(57)【要約】【課題】  処理容器内の雰囲気の不活性ガスによる置換及び重水素の充填に要する時間を短縮することができ、かつ高価な重水素の使用量を抑えることのできる光ファイバ処理装置及び処理方法を提供する。【解決手段】  複数の光ファイバの処理容器１が配管で空間的に連結され、各処理容器１の処理室が、被処理ファイバの巻かれた１個以上のボビン４を収容できる密閉可能な室からなり、該処理室内に処理ガスを供給し、光ファイバをガス処理することを特徴としており、処理ガスには、重水素又は重水素を含むガスが使用される。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光ファイバの処理容器が配管で空間的に連結され、各処理容器の処理室が、被処理ファイバの巻かれた１個以上のボビンを収容できる密閉可能な室からなり、該処理室内に処理ガスを供給し、光ファイバをガス処理することを特徴とする光ファイバ処理装置。
【請求項２】
処理ガスが、重水素を含むガスである請求項１に記載の光ファイバ処理装置。
【請求項３】
処理ガスが、重水素である請求項１に記載の光ファイバ処理装置。
【請求項４】
処理容器が、管状で一端に開閉可能な扉を有している請求項１乃至３のいずれかに記載の光ファイバ処理装置。
【請求項５】
処理容器の断面形状が、円形又はそれに類する形状を有している請求項１乃至４のいずれかに記載の光ファイバ処理装置。
【請求項６】
処理容器の処理室内に、スライド可能なトレイを備えている請求項１乃至５のいずれかに記載の光ファイバ処理装置。
【請求項７】
各処理容器が、真空ポンプにより排気可能に配管接続されている請求項１乃至６のいずれかに記載の光ファイバ処理装置。
【請求項８】
各処理容器を連結している配管にバルブを設け、該バルブにより複数ある処理容器のうち、一部を他の処理容器及び給排気系から切断・接続自在に構成してなる請求項１乃至７のいずれかに記載の光ファイバ処理装置。
【請求項９】
各処理容器における光ファイバのガス処理を一元的に制御・管理可能なシステムを備えている請求項１乃至８のいずれかに記載の光ファイバ処理装置。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかに記載の光ファイバ処理装置を用いて光ファイバをガス処理することを特徴とする光ファイバ処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ファイバのガス処理、特には、光ファイバの耐水素特性を向上させるために行われるガス処理、詳しくは、重水素を含むガスによって行われる光ファイバ処理装置及び処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ファイバを用いた伝送路で最も多く使用されているのは、ゼロ分散波長を１３１０ｎｍ付近に持つシングルモード光ファイバである。従来、この光ファイバは、１３１０ｎｍの信号光の伝送に使用されていたが、最近になって、分散補償技術の進歩などにより、他の波長の信号光を伝送するためにも利用されるようになってきた。
【０００３】
近年、要求される伝送容量の増加に低コストで応じるために、ＣＷＤＭ（Coarse Wavelength Division Multiplexing；低密度波長分割多重）技術が開発されてきた。この伝送技術では、波長間隔を２５ｎｍ程度に広くすることで、安価な光源を使用しても、各信号波長間での混信が起こらないようになっている。この技術で多くの信号光を光ファイバで伝送するには、使用可能な波長域が広いことが望まれるが、従来のシングルモード光ファイバには、１３８３ｎｍ付近に光ファイバ中のＯＨ基に起因する吸収損失ピーク（以下、単にＯＨピークと称する）があり、この波長域を利用できなかった。これを使用可能とするため、低水分光ファイバが開発され、ＩＴＵ−Ｔ Ｇ６５２ table Ｃ でも国際規格として定められている。
【０００４】
このような光ファイバでは、初期のＯＨピークが小さいことに加えて、水素によるエージングを行った後でもそのＯＨピークが小さいことが要求される。このため、光ファイバの水素耐性を向上させる一つの方法として、光ファイバを重水素で処理するという方法がある。この方法は、重水素Ｄが光ファイバ中の欠陥と、水素Ｈと同じように反応するにもかかわらず、反応でできるＯＤ基がＯＨ基とは異なり、信号光として使用される波長領域に問題となるような吸収損失ピークを形成しない、という特徴があることを利用した方法である（特許文献１，２，３参照）。
【特許文献１】特開昭６０−９０８５２号公報
【特許文献２】特開平７−２７７７７０号公報
【特許文献３】特開２０００−１４８４５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のような重水素による光ファイバの処理は、光ファイバを密閉可能な容器に入れ、容器内を重水素含有雰囲気として、所定の時間放置することで行われる。重水素は、水素と同様に可燃性ガスであるため、重水素含有雰囲気で満たす前に、容器内の雰囲気を窒素などの不活性ガスなどで危険のない程度に置換する必要がある。
【０００６】
従来、大量の光ファイバを処理するには、処理容器を大型化していたが、容器を大型化すると、容器内の不活性ガスによる置換、重水素含有雰囲気の充填に時間がかかる。従来の装置を図５に示したが、この装置は、複数の棚に多数の被処理ファイバの巻き付けられたボビンを並べることで、一度に大量の光ファイバを処理することができる。しかしながら、少量の光ファイバを処理する場合でも、大量の光ファイバを処理する場合と同量の重水素、同じだけの時間が必要になるなどの問題があった。
