(57)【要約】【課題】  過熱蒸気を用いた食品の調理のみならず、調理室の内部掃除も行える過熱蒸気調理装置及びその制御方法を提供する。【解決手段】  本発明に係る過熱蒸気調理装置は、調理室が形成された本体と、前記調理室の内部へ過熱蒸気を供給する過熱蒸気発生装置と、前記過熱蒸気発生装置内の水を前記調理室の内部へ噴射して前記調理室を掃除する掃除装置とを備え、その制御方法は、掃除命令に応じて前記掃除装置を通じて前記調理室の内部へ温水を噴射して前記調理室の内部を温水で掃除する過程と、前記過熱蒸気発生装置を通じて前記調理室の内部へ過熱蒸気を供給して前記調理室を乾燥する過程とを含む。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
調理室が形成された本体と、前記調理室の内部へ過熱蒸気を供給する過熱蒸気発生装置と、前記過熱蒸気発生装置内の水を前記調理室の内部へ噴射して前記調理室を掃除する掃除装置とを含むことを特徴とする過熱蒸気調理装置。
【請求項２】
前記掃除装置は前記過熱蒸気発生装置を通じて加熱された温水を前記調理室の内部へ噴射することを特徴とする請求項１に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項３】
前記掃除装置は、前記調理室内に設けられた噴射ノズルと、前記過熱蒸気発生装置の排水口と前記噴射ノズルを連結する洗浄水供給管と、前記過熱蒸気発生装置の水を前記噴射ノズルへ供給するように前記洗浄水供給管の所定部位に設けられる洗浄水供給ポンプとを含むことを特徴とする請求項１に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項４】
前記過熱蒸気発生装置は、出口が前記調理室に連結され、所定量の水が受容される蒸気発生容器と、前記蒸気発生容器の下部に設けられた第１ヒーターと、前記第１ヒーターを通じて発生した蒸気を過熱させるように前記蒸気発生容器の上部に設けられた第２ヒーターとを含むことを特徴とする請求項１に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項５】
前記蒸気発生容器は断熱容器からなることを特徴とする請求項４に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項６】
前記蒸気発生容器は前記第１ヒーター及び第２ヒーターを受容する内部容器と、前記内部容器の外側を取り囲むように離隔設置される外部容器とを含み、前記内部容器と前記外部容器との間の空間は真空状態が維持されることを特徴とする請求項５に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項７】
前記蒸気発生容器は外部の給水源から内部へ水が供給される給水口と、内部の水を前記掃除装置へ供給するための排水口とを備えることを特徴とする請求項４に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項８】
前記掃除装置は、前記調理室内に設けられた噴射ノズルと、前記蒸気発生容器の排水口と前記噴射ノズルを連結する洗浄水供給管と、前記蒸気発生容器の内部の水を前記噴射ノズルへ供給するように前記洗浄水供給管の所定部位に設けられる洗浄水供給ポンプとを含むことを特徴とする請求項７に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項９】
前記給水口には外部の給水源と連結される給水管が連結され、前記給水管には給水を制御する給水制御バルブが設けられることを特徴とする請求項７に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項１０】
