(57)【要約】  【課題】  スラリーの侵入を抑制できる軸受部のスラリー排出装置を提供する。  【解決手段】スラリー排出装置Ａの非回転環状体２の内周側と回転軸Ｊの外周側との間に所定の隙間をあけて軸間通路３０を形成し、その外周側と回転環状体１の内周側との間に所定の隙間をあけて環間通路３２を形成し、その下端面において、支持リング４との間に所定の隙間をあけて底部通路３１を形成する。回転環状体１は中央リング１０とホルダーリング１５とを有し、中央リング１０の内周側には円周溝１１が複数個設けられており、該円周溝１１に連通する孔１２が内周から外周に貫通して設けられている。環間通路３２に侵入した微小異物５１は、回転する中央リング１０の遠心力により円周溝１１から孔１２を通り、隙間１３側に排出され、更に回転するホルダーリング１５の遠心力により排出孔１６を通ってスラリー液Ｘ側に排出される。【選択図】  図１
2005226755.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケーシング側に設けられた回転軸の軸受部の近傍に設けられるスラリー排出装置であって、
前記ケーシング側に回転軸と所定の第１の隙間をあけて設けられた非回転環状体と、
該非回転環状体の外周側に該非回転環状体の外周と所定の第２の隙間をあけて設けられ、回転軸と共に回転する回転環状体と、
前記回転環状体の内周側に設けられた円周溝と、
該円周溝に連通し、且つ回転環状体の外周側に連通する孔と、
を備えたスラリー排出装置。
【請求項２】
前記回転環状体が半径方向に遊動可能である、
請求項１に記載のスラリー排出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、軸受部のスラリー排出装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
排水ポンプなどにおいて、ポンプの液中に設けられている回転軸と軸受の間に土砂などのスラリーが侵入して、軸受部が摩耗を生じ、これが原因となって軸振れが増大し、シール漏れや短寿命化を招く問題があった。
そのため、軸受部の近傍に異物防止リングを装着し、回転軸と該異物防止リングとの隙間を軸受部との隙間よりも狭くすることにより、スラリーの侵入防止効果を図ったポンプが提案されている。（特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−３４３４７４
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、単に異物防止リングを設けただけでは、スラリー防止効果は十分ではない。また回転軸との間を非常に狭くしているため、当該部分の摩耗が激しく、これを防止するためには軸上に超硬合金スリーブを設ける必要などがあり、コストが高くなる、等の問題があった。
本発明は上記従来技術の問題を解決することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明は、ケーシング側に設けられた回転軸の軸受部の近傍に設けられるスラリー排出装置であって、前記ケーシング側に回転軸と所定の第１の隙間をあけて設けられた非回転環状体と、該非回転環状体の外周側に該非回転環状体の外周と所定の第２の隙間をあけて設けられ、回転軸と共に回転する回転環状体と、前記回転環状体の内周側に設けられた円周溝と、該円周溝に連通し、且つ回転環状態の外周側に連通する孔と、を備えたことを特徴とする。
上記構成においては、前記第１と第２の隙間によりスラリーの侵入が阻止され、更に第１の隙間に侵入した微小異物は円周溝から孔を通って、回転環状体の外部に排出される。そのため、軸受部へのスラリーの侵入が抑制される。
前記回転環状体は半径方向に遊動可能とすることが望ましく、この構成により軸振れが生じても非回転環と激しく当たることがなく、摩擦が軽減されるから、前記第２の隙間を小さくでき、しかも摩耗が少ない、等の効果がある。
【発明の効果】
【０００６】
本発明のスラリー排出装置によれば、軸受部へのスラリー侵入を抑制する効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
図１において、回転軸ＪはケーシングＣに装着された軸受部Ｂに支持されて回転するようになっている。
軸受部Ｂのスラリー液Ｘ側にはスラリー排出装置Ａが設けられており、軸受部Ｂへのスラリー液Ｘの侵入を抑制するようになっている。
【０００８】
スラリー排出装置Ａは回転環状体１と非回転環状体２とを有する。非回転環状体２はケーシングＣに連続して図１において下方に延出する筒状部であり、非回転である。非回転環状体２は別体としても良い。非回転環状体２は、その内周側と回転軸Ｊの外周側との間に所定の隙間をあけて第１の隙間である軸間通路３０を形成し、且つその外周側と回転環状体１の内周側との間に所定の隙間をあけて第２の隙間である環間通路３２を形成している。この環間通路３２は回転軸Ｊと軸受部Ｂの間の隙間よりも狭くしてある。更にその下端面において、支持リング４との間に所定の隙間をあけて底部通路３１を形成している。上記軸間通路３０と底部通路３１と環間通路３２及び後述する上部通路３３により曲がり通路３を構成するようになっている。
【０００９】
回転環状体１は回転軸Ｊに装着された支持リング４に支持されており、回転軸Ｊと共に回転するようになっている。
回転環状体１は中央リング１０とホルダーリング１５とを有し、これらが支持リング４に支持されている。
【００１０】
支持リング４は断面Ｌ字状であり、一辺が回転軸Ｊに固定されたリング部４０であり、他辺が半径方向に突出した突出部４１となっており、突出部４１に中央リング１０とホルダーリング１５の下端面を当接させて装着してある。
【００１１】
ホルダーリング１５は突出部４１にボルトなどにより固定され、中央リング１０は非固定で半径方向に遊動可能となっている。中央リング１０を半径方向に遊動可能とすることにより、軸振れ等による非回転環状体２への激しい接触が防止でき、摩耗を軽減する効果がある。
ホルダーリング１５は半径方向中心方向に突出する突出部１８を有しており、中央リング１０の上端面の上に覆い被さり、ここに装着された係止ピン１７により中央リング１０を係止し、中央リング１０を回転軸Ｊと共に回転させるように構成されている。
突出部１８とケーシングＣの下端面との間が上部通路３３となっている。
【００１２】
ホルダーリング１５の内周側と中央リング１０の外周側の間には隙間１３が設けられている。またホルダーリング１５には排出孔１６が設けられ、該隙間１３とスラリー液Ｘとを連通している。
【００１３】
中央リング１０の内周側には図２に示すように円周溝１１が複数個設けられており、該円周溝１１に連通する孔１２が内周から外周に貫通して設けられている。孔１２は環間通路３２と隙間１３を連通している。
【００１４】
以上の構成において、スラリー液Ｘの異物５０が環間通路３２まで侵入しても、環間通路３２より大きな異物５０はここで排除される。環間通路３２に侵入した微小異物５１は、回転する中央リング１０の遠心力により円周溝１１から孔１２を通り、隙間１３側に排出され、更に回転するホルダーリング１５の遠心力により排出孔１６を通ってスラリー液Ｘ側に排出される。
以上の動作により、スラリー液Ｘの異物が軸受部Ｂ近傍に侵入することを抑制できる。
また、中央リング１０は半径方向に拘束されておらず、遊動可能であるから、非回転環状体２と激しく接触することがなく、摩耗が生じにくい。そのため、超硬合金等を使用する必要がなく、低コスト化が図れる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の一実施形態を示す概略半断面図。
【図２】図１の部分拡大図。
【符号の説明】
【００１６】
１：回転環状体、２：非回転環状体、３：曲がり通路、４：支持リング、１０：中央リング、１１：円周溝、１２：孔、１３：隙間、１５：ホルダーリング、１６：排出孔、１７：係止ピン、１８：突出部、３０：軸間通路、３１：底部通路、３２：環間通路、３３：上部通路、４０：リング部、４１：突出部、５０：異物、５１：微小異物。
【図１】
2005226755.tif 000003
【図２】
2005226755.tif 000004