(57)【要約】【課題】  光ディスクを製造する過程において、マザースタンパを作製を不要とし、ディスク製造コストを低減する。【解決手段】  金属基板１２のエッチング層上に塗布されているフォトレジスト１１にレーザカッティング装置によって所望のグルーブ形状を露光する。金属基板１２のエッチング層の表面が露光・現像により露出した部分にプラズマエッチングを行い、グルーブＧｖを形成した後、Ｏ2 アッシングにより残ったフォトレジスト１１を除去する。グルーブＧｖに対応した凹凸パターンが形成された金属基板１２を直接、スタンパとして用い、ポリカーボネートの樹脂で射出成型をすることによってディスク基板１３を作製する。【選択図】  図４
2005203050.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
読み取り面に対して凸形状のウォブルグルーブを有する光ディスクを製造する際に使用される光ディスク用原盤の記録方法であって、
金属基板上のレジストを上記ウォブルグルーブに対応して露光し、露光部分を除去し、上記レジストのグルーブに対応する開口を上記金属基板上に生成することを特徴とする光ディスク原盤の記録方法。
【請求項２】
請求項１において、
上記金属基板は、金属基板上にエッチング層を有するものである光ディスク原盤の記録方法。
【請求項３】
読み取り面に対して凸形状のウォブルグルーブを有する光ディスクを製造する際に使用される光ディスク用原盤の製造方法であって、
金属基板上のエッチング層の上にレジストを塗布する塗布工程と、
上記レジストにグルーブの潜像を形成する露光工程と、
上記レジストを現像し、上記グルーブに対応する部分の上記レジストを除去する現像工程と、
上記レジストをマスクとして上記エッチング層をエッチングするエッチング工程と、
残りの上記レジストを除去する除去工程とを有することを特徴とする光ディスク原盤の製造方法。
【請求項４】
読み取り面に対して凸形状のウォブルグルーブを有する光ディスクを製造する際に使用される光ディスク用原盤であって、
レジストにグルーブの潜像を形成し、上記レジストを現像し、上記グルーブに対応する部分の上記レジストを除去し、
上記レジストをマスクとして金属基板上のエッチング層をエッチングして上記グルーブに対応する凹溝が形成された光ディスク原盤。
【請求項５】
読み取り面に対して凸形状のウォブルグルーブを有する光ディスクであって、
光ディスク原盤によって成型されたディスク基板上に記録膜が成膜され、上記記録膜上にカバー層が設けられ、
上記光ディスク原盤は、
レジストにグルーブの潜像を形成し、上記レジストを現像し、上記グルーブに対応する部分の上記レジストを除去し、
上記レジストをマスクとして金属基板上のエッチング層をエッチングして上記グルーブに対応する凹溝が形成された光ディスク原盤を用いたことを特徴とする光ディスク。
【請求項６】
請求項５において、
記録または再生に使用される対物レンズの開口数をＮＡとしたとき、ＮＡが０．８５以上であることを特徴とする光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、例えば一面に形成されたフォトレジスト膜等に対してレーザ光を照射することにより、フォトレジスト膜等にレーザ光の照射軌跡に応じた記録パターンを形成（描画）する光ディスク原盤の記録方法および光ディスク原盤の製造方法に関する。また、この発明は、光ディスクにグルーブを形成する際に用いて好適な光ディスク原盤に関する。さらに、この発明は、光ディスク原盤により作成された光ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の記録可能なディスク状記録媒体として、ＭＤ（Mini Disc ）、ＣＤ（Compact Disc）−Ｒ（Recordable）、ＣＤ−ＲＷ（ReWritable）、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）＋ＲＷ（ReWritable）、ＤＶＤ−Ｒ（Recordable）、ＤＶＤ−ＲＷ（ReWritable）等が提案されている。これらのディスク状記録媒体のフォーマットでは、グルーブに記録するグルーブ記録フォーマットが採用されている。
