(57)【要約】  【課題】  カラー陰極線管の動作時に電子ビームの照射によってシャドウマスクが加熱されて熱膨張しても、ビーム軌道が変化して色ムラが発生することのないシャドウマスク構体及びそれを用いたカラー陰極線管を提供する。  【解決手段】  シャドウマスク６に、垂直（縦）方向に隣接する開孔１４を繋ぐブリッジ部１０を設ける。水平（横）方向に隣接するブリッジ部１０を、垂直（縦）方向に延びる開孔群を１列として、１列ごとに表面／裏面交互にシャドウマスク６の厚み（板厚）方向にハーフエッチングにより掘削する。【選択図】  図１
2005203226.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
矩形状のマスク支持フレームと、スロット状の開孔が多数形成され、縦方向に張力が加えられた状態で前記マスク支持フレームに架張保持されたシャドウマスクとを備えたシャドウマスク構体であって、
前記シャドウマスクには、縦方向に隣接する前記開孔同士の間にブリッジ部が設けられており、
前記ブリッジ部は、表面の少なくとも一部が前記シャドウマスクの厚み方向に掘削されたものと、裏面の少なくとも一部が前記シャドウマスクの厚み方向に掘削されたものとが含まれていることを特徴とするシャドウマスク構体。
【請求項２】
横方向に隣接する前記ブリッジ部が、所定の周期パターンで表面／裏面交互に掘削されている請求項１に記載のシャドウマスク構体。
【請求項３】
横方向に隣接する前記ブリッジ部が、縦方向に延びる開孔群を１列として、１列又は複数列ごとに表面／裏面交互に掘削されている請求項２に記載のシャドウマスク構体。
【請求項４】
内面に複数色の蛍光体からなる蛍光体スクリーン面を有するフェイスパネルと、前記フェイスパネルの後方に接続されたファンネルとからなるバルブと、
前記ファンネルのネック部に内蔵された電子銃と、
前記蛍光体スクリーン面と所定の間隔を保って前記バルブ内の所定の位置に配置されたシャドウマスクと、前記シャドウマスクを保持固定するためのマスク支持フレームとからなるシャドウマスク構体とを備えたカラー陰極線管であって、
前記シャドウマスク構体として請求項１〜３のいずれかに記載のシャドウマスク構体が用いられていることを特徴とするカラー陰極線管。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、テレビジョン受像機やコンピュータディスプレイ等に応用されるカラー陰極線管、及びそれに用いられるシャドウマスク構体に関する。
【背景技術】
【０００２】
図７に、テレビジョン受像機等に用いられる一般的なカラー陰極線管の基本構成を示し、図８に、当該カラー陰極線管に用いられるシャドウマスク構体の基本構成を示す。
【０００３】
図７に示すように、一般に、カラー陰極線管は、内面に蛍光体スクリーン面２ａを有するフェイスパネル２と、フェイスパネル２の後方に接続されたファンネル３とからなるバルブ１１と、ファンネル３のネック部３ａに内蔵された電子銃４と、フェイスパネル２の内面の蛍光体スクリーン面２ａと所定の間隔を保ってバルブ１１内の所定の位置に配置され、電子銃４から射出された電子ビームの到達位置を規制するためのシャドウマスク８と、シャドウマスク８を保持固定するためのマスク支持フレーム７とを具備している。また、ファンネル３のネック部３ａ側外周には、電子銃４から射出された電子ビームを垂直方向及び水平方向に偏向するための偏向ヨーク５が配設される。
【０００４】
シャドウマスク８は、電子銃４から射出されるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色に対応する３本の電子ビームに対して色選別を行う電極であり、例えば、平板に電子ビーム通過孔であるスロット状の開孔１７（図８参照）を多数形成することにより構成される（スロットマスク）。尚、図７中、１０は電子ビームの軌跡を示している。
【０００５】
