(57)【要約】      （修正有）【課題】周縁側部の少なくとも一部が一面側に反った状態のウェーハを、その一面側が表面側となるように吸着して矯正できると共に、吸着したウェーハの中央部近傍に力が加えられる加工や検査を可能にできるウェーハの吸着方法を提供する。【解決手段】吸着ステージ１０として、ウェーハ２０の周縁側部に当接して吸着するステージ外周部１２と、ステージ外周部１２の内周側に設けられ、ウェーハ２０の内側部に当接して吸着するステージ内周部１４とを分割し、ステージ内周部１４を昇降可能に設けた吸着ステージ１０を用い、吸着ステージ１０に載置したウェーハ２０の外周側部を、ステージ外周部１２の当接面に当接して吸着できるように、ステージ内周部１４を降下して段差を形成し、次いで、ステージ外周部１２に外周側部を吸着したウェーハ２０の内側部を、上昇するステージ内周部１４の当接面によって押圧して矯正したウェーハ２０の内側部を吸着する。【選択図】図３
2005116842.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一面側に樹脂モールド等の加工が施され、周縁側部の少なくとも一部が前記一面側に反った状態のウェーハを、前記一面側が表面側となるように吸着するウェーハ吸着ステージであって、
該吸着ステージが、前記ウェーハの周縁側部の他面側に当接する当接面に吸着手段が設けられたステージ外周部と、前記ステージ外周部の内周側に設けられ、前記ウェーハの内側部の他面側に当接する当接面に吸着手段が設けられたステージ内周部とから構成され、
前記ウェーハの周縁側部の他面側をステージ外周部に吸着する際に、前記ステージ外周部の当接面とステージ内周部の当接面との間に段差を形成して、前記ウェーハの周縁側部の他面側にステージ外周部の当接面が当接でき、且つ前記ステージ外周部の当接面に周縁側部の他面側が当接して吸着されたウェーハの反りを矯正する際に、前記ウェーハの内側部の他面側をステージ内周部の当接面によって、前記反りを矯正する方向に押圧できるように、前記ステージ外周部とステージ内周部との少なくとも一方が、昇降可能に設けられていることを特徴とするウェーハ吸着ステージ。
【請求項２】
ステージ外周部が固定状態に設けられており、ステージ内周部が昇降可能に設けられている請求項１記載のウェーハ吸着ステージ。
【請求項３】
ステージ外周部及びステージ内周部が、相互に独立して昇降可能に設けられている請求項１記載のウェーハ吸着ステージ。
【請求項４】
ステージ外周部及びステージ内周部の吸着手段が、前記ステージ外周部及びステージ内周部の各当接面に当接したウェーハの他面側を、前記当接面の各々に開口する吸着溝から吸引してウェーハを真空吸着する真空吸着手段であって、
前記ステージ外周部の当接面にウェーハの周縁側部の他面側を真空吸着した際に、前記ステージ外周部の吸着溝の真空度が所定値に到達したとき、前記ウェーハの反りが矯正されるように、前記ステージ外周部とステージ内周部との少なくとも一方を昇降する制御部が設けられている請求項１〜３のいずれか一項記載のウェーハ吸着ステージ。
【請求項５】
ステージ外周部及び／又はステージ内周部が、複数の分割部に分割されて構成され、前記分割部の各々が、相互に独立して昇降可能に設けられている共に、ウェーハを吸着する吸着手段が前記分割部の各々に設けられている請求項１記載のウェーハ吸着ステージ。
【請求項６】
分割部の各々に設けられた吸着手段が、前記分割部の各当接面に当接したウェーハの周縁側部の他面側を、前記当接面の各々に開口する吸着溝から吸引して真空吸着する真空吸着手段であって、
