(57)【要約】【課題】ワークの表面をガスクラスターイオンビームによって形状創成する場合において、高精度な加工を短時間で行う。【解決手段】導電性のワーク１を導電性の保持手段２に保持する保持工程と、ワーク１を保持した状態で保持手段２を回転しながら、ワーク１に向かってガスクラスターイオンビーム１３を照射する照射工程と、ワーク１に照射されたガスクラスターイオンビーム１３のイオン電流をワーク１から保持手段２を介して計測し、その計測値に基づいてワーク１ヘのガスクラスターイオンビーム１３の照射時間を制御する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークの表面をガスクラスターイオンビームによって形状創成する方法において、
導電性のワークを回転しながらワークに向かってガスクラスターイオンビームを照射する照射工程と、
ワークに照射されたガスクラスターイオンビームのイオン電流をワークから計測し、その計測値に基づいてワークヘのガスクラスターイオンビームの照射時間を制御する制御工程と、
を有することを特徴とするガスクラスターイオンビームによる形状創成方法。
【請求項２】
ワークの表面をガスクラスターイオンビームによって形状創成する方法において、
導電性のワークを導電性の保持手段に保持する保持工程と、
ワークを保持した状態で保持手段を回転しながら、ワークに向かってガスクラスターイオンビームを照射する照射工程と、
ワークに照射されたガスクラスターイオンビームのイオン電流をワークから保持手段を介して計測し、その計測値に基づいてワークヘのガスクラスターイオンビームの照射時間を制御する制御工程と、
を有することを特徴とするガスクラスターイオンビームによる形状創成方法。
【請求項３】
前記制御工程は、保持手段に向かって導電性の弾性構造部材を接触させ、ワークに照射されたガスクラスターイオンビームのイオン電流をワークから保持手段及び弾性構造部材を介して計測し、その計測値に基づいてワークヘのガスクラスターイオンビームの照射時間を制御することを特徴とする請求項２に記載のガスクラスターイオンビームによる形状創成方法。
【請求項４】
ワークの表面をガスクラスターイオンビームによって形状創成する方法において、
ガスクラスターイオンビームの軸に対向するように配設された微小測定部をガスクラスターイオンビームの軸方向と直交する２方向に所定量ずつ移動させ、各移動位置でのイオン電流を計測し、ガスクラスターイオンビームの電流密度の高い位置でワークの形状創成を行うことを特徴とするガスクラスターイオンビームによる形状創成方法。
【請求項５】
ワークの表面をガスクラスターイオンビームによって形状創成する装置において、
回転する導電性のワークに向かってガスクラスターイオンビームを照射するイオン照射手段と、
ワークに照射されたガスクラスターイオンビームのイオン電流をワークから計測し、その計測値に基づいてガスクラスターイオンビームの照射時間を制御する制御手段と、
を有することを特徴とするガスクラスターイオンビームによる形状創成装置。
【請求項６】
前記ワークを保持する回転可能な導電性の保持手段をさらに具備し、
前記制御手段は、ワークに照射されたガスクラスターイオンビームのイオン電流を、ワークから保持手段を介して計測し、その計測値に基づいてガスクラスターイオンビームの照射時間を制御することを特徴とする請求項５に記載のガスクラスターイオンビームによる形状創成装置。
【請求項７】
前記ワークを保持する回転可能な導電性の保持手段と、保持手段に弾性的に接触する導電性の弾性構造部材とをさらに具備し、
前記制御手段は、ワークに照射されたガスクラスターイオンビームのイオン電流を、ワークから保持手段及び弾性構造部材を介して計測し、その計測値に基づいてガスクラスターイオンビームの照射時間を制御することを特徴とする請求項５に記載のガスクラスターイオンビームによる形状創成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学ガラス素子等を成形するための成形型等のワークに対し、ガスクラスターイオンビームによって形状創成を行う方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
