(57)【要約】【課題】  加熱室内に供給した蒸気を速やかに加熱室から排出可能にし、また、加熱室内の蒸気を調理に適した温度にして、被加熱物を均一な蒸気加熱で調理可能とする加熱調理器及び加熱調理方法を提供する。【解決手段】  被加熱物Ｍを収容する加熱室１１に蒸気Ｓを供給して被加熱物Ｍを加熱する加熱調理器１００であって、加熱室１１に蒸気Ｓを供給する蒸気供給手段と、加熱室１１に供給された蒸気を加熱室１１から排気する排気手段とを備えた。【選択図】  図１
2005226872.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物を収容する加熱室に蒸気を供給して被加熱物を加熱する加熱調理器であって、
前記加熱室に蒸気を供給する蒸気供給手段と、
前記加熱室に供給された蒸気を該加熱室から排気する排気手段とを備えたことを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
前記排気手段が、
外気を吸引して風を生成する送風手段と、
前記送風手段からの風を前記加熱室に導く給気用通風路と、
前記加熱室の中の空気を排出する排気用通風路と、
前記加熱室への外気の供給量を制御する制御部とを備えたことを特徴とする請求項１記載の加熱調理器。
【請求項３】
前記給気用通風路の前記加熱室との接続位置より流路上流側に通過流量を制限するための給気側シャッタを備えたことを特徴とする請求項２記載の加熱調理器。
【請求項４】
前記排気用通風路の前記加熱室との接続位置より流路下流側に通過流量を制限するための排気側シャッタを備えたことを特徴とする請求項２又は請求項３記載の加熱調理器。
【請求項５】
前記シャッタが、流路の開放又は遮蔽のいずれかの状態で選択的に保持されることを特徴とする請求項３又は請求項４記載の加熱調理器。
【請求項６】
前記シャッタが、流路の開度を任意に設定可能であることを特徴とする請求項３又は請求項４記載の加熱調理器。
【請求項７】
前記加熱室内の空間を上下に分割する仕切板を備え、前記加熱室と前記仕切板との間には前記上下の空間を接続する連通部が形成され、前記蒸気供給手段が前記加熱室の下側空間から蒸気を供給することを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれか1項記載の加熱調理器。
【請求項８】
前記給気用通風路が前記加熱室に接続される給気口を、該加熱室の下側空間に配設したことを特徴とする請求項７記載の加熱調理器。
【請求項９】
前記排気用通風路が前記加熱室に接続させる排気口を、該加熱室の下側空間に配設したことを特徴とする請求項７又は請求項８記載の加熱調理器。
【請求項１０】
被加熱物を収容する加熱室に蒸気を供給して被加熱物を加熱する加熱調理方法であって、
前記加熱室に蒸気を供給しつつ被加熱物を加熱する加熱ステップと、
前記加熱後に前記加熱室に残存された蒸気を、該加熱室から排出する蒸気排出ステップとを有することを特徴とする加熱調理方法。
【請求項１１】
前記蒸気排出ステップが、前記加熱室内に外気を送風するとともに該加熱室内の空気を排出し、前記加熱室に供給された蒸気を撹拌することを特徴とする請求項１０記載の加熱調理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加熱室に蒸気を供給して加熱調理する加熱調理器及び加熱調理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従前、電子レンジの高周波加熱により食品を加熱調理する場合に、加熱によって食品から蒸気が発生し、その蒸気によって加熱室の開閉扉の窓ガラスが曇ってしまい、調理の進行状況が確認できなくなる不具合があった。その対策として、開閉扉の窓ガラスに向けて、給気口から加熱室内に供給される風を吹き当てる構成とすることが広く採用されている。このときの風は、外気を直接導入して吹き当てるのでは加熱室内温度が大きく低下するため、マグネトロンを冷却した後の温風を用いている。また、食品から発生する蒸気は開閉扉の窓ガラスに近い位置で上昇するため、給気口は開閉扉に近い加熱室上方に設け、上方から窓ガラスへ風を吹き当てている。また、給気口から供給した風を排気するための排気口も加熱室内に設けてある。
【０００３】
しかし、オーブン加熱においては、給気口及び排気口による風の導入及び蒸気の排出作用は、熱くなった加熱室内の空気を追い出すこととなり、加熱効率が低下する。このため、給気口と排気口の配置位置を変更したり、流路の途中にシャッタ等を設けるといった工夫が必要となる。一般的には、コスト低減のため、排気口の配置位置で対応しており、排気口を加熱室の奥側で下寄りに配置することが多い。このように、現在では、加熱室の側壁面の上部に給気口、下部に排気口を設けた構成のオーブン機能付きの電子レンジが広く用いられている。
【０００４】
ところで、この種の電子レンジに蒸気発生機能を付加することで、高周波加熱と蒸気加熱とが同時あるいは独立して実施可能になる。蒸気加熱を主とした調理の場合、理想的には蒸気密度が１００％に近い状態で、かつ、食品に適した温度（例えば卵の場合は８０℃、肉まんの場合は９８℃、蒸かし芋の場合は１００℃以上）に保つことが調理を迅速かつ確実に成功させる上で重要となる。
蒸し調理専用の蒸し器では、水を大量に沸騰させることで蒸気密度を高めているが、電子レンジの場合では、蒸気密度を上げるために加熱室を仕切板（食品載置用のトレイ）で上下に分割することで、加熱室の上側に小さな空間を画成し、この上側の空間に蒸気を供給する構成とすることにより、蒸気密度を増加させた状態で被加熱物を加熱することが可能となる。
また、卵料理等のように、正確な温度管理が調理上重要となる加熱調理を行う際、加熱室内の蒸気分圧（蒸気の占める体積比率）を調整することで加熱室内の雰囲気温度を設定する蒸気加熱調理器が例えば特許文献１に開示されている。
【特許文献１】特開昭６３−２５４３２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、食品の調理内容によっては、加熱室に一旦供給された蒸気が、調理の間中、常に必要でないこともある。その場合には、加熱室に残存する蒸気が食品の出来映えに悪影響を及ぼすことがあり、如何にして調理に必要なくなった蒸気を速やかに排出するかが課題となっていた。
また、蒸気を供給して被加熱物を加熱する場合には、供給した蒸気が加熱室上方に集まり、そこに排気用の排気口があると、蒸気は排気口から加熱室外に抜け出てしまうことになる。同様に加熱室上方に外気取り入れ用の給気口があると、給気停止時に蒸気はこの給気口から抜け出てしまうことになる。蒸気が排気口や給気口から抜け出ると、給気経路に結露が生じて不衛生な状況となるばかりか、装置の電子部品に滴り落ちてショートの要因となることがある。さらに、給気口から外気が供給されると、折角加熱室上部に集まった蒸気が一気に抜け出てしまうこととなる。