前記蒸気発生容器には内部の水位を感知する水位感知装置と内部の水温を感知する水温感知装置とが設けられることを特徴とする請求項４に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項１１】
前記過熱蒸気発生装置と連結された前記調理室の蒸気供給口には蒸気の供給温度を感知する供給温度センサーが設けられることを特徴とする請求項１に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項１２】
前記調理室の上部には蒸気の排出のための排気流路が備えられ、前記排気流路には排出される蒸気の温度を感知する排出温度センサーが設けられることを特徴とする請求項１に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項１３】
前記調理室の下部には前記調理室内の水を外部へ排水させるための排水管が連結され、前記排水管には排水ポンプが設けられることを特徴とする請求項１に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項１４】
前記本体の所定部位に設けられる操作パネルをさらに含み、
前記操作パネルは前記過熱蒸気の動作状態を表示するための表示部と、調理モードを入力するための複数の操作キー及び操作スイッチと、掃除動作を制御するための掃除キーと、掃除動作を使用者に知らせるためにアラームランプ及びアラームスピーカーからなる警報装置とを含むことを特徴とする請求項１に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項１５】
前記調理室の下部には第２排水口から前記本体の外部に延長される排水管が備えられ、前記排水管の所定部位には排水ポンプが装着されることを特徴とする請求項３に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項１６】
前記蒸気発生容器は前記蒸気発生容器の内部から放射される放射熱を遮断するために前記内部容器と前記外部容器との間の空間を満たす遮断材をさらに含むことを特徴とする請求項６に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項１７】
前記第１ヒーター及び第２ヒーターは熱転写領域を最大化するために、らせん状となっていることを特徴とする請求項４に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項１８】
前記過熱蒸気発生装置から過熱蒸気が流入する前記調理室の後方壁の内面に装着され、複数の蒸気排出口を備えるカーバーをさらに含むことを特徴とする請求項４に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項１９】
前記蒸気発生容器の上端部を前記調理室の後面の方へ曲げて形成されたベンディング部をさらに含み、前記ベンディング部はその先端で前記蒸気発生容器の出口が前記調理室の後面上に備えられた蒸気供給口に連結されることを特徴とする請求項１１に記載の過熱蒸気調理装置。
【請求項２０】
調理室が形成された本体と、前記調理室の内部へ過熱蒸気を供給する過熱蒸気発生装置と、前記過熱蒸気発生装置内の水を前記調理室の内部へ噴射して前記調理室を掃除する掃除装置とを備える過熱蒸気調理装置の制御方法において、
掃除命令に応じて前記掃除装置を通じて前記調理室の内部へ温水を噴射して前記調理室の内部を温水掃除する過程と、
前記過熱蒸気発生装置を通じて前記調理室の内部へ過熱蒸気を供給して前記調理室を乾燥する過程とを含むことを特徴とする過熱蒸気調理装置の制御方法。
【請求項２１】
前記掃除命令が実行される場合、使用者に掃除命令の実行を知らせることを特徴とする請求項２０に記載の過熱蒸気調理装置の制御方法。
【請求項２２】
前記温水掃除過程の前に前記調理室の内部へ水蒸気を供給して前記調理室を蒸気で洗浄する過程をさらに含むことを特徴とする請求項２０に記載の過熱蒸気調理装置の制御方法。