図７、図８に示すように、マスク支持フレーム７は、長辺を構成し、シャドウマスク８が固定される上下一対の第１フレーム構成部材１２と、一対の第１フレーム構成部材１２の同じ側にある端部同士を連結するように第１フレーム構成部材１２に接合された、短辺を構成する左右一対の第２フレーム構成部材１３とにより構成されている。そして、このマスク支持フレーム７と、これに固定されるシャドウマスク８とにより、シャドウマスク構体９が構成されている。この場合、マスク支持フレーム７を、上下一対の第１フレーム構成部材１２の外側から圧縮力（図８の矢印Ａ）を加えて押し縮め、シャドウマスク８には引張力（図８の矢印Ｔ）を加えた状態で、シャドウマスク８を上下一対の第１フレーム構成部材１２に固定した後、圧縮力を除去することにより、シャドウマスク８に垂直（縦）方向の張力（テンション）が加えられる。
【０００６】
シャドウマスク８は、カラー陰極線管の動作時に電子ビームの照射によって加熱されて熱膨張する。しかし、シャドウマスク８の垂直（縦）方向には張力が加えられており、熱膨張によって張力が若干緩んでも、この熱膨張量が張力を完全に打ち消さない限り、垂直（縦）方向には弛みや皺が生じることはない。また、たとえ張力が緩んだことによって開孔１７の位置が垂直（縦）方向にずれたとしても、フェイスパネル２の内面には垂直方向に沿ったストライプ状に蛍光体が塗布されているため、ビーム軌道が変化して色ムラが発生することはない。ところが、シャドウマスク８の水平（横）方向には張力が加えられていないため、熱膨張によって開孔１７の位置が水平方向にずれ易く、ビーム軌道が変化して色ムラが発生するおそれがある。
【０００７】
かかる問題を解消するために、従来、低熱膨張材であるインバー（Ｆｅ−３６ｗｔ％Ｎｉ合金）を用いてシャドウマスクが構成されていたが、低コスト化を図ることができないという問題があった。
【０００８】
そこで、安価な鉄材を用いて、上記色ムラの問題を解消することができるように構成されたシャドウマスクが提案されている（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
【０００９】
特許文献１で提案されているシャドウマスクにおいては、完全に繋がったブリッジ（本ブリッジ）と、左右両側から延びた突起が完全には繋がらない擬似ブリッジとを縦方向に所定の周期パターンで配列することにより、多数の電子ビーム通過孔が形成されている（擬似ブリッジマスク）。そして、この構成によれば、特に水平（横）方向への熱膨張によるドーミング量を抑えつつ、モアレ縞の発生を抑えることができる。
【００１０】
また、特許文献２で提案されているシャドウマスクにおいては、ブリッジ部が全て本ブリッジとなっており、電子ビーム通過孔間のシャドウマスク本体（無孔部）に、垂直（縦）方向に延びる溝が形成されている。そして、この構成によれば、シャドウマスクのブリッジ部及び無孔部が水平（横）方向に熱膨張しても、無孔部の変形によって電子ビーム通過孔の水平方向への位置ずれを低減して、色ムラの発生を抑えることができる。
【特許文献１】特開２００１−８４９１８号公報
【特許文献２】特開２０００−１８２５３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかし、特許文献１で提案されている擬似ブリッジマスクでは、本ブリッジ周辺と擬似ブリッジ周辺とで、電子ビームの透過率が異なるために、画面上に黒スジ、白スジといった明暗のパターン（画質障害）が視認されやすいという問題がある。また、エッチング等による擬似ブリッジの形成は、マスクピッチを縮小するにつれて困難となるため、これが画質の高精細化の制約になるという問題がある。
【００１２】
また、特許文献２で提案されているシャドウマスクに所期の効果を発揮させるためには、かなりの深さで大きな体積の溝を形成する必要がある。しかし、このようにすると、シャドウマスク全体の熱容量や熱伝導性が低減して、温度が上昇し易くなるという問題が発生する。
【００１３】
