(57)【要約】【課題】パネル内の不純物を確実に除去し、例えば、保護膜や蛍光体層の特性を向上させて、歩留りの向上、長寿命化、発光効率の向上を実現する。【解決手段】減圧工程では、略３００℃以上のベーキング温度を保持した状態で、排気を行い、放電空間１３内に残留する不純物ガス等が放出されて除去される。次に、排気を停止して、復圧ガスの導入を開始し、真空チャンバ内の圧力は大気圧に戻される。復圧ガスとして、体積混合比略１０％の水蒸気（Ｈ２Ｏ）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いる。ここで、上記ベーキング温度以上の温度で、加熱処理することによってＨ２ＯやＣＯ２等の保護膜６表面への付着が回避されると共に、Ｈ２ＯやＣＯ２等の保護膜６中への含有がを最小限度にとどめられる。また、復圧ガスとして、酸化力の弱い水蒸気（Ｈ２Ｏ）を用いるので、発光効率の低下の要因となる青色発光体の酸化による劣化が防止される。【選択図】図１
2005276712.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマディスプレイパネルを構成する第１の基板と第２の基板とを、封着材層を介し間隙を隔てて互いに対向させた状態で配置し、加熱処理によって前記第１の基板及び前記第２の基板を封着するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記第１の基板と前記第２の基板とを、封着材層を介して重ね合わせてパネル内空間を形成する第１の工程と、前記パネル内空間を排気する第２の工程と、前記パネル内空間に水素ガス及び水蒸気のうち少なくともいずれか一方の種類のガスを含む復圧ガスを導入する第３の工程とを備えた
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
前記第３の工程は、少なくとも水分子が脱着する脱着温度以上の温度で実施されることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
前記第３の工程は、３００℃以上の温度で実施されることを特徴とする請求項１又は２記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
前記復圧ガスは、体積混合比１０％以上の水素ガス又は水蒸気を含むことを特徴とする請求項１、２又は３記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
前記復圧ガスは、水素ガス及び水蒸気のうち少なくともいずれか一方の種類のガスと、窒素ガス及び不活性ガスのうち少なくも一方の種類のガスとを含むことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
前記復圧ガスは、水蒸気と、酸素ガス、窒素ガス及び不活性ガスのうち少なくも一種類のガスとを含むことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
前記封着材層はガラスフリットを含むことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
前記第１の工程の前に、前記第１の基板及び前記第２の基板のうち少なくともいずれか一方の基板の前記パネル内空間側に配置されることとなる表面の周縁部に、ガラスフリットを含むガラスペーストを塗布し、所定の温度で予備焼成する第４の工程を実施することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項９】
前記第２の工程は、少なくとも水分子が脱着する脱着温度以上の温度で実施されることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１０】
前記復圧ガスに含まれる二酸化炭素ガスは、体積混合比５％以下であることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１１】
前記第３の工程を実施した後に、溶融させたガラスフリットを冷却させて凝固させる第５の工程を備えたことを特徴とする請求項７乃至１０のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１２】
前記第５の工程では、前記第１の基板及び前記第２の基板の周囲の雰囲気ガスとして酸化性ガスを含む乾燥ガスを導入することを特徴とする請求項１１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１３】
前記酸化性ガスは、酸素ガスを含むことを特徴とする請求項１２記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１４】
前記乾燥ガスは、窒素ガス及び不活性ガスのうち少なくも一方の種類のガスを含むことを特徴とする請求項１２又は１３記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１５】
前記雰囲気ガスに含まれる水蒸気は、体積混合比０．１％以下であることを特徴とする請求項１２、１３又は１４記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１６】
前記雰囲気ガスに含まれる二酸化炭素ガスは、体積混合比５％以下であることを特徴とする請求項１２、１３又は１４記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１７】
前記第５の工程を実施して、ガラスフリットの軟化温度以下まで冷却した後に、連続して前記パネル内空間内を排気する第６の工程を実施することを特徴とする請求項７乃至１６のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１８】
前記第２の工程及び前記第３の工程を、少なくとも１度実施することを特徴とする請求項１乃至１７のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１９】
プラズマディスプレイパネルを製造する第７の工程と、前記プラズマディスプレイパネルを駆動する回路とともに前記プラズマディスプレイパネルを一つのモジュールとして製造する第８の工程と、画像信号のフォーマット変換を行い、前記モジュールに送信するインタフェースを前記モジュールに電気的に接続する第９の工程とを含むプラズマ表示装置の製造方法であって、
前記第７の工程では、請求項１乃至１８のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法が実施されることを特徴とするプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項２０】
請求項１乃至１８のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法を用いて製造されたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、プラズマディスプレイパネルの製造方法、プラズマ表示装置の製造方法及びプラズマディスプレイパネルに係り、前面基板と背面基板とを封着材を用いて封着する封着工程で、例えば、前面基板を構成しＭｇＯからなる保護膜に含まれる不純物を除去するプラズマディスプレイパネルの製造方法、プラズマ表示装置の製造方法及びプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）ともいう）を主要部として含むプラズマ表示装置は、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）ディスプレイや液晶表示装置等に比べて、ちらつきがなく、表示コントラスト比が大きく、薄型大画面化が可能であり、応答速度が速い等の利点を有し、近年、大型平面テレビジョン受像機や、情報処理機器のディスプレイとして利用されている。
