(57)【要約】【課題】  半導体レーザとコリメータレンズ等のカップリングレンズとで主に構成される光源ユニットを光学ユニットに搭載したときに、光学ユニット側の光学素子の加工誤差等の影響を排除し、光学ユニットの結像位置が像面に正確に合うように光源ユニットを調整可能な光源ユニットの調整方法及び光学ユニットの調整方法を提供する。【解決手段】  この光源ユニットの調整方法は、半導体レーザとカップリングレンズとで構成される光源ユニットからの光ビームを集光レンズで集光し、その集光点近傍の結像状態を観察することによって半導体レーザとカップリングレンズとの間隔を調整する際に、調整がおおよそ済んでいる基準の光源ユニットを、調整対象の光源ユニットを使用する光学ユニットに搭載して像面付近の結像状態を観察し、その結果に基づいて調整対象の光源ユニットの調整基準を算出し、その調整基準に基づいて調整対象の光源ユニットの半導体レーザとカップリングレンズとの間隔を調整する。【選択図】  図２
2005189260.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体レーザとカップリングレンズとで構成される光源ユニットからの光ビームを集光レンズで集光し、その集光点近傍の結像状態を観察することによって前記半導体レーザと前記カップリングレンズとの間隔を調整する調整方法において、
前記調整がおおよそ済んでいる基準の光源ユニットを、調整対象の光源ユニットを使用する光学ユニットに搭載して像面付近の結像状態を観察し、その結果に基づいて前記調整対象の光源ユニットの調整基準を算出し、その調整基準に基づいて前記調整対象の光源ユニットの半導体レーザとカップリングレンズとの間隔を調整することを特徴とする光源ユニットの調整方法。
【請求項２】
半導体レーザとカップリングレンズとで構成される光源ユニットからの光ビームを集光レンズで集光し、その集光点近傍の結像状態を観察することによって前記半導体レーザと前記カップリングレンズとの間隔を調整する調整方法において、
前記調整がおおよそ済んでいるとともに僅かに前記調整状態がそれぞれ異なる複数の基準の光源ユニットを、順次、調整対象の光源ユニットを使用する光学ユニットに搭載して像面付近の結像状態を観察し、それらの結果に基づいて前記調整対象の光源ユニットの調整基準を算出し、その調整基準に基づいて前記調整対象の光源ユニットの半導体レーザとカップリングレンズとの間隔を調整することを特徴とする光源ユニットの調整方法。
【請求項３】
前記基準の光源ユニットを光源ユニット調整冶具に搭載し、前記基準の光源ユニットからの光ビームを集光レンズで集光し、その集光点近傍の結像状態を観察した結果を前記調整基準の算出に用いることを特徴とする請求項１または２に記載の光源ユニットの調整方法。
【請求項４】
請求項１，２または３に記載の光源ユニットの調整方法により半導体レーザとカップリングレンズとの間隔が調整された光源ユニットを光学ユニットに搭載することを特徴とする光学ユニットの調整方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体レーザとカップリングレンズとで構成される光源ユニットの調整方法及び光学ユニットの調整方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザ光を発生する光学ユニットは、半導体レーザ及びコリメータレンズ等から構成される光源ユニットを含んでおり、レーザイメージャやレーザプリンタ等の画像形成装置や画像読取装置等に広く用いられているが、光源ユニットは半導体レーザとコリメータレンズとの間隔の調整が必要である。
【０００３】