本発明は、従来技術における前記課題を解決するためになされたものであり、特許文献１、２で提案されているシャドウマスクが有する問題点を解消しつつ、カラー陰極線管の動作時に電子ビームの照射によってシャドウマスクが加熱されて熱膨張しても、ビーム軌道が変化して色ムラが発生することのないシャドウマスク構体及びそれを用いたカラー陰極線管を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
前記目的を達成するため、本発明に係るシャドウマスク構体の構成は、矩形状のマスク支持フレームと、スロット状の開孔が多数形成され、縦方向に張力が加えられた状態で前記マスク支持フレームに架張保持されたシャドウマスクとを備えたシャドウマスク構体であって、前記シャドウマスクには、縦方向に隣接する前記開孔同士の間にブリッジ部が設けられており、前記ブリッジ部は、表面の少なくとも一部が前記シャドウマスクの厚み方向に掘削されたものと、裏面の少なくとも一部が前記シャドウマスクの厚み方向に掘削されたものとが含まれていることを特徴とする。
【００１５】
また、前記本発明のシャドウマスク構体の構成においては、横方向に隣接する前記ブリッジ部が、所定の周期パターンで表面／裏面交互に掘削されているのが好ましい。また、この場合には、横方向に隣接する前記ブリッジ部が、縦方向に延びる開孔群を１列として、１列又は複数列ごとに表面／裏面交互に掘削されているのが好ましい。
【００１６】
また、本発明に係るカラー陰極線管の構成は、内面に複数色の蛍光体からなる蛍光体スクリーン面を有するフェイスパネルと、前記フェイスパネルの後方に接続されたファンネルとからなるバルブと、前記ファンネルのネック部に内蔵された電子銃と、前記蛍光体スクリーン面と所定の間隔を保って前記バルブ内の所定の位置に配置されたシャドウマスクと、前記シャドウマスクを保持固定するためのマスク支持フレームとからなるシャドウマスク構体とを備えたカラー陰極線管であって、前記シャドウマスク構体として請求項１〜４のいずれかに記載のシャドウマスク構体が用いられていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、横方向に隣接するブリッジ部に、表面の少なくとも一部がシャドウマスクの厚み方向に掘削されたものと、裏面の少なくとも一部がシャドウマスクの厚み方向に掘削されたものとが含まれているので、カラー陰極線管の動作時に電子ビームの照射によってシャドウマスクが加熱されると、表面が掘削されたブリッジ部は裏面側へ膨らみ、裏面が掘削されたブリッジ部は表面側へ膨らむ。そして、この表面側への膨らみと裏面側への膨らみが細かく交互に繰り返されるため、シャドウマスクが全体として一方へ大きく膨らむ現象が生じることはなく、開孔位置の変移もほとんどないので、ビーム軌道が変化して色ムラが発生することはない。
【００１８】
また、本発明によれば、ブリッジ部が擬似ブリッジではなく、全て本ブリッジであるため、特許文献１で提案されているシャドウマスクの場合のような画質障害の問題が発生することはない。また、エッチング等による電子ビーム通過孔である開孔の形成もプロセス的に容易であり、歩留まりやコストの面で、特許文献１で提案されているシャドウマスクに比べて優位性を有する。また、このようにエッチング等による開孔の形成もプロセス的に容易であるため、特許文献１で提案されているシャドウマスクに比べて、水平ピッチ縮小の可能性も高い。また、エッチングによる歩留まりも良く、全てのブリッジ部が本ブリッジであるため、特許文献１で提案されているシャドウマスクに比べて、熱伝導特性、磁気伝導特性、振動伝達性も優れたものとなる。
【００１９】