このプラズマ表示装置は、放電により発生した紫外線を蛍光体に照射することによって可視光を取り出して表示を行うディスプレイであり、動作方式により、電極が誘電体で被覆されて間接的に交流放電の状態で動作させるＡＣ型のものと、電極が放電空間に露出されて直流放電の状態で動作させるＤＣ型のものとに略大別され、特にＡＣ型のものは、高輝度が得られ、比較的簡単な構造で上述したような大画面化が容易に実現できるので、広く用いられている。また、ＡＣ型のプラズマディスプレイパネルとしては、電極構造の違いから面放電方式のものと、対向電極方式のものとが提案されている。
このようなＡＣ型のプラズマ表示装置の主要部を構成するプラズマディスプレイパネルは、ガラス等の透明材料からなる前面基板と背面基板とが対向するように配置されて、両基板間にプラズマを発生させる放電ガス空間が形成されて概略構成されている。
【０００３】
また、ＡＣ型のプラズマ表示装置のなかで、プラズマディスプレイパネルにおいて、図８に示すように、放電セル（以下、セルともいう）１０１を形成する上述したような一対の基板のうちの一方の基板である前面基板１０２の内面に、水平方向に沿って平行に走査電極１０３と維持電極（共通電極）１０４とからなる行電極を配置すると共に、他方の基板である背面基板１０５の内面に、上記行電極と直交するように垂直方向に沿ってデータ電極（アドレス電極）１０６からなる列電極を配置した３電極面放電型の構成のプラズマディスプレイパネル１０７は、前面基板１０２において行われる面放電時に発生する高エネルギのイオンによる影響を抑えることができるので、長寿命化が図れるため、最も広く採用されている。
【０００４】
この３電極面放電方式ＡＣ型のプラズマディスプレイパネル１０７は、背面基板１０５のデータ電極１０６と前面基板１０２の走査電極１０３との間で表示（発光）すべき放電セル１０１を選択する書込放電を行い、次に、前面基板１０２の走査電極１０３と維持電極１０４との間で選択したセルの面放電による維持放電（表示放電）を行うように構成されている。走査電極１０３と維持電極１０４とは電極対１１５を構成している。なお、図８中、符号１１６は、放電ギャップを示している。
ここで、走査電極１０３は、酸化錫やＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等からなる透明電極１０３ａと抵抗値を小さくするためのＡｌ，Ｃｕ、Ａｇ等からなるバス電極１０３ｂとからなっている。また、維持電極１０４は、透明電極１０４ａとバス電極１０４ｂとからなっている。
【０００５】
また、前面基板１０２及び背面基板１０５の透明絶縁基板１０８，１０９としては、例えば、厚さ２〜５mmの低歪点ガラスや原料が安価なソーダライムガラス等が用いられる。
また、前面基板１０２の内面側には、走査電極１０３及び維持電極１０４を覆う低融点ガラスからなる透明誘電体層１１０が形成されている。
また、動作中に発生する放電から透明誘電体層１１０を保護するために、二次電子放出係数が大きく、耐スパッタ性に優れたＭｇＯ（酸化マグネシウム）等からなる保護膜１１１が形成される。この保護膜１１１の形成は、一般に電子ビーム蒸着等によって、０．５〜２μｍの厚さに成膜が行われる。
【０００６】
また、背面基板１０５のデータ電極１０６は、白色誘電体層１１２によって覆われている。また、白色誘電体層１１２上には、隣接する放電セル１０１，１０１間の電荷の移動を制限し、誤灯を防止するために、高さ１００［μｍ］〜１５０［μｍ］、幅３０［μｍ］〜１５０［μｍ］の隔壁１１３が形成されている。
隔壁１１３によって画成される放電セル１０１の底部や側部には、赤色、緑色、及び青色の各蛍光体層１１４ｒ，１１４ｇ，１１４ｂが配置され、前面基板１０２の内面の上記各蛍光体層にそれぞれ対向する位置に赤色、緑色、及び青色の各カラーフィルタ層を配置するように構成して多色発光が可能とされている。
ここで、蛍光体材料のうち、赤色蛍光体としては、（Y，Gｄ）BO：Eu、（Y，Gｄ）BO３：Eu、緑色蛍光体としては、Zn２SiO４：Mn、青色蛍光体としては、BaMgAl１０O１７：Euが用いられる。
【０００７】
この３電極面放電方式ＡＣ型のプラズマディスプレイパネル１０７の製造方法について説明する。
前面基板１０２及び背面基板１０５をそれぞれ作成した後、組立工程を実施する。すなわち、前面基板１０２と背面基板１０５とを所定のギャップを隔てて互いに対向した状態で、かつ、電極対１１５の延長方向（行方向）とデータ電極１０６の延長方向（列方向）とが互いに直交するように、配置する。ここで、隔壁１１３によって放電セル１０１が画成されている。
次に、封着工程を実施する。すなわち、背面基板１０５の周縁部に封着材としてのガラスフリットを含むガラスペーストを塗布して予備焼成した後、前面基板１０２と背面基板１０５とを貼り合わせた状態で、加熱炉内に配置し、ガラスフリットの軟化温度以上の温度で、かつ大気圧下で加熱処理（ベーキング処理）を行い、ガラスフリットを溶融させて、前面基板１０２と背面基板１０５とを接合してパネル状とする。ここで、ガラスフリットは低融点ガラスを用いる。
【０００８】
次に、排気工程を実施する。すなわち、通気管を介して、前面基板１０２と背面基板１０５との間に形成された放電空間と接続して、放電空間内の排気を行いながら、真空加熱を行う。
次に、チップオフ工程に移る。すなわち、放電空間に、例えばキセノンを含む混合希ガスからなる放電ガスを２０ｋPａ〜８０ｋPａの圧力で導入して充填した後、通気管を過熱によってチップオンし、開口端部を閉塞する。このようにして、放電空間内に放電ガスが充填される。
【０００９】
しかしながら、ＭｇＯは吸湿性を有するために、保護膜１１１内に、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）２）や、炭酸マグネシウム（ＭｇＣＯ３）等の不純物を形成している。
上記封着工程や排気工程で、これらの不純物の大部分が除去されるものの十分には除去できず、特に、保護膜１１１内に不純物が残存していると、放電が不安定になる。
このため、上記封着工程で、前面基板１０２と背面基板１０５とをガラスフリットを介して貼り合わせ、加熱処理を行いながら排気して不純物ガスを排出した後、さらに温度を上昇させてガラスフリットを溶融させて封着を行い、この後、加熱炉内に不活性ガスを導入してこの不活性ガス雰囲気中で冷却する技術が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
また、減圧雰囲気中で、又は乾燥ガス雰囲気中で封着を行う技術が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
また、加熱処理を行いながら排気して不純物ガスを排出した後に、加熱炉内に、酸素ガス、乾燥ガス又は不活性ガスを導入し、この雰囲気中でさらに昇温してガラスフリットを溶融して封着を行う技術が提案されている（例えば、特許文献３参照。）。
