(57)【要約】【課題】エアナイフ槽内を移動するワークに対し、エアナイフユニットによりエアを噴出する一方、エアナイフ槽内のエアを排気ユニットによりエアナイフ槽外に排出するようにしたエアナイフ乾燥装置において、ワークに対するミストの付着量を少なくできるようにする。【解決手段】エアナイフ槽１０内の入口１０ａ側における移動路６０の上下にそれぞれ第１上部エアナイフユニット２０および第１下部エアナイフユニット２５を配置するとともに、出口１０ｂ側における移動路６０の上下にそれぞれ第２上部エアナイフユニット４０および第２下部エアナイフユニット４５を配置し、第１下部エアナイフユニット２５の入口１０ａ側の近傍に、排気ユニット３０を配置する。【選択図】  図１
2005169356.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入口および出口を有するエアナイフ槽と、
前記エアナイフ槽内における前記入口から前記出口までの移動路に沿ってワークを移動させる移動手段と、
前記エアナイフ槽内の前記入口側における前記移動路の上方に配置され、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第１の上部エアナイフユニットと、
前記エアナイフ槽内の前記入口側における前記移動路の下方に配置され、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第１の下部エアナイフユニットと、
前記エアナイフ槽内の前記出口側における前記移動路の上方に設けられ、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第２の上部エアナイフユニットと、
前記エアナイフ槽内の前記出口側における前記移動路の下方に配置され、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め上方に向けて噴出する第２の下部エアナイフユニットと、
前記第１下部エアナイフユニットの近傍でかつ該第１下部エアナイフユニットよりも前記入口側に配置され、前記エアナイフ槽内の気体を吸引して排気する排気ユニットとを備えていることを特徴とするエアナイフ乾燥装置。
【請求項２】
請求項１に記載のエアナイフ乾燥装置において、
前記第１上部エアナイフユニットおよび前記第２上部エアナイフユニットの単位時間当りの各噴出量が、それぞれ、前記第１下部エアナイフユニットおよび前記第２下部エアナイフユニットの単位時間当りの各噴出量よりも大きくされていることを特徴とするエアナイフ乾燥装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載のエアナイフ乾燥装置において、
前記排気ユニットの単位時間当りの排気量が、前記第１上部エアナイフユニットおよび前記第１下部エアナイフユニットならびに前記第２上部エアナイフユニットおよび前記第２下部エアナイフユニットの単位時間当りの総噴出量よりも大きくされていることを特徴とするエアナイフ乾燥装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エアナイフユニットからのエアの噴出により、例えばウエットエッチング工程後の電子回路基板を乾燥させるようにしたエアナイフ乾燥装置に関し、特にミストの付着を抑える対策に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶表示装置のＴＦＴ基板などの基板のウエットエッチング工程に使用されるウエットエッチング装置には、ドライエッチングなどの後工程に備えて、エッチング処理後に水洗処理された基板を乾燥させるようにしたエアナイフ乾燥装置が組み込まれており、このことで、例えば、次工程がドライエッチング処理である場合には、ドライエッチング装置の真空チャンバ内に洗浄液を持ち込んで汚染したり、膜残り不良などの不具合を生じたりしないようになされている。
【０００３】
従来のエアナイフ乾燥装置としては、図３の縦断側面図に模式的に示す従来例１のように、エアナイフ槽１００内の入口１００ａから出口１００ｂまでの移動路に沿って、複数本のローラ１４１を有するローラコンベヤ１４０により移動させられる基板１３０に対し、前記移動路の上下近傍に、それぞれ、エアなどの気体を噴出するエアナイフユニット１１０，１１５と、気体を吸引して排気する排気ユニット１２０，１２５とを互いに近接させて配置することで、エアナイフユニット１１０，１１５の噴出力と、排気ユニット１２０，１２５の吸引力との相乗作用により、基板１３０の表面に付着している水洗液を強力に除去するとともに、排気ユニット１２０，１２５により直ちにエアナイフ槽１００の外に排出するようにしたもの（例えば、特許文献１）が知られている。
