(57)【要約】【課題】円筒状基体表面の粗面形状をできるだけ保持しつつ、湿式ホーニング処理をより高速化できる円筒状基体の製造方法、製造装置およびこれらにより製造される円筒状基体を提供する。【解決手段】表面研磨液を噴射ノズルから円筒状基体表面に対して噴射し、この噴射により前記表面を粗面化する湿式ホーニング法を以下のように噴射ノズルを配置する。第１に、円筒状基体表面に前記表面研磨液が噴射される位置に複数の噴射ノズルを配置し、第２に、前記複数の噴射ノズルのうち少なくとも２つ以上の噴射ノズルを前記円筒状基体軸方向に対して垂直な略同一水平面上に配置する。これにより、上記課題を達成できる円筒状基体の製造方法、製造装置およびこれらにより製造される円筒状基体を提供できる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面研磨液を噴射ノズルから円筒状基体表面に対して噴射し、この噴射により前記表面を粗面化する湿式ホーニング法による円筒状基体の製造方法において、
前記円筒状基体表面に前記表面研磨液が噴射される位置に複数の噴射ノズルが配置され、かつ、前記複数の噴射ノズルのうち少なくとも２つ以上の噴射ノズルが前記円筒状基体軸方向に対して垂直な略同一水平面上に配置される円筒状基体の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の円筒状基体の製造方法であって、
前記少なくとも２つ以上の噴射ノズルの噴射軸は、前記表面研磨液の噴射方向について、前記円筒状基体の略中心部で焦点が結ばれる円筒状基体の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の円筒状基体の製造方法であって、
前記円筒状基体が電子写真感光体用の基体である円筒状基体の製造方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１つに記載の円筒状基体の製造方法により製造された円筒状基体であって、
前記円筒状基体表面の平均の表面粗さ（Ｒａ）が０．１０μｍ〜０．３０μｍである円筒状基体。
【請求項５】
表面研磨液を噴射ノズルから円筒状基体表面に対して噴射し、この噴射により前記表面を粗面化する湿式ホーニング法による円筒状基体の製造装置において、
前記円筒状基体表面に前記表面研磨液が噴射される位置に複数の噴射ノズルが配置され、かつ、前記複数の噴射ノズルのうち少なくとも２つ以上の噴射ノズルが前記円筒状基体軸方向に対して垂直な略同一水平面上に配置される円筒状基体の製造装置。
【請求項６】
請求項５に記載の円筒状基体の製造装置であって、
前記少なくとも２つ以上の噴射ノズルの噴射軸は、前記表面研磨液の噴射方向について、前記円筒状基体の略中心部で焦点が結ばれる円筒状基体の製造装置。
【請求項７】
請求項５から６のいずれか１つに記載の円筒状基体の製造装置であって、
前記円筒状基体が電子写真感光体用の基体である円筒状基体の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、円筒状基体の製造方法、製造装置および円筒状基体、特に表面研磨液を噴射ノズルから円筒状基体表面の表面に噴射し、この噴射により前記表面を粗面化する湿式ホーニング法による円筒状基体の製造方法、製造装置およびこれらにより製造される円筒状基体に関する。
【背景技術】
【０００２】
円筒状基体の表面処理については以下の背景技術が知られている。例えば、電子写真感光体の表面処理については、その表面を粗面化することが必要となる場合がある。
【０００３】
レーザービームをライン走査する方式の電子写真装置においては、レーザー光を用いて形成する画像に干渉縞模様が現れるという問題がある。この干渉縞の発生は、照射され電子写真感光体の感光層内で吸収されなかったレーザーの透過光が感光層内あるいは感光体基体で多重反射され、感光層表面において入射光と干渉することに起因されるものとされている。この干渉縞の発生を防止する手段として、下記特許文献１において、感光体基体又は感光層の表面を粗面化し、これらの表面に光散乱性を付与する技術が示されている。
【０００４】
感光体基体表面又は感光層の表面に光散乱性を付与するこの粗面化方法の一つとして、下記特許文献２〜８に記載されている湿式ホーニング法が挙げられる。
【０００５】
湿式ホーニング法は、短時間の加工で容易に安定して粗面化させることが出来ること、所望の粗さを正確に得ることが出来ること、及び塗膜欠陥の原因となる異常凹凸部が極めて少ない均一な粗さを持つ粗面が得られること等から、生産上の観点から、また、黒斑点や干渉縞模様に対する画質安定性の点から、陽極酸化法あるいはバフ研磨法等の他の粗面化処理法に比べて優れている場合がある。
