(57)【要約】【課題】  追記型光記録媒体のパワーマージンを改善する。【解決手段】  本発明による光記録媒体は、螺旋状のグルーブ１１ａが形成された光透過性基板１１と、有機色素を含む記録層２１とを備え、グルーブ１１ａの内周側壁面３３の平均的な傾斜角度θａが外周側壁面３４の平均的な傾斜角度θｂよりも大きい。これにより、スピンコート法により記録層２１を形成する際、グルーブ１１ａの内部における記録層２１の厚みむらが抑えられ、グルーブ１１ａの内部の内周側から外周側の範囲において好ましい記録層２１の厚さを確保することができる。その結果、記録時に照射されるレーザビームの熱がグルーブ内部の内周側から外周側に亘ってほぼ均一に放熱されることから、マーク間での熱干渉の影響が低減され、高速記録を行う場合において広いパワーマージンを確保することが可能となる。【選択図】          図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一方の表面に螺旋状のグルーブが形成された基板と、前記基板の表面のうち前記グルーブが形成された側の表面に設けられた有機色素を含む記録層とを備え、前記グルーブの内周側壁面の平均的な傾斜角度が外周側壁面の平均的な傾斜角度よりも大きいことを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記記録層からみて前記基板とは反対側に設けられた反射層をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記グルーブは所定の振幅をもって蛇行しており、前記振幅の中心部分において、前記内周側壁面の傾斜角度が前記外周側壁面の傾斜角度よりも大きいことを特徴とする請求項１又は２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記グルーブが最も外周側に蛇行した部分において、前記内周側壁面の傾斜角度が前記外周側壁面の傾斜角度よりも大きいことを特徴とする請求項３に記載の光記録媒体。
【請求項５】
露光用レーザビームの光軸を平均的にみてフォトレジスト原盤の内周側へ傾けながら前記フォトレジスト原盤を露光する第１の工程と、前記露光によって前記フォトレジスト原盤に形成されたパターンを転写することにより光記録媒体用原盤を作製する第２の工程と、前記光記録媒体用原盤に形成されたパターンを転写することによってグルーブを有する基板を作製する第３の工程と、有機色素を含む溶液を前記基板の表面のうち前記グルーブが形成された表面にスピンコートすることによって記録層を形成する第４の工程とを備えることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記第１の工程における前記露光用レーザビームの内周側への平均的な傾きが０°超、０．０００４５°以下となるように設定することを特徴とする請求項５に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記第１の工程において前記露光用レーザビームの照射角度を変動させることにより所定の振幅をもって蛇行する露光パターンを形成し、前記振幅の中心に相当する部分を露光する際に、前記露光用レーザビームの内周側への傾きが０°超、０．０００４５°以下となるように設定することを特徴とする請求項６に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項８】
前記第１の工程において最も外周側に蛇行する部分を露光する際に、前記露光用レーザビームの内周側への傾きが０°超、０．０００４５°以下となるように設定することを特徴とする請求項７に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項９】
表面に螺旋状の凸パターンを有し、前記凸パターンの内周側壁面の平均的な傾斜角度が外周側壁面の平均的な傾斜角度よりも大きい光記録媒体用原盤を用いて、螺旋状のグルーブを有する基板を作製する第１の工程と、有機色素を含む溶液を前記基板の表面のうち前記グルーブが形成された表面にスピンコートすることによって記録層を形成する第２の工程とを備えることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項１０】
光記録媒体の基板を作製するために用いる光記録媒体用原盤であって、表面に螺旋状の凸パターンを有し、前記凸パターンの内周側壁面の平均的な傾斜角度が外周側壁面の平均的な傾斜角度よりも大きいことを特徴とする光記録媒体用原盤。
【請求項１１】
露光用レーザビームの光軸を平均的にみてフォトレジスト原盤の内周側へ傾けながら前記フォトレジスト原盤を露光する第１の工程と、前記露光によって前記フォトレジスト原盤に形成されたパターンを転写することにより光記録媒体用原盤を作製する第２の工程とを備えることを特徴とする光記録媒体用原盤の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光記録媒体及びその製造方法に関し、特に、スピンコート法により形成される記録層を備えた追記型の光記録媒体及びその製造方法に関する。また、本発明は、このような光記録媒体の基板を製造するために用いられる光記録媒体用原盤（スタンパ）及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大容量のデジタルデータを記録するための記録媒体として、ＣＤ（Compact Disc）やＤＶＤ（Digital Versatile Disc）に代表される光記録媒体が広く用いられている。これらの光記録媒体は、ＣＤ−ＲＯＭやＤＶＤ−ＲＯＭのようにデータの追記や書き換えができないタイプの光記録媒体（ＲＯＭ型光記録媒体）と、ＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒのようにデータの追記はできるがデータの書き換えができないタイプの光記録媒体（追記型光記録媒体）と、ＣＤ−ＲＷやＤＶＤ−ＲＷのようにデータの書き換えが可能なタイプの光記録媒体（書き換え型光記録媒体）とに大別することができる。
【０００３】
広く知られているように、ＲＯＭ型光記録媒体では製造段階において基板に形成されるピットによりデータが記録されることが一般的であり、書き換え型光記録媒体では記録層の材料として例えば相変化材料が用られ、その相状態の変化に基づく光学特性の変化を利用してデータが記録されることが一般的である。
【０００４】
これらに対し、追記型光記録媒体では記録層の材料として有機色素が用いられ、その不可逆的な化学変化（場合によっては化学的変化に加えて物理的変形を伴うことがある）に基づく光学特性の変化を利用してデータが記録されることが一般的である。有機色素の不可逆的な化学変化は、通常、所定以上の強度を持つレーザビームを照射することによって行われ、これにより記録層に所望の記録マークを形成することが可能となる。用いられる有機色素の種類としては、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、アゾ色素等、種々の有機色素が挙げられ、目的とする特性に応じて１又は２以上の最適な有機色素が選択される。
【０００５】
追記型光記録媒体の製造においては、まず光記録媒体用原盤を用いて螺旋状のグルーブを有する基板を作製し、次に、グルーブが形成された基板の表面に有機色素を溶解させた塗布液をスピンコート（回転塗布）して記録層を形成する。その後の工程は光記録媒体の種類によって異なるが、例えばＣＤ−Ｒを製造する場合にあっては、記録層上に反射層と保護層を形成することによって完成し、ＤＶＤ−Ｒを製造する場合にあっては、記録層上に反射層と保護層を形成した後、接着剤を用いてダミー基板を貼り合わせることによって完成する（特許文献１、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平２−１４７２８６号公報
