(57)【要約】【課題】  複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段から出射されたマルチビームで走査露光する際に、記録面上に高精度で描画をするように露光ヘッドを調整して制御可能とする。【解決手段】  マルチビーム露光装置１０に、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段から照射された各光ビームの位置、形状及び光量を同時に、記録面上で測定する二次元的な光の検出手段１００を設ける。これにより、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段側から出射されたビームにより露光処理する際に、２次元的な光検出手段１００により記録面上で測定して得られた、光ビームの位置、光ビームの形状と光量とに関するデータに基づいて複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を適切に駆動制御し、高精度な露光処理を行って高品質の露光画像を得る。【選択図】  図１
2005294373.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を有する露光ヘッドを備えたマルチビーム露光装置において、
複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段から照射された各光ビームの位置、形状及び光量を同時に、記録面上で測定する二次元的な光の検出手段を設けたことを特徴とするマルチビーム露光装置。
【請求項２】
前記複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段の各画素に１対１で対応する複数のマイクロレンズが一体的に成形されたマイクロレンズアレイを有し、前記複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段で所定の画素を点灯して前記二次元的な光の検出手段によって複数の光ビームが検出されたときに、各々の光ビームの位置と光量とを検出して点灯された画素によるＯＮ光ビームと迷光による子光ビームとを判別すると共に、前記複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段と前記マイクロレンズアレイとの相対的な位置関係を求め、この位置関係に基づいて位置調整手段を駆動制御することにより迷光を削除するよう前記複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段とマイクロレンズアレイとの相対的な位置を調整することを特徴とする請求項１に記載のマルチビーム露光装置。
【請求項３】
レーザ光を射出する光源ユニットと、
前記光源ユニットから照射されたレーザ光を、所望の画像データに基づき空間変調し、この変調されたレーザ光を露光ビームとして記録面上にある感光材料に照射するための空間光変調素子と、
前記空間光変調素子から照射された記録面上での光量分布を測定する二次元的な光の検出手段と、
前記２次元的な光検出手段により検出した記録面上での光量分布にむらがある場合に、前記空間光変調素子上での光の強度分布を調整して記録面上での光量分布を均一化する光量分布調整手段と、
を有することを特徴とするマルチビーム露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、露光ヘッドに設置された空間光変調素子等の複数の画素を画像データ（パターンデータ）に基づいて選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段から出射されたマルチビーム各々の、位置、形状及び光量のデータを測定可能に構成したマルチビーム露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）といった空間光変調素子をパターンジェネレータとして利用して、画像データに応じて変調された光ビームにより、被露光部材上に画像露光を行うマルチビーム露光装置の開発が進められている。
【０００３】
このＤＭＤは、例えば制御信号に応じて反射面の角度が変化する多数のマイクロミラーをシリコン等の半導体基板上に２次元的に配列したミラーデバイスであり、各メモリセルに蓄えた電荷による静電気力でマイクロミラーの反射面の角度を変化させるよう構成されている。
【０００４】
従来のＤＭＤを用いたマルチビーム露光装置では、例えば、レーザビームを出射する光源から出射されたレーザビームをレンズ系でコリメートし、このレンズ系の略焦点位置に配置されたＤＭＤの複数のマイクロミラーでそれぞれレーザビームを反射して複数のビーム出射口から各ビームを出射する露光ヘッドを用いる。
【０００５】
このマルチビーム露光装置には、露光ヘッドのビーム出射口から出射された各ビームを１画素（ピクセル）毎に１つのレンズで集光させるマイクロレンズアレイ等の光学素子を持つレンズ系により感光材料（被露光部材）の露光面上にスポット径を小さくして結像し、解像度の高い画像露光を行うものが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００６】
このようなマルチビーム露光装置では、画像データ等に応じて生成した制御信号に基づいてＤＭＤのマイクロミラーの各々を図示しない制御装置でオンオフ（ｏｎ／ｏｆｆ）制御してレーザビームを変調（偏向）し、変調されたレーザビームを露光面（記録面）上に照射して露光する。
【０００７】
このマルチビーム露光装置は、記録面に感光材料（フォトレジスト等）を配置し、複数の露光ヘッドからそれぞれ感光材料上にレーザビームが照射されて結像されたビームスポットの位置を感光材料に対して相対的に移動させながら、各々のＤＭＤを画像データに応じて変調することにより、感光材料上に高精細なパターンを短時間で露光する処理を実行可能に構成されている。
【０００８】
このようなマルチビーム露光装置によって高精度な露光処理を行うためには、露光ヘッドから投射される各光ビームの位置、形状及び光量のデータを、記録面上において正確に測定し、その測定結果に基づいて、感光材料上に適正な描画がなされるように露光ヘッドを調整して制御することが必要である。
【０００９】
しかし、従来のマルチビーム露光装置には、各光ビームの位置、形状及び光量のデータを記録面上で同時に測定できるものがなかった。