【特許文献１】特開平９−２５１８３９号公報
【特許文献２】特開２００１−３５１５２３号公報
【特許文献３】特許２００２−２４５９４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
解決しようとする問題点は、上記従来技術では、不純物の除去効果が不十分であり、依然としてパネル内に残留する不純物ガスの影響によって、例えば、保護膜や蛍光体層の特性が悪化して、パネルの歩留りの悪化や、寿命の低下、発光効率の低下を引き起こしてしまうという点である。
すなわち、特に保護膜としてのＭｇＯ膜に吸着するＨ２ＯやＣＯ２等の影響で、この保護膜について所望の二次電子放出特性や壁電荷保持特性が得られず、パネル全面に亘る正常動作のための維持電圧（ＰＤＰの前面基板の走査電極と背面基板のアドレス電極との間に電圧を印加して対向放電させた後、前面基板の走査電極と共通電極との間での面放電に移行する際に走査電極に印加される電圧）の範囲である維持電圧マージンが小さくなり、さらに、製造されるパネルによってもその維持電圧マージンにばらつきが生じ、パネルによっては、逆マージン（パネル全面に亘って正常な維持放電が行われるための維持電圧値が設定不能である状態）となる場合があり、歩留りが低下するという問題がある。
【００１１】
また、維持電圧マージンが小さいことによって、長時間の放電による維持電圧の経時的変化によって維持電圧マージンがさらに小さくなり、逆マージンとなるまでの時間が短くなり、パネルの寿命が短くなるという問題がある。
また、パネル内に残留する不純物ガスによって、特に青色蛍光体の劣化が起こって、発光効率が低下するのに加え、保護膜としてのＭｇＯ膜に吸着するＨ２ＯやＣＯ２等の影響で、この保護膜について所望の二次電子放出特性が得られず、維持電圧が上昇して、消費電力が増大化することによっても、単位消費電力当りの輝度としての発光効率がさらに低下するという問題がある。特に、高精細・大型パネルの製造において、この発光効率低下及び消費電力増大の問題が顕著である。
【００１２】
この発明は、上述の事情に鑑みてなされたもので、パネル内の不純物を確実に除去し、例えば、保護膜や蛍光体層の特性を向上させて、歩留りの向上、長寿命化、発光効率の向上を実現することができるプラズマディスプレイパネルの製造方法、プラズマ表示装置の製造方法及びプラズマディスプレイパネルを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上記課題を解決するために、請求項１記載の発明は、プラズマディスプレイパネルを構成する第１の基板と第２の基板とを、封着材層を介し間隙を隔てて互いに対向させた状態で配置し、加熱処理によって前記第１の基板及び前記第２の基板を封着するプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記第１の基板と前記第２の基板とを、封着材層を介して重ね合わせてパネル内空間を形成する第１の工程と、前記パネル内空間を排気する第２の工程と、前記パネル内空間に水素ガス及び水蒸気のうち少なくともいずれか一方の種類のガスを含む復圧ガスを導入する第３の工程とを備えたことを特徴としている。
【００１４】
また、請求項２記載の発明は、請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記第３の工程は、少なくとも水分子が脱着する脱着温度以上の温度で実施されることを特徴としている。
【００１５】
また、請求項３記載の発明は、請求項１又は２記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記第３の工程は、３００℃以上の温度で実施されることを特徴としている。
【００１６】
また、請求項４記載の発明は、請求項１、２又は３記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記復圧ガスは、体積混合比１０％以上の水素ガス又は水蒸気を含むことを特徴としている。
【００１７】
また、請求項５記載の発明は、請求項１乃至４のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記復圧ガスは、水素ガス及び水蒸気のうち少なくともいずれか一方の種類のガスと、窒素ガス及び不活性ガスのうち少なくも一方の種類のガスとを含むことを特徴としている。
【００１８】
また、請求項６記載の発明は、請求項１乃至４のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記復圧ガスは、水蒸気と、酸素ガス、窒素ガス及び不活性ガスのうち少なくも一種類のガスとを含むことを特徴としている。
【００１９】
また、請求項７記載の発明は、請求項１乃至６のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記封着材層はガラスフリットを含むことを特徴としている。
【００２０】
また、請求項８記載の発明は、請求項１乃至７のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記第１の工程の前に、前記第１の基板及び前記第２の基板のうち少なくともいずれか一方の基板の前記パネル内空間側に配置されることとなる表面の周縁部に、ガラスフリットを含むガラスペーストを塗布し、所定の温度で予備焼成する第４の工程を実施することを特徴としている。
【００２１】
また、請求項９記載の発明は、請求項１乃至８のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記第２の工程は、少なくとも水分子が脱着する脱着温度以上の温度で実施されることを特徴としている。
【００２２】
また、請求項１０記載の発明は、請求項１乃至９のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記復圧ガスに含まれる二酸化炭素ガスは、体積混合比５％以下であることを特徴としている。
【００２３】
また、請求項１１記載の発明は、請求項７乃至１０のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記第３の工程を実施した後に、溶融させたガラスフリットを冷却させて凝固させる第５の工程を備えたことを特徴としている。
【００２４】
また、請求項１２記載の発明は、請求項１１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記第５の工程では、前記第１の基板及び前記第２の基板の周囲の雰囲気ガスとして酸化性ガスを含む乾燥ガスを導入することを特徴としている。
【００２５】
また、請求項１３記載の発明は、請求項１２記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記酸化性ガスは、酸素ガスを含むことを特徴としている。
【００２６】
また、請求項１４記載の発明は、請求項１２又は１３記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記乾燥ガスは、窒素ガス及び不活性ガスのうち少なくも一方の種類のガスを含むことを特徴としている。
【００２７】
また、請求項１５記載の発明は、請求項１２、１３又は１４記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記雰囲気ガスに含まれる水蒸気は、体積混合比０．１％以下であることを特徴としている。