【０００３】
このような各種光ディスクの製造プロセスは、一般に、ピットやグルーブ等の所望の凹凸パターンに応じた表面形状を有する、いわゆるスタンパと呼ばれる金属原盤を作製する工程と、そのスタンパの表面形状をディスク基板上に転写する成形工程、さらに記録層や保護層を形成する成膜工程から構成されている。
【０００４】
原盤製造工程では、表面を研磨したガラス基板を洗浄、乾燥した後、このガラス基板上に感光材料であるフォトレジストを塗布し、そのフォトレジストに対してレーザ光を照射してピットやグルーブのパターンを露光する方法が一般的に行われている。この露光によってフォトレジストに形成された潜像を現像することにより、ピットやグルーブのパターンに応じた凹凸パターンがフォトレジストに形成され、さらにそれを金属表面に転写して、スタンパが形成される。このようなレーザ光による露光によって凹凸パターンを記録する方法では、サブミクロンのオーダーでパターンをフォトレジスト表面に転写することが求められる。
【０００５】
ＩＳＯ（International Organization for Standardizaiton）の光磁気（MO:Magneto Optical）ディスクの各フォーマットではランド（グルーブとグルーブの間）に記録するランド記録フォーマットが提案されている。ＤＶＤ−ＲＡＭ（Digital Versatile Dis ｃ−Randaom Access Memory ）等において、光ディスクの高密度化を実現する一つの方法として、グルーブとグルーブ間（ランド）の両方に記録することにより、トラック密度を従来の２倍にして高密度化を図る方式（ランド・グルーブ記録）が提案されている。ここでグルーブとは、主にトラッキングサーボを行えるようにするために、記録トラックに沿って形成された、いわゆる案内溝のことである。光ピックアップ（読取面）からみて近い部分をグルーブと呼び、遠い部分をランドと呼ぶ。なお、グルーブとグルーブの間の部分は、ランドと称される。
【０００６】
ところが、ＤＶＤ−ＲＡＭ等のランド・グルーブ記録において、ランド記録とグルーブ記録とではフォーカス点を変えないと最適な記録ができない欠点があった。また、ＩＳＯＭ（International Symposium on Optical Memory ）２０００  Ｓｉｍｕｌａｔｉｏｎ
Ｏｆ  Ｈｅａｔ  Ｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ  Ａｎｄ  Ｃｏｎｄｕｃｔｉｏｎ  Ｏｎ  Ｌａｎｄ／Ｇｒｏｏｖｅ  Ｄｉｓｃにおいて、ランド記録とグルーブ記録において記録ビーム形状が異なる報告があり、ランド記録再生特性とグルーブ記録再生特性とを同一にすることは困難であった。
【０００７】
また、ＤＶＲ(Digital Video Recorder)で使用される光ディスクにおいて、読み取り面に近い方（ランド）の記録再生特性は良好であるが、読み取り面に遠い方（グルーブ）の記録再生特性は良好ではないという結果が得られている。グルーブとランドの両方トラックに記録再生するためには両方トラックの記録再生特性を良好でかつ均一にする必要があった。
【０００８】
さらに、レーザ光のビームスポットが小さくなっても、熱が伝播する範囲はそれほど狭まらないので、トラックピッチを小さくした分、隣接トラックへの熱伝播の影響が大きくなる。その結果、記録時に隣接トラックのデータを消してしまうおそれがあった。
【０００９】
