(57)【要約】【課題】  測定精度をより向上させることのできる基板検査装置を提供しようとする。【解決手段】  従来の本発明に係る基板を検査するために基板に液滴を付着しつつ移動させる基板検査装置にかわって、水平になった基板を保持して垂直な回転中心軸まわりに回転させる基板回転機器と、筒状部材であって液滴を貯留可能な内部空間を持ち下部に該内部空間を雰囲気の空間に連通する貫通孔を設けられた回収治具と、前記内部空間に貯留され前記貫通孔に露出した液滴を基板の表面に接する様に前記回収治具を保持しつつ前記回転治具を水平方向に移動可能な駆動機器と、を備え、液滴が基板の表面の特定の領域をはみ出ない様に前記回収治具を基板に対して相対移動させる、ものとした。【選択図】    図8
2005236145.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を検査するために基板に液滴を付着しつつ移動させる基板検査装置であって、
水平になった基板を保持して垂直な回転中心軸まわりに回転させる基板回転機器と、
筒状部材であって液滴を貯留可能な内部空間を持ち下部に該内部空間を雰囲気の空間に連通する貫通孔を設けられた回収治具と、
前記内部空間に貯留され前記貫通孔に露出した液滴を基板の表面に接する様に前記回収治具を保持しつつ前記回転治具を水平方向に移動可能な駆動機器と、
を備え、
液滴が基板の表面の特定の領域をはみ出ない様に前記回収治具を基板に対して相対移動させる、
ことを特徴とする基板検査装置。
【請求項２】
前記領域をはみ出ない複数の円弧と該円弧を繋ぐ複数の線分とで組みあわされた軌跡に倣って前記回収治具を基板に対して相対移動させる、
ことを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【請求項３】
前記複数の円弧の隣接する間隔が液滴の基板に接する面の大きさよりも小さい、
ことを特徴とする請求項２に記載の基板検査装置。
【請求項４】
前記軌跡が一筆書きである、
ことを特徴とする請求項２に記載の基板検査装置。
【請求項５】
基板を検査するために基板に液滴を付着しつつ移動させる基板検査装置であって、
水平になった基板を保持して垂直な回転中心軸まわりに回転させる基板回転機器と、
筒状部材であって液滴を貯留可能な内部空間を持ち下部に該内部空間を雰囲気の空間に連通する貫通孔を設けられた回収治具と、
前記内部空間に貯留され前記貫通孔に露出した液滴を基板の表面に接する様に前記回収治具を保持しつつ前記回転治具を水平方向に移動可能な駆動機器と、
を備え、
基板の縁から距離Ａだけ内側へずれて基板の縁に沿った軌跡に倣って前記回収治具を相対移動させ、
前記距離Ａが前記貫通部に露出する液滴が基板の縁の表面に接して基板の側面に接しないのに必要な基板の縁と前記回収治具との離間距離である、
ことを特徴とする基板検査装置。
【請求項６】
基板を検査するために基板に液滴を付着しつつ移動させる基板検査装置であって、
水平になった基板を保持して垂直な回転中心軸まわりに回転させる基板回転機器と、
筒状部材であって液滴を貯留可能な内部空間を持ち側部に該内部空間を雰囲気の空間に連通する貫通孔を設けられた回収治具と、
前記内部空間に貯留され前記貫通孔に露出した液滴を基板の側面に接する様に前記回収治具を保持しつつ前記回転治具を水平方向に移動可能な駆動機器と、
を備え、
液滴を基板の側面に付着させたまま基板の縁に沿って前記回収治具を基板に対して相対移動させる、
ことを特徴とする基板検査装置。
【請求項７】
基板の縁から距離Ｂだけ外側へずれて基板の縁に沿った軌跡に倣って前記回収治具を相対移動させ、
前記距離Ｂが前記貫通部に露出する液滴が基板の側面に接して基板の縁の表面に接しないのに必要な基板の縁と前記回収治具との離間距離である、
ことを特徴とする請求項６に記載の基板検査装置。
【請求項８】
前記駆動機構が先端部に前記回収治具を把持可能であり後端部の垂直な回転中心軸回りに揺動されるアームを有し、
前記駆動機構が前記アームを揺動させると、前記アームの把持する前記回収治具の前記貫通部の軌跡が上から見て前記基板回転機構の回転中心軸を通過する、
ことを特徴とする請求項１乃至請求項７に記載の基板検査装置。
【請求項９】
前記基板回転機構の回転中心軸を原点とする極座標において、前記回収治具を始点（Ｒ１、θ１）から終点（Ｒ２、θ２）へ相対移動する際に、
前記回収治具の前記回転中心軸からの距離をＲ１からＲ２へ移動する為に前記アームの揺動する角度ηを得て、
前記基板回転機器が前記回収治具を基板のθ１からθ２へ移動する為に回転する角度Δθにη／２を加算または減算の一方を施した角度θを得て、
前記駆動機構が前記アームを角度ηだけ揺動し、
前記基板回転機器が基板を角度θだけ回転する、
ことを特徴とする請求項８に記載の基板検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板を検査するための基板検査装置に係る。特に、基板を検査するために基板の外面に液滴を付着させて外面に沿って移動させるのに好適な基板検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体や液晶の製造設備や検査設備において、基板検査装置が使用される。
基板検査装置は、基板を検査する装置である。例えば、基板は、半導体ウエハー、液晶基板等の基板である。半導体ウエハーは、シリコン、ガリウム、炭化ケイ素等のウエハーである。
基板検査装置は、基板を位置決めする必要がある。通常、基板のコンタミネーションを防止するために、簡易で確実な位置決め機構が要求される。
また、一部の基板検査装置が、半導体ウエハーの表面に形成された酸化膜や窒化膜等の薄膜の中の、ナトリウム、カリウム、鉄等の不純物の量を正確に測定するのに用いられる。この基板検査装置では、基板を正確に位置決めすることが、不純物の量を正確に測定するために重要である。
【０００３】
半導体ウエハーの表面の不純物を正確に測定する目的とその方法を簡単に説明する。
半導体ウエハーの表面に形成された酸化膜や窒化膜等の薄膜中に、不純物が含まれていいると、その不純物の量が微量であっても、半導体素子の電気的特性に大きな影響を与える。
従って、半導体素子の製造設備において、ウエハー表面から不純物の混入をできる限り抑制することが要請されている。
そのために、半導体ウエハーの表面に存在する不純物の量を正確に測定することが行われている。
最近、ウエハー表面に存在する不純物の量を測定するのに用いられていた二次イオン質量分析法やオージェ分光分析法や中性子放射化分析法に代わって、ふっ化物溶液を持ちいて、不純物の量を測定する。例えば、ふっ化物溶液はＨＦ（ふっ化水素）水溶液である。
