(57)【要約】      （修正有）【課題】  光記録媒体に高速記録が可能なアゾ金属キレート色素を提供する。【解決手段】  本発明が適用されるアゾ金属キレート色素は、例えば、１,３,４−チアジアゾール環をジアゾ成分とし、フッ素置換アルキルスホニルアミノ基と縮環したアミノ基とを有するカップラー成分が結合したアゾ金属化合物と、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ及びＰｄからなる群から選ばれる少なくとも１つの金属とがキレート結合することにより形成される化合物であって、４００ｎｍ〜８００ｎｍで測定した吸収スペクトルに２つの吸収帯が見られ、この２つの吸収帯の吸光度比（ＯＤ２／ＯＤ１）が１．２５より大きいことに特徴を有し、このアゾ金属キレート色素を用いることにより、高速記録が可能な光記録媒体が提供される。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
アゾ系色素化合物と金属とからなるアゾ金属キレート色素であって、下記測定法で測定されるＯＤ２／ＯＤ１が１．２５より大きいことを特徴とするアゾ金属キレート色素。
（ＯＤ２／ＯＤ１の測定方法）
（１）アゾ金属キレート色素２０ｍｇをオクタフルオロペンタノール（ＯＦＰ）溶媒２ｇに含有させた後、５０℃〜５５℃で６０分間超音波分散を行ない溶液Ａを得る。溶液Ａを室温（２５±５℃）まで冷却して溶液Ｂを得る。
（２）溶液Ｂを回転数８００ｒｐｍでポリカーボネート基板上にスピンコートする。そして、上記溶液Ｂが塗布された基板を８０℃で５分間保持する。このようにして得た、溶液Ｂが塗布された基板を塗布基板Ａという。
（３）塗布基板Ａの４００ｎｍ〜８００ｎｍでの吸収スペクトルを測定する。
（４）得られた吸収スペクトルにおける５００ｎｍ〜７００ｎｍに見られる吸収ピークにおいて、最も吸光度の大きい吸収ピーク及びそれに次ぐ大きさの吸光度を持つ吸収ピークのうち、長波長側の吸収ピークの吸光度をＯＤ２、短波長側の吸収ピークの吸光度をＯＤ１とし、ＯＤ２／ＯＤ１を算出する。
【請求項２】
下記一般式（１）で示されるアゾ系色素化合物と金属とからなることを特徴とする請求項１記載のアゾ金属キレート色素。
【化１】
2005120350.tif 000064
（式中、Ｒ１は水素原子又はＣＯ２Ｒ３で示されるエステル基であり、Ｒ３は置換されていてもよい直鎖もしくは分岐のアルキル基又は、置換されていてもよいシクロアルキル基であり、Ｒ２は置換されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基であり、Ｘ１又はＸ２の少なくともいずれか一方はＮＨＳＯ２Ｙ基であり、Ｙは少なくとも２つのフッ素原子で置換されている直鎖又は分岐のアルキル基であり、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立して水素原子又は置換されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基であり、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基である。）
【請求項３】
前記金属が、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ及びＰｄからなる群から選択される少なくとも１つであることを特徴とする請求項１又は２に記載のアゾ金属キレート色素。
【請求項４】
基板上に、照射された光により情報の記録及び／又は再生が行なわれる記録層を有する光学記録媒体であって、
前記記録層がアゾ系色素化合物と金属とからなるアゾ金属キレート色素を含有し、下記測定法で測定される前記アゾ金属キレート色素のＯＤ２／ＯＤ１が１．２５より大きいことを特徴とする光学記録媒体。
（ＯＤ２／ＯＤ１の測定方法）
（１）アゾ金属キレート色素２０ｍｇをオクタフルオロペンタノール（ＯＦＰ）溶媒２ｇに含有させた後、５０℃〜５５℃で６０分間超音波分散を行ない溶液Ａを得る。溶液Ａを室温（２５±５℃）まで冷却して溶液Ｂを得る。
（２）溶液Ｂを回転数８００ｒｐｍでポリカーボネート基板上にスピンコートする。そして、上記溶液Ｂが塗布された基板を８０℃で５分間保持する。このようにして得た、溶液Ｂが塗布された基板を塗布基板Ａという。
（３）塗布基板Ａの４００ｎｍ〜８００ｎｍでの吸収スペクトルを測定する。
（４）得られた吸収スペクトルにおける５００ｎｍ〜７００ｎｍに見られる吸収ピークにおいて、最も吸光度の大きい吸収ピーク及びそれに次ぐ大きさの吸光度を持つ吸収ピークのうち、長波長側の吸収ピークの吸光度をＯＤ２、短波長側の吸収ピークの吸光度をＯＤ１とし、ＯＤ２／ＯＤ１を算出する。
【請求項５】
前記アゾ金属キレート色素が、下記一般式（１）で示されるアゾ系色素化合物と金属とからなるアゾ金属キレート色素を含有することを特徴とする請求項４に記載の光学記録媒体。
【化２】
2005120350.tif 000065
（式中、Ｒ１は水素原子又はＣＯ２Ｒ３で示されるエステル基であり、Ｒ３は置換されていてもよい直鎖もしくは分岐のアルキル基又は、置換されていてもよいシクロアルキル基であり、Ｒ２は置換されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基であり、Ｘ１又はＸ２の少なくともいずれか一方はＮＨＳＯ２Ｙ基であり、Ｙは少なくとも２つのフッ素原子で置換されている直鎖又は分岐のアルキル基であり、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立して水素原子又は置換されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基であり、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基である。）
【請求項６】
前記金属が、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｃｕ及びＰｄからなる群から選択される少なくとも１つであることを特徴とする請求項４又は５に記載の光学記録媒体。
【請求項７】
前記アゾ金属キレート色素が、照射された前記光に対して波長６５０ｎｍ以下において吸収極大を有することを特徴とする請求項４乃至６のいずれか１項に記載の光学記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高速記録に好適なアゾ金属キレート色素等に関し、より詳しくは、特定の膜吸収スペクトルを示すアゾ金属キレート色素及びこのアゾ金属キレート色素を用いた光学記録媒体（本発明においては、光学記録媒体を、”ディスク”又は”光ディスク”という場合がある。）に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年コンピューターの高速化、ハードディスク容量の増大に伴ない、取扱えるデータの大きさが増加してきた。それに対応するため記録メディアの大容量化が求められており、大容量レコーダブルＣＤとしてＤＶＤ−Ｒが開発されている。ＤＶＤ−Ｒの記録層に用いる色素としてはシアニン系、金属キレート系色素等種々のものが提案されている。これらの色素のうち、耐光性、耐候性に優れる金属キレート色素を用いた光学記録媒体が多数提案されている（特許文献１参照）。
【０００３】
また、窒素原子を有するジアゾ成分とフッ素で置換されたアルキルスルホニルアミノ基を有するカップラー成分とから得られるアゾ系色素化合物が金属と形成するアゾ金属キレート色素について報告がある（特許文献２参照）。さらに、ベンゼン環上のアミノ基がベンゼン環に縮合する形で環を形成しているカップラー成分を用いたアゾ系色素化合物と金属とのアゾ金属キレート色素を光学記録媒体の記録層として用いることで、光学記録媒体の耐光性、耐久性等の記録特性の向上が可能である旨の報告がある（特許文献３参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開平３−２６８９９４号公報
【特許文献２】特開平１１−１６６１２５号公報
【特許文献３】特開２０００−３０９７２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、最近は、データ量のさらなる増大に伴ない、光学記録媒体に情報を記録するための記録速度の高速化が重視されている。例えば、ＤＶＤ−Ｒでは通常の記録速度が約３．５ｍ／ｓ（以下、１Ｘと称す場合がある）であるが、この１Ｘの８倍にあたる約２８ｍ／ｓ（以下、８Ｘと称す場合がある）以上の高速の記録線速度において情報の記録が可能な光学記録媒体が市場において求められている。
【０００６】
上記市場の要求に対応すべく、高速記録に特に好適な色素の開発が課題となっている。
【０００７】
上記課題に鑑み、本発明の目的は、高速記録が可能なアゾ金属キレート色素及びこのアゾ金属キレート色素を用いた光学記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者等は、高速記録においては光学記録媒体の反射率を高くすることが困難なこと、一方記録層の屈折率を高くすれば光学記録媒体の反射率を高くできること、に鑑み、より高い屈折率を有するアゾ金属キレート色素を得ることを目標とした。具体的には、本発明者等は、色素を含有する塗膜の吸収スペクトルを測定して得られる、５００ｎｍ〜７００ｎｍに存在する吸収帯の長波長側の吸収ピークあるいは吸収肩の吸光度：ＯＤ２と、短波長側の吸収ピークあるいは吸収肩の吸光度：ＯＤ１と、に着目した。そして、本発明者等は、ＯＤ２／ＯＤ１の値を所定の値よりも大きくすれば色素の屈折率を高くできることを見出し、本発明を完成させた。
【０００９】
すなわち、本発明の要旨は、アゾ系色素化合物と金属とからなるアゾ金属キレート色素であって、下記測定法で測定されるＯＤ２／ＯＤ１が１．２５より大きいことを特徴とするアゾ金属キレート色素に存する。
（ＯＤ２／ＯＤ１の測定方法）
（１）アゾ金属キレート色素２０ｍｇをオクタフルオロペンタノール（ＯＦＰ）溶媒２ｇに含有させた後、５０℃〜５５℃で６０分間超音波分散を行ない溶液Ａを得る。溶液Ａを室温（２５±５℃）まで冷却して溶液Ｂを得る。
（２）溶液Ｂを回転数８００ｒｐｍでポリカーボネート基板上にスピンコートする。そして、上記溶液Ｂが塗布された基板を８０℃で５分間保持する。このようにして得た、溶液Ｂが塗布された基板を塗布基板Ａという。
（３）塗布基板Ａの４００nm〜８００ｎｍでの吸収スペクトルを測定する。
（４）得られた吸収スペクトルにおける５００ｎｍ〜７００ｎｍに見られる吸収ピークにおいて、最も吸光度の大きい吸収ピーク及びそれに次ぐ大きさの吸光度を持つ吸収ピークのうち、長波長側の吸収ピークの吸光度をＯＤ２、短波長側の吸収ピークの吸光度をＯＤ１とし、ＯＤ２／ＯＤ１を算出する。