以上の理由から、Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ（商標）等の高密度の光ディスクでは、光ピックアップから近い部分にグルーブを形成し、遠い部分にランドを形成し、グルーブ記録を行っている。図１は、高密度の光ディスクのフォーマット例えばＢｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃのフォーマットのリードインエリアとデータ記録領域との境界付近の一部を模式的に示す。
【００１０】
図１に向かって左側がディスク内周側で、右側がディスク外周側である。Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃにおいて、ＰＩＣ（Permanent Information & Control Data）領域２のピットとデータ記録領域３のグルーブは蛇行するように形成されたウォブルグルーブとされる。図１は、模式的な図であり、トラックの本数は、実際の本数を示すものではない。
【００１１】
内周のＢＣＡ（Burst Cutting Area）領域１のグルーブは、トラックピッチＴｐ１が２０００ｎｍのグルーブである。ＰＩＣ領域２のグルーブは、トラックピッチＴｐ２が３５０ｎｍの矩形ウォブルグルーブである。ＰＩＣ領域２およびデータ記録領域３のグルーブは、トラックピッチＴｐ３が３２０ｎｍのＭＳＫ（Minimum Shift Keying）信号とＳＴＷ（Saw Tooth Wobble）信号との重畳信号で形成されたウォブルグルーブである。
【００１２】
図２は、Ｂｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃの製造方法を示す。レーザカッティング装置を用い、レーザ光によりガラス原盤４１上のフォトレジスト４２が照射されることにより、グルーブおよびピットの潜像が形成される。図２Ａに示すようにガラス原盤４１に現像処理を施して、露光した部分のフォトレジスト４２を溶解させて現像を行うことにより、フォトレジスト４２がポジ型であるため凹部のグルーブがパターニングされたレジストガラス原盤が得られる。
【００１３】
次いでレジストガラス原盤の凹部グルーブパターン上に無電界メッキ法等によりニッケル皮膜でなる導電化膜層が形成された光デイスク原盤を電鋳装置に取り付け、電気メツキ法により導電化膜層上にニッケルメッキ層を形成し、凸部グルーブパターンのマスタースタンパ４３を作製する。さらに、図２Ｂに示すようにマスタースタンパ４３を元に凹凸が反転するマザースタンパ（凹部グルーブパターン）４４を作製する。
【００１４】
次いで光ディスクの作成方法は、マザースタンパ４４と、ポリカーボネート（屈折率１．５９）の透明樹脂を用いて射出成型によってディスク基板４５を作製する。ディスク基板４５の信号形成面に対して、グルーブＧｖの凹凸パターンが転写される。その後、信号形成面（凸部グルーブパターン）に、反射層、第２の誘電体層、記録層４６、第１の誘電体層を成膜し、記録層４６上に０．１ｍｍのカバー層４７を形成する。以上の工程により、Ｂｌｕ−ｒａｙ等の高密度の相変化光ディスクが完成する。
【００１５】
上述したように、マスタースタンパ４３の複製スタンパであるマザースタンパ４４を作製することによって、グルーブの凹凸パターンを逆にすることができ、図２Ｃに示すように光ピックアップ４８（読取面）に近い側に突起したグルーブＧｖを形成することができる。この技術によりグルーブ再生特性およびウォブル特性を良好にすることができる。
【００１６】
下記の特許文献１では、ガラス原盤とフォトレジストの間にクロム（Ｃｒ）層を設け、凹凸が形成されたフォトレジストをマスクとして、エッチングすることによりクロム層に凹部をパターニングすることを提案している。これによりレーザ光のスポット径よりも小さな幅を有するピットを有するガラス原盤を形成することができ、光ディスクの高密度記録を実現できることが記載されている。
【００１７】
【特許文献１】特許第２７５４７８５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