【特許文献１】特表２００２−５２０８４０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、上述した事情に鑑み、露光ヘッドに設置された空間光変調素子等の複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段から出射されたマルチビームで走査露光する際に、記録面上に高精度で適正な描画をするように露光ヘッドを調整して制御するため、各光ビームの位置、形状及び光量のデータを記録面上で同時に検出可能な手段を備えたマルチビーム露光装置を新たに提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の請求項１に記載のマルチビーム露光装置は、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を有する露光ヘッドを備えたマルチビーム露光装置において、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段から照射された各光ビームの位置、形状及び光量を同時に、記録面上で測定する二次元的な光の検出手段を設けたことを特徴とする。
【００１２】
上述のように構成することにより、露光ヘッドの複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段側から出射されたビームにより露光処理する際に、２次元的な光検出手段により記録面上で測定して得られた、光ビームの位置、光ビームの形状と光量とに関するデータに基づいて複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段を適切に駆動制御することにより、高精度な露光処理を行って高品質の露光画像を得られるようにできる。
【００１３】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のマルチビーム露光装置において、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段の各画素に１対１で対応する複数のマイクロレンズが一体的に成形されたマイクロレンズアレイを有し、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段で所定の画素を点灯して二次元的な光の検出手段によって複数の光ビームが検出されたときに、各々の光ビームの位置と光量とを検出して点灯された画素によるＯＮ光ビームと迷光による子光ビームとを判別すると共に、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段とマイクロレンズアレイとの相対的な位置関係を求め、この位置関係に基づいて位置調整手段を駆動制御することにより迷光を削除するよう複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段とマイクロレンズアレイとの相対的な位置を調整することを特徴とする。
【００１４】
上述のように構成することにより、請求項１に記載の発明の作用、効果に加えて、迷光を削減し、より高精度な描画を行って高品質の露光画像を得られるようにできる。
【００１５】
本発明の請求項３に記載のマルチビーム露光装置は、レーザ光を射出する光源ユニットと、光源ユニットから照射されたレーザ光を、所望の画像データに基づき空間変調し、この変調されたレーザ光を露光ビームとして記録面上にある感光材料に照射するための空間光変調素子と、空間光変調素子から照射された記録面上での光量分布を測定する二次元的な光の検出手段と、２次元的な光検出手段により検出した記録面上での光量分布にむらがある場合に、空間光変調素子上での光の強度分布を調整して記録面上での光量分布を均一化する光量分布調整手段と、を有することを特徴とする。
【００１６】
上述のように構成することにより、２次元的な光検出手段によって、記録面上での光量分布を検出し、このときに光量分布にむらがある場合には、光量分布調整手段により光源ユニットと空間光変調素子との間の光路の相対的な位置を移動して空間光変調素子に入射する光の空間分布を調整し、記録面上での光量分布を均一化するので、高精度な露光処理を行って高品質の露光画像を得られるようにできる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係るマルチビーム露光装置によれば、露光ヘッドに設置された空間光変調素子等の複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段から出射されたマルチビームで走査露光する際に、各光ビームの位置、形状及び光量のデータを記録面上で同時に検出したデータに基づいて適切に露光ヘッドを調整して制御することにより、高精度な描画を行って高品質の露光画像を得られるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明のマルチビーム露光装置に関する実施の形態について、図１乃至図２３を参照しながら説明する。
［画像形成装置の構成］
図１に示すように、本発明の実施の形態に係るマルチビーム露光装置として構成された画像形成装置１０は、いわゆるフラットベッド型に構成したものであり、４本の脚部材１２Ａに支持された基台１２と、この基台１２上に設けられた図中Ｙ方向に移動し、例えばプリント基板（ＰＣＢ）、カラーの液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）やプラズマ・ディスプレイ・パネル（ＰＤＰ）といったガラス基板の表面に感光材料を形成したもの等である感光材料１１を載置固定して移動する移動ステージ１４と、紫外波長領域を含む、一方向に延在したマルチビームをレーザ光として射出する光源ユニット１６と、このマルチビームを、所望の画像データに基づきマルチビームの位置に応じて空間変調し、マルチビームの波長領域に感度を有する感光材料に、この変調されたマルチビームを露光ビームとして照射する露光ヘッドユニット１８と、移動ステージ１４の移動に伴って露光ヘッドユニット１８に供給する変調信号を画像データから生成する制御ユニット２０とを主に有して構成される。
【００１９】
この画像形成装置１０では、移動ステージ１４の上方に感光材料を露光するための露光ヘッドユニット１８を配置する。この露光ヘッドユニット１８には、複数の露光ヘッド２６を設置する。各露光ヘッド２６には、光源ユニット１６からそれぞれ引き出されたバンドル状光ファイバ２８を接続する。
【００２０】
この画像形成装置１０には、基台１２を跨ぐように門型フレーム２２を設け、その両面にそれぞれ一対の位置検出センサ２４を取り付ける。この位置検出センサ２４は、移動ステージ１４の通過を検知したときの検出信号を制御ユニット２０に供給する。
【００２１】
この画像形成装置１０では、基台１２の上面に、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド３０を設置する。この２本のガイド３０上には、移動ステージ１４を往復移動可能に装着する。この移動ステージ１４は、図示しないリニアモータによって、例えば、１０００ｍｍの移動量を４０ｍｍ／秒といった比較的低速の一定速度で移動されるよう構成する。
