(57)【要約】      （修正有）【課題】ガラス等からなる基板のコーティングが形成されない領域にマスクをセットして、コーティング領域に表面が平坦なコーティングを形成する塗布装置において、使用されるマスクの着脱にかかる時間を短縮でき、マスクを洗浄して再利用できる塗布装置を提供する。【解決手段】非コーティング領域の内周と同じ内周を有するマスク４０を用意し、このマスク４０を前面基板のマスクセット位置にセットし、塗布機構３４によりコーティング材をスプレーした後、前面基板からマスク４０を外し、マスク４０に付着しているコーティング材を洗浄し、塗布装置３４のマスクとして再利用する。【選択図】図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被塗布基板をセット位置からセパレート位置に向かって搬送する第１の搬送手段と、
マスクを、前記第１の搬送手段と逆方向に、第１の位置から第２の位置に向かって搬送する第２の搬送手段と、
前記第２の搬送手段により搬送される前記マスクを、前記第２の位置から、前記第１の搬送手段によりセット位置に搬送される前記被塗布基板上のマスクセット位置に移すマスクセット手段と、
前記被塗布基板の前記マスクがセットされる面に塗布材を塗布する塗布手段と、
前記第１の搬送手段により、前記被塗布基板とともに前記セパレート位置に搬送される前記マスクを、前記被塗布基板上から前記第１の位置に移すマスクセパレート手段と、
前記マスクが前記第１の位置から前記第２の位置に移動される間に、前記マスクに付着した塗布材を除去するマスククリーニング手段とを有することを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記被塗布基板は、ガラス材からなることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記マスクは、金属からなり、自重により前記被塗布基板に密着することを特徴とする請求項１あるいは２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記マスクは、前記被塗布基板との密着性を高めるための弾性体を、前記被塗布基板と対向する面に備えることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の塗布装置。
【請求項５】
前記塗布材は、珪酸ナトリウム塩を含む流体であることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項６】
前記塗布手段は、塗布材を塗布し、前記被塗布基板のうち前記マスクに覆われていないコーティング領域に、表面が平坦なコーティングを形成することを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項７】
蛍光体スクリーンおよび反射材が形成される反射材領域を有する前面基板と、電子放出素子が形成される背面基板と、両基板とを接合する側壁を有する表示パネルの製造装置において、
蛍光体スクリーンが形成されている前面基板を、セット位置からセパレート位置に向かって搬送する第１の搬送手段と、
前記側壁が形成される領域を被覆するための形状を有するマスクを、前記第１の搬送手段と逆方向に、第１の位置から第２の位置に向かって搬送する第２の搬送手段と、
前記第２の搬送手段により搬送されてきた前記マスクを、前記第２の位置から、前記第１の搬送手段によりセット位置に搬送される前記前面基板上のマスクセット位置に移すマスクセット手段と、
前記前面基板の前記マスクがセットされる面に塗布材を塗布し、前記前面基板のうち前記マスクに被覆されていない反射材領域に、表面が平坦なコーティング層を形成する塗布手段と、
前記第１の搬送手段によりセパレート位置に搬送されてきた前記マスクを、前記前面基板上から前記第１の位置に移すマスクセパレート手段と、
前記マスクが前記第１の位置から前記第２の位置に移動される間に、前記マスクに付着する塗布材を除去するマスククリーニング手段とを有することを特徴とする表示パネル製造装置。
【請求項８】
前記マスクは、金属からなり、自重により前記前面基板に密着することを特徴とする請求項７に記載の表示パネル製造装置。
【請求項９】