【００２８】
また、請求項１６記載の発明は、請求項１２、１３又は１４記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記雰囲気ガスに含まれる二酸化炭素ガスは、体積混合比５％以下であることを特徴としている。
【００２９】
また、請求項１７記載の発明は、請求項７乃至１６のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記第５の工程を実施して、ガラスフリットの軟化温度以下まで冷却した後に、連続して前記パネル内空間内を排気する第６の工程を実施することを特徴としている。
【００３０】
また、請求項１８記載の発明は、請求項１乃至１７のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、前記第２の工程及び前記第３の工程を、少なくとも１度実施することを特徴としている。
【００３１】
また、請求項１９記載の発明は、プラズマディスプレイパネルを製造する第７の工程と、前記プラズマディスプレイパネルを駆動する回路とともに前記プラズマディスプレイパネルを一つのモジュールとして製造する第８の工程と、画像信号のフォーマット変換を行い、前記モジュールに送信するインタフェースを前記モジュールに電気的に接続する第９の工程とを含むプラズマ表示装置の製造方法に係り、前記第７の工程では、請求項１乃至１８のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法が実施されることを特徴としている。
【００３２】
また、請求項２０記載の発明に係るプラズマディスプレイパネルは、請求項１乃至１８のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法を用いて製造されたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００３３】
この発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法の構成によれば、加熱処理によって第１の基板及び第２の基板を封着する際に、第２の工程でパネル内空間内を排気し、第３の工程でパネル内空間内に水素ガス及び水蒸気のうち少なくともいずれか一方のガスを含む復圧ガスを導入することによって、パネル内の不純物を確実に除去し、例えば、保護膜や蛍光体層の特性を向上させることができる。
すなわち、保護膜について所望の二次電子放出特性や壁電荷保持特性を確保し、維持電圧マージンを増加させることができるので、製造されるパネルによる維持電圧マージンにばらつきを吸収して、歩留りを向上させることができる。
また、維持電圧マージンを増加させることができるので、長時間の放電によって維持電圧が経時的変化して、逆マージンとなるまでの時間を延ばすことができ、パネルの寿命を延ばすことができる。
【００３４】
また、パネル内に残留する不純物ガスを除去することができるので、特に青色蛍光体の劣化を防止することができるために、発光効率を向上させることができるのに加え、維持電圧を低減することができるので、消費電力を低減することができ、単位消費電力当りの輝度としての発光効率をさらに向上させることができる。特にＸＧＡ・ＨＤ等の高精細パネル、５０型以上の大型パネルの製造において、輝度の低下及び消費電力の増大を効果的に抑制することができる。
また、この発明のプラズマ表示装置の製造方法の構成によれば、プラズマ表示装置をモジュール化することによって、部品交換の必要が生じた場合に、モジュール毎交換することによって、補修の簡素化及び迅速化を図ることができる。
また、この発明のプラズマディスプレイパネルの構成によれば、発光効率低下及び消費電力増大が抑制された良好な品質を確保することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
加熱処理によって第１の基板及び第２の基板を封着する際に、第２の工程でパネル内空間内を排気し、第３の工程でパネル内空間内に水素ガス及び水蒸気のうち少なくともいずれか一方のガスを含む復圧ガスを導入することによって、パネル内の不純物を確実に除去し、例えば、保護膜や蛍光体層の特性を向上させて、パネルの歩留りを向上させ、寿命を延ばし、発光効率を向上させるという目的を実現した。
【実施例１】
【００３６】
図１は、この発明の第１実施例に係るプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す斜視図、図２は、同プラズマディスプレイパネルの概略構成を示す断面図、図３は、同プラズマディスプレイパネルの製造方法を説明するための処理手順図、図４は、同プラズマディスプレイパネルを製造するために用いられるＰＤＰ製造装置の概略構成を示す図、図５は、同プラズマディスプレイパネルの製造方法のうちの封着工程における時間と加熱温度との間の関係を示す図、また、図６は、同プラズマディスプレイパネルの駆動特性を評価するための駆動波形を示す波形図である。
この例のプラズマディスプレイパネルの製造方法では、まず、図１及び図２に示すように、前面基板１を製造するために、ガラス基板２の内面に水平方向Ｈに沿って平行に透明電極３ａ，４ａを形成する（ステップＳＡ１１（図３））。ここで、透明電極３ａ，４ａは、酸化錫やＩＴＯ（Indium Tin Oxide）等からなっている。
次に、抵抗値を小さくするためのバス電極（トレース電極）３ｂ，４ｂを水平方向Ｈに沿って透明電極３ａ，４ａの下面側に形成する（ステップＳＡ１２）。ここで、バス電極３ｂ，４ｂは、Ａｌ，Ｃｕ、Ａｇ等からなっている。こうして、透明電極３ａ，４ａ及びバス電極３ｂ，４ｂとから走査電極３及び維持電極（共通電極）４が形成される。
次に、走査電極３及び維持電極４を被覆する透明誘電体層５を形成する（ステップＳＡ１３）。ここで、透明誘電体層５は、例えばＰｂＯ（酸化鉛）等の低融点ガラスからなっている。
次に、ブラックマスク（不図示）を形成する（ステップＳＡ１４）。
次に、透明誘電体層５を放電から保護するための保護膜６を形成する（ステップＳＡ１５）。ここで、保護膜６は、ＭｇＯ（酸化マグネシウム）等からなっている。こうして、前面基板１が完成する。
【００３７】
一方、図１及び図２に示すように、背面基板８を製造するために、ガラス基板９の上面に垂直方向Ｖに沿って平行にデータ電極１１を形成する（ステップＳＢ１１（図３））。ここで、アドレス電極（データ電極）１１は、Ａｌ（アルミニウム），Ｃｕ（銅）、Ａｇ（銀）等からなっている。
次に、アドレス電極１１を被覆する白誘電体層１２を形成する（ステップＳＢ１２）。次に、白色誘電体層１２上に、放電セルを画成するために、ストライプ状に隔壁１４を形成する（ステップＳＢ１３）。隔壁１４は、例えば、光硬化ペーストを硬化させて所定の凹凸パターンを形成した後、焼成処理を施して作成される。
【００３８】
次に、隔壁１４，１４間に蛍光体層１５を形成する（ステップＳＢ１４）。蛍光体層１５は、放電ガスの放電によって発生する紫外線を可視光に変換する赤色蛍光体層、緑色蛍光体層、及び青色蛍光体層に塗り分けられてなっている。こうして、背面基板８が完成する。
次に、スクリーン印刷法等によって、背面基板８のガラス基板９の表示面の周縁部に、ガラスフリットを含むガラスペーストを塗布する（ステップＳＢ１５）。ガラスぺーストとしては、ガラスフリットと、有機バインダとを含み、ペースト化されたものを用いる。ここで、ガラスフリットとしては、低融点ガラスフリットを用いる。また、有機バインダとしては、樹脂成分として例えばセルロース系やアクリル系のもの、溶剤として例えばＢＣＡやα−ターピネオールを含むものを用いる。
