(57)【要約】【課題】  区画壁部に機能液滴が着弾することを防止できると共に、画素領域内のバンク部近傍まで機能液滴を確実に行き渡らせることができる液滴吐出装置を用いた描画方法等を提供することを課題とする。【解決手段】  バンク部５０７ｂにより区画した複数の画素領域５０７ａを主走査方向および副走査方向に配列した基板Ｗに対し、機能液滴吐出ヘッド１６を主走査方向および副走査方向に相対的に移動させながら、多数のノズル７５から複数の画素領域５０７ａ内に機能液滴を吐出・着弾させて描画動作を行う液滴吐出装置１の描画方法であって、基板Ｗと機能液滴吐出ヘッド１６とのアライメントに基づいて、複数の縦バンク部位５０７ｂｖに臨むものを画素間ノズル７５ｂとし、その他のノズル７５を画素内ノズル７５ｉとして特定し、特定した画素内ノズル７５ｉを駆動とし、画素間ノズル７５ｂを非駆動として描画動作を行うものである。【選択図】  図１２
2005305242.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バンク部により区画した複数の画素領域を主走査方向および副走査方向に配列した基板に対し、多数のノズルのノズルピッチが前記副走査方向における前記複数の画素領域の画素ピッチよりも小さくなるように構成された機能液滴吐出ヘッドを、前記主走査方向および前記副走査方向に相対的に移動させながら、前記多数のノズルから前記複数の画素領域内に機能液滴を吐出・着弾させて描画動作を行う液滴吐出装置を用いた描画方法であって、
前記基板と平行な面内における前記基板と前記機能液滴吐出ヘッドとのアライメントに基づいて、前記多数のノズルのうち、前記主走査方向に延在する前記バンク部の複数の縦バンク部位に臨むものを画素間ノズルとし、その他のノズルを画素内ノズルとして特定するノズル特定工程と、
特定した前記画素内ノズルを駆動とし、前記画素間ノズルを非駆動として前記描画動作を行う描画工程と、
を備えたことを特徴とする液滴吐出装置を用いた描画方法。
【請求項２】
前記ノズル特定工程では、前記基板と平行な面内において、前記各縦バンク部位の幅内に位置する前記ノズルのほか、少なくとも一部が前記各縦バンク部位を前記副走査方向の両側に前記ノズルのノズル径の略１／１０の寸法だけそれぞれ拡げた仮想画素間部位とオーバーラップする前記ノズルを、前記画素間ノズルとして特定することを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置を用いた描画方法。
【請求項３】
前記機能液滴吐出ヘッドは、前記ノズルピッチが前記画素領域内に着弾した機能液滴の着弾径よりも小さくなるように構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の液滴吐出装置を用いた描画方法。
【請求項４】
前記描画工程において、前記各画素領域に対し、前記各画素内ノズルから複数ショットの機能液滴の吐出が行われるようになっており、
前記複数の画素領域への液滴着弾量が均一になるように前記各画素内ノズルのショット数を調整することを特徴とする請求項３に記載の液滴吐出装置を用いた描画方法。
【請求項５】
前記描画工程における描画動作は、前記各画素領域の前記縦バンク部位側の外端部に位置する前記画素内ノズルが存在しないときに、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記副走査方向に微小移動した後、前記外端部に対し、前記画素内ノズルにより機能液滴を吐出することで行われることを特徴とする請求項３または４に記載の液滴吐出装置を用いた描画方法。
【請求項６】
バンク部により区画した複数の画素領域を主走査方向および副走査方向に配列した基板に対し、多数のノズルのノズルピッチが前記副走査方向における前記複数の画素領域の画素ピッチよりも小さくなるように構成された機能液滴吐出ヘッドを、前記主走査方向および前記副走査方向に相対的に移動させながら、前記多数のノズルから前記複数の画素領域内に機能液滴を吐出・着弾させて描画動作を行う液滴吐出装置であって、
前記機能液滴吐出ヘッドと、
前記機能液滴吐出ヘッドを搭載すると共に、前記基板に対し前記機能液滴吐出ヘッドを前記主走査方向および前記副走査方向へ相対的に移動させる移動手段と、
前記移動手段を制御すると共に、前記多数のノズルの吐出タイミングを制御する制御手段と、
前記基板と平行な面内における前記基板と前記機能液滴吐出ヘッドとのアライメントに基づいて、前記多数のノズルのうち、前記主走査方向に延在する前記バンク部の複数の縦バンク部位に臨むものを画素間ノズルとし、その他のノズルを画素内ノズルとして特定するノズル特定手段と、を備え、
前記制御手段は、前記描画動作に際して、特定された前記画素内ノズルを駆動とし、前記画素間ノズルを非駆動とするように制御することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項７】
前記ノズル特定手段は、前記基板と平行な面内において、前記各縦バンク部位の幅内に位置する前記ノズルのほか、少なくとも一部が前記各縦バンク部位を前記副走査方向の両側に前記ノズルのノズル径の略１／１０の寸法だけそれぞれ拡げた仮想画素間部位とオーバーラップする前記ノズルを、前記画素間ノズルとして特定することを特徴とする請求項６に記載の液滴吐出装置。
【請求項８】
前記機能液滴吐出ヘッドは、前記ノズルピッチが前記画素領域内に着弾した機能液滴の着弾径よりも小さくなるように構成されていることを特徴とする請求項６または７に記載の液滴吐出装置。
【請求項９】
前記制御手段は、前記描画動作に際し、前記各画素領域に対し、前記各画素内ノズルから複数ショットの機能液滴の吐出を行わせるようになっており、
前記複数の画素領域への液滴着弾量が均一になるように前記各画素内ノズルのショット数を調整することを特徴とする請求項８に記載の液滴吐出装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、前記描画動作に際し、前記各画素領域の前記縦バンク部位側の外端部に位置する前記画素内ノズルが存在しないときに、
前記機能液滴吐出ヘッドを前記副走査方向に微小移動させた後、前記外端部に対し、前記画素内ノズルにより機能液滴を吐出させることを特徴とする請求項８または９に記載の液滴吐出装置。
【請求項１１】
前記多数のノズルは、１の描画ラインを構成すると共に、前記副走査方向と平行なｎ個のノズル列で構成されていることを特徴とする請求項８ないし１０のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項１２】
前記各ノズル列における前記複数のノズルのノズル列内ピッチは、前記ノズルピッチのｎ倍のピッチであり、
前記ｎ個のノズル列は、前記多数のノズルが前記副走査方向に前記ノズルピッチで配置されるように前記副走査方向に相互に位置ずれして、前記主走査方向に配設されていることを特徴とする請求項１１に記載の液滴吐出装置。
【請求項１３】
請求項６ないし１２のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記基板上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項６ないし１２のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記基板上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項１５】
請求項１３に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１４に記載の電気光学装置を、搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上の画素領域に機能液滴を吐出する液滴吐出装置を用いた描画方法および液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、複数の画素（画素領域）を主走査方向および副走査方向にマトリクス状に配列したカラーフィルタ等の基板に対し、多数のオリフィス（ノズル）のオリフィス間距離（ノズルピッチ）が前記副走査方向における前記複数の画素の幅よりも小さくなるように構成されたインクジェットヘッド（機能液滴吐出ヘッド）を主走査方向および副走査方向に移動させながら、インクジェットヘッドから画素内に着色インク（機能液滴）を吐出させる液滴吐出装置を用いた描画方法が知られている。そして、インクジェットヘッドに対する基板の相対的な移動軌跡の蛇行、インクジェットヘッドに形成されたオリフィスの配列位置の寸法公差、および着色インクの飛行曲がり等に起因して、インクジェットヘッドから吐出される着色インクの着弾位置がずれる可能性がある場合であっても、着色インクを画素内に確実に着弾させるべく、副走査方向における各画素の中心に最も近いオリフィスからのみ着色インクを吐出し、他のオリフィスからは着色インクを吐出しないことが考えられている（特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２００２−２２９２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、複数の画素を区画するブラックマトリックス（バンク部）は、撥水処理が為され、各画素は、着弾した着色インクが拡がるように親液（親水）処理が為されている。しかしながら、従来の液滴吐出装置を用いた描画方法では、各画素の中心に着色インクを吐出することとなるため、各画素が親液性であったとしても、着弾した着色インクがブラックマトリックスの近傍まで拡がらず、色ムラの原因となっていた。かかる問題は、特に粘性の高い着色インクを用いた場合に顕著であった。
【０００４】