【００１０】
そして、本発明の別の要旨は、基板上に、照射された光により情報の記録及び／又は再生が行なわれる記録層を有する光学記録媒体であって、記録層がアゾ系色素化合物と金属とからなるアゾ金属キレート色素を含有し、下記測定法で測定されるアゾ金属キレート色素のＯＤ２／ＯＤ１が１．２５より大きいことを特徴とする光学記録媒体に存する。
（ＯＤ２／ＯＤ１の測定方法）
（１）アゾ金属キレート色素２０ｍｇをオクタフルオロペンタノール（ＯＦＰ）溶媒２ｇに含有させた後、５０℃〜５５℃で６０分間超音波分散を行ない溶液Ａを得る。溶液Ａを室温（２５±５℃）まで冷却して溶液Ｂを得る。
（２）溶液Ｂを回転数８００ｒｐｍでポリカーボネート基板上にスピンコートする。そして、上記溶液Ｂが塗布された基板を８０℃で５分間保持する。このようにして得た、溶液Ｂが塗布された基板を塗布基板Ａという。
（３）塗布基板Ａの４００nm〜８００ｎｍでの吸収スペクトルを測定する。
（４）得られた吸収スペクトルにおける５００ｎｍ〜７００ｎｍに見られる吸収ピークにおいて、最も吸光度の大きい吸収ピーク及びそれに次ぐ大きさの吸光度を持つ吸収ピークのうち、長波長側の吸収ピークの吸光度をＯＤ２、短波長側の吸収ピークの吸光度をＯＤ１とし、ＯＤ２／ＯＤ１を算出する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、高速記録が可能なアゾ金属キレート色素及びこのアゾ金属キレート色素を用いた高速記録が可能な光学記録媒体が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、発明の実施の形態という。）について詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。
本実施の形態においては、アゾ系色素化合物と金属とからなるアゾ金属キレート色素であって、所定の測定方法で測定されるＯＤ２／ＯＤ１が１．２５よりも大きいアゾ金属キレート色素を用いる。
【００１３】
本実施の形態においてＯＤ２／ＯＤ１を所定の値とする点について説明する。
高速記録を行うための方法として、効率よく記録用のレーザー光を吸収するように、記録波長でより大きい吸光度（吸収）を有する色素を用いる方法が考えられる。これは、色素の吸収極大の波長を従来低速記録で使用してきた色素のそれよりも長波長化する方法である。しかしながら、そのような吸収の長い色素を使用した場合、ディスクの反射率が従来よりも低くなりやすい。このため、上記方法では、光ディスクで定められている反射率の規定、例えばＤＶＤにおいては、「ディスクの反射率４５％以上」という記録部再生についての規格を満たすことが困難となることが多い。そのために、上記方法を用いる場合、記録感度をある程度犠牲にして、反射率を確保しなければならないケースが多い。
【００１４】
本実施の形態においては、上記方法とは着眼点を変えることにより、高速記録においても十分な反射率を得ることが可能で、かつ記録感度に優れた、高速記録用の色素を見出した。以下さらに説明する。
本発明者らは、まず、特定の膜厚範囲（９０ｎｍ以下）においては、色素膜（記録層）の屈折率が大きいほど大きいディスクの反射率を得ることができる（例えば、特開平１０−２０８３０３号公報図１〜図５参照）という知見を元に、より屈折率の大きいアゾ金属キレート色素を得ることを目標とした。
【００１５】
一方、アゾ金属キレート色素の膜の吸収スペクトルにおいては、配位子に局在化した電子状態によると考えられる吸収帯と、金属と配位子との相互作用により生じると考えられる吸収帯と、の２つの吸収帯が、５００ｎｍ〜７００ｎｍに見られる（図１参照。尚、図１については後述する。）。
本実施の形態においては、上記５００ｎｍ〜７００ｎｍに見られる２つの吸収帯のうち、短波長側の吸収ピークの吸光度をＯＤ１とし、長波長側の吸収ピークをＯＤ２とする。そして、ＯＤ２／ＯＤ１を、１．２５よりも大きくすることにおいて、屈折率が特に高いアゾ金属キレート色素が得られることを見出した。この結果、高速記録においても十分な反射率を有する光学記録媒体が得られるのである。このＯＤ２／ＯＤ１の測定は下記方法により行う。
【００１６】
（ＯＤ２／ＯＤ１の測定方法）
（１）アゾ金属キレート色素２０ｍｇをオクタフルオロペンタノール（ＯＦＰ）溶媒２ｇに含有させた後、５０℃〜５５℃で６０分間超音波分散を行ない溶液Ａを得る。溶液Ａを室温（２５±５℃）まで冷却して溶液Ｂを得る。
（２）溶液Ｂを回転数８００ｒｐｍでポリカーボネート基板上にスピンコートする。そして、上記溶液Ｂが塗布された基板を８０℃で５分間保持する。このようにして得た、溶液Ｂが塗布された基板を塗布基板Ａという。
（３）塗布基板Ａの４００nm〜８００ｎｍでの吸収スペクトルを測定する。
（４）得られた吸収スペクトルにおける５００ｎｍ〜７００ｎｍに見られる吸収ピークにおいて、最も吸光度の大きい吸収ピーク及びそれに次ぐ大きさの吸光度を持つ吸収ピークのうち、長波長側の吸収ピークの吸光度をＯＤ２、短波長側の吸収ピークの吸光度をＯＤ１とし、ＯＤ２／ＯＤ１を算出する。
【００１７】
以下、上記（１）〜（４）の各工程について説明する。
まず、測定対象であるアゾ金属キレート色素２０ｍｇをオクタフルオロペンタノール（ＯＦＰ）溶媒２ｇに含有させた後、５０℃〜５５℃で６０分間超音波分散を行なって溶液Ａを得る。超音波分散は、溶媒中にアゾ金属キレート色素を溶解又は分散させるために行なわれる。超音波分散は従来公知の方法を用いればよい。
【００１８】
次に、溶液Ａを室温（２５±５℃）まで冷却して溶液Ｂを得る。溶液Ａの冷却方法としては、溶液Ａを室温中に放置し冷却する。溶液Ａを氷水などで急冷することは、過度の結晶化を促進させる恐れがあるため好ましくない。ここで、溶液Ａを室温まで冷却した後、溶液Ａをフィルター（例えば０．２μｍ）で濾過することが好ましい。フィルターとしては、例えば、ミリポア社製のテフロン（登録商標）フィルターなどが挙げられる。フィルターでろ過することにより、溶液Ａ中の未溶解成分や分散が不十分な成分を取り除くことができる。このようにして得た溶液を溶液Ｂと呼ぶ。しかしながら、もし溶液Ａに色素の溶け残りが観察される場合には、上澄み液を採取し、それを溶液Ｂとしてもよい。
【００１９】
なお、上記記載から明らかなように、「溶液Ａ」においては、アゾ金属キレート色素の全部又は一部が溶液中に溶解した状態で存在してもよい。又は、「溶液Ａ」においては、アゾ金属キレート色素の全部又は一部が溶液中に分散した状態で存在してもよい。
さらに、溶液Ｂを回転数８００ｒｐｍでポリカーボネート基板上にスピンコートする。スピンコートを行なう装置としては、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒの記録層を成膜するために用いられている従来公知の装置を用いることができる。具体的には、回転数８００ｒｐｍで回転させたポリカーボネート基板上に溶液Ｂを滴下することにより、ポリカーボネート基板上に溶液Ｂからなる塗膜を形成すればよい。
【００２０】
その後、上記溶液Ｂが塗布された基板を８０℃で５分間保持する。これは溶液Ｂ中の溶媒を除去するためである。８０℃／５分間の保持により溶液Ｂより溶媒が完全に除去されることが好ましい。但し、後述の吸収スペクトルの測定が良好に行なえる限り、溶媒が完全に除去されていなくてもよい。
【００２１】
このようにして得た、溶媒Ｂが塗布された基板を塗布基板Ａという。この塗布基板Ａの４００nm〜８００ｎｍでの吸収スペクトルを測定する。吸収スペクトルの測定は従来公知の方法を用いればよい。具体的には、吸収スペクトル測定用の試料光（４００ｎｍ〜８００ｎｍ）を塗布基板Ａの基板側から照射する。そして、参照サンプルとして空気を用い、参照サンプルにおける光の強度と塗布基板Ａを通過した光の強度とを測定し、塗布基板Ａにおける吸収スペクトルを測定すればよい。
【００２２】
吸収スペクトルのより具体的な方法として以下の方法を挙げることができる。
アゾ金属キレート色素膜を塗布したディスクを扇型に切り出し、紫外・可視分光光度計で、色素膜とは反対側の面（基板側の面）から光を照射して測定する。測定に使用する分光器や測定条件については、市販の装置の通常の条件を用いればよい。例えば、本実施の形態の実施例においては、株式会社日立製作所社製Ｕ−３３００を用いた。そして、測定条件は、波長スキャンスピード３００ｎｍ／ｍｉｎ．、サンプリング周期０．５ｎｍの吸光度測定（Ａｂｓｏｒｂａｎｃｅ）モードで行った。
【００２３】
かかる方法により得られたＯＤ２／ＯＤ１の値が高いものほど、屈折率が高くなる。図２は、本実施の形態が適用される様々なアゾ金属キレート色素の色素膜における、ＯＤ２／ＯＤ１と屈折率との関係を示すグラフである。図２の測定結果からも、ＯＤ２／ＯＤ１の値が高いほど屈折率が高いことが明確である。この図２の測定結果により、本実施の形態の１．２５以上の膜の屈折率の最大値は、およそ３．３に相当する。
【００２４】
ＯＤ２／ＯＤ１の値は、高速記録用途で十分な反射率が得られるので、１．２５より大きく、好ましくは１．２６以上、より好ましくは１．２７以上、さらに好ましくは１．２８以上、特に好ましくは１．２９以上である。また、ＯＤ２／ＯＤ１の値は、本発明の目的上、大きいほど好ましいが、好ましくは５以下、より好ましくは３以下である。５よりも大きい場合は、吸収帯の幅が狭いために、吸収の波長依存性が大きくなる恐れがある。
【００２５】
なお、上記測定方法により、アゾ金属キレート色素の色素膜の吸収スペクトルを測定した結果、５００ｎｍ〜７００ｎｍに２つ以上の吸収ピークが明確に確認されない場合がある。このような例としては、例えば、５００〜７００ｎｍの吸収スペクトルが、複数の吸収肩を有する吸収スペクトルとして観察される場合が挙げられる。この場合、得られたピークのうち最大の吸光度を有する吸収ピーク又は吸収肩と、それに次ぐ大きさの吸光度を有する吸収ピーク又は吸収肩と、を用いて、ＯＤ２／ＯＤ１を算出すればよい。
【００２６】
図５は、アゾ金属キレート色素の色素膜の吸収スペクトルに吸収肩のある例を示す図である。一例として、図５に示すような吸収スペクトルについて、ＯＤ２／ＯＤ１の求め方を説明する。図５のような吸収スペクトルが得られた場合は、４００〜７００ｎｍの吸収スペクトルのうち、短波長側に観察される吸収肩をＯＤ１とすればよい。
【００２７】
かかるＯＤ２／ＯＤ１の値が高い色素の好ましい例として、特定の構造を有するアゾ金属キレート色素が挙げられる。それら色素を記録層に用いたディスクは、従来用いられてきた色素を記録層に用いたディスクと比べると、記録層の吸収極大波長が長くても高い反射率を安定に示すことがわかった。
【００２８】
以下、上記特定の構造のアゾ金属キレート色素の一例について説明する。
