(57)【要約】【課題】低コスト化及び層間の電気的接続の信頼性向上を図った多層回路板の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】絶縁基材１１上に薄膜導体層２１及び感光層３１を形成し、パターン露光、現像等の一連のパターンニング処理を行って、レジストパターン３１ａを形成する。レジストパターン３１ａをマスクにして電解銅めっきを行い、薄膜導体層２１上に導体層４１を形成し、導体層４１の所定位置に突起状の導体５１を形成し、レジストパターン３１ａをマスクにして電解銅めっきを行い、導体層４１及び突起状の導体５１上に導体層４２を形成する。レジストパターン３１ａを剥離処理し、絶縁基材１１上に配線層４３及び突起状の導体５１ａを形成する。絶縁層６１を形成し、絶縁層６１表面を研磨処理し、突起状の導体５１ａの上部が一部露出したビア相当の導体５１ｂを形成する。さらに、絶縁層６１ａ上に配線層４４ａを形成し、多層回路板を得る。【選択図】図２
2005045163.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プリント配線板やインターポーザー等の多層回路板の製造方法において、以下の工程を備えることを特徴とする多層回路板の製造方法。
（ａ）絶縁基材（１１）上に薄膜導体層（２１）を形成する工程。
（ｂ）薄膜導体層（２１）上に感光層（３１）を形成する工程。
（ｃ）パターン露光、現像等の一連のパターンニング処理を行って、レジストパターン（３１ａ）を形成する工程。
（ｄ）レジストパターン（３１ａ）をマスクにして電解銅めっきを行い、薄膜導体層（２１）上に導体層（４１）を形成する工程。
（ｅ）導体層（４１）の所定位置に突起状の導体（５１）を形成する工程。
（ｆ）レジストパターン（３１ａ）をマスクにして電解銅めっきを行い、導体層（４１）及び突起状の導体（５１）上に導体層（４２）を形成する工程。
（ｇ）レジストパターン（３１ａ）を剥離処理し、レジストパターン（３１ａ）下部にあった薄膜導体層（２１）をエッチングで除去し、絶縁基材（１１）上に配線層（４３）及び突起状の導体（５１ａ）を形成する工程。
（ｈ）絶縁層（６１）を形成する工程。
（ｉ）絶縁層（６１）表面を研磨処理し、突起状の導体（５１ａ）の上部が一部露出したビア相当の導体（５１ｂ）を形成する工程。
（ｊ）めっき下地層及び感光層を形成し、パターン露光、現像等の一連のパターンニング処理を行って、レジストパターン（３２）を形成する工程。
（ｋ）レジストパターン（３２）をマスクにして電解銅めっきを行い、めっき下地層上に導体層（４４）を形成する工程。
（ｌ）レジストパターン（３２）を剥離処理し、レジストパターン（３２）下部にあっためっき下地層をエッチングで除去し、絶縁層（６１ａ）上に配線層（４４ａ）を形成する工程。
（ｍ）上記（ｅ）〜（ｋ）の工程を必要回数繰り返す工程。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は各種電子機器に用いられるプリント配線板及びインターポーザ等の多層回路板の製造方法に係わり、さらに詳しくはプリント配線板及びインターポーザにおける層間の電気的接続方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の多層回路板（プリント配線板及びインターポーザ）の製造方法について以下に説明する。
【０００３】
従来の多層回路板（プリント配線板及びインターポーザ）の製造方法の一例を図３（ａ）〜（ｆ）及び図４（ｇ）〜（ｊ）に示す。
【０００４】
まず、ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させた絶縁基材１１１に無電解銅めっきを行って薄膜導体層１２１を形成する（図３（ａ）参照）。
【０００５】
次に、薄膜導体層１２１上に液状フォトジストを塗布、乾燥して感光層１３１を形成し（図３（ｂ）参照）、パターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行ってレジストパターン１３１ａを形成する（図３（ｃ）参照）。
【０００６】
次に、レジストパターン１３２をマスクにして、電解銅めっきを行い、薄膜導体層１２１上に所定厚の導体層１４１を形成する（図３（ｄ）参照）。
【０００７】
次に、レジストパターン１３１ａを専用の剥離液で剥離処理し、レジストパターン１３１ａ下部にあった薄膜導体層１２１をフラッシュエッチングで除去し、配線層１４１ａを形成する（図３（ｅ）参照）。