下記特許文献１は、ビーム発生ユニットを構成するビーム整形レンズの焦点深度より小さな調整誤差で半導体レーザとビーム整形レンズとの光軸方向における間隔を調整するビーム発生ユニットの調整方法を開示する。この調整方法は、光源ユニット調整冶具でコリメート度(コリメータレンズから出射される光ビームの平行度)を精度よく調整しようとするものである。即ち、図７のように、集光レンズ４６０の後側主点と観察光学系の観察点との間に平行平面板（非点収差発生素子）５００が配置され、平行平面板５００を透過した光ビームが非点光束となり、その非点光束が対物レンズ４７０を介してＣＣＤカメラ４８０の撮像面に導かれ、集光点近傍の拡大像ＩＧがＴＶモニタ４９０に表示されるが、その観察像は、半導体レーザ１１０とコリメートレンズ１３０との間隔が設定値のとき最小錯乱円となる一方、その間隔がわずかにずれるだけでも、楕円形状に変化する。観察像が最小錯乱円となる位置をビーム発生ユニット１００の調整目標位置とし、観察像を観察しながら半導体レーザ１１０およびコリメートレンズ１３０のうち少なくとも一方を光軸方向ｚに移動させてビーム発生ユニット１００を高精度に調整する。
【０００４】
しかし、画像形成等のための光学ユニット上のレンズ・ミラー等に加工誤差(例えば、レンズの焦点距離誤差やミラーの平面度誤差等)があると、上記のようにコリメート度を精度良く調整済みの光源ユニットを光学ユニットに搭載しても、像面上にピントが合わず画像品質が低下するという問題がある。光学ユニットにおいてレンズ・ミラーの枚数が多いほど、加工誤差の影響は顕著となる。
【特許文献１】特開平０６−２３０３１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上述のような従来技術の問題に鑑み、半導体レーザとコリメータレンズ等のカップリングレンズとで主に構成される光源ユニットを光学ユニットに搭載したときに、光学ユニット側の光学素子の加工誤差等の影響を排除し、光学ユニットの結像位置が像面に正確に合うように光源ユニットを調整可能な光源ユニットの調整方法及び光学ユニットの調整方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明による光源ユニットの調整方法は、半導体レーザとカップリングレンズとで構成される光源ユニットからの光ビームを集光レンズで集光し、その集光点近傍の結像状態を観察することによって前記半導体レーザと前記カップリングレンズとの間隔を調整する調整方法において、前記調整がおおよそ済んでいる基準の光源ユニットを、調整対象の光源ユニットを使用する光学ユニットに搭載して像面付近の結像状態を観察し、その結果に基づいて前記調整対象の光源ユニットの調整基準を算出し、その調整基準に基づいて前記調整対象の光源ユニットの半導体レーザとカップリングレンズとの間隔を調整することを特徴とする。
【０００７】
この光源ユニットの調整方法によれば、調整対象の光源ユニットを使用する光学ユニットにおけるレンズやミラー等の光学素子の誤差を考慮に入れて、光源ユニットの調整基準を得ることができるので、調整対象の光源ユニットにおいてその調整基準を目標にして半導体レーザとコリメータレンズとの間隔を調整することで、その調整対象の光源ユニットを実際に用いる光学ユニットにおいて結像位置が像面に正確に合う。
【０００８】
本発明による光源ユニットの別の調整方法は、半導体レーザとカップリングレンズとで構成される光源ユニットからの光ビームを集光レンズで集光し、その集光点近傍の結像状態を観察することによって前記半導体レーザと前記カップリングレンズとの間隔を調整する調整方法において、前記調整がおおよそ済んでいるとともに僅かに前記調整状態がそれぞれ異なる複数の基準の光源ユニットを、順次、調整対象の光源ユニットを使用する光学ユニットに搭載して像面付近の結像状態を観察し、それらの結果に基づいて前記調整対象の光源ユニットの調整基準を算出し、その調整基準に基づいて前記調整対象の光源ユニットの半導体レーザとカップリングレンズとの間隔を調整することを特徴とする。