シリコンウエハーの表面の酸化膜をＨＦ（ふっ化水素）水溶液で溶解した後で、そのＨＦ（ふっ化水素）水溶液を捕集して、ＨＦ（ふっ化水素）水溶液中の不純物を分析することが行われる。捕集したＨＦ（ふっ化水素）水溶液の量が少なくすると、不純物の濃度が高くなり、測定精度が向上するという特徴を有する。
例えば、ＨＦ（ふっ化水素）水溶液の蒸気に基板を曝し、基板の酸化層を溶解した後で、基板の表面にＨＦ（ふっ化水素）水溶液の液滴を滴下し、その液滴を基板の表面に付着したまま移動する。液滴に酸化膜の中の不純物が捕集される。その液滴中の不純物の量を計測することにより、基板表面の不純物の量を検査する。
【０００４】
【特許文献１】特開平０２−２７２３５９号
【特許文献２】特開平０２−０２８５３３号
【特許文献３】特開平０８−２３３７０９号
【特許文献４】特開平０２−２２９４２８号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
測定精度を向上させるために、基板の位置決めを精度良くおこない、また、特定の測定領域のみの不純物の量を測定できる基板検査装置が求められている。特に、液滴を基板の表面に付着されたまま移動し、液滴に不純物を捕集するのに好適な基板検査装置が求められている。
【０００６】
本発明は以上に述べた問題点に鑑み案出されたもので、測定精度をより向上させることのできる基板検査装置を提供しようとする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明に係る基板を検査するために基板に液滴を付着しつつ移動させる基板検査装置を、水平になった基板を保持して垂直な回転中心軸まわりに回転させる基板回転機器と、筒状部材であって液滴を貯留可能な内部空間を持ち下部に該内部空間を雰囲気の空間に連通する貫通孔を設けられた回収治具と、前記内部空間に貯留され前記貫通孔に露出した液滴を基板の表面に接する様に前記回収治具を保持しつつ前記回転治具を水平方向に移動可能な駆動機器と、を備え、液滴が基板の表面の特定の領域をはみ出ない様に前記回収治具を基板に対して相対移動させる、ものとした。
【０００８】
上記本発明の構成により、基板回転機器が水平になった基板を保持して垂直な回転中心軸まわりに回転させ、回収治具が筒状部材であって液滴を貯留可能な内部空間を持ち下部に該内部空間を雰囲気の空間に連通する貫通孔を設けられ、駆動機器が前記内部空間に貯留され前記貫通孔に露出した液滴を基板の表面に接する様に前記回収治具を保持しつつ前記回転治具を水平方向に移動可能であり、液滴が基板の表面の特定の領域をはみ出ない様に前記回収治具を基板に対して相対移動させるので、液滴を基板の表面の特定の領域の内部に付着しつつ移動させることができる。
【０００９】
さらに、本発明に実施形態に係る基板検査装置は、前記領域をはみ出ない複数の円弧と該円弧を繋ぐ複数の線分とで組みあわされた軌跡に倣って前記回収治具を基板に対して相対移動させる。
上記本発明の構成により、前記回収治具が前記領域をはみ出ない複数の円弧と該円弧を繋ぐ複数の線分とで組みあわされた軌跡に倣って基板に対して相対移動するので、基板回転機器による基板の回転運動と駆動機構による前記回収治具の水平移動を組みあわせて簡易に基板に液滴を付着しつつ移動させることができる。
【００１０】
さらに、本発明に実施形態に係る基板検査装置は、前記複数の円弧の隣接する間隔が液滴の基板に接する面の大きさよりも小さい。
上記本発明の構成により、前記複数の円弧の隣接する間隔が液滴の基板に接する面の大きさよりも小さいので、液滴を特定の輪郭で囲まれた領域の中の基板の表面にすき間なく付着させることができる。
【００１１】
さらに、本発明に実施形態に係る基板検査装置は、前記軌跡が一筆書きである。
上記本発明の構成により、前記軌跡が一筆書きであるので、無駄な動きが少なくなり繰り返し精度の高い結果を得ることができる。
【００１２】
また、上記目的を達成するため、本発明に実施形態に係る基板を検査するために基板に液滴を付着しつつ移動させる基板検査装置は、水平になった基板を保持して垂直な回転中心軸まわりに回転させる基板回転機器と、筒状部材であって液滴を貯留可能な内部空間を持ち下部に該内部空間を雰囲気の空間に連通する貫通孔を設けられた回収治具と、前記内部空間に貯留され前記貫通孔に露出した液滴を基板の表面に接する様に前記回収治具を保持しつつ前記回転治具を水平方向に移動可能な駆動機器と、を備え、基板の縁から距離Ａだけ内側へずれて基板の縁に沿った軌跡に倣って前記回収治具を相対移動させ、前記距離Ａが前記貫通部に露出する液滴が基板の縁の表面に接して基板の側面に接しないのに必要な基板の縁と前記回収治具との離間距離である。
【００１３】
上記本発明の構成により、基板回転機器が水平になった基板を保持して垂直な回転中心軸まわりに回転させ、回収治具が筒状部材であって液滴を貯留可能な内部空間を持ち下部に該内部空間を雰囲気の空間に連通する貫通孔を設けられ、駆動機器が前記内部空間に貯留され前記貫通孔に露出した液滴を基板の表面に接する様に前記回収治具を保持しつつ前記回転治具を水平方向に移動可能であり、前記距離Ａが前記貫通部に露出する液滴が基板の縁の表面に接して基板の側面に接しないのに必要な基板の縁と前記回収治具との離間距離であり、基板の縁から距離Ａだけ内側へずれて基板の縁に沿った軌跡に倣って前記回収治具を相対移動させるので、液滴を基板の側面に接することなく基板の縁の表面に付着しつつ移動させることができる。
【００１４】
また、上記目的を達成するため、本発明に係る基板を検査するために基板に液滴を付着しつつ移動させる基板検査装置を、水平になった基板を保持して垂直な回転中心軸まわりに回転させる基板回転機器と、筒状部材であって液滴を貯留可能な内部空間を持ち側部に該内部空間を雰囲気の空間に連通する貫通孔を設けられた回収治具と、前記内部空間に貯留され前記貫通孔に露出した液滴を基板の側面に接する様に前記回収治具を保持しつつ前記回転治具を水平方向に移動可能な駆動機器と、を備え、液滴を基板の側面に付着させたまま基板の縁に沿って前記回収治具を基板に対して相対移動させる、ものとした。
【００１５】
上記本発明の構成により、基板回転機器が水平になった基板を保持して垂直な回転中心軸まわりに回転させ、回収治具が筒状部材であって液滴を貯留可能な内部空間を持ち側部に該内部空間を雰囲気の空間に連通する貫通孔を設けられ、駆動機器が記内部空間に貯留され前記貫通孔に露出した液滴を基板の側面に接する様に前記回収治具を保持しつつ前記回転治具を水平方向に移動可能であり、液滴を基板の側面に付着させたまま基板の縁に沿って前記回収治具を基板に対して相対移動させるので、液滴を基板の側面に付着しつつ移動させることができる。
【００１６】
