(57)【要約】【課題】  記録媒体の基板と垂直磁気記録層の間に設ける軟磁性層を、短時間で厚く皮膜形成が可能な合金めっき法を用いて形成させることにより、スパイクノイズや軟磁性層ノイズが低減された垂直磁気記録媒体を高生産性で得る。【解決手段】  アルミニウム板またはアルミニウム合金板にＮｉ−Ｐ合金めっき層１ｂを設けた基板１に、下から順に合金めっき層からなる軟磁性裏打ち層２、該軟磁性裏打ち層上に軟磁性バッファー層３、該軟磁性バッファー層上に反強磁性層４、該反強磁性層上に下地層５、該下地層上に垂直磁気記録層６とを順次形成せて垂直磁気記録媒体とする。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
無電解めっき法により成膜してなる合金めっき層からなる軟磁性裏打ち層と、該軟磁性裏打ち層上に成膜してなる軟磁性バッファー層と、該軟磁性バッファー層上に成膜してなる反強磁性層と、該反強磁性層上にスパッタ法を用いて成膜してなる下地層と、該下地層上にスパッタ法を用いて成膜してなる垂直磁気記録層とを備えてなることを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項２】
アルミニウム板またはアルミニウム合金板にＮｉ−Ｐ合金めっき層を形成した基板に、基板側から順に無電解めっき法により成膜してなる合金めっき層からなる軟磁性裏打ち層、該軟磁性裏打ち層上に成膜してなる軟磁性バッファー層、該軟磁性バッファー層上に 成膜してなる反強磁性層、該反強磁性層上にスパッタ法を用いて成膜してなる下地層、該下地層上にスパッタ法を用いて成膜してなる垂直磁気記録層とを順次形成してなることを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【請求項３】
前記軟磁性裏打ち層上に成膜して積層する反強磁性層との交換結合作用により、軟磁性裏打ち層において磁化容易軸に一方向磁気異方性を付与することを特徴とする請求項１または２に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項４】
前記軟磁性裏打ち層が結晶性合金からなる層であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項５】
前記軟磁性裏打ち層がＮｉ−Ｆｅ−Ｐ合金めっきからなる層であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項６】
前記軟磁性裏打ち層の表面粗さＲａ（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１）が０．５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項７】
前記軟磁性裏打ち層の飽和磁束密度が０．８Ｔ以上、保磁力が５Ｏｅ以下であることを特徴とする請求項１から６のいずれか１項に記載の垂直磁気記録媒体。
【請求項８】
請求項１から７のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体を用いてなる垂直磁気記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、軟磁性裏打ち層に起因するノイズ、特にスパイクノイズの抑制が可能で、ハードディスクや磁気テープなどの記録媒体として好適に適用できる垂直磁気記録媒体およびそれを用いた垂直磁気記録装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来のハードディスク装置（ＨＤＤ）等の磁気記録装置に搭載されている磁気記録媒体においては、磁気記録層の面内方向に磁化方向を固定し、この磁化を反転させることによりデータを記録する長手記録方式（longitudinal recording）が使用されている。この方式においては、単位面積あたりの記録密度を高めるために、主に磁化反転方向の長さの短縮化、いわゆる線記録密度を高めることが可能な磁気記録媒体の開発が進められてきた。
【０００３】
ところで、この長手記録方式の磁気記録媒体においては、線記録密度を高めるには磁化反転長さの短縮化が有効であることが知られており、この線記録密度の高密度化に対応するために、磁気記録層である強磁性体層の保磁力を高めるとともに、強磁性体層の残留磁束密度と膜厚を小さくすることが求められている。
【０００４】
