(57)【要約】【課題】  磁気ディスク装置において、高記録密度化と高信頼性とを確保しつつ消費電力の低減を図ること。【解決手段】  磁気ディスク装置は、回転可能な磁気ディスクと、この磁気ディスク面から浮上可能な磁気ヘッドスライダ１とを備えている。磁気ヘッドスライダ１は、回転する磁気ディスク面から所定間隔で近接浮上するための空気軸受面９と、磁気ディスクの記録および再生の少なくとも一方を行なう記録再生素子２、３と、記録再生素子２、３と磁気ディスク面との距離を調整するための加熱装置１６とを有している。加熱装置１６はその加熱により空気軸受面６の一部を膨張突出させて記録再生素子２、３と磁気ディスク面との距離を増加させるように設置されている。【選択図】  図２
2005276284.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転可能な磁気ディスクと、この磁気ディスク面から浮上可能な磁気ヘッドスライダとを備えた磁気ディスク装置において、
前記磁気ヘッドスライダは、回転する磁気ディスク面から所定間隔で近接浮上するための空気軸受面と、前記磁気ディスクの記録および再生の少なくとも一方を行なう記録再生素子と、前記記録再生素子と前記磁気ディスク面との距離を調整するための加熱装置とを有し、
前記加熱装置はその加熱により前記空気軸受面の一部を膨張突出させて前記記録再生素子と前記磁気ディスク面との距離を増加させるように設置されている
ことを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項２】
前記空気軸受面は実質的に平行な複数の面で形成され、
この複数の面は、稼動時に前記磁気ディスクに最も接近し且つ前記記録再生素子が設置された素子設置面と、前記素子設置面からそれぞれ２種類以上の所定の深さを有する溝面とを有し、
前記加熱装置の前記空気軸受面に投影した位置は、前記素子設置面内にあり、且つ前記記録再生素子が設置された部分とは溝部を介して隔てられている
ことを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク装置。
【請求項３】
前記空気軸受面は実質的に平行な複数の面で形成され、
この複数の面は、稼動時に前記磁気ディスクに最も接近し且つ前記記録再生素子が設置された素子設置面と、前記素子設置面からそれぞれ２種類以上の所定の深さを有する溝面とを有し、
前記加熱装置の前記空気軸受面に投影した位置は前記溝面内にある
ことを特徴とする請求項１に記載の磁気ヘッドスライダ。
【請求項４】
前記空気軸受面は実質的に平行な４つの面を有し、
これらの４つの面は、稼動時に前記磁気ディスクに最も接近し且つ前記記録再生素子が設置された第一の面と、前記第一の面から３ｎｍ乃至５０ｎｍの深さを有する第二の面と、前記第二の面から所定の深さを有する第三の面と、前記第三の面より更に深くに位置する第四の面とを備え、
前記加熱装置は前記空気軸受面に投影した位置が前記第二の面内あるいはその近傍０．０５ｍｍ以内にある
ことを特徴とする請求項１に記載の磁気ディスク装置。
【請求項５】
前記第一の面内にある前記記録再生素子が設置された面は前記第二の面および前記第三の面の何れにも接していないことを特徴とする請求項４に記載の磁気ディスク装置。
【請求項６】
前記第一の面内にある前記記録再生素子が設置された面の面積は０．００５平方ｍｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載の磁気ディスク装置。
【請求項７】
回転可能な磁気ディスクと、この磁気ディスク面から浮上可能な磁気ヘッドスライダとを備えた磁気ディスク装置において、
前記磁気ヘッドスライダは、回転する磁気ディスク面から所定間隔で近接浮上するための空気軸受面と、前記磁気ディスクの記録および再生の少なくとも一方を行なう記録再生素子と、前記記録再生素子と前記磁気ディスク面との距離を調整するための加熱装置とを有し、
前記加熱装置は、その加熱により前記空気軸受面の一部を膨張突出させて前記記録再生素子と磁気ディスク面との距離を増加させる浮上量増加用加熱装置と、その加熱により前記空気軸受面の他の一部を膨張突出させて前記記録再生素子と磁気ディスク面との距離を減少させる浮上量減少用加熱装置とを有する
ことを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項８】
前記空気軸受面は実質的に平行な複数の面で形成され、
この複数の面は、稼動時に前記磁気ディスクに最も接近し且つ前記記録再生素子が設置された素子設置面と、前記素子設置面からそれぞれ２種類以上の所定の深さを有する溝面とを有し、
前記加熱装置の前記空気軸受面に投影した位置は、前記素子設置面内にあり、且つ前記記録再生素子が設置された部分とは溝部を介して隔てられている
ことを特徴とする請求項７に記載の磁気ディスク装置。
【請求項９】
前記空気軸受面は実質的に平行な複数の面で形成され、
この複数の面は、稼動時に前記磁気ディスクに最も接近し且つ前記記録再生素子が設置された素子設置面と、前記素子設置面からそれぞれ２種類以上の所定の深さを有する溝面とを有し、
前記加熱装置の前記空気軸受面に投影した位置は前記溝面内にある
ことを特徴とする請求項７に記載の磁気ディスク装置。
【請求項１０】
前記空気軸受面は実質的に平行な４つの面を有し、
これらの４つの面は、稼動時に前記磁気ディスクに最も接近し且つ前記記録再生素子が設置された第一の面と、前記第一の面から３ｎｍ乃至５０ｎｍの深さを有する第二の面と、前記第二の面から所定の深さを有する第三の面と、前記第三の面より更に深くに位置する第四の面とを備え、
前記加熱装置は前記空気軸受面に投影した位置が前記第二の面内あるいはその近傍０．０５ｍｍ以内にある
ことを特徴とする請求項７に記載の磁気ディスク装置。
【請求項１１】
前記第一の面内にある記録再生素子が設置された面は前記第二の面および前記第三の面の何れにも接することなく、
前記第一の面内にある前記記録再生素子が設置された前記面の面積は０．００５平方ｍｍ以下である
ことを特徴とする請求項１０に記載の磁気ディスク装置。
【請求項１２】
前記浮上量増加用加熱装置と浮上量減少用加熱装置との何れに通電するかを制御する制御装置を備えたことを特徴とする請求項７に記載の磁気ディスク装置。
【請求項１３】
前記制御装置は前記磁気ヘッドスライダ内に搭載されたダイオードを有していることを特徴とする請求項１２に記載の磁気ディスク装置。
【請求項１４】
