(57)【要約】【課題】  貼り合せ時の泡の混入を防止し、貼り合せ部分の剥れがなく、外観の良好な、貼り合わせタイプの光情報記録媒体を作製することの可能な、光情報記録媒体の製造方法を提供すること。【解決手段】  第１の基板の貼り合わせ面上に記録層若しくはピットを形成し、該記録層若しくは該ピット上に第２の基板を貼り合わせる光情報記録媒体の製造方法であって、  前記第１の基板及び前記第２の基板の成型直後の半径方向チルト（ｒ）が、いずれも−２．０°≦ｒ≦０．３°の範囲であり、かつ、その平均値が−１．０°±０．８°であると共に、  当該第１の基板の貼り合わせ面を下方に向け水平に保持する工程と、当該第２の基板の貼り合わせ面を下方に向け水平に保持する工程と、を有することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板の貼り合わせ面上に記録層若しくはピットを形成し、該記録層若しくは該ピット上に第２の基板を貼り合わせる光情報記録媒体の製造方法であって、
前記第１の基板及び前記第２の基板の成型直後の半径方向チルト（ｒ）が、いずれも−２．０°≦ｒ≦０．３°の範囲であり、かつ、その平均値が−１．０°±０．８°であると共に、
当該第１の基板の貼り合わせ面を下方に向け水平に保持する工程と、当該第２の基板の貼り合わせ面を下方に向け水平に保持する工程と、を有することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報記録媒体の製造方法であって、特に、ＤＶＤ等の貼り合わせ型の光情報記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
文字情報、画像情報、音声情報等を大量に記録・再生する高密度の光情報記録媒体（ＤＶＤ）、また一回若しくは複数回の情報記録が可能な光情報記録媒体（ＤＶＤ−Ｒ若しくはＤＶＤ−ＲＷ）に対する要請は増大しつつある。かかる光情報記録媒体では、最短ピット及びトラックピッチをＣＤの半分以下にしたりする等の他、光情報記録媒体を２層に貼り合わせることにより情報記録の高密度化が図られている。
このような貼り合わせタイプの光情報記録媒体としては、基板上に記録層若しくはピット、反射層、保護層等をこの順に有する積層体（情報基板）同士を、保護層を接着面として貼り合せた構造であったり、上記の積層体と記録層等を有しない基板（ダミー基板）とを貼り合わせた構造が知られている。
【０００３】
このような光情報記録媒体を作製する際、基板は、成型後、記録層の塗布後、又は、アニール処理時などに、一時的にストックされることがある。この一時的なストックは、塵埃付着防止の観点から、基板の記録面を下側にして、水平に積層して行なわれることが知られている（例えば、特許文献１参照。）。このようなストックを行うことで、自重や重力の関係で、基板には、半径方向の反り（半径方向チルト）が重力方向に発生することが知られている。即ち、半径方向の反りとは、記録面側を下にした光情報記録媒体を側面視した場合に、ディスクの中心が上に凸形状となる反りである。
このように反りが発生した基板、若しくは、ダミー基板を貼り合せて、光情報記録媒体を作製した場合、貼り合せ面の中心付近の内部空間が外周部分に比べ大きくなり、接着時に泡が混入し易くなり、結果的に、貼り合わせが不完全で、基板の剥れや外観上の問題となることが多かった。
【特許文献１】特開２００１−２２９５８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
以上から、本発明は、上記課題を解決することを目的とする。すなわち、本発明は、貼り合せ時の泡の混入を防止し、貼り合せ部分の剥れがなく、外観の良好な、貼り合わせタイプの光情報記録媒体を作製することの可能な、光情報記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成すべく鋭意検討の結果、本発明者は、下記本発明により当該目的を達成できることを見出した。
すなわち、本発明は、第１の基板の貼り合わせ面上に記録層若しくはピットを形成し、該記録層若しくは該ピット上に第２の基板を貼り合わせる光情報記録媒体の製造方法であって、
前記第１の基板及び前記第２の基板の成型直後の半径方向チルト（ｒ）が、いずれも−２．０°≦ｒ≦０．３°の範囲であり、かつ、その平均値が−１．０°±０．８°であると共に、