しかしながら、線記録密度を高めるために強磁性体層の膜厚を小さくすると、強磁性体層を構成する磁性結晶粒が小型化するので、体積（Ｖ）が減少する傾向にある。そして、磁性結晶粒の持つ異方性定数（Ｋｕ）と磁性結晶粒の体積（Ｖ）の積であるＫｕ・Ｖが一定値以下になると、熱の影響で磁性結晶粒の磁化方向が不安定になるという熱磁気緩和現象、いわゆる熱擾乱の問題が生じるおそれがある。この熱磁気緩和現象は、磁性結晶粒の体積（Ｖ）が小さくなるほど顕在化するので、磁気記録の熱的安定性を保つためには、異方性定数（Ｋｕ）の大きな磁性材料が必要となる。
【０００５】
この長手記録方式の磁気記録媒体においては、面記録密度を高めるために強磁性体層の保磁力を高めることで対応してきたが、保磁力が高すぎるためにリングヘッドによってはデータの書き込みができなくなるおそれが生じる等、保磁力の向上による弊害が見えてきた。これに対し、単磁極ヘッドと呼ばれる棒磁石形状の記録ヘッドを用い、媒体の面内に対して垂直方向に磁化を反転させてデータを記録する垂直記録方式（perpendicular recording）においては、保磁力の高い媒体にも記録することができるため、長手記録方式と同等、あるいはそれ以上の面記録密度が得られることから、様々な開発・研究が行われている。
【０００６】
この垂直記録方式は、強磁性体層の結晶粒を小さくしても、適当な厚さを維持することにより厚さ方向で結晶粒の体積（Ｖ）を維持することができることから、磁性結晶粒の磁化方向は熱的な安定性を保持し易くなるという特徴があるために、従来の長手記録方式において懸念される熱擾乱の問題を回避することのできる技術として注目されている。
【０００７】
このような垂直記録方式に適用される垂直磁気記録媒体としては、基体と垂直記録層との間に、さらに面内方向に磁化し易い軟磁性膜を設けた２層膜媒体が提案されている（例えば非特許文献１参照）。この軟磁性膜は、Ｎｉ−Ｆｅ合金に代表されるパーマロイ系あるいはＦｅＳｉＡｌ合金であるセンダスト系等の結晶質材料やＣｏＺｒＮｂ等の非晶質材料が好適に用いられ、垂直記録層である強磁性体層の１０倍以上の膜厚を有している。
【０００８】
この２層膜媒体は、垂直記録層のみからなる単層媒体に比べて、より大きな保磁力の垂直記録層に書き込むことができ、再生電圧の増加も図れるという特徴がある。さらに、軟磁性膜により、磁気ヘッドの主磁極から発生する磁束を主磁極先端の空間内で高密度に収束し、主磁極付近の磁界の増加をもたらすことができるという特徴も有している（例えば非特許文献２参照）。
【０００９】
しかしながら、この２層膜媒体、例えば、パーマロイ系の結晶質材料やＣｏＺｒＮｂ等の非晶質材料においては、局所的な磁化の分散(スキュー)の指標である構造因子（Ｓ）が著しく小さい結果、軟磁性膜中に多数の１８０度磁壁構造が形成されるため、この磁壁からの漏れ磁束に伴うスパイクノイズが多発するという問題点があった。
【００１０】
また、パーマロイ系の結晶質材料はスパッタ装置を用いて成膜されるのが通例であるが、この製造プロセスにおいては、結晶粒の島状初期成長モードに起因して薄膜表面に凹凸が形成されてしまうため、この凹凸部に起因する磁極からの漏れ磁束により周期的ノイズが発生するという不都合があった。すなわち、スパッタ法で作製される柱状成長した結晶質材料を裏打ち層として用いた場合、ノイズパワースペクトルにおいて８０ＭＨｚ以下の低周波数領域でノイズが増大するという問題点があった。なお、裏打ち層表面の凹凸の存在は、媒体最表層の凹凸構造を引き起こすため、浮上型ヘッドの安定走行の観点からも問題であった。
【００１１】
このように、上述した２層膜媒体においては、垂直記録層である強磁性体層の１０倍以上の膜厚を有する軟磁性膜に起因するノイズが大きな問題点となっていた。
【００１２】
上記のスパイクノイズの発生を抑制することを目的として、以下に示すような技術が提案されている。特許文献１は、基体と非晶質のＣｏ合金からなる軟磁性層の間に、Ｃｏを含むＭｎ合金またはＩｒを含むＭｎ合金からなる反強磁性薄膜を形成し、交換結合を利用して軟磁性層の磁化を固定することにより、軟磁性層における磁壁形成を阻止してスパイクノイズの発生を抑制する方法を開示している。この公報においては、基体上にスパッタリング法を用いて、反強磁性層、軟磁性層、磁気記録層などを形成させるが、軟磁性層の厚さは反強磁性層や磁気記録層などの厚さの１０倍近くまで厚く形成させる必要があり、長時間のスパッタリング処理が余儀なくされ、生産性に乏しいという問題点があった。