【０００４】
また、特許文献２に記載されているように、図４の同じく縦断側面図に模式的に示す如く、エアナイフ槽２００内の出口２００ｂ側（同図の左側）における移動路の上下にそれぞれエアナイフユニット２１０，２１５を配置する一方、エアナイフ槽２００内の入口２００ａ側（同図の右側）の底面部に排気ユニット２２０の吸引口２２０ａを配置することで、エアナイフ槽２００内に出口２００ｂ側から入口２００ａ側底部に向かう気流が形成されるようにし、エアナイフユニット２１０，２１５の噴出力により基板表面から除去された水洗液を、そのミストがエアナイフ槽２００内の上方空間に舞い上がるのを抑えつつ排出するようにしたもの（従来例２）もある。
【特許文献１】特開平７−３５４７８号公報（第２頁，図２）
【特許文献２】特開２０００−２３０７８３号公報（第４頁，図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来例１（図３参照）の場合には、エアナイフユニット１１０，１１５と排気ユニット１２０，１２５との間の各空間領域以外の空間領域において、乱気流が発生しやすく、この乱気流によりミストが浮遊するために、基板１３０に対するミストの付着量が多いという欠点がある。
【０００６】
一方、従来例２（図４参照）の場合には、エアナイフ槽２００内の出口２００ｂ側で除去するために、その出口２００ｂ側において多くのミストが発生しやすく、その分だけ、やはり基板２３０に対するミストの付着量が多くなるという難点がある。
【０００７】
本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、エアナイフ槽内を移動する水洗処理後の電子回路基板などのワークに対し、エアナイフユニットによりエアなどの気体を噴出する一方、エアナイフ槽内の気体を排気ユニットにより排気するようにしたエアナイフ乾燥装置において、エアナイフユニットおよび排気ユニットの配置を見直すことで、ワークに対するミストの付着量を少なくできるようにすることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成すべく、本発明では、エアナイフ槽内の出口側における移動路の上下にエアナイフユニットを配置するとともに、エアナイフ槽内の入口側における移動路の上下にエアナイフユニットを配置し、その入口側下部のエアナイフユニットの近傍に、排気ユニットを配置するようにした。
【０００９】
具体的には、入口および出口を有するエアナイフ槽と、このエアナイフ槽内における前記入口から前記出口までの移動路に沿ってワークを移動させる移動手段と、前記エアナイフ槽内の前記入口側における前記移動路の上方に配置されていて、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第１上部エアナイフユニットと、前記エアナイフ槽内の前記入口側における前記移動路の下方に配置されていて、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第１下部エアナイフユニットとを備えているものとする。さらに、前記エアナイフ槽内の前記出口側における前記移動路の上方に設けられていて、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め下方に向けて噴出する第２上部エアナイフユニットと、前記エアナイフ槽内の前記出口側における前記移動路の下方に配置されていて、該移動路上の前記ワークに対し気体を前記入口側斜め上方に向けて噴出する第２下部エアナイフユニットとを備えるようにする。そして、前記第１下部エアナイフユニットの近傍でかつ該第１下部エアナイフユニットよりも前記入口側に配置されていて、前記エアナイフ槽内の気体を吸引して排気する排気ユニットを備えているものとする。
【００１０】
尚、上記の構成において、前記第１上部エアナイフユニットおよび前記第２上部エアナイフユニットの単位時間当りの各噴出量を、それぞれ、前記第１下部エアナイフユニットおよび前記第２下部エアナイフユニットの単位時間当りの各噴出量よりも大きくするようにしたり、さらには、前記排気ユニットの単位時間当りの排気量を、前記第１上部エアナイフユニットおよび前記第１下部エアナイフユニットならびに前記第２上部エアナイフユニットおよび前記第２下部エアナイフユニットの単位時間当りの総噴出量よりも大きくするようにすることができる。
【００１１】
