(57)【要約】【課題】  複数チップで一ショット単位が構成されたレチクルデザインの場合、本来正常なチップをもデフォーカスして露光する為に歩留まりが低下する一因となっている。【解決手段】  フォーカス検出機構からの信号を受けて感光基板の表面を結像面に位置決めして原版のパターンを転写露光する露光装置において、露光対象となる領域を規定のフォーカス位置決め精度内に追い込めない場合に該領域をフォーカスエラーの発生した領域と判断する機能と、フォーカスエラーが発生した直後に露光光源からの露光光を遮断もしくは発光指令を停止する機能と、露光を停止したあとも該領域の面位置計測を継続する機能と、面位置計測の結果から求まる所定のフォーカス及びチルトポジションにおいて原版のパターンを該領域へ転写露光できる機能と具備した露光装置とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォーカス検出機構からの信号を受けて感光基板の表面を結像面に位置決めして原版のパターンを転写露光する露光装置において、露光対象となる領域を規定のフォーカス位置決め精度内に追い込めない場合に該領域をフォーカスエラーの発生した領域と判断する機能と、フォーカスエラーが発生した直後に露光光源からの露光光を遮断もしくは発光指令を停止する機能と、露光を停止したあとも該領域の面位置計測を継続する機能と、面位置計測の結果から求まる所定のフォーカス及びチルトポジションにおいて原版のパターンを該領域へ転写露光できる機能を具備する露光装置。
【請求項２】
前記フォーカスエラーの発生した領域の面位置計測の結果は、該領域内の計測値群からなることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記フォーカスエラーの発生した領域の面位置計測の結果は、該領域に隣接する領域の一部を含んだ計測値群からなることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
前記フォーカスエラーの発生した領域の面位置計測の結果求まる所定のフォーカス及びチルトポジションは、該領域内の計測値群から算出されることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項５】
前記フォーカスエラーの発生した領域の面位置計測の結果求まる所定のフォーカス及びチルトポジションは、該領域に隣接する領域の一部を含んだ計測値群から算出されることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項６】
前記フォーカスエラーの発生した領域を転写露光する際のステージの所定のフォーカスポジションは、露光対象ウエハにおいて予め行われているグローバルフォーカス及びグローバルチルト計測結果から導かれるステージのフォーカス及びチルト目標値であることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項７】
前記フォーカスエラーの発生した領域を転写露光する際のステージの所定のフォーカスポジションは、直前に正常に露光された領域におけるフォーカス及びチルト目標値であることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項８】
走査露光装置において、スキャン中に露光対象となる領域を規定のフォーカス位置決め精度内に追い込めない場合に該領域をフォーカスエラーの発生した領域と判断する機能と、フォーカスエラーの発生した該領域の露光はスキャン方向を反転して露光する機能を具備する走査露光装置。
【請求項９】
前記フォーカスエラーの発生した領域の露光を、スキャン方向を反転して露光する際のステージの所定のフォーカスポジションは、露光対象ウエハにおいて予め行われているグローバルフォーカス及びグローバルチルト計測結果から導かれるステージのフォーカス及びチルト目標値であることを特徴とする請求項８に記載の走査露光装置。
【請求項１０】
前記フォーカスエラーの発生した領域の露光を、スキャン方向を反転して露光する際のステージの所定のフォーカスポジションは、直前に正常に露光された領域におけるフォーカス及びチルト目標値であることを特徴とする請求項８に記載の走査露光装置。
【請求項１１】