【００１３】
また、特許文献２は、垂直磁化膜と裏打ち軟磁性層の間に垂直磁化膜から１００ｎｍ以下の距離を隔てて反強磁性層を設け、垂直磁化膜と反強磁性層の間に非磁性中間層を配置し、垂直磁化膜と反強磁性層の間に非磁性中間層と強磁性層（軟磁性膜）からなる層を設けることにより、裏打ち軟磁性層から発生するスパイク状ノイズを低減する方法を開示している。この公報においても、これらの各層はスパッタリング法を用いて形成されるが、軟磁性層の厚さは各層の厚さの１０倍以上の厚さで形成させる必要があり、長時間のスパッタリング処理が余儀なくされ、生産性に乏しいという問題点があった。
【００１４】
さらに、上記のスパッタリング法を用いて形成した軟磁性裏打ち層は、スパイクノイズに加えて、無電解めっき法を用いて形成した軟磁性裏打ち層に比べて８０ＭＨｚ以下の周波数領域でノイズパワーが高い欠点を有している。
【００１５】
本出願に関する先行技術情報としては以下のものがある。
【００１６】
【非特許文献１】S.Iwasaki, Y.Nakamura and K.Ouchi : IEEE Trans. Magn. MAG-15 (1979) 1456
【非特許文献２】岩崎俊一、田辺信二：電子通信学会論文誌 J66-C 740 (1983)
【特許文献１】特開２００１−２９１２２４号公報
【特許文献２】特開２００２−２９８３２６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
本発明は上記の問題を解決するためになされたものであって、記録媒体の基板と垂直磁気記録層の間に設ける軟磁性層を、短時間で厚く皮膜形成することが可能な無電解めっき法を用いて高生産性で形成させ、軟磁性層に積層する反強磁性層と交換結合させることにより、スパイクノイズの発生を抑制した垂直磁気記録媒体を提供することを目的の一つとする。
【００１８】
また、本発明は、無電解めっき法を用いて形成させた軟磁性層の表面平坦性を研磨により向上させることにより、ノイズパワースペクトルに見られるノイズパワーを低減させた垂直磁気記録媒体を提供することを目的の他の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
本発明の垂直磁気記録媒体は、無電解めっき法により成膜してなる合金めっき層からなる軟磁性裏打ち層と、該軟磁性裏打ち層上に成膜してなる軟磁性バッファー層と、該軟磁性バッファー層上に成膜してなる反強磁性層と、該反強磁性層上にスパッタ法を用いて成膜してなる下地層と、該下地層上にスパッタ法を用いて成膜してなる垂直磁気記録層とを備えてなる垂直磁気記録媒体（請求項１）、または
【００２０】
アルミニウム板またはアルミニウム合金板にＮｉ−Ｐ合金めっき層を形成した基板に、基板側から順に無電解めっき法により成膜してなる合金めっき層からなる軟磁性裏打ち層、該軟磁性裏打ち層上に成膜してなる軟磁性バッファー層、該軟磁性バッファー層上に成膜してなる反強磁性層、該反強磁性層上にスパッタ法を用いて成膜してなる下地層、該下地層上にスパッタ法を用いて成膜してなる垂直磁気記録層とを順次形成してなる垂直磁気記録媒体（請求項２）であり、
【００２１】
上記（請求項１または２）の垂直磁気記録媒体において、前記軟磁性裏打ち層上に成膜して積層する反強磁性層との交換結合作用により、軟磁性裏打ち層において磁化容易軸に一方向磁気異方性を付与すること（請求項３）であることを特徴とし、また
【００２２】
上記（請求項１〜３）の垂直磁気記録媒体において、前記軟磁性裏打ち層が結晶性合金からなる層であること（請求項４）、
【００２３】
上記（請求項１〜４）の垂直磁気記録媒体において、前記軟磁性裏打ち層がＮｉ−Ｆｅ−Ｐ合金めっきからなる層であること（請求項５）、
【００２４】
上記（請求項１〜５）の垂直磁気記録媒体において、前記軟磁性裏打ち層の表面粗さＲａ（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１）が０．５ｎｍ以下であること（請求項６）、
【００２５】
上記（請求項１〜６）の垂直磁気記録媒体において、前記軟磁性裏打ち層の飽和磁束密度が０．８Ｔ以上、保磁力が５Ｏｅ以下であること（請求項７）を特徴とする。
【００２６】
そして本発明の垂直磁気記録装置は、上記（請求項１〜７）のいずれかの垂直磁気記録媒体を用いてなる垂直磁気記録装置（請求項８）である。
【発明の効果】
