備えたレーザー素子が強く求められている。
【０００８】
レーザー耐性の高い材料としてはＳｉＯ２やＡｌ２Ｏ３が広く用いられているが、ＳｉＯ２の薄膜とＡｌ２Ｏ３の薄膜とを積層して反射防止膜を構成し、その反射率を０．２５％以下に設計する場合、この反射防止膜は４層構造となる。
【０００９】
ところで、多層構造の反射防止膜において、薄膜と薄膜との界面を光が通過する際にレーザー耐性が低下するという問題がある。そして、反射防止膜を構成する層数が多いほどこの問題は顕著に現れる。そのため、高出力レーザーに対する優れたレーザー耐性を得る観点からは、反射防止膜を構成する薄膜の層数は少ないことが好ましい。
【００１０】
本発明の目的は、反射率が０．２５％以下であって光透過性がよく、しかも、優れたレーザー耐性を有する反射防止膜を備えた光学部品を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の光学部品は、
光学部品本体の光入射面及び／又は光出射面を被覆するように反射防止膜が設けられたものであって、
上記反射防止膜は、光学部品本体側の高屈折率層と該高屈折率層の外側の低屈折率層とが積層されてなる２層構造を有し、
上記高屈折率層はＴａ２Ｏ５、ＨｆＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、又はＺｒＯ２で形成され、かつ、上記低屈折率層はＳｉＯ２で形成され、
上記高屈折率層は上記低屈折率層よりも光学的膜厚が小さく、
上記高屈折率層の厚さが３０〜７０ｎｍ、及び上記低屈折率層の厚さが２３０〜２５５ｎｍであることを特徴とする。
【００１２】
上記光学部品本体は、高出力レーザー用光学素子本体であってもよい。
【００１３】
本発明のレーザー光伝送方法は、高出力レーザー用光学素子本体の光入射面及び／又は光出射面を被覆するように反射防止膜が設けられた高出力レーザー用光学素子にレーザー光を伝送するレーザー光伝送方法であって、
上記反射防止膜は、光学部品本体側の高屈折率層と該高屈折率層の外側の低屈折率層とが積層されてなる２層構造を有し、
上記高屈折率層はＴａ２Ｏ５、ＨｆＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、又はＺｒＯ２で形成され、且つ、上記低屈折率層はＳｉＯ２で形成され、
上記高屈折率層は上記低屈折率層よりも光学的膜厚が小さく、
上記高屈折率層の厚さが３０〜７０ｎｍ、及び上記低屈折率層の厚さが２３０〜２５５ｎｍであり、
上記伝送するレーザー光は、波長が１０２０〜１１３０ｎｍであることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の光学部品によれば、光学素子本体の光入射面及び／又は光出射面を被覆するように設けられた反射防止膜は光学部品本体側の高屈折率層と該高屈折率層の外側の低屈折率層とが積層されてなる２層構造を有するので、光入射面及び／又は光出射面において優れたレーザー耐性が得られる。また、反射防止膜の高屈折率層がＴａ２Ｏ５、ＨｆＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、又はＺｒＯ２で形成され、かつ、低屈折率層がＳｉＯ２で形成されているので、反射率が０．２５％以下の良好な光透過性を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００１６】
図１は、光学部品Ｐの断面を示す。
【００１７】
この光学部品Ｐは、光学部品本体１０と、その光入射面及び／又は光出射面を被覆するように設けられた反射防止膜１１とからなる。反射防止膜１１は、光学部品Ｐの光透過率を高めるために設けられる。
