(57)【要約】【課題】  温度変動に拘らず安定した固有のパターンを得ることができる画像形成装置を提供する。【解決手段】  光源６２から射出されたレーザビームを平行平面板を介して複数のレーザビームに分割し、投影レンズ６６を介して露光面上に結像することによって干渉縞パターンを露光する画像形成装置１０において、温度変動によるレーザビームの波長の変動による干渉縞６９位置変動を抑制するために、温度変化に対する屈折率変動が小さく且つ線膨張係数が小さい平行平面板６４、温度上昇に対して正の屈折率変動及び正の線膨張係数を有する平行平面板６５、または２枚の平面状の基盤を互いの反射面が対向するようにスペーサを介して構成した平行平面板８１を使用、またはレーザ波長が長波長側にシフトするするに従って屈折力が強くなる投影レンズ７０を使用することにより、干渉縞６９の外部温度の変動による変動を抑制する。【選択図】        図３
2005059257.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定の拡がり角をもって光ビームを射出する光源と、
前記光源から入射された光ビームを複数の光ビームに分割し、温度の変動による干渉縞パターン位置の変動を抑制するために、分割された光ビームの位相差の変動が前記温度変動以前と略同一となるビーム分割手段と、
前記ビーム分割手段により分割された光ビームを露光面上に導いて干渉縞パターンを形成する投影光学系と、
を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記ビーム分割手段は、温度の変動に伴い出射される光ビームの位相差が、前記温度変動以前に得られる前記露光面上の干渉縞パターンと略同一となるように複数の光ビームに分割することを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
一定の拡がり角をもって光ビームを射出する光源と、
前記光源から入射された光ビームを複数の光ビームに分割し、少なくとも透光性を有すると共に、反射面を有する１対の平面状の基盤を互いの反射面が対向するように間隙をもって配置するとともに、温度の変動に伴い出射される光ビームの位相差が、前記温度変動以前に得られる位相差と略同一となるように間隙が定められた間隙部材と、から構成されるビーム分割手段と、
前記ビーム分割手段により分割された光ビームを露光面上に導いて干渉縞パターンを形成する投影光学系と、
を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項４】
一定の拡がり角を有するとともに、温度の変動に伴い波長が変動する光ビームを射出する光源と、
前記光源から入射された光ビームを複数の光ビームに分割するビーム分割手段と、
前記ビーム分割手段により分割された光ビームについて、温度の変動に伴って同一の位相差となるビームの出射方向の変動に対応して、前記温度変動以前に得られる前記露光面上の干渉縞パターンと略同一の位置となる干渉縞パターンを前記露光面上に形成するように、入射された光ビームを前記露光面へ向けて投影する投影光学系と、
を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項５】
前記ビーム分割手段は、温度の変動により同一の位相差となる光ビームの出射方向の変動が前記温度変動以前と略同一となるように複数の光ビームに分割することを特徴とする請求項４に記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像形成装置に係り、特に、画像に応じた光を潜像担持体に露光してトナー現像し、現像されたトナー像を記録用紙に転写することにより画像を形成するデジタル複写機、プリンタ等の画像形成装置や、画像に応じた光を露光することにより電子ペーパーに画像を形成する画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、画像を記録用紙上に形成するレーザビームプリンタ等の画像形成装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。この技術によれば、レーザビームプリンタを用いて、画像に応じて変調された光ビームを感光体に走査露光してトナー現像し、現像されたトナー像を記録用紙に転写することにより、画像を記録用紙上に形成する。
【０００３】
このような画像形成装置において、出力文書の偽造防止や文書に示される情報価値の確保への要求があった。
【特許文献１】特開平２００１−２１５４２３号公報  （第１０−１２頁、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
コンピュータ等に保持された電子文書がレーザビームプリンタ等で印刷された場合、その出所、すなわちどのプリンタで印刷されたかを証明するため特定のパターン等を出力文書に記録することが考えられる。
【０００５】
この場合、画像形成装置の露光部に、該画像形成装置の固有パターンを記録するための固有パターン発生装置を搭載することで実現可能である。例えば、固有パターン発生装置にレーザ光源から射出された光ビームを多重反射するための機構を設け、この多重反射機構及び投影レンズを介して露光面上に固有なパターンを形成する。この形成された固有なパターンによって、文書を出力した画像形成装置を特定することができる。
【０００６】
固有パターン発生装置を用いて固有パターンを記録するとき、出力された固有のパターンの差異により、文書を出力した画像形成装置を特定できるが、出力される固有パターンは、経時変化や温度変動等の環境の変化により、異なるパターンになる場合がある。例えば、外部温度が変動すると、レーザ光源である面発光レーザの温度変動を発生させ、それに伴いレーザビームの波長λが変動する。具体的には、図１６に示すように、レーザビームの波長は、温度変化により発振波長λが変動することが知られている。
【０００７】
この発振波長λの変動により、結像特性も変動し、得られる固有パターンが異なるものとなる。
【０００８】
