(57)【要約】【課題】  特に封止部分からの水分の浸入を防止し、水分に起因する表示素子等の耐久性の低下、さらにこの耐久性低下による寿命の短命化を防止した、電気光学装置とその製造方法、及び電子機器を提供する。【解決手段】  一対のプラスチック基板１１、１１間に表示素子１２を挟持してなる電気光学装置１０である。プラスチック基板１１、１１の周囲が、溶着によって封止された封止部１４となっている。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対のプラスチック基板間に表示素子を挟持してなる電気光学装置において、
前記プラスチック基板の周囲が溶着によって封止されたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記一対のプラスチック基板が、その周囲が全周に亘って溶着され、封止されたことを特徴とする請求項１記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記一対のプラスチック基板の内面に、それぞれ低透湿膜が設けられていることを特徴とする請求項１又は２記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記一対のプラスチック基板が、共にフレキシブル性を有していることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記表示素子が電気泳動素子であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記表示素子がＥＬ素子であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項７】
一対のプラスチック基板間に表示素子を挟持してなる電気光学装置の製造方法において、
前記一対のプラスチック基板を、前記表示素子を挟持した状態で貼り合わせる工程と、
貼り合わせた状態にある前記一対のプラスチック基板の周囲を溶着する工程と、を備えたことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記の溶着を、レーザ光照射処理または超音波処理によって行うことを特徴とする請求項７記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項９】
前記の溶着する工程を、前記一対のプラスチック基板の周囲を圧着しておき、その状態で溶着を行うことを特徴とする請求項７又は８記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装置、あるいは請求項７〜９のいずれか一項に記載の製造方法によって得られた電気光学装置を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一対のプラスチック基板間に表示素子を挟持してなる電気光学装置と、その製造方法、及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
一対の基板間に表示素子を挟持した構成を有する表示装置として、液晶表示装置や有機ＥＬ装置、電気泳動表示装置などが従来より知られている。このような表示装置に用いられる基板としては、主にガラスが用いられている。ところが、近年では、ＰＤＡや携帯電話等の携帯型情報端末機器が普及するに伴い、これら端末機器に用いられる表示装置においては、可撓性や割れにくさ、軽さ等の観点から、プラスチック基板の採用が検討されている。
【０００３】
しかし、前記のようなプラスチック基板を使用した表示装置においては、プラスチック基板が空気中の水分を十分に遮断できないことから、基板を透過した水分の影響によって表示素子やこれを駆動させるための駆動回路等の耐久性が低下し、寿命が短くなるといった課題があった。
このような課題を解決する技術として、スパッタ法や真空ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等の成膜法により、フィルム基板の表面に酸化珪素、窒化珪素あるいは酸窒化珪素膜等の低透湿性膜を形成し、透湿性を抑える方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