【特許文献２】特開平１１−８６３４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
通常、追記型光記録媒体は所定の条件下でデータの記録を行った場合に最も良好な特性が得られるよう、記録層の厚さや有機色素の種類、さらには、基板に設けられるグルーブの深さ等が最適化される。所定の条件としては、記録線速度やレーザビームの記録パワー（Ｐｗ）等が代表的であり、実際にデータの記録を行う際には、これらの条件を満たすよう記録装置（ドライブ）側にて調整が行われる。
【０００７】
しかしながら、記録装置の動作精度には一定の限界があり、また、光記録媒体側においても反り等の変形や製造ばらつきが存在することから、上記所定の条件はできる限り広いことが望ましい。つまり、各種記録特性のマージンが広いことが望ましい。
【０００８】
各種記録特性のマージンは、一般に高速記録を行う場合において不足しやすい。例えば、記録層に有機色素を用いた追記型光記録媒体に対して高速記録を行う場合、必然的にレーザビームの記録パワーを高くする必要があることから、記録マーク間における熱干渉が顕著となり、その結果レーザビームのパワーに対する記録特性の許容範囲（パワーマージン）が不足しやすくなるという問題が生じる。
【０００９】
したがって本発明の目的は、各種記録特性のマージン、特に、高速記録時におけるレーザビームのパワーマージンが改善された追記型光記録媒体及びその製造方法を提供することである。
【００１０】
また、本発明の他の目的は、このような追記型光記録媒体の基板を製造するための光記録媒体用原盤及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
追記型光記録媒体の記録特性は、記録層の厚さや基板に設けられるグルーブの深さ等の影響を大きく受けるため、各種マージンの調整に際してはこれらの最適化が必須である。しかしながら、本発明者が鋭意研究を重ねた結果、これらを最適化した場合であっても、基板に設けられるグルーブの形状によって記録特性が僅かに変化することが見いだされた。本発明はこのような技術的知見に基づきなされたものである。
【００１２】
本発明による光記録媒体は、少なくとも一方の表面に螺旋状のグルーブが形成された基板と、前記基板の表面のうち前記グルーブが形成された側の表面に設けられた有機色素を含む記録層とを備え、前記グルーブの内周側壁面の平均的な傾斜角度が外周側壁面の平均的な傾斜角度よりも大きいことを特徴とする。本発明の光記録媒体によれば、スピンコート法により記録層を形成する際、グルーブ内部における記録層の厚みむらを極力抑えることができることから、グルーブ内部の内周側から外周側の範囲において好ましい記録層の厚さを確保することができる。その結果、記録時に照射されるレーザビームの熱がグルーブ内部の内周側から外周側に亘ってほぼ均一に放熱されることから、記録感度が向上するとともにマーク間での熱干渉の影響が低減され、高速記録を行う場合において広いパワーマージンを確保することが可能となる。
【００１３】
また、記録層からみて基板とは反対側に設けられた反射層をさらに備えることが好ましい。反射層は、記録層に照射されたレーザビームの熱を放熱させる放熱層としての役割をも果たすことから、記録時に照射されるレーザビームの熱をグルーブ内部の内周側から外周側に亘ってほぼ均一に反射層側へと放熱させることが可能となる。
【００１４】
本発明においてグルーブは所定の振幅をもって蛇行していてもよく、この場合には振幅の中心部分において内周側壁面の傾斜角度が外周側壁面の傾斜角度よりも大きいことが好ましい。これによれば、外周側壁面の方が急傾斜となる部分が一部に存在している場合であっても、グルーブの実質的に半分以上の領域において内周側壁面の方が急傾斜となるので、結果として、内周側壁面の平均的な傾斜角度を外周側壁面の平均的な傾斜角度よりも大きくすることができる。但し、最も外周側に蛇行した部分においても、内周側壁面の傾斜角度が外周側壁面の傾斜角度よりも大きいことがより好ましい。
【００１５】
また、本発明の一側面による光記録媒体の製造方法は、露光用レーザビームの光軸を平均的にみてフォトレジスト原盤の内周側へ傾けながら前記フォトレジスト原盤を露光する第１の工程と、前記露光によって前記フォトレジスト原盤に形成されたパターンを転写することにより光記録媒体用原盤を作製する第２の工程と、前記光記録媒体用原盤に形成されたパターンを転写することによってグルーブを有する基板を作製する第３の工程と、有機色素を含む溶液を前記基板の表面のうち前記グルーブが形成された表面にスピンコートすることによって記録層を形成する第４の工程とを備えることを特徴とする。これによれば、基板に形成されるグルーブの内周側壁面の平均的な傾斜角度が外周側壁面の平均的な傾斜角度よりも大きくなることから、スピンコート法により形成されるグルーブ内部での記録層の厚さのむらを極力抑えることができ、グルーブ内部の内周側から外周側の範囲において好ましい記録層の厚さを確保することができる。その結果、記録時に照射されるレーザビームの熱がグルーブ内部の内周側から外周側に亘ってほぼ均一に放熱されることから、高い記録感度と広いパワーマージンを有する光記録媒体を製造することが可能となる。
【００１６】
この場合、第１の工程における露光用レーザビームの内周側への平均的な傾きは、０°超、０．０００４５°以下に設定することが好ましく、０．０００１°超、０．０００３°以下に設定することがより好ましく、０．０００２°程度に設定することが特に好ましい。露光用レーザビームの傾きをこのように設定すれば、作製される基板のグルーブを確実に上記の形状とすることができるとともに、露光用レーザビームの傾きによるビームスポットの変形が許容範囲内となることから、適切な露光状態を確保することができ、最適化されたグルーブの状態を損なうことがない。つまり、本発明による効果と最適化された状態とを良好にバランスさせることが可能となる。
【００１７】
さらに、第１の工程において露光用レーザビームの照射角度を変動させることにより所定の振幅をもって蛇行する露光パターンを形成してもよく、この場合、振幅の中心に相当する部分を露光する際に、露光用レーザビームの内周側への傾きが０°超、０．０００４５°以下となるよう設定することが好ましく、最も外周側に蛇行する部分を露光する際に、露光用レーザビームの内周側への傾きが０°超、０．０００４５°以下となるよう設定することがより好ましい。
【００１８】
また、本発明の他の側面による光記録媒体の製造方法は、表面に螺旋状の凸パターンを有し、前記凸パターンの内周側壁面の平均的な傾斜角度が外周側壁面の平均的な傾斜角度よりも大きい光記録媒体用原盤を用いて、螺旋状のグルーブを有する基板を作製する第１の工程と、有機色素を含む溶液を前記基板の表面のうち前記グルーブが形成された表面にスピンコートすることによって記録層を形成する第２の工程とを備えることを特徴とする。この場合も、基板に形成されるグルーブの内周側壁面の平均的な傾斜角度が外周側壁面の平均的な傾斜角度よりも大きくなることから、上述した理由により、高い記録感度と広いパワーマージンを有する光記録媒体を製造することが可能となる。
【００１９】