また、本発明では、「エアナイフユニット」を、「エア（空気）」のみならず、「気体一般」を噴出するものとしている。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、第１エアナイフユニットの噴出力と、排気ユニットの吸引力との相乗作用によりエアナイフ槽内の入口側で大半の液体をワークから除去することができるので、エアナイフ槽内の出口側におけるミストの発生量を少なくすることができ、しかも、第２エアナイフユニットの噴出力と、排気ユニットの吸引力とにより出口側から入口側下方に向かう気流を形成して乱流の発生を抑えることができるので、ミストの浮遊を抑えることができ、これらの結果、出口側におけるワークへのミストの付着量を減らすことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
図１および図２は、それぞれ、本発明の実施形態に係るエアナイフ乾燥装置の全体構成を模式的に示す縦断側面図および縦断平面図であり、このエアナイフ乾燥装置は、液晶表示装置のＴＦＴ基板などの電子回路基板のエッチング工程で使用されるウエットエッチング装置の搬出側に組み込まれていて、ウエットエッチング装置本体においてエッチング処理された後、水洗装置において水洗液により水洗処理された基板から前記水洗液を除去して該基板を乾燥させるために用いられる。
【００１４】
このエアナイフ乾燥装置は、略直方体をなすエアナイフ槽１０を備えている。このエアナイフ槽１０の相対向する両側壁（図１および図２の左右両側壁）には、それぞれ、該エアナイフ槽１０内に基板７０を導入するための入口１０ａと、基板７０をエアナイフ槽１０から導出するための出口１０ｂとが設けられている。
【００１５】
エアナイフ槽１０内には、入口１０ａから出口１０ｂに向かう移動方向（図１および図２の左方向。同各図に白抜きの矢印で示す方向）に所定間隔をおいて互いに平行に並ぶように配置された複数本のローラ５１を有する移動手段としてのローラコンベヤ５０が設けられている。そして、入口１０ａから導入された基板７０は、このローラコンベヤ５０により出口１０ｂに向かって移動するようになっている。ここで、ローラコンベヤ５０の複数本のローラ５１により、基板７０の移動路６０が形成されている。
【００１６】
上記エアナイフ槽１０内の入口１０ａ側における移動路６０の上方（図１の右側上方）には、第１上部エアナイフユニット２０が設けられている。この第１上部エアナイフユニット２０は、水平面内において移動路６０に直交する方向（図２の上下方向）に対し傾けて配置されていて、エアを噴出するための細幅スリット状の噴出口２０ａを有する。噴出口２０ａの幅寸法（スリットの長さ方向寸法）は、移動路６０上の基板７０の幅寸法（図２の上下方向寸法）よりも少しだけ大きくされており、その噴出口２０ａは入口１０ａ側斜め下方（図１の右斜め下方）に向けられている。
【００１７】
また、エアナイフ槽１０内の入口１０ａ側における移動路６０の下方（図１の右側下方）には、第１下部エアナイフユニット２５が設けられている。この第１下部エアナイフユニット２５は、上下方向において第１上部エアナイフユニット２０に重なるように、移動路６０に直交する水平方向に対し第１上部エアナイフユニット２０の場合と同じ角度だけ傾けて配置されていて、エアを噴出するための細幅スリット状の噴出口２５ａを有する。噴出口２５ａの幅寸法（スリットの長さ方向寸法）は、第１上部エアナイフユニット２０の噴出口２０ａと略同じである。但し、この噴出口２５ａは、入口１０ａ側斜め上方（図１の右斜め上方）に向けられており、第１上部エアナイフユニット２０の噴出口２０ａから噴出したエアの吹き付けられる基板７０の同じ部位に対し、その下面にエアを吹き付けるようになっている。
【００１８】
一方、上記エアナイフ槽１０内の出口１０ｂ側における移動路６０の上方（図１の左側上方）には、第２上部エアナイフユニット４０が設けられている。この第２上部エアナイフユニット４０は、水平面内において移動路６０に直交する方向（同図の上下方向）に対し、第１上部エアナイフユニット２０の場合と略同じ角度だけ傾けて配置されていて、エアを噴出するための細幅スリット状の噴出口４０ａを有する。噴出口４０ａの幅寸法（スリットの長さ方向寸法）は、移動路６０上の基板７０の幅寸法よりも少しだけ大きくされており、その噴出口４０ａは、第１上部エアナイフユニット２０の噴出口２０ａの場合と同様に、入口１０ａ側斜め下方（図１の右斜め下方）に向けられている。
【００１９】