さらに、ビニルアルコール−ビニル酢酸共重合体（ＰＶＡ）、またはエチレン−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）等の親水性高分子材料からなる透明樹脂層と、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム等の透明無機薄膜とを有する透明複合膜を、基板として使用する方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
しかし、前述したような方法を用い、プラスチック基板の透湿性を十分に抑えたとしても、例えば図６に示すように、プラスチック基板１、１の周囲（外周部）における基板間の封止部分２から、水分が浸入してしまうことまでは防止できない。なお、図６において符号３は表示素子部、４は低透湿膜、５は樹脂等からなる封止剤である。
そこで、このような課題を解決するため、封止剤５にフッ素化合物を添加する方法（例えば、特許文献３参照）や、封止部を二重シール構造として、内側シール部と外側シール部とで仕切られた領域に充填材を封入する方法（例えば、特許文献４参照）などが提案されている。
【特許文献１】特開２００３−１０５５４１号公報
【特許文献２】特開２００３−２０２６０３号公報
【特許文献３】特開昭５８−４０５２９号公報
【特許文献４】特開２００１−２６４７７７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、前述のような手法を用いても、一対のプラスチック基板を用いた表示装置にあっては、基板周囲の封止部分からの水分の浸入を、十分に防止することは困難であった。
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、特に封止部分からの水分の浸入を防止し、水分に起因する表示素子等の耐久性の低下、さらにこの耐久性低下による寿命の短命化を防止した、電気光学装置（表示装置）とその製造方法、及び電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記目的を達成するため本発明の電気光学装置は、一対のプラスチック基板間に表示素子を挟持してなる電気光学装置において、前記プラスチック基板の周囲が溶着によって封止されたことを特徴としている。
この電気光学装置によれば、プラスチック基板の周囲が溶着によって封止されているので、シール性が高まり、この溶着による封止部分からの透湿、すなわち水分の浸入が高度に抑えられる。したがって、水分に起因する表示素子等の耐久性の低下、さらにこの耐久性低下による寿命の短命化が防止される。
【０００８】
また、前記電気光学装置においては、前記一対のプラスチック基板が、その周囲が全周に亘って溶着され、封止されているのが好ましい。
このようにすれば、封止がより高度でより確実になされたものとなることから、耐久性の低下等がより確実に防止される。
【０００９】
また、前記電気光学装置においては、前記一対のプラスチック基板の内面に、それぞれ低透湿膜が設けられているのが好ましい。
このようにすれば、溶着による封止部はもちろん、プラスチック基板そのものからの透湿も抑えられ、したがって水分に起因する表示素子等の耐久性の低下がより一層防止される。
【００１０】
また、前記電気光学装置においては、前記一対のプラスチック基板が、共にフレキシブル性を有しているのが好ましい。
このようにすれば、電気光学装置そのもののフレキシブル化を図ることが可能になる。
【００１１】
また、前記電気光学装置においては、前記表示素子が電気泳動素子であってもよい。
電気泳動素子では、水分によって帯電した粒子の帯電性や分散安定性が変化（低下）し、これら粒子の動作が悪化して表示性能が損なわれてしまう。しかし、この電気光学装置にあっては、前述したようにシール性が高くなって水分の浸入が高度に抑えられていることにより、長期間に亘って表示性能が良好に保持される。
【００１２】
また、前記電気光学装置においては、前記表示素子がＥＬ素子であってもよい。