走査露光装置において、スキャン中に露光対象となる領域を規定のフォーカス位置決め精度内に追い込めない場合に該領域をフォーカスエラーの発生した領域と判断する機能と、フォーカスエラーが発生した直後に露光光源からの露光光を遮断もしくは発光指令を停止する機能と、露光を停止したあとも該領域の面位置計測を継続する機能と、面位置計測の結果から求まる所定のフォーカス及びチルトポジションにおいてフォーカスエラーの発生した該領域の露光はスキャン方向を反転して露光する機能を具備する走査露光装置。
【請求項１２】
前記フォーカスエラーの発生した領域の面位置計測の結果は、該領域内の計測値群からなることを特徴とする請求項１１に記載の走査露光装置。
【請求項１３】
前記フォーカスエラーの発生した領域の面位置計測の結果は、該領域に隣接する領域の一部を含んだ計測値群からなることを特徴とする請求項１１に記載の走査露光装置。
【請求項１４】
前記フォーカスエラーの発生した領域の面位置計測の結果求まる所定のフォーカス及びチルトポジションは、該領域内の計測値群から算出されることを特徴とする請求項１１に記載の走査露光装置。
【請求項１５】
前記フォーカスエラーの発生した領域の面位置計測の結果求まる所定のフォーカス及びチルトポジションは、該領域に隣接する領域の一部を含んだ計測値群から算出されることを特徴とする請求項１１に記載の走査露光装置。
【請求項１６】
前記フォーカスエラーの発生した領域を転写露光する際のステージの所定のフォーカスポジションは、露光対象ウエハにおいて予め行われているグローバルフォーカス及びグローバルチルト計測結果から導かれるステージのフォーカス及びチルト目標値であることを特徴とする請求項１１に記載の走査露光装置。
【請求項１７】
前記フォーカスエラーの発生した領域を転写露光する際のステージの所定のフォーカスポジションは、直前に正常に露光された領域におけるフォーカス及びチルト目標値であることを特徴とする請求項１１に記載の走査露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体集積回路または液晶表示素子等を製造する際のフォトリソグラフィー工程で用いられる露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
図６は静止露光装置（ステッパ）のフォーカスアルゴリズムを示す。ウエハステージにロードされたウエハは、ウエハ内で代表する数ショットにおけるフォーカス計測ショットにおいてフォーカス計測される（ステップ６０１）。これによって求められたフォーカス計測データから、たとえば最小２乗近似等の方法でウエハ表面を代表する一次平面であるグローバル近似平面を計算する（ステップ６０２）。ウエハ表面をグローバル近似平面上に位置するように駆動したときのウエハステージのＺ方向の目標値をグローバルフォーカス目標値といい、その時のωx, ωy 方向の目標値をグローバルチルト目標値という。グローバルフォーカス・チルト計測を行うショットは、たとえば図５においてウエハ内のハッチングを施したショットのアライメントマーク位置(501x, 501y, 502x, 502y, 503x, 503y, 504x, 504y)においてアライメント計測を行う時に同時に行われる。計測されたグローバルチルト量およびグローバルアライメントにおけるθ方向回転角度の精度を向上させるためにはＸＹ方向の計測スパンを広げた方が良いので、上記ショットはウエハの外周に近いショットであることが望ましい。
【０００３】
次にＸＹステージは対象露光ショットの位置にステップ移動し（ステップ６０３）、同時にグローバル近似平面から推定した露光ショットにおけるフォーカス・ティルトポジションにｚ・ティルトウエハステージを移動させる。移動完了後、再度露光ポジションにおいてフォーカス計測６０５を行い、フォーカストレランス判定（ステップ６０６）にパスするまで追い込み駆動（ステップ６０７）及び計測（６０５）を行う。このときにフォーカス計測は、図２に示すような複数の露光ショット内のフォーカス計測点をフォーカスセンサで計測し、それらの計測値から求められる１次的な近似平面をウエハ表面とし、そのウエハ表面が像面に位置するようにフォーカス追い込みを行うためのウエハステージ目標値が逐次計算される。図２において、ch1〜ch5 はフォーカス計測ポイントであり、一つの計測ポイントは５つのマーク(21a〜21e)から形成されており、各マークのフォーカス方向計測値の平均が各マーク(ch1〜ch5)ごとのフォーカス計測データとして用いられる。