(57)【要約】【課題】  高密度記録において、帯電防止効果に優れ、巻き姿が良好で、ドロップアウトの少ない磁気記録媒体を提供すること。【解決手段】  支持体の片面に磁性層を有し、その反対面にバック層を有する磁気記録媒体において、該バック層は導電性物質で表面が被覆された被覆針状酸化物粉体、カーボンブラック及び結合剤を含み、かつ該バック層の空隙率が３０〜６５％であることを特徴とする磁気記録媒体。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体の片面に磁性層を有し、その反対面にバック層を有する磁気記録媒体において、該バック層は導電性物質で表面が被覆された被覆針状酸化物粉体、カーボンブラック及び結合剤を含み、かつ該バック層の空隙率が３０〜６５％であることを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁変換特性および走行耐久性に優れた高密度磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気テープの分野において、近年ミニコンピューター、パーソナルコンピューター、ワークステーションなどのオフィスコンピューターの普及に伴って、外部記憶媒体としてコンピューターデータを記録するための磁気テープ（いわゆるバックアップテープ）の研究が盛んに行われている。このような用途の磁気テープの実用化に際しては、とくにコンピューターの小型化、情報処理能力の増大と相まって、記録の大容量化、小型化を達成するために、記録容量の向上が強く要求される。
従来、磁気記録媒体には酸化鉄、Ｃｏ変性酸化鉄、ＣｒＯ2、強磁性金属粉末、六方晶系フェライト粉末を結合剤中に分散した磁性層を支持体に塗設したものが広く用いられる。この中でも微粒子の強磁性合金粉末や六方晶系フェライト微粉末は高密度記録特性に優れていることが知られているが、従来、フレキシブルメディアを使用したシステムで主流として使われてきたインダクティブヘッドを用いた場合は、これらの強磁性粉末は飽和磁化が小さく、充分な出力が得られなかった。しかしながら、上記の様なフレキシブルメディアを用いたリムーバブル記録においても、ハードディスクで使われている磁気抵抗型ヘッド（ＭＲヘッド）が用いられ始めている。
【０００３】
ＭＲヘッドは、高感度なので前記微粒子合金粉末や六方晶系フェライト粉末を用いても充分な再生出力が得られ、これら微粉末の特徴である低ノイズ化によって高いＣ／Ｎ比が得られることが知られている。
ＭＲヘッドを用いて高密度記録をする場合、分解能を改善するために、前記微粒子強磁性粉末を使用すること、磁性層表面を平滑にすること、磁性層を薄くすることが提案されてきた。
一方、平滑な磁性層を有する磁気記録媒体の走行性を改善するために、バック層に突起を設け、またバック層の表面粗さを増加させることが知られている。
しかしながら、バック層に突起を設けたことで、前記バック層と磁性面が重なりあうと、突起が磁性面に食い込み磁性面に陥没が生じる。また、バック層の表面粗さが平滑な磁性面に転写され、ノイズとなる。このバック層の突起と表面粗さの写りにより出力の低下を引き起こす。線記録密度が高く、かつ狭トラック化が進むと単なる出力の低下だけではなく、信号の欠落につながる。
【０００４】
突起の写りを防止する手段として、特許文献１では、高さ１００ｎｍ以上の突起密度を規定（５０〜３０００個／１００μｍ角）し、磁性層に剛性の高いウレタンを用い、８ｍｍビデオにおいてバック写りの影響が低減されることが開示されている。
【０００５】
また、特許文献２においては、バック層の表面粗さを２〜１５ｎｍにすることにより、電磁変換特性が良好になることを示している。これまでは、写りに関して、突起の個数や表面粗さなどのバック層の表面性のみに注意が払われていた。その結果、写りを少なくするために、バック面が平滑になり、カートリッジに巻いた時、飛び出しが多くなり、巻き姿不良となる傾向にあった。
表面性以外にも、バック層の硬さはバック写りに影響を与えている。バック層の硬さは主に、空隙率で決定されており、空隙が多いと柔らかくなる。この空隙率を用いた硬さコントロールは、上層磁性層及び／又は下層非磁性層の空隙率を調整して磁性面のヘッド当たり改善の手段として用いられている（特許文献３参照）。
また、バック写りの低減による電磁変換特性の改善と共に表面電気抵抗を低減化することが行われているが、カーボンブラック等の導電性物質を用いて表面電気抵抗を低減化しようとするとガイドなどの走行系が汚れるという問題が生じた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は高密度記録において、帯電防止効果に優れ、巻き姿が良好で、ドロップアウトの少ない、かつ走行耐久性の優れた磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の目的は、支持体の片面に磁性層を有し、その反対面にバック層を有する磁気記録媒体において、該バック層は導電性物質で表面が被覆された被覆針状酸化物粉体、カーボンブラック及び結合剤を含み、かつ該バック層の空隙率が３０〜６５％であることを特徴とする磁気記録媒体により達成できる。
本発明の好ましい態様は以下の通りである。
・該カーボンブラックは該被覆針状酸化物粉体に対して１０〜５０質量％である。
・該被覆針状酸化物粉体は針状酸化物粉体に対して導電性物質を２〜１５質量％含む。
・バック層の表面電気抵抗は１．０×１０5〜９．０×１０6である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明はバック層に導電性物質被覆針状酸化物粉体を用いると共にバック層の空隙率を所定に制御することにより、バック面の磁性層への裏写りが防止され、バック面の表面電気抵抗及び摩擦係数を小さくでき、しかも巻き姿も良好にできる、電磁変換特性及び走行耐久性に優れる磁気記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明は、バック層に導電性物質で表面が被覆された被覆針状酸化物粉体（以下、被覆針状酸化物粉体という）、カーボンブラック及び結合剤を含み、かつ該バック層の空隙率を３０〜６５％としたことを特徴とする。
本発明は、上記構成としたことにより、バック層の硬さを柔らかくかつバック層に弾性を与えることができ、ある程度のバック面表面粗さを保持したまま、バック面の写りが低減でき、ひいてはドロップアウトが低減でき、またある程度のバック層表面粗さを保持しているため、工程上の問題も少なく、巻き姿も良好とすることができる。また、上記構成としたことにより、表面電気抵抗を低減できると共にバック層膜強度を確保し、ガイド汚れ等のない走行耐久性に優れた磁気記録媒体を提供することができる。