【０００８】
次に、絶縁基材１１１及び配線層１４１ａ上に液状樹脂溶液を塗布し、加熱乾燥して、絶縁層１５１を形成する（図３（ｆ）参照）。
【０００９】
次に、レーザー加工により、配線層１４１ａ上の所定位置の絶縁層１５１にビア用孔１５２を形成し、デスミア、めっき触媒付与及び無電解銅めっきを行って、めっき下地層（特に、図示せず）を形成する（図４（ｇ）参照）。
【００１０】
次に、液状フォトレジストを塗布する等の方法で感光層を形成し、パターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、レジストパターン１３２を形成する（図４（ｈ）参照）。
【００１１】
次に、レジストパターン１３２をマスクにして、電解銅めっきを行い、導体層１４２及びビア１４３を形成する（図４（ｉ）参照）。
【００１２】
次に、レジストパターン１３２を専用の剥離液で剥離処理し、レジストパターン１３２下部にあっためっき下地層をフラッシュエッチングで除去し、配線層１４２ａを形成し、配線層１４２ａがビア１４３にて配線層１４１ａと電気的に接続されたて片面２層のプリント配線板及びインターポーザを得る（図４（ｊ）参照）。
【００１３】
上記のようなプリント配線板及びインターポーザの製造方法では、層間の電気的接続を行うビアは、層間絶縁層にビア用孔（開口部）を形成して、ビア用孔に電解銅めっきで導
体を埋込んで形成している。
【００１４】
具体的には、厚さ４０〜５０μｍのフォトレジスト層または絶縁層を形成し、フォトレジスト層にパターン露光、現像等のパターニング処理を行ってビア用孔を形成するフォト方式や、絶縁層の所定位置にレーザービームを照射してビア用孔を形成するレーザー加工方式があり、その後、粗面化処理、めっき触媒付与及び無電解銅めっき等の前処理を行って、電解銅めっき等によりビア用孔に導体を埋込んでフィルド構造のビアを形成するのが一般的である。
【００１５】
このビア用孔に電解銅めっきにて導体を埋め込む方式は、ビアが微細化してくると、ビア用孔（開口部）に均一に導体を埋め込むのが難しく、また、ビア用孔（開口部）の形状がすり鉢状になるため、ビア下部の径が細くなり（４０〜５０μｍ厚の樹脂層に６０μｍビアを形成したとすると配線層と接するビア下部の径は３０〜４０μｍとなる。）、ビア下部の配線層との密着力が低下し、熱衝撃やヒートサイクル等の耐性試験時に部分的に剥離する等の問題を有しており、ビア径が小さく、層間絶縁層が厚くなってくるとその傾向が強くなってくる。
【００１６】
これらの問題を解消するためのビア形成法がいくつか提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【００１７】
しかしながら、近年の配線層の微細化、高密度化の要求から、ビア径は６０μｍ程度が要求されており、また、プリント配線板及びインターポーザのコストダウン要求も強く、従来のビア形成方法では充分に対応できなくなっているのが現状である。
【特許文献１】特開昭１１−２４３２７９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
本発明は、上記問題点に鑑み考案されたものであり、低コスト化及び層間の電気的接続の信頼性向上を図った多層回路板（プリント配線板及びインターポーザ）の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明は、上記課題を達成するために、プリント配線板やインターポーザ等の多層回路板の製造方法において、以下の工程を備えることを特徴とする多層回路板の製造方法としたものである。
（ａ）絶縁基材１１上に薄膜導体層２１を形成する工程。
（ｂ）薄膜導体層２１上に感光層３１を形成する工程。
（ｃ）パターン露光、現像等の一連のパターンニング処理を行って、レジストパターン３１ａを形成する工程。
（ｄ）レジストパターン３１ａをマスクにして電解銅めっきを行い、薄膜導体層２１上に導体層４１を形成する工程。
（ｅ）導体層４１の所定位置に突起状の導体５１を形成する工程。
（ｆ）レジストパターン３１ａをマスクにして電解銅めっきを行い、導体層４１及び突起状の導体５１上に導体層４２を形成する工程。
（ｇ）レジストパターン３１ａを剥離処理し、レジストパターン３１ａ下部にあった薄膜導体層２１をエッチングし、絶縁基材１１上に配線層４３及び突起状の導体５１ａを形成する工程。
（ｈ）絶縁層６１を形成する工程。
（ｉ）絶縁層６１表面を研磨処理し、突起状の導体５１ａの上部が一部露出したビア相当