【００２７】
本発明の垂直磁気記録媒体は、記録媒体の基板と垂直磁気記録層の間に設ける軟磁性裏打ち層を、短時間で厚膜の皮膜形成が可能な無電解めっき法を用いて形成させるので、高生産性で垂直磁気記録媒体を得ることができる。特に、アルミニウム板またはアルミニウム合金板に湿式皮膜形成法である無電解合金めっき法により表面硬度確保のためのＮｉ−Ｐ合金めっき層を形成させた基板を用いる場合は、引き続いて皮膜形成法を変更することなく、湿式皮膜形成法である無電解合金めっき法により軟磁性層を形成させるので、極めて効率がよく高生産性で皮膜形成することが可能となる。また、無電解めっき法を用いて皮膜形成した軟磁性裏打ち層は研磨により表面平坦性を向上できるので、特に低周波数領域におけるノイズパワーが低く、さらに無電解めっき法による軟磁性裏打ち層にスパッタ法を用いて皮膜形成した反強磁性層を積層することにより、スパイクノイズの発生を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明の垂直磁気記録媒体とそれを備えた磁気記録装置の一実施形態について図面に基づき説明する。なお、これらの実施形態は、発明の趣旨をより良く理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
【００２９】
図１は本発明の垂直磁気記録媒体の実施例の一例を示す、概略断面図である。垂直記録媒体１０は、基板１上に図面上で下から順に、軟磁性裏打ち層２、軟磁性バッファー層３、反強磁性層４、下地層５、垂直磁気記録層６、保護膜７および潤滑膜８を形成して構成される。図２は、本発明の垂直磁気記録媒体の実施例の他の一例を示す概略断面図であり、本発明の垂直磁気記録媒体に用いる基板の一例を示す。図２においては、基板として、アルミニウム基板からなる基板１ａにＮｉ−Ｐ合金めっき層１ｂを形成したものを用いている。
【００３０】
基板１としては、磁気ディスク用に非磁性の金属や樹脂からなる円板またはその上に他の非磁性の皮膜を形成させたものが挙げられる。非磁性の金属や樹脂からなる円板としては、アルミニウム、チタンまたはそれらを主成分とする合金、ガラス、シリコン、カーボン、セラミックス、樹脂またはこれらの２種以上からなる複合体からなる円板を用いることができる。これらの円板上に形成させる皮膜は、高温に加熱しても磁性を帯びず、導電性を有し、熱伝導性に優れ、研磨などの機械加工が容易に実施可能で、かつ取扱に際して疵が付きにくい適度な硬度を有している非磁性皮膜が用いられ、Ｎｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｔａ、Ｎｉ−Ｔｉ、Ｎｉ−Ａｌなどの合金からなる皮膜があり、スパッタ法、蒸着法、めっき法などを用いて成膜することができる。
【００３１】
本発明においては、軟磁性裏打ち層２を湿式皮膜形成法である無電解めっき法により形成することを特徴としている。そのため、同様に湿式皮膜形成法を用いて磁気ディスク基板として広汎に製造されている、図２に示すような、アルミニウム基板１ａ（アルミニウム合金板も含む、以下同様）上にＮｉ−Ｐ合金めっき層１ｂを形成した基板１を用いると、構造が共通しためっき装置や、めっき廃液処理設備等を利用できるので、生産性の観点から好ましい。
【００３２】
また一般に、垂直磁気記録媒体の場合、磁気ヘッドが該垂直磁気記録媒体に書き込まれた信号を良好に読みとるためには、磁気ヘッドと該垂直磁気記録媒体の空隙は小さい方が好ましい。特に、磁気ヘッドが垂直磁気記録媒体上を浮上しながら記録再生する場合には、その浮上量は出来るだけ小さい方が好ましい。さらに、磁気ヘッドを浮上させずに垂直磁気記録媒体の表面に接触させて記録再生することができればより好ましい。したがって、垂直磁気記録媒体用の基体（基板を含む）としては、優れた表面平滑性を有するものが望ましく、さらには、基体の表裏両面の平行性、および基体の円周方向のうねりが適切に制御されたものが好ましい。
【００３３】
基板１上に設ける軟磁性裏打ち層２は、ヘッド系磁気回路の一部として機能するため、膜厚は５０〜５００ｎｍのように厚く堆積して用いられる。そのため、生産性の観点からはスパッタ法、蒸着法などの皮膜形成方法を用いるよりも無電解めっきなどの湿式皮膜形成法を用いる方が有利である。特に、基板１としてＮｉ−Ｐ合金めっき層を形成したアルミニウム板を用いる場合は、上記のように、構造が共通しためっき装置や、共通のめっき廃液処理設備等を利用できるのでより有利になる。