上述したように、ガラス原盤からメッキ処理で得られたマスタスタンパ４３が凹凸が反転しているために、マスタスタンパ４３から再度メッキ処理によって凹凸を反転させたマザースタンパ４４を作成し、マザースタンパを用いて射出成型することで所望のディスク基板４５を得ている。このように、マザースタンパ４４を必要とすることは、光ディスクの製造コストを上昇させる問題があった。
【００１９】
レジスト材料としてポジ型ではなく、ネガ型を使用すると、この問題を解決することができるが、現在のところ、通常使用されているポジ型レジスト材料と同等の解像度を有するネガ型のレジスト材料が得られていない。
【００２０】
したがって、この発明の目的は、マザースタンパを作製することなく、グルーブ記録再生特性およびウォブル特性が良好な光ディスク原盤の記録方法、光ディスク原盤の製造方法、光ディスク原盤、並びに光ディスクを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
上述した課題を達成するために、この発明の第１の態様は、読み取り面に対して凸形状のウォブルグルーブを有する光ディスクを製造する際に使用される光ディスク用原盤の記録方法であって、
金属基板上のレジストをウォブルグルーブに対応して露光し、露光部分を除去し、レジストのグルーブに対応する開口を金属基板上に生成することを特徴とする光ディスク原盤の記録方法である。
【００２２】
この発明の第２の態様は、読み取り面に対して凸形状のウォブルグルーブを有する光ディスクを製造する際に使用される光ディスク用原盤の製造方法であって、
金属基板上のエッチング層の上にレジストを塗布する塗布工程と、
レジストにグルーブの潜像を形成する露光工程と、
レジストを現像し、グルーブに対応する部分のレジストを除去する現像工程と、
レジストをマスクとしてエッチング層をエッチングするエッチング工程と、
残りのレジストを除去する除去工程とを有することを特徴とする光ディスク原盤の製造方法である。
【００２３】
この発明の第３の態様は、読み取り面に対して凸形状のウォブルグルーブを有する光ディスクを製造する際に使用される光ディスク用原盤であって、
レジストにグルーブの潜像を形成し、レジストを現像し、グルーブに対応する部分のレジストを除去し、
レジストをマスクとして金属基板上のエッチング層をエッチングしてグルーブに対応する凹溝が形成された光ディスク原盤である。
【００２４】
この発明の第４の態様は、読み取り面に対して凸形状のウォブルグルーブを有する光ディスクであって、
光ディスク原盤によって成型されたディスク基板上に記録膜が成膜され、記録膜上にカバー層が設けられ、
光ディスク原盤は、
レジストにグルーブの潜像を形成し、レジストを現像し、グルーブに対応する部分のレジストを除去し、
レジストをマスクとして金属基板上のエッチング層をエッチングしてグルーブに対応する凹溝が形成された光ディスク原盤を用いたことを特徴とする光ディスクである。
【発明の効果】
【００２５】
この発明は、例えばプラズマエッチングを用いて形成されたグルーブを有する金属原盤をスタンパとして用いる。この発明によれば、金属原盤をスタンパとしてディスク基板を成形することで、マザースタンパを作成する必要がない。それによってディスク製造のコストを低減できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、この発明の一実施形態について、図面を参照して説明する。一実施形態は、図１に示したようなＢｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃに対してこの発明を適用したものである。ＢＣＡ領域１における２０００ｎｍのトラックピッチＴｐ１のグルーブの配列からなるグルーブトラックと、ＰＩＣ領域２における３５０ｎｍのトラックピッチＴｐ２の矩形ウォブルグルーブの配列からなるグルーブトラックと、データ記録領域３におけるウォブリンググルーブであるグルーブトラックとが、基板表面に１つの螺旋状に連なるように形成されたものである。ＢＣＡ領域は半径ｒ＝２１．３ｍｍ〜２２．０ｍｍの間、ＰＩＣ領域は半径ｒ＝２２．４ｍｍ〜２３．２ｍｍの間、データ記録領域は半径ｒ＝２３．２ｍｍ〜５８．５ｍｍの間にそれぞれ形成される。