前記浮上量増加用加熱装置と前記浮上量減少用加熱装置は、前記磁気ヘッドスライダ内において互いに逆極性のダイオードを介して並列に接続され、前記磁気ヘッドスライダの端面に設けられた電気接続端子に共通して接続され、
前記制御装置は、前記電気接続端子に印加される電圧の正負を以って前記浮上量増加用加熱装置と前記浮上量減少用加熱装置のいずれに電流を供給されるかを制御する
ことを特徴とする請求項１２に記載の磁気ディスク装置。
【請求項１５】
前記浮上量増加用加熱装置の大きさが前記浮上量減少用加熱装置の大きさによりも大きいことを特徴とする請求項７に記載の磁気ディスク装置。
【請求項１６】
前記浮上量増加用加熱装置と前記空気軸受面との距離が前記浮上量減少用加熱装置と前記空気軸受面との距離より大きいことを特徴とする請求項７に記載の磁気ディスク装置。
【請求項１７】
回転可能な磁気ディスクと、この磁気ディスク面から浮上可能な磁気ヘッドスライダとを備えた磁気ディスク装置において、
前記磁気ヘッドスライダは、回転する磁気ディスク面から所定間隔で近接浮上するための空気軸受面と、前記磁気ディスクの記録および再生の少なくとも一方を行なう記録再生素子と、前記記録再生素子と前記磁気ディスク面との距離を調整するための加熱装置とを有し、
前記加熱装置は、前記磁気ヘッドスライダの両側に位置する前記空気軸受面の部分の膨張突出量を変えてロール方向姿勢を調節するように設置されている
ことを特徴とする磁気ディスク装置。
【請求項１８】
回転する磁気ディスク面から所定間隔で近接浮上するための空気軸受面と、磁気ディスクの記録および再生の少なくとも一方を行なう記録再生素子と、前記記録再生素子と前記磁気ディスク面との距離を調整するための加熱装置とを有する磁気ヘッドスライダにおいて、
前記加熱装置はその加熱により前記空気軸受面の一部を膨張突出させて前記記録再生素子と前記磁気ディスク面との距離を増加させるように設置されている
ことを特徴とする磁気ヘッドスライダ。
【請求項１９】
前記加熱装置は、その加熱により前記空気軸受面の一部を膨張突出させて前記記録再生素子と磁気ディスク面との距離を増加させる浮上量増加用加熱装置と、その加熱により前記空気軸受面の他の一部を膨張突出させて前記記録再生素子と磁気ディスク面との距離を減少させる浮上量減少用加熱装置とを有することを特徴とする請求項１８に記載の磁気ヘッドスライダ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク装置に係わり、特に磁気ディスクと磁気ヘッドの距離を調整する機能を持った浮上量調整スライダを備える磁気ディスク装置に好適なものである。
た浮上量調整スライダに関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク装置は、回転する磁気ディスクと、記録再生素子を搭載しロードビームによって支持および径方向位置決めされた磁気ヘッドスライダとを有し、磁気ヘッドスライダが相対的に磁気ディスク上を走行して磁気ディスク上に記録された磁気情報を読み書きする。磁気ヘッドスライダは空気潤滑軸受として空気のくさび膜効果によって浮上し、磁気ディスクと磁気ヘッドスライダとが直接は固体接触しないようになっている。磁気ディスク装置の高記録密度化と、それによる装置の大容量化あるいは小型化を実現するためには、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクの距離、すなわちスライダ浮上量を縮め、線記録密度を上げることが有効である。
【０００３】
従来からスライダ浮上量の設計においては、加工組立ばらつきによる浮上量個体差、使用環境気圧による浮上量差、使用環境温度による浮上量差、記録／再生浮上量差、および半径位置（周速）による浮上量差などを設計時にあらかじめ予想し、最も厳しい条件でも磁気ヘッドスライダと磁気ディスクとが接触しないように浮上量マージンを設けている。これによって、磁気ディスク装置の信頼性を確保するようにしている。ここで、ヘッド個体毎に、または使用環境に応じて浮上量を調整する機能を有する磁気ヘッドスライダを備えた磁気ディスク装置を実現することができれば、上記マージンを低減することができ、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクの接触を防ぎつつ、記録再生素子の浮上量を縮めることができる。
【０００４】
従来の浮上量を調整する機能を有する磁気ヘッドスライダを備えた磁気ディスク装置として、特開平５−２０６３５号公報（特許文献１）に示されたものがある。この特許文献１の磁気ディスク装置は、薄膜抵抗体から成る加熱装置を記録再生素子の近傍に設け、磁気ヘッドスライダの一部を必要に応じて加熱して熱膨張させることにより記録再生素子部を突出させ、記録再生素子の浮上量を調整するものである。
【０００５】
また、従来の浮上量を調整する機能を有する磁気ヘッドスライダを備えた磁気ディスク装置として、特開２００３−２９７０２９号公報（特許文献２）に示されたものがある。この特許文献２の磁気ディスク装置は、記録再生素子の近傍に、温度センサ、発熱体およびペルチェ素子を設け、制御回路により、記録再生素子部の温度を一定に保つことにより、記録再生素子の浮上量を一定に保つ事を可能にするものである。
【０００６】
【特許文献１】特開平５−２０６３５号公報
【０００７】
【特許文献２】特開２００３−２９７０２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上述した特許文献１の磁気ディスク装置では、磁気ヘッドスライダの記録再生素子部を熱膨張によって突出させるのみ方式であり、換言すれば、加熱装置への通電によって記録再生素子の浮上量を小さくするのみの一方向制御である。従って、この特許文献１の磁気ディスク装置において、加工組立ばらつきによる浮上量個体差、使用環境気圧による浮上量差、使用環境温度による浮上量差、記録／再生による浮上量差、および半径位置（周速）による浮上量差などの全ての浮上低下を考慮した最も厳しい条件でも、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクとが接触しないようにして信頼性を確保するためには、浮上量頻度分布の中心値を接触開始浮上量より大幅に高くする必要がある。そして、磁気ディスク装置の高記録密度化を図るには、記録再生素子の浮上量をできるだけ縮小する必要があるため、浮上調整ストロークの平均値を大きくする必要がある。これに伴って加熱装置に大きな電力を供給することとなり、消費電力が大きくなるという問題があった。また、現在主流となっている磁気抵抗効果を利用した記録再生素子は熱負荷に弱く、高温に晒される時間が長いと寿命が短くなるという特徴がある。従って、加熱装置が記録再生素子の近くに配置され、また加熱装置に印加する電力が大きいと、加熱によって記録再生素子の寿命を低下させてしまう恐れがある。
