(57)【要約】【課題】基板水平移動手段の回転モーメントによる回転変位を抑止し、確実安全に基板の移載を行う。【解決手段】基板保持具に保持された基板５９を収納し、基板を処理する処理室と、前記基板保持具に基板を移載する基板移載装置６４を具備する基板処理装置に於いて、前記基板移載装置は基板を水平方向に移動可能な基板水平移動手段３１と該基板水平移動手段を昇降する昇降手段６５とを有し、該昇降手段は少なくとも１つの基板水平移動方向に離隔して設けられた複数の昇降機構２６を備えた。【選択図】        図４
2005032994.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板保持具に保持された基板を収納し、基板を処理する処理室と、前記基板保持具に基板を移載する基板移載装置を具備する基板処理装置に於いて、前記基板移載装置は基板を水平方向に移動可能な基板水平移動手段と該基板水平移動手段を昇降する昇降手段とを有し、該昇降手段は少なくとも１つの基板水平移動方向に離隔して設けられた複数の昇降機構を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
基板保持具に保持された基板を収納し、基板を処理する処理室と、前記基板保持具に基板を移載する基板移載装置を具備する基板処理装置に於いて、前記基板移載装置は基板を水平方向に移動可能な基板水平移動手段と該基板水平移動手段を昇降する昇降手段とを有し、該昇降手段は少なくとも１つの基板水平移動方向に離隔して設けられた複数の昇降ガイドを有することを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【発明の属する技術分野】
【０００１】
本発明は、シリコンウェーハ等の基板にＩＣ等の半導体装置を製造する基板処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
基板処理装置としては、所要枚数を一度に処理するバッチ式の基板処理装置或は一枚或は複数枚を個別に処理する枚葉式の基板処理装置とがある。例えば、縦型反応炉を具備した縦型基板処理装置に関するものとして、特許文献１に示すものがある。
【０００３】
特許文献１に示された基板処理装置について図６を基に略述する。
【０００４】
図６中、１は筐体であり、筐体の前面にゲート弁２を介して気密なカセット室３が設けられ、該カセット室３にゲート弁４を介して気密な移載室５が連設され、該移載室５に気密なロードロック室６が連設され、該ロードロック室６と前記移載室５とはゲート弁７を介して連通可能となっている。前記ロードロック室６の上面には反応炉８が立設されている。
【０００５】
前記カセット室３の内部には外部から搬入されたカセット９が収納され、前記移載室５内には基板移載機１１が設けられ、前記ロードロック室６内には基板保持具（ボート）１２が収納されると共に該ボート１２を前記反応炉８に装入、引出しする昇降装置（ボートエレベータ）１３が設けられている。前記ボート１２は基板（ウェーハ）を水平多段に保持するものであり、ウェーハは前記反応炉８内で前記ボート１２に保持された状態で処理される。
【０００６】
前記反応炉８は気密な処理室１４を画成する石英製の反応管１５、該反応管１５の周囲を囲繞するヒータ１６等から構成され、前記処理室１４と前記ロードロック室６間の炉口部はゲート弁１７により気密に開閉される様になっている。又、前記処理室１４には反応ガスが供給されると共に排気される様になっている。
【０００７】
ウェーハの処理について説明する。
【０００８】
未処理ウェーハが装填されたカセット９が前記ゲート弁２を介して前記カセット室３に搬入される。前記ゲート弁２が密閉され、前記ゲート弁４、前記ゲート弁７が開放され、前記基板移載機１１は前記カセット室３のウェーハを前記ゲート弁４、前記ゲート弁７を介して所定枚数前記ボート１２に移載する。前記ゲート弁７が閉じられ、前記ゲート弁１７が開放され、前記ボートエレベータ１３により前記ボート１２が前記処理室１４に装入される。前記ゲート弁１７が閉じられ、反応ガスが供給され、前記ヒータ１６によりウェーハが加熱されることでウェーハに所要の処理がなされる。
【０００９】
処理が完了した処理済ウェーハは上記した逆の手順により、前記カセット室３のカセット９に装填され、前記ゲート弁２を介して搬出される。