【００３４】
軟磁性裏打ち層２としては、スパッタ法によって成膜するＮｉ−Ｆｅ、Ｎｉ−Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ、Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ、Ｃｏ−Ｔａ−Ｚｒ、Ｆｅ−Ｔａ−Ｃ、Ｆｅ−Ｎなどの合金を用いることができるが、本発明においては、湿式皮膜形成法である無電解めっき法を用いて皮膜形成するため、Ｐ化合物やＢ化合物を還元剤とするＮｉ−Ｆｅ−Ｐめっき層、Ｎｉ−Ｆｅ−Ｂめっき層、Ｃｏ−Ｆｅ−ＢなどのＮｉ−Ｆｅ系合金めっき層、Ｃｏ−Ｆｅ系合金めっき層を軟磁性裏打ち層２として適用する。基板１にＮｉ−Ｐ合金めっき層を形成したアルミニウム板を用いる場合は、無電解めっきとして共通の還元剤を用いるＮｉ−Ｆｅ−Ｐめっき層を形成することが生産性の観点からより好ましい。
【００３５】
Ｎｉ−Ｆｅ系合金めっき層を軟磁性裏打ち層２として適用する場合、Ｎｉ−Ｆｅ系合金めっき層においてＦｅの含有量を１４〜２０重量％とすることにより、飽和磁束密度を０．８Ｔ以上、保磁力を５Ｏｅ以下とすることが可能となり、結晶構造は結晶質となる。Ｎｉ−Ｆｅ系合金めっきにおいて、Ｆｅの含有量を上記の範囲とするためには、合金めっきにおいて浴温を変えてめっき層の析出速度を加減したり、めっきのｐＨを変えて適宜調整する。Ｆｅの含有量が上記の範囲未満では、Ｐの含有量が増加するため、めっき層の結晶構造が非晶質となり、上記の飽和磁束密度が得られない。また、Ｆｅの含有量が上記の範囲以上になっても、飽和磁束密度は増加しない。
【００３６】
これらの軟磁性裏打ち層２の厚さは研磨後の厚さで１００〜１０００ｎｍであることが好ましい。１００ｎｍ未満であると、研磨に際して十分な研磨精度の確保が困難になり、１０００ｎｍを超えても記録上の利点が向上せず、経済的に有利でなくなる。
【００３７】
また、これらの軟磁性裏打ち層２の表面粗さＲａ（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１）は０．５ｎｍ以下とする必要がある。表面粗さＲａ（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１）が０．５ｎｍを超えるとノイズパワースペクトル中に観測されるノイズパワーが増加するばかりではなく、ヘッドクラッシュが生じやすくなる。そのためには、基板１としてＮｉ−Ｐ合金めっき層を形成したアルミニウム板を用いる場合は、Ｎｉ−Ｐ合金めっき後に表面粗さＲａ（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１）が０．２ｎｍ以下となるように表面を研磨したＮｉ−Ｐ合金めっき層上に結晶質合金めっき層を形成して表面を再研磨することにより、表面粗さＲａ（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１）が０．５ｎｍ以下とすることができる。
【００３８】
このようにして得られる無電解めっき法を用いて形成し、平坦化された軟磁性裏打ち層においては、垂直磁化記録層の記録信号の背景となるＳＵＬノイズの抑制に効果がある。表２に、無電解めっき法を用いて皮膜形成したＮｉ−Ｆｅ−Ｐ層（試料番号２）とスパッタリング法を用いて皮膜形成したＮｉ−Ｆｅ−Ｍｏ層（試料番号１、３、４、５）について、０〜１００ＭＨｚの周波数領域でＳＵＬノイズのノイズパワー（ｄＢｍ／Ｈｚ）を測定した結果の一例を示す。スパッタリング法による軟磁性裏打ち層においては、０〜８０ＭＨｚの低周波数領域では、ノイズパワーが−８３〜−１０７ｄＢｍ／Ｈｚと高く、低周波数領域から高向周波数領域まで安定してノイズの抑制が図れない。一方、無電解めっき法により作製した平坦化軟磁性裏打ち層においては、０ＭＨｚをわずかに超える低周波数領域においてもノイズパワーが−１００ｄＢｍ／Ｈｚと低く、１０ＭＨｚ以上の周波数領域において安定して−１１０ｄＢｍ／Ｈｚと低い値を示す。このように、軟磁性裏打ち層を合金めっき法を用いて形成した場合、周波数によらずに安定してノイズパワーを抑制することができる。しかし、このノイズパワーの抑制はあくまで表面粗さＲａ（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１）が０．５ｎｍの場合（試料番号１、３、４）でのみ可能になるもので、これ以上の表面粗さＲａでは、低周波領域におけるノイズパワーが高くなる。
