(57)【要約】【課題】  本発明は高精細パターン印刷のために好適な金属版を用いた構造においてもガラス基板などの基板に傷を付けることなく高精細なパターンを印刷することができるグラビア印刷版の提供を目的とする。【解決手段】  本発明は、金属からなる版本体１の外周部に目的のパターンに合致するように凹部状のインキ受容部からなるパターン画線部２が形成され、版本体の外周部のパターン画線部を除く部分に基板に対する版本体の押し付け時に基板に当接する樹脂製の緩衝層３を形成してなる。【選択図】  図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板などの基板の上にインキからなるパターンを高精細印刷して形成するための印刷用金属版であって、金属からなる版本体の表面部に目的のパターンに合致するように凹部状のインキ受容部からなるパターン画線部が形成され、該版本体の表面部のパターン画線部を除く部分に前記基板に対する前記版本体の押し付けによるインキ転写時に前記基板に当接する樹脂製の緩衝層が形成されてなることを特徴とするグラビア印刷版。
【請求項２】
前記緩衝層がインキを反発する樹脂からなることを特徴とする請求項１に記載のグラビア印刷版。
【請求項３】
前記インキを反発する樹脂がシリコーン系の樹脂、フッ素樹脂、ブチルゴム、ウレタンゴム、アクリロニトリルゴム、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート樹脂のいずれかからなることを特徴とする請求項２に記載のグラビア印刷版。
【請求項４】
前記パターン画線部にインキを反発しない層が露出されてなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のグラビア印刷版。
【請求項５】
前記インキを反発しない層がブチルゴムまたはエチレンプロピレンゴム層であることを特徴とする請求項４に記載のグラビア印刷版。
【請求項６】
前記インキが有機ＥＬ素子を作成するための、高分子有機発光材料をインキ化したものであることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のグラビア印刷版。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載のグラビア印刷版を備えたことを特徴とするグラビア印刷装置。
【請求項８】
ガラス基板などの基板の上に有機ＥＬ素子を作成するための、高分子有機発光材料をインキ化したものからなるインキのパターンを高精細印刷して有機ＥＬ素子を形成するための方法であって、
金属からなる版本体の表面部に目的のパターンに合致するように凹部状のインキ受容部からなるパターン画線部が形成され、該版本体の表面部のパターン画線部を除く部分に前記基板に対する前記版本体の押し付けによるインキ転写時に前記基板に当接する樹脂製の緩衝層が形成されてなるグラビア印刷版を用い、前記パターン画線部に高分子有機発光材料をインキ化したものを収容し、このグラビア印刷版を基板上に押し付けて基板上に前記パターン画線部に対応するインキパターンを印刷することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項９】
前記緩衝層にインキに反発する樹脂を用いることを特徴とする請求項８に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項１０】
前記パターン画線部にインキに反発しない層を露出させ、該パターン画線部に収容したインキを前記基板上に転写してインキパターンを印刷することを特徴とする請求項８または９に記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板やＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）基板などの傷が付きやすい基板に目的のパターンに合致したインキパターンを印刷する際に適用して好適な技術に関する。 
【背景技術】
【０００２】
コンピュータの情報表示用あるいはテレビジョン画面表示用などとして、軽量で高効率のフラットパネルディスプレイの研究開発が進められている。従来から主流とされてきたディスプレイとして広く用いられているのは、輝度と色再現性に優れたブラウン管（ＣＲＴ）であるが、このブラウン管は重量が大きく奥行き寸法も大きいので、今日では薄型のフラットパネルディスプレイとして、液晶パネルディスプレイあるいはプラズマパネルディスプレイが商品化され、一部の商品では置き換えが進みつつある状況になっている。
