(57)【要約】【課題】  フォトレジストを均一に塗布できるようにし、それにより、スパイクノイズが抑制された光ディスクを作製できる光ディスク用ガラス原盤の製造方法を提供する。【解決手段】  平坦な表面を有する円板状のガラス基板５の表面を研磨粒子を用いて鏡面に研磨する第１のステップと、鏡面に加工されたガラス基板５の表面に残存する研磨粒子を拭き取る第２のステップと、研磨粒子の拭き取られたガラス基板表面を親油化する第３のステップと、ガラス基板５を、その周囲に円形型ネット６を配置したターンテーブル３上に配置し、親油化されたガラス基板表面に所定粘度に希釈したフォトレジストを滴下した後、ターンテーブル３を所定回転数で回転させて、親油化されたガラス基板表面に所定厚さのフォトレジスト層を形成する第４のステップとを有する。【選択図】      図２
2005032390.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平坦な表面を有する円板状のガラス基板と研磨盤との間に研磨粒子を含む水溶液を連続して流しながら前記ガラス基板と前記研磨盤との各表面を互いに押圧して、互いに逆の回転方向に回転運動させながら、前記ガラス基板の表面を鏡面に研磨する第１のステップと、
前記鏡面に加工された前記ガラス基板の表面に残存する前記研磨粒子を、活性剤を含む水溶液を流しながら平面微細メッシュで拭き取る第２のステップと、
前記研磨粒子の拭き取られた前記ガラス基板表面に所定厚さのシラン系結合剤を塗布して前記ガラス基板表面を親油化する第３のステップと、
前記ガラス基板を、その周囲に円形型ネットを配置したターンテーブル上に配置し、前記親油化されたガラス基板表面に所定粘度に希釈したエネルギー線感応性樹脂を滴下した後、前記ターンテーブルを所定回転数で回転させて、前記エネルギー線感応性樹脂を振り切った時に発生する不要な跳ね返り飛沫を前記円形型ネットに吸着させることにより、前記跳ね返り飛沫が前記親油化されたガラス基板表面に再付着するのを防止して、前記親油化されたガラス基板表面に所定厚さの前記エネルギー線感応性樹脂層を形成する第４のステップとを有することを特徴とする情報記録担体用ガラス原盤の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細パターン形成に適した、光ディスク等の情報記録担体用ガラス原盤の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、情報記録担体としては、ディスク状やカード状、テープ状のものが知られている。これらの情報記録担体のうち、例えば、光ディスクに代表されるように、高密度情報の再生または記録・再生を担う情報記録担体には、微細パターンが刻まれていることが多い。この微細パターンには、いわゆるトラックに代表される微細な溝（グルーブ）、微細なピット、またはホログラム等がある。
【０００３】
情報記録担体としての光ディスクにおいては、例えば平坦なガラス基板上に形成したエネルギー線感応性樹脂にエネルギー線を照射して微細パターンを形成する。この方法は、カッティングと呼ばれる手法であり、エネルギー線とガラス原盤が相対運動する状態で、エネルギー線を連続照射した場合にはグルーブを形成することができ、間欠照射した場合にはピットを形成することができる。なお情報記録担体には、サイズが種々あり、これに対応して基板サイズは随時選択される。
【０００４】
従来、光ディスクを形成する方法としては、図６に示す方法が知られている。
【０００５】
同図に示すように、まず、平坦なガラス基板を用意し、これを研磨する（研磨工程：図６の（ａ））。次に、研磨剤を洗浄除去し、基板を拭きとる（拭き取り工程：図６の（ｂ））。次に、基板表面を親油化する（親油化処理工程：図６の（ｃ））。次に、基板上に、エネルギー線感応性樹脂層を形成する（エネルギー線感応性樹脂塗布工程：図６の（ｄ））。このとき、レジスト塗布機を使用する（例えば、特許文献１参照。）。
【０００６】
