(57)【要約】【課題】    選択的レーザー焼結システムにおいて、機構数の削減および新たな粉体の予熱方法を改善することによりコスト効率を向上させる。【解決手段】  選択的レーザー焼結システムの片側双方向粉体供給システムから計量済み粉体を標的領域に搬送するレーザー焼結プロセスにおいて、レーザー・ビームで熔解する前に新たな粉体を予熱することができる装置および装置の使用方法を提供する。計量済み粉体を標的領域の近傍にデポジットして予熱し、その後標的領域を横断する機構によって予熱された計量済み粉体を標的領域に拡散する。    【選択図】          図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザー焼結によって三次元物品を成形する方法であって、
（ａ）第１粉体量を標的領域の第１の側にデポジットする第１デポジット・ステップ、
（ｂ）前記第１粉体量を拡散機構によって拡散し第１粉体層を形成する第１拡散ステップ、
（ｃ）前記標的領域にエネルギー・ビームを照射し前記第１粉体層を第１の完全な層と成すステップ、
（ｄ）第２粉体量を前記標的領域の第１の側とは反対の第２の側にデポジットする第２デポジット・ステップ、
（ｅ）前記第２粉体量を前記拡散機構によって拡散し第２粉体層を形成する第２拡散ステップ、
（ｆ）前記標的領域にエネルギー・ビームを照射し前記第２粉体層を前記第１の完全な層に結合された第２の完全な層と成すステップ、
（ｇ）三次元物品を成形するため、前記ステップ（ａ）〜（ｆ）を反復し隣接層と一体化された別の層を成形するステップ、
の各ステップを有して成る方法において、
前記第１デポジット・ステップが前記第１粉体量を前記拡散機構の前に供給し、前記第２粉体量を該拡散機構に供給することを含み、前記第１拡散ステップにおいて前記第２粉体量を前記標的領域の第１の側から第２の側に搬送し、前記第２デポジット・ステップが前記第２粉体量を静止ブレードによって移動中の前記拡散機構から除去することを含んでいることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記拡散機構としてローラーを使用することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記ローラーとして反転ローラーを使用することを特徴とする請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記拡散機構としてワイパー・ブレードを使用することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記照射ステップにおいて、レーザー・ビームを使用することを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項６】
二酸化炭素レーザーを用いて前記レーザー・ビームを発生させることを特徴とする請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記粉体量をオーバーヘッド供給機構から前記拡散機構の粉体搬送体にデポジットすることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項８】
前記粉体を前記粉体搬送体から除去し前記標的領域の近傍に配することを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】
粉体から部品を成形するための装置であって、
（ａ）第１の側および該第１の側とは反対の第２の側を備えた、加成プロセスが実行される標的領域を有して成るチャンバー、
（ｂ）前記標的領域における前記粉体層の選択領域を熔解する熔解手段、
（ｃ）前記標的領域の第１の側の上部に位置し、前記チャンバーに前記粉体を供給する粉体供給ホッパー、
（ｄ）第２粉体層を形成するための第２粉体量を前記標的領域の第２の側に搬送すると同時に第１粉体層を該標的領域に拡散する拡散手段、
（ｅ）前記第２粉体量を前記標的領域の第２の側にデポジットする手段、および
（ｆ）前記第２粉体量を前記標的領域に拡散する手段、
の各手段を組み合わせて成ることを特徴とする装置。  
【請求項１０】
前記拡散手段が、
（ａ）ローラー、
（ｂ）前記標的領域を横断して前記ローラーを移動し前記第１粉体層を平坦にする、該ローラーに接続されているモータ、および
（ｃ）前記標的領域の第２の側にデポジットされる前記第２粉体量を受け取って搬送する、前記ローラーの上部に配されている搬送体、
を有して成ることを特徴とする請求項９記載の装置。
【請求項１１】
前記第２粉体量を前記標的領域の第２の側にデポジットする手段が、該第２粉体量を前記搬送体から除去する装置であることを特徴とする請求項１０記載の装置。