本発明は、区画壁部に機能液滴が着弾することを防止できると共に、画素領域内のバンク部近傍まで機能液滴を確実に行き渡らせることができる液滴吐出装置を用いた描画方法および液滴吐出装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の液滴吐出装置を用いた描画方法は、バンク部により区画した複数の画素領域を主走査方向および副走査方向に配列した基板に対し、多数のノズルのノズルピッチが副走査方向における複数の画素領域の画素ピッチよりも小さくなるように構成された機能液滴吐出ヘッドを、主走査方向および副走査方向に相対的に移動させながら、多数のノズルから複数の画素領域内に機能液滴を吐出・着弾させて描画動作を行う液滴吐出装置を用いた描画方法であって、基板と平行な面内における基板と機能液滴吐出ヘッドとのアライメントに基づいて、多数のノズルのうち、主走査方向に延在するバンク部の複数の縦バンク部位に臨むものを画素間ノズルとし、その他のノズルを画素内ノズルとして特定するノズル特定工程と、特定した画素内ノズルを駆動とし、画素間ノズルを非駆動として描画動作を行う描画工程と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
また、本発明の液滴吐出装置は、バンク部により区画した複数の画素領域を主走査方向および副走査方向に配列した基板に対し、多数のノズルのノズルピッチが副走査方向における複数の画素領域の画素ピッチよりも小さくなるように構成された機能液滴吐出ヘッドを、主走査方向および副走査方向に相対的に移動させながら、多数のノズルから複数の画素領域内に機能液滴を吐出・着弾させて描画動作を行う液滴吐出装置であって、機能液滴吐出ヘッドと、機能液滴吐出ヘッドを搭載すると共に、基板に対し機能液滴吐出ヘッドを主走査方向および副走査方向へ相対的に移動させる移動手段と、移動手段を制御すると共に、多数のノズルの吐出タイミングを制御する制御手段と、基板と平行な面内における基板と機能液滴吐出ヘッドとのアライメントに基づいて、多数のノズルのうち、主走査方向に延在するバンク部の複数の縦バンク部位に臨むものを画素間ノズルとし、その他のノズルを画素内ノズルとして特定するノズル特定手段と、を備え、制御手段は、描画動作に際して、特定された画素内ノズルを駆動とし、画素間ノズルを非駆動とするように制御することを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、多数のノズルのうち、縦バンク部位に臨むものだけを画素間ノズルとして特定し、これを非駆動とし、その他のノズルを画素内ノズルとして特定し、これを駆動として、描画動作が行われる。このため、縦バンク部位に機能液滴が着弾することがなく、機能液滴を着弾させるべき画素領域に隣接する画素領域に機能液滴が流れ込むことを防止できると共に、各画素領域内の縦バンク部位近傍に機能液滴を吐出・着弾させることができ、画素領域内のバンク部近傍まで機能液滴を確実に行き渡らせることができる。
また、画素ピッチがノズルピッチの整数倍となっていないために、画素領域毎に画素内ノズルの個数が異なる場合であっても、非駆動とする画素間ノズルを的確に特定することができる。したがって、画素ピッチが異なる複数種の基板に対して、同一の機能液滴吐出ヘッドを用いて描画動作を行うことができる。
【０００８】
上記の液滴吐出装置を用いた描画方法において、ノズル特定工程では、基板と平行な面内において、各縦バンク部位の幅内に位置するノズルのほか、少なくとも一部が各縦バンク部位を副走査方向の両側にノズルのノズル径の略１／１０の寸法だけそれぞれ拡げた仮想画素間部位とオーバーラップするノズルを、画素間ノズルとして特定することが好ましい。
【０００９】
また、上記の液滴吐出装置において、ノズル特定手段は、基板と平行な面内において、各縦バンク部位の幅内に位置するノズルのほか、少なくとも一部が各縦バンク部位を副走査方向の両側にノズルのノズル径の略１／１０の寸法だけそれぞれ拡げた仮想画素間部位とオーバーラップするノズルを、画素間ノズルとして特定することが好ましい。
【００１０】
この構成によれば、縦バンク部位に機能液滴を誤って着弾させるおそれのあるノズルを確実に画素間ノズルとして特定することができると共に、縦バンク部位の近傍に位置していても、縦バンク部位に機能液滴を着弾させるおそれのないノズルを画素間ノズルとして特定することがない。
【００１１】
上記の液滴吐出装置を用いた描画方法および上記の液滴吐出装置において、機能液滴吐出ヘッドは、ノズルピッチが画素領域内に着弾した機能液滴の着弾径よりも小さくなるように構成されていること好ましい。
【００１２】
この構成によれば、各画素領域に対して、機能液滴吐出ヘッドを主走査方向に相対的に移動させながら機能液滴を吐出させる（主走査を行う）だけで、画素領域の全域を機能液で満たすことができ、機能液滴吐出ヘッドを副走査方向に相対的に移動させる必要がない。
【００１３】
上記の液滴吐出装置を用いた描画方法において、描画工程において、各画素領域に対し、各画素内ノズルから複数ショットの機能液滴の吐出が行われるようになっており、複数の画素領域への液滴着弾量が均一になるように各画素内ノズルのショット数を調整することが好ましい。
【００１４】
また、上記の液滴吐出装置において、制御手段は、描画動作に際し、各画素領域に対し、各画素内ノズルから複数ショットの機能液滴の吐出を行わせるようになっており、複数の画素領域への液滴着弾量が均一になるように各画素内ノズルのショット数を調整することが好ましい。
【００１５】
この構成によれば、画素ピッチがノズルピッチの整数倍となっていないために、複数の画素領域間で画素内ノズルの個数が異なる場合であっても、各画素内ノズルのショット数を調整することで、複数の画素領域への液滴着弾量を均一化することができる。したがって、複数の画素領域間で濃度ムラが生ずることを防止することができる。
【００１６】
上記の液滴吐出装置を用いた描画方法において、描画工程における描画動作は、各画素領域の縦バンク部位側の外端部に位置する画素内ノズルが存在しないときに、機能液滴吐出ヘッドを副走査方向に微小移動した後、外端部に対し、画素内ノズルにより機能液滴を吐出することで行われることが好ましい。
【００１７】
また、上記の液滴吐出装置において、制御手段は、描画動作に際し、各画素領域の縦バンク部位側の外端部に位置する画素内ノズルが存在しないときに、機能液滴吐出ヘッドを副走査方向に微小移動させた後、外端部に対し、画素内ノズルにより機能液滴を吐出させることが好ましい。
【００１８】
この構成によれば、外端部に位置していたノズルが画素間ノズルとして特定されるために、外端部に位置する画素内ノズルが存在しないときであっても、縦バンク部位近傍の外端部に対して、機能液滴を確実に着弾させることができる。
【００１９】
この場合、多数のノズルは、１の描画ラインを構成すると共に、副走査方向と平行なｎ個のノズル列で構成されていることが好ましい。
【００２０】
この構成によれば、ｎ個のノズル列が副走査方向に対して傾いていないことで、同一ノズル列内の複数のノズル間で吐出タイミングを変える必要がない。したがって、機能液滴吐出ヘッドに対して複雑な吐出駆動制御を行う必要がない。
【００２１】
この場合、各ノズル列における複数のノズルのノズル列内ピッチは、ノズルピッチのｎ倍のピッチであり、ｎ個のノズル列は、多数のノズルが副走査方向にノズルピッチで配置されるように副走査方向に相互に位置ずれして、主走査方向に配設されていることが好ましい。
【００２２】
この構成によれば、複数のノズルが比較的大きいノズル列内ピッチでノズル列を構成している機能液滴吐出ヘッドを用いた場合であっても、副走査方向における多数のノズルのノズルピッチを所望のピッチに構成することができ、ノズルピッチをノズル径より小さくすることも可能である。
なお、この場合、機能液滴吐出ヘッドは、ｎ個のノズル列のうち１または複数個のノズル列を有する複数の単位ヘッドにより構成されていることが好ましい。これによれば、機能液滴吐出ヘッドが複数の単位ヘッドによって構成されていることで、同型の単位ヘッドを大量生産することができるため、機能液滴吐出ヘッドを安価に製造することができる。
【００２３】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、基板上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。
【００２４】
また、本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、基板上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。
【００２５】
これらの構成によれば、複数の画素領域間において色ムラや混色が生ずることのない液滴吐出装置を用いて製造されるため、信頼性の高い電気光学装置を製造することが可能となる。なお、電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）としては、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、ＰＤＰ装置、電子放出装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field Emission Display）やＳＥＤ（Surface-conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００２６】
本発明の電子機器は、上記した電気光学装置を搭載したことを特徴とする。