の導体５１ｂを形成する工程。
（ｊ）めっき下地層及び感光層を形成し、パターン露光、現像等の一連のパターンニング処理を行って、レジストパターン３２を形成する工程。
（ｋ）レジストパターン３２をマスクにして電解銅めっきを行い、めっき下地層上に導体層４４を形成する工程。
（ｌ）レジストパターン３２を剥離処理し、レジストパターン３２下部にあっためっき下地層をエッチングで除去し、絶縁層６１ａ上に配線層４４ａを形成する工程。
（ｍ）上記（ｅ）〜（ｋ）の工程を必要回数繰り返す工程。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の多層回路板の製造方法では、導体層上に突起状の導体を形成し、絶縁層を形成した後表面研磨で、突起状の導体の上部を露出させてビアを形成するため、導体層と突起状の導体（ビア相当）との優れた電気的接続が得られ、信頼性に優れた多層回路板（プリント配線板またはインターポーザ）を得ることができる。
【００２１】
また、従来方式に比べて製造工程が短縮され、多層回路板のコストダウンを図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の多層回路板の製造方法について説明する。
【００２３】
図１（ａ）〜（ｆ）及び図２（ｇ）〜（ｌ）に、本発明の多層回路板の製造方法の一実施例を工程順に示す模式構成部分断面図を示す。
【００２４】
まず、エポキシ系樹脂からなる絶縁基材１１上に無電解銅めっき等の方法で薄膜導体層２１を形成する（図１（ａ）参照）。
【００２５】
次に、薄膜導体層２１上にドライフィルムを貼り合わせて感光層３１を形成し（図１（ｂ）参照）、パターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、レジストパターン３１ａを形成する（図１（ｃ）参照）。
【００２６】
次に、レジストパターン３１ａをマスクにして電解銅めっきを行い、所定厚の導体層４１を形成する（図１（ｄ）参照）。
【００２７】
次に、導体層４１上の所定位置に所定形状の突起状の導体５１を形成する（図１（ｅ）参照）。
【００２８】
この突起状の導体５１は、層間接続のビアとなるもので、形成方法としては、導電ペーストをスクリーン印刷するか、ハンダボールを載置し加熱リフローさせるか、導電ペーストをディスペンサーで押し出す等の方法がある。
【００２９】
次に、レジストパターン３１ａをマスクにして電解銅めっきを行い、導体層４１及び突起状の導体５１上に所定厚の導体層４２を形成する（図１（ｆ）参照）。この導体層４２は、突起状の導体５１の表面導電性を確実にするために行うものである。
【００３０】
次に、レジストパターン３１ａを専用の剥離液で剥離処理し、レジストパターン３１ａ下部にあった薄膜導体層２１をソフトエッチングで除去し、配線層４３及び表面が導体層４２で被覆された突起状の導体５１ａを形成する（図２（ｇ）参照）。
【００３１】
次に、絶縁基材１１上にプリプレグ等の樹脂シートを積層し、所定厚の絶縁層６１を形
成する（図２（ｈ）参照）。
【００３２】
次に、絶縁層６１表面を研磨処理し、突起状の導体５１ａの上部が一部露出した導体５１ｂを形成し、絶縁基材１１上の配線層４３上にビア相当の導体５１ｂを形成する（図２（ｉ）参照）。
【００３３】
次に、めっき触媒付与及び無電解銅めっきを行って、めっき下地層（特に、図示せず）を形成し、公知の方法でレジストパターン３２及び開口部３４を形成し（図２（ｊ）参照）、レジストパターン３２をマスクにして電解銅めっきを行って所定厚の導体層４４を形成する（図２（ｋ）参照）。
【００３４】
次に、レジストパターン３２を専用の剥離液で剥離処理し、レジストパターン３２下部にあっためっき下地層をフラッシュエッチングで除去し、配線層４４ａを形成し、配線層４３と配線層４４ａとがビア相当の導体５１ｂにて電気的に接続された２層のプリント配線板及びインターポーザ基板を得る（図２（ｌ）参照）。
【００３５】
ここで、多層回路板の製造方法の事例については、２層回路板のプリント配線板及びインターポーザ基板について説明したが、上記図１（ｅ）の突起状の導体形成工程〜図２（ｋ）の導体層形成工程を必用回数繰り返し、最後に、図２（ｌ）のレジストパターン剥離処理工程を行うことにより、所望層数の多層回路板を得ることができる。
【００３６】