【０００６】
そこで、このような問題を解決するために、加熱室の下方に給気口と排気口とを設け、蒸気を仕切板上方の加熱室上側から供給する構成が考えられる。しかし、この構成にあっては、仕切板上に載置された被加熱物の至近距離から蒸気が直接供給されることとなり、被加熱物に蒸気が吹き当てられて被加熱物の温度が局所的に高くなる不均一な温度分布を呈する傾向になる。
【０００７】
例えば、図１６に示すように、被加熱物として４〜６個位の複数個の茶碗蒸し２０２（２０２Ａ，２０２Ｂ）を加熱室２０１内のトレイ２０３に載せて同時に調理する場合、蒸気供給口２０４に近い茶碗蒸し２０２Ａは１００℃に近い蒸気Ｓを吹き当てられて過加熱状態となる一方、蒸気供給口２０４から遠い茶碗蒸し２０２Ｂは加熱不足状態となり、配置場所によるムラが発生し易くなる。
また、加熱室２０１に供給した蒸気Ｓを排出するにも、給気口と排気口が加熱室下側空間２０１Ｂ内に存在することから、蒸気Ｓが加熱室上側空間２０１Ａ内にのみ滞留して換気効率が低下する虞があった。
【０００８】
さらに、図１７に示すように、加熱室２０１内に高温の熱風を循環させるオーブン加熱により茶碗蒸し２０２を調理する場合には、蒸気加熱により調理する場合より長い時間を要し、また、仕上がり状態も思わしくない。つまり、１５０℃に加熱温度を設定した状態で仕上がり温度を９６℃〜９８℃程度にして調理したとき（Ｆ1）は、蒸気加熱により調理したとき（Ｆ0）（図７参照）と比較して約２倍もの時間を要し、しかも、その仕上がり状態は、Ｆ1の場合では、図１８に示すように器２０６の周辺部２０５ａが巣立ち状態となってしまう。一方、仕上がり温度を７０℃〜７５℃程度と低く設定して調理したとき（Ｆ2）は、図１９に示すように、中心部２０５ｂが固まっていない状態となり、加熱不足となる。このように、オーブン加熱では、空気を伝熱媒体にして加熱を行うため、被加熱物２０２への伝熱量を大きくすることに限りがあり、被加熱物２０２の表面と内部とでは大きな温度差が発生し、被加熱物２０２をいち早く均一に加熱することが困難な場合が多い。
【０００９】
そして、上記特許文献１の上記加熱調理器においては、加熱室内の雰囲気温度を、外気と１００℃の蒸気とを混合することで、９０℃等の１００℃より低い温度に設定している。しかし、外気の導入は加熱室の一部に設けられた孔（外気連通部）から行い、蒸気との拡散は、供給された蒸気の上昇作用に伴う拡散だけなので、その拡散効果は実際には小さく、十分な拡散状態が得にくい構成であった。従って、加熱室内を所望の雰囲気温度に迅速かつ正確に設定するまでには至っていなかった。
【００１０】
本発明は、上記状況に鑑みてなされたもので、加熱室内に供給した蒸気を速やかに加熱室から排出可能にし、また、加熱室内の蒸気を調理に適した温度にして、被加熱物を均一な蒸気加熱で調理可能とする加熱調理器及び加熱調理方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明に係る請求項１記載の加熱調理器は被加熱物を収容する加熱室に蒸気を供給して被加熱物を加熱する加熱調理器であって、前記加熱室に蒸気を供給する蒸気供給手段と、前記加熱室に供給された蒸気を該加熱室から排気する排気手段とを備えたことを特徴とする。
【００１２】
この加熱調理器によれば、加熱室内に蒸気が供給され、この供給された蒸気が排気手段によって速やかに排出することができる。
【００１３】
請求項２記載の加熱調理器は、前記排気手段が、外気を吸引して風を生成する送風手段と、前記送風手段からの風を前記加熱室に導く給気用通風路と、前記加熱室の中の空気を排出する排気用通風路と、前記加熱室への外気の供給量を制御する制御部とを備えたことを特徴とする。
【００１４】
この加熱調理器によれば、加熱室内に蒸気が供給される一方、加熱室内に送風手段からの風を給気用通風路を通じて導入するとともに、排気用通風路から加熱室内の空気を排出するため、加熱室内に供給された蒸気が外気により積極的に撹拌されて、加熱室内を所望の蒸気密度にすることができる。つまり、加熱室内の空気に蒸気が十分に拡散された混合気体が生成され、この混合気体は、供給された蒸気の温度よりも低くなる。従って、加熱室を調理に適した任意の温度に設定することが可能となり、正確な温度設定を必要とする卵調理等の加熱調理を迅速かつ確実に行うことが可能となる。
【００１５】
請求項３記載の加熱調理器は、前記給気用通風路の前記加熱室との接続位置より流路上流側に通過流量を制限するための給気側シャッタを備えたことを特徴とする。
【００１６】
この加熱調理器によれば、給気用通風路の流路上流側に給気側シャッタを設けることにより、給気用通風路の流量を自在に変更でき、加熱室への外気供給量を変更できる。
【００１７】
請求項４記載の加熱調理器は、前記排気用通風路の前記加熱室との接続位置より流路下流側に通過流量を制限するための排気側シャッタを備えたことを特徴とする。
【００１８】
この加熱調理器によれば、排気用通風路の流路下流側に排気側シャッタを設けることにより、排気用通風路の流量を自在に変更でき、加熱室からの排気量を変更できる。
【００１９】
請求項５記載の加熱調理器は、前記シャッタが、流路の開放又は遮蔽のいずれかの状態で選択的に保持されることを特徴とする。
【００２０】
この加熱調理器によれば、簡単な構成で開閉制御が可能となり、開閉動作のデューティ制御により加熱室内の温度や蒸気密度を細かに設定することができる。
【００２１】
請求項６記載の加熱調理器は、前記シャッタが、流路の開度を任意に設定可能であることを特徴とする。
【００２２】
この加熱調理器によれば、流路を流れる気体の流量を任意に設定することができ、加熱室内の温度や蒸気密度を細かに設定することができる。
【００２３】
請求項７記載の加熱調理器は、前記加熱室内の空間を上下に分割する仕切板を備え、前記加熱室と前記仕切板との間には前記上下の空間を接続する連通部が形成され、前記蒸気供給手段が前記加熱室の下側空間から蒸気を供給することを特徴とする。
【００２４】
この加熱調理器によれば、加熱室を上下に分割する仕切板を設け、この仕切板より下方の下側空間に蒸気を供給することで、下側空間に供給された蒸気が上昇し、連通部を通じて上側空間に集まる。この作用により蒸気の撹拌が促進され、加熱室の上側空間における蒸気密度が均一化される。
【００２５】
請求項８記載の加熱調理器は、前記給気用通風路が前記加熱室に接続される給気口を、該加熱室の下側空間に配設したことを特徴とする。
【００２６】
この加熱調理器では、給気口が加熱室の下側空間に配設されているため、送風された外気が、同じ下側空間に供給される蒸気と効率良く撹拌されて均一な混合気体となる。
【００２７】