ＥＬ素子として特に有機発光層を用いた有機ＥＬ素子では、この有機発光層や陰極が水分に弱く、これに接触することで劣化し、表示特性が大きく損なわれてしまう。しかし、この電気光学装置にあっては、前述したようにシール性が高くなって水分の浸入が高度に抑えられていることにより、長期間に亘って表示性能が良好に保持される。
【００１３】
本発明の電気光学装置の製造方法は、一対のプラスチック基板間に表示素子を挟持してなる電気光学装置の製造方法において、前記一対のプラスチック基板を、前記表示素子を挟持した状態で貼り合わせる工程と、貼り合わせた状態にある前記一対のプラスチック基板の周囲を溶着する工程と、を備えたことを特徴としている。
この電気光学装置の製造方法によれば、一対のプラスチック基板の周囲を溶着し、封止するので、シール性を高め、この溶着による封止部分からの透湿、すなわち水分の浸入を高度に抑えることが可能になる。したがって、水分に起因する表示素子等の耐久性の低下、さらにこの耐久性低下による寿命の短命化を防止することができる。
【００１４】
また、前記電気光学装置の製造方法においては、前記の溶着を、レーザ光照射処理または超音波処理によって行うのが好ましい。
このようにすれば、これらの処理によってピンポイントで加熱することが可能となり、したがって表示素子等に熱的影響を及ぼすことなく、狭いシール幅で基板間の溶着を行うことが可能になる。
【００１５】
また、前記電気光学装置の製造方法においては、前記の溶着する工程を、前記一対のプラスチック基板の周囲を圧着しておき、その状態で溶着を行うのが好ましい。
このようにすれば、シール部分となる基板間の周囲が圧着されていることで密着しているので、溶着によって基板間がより良好にシールされ、封止される。
【００１６】
本発明の電子機器は、前記の電気光学装置、あるいは前記の製造方法によって得られた電気光学装置を備えたことを特徴としている。
この電子機器によれば、前述したように耐久性低下による寿命の短命化が防止された電気光学装置を備えているので、この電子機器自体も長寿命化が図られたものとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明を詳しく説明する。
図１（ａ）、（ｂ）は、本発明の電気光学装置の一実施形態を示す図であり、図１中符号１０は電気光学装置である。この電気光学装置１０は、一対のプラスチック基板１１、１１間に、多数の表示素子からなる表示素子部１２を挟持してなるものである。
【００１８】
プラスチック基板１１は、本実施形態ではいずれも厚さが２００μｍ程度のフィルム状で、矩形状のものとなっており、これによってフレキシブル性（可撓性）を有するものとなっている。プラスチック基板１１の材料としては、熱可塑性で後述する溶着による加工が可能な材料であれば、特に限定されない。ただし、電気光学装置１０においては、特に表示側（観測側）となる基板については、光透過性の高い材料を選択するのが望ましい。このようなプラスチック基板１１の材料として具体的には、例えば溶着処理として超音波処理を採用する場合、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリカーボネイト（ＰＣ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、アクリルあるいはポリアクリレート類等を挙げることができる。特に、非結晶性樹脂であるポリカーボネイト（ＰＣ）やポリスチレン（ＰＳ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）は、溶着適合性が高いため好ましい。
【００１９】
これらプラスチック基板１１の内面には、それぞれ低透湿膜１３が設けられている。これら低透湿膜１３は、酸化珪素、窒化珪素あるいは酸窒化珪素膜等の無機材料からなるもので、スパッタ法や真空ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等の成膜法により、プラスチック基板１１の表面（内面）に形成されたものである。このような低透湿膜１３は、厚さが例えば０．１μｍ程度と、前記プラスチック基板１１の厚さに比べ十分に薄く形成されたもので、これによってフレキシブル性を有するものとなっている。
【００２０】