【００１０】
バック層の空隙率を３０〜６５％、好ましくは３０〜５０％とする手段としては、粉体の種類と量の選定、結合剤種とその量の選定、溶剤種の選定、バック層塗布液調製の際のニーダー条件、バック層塗布後のカレンダー処理の有無等を適宜選択することが挙げられる。粉体においては、カーボンブラックのようなストラクチャー構造を持つ粉体は、空隙率が高い。また、結合剤においては、結合剤量が最も支配的である。結合剤量を増加させると空隙率は低下する。これは、過剰な結合剤が空隙を埋めていくためと考えられる。溶剤においては、揮発性の高い溶剤をバック層塗布液に用いることは、バック層の空隙率を高くする。また、ニーダー時間や練りの強さを変えることで、空隙率のコントロールが可能となる。また、特にカレンダー処理の有無で空隙率をコントロールすることが可能となる。
カレンダー処理有りでは、表面性は良好であるが、空隙率が低下する傾向がある。カレンダー処理なしでは、表面性は悪化するが、空隙率が増加し、バック面写りは、むしろ低減する。
空隙率が３０％未満であると、バック層が硬く、バック面写りが増加する。また、空隙率が６５％を超えると塗膜の強度が低下する。
本発明の空隙率は、窒素吸着法により求められる全細孔容積の、バック層の厚みと面積から求められるバック層体積に対する割合である。
【００１１】
バック層に用いるカーボンブラックは被覆針状酸化物粉体に対して１０〜５０質量％が好ましく、２０〜４０質量％が更に好ましい。
被覆針状酸化物粉体を用いないで、カーボンブラックのみでは、バック層強度が低下し、耐久性を改善することができない。
被覆針状酸化物粉体は、形状が針状であるのでバック面の表面性の粗面化を抑制することができ、適度な表面粗さとすることに寄与する。また、素材が酸化物であるので、化学的に安定である。また、被覆針状酸化物粉体は、導電性物質を被覆しているのでバック面の表面電気抵抗を低減することに寄与する。
被覆針状酸化物粉体は針状酸化物粉体に対して導電性物質を２〜１５質量％含むことが好ましく、３〜１２質量％含むことが更に好ましい。この導電性物質の割合が１５質量％を超えるとバック層強度が低下し、テープ走行後のガイドの付着物が多くなる等、走行耐久性が悪化する傾向がある。
該導電性物質としては、金属、Ｉｎ2Ｏ3などの半導体、カーボン等が挙げられ、カーボンが好ましく、カーボンブラックが更に好ましい。
バック層の表面電気抵抗は９．０×１０6Ω／ｓｑ以下が好ましく、１．０×１０5〜５．０×１０6Ω／ｓｑが更に好ましい。本発明の系ではバック層の表面電気抵抗が９．０×１０6Ω／ｓｑを超えると帯電が起こりやすくなる。
【００１２】
本発明に用いる被覆針状酸化物粉体は、上述のように針状酸化物粉体の表面に導電性物質が被覆されたものである。本発明において被覆とは、導電性物質が針状酸化物粉体表面に物理的に吸着されていてもよいし、導電性物質が針状酸化物粉体表面に共有結合にて結合されていてもよいが、ともに磁気記録媒体のバック層中において前記被覆状態が保持されていることが好ましい。そして、その保持率は導電性物質の５０質量％以上が好ましく、８０質量％以上が更に好ましい。
導電性物質を針状酸化物粉体に被覆する前に針状酸化物粉体表面を予め処理しておくことが好ましい。この前処理としては、特に制限はなく従来公知の方法が用いられる。好ましい前処理としては、樹脂による被覆が挙げられ、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂などによる処理が挙げられる。これら樹脂は、針状酸化物粉体に対して１〜４０質量％被覆されることが好ましく、更には１０〜２０質量％が好ましい。
【００１３】
本発明の磁気記録記録媒体は、支持体の一方の面に磁性層を有し、その反対面にバック層を有するものを広く含む。したがって、本発明の磁気記録媒体には、磁性層やバック層以外の層を有するものも含まれる。例えば、非磁性粉末を含む非磁性層、軟磁性粉末を含む軟磁性層、第２の磁性層、クッション層、オーバーコート層、接着層、保護層を有していてもよい。これらの層は、その機能を有効に発揮することができるように適切な位置に設けることができる。層の厚さは、磁性層を例えば通常、０．０１〜１μｍ、好ましくは０．０３〜０．５μｍ、さらに好ましくは０．０３〜０．２μｍにし、非磁性層を通常、０．５〜３μｍ、好ましくは０．５〜２μｍにすることができる。非磁性層の厚さは、磁性層よりも厚いのが好ましい。また、磁性層を２層有する磁気記録媒体も好ましい。この場合は、例えば上層を通常、０．０１〜２μｍ、好ましくは０．０１〜１．５μｍにし、下層を通常、０．０２〜３μｍにすることができる。なお、磁性層を単独で有する場合は、通常、０．１〜５μｍ、好ましくは０．１〜３μｍ、さらに好ましくは０．１〜１．５μｍにする。また、支持体と磁性層の間に軟磁性層を有する場合は、例えば磁性層を通常、０．０３〜１μｍ、好ましくは０．０５〜０．５μｍにし、軟磁性層を通常、０．８〜３μｍにすることができる。なお、磁性層については、上記のような強磁性粉末をバインダー中に分散含有する、いわゆる塗布型磁性層のみならず、真空下で蒸着またはスパッタリングにより製膜された薄膜型磁性層であってもよい。この薄膜磁性層の場合、その厚さは通常、０．０５〜０．３μｍ、より好ましくは０．１〜０．２μｍの範囲から選定される。本発明の磁気記録媒体に形成するバック層の厚さは、通常、０．０５〜１．０μｍの範囲内に設定する。その中でも０．１〜０．８μｍの範囲内に設定するのが好ましく、０．２〜０．６μｍの範囲内に設定するのがより好ましい。
【００１４】
本発明の磁気記録媒体のバック層は、被覆針状酸化物粉体を含む。針状酸化物粉体としては、例えば、酸化チタン、α−酸化鉄、ゲータイト、ＳｉＯ2、ＳｎＯ2、ＷＯ3、Ａｌ2Ｏ3、ＺｒＯ2、ＺｎＯ等の金属酸化物、ＢａＳＯ4、チタン酸バリウムなどの塩、Ｃｕ、Ａｌなどの金属ウィスカーなどを用いることができる。
被覆針状酸化物粉体の形状は任意であり、通常、針状酸化物粉体と相似形となるが、それに限定されるものではない。被覆針状酸化物粉体の針状比は２〜１０が好ましく、３〜８が更に好ましい。また、長軸長は０．０１〜０．３μｍが好ましく、０．０６〜０．２μｍが更に好ましい。本発明において、針状比とは、粒子の長軸長を短軸長で除した値である。短軸長は、長軸に対して垂直な面で切断したときの断面の最大長を意味する。