請求項９記載の加熱調理器は、前記排気用通風路が前記加熱室に接続させる排気口を、該加熱室の下側空間に配設したことを特徴とする。
【００２８】
この加熱調理器では、排気口が加熱室の下側空間に配設されているため、上側空間の空気が急激に入れ替わることを防止でき、蒸気加熱へ支障をきたすことなく排気することが可能となる。
【００２９】
請求項１０記載の加熱調理方法は、被加熱物を収容する加熱室に蒸気を供給して被加熱物を加熱する加熱調理方法であって、前記加熱室に蒸気を供給しつつ被加熱物を加熱する加熱ステップと、前記加熱後に前記加熱室に残存された蒸気を、該加熱室から排出する蒸気排出ステップとを有することを特徴とする。
【００３０】
この加熱調理方法によれば、加熱ステップにて加熱室に蒸気を供給しつつ被加熱物を加熱し、その後、蒸気排出ステップにて加熱室に残存された蒸気を加熱室から排出する。これにより、加熱室内の蒸気を速やかに排気することが可能となる。
【００３１】
請求項１１記載の加熱調理方法は、前記加熱室内に外気を送風するとともに該加熱室内の空気を排出し、前記加熱室に供給された蒸気を撹拌することを特徴とする。
【００３２】
この加熱調理方法によれば、加熱室内に外気を導入するとともに、加熱室内の空気を排出するため、加熱室内に供給された蒸気が外気により積極的に撹拌されて、加熱室内を所望の蒸気密度にすることができる。つまり、加熱室内の空気に蒸気が十分に拡散された混合気体が生成され、この混合気体は、供給された蒸気の温度よりも低くなる。従って、加熱室を調理に適した任意の温度に設定することが可能となり、正確な温度設定を必要とする卵調理等の加熱調理を迅速かつ確実に行うことが可能となる。
【発明の効果】
【００３３】
本発明の加熱調理器及び加熱調理方法によれば、加熱室内に供給した蒸気を、速やかに加熱室から排出可能にし、また、加熱室内の蒸気を調理に適した温度にして、被加熱物を均一な蒸気加熱で調理することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下、本発明の加熱調理器の好適な実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
図１は本発明に係る加熱調理器の開閉扉を開けた状態を示す正面図、図２は加熱調理器の基本動作説明図、図３は加熱調理器を制御するための制御系のブロック図である。
【００３５】
この加熱調理器１００は、被加熱物を収容する加熱室１１に、高周波（マイクロ波）と蒸気Ｓとの少なくともいずれかを供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理器であって、高周波を発生する高周波発生部１２としてのマグネトロン１３と、加熱室１１内で蒸気Ｓを発生する蒸気供給部１５と、加熱室１１の上方に配置された上部加熱ヒータ１６と、加熱室１１内の空気を撹拌・循環させる循環ファン１７と、加熱室１１内を循環する空気を加熱する室内気加熱ヒータとしてのコンベクションヒータ１９と、加熱室１１の壁面に設けた検出用孔を通じて加熱室１１内の温度を測定する温度センサである赤外線センサ１８と、加熱室１１の壁面に配置されて被加熱物Ｍの温度を測定するサーミスタ２０と、加熱室１１の底面から所定間隔をあけた上方に着脱自在に配置され、加熱室１１を上下に分割する仕切板としての被加熱物載置用トレイ２２とを備えている。
【００３６】
図１及び図２に示すように、加熱室１１は、前面開放の箱形の本体ケース１０内部に形成されており、本体ケース１０の前面に、加熱室１１の被加熱物取出口を開閉する透光窓２１ａ付きの開閉扉２１が設けられている。開閉扉２１は、下端が本体ケース１０の下縁にヒンジ結合されることで、上下方向に開閉可能となっている。加熱室１１と本体ケース１０との壁面間には所定の断熱空間が確保されており、必要に応じてその空間には断熱材が装填されている。
【００３７】
マグネトロン１３は、例えば加熱室１１の下側の空間に配置されており、マグネトロン１３より発生した高周波を受ける位置には電波撹拌手段としてのスタラー羽根３３（或いは回転アンテナ等）が設けられている。そして、マグネトロン１３からの高周波を、回転するスタラー羽根３３に照射することにより、該スタラー羽根３３によって高周波を加熱室１１内に撹拌しながら供給するようになっている。なお、マグネトロン１３やスタラー羽根３３は、加熱室１１の底部に限らず、加熱室１１の上面や側面側に設けることもできる。
【００３８】
図２に示すように、加熱室１１の背後の空間には、循環ファン１７及びその駆動モータ２３を収容した循環ファン室２５が配置されており、加熱室１１の後面の壁が、加熱室１１と循環ファン室２５とを画成する奥側壁面２７となっている。奥側壁面２７には、加熱室１１側から循環ファン室２５側への吸気を行う吸気用通風孔２９と、循環ファン室２５側から加熱室１１側への送風を行う送風用通風孔３１とが形成エリアを区別して設けられている。各通風孔２９，３１は、多数のパンチ孔として形成されている。
【００３９】
熱風発生部１４は、循環ファン１７とコンベクションヒータ１９とによって構成されている。即ち、循環ファン１７は、矩形の奥側壁面２７の略中央位置に配置されている。循環ファン室２５内には、この循環ファン１７を取り囲むようにして矩形環状のコンベクションヒータ１９が設けられている。そして、奥側壁面２７に形成された吸気用通風孔２９は循環ファン１７の前面に配置され、送風用通風孔３１は矩形環状のコンベクションヒータ１９に沿った位置に配置されている。
循環ファン１７を回転駆動すると、発生する風は循環ファン１７の前面側から駆動モータ２３のある後面側に流れる。すると、加熱室１１内の空気が、吸気用通風孔２９を通して循環ファン１７のあるコンベクションヒータ１９の中心位置に吸い込まれ、放射状に拡散し、コンベクションヒータ１９の近傍を通過して加熱され、送風用通風孔３１から加熱室１１内に送り出される。従って、この流れにより、加熱室１１内の空気が、撹拌されつつ循環ファン室２５を経由して循環されるようになっている。
【００４０】
図２に示すように、蒸気供給部１５は、加熱により蒸気Ｓを発生する水溜凹所３５ａを有した蒸発皿３５と、蒸発皿３５の下側に配設され、蒸発皿３５を加熱する蒸発皿加熱ヒータ３７とを有して構成している。蒸発皿３５は、例えばステンレス製の板材に凹部を形成した細長形状のもので、加熱室１１の被加熱物取出口とは反対側の奥側底面に、長手方向を奥側壁面２７に沿わせた向きで配設されている。なお、蒸発皿加熱ヒータ３７としては、図示は省略するが、シーズヒータ等の発熱体を埋設したアルミダイカスト製のヒートブロックを蒸発皿３５に接触させた構成としている。この他にも、ガラス管ヒータ、シーズヒータによる輻射熱で蒸発皿３５を加熱してもよく、プレートヒータ等を蒸発皿３５に貼り付けた構成としてもよい。