また、エアナイフ槽１０内の出口１０ｂ側における移動路６０の下方（図１の左側下方）には、第２下部エアナイフユニット４５が設けられている。この第２下部エアナイフユニット４５は、上下方向において第２上部エアナイフユニット４０に重なるように、移動路６０に直交する水平方向に対し第２上部エアナイフユニット４０の場合と同じ角度だけ傾けて配置されていて、エアを噴出するための細幅スリット状の噴出口４５ａを有する。噴出口４５ａの幅寸法（スリットの長さ方向寸法）は、第２上部エアナイフユニット４０の噴出口４０ａと略同じである。また、この噴出口４５ａは、第１下部エアナイフユニット２５の噴出口２５ａの場合と同じく、入口１０ａ側斜め上方（図１の右斜め上方）に向けられており、第２上部エアナイフユニット４０の噴出口４０ａから噴出したエアの吹き付けられる基板７０の同じ部位に対し、その下面にエアを吹き付けるようになっている。
【００２０】
そして、上記第１下部エアナイフユニット２５の近傍でかつ該第１下部エアナイフユニット２５よりも入口１０ａ側（図１の右側）の位置には、エアナイフ槽１０内のエアなどを吸引して排気する排気ユニット３０が設けられている。この排気ユニット３０は、第１下部エアナイフユニット２５に対し略同じ水平面上に略平行に配置されていて、該第１下部エアナイフユニット２５の噴出口２５ａよりも幅広のスリット状をなす吸引口３０ａを有する。この吸引口３０ａの幅寸法（スリットの長さ方向寸法）は、第１下部エアナイフユニット２５の噴出口２５ａの場合と略同じであるが、その吸引口３０ａは、第１下部エアナイフユニット２５の噴出口２５ａの場合とは異なり、出口１０ｂ側斜め上方に向けられている。また、この排気ユニット３０は、移動路６０上の基板７０周りのエアを積極的に吸引できるように、該移動路６０に吸引口２５ａを近接（例えば、数ｃｍ〜１０ｃｍ程度）させて配置されている。尚、各エアナイフユニット２０，２５，４０，４５の噴出口２０ａ，２５ａ，４０ａ，４５ａと、移動路６０上の基板７０の対応面との間の間隔寸法は、数ｍｍ程度となるようにされている。
【００２１】
次に、上記のように構成されたエアナイフ乾燥装置の作用について説明する。尚、第１上部エアナイフユニット２０および第２上部エアナイフユニット４０の単位時間当りの各噴出量は、第１下部エアナイフユニット２５および第２下部エアナイフユニット４５の単位時間当りの各噴出量よりも大きく設定（例えば、下部エアナイフユニット２５，４５の各噴出量が０．８ｍ3 ／ｍｉｎであるのに対し、上部エアナイフユニット２０，４０の各噴出量は１ｍ3 ／ｍｉｎ）されており、また、排気ユニット３０の単位時間当りの吸引量は、第１上部エアナイフユニット２０および第１下部エアナイフユニット２５ならびに第２上部エアナイフユニット４０および第２下部エアナイフユニット４５の単位時間当りの総噴出量よりも大きく設定（例えば、エアナイフユニット２０，２５，４０，４５の総噴出量が３．６ｍ3 ／ｍｉｎであるのに対し、排気ユニット３０の吸引量は１０ｍ3 ／ｍｉｎ）されているものとする。
【００２２】
上記のエッチング装置本体においてエッチング処理された後、水洗装置において洗浄液を用いて水洗処理された基板７０は、エアナイフ乾燥装置のエアナイフ槽１０内に入口１０ａから導入されると、移動路６０に沿ってローラコンベヤ５０により出口１０ｂに向かって移動する。
【００２３】
この基板７０の上面に対しては、第１上部エアナイフユニット２０から入口１０ａ側斜め下方に向けてエアが噴出される。一方、基板７０の下面に対しては、第１下部エアナイフユニット２５から入口１０ａ側斜め上方に向けてエアが噴出される。このとき、第１下部エアナイフユニット２５の噴出量よりも第１上部エアナイフユニット２０の噴出量の方が多いので、基板７０がローラコンベヤ５０上から浮き上がることはない。
【００２４】
また、基板７０に付着している水洗液は、第１上部エアナイフユニット２０および第１下部エアナイフユニット２５からそれぞれ噴出されるエアにより吹き飛ばされる一方、排気ユニット３０にエアと共に吸引されることで、基板７０から除去される。つまり、第１上部エアナイフユニット２０および第１下部エアナイフユニット２５と、排気ユニット３０とが互いに近接しているので、基板７０上の洗浄液には、エアナイフユニット２０，２５の噴出力と、排気ユニット３０の吸引力とが集中して作用し、その両者の相乗効果により強力に除去される。
【００２５】
さらに、基板７０上面の水洗液は、基板７０とエアナイフ槽１０の側壁との間の隙間を経由して、また、基板７０下面の水洗液は、排気ユニット３０の吸引口３０ａとの間の最短距離でもってそれぞれ排気ユニット３０に吸引され、エアナイフ槽１０内から速やかに排出される。
【００２６】
そして、基板７０の移動に伴い、第１上部エアナイフユニット２０および第１下部エアナイフユニット２５によりそれぞれエアの噴出される空間領域と、排気ユニット３０によりエアの吸引される空間領域とが基板７０の移動方向とは反対の方向（図１および図２の右方向）に順次移行することで、基板７０上の洗浄液の大半が除去される。
