(57)【要約】【課題】装置を大型化せず、高精度な位置決めが可能なステージ装置の提供。【解決手段】レチクル６Ａを保持するスライダ５４と、スライダ５４を移動及び位置決め可能に保持するステージ定盤５１とを備え、レチクル６Ａを保持する保持面５４ａが鉛直下方に向くように、スライダ５４をステージ５１の鉛直下面に吸引保持した。【選択図】      図２
2005116627.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体を移動及び位置決めするステージ装置において、前記物体を保持するスライダと、前記スライダを定盤に対して駆動する駆動部を備え、前記スライダを前記定盤に対して静圧軸受と与圧磁石により吊り下げた状態で支持することを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記駆動部を保持して前記駆動部に作用する反力を打ち消すカウンタ部を備え、前記カウンタ部を前記定盤に対して静圧軸受と与圧磁石により吊り下げた状態で支持することを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記磁石の吸引力をFm、前記ステージの自重をFg、前記静圧軸受の発生圧力をFaとすると、Fm=Fa+Fgの関係を満たすことを特徴とする請求項２に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記磁石の吸引力と前記静圧軸受の発生圧力とを調整する調整手段を更に備えることを特徴とする請求項２又は３に記載のステージ装置。
【請求項５】
前記静圧軸受の前記定盤に対する浮上量を計測する計測手段を更に備えることを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項６】
前記スライダを前記定盤に対して前記第２の方向に電磁的に駆動するガイド部を更に備えることを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１項に記載のステージ装置。
【請求項７】
前記ガイド部は、断面がコの字状で前記第１の方向に延びる第１のコア部と、当該第１のコア部を中心としてその両側に対向配置される第２のコア部とを備え、当該第１のコア部の凹状空間に通電のためのケーブル及びコネクタを配置したことを特徴とする請求項６に記載のステージ装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載のステージ装置を備え、当該ステージ装置を用いて原版を基板に対して相対的に移動及び位置決めすることによって原版に描かれたパターンを基板に露光することを特徴とする露光装置。
【請求項９】
請求項８に記載の露光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、工作機械や半導体製造工程に用いられる露光装置において、被測定物や、ウエハ、レチクル等の被加工物等の物体を位置決めするステージ装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図６は、従来例のステージ装置の概略構成図であり、半導体製造時においてレチクルを位置決めするためのレチクルステージの構成を例示したものである（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
図６に示すレチクルステージは、ステージ定盤１０１における基準面となる鉛直上面に配置されており、軸受１０３を介してガイド１０２に対向して配置されて、進行方向Ｘ及び進行方向Ｘと直角（ヨーイング）方向Ｙに案内される。軸受１０３としては、転がり軸受や摺動軸受などが用いられるが、高精度に姿勢を維持する場合には静圧軸受などが用いられる。
【０００４】
スライダ１０４の水平方向両側には可動磁石１０７が配置されており、可動磁石１０７に対向配置されるモータコイル１０８に電流が通電されるとスライダ１０４が進行方向に駆動される。レチクルステージなどでは、高加速度で駆動される場合が多いため、図示のようにモータコイル１０８側がカウンタマス１０６として構成される場合が多い。カウンタマス１０６も同様に、軸受１０３を介してステージ定盤１０１上に配置されており、ステージ定盤上においてスライダ１０４とは反対方向に駆動されることで反力を打ち消し、ステージ装置外部への振動を抑えることができる。
【０００５】