レンズ等の光学ガラス素子には、回転軸対称の球面レンズや非球面レンズ等があり、これらを大量生産するためには成形型を使用したプレス成形が有力な加工手段となっている。このプレス成形では、成形型の形状をレンズに転写させる際の加工精度を決定するのは成形型の形状精度である。レンズの形状精度が悪い場合には、カメラ等の光学機器において収差が発生して、光学機器としての機能が低下する。従って、形状精度が良好な状態で成形型を加工する必要がある。
【０００３】
図８は成形型等のワークに対し、ガスクラスターイオンビームによって加工を行うため、特許文献１に記載された加工装置を示す。図８において、符号１０１は、ワークとしてのイオン照射対象物１０１である。このイオン照射対象物１０１に照射されるイオンビーム１０４の軌道上に第２ビーム電流測定部としてバックファラデ１０２が設けられると共に、イオン照射対象物１０１を照射するイオンビーム１０４の軌道外にビーム電流測定部としてドーズファラデ１０３が設けられている。
【０００４】
加工のためのイオン注入動作開始前には、予めドーズファラデ１０３及びバックファラデ１０２に入射されるイオンビーム１０４から算出されたビーム電流量に基づいてドーズ量補正係数を演算しておき、実際のイオン注入時にはドーズファラデ１０３の測定結果と予め演算したドーズ量補正係数の結果に基づいてイオン注入量の補正が行われる。
【０００５】
特許文献２には、大面積の基板に対して大口径のイオンビームを照射する際のイオンビームの流れを均一に維持するために、プロファイルモニタ等のイオンビーム電流密度分布を判定することが記載されている。図９は、この測定を行うためのイオンセンサ１１０であり、イオン電流を測定するファラデーカップ１０５を縦横に複数配置されている。これにより、同時に縦横複数箇所のイオンビーム電流密度を測定して短時間での測定を行うものである。
【特許文献１】特許第３０７４８１８号公報
【特許文献２】特開平８−２３３９４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１においては、イオンビームを照射して測定した電流量にはバラツキが生じるため、予め取得しておいた測定結果からドーズ量補正係数を演算しても、このドーズ量補正係数が一義的には決まらない。従って、イオン注入量の補正を行っても、実際に照射している部位に対しては目標通りのイオン注入量が投入できない問題を有している。
【０００７】
また、加工に際しては、ワークを回転させながらガスクラスターイオンビームを照射するが、ワークが一方向に回転するため、例えばワークに電流検出用ケーブルを固着した場合、電流検出用ケーブルがワークと共に連れ回り巻きついて、計測ができなくなる問題も有している。
【０００８】
特許文献２においては、イオン電流を測定するファラデーカップ１０５を縦横に複数配置することにより、同時に多チャンネル測定が可能となっているが、各フアラデー位置の間隔以下の測定ができず、高分解能を得ることができないものである。すなわち、イオンビームの電流密度の最も高い位置での照射ができず、その結果、形状創成を行うために膨大な時間を要する問題を有している。
【０００９】
本発明は、このような事情を考慮してなされたものであり、加工原理上、極小面積において面粗さを向上させることができるガスクラスターイオンビームを適用することを前提とし、ガスクラスターイオンビームにより高精度で且つ短時間にワークの形状創成が可能なガスクラスターイオンビームによる形状創成方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１記載の発明は、ワークの表面をガスクラスターイオンビームによって形状創成する方法において、導電性のワークを回転しながらワークに向かってガスクラスターイオンビームを照射する照射工程と、ワークに照射されたガスクラスターイオンビームのイオン電流をワークから計測し、その計測値に基づいてワークヘのガスクラスターイオンビームの照射時間を制御する制御工程と、を有することを特徴とする。