【０００６】
下記特許文献７には、この粗面化による品質（ホーニング品質）を落とさずに製造コストを抑制するために、無切削基体を２種類の研磨材を懸濁した液をそれぞれ２つの噴射ノズルから噴射して処理する方法が記載されている。
【０００７】
また、下記特許文献８には、方向性を有する表面模様発生の防止のため、２つの噴射ノズルを基体の表面に対して３０°から１２０°の異なる角度に配置し、ホーニング処理する方法が記載されている。
【０００８】
【特許文献１】特公平５−２６１９１号公報
【特許文献２】特開平２−３７３５８号公報
【特許文献３】特開平２−１９１９６３号公報
【特許文献４】特開平５−２１６２６１号公報
【特許文献５】特開平１１−２３１５６０号公報
【特許文献６】特公平６−４１１０８号公報
【特許文献７】特開平６−６７４４１号公報
【特許文献８】特開２００２−３６１５５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記特許文献７に係る湿式ホーニング法は、研磨材を２種類使用する関係上、撹拌タンク、ポンプ、配管等を２系統用意する必要があり、設備コスト及びランニングコストが大きくかかってしまう場合がある。
【００１０】
また、上記特許文献８に係る湿式ホーニング法は、基体の中心軸に対し垂直に噴射していないため、研磨材の衝突エネルギーを粗面化に十分生かし切れず、粗面化処理の効率が低下してしまい生産性が劣ってしまう場合がある。
【００１１】
このように湿式ホーニング法による粗面化技術についての課題が数多く述べられてきてはいるが、湿式ホーニング法の高速処理技術に関しては、ほとんど述べられていないのが現状である。
【００１２】
湿式ホーニング法における高速処理において、障害となるのが単位面積あたりの基体表面に如何に多くの研磨材を衝突させるかという点である。高速処理により表面の粗面化が不十分なものとなってしまう場合がある。
【００１３】
高速処理時に多くの研磨材を衝突させる方法としては、（１）研磨液の濃度を上げるか、（２）研磨液の流量を増やすことである。（１）研磨液の濃度を上げる場合の不具合としては、液流路の磨耗が発生してしまう場合があることである。一方、（２）研磨液の流量を増やす場合の欠点としては、液濃度を上げる場合と同様に液流路の磨耗が発生してしまう場合があることである。
【００１４】
以上のように処理速度増加による生産性向上を目的とした場合、１つの噴射ノズルでのホーニングは、設備が単純である反面、液流量及び噴射力増加による噴射ノズルや配管などの設備の磨耗、更に研磨材の破損により噴射力の向上には限度があり、処理速度の高速化には向いていない場合がある。
【００１５】
したがって、このような設備の磨耗を防止しながら液流量を増やすには、噴射ノズル（ホーニングノズル）を単数で行わず少なくとも２個以上の複数で行うことが有効である。例えば２対状の噴射ノズルを用いることである。
【００１６】
しかしながら、上述のように噴射ノズルを複数にする場合、噴射ノズルの配置が問題となることを本発明者らは見出した。複数の噴射ノズルを用い、これらを処理する円筒状基体の軸に対して高さを変えて配置すると湿式ホーニング処理に時間を要してしまうことを見出した。
【００１７】
すなわち、湿式ホーニング処理では、処理対象となる円筒状基体が同位置で回転し、噴射ノズルがこの円筒状基体の軸に対して上下運動することで前記円筒状基体の全表面が粗面化されるのが通常である。この時、前記円筒状基体の軸に対して上下運動方向に複数の噴射ノズルを設けたのでは、単数の噴射ノズルに比べ、余計な移動距離（円筒状基体との相体移動距離）を要してしまうことになる場合がある。
【００１８】
以下図５Ａ〜図５Ｃの模式図により説明する。図５Ａには、単一噴射ノズルの湿式ホーニング処理工程が示される。単一の噴射ノズルの場合は、回転する円筒状基体の軸方向に距離ａだけ噴射ノズル１０を移動させれば円筒基体１の全面を粗面化できることになる。
【００１９】
円筒状基体１の軸に対して上下方向に２対の噴射ノズル１０、２０を距離ｂだけ離した２対の噴射ノズルを用いた湿式ホーニング処理工程が図５Ｂに示される。ここで、上の噴射ノズル１０と下の噴射ノズル２０のどちらもがその上下運動により円筒状基体の表面全部を粗面化する。
【００２０】
