(57)【要約】【課題】  生物体育成室に収容された有用生物体の育成に当ってそれの障害となる雑菌をオゾンによって容易、且つ完全に駆除する、オゾンによる生物体育成室の雑菌駆除方法を提供する。【解決手段】  有用生物体が収容された生物体育成室１０内の温度・水蒸気を含むガス組成が前記有用生物体の育成に適するよう維持されるだけではなく、その育成を損う雑菌が駆除されるよう、前記生物体育成室内１０への前記有用生物体の搬入に先立って、先ずその生物体育成室１０内にオゾン含有ガスが導入され、その室１０内の各部が前記オゾン含有ガスに曝露されることによって雑菌が駆除され、次いで前記室１０内のガス組成が、オゾンを含まず、且つ前記有用生物体の育成に適したものになるよう、少なくともそれに含まれる雑菌の駆除のためのオゾンの注入、そのオゾンの分解除去、及びＨＥＰＡフィルタＦによる除塵の３つの処理を経たガス組成調整用のガスが導入されるよう構成されている。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
有用生物体が収容された生物体育成室（１０）内の温度・水蒸気を含むガス組成が前記有用生物体の育成に適するよう維持されるだけではなく、その育成を損なう雑菌が駆除されるよう、前記生物体育成室内（１０）への前記有用生物体の搬入に先立って、先ずその生物体育成室（１０）内にオゾン含有ガスが導入され、その室（１０）内の各部が前記オゾン含有ガスに曝露されることによって雑菌が駆除され、次いで前記室（１０）内のガス組成が、オゾンを含まず、且つ前記有用生物体の育成に適したものになるよう少なくとも、それに含まれる雑菌の駆除のためのオゾンの注入、そのオゾンの分解除去、及びＨＥＰＡフィルタ（Ｆ）による除塵の３つの処理を経たガス組成調整用のガスが導入されることを特徴とするオゾンによる生物体育成室の雑菌駆除方法。
【請求項２】
前記生物体育成室（１０）内に収容された前記有用生物体の育成期間中も、その室（１０）内に、少なくとも、それに含まれる雑菌の駆除のためのオゾンの注入、そのオゾンの分解除去、及びＨＥＰＡフィルタ（Ｆ）による除塵の３つの処理を経たガス組成調整用のガスが継続して導入されることを特徴とする請求項１に記載のオゾンによる生物体育成室の雑菌駆除方法。
【請求項３】
前記生物体育成室（１０）内に収容された前記有用生物体の育成期間中、少なくとも新しい生物体の搬入時、及び、好ましくはその育成状態のチェック時、生物体の一部の搬出時、のそれぞれ雑菌汚染が懸念される度毎に、及び、好ましくは所定の周期で、オゾンを含有するガスが前記室（１０）内へ一時的に導入されることを特徴とする、請求項１又は２に記載のオゾンによる生物体育成室の雑菌駆除方法。
【請求項４】
前記室（１０）内ガスが引き出され、ガス組成調整部分(２０)を経てガス組成調整用のガスの少なくとも一部となって循環されることを特徴とする、請求項１乃至３のいずれかに記載のオゾンによる生物体育成室の雑菌駆除方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、細胞培養、菌の発酵、きのこの栽培等、各種生物体育成室に収容された有用生物体の育成に当って、それの障害となる雑菌をオゾンによって駆除する、オゾンによる生物体育成室の雑菌駆除方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、細胞、菌、きのこ等の生物体育成室（例えば培養器）に収容された各種有用生物体の育成（培養、発酵、栽培）に当って、その育成の障害となる雑菌の駆除のために、熱湯（煮沸）、高温蒸気による加熱（高圧、乾熱滅菌等）、電磁波（紫外線等）の照射、液状殺菌剤（アルコール、ホルマリン、塩素化合物等）の塗布、又はそれへの浸漬、ガス状殺菌剤（オゾン等）への曝露等が行なわれている。
【０００３】