まず、窒素原子を有するヘテロ環の中でも１，３，４−チアジアゾール環をジアゾ成分とする。そして、このジアゾ成分とフッ素置換アルキルスルホニルアミノ基と縮環したアミノ基を有するカップラー成分とを組み合わせたアゾ系色素化合物を合成する。このアゾ系色素化合物と金属とから形成されるアゾ金属キレート色素を含有する記録層は、耐光性、耐候性に優れる可能性があるので好ましい。さらに、上記ジアゾ成分の１，３，４−チアジアゾール環を水素原子、もしくはエステル基に置換したアゾ金属キレート色素は、本実施の形態の要件を満たすＯＤ２／ＯＤ１値を有する傾向があるため、好ましい。これは、ジアゾ成分の置換基を、立体構造的に最も小さい水素原子にすること、あるいは、それ自体極性が大きいエステル基にすること、により、アゾ系配位子と金属イオンとの配位が立体障害の少ない状態でおこりうることに起因しているからではないかと考えられる。かかる構造の具体例としては、
【００２９】
【化１】
2005120350.tif 000002
【００３０】
（式中、Ｒ１は水素原子又はＣＯ２Ｒ３で示されるエステル基であり、Ｒ３は置換されていてもよい直鎖もしくは分岐のアルキル基又は、置換されていてもよいシクロアルキル基であり、Ｒ２は置換されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基であり、Ｘ１又はＸ２の少なくともいずれか一方はＮＨＳＯ２Ｙ基であり、Ｙは少なくとも２つのフッ素原子で置換されている直鎖又は分岐のアルキル基であり、Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立して水素原子又は置換されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基であり、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基である。）
【００３１】
本実施の形態が適用されるアゾ金属キレート色素は、前述した式（１）で示されるアゾ系色素化合物と金属とがキレート結合することにより形成される。さらに、式（１）で示されるアゾ系色素化合物は、１，３，４−チアジアゾール環をジアゾ成分とし、フッ素置換アルキルスルホニルアミノ基と縮環したアミノ基を有するカップラー成分が結合することにより形成される。
【００３２】
ジアゾ成分における置換基Ｒ１は、水素原子又はＣＯ２Ｒ３で示されるエステル基であり、Ｒ３は置換されていてもよい直鎖もしくは分岐のアルキル基、又は、置換されていてもよいシクロアルキル基である。Ｒ３の置換基は、ハロゲン原子の他、酸素や窒素、イオウ等典型元素であれば特に制限はない。Ｒ３としては、例えば、置換されていない直鎖もしくは分岐のアルキル基、又は、置換されていないシクロアルキル基、フッ素で置換された直鎖もしくは分岐のアルキル基、アルコキシ基で置換された直鎖もしくは分岐のアルキル基が好ましい。Ｒ３としては、特に好ましくは、水素原子；エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基等炭素数が１以上４以下の直鎖もしくは分岐のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；である。特に好ましくは、立体障害が小さいという理由から、メチル基、エチル基の炭素数１〜２の直鎖アルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜６のシクロアルキル基；である。
【００３３】
ジアゾ成分における置換基Ｒ１は、本実施の形態における所定のＯＤ２／ＯＤ１を満たすという観点から、立体障害が最も小さい水素原子が最も好ましい。このようなジアゾ成分の具体的な化合物としては、下記（化２）の構造のものが好ましい事例として挙げられる。
【００３４】
【化２】
2005120350.tif 000003
【００３５】
カップラー成分におけるＸ１、Ｘ２の少なくともいずれか１つはＮＨＳＯ２Ｙを表す。この場合、好ましくはＸ１、Ｘ２のいずれかがＮＨＳＯ２Ｙであり、より好ましくは、Ｘ１をＮＨＳＯ２Ｙとすることである。Ｘ１がＮＨＳＯ２ＹとなるときのＸ２又は、Ｘ２をＮＨＳＯ２ＹとするときのＸ１は、特に制限されないが、合成上の容易さから水素原子とすればよい。
【００３６】
Ｙは、少なくとも２個のフッ素原子で置換されている直鎖または分岐のアルキル基である。アルキル基としては、炭素数が１から６の直鎖又は分岐のアルキル基がより好ましい。Ｙは、より好ましくは炭素数が１から３の直鎖アルキル基である。そして、置換されるフッ素原子の数は、通常２以上であり、一方、通常、７以下、好ましくは５以下、より好ましくは３以下である。Ｙとしては、具体的にはジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペンタフルオロプロピル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基等が挙げられる。Ｙとしては、特に好ましくは、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基が挙げられる。
【００３７】
Ｒ４、Ｒ５は、それぞれ独立して水素原子又は置換されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基である。Ｒ４、Ｒ５としては、例えば、
水素原子；
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等の炭素数１から６の直鎖アルキル基；
イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロヘキシルメチル基等の炭素数３から８の分岐アルキル基；
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロヘキシルメチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基等の炭素数１から８のアルコキシ基；
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、シクロヘキシルメトキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から９のアルコキシカルボニル基；
メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、イソブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔ−ブチルカルボニルオキシ基、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、シクロプロピルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルメチルカルボニルオキシ基、２−エチルヘキシルカルボニルオキシ基等の炭素数２から９のアルキルカルボニルオキシ基；
アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、２−メチルブチリル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、シクロプロピルカルボニル基、シクロヘキシルメチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基等の炭素数２から９のアルキルカルボニル基；
ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジ−ｔ−ブチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ブチルペンチルアミノ基等の炭素数２から１６のジアルキルアミノ基；
等が挙げられる。
【００３８】
直鎖及び分岐アルキル基、アルコキシ基については、それ以外にＲ４、Ｒ５として挙げた置換基がさらに置換していてもよい。Ｒ４、Ｒ５のうち、好ましくは、水素原子、炭素数１から６の直鎖アルキル基、炭素数１から８のアルコシキ基である。Ｒ４、Ｒ５としてより好ましくは水素原子、炭素数１から２のアルキル基、炭素数１から２のアルコキシ基である。上記アルキル基、アルコキシ基は無置換であることが好ましい。Ｒ４、Ｒ５として特に好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基である。
【００３９】
Ｒ２は、置換されていてもよい直鎖又は分岐のアルキル基である。Ｒ２としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等の炭素数１から６の直鎖アルキル基；イソプロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロプロピル基、シクロヘキシルメチル基等の炭素数３から８の分岐アルキル基等が挙げられる。
【００４０】
これらのアルキル基は置換されていてもよい。置換基としては、
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、シクロプロピルオキシ基、シクロヘキシルメチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基等の炭素数１から８のアルコキシ基；
メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、シクロヘキシルメトキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基等の炭素数２から９のアルコキシカルボニル基；
メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基、イソブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルカルボニルオキシ基、ｔ−ブチルカルボニルオキシ基、ｎ−ペンチルカルボニルオキシ基、シクロプロピルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルメチルカルボニルオキシ基、２−エチルヘキシルカルボニルオキシ基等の炭素数２から９のアルキルカルボニルオキシ基；
アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、イソバレリル基、２−メチルブチリル基、ピバロイル基、ヘキサノイル基、シクロプロピルカルボニル基、シクロヘキシルメチルカルボニル基、２−エチルヘキシルカルボニル基等の炭素数２から９のアルキルカルボニル基；
ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジイソブチルアミノ基、ジ−ｔ−ブチルアミノ基、ジヘキシルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ブチルペンチルアミノ基等の炭素数２から１６のジアルキルアミノ基；