光源１０９に光(ｉ線、KrF等)を使った半導体露光装置の場合には、透過型のレチクル１０５をスライダ１０４上に搭載し、上方から光を照射することでレチクル１０５上の回路パターンをウエハに転写する。
【０００６】
近年、次世代の露光技術として光源にＥＵＶ(極紫外)光を用いた露光装置が注目されている。このようなＥＵＶ光を用いた露光の場合には、図７に示すようにスライダ１０４の鉛直下面に反射型レチクルが搭載された構成になると考えられる。
【特許文献１】特開2000-77503公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、上記ＥＵＶ光を用いる露光装置では、スライダ１０４の下面にレチクル１０５が配置される構成となるため、水平方向に対して斜めに入射されるＥＵＶ光をレチクル１０５の反射面に照射するためには、ステージ定盤１０１に光を通す大きな開口部を設ける必要がある。
【０００８】
しかしながら、図７に示す構成では、光路とステージ定盤１０１が干渉するため、この干渉を回避させるためにはカウンタマス１０６を更に外側に離して配置する必要があるため、ステージ装置が大型化する要因となる。
【０００９】
また、ステージ定盤１０１に開口部を設けた構成では、ステージ定盤１０１の剛性不足による変形が懸念され、スライダ１０４が高加速度で駆動されることによってステージ定盤１０１が変形し、その結果ガイド面が変形してステージの姿勢を維持できず高精度な位置決めを達成することは困難となってしまう。
【００１０】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、装置を大型化せず、高精度な位置決めが可能で、例えば、露光光を反射型原版で反射させて露光する露光装置に適用した場合に、光路上に干渉物がなく、光路を確保するための開口部等の形状部を設ける必要もないステージ装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上述の課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係るステージ装置は、物体を移動及び位置決めするステージ装置において、前記物体を保持するスライダと、前記スライダを定盤に対して駆動する駆動部を備え、前記スライダを前記定盤に対して静圧軸受と与圧磁石により吊り下げた状態で支持する。
【００１２】
また、好ましくは、前記駆動部を保持して前記駆動部に作用する反力を打ち消すカウンタ部を備え、前記カウンタ部を前記定盤に対して静圧軸受と与圧磁石により吊り下げた状態で支持する。
【００１３】
また、好ましくは、前記磁石の吸引力をFm、前記ステージの自重をFg、前記静圧軸受の発生圧力をFaとすると、Fm=Fa+Fgの関係を満たす。
【００１４】
また、好ましくは、前記磁石の吸引力と前記静圧軸受の発生圧力とを調整する調整手段を更に備える。
【００１５】
また、好ましくは、前記静圧軸受の前記定盤に対する浮上量を計測する計測手段を更に備える。
【００１６】
また、好ましくは、前記スライダを前記定盤に対して前記第２の方向に電磁的に駆動するガイド部を更に備える。
【００１７】
また、好ましくは、前記ガイド部は、断面がコの字状で前記第１の方向に延びる第１のコア部と、当該第１のコア部を中心としてその両側に対向配置される第２のコア部とを備え、当該第１のコア部の凹状空間に通電のためのケーブル及びコネクタを配置した。
【００１８】
また、本発明の露光装置は、上記いずれかのステージ装置を備え、当該ステージ装置を用いて原版を基板に対して相対的に移動及び位置決めすることによって原版に描かれたパターンを基板に露光する。
【００１９】
また、本発明は、上記露光装置を用いてデバイスを製造するデバイス製造方法にも適用できる。
【発明の効果】
【００２０】
以上説明したように、本発明によれば、装置を大型化せず、高精度な位置決めが可能で、例えば、露光光を反射型原版で反射させて露光する露光装置に適用した場合に、光路上に干渉物がなく、光路を確保するための開口部等の形状部を設ける必要もないステージ装置を構成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下に、本発明に係る実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。
【００２２】
［露光装置］
図１は、本実施形態のステージ装置を搭載する露光装置の概略構成を示す図である。
【００２３】