いずれも一長一短があり、生物体育成室の取外し可能な部材や部品に対してはそれぞれ有効であるが、本体及び取外し不能又は困難な部材に対しては、一般に加熱や液状殺菌剤への浸漬は馴染まず、電磁波の照射はその陰になる部分に対しては効果がなく、駆除が不完全であり、液状殺菌剤の塗布は一般に手作業に依存しており、極めて煩瑣であると言う問題点がある。それに対してガス状殺菌剤（オゾン等）への曝露は、ガス状殺菌剤が狭い隙間にも侵入するため、設備さえ整備されていれば、自動的に行なわれ、その漏洩さえ完全に防止されれば、作業環境への影響はなく、最も有効な手段と考えられる。
【０００４】
その一つの従来例に、固体（例えば蒸煮脱脂大豆等）培養 原料の培養装置の内部又は空調経路がオゾン を含有する空気又は水によって予め洗浄され、その加熱処理された固体原料の急冷にオゾン を含有する空気が使用され、また、その培養に当って、固体培養 装置の空調経路に取り込まれた空気にオゾン を含むガスが供給されることが、それぞれ提案されている（例えば特許文献１参照。）。
【０００５】
しかしながら、例えば蒸煮脱脂大豆のように固体の表面に付着した雑菌がオゾンを含む空気に曝露され、駆除されるだけで、その固体内部で増殖する菌に対しては、オゾン濃度が低く、曝露時間が短ければ、その生育に格別影響はないかも知れないが、オゾンに対して敏感で曝露によってその生育が損われるおそれのある生物体の育成（例えば細胞の培養の場合）に対してはこのままでは適用不可能又は困難である。なお、その細胞の培養に当って、一般に取外し可能な部材、部品に対しては高圧滅菌、本体及び取外し不可能又は困難な部材に対しては液状殺菌薬の複数回の塗布、それによる洗浄、導入ガスに対しては紫外線照射が行なわれている。
【０００６】
【特許文献１】特開平０５−１３１１８４号公報（特許請求の範囲及び図1）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
以上のことから、本発明は、上記した従来技術の欠点を除くために、生物体育成室に収容された有用生物体の育成に当ってそれの障害となる雑菌をオゾンによって容易、且つ完全に駆除する、オゾンによる生物体育成室の雑菌駆除方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達するために、請求項１の発明のオゾンによる生物体育成室の雑菌駆除方法は、有用生物体が収容された生物体育成室１０内の温度・水蒸気を含むガス組成が前記有用生物体の育成に適するよう維持されるだけではなく、その育成を損う雑菌が駆除されるよう、前記生物体育成室内１０への前記有用生物体の搬入に先立って、先ずその生物体育成室１０内にオゾン含有ガスが導入され、その室１０内の各部が前記オゾン含有ガスに曝露されることによって雑菌が駆除され、次いで前記室１０内のガス組成が、オゾンを含まず、且つ前記有用生物体の育成に適したものになるよう、少なくとも、それに含まれる雑菌の駆除のためのオゾンの注入、そのオゾンの分解除去、及びＨＥＰＡフィルタＦによる除塵の３つの処理を経たガス組成調整用のガスが導入されるよう構成されている。
【０００９】
請求項２の発明は、請求項１の発明の構成に加えて、前記生物体育成室１０内に収容された前記有用生物体の育成期間中も、その室１０内に、少なくとも、それに含まれる雑菌の駆除のためのオゾンの注入、そのオゾンの分解除去、及びＨＥＰＡフィルタＦによる除塵の３つの処理を経たガス組成調整用のガスが継続して導入されるよう構成されている。
【００１０】
請求項３の発明は、請求項１又は２の発明の構成に加えて、前記生物体育成室１０内に収容された前記有用生物体の育成期間中、少なくとも新しい生物体の搬入時、及び、好ましくはその育成状態のチェック時、生物体の一部の搬出時、のそれぞれ雑菌汚染が懸念される度毎に、及び、好ましくは所定の周期で、オゾンを含有するガスが前記室１０内へ一時的に導入されるよう構成されている。
【００１１】