【００２７】
データ記録領域３のグルーブのトラックピッチＴｐ３は３２０ｎｍである。これはピッチを詰めてさらに長時間記録・再生が可能な大容量を得ることができるようにするためである。一方、ＢＣＡ領域１のグルーブのトラックピッチＴｐ１は２０００ｎｍであり充分に広くなされている。ＰＩＣ領域２のグルーブのトラックピッチＴｐ２は３５０ｎｍであり、ＰＩＣ領域２は矩形ウォブルグルーブの配列からなるグルーブトラックとされている。
【００２８】
上述した光ディスクを製造する際には、光ディスクの原盤となる光ディスク用原盤を作製する必要があり、そのためにレーザカッティング装置が使用される。以下、光ディスク用原盤の作製に使用されるレーザカッティング装置の一例について、図３を参照して説明する。
【００２９】
図３に示したレーザカッティング装置２０は、金属原盤１７の上に塗布されたポジ型のフォトレジスト２８を露光して、フォトレジスト２８にグルーブの潜像を形成するためのものである。フォトレジスト２８に潜像を形成する際、フォトレジスト２８が塗布された金属原盤１７は移動光学テーブル２７上に設けられた回転駆動装置１６に取り付けられる。そして、フォトレジスト２８を露光する際に、金属原盤１７はフォトレジスト２８の全面にわたって所望のパターンでの露光がなされるように、回転駆動装置１６によって回転駆動されると共に、移動光学テーブル２７によって平行移動される。
【００３０】
レーザカッティング装置２０は、レーザ光を出射する光源２１と、回転駆動装置１６と、スピンドルサーボ１８と、駆動用ドライバ２５と、位置センサ３０と、レーザスケール３１と、エアスライダー３２と、送りサーボ３３と、ビームエクスパンダー３４とを備えている。
【００３１】
光源２１から出射されたレーザ光は、ミラーＭ１およびミラーＭ２によって反射され、移動光学テーブル２７上に水平且つ平行に導かれる。
【００３２】
なお、光源２１には、任意のものが使用可能であるが、短波長のレーザ光を出射するものが好ましい。具体的には、例えば、波長λが２６６ｎｍのレーザ光を出射するＫｒレーザなどが好適である。
【００３３】
ミラーＭ２で反射され、移動光学テーブル２７上に水平に導かれたレーザ光は、ウェッジプリズム２３および音響光学偏向器２４によって光学偏向が施された上でビームエクスパンダー（ＢＥＸ）３４に入射する。
【００３４】
音響光学偏向器（ＡＯＤ:Acousto Optical Deflector）２４は、グルーブのウォブルに対応するように、レーザ光に対して光学偏向を施すためのものである。すなわちレーザ光は、ウェッジプリズム２３を介して音響光学偏向器２４に入射され、この音響光学偏向器２４によって、所望する露光パターンに対応するように光学偏向がなされる。ここで、音響光学偏向器２４に使用される音響光学素子としては、例えば、酸化テルル（ＴｅＯ2 ）からなる音響光学素子が好適である。音響光学偏向器２４によって光学偏向が施されたレーザ光は、ウェッジプリズム２３を介して出射される。
【００３５】
なお、ウェッジプリズム２３は、音響光学偏向器２４の音響光学素子の格子面に対してブラッグ条件を満たすようにレーザ光が入射するようにすると共に、音響光学偏向器２４によってレーザ光に対して光学偏向を施し、ビーム水平高さを変えるためのものである。
【００３６】
ここで、音響光学偏向器２４には、駆動のための駆動用ドライバ２５が接続されている。駆動用ドライバ２５には、直流電圧と共に、電圧制御発振器（ＶＣＯ：Voltage Controlled Oscillator ）２９からの高周波信号が供給される。電圧制御発振器２９には制御信号が供給される。そして、駆動用ドライバ２５によって音響光学偏向器２４が駆動され、これにより、レーザ光に対して光学偏向が施される。