【００２７】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータのほか、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、添付の図面を参照して、本発明に係る液滴吐出装置の実施形態について説明する。この液滴吐出装置は、特殊なインクや発光性の樹脂液等の機能液を機能液滴吐出ヘッドに導入して、カラーフィルタ等の基板上に機能液滴による成膜部を形成するものである。そこで、まず、液滴吐出装置による機能液滴の吐出対象（描画対象）となる基板について簡単に説明する。
【００２９】
図１に示すように、カラーフィルタ５００の基板Ｗ上には、複数のパネル形成領域Ｗａがマトリクス状に配列されている。このパネル形成領域Ｗａは、後述する液滴吐出装置１（図３参照）による描画処理等の製造工程を経た後、個々に切り出されることにより、カラーフィルタ等の電気光学装置となるものである。さらに、基板Ｗの左右短辺部位には、それぞれ基板アライメントマークＷｍ，Ｗｍが形成されており、この基板アライメントマークＷｍ，Ｗｍにより、液滴吐出装置１に導入された基板Ｗが位置認識される。
【００３０】
図２（ａ）に示すように、各パネル形成領域Ｗａには、縦方向（同図の上下方向）に延在する縦バンク部位５０７ｂｖおよび横方向（同図の左右方向）に延在する横バンク部位５０７ｂｈから成る区画壁部５０７ｂ（バンク部）により区画した複数の画素領域５０７ａがマトリクス状に配列されている。各画素領域５０７ａは、区画壁部５０７ｂで囲まれた凹部となっており、後述する機能液滴吐出ヘッド１６によりＲ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）３色の成膜部（着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂ）を形成する際に、機能液滴の着弾領域となる（図１８参照）。なお、複数の画素領域５０７ａの配列パターンは、マトリクスの縦列においてすべて同色となるストライプ配列となっているが、マトリクスの縦列・横列に並んだ任意の３つの画素が、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色となるモザイク配列であってもよい。また、複数の画素領域５０７ａが千鳥を為すデルタ配列であってもよい。
【００３１】
また、詳細は後述するが、基板Ｗが液滴吐出装置１に導入されると、上記の基板アライメントマークＷｍ，Ｗｍにより、複数の画素領域５０７ａのマトリクスの縦方向および横方向（各画素領域５０７ａの幅方向および長手方向）が液滴吐出装置１の主走査方向および副走査方向とそれぞれ平行になるように、位置補正される。
【００３２】
図２（ｂ）に示すように、複数の画素領域５０７ａは、例えば４０インチの高精細テレビに使用されるカラーフィルタでは精細度８０ｐｐｉに構成されており、マトリクスの横方向（副走査方向）における画素ピッチＰＤｈが略３２０μｍ、マトリクスの縦方向（主走査方向）における画素ピッチＰＤｖが略１８０μｍで配列されている。また、この場合、各画素領域５０７ａは、その長手方向（副走査方向）の画素寸法ＬＬが略３００μｍであり、その幅方向（主走査方向）の画素寸法ＬＷが略１００μｍである。すなわち、縦バンク部位５０７ｂｖの幅Ｗｖは略２０μｍであり、横バンク部位５０７ｂｈの幅Ｗｈは略８０μｍである。また、各画素領域５０７ａに対する液滴着弾量は例えば７５０ピコリットル程度であり、機能液滴吐出ヘッド１６の各ノズル７５（図４参照）から略１０ピコリットルの機能液滴が複数ショット打ち込まれることとなる（詳細は後述する）。
【００３３】
なお、図２（ｂ）の符号５０７ｖは、縦バンク部位５０７ｂｖをマトリクスの横方向（副走査方向）の両側に機能液滴吐出ヘッド１６のノズル径Ｒｎ（後述する）の略１／１０の寸法（略２．５μｍ）だけそれぞれ拡げた仮想画素間部位である。また、符号５０７ａｍは、画素領域５０７ａの縦バンク部位５０７ｂｖ側の外端部である。そして、副走査方向における外端部５０７ａｍの寸法Ｌｍは、画素領域５０７ａの長手方向の画素寸法ＬＬの例えば略１／１０（略３０μｍ）である。詳細は後述するが、これらの仮想画素間部位５０７ｖおよび外端部５０７ａｍは、液滴吐出装置１の制御装置７（図７参照）により認識される部位となる。
【００３４】
また、後述するように、区画壁部５０７ｂ（バンク５０３、図１８参照）は疎液（疎水）性の樹脂材料で構成されているため、区画壁部５０７ｂに機能液滴が着弾しても、その機能液滴は隣接する画素領域５０７ａ内へ流れ込むようになっている。一方、ガラス板（石英ガラス）で構成された基板Ｗの表面は、表面処理により親液（親水）性となっており、着弾した機能液滴は、基板Ｗに対して５°〜１５°の接触角を為す球冠状（ドーム状）となり、その着弾径ＲＤ（図１２参照）は略３０μｍである。
なお、カラーフィルタ等の電気光学装置の構造およびその製造方法については、後程詳細に説明する。
【００３５】
続いて、本発明に係る液滴吐出装置について説明する。図３に示すように、液滴吐出装置１は、機台２と、機台２上の全域に広く載置された描画装置３と、機台２上の端部に設置されたヘッド機能回復装置４と、ヘッド機能回復装置４の各種ユニットを一括載置して機台２上を移動させるメンテナンス系移動テーブル５と、を備え、ヘッド機能回復装置４により機能液滴吐出ヘッド１６の機能回復処理を行うと共に、描画装置３により基板Ｗ上に機能液滴を吐出する描画動作を行うようにしている。さらに、同図では図示省略したが、この液滴吐出装置１には、各機能液滴吐出ヘッド１６に機能液を供給する給液タンク等を備える機能液供給機構６（図７参照）や、上記の描画装置３やヘッド機能回復装置４等の各構成装置を統括制御する制御装置７（図７参照）等が組み込まれている。
【００３６】
まず、液滴吐出装置１の描画装置３およびこれによる描画動作について説明する。描画装置３は、Ｘ軸テーブル１２およびＸ軸テーブル１２に直交するＹ軸テーブル１３から成るＸＹ移動機構１１と、Ｙ軸テーブル１３に移動自在に取り付けたメインキャリッジ１４と、メインキャリッジ１４に垂設したヘッドユニット１５とを有している。そして、ヘッドユニット１５には、サブキャリッジ５１（図４参照）を介して、複数（２４個）の機能液滴吐出ヘッド１６（図３では、単一の長方形で示す）が搭載されている。そして、基板Ｗは、Ｘ軸テーブル１２の端部に臨む一対の基板認識カメラ１７，１７により、Ｘ軸テーブル１２に位置決めされた状態で搭載されている。
【００３７】
Ｘ軸テーブル１２は、基板Ｗを吸着搭載する吸着テーブル２３および基板θ軸テーブル２４等から成るセットテーブル２２と、セットテーブル２２をＸ軸方向（主走査方向）にスライド自在に支持するＸ軸スライダ２１と、主走査方向に延在し、セットテーブル２２を介して基板Ｗを主走査方向に移動させる一対のＸ軸リニアモータ（図示省略）と、一対のＸ軸リニアモータの間に並設され、Ｘ軸スライダ２１の移動を案内する一対のＸ軸ガイドレール（図示省略）と、を備えている。一対のＸ軸リニアモータを駆動すると、一対のＸ軸ガイドレールをガイドにしながら、Ｘ軸スライダ２１が主走査方向に移動し、セットテーブル２２にセットされた基板Ｗが主走査方向に移動する。一対のＸ軸ガイドレールの間には、Ｘ軸リニアスケール（図示省略）が併設されており、詳細は後述するが、タイミング信号供給手段１２３（図８参照）は、これに基づいて、Ｘ軸テーブル１２を移動するセットテーブル２２の刻々の位置を正確に把握し、駆動波形生成手段１２４（図８参照）に供給する吐出タイミング用基準パルスを得ている。
なお、図３では図示しないが、基板θ軸テーブル２４には、ヘッド認識カメラ２５（図７参照）が固定されており、セットテーブル２２に対して、ヘッドユニット１５の位置を補正可能となっている。
【００３８】
同様に、Ｙ軸テーブル１３は、メインキャリッジ１４を吊設するブリッジプレート（図示省略）と、ブリッジプレートを支持するＹ軸スライダ３１と、Ｙ軸方向（副走査方向）に延在し、Ｙ軸スライダ３１を介してブリッジプレートを副走査方向に移動させる一対のＹ軸リニアモータ（図示省略）と、一対のＹ軸リニアモータに並設され、ブリッジプレートの移動を案内する一対のＹ軸ガイドレール（図示省略）と、ブリッジプレートの移動位置を検出するためのＹ軸リニアスケール（図示省略）と、を備えている。Ｙ軸リニアモータを駆動すると、Ｙ軸スライダ３１がＹ軸ガイドレールを案内にして副走査方向を平行移動し、ブリッジプレートを副走査方向に移動させる。
【００３９】
Ｘ軸テーブル１２は、機台２上に直接支持される一方、Ｙ軸テーブル１３は、機台２上に立設した左右の支柱３３，３３に支持されている。Ｘ軸テーブル１２とメンテナンス系移動テーブル５とは、主走査方向に相互に平行に配設されており、Ｙ軸テーブル１３は、Ｘ軸テーブル１２とメンテナンス系移動テーブル５とを跨ぐように延在している。
【００４０】
そして、Ｙ軸テーブル１３は、これに搭載したヘッドユニット１５を、Ｘ軸テーブル１２の直上部に位置する描画エリア４１と、メンテナンス系移動テーブル５の直上部に位置する機能回復エリア４２との相互間で、適宜移動させる。すなわち、Ｙ軸テーブル１３は、Ｘ軸テーブル１２に導入した基板Ｗに描画を行う場合には、ヘッドユニット１５を描画エリア４１に臨ませ、機能液滴吐出ヘッド１６の機能回復処理を行う場合には、ヘッドユニット１５を機能回復エリア４２に臨ませる。
【００４１】
一方、Ｘ軸テーブル１２の一方の端部は、基板ＷをＸ軸テーブル１２にセットするための基板導入エリア４３となっており、この基板導入エリア４３には、上記一対の基板認識カメラ１７，１７が配設されている。そして、この一対の基板認識カメラ１７，１７により、吸着テーブル２３上に供給された基板Ｗの２箇所の基板アライメントマークＷｍ，Ｗｍが同時に認識され、この認識結果に基づいて、基板Ｗのアライメントが為される。
なお、上述したように、基板Ｗがθ補正されると、複数の画素領域５０７ａのマトリクスの縦列および横列は、主走査方向および副走査方向とそれぞれ平行になる。したがって、基板Ｗは、機能液滴吐出ヘッド１６に対し、複数の画素領域５０７ａが主走査方向および副走査方向にマトリクス状に配列された状態で、セットテーブル２２にセットされることとなる。