前記分割部の各々を昇降して、前記ウェーハの周縁側部の少なくとも一部の他面側に当接する前記分割部の当接面に、前記ウェーハの周縁側部の他面側を真空吸着した際に、前記当接面の吸引溝の真空度が所定値に到達したとき、前記ウェーハの反りが矯正されるように、他の分割部を昇降する制御部が設けられている請求項５記載のウェーハ吸着ステージ。
【請求項７】
一面側に樹脂モールド等の加工が施され、周縁側部の少なくとも一部が前記一面側に反った状態のウェーハを、前記一面側が表面側となるようにウェーハ吸着ステージに吸着する際に、
該吸着ステージとして、前記ウェーハの周縁側部の他面側に当接する当接面に吸着手段が設けられたステージ外周部と、前記ステージ外周部の内周側に設けられ、前記ウェーハの内側部の他面側に当接する当接面に吸着手段が設けられたステージ内周部とを具備し、前記ステージ外周部とステージ内周部の少なくとも一方が昇降可能に設けられた吸着ステージを用い、
前記吸着ステージに載置されたウェーハの外周側部の他面側を、前記ステージ外周部の当接面に当接して吸着できるように、前記ステージ外周部とステージ内周部との当接面の間に段差を形成し、
次いで、前記ステージ外周部の当接面に周縁側部の他面側を前記吸着手段によって吸着したウェーハの内側部の他面側を、前記ステージ内周部の当接面によって前記反りを矯正する方向に押圧した後、
前記反りが矯正されたウェーハの内側部の他面側を、前記ステージ内周部の当接面に吸着手段によって吸着することを特徴とするウェーハの吸着方法。
【請求項８】
吸着ステージとして、ステージ外周部が固定状態に設けられており、ステージ内周部が昇降可能に設けられている吸着ステージを用いる請求項７記載のウェーハの吸着方法。
【請求項９】
吸着ステージとして、ステージ外周部及びステージ内周部が、相互に独立して昇降可能に設けられている吸着ステージを用いる請求項７記載のウェーハの吸着方法。
【請求項１０】
ステージ外周部及びステージ内周部の吸着手段として、前記ステージ外周部及びステージ内周部の各当接面に当接したウェーハの他面側を、前記当接面の各々に開口する吸着溝から吸引してウェーハを真空吸着する真空吸着手段を用い、
前記ステージ外周部の当接面に、前記ウェーハの周縁側部の他面側を吸着した際に、前記ステージ外周部の吸着溝の真空度が所定値に到達したとき、前記ウェーハの反りを矯正するように、前記ステージ外周部とステージ内周部との少なくとも一方を昇降する請求項７〜９のいずれか一項記載のウェーハ吸着方法。
【請求項１１】
吸着ステージとして、ステージ外周部及び／又はステージ内周部が、複数の分割部に分割されて構成され、前記分割部の各々が、相互に独立して昇降可能に設けられている共に、ウェーハを吸着する吸着手段が設けられている吸着ステージを用いる請求項７記載のウェーハの吸着方法。
【請求項１２】
分割部の各々に設けられた吸着手段として、前記分割部の各当接面に当接したウェーハの周縁側部の他面側を、前記当接面の各々に開口する吸着溝から吸引して真空吸着する真空吸着手段を用い、
前記分割部の各々を昇降して、前記ウェーハの周縁側部の少なくとも一部の他面側に当接する前記分割部の当接面に、前記ウェーハの周縁側部の他面側を真空吸着した際に、前記当接面の吸引溝の真空度が所定値に到達したとき、前記ウェーハの反りが矯正されるように、他の分割部を昇降する請求項１１記載のウェーハの吸着方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はウェーハ吸着ステージ及びウェーハの吸着方法に関し、更に詳細には一面側に樹脂モールド等の加工が施され、周縁側部の少なくとも一部が前記一面側に反った状態のウェーハを、前記一面側が表面側となるように吸着するウェーハ吸着ステージ及びウェーハの吸着方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器及び装置の小型化の要請に伴ない、半導体装置の小型化、高密度化が図られている。このため、半導体装置の形状を半導体素子に可及的に近づけることによって小型化を図った、いわゆるウェーハレベルチップサイズパッケージ（ＷＬ−ＣＳＰ）構造の半導体装置が、例えば下記特許文献１に提案されている。