【請求項１２】
前記標的領域における前記粉体層の選択領域を熔解する手段が、
（ａ）エネルギー・ビーム、
（ｂ）前記エネルギー・ビームを誘導する光学ミラー・システム、および
（ｃ）成形予定部品の複数の断面の所望の境界を示す情報がプログラムされているコンピュータを含む、前記光学ミラー・システムに接続されているエネルギー・ビーム制御手段、
を有して成ることを特徴とする請求項１０記載の装置。
【請求項１３】
前記エネルギー・ビームがレーザー・エネルギー・ビームであることを特徴とする請求項１２記載の装置。
【請求項１４】
前記除去装置が静止ブレードであることを特徴とする請求項１１記載の装置。
【請求項１５】
前記拡散手段が、
（ａ）ワイパー・ブレード、
（ｂ）前記標的領域を横断して前記ワイパー・ブレードを移動し前記第１粉体層を拡散する、該ワイパー・ブレードに接続されているモータ、および
（ｃ）前記標的領域の第２の側にデポジットする前記第２粉体量を受け取って搬送する、前記ワイパー・ブレードの上部に配されている搬送体、
を有して成ることを特徴とする請求項９記載の装置。  
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は自由造形分野に関し、具体的には、選択的レーザー焼結による三次元物品の成形に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、部品の自由造形分野において著しい進歩がみられ、多くの実用的な物品の設計および試験製造に用いられる高強度、高密度部品が成形されている。一般に自由造形とは、設計図に基づいて試作品を機械加工する従来の方法と異なり、コンピュータ支援設計（ＣＡＤ）データベースから直接自動的に物品を成形することを意味する。これにより、それまで設計図から試作品を成形するのに数週間を要していた期間が僅か数時間に短縮された。
【０００３】
背景として、１つの自由造形技術の例に３Ｄシステムズ社が販売しているシステムで行われている選択的レーザー焼結法がある。この方法では、物品はレーザー可熔性粉体から層様式で製造される。この方法によれば、粉体が薄層状に配され、次いで物品の断面に対応する粉体部分に照射されるレーザー・エネルギーによって熔解、融解、または焼結される。３Ｄシステムズ社が販売しているＶａｎｇｕａｒｄ（商標）システムのような従来の選択的レーザー焼結システムにおいては、レーザー・ビームを偏向するガルバノ・ミラーによってレーザー・ビームの位置が決定される。レーザー・ビームそのものの変調と組み合わせてレーザー・ビームが偏向制御されることにより、成形物品の当該層の断面に対応した可熔性粉体層にレーザー・エネルギーが照射される。成形部品の複数の断面の望ましい境界を示す情報がコンピュータをベースとする制御システムにプログラムされている。粉体に対し変調による影響を与えながらレーザーを横断的にラスター走査することもベクトル的に照射することもできる。用途によっては、断面の外形に沿って粉体をベクトル的に溶解し、それによって画成された外形の内部領域を“埋める”ラスター走査を行うか、またはその逆の手順によって物品の断面が粉体層状に成形される。何れにしても、所定の層における粉体の選択的融解が終了すると別の粉体層が施され、後の層の融解部分を前の層の適切な融解部分に融合するプロセスを反復することにより物品が完成する。
【０００４】
選択的レーザー焼結技術の詳細は特許文献１、特許文献２、特許文献３、および特許文献４に記載されている。前記引用により前記特許文献がすべて本明細書に組み込まれたものとする。
【０００５】
選択的レーザー焼結技術により、ポリスチレン、一部のナイロン、その他のプラスチック、および高分子膜被膜材料やセラミックのような複合材料を含む多様な材料から直接分解能が高く寸法が正確な三次元物品を成形することができる。ポリスチレン部品は周知の“失蝋”法による飾り細工の作製に使用することができる。また、選択的レーザー焼結技術により、ＣＡＤデータベースによって示された目的物を成形するための成形型を直接製造することができる。この場合、ＣＡＤデータベースによる目的物の描写がコンピュータによって“反転”され、粉体から直接陰型が製造される。
【０００６】
背景として、図１は現在、３Ｄシステムズ社（カリフォルニア州、バレンシア）が販売している従来型選択的レーザー焼結システムを示す立体図である。図１は装置内部がよく分かるように扉を除去した立体図である。二酸化炭素レーザーおよび関連光学系が粉体ベッド、２つの粉体供給カートリッジ、および平滑ローラーを備えた処理チャンバーの上部ユニットに収容されている。処理チャンバーの内部は物品の成形に適した温度および雰囲気組成に維持されている。一般に、雰囲気は窒素のような不活性雰囲気である。