なお、基板上に直接エネルギー線感応性樹脂を塗布しない理由は、エネルギー線感応性樹脂自体が親油性であり、洗浄直後の親水性の基板表面には塗布できないためである。基板表面を親油化するには、シラン結合剤などが一般に用いられる。
【０００７】
次に、エネルギー線感応性樹脂に情報で変調されたエネルギー線を照射してカッティングをする（カッティング工程：図６の（ｅ））。次に、この基板よりスタンパーを作製する（スタンパー化工程：図６の（ｆ））。次に、このスタンパーを用いて、射出成形により樹脂基板を作製し、さらにこの樹脂基板上に所定の記録膜、保護膜などを形成して光ディスクを得る（成形・成膜工程：図６の（ｇ））。
【特許文献１】実開昭６２−３５６７５号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、これらの光ディスクを含む情報記録担体においては、情報の記憶容量、記録密度の向上が求められている。そのためには、情報記録担体を再生する際に、部分的又は全面に発生する読み取りエラー（スパイクノイズ）を減少させる必要があった。
【０００９】
この読み取りエラーの原因を調べたところ、基板上に塗布したエネルギー線感応性樹脂（フォトレジスト）膜の不均一性によることが判明した。そのため、フォトレジストの塗布が不完全であるとして、フォトレジストの材料検討、フォトレジスト塗布条件の検討を行ったが効果が認められなかった。また親油化処理に用いる薬剤も検討したが、依然としてフォトレジスト膜が不均一であり、読取りエラーを減少させることができないという問題があった。
【００１０】
そこで、本発明は上記問題を解決して、エネルギー線感応性樹脂（フォトレジスト）を均一に塗布できるようにし、それにより、スパイクノイズによる読み取りエラーの発生が抑制された情報記録担体を作製できる情報記録担体用ガラス原盤の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成する手段として、本発明の情報記録担体用ガラス原盤の製造方法は、平坦な表面を有する円板状のガラス基板と研磨盤との間に研磨粒子を含む水溶液を連続して流しながら前記ガラス基板と前記研磨盤との各表面を互いに押圧して、互いに逆の回転方向に回転運動させながら、前記ガラス基板の表面を鏡面に研磨する第１のステップと、
前記鏡面に加工された前記ガラス基板の表面に残存する前記研磨粒子を、活性剤を含む水溶液を流しながら平面微細メッシュで拭き取る第２のステップと、
前記研磨粒子の拭き取られた前記ガラス基板表面に所定厚さのシラン系結合剤を塗布して前記ガラス基板表面を親油化する第３のステップと、
前記ガラス基板を、その周囲に円形型ネットを配置したターンテーブル上に配置し、前記親油化されたガラス基板表面に所定粘度に希釈したエネルギー線感応性樹脂を滴下した後、前記ターンテーブルを所定回転数で回転させて、前記エネルギー線感応性樹脂を振り切った時に発生する不要な跳ね返り飛沫を前記円形型ネットに吸着させることにより、前記跳ね返り飛沫が前記親油化されたガラス基板表面に再付着するのを防止して、前記親油化されたガラス基板表面に所定厚さの前記エネルギー線感応性樹脂層を形成する第４のステップとを有することを特徴とする情報記録担体用ガラス原盤の製造方法である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の情報記録担体用ガラス原盤の製造方法は、ガラス基板の表面を研磨粒子の水溶液を掛けながら研磨する第１のステップと、前記ガラス基板の表面に残存する前記研磨粒子を、水溶液を流しながらメッシュを接触させて拭き取る第２のステップと、前記研磨粒子を拭き取った前記ガラス基板表面を親油化する第３のステップと、円形型ネットで取囲んだターンテーブル上に、前記ガラス基板を載せてエネルギー線感応樹脂を滴下した後、前記ターンテーブルを回転させて、前記エネルギー線感応性樹脂を振り切った時に発生する不要な跳ね返り飛沫を前記円形型ネットに吸着させることにより、前記跳ね返り飛沫が前記親油化されたガラス基板表面に再付着するのを防止して、前記ガラス基板表面上に所定厚さのエネルギー線感応性樹脂層を形成する第４のステップとを有することにより、余分な残存物のない均一なエネルギー線感光性樹脂層を形成した情報記録担体用ガラス原盤を得ることができ、これを用いて、スパイクノイズによる読み取りエラーが少ない情報記録担体を作製できるという情報記録担体用ガラス原盤の製造方法を提供できるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態につき、好ましい実施例により、図面を参照して説明する。