【００３７】
電圧制御発振器２９に供給される制御信号として、具体的には、例えばＢＣＡ領域１のグルーブを形成する場合はゼロレベルの直流（ＤＣ）信号であり、ＰＩＣ領域２の矩形ウォブルグルーブを形成する場合はバイフェーズ変調の矩形信号である。データ記録領域３のウォブルグルーブを形成する場合は９５６．５ｋＨｚのＭＳＫ信号と１９２３ｋＨｚのＳＴＷ信号の重畳信号である。
【００３８】
ウェッジプリズム２３および音響光学偏向器２４によって光学偏向が施されたレーザ光はビームエクスパンダー（ＢＥＸ）３４に入射する。ビームエクスパンダー（ＢＥＸ）３４ではビーム径を変換することができる。
【００３９】
レーザ光はビームエクスパンダー（ＢＥＸ）３４によって所定のビーム径とされた上でミラーＭ３によって反射されて対物レンズ２６へと導かれ、対物レンズ２６によってフォトレジスト２８上に集光される。
【００４０】
フォトレジスト２８がレーザ光によって露光され、フォトレジスト２８に潜像が形成される。このとき、フォトレジスト２８が塗布されてなる金属原盤１７は、フォトレジスト２８の全面にわたって所望のパターンでの露光がなされるように、回転駆動装置１６によって回転駆動されると共に、移動光学テーブル２７によってレーザ光が径方向に移動される。この結果、レーザ光の照射軌跡に応じた潜像がフォトレジスト２８の全面にわたって形成されることになる。この発明の一実施形態ではトラックの長手方向の線速度が５．２８ｍ／ｓになるように回転駆動装置１６の回転数を制御している。
【００４１】
移動光学テーブル２７の送りピッチをＢＣＡ領域では２０００ｎｍとし、ＰＩＣ領域では３５０ｎｍとし、データ記録領域では３２０ｎｍとして露光する。なお、このレーザカッティング装置２０では、移動光学テーブル２７の位置を位置センサ３０によって検出し、それぞれの領域ごとに各々対応したタイミングおよびピッチで露光を行って、上記のようなＢＣＡ領域、ＰＩＣ領域およびデータ記録領域のグルーブパターンの潜像を金属原盤１７上のフォトレジスト２８に露光することが可能である。また、レーザスケール３１により検知される波長（例えば０．７８μｍ）を基準として、送りサーボ３３およびエアスライダー３２の動作を制御して、移動光学テーブル２７の送りピッチを瞬時に変更することが可能である。
【００４２】
ＢＣＡ領域１（半径ｒ＝２１．３ｍｍ〜２２．０ｍｍ）の間は送りピッチ２０００ｎｍであり、トラックピッチ遷移領域（半径ｒ＝２２．０ｍｍ〜２２．４ｍｍ）の間に送りピッチを２０００ｎｍから３５０ｎｍに徐々に変化させる。ＰＩＣ領域２（半径ｒ＝２２．４ｍｍ〜２３．２ｍｍ）の間は送りピッチ３５０ｎｍであり、トラックピッチ遷移領域（半径ｒ＝２３．２ｍｍ）に送りピッチを３５０ｎｍから３２０ｎｍに徐々に変化させる。データ記録領域３（半径ｒ＝２３．２ｍｍ〜５８．５ｍｍ）の間は送りピッチ３２０ｎｍでそれぞれ形成される。
【００４３】
なお、レーザ光をフォトレジスト２８の上に集光するための対物レンズ２６は、より微細なグルーブパターンを形成できるようにするために、開口数ＮＡが大きい方が好ましく、具体的には、開口数ＮＡが０．９程度の対物レンズが好適である。
【００４４】
フォトレジスト２８に潜像を形成した後、フォトレジスト２８が塗布されている面が上面となるように、金属原盤１７を現像機のターンテーブル上に載置する。そして、当該ターンテーブルを回転させることにより金属原盤１７を回転させながら、フォトレジスト２８上に現像液を滴下して現像処理を施して、金属原盤１７上にＢＣＡ領域１のグルーブとＰＩＣ領域２の矩形ウォブリンググルーブとデータ記録領域３のウォブリンググルーブにそれぞれ対応した凹凸パターンを形成する。
【００４５】
ここで、レーザカッティング装置２０による金属原盤形成方法の一例について、図４を参照しながら説明する。図４は、この発明に係る光ディスクの金属原盤の製造方法を示す模式図であり、金属原盤形成過程における原盤の断面図を表している。