【００１１】
請求項１記載の発明では、回転状態のワークに向かって照射されたガスクラスターイオンビームのイオン電流をワークから計測し、イオン電流の計測値に基づいてガスクラスターイオンビームの照射時間を制御するため、イオン注入量を正確に制御することができ、高精度な加工を行うことができると共に、短時間で形状創成を行うことができる。
【００１２】
請求項２記載の発明は、ワークの表面をガスクラスターイオンビームによって形状創成する方法において、導電性のワークを導電性の保持手段に保持する保持工程と、ワークを保持した状態で保持手段を回転しながら、ワークに向かってガスクラスターイオンビームを照射する照射工程と、ワークに照射されたガスクラスターイオンビームのイオン電流をワークから保持手段を介して計測し、その計測値に基づいてワークヘのガスクラスターイオンビームの照射時間を制御する制御工程と、を有することを特徴とする。
【００１３】
請求項２記載の発明では、保持手段に保持された回転状態のワークに向かって照射されたガスクラスターイオンビームのイオン電流を、ワークから保持手段を介して計測し、イオン電流の計測値に基づいてガスクラスターイオンビームの照射時間を制御するため、イオン注入量を正確に制御することができ、高精度な加工を短時間で行うことができる。
【００１４】
請求項３記載の発明は、請求項２に記載のガスクラスターイオンビームによる形状創成方法であって、前記制御工程は、保持手段に向かって導電性の弾性構造部材を接触させ、ワークに照射されたガスクラスターイオンビームのイオン電流をワークから保持手段及び弾性構造部材を介して計測し、その計測値に基づいてワークヘのガスクラスターイオンビームの照射時間を制御することを特徴とする。
【００１５】
請求項３記載の発明では、弾性構造部材を保持手段に接触させ、ガスクラスターイオンビームのイオン電流をワークから保持手段及び弾性構造部材を介して計測するため、弾性構造部材が保持手段と共に回転することがなく、良好な操作性で計測を行うことができる。
【００１６】
請求項４記載の発明は、ワークの表面をガスクラスターイオンビームによって形状創成する方法において、ガスクラスターイオンビームの軸に対向するように配設された微小測定部をガスクラスターイオンビームの軸方向と直交する２方向に所定量ずつ移動させ、各移動位置でのイオン電流を計測し、ガスクラスターイオンビームの電流密度の高い位置でワークの形状創成を行うことを特徴とする。
【００１７】
請求項４記載の発明によれば、微小測定部をガスクラスターイオンビームの軸方向と直交する２方向に移動させながらイオン電流を測定し、ガスクラスターイオンビームの電流密度の高い位置でワークを形状創成するため、ワークの表面を高精度に平滑化することができる。
【００１８】
請求項５記載の発明は、ワークの表面をガスクラスターイオンビームによって形状創成する装置において、回転する導電性のワークに向かってガスクラスターイオンビームを照射するイオン照射手段と、ワークに照射されたガスクラスターイオンビームのイオン電流をワークから計測し、その計測値に基づいてガスクラスターイオンビームの照射時間を制御する制御手段と、を有することを特徴とする。
【００１９】
請求項５記載の発明では、制御手段が回転状態のワークに向かって照射されたガスクラスターイオンビームのイオン電流をワークから計測し、イオン電流の計測値に基づいてガスクラスターイオンビームの照射時間を制御するため、イオン注入量を正確に制御することができ、高精度な加工を短時間で行うことができる。
【００２０】