かかるＷＬ−ＣＳＰ構造の半導体装置の製造は、特許文献１では、図５に示す様に、シリコンウェーハ（以下、単にウェーハと称する）１００の一面側に作り込まれた複数個の半導体素子上に、形成された再配線等を封止する樹脂層１０２を樹脂モールドによって形成した後、吸着ステージ（図示せず）上に吸着したウェーハ１００及び樹脂層１０２をダイサ１０４によって切断し、個片の半導体装置１０６，１０６・・とする。
【特許文献１】特開平１０−７９３６２号公報（図８）
【０００３】
図５に示すＷＬ−ＣＳＰ構造の半導体装置の製造方法によれば、ＷＬ−ＣＳＰ構造の半導体装置を効率的に製造できる。
しかし、最近では、電子機器及び装置の小型化の要請に加えて薄型化も要請され、半導体装置の薄型化も図られている。このため、ウェーハ１００も１００〜３００μｍ程度に薄型化されている。
この様に、薄型化されたウェーハ１００は、その強度も低下しており、その一面側に、樹脂モールドによって樹脂層１０２を形成した場合、樹脂層１０２が固化したとき、樹脂層１０２の収縮に因ってウェーハ１００は、その周縁側部が樹脂層１０２を形成した一面側に大きく反った状態となる。
かかる状態のウェーハ１００を、図６に示す様に、吸着ステージ２００の真空吸着用の吸着溝２０２，２０２が開口する載置面に、樹脂層１０２を形成した一面側が表面側となるように載置すると、ウェーハ１００の周縁側部の他面側と吸着ステージ２００の載置面との間に空間ができる。
このため、かかる空間から空気がリークし、ウェーハ１００の他面側全面を吸着ステージ２００の載置面に密着させることができず、ウェーハ１００は周縁側部が反った状態で吸着ステージ２００の載置面に載置されている。この状態のウェーハ１００では、その一面側に形成した複数個の半導体装置の各々について、光学的装置を用いた正確な位置確認が困難となったり、プローブを用いた電気的な試験の障害となることがある。
【０００４】
一方、一面側に感光性レジストが塗布され、周縁側部が一面側に反ったウェーハの吸着ステージとして、下記特許文献２には、図７に示す吸着ステージ２００が提案されている。
図７に示す吸着ステージ２００は、回転テーブル２０４がモータ２０２で回転可能に設けられている。この回転テーブル２０４の一面側は、図７（ａ）のＸ−Ｘ面の断面図である図７（ｂ）及び図７（ａ）のＹ−Ｙ面の断面図である図７（ｃ）に示す様に、その周縁部が環状に突出する凹部２１０に形成されている。
かかる回転テーブル２０４の一面側の周縁部に形成された環状突出部２０４ａの突出面は、回転テーブル２０４及びその回転軸２０６に形成された真空路２０８に接続された吸着溝２０９が開口され、吸着面に形成されている。
更に、回転テーブル２０４に形成された凹部２１０の底面２１０ａには、回転テーブル２０４を貫通する貫通孔２１２が形成されている。
【特許文献２】特開平１０−２１８３６４号公報（図１〜図３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
図７に示す吸着ステージ２００の環状突出部２０４ａの突出面に、感光性レジストが塗布された一面側を表面となるように載置した、周縁側部が一面側に反ったウェーハ２４０を、真空路２０８及び吸着溝２０９により真空吸着することによって、ウェーハ２４０の周縁側部が平坦な環状突出部２０４ａの突出面に吸着されて反りが矯正される。