【００４６】
この発明の一実施形態では、ハードディスク用のアルミニウム（Ａｌ）の基板に予めエッチング層を２００ｎｍの厚さでスパッタリングすることにより成膜がなされる構成の金属基板１２が使用される。ここではエッチング層としては、タングステン（Ｗ）、チタン（Ｔｉ）、モリブテン（Ｍｏ）等が用いられる。エッチング層がエッチングされることにより、凹凸パターンが形成された金属原盤が得られる。
【００４７】
先ず図４Ａに示すように、金属基板１２上にフォトレジスト１１を、例えば厚さ５０ｎｍで塗布した後、次に、グルーブ形状を形成すべき領域、すなわちフォトレジスト１１の表面のグルーブを形成する領域に、金属基板１２の表面まで露光するレーザパワー、例えば０．２５ｍｊ／ｍ程度のレーザ光を照射し、凹形状のグルーブのための潜像をフォトレジスト１１に形成する。
【００４８】
形成した潜像部を現像液で溶かすことで、凹凸が形成されたフォトレジスト１１を一面に有する金属基板１２が形成される。
【００４９】
次に、ＣＨＦ3 ガス等のガス雰囲気中で１回目のプラズマエッチングをフォトレジスト１１をマスクとして使用して、フォトレジスト１１の塗布面に対して行う。この結果、金属基板１２の表面が露出しているグルーブの部分においては、エッチングが進行し、金属基板１２にグルーブが形成される。その他の領域ではフォトレジストがマスクとなるためエッチングがされない。このときのグルーブの部分におけるエッチング量を２５ｎｍ程度とする。図４Ｂに示すように、エッチングにより金属基板１２にグルーブＧｖが形成される。
【００５０】
最後に、図４Ｃに示すように、Ｏ2 アッシングにより完全にフォトレジスト１１を金属基板１２から除去することにより、深さ２５ｎｍ程度のグルーブＧｖを有した光ディスクの金属基板１２が得られる。このようにして得られたグルーブ形状は、プラズマエッチングによって得られたものであるから、断面がＶ形状ではなくＵ形状となる。以上により、各領域のグルーブＧｖにそれぞれ対応した凹凸パターンが形成された金属基板１２が完成する。
【００５１】
光ディスクの作製方法は凹凸パターンが形成された金属基板１２を直接、スタンパとして用い、ポリカーボネート（屈折率１．５９）の透明樹脂で射出成型によって厚みが１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍのディスク基板１３を作製する。もちろんディスク基板１３の材料としてポリメチルメタクリレート等の透明樹脂を用いても良い。またフォトポリマー法（photo polymerization法、いわゆる２Ｐ法）を用いて、ディスク基板を作製しても良い。このとき図４Ｃに示すようにディスク基板１３の信号形成面に金属基板１２の表面形状である凹凸パターンが転写される。
【００５２】
次に成膜工程として従来の光ディスクの製造方法と同様に金属基板１２の表面形状が転写されてなるディスク基板１３に記録層およびカバー層を形成する。具体的には例えば、先ず、ディスク基板１３の凹凸パターンが形成された面上に、スパッタリング装置等を用いて、銀合金等（ＡｇＮｄＣｕ）からなる光反射膜、硫化亜鉛と酸化シリコン混合（ＺｎＳ・ＳｉＯ2 ）等からなる第１の誘電体膜、ゲルマニウム・アンチモン・テルル合金（ＧｅＳｂＴｅ）等からなる相変化記録層、硫化亜鉛と酸化シリコン混合（ＺｎＳ・ＳｉＯ2
）等からなる第２の誘電体膜の順に成膜する。
【００５３】
その結果、第２の誘電体膜、相変化記録層、第１の誘電体膜および光反射膜からなる記録層がディスク基板１３上に形成される。その後、記録層上に基板の全体をほぼ覆うように、厚みが０．１ｍｍ程度の粘着性シート（ＰＳＡ）を貼り合わせてカバー層が形成される。以上の工程により、光ディスクが完成する。
【００５４】
また、別の方法として紫外線硬化樹脂がスピンコート法等により平滑に塗布され、紫外線硬化樹脂に対して紫外線を照射し硬化させることにより、カバー層を形成することも可能である。
【００５５】
