(57)【要約】      （修正有）【課題】生産性が高くブラシ汚れの発生しにくい印刷版処理方法を提供する。【解決手段】現像ブラシ１８の毛先はＰＳ版２２の膜面を剥離現像した直後なので、毛先には現像カスが付着している。この現像カスを穴あき板１２の孔１４によって受ける衝撃で滴下された現像水中に分散させる。この状態では、毛先の水を除去すれば同時に水中に分散された現像カスも除去される。そこで現像に必要な量よりも過剰に現像水を滴下し、穴あき板１２に所定の圧力で圧接し、孔１４から毛先の水２３を絞り出し、水２３と一緒に水中に分散した現像カスも一緒に除去することができる。除去した水２３は穴あき板１２の外側を流れ落ち、受板１６が受け止めて側方、すなわち現像ブラシ１８の軸方向に流して排出または回収することができる（斜線矢印）。これにより現像カスを含む水が現像処理前のＰＳ版２２の膜面に滴下することを防ぐことができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷平版用感光材料を現像処理するブラシの清掃方法であって、
印刷平版用感光材料表面をブラシで擦ることによって非画線部の感光層を剥離除去する現像処理工程中に、
前記現像工程に前記ブラシの表面を擦る擦り部材を前記ブラシの表面に当て、
前記ブラシの表面を前記擦り部材で擦ることで前記ブラシの表面より現像カスを除去することを特徴とするブラシの清掃方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ブラシの清掃方法に関し、特に水を使用して剥離脱膜現像可能なブラシの清掃方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、いわゆる無処理ＣＴＰ（Computer To Plate）版材は印刷機上において機上現像を実施しているため、検版の際には目視レベルで判定を行うことになり検版性に問題があった。このため現在は印刷機にかける前に簡易水現像を実施し、検版可能な状態となった版を印刷機にかけることにより前記の問題に対応している。この方法では印刷機の機差による現像性のバラツキをキャンセルすることもできる。
【０００３】
上記の平版印刷に使用される製版用感材においては、例えば感光性の感材表面に色分解露光をかけ、ポジ感材であれば露光した部分を溶出あるいは分解し易くすることで現像処理し、露光部分を非画線部として除去し未露光部分を画線部として残すことで印刷用の平版とする。
【０００４】
あるいは所謂ヒートモード（感熱）記録方式を用いた感材も用いられている。ヒートモード記録とは半導体レーザやNd：YAGレーザ等の高エネルギー密度のレーザビームの照射露光により記録材料の微小部分の温度が瞬間的に上昇して非可逆変化（硬化など）が生じる現象を利用した記録方式で、例えばネガ感材の場合、露光部分は硬化するが未露光部分は硬化しないため、露光して硬化した感光層を画線部とし、未露光部分の感光層をアルカリや水で膨潤させ、ブラシを用いて擦ることで剥離脱膜して非画線部とし、平版とする。
【０００５】
このとき上記の現像工程において非画線部から剥離した１０〜３０μｍ程度の現像カスがブラシの毛に付着してしまう。この現像カスを除去せずにそのままの状態で現像処理を続けるとブラシに現像カスが堆積し、現像ムラの原因となったり、版の膜面に傷が発生する、あるいはブラシの毛に付着した現像カスが脱離し、版の膜面に再付着して画像故障となるなどのトラブルの原因となっている。
【０００６】
これらの問題に対して、回転ブラシ内部に侵入したごみや異物の除去率を高めた洗浄装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００７】
しかし、図６に示すようにブラシ１０４の清掃を行うには装置本体とは別体になった清掃部材１００を用意し、装置を使用していない未稼働時に装置本体に清掃部材１００を通し、ブラシ１０４の表面を清掃部材１００の凹凸１０２に接触させることで振動させ、ブラシ１０４中の異物を除去する。
【０００８】