この際に、環状突出部２０４ａの突出面とウェーハ２４０の周縁側部との間の隙間から真空漏れがあっても、ウェーハ２４０と吸着ステージ２００の凹部２１０とによって形成された空間内に、貫通孔２１２を経由して空気が流入し、この空間内が減圧状態とならず、ウェーハ２４０の矯正状態を保持できる。
【０００６】
しかし、図７に示す吸着ステージ２００のウェーハ２０４の吸着面側は、その周縁部が環状に突出する凹部２１０に形成されているため、ウェーハ２０４の中央部近傍が支承されておらず、ウェーハ２０４の中心部近傍に力が加えられる加工や検査を施すことは困難である。
更に、中央部近傍にも反りが存在するウェーハ２０４の場合、ウェーハ２０４の周縁側部が吸着ステージ２００の平坦な環状突出部２０４ａの突出面に吸着されても、支承されていないウェーハ２０４の中央部近傍の反りは矯正されず、平坦性が要求される検査、例えば光学的検査やプローブ検査等が困難である。
また、再配線、樹脂モールド或いは絶縁フィルムによる被覆等の加工が施されたウェーハ１００（図５）の一面側には、感光性レジストよりも厚い樹脂層１０２が形成されている。このため、ウェーハ１００の反りを、回転テーブル２０４の一面側の周縁部に形成された環状突出部２０４ａの突出面に、ウェーハ１００の周縁側部を載置して吸引したのみでは、充分に矯正されないおそれもある。
そこで、本発明の課題は、周縁側部の少なくとも一部が一面側に反った状態のウェーハを、その一面側が表面側となるように吸着して矯正できると共に、吸着したウェーハの中央部近傍に力が加えられる加工や検査を可能にできるウェーハ吸着ステージ及びウェーハの吸着方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、前記課題を解決すべく検討した結果、ウェーハの周縁側部に当接して吸着するステージ外周部と、このステージ外周部の内周側に設けられ、ウェーハの内側部に当接して吸着するステージ内周部とを分割し、ステージ外周部とステージ内周部との一方を昇降可能に設けた吸着ステージを用いることによって、周縁側部の少なくとも一部が一面側に反った状態のウェーハを、その一面側が表面側となるように吸着して矯正でき、且つウェーハの中央部近傍も支承できることを見出し、本発明に到達した。
すなわち、本発明は、一面側に樹脂モールド等の加工が施され、周縁側部の少なくとも一部が前記一面側に反った状態のウェーハを、前記一面側が表面側となるように吸着するウェーハ吸着ステージであって、該吸着ステージが、前記ウェーハの周縁側部の他面側に当接する当接面に吸着手段が設けられたステージ外周部と、前記ステージ外周部の内周側に設けられ、前記ウェーハの内側部の他面側に当接する当接面に吸着手段が設けられたステージ内周部とから構成され、前記ウェーハの周縁側部の他面側をステージ外周部に吸着する際に、前記ステージ外周部の当接面とステージ内周部の当接面との間に段差を形成して、前記ウェーハの周縁側部の他面側にステージ外周部の当接面が当接でき、且つ前記ステージ外周部の当接面に周縁側部の他面側が当接して吸着されたウェーハの反りを矯正する際に、前記ウェーハの内側部の他面側をステージ内周部の当接面によって、前記反りを矯正する方向に押圧できるように、前記ステージ外周部とステージ内周部との少なくとも一方が、昇降可能に設けられていることを特徴とするウェーハ吸着ステージにある。
【０００８】