請求項４の発明は、請求項１乃至３のいずれか発明の構成に加えて、前記室１０内ガスは引き出され、ガス組成調整部分２０を経てガス組成調整用ガスの少なくとも一部となって循環されるよう構成されている。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１の発明によれば、生物体育成室１０内の各部が、小さい隙間も含めて、オゾン含有ガスに曝露され、雑菌が駆除されたうえ、少なくとも、それに含まれる雑菌の駆除のためのオゾンの注入、そのオゾンの分解除去、及びＨＥＰＡフィルタＦによる除塵の３つの処理を経たガス組成調整用のガスの導入によって、前記室１０内のガス組成が、オゾンを含まず、且つ前記有用生物体の育成に適したものになり、しかも、その後もガス組成調整用のガスに何らかの原因でそれぞれ侵入した、比較的大きい胞子状の菌はＨＥＰＡフィルタＦによって捕捉され、比較的小さい菌はオゾン含有ガスによって駆除されるため、オゾンに対して敏感でその生育が損われるおそれのある生物体（例えば細胞の培養）の育成に支障ない環境が確保される。
【００１３】
請求項２の発明によれば、請求項１の発明の効果に加えて、前記生物体育成室１０内に収容された前記有用生物体の育成期間中も同様に、その室１０内に、少なくとも、それに含まれる雑菌の駆除のためのオゾンの注入、そのオゾンの分解除去、及び比較的大きい菌のＨＥＰＡフィルタＦによる除塵の３つの処理を経たガス組成調整用のガスが継続して導入され、それに伴って室１０内のガスが室外に引き出されるため、何等かの原因で室１０内のガスが雑菌で汚染されることがあっても、その雑菌は室１０内から継続して排除される。従って、オゾンに対して敏感でその生育が損われるおそれのある生物体（例えば細胞の培養）の育成に支障ない環境が継続して確保される。
【００１４】
請求項３の発明によれば、請求項１又は２の発明の効果に加えて、前記生物体育成室１０内に収容された前記有用生物体の育成期間中、少なくとも新しい生物体の搬入時、及び、好ましくはその育成状態のチェック時、生物体の一部の搬出時、のそれぞれ雑菌汚染が懸念される度毎に、及び、好ましくは所定の周期で、オゾンを含有するガスが前記室１０内へ一時的に導入されるため、勿論、生物体への曝露時間やオゾン濃度が、その生物体に応じてそれぞれ十分に短く、且つ低く設定されることが必要ではあるが、生物体の育成環境がさらに積極的に雑菌汚染の危険から守られる。
【００１５】
請求項４の発明によれば、請求項１乃至３の発明の効果に加えて、前記室１０内ガスは引き出され、ガス組成調整部分２０を経てガス組成調整用ガスの少なくとも一部となって循環されるため、新たなガスの導入その他、ガス組成調整のための負担がそれだけ軽減される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明を実施するため最良の形態に関わる、オゾンによる生物体育成室の雑菌駆除方法についてコウジカビ培養を例に図１により説明すると、１０はそのコウジカビである生物体が収容され、培養される生物体育成室（培養器）であって、図示されない断熱材が施されたステンレス製の扉（図示省略）と壁で囲まれており、そのうえ、ＨＥＰＡフィルタＦと２つのダンパＤとを持つ隔壁によって、側面にガス導入口１２ａを持つフィルタリング室１２と，側面にガス排出口１１ａを持つ培養室１１と，が上下に隔てられている。なお、その他、室１０の内部にはシャーレ等に入った生物体が載置される培養ラック１１ｂ、壁には温度計Ｔ、圧力計Ｐ、ＣＯ２計Ｃ１、オゾン計Ｃ２等のセンサや室１０内の温度を設定値に保持するための加熱手段（図示省略）もそれぞれ設けられている。
【００１７】
２０はガス組成調整部分であって、主要機器としては、循環ファン２１、オゾナイザ２２、ガス加湿器２３、オゾン分解器２４の他、前記ガス加湿器２３に内蔵されたガス加熱器２５、ガス冷却器２６も備えている。２７はＣＯ２ボンベ、２８は酸素ボンベであり、また、３０は操作盤を含む、装置全体を制御する制御部分である。
【００１８】
配管について説明すると、その一つとして、室１０内からガス排出口１１ａを排出されたガスが、循環ファン２１によって吸引され、酸素ボンベ２８から供給され、オゾナイザ２２によってその一部がオゾンに転換されたオゾン含有酸素及びＣＯ２ボンベ２７から供給されるＣＯ２を同伴し、ガス加湿器２５に送られ、水と接触し、オゾン及びＣＯ２の一部がその水に溶解すると共に、大部分の大部分のガスが加湿され、さらに、ガス冷却器２６を経て直接フィルタリング室１２のガス導入口１２ａに導かれるよう、ラインＬ１が設けられている。
【００１９】