また、本発明によれば、シャドウマスク全体の僅かな体積しか占めないブリッジ部をシャドウマスクの厚み方向に掘削するものであるため、特許文献２で提案されているシャドウマスクと比較して、ブリッジ部を僅かな体積だけ掘削するだけで大きな効果を得ることができる。また、このように、ブリッジ部を僅かな体積だけ掘削すればよく、特許文献２で提案されているシャドウマスクと比較して、シャドウマスク全体の熱容量や熱伝導特性への影響は少ない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、実施の形態を用いて本発明をさらに具体的に説明する。
【００２１】
本実施の形態におけるカラー陰極線管、及びそれに用いるシャドウマスク構体の基本構成は、図７、図８に示した一般的なカラー陰極線管、及びにそれに用いるシャドウマスク構体と同様であるため、本実施の形態においては、図７、図８をも参照しながら説明する。
【００２２】
図１は本発明の一実施の形態におけるシャドウマスクの一部を示す概略構成図であり、図１（ａ）は斜視図、図１（ｂ）はブリッジ部を通るように略水平方向に切断した図１（ａ）のＩ−Ｉ断面図である。
【００２３】
図７に示すように、本実施の形態におけるカラー陰極線管１は、内面に蛍光体スクリーン面２ａを有し、ガラス等で形成されたフェイスパネル２と、フェイスパネル２の後方に接続され、同じくガラス等で形成されたファンネル３とからなるバルブ１１と、ファンネル３のネック部３ａに内蔵された電子銃４と、フェイスパネル２の内面の蛍光体スクリーン面２ａと所定の間隔を保ってバルブ１１内の所定の位置に配置され、電子銃４から射出された電子ビームの到達位置を規制するためのシャドウマスク６と、シャドウマスク６を保持固定するためのマスク支持フレーム７とを具備している。ここで、シャドウマスク６は、電子銃４から射出されるＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色に対応する３本の電子ビームに対して色選別の役割を果たすものである。また、ファンネル３のネック部３ａ側外周には、電子銃４から射出された電子ビームを垂直方向及び水平方向に偏向するための偏向ヨーク５が配設されている。
【００２４】
図７、図８に示すように、マスク支持フレーム７は、長辺を構成し、シャドウマスク６が固定される上下一対の第１フレーム構成部材１２と、一対の第１フレーム構成部材１２の同じ側にある端部同士を連結するように第１フレーム構成部材１２に溶接によって接合された、短辺を構成する左右一対の第２フレーム構成部材１３とにより、矩形状に構成されている。そして、このマスク支持フレーム７と、これに固定されるシャドウマスク６とにより、シャドウマスク構体９が構成されている。この場合、マスク支持フレーム７を、上下一対の第１フレーム構成部材１２の外側から圧縮力（図８の矢印Ａ）を加えて押し縮め、シャドウマスク６には引張力（図８の矢印Ｔ）を加えた状態で、シャドウマスク６を上下一対の第１フレーム構成部材１２に固定した後、圧縮力を除去することにより、シャドウマスク６に垂直（縦）方向の張力（テンション）が加えられる。
【００２５】
図１、図８に示すように、シャドウマスク６は、金属の平板に電子ビーム通過孔であるスロット状の開孔１４を所定のピッチで多数形成することにより構成されている。そして、シャドウマスク６には、垂直（縦）方向に隣接する開孔１４同士の間にブリッジ部１０が設けられている。
【００２６】
水平（横）方向に隣接するブリッジ部１０は、垂直（縦）方向に延びる開孔群を１列として、１列ごとに表面／裏面交互にシャドウマスク６の厚み（板厚）方向にハーフエッチングにより掘削されている。
【００２７】
尚、通常、スロット状の開孔を有するシャドウマスクにおいては、隣接し合う開孔列同士のブリッジ部は垂直方向にずれており、一般的には、そのずれ量は開孔の垂直ピッチの半分である。本発明でいう「水平（横）方向に隣接するブリッジ部」とは、垂直方向の位置がずれているブリッジ部であっても、水平方向に隣接し合う開孔列同士で最も近い位置にあるブリッジ部を指すこととする。
【００２８】