被覆針状酸化物粉体の形状は、上記針状比を有した針状形が好ましい。針状比が小さ過ぎると塗布膜の空隙が減少する傾向がある。針状比が大きすぎると表面粗さが増大して裏写りが劣化する傾向がある。
被覆針状酸化物粉体の原料で、前記樹脂による前処理が施される針状酸化物粉体としては、その表面の少なくとも一部がＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3およびＺｎＯ2から選ばれた少なくとも一つの化合物、中でもＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2およびＺｒＯ2から選ばれた少なくとも一つの化合物で被覆されているものが、樹脂の被覆性が優れている点で好ましい。このような粉体は針状酸化物粉体の粒子を合成してから、その表面に上記の様な別の化合物が沈着または被覆されるべく処理するか、または針状酸化物粉体とＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3およびＺｎＯ2から選ばれた少なくとも一つの化合物を共沈させる方法によって得ることができる。
【００１５】
また、このような針状酸化物粉体は市販品から入手することもできる。例えば、戸田工業（株）製のＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＲＸ、石原産業（株）製のＴＴＯ−Ｓ−２、ＴＴＯ−Ｍ−１、ＴＴＯ−Ｍ−２、ＴＴＯ−Ｄ−１、ＴＴＯ−Ｄ−２、Ｅ２７０、Ｅ２７１等を挙げることができる。
【００１６】
バック層に使用するカーボンブラックは、磁気記録媒体に通常使用されているものを広く用いることができる。例えば、ゴム用ファーネスブラック、ゴム用サーマルブラック、カラー用カーボンブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。バック層の凹凸が磁性層に写らないようにするために、カーボンブラックの粒径は１００ｎｍ以下にするのが好ましい。特に好ましい粒径は、１５〜８０ｎｍである。カ−ボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌであるのが好ましい。比表面積は通常、１００〜５００ｍ2／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ2／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは３０〜２００ｍｌ／１００ｇである。具体例として、キャボット社製ＢＬＡＣＫ  ＰＥＡＲＬ  Ｓ２０００、同１３００、同１０００、同９００、同８００、同８８０、同７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２；三菱化学（株）製＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００；コロンビアンカ−ボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ８８００、同８０００、同７０００、同５７５０、同５２５０、同３５００、同２１００、同２０００、同１８００、同１５００、同１２５５、同１２５０；アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣ、旭カーボン社製の＃５５、＃５０、＃３０；コロンビアカーボン社製のＲＡＶＥＮ４５０、同４３０；カーンカルブ社製のサーマックスＭＴ等を挙げることができる。これらカーボンブラックは、被覆針状酸化物粉体の導電性物質として用いることもできる。
【００１７】
カーボンブラックは、被覆針状酸化物粉体に対して好ましくは、１０〜５０質量％以下、更に好ましくは、２０〜４０質量％バック層に含有される。
このように、被覆針状酸化物粉体をカーボンブラックよりも多量に含有させることによって、粉体の分散性が良好で面が平滑なバック層を形成することができ、該バック面の中心面平均表面粗さＲａを好ましくは、２〜８ｎｍ、更に好ましくは、３〜７ｎｍとすることができる。
また、バック面の突起高さは３０ｎｍ以下にするのがバック写りを低減するために好ましいが、空隙率を３０〜６５％にすることで、突起の高さが３０ｎｍ以上でも写りは低減される。この平滑なバック面に、高さ３０〜１００ｎｍの突起が好ましくは、１０〜２０００個／９０μｍ角形成されるように上記配合比、種類、サイズなどが選定される。このような突起は主としてカーボンブラック、被覆針状酸化物粉体によって形成されることが好ましい。この突起の高さ及び密度は、原子間力顕微鏡、米国デジタルインスツルメンツ社製ＮａｎｏｓｃｏｐｅIIIを用いて測定される値であり、その装置により３次元表面粗さを測定し、磁性層表面粗さの平均面から上記高さに存在する突起の個数が求まる。ここで、平均面とは測定面内の凹凸の体積が等しくなる面のことである。測定は９０μｍ×９０μｍの範囲で、コンタクトモード、走査速度２Ｈｚで行う。
このような組成を有するバック層形成用塗料は、従来のカーボンブラックを主体とするバック層形成用塗料に比べて、チキソトロピー性が高い。このため、高濃度でエクストルージョン方式やグラビア方式などの塗布を行うことが可能である。このような高濃度塗料を塗布することによって、その膜厚が薄いにもかかわらず支持体との接着強度が大きくて、力学強度が高いバック層を形成することができる。また、高濃度のバック層形成用塗料を使用すれば、バック層と支持体の間に低分子ポリエステルを主体とする下塗層を形成しても、該低分子ポリエステルがバック層表面へ浸出してくるのを抑制することができる。このため、従来から下塗層を形成した場合の問題点とされてきた浸出による粘着や走行不良を有効に回避することができる。したがって、接着性下塗層を形成することによって、バック層と支持体の間の接着強度を所望の範囲に調節することが容易となる。ただし、下塗層は必ずしも形成する必要はない。バック層形成用塗料の結合剤として塩化ビニル樹脂やウレタン樹脂を使用してその比率を調整したり、溶剤としてシクロヘキサノンを主体として使用することによって、支持体表面との界面エネルギー差を縮小し、接着強度を上げることもできる。本発明における支持体とバック層との間の接着強度はこれらの手段を適宜選択したり、組み合わせたりすることによって所望の範囲に調節することができる。
【００１８】
