(57)【要約】【課題】複数の光源からの光束を用いる光学装置では、０次光や−１次光等の不要光を遮断したり、所望のビーム径に整形するために複数の遮光部材を用いているが、狭い場所においては光束毎の遮光部材を設けることが難しい場合がある。【解決手段】光源１から出て光変調装置２によって変調された光束３は、第１の遮光手段に設けられた４個の開口の内の２個を通過する。第１の遮光手段はそれぞれ２個の長穴からなる開口を有する第１の遮光部材４および第２の遮光部材４’からなる。光束３ａは第１の遮光部材４の長穴４１を通過し、偏向器５で反射した後、同部材の長穴４２を通過する。このとき、それぞれ通過する開口によって不要光が遮断される。光束３ｂと３ｃは第１の遮光部材４と第２の遮光部材４’により同様に不要光が遮断される。さらに、各光束は遮光部材６、６’により所望のビーム径に整形される。【選択図】図１
2005227489.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも３本の光束を用い、該光束の光路中に該光束を通過させる開口を有する複数の遮光部材からなる遮光手段が配置される光学装置において、前記複数の遮光部材の個数は、前記光束の本数より１以上少ないことを特徴とする光学装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光学装置において、前記複数の遮光部材は、少なくとも２個の前記開口を有し、該開口の少なくとも１個は、前記光束の径より大きい過大開口であることを特徴とする光学装置。
【請求項３】
請求項２に記載の光学装置において、前記複数の遮光部材はそれぞれ少なくとも２個の前記過大開口を有し、前記光束は前記開口の内のいずれか２個を通過することを特徴とする光学装置。
【請求項４】
請求項３に記載の光学装置において、前記光束が通過する２個の開口は互いに異なる遮光部材に配された開口であることを特徴とする光学装置。
【請求項５】
請求項２に記載の光学装置において、前記複数の遮光部材はそれぞれ、１個の所要の寸法を有する開口と、少なくとも１個の前記過大開口とを有し、それぞれ前記所要の寸法を有する開口にはそれぞれ１本の光束を通過することにより光束のビーム径が所望の大きさに整形され、他の光束は、前記複数の遮光部材の前記過大開口の内の少なくとも２個を通過することによって、光束のビーム径がほぼ所望の大きさに整形されることを特徴とする光学装置。
【請求項６】
請求項５に記載の光学装置において、前記複数の遮光部材は、前記所要の寸法を有する開口の位置を決めた後も、該所要の寸法を有する開口の近傍を中心にして、前記過大開口の位置を調整可能に構成されていることを特徴とする光学装置。
【請求項７】
請求項２に記載の光学装置において、前記複数の光束はそれぞれ光変調器により変調され、前記複数の遮光部材はそれぞれ、１個の所要の寸法を有する開口と、少なくとも１個の前記過大開口とを有し、それぞれ前記所要の寸法を有する開口にはそれぞれ１本の光束を通過することにより、前記光変調器から発生する所望の光束以外の軸外光が遮断され、他の光束は前記複数の遮光部材の前記過大開口を通過することによって、前記軸外光が遮断されることを特徴とする光学装置。
【請求項８】
請求項７に記載の光学装置において、前記複数の遮光部材は、前記所要の寸法を有する開口の位置を決めた後も、該所要の寸法を有する開口の近傍を中心にして、前記過大開口の位置を調整可能に構成されていることを特徴とする光学装置。
【請求項９】
請求項７または８に記載の光学装置において、前記遮光手段を第１の遮光手段とし、それとは別に複数の遮光部材からなる第２の遮光手段を有し、前記第１の遮光手段は軸外遮光を行い、前記第２の遮光手段は前記光束のビーム径を所望の大きさに整形することを特徴とする光学装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の光学装置において、前記第２の遮光手段の複数の遮光部材は、前記所要の寸法を有する開口の位置を決めた後も、該開口近傍を中心にして、前記過大開口の位置を調整可能に構成されていることを特徴とする光学装置。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれか１つに記載の光学装置において、前記光束は、相互に交叉する配置であることを特徴とする光学装置。