本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので、温度変動に拘らず安定した固有のパターンを得ることができる画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために本発明の画像形成装置は、一定の拡がり角をもって光ビームを射出する光源と、前記光源から入射された光ビームを複数の光ビームに分割し、温度の変動による干渉縞パターン位置の変動を抑制するために、分割された光ビームの位相差の変動が前記温度変動以前と略同一となるビーム分割手段と、前記ビーム分割手段により分割された光ビームを露光面上に導いて干渉縞パターンを形成する投影光学系と、を備えたことを特徴としている。
【００１０】
本発明の画像形成装置は、一定の拡がり角をもって光ビームを射出する光源を備えている。光源には、例えば、可干渉性に優れたレーザ光を射出するレーザ光源等がある。ビーム分割手段は、光源から射出された光ビームを複数の光ビームに分割する。ビーム分割手段には、光源から射出された光ビームを多重反射させる多重反射手段等がある。すなわち、ビーム分割手段は、光源から入射された光ビームを光路長の異なる複数の光ビームに分割して出射する。このビーム分割手段には、光を透過すると共に対向する反射面を有する所謂エタロンが一例としてある。投影光学系は、分割された光ビームを露光面上に重ね合わせる。これによって干渉縞パターンが露光面上に形成される。
【００１１】
露光面上に形成される干渉縞パターンは、光ビームの波長、ビーム分割手段の光学屈折率、反射面間隔、ビーム分割手段及び投影光学系へ入射される光ビームの位置及び方向等の各種パラメータによって異なるものとなる。これらの各種パラメータが一定であれば、画像形成装置毎に固有かつ同一の干渉縞パターンが得られる。しかし、光源から射出される光ビームは、温度の変動、例えば上昇に伴って波長が変動する。また、ビーム分割手段の光学屈折率や反射面間隔は温度の変動、例えば上昇に伴って変動する。これらのパラメータが温度変動に伴って変動するため、同一の画像形成装置であっても温度の変動に伴い異なる干渉縞パターンが露光面上に形成される。
【００１２】
本発明の画像形成装置のビーム分割手段は、光源から入射された光ビームについて、温度の変動による干渉縞パターン位置の変動を抑制するために、分割された光ビームの位相差の変動が温度変動以前と略同一となるように分割することができる。これによって、温度変動が生じても、分割された複数の光ビームは、同様の形態で出射される。例えば、ビーム分割手段に、温度変動による光学屈折率の変動や線膨張係数の小さい特性を有するものを用いると、光学屈折率変動や線膨張係数の大きいビーム分割手段に比べて、ビーム分割手段の温度変動による屈折率変動や反射面間隔の変動の影響を抑制された光ビームが出射される。
【００１３】
温度変動前後で略同一の位相差の光ビームが入射されると、投影光学系は、入射された光ビームを露光面上に収束するので、温度変動前後で略同一の位置及び大きさの干渉縞パターンが形成される。従って、本発明の画像形成装置は、温度変動に拘わらず、安定した固有のパターンを形成することができる。
【００１４】
前記ビーム分割手段は、温度の変動に伴い出射される光ビームの位相差が、前記温度変動以前に得られる前記露光面上の干渉縞パターンと略同一となるように複数の光ビームに分割することができる。
【００１５】
光源から射出される光ビームでは、温度の変動に伴って波長が変動する。温度変動による光ビームの波長の変動によって、温度変動前後で異なる干渉縞パターンが形成される。そこで、ビーム分割手段は、温度変動による干渉縞パターンの変動を相殺するような位相差の光ビームを出射することができる。すなわち、ビーム分割手段は、温度変動後に得られる露光面上の干渉縞パターンと温度変動前の干渉縞パターンとが略同一となるように、温度の変動に伴い出射される光ビームの位相差を変動させることができる。温度変動後に温度変動前と略同一の位相差の分割された光ビームが入射されると、投影光学系は、温度変動前後において略同一の干渉縞パターンを露光面上に形成することができる。このように、温度変動による、形成される干渉縞パターンの変動を相殺することができるので、温度変動による干渉縞パターンの変動を抑制することができる。
【００１６】
他の発明の画像形成装置は、一定の拡がり角をもって光ビームを射出する光源と、前記光源から入射された光ビームを複数の光ビームに分割し、少なくとも透光性を有すると共に、反射面を有する１対の平面状の基盤を互いの反射面が対向するように間隙をもって配置するとともに、温度の変動に伴い出射される光ビームの位相差が、前記温度変動以前に得られる位相差と略同一となるように間隙が定められた間隙部材と、から構成されるビーム分割手段と、前記ビーム分割手段により分割された光ビームを露光面上に導いて干渉縞パターンを形成する投影光学系と、を備えたことを特徴としている。
【００１７】
他の発明の画像形成装置は、一定の拡がり角をもって光ビームを射出する光源を備えている。ビーム分割手段は、光源から射出された光ビームを複数の光ビームに分割する。ビーム分割手段は、光源から入射された光ビームを光路長の異なる複数の光ビームに分割して出射する。このビーム分割手段は、一対の平面状の基盤を互いの反射面が対向するように間隙部材を介して配置された構成となっている。ビーム分割手段の反射面は、間隙部材により定められる間隔により定められる。この反射面の温度変動時の間隔は、間隙部材の変動の大きさによって定まる。このため、間隙部材は、温度の変動に伴い出射される光ビームの位相差が、温度以前に得られる位相差と略同一となるように設定される。この間隙部材の一例として、線膨張係数の小さいものを用いれば、更に反射面間隔の変動自体を抑制することができる。投影光学系は、ビーム分割手段により分割された光ビームを露光面上に重ね合わせる。このため、温度変動前後で略同一の干渉縞パターンを形成することができるとともに、間隙部材を選択可能な構成とすることができる。
【００１８】
他の発明の画像形成装置は、一定の拡がり角を有するとともに、温度の変動に伴い波長が変動する光ビームを射出する光源と、前記光源から入射された光ビームを複数の光ビームに分割するビーム分割手段と、前記ビーム分割手段により分割された光ビームについて、温度の変動に伴って同一の位相差となるビームの出射方向の変動に対応して、前記温度変動以前に得られる前記露光面上の干渉縞パターンと略同一の位置となる干渉縞パターンを前記露光面上に形成するように、入射された光ビームを前記露光面へ向けて投影する投影光学系と、を備えたことを特徴とする。