２対の噴射ノズルのうち、上の噴射ノズル１０が円筒状基体１の表面全部を粗面化するには、円筒状基体１の下部へと至ったとき、下の噴射ノズル２０を距離ｂだけ単一噴射ノズルの場合よりも下げなければならない。一方で、下の噴射ノズル２０が円筒状基体１の表面全部を粗面化するには、円筒状基体１の上部へと至ったとき、上の噴射ノズル１０を距離ｂだけ単一噴射ノズルの場合よりも上げなければならない。
【００２１】
以上のように２対の上下方向に配置された噴射ノズルでは単一噴射ノズルの移動必要距離ａよりも距離ｂだけ余計な移動距離を有することになる。このような余計な移動距離は、湿式ホーニングの高速化処理の妨げとなる。また、さらに多くの噴射ノズルを設けた場合には、その多くの噴射ノズルを設けた分だけさらに多くの移動距離を要することになってしまう場合がある。
【００２２】
本発明は、上記課題等を少なくとも１つ解決するためになされたものであり、円筒状基体表面の粗面形状をできるだけ保持しつつ、湿式ホーニング処理をより高速化できる円筒状基体の製造方法、製造装置およびこれらにより製造される円筒状基体を提供することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明は、表面研磨液を噴射ノズルから円筒状基体表面に対して噴射し、この噴射により前記表面を粗面化する湿式ホーニング法による円筒状基体の製造方法において、前記円筒状基体表面に前記表面研磨液が噴射される位置に複数の噴射ノズルが配置され、かつ、前記複数の噴射ノズルのうち少なくとも２つ以上の噴射ノズルが前記円筒状基体軸方向に対して垂直な略同一水平面上に配置されることを特徴とする。
【００２４】
上記円筒状基体の製造方法であって、前記少なくとも２つ以上の噴射ノズルの噴射軸は、前記表面研磨液の噴射方向について、前記円筒状基体の略中心部で焦点が結ばれると好適である。
【００２５】
上記円筒状基体の製造方法であって、前記円筒状基体表面における前記表面研磨液の噴射圧が０．２ＭＰａ〜０．６ＭＰａであると好適である。
【００２６】
上記円筒状基体の製造方法であって、少なくとも２つの噴射ノズルの噴射軸と、この噴射軸と前記円筒状基体の略中心部で焦点が結ばれることで形成されるノズルのなす角度θ１が１０°〜５０°であると好適である。
【００２７】
上記円筒状基体の製造方法であって、前記噴射ノズル先端からの前記表面研磨液の噴射拡散角度θ２が５°〜３０°であると好適である。
【００２８】
上記円筒状基体の製造方法であって、前記表面研磨液が前記円筒状基体表面に噴射される際に、その表面に形成される表面噴射領域の形状が楕円形状であると好適である。
【００２９】
上記円筒状基体の製造方法であって、前記噴射ノズル先端と前記円筒状基体表面との噴射軸上の距離が、５０ｍｍ〜３００ｍｍであると好適である。
【００３０】
上記円筒状基体の製造方法であって、前記円筒状基体が電子写真感光体であると好適である。
【００３１】
本発明は、上記円筒状基体の製造方法により製造された円筒状基体であって、前記円筒状基体表面の平均の表面粗さ（Ｒａ）が０．１０μｍ〜０．３０μｍであることを特徴とする。
【００３２】
本発明は、表面研磨液を噴射ノズルから円筒状基体表面に対して噴射し、この噴射により前記表面を粗面化する湿式ホーニング法による円筒状基体の製造装置において、前記円筒状基体表面に前記表面研磨液が噴射される位置に複数の噴射ノズルが配置され、かつ、前記複数の噴射ノズルのうち少なくとも２つ以上の噴射ノズルが前記円筒状基体軸方向に対して垂直な略同一水平面上に配置されることを特徴とする。
【００３３】
上記円筒状基体の製造装置であって、前記少なくとも２つ以上の噴射ノズルの噴射軸は、前記表面研磨液の噴射方向について、前記円筒状基体の略中心部で焦点が結ばれると好適である。
【００３４】
上記円筒状基体の製造装置であって、前記円筒状基体表面における前記表面研磨液の噴射圧が０．２ＭＰａ〜０．６ＭＰａであると好適である。
【００３５】
上記円筒状基体の製造装置であって、少なくとも２つの噴射ノズルの噴射軸と、この噴射軸と前記円筒状基体の略中心部で焦点が結ばれることで形成されるノズルのなす角度θ１が１０°〜５０°であると好適である。
【００３６】
上記円筒状基体の製造装置であって、前記噴射ノズル先端からの前記表面研磨液の噴射拡散角度θ２が５°〜３０°であると好適である。
【００３７】
上記円筒状基体の製造装置であって、前記表面研磨液が前記円筒状基体表面に噴射される際に、その表面に形成される表面噴射領域の形状が楕円形状であると好適である。
【００３８】
上記円筒状基体の製造装置であって、前記噴射ノズル先端と前記円筒状基体表面との噴射軸上の距離が、５０ｍｍ〜３００ｍｍであると好適である。
【００３９】
