(57)【要約】【課題】蒸着法によりプラスチック基材上に連続的に膜厚分布が変化する膜を形成したＮＤフィルタにおいて、熱収縮による寸法ずれによる影響の少ないＮＤフィルタ、ＮＤフィルタの製造方法、及びこれらのＮＤフィルタを有する光量絞り装置、カメラを提供する。【解決手段】延伸加工の施されたプラスチックフィルムの基材上に、蒸着法により連続的に膜厚分布が変化する膜を形成し、透過光量を変えるようにしたＮＤフィルタを、前記膜による連続的な膜厚分布の変化方向が、前記プラスチックフィルムの主延伸方向と略垂直な方向となるように構成し、羽根の開口端部ＤからＮＤフィルタ上の位置Ｘ２、羽根の開口端部ＤからＮＤフィルタ上の位置０までの距離を一定にすることを可能とする。【選択図】            図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に連続的に膜厚分布が変化する膜を形成し、透過光量を変えるようにしたＮＤフィルタであって、
前記基材が延伸加工の施されたプラスチックフィルムで構成され、前記膜による連続的な膜厚分布の変化方向が、前記延伸加工の施されたプラスチックフィルムの延伸方向と略垂直であることを特徴とするＮＤフィルタ。
【請求項２】
前記延伸加工の施されたプラスチックフィルムが、２軸延伸加工の施されたプラスチックフィルムであり、前記膜による連続的な膜厚分布の変化方向が、前記２軸延伸加工の施されたプラスチックフィルムの主延伸方向と略垂直であることを特徴とする請求項１に記載のＮＤフィルタ。
【請求項３】
前記プラスチックフィルムが、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルムのいずれかの材料からなることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のＮＤフィルタ。
【請求項４】
蒸着法を用いて延伸加工の施されたプラスチックフィルムの基板上に、連続的に膜厚分布が変化する膜を形成し、透過光量を変えるようにしたＮＤフィルタを作製するＮＤフィルタの製造方法であって、
前記延伸加工の施されたプラスチックフィルムの基板上に、前記連続的に膜厚分布が変化する膜を、該プラスチックフィルムの延伸方向と略垂直な方向に形成する工程を有することを特徴とするＮＤフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記延伸加工の施されたプラスチックフィルムとして、２軸延伸加工の施されたプラスチックフィルムを用い、前記工程において前記連続的に膜厚分布が変化する膜を、該プラスチックフィルムの主延伸方向と略垂直な方向に形成することを特徴とする請求項４に記載のＮＤフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記膜の蒸着法が、真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法のいずれかであることを特徴とする請求項４または請求項５に記載のＮＤフィルタの製造方法。
【請求項７】
前記蒸着法による膜の形成に際して、予め熱収縮率を考慮して寸法が修正されたマスクが用いられることを特徴とする４〜６のいずれか１項に記載のＮＤフィルタの製造方法。
【請求項８】
相対的に駆動されて絞り開口の大きさを可変する複数の絞り羽根と、該絞り羽根により形成された開口内の少なくとも一部に配置される光量調整のためのＮＤフィルタとを備えた光量絞り装置において、
前記ＮＤフィルタが、請求項１〜３のいずれか１項に記載のＮＤフィルタ、または請求項４〜７のいずれか１項に記載の製造方法によって製造されたＮＤフィルタで構成されていることを特徴とする光量絞り装置。
【請求項９】