【請求項２３】
前記調理室の蒸気洗浄を行うときは、前記調理室へ供給される水蒸気の温度が設定温度範囲内に維持されるようにし、前記水蒸気の温度が設定温度範囲より低ければ、前記過熱蒸気発生装置のヒーターを動作させ、前記水蒸気の温度が設定温度範囲より高ければ、前記過熱蒸気発生装置のヒーター動作を終了させることを特徴とする請求項２２に記載の過熱蒸気調理装置の制御方法。
【請求項２４】
前記蒸気洗浄過程で水蒸気の設定温度範囲は１００℃〜１１０℃であることを特徴とする請求項２３に記載の過熱蒸気調理装置の制御方法。
【請求項２５】
前記調理室の温水掃除を行うときは、前記過熱蒸気発生装置内の水温が設定温度より高いか、同じである場合は掃除動作を行い、水温が設定温度より低い場合は前記過熱蒸気発生装置のヒーターを動作させることを特徴とする請求項２０に記載の過熱蒸気調理装置の制御方法。
【請求項２６】
前記温水掃除過程で前記温水の設定温度は６０℃であることを特徴とする請求項２５に記載の過熱蒸気調理装置の制御方法。
【請求項２７】
前記調理室の乾燥過程では、前記過熱蒸気発生装置のヒーターを動作させて前記調理室の内部へ設定温度以上の過熱蒸気が供給されるようにすることを特徴とする請求項２０に記載の過熱蒸気発生装置の制御方法。
【請求項２８】
前記乾燥過程で過熱蒸気の設定温度は２００℃であることを特徴とする請求項２７に記載の過熱蒸気調理装置の制御方法。
【請求項２９】
前記掃除命令は前記本体に備えられた掃除キーが所定の時間以上押されるときに実行されるようにすることを特徴とする請求項２０に記載の過熱蒸気調理装置の制御方法。
【請求項３０】
前記掃除命令は前記本体に備えられた掃除キーが所定の回数以上押されるときに実行されるようにすることを特徴とする請求項２０に記載の過熱蒸気調理装置の制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は過熱蒸気調理装置及びその制御方法に係り、より詳しくは、蒸気と温水を用いて調理室の内部掃除を行うようにした過熱蒸気調理装置及びその制御方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的な過熱蒸気調理装置は調理室の内部へ過熱蒸気を供給して調理室内に受容された食品を過熱蒸気の熱気を用いて加熱することにより、食品を調理する調理装置である。このような過熱蒸気調理装置は調理室内に分布する高温の過熱蒸気が食品を加熱するので、他の調理装置に比べて食品を均一に加熱して局部的な焦げ現象を防止することができ、過熱蒸気の温度及び供給量を調節して調理温度を容易に調節することもでき、調理過程の酸化現象も発生しないため、風味のよい調理を行える。
【０００３】
しかし、かかる過熱蒸気調理装置のように調理室の内部に食品を入れて調理を行う調理装置は使用者が調理室の内部に食品を入れるか、持ち出すとき、調理室の内部に食品の一部が落ちるか、調理過程で調理室の内部に受容される調理容器から食品のだしが煮えあふれる問題によって調理室の内面が汚れる事態が発生する。従って、使用者は時々調理室の清潔状態維持のために調理室の内面を掃除すべきであるが、過熱蒸気調理装置は調理室を汚染する食品が過熱蒸気の加熱によりその内面に乾上がる状態となるため、使用者が調理室の内面を掃除するときに食品の残りを除去しにくいという問題点があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
したがって、本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は過熱蒸気を用いた食品の調理のみならず、調理室の内部掃除を行えるようにする過熱蒸気調理装置及びその制御方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