【００４２】
図４に示すように、ヘッドユニット１５は、サブキャリッジ５１と、サブキャリッジ５１に搭載した２４個の機能液滴吐出ヘッド１６と、各機能液滴吐出ヘッド１６をサブキャリッジ５１に個々に取り付けるための２４個のヘッド保持部材（図示省略）とを備えている。各機能液滴吐出ヘッド１６は、複数（１８０個）のノズル７５から構成される２列のノズル列７４を有しており、液滴吐出装置１に搭載されたヘッドユニット１５では、各ノズル列７４が副走査方向と平行になっている。これによれば、２列のノズル列７４が副走査方向に対して傾いていないことで、同一ノズル列７４内の複数のノズル７５間で吐出タイミングを変える必要がない。
【００４３】
２４個の機能液滴吐出ヘッド１６は、１２個ずつ左右に二分され配設されている。さらに、各１２個の機能液滴吐出ヘッド１６は、４個ずつ３組に分けられ、３組の機能液滴吐出ヘッド１６が主走査方向に相互に位置ずれするように、階段状に配設されている。すなわち、２４個の機能液滴吐出ヘッド１６の多数のノズルにより、１の描画ラインＬＰが構成され、各組４個の機能液滴吐出ヘッド１６により、部分描画ラインＬＰｐが構成されるようになっている。なお、図４では表されていないが、各組４個の機能液滴吐出ヘッド１６は、副走査方向に互いにわずかに位置ずれしている（詳細は後述する）。もっとも、機能液滴吐出ヘッド１６の個数および配列は任意であり、例えば、複数の機能液滴吐出ヘッド１６を副走査方向に１列に並べてもよく、また、単一の機能液滴吐出ヘッド１６によりヘッドユニット１５を構成してもよい。
【００４４】
サブキャリッジ５１は、略方形のヘッドプレート５２と、ヘッドプレート５２の短辺方向の中間位置に設けた左右一対の基準ピン５３，５３とを有している。ヘッドプレート５２は、ステンレス等の厚板で構成され、２４個の機能液滴吐出ヘッド１６を取り付けるための装着開口（図示省略）が形成されている。一対の基準ピン５３，５３は、ヘッド認識カメラ２５の画像認識により、ヘッドユニット１５をＸ軸、Ｙ軸およびθ軸方向に位置決めするための基準となるものである。
【００４５】
さらに、サブキャリッジ５１には、図示しないが、２４個の機能液滴吐出ヘッド１６にそれぞれ接続される２４個のヘッド側配管部材と、機能液供給機構の給液タンクに連なる２４個の装置側配管部材とをそれぞれ着脱自在に接続する配管ジョイントが設けられている。また、２４個の機能液滴吐出ヘッド１６の上方に位置して、これら機能液滴吐出ヘッド１６に接続される配線接続アッセンブリが設けられている。そして、配線接続アッセンブリは、フレキシブルフラットケーブを介して後述するヘッドドライバ１１１（図７参照）に接続されるようになっている。
【００４６】
図５に示すように、機能液滴吐出ヘッド１６は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針６２，６２を有する機能液導入部６１と、機能液導入部６１に連なる２連のヘッド基板６３と、機能液導入部６１の下方（同図では上方）に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体６４と、を備えている。図示しないが、各接続針６２は、配管アダプタを介してヘッド側配管部材に接続されており、機能液導入部６１は、各接続針６２から機能液の供給を受けるようになっている。また、ヘッド本体６４は、圧電振動子等で構成される２連のポンプ部７１と、２本のノズル列７４，７４を相互に平行に形成したノズル面７３を有するノズルプレート７２と、を有している。各ノズル列７４は、１８０個のノズル７５が等ピッチで並べられて構成されている。
【００４７】
図６に示すように、各ノズル７５のノズル径Ｒｎは、例えば、２５μｍである。また、各ノズル列７４の長さＬｎは、例えば１インチ（略２５．４ｍｍ）であって、各ノズル列７４は、１８０個のノズル７５が等ピッチで並べられて構成されている。すなわち、この場合、１８０個のノズル７５のノズル列内ピッチＰＮｉは略１４０μｍである。そして、２列のノズル列７４は、ノズル列内ピッチＰＮｉの１／２倍の長さ（略７０μｍ）ずつノズル列方向（副走査方向）に相互に位置ずれするように、形成されている。さらに、上述した各組４個の機能液滴吐出ヘッド１６は、ノズル列内ピッチＰＮｉ１／８倍の長さ（略１７．５μｍ）ずつノズル列方向（副走査方向）に相互に位置ずれするように、ヘッドプレート５２に配設されている。
【００４８】
そのため、各組４個の機能液滴吐出ヘッド１６は、副走査方向における多数のノズル７５のノズルピッチＰＮが、ノズル列内ピッチＰＮｉの１／８倍のピッチ（略１７．５μｍ）となるように構成されている。すなわち、各組４個の機能液滴吐出ヘッド１６において、各ノズル列７４における複数のノズル７５のノズル列内ピッチＰＮｉは、ノズルピッチＰＮの８倍のピッチであり、８個のノズル列７４は、多数（１８０×８個）のノズル７５が副走査方向にノズルピッチＰＮで配置されるように副走査方向に相互に位置ずれして、主走査方向に配設されている。そして、多数のノズル７５のノズルピッチＰＮ（略１７．５μｍ）は、副走査方向における画素ピッチＰＤｈ（３２０μｍ）よりも小さくなっている。このため、各画素領域５０７ａに複数のノズル７５が位置することとなる。さらに、１８０個のノズル７５が比較的大きいノズル列内ピッチＰＮｉ（略１４０μｍ）でノズル列７４を構成している機能液滴吐出ヘッド１６を用いた場合であっても、ノズルピッチＰＮを所望のピッチ（略１７．５μｍ）に構成することができる。
【００４９】
なお、本実施形態では、各組４個の機能液滴吐出ヘッド１６において、副走査方向における並び順を主走査方向における並び順と異なるものとしているが、副走査方向における並び順を主走査方向における並び順と同一にして、多数のノズル７５のノズルピッチＰＮがノズル列内ピッチＰＮｉの１／８倍のピッチとなるように構成してもよい。
また、各機能液滴吐出ヘッド１６は、ヘッド内流路の構造上両端部に位置するノズル７５からの吐出量が、中央部に位置するノズル７５からの吐出量に比べて多くなることから、例えば、１１番目から１７０番目までの１６０個のノズル７５のみから機能液滴を吐出し、１番目から１０番目および１７１番目から１８０番目までの２０個のノズルからは機能液滴を吐出しないようにすることが好ましい。
【００５０】
一方、図５に示すように、ヘッド基板６３には、２連のコネクタ７６，７６が設けられており、各コネクタ７６は上記の配線接続アッセンブリを介してヘッドドライバ１１１に接続されている。そして、上記のタイミング信号供給手段１２３から出力された吐出タイミング用基準パルスに応じて、制御装置７からヘッドドライバ１１１を介して各ポンプ部７１に駆動波形が印加される（詳細は後述する）。なお、各ノズル７５の吐出周波数は、例えば略１０ｋＨｚである。
【００５１】
そして、各画素領域５０７ａ内に着弾した機能液滴の着弾径ＲＤは、略３０μｍとなる（図１２参照）。したがって、機能液滴吐出ヘッド１６は、副走査方向における多数のノズル７５のノズルピッチＰＮ（略１７．５μｍ）が、上述したように画素ピッチＰＤｈよりも小さくなっていると共に、機能液滴の着弾径ＲＤ（略３０μｍ）よりも小さくなるように構成されている。これによれば、各画素領域５０７ａに対して、機能液滴吐出ヘッド１６を主走査方向に相対的に移動させながら機能液滴を吐出させる（主走査を行う）だけで、画素領域５０７ａの全域に機能液を拡げることができる（図１２参照）。したがって、機能液滴吐出ヘッド１６を副走査方向に相対的に移動させる必要がないため、効率良く描画動作を行うことができる（詳細は後述する）。
【００５２】
ここで、図１を参照して、基板Ｗに対する描画装置３の一連の吐出動作（描画動作）について簡単に説明する。まず、機能液滴を吐出する前の準備として、基板Ｗと平行な面内における基板Ｗと機能液滴吐出ヘッド１６とのアライメントが行われる。
すなわち、作業に供する基板Ｗ用のヘッドユニット１５が液滴吐出装置１に運び込まれ、これがメインキャリッジ１４にセットされると、Ｙ軸テーブル１３がヘッドユニット１５を、ヘッド認識カメラ２５の位置（描画エリア４１）に移動させ、ヘッド認識カメラ２５で基準ピン５３を検出することにより、ヘッドユニット１５が位置認識される。そして、この認識結果に基づいて、メインキャリッジ１４のヘッドθ軸テーブル３２によりヘッドユニット１５がθ補正され、且つヘッドユニット１５の主走査方向および副走査方向の位置補正がデータ上で行われる。位置補正後、ヘッドユニット１５はホーム位置に戻る。一方、Ｘ軸テーブル１２のセットテーブル２２上に、基板導入エリア４３において基板Ｗが導入されると、この位置で一対の基板認識カメラ１７，１７により、２箇所の基板アライメントマークＷｍ，Ｗｍを検出することで、基板Ｗを位置認識する。そして、この認識結果に基づいて、基板θ軸テーブル２４により基板Ｗがθ補正され、且つ、基板Ｗの主走査方向および副走査方向の位置補正がデータ上で行われる。位置補正後、基板Ｗはホーム位置に戻る。このようにして、基板Ｗと機能液滴吐出ヘッド１６とのアライメントが完了する。
【００５３】
そして、詳細は後述するが、描画装置３は、Ｘ軸方向への基板Ｗの移動を主走査とし、Ｙ軸方向へのヘッドユニット１５の移動を副走査として、制御装置７による制御を受けながら、区画壁部５０７ｂの縦バンク部位５０７ｂｖに臨む画素間ノズル７５ｂを非駆動とし、その他の画素内ノズル７５ｉを駆動として、基板Ｗに描画を行っている。すなわち、ヘッドユニット１５を描画エリア４１に臨ませておいて、Ｘ軸テーブル１２による基板Ｗの往復移動に同期して、複数の画素領域５０７ａ内のそれぞれに画素内ノズル７５ｉから複数ショットの機能液滴を吐出・着弾させ、主走査が行われる。また、Ｙ軸テーブル１３により適宜、ヘッドユニット１５を往復移動させ、副走査が行われる。この一連の動作により、基板Ｗに所望の機能液滴の選択的吐出、すなわち描画動作が行われる。そして、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液でカラー描画された基板Ｗの全パネル形成領域Ｗａを個々に切り出すことにより、複数のパネルを得ることができる。