【００１９】
他の発明の画像形成装置では、投影光学系は、温度変動に伴って同一の位相差となるビームの出射方向の変動に対応して、温度変動後に温度変動前と略同一の位置となる干渉縞パターンを形成するような光ビームを露光面上へ収束することができる。このため、温度変動による干渉縞パターンの変動を相殺するような光ビームを露光面上に重ね合わせることができるので、温度変動前後で略同一の位置となる干渉縞パターンが形成される。従って、温度の変動に拘わらず安定した固有パターンを得ることができる。
【００２０】
前記ビーム分割手段は、温度の変動により同一の位相差となる光ビームの出射方向の変動が前記温度変動以前と略同一となるように複数の光ビームに分割することができる。
【００２１】
ビーム分割手段は、温度の変動による同一の位相差となる光ビームの出射方向の変動が温度変動以前と略同一となるような複数の光ビームを投影光学系へ出射することができるので、ビーム分割手段及び投影光学系の双方により、温度変動による干渉縞パターンの変動を抑制することができる。
【発明の効果】
【００２２】
以上説明したように、本発明の画像形成装置によれば、ビーム分割手段は、光源から射出された光ビームを、複数の光ビームに分割するとともに温度変動前後で略同一の方向及び位置の光ビームを出射することができるので、温度変動に拘わらず、安定した固有パターンを得ることができる、という効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
［第１の実施の形態］
以下、図面を参照して本発明の画像形成装置の第1実施形態について詳細に説明する。
【００２４】
図１には、本実施の形態に係る画像形成装置１０の概略的な構成を示した。画像形成装置１０は、ケーシング１２によって被覆されている。ケーシング１２内には、画像形成部１４が設けられている。画像形成部１４は、図１に示される矢印Ａ方向に定速回転する円筒状の感光体ドラム１６と、所望の画像データに基づいて光ビームを感光体ドラム１６に向けて（図１の矢印Ｂ方向）、主走査しながら露光する光走査装置１８とを備えている。
【００２５】
感光体ドラム１６の周面近傍には帯電器２０が配設されている。帯電器２０は、感光体ドラム１６を一様に帯電させる。そして、感光体ドラム１６は、所定速度で矢印Ａ方向に回転することによって、光走査装置１８から照射された光ビームを副走査方向に走査する。これにより、感光体ドラム１６の周面上に潜像が形成される。
【００２６】
また、光走査装置１８による光ビームの照射位置よりも感光体ドラム１６の回転方向下流側には、感光体ドラム１６の周面に対向して、感光体ドラム１６にトナーを供給する現像器２２が配設されている。現像器２２から供給されたトナーは、光走査装置１８によって光ビームが照射された部分に付着される。これにより感光体ドラム１６の周面上にトナー像が形成される。
【００２７】
現像器２２の配設位置よりも感光体ドラム１６の回転方向下流側（感光体ドラム１６の軸芯垂下位置）には、感光体ドラム１６の周面に対向して、転写用帯電体２４が配設されている。転写用帯電体２４は、用紙トレイ２６又は手差しトレイ２８から、感光体ドラム１６と転写用帯電体２４の間に案内された用紙３０に、感光体ドラム１６の周面上に形成されたトナー像を転写する。
【００２８】
転写用帯電体２４の配設位置よりも感光体ドラム１６の回転方向下流側には、感光体ドラム１６に対向して、クリーナー３２が配設されている。クリーナー３２により、転写後に感光体ドラム１６の周面に残留しているトナーが除去される。
【００２９】
トナー像が転写された用紙３０は、矢印Ｃ方向に搬送される。感光体ドラム１６よりも用紙３０の搬送方向下流側には、加圧ローラ３４と加熱ローラ３６を含んで構成している定着器３８が配設されている。定着器３８では、搬送されてきたトナー像が転写された用紙３０を加熱及び加圧し、トナーを融解固定する。すなわち、定着器３８では所謂定着処理が施され、用紙３０上に所定の画像が記録される。定着処理が施され、画像が記録された用紙３０は排出トレイ４０に排出される。
【００３０】
図２には、光走査装置１８の概略構成を示した。
【００３１】
図２に示すように、光走査装置１８は、半導体レーザ５０と、側面に複数の反射面５２Ａが設けられた正多角形状に形成され、モータ５１によって矢印Ｄ方向に高速で回転されるポリゴンミラー（回転多面鏡）５２と、を備えている。
【００３２】
半導体レーザ５０は、図２に示すようにＬＤドライバ５４によって制御される。ＬＤドライバ５４が入力された画像信号（Ｖｉｄｅｏ信号）に基づいて半導体レーザ５０を駆動することにより、半導体レーザ５０からは、図２に示すように、所望の画像データに基づいて変調された光ビームＬＢが出射される。
【００３３】
半導体レーザ５０から出射された光ビームＬＢの進行方向下流側には、光ビームＬＢを発散光から略平行光に変換するコリメータレンズ５６が配置されている。半導体レーザ５０から出射された光ビームＬＢは、コリメータレンズ５６を介して、ポリゴンミラー５２の反射面５２Ａに到達するようになっている。
【００３４】
ポリゴンミラー５２に入射した光ビームＬＢは、当該ポリゴンミラー５２の回転によって、各反射面５２Ａに対する光ビームの入射角度が連続的に変化して偏向される。これにより、光ビームＬＢが、同時に感光体ドラム１６の表面を矢印Ｅ方向（主走査方向）に走査しながら照射される。ポリゴンミラー５２の反射面５２Ａにより反射された光ビームＬＢの進行方向には、第１のレンズ５８Ａ及び第２のレンズ５８Ｂで構成されたｆθレンズ５８が配置されている。このｆθレンズ５８によって、光ビームＬＢが感光体ドラム１６を照射するときの主走査速度は等速度になる。また、ポリゴンミラー５２により偏向された光ビームＬＢの走査面上での軌跡で、画像形成領域以外の軌跡上には、光ビームＬＢの位置を検出する同期タイミング検出センサとしてのＳＯＳセンサ５９が設けられている。
【００３５】
ＬＤドライバ５４は、ＳＯＳセンサ５９が光ビームＬＢを検出するタイミング、すなわちがＳＯＳセンサ５９上を光ビームが横切るタイミングに基づいて、感光体ドラム１６に対する書き込み開始タイミングを決定する。