等が挙げられる。
【００４１】
これらの中でも、Ｒ２としては、炭素数１から６の無置換の直鎖アルキル基、または炭素数３から８の無置換の分岐のアルキル基が好ましい。無置換の直鎖アルキル基を用いる場合、炭素数は、通常１以上、６以下とする。炭素数は、好ましくは５以下、より好ましくは４以下とする。一方、無置換の分岐アルキル基を用いる場合、炭素数は通常３以上、８以下とする。炭素数は、好ましくは７以下、より好ましくは６以下、さらに好ましくは５以下、特に好ましくは４以下とする。Ｒ２として、特に好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基である。
【００４２】
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基を表す。水素原子又は炭素数１〜２のアルキル基を用いることにより、ＯＤ２／ＯＤ１を所定の値としやすくなるため好ましい。炭素数１〜２のアルキル基は、炭素原子に結合している水素原子が他の置換基（例えばハロゲン原子）で置換されていてもよいが、無置換のアルキル基であることが好ましい。炭素数１〜２のアルキル基としては、メチル基、エチル基が挙げられる。合成の容易性や立体構造の点から、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、及びＲ９として最も好ましいのは、水素原子である。
【００４３】
一般式（１）で表されるアゾ系色素化合物の分子量としては、通常、２，０００以下である。なかでも、分子量が１，０００以下のアゾ系色素化合物は、溶媒に対する溶解度が増大し、さらに、耐光性、耐候性、高反射率性に優れた色素が得られるので好ましい。一般式（１）で表されるアゾ系色素化合物のうち、化合物の具体例としては、下記（化３〜化３０）のものが挙げられる。
【００４４】
【化３】
2005120350.tif 000004
【００４５】
【化４】
2005120350.tif 000005
【００４６】
【化５】
2005120350.tif 000006
【００４７】
【化６】
2005120350.tif 000007
【００４８】
【化７】
2005120350.tif 000008
【００４９】
【化８】
2005120350.tif 000009
【００５０】
【化９】
2005120350.tif 000010
【００５１】
【化１０】
2005120350.tif 000011
【００５２】
【化１１】
2005120350.tif 000012
【００５３】
【化１２】
2005120350.tif 000013
【００５４】
【化１３】
2005120350.tif 000014
【００５５】
【化１４】
2005120350.tif 000015
【００５６】
【化１５】
2005120350.tif 000016
【００５７】
【化１６】
2005120350.tif 000017
【００５８】
【化１７】
2005120350.tif 000018
【００５９】
【化１８】
2005120350.tif 000019
【００６０】
【化１９】
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【００６１】
【化２０】
2005120350.tif 000021
【００６２】
【化２１】
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【００６３】
【化２２】
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【００６４】
【化２３】
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【００６５】
【化２４】
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【００６６】
【化２５】
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【００６７】
【化２６】
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【００６８】
【化２７】
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【００６９】
【化２８】
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【００７０】
【化２９】
2005120350.tif 000030
【００７１】
【化３０】
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【００７２】
【化３１】
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【００７３】
【化３２】
2005120350.tif 000033
【００７４】
【化３３】
2005120350.tif 000034
【００７５】
【化３４】
2005120350.tif 000035
【００７６】
アゾ金属キレート色素に対しては、構造以外の制限は特にない。但し今後ますます必要とされる、短波長のレーザー光による記録再生可能な光学記録媒体への利用の点からは、色素単層膜について測定したときに波長７００ｎｍ以下に吸収極大を有する色素がより好ましく、波長６５０〜５００ｎｍに吸収極大をもつ色素であれば更に好ましい。
【００７７】
本実施の形態が適用されるアゾ金属キレート色素において、式（１）で示されるアゾ系色素化合物とキレートを形成する金属としては、錯体形成可能な各種の金属を用いることができる。このような金属としては９族、１０族、１１族の元素が好ましい。このような金属として特に好ましくは、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ及びＰｄからなる群から選ばれる少なくとも１つとすることである。上記金属を用いることにより、吸収スペクトルの形状が良好となり、各種溶媒への溶解度や耐光性、耐久性が向上するからである。
【００７８】
以下、本実施の形態が適用されるアゾ金属キレート色素を記録層に有する光学記録媒体について述べる。
本実施の形態が適用される光学記録媒体は、基板と、ＯＤ２／ＯＤ１が１．２５よりも大きいアゾ金属キレート色素を含む記録層とを有する。好ましくは、本実施の光学記録媒体は、基板と、式（１）で示されるアゾ系色素化合物と金属とからなるアゾ金属キレート色素を含む記録層とを有する。そして、上記光学記録媒体は、必要に応じて基板上に、下引き層、金属反射層、保護層等を設けた層構成でも良い。好ましい層構成の一例としては、例えば、基板上に記録層、金属反射層および保護層を設けた高反射率の光学記録媒体が挙げられる。
【００７９】
以下、このような層構成を有する構造の光学記録媒体を例に、本実施の形態が適用される光学記録媒体について説明する。
本実施の形態が適用される光学記録媒体における基板の材料としては、基本的には、記録光及び再生光の波長で透明であればよい。例えば、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、ポリイミド系樹脂、非晶質ポリオレフィン等の高分子材料やガラス等の無機材料が利用される。高生産性、コスト、耐吸湿性、等の点からポリカーボネート樹脂を用いることが好ましい。
【００８０】
これらの基板の材料は、射出成形法等により円盤状に基板として成形される。尚、必要に応じて、基板表面に案内溝やピットを形成することもある。このような案内溝やピットは、基板を成形するときに付与することが好ましいが、基板の上に紫外線硬化樹脂層を用いて付与することもできる。案内溝がスパイラル状の場合、この溝ピッチが０．４μｍ以上１．２μｍ以下程度であることが好ましく、特に好ましくは、０．６μｍ以上０．９μｍ以下程度である。
【００８１】
溝深さは、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）測定値で、通常１００ｎｍ以上、２００ｎｍ以下であり、特に、低速の１Ｘから高速の８Ｘの範囲で記録可能であるためには、溝深さは１５０ｎｍ以上、１８０ｎｍ以下程度とすることが好ましい。溝深さが上記の下限値より大きい場合は、低速で変調度が出やすく、溝深さが上記の上限値より小さい場合は、充分な反射率を確保しやすい。溝幅は、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）測定値で、通常０．２０μｍ以上０．４０μｍ以下である。高速記録用途には、溝幅は、０．２８μｍ以上０．３３μｍ以下とすることがさらに好ましい。溝幅が上記の下限値より大きい場合には、プッシュプル信号振幅が充分に得られやすい。また、基板の変形は記録信号振幅に大きく影響する。このため、溝幅を上記の下限値より大きくすれば、８Ｘ以上の高速で記録する場合において、熱干渉の影響を抑え、良好なジッターを得ることが容易となる。さらに、記録パワーマージンが広くなり、レーザーパワーの変動に対する許容値が大きくなる等、記録特性や記録条件が良好となる。溝幅が前記の上限値より小さい場合には、１Ｘ等の低速記録において、記録マーク内の熱干渉を抑えることができ、良好なジッター値が得られやすい。
【００８２】
本実施の形態が適用される光学記録媒体には、アドレス情報、媒体の種類の情報、記録パルス条件、及び最適記録パワー等の情報を記録することができる。これらの情報を記録する形態としては、例えば、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒの規格書に記載されているＬＰＰやＡＤＩＰのフォーマット等を用いれば良い。
【００８３】
本実施の形態が適用される光学記録媒体では、基板上、または、必要に応じ下引き層等を設けた上に、上述した特定の特性や構造を有するアゾ金属キレート色素を含有する記録層を形成する。このようなアゾ金属キレート色素を含有する記録層は、好感度かつ高反射率、比較的高い分解温度（又は、ＴＧ−ＤＴＡ測定における減量開始温度）を有するものである。そして、上記アゾ金属キレート色素を含有する記録層は、単独組成での高速記録を実現するものである。
【００８４】
従来の高感度と言われる記録層は、記録光波長での吸収係数の大きい、又は、分解温度が２４０℃未満という低分解温度色素を用いたものが知られている。しかし、前者の場合にはその色素単独組成では、４０％以上の反射率が得られにくい。また、後者の場合には、再生光パワーによる劣化や記録マークが広がりやすいことによるクロストークや熱干渉起因のジッターの悪化がおこりやすいという問題があった。
【００８５】