【００３９】
上記のようにして、基板１上に軟磁性裏打ち層２を設けた後に積層する反強磁性層４は、両者の交換結合作用により、軟磁性裏打ち層２にブロッホ磁壁を形成させずにスパイクノイズを抑制するために設ける層である。特に、軟磁性裏打ち層２の磁化を基板（円板）１の径方向に固定し、残留磁化状態で単磁区化させることは、ブロッホ磁壁からの漏洩磁束を完全に排除できる結果、スパイクノイズの発生を抑制できるため好ましい。軟磁性層との交換結合により大きな一方向磁気異方性を誘導するために、反強磁性層の結晶成長ならびに結晶配向制御を目的として、軟磁性裏打ち層２と反強磁性層４の間に軟磁性バッファー層３を設けてもよい。軟磁性バッファー層３としては、特に限定するものではないが、反強磁性層の構造をめっき軟磁性層の構造に依存せずに制御できるような軟磁性材料、また、反強磁性層４との組み合わせにより大きな一方向異方性を誘導できるような軟磁性材料、あるいはそれらの積層構成を用いてもよい。具体的には、Ｃｏ−Ｆｅからなる単層、または基板側からＮｉ−Ｆｅ／Ｃｏ−Ｆｅからなる積層やＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂ／Ｎｉ−Ｆｅ／Ｃｏ−ＦｅやＣｏ−Ｔａ−Ｚｒ／Ｎ−ｉＦｅ／Ｃｏ−Ｆｅからなる積層を用いることが好ましい。軟磁性バッファー層３の厚さは生産性の観点から１〜２０ｎｍであることが好ましい。軟磁性バッファー層３の形成には湿式皮膜形成法、乾式皮膜形成法のいずれも適用できるが、膜厚の厳密制御の観点からは、スパッタリング法等の乾式皮膜形成が好ましい。
【００４０】
反強磁性層４としては、Ｍｎ−Ｉｒ、Ｃｏ−Ｍｎ、Ｎｉ−Ｍｎ、Ｐｔ−Ｍｎ等の合金およびこれらの合金に反強磁性層としての特性に悪影響を与えない範囲で他の金属１種以上を添加したものを用いることができる。厚さは、ヘッド系磁気回路の観点からスペーシングロスとなるため、一方向磁気異方性を誘導する機能を損ねない程度に薄いことが好ましい。具体的には１〜１０ｎｍの厚さの層を設けることが好ましい。反強磁性層４の形成には湿式皮膜形成法、乾式皮膜形成法などのいずれも適用できるが、膜厚の厳密制御の観点からは、スパッタリング法等の乾式皮膜形成法がより好ましい。
【００４１】
次いで、反強磁性層４の上にスパッタ法を用いて、下地層５を設けてもよい。この下地層５としては、その上に形成される垂直記録層６を結晶成長させる材料であればいかなる材料であっても差し支えない。また、下地層の構成としては、単層構造の他、２層またはそれ以上の多層構造であってもよい。
【００４２】
垂直磁気記録層６は、磁化容易軸が膜面に略垂直方向に一方向に磁気異方性を有して配向した強磁性材料であればよく、特に組成を限定するものではないが、例えば、ＣｏとＣｒを主たる成分とし、磁化容易軸が膜面に略垂直方向に一方向に磁気異方性を有して配向した六方稠密構造（ｈｃｐ：hexagonal closest packed structure）を有するＣｏ−Ｃｒ系強磁性材料が好適に用いられる。このＣｏ−Ｃｒ系強磁性材料は、必要に応じて他の元素を添加したものであっても良い。
【００４３】
Ｃｏ−Ｃｒ系強磁性材料の具体例としては、Ｃｏ−Ｃｒ（Ｃｒ＜２５ａｔ％）、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂ等のＣｏ−Ｃｒ系合金が挙げられる。また、この垂直磁気記録層６の結晶粒の粒径制御や粒間の偏析制御、結晶粒の結晶磁気異方性定数（Ｋｕ）、結晶粒径の制御、耐食性の制御、低温プロセスへの対応等を目的として、これら合金にＯ、ＳｉＯｘ、Ｆｅ、Ｍｏ、Ｖ、Ｓｉ、Ｂ、Ｉｒ、Ｗ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｒｕ、希土類元素等を適宜添加してもよい。
【００４４】
また、上記のＣｏ−Ｃｒ系合金以外の強磁性材料、例えば、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｐｄ、Ｆｅ−Ｐｔ等の熱擾乱耐性に優れた材料や、それらを微細化するためにＢ、Ｎ、Ｏ、ＳｉＯｘ、Ｚｒ等を添加した材料を用いてもよい。さらに、Ｃｏ層とＰｔ層を多数積層した多層構造の垂直記録層も適用可能である。このような多層構造の垂直記録層としては、Ｃｏ層とＰｄ層、あるいはＦｅ層とＰｄ層等を組み合わせた多層構造の垂直記録層、またはこれらの各層にＢ、Ｎ、Ｏ、Ｚｒ、ＳｉＯｘ等を添加したものも適用可能である。これらいずれの記録層材料を選定した場合においても、垂直磁気記録層６の厚さは５〜１００ｎｍであることが好ましい。