請求項６記載の発明は、請求項５に記載のガスクラスターイオンビームによる形状創成装置であって、前記ワークを保持する回転可能な導電性の保持手段をさらに具備し、前記制御手段は、ワークに照射されたガスクラスターイオンビームのイオン電流を、ワークから保持手段を介して計測し、その計測値に基づいてガスクラスターイオンビームの照射時間を制御することを特徴とする。
【００２１】
請求項６記載の発明では、ワークを保持している保持手段を回転させ、制御手段が保持手段に保持された回転状態のワークに向かって照射されたガスクラスターイオンビームのイオン電流を、ワークから保持手段を介して計測し、イオン電流の計測値に基づいてガスクラスターイオンビームの照射時間を制御するため、イオン照射量を正確に制御することができ、高精度な加工を短時間で行うことができる。
【００２２】
請求項７記載の発明は、請求項５に記載のガスクラスターイオンビームによる形状創成装置であって、前記ワークを保持する回転可能な導電性の保持手段と、保持手段に弾性的に接触する導電性の弾性構造部材とをさらに具備し、前記制御手段は、ワークに照射されたガスクラスターイオンビームのイオン電流を、ワークから保持手段及び弾性構造部材を介して計測し、その計測値に基づいてガスクラスターイオンビームの照射時間を制御することを特徴とする。
【００２３】
請求項７記載の発明では、弾性構造部材を保持手段に弾性的に接触させ、ガスクラスターイオンビームのイオン電流をワークから保持手段及び弾性構造部材を介して計測するため、弾性構造部材が保持手段と共に回転することがなく、良好な操作性で計測を行うことができる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の形状創成方法によれば、回転するワークに対してガスクラスターイオンビームを照射し、照射中に即時にイオン電流を計測しながら照射時間を設定してワークを形状創成するため、形状精度の高い加工を短時間で行うことができる。
【００２５】
本発明の形状創成装置によれば、回転するワークに対してガスクラスターイオンビームを照射し、照射中に制御手段が即時にイオン電流を計測しながら照射時間を設定してワークを形状創成するため、形状精度の高い加工を短時間で行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明を図示する実施の形態に基づいて具体的に説明する。なお、各実施の形態において、同一の部材には同一の符号を付して対応させてある。
【００２７】
（実施の形態１）
図１〜図６は、本発明の実施の形態１を示し、図１は形状創成装置の部分断面図である。
【００２８】
ワークとしての成形型１は導電性材料からなり、導電性材料からなる保持手段としての成形型保持具２に取り付けられて加工が行われる。成形型保持具２は、後述するアパーチャ１２と軸芯を合わせるために中央部に芯出し穴２ｃ（図２参照）が設けられている。成形型保持具２は円板形状となっており、絶縁碍子３及び絶縁碍子４を介して円板形状の回転ステージ６にねじ５により固定されている。絶縁碍子３はねじ５挿入部分に配置され、絶縁碍子４は成形型保持具２と回転ステージ６との間に挟まれるように配置されている。これにより、成形型保持具２と回転ステージ６とは完全に絶縁されている。
【００２９】
回転ステージ６は不図示のモータにより回転軸ａを中心に回転自在となっている。また、回転ステージ６はベース１６に回転可能に取り付けられており、べ一ス１６は鉛直方向（回転ステージ６の回転軸ａに対して直交する方向）のＸ軸に移動可能なＸ軸ステージ１５に固定されている。Ｘ軸ステージ１５には、不図示のサーボモータあるいはステッピングモータが搭載されることにより、高精度な移動が可能で且つその移動が制御自在となっている。
【００３０】
成形型保持具２の外周部の形状は円形となっており、その外周部２ａに対しては、導電性を有した弾性構造部材７が弾性的に当接している。弾性構造部材７としては圧縮ばね７ｂを備えたプランジャが使用されており、圧縮ばね７ｂのばね力によって先端部７ａが成形型保持具２の外周部２ａに弾性的に接触するように付勢されている。この場合、成形型保持具２の外周部に対して常に同じ条件で接触するように弾性構造部材７の接触子７ａ先端部は凸のＲ形状となっている。弾性構造部材７は絶縁碍子９を介してステー８に固定され、さらにステー８はベース１６に固定されている。