また、これらプラスチック基板１１、１１は、その内部、すなわち前記低透湿膜１３、１３間に表示素子部１２を有した状態で、周囲が溶着によってシールされ、これによって封止部１４が形成されている。本実施形態では、図１（ｂ）に示すようにその周囲（外周部）が全周に亘って溶着され、封止部１４とされており、これによって封止部１４は、表示素子部１２の全周を囲った状態となっている。
【００２１】
このような封止部１４は、後述するようにレーザ光照射処理や超音波処理などによる溶着によって形成されたものである。すなわち、これらの処理によってプラスチック基板１１、１１は、処理部がそれぞれ加熱されることで溶融される。そして、その後冷却されて固化されることにより、この溶融部分が互いに密着し、一体化して封止部１４となる。
このようにして形成された封止部１４は、接着剤による接着のごとく、プラスチック基板１１、１１とは別の物質を介しての接合でなく、これら基板１１、１１が直接接合することで形成されるので、より気密性（シール性）の高い接合となる。なお、封止部１４での気密性（シール性）をより高めるためには、プラスチック基板１１、１１を同じ材質の熱可塑性樹脂で形成するのが好ましい。また、異なる材質のものを用いる場合にも、その溶融温度が近いものを用いるのが好ましい。
【００２２】
ここで、封止部１４においては、図１（ａ）に示したようにプラスチック基板１１、１１間に低透湿膜１３が存在していない。これは、前述したように低透湿膜１３の厚さが例えば０．１μｍ程度と極めて薄いことから、溶着時にプラスチック基板１１、１１の溶融に伴って非常に細かい破片の状態に破壊され、溶融したプラスチック基板１１、１１内に取り込まれるからである。なお、より溶着処理を容易にするために、予め封止部１４の形成箇所については、低透湿膜１３を形成しないようにし、あるいはこれを除去するようにしておいてもよい。
また、特に封止部１４については、ここでのシール性をさらに補強するうえで、図１（ａ）中二点鎖線で示すように、封止部１４の内側（表示素子部１３側）に樹脂等による封止部材１５を設けておいてもよい。
【００２３】
表示素子部１２は、本実施形態では電気泳動素子を多数集合した電気泳動表示装置を構成するものとなっている。
電気泳動表示装置は、一対の基板間に、液相分散媒と電気泳動粒子とを含む電気泳動分散液が収容されてなるもので、該電気泳動分散液に電圧を印加することにより、電気泳動粒子の分布状態が変化することを利用したものである。
本実施形態では、このような電気泳動表示装置として、特に電気泳動分散液をマイクロカプセルに封入し、該マイクロカプセルを一対の基板間に収容してなる電気泳動表示装置（マイクロカプセル型電気泳動表示装置）を用いている。
【００２４】
図２（ａ）に、表示素子部１２を構成するマイクロカプセル型電気泳動表示装置の模式図を示す。この電気泳動表示装置２０は、一方のプラスチック基板１１に形成された電極２３と、他方のプラスチック基板１１に形成された透明電極２４とを有してなる。これら電極２３と透明電極２４との間には、マイクロカプセル４０と、必要に応じてバインダ４１とが収容されている。なお、図２（ａ）は、電気泳動表示装置２０の要部の断面を示すものとする。また、図２（ａ）〜（ｃ）においては、プラスチック基板１１の内面の、低透湿膜１３の記載を省略している。
【００２５】
マイクロカプセル４０には、液相分散媒２６と、この液相分散媒２６中に分散された電気泳動粒子２５とを含む電気泳動分散液３０が封入されており、例えばこの一つのマイクロカプセル４０によって単一の電気泳動素子を形成することができる。電気泳動粒子２５は、予め正または負に帯電させられており、また、液相分散媒２６と電気泳動粒子２５とは、互いに異なる着色がなされている。
【００２６】
この電気泳動表示装置２０には、互いに逆方向の電圧を印加するための電圧源２９ａ及び２９ｂが、切換スイッチ２８を介して接続されている。つまり、電極２３は電圧源２９ａ及び２９ｂの一端に接続され、透明電極２４は切換スイッチ２８を介して電圧源２９ａ及び２９ｂの他端に接続されている。なお、これら切換スイッチ２８及び電圧源２９ａ、２９ｂは、本実施形態ではプラスチック基板１１、１１の外部に、配線を介して接続されているものとする。
【００２７】
