(57)【要約】  【課題】  本発明の主たる目的は、運転待機中にセンサー部の劣化を防止した廃液処理設備用ｐＨ計を提供することにある。  【解決手段】  前記目的は、廃液貯槽内に供給された廃液に薬剤を注入し、所定のｐＨ値に調整された廃液を貯槽から排出する廃液処理設備に設置されるｐＨ計において、所定のｐＨ値に調整された廃液が貯槽から排出されて、次の廃液が貯槽内に供給されるまでの廃液処理設備の待機中、前記ｐＨ値調整済みの廃液を貯めて、ｐＨ計のセンサー部を浸漬する受け皿を、当該ｐＨ計のセンサー下部に設けることによって達成される。【選択図】  図１
2005069956.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
廃液貯槽内に供給された廃液に薬剤を注入し、所定のｐＨ値に調整された廃液を貯槽から排出する廃液処理設備に設置されるｐＨ計において、
所定のｐＨ値に調整された廃液が貯槽から排出されて、次の廃液が貯槽内に供給されるまでの廃液処理設備の待機中、前記ｐＨ値調整済みの廃液を貯めて、ｐＨ計のセンサー部を浸漬する受け皿を、当該ｐＨ計のセンサー下部に設けたことを特徴とする廃液処理設備用ｐＨ計。
【請求項２】
廃液貯槽内に供給された廃液に薬剤を注入し、所定のｐＨ値に調整された廃液を貯槽から排出する廃液処理設備に設置されるｐＨ計において、
所定のｐＨ値に調整された廃液が貯槽から排出されて、次の廃液が貯槽内に供給されるまでの廃液処理設備の待機中、前記ｐＨ値調整済みの廃液を貯めて、ｐＨ計のセンサー部を浸漬する受け皿を、当該ｐＨ計のセンサー下部に設け、
さらに廃液処理設備の待機中、前記受け皿に洗浄水、圧搾空気、ｐＨ校正溶液を順次供給する配管系を設けたことを特徴とする廃液処理設備用ｐＨ計。
【請求項３】
請求項１または２において、受け皿の形状をすり鉢状とした廃液処理設備用ｐＨ計。
【請求項４】
請求項２または３において、廃液処理設備の待機中、受け皿に洗浄水、圧搾空気、ｐＨ校正溶液を順次供給する配管系を設けた廃液処理設備用ｐＨ計。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のｐＨ計を備えた廃液処理設備。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、廃液処理設備で使用するｐＨ計に関する。
【背景技術】
【０００２】
廃液処理設備では、制御、監視の目的から、ｐＨ計を反応槽、中和槽等に設置するが、廃液処理設備の運転中、ｐＨ計のセンサー部は貯槽液の中に没水し、大気中に長時間放置されることはなく、乾燥しない状態にある。
【０００３】
ｐＨ計の校正作業時には、ｐＨ計のセンサー部を貯槽より取り出し、このセンサー部を校正溶液に浸けて校正する作業となる。
【０００４】
なお、ｐＨ計に関する従来技術が例えば特開平１０−３４１５４号公報、特開平５−１６４７３６号公報、実開昭６４−５０３５３号公報等に記載されている。
【０００５】
アルカリイオン整水器と題する特開平１０−３４１５４号公報に記載の技術は、ｐＨ計センサの外周にホルダを設け、センサ校正時にキャップを開き、洗浄液を前記ホルダ内に注入するというものである。
【０００６】
ｐＨセンサ校正部付ｐＨ計と題する特開平５−１６４７３６号公報に記載の技術は、ｐＨセンサを自動的に洗浄、校正すべく、ｐＨセンサを被測定液から隔離する上下移動機構を備えるというものである。
【０００７】