【００１０】
上記した様に、前記カセット室３のカセット９と前記ロードロック室６の前記ボート１２間のウェーハの移載は前記基板移載機１１によって行われる。
【００１１】
従来の基板移載機としては、例えば特許文献２に示されるものがある。
【００１２】
基板移載機は、複数節のリンクアームを屈伸させウェーハを進退させるロボットアームを具備し、又ロボットアームを昇降させる昇降機構、ロボットアームを回転させる回転機構を具備し、ロボットアームの進退、昇降、回転の協働により、ウェーハの移載を行う様になっている。
【００１３】
図７、図８により、従来の基板移載機１１の機構部の概略を説明する。
【００１４】
図中、２０は移載室５の底板等の構造部材を示しており、該構造部材２０に開口部２１が穿設され、該開口部２１と同心の円筒状の支持部材２２が前記構造部材２０の下面に設けられている。
【００１５】
前記支持部材２２の下面にベローズ下フランジ２３が気密に固着され、該ベローズ下フランジ２３の下面に上ベースプレート２４が固着され、該上ベースプレート２４にガイドシャフト３０を介して下ベースプレート２５が支持されている。
【００１６】
前記上ベースプレート２４と前記下ベースプレート２５間にスクリューシャフト２６が回転自在に設けられ、該スクリューシャフト２６はギアボックス２７を介して昇降モータ８７に連結されている。昇降台２８がナット（図示せず）を介して前記スクリューシャフト２６に螺合すると共に前記ガイドシャフト３０に摺動自在にガイドされ、前記スクリューシャフト２６の回転で前記昇降台２８が昇降可能となっている。
【００１７】
前記昇降台２８に支柱２９が立設され、該支柱２９の上端にロボットアーム３１が水平方向に進退可能に設けられている。前記支柱２９の上端部、前記ロボットアーム３１の近傍にフランジ３２が気密に固着され、該フランジ３２にベローズ上フランジ３３が気密に固着され、前記ベローズ下フランジ２３と前記ベローズ上フランジ３３間にはベローズ本体３４が気密に設けられている。
【００１８】
前記フランジ３２、前記ベローズ上フランジ３３、前記ベローズ本体３４はベローズ継手３５を構成し、前記基板移載機１１の駆動部を前記移載室５内部から離隔し、前記駆動部による前記移載室５内部の汚染を防止している。
【００１９】
又、前記ベローズ本体３４は、前記基板移載機１１の駆動部と前記移載室５内部とを気密に仕切る隔壁であり、減圧に耐え得る様ステンレス等の金属製となっている。
【００２０】
前記昇降モータ８７により前記スクリューシャフト２６が回転されることで、前記昇降台２８が昇降し、前記ロボットアーム３１の伸縮、回転との協働でウェーハの移載が行われる。尚、図中、矢印３６は前記ロボットアーム３１の伸縮方向である。
【００２１】
【特許文献１】
特公平７−１０１６７５号公報
【００２２】
【特許文献２】
特開平８−７００３３号公報
【００２３】
【発明が解決しようとする課題】
上記した従来の基板処理装置の基板移載機１１に於いて、前記ロボットアーム３１が昇降すると、前記ベローズ本体３４が伸縮する。該ベローズ本体３４は金属製であり、該ベローズ本体３４の伸縮により、弾性反力が発生する。該弾性反力は、前記フランジ３２、前記支柱２９を介して前記昇降台２８に伝達される。該昇降台２８を上下方向に拘束するものは、前記スクリューシャフト２６と前記昇降台２８との螺合関係のみであるので、該昇降台２８は前記スクリューシャフト２６による片持支持状態となる。
【００２４】
この為、前記昇降台２８にはモーメントによる回転変位が発生する。該回転変位は前記支柱２９を介して前記ロボットアーム３１に伝達され、該ロボットアーム３１が回転変位する。
【００２５】
この為、該ロボットアーム３１でウェーハを移載する場合に、該ロボットアーム３１のウェーハ載置部３１ａに上下方向の変位が生じ、例えば図６の前記ボート１２の様に、多段に比較的ウェーハの載置する上下の間隔が狭いとき、ウェーハと前記ウェーハ載置部３１ａとが接触し、又は、前記ボート１２にウェーハを載せる際、前記ウェーハ載置部３１ａ又はウェーハが前記ボート１２と接触し、ウェーハの移載が実行できなくなる虞れがあった。
【００２６】
本発明は斯かる実情に鑑み、ベローズ伸縮による反力、或はロボットアームが伸長した状態で発生する回転モーメントでロボットアームが回転変位することを防止し、確実安全にウェーハの移載が行える様にするものである。