【０００７】
従来型選択的レーザー焼結装置の動作を図２に示す。図２はレーザー焼結プロセスがよく分かるように扉を除去した前記システムの正面図である。レーザー１０８がレーザー・ビーム１０４を発生し、一般にレーザー・ビームを偏向するガルバノ・ミラーを備えた走査システム１１４によって標的面、即ち、領域１１０に照射される。レーザーおよびガルバノメータ・システムはレーザー窓１１６によって高温の処理チャンバー１０２から隔離されている。レーザー窓１１６は下部に位置する部品ベッドの標的領域を加熱する放射放熱素子１２０の内側に配されている。これらの放射放熱素子１２０は環状（矩形または円形）パネル、またはレーザー窓を囲む放射放熱ロッドであってよい。レーザー１０８そのものの変調と組み合せ、レーザー・ビームの偏向制御および焦点距離の調整が行われ、成形物品の当該層の断面に対応した可熔性粉体層にレーザー・エネルギーが照射される。走査システム１１４は粉体に対しレーザー・ビームを横断的にラスター走査するか、またはベクトル走査することができる。この走査により標的領域１１０において必然的にレーザー・ビームが粉体表面を横切る。
【０００８】
２つの供給システム（１２４、１２６）のプッシュアップ・ピストン（１２５、１２７）により粉体がシステムに供給される。後述するように２つの供給ピストンから部品ベッド１３２に粉体が供給される。まず、一定量の粉体が供給システム１２６によって押し上げられ、逆転ローラー１３０によって受け取られ部品ベッド１３２に均一に拡散される。逆転ローラー１３０は標的領域１１０および部品ベッド１３２を完全に通過する。余剰粉体はすべてオーバーフロー容器１３６にデポジットされる。処理チャンバーの最上部付近に配されているのが供給粉体を予熱する放射放熱素子１２２および部品ベッドの表面を加熱する環状または矩形放射放熱素子１２０である。素子１２０はレーザーおよび光学系を処理チャンバー１０２の高温環境から隔離するレーザー窓１１６にレーザー・ビームを通す中央開口部を備えている。逆転ローラー１３０が部品ベッド１３２を横断した後、新たに配された層がレーザーによって選択的に融解される。次いで、ローラーがオーバーフロー容器１３６の領域から戻り、その後、所定量の粉体が供給システム１２４によって押し上げられ、ローラー１３０によって前と反対方向に標的領域１１０に配され、ローラー１３０が別のオーバーフロー容器１３８に進むことにより余剰粉体がデポジットされる。ローラー１３０が部品ベッドを横断開始する前に、中央部品ベッド・ピストン１２８によって、望ましい層厚分だけ下降され別の粉体を収容する余地が設けられる。
【０００９】
システム１００の粉体供給システムは供給ピストン１２５および１２７を備えている。指示がある場合、供給ピストン１２５および１２７がモータ（図示せず）制御により上部に移動することにより一定量の粉体がチャンバー１０２に供給される。部品ピストン１２８がモータ（図示せず）制御により、僅かに、例えば、０．１２５ｍｍだけチャンバー１０２の床の下部に移動することにより、処理粉体層のそれぞれの層厚が規定される。ローラー１３０は供給システム１２４および１２６から標的面１１０に粉体を平行移動する逆転ローラーである。何れの方向に移動する場合においても、標的領域に配されなかった余剰粉体はローラーによって処理チャンバーの両端に配されているいずれかのオーバーフロー容器に搬送される。本明細書において標的面１１０とは、（既に焼結された部分があればそれを含み）部品ピストン１２８上に配されている熱可熔性粉体の上面を意味する。本明細書において、部品ピストン上に配されている焼結および未焼結粉体を部品ケーキ１０６と呼ぶ。また、図２のシステム１００は、前に焼結された高温度の標的領域１１０に新たな粉体が拡散されたときの熱衝撃をできるだけ抑制するために粉体を予熱する放射放熱器を供給ピストン（１２５、１２７）の上部に必要としている。供給ベッドおよび部品ベッドを加熱する加熱素子を備え、新たな粉体を標的面の下部から供給するこの種のデュアル・ピストン式供給システムは、３Ｄシステムズ社（カリフォルニア州、バレンシア）が市販しているＶａｎｇｕａｒｄ選択的レーザー焼結システムに採用されている。
【００１０】
別の周知の粉体供給システムは上部から粉体を供給するオーバーヘッド・ホッパーを用い、標的領域１１０の一方の側の供給装置の前にワイパーまたはスクレーパーを備えている。
【００１１】
これらのシステムにはそれぞれの利点および欠点がある。何れの供給システムも、計量分配装置を備え、標的領域の各々の側の一般にはローラーまたはワイパー・ブレードである拡散機構の前に計量済み粉体を効率的に供給するためのプッシュアップ・ピストンまたはオーバーヘッド・ホッパー・システムに関わる多くの機構を必要としている。    