光学系と、該光学系を通過する光量を制限する請求項８に記載の光量絞り装置と、該光学系によって形成される像を受ける固体撮像素子を有することを特徴とするカメラ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＮＤフィルタ、ＮＤフィルタの製造方法、及びこれらのＮＤフィルタを有する光量絞り装置、カメラに関し、特にビデオカメラあるいはスチルビデオカメラ等の撮影系に使用するのに適したグラデーション濃度分布を有するＮＤフィルタの製造方法及びＮＤフィルタ、並びにこれらのＮＤフィルタを有する光量絞り装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般的に、デジタルビデオカメラの絞り装置は、図３に示すような構造に構成されている。このような絞り装置に、同図の３１に示されるＮＤフィルタを用いているのは、つぎのような理由による。撮像画像が明るすぎると絞り羽根は光量を減少させるため、閉める方向に動く。しかし、ある大きさより開口径を小さくすると光線の回折現象が起き、画像の解像度が低下する。この最小絞りを“小絞り”と呼んでいるが、この小絞り時の透過量をより下げるために、ＮＤフィルタによってＣＣＤに到達する光量を減らしている。
【０００３】
近年、撮像素子の感度が向上するに従い、前記ＮＤフィルタの濃度を濃くして、光の透過率をさらに低下させ、被写界の明るさが同一でも絞りの開口を大きくする様になってきている。しかしながら、この様にＮＤフィルタの濃度が濃くなると、図３に示すような状態において、フィルムを通過した光ａと通過しない光ｂの光量差が大きく異なり、画面内で明るさが異なる“シェーディング”現象が起きたり、解像度が低下してしまうという欠点が生じる。そこで、このような欠点を解決するために、ＮＤフィルタの濃度を光軸中心に向かって順次透過率が大となるような構造を取る必要が出てくる。
【０００４】
従来において、光量絞り装置の主要部分であるＮＤフィルタは、フィルム状をなす材料（セルロースアセテート、ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと記す。）、塩化ビニル等）中に光を吸収する有機色素または顔料を混ぜ、練り込むタイプのものを使用してきた。
しかし、前記ＮＤフィルタの濃度を光軸中心に向かって順次透過率が大となる様な構造を得ようとすると、従来方法では作製がかなり困難である。
【０００５】
このような濃度が変化するタイプ（グラデーションタイプ）のＮＤフィルタに関して、本発明者らは、特許文献１、特許文献２、特許文献３、等において、マイクロ写真法による濃度可変タイプ（グラデーションタイプ）のＮＤフィルタの作製方法等を提案している。当時のビデオカメラではこの方法により作製したＮＤフィルタで画質の向上が図られたが、近年のＣＣＤの更なる高感度化、小型化、高画質対応により特に特殊条件での使用（例えば逆光下での小径絞り状態）において、銀塩粒子での光の散乱による影響により画質が劣化してしまうことがある。
また、特許文献４には、真空蒸着法により楕円形グラデーションフィルタの製造方法が開示されている。この方法では、微少領域（例えば３ｍｍの範囲で透過率３％から８０％までの変化等）での濃度変化ができない欠点がある。
【０００６】
このようなことから、本発明者らは、より理想的な濃度可変タイプ（グラデーションタイプ）のＮＤフィルタを得るため、蒸着方法によりそれらを作製することについて、特願２００２−２２０７６２号、特願２００２−２２０７７０号、特願２００２−２２０７７６号等において既に提案をしている。この先行例の例えば特願２００２−２２０７７６号には、図９に示されるような真空蒸着機を用いた蒸着方法による上記した濃度可変タイプのＮＤフィルタの作製方法について、つぎのように記載されている。この真空蒸着法においては、図９の様にチャンバー内の基板は蒸着傘１０１に備え付けられ、この蒸着傘１０１と共に基板１０２が回転し成膜が行われる。この基板１０２の成膜側に例えば図１０に示すようなスリット型のマスクを設けることにより、蒸着源１０３と基板１０２との位置関係から、蒸着する蒸着粒子はスリットを通過し基板１０２に到達できたり、スリット型マスクに遮られ基板１０２まで到達できなかったりすることになり、例えば図１１（ａ）に示すような膜厚分布を得ることとなる。図１１（ａ）の横軸は基板上の位置で、図１１（ｂ）と対応している。縦軸は膜厚である。