【００１８】
光学部品本体１０は、例えば、ファラデー回転子、ガラスレーザーやＹＡＧレーザー等の固体レーザー素子、ＣＯ２レーザーやエキシマレーザー等の気体レーザー素子、半導体レーザー素子、波長変換素子、カメラレンズ、眼鏡レンズ等の光学部品の本体である。
【００１９】
光学部品本体１０の光入射面及び／又は光出射面のうち、反射防止膜１１が設けられる部分は、例えば、石英ガラス、サファイアガラス等で構成され、例えば屈折率が１．４５〜１．７７である。そして、反射防止膜１１が設けられる部分は、例えば、平面や曲面である。この部分は、予め、スパッタやイオンクリーニング等の方法でエッチング等の処理を行っていてもよい。エッチングを行った場合の表面粗さは、例えば５〜１０Åｒｍｓである。反射防止膜１１が設けられる部分は、例えば、面積が０．００８〜８０００ｍｍ２である。
【００２０】
反射防止膜１１は、光学部品本体１０側の高屈折率層１２と、その高屈折率層１２の外側の低屈折率層１３と、が積層されてなる２層構造を有する。
【００２１】
高屈折率層１２を構成する材料は、Ｔａ２Ｏ５、ＨｆＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、またはＺｒＯ２である。高屈折率層１２は、例えば、屈折率が１．８〜２．２である。
【００２２】
高屈折率層１２は、膜厚ｄ１が３０〜７０ｎｍである。そして、高屈折率層１２は、例えば、光学的膜厚Ｄ１が０．２５〜０．５０である。ここで、光学的膜厚Ｄは、膜厚ｄ０に対してｎｄ０＝λ／４が成り立つときの光学的膜厚Ｄ０を１として表した値である（以下同様）。
【００２３】
低屈折率層１３は、高屈折率層１２を構成する材料よりも屈折率の低い材料で構成されている。低屈折率層１３を構成する材料はＳｉＯ２である。低屈折率層１３は、例えば、屈折率が１．４４〜１．４７である。低屈折率層１３の屈折率は、高屈折率層１２の屈折率との差が０．３以上であることが好ましい。
【００２４】
低屈折率層１３は、膜厚ｄ２が２３０〜２５５ｎｍである。そして、低屈折率層１３は、例えば、光学的膜厚Ｄ２が１．２５〜１．４０である。高屈折率層１２の光学的膜厚Ｄ１は、低屈折率層１３の光学的膜厚Ｄ２よりも小さい。低屈折率層１３を構成するＳｉＯ２はレーザー耐性が高いので、低屈折率層１３が肉厚であれば反射防止膜１１全体としても高いレーザー耐性を示す。
【００２５】
以上の構成の反射防止膜１１を有する光学部品Ｐは、反射率が０．２５％以下となる、優れた光透過性を示す。しかも、反射防止膜１１が２層構造を有するので、レーザー耐性にも優れている。
【００２６】
そして、以上のように構成した反射防止膜１１は、ファラデー回転子、ガラスレーザーやＹＡＧレーザー等の固体レーザー素子、ＣＯ２レーザーやエキシマレーザー等の気体レーザー素子、半導体レーザー素子、波長変換素子、カメラレンズ、眼鏡レンズ等の光学部品本体１０の入射端面や出射端面、光ファイバの両端面に設けられる。この反射防止膜１１は、優れたレーザー耐性を有するので、特に、ファラデー回転子、ガラスレーザーやＹＡＧレーザー等の固体レーザー素子、ＣＯ２レーザーやエキシマレーザー等の気体レーザー素子、波長変換素子等の高出力レーザー用光学素子に設けた場合に効果が顕著となる。
【００２７】
図２は、反射防止膜１１を設けた光学部品Ｐの例として、レーザーガイド２０のレーザー光入射端側部分の構成を示す。レーザー光出射端側部分も、入射端側部分と略同一の構成である。
【００２８】
このレーザーガイド２０は、レーザーガイド光ファイバ心線２１ａをチューブ２１ｂに挿通したガイド本体部２１と、ガイド本体部２１の両端部をそれぞれ覆うように取り付けられたコネクタ２２と、で構成されている。
【００２９】
