(57)【要約】  【課題】電解エッチング処理工程における電流印加ができない無電解部分における既エッチング部の化学溶解反応を抑制するとともに、エッチング層の欠落、容量低下、強度低下を抑える。  【解決手段】複数のエッチング槽内でアルミニウム箔を一対の電極板の間を複数個通過させて通電し、エッチングを行う電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置において、  少なくとも一対の電極板を斜め方向に配置したことを特徴とし、上記の一対の電極板のうち、最初の一対、および最後の一対の電極板を垂直方向に配置し、上記の一対の電極板の一方の長さを他方より長くし、エッチング槽の入側にエッチング液を噴射するノズルを設けたことを特徴とする電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置である。  【選択図】図１
2005203472.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のエッチング槽内でアルミニウム箔を槽の入側と出側各々一対の電極板の間に通過させて通電し、エッチングを行う電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置において、
少なくとも一対の電極板を斜め方向に配置したことを特徴とする電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置。
【請求項２】
複数のエッチング槽内でアルミニウム箔を一対の電極板の間を複数回通過させて通電し、エッチングを行う電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置において、
少なくとも一対の電極板を斜め方向に配置するとともに、一対の電極板のうち、最初の一対、および最後の一対の電極板を垂直方向に配置したことを特徴とする電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２記載の一対の電極板の一方の長さを他方より長くしたことを特徴とする電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置。
【請求項４】
請求項１または請求項２記載の電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置において、エッチング槽の入側にアルミニウム箔へエッチング液を噴射するノズルを設けたことを特徴とする電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電解コンデンサ用エッチング箔は、一般に陽極用、陰極用ともエッチング工程にてアルミニウム箔の表面を粗面化し、表面積を拡大して用いられる。エッチングに用いる溶液は、アルミニウムを溶解させるため、塩酸溶液にリン酸、硝酸、硫酸、シュウ酸を混合したものが用いられる。
【０００３】
電解コンデンサ用のエッチング箔の製造方法は、上記の塩酸を含む溶液中で、アルミニウム箔の表裏一対の電極間に、交流電流を印加する方法（以下、間接給電方式と呼ぶ）やアルミニウム箔と電極間に直流または交流を印加する方法が広く知られている。
その一般的な構成は、図２に示すような構造となっており、一対の電極２を平行に複数対配置し、アルミニウム原箔１を電極間に通過させて、電極２間に交流電源３より交流電流を印加する方法（間接給電）で電解が行われ、アルミニウム箔の拡面処理（エッチング）が行われている（例えば、特許文献１、非特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−２６０９６９（第２−１０頁、第４図−第７図）
【非特許文献２】電解液陰極アルミニウム電解コンデンサ、永田伊佐也著、日本蓄電器工業株式会社、平成９年２月２４日、第２版第１刷（第２５０−２５２頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、現在の工業化されている間接給電方式は、電極が液面に対して垂直方向に配置されており、液中および大気中に電流を印加することができない無電解部分が多く存在する。そして、この無電解部分において、エッチング箔は液中では強酸のエッチング液にさらされ、また大気中でもエッチング液が付着しているために既エッチング部分が化学的に溶解してしまう反応が起こっている。
【０００５】
上記の間接給電方式では、無電解部分にエッチング液が付着することにより、既エッチング部分の化学溶解反応が進行し、また、電解エッチング中に生成したエッチング皮膜も溶解してしまうため、次のエッチングにおけるピット開始点が均一とならずに集中してしまい、エッチング層の欠落、容量低下、強度低下が発生してしまうという問題があった。特にアルミニウム電解コンデンサ用の陰極用としては低純度のアルミニウム箔が使用されており、無電解部分の影響が大きいという問題があった。
【０００６】