ｐＨ計の薬液洗浄装置と題する実開昭６４−５０３５３号公報等に記載の技術は、薬液容器と薬液をセンサ部に供給するチューブ、配管からなる洗浄機構をｐＨ計に付加するというものである。
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−３４１５４号公報
【０００９】
【特許文献２】特開平５−１６４７３６号公報
【特許文献３】実開昭６４−５０３５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
廃液処理設備においては、ｐＨ計のセンサー部を常時貯槽内の液中に浸けておくことができない場合がある。例えば、処理する流体を１回毎に全て排出してしまう場合で、運転待機中、ｐＨ計のセンサー部は大気中に露出してしまい、劣化することになる。
【００１１】
また、従来、ｐＨ計の校正作業時には、ｐＨ計のセンサー部を貯槽より取り出し、このセンサー部を校正溶液に浸けて校正する作業となるが、ｐＨ計を設置する貯槽内の液が放射性物質もしくは有害性のある危険な液体である場合、ｐＨ計の校正作業は、危険性を回避するための安全な防護を行っての作業となり、作業に困難を伴う。
【００１２】
本発明の第１の目的は、運転待機中にセンサー部の劣化を防止した廃液処理設備用ｐＨ計を提供することにある。
【００１３】
また、本発明の第２の目的は、前記第１の目的に加えて、ｐＨ計を設置する貯槽内の液が放射性物質もしくは有害性のある危険な液体であっても、ｐＨ計の校正作業を遠隔で安全に行える廃液処理設備用ｐＨ計を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
前記第１の目的は、廃液貯槽内に供給された廃液に薬剤を注入し、所定のｐＨ値に調整された廃液を貯槽から排出する廃液処理設備に設置されるｐＨ計において、所定のｐＨ値に調整された廃液が貯槽から排出されて、次の廃液が貯槽内に供給されるまでの廃液処理設備の待機中、前記ｐＨ値調整済みの廃液を貯めて、ｐＨ計のセンサー部を浸漬する受け皿を、当該ｐＨ計のセンサー下部に設けることによって達成される。
【００１５】
また、本発明の第２の目的は、前記構成に加えて、さらに廃液処理設備の待機中、前記受け皿に洗浄水、圧搾空気、ｐＨ校正溶液を順次供給する配管系を設けることによって達成される。
【発明の効果】
【００１６】
以上本発明によれば、第１に、運転待機中にセンサー部の劣化を防止した廃液処理設備用ｐＨ計を得ることができる。
【００１７】
また、本発明によれば、第２に、前記第１の効果に加えて、ｐＨ計を設置する貯槽内の液が放射性物質もしくは有害性のある危険な液体であっても、ｐＨ計の校正作業を遠隔で安全に行える廃液処理設備用ｐＨ計を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の一実施例を、図面に基づいて説明する。
【００１９】
図１に廃液処理設備用ｐＨ計の構造例を示す。
【００２０】
ｐＨ計センサーは、外筒の下部に電極を有し、先端にセンサー部１１５を有し、液のｐＨを測定するものである。
【００２１】
通常、ｐＨ計センサー部１１５は乾燥しないように貯槽１１０内の液中に浸けておくことが必要である。また、ｐＨ計測定値の変動値を定期的に確認し、偏差が発生した場合には、ｐＨ値の校正を行うことが必要となる。一般的にｐＨ計の校正は、図１のｐＨ計センサー部１１５をそのまま貯槽１１０から取り出し、センサー部１１５に校正溶液を浸けて校正のための測定をすることになる。
【００２２】