その他、ガス加熱器２５の出口とガス導入口１２ａとの間には、オゾン分解器２４が挿入されたバイパスラインＬ２が設けられ、また循環ファン２１の吐出口とガス導入口１２ａとの間には、バイパスラインＬ３が設けられている。なお、Ｖは流量調節弁、ＲＶは減圧弁である。
【００２０】
以上のように構成され、次に示す操作によって、有用生物体が収容された生物体育成室  １０内の温度・水蒸気を含むガス組成が前記有用生物体の育成に適するよう維持されるだけではなく、その育成を損う雑菌が駆除される。すなわち、先ず、ガス組成調整手段２０によって、その生物体育成室１０内にオゾン含有ガスが導入され、その室１０内の各部が前記オゾン含有ガスに曝露されると共に、ガス加湿器２５内の水に溶解したオゾンに接触することによって雑菌が駆除される。なお、ガス加熱器２５、ガス冷却器２６は、生物体育成室１０に送られるガスの湿度、温度を生物体の育成に適した値に調節する。
【００２１】
それについて詳細に説明すると、図示されない扉が閉じられ、ラインＬ１の弁Ｖが開かれ、ラインＬ２，Ｌ３の弁Ｖが閉じられた状態で、密閉された生物体育成室１０内の空気は、循環ファン２１によってガス排出口１１ａから引き出されたガスは、前記循環ファン２１の吐出側で、酸素ボンベ２８から供給される酸素の一部が、オゾナイザ２２によってオゾンに転換されたオゾン含有酸素及びＣＯ２ボンベ２７から供給されるＣＯ２を同伴し、ガス加湿器２５に送られ、水と接触し、オゾン及びＣＯ２の一部がその水に溶解すると共に大部分の残りのガスは雑菌駆除に適した温度、湿度に調節される。
【００２２】
そのガスは、さらにガス組成調整用のガスとなって（雑菌の駆除だけであればオゾン添加、加湿だけでよく、ＣＯ２添加は省略も可）、直接ガス導入口１２ａを経てフィルタリング室１２に導かれる。２つのダンパＤは閉じられていて、そのフィルタリング室１２へ導かれたガスは、ＨＥＰＡフィルタＦで除塵されたうえ、培養室１１に導かれる。そのガスは、ガス排出口１１ａから循環ファン２１によって引き出されることによって、上述の操作を受けながら、その大部分は繰り返し循環される。なお、室１０内の温度、オゾン濃度、ＣＯ２濃度は、それぞれセンサＴ，Ｃ１，Ｃ２からの信号に基き、制御部分３０によってそれぞれの設定値に制御される。
【００２３】
それによって、ガスが循環する間に、それに同伴された比較的大きい胞子状の菌はＨＥＰＡフィルタＦに捕捉され、生物体育成室１０内の各部は、小さい隙間も含めて、オゾン含有ガスに曝露されると共に、ガスがガス加湿器２５内の水に溶解したオゾンに接触することによって、全ての雑菌が駆除される。なお、水に溶解したオゾンはオゾン含有ガスに比してその殺菌力は著しく高い。また、上述（００２３）に記載の操作中にガス組成等の条件が設定値に達していれば、ラインＬ１，Ｌ２の弁Ｖが閉じられ、ラインＬ３の弁Ｖが開かれた状態で単に室１０のガスがラインＬ３を経由して循環されるだけでも雑菌の駆除が行なわれる。
【００２４】
生物体育成室１０内の雑菌の完了後は、ラインＬ２の弁Ｖが開かれ、ラインＬ１，Ｌ３の弁Ｖが閉じられることによって、ガス組成調整用のガスはオゾン分解器２４を通過するようになり、それに含まれるオゾンが分解除去され、オゾンを含まないガスとなって培養室１１に導入される。その後暫らくは、同様のガス組成、温度の調整操作が行なわれ、ガスが繰り返し循環されると、室１０内のオゾン含有ガスは、それを含まない、生物体の育成に適した組成のガスに完全に置換される。それによって作業者への影響も解消されるため、室１０内への生物体の搬入が可能となる。なお、この間のガス組成調整ガスのオゾン分解除去前のオゾン濃度は、（００２２）〜（００２４）に記載の生物体育成室１０内の雑菌の駆除中のそれに比べて低くてもよい。
【００２５】
しかも、その間は勿論、有用生物体の育成期間中も上記操作が維持されることによって、何等かの原因で雑菌の侵入があっても、比較的大きい胞子状の菌はＨＥＰＡフィルタFによって捕捉され、且つ比較的小さい菌はオゾン含有ガス及びガス加湿器２５内の水に溶解したオゾンによって駆除されるため、オゾンに対して敏感でその生育が損われるおそれのある生物体（例えば細胞の培養）の育成に支障ない環境が引続き確保される。