当該第１の基板の貼り合わせ面を下方に向け水平に保持する工程と、当該第２の基板の貼り合わせ面を下方に向け水平に保持する工程と、を有することを特徴とする光情報記録媒体の製造方法である。
【０００６】
また、本発明において、第１の基板の貼り合わせ面を下方に向け水平に保持する工程、及び、第２の基板の貼り合わせ面を下方に向け水平に保持する工程は、いずれも、６０〜９０℃、５〜３００分の条件で行なわれることが好ましい態様である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の光情報記録媒体の製造方法によれば、貼り合せ時の泡の混入を防止し、貼り合せ部分の剥れがなく、外観の良好な、貼り合わせタイプの光情報記録媒体を作製することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明の光情報記録媒体の製造方法について詳細に説明する。
本発明の光情報記録媒体の製造方法では、前記第１の基板及び前記第２の基板の成型直後の半径方向チルト（ｒ）が、いずれも−２．０°≦ｒ≦０．３°の範囲であり、かつ、その平均値が−１．０°±０．８°であることが必須である。また、第１の基板及び第２の基板の半径方向チルト（ｒ）について、より好ましくは、−１．５°≦ｒ≦０°の範囲であり、かつ、その平均値が−０．７°±０．５°であり、−１．３°≦ｒ≦−０．１°の範囲であり、かつ、その平均値が−０．５°±０．３°であることが更に好ましい。
半径方向チルト（ｒ）が共にこのような範囲にあることにより、成型直後の第１の基板及び第２の基板のいずれもが、貼り合わせ面（記録面）の中心部が凸となる形状を有することになる。
【０００９】
このような形状の第１の基板及び第２の基板は、本発明の光情報記録媒体の製造方法における、第１の基板の貼り合わせ面を下方に向け水平に保持する工程（第１の基板に対するストック工程）、及び、第２の基板の貼り合わせ面を下方に向け水平に保持する工程（第２の基板に対するストック工程）により、自重及び重力により貼り合わせ面（記録面）の中心部が凹となる形状となるように力が加えられることから、基板の成型直後の反りが矯正されることになる。そのため、基板の貼り合せ時において、基板に貼り合わせ面の中心部が凹となる反りがあることで発生する、接着時の泡の混入を防止することができる。その結果、かかる泡の存在に起因する、貼り合わせが不完全で基板の剥れが発生する問題や、外観上の問題を解決することが可能となる。
なお、第１の基板に対するストック工程、及び、第２の基板に対するストック工程は、単に、アニール処理とも呼ばれ、基板の成型後で記録層が設けられる前に行なわれてもよいし、記録層が設けられた後に行なわれてもよい。
【００１０】
より具体的には、第１の基板に対するストック工程、及び、第２の基板に対するストック工程は、いずれも、第１の基板を貼り合わせ面を下方に向けて、６０℃〜９０℃で、５分〜３００分間、保存（保持）することが好ましい。
また、第１の基板や第２の基板に記録層が形成された後にストック工程が行なわれる場合、かかるストック工程は、記録層塗膜中の残留溶剤や水分を除去する機能を有していてもよい。
【００１１】
対して、半径方向チルト（ｒ）が上記の範囲を外れると、マイナス（−）に大きい場合には、工程内でのハンドリング不良、塗布不良が発生することがあり、プラス（＋）に大きい場合には、貼り合わせ時に泡が混入し、貼り合わせ不良や外観不良が発生することがある。
【００１２】
ここで、本発明における半径方向チルト（ｒ）は、例えば、ＤＶＤ機械特性評価装置ＤＬＤ４０００（ジャパン・イー・エム社製）によって、一枚の基板に対し、所定の測定トラック１周につき５００ヶ所について測定して求めた。また、半径方向チルト（ｒ）における±の符号は、基板の貼り合わせ面（記録面）を上になるよう設置した際、貼り合わせ面が凸となる場合をマイナス、貼り合わせ面が凹となる場合をプラスと定義する。また、基板の半径方向チルト（ｒ）の測定位置は、半径２５〜５８ｍｍの範囲とする。
本発明においては、このようにして測定した半径方向チルト（ｒ）の全ての値が上記範囲内に存在することが必須であり、かつ、その平均値が、−１．０°±０．８°であることが必須である。なお、半径方向チルト（ｒ）の平均値とは、全ての測定値の和を測定数で割った値である。
【００１３】