コネクタ２２は、コネクタ本体２２ａとその接続端側部分に被せるように設けられたキャップ部材２２ｂとで構成されている。コネクタ本体２２ａは、内部の接続端側の部分にサファイアチップ２３を備え、そのサファイアチップ２３の接続端側端面には高反射膜２３ａが設けられている。
【００３０】
レーザーガイド光ファイバ心線２１ａは、その先端部分で被覆層が所定長剥がされ、レーザーガイド光ファイバが剥き出しとなっている。そして、コネクタ本体２２ａにチューブ２１ｂから突出したレーザーガイド光ファイバ心線２１ａが収容されていると共に樹脂で埋設固定され、さらに、サファイアチップ２３にレーザーガイド光ファイバ心線２１ａの被覆層が剥がされた部分が内嵌保持されている。
【００３１】
キャップ部材２２ｂは、底部に、例えば石英製又はサファイア製の保護ガラス２４を備えている。そして、例えばレーザーガイドの入射端側部分では、保護ガラス２４を介してレーザーガイド光ファイバ心線２１ａのコアにレーザー光が入射するようになっている。
【００３２】
このような構成のレーザーガイド２０において、保護ガラス２４の両面、つまり、光入射面及び光出射面、並びに、レーザーガイド光ファイバ心線２１ａの光入射面（ファイバ端面）に、各表面を被覆するように反射防止膜１１が設けられている。そのため、レーザーガイド２０の光入射面及び光出射面において、高い光透過率を得ることができる。しかも、本発明の反射防止膜１１は２層構造であるから、レーザーガイド２０の光入射面及び光出射面、並びに、レーザーガイド光ファイバ心線２１ａの光入射面（ファイバ端面）において優れたレーザー耐性を示す。
【００３３】
以下、光学部品本体１０に反射防止膜１１を設ける方法について説明する。
【００３４】
この反射防止膜１１を構成する高屈折率層１２及び低屈折率層１３のそれぞれは、例えば、真空蒸着法、イオンアシスト蒸着法、スパッタ蒸着法、イオンプレーティング蒸着法、ゾルゲル法等の従来の方法を用いて成膜することができる。ここでは、イオンアシスト蒸着法について詳述する。
【００３５】
図３は、反射防止膜蒸着装置３０を示す。反射防止膜蒸着装置３０は、例えば、イオンアシスト蒸着法によって光学部品本体１０上に反射防止膜を設けるのに用いられる装置である。この反射防止膜蒸着装置３０は、処理槽３１、処理槽３１内に各々設けられた、基板載置ドーム３２、ルツボ３３、電子銃３４、イオン銃３５、酸素ガス供給器３６、アルゴン供給器及びアルゴン供給管（図示せず）、モニター３７、処理槽３１内を減圧するための真空ポンプ、処理槽３１上に設けられた光源、反射鏡、及び検出器等で構成されている。
【００３６】
この反射防止膜蒸着装置３０を用いて光学部品本体１０上に反射防止膜を設ける場合、まず、基板載置ドーム３２に、表面に所定のマスキング処理やエッチング処理等を施した光学部品本体１０を装着する。また、ルツボ３３上に、高屈折率層１２の材料である蒸着源３８（Ｔａ２Ｏ５やＺｎＯ２等）を載置する。そして、ルツボ３３で蒸着源３８を加熱しつつ、真空ポンプで処理槽３１内を減圧する。
【００３７】
次いで、電子銃３４で蒸着源３８の表面に電子を供給し、蒸着源３８を溶融・気化する。この蒸着源３８の蒸気は、酸素ガス、酸素イオン及びアルゴンイオンの供給下で光学部品本体１０の表面に蒸着され、高屈折率層１２の薄膜が形成される。
【００３８】
続いて、高屈折率層１２が形成された光学部品本体１０を基板載置ドーム３２に装着した状態で、ルツボ３３上には低屈折率層１３の材料である蒸着源３８（ＳｉＯ２）を載置し、高屈折率層１２と同様にして低屈折率層１３の薄膜を形成する。
【００３９】
なお、蒸着中は、光源を点灯させ、モニター３７や検出器等で、蒸着膜厚の制御を行う。
【００４０】