なお、本実施形態では、ヘッドユニット１５に対して、基板Ｗを主走査方向に移動させるようにしているが、ヘッドユニット１５を主走査方向に移動させる構成であってもよい。また、ヘッドユニット１５を固定とし、基板Ｗを主走査方向および副走査方向に移動させる構成であってもよい。また、本実施形態では、往動時および復動時のいずれにも機能液滴の吐出（往復描画動作）が行われるが、復動時には機能液滴の吐出が行われない構成としてもよい。
【００５４】
続いて、図３を参照して、液滴吐出装置１におけるヘッド機能回復装置４およびこれによる機能液滴吐出ヘッド１６の機能回復処理について簡単に説明する。機能液滴吐出ヘッド１６の機能回復処理は、メンテナンス系移動テーブル５によりこれに載置したヘッド機能回復装置４の各種ユニットを機能回復エリア４２に移動させると共に、上述したようにＹ軸テーブル１３によりヘッドユニット１５を機能回復エリア４２に移動させることで行われる。
【００５５】
メンテナンス系移動テーブル５は、機台２本体の長手方向（主走査方向）に延在しており、機能回復処理を行うヘッド機能回復装置４の各種ユニットを分散して載置する共通ベース９１と、共通ベース９１を主走査方向にスライド自在に支持する一対のガイドレール９２と、モータ駆動のＸ軸移動機構（図示省略）とを備えており、共通ベース９１上に分散して載置されたヘッド機能回復装置４の各種ユニットを主走査方向に移動して機能回復エリア４２に位置させる。
【００５６】
ヘッド機能回復装置４は、上記のメンテナンス系移動テーブル５上に互いに隣接して載置され、液滴吐出装置１の稼動停止時に機能液滴吐出ヘッド１６のノズル７５の乾燥を防止すべくこれを封止する保管ユニット８１と、機能液滴吐出ヘッド１６内で増粘した機能液を除去するための吸引（クリーニング）を行う吸引ユニット８２と、機能液滴吐出ヘッド１６のノズル面７３を払拭するワイピングユニット８３とを備えている。
なお、吸引ユニット８２による吸引は、上記の機能回復処理のほか、機能液滴吐出ヘッド１６を交換等して、給液タンクから機能液滴吐出ヘッド１６に至る機能液流路に機能液を導入する場合にも行われる。
【００５７】
次に、図７を参照して、制御装置７により構成される液滴吐出装置１全体の制御系について説明する。まず、制御装置７は、パソコン等で構成されており、制御装置本体には、キーボード１０１ａやマウス等の入力装置、ＦＤドライブやＣＤ−ＲＯＭドライブ等の各種ドライブ、モニター等の周辺機器が接続されている。
【００５８】
液滴吐出装置１の制御系は、基本的に、キーボード１０１ａやモニターを有してオペレータとのインタフェースを行う操作部１０１と、ヘッド認識カメラ２５や基板認識カメラ１７および各種カメラを有し、画像認識を行う画像認識部１０２と、機能液滴吐出ヘッド１６等を駆動する各種ドライバを有する駆動部１０３と、これら各部を含め液滴吐出装置１を統括制御する制御部１０４と、を備えている。
【００５９】
駆動部１０３は、機能液滴吐出ヘッド１６を吐出駆動制御するヘッドドライバ１１１と、Ｘ軸テーブル１２およびＹ軸テーブル１３の各モータをそれぞれ駆動制御する描画系移動用ドライバ１１２と、メンテナンス系移動テーブル５を駆動制御するメンテナンス系移動用ドライバ１１３と、ヘッド機能回復装置４の吸引ユニット８２およびワイピングユニット８３を駆動制御するメンテナンス用ドライバ１１４とを備えている。
【００６０】
制御部１０４は、ＣＰＵ１２０、ＲＯＭ１３０と、ＲＡＭ１４０と、Ｐ−ＣＯＮ１５０とを備え、これらは互いにバス１６０を介して接続されている。ＲＯＭ１３０は、ＣＰＵ１２０で処理する制御プログラム等を記憶する制御プログラム領域や、描画動作を行うための制御データ等を記憶する制御データ領域を有している。ＲＡＭ１４０は、各種レジスタ群や、オペレータが操作部１０１により入力した各種データ等を記憶する記憶部を有し、制御処理のための各種作業領域として使用される。Ｐ−ＣＯＮ１５０には、操作部１０１、画像認識部１０２の各種カメラおよび駆動部１０３の各種ドライバのほか、上記の機能液供給機構６等が接続されており、ＣＰＵ１２０の機能を補うと共に、周辺回路とのインタフェース信号を取り扱うための論理回路が構成されて組み込まれている。
【００６１】
そして、ＣＰＵ１２０は、ＲＯＭ１３０内の制御プログラムに従って、Ｐ−ＣＯＮ１５０を介して各種検出信号、各種指令、各種データ等を入力し、ＲＡＭ１４０内の各種データ等を処理した後、Ｐ−ＣＯＮ１５０を介して駆動部１０３に各種の制御信号を出力することにより、液滴吐出装置１全体を制御している。
【００６２】
ここで、制御装置７による描画装置３の描画動作に対する制御について詳細に説明する。制御装置７は、描画装置３による描画動作に際し、区画壁部５０７ｂの縦バンク部位５０７ｂｖに臨む画素間ノズル７５ｂを非駆動とし、その他の画素内ノズル７５ｉを駆動として、基板Ｗに対して画素内ノズル７５ｉのみから機能液滴を吐出している。
【００６３】
図８に示すように、制御装置７において、ＲＯＭ１３０は、ヘッドユニット１５を搭載したＹ軸テーブル１３のホーム位置に関するヘッド位置データを記憶するヘッド位置データ記憶部１３１と、基板Ｗを載置したＸ軸テーブル１２のホーム位置に関する基板位置データを記憶する基板位置データ記憶部１３２とを有している。また、ＲＡＭ１４０は、ヘッド認識カメラ２５の位置認識により補正されたヘッド位置データを記憶するヘッド位置補正データ記憶部１４１と、基板認識カメラ１７の位置認識により補正された基板位置データを記憶する基板位置補正データ記憶部１４２とを有している。さらに、ＲＡＭ１４０は、上記の操作部１０１を介して入力された多数のノズル７５の個数およびノズルピッチＰＮ等に関するノズル情報を記憶するノズル情報記憶部１４３と、複数の画素領域５０７ａの個数、各画素領域の画素寸法ＬＬ，ＬＷおよび画素ピッチＰＤｈや、仮想画素間部位５０７ｖおよび外端部５０７ａｍ等に関する画素情報を記憶する画素情報記憶部１４４とを有している。
【００６４】
一方、ＣＰＵ１２０は、ノズル特定手段１２１と、ノズル位置判定手段１２２と、タイミング信号供給手段１２３と、駆動波形生成手段１２４と、移動制御手段１２５と、これら各手段を関連付けて制御する統括制御手段１２６と、を備えている。
【００６５】
図９に示すように、ノズル特定手段１２１は、ヘッド位置補正データ記憶部１４１に記憶されたデータ補正されたヘッド位置データと、基板位置補正データ記憶部１４２に記憶されたデータ補正された基板位置データとに基づいて、すなわち、基板Ｗと水平な面内における基板Ｗと機能液滴吐出ヘッド１６とのアライメントに基づいて、多数のノズル７５のうち、上記の縦バンク部位５０７ｂｖに臨むものを画素間ノズル７５ｂ（同図では白抜きして示す）とし、その他のノズル７５を画素内ノズル７５ｉ（同図では塗りつぶして示す）として特定する。
【００６６】
すなわち、上述したように、各画素領域５０７ａは、ノズルピッチＰＮが略１７．５μｍ、副走査方向における画素ピッチＰＤｈが略３２０μｍであることから、ノズルピッチＰＮが画素ピッチＰＤｈの整数倍となっていない（略１８．３倍）ため、ノズル特定手段１２１により、各縦バンク部位５０７ｂｖに臨む２個または３個のノズル７５が画素間ノズル７５ｂとして特定され、各画素領域５０７ａに臨む１５個または１６個のノズル７５が画素内ノズル７５ｉとして特定される。
【００６７】
同図では、図示左側の縦バンク部位５０７ｂｖにおいては、２個のノズル７５が画素間ノズル７５ｂとして特定され、図示中央および右側の縦バンク部位５０７ｂｖにおいては、３個のノズル７５が画素間ノズル７５ｂとして特定されている。また、図示左側の画素領域５０７ａにおいては、１５個のノズル７５が画素内ノズル７５ｉとして特定され、図示右側の画素領域５０７ａにおいては、１６個のノズル７５が画素内ノズル７５ｉとして特定されている。このように、画素ピッチＰＤｈがノズルピッチＰＮの整数倍となっていないために、画素領域５０７ａ毎に画素内ノズル７５ｉの個数が異なる場合であっても、非駆動とする画素間ノズル７５ｂを的確に特定することができる。したがって、画素ピッチＰＤｈが異なる複数種の基板Ｗに対して、同一の機能液滴吐出ヘッド１６を用いて描画動作を行うことができる。そして、ノズル特定手段１２１は、特定した画素間ノズル７５ｂおよび画素内ノズル７５ｉに関するノズル特定情報を統括制御手段１２６に入力する。
【００６８】
詳細には、ノズル特定手段１２１は、各縦バンク部位５０７ｂｖの幅Ｗｖ内に位置するノズル７５を画素間ノズル７５ｂとして特定し、さらに、少なくとも一部が各仮想画素間部位５０７ｖとオーバーラップするノズル７５を画素間ノズル７５ｂとして特定する。もっとも、本実施形態では、ノズル径Ｒｎが縦バンク部位５０７ｂｖの幅Ｗｖよりも大きいため、ノズル７５が各縦バンク部位５０７ｂｖの幅内に位置することはない。
【００６９】
ここで、少なくとも一部が仮想画素間部位５０７ｖとオーバーラップするノズル７５は、縦バンク部位５０７ｂｖと接近しているため、機能液滴の飛行曲がり等が生ずる可能性がある場合に、縦バンク部位５０７ｂｖに機能液滴を誤って着弾させるおそれがある。一方、仮想画素間部位５０７ｖとオーバーラップすることなく画素領域５０７ａに位置しているノズル７５は、縦バンク部位５０７ｂｖとある程度離れているため、飛行曲がり等が生ずる可能性がある場合であっても、縦バンク部位５０７ｂｖに機能液滴を誤って着弾させるおそれがない。したがって、ノズル特定手段１２１は、縦バンク部位５０７ｂｖに機能液滴を誤って着弾させるおそれのあるノズル７５を確実に画素間ノズル７５ｂとして特定することができると共に、縦バンク部位５０７ｂｖの近傍に位置していても、縦バンク部位５０７ｂｖに機能液滴を着弾させるおそれのないノズル７５を画素間ノズル７５ｂとして特定することがない。したがって、画素領域５０７ａ内の縦バンク部位５０７ｂｖ近傍に機能液滴を吐出・着弾させることができ、画素領域５０７ａ内の縦バンク部位５０７ｂｖ近傍まで機能液滴を確実に行き渡らせることができる。