【０００７】
このような蒸着方法による上記した濃度可変タイプのＮＤフィルタの作製方法のメリットは、最適な膜構成で成膜を行えば、良好な分光特性が得られることである。例えば、分光透過率の波長依存性の少ないものが得られることである。
ＮＤフィルタとしては、各波長で均一に透過光量を減衰させることが重要である。特別な波長の透過率が高い場合、色バランスが崩れてくる。
可紫光（４００ｎｍから７００ｎｍ）の範囲で、４００ｎｍ近傍の透過率が高い場合は、画像が青っぽくなり、７００ｎｍ近傍の透過率が高い場合は、画像が赤っぽくなる。
また、分光反射率も最適な膜構成で成膜を行えば、２％以下もしくは１％以下にすることが可能で、ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ等に搭載された場合、ゴースト・フレア現象が発生しない。
【０００８】
【特許文献１】特許第２７５４５１８号公報
【特許文献２】特許第２７７１０７８号公報
【特許文献３】特許第２７７１０８４号公報
【特許文献４】特開平１１−３８２０６号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した蒸着法によって上記ＮＤフィルタを作製する場合においては、一方で蒸着源が高温になるため、蒸着源からの輻射熱で基板の温度が上がってしまうこととなり、この温度による影響は、プラスチック基板を用いる場合に特に問題となる。プラスチック基板は、ガラスに比べ割れないため、光量絞り装置を薄く作製することが可能となる点で有利であるが、一般的に光学薄膜を蒸着法で成膜する場合において、ガラス基板では基板温度を３００℃以上の温度で加熱することが可能であるのに対して、プラスチック基板の場合には、あまり温度を上げることができないというデメリットがある。
【００１０】
例えば、延伸されたＰＥＴフィルムの場合、８０℃から寸法の収縮現象が起こり、実際の蒸着では、成膜後で１６０℃前後まで温度上昇し、室温に戻るとかなりの収縮率になる。
その結果、ＮＤフィルタの寸法ずれが生じて、同一面内で濃度の異なるＮＤフィルタの場合、絞り値のずれ（ＦＮＯ．ずれ）が生じる問題がある。
同一面内で濃度が異なるＮＤフィルタにも大きく分けて、
▲１▼２〜３ケの均一濃度部があって、それらの濃度が例えばＮＤ０．５，ＮＤ１．０，ＮＤ１．５の３領域になっている、ステップ型に濃度変化する場合と、
▲２▼連続的に濃度がＮＤ０．１〜ＮＤ１．５に変化する場合がある。
ステップ型に濃度変化する場合は、濃度境界部の位置のずれが問題になる。
また、連続的に濃度変化する場合は、全体のバランスが崩れるため、後者の方がより、寸法精度が問題となってくる。
【００１１】
そこで、本発明は、上記課題を解決し、蒸着法によりプラスチック基材上に連続的に膜厚分布が変化する膜を形成したＮＤフィルタにおいて、熱収縮による寸法ずれによる影響の少ないＮＤフィルタ、ＮＤフィルタの製造方法、及びこれらのＮＤフィルタを有する光量絞り装置、カメラを提供することを目的としている。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明は、以下のように構成したＮＤフィルタ、ＮＤフィルタの製造方法、及びこれらのＮＤフィルタを有する光量絞り装置、カメラを提供する。
すなわち、本発明のＮＤフィルタは、基材上に連続的に膜厚分布が変化する膜を形成し、透過光量を変えるようにしたＮＤフィルタであって、前記基材が延伸加工の施されたプラスチックフィルムで構成され、前記膜による連続的な膜厚分布の変化方向が、前記延伸加工の施されたプラスチックフィルムの延伸方向と略垂直であることを特徴としている。その際、この延伸加工の施されたプラスチックフィルムとして、２軸延伸加工の施されたプラスチックフィルムを用いた場合には、前記膜による連続的な膜厚分布の変化方向が該２軸延伸加工の施されたプラスチックフィルムの主延伸方向と略垂直に構成する。