【００２２】
この画像形成装置１０では、固定された露光ヘッドユニット１８に対して、移動ステージ１４に載置された感光材料（基板）を移動しながら、走査露光する。
【００２３】
図２に示すように、露光ヘッドユニット１８の内部にはｍ行ｎ列（例えば、２行４列）の略マトリックス状に配列された複数（例えば、８個）の露光ヘッド２６を設置する。
【００２４】
露光ヘッド２６による露光エリア３２は、例えば走査方向を短辺とする矩形状に構成する。この場合、感光材料１１には、その走査露光の移動動作に伴って露光ヘッド２６毎に帯状の露光済み領域３４が形成される。
【００２５】
また、図２に示すように、帯状の露光済み領域３４が走査方向と直交する方向に隙間無く並ぶように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド２６の各々は、配列方向に所定間隔（露光エリアの長辺の自然数倍）ずらして配置されている。このため、例えば第１行目の露光エリア３２と第２行目の露光エリア３２との間の露光できない部分は、第２行目の露光エリア３２により露光することができる。
【００２６】
図３に示すように、各露光ヘッド２６は、それぞれ入射された光ビームを画像データに応じて各画素毎に変調する空間光変調素子として、デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）３６を備えている。このＤＭＤ３６は、データ処理手段とミラー駆動制御手段を備えた制御ユニット（制御手段）２０に接続されている。
【００２７】
この制御ユニット２０のデータ処理部では、入力された画像データに基づいて、各露光ヘッド２６毎にＤＭＤ３６の制御すべき領域内の各マイクロミラーを駆動制御する制御信号を生成する。また、ＤＭＤコントローラとしてのミラー駆動制御手段では、画像データ処理部で生成した制御信号に基づいて、各露光ヘッド２６毎にＤＭＤ３６における各マイクロミラーの反射面の角度を制御する。
【００２８】
各露光ヘッド２６におけるＤＭＤ３６の光入射側には、図１に示すように、紫外波長領域を含む一方向に延在したマルチビームをレーザ光として射出する照明装置である光源ユニット１６からそれぞれ引き出されたバンドル状光ファイバ２８が接続される。
【００２９】
光源ユニット１６は、図示しないがその内部に、複数の半導体レーザチップから射出されたレーザ光を合波して光ファイバに入力する合波モジュールが複数個設置されている。各合波モジュールから延びる光ファイバは、合波したレーザ光を伝搬する合波光ファイバであって、複数の光ファイバが１つに束ねられてバンドル状の光ファイバ２８として形成される。
【００３０】
ＤＭＤ３６は、図４に示すように、ＳＲＡＭセル（メモリセル）４４上に、微小ミラー（マイクロミラー）４６が支柱により支持されて配置されたものであり、画素（ピクセル）を構成する多数の（例えば、６００個×８００個）の微小ミラーを格子状に配列したミラーデバイスとして構成されている。各ピクセルには、最上部に支柱に支えられたマイクロミラー４６が設けられており、マイクロミラー４６の表面にはアルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。
【００３１】
また、各マイクロミラー４６の直下には、図示しないヒンジ及びヨークを含む支柱を介して通常の半導体メモリの製造ラインで製造されるシリコンゲートのＣＭＯＳのＳＲＡＭセル４４が配置されており、全体はモノリシック（一体型）に構成されている。
【００３２】
ＤＭＤ３６のＳＲＡＭセル４４にデジタル信号が書き込まれると、支柱に支えられたマイクロミラー４６が、対角線を中心としてＤＭＤ３６が配置された基板側に対して±ａ度（例えば±１０度）の範囲で傾けられる。図５（Ａ）は、マイクロミラー４６がオン状態である＋ａ度に傾いた状態を示し、図５（Ｂ）は、マイクロミラー４６がオフ状態である−ａ度に傾いた状態を示す。従って、画像信号に応じて、ＤＭＤ３６の各ピクセルにおけるマイクロミラー４６の傾きを、図４に示すように制御することによって、ＤＭＤ３６に入射された光はそれぞれのマイクロミラー４６の傾き方向へ反射される。
【００３３】
なお、図４には、ＤＭＤ３６の一部を拡大し、マイクロミラー４６が＋ａ度又は−ａ度に制御されている状態の一例を示す。それぞれのマイクロミラー４６のオンオフ（ｏｎ／ｏｆｆ）制御は、ＤＭＤ３６に接続された制御ユニット２０によって行われるもので、オン状態のマイクロミラー４６により反射された光は露光状態に変調され、ＤＭＤ３６の光出射側に設けられた投影光学系（図３参照）へ入射する。またオフ状態のマイクロミラー４６により反射された光は非露光状態に変調され、光吸収体（図示省略）に入射する。
【００３４】
また、ＤＭＤ３６は、その短辺方向が走査方向と所定角度（例えば、０．１°〜０．５°）を成すように僅かに傾斜させて配置するのが好ましい。図６（Ａ）はＤＭＤ３６を傾斜させない場合の各マイクロミラーによる反射光像（露光ビーム）４８の走査軌跡を示し、図６（Ｂ）はＤＭＤ３６を傾斜させた場合の露光ビーム４８の走査軌跡を示している。
【００３５】
ＤＭＤ３６には、長手方向（行方向）に沿ってマイクロミラー４６が多数個（例えば、８００個）配列されたマイクロミラー列が、短手方向に多数組（例えば、６００組）配列されているが、図６（Ｂ）に示すように、ＤＭＤ３６を傾斜させることにより、各マイクロミラー４６による露光ビーム４８の走査軌跡（走査線）のピッチＰ2が、ＤＭＤ３６を傾斜させない場合の走査線のピッチＰ1より狭くなり、解像度を大幅に向上させることができる。一方、ＤＭＤ３６の傾斜角は微小であるので、ＤＭＤ３６を傾斜させた場合の走査幅Ｗ2と、ＤＭＤ３６を傾斜させない場合の走査幅Ｗ1とは略同一である。
【００３６】
また、異なるマイクロミラー列により同じ走査線上における略同一の位置（ドット）が重ねて露光（多重露光）されることになる。このように、多重露光されることで、露光位置の微少量をコントロールすることができ、高精細な露光を実現することができる。また、走査方向に配列された複数の露光ヘッド間のつなぎ目を微少量の露光位置制御により段差無くつなぐことができる。
【００３７】
なお、ＤＭＤ３６を傾斜させる代わりに、各マイクロミラー列を走査方向と直交する方向に所定間隔ずらして千鳥状に配置しても、同様の効果を得ることができる。
【００３８】
次に、露光ヘッド２６におけるＤＭＤ３６の光反射側に設けられる投影光学系（結像光学系）について説明する。図３に示すように、各露光ヘッド２６におけるＤＭＤ３６の光反射側に設けられる投影光学系は、ＤＭＤ３６の光反射側の露光面にある感光材料１１上に光源像を投影するため、ＤＭＤ３６の側から感光材料１１へ向って順に、レンズ系５０，５２、マイクロレンズアレイ５４、対物レンズ系５６，５８の各露光用の光学部材が配置されて構成されている。