第１の基板及び第２の基板の成型直後の半径方向チルト（ｒ）を上記範囲にする手段としては、成型時の条件を、適宜、調整することで行うことができる。例えば、第１の基板及び第２の基板を成型する際、スタンパが具備されている固定金型の温度を固定し、スタンパが具備されていない可動金型の温度を固定金型の温度より高めに（例えば、５℃程度）設定することで、その温度差による熱収縮を用いて基板に所定の反りを発生させる方法がある。このような金型の温度差を用いる方法では、スタンパが具備されている可動若しくは固定金型の温度は、通常の成型温度と異ならせることなく設定し、精細なグルーブを精度良く形成可能にする。対して、スタンパが具備されていない固定若しくは可動金型の温度を、対向する可動若しくは固定金型の温度に対し、０〜１０℃程度高く設定することが好ましい。この金型の温度差は、０〜５℃程度であることがより好ましく、０〜３℃程度であることが更に好ましい。
第１の基板及び第２の基板の成型直後の半径方向チルト（ｒ）を上記範囲にする他の手段としては、例えば、冷却時間を調整する方法が挙げられる。
【００１４】
本発明の光情報記録媒体の製造方法において、記録層若しくはピットが形成された第１の基板に、第２の基板を貼り合わせる際には、種々の接着剤を使用することができる。例えば、第１の基板の記録層若しくはピット上に紫外線硬化樹脂（大日本化学インキ工業（株）製ＳＤ６４０等）をスピンコート法によって、２０〜６０μｍの厚さに塗布して、接着層を形成する。形成した接着層上に、第２の基板を載置し、当該基板上から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させて貼り合わせるという方法を用いてもよい。
【００１５】
本発明の製造方法で製造される光情報記録媒体としては、レーザ光により情報の記録及び再生が可能な記録層を有する光情報記録媒体や、レーザ光により再生可能な情報が記録された記録部（ピット）を有する光記録媒体に適用することができる。
なお、前者はＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ等の情報の書き込みが可能な追記型若しくは書き換え可能型の光情報記録媒体であり、後者はＤＶＤ−ＲＯＭ等のあらかじめ情報が書き込まれた光情報記録媒体である。
【００１６】
例えば、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ等の光情報記録媒体では、少なくとも第１の基板には、記録層が形成されている。その他に、光反射層、保護層等が適宜形成されていることが好ましい。また、第２の基板にも、第１の基板と同様に、記録層、光反射層等が順次形成された構成としてもよく、いわゆる保護基板（ダミー基板）として層を形成しない構成としてもよい。
一方、ＤＶＤ−ＲＯＭ等のあらかじめ情報が書き込まれた光情報記録媒体では、少なくとも第１の基板の貼り合わせ面には、ピットが形成されている。また、第２の基板は、第１の基板と同様にピットが形成されている構成としてもよく、いわゆる保護基板（ダミー基板）としてピットを形成しない構成としてもよい。
以下、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ等の光情報記録媒体を例に、本発明に使用される上記基板及び各層について説明する。なお、層構成や材料等は、単なる例示であって、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００１７】
（基板）
第１の基板及び第２の基板としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性及び低価格等の点から、アモルファスポリオレフィン、ポリカーボネートが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、０．５〜１．２ｍｍとすることが好ましく、０．６〜１．１ｍｍとすることがより好ましい。
【００１８】
基板には、トラッキング用の案内溝又はアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プリグルーブ）が形成されている。
プリグルーブのトラックピッチは、３００〜９００ｎｍの範囲とすること好ましく、３５０〜８５０ｎｍとすることがより好ましく、４００〜８００ｎｍとすることが更に好ましい。
３００ｎｍ未満では、プリグルーブを正確に形成することが困難になる上、クロストークの問題が発生することがあり、９００ｎｍを超えると、記録密度が低下する問題が生ずることがある。