【０００９】
一方、上述した特許文献２の磁気ディスク装置では、ペルチェ素子を用いて記録再生素子の浮上量を制御するものであるため、磁気ヘッドスライダ内にペルチェ素子を組み込んで所要の制御をすることが実用的に難しいという課題があった。
【００１０】
本発明の目的は、高記録密度化と高信頼性とを確保しつつ消費電力の低減を図ることができる磁気ディスク装置および磁気ヘッドスライダを得ることにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記目的を達成するため、本発明は、加熱装置の加熱により空気軸受面の一部を膨張突出させて記録再生素子と磁気ディスク面との距離を増加させるように加熱装置を設置したことを特徴とするものである。
【００１２】
本発明の第１の態様は、回転可能な磁気ディスクと、この磁気ディスク面から浮上可能な磁気ヘッドスライダとを備えた磁気ディスク装置において、前記磁気ヘッドスライダは、回転する磁気ディスク面から所定間隔で近接浮上するための空気軸受面と、前記磁気ディスクの記録および再生の少なくとも一方を行なう記録再生素子と、前記記録再生素子と前記磁気ディスク面との距離を調整するための加熱装置とを有し、前記加熱装置はその加熱により前記空気軸受面の一部を膨張突出させて前記記録再生素子と前記磁気ディスク面との距離を増加させるように設置されている構成である。
【００１３】
係る本発明の第１の態様におけるより好ましい具体的構成は次の通りである。
（１）前記空気軸受面は実質的に平行な複数の面で形成され、この複数の面は、稼動時に前記磁気ディスクに最も接近し且つ前記記録再生素子が設置された素子設置面と、前記素子設置面からそれぞれ２種類以上の所定の深さを有する溝面とを有し、前記加熱装置の前記空気軸受面に投影した位置は、前記素子設置面内にあり、且つ前記記録再生素子が設置された部分とは溝部を介して隔てられていること。
（２）前記空気軸受面は実質的に平行な複数の面で形成され、この複数の面は、稼動時に前記磁気ディスクに最も接近し且つ前記記録再生素子が設置された素子設置面と、前記素子設置面からそれぞれ２種類以上の所定の深さを有する溝面とを有し、前記加熱装置の前記空気軸受面に投影した位置は前記溝面内にあること。
（３）前記空気軸受面は実質的に平行な４つの面を有し、これらの４つの面は、稼動時に前記磁気ディスクに最も接近し且つ前記記録再生素子が設置された第一の面と、前記第一の面から３ｎｍ乃至５０ｎｍの深さを有する第二の面と、前記第二の面から所定の深さを有する第三の面と、前記第三の面より更に深くに位置する第四の面とを備え、前記加熱装置は前記空気軸受面に投影した位置が前記第二の面内あるいはその近傍０．０５ｍｍ以内にあること。
（４）前記第一の面内にある前記記録再生素子が設置された面は前記第二の面および前記第三の面の何れにも接していないこと。
（５）前記第一の面内にある前記記録再生素子が設置された面の面積は０．００５平方ｍｍ以下であること。
【００１４】
本発明の第２の態様は、回転可能な磁気ディスクと、この磁気ディスク面から浮上可能な磁気ヘッドスライダとを備えた磁気ディスク装置において、前記磁気ヘッドスライダは、回転する磁気ディスク面から所定間隔で近接浮上するための空気軸受面と、前記磁気ディスクの記録および再生の少なくとも一方を行なう記録再生素子と、前記記録再生素子と前記磁気ディスク面との距離を調整するための加熱装置とを有し、前記加熱装置は、その加熱により前記空気軸受面の一部を膨張突出させて前記記録再生素子と磁気ディスク面との距離を増加させる浮上量増加用加熱装置と、その加熱により前記空気軸受面の他の一部を膨張突出させて前記記録再生素子と磁気ディスク面との距離を減少させる浮上量減少用加熱装置とを有する構成である。
【００１５】
係る本発明の第２の態様におけるより好ましい具体的構成は次の通りである。
（１）前記空気軸受面は実質的に平行な複数の面で形成され、この複数の面は、稼動時に前記磁気ディスクに最も接近し且つ前記記録再生素子が設置された素子設置面と、前記素子設置面からそれぞれ２種類以上の所定の深さを有する溝面とを有し、前記加熱装置の前記空気軸受面に投影した位置は、前記素子設置面内にあり、且つ前記記録再生素子が設置された部分とは溝部を介して隔てられていること。
（２）前記空気軸受面は実質的に平行な複数の面で形成され、この複数の面は、稼動時に前記磁気ディスクに最も接近し且つ前記記録再生素子が設置された素子設置面と、前記素子設置面からそれぞれ２種類以上の所定の深さを有する溝面とを有し、前記加熱装置の前記空気軸受面に投影した位置は前記溝面内にあること。
（３）前記空気軸受面は実質的に平行な４つの面を有し、これらの４つの面は、稼動時に前記磁気ディスクに最も接近し且つ前記記録再生素子が設置された第一の面と、前記第一の面から３ｎｍ乃至５０ｎｍの深さを有する第二の面と、前記第二の面から所定の深さを有する第三の面と、前記第三の面より更に深くに位置する第四の面とを備え、前記加熱装置は前記空気軸受面に投影した位置が前記第二の面内あるいはその近傍０．０５ｍｍ以内にあること。
（４）前記第一の面内にある記録再生素子が設置された面は前記第二の面および前記第三の面の何れにも接することなく、前記第一の面内にある前記記録再生素子が設置された前記面の面積は０．００５平方ｍｍ以下であること。
（５）前記浮上量増加用加熱装置と浮上量減少用加熱装置との何れに通電するかを制御する制御装置を備えたこと。
（６）前記制御装置は前記磁気ヘッドスライダ内に搭載されたダイオードを有していること。
（７）前記浮上量増加用加熱装置と前記浮上量減少用加熱装置は、前記磁気ヘッドスライダ内において互いに逆極性のダイオードを介して並列に接続され、前記磁気ヘッドスライダの端面に設けられた電気接続端子に共通して接続され、前記制御装置は、前記電気接続端子に印加される電圧の正負を以って前記浮上量増加用加熱装置と前記浮上量減少用加熱装置のいずれに電流を供給されるかを制御すること。
（８）前記浮上量増加用加熱装置の大きさが前記浮上量減少用加熱装置の大きさによりも大きいこと。
（９）前記浮上量増加用加熱装置と前記空気軸受面との距離が前記浮上量減少用加熱装置と前記空気軸受面との距離より大きいこと。
【００１６】