図１において、１は励起レーザであり、光源の発光点となる光源材料をガス化、液化或いは噴霧ガス化させたポイントに向けてレーザを照射して、光源材料原子をプラズマ励起することにより極紫外光としてのＥＵＶ光を発光させる。本実施形態では、励起レーザ１としてＹＡＧ固体レーザ等を用いる。
【００２４】
２は光源発光部であり、その内部は真空に維持された構造を持つ。ここで、２Ａは光源であり、実際の発光ポイントを示す。光源２Ａの周囲には光源ミラーが設けられ、光源２Ａからの全球面光を発光方向に揃え集光反射し、露光光を生成する。光源ミラーは、光源２Ａの位置を中心とした半球面状のミラーとして配置される。不図示のノズルから発光元素としての液化Ｘｅ、噴霧状の液化ＸｅあるいはＸｅガスを光源２Ａの位置に配置させる。
【００２５】
３は環境チャンバとしての真空チャンバであり、露光装置全体を格納する。４は真空ポンプであり、真空チャンバ内３を排気して真空状態を維持する。５は露光光導入部であり光源発光部２からの露光光を導入成形する。露光光導入部５は、ミラー５Ａ〜５Ｄにより構成され、露光光を均質化かつ整形する。
【００２６】
６はレチクルステージであり、レチクルステージ６上の可動部には露光パターンの反射原板である原板としての反射型レチクル（又はマスク）６Ａが搭載されている。７は投影系である投影レンズとしての縮小投影ミラー光学系であり、レチクル６Ａで反射した露光光により形成される露光パターンをウエハ８Ａ上に縮小投影する。縮小投影ミラー光学系７では、露光光がミラー７Ａ，７Ｂ，７Ｃ（レチクル６Ａ側），７Ｄ，７Ｅ，７Ｃ（ウエハ８Ａ側）の順で投影反射され、最終的に規定の縮小倍率比でウエハ８Ａ上に露光パターンの像が縮小投影される。
【００２７】
光源発光部２からの露光光を導入成形する露光光導入部５のミラー５Ａ〜５Ｄ及び縮小投影ミラー光学系７のミラー７Ａ〜７Ｅは、Ｍｏ−Ｓｉの多層膜を蒸着あるいはスパッタにより形成した反射面を有し、それぞれの反射面で光源からの露光光を反射するものである。
【００２８】
８はウエハステージであり基板としてのウエハ８Ａを搭載する。ウエハ８Ａはマスク６Ａ上の露光パターンの像が反射縮小投影されて露光されるＳｉ基板である。ウエハステージ８はウエハ８Ａを所定の露光位置に位置決めするために、Ｘ，Ｙ，Ｚの各軸、Ｘ軸回り及びＹ軸回りのチルト（ωｘ，ωｙ）、Ｚ軸回りの回転（θ）方向の６軸駆動可能に位置決め制御される。
【００２９】
９は真空チャンバ３内に配置されているマスクステージ支持体であり、マスクステージ６のマスクステージ定盤を真空チャンバ３内に配置されている除振機構としての除振マウント９１を介して支持する。マスクステージ支持体９は真空チャンバ３の床に対して固定されているが、この構成に限るものではなく、真空チャンバ３を含む露光装置全体を設置する設置床から支持するようにしても良い。
【００３０】
除振マウント９１は気体としての空気を利用したダンパまたはアクチュエータを含み、マスクステージ６のマスクステージ定盤とマスクステージ支持体９を振動的に絶縁している。
【００３１】
８５は真空チャンバ３内に配置されている鏡筒定盤支持体〈複数〉であり、縮小投影ミラー光学系７の鏡筒を保持する鏡筒定盤１０を真空チャンバ３内に配置されている除振装置としての除振マウント５１を介して支持する。鏡筒定盤支持体８５は真空チャンバ３の床に対して固定されているが、この構成に限るものではなく、真空チャンバ３を含む露光装置全体を設置する設置床から支持するようにしても良い。
【００３２】
除振マウント５１は気体としての空気を利用したダンパまたはアクチュエータを含み、鏡筒定盤１０と鏡筒定盤支持体８５を振動的に絶縁している。
【００３３】
１１は真空チャンバ３内に配置されている除振装置としての除振マウントであり、真空チャンバ３の床に対して固定されているウエハステージ支持体〈不図示〉に対してウエハステージ８のウエハステージ定盤を支持する。ウエハステージ支持体は真空チャンバ３の床に対して固定されているが、この構成に限るものではなく、真空チャンバ３を含む露光装置全体を設置する設置床から支持するようにしても良い。
【００３４】
除振マウント１１は気体としての空気を利用したダンパまたはアクチュエータを含み、ウエハステージ定盤とウエハステージ定盤支持体を振動的に絶縁している。
【００３５】