このようにして、光学部品本体１０上に反射防止膜１１が設けられる。この反射防止膜１１は、２層構造を有するので、３層以上の薄膜からなる反射防止膜よりも少ない工程で製造することができる。
【実施例】
【００４１】
ガラス基板上に設けた反射防止膜について行った試験評価１及び２について説明する。なお、ガラス基板は本発明おける光学基板本体に相当する。
【００４２】
（試験評価１）
以下の反射防止膜１〜８を作製した。ここで、反射防止膜１，３，５及び７は、本願実施形態に係る構成の実施例を示す。また、反射防止膜２，４，６及び８は、本願実施形態の要件を満足しない参考実施例を示す。それぞれの構成は、表１にも示す。
【００４３】
なお、反射防止膜の各膜厚を設計するにあたり、以下の理論に基づいて計算を行った。
【００４４】
＜膜厚設計理論＞
光学薄膜の特性行列Ｍは、数１で表される。
【００４５】
【数１】
0005362256.tif 000002
ここで、上記数式において、δは、波長λ、屈折率ｎ及び膜厚ｄに対しδ＝（２π／λ）・ｎｄ）で定まる値である。
【００４６】
このとき、２つの光学薄膜の境界面ａ、ｂでの電界Ｅと磁界Ｈとの関係、及び、エネルギー反射率Ｒは、それぞれ、数２及び数３で表される。
【００４７】
【数２】
0005362256.tif 000003
【００４８】
【数３】
0005362256.tif 000004
ここで、上記数式において、ｎｓは基板の屈折率である。
【００４９】
２層構造の反射防止膜については、全体の特性行列を各層の特性行列Ｍ１及びＭ２の積として表せるので、
【００５０】
【数４】
0005362256.tif 000005
となる新たな特性行列Ｍについてλ＝１０６４ｎｍにおけるエネルギー反射率Ｒ＝０となるように各パラメーターを計算することにより、反射防止膜を設計することができる。
【００５１】
＜反射防止膜１＞
Ｔａ２Ｏ５からなる高屈折率層とＳｉＯ２からなる低屈折率層とを備えた反射防止膜を、石英ガラス基板上に設けた。
【００５２】
石英ガラス基板としては、屈折率１．４５、反射防止膜を設ける面の表面積約７１０ｍｍ２、及び、厚さ１．０ｍｍのものを使用した。
【００５３】
まず、イオンアシスト蒸着法によってＴａ２Ｏ５からなる高屈折率層を形成した。形成された高屈折率層は、屈折率が２．０５、膜厚ｄ１＝４６．５３ｎｍ、及び光学的膜厚Ｄ１＝０．３５３であった。
【００５４】
次に、同じくイオンアシスト蒸着法により、高屈折率層を形成した基板上にＳｉＯ２からなる低屈折率層を形成した。形成された低屈折率層は、屈折率が１．４４、膜厚ｄ２＝２４４．１３ｎｍ、及び光学的膜厚Ｄ２＝１．３１５であった。
【００５５】
こうして作製された２層構造の反射防止膜を反射防止膜１とした。
【００５６】
＜反射防止膜２＞
反射防止膜１と同様にして、Ｔａ２Ｏ５からなる高屈折率層とＳｉＯ２からなる低屈折率層とを備えた反射防止膜を設け、反射防止膜２とした。この反射防止膜２は、１０６４ｎｍの波長において、高屈折率層の屈折率が２．０５、膜厚ｄ１＝２１６．１０ｎｍ、及び光学的膜厚Ｄ１＝１．６４１であり、低屈折率層の屈折率が１．４４、膜厚ｄ２＝１２８．４６ｎｍ、及び光学的膜厚Ｄ２＝０．６９２であった。
【００５７】
＜反射防止膜３＞
反射防止膜１と同様にして、ＺｒＯ２からなる高屈折率層とＳｉＯ２からなる低屈折率層とを備えた反射防止膜を設け、反射防止膜３とした。この反射防止膜３は、１０６４ｎｍの波長において、高屈折率層の屈折率が１．９５、膜厚ｄ１＝５３．０６ｎｍ、及び光学的膜厚Ｄ１＝０．３９０であり、低屈折率層の屈折率が１．４４、膜厚ｄ２＝２４０．９８ｎｍ、及び光学的膜厚Ｄ２＝１．２９８であった。
【００５８】
＜反射防止膜４＞