【請求項１２】
請求項２ないし１１のいずれか１つに記載の光学装置において、前記光束の少なくとも１本は偏向器を介して、同一遮光部材の２個の開口を通過することを特徴とする光学装置。
【請求項１３】
請求項１ないし１２のいずれか１つに記載の光学装置において、前記複数の遮光部材は互いに実質同形であることを特徴とする光学装置。
【請求項１４】
請求項１ないし１３のいずれか１つに記載の光学装置において、前記光束はレーザ光束であることを特徴とする光学装置。
【請求項１５】
請求項１ないし１４のいずれか１つに記載の光学装置を用いたことを特徴とする光走査装置。
【請求項１６】
請求項１５に記載の光走査装置を用いたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１７】
請求項１５に記載の光走査装置を用いたことを特徴とするデジタルラボ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、デジタルラボなどの複数の光源からの光束を光学系に導いて走査する走査光学装置に関する。特に、光束の整形と、不要光の遮光を行うための、開口を有する遮光部材に関する。
【背景技術】
【０００２】
図７は３色の光源を有する走査光学系を説明するための図である。
同図において符号１１は光源、１２は光変調装置、１３は変調を受けた光束、１５は偏向器、１７は面倒れ補正光学系、１８はポリゴンミラー、１９はｆθレンズ系、２０は結像面をそれぞれ示す。添え字ａ、ｂ、ｃは第１色、第２色、第３色の出力光にそれぞれ対応する。例えば、第１色は青、第２色は緑、第３色は赤としてもよい。
説明の便宜上、第１色に着目して動作説明を行う。
レーザ光源１１ａから出射し光変調装置１２ａに入射した平行光束、もしくは平行に近い光束は、対応する色の画像情報によって変調されて変調光束１３ａとなり、装置を小型化するために設けられた折り返し用の偏向器１５ａによって鋭角に曲げられ１３ａ’となり、面倒れ補正光学系１７ａを経由してポリゴンミラー１８の一点に入射する。ポリゴンミラー１８は中心軸の廻りを高速で回転しており、厳密に言えば入射点は絶えず微小変動している。ポリゴンミラー１８で反射された光束１３ａ’はｆθ光学系１９を経由して結像面２０に到る。光束１３ａ’はポリゴンミラーの回転により、反射方向が結像面２０の一方の端から他方の端へ絶えず移動し、結像面上を走査する。結像面に感光性の物体を置き、紙面に垂直な方向に所定の速度で移動させると、感光性の物体面上に第１色に対応する画像、もしくは画像の潜像が形成される。ポリゴンミラーによる光束の走査を主走査と呼び、感光性物体の移動を副走査と呼ぶ。
第２色、第３色についても同様にして画像形成が行われる。ただし、各色の光束１３ａ’、１３ｂ’、１３ｃ’は、ポリゴンミラー１８に対する入射角が少しずつ異なるので、その角度の違いに対応して、光変調装置１２による変調開始のタイミングがそれぞれずらしてある。かくして、感光性の物体上にフルカラーの画像、もしくは潜像が形成される。
【０００３】
光束が光変調装置１２で変調されると、出射光は＋１次光としての光束１３の近傍に不要な光束、すなわち０次光や−１次光、さらには±２次光が出射されることがある。これらの光束は所望の光束ではないので、画像劣化の原因となるため通常は何らかの方法で遮光を行う。これらの光束を軸外光、あるいは不要光と呼ぶ。
光変調装置の直後に正または負のパワーを持つレンズ系を置いて、不要光の進行方向の角度（分離角度）を大きくし、開口を有する遮光板で不要光のみを遮断する方法が提案されている（例えば、特許文献１  参照。）。
【０００４】