【００１４】
まず、本発明に至った経過を説明する。
【００１５】
スパイクノイズとは、エネルギー線感応性樹脂の形成されたガラス原盤の樹脂面上に残存した異物のために、その部分に、次のスタンパー化工程において、所望の溝やピットが形成されなくて、所望の情報が記録できず、そこから得られる異常な再生信号を示す。これは、信号再生の光ピックアップ出力をモニターした時に、電圧が急瞬に低下し、短時間で復帰する現象として観察される。すなわち急激な電圧降下の部分は、ノイズとして検出される。本願発明者は、情報記録担体のスパイクノイズを最小限にするために、ガラス原盤へのエネルギー線感応性樹脂塗布工程の諸条件について詳しく検討を行った。すなわち、レジストの流量、レジストの種類、塗布機（スピナー）の回転数、また、ステンレス製円形型ネットのメッシュ寸法などの主要パラメータについてである。これらのパラメータと、スパイクノイズ（読み取りエラー）との関係を詳細に検討した結果、スパイクノイズは、エネルギー線感応性樹脂の塗布の時に、この樹脂が再付着し、形成されるエネルギー感応性樹脂層の厚さが局部的に不均一になることによって発生することを発見し、本発明に至ったものである。
【実施例１】
【００１６】
図１は、本発明の情報記録担体用ガラス原盤の製造方法の実施例を示す工程図である。
【００１７】
なお、同図には、ガラス原盤の作製から、そのガラス原盤を使用して、情報記録担体を作製するまでの工程を示してある。
【００１８】
同図に示すように、本実施例の情報記録担体用ガラス原盤の製造方法は、研磨工程と、拭き取り工程と、表面を親油化する工程と、ステンレス製円形ネットを使用してエネルギー線感応樹脂を形成する工程とからなる。情報記録担体を作製するには、さらに、カッティング工程と、スタンパー化工程と、成形・成膜工程とを必要とする。
【００１９】
まず、基板として、直径１２０ｍｍ、厚さ１．２ｍｍである円板状のソーダ石灰ガラス（酸化珪素７０ｗｔ％含有）を使用した。基板は、予め研磨によって、平行度２０μｍ以下、平面度２０μｍ以下の高精度に平坦仕上げされているものである。
【００２０】
なお、基板としては、高精度に平坦化された所定形状の金属、セラミックなどを使用できる。例えば、珪素、アルミニウム又はステンレスなどの金属や、酸化珪素、窒化珪素、酸化チタン又は酸化アルミニウムなどを少なくとも含むセラミックを用いることができる。望ましくは酸化珪素を４０％以上含むセラミック、より望ましくは酸化珪素を６０％以上含むセラミックである。基板のサイズは、製造しようとする情報記録担体の外寸を考慮して選定する。例えば直径１２０ｍｍの情報記録担体の場合、直径１６０〜２４０ｍｍ程度の基板を用意する。基板の厚さとしては、０．１ｍｍ〜３０ｍｍであり、望ましくは０．６ｍｍ〜２０ｍｍ、更に望ましくは、１ｍｍ〜１０ｍｍが良い。また所定厚さを有するベース材に、上述の金属、セラミックなどを堆積したものであってもよい。
【００２１】
まず、この基板の表面を研磨し、表面を鏡面化する（研磨工程：図１の（ａ）参照。）。
【００２２】
研磨方法としては、例えば、水平剪断力を加える機械的な方法を用いる。
【００２３】
具体的には垂直圧力を加えながら、自公転により基板表面に水平剪断力を付与できる装置と、基板より硬度の低い不織布からなるダミー基板を用いる。ダミー基板と基板間には、基板よりも硬度の高い、研磨剤である二酸化セリウムからなる微粉末を多量に含む水溶液（研磨液である。）を連続して流しておく。基板とダミー基板との間に常に研磨液を挟みながら、基板とダミー基板に相対運動を付与した。