【００３６】
また、感光体ドラム１６の周面上であって感光体ドラム１６上を走査する光ビームＬＢによる画像記録範囲内には、装置固有の固有パターンを感光体ドラム１６に露光するための固有パターン露光装置６０が設けられている。この固有パターン露光装置６０は、光ビームＬＢによって走査露光される画像の未露光部に、装置固有の固有パターンの潜像を感光体ドラム１６上に形成する。
【００３７】
固有パターン露光装置６０によって感光体ドラム１６上に形成された固有パターンの潜像は、用紙３０に記録される文書画像等と同様に、前述した画像形成プロセスによってトナー現像され、前記文書画像等が記録された画像情報が無い領域に転写されて記録される。固有パターン露光装置６０はＬＤドライバ５４によって制御され、光ビームＬＢの走査と同期して制御される。
【００３８】
図３には、固有パターン露光装置６０の構成を示した。図３に示すように、固有パターン露光装置６０は、レーザ光源６２、平行平面板６４、投影レンズ６６で構成されている。投影レンズ６６の投影倍率βは、例えば∞（無限大）である。
【００３９】
レーザ光源６２は、可干渉性に優れたレーザ光を発生する面発光レーザ（ＶＣＳＥＬ：Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ｃａｖｉｔｙ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｌａｓｅｒ  ｄｉｏｄｅ）で構成されている。
【００４０】
レーザ光源６２の発光点からは一定の拡がり角を持つレーザビームＬが射出される。レーザ光源６２から射出されたレーザビームＬは、その光軸ＬＣ上に設置された平行平面板６４に入射する。
【００４１】
平行平面板６４は光学ガラスの両端を平面に研磨した反射面６４Ａ、６４Ｂを有している。この反射面は一定の反射率を有しており、光学的な所謂エタロンを構成している。本実施形態では、平行平面板６４として、石英ガラスの両面を研磨し反射ミラーとしたものを用いている。
【００４２】
平行平面板６４に入射したレーザビームＬは平行平面板６４内で多重反射を繰り返し、光路長の異なるレーザビーム（透過光）Ｌ０、Ｌ１、Ｌ２…、に分割されて投影レンズ６６側へ出射される。
【００４３】
平行平面板６４を射出した複数のレーザビームＬ０、Ｌ１、Ｌ２…、は、レーザビームＬの光軸上に設置された投影レンズ６６に入射する。投影レンズ６６は、平行平面板６４によって分割されたレーザビームＬ０、Ｌ１、Ｌ２…、が感光体ドラム１６の表面に形成された電荷輸送層１６Ａの下層に形成された電荷発生層（受光面）１６Ｂ上に収束するように設置され、複数のレーザビームによる干渉が受光面にて発生する。
【００４４】
なお、レーザ光源６２は、投影レンズ６６の物体側焦点位置近傍に配置されている。すなわち、レーザ光源６２の発光点から平行平面板６４の反射面６４Ａまでの距離Ｗｄと、平行平面板６４の厚さｄを光学屈折率ｎで除した距離と、平行平面板６４の反射面６４Ｂと、投影レンズ６６までの距離Ｌｅとの和が、投影レンズ６６の焦点距離ｆと略一致する位置にレーザ光源６２が配置されている。
【００４５】
平行平面板６４において発生する各レーザビームの光路長の差によって、受光面１６Ｂでの干渉の光強度が決定される。すなわち、分割された各レーザビームの光路差が半波長の奇数倍の場合には、それらのレーザビーム（例えば図３において点線で示すレーザビーム）は打ち消しあって受光面１６Ｂでの光強度が減少する。
【００４６】
一方、分割された各レーザビームの光路差が半波長の偶数倍の場合には、それらのレーザビーム（例えば図３において実線で示すレーザビーム）は強調しあって受光面での光強度は増加する。これにより、受光面での光強度は、例えば図３に示すような光強度分布６８となり、干渉縞の潜像が感光体ドラム１６上に形成される。
【００４７】
図４に示すように、平行平面板６４で発生する隣り合う複数のレーザビームの位相差δは、下記（１）式で表される。
【００４８】
δ=4π/λ・n・d・cos(sin-1(sinθ/ｎ))        …（１）
ここで、ｄは平行平面板６４の厚さ、ｎは平行平面板６４の光学屈折率、θはレーザ光源６２から射出されたレーザビームが平行平面板６４へ入射するときのビーム入射角、λはレーザビームの波長であり、レーザビームの光軸ＬＣが平行平面板６４の反射面６４Ａに垂直な場合、入射角θはレーザビームのビーム拡がり角に等しくなる。
【００４９】
上記（１）式より、位相差δは、ｄ、ｎ、λが一定ならばビームの拡がり角θによって干渉の状態が変化し、受光面１６Ｂにおける干渉縞の光量が決定される。このときの受光面１６Ｂでの干渉縞の光強度Ｉｆ（θ）は、平行平面板６４で多重反射されたレーザビームの干渉の式を表す下記（２）式により表される。
【００５０】
If(θ)=（t・t'）2/(1+(r・r')2-2r・r'cosδ)・Ig(θ) …（２）
ここで、ｔは平行平面板６４へ入射したレーザビームの反射面６４Ａでの透過率、ｒは平行平面板６４へ入射したレーザビームの反射面６４Ａでの反射率であり、ｒ＝１−ｔの関係にある。また、ｔ'は平行平面板６４から射出されるレーザビームの反射面６４Ｂでの透過率、ｒ'は平行平面板６４から射出するレーザビームの反射面６４Ｂでの反射率であり、ｒ'＝１−ｔ'の関係にある。また、Ｉｇ（θ）は入射光の強度分布であり、次式で表される。
【００５１】
Ｉｇ（θ）＝ｅｘｐ（−２（θ／ｗ0）2）      …（３）
ここで、ｗ0は１／ｅ2の強度となるビーム発散角であり、ｅは自然対数である。
【００５２】
Ｉｆ（θ）はθの関数であるから、ビームの拡がり角に従って干渉縞の強度が変動する。受光面の光の強度が高いところは、用紙３０に記録されたときの濃度が高くなり、干渉縞の高濃度部を形成する。
【００５３】
一方、干渉縞の受光面でのレーザビームの光軸ＬＣからの高さｈ（図３参照）は、レーザ光源６２が投影レンズ６６の物体側焦点位置に配置されているため、次式で表される。
【００５４】
ｈ＝ｆ・ｓｉｎ（θ）              …（４）
すなわち、レーザ光軸ＬＣからの高さｈは、投影レンズ６６の焦点距離ｆ、ビームの拡がり角θによって決定される。
【００５５】