本発明による光記録媒体用原盤は、光記録媒体の基板を作製するために用いる光記録媒体用原盤であって、表面に螺旋状の凸パターンを有し、前記凸パターンの内周側壁面の平均的な傾斜角度が外周側壁面の平均的な傾斜角度よりも大きいことを特徴とする。また、本発明による光記録媒体用原盤の製造方法は、露光用レーザビームの光軸を平均的にみてフォトレジスト原盤の内周側に傾けながら前記フォトレジスト原盤を露光する第１の工程と、前記露光によって前記フォトレジスト原盤に形成されたパターンを転写することにより光記録媒体用原盤を作製する第２の工程とを備えることを特徴とする。このような光記録媒体用原盤を用いて光記録媒体を作製すれば、基板に形成されるグルーブの内周側壁面の平均的な傾斜角度が外周側壁面の平均的な傾斜角度よりも大きくなることから、上述した理由により、高い記録感度と広いパワーマージンを有する光記録媒体を製造することが可能となる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、高い記録感度と広いパワーマージンを得ることが可能となる。このような効果は、特に高速記録時において顕著となることから、本発明によれば高速記録に適した光記録媒体を提供することができる。しかもこのような効果は、フォトレジスト原盤のカッティング時において露光用レーザビームの入射角度を調節することによって達成可能であることから、従来に比べて何らのコスト増を招くこともない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好ましい実施の形態について詳細に説明する。
【００２２】
図１（ａ）は、本発明の好ましい実施形態による光記録媒体１０の外観を示す切り欠き斜視図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）に示すＡ部を拡大した部分断面図である。
【００２３】
本実施形態による光記録媒体１０はいわゆるＤＶＤ−Ｒ型の光記録媒体（追記型光記録媒体）である。図１（ａ）に示すようにその外観は円盤状であり、中心部には孔１５が設けられている。光記録媒体１０の直径については特に限定されないが、１２０ｍｍ程度に設定することが好ましい。
【００２４】
光記録媒体１０は、図１（ｂ）に示すように、光透過性基板１１及びダミー基板１２と、これらの間に設けられた記録層２１、反射層２２、保護層２３及び接着層２４とを備えて構成されている。データの記録及び再生は、光記録媒体１０を回転させながらレーザビーム３０を光入射面１３側から照射することによって行うことができる。特に限定されるものではないが、レーザビーム３０の波長としては６６０ｎｍ程度に設定することが可能であり、レーザビーム３０を集束するための対物レンズの開口数としては０．６５程度に設定することが可能である。
【００２５】
光透過性基板１１は、レーザビーム３０の波長領域において光透過率が十分に高い材料からなる円盤状の基板であり、その一方の面（図１では下面）はレーザビーム３０が入射する光入射面１３を構成し、他方の面（図１では上面）には、その中心部近傍から外縁部に向けて又は外縁部から中心部近傍に向けて、レーザビーム３０をガイドするためのグルーブ１１ａ及びランド１１ｂが螺旋状に形成されている。光透過性基板１１は、データの記録時及び再生時に照射されるレーザビーム３０の光路となるとともに、光記録媒体１０に求められる機械的強度を確保するための基体としての役割をも果たす。特に限定されるものではないが、光透過性基板１１の厚さは約０．６ｍｍに設定され、その材料としては、成形の容易性の観点から樹脂を用いることが好ましい。このような樹脂としてはポリカーボネート樹脂、オレフィン樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。中でも、優れた光学特性や加工性を有する等の理由から、ポリカーボネート樹脂又はオレフィン樹脂を用いることが特に好ましい。
【００２６】
グルーブ１１ａの深さや半値幅は、記録層２１を構成する有機色素の種類等に応じて最適化すればよいが、例えば、深さについては１６０ｎｍ程度、半値幅については３００ｎｍ以上、３５０ｎｍ以下に設定することができる。グルーブ１１ａの底面３１とランド１１ｂの上面３２とをつなぐ壁面３３，３４は、グルーブ１１ａの底面（又はランド１１ｂの上面）に対して垂直ではなく、図１（ｂ）に示すように所定の角度を持って斜めとなっている。この点については追って詳細に説明する。
【００２７】
ダミー基板１２は、光記録媒体１０の機械的強度を高めるとともに、光記録媒体１０に求められる厚み（例えば約１．２ｍｍ）を確保するために用いられる円盤状の基板であり、特に限定されるものではないが、その厚さは光透過性基板１１と同様、約０．６ｍｍに設定される。ダミー基板１２の材料としては、ガラス、セラミックス、樹脂等、種々の材料を用いることが可能であるが、ダミー基板１２は、光透過性基板１１とは異なりレーザビーム３０の光路とはならないことから、高い光透過性を有している必要はない。しかしながら、加工性などの点から、ダミー基板１２についてもポリカーボネート樹脂又はオレフィン樹脂を用いることが好ましい。
【００２８】
記録層２１は、レーザビーム３０の照射により記録マークが形成される層であり、有機色素を主成分とする。記録層２１に所定以上のパワーに設定されたレーザビーム３０が照射されると、主成分である有機色素が分解変質し、光学定数が変化する。記録層２１のうち分解変質した領域は「記録マーク（ピット）」として用いられ、分解変質していない領域は「ブランク領域」として用いられる。記録されるデータは、記録マークの長さ（記録マークの前縁から後縁までの長さ）及びブランク領域の長さ（記録マークの後縁から次の記録マークの前縁までの長さ）によって表現され、いずれも基準となるクロックの１周期に相当する長さをＴとした場合、Ｔの整数倍に設定される。具体的には、ＤＶＤ−Ｒにおいては８／１６変調方式が採用されており、３Ｔ〜１１Ｔ及び１４Ｔの長さを持つ記録マーク及びブランク領域が使用される。
【００２９】
記録層２１を構成する有機色素の種類としては、特に限定されるものではないが、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、アゾ色素等を用いることができる。後述するように、記録層２１はスピンコート法によって形成されることから、その厚さはグルーブ１１ａの部分とランド１１ｂの部分とで異なることが一般的である。具体的な厚さについては、使用する有機色素の種類等に応じて最適化すればよいが、例えば、グルーブ１１ａ部分において３０ｎｍ以上、３００ｎｍ以下に設定すればよい。
【００３０】
反射層２２は、光記録媒体１０からのデータ再生時において、光透過性基板１１及び記録層２１を通過したレーザビーム３０を反射するために設けられる。反射層２２の材料としては、レーザビーム３０を反射可能である限り特に限定されず、例えば、マグネシウム（Ｍｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、チタン（Ｔｉ）、クロム（Ｃｒ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、銀（Ａｇ）、白金（Ｐｔ）、金（Ａｕ）又はその合金等を用いることができる。これらのうち、高い反射率を有することから、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）又はその合金を用いることが好ましく、銀（Ａｇ）を主成分とする合金を用いることが特に好ましい。反射層２２の厚さについては特に限定されず、例えば５０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下に設定すればよい。
【００３１】
保護層２３は、光透過性基板１１上に設けられた記録層２１及び反射層２２を保護するために設けられる層であって、反射層２２の表面を覆うように形成されている。保護層２３の材料及び厚さは、記録層２１及び反射層２２を物理的・化学的に保護可能である限り特に限定されないが、材料としてはアクリル系又はエポキシ系の紫外線硬化性樹脂を用いることが好ましく、厚さとしては０．５μｍ以上、１００μｍ以下に設定することが好ましい。
【００３２】