【００３１】
弾性構造部材７の後部には、電流検出用の電流検出用ケーブル１０が取り付けられている。電流検出用ケーブル１０は制御手段としての電流計測部１１に接続され、ここで演算処理が行われる。すなわち、電流計測部１１は、成形型１に照射された後述する微小径ガスクラスターイオンビーム１４のイオン電流を、成形型保持具２、弾性構造部材７及び電流検出用のケーブル１０を介して計測するようになっている。
【００３２】
図示を省略するが、弾性構造部材７としては、成形型保持具２の外周部２ａではなく、成形型１の外周部に直接に接触させてイオン電流を計測しても良い。この場合においても、後述するように成形型１を回転させながらイオン電流を測定するものである。
【００３３】
電流計測部１１は、イオン照射手段５０と連結されている。イオン照射手段５０は、電流計測部１１が計測したイオン電流の計測値に基づき、成形型１に照射する微小径ガスクラスターイオンビーム１４の照射時間を制御する。図１に示すイオン照射手段５０は不図示の集束系のイオン源によって絞られているが、電流計測を行うに当たっては絞られていなくても構わない。
【００３４】
イオン照射手段５０は、成形型１の成形面すなわち加工面に対向する位置に設けられている。イオン照射手段５０から出射されるガスクラスターイオンビーム１３の光路には、絞り込み手段としてのアパーチャ１２が配置されている。アパーチャ１２は、直径φ０．１〜１ｍｍ程度の微小穴１７が貫通しており、イオン照射手段５０と成形型１との間に配置されることにより、ガスクラスターイオンビーム１３を絞り込む。これにより、微小径のガスクラスターイオンビーム１４がアパーチャ１２から成形型１に向けて照射される。なお、アパーチャ１２の微小穴１７は、直径φ０．１〜１ｍｍ程度まで、直径φ０．１ｍｍ刻みで準備されるものである。
【００３５】
アパーチャ１２は水平方向移動及び垂直方向移動が可能な不図示のメカステージに搭載されている。このアパーチャ１２は後述するように、イオンビームの光路に対して着脱が可能となっている。すなわち、図２に示すように、中央部に穴が設けられている芯出しブシュ１２ａが高精度に位置決めされた後、この芯出しブッシュ１２ａと交換されるものである。このため、芯出しブシュ１２ａの中央部の穴径と上述した成形型保持具２の芯出し穴２ｃの穴径は同じとなっている。
【００３６】
図３は、イオン電流の電流密度測定を行う構成を説明する。
図３に示すイオン源３０（図１に示すイオン照射手段５０の一部）は集束系のイオン源であり、ベース３９に固定されており、イオン源の出口３０ａから集束ガスクラスターイオンビーム３１が出射する。この集束ガスクラスターイオンビーム３１が焦点を結ぶ位置に微小測定部３２が配置される。微小測定部３２とイオン源の出口３０ａとの間には、微小穴を有したアパーチャ３３が配置される。
【００３７】
微小測定部３２とアパーチャ３３との間は、絶縁碍子３４により絶縁されている。微小測定部３２には、電流検出用ケーブル３５が接続されており、電流検出用ケーブル３５を介して電流計測器３６に接続されている。
【００３８】
微小測定部３２は、集束ガスクラスターイオンビーム３１の軸と直交する垂直方向（鉛直方向）に移動可能なＸ軸ステージ３７に取り付けられており、Ｘ軸ステージ３７は不図示のサーボモータあるいはステッピングモータに搭載されることにより、高精度な移動が可能で且つその移動が制御自在となっている。
【００３９】
また、微小測定部３２は、Ｘ軸ステージ３７を介して集束ガスクラスターイオンビーム３１の軸と直交する水平方向に移動可能なＹ軸ステージ３８に取り付けられている。Ｙ軸ステージ３８は不図示のサーボモータあるいはステッピングモータに搭載されることにより、高精度な移動が可能で且つその移動が制御自在となっている。Ｙ軸ステージ３８は支持台４０を介してべース３９に支持されている。