図１は、本実施例により提案するｐＨ計の乾燥防止および遠隔校正機構を有したシステム例を示すものである。
【００２３】
最初にｐＨ計の乾燥防止について説明する。
【００２４】
廃液を貯溜する貯槽１１０にｐＨ計センサー部１１５を有している。廃液は廃液供給ノズル１２０より供給され、ｐＨ計センサー部１１５以上のレベル１１１になる。廃液のｐＨ値を調整するためにノズル１２１から薬剤を注入し、かつ撹拌機の電動機１０９を起動させ、撹拌機プロペラ１１３を回転させて、廃液と薬剤を均一に攪拌、混合し、ｐＨ計センサー部１１５によってｐＨ測定を行うことになるが、測定した廃液のｐＨ値は、ｐＨ計センサー部１１５からケーブル１０２を介し、ｐＨ指示計１０１に出力される。
【００２５】
そして、所定のｐＨ値に調整された廃液は貯槽１１０から排出されることになるが、この排出は排出ノズル１１９を開くことにより行われる。排出ノズル１１９を開くことにより、廃液のレベルは、レベル１１２に示すように、ｐＨ計センサー部１１５以下のレベルに徐々に低下して行き、排出ノズル１１９を閉じることにより、次の廃液が貯槽１１０に供給されるのを待つことになる。この待機時間中は、廃液レベルがｐＨ計センサー１１５より下降するため、ｐＨ計センサー１１５は大気中に放置されることになるが、ｐＨ計センサー１１５の下部に受け皿１１４を設けることにより、廃液レベルがｐＨ計センサー１１５以上のレベルになった際に、受け皿１１４に保有した廃液が当該受け皿１１４に溜まった状態で待機となる。これにより、ｐＨ計センサー１１５は、廃液レベルが下降した状態で待機しても、ｐＨ計センサー１１５は、受け皿１１４に溜まった廃液に常時浸かっており、乾燥することがなく、待機中であっても、ｐＨ計センサー１１５の劣化を防止することができる。
【００２６】
以上の実施例が、ｐＨ計センサー部１１５の乾燥防止例である。
【００２７】
次にｐＨ計の遠隔校正機構について、実施例で説明する。ここでは、貯槽内の廃液が放射性物質もしくは有害性のある危険な液体であって、遠隔で校正を行うことを前提に説明する。
【００２８】
ｐＨ計の校正が必要になった場合は、廃液処理設備の待機中に実施する。
【００２９】
最初に洗浄水（水）１１７の供給配管１０５の供給バルブ１０６を開くことにより、ｐＨ計センサー部１１５に並べて施工された貯槽内導入配管１１６より受け皿１１４に洗浄水１１７が供給される。洗浄水１１７の供給により、受け皿１１４に溜まっていた廃液は洗浄水１１７と置換され、かつｐＨ計センサー部１１５の洗浄も併せて行うことができる。ｐＨ計センサー部１１５を十分に洗浄後、洗浄水供給バルブ１０６を閉じる。
【００３０】
次に圧搾空気１１８の供給配管１０７の供給バルブ１０８を開くことにより、貯槽内導入配管１１６より受け皿１１４に圧搾空気１１８が供給される。圧搾空気１１８により受け皿１１４に溜まっていた洗浄水１１７は飛ばされ、受け皿１１４内は空になる。圧搾空気１１８の供給後は、圧搾空気供給バルブ１０８を閉じる。
【００３１】
次にｐＨ校正溶液供給容器にｐＨ７の校正溶液１０３を入れ（ｐＨ７の校正溶液１０３は受け皿１１４の保有量以上を充填する）、校正溶液供給バルブ１０４を開くことにより、貯槽内導入配管１１６より受け皿１１４にｐＨ７の校正溶液１０３が供給される。これにより、ｐＨ計センサー部１１５は、ｐＨ７の校正溶液１０３に浸かっているので、ｐＨ指示計１０１の指示値がｐＨ７となっていることを確認することになる。ｐＨ指示計１０１の指示値がｐＨ７になっていない場合は、ｐＨ指示計１０１の調整ダイヤルを調整する。ｐＨ７でのｐＨ校正終了後は、校正溶液供給バルブ１０４を閉じ、洗浄水１１７の供給配管１０５の洗浄水供給バルブ１０６を開き、貯槽内導入配管１１６より受け皿１１４に洗浄水１１７を供給し、受け皿１１４に溜まっているｐＨ７の校正溶液１０３を洗浄水１１７と置換し、かつｐＨ計センサー部１１５の洗浄も併せて行う。ｐＨ計センサー部１１５を十分に洗浄後、洗浄水供給バルブ１０６を閉じる。