バック層結合剤の使用量は、バック層含有粉体の総質量を１００質量部として好ましくは、１０〜５０質量部の範囲から選ばれ、より好ましくは２０〜４０質量部にする。このようにして形成されるバック層の膜強度は高く、表面電気抵抗は低くなる。このような優れた機能を有するバック層を有するために、本発明の磁気記録媒体は従来品に比べて走行耐久性が良好で電磁変換特性が優れている。
【００１９】
本発明のバック層用結合剤には、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂等を用いることができる。好ましい結合剤は、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、ニトロセルロース等の繊維素系樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹脂である。その中でも、塩化ビニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂を用いるのが、バック層の硬度が磁性層の硬度に近くなりバック写りを低減することができるため、より好ましい。
【００２０】
ポリウレタン樹脂は、分子中に−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＣＯＯＭ、−ＰＯ3ＭＭ′、−ＯＰＯ3ＭＭ′、−ＮＲＲ′、−Ｎ+ＲＲ′Ｒ″ＣＯＯ-（ここで、Ｍ及びＭ′は、各々独立に水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属又はアンモニウムであり、Ｒ及びＲ′は各々独立に炭素数１〜１２のアルキル基、Ｒ″は炭素数１〜１２のＮ結合アルキレン基を示す）から選ばれた少なくとも１種の極性基を含むことが好ましく、とくに好ましくは、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍである。これらの極性基の量は好ましくは、１×１０-5〜２×１０-4ｅｑ／ｇであり、特に好ましくは５×１０-5〜１×１０-4ｅｑ／ｇである。１×１０-5ｅｑ／ｇより少ないと粉体への吸着が不充分となるために分散性が低下する傾向があり、２×１０-4ｅｑ／ｇより多くなると溶剤への溶解性が低下する傾向があるので分散性が低下する傾向がある。
【００２１】
ポリウレタン樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は５０００〜１００，０００が好ましく、さらに好ましくは１０，０００〜５０，０００であり、特に好ましくは２０，０００〜４０，０００である。５０００未満では、塗膜の強度や耐久性が低い。また、１００，０００より多いと溶剤への溶解性や分散性が低い。ポリウレタン樹脂としては、環状構造及びエーテル基を含有したものが好ましい。ポリウレタン樹脂の環状構造は剛直性に寄与し、エーテル基は柔軟性に寄与する。
【００２２】
本発明の磁気記録媒体のバック層には、被覆針状酸化物粉体、カーボンブラック、結合剤以外の成分として潤滑剤を含有することが好ましい。潤滑剤としては、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミドなどが例示される。特に、脂肪酸を含有させることは、強度を維持したまま、繰り返し走行時の摩擦係数上昇を抑制するために必須となる。また、脂肪酸エステル、脂肪酸アミドやモース硬度８以上の研磨剤を含有させることによっても、繰り返し走行時の摩擦係数上昇を抑制し、摺動耐久性を向上させることができる。さらに、芳香族有機酸化合物やチタンカップリング剤を含有させて分散性を向上させ強度を上げることによって、摩擦係数上昇を抑制することもできる。また、有機質粉末を含有させて摩擦係数上昇を抑制し、写りを低減することもできる。添加することができる脂肪酸の例として、炭素数８〜２４の一塩基性脂肪酸を挙げることができる。中でも炭素数８〜１８の一塩基性脂肪酸が好ましい。これらの具体例としてはラウリン酸、カプリル酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸等が挙げられる。また、これら脂肪酸のアミドも用いられる。
【００２３】
脂肪酸エステルの例として、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステルなどを挙げることができる。これらの具体例としてはステアリン酸ブチル、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、アンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビタントリステアレートが挙げられる。
潤滑剤のバック層への添加量は、被覆針状酸化物粉体を１００質量部としたとき、好ましくは、０．１〜５質量部、更に好ましくは０．５〜３質量部である。
【００２４】
モース硬度８以上の研磨剤としては、α−アルミナ、酸化クロム、人工ダイヤモンド、カーボン変性窒化硼素（ＣＢＮ）等を挙げることができる。中でも、平均粒径が０．２μｍ以下であり、粒径がバック層の厚み以下であるものを使用するのが好ましい。本発明では、バック層を薄くすることができるため、少量の研磨剤を添加するだけで十分な摺動耐久性を確保することができる。芳香族有機酸化合物としては、フェニルフォスホン酸が好ましい。その使用量は、当該被覆針状酸化物粉体１００質量部に対し、好ましくは、１〜１０質量部、更に好ましくは３〜６質量部である。
【００２５】
有機質粉末としては、アクリル−スチレン共重合体系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料等を挙げることができる。
【００２６】
バック層のガラス転移温度は６０〜１２０℃であるのが好ましく、乾燥厚みは通常、０．０５〜１．０μｍ程度にする。
【００２７】
本発明の磁気記録媒体は、高テンションで巻き取って保存してもバック層が磁性層に写りにくいため、テープの厚さを４〜９μｍにすることが可能である。
【００２８】
本発明の磁性層に使用する強磁性粉末は、Ｆｅ、Ｆｅ−Ｃｏ等のＦｅを主体とした針状強磁性合金粉末もしくは六方晶系フェライト粉末が好ましく、六方晶系フェライト粉末としてはバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライト、及びそれらのＣｏなどの各置換体等がある。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、ＳｂーＺｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。