さらに、本発明に係る実施形態の基板検査装置は、基板の縁から距離Ｂだけ外側へずれて基板の縁に沿った軌跡に倣って前記回収治具を相対移動させ、前記距離Ｂが前記貫通部に露出する液滴が基板の側面に接して基板の縁の表面に接しないのに必要な基板の縁と前記回収治具との離間距離である。
上記本発明の構成により、前記距離Ｂが前記貫通部に露出する液滴が基板の側面に接して基板の縁の表面に接しないのに必要な基板の縁と前記回収治具との離間距離であり、基板の縁から距離Ｂだけ外側へずれて基板の縁に沿った軌跡に倣って前記回収治具を相対移動させるので、液滴を基板の側面に付着しつつ移動させることができる。
【００１７】
さらに、本発明に係る実施形態の基板検査装置は、前記駆動機構が先端部に前記回収治具を把持可能であり後端部の垂直な回転中心軸回りに揺動されるアームを有し、前記揺動機構が前記アームを揺動させると、前記アームの把持する前記回収治具の前記貫通部の軌跡が上から見て前記基板回転機構の回転中心軸を通過する。
上記本発明の構成により、前記アームの先端部が前記回収治具を把持可能であり、該アームが後端部の垂直な回転中心軸回りに揺動され、前記駆動機構が前記アームを揺動させると、前記アームの把持する前記回収治具の前記貫通部の軌跡が上から見て前記基板回転機構の回転中心軸を通過するので、アームの揺動する際の前記回収治具と基板回転機構の幾何的な関係を利用して、簡易な制御により、回収治具を基板に対して相対移動させることができる。
【００１８】
さらに、本発明に係る実施形態の基板検査装置は、前記基板回転機構の回転中心軸を原点とする極座標において、前記回収治具を始点（Ｒ１、θ１）から終点（Ｒ２、θ２）へ相対移動する際に、前記回収治具の前記回転中心軸からの距離をＲ１からＲ２へ移動する為に前記アームの揺動する角度ηを得て、前記基板回転機器が前記回収治具を基板のθ１からθ２へ移動する為に回転する角度Δθにη／２を加算または減算の一方を施した角度θを得て、前記駆動機構が前記アームを角度ηだけ揺動し、前記基板回転機器が基板を角度θだけ回転する。
上記本発明の構成により、角度ηが前記回収治具をＲ１からＲ２へ移動する為の前記アームの揺動する角度であり、角度θが前記回収治具がθ１からθ２へ移動する為の角度Δθにη／２を加算または減算の一方を施した角度であり、前記アームの把持する前記回収治具の前記貫通部の軌跡が上から見て前記基板回転機構の回転中心軸を通過する幾何的な関係をもつので、前記アームを角度ηだけ揺動し、基板が角度θだけ回転すると、回収治具を始点（Ｒ１、θ１）から終点（Ｒ２、θ２）に基板に対して相対移動させることができる。
【発明の効果】
【００１９】
以上説明したように本発明に係る  基板検査装置は、その構成により、以下の効果を有する。
水平にした基板を垂直軸回りに回転させ、前記回収治具の下側に設けた貫通部に露出した液滴を基板の表面に接して、前記回収治具を水平に移動させ、液滴が基板の表面の特定の領域をはみ出ない様に前記回収治具を基板に対して相対移動させる様にしたので、液滴を基板の表面の特定の領域の内部に付着しつつ移動させることができる。
また、前記回収治具が前記領域をはみ出る複数の円弧と該円弧を繋ぐ複数の線分とで組みあわされた軌跡に倣って相対移動する様にしたので、基板回転機器による基板の回転運動と駆動機構による前記回収治具の水平移動を組みあわせて簡易に基板に液滴を付着しつつ移動させることができる。
また、前記複数の円弧の隣接する間隔が液滴の基板に接する面の大きさよりも小さい様にしたので、特定の輪郭で囲まれた領域の中の基板の表面に液滴をすき間なく付着させることができる。
また、前記軌跡が一筆書きである様にしたので、無駄な動きが少なくなり繰り返し精度の高い結果を得ることができる。
前記距離Ａが前記貫通部に露出する液滴が基板の縁の表面に接して基板の側面に接しないのに必要な基板の縁と前記回収治具との離間距離であり、基板の縁から距離Ａだけ内側へずれて基板の縁に沿った軌跡に倣って前記回収治具を相対移動させる様にしたので、液滴を基板の側面に接することなく基板の縁の表面に付着しつつ移動させることができる。
【００２０】
水平にした基板を垂直軸回りに回転させ、回収治具の下側に設けた貫通部に露出した液滴を基板の側面に接して、回収治具を水平に移動させる様にしたので、液滴を基板の側面に付着しつつ移動させることができる。  
また、前記距離Ｂが前記貫通部に露出する液滴が基板の側面に接っし基板の縁の表面に接しないのに必要な基板の縁と前記回収治具との離間距離であり、基板の縁から距離Ｂだけ外側へずれて基板の縁に沿った軌跡に倣って前記回収治具を相対移動させる様にしたので、液滴を基板の側面に付着しつつ移動させることができる。
【００２１】
また、駆動機構のアームが後端部の垂直な回転中心軸回りに回転し、回収治具をアームの先端に保持させ、前記アームの把持する前記回収治具の前記貫通部の軌跡が上から見て前記基板回転機構の回転中心軸を通過する様にしたので、アームの揺動する際の前記回収治具と基板回転機構の特殊な幾何的な関係を利用して、簡易な制御により、回収治具を基板に対して相対移動させることができる。
また、角度ηが前記回収治具をＲ１からＲ２へ移動する為の前記アームの揺動する角度であり、角度θが前記回収治具がθ１からθ２へ移動する為の角度Δθにη／２を加算または減算の一方を施した角度であり、前記アームの把持する前記回収治具の前記貫通部の軌跡が上から見て前記基板回転機構の回転中心軸を通過する幾何的な関係をもつので、前記アームを角度ηだけ揺動し、基板が角度θだけ回転すると、回収治具を始点（Ｒ１、θ１）から終点（Ｒ２、θ２）に基板に対して相対移動させることができる。
従って、測定精度をより向上させることのできる基板検査装置を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面を参照して説明する。
【００２３】
図１は、本発明の実施形態に係る基板検査装置の平面図である。図２は、本発明の実施形態に係る基板検査装置の正面図である。図３は、本発明の実施形態に係る基板検査装置の側面図である。
基板検査装置２は、基板１を検査するために基板に液滴を付着しつつ移動させるための装置である。
以下では、基板１に存在する不純物の量を検査する場合を例に、基板検査装置２を説明する。
基板がシリコンウェハーである場合に、基板１に存在する不純物の量を検査するには、第一の方法では、基板の表面を液体蒸気（例えば、ＨＦ（ふっ化水素）水溶液の蒸気）に晒して、液体により基板１の表面の酸化膜を溶かす。その後、基板検査装置を用いて、基板１を検査するために基板１に液滴を付着して移動させる。第二の方法では、基板の表面に液体（例えば、ＨＦ（ふっ化水素）水溶液の蒸気）を滴下する。液体により基板１の表面の酸化膜を溶かす。その後、基板検査装置を用いて、基板１を検査するために基板１に液滴を付着して移動させる。