上記円筒状基体の製造装置であって、前記円筒状基体が電子写真感光体であると好適である。
【発明の効果】
【００４０】
本発明は、湿式ホーニングによる円筒状基体の粗面化において、同じ水平面上に設置した複数のノズルを円筒状基体の中心軸方向に垂直に向けて粗面化することにより、均一な粗面形状を確保しつつ、処理速度増加による生産性向上を達成することができる。例えば、本法において、レーザー光によって画像形成する電子写真技術において、干渉縞模様の無い電子写真感光体を得ることができる電子写真感光体の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
以下、本発明の実施形態について説明する。図１は、本実施形態に係る円筒状基体の湿式ホーニング装置１００の概略図である。本実施形態においては、円筒状基体として円筒形状の感光体基体１を例示して説明する。
【００４２】
「湿式ホーニング装置」
本実施形態の湿式ホーニング装置１００は、湿式ホーニング処理がその内部で行われる湿式ホーニング槽３０を有している。その内部には、湿式ホーニング処理の処理対象となる円筒形状の感光体基体１、この感光体基体１に研磨材を噴射する２対の噴射ノズル３ａ、３ｂが設置されている。
【００４３】
湿式ホーニング槽３０は、内部底面が下げ底構造となっている。この下げ底構造の最も下げ底となっている中央部底面には、使用済の研磨材を再利用するための再利用輸送管４０の一端が接続されている。この再利用輸送管４０の他端は、圧力ポンプ２を介して噴射ノズル３ａ、３ｂに接続されている。
【００４４】
感光体基体１は、湿式ホーニング槽３０の内部に中央部付近にその長手方向を縦として縦配置される。湿式ホーニング槽３０には、円筒軸を中心として均一の速度で感光体基体１を回転させる回転機構（図示せず）が備えられている。
【００４５】
２対の噴射ノズル３ａ、３ｂは、感光体基体１の円筒軸に対して、略同じ高さについて、同一水平面上に配置されている（図３）。（図１では、説明の便宜上、噴射ノズル３ａ、３ｂは上下方向にずらして説明されている。）また、さらに２対の噴射ノズル３ａ、３ｂは、その研磨材を噴射する噴射口４ａ、４ｂが感光体基体１の円筒表面と対向して配置されている。
【００４６】
図２に示すように、２対の噴射ノズル３ａ、３ｂは、噴射口４ａ、４ｂの中心軸である噴射軸７ａ、７ｂを感光体基体の断面中心部８で焦点を結ぶようにして配置されている。本実施形態においては、この２対の噴射ノズル３ａ、３ｂの２方向の噴射軸７ａ、７ｂと感光体基体１の断面中心部８とで形成される角度をθ１としている。また、２対の噴射ノズル３ａ、３ｂのうち、いずれか一方の円筒軸方向に対して垂直な略水平面方向（横方向）の噴射液の広がり角度をθ２としている。
【００４７】
これら噴射ノズル３ａ、３ｂについて、噴射口４ａ、４ｂと感光体基体１の表面とは距離Ｌを隔てて配置されている。図４には、噴射ノズル３ａと感光体基体１の表面との配置図が示される。噴射ノズル３ａの噴射軸７ａは感光体基体１の円筒軸に対して垂直になるように、噴射ノズル３ａを配置させている。
【００４８】
２対の噴射ノズル３ａ、３ｂは、それぞれ外部圧縮空気供給管５ａ、５ｂの一端に接続され、さらに再利用輸送管４０の一端と接続されている。外部圧縮空気供給管５ａ、５ｂはホーニング槽３０から引き出され、そのもう一端は外部圧縮空気タンク（図示せず）へ接続されている。この外部圧縮空気タンクでは、外部空気圧縮機により常に０．６ＭＰａ以上に空気が圧縮されている。噴射ノズル３ａ、３ｂと外部圧縮空気タンクとの間には、外部圧縮空気タンクから噴射ノズル３ａ、３ｂへと圧縮空気を送る為の空気噴射圧力制御バルブ（図示せず）が設けられている。また、２対の噴射ノズル３ａ、３ｂは、円筒状基体円筒軸方向以上の長さ幅を上下移動できる上下移動機構が備えられている。
【００４９】
「湿式ホーニング装置による感光体基体の製造方法」
次に、図１の湿式ホーニング装置１００を用いた湿式ホーニング法について説明する。当初、噴射ノズル３ａ、３ｂは円筒状基体１の上端位置の略同一水平方向面位置にある。この状態で、円筒状基体１を均一速度で回転させる。この回転始動後、噴射ノズル３ａ、３ｂの噴射口４ａ、４ｂから研磨材を円筒状基体１の表面に向けて噴射する。噴射された液状の研磨材は縦、横にある幅の形状６ａ、６ｂ（例えば、扇状）で円筒状基体１の表面へと向かって噴射される。
【００５０】
この液状の研磨材はその噴射６ａ、６ｂ中に、研磨材と共に含有された圧縮空気と混合して霧状となる。この霧状となった研磨材６ａ、６ｂが円筒状基体１の表面に噴射され、この円筒状基体１表面に当たった箇所の円筒状基体１の表面が粗面化される。