図１に示すように、除振マウント９１，５１，１１により、レチクルステージ６（及び／またはマスクステージ定盤）、縮小投影ミラー光学系７（及び／または鏡筒定盤１０）、ウエハステージ８（及び／またはウエハステージ定盤）のそれぞれは、真空チャンバ３または設置床に対して振動的に絶縁された状態で真空チャンバ３内に位置する。また、レチクルステージ６（及び／またはレチクルステージ定盤）、縮小投影ミラー光学系７（及び／または鏡筒定盤１０）、ウエハステージ８〈及び／またはウエハステージ定盤〉のそれぞれは、除振マウント９１，５１，１１により分離独立して支持され、互いに対しても振動的に絶縁されている。
【００３６】
なお、図１の露光装置は、レチクル６Ａのパターンの像を縮小投影ミラー光学系７を介してウエハ８Ａ上の領域に投影露光する際、レチクルステージ６とウエハステージ８を図の矢印方向に同期を取りながら移動して走査露光するものである。また、この装置はウエハ８Ａ上の各領域をステップ移動と走査露光を繰り返しながら順に露光していくためステップアンドスキャン型と一般に呼ばれている。
【００３７】
１２はレチクルストッカーであり、装置（真空チャンバ３）外部から一旦装置内部にマスク６Ａを保管するものである。レチクルストッカー１２では、保管容器に密閉状態で異なるパターン及び異なる露光条件に合わせた複数のマスクが保管される。１３はレチクルチェンジャーであり、レチクルストッカー１２から使用すべきマスクを選択して搬送する。
【００３８】
１４はレチクルアライメントユニットであり、Ｘ，Ｙ，Ｚ及びＺ軸周り（θ）に回転可能な回転ハンドを有する。レチクルアライメントユニット１４は、レチクルチェンジャー１３からレチクル６Ａを受け取り、レチクルステージ６の端部に設けられたレチクルアライメントスコープ１５の視野内に１８０度回転搬送し、縮小投影ミラー光学系７を基準に設けられたアライメントマークに対してレチクル６ＡをＸ，Ｙ，Ｚ軸回転（θ）方向に微動してアライメントする。即ち、ＸＹシフト方向及びＺ軸回転（θ）方向にレチクル６Ａを微動調整することにより、縮小投影ミラー光学系７を基準に設けられたアライメントマークに対してレチクル６Ａ内のアライメントマークを合わせる。こうして、レチクルステージにレチクル６Ａを固定する際に、投影系基準としての縮小投影ミラー光学系７にレチクル６Ａがアライメントされる。アライメントを終了したレチクル６Ａはレチクルステージ６上にチャッキングされる。
【００３９】
１６はウエハストッカーであり、装置（真空チャンバ３）外部から一旦装置内部にウエハ８Ａを保管する。ウエハストッカー１６では、保管容器に複数枚のウエハが保管されている。１７はウエハ搬送ロボットであり、ウエハストッカー１６から露光処理するべきウエハを選定し、ウエハメカプリアライメント温調機１８に運ぶ。ウエハメカプリアライメント温調機１８は、ウエハ８Ａの回転方向の送り込み粗調整を行うと同時に、ウエハ温度を露光装置内部の温調温度に合わせ込む。１９はウエハ送り込みハンドであり、ウエハメカプリアライメント温調機１８にてアライメント及び温調されたウエハをウエハステージ８に送り込む。
【００４０】
２０及び２１はゲートバルブであり、装置（真空チャンバ３）外部からレチクル及びウエハを挿入するゲート開閉機構である。２２も同じくゲートバルブで、装置内部でウエハストッカー１６及びウエハメカプリアライメント温調機１８の空間と露光空間とを隔壁で分離し、ウエハを搬入または搬出〈搬送と総称する〉するときにのみ開閉する。このように、隔壁で分離することにより、装置外部との間でウエハを搬送する際に、大気開放される容積を最小限にし、速やかに真空平行状態に戻すことを可能にしている。
【００４１】
［ステージ装置（レチクルステージ）］
図２は本実施形態のステージ装置の概略構成図であり、図３は図１のステージ装置をＹ方向から見た側面図であり、図４は図１のステージ装置を下方から見た図である。
【００４２】
図２乃至図４に例示するステージ装置は、上述した露光装置に搭載されたレチクルステージ６として構成され、ステージ定盤５１における基準面となる鉛直下面５１ａに吊り下げられるように配置され、スライダ５４におけるレチクル６Ａを保持するステージ面５４ａが鉛直下方（ステージ定盤５１の鉛直下面５１ａに平行なＸＹ平面に垂直なＺ方向）に向くように、ステージ定盤５１の鉛直下面５１ａに非接触の状態で与圧磁石６４の吸引力によって保持されている。
【００４３】
具体的には、ステージ装置は、原版としてのレチクル６Ａを保持するスライダ５４と、このスライダ５４を互いに直交する第１の方向（ステージ定盤５１の鉛直下面５１ａに平行なＸ方向）及び第２の方向（ステージ定盤５１の鉛直下面５１ａに平行なＸ方向に垂直なＹ方向）に駆動する駆動部としての可動磁石５７及びモータコイル５８と、このモータコイル５８を保持すると共に、可動磁石５７の駆動時にモータコイル５８に作用する反力を打ち消すカウンタ部としてのカウンタマス５６とを備える。