本発明の第３の態様は、回転可能な磁気ディスクと、この磁気ディスク面から浮上可能な磁気ヘッドスライダとを備えた磁気ディスク装置において、前記磁気ヘッドスライダは、回転する磁気ディスク面から所定間隔で近接浮上するための空気軸受面と、前記磁気ディスクの記録および再生の少なくとも一方を行なう記録再生素子と、前記記録再生素子と前記磁気ディスク面との距離を調整するための加熱装置とを有し、前記加熱装置は、前記磁気ヘッドスライダの両側に位置する前記空気軸受面の部分の膨張突出量を変えてロール方向姿勢を調節するように設置されている構成である。
【００１７】
本発明の第４の態様は、回転する磁気ディスク面から所定間隔で近接浮上するための空気軸受面と、磁気ディスクの記録および再生の少なくとも一方を行なう記録再生素子と、前記記録再生素子と前記磁気ディスク面との距離を調整するための加熱装置とを有する磁気ヘッドスライダにおいて、前記加熱装置はその加熱により前記空気軸受面の一部を膨張突出させて前記記録再生素子と前記磁気ディスク面との距離を増加させるように設置されている構成である。
【００１８】
係る本発明の第４の態様におけるより好ましい具体的構成は次の通りである。
（１）前記加熱装置は、その加熱により前記空気軸受面の一部を膨張突出させて前記記録再生素子と磁気ディスク面との距離を増加させる浮上量増加用加熱装置と、その加熱により前記空気軸受面の他の一部を膨張突出させて前記記録再生素子と磁気ディスク面との距離を減少させる浮上量減少用加熱装置とを有すること。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、高記録密度化と高信頼性とを確保しつつ消費電力の低減を図ることができる磁気ディスク装置および磁気ヘッドスライダを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の複数の実施例について図を用いて説明する。各実施例の図における同一符号は同一物または相当物を示す。なお、それぞれの実施例を必要に応じて適宜に組み合わせることでより効果的なものとすることができる。
【００２１】
まず、本発明の第１実施例の磁気ディスク装置を図１から図７を用いて説明する。
【００２２】
本実施例による磁気ディスク装置１１の概略構成を図１に示す。磁気ディスク装置１１は、スピンドルモータ２１と、回転可能な磁気ディスク２と、この磁気ディスク面から浮上可能な磁気ヘッドスライダ１と、一側に磁気ヘッドスライダ１を搭載して回動可能なアクチュエータ２２と、アクチュエータ２２を駆動するボイスコイルモータ２３とを備えて構成されている。この磁気ディスク装置１１はディスクエンクロージャのベース２４とカバー（図示せず）とを備えている。
【００２３】
磁気ヘッドスライダ１には、磁気情報を記録再生する記録再生素子が搭載されている。磁気ディスク１０は磁気情報が格納され、スピンドルモータ２１によって回転される。磁気ヘッドスライダ１は、板ばね状のロードビームに取り付けられており、ロードビームによって磁気ディスク面への押し付け荷重が与えられている。また、磁気ヘッドスライダ１は、ロードビームとともにボイスコイルモータ２３によって磁気ディスク１０の径方向にシーク動作し、磁気ディスク面全体で記録再生を行なう。磁気ヘッドスライダ１は、装置の停止時あるいは読み書き命令が一定時間無い時に、磁気ディスク１０上からランプ１４上に待避される。
【００２４】
なお、ここではロード・アンロード機構を備えた装置を示したが、装置停止中は磁気ヘッドスライダ１が磁気ディスク１０のある特定の領域で待機するコンタクト・スタート・ストップ方式の磁気ディスク装置でも本発明の効果は同様に得られる。
【００２５】
磁気ヘッドスライダ１は空気潤滑軸受として空気のくさび膜効果によって浮上し、磁気ディスク１０と磁気ヘッドスライダ１とが直接は固体接触しないようになっている。本実施例では、磁気ディスク装置１１の高記録密度化と、それによる装置の大容量化あるいは小型化を実現するために、磁気ヘッドスライダと磁気ディスクの距離、すなわちスライダ浮上量を縮め、線記録密度を上げるように配慮されている。
【００２６】
図２は本実施例の磁気ヘッドスライダ１の斜視図である。磁気ヘッドスライダ１は、アルミナとチタンカーバイドの焼結体に代表される材料の基板（ウエハ）部分１ａと、基板上に薄膜プロセスで記録再生素子や配線パターンが形成され、アルミナなどの硬質保護膜で覆われた薄膜ヘッド部分１ｂから成る。
【００２７】
磁気ヘッドスライダ１は例えば長さ１．２５ｍｍ、幅１．０ｍｍ、厚さ０．３ｍｍのほぼ直方体形状をしており、浮上面である空気軸受面９、空気流入端面１２、空気流出端面１３、両側の側面、背面の計６面から構成される。空気軸受面９にはイオンミリングやエッチングなどのプロセスによって微細な段差が設けられており、図示されていない磁気ディスク１０と対向して空気圧力を発生し、背面に負荷される荷重を支える空気軸受の役目を果たしている。なお、磁気ヘッドスライダ１の寸法は、本実施例の寸法以外に、更に小型で長さ０．８５ｍｍ、幅０．７ｍｍ、厚さ０．２３ｍｍの寸法規格がある。この小型磁気ヘッドスライダに本実施例の構成を適用すれば、その効果は更に大きいものとなる。
【００２８】
空気軸受面９には前記のように段差が設けられ、実質的に平行な４種類の面に分類される。この４種類の面は、最も磁気ディスクに近い素子設置面５（第一の面）と、素子設置面５より約５ｎｍ深い超浅溝面６（第二の面）と、素子設置面５より約１５０ｎｍ深いステップ軸受面である浅溝面７（第三の面）と、素子設置面５より約１μｍ深くなっている深溝面８（第四の面）との４種類の面で構成されている。
【００２９】
なお、図示するように、素子設置面５、超浅溝面６、浅溝面７は、それぞれ複数の構成要素５ａ〜５ｃ、構成要素６ａ〜６ｂ、構成要素７ａ〜７ｃに分割されている。ここで、構成要素５ａは素子設置面を構成し、構成要素６ａ、６ｂは超浅溝面を構成する。磁気ヘッドスライダ１の空気流出端側には、中央に深溝面８から突出する素子設置面５ａが設けられ、素子設置面５ａの左右両側に深溝面８から突出する浅溝面７ａ、７ｂが設けられ、浅溝面７ａ、７ｂの中央から突出する超浅溝面６ａ、６ｂが設けられている。磁気ヘッドスライダ１の空気流入端側には、磁気ヘッドスライダ１の左右前幅にわたって深溝面８から突出する浅溝面７ｃが設けられ、浅溝面７ｃの左右両側部分から突出する素子設置面５ｂ、５ｃが設けられている。
【００３０】
磁気ヘッドスライダ１の空気流出端側から見た図を図３に示す。図３は微細な段差を強調して描いた模式図である。素子設置面５から超浅溝面６までの寸法Ｄ１は約５ｎｍ、素子設置面５から浅溝面７までの寸法Ｄ２は約１５０ｎｍ、素子設置面５から深溝面８までの寸法Ｄ３は約１μｍである。この素子設置面５から深溝面８までの各面の段差は、順に大きくなるように設計されている。