【００５１】
液状の研磨材は、表面研磨後、湿式ホーニング槽３０の底面の下げ底構造部に溜められる。溜められた研磨材は、ポンプ２により、圧力搬送され、再利用輸送管４０を通じて再び噴射ノズル３ａ、３ｂへと供給され、表面研磨材の再利用がなされる。
【００５２】
円筒状基体１を回転して一周させ、その表面が噴射される研磨材６ａ、６ｂにより粗面化されると、２対の噴射ノズル３ａ、３ｂは下方向へと移動する。すなわち、まだ粗面化されていない円筒状基体１の表面に対応する位置へと移動する。その移動後の位置に対応する円筒状基体１の表面部分一周を同様に粗面化する（一周粗面化工程）。この一周粗面化工程が終了した後に、さらに下方向、まだ粗面化がされていない円筒状基体１の表面位置へと移動し、一周粗面化工程を行う。これを繰り返し、噴射ノズル３ａ、３ｂを円筒状基体の下端面に対応する位置まで移動させる。この位置で一周粗面化工程が行われ、円筒状基体１の全面の粗面化が終了し、円筒状基体１の円筒状表面全体が粗面化される。
【００５３】
ここで２対の噴射ノズルは３ａ、３ｂは、円筒状基体１の円筒軸の略同一水平方向面位置にあるので、上下方向に噴射ノズルを配置した場合と比較して、単一噴射ノズルの場合と、略同一の移動距離程度で足りることになる。よって、噴射ノズル３ａ、３ｂによる表面粗面化処理工程が高速で行えることになる。すなわち、図３において、噴射ノズル３ａ、３ｂの上下方向への配置位置の相違が殆どないことになり、噴射ノズル３ａ、３ｂを略同一の移動距離ａだけ移動させることだけでよいことになる。よって、噴射ノズルの上下方向への配置位置の相違による移動距離を要することがなく、単一噴射ノズルの場合と同程度の高速処理が可能となる。さらに、２つ以上の噴射ノズル３ａ、３ｂを有しているので、単一噴射ノズルの場合と比較して、同一時間において、表面の粗面化が十分に行えることになる。
【００５４】
図２では、２対の噴射ノズル３ａ、３ｂの噴射軸は、基体の略中心部、断面中心部８で焦点が結ばれているがこれに限られるものではない。噴射軸７ａ、７ｂは断面中心部８以外、例えば感光体基体１の表面部で焦点が結ばれていてもよい。２対の噴射ノズルは３ａ、３ｂは、円筒状基体１の円筒軸に対して略同一水平面位置にあればよいが、このような噴射ノズル３ａ、３ｂの噴射軸は、基体の略中心部、断面中心部８で焦点が結ばれているという構成とすることで、噴射液が感光体基体１と直角に当たることになり、噴射されるエネルギーを効率良く利用でき、感光体基体１の表面粗面化に有効に利用することができる。
【００５５】
また、本実施形態では２対の噴射ノズル３ａ、３ｂを用いているがさらに噴射ノズル数を増やし、３対以上の噴射ノズルを適用することも可能である。このとき３対以上の噴射ノズルのうち少なくとも２つ以上の噴射ノズルが感光体基体１の円筒軸に対して略同一水平面位置にあれば、上下方向に並べるよりも移動距離を短くすることができる。
【００５６】
噴射ノズルの配置は、円筒軸方向に対して略同一水平面の位置であればよく、例えば１つの噴射ノズルに対して他の噴射ノズルが感光体基体１を隔てて対向位置に配置されていてもよい。
【００５７】
なお、さらに好適な態様では、湿式ホーニング処理方法としては、基体の処理面の均一性を高めるために、感光体基体１を回転させて、噴射ノズル３の噴射口４と感光体基体１表面との距離を一定に保ったまま、感光体基体１を中心軸に沿って移動させることにより、螺旋状に処理すると好適である。この場合においては、先ず、支持体に保持された感光体基体１を湿式ホーニング槽３０の中央部に配置し、垂直方向に移動している感光体基体１を軸中心に回転させると共に、同様にポンプ２により外部撹拌槽から送液される研磨液を、噴射ノズルから噴射させることによって、基体の表面を研磨する湿式ホーニング処理が行われる。
【００５８】
「諸条件」
感光体基体１の表面に当たる表面研磨液の圧力は、噴射圧が０．２ＭＰａ〜０．６ＭＰａである。噴射圧が０．２ＭＰａより小さいと目的の表面粗さを得ることができなくなる。その為、電子写真技術においては干渉縞模様の防止ができなくなってしまう。また、噴射圧が０．６ＭＰａよりも大きいと、円筒状基体への研磨材の衝突が強いために、円筒状基体表面に凹み異常が発生したり、研磨材の破壊が促進したりしてしまう。  
【００５９】
噴射軸７ａ、７ｂと感光体基体１の断面中心部８とで形成される角度θ１は、１０°〜５０°である。１０°未満では噴射ノズル同士がぶつかるため、物理的に設置が不可能となる。５０°より大きいと噴射液同士の衝突により噴射力が低下するため、十分な粗面化がなされない。
【００６０】