また、本発明は、一面側に樹脂モールド等の加工が施され、周縁側部の少なくとも一部が前記一面側に反った状態のウェーハを、前記一面側が表面側となるようにウェーハ吸着ステージに吸着する際に、該吸着ステージとして、前記ウェーハの周縁側部の他面側に当接する当接面に吸着手段が設けられたステージ外周部と、前記ステージ外周部の内周側に設けられ、前記ウェーハの内側部の他面側に当接する当接面に吸着手段が設けられたステージ内周部とを具備し、前記ステージ外周部とステージ内周部の少なくとも一方が昇降可能に設けられた吸着ステージを用い、前記吸着ステージに載置されたウェーハの外周側部の他面側を、前記ステージ外周部の当接面に当接して吸着できるように、前記ステージ外周部とステージ内周部との当接面の間に段差を形成し、次いで、前記ステージ外周部の当接面に周縁側部の他面側を前記吸着手段によって吸着したウェーハの内側部の他面側を、前記ステージ内周部の当接面によって前記反りを矯正する方向に押圧した後、前記反りが矯正されたウェーハの内側部の他面側を、前記ステージ内周部の当接面に吸着手段によって吸着することを特徴とするウェーハの吸着方法にある。
【０００９】
かかる本発明において、吸着ステージとして、ステージ外周部が固定状態に設けられており、ステージ内周部が昇降可能に設けられている吸着ステージ、或いはステージ外周部及びステージ内周部が、相互に独立して昇降可能に設けられている吸着ステージを好適に用いることができる。
更に、ステージ外周部及びステージ内周部の吸着手段として、前記ステージ外周部及びステージ内周部の各当接面に当接したウェーハの他面側を、前記当接面の各々に開口する吸着溝から吸引してウェーハを真空吸着する真空吸着手段を用い、前記ステージ外周部の当接面に、前記ウェーハの周縁側部の他面側を吸着した際に、前記ステージ外周部の吸着溝の真空度が所定値に到達したとき、前記ウェーハの反りを矯正するように、前記ステージ外周部とステージ内周部との少なくとも一方を昇降することによって、ウェーハの周縁側部の他面側を充分に吸着したことを確認した後、ウェーハの反りを矯正できる。
【００１０】
また、吸着ステージとして、ステージ外周部及び／又はステージ内周部が、複数の分割部に分割されて構成され、前記分割部の各々が、相互に独立して昇降可能に設けられている共に、ウェーハを吸着する吸着手段が設けられている吸着ステージを用いることによって、ウェーハの外周側部に発生した反りの状況に応じて最適な分割部の昇降を可能にできる。
かかる吸着ステージを用いる場合にも、分割部の各々に設けられた吸着手段として、前記分割部の各当接面に当接したウェーハの周縁側部の他面側を、前記当接面の各々に開口する吸着溝から吸引して真空吸着する真空吸着手段を用い、前記分割部の各々を昇降して、前記ウェーハの周縁側部の少なくとも一部の他面側に当接する前記分割部の当接面に、前記ウェーハの周縁側部の他面側を真空吸着した際に、前記当接面の吸引溝の真空度が所定値に到達したとき、前記ウェーハの反りが矯正されるように、他の分割部を昇降することによって、ウェーハの周縁側部の少なくとも一部の他面側を充分に吸着したことを確認した後、ウェーハの反りを矯正できる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明に係る吸着ステージを用い、一面側に樹脂モールド等の加工が施され、周縁側部の少なくとも一部が一面側に反った状態のウェーハを、その一面側が表面側となるように吸着ステージに吸着する際に、吸着ステージを構成するステージ外周部とステージ内周部との一方を昇降し、両者の当接面の間に段差を形成することにより、吸着ステージに載置されたウェーハの外周側部の他面側を、ステージ外周部の当接面に当接して吸着できる。
次いで、ステージ外周部の当接面に周縁側部の他面側が吸着されたウェーハの内側部の他面側を、段差解消の方向にステージ外周部とステージ内周部との一方を昇降し、ステージ内周部の当接面によって反りを矯正する方向に押圧して、ウェーハを平坦化する。
更に、ステージ内周部の当接面によって平坦に矯正されたウェーハの内部側の他面側を、ステージ内周部の当接面に吸着手段によって容易に吸着できる。
この様に、吸着ステージに反りが矯正された吸着されたウェーハは、その周縁側部及び内側部が吸着ステージによって支承されている。
