(57)【要約】【課題】新規な粒状クロムめっき層を形成可能なクロムめっき方法を提供すること。【解決手段】  金属製品本体上に、クロムめっき浴を用いて、下記条件で硬質クロムめっきを行って、適度な摩擦性を有する粒状めっき層を得る方法。      電流密度：６０〜１８００Ａ／ｄｍ2、      浴電圧：４〜３０Ｖ、      浴温：２５〜５５℃【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属製品本体上に、クロムめっき浴（けいふっ化浴を除く。）を用いて、電流密度６０〜１８００Ａ／ｄｍ2、浴電圧４〜３０Ｖ、浴温２５〜５５℃の条件でクロムめっきを行うことを特徴とする硬質クロムめっき方法。
【請求項２】
前記クロムめっき浴がサージェント浴であることを特徴とする請求項１記載の硬質クロムめっき方法。
【請求項３】
金属製品本体上に、けいふっ化浴を用いて、電流密度１５０Ａ／ｄｍ2超１８００Ａ／ｄｍ2以下、浴電圧４〜３０Ｖ、浴温２５〜５５℃の条件でクロムめっきを行うことを特徴とする硬質クロムめっき方法。
【請求項４】
めっき時間が、２〜１００分であることを特徴とする請求項１、２又は３記載の硬質クロムめっき方法。
【請求項５】
金属製品本体の表面にクロムめっき浴（けいふっ化浴を除く。）による粒状クロムめっき層を備え、該粒状クロムめっき層は、平均粒径５〜２５０μｍで膜厚８〜３５０μｍであることを特徴とする硬質クロムめっき製品。
【請求項６】
金属製品本体の表面にけいふっ化浴による粒状クロムめっき層を備え、平均粒径３０μｍ超２５０μｍ以下で、膜厚４０μｍ超３５０μｍ以下であることを特徴とする硬質クロムめっき製品。
【請求項７】
前記粒状クロムめっき層の、静摩擦係数が０．１７以上であることを特徴とする請求項５又は６記載の硬質クロムめっき製品。
【請求項８】
前記粒状クロムめっき層の、静摩擦係数が０．１４以上０．１７未満であることを特徴とする請求項５又は６記載の硬質クロムめっき製品。
【請求項９】
前記粒状クロムめっき層の、静摩擦係数が０．１４未満であることを特徴とする請求項５又は６記載の硬質クロムめっき製品。
【請求項１０】
製品本体（基材）上に、クロムめっき浴（けいふっ化浴を除く。）を用いて、電流密度６０〜１８００Ａ／ｄｍ2、浴電圧４〜３０Ｖ、浴温２５〜５５℃の条件でクロムめっきを行うことを特徴とする硬質クロムめっき方法。
【請求項１１】
製品本体（基材）上に、けいふっ化浴を用いて、電流密度１５０越１８００Ａ／ｄｍ2、欲電圧４〜３０Ｖ、浴温２５〜５５℃の条件でクロムめっきを行なうことを特徴とする硬質クロムめっき方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な硬質クロムめっき方法及び硬質クロムめっき金属製品に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の硬質クロムめっき方法における、浴組成・めっき条件は、非特許文献１において、表１の如く記載されている。
【０００３】
【表１】
2005029878.tif 000002
ここで、上記条件において、浴電圧４〜８Ｖ、めっき時間は、所要膜厚により異なるが、通常の硬質クロムめっき膜厚１０〜３０μｍの場合、１〜３ｈであった。
【０００４】
そして、これらの浴組成・めっき条件で形成されるクロムめっき層は、通常、滑りのよいものがほとんどであった。
【０００５】
【非特許文献１】日本化学会編「化学便覧  応用編  改定３版」（昭５５−３−１５）丸善、p.205、表3.19参照。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記にかんがみて、新規な粒状クロムめっき層を形成可能なクロムめっき方法を提供することを目的（課題）とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、クロムめっきの研究をしている過程で、従来の汎用の浴組成において、公知のめっき条件から格段に逸脱した一定の範囲から選択される条件でめっきを行なった場合、ある粒径範囲で耐すべり性（ある程度の摩擦抵抗）を有する、又、それ以外の粒径範囲では中間レベルのすべり性及び従来の汎用めっき浴におけるのと同等またはそれ以上のすべり性を有する粒状めっきが形成され、更には、従来に比して、めっき時間が短時間で済むことを見出して、下記構成の本発明に想到した。
【０００８】