接着層２４は、光透過性基板１１、記録層２１、反射層２２及び保護層２３からなる積層体とダミー基板１２とを接着するための層であり、紫外線硬化性接着剤等を用いることができる。接着層２４の厚さについては、両者を確実に接着可能である限り特に限定されず、例えば１０μｍ以上、２００μｍ以下に設定すればよい。
【００３３】
以上が光記録媒体１０の基本的な構造である。次に、光透過性基板１１の表面形状についてより詳細に説明する。
【００３４】
図２は、光透過性基板１１の表面形状をより詳細に示す拡大断面図である。
【００３５】
図２に示すように、本実施形態による光記録媒体１０では、グルーブ１１ａの底面３１とランド１１ｂの上面３２とをつなぐ壁面のうち、内周側壁面３３の傾斜角度と外周側壁面３４の傾斜角度とが互いに異なっている。具体的には、グルーブ１１ａの底面３１を基準とした内周側壁面３３及び外周側壁面３４の傾斜角度（＜９０°）をそれぞれθａ及びθｂとした場合、本実施形態では
θａ＞θｂ
に設定されている。つまり、内周側壁面３３の方が外周側壁面３４よりも急傾斜となっている。
【００３６】
内周側壁面３３の傾斜角度θａと外周側壁面３４の傾斜角度θｂの上記関係は、グルーブ１１ａの全領域に亘って満たされていることが最も好ましいが、少なくとも、グルーブ１１ａの実質的に半分以上の領域において満たされていれば足りる。つまり、
θａ＝θｂ、又は
θａ＜θｂ
となる領域が一部に存在していても、グルーブ１１ａの実質的に半分以上の領域において
θａ＞θｂ
が満たされていればよい。要するに、グルーブ１１ａを全体的に見たとき、内周側壁面３３の平均的な傾斜角度θａ（ａｖｅ）が外周側壁面３４の平均的な傾斜角度θｂ（ａｖｅ）よりも大きければよい。グルーブ１１ａの位置によって内周側壁面３３の傾斜角度θａと外周側壁面３４の傾斜角度θｂの関係が異なるという状態は、主としてグルーブ１１ａが蛇行（ウォブリング）して形成されている場合に生じる。
【００３７】
図３は蛇行したグルーブ１１ａの模式的な上面図である。図３に示すように、グルーブ１１ａが所定の振幅Ｗを持って蛇行している場合、グルーブ１１ａには、最も外周側に蛇行した部分４１、振幅の中心部分４２及び最も内周側に蛇行した部分４３が繰り返し現れる。
【００３８】
図４は蛇行したグルーブ１１ａの各部分（４１、４２、４３）における断面形状を説明するための図であり、（ａ）は最も外周側に蛇行した部分４１の断面形状、（ｂ）は振幅の中心部分４２の断面形状、（ｃ）は最も内周側に蛇行した部分４３の断面形状をそれぞれ示している。
【００３９】
図４（ａ）に示すようにグルーブ１１ａが最も外周側に蛇行した部分４１における内周側壁面３３の傾斜角度及び外周側壁面３４の傾斜角度をそれぞれθａ１及びθｂ１とし、図４（ｂ）に示すように振幅の中心部分４２におけるこれらをそれぞれθａ２及びθｂ２とし、図４（ｃ）に示すように最も内周側に蛇行した部分４３におけるこれらをそれぞれθａ３及びθｂ３とすると、
θａ１＜θａ２＜θａ３、且つ、
θｂ１＞θｂ２＞θｂ３
となるのが一般的である。つまり、蛇行によりグルーブ１１ａが外周側に向かうほど内周側壁面３３の傾斜角度θａが小さく、外周側壁面３４の傾斜角度θｂが大きくなり、逆に、蛇行によりグルーブ１１ａが内周側に向かうほど内周側壁面３３の傾斜角度θａが大きく、外周側壁面３４の傾斜角度θｂが小さくなる。これは、フォトレジスト原盤のカッティング時において、露光用レーザビームの入射角度が変化することが原因であるが、その詳細については後述する。
【００４０】
グルーブ１１ａがこのように蛇行している場合、本発明においては、少なくとも
θａ２＞θｂ２
が満たされている必要がある。つまり、振幅の中心部分４２において、内周側壁面３３の傾斜角度θａ２が外周側壁面３４の傾斜角度θｂ２よりも大きい必要がある。このような条件が満たされていれば、
θａ＝θｂ、又は
θａ＜θｂ
となる領域が一部に存在している場合であっても、グルーブ１１ａの実質的に半分以上の領域において
θａ＞θｂ
が満たされ、結果として、内周側壁面３３の平均的な傾斜角度θａ（ａｖｅ）が外周側壁面３４の平均的な傾斜角度θｂ（ａｖｅ）よりも大きくなる。
【００４１】
但し、グルーブ１１ａが蛇行している場合においても、グルーブ１１ａの全領域に亘って
θａ＞θｂ
が満たされていることが最も好ましく、この場合には、
θａ３＞θｂ３
が満たされることになる。
【００４２】
以上が本実施形態による光記録媒体１０の構造であり、この構造により従来の光記録媒体に比べ、特に高速記録時におけるパワーマージンを拡大することが可能となる。その理由は必ずしも明らかではないが、次の通りであると予想される。
【００４３】
通常、有機色素を主成分とする記録層２１の形成にはスピンコート法が用いられることから、形成される記録層２１の厚みは厳密には均一ではなく、グルーブ１１ａの内部において厚い部分と薄い部分とが存在するようになる。図５はこれを説明するための略断面図であり、内周側壁面３３の傾斜角度θａと外周側壁面３４の傾斜角度θｂとが等しい場合（θａ＝θｂ）における光透過性基板１１及び記録層２１の形状を実線で、内周側壁面３３の傾斜角度θａが外周側壁面３４の傾斜角度θｂよりも大きい場合（θａ＞θｂ）におけるこれらを破線で示している。
【００４４】
図５に示すように、内周側壁面３３の傾斜角度θａと外周側壁面３４の傾斜角度θｂとが等しい場合（実線で表示）、グルーブ１１ａの内部において記録層２１が最も薄くなる部分４４ａは、グルーブ１１ａの中心４５から見てやや内周側となる。これは、スピンコート法を用いた記録層２１の形成においては、塗布液が遠心力によって光透過性基板１１の内周側から外周側へ向かって塗り広げられるため、グルーブ１１ａの中心４５から見て外周側に塗布液が溜まりやすくなるからである。これにより、記録層２１の厚さはグルーブ１１ａの中心４５から見て外周側においてかなり厚くなり、記録時に照射されるレーザビーム３０による熱が内周側と外周側とで不均一に放熱されることになる。これが、特に高速記録時においてパワーマージンを減少させる原因となっているものと考えられる。
【００４５】
これに対し、内周側壁面３３の傾斜角度θａが外周側壁面３４の傾斜角度θｂよりも大きい場合（破線で表示）には、グルーブ１１ａの中心４５から見て外周側に塗布液が溜まりにくくなることから、グルーブ１１ａの内部において記録層２１が最も薄くなる部分４４ｂは、グルーブ１１ａの中心４５とほぼ一致する。つまり、記録層２１の厚さはグルーブ１１ａの内部でほぼ一定となる。その結果、記録時に照射されるレーザビーム３０の熱がグルーブ１１ａの内部において内周側から外周側に亘ってほぼ均一に効率よく反射層２２側へ放熱されることから、これによって特に高速記録時におけるパワーマージンが拡大されるものと考えられる。
【００４６】
次に、このような形状を有する光透過性基板１１の製造方法について説明する。
【００４７】
図６は、フォトレジスト原盤をカッティングするカッティング装置の一例を示す概略構成図である。
【００４８】
図６に示すカッティング装置１００は、フォトレジスト原盤２００を回転及び水平移動させるための駆動部１１０と、露光用レーザビームを取り扱う光学系１２０と、装置全体を制御するコントローラ１３０とを備えている。カッティングの対象であるフォトレジスト原盤２００は、ガラス基板２０１及びその表面に設けられた感光性材料層２０２によって構成され、一般に感光性材料層２０２の厚さは１０ｎｍ以上、２００ｎｍ以下に設定される。ガラス基板２０１と感光性材料層２０２との間には、両者の接着性を高めるための接着層（プライマー）を介在させても構わない。
【００４９】