これに対し、上述した特定の特性や構造を有するアゾ金属キレート色素を含有する記録層によれば、これらの問題を解決し、高速記録を可能とすることができる。かかる記録層に用いる色素の吸収波長が深い、即ち、記録再生波長での吸収係数が高いわりには高い反射率が得られている。この理由としては、記録層の屈折率が高いためと考えられる。
【００８６】
一般に、光学記録媒体の記録層としては、記録再生光波長±３ｎｍでの屈折率は２〜３、消衰係数は０．０３〜０．１が好ましいとされている。高速記録を行うためには、この範囲内での屈折率はできるだけ高い方（例えば、２．５以上）が好ましい。これは、屈折率が大きい方が、同じ膜厚での光路差が大きくとれるために記録変調度を大きくすることが可能となり、好ましいからである。ディスクにおける反射率は、屈折率が高いほど、より薄い膜厚で高い記録変調度が得られる。この屈折率の高い記録層を用いることにより、８Ｘ以上の高速記録用途に要求される低膜厚化が可能となり、熱干渉やクロストークが抑制できるために良好な高速記録が実現できる。
【００８７】
本実施の形態が適用される光学記録媒体における記録層の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等一般に行われている薄膜形成法が挙げられる。量産性、コスト面からスピンコート法が特に好ましい。
【００８８】
スピンコート法による成膜の場合、回転数は５００〜１００００ｒｐｍが好ましい。スピンコートの後、場合によっては、加熱又は溶媒蒸気にあてる等の処理を行っても良い。ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。塗布溶媒としては、例えば、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、イソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒等が挙げられる。
【００８９】
記録層を成膜する際に、必要に応じて、上記の色素に、クエンチャー、紫外線吸収剤、接着剤等の添加剤を混合してもよい。又は、クエンチャー効果、紫外線吸収効果等各種の効果を有する置換基を上記色素に導入することも可能である。記録層の耐光性や耐久性向上のために加える一重項酸素クエンチャーとしては、アセチルアセトナート系、ビスジチオ−α−ジケトン系やビスフェニルジチオール系等のビスジチオール系、チオカテコール系、サリチルアルデヒドオキシム系、チオビスフェノレート系等の金属錯体が好ましい。またアミン系化合物も好適である。
【００９０】
また、記録特性等の改善のために、他の色素を併用してもよい。さらに、高速記録と低速記録を両立できるように、本実施の形態が適用されるアゾ金属キレート色素と低速記録
用の色素を併用しても良い。但し、その配合比率は、アゾ金属キレート色素の重量に対して６０％未満、好ましくは５０％以下、さらに好ましくは４０％以下である。一方、上記低速記録用の色素を併用する場合には、配合比率は通常０．０１％以上とする。低速記録用の色素の配合比率が過度に大きい場合には、８Ｘ以上高速記録に必要な記録感度が十分得られない可能性がある。
【００９１】
併用可能な色素としては、例えば、式（１）で示されるアゾ系色素化合物と同系統のアゾ系色素化合物が挙げられる。また、併用可能な色素としては、上記特定の特性又は構造を有するアゾ金属キレート色素と同系統の、アゾ系色素またはアゾ系金属キレート色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、ポルフィリン系色素、テトラピラポルフィラジン系色素、インドフェノール系色素、ピリリウム系色素、チオピリリウム系色素、アズレニウム系色素、トリフェニルメタン系色素、キサンテン系色素、インダンスレン系色素、インジゴ系色素、チオインジゴ系色素、メロシアニン系色素、ビスピロメテン系色素、チアジン系色素、アクリジン系色素、オキサジン系色素、インドアニリン系色素等が挙げられ、他系統の色素でもよい。また、色素の熱分解促進剤としては、例えば、金属系アンチノッキング剤、メタロセン化合物、アセチルアセトナト系金属錯体等の金属化合物が挙げられる。
【００９２】
さらに、必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤等を併用することもできる。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。
【００９３】
記録層（色素層）の膜厚は、特に限定するものではないが、好ましくは５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下である。色素層の膜厚が前記の下限値より大きい場合は、熱拡散の影響を抑えることができ、良好な記録がしやすい。また、記録信号に歪みが発生しにくいため、信号振幅を大きくしやすい。色素層の膜厚が前記の上限値より小さい場合は、反射率を高くしやすく、再生信号特性を良好としやすい。
【００９４】
また、記録層の溝部膜厚は、通常、９０ｎｍ以上１８０ｎｍ以下、好ましくは、５０ｎｍ以上９０ｎｍ以下であり、溝間部膜厚は、通常、５０ｎｍ以上１００ｎｍ以下、好ましくは、３０ｎｍ以上７０ｎｍ以下である。溝部膜厚又は溝間部膜厚が上記の下限値より大きい場合には、アドレス情報（ＬＰＰやＡＤＩＰ）の振幅を大きくでき、エラーの発生を抑えやすい。溝部膜厚又は溝間部膜厚が上記の上限値より小さい場合には、記録マーク内の蓄熱の影響及びクロストークが大きくなるのを抑えることができ、ジッターが良好となりやすい。
【００９５】
本実施の形態が適用される光学記録媒体は、上述の特定の特性又は構造を有するアゾ金属キレート色素を含有する記録層と、上記基板に設けた溝形状と、を組み合わせることにより、反射率を４０％以上とすることができる。このため、例えばＤＶＤ−ＲＯＭと再生互換のあるＤＶＤ−Ｒ（規格上、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ＋Ｒの２つがあるが、以下、総称してＤＶＤ−Ｒと記載する。）を実現することができる。尚、反射率は、光ディスクの溝上にトラッキングをかけた場合の、６５０ｎｍ＋１０ｎｍ−５ｎｍの波長範囲のレーザーをピックアップに搭載したディスク再生機（例えば、ＤＶＤプレーヤー、ＤＶＤ−ＲＯＭ検査機、ＤＶＤドライブ）で測定した反射率のことを言う。
【００９６】
次に、記録層の上に、好ましくは、厚さ５０ｎｍ〜３００ｎｍの反射層を形成する。反射層の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えば、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ及びＰｄの金属を単独又は合金にして用いることが可能である。この中でも、Ａｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く反射層の材料として適している。特に、Ａｇ及びＡｇ合金が、高反射率、高熱伝導度に優れ好ましい。また、これら
の金属以外でも下記のものを含んでいてもよい。例えば、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属を挙げることができる。これらの中でも、Ａｇを主成分としているものは、コストが安い点、アゾ金属キレート色素と組み合わせたときに反射率が向上する傾向がある点、更に、後に述べる印刷受容層を設ける場合には地色が白く美しいものが得られる点、等から、特に好ましい。ここで主成分とは含有率が５０％以上のものをいう。金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜を交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
【００９７】
反射層を形成する方法としては、例えば、スパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、基板の上や反射層の下に、反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上等のために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
【００９８】
反射層の上に形成する保護層の材料としては、反射層を外力から保護するものであれば特に限定しない。例えば、有機物質としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機物質としては、ＳｉＯ２、ＳｉＮ４、ＭｇＦ２、ＳｎＯ２等が挙げられる。熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等は適当な溶剤に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂としては、例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等のアクリレート系樹脂を用いることができる。これらの材料は単独で又は混合して用いてもよいし、１層だけでなく多層膜にして用いてもよい。
【００９９】
保護層の形成の方法としては、記録層と同様に、スピンコート法やキャスト法等の塗布法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。保護層の膜厚は、通常、０．１μｍ以上、１００μｍ以下の範囲である。本実施の形態においては、保護層の膜厚は、好ましくは３μｍ以上、より好ましくは５μｍ以上であり、一方、好ましくは３０μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以下とする。
【０１００】
尚、本実施の形態は、上記の態様に限定されるものではなく、種々変形することができる。例えば、光学記録媒体が２以上の複数の記録層を有していてもよい。また、反射層面に溝を持たないいわゆるダミー基板と呼ばれる基板を貼り合わせる、又は、反射層面相互を内側とし、対向させた２枚の光学記録媒体を貼り合わせる等の手段を用いてもよい。基板鏡面側に、表面保護やゴミ等の付着防止のために紫外線硬化樹脂、無機系薄膜等を成膜してもよい。さらに、反射層上に設けた保護層の上に、又は、反射層面に貼りあわせた基板の上等に、更に、印刷受容層を形成することもできる。
【０１０１】
上記のようにして得られた光学記録媒体への記録は、通常、基板の両面または片面に設けた記録層にレーザー光を当てることにより行う。レーザー光の照射された部分には、一般に、レーザー光エネルギーの吸収による分解、発熱、溶融等の記録層の熱的変形が起こる。記録された情報の再生は、通常、レーザー光により熱的変形が起きている部分と起きてない部分の反射率の差を読みとることにより行う。