【特許文献１】米国特許第４８６３５３８号明細書（テキサス・システム大学、Board of Regent）
【特許文献２】米国特許第５１３２１４３号明細書（テキサス・システム大学、Board of Regent）
【特許文献３】米国特許第４９４４８１７号明細書（テキサス・システム大学、Board of Regent）
【特許文献４】米国特許第４２４７５０８号明細書（Housholder）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
システム１００のようなレーザー焼結システムは粉体および熱エネルギーを正確かつ効率的に供給することが立証されているが、機構数の削減および選択的レーザー焼結プロセスにおける新たな粉体の予熱方法の改善を図ることにより更にコスト効率を向上させる必要性が存在している。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の１つの態様によれば、より少ない機構を採用した選択的レーザー焼結による物品の成形方法および装置が提供される。
【００１４】
本発明の別の態様によれば、２つの連続した断面層の成形に必要なすべての粉体をオーバーヘッド供給システムから標的領域の一方の側に供給し、第２連続層を前記標的領域の一方の側とは反対の第２の側に搬送すると同時に第１連続層の粉体を平坦にする選択的レーザー焼結による物品成形方法および装置が提供される。
【００１５】
本発明の特徴は、良好な温度制御および粉体供給が損なわれることのない選択的レーザー焼結による物品の成形方法および装置が提供されることである。
【００１６】
本発明の別の特徴は、放射放熱器を備えた供給ピストンを使用せず、１つのオーバーヘッド供給ホッパーのみを使用する改良型プロセスおよび装置が提供されることである。
【００１７】
本発明の更に別の特徴は、レーザー・ビームが第１粉体層を走査する間、第２粉体層を形成するための第２粉体ウェーブが処理チャンバー内の待機位置において予熱されることである。
【００１８】
本発明の効果は、選択的レーザー焼結による物品の成形において、専有スペースの小さい装置およびその装置を用いた方法が提供されることである。
【００１９】
本発明の別の効果は、従来のレーザー焼結システムより低いコストでレーザー焼結方法および装置が実現されることである。
【００２０】
本発明はレーザー焼結によって三次元物品を成形する方法を含んでいる。前記方法は少なくとも、一定量の粉体を標的領域の第１の側にデポジットするステップ、前記粉体を拡散機構によって拡散し第１平滑面を形成するステップ、前記標的領域にエネルギー・ビームを照射し前記粉体を完全な層と成すステップ、一定量の粉体を前記標的領域の第１の側とは反対の第２の側に供給するステップ、前記粉体を拡散機構によって拡散し第２平滑面を成形するステップ、前記標的領域にエネルギー・ビームを照射し前記粉体を前記第１完全層に結合された第２の完全な層と成すステップの各ステップを有して成り、これ等のステップを反復し隣接層に一体的に結合された層を付加して行くことにより三次元物品を成形する方法であって、前記デポジット・ステップが少なくとも２つの連続した層の成形に必要なすべての粉体を前記標的領域の第１の側にデポジットすることを含み、前記拡散機構によって前記第２連続層の粉体を前記標的領域の前記第２の側に搬送すると同時に前記第１連続層の粉体を拡散し、前記第２デポジット・ステップにおいて前記第２連続層の粉体を適切な装置によって前記拡散機構から除去することを特徴とする方法である。
【００２１】
また、本発明は粉体から部品を成形するための装置も含んでいる。前記装置は第１の側および第１の側とは反対の第２の側を有する、加成プロセスが実行される標的領域を備えたチャンバー、前記標的領域における粉体層の選択領域を溶解する手段、前記標的領域の第１の側の上部に位置し所望の量の粉体を供給する粉体供給ホッパー、第２粉体層を形成するための第２の粉体量を前記標的領域の第２の側に搬送すると同時に第１粉体層を前記標的領域に拡散する手段、および前記第２の粉体量を前記標的領域の第２の側にデポジットする手段を有して成ることを特徴とする装置である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明の前記およびその他の態様、特徴、および効果は、添付図面を参照した以下の詳細な説明によって明確になる。
【００２３】