【００４１】
また、図１に示すように、本体ケース１０内には、蒸発皿３５に供給する水を貯留するための水貯留タンク５３、送水ポンプ５５、及び吐出口が蒸発皿３５に対向して配置された給水管路５７とが配設されている。水貯留タンク５３に貯留された水は、給水管路５７を介して蒸発皿３５に所望の水量で適宜供給される。なお、水貯留タンク５３は、装置に組み込んだときに装置自体が大型化しないように、本体ケース１０の比較的高温になりにくい側壁部にコンパクトに埋設してある。この水貯留タンク５３は、本体ケース１０の側面側から外側に引き出すことで着脱自在に取り付けられている。なお、水貯留タンク５３は、この他にも、断熱処理を施して装置の上面側に配設してもよく、下面側に配設する構成としてもよい。
【００４２】
上部加熱ヒータ１６は、グリル調理のための加熱や加熱室１１を予熱する例えばマイカヒータ等のプレートヒータであって、加熱室１１の上方に配置される。また、プレートヒータの代わりにシーズヒータで構成することもできる。サーミスタ２０は、加熱室１１の壁面に設けられており、加熱室１１内の温度を検出するようになっている。加熱室１１の壁面には更に、複数箇所（例えば８箇所）の温度を同時に測定可能な赤外線センサ１８が揺動自在に配置されている。赤外線センサ２０を揺動させるスキャン動作により、加熱室１１内の複数の測定点の温度を測定することができ、さらに、測定点の温度を経時的に監視することで被加熱物Ｍの載置位置を知ることもできる。
【００４３】
仕切板としての被加熱物載置用トレイ２２は、加熱室１１の側壁面１１ａ，１１ｂに形成した係止部２６に着脱自在に支持される。係止部２６は、加熱室１１の複数の高さ位置で被加熱物載置用トレイ２２を支持可能に複数段設けられている。係止部２６に被加熱物載置用トレイ２２を係止させることにより、加熱室１１は上側空間１１Ａと下側空間１１Ｂとに２分割される。
【００４４】
図３は、加熱調理器１００の制御系のブロック図であり、この制御系は、例えばマイクロプロセッサを備えてなる制御部５０１を中心に構成されている。制御部５０１は、主に入力操作部５０７、表示パネル５０９、高周波発生部１２、蒸気供給部１５、熱風発生部１４、上部加熱ヒータ１６、シャッタ開閉駆動部５０等との間で信号の授受を行い、これら各部を制御する。
【００４５】
入力操作部５０７には、スタートスイッチ、加熱方法の切換スイッチ、自動調理スイッチ等の各種キーが備えられており、表示パネル５０９で確認しながら、加熱内容に応じて適宜キー操作して加熱調理を行う。
高周波発生部１２には、マグネトロン１３やスタラー羽根３３を駆動する図示しないモータ等が接続されており、さらには、マグネトロン冷却用の冷却ファン３２も接続されている。蒸気供給部１５には、蒸発皿加熱ヒータ３７や送水ポンプ５５が接続され、熱風発生部１４には、循環ファン１７やコンベクションヒータ１９が接続されている。また、シャッタ開閉駆動部５０には、給気側シャッタ５１及び排気側シャッタ５２が接続されている。
【００４６】
次に、加熱調理器１００の基本動作について説明する。
図２に示すように、先ず、被加熱物Ｍである食品を皿等に載せて加熱室１１内に入れ、開閉扉２１を閉じる。入力操作部５０７を操作して加熱方法、加熱時間、加熱温度等の諸設定を行い、スタートボタンを押下すると、制御部５０１の動作によって自動的に加熱調理が行われる。
例えば、「蒸気発生＋循環ファンＯＮ」のモードが選択された場合には、蒸発皿加熱ヒータ３７がＯＮされることで、蒸発皿３５の水が加熱され蒸気Ｓが発生する。蒸発皿３５から上昇する蒸気Ｓは、奥側壁面２７の略中央部に設けた吸気用通風孔２９から循環ファン１７の中心部に吸引され、循環ファン室２５を経由して、奥側壁面２７の周部に設けた送風用通風孔３１から、加熱室１１内へ向けて吹き出される。吹き出された蒸気は、加熱室１１内において撹拌されて、再度、奥側壁面２７の略中央部の吸気用通風孔２９から循環ファン室２５側に吸引される。これにより加熱室１１内と循環ファン室２５に循環経路が形成される。そして、図中白抜き矢印で示すように、蒸気Ｓが加熱室１１を循環することによって、被加熱物Ｍに蒸気が吹き付けられる。
【００４７】
この際、コンベクションヒータ１９をＯＮにすることによって、加熱室１１内の蒸気Ｓを加熱できるので、加熱室１１内を循環する蒸気Ｓの温度をさらに高温に設定することができる。従って、いわゆる過熱蒸気が得られて、被加熱物Ｍの表面に焦げ目を付けた加熱調理も可能となる。また、高周波加熱を行う場合は、マグネトロン１３をＯＮにし、スタラー羽根３３を回転することで、高周波を加熱室１１内に均一に撹拌しながら供給して、ムラのない高周波加熱調理を行うことができる。
【００４８】
上記したように、加熱調理器１００は、マグネトロン１３、熱風発生部１４、蒸気供給部１５、上部加熱ヒータ１６を夫々単独で、或いは組み合わせて用いることにより、調理に最適な加熱方法で被加熱物Ｍ（食品）を加熱することが可能となる。
【００４９】
なお、上記した調理時の加熱室１１内の温度は、赤外線センサ１８やサーミスタ２０によって測定されており、この測定結果に基づいて制御部５０１がマグネトロン１３、上部加熱ヒータ１６、コンベクションヒータ１９等を適宜制御する。複数箇所（例えば８箇所）の温度を同時に測定可能な赤外線センサ１８を用いると、赤外線センサ１８を揺動させて加熱室１１内をスキャンすることによって、加熱室１１内の複数の測定点の温度を短時間で精度良く測定することができる。なお、赤外線センサ１８は、加熱室１１内に蒸気Ｓが充満しているときに加熱室１１内の正しい温度を測定しないことがあるが、その場合には、サーミスタ２０により温度測定を行う。
【００５０】
本発明の加熱調理器１００は、上記した基本的な構成要素に加えて、図４に示すように、外気を加熱室１１に導くための給気用通風路８１、加熱室１１内の空気を排気するための排気用通風路８５、給気側シャッタ５１及び排気側シャッタ５２、シャッタ開閉駆動部５０（図３参照）とを備えている。つまり、加熱室１１に供給された蒸気を加熱室１１から排気する排気手段を備えた構成となっている。
【００５１】
図１及び図４に示すように、本実施形態の加熱調理器１００は、給気用通風路８１に接続される給気口８２が、加熱室１１左側の側壁面１１ａの、開閉扉２１に近い下方に設けられて、加熱室１１の下側空間１１Ｂに開口している。また、排気口８６が、加熱室１１右側の側壁面１１ｂの、加熱室１１の奥側下端に設けられて、加熱室１１の下側空間１１Ｂに開口している。
【００５２】
給気口８２は、本体ケース１０外側面と加熱室１１の側壁面１１ａとの間、及び本体ケース１０外側面と奥側壁面２７との間に確保した給気用通風路８１に連通されており、その給気用通風路８１の途中には、開閉自在な給気側シャッタ５１が配設されている。そして、マグネトロン１３に一体に設けられたマグネトロン冷却用の冷却ファン３２からの風を給気側シャッタ５１の切り替えにより、給気用通風路８１を介して給気口８２から加熱室１１内に吹き出せるようになっている。