【００４４】
可動磁石５７は、スライダ５４におけるＹ方向の両端部から延びるアーム部の各先端に設けられ、この可動磁石５７に対向するように上下にモータコイル５４が配置されており、モータコイル５８に電流を通電することによってスライダ５４がＸ方向に駆動される。
【００４５】
スライダ５４におけるＹ方向の両端部にはフット部６０が設けられ、このフット部６０の上面に設けられた静圧軸受５３によってスライダ５４をステージ定盤５１の鉛直下面５１ａに非接触の状態で軸支する。また、カウンタマス５６は、その上面に設けられた静圧軸受５３によりステージ定盤５１に対して軸支される。
【００４６】
また、上記フット部６０及びカウンタマス５６の各上面には、上記静圧軸受５３に隣接して与圧磁石６４が設けられ、この与圧磁石６４の磁力による吸引力によって、スライダ５４及びカウンタマス５６が各々の自重により落下しないようにステージ定盤１１の鉛直下面１１ａに対して吸引保持されている。
【００４７】
上記ステージ装置を露光装置のレチクルステージ６に適用する際には、高加速度で駆動されることが多いため、本実施形態のようにモータコイル５８側をカウンタマス５６として構成する場合が多い。カウンタマス５６は与圧磁石６４によりステージ定盤５１に吸引保持されつつ、ステージ定盤５１の鉛直下面５１ａに対してスライダ５４とは反対方向に駆動されることで反力を打ち消している。
【００４８】
スライダ５４の上面には、フット部６０で挟み込むようにガイド部６１，６２が設けられ、スライダ５４をステージ定盤５１に対してＹ方向（ヨーイング方向）に電磁的に駆動する。このガイド部は、断面がコの字状でＸ方向に延び、その凹状部分が下方に向くようにステージ定盤５１に取り付けられた第１のコア部としての電磁ガイドＩコア６２と、この電磁ガイドＥコア６２を中心として当該コア６２の側壁部６２ａの両側に対向配置される第２のコア部としてのコイルが巻線された電磁ガイドＥコア６１とを備え、上記電磁ガイドＩコア６２の凹状空間６２ｂに通電のための実装ケーブル６５及びコネクタ６３が配置されている。
【００４９】
実装ケーブル６５は、図３に示すように、電磁ガイドＩコア６２の凹状空間に配置されたコネクタ６３から引き出され、スライダ５４に対して外乱とならないようにループを作ってステージ定盤５１に配置されたコネクタ６３に接続される。
【００５０】
また、図４に示す如く、電磁ガイドＩコア６２はステージ定盤５１のＹ方向の中心部に配置され、実装ケーブル６５も同様に中心部に配置される。スライダ５４はヨーイングを除きＸ方向の一軸に駆動されるのでケーブル６５を中心に配置することで、ケーブルの外力によるθ外乱がスライダ５４に伝わりにくい構造となっている。
【００５１】
上記構成を有するステージ装置は、光源発光部２からＥＵＶ光が照射され、反射型レチクル６Ａを移動及び位置決めするＥＵＶ露光装置に搭載されることが望ましい。つまり、ＥＵＶ光の光路上に当該光路を遮る物がないため、従来のようにＥＵＶ露光装置にて光源発光部２から照射されたＥＵＶ光の光路とステージ定盤５１とが干渉することがなくなり、スライダ５４に搭載されたレチクル６Ａの回路パターンを不図示のウエハ上に精度良く転写することができる。
【００５２】
更に、ステージ定盤５１に開口部等の形状部を設ける必要もなく、装置を大型化せず、高精度な位置決めが可能になる。
【００５３】
図５はスライダ及びカウンタマスを軸支する静圧軸受部分の構成を説明する図である。
【００５４】
ステージ装置は真空雰囲気等での使用が想定されており、静圧軸受５３は、外部の気体供給源（不図示）から気体（或いはそれに類する流体）が供給されてステージ定盤５１の鉛直下面５１ａとの間に所定圧力の気体を送り込むことによりスライダ５４及びカウンタマス５６（スライダ５４も同様）を非接触の状態で中立浮上させて軸支する。
【００５５】
静圧軸受（パッド）５３で発生する下方（ステージ定盤１から離間する方向）への圧力Faはその供給圧に依存しており、精密レギュレータなどの圧力調整機構６７により調整可能である。与圧磁石６４はステージ定盤５１に吸引力Fmを発生させるが、磁石の吸引力はスペーサなどからなる高さ調整機構６６によりステージ定盤５１との間の隙間を変化させることで調整可能である。また、スライダ５４及びカウンタマス５６には自重による落下方向への力Fgが作用する。
【００５６】