【００３１】
磁気ディスク１０が回転することで生じる空気流が、ステップ軸受である浅溝面７ａ、７ｂから超浅溝面６ａ、６ｂへ進入する際、およびステップ軸受である浅溝面７ｃから素子設置面５ｂ、５ｃへ進入する際には、先すぼまりの流路によって圧縮され、正の空気圧力を生じる。換言すれば、磁気ヘッドスライダ１が磁気ディスク１０より離れる方向の空気圧力が生じる。一方、浅溝面７ｃから深溝面８へ空気流が進入する際には、流路の拡大によって負の空気圧力が生じる。換言すれば、磁気ヘッドスライダ１が磁気ディスク１０に近づく方向の空気圧力が生じる。
【００３２】
磁気ヘッドスライダ１は空気流入端側の浮上量が空気流出端側の浮上量より大きくなるようなピッチ方向姿勢で安定するよう設計されている。従って、空気軸受面９の空気流出端１３近傍が磁気ディスク１０に最も接近する。流出端近傍では、素子設置面５ａが周囲の超浅溝面６ａ、６ｂ、浅溝面７ａ、深溝面８に対して突出しているので、スライダピッチ姿勢およびロール姿勢が一定限度を超えて傾かない限り、素子設置面５ａが最も磁気ディスク１０に近づくことになる。記録素子２および再生素子３から構成される記録再生素子は、素子設置面５ａの薄膜ヘッド１ｂ部分に形成されている。記録素子２および再生素子３は、磁気抵抗効果を利用したもので構成されており、熱負荷に弱く、高温に晒される時間が長いと寿命が短くなるという特徴を有している。また、少なくとも素子設置面５ａは、記録再生素子の腐食を防ぐためにカーボン等の保護膜で被膜されている。
【００３３】
素子設置面５と超浅溝面６の段差約５ｎｍの形成方法としては、約５ｎｍの前記カーボン膜を酸素アッシング等の手段で除去することによって得るのが容易な方法である。
【００３４】
素子設置面５ａから磁気ヘッドスライダ１の内部に入った部分には、薄膜抵抗体による加熱装置がスパッタリングなどの薄膜プロセスを用いて形成されており、これを本実施例では浮上量低減用ヒータ１５と呼ぶ。浮上量低減用ヒータ１５は、材質がパーマロイ、厚さが０．５μｍ、幅が３μｍ、長さ６００μｍの細線を奥行き６０μｍ、幅６０μｍの領域に蛇行させ、間隙はアルミナで埋めて発熱体を形成した。その抵抗値は１００Ωになる。浮上量低減用ヒータ１５は薄膜ヘッド１ｂ部分に形成されているので、容易に形成することができる。浮上量低減用ヒータ１５の空気軸受面９に投影した位置は、素子設置面５ａ内の空気流出端１３近傍にあり、且つ記録再生素子２、３が設置された部分とは上方に離れている。
【００３５】
超浅溝面６ａ、６ｂから磁気ヘッドスライダ１の内部に入った部分には、浮上低減用ヒータ１５と同様に、薄膜抵抗体による加熱装置がスパッタリングなどの薄膜プロセスを用いて形成されており、これを本実施例では浮上量増加用ヒータ１６と呼ぶ。浮上量増加用ヒータ１６は、材質がパーマロイ、厚さが０．５μｍ、幅が３μｍ、長さ１２００μｍの細線を、奥行き６０μｍ、幅１２０μｍの領域に蛇行させ、間隙はアルミナで埋めて発熱体を形成した。磁気ヘッドスライダ１の両側に浮上量増加用ヒータ１６を各１個ずつ形成し、並列に配線しているので、総抵抗は１００Ωである。なお、浮上量低減用ヒータ１５および浮上増加用ヒータ１６には、ニッケルクロム合金など、パーマロイ以外の金属材料を用いても同様の効果が得られる。浮上量増加用ヒータ１６の空気軸受面９に投影した位置は、超浅溝面６ａ、６ｂ内の空気流出端１３近傍にある。
【００３６】
次に、浮上量低減用ヒータ１５および浮上量増加用ヒータ１６の作用を、図４を用いて説明する。図４（ａ）は、いずれのヒータ１５、１６にも電流が供給されていない、加熱無しの状態を表す。本状態における記録素子２および再生素子３と、磁気ディスク１０との間隔（浮上量）をＨ０とする。
【００３７】
図４（ｂ）は、浮上低減用ヒータ１５を電流で加熱した状態を表す。浮上量低減用ヒータ１５に電流が供給されると、ヒータは抵抗体であるので熱を発生し、矢印のように伝達して周囲の材料を暖める。浮上量低減用ヒータ１５で発生した熱は大部分が浮上面から磁気ディスク１０に伝わって逃げるため、浮上量低減用ヒータ１５によって温度が上昇するのは浮上量低減用ヒータ１５の近傍だけであり、その温度差が素子設置面５ａの熱膨張突出を生む。記録再生素子２、３と磁気ディスク１０との間隔は、Ｈ１（Ｈ０より小さい値）まで減少する。後述するように、記録再生素子２、３を搭載する空気軸受面５ａは、空気軸受としての負荷能力が低いように設計されているので、当該面が磁気ディスクに近づいても新たに空気圧力をほとんど発生せず、突出量がほとんどそのまま記録再生素子２、３の浮上低下量に変換される。
【００３８】
図４（ｃ）は、二つある浮上量増加用ヒータ１６を電流で加熱した状態を表す。浮上量増加用ヒータ１６に電流が供給されると、浮上量増加用ヒータ１６は抵抗体であるので熱を発生し、矢印に示すように伝熱されて周囲の材料を暖め、超浅溝面６ａ、６ｂの熱膨張を生む。後述するように浮上量増加用ヒータが近傍にある空気軸受面６ａ、６ｂは、空気軸受としての負荷能力が高いように設計されているので、面６ａ、６ｂが磁気ディスクに近づくと新たに空気圧力が発生し、磁気ヘッドスライダ全体が上昇してスライダ荷重と均衡する。すなわち、記録再生素子２、３の浮上量は増加するしくみである。
【００３９】
図２に示したように、記録再生素子２、３および浮上減少用ヒータ１５を近傍に持つ空気軸受面５ａは、周囲に浅溝７と接した部分が無く、深溝８で囲まれている。そのため、ステップ軸受として作用しない。素子設置面５ａの面積をパラメータにして発生する圧力変化を解析した結果、素子設置面５ａの面積は０．００５平方ｍｍ以下にすると好適であることが判明した。
【００４０】
一方、浮上量増加用ヒータ１６を近傍に持つ空気軸受面６ａ、６ｂは、流入端１２側が浅溝７ａ、７ｂに接している。このことが深溝８から浅溝７への、また浅溝７から超浅溝６への２段ステップ軸受の効果を生み、空気軸受としての負荷能力が高い。また、空気軸受面６ａ、６ｂ自体の面積が大きいことも、負荷能力を一層高めている。
【００４１】
また、薄膜抵抗体の細線を蛇行させる領域寸法は、図３に示すように、浮上減少用ヒータ１５の領域寸法よりも、浮上量増加用ヒータ１６の領域寸法の方を大きくしている。これは、大きい浮上量増加用ヒータ１６の方がなだらかな突出形状をもたらし、突出によって新たに発生する圧力が大きくなるため、スライダ全体を効率よく持ち上げるのに好都合であるからである。また、小さい浮上量低減用ヒータ１５の方が急峻な突出形状をもたらし、突出によって新たに発生する圧力が小さいため、浮上量減少用ヒータ１５の寸法を小さくして浮上減少の効率を上げることができるからである。