本発明を実行するための装置を図３に符号１５０で示す。符号１５２は処理チャンバーを示している。レーザー・ビーム１５４が、図１と同様のレーザーおよび光学系（図示せず）を処理チャンバー１５２の高温度環境から隔離するレーザー窓１５６を通して入射する。放射放熱体１６０により部品ベッドおよび隣接領域に熱が供給される。このような放射放熱素子は、例えば、石英ロッドまたはフラット・パネルを含む任意のタイプであってよい。１つの好ましいタイプに即応型石英ロッド加熱器がある。
【００２４】
下部のベッドに落下させる粉体量がモータ（図示ぜす）によって制御される底部供給機構１６４を備えた１つの粉体供給ホッパー１６２が示されている。供給機構は、例えば、スター供給装置、オーガー供給装置、回転ドラム式供給装置を含む幾つかのタイプであってよい。好ましい供給装置は回転ドラム式である。部品ピストン１７０がモータ１７２によって制御され、僅かに、例えば、０．１２５ｍｍだけチャンバー１５２の床の下方に移動することにより処理される各々の粉体層の厚さが規定される。
【００２５】
ローラー機構１８０は、モータ１８２によって駆動され、レーザー標的領域１８６に粉体ウェーブ１８４を拡散する反転ローラーを備えている。ローラー機構１８０はいずれの方向に移動する場合でも、標的領域にデポジットされなかった余剰粉体を反対端のオーバーフロー容器１８８に搬送する。本明細書において標的領域１８６とは、（既に焼結された部分があればそれを含み）部品ピストン１７０の上部に配されている可熔性粉体の上面を意味する。本明細書において、部品ピストン１７０の上部に配されている焼結済みおよび未焼結粉体を部品ベッド１９０と呼ぶ。反転ローラー機構１８０を使用することが好ましいが、例えば、ワイパーまたはドクター・ブレードのような別の手段を用いて粉体を拡散することもできる。
【００２６】
本発明の選択的レーザー焼結システムの動作を図３以降に示す。第１粉体計量分配ステップにおいて、上部ホッパー１６２からの粉体が底部供給機構１６４によって計量され、一定量の粉体がローラー機構１８０の前に配される。この粉体量はカバーする標的領域のサイズおよび所望の成形層厚に依存する。デポジットされた粉体は小山のように見えるが、以下待機粉体ウェーブと呼ぶ。図３の待機粉体ウェーブ１８４の粉体量は、各成形層の所望の層厚が約０．００３インチ（約０．０７６２ｍｍ）〜約０．００８インチ（約０．２０３ｍｍ）の場合、約２．９〜約８．０立方インチ（約４７．５２〜約１３１．１立方センチメートル）である。
【００２７】
図４に示す第２ステップにおいて、反転ローラー機構１８０が駆動され粉体ウェーブ１８４を少し前に移動し、放射放熱素子１６０が見える標的領域１８６の第１の側の端部に待機させる。図５に示す第３ステップにおいて、ローラー機構１８０が後退し供給ホッパー１６２の直下で待機する。供給機構１６４からの第１粉体量の計量を除く反復処理において、次にレーザー（図示せず）が駆動され、レーザー・ビーム１５４によって走査されることにより当該層の粉体が選択的に熔解される。レーザー走査の間、ローラー機構１８０は、粉体支持面または粉体搬送体１８３を粉体供給ホッパー１６２の直下に置いて待機している。また、レーザー走査の間、標的領域の第１の側の近傍に待機している粉体ウェーブ１８４が放射加熱素子１６０によって予熱される。このステップにより、粉体を予熱するための別の放射放熱装置が必要なくなる。
【００２８】
図６に示す次のステップにおいて、第２粉体ウェーブ１８５が、ローラー機構１８０上部の粉体支持面または粉体搬送体１８３に供給される。レーザーによる当該層の走査が終了すると、図７に示す次のステップが開始される。ローラー機構１８０が駆動されシステムを完全に横断することにより、第２粉体層を形成するための第２粉体ウェーブ１８５がローラー機構１８０の粉体支持面または粉体搬送体１８３によって搬送されると同時に予熱済み第１粉体層が第１待機粉体ウェーブ１８４から標的領域に拡散される。図８に示す次のステップにおいて、ローラー機構１８０が静止取付けブレード１９２の下部を通過する際、第２粉体層を形成するための第２粉体ウェーブ１８５がブレードによってローラー機構１８０の粉体支持面１８３から除去され、標的領域１８６の第２対向側近傍の処理チャンバー１５２の床にデポジットされる一方、余剰粉体がローラー機構１８０によってオーバーフロー容器１８８に収容される。
【００２９】
図９に示す次のステップにおいて、ローラー機構１８０が直ちに反転移動し、放射放熱素子１６０が見え放熱素子からの熱効果が得られる充分近い距離にある部品ベッド１９０の近傍に第２粉体ウェーブ１８５を待機させる。図１０に示す好ましい実施の形態における次のステップにおいて、ローラー機構１８０が後退し、レーザー走査が完了するまでその場で待機し、第２粉体ウェーブの粉体が放射放熱素子１６０によって予熱される。レーザー走査が完了すると、ローラー機構１８０が移動駆動され、図１１に示すように、第２待機粉体ウェーブ１８５の第２粉体が標的領域１８６の表面に拡散される。粉体を平坦にした後、図１２に示すように、ローラー機構１８０は走路の端部まで移動し余剰粉体をオーバーフロー容器１８８に収容する。これで１つのサイクルが完了すると同時に、図３に示すように、いつでも次のサイクルを開始することができる。