【００５３】
なお、冷却ファン３２は、マグネトロン冷却用のファンに限定されることなく、図３のブロック図に示すように、別途に送風ファン６０を設けて使用してもよい。送風ファン６０によって外気を直接加熱室１１に給気すると、加熱室１１内の温度が急速に冷却される虞がある場合には、送風ファン６０に加熱手段を取り付けたり、マグネトロン冷却用ファン３２を用いてマグネトロン１３を冷却することで暖められた空気を加熱室１１に給気する。
【００５４】
排気口８６は、本体ケース１０外側面と加熱室１１の側壁面１１ｂとの間に確保した排気用通風路８５に連通されており、その排気用通風路８５の途中には、開閉自在な排気側シャッタ５２が配設されている。排気用通風路８５は、吐出口８７によって外部に連通している。そして、排気側シャッタ５２を開くことにより、加熱室１１内への給気に伴って、加熱室１１内の空気を外部に排気できるようになっている。
【００５５】
給気側シャッタ５１及び排気側シャッタ５２は、例えば、ばねなどにより常時一方向に付勢されたダンパで構成され、電磁力等によってダンパを揺動させて給気用通風路８１及び排気用通風路８５を開放又は遮蔽した状態で選択的に保持可能としている。或いは、風圧によりダンパを閉状態から開状態とする構成としてもよく、この場合には、シャッタ機構の更なる簡略化が図られる。給気側シャッタ５１及び排気側シャッタ５２は、加熱室１１内の蒸気が外部に不意に抜け出ることを防止するため、給気・排気の必要時以外は閉状態とされる。
【００５６】
冷却ファン３２によって外部から吸引された外気は、給気用通風路８１、給気側シャッタ５１を介して給気口８２から加熱室１１内に吹き出される。給気口８２からの給気によって、加熱室１１内の空気は排気口８６から排気用通風路８５、排気側シャッタ５２、吐出口８７を介して外部に排気される。このとき、加熱室１１内の空気は、加熱室１１の略対角線上を流れるので、効率よく攪拌、換気される。
【００５７】
次に、図５を参照して本実施形態の加熱調理器１００による蒸気加熱の作用を説明する。
図５に示すように、水貯留タンク５３から送水ポンプ５５によって蒸発皿３５に水を供給した後、蒸発皿加熱ヒータ３７をＯＮすると、蒸発皿３５の水が加熱され蒸気Ｓが発生して加熱室１１の下側空間１１Ｂ内に拡散する。これと同時に給気側シャッタ５１及び排気側シャッタ５２を開状態とし、冷却ファン３２（或いは送風ファン６０）を作動させて外気を給気口８２から加熱室１１内に矢印Ａ方向に吹き出す。これによって、加熱室１１の下側空間１１Ｂ内に充満した蒸気Ｓは、給気口８２からの気流によって積極的に攪拌されると共に、加熱室１１の下側空間１１Ｂ内の空気の一部は、排気口８６から排気用通風路８５、排気側シャッタ５２、吐出口８７を介して矢印Ｂ方向に排気される。
【００５８】
加熱室１１は、仕切板である被加熱物載置用トレイ２２によって上下に２分割されているので、被加熱物載置用トレイ２２を設けない場合に比較して狭くなっている。従って、下側空間１１Ｂで発生した蒸気Ｓは、給気口８２から矢印Ａ方向に吹き出される空気によって十分に攪拌され、蒸気密度が均一となった混合気体Ｇが生成される。ここで蒸気密度とは、蒸発皿３５から発生する水蒸気と、空気との混合気体に対する水蒸気の占有密度を意味する。蒸気密度が高くなると水蒸気の単位体積当たりの存在量が増加し、その結果、混合気体Ｇの温度が１００℃に近くなる。逆に蒸気密度が低くなると水蒸気の単位体積当たりの存在量が減少して混合気体Ｇの温度が低くなる。
この蒸気密度は、給気側シャッタ５１及び排気側シャッタ５２を適宜開閉して加熱室１１内に導入する外気の量を調整することにより任意に制御することができる。蒸発皿３５から発生する蒸気Ｓは、水を沸騰させて取り出しているため、その温度は約１００℃であるが、蒸気Ｓと外気との混合気体Ｇの温度は、１００℃以下の温度となる。従って、混合気体Ｇの蒸気密度を任意の値に調整することにより、混合気体Ｇの温度を１００℃以下の調理に最適な所望の温度に制御することができる。
【００５９】
蒸気Ｓは外気と比較して比重が軽いため、上方に移動する傾向がある。加熱室１１の下側空間１１Ｂで生成された蒸気密度が均一の混合気体Ｇは、被加熱物載置用トレイ２２の縁部と加熱室１１の内壁（側壁面１１ａ，１１ｂ及び奥側壁面２７）間の隙間を通って上側空間１１Ａに集まる。従って、被加熱物載置用トレイ２２の上方の上側空間１１Ａには、外気との撹拌により１００℃より低い所定温度の混合気体Ｇが集まり、所定の一定温度の雰囲気となる。即ち、下側空間１１Ｂが蒸気Ｓと外気との撹拌用空間として機能し、上側空間１１Ａが均一温度に維持される調理空間となる。しかも、上側空間１１Ａには、下側空間１１Ｂで蒸気密度が均一にされた混合気体Ｇが、被加熱物載置用トレイ２２と加熱室内壁との間の隙間に沿って均等に供給されるので、上側空間１１Ａ内の温度は、均一な所定の温度となる。
【００６０】
図６は、茶碗蒸し９０等の食品を被加熱物載置用トレイ２２に載置して蒸気密度が均一な混合気体Ｇが供給される上側空間１１Ａに入れて加熱調理する調理途中の様子を示している。図６に示すように、調理空間である上側空間１１Ａには、下側空間１１Ｂで蒸気Ｓと外気とが十分に攪拌され、蒸気密度が均一にされた混合気体Ｇが被加熱物載置用トレイ２２の周囲から集中することなく略均等に供給される。従って、上側空間１１Ａは全体がまんべんなく混合気体Ｇで満たされて、温度分布も均一となるので、茶碗蒸し９０等の食品は、被加熱物載置用トレイ２２への載置位置に関係なく均一に加熱され、加熱ムラのない調理が行われる。
【００６１】
本実施形態の加熱調理器１００によれば、加熱室１１内に蒸気Ｓが供給される一方、加熱室１１内に冷却ファン３２や送風ファン６０等の送風手段からの風を給気用通風路８１を通じて導入するとともに、排気用通風路８５から加熱室１１内の空気を排出するため、加熱室１１内に供給された蒸気Ｓが外気により積極的に撹拌されて、加熱室１１内を所望の雰囲気温度にすることができる。つまり、加熱室１１内の空気に蒸気Ｓが十分に拡散された混合気体Ｇが生成され、この混合気体Ｇは、供給された蒸気Ｓの温度よりも低くなる。従って、加熱室１１を調理に適した任意の温度に設定することが可能となり、正確な温度設定を必要とする卵調理等の加熱調理を迅速かつ確実に行うことが可能となる。
【００６２】
例えば、１００℃近い蒸気で加熱するときには、加熱時間を正確に設定しなければ、特に卵料理等の温度管理が難しい調理時に、調理が失敗に終わることになる。しかし、蒸気Ｓの温度を予め調理に適した温度に設定しておけば、仮に予定より長く調理を続けてしまっても、調理が失敗に終わることはない。