前記目的を達成するための本発明による過熱蒸気調理装置は、調理室が形成された本体と、前記調理室の内部へ過熱蒸気を供給する過熱蒸気発生装置と、前記過熱蒸気発生装置内の水を前記調理室の内部へ噴射して前記調理室を掃除する掃除装置とを含むことを特徴とする。
【０００６】
前記掃除装置は前記過熱蒸気発生装置を通じて加熱された温水を前記調理室の内部へ噴射する。
【０００７】
前記掃除装置は、前記調理室内に設けられた噴射ノズルと、前記過熱蒸気発生装置の排水口と前記噴射ノズルを連結する洗浄水供給管と、前記過熱蒸気発生装置の水を前記噴射ノズルへ供給するように前記洗浄水供給管の所定部位に設けられる洗浄水供給ポンプとを含む。
【０００８】
前記過熱蒸気発生装置は、出口が前記調理室に連結され、所定量の水が受容される蒸気発生容器と、前記蒸気発生容器の下部に設けられた第１ヒーターと、前記第１ヒーターを通じて発生した蒸気を過熱させるように前記蒸気発生容器の上部に設けられた第２ヒーターとをさらに含む。
【０００９】
前記蒸気発生容器は断熱容器からなる。
【００１０】
さらに、前記蒸気発生容器は前記第１ヒーター及び第２ヒーターを受容する内部容器と、前記内部容器の外側を取り囲むように離隔設置される外部容器とを含み、前記内部容器と前記外部容器との間の空間は真空状態を維持する。
【００１１】
前記蒸気発生容器は外部の給水源から内部へ水が供給される給水口と、内部の水を前記掃除装置へ供給するための排水口とをさらに備える。
【００１２】
さらに、前記掃除装置は、前記調理室内に設けられた噴射ノズルと、前記蒸気発生容器の排水口と前記噴射ノズルを連結する洗浄水供給管と、前記蒸気発生容器の内部の水を前記噴射ノズルへ供給するように前記洗浄水供給管の所定部位に設けられる洗浄水供給ポンプとを含む。
【００１３】
前記給水口には外部の給水源と連結される給水管が連結され、前記給水管には給水を制御する給水制御バルブが設けられる。
【００１４】
前記蒸気発生容器には内部の水位を感知する水位感知装置と内部の水温を感知する水温感知装置とがさらに設けられる。
【００１５】
さらに、前記過熱蒸気発生装置と連結された前記調理室の蒸気供給口には蒸気の供給温度を感知する供給温度センサーが設けられる。
【００１６】
前記調理室の上部には蒸気の排出のための排気流路が備えられ、前記排気流路には排出される蒸気の温度を感知する排出温度センサーが設けられる。
【００１７】
前記調理室の下部には前記調理室内の水を外部へ排水させるための排水管が連結され、前記排水管には排水ポンプが設けられる。
【００１８】
前記目的を達成するための本発明による過熱蒸気調理装置の制御方法は、調理室が形成された本体と、前記調理室の内部へ過熱蒸気を供給する過熱蒸気発生装置と、前記過熱蒸気発生装置内の水を前記調理室の内部へ噴射して前記調理室を掃除する掃除装置とを備える過熱蒸気調理装置の制御方法において、掃除命令に応じて前記掃除装置を通じて前記調理室の内部へ温水を噴射して前記調理室の内部を温水掃除する過程と、前記過熱蒸気発生装置を通じて前記調理室の内部へ過熱蒸気を供給して前記調理室を乾燥する過程とを含む。
【００１９】
前記方法は前記掃除命令が実行される場合、使用者に掃除命令の実行を知らせる過程をさらに含む。
【００２０】
さらに、前記方法は前記温水掃除過程の前に前記調理室の内部へ水蒸気を供給して前記調理室を蒸気で洗浄する過程をさらに含む。
【００２１】
前記調理室の蒸気洗浄を行うときは、前記調理室へ供給される水蒸気の温度が設定温度範囲内に維持されるようにし、前記水蒸気の温度が設定温度範囲より低ければ、前記過熱蒸気発生装置のヒーターを作動させ、前記水蒸気の温度が設定温度範囲より高ければ、前記過熱蒸気発生装置のヒーター作動を終了させる。
【００２２】
前記蒸気洗浄過程で水蒸気の設定温度範囲は１００℃〜１１０℃である。
【００２３】