また、本発明のＮＤフィルタは、前記プラスチックフィルムとして、ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルムのいずれかの材料を用いることができる。
また、本発明のＮＤフィルタの製造方法は、蒸着法を用いて延伸加工の施されたプラスチックフィルムの基板上に、連続的に膜厚分布が変化する膜を形成し、透過光量を変えるようにしたＮＤフィルタを作製するＮＤフィルタの製造方法であって、前記延伸加工の施されたプラスチックフィルムの基板上に、前記連続的に膜厚分布が変化する膜を、該プラスチックフィルムの延伸方向と略垂直な方向に形成する工程を有することを特徴としている。この前記延伸加工の施されたプラスチックフィルムとして、２軸延伸加工の施されたプラスチックフィルムを用いた場合には、前記工程において前記連続的に膜厚分布が変化する膜を、該プラスチックフィルムの主延伸方向と略垂直な方向に形成する。
また、本発明のＮＤフィルタの製造方法は、前記膜の蒸着法として、真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンアシスト蒸着法のいずれかを用いることができる。その際、予め熱収縮率を考慮して寸法が修正されたマスクを用いＮＤフィルタを作製する構成を採ることができる。
また、本発明の光量絞り装置は、相対的に駆動されて絞り開口の大きさを可変する複数の絞り羽根と、該絞り羽根により形成された開口内の少なくとも一部に配置される光量調整のためのＮＤフィルタとを備えた光量絞り装置において、前記ＮＤフィルタが、上記いずれかに記載のＮＤフィルタ、または上記いずれかに記載の製造方法によって製造されたＮＤフィルタで構成することができる。
また、本発明のカメラは、光学系と、該光学系を通過する光量を制限する上記記載の光量絞り装置と、該光学系によって形成される像を受ける固体撮像素子を有する構成とすることができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明は、上記構成により、熱収縮による寸法ずれによる影響の少ないＮＤフィルタ、ＮＤフィルタの製造方法、及びこれらのＮＤフィルタを有する光量絞り装置、カメラを実現するようにしたものであるが、それは本発明者らの鋭意検討した結果による、つぎのような知見に基づくものである。
すなわち、図４に示すように、ＮＤフィルタ４３は絞り羽根４１に貼られているが、ここで、光学的に影響を及ぼすのは、羽根の開口端部である図４に示されるＤからＸ２、ＤからＸ１、Ｄから０までの各距離であるが、本発明者らはこれらの距離のバラツキがどのように生ずるかについて、詳細に調査した結果、特定の個所に発生する寸法変化のバラツキが蒸着工程における加熱温度に起因するＰＥＴの熱収縮によるものであることが明らかとなった。
【００１４】
そして、これによりＮＤフィルタの濃度変化方向を、主延伸方向に対して略垂直とすることにより、羽根の開口端部ＤからＮＤフィルタ上の位置Ｘ２、羽根の開口端部ＤからＮＤフィルタ上の位置０までの距離を一定にすることが可能となり、これらの距離のバラツキにより生じる問題点を解決することができることを見出し、本発明を完成するに到ったものである。
【００１５】
以下に、これらの詳細について説明するが、これらについての理解を容易とするため、まず、このようなＮＤフィルタが光量絞り装置にどのような形態で用いられるかについて説明する。
光量絞り装置の主要部分であるＮＤフィルタ１１および絞り羽根１２は、図１に示すような構成をとっている。
ガラス基材を用いないでプラスチックフィルムを使用している主たる理由としては、前にも述べたがプラスチックフィルムはガラスに比べ割れないため、図３に示す光量絞り装置を薄く作製することが可能となる点が挙げられる。
その結果、図３に示す光学断面図において、レンズ３６Ａ、レンズ３６Ｂの間の間隔を短くすることができ、より高倍率の画像を得ることが可能となる。プラスチックフィルムの板厚は、１００μｍ以下も可能であり５０μｍのものもある。
【００１６】