【００４５】
このようにして本発明の垂直磁気記録媒体が得られるが、実際にドライブに組み込んで使用する場合は、垂直磁気記録層６の上に保護膜７および保護膜７上に潤滑膜８を設ける必要がある。保護層７は、垂直磁気記録層６の表面を保護するためのもので、保護膜として必要な機械的強度、耐熱性、耐酸化性、耐腐食性等を備えたものであればよく、特に材料組成を限定するものではないが、例えば、カーボンが好適に用いられる。潤滑膜８は基体が回転している際に、磁気ヘッドを安定して浮上させるためのものであり、例えばパーフルオロポリエーテルが好適に用いられる。
【００４６】
反強磁性層成膜後のいずれかの工程で、反強磁性層に一方向異方性を強く発現させるプロセスを導入することが好ましい。このプロセスは、特に限定するものではないが、反強磁性層のブロッキング温度以上にまで加熱した基体を所望の方向の磁界中雰囲気下で冷却する工程が好適に用いられる。次いで反強磁性層４の上にスパッタ法を用いて、下地層５及びＣｏ−Ｃｒ系合金からなる垂直磁気記録層６を形成する。Ｃｏ−Ｃｒ系合金としては、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｂを用いることができる。垂直磁気記録層６の厚さは５〜１００ｎｍであることが好ましい。このようにして本発明の垂直磁気記録媒体が得られるが、実際にドライブに組み込んで使用する場合は、垂直磁気記録層６の上にカーボンからなる保護膜７およびカーボン保護膜７上にパーフルオロポリエーテルからなる潤滑膜８を設ける必要がある。
【実施例】
【００４７】
以下、実施例にて本発明を詳細に説明する。
【００４８】
（基板の作成）
磁気ディスク用のアルミニウム合金からなる、中心に孔を有する直径：２．５インチ規格の円板（直径：６５ｍｍ）に非晶質のＮｉ−Ｐ合金めっきを施した後、アルミナ系の研磨液を用いて粗研磨した後、コロイダルシリカ研磨液を用いて仕上げ研磨し、表面粗さＲａ（ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１）を０．３ｎｍにポリッシュし、基板とした。
【００４９】
（軟磁性裏打ち層の形成）
この基板に活性化処理などの前処理を施すことなく、以下に示す浴組成のＮｉ−Ｆｅ−Ｐ合金めっき浴を用いて表１に示す皮膜組成のＮｉ−Ｆｅ−Ｐ合金めっきを施し、次いでコロイダルシリカ研磨液を用いて表面を研磨し、表１に示す表面粗さおよび厚さを有するＮｉ−Ｆｅ−Ｐ合金めっき層からなる軟磁性裏打ち層を形成し、試料番号１の試料とした。このようにして得られた試料番号１の試料の軟磁性裏打ち層の軟磁気特性を振動試料型磁力計（ＶＳＭ：理研電子社製ＢＨＶ−３５）を用いて測定した。結果を表１に示す。また、比較用としてスパッタリング法を用いてＮｉ−Ｆｅ−Ｍｏ合金層からなる軟磁性裏打ち層を形成し、試料番号２の試料とした。さらに試料番号１に対して表面粗さを変化させた試料を試料番号３、４、５とした。このようにして得られた試料番号１〜５の試料のめっき法またはスパッタリング法による軟磁性裏打ち層のノイズパワー（ｄＢｍ／Ｈｚ）を以下に示す測定条件にて測定した。結果を表２に示す。
【００５０】
[Ｎｉ−Ｆｅ−Ｐ合金めっき浴]
硫酸ニッケル                    ０．０５ｍｏｌ／ｌ
硫酸第一鉄                      ０．１０ｍｏｌ／ｌ
Ｌ（＋）−酒石酸                ０．３０ｍｏｌ／ｌ
次亜リン酸ナトリウム            ０．０８ｍｏｌ／ｌ
ｐＨ（アンモニア水で調整）      ８．５〜９．５
浴温                            ７０〜９０℃
【００５１】
[ノイズの測定条件]
ヘッド：ＭＲヘッド
トラック幅：２５０ｎｍ
ヘッド浮上高さ：１４ｎｍ
シールド間ギャップ：８０ｎｍ
ディスク回転数：４２００ｒｐｍ
測定半径：２２．２１ｍｍ（周速：９．７７ｍ／ｓ）
測定周波数：１〜１００ＭＨｚ
ＲＢＷ：３０ｋＨｚ
ＶＢＷ：１００ｋＨｚ
【表１】
2005092924.tif 000003
【表２】
2005092924.tif 000004
【００５２】
（軟磁性バッファー層の形成）