【００３２】
次に圧搾空気１１８の供給配管１０７の供給バルブ１０８を開くことにより、貯槽内導入配管１１６より受け皿１１４に圧搾空気１１８が供給される。圧搾空気１１８により受け皿１１４に溜まっていた洗浄水１１７は飛ばされ、受け皿１１４内は空になる。圧搾空気１１８の供給後は、圧搾空気供給バルブ１０８を閉じる。
【００３３】
次にｐＨ校正溶液供給容器にｐＨ４の校正溶液１０３を入れ（ｐＨ４の校正溶液１０３は受け皿１１４の保有量以上を充填する）、校正溶液供給バルブ１０４を開くことにより、貯槽内導入配管１１６より受け皿１１４にｐＨ４の校正溶液１０３が供給される。これにより、ｐＨ計センサー部１１５は、ｐＨ４の校正溶液１０３に浸かっているので、ｐＨ指示計１０１の指示値がｐＨ４となっていることを確認することになる。ｐＨ指示計１０１の指示値がｐＨ４になっていない場合は、ｐＨ指示計１０１の調整ダイヤルを調整する。ｐＨ４でのｐＨ校正終了後は、校正溶液供給バルブ１０４を閉じ、洗浄水１１７の供給配管１０５の洗浄水供給バルブ１０６を開き、貯槽内導入配管１１６より受け皿１１４に洗浄水１１７を供給し、受け皿１１４に溜まっている校正溶液ｐＨ４を洗浄水１１７と置換し、かつｐＨ計センサー部１１５の洗浄も併せて行う。ｐＨ計センサー部１１５を十分に洗浄後、洗浄水供給バルブ１０６を閉じる。
【００３４】
このように、廃液処理設備の待機中、前記受け皿１１４に洗浄水１１７、圧搾空気１１８、ｐＨ校正溶液１０３を順次供給する配管系を設けることにより、ｐＨ計を設置する貯槽内の液が放射性物質もしくは有害性のある危険な液体であっても、ｐＨ計の校正作業を遠隔で安全に行うことができる。
【００３５】
なお、受け皿１１４の形状は、当該受け皿１１４に溜まった液の置き換えを容易にすべく、図１に示すごとくすり鉢状とするのがよい。
【００３６】
また、洗浄水１１７、圧搾空気１１８、ｐＨ校正溶液１０３を貯槽１１０内の受け皿１１４に供給する貯槽内導入配管をそれぞれに専用とすることなく、図示実施例に示すように１本の貯槽内導入配管１１６で共用とすることにより、廃液処理設備の配管系の簡素化およびコストの低減を図ることができる。
【００３７】
以上の実施例が、ｐＨ計センサー部１１５の遠隔校正機構例である。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明の一実施例を示す廃液処理設備用ｐＨ計の概略図である。
【符号の説明】
【００３９】
１０１…ｐＨ指示計、１０２…ｐＨ計ケーブル、１０３…ｐＨ校正溶液、１０４…ｐＨ校正溶液供給バルブ、１０５…洗浄水供給配管、１０６…洗浄水供給バルブ、１０７…圧搾空気供給配管、１０８…圧搾空気供給バルブ、１０９…撹拌機電動機、１１０…貯槽、１１１…廃液高レベル、１１２…廃液低レベル、１１３…撹拌機プロペラ、１１４…受け皿、１１５…ｐＨ計センサー部、１１６…貯槽内導入配管、１１７…洗浄水、１１８…圧搾空気、１１９…貯槽排出ノズル、１２０…廃液供給ノズル、１２１…薬剤供給ノズル。
【図１】
2005069956.tif 000003