また、プリグルーブの深さ（溝深さ）は、８０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましく、１００〜１８０ｎｍとすることがより好ましく、１１０〜１６０ｎｍとすることが更に好ましい。
８０ｎｍ未満では、十分な記録変調度が得られないことがあり、２００ｎｍを超えると、反射率が大幅に低下することがある。
更に、プリグルーブの半値幅は、２００〜４００ｎｍの範囲とすることが好ましく、２３０〜３８０ｎｍとすることがより好ましく、２５０〜３５０ｎｍとすることが更に好ましい。
２００ｎｍ未満では、成型時に溝が十分に転写されなかったり、記録のエラーレートが高くなったりすることがあり、４００ｎｍを超えると、記録時に形成されるピットが広がってしまい、クロストークの原因となったり、十分な変調度が得られないことがある。
【００１９】
（記録層）
ＤＶＤ−Ｒの場合、記録層は、記録物質である色素を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液をスピンコート法により基板のプリグルーブが形成された面に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。
スピンコート法を適用する際の温度は、２３℃以上とすることが好ましく、２５℃以上とすることがより好ましい。温度の上限は特にないが、溶剤の引火点より低い温度とする必要があり、更に好ましくは３５℃とする。
２３℃未満とすると、溶剤の乾燥が遅くなり、目的とする色素膜厚（記録層の厚み）が得られない場合や塗布乾燥時間が長くなり、生産性が低下することがある。
【００２０】
当該色素としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられ、なかでも、フタロシアニン色素が好ましい。
また、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、及び同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素も好適に用いられる。
【００２１】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、２−メトキシエチルアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、或いは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中には更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００２２】
塗布液を構成する成分として、結合剤を使用する場合、該結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【００２３】
塗布方法としては、既述のようにスピンコート法を適用するが、その際に使用する装置等については、従来公知のものを使用することができる。
また、記録層は単層でも重層でもよく、その層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。
【００２４】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、及び同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００２５】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、更に好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００２６】
ＤＶＤ−ＲＷの場合、記録層は、結晶状態と非晶状態の少なくとも２つの状態をとり得る少なくともＡｇ、Ａｌ、Ｔｅ、Ｓｂからなる相変化型の光記録材料からなることが好ましい。かかる記録層は、公知の方法で形成することができる。
なお、当該記録層上には、必要に応じて、公知の誘電体層が形成される。
【００２７】
（光反射層）
記録層形成後、該記録層上に光反射性物質を蒸着、スパッタリング又はイオンプレーティングして光反射層を形成する。光反射層の形成に際しては、通常マスクが使用され、これによって光反射層の形成領域を調節することができる。
【００２８】