しかし、液晶パネルディスプレイは視野角が狭く、高速画素信号に対して応答性が充分ではないという問題があり、プラズマパネルディスプレイは消費電力が大きく、現在以上の大型化には技術的解決課題が多いという問題がある。
【０００３】
これらに対して最近注目されているものが、有機発光材料を用いた有機電界発光素子（有機ＥＬ素子）であり、有機化合物を発光材料として用いることで自発光であっても応答速度が高速であり、更に視野角依存性が無い低消費電力のフラットパネルディスプレイを実現できるものとして期待されている。
図５はこの種の有機電界発光素子の一構造例を示すもので、この例のＥＬ素子１００は透明のガラス基板１０１の上にＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）からなる透明の画素電極（陽極）１０２と、ホール輸送層１０３と発光層１０４と電子輸送層１０５と金属の陰極１０６を例えば真空蒸着法などで順次成膜してなる構成とされてなる。
【０００４】
この構成のＥＬ素子１００においては、陽極の画素電極１０２と陰極１０６との間に直流電源１０７から直流電圧を印加すると、画素電極１０２から注入されたキャリアとしてのホール（正孔）がホール輸送層１０３を経て各々移動し、発光層１０４において、それら電子−正孔対の再結合が生じ、そこから所定波長の発光１０８が生じ、これを透明のガラス基板１０１の外側から観察することができる。
また、上述のＥＬ素子１００の具体的層構造の他の例として図６に示すように、ホール輸送層１０３の材料にポリ（３，４）−エチレンジオキシチオフェン（以下、ＰＥＤＯＴと略す。）を用い、電子輸送層と発光層を兼用した層としてポリ（２−メトキシ−５−（２’−エチルヘキシロキシ）−１，４−フェニレンビニレン）（以下、ＭＥＨ−ＰＰＶと略す。）び電子輸送性発光層１１０を用い、この上には電子の注入性を高めるカルシウム（Ｃａ）層１１１及びアルミニウムの電極層からなる陰極１０６を設けた構造も知られている。
【０００５】
次に図７に、図５または図６に示す基本構造のＥＬ素子を平面ディスプレイ装置に適用した一構成例を示す。
図示の如く、電子輸送層１１５とホール輸送層１１６とからなる有機積層構造が陰極１１７と陽極１１８の間に所定パターンに配置されている。陰極１１７及び陽極１１８は、互いに交差するストライプ状に設けられ、夫々、輝度信号回路１２０及びシフトレジスタ内蔵の制御回路１２１により選択されて信号電圧が印加される。これにより、選択された陰極１１７及び陽極１１８が交差する位置（画素）に存在するＥＬ素子部分が個々に発光するように構成されている。
【０００６】
このような背景から高分子ＥＬ材料を用いたデバイスの作成方法が注目されており、その中の１つにインクジェットプリンティング技術による高分子デバイス作成方法が知られている。（特許文献１、特許文献２参照）
先の特許文献１に記載された技術では、粘度の低い材料しか使えないこと、液滴吐出型であるからブラックレジストで囲いを設けないとパターン形成できないなどの問題がある。また、先の特許文献２に記載された技術では、インク材料は水溶性でないと使用できないこと、溶剤に可溶であることが望ましいとされていることから、限られた溶剤しか使用できないこと、液滴噴射方法なので大面積のものを製造するのに不利になるなどの問題がある。
このような背景から印刷技術を用いてＥＬ材料を基板上に印刷形成してＥＬ素子を製造する方法が注目されている。（特許文献３参照）
【特許文献１】特開平１０−１５３９６７号公報
【特許文献２】特開平１０−１５３９６７号公報
【特許文献３】特開２００３−１７２４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
先の特許文献３に記載された技術は、第１の電極と第２の電極との間に発光領域を有する層が設けられたＥＬ素子において、前記複数の層のうち、少なくとも１つを凸版反転オフセット法による転写により所定パターンに形成する方法に関する。
この方法によれば、インキを外周部に必要なパターンで形成したロールを用いる転写印刷技術により高速に大面積の層を高精度で形成可能であるという利点を有する。
そこで、この種の印刷手法において、グラビア印刷版を用いてガラス基板上にＥＬ素子形成に必要な層を必要なパターンで形成しようとすると、ＥＬ素子用の基板がガラス基板であり、硬く、脆いものであるため、転写ロールをガラス基板に押し付ける際にガラス基板の表面を転写ロールが擦り付けることになり、ガラス基板表面に傷を付けるおそれがある。特にＥＬ素子などのように高精細なパターンを形成するものにおいては、グラビア印刷版に用いるのは、パターン形成精度が高く、パターン形状の歪が小さい金属版であり、この金属版であればガラス基板の表面を傷つけるおそれが高いものである。また、この点に鑑みて樹脂製の印刷版を適用しようとすると、ＥＬ素子の構成材料用として多用されるトルエン、キシレンなどに対して樹脂製の印刷版では溶剤耐性が低く、溶剤の樹脂版への含浸によりパターンに歪みが発生し、高精細な印刷には向かないと言う問題があった。