【００２７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基板保持具に保持された基板を収納し、基板を処理する処理室と、前記基板保持具に基板を移載する基板移載装置を具備する基板処理装置に於いて、前記基板移載装置は基板を水平方向に移動可能な基板水平移動手段と該基板水平移動手段を昇降する昇降手段とを有し、該昇降手段は少なくとも１つの基板水平移動方向に離隔して設けられた複数の昇降機構を備えた基板処理装置に係り、又基板保持具に保持された基板を収納し、基板を処理する処理室と、前記基板保持具に基板を移載する基板移載装置を具備する基板処理装置に於いて、前記基板移載装置は基板を水平方向に移動可能な基板水平移動手段と該基板水平移動手段を昇降する昇降手段とを有し、該昇降手段は少なくとも１つの基板水平移動方向に離隔して設けられた複数の昇降ガイドを有する基板処理装置に係るものである。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施の形態を説明する。
【００２９】
以下は基板処理装置の１つである、バッチ式の縦型拡散・ＣＶＤ装置が示されており、ウェーハに不純物を拡散し、絶縁膜、金属膜を生成する等の基板処理を行うものである。又、該基板処理装置には、ウェーハ搬送用キャリアとして密閉容器であるＦＯＵＰ（ｆｒｏｎｔ  ｏｐｅｎｉｎｇ  ｕｎｉｆｉｅｄ  ｐｏｄ、以下ポッドと称す）が使用されている。
【００３０】
前記基板処理装置の概略は、前方より大気圧での気密構造を有する第１筐体３８、大気圧での気密構造を有する第２筐体３９、耐圧気密構造の第３筐体４０、耐圧気密構造の第４筐体４１、該第４筐体４１の上側に第５筐体４２が連設された構成となっている。
【００３１】
前記第１筐体３８の前面側にはポッド授受ステージ４３が設けられ、該ポッド授受ステージ４３に対し外部搬送装置によりポッド４４が搬入搬出される様になっている。又、前記第１筐体３８の内部後側にはポッド載置台４５が設けられ、前記第１筐体３８の中央にはポッド搬送装置４６が設けられ、該ポッド搬送装置４６はポッド搬送アーム４７を具備し、該ポッド搬送アーム４７は前記ポッド授受ステージ４３の搬入出口４８を通して前記ポッド授受ステージ４３と前記ポッド載置台４５間で前記ポッド４４を搬送可能となっている。
【００３２】
前記第２筐体３９は、前記ポッド載置台４５の蓋を開閉するポッドオープナ４９及び前記第３筐体４０に設けられた第１移載口５１を気密に開閉する第１ゲート弁５２を収納している。又、前記第２筐体３９と前記第３筐体４０とは前記第１移載口５１を介して連通しており、前記第３筐体４０と前記第４筐体４１とは第２移載口５３を介して連通し、該第２移載口５３は第２ゲート弁５４により気密に開閉される様になっている。
【００３３】
前記第３筐体４０内には複数（図示では２）の基板保管具５５，５６が側壁に沿って設けられ、該基板保管具５５と基板保管具５６間には熱遮蔽壁５７が設けられている。
【００３４】
前記基板保管具５５，５６は少なくとも３本の支柱５８を有し、該支柱５８にはウェーハ５９を保持する基板保持溝が所要間隔で刻設されている。前記基板保管具５５，５６に沿ってガス吹出し管６１，６２が立設され、該ガス吹出し管６１，６２は所要間隔で穿設されたガス吹出し孔を有し、該ガス吹出し孔は、例えば前記基板保持溝と同間隔で該基板保持溝の中間位置に設けられている。前記ガス吹出し管６１，６２は図示しない不活性ガス供給源に接続され、前記ガス吹出し管６１，６２からは窒素ガス等の不活性ガスが流出される様になっている。又、前記第３筐体４０には排気管６３が設けられ、該排気管６３を介して図示しない排気装置に接続され、該排気装置は前記第３筐体４０内を所定の負圧に維持可能である。
【００３５】
前記第１移載口５１と前記第２移載口５３との間に基板移載装置６４が設けられている。該基板移載装置６４は駆動機構部６５が前記第３筐体４０の下方外部に設けられ、ロボットアーム３１が前記第３筐体４０に収納され、前記駆動機構部６５の前記第３筐体４０を貫通する部分には後述するベローズ継手３５が設けられ、気密構造となっている。
【００３６】