【００２９】
粒子サイズは合金、六方晶フェライトともに一次粒子の平均体積が通常１０００〜１００００ｎｍ3、好ましくは１５００〜８５００ｎｍ3、さらに好ましくは１５００〜６５００ｎｍ3である。針状合金粉末の場合、通常、平均長軸長が３０〜１００ｎｍ、好ましくは４０〜８０ｎｍである。結晶子サイズは通常、５〜１５ｎｍ、好ましくは８〜１３ｎｍである。六方晶フェライトの場合、平均板径で通常、１０〜５０ｎｍ、好ましくは１０〜４０ｎｍであり、特に好ましくは１５〜３５ｎｍである。特にトラック密度を上げるためＭＲヘッドで再生する場合、低ノイズにする必要があり、平均板径は３５ｎｍ以下が好ましいが、１０ｎｍより小さいと熱揺らぎのため安定な磁化が望めない。５０ｎｍを越えるとノイズが高く、本発明の高密度磁気記録には向かない。平均板状比｛（板径／板厚）の算術平均｝は１〜１５が望ましい。好ましくは１〜７である。平均板状比が小さいと磁性層中の充填性は高くなり好ましいが、十分な配向性が得られない。１５より大きいと粒子間のスタッキングによりノイズが大きくなる。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表面積は１０〜１００ｍ2／ｇを示す。比表面積は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と符号する。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は困難であるが粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定する事で比較できる。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均サイズ＝０．１〜２．０である。粒子サイズ分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われている。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。
【００３０】
強磁性粉末で測定される抗磁力Ｈｃは通常、４０〜４００ｋＡ／ｍ程度まで作成できる。Ｈｃは高い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限される。強磁性粉末のＨｃは１１９ｋＡ／ｍ〜３９７ｋＡ／ｍ程度が好ましく、好ましくは１５９〜３２０ｋＡ／ｍである。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラを越える場合は、１７５ｋＡ／ｍ以上にすることが好ましい。Ｈｃは粒子サイズ、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。飽和磁化σｓは強磁性合金粉末の場合９０〜１５０Ａ・ｍ2／ｋｇ、六方晶フェライトの場合４０〜８０Ａ・ｍ2／ｋｇである。σｓは微粒子になるほど小さくなる傾向がある。σｓ改良のためマグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合すること、含有元素の種類と添加量の選択等が良く知られている。またＷ型六方晶フェライトを用いることも可能である。磁性体を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われている。表面処理材は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物または水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。量は磁性体に対して０．１〜１０％である。磁性体のｐＨも分散に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１１程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常０．０１〜２．０％が選ばれる。六方晶フェライトの製法としては、酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法、バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１１００℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。
【００３１】
本発明においては、結合剤、硬化剤及び強磁性粉末を、通常、磁性塗料の調製の際に使用されているメチルエチルケトン、ジオキサン、シクロヘキサノン、酢酸エチル等の溶剤と共に混練分散して磁性層形成用塗料とする。混練分散は通常の方法に従って行うことができる。磁性層形成用塗料は、上記成分以外に、α−Ａｌ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3等の研磨剤、カーボンブラック等の帯電防止剤、脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコーンオイル等の潤滑剤、分散剤など通常使用されている添加剤あるいは充填剤を含んでいてもよい。
【００３２】
次に本発明が多層構成を有する場合に存在する下層非磁性層又は下層磁性層（以下、下層非磁性層又は下層磁性層を下層ともいう）について説明する。本発明の下層に用いられる無機粉末は、磁性粉末、非磁性粉末を問わない。例えば非磁性粉末の場合、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機化合物や非磁性金属から選択することができる。無機化合物としては、例えば酸化チタン（ＴｉＯ2、ＴｉＯ）、α化率９０〜１００％のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、α−酸化鉄、酸化クロム、酸化亜鉛、酸化すず、酸化タングステン、酸化バナジウム、炭化ケイ素、酸化セリウム、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、二酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデン、ゲーサイト、水酸化アルミニウムなどを単独又は組合せで使用することができる。特に好ましいのは二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは特開平５−１８２１７７号公報に記載の二酸化チタン、および特開平６−６０３６２号公報、特開平９−１７０００３号公報に記載のα−酸化鉄である。