【００７０】
なお、本実施形態では、上述したように、縦バンク部位５０７ｂｖを副走査方向の両側に機能液滴吐出ヘッド１６のノズル径Ｒｎの略１／１０の寸法（略２．５μｍ）だけそれぞれ拡げた部位を仮想画素間部位５０７ｖとしたが、縦バンク部位５０７ｂｖの幅Ｗｖや液滴吐出装置１の描画精度等に応じて、縦バンク部位５０７ｂｖを拡げる寸法（閾値）を変更することが好ましい。また、ノズル径Ｒｎに対して各縦バンク部位５０７ｂｖの幅Ｗｖが十分大きい場合には、各縦バンク部位５０７ｂｖの幅Ｗｖ内に位置するノズル７５のみを画素間ノズル７５ｂとして特定するようにしてもよい。
また、同図では、部分描画ラインＬＰｐを構成する８個のノズル列７４の複数のノズル７５を１列に並べて示している。そのため、各ノズル７５は、実際のノズル径Ｒｎ（図６参照）よりも小さくして描かれている。
【００７１】
ノズル位置判定手段１２２は、各画素領域５０７ａの縦バンク部位５０７ｂｖ側の外端部５０７ａｍに位置する画素内ノズル７５ｉが存在するか否かを判定し、その判定結果を統括制御手段１２６へ出力する。例えば、図１０（ａ）に示す場合は、外端部５０７ａｍに位置する画素内ノズル７５ｉが存在すると判定する。一方、図１０（ｂ）に示す場合は、外端部５０７ａｍに位置する画素内ノズル７５ｉが存在しないと判定する。すなわち、この場合、外端部５０７ａｍに位置するノズル７５は、その一部が縦バンク部位５０７ｂｖ（仮想画素間部位５０７ｖ）に掛かっていることから、画素間ノズル７５ｂとして特定されてしまうため、外端部５０７ａｍに位置する画素内ノズル７５ｉが存在しないと判定される。
なお、外端部５０７ａｍの寸法Ｌｍ（図２（ｂ）参照）は、機能液滴の着弾径ＲＤ等に応じて、適宜設定することが好ましい。
【００７２】
タイミング信号供給手段１２３は、上述したように、セットテーブル２２の移動に伴って得られた吐出タイミング用基準パルスを統括制御手段１２６に供給する。この吐出タイミング用基準パルスに基づいて駆動波形が生成されるため、主走査方向へ移動する基板Ｗに対して、適切なタイミングで機能液滴を吐出することができる。
【００７３】
駆動波形生成手段１２４は、ノズル特定手段１２１から出力されたノズル特定情報と、タイミング信号供給手段１２３から供給された吐出タイミング用基準パルスとを統括制御手段１２６から受け、これらに基づいてヘッドドライバ１１１を介して各画素内ノズル７５ｉに印加される駆動波形を生成する。
具体的には、駆動波形生成手段１２４は、各画素領域５０７ａに臨む画素内ノズル７５ｉが１５個のとき、各画素内ノズル７５ｉに対し、機能液滴を５ショット吐出するように、駆動波形を生成する。このため、各画素領域５０７ａに対する液滴着弾量は、略７５０ピコリットルとなる。そして、各画素領域５０７ａに臨む画素内ノズル７５ｉが１６個のときは、一部の画素内ノズル７５ｉに対し機能液滴を４ショットだけ吐出するように駆動波形を生成し、複数の画素領域５０７ａへの液滴着弾量が略７５０ピコリットルとなるようにする。これによれば、画素ピッチＰＤｈがノズルピッチＰＮの整数倍となっていないために、複数の画素領域５０７ａ間で画素内ノズル７５ｉの個数が異なる場合であっても、各画素内ノズル７５ｉのショット数を調整することで、複数の画素領域５０７ａへの液滴着弾量を均一化することができる。したがって、複数の画素領域５０７ａ間で濃度ムラが生ずることを防止することができる。
【００７４】
移動制御手段１２５は、ノズル情報記憶部１４３に記憶されたノズル情報および画素情報記憶部１４４に記憶された画素情報、並びにノズル位置判定手段１２２から出力された判定結果に基づいて、基板Ｗの全域（全パネル形成領域Ｗａ）が描画されるように、主走査および副走査の回数を制御する。そして、本実施形態では、１描画ラインＬＰ分の各画素領域５０７ａに対して、外端部５０７ａｍに位置する画素内ノズル７５ｉが存在すると判定された場合は１回の主走査を行い、外端部５０７ａｍに位置する画素内ノズル７５ｉが存在すると判定された場合は２回に亘る主走査を行って、その後、次の１描画ラインＬＰ分の副走査を行うようにしている（詳細は後述する）。また、移動制御手段１２５は、基板Ｗを載置したＸ軸テーブル１２およびヘッドユニット１５を搭載したＹ軸テーブル１３が定速で移動するように、描画系移動用ドライバ１１２に駆動信号を出力している。
【００７５】
ここで、図１１ないし図１６を参照して、描画装置３の各画素領域５０７ａに対する一連の吐出動作について説明する。まず、上述したように、機能液滴を吐出する前の準備として、基板Ｗの位置補正と、ヘッドユニット１５の位置補正が行われ、基板Ｗと機能液滴吐出ヘッド１６とのアライメントが為される。続いて、制御装置７のノズル特定手段１２１により、画素間ノズル７５ｂおよび画素内ノズル７５ｉが特定される（図１１参照）。これによれば、基板と平行な面内における基板と機能液滴吐出ヘッドとのアライメントに基づいて画素内ノズルおよび画素間ノズルを特定することで、基板と平行な面内における基板と機能液滴吐出ヘッドとの位置関係が変わった場合であっても、バンク部上に位置するノズルを画素間ノズルとして正確に特定することができる。
また、ノズル位置判定手段１２２により、外端部５０７ａｍに位置する画素内ノズル７５ｉが存在するか否か判定される。以下、外端部５０７ａｍに位置する画素内ノズル７５ｉが存在すると判定された場合と、存在しないと判定された場合とに分けて説明する。
【００７６】
図１１は、ノズル特定手段１２１により画素間ノズル７５ｂおよび画素内ノズル７５ｉが特定された後、ノズル位置判定手段１２２によりが外端部５０７ａｍに位置する画素内ノズル７５ｉが存在すると判定された状態を示す図である。この場合、図１２に示すように、制御装置７は、特定された画素内ノズル７５ｉを駆動とし、画素間ノズル７５ｂを非駆動として、各画素内ノズル７５ｉから機能液滴を５ショット吐出させ、各画素領域５０７ａに対して機能液滴を吐出・着弾させる。これによれば、多数のノズル７５のうち、縦バンク部位５０７ｂｖに臨むものだけを画素間ノズル７５ｂとして特定し、これを非駆動とし、その他のノズル７５を画素内ノズル７５ｉとして特定し、これを駆動として描画動作が行われる。このため、縦バンク部位５０７ｂｖに機能液滴が着弾することがなく、機能液滴を着弾させるべき画素領域５０７ａに隣接する画素領域５０７ａに機能液滴が流れ込むことを防止できると共に、各画素領域５０７ａ内の縦バンク部位５０７ｂｖ近傍に機能液滴を吐出・着弾させることができ、画素領域５０７ａ内の縦バンク部位５０７ｂｖ近傍まで機能液滴を確実に行き渡らせることができる。
【００７７】
ここで、図１２の図示左側の画素領域５０７ａにおいては、画素内ノズル７５ｉが１５個存在し、図示右側の画素領域５０７ａにおいては、画素内ノズル７５ｉが１６個存在している。そのため、制御装置７は、図示右側の画素領域５０７ａに臨む１６個の画素内ノズル７５ｉのうち、一部の画素内ノズル７５ｉからは機能液滴を４ショットだけ吐出・着弾させている。
そして、各画素領域５０７ａに対する主走査が終了すると、１描画ラインＬＰ分の副走査が行われ、次の１描画ラインＬＰに対応する各画素領域５０７ａに対して、主走査が行われる。
【００７８】
図１３は、ノズル特定手段１２１により画素間ノズル７５ｂおよび画素内ノズル７５ｉが特定された後、ノズル位置判定手段１２２によりが外端部５０７ａｍに位置する画素内ノズル７５ｉが存在しないと判定された状態を示す図である。同図では、図示左側の画素領域５０７ａにおいて、図示左側の外端部５０７ａｍに位置する画素内ノズル７５ｉが存在していない。
【００７９】
図１４ない図１６に示すように、制御装置７は、まず、特定された画素内ノズル７５ｉを駆動とし、画素間ノズル７５ｂを非駆動として、各画素内ノズル７５ｉから機能液滴を５ショット吐出させ、各画素領域５０７ａに対して機能液滴を吐出・着弾させる。このとき、図示左側の画素領域５０７ａの左側の外端部５０７ａｍに対しては、機能液滴が着弾していない（図１４参照）。続いて、制御装置７は、ヘッドユニット１５（機能液滴吐出ヘッド１６）を副走査方向に微小移動させる（図１５参照）。その後、外端部５０７ａｍに対し、画素内ノズル７５ｉにより機能液滴を吐出させる（図１６参照）。このようにすることで、外端部５０７ａｍに位置していたノズル７５が画素間ノズル７５ｂとして特定されるために、外端部５０７ａｍに位置する画素内ノズル７５ｉが存在しないときであっても、縦バンク部位５０７ｂｖ近傍の外端部５０７ａｍに対して、機能液滴を確実に着弾させることができる。
なお、この場合も、図示左側の画素領域５０７ａにおいては、画素内ノズル７５ｉが１５個存在し、図示右側の画素領域５０７ａにおいては、画素内ノズル７５ｉが１６個存在しているため、ショット数を調整している。
【００８０】
なお、複数の画素領域５０７ａがデルタ配列である場合、例えば、主走査方向に並ぶ複数の画素領域列に対し、奇数番目の画素領域列に対して偶数番目の画素領域列が副走査方向の画素ピッチＰＤｈの１／２だけ副走査方向に位置ずれしている場合は、まず、奇数番目の画素領域列の各画素領域５０７ａに対して上記の吐出動作を行い、その後、偶数番目の画素領域列の各画素領域５０７ａに対して上記の吐出動作を行うようにする。
【００８１】
以上のように、本実施形態の液滴吐出装置１によれば、区画壁部５０７ｂに機能液滴が着弾することを防止できると共に、画素領域５０７ａ内の縦バンク部位５０７ｂｖ近傍まで機能液滴を確実に行き渡らせることができる。