前記第４筐体４１はロードロック室として機能し、窒素ガス等のガスを供給するガス供給管８４、前記第４筐体４１内を排気し減圧する為の排気管８５が接続されている。
【００３７】
前記第４筐体４１内にはボートエレベータ６６が設けられ、該ボートエレベータ６６はエレベータアーム６７を介してシールキャップ６８を昇降可能としている。該シールキャップ６８にはボート回転装置６９が設けられており、基板保持具（以下、ボート）７１は前記ボート回転装置６９により鉛直軸心を中心に回転可能に支持されている。
【００３８】
前記ボート７１は複数本の支柱７２を有し、該支柱７２には所要間隔で基板保持溝が刻設され、該溝にウェーハを水平姿勢で多段に保持する様になっている。
【００３９】
前記第４筐体４１の天井部には炉口７３が設けられ、前記第４筐体４１の上面には前記炉口７３と同心に炉口フランジ７４が気密に取付けられ、該炉口フランジ７４に上下両端が開放された内管７５が立設され、有天筒状の外管７６が前記炉口フランジ７４の上端に前記内管７５と同心に立設されている。該内管７５の材料としては、石英又は炭化珪素が用いられ、前記外管７６の材料としては石英又は炭化珪素が用いられる。該外管７６の周囲を囲繞するヒータ７７が前記外管７６と同心に設けられ、前記ヒータ７７は前記第５筐体４２内に収納されている。
【００４０】
前記内管７５内部に処理室７８が画成され、前記内管７５と前記外管７６間には円筒状の処理室７９が形成される。前記炉口フランジ７４の下方には前記処理室７９に連通するガス導入管（図示せず）が接続され、前記炉口フランジ７４の上部には前記処理室７９に連通する排気管８２が接続されている。図中、８３は前記外管７６内部の温度を検出する為の熱電対等の温度検出器である。
【００４１】
而して、前記内管７５、前記外管７６、前記ヒータ７７等は前記処理室７８に収納した基板を処理する熱処理炉を構成する。
【００４２】
前記ガス導入管（図示せず）からは反応ガス或はパージガスが導入され、前記排気管８２は排気装置に接続され、前記外管７６内部を真空排気する。前記処理室７８に前記ボート７１が装入され、該ボート７１が装入された状態では、前記シールキャップ６８により前記炉口７３が気密に閉塞される様になっている。又、該炉口７３は前記ボート７１が降下した状態で、炉口シャッタ８０により気密に閉塞される様になっている。
【００４３】
前記基板移載装置６４の前記駆動機構部６５について、図４、図５に於いて更に説明する。
【００４４】
尚、図４、図５中、図７、図８中で示したものと同等のものには同符号を付してある。
【００４５】
前記第３筐体４０の底部に開口部２１が設けられ、該開口部２１の下側に円筒状の支持部材２２が前記開口部２１と同心に設けられている。
【００４６】
前記支持部材２２の下面にベローズ下フランジ２３が気密に固着され、前記支持部材２２の下端に前記ベローズ下フランジ２３を介して上ベースプレート２４が固着され、該上ベースプレート２４に昇降ガイドであるガイドシャフト３０を介して下ベースプレート２５が支持されている。該ガイドシャフト３０は同一円周上に所要等分した位置、例えば３等分した位置に設けられている。
【００４７】
該ガイドシャフト３０に昇降台２８が摺動自在に嵌合し、該昇降台２８に支柱２９が立設され、該支柱２９の上端に基板水平移動手段としてロボットアーム３１が水平方向に進退可能に設けられている。
【００４８】
前記支柱２９の上端部、前記ロボットアーム３１の近傍にフランジ３２が気密に固着され、該フランジ３２にベローズ上フランジ３３が気密に固着され、前記ベローズ下フランジ２３と前記ベローズ上フランジ３３間にはベローズ本体３４が気密に設けられている。前記フランジ３２、前記ベローズ上フランジ３３、前記ベローズ本体３４はベローズ継手３５を構成し、前記駆動機構部６５を前記第３筐体４０内部から離隔し、前記駆動機構部６５による前記第３筐体４０内部の汚染を防止している。又、前記第３筐体４０は前記駆動機構部６５を外部に設けたので、前記第３筐体４０の容積を小さくでき、減圧、復圧等の工程を短時間で行える。
【００４９】
前記上ベースプレート２４と前記下ベースプレート２５間に所要数の昇降機構であるスクリューシャフト２６が、前記ガイドシャフト３０と平行に設けられている。該スクリューシャフト２６は、前記支柱２９の中心に関し、前記ロボットアーム３１の進退方向に分散して設けられている。好ましくは前記支柱２９の中心を通過し、前記ロボットアーム３１の進退方向と直交する基準線に対して対称に配置される。例えば、図５に示される様に、２本の前記スクリューシャフト２６が前記支柱２９の中心を通り前記ロボットアーム３１の進退線上の対称な位置に配設されている。