基板検査装置は、基板１の表面に液滴（例えば、ＨＦ（ふっ化水素）水溶液）を滴下し、液滴を基板の表面を所定の領域をなぞる様に移動させ、その液滴を回収する。その液滴に混ざった不純物の量を測定すると、基板の表面の所定の領域に存在した不純物の量を特定できる。
【００２４】
基板検査装置２は、下部構造体３と基板回転機器１０と駆動機器２０と回収治具３０と回収治具セット機器４０と基板位置決め機器５０とウエハーホルダー６０と制御機器７０とで構成される。
【００２５】
下部構造体３は、基板回転機器１０と駆動機器２０と回収治具３０と回収治具セット機器４０と基板位置決め機器５０とウエハーホルダー６０とを上面に乗せ、これらの機器を制御するための制御機器７０を内蔵する構造体である。
【００２６】
基板回転機器１０は、水平になった基板の下面を下方から保持面Ｍで保持して垂直な回転中心軸まわりに回転させる機器であり、基板保持部材と基板保持基台とで構成される。
基板保持部材は、水平になった基板１の下面を下方から保持面Ｍで保持する部材である。真空チャック機構が、保持面Ｍに設けられる。真空チャック機構は、負圧により保持面Ｍに保持された基板１を固定する。
基板保持基台は、基板保持部材を回転中心軸の回りに回転させる機器である。
【００２７】
回収治具３０は、液滴を貯留可能な内部空間を持ち該内部空間を雰囲気の空間に連通する貫通孔を設けられた筒状部材である。
構造の異なる２種類の回収治具３０を、以下に、図を基に、説明する。
【００２８】
最初に、本発明の実施形態に係る第一の形式の回収治具の構造を説明する。
図４は、本発明の実施形態に係る第一の形式の回収治具の断面図である。
第一の形式の回収治具３０ａは、基板の表面に液滴を接触させるために、液滴を貯留可能な内部空間Ｈを持ち下部に内部空間Ｈを雰囲気の空間に連通する貫通孔３２ａを設けられた筒状部材であり、筒状部３１ａとフランジ部３３ａとで構成される。
筒状部３１ａは、内部の中心に内部空間Ｈを持ち、軸心が上下に向いている、貫通孔３２ａが、筒状部３１ａの下端に設けられる。貫通孔３２ａは、内部空間Ｈと雰囲気の空間とを連通する。筒状部の下端の貫通孔３２ａの縁の周囲が、上に凹の窪みとなっているのが好ましい。
後述する駆動機構２０は、基板１が回転する際に、基板１の面と筒状部３１ａの下端との間隔を一定に保つことをできる。
フランジ部３３ａの下部には、下に凸のテーパ形状が設けられる。テーパ形状は、後述する回収治具フォルダー２４の下に凹のテーパ部に嵌合する。バイアル４１の口に嵌合する溝部が、テーパ形状の下側に形成される。
図４（Ｂ）は、前記貫通部に露出する液滴が基板の縁の表面に接して基板の側面に接しないのに必要な基板の縁と前記回収治具との離間距離である距離Ａを示す。
【００２９】
次に、本発明の実施形態に係る第二の形式の回収治具の構造を説明する。
図５は、本発明の実施形態に係る第二の形式の回収治具の断面図である。
第二の形式の回収治具３０ｂは、基板の側面に液滴を接触させるために、液滴を貯留可能な内部空間Ｈを持ち側部に内部空間Ｈを雰囲気の空間に連通する貫通孔３２ｂを設けられた筒状部材であって、筒状部３１ｂとフランジ部３３ｂとで構成される。
筒状部３１ｂは、液滴を貯留可能な内部空間Ｈを持ち軸心が上下に向いた部分である。  筒状部３１ｂが、基板の厚さよりも大きな幅をもち水平に延びて内部空間Ｈと雰囲気の空間とを連通する溝形状の貫通孔３２ｂを側部に設けられる。筒上部３１ｂの下端は閉じている。
後述する駆動機構２０は、溝３２ｂに露出した液滴を基板の側面に接触する様に回収治具３０ｂを保持可能である。
フランジ部３３ｂは、回収治具３０ｂの上部構造である。フランジ部３３ｂの下面は、下に凸のテーパ形状が形成される。テーパ形状は、後述する回収治具フォルダー２４の下に凹のテーパ部に嵌合する。バイアル４１の口に嵌合する溝部が、テーパ形状の下側に形成される。
液滴を内部空間Ｈに貯留すると、液滴の一部が貫通孔３２ｂに露出する。溝３２ｂの寸法と位置を適切に選定することで、液滴が溝３２ｂから漏れるのを防止できる。液滴に生ずる表面張力と液滴の溝３２ｂから漏れようとする圧力とがつり合うためであると考えられる。
図５（Ｂ）は、前記貫通部に露出する液滴が基板の側面に接し基板の縁の表面に接しないのに必要な基板の縁と前記回収治具との離間距離である距離Ｂを示す。
【００３０】
駆動機器２０は、回転治具３０を水平方向に移動させる機器であり、アーム２１とアーム回転軸２２とアーム回転基台２３と回収治具フォルダー２４とで構成される。
アーム２１は、先端部に回収治具フォルダー２４を固定し、後端部をアーム回転軸２２に固定した梁構造である。
アーム回転軸２２は、アームの後端部を固定し、垂直な回転軸の回りに回転する構造体である。
アーム回転基台２３は、アーム回転軸２２を回転させる構造体であり、下部構造３に取り付けられる。
回収治具フォルダー２４は、回収治具を保持する構造体である。回収治具フォルダー２４の先端部は、回収治具３０の下に凸のテーパ部に下から嵌合する下に凹のテーパ部を持ち、一部に切り欠き部をもつ環状構造をしている。
回収治具３０を、横方向に引っ張ると、切り欠き部を通過して回収治具フォルダー２４から外れる。
揺動機構２０がアーム２１を揺動させると、アーム２１の把持する回収治具３０の貫通部の軌跡が上から見て基板回転機構１０の回転中心軸を通過する。
【００３１】
回収治具セット機器４０は、駆動機器２０に回収治具３０を受け渡すための機器であり、下部構造体３の上面に設けられる。回収治具セット機器４０は、バイアル４１を回収治具３０の下からあてがい、回収治具３０の円筒部３１ａ、３１ｂを覆うことができる。操作員は、回収治具セット機器４０を操作して、バイアル４１と回収治具３０とを上下させることができる。
回収治具３０を基板検査装置２にセットする場合は、以下の手順による。  
操作員は、回収治具３０とバイアル４１とを一体にして、取り扱う。操作員は、回収治具３０とバイアル４１とを回収治具セット機器４０にセットする。
回収治具セット機器４０により、回収治具３０とバイアル４１とを持ち上げる。駆動機器２０を動かして、回収治具フォルダー２４を回収治具３０の下にいれる。回収治具セット機器４０により、回収治具３０とバイアル４１とを下げる。回収治具３０が回収治具フォルダー２４に嵌合する。駆動機器２０を動かして基板の検査をおこなう。
回収治具３０を基板検査装置２からはずす場合は、上記の反対の手順に従う。
【００３２】
基板位置決め機器５０は、基板１を基板回転機器１０の保持面Ｍに位置決めしてセットするための機構であり、ベース５１とディスク５２とリフター５３とで構成される。
ベース５１は、基板位置決め機構の基礎構造であり、下部構造体３の上部に据付けられる。