このため装置本体とは別に清掃部材１００を用意する必要があり、清掃部材１００の置き場が必要である、清掃部材１００を紛失、破損する危険があるなどの問題点を含んでいる。加えて清掃作業中は当然、装置内を清掃部材１００が搬送されているので本来の処理作業ができず、単位時間当たりの生産性を低下させてしまう。
【特許文献１】特開平０７―１７１５１５号公報    （図１、第２〜３頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は上記事実を考慮し、生産性が高くブラシ汚れの発生しにくいブラシの清掃方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１に記載のブラシの清掃方法は、印刷平版用感光材料を現像処理するブラシの清掃方法であって、印刷平版用感光材料表面をブラシで擦ることによって非画線部の感光層を剥離除去する現像処理工程中に、前記現像工程に前記ブラシの表面を擦る擦り部材を前記ブラシの表面に当て、前記ブラシの表面を前記擦り部材で擦ることで前記ブラシの表面より現像カスを除去することを特徴とする。
【００１１】
上記構成の発明では、ブラシ表面の汚れを除去する作業を、処理工程と同時に行えるので生産性を落とさずにブラシの清掃ができる。装置本体と別に清掃部材を用意する必要もなく、また特に清掃モードを設ける必要もないのでオペレータの負担も低減する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明は上記構成としたので、生産性が高くブラシ汚れの発生しにくいブラシの清掃方法とすることができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
図１および図２には、本発明の第１実施形態に係る処理装置の現像部が示されている。
【００１４】
図１、２に示されているように、ＰＳ版２２を現像処理する現像部はＰＳ版２２の膜面を剥離現像する現像ブラシ１８、現像ブラシ１８と対向する位置でＰＳ版２２を挟持搬送する搬送ローラ２０で構成された搬送系，現像ブラシ１８の表面を所定の圧力で擦り現像カスの分散した水を絞り取る穴あき板１２、絞った水を側方すなわち現像ブラシ１８の軸方向に流す受板１６で構成された清掃装置１０、現像ブラシ１８に現像水を滴下・供給する現像水ノズル４０からなる。
【００１５】
具体的な工程は、まず現像水ノズル４０から現像に必要な量よりも過剰に現像水を現像ブラシ１８に滴下し、現像ブラシ１８に水を過剰に含ませる。水を過剰に含んだ現像ブラシ１８は回転しながら穴あき板１２に接触する。穴あき板１２は現像ブラシ１８の毛先が描く円周よりも内側にあるので、毛先は穴あき板１２の孔１４によって連続的に衝撃を受ける。
【００１６】
現像水を滴下された段階では、現像ブラシ１８の毛先はＰＳ版２２の膜面を剥離現像した直後なので、毛先には現像カスが付着している。この現像カスを穴あき板１２の孔１４によって受ける衝撃で滴下された現像水中に分散させる。この状態では、毛先の水を除去すれば同時に水中に分散された現像カスも除去される。
【００１７】
そこで現像に必要な量よりも過剰に現像水を滴下し、穴あき板１２に所定の圧力で圧接し、孔１４から毛先の水２３を絞り出し、水２３と一緒に水中に分散した現像カスも一緒に除去することができる。除去した水２３は穴あき板１２の外側を流れ落ち、受板１６が受け止めて側方、すなわち現像ブラシ１８の軸方向に流して排出または回収することができる（斜線矢印）。これにより現像カスを含む水が現像処理前のＰＳ版２２の膜面に滴下することを防ぐことができる。
【００１８】
上記のように現像ブラシ１８が清掃された後、適度に水を含んだ状態でＰＳ版２２の膜面を擦り、画線部（ネガ感材の場合は露光部分）のみを残して非画線部（ネガ感材の場合は未露光部分）を水と摩擦力で剥離脱膜し、現像を行う。
【００１９】