本発明の一つは、金属製品本体上に、クロムめっき浴（けいふっ化浴を除く。）を用いて、電流密度６０〜１８００Ａ／ｄｍ2、浴電圧４〜３０Ｖ、浴温２５〜５５℃の条件でクロムめっきを行うことを特徴とする硬質クロムめっき方法にある。
【０００９】
そして、上記クロムめっき浴は、通常、サージェント浴とする。
【００１０】
本発明の他の一つは、金属製品本体上に、けいふっ化浴を用いて、電流密度１５０超１８００Ａ／ｄｍ2、浴電圧４〜３０Ｖ、浴温２５〜５５℃の条件でクロムめっきを行うことを特徴とするものである。
【００１１】
上記各構成において、めっき時間は、通常、２〜１００minとする。
【００１２】
また、本発明の硬質クロムめっき製品は、金属製品本体の表面にクロムめっき浴（けいふっ化浴を除く）による粒状クロムめっき層を備え、該粒状めっき層は、通常、平均粒径５〜２００μｍで膜厚８〜３５０μｍである。
【００１３】
そして、本発明の他の硬質クロムめっき製品は、金属製品本体の表面にけいふっ化浴により形成される粒状クロムめっき層を備え、該粒状めっき層は、平均粒径３０μｍ超２５０μｍ以下で、膜厚４０μｍ超３５０μｍ以下である。
【００１４】
上記各構成において、静摩擦係数が、クランプ性の見地から望ましい、０．１７以上のものから、それ未満の中間的すべり性を有する０．１４以上〜０．１７未満、さらには、すべり性を有する０．１４未満である硬質クロムめっき製品を得ることができる。
当該特性により、クロムめっき層にある粒径範囲で適度な粗面化が可能となり、クランプ性（挟持性）を確保し易くなる。逆に、それ以外の粒径範囲では、従来における汎用めっき浴と同等又はそれ以上のすべり性が得られる。
【００１５】
更に、本発明のクロムめっき方法は、金属製品本体ばかりでなく、セラミック、プラスチック等の製品本体にも適用できるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の望ましい実施形態について、サージェント浴とけいふっ化浴を例にとって詳細に説明を行う。
【００１７】
基本的には、金属製品本体上に、クロムめっき浴を用いて粒状のクロムめっき層を備えたクロムめっきを行う方法である。
【００１８】
ここで、本発明を適用する金属製品としては、一定のすべり止めが要求されるものであり、例えば、プレス用金型（ワーク加工時のワークの移動防止）、クランプ製品、送りローラ、ベルトプーリ等に好適である。
【００１９】
また、本発明の硬質クロム方法は、表面が粒状表面であるため、接着剤の下地処理面や、油保持面としての利用も可能となるものである。
【００２０】
また、金属製品本体（基材）を構成する金属材料としては、通常、鋼等の鉄合金とするが、アルミ合金、銅合金（黄銅、青銅等）、チタン合金等の非鉄合金でも適用可能である。
【００２１】
クロムめっき浴としては、特に限定されず、前記サージェント浴、けいふっ化浴、更にはそれらをベースとした添加浴を使用可能である。
【００２２】
サージェント浴を用いる場合の硬質クロムめっき条件は、電流密度６０〜１８００Ａ／ｄｍ2、浴電圧４〜３０Ｖ、浴温２５〜５５℃、望ましくは、電流密度８０〜２００Ａ／ｄｍ2、浴電圧４〜２０Ｖ、浴温３５〜５５℃とする。
【００２３】
また、けいふっ化浴を用いる場合の硬質クロムめっき条件は、電流密度１５０Ａ／ｄｍ2超１８００Ａ／ｄｍ2以下、浴電圧４〜３０Ｖ、浴温２５〜５５℃、望ましくは、電流密度１８０〜３００Ａ／ｄｍ2、浴電圧４〜２５Ｖ、浴温３５〜５５℃とする。
【００２４】
上記各場合において、電流密度に関しては、低すぎると、粒状のめっきが生成され難くなる傾向があるとともに、逆に、高過ぎると、めっき層の対基材密着性が低下する傾向がある。
【００２５】
浴電圧に関しては、低すぎると、めっき析出に時間がかかり、逆に、高過ぎると、めっき層の対基材密着性が低下する傾向がある。
【００２６】
浴温に関しては、低すぎると、めっき層の対基材密着性が低下する傾向があり、高過ぎると、粒状のめっきが生成され難くなる傾向がある。
【００２７】
なお、めっき時間は、要求膜厚・膜特性（静摩擦係数等）およびめっき条件（電流密度・浴電圧・浴温）により異なるが、２〜１００min、生産性及び膜厚の見地からは、４〜３０minとする。
【００２８】
そして、金属製品本体の表面に形成される粒状クロムめっき層は、サージェント浴の場合、通常、平均粒径５〜２５０μｍで膜厚８〜３５０μｍのものとする。また、けいふっ化浴の場合、通常、平均粒径３０μｍ超２５０μｍ以下で、膜厚４０μｍ超３５０μｍ以下のものとする。
【００２９】