円筒軸方向に対して垂直な略水平面方向（横方向）の噴射液の広がり角度θ２は、５°〜３０°である。θ２が５°未満では単位面積あたりに衝突させる研磨材量を稼ぐためには上下方向（縦方向）に８０°以上に広げる必要があり、縦方向に噴射範囲が広がる分、噴射ノズル４と感光体基体１との相対移動距離が大きくなり多くの処理時間がかかってしまう。また、θ２が３０°より大きいと、縦方向は４０°以下に狭まるが、噴射範囲が横方向に広がるため、２つのノズルの噴射液が衝突する量が多くなり、粗面効率にとって好ましくない。
【００６１】
噴射ノズルの噴射口と感光体基体１の表面との最小の距離（噴射軸上の距離）Ｌは５０ｍｍ〜３００ｍｍである。５０ｍｍ未満では、噴射される研磨液が十分微粒化しないため、粗面化が不十分となってしまう。また、３００ｍｍより遠いと、縦方向の噴射範囲が広くなるため、処理時間が長くなってしまう。
【００６２】
噴射ノズルから表面研磨液が感光体基体１表面に当たる際に、その表面に形成される表面噴射領域の形状は楕円形状である。表面噴射領域の形状を楕円形状とすることで、円錐型の表面噴射領域を形成するパターンと同等の噴射面積を得ながら、なるべく噴射液同士を衝突させないなどの粗面化処理が可能となる。
【００６３】
このようにして処理された感光体基体表面の平均の表面粗さ（Ｒａ）が０．１０μｍ〜０．３０μｍである。
【００６４】
感光体基体１の回転速度に特に制限はないが、好ましくは１００ｒｐｍ〜４００ｒｐｍである。この回転速度が１００ｒｐｍ未満であると表面の研磨が過剰となる傾向にあり、４００ｒｐｍを超えると基体の表面が不均一となる傾向にある。
【００６５】
なお、上記の湿式ホーニング処理の後、研磨液よりも低濃度（好ましくは０．１〜１．０重量％）の研磨材を含有する洗浄液をスプレーノズルから噴射させて感光体基体１の表面を洗浄することは、後述する洗浄工程において洗浄の精度及び効率が向上する傾向にあるので好ましい。粗面化された感光体基体１は感光体基体１表面に付着した研磨材を除去する為にブラシ洗浄及び水による濯ぎ洗浄がなされる。濯ぎ洗浄された感光体基体１は塗布前に基体に付着した水分を除去する為に乾燥機に入れられ、温風乾燥される。水滴の残留は基体上にシミを発生させ、画質欠陥の原因となる。乾燥後の基体は冷却され、塗布工程へ移載される。
【００６６】
塗布工程においては、基体表面に下引き層を含む感光層を塗布する。例えば、基体上に下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を構成するようにする。
【００６７】
塗布方法については、浸漬塗布、スプレー塗布、フローコート塗布等の様々な塗布方法があるが、感光層の塗布液の特性に応じた塗布方法を選択するものであり、塗布方法を限定するものではない。また、１層塗布毎に塗液面を乾燥させる必要があるが、塗液の種類により強制乾燥が不要なものもあるため、必ずしも乾燥機を使用する必要はない。以上、塗布工程によって基体上に機能層が積層され、その結果、電子写真感光体が製造される。
【００６８】
なお、本実施形態による湿式ホーニング法は感光体基体１だけでなく、円筒状基体一般に適用できる。例えば、転写ベルト等の円筒状基体にも適用できる。例えば、微粒凹凸を湿式ホーニングにより、円筒状基体表面につけることで、表面膜を剥がしやすくすることができる。
【実施例】
【００６９】
（実施例１）
以下、本発明の効果を電子写真感光体用の基体をホーニング処理する方法について実施例を用いて具体的に説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
【００７０】
アルミニウムを主成分とする円筒基体（以下、アルミニウム管とする）をダイヤモンドバイトを用いてφ６０ｍｍに鏡面切削加工した後、その表面粗さＲａを０．０３μｍ〜０．０６μｍの平滑面とするように仕上げた。切削工程終了後、脱脂洗浄、濯ぎ洗浄そして温純水引き上げ乾燥工程の順で処理を行った。脱脂洗浄工程及び濯ぎ洗浄工程は３５ｋＨｚ〜４０ｋＨｚの超音波発振機により洗浄中の基体に超音波を印加した。脱脂洗浄工程で使用する界面活性剤は非イオン性界面活性剤であり、脱脂洗浄工程で使用した水は０．１μＳ／ｃｍ以下のイオン交換水である。
【００７１】
このアルミニウム管に対し湿式ホーニング装置によってその表面の粗面化処理を行った。ホーニング噴射ノズルを基体の中心軸に対し、垂直な面に２個設置し、ノズル−基体中心−ノズルのなす角度θ１を３０°とした。研磨液が基体に０．２ＭＰａの圧力で衝突するエネルギーを持つ噴射液の横方向の噴射角度θ２は２０°である。噴射ノズル先端から基体表面までの距離Ｌはそれぞれ５０ｍｍとした。又、ホーニング時の基体の回転数は１００ｒｐｍとし、基体の上端から粗面化を開始した。