【００８２】
次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板をいう。
【００８３】
まず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図１７は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１８は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図１８（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【００８４】
続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図１８（ｂ）に示すように、基板５０１およびブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図１８（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド１６により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【００８５】
以上のブラックマトリクス形成工程およびバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置のばらつきを自動補正できる。
【００８６】
次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図１８（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド１６によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド１６を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【００８７】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図１８（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【００８８】
図１９は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図１８に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【００８９】
この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、および、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【００９０】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図１９において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【００９１】
液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００９２】
通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【００９３】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド１６で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド１６で行うことも可能である。
【００９４】
図２０は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【００９５】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。
【００９６】
液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【００９７】
図２１は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【００９８】
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。
【００９９】
対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１および信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【０１００】
また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【０１０１】
なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【０１０２】
次に、図２２は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。
【０１０３】
この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３および陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されると共に、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【０１０４】
回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。
【０１０５】
また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。
【０１０６】
そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。
【０１０７】
このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。
【０１０８】
上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３および機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、および、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。
【０１０９】
バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。
【０１１０】
上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成することも可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【０１１１】
発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、または青色（Ｂ）のいずれかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。
【０１１２】
そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１１３】
陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１１４】
次に、上記の表示装置６００の製造工程を図２３〜図３１を参照して説明する。
この表示装置６００は、図２３に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、および対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１１５】
まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図２４に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図２５に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。
【０１１６】
表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理および撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａおよび画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓおよび有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド１６を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１１７】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図１に示した液滴吐出装置１のセットテーブル２２に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）および発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。
【０１１８】
図２６に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド１６から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図２７に示すように、乾燥処理および熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入／輸送層６１７ａを形成する。