このため、ウェーハの周縁側部及び内側部に力が加えられる検査や加工を容易に施すことができる。
また、ウェーハの平坦性が要求される検査では、例えば光学的検査の場合は、焦点をウェーハの全面で合わせることができ、プローブ検査の場合は、検査プローブのストロークを一定にし、押し込み強さを一定にすることができる結果、所定の検査を容易に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明に係る吸着ステージの一例を、図１に示す。図１（ａ）は吸着ステージ１０の斜視図であり、図１（ｂ）はその断面図である。
かかる吸着ステージ１０は、ステージ外周部１２と、ステージ外周部１２の内周側に設けられたステージ内周部１４とから構成されている。ステージ内周部１４は、ステージ外周部１２の内周面に外周面が摺接しつつ、シリンダ装置やカム機構等の駆動手段２１によって昇降可能に設けられている。
かかるステージ外周部１２及びステージ内周部１４には、吸着手段として、図１（ｂ）に示す様に、外部に設置された真空ポンプ２２に接続されている、ステージ外周部１２及びステージ内周部１４の各内部に形成された真空路１２ａ，１４aと、真空路１２ａ，１４aに接続され、ステージ外周部１２及びステージ内周部１４の一面側に開口されているリング状の吸着溝１６，１８とが形成されている。この吸着溝１６，１８が開口されているステージ外周部１２及びステージ内周部１４の一面側の面が、後述するウェーハの他面側に当接して吸着する当接面である。
【００１３】
図１に示す吸着ステージ１０では、ステージ外周部１２に形成された吸着溝１６と、ステージ内周部１４に形成された吸着溝１８とは、別々に真空吸着の機能を奏するように、真空路１２ａ，１４aと真空ポンプ２０との間を接続する各接続配管に、制御弁１２ｂ、１４ｂが設けられている。
かかる制御弁１２ｂ、１４ｂ、真空ポンプ２２及び駆動手段２１は、制御部２４によって制御されており、制御部２４には、制御弁１２ｂと吸着溝１６との間に設けられ、この間の真空度を検出する真空度計２６からの信号が送られる。
図１に示す吸着ステージ１０は、その一面側が、ステージ外周部１２及びステージ内周部１４の両当接面から成る面が面一に形成されているが、駆動手段２１を駆動してステージ内周部１４を降下することによって、図２に示す様に、ステージ外周部１２の当接面がステージ内周部１４の当接面よりも突出し、ステージ外周部１２とステージ内周部１４のとの当接面間に段差を形成できる。
【００１４】
図１及び図２に示す吸着ステージ１０に、図３に示す様に、一面側に樹脂モールド等の加工が施され、周縁側部が一面側に反った状態のウェーハ２０を吸着する際に、先ず、図３（ａ）に示す様に、吸着ステージ１０の一面側に、加工が施された一面側が表面側となるようにウェーハ２０を載置する。この吸着ステージ１０の一面側は、ステージ外周部１２及びステージ内周部１４の両当接面から成る面が面一に形成されている。このため、ウェーハ２０は、その内側部がステージ内周部１４の当接面に当接し、ステージ外周部１２の当接面とウェーハ２０の周縁側部との間に空隙が形成される。
次いで、制御部２４からの信号によって駆動手段２１を駆動してステージ内周部１４を降下し、図３（ｂ）に示す様に、ステージ外周部１２の当接面がステージ内周部１４の当接面よりも突出することによって、ステージ外周部１２とステージ内周部１４のとの当接面間に段差を形成する。かかる段差の形成によって、ウェーハ２０の内側部にステージ内周部１４の当接面が当接しなくなるため、ウェーハ２０の周縁側部の他面側がステージ外周部１２の当接面に当接する。
この状態で制御部２４からの信号によって真空ポンプ２２を起動し、制御弁１２ｂを開いてステージ外周部１２の吸着溝１６を真空状態として、ステージ外周部１２の当接面に当接するウェーハ２０の周縁側部の他面側を吸着できる。