同図では省略したが、通常は、光変調装置１２と面倒れ補正光学系１７の間のどこかに、ビーム径（光束径）を規制するための開口（アパーチャ）が設けられる。開口を設ける理由は、本来レーザ光のような可干渉性の良い光束は、例えば平行光に整形したとき、比較的長い距離その平行性を保つものであるが、常に僅かながら拡散していくので周辺光を開口によって遮光し、所望のビーム径を得る。より遮光を確実にするために複数段の遮光を行うこともある。
一般に、開口は各光束毎に設けられる。しかしながら、各光束は狭い範囲に互いに接近して配置されることが多く、個別の開口を設けるだけのスペースが足りない場合がある。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２２８０３４号公報（第５頁、第１〜３図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
解決しようとする問題点は、狭い場所において確実に不要周辺光を遮光して、所望のビーム径を得るための遮光部材が複雑・高価になりやすいことである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、少なくとも３本の光束を用い、該光束の光路中に該光束を通過させる開口を有する複数の遮光部材からなる遮光手段が配置される光学装置において、前記複数の遮光部材の個数は、前記光束の本数より１以上少ないことを特徴とする。
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の光学装置において、前記複数の遮光部材は、少なくとも２個の前記開口を有し、該開口の少なくとも１個は、前記光束の径より大きい過大開口であることを特徴とする。
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の光学装置において、前記複数の遮光部材はそれぞれ少なくとも２個の前記過大開口を有し、前記光束は前記開口の内のいずれか２個を通過することを特徴とする。
【０００８】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の光学装置において、前記光束が通過する２個の開口は互いに異なる遮光部材に配された開口であることを特徴とする。
請求項５に記載の発明は、請求項２に記載の光学装置において、前記複数の遮光部材はそれぞれ、１個の所要の寸法を有する開口と、少なくとも１個の前記過大開口とを有し、それぞれ前記所要の寸法を有する開口にはそれぞれ１本の光束を通過することにより光束のビーム径が所望の大きさに整形され、他の光束は、前記複数の遮光部材の前記過大開口の内の少なくとも２個を通過することによって、光束のビーム径がほぼ所望の大きさに整形されることを特徴とする。
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の光学装置において、前記複数の遮光部材は、前記所要の寸法を有する開口の位置を決めた後も、該所要の寸法を有する開口の近傍を中心にして、前記過大開口の位置を調整可能に構成されていることを特徴とする。
請求項７に記載の発明は、請求項２に記載の光学装置において、前記複数の光束はそれぞれ光変調器により変調され、前記複数の遮光部材はそれぞれ、１個の所要の寸法を有する開口と、少なくとも１個の前記過大開口とを有し、それぞれ前記所要の寸法を有する開口にはそれぞれ１本の光束を通過することにより、前記光変調器から発生する所望の光束以外の軸外光が遮断され、他の光束は前記複数の遮光部材の前記過大開口を通過することによって、前記軸外光が遮断されることを特徴とする。
【０００９】
請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の光学装置において、前記複数の遮光部材は、前記所要の寸法を有する開口の位置を決めた後も、該所要の寸法を有する開口の近傍を中心にして、前記過大開口の位置を調整可能に構成されていることを特徴とする。
請求項９に記載の発明は、請求項７または８に記載の光学装置において、前記遮光手段を第１の遮光手段とし、それとは別に複数の遮光部材からなる第２の遮光手段を有し、前記第１の遮光手段は軸外遮光を行い、前記第２の遮光手段は前記光束のビーム径を所望の大きさに整形することを特徴とする。