【００３９】
ここで、レンズ系５０，５２は拡大光学系として構成されており、ＤＭＤ３６により反射される光線束の断面積を拡大することで、感光材料１１上のＤＭＤ３６により反射された光線束による露光エリア３２（図２に図示）の面積を所要の大きさに拡大している。
【００４０】
図３に示すように、マイクロレンズアレイ５４は、光源ユニット１６から各光ファイバ２８を通じて照射されたレーザ光を反射するＤＭＤ３６の各マイクロミラー４６に１対１で対応する複数のマイクロレンズ６０が一体的に成形されたものであり、各マイクロレンズ６０は、それぞれレンズ系５０，５２を透過した各レーザビームの光軸上にそれぞれ配置されている。
【００４１】
このマイクロレンズアレイ５４は、矩形平板状に形成され、各マイクロレンズ６０を形成した部分には、それぞれアパーチャ６２を一体的に配置する。このアパーチャ６２は、各マイクロレンズ６０に１対１で対応して配置された開口絞りとして構成する。
【００４２】
図３に示すように、対物レンズ系５６，５８は、例えば、等倍光学系として構成されている。また感光材料１１は、対物レンズ系５６，５８の後方焦点位置に配置される。なお、投影光学系における各レンズ系５０，５２，対物レンズ系５６，５８は、図３においてそれぞれ１枚のレンズとして示されているが、複数枚のレンズ（例えば、凸レンズと凹レンズ）を組み合せたものであっても良い。
【００４３】
上述のように構成された画像形成装置１０には、各露光ヘッド２６から照射される各光ビームの位置、形状及び光量のデータを記録面上で同時に測定可能とした、２次元的な光検出手段を設ける。
【００４４】
この２次元的な光検出手段の一部として図１乃至図３に示すように、この画像形成装置１０には、その移動ステージ１４の搬送方向上流側に、記録面像拡大用の光学レンズ機器である対物レンズ１０２を有するＣＣＤ（電荷結合デバイス）カメラ１００を配置する。この対物レンズ１０２を有するＣＣＤカメラ１００は、必要に応じて単数又は複数設置する。なお、本実施の形態では、３個横並びに配置した構成を採用する。
【００４５】
これらのＣＣＤカメラ１００は、それぞれリード線で制御手段である制御ユニット２０に接続され、撮影した画像データを制御ユニット２０へ送信するように構成されいる。
【００４６】
この対物レンズ１０２付きのＣＣＤカメラ１００は、移動操作機構１０４を介して、移動ステージ１４における搬送方向（走査方向）に沿って上流側の端縁部に一体的に装着する。
【００４７】
この移動操作機構１０４は、ガイドレール部材１０６上を移動ブロック部材１０８が移動可能に構成する。このガイドレール部材１０６は、移動ステージ１４の幅方向全長の長さを持つレール状に形成し、移動ステージ１４の側端部に設置する。
【００４８】
また、移動ブロック部材１０８は，制御手段である制御ユニット２０によって制御される図示しない駆動モータを有する移動機構等によって、ガイドレール部材１０６上を自力で移動し、精密に位置決めして所要の位置に停止可能に構成する。さらに、移動ブロック部材１０８は、図示しない移動操作機構等によって、ＣＣＤカメラ１００を、移動ステージ１４の平面（ＸＹ平面）に垂直なＺ方向に移動して所要の位置に停止可能に構成する。なお、移動ブロック部材１０８にＺ方向の移動操作機構を設ける代わりに、移動ステージ１４をＺ方向に移動操作する図示しない高さ調整機構を利用しても良い。
【００４９】
次に、露光ヘッド２６に設ける露光面での光量分布を調整するための構造について説明する。
【００５０】
図３に示すように、各露光ヘッド２６には、露光面（露光エリア３２）での光量分布むらを改善するための光量分布調整手段を装着する。この光量分布調整手段は、各露光ヘッド２６において、ＤＭＤ３６に入射する光源側の光路位置を微少量移動して調整する微小移動調整機構として構成する。
【００５１】
この光量分布調整手段を構成する微小移動調整機構は、露光ヘッド２６に接続された、光源ユニット１６から引き出されたバンドル状光ファイバ２８の端部に設置する。この微小移動調整機構は、露光ヘッド２６のケーシング１１０とバンドル状光ファイバ２８の一方の側部との間に圧縮コイルばねである与圧ばね１１２を架設して付勢すると共に、バンドル状光ファイバ２８の他方の側部（与圧ばね１１２を配置したのと反対側の側部）に電気機械変換素子（ピエゾ圧電素子等）１１４を配置して構成する。
【００５２】
この電気機械変換素子１１４は、制御ユニット２０により制御されてピエゾ圧電素子の全長を所要量伸縮させることにより、バンドル状光ファイバ２８を光路と直角に交わる方向に移動調整する操作を行う。なお、図３では、微小移動調整機構を一つ設けた構成を示したが、この微小移動調整機構を、走査方向（矢印Ｙ方向）と、走査方向に直交する方向（矢印Ｘ方向）とのそれぞれに対応して設け、２次元的に移動調整可能に構成しても良い。
【００５３】
次に、露光ヘッド２６に設ける、ＤＭＤ３６と、マイクロレンズアレイ５４との間の相対的な位置関係を調整するための構造について説明する。
【００５４】
各露光ヘッド２６には、図１６及び図１７に示すような、マイクロレンズアレイ５４の位置調整手段を装着する。この位置調整手段は、マイクロレンズアレイ５４を光路に直交する平面上で二次元的に調整するため、互いに直交する例えばＸ方向とＹ方向とにそれぞれ移動調整するＸＹ調整機構と、ＤＭＤ３６から照射される光ビームの光路の略中心に当たる中心軸（露光エリア３２の略中心を直角に貫く中心軸）回りに回動調整する回動調整機構とを有する。
【００５５】
この回動調整機構は、矩形平板状に形成したマイクロレンズアレイ５４を設置するリング状の被動台座部材１１６と、この被動台座部材１１６を回動可能に支受する支受台座部材１１８と、被動台座部材１１６と支受台座部材１１８との相互間で相対的回動操作する微小回動調整機構とを有する。
【００５６】
この支受台座部材１１８は、被動台座部材１１６と略同一形状のリング状に形成する。また、支受台座部材１１８は、被動台座部材１１６を同芯上で回動可能に支受するため、図示しないが、例えば支受台座部材１１８のリング穴に筒状の軸部材を嵌合し、この筒状の軸部材の周囲に被動台座部材１１６のリング穴が回動自由に支受されるように組み付けて、支受台座部材１１８の上で被動台座部材１１６が回動自由となるように構成する。
【００５７】
また、微小回動調整機構を構成するため、支受台座部材１１８には、その外周面から鉤型に突出する２個の四角柱状の支持部材１２０、１２２を、所定間隔を開けて配設する。また、被動台座部材１１６の外周面には、ラジアル方向（放射線方向）に突出する四角柱状の操作突部材１２４を突設する。そして、支受台座部材１１８の一対の支持部材１２０、１２２の間に、被動台座部材１１６の操作突部材１２４が位置する状態に両者を組み立てる。
【００５８】