【０１０２】
記録・再生に使用するレーザーに特に限定はないが、例えば、可視領域の広範囲で波長選択のできる色素レーザー、波長６３３ｎｍのヘリウムネオンレーザー、最近開発されている波長６８０、６６０、６３５ｎｍ付近の高出力半導体レーザー、４００ｎｍ近傍のブルーレーザー、波長５３２ｎｍの高調波変換ＹＡＧレーザー等が挙げられる。中でも、軽量性、取り扱いの容易さ、コンパクト性、コスト等の点で、半導体レーザーが好適である。本実施の形態が適用される光学記
録媒体は、これらから選択される一波長または複数波長において高密度記録及び再生が可能となる。
【実施例】
【０１０３】
以下、実施例により本実施の形態を具体的に説明する。但し、本実施例はその要旨を超えない限り本実施の形態を限定するものではない。
（実施例１）
（ａ）化合物製造例
（ジアゾカップリング）
２−アミノ−１，３，４−チアジアゾール（構造式１ａ）１．１５ｇを酢酸１３．７ｇ、リン酸１１．８ｇ、硫酸４．７ｇに溶解し、５℃以下に冷却して４３％ニトロシル硫酸３．４ｇを滴下して、２−アミノ−１，３，４−チアジアゾールのジアゾ液を調製した。次に、下記構造式１ｂで示される化合物２．２ｇとメタノール４４ｍｌとの溶液に、５℃以下の条件で、先に得られたジアゾ液を滴下し２時間攪拌した。続いて、２８％アンモニア水で中和した後、析出した結晶を濾過、精製して下記構造式１ｃで示されるアゾ化合物１．３ｇを得た。
【０１０４】
【化３５】
2005120350.tif 000036
【０１０５】
（含金化）
構造式１ｃで示されるアゾ化合物１．３ｇをテトラヒドロフラン５２ｍｌに溶解し、不溶物を濾別した。次に、酢酸ニッケル４水和物０．４７ｇをメタノール７ｍｌに溶解し、これを構造式１ｃで示されるアゾ化合物のＴＨＦ溶液に室温で滴下した。さらに水７２ｍｌを加え、析出した結晶を濾過、精製、乾燥してアゾニッケルキレート色素０．８ｇを得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５８８ｎｍ、グラム吸光係数は１４１Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収極大波長は６０７ｎｍであった。
【０１０６】
（ｂ）記録例
このように調製したアゾニッケルキレート色素１．７重量％のオクタフルオロペンタノール（以下、ＯＦＰ）溶液を、トラックピッチ０．７４μｍ、溝深さ１６０ｎｍ、溝幅０．３１μｍの案内溝が形成された透明ポリカーボネート基板上にスピンコートし、１００℃２０分乾燥させた。この記録層の溝間部膜厚は５５ｎｍ、溝部膜厚は８５ｎｍであった。この記録層の上に銀を１２０ｎｍスパッタし、紫外線硬化樹脂を３μｍスピンコートし、さらに、溝を持たないダミー基板（同じ透明基板）を、接着剤をスピンコートした後に貼り合わせた。このディスクについて、６６０ｎｍの半導体レーザー評価機（ＮＡ＝０．６５）を用いてＤＶＤ−Ｒ規格書ｖｅｒ２．０１に準拠した記録パルス条件で８Ｘ（２８ｍ／ｓ線速度）記録を行った。その後１Ｘ（３．５ｍ／ｓ線速度）で再生したところ、８Ｘ記録感度は２６．８ｍＷ、ジッター（以下、クロック１Ｔ＝３８．２ｎｓに対するジッターを意味する。）が８．２％と良好であった。このディスクに１Ｘで記録したところ、記録感度は６．２ｍＷ、記録変調度５５％、ジッター７．８％と良好であった。ＤＶＤ−ＲＯＭ検査機（シバソク製ｌＬＭＡ２２０  波長６４７ｎｍ）で測定した上記ディスクの反射率は４７％と良好であった。
【０１０７】
尚、６６０ｎｍ近傍の記録用レーザーの上限パワーは日進月歩で引き上げられていると
はいえ、量産性、ビームの整形性（ビームをより良好に整形すると、パワーが目減りする。）、価格の面から、８Ｘでの記録感度は２８ｍＷ近傍が好ましいとされている。また、ジッターは９％未満、好ましくは８％未満である。
【０１０８】
（実施例２）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、出発原料に下記構造式２ａと下記構造式２ｂとで示される化合物を用いて下記構造式２ｃで示されるアゾ化合物２ｃと、ニッケルとのアゾニッケルキレート色素を調製した。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５８９ｎｍ、グラム吸光係数は１３９Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収極大は６０９ｎｍであった。
【０１０９】
【化３６】
2005120350.tif 000037
【０１１０】
（ｂ）記録例
色素を上記構造の色素に変え、膜厚を実施例１の７５％（溝間部膜厚は約４１ｎｍ、溝部膜厚は約６４ｎｍ）に減らした以外は実施例１と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例１と同様にして行った。８Ｘ記録感度は２２ｍＷで、ジッター７．７％と良好であった。反射率は４６％であった。
【０１１１】
（実施例３）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、出発原料に下記構造式３ａと下記構造式３ｂとを用いて下記構造式３ｃに示したアゾ系化合物を調製し、アゾ系化合物３ｃとのニッケルとのアゾニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５８８ｎｍ、グラム吸光係数は１４３Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収極大波長は６０７ｎｍであった。
【０１１２】
【化３７】
2005120350.tif 000038
【０１１３】
（ｂ）記録例
色素を上記構造の色素に変えた以外は実施例２と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例２と同様にして行った。その結果、８Ｘ記録感度は２４．８ｍＷ、ジッター７．３％、反射率４７％と良好であった。
【０１１４】
（実施例４）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、出発原料に下記構造式４ａと下記構造式４ｂとを用いて下記構造式４ｃで示されるアゾ系化合物を調製し、アゾ系化合物４ｃとニッケルとからなるアゾニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５８７ｎｍ、グラム吸光係数は１３９Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収極大波長は６１０ｎｍであった。
【０１１５】
【化３８】
2005120350.tif 000039
【０１１６】
（ｂ）記録例
色素を上記構造の色素に変えた以外は実施例２と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例２と同様にして行った。その結果、８Ｘ記録感度は２３．６ｍＷ、ジッター７．２％、反射率４６％と良好であった。
【０１１７】
（実施例５）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、出発原料に下記構造式５ａと下記構造式５ｂとを用いて下記構造式５ｃで示されるアゾ系化合物を調製し、アゾ系化合物５ｃとニッケルとからなるアゾニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５８７ｎｍ、グラム吸光係数は１３９Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収極大波長は６０８ｎｍであった。
【０１１８】
【化３９】
2005120350.tif 000040
【０１１９】
（ｂ）記録例
色素を上記構造の色素に変えた以外は実施例２と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例２と同様にして行った。その結果、８Ｘ記録感度は２３．６ｍＷ，ジッター７．４％、反射率４８％と良好であった。
【０１２０】
（実施例６）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、出発原料に下記構造式６ａと下記構造式６ｂとを用いて下記構造式６ｃで示されるアゾ系化合物を調製し、アゾ系化合物６ｃとニッケルとからなるアゾニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５９０ｎｍ、グラム吸光係数は１４０Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収波長は６０８ｎｍであった。
【０１２１】
【化４０】
2005120350.tif 000041
【０１２２】
（ｂ）記録例
色素を上記構造の色素に変えた以外は実施例２と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例２と同様に行った。その結果、８Ｘの記録感度は２５ｍＷ、ジッター７．４％、反射率４７％と良好であった。
【０１２３】
（実施例７）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、出発原料に下記構造式７ａと下記構造式７ｂとを用いて下記構造式７ｃで示されるアゾ系化合物を調製し、アゾ系化合物７ｃとニッケルとからなるアゾニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５９０ｎｍ、グラム吸光係数は１３７Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収極大波長は６０９ｎｍであった。
【０１２４】
【化４１】
2005120350.tif 000042
【０１２５】
（ｂ）記録例
色素を上記構造の色素に変えた以外は実施例２と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例２と同様にして行った。その結果、８Ｘの記録感度は２５．８ｍＷ、ジッター７．６％、反射率４７％と良好であった。
【０１２６】
（実施例８）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、出発原料に下記構造式８ａと下記構造式８ｂとを用いて下記構造式８ｃで示されるアゾ系化合物を調製し、アゾ系化合物８ｃとニッケルとからなるアゾニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５９５ｎｍ、グラム吸光係数は１３７Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収極大波長は６１３ｎｍであった。
【０１２７】
【化４２】
2005120350.tif 000043
【０１２８】
（ｂ）記録例