ベース５１は、リフター５３を垂直方向へ移動自在に支持する。ベース５１は、リフター５３に支持された基板の中心を基板回転機構の回転中心軸に一致させる。
ディスク５２は、後述するリフター５３を上下させるための機構であり、ベース５１に回転中心軸を中心に回転可能に支持される。ディスク５２は、複数のリフトカムを円周上に配される。ディスク５２を回転させると、複数のリフトカムが回転中心軸Оを中心に公転する。
リフトカムの上面は、カム面を形成する。カム面は、回転中心軸Оを中心とする円周方向の一方の回転方向へ下方に傾斜した傾斜面Ｋと傾斜面Ｋの上側の端とすき間なく繋がる水平面Ｌとで構成される。
操作員が、ディスク５２を回転させると、ディスク５２がベース５１の上面を摺動する。
リフター５３は、上側に基板を乗せることのできる支持面Ｎを持ちディスク５２の回転に従って上下する構造体である。
リフター５３が、３個のカム面に摺動自在に各々の接触点Ｘで各々当接する。
リフター５３の上面の円周上の３箇所に、所定の間隔で半径方向に並んで複数の孔が設けられる。さらに、基板の回転方向の位置決めをするためのマークが、リフター５３の保持面に設けられる。例えば、リフター５３の円周方向に直交する切り欠き面を、マークとする。
ディスク５２を一方に回転させると、接触点Ｘが傾斜面Ｋの上側に移動し、支持面Ｎが保持面Ｍよりも高くなる。さらに接触点Ｘが傾斜面Ｋの上側に移動すると、接触点Ｘが水平面Ｌに乗る。この状態で、基板１を支持面Ｎに乗せることができる。
ディスク５２を他方に回転させると、接触点Ｘが傾斜面Ｋの下側に移動し、支持面ＮがＭよりも低くなる。さらに、接触点Ｘが傾斜面Ｋの下側に移動すると、リフター５３の下面が水平面Ｌにあたり、リフター５３の下端が、カム面から離れる。この状態で、基板１が、基板回転機器１０の保持面Ｍに位置決めできる。
【００３３】
ウエハーホルダー６０は、リフター５３の支持面Ｎの円周上の３箇所に各々配されて脱着可能に固定される部材である。支持面Ｎに置かれた基板の縁が周囲から３個の前記ウェハーホルダー６０に当接され、基板１がリフター５３の支持面Ｎに位置決めされる。
ウエハーホルダー６０は、リフター５３に設けられた孔に嵌合する。ウエハーホルダー６０が嵌合する孔を選択する事により、各種の直径のウエハーに対応することができる。
【００３４】
制御装置７０は、基板回転機器１０と駆動機器２０とを制御する機器である、
制御装置７０は、基板回転機器１０の回転速度と回転角度とを制御し、駆動機器２０の揺動速度と揺動角度とを制御して、回収治具３０を基板１に対して相対移動させる。
基板回転機構の回転中心軸を原点とする極座標において、回収治具を始点（Ｒ１、θ１）から終点（Ｒ２、θ２）へ相対移動するには、以下の手順により行う。
（１）回収治具の回転中心軸からの距離をＲ１からＲ２へ移動する為にアームの揺動する角度ηを得る。
（２）基板回転機器が回収治具を基板のθ１からθ２へ移動する為に回転する角度Δθにη／２を加算または減算の一方を施した角度θを得る。
（３）駆動機構がアームを角度ηだけ揺動し、基板回転機器が基板を角度θだけ回転する。
図６は、回収治具を基板に固着する極座標の始点（Ｒ１、θ１）から終点（Ｒ２，θ２）に相対移動させる様子をしめしている。
例えば、基板回転機器１０が基板１を時計回りに回転させ、駆動機構の回転軸が基板回転機器１０の右側に配される。極座標は、基板の表面を上からみて反時計回りに正となる角度θと中心をゼロとして基板の縁に向かって正となる半径距離Ｒとで定義される。基板回転機器１０は、基板を時計回りに回転させる。駆動機構のアームの回転中心軸が基板の右側に位置する。
始点（Ｒ１、θ１）に位置する前記回収治具を終点（Ｒ２、θ２）に相対移動するには以下の手順で行う。以下、θ２＞θ１であるとして説明する。
駆動機構が前記アームを前記回収治具をΔＲ＝Ｒ２−Ｒ１だけ移動する様に前記アームを揺動する角度ηを算出する。
角度ηは、次の式で表される値である。
η＝２×ａｒｃｓｉｎ（（ΔＲ／２）／Ｌ）
ここで、Ｌは駆動機構２０のアームの回転中心軸と回収治具の代表点までの距離である。代表点は、回収治具の内部空間の中心である。
【００３５】
次に、θ２とθ１との差にη／２を加算または減算の一方を施した角度θを得る。
Ｒ２＞Ｒ１である場合、  基板回転機器が基板をθ＝（θ２−θ１）−η／２を演算する。
Ｒ２＜Ｒ１である場合、  基板回転機器が基板をθ＝（θ２−θ１）＋η／２を演算する。
【００３６】
駆動機構２０がアーム２１を角度ηだけ揺動し、基板回転機構１０が基板を角度θだけ回転させると、回収治具が基板に対して始点（Ｒ１、θ１）から終点（Ｒ２、θ２）に相対移動する。
駆動機構がアームを始点から終点まで移動させる時間と、基板回転機器が基板を始点から終点まで移動させる時間とを、一致させるのが好ましい。
また、半径が大きくなるにつれて、移動速度を遅くし、回収治具の移動速度を一定にするのが好ましい。
【００３７】
このγ＝η／２を直線補間角度と呼称する。
基板回転機構１０が基板を直線補間角度γだけ余分に基板を回転させる理由を、図を基に、説明する。
図７は、回収治具を基板の始点Оから終点ｄへ相対移動する様子を示している。
駆動機構２０がアーム２１を角度ηだけ揺動し、基板回転機構１０が基板を角度γだけ回転して、回収治具を基板の上で原点Оから終点ｄまで相対移動した状態を示している。
直線О−ｄは、直線ОО−Оに直交する。直線О−ｄの長さと直線О−ｂの長さは等しい。直線ОО−Оは、アームの回転中心軸と基板回転機器の回転中心軸を結ぶ直線である。
角度ηは、回収治具を点Оから点ｂまで移動した際のアームを揺動する角度である。
アーム回転中心ООから直線О−ｂに垂線ОО−ａを降ろすと、角О−ОО−ａはη／２である。
直線О−ｃは、直線ОО−ａに平行するので、角ОО−О−ｃは角О−ОО−ａに等しい。
直線О−ｃは直線О−ｂに直交し、直線О−ООと直線О−ｄに直交するので、角ОО−О−ｃは角ｂ−О−ｄに等しい。
従って、角ｂ−О−ｄはη／２である。
駆動機構２０が回収治具３０を角度ηだけ基板の外側へ移動するのに従い、基板回転機器１０が基板１を角γだけ回転させると、回収治具３０ａ、３０ｂが直線О−ｄに倣って直線状に相対移動する。
駆動機構２０がアーム２１を揺動させて回収治具３０を移動させる際に、基板回転機器１０の回転角を直線補間角度γだけ余計に回転させると、基板１に固着した極座標に添って回収治具３０ａ、３０ｂを相対移動できる。
【００３８】
以下に、３つの形式の相対移動を説明する。
第一の形式の相対移動では、第一の形式の回収治具を用いて、液滴が基板の表面の特定の領域をはみ出ない様に前記回収治具を基板に対して相対移動させる、
第二の形式の相対移動では、第一の形式の回収治具を用いて、基板の表面に接した液滴が基板の縁に沿って移動する様に回収治具を基板に対して相対移動させる。