【００４０】
上述したアパーチャ３３の穴径は、可能な限り小さい方が高精度な計測ができる。この穴径が５０μｍ以上の場合には、ドリルを用いた機機加工や型を用いたプレス加工で製作され、数μｍ〜数十μｍ程度の穴の場合には、レーザ加工やエッチング加工等を用いて製作される。
【００４１】
この実施の形態において、例えば平面の成形型１の形状創成を行う場合、加工を行う前の準備として、全面形状を測定するために干渉計等を用いて表面の位置に対する突起高さを測定する。
【００４２】
図４は、測定結果を示し、Ａ部は高く、Ｂ部は低くなっている。Ａ部の高さは約０．２μｍ、Ｂ部の高さは約０．０５μｍであり、Ａ部とＢ部の差は約０．１５μｍとなり、形状精度はＰＶ（ｐｅａｋ  ｔｏ  ｖａｌｌｅｙ）値が約０．１５μｍとなる。このＰＶ値を小さくすることにより形状精度を向上させることができる。この突起を選択的に除去するためには、目標部位に対して、ガスクラスターイオンビームを適切な時間だけ照射を行う。
【００４３】
この実施の形態における加工法には、（１）式に示す関係式が成り立つ。
照射時間＝（照射ドーズ量×照射面積×電気素量ｅ）／（検出イオン電流量）                                                          …（１）式
【００４４】
（１）式において、照射ドーズ量は突起を除去するために必要な単位面積当たりの投入イオン数であり、照射面積は選定した適切なアパーチャ径の面積であり、電気素量ｅは１．６×１０−１９（ｃ）であり、検出イオン電流量はガスクラスターイオンビームが成形型１に衝突して流れた電流である。このようなことから、検出イオン電流量を即時に高精度に計測することが成形型１の形状精度向上につながる。
【００４５】
イオン電流を計測する方法について、図１を用いて説明する。
ガスクラスターイオンビーム１３をアパーチャ１２によって絞り込み、微小径ガスクラスターイオンビーム１４を成形型１に照射して形状創成を行うが、除去したい成形型１の突起部の位置にＸ軸ステージ１５を移動させ、また回転ステージ６を回転させながら、微小径ガスクラスターイオンビーム１４を照射する。微小径ガスクラスターイオンビーム１４は成形型１に照射すると、成形型保持具２を介して弾性構造部材７にイオン電流が流れる。このイオン電流は電流検出用ケーブル１０を通して電流計測部１１に入るため、照射中に即時にイオン電流を計測することができる。イオン電流が計測されることにより、（１）式を用いて照射時間が算出される。
【００４６】
成形型保持具２の形状は旋盤等の機械加工によって作製された高精度な円板形状であるため、弾性構造部材７のばねの伸縮範囲内で十分に許容することができる。なお、弾性構造部材７としては、図５に示すようにばね性素材を使用して作製した導電性の板ばね１８であっても良い。
【００４７】
また、イオン電流計測の精度を高めるためには、弾性構造部材７を含めたユニットＣ（図１参照）を２個以上、成形型保持具２にセットしてイオン電流を計測し、計測したイオン電流を平均化することが良好である。これにより、より安定した高精度なイオン電流計測が可能となる。
【００４８】
図３において、アパーチャ３３の穴径は１０００μｍであり、Ｘ軸ステージ３７とＹ軸ステージ３８とをそれぞれ１０００μｍ間隔で移動させながら、水平方向に３００００μｍ、垂直方向に３００００μｍまで移動させる。そして、移動の各位置でのイオン電流を計測する。この条件よりも高精度に測定するときは、アパーチャ３３の穴径をさらに小さくすることと、Ｘ軸ステージ３７及びＹ軸ステージ３８の移動間隔を小さくすることによって可能となる。
【００４９】