【００３０】
本発明の設計思想によりレーザー焼結システムの専有面積（成形チャンバーの水平幅）および機械的機構の数が削減される。本発明は１つの供給ホッパー、１つのピストン、および好ましくは１組の放射放熱素子を採用している。成形チャンバーのサイズが削減されることにより、システムの温度調整および温度応答が改善される。
【００３１】
具体的実施の形態を参照し本発明について説明してきたが、ここに開示した本発明の発明概念から逸脱することなく、材料、部品配列および成形ステップに多くの変更、改良、および変形が加えられ得ることは明白である。従って、添付クレームの精神および広範に及ぶ範囲によって当業者が本開示を読むことにより成し得る、かかる変更、改良、および変形が包含されているものである。例えば、具体的使用拡散機構がローラー、ワイパー・ブレードまたはその他の適切な装置でるかに関わりなく、スカイブ、ローラー、またはブラシのような任意の適切な装置を用いて、粉体搬送面または構造体から第２粉体ウェーブの粉体を除去または移動することができる。本明細書に引用した特許出願、特許、およびその他の出版物はそっくりそのまま本明細書に組み込まれたものとする。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】一部を切除した従来の選択的レーザー焼結装置の概略図。
【図２】関連する機構の一部を示す従来の選択的レーザー焼結装置の概略正面図。
【図３】ローラー機構の前で粉体の計量が行われる本発明の選択的レーザー焼結システムの概略正面図。
【図４】部品ベッドの近傍に粉体を待機させる本発明の選択的レーザー焼結システムの第２の概略正面図。
【図５】部品ベッドがレーザーによって選択的に加熱される間、ローラー機構が供給機構の下部に退避し、待機粉体ウェーブが部品ベッド加熱器によって予熱されることを示す本発明の選択的レーザー焼結システムの第３の概略正面図。
【図６】第２粉体層がローラー機構の上面に計量分配される本発明の選択的レーザー焼結システムの第４の概略正面図。
【図７】第２粉体層がローラー機構の上面によって標的領域の反対側に搬送されると同時に第１粉体層が標的領域に配されることを示す本発明の選択的レーザー焼結システムの第５の概略正面図。
【図８】第２粉体層が粉体ベッドの反対側においてローラーの近傍にデポジットされ、第１粉体層の余剰粉体がオーバーフロー容器にデポジットされることを示す本発明の選択的レーザー焼結システムの第６の概略正面図。
【図９】部品ベッドの近傍に第２粉体ウェーブを待機させることを示す本発明の選択的レーザー焼結システムの第７の概略正面図。
【図１０】部品ベッドがレーザーによって選択的に加熱される間、ローラー機構が当該の側で待機し、待機粉体ウェーブが部品ベッド加熱器によって予熱されることを示す本発明の選択的レーザー焼結システムの第８の概略正面図。
【図１１】第２粉体層が標的領域に配されることを示す本発明の選択的レーザー焼結システムの第９の概略正面図。
【図１２】余剰粉体を第２オーバーフロー容器にデポジットすることによりローラーの１サイクルが完了することを示す本発明の選択的レーザー焼結システムの第１０の概略正面図。
【符号の説明】
【００３３】
１０８    レーザー
１１４    走査システム
１５０    本発明の選択的レーザー焼結システム
１５２    処理チャンバー
１５４    レーザー・ビーム
１５６    レーザー窓
１６０    放射放熱素子
１６２    粉体供給ホッパー
１６４    底部供給機構
１７０    部品ピストン
１７２    モータ
１８０    ローラー機構
１８３    粉体支持面（粉体搬送体）
１８４    第１粉体ウェーブ
１８５    第２粉体ウェーブ
１８６    標的領域
１８８    オーバーフロー容器
１９０    部品ベッド
１９２    静止取付けブレード
【図１】
2005335391.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2005335391.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
2005335391.tif 000013
【図１２】
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