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑み、処理容器内の雰囲気の不活性ガスによる置換及び重水素の充填に要する時間を短縮することができ、かつ高価な重水素の使用量を抑えることのできる光ファイバ処理装置及び処理方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の光ファイバ処理装置は、複数の光ファイバの処理容器が配管で空間的に連結され、各処理容器の処理室が、被処理ファイバの巻かれた１個以上のボビンを収容できる密閉可能な室からなり、該処理室内に処理ガスを供給し、光ファイバをガス処理することを特徴としており、処理ガスには、重水素又は重水素を含むガスが使用される。
【０００９】
本発明による処理容器は、管状でその一端に開閉可能な扉を設け、断面形状が円形又はそれに類する形状とし、処理容器の処理室内に、スライド可能なトレイを備えた構成とするのが望ましい。各処理容器は、真空ポンプにより排気可能に配管で接続し、バルブを設けて、複数ある処理容器のうち、一部を他の処理容器及び給排気系から切断・接続自在に構成し、さらに、各処理容器における光ファイバのガス処理を一元的に制御・管理可能なシステムを備えた構成とするのが望ましい。
なお、本発明の光ファイバ処理方法は、上記処理装置を用いることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の光ファイバ処理装置及び処理方法によれば、被処理ファイバの巻き付けられたボビンの数に合わせて、複数の処理容器を個別に又は適宜幾つか組み合わせてガス処理することができる。ガス処理に要する時間も短くて済み、かつ重水素の使用量も少なくて済み、処理コストの低減に大きく寄与する。さらに、各処理容器における光ファイバのガス処理を一元的に制御・管理でき、必要な作業要員の減員を可能とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明は、鋭意検討を重ねた結果、それぞれが少数のボビンを収納可能な複数の独立した処理容器を配管により空間的に連結し、バルブを配して切断・接続自在な構成とすることにより、処理容器を個々に又は幾つか組み合わせて、被処理ファイバの量に適した処理容器構成とすることを可能にしたものである。以下、実施例に基づいて具体的に説明する。
【実施例１】
【００１２】
図１に示す処理装置を使用した。この処理装置には、複数の筒状の処理容器１が配管で空間的に連結されている。各処理容器１は、雰囲気を個別かつ一元的に制御・管理できるように配管され、配管の経路には、処理容器内の雰囲気を制御するために、バルブ２が設けられている。配管には、エアー源、流量制御器（ＭＦＣ）を介して重水素Ｄ2源及び窒素Ｎ2源、さらに、処理容器内の排気・ガスの置換を効率良く行うために、排気用真空ポンプ３が接続されている。
【００１３】
光ファイバ５は、図２に示すように、ボビン４に巻き付けられている。ボビン４は、図３に示すように、トレイ６に載せられた状態で、筒状をした処理容器１の処理室内に収納され、扉７の開閉により、スライド式に出し入れされる。処理容器の形状は、断面が円又はそれに近い多角形とすることで、比較的少量の材料、薄い壁材で真空ポンプによる排気を可能とし、かつボビンの周囲の不要な空間を極力少なくすることができる。さらに、数個単位で収納できる処理容器を複数設置し、配管で連結する様式としたことにより、同数のボビンを処理できる従来の大型の箱形式の処理装置に比べて、容積が小さくて済むため、給排気に要する時間が短くて済むだけでなく、高価な重水素の使用量が極めて少なくて済む。特に、処理するボビンの数が少ないときには、処理容器をバルブ操作で必要な数だけ稼動状態とすることができ、効率的に処理できる。
【００１４】
なお、処理容器１の扉、バルブ２、流量制御器（ＭＦＣ）及び排気用真空ポンプ３は、図示を省略した制御装置により一元的に制御・管理され、ガス処理が行われる。このように、各処理容器の状態を一元的に制御・管理可能なシステムとしたことにより、各処理容器における処理経過時間、処理容器内の雰囲気、処理容器の開閉、ガス供給・排気系と各処理容器の切断・接続の動作などが、間違いなく行われる。
【００１５】
図４は、処理容器１の１５系列配置例を示す概略斜視図であり、これらの１５系列配置された処理容器１を、個々に又は幾つか組み合わせて、被処理ファイバの量に合わせた処理容器構成とすることができる。
【００１６】
光ファイバのガス処理に際し、例えば、常温・常圧で重水素を１％含む雰囲気で処理する場合、光ファイバの処理には３日半程度を要するが、この間にも光ファイバが線引きされ蓄積されるので、光ファイバの重水素処理は、線引きと並列的に行えることが望まれる。そのような状況下において、本発明による処理装置を使用すると、一部の処理容器は、重水素含有雰囲気が充填され処理中の状態にあり、他の処理容器では、光ファイバの出し入れ、排気、ガスの導入が行われているというように、様々な処理段階にあるガス処理が並列的に行える。
【産業上の利用可能性】
【００１７】
本発明の光ファイバ処理装置及び処理方法は、光ファイバの耐水素特性の向上を目的としたガス処理だけでなく、光ファイバをボビン巻きした状態で、様々なガス処理に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】複数の処理容器が配管で空間的に連結された本発明の光ファイバ処理装置の一例を示す説明図である。
【図２】被処理ファイバの巻き付けられたボビンの一例を示す斜視図である。
【図３】処理容器から、複数のボビンを載せたトレイの出し入れ状態を示す概略斜視図である。
【図４】本発明による、処理容器の１５系列配置例を示す概略斜視図である。
【図５】従来の光ファイバ処理装置を示す概略斜視図である。
【符号の説明】
【００１９】
１……処理容器、
２……バルブ、
３……排気用真空ポンプ、
４……ボビン、
５……光ファイバ、
６……トレイ、
７……扉。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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