露光ショット２０１は、複数のフォーカス計測点(ch1〜ch5)によって計測されるが、たとえば ch5 がほかの計測点 ch1〜ch4 に対してフォーカス計測値が異常に外れていた場合はウエハ表面の欠陥とみなし、露光を行わなかった（ケースＡ）。また、異常に外れている計測点に関してはその計測値をフォーカス計測データとして用いないで、残りのフォーカス計測点から近似平面を計算するという方法も採られている（ケースＢ）。フォーカストレランスにパスしたら、フォーカス駆動・アッベ補正駆動（ステップ６０７）によるステップで発生したＸＹ方向の残留振動の収束を待ち（ステップ６０８）、露光を開始する（ステップ６０９）。ステップ６１０では全ショットにわたる露光シーケンスが終了したかを判別し、終了していなければ最初に計測したグローバル近似平面のデータを用いて上記フォーカスアルゴリズム（ステップ６０３〜６１０）を繰り返す。
また、強制的に該当するエラーショットをも露光することで周囲のショットに対する悪影響を回避する方法がある（特許文献１）
【特許文献１】特開２００１−３３２４７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
プロセスウエハーは、工程の途中で表面に５〜１０μｍ程度の凹凸を生じる場合がある。このようなウエハを露光しようとした場合、ケースＡのような従来例においては凹凸の部分を含んだショットにおいて露光シーケンスが中断し、そのショットの露光ができなくなる。このような場合、凹凸を含んだショットの露光を行わずに次のショットの処理に移るため、露光が行われなかった場所はレジストの現像処理過程においてレジストの残膜量が周辺のショットに対して大きく異なるためにウエハ内の加工均一性が悪くなり、特に周囲のショットにおけるレジスト像に対して悪影響（解像不良）を及ぼす場合がある。これに対しては、上述のように、強制的に該当するエラーショットをも露光することで周囲のショットに対する悪影響を回避する方法があるが、フォーカス補正が行なわれない為に、ショット内が一様にデフォーカスする問題となる。最近では複数チップで一ショット単位が構成されたレチクルデザインが多く、本来正常なチップをもデフォーカスして露光する為に歩留まりが低下する一因となっている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
かかる問題点を解決するため本発明は、フォーカス検出機構からの信号を受けて感光基板の表面を結像面に位置決めして原版のパターンを転写露光する露光装置において、露光対象となるショット領域を規定のフォーカス位置決め精度内に追い込めない場合に該ショットをフォーカスエラーの発生したショットと判断する機能と、フォーカスエラーが発生した直後に露光光源からの露光光を遮断もしくは発光指令を停止する機能と、露光を停止したあとも該ショット領域の面位置計測を継続する機能と、面位置計測によって求まる所定のフォーカス及びチルトポジションにおいて原版のパターンを該ショットへ転写露光できる機能を具備することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００６】
以上説明したように、本発明を適用することにより、以下の効果が期待できる。
【０００７】
即ち、未露光ショットがなくなることで、フォーカス追い込みエラーショット周辺のレジスト像が安定しチップの歩留まりが向上する。更にフォーカス追い込みエラーの発生箇所を特定してエラー発生範囲を除いてフォーカス・チルト追い込みを実施することで複数チップで一ショット単位が厚生されたレチクルデザインにおいてはフォーカス不良チップの発生を最小限にすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、図面を参照しながら発明の実施の形態を説明する。
【実施例１】
【０００９】
図３は本発明を適用した走査露光装置のハードウエア構成図である。レチクルステージ３０８上に搭載されたレチクル３０９はレチクルステージコントローラ３０３の制御によって紙面上の矢印方向に等速度で走査される。レチクル３０９上のパターン像の一部は投影光学系３１０によって左右反転してフォーカスステージ３１２上の結像面上に投影される。フォーカスステージ３１２はアライメントステージ３１３上に搭載されており，Ｚ方向及びチルト方向（ωx，ωy）の位置決めを行う。アライメントステージ３１３はＸ，Ｙ，θ方向駆動可能であり走査露光中は図中の矢印の方向，すなわちレチクルステージの駆動方向とは反対の方向にウエハステージコントローラ３０１によって等速度で走査される。アライメントステージ３１３とレチクルステージ３０８の走査速度比率は投影光学系の投影倍率と転写像の偏倍比率から決定される。