本発明による方法で前記調理室の温水掃除を行うときは、前記過熱蒸気発生装置内の水温が設定温度より高いか、同じである場合は掃除動作を行い、水温が設定温度より低い場合は前記過熱蒸気発生装置のヒーターを作動させる。
【００２４】
前記温水掃除過程で前記温水の設定温度は６０℃である。
【００２５】
前記調理室の乾燥過程では、前記過熱蒸気発生装置のヒーターを動作させて前記調理室の内部へ設定温度以上の過熱蒸気が供給されるようにする。
【００２６】
前記乾燥過程で過熱蒸気の設定温度は２００℃である。
【００２７】
本発明による方法で前記掃除命令は前記本体に備えられた掃除キーが所定の時間以上押されるときに実行されるようにし、前記掃除命令は前記本体に備えられた掃除キーが所定の回数以上押されるときに実行されるようにすることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２８】
本発明による過熱蒸気調理装置は過熱蒸気発生装置から生成される蒸気と蒸気発生容器の内部の温水を用いて調理室を掃除できるので、調理室の掃除を容易に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、本発明の好ましい実施例を添付図面を参照して詳細に説明する。
【００３０】
本発明による過熱蒸気調理装置は、図１及び図２に示したように、内部に調理室１１が形成された本体１０と、前記本体１０の後面部に設けられて調理室１１の内部へ過熱蒸気を供給する過熱蒸気発生装置２０とを備える。
【００３１】
前記本体１０は外部ケース１２と、その外部ケース１２の内部に離隔設置されて調理室１１を形成する内部ケース１３とを備え、調理室１１は調理物の入出が可能になるように前面が開放される。さらに、前記内部ケース１３は調理室１１が外部と断熱されるように離隔設置された内側の第１ケース１３ａと外側の第２ケース１３ｂとから構成される。
【００３２】
前記本体１０の前面部には使用者が調理室１１を開閉するように上下方向に開閉されるドア１４が設けられる。さらに、ドア１４の上方には過熱蒸気調理装置の動作状態を表示する表示部１５ａと、各種の調理モードを入力するための多数の操作キー１５ｂ及び操作スイッチ１５ｃと、掃除動作の制御のための掃除キー１５ｄと、掃除動作を知らせるランプ１５ｅやスピーカー１５ｆなどの警報手段とを備えた操作パネル１５が備えられる。
【００３３】
前記調理室１１の内部には上部と下部にそれぞれ食品の搭載のための棚１６が備えられ、その棚１６は調理室１１を形成する内部ケース１３の両側面に形成された案内レール１７を通じて支持される。
【００３４】
前記調理室１１の後面部の過熱蒸気発生装置２０は、図２及び図３に示したように、出口が調理室１１の後面部の蒸気供給口１８に連結され、その内部に所定量の水が受容される蒸気発生容器２１を備え、その蒸気発生容器２１の内側下部に設けられる第１ヒーター２２と内側上部に設けられる第２ヒーター２３とを備える。
【００３５】
蒸気発生容器２１は、図３及び図４に示したように、その内部空間が外部と断熱されて熱損失が最小化するような真空断熱容器からなる。前記蒸気発生容器２１は内部容器２１ａと、その内部容器２１ａの外側を取り囲むように内部容器２１ａの外面と離隔設置される外部容器２１ｂとを備える。さらに、前記内部容器２１ａと外部容器２１ｂとの間の空間は放射熱を遮断できる遮断材２１ｃで満たされ、真空状態に減圧された後、密封される。
【００３６】
さらに、蒸気発生容器２１は上部の出口が調理室１１の後面側へ曲がるベンディング部２１ｄを備え、そのベンディング部２１ｄの先端で蒸気発生容器２１の出口が調理室１１の後面の蒸気供給口１８に結合される。蒸気発生容器２１の出口の周りに備えられる上部フランジ２４と蒸気供給口１８の周りの内部ケース１３が固定ネジ２５の締結によって堅く結合され、上部フランジ２４と内部ケース１３との間には蒸気の漏れ現象を防止するようにパッキング２６が介在させられる。前記調理室１１の内側後面には蒸気が通過する多数の通孔を有するカーバー１９が設けられる。