【０００９】
この光源ユニットの調整方法によれば、複数の基準の光源ユニットを用いて、調整対象の光源ユニットを使用する光学ユニットにおけるレンズやミラー等の光学素子の誤差を考慮に入れて、光源ユニットの調整基準を得ることができるので、調整対象の光源ユニットにおいてその調整基準を目標にして半導体レーザとコリメータレンズとの間隔を調整することで、その調整対象の光源ユニットを実際に用いる光学ユニットにおいて結像位置が像面に正確に合う。
【００１０】
上記光源ユニットの各調整方法において、前記基準の光源ユニットを光源ユニット調整冶具に搭載し、前記基準の光源ユニットからの光ビームを集光レンズで集光し、その集光点近傍の結像状態を観察した結果を前記調整基準の算出に用いることができる。
【００１１】
本発明による光学ユニットの調整方法は、上記光源ユニットの各調整方法により半導体レーザとカップリングレンズとの間隔が調整された光源ユニットを光学ユニットに搭載することを特徴とする。
【００１２】
この光学ユニットの調整方法によれば、調整対象の光源ユニットは光学ユニットで結像位置が像面に精度よく合うように上述の調整基準を目標にして半導体レーザとコリメータレンズとの間隔が調整されているので、その光源ユニットが搭載された光学ユニットにおいて結像位置を像面に簡単に精度よく合わせることができ、調整が極めて簡単になる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の光源ユニットの調整方法及び光学ユニットの調整方法によれば、半導体レーザとカップリングレンズとで主に構成される光源ユニットを光学ユニットに搭載したときに、光学ユニット側の光学素子の加工誤差等の影響を排除し、光学ユニットの結像位置が像面に正確に合うように光源ユニットを調整できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明を実施するための最良の形態について図面を用いて説明する。図１は、本実施の形態による光源ユニットの調整方法を説明するための図であり、基準の光源ユニットを光源ユニット調整冶具にセットした状態を模式的に示す平面図（ａ）、基準の光源ユニットを実際に使用する光学ユニットにセットした状態を模式的に示す平面図（ｂ）及び調整対象の光源ユニットを実際に使用する光学ユニットにセットした状態を模式的に示す平面図（ｃ）である。
【００１５】
図１（ａ）のように、基準の光源ユニットＳは半導体レーザ１からの光ビームをコリメートレンズ２で平行光にして出射し、光軸方向Ｘにおける半導体レーザ１とコリメートレンズ２との間隔を調整し、コリメート（平行度）調整がされるが、おおよそのコリメート調整は済んでいる。
【００１６】
また、光源ユニット調整冶具Ｊは、コリメートレンズ２からの平行光を集光レンズ３で像面４に結像するが、基準の光源ユニットＳを所定位置に位置決めて搭載してから像面４で結像位置を確認する。この結像位置の確認のために、光源ユニット調整冶具Ｊはビーム径測定器８を備える。ビーム径測定器８は、光軸方向Ｘに前後移動可能なＣＣＤ等の位置検出素子５と、ビーム径及びビーム位置を測定する測定回路６と、ビームを表示するビーム表示器７とから主に構成され、位置検出素子５の検出面が像面４に対応する。このようなビーム径測定器は例えば特開平０６−３１７４６４号公報から公知である。
【００１７】
図１（ｂ）のように、基準の光源ユニットＳを実際に使用する光学ユニット１０に所定位置に位置決めて搭載する。光学ユニット１０は、例えば走査光学系を構成し、光源ユニットからの平行光をｆθレンズ１１で像面１２に結像するが、方向Ｙに結像光を主走査するためにｆθレンズ１１にポリゴンミラー１３が前置され、ｆθレンズ１１と像面１２との間にミラー１４が配置されている。