前記マスクは、前記前面基板との密着性を高めるための弾性体を、前記前面基板と対向する面に備えることを特徴とする請求項７あるいは８に記載の表示パネル製造装置。
【請求項１０】
前記塗布材は、珪酸ナトリウム塩を含む流体であることを特徴とする請求項７に記載の表示パネル製造装置。
【請求項１１】
蛍光体スクリーンおよび反射材が形成される反射材領域を有する前面基板と、電子放出素子が形成される背面基板と、前面基板の反射材領域の外周に形成される接合領域に配置され、両基板とを接合する側壁を有する表示パネルにおいて、
前記前面基板は、前記反射材領域に前記反射材の下地層として形成される、珪酸ナトリウム塩を含むコーティング層を有することを特徴とする表示パネル。
【請求項１２】
前記表示パネルは、表面伝導型電子放出装置に搭載されることを特徴とする請求項１１に記載の表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、利用するマスクを洗浄して再利用する塗布装置および表示パネル製造装置、および表面が平坦な反射材の下地層を有する前面基板が組み込まれる表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、陰極線管（以下、ＣＲＴと称する）に代わる次世代の軽量、薄型の表示装置として様々な平面型の表示装置が注目されている。例えば、平面表示装置として用いられるフィールド・エミッション・ディスプレイ（以下、ＦＥＤと称する）の一種として、表面伝導型電子放出装置（以下、ＳＥＤと称する）の開発が進められている。
【０００３】
このＳＥＤは、所定の間隔をおいて対向配置された前面基板および背面基板を備え、これらの基板は矩形枠状の側壁を介して周辺部を互いに接合することにより真空外囲器を構成している。前面基板の内面には３色の蛍光体層が形成され、背面基板の内面には、蛍光体を励起発光させるための電子源として、各画素に対応する多数の電子放出素子が配列されている。各電子放出素子は、電子放出部、この電子放出部に電圧を印加する一対の電極等で構成されている。
【０００４】
上記のようなＳＥＤにおいて、前面基板および背面基板間の空間、すなわち真空外囲器内は、高い真空度に維持され、面方向に一定の高さを有することが重要となる。また、側壁が形成される領域（接合領域）に、側壁と両基板との間に配置される接合材以外が形成されると、接着力が低下する問題がある。
【０００５】
このため、表面を平坦にする目的で形成されるコーティング層は、接合領域を除く反射材が形成される領域に形成することが要求される。このとき、前面基板の上には、接合領域を被覆するマスクがセットされ、スプレー等による塗布処理が施されて、コーティング層が形成される。
【０００６】
従来、このマスクは、人手により貼り付けられるマスキングテープ等であり、使用後は、再使用されずに、破棄されていた。
【０００７】
例えば、基板上にコーティングの削除部分を含む所望のコ−ティング形状を提供するように、基板の選択された部分がコーティング材でコーティングされるのを防止するための、剛性を有し、単片エッジを備える再使用可能なマスクが知られている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特表２００２−５２４２５２号公報。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、量産化に伴う製造工程において、人手によるマスキングテープの着脱は時間がかかり、また、塗布工程が終了した後のマスキングテープは破棄されるため、製造コストの増加という問題がある。
【０００９】
また、反射材の下地は、ドット状あるいはストライプ状に形成される蛍光層Ｒ，Ｇ，Ｂを有する蛍光体スクリーンであって、表面が平坦にならない虞がある。
【００１０】