非磁性金属としては、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ａｌ等が挙げられる。これら非磁性粉末の平均粒径は０．００５〜２μｍであるのが好ましいが、必要に応じて平均粒径の異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは、平均粒径が０．０１μｍ〜０．２μｍの非磁性粉末である。非磁性粉末のｐＨは６〜９であるのが特に好ましい。非磁性粉末の比表面積は１〜１００ｍ2／ｇ、好ましくは５〜５０ｍ2／ｇ、更に好ましくは７〜４０ｍ2／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイズは０．０１μｍ〜２μｍであるのが好ましい。ＤＢＰを用いた吸油量は５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。比重は１〜１２、好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれであっても良い。
【００３３】
軟磁性粉末としては、粒状Ｆｅ、Ｎｉ、粒状マグネタイト、Ｆｅ−Ｓｉ、Ｆｅ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ａｌ−Ｃｏ（センダスト）合金、Ｍｎ−Ｚｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト、Ｍｇ−Ｚｎフェライト、Ｍｇ−Ｍｎフェライト、その他、近角聡信著（「強磁性体の物理（下）磁気特性と応用」（裳華房、１９８４年）、３６８〜３７６頁）に記載されているもの等が挙げられる。これらの非磁性粉末や軟磁性粉末の表面はその少なくとも一部がＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、ＺｎＯで被覆されるように表面処理しておくのが好ましい。このうち、特に良好な分散性を与えるのはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2であり、さらに好ましいのはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2である。これらは組み合わせて使用してもよいし、単独で用いてもよい。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよいし、先ずアルミナで被覆されるべく処理した後にその表層をシリカで被覆されるべく処理する方法、又はその逆の方法を採ってもよい。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、一般に均質で密である方が好ましい。
【００３４】
下層にカ−ボンブラックを混合させることによって、表面電気抵抗Ｒｓを下げ、しかも所望のマイクロビッカース硬度を得ることができる。カ−ボンブラックの平均粒径は通常、５ｎｍ〜８０ｎｍ、好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。具体的には、上述のバック層に用いることができるカーボンブラックと同じものを用いることができる。本発明の下層にはまた、無機粉末として磁性粉末を用いることもできる。磁性粉末としては、γ−Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｏ変性γ−Ｆｅ2Ｏ3、α−Ｆｅを主成分とする合金、ＣｒＯ2等が用いられる。下層の磁性体は、目的に応じて選定することができ、本発明の効果は磁性体の種類には依存しない。ただし、目的に応じて、上下層で性能を変化させることは公知の通りである。例えば、長波長記録特性を向上させるためには、下層磁性層のＨｃを上層磁性層のＨｃより低く設定するのが望ましく、また、下層磁性層のＢｒを上層磁性層のＢｒより高くするのが有効である。それ以外にも、公知の重層構成を採ることによる利点を付与させることができる。下層磁性層又は下層非磁性層の結合剤、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は、上記の磁性層のものを適用できる。特に、結合剤量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。
【００３５】
本発明に用いることのできる支持体としては、可撓性のものが好ましい。可撓性支持体として、二軸延伸を行ったポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド、ポリベンズオキシダゾール等を挙げることができる。これらの支持体は、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理などを行ったものであってもよい。また本発明に用いることのできる支持体は、中心線平均表面粗さがカットオフ値０．２５ｍｍにおいて通常、０．１〜２０ｎｍ、好ましくは１〜１０ｎｍの範囲にあって、表面が優れた平滑性を有しているのが好ましい。また、これらの支持体は中心線平均表面粗さが小さいだけでなく１μ以上の粗大突起がないことが好ましい。支持体の厚さは４〜１５μｍ、好ましくは４〜９μｍである。薄い場合は、バック層の凹凸がハンドリングテンションで写りやすくなるため、上述のポリウレタン樹脂を最上層に使用することによってこれを効果的に抑制することができる。厚が７μｍ以下の場合は、ＰＥＮもしくはアラミド等の芳香族ポリアミドを使用するのが好ましい。最も好ましいのはアラミドである。
【００３６】
本発明の磁気記録媒体の製造は、例えば、乾燥後の層厚が上述の所定の範囲内になるように、走行下にある支持体の表面に塗料を蒸着または塗布してゆくことによって行うことができる。複数の磁性塗料もしくは非磁性塗料を逐次あるいは同時に重層塗布してもよい。磁性塗料を塗布するための塗布機としては、エアードクターコート、ブレードコート、ロッドコート、押出しコート、エアナイフコート、スクイズコート、含浸コート、リバースロールコート、トランスファーロールコート、グラビヤコート、キスコート、キャストコート、スプレイコート、スピンコート等が利用できる。これらについては例えば（株）総合技術センター発行の「最新コーティング技術」（昭和５８年５月３１日）を参考にできる。片面に２以上の層を有する磁気記録媒体を製造するときには、例えば以下の方法を用いることができる。