請求項１０に記載の発明は、請求項９に記載の光学装置において、前記第２の遮光手段の複数の遮光部材は、前記所要の寸法を有する開口の位置を決めた後も、該開口近傍を中心にして、前記過大開口の位置を調整可能に構成されていることを特徴とする。
請求項１１に記載の発明は、請求項１ないし１０のいずれか１つに記載の光学装置において、前記光束は、相互に交叉する配置であることを特徴とする。
【００１０】
請求項１２に記載の発明は、請求項２ないし１１のいずれか１つに記載の光学装置において、前記光束の少なくとも１本は偏向器を介して、同一遮光部材の２個の開口を通過することを特徴とする。
請求項１３に記載の発明は、請求項１ないし１２のいずれか１つに記載の光学装置において、前記複数の遮光部材は互いに実質同形であることを特徴とする。
請求項１４に記載の発明は、請求項１ないし１３のいずれか１つに記載の光学装置において、前記光束はレーザ光束であることを特徴とする。
請求項１５に記載の発明は、請求項１ないし１４のいずれか１つに記載の光学装置を用いた光走査装置を特徴とする。
請求項１６に記載の発明は、請求項１５に記載の光走査装置を用いた画像形成装置を特徴とする。
請求項１７に記載の発明は、請求項１５に記載の光走査装置を用いたデジタルラボを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
複数の光束を用いる光学装置において、配置の自由度が高いために、狭い場所においても確実に軸外遮光をし、所望のビーム径を得ることができる。部品の共通化により、コストダウンすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
図１、図２は本発明の実施形態を説明するための図である。図１は斜視図、図２は平面図である。
両図において符号１は例えばＬＥＤ、あるいはレーザなどの光源、２は光束に色別の情報を与える光変調装置、３は色情報により変調された光束、４は本発明の第１の遮光手段、５は偏向素子、６は本発明の第２の遮光手段、７は面倒れ補正光学系、８はポリゴンミラー、９はｆθ光学系、１０は感光体等の結像面をそれぞれ示す。
本実施形態の基本動作は、図７を用いて説明した従来技術と同様なので、同じ部分については説明を省略する。
各光束３は細いビーム状であり、一見平行光束に見えるが、通常は結像面に向かって収束する収束光になっている。ただし、その収束角は非常に小さいので、光束の進行方向において短い区間で見る限り、平行光束とみなすこともできる。複数の光束相互間はポリゴンミラー８に向かって集まるよう構成されるがその収束角はかなり大きいため、光束相互間を平行光束とみなすことはできない。
【００１３】
初めに、第１の遮光手段について説明する。
遮光部材４は薄い板材からなり、２個の横長の長穴４１、４２を有する遮光部４０と、遮光部４０に対し直角に折れ曲がって１個の止め穴を有する脚部４３とから構成されている。長穴４１、４２は用いられる光束の径、いわゆるビーム径より少なくとも一方向において大きければよい。したがってビーム径より大きい円形開口であっても差し支えない。このような条件に当てはまる開口を、本発明では過大開口と名付ける。
２個の長穴４１、４２は開口として用いられるため、共に、幅が所望のビーム径に等しく、長さはその１．５倍ないし２倍程度の大きさに形成されている。止め穴は、遮光部材４を図示しない基板に止めるための穴で、止めネジの径よりもやや大き目にあけられており、基板に対する止め位置に或る程度の自由度が与えられている。
【００１４】
遮光部材４は類似の形状、もしくは同じ形状のものが２個用いられるので、便宜上第１の遮光部材４、第２の遮光部材４’と呼ぶことにする。類似の形状、および同一形状を合わせて実質同形と呼ぶ。
第１の遮光部材４の長穴４１には、光変調装置２ａから出て偏向器５ａに向かう光束３ａが通過する。同じ遮光部材の長穴４２には、光変調装置２から偏向器５に向かう光束３ｂと３ｃが通過するほか、偏向器５ａから面倒れ補正光学系７ａに向かう光束３ａ’の計３本が通過する。したがって、長穴４２は長穴４１よりも長く形成しておいても良い。