図６は、以上の条件で計測した結果をマップ化したものであり、イオン電流の大小によって濃淡で表示している。Ｄ部付近は色が白くなっているが、この部位はイオン電流が大きいことを示している。この結果は、集束ガスクラスターイオンビーム３１の断面プロファイルであり、集束ガスクラスターイオンビーム３１の電流密度の高い位置がＸ軸とＹ軸の座標として正確に把握することができ、そのＸ軸とＹ軸の座標の位置にＸ軸ステージ３７及びＹ軸ステージ３８を移動させる。このように電流密度の高い位置が分かった時点で、形状創成を行うために図１に示すような構成に変更する。
【００５０】
この場合、主な変更部位では、アパーチャ３３を取り外して成形型保持具２に載せ替え、その後に成形型１を取り付ける。成形型１を取り付ける前には、図２に示すように芯出しシャフト２０を芯出し穴２ｃに通して、芯出しシャフト２０に嵌合するように芯出しブシュ１２ａを配置して軸芯合わせを行う。その後、芯出しシャフト２０を取り外して、芯出しブシュ１２ａをアパーチャ１２に交換する。また、成形型保持具２に成形型１を取り付ける。
【００５１】
以上のような調整を行い、電流密度の高い位置で集束系ガスクラスターイオンビーム３１をアパーチャ３３の穴径で絞込んで、成形型１の形状創成を行う。
【００５２】
このような実施の形態によれば、弾性構造部材７を回転する成形型保持具２に常に押圧しながらイオン電流を計測することによって、電流検出用ケーブル１０を通して即時に高精度な計測ができるため、成形型１の形状精度を向上させることができる。そして、この成形型１を用いてレンズを成形することにより、レンズの形状精度を向上させることができるため、収差を低減させることができる。
【００５３】
また、成形型１を保持した成形型保持具２が回転しても、弾性構造部材７や電流検出用ケーブル１０が共に回転することがないため、成形型１や成形型保持具２に電流検出用ケーブル１０が連れ回ることがなく、良好な計測を行うことができる。
【００５４】
さらに、予めイオン電流密度が高い位置で成形型１の形状創成を行うため、加工時間を大幅に短縮することができる。
【００５５】
（実施の形態２）
図７は、本発明の実施の形態２を示す。
【００５６】
この実施の形態では、弾性構造部材７の先端部７ａが成形型保持具２の底面２ｂ（成形型１を保持する面の反対側の面）の回転中心位置（回転軸ａ）に当接するように配設されている。この弾性構造部材７は絶縁碍子９を介してステー８に取り付けられ、ステー８と成形型保持具２との間には絶縁碍子４が配設されている。また、ステー８はスペーサ１９を介して回転ステージ６に取り付けられている。
【００５７】
この実施の形態では、成形型保持具２の周速がゼロである回転中心位置ａに弾性構造部材７の先端部７ａが接触した状態でイオン電流計測を行うものである。このように成形型保持具３の回転中心位置ａに弾性構造部材７を接触させながらイオン電流を計測する場合には、弾性構造部材７と成形型保持具２との接触部で生じる摺動摩耗を低減することができ、弾性構造部材７と成形型保持具２の耐久性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明の実施の形態１における形状創成装置の部分破断側面図である。
【図２】軸芯合わせ構造を示す部分破断側面図である。
【図３】微小測定部及びその周辺を示す側面図である。
【図４】ワークの表面を干渉計によって測定した写真である。
【図５】弾性構造部材の別例の側面図である。
【図６】微小測定部によって計測した結果を示す写真である。
【図７】本発明の実施の形態２における形状創成装置の部分破断側面図である。
【図８】従来の電流計測方法を示す側面図である。
【図９】従来の電流密度分布測定する正面図である。
【符号の説明】
【００５９】
１  成形型
２  成形型保持具
２ａ  成形型保持具の外周部
６  回転ステージ
７  弾性構造部材
１１  電流計測部
１２  アパーチャ
１３  ガスクラスターイオンビーム
１４  微小系ガスクラスターイオンビーム
５０  イオン照射手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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