この発明は、以上の点に鑑みなされたもので、その目的は、利用するマスクを洗浄して再利用する塗布装置および表示パネル製造装置、および表面が平坦な反射材の下地層が形成される表示パネルを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するため、本発明の塗布装置は、被塗布基板をセット位置からセパレート位置に向かって搬送する第１の搬送手段と、マスクを、前記第１の搬送手段と逆方向に、第１の位置から第２の位置に向かって搬送する第２の搬送手段と、前記第２の搬送手段により搬送される前記マスクを、前記第２の位置から、前記第１の搬送手段によりセット位置に搬送される前記被塗布基板上のマスクセット位置に移すマスクセット手段と、前記被塗布基板の前記マスクがセットされる面に塗布材を塗布する塗布手段と、前記第１の搬送手段により、前記被塗布基板とともに前記セパレート位置に搬送される前記マスクを、前記被塗布基板上から前記第１の位置に移すマスクセパレート手段と、前記マスクが前記第１の位置から前記第２の位置に移動される間に、前記マスクに付着した塗布材を除去するマスククリーニング手段とを備えている。
【００１２】
また、本発明の表示パネル製造装置は、蛍光体スクリーンおよび反射材が形成される反射材領域を有する前面基板と、電子放出素子が形成される背面基板と、両基板とを接合する側壁を有する表示パネルの製造装置において、蛍光体スクリーンが形成されている前面基板を、セット位置からセパレート位置に向かって搬送する第１の搬送手段と、前記側壁が形成される領域を被覆するための形状を有するマスクを、前記第１の搬送手段と逆方向に、第１の位置から第２の位置に向かって搬送する第２の搬送手段と、前記第２の搬送手段により搬送されてきた前記マスクを、前記第２の位置から、前記第１の搬送手段によりセット位置に搬送される前記前面基板上のマスクセット位置に移すマスクセット手段と、前記前面基板の前記マスクがセットされる面に塗布材を塗布し、前記前面基板のうち前記マスクに被覆されていない反射材領域に、表面が平坦なコーティング層を形成する塗布手段と、前記第１の搬送手段によりセパレート位置に搬送されてきた前記マスクを、前記前面基板上から前記第１の位置に移すマスクセパレート手段と、前記マスクが前記第１の位置から前記第２の位置に移動される間に、前記マスクに付着する塗布材を除去するマスククリーニング手段とを備えている。
【００１３】
さらに、本発明の表示パネルは、蛍光体スクリーンおよび反射材が形成される反射材領域を有する前面基板と、電子放出素子が形成される背面基板と、前面基板の反射材領域の外周に形成される接合領域に配置され、両基板とを接合する側壁を有する表示パネルであって、前記前面基板は、前記反射材領域に前記反射材の下地層として形成される、珪酸ナトリウム塩を含むコーティング層を備えている。
【発明の効果】
【００１４】
以上説明したように、この発明によると、ガラス材からなる基板のコーティング領域に表面が平坦なコーティングを形成し、コーティングが形成されない領域にセットされるマスクを洗浄して再利用することにより、生産コストを削減できる。また、本発明の塗布装置は、基板にマスクをセットする工程と、マスクの洗浄工程との両方を自動で実行するため、製造時間が短縮できる。
【００１５】
また、水ガラス層１７は接合領域２００に形成されていないため、接合領域に形成される側壁１４は、前面基板１０および背面基板１２と良好に接合され、側壁１４は、高い接合強度が確保できる。また、メタルバック１８の下地の表面が平坦であることにより、表面が平坦なメタルバック１８が形成されやすくなる。このため、メタルバック１８は、面方向に均一な反射率を有し、また電子放出素子１９から放出される電子ビームによる劣化が低減され、ライフが延長される。また、下地である水ガラス層１７の表面が平坦であるため、メタルバック１８に皺が形成されることが防止され、歩留まりを向上できる。
【００１６】
さらに、本実施の形態で説明したように、スプレーによりコーティング層を塗布する塗布装置を用いることにより、コーティング層が形成される被塗布基板の表面、すなわち蛍光体スクリーン１６の表面はダメージを受けにくい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、図面を参照しながら、この発明の実施の形態について詳細に説明する。ここでは、本発明の実施の形態に係る表示パネルを備える表示装置の一例として、ＳＥＤについて説明する。
【００１８】
図１に示すとおり、表示パネル１は、それぞれ矩形状のガラス板からなる前面基板１０および背面基板１２を備え、これらの基板は一定の間隔を有する隙間をおいて対向配置されている。この基板間の距離は、約１．０〜２．０ｍｍであることが好ましい。そして、前面基板１０および背面基板１２は、ガラスからなる矩形枠状の側壁１４を介して周縁部同志が接合され、内部が真空の扁平な表示パネル（真空外囲器）１を構成している。