【００７２】
その粗面化処理においては、酸化アルミニウムを主成分とする研磨材を１０重量％で水に懸濁させ、これを１０ｋｇ／ｍｉｎの流量で噴射ノズルに送り込んで、処理速度１０００ｍｍ／ｍｉｎ、圧縮空気圧０．１〜０．２ＭＰａで前記アルミニウム管に吹きつけ、表面粗さＲａ：０．１５〜０．２５μｍになるようにした。なお、前記研磨材として、昭和電工株式会社製の酸化アルミニウム（アルナビーズ（ＣＢ−Ａ３５Ｓ）、平均粒径３５μｍ）を用いた。
【００７３】
前記の粗面化したアルミニウム管について、以下の洗浄処理を行った。前記アルミニウム管に対し、まず水でシャワーを吹きかけ、その後、水を吹きかけながら、処理部材としてのナイロン製ブラシを該アルミニウム管に接触させ、該アルミニウム管と共に同方向に１００ｒｐｍで回転させながら６０秒間押付処理を行った。次に導電度０．１〜１．０μＳ／ｃｍ、温度１８〜２５℃の純水による濯ぎ洗浄を行い、５０℃の温純水引き上げ後に１３５℃で熱風乾燥を行った。
【００７４】
次に、これらの洗浄処理を行なった感光体基体上に、有機ジルコニウム化合物（商品名：オルガチックスＺＣ５４０、松本製薬（株）製）１００部、シランカップリング剤（商品名：Ａ１１００、日本ユニカー（株）製）１０部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−Ｓ、積水化学（株）製）１０部及びｎ−ブチルアルコール１３０部を混合し、得られた塗布液を浸漬塗布法により塗布し、１４０℃で１５分間加熱して、１．０μｍの下引き層を形成した。
【００７５】
次に、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学（株）製）の２％シクロヘキサノン溶液に、金属含有又は否金属含有ヒドロキシフタロシアノン顔料を、顔料と樹脂との比を２：１に混合し、次いでサンドミルにより３時間分散処理を行なった。得られた分散液をさらに酢酸ｎ−ブチルで希釈して下引き層上に浸漬塗布し、０．１５μｍ厚の電荷発生層を形成した。
【００７６】
次に、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（ｍ−トリル）ベンジジン４部及びポリカーボネートＺ樹脂６部を、モノクロロベンゼン３６部に溶解させた溶液を電荷発生層上に浸漬塗布し、１１５℃で４０分間乾燥して、２４μｍ厚の電荷輸送層を形成した。以上のようにして電子写真感光体を得た。
【００７７】
画質評価での干渉縞発生の有無について、得られた電子写真感光体を反射率変動評価機（富士ゼロックス社内製）にて評価した。反射率変動評価機では感光体にレーザー光を照射し、干渉して明るくなった干渉光の光量の入射光に対する割合を反射率ａ％とし、干渉して暗くなった干渉光の光量の入射光に対する割合を反射率ｂ％とするときの反射率の差（ａ−ｂ）を測定する。この（ａ−ｂ）を反射率変動と呼ぶ。この反射率変動は得られた電子写真感光体の反射率変動の最大値を測定し、干渉縞発生度合いの評価を行なった。評価基準としては、反射率変動が、１．５％未満の場合を◎、１．５％以上〜２．０％未満の場合を○、２．０％以上の場合を×とする。
【００７８】
感光基体１表面に衝突する研磨液の圧力は富士写真フィルム社製富士プレスケール極超低圧用感圧紙を使用して評価した。０．２ＭＰａ以上の圧力が感圧紙にかかると、白い紙が赤く変色する。
【００７９】
（実施例２）
ノズル先端から基体表面までの距離Ｌを１２０ｍｍとして、それ以外の条件は実施例１と同様にしてホーニング処理し、電子写真感光体を得た。その電子写真感光体について前記反射率変動測定機にて反射率変動を評価した。
【００８０】
（実施例３）
ノズル先端から基体表面までの距離Ｌを２００ｍｍとし、ノズルからの横方向の噴射拡散角度θ２を５°とし、それ以外の条件は実施例１と同様にしてホーニング処理し、電子写真感光体を得た。その電子写真感光体について前記反射率変動測定機にて反射率変動を評価した。
【００８１】
（実施例４）
ノズル先端から基体表面までの距離Ｌを３００ｍｍとして、それ以外の条件は実施例１と同様にしてホーニング処理し、電子写真感光体を得た。その電子写真感光体について前記反射率変動測定機にて反射率変動を評価した。
【００８２】
（実施例５）
ノズル先端から基体表面までの距離Ｌを１２０ｍｍとし、ノズルからの噴射拡散角度θ２を３０°として、それ以外の条件は実施例１と同様にしてホーニング処理し、電子写真感光体を得た。その電子写真感光体について前記反射率変動測定機にて反射率変動を評価した。