【００３７】
さらに、蒸気発生容器２１の下端には下部フランジ２７が備えられ、その下部フランジ２７には蒸気発生容器２１の下端開放部を閉鎖する下板２８が固定ネジ２９の締結によって結合される。この際、下板２８と下部フランジ２７との間には蒸気発生容器２１の内部に満たされる水が漏れないようにするパッキング３０が介在させられる。
【００３８】
前記蒸気発生容器２１の内側下部に設けられる第１ヒーター２２と内側上部に設けられる第２ヒーターは、図３に示したように、転熱面積を最大化するようにそれぞれ、らせん状をなし、各々の端子部２２ａ，２３ａが下方に延長されて下板２８に結合されて固定される。さらに、前記第１及び第２ヒーター２２，２３の端子部２２ａ，２３ａと下板２８が結合される部分には蒸気発生容器２１の内部の水が漏れないようにパッキング３１ａ，３１ｂが結合される。このような構成は蒸気発生容器２１の内部へ所定量の水が供給されるとき、下部の第１ヒーター２２は浸水状態となり、上部の第２ヒーター２３は最大水位の上部に位置する。このような下部の第１ヒーター２２の作動により生成された蒸気が出口の方へ上昇しながら、第２ヒーターにより再過熱されて過熱蒸気となる。
【００３９】
さらに、前記蒸気発生容器２１の下板２８には内部へ水を供給するための給水口３２と、蒸気発生容器２１の内部の水を排水させるための排水口３３とが備えられる。前記下板２８には蒸気発生容器２１の内部水位を感知するための水位感知装置３４と内部の水温を感知するための水温感知装置３５とが設けられる。前記水位感知装置３４と前記下板２８との間には漏水防止のためのパッキング３１ｃが備えられ、前記水温感知装置３５と前記下板２８との間には漏水防止のためのパッキング３１ｄが備えられる。
【００４０】
さらに、前記蒸気発生容器２１の下板２８の給水口３２には、図４及び図５に示したように、外部の給水源から蒸気発生容器２１の内部へ水が供給されるように給水管３６が連結され、その給水管３６の所定部位には給水を制御するための給水バルブ３７が設けられる。この際、給水バルブ３７は本体１０の外部ケース１２の内側に設けられる。
【００４１】
さらに、本発明による過熱蒸気調理装置は調理装置の動作終了後に蒸気発生容器２１の内部の水を用いて調理室１１の内部を掃除するための掃除装置と、調理室１１の内部の水を外部へ排水させるための排水装置とを備える。
【００４２】
掃除装置は、図１、図２及び図５に示したように、調理室１１の内部に設けられる複数の噴射ノズル３８ａ，３８ｂ，３８ｃと、蒸気発生容器２１の排水口３３と各噴射ノズル３８ａ，３８ｂ，３８ｃを連結する洗浄水供給管３９と、蒸気発生容器２１の内部の水を各噴射ノズル３８ａ，３８ｂ，３８ｃの方に供給するように洗浄供給管３９の所定部位に設けられる洗浄水供給ポンプ４０とを含む。さらに、噴射ノズルは調理室１１の内側上部に設けられる回転型噴射ノズル３８ａと、調理室１１の両側面にそれぞれ設けられる固定型噴射ノズル３８ｂ，３８ｃとからなる。
【００４３】
洗浄水供給管３９は、図５に示したように、蒸気発生容器２１の排水口３３から内部ケース１３の外側上部に延長され、各噴射ノズル３８ａ，３８ｂ，３８ｃの方へ水が分配されて供給されるように分岐される。この際、洗浄水供給ポンプ４０は蒸気発生容器２１の内部の水が消尽したとしても、洗浄水供給ポンプ４０の内に水が存在するように蒸気発生容器２１の下端部に設けられる。さらに、排水装置は、図２に示したように、調理室１１の下部の排水口４１から本体１０の外部に延長される排水管４２と、その排水管４２の所定部位に設けられる排水ポンプ４３とから構成される。
【００４４】