第三の形式の相対移動では、第二の形式の回収治具を用いて、液滴を基板の側面に付着させたまま基板の縁に沿って前記回収治具を基板に対して相対移動させる。
以下、基板が半導体ウェハーであって、液滴がＨＦ（ふっ化水素）水溶液であるとして、説明する。
【００３９】
最初に、第一の形式の相対移動を、図を基に、説明する。
図８は、第一の形式の相対移動をする様子を示す。
第一の形式の相対移動では、液滴が基板の表面の特定領域をはみ出ない様に前記回収治具を基板に対して相対移動させる、
第一の形式の相対移動では、第一の形式の回収治具３０ａを用いる。
（基板検査装置準備工程）
基板検査装置を準備する。
回収治具フォルダー２４を回収治具に対応したものとする。
回収治具３０ａとバイアル３４とを一体として、回収治具セット機器４０にセットする。回収治具セット機器４０を操作して、回収治具３０ａを回収治具フォルダー２４に嵌合する。
図４（Ａ）は、回収治具フォルダー２４に嵌合した第一の形式の回収治具３０ａの構造を示す。
リフター５３を上方に位置させておく。
【００４０】
（基板セット工程）
予めＨＦ（ふっ化水素）水溶液の蒸気の雰囲気に晒した基板をリフター５３の支持面Ｎに乗せる。ＨＦ（ふっ化水素）水溶液の液滴が基板１の表面に付着している。
基板１が、３個のウエハーホルダー６０に縁を押さえられるので、位置決めされる。
オリフラ付きの基板１の場合、オリフラの始点をリフター５３に設けられたマークに一致させる。
ディスク５２を回転させる。リフター５３がディスク５２のリフトカムのカム面に沿って水平面Ｌから傾斜面Ｋに移動する。
接触点での摩擦力が、リフター５３を回転中心軸の回りに回転させ、ベース５１とリフター５３とのガタを一方に寄せる。
基板１が、位置決めされて保持面Ｍに乗る。
【００４１】
（液滴滴下工程）
回収治具３０ａの内部空間ＨにＨＦ（ふっ化水素）水溶液の液滴を滴下する。
液滴４が、内部空間Ｈに貯留する。液滴４の一部が、貫通孔３２ａにはみ出る。
【００４２】
（基板走査工程）
駆動機器２０が、基板１の表面と回収治具３０の下端との間隔を一定に保ちつつ、所定の速度で、水平移動させる。
図４（Ｂ）が、駆動機器２０に駆動される回収治具３０ａを示す。
基板回転機器１０が、保持面Ｍに保持した基板１を回転中心軸の回りに回転させる。
回収治具３０ａに貯留した液滴が、基板１の表面に付着したまま、基板１が回転する。
ＨＦ（ふっ化水素）水溶液の液滴が、基板の表面のに付着つつ移動する。不純物を含む溶液が液滴に吸収される。
基板回転機器１０の回転移動の位置と駆動機器２０の水平移動の位置を連動させると、液滴が基板の表面の特定の領域をはみ出ない様に前記回収治具を基板に対して相対移動させることができ、基板の表面の特定の領域の溶液を回収できる。
【００４３】
特定の領域は、所定の輪郭で囲まれた領域である。輪郭は、基板の表面の任意の位置にある矩形の輪郭、基板の縁に沿った円弧と円弧の両端を結ぶ弦とで繋がった弓状形状の輪郭、または、半径の異なる円弧と半径方向に延びる２本の線で囲われた輪郭等である。
特に、領域をはみ出ない複数の円弧１０２と円弧１０２を繋ぐ複数の線分１０１とで組みあわされた軌跡１００に倣って回収治具を基板に対して相対移動させるのが好ましい。
また、複数の円弧１０２の隣接する間隔が液滴の基板に接する面の大きさよりも小さいのが好ましい。
また、軌跡１００が一筆書きであるのが好ましい。
【００４４】
（液滴回収工程）
駆動機構２０が、回収治具３０ａを回収治具セット機器４０の上方に移動する。
バイアル３４を上方に移動すると、バイアル３４の上端が回収治具３０ａの下部の溝に嵌まる。
バイアル３４と回収治具３０ａとが一体となって、上に上がる。
操作員が、バイアル３４と回収治具３０ａとを一体にして、基板検査装置から外す。
図４（Ｃ）が、一体となったバイアル３４と回収治具３０ａとを示す。
【００４５】
（不純物計測工程）
液滴４をバイアル３４に写し、液滴に含まれる不純物の量を測定する。
【００４６】
次に、第二の形式の相対移動を、図を基に、説明する。
図９乃至図１５は、第二の形式の相対移動をする様子を示す。
第二の形式の相対移動では、基板の表面に接した液滴が基板の縁に沿って移動する様に回収治具を基板に対して相対移動させる。
第二の形式の相対移動では、第一の形式の回収治具３０ａを用いる。
（基板検査装置準備工程）
第一の形式の相対移動の場合と同じなので、説明を省略する。
【００４７】
（基板セット工程）
第一の形式の相対移動の場合と同じなので、説明を省略する。
【００４８】
（液滴滴下工程）
第一の形式の相対移動の場合と同じなので、説明を省略する。
【００４９】
（基板走査工程）
駆動機器２０が、基板１の表面と回収治具３０の下端との間隔を一定に保ちつつ、所定の速度で、水平移動させる。
図４（Ｂ）が、駆動機器２０に駆動される回収治具３０ａを示す。
基板回転機器１０が、保持面Ｍに保持した基板１を回転中心軸の回りに回転させる。
回収治具３０ａに貯留した液滴が、基板１の表面に付着したまま、基板１が回転する。
ＨＦ（ふっ化水素）水溶液の液滴が、基板の表面のに付着つつ移動する。不純物を含む溶液が液滴に吸収される。
基板回転機器１０の回転移動の位置と駆動機器２０の水平移動の位置を連動させて、
基板の縁から距離Ａだけ内側へずれて基板の縁に沿って一周した軌跡に倣って回収治具を相対移動させ、基板の表面の特定の領域の溶液を回収する。
距離Ａは、貫通孔に露出する液滴が基板の縁の表面に接して基板の側面に接しないのに必要な基板の縁と回収治具との離間距離である、
以下に、基板の縁の近傍での軌跡に倣って回収治具を基板に対して相対移動する手順を、図を基に、説明する。
【００５０】
図９は、回収治具３０ａをアーム原点から基板中心から半径ｒの位置へ移動する様子を示す。
アーム原点は、回収治具をアームの先端から取り付け、また取り外す位置である。
（１）回収治具３０ａを基板中心Оから半径ｒの位置まで移動するためにアームの揺動する角度ηを算出する。
γ＝ａｒｃｓｉｎ（（ｒ／２）／Ｌ）
η＝２γ  
（２）角度ξからアーム角度ηを引いて、回収治具をアーム原点から半径ｒまで移動するためにアームの揺動する角度ζを算出する。
ζ＝ξ−η
角度ξは、回収治具をアーム原点から基板原点まで移動させるためにアームの揺動する角度である。
回収治具３０ａをアーム原点にある回収治具フォルダー２４にセットしてから、アームを角度ζだけ揺動すると、回収治具３０ａが基板中心Оから半径ｒの位置に移動する。
【００５１】
図１０は、オリフラの形状データを設定する様子を示す。
寸法Ｐは、オリフラのカット面の長さである。
寸法ｗｒは、基板の半径である。
（１）基板半径ｗｒとオリフラのカット面の寸法の半分（Ｐ／２）から、オリフラを挟む角度の半分を算出する。