【００５０】
前記スクリューシャフト２６，２６の下端にはギアボックス２７，２７が設けられ、一方のギアボックス２７には昇降モータ８７が設けられている。前記ギアボックス２７，２７の出力軸（図示せず）にはそれぞれタイミングプーリ８８，８８が固着されており、該タイミングプーリ８８，８８間にタイミングベルト８９が掛回されている。
【００５１】
而して、前記昇降モータ８７を駆動することで、前記タイミングプーリ８８、前記タイミングベルト８９を介して前記スクリューシャフト２６，２６が同期駆動される様になっている。尚、同期駆動する方法としては前記スクリューシャフト２６をギア列等で連結してもよい。
【００５２】
該スクリューシャフト２６，２６は前記昇降台２８と直接、或はナットブロック等を介して螺合しており、前記昇降モータ８７により前記スクリューシャフト２６，２６が駆動されることで前記昇降台２８が昇降する。
【００５３】
前記スクリューシャフト２６、前記ガイドシャフト３０、前記昇降モータ８７、前記タイミングプーリ８８、前記タイミングベルト８９等は昇降手段を構成し、前記ロボットアーム３１は前記昇降手段により前記昇降台２８を介して昇降される。
【００５４】
以下、基板の処理等作動について説明する。
【００５５】
前記ポッド４４に所定数、例えば２５枚の未処理ウェーハが装填され、前記ポッド授受ステージ４３に搬送される。前記ポッド搬送装置４６により前記ポッド４４が前記ポッド載置台４５に搬送され、前記ポッドオープナ４９により前記ポッド４４の蓋が開けられる。
【００５６】
前記第１ゲート弁５２が開放され、前記基板移載装置６４によりポッド載置台４５上の前記ポッド４４内のウェーハ５９が前記基板保管具５５に移載される。予定した移載枚数が２５枚を超える場合は、空のポッド４４とウェーハが装填されたポッド４４が順次交換され、移載が繰返される。
【００５７】
予定した枚数のウェーハ５９が前記基板保管具５５に移載されると、前記第１ゲート弁５２で前記第１移載口５１が気密に閉鎖され、前記第３筐体４０内部が減圧され、前記第４筐体４１と同圧化され、前記第２ゲート弁５４により前記第２移載口５３が開放される。
【００５８】
前記第４筐体４１内では前記ボート７１が降下状態で待機しており、前記炉口７３は前記炉口シャッタ８０により閉塞されており、炉内の温度が前記第４筐体４１内に影響を及さない様になっている。
【００５９】
前記基板移載装置６４の前記ロボットアーム３１により、前記基板保管具５５内のウェーハ５９が前記ボート７１に移載される。該ボート７１への移載が完了すると、前記第２ゲート弁５４により前記第２移載口５３が気密に閉鎖される。前記第４筐体４１内が前記排気管８５を介して減圧され、前記処理室７８と同圧化されると前記炉口７３が開放され、前記ボートエレベータ６６により前記ボート７１が前記処理室７８に装入され、前記シールキャップ６８が前記炉口７３を気密に閉鎖する。
【００６０】
前記処理室７８は前記排気管８２により排気され、所定の圧力に減圧され、前記ヒータ７７により前記ウェーハ５９が加熱され、前記ガス導入管（図示せず）から反応ガスが導入され、前記ウェーハ５９に所要の成膜処理がなされる。
【００６１】
前記基板移載装置６４により、前記ボート７１へのウェーハ５９の移載が完了すると、前記第２ゲート弁５４が閉じられ、前記第３筐体４０内が窒素ガス等の不活性ガスによりガスパージされ、大気圧に同圧化される。該第３筐体４０が前記ポッド４４と同圧化されると、前記ポッドオープナ４９により新たなポッド４４の蓋が開けられ、前記基板保管具５６へのウェーハの移載が行われる。
【００６２】
処理が完了すると、前記ボートエレベータ６６により前記ボート７１が降下され、前記炉口シャッタ８０により前記炉口７３が閉鎖される。前記第３筐体４０が前記第４筐体４１と同圧化され、前記第２ゲート弁５４により前記第２移載口５３が開放される。前記基板移載装置６４により前記ボート７１から処理済のウェーハが空となっている前記基板保管具５５に払出される。
【００６３】