ここで、上記のような構成を有する本実施の形態のシャドウマスク構体９が奏する作用効果について、従前のスロットマスク、及び擬似ブリッジマスクと対比しつつ、図２を参照しながら説明する。図２は本発明の一実施の形態における熱膨張によるシャドウマスクの変形状態を示す模式図であり、図２（ａ）は従前のスロットマスクの場合、図２（ｂ）は擬似ブリッジマスクの場合、図２（ｃ）は本実施の形態のシャドウマスクの場合をそれぞれ示している。
【００２９】
カラー陰極線管の動作時に電子ビームの照射によってシャドウマスクが加熱されて熱膨張し、シャドウマスクの開孔の位置がずれると、ビーム軌道が変化して色ムラが発生する。
【００３０】
図２（ａ）に示すように、従前のスロットマスクにおいては、熱膨張時にシャドウマスクは表面側あるいは裏面側のどちらか一方へ大きく膨らむ。このため、開孔の位置が膨らみによって大きくずれてしまい、このずれた開孔を通過する電子ビームの軌道が変化してしまうため、色ずれや色ムラが発生する。尚、実際にこのような膨らみが発生する領域の水平幅は、約５０孔列分程度であるが、図においては、簡略のために、５孔列分程度にとどめている。
【００３１】
また、図２（ｂ）に示すように、擬似ブリッジマスクにおいても、シャドウマスクの表面側あるいは裏面側のどちらか一方へ膨らみが生じる。但し、本ブリッジの数が少ないため、横方向へ熱が伝わりにくいこともあり、熱膨張によりシャドウマスク全体として膨らむ変位は、従前のスロットマスクよりも小さく、この変位による色ずれも少ない。しかし、前述のように、細かい擬似ブリッジを形成することが困難であるため、高精細度化に限界がある。
【００３２】
これに対し、図２（ｃ）に示すように、本実施の形態のシャドウマスク６においては、水平（横）方向に隣接するブリッジ部１０が、垂直（縦）方向に延びる開孔群を１列として、１列ごとに表面／裏面交互にシャドウマスク６の板厚方向に掘削されており、表面が掘削された部位は裏面側へ膨らみ、裏面が掘削された部位は表面側へ膨らむ。このような挙動となるのは、シャドウマスク本体（無孔部）の重心（●）とブリッジ部１０の重心（○）がシャドウマスク６の板厚方向で交互にずれているために、シャドウマスク６の弛みによって発生する水平（横）方向の加圧によるモーメントが異なる方向へ交互に発生するからである。この結果、シャドウマスク６は、ブリッジ部１０でわずかに変形するものの、大きく膨らむような変形を生じないため、開孔１４の位置がほとんど変化しない。つまり、本実施の形態のシャドウマスク６を用いれば、シャドウマスクが電子ビームによって加熱される際の色ずれや色ムラを回避することができる。
【００３３】
（実施例）
以下に、本実施の形態のシャドウマスク６であって、図３に示す（１）〜（８）の寸法が以下の値を有する画面対角有効径８６ｃｍカラー陰極線管用シャドウマスクを用いて、諸特性についての評価を行った。
【００３４】
（１）シャドウマスクの板厚  ：０．１５ｍｍ
（２）水平ピッチ            ：中央／周辺＝０．６０ｍｍ／０．８８ｍｍ
（３）水平孔径              ：中央／周辺＝０．１７ｍｍ／０．１８ｍｍ
（４）垂直ピッチ            ：中央／周辺＝０．６８ｍｍ／０．６７ｍｍ
（５）ブリッジ幅            ：中央／周辺＝０．０６ｍｍ／０．０８ｍｍ
（６）表面のブリッジ掘削幅  ：０．３８ｍｍ
（７）表面のブリッジ掘削深さ：０．０８ｍｍ
（８）裏面のブリッジ掘削幅  ：０．２ｍｍ
（９）裏面のブリッジ掘削深さ：０．０７ｍｍ
下記（表１）に、本実施例のシャドウマスクの諸特性を、特許文献１、２で提案されているシャドウマスクと比較して示す。
【００３５】
【表１】
2005203226.tif 000003
【００３６】