α＝ａｒｃｓｉｎ（（Ｐ／２）／ｗｒ）
（２）基板半径ｗｒとオリフラのカット面寸法の半分（Ｐ／２）から、基板中心とカット面に降ろした垂線がオリフラのカット面に交差する点までの距離ｏｒを算出する。
ｏｒ２＝ｗｒ２−（Ｐ／２）２
ここで、ｏｒをオリフラ半径と呼称する。
【００５２】
図１１は、回収治具３０ａが倣うための同心円状の複数の軌跡１００を示している。
最外周の軌跡１００は、基板の縁から距離Ａだけ内側にずれた円弧１０２とオリフラから距離Ａだけ内側にずれた線分１０１とで組み合わされる。
距離Ａは回収治具の貫通孔に露出する液滴が基板の縁の表面に接して基板の側面に接しないに必要な基板の縁と回収治具との期間距離である。例えば、回収治具の貫通孔が内部空間の中心軸を中心とする円形である場合、距離Ａをその円形の半径とする。
最外周より内側の軌跡は、最外周の軌跡の円弧１０２より小さな円弧１０２とオリフラから距離Ａだけ内側にずれた線分とで組合わされる。
複数のピッチだけ内側の軌跡は、閉じた円弧１０２である。
複数の円の半径方向のピッチは、液滴の大きさより僅かに小さな寸法である。
回収治具３０ａを複数の軌跡に倣って順次相対移動させると、回収治具３０ａの貫通孔３２ａに露出した液滴が基板の縁の表面に接して基板の側面に接しない様に基板の表面を移動する。
オリフラに距離Ａだけずれて平行な線分をオリフラ複線と呼称する。
【００５３】
以下に、軌跡１００が円弧１０２とオリフラ複線１０１との組合わせである場合に、回収治具を軌跡１００に倣う様に基板に対して相対移動させる様子を示す。
図１２は、軌跡が円弧とオリフラ複線との組合わせである様子を示す。
オリフラ複線半径ｏｆｒは、基板中心とオリフラ線分との距離寸法であり、次の式で計算できる。
ｏｆｒ＝ｏｒ−Ａ
軌跡１００の半径ｒの円弧１０２とオリフラ複線１０１とが交差する位置βを算出する。
β＝ａｒｃｃｏｓ（ｏｆｒ／ｒ）
【００５４】
図１３は、回収治具を軌跡１００の円弧１０２に倣って相対移動させる様子を示している。
回収治具の代表点が円弧１０２に沿って移動し、オリフラ複線１０１に交差するまで、基板回転機器が基板を回転させる様子を示す。
基板の回転する角度θを算出する。
θ＝３６０°−γーｒｅｖ＋α−β
ｒｅｖは、予めティーチングされた値であり、作業者原点補正角度と呼称する。
作業者は、基板のオリフラの始点を基板位置決め機器の支持面にある所定の位置決めマークに合わせて置き、基板回転機器の保持面Ｍに乗せかえる。
駆動機器２０のアーム２１を固定したまま、基板回転機器１０が基板をθだけ回転させると、回収治具が軌跡１００の円弧１０２とオリフラ複線１０１の交点まで軌跡に倣って移動する。
【００５５】
図１４は、回収治具３０ａが軌跡１００のオリフラ複線１０１に倣ってオリフラ複線１０１の中央まで相対移動する様子を示している。
基板回転機器１０が基板１を所定のステップ角度Δδづつ回転させる。
回収治具の代表点とオリフラ複線の中央部が挟む角度δをβから順次Δδだけ減算する。Δδは、基板回転機器の駆動モータの１ステップの角度に依存し、例えば、０．１２°である。
δの初期値をβとして、δを順次δ−Δδで置き替える。
角度δを相対角度と呼称する。
相対角度δとオリフラ複線半径ｏｆｒとから基板中心と回収治具の代表点との距離ｍｒを算出する。
ｍｒ＝ｏｆｒ／ｃｏｓ（δ）
ｍｒをステップ毎にデータテーブルに保存する。
ステップ毎に、基板回転機器が基板をΔδだけ移動させるのと同時に、駆動機構２０が回収治具をｍｒの位置へ移動する。
【００５６】
図１５は、回収治具が軌跡のオリフラ複線に倣ってオリフラ複線の中央からオリフラ複線と円弧の交差点まで相対移動する様子を示している。
データテーブルからｍｒを読み出す。
ステップ毎に、基板回転機器が基板をΔδだけ移動させるのと同時に、駆動機構２０が回収治具をｍｒの位置へ移動する。
従って、回収治具が軌跡に倣って基板に対して相対移動し、液滴が基板の表面に接しつつ、基板の縁を一周する。
【００５７】
（液滴回収工程）
第一の形式の相対移動の場合と同じなので、説明を省略する。
【００５８】
（不純物計測工程）
第一の形式の相対移動の場合と同じなので、説明を省略する。
【００５９】
次に、第三の実施形態に係る制御を、図を基に、説明する。
図１６は、第三の形式の相対移動の様子を示す。
第三の形式の相対移動では、液滴を基板の側面に付着させたまま基板の縁に沿って前記回収治具を基板に対して相対移動させる。
第三の形式の相対移動では、第二の形式の回収治具３０ｂを用いる。
（基板検査装置準備工程）
第二の形式の相対移動の場合と同じなので、説明を省略する。
【００６０】
（基板セット工程）
第二の形式の相対移動の場合と同じなので、説明を省略する。
【００６１】
（液滴滴下工程）
第二の形式の相対移動の場合と同じなので、説明を省略する。
【００６２】
（基板走査工程）
駆動機器２０が、基板１の側面と回収治具３０の側面との間隔を一定の値に保ちつつ、所定の速度で、水平移動させる。一定の値は、回収治具３０ｂの貫通孔に露出した液滴が基板の側面に接する様になる値である。
図５（Ｂ）が、駆動機器２０に駆動される回収治具３０ｂを示す。
基板回転機器１０が、保持面Ｍに保持した基板１を回転中心軸の回りに回転させる。
回収治具３０ｂに貯留した液滴が、基板１の側面に付着したまま、基板１が回転する。
ＨＦ（ふっ化水素）水溶液の液滴が、基板の側面に付着つつ移動する。不純物を含む溶液が液滴に吸収される。
基板回転機器１０の回転移動の位置と駆動機器２０の水平移動の位置を連動させて、
基板の縁から距離Ｂだけ外側へずれて基板の縁に沿って一周した軌跡に倣って回収治具を相対移動させ、基板の表面の特定の領域の溶液を回収する。
距離Ｂは、貫通孔に露出する液滴が基板の側面に接し基板の縁の表面に接しないのに必要な基板の縁と回収治具との離間距離である、
【００６３】
図１６は、第三の形式の相対移動における軌跡の様子を示す。
第三の形式の相対移動における軌跡は、オリフラのついた基板の縁から距離Ｂだけ外側へ移動した形状である。
この軌跡に倣って回収治具３０ｂを相対移動させる手順は、第二の形式の相対移動の場合と同じなので、説明を省略する。  
従って、回収治具が軌跡に倣って基板に対して相対移動し、液滴が基板の側面に接しつつ、基板の縁を一周する。
【００６４】
（液滴回収工程）
第二の形式の相対移動の場合と同じなので、説明を省略する。
（不純物計測工程）
第二の形式の相対移動の場合と同じなので、説明を省略する。
【実施例】
【００６５】
以下に、駆動機構２０のアームに回収治具３０に替えてペンを把持させて、基板回転機構の表面に記録紙を乗せて、記録紙に軌跡を記録した例を説明する。