上記圧力調整機構７７は、与圧磁石６４の吸引力Fmと静圧軸受５３の発生圧力Faとを調整すべく、Fm=Fa+Fgの関係を保持しつつ静圧軸受の浮上量（ギャップ）を数umに合わせこむ必要がある。このため、スライダ５４に変位センサ６８を設け、スライダ５４とステージ定盤５１間の距離を測定しながら圧力Faを調整することで、最適な浮上量に調整することが可能となる。
【００５７】
ＥＵＶ露光装置に適用されるステージ装置は真空チャンバー内に配置されるが、排気溝付の静圧軸受パットを採用することで高真空環境にも対応できる。
【００５８】
なお、上述したステージ装置は、半導体製造工程に投入される露光装置に限らず、被測定物を移動して位置決めする工作機械などにも適用可能である。
【００５９】
［デバイス製造方法］
次に、この露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。
【００６０】
図８は半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップＳ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップＳ２（マスク作製）では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。
【００６１】
一方、ステップＳ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップＳ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップＳ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップＳ５によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップＳ６（検査）ではステップＳ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、ステップＳ７でこれを出荷する。
【００６２】
上記ステップＳ４のウエハプロセスは以下のステップを有する。ウエハの表面を酸化させる酸化ステップ、ウエハ表面に絶縁膜を成膜するＣＶＤステップ、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する電極形成ステップ、ウエハにイオンを打ち込むイオン打ち込みステップ、ウエハに感光剤を塗布するレジスト処理ステップ、上記の露光装置によって回路パターンをレジスト処理ステップ後のウエハに転写する露光ステップ、露光ステップで露光したウエハを現像する現像ステップ、現像ステップで現像したレジスト像以外の部分を削り取るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト剥離ステップ。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本実施形態のステージ装置を搭載する露光装置の概略構成を示す図である。
【図２】本実施形態のステージ装置の概略構成図である。
【図３】図２のステージ装置をＹ方向から見た側面図である。
【図４】図２のステージ装置を下方から見た図である。
【図５】スライダ及びカウンタマスを軸支する静圧軸受部分の構成を説明する図である。
【図６】従来技術としてのステージ装置の概略構成図である。
【図７】従来技術としてのステージ装置の概略構成図である。
【図８】半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。
【符号の説明】
【００６４】
２  光源発光部
６  レチクルステージ
７  縮小ミラー投影光学系
８  ウエハステージ
１０  鏡筒定盤
５１  ステージ定盤
５３  静圧軸受
５４  スライダ
５６  カウンタマス
５７  可動磁石
５８  モータコイル
６０  フット部
６１  電磁ガイドＥコア
６２  電磁ガイドＩコア
６３  コネクタ
６４  与圧磁石
６５  実装ケーブル
６６  磁石高さ調整機構
６７  圧力調整機構
６８  変位センサ
【図１】
2005116627.tif 000003
【図２】
2005116627.tif 000004
【図３】
2005116627.tif 000005
【図４】
2005116627.tif 000006
【図５】
2005116627.tif 000007
【図６】
2005116627.tif 000008
【図７】
2005116627.tif 000009
【図８】
2005116627.tif 000010