上記（表１）に示すように、本実施の形態のシャドウマスク６においては、ブリッジ部１０が擬似ブリッジではなく、全て本ブリッジであるため、特許文献１で提案されているシャドウマスクの場合のような画質障害の問題が発生することはない。また、エッチング等による電子ビーム通過孔である開孔１４の形成もプロセス的に容易であり、歩留まりやコストの面で、特許文献１で提案されているシャドウマスクに比べて優位性を有する。また、このようにエッチング等による開孔１４の形成もプロセス的に容易であるため、特許文献１で提案されているシャドウマスクに比べて、水平ピッチ縮小の可能性も高い。また、エッチングによる歩留まりも良く、全てのブリッジ部１０が本ブリッジであるため、特許文献１で提案されているシャドウマスクに比べて、熱伝導特性、磁気伝導特性、振動伝達性も優れたものとなる。
【００３７】
また、本実施の形態のシャドウマスク６においては、シャドウマスク全体の僅かな体積しか占めないブリッジ部１０をシャドウマスク６の板厚方向に掘削するものであるため、特許文献２で提案されているシャドウマスクと比較して、ブリッジ部１０を僅かな体積だけ掘削するだけで大きな効果を得ることができる。また、本実施の形態のシャドウマスク６においては、このように、ブリッジ部１０を僅かな体積だけ掘削すればよく、特許文献２で提案されているシャドウマスクと比較して、シャドウマスク全体の熱容量や熱伝導特性への影響は少ない。
【００３８】
図４に、本実施例のシャドウマスク構体における、ブリッジ部の掘削深さ（対板厚比）と電子ビームずれ量との関係を示す。これは、表面と裏面とで一列ごとに交互にブリッジ部を掘削したシャドウマスクについて、ブリッジの掘削深さを変化させたときの、画面中央と水平方向末端とのほぼ中間部の位置における電子ビームずれ量の変化をシミュレーションで得た結果である。図４に示すように、ブリッジ部の掘削深さが２０％を超えたあたりから電子ビームずれ量は急激に減少していくが、ブリッジ部の削減量が４０％を超えたあたりから電子ビームずれ量の減少割合は急激に低下していることが分かる。
【００３９】
尚、上記実施の形態においては、水平（横）方向に隣接するブリッジ部１０を、垂直（縦）方向に延びる開孔群を１列として、１列ごとに表面／裏面交互にシャドウマスク６の板厚方向に掘削するように構成されているが、本発明は必ずしもこのような構成に限定されるものではない。本発明におけるシャドウマスクは、基本的には、横方向に隣接するブリッジ部に、表面の少なくとも一部がシャドウマスクの厚み方向に掘削されたものと、裏面の少なくとも一部がシャドウマスクの厚み方向に掘削されたものとが含まれていれば、上記したような所期の効果を奏することができる。図５に、本発明に含まれるシャドウマスクのブリッジ部の他の例を示す。
【００４０】
図５（ａ）、（ｂ）に示すシャドウマスクにおいては、横方向に隣接するブリッジ部が、所定の周期パターンで表面／裏面交互に掘削されている。すなわち、図５（ａ）に示すシャドウマスクにおいては、横方向に隣接するブリッジ部が、縦方向に延びる開孔群を１列として、複数列置き（具体的には、２列置き）に表面／裏面交互に掘削されている。図５（ｂ）に示すシャドウマスクにおいては、横方向に隣接するブリッジ部が、縦方向に延びる開孔群を１列として、複数列ごと（具体的には、２列ごと）に表面／裏面交互に掘削されている。
【００４１】
図５（ｃ）に示すシャドウマスクにおいては、横方向に隣接するブリッジ部に、表面が掘削されたものと、裏面が掘削されたものとがランダムに混在している。
【００４２】
図５（ｄ）に示すシャドウマスクは、ブリッジ部の掘削深さ（対板厚比）が小さくなっている点で、上記実施の形態のシャドウマスクと異なっている。
【００４３】
図５（ｅ）に示すシャドウマスクにおいては、ブリッジ部の掘削深さ（対板厚比）が小さいものと、ブリッジ部の掘削深さ（対板厚比）が大きいものとがランダムに混在している。
【００４４】
図５（ｆ）に示すシャドウマスクは、ブリッジ部の掘削幅が小さく、かつ、掘削部分がブリッジ部の中央に位置している点で、上記実施の形態のシャドウマスクと異なっている。
【００４５】
図５（ｇ）に示すシャドウマスクは、ブリッジ部の掘削幅が小さく、かつ、掘削部分がブリッジ部の左右いずれか一方に偏っている点で、上記実施の形態のシャドウマスクと異なっている。
【００４６】