【００４２】
図３に示すように、浮上量減少用ヒータ１５の位置よりも、浮上増加用ヒータ１６の位置の方が、空気軸受面９から遠くなっている。これは、浮上面から遠い浮上量増加用ヒータ１６の方がなだらかな突出形状をもたらし、スライダ全体を効率よく持ち上げるのに好都合であるからである。また、浮上面に近い浮上量低減用ヒータ１５の方が急峻な突出形状をもたらし、突出によって新たに発生する圧力が小さいため、浮上量減少用ヒータ１５を空気軸受面９の近くに配置して浮上減少の効率を上げることができるからである。
【００４３】
ここで、本実施例による浮上量調整用ヒータ１５、１６の使用目的に応じた使い方を説明する。
【００４４】
第一に、環境気圧変化による浮上量変動を補償する目的がある。この場合、常圧での使用に比べて、高山や飛行機などの低圧環境で使用される頻度は格段に低いため、常圧ではいずれの浮上量調整用ヒータ１５、１６も稼動させず、低圧時のみ浮上量増加用ヒータ１６を稼動させると良い。
【００４５】
第二に、記録時と再生時の浮上量差を補償する目的がある。浮上量調整をしないと、記録素子２の発熱による熱膨張突出が浮上量差を起こすので、記録時にも磁気ディスク１０と接触しないように浮上量を設計すると、再生時は磁気ディスク１０から離れすぎて再生性能が劣化してしまう。この浮上量差を補償するためには、再生時に浮上量減少用ヒータ１５を稼動させるか、あるいは記録時に浮上量増加用ヒータ１６を稼動させる。熱に弱い再生素子２に余計な熱負荷をかけないためには、後者の使い方がより優れている。
【００４６】
第三に、環境温度変化による浮上量変動を補償する目的がある。この場合、常温ではいずれの浮上量調整用ヒータ１５、１６も稼動させず、浮上量が下がる高温では浮上量増加用ヒータ１６を稼動させ、浮上量が上がる低温では浮上量減少用ヒータ１５を稼動させると良い。ただし、磁気ヘッドスライダ１が複数の磁気ディスク装置１１においては、常温でぎりぎり接触しないように設計すると高温条件では複数の磁気ヘッドスライダ１が接触してしまう危険があり、複数の磁気ヘッドスライダ１に常に通電して浮上を上げておかなければならず、消費電力の増大の課題が生じる。従って、複数の磁気ヘッドスライダ１の磁気ディスク装置１１では、常温より多少高温側でも接触しないように設計し、主に浮上量減少用ヒータ１５を稼動させ、極端な高温時のみに浮上量増加用ヒータ１６を稼動させるようにすると良い。
【００４７】
第四に、内外周差による浮上量変動を補償する目的がある。この場合は環境温度変化を補償する第三の目的と同じく、浮上量増加用ヒータ１６を主に用いると消費電力の増大の懸念が生じるので、ヒータ非稼動時の浮上量を多少高めに設計し、浮上量減少用ヒータ１５を主に用いるのが良い。
【００４８】
第五に、高速シーク時の沈み込みを補償する目的がある。この場合は、シーク時以外はいずれの浮上量調整用ヒータ１５、１６も稼動させず、シーク時のみ浮上量増加用ヒータ１６を稼動させると良い。
【００４９】
第六に、スライダ個体の浮上量差を補償する目的がある。この場合は環境温度変化を補償する第三の目的と同じく、浮上量増加用ヒータ１６を主に用いると消費電力の増大の懸念が生じるので、ばらつきの平均の浮上量を多少高めに設計し、浮上量減少用ヒータ１５を主に用いるのが良い。ただし、ヘッド本数が１本の磁気ディスク装置においてはその限りではなく、平均的な浮上量の磁気ヘッドスライダ１ではいずれの浮上量調整用ヒータ１５、１６も稼動させず、平均を外れた浮上量の磁気ヘッドスライダ１では、いずれかの浮上量調整用ヒータ１５、１６を用いて浮上量を是正すると良い。
【００５０】
図５を参照しながら、従来の浮上量調整方法と本実施例の浮上量調整方法とを比較して説明する。従来の浮上量調整方法は、記録再生素子の近傍に浮上量低減用ヒータを置き、記録再生素子近傍だけ突出させて、通電によって浮上量を下げるやり方である。図５に示すように、従来の一方向の浮上量調整方法では、頻度が大きい中心値でも通電を要するため、平均的な要求ストロークおよび消費電力が大きい。一方、本実施例による二方向調整方法では、頻度が大きい中心値に近いところで通電しないように設計できるため、要求ストロークおよび消費電力を小さくできる。また、消費電力が小さいことと、浮上量増加用ヒータ１６が再生素子３から十分遠く離れていることから、熱に弱い再生素子の寿命にたいする懸念が不要になる。
【００５１】
次に浮上量の検知方法について述べる。
【００５２】
気圧や温度を測るセンサを別途設ける方法もあるが、気圧、温度、個体差など全ての影響が入った状態で、接触が起こる（近すぎる）ことなく、かつ磁気情報の再生にエラーが起こる（遠すぎる）こともない、という２つの条件が満足されれば問題ないため、接触や再生エラーを監視してそれらが起こった時だけ浮上量調整用ヒータ１５、１６への入力電力を調整するフィードバック制御をするのが最も簡単な制御方法である。なお、ロードによる衝撃で素子が傷つくのを防ぐため、磁気ヘッドスライダ１を磁気ディスク１０にロードする時、特に装置起動時は、浮上量増加用ヒータ１６に通電して浮上量を高くしておくのが有効である。
【００５３】
装置起動時からの制御アルゴリズムを図６に示す。まず、システム電源を入にして磁気ディスク１０の回転を開始する（ステップＳ１）。次いで、浮上量増加用ヒータ１６に規定の電流値Ｉ０を流すと共に、磁気ヘッドスライダ１を磁気ディスク１０にロードする（ステップＳ２）。さらに、磁気ヘッドスライダ１を規定の径方向位置へ移動する（ステップＳ３）。この状態で、磁気ヘッドスライダ１が再生できるかを判定する（ステップＳ４）。この判定で、磁気ヘッドスライダ１で再生できない場合には、浮上量低減用ヒータ１５の電流値ΔＩだけ増やすか、浮上量増加用ヒータ１６の電流値をΔＩだけ減らすように制御する（ステップＳ５）。
【００５４】
ステップＳ４において、磁気ヘッドスライダ１で再生できる状態となった場合には、磁気ヘッドスライダ１の接触を検知したかを判定する（ステップＳ６）。この判定で、磁気ヘッドスライダ１の接触を検知した場合には、浮上量低減用ヒータ１５の電流値ΔＩだけ減らすか、浮上量増加用ヒータ１６の電流値をΔＩだけ増やすように制御する（ステップＳ７）。
【００５５】
ステップ６において、磁気ヘッドスライダ１の接触を検知しない状態となった場合には、通常使用の動作を行なう（ステップＳ８）。そして、温度差起因の浮上量変動に関しては、規定の時間間隔毎に、あるいは使用中に常に、接触および再生エラーを監視する必要がある。さらには、記録時と再生時の浮上量差、および環境温度の経時変化に伴う浮上量差は必要に応じて修正を行なう。