光反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、７０％以上であることが好ましい。
反射率が高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属或いはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、或いは二種以上の組合せで、又は合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ及びステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ或いはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇ或いはこれらの合金である。
光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００２９】
（保護層）
光反射層を形成した後は、該光反射層上に保護層が形成される。
保護層は、スピンコート法により形成される。スピンコート法を適用することで、記録層にダメージ（色素の溶解、色素と保護層材料との化学反応等）を与えることなく保護層を形成することができる。スピンコートする際の回転数は、均一な層形成及び記録層へのダメージの防止の観点から、５０〜８０００ｒｐｍとすることが好ましく、１００〜５０００ｒｐｍとすることがより好ましい。
なお、保護層に紫外線硬化樹脂を使用した場合は、スピンコート法により保護層を形成した後、該保護層上から紫外線照射ランプ（メタルハライドランプ）により紫外線を照射して、紫外線硬化樹脂を硬化させる。
また、形成する保護層の厚みムラを無くすため、樹脂を硬化させる前に一定時間放置する等の処理を適宜行ってもよい。
【００３０】
保護層は、水分の侵入やキズの発生を防止する。保護層を構成する材料としては、紫外線硬化樹脂、可視光硬化樹脂、熱硬化性樹脂、二酸化ケイ素等であることが好ましく、なかでも紫外線硬化樹脂であることが好ましい。該紫外線硬化樹脂としては、例えば、大日本インキ化学工業社製の「ＳＤ−６４０」等の紫外線硬化樹脂を挙げることができる。また、ＳＤ−３４７（大日本インキ化学工業社製）、ＳＤ−６９４（大日本インキ化学工業製）、ＳＫＣＤ１０５１（ＳＫＣ社製）等を使用することができる。保護層の厚さは、１〜２００μｍの範囲が好ましく、５０〜１５０μｍの範囲がより好ましい。
また、保護層が、レーザー光路として使用される層構成においては、透明性を有することが必要とされる。ここで、「透明性」とは、記録光及び再生光に対して、該光を透過する（透過率：９０以上）ほどに透明であることを意味する。
【００３１】
以上のようにして作製した光情報記録媒体は、基板の貼り合せ時に、接着剤層中に気泡の混入が防止されることから、基板の剥れがなく、また、外観も良好なものとなる。
【実施例】
【００３２】
本発明を以下に示す実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３３】
[実施例]
（基板の作製）
射出成型機（住友重機械工業（株）製ＳＤ１０ＥＲ）を用いて、ポリカーボネート樹脂を、スパイラル状のグルーブ（溝深さ１５０ｎｍ、溝幅３００ｎｍ、トラックピッチ０．７４μｍ）及び凹部を有する外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの透明な基板（第１の基板）を作製した。この際、射出成型金型としては、固定金型温度（スタンパを具備）１２４℃、可動金型温度１２６℃、鏡面（固定、可動）温調流量１５Ｌ／ｍｉｎ、スプル温度１１５℃、カットパンチ温度１１９℃、スプル、カットパンチ温調流量３Ｌ／ｍｉｎ、冷却時間４．５ｓ、溶融樹脂の最高温度３９０℃であった。また、同様にして、第２の基板を作製した。
【００３４】
第１の基板及び第２の基板について、半径方向チルト（ｒ）をＤＶＤ機械特性評価装置ＤＬＤ４０００（ジャパン・イー・エム社製）を用いて上述の方法で、２５６０箇所測定したところ、いずれも、最小値は−１．０°であり、最大値は−０．５°であった。また、平均値としては、−０．７°であった。これにより、成型直後の第１の基板及び第２の基板のいずれもが、貼り合わせ面の中心部が凸となる形状を有することになった。
【００３５】
（記録層の形成）