干渉縞はビームの拡がり角θに依存するため、図５に示すようにレーザビームの光軸ＬＣを中心とした略円形の干渉縞６９となるが、その半径ｒｓは光軸ＬＣからの高さｈに等しい。なお、図５では説明の便宜上、投影レンズ６６を省略すると共に干渉縞６９を光軸方向から見た場合の平面図で示した。
【００５６】
上記（２）式、（４）式はともにθの関数であることから、平行平面板６４及び投影レンズ６６の光学パラメータである平行平面板６４の厚さｄ、平行平面板６４の光学屈折率ｎ、投影レンズ６６の焦点距離ｆとレーザビームの波長λが一定であれば、レーザ光源６２から射出するレーザビームの拡がり角θに依存して、干渉縞６９の位置と濃度が決定される。
（温度変動に伴う干渉縞位置変動）
ここで、光学パラメータである平行平面板６４の厚さｄ、平行平面板６４の光学屈折率ｎ、投影レンズ６６の焦点距離ｆ、レーザビームの波長λは、画像形成装置１０の設計時に一定の値に設計される。しかし、製造時には製作誤差等により、複数個製造した同一種類の画像形成装置において、上記光学パラメータが全く同一の値の組み合わせとなることは極めてまれとなる。このように、上記光学パラメータは各装置固有の値となるので、各画像形成装置により出力される干渉縞６９の差異により、該干渉縞６９を出力した画像形成装置１０を特定することができる。
【００５７】
しかしながら、上記光学パラメータの値は、各装置における外部温度の変化等に追随して変動する。
【００５８】
例えば、画像形成装置１０の外部温度の上昇に伴って、固有パターン露光装置６０の外部温度が上昇すると、レーザ光源６２の温度も上昇し、それに伴いレーザビームの波長λ（以下、発振波長という）は長波長側にシフトする。具体的には、図１６に示すように、レーザビームの波長は、図１６に示す駆動電流で駆動すると、２０℃から８０℃への６０℃の温度上昇により、＋４．５ｎｍ長波長側へシフトすることが知られている。
【００５９】
レーザビームの波長λが長波長側にシフトすると、上記式（１）より、位相差δは減少し、同一の位相差を得るためのビーム拡がり角θは小さくなり、干渉縞６９の半径ｒｓ（＝ｈ）は小さくなる。よって、受光面１６Ｂでの干渉縞６９の位置が変動する。
【００６０】
また、固有パターン露光装置６０の外部温度が上昇すると、平行平面板６４の温度も上昇する。平行平面板６４の温度が上昇すると、平行平面板６４の光学屈折率ｎと厚さｄは、平行平面板６４として使用する材質の温度特性に依存して変動する。例えば、エタロンの材質として従来技術に用いられる光学ガラスのＳＦ−２では、温度が２０℃から８０℃へ６０℃上昇すると、屈折率ｎは約０．０００４２低下し、厚さｄは約０．５４μｍ増加する。
【００６１】
平行平面板６４の屈折率ｎが低下すると、式（１）より、屈折率ｎの低下に伴って位相差δは減少し、同一の位相差を与えるビーム拡がり角θは小さくなる。また同様に、平行平面板６４の厚さｄが増加すると、式（１）より、厚さｄの増加に伴って位相差δは増加し、同一の位相差を与えるビーム拡がり角θは大きくなる。よって、受光面１６Ｂでの干渉縞６９の位置が変動する。
【００６２】
従って、温度変化に対する屈折率変動が小さく、また線膨張係数が小さい材質を平行平面板６４に用いれば、干渉縞６９の位置変動を抑制することができると予測される。
【００６３】
そこで、本実施の形態では、従来より用いられる光学ガラスのＳＦ―２と比較して温度変化に対する屈折率変動が小さく、且つ線膨張係数が小さい材質として、石英ガラスを平行平面板６４に用いている。
【００６４】
石英ガラスでは、温度が２０℃から８０℃へ６０℃上昇すると、屈折率ｎは約０．０００３低下し、また厚さｄは約０．０２４μｍ増加する。よって、石英ガラスは、光学ガラスのＳＦ―２と比較して温度変化に対する屈折率変動が小さく、且つ線膨張係数が小さい。
【００６５】
この石英ガラスを平行平面板６４の材質として用い、図３に示す固有パターン露光装置６０により、外部温度２０℃及び８０℃各々の環境下で干渉縞６９を出力したところ、各々図６及び図７に示す結果が得られた。
【００６６】
図６には、外部温度２０℃において石英ガラスを用いた場合、すなわちレーザビームの波長λが０．７８５μｍ（７８５ｎｍ）、平行平面板６４の厚さｄが１０００μｍ、平行平面板６４の屈折率ｎが１．４５２９、投影レンズ６６の焦点距離ｆが１００００μｍの場合の干渉縞半径ｒｓ（θ）と干渉縞の光強度Ｉｆ（θ）との関係を示した。
【００６７】
また、図７には、外部温度８０℃において石英ガラスを用いた場合、すなわち、レーザビームの波長λが０．７８９５μｍ（７８９．５ｎｍ）、平行平面板６４の厚さｄが１０００．０２４μｍ、平行平面板６４の屈折率ｎが１．４５２６、投影レンズ６６の焦点距離ｆが１００００μｍの場合の干渉縞半径ｒｓ（θ）と干渉縞の光強度Ｉｆ（θ）との関係を示した。
【００６８】
図６に示すように、外部温度２０℃において平行平面板６４に石英ガラスを用いた場合と比較して、外部温度８０℃において平行平面板６４に石英ガラスを用いた場合の干渉縞６９の、最初の光量のピークの干渉縞半径（第１ピーク半径）ｒｓは、４０μｍ外側へシフトした。
【００６９】
一方、平行平面板６４として、光学ガラスのＳＦ―２を用いた場合、上記石英ガラスを用いた場合と同様に図３に示す固有パターン露光装置６０により、外部温度２０℃及び８０℃各々の環境下で干渉縞６９を出力したところ、各々図８及び図９に示す結果が得られた。
【００７０】
図８には、外部温度２０℃において光学ガラスのＳＦ―２を用いた場合、すなわち、レーザビームの波長λが０．７８５μｍ（７８５ｎｍ）、平行平面板６４の厚さｄが１０００μｍ、平行平面板６４の屈折率ｎが１．６３６１、投影レンズ６６の焦点距離ｆが１００００μｍの場合の干渉縞半径ｒｓ（θ）と干渉縞の光強度Ｉｆ（θ）との関係を示した。また、外部温度８０℃においてＳＦ―２を用いた場合、すなわち、レーザビームの波長λが０．７８９５μｍ（７８９．５ｎｍ）、平行平面板６４の厚さｄが１０００．５４μｍ、平行平面板６４の屈折率ｎが１．６３５６８、投影レンズ６６の焦点距離ｆが１００００μｍの場合の干渉縞半径ｒｓ（θ）と干渉縞の光強度Ｉｆ（θ）との関係を示した。
【００７１】
図８に示すように、外部温度２０℃において平行平面板６４に光学ガラスのＳＦ―２を用いた場合と比較して、外部温度８０℃において平行平面板６４に光学ガラスのＳＦ−２を用いた場合の干渉縞６９の第１ピーク半径ｒｓは、９０μｍ外側へシフトした。