なお、研磨液としては、例えば基板に４０％以上の酸化珪素を含むセラミックを用いる場合には、二酸化セリウムの他に、アルミナ、シリカなどの酸化物微粉末を含む水溶液を用いることができる。
【００２４】
次に、研磨工程において取りきれていない微細な研磨粒子を拭き取る（拭き取り工程：図１の（ｂ）参照。）。
【００２５】
具体的には、２５６μｍ以下のメッシュを有した親水性高分子からなる平面微細メッシュを、洗浄液を流しながら基板の表面に接触させて基板の表面を拭き取る。洗浄液としては、超純水と界面活性剤（商品名ママレモン）とを容積比で１：１に混合したものを使用する。
【００２６】
この拭き取りにおいては、親水性高分子からなる平面微細メッシュを基板表面に接触させているので、接触圧力による研磨剤粒子の機械的除去作用があるとともに、平面微細メッシュとこれに捕獲された研磨剤粒子が強固に付着するので、ガラス盤への再付着が抑えられる。この効果を最大とするのは、この拭き取り工程で水溶液を同時に供給する場合であり、さらに、メッシュをコットン等の親水性の高分子で構成する場合である。
【００２７】
なお、洗浄液としては、アルカリ性水溶液や中性水溶液を用いることもできる。アルカリ性水溶液としては、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、リン酸水素ナトリウム水溶液、アンモニア水溶液がある。中性水溶液としては、超純水がある。なお、これらに界面活性剤を添加してもよい。
【００２８】
また、使用する平面微細メッシュのメッシュ寸法であるが、後述するように光情報記録担体（光ディスク）を製造する場合において、珪素または酸化珪素を主成分とする基板を使用する際には、２５６μｍ以下とすると最大の効果が得られる。
【００２９】
次に、基板表面を親油化する（親油化処理工程：図１の（ｃ）参照。）。
【００３０】
基板表面を親油化するために、分子内に親油性官能基と親水性官能基を共に有するシラン系結合剤、具体的にはヘキサメチルジシラザンを選択した。このヘキサメチルジシラザンの揮発性が高いことを利用して、密閉容器中でヘキサメチルジシラザン蒸気に基板を３分間さらす処理を行った。すなわち、密閉容器の底にヘキサメチルジシラザンを一定量張り、その上方に所定の間隔をおいて、基板を保持した。なお、ヘキサメチルジシラザン液表面と基板の拭き取り面は対向するように配置した。
【００３１】
なお、親油化するための薬液として、シラン系結合剤の他に、チタネート系結合剤、アルミネート系結合剤、アミン系結合剤、４級アンモニウム結合剤を用いることができる。これらの薬液をそのまま基板表面に塗布するか、アルコール等の有機溶剤又は水に希釈して塗布する。薬液の揮発性が高い場合には、蒸気浴により塗布する方法をとってもよい。
【００３２】
次に、親油化した基板表面に、ステンレス製円形型ネットを配置したレジスト塗布機を用いてエネルギー感応性樹脂を塗布し、情報記録担体用ガラス原盤を得る（エネルギー製円形型ネットを使用したエネルギー線感応性樹脂塗布工程：図１の（ｄ）参照。）。
【００３３】
ここで、図２乃至図４により、エネルギー感応性樹脂の塗布に使用するレジスト塗布機について説明する。
【００３４】
図２は、実施例において使用するレジスト塗布機の概略構成図である。図３は、ステンレス製円形型ネットの概略構成図である。図４は、ステンレス製円形型ネットの部分拡大図である。
【００３５】
図２に示すように、レジスト塗布機１０は、操作部１（ベースを兼ねる）上に、モータ７を固定配置してあり、モータ７の回転軸４には所定の直径ｄのターンテーブル３が設けられている。ターンテーブル３には複数のサイズがあり、交換可能となっている。ターンテーブル３は、ここに配置される基板５を固定できる構造（真空吸着）を有している。ターンテーブル３の外側には、ステンレス製円形型ネット６が配置されている。その外周部に、飛沫防止カバー２が設けられている。
【００３６】