【００２６】
最後に、前記生物体育成室１０内に収容された前記有用生物体の育成期間中、少なくとも新しい生物体の搬入時、及び、好ましくはその育成状態のチェック時、生物体の一部の搬出時、のそれぞれ雑菌汚染が懸念される度毎に、及び、好ましくは所定の周期で、ラインＬ２，Ｌ３の弁Ｖが閉じられ、ラインＬ１の弁Ｖが開かれ、オゾンを含有するガスが前記室１０内へ一時的に導入される。なお、そのオゾン含有ガスの湿度、ＣＯ２濃度はそれ以前のまま維持される。それによって、勿論、生物体への曝露時間やオゾン濃度が、その生物体に応じてそれぞれ十分に短く、且つ低く設定されることが必要ではあるが、生物体のオゾン含有ガスへの曝露がそれに基いて一時的であるため、その育成を損うことなく、生物体の育成環境がさらに積極的に常に雑菌汚染の危険から守られる。
【００２７】
しかも、前記室１０内ガスは引き出され、ガス組成調整部分２０を経てガス組成調整用ガスの少なくとも一部、好ましくは大部分となって循環されるため、新たなガスの導入その他、ガス組成調整のための負担がそれだけ軽減される。
【実施例１】
【００２８】
以下の実施例によって本発明をさらに遺伝子操作のためのコウジカビの培養に当っての雑菌駆除について具体的に説明するが、この発明の範囲はこれに限定されるものではない。すなわち、  先ず検体であるコウジカビは収容されず、生物体育成室１０内に３７℃、オゾン濃度２０ｐｐｍのＣＯ２を含むガスが３０分導入、循環された（L1ライン）、その後オゾン分解器２４を経たオゾンを含まないガスが３０分導入、循環され（L2ライン）ることによって生物体育成室１０内のガスがオゾンを含まず、コウジカビに適したガスに置換された。
【００２９】
次いで検体が培養ラック１１ｂに載置され、２週間その培養が行なわれた。培養の間２日に１度の割合いで培養状況の観察が行なわれた。その際生物体育成室１０の扉の開閉よる雑菌の侵入が懸念されたため、扉の開閉のタイミングに合わせて、濃度２．５ｐｐｍを含むガスが生物体育成室１０内に導入され、３０分間循環されることによって、雑菌駆除処理が行なわれた。その結果、２週間の間に培地には雑菌が繁殖することなく培養が行なわれた。
【００３０】
オゾン濃度２．５ｐｐｍの雰囲気にコウジカビ、枯草菌、パン酵母、大腸菌が暴露されたときの、生存率の時間推移を図２に示す。このデータはこれらの細菌、真菌が種類によりオゾンへの耐性に差があり、この特性を利用することで狙った菌を選択的に殺菌することができることを示している。本実施例においてもコウジカビの培養の障害になる雑菌の除去に選択殺菌の考えを適用し効果が確認された。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明を実施するための最良の形態例に適用される装置の機器構成図である。
【図２】実施例１を説明するためのコウジカビとそれ以外の駆除すべき菌に対するオゾンへの暴露時間と生存率の関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【００３２】
１０    生物体育成室
１１    培養室
１１ａ  ガス排出口
１１ｂ  培養ラック
１２    フィルタリング室
１２ａ  ガス導入口
２０    ガス組成調整部分
２１    循環ファン
２２    オゾナイザ
２３    ガス加湿器
２４    オゾン分解器
２５    ガス加熱器
２６    ガス冷却器
２７    ＣＯ２ボンベ
２８    酸素ボンベ
３０    制御部分  
Ｃ１    ＣＯ２計
Ｃ２    オゾン計
Ｄ      ダンパ
Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３  配管ライン
Ｆ      ＨＥＰＡフィルタ
Ｐ      圧力計
Ｔ      温度計  
Ｖ      流量調節弁
ＶＲ    減圧弁
【図１】
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【図２】
2005131213.tif 000004