【０００８】
本発明者らは前記課題を解決するために、高精細パターン印刷のために好適な金属版を用いた構造においてもガラス基板あるいはＰＥＴ基板などの基板に傷を付けることなく高精細なパターンを確実に印刷することができるグラビア印刷版と装置並びに先のグラビア印刷版を用いたＥＬ素子の製造方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
本発明にあっては、ガラス基板などの基板の上にインキからなるパターンを高精細印刷して形成するための印刷用金属版であって、金属からなる版本体の表面部に目的のパターンに合致するように凹部状のインキ受容部からなるパターン画線部が形成され、該版本体の表面部のパターン画線部を除く部分に前記基板に対する前記版本体の押し付けによるインキ転写時に前記基板に当接する樹脂製の緩衝層が形成されてなることを特徴とする。
本発明において前記緩衝層がインキを反発する樹脂からなることが好ましい。
本発明において前記インキを反発する樹脂がシリコーン系の樹脂、フッ素樹脂、ブチルゴム、ウレタンゴム、アクリロニトリルゴム、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート樹脂のいずれかからなることが好ましい。
本発明において、前記パターン画線部にインキを反発しない層を露出させておくことが好ましい。
本発明において、前記インキを反発しない層がブチルゴムまたはエチレンプロピレンゴム層であることが好ましい。
本発明において、前記インキが有機ＥＬ素子を作成するための、高分子有機発光材料をインキ化したものであることが好ましい。
本発明のグラビア印刷装置は、先のいずれかに記載のグラビア印刷版を備えたことを特徴とする。
【００１０】
本発明に係るＥＬ素子の製造方法は、ガラス基板などの基板の上に有機ＥＬ素子を作成するための、高分子有機発光材料をインキ化したものからなるインキのパターンを高精細印刷して有機ＥＬ素子を形成するための方法であって、金属からなる版本体の表面部に目的のパターンに合致するように凹部状のインキ受容部からなるパターン画線部が形成され、該版本体の表面部のパターン画線部を除く部分に前記基板に対する前記版本体の押し付けによるインキ転写時に前記基板に当接する樹脂製の緩衝層が形成されてなるグラビア印刷版を用い、前記パターン画線部に高分子有機発光材料をインキ化したものを収容し、このグラビア印刷版を基板上に押し付けて基板上に前記パターン画線部に対応するインキパターンを印刷することを特徴とする。
本発明に係るＥＬ素子の製造方法は、前記緩衝層にインキに反発する樹脂を用いることを特徴とする。
本発明に係るＥＬ素子の製造方法は、前記パターン画線部にインキに反発しない層を露出させ、該パターン画線部に収容したインキを前記基板上に転写してインキパターンを印刷することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明に係る印刷版では、ガラス基板などの基板上に、版本体のパターン画線部のインキを転写することで目的のパターンの高精細印刷ができる。また、パターン画線部のインキを転写する際、金属版のパターン画線部を除く部分に設けた樹脂製の緩衝層がガラス基板などの基板表面に当接して押し付けられても、ガラス基板あるいはＰＥＴ基板などの基板の表面部分に傷を付けるおそれは少ない。
更に、パターン画線部そのものは、金属版の部分に形成されているので、溶剤などの浸漬を受けても形が変形したり、歪むことが無く、高精細なパターンの印刷を確実に得ることができる。従って印刷対象物がＥＬ素子のガラス基板上に形成される有機ＥＬ材料の層であり、その材料層のための各種の溶剤が版本体に触れたとしても、パターン画線部自体が溶剤で歪を付与されたり歪むことがないので、高精細なパターン印刷を行うことができる。
勿論、インクジェット法などの液滴噴射法による印刷方法に比べると、本発明は高速で大面積の印刷に対応することができ、粘度の低い材料などの制約が無く、水溶性インキである制約もないので、溶剤の汎用性が高く、インキの汎用性も高い技術を提供することができる。
【００１２】
パターン画線部の外側に設けた緩衝層がインキを反発する樹脂からなると、パターン画線部のインキ受容部から外部にインキが漏れ出そうとしても緩衝層がインキを弾くので緩衝層に不用なインキが付着し難くなる。これにより、緩衝層に不用なインキ汚れが付着し難く、印刷面が汚れ難くなり、地汚れなどを生じることもない。