前記基板保管具５５と前記基板保管具５６との間には前記熱遮蔽壁５７が設けられているので、処理済の高温のウェーハの熱による基板保管具５６に保持された未処理ウェーハに及す影響が抑制される。
【００６４】
処理済のウェーハが前記基板保管具５５に全部払出されると、前記基板保管具５６の未処理ウェーハが前記ボート７１へ移載される。未処理ウェーハは該ボート７１に保持され前記処理室７８に装入される。一方、処理済ウェーハは、未処理ウェーハが処理されている間に、前記ガス吹出し管６１から吹出される不活性ガスにより酸化されることなく効果的に冷却される。
【００６５】
前記基板保管具５５で所要の温度（例えば外気温度）迄冷却された後、前記基板移載装置６４により、処理済ウェーハが前記ポッド載置台４５上のポッド４４に移載される。該ポッド４４に所定枚数が移載されると前記ポッドオープナ４９で前記ポッド４４の蓋が閉塞され、外部搬送装置により該ポッド４４が搬出され、代りに空のポッド４４が前記ポッド載置台４５に載置され、前記ポッドオープナ４９で蓋が開けられる。
【００６６】
如上の如く、未処理ウェーハが装填されたポッド４４が順次搬入され、処理済ウェーハが装填されたポッド４４が順次搬出され、前記基板移載装置６４によるウェーハの移載、前記ボートエレベータ６６によるボートの装入、引出し、前記熱処理炉での基板の処理が繰返し行われ、バッチ処理が継続される。
【００６７】
次に、前記基板移載装置６４の作動について、更に説明する。
【００６８】
前記ポッド４４と前記基板保管具５５，５６間、或は該基板保管具５５，５６と前記ボート７１間のウェーハの移載は前記基板移載装置６４によって行われる。
【００６９】
前記基板移載装置６４によるウェーハの移載は、前記ロボットアーム３１の進退、該ロボットアーム３１の間欠上昇動、間欠下降動を伴う。
【００７０】
該ロボットアーム３１の昇降は、前記昇降モータ８７の駆動で、前記スクリューシャフト２６，２６が回転される。該スクリューシャフト２６，２６の回転の回転方向に対応して前記昇降台２８が上昇又降下する。前記スクリューシャフト２６，２６は前記タイミングプーリ８８，８８及び前記タイミングベルト８９により同期駆動されているので、前記スクリューシャフト２６，２６による前記昇降台２８の昇降で、該昇降台２８が傾斜することがない。
【００７１】
前記ロボットアーム３１が上昇することで、前記ベローズ本体３４が伸長し、該ベローズ本体３４の延びに応じた弾性反力が発生する。弾性反力は前記支柱２９を介して前記昇降台２８に伝達される。該昇降台２８を上下方向に拘束するものは前記スクリューシャフト２６，２６であるが、該スクリューシャフト２６，２６は前記支柱２９の中心に関して対称に配置されているので、前記昇降台２８に回転モーメントは発生しない。従って、該昇降台２８に回転変位は生じなく、前記ロボットアーム３１の前記ウェーハ載置部３１ａに上下方向の変位が生じなく、前記ポッド４４、前記基板保管具５５，５６或は前記ボート７１に保持されているウェーハと前記ウェーハ載置部３１ａとが接触する虞れが無くなる。又、該ウェーハ載置部３１ａから、前記ポッド４４、前記基板保管具５５，５６、或は前記ボート７１にウェーハを載置する際、前記ウェーハ載置部３１ａ又はウェーハが前記ポッド４４、前記基板保管具５５，５６或は前記ボート７１に接触する虞れも同様になくなる。
【００７２】
尚、該ウェーハ載置部３１ａの上下方向の変位が、移載に実用上支障ない程度に抑制される場合は、前記スクリューシャフト２６，２６の配置は厳密に対称でなくともよく、前記ロボットアーム３１の進退方向に離隔して設けられ、モーメントの発生が分散される状態となっていればよい。
【００７３】
又、前記ロボットアーム３１は、前記ポッド４４或は前記ボート７１と、ウェーハを受渡しする際、最も、水平方向に延伸する。ウェーハを前記ウェーハ載置部３１ａに載せた状態で最も水平方向に延伸させた方向が、前記ロボットアーム３１及びウェーハ、前記ウェーハ載置部３１ａ等の自重により、回転モーメントが発生する方向となる。この方向に前記スクリューシャフト２６を設けることにより、より一層、モーメントの発生を抑制することができる。図５で示されるスクリューシャフト２６の位置が、図２の前記ポッド４４、前記ボート７１への前記ロボットアーム３１の延伸方向となる。
【００７４】
