(57)【要約】【課題】本発明は、半導体レーザ装置にて副走査方向のビームピッチの調整後、レーザホルダを固定する際に発生する微小変動によりビームが本来の光軸よりズレて印字に多大な影響を与えてしまうという問題を簡素な構成で解決することを課題とする。【解決手段】本発明は、複数ビームを発生する半導体レーザ光源と、半導体レーザ光源を支持しつつ半導体レーザ光源の光軸を中心として回転し角度調整が可能なレーザホルダと、レーザホルダを支持するとともにレーザホルダの回転固定機構を有し電子写真式印刷装置本体に固定されるレーザベースとを備えた半導体レーザ装置において、レーザホルダの角度調整後にレーザホルダを固定する際に発生する微小変動を主走査方向にのみ発生するように回転固定機構を配置したことを特徴とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数ビームを発生する半導体レーザ光源と、半導体レーザ光源を支持しつつ半導体レーザ光源の光軸を中心として回転し角度調整が可能なレーザホルダと、レーザホルダを支持するとともにレーザホルダの回転固定機構を有し電子写真式印刷装置本体に固定されるレーザベースとを備えた半導体レーザ装置において、レーザホルダの角度調整後にレーザホルダを固定する際に発生する微小変動を主走査方向にのみ発生するように回転固定機構を配置したことを特徴とする半導体レーザ装置。
【請求項２】
前記半導体レーザ光源が、２本以上の複数ビームを発生する半導体レーザが１つのハウジング内に収められた構造を有する半導体レーザアレイであることを特徴とする請求項１記載の半導体レーザ装置。
【請求項３】
前記半導体レーザ光源が、１本のビームを発生する半導体レーザを複数個配置し、それぞれから発せられるレーザビームを光ファイバを介して集束した構造であることを特徴とする請求項１記載の半導体レーザ装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザビームの走査光と電子写真プロセスにより印字する電子写真式印刷装置等に使用される半導体レーザ装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般的に電子写真式印刷装置は、感光体、該感光体を帯電させる帯電器、該感光体を露光する光走査装置、トナー像を形成する現像機、像を用紙に転写する転写部、感光体の残留トナーを清掃するクリーナ、用紙上のトナーを定着する定着部、用紙を堆積するスタッカなどにより構成されている。近年の電子写真式印刷装置は高速印字や高密度化に対応するため半導体レーザ光源のビーム本数を増やす方法が取られているものが多い。ビーム本数を増やす方法としては、２本以上の複数ビームを発生する半導体レーザが１つのハウジング内に収められた構造を有する半導体レーザアレイを用いる方法や、１本のビームを発生する半導体レーザを複数個配置し、それぞれから発せられるレーザビームを光ファイバを介して集束した構造を用いる方法などがある。
【０００３】
図４に３本のビームを発生する半導体レーザアレイを光源に用いた光走査装置の一例を示す。半導体レーザアレイ１より出射した３本のビームは、図示しないコリメータレンズを通り、ポリゴンミラー７に達する。ポリゴンミラー７は、駆動モータ８によって、回転変動の少ない高速回転を行っている。ここで、ポリゴンミラー７と駆動モータ８で構成されたスキャナモータ９は、半導体レーザアレイ１からの３本のビームを偏向し走査する。この偏向走査された３本のビームは、非球面レンズ１０を介して感光体１１上に達し、図示する主走査方向に走査する。半導体レーザアレイ１を印字データからオンオフ制御し、感光体１１が図示する副走査方向に回転することによって、感光体上に静電潜像を形成する。図示しないコリメータレンズおよび非球面レンズ１０は、感光体１１上のビームを一定に絞るために用いられる。また、各ビームの感光体１１上の書出し位置を決定するため、ビーム走査線上で感光体に被らない位置にビーム検出器１２が設けられている。
【０００４】