パターン画線部のインキ受容部にはインキを反発しない、インキとなじみの良好な層を露出させることでパターン画線部に対するインキの乗りが良好になり、印刷パターンが鮮明で良好なきれを有する綺麗なパターン印刷面を得ることができる。
用いるインキとしてＥＬ素子を作成するための高分子有機ＥＬ発光材料であれば、特に本発明のグラビア印刷版が有効であり、先に記載の種々の特徴を有する良好な印刷面を基板上に形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態を実施例により図面を用いて説明する。
図１〜図３は本発明に係るグラビア印刷版を製造する工程を説明するためのもので、図３に示す構造が本発明に係るグラビア印刷版Ａである。
この形態のグラビア印刷版Ａは、ステンレス鋼などの耐食性に富む金属材料からなるドラム状の版本体１と、この版本体１の外周部に形成された凹部状の複数のパターン画線部２と、版本体１の外周部（表面部）においてこれらのパターン画線部２を除く部分に貼着された樹脂製の緩衝層３とを具備して構成されている。
前記版本体１はその表面がＥＬ素子などに適用する有機ＥＬ材料用の溶剤であるトルエンやキシレンなどの溶剤に対して耐食性に富むことが必要であるので、耐食性に富むステンレス鋼、銅、クロム鋼などの金属材料からなることが好ましいが、全体をステンレス鋼などの単一材料で形成しなくとも、溶剤に触れる外周部のみを耐食性に富む金属材料から形成し、内部側は他の金属材料から形成しても良い。
【００１４】
前記パターン画線部２は、形成しようとする目的の電極パターン、配線パターンあるいはＥＬ素子の素子配置パターンなどに合わせて適宜の形状をとることができる。例えば、図７に示すＥＬ素子の構造のストライプ状の電極（陰極１１７と陽極１１８）の形状に合うようにストライプ状にＥＬ材料層をガラス基板上に積層するには、版本体１の外周面の長さ方向あるいは周方向に沿って必要長さの平面視直線状の溝を多数本、等間隔で形成すれば良い。これらのパターン画線部２は凹部型のインキ受容部とされ、これらのパターン画線部２に対し、図示を略した版シリンダーなどのインキ供給装置からインキが供給されるようになっている。これらのパターン画線部２は先の図７に示す構造のＥＬ素子用などであれば、数１０μｍ〜数１００μｍ程度の幅で高精細に所定のピッチで形成される。
【００１５】
前記緩衝層３は、１〜２０μｍ程度の厚さ、より好ましくは１０〜２０μｍ程度の厚さとされ、版本体１を構成する金属材料よりも軟質の樹脂から構成されている。緩衝層３の厚さが薄すぎるとガラス基板などの傷つきやすい基板に対して損傷を与えるおそれが高くなり、逆に厚すぎるとインキの転写に支障をきたす可能性がある。
この緩衝層３を構成する樹脂として、ニトリルゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、アクリロニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、プリスチレン樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリイミド樹脂、シロキサン系エラストマー、フッ素系エラストマーなどを用いることができるが、これらの中でもシリコーン系の樹脂、フッ素樹脂、ブチルゴム、ウレタンゴム、アクリロニトリルゴム、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート樹脂のいずれかからなることが好ましい。これらの中でもフッ素樹脂、ブチルゴム、ウレタンゴム、アクリロニトリルゴム、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート樹脂が耐溶剤性に優れているので、適用する上で好ましい。
また、これらの中でもシリコーン系の樹脂、フッ素樹脂、ブチルゴム、ウレタンゴム、アクリロニトリルゴム、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート樹脂のいずれかは、インキを反発するので、仮にインキがインク受容部たるパターン画線部２から外部に漏れ出そうとした場合にインキに反発し、パターン画線部２の外部にインクが出ないように作用するので、緩衝層３側へのインキの不用な付着を抑制でき、印刷面が汚れ難く、地汚れを生じないのでより好ましい。
【００１６】
以上の如く構成されたグラビア印刷版Ａを製造するには、ステンレス鋼からなる金属ドラム４を用意し、この金属ドラム４の外周面全部に図１に示すように均一な厚さの樹脂層５を例えば１〜２０μｍの厚さで形成する。樹脂層５を形成する方法は樹脂液に金属ドラム４を浸漬して引き上げるディップ法、ワイヤーコート法、ダイコート法など、目的物の表面に樹脂層を形成する方法として知られている常法を適宜選択すればよい。