【００２７】
上記の基板７０がエアナイフ槽１０内の出口１０ｂ側に達すると、今度は、基板７０の上面に対しては、第２上部エアナイフユニット４０から入口１０ａ側斜め下方に向けてエアが噴出される一方、基板７０の下面に対しては、第２下部エアナイフユニット４５から入口１０ａ側斜め上方に向けてエアが噴出される。このときも、第２下部エアナイフユニット４５の噴出量よりも第２上部エアナイフユニット４０の噴出量の方が多いので、基板７０がローラコンベヤ５０上から浮き上がることはない。
【００２８】
また、基板７０の上面上に未だ残っている水洗液は、第２上部エアナイフユニット４０から噴出されるエアにより吹き飛ばされて該基板７０から除去され、一方、基板７０の下面上に未だ残っている水洗液は、第２下部エアナイフユニット４５から噴出されるエアにより吹き飛ばされて該基板７０から除去される。
【００２９】
さらに、基板７０の上面に付着している残りの水洗液は、基板７０とエアナイフ槽１０の側壁との間の隙間を経由して、また、基板７０の下面に付着している残りの水洗液は、排気ユニット３０の吸引口３０ａとの間の最短距離でもってそれぞれ排気ユニット３０に吸引され、エアナイフ槽１０内から速やかに排出される。
【００３０】
このとき、第２上部エアナイフユニット４０および第２下部エアナイフユニット４５と、排気ユニット３０とが互いに離れているので、基板７０上面の水洗液は、エアナイフ槽１０内の主に上部空間を経由して、また、基板７０下面の水洗液は、エアナイフ槽１０内の主に下部空間を経由して、それぞれ、入口１０ａ側下方の排気ユニット３０に向かって流れる。これらの気流により、エアナイフ槽１０内の出口１０ｂ側で発生したミストは、浮遊することなく円滑に排出される。
【００３１】
以上のようにして、エアナイフ槽１０内において洗浄液が除去されて乾燥した基板７０は、出口１０ｂから導出された後、次工程に移行されることとなる。
【００３２】
したがって、本実施形態によれば、エアナイフ槽１０内の入口１０ａ側において、第１上部および下部エアナイフユニット２０，２５の噴出力と、排気ユニット３０の吸引力との相乗作用により、基板７０上の大半の洗浄液を除去することができるので、エアナイフ槽１０内の出口１０ｂ側において、第２上部および下部エアナイフユニット４０，４５の噴出力により除去されるべき水洗液を少量に抑えてミストの発生量を少なくすることができ、しかも、第２上部および下部エアナイフユニット４０，４５の噴出力と、排気ユニット３０の吸引力とにより出口１０ｂ側から入口１０ａ側下方に向かう気流を形成して乱流の発生を抑えることができるので、ミストの浮遊量および浮遊自体を抑えることができ、これらの結果、出口１０ｂ側における基板７０へのミストの付着量を、従来の場合（図３および図４参照）に比べて減少させることができる。
【００３３】
尚、上記の実施形態では、上下１組のエアナイフユニットを、それぞれ入口側および出口側の２箇所のみに配置するようにしているが、それらの間に１組以上のエアナイフユニットを追加して配置するようにしてもよい。
【００３４】
また、上記の実施形態では、液晶表示装置のＴＦＴ基板などの基板のウエットエッチング工程に使用されるウエットエッチング装置に組み込まれていて、エッチング処理後に液体としての水洗液により水洗処理された基板を乾燥させるようにしたエアナイフ乾燥装置の場合について説明しているが、本発明は、他の処理装置に組み込まれて、又は単独の装置として、ワーク表面に付着している所定の液体を除去して該ワークを乾燥させるようにした種々のエアナイフ乾燥装置に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の実施形態に係るエアナイフ乾燥装置の全体構成を模式的に示す側面図である。
【図２】エアナイフ乾燥装置の全体構成を模式的に示す平面図である。
【図３】従来例１のエアナイフ乾燥装置の全体構成を模式的に示す図１相当図である。
【図４】従来例２のエアナイフ乾燥装置の全体構成を模式的に示す図１相当図である。
【符号の説明】
【００３６】
１０  エアナイフ槽
１０ａ  入口
１０ｂ  出口
２０  第１上部エアナイフユニット
２５  第１下部エアナイフユニット
３０  排気ユニット
４０  第２上部エアナイフユニット
４５  第２下部エアナイフユニット
５０  ローラコンベヤ（移動手段）
６０  移動路
７０  基板（ワーク）
【図１】
2005169356.tif 000003
【図２】
2005169356.tif 000004
【図３】
2005169356.tif 000005
【図４】
2005169356.tif 000006