図３及び図４に示す様に、ステンレス製円形型ネット６は、直径１ｍｍのワイヤ１６を縦横各ピッチ３ｍｍで方形状に編み込んで形成したネットを直径Ｄの円筒型に成形したものである。これを、以下、メッシュサイズ３ｍｍのステンレス製円形型ネット６という。
【００３７】
ここで、ターンテーブル３の直径ｄの約２倍をステンレス製円形型ネット６の直径Ｄとする。また、ステンレス製円形型ネット６の上端面とターンテーブル３の上面との間隔Ｈは３０ｍｍ程度となるようにしておく。ターンテーブル３の上面のほうが低くなっている。厚い基板５を用いる場合には、この基板５の上面とステンレス製円形型ネット６の上端との間隔は、２５ｍｍ程度になるように調整する。
【００３８】
上述のレジスト塗布機１０のターンテーブル３に表面を親油化した基板５を配置し、エネルギー線感応性樹脂として粘度１ｍＰａ・ｓである紫外線に感光するフォトレジスト（以下、単にレジストともいう）を、基板５に連続滴下して、その後、ターンテーブル３を５００〜１５００ｒｐｍで回転させ、フォトレジストを基板５上に均一に塗布した。この後、残存溶液を除去するために近接ホットプレートにより、９０度Ｃ、５分間のベーキングを行った。
【００３９】
ここで、レジスト塗布機１０に、飛沫防止カバー２とは別に、ステンレス製円形型ネット６を配置したのは、レジスト塗布時に、レジストの飛び跳ねによる基板表面へのレジストの再付着を防止するためである。
【００４０】
図４に模式的に示すように、レジスト塗布時に、飛び跳ねたレジスト８がステンレス製円形型ネット６のメッシュ９に強固に付着するので、基板５への再付着がおさえられ、後述するように、最終的に作製される光ディスクにおいて、ディフェクトを減少することができる。
【００４１】
なお、エネルギー線感応性樹脂としては、例えば、波長１０ｎｍ〜１５００ｎｍの電磁波（γ線、Ｘ線、極端紫外線、遠紫外線、紫外線、可視光、赤外線など）に感応する有機材料や、粒子線（α線、β線、陽子線、中性子線、電子線など）に感応する有機材料から選ばれる、前者の有機材料の代表例としては、感光性色素があり、特に好適なものとして紫外線又は遠紫外線感光型のフォトレジストがある。また後者の有機材料の代表例としては電子線（ＥＢ）レジストなどがある。
【００４２】
これらのエネルギー線感応性樹脂を塗布するに際しては、所定の粘度になるように、これら材料を有機溶剤に希釈して塗布する。有機溶剤としては、乳酸エチル、酢酸ブチル、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、ピルビン酸エチル、メチル−３−メトキシプロピオネート、メチル−３−エトキシプロピオネート、エチルエトキシプロピオネート、メチルアミルケトン、２−ヘプタノン、シクロヘキサノンなどを用いることができる。
【００４３】
これらのエネルギー線感応性樹脂を塗布する方法としては、スピンコーティング法の他に、ナイフコーティング法、バーコート法、浸漬引き上げ法などを用いることができる。そして、塗布した後には、希釈用の溶剤を除去するためにベーキングを施してもよい。
【００４４】
以上のようにして、情報記録担体用ガラス原盤を得る。
【００４５】
次に、エネルギー線感応性樹脂を塗布した基板に情報により強度変調したエレルギー線を照射して、エネルギー線感応性樹脂のカッティングを行う（カッティング工程：図１の（ｅ）参照。）。
【００４６】
ここで、具体的には２６６ｎｍの波長のレーザを用い、公知の方法で、２５ＧＢ相当の記録密度、すなわちトラックピッチ０．３２μｍ、最短ピット長０．１８５μｍであるＤ８−１５変調信号のピット列をカッティングする。
【００４７】
次に、公知の方法により、カッティングされたエネルギー線感応性樹脂の表面に、所定厚さのニッケルをスパッタして、導電膜とし、続いて所定の厚さまで電鋳メッキをし、スタンパーを得る（スタンパー工程：図１の（ｆ）参照。）。
【００４８】
次に、公知の方法により、このスタンパーを用いて、ポリカーボネート樹脂を射出成形して、ポリカーボネート樹脂基板を作製し、上記のピット列の形成されている樹脂基板表面上に反射膜を付け、さらに厚さ１００μｍのポリカーボネート樹脂を貼り付け、本実施例に係る光ディスクを作製した（成形・成膜工程：図１の（ｇ）参照。）。