駆動部１１０は、フォトレジスト原盤２００を載置するためのターンテーブル１１１と、ターンテーブル１１１を回転させるスピンドルモータ１１２と、ターンテーブル１１１及びスピンドルモータ１１２からなる部分を水平方向に移動させるスライド機構１１３とを備えている。スライド機構１１３は、台座（図示せず）に固定されたレール１１３ａと、ターンテーブル１１１及びスピンドルモータ１１２からなる部分を支持するベース１１３ｂによって構成されており、レール１１３ａに沿ってベース１１３ｂを移動させることにより、ターンテーブル１１１及びスピンドルモータ１１２からなる部分を水平方向に移動させることができる。スピンドルモータ１１２及びスライド機構１１３の動作は、コントローラ１３０より供給される制御信号１３１及び１３２によってそれぞれ制御される。
【００５０】
光学系１２０は、露光用レーザビーム１２１ａを発生するレーザ光源１２１と、露光用レーザビーム１２１ａを露光に適したパワーに設定するＥＯＭ（Electro Optic Modulator：電気光学効果を用いた変調器）１２２と、露光用レーザビーム１２１ａの入射角度を調整可能な光変調ユニット１２３と、露光用レーザビーム１２１ａのビーム径を整形・拡大するビームエキスパンダ１２４と、ミラー１２５と、露光用レーザビーム１２１ａを集束しフォトレジスト原盤２００に照射する対物レンズ１２６と、露光用レーザビーム１２１ａを遮断可能なシャッタ１２７とを備えている。レーザ光源１２１、光変調ユニット１２３及びシャッタ１２７の動作は、コントローラ１３０より供給される制御信号１３３、１３４及び１３５によってそれぞれ制御される。
【００５１】
以上がカッティング装置１００の構成であり、次に、カッティング装置１００を用いたフォトレジスト原盤２００のカッティング方法について説明する。
【００５２】
まず、コントローラ１３０は、制御信号１３３を用いてレーザ光源１２１に露光用レーザビーム１２１ａを発生させる。但し、この時点においては制御信号１３５の指示によりシャッタ１２７が閉じられており、このため露光用レーザビーム１２１ａはシャッタ１２７によって遮られる。
【００５３】
次に、コントローラ１３０は、制御信号１３１を用いてスピンドルモータ１１２を駆動し、ターンテーブル１１１を回転させるとともに、制御信号１３２を用いてスライド機構１１３を駆動し、露光用レーザビーム１２１ａの照射位置を感光性材料層２０２の露光開始位置に合わせる。
【００５４】
次に、コントローラ１３０は、制御信号１３５を用いてシャッタ１２７を開放させる。これにより、露光用レーザビーム１２１ａは、ＥＯＭ１２２により露光に最適な強度に調整された後、光変調ユニット１２３及びビームエキスパンダ１２４を通過し、さらにミラー１２５により反射した後、対物レンズ１２６により感光性材料層２０２上に照射される。本実施形態においては、このとき、感光性材料層２０２に照射される露光用レーザビーム１２１ａの光軸が感光性材料層２０２の表面に対して斜めとなるよう調整される。具体的には、図７に示すように、感光性材料層２０２の表面に垂直な直線Ｘ１に対し、内周側へ向けて角度θｃの傾きを持って照射される。このような入射角度の調整は、制御信号１３４を用いて光変調ユニット１２３を制御することにより行うことができる。尚、本明細書おいて「露光用レーザビーム１２１ａの光軸が内周側に傾いている」とは、図７に示すように、露光用レーザビーム１２１ａの光束が感光性材料層２０２に近づくほど、その水平位置が内周側へ近づく状態を指す。
【００５５】
コントローラ１３０は、このように露光用レーザビーム１２１ａを傾けた状態で、制御信号１３２を用いてスライド機構１１３を駆動し、形成すべき潜像が感光性材料層２０２上において螺旋状となるよう徐々にスライド機構１１３を水平移動させる。これにより、感光性材料層２０２には光透過性基板１１に形成すべきグルーブ１１ａに対応した潜像が螺旋状に形成されることになる。露光の進行方向については特に限定されず、感光性材料層２０２の内周から外周に向かって露光を進めても構わないし、外周から内周に向かって露光を進めても構わない。
【００５６】
図８は、露光により潜像が形成された感光性材料層２０２の径方向における部分断面図である。上述の通り、本実施形態においては露光用レーザビーム１２１ａの光軸を内周側に傾けた状態で露光が行われることから、図８に示すように、形成された潜像２０３の径方向における断面は内周側と外周側とで異なり、内周側の方が急傾斜となる。具体的には、ガラス基板２０１の表面２０１ａを基準とした潜像２０３の内周側壁面２０３ａ及び外周側壁面２０３ｂの傾斜角度（＜９０°）をそれぞれθａ’及びθｂ’とした場合、本実施形態では
θａ’＞θｂ’
となる。これら潜像２０３の内周側壁面２０３ａ及び外周側壁面２０３ｂの傾斜角度θａ’及びθｂ’は、最終的に、グルーブ１１ａの内周側壁面３３及び外周側壁面３４の傾斜角度θａ及びθｂとそれぞれ実質的に一致することになる。
【００５７】
露光用レーザビーム１２１ａの角度θｃの具体的な値としては、０°超、０．０００４５°以下に設定することが好ましく、０．０００１°超、０．０００３°以下に設定することがより好ましく、０．０００２°程度に設定することが特に好ましい。露光用レーザビーム１２１ａの角度θｃを０°超、０．０００４５°以下に設定すれば、最終的に作製される光透過性基板１１のグルーブ形状として
θａ＞θｂ
を満たすことができるとともに、露光用レーザビーム１２１ａの傾きによるビームスポットの変形が許容範囲内となることから、適切な露光状態を確保することができ、グルーブ１１ａの深さや半値幅等により最適化された状態を損なうこともない。つまり露光用レーザビーム１２１ａの角度θｃを大きくすると、グルーブ１１ａの傾斜角度θａを大きく、傾斜角度θｂを小さくすることができる反面、露光用レーザビーム１２１ａの傾きによるビームスポットの変形が大きくなることから、場合によってはグルーブ１１ａの深さや半値幅等により最適化された状態を損ない、記録特性を悪化させるおそれが生じるが、露光用レーザビーム１２１ａの角度θｃを０．０００４５°以下に設定すればこのような問題はほとんど生じない。また、露光用レーザビーム１２１ａの角度θｃを０．０００１°超、０．０００３°以下に設定すれば、本発明による効果と最適化された状態とを良好にバランスさせることが可能となり、０．０００２°程度に設定すればこれらを最適にバランスさせることが可能となる。
【００５８】
露光用レーザビーム１２１ａの角度θｃは、カッティング中において常に上記範囲内であることが最も好ましいが、カッティング中に角度θｃを変動させる場合には、カッティング中の平均的な角度θｃ（ａｖｅ）が上記好ましい範囲内であればよい。カッティング中における角度θｃの変動は、作製する光透過性基板１１のグルーブ１１ａにウォブルを持たせる場合に必要となる。
【００５９】
つまり、光透過性基板１１のグルーブ１１ａにウォブルを持たせるためには、感光性材料層２０２に形成する潜像２０３にもウォブルを持たせなくてなはならず、潜像２０３にウォブルを持たせるためには、制御信号１３４を用いた光変調ユニット１２３への制御により、カッティング時に露光用レーザビーム１２１ａをウォブリングさせる必要がある。その際に露光用レーザビーム１２１ａの角度θｃに変動が生じるのである。この場合には、ウォブルの振幅の中心に相当する部分を露光する際に、露光用レーザビーム１２１ａの角度θｃが上記範囲内であれば、カッティング中の平均的な角度θｃ（ａｖｅ）についても上記範囲内とすることができる。つまり、図９に示すように、ウォブルの振幅の中心に相当する部分を露光する際に露光用レーザビーム１２１ａが内周側へ傾いていればよく、これを中心として、露光用レーザビーム１２１ａを内周側及び外周側にウォブリングさせればよい。露光用レーザビーム１２１ａをウォブリングさせると、最も内周側に蛇行した部分を露光する際には露光用レーザビーム１２１ａの傾きはθｃ＋α°となり、最も外周側に蛇行した部分を露光する際には露光用レーザビーム１２１ａの傾きはθｃ−α°となる。この場合、最も外周側に蛇行した部分を露光する際にも、露光用レーザビーム１２１ａが内周側へ傾いていることが好ましい（θｃ＞α）。
【００６０】