このような接続をしておけば、切換スイッチ２８の切換えにより、電極２３、２４間に印加する電圧の方向を変えることができる。そして、印加する電圧の方向を変えることにより、電気泳動粒子２５を所望の電極側に集めて所望の表示を行うことができる。すなわち、電気泳動粒子２５が例えば正に帯電している場合、図２（ｂ）に示すように、電圧源２９ａによる電圧を印加することによって観測者に近い透明電極２４側に電気泳動粒子２５を集めることができる。この状態において、観測者は電気泳動粒子２５の色を見ることになる。一方、図２（ｃ）に示すように、電圧源２９ｂによる電圧を印加することによって観測者から遠い電極２３側に電気泳動粒子２５を集めることができる。この状態において、観測者は液相分散媒２６の色を見ることになる。電気泳動粒子２５が負に帯電している場合には、粒子の動く方向は前記の説明と逆になる。
【００２８】
前述したように、図２（ａ）に示す構成を採用すれば、電圧を印加する方向に対応する２種類の色を表示することができるので、同図に示す構成を例えば１画素に適用し、これをマトリクス状に配置することにより、所望の表示を可能とする電気泳動表示装置２０とすることができる。
【００２９】
すなわち、このような電気泳動表示装置２０は、一対のプラスチック基板１１、１１間に表示素子部１２を備えたことにより、本発明の電気光学装置１０となるものである。なお、本実施形態では、例えば一方のプラスチック基板１１にスルーホール（貫通孔）を形成し、このスルーホールから配線を引き出して前記の切換スイッチ２８及び電圧源２９ａ、２９ｂに接続するようにしている。
【００３０】
次に、このような構成の電気光学装置１０（電気泳動装置２０）の製造方法に基づき、本発明の電気光学装置の製造方法の一実施形態を説明する。
まず、二枚のプラスチック基板１１を用意し、それぞれの一方の面（内面）に、スパッタ法や真空ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等の成膜法によって酸化珪素、窒化珪素あるいは酸窒化珪素膜等の低透湿膜１３を形成する。
【００３１】
次いで、例えば薄膜素子としてのＴＦＴ素子を形成した転写用基板からＴＦＴ素子を剥離し、これを一方のプラスチック基板１１の内面側（低透湿膜１３）に転写することで、アクティブマトリックスＴＦＴ回路（図示せず）を形成する。なお、このアクティブマトリックスＴＦＴ回路の形成には、例えば特開平１１−２５１５１７号公報に開示された技術を用いることができる。また、アクティブマトリックスＴＦＴ回路の形成箇所については、当然ながら、プラスチック基板１１の周囲（外周部）を除いた箇所、すなわち、図１（ａ）、（ｂ）に示した封止部１４の内側とする。
【００３２】
次いで、アクティブマトリックスＴＦＴ回路を形成した方のプラスチック基板１１の内面側（アクティブマトリックスＴＦＴ回路側）に、図２（ａ）〜（ｃ）に示した電極２３を形成し、また、他方のプラスチック基板１１の内面側（低透湿膜１３側）に、透明電極２４を形成する。これら電極２３、透明電極２４の形成には、例えばスパッタ法や蒸着法などが用いられる。なお、特にアクティブマトリックスＴＦＴ回路側の電極２３については、各画素に対応するようにパターニングしておき、画素電極としておく。
【００３３】
また、このような工程とは別に、図２（ａ）〜（ｃ）に示したマイクロカプセル４０とバインダ４１とを混合し、塗工液を調製しておく。
次いで、一方のプラスチック基板１１の内面に前記の塗工液を塗布する。ただし、封止部１４となるプラスチック基板１１の周囲には、塗工液が塗布されないよう、予めマスクを設けておく。また、全面に塗布した後、周囲部分の塗工液をふき取って除去してもよい。
また、シール性を補強するべく、封止部材１５を設ける場合には、一方あるいは両方のプラスチック基板１１における、封止部１４の形成領域の内側に、樹脂等による封止部材１５を設けておく。
【００３４】
次いで、このようにしてマイクロカプセル４０及びバインダ４１（塗工液）を設けたプラスチック基板１１と、もう一方のプラスチック基板１１とを、図３（ａ）に示すように表示素子部１２がこれらに挟持された状態となるようにして貼り合わせる。
そして、これらプラスチック基板１１、１１の周囲を、圧着部材１６、１６によって上下を挟んだ状態で圧着し、その内面同士を密着させる。圧着部材１６としては、機械的に加圧し圧着する、公知の圧着ブロックなどが用いられる。
【００３５】