【００１９】
図２および図３に示すとおり、前面基板１０の内面には画像表示面として機能する蛍光体スクリーン１６が形成されている。この蛍光体スクリーン１６は、赤、青、緑の蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂ、および遮光層１１を並べて構成され、これらの蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂはストライプ状あるいはドット状に形成されている。また、蛍光体スクリーン１６上には、蛍光体スクリーン１６をコーティングするコーティング層１７が形成されている。さらに、このコーティング層１７の上には、アルミニウム等からなる反射材（メタルバック）１８が形成されている。
【００２０】
コーティング層１７は、水ガラス系の液体、すなわち珪酸ナトリウム塩を含む流体が塗布され、定着されて形成される。なお、本実施の形態において、コーティング層１７は、説明のため以下、水ガラス層１７と記す。水ガラス層１７は、メタルバック１８の下地である蛍光体スクリーン１６の表面を平坦にするためのコーティングである。
【００２１】
背面基板１２の内面には、蛍光体スクリーン１６の蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂを励起発光させるための電子源として、それぞれ電子ビームを放出する多数の表面伝導型の電子放出素子１９が設けられている。これらの電子放出素子１９は、画素毎に対応して複数列および複数行に配列されている。各電子放出素子１９は、図示しない電子放出部、この電子放出部に電圧を印加する一対の素子電極等で構成されている。また、背面基板１２の内面上には、電子放出素子１９に電位を供給する多数本の配線２１（図１参照）がマトリックス状に設けられ、その端部は表示パネル１の外部に引出されている。
【００２２】
接合部材として機能する側壁１４は、例えば、低融点ガラス、低融点金属等の接合材２０により、前面基板１０の周縁部および背面基板１２の周縁部に封着され、両基板を接合している。
【００２３】
また、表示パネル１は、前面基板１０および背面基板１２の間に配設された矩形板状のスペーサ２２を備えている。スペーサ２２は、ストライプ状に配置され、各電子放出素子１９および蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂに干渉しないように前面基板１０および背面基板１２の内面に当接して、これらの基板に作用する大気圧荷重を支持し、基板間の間隔を所定値に維持している。なお、スペーサの形状はこれに限られず、たとえば、多数の柱状のスペーサであってもよい。
【００２４】
画像を表示する場合、配線２１を介して電子放出素子１９を駆動し、任意の電子放出素子から電子ビームを放出するとともに、蛍光体スクリーン１６およびメタルバック１８にアノード電圧を印加する。電子放出素子１９から放出された電子ビームは、アノード電圧により加速され、蛍光体スクリーン１６に衝突する。これにより、蛍光体スクリーン１６の蛍光体層Ｒ、Ｇ、Ｂが励起されて発光し、画像を表示する。
【００２５】
次に、図４を用いて前面基板１０についてより詳細に説明する。
【００２６】
図４は、側壁１４を介して背面基板１２と接合される以前の前面基板１０の概略図である。
【００２７】
図４に示すとおり、前面基板１０は、メタルバック１８が形成されるメタルバック領域１００と、このメタルバック領域１００の外周に所定の幅で形成される接合領域２００とを有する。
【００２８】
メタルバック領域１００は、外周Ｓ１を有し、上に説明したとおり、蛍光体スクリーン１６、水ガラス層１７、メタルバック１８が順に積層される。
【００２９】
接合領域２００は、接合材２０が塗布され、側壁１４を介して背面基板１２と接合される領域である。接合領域２００は、メタルバック領域１００の外周Ｓ１と同じ内周Ｓ１と、前面基板１０の外周Ｓ２と同じ外周Ｓ２を有する。本実施の形態において、接合領域２００は、幅が１０ｍｍないし１２ｍｍ程度であることが好ましい。また、接合領域２００は、外周方向に同じ幅で形成されなくてもよく、４辺においてそれぞれ異なる幅で形成されてもよい。