以上がフォトレジスト原盤２００のカッティング方法であり、その後、カッティングされたフォトレジスト原盤２００を用いて光記録媒体用原盤の作製が行われる。
【００６１】
図１０（ａ）〜（ｅ）は、光記録媒体用原盤の製造方法を示す工程図である。
【００６２】
上述したように、カッティング装置１００を用いたカッティングが完了すると、フォトレジスト原盤２００の感光性材料層２０２には、グルーブ１１ａに対応する部分に螺旋状の潜像２０３が形成される（図１０（ａ））。このフォトレジスト原盤２００に対して水酸化ナトリウム溶液等の現像液をスプレーし、まず潜像２０３に対応する凹パターン２０４を現像する（図１０（ｂ））。
【００６３】
次に、現像した感光性材料層２０２上に、無電解メッキや蒸着法によりニッケル等の金属薄膜２０５を形成する（図１０（ｃ））。さらに、金属薄膜２０５の表面を陰極とし、陽極をニッケル等として厚膜メッキを行い、例えば厚さ約０．３ｍｍの金属厚膜２０６を形成する（図１０（ｄ））。
【００６４】
そして、金属薄膜２０５を感光性材料層２０２から剥離し、洗浄及び内外径加工を施すことにより、光記録媒体用原盤（スタンパ）２１０が完成する（図１０（ｅ））。これにより、光記録媒体用原盤２１０には、凹パターン２０４の転写パターンである凸パターン２０７が形成されるので、以下に説明するように、この光記録媒体用原盤２１０を用いて射出成形法や２Ｐ法等によりパタ−ンの転写を行うことにより、螺旋状のグルーブを有する光透過性基板を量産することができる。
【００６５】
このようにして作製された光記録媒体用原盤２１０の凸パターン２０７は、感光性材料層２０２に形成された潜像２０３の形状がそのまま反映されることから、図１１に示すように、その断面の傾斜角度は内周側と外周側とで異なり、内周側の方が急傾斜となる。つまり、凸パターン２０７の平坦部２１１を基準とした内周側壁面２１２及び外周側壁面２１３の傾斜角度（＜９０°）をそれぞれθａ”及びθｂ”とすると、
θａ”＞θｂ”
となる。これら傾斜角度θａ”及びθｂ”は、潜像２０３の傾斜角度θａ’及びθｂ’と実質的に同一である。
【００６６】
以上がフォトレジスト原盤２００を用いた光記録媒体用原盤２１０の製造方法である。
【００６７】
次に、このようにして作製したスタンパ２１０を用いた光記録媒体１０の製造方法について、図１２（ａ）乃至（ｃ）及び図１３（ａ）乃至（ｃ）を参照しながら説明する。
【００６８】
まず、上述の方法により作製したスタンパ２１０を射出成型器２２０にセットし、射出成形法によって、所定の直径及び所定の厚さ（例えば、直径が約１２０ｍｍ、厚さが約０．６ｍｍ）を有し、中心部分に孔が設けられた円盤状の光透過性基板１１を射出成形する。これにより、スタンパ２１０の表面の凸パターン２０７が転写された光透過性基板１１を作製することができる（図１２（ａ））。転写により形成された凹部はグルーブ１１ａとなる。このとき、光透過性基板１１の形成されるグルーブ１１ａは、スタンパ２１０の凸パターン２０７の形状（θａ”＞θｂ”）がそのまま反映され、図２を用いてすでに説明したように、
θａ＞θｂ
となる。これら傾斜角度θａ及びθｂは、凸パターン２０７の傾斜角度θａ’及びθｂ’と実質的に同一である。
【００６９】
尚、スタンパ２１０を用いた光透過性基板１１の作製方法はこれに限られず、他の方法、例えば２Ｐ法を用いても構わない。
【００７０】
次に、光透過性基板１１のグルーブ１１ａが形成されている側の表面に、スピンコート法によって記録層２１を形成する（図１２（ｂ））。つまり、有機色素を溶解させた塗布液を回転する光透過性基板１１の中心部付近に滴下し、遠心力によって外周方向へ塗り広げる。このとき塗布液に含まれる溶媒の一部は揮発し、その後溶媒を乾燥させることにより、実質的に有機色素からなる記録層２１を光透過性基板１１上にほぼ均一に形成することができる。但し、図５を用いて説明したように、記録層２１の厚みは厳密には均一ではなく、グルーブ１１ａの内部において厚い部分と薄い部分とが存在するようになる。しかしながら、本実施形態においては、グルーブ１１ａの内周側壁面３３の傾斜角度θａが外周側壁面３４の傾斜角度θｂよりも大きいことから（θａ＞θｂ）、記録層２１の厚さはグルーブ１１ａの内部でほぼ一定となる。
【００７１】
次に、記録層２１の表面に反射層２２を形成する（図１２（ｃ））。反射層２２の形成は、反射層２２の構成元素を含む化学種を用いた気相成長法を用いることができる。気相成長法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法等を挙げることができ、中でも、スパッタリング法を用いることが好ましい。
【００７２】
次に、反射層２２上に保護層２３を形成する（図１３（ａ））。保護層２３の形成は、例えば、粘度調整されたアクリル系又はエポキシ系の紫外線硬化性樹脂をスピンコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法等により皮膜させ、紫外線を照射して硬化する等の方法により形成することができる。
【００７３】
次に、保護層２３上に接着層２４を形成する（図１３（ｂ））。接着層２４の形成についても、スピンコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法等を用いることができる。
【００７４】
そして、接着層２４上にダミー基板１２を貼り合わせ、ダミー基板１２側から紫外線を照射することによって接着層２４を硬化させ、光透過性基板１１、記録層２１、反射層２２及び保護層２３からなる積層体とダミー基板１２とを強固に接着する（図１３（ｃ））。
【００７５】
以上により、光記録媒体１０が完成する。
【００７６】
尚、このようにして光記録媒体１０を作製した後、光透過性基板１１の表面にハードコート層を設け、これによって光透過性基板１１の表面を保護しても構わない。この場合、ハードコート層の表面が光入射面１３を構成することになる。ハードコート層の材料としては、例えば、エポキシアクリレートオリゴマー（２官能オリゴマー）、多官能アクリルモノマー、単官能アクリルモノマー及び光重合開始剤を含む紫外線硬化性樹脂や、アルミニウム（Ａｌ）、シリコン（Ｓｉ）、セリウム（Ｃｅ）、チタン（Ｔｉ）、亜鉛（Ｚｎ）、タンタル（Ｔａ）等の酸化物、窒化物、硫化物、炭化物あるいはそれらの混合物を用いることができる。ハードコート層の材料として紫外線硬化性樹脂を用いる場合には、スピンコート法によってこれを光透過性基板１１上に形成することが好ましく、上記酸化物、窒化物、硫化物、炭化物あるいはそれらの混合物を用いる場合には、これらの構成元素を含む化学種を用いた気相成長法、例えば、スパッタリング法や真空蒸着法を用いることができ、中でも、スパッタリング法を用いることが好ましい。
【００７７】
また、ハードコート層は、光入射面１３に傷が生じるのを防止する役割を果たすものであることから、硬いだけでなく、潤滑性を有していることが好ましい。ハードコート層に潤滑性を与えるためには、ハードコート層の母体となる材料に潤滑剤を含有させることが有効であり、潤滑剤としては、シリコーン系潤滑剤やフッ素系潤滑剤、脂肪酸エステル系潤滑剤を選択することが好ましく、その含有量としては、０．１質量％以上、５．０質量％以下とすることが好ましい。
【００７８】
このようにして製造された光記録媒体１０に対してデータを記録する場合、光記録媒体１０を回転させながら、強度変調されたレーザビーム３０を光入射面１３から入射し、グルーブ１１ａに沿って記録層２１に照射すればよい。特に限定されるものではないが、レーザビーム３０を集束するための対物レンズの開口数（ＮＡ）については０．６５程度、レーザビーム３０の波長については６６０ｎｍ程度に設定することができる。レーザビーム３０の強度変調方法としては、基本的に、記録マークを形成すべき部分においてはその強度を十分に高い記録パワー（＝Ｐｗ）に設定し、記録マークを形成すべきでない部分、すなわちブランク領域においては十分に低い基底パワー（＝Ｐｂ）に設定すればよい。これにより、記録パワーを持つレーザビーム３０が照射された部分においては記録層２１に含まれる有機色素が分解変質して記録マークとなり、基底パワーを持つレーザビーム３０が照射された部分においては、有機色素の分解変質は生じず、ブランク領域となる。