【００１０】
フォーカス計測センサ３１１は投影光学系３１０をとりつけた装置筺体に固定されており，フォーカスステージ３１２上に搭載されたウエハのフォーカス方向の計測を行っている，フォーカス計測センサ３１１によって得られた信号はフォーカス信号処理ユニット３０２によってウエハステージの座標系にあわせた表現形式であるフォーカス計測値３０５に変換され，ウエハステージコントローラに渡される。ウエハステージコントローラ３０１はショット露光の際にあらかじめメインシーケンスコントローラ３０４から渡された露光コマンド３０７の引数に含まれている結像面に対するフォーカス目標値にウエハ表面が到達するようにフォーカスステージの操作量を制御する。
【００１１】
３１５は照明光学系であり、パルスレーザー光源からの露光光のコヒーレンスの分散化とスリット形状の光量分布整形等をおこなう。ウエハステージコントローラ３０１はスキャン中のステージの位置に応じてパルスレーザーの発光開始タイミングと発光停止タイミングを、発光許可信号３１７を介してリアルタイムに制御する。
【００１２】
メインシーケンスコントローラ３０４は，ショットごとに発行されるコマンドの中において露光コマンド３０７の中でアライメントステージ３１３に対しては走査駆動目標値を指示し，フォーカスステージ３１２に対しては結像面に対するフォーカス目標値と走査露光に入る前にプリセットするフォーカス初期目標値（以後近傍フォーカス目標値）を指示する。またパルスレーザー光源３１６に対してはショット毎もしくは一定時間ごとのタイミングでパルスエネルギーや波長の指令信号３１８を送る。１ショットの露光が終了すると，該当ショットのフォーカス方向のアライメントを行うためにウエハステージコントローラ３０１が計算したフォーカスステージの制御目標値３０６をメインシーケンスコントローラに返す。ここで返されるデータは以降のショットの近傍フォーカス目標値として用いられる。
【００１３】
この近傍フォーカス目標値は、次に露光するショットがフォーカス追い込みエラーを発生するようなウエハ上の凹凸があった場合に以下のフローチャートの説明にあるウエハ表面サンプリング計測を実施する際にウエハステージのフォーカス・チルト軸の目標値として用いられる。但し、フォーカス追い込みエラーショットがウエハ内の露光第一ショットである場合、グローバルフォーカス・チルト目標値（後述）をウエハ表面サンプリング計測を実施する際にウエハステージのフォーカス・チルト軸の目標値として用いる。
【００１４】
グローバルフォーカス・チルト目標値は、グローバルフォーカス・チルト計測によって得られるグローバル近似平面が(Z, ωx, ωy) = ( 0, 0, 0 ) と計測される位置であり、このときウエハステージの駆動平面とウエハ表面（グローバル近似平面）は平行になる。従って、予め露光像面とウエハステージの駆動平面とが平行になるように調整された状態においてグローバルフォーカス・チルト目標値に駆動すると、ウエハ表面が理想的に平坦であればこの状態でスキャン露光を行うと露光スリット下でデフォーカスは発生しない。しかし現実的にはウエハ表面に局所的な凹凸が焦点深度に対して無視できない量存在するために、露光中にフォーカス計測を行いスリット直下におけるウエハ表面がデフォーカスしないように追い込む必要がある。この量はウエハの表面研磨工程やプロセスによっても差があるが、一般的な片面研磨のウエハでグローバルチルト面に対して最大３〜４um 程度の量である。これに対し、露光時のフォーカス制御に割り振られているフォーカス制御精度は ０．１５μｍ L/S のルールにおいて、０．１μｍ程度である。
【００１５】
図４は本発明を適用した走査露光装置における露光スリット４０１とフォーカス計測点の結像面上の位置関係を表す図である。アライメントステージ３１３が矢印４０２方向に走査する場合はCL1,CL2,CL3のフォーカス計測点が用いられ、矢印４０３の方向に走査する場合はCR1,CR2,CR3のフォーカス計測点が用いられる。ショット中心にも不図示のフォーカス計測点が３点（CS1,CS2,CS3）設けられており、露光中のフォーカス方向及びチルト方向の追い込み結果を確認するために用いられる。