反射防止膜１と同様にして、ＺｒＯ２からなる高屈折率層とＳｉＯ２からなる低屈折率層とを備えた反射防止膜を設け、反射防止膜４とした。この反射防止膜４は、１０６４ｎｍの波長において、高屈折率層の屈折率が１．９５、膜厚ｄ１＝２１７．７６ｎｍ、及び光学的膜厚Ｄ１＝１．６００であり、低屈折率層の屈折率が１．４４、膜厚ｄ２＝１３１．２１ｎｍ、及び光学的膜厚Ｄ２＝０．７０７であった。
【００５９】
＜反射防止膜５＞
反射防止膜１と同様にして、ＨｆＯ２からなる高屈折率層とＳｉＯ２からなる低屈折率層とを備えた反射防止膜を設け、反射防止膜５とした。この反射防止膜５は、１０６４ｎｍの波長において、高屈折率層の屈折率が１．８６、膜厚ｄ１＝６８．８６ｎｍ、及び光学的膜厚Ｄ１＝０．４８１であり、低屈折率層の屈折率が１．４４、膜厚ｄ２＝２３２．８５ｎｍ、及び光学的膜厚Ｄ２＝１．２５４であった。
【００６０】
＜反射防止膜６＞
反射防止膜１と同様にして、ＨｆＯ２からなる高屈折率層とＳｉＯ２からなる低屈折率層とを備えた反射防止膜を設け、反射防止膜６とした。この反射防止膜６は、１０６４ｎｍの波長において、高屈折率層の屈折率が１．８６、膜厚ｄ１＝２１７．０５ｎｍ、及び光学的膜厚Ｄ１＝１．５１７であり、低屈折率層の屈折率が１．４４、膜厚ｄ２＝１３８．７２ｎｍ、及び光学的膜厚Ｄ２＝０．７４７であった。
【００６１】
＜反射防止膜７＞
反射防止膜１と同様にして、Ｎｂ２Ｏ５からなる高屈折率層とＳｉＯ２からなる低屈折率層とを備えた反射防止膜を設け、反射防止膜７とした。この反射防止膜７は、１０６４ｎｍの波長において、高屈折率層の屈折率が２．２４、膜厚ｄ１＝３１．４６ｎｍ、及び光学的膜厚Ｄ１＝０．２６５であり、低屈折率層の屈折率が１．４４、膜厚ｄ２＝２５０．８４ｎｍ、及び光学的膜厚Ｄ２＝１．３５１であった。
【００６２】
＜反射防止膜８＞
反射防止膜１と同様にして、Ｎｂ２Ｏ５からなる高屈折率層とＳｉＯ２からなる低屈折率層とを備えた反射防止膜を設け、反射防止膜８とした。この反射防止膜８は、１０６４ｎｍの波長において、高屈折率層の屈折率が２．２４、膜厚ｄ１＝２０６．３８ｎｍ、及び光学的膜厚Ｄ１＝１．７３６であり、低屈折率層の屈折率が１．４４、膜厚ｄ２＝１２０．４３ｎｍ、及び光学的膜厚Ｄ２＝０．６４９であった。
【００６３】
ガラス基板上に設けた反射防止膜１〜８のそれぞれについて、４００〜１８００ｎｍの波長範囲における反射率を測定した。具体的には、光源と検出器とを備えた測定器を用いて、光源から出た光がそのまま検出器で検出されたときの光強度を１００％として、各反射防止膜を備えたガラス基板に光を入射し、そのガラス基板を透過した光の強度を測定することにより反射率を得た。このとき、スキャンスピードは３００ｎｍ／ｍｉｎ、近赤外及び可視・紫外領域におけるスリット幅は、自動制御及び４．００ｎｍ、並びに、サンプリング間隔は１．００ｎｍの設定の下で測定した。
【００６４】
図４〜７は、これらの結果を表したグラフである。これらのグラフより、各反射防止膜の反射率が０．２５％以下である波長帯域を調べた。これを表１に示す。
【００６５】
【表１】
0005362256.tif 000006
【００６６】
（試験評価２）
試験評価１における反射防止膜１及び２を用いて、それぞれのレーザー損傷しきい値を測定した。
【００６７】
図８は、レーザー損傷しきい値の測定装置８０を示す。この測定装置８０は、Ｎｄ：ＹＡＧレーザー照射部８１（波長：１０６４ｎｍ、パルス幅：１０ｎｓ）、プリズム８２、１／２λ板８３、ポラライザー８４、バイプラナー８５、反射鏡８６、石英ガラス８７、集光レンズ８８（焦点距離：１００ｍｍ）、ＣＣＤカメラ８９、及びオシロスコープ（図示せず）等で構成されている。
【００６８】