【００７２】
このように、上記図８、図９、図６、及び図７に示されるように、干渉縞６９の第一ピーク半径の６０℃の温度上昇による変動量は、従来平行平面板６４の材質として用いられるＳＦ―２ガラスでは９０μｍであったのに対し、平行平面板６４として石英ガラスを使用すると約４０μｍであった。
【００７３】
従って、温度変化に対する屈折率変動が小さく、また線膨張係数が小さい材質を平行平面板６４に用いれば、干渉縞６９の位置変動を抑制することができる、といえる。
【００７４】
なお、レーザ光源６２は、本発明の光源に相当し、平行平面板６４は、本発明のビーム分割手段に相当し、投影レンズ６６は、本発明の投影光学系に相当する。
【００７５】
なお、上記説明では、１つのレーザ光源６２を備えた固有パターン露光装置６０を用いる場合を説明したが、固有パターン露光装置に複数のレーザ光源６２を備えた場合についても、同様の効果を得ることができる。
【００７６】
具体的には、図１０に示すように、固有パターン露光装置９０は複数のレーザ光源６２を備えたレーザアレイ９２を備え、各々のレーザ光源６２に対応して投影レンズ６６が設けられている。レーザアレイ９２は、例えば２×３個のレーザ光源６２が設けられており、合計６個の干渉縞６９の潜像が感光体ドラム１６に露光される。２×３個のレーザ光源６２から射出されたレーザビームは、平行平面板６４を透過後、各々のレーザ光源６２に対応した投影レンズ６６に各々入射する。レーザアレイ９２のレーザ光射出面は、投影レンズ６６の物体側焦点位置に設けられ、投影レンズ６６の像側焦点位置に感光体ドラム１６の受光面が配置される。
【００７７】
レーザアレイ９２から射出したレーザビームの各々は平行平面板６４の両反射面にて多重反射を繰り返し、レーザビームを複数のコリメート光に分割する。このコリメート光の組は、レーザビームの発散角毎に存在する。一組のコリメート光は投影レンズ６６によって、像側焦点位置に置かれた受光面に集光する。このとき、レーザアレイ９２からの発散角θに従って干渉の状態が変化し、受光面上での強度が決定されて、干渉縞が発生する。この干渉縞の発生の仕組みは上記説明と同様であるが、レーザ光源６２及び投影レンズ６６の組を複数組もうけることにより、複数の干渉縞パターンが同時に受光面に露光される。
【００７８】
上記構成の固有パターン露光装置９０において、上記と同様に、外部温度の変動による屈折率変動が小さくまた線膨張係数が少ない性質の平行平面板６４の材質を選択することによって、上述の１本のレーザビームを用いる固有パターン露光装置の場合と同様の効果を得ることができる。
【００７９】
なお、本実施の形態では、温度上昇によりレーザビームの波長が長波長側へシフトする場合について説明したが、温度変動すなわち温度上昇や温度下降により波長が変動する場合についても、同様の効果を得ることができる。
［第２の実施の形態］
次に、本発明の第２の実施の形態について説明する。本実施形態では、固有パターン露光装置６０の平行平面板６４の材質として、上記第1の実施の形態に示した材質とは異なる性質を有する平行平面板６５を固有パターン露光装置６１に設ける場合を説明する。なお、第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【００８０】
図１１には、固有パターン露光装置６１の構成を示した。固有パターン露光装置６１は、レーザ光源６２、平行平面板６５、投影レンズ６６で構成されている。投影レンズ６６の投影倍率βは、例えば∞（無限大）である。レーザ光源６２は、可干渉性に優れたレーザ光を発生する面発光レーザで構成されている。
【００８１】
なお、レーザ光源６２は、本発明の光源に相当し、平行平面板６５は、本発明のビーム分割手段に相当し、投影レンズ６６は、本発明の投影光学系に相当する。
【００８２】
第1の実施の形態に示した式（１）式より、平行平面板６５の屈折率ｎが上昇すると、屈折率ｎの上昇に伴って位相差δは増加し、同一の位相差を与えるビーム拡がり角θは大きくなる。また同様に、平行平面板６４の厚さｄが増加すると、厚さｄの増加に伴って位相差δは増加し、同一の位相差を与えるビーム拡がり角θは大きくなる。
【００８３】
一方、レーザ波長は温度の増加に伴って長波長側にシフトするため、式（１）より位相差δは減少し、同一の位相差を与えるビーム拡がり角θは小さくなる。従って、平行平面板６５の材質として、温度の上昇に伴って屈折率ｎが高くなると共に、厚さｄが増加する材質を平行平面板６５に用いれば、屈折率ｎと厚さｄの温度上昇による変動と、レーザ波長の温度上昇による変動とが互いに打ち消す方向に働くので、干渉縞６９の位置変動を抑制することができると予測される。
【００８４】
そこで、本実施の形態では、上記条件を満たす材質として、方解石を用いる。
【００８５】
方解石は、温度に対し正の屈折率変動をもち、同じく正の線膨張係数を持つものである。方解石は、温度が２０℃から８０℃へ６０℃上昇すると、屈折率ｎは約０．０００３高くなり、また厚さｄは約０．３３μｍ増加する。
【００８６】
この方解石を平行平面板６５の材質として用い、図１１に示す固有パターン露光装置６１により、外部温度２０℃及び８０℃各々の環境下で干渉縞６９を出力したところ、各々図１２及び図１３に示す結果が得られた。
【００８７】
図１２には、外部温度２０℃において方解石を用いた場合、すなわちレーザビームの波長λが０．７８５μｍ（７８５ｎｍ）、平行平面板６４の厚さｄが１０００μｍ、平行平面板６４の屈折率ｎが１．６５１５、投影レンズ６６の焦点距離ｆが１００００μｍの場合の干渉縞半径ｒｓ（θ）と干渉縞の光強度Ｉｆ（θ）との関係を示した。
【００８８】
また、図１３には、外部温度８０℃において方解石を用いた場合、すなわち、レーザビームの波長λが０．７８９５μｍ（７８９．５ｎｍ）、平行平面板６４の厚さｄが１０００．３２６μｍ、平行平面板６４の屈折率ｎが１．６５１６８３、投影レンズ６６の焦点距離ｆが１００００μｍの場合の干渉縞半径ｒｓ（θ）と干渉縞の光強度Ｉｆ（θ）との関係を示した。
【００８９】
図１２に示すように、外部温度２０℃において平行平面板６５に方解石を用いた場合と比較して、外部温度８０℃において平行平面板６４に方解石を用いた場合の第１ピーク半径ｒｓは、３０μｍ内側へシフトした。
【００９０】