【００１６】
ここで、これらのフォーカス計測点から得られるフォーカス計測値は以下のような条件のもとにフォーカス追い込みエラーと判断される。
【００１７】
(i) CL1,CL2,CL3又は  CR1,CR2,CR3の計測値の平均からの各計測値のばらつきが予め規定された許容量を超える。
【００１８】
(ii) ωy = (CL1 - CL3) / L 、又は  ωy = (CR1 - CR3) / Lから求められる絶対的な傾斜量が予め規定された許容量を超える。
【００１９】
(iii) Z = (CL1 + CL2 + CL3) / 3 、又は  Z = (CR1 + CR2 + CR3) / 3から求められる絶対的なフォーカス量が予め規定された許容量を超える。
【００２０】
(iv) 前回のフォーカス計測によって得られた Z 及び ωy と、今回計測した Z 及び ωy の値の差がそれぞれ予め規定された許容量を超える。
【００２１】
(i)〜(iv)におけるフォーカス追い込みエラーの発生が、フォーカス計測点が露光ショット内を計測しているが、露光スリットが露光エリアにさしかかっていない場合、直ちに発光許可信号３１７を直ちに禁止しパルスレーザー光源の発光を停止させる。水銀ランプ光源のような応答性の遅い光源システムにおいては照明光学系３１５の中に高速のシャッターを設けて露光光を遮光しても良い。
【００２２】
このとき、パルスレーザー光源の発光を中止したステージZ位置、及びωｙ位置は保持した状態でスキャン駆動及びフォーカス計測は継続する。
【００２３】
即ち、フォーカス追い込みエラー箇所を含むショット内のウエハ表面サンプリング計測を実施し、図７に示すショット内計測ポイントにおけるエラー箇所７０１の場所とエラー量を特定して、続く逆方向スキャンでエラー箇所７０１を除くフォーカス計測点を使った追い込み補正及び露光を行う。これによってデフォーカス範囲を最小にとどめることが出来、従来デフォーカスしていた７０３〜７０７のショット内の複数チップで良好にフォーカスすることが出来て歩留まりが向上する。
【００２４】
露光スリットが露光エリアにさしかかった後で既に露光が開始されている場合にも、直ちに露光を中止すると同時に、露光を中断した場所をウエハステージコントローラ３０１で記憶しておく。これによって、フォーカス追い込みエラー箇所を含むショット内のウエハ表面サンプリング計測を実施した後、逆方向スキャンで中断した場所まで露光を行うことで同様にデフォーカス範囲を最小にとどめることが出来る。
【００２５】
ここで、露光を停止した状態で行うウエハ表面サンプリング計測は図８に示すように露光時のフォーカス計測ピッチよりも細かい間隔で計測を行ってもよい。こうすればフォーカス追い込みエラーの発生範囲を図中８０１、８０２のようにさらに詳細に特定することができる為にエラー領域の判断精度が向上し、更に高精度にリカバリ露光が可能となる。
【００２６】
また、ウエハ表面サンプリング計測を行う際のスキャン速度は、既に露光光が遮光された状態であり、目的の露光線幅が良好に結像する露光量条件（ベスト露光量）に対して、装置の照度（マスキングブレードで区切られた露光スリット内の照度）とウエハ表面のレジスト感度から算出されたスキャン速度である必要もないため、露光時のスキャン速度よりも遅くしても良く、さらに計測ポイント毎に静止して同一場所を複数回計測しても良い。さらにショット内をステップ移動しながら計測する場合には、スキャン方向に微細ピッチで計測することの他に、スキャン方向と直行する方向にもステップ移動して微細ピッチで計測しても良い。その例を図８−（ｂ）に示す。ここで図７のエラー箇所７０１は８０３〜８０６のエラー範囲をもつことが確認できる。
【００２７】
また、ショット内の計測ポイント全点において正常に計測されたフォーカス計測値がない場合、図９に示すようにエラーショット９０６のフォーカス計測を（ａ）の状態から（ｂ）の状態まで連続して行う際に、（ａ）の位置において露光スリット位置の不図示のセンサ（CS1,CS2,CS3）が計測した９０１部分のフォーカス情報と、（ｂ）の位置においてセンサ（CL1,CL2,CL3）が計測した９０２部分のフォーカス情報から該当ショット（９０６）位置のZ，ωｙの位置を一次平面近似、又は単純平均値、あるいは二次以上の近似関数を使って求めて補正する。ここで、周囲に隣接するショット情報はスキャン方向に限らず、スキャン方向と直行するショット情報（９０３、９０４）を用いても構わない。或いは隣接するショットにおいてもエラーの影響が懸念される場合にはグローバルフォーカス計測値や、前回のショットの近傍フォーカス値を用いてもよい。