色素を上記構造の色素に変えた以外は実施例２と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例２と同様にして行った。その結果、８Ｘ記録感度は２２．８ｍＷ、ジッター７．８％、反射率４８％と良好であった。尚、実施例２〜実施例８のディスクの１Ｘ記録での記録変調度はいずれも４０−５０％であった。
【０１２９】
（比較例１）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、アゾ化合物１０１ｃとのニッケルキレート色素を得た。
このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５８０ｎｍ、グラム吸光係数は１４２Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収極大波長は５９８ｎｍであった。
【０１３０】
【化４３】
2005120350.tif 000044
【０１３１】
（ｂ）記録例
色素を上記色素に変えた以外は実施例２と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例２と同様にして行った。その結果、２８ｍＷまでレーザー光強度を上げたにもかかわらず、４Ｘ記録さえも記録感度が悪すぎてできなかった（ジッター＞１４％）。尚、ＤＶＤ−ＲＯＭ検査機で測定しこのディスクの反射率は５８％であった。
【０１３２】
（比較例２）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、アゾ化合物１０２ｃとのニッケルキレート色素を得た。
このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５８５ｎｍ、グラム吸光係数は１２５Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜吸収極大波長は６０４ｎｍであった。
【０１３３】
【化４４】
2005120350.tif 000045
【０１３４】
（ｂ）記録例
色素を上記構造式の色素に変えた以外は比較例１と同様にして、ディスクを作製した。そしてこのディスクの記録再生を実施例２と同様にして行った。その結果、４Ｘ記録さえも十分な記録感度がなく、４８ｍＷでまだ記録感度が足りず、ジッターが１３％と良くなかった。尚、ＤＶＤ−ＲＯＭ検査機で測定したこのディスクの反射率は４８％であった。
【０１３５】
（実施例９）
実施例４において調製したアゾニッケルキレート色素と、比較例２において調製したニッケルキレート色素とを、重量比６０：４０で混合し、この混合色素の対溶媒１．９重量％のＯＦＰ溶液を調製した。次に、この溶液を、トラックピッチ０．７４μｍ、溝深さ１６３ｎｍ、溝幅０．３２μｍの案内溝を有するポリカーボネート基板上にスピンコートし、溝間部膜厚６０ｎｍ、溝部膜厚９０ｎｍの記録層を形成した。その他は実施例２と同様にしてディスクを作製し、８Ｘで記録し１Ｘで再生した。その結果、８Ｘ記録の記録感度は２５．４ｍＷ、ジッターは７．３％、反射率は４９％と良好であった。また、１Ｘ記録は、記録感度６．０ｍＷ、ジッター７．１％、記録変調度は６１％と、１Ｘ記録でも良好な記録特性が得られた。つまり、ＤＶＤ−Ｒの規格書を１Ｘでも８Ｘでも満たすディスク特性を示した。
【０１３６】
（実施例１０）
色素を、実施例２において調製した色素と比較例１において調製した色素とに変えた以外は、実施例９と同様の条件と方法によりディスクを作製した。そして実施例９と同様に記録再生した。その結果、８Ｘ記録感度は２６ｍＷ、ジッター７．２％、反射率４９％、であり、１Ｘ記録感度は６．２ｍＷ、ジッター７．１％、記録変調度６０％と、良好な記録再生特性が得られた。
【０１３７】
（実施例１１）
色素を、実施例５において調製した色素と比較例１において調製した色素（重量比６０：４０）とに変えた以外は、実施例９と同様の条件と方法によりディスクを作製した。実施例９と同様に記録再生した。その結果、８Ｘ記録感度は２６．２ｍＷ、ジッター７．３％、反射率５０％であり、１Ｘ記録感度は６．２ｍＷ、ジッター７．１％、記録変調度は６１％と良好な記録再生特性が得られた。
【０１３８】
（実施例１２）
色素を、実施例１において調製した色素と比較例１において調製した色素との、重量比５０：５０の混合色素に変えた以外は、実施例９と同様の条件と方法によりディスクを作製した。そして、実施例９と同様に記録再生した。その結果、８Ｘ記録感度は２８ｍＷでは若干足りなかったものの、ジッター７．５％、反射率５２％であり、１Ｘ記録感度６．４ｍＷ、ジッター７．１％、記録変調度６１％と良好であった。
【０１３９】
（比較例３）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、アゾ化合物１０５ｃとのニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５８９ｎｍ、グラム吸光係数は１０９Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収極大波長は６０７ｎｍであった。
【０１４０】
【化４５】
2005120350.tif 000046
【０１４１】
（ｂ）記録例
色素を上記構造式の色素に変えた以外は実施例２と同様にして、ディスクを作製した。実施例２と同様にして記録再生した。その結果、２８ｍＷでは若干記録感度が足らず、ジッタは９．３％と良くなかった。記録感度を高めることができる実施例９と同様な記録条件で記録したところ、８Ｘ記録感度は２５ｍＷであったが、熱干渉が大きすぎて、ジッター１１％と、良好な記録特性が得られなかった。尚、ＤＶＤ−ＲＯＭ検査機で測定したこのディスクの反射率は４６％であった。
【０１４２】
（比較例４）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、アゾ化合物１０６ｃとのニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５８５ｎｍ、グラム吸光係数は１３２Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収極大波長は６０９ｎｍであった。
【０１４３】
【化４６】
2005120350.tif 000047
【０１４４】
（ｂ）記録例
色素を上記構造式の色素に変えた以外は実施例２と同様にして、ディスクを作製した。そして実施例２と同様にして記録再生を行った。８Ｘの記録感度は２２ｍＷと良好であったが、熱干渉が大きいため記録感度よりも１ｍＷ低いパワーでしか良好な記録特性が得られなかった。反射率は３９％と、ＤＶＤ−Ｒの再生動作上好ましくない反射率になっていた。
【０１４５】
（比較例５）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、アゾ化合物１０７ｃとのニッケルキレート色素を得た。このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５８９ｎｍ、グラム
吸光係数は９１Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収極大波長は６０１ｎｍであった。
【０１４６】
【化４７】
2005120350.tif 000048
【０１４７】
（ｂ）記録例
色素を上記構造式の色素に変えた以外は実施例２と同様にして、ディスクを作製した。そして、比較例１と同様な記録条件で記録再生した。その結果、２８ｍＷでも４Ｘ記録すらその記録感度が十分ではなく、良好な記録ができなかった。尚、ＤＶＤ−ＲＯＭ検査機で測定したこのディスクの反射率は４６％であった。
【０１４８】
（比較例６）
（ａ）化合物製造例
１，２，３，４−テトラヒドロキノリン１３．９９ｇ、炭酸カリウム１４．５２ｇをメタノール３５０ｍｌに溶解させ、攪拌しながら４５〜５０℃に保ち、そこに硫酸ジメチル２５．５４ｇを滴下した。引き続き４５〜５０℃で３時間攪拌した後、一晩放置した。この反応液にトルエン３５０ｍｌ、水３５０ｍｌを加えてトルエン抽出した。抽出したトルエン溶液を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、トルエンを留去して褐色液体を得た。これをカラム精製することにより下記構造式（ｅ）で示される淡黄色溶液１２．９ｇを得た。
【０１４９】
【化４８】
2005120350.tif 000049
【０１５０】
上記構造式（ｅ）で示される化合物１２．９ｇを、０〜５℃に冷却した濃硫酸２３０ｇ中に、０〜５℃に保ちながら滴下した。続いて濃硫酸３６ｇ、濃硝酸９．０ｇの混合液を０〜５℃に保ちながら滴下した。滴下終了後、室温に戻して２時間攪拌した。その反応液を氷水３００ｍｌに注入し、冷却しながら５０％水酸化ナトリウム水溶液を添加してｐＨ９にした。１時間攪拌後、析出した結晶をろ別し、乾燥して下記構造式（ｆ）で示される赤色結晶１２．４ｇを得た。
【０１５１】
【化４９】
2005120350.tif 000050
【０１５２】
鉄粉３１．４ｇをＤＭＦ−水（２：１）１８３ｍｌに懸濁させ、攪拌しながら８５〜９０℃に加熱し、そこに塩酸６．７ｍｌ、ＤＭＦ−水（２：１）９１．５ｍｌを混合させた溶液を滴下した。続いて上記構造式（ｆ）で示される化合物１２．０ｇのＤＭＦ溶液１８３ｍｌを８５〜９５℃に保ちながら１５分間で滴下した。８０〜９０℃で２０分間攪拌し、その後放冷しながら炭酸水素ナトリウム６．３９ｇを添加して１０分間攪拌した。そしてその溶液をろ過して鉄粉を除去し、そのろ液を氷水５００ｍｌに注入しトルエン抽出した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、トルエンを留去し下記構造式（ｇ）で示される褐色液体５．４７ｇを得た。
【０１５３】
【化５０】
2005120350.tif 000051
【０１５４】
窒素気流下でトリフルオロメタンスルホン酸無水物９．３１ｇを攪拌しながら２０℃以下に保ち、上記構造式（ｇ）で示される化合物５．４７ｇのトルエン４０ｍｌ溶液を滴下した。引き続き１０〜１５℃で４時間攪拌した後、一晩放置した。１０〜２５℃で反応溶液に水２ｍｌを添加し１時間攪拌後、析出した固体をろ別した。採取した個体を酢酸エチルで溶解させ、水１５０ｍｌを加え酢酸エチルで抽出した。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸エチルを留去して下記構造式（ｈ）で示される濃褐色液体６．８７ｇを得た。
【０１５５】
【化５１】
2005120350.tif 000052
【０１５６】