【００１８】
図１（ｃ）のように、調整した光源ユニット２０を実際に使用する光学ユニット１０に所定位置に位置決めて搭載する。光源ユニット２０は、基準の光源ユニットＳと同様に、半導体レーザ２１からの光ビームをコリメートレンズ２２で平行光にして出射し、光源ユニット調整治具Ｊ上で光軸方向Ｘにおける半導体レーザ１とコリメートレンズ２との間隔Ｌを調整することで、コリメート（平行度）調整が行われる。
【００１９】
〈第１の実施の形態〉
【００２０】
第１の実施の形態による光源ユニットの調整方法は基準の光源ユニットを１台用いるが、この調整方法を図１，図２を参照して説明する。図２は第１の実施の形態による光源ユニットの調整方法を説明するためのフローチャートである。
【００２１】
図２を参照して、まず、図１（ａ）のように、光源ユニット調整冶具Ｊで、おおよそのコリメート調整が済んでいる基準の光源ユニットＳの結像位置をビーム径測定器８により像面４で確認し（Ｓ０１）、結果ａを得る。
【００２２】
次に、図１（ｂ）のように、基準の光源ユニットＳを実際に使用する光学ユニット１０に搭載して像面１２での結像位置を確認し（Ｓ０２）、結果ｂを得る。
【００２３】
次に、上記結果ａ、ｂから、調整対象となる光源ユニット(光学ユニット１０に搭載される光源ユニット)２０の調整基準を算出する（Ｓ０３）。
【００２４】
上記調整基準の算出について説明する。上記結果ａ、ｂについて次式（１）、（２）が成立する。また、次式（３）が成立する。
【００２５】
ａ＝Δ(Col)*ｊ*(−１)            ・・・（１）
ｂ＝Δ(露)＋Δ(Col)*ｋ*(−１)  ・・・（２）
Δ(露)*(−１)＝Δ(Col’)*ｋ*(−１)  ・・・（３）
【００２６】
但し、Δ(Col)：基準の光源ユニットＳの半導体レーザ１とコリメートレンズ２との間隔Ｌの誤差
Δ(露)：光学ユニット１０のｆθレンズ１１やミラー１３，１４の加工誤差による走査光学系の像側主点のズレ
Δ(Col’)：調整対象の光源ユニット２０の半導体レーザ２１とコリメートレンズ２２との間隔Ｌの誤差
ｊ：光源ユニット調整冶具Ｊ全体の縦倍率
ｋ：光学ユニット１０全体の縦倍率
【００２７】
上記式（１）からΔ(Col)を求め、上記式（２）からΔ(露)を求める。更に、上記式（３）からΔ(Col’)を求める。これらより、調整対象の光源ユニット２０の光源ユニット調整冶具Ｊでの目標集光位置Ｔを次式（４）から求める。
【００２８】
Ｔ＝Δ(Col’)*ｊ*(−1)  ・・・（４）
【００２９】
なお、式（２）、（３）において走査光学系の像側主点ズレと焦点距離ズレの和を、像側主点ズレのみと置き換えて計算しても誤差が少ない。但し、像側主点ズレと焦点距離ズレが、光学ユニット上のレンズの焦点距離に対して１／５０程度以下の場合である。
【００３０】
次に、上記の目標集光位置Ｔを目標として、図１（ｃ）の調整対象の光源ユニット２０における半導体レーザ２１とコリメートレンズ２２の間隔Ｌを光源ユニット調整治具Ｊ上で調整する（Ｓ０４）。
【００３１】
上述のようにして、間隔Ｌを調整した光源ユニット２０を図１（ｃ）のように、実際に使用する光学ユニット１０に所定位置に位置決めて搭載することで、光学ユニット１０に適合するように調整された光源ユニット２０を光学ユニットに搭載できる。
【００３２】
以上のように、第１の実施の形態の光源ユニットの調整方法によれば、光学ユニットのレンズやミラーの加工誤差を考慮して、光源ユニットのコリメート度を調整するので、その光源ユニットを実際に使用する光学ユニットに搭載した場合、結像位置を像面に正確に合わせることができる。従って、加工誤差により結像位置が像面が合わず、光学ユニットを搭載した画像形成装置等において画像品質が低下するという問題はなくなる。