続いて、このような状態のもとで、前記一対のプラスチック基板１１、１１の周囲を溶着する。この溶着処理としては、レーザ光照射処理や超音波処理、さらには熱板加熱処理や赤外線照射処理などが採用される。なかでも、レーザ光照射処理や超音波処理が、ピンポイントで加熱することができ、したがって表示素子部１２等に熱的影響を及ぼすことなく、狭いシール幅でプラスチック基板１１、１１間の溶着を行うことができ、好ましい。
【００３６】
溶着処理としてレーザ光照射処理を採用する場合、前記の圧着部材１６としては、レーザ光を透過する材質のもの（透光性のもの）を用いる。また、プラスチック基板１１、１１については、これらの接合部にて溶融が起こるように、予め一方のプラスチック基板１１をレーザ光透過性のものとし、他方のプラスチック基板１１をレーザ光吸収性のものとしておく。ここで、レーザ光吸収性のプラスチック基板１１については、その光吸収特性を調整するため、必要に応じて顔料や染料等の色素を添加してもよい。また、溶着部分（封止部１４となる部分）だけを染色することにより、この部分に選択的に光吸収性を付与するようにしてもよい。
【００３７】
レーザ光照射の条件（レーザ光照射密度、レーザビーム送り速度等）については、使用するプラスチック基板１１、１１の材質や厚さ、光吸収特性、溶融温度、所望とする封止幅等の条件に基づき、適宜に決定する。
レーザ光の種類としては、ＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット結晶）レーザ［波長：１０６４ｎｍ］やＬＤ（レーザダイオード）［波長：８０８ｎｍ、８４０ｎｍ、９４０ｎｍ］などを使用することができる。
【００３８】
このような条件のもとで、図３（ｂ）に示すようにレーザ光透過性のプラスチック基板１１側からレーザ光を照射すると、このレーザ光透過性のプラスチック基板１１を透過したレーザ光はレーザ光吸収性のプラスチック基板１１の表面に到達する。すると、レーザ光が到達されたことによってこれを吸収したレーザ光吸収性のプラスチック基板１１では、その表面（内面）側にて発熱、溶融を起こす。また、これに伴ってレーザ光透過性のプラスチック基板１１も、熱伝導によって加熱され、溶融を起こす。このようなレーザ光の吸収・発熱・熱伝達の過程の結果、上下一対のプラスチック基板１１、１１はそのレーザ光照射部が溶融する。その後、レーザ光照射が停止されることで発熱が停止し、室温に冷却されることで溶融部分が固化し、プラスチック基板１１、１１間が溶着する。
【００３９】
そして、このような溶着処理をプラスチック基板１１、１１の周囲の全周に亘って行うことにより、図１（ｂ）に示したように表示素子部１２の全周を囲む封止部１４を形成することができる。
なお、封止部１４形成箇所に形成されていた低透湿膜１３は、前述したようにその厚さが極めて薄いことから、溶着時にプラスチック基板１１、１１の溶融に伴い非常に細かい破片の状態に破壊され、溶融したプラスチック基板１１、１１内に取り込まれる。
【００４０】
また、溶着処理として超音波処理を採用する場合、図３（ａ）における圧着部材１６として共振体（ホーン）を用い、これでプラスチック基板１１、１１の周囲を上下から挟んで圧着し、その内面同士を密着させる。なお、プラスチック基板１１、１１については、前述したように同じ材質のものを用いるのが好ましい。また、異なる材質のものを用いる場合にも、その溶融温度が近いもの、具体的には溶融温度差が２２℃以内のものを用いるのが好ましい。溶融温度差が例えば２２℃を越えると、溶着時に、溶着温度が低い方の樹脂が溶融し溶け出してしまい、十分な熱が発生しなくなり、溶融温度が高い方のプラスチック基板１１が溶融しにくくなるからである。
【００４１】
このような条件のもとで、圧着部材１６として共振体（ホーン）によりプラスチック基板１１、１１の周囲（外周部）に振動エネルギーを集中させると、振動エネルギーが摩擦熱に変換され、これによってプラスチック基板１１、１１は振動エネルギーを受けた箇所が発熱し、溶融温度にまで上昇する。その後、超音波処理が停止されることで発熱が停止し、室温に冷却されることで溶融部分が固化し、図３（ｂ）に示した場合と同様に、プラスチック基板１１、１１間が溶着する。
【００４２】