第２の遮光部材４’の長穴４１’には、第１の遮光部材４の長穴４２を通過して反射鏡からなる偏向器５ｃに向かう光束３ｃが通過し、同じく第２の遮光部材４’の長穴４２’には、第１の遮光部材４の長穴４２を通過して偏向器５ｂに向かう光束３ｂが通過する。
【００１５】
図２において光変調装置２から出射する光束３を中心として広がりのある光束が２点鎖線で示してある。これらの光束は前述の０次光あるいは−１次光等の不要光を意味する。
不要光の分離角度はあまり大きくないが、光変調装置から十分離れた位置であれば、開口を有する遮光板によって、所望の光束のみを通し、不要光を遮断することができる。
例えば光束３ａに関して言えば、光束３ａ自身は遮光部材４の長穴４１を通過するが、その光束と或る分離角を有する不要光は同じ長穴を通過することができない。長穴４１を通過した光束３ａは偏向器５ａによってポリゴンミラー８の方向へ反射されるが、不要光は基本的には遮光部材４によって遮光される。仮に遮光部材４の長穴４２を通過する不要光があったとしても、その光束は偏向器５ａに入射することがなく、もちろん他の偏向器５ｂ、５ｃにも入射しないので、ポリゴンミラーの方向へ反射される心配がない。
他の光束３ｂ、３ｃに関しても全く同様で、所望の光束３ｂ、３ｃのみが遮光部材４の開口部を通過することができ、それぞれの不要光は遮光部材４で遮光されるか、そうでない場合でも偏向器５による反射が生ぜず、したがって、ポリゴンミラー８の方向へ反射される心配がない。
【００１６】
次に第２の遮光手段について説明をする。第２の遮光手段は、偏向器５と面倒れ補正光学系７との間に設けられる。
遮光部材６は、遮光部材４と同様薄い板材からなり、円形開口６１を有する遮光部６０Ａと、遮光部６０Ａの下方においてほぼ直角に折り曲げられて１個の止め穴６６を有する第１の脚部６３と、遮光部６０Ａに連なる幅の狭い可撓部６５を介して連結部６０Ｂが遮光部６０Ａの面とほぼ直交する方向に延びており、さらに直角に折れ曲がって可動遮光部６０Ｃとなり、そのほぼ中央に過大開口を形成する長穴６２が設けられている。連結部６０Ｂの下部には連結部６０Ｂに対してほぼ直角に折れ曲がった第２の脚部６４が設けられ、第２の脚部６４の１カ所には止め穴６７が設けられている。止め穴６７は、大きさに余裕をもった穴にしても良いし、長穴に形成しても良い。
遮光部材６も同等の形状のものが２個用いられるので、便宜上第３の遮光部材６、第４の遮光部材６’と呼ぶことにする。
第３の遮光部材６の円形開口６１には、光束３ａが通過する。円形開口の直径は所要の寸法に設定してある。第４の遮光部材６’の円形開口には、光束３ｃ’が通過する。第３、および第４の遮光部材の長穴６２、６２’は互いに非常に近接して配置され、光束３ｂ’が通過する。
【００１７】
図３は第２の遮光手段の詳細を説明するための図である。同図（ａ）は平面図、同図（ｂ）は長穴の相対移動を斜視図的に示す模式図、同図（ｃ）は長穴の正面図である。
同図（ａ）に示す遮光手段が仮に第３の遮光部材６であるとする。止め穴６６はネジ径より大きめになるようにあけてあるので、遮光部６０Ａの円形開口６１を、光束３ｃ’に容易に一致させて遮光部材６を基板に止めることができる。止め穴６６に図示しない止めネジを挿入して基板に固定するのであるが、このとき、可動遮光部６０Ｃの長穴に光束３ｂ’が通過するようにおよその位置調整をしてから固定する。ただし、止め穴６７はまだネジによる固定をしないでおく。同様な方法で第４の遮光部材６’を固定する。その結果、両遮光部材６、６’の開口としての長穴６２、６２’は互いに近接した位置に向き合うようになり、両長穴を光束３ｂ’が通過している。
【００１８】
遮光部材６は、円形開口６１の比較的近傍に設けた可撓部６５の位置で僅かに撓むように構成してあるので、同図（ａ）に誇張して示すように、可撓部６５をおよその中心として、可動遮光部６０Ｃを矢印Ａ方向に移動させることができる。そこで、第３、第４の遮光部材６、６’の両長穴６２、６２’を同図（ｂ）に示すように横方向に移動させ、光束３ｂ’を同図（ｃ）に示すように、所望のビーム径になるように、光束の進行方向から見て円形開口になるよう位置決めして、止め穴６７、６７’を用いて連結部６０Ｂ、６０Ｂ’のそれぞれ脚部を基板に固定する。