【００１５】
ステージ外周部１２の当接面に当接するウェーハ２０の周縁側部の他面側が充分に吸着されたか否かは、制御弁１２ｂと吸着溝１６との間に設けられた真空度計２６からの信号によって制御部２４は判断できる。
つまり、真空度計２６で測定された真空度が所定値に到達したとき、制御部２４から駆動手段２１には、ステージ内周部１４を上昇させる方向に駆動する信号が発信される。
この駆動手段２１への信号によって、ウェーハ２０の周縁側部をステージ外周部１２の当接面に吸着した状態で、ステージ内周部１４を上昇し、ステージ外周部１２とステージ内周部１４のとの当接面間に形成された段差を解消する。段差が解消されたステージ外周部１２及びステージ内周部１４の当接面の各々は、図３（ｃ）に示す様に、面一に形成される。
この際に、ウェーハ２０は、その内側部の他面側が、ステージ内周部１４の当接面によって押圧され、反りが矯正されて平坦なウェーハ２０に形成できる。
この様に、吸着ステージ１０では、ウェーハ２０の内側部の他面側を、ステージ内周部１４の当接面によって押圧して反りを矯正する。このため、樹脂モールド等が施されて感光性レジストによりも厚い樹脂層が一面側に形成されたウェーハ２０であっても、その反りを充分に矯正できる。
【００１６】
平坦に矯正されたウェーハ２０の内側部は、制御部２４からの信号によって制御弁１４ｂを開き、ステージ内周部１４の吸着溝１８を真空状態とすることによって、ステージ内周部１４の当接面に吸着でき、ウェーハ２０の周縁側部及び内側部は共に吸着溝１６，１８によって吸着できる。
吸着溝１６，１８によって吸着されたウェーハ２０は、その全面がステージ外周部１２及びステージ内周部１４の両当接面によって面一に形成された吸着ステージ１０の当接面に支承されている。このため、ウェーハ２０の中心部近傍に力が加えられる加工や検査を容易に施すことができる。
【００１７】
図１〜図３に示す吸着ステージ１０では、ステージ外周部１２を固定状態とし、ステージ内周部１４を昇降可能に設けたが、ステージ内周部１４を固定状態とし、ステージ外周部１２を昇降可能に設けてもよい。
ところで、ウェーハ２０に発生する反りは、ウェーハ２０ごとに異なる。このため、ウェーハ２０に発生した反りに合わせて、吸着ステージ１０の当接面の形状を変更できれば、吸着ステージ１０の当接面にウェーハ２０を確実に当接して吸着できる。
このため、ステージ外周部１２及びステージ内周部１４の各々を、図４（ａ）に示す様に、複数の分割部に分割し、ウェーハ２０に発生した反りに合わせて、吸着ステージ１０の当接面の形状を変更することが好ましい。
図４（ａ）に示す吸着ステージ１０では、ステージ外周部１２及びステージ内周部１４の各々を４分割している。つまり、ステージ外周部１２は、１２Ａ〜１２Ｄのステージ外周分割部から構成され、ステージ内周部１４は、１４Ａ〜１４Ｄのステージ内周分割部から構成されている。かかるステージ外周分割部（１２Ａ〜１２Ｄ）及びステージ内周分割部（１４Ａ〜１４Ｄ）の各々は、互いに独立して昇降可能に設けられている。
更に、ステージ外周分割部（１２Ａ〜１２Ｄ）の各々には、分割吸着溝（１６Ａ〜１６Ｄ）の一つが形成されており、ステージ内周分割部（１４Ａ〜１４Ｄ）の各々には、分割吸着溝（１８Ａ〜１８Ｄ）の一つが形成されている。このため、各分割部の当接面では、載置されるウェーハ２０の一部分を吸着できる。
【００１８】
図４（ａ）に示す吸着ステージ１０では、ステージ外周分割部（１２Ａ〜１２Ｄ）及びステージ内周分割部（１４Ａ〜１４Ｄ）の各分割部分を昇降でき、例えば、図４（ｂ）に示す様に、ウェーハ２０の反りの部分に該当するステージ外周分割部１２Ｂ，１２Ｄを上昇（或いは他の分割部分を降下）させることができ、吸着ステージ１０の当接面形状を、反ったウェーハ２０の形状に近似できる。