【００３３】
また、光学ユニットにおいて、半導体レーザの劣化等の不具合が発生し、光源ユニットを交換する場合は、 他の光源ユニットで上記ステップＳ０４を実施し、その光源ユニットを不具合が発生した光学ユニットに載せ替えるだけで像面上に結像位置が合うので、光学ユニットの調整が極めて簡単になる。従来、画像形成装置等においてこのような不具合が発生した場合は光学ユニットの交換となっていたが、上記方法のように光源ユニットを交換だけで不具合が解消すれば、手間がかからなくよく、メンテナンス性が向上する。
【００３４】
〈実施例１〉
【００３５】
次に、第１の実施の形態による光源ユニットの調整方法について実施例１により更に具体的に説明する。
【００３６】
図１（ａ）の光源ユニット調整冶具Ｊの集光レンズ３の焦点距離は200ｍｍであり、コリメートレンズの焦点距離を6.25ｍｍ、光学ユニット１０のｆθレンズ１１の焦点距離を255ｍｍとした。
【００３７】
図２のステップＳ０１において、光源ユニット調整冶具Ｊで、おおよそコリメート調整が済んでいる基準の光源ユニットＳの結像位置を確認すると、光源ユニットＳの結像位置は196.85ｍｍ（設計値に対して−3.15ｍｍ＝ａ）であった。これは、コリメートレンズ２のパワーの誤差、半導体レーザ１とコリメートレンズ２との間隔Ｌの調整誤差により、結像位置が設計値からずれているためである。
【００３８】
次に、ステップＳ０２で、基準の光源ユニットＳを光学ユニット１０に搭載して像面１２での結像位置を確認すると、光学ユニット１０の結像位置は設計値に対して−8.12ｍｍ（＝ｂ）であった。これは、コリメートレンズ２のパワーの誤差、半導体レーザ１とコリメートレンズ２との間隔Ｌの調整誤差、光学ユニット１０の他のレンズ・ミラーの加工誤差により結像位置が設計値からずれているためである。
【００３９】
次に、ステップＳ０３で、上記ａ，ｂの結果から上記式（１）乃至（４）から調整対象の光源ユニット２０の調整基準を算出すると、目標集光位置Ｔ＝＋1.82ｍｍであり、これが調整対象の光源ユニット２０の調整基準と分かる。図３に光源ユニット調整冶具Ｊ上の結像位置と光学ユニット１０上の結像位置との関係により調整前位置及び調整目標位置（調整基準）を示す。
【００４０】
次に、ステップＳ０４で、上記の目標集光位置Ｔを狙って、調整対象の光源ユニット２０の半導体レーザ２１とコリメートレンズ２２との間隔Ｌを調整し、＋1.81ｍｍに調整できた。
【００４１】
上述のようにして調整した光源ユニット２０を図１（ｃ）のように光学ユニット１０に搭載し、結像位置を確認したところ、結像位置は設計値に対して−0.15ｍｍで目標範囲内であった。
【００４２】
〈第２の実施の形態〉
【００４３】
第２の実施の形態による光源ユニットの調整方法は基準の光源ユニットを複数台用いるが、この調整方法を図１，図４，図５を参照して説明する。
【００４４】
図４は第２の実施の形態による光源ユニットの調整方法を説明するためのフローチャートである。図５は第２の実施の形態で調整基準を求める方法を説明するために光源ユニット調整冶具Ｊ上の結像位置と光学ユニット１０上の結像位置とを示す図である。
【００４５】
図４を参照して、まず、図１（ａ）のように、光源ユニット調整冶具Ｊで、おおよそのコリメート調整が済んでいる基準の光源ユニットＳの結像位置をビーム径測定器８により像面４で確認する（Ｓ１１）。かかる結像位置の確認を調整状態がそれぞれ異なる複数台について行い、結果Ａを得る。
【００４６】
次に、図１（ｂ）のように、基準の光源ユニットＳを実際に使用する光学ユニット１０に搭載して像面１２での結像位置を確認する（Ｓ１２）。かかる結像位置の確認を上記複数台について行い、結果Ｂを得る。