【００１９】
遮光部材６に可撓部６５を設けない方法もある。円形開口の近傍に設けられている止め穴６６に、図示しない段付きネジを挿入して遮光部６０Ａを止める。段付きネジの段部の高さは遮光部材６の板厚より僅かに大きめにしておく。したがって、段付きネジを止めた後でも遮光部材６は段付きネジを中心にして回動可能である。実際の回動量は非常に小さいので、光束が円形開口６１からずれるようなことはない。２個の遮光部材６、６’を共にこのように構成すれば、可撓部６５を設けたのと同様の効果が得られる。ただし、この場合は、円形開口６１、６１’が正確に所望の光束を整形できるように、止め穴の位置と部品の精度を或る程度高めておく必要がある。
以上のように第２の遮光手段によって、光束３ａ’、３ｂ’、３ｃ’とも所望のビーム径に整形される。したがって、第１の遮光手段では軸外光の遮断をし、第２の遮光手段では光束に対して所望のビーム径を与えることができる。
【００２０】
図４は遮光部材を基板に垂直な方向に移動させて微調整する例を説明するための図である。同図（ａ）は分解斜視図、同図（ｂ）は平面図、同図（ｃ）は止めネジを省略した正面図である。
同図において符号１０１、１０１’は基板から突き出た遮光部材保持部、１０２、１０２’は遮光部材、１０３、１０３’は止めネジをそれぞれ示す。
光束の通過領域を挟んで２個の遮光部材保持部１０１、１０１’が突出している。両者は基本的に同様な構成になっているので、以下簡略化のため片方のみについて説明する。
遮光部材保持部１０１は、光束の通過領域側に向けて突起部１０１ａを有しており、その先端部には遮光部材の回動中心部となるべき支点部１０１ｂを有している。遮光部材保持部１０１の一面１０１ｃには所定の位置にねじ穴１０１ｄが形成されている。支点部１０１ｂは、ねじ穴１０１ｄのある面１０１ｃの側方に突出している。
【００２１】
遮光部材１０２、１０２’は実質同形で、ともに３個の穴を有した板状物である。以下遮光部材１０２について詳しく説明する。
中央の穴１０２ａは光束径にほぼ等しい大きさの径を有して光束３ａを通過させ、両端の穴のうち一方の穴は光束３ｂを通過させるための過大開口１０２ｂになっている。両端の穴のうちもう一方の穴は取り付けねじ用穴１０２ｃを形成している。中央の穴１０２ａのすぐ下に切り欠き１０２ｄがあり、この部分を支点部１０１ｂに載せてねじ用穴１０２ｃと、ねじ穴１０１ｄを合わせてねじ１０３によって軽くねじ止めする。ねじ用穴１０２ｃの径はねじ径より大きく形成されており、切り欠き１０２ｄと支点部１０１ｂとの接点を回動中心として遮光部材１０２は矢印Ａ方向に揺動可能になっている。この揺動によって、過大開口１０２ｂは比較的大きく上下動するが、中央の穴１０２ａは回動中心の近くにあるためあまり動かない。したがって、止めねじに対するねじ用穴１０２ｃの止め方如何によって、過大開口の位置を上下に若干調整できる。調整が済んだら、ネジ１０３を締めて遮光板１０２を固定する。
遮光部材保持部１０１’、遮光部材１０２’も上記と同様な構成であって、中央の穴１０２’ａは光束３ｃを通過させ、過大開口１０２’ｂは光束３ｂを通過させる。すなわち、過大開口１０２ｂ、１０２ｂ’は同一光束３ｂを通過させるような位置に配置されており、光束３ｂは両開口を通過することによって、軸外光の遮光、もしくはビーム整形が行われる。
【００２２】
図５は４本の光束に対する遮光部材の配置例を示す図である。同図（ａ）は斜視図、同図（ｂ）は平面図である。
同図において符号２０１、２０１’は遮光部材を示す。
デジタルラボに用いられる感光材料は、従来、３原色対応のみであったものが、近年ある種の中間色を含む４色対応のものが使われ始めている。このような感光材料に対応した装置として４本の独立した光束を用いる装置が必要になってくる。
遮光部材２０１と２０１’は実質同形であるので、遮光部材２０１について説明する。