【００７９】
そして、本実施形態による光記録媒体１０においては、図２を用いて説明したように、グルーブ１１ａの内周側壁面３３の傾斜角度θａと、グルーブ１１ａの外周側壁面３４の傾斜角度θｂの関係が、
θａ＞θｂ
に設定されていることから、記録層２１の厚さをグルーブ１１ａの内部でほぼ一定とすることができ、グルーブの内周側から外周側の広い範囲において好ましい記録層の厚さを確保することができる。その結果、記録時に照射されるレーザビーム３０の熱がグルーブ１１ａの内部において内周側から外周側に亘ってほぼ均一に反射層２２側へ放熱されることから、熱干渉が軽減され、高速記録を行う場合においても広いパワーマージンを確保することが可能となる。
【００８０】
本発明は、以上説明した実施の形態に限定されることなく、特許請求の範囲に記載された発明の範囲内で種々の変更が可能であり、それらも本発明の範囲内に包含されるものであることはいうまでもない。
【００８１】
例えば、図１に示した光記録媒体１０の構造は、あくまで本発明による光記録媒体の一例であり、本発明による光記録媒体の構造がこれに限定されるものではない。例えば、保護層２３を省略することにより反射層上に接着層２４を直接形成しても構わないし、ダミー基板１２及びその接着に用いる接着層２４を省略しても構わない。ダミー基板１２及び接着層２４を省略するとＣＤ−Ｒ型の構造となる。つまり、本発明は、ＣＤ−Ｒ型の光記録媒体への適用も可能である。
【００８２】
さらに、ダミー基板１２の代わりに、グルーブを有するもう一つの光透過性基板とその表面に形成された記録層等からなる積層体を用い、これらを貼り合わせることによって両面に記録面を持つ構造としても構わないし、保護層２３の代わりに螺旋状のグルーブを有する透明中間層を設け、その上に記録層等を設けることによって片面に２層以上の記録面を持つ構造とすることも可能である。このように複数の記録面を設ける場合、全ての記録面についてグルーブの形状が
θａ＞θｂ
を満たしていることは必須でなく、少なくとも一つの記録面においてこれが満たされていればよい。
【実施例１】
【００８３】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこの実施例に何ら限定されるものではない。
【００８４】
［サンプルの作製］
【００８５】
実施例１
【００８６】
まず、図６に示す構造を有するカッティング装置１００を用いて、フォトレジスト原盤２００に対するカッティングを行った。感光性材料層２０２に形成する潜像２０３にはウォブルを持たせ、ウォブルの振幅の中心に相当する部分を露光する際、露光用レーザビーム１２１ａの光軸が感光性材料層２０２の表面に垂直な直線Ｘ１に対して内周側へ約０．０００３３°傾くよう、光変調ユニット１２３を調整した（θｃ＝約０．０００３３°）。ウォブルの振幅Ｗについては約３０ｎｍに設定し、これにより、最も内周側に蛇行した部分を露光する際の露光用レーザビーム１２１ａの傾き（θｃ＋α°）は約０．０００３４°となり、最も外周側に蛇行した部分を露光する際の露光用レーザビーム１２１ａの傾き（θｃ−α°）は約０．０００３２°となった。また、トラックピッチについては約０．７４μｍに設定した。
【００８７】
次に、カッティングが完了したフォトレジスト原盤２００を現像等することによって光記録媒体用原盤２１０を作製し、この光記録媒体用原盤２１０を用いて射出成形を行うことにより、厚さ約０．６ｍｍ、直径約１２０ｍｍであり、表面にグルーブ１１ａ及びランド１１ｂが形成されたポリカーボネートからなるディスク状の光透過性基板１１を作製した。
【００８８】
次に、この光透過性基板１１をスピンコート装置にセットし、回転させながら、グルーブ１１ａが形成されている側の表面に２−２−３−３テトラフルオロ−１−プロパノール溶液に三菱化学社製ＰＤＳ−１８６１色素を１．０ｗｔ％溶解させた溶液を滴下することによりこれをスピンコートした。その後、塗膜を乾燥させることによってグルーブ１１ａにおける厚さが約９０ｎｍの記録層２１を形成した。
【００８９】
次に、記録層２１が形成された光透過性基板１１をスパッタリング装置にセットし、記録層２１の表面に銀（Ａｇ）、ネオジム（Ｎｄ）及び銅（Ｃｕ）の合金からなる厚さ約１２０ｎｍの反射層２２を形成した。
【００９０】
次に、反射層２２が形成された光透過性基板１１を再びスピンコート装置にセットし、回転させながら、反射層２２上に紫外線硬化性アクリル樹脂を滴下しこれをスピンコートした。その後、塗膜に紫外線を照射し硬化させることによって厚さ約５μｍの保護層２３を形成した。さらに、保護層２３上に紫外線硬化性接着剤を滴下し、これをスピンコートすることにより厚さ約４０μｍの接着層２４を形成した。
【００９１】
そして、厚さ約０．６ｍｍ、直径約１２０ｍｍであるディスク状のダミー基板１２を接着層２４の表面に貼り合わせた後、ダミー基板１２側から紫外線を照射することにより、接着層２４を硬化させた。
【００９２】
以上により、実施例１による光記録媒体サンプルが完成した。
【００９３】
実施例２
【００９４】
フォトレジスト原盤２００のカッティングにおいて、ウォブルの振幅の中心に相当する部分を露光する際、露光用レーザビーム１２１ａの光軸が感光性材料層２０２の表面に垂直な直線Ｘ１に対して内周側へ約０．０００１６°傾くよう光変調ユニット１２３を調整した他は、実施例１による光記録媒体サンプルと同様にして実施例２による光記録媒体サンプルを作製した。
【００９５】
比較例１
【００９６】
フォトレジスト原盤２００のカッティングにおいて、ウォブルの振幅の中心に相当する部分を露光する際、露光用レーザビーム１２１ａの光軸が感光性材料層２０２の表面に垂直な直線Ｘ１とほぼ一致するよう光変調ユニット１２３を調整した他は、実施例１による光記録媒体サンプルと同様にして比較例１による光記録媒体サンプルを作製した。
【００９７】
比較例２
【００９８】
フォトレジスト原盤２００のカッティングにおいて、ウォブルの振幅の中心に相当する部分を露光する際、露光用レーザビーム１２１ａの光軸が感光性材料層２０２の表面に垂直な直線Ｘ１に対して外周側へ約０．０００１６°傾くよう光変調ユニット１２３を調整した他は、実施例１による光記録媒体サンプルと同様にして比較例２による光記録媒体サンプルを作製した。
【００９９】
比較例３
【０１００】
フォトレジスト原盤２００のカッティングにおいて、ウォブルの振幅の中心に相当する部分を露光する際、露光用レーザビーム１２１ａの光軸が感光性材料層２０２の表面に垂直な直線Ｘ１に対して外周側へ約０．０００３３°傾くよう光変調ユニット１２３を調整した他は、実施例１による光記録媒体サンプルと同様にして比較例３による光記録媒体サンプルを作製した。
【０１０１】
［特性の評価１］
【０１０２】
まず、各光記録媒体サンプルを光ディスク評価装置（パルステック社製ＤＤＵ１０００）にセットし、約３．５ｍ／ｓの線速度（基準線速度）で回転させながら、開口数が約０．６５である対物レンズを介して波長が約６６０ｎｍであるレーザビームを光入射面１３から記録層２１に照射し、３Ｔ〜１１Ｔ及び１４Ｔ信号からなるランダム信号を記録した。レーザビーム３０のパワーについては、記録パワー（Ｐｗ）を６．８ｍＷ、７．０ｍＷ、７．２ｍＷ、７．４ｍＷ及び７．６ｍＷのいずれかに設定し、基底パワー（Ｐｂ）を０．７ｍＷに設定した。
【０１０３】