かかる図４に示す吸着ステージ１０を用いる場合にも、図１に示す吸着ステージ１０と同様に、分割部（１２Ａ〜１２Ｄ），（１４Ａ〜１４Ｄ）の各々に開口する分割吸着溝（１６Ａ〜１６Ｄ），（１８Ａ〜１８Ｄ）から吸引して真空吸着する真空吸着手段を用いることが好ましい。
【００１９】
つまり、分割部（１２Ａ〜１２Ｄ），（１４Ａ〜１４Ｄ）の各々を昇降し、図４（ｂ）に示す様に、吸着ステージ１０の当接面形状を、反ったウェーハ２０の形状に近似させた後、ウェーハ２０の周縁側部の他面側に当接するステージ外周分割部１２Ｂ，１２Ｄの当接面に、真空吸着手段を構成する真空ポンプを駆動して真空吸着する。かかる真空吸着の際に、ステージ外周分割部１２Ｂ，１２Ｄに開口する分割吸着溝１６Ｂ，１８Ｄの真空度［図１（ｂ）に示す様に、真空路１２ａの途中に設けた真空度計２６によって測定してもよい］が所定値に到達したとき、ステージ外周分割部１２Ｂ，１２Ｄの当接面にウェーハ２０の周縁側部の他面側が充分に吸着されたものとして、他の分割部１２Ａ，１２Ｃ，１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄを上昇する。かかる他の分割部１２Ａ，１２Ｃ，１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄを上昇によって、ウェーハ２０の反りを矯正できる。
また、図４に示す吸着ステージ１０では、ステージ外周部１２及びステージ内周部１４の各々を４分割しているが、２分割或いは３分割であってもよい。
更に、吸着ステージ１０のステージ外周部１２及びステージ内周部１４の各々を、分割部に形成しているが、ステージ外周部１２及びステージ内周部１４の一方を分割部に形成してもよい。
尚、図１〜図４に示す吸着ステージ１０では、ウェーハ２０との当接面に連続して開口する吸着溝を形成しているが、当接面に点状に開口する吸着溝としてもよく、ステージ外周部１２及びステージ内周部１４の各々を多孔質材で形成してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明に係る吸着ステージの一例を説明する斜視図及び断面図である。
【図２】図１に示す吸着ステージのステージ内周部を降下させた状態を説明する斜視図及び断面図である。
【図３】図１及び図２に示す吸着ステージに、反りが発生したウェーハを吸着する吸着工程を説明する工程図である。
【図４】本発明に係る吸着ステージの他の例を説明する斜視図である。
【図５】一面側に樹脂層を形成したウェーハの加工の一例を説明する説明図である。
【図６】従来の吸着ステージに、反りが発生したウェーハを載置した状態を説明する断面図である。
【図７】従来の吸着ステージを改良した吸着ステージを説明する説明図である。
【符号の説明】
【００２１】
１０  吸着ステージ
１２  ステージ外周部
１４  ステージ内周部
１６，１８  吸着溝
２０  ウェーハ
２１  駆動手段
２２  真空ポンプ
２４  制御部
１２ａ，１４ａ  真空路
１２ｂ、１４ｂ  制御弁
１６，１８  吸着溝
１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｄ，１２Ｄ  ステージ外周分割部
１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ，１４Ｄ  ステージ内周分割部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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