【００６３】
また、この加熱調理器１００では、加熱室１１を上下に分割する仕切板（被加熱物載置用トレイ）２２を設け、この仕切板２２より下方の下側空間１１Ｂに蒸気Ｓを供給することで、下側空間１１Ｂに供給された蒸気Ｓが上昇し、仕切板２２と加熱室１１壁面との間の連通部を通じて上側空間１１Ａに集まる。この作用により蒸気Ｓの撹拌が一層促進され、加熱室１１の上側空間１１Ａにおける蒸気密度が均一化される。
【００６４】
さらに、この加熱調理器１００では、給気口８２が加熱室１１の下側空間１１Ｂに配設されているため、送風された外気が、同じ下側空間１１Ｂに供給される蒸気Ｓと効率良く撹拌されて均一な混合気体Ｇとなる。また、排気口８６が加熱室１１の下側空間１１Ｂに配設されているため、上側空間１１Ａの空気が急激に入れ替わることを防止でき、蒸気加熱に支障をきたすことなく排気することが可能となる。また、蒸気自体が上昇する流れを有するため、加熱室１１の上側空間１１Ａにも風の流れが作用して、上側空間１１Ａに対する換気作用が損なわれることもない。
【００６５】
そして、この加熱調理器１００では、加熱室１１内に配設された蒸発皿３５から蒸気Ｓを加熱室１１内に供給するため、加熱室１１外にボイラ装置を設ける場合と比較して構成を簡略化でき、蒸発皿３５に付着するスケール等の汚れを簡単に払拭することができ、衛生的な環境を容易に維持できる。
【００６６】
そしてさらに、この加熱調理器１００では、給気用通風路８１の流路上流側に給気側シャッタ５１を設けることにより、給気用通風路８１の流量を変更でき、加熱室１１への外気供給量を変更できる。また、排気用通風路８５の流路下流側に排気側シャッタ５２を設けることにより、排気用通風路８５の流量を変更でき、加熱室１１からの排気量を変更できる。
【００６７】
また、このようなシャッタ５１，５２を、簡単な構成で開閉制御を可能とし、例えばシャッタ５１，５２の開閉動作をデューティ制御等することにより、流路を流れる気体の流量を任意に設定することができる。従って、調理空間となる加熱室１１の上側空間１１Ａにおける雰囲気温度や蒸気密度を細かに、かつ正確に設定することができる。
そして、調理終了直前等の加熱室１１内の蒸気が不要となる場合に、排気用通風路８５から蒸気を積極的に排出することにより、被加熱物の取り出しが加熱室１１内の蒸気によって妨げられることが防止でき、結露の発生を抑えることができる。
【００６８】
なお、蒸気の排出は調理途中であっても、排出の必要があれば任意のタイミングで行うことができる。これにより、加熱途中までしか蒸気を必要としない場合であっても、加熱室１１に供給した蒸気を短時間で排出することが可能となる。もって、食品の表面に過剰に蒸気が付着して、食品の出来映えを悪くすることなく、蒸気供給と組み合わせた加熱調理を自在に行うことができ、蒸気加熱機能の一層の向上が図られる。
【００６９】
例えば、揚げ物（フライ）は、必要以上の時間、蒸気雰囲気中で加熱すると、蒸気によって表面の衣が水分を含みすぎ、見栄えや食感が悪くなる。そこで、蒸気が不要のときは、加熱室１１に残った蒸気を一旦排出することで、余分な水分が食品に付かないようにした。つまり、加熱室１１を上部加熱ヒータ１１等で加熱し、この加熱により水分が奪われて食品が乾燥することを、加熱室１１内へ蒸気を供給して防止するとともに、食品の水分量が十分になった場合に加熱室１１内の蒸気を排出することによって、適度な出来映えに仕上げることが可能になる。
【００７０】
また、赤外線センサ１８により食品の温度を検出する場合には、蒸気を加熱室１１内から排出することにより、正確な温度検出が可能となる。さらに、本構成では、仕切板となるトレイ２２の下側で蒸気を排出するので、食品に直接風を当てずに済み、食品が冷やされることを防止できる。また、食品が載置されるトレイ２２の下方の加熱室空間に蒸気を供給するため、蒸気による結露が直接食品に付着することが防止される。つまり、蒸気が加熱室１１の下側空間１１Ｂに供給されると、下側空間１１Ｂ内の空気との撹拌により蒸気が冷やされて露点に達する。すると、蒸気中の飽和水蒸気量を超える水分が結露して、加熱室１１の底面や壁面等に付着する。食品がこの結露に触れる位置に置かれた場合には、食品にダメージが残り、調理が失敗に終わることとなる。しかし、トレイ２２の上面に食品を載置することで、加熱室１１の上側空間１１Ａに食品が配置されることになり、下側空間１１Ｂへの蒸気供給による結露の影響を受けることがなくなる。これにより、食品の出来映えが良好となる。
【００７１】
ここで、本実施形態の加熱調理器１００を用いて茶碗蒸し９０を加熱調理する調理例について説明する。
図７は、「蒸気供給＋ヒータ加熱」による茶碗蒸しの加熱調理パターンを示す。ここでは、シャッタ５１，５２は開放状態で固定されており、給気、排気の制御を特に行わない調理例を示す。
まず、被加熱物Ｍである材料の入れられた茶碗を被加熱物載置用トレイ２２（仕切板）上に載せて加熱室１１内に入れて開閉扉２１を閉じる。入力操作部５０７を操作して加熱方法、加熱時間、加熱温度等を設定し、スタートボタンを押下して調理をスタートさせる。
【００７２】
制御部５０１からの指令に基づいて、予熱工程としてコンベクションヒータ１９を発熱させながら、循環ファン１７を回転させて熱風を加熱室１１内に所定時間（例えば１分）循環させる。なお、マイクロ波発熱体を有する被加熱物載置用トレイ２２を用いる場合には、循環ファン１７及びコンベクションヒータ１９による熱風循環に代えて、或いは併用してマグネトロン１３により予熱を行うこともできる。続いて、上部加熱ヒータ１６を発熱させて所定時間（例えば３０秒）維持する。これにより、加熱室１１内が４５℃〜５０℃の予熱温度に昇温される。その後、蒸発皿加熱ヒータ３７を発熱させて、蒸発皿３５の水溜凹所３５ａ内の水を加熱し蒸発させて、蒸気Ｓを発生させる。加熱室１１に供給された蒸気Ｓにより、加熱室１１内は徐々に昇温して、被加熱物Ｍである茶碗の温度もこれに追従して次第に上昇される。
【００７３】
やがて、加熱室１１内の温度が予め設定されている設定温度に到達すると、蒸気Ｓの供給量を減少させて、代わりに上部加熱ヒータ１６を発熱させる。これにより蒸気量が過剰となって扉や加熱室壁面に結露を生じさせることが防止される。また、蒸気供給量の低下分を上部加熱ヒータ１６からの発熱により補うことで、加熱室１１内が所定の設定温度に維持される。このとき、蒸気供給の給電量は、上部加熱ヒータ１６への給電量との総和が定格電力の範囲を超えないように設定される。このように、上部加熱ヒータ１６による加熱と蒸気Ｓによる加熱を併用して加熱を続け、加熱室１１内の温度を設定温度に維持する。卵の凝固点温度は概ね７８℃〜８２℃であり、茶碗蒸し９０の温度が凝固点領域を越えたところで調理を終了する。茶碗蒸し９０の加熱調理終了までの時間は約２０分程度である。