そして、このような溶着処理をプラスチック基板１１、１１の周囲の全周に亘って同時に行うことにより、レーザ光照射の場合と同様に、図１（ｂ）に示したように表示素子部１２の全周を囲む封止部１４を形成することができる。
なお、封止部１４形成箇所に形成されていた低透湿膜１３は、レーザ光照射処理の場合と同様に、溶着時にプラスチック基板１１、１１の溶融にともない非常に細かい破片の状態に破壊され、溶融したプラスチック基板１１、１１内に取り込まれる。
【００４３】
このようにして得られた電気光学装置１０にあっては、プラスチック基板１１、１１の周囲を全周に亘って溶着により封止しているので、シール性を高め、この溶着による封止部１４からの透湿、すなわち水分の浸入が高度に抑えることができる。したがって、水分に起因する表示素子等の耐久性の低下、さらにこの耐久性低下による寿命の短命化を防止し、長寿命化を図ることができる。また、水分だけでなく酸素の浸透も防止することができるので、表示素子部１２や配線についての酸化による劣化を防止することもできる。
【００４４】
また、プラスチック基板１１、１１の内面にそれぞれ低透湿膜１３を設けているので、溶着による封止部１４はもちろん、プラスチック基板１１そのものからの透湿も抑えることができ、したがって水分に起因する表示素子等の耐久性の低下をより一層防止することができる。
また、一対のプラスチック基板１１、１１を、共にフレキシブル性を有するフィルム状のものとしているので、電気光学装置１０そのもののフレキシブル化を図ることができる。
【００４５】
また、表示素子部１２を電気泳動素子によって構成することで、本実施形態の電気光学装置１０を電気泳動表示装置２０に適用しているので、水分によって帯電した電気泳動粒子２５の帯電性や分散安定性が変化（低下）し、これら電気泳動粒子２５の動作が悪化して表示性能が損なわれてしまうのを防止し、長期間に亘って表示性能が良好に保持することができる。
【００４６】
また、前記の電気光学装置１０の製造方法にあっては、前述したように水分に起因する表示素子部１２等の耐久性の低下、さらにこの耐久性低下による寿命の短命化を防止することができることから、表示特性についての長寿命化を図ることができる。
また、レーザ光照射処理または超音波処理によって溶着を行っているので、これらの処理によってピンポイントで加熱することができ、したがって表示素子部１２等に熱的影響を及ぼすことなく、狭いシール幅でプラスチック基板１１、１１間の溶着を行うことができる。
また、溶着工程に際して、一対のプラスチック基板１１、１１の周囲を圧着しておき、その状態で溶着を行うようにしているので、溶着によってプラスチック基板１１、１１間をより良好にシールし、封止することができる。
【００４７】
なお、本発明は前記実施形態に限定されることなく、本発明の要旨を逸脱しない限り、種々の変更が可能である。
例えば、前記実施形態では、表示素子部１２として電気泳動素子を多数集合した電気泳動表示装置を構成するものとし、これにより本発明の電気光学装置を電気泳動表示装置に適用した例として示したが、他に例えば、表示素子部１２としてＥＬ素子を多数集合したＥＬ表示装置を構成するものにし、これにより本発明の電気光学装置をＥＬ表示装置に適用するようにしてもよい。
【００４８】
ＥＬ表示素子としては、特に特に有機発光層を用いた有機ＥＬ素子とするのが好ましく、具体的には、陽極上に正孔注入／輸送層、有機発光層、陰極をこの順に積層した構造のものが用いられる。なお、有機発光層と陰極との間に、電子注入／輸送層を設けた構造としてもよい。
このような有機ＥＬ素子からなる表示素子部１２をプラスチック基板１１、１１間に形成するには、前記実施形態での製造方法と同様に、一方のプラスチック基板１１上にアクティブマトリックスＴＦＴ回路を形成した後、これの上に陽極（画素電極）を各画素に対応した状態にパターニングして形成する。そして、その上に正孔注入／輸送層、有機発光層、（電子注入／輸送層）をこの順に形成し、さらにその上に陰極を蒸着等によって形成することにより、有機ＥＬ素子を形成する。
【００４９】
このようにして有機ＥＬ素子を形成し、表示素子部１２を形成したら、前記実施形態での製造方法と同様にしてもう一方のプラスチック基板１１を貼り合わせ、溶着することにより、ＥＬ表示装置（電気光学装置）を得る。