【００４７】
次に、上記結果Ａ，Ｂを図５のようにグラフにプロットし、近似曲線ｍを描く。そして、図５の近似曲線ｍから光学ユニット１０の結像位置が０となる、光源ユニット調整冶具Ｊの結像位置を図の破線のように求め、これが調整対象の光源ユニット２０の調整基準であり、目標集光位置である（Ｓ１３）。
【００４８】
次に、上記の目標集光位置を目標として、図１（ｃ）の調整対象の光源ユニット２０における半導体レーザ２１とコリメートレンズ２２の間隔Ｌを光源ユニット調整治具Ｊ上で調整する（Ｓ１４）。
【００４９】
上述のようにして、間隔Ｌを調整した光源ユニット２０を図１（ｃ）のように、実際に使用する光学ユニット１０に所定位置に位置決めて搭載することで、光学ユニット１０に適合するように調整された光源ユニット２０を光学ユニットに搭載できる。
【００５０】
以上のように、第２の実施の形態の光源ユニットの調整方法によれば、光学ユニットのレンズやミラーの加工誤差を考慮して、光源ユニットのコリメート度を調整するので、その光源ユニットを実際に使用する光学ユニットに搭載した場合、結像位置を像面に正確に合わせることができる。従って、加工誤差により結像位置が像面が合わず、画像品質が低下するという問題がなくなる。
【００５１】
また、光学ユニットにおいて、半導体レーザの劣化等の不具合が発生し、光源ユニットを交換する場合は、 他の光源ユニットで上記ステップＳ１４を実施し、その光源ユニットを不具合が発生した光学ユニットに載せ替えるだけで像面上に結像位置が合う。従来、画像形成装置等においてこのような不具合が発生した場合は光学ユニットの交換となっていたが、上記方法のように光源ユニットを交換だけで不具合が解消すれば、手間がかからなくよく、メンテナンス性が向上する。
【００５２】
〈実施例２〉
【００５３】
次に、第２の実施の形態による光源ユニットの調整方法について実施例２により更に具体的に説明する。
【００５４】
図１（ａ）の光源ユニット調整冶具Ｊの集光レンズ３の焦点距離は200ｍｍであり、コリメートレンズの焦点距離を6.25ｍｍ、光学ユニット１０のｆθレンズ１１の焦点距離を255ｍｍとした。また基準の光源ユニットＳを２台とし、第１の光源ユニット及び第２の光源ユニットとする。
【００５５】
図４のステップＳ１１において、光源ユニット調整冶具Ｊで、おおよそコリメート調整が済んでいる基準の光源ユニットＳの結像位置を確認した。その結果、第１の光源ユニットの結像位置が196.64ｍｍ（設計値に対して−3.36ｍｍ）であり、第２の光源ユニットの結像位置が204.19ｍｍ（設計値に対して＋4.19ｍｍ）であった。第１の光源ユニット及び第２の光源ユニットともに、コリメートレンズ２のパワーの誤差、半導体レーザ１とコリメートレンズ２との間隔Ｌの調整誤差により、結像位置が設計値からずれている。
【００５６】
次に、ステップＳ１２で、基準の光源ユニットＳを光学ユニット１０に搭載して像面での結像位置を確認した。その結果、第１の光源ユニットを用いた場合の結像位置が設計値に対して−8.45ｍｍであり、第２の光源ユニットを用いた場合の結像位置が設計値に対して＋3.62ｍｍであった。第１の光源ユニット及び第２の光源ユニットともに、コリメートレンズ２のパワーの誤差、半導体レーザ１とコリメートレンズ２との間隔Ｌの調整誤差、光学ユニット１０上の他のレンズやミラーの加工誤差により結像位置が設計値からずれている。
【００５７】
次に、ステップＳ１３で、図６のように上記結果をグラフにプロットし、近似曲線を描き、図で光学ユニット１０上の結像位置が０となる光源ユニット調整冶具Ｊ上の結像位置を求め、これが光学ユニット１０に搭載する光源ユニット２０の調整基準となり、＋1.92ｍｍが目標集光位置と分かった。