【００３９】
次に、背面基板８を所定の温度で熱処理して、蛍光体層１５の焼成と同時にガラスぺーストの予備焼成を行って、シールフリット層１７を形成する。
次に、前面基板１と背面基板８とを１００μｍ程度のギャップを隔てて互いに対向した状態で固定して、両基板１，８間に放電空間１３が形成されるように組み立てる（ステップＳＣ１６）。
次に、封着工程を実施する。すなわち、両基板１，８の周縁部を、シールフリット層１７によって気密封着する（ステップＳＣ１７（図４））。
この封着工程では、まず、貼り合わせた前面基板１及び背面基板８を、ＰＤＰ製造装置２１内に導入する。
このＰＤＰ製造装置２１は、図４に示すように、リリース弁２２とガス導入弁２３と排気弁２４が設けられ、内部にヒータ２５，２５が配設された真空チャンバ２６と、復圧ガス及び放電ガスを供給するためのガスボンベを含むガス導入装置２７と、真空ポンプを含む真空排気装置２８とを有してなっている。
【００４０】
次に、シールフリット層１７を介して重ね合わされた前面基板１及び背面基板８を、図４に示すように、真空チャンバ２６内に配置する。なお、背面基板８の裏面側（アドレス電極１１が形成された表面に背向する面側）には、通気管３１が、固定用の結晶化ガラスフリット３２を用いて仮固定されている。
すなわち、背面基板８を構成しているガラス基板９には、所定の箇所に通気孔９ａが形成されており、このガラス基板９の裏面（外側表面）側には、通気孔９ａに位置合わせした状態で、通気管３１が密封状態の下で取り付けられている。背面基板８に取り付けられている端部とは反対側の通気管３１の端部は、当初の状態では開口されており、この端部を介して放電空間１３内の真空排気及び放電空間１３へのガス導入が行われる。
【００４１】
図５に示すように、加熱処理（ベーキング処理）を開始すると（時刻ｔ＝ｔ０）、室温から温度Ｔが上昇しはじめ、温度Ｔが所定のベーキング温度Ｔａに達すると（時刻ｔ＝ｔ１）、この温度Ｔａを（時刻ｔ＝ｔ４）まで保持する。
ここで、ベーキング温度Ｔａは、保護膜６に吸着した少なくともＨ２Ｏが脱着する脱着温度以上の温度とされ、この例では、略３００℃以上とする。
（時刻ｔ＝ｔ０〜ｔ１）の間は、真空チャンバ２６内の圧力を大気圧のままに保持する。また、（時刻ｔ＝ｔ２）では、排気弁２４を開とし、排気を開始する。
【００４２】
排気中は、放電空間１３内（パネル内）に残留する不純物ガス、特に前面基板１の最表面側に形成された保護膜６に吸着したＨ２ＯやＣＯ２等がベーキング処理によって放出されて除去され、保護膜６の二次電子放出特性の向上に寄与する。また、背面基板８に残留する不純物ガス、特に背面基板８の最表面側に形成された蛍光体層１５に残留しているＨ２ＯやＣＯ２、有機バインダの成分等も除去される。
次に、（時刻ｔ＝ｔ４）で再び温度Ｔを上昇させ、温度Ｔが所定の封着温度Ｔｂ（ガラスフリットの軟化温度以上の温度、例えば略４００〜５００℃）に達すると（時刻ｔ＝ｔ５）、この封着温度Ｔｂを（時刻ｔ＝ｔ６）まで保持し、ガラスフリットを溶融させる。
【００４３】
また、（時刻ｔ＝ｔ３）では、排気弁２４を閉として排気を停止し、ガス導入弁２３を開として、復圧ガスの導入を開始し、真空チャンバ２６内の圧力は大気圧に戻される。この例では、復圧ガスとして、体積混合比略１０％の水蒸気（Ｈ２Ｏ）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いる。
ここで、上記ベーキング温度Ｔａ以上の温度で、加熱処理することによってＨ２ＯやＣＯ２等の保護膜６表面への付着が回避されると共に、Ｈ２ＯやＣＯ２等の保護膜６中への含有がを最小限度にとどめられる。
また、復圧ガスとして、酸化力の弱い水蒸気（Ｈ２Ｏ）を用いるので、発光効率の低下の要因となる青色発光体の酸化による劣化が防止される。
【００４４】
（時刻ｔ＝ｔ６）では、加熱を停止し、真空チャンバ２６内の温度を室温まで低下させ、シールフリット層１７を介して重な合わされた前面基板１及び背面基板８を冷却させる。
この例では、冷却は空気（大気）中で行われる。すなわち、真空チャンバ２６内の雰囲気は空気である。
次に、ベーキング処理を行いながら放電空間１３を真空に排気し、放電空間１３内に放電ガスの導入を開始する（ステップＳＣ１８）。放電ガスとしては、ヘリウムガス（Ｈｅ）、ネオンガス（Ｎｅ）、キセノンガス（Ｘｅ）等の不活性ガスが、単独で又は混合されて用いられる。
放電ガスの充填が終了した後、通気管２１は過熱によってチップオフされ、開口端部が閉塞される。この後、エージングを行う（ステップＳＣ１９）。
このようにして、放電空間１３内に放電ガスが充填されて、図１及び図２に示すようなプラズマディスプレイパネル３４が完成する。
【００４５】
発明者が、上述したような製造方法を用い、復圧条件（復圧ガスの組成等）を変えた場合の完成した例えば４２型用のプラズマディスプレイパネル３４について、パネルの電圧特性試験（維持電圧マージン測定）及び光学特性試験（発光効率測定）を含むパネル評価試験を行ったところ、表１に示すような結果を得た。なお、表１で、復圧条件１〜７に対応するプラズマディスプレイパネル３４の上記復圧条件以外の製造上の条件は、同一である。
ここで、維持電圧マージン及び発光効率は、減圧及び復圧なしで大気圧下で封着したとき（復圧条件１）の維持電圧マージン及び発光効率に対する比率としての相対維持電圧マージン及び相対発光効率を算出して示している。
ここで、維持電圧マージンは、前面基板１の走査電極と背面基板８のアドレス電極とによって書込みを行った後に形成され、前面基板１に残った壁電荷を利用して、前面基板１の走査電極とバス電極との間で面放電（維持放電）を行ったときに、パネル全面が維持できる最小の電圧と、書き込みを行っていないセルで誤放電が起こらない最大の電圧の差として、測定した。
また、パネルの駆動特性を評価するための駆動波形としては、図６に示すような波形を用いた。同図において、符号ｐ１〜ｐ５は、それぞれ、維持パルス、維持消去パルス、プライミングパルス、プライミング消去パルス及び走査パルスを示す。
また、発光効率は、パネル全面を白色で発光させたときの輝度／消費電力として測定した。
【００４６】
【表１】
2005276712.tif 000003
【００４７】
表１に示すように、復圧ガスとして、体積混合比１０％の水素ガス（Ｈ２）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（復圧条件２）、体積混合比１０％の水蒸気（Ｈ２Ｏ）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（復圧条件３）、体積混合比１０％の酸素ガス（Ｏ２）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（復圧条件４）、及び酸素ガス（Ｏ２）を用いた場合（復圧条件５）に、維持電圧マージンが、従来の条件（復圧条件１）と比べて、それぞれ、１５％、１２％、９％、１８％増加していることがわかる。
一方、復圧ガスとして、窒素ガス（Ｎ２）を用いた場合（復圧条件６）、及びアルゴンガス（Ａｒ）を用いた場合（復圧条件７）に、維持電圧マージンが、従来の条件（復圧条件１）と比べて、それぞれ、５％、７％減少していることがわかる。