【０１１９】
次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒並びに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。
【０１２０】
そして次に、図２８に示すように、各色のうちのいずれか（図２８の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。
【０１２１】
その後、乾燥工程等を行うことにより、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２９に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。
【０１２２】
同様に、機能液滴吐出ヘッド１６を用い、図３０に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決めることも可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１２３】
以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。
【０１２４】
対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図３１に示すように、発光層６１７ｂおよび有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１２５】
このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。
【０１２６】
次に、図３２は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、およびこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１２７】
第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。
【０１２８】
放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。
【０１２９】
第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、およびＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１３０】
本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、および蛍光体７０９を、図１に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１のセットテーブル２２に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド１６により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、またはニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１３１】
補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。
【０１３２】
ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１および蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド１６から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。
【０１３３】
次に、図３３は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、およびこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。
【０１３４】
第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１３５】
第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１３６】
そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１３７】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０１３８】
第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図３４（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図３４（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１３９】
上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１４０】
【図１】実施形態に係る基板を模式的に表した平面図である。
【図２】実施形態に係るパネル形成領域を模式的に表した平面図である。
【図３】実施形態に係る液滴吐出装置を模式的に表した平面図である。
【図４】実施形態に係るヘッドユニットを模式的に表した底面図である。
【図５】実施形態に係る機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図６】実施形態に係る機能液滴吐出ヘッドの複数のノズルの配列を示す図である。
【図７】実施形態に係る液滴吐出装置の制御構成を示すブロック図である。
【図８】実施形態に係る描画装置の描画動作における機能ブロック図である。
【図９】実施形態に係るノズル特定手段が画素間ノズルおよび画素内ノズルを特定した状態を説明する図である。
【図１０】（ａ）は実施形態に係るノズル位置判定手段により外端部に位置する画素内ノズルが存在すると判定される状態を示す図、（ｂ）は実施形態に係るノズル位置判定手段により外端部に位置する画素内ノズルが存在しないと判定される状態を示す図である。
【図１１】外端部に位置する画素内ノズルが存在すると判定された状態を説明する図である。
【図１２】図１１に続いて、描画装置により各画素領域に対して吐出動作が行われた状態を示す図である。
【図１３】外端部に位置する画素内ノズルが存在しないと判定された状態を説明する図である。
【図１４】図１３に続いて、描画装置により各画素領域に対して吐出動作が行われた状態を示す図である。
【図１５】図１４に続いて、機能液滴吐出ヘッドの副走査方向への移動が行われた状態を示す図である。
【図１６】図１５に続いて、描画装置により外端部に対して吐出動作が行われた状態を示す図である。
【図１７】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図１８】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図１９】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図２０】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図２１】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図２２】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図２３】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図２４】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図２５】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図２６】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２７】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２８】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２９】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図３０】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図３１】陰極の形成を説明する工程図である。
【図３２】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図３３】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図３４】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１４１】
１…液滴吐出装置  ７…制御装置  １１…ＸＹ移動機構  １６…機能液滴吐出ヘッド  ７５…ノズル  ７５ａ…画素間ノズル  ７５ｉ…画素内ノズル  ５０７ａ…画素領域  ５０７ａｍ…外端部  ５０７ｂ…区画壁部  ５０７ｂｖ…縦バンク部位  ５０７ｖ…仮想画素間部位  ＬＰ…描画ライン  画素ピッチ…ＰＤｈ  ＰＮ…ノズルピッチ  ＰＮｉ…ノズル列内ピッチ  ＲＤ…  Ｗ…基板  Ｗｖ…幅（縦バンク部位）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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