【００８３】
（実施例６）
ノズルとノズルのなす角θ１を１０°とし、ノズルからの噴射拡散角度θ２を１０°として、それ以外の条件は実施例５と同様にしてホーニング処理し、電子写真感光体を得た。その電子写真感光体について前記反射率変動測定機にて反射率変動を評価した。
【００８４】
（実施例７）
ノズルとノズルのなす角度θ１を２０°として、それ以外の条件は実施例６と同様にしてホーニング処理し、電子写真感光体を得た。その電子写真感光体について前記反射率変動測定機にて反射率変動を評価した。
【００８５】
（実施例８）
ノズルとノズルのなす角度θ１を３０°として、それ以外の条件は実施例７と同様にしてホーニング処理し、電子写真感光体を得た。その電子写真感光体について前記反射率変動測定機にて反射率変動を評価した。
【００８６】
（実施例９）
ノズルとノズルのなす角度θ１を５０°として、それ以外の条件は実施例８と同様にしてホーニング処理し、電子写真感光体を得た。その電子写真感光体について前記反射率変動測定機にて反射率変動を評価した。
【００８７】
（実施例１０）
噴射ノズルの数を３対とし、処理速度を１５００ｍｍ／ｍｉｎとし、それぞれのノズルとノズルのなす角度θ１を１０°として、各ノズルからの噴射拡散角度θ２を５°とし、それ以外の条件は実施例８と同様にしてホーニング処理し、電子写真感光体を得た。その電子写真感光体について前記反射率変動測定機にて反射率変動を評価した。
【００８８】
（比較例１）
ノズル１個を使用し、処理速度１０００ｍｍ／ｍｉｎ、として、それ以外の条件は実施例２と同様にしてホーニング処理し、電子写真感光体を得た。その電子写真感光体について前記反射率変動測定機にて反射率変動を評価した。
【００８９】
（比較例２）
ノズル１個を使用し、処理速度５００ｍｍ／ｍｉｎ、として、それ以外の条件は比較例１と同様にしてホーニング処理し、電子写真感光体を得た。その電子写真感光体について前記反射率変動測定機にて反射率変動を評価した。
【００９０】
これらの結果を、下記表１に示す。
【表１】
2005262416.tif 000003
【００９１】
（評価結果）
実施例及び比較例ともに各５回実験を実施し、その平均値を表１に記載した。実施例１から４において、ノズル先端から基体表面までの距離Ｌを遠ざけるにつれて反射率変動は大きくなり、３００ｍｍまでは反射率変動は２．０％を超えなかった。実施例２、５、８において、噴射液の拡散角度θ２が広がるにつれて、反射率変動は大きくなり、３０°までは反射率変動が２．０％を超えなかった。実施例６から９において、ノズルとノズルのなす角度θ１を広げた場合、反射率変動は大きくなる傾向を示し、５０°までは反射率変動が２．０％を超えなかった。比較例１では反射率変動は２．０％を超えるが、処理速度を５００ｍｍ／ｍｉｎに遅くした比較例２では反射率変動は２．０％以下に低下した。処理速度が早いと干渉防止にとって不利となるが、実施例１０において噴射ノズルを３対にすることで、比較例１の処理速度の１．５倍としても、反射率変動は２．０％を超えることはなかった。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】本実施形態における湿式ホーニング装置の概略図である。
【図２】本実施形態におけるノズルとノズルのなす角度とノズルから噴射する研磨液の噴射角度に関する概略図である
【図３】本実施形態におけるノズルの高さに関する設置位置の概略図である。
【図４】本実施形態におけるノズルを基体の中心軸に垂直に向けたノズルの先端と基体表面との距離に関する概略図である。
【図５Ａ】従来技術に係る課題を説明する概略図である。
【図５Ｂ】従来技術に係る課題を説明する概略図である。
【図５Ｃ】従来技術に係る課題を説明する概略図である。
【符号の説明】
【００９３】
１  感光体基体、２  ポンプ、３  噴射ノズル、４  噴射口、５  空気供給管、３０  湿式ホーニング槽、１００  湿式ホーニング装置。
【図１】
2005262416.tif 000004
【図２】
2005262416.tif 000005
【図３】
2005262416.tif 000006
【図４】
2005262416.tif 000007
【図５Ａ】
2005262416.tif 000008
【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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