【００５８】
次に、ステップＳ１４で、上記の目標集光位置を狙って、調整対象の光源ユニット２０の半導体レーザ２１とコリメートレンズ２２との間隔Ｌを調整し、＋1.93ｍｍに調整できた。
【００５９】
上述のようにして調整した光源ユニット２０を図１（ｃ）のように光学ユニット１０に搭載し、結像位置を確認したところ、結像位置は設計値に対して＋0.04ｍｍで目標範囲内であった。
【００６０】
以上の第１及び第２の光源ユニットの調整方法によれば、光学系ユニット上のレンズの焦点距離誤差やミラー等の平面度誤差を考慮に入れて、光源ユニットのコリメート度(光源ユニット調整冶具上での結像位置)を規定する調整基準を求め、その調整基準を目標にして半導体レーザとコリメータレンズとの間隔を調整するので、従来技術よりも更に光学ユニット上でのピントを精度よく合わせることができる。
【００６１】
以上のように本発明を実施するための最良の形態について説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で各種の変形が可能である。例えば、図１の光源ユニットは、半導体レーザとコリメータレンズとにより平行光を出射する構成であるが、半導体レーザとカップリングレンズとにより発散光または収束光を出射するような構成であってもよく、同様の調整方法を適用できる。
【００６２】
また、図１（ａ）の光源ユニット調整冶具は、集光レンズによる結像位置を正確に測定できればよく、図示のようなビーム測定器に限定されず、例えば図７のような非点収差素子及びＣＣＤカメラ等を用いた観察光学系を用いてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本実施の形態による光源ユニットの調整方法を説明するための図であり、基準の光源ユニットを光源ユニット調整冶具にセットした状態を模式的に示す平面図（ａ）、基準の光源ユニットを実際に使用する光学ユニットにセットした状態を模式的に示す平面図（ｂ）及び調整対象の光源ユニットを実際に使用する光学ユニットにセットした状態を模式的に示す平面図（ｃ）である。
【図２】第１の実施の形態による光源ユニットの調整方法を説明するためのフローチャートである。
【図３】実施例１において光源ユニット調整冶具Ｊ上の結像位置と光学ユニット１０上の結像位置との関係により調整前位置及び調整目標位置（調整基準）を示す図である。
【図４】第２の実施の形態による光源ユニットの調整方法を説明するためのフローチャートである。
【図５】第２の実施の形態で調整基準を求める方法を説明するために光源ユニット調整冶具Ｊ上の結像位置と光学ユニット１０上の結像位置とを示す図である。
【図６】実施例２における調整基準を求めるための近似曲線を示す図５と同様の図である。
【図７】従来のビーム発生ユニットの調整方法を説明するための図である。
【符号の説明】
【００６４】
Ｊ 光源ユニット調整冶具
Ｓ 基準の光源ユニット
１ 半導体レーザ
２ コリメートレンズ
３ 集光レンズ
４ 像面
８ ビーム径測定器
１０ 光学ユニット
１１ ｆθレンズ
１２ 像面
１３ ポリゴンミラー
１４ ミラー
２０ 光源ユニット
２１ 半導体レーザ
２２ コリメートレンズ
Ｌ 半導体レーザとコリメートレンズとの光軸方向における間隔
Ｘ 光軸方向
Ｙ 光軸方向に対し垂直な方向、主走査方向
【図１】
2005189260.tif 000003
【図２】
2005189260.tif 000004
【図３】
2005189260.tif 000005
【図４】
2005189260.tif 000006
【図５】
2005189260.tif 000007
【図６】
2005189260.tif 000008
【図７】
2005189260.tif 000009