【００４９】
次に、この本実施例に係る光ディスクを再生測定し信号波形とスパイクノイズ個数を調べた。具体的には、直径１２０ｍｍの光ディスクにおいて、特定の半径（以下、Ｒともいう）２９．０ｍｍ、３１．４ｍｍ、３４．５ｍｍ、３８．０ｍｍ、４２．８ｍｍ、４７．７ｍｍ、５１．６ｍｍ、５３．７ｍｍ及び５５．２ｍｍの各半径位置の一周に現れるスパイクノイズの個数を求めた。光ディスクにレーザを照射し、反射して検出される光強度が１００％であれば、ディフェクト（欠陥）によるスパイクノイズがなく、光量が減少していれば欠陥ありとしてカウントした。光量が５０％以上と光量が５０％以下の場合に分けて、スパイクノイズを欠陥としてカウントし、１周中に１０個以上ある場合をＮＧとする判定基準とした。
【００５０】
スパイクノイズの測定結果は、Ｒ２９．０ｍｍではなし、Ｒ３１．０ｍｍでは合計３個、Ｒ３４．５ｍｍでは合計１個、Ｒ３８．０ｍｍでは合計１個、Ｒ４２．８ｍｍでは合計４個、Ｒ４７．７ｍｍでは合計１個、Ｒ５１．６ｍｍでは合計３個、Ｒ５３．７ｍｍでは合計２個、Ｒ５５．２ｍｍでは合計２個であり、判定基準をクリアするものである。
【００５１】
この結果を表１に示す。また、この光ディスクの半径方向とスパイクノイズの関係を示すグラフ図を図５の（ａ）に示す。なお、このグラフ図では代表的なスパイクノイズを示してある。図５において、横軸はディスクノ半径位置を、縦軸は再生信号の光減衰量をそれぞれ示す。光減衰量が０の横線はノイズのない信号を示し、それより下方に出ている縦の線はスパイクノイズを示しその長さがノイズの大きさ（光減衰量の大きさ）を示す。
【００５２】
なお、この光ディスクと同様に他に同様の９枚の光ディスクを作製し、スパイクノイズを測定したが、いずれも判定基準をクリアし、良品と判定されるものであった。
【００５３】
【表１】
2005032390.tif 000003
（比較例１）
【００５４】
本実施例に係る光ディスクにおいて、ステンレス製円形型ネットを使用したエネルギー線感応性樹脂塗布工程において、メッシュサイズ３ｍｍのステンレス製円形型ネットに代えて、メッシュサイズ１ｍｍ（ワイヤ直径０．３ｍｍ、ピッチ１ｍｍ）のステンレス製円形型ネットを用いた以外は、本実施例に係る光ディスクと同様にして作製して、比較例１の光ディスクを得た。
【００５５】
本実施例に係る光ディスクと同様にして、比較例１の光ディスクのスパイクノイズを測定した。
【００５６】
スパイクノイズの測定結果は、Ｒ２９．０ｍｍでは合計７２個、Ｒ３１．０ｍｍでは合計６６個、Ｒ３４．５ｍｍでは合計６０個、Ｒ３８．０ｍｍでは合計６６個、Ｒ４２．８ｍｍでは合計７５個、Ｒ４７．７ｍｍでは合計９３個、Ｒ５１．６ｍｍでは合計１１０個、Ｒ５３．７ｍｍでは合計１２９個、Ｒ５５．２ｍｍでは合計１４４個であり、判定基準をクリアしない、不良品である。
【００５７】
この結果を上の表１に示す。また、この比較例１の光ディスクの半径方向とスパイクノイズの関係を示すグラフ図を図５の（ｂ）に示す。なお、このグラフ図では、検出された全てではなく、代表的なスパイクノイズを示してある。
（比較例２）
【００５８】
本実施例に係る光ディスクにおいて、ステンレス製円形型ネットを使用したエネルギー線感応性樹脂塗布工程において、メッシュサイズ３ｍｍのステンレス製円形型ネットに代えて、メッシュサイズ１０ｍｍ（ワイヤ直径２ｍｍ、ピッチ１０ｍｍ）のステンレス製円形型ネットを用いた以外は、本実施例に係る光ディスクと同様にして作製して、比較例２の光ディスクを得た。
【００５９】
本実施例に係る光ディスクと同様にして、比較例２の光ディスクのスパイクノイズを測定した。
【００６０】
スパイクノイズの測定結果は、Ｒ２９．０ｍｍでは合計１２９個、Ｒ３１．０ｍｍでは合計１３４個、Ｒ３４．５ｍｍでは合計１４４個、Ｒ３８．０ｍｍでは合計１１６個、Ｒ４２．８ｍｍでは合計１００個、Ｒ４７．７ｍｍでは合計６３個、Ｒ５１．６ｍｍでは合計７０個、Ｒ５３．７ｍｍでは合計６４個、Ｒ５５．２ｍｍでは合計５６個であり、判定基準をクリアしない、不良品である。