次に、下記化学式で表わされる色素Ａ０．２５ｇ及び色素Ｂ０．０６ｇをフッ素アルコール（２，２，３，３テトラフルオロプロパノール溶剤）３０ｇに混合し、１時間超音波処理を施して溶解し、色素塗布液を調製した。
【００３６】
【化１】
2005116087.tif 000002
【００３７】
温度２５℃、相対湿度４５％ＲＨにて、調製した色素塗布液をスピンコート法によって、前記第１の基板のグルーブが形成されている面（貼り合わせ面）に塗布し、その後、恒温槽において、記録層の塗膜を下方に向け、８０℃で２時間保持した（第１の基板に対するストック工程）。これにより、厚さ８０ｎｍの記録層が形成された。
また、第２の基板も、恒温槽において、貼りあわせ面を下方に向け、８０℃で２時間保持した（第２の基板に対するストック工程）。
これにより、第１の基板及び第２の基板の反りがフラットな状態へと強制された。
【００３８】
（光反射層の形成）
形成した記録層上に、ＤＣマグネトロンスパッタにより銀をスパッタリングして、厚さ８０ｎｍの光反射層を形成した。
【００３９】
（貼り合わせ）
以上のようにして記録層及び光反射層が形成された第１の基板をスピンコーターにセットし、ＵＶ硬化接着剤を前記光反射層上に塗布し６０ｒｐｍでスピンコートした。そのＵＶ硬化接着剤の上に第２の基板を載置し、更に４４００ｒｐｍで回転させてＵＶ硬化接着剤を２枚の基板の間に充填した。
貼り合わせ後の基板を別のターンテーブルに移し、該ターンテーブルとともにＵＶ照射部に移動させＵＶ光を照射してＵＶ硬化接着剤を硬化させ、２枚の基板を接着して光情報記録媒体を作製した。
【００４０】
[比較例]
実施例において、第１の基板及び第２の基板を下記のようにして作製し、第１の基板の記録層の形成条件を下記のようにした他は、実施例と同様にして光情報記録媒体を作製した。
【００４１】
（基板の作製）
射出成型機（住友重機械工業（株）製ＳＤ１０ＥＲ）を用いて、ポリカーボネート樹脂を、スパイラル状のグルーブ（溝深さ１５０ｎｍ、溝幅３００ｎｍ、トラックピッチ０．７４μｍ）及び凹部を有する外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの透明な基板（第１の基板）を作製した。この際、射出成型金型としては、固定金型温度（スタンパを具備）１２４℃、可動金型温度１２２℃、鏡面（固定、可動）温調流量１５Ｌ／ｍｉｎ、スプル温度１１５℃、カットパンチ温度１１９℃、スプル、カットパンチ温調流量３Ｌ／ｍｉｎ、冷却時間４．５ｓ、溶融樹脂の最高温度３９０℃であった。また、同様にして、第２の基板を作製した。
【００４２】
第１の基板及び第２の基板について、半径方向チルト（ｒ）をＤＶＤ機械特性評価装置ＤＬＤ４０００（ジャパン・イー・エム社製）を用いて上述の方法で、２５６０箇所測定したところ、最小値は−０．３°であり、最大値は０．３°であった。また、平均値としては、０°であった。これにより、成型直後の第１の基板及び第２の基板のいずれもが、反りのないフラットな形状を有することになった。
【００４３】
（記録層の形成）
温度２５℃、相対湿度４５％ＲＨにて、調製した色素塗布液をスピンコート法によって、前記第１の基板のグルーブが形成されている面（貼り合わせ面）に塗布し、その後、恒温槽において、記録層の塗膜を下方に向け、８０℃で２時間保持した。これにより、厚さ８０ｎｍの記録層が形成された。
また、第２の基板も、恒温槽において、貼りあわせ面を下方に向け、８０℃で２時間保持した。
【００４４】
〔光情報記録媒体の評価〕
実施例及び比較例の製造方法で得られた光情報記録媒体を、泡の混入状態、基板の剥れ、外観について評価した。
第２の基板（ダミー基板）と、記録層及び反射層を備える第１の基板（情報基板）と、をオリジン電気製貼り合せ装置で貼り合わせ、目視にて、泡の混入状態及び基板の剥れを評価した。評価は、実施例及び比較例で作製された光情報記録媒体に対し、それぞれ５０枚ずつ行った。評価結果を表１に示す。
【００４５】
【表１】
2005116087.tif 000003
【００４６】
表１によれば、実施例の製造方法で得られた光情報記録媒体は、評価を行った５０枚全てにおいて、泡の混入や基板の剥れが見られず、その結果、良好な外観を有していることが明らかとなった。
対して、比較例の製造方法で得られた光情報記録媒体は、泡の混入に関しては、８０％以上に見られ、基板の剥れは１６％に見られた。これにより、外観上の問題を有するものが多いことが判明した。