【００３０】
なお、接触領域２００は、このサイズに限られず、例えばメタルバック領域１００の外周Ｓ１より大きい内周Ｓ４を有し、メタルバック領域１００と非接触で、メタルバック領域１００と接触領域２００の間に、所定の領域が形成されてもよい。また、接合領域２００には、予め接合材２０が形成されていてもよい。
【００３１】
次に、図５〜８を用いて、前面基板１０にコーティング層（水ガラス層）１７を形成する塗布装置および表示パネル製造装置の一例について詳細に説明する。
【００３２】
図５は、本発明の実施の形態に適用可能な塗布装置に利用できるマスクの一例について説明する概略図である。また、図６は、前面基板１０の上に整合させて図５に示すマスクを配置した時の、破線５−５における断面図である。
【００３３】
図５に示すとおり、マスク４０は、接合領域２００の内周Ｓ１と同じ内周Ｓ１と、前面基板１０の外周より大きい外周Ｓ３を有する。すなわち、マスク４０は、接合領域２００の上に、それぞれの内周Ｓ１が整合するように配置された場合、少なくとも接合領域２００を被覆するためのサイズを有する。よって、マスク４０の外周は、前面ガラス基板１０の外周と同じであってもよく、少なくとも外周Ｓ２以上であればよい。
【００３４】
なお、上述したとおり、接合領域２００が内周Ｓ４を有する場合は、マスク４０の内周も内周Ｓ４である。
【００３５】
マスク４０は、例えば銅、鉄、ステンレス剛、アルミニウム等の金属からなり枠状部材であって、前面基板１０と接するＡ面４１と、Ａ面４１の逆のＢ面４２を有する。なお、マスク４０は、自重により、前面基板１０とマスク４０との接触面に所定の圧力を提供して、コーティング材である水ガラスが侵入してこない程度の密着性を有するような所定の厚さを有する。
【００３６】
Ｂ面４２は、所定の位置に形成される接続部４３を有し、マスク４０を移動する際に利用される。また、Ｂ面４２には、所定の重さの錘４４が設けられてもよい。錘４４により、マスク４０は、前面基板１０により密着できる。また、錘４４は、剛性のある金属等により構成され、マスク４０の補強材としても機能する。これにより、後に説明するマスクセット機構３３に運ばれて前面基板１０にセットされる際、マスク４０がゆがむことが防止され、マスク４０は前面基板１０のマスクセット位置に配置され易くなる。
【００３７】
Ａ面４１は、ガラス材である前面基板と密着するため、水平である。Ａ面４１は、前記基板１０上にセットされる際、内周が、前面基板１０の接合領域２００の内周と一致するための整合部４５を有する。整合部４５は、例えば、搬送される前面基板１０の搬送方向上流側に形成され、所定の高さを有し、この高さ部分の側壁が前面基板１０の外周Ｓ２に沿って成形される構成を有する（図５参照）。
【００３８】
よって、例えば後に説明する第１の搬送手段３１により搬送されてきた前面基板１０は、整合部４５により停止され、マスク４０は、接合領域２００とマスク４０の内周が一致するように整合されるマスクセット位置に配置される。なお、整合部４５は、図に示す形状に限られず、例えばピンあるいはフック形状であってもよい。
【００３９】
このように、マスク４０は、セット位置Ｒ１に位置される前面基板１０と整合されて、マスクセット位置である前面基板１０の接合領域の上に位置されることにより、整合関係を維持して、前面基板１０と密着できる。
【００４０】
また、Ａ面４１は、図６に示すとおり、ガラス基板である前面基板１０との密着性を高めるため、弾性材、例えばスポンジ層，ゴムシート，樹脂テープ等、からなる中間部材４６を備えることが好ましい。中間部材４６は、前面基板１０とマスク４０が接する面と同じ面積を有する枠状に形成されることが好ましいが、内周がマスク４０の内周と同じであれば、外周は前面基板１０の外周より小さくてもよい。
【００４１】
マスク４０は、前面基板１０の上に配置され、自重により中間部材４６に圧力が与えられると、中間部材４６は圧縮され、前面基板１０とマスク４０との間には隙間が存在しないため、水ガラスの侵入を防止できる。
【００４２】
図７は、本発明の実施の形態に係る塗布装置の概略図である。また、図８は、この塗布装置を平面的に示した概略図である。
【００４３】