【００７４】
このように、蒸気加熱により調理する場合には、主な熱伝達媒体が蒸気Ｓであるため、オーブン加熱時のような熱伝達媒体が空気の場合よりも伝達されるエネルギー量が大きくなる。従って、被加熱物Ｍをより早く加熱することができる。また、熱交換作用が良いために、被加熱物Ｍの周辺から内部にかけて均一に加熱でき、特に茶碗蒸し９０の加熱調理においては、巣立ちの発生や加熱不足によって凝固不十分となることを防止できる。
【００７５】
次に、図８を参照して、シャッタ５１，５２を用いて給気と排気を制御した蒸気供給による茶碗蒸し９０の加熱調理例を示す。図８は制御された蒸気供給による加熱調理パターンである。
まず、被加熱物Ｍである材料の入れられた茶碗を用意して、前述同様に調理をスタートさせる。
制御部５０１からの指令に基づいて、蒸発皿加熱ヒータ３７を発熱させ、蒸発皿３５の水溜凹所３５ａに供給された水を加熱し蒸発させる。この蒸気Ｓを、加熱室１１に飽和状態となるまで満たす。この蒸気が充満するまでの間は、給気側シャッタ５１と排気側シャッタ５２を閉じておき、加熱室１１を密閉空間とする。そして、蒸気供給に伴って加熱室１１の温度が次第に上昇し、加熱室１１の温度が設定された所定の温度に達した時間ｔａ以降は、給気側シャッタ５１と排気側シャッタ５２の開閉制御を開始する。即ち、給気側シャッタ５１及び排気側シャッタ５２を開き、冷却ファン３２（或いは送風ファン６０）を作動させて外気を給気口８２から加熱室１１内に吹き出させる（図４参照）。下側空間１１Ｂ内に充満している蒸気Ｓは、給気口８２からの気流によって積極的に攪拌されて均一化される。また、下側空間１１Ｂ内の空気の一部は排気口８６から排気されるため、撹拌効果が一層強まる。従って、下側空間１１Ｂには、蒸気密度が均一の混合気体Ｇが生成され、この混合気体Ｇが上側空間１１Ａに集まることとなる。
【００７６】
混合気体Ｇの温度は、１００℃以下の温度であり、蒸気密度を制御することにより、調理空間となる上側空間１１Ａの雰囲気温度を任意の温度に調節可能となる。この温度調節の原理を図９に基づいて説明する。図９は、給気側シャッタ５１及び排気側シャッタ５２の開閉サイクル時間ｔ２（図８参照）に対する給気側シャッタ５１及び排気側シャッタ５２を開いている時間ｔ１のデューティ比Ｒ（ｔ１／ｔ２）と、蒸気密度及び加熱室温度との関係を示すグラフである。図９から、例えば、加熱室温度をＴ１に設定したい場合には、給気側シャッタ５１及び排気側シャッタ５２をデューティ比Ｒ１で開閉制御することで、蒸気密度がＤ１となり、所望の加熱室温度Ｔ１にすることができる。また、加熱室温度をＴ２に上げる場合には、デューティ比をＲ２にすることで、蒸気密度がＤ２となって所望の加熱室温度Ｔ２が得られる。
【００７７】
即ち、蒸気供給部１５から蒸気Ｓを連続して発生させながら、給気側シャッタ５１及び排気側シャッタ５２を目的のデューティ比で開閉制御して外気の導入量を調節することにより、蒸気密度が変化して、加熱室温度が所望の温度に設定される。なお、開閉サイクル時間ｔ２をあまり長くすると、平均温度は設定温度範囲内にあったとしても、温度の変動幅が大きくなってしまう。また、開閉サイクル時間ｔ２を短くすると、温度の変動幅は少なくなるが、頻繁に給気側シャッタ５１及び排気側シャッタ５２が開閉するので、制御部における開閉制御の負担が大きくなるとともに、シャッタ機構に対する耐久性が低下する等の問題が生じる。このため、概ね１秒から３０秒適度で開閉サイクル時間ｔ２を設定することが望ましい。つまり、前述した図９の横軸をデューティ比Ｒの代わりに、開閉サイクル時間として制御することも可能である。
【００７８】
このようにして、下側空間１１Ｂで生成された蒸気密度が均一の混合気体Ｇは、被加熱物載置用トレイ２２の縁と加熱室１１の内壁（側壁面１１ａ，１１ｂ及び奥側壁面２７）間の隙間を通って上側空間１１Ａに集まり、上側空間１１Ａを所定の一定温度の雰囲気とする。従って、被加熱物載置用トレイ２２に載置された茶碗蒸し９０には、蒸気密度が均一にされた混合気体Ｇが、集中することなく略均等に供給されるので、各茶碗蒸し９０、及びそれぞれの茶碗蒸し９０の内部が均一に加熱される。
ここで、給気側シャッタ５１及び排気側シャッタ５２は、開放状態又は遮蔽状態に保持されるものに限らず、給気用通風路８１及び排気用通風路８５の開度を任意に設定できるものであってもよい。
【００７９】
次に、開度を自在に設定可能としたシャッタ開閉駆動部の実施形態について説明する。
図１０は、シャッタ開閉駆動部の要部斜視図である。このシャッタ開閉駆動部５４は、軸５９を回転中心として揺動可能に構成された扇形シャッタ５６、扇形シャッタ５６を揺動駆動するモータ６１，扇形シャッタ５６の揺動角度を検出するエンコーダ５８、及びエンコーダ５８からの検出信号が入力されてモータ６１の回転を制御する制御部５０１とから構成されている。給気用通風路８１（排気用通風路８５）の途中には、スリット８１ａ（８５ａ）が形成されており、扇形シャッタ５６を揺動させてスリット８１ａ（８５ａ）に挿入して、給気用通風路８１（排気用通風路８５）を開閉するようになっている。扇形シャッタ５６の開閉角度は、エンコーダ５８からの回転角検出信号に基づいて任意の角度に制御することができる。従って、本実施形態のシャッタ開閉駆動部５４によれば、赤外線センサ１８やサーミスタ２０等による温度測定結果をフィードバックして扇形シャッタ５６の開閉角度を制御することにより、加熱室１１内の温度を、より高い精度で管理することができる。つまり、前述の図９における横軸を、デューティ比Ｒの代わりに送風路の開口度として制御することができる。
【００８０】
次に、被加熱物載置用トレイの変形例を図１１及び図１２を参照して説明する。
図１１は被加熱物載置用トレイの変形例を示す斜視図、図１２は被加熱物載置用トレイが加熱室に収容された状態を示す横断面図である。図１１及び図１２に示すように、仕切板である被加熱物載置用トレイ４０は、加熱室１１に収容したときに、奥側と手前側となる縁部４０ａに上下を貫通する複数の開口孔４０ｂが形成されている。開口孔４０ｂは、蒸気供給部１５に対向する位置に設けられていればよく、奥側と手前側の双方に形成する必要は必ずしも無いが、開口孔４０ｂを双方に設けることにより被加熱物載置用トレイ４０の向きを意識することなく加熱室１１に取り付けることができ、取り扱い性が向上する。
【００８１】
また他の変形例としては、図１３に示すように、矩形状の被加熱物載置用トレイ４１の四隅に開口孔４１ｂが形成されている。開口孔４１ｂの位置についても、四隅に設けることにより、被加熱物載置用トレイ４１の取り扱い性が向上するとともに、奥行き方向に載置スペースが増えるため、器の形状によって器の載置数が大きく制限される不具合を緩和することができる。
【００８２】