【００６１】
この結果を上の表１に示す。
（比較例３）
【００６２】
本実施例に係る光ディスクにおいて、ステンレス製円形型ネットを使用したエネルギー線感応性樹脂塗布工程において、メッシュサイズ３ｍｍのステンレス製円形型ネットを用いない以外は、本実施例に係る光ディスクと同様にして作製して、比較例３の光ディスクを得た。
【００６３】
本実施例に係る光ディスクと同様にして、比較例３の光ディスクのスパイクノイズを測定した。
【００６４】
スパイクノイズの測定結果は、Ｒ２９．０ｍｍでは合計１１０個、Ｒ３１．０ｍｍでは合計１４８個、Ｒ３４．５ｍｍでは合計１６４個、Ｒ３８．０ｍｍでは合計１１８個、Ｒ４２．８ｍｍでは合計９２個、Ｒ４７．７ｍｍでは合計６９個、Ｒ５１．６ｍｍでは合計７１個、Ｒ５３．７ｍｍでは合計６１個、Ｒ５５．２ｍｍでは合計６１個であり、判定基準をクリアしない、不良品である。
【００６５】
この結果を上の表１に示す。
【００６６】
エネルギー線感応性樹脂の塗布方法として、メッシュサイズ３ｍｍのステンレス製円形型ネットを使用した実施例に係る光ディスクにおいては、信号波形の乱れてはなく、どの測定位置でもスパイクノイズが１０個以下に抑えられている。
【００６７】
メッシュサイズ１ｍｍのステンレス製円形型ネットを用いた比較例１の光ディスクでは、信号波形が乱れており急激な電圧降下が多く、スパイクノイズも１００個以上確認できるほどであった。
【００６８】
メッシュサイズ１０ｍｍのステンレス製円形型ネットを使用した比較例２では、信号波形が乱れており急激な電圧降下が多く、スパイクノイズも１００個以上確認できるほどであった。
【００６９】
ステンレス製円形型ネット無しの比較例３でも、信号波形が乱れており急激な電圧降下が多く、スパイクノイズも１００個以上確認できるほどであった。
【００７０】
以上より、エネルギー線感応樹脂を塗布する際には、メッシュサイズ３ｍｍのステンレス製円形型ネットをターンテーブルの外周に配置することにより、最終的に作製する光ディスクにおけるスパイクノイズを大幅に低減でき、カッティング工程においても微細パターン形成も均一に行うことができ、最終的に、スパイクノイズが所定の半径の一周あたり１０個以下である光ディスクを安定して製造することができる。
【００７１】
なお、基板の大きさとしては直径１２０ｍｍとして説明したが、これに限らず、直径３２ｍｍ、５１ｍｍ、６５ｍｍ、８０ｍｍ、８８ｍｍ、１３０ｍｍ、１６０ｍｍ、１６５ｍｍ、２００ｍｍ、２４０ｍｍ、３００ｍｍなどであってもよい。また基板の厚みは１．２ｍｍとしたがこれに限らず、０．６ｍｍ、５ｍｍ、６ｍｍ、１０ｍｍなどであってもよい。基板の材質としては、酸化珪素４０％以上を含む基板としてソーダ石灰ガラスを用いたが、これに限るものではなく、珪素、ウエハー、石英ガラス（酸化珪素１００％）も用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明の情報記録担体用ガラス原盤の製造方法の実施例を示す工程図である。
【図２】実施例において使用するレジスト塗布機の概略構成図である。
【図３】ステンレス製円形ネットの概略構成図である。
【図４】ステンレス製円形ネットの部分拡大図である。
【図５】光ディスクの信号波形を示すグラフ図である。
【図６】従来例の情報記録担体用ガラス原盤の製造方法を示す工程図である。
【符号の説明】
【００７３】
１    操作部
２    飛沫防止カバー
３    ターンテーブル
４    回転軸
５    ガラス原盤
６    ステンレス製円形型ネット
７    モータ
８    レジスト
１０    レジスト塗布機
１６    ワイヤ
【図１】
2005032390.tif 000004
【図２】
2005032390.tif 000005
【図３】
2005032390.tif 000006
【図４】
2005032390.tif 000007
【図５】
2005032390.tif 000008
【図６】
2005032390.tif 000009