図７に示すとおり、塗布装置３０は、前面基板１０を第１の方向Ｐに搬送する第１の搬送手段３１と、第１の方向と逆の第２の方向Ｑにマスク４０を搬送する第２の搬送手段３２と有する。より詳細には、第１の搬送手段３１は、前面基板１０をセット位置Ｒ１からセパレート位置Ｒ２に搬送し、第２の搬送手段３２は、マスク４０を第１の位置Ｒ３から第２の位置Ｒ４に搬送する。なお、この第１，第２の搬送手段３１，３２は、常に動作されていても、所定のタイミングに応じて、所定に時間だけ動作されてもいい。すなわち、第１，第２の搬送手段３１，３２は、次に説明するような所定の処理が実行される実行時間に応じて、搬送対象である前面基板１０やマスク４０を搬送することが好ましい。
【００４４】
また、塗布装置３０は、セット位置Ｒ１に配置された前面基板１０にマスク４０をセットするマスクセット機構３３と、マスクがセットされた前面基板１０にコーティング剤を塗布する塗布機構３４と、コーティング剤が塗布された前面基板１０からマスク４０を離すマスクセパレート機構３５と、塗布処理が終了したマスク４０を洗浄するマスク洗浄機構３６を有する。
【００４５】
マスクセット機構３３は、マスク保持部３３Ａと、マスク保持部３３Ａを第１，第２の搬送手段３１，３２の搬送方向ＰＱと直行する矢印ＴＵ方向に移動する移動機構３３Ｂを含み、セット位置Ｒ１にマスク４０を移動し、セット位置Ｒ１に搬送される前面基板１０のマスクセット位置にマスク４０をセットする。マスク保持部３３Ａは、マスク４０の接続部４３を介してマスク４０を保持する。なお、マスクセット機構３３は、セット位置Ｒ１に移動したマスク４０が整合部４５を利用して前面基板１０と整合され易いように、高さ方向Ｗ（図７参照）にマスク保持部３３Ａを移動する構成である。
【００４６】
また、マスクセット機構３３は、図示しない加圧機構を備え、密着性を高める目的で前面基板１０とマスク４０との接触面に圧力を提供する構成であってもよい。このとき、上に説明した中間部材４６は、弾性材からなる材質を利用して、加圧機構から前面基板１０に与えられる力を緩和するための、クッション材（吸収材）となり得る。
【００４７】
塗布機構３４は、前面基板１０に塗布材（水ガラスの液体）をスプレーする。前面基板１０は、の蛍光体スクリーン１６が形成されている面のうち、マスク４０で覆われていない領域に、水ガラスの液体がスプレーされる。これにより、メタルバック領域１００は、蛍光体スクリーン１６上に水ガラス層１７が塗布される。また、マスク４０にも、水ガラスが付着する。
【００４８】
塗布機構３４は、例えば矢印ＰＱ方向に移動するスプレー機構３４Ａと、矢印ＴＵ方向に移動するスプレー機構３４Ｂを有する構成であって、メタルバック領域１００の面方向に均一に水ガラスをスプレーできる。なお、スプレー機構３４Ａ，３４Ｂは、所定のガス等と水ガラスをスプレーするダウンフローを用いるものであってもよい。また、塗布材としての水ガラスは、乾燥による定着するまでの時間を短縮するために、脱水剤を含むものであってもよい。
【００４９】
マスクセパレート機構３５は、マスク保持部３５Ａと矢印ＴＵ方向に移動する移動機構３５Ｂを含み、セパレート位置Ｒ２に到着した前面基板１０からマスク４０を外し、第１の位置Ｒ３にマスク４０を移動する。なお、マスク保持部３５Ａは、マスク４０の接続部４３を介してマスク４０を保持する。また、マスクセパレート機構３５は、マスクセット機構３３と同様に、高さ方向Ｗ（図７参照）にマスク保持部３５Ａを移動する構成である。
【００５０】
マスク洗浄機構（マスククリーニング機構）３６は、第２の搬送手段３２により矢印Ｐ方向に移動されるマスク４０を洗浄し、塗布機構３４の塗布工程（コーティング）により塗布された水ガラスを洗浄する。マスク洗浄機構３６は、例えばマスク４０のＢ面４２側から水を吹き付けマスク４０に付着する水ガラスを洗い流し、エアー等を吹き付け水気を除去する構成である。なお、マスク洗浄機構３６は、マスク４０のＢ面４２側からエアーを吹き付けることにより付着物を除去する構成であってもよい。
【００５１】