【００５６】
接触を検知する方法は、（１）アコースティックエミッション（ＡＥ）センサを用いる方法、（２）接触発熱によって再生信号に表れるノイズであるサーマルアスペリティを監視する方法、（３）接触摩擦力によって磁気ヘッドスライダがピボット回りに微小回転しオフトラックが起こるオフトラック信号を監視する方法、などがある。
【００５７】
一方、磁気情報の再生エラーについてはいわゆるビットエラーレートを監視すればよい。再生エラーと違って記録エラーは監視するのが難しいが、記録時は記録素子のコイル発熱によって素子部が膨張して再生時より浮上量が低いのが一般的であるため、再生エラーが起こらない条件ならば記録エラーが起こる可能性も低い。
【００５８】
また、浮上量調整に関わる別の方法としては、再生信号の振幅を用いて再生素子と媒体間の距離をその場観測する方法があり、これを応用することもできる。
【００５９】
浮上量増加用ヒータ１６を浮上面に投影した位置が素子設置面５ａではなく、超浅溝面６ａ、６ｂとなっている利点は、浮上量増加用ヒータ１６を加熱しない場合に、多少のロール姿勢があったとしても、浮上面の中で記録再生素子に極近い部分が最下点（磁気ディスクに最も近い点）になることが保証できる点である。言い換えれば、最小浮上量位置における浮上量と記録再生素子位置における浮上量の差異が少なく、浮上量のロスが少ないということである。逆に素子設置面５ａの流出端側エッジの幅が広い場合、最小浮上量位置と記録再生素子位置の距離が大きく、浮上量のロスが大きくなる。
【００６０】
素子設置面５ａの流出端側エッジの幅を狭く、３０μｍから６０μｍ程度にすると、磁気ディスクへの接近性能が良くなることが知られており、本実施例の構造は磁気ディスクへの接近性能向上の点からも有利である。
【００６１】
図２から図４において超浅溝面６ａ、６ｂとした部分の高さを、素子設置面５ａと同じ高さにした場合、上記のように浮上量のロスが本実施例に比べて大きく、また磁気ディスクへの接近性能も向上しないものの、本発明の効果は同様に得られる。
【００６２】
浮上量減少用ヒータ１５と浮上量増加用ヒータ１６との２種類のヒータを制御するためには、通常は２系統４配線が必要であるが、配線数が多いと実装が困難である。本実施例では、２種類のヒータを同時には使わないという特性と、印加するのは直流電圧であるという特性に着目して、２系統を並列配置し、磁気ヘッドスライダ１に搭載した薄膜ダイオード１７を用いて、印加電圧の正負によっていずれのヒータを稼動させるかを制御するようにしている。
【００６３】
磁気ディスク装置の制御回路から磁気ヘッドスライダ１までの配線においては、２種類の加熱装置（浮上量低減用ヒータ１５、浮上量増加用ヒータ１６）は電流供給配線を共有するように構成されている。また、２種類の加熱装置１５、１６は磁気ヘッドスライダ端面の電気接続端子を共有するように構成されている。また、磁気ヘッドスライダ内においては、２種類の加熱装置１５、１６は互いに逆極性のダイオード１７を介して並列に接続されている。また、電気接続端子に印加される電圧の正負を以って、２種類の加熱装置１５、１６のいずれに電流を供給するかが制御されるように構成されている。
【００６４】
薄膜ダイオードの作成方法を図７に示す。まず、アルチック基板上に、不純物金属拡散防止のためのＳｉＮバリア層を形成し（ステップＳ２１）、ＳｉＯ２絶縁膜を形成し（ステップＳ２２）、エピタキシャル成長させた単結晶シリコン層を形成し（ステップＳ２３）、半導体プロセスを用いてダイオードおよび配線を形成し（ステップＳ２４）、絶縁膜およびバリア膜を形成し（ステップＳ２５）、記録再生素子およびヒータを形成し（ステップＳ２６）、ダイオードへ通じる配線を端子やヒータに接続する（ステップ２７）。
【００６５】
本実施例における構成、機能を纏めて説明すると次の通りである。
【００６６】
本実施例によれば、要する消費電力が小さい浮上量調整が実現できる。また、浮上量調整が再生素子３の寿命に及ぼす影響が小さくなる。更に、現実的な配線実装方法が提供されている。その結果、ヘッド個体毎に、または使用環境に応じて浮上量を調整することによって浮上量マージンを低減することができ、磁気ヘッドスライダ１と磁気ディスク１０との接触は防ぎつつ記録再生素子２、３の浮上量を大幅に縮め、磁気ディスク面の記録密度の増大、更には装置の大容量化あるいは小型化に寄与する。
【００６７】
本実施例では、浮上量を減少させるのみの一方向制御ではなく、浮上量を減少および増加させるニ方向制御にすることによって従来の課題を解決するものである。ニ方向制御を実現するため、浮上量減少用および浮上量増加用の２種類の加熱装置１５、１６を、磁気ヘッドスライダ１内に搭載している。浮上量減少用ヒータ１５は、記録再生素子２、３の近傍に設置され、一方、浮上量増加用ヒータ１６は、記録再生素子２、３から十分離れた空気軸受面６に一つ以上設置されている。浮上量増加用ヒータ１６によって空気軸受面６が熱膨張突出し、空気軸受面６で発生する空気圧力が増加し、磁気ヘッドスライダ１の荷重負荷能力が増加し、磁気ヘッドスライダ全体が磁気ディスク１０から離れる方向に持ち上がる。このように、本実施例では、ヒータ１５、１６によって記録再生素子の浮上量が増加するしくみとなっている。
【００６８】
記録再生素子２、３および浮上量減少用ヒータ１５が近傍に設置された空気軸受面５ａは、面積を小さくし、周りを深い溝で囲むのが、消費電力の低減に効果的である。一方、浮上量増加用ヒータ１６が近傍に設置された空気軸受面６ａ、６ｂは、面積を大きくし、近くに浅い溝を配置してステップ軸受を構成するのが、消費電力の低減に効果的である。
【００６９】
浮上量増加用ヒータ１６の大きさは、浮上量減少用ヒータ１５の大きさによりも大きくする。また、浮上量増加用ヒータ１６と空気軸受面６ａ、６ｂとの距離は、浮上量減少用ヒータ１５と空気軸受面５ａとの距離より大きくする。これらの工夫も消費電力の低減に有効である。
【００７０】
２種類のヒータ１５、１６を制御するためには、通常は２系統４配線が必要であるが、配線数が多いと実装が困難である。本実施例では２系統を並列配置し、磁気ヘッドスライダ１に搭載した薄膜ダイオード１７を用いて、印加電圧の正負によっていずれのヒータ１５、１６を稼動させるかを制御するようにしているので、簡単な構成で確実に制御することができる。
【００７１】
次に、本発明の第２〜第５実施例について図８〜図１１を用いて説明する。この第２〜第６実施例は、以下に述べる通り第１実施例と相違するものであり、その他の点については第１実施例と基本的には同一である。