さらに、一方の支持部材１２０と操作突部材１２４との間に圧縮コイルばねである与圧ばね１２６を架設して付勢すると共に、他方の支持部材１２２に電気機械変換素子（ピエゾ圧電素子等）１２８を配置して微小移動調整機構を構成する。
【００５９】
この電気機械変換素子１２８は、図示しない信号線で接続された制御ユニット２０により制御されてピエゾ圧電素子の全長を所要量伸縮させることにより、操作突部材１２４を移動操作して支受台座部材１１８に対し、被動台座部材１１６と一体のマイクロレンズアレイ５４を同芯軸上で回動調整する操作を行う。
【００６０】
また、このマイクロレンズアレイ５４の位置調整手段では、上述のように構成した回動調整機構を、マイクロレンズアレイ５４の位置調整手段におけるＸＹ調整機構の上に設置して一体的に構成する。
【００６１】
このため、ＸＹ調整機構の被動テーブル部材１３０上には、回動調整機構の支受台座部材１１８を固着する。なお、被動テーブル部材１３０と支受台座部材１１８とを一体構造に形成しても良い。
【００６２】
この被動テーブル部材１３０は、マイクロレンズアレイ５４に対応した部分に開口を穿設した矩形板状に形成し、同じくマイクロレンズアレイ５４に対応した部分に開口を穿設した一回り大きく形成した矩形板状のベッド部材１３２の平面上に開口を合致させる状態で、摺動自在に取付る。
【００６３】
また、被動テーブル部材１３０は、その相対向する２組の側面における、それぞれ一方の側面中央部に電気機械変換素子（ピエゾ圧電素子等）１３４Ｘ、１３４Ｙの操作用端部の先端面が摺動自在に当接され、それぞれ他方の側面中央部に圧縮コイルばねである与圧ばね１３６の付勢用端部が摺動自在に圧接（なお、移動量が少ないので、与圧ばね１３６の付勢用端部を被動テーブル部材１３０に固定しても良い）されて、被動テーブル部材１３０が各電気機械変換素子１３４Ｘ、１３４Ｙに同時に圧接される状態（被動テーブル部材１３０が各電気機械変換素子１３４Ｘ、１３４Ｙに対して各与圧ばね１３６により弾性的に圧接されて挟持された状態）に装着される。
【００６４】
各電気機械変換素子（ピエゾ圧電素子等）１３４Ｘ、１３４Ｙは、それぞれ制御ユニット２０に図示しない信号線で接続されており、制御ユニット２０で駆動制御可能に構成されている。
【００６５】
このように構成されたマイクロレンズアレイ５４の位置調整手段におけるＸＹ調整機構では、制御ユニット２０で各電気機械変換素子１３４Ｘ、１３４Ｙをそれぞれ駆動制御することにより、マイクロレンズアレイ５４を設置した回動調整機構が載っている被動テーブル部材１３０が、ベッド部材１３２にガイドされて図１６のＸＹ方向にそれぞれ所要調整距離だけ移動操作されて２次元的に位置調整が可能となる。なお、ここでは、走査方向をＹ軸にとり、これに直交する方向をＸ軸にとる。
【００６６】
次に、画像形成装置１０に設けた、露光ヘッド２６から照射される各光ビームの位置、形状及び光量のデータを記録面上で同時に測定する２次元的な光検出手段としての対物レンズ１０２付きのＣＣＤカメラ１００を利用した露光面検出方法を説明する。なお、この露光面検出方法は、ＣＣＤカメラ１００が接続された制御ユニット２０により画像処理及び演算処理を行うものであり、制御ユニット２０の備え付けのモニタ画面に映し出されたＣＣＤカメラ１００で撮影した画像又は画像処理したデータを、作業者が見ながら作業を行うことができる。
【００６７】
まず、このＣＣＤカメラ１００が撮影した画像から、光ビーム位置を検出する場合について説明する。
【００６８】
この場合には、制御ユニット２０が移動操作機構１０４を駆動制御して３個一組のＣＣＤカメラ１００の位置を、測定対象となる露光ヘッド２６の露光エリア３２に合わせた位置に移動してセットする。このとき、ＣＣＤカメラ１００の走査方向に直交するｘ方向の位置は、ガイドレール部材１０６上を移動ブロック部材１０８が移動した送り量から導出する。また、ＣＣＤカメラ１００の走査方向であるｙ方向の位置は、移動ステージ１４の走査方向への送り量から導出する。以上から、ＣＣＤカメラ１００の位置が決まる。
【００６９】
ここで、ＤＭＤ３６における測定対象となる特定の画素（ピクセル）を点灯したときの光ビームが、ＣＣＤカメラ１００で撮影したときに図７に例示するように写っている場合には、例えば点灯している光ビームＯＮＢ１が第１のＣＣＤカメラ１００で撮影した画像ＮＯ１のどのピクセルに写っているかで、その光ビームの撮像素子に対する相対位置を求める。なお、第２、第３のＣＣＤカメラ１００でも同様に、点灯している光ビームＯＮＢ２、ＯＮＢ３の各位置をそれぞれ撮影した画像ＮＯ２、ＮＯ３のどのピクセルに写っているかで、その光ビームの撮像素子に対する相対位置を求める。原理的には、上述したようにして、ある特定の光ビームの位置を測定できる。
【００７０】
次に、ＣＣＤカメラ１００で撮像した画像を、制御ユニット２０により自動的に処理して、写っている光ビームのピクセル位置を導出する方法について説明する。
【００７１】
ここで、ＣＣＤカメラ１００が撮影した画像が、例えば図８に示すものであるとする。この例では、写っている２個の光ビームＢ１、Ｂ２のうち、図に向かって右側の光ビームＢ１は、強度が強いＯＮ光ビームであり、図に向かって左側の光ビームＢ２は強度が弱いもので、ＤＭＤ３６とマイクロレンズアレイ５４との間の位置ずれで発生する迷光による子光ビームＢ２であるとする。
【００７２】
このＣＣＤカメラ１００は、各撮像単位に対して強度データを検出できるので、検出した強度分布を等高線Ｄ１、Ｄ２、Ｄ３で表示すると、図９に例示するようになる。そこで、一般的に用いられている画像処理技術によって、画像上のノイズなどを取り除く意味を含め、画像の強度データに対して、しきい値を定め、そのしきい値を超える強度データを持つピクセル位置の強度を１とし、しきい値以下の強度データを０とする、二値化の画像処理を行う。ここで、等高線でのＤ１とＤ２の境目をしきい値とすると、画像処理後のデータは、図１０に例示するようになる。
【００７３】
この図１０中でＢ１、Ｂ２の位置のみが強度値を持ち、あとの位置では強度はゼロとなる。この図１０に示すように画像処理された状態では、光ビームＢ１、Ｂ２が存在する場所以外に有意義なデータが存在しない状態となったので、図１０の２つの領域がそれぞれ独立した光ビームＢ１、Ｂ２であると自動認識ができることになる。
【００７４】
そこで、この後の処理では、光ビームＢ１、Ｂ２に対応する２つの領域のそれぞれについて独立して別々に処理を行う。例えば図１１に示すように、光ビームＢ１だけについて、光ビームＢ１の中心位置を求める場合には、光ビームＢ１の領域内に含まれる任意の点の画素を（ｘ＿ｉ，ｙ＿ｉ）とし、光ビームＢ１の領域内に含まれる画素の総数をＳとすると、下記の式により、光ビームＢ１の中心の位置座標が計算で求められる。
ｘ＿ｃ＝（Σｘ＿ｉ）÷Ｓ
ｙ＿ｃ＝（Σｙ＿ｉ）÷Ｓ