そして、各光記録媒体サンプルに記録されたランダム信号を再生し、得られたＲＦ信号波形（アイパターン）からアシンメトリを算出した。アシンメトリは、最も振幅が小さい波形の高位側及び低位側反射率をそれぞれａ１及びａ２とし、最も振幅が大きい波形の高位側及び低位側反射率をそれぞれｂ１及びｂ２とした場合、
【数１】
2005032384.tif 000003
で定義される。
【０１０４】
レーザビーム３０の記録パワー（Ｐｗ）とアシンメトリとの関係を図１４に示す。図１４に示すように、いずれの光記録媒体サンプルについても記録パワーとアシンメトリとの関係はほぼ直線的となり、高い記録パワーを用いて記録するほどアシンメトリが大きくなった。これは、最短マークである３Ｔ記録マークの形成部分においては記録層２１含まれる有機色素の分解変質が不完全であり、記録パワーを高く設定することによって、３Ｔ記録マークの形成部分における有機色素の分解変質がより進行するためであると考えられる。
【０１０５】
また、各光記録媒体サンプル間の差に注目すると、実施例１及び２の光記録媒体サンプルの方が、比較例１乃至３の光記録媒体サンプルよりも全体的に大きなアシンメトリが得られている。このことは、同じ記録パワーを用いた場合であっても、実施例１及び２の光記録媒体サンプルの方が、比較例１乃至３の光記録媒体サンプルに比べて３Ｔ記録マークの形成部分における有機色素の分解変質がより進行していることを意味する。換言すれば、実施例１及び２の光記録媒体サンプルの方が記録感度が高いと言える。
【０１０６】
［特性の評価２］
【０１０７】
次に、上記と同じ光ディスク評価装置を用い、記録線速度を約１４．０ｍ／ｓ（４倍速）に設定して、各光記録媒体サンプルに３Ｔ〜１１Ｔ及び１４Ｔ信号からなるランダム信号を記録した。レーザビーム３０のパワーについては、記録パワー（Ｐｗ）を１８．４ｍＷ、１８．８ｍＷ、１９．２ｍＷ、１９．６ｍＷ、２０．０ｍＷ及び２０．４ｍＷのいずれかに設定し、基底パワー（Ｐｂ）を０．７ｍＷに設定した。
【０１０８】
そして、各光記録媒体サンプルに記録されたランダム信号を再生し、得られたＲＦ信号波形（アイパターン）からアシンメトリを算出するとともに、ケンウッド社製ＤＶＤデコーダ「ＤＲ−３３４０」を用いてエラー数（エラーカウント）を測定した。ここでいうエラー数（エラーカウント）とは、８ＥＣＣ単位におけるＰＩエラーの最大カウント数である。
【０１０９】
レーザビーム３０の記録パワー（Ｐｗ）とアシンメトリとの関係を図１５に示す。図１５に示すように、約１４．０ｍ／ｓ（４倍速）の記録線速度においても、実施例１及び２の光記録媒体サンプルの方が、比較例１乃至３の光記録媒体サンプルよりも全体的に大きなアシンメトリが得られた。つまり、高速記録時においても、実施例１及び２の光記録媒体サンプルの方が記録感度が高かった。
【０１１０】
また、得られたアシンメトリとエラーレートとの関係を図１６に示す。図１６に示すように、比較例１乃至３の光記録媒体サンプルではアシンメトリが約８％以上となるとエラーレートが急増したが、実施例１及び２の光記録媒体サンプルではアシンメトリが１３％程度であってもエラーレートが十分に抑えられている。高速記録を行うためにはレーザビーム３０の記録パワーを高く設定する必要があるため、記録マーク間の熱干渉が顕著となるが、実施例１及び２の光記録媒体サンプルではアシンメトリが高い場合であっても、つまり、記録パワーを高く設定してもエラーの増大が抑えられていることが分かる。これにより、実施例１及び２の光記録媒体サンプルの方が、比較例１乃至３の光記録媒体サンプルに比べて高速記録時の熱干渉が起きにくく、パワーマージンが広いことが確認された。
【０１１１】
以上説明したように、本発明によれば、高い記録感度と広いパワーマージンを得ることが可能となる。このような効果は、特に高速記録時において顕著となることから、本発明によれば高速記録に適した光記録媒体を提供することができる。しかもこのような効果は、フォトレジスト原盤のカッティング時において露光用レーザビームの入射角度を調節することによって達成可能であることから、従来に比べて何らのコスト増を招くこともない。
【図面の簡単な説明】
【０１１２】
【図１】（ａ）は、本発明の好ましい実施形態による光記録媒体１０の外観を示す切り欠き斜視図であり、（ｂ）は（ａ）に示すＡ部を拡大した部分断面図である。
【図２】光透過性基板１１の表面形状をより詳細に示す拡大断面図である。
【図３】蛇行したグルーブ１１ａの模式的な上面図である。
【図４】蛇行したグルーブ１１ａの断面形状を説明するための図であり、（ａ）は最も外周側に蛇行した部分４１の断面形状、（ｂ）は振幅の中心部分４２の断面形状、（ｃ）は最も内周側に蛇行した部分４３の断面形状をそれぞれ示している。
【図５】グルーブ１１ａの内部における記録層２１の厚みを説明するための図である。
【図６】フォトレジスト原盤をカッティングするカッティング装置の一例を示す概略構成図である。
【図７】露光用レーザビーム１２１ａの光軸の傾きを説明するための図である。
【図８】露光により潜像が形成された感光性材料層２０２の径方向における部分断面図である。
【図９】潜像２０３にウォブルを持たせる場合における露光用レーザビーム１２１ａの光軸の傾きを説明するための図である。
【図１０】光記録媒体用原盤２１０の製造方法を示す工程図であり、（ａ）〜（ｅ）は各製造工程を示している。
【図１１】光記録媒体用原盤２１０の表面形状をより詳細に示す拡大断面図である。
【図１２】光記録媒体１０の製造工程の一部を示す工程図であり、（ａ）〜（ｃ）は各製造工程を示している。
【図１３】光記録媒体１０の残りの製造工程を示す工程図であり、（ａ）〜（ｃ）は各製造工程を示している。
【図１４】特性の評価１におけるレーザビーム３０の記録パワー（Ｐｗ）とアシンメトリとの関係を示すグラフである。
【図１５】特性の評価２におけるレーザビーム３０の記録パワー（Ｐｗ）とアシンメトリとの関係を示すグラフである。
【図１６】特性の評価２におけるアシンメトリとエラーレートとの関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【０１１３】
１０  光記録媒体
１１  光透過性基板
１１ａ  グルーブ
１１ｂ  ランド
１２  ダミー基板
１５  孔
２１  記録層
２２  反射層
２３  保護層
２４  接着層
３０  レーザビーム
３１  グルーブの底面
３２  ランドの上面
３３  グルーブの内周側壁面
３４  グルーブの外周側壁面
４１  グルーブが最も外周側に蛇行した部分
４２  ウォブルの振幅の中心に相当する部分
４３  グルーブが最も内周側に蛇行した部分
４４ａ，４４ｂ  グルーブの内部において記録層が最も薄くなる部分
４５  グルーブ断面の中心
１００  カッティング装置
１１０  駆動部
１１１  ターンテーブル
１１２  スピンドルモータ
１１３  スライド機構
１１３ａ  レール
１１３ｂ  ベース
１２０  光学系
１２１  レーザ光源
１２１ａ  露光用レーザビーム
１２２  ＥＯＭ
１２３  光変調ユニット
１２４  ビームエキスパンダ
１２５  ミラー
１２６  対物レンズ
１２７  シャッタ
１３０  コントローラ
１３１〜１３５  制御信号
２００  フォトレジスト原盤
２０１  ガラス基板
２０１ａ  ガラス基板の表面
２０２  感光性材料層
２０３  潜像
２０３ａ  潜像の内周側壁面
２０３ｂ  潜像の外周側壁面
２０４  凹パターン
２０５  金属薄膜
２０６  金属厚膜
２０７  凸パターン
２１０  光記録媒体用原盤（スタンパ）
２１１  凸パターンの平坦部
２１２  凸パターンの内周側壁面
２１３  凸パターンの外周側壁面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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