【００７２】
図８は本発明の第２実施例の磁気ディスク装置に用いる磁気ヘッドスライダの流出端付近の拡大斜視図である。
【００７３】
第２実施例の磁気ヘッドスライダ１において、浅溝面７ａが深溝面８の空気流出端側の中央部に設けられ、素子設置面５ａおよび超浅溝面６ａ、６ｂが浅溝面７ａの上に設けられている。素子設置面５ａは図示上部が狭く（第１実施例と同じ幅）、下部が広い平面形状をしている。超浅溝面６ａ、６ｂは素子設置面５の幅の狭い部分の両側に隣接して形成されている。この第２実施例でも、第１実施例と共通する構成において、同様の効果が得られる。
【００７４】
なお、図８における超浅溝面６ａ、６ｂとした部分の高さを、素子設置面５ａと同じ平面にした場合、浮上量のロスが第２実施例に比べて大きく、また磁気ディスクへの接近性能も向上しないものの、消費電力が小さい、再生素子の温度上昇が小さいという効果は得られる。
【００７５】
図９は本発明の第３実施例の磁気ディスク装置に用いる磁気ヘッドスライダの流出端付近の拡大斜視図である。
【００７６】
第３実施例の磁気ヘッドスライダ１において、浅溝面７ａが深溝面８の空気流出端側の中央部に設けられ、素子設置面５ａおよび超浅溝面６ａ、６ｂが浅溝面７ａの上に設けられている。素子設置面５ａは第１実施例と同じ平面寸法で浅溝面７ａ上に形成されている。超浅溝面６ａ、６ｂは素子設置面５の両側に浅溝面７ａを介して形成されている。この第２実施例でも、第１実施例と共通する構成において、同様の効果が得られる。
【００７７】
なお、図９における超浅溝面６ａ、６ｂとした部分の高さを、素子設置面５ａと同じ平面にした場合、浮上量のロスが本実施例に比べて大きく、また磁気ディスクへの接近性能も向上しないものの、消費電力が小さい、再生素子の温度上昇が小さいという効果は得られる。
【００７８】
図１０は本発明の第４実施例の磁気ディスク装置に用いる磁気ヘッドスライダの流出端付近の拡大斜視図である。
【００７９】
この第４実施例は、浮上量調整ではなく、ロール姿勢の補正を目的とするものである。第４実施例では、浮上量低減用ヒータ１５が設けられていないと共に、浮上量増加用ヒータ１６ａ、１６ｂの代わりにロール姿勢補正用ヒータ１８ａ、１８ｂを設けたものである。ロール姿勢補正用ヒータ１８ａ、１８ｂは、そのどちらかに印加電圧の正負で切り替えて通電するように制御される。このように、ロール姿勢補正用ヒータ１８ａ、１８ｂのどちらかに、印加電圧の正負で切り替えて通電すると、超浅溝面（浮上面）６ａ、６ｂが突出して空気圧力が変わり、ロール姿勢が変わる仕組みである。
【００８０】
なお、第４実施例において、薄膜ダイオード１７を用いず、３系統の配線を用いてヒータ１８ａ、１８ｂを独立に制御すれば、ロール姿勢の補正だけではなく、両方同時に通電した場合の浮上量調整機能も持たせることができる。
【００８１】
図１１は本発明の第５実施例の磁気ディスク装置に用いる磁気ヘッドスライダの流出端付近の拡大斜視図である。
【００８２】
この第５実施例の目的は浮上量調整およびロール姿勢の補正の両方に置いている。第５実施例では、素子設置面５ａが設けられていないものであり、超浅溝面６ａ、６ｂが素子設置面６ａ’、６ｂ’を構成している。そして、素子設置面６ａ’には、記録再生素子２、３が設けられていないと共に、ロール姿勢補正用ヒータ１８が設けられている。また、素子設置面６ｂ’には、記録再生素子２、３が設けられると共に、浮上量低減用ヒータ１５が設けられている。
【００８３】
係る構成において、ロール姿勢補正用ヒータ１８に通電すればロール姿勢を調整することができ、浮上量減少用ヒータ１５に通電すれば記録再生素子の浮上量を調整することができる。
【００８４】
なお、本発明は、上述した実施例に開示した形態に限られるものではなく、公知技術などに基づく変更を許容するものである。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】本発明の第１実施例の磁気ディスク装置の斜視図である。
【図２】第１実施例の磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘッドスライダの斜視図である。
【図３】第１実施例の磁気ヘッドスライダを流出端側から見た図である。
【図４】第１実施例の浮上量調整メカニズムの説明図である。
【図５】従来の調整方法と第１実施例の調整方法の違いを表す概念図である。
【図６】第１実施例の磁気ヘッドスライダの制御方法を示すフロー図である。
【図７】第１実施例の薄膜ダイオードの製作方法を示すフロー図である。
【図８】本発明の第２実施例の磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘッドスライダの流出端付近の拡大図である。
【図９】本発明の第３実施例の磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘッドスライダの流出端付近の拡大図である。
【図１０】本発明の第４実施例の磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘッドスライダの流出端付近の拡大図である。
【図１１】本発明の第５実施例の磁気ディスク装置に用いられる磁気ヘッドスライダの流出端付近の拡大図である。
【符号の説明】
【００８６】
１…磁気ヘッドスライダ、１ａ…スライダ基板部分、１ｂ…スライダ薄膜ヘッド部分、２…記録素子、３…再生素子、４…加熱装置、５…素子設置面、５ａ、５ｂ、５ｃ…素子設置面構成要素、６…超浅溝面、６ａ，６ｂ，６ｃ、…超浅溝面構成要素、７…浅溝面、７ａ，７ｂ…浅溝面構成要素、８…深溝面、９…浮上面、１０…磁気ディスク、１１…磁気ディスク装置、１２…空気流入端面、１３…空気流出端面、１４…ランプ、１５…浮上量低減用ヒータ、１６…浮上量増加用ヒータ、１７…薄膜ダイオード、１８…ロール補正用ヒータ、ＩＷ…記録電流、ＩＳ…再生電流、ＶＨ…ヒータ印加電圧、Ｄ１…超浅溝面の素子設置面からの深さ、Ｄ２…浅溝面の素子設置面からの深さ、Ｄ３…深溝面の素子設置面からの深さ、Ｈ０…加熱しない時の素子浮上量、Ｈ１…浮上量低減用ヒータを稼動させた場合の素子浮上量、Ｈ２…浮上量増加用ヒータを稼動させた場合の素子浮上量。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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