因みに図３で３６Ａ，３６Ｂ，３６Ｃ，３６Ｄは撮影光学系３６を構成するレンズ、３７は固体撮像素子で３８はローパスフィルタである。また３１から３４は絞り装置で、３１がＮＤフィルタ、３２と３３が対向的に移動する絞り羽根で、２枚の絞り羽根は略菱形の開口を形成する。ＮＤフィルタは普通、絞り羽根に接着されている。３４は絞り羽根支持板である。
【００１７】
図４は図３において絞り部分の位置を光線ａおよびｂの入射方向から見た濃度連続変化タイプＮＤフィルタの絞り装置の図である。ＮＤフィルタ４３は図１のように羽根４１に貼られている。
図４はこれらの羽根が互い違いに動作することにより開口部Ｃの大きさを制御している状態を示している。図中４１、４２は絞り駆動する羽根であり、この場合には、４１の羽根にＮＤフィルタ４３が接着剤により固定されており、４２はＮＤフィルタが張られていないもう片方の羽根を構成している。
図５（ｃ）はＮＤフィルタ全体を示しており、透明プラスチックベースの片面または両面に多層の誘電体を蒸着することにより得られる。
特に濃度が連続的に変化する構造を有しており、これは前述したように図９に示すような基板回転ドーム上に、基板と一体で配置されるスリットマスクを使用することにより得られる。
透明プラスチックとしては、ポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルムが用いられる。
【００１８】
つぎに、図４を用いて濃度変化部の構成を説明する。
図４において、ＮＤフィルタ４３の端面を０とした時、濃度が濃くなる方向にＸ１，Ｘ２，Ｘ３，Ｘ４，Ｘ５と各位置に記号が付けられている。
この例では、ＮＤフィルタの濃度変化方向の端から端までの距離は、５．１ｍｍであり、以下の▲１▼〜▲５▼にこれらの各部について説明する。
▲１▼０〜Ｘ１：透明部  幅１ｍｍ（ＰＥＴ基材に反射防止膜を両面成膜した部分）
▲２▼Ｘ１〜Ｘ２：連続濃度変化部  幅１．６ｍｍ、濃度０．１〜濃度１．２の変化領域。
▲３▼Ｘ２〜Ｘ４：最高濃度部１．２  幅０．５ｍｍ。
▲４▼Ｘ３〜Ｘ４：開口端部付近Ｘ３から接着用の成膜されない部分までの区間。
▲５▼Ｘ４〜Ｘ５：羽根に接着する部分で蒸着膜が成膜されていると接着強度が低下するため、マスクで覆い、基材が露出している部分  幅２ｍｍ。である。これをグラフにしたのが図６である。また、ＮＤフィルタの断面構造を図７に示してある。
【００１９】
ここで、光学的に影響を及ぼすのは、羽根の開口端部である図４に示されるＤからＸ２、ＤからＸ１、Ｄから０までの各距離である。
これらの距離にバラツキが生じると、光量値が各々異なってしまい、不具合が生じる。そのため、これらの距離を各々一定にする必要がある。
（ここで、Ｘ３は、ＮＤフィルタ上の位置を表わしており、羽根の開口端部Ｄ付近に相当する位置である。）
次に、これらの距離のバラツキがどのように生ずるのかを、以下のように調査した。
まず、その前にＮＤフィルタの製造工程の概略について説明する。
ＮＤフィルタは、以下の（１）〜（９）の製造工程を経て作製される。
（１）基材である透明なプラスチックフィルムを、プレスで抜き加工を行う。
（２）蒸着治具に上記透明なプラスチックフィルムをセットする。この時、位置決めを行う基準ピンが治具に取り付けられており、プラスチックフィルムにはそれに対応する基準穴が設けられている。その上に外枠のみ設けられた全面成膜用のマスクをセットする。
（３）反射防止コート（ＡＲコート）の蒸着を行う。（図７に示す７０２のＮＤ部と反対側の面。）
（４）次に、プラスチックフィルムを裏返してセットし、その上に連続的に濃度分布が変化するＮＤフィルタの膜を形成するための、直線スリットマスクをスペーサを介してセットする。両者には位置決め用の基準穴が設けられている。
（５）ＮＤフィルタを構成する膜の蒸着を行う（図７に示す７０１）。
（６）ＮＤフィルタの成膜面と同じ面に、（５）で成膜した部分を覆うマスクをセットし反射防止コート（ＡＲコート）の蒸着を行う。（図７に示す７０２のＮＤ部と同一面側）
このようにして形成された完成図を図５（ａ）に示す。
（７）蒸着されたプラスチックフィルムのシートをシート上のある位置（図５  （ａ）に示す５１）を基準にして外形プレス抜きを行う。