よって、無電解部分でのエッチング箔の化学溶解反応を抑制するとともに、ピット開始点を均一にし、エッチング層の欠落、容量低下、強度低下を抑えることができるエッチング装置が望まれていた。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は上記課題を解決するものであり、複数のエッチング槽内でアルミニウム箔を槽の入側と出側各々一対の電極板の間に通過させて通電し、エッチングを行う電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置において、
少なくとも一対の電極板を斜め方向に配置したことを特徴とする電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置である。
【０００８】
また、上記複数のエッチング槽内でアルミニウム箔を一対の電極板の間を複数回通過させて通電し、エッチングを行う電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置において、
少なくとも一対の電極板を斜め方向に配置するとともに、一対の電極板のうち、最初の一対、および最後の一対の電極板を垂直方向に配置したことを特徴とする電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置である。
【０００９】
さらに、上記一対の電極板の一方の長さを他方より長くしたことを特徴とする電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置である。
【００１０】
そして、上記の電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置において、エッチング槽の入側にアルミニウム箔へエッチング液を噴射するノズルを設けたことを特徴とする電解コンデンサ用エッチング箔の製造装置である。
【発明の効果】
【００１１】
上記のエッチング装置を使用することにより、一対の電極板を垂直方向と斜め方向、または斜め方向に配置した構造が形成され、無電解部分を低減でき、既エッチング部分の化学溶解反応の進行が抑えられ、エッチング層の欠落、容量低下、強度低下を抑えることができる。
また、エッチング液噴射ノズルの設置部分近傍にローラを設けることで、エッチング箔の走行安定性も向上し、エッチング液噴射ノズルからエッチング液をアルミニウム箔へ噴射することで電極板から受ける熱を冷却することができ、既エッチング部分の大気中での化学的溶解を抑えることができる。
さらに、エッチングによって発生するガスが気泡となってエッチング槽の液面でアルミニウム箔に付着することを防止するので、エッチングの均一性が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明によるエッチング装置の基本構造は、図１に示すとおりであり、一対の電極を斜めに配置し、液中無電解部分のローラ５ａ、５ｂの数を減らして、エッチング箔が化学的溶解反応する時間を短くしたものである。
【００１３】
このとき、複数のエッチング槽内に配置されている一対の電極板のうち、最初の一対、および最後の一対の電極板は、無電解時間を低減することに影響がないため垂直に配置し、その他の電極板を斜めに配置する。また、液中の無電解部分を減らすため、電極２ａ、２ｃをローラ５ａ、５ｂを覆うように長くする。
【００１４】
さらに、上記の電流印加されない大気中の無電解部分７の斜めに配置した部分に、エッチング液を自動コントロールにて噴出するノズル８を設置した。
【実施例】
【００１５】
図１のエッチング装置を使用し、上記のノズル噴射を行った実施例１と、行わない実施例２、および図２のエッチング装置を使用した従来例とで、エッチングによる減量［ｇ／ｍ２］、および未化成静電容量［μＦ／ｃｍ２］を測定し比較した。
ここで、アルミニウム原箔は、純度９９．８％の陰極箔用５０μｍ厚さのものを使用した。
その結果を表１に示す。
【００１６】
【表１】
2005203472.tif 000003
【００１７】
表１より明らかなように、図１のエッチング装置を使用し、上記のノズル噴射を行った実施例１は、行わない実施例２と比較して、エッチングによる減量［ｇ／ｍ２］が小さく、未化成静電容量［μＦ／ｃｍ２］が大きくなっており、また、図２のエッチング装置を使用した従来例よりも、格段に改善されていることが分かる。
【００１８】
また、図１では、合計４対の電極構造を示したが、斜めに配置した電極対を増やした構造や、傾斜角度をより広げてエッチング液中に浸漬できる電極面積を増大させた構造に対しても、有効であり、より生産性の向上を図ることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施例によるエッチング装置を示す概略図である。
【図２】従来例によるエッチング装置の概略図である。
【符号の説明】
【００２０】
１  アルミニウム原箔
２ａ〜２ｄ  電極
３  交流電源
４  エッチング槽
５ａ、５ｂ  ローラ
６  液中無電解部分
７  大気中無電解部分
８  噴射ノズル
【図１】
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【図２】
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