この構成では、感光体１１上での３本のビームの副走査方向のピッチは、図５に示すように主走査方向と半導体レーザアレイ上にある３つのビーム光源の配列軸がなす角度１３によって変化する。例えば印刷解像度６００ＤＰＩ（Ｄｏｔ  Ｐａｒ  Ｉｎｃｈ）の場合、感光体１１上のビームピッチが４２．３μｍ、４８０ＤＰＩの場合は５２．９μｍとなるようにこの角度を調整する必要がある。この角度を調整できるように、半導体レーザアレイ１を接合部材３により支持するレーザホルダ２は光軸を中心軸に回転可能な形状を有し、レーザホルダ２を支持して図示しない光走査装置のフレームに固定されるレーザベース４にはレーザホルダ２の回転を固定する回転固定機構５が設けられている。回転固定機構はレーザホルダのある一面をネジやバネなどで押え付けるものが構造的に簡素であり、一般的に用いられている。ネジで押え付ける例を図２および図３に示してある。
【０００５】
なお、図１、図２、図３において、（ａ）は斜視図、（ｂ）は背面図を夫々示す。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
前記の通り従来技術においては、感光体上での副走査方向のビームピッチはレーザホルダを回転させることによって調整される。しかし、調整後に回転固定機構によりレーザホルダを固定する際に微小変動が生じ、レーザホルダが面倒れしてしまい、ビームが本来の光軸よりズレて印字に多大な影響を与えてしまう問題があった。回転固定機構がネジやバネなどで押え付ける機械的なものである場合、微小変動の発生は構造的に避けられない。図２や図３に示す従来の回転固定機構の設置位置では、微小変動６が図示する方向に発生し、最悪の場合ビームがレーザ検出器から外れてしまうこともあった。微小変動を発生しない回転固定機構を搭載するのが理想的であるが、機構が大型となって実装が難しい、あるいは複雑化して大幅にコストアップするという問題がある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題は、複数ビームを発生する半導体レーザ光源と、半導体レーザ光源を支持しつつ半導体レーザ光源の光軸を中心として回転し角度調整が可能なレーザホルダと、レーザホルダを支持するとともにレーザホルダの回転固定機構を有し電子写真式印刷装置本体に固定されるレーザベースとを備えた半導体レーザ装置において、レーザホルダの角度調整後にレーザホルダを固定する際に発生する微小変動を主走査方向にのみ発生するように回転固定機構を配置することによって解決される。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明を、３本のビームを発生する半導体レーザアレイを有する半導体レーザ装置を一実施例として、図１により説明する。図１（ａ）はレーザ装置の斜視図、図１（ｂ）はレーザ装置の背面図である。なお、従来のレーザ装置と同一の部品については説明を省略する。
【０００９】
本発明は、回転固定機構５を主走査方向（ｘ軸線上）に配置している。これにより、レーザホルダ２を固定した際に発生する微小変動６は副走査方向（ｙ成分）を持たない方向、つまりｘｚ平面上に限定される。このような微小変動はビームの書出し位置に影響をあたえるが、感光体への書出し位置はビーム検出器により決定されるため、印字においては悪影響とはならない。一方、レーザベース４は図示しない光走査装置のフレームとｘｚ平面にて当接しているので、レーザベース４の取り付け方により微小変動６を相殺することも可能である。
【００１０】
【発明の効果】
本発明によれば、印字へ悪影響を与えずに簡素な構成で副走査方向のビームピッチを調整できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明によるレーザ装置の模式図。
【図２】従来技術によるレーザ装置の模式図。
【図３】従来技術によるレーザ装置の模式図。
【図４】３ビーム光走査装置の一例を示す模式図。
【図５】ビーム配列と副走査方向ピッチの関係を示す模式図。
【符号の説明】
１は半導体レーザアレイ、２はレーザホルダ、３は接合部材、４はレーザベース、５は回転固定機構、６は微小変動、７はポリゴンミラー、８は駆動モータ、９はスキャナモータ、１０は非球面レンズ、１１は感光体、１２はビーム検出器、１３は主走査方向とビーム光源配列軸がなす角度である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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