さらに、本発明では、図２に示したように、過熱蒸気発生装置２０を通じて調理室１１の内部へ供給された蒸気が内部の食品を加熱した後、外部へ排出されるように調理室１１の上部に排気ダクト５０が設けられる。前記調理室１１の蒸気供給口１８を覆うカーバー１９の内側には蒸気発生容器２１から調理室１１の内部へ供給される蒸気の温度を感知する供給温度センサー５１が設けられ、排気ダクト５０の内部には排出される蒸気の温度を感知する排出温度センサー５２が設けられる。
【００４５】
次に、このような過熱蒸気調理装置の動作を説明する。
【００４６】
調理室１１の内部の棚１６に食品を入れて稼動させると、過熱蒸気発生装置２０の給水管３６を通じて蒸気発生容器２１の内部へ給水が行われる。この際、蒸気発生容器２１の内部の水位は水位感知装置３４の感知によって感知された後、給水制御バルブ３７の制御動作に応じて適宜に調節される。
【００４７】
蒸気発生容器２１に所定量の水が供給された後、第１ヒーター２２及び第２ヒーター２３の加熱により蒸気発生容器２１内に満たされた水が加熱されて蒸気が生成される。すなわち、浸漬された第１ヒーター２２を通じて下部の水が加熱されて蒸気が生成され、その蒸気の上昇過程で第２ヒーター２３により再加熱されて過熱蒸気となる。前記過熱蒸気は蒸気発生容器２１の出口を通じて調理室１１の内部へ供給され、調理室１１の内部の食品は過熱蒸気の加熱により調理が行われる。さらに、調理動作の完了後、調理室１１の内部の蒸気は上部の排気ダクト５０を通じて外部へ排出される。
【００４８】
上述した調理動作の実行時に本発明による過熱蒸気調理装置は蒸気発生容器２１が断熱構造をもち、蒸気発生容器２１の出口が調理室１１の後面部に直接連結されるので、熱損失を最小化した状態で過熱蒸気を発生させ得るのみならず、その蒸気を調理室１１の内部へ迅速に供給できエネルギーの損失を最小化する。さらに、らせん状の第１ヒーター２２が水に浸漬された状態なので、蒸気発生容器２１の内部の水を迅速に加熱することができ、らせん状の第２ヒーター２３が上昇する蒸気を直接接触によって再加熱するため、エネルギーを低減しながら、短時間内に過熱蒸気を効果的に生成させ得る。
【００４９】
一方、かかる調理動作の実行後、使用者が調理室１１の掃除を実行しようとする場合は操作パネル１５に備えられた掃除キー１５ｄを操作して設定された掃除プログラムに応じて調理室１１の掃除を行う。この際、掃除動作は水蒸気を用いて調理室１１を洗浄する蒸気洗浄過程と、蒸気発生容器２１の内部の温水を調理室１１の内部へ噴射して調理室１１を掃除する温水掃除過程と、高温の過熱蒸気を用いて調理室１１を乾燥させる乾燥過程とを順次に行う。
【００５０】
このような過熱蒸気調理装置の具体的な掃除制御方法は次の通りである。
【００５１】
掃除動作を行うとき、過熱蒸気調理装置の制御部(図示せず)は、図６に示したように、使用者から操作パネル１５の掃除キー１５ｄを通じて掃除命令があったかを判断する(ステップ６０)。この際、制御部は使用者が操作パネル１５に備えられた掃除キー１５ｄを所定の時間以上押すか、所定の回数以上押すとき、これを認識して掃除命令を行い、そうでない場合は動作を終了する。これは調理室１１の内部に食品を保管した状態で使用者の失策によって掃除キー１５ｄを操作して掃除命令が行われることを防止するためである。
【００５２】
掃除命令の実行時は操作パネル１５の警報手段を通じて使用者に掃除命令の実行を知らせる(ステップ６１)。この際、操作パネル１５に備えられたスピーカー１５ｆを用いて警告音発生又はランプ１５ｅの点滅を用いて使用者に知らせるか、表示部１５ａの文字情報を通じて知らせる。
【００５３】