（１）磁性塗料の塗布で一般的に適用されるグラビア、ロール、ブレード、エクストルージョン等の塗布装置によってまず下層を塗布し、下層が乾燥する前に特公平１−４６１８６号公報、特開昭６０−２３８１７９号公報、特開平２−２６５６７２号公報等に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置等を用いて、上層を塗布する方法。
（２）特開昭６３−８８０８０号公報、特開平２−１７９７１号公報、特開平２−２６５６７２号公報に開示されている塗料通液スリットを２個有する一つの塗布ヘッド等を用いて、上下層をほぼ同時に塗布する方法。
（３）特開平２−１７４９６５号公報に開示されているバックアップロール付きのエクストルージョン塗布装置等を用いて、上下層をほぼ同時に塗布する方法。
【００３７】
バック層は、被覆針状酸化物粉体、カーボンブラック、研磨剤などの粉体成分と結合剤を有機溶剤に分散したバック層形成用塗料を、磁性層とは反対の面に塗布することによって調製することができる。塗布した磁性層は、磁性層中に含まれる強磁性粉末を磁場配向処理した後に乾燥する。磁場配向処理は、当業者に周知の方法によって適宜行うことができる。磁性層は、乾燥後にスーパーカレンダーロールなどを用いて表面平滑化処理する。表面平滑化処理を行うことにより、乾燥時の溶剤の除去によって生じた空孔が消滅し磁性層中の強磁性粉末の充填率が向上する。このため、電磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができる。カレンダー処理ロールとしてはエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等の耐熱性プラスチックロールを使用する。また金属ロールで処理することもできる。
【００３８】
本発明の磁気記録媒体は、平滑性が良好な表面を有しているのが好ましい。平滑性を良好にするためには、例えば上述したように特定の結合剤を選んで形成した磁性層に上記カレンダー処理を施すのが有効である。カレンダー処理は、カレンダーロールの温度を６０〜１００℃、好ましくは７０〜１００℃、特に好ましくは８０〜１００℃にし、圧力を通常、１００〜５００ｋｇ／ｃｍ（９８〜４９０ｋＡ／ｍ）、好ましくは２００〜４５０ｋｇ／ｃｍ（１９６〜４４１ｋＡ／ｍ）、特に好ましくは３００〜４００ｋｇ／ｃｍ（２９４〜３９２ｋＡ／ｍ）にして行う。得られた磁気記録媒体は、裁断機などを使用して所望の大きさに裁断して使用することができる。カレンダー処理を経た磁気記録媒体は、熱処理するのが一般的である。最近では、高密度磁気記録媒体の直線性（オフトラックマージン確保）のために、熱収縮率を下げることが重視されている。特に、狭トラック化に伴い、使用環境下でのＭＤ方向（長手方向）の収縮率を０．０７％以下に抑えることが求められている。熱収縮率低減手段として、低テンションでハンドリングしながらウエッブ状で熱処理する方法と、バルク又はカセットに組み込んだ場合のようにテープが積層した形態で熱処理する方法（サーモ処理）がある。前者を用いた場合は、バック面の凹凸が写る危険性は少ないが、熱収縮率を大きく下げることはできない。アニール温度、滞在時間及びテープ厚、ハンドリングテンションによって多少変わるが、７０℃、４８時間後の熱収縮率で０．１〜０．１２％が限界である。後者のサーモ処理は熱収縮率を大幅に改善できるが、バック面の凹凸がかなり写ってしまうため、磁性層が面粗れして出力低下とノイズ増加を引き起こす場合がある。
【００３９】
本発明の磁気記録媒体の構成を採用すれば、高弾性で塑性変形の残りにくい層形成を行うことができるため、特に、サーモ処理を伴う磁気記録媒体で、高出力、低ノイズの磁気記録媒体を供給することができる。本発明の磁気記録媒体においては、バック層の表面性を調整することができるため、バック層の摩擦係数を程よい大きさに設定することができる。これによってバック層と磁性層との間の層間摩擦係数が高くなるので、磁気記録媒体作製時に高速ハンドリングしてもロール、スリットパンケーキ、組込リールに巻き上げられたテープの巻姿が良好である。同様にして、ビデオカセットレコーダーを高速で早送りしたり、巻戻したりした後のリール上のテープの巻姿も良好である。
【実施例】
【００４０】
以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお実施例中の「部」の表示は特に断らない限り「質量部」を示す。
以下、本発明の具体的実施例を説明するが、本発明はこれに限定されるべきものではない。
実施例１
＜塗料の作成＞
磁性層用塗布液
磁性体（表１）                                              １００部
塩化ビニル共重合体
ＭＲ１１０（日本ゼオン社製）                            ５部
ポリウレタン樹脂
ＵＲ８２００（東洋紡社製）                              ３部
ポリイソシアネート                                              ８部
αアルミナ
ＨＩＴ５５（住友化学社製）                              ５部
カ−ボンブラック
＃５０（旭カーボン社製）                                １部
フェニルホスホン酸                                              ２部
ブチルステアレート                                            １０部
ブトキシエチルステアレート                                      ５部
イソヘキサデシルステアレート                                    ３部
ステアリン酸                                                    ２部
メチルエチルケトン                                          １２５部
シクロヘキサノン                                            １２５部
【００４１】
＜非磁性塗料＞
非磁性粉末（針状ヘマタイト）                            ８０部
（平均長軸長：０．１５μｍ、ＢＥＴ法による比表面積：５０ｍ2／ｇ、ｐＨ：８．５、表面処理層：Ａｌ2Ｏ3）