（８）プレス抜きした後の外形は、図５（ｂ）の略台形の様になる。これを剥がして、図１に示す形状のＮＤフィルタを完成させる。
（９）前記プレス抜きされたＮＤフィルタを絞り羽根に張り付け位置を確認して接着する。例えば、図２の２３に示す様なラインに合わせるために、度当たり治具を用いて、位置合わせを行う。
以上が、ＮＤフィルタの製造工程の概略である。
【００２０】
次に、これらの距離を一定にするためには、上記ＮＤフィルタの製造工程のどのような工程に注目すればよいかを考察する。
図４において、ＮＤフィルタの端面０と羽根開口部Ｄの距離は、バラツキは少なが、端面部０〜Ｘ１、０〜Ｘ２には、１００〜２００μｍのバラツキが発生した。
前記のバラツキを調査したところ、真空蒸着工程での寸法変化が大きいことが分かった。真空蒸着工程において、基板加熱温度は１１０℃であるが、蒸着中に温度上昇し、サーモラベルで蒸着中の温度を測定したところ、１６０℃に達していた。
プラスチックフィルムには、材質厚７５μｍのＰＥＴを用い、蒸着前後でのＰＥＴの寸法を比較した。
【００２１】
以下にその結果を示す。
【００２２】
【表１】Ａ方向の寸法調査結果
2005017986.tif 000003
【００２３】
【表２】Ｂ方向の寸法調査結果
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表１、表２にＰＥＴフィルムの図５（ｄ）に示すＡ方向、Ｂ方向の蒸着前後の寸法を測定した結果である。Ａ方向で０．７６％，Ｂ方向で０．３３％の収縮率である。ＰＥＴの熱収縮は、シート加工時の延伸方向と関係がある。
【００２４】
一般に、プラスチックフィルムは、強度を向上させる理由により一方向に延伸をかける１軸延伸と二方向に延伸をかける２軸延伸があり、どちらかを用いている。２軸の場合も一般的にはロール方向の延伸力が強く主延伸となり、主延伸の方向の方がその直交する方向より熱収縮が大きくなる。未延伸プラスチックは一般的に強度が弱く用いられない。
延伸は、プラスチックフィルムの融点以下で二次転移点以上に加熱しながら、縦横２軸延伸を行い、延伸加工後はフィルム分子配向を固定するため、加熱し固定させている。
しかしその後、転移点以上に温度が上がると、分子配列の熱記憶が発生し、熱収縮が発生する。
今回用いられているＰＥＴは、２軸延伸加工が施されていて、図５（ｄ）に示すＡ方向が主延伸方向、Ｂ方向がそれと直交方向である。
この結果から、前述のバラツキの原因がＰＥＴの熱収縮にあることがわかる。
ＮＤフィルタの濃度変化方向を、主延伸方向に対して略垂直とすることにより、無作為の方向の時と比較して、寸法変化を１／２以下にすることが可能になった。
また、熱収縮率を考慮して予めマスクの寸法を修正して作成することにより、無作為の方向の時と比較して寸法変化を１／１０以下にすることが可能になった。
【００２５】
【実施例】
以下に、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではない。
本実施例においては、ＮＤフィルタを、つぎの（１）〜（９）の製造工程により作製した。
（１）高透過率の材厚７５μｍのＰＥＴの主延伸方向をＮＤフィルタの濃度変化方向と略垂直方向にベース材の外形プレス抜きを行う。
（２）蒸着治具に上記透明なプラスチックフィルムをセットする。この時、位置決めを行う基準ピンを治具には取り付けられており、プラスチックフィルムにはそれに対応する基準穴が設けられている。その上に外枠のみ設けられた全面成膜用のマスクをセットする。
（３）反射防止コート（ＡＲコート）の蒸着を行う。（図７に示す７０２のＮＤ部と反対側の面。）
（４）次に、プラスチックフィルムを裏返してセットし、その上に連続的に濃度分布が変化するＮＤフィルタの膜を形成するための、直線スリットマスクをスペーサを介してセットする。両者には位置決め用の基準穴が設けられている。
（５）ＮＤフィルタを構成する膜の蒸着を行う（図７に示す７０１）。
【００２６】