このとき粒径１０〜３０μｍ程度の現像カスがＰＳ版２２の表面から剥離し、従来はこの現像カスが現像ブラシ１８に堆積することで問題となっていた。本実施例では上記のように現像ブラシ１８がＰＳ版２２の膜面に接触する直前に表面の清掃を行うので現像カスによる問題は発生しない。
【００２０】
図３には、本発明の第１実施形態に係る現像部を備えた現像装置が示されている。
【００２１】
図３に示されているように、ＰＳ版２２は現像槽２４を通過しながら現像ブラシ１８で膜面を擦られ、剥離現像される。このとき、上記のように穴あき板１２によって現像ブラシ１８に付着している現像カスを水と共に除去することによって現像ブラシ１８を清掃する。
【００２２】
先ずＰＳ版２２が搬送され現像槽２４に達すると、現像水ノズル４０から滴下された水を含んだ状態の現像ブラシ１８によって膜面が擦られ、画線部（ネガ感材の場合は露光部分）のみを残して非画線部（ネガ感材の場合は未露光部分）は水と摩擦力で剥離脱膜され、現像が行われる。このとき剥離された膜面が現像カスとなって現像ブラシ１８の毛先に付着する。
【００２３】
現像ブラシ１８が回転し、現像カスが付着した部分に現像水ノズル４０から現像に必要な量よりも過剰に現像水が滴下される。過剰な水を含んだ毛先は穴あき板１２の孔１４と接触することにより連続的に衝撃を受け、付着した現像カスは過剰な水中に分散される。これと同時に毛先が孔１４によって屈曲・伸展を繰り返すので過剰に含まれた水が孔１４から外側に絞り出され、水中に分散した現像カスも水と一緒に絞り出される。これにより、ＰＳ版２２の膜面から剥離した現像カスは現像ブラシ１８の表面から水と共に除去され、現像ブラシ１８の表面が清掃される。
【００２４】
現像ブラシ１８の表面から絞り出された現像カスを含む水は受板１６から現像槽２４へ回収され、再度現像水ノズル４０から現像ブラシ１８に滴下され、現像に使用される。このとき現像槽２４はある程度の深さを持ち、比重が水よりも大きい現像カスを現像槽２４の底部に沈殿させることによって、現像カスを含んだ水が現像ブラシ１８に滴下されることを防ぐ。
【００２５】
加えてポンプ３０で現像槽２４の水を現像水ノズル４０に送る際にフィルタ３２にて濾過し、現像カスを含んだ水が現像ブラシ１８に滴下されることを更に防いでいる。
【００２６】
上記の処理の後、ＰＳ版２２は更に搬送されガム液槽２６へ送られる。現像槽２４で現像処理されたＰＳ版２２は非画線部（ネガ感材の場合は未露光部分）の膜面が剥離脱膜されアルミニウムの基板が露出している。画線部（ネガ感材の場合は露光部分）は例えばヒートモード感材であればレーザによって発生した熱のために硬化し、現像処理後も膜面が残っている。この膜面は親油性であるためインキが容易に付着し、このインキ画像が印刷画像となる。このとき非画線部に親水性を持たせれば油性のインキは付着しないので、アルミニウム基板の表面保護と保水力を高めるためにガム液槽２６にてガム引き工程を行う。
【００２７】
さらにＰＳ版２２は搬送され乾燥部２８へ至る。現像・ガム引き処理を終えたＰＳ版２２はここで乾燥処理され、印刷機にかけられる状態の平版となる。
【００２８】
上記実施例では現像ブラシ１８によりＰＳ版２２の現像処理を行いながら同時に現像ブラシ１８の清掃を行うことが可能であり、さらに水２３は回収後に現像に再利用する。これにより装置全体で使用する水の量を少なく抑えることが可能となる。
【００２９】
また、上記実施例ではＰＳ版２２をネガ感材としているので、露光部分が画線部となるが、ＰＳ版２２がポジ感材であれば上記の例とは逆に、露光部分が除去され非画線部となり、未露光部分がＰＳ版２２の膜面に残り画線部となる。
【００３０】
ところで、上記実施例はＰＳ版２２の膜面が上にある場合の構造だが、露光装置の構成によっては露光後のＰＳ版２２の膜面が下に来る場合もある。この場合は露光後にＰＳ版２２の上下を反転させる機構を用いてもよいが、最初から下側に膜面が存在することを前提とした構成の現像装置を用いてもよい。
【００３１】
この場合は当然、現像ブラシ１８がＰＳ版２２の下側に位置し、清掃装置も同様に下側に位置する構成となる。以下に第２実施例として説明する。
【００３２】