そして、これらの各場合におけるクロムめっき層における滑り摩擦の静摩擦係数（ｔａｎθ）が、下記条件で求めた場合において、金型等の金属部材のクランプ性の見地からは、０．１７以上、望ましくは０．１８以上のものを使用する。
【００３０】
なお、それ以外の用途の場合、接着剤下地や、油保持面等を目的としたりする場合は、それ未満の中間的すべり性を有する０．１４以上〜０．１７未満でもよく、さらには、すべり性が要求される場合は、０．１４未満の粒状めっき層を形成したものを使用することが望ましい。
【００３１】
ここで、静摩擦係数の測定方法は、滑り子（スライダー）を、各板状試験片の上に載せ、各板状試験片を徐々に傾けていき、滑り子が滑り出す直前の角度θを求めた。そのときのｔａｎθを相対摩擦係数とした。
【００３２】
なお、滑り子は、１４ｍｍΦ円柱体（下側２ｍｍｔガラス＋上側１０ｍｍｔＳ４５Ｃ；全重量１３．１ｇ）とした。
【実施例１】
【００３３】
以下、本発明の効果を確認するために行なった実施例・比較例・対照例について説明する。なお、実施例１群・比較例１は、サージェント浴を、実施例２群・比較例２はけいふっ化浴をそれぞれ示す。
【００３４】
サージェント浴は、表１に示す組成のものを、けいふっ化浴は表１においてＨ2ＳＯ4を１．０ｇ／ｌとしたものを使用した。
【００３５】
そして、基材（ＳＰＣＣ）に対して表２〜４に示す各条件でクロムめっきを行なった。
【００３６】
そして、調製した各めっき製品の粒状クロムめっき層について、顕微鏡写真を撮って、粒径を決定するとともに、膜厚をマイクロメーターにより測定した。
【００３７】
それらの顕微鏡写真（×２００倍）を図１〜２４に示すとともに、粒径および膜厚を表２〜４に示す。
【００３８】
顕微鏡写真から、以下のことが分かる。
【００３９】
電流密度を大きくすることにより、粒径の大きな粒状めっき層が得られ、また、温度及び時間を制御することにより、粒状めっき層の粒径・膜厚の制御（管理）が可能となる。
【００４０】
さらに、サージェント浴を用いた比較例１及び実施例１−１〜１−６及びふっ化物浴を用いた比較例２、実施例２−１〜２−８について、上記に基づいて測定した静摩擦係数を示す。
【００４１】
それらの結果から、サージェント浴においては、膜厚が若干小さくても、摩擦係数が低いことが分かる（実施例１−１と比較例１）。
【００４２】
また、ふっ化物浴においても、同様に、膜厚が若干小さくても、摩擦係数が低いことが分かる（実施例２−１と比較例２）。
【００４３】
【表２】
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【００４４】
【表３】
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【００４５】
【表４】
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【産業上の利用可能性】
【００４６】
金属製品の本体上に粒状クロムめっき層を形成する場合を例に採り説明したが、本発明のクロムめっき方法は、金属製品以外の、セラミック製品、プラスチック製品等にも、製品本体（非金属基体）に導電処理すれば、適用可能なことが期待できる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】比較例１の顕微鏡写真
【図２】実施例１−１の顕微鏡写真
【図３】実施例１−２の顕微鏡写真
【図４】実施例１−３の顕微鏡写真
【図５】実施例１−４の顕微鏡写真
【図６】実施例１−５の顕微鏡写真
【図７】実施例１−６の顕微鏡写真
【図８】比較例２の顕微鏡写真
【図９】実施例２−１の顕微鏡写真
【図１０】実施例２−２の顕微鏡写真
【図１１】実施例２−３の顕微鏡写真
【図１２】実施例２−４の顕微鏡写真
【図１３】実施例２−５の顕微鏡写真
【図１４】実施例２−６の顕微鏡写真
【図１５】実施例２−７の顕微鏡写真
【図１６】実施例２−８の顕微鏡写真
【図１７】実施例２−９の顕微鏡写真
【図１８】実施例２−１０の顕微鏡写真
【図１９】実施例２−１１の顕微鏡写真
【図２０】実施例２−１２の顕微鏡写真
【図２１】実施例２−１３の顕微鏡写真
【図２２】実施例２−１４の顕微鏡写真
【図２３】実施例２−１５の顕微鏡写真
【図２４】実施例２−１６の顕微鏡写真
【図２５】実施例２−１７の顕微鏡写真
【図２６】実施例２−１８の顕微鏡写真
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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