一方、第1の実施の形態に示した平行平面板６５として、光学ガラスのＳＦ―２を用いた場合、外部温度の６０℃の上昇によって、第１ピーク半径ｒｓは、９０μｍ外側へシフトした。
【００９１】
このように、干渉縞６９の第一ピーク半径の６０℃の温度上昇による変動量は、従来平行平面板６５の材質として用いられるＳＦ―２ガラスでは９０μｍであったのに対し、平行平面板６５として方解石を使用すると約３０μｍであった。
【００９２】
従って、温度上昇に対して正の屈折率変動を持ち、同じく正の線膨張係数を持つ材質を平行平面板６５に用いれば、干渉縞６９の位置変動を抑制することができる、といえる。
［第３の実施の形態］
次に、本発明の第３の実施の形態について説明する。本実施形態では、上記第1の実施の形態及び第２の実施形態に示した平行平面板６４、平行平面板６５とは異なる構成の平行平面板８１を用いる場合を説明する。なお、第1の実施の形態と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【００９３】
図１４には、固有パターン露光装置８６の構成を示した。固有パターン露光装置８６は、レーザ光源６２、平行平面板８１、投影レンズ６６で構成されている。投影レンズ６６の投影倍率βは、例えば∞（無限大）である。レーザ光源６２は、可干渉性に優れたレーザ光を発生する面発光レーザで構成されている。
【００９４】
なお、レーザ光源６２は、本発明の光源に相当し、平行平面板８１は、本発明のビーム分割手段に相当し、投影レンズ６６は、本発明の投影光学系に相当する。
【００９５】
平行平面板８１は、光を透過すると共に反射面を有する二枚の平面状の基盤８２、８４を互いの反射面８２Ａ、８４Ａが対向するように平行に配置した構造となっている。この基盤８２及び基盤８４は、スペーサ８０を介して間隙をもって配置されており、基盤８２、基盤８４及びスペーサ８０の間には、空気が封入されている。基盤８２及び基盤８４は、例えば、光学ガラスのＳＦ―２で構成され、各々反射面８２Ａ、反射面８４Ａが平行に研磨されている。この反射面８２Ａ、８４Ａは、一定の反射率を有しており、光学的な所謂エタロンを構成している。
【００９６】
スペーサ８０は、基盤８２及び基盤８４間の間隙、すなわち反射面間隔を定めるためのものである。平行平面板８１に一定の拡がり角をもって入射したレーザビームＬは平行平面板８１内で、反射面８２Ａ及び反射面８４Ａにより多重反射を繰り返し、光路長の異なるレーザビーム（透過光）Ｌ０、Ｌ１、Ｌ２…、に分割されて投影レンズ６６側へ出射される。
【００９７】
平行平面板８１を射出した複数のレーザビームＬ０、Ｌ１、Ｌ２…、は、レーザビームＬの光軸上に設置された投影レンズ６６に入射する。投影レンズ６６は、平行平面板６４によって分割されたレーザビームＬ０、Ｌ１、Ｌ２…、が感光体ドラム１６の表面に形成された電荷輸送層１６Ａの下層に形成された電荷発生層（受光面）１６Ｂ上に収束するように設置され、複数のレーザビームＬによる干渉が受光面１６Ｂにて発生する。
【００９８】
このように、平行平面板８１を２枚の基盤８２及び基盤８４を、スペーサ８０を介した構成とすることによって、スペーサ８０により反射面の間隔、すなわち上記第1及び第２の実施例の平行平面板６４の厚さｄに相当する反射面の間隔Ｌｅが定められる。
【００９９】
なお、平行平面板８１の両反射面間８２Ａ、８４Ａ間には空気が封入されている。このため、平行平面板８１に閉じこめられた空気の屈折率ｎのレーザ波長依存性は、５ｘ１０-9となる。また、平行平面板８１に閉じこめられた空気の屈折率ｎの温度依存性は、屈折率の変化が空気の密度変化に比例するとして、約１ｘ１０-6となる。従って、屈折率ｎは、平行平面板として一枚の光学ガラス（平行平面板６４）を使用した場合に比較して、レーザ波長依存性及び温度依存性共に大変小さい。
【０１００】
よって、上記のように平行平面板８１を構成すれば、平行平面板８１を構成する光学ガラスの性質による変動は受けることなく、外部温度の変動は、スペーサ８０によって定められる基盤８２及び基盤８４間の反射面の間隔に依存する。
【０１０１】
上記第1及び第２の実施の形態で示したように、レーザ波長は温度の上昇に伴って長波長側にシフトする。レーザ波長側にシフトすると、式（１）より位相差δは減少し、同一の位相差を与えるビーム拡がり角θは小さくなる。また式（１）より、平行平面板６４の厚さｄが増加すると、厚さｄの増加に伴って位相差δは増加し、同一の位相差を与えるビーム拡がり角θは大きくなる。
【０１０２】
図１４の構造をもつ固有パターン露光装置８６において、平行平面板８１の反射面の間隔がＬｅ＝１０００μｍにおける平行平面板８１中の波数は、外部温度２０℃において１２７３．８８５であった。また、外部温度８０℃における平行平面板８１（Ｌｅ＝１０００μｍ）中の端数は、１２６６．６２４であった。
【０１０３】
そこで、外部温度８０℃における平行平面板８１間の波数を、外部温度２０℃の波長と同じ値にするためには、外部温度８０℃における平行平面板８１の反射面の間隔が１００５．７３２５μｍである必要がある。そこで、６０℃の温度上昇に伴って、厚さｄが５．７３２５μｍ増大するスペーサ８０の材質として、線膨張係数が９．５５ｘ１０-5の特性をもつ媒質を用いれば、温度変動に伴う干渉縞位置変動発生を抑制することができる。
【０１０４】
このように、平行平面板８１をスペーサ８０を介して２枚の基盤を間隙をもって対向するように平行に配置するとともに、このような構成の平行平面板８１の温度変動によるレーザ波長の変動を打ち消すような線膨張係数を有するスペーサ８０を用いることにより、平行平面板８１の設計の自由度が増えるとともに、温度変動による反射面の間隔の変動やレーザ波長の変動を相殺するような設計が可能となる。
【０１０５】
なお、上記特性を有する線膨張係数をもつ媒質が存在しない場合、温度変化に応じてピエゾ素子等のアクチュエータを用いて、平行平面板８１の反射面の間隔を制御しても良い。また、平行平面板８１に封入される媒質は、空気に限られるものではなく、水またはアルコール等を用いても、同様の効果を得ることができる。
【０１０６】
なお、本実施の形態では、温度上昇によりレーザビームの波長が高波長側へ変動する場合について説明したが、温度下降によりレーザビーム波長が高波長側へ変動する場合についても、温度変動による反射面の間隔の変動やレーザ波長の変動を相殺するように平行平面板８１を設計することによって、同様の効果を得ることができる。