なお、図示しないが、迷光の光ビームＢ２に関しても同様にして中心の位置座標が計算で求められる。
【００７５】
次に、ＣＣＤカメラ１００により取得した画像データから、自動的に光ビームの光量を取得する光量検出方法について述べる。
【００７６】
まず、前述した光ビーム位置を検出する方法により、ＣＣＤカメラ１００で撮影した画像を処理して得られた取得データから、光ビームの中心位置を自動的に算出する。
【００７７】
例えば、前述した図８に示すように２個の光ビームＢ１、Ｂ２が写っている場合に、各光ビームＢ１、Ｂ２についての位置情報が図１２に示す如く（ｘ＿ｃ１，ｙ＿ｃ１）、（ｘ＿ｃ２，ｙ＿ｃ２）と算出されたとする。
【００７８】
この計算で位置情報を求めた後にもとの取得データに戻り、図１３に示すように（ｘ＿ｃ１，ｙ＿ｃ１）と（ｘ＿ｃ２，ｙ＿ｃ２）とを中心とした２個の光ビームＢ１、Ｂ２について、それぞれの一定の画像領域全部に渡って強度値を積分し、各光ビームＢ１、Ｂ２の光量に相当するデータを得る。
【００７９】
次に、ＣＣＤカメラ１００により取得した画像データから、自動的にＯＮ画素の光ビームＢ１と子ビームＢ２の強度比を自動算出する方法について述べる。
【００８０】
この場合には、前述したＣＣＤカメラ１００により取得した画像データを処理し演算することによって、光ビームの位置と光量とを自動的に算出する。この後、写っている２個の光ビームＢ１、Ｂ２のうち、どちらがＤＭＤ３６におけるＯＮ画素の光ビームＢ１で、どちらが迷光による子ビームＢ２なのかを判別するため、例えば、図１０で説明したように、しきい値を取って二値化した画像データに関して、画像データ上に残った各領域の面積の大小を比較して、ＯＮ光ビームと子ビームとを判別する。
【００８１】
そして、ＯＮ光ビームと子ビームとの判別結果に基づいて、ＯＮ光ビームの光量と、子ビームである迷光の光量から強度比を算出する。
【００８２】
次に、ＣＣＤカメラ１００により取得した画像データから、自動的にビーム形状を算出する方法について述べる。
【００８３】
例えば、ＣＣＤカメラ１００で撮影したときに、図１４に示すように、形状がいびつになっている光ビームＢ１が撮像されたとする。
【００８４】
この場合には、前述した二値化の画像処理を行って得られた画像データから、撮像された光ビームＢ１が楕円ビームとなっていることが検出される。これと共に、図１５に示す、処理後の画像で残った領域内の位置座標のうち、ｘの最大値と、最小値とから楕円ビームの短軸の長さを求めることができ、さらに、ｙの最大値と、最小値とから楕円ビームの長軸の長さを求めることができる。このようにして求めた、楕円ビームの短軸の長さと長軸の長さとは、光ビーム形状を現すパラメータとして利用される。
【００８５】
次に、画像形成装置１０に設けたＣＣＤカメラ１００を用いた露光面検出方法により、露光ヘッド２６に設ける、ＤＭＤ３６と、マイクロレンズアレイ５４との間の相対的な位置関係を調整する方法について説明する。なお、この調整方法の実施に当たっては、図１６及び図１７に示す、マイクロレンズアレイ５４の位置調整手段を利用する。
【００８６】
このマイクロレンズアレイの調整方法では、３個のＣＣＤカメラ１００で露光面を撮像したときの、それぞれのＣＣＤカメラ１００の視野と露光面の位置関係が図７に例示したようになるものとする。すなわち、第１乃至第３のＣＣＤカメラ１００の検出領域は、露光システムの描画単位を３掛ける３の９画素以上をカバーするものとする。
【００８７】
初めに、ＤＭＤ３６と、マイクロレンズアレイ５４との間の相対的な位置関係が平行移動してずれている場合の調整方法について説明する。
【００８８】
この調整方法では、ＤＭＤ３６を制御して、各ＣＣＤカメラ１００の検出領域中心の画素を点灯（ＯＮ状態）させる。
【００８９】
ここで、ＤＭＤ３６と、マイクロレンズアレイ５４との間の相対的な位置関係が、図７の矢印Ｘ方向に平行移動してずれている場合には、第１乃至第３の各ＣＣＤカメラ１００の取得データ（ＮＯ１、ＮＯ２、ＮＯ３）が図１８に示すようになる。
【００９０】
そこで、制御ユニット２０は、前述した光ビーム位置を検出する方法により、ＣＣＤカメラ１００で撮影した画像を処理して得られた取得データから、光ビームの中心位置を算出する。さらに、制御ユニット２０は、この計算で求めた位置情報に基づき、２個の光ビームＢ１、Ｂ２について、それぞれの一定の画像領域全部に渡って強度値を積分し、各光ビームＢ１、Ｂ２の光量に相当するデータを導出する。
【００９１】
そして、制御ユニット２０は、各ＣＣＤカメラ１００の取得データ（ＮＯ１、ＮＯ２、ＮＯ３）から、それぞれのＯＮ光ビームＢ１の光量（ＯＮ画素の光量）と、子ビームである迷光Ｂ２の光量を計算して、ＯＮ画素Ｂ１の光量の平均値Ｐ＿ｏと、迷光Ｂ２の光量の平均値Ｐ＿ａとを求める。
【００９２】
ここで、マイクロレンズアレイ５４に配置したマイクロレンズ６０のピッチをＳとすると、図１６及び図１７に示すマイクロレンズアレイ５４の位置調整手段によりマイクロレンズアレイ５４を以下の式から求められる移動量だけ移動させて、ＤＭＤ３６と、マイクロレンズアレイ５４との間の相対的な位置関係を改善する。
移動量＝（（Ｐ＿ｏ−Ｐ＿ａ）／（Ｐ＿ｏ＋Ｐ＿ａ））×Ｓ
なお、迷光Ｂ２がＯＮ画素Ｂ１に対して図に向かって右に出ている場合は、図７の矢印Ｘと逆方向に移動する。あるいは迷光Ｂ２がＯＮ画素Ｂ１に対して図に向かって下に出ている場合には、マイクロレンズアレイ５４を矢印Ｙ方向に移動させてＤＭＤ３６と、マイクロレンズアレイ５４との間の相対的な位置関係を改善する。
【００９３】
次に、ＤＭＤ３６と、マイクロレンズアレイ５４との間の相対的な位置関係が回転移動してずれている場合の調整方法について説明する。
【００９４】
この場合には、第１乃至第３の各ＣＣＤカメラ１００の取得データ（ＮＯ１、ＮＯ２、ＮＯ３）が図１９に示すようになる。
【００９５】
そこで、制御ユニット２０は、前述した光ビーム位置を検出する方法により、ＣＣＤカメラ１００で撮影した画像を処理して得られた取得データから、光ビームの中心位置を算出する。さらに、制御ユニット２０は、この計算で求めた位置情報に基づき、２個の光ビームＢ１、Ｂ２について、それぞれの一定の画像領域全部に渡って強度値を積分し、各光ビームＢ１、Ｂ２の光量に相当するデータを導出する。
【００９６】
そして、制御ユニット２０は、各ＣＣＤカメラ１００の取得データ（ＮＯ１、ＮＯ２、ＮＯ３）から、それぞれのＯＮ光ビームＢ１の光量（ＯＮ画素の光量）と、子ビームである迷光Ｂ２の光量を計算して、ＯＮ画素Ｂ１の光量の平均値Ｐ＿ｏと、迷光Ｂ２の光量の平均値Ｐ＿ａとを求める。
【００９７】
ここで、マイクロレンズアレイ５４に配置したマイクロレンズ６０のピッチをＳとし、第１ＣＣＤカメラ１００（ＮＯ１）と第３ＣＣＤカメラ１００（ＮＯ３）とのＯＮ画素の距離をＬとすると、図１６及び図１７に示すマイクロレンズアレイ５４の位置調整手段によりマイクロレンズアレイ５４を以下の式から求められる回転量θだけ移動させて、ＤＭＤ３６と、マイクロレンズアレイ５４との間の相対的な位置関係を改善する。