掃除警報６１の実行後は供給温度センサー５１を通じて調理室１１の内部へ供給される蒸気の温度Ｔsを測定し（ステップ６２）、その温度Ｔsが蒸気洗浄を行うための設定温度Ｔrs(１００〜１１０℃)の範囲内にあるかを判断する(ステップ６３)。水蒸気が設定温度Ｔrsの範囲以内にあれば、過熱蒸気発生装置２０から発生された１００〜１１０℃の水蒸気が調理室１１へ供給されて所定時間蒸気洗浄が行われるようにする(ステップ６７)。これは含水率の高い水蒸気が調理室１１の内部へ供給されて調理室１１の壁に付いた食品の残りを除去しやすい状態とするためである。ここで、水蒸気が設定温度Ｔrs(１００〜１１０℃)でない１００℃未満として判断されると(ステップ６４)、第１ヒーター２２を通じて蒸気発生容器２１の内部の水を加熱させ(ステップ６５)、水蒸気が１１０℃より高ければ、第１ヒーター２２の作動を終了し、これにより水蒸気の温度は下降する(ステップ６６)。このような制御動作は調理装置の動作終了後にも相当時間が経過して蒸気発生容器２１から水蒸気が発生しないとき(供給温度センサーの感知温度が１００℃未満の場合)に掃除動作を行う場合と、調理装置の動作終了後に直ちに掃除動作を行う場合に鑑みてなされ、調理室１１の内部へ蒸気洗浄に適宜な温度の水蒸気を供給するためである。
【００５４】
蒸気洗浄の実行後は水温感知装置３５を通じて蒸気発生容器２１の水温Ｔｗを感知した後(ステップ６８)、水温が温水掃除に適宜な温度Ｔrw(６０℃)以上であるかを判断して(ステップ６９)、設定温度Ｔrw(６０℃)以上である場合は所定の時間温水掃除過程を行う(ステップ７１)。この際、蒸気発生容器２１の水温が６０℃未満である場合は蒸気発生ヒーター２２を動作させて蒸気発生容器２１の内部の水を加熱する。このような温水掃除過程は洗浄水供給ポンプ４０の動作により蒸気発生容器２１の温水が調理室１１の各噴射ノズル３８ａ，３８ｂ，３８ｃへ供給されて調理室１１の内部へ噴射されることにより、調理室１１の掃除が行われるようにする。さらに、このような温水掃除の実行時には別途の排水ポンプ４３が動作して調理室１１の内部の水を排水する。
【００５５】
温水掃除の実行後には供給温度センサー５１を通じて調理室１１の内部へ供給される蒸気の温度Ｔsを測定し(ステップ７２)、蒸気が調理室１１の乾燥のための適宜温度Ｔroである２００℃以上の過熱蒸気であるかを判断する(ステップ７３)。この際、調理室１１へ供給される蒸気が２００℃未満であれば、蒸気発生容器２１の内部の第１ヒーター２２と第２ヒーター２３の動作を通じて蒸気発生容器２１の内部を加熱して２００℃以上の過熱蒸気を調理室１１の内部へ供給する。さらに、過熱蒸気が調理室１１へ供給される場合、このような状態を所定の時間維持する乾燥過程を実行して調理室１１の内部が過熱蒸気で乾燥されるようにする(ステップ７５)。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明による過熱蒸気調理装置の構成を示した斜視図である。
【図２】本発明による過熱蒸気調理装置の内部構成を示した断面図である。
【図３】本発明による過熱蒸気調理装置の過熱蒸気発生装置の構成を示した分解斜視図である。
【図４】本発明による過熱蒸気調理装置の過熱蒸気発生装置の構成を示した断面図である。
【図５】本発明による過熱蒸気調理装置の掃除装置の構成を示した斜視図である。
【図６】本発明による過熱蒸気調理装置の掃除動作制御過程を示した流れ図である。
【符号の説明】
【００５７】
１０  本体
１１  調理室
１４  ドア
１５  操作パネル
２０  過熱蒸気発生装置
２１  蒸気発生容器
２２  第１ヒーター
２３  第２ヒーター
２８  下板
３２  給水口
３３  排水口
３４  水位感知装置
３５  水温感知装置
３６  給水管
３７  給水制御バルブ
３８ａ，３８ｂ，３８ｃ  噴射ノズル
３９  洗浄水供給管
４０  洗浄水供給ポンプ
４２  排水管
４３  排水ポンプ
５０  排気ダクト
５１  供給温度センサー
５２  排出温度センサー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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