カ−ボンブラック（平均粒子径：２０ｎｍ）                ２０部
塩化ビニル共重合体｛ＭＲ１１０（日本ゼオン社製）｝      １２部
ポリウレタン樹脂｛ＵＲ８２００（東洋紡社製）｝            ５部
ブチルステアレート                                        １部
ステアリン酸                                              ３部
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤）２５０部
【００４２】
＜バック層用塗布液＞
主粉体                                                        ８０部
（針状ヘマタイト、平均長軸長：１５０ｎｍ、導電性物質被覆率：表１）
カ−ボンブラック１
＃５０（旭カーボン社製）                                ５部
カ−ボンブラック２（平均粒子径：２０ｎｍ）                    ２０部
塩化ビニル共重合体
ＭＲ１１０（日本ゼオン社製）                          １２部
ポリウレタン樹脂
ＵＲ８２００（東洋紡社製）                              ５部
ポリイソシアネート                                              ８部
ブチルステアレート                                            １０部
ブトキシエチルステアレート                                      ５部
イソヘキサデシルステアレート                                    ３部
ステアリン酸                                                    ３部
メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤）      ２５０部
【００４３】
上記の磁性層、バック層用塗布液について、各成分をニ−ダで混練したのち、サンドミルをもちいて分散させた。得られた分散液を１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、磁性層用およびバック層用塗液をそれぞれ調製した。
得られた磁性層用塗布液を、厚さ７μｍで中心線平均表面粗さが３ｎｍのＰＥＴ支持体上に塗布し、湿潤状態のうちに塗布磁場強度３００ｍＴの中を通過させて、長手配向処理を行い、乾燥後、７段のカレンダ−で温度９０℃、線圧２９４ｋＮ／ｍで処理を行い、その後、厚み０．５μｍのバック層を塗布した。１／２インチ幅にスリットし、スリット品の送り出し、巻き取り装置を持った装置に不織布とカミソリブレ−ドが磁性面に押し当たるように取り付け、テ−プクリ−ニング装置で磁性層の表面のクリ−ニングを行い、テープ試料を得た。
【００４４】
実施例２〜３、比較例１〜３
実施例１において、磁性体、導電性物質被覆率（質量％）：（１００×導電性物質質量／被覆前主粉体質量）、全質量に対するカーボンの割合：カーボンブラック１及び２のバック層全質量に対する割合（質量％）、カーボンブラック２の添加量を変更した。尚、比較例１は、被覆針状酸化物粉体を用いず、カーボンブラック２を主粉体として用いた。バック層のカレンダー処理の有無を表１にように変更して実施例１と同様にしてテープ試料を作製した。バック面カレンダー処理有りは、磁性層塗布後、カレンダー処理することなく、バック層を設け、その後、磁性層とバック層を同時にカレンダー処理を行った。バック面カレンダー処理無しは、磁性層を塗布後、カレンダー処理を行い、磁性層のみカレンダー処理をし、その後にバック層を塗布したサンプルである。
得られたテープの各々の物性、性能を下記の測定法により評価した。
測定法
（１）空隙率
ＱＵＡＮＴＡ  ＣＨＲＯＭＥ社製全自動ガス吸着量測定装置ＡＵＴＯＳＯＲＢ−１を用い、窒素吸着法により、全細孔容積を測定した。これをサンプルの体積（サンプルの面積×厚みより算出）で割り、割合として計算した。
（２）バック面の中心面平均表面粗さ（Ｒａ）：ＷＹＫＯ社製ＨＤ２０００を用いて、約２４２．４μｍ×１８４．２μｍの面積のＲａを測定した。測定波長約６３２nmである。本方式は光干渉にて測定する非接触表面粗さ計である。
（３）バック面の表面電気抵抗（Ｒｓ）
ＩＥＣ式Ｒｓの測定を行った。
（４）バック面の１００Ｐμ値（走行性）
測定は、４ｍｍφのＳＵＳ４２０Ｊに９０度に角度でテープを渡し、荷重を５０ｇ、秒速１３ｍｍで１００パス摺動させて、抵抗値Ｔ２を得、オイラーの式に基づいて１００パス目の摩擦係数を求めた。測定環境は、２３℃、５０％であった。
μ＝（１／π）Ｉｎ（Ｔ２／５０）
（５）５０ｎｍ以上の窪みの個数
原子間力顕微鏡を用いて磁性層表面９０μｍ四方の窪み深さが５０ｎｍ以上の窪み個数を、コンタクトモードで測定した。窪みの個数を数えるため、Ｉｎｖｅｒｔ機能を用いた。窪み深さは、中心面（平面と粗さ曲面で囲まれた体積が平面に対し上下で等しくかつ最小になる平面）を基準面とした深さと定義した。
（６）巻き姿
テープにおいて、１０ｍ／ｓｅｃの速さで６０９ｍを組み込んだ。飛び出しの数をカウントし、５個以上を不良、３個以上をやや不良、１個以下を良好とした。
（７）ガイド汚れ
テープをバック面タッチで、テンション１３０ｇ、速度５ｍ／ｓでガイドにタッチさせ、走行テストを行った。１時間走行させた後のガイドの汚れについて、汚れ多い、汚れやや多い、汚れ少ない、なしの４段階で評価を行った。
評価結果を表１に示す。
【００４５】
【表１】
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【００４６】
表中、磁性体の欄でＢａＦｅはバリウムフェライトを、ＭＰは強磁性金属粉末を示し、サイズは、前者は平均板径、後者は、平均長軸長を示す。バック層の被覆針状酸化物粉体のサイズは、平均長軸長を示し、被覆されたカーボンを含まない。また、バック面Ｒｓで例えば、７．４０Ｅ＋５は、７．４０×１０+5を意味する（他も同様である）。
上表より、本発明の実施例は、バック層の空隙率が所定範囲であるため、バック面への写りが少なく、巻き姿が良好で、かつ１００Ｐμ値も小さく走行耐久性も良好であるが、比較例１及び２はバック面写りが多く、磁性面の窪みが多く、走行耐久性も悪い。比較例３は巻き姿が改善されない。