【００２８】
以下、本発明を適用した実施例を図１の制御フローチャートを用いて説明する。
【００２９】
図３の装置においてフォーカス追い込みエラーが発生した時に光源に対する指令の判断を行い、露光光源の発光を制御する機能は、リアルタイム制御を行うウエハステージコントローラ３０１に実装されている。ウエハステージコントローラ３０１は、ショット毎の単位でフォーカス追い込みエラーステータス及びショット内のエラー範囲情報をメインシーケンスコントローラ３０４に送信する。図６に示すフローは、露光ショットごとに得られるウエハステージコントローラ３０１の情報をもとに行われるメインシーケンスコントローラ３０４のシーケンスを示すものである。ウエハステージ上のウエハは、露光シーケンスに入る前にアライメントスコープ３１４によってアライメント計測が行われ、露光ショットごとの駆動目標値がすでに定まっている状態から本シーケンスに入る。
【００３０】
Step101で各ショットの露光指令を受けるとウエハステージとレチクルステージは、スキャンのための助走開始点に一旦ステップし、スキャン動作を行う。スキャン中にフォーカス計測ユニットは図７における７０８から７１３向けて順次フォーカス計測を行って、その計測結果からウエハステージの目標値を計算していく。
【００３１】
以下にフォーカス追い込みエラーが発生したときの処理を説明する。
【００３２】
図７においてフォーカス計測点 ａ, b, c は、露光スリットよりもスキャン方向に関して前方に配置されているため、Step102のフォーカス追い込みエラーは露光を行う前に発生する事もあれば、露光中に発生することもある。従ってフォーカス追い込みエラーを検知すると露光装置は直ちにユーザーインターフェースにメッセージウインドウを表示したりするなどして、エラーメッセージを表示（Step103）し、直ちにパルス光源に対して発光を禁止する処理を行う（Step104）。ここで既に対象ショットの露光を開始している場合はパルス光源に対して発光を禁止すると同時に、露光を中断した場所を、露光開始前であれば対象ショット端の場所をウエハステージコントローラで記憶する。(Step105)。Step106でアライメントステージ３１２はエラー発生時のZ、ωｙを保持したままスキャン駆動を継続し、ウエハ表面サンプリング計測を実行する。
【００３３】
Step107にてエラーショット内のウエハ表面サンプリング計測結果からエラー発生範囲を特定し、ショット内で正常に計測された残りのフォーカス値からフォーカス追い込み補正量を算出する（Step108）。このとき、正常なフォーカス計測値の個数がショット内で所定の割合以下の場合にはフォーカス追い込み補正量の算出ができないためウエハ内平均値であるグローバルフォーカス・チルト目標値を設定する（Step109）。
【００３４】
Step110にてスキャン方向を反転した後、停止していた露光を再開し、Step108又はStep109で設定された目標値に従ってStep605の露光停止位置までフォーカス・チルト追い込みを行いながら露光を行う。
【実施例２】
【００３５】
図３の装置において本発明を適用した実施例を図１０の制御フローチャートを用いて説明する。図１０に示すフローは、露光ショットごとに得られるウエハステージコントローラ３０１の情報をもとに行われるメインシーケンスコントローラ３０４のシーケンスを示すものである。ウエハステージ上のウエハは、露光シーケンスに入る前にアライメントスコープ３１４によってアライメント計測が行われ、露光ショットごとの駆動目標値がすでに定まっている状態から本シーケンスに入る。
【００３６】
Step1001で各ショットの露光指令を受けるとウエハステージとレチクルステージは、スキャンのための助走開始点に一旦ステップし、スキャン動作を行う。スキャン中にフォーカス計測ユニットは図７における７０８から７１３向けて順次フォーカス計測を行って、その計測結果からウエハステージの目標値を計算していく。
【００３７】
以下にフォーカス追い込みエラーが発生したときの処理を説明する。
【００３８】