つぎに、上述のような製造方法によって評価用光ディスクを複数作製し、それらの評価を行った結果について説明する。評価作業は、（波長λ＝４０６ｎｍ、ＮＡ＝０．８５）の光ピックアップを備えるＢｌｕ−ｒａｙ  Ｄｉｓｃ評価機を用いてなされる。
【００５６】
評価用光ディスクとして、金属基板のエッチング層としてタングステン（Ｗ）を用いて作製された光ディスクを光ディスクＡ、エッチング層としてチタン（Ｔｉ）を用いて作製された光ディスクを光ディスクＢ、エッチング層としてモリブテン（Ｍｏ）を用いて作製された光ディスクを光ディスクＣとする。それぞれのディスク基板の厚さは１．１ｍｍで、カバー層の厚さは０．１ｍｍとする。
【００５７】
評価作業では、上記３種類の光ディスクのウォブルグルーブ部（読み取り面に近い記録領域）に１−７変調（ＲＬＬ（１，７））で記録および再生を行い、記録再生特性を評価する。
【００５８】
光ディスクＡ、光ディスクＢ、光ディスクＣのジッタ−はそれぞれ７．９％、８．１％、８．０％となり、良好な記録再生特性を実現できる。さらに、ウォブルグルーブのウォブルアドレス情報を安定に再生することができる。また、ＰＩＣの矩形ウォブルグルーブのウォブル信号の再生は、ジッタ−３．４％程度で再生が可能であり、良好な再生特性を実現できる。
【００５９】
ＰＩＣ領域の矩形ウォブルグルーブ，ＭＳＫ信号とＳＴＷ信号との重畳信号によるウォブルグルーブとが混在するグルーブ記録フォーマットを用い、ランド・グルーブ記録のトラック密度と同等の高密度化を図った場合（上記のグルーブ記録フォーマットでいえば記録密度を２倍にした場合）、フォーカス点を変えることなく、ランド・グルーブ記録と同等の記録密度を実現できる。また読み取り面に近い記録領域のみに記録再生を行う場合において、上記グルーブ記録フォーマットの記録再生特性をランド・グルーブ記録フォーマットの記録再生特性と同等にすることができる。
【００６０】
以上より、マザースタンパを用いることなく、プラズマエッチングで得られた金属原盤をスタンパとして用いることにより、ＰＩＣの矩形ウォブルグルーブのＰＩＣウォブル信号の良好な再生、ウォブルグルーブ部の良好な記録再生特性およびウォブルアドレス情報を安定に再生実現でき、記録密度を大幅に向上することが可能となる。
【００６１】
この発明は、上述したこの発明の一実施形態に限定されるものでは無く、この発明の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能である。この発明は、記録トラックに沿ってグルーブが形成されてなる光記録媒体、並びにその製造に使用される光記録媒体製造用原盤に対して広く適用可能であり、この発明の対象となる光記録媒体は、例えば、再生専用の光記録媒体、繰り返しデータの書き換えが可能な光記録媒体、或いはデータの追記は可能だか消去はできないような光記録媒体のいずれでもよい。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】この発明を適用できる高密度光ディスクのフォーマットの一例を模式的に示す略線図である。
【図２】従来の高密度光ディスクの製造方法の一例を示す略線図である。
【図３】この発明に係る光ディスクおよび光ディスク用原盤を作製する際に使用されるレーザカッティング装置の一例の構成を示す略線図である。
【図４】この発明に係る光ディスクの原盤の製造方法の一実施形態の説明に用いる略線図である。
【符号の説明】
【００６３】
１  ＢＣＡ領域
２  ＰＩＣ領域
３  データ記録領域
Ｇｖ  グルーブ
１１  フォトレジスト
１２  金属基板
１３  ディスク基板
１６  回転駆動装置
１７  金属原盤
１８  スピンドルサーボ
２１  光源
【図１】
2005203050.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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