本発明の多層回路板の製造方法では、導体層上に突起状の導体を形成し、絶縁層を形成した後表面研磨で、突起状の導体の上部を露出してビアを形成するため、従来の導体層上の絶縁層にビア用穴（開口部）を形成し、電解銅めっきによる導体穴埋めにて形成する方式に比較して、導体層と突起状の導体（ビア相当）との優れた電気的接続が得られ、信頼性に優れた多層回路板（プリント配線板またはインターポーザ）を得ることができる。
【００３７】
また、従来方式に比べて製造工程が短縮され、多層回路板のコストダウンを図ることができる。
【実施例１】
【００３８】
以下実施例により本発明を詳細に説明する。
【００３９】
まず、絶縁基材の両面に所定の配線層が形成された回路基板（特に、図示せず）に絶縁層１１を形成し、めっき触媒付与及び無電解銅めっきを行って、薄膜導体層２１を形成した（図１（ａ）参照）。
【００４０】
次に、薄膜導体層２１表面に厚さ１２μｍのドライフィルムフォトレジストをラミネートして感光層３１を形成し（図１（ｂ）参照）、パターン露光、現像を行って、レジストパターン３１ａを形成した（図１（ｃ）参照）。
【００４１】
次に、レジストパターン３１ａをマスクにして電解銅めっきを行い、６μｍ厚の導体層４１を形成した（図１（ｄ）参照）。
【００４２】
次に、導体層４１の所定位置に５０μｍ径の半田ボールを専用のボールボンダで載置し、加熱、溶融して突起状の導体５１を形成した（図１（ｅ）参照）。
【００４３】
次に、レジストパターン３１ａをマスクにして電解銅めっきを行い、導体層４１及び突起状の導体５１上に１２μｍ厚の導体層４２を形成した（図１（ｆ）参照）。
【００４４】
次に、レジストパターン３１ａを専用の剥離液で剥離処理し、レジストパターン３１ａ下部にあった薄膜導体層２１を過硫酸アンモニウム水溶液によるソフトエッチングで除去し、配線層４３及び突起状の導体５１ａを形成した（図２（ｇ）参照）。
【００４５】
次に、エポキシ系樹脂シートを真空加圧加熱ラミネータにてラミネートし、続けて平板プレス機により平滑化処理を行い、絶縁層６１を形成した（図２（ｈ）参照）。
【００４６】
次に、絶縁層６１表面を２〜３μｍ研磨処理し、突起状の導体５１ａの上部が一部露出した導体５１ｂを形成し、絶縁基材１１上の配線層４３上にビア相当の導体５１ｂを形成した（図２（ｉ）参照）。
【００４７】
次に、めっき触媒付与及び無電解銅めっきを行って、めっき下地層（特に、図示せず）を形成し、公知の方法でレジストパターン３２を形成し（図２（ｊ）参照）、レジストパターン３２をマスクにして電解銅めっきを行って１０μｍ厚の導体層４４を形成した（図２（ｋ）参照）。
【００４８】
次に、レジストパターン３２を専用の剥離液で剥離処理し、レジストパターン３２下部にあっためっき下地層を過硫酸アンモニウム水溶液によるソフトエッチングで除去し、配線層４４ａを形成し、配線層４３と配線層４４ａとがビア相当の導体５１ｂにて電気的に接続された４層のプリント配線板及びインターポーザ基板を得た（図２（ｌ）参照）。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】（ａ）〜（ｆ）は、本発明の多層回路板（プリント配線板またはインターポーザ）の製造方法における製造工程の一部を模式的に示す部分断面図である。
【図２】（ｇ）〜（ｌ）は、本発明の多層回路板（プリント配線板またはインターポーザ）の製造方法における製造工程の一部を模式的に示す部分断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｆ）は、従来の多層回路板（プリント配線板またはインターポーザ）の製造方法における製造工程の一部を模式的に示す部分断面図である。
【図４】（ｇ）〜（ｊ）は、従来の多層回路板（プリント配線板またはインターポーザ）の製造方法における製造工程の一部を模式的に示す部分断面図である。
【符号の説明】
【００５０】
１１、１１１……絶縁基材（絶縁層）
２１、１２１……薄膜導体層
３１、１３１……感光層
３１ａ、３２、１３１ａ、１３２……レジストパターン
４１、４２、４４、１４１、１４２……導体層
５１……突起状の導体
４３、４４ａ、１４１ａ、１４２ａ……配線層
５１ａ……表面に導体層が形成された突起状の導体
５１ｂ……ビア相当の導体
６１、１５１……絶縁層
６１ａ……研磨処理された絶縁層
１４３……ビア
１５２……ビア用穴（開口部）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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