Ｔａｎθ＝（（Ｐ＿ｏ−Ｐ＿ａ）／（Ｐ＿ｏ＋Ｐ＿ａ））×（Ｓ／Ｌ）
この回転量θだけマイクロレンズアレイ５４を微小回転させる。
【００９８】
次に、ＤＭＤ３６と、マイクロレンズアレイ５４との間の相対的な位置関係が平行移動と回転移動とが混在してずれている場合の調整方法について説明する。
【００９９】
この場合には、第１乃至第３の各ＣＣＤカメラ１００の取得データ（ＮＯ１、ＮＯ２、ＮＯ３）が図２０に示すようになる。
【０１００】
このような場合には、まずマイクロレンズアレイ５４の中心位置に対応する第２ＣＣＤカメラ１００のデータから平行移動量を計算して、ずれの平行成分を取り除く。なお、このときの平行移動量は、前述した図１８で説明した方法と同様である。この後、前述した図１９で説明した回転移動してずれている場合の改善方法と同様にして回転量θを求め、マイクロレンズアレイ５４の位置調整手段によりマイクロレンズアレイ５４を回転量θだけ移動させて、ＤＭＤ３６と、マイクロレンズアレイ５４との間の相対的な位置関係を改善する。
【０１０１】
次に、画像形成装置１０に設けたＣＣＤカメラ１００を用いた露光面検出方法により、露光ヘッド２６における光量分布調整方法について説明する。なお、この光量分布調整方法の実施に当たっては、図３に示す、光量分布調整手段を構成する微小移動調整機構を利用する。
【０１０２】
測定対象の一本の露光ヘッド２６についての露光面における光量分布が図２１に示すような状態となっていた場合には、露光面における光量が、第１ＣＣＤカメラ１００側に比して第３ＣＣＤカメラ１００側の光量が低いことになる。第１（ＮＯ１）、第２（ＮＯ２）、第３（ＮＯ３）の各ＣＣＤカメラ１００位置に投影される光は、ＤＭＤ３６面上において、位置Ａ、Ｂ、Ｃに対応するものとする。
【０１０３】
すなわち、露光面において図２１に示すような光量分布になっている場合には、露光ヘッド２６の光源側の光量分布がＤＭＤ３６面上において、図２２のようになっていると想定される。
【０１０４】
このように想定される場合には、光源ユニット１６から各バンドル状光ファイバ２８を通じて照射される光の空間分布と、ＤＭＤ３６の位置関係がずれており、結果的に光量を損失していることになる。
【０１０５】
そこで、光源ユニット１６から引き出されたバンドル状光ファイバ２８の出射口の位置を、微小移動調整機構の電気機械変換素子１１４を駆動制御して移動調整することで、露光面での光量分布むらを改善する。例えば、図２３に示す場合には、電気機械変換素子１１４によりバンドル状光ファイバ２８の出射端部の位置を調整して、ＤＭＤ３６上での光量分布を、点線から実線のように変化させる。
【０１０６】
このように光源側の位置を移動調整した場合には、ＤＭＤ３６面上での光量分布がより均一化され、露光面での光量分布も改善される。
［画像形成装置の動作］
次に、上述のように構成した画像形成装置１０の動作について説明する。
【０１０７】
この画像形成装置１０に設けるファイバアレイ光源である光源ユニット１６は、図示しないが、レーザ発光素子の各々から発散光状態で出射した紫外線等のレーザビームをコリメータレンズによって平行光化して集光レンズによって集光し、マルチモード光ファイバのコアの入射端面から入射して光ファイバ内を伝搬させ、レーザ出射部で１本のレーザビームに合波させてマルチモード光ファイバの出射端部に結合させた光ファイバ２８から出射する。
【０１０８】
この画像形成装置１０では、露光パターンに応じた画像データが、ＤＭＤ３６に接続された制御ユニット２０に入力され、制御ユニット２０内のメモリに一旦記憶される。この画像データは、画像を構成する各画素の濃度を２値（ドットの記録の有無）で表したデータである。この画像データは、制御装置により、前述した描画の歪み量検出手段で検出した描画の歪み量（歪み状態）に基づいて、適切に補正される。
【０１０９】
感光材料１１を表面に吸着した移動ステージ１４は、図示しない駆動装置により、ガイド３０に沿って搬送方向上流側から下流側に一定速度で移動される。移動ステージ１４が門型フレーム２２の下を通過する際に、門型フレーム２２に取り付けられた位置検出センサ２４により感光材料１１の先端が検出されると、メモリに記憶された画像データが複数ライン分ずつ順次読み出され、データ処理部としての制御装置で各露光ヘッド２６毎に制御信号が生成される。そして、この生成された制御信号に基づいて各露光ヘッド２６毎に空間光変調素子（ＤＭＤ）３６のマイクロミラーの各々をオンオフ制御する。
【０１１０】
光源ユニット１６から空間光変調素子（ＤＭＤ）３６にレーザ光が照射されると、ＤＭＤ３６のマイクロミラーがオン状態のときに反射されたレーザ光は、描画のための露光位置に結像される。このようにして、光源ユニット１６から出射されたレーザ光が画素毎にオンオフされて、感光材料１１が露光処理される。
【０１１１】
また、感光材料１１が移動ステージ１４と共に一定速度で移動されることにより、感光材料１１が露光ヘッドユニット１８によりステージ移動方向と反対の方向に走査され、各露光ヘッド２６毎に帯状の露光済み領域３４（図２に図示）が形成される。
【０１１２】
露光ヘッドユニット１８による感光材料１１の走査が終了し、位置検出センサ２４で感光材料１１の後端が検出されると、移動ステージ１４は、図示しない駆動装置により、ガイド３０に沿って搬送方向最上流側にある原点に復帰し、再度、ガイド３０に沿って搬送方向上流側から下流側に一定速度で移動される。
【０１１３】
また、本実施の形態に係る画像形成装置１０では、露光ヘッド２６に用いる空間光変調素子としてＤＭＤを用いたが、例えば、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）タイプの空間光変調素子（ＳＬＭ；Special Light Modulator）や、電気光学効果により透過光を変調する光学素子（ＰＬＺＴ素子）や液晶光シャッタ（ＦＬＣ）等、ＭＥＭＳタイプ以外の空間光変調素子をＤＭＤに代えて用いることができる。
【０１１４】
なお、ＭＥＭＳとは、ＩＣ製造プロセスを基盤としたマイクロマシニング技術によるマイクロサイズのセンサ、アクチュエータ、そして制御回路を集積化した微細システムの総称であり、ＭＥＭＳタイプの空間光変調素子とは、静電気力を利用した電気機械動作により駆動される空間光変調素子を意味している。
【０１１５】