図４、図５には、本発明の第２実施形態に係る処理装置の現像部が示されている。
【００３３】
図４、図５に示されているように、搬送時にＰＳ版２２の膜面が下側になる場合、現像ブラシ１８も当然、下側からＰＳ版２２に接触して膜面を擦り、剥離脱膜現像を行う。この場合は現像ブラシ１８の下端を常に現像槽２４に浸漬しておくことが可能なので、現像ブラシ１８の毛先に付着した現像カスも現像槽２４中に直接、分散させることができるので現像カスが分散した水を運ぶ機構は不要となる。
【００３４】
本実施例の構成は、ＰＳ版２２を現像処理する現像部はＰＳ版２２の膜面を剥離現像する現像ブラシ１８、現像ブラシ１８と対向する位置でＰＳ版２２を挟持搬送する搬送ローラ２０で構成された搬送系，現像ブラシ１８の表面を所定の圧力で擦り毛先を振動させ、現像カスを現像槽２４中に分散させる擦り板１３からなる。
【００３５】
具体的な工程は、まず現像槽２４の現像水に一部分が浸かった状態の現像ブラシ１８が回転しながら現像水を含んだ状態でＰＳ版２２の膜面を剥離現像する（図５-ｂ・Ａ部分）。このとき現像ブラシ１８の毛先はＰＳ版２２の膜面を剥離現像したため、毛先には現像カスが付着する（図５-ｂ・Ｂ部分）。
【００３６】
次いで現像ブラシ１８が回転を続け、現像槽２４の現像水に再び浸漬されたところで、この現像カスを擦り板１３によって受ける衝撃で現像水中に分散させる。この状態では現像カスの付着した毛先は現像水に浸かっているので、毛先を振動させれば現像カスは現像水中に分散される（図図５-ｂ・Ｃ部分）。
【００３７】
毛先に付着していた現像カスは現像水中に連続して分散されるので、現像水中には現像カスが沈殿する。このため現像槽２４の現像水中に図のような遅い水流を発生させ、（図５ａ黒矢印）現像カスを回収してもよい。
【００３８】
この現像水をそのまま現像ブラシ１８に含ませて剥離現像すると、分散した現像カスが現像ムラの原因となったり、ＰＳ版２２の膜面に傷が発生する、あるいは現像カスが膜面に再付着して画像故障となるなどのトラブルの原因となりうるので、現像槽２４の現像水を第１実施例の図３のように循環させ、流路中にフィルタを設けて現像カスを除去すべきなのは言うまでもない。
【００３９】
また、上記実施例でも第１実施例と同様、ＰＳ版２２をネガ感材としているので露光部分が画線部となるが、ＰＳ版２２がポジ感材であれば露光部分が除去されて非画線部となり、未露光部分がＰＳ版２２の膜面に残り画線部となる。
【００４０】
さらに、上記第１および第２実施例の穴あき板１２、擦り板１３を振動させて現像カスの分散を促してもよく、その際の振動周波数が超音波領域（２０KHz〜）であれば尚よい。
【００４１】
また上記の実施例は印刷感材処理装置についての実施例であるが、水またはその他の液体を含んだブラシで被処理物を擦り、カスが発生するような工程を含む様々な装置に応用してもよいことは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】本発明の第１形態に係る現像部を示す斜視図である。
【図２】本発明の第１形態に係る現像部を示す側面図である。
【図３】本発明の第１形態に係る現像装置を示す側面図である。
【図４】本発明の第２形態に係る現像部を示す斜視図である。
【図５】本発明の第２形態に係る現像部を示す側面図である。
【図６】従来の清掃装置を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００４３】
１０    清掃装置
１２    穴あき板
１３    擦り板
１４    孔
１６    受け板
１８    現像ブラシ
【図１】
2005345944.tif 000003
【図２】
2005345944.tif 000004
【図３】
2005345944.tif 000005
【図４】
2005345944.tif 000006
【図５】
2005345944.tif 000007
【図６】
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