図１に示すように外周面全面に樹脂層５を被覆した後、目的のパターンに合わせてこれらの樹脂層５の不用部分を除去して孔部５ａを形成する。これには、樹脂層５の上からレーザで必要なパターンを直接描画して削っても良いし、フォトリソグラフィ技術を用いてレジストを被覆し、該レジストに部分的に露光してから現像処理液に浸漬し、レジストの残った部分以外を除去するエッチング処理を行って、図２に示すように樹脂層５の一部を削除して孔部５ａ…としても良い。これらの方法のうち、レーザにより描画する方法では工程を少なくすることができ、自由な大きさの孔部５ａを容易に形成することができる。
【００１７】
図２に示すように樹脂層５の孔部５ａを形成したならば、樹脂層５をマスクとして金属ドラム４の外周面の必要部分をエッチングにより除去して凹部を形成し、凹部をインキ受容部としてこのインキ受容部からなる図３に示すパターン画線部２を形成して版本体１を具備するグラビア印刷版Ａを得ることができる。
ここでの金属ドラム４のエッチングには金属の種類によっても異なるが、酸性のエッチング液を用いると簡便であり、コストも安くできる。なお、極めて微細なミクロンオーダーのパターン画線部２を形成する場合、ドライエッチング法を用いることもできるが、この場合は樹脂層５を損傷させないために、樹脂層５のパターニングはフォトリソグラフィ法を適用し、孔部５ａを形成してから孔部５ａに沿って金属ドラム４のドライエッチング処理を施すようにすればよい。
これらの工程により図３に示す構造のグラビア印刷版Ａを得ることができる。
【００１８】
前記構造のグラビア印刷版Ａを用いて印刷を行うには、版本体１のインキ受容部たるパターン画線部２に必要なインキを供給する。
この形態では用いるインキとして例えば、ガラス基板あるいはＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）基板などの透明基板の上にＥＬ素子を作り込む場合を例にして説明する。
ＥＬ素子製造用の有機材料として、有機発光材料（例えばＭＥＨ−ＰＰＶ等の高分子発光材料、アントラセン、フタロシアニン等の低分子発光材料）又はその前駆体を水又は有機溶媒（例えばシクロヘキサノン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、キシレン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリル等）に溶解又は分散させて調製されたインキを版本体１のパターン画線部２に備えたグラビア印刷版Ａを先の基板上に回転させながら押圧し、インキを基板上に目的のパターンに沿って転写し、発光層を形成することができる。
【００１９】
他のインキの例として、ＭＥＨ−ＰＰＶ等の高分子発光材料又はその前駆体と、ＰＥＤＯＴ等の有機材料又はその前駆体とを水又は有機溶媒（例えばシクロヘキサノン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、キシレン、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、アセトニトリル等）にそれぞれ溶解又は分散させて調製されたインキの前記転写により、前記高分子発光材料と前記有機材料との複合層（積層構造）を先の基板上に形成することもできる。
また、ホール輸送層上に前記インキの所定パターンの転写により、電子輸送性発光層を形成したり、前記インキの所定パターンの転写により、単色又は複数色用の層を形成しても良い。
更に、例えば、ガラス等の基板上に少なくとも画素毎にパターニングした電極を形成し、その上に前記層を所定パターンに形成したり、ガラス等の基板上に少なくとも画素毎にパターニングされた電極を形成し、その上に、少なくとも赤、緑及び青の三種類の発光色の各インキを各色毎に転写して、各色の発光層を所定パターンに形成することもできる。
【００２０】
図４は先に説明した構成のグラビア印刷版Ａを用いてＥＬ素子の一部を製造している状態を示す。
この例ではガラス基板２０上にＩＴＯのストライプ状の複数の透明画素電極２１を真空蒸着法とフォトリソ法によるパターニングを実施して形成し、それら透明画素電極２１…上にホール輸送層形成用のＰＥＤＯＴなどの水溶液をスピンコート法で塗布してから焼成し、ホール輸送層２３を形成し、この上に図４に示す如くグラビア印刷版Ａを用いて先に説明したＭＥＨ−ＰＰＶ等の高分子発光材料等のインキ層Ｋをグラビア印刷し、インキ層Ｋを加熱して溶媒を除去すればストライプ状の発光層が完成する。