このように、維持電圧マージンを増加させるためには、減圧した後に、復圧ガスとして、水素ガス（Ｈ２）、水蒸気（Ｈ２Ｏ）、酸素ガス（Ｏ２）を含むガスを用いるようにすれば良いことがわかる。
【００４８】
また、復圧ガスとして、体積混合比１０％の水素ガス（Ｈ２）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（復圧条件２）、体積混合比１０％の水蒸気（Ｈ２Ｏ）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（復圧条件３）、復圧ガスとして、窒素ガス（Ｎ２）を用いた場合（復圧条件６）、及びアルゴンガス（Ａｒ）を用いた場合（復圧条件７）に、従来の条件（復圧条件１）と比べて、発光効率が、それぞれ、５％、８％、１０％、１２％増加していることがわかる。
一方、体積混合比１０％の酸素ガス（Ｏ２）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（復圧条件４）、及び酸素ガス（Ｏ２）を用いた場合（復圧条件５）に、従来の条件（復圧条件１）と比べて、発光効率が、それぞれ、５％、８％減少していることがわかる。
【００４９】
このように、発光効率を高めるためには、減圧した後に、復圧ガスとして、水素ガス（Ｈ２）、水蒸気（Ｈ２Ｏ）、窒素ガス（Ｎ２）、アルゴンガス（Ａｒ）を含むガスを用いるようにすれば良いことがわかる。
また、復圧ガスとして、体積混合比１０％の水素ガス（Ｈ２）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（復圧条件２）、体積混合比１０％の水蒸気（Ｈ２Ｏ）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（復圧条件３）に、維持電圧マージンと発光効率とについて共に、良好な結果が得られることがわかる。
【００５０】
また、発明者が、水蒸気（Ｈ２Ｏ）の割合（体積混合比）を変化させた場合について、維持電圧マージン及び発光効率を測定したところ、表２に示すような結果を得た。なお、表２で、復圧条件１、７〜１０に対応するプラズマディスプレイパネル３４の上記復圧条件以外の製造上の条件は、同一である。
【００５１】
【表２】
2005276712.tif 000004
【００５２】
表２に示すように、復圧ガスとして、体積混合比１０％の水蒸気（Ｈ２Ｏ）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（復圧条件９）、体積混合比５０％の水蒸気（Ｈ２Ｏ）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（復圧条件１０）に、維持電圧マージンが、従来の条件（復圧条件１）と比べて、それぞれ、１２％、１１％増加していることがわかる。
一方、復圧ガスとして、体積混合比５％の水蒸気（Ｈ２Ｏ）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（復圧条件８）に、維持電圧マージンが、従来の条件（復圧条件１）と比べて、それぞれ、５％減少していることがわかる。
このように、維持電圧マージンを増加させるためには、減圧した後に、復圧ガスとして、水蒸気（Ｈ２Ｏ）を含むガスを用いる場合、その体積混合比を略１０％以上に設定すれば良いことがわかる。
【００５３】
また、復圧ガスとして、体積混合比５％の水蒸気（Ｈ２Ｏ）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（復圧条件８）、体積混合比１０％の水蒸気（Ｈ２Ｏ）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（復圧条件９）、体積混合比５０％の水蒸気（Ｈ２Ｏ）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（復圧条件１０）について共に、発光効率が、８％増加していることがわかる。
このように、発光効率を高めるためには、減圧した後に、復圧ガスとして、復圧ガスとして、水蒸気（Ｈ２Ｏ）を含むガスを用いる場合、その体積混合比を略５０％以上に設定すれば良いことがわかる。
【００５４】
また、復圧ガスとして、体積混合比１０％の水素ガス（Ｈ２）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（復圧条件９）、体積混合比５０％の水蒸気（Ｈ２Ｏ）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（復圧条件１０）に、維持電圧マージンと発光効率とについて共に、良好な結果が得られることがわかる。
このように、維持電圧マージンと発光効率とを共に高めるためには、減圧した後に、復圧ガスとして、復圧ガスとして、水蒸気（Ｈ２Ｏ）のの体積混合比を略５０％以上に設定したガスを用いれば良いことがわかる。
【００５５】
このように、この例の構成によれば、加熱処理によって前面基板及び背面基板を封着する際に、放電空間内を排気した後に、例えば３００℃以上でベーキング処理を行いながら、放電空間１３内に例えば水蒸気を体積混合比１０％以上含む復圧ガスを導入することによって、放電空間内の不純物を確実に除去し、例えば、保護膜や蛍光体層の特性を向上させることができる。
すなわち、保護膜６について所望の二次電子放出特性や壁電荷保持特性を確保し、維持電圧マージンを増加させることができるので、製造されるパネルによる維持電圧マージンにばらつきを吸収して、歩留りを向上させることができる。
【００５６】
また、維持電圧マージンを増加させることができるので、長時間の放電によって維持電圧が経時的変化して、逆マージンとなるまでの時間を延ばすことができ、パネルの寿命を延ばすことができる。
また、パネル内に残留する不純物ガスを除去することができるので、特に青色蛍光体の劣化を防止することができるために、発光効率を向上させることができるのに加え、維持電圧を低減することができるので、消費電力を低減することができ、単位消費電力当りの輝度としての発光効率をさらに向上させることができる。特にＸＧＡ・ＨＤ等の高精細パネル、５０型以上の大型パネルの製造において、輝度の低下及び消費電力の増大を効果的に抑制することができる。
【実施例２】
【００５７】
この例が上述した実施例１と大きく異なるところは、冷却工程で、雰囲気ガスとして酸素を含むガスを導入した点である。
これ以外の構成は、上述した実施例１の構成と略同一であるので、その説明を簡略にする。
【００５８】
加熱処理（ベーキング処理）を開始すると（時刻ｔ＝ｔ０）、室温から温度Ｔが上昇しはじめ、温度Ｔが所定のベーキング温度Ｔａに達すると（時刻ｔ＝ｔ１）、この温度Ｔａを（時刻ｔ＝ｔ４）まで保持する（図５参照）。
ここで、ベーキング温度Ｔａは、保護膜６に吸着した少なくともＨ２Ｏが脱着する脱着温度以上の温度とされ、この例では、略３００℃以上とする。
（時刻ｔ＝ｔ０〜ｔ１）の間は、真空チャンバ２６内の圧力を大気圧のままに保持する。また、（時刻ｔ＝ｔ２）では、排気弁２４を開とし、排気を開始する。
排気中は、放電空間１３内（パネル内）に残留する不純物ガス、特に前面基板１の最表面側に形成された保護膜６に吸着したＨ２ＯやＣＯ２等がベーキング処理によって放出されて除去され、保護膜６の二次電子放出特性の向上に寄与する。また、背面基板８に残留する不純物ガス、特に背面基板８の最表面側に形成された蛍光体層１５に残留しているＨ２ＯやＣＯ２、有機バインダの成分等も除去される。