また、本実施形態に係る画像形成装置１０では、露光ヘッド２６に用いる空間光変調素子（ＤＭＤ）１４を、複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段に置き換えて構成しても良い。この複数の画素を選択的にｏｎ／ｏｆｆする手段は、例えば、各画素に対応したレーザビームを選択的にｏｎ／ｏｆｆして出射可能にしたレーザ光源で構成し、または、各微小レーザ発光面を各画素に対応して配置することにより面発光レーザ素子を形成し、各微小レーザ発光面を選択的にｏｎ／ｏｆｆして発光可能にしたレーザ光源で構成することができる。
【０１１６】
なお、本発明のマルチビーム露光装置は、前述した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、その他種々の構成をとり得ることは勿論である。
【図面の簡単な説明】
【０１１７】
【図１】本発明のマルチビーム露光装置の実施の形態に係る、画像形成装置の全体概略斜視図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る画像形成装置に設けた露光ヘッドユニットの各露光ヘッドによって感光材料に露光する状態を示す要部概略斜視図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る画像形成装置の露光ヘッドに関する光学系の概略構成図である。
【図４】本発明の実施の形態に係る露光装置に用いるＤＭＤの構成を示す要部拡大斜視図である。
【図５】（Ａ）及び（Ｂ）は、本発明の実施の形態に係る露光装置に用いるＤＭＤの動作を説明するための説明図である。
【図６】（Ａ）は本発明の実施の形態に係る画像形成装置における、ＤＭＤを傾斜させない場合の各マイクロミラーによる反射光像（露光ビーム）の走査軌跡を示す要部平面図、（Ｂ）はＤＭＤを傾斜させた場合の露光ビームの走査軌跡を示す要部平面図である。
【図７】本発明の実施の形態に係る画像形成装置に設けたＣＣＤカメラで露光エリアを撮影するときの状態を示す説明図である。
【図８】本発明の実施の形態に係る画像形成装置に設けたＣＣＤカメラで撮影した、ＯＮ光ビームと迷光による子光ビームとが写った画像を示す説明図である。
【図９】本発明の実施の形態に係る画像形成装置に設けたＣＣＤカメラで撮影したＯＮ光ビームと迷光による子光ビームとの強度分布を等高線で表示した画像を示す説明図である。
【図１０】本発明の実施の形態に係る画像形成装置に設けたＣＣＤカメラで撮影した、ＯＮ光ビームと迷光による子光ビームとの画像を、二値化の画像処理を行ったときの画像を示す説明図である。
【図１１】本発明の実施の形態に係る画像形成装置に設けたＣＣＤカメラで撮影したＯＮ光ビームの画像を二値化の画像処理を行い、その中心位置を求める場合を示す説明図である。
【図１２】本発明の実施の形態に係る画像形成装置に設けたＣＣＤカメラで撮影した、ＯＮ光ビームと迷光による子光ビームとの画像を画像処理して位置情報を求める状態を示す説明図である。
【図１３】本発明の実施の形態に係る画像形成装置に設けたＣＣＤカメラで撮影した、ＯＮ光ビームと迷光による子光ビームとの画像を画像処理して、光ビームＢ１、Ｂ２の光量に相当するデータを得る状態を示す説明図である。
【図１４】本発明の実施の形態に係る画像形成装置に設けたＣＣＤカメラで撮影したＯＮ光ビームの形状がいびつになって撮像された状態を示す説明図である。
【図１５】本発明の実施の形態に係る画像形成装置に設けたＣＣＤカメラで撮影したＯＮ光ビームの形状がいびつになった画像を、二値化の画像処理を行ったときの状態を示す説明図である。
【図１６】本発明の実施の形態に係る画像形成装置の露光ヘッドに設けるマイクロレンズアレイの位置調整手段を示す斜視図である。
【図１７】本発明の実施の形態に係る画像形成装置の露光ヘッドに設けるマイクロレンズアレイの位置調整手段の要部を示す概略側面図である。
【図１８】本発明の実施の形態に係る画像形成装置に設けたＣＣＤカメラで撮影した、ＤＭＤとマイクロレンズアレイとの相対的な位置関係が平行移動してずれている場合における各ＣＣＤカメラの取得データを示す説明図である。
【図１９】本発明の実施の形態に係る画像形成装置に設けたＣＣＤカメラで撮影した、ＤＭＤとマイクロレンズアレイとの相対的な位置関係が回転移動してずれている場合における各ＣＣＤカメラの取得データを示す説明図である。
【図２０】本発明の実施の形態に係る画像形成装置に設けたＣＣＤカメラで撮影した、ＤＭＤとマイクロレンズアレイとの相対的な位置関係が平行移動と回転移動とが混在してずれている場合における各ＣＣＤカメラの取得データを示す説明図である。
【図２１】本発明の実施の形態に係る画像形成装置に設けたＣＣＤカメラで撮影した露光ヘッドについての露光面における光量分布の状態を示す説明図である。
【図２２】本発明の実施の形態に係る画像形成装置に設けたＣＣＤカメラで撮影した露光ヘッドについてのＤＭＤ面での光量分布の状態を示す説明図である。
【図２３】本発明の実施の形態に係る画像形成装置に設けたＣＣＤカメラで撮影した露光ヘッドについての光源位置調整前後のＤＭＤ面での、光量分布の変化を示す説明図である。
【符号の説明】
【０１１８】
１０      画像形成装置
１１      感光材料
１４      移動ステージ
１６      光源ユニット
２０      制御ユニット
２６      露光ヘッド
２８      バンドル状光ファイバ
３２      露光エリア
４６      マイクロミラー
４８      露光ビーム
５４      マイクロレンズアレイ
６０      マイクロレンズ
１００    カメラ
１０２    対物レンズ
１０４    移動操作機構
１０６    ガイドレール部材
１０８    移動ブロック部材
１１４    電気機械変換素子
１１６    被動台座部材
１１８    支受台座部材
１２０    支持部材
１２２    支持部材
１２４    操作突部材
１２８    電気機械変換素子
１３０    被動テーブル部材
１３２    ベッド部材
１３４Ｘ  電気機械変換素子
１３４Ｙ  電気機械変換素子
【図１】
2005294373.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2005294373.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
2005294373.tif 000012
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
2005294373.tif 000018
【図１７】
2005294373.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
2005294373.tif 000021
【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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