【０１０７】
また、本実施の形態では、温度上昇によりレーザビームの波長が長波長側へシフトする場合について説明したが、温度上昇により波長が短波長側へシフトする場合についても同様に、温度変動による反射面の間隔の変動やレーザ波長の変動を相殺するように平行平面板８１を設計することによって、同様の効果を得ることができる。
［第４の実施の形態］
次に本発明の第４の実施の形態について説明する。本実施の形態では、固有パターン露光装置に含まれる、上記第1乃至第３の実施の形態に示した投影レンズ６６とは異なる性質の投影レンズ７０を用いる場合を説明する。
【０１０８】
なお、上記実施の形態と同一の部分には同一番号を付与し、その詳細な説明を省略する。
【０１０９】
図１５には、固有パターン露光装置８８の構成を示した。固有パターン露光装置８８は、レーザ光源６２、平行平面板６４、投影レンズ７０で構成されている。レーザ光源６２は、可干渉性に優れたレーザ光を発生する面発光レーザで構成されている。
【０１１０】
投影レンズ７０は、レーザ波長が長波長側にシフトするするに従って、屈折力が強くなる性質を有するものを使用する。このような性質を有する投影レンズ７０としては、グレーティングレンズが知られている。
【０１１１】
上記第1の実施例乃至第３の実施例に示したように、外部温度の上昇に伴って、レーザビームの波長の長波長側へのシフト等の光学パラメータの変動により、投影レンズ７０への入射角θが大きくなる。入射角θが大きくなると、干渉縞の第1ピークは外側へシフトする。
【０１１２】
そこで、本実施の形態の固有パターン露光装置８８に、レーザ波長が長波長側にシフトするに従って屈折力が強くなる投影レンズ７０を設けると、レンズ面での光線の屈折角は大きくなり、第1ピークは内側へシフトする。従って、平行平面板６４による干渉縞６９の位置変動を抑制することができる。
【０１１３】
なお、グレーティングレンズの格子定数は、投影レンズ７０の焦点距離が定まると決定される。このため予め焦点距離を定め、外部温度の変動に伴う投影レンズ７０のレーザ波長の変動を相殺するような、上記第1の実施の形態及び第２の実施の形態に示す平行平面板６４の材質を選択したり、また、上記第３の実施の形態に示すスペーサ８０を備えた平行平面板８１を用いるようにすれば、更に外部温度の変動による干渉縞６９の位置変動を抑制することができる。
【０１１４】
なお、レーザ光源６２は、本発明の光源に相当し、平行平面板６４は、本発明のビーム分割手段に相当し、投影レンズ７０は、本発明の投影光学系に相当する。
【０１１５】
本実施の形態では、温度上昇によりレーザビームの波長の変動する場合について説明したが、温度下降によりレーザビーム波長が変動する場合についても、同様に、上記投影レンズ７０を用いることによって、同様の効果を得ることができる。
【０１１６】
以上第1の実施の形態乃至第４の実施の形態で説明したように、本発明の画像形成装置１０によれば、温度変動による干渉縞６９位置の変動を抑える材質または構成の平行平面板を使用、温度変動によるレーザ波長の変動の影響を抑える性質を有する投影レンズを使用、または、前記材質の平行平面板と前記性質の投影レンズを組み合わせることによって、干渉縞６９の外部温度の変動による干渉縞位置の変動を抑制することができるので、温度変動に拘わらず、画像形成装置固有のパターンを安定して出力することができる。
【０１１７】
従って、印刷物等の作成に用いられた画像形成装置を特定することが可能となり、形成された干渉縞を識別することによって、該印刷物の出所を明確にすることができるので、文書の著作権の保護や、不正に文書等を作成したプリンタ等の画像形成装置を追跡調査することが可能となり、文書のセキュリティ確保が容易となる。
【図面の簡単な説明】
【０１１８】
【図１】画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】光走査装置の概略構成図である。
【図３】固有パターン露光装置の構成を示す図である。
【図４】平行平面板による光多重反射の発生を示す光路図である。
【図５】干渉縞形成の一例を示すイメージ図である。
【図６】平行平面板として石英ガラスを用いた場合の温度２０℃における干渉縞の半径と光強度との関係を示す線図である。
【図７】平行平面板として石英ガラスを用いた場合の温度８０℃における干渉縞の半径と光強度との関係を示す線図である。
【図８】平行平面板として従来のＳＦ―２を用いた場合の温度２０℃における干渉縞の半径と光強度との関係を示す線図である。
【図９】平行平面板として従来のＳＦ―２を用いた場合の温度８０℃における干渉縞の半径と光強度との関係を示す線図である。
【図１０】複数のレーザ光源を備えた固有パターン露光装置の構成を示す図である。
【図１１】第２の実施の形態の固有パターン露光装置の構成を示す図である。
【図１２】平行平面板として方解石を用いた場合の温度２０℃における干渉縞の半径と光強度との関係を示す線図である。
【図１３】平行平面板として方解石を用いた場合の温度８０℃における干渉縞の半径と光強度との関係を示す線図である。
【図１４】第３の実施の形態の固有パターン露光装置の構成を示す図である。
【図１５】第４の実施の形態の固有パターン露光装置の構成を示す図である。
【図１６】温度とレーザビームの波長との関係を示す線図である。
【符号の説明】
【０１１９】
１０  画像形成装置
６０  固有パターン露光装置
６１  固有パターン露光装置
８６  固有パターン露光装置
８８  固有パターン露光装置
９０  固有パターン露光装置
６２  レーザ光源
６４  平行平面板
６５  平行平面板
８１  平行平面板
６６  投影レンズ
７０  投影レンズ
８０  スペーサ
【図１】
2005059257.tif 000003
【図２】
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【図３】
2005059257.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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