図７においてフォーカス計測点 ａ, b, c は、露光スリットよりもスキャン方向に関して前方に配置されているため、Step1002のフォーカス追い込みエラーは露光を行う前に発生する事もあれば、露光中に発生することもある。従ってフォーカス追い込みエラーを検知すると露光装置は直ちにユーザーインターフェースにメッセージウインドウを表示したりするなどして、エラーメッセージを表示（Step1003）し、直ちにパルス光源に対して発光を禁止する処理を行う（Step604）。ここで既に対象ショットの露光を開始している場合はパルス光源に対して発光を禁止すると同時に、露光を中断した場所を、露光開始前であれば対象ショット端の場所をウエハステージコントローラで記憶する。(Step1005)。Step1006でアライメントステージ３１２はエラー発生時のZ、ωｙを保持したままステップ移動を行いながら静的にフォーカス計測を実行して、エラー発生箇所及び対象ショット内の未露光領域のウエハ表面サンプリング計測を行う。ここで、ステップしながらフォーカス計測する範囲はStep1007にあるように対象ショット内に限らず隣接ショット内を計測して、例えばプロセス要因でウエハ平坦度の欠陥や、チャック要因でウエハ平坦度の欠陥の影響波及度を調査しても良い。ここで隣接ショットへのエラー影響が確認されるとStep1008で追加エラーメッセージ及びエラーステータスをメインシーケンスコントローラ３０４に送信する。Step1009にてエラーショット内のウエハ表面サンプリング計測結果からエラー発生範囲を特定し、ショット内で正常に計測された残りのフォーカス値からフォーカス追い込み補正量を算出する（Step1010）。このとき、正常なフォーカス計測値の個数がショット内で所定の割合以下の場合にはフォーカス追い込み補正量の算出ができないためStep1011にて図９に示したようにエラーショットに隣接するショット内フォーカス計測情報からエラー発生ショットのZ、チルト目標値を算出して設定する。
【００３９】
Step1012にてスキャン方向を反転した後、停止していた露光を再開し、Step1010又はStep1011で設定された目標値に従ってStep1005の露光停止位置までフォーカス・チルト追い込みを行いながら露光を行う。
【００４０】
また、静止露光装置においては予めフォーカス追い込みを行ってから露光にはいるシーケンスであるので、フォーカス追い込みの過程でフォーカス追い込みエラーが発生した場合は光源の発光をキャンセルしたり、シャッターを開かないなどの処置により露光を開始する前に中止することができる。さらにスキャンしながら露光する必要がないのでスキャン方向を反転する必要はない。したがって図１０におけるStep1001でのスキャン露光指令やStep1012においてスキャン方向を反転して露光する必要はないが、それ以外の処理は静止露光装置におけるフォーカス追い込みエラーの処理工程として全く同様に適用できることは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明を適用した実施例の制御フローチャート
【図２】静止露光装置における露光ショット内のフォーカス計測点の配置
【図３】本発明を適用した走査露光装置のハードウエア構成図
【図４】本発明を適用した走査露光装置における露光スリットとフォーカス計測点の結像面上の位置関係
【図５】グローバルフォーカス計測を行うウエハ内のショット位置
【図６】従来の静止露光装置の露光アルゴリズム
【図７】露光ショット内のフォーカス計測位置と、露光スリット及びフォーカスセンサの配置の位置関係を表す図
【図８】本発明における実施例においてフォーカス追い込みエラーが発生した際のウエハ表面サンプリング計測時のフォーカス計測位置の例
【図９】本発明における実施例においてフォーカス追い込みエラーが発生した際のフォーカス・チルト目標位置の求め方の一例を表す図
【図１０】本発明を適用した実施例の制御フローチャートの一例
【符号の説明】
【００４２】
３０９  レチクル
３０８  レチクルステージ
２  ウエハ
３１１  フォーカス計測センサ
３１２  フォーカスステージ
３１３  アライメントステージ
３１６  パルスレーザー光源
３０１  ウエハステージコントローラ
３０２  フォーカス信号処理ユニット
３０４  メインシーケンスコントローラ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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