このように、被加熱物載置用トレイ４０，４１に、それぞれ開口孔４０ｂ，４１ｂを形成することにより、加熱室１１を被加熱物載置用トレイ４０，４１（仕切板）により上下に分割して、加熱室１１の上側空間１１Ａを蒸気加熱用の空間として利用する構成において、加熱室１１の下側空間１１Ｂに給気口８２及び排気口８６を設け、かつ、被加熱物載置用トレイ４０，４１を奥側壁面２７に突き当てた状態で加熱室１１内に配置しても、上側空間１１Ａと下側空間１１Ｂとの連通状態は開口孔４０ｂ，４１ｂによって確実に確保される。
【００８３】
これにより、加熱室１１の下側空間１１Ｂで蒸気と外気とが撹拌されて生成した混合気体Ｇが被加熱物載置用トレイ４０、４１の開口孔４０ｂ、４１ｂを通じて上側空間１１Ａに確実に供給される。従って、被加熱物載置用トレイ４０，４１上に載置された被加熱物Ｍに対し、混合気体Ｇを局所的に強く吹き当てることなく、被加熱物Ｍ全体が蒸気Ｓに包まれるような雰囲気で加熱されることが可能となる。また、上昇する蒸気Ｓの流れが被加熱物載置用トレイ４０，４１の開口孔４０ｂ，４１ｂにより、上下空間を貫く流れとなって、上側空間１１Ａでの蒸気Ｓの滞留がなくなり、換気効率も良好となる。
このように、被加熱物Ｍへの蒸気加熱を、蒸気流れの勢いを抑えることで、蒸気加熱時の被加熱物Ｍの温度分布を均一化し、かつ、上側空間１１Ａに供給される蒸気温度が均一となるように下側空間１１Ｂで予め外気と撹拌させておくことで、安定した一定温度の蒸気供給が実現できる。
【００８４】
また、図１４に示す加熱室１１は、板金のプレス加工等により、奥側壁面２７に垂直方向に沿って凹溝部２７ａが２ヶ所形成されている。これによって、開口孔が形成されていない被加熱物載置用トレイ２２を加熱室１１内に配置しても、上側空間１１Ａと下側空間１１Ｂとは凹溝部２７ａにより連通される。従って、この場合も上記同様の効果が得られることとなる。
【００８５】
次に、給気口８２及び排気口８６の配置位置のバリエーションについて、図１５を参照して説明する。
図１５（ａ）は、給気口８２を下側空間１１Ｂに配置すると共に、排気口８６を上側空間１１Ａに配置したものである。この配置例の加熱室１１によると、給気口８２から下側空間１１Ｂに外気を導入して蒸発皿３５から発生する蒸気Ｓを積極的に攪拌して蒸気密度が均一な混合気体Ｇが生成されると共に、調理完了後において、調理空間である上側空間１１Ａ内の熱い混合気体Ｇを排気口８６から早急に排気することができ、調理完了後直ちに被加熱物Ｍを加熱室１１から取り出すことができる。
【００８６】
図１５（ｂ）は、給気口８２を上側空間１１Ａに配置すると共に、排気口８６を下側空間１１Ｂに配置したものである。この配置例によると、調理完了後において調理室である上側空間１１Ａ内の熱い混合気体Ｇを、先ず下側空間１１Ｂに移した後、排気口８６から排気するようにしたので、上側空間１１Ａ内の温度を急速に低下させることができ、調理完了後の被加熱物Ｍの取り出しが容易となる。
【００８７】
図１５（ｃ）は、給気口８２、排気口８６を共に上側空間１１Ａに配置したものである。この配置例によると、調理空間である上側空間１１Ａに直接外気を導入し、直ちに排気口８６から排気するようにしたので、熱い混合気体Ｇの排気効率が高く、容易に調理完了後の被加熱物Ｍを取り出すことができる。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】本発明に係る加熱調理器の開閉扉を開けた状態を示す正面図である。
【図２】加熱調理器の基本動作説明図である。
【図３】加熱調理器の制御系のブロック図である。
【図４】加熱調理器の給排気機構の概略構成を示す平面図である。
【図５】蒸気供給部から供給された蒸気が下側空間で均一に攪拌された後、上側空間に集められる状態を示す説明図である。
【図６】被加熱物載置用トレイ上に載置された茶碗蒸しが上側空間で均一に加熱調理される状態を示す説明図である。
【図７】シャッタの開閉制御を行わない加熱調理例を示す説明図である。
【図８】シャッタの開閉制御を行い給気と排気を制御した加熱調理例を示す説明図である。
【図９】給気側シャッタ及び排気側シャッタの開閉デューティ比と、蒸気密度及び加熱室温度との関係を示すグラフである。
【図１０】シャッタ開閉量を可変としたシャッタ開閉駆動部の概念的な要部斜視図である。
【図１１】被加熱物載置用トレイの変形例を示す斜視図である。
【図１２】図１１の被加熱物載置用トレイが加熱室に収容された状態を示す要部横断面図である。
【図１３】他の変形例の被加熱物載置用トレイの平面図である。
【図１４】奥側壁面に凹溝部が設けられた加熱室に被加熱物載置用トレイが収容された状態を示す要部横断面図である。
【図１５】給気口及び排気口の配置位置のバリエーションであり、（ａ）は給気口を下側空間に配置すると共に、排気口を上側空間に配置した加熱室の斜視図、（ｂ）は給気口を上側空間に配置すると共に、排気口を下側空間に配置した加熱室の斜視図、（ｃ）は給気口、排気口を共に上側空間に配置した加熱室の斜視図である。
【図１６】蒸気供給口から供給される蒸気を、直接茶碗蒸しに吹き付けて加熱調理する状態を示す従来の加熱室の説明図である。
【図１７】加熱室内に高温の熱風を循環させて加熱調理する従来の調理パターン例を示す図である。
【図１８】従来の加熱調理によって器の周辺が巣立ち状態となった茶碗蒸しの平面図である。
【図１９】従来の加熱調理によって中心部が加熱されずに固まっていない状態の茶碗蒸しの平面図である。
【符号の説明】
【００８９】
１１              加熱室
１１Ａ            加熱室の上側空間
１１Ｂ            加熱室の下側空間
１５              蒸気供給部（蒸気供給手段）
２２，４０，４１  被加熱物載置用トレイ（仕切板）
３２              冷却ファン（送風手段）
３５              蒸発皿
３７              蒸発皿加熱ヒータ（蒸発皿加熱手段）
５１              給気側シャッタ
５２              排気側シャッタ
６０              送風ファン（送風手段）
８１              給気用通風路
８２              給気口
８５              排気用通風路
８６              排気口
９０              茶碗蒸し（被加熱物）
１００              加熱調理器
５０１              制御部
Ｍ                被加熱物
Ｓ                蒸気
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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