上記のようにして基板にＮｉ−Ｆｅ−Ｐ合金めっき層を形成して表面を研磨した後、スパッタリング法を用いて表面に基板から順にＣｏ−Ｚｒ−Ｎｂ層、Ｎｉ−Ｆｅ層、Ｃｏ７０Ｆｅ３０層を設け、Ｃｏ−Ｚｒ−Ｎｂ（２ｎｍ）／Ｎｉ−Ｆｅ（５ｎｍ）／Ｃｏ７０Ｆｅ３０（４ｎｍ）からなる厚さ：１１ｎｍの軟磁性バッファー層を形成した。  
【００５３】
（反強磁性層の形成）
この軟磁性バッファー層の上にスパッタリング法を用いて、厚さ：６ｎｍのＭｎＩｒからなる反強磁性層を形成し、径方向へ磁場印加処理を施した。比較用に、反強磁性層を設けない試料も作製した。反強磁性層を形成した試料について、円板上径方向のヒステリシスループを測定したところ、図３に示すように、Ｒａｄ．（径方向に磁場をかけた場合のヒステリシス曲線）において約３５Ｏｅのシフト磁界が発生しており、円板状基板の径方向が磁化容易軸となるように反強磁性層と強磁性層との間に交換結合が発現していることが確認された。さらに、裏打ち層全体の磁区構造を磁区構造観察装置（オプトロスコープ：ネオアーク社製ＢＨ−６１８）により観察したところ、円板状基板全体に亘って単磁区化されていることが確認された。なお、図３は、縦軸が磁化（単位は任意スケール）、横軸が保持力Ｈであり、Ｃｉｒ．は円周方向に磁場をかけた場合のヒステリシス曲線を示す。
【００５４】
（スパイクノイズの測定）
反強磁性層を形成させた後の試料番号１および反強磁性層を設けない試料番号２の試料に付いて、スピンスタンドテスタ−を用いて、スパイクノイズの発生の有無を調べた。結果を図４（試料番号１）および図５（試料番号２）に示す。なお、図４および図５においては、磁気ヘッドをディスク１周（横軸に相当）させた場合の出力（電圧、縦軸に相当）を示す。
【００５５】
図４および図５に示すように、本発明の垂直磁気記録媒体用の試料においてはスパイクノイズの発生は認められない。一方、比較用の垂直磁気記録媒体用の試料においては、２つの大きなスパイクノイズ９の発生が認められる。
【００５６】
（垂直磁気記録層の形成）
次いで、試料番号１の試料の反強磁性層の上にスパッタ法を用いて、厚さ：２２ｎｍのＣｏ６５Ｃｒ２０Ｐｔ１５からなる垂直磁気記録層を形成した。
【００５７】
（保護膜および潤滑膜の形成）
次いで、垂直磁気記録層の上にスパッタ法を用いて、厚さ：７ｎｍのカーボンからなる保護膜を形成し、次いで、浸漬法を用いて厚さ：２ｎｍのパーフルオロポリエーテルからなる潤滑膜を形成した。以上のようにして本発明の垂直磁気記録媒体を作成した。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明の垂直磁気記録媒体は上記のように構成されており、軟磁性裏打ち層を湿式皮膜形成法である無電解めっき法により形成するので、乾式皮膜形成法あるスパッタリング法などに比べて簡便に短時間で厚い軟磁性裏打ち層を成膜できる。また、スパッタリング法によるコラム状に成長する結晶質軟磁性裏打ち層に比べ、平坦化できる結果、ノイズパワーを低減させることができ、高生産性でＳＵＬノイズおよびスパイクノイズの両方が低減した垂直磁気記録媒体を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の垂直磁気記録媒体の実施例の一例を示す、概略断面図
【図２】本発明の垂直磁気記録媒体に用いる基板の一例を示す、概略断面図
【図３】めっき法およびスパッタリング法を用いて皮膜形成した軟磁性裏打ち層起源のノイズパワースペクトルの測定結果の一例を示すグラフ
【図４】本発明である反強磁性層と交換結合させた、めっき法及びスパッタリング法を用いて皮膜形成した軟磁性層裏打ち層起源のスパイクノイズ発生状況を示すグラフ
【図５】比較用のめっき法及びスパッタリング法を用いて皮膜形成した軟磁性裏打ち層起源のスパイクノイズの発生状況を示すグラフ
【符号の説明】
【００６０】
１      基板
１ａ    基板（アルミニウム板）
１ｂ    Ｎｉ−Ｐ合金めっき層
２      軟磁性裏打ち層
３      軟磁性バッファー層
４      反強磁性層
５      下地層
６      垂直磁気記録層
７      保護膜
８      潤滑膜
９      スパイクノイズ
１０    垂直記録媒体
【図１】
2005092924.tif 000005
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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