【００５９】
次に、（時刻ｔ＝ｔ４）で再び温度Ｔを上昇させ、温度Ｔが所定の封着温度Ｔｂ（ガラスフリットの軟化温度以上の温度、例えば略４００〜５００℃）に達すると（時刻ｔ＝ｔ５）、この封着温度Ｔｂを（時刻ｔ＝ｔ６）まで保持し、ガラスフリットを溶融させる。
また、（時刻ｔ＝ｔ３）では、排気弁２４を閉として排気を停止し、ガス導入弁２３を開として、復圧ガスの導入を開始し、真空チャンバ２６内の圧力は大気圧に戻される。この例では、復圧ガスとして、体積混合比略１０％の水蒸気（Ｈ２Ｏ）と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いる。
ここで、上記ベーキング温度Ｔａ以上の温度で、加熱処理することによってＨ２ＯやＣＯ２等の保護膜６表面への付着が回避されると共に、Ｈ２ＯやＣＯ２等の保護膜６中への含有がを最小限度にとどめられる。
【００６０】
また、復圧ガスとして、酸化力の弱い水蒸気（Ｈ２Ｏ）を用いるので、発光効率の低下の要因となる青色発光体の酸化による劣化が防止される。これによって、完成後のプラズマディスプレイパネル３４で、高発光効率が得られることとなる。
（時刻ｔ＝ｔ６）では、加熱を停止し、真空チャンバ２６内の温度を室温まで低下させ、シールフリット層１７を介して重な合わされた前面基板１及び背面基板８を冷却させる。
この例では、冷却は酸素ガス（Ｏ２）を含む乾燥ガス雰囲気中で行われる。すなわち、真空チャンバ２６内には、雰囲気ガスとして、酸素ガス（Ｏ２）を含む乾燥ガス（Ｈ２Ｏ：体積混合比０．１％以下）を導入し、この混合ガス雰囲気中で、ガラスフリットを介して重なるね合わされた前面基板１及び背面基板８が冷却される。なお、この乾燥ガスでは、二酸化炭素ガス（ＣＯ２）の体積混合比は５％以下とされる。
酸素ガス（Ｏ２）を含み、かつ、水蒸気（Ｈ２Ｏ）及び二酸化炭素ガス（ＣＯ２）の体積混合比をそれぞれ所定値以下とした雰囲気中で冷却することによって、保護膜６表面の水酸基を除去し、保護膜６表面への不純物ガスの吸着が抑制される。
【００６１】
これによって、完成後のプラズマディスプレイパネル３４の保護膜６について所望の二次電子放出特性や壁電荷保持特性が得られ、十分な大きさの維持電圧マージンの確保が可能となる。
次に、ベーキング処理を行いながら放電空間１３を真空に排気し、放電空間１３内に放電ガスの導入を開始する（ステップＳＣ１８）。放電ガスとしては、ヘリウムガス（Ｈｅ）、ネオンガス（Ｎｅ）、キセノンガス（Ｘｅ）等の不活性ガスが、単独で又は混合されて用いられる。
放電ガスの充填が終了した後、通気管２１は過熱によってチップオフされ、開口端部が閉塞される。この後、エージングを行う（ステップＳＣ１９）。
このようにして、放電空間１３内に放電ガスが充填されて、プラズマディスプレイパネル３４が完成する。
【００６２】
発明者が、上述したような製造方法を用い、冷却工程での雰囲気条件（雰囲気ガスの組成等）を変えた場合の完成した例えば４２型用のプラズマディスプレイパネル３４について、パネルの電圧特性試験（維持電圧マージン測定）及び光学特性試験（発光効率測定）を含むパネル評価試験を行ったところ、表３に示すような結果を得た。なお、表３で、雰囲気条件１〜５に対応するプラズマディスプレイパネル３４の上記雰囲気条件以外の製造上の条件は、同一である。
ここで、維持電圧マージン及び発光効率は、冷却工程での雰囲気ガスとして空気（大気）を用いた場合（雰囲気条件１、実施例１の場合）の維持電圧マージン及び発光効率に対する比率としての相対維持電圧マージン及び相対発光効率を算出して示している。
また、パネルの駆動特性を評価するための駆動波形としては、図６に示すような波形を用いた。
【００６３】
【表３】
2005276712.tif 000005
【００６４】
表３に示すように、冷却工程での雰囲気ガスとして、乾燥ガス（Ｈ２Ｏ：体積混合比０．１％以下）を用いた場合（雰囲気条件２）、酸素ガス（Ｏ２）を５０％と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（雰囲気条件３）は、維持電圧マージンが、従来の条件（雰囲気条件１）と比べて、それぞれ、５％、１０％増加していることがわかる。
一方、冷却工程での雰囲気ガスとして、体積混合比５％の二酸化炭素ガス（ＣＯ２）とアルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（雰囲気条件４）、体積混合比１０％の水蒸気（Ｈ２Ｏ）とアルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（雰囲気条件５）は、維持電圧が逆マージンとなり、すなわち、パネル全面が正常に維持放電が可能な最小の電圧よりも、パネル内で誤放電が１セルも発生しない最大の電圧よりも小さくなって、不良パネルとなった。
【００６５】
また、冷却工程での雰囲気ガスとして、乾燥ガス（Ｈ２Ｏ：体積混合比０．１％以下）を用いた場合（雰囲気条件２）、酸素ガス（Ｏ２）を５０％と、アルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（雰囲気条件３）は、発光効率が、従来の条件（雰囲気条件１）と比べて、それぞれ、１０％、２％増加していることがわかる。
一方、冷却工程での雰囲気ガスとして、体積混合比５％の二酸化炭素ガス（ＣＯ２）とアルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（雰囲気条件４）、体積混合比１０％の水蒸気（Ｈ２Ｏ）とアルゴンガス（Ａｒ）とを含む混合ガスを用いた場合（雰囲気条件５）は、維持電圧が逆マージンのため電圧値を設定できず、測定ができなかった。
このように、維持電圧マージンを増加させ、発光効率を高めるためには、冷却工程での雰囲気ガスとして、酸素ガス（Ｏ２）を含む乾燥ガス（Ｈ２Ｏ：体積混合比０．１％以下）を用い、かつ、二酸化炭素ガス（ＣＯ２）の体積混合比を５％以下とすれば良いことが推定される。
【００６６】
この例の構成によれば、上述した実施例１と略同様の効果を得ることができる。
加えて、冷却工程で、真空チャンバ２６内に雰囲気ガスとして、酸素ガス（Ｏ２）を含む乾燥ガス（Ｈ２Ｏ：体積混合比０．１％以下）を用い、かつ、二酸化炭素ガス（ＣＯ２）の体積混合比を５％以下とすることによって、パネル内に残留する不純物を一段と確実に除去することができる。
【実施例３】
【００６７】
図７は、この発明の第３実施例であるプラズマ表示装置の製造方法によって製造されたプラズマ表示装置の構成を示すブロック図である。
この例のプラズマ表示装置４１は、図７に示すように、モジュール構造を有するものとして設計されており、具合的には、アナログインタフェース（以下、ＩＦという）４２とＰＤＰモジュール４３とから構成されている。
【００６８】
アナログＩＦ４２は、同図に示すように、クロマ・デコーダを有するＹ／Ｃ分離回路４４と、Ａ／Ｄ変換回路４５と、ＰＬＬ回路を有する同期信号制御回路４６と、画像フォーマット変換回路４７と、逆γ（ガンマ）変換回路４８と、システムコントロール回路４９と、ＰＬＥ制御回路５１とから構成されている。
概略的には、アナログＩＦ４２は、受信したアナログ映像信号をデジタル映像信号に変換した後、このデジタル映像信号をＰＤＰモジュール４３に供給する。例えば、テレビチューナから発信されたアナログ映像信号は、Ｙ／Ｃ分離回路４４において、ＲＧＢの各色の輝度信号に分解された後、Ａ／Ｄ変換回路４５において、デジタル映像信号に変換される。