図５（ｈ）に示すシャドウマスクは、ブリッジ部の掘削幅が小さく、かつ、掘削部分がブリッジ部の右側に偏っているものと、掘削部分がブリッジ部の左側に偏っているものとが混在している点で、上記実施の形態のシャドウマスクと異なっている。
【００４７】
図５（ｉ）に示すシャドウマスクは、ブリッジ部の掘削幅が小さく、かつ、掘削部分がブリッジ部の中央に位置するものと、掘削部分がブリッジ部の右側に偏っているものと、掘削部分がブリッジ部の左側に偏っているものとがランダムに混在している点で、上記実施の形態のシャドウマスクと異なっている。
【００４８】
図５（ｊ）に示すシャドウマスクは、ブリッジ部の掘削幅が小さく、かつ、掘削深さの異なるものが混在している点で、上記実施の形態のシャドウマスクと異なっている。
【００４９】
図５（ｋ）に示すシャドウマスクは、ブリッジ部の掘削幅が小さく、かつ、１つのブリッジ部に掘削部分が複数（具体的には、２個）形成されている点で、上記実施の形態のシャドウマスクと異なっている。
【００５０】
図５（ｌ）に示すシャドウマスクは、ブリッジ部の掘削幅が小さく、かつ、１つのブリッジ部に形成される掘削部分が１個のものと、１つのブリッジ部に形成される掘削部分が複数（具体的には、２個）のものとが混在している点で、上記実施の形態のシャドウマスクと異なっている。
【００５１】
図６に、図３に示す（１）〜（８）の寸法が上記実施例と同じ値を有する画面対角有効径８６ｃｍカラー陰極線管用シャドウマスク構体における、スロットマスクで熱膨張が発生する領域の一単位である５０孔列分を基準として、ブリッジ部の掘削個数（表面を掘削したもの、裏面を掘削したものを、それぞれ１個としてカウント）と電子ビームずれ量との関係を示す。ここで、ブリッジ部の掘削深さ（対板厚比）は、図４の結果から、６０％に設定されている。図６に示すように、ブリッジ部の掘削個数が１０個を超えるまでは電子ビームずれ量は急激に減少していくが、１０個を超えたあたりから電子ビームずれ量の減少割合は急激に低下していることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の一実施の形態におけるシャドウマスクの一部を示す概略構成図（図１（ａ）は斜視図、図１（ｂ）はブリッジ部を通るように略水平方向に切断した図１（ａ）のＩ−Ｉ断面図）
【図２】本発明の一実施の形態における熱膨張によるシャドウマスクの変形状態を示す模式図（図２（ａ）は従前のスロットマスクの場合、図２（ｂ）は擬似ブリッジマスクの場合、図２（ｃ）は本実施の形態のシャドウマスクの場合）
【図３】本発明の一実施例におけるシャドウマスクの各部位の寸法を示す概略図（図３（ａ）は表面図、図３（ｂ）は断面図、図３（ｃ）は裏面図）
【図４】本発明の一実施例のシャドウマスクにおける、ブリッジ部の掘削深さ（対板厚比）と電子ビームずれ量との関係を示す図
【図５】本発明に含まれるシャドウマスクのブリッジ部の他の例を示す概略図
【図６】本発明の一実施の形態のシャドウマスクにおける、ブリッジ部の掘削個数と電子ビームずれ量との関係を示す図
【図７】一般的なカラー陰極線管の基本構成を示す断面図
【図８】一般的なシャドウマスク構体の基本構成を示す斜視図
【符号の説明】
【００５３】
１  カラー陰極線管
２  フェイスパネル
２ａ  蛍光体スクリーン面
３  ファンネル
３ａ  ネック部
４  電子銃
６  シャドウマスク
７  マスク支持フレーム
９  シャドウマスク構体
１０  ブリッジ部
１１  バルブ
１４  開孔
【図１】
2005203226.tif 000004
【図２】
2005203226.tif 000005
【図３】
2005203226.tif 000006
【図４】
2005203226.tif 000007
【図５】
2005203226.tif 000008
【図６】
2005203226.tif 000009
【図７】
2005203226.tif 000010
【図８】
2005203226.tif 000011