この測定装置８０を用いて、反射防止膜１及び２について、１−ｏｎ−１法により、１ショットで損傷を受けるレーザーの損傷しきい値を求めた。具体的には、この測定装置８０の集光レンズの１０５ｍｍ前方にサンプルとしての反射防止膜１及び２を備えたガラス基板を設置し、それぞれに、Ｎｄ：ＹＡＧレーザー照射部８１から異なる大きさのフルエンスを有するレーザー光を照射させた。照射毎にバイプラナー８５で観測した値をオシロスコープで読み取った。また、薄膜状の損傷の有無については、プラズマ発光とＣＣＤカメラ８９によって判定した。そして、損傷が起こった最小のフルエンスを損傷しきい値と定義した。
【００６９】
表２は、レーザー損傷しきい値の測定試験における薄膜損傷の有無の観測結果を示す。
【００７０】
【表２】
0005362256.tif 000007
【００７１】
（試験評価の考察）
図４〜７によれば、反射防止膜１〜８では、１０６４ｎｍの波長における反射率は全て０．１％以下である。従って、上記構成の２層構造体の反射防止膜により、反射率の低い反射防止膜が得られることが分かる。
【００７２】
表１によれば、高屈折率層の光学的膜厚Ｄ１が低屈折率層の光学的膜厚Ｄ２より小さい反射防止膜１、３、５及び７は、参考実施例である反射防止膜２、４、６及び８と比較して、反射率が０．２５％である低反射率の波長帯域が大きいことが分かる。
【００７３】
また、表２によれば、反射防止膜１のレーザ光の照射密度の損傷しきい値は４０．７Ｊ／ｃｍ２であり、反射防止膜２のレーザ光の照射密度の損傷しきい値は３４．２Ｊ／ｃｍ２であることから、反射防止膜１及び２は、レーザー耐性の優れた反射防止膜であることが分かる。
【００７４】
また、レーザー損傷しきい値の測定結果によれば、高屈折率層の光学的膜厚Ｄ１が低屈折率層の光学的膜厚Ｄ２より小さい反射防止膜１は、参考実施例である反射防止膜２と比較して、約１．２倍のレーザー耐性を有する。従って、高屈折率層の光学的膜厚Ｄ１を低屈折率層の光学的膜厚Ｄ２より小さくすることにより、より優れたレーザー耐性が得られることが分かる。
【産業上の利用可能性】
【００７５】
以上説明したように、本発明は光学部品本体の光入射面及び／又は光出射面を被覆するように反射防止膜が設けられた光学部品について有用である。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】光学部品の断面図である。
【図２】本発明の反射防止膜を設けたレーザーガイドの入射端側における構成を示す図である。
【図３】反射防止膜蒸着装置の構成を示す図である。
【図４】反射防止膜１（実線）及び２（破線）の波長と反射率との関係を示すグラフである。
【図５】反射防止膜３（実線）及び４（破線）の波長と反射率との関係を示すグラフである。
【図６】反射防止膜５（実線）及び６（破線）の波長と反射率との関係を示すグラフである。
【図７】反射防止膜７（実線）及び８（破線）の波長と反射率との関係を示すグラフである。
【図８】レーザー損傷しきい値の測定装置を示す概略図である。
【符号の説明】
【００７７】
Ｐ  光学部品
１０  光学部品本体
１１  反射防止膜
１２  高屈折率層
１３  低屈折率層
【図１】
0005362256.tif 000008
【図２】
0005362256.tif 000009
【図３】
0005362256.tif 000010
【図４】
0005362256.tif 000011
【図５】
0005362256.tif 000012
【図６】
0005362256.tif 000013
【図７】
0005362256.tif 000014
【図８】
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