有機ＥＬ表示装置は、有機発光層や陰極が水分に弱く、これらが水分に接触すると劣化し、表示特性が大きく損なわれてしまう。しかし、前記のようにして得られたＥＬ表示装置（電気光学装置）にあっては、前述したようにシール性が高く水分の浸入が高度に抑えられているので、長期間に亘って表示性能を良好に保持することができる。
なお、本発明の電気光学装置を液晶表示装置に適用するようにしてもよい。
【００５０】
また、前記実施形態では封止部材１５を用いてシール性をさらに補強するようにしたが、本発明の電気光学装置にあっては、溶着によって十分なシール性を確保することができるので、封止部材１５をあえて用いる必要はない。そして、このような封止部材１５を用いない場合には、従来のものとは異なり、樹脂等によるシール剤を用いない構造となることから、このようなシール剤による表示素子部への汚染や異物混入がなく、したがって表示素子の表示特性が良好となる。
また、特にシール剤（封止剤）を用いないことで、シール剤の揮発等の問題がないため、表示素子部の形成から貼り合わせ、溶着に至る一連の工程を、真空雰囲気中で連続して行うことができる。したがって、生産性の向上を図ることができる。
【００５１】
また、前記実施形態では、表示素子部１２の配線を、プラスチック基板１１に形成したスルーホール（貫通孔）から引き出すようにしたが、他に例えば、プラスチック基板１１、１１の周囲の一部を溶着せずに残しておき、そこから配線を引き出した後、この配線引き出し部を樹脂等によって封止するようにしてもよい。その場合にも、基本的にはプラスチック基板１１、１１の周囲を溶着によって封止しているので、従来に比べより良好なシール性を確保することができる。
【００５２】
また、前記実施形態では、一対のプラスチック基板の両方をフレキシブル性のものとしたが、本発明はこれに限定されることなく、一方あるいは両方を比較的硬質のものとしてもよい。その場合にも、プラスチック基板であることから、割れにくさや軽さ等についての利点はそのまま残すことができる。
【００５３】
次に、本発明の電子機器を説明する。本発明の電子機器は、前記の電気光学装置１０（電気泳動表示装置２０）を表示部として有したものであり、具体的には図４、図５に示すものが挙げられる。
図４は、携帯型情報処理装置としての携帯電話を示す図であって、図４中符号１００は携帯電話機である。この携帯電話機１００は、アンテナ１０１、受話器１０２、送話器１０３、表示部１０４、及び操作釦部１０５等を備えて構成されたもので、表示部１０４が、前記電気光学装置１０（電気泳動表示装置２０）によって構成されたものである。
図５は、電子ペーパーの構成を示す斜視図であって、図５中符号１１０は電子ペーパーである。この電子ペーパー１１０は、紙に近い質感および柔軟性（フレキシブル性）を有する本体１１１と、前記電気光学装置１０（電気泳動表示装置２０）によって構成された表示部６４とを備えて構成されたものである。
これら電子機器によれば、前述したように長寿命化が図られた電気光学装置１０を表示部１０４（６４）としているので、これら電子機器自体も特に表示部１０４（６４）について長寿命化が図られたものとなる。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】（ａ）は本発明の電気光学装置の側断面図、（ｂ）は平面図である。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は表示素子部となる電気泳動表示装置の模式図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）は本発明の電気光学装置の製造方法説明図である。
【図４】本発明の電子機器を示す斜視図である。
【図５】本発明の電子機器を示す斜視図である。
【図６】従来の表示装置の一例の側断面図である。
【符号の説明】
【００５５】
１０…電気光学装置、１１…プラスチック基板、１２…表示素子部（表示素子）、
１３…低透湿膜、１４…封止部、１６…圧着部材、２０…電気泳動表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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