図１７は、矩形の領域を走査した実施例を示す。矩形の領域の中を、円弧と線分とを繋いだ一筆書きで走査した。直線部の始点と終点を先に説明した手順により移動し、円弧の始点と終点とをアームの揺動を止めて基板を回転させた。
図１８は、基板の縁に沿った円弧と弦とで囲われた領域を走査した実施例を示す。領域の中を、円弧と直線とを繋いだ一筆書きで走査した。直線部の始点と終点を先に説明した手順により移動し、円弧の始点と終点とをアームの揺動を止めて基板を回転させた。
図１９は、半径の異なる２つの円弧と２つの半径で囲われた領域を走査した実施例を示す。矩形の領域の中を、円弧と直線とを繋いだ一筆書きで走査した。直線部の始点と終点を先に説明した手順により移動し、円弧の始点と終点とをアームの揺動を止めて基板を回転させた。
図２０は、基板の縁と縁よりも小さな半径の円弧とで囲われた領域を走査した実施例を示す。領域の中を、第三の形式の相対移動の手順を用いて走査した。
【００６６】
上述の実施形態に係る基板検査装置を用いれば、以下の効果を発揮する。
基板を水平に保持して回転させる基板回転機器と下部に貫通孔をもち液滴を貯留可能な回収治具を貫通孔に露出した液滴を基板の表面に接する様に水平移動する駆動機構とを用意し、液滴が基板の表面の特定の領域をはみ出ない様に回収治具を移動する様にしたので、液滴を基板の表面の領域の内側の表面に付着させて移動でき、液滴が基板の特定の領域にある物質を捕集できる。
また、回収治具を先端に保持できるアームとアームを揺動できるアーム揺動機構とで駆動機器を構成したので、基板回転機構による基板の回転とアームの揺動による回収治具の半径方向への移動を組合わせて、回収治具を基板に対して相対移動できる。
また、回収治具の水平移動する軌跡が基板回転機構の回転中心軸に交差する様にしたので、その幾何的な関係を利用して、基板回転機構の回転角とアームの揺動角度を簡単な式で算出でき、簡易に回収治具を基板に対して相対移動できる。
また、第一の形式の相対移動では、特定の領域をはみ出ない様に円弧と線分とを繋いで構成される軌跡に倣って回収治具を基板に対して相対移動する様にしたので、基板回転機器による基板の回転と駆動機構による回収治具の水平移動を組合わせて、簡易に回収治具の貫通孔に露出した液滴を特定の領域の内側の表面に付着させて移動でき、液滴が基板の特定領域に有る物質を効率良く捕集できる。
また、軌跡の複数の円弧のピッチを液滴の大きさよりも小さくしたので、液滴が基板の特定の領域にある物質を残らないように捕集できる。
また、軌跡が一筆書きであるので、液滴が基板の表面の特定の領域の内側の表面に付着させて無駄な移動をせずに移動できるので、液滴が基板の特定の領域にある物質を効率良く短時間で捕集できる。
また、第二の形式の相対移動では、オリフラを持った基板の縁から距離Ａだけ内側へずれて基板の縁に沿って一周した軌跡に倣って前記回収治具を相対移動させる様にしたので、基板の縁に沿って回収治具の貫通孔に露出した液滴を移動でき、液滴が基板の縁の表面にある物質を捕集でき、基板の縁に沿った側面にある物質を捕集しない様にすることができる。  
また、第三の形式の相対移動では、内部空間に貯留され前記貫通孔に露出した液滴を基板の側面に接する様に前記回収治具を保持しつつ前記回転治具を水平方向に移動する様にし、液滴を基板の側面に付着させたまま基板の縁に沿って前記回収治具を基板に対して相対移動させる様にしたので、液滴が基板の側面にある物質を捕集できる。
また、オリフラを持った基板の縁から距離Ｂだけ外側へずれて基板の縁に沿って一周した軌跡に倣って前記回収治具を相対移動させる様にしたので、回収治具の貫通孔に露出した液滴をオリフラ付きの基板の側面に沿って移動でき、液滴がオリフラ付きの基板の側面にある物資を効率よく捕集できる。
【００６７】
本発明は以上に述べた実施形態に限られるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で各種の変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明の実施形態に係る基板検査装置の平面図である。
【図２】本発明の実施形態に係る基板検査装置の正面図である。
【図３】本発明の実施形態に係る基板検査装置の側面図である。
【図４】本発明の実施形態に係る第一の形式の回収治具の概念図である。
【図５】本発明の実施形態に係る第二の形式の回収治具の概念図である。
【図６】本発明の実施形態に係る第一の形式の相対移動の概念図その１である。
【図７】本発明の実施形態に係る第二の形式の相対移動の概念図その１である。
【図８】本発明の実施形態に係る第二の形式の相対移動の概念図その２である。
【図９】本発明の実施形態に係る第二の形式の相対移動の概念図その３である。
【図１０】本発明の実施形態に係る第二の形式の相対移動の概念図その４である。
【図１１】本発明の実施形態に係る第二の形式の相対移動の概念図その５である。
【図１２】本発明の実施形態に係る第二の形式の相対移動の概念図その６である。
【図１３】本発明の実施形態に係る第二の形式の相対移動の概念図その７である。
【図１４】本発明の実施形態に係る第二の形式の相対移動の概念図その８である。
【図１５】本発明の実施形態に係る第二の形式の相対移動の概念図その９である。
【図１６】本発明の実施形態に係る第三の形式の相対移動の概念図その１である。
【図１７】本発明の実施形態に係る相対移動の実施例その１である。
【図１８】本発明の実施形態に係る相対移動の実施例その２である。
【図１９】本発明の実施形態に係る相対移動の実施例その３である。
【図２０】本発明の実施形態に係る相対移動の実施例その４である。
【符号の説明】
【００６９】
Ｍ    保持面
Ｎ    支持面
Ｌ    水平面
Ｋ    傾斜面
Ｘ    接触点
１    基板
２    基板検査装置
３    下部構造体
４    液滴
１０    基板回転機器
２０    駆動機器
２１    アーム
２２    アーム回転軸
２３    アーム回転基台
２４    回収治具フォルダー
３０    回収治具
３０ａ  回収治具
３１ａ  筒状部
３２ａ  貫通孔
３３ａ  フランジ部
３０ｂ  回収治具
３１ｂ  筒状部
３２ｂ  貫通孔
３３ｂ  フランジ部
４０    回収治具セット機器
４１    バイアル
５０    基板位置決め機構
５１    ベース
５２    ディスク
５３    リフター
６０    ウエハーホルダー
７０    制御機器
１００    軌跡
１０１    線分
１０２    円弧
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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