上記構造式（ｉ）で示される２−アミノ−５−メチル−１，３，４−チアジアゾール０．５８ｇを酢酸５ｍｌ、プロピオン酸３ｍｌに溶解し、０〜５℃で硫酸１ｍｌを滴下し、０〜５℃で４３％ニトロシル硫酸１．７８ｇを加えジアゾ化した。構造式（ｈ）で示される化合物１．７７ｇ、尿素０．２ｇ、酢酸ナトリウム２．０ｇをメタノール２０ｍｌに溶解させた溶液に、得られたジアゾ液を０〜５℃で滴下し、３時間攪拌後、一晩放置した。析出した結晶をろ別し、乾燥して下記構造式（ｊ）で示される赤色結晶１．４４ｇを得た。
【０１５７】
【化５２】
2005120350.tif 000053
【０１５８】
前記のようにして得られた構造式（ｊ）で示されるアゾ化合物１．３０ｇをＴＨＦ５０ｍｌに溶解し、室温で酢酸ニッケル四水和物０．４６ｇのメタノール６ｍｌ溶液を加えた後、室温で３時間攪拌し、水５０ｍｌを加えた。析出した結晶をろ別し、これを水で洗浄し、乾燥してニッケルキレート化合物０．５９ｇを得た。この化合物のλｍａｘ  （クロロホルム中）は５９１ｎｍ（ε＝９．９×１０４  ）、グラム吸光係数は１１３Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収極大波長は６１３ｎｍであった。
【０１５９】
（ＯＤ２／ＯＤ１の測定）
実施例１〜実施例８、比較例１〜比較例６の色素２０ｍｇをオクタフルオロペンタノール（ＯＦＰ）溶媒２ｇに含有させた後、５０℃〜５５℃で６０分間超音波分散を行ない溶液Ａを得た。その溶液Ａを室温（２５±５℃）まで冷却した後、０．２μｍのミリポア社製フィルターで濾過して溶液Ｂを得た。その溶液Ｂを、溝深さ１７０ｎｍ、溝幅５００ｎｍ、トラックピッチ１６００ｎｍの厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板上に、回転数８００ｐｍでスピンコートした。このようにして得た色素単独組成の膜を、８０℃の送風乾燥機に５分間保持した後、室内に放置して室温まで冷却した（塗布基板Ａの作製）。
この塗布基板Ａの吸収スペクトルを測定した。吸収スペクトル測定の際には、塗布基板Ａを扇型に切り出して測定サンプルとした。参照サンプルは空気であった。そして、株式会社日立製作所社製  Ｕ−３３００を用いて測定を行った。測定条件は、波長スキャンスピード３００ｎｍ／ｍｉｎ．、サンプリング周期０．５ｎｍの吸光度測定（Ａｂｓｏｒｂａｎｃｅ）モードで行った。
図１に、実施例１の色素を用いた塗布基板Ａの吸収スペクトルを示す。また、表１に、各塗布基板ＡのＯＤ１，ＯＤ２の波長と吸光度、ＯＤ２／ＯＤ１の値を示す。
【０１６０】
【表１】
2005120350.tif 000054
【０１６１】
また、図３に、実施例１〜実施例８及び比較例１〜比較例６のＯＤ２／ＯＤ１の値を示す。図３に示す結果から、実施例１〜実施例８と比較例１〜比較例６との間に、１．２５の境界が見られる。
さらに、図４には、実施例１〜実施例８及び比較例１〜比較例５で作製した塗布基板Ａの吸収極大波長（ＯＤ２を示す波長）と、ＤＶＤ−ＲＯＭ検査機（６４７ｎｍ）で測定した、各ディスクの半径４０ｍｍの反射率の測定結果と、を示す。図４に示す結果から、比較例１〜比較例５のディスクでは、図４中の回帰直線が示すように、膜の吸収極大の波長が長くなるにつれて反射率が低下する傾向が見られる。比較例１〜比較例５の色素においては、６０５ｎｍよりも長い波長に吸収極大を有する色素でＤＶＤの再生の規格である４５％以上の反射率を得ることが難しい傾向にある。それに対し、実施例１〜実施例８の色素を用いたディスクは、６１０ｎｍ近傍に吸収極大を有する色素でも、高い反射率を確保することが可能であることが分かる。
【０１６２】
（参考データの測定）
下記構造式（（Ｓ−１）〜（Ｓ−６））を有するアゾ金属キレート色素０．０６ｇを、それぞれ５ｇのＯＦＰ溶媒に添加し、５０℃で６０分超音波分散した。その後、この溶液を、室内に放置して室温まで冷却した。その溶液を０．２μｍのミリポア社製フィルターで濾過し、得られた溶液を、鏡面レプリカ（案内溝のないポリカーボネート基板）に盤面のおよそ半分の領域をカバーするように置き、スピンコートした。乾燥後、このスピンコートされた記録層の一部に反射層をスパッタした。反射層で覆われた未塗布部分と反射層で覆われた記録層との段差を３次元表面荒さ計（キャノン株式会社製ＺＹＧＯ：Ｍａｘｉｍ５８００）で測定して膜厚を求めた。さらに、反射層の付いていない記録層において、日本分光株式会社製の自動波長スキャンエリプソメータ（ＭＥＬ−３０Ｓ型）で５８０ｎｍ〜６５０ｎｍまでの光を照射し、多入射角測定モードで反射率と位相差を測定した。そして、前述の膜厚を参考に集束状況のよい屈折率ｎ、消衰係数ｋの組み合わせを各波長において求めた。このようにして得られた各波長の屈折率のうち、最大値を求める屈折率ｎとした。
【０１６３】
一方、各（Ｓ−１）〜（Ｓ−６）の色素について、上記「ＯＤ２／ＯＤ１の測定」と同様にして、それぞれの色素で形成した塗布基板Ａを作製し、吸収スペクトルを測定した。そして、ＯＤ２／ＯＤ１を算出した。
以上のようにして求めたＯＤ２／ＯＤ１とｎ（屈折率の最大値）を表２と図２とに示した。データポイントは、左側から（ＯＤ２／ＯＤ１が小さい方から大きい方に向かって）色素（Ｓ−１）〜（Ｓ−６）の値である。
【０１６４】
【化５３】
2005120350.tif 000055
【０１６５】
【表２】
2005120350.tif 000056
【０１６６】
（実施例１３）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、出発原料に下記構造式１３ａと下記構造式１３ｂを用いて製造し、アゾ化合物１３ｃとのニッケルキレート色素を得た。
このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５８８ｎｍ、グラム吸光係数は１３０Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収極大は６０４ｎｍであった。
【０１６７】
【化５４】
2005120350.tif 000057
【０１６８】
（実施例１４）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、出発原料に下記構造式１４ａと下記構造式１４ｂを用いて製造し、アゾ化合物１４ｃとのニッケルキレート色素を得た。
このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５９１ｎｍ、グラム吸光係数は１３３Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収極大波長は６０７ｎｍであった。
【０１６９】
【化５５】
2005120350.tif 000058
【０１７０】
（実施例１５）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、出発原料に下記構造式１５ａと下記構造式１５ｂを用いて製造し、アゾ化合物１５ｃとのニッケルキレート色素を得た。
このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５８８ｎｍ、グラム吸光係数は１３８Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収極大波長は６０８ｎｍであった。
【０１７１】
【化５６】
2005120350.tif 000059
【０１７２】
（実施例１６）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、出発原料に下記構造式１６ａと下記構造式１６ｂを用いて製造し、アゾ化合物１６ｃとのニッケルキレート色素を得た。
このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５８７ｎｍ、グラム吸光係数は１４０Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収極大波長は６０７ｎｍであった。
【０１７３】
【化５７】
2005120350.tif 000060
【０１７４】
（実施例１７）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、出発原料に下記構造式１７ａと下記構造式１７ｂを用いて製造し、アゾ化合物１７ｃとのニッケルキレート色素を得た。
このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５９６ｎｍ、グラム吸光係数は１５０Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収極大波長は６１３ｎｍであった。
【０１７５】
【化５８】
2005120350.tif 000061
【０１７６】
（実施例１８）
（ａ）化合物製造例
実施例１と同様な条件で、出発原料に下記構造式１８ａと下記構造式１８ｂを用いて製造し、アゾ化合物１８ｃとのニッケルキレート色素を得た。
このアゾニッケルキレート色素のクロロホルム中での最大吸収波長は５９８ｎｍ、グラム吸光係数は１３９Ｌ／ｇｃｍ、塗布膜の吸収波長は６１３ｎｍであった。
【０１７７】
【化５９】
2005120350.tif 000062
【０１７８】
上記実施例１３から実施例１８の色素において、上記「ＯＤ２／ＯＤ１の測定」と同様にしてそれぞれの色素で形成した塗布基板Ａを作製し、吸収スペクトルを測定した。そして算出したＯＤ２／ＯＤ１を、表３に示す。
表３に記載したように、実施例１３〜実施例１８ののいずれにおいても、ＯＤ２／ＯＤ１が１．２５より大きく、良好な結果であった。
【０１７９】
【表３】
2005120350.tif 000063
【産業上の利用可能性】
【０１８０】
本発明によれば、高速記録が可能なアゾ金属キレート色素及びこのアゾ金属キレート色素を用いた高速記録が可能な光学記録媒体が提供される。
尚、本出願は、２００３年９月１１日付けで出願された日本出願（特願２００３−３１９７６６）に基づいており、その全体が引用により援用される。
【図面の簡単な説明】
【０１８１】
【図１】実施例１の色素を用いた塗布基板Ａの吸収スペクトルである。
【図２】色素（Ｓ−１）〜（Ｓ−６）の色素膜におけるＯＤ２／ＯＤ１と屈折率との関係を示すグラフである。
【図３】実施例１〜実施例８及び比較例１〜比較例６のＯＤ２／ＯＤ１の値である。
【図４】実施例１〜実施例８及び比較例１〜比較例５で作製した塗布基板Ａの吸収極大波長（ＯＤ２を示す波長）と、ＤＶＤ−ＲＯＭ検査機（６４７ｎｍ）で測定した、各ディスクの半径４０ｍｍの反射率の測定結果である。
【図５】アゾ金属キレート色素の色素膜の吸収スペクトルに吸収肩のある例を示す図である。
【図１】
2005120350.tif 000066
【図２】
2005120350.tif 000067
【図３】
2005120350.tif 000068
【図４】
2005120350.tif 000069
【図５】
2005120350.tif 000070