第１の搬送手段３１により、セット位置Ｓ１に搬送された蛍光体スクリーン１６を有する前面基板１０は、マスクセット機構３３により運ばれたマスク４０がマスクセット位置に配置され、セットされる。マスク４０がセットされた前面基板１０は、塗布装置３４により水ガラスの液体がスプレーされ後、セパレート位置Ｒ２に搬送される。マスクセパレート機構３３は、マスク４０を保持し、第１の位置Ｒ３に移動する。マスク４０が外された前面基板１０には、メタルバック領域１００に平坦な表面を有する水ガラス層１７が形成される。なお、前面基板１０に形成された水ガラス層１７は、この後、図示しないホットプレート等により熱が与えられ、あるいは所定時間放置されて安定する。
【００５２】
一方、前面基板１０から外され、第１の位置Ｒ３に配置されたマスク４０は、第２の搬送手段３２により、マスク洗浄機構３６に搬送され、洗浄される。洗浄されたマスク４０は、再びセット位置Ｒ１に配置され、塗布機構３４のマスクとして利用される。
【００５３】
このように、マスク４０は、コーティングされた後に破棄されることなく、洗浄して再利用されるため、生産コストを削減でき、環境にもやさしい。また、自動でマスクの着脱ができるため、人手より生産コストも製造時間も削減・短縮できる。
【００５４】
なお、マスク保持部３３Ａ，３５Ａは、接続部４３を介したマスク４０の保持に限られず、例えばマスク４０と所定の空間を介して密着する空気調整部を利用して、この空気調整部のエアーを調節して、マスク４０の着脱できる構成であってもよい。
【００５５】
また、図５に示すとおり、第１，第２の搬送手段３１，３２は、同じ搬送距離であって、搬送方向Ｐ，Ｑが平行になるように配置されることにより、セット位置Ｒ１と第２の位置Ｒ４、セパレート位置Ｒ２と第１の位置Ｒ３がそれぞれ近くなる。このため、マスクセット機構３３とマスクセパレート機構３５により、移動されるマスク４０の移動距離は短くなり、移動時間も短縮できる。
【００５６】
なお、本実施の形態において、コーティング剤として水ガラスを例にして説明したが、本発明はこれに限られず、所定の粘性と拡散性を有し、表面をコーティングする媒体が利用でき、例えば遮光層１１を形成する際に利用されるレジスト材やブラックマトリクス材等であってもよい。
【００５７】
また、本実施の形態において、被塗布基板としては前面基板１０を例にして説明したが、本発明はこれに限られず、例えば背面基板１２であってもよく、例えば電子放出素子１９を形成する際に帯電防止膜をスプレー法により形成する際に利用できる。
【００５８】
また、本実施の形態においては、一枚のマスク４０を利用する方法の例を説明したが、本発明はこれに限られず、例えば塗布面を大きさを変更するためのマスク等をマスク４０に重ねて、すなわち２枚以上のマスクを利用するものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】この発明の実施の形態に係る塗布装置により形成されるコーティング層を有する前面基板を備える表示パネルを示す外概略図。
【図２】図１の表示パネルの断面的な概略斜視図。
【図３】図１の表示パネルを部分的に拡大して示す断面図。
【図４】図１の表示パネルに組み込まれる前面基板を示す外観斜視図。
【図５】本発明の実施の形態に係る塗布装置に利用可能なマスクの一例を示す概略図。
【図６】図５のマスクが前面基板の上に配置されたときの接触部分を説明する断面図。
【図７】本発明の実施の形態に係る塗布装置の一例を説明する概略図。
【図８】図７の塗布装置を平面的に示す概略図。
【符号の説明】
【００６０】
１…表示パネル、
１０…前面基板、
１２…背面基板、
１４…側壁、
１６…蛍光体スクリーン、
１７…水ガラス層、
１８…メタルバック、
１９…電子放出素子、
２２…スペーサ、
４０…マスク、
１００…メタルバック領域、
２００…接合領域、
３０…第３の作業機構、
３１，３２…第１，第２の搬送手段、
３３…マスクセット機構、
３４…塗布機構、
３５…マスクセパレート機構、
３６…マスク洗浄機構。
【図１】
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【図２】
2005262091.tif 000004
【図３】
2005262091.tif 000005
【図４】
2005262091.tif 000006
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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