グラビア印刷版Ａにおいては緩衝層３がホール輸送層２３の上面に接しながら、あるいは図示していないが、基板２０上面において透明画素電極２１とホール輸送層２３を形成していない領域においては基板２０の上面に接しながらグラビア印刷版Ａが回転してパターン画線部２に収容されているインキ層Ｋを転写してゆくので、緩衝層３の存在によりクッション作用を奏して基板２０の上面には傷が付き難い。従って基板２０の上面を損傷させることなく有機ＥＬ素子を製造できるようになる。
なお、グラビア印刷版Ａを用いて作成した先のインキ層Ｋを加熱乾燥させてストライプ状の複数の発光層を形成したならば、これらの上に真空蒸着法とパターニングによりカルシウム層や電極層を形成することで、先に図６を基に説明した基本積層構造であって、先に図７を基に説明した画素構造の有機ＥＬ素子を製造することができる。
【００２１】
ところで、先に説明した版本体１のパターン画線部２の内面側にインキを反発しないインキに馴染みの良好な層を塗布形成しておいても良い。これらのインキを反発しない層とは、例えばブチルゴムまたはエチレンプロピレンゴム層などである。
これらの層をパターン画線部２の内面に形成しておくことでパターン画線部２に対するインキの乗りが良好となり、印刷仕上がりを良好とすることができる。
【００２２】
本発明に係るグラビア印刷装置は、先に説明したグラビア印刷版Ａを備え、これにインキ供給装置、基板の搬送装置を含んで構成される。インキ供給装置や基板搬送装置は、一般的なグラビア装置に通常使用されている一般的なもので差し支えない。
この構成のグラビア印刷装置は先の構成のグラビア印刷版Ａを備えているので、先のグラビア印刷版Ａの使用により得られる種々の効果を奏する。
【実施例】
【００２３】
ステンレス鋼からなる直径１００ｍｍの金属ドラムの外周面にシリコン樹脂（東芝ＧＥシリコーン社製）からなる厚さ１０〜２０μｍの樹脂を塗布形成し、レーザー製版機を用いてシリコン樹脂をパターン形成する。次いで、２Ｎの塩酸を用いてこのステンレス層をパターン状（パターン寸法：Ｌ／Ｓ＝２００μｍ／８０μｍ）に刻設してパターン画線部を形成し、このパターン画線部にインキ（ＭＥＨ−ＰＰＶ、０.８％、アニソール溶液）を収容してグラビア印刷版を構成した。
このグラビア印刷版をグラビア校正機に取り付け、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムに印刷を行った。その際のグラビア印刷版の押し付け力を３０Ｋｇ／ｍ、ＰＥＴフィルムの移動速度を０.８ｍ／秒として、グラビア印刷版はＰＥＴフィルムの移動に同期して回転させた。
【００２４】
このグラビア印刷版により、２００μｍ±１０μｍの高精細なパターンの印刷をＰＥＴフィルムの上面にＰＥＴフィルム表面に傷を付けることなく行うことができた。
これに対して樹脂層を版本体の外周面にコーティングしていないグラビア印刷版を用いて同様のパターン画線部を形成し、この版を用いて印刷してみたところ、基材に筋状の傷が付いてしまった。
更に、版本体の全部をウレタン樹脂製としたグラビア印刷版も試作し、試験に供してみたが、２００μｍ±１０μｍの高精細なパターンの印刷に支障を生じ、パターンに歪みを生じてしまった。
更に上記の例において、シリコン樹脂の厚さを０.８μｍとして他の条件は同等としてグラビア印刷版を製造し、印刷に供したところ、シリコン樹脂が薄すぎてＰＥＴフィルムに僅かに傷が付いた。また、シリコン樹脂の厚さを２３μｍとして他の条件は同等としてグラビア印刷版を製造し、印刷に供したところ、シリコン樹脂が膨潤して凹部状のパターン画線部側にまではみ出し、２００μｍ±１０μｍの高精細なパターンの印刷のエッジ部分が直線状にならずに２５μｍ程度の凹凸が生じた。従ってグラビア印刷版をこの目的に供する場合の緩衝層の厚さとしては、１〜２０μｍの範囲の厚さとすることが有利であると思われる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】図１は金属ドラム外周に樹脂層を被覆した状態を示す図。
【図２】図２は金属ドラム外周の樹脂層に孔部を形成した状態を示す図。
【図３】図３は金属ドラムの外周にパターン画線部を形成してなるグラビア印刷版を示す図。
【図４】図４は本発明に係るグラビア印刷版を用いてＥＬ素子の一部を製造している状態を示す断面図である。
【図５】図５はＥＬ素子の一構造例を示す断面図である。
【図６】図６はＥＬ素子の他の構造例を示す断面図である。
【図７】図７はＥＬ素子を用いた表示装置の一例を示す構成図である。
【符号の説明】
【００２６】
Ａ…グラビア印刷版、１…版本体、２…パターン画線部、３…緩衝層、４…金属ドラム、５…樹脂層、５ａ…孔部、Ｋ…インキ層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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