【００６９】
この後、ＰＤＰモジュール４３の画素構成と映像信号の画素構成とが異なる場合には、画像フォーマット変換回路４７において、必要な画像フォーマットの変換が行われる。ＰＤＰの入力信号に対する表示輝度の特性は線形的に比例するが、通常の映像信号は、ＣＲＴの特性に合わせて、予め補正されている（γ変換されている）。
このため、Ａ／Ｄ変換回路４５において、映像信号のＡ／Ｄ変換を行った後、逆γ変換回路４８において、映像信号に対して逆γ変換を施し、線形特性に復元されたデジタル映像信号を生成する。このデジタル映像信号は、ＲＧＢ映像信号としてＰＤＰモジュール４３に出力される。
【００７０】
アナログ映像信号には、Ａ／Ｄ変換用のサンプリングクロック及びデータクロック信号が含まれていないため、同期信号制御回路４６に内蔵されているＰＬＬ回路がアナログ映像信号と同時に供給される水平同期信号を基準として、サンプリングクロック及びデータクロック信号を生成し、ＰＤＰモジュール４３に出力する。
アナログＩＦ４２のＰＬＥ制御回路５１は輝度制御を行う。具体的には、平均輝度レベルが所定値以下である場合には、表示輝度を上昇させ、平均輝度レベルが所定値を超える場合には、表示輝度を低下させる。
【００７１】
システムコントロール回路４９は、各種制御信号をＰＤＰモジュール７３に出力する。ＰＤＰモジュール４３は、さらに、デジタル信号処理・制御回路５２と、パネル部５３と、Ｄ／Ｄコンバータを内蔵するモジュール内電源回路５４とから構成されている。
デジタル信号処理・制御回路５２は、入力ＩＦ信号処理回路５５と、フレームメモリ５６と、メモリ制御回路５７と、ドライバ制御回路５８とから構成されている。
例えば、入力ＩＦ信号処理回路５５に入力された映像信号の平均輝度レベルは、入力ＩＦ信号処理回路５５内の入力信号平均輝度レベル演算回路（不図示）によって計算され、例えば、５ビットデータとして出力される。また、ＰＬＥ制御回路５１は、平均輝度レベルに応じてＰＬＥ制御データを設定し、入力ＩＦ信号処理回路５５内の輝度レベル制御回路（不図示）に入力する。
【００７２】
パネル部５３は、ＰＤＰ３４と、走査電極を駆動する走査ドライバ５９と、データ電極を駆動するデータドライバ６１と、ＰＤＰ３４及び走査ドライバ５９にパルス電圧を供給する高圧パルス回路６２と、高圧パルス回路６２からの余剰電力を回収する電力回収回路６３とから構成されている。
ＰＤＰ３４は、例えば１３６５個×７６８個に配列された画素を有するものとして構成されている。ＰＤＰ３４では、走査ドライバ５９が走査電極を制御し、データドライバ６１がデータ電極を制御することにより、これらの画素のうちの所定の画素の点灯又は非点灯が制御され、所望の表示が行われる。
なお、ロジック用電源がデジタル信号処理・制御回路５２及びパネル部５３にロジック用電源を供給している。さらに、モジュール内電源回路５４は、表示電源から直流電力を供給され、この直流電力の電圧を所定の電圧に変換した後、パネル部５３に供給している。
【００７３】
次に、図１２を参照して、この例のプラズマ表示装置４１の製造方法について概略的に説明する。
まず、ＰＤＰ３４と、走査ドライバ５９と、データドライバ６１と、高圧パルス回路６２と、電力回収回路６３とを一基板上に配置し、パネル部５３を形成する。さらに、パネル部５３とは別個にデジタル信号処理・制御回路５２を形成する。
このようにして形成されたパネル部５３及びデジタル信号処理・制御回路５２を一つのモジュールとして組み立て、ＰＤＰモジュール４３を形成する。さらに、ＰＤＰモジュール７３とは別個にアナログＩＦ７４を形成する。
このように、ＰＤＰモジュール４３とは別個にアナログＩＦ４２を形成した後、双方を電気的に接続することによって、プラズマ表示装置４１が完成する。
【００７４】
このように、プラズマ表示装置４１をモジュール化することによって、プラズマ表示装置４１を構成する他の構成部品とは別個に独立にプラズマ表示装置４１を製造することが可能となり、例えば、プラズマ表示装置４１が故障した場合には、ＰＤＰモジュール４３毎交換することによって、補修の簡素化及び迅速化を図ることができる。
【００７５】
この例の構成によれば、プラズマ表示装置をモジュール化することによって、例えば、故障時にＰＤＰモジュール毎交換して、補修の簡素化及び迅速化を図ることができる。
【００７６】
以上、この発明の実施例を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施例に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があってもこの発明に含まれる。
例えば、上述した実施例では、復圧工程で、体積混合比１０％の水蒸気（Ｈ２Ｏ）を含むガスとする場合について述べた、１０％以上であればさらに増加させても良い。
また、最初の昇温工程（時刻ｔ＝ｔ０〜ｔ１）や冷却工程（時刻ｔ＝ｔ６〜）でも排気を行うようにしても良い。
【００７７】
また、復圧ガスや冷却時の雰囲気中の不活性ガスとしては、アルゴンガス（Ａｒ）に限らず、ヘリウムガス（Ｈｅ）、ネオンガス（Ｎｅ）、キセノンガス（Ｘｅ）を用いても良いし、これらを単独で又は混合して用いても良い。
また、減圧工程（時刻ｔ＝ｔ２〜ｔ３）と復圧工程（時刻ｔ＝ｔ３〜）とは、複数回繰り返すようにしても良い。
また、実施例２で、酸化性ガスとして酸素を含む乾燥ガスを用いる場合について述べたが、酸素に代えてオゾンを用いても良い。
【産業上の利用可能性】
【００７８】
保護膜として、酸化マグネシウム膜を形成する場合のほか、酸化バリウム等、他のアルカリ土類金属の酸化物を用いる場合に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】この発明の第１実施例に係るプラズマディスプレイパネルの概略構成を示す斜視図である。
【図２】同プラズマディスプレイパネルの概略構成を示す断面図である。
【図３】同プラズマディスプレイパネルの製造方法を説明するための処理手順図である。
【図４】同プラズマディスプレイパネルを製造するために用いられるＰＤＰ製造装置の概略構成を示す図である。
【図５】同プラズマディスプレイパネルの製造方法のうちの封着工程における時間と加熱温度との間の関係を示す図である。
【図６】同プラズマディスプレイパネルの駆動特性を評価するための駆動波形を示す波形図である。
【図７】この発明の第３実施例であるプラズマ表示装置の製造方法によって製造されたプラズマ表示装置の構成を示すブロック図である。
【図８】従来技術を説明するうための説明図である。
【符号の説明】
【００８０】
１      前面基板（第１の基板）
３      走査電極
４      維持電極
５      透明誘電体層
６      保護膜
８      背面基板（第２の基板）
１１      アドレス電極
１３      放電空間（パネル内空間）
１７      シールフリット層（封着材層）
３４      プラズマディスプレイパネル
４１      プラズマ表示装置
【図１】
2005276712.tif 000006
【図２】
2005276712.tif 000007
【図３】
2005276712.tif 000008
【図４】
2005276712.tif 000009
【図５】
2005276712.tif 000010
【図６】
2005276712.tif 000011
【図７】
2005276712.tif 000012
【図８】
2005276712.tif 000013