遮光部材２０１は３個の穴を有した遮光部２０１ａと、基板に取り付けるべき取り付けねじ用穴を有した基底部２０１ｂとからなる。遮光部２０１ａの３個の穴の内、一方の端の穴は所要の径を有する開口２０１ｃを形成し、中央の穴２０１ｄと、他端の穴２０１ｅはともに過大開口を形成している。図示は省略したが、穴２０１ｅは遮光部２０１ａの横方向端部に対して解放部を有する、いわゆる切り欠き穴に形成しても良い。
遮光部材は、取り付けねじの径よりやや大きい穴径の取り付けねじ用穴２０１ｆを有しており、矢印Ａ、およびＢで示すように、遮光部２０１ａの面の向きおよび位置が多少調整できるようになっている。
【００２３】
４本の光束３ａ〜３ｄは互いに非平行であるとする。
遮光部材２０１の開口２０１ｃは光束３ａを、中央の過大開口２０１ｄは光束３ｂを、他の過大開口２０１ｅは光束３ｃをそれぞれ通過させる。遮光部材２０１’の開口２０１’ｃは光束３ｄを、中央の過大開口２０１’ｄは光束３ｃを、他の過大開口２０１’ｅは光束３ｂをそれぞれ通過させる。すなわち、光束３ｂと３ｃは両遮光部材２０１と２０１’の双方の過大開口を通過する。
遮光部材２０１の遮光部２０１ａの面は光束３ａに対してほぼ直角になるよう配置し、遮光部材２０１’の遮光部２０１’ａの面は光束３ｄに対してほぼ直角になるよう配置する。外側の光束３ａと３ｄは平行でないため、両遮光部材の遮光部２０１ａと２０１’ａも平行ではなく、若干の交叉角をもって配置される。
本構成を用いて軸外光の遮光を行うことも、ある程度のビーム整形をすることもできる。軸外光の遮光の場合は、光束３ａ〜３ｄが確実に所定の穴を通りさえすれば良い。ビーム整形の調整に当たっては、遮光部材２０１は光束３ａを、遮光部材２０１’は光束３ｄを確実に通すように注意し、遮光部の面の向きと位置を若干変化させ、光束３ｂと３ｃが所望の径に近くなるようにする。
【００２４】
図６は本発明を適用した光走査装置の一例を示す斜視図である。
同図において符号１２はポリゴンミラーのカバーガラス、１３、１４、１５はｆθ光学系を構成する各レンズ要素、１７、１８、１９は走査タイミング検出光学系をそれぞれ示す。
光走査装置の基本動作は図７を用いて既に説明してあるので重複は避けるが、図７で触れなかった部分について簡単に説明する。
図６においてポリゴンミラー８は矢印Ｂ方向に回転する。ポリゴンミラー８の反射面で偏向された未変調の光束は、初めに反射鏡１７で偏向されて結像レンズ１８を経て色別のセンサ１９によって検出される。この検出信号から所定の時間後に光束は結像面１０の所定の走査領域に達するので、そのタイミングに合わせて光変調素子２に、画像に対応する変調信号を与える。変調を受けた光束３は結像面１０上を矢印Ｃの方向に走査される。
図示しない装置によって、結像面１０に一致して置かれた感光性の物体が、矢印Ｃに対して垂直な方向に移動して、いわゆる副走査が行われる。感光性の物体としては、例えば銀塩のカラー印画紙を用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の実施形態を説明するための図である。
【図２】本発明の実施形態を説明するための図である。
【図３】第２の遮光手段の詳細を説明するための図である。
【図４】遮光部材を基板に垂直な方向に移動させて微調整する例を説明するための図である。
【図５】４本の光束に対する遮光部材の配置例を示す図である。
【図６】本発明を適用した光走査装置の一例を示す斜視図である。
【図７】３色の光源を有する走査光学系を説明するための図である。
【符号の説明】
【００２６】
１    光源
２    光変調装置
３    変調光束
４    第１の遮光手段
６    第２の遮光手段
８    ポリゴンミラー
９    ｆθ光学系
１０    結像面
【図１】
2005227489.tif 000003
【図２】
2005227489.tif 000004
【図３】
2005227489.tif 000005
【図４】
2005227489.tif 000006
【図５】
2005227489.tif 000007
【図６】
2005227489.tif 000008
【図７】
2005227489.tif 000009