ここで、一例として、このようにして形成された膜構成を、図８に示す。
（６）ＮＤフィルタの成膜面と同じ面に、マスクをセットし反射防止コート（ＡＲコート）の蒸着を行う。（図７に示す７０２のＮＤ部と同一面側）
このようにして形成された完成図を図５に示す。
（７）蒸着されたプラスチックフィルムのシートをシート上のある位置（図５  （ａ）に示す５１）を基準にして外形プレ抜きを行う。
（８）プレス抜きした後の外形は、図５（ｂ）の略台形の様になる。これを剥がして、図５（ｃ）に示す形状のＮＤフィルタが完成する。
（９）前記プレス抜きされたＮＤフィルタを絞り羽根に張り付け位置を治具を用いて確認し、接着する。
【００２７】
その結果、寸法０〜Ｘ１、０〜Ｘ２のバラツキを±２０μｍにすることが可能となった。
このことから、羽根の開口部ＤからＮＤフィルタ上の位置Ｘ２、及び開口部ＤからＮＤフィルタ上の位置０までの距離のバラツキを±２０μｍにすることが可能になった。
これを組み込むことにより、ビデオカメラの絶対光量を均一にすることが可能となった。
一般的にはレンズの明るさを示すＦナンバーがあるが、この絞りを搭載しているビデオカメラの機器差は±０．２に抑えることが可能となり、機器により同じＦナンバーで明るさが異なるということを無くすことができた。
【００２８】
【発明の効果】
本発明によれば、蒸着法によりプラスチック基材上に連続的に膜厚分布が変化する膜を形成したＮＤフィルタにおいて、熱収縮による寸法ずれによる影響の少ないＮＤフィルタ、ＮＤフィルタの製造方法、及びこれらのＮＤフィルタを有する光量絞り装置、カメラを実現することができる。これにより、光量絞り装置におけるＮＤフィルタの熱収縮による寸法ずれによって生じる、光量値の異なりに起因する不具合を解決することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を説明するための濃度可変タイプ（グラデーションタイプ）のＮＤフィルターが羽根に貼られている図。
【図２】本発明の実施の形態を説明するための度当たり治具でＮＤフィルタの位置を合わせた図。
【図３】本発明を説明するための撮影系にＮＤフィルタを配した時の作用を示すための光学断面図。
【図４】本発明を説明するための絞り装置の状態を表わした図。
【図５】（ａ）は本発明の実施の形態を説明するための成膜されたプラスチックフィルムの状態を表わした図、（ｂ）は成膜されたプラスチックフィルムをプレス抜きした状態を表わした図、（ｃ）はプレス抜きした後に剥されて完成したＮＤフィルタの構成を示す図、（ｄ）は本発明を説明するためのプラスチックフィルムの収縮率を調べた時の図。
【図６】連続濃度変化タイプＮＤフィルタの距離ｖｓ．濃度の関係を表わした図。
【図７】本発明の実施の形態及び実施例におけるＮＤフィルタの断面構成図。
【図８】本発明の実施例におけるＮＤフィルタの膜構成図。
【図９】本発明の先行例における真空蒸着法によるＮＤフィルタの製造方法を説明するための図であり、（ａ）は真空蒸着機におけるチャンバー内の構成図、（ｂ）は基板の拡大図である。
【図１０】本発明の先行例に用いられるスリット型マスクとマスク形状を示す図。
【図１１】本発明の先行例におけるスリット型マスクによる膜厚分布シミュレーション例を示す図。
【符号の説明】
１１：ＮＤフィルタ
１２：絞り羽根
２３：度当たり治具
３６Ａ，３６Ｂ，３６Ｃ，３６Ｄ：撮影光学系３６を構成するレンズ
３７：固体撮像素子
３８：ローパスフィルタ
３１：ＮＤフィルター
３２，３３：絞り羽根
３４：絞り羽根支持板
５１：切断基準線
４１：ＮＤフィルタが貼られている方の絞り羽根
４２：ＮＤフィルタが貼られていないもう片方の羽根
４３：ＮＤフィルタ
Ａ：主延伸方向
Ｂ：主延伸方向と略垂直方向
Ｃ：開口部
Ｄ：開口部端部
７０１：ＮＤフィルタ膜
７０２：反射防止膜
７０３：ＰＥＴフィルム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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