この様に、好ましくは、ロボットアーム３１を水平方向に最も延伸させる方向にスクリューシャフト２６を設ける、又は、ウェーハをウェーハ載置部３１ａに載せた状態で最も回転モーメントの大きくなる方向にスクリューシャフト２６を設ける様にすればよい。又、支柱に対し対称に組合わせることで、より一層モーメントを分散できる。
【００７５】
又、前記基板移載装置６４は、基板を水平方向に搬送する水平移動手段である屈伸により進退可能なロボットアーム３１、該ロボットアーム３１を昇降させる昇降機構であるスクリューシャフト２６、前記昇降台２８をガイドするガイドシャフト３０等によって構成されるが、前記ロボットアーム３１は伸縮するスライダ等、前記スクリューシャフト２６，２６はシリンダ等であってもよい。
【００７６】
尚、前記スクリューシャフト２６，２６を前記支柱２９の中心に関して対称に配置したと同様、図５で示される様に、前記ガイドシャフト３０を前記支柱２９の中心に関して対称に配置することでも、前記昇降台２８の傾斜に対する拘束力が増大し、前記ロボットアーム３１の傾斜を抑止することができる。
【００７７】
又、２以上スクリューシャフト、ガイドシャフトを設ける場合は、それぞれを同一円周状に均等に分散して設けると、前記ロボットアーム３１の進退方向が任意の方向であっても、効果的に該ロボットアーム３１の傾きを抑制できる。
【００７８】
又、上記実施の形態ではベローズ本体３４を設けた場合を例示したが、ベローズ本体３４がない、大気圧専用の移載装置に対しても実施可能である。当然基板処理装置も耐圧気密構造となっていない基板処理装置や、枚葉装置等基板処理装置全般に適用できる。
【００７９】
【発明の効果】
以上述べた如く本発明によれば、基板保持具に保持された基板を収納し、基板を処理する処理室と、前記基板保持具に基板を移載する基板移載装置を具備する基板処理装置に於いて、前記基板移載装置は基板を水平方向に移動可能な基板水平移動手段と該基板水平移動手段を昇降する昇降手段とを有し、該昇降手段は少なくとも１つの基板水平移動方向に離隔して設けられた複数の昇降機構を備えたので、又本発明によれば、基板保持具に保持された基板を収納し、基板を処理する処理室と、前記基板保持具に基板を移載する基板移載装置を具備する基板処理装置に於いて、前記基板移載装置は基板を水平方向に移動可能な基板水平移動手段と該基板水平移動手段を昇降する昇降手段とを有し、該昇降手段は少なくとも１つの基板水平移動方向に離隔して設けられた複数の昇降ガイドを有するので、基板水平移動手段の回転モーメントによる回転変位を抑止し、確実安全に基板の移載が行えるという優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態を示す概略側断面図である。
【図２】本発明の実施の形態を示す概略平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ矢視図である。
【図４】本発明の実施の形態に於ける基板移載装置の概略構成図である。
【図５】図４のＢ−Ｂ矢視図である。
【図６】従来例を示す概略側断面図である。
【図７】該従来例に於ける基板移載装置の概略構成図である。
【図８】図７のＣ−Ｃ矢視図である。
【符号の説明】
２４        上ベースプレート
２５        下ベースプレート
２６        スクリューシャフト
２８        昇降台
２９        支柱
３０        ガイドシャフト
３１        ロボットアーム
３５        ベローズ継手
４３        ポッド授受ステージ
４４        ポッド
４７        ポッド搬送アーム
４９        ポッドオープナ
５５，５６  基板保管具
５９        ウェーハ
６４        基板移載装置
６５        駆動機構部
６６        ボートエレベータ
７１        ボート
７５        内管
７６        外管
７７        ヒータ
８７        昇降モータ
８８        タイミングプーリ
８９        タイミングベルト
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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