(57)【要約】【課題】  経時劣化の少ない記録層を形成可能であり、しかも、基板の溶解が極めて少ない光記録媒体の製造方法、これに用いる塗布液、及び、この製造方法により得られた光記録媒体を提供すること。【解決手段】  本発明の光記録媒体の製造方法は、基板上に、溶媒と、この溶媒に溶解された色素と、を含む塗布液を塗布する工程を有しており、溶媒として、炭素−炭素三重結合を有する１価の炭化水素基、アルコキシ基又はアシル基を有するヒドロキシル化合物を含むものを用い、色素として、特定構造のシアニン化合物、及び、アゾ化合物と金属とのキレート化合物を含むものを用いることを特徴とする。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、溶媒と、該溶媒に溶解した色素と、を含む塗布液を塗布する工程を有しており、
前記溶媒として、下記一般式（１）で表される化合物を含有するものを用い、
前記色素として、下記一般式（２）で表される化合物と、アゾ化合物と金属とのキレート化合物と、を含有するものを用いる、
ことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【化１】
2005305837.tif 000029
【化２】
2005305837.tif 000030
［式（１）中、Ｒ１１は、炭素−炭素三重結合を有する一価の炭化水素基、炭素数１〜４のアルコキシ基又は炭素数１〜５のアシル基、Ｒ１２は、炭素数１〜８のアルキレン基を示す。また、式（２）中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいベンジル基又は炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ２５は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又はシアノ基、Ｒ２６及びＲ２７は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいベンゼン環又は置換基を有していてもよいナフタレン環を構成する原子群、Ｒ２８及びＲ２９は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアリール基又は炭素数１〜４のアルキル基を示す。ただし、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４のうちの少なくとも一つの基はメチル基ではない。なお、Ｒ２１とＲ２２及び／又はＲ２３とＲ２４は、互いの炭素同士が結合して３〜６員環を形成していてもよい。］
【請求項２】
前記溶媒として、テトラフルオロプロパノールを含有していないものを用いることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記一般式（２）で表される化合物において、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４のうちの少なくとも一つの基が置換基を有していてもよいベンジル基であることを特徴とする請求項１又は２記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項４】
光記録媒体の記録層を形成するための塗布液であって、
溶媒と、該溶媒に溶解した色素と、を含有しており、
前記溶媒は、下記一般式（１）で表される化合物を含むものであり、
前記色素は、下記一般式（２）で表される化合物と、アゾ化合物と金属とのキレート化合物と、を含むものである、
ことを特徴とする塗布液。
【化３】
2005305837.tif 000031
【化４】
2005305837.tif 000032
［式（１）中、Ｒ１１は、炭素−炭素三重結合を有する一価の炭化水素基、炭素数１〜４のアルコキシ基又は炭素数１〜５のアシル基、Ｒ１２は、炭素数１〜８のアルキレン基を示す。また、式（２）中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいベンジル基又は炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ２５は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又はシアノ基、Ｒ２６及びＲ２７は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいベンゼン環又は置換基を有していてもよいナフタレン環を構成する原子群、Ｒ２８及びＲ２９は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアリール基又は炭素数１〜４のアルキル基を示す。ただし、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４のうちの少なくとも一つの基はメチル基ではない。なお、Ｒ２１とＲ２２及び／又はＲ２３とＲ２４は、互いの炭素同士が結合して３〜６員環を形成していてもよい。］
【請求項５】
基板と、該基板上に形成された記録層と、を備え、
前記記録層は、下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物、及び、アゾ化合物と金属とのキレート化合物を含有している、
ことを特徴とする光記録媒体。
【化５】
2005305837.tif 000033
【化６】
2005305837.tif 000034
［式（１）中、Ｒ１１は、炭素−炭素三重結合を有する一価の炭化水素基、炭素数１〜４のアルコキシ基又は炭素数１〜５のアシル基、Ｒ１２は、炭素数１〜８のアルキレン基を示す。また、式（２）中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいベンジル基又は炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ２５は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又はシアノ基、Ｒ２６及びＲ２７は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいベンゼン環又は置換基を有していてもよいナフタレン環を構成する原子群、Ｒ２８及びＲ２９は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアリール基又は炭素数１〜４のアルキル基を示す。ただし、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４のうちの少なくとも一つの基はメチル基ではない。なお、Ｒ２１とＲ２２及び／又はＲ２３とＲ２４は、互いの炭素同士が結合して３〜６員環を形成していてもよい。］
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体の製造に用いるための塗布液、これを用いた光記録媒体の製造方法及びこれにより得られた光記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
光記録媒体は、記録層にレーザー等を照射し、記録層の形状変化、磁区変化、相変化等により情報を記録するものである。このような光記録媒体としては、基板上に、有機色素を含む光記録材料からなる記録層が形成された光記録媒体が知られている。有機色素を含む記録層を備える光記録媒体は、高感度の記録を行うことが可能であることから、ＣＤ−ＲやＤＶＤ±Ｒ（追記型ＤＶＤ）として広く普及している。
【０００３】
例えば、特許文献１には、特定の構造を有するシアニン化合物を含む光記録材料が開示されている。この光記録材料を、各種の有機溶媒に溶解された塗布液の状態で基板上に塗布することにより、光記録媒体における基板上に記録層を設層することができる。そして、かかる記録層を備える光記録媒体は、高速記録に十分に対応可能であることが示されている。
【特許文献１】特開２００３−２３１３５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
近年では、光記録材料を含む塗布液を調製する際には、有機溶媒として、ハロゲン化アルコール、特に、テトラフルオロプロパノール（以下、「ＴＦＰ」と略す）が、上述したような色素の溶解性に優れていることから頻繁に用いられている。しかし、本発明者らが検討を行ったところ、有機溶媒としてＴＦＰを用いると、例えば以下に示すような不都合が生じ易いことを見出した。
【０００５】
すなわち、記録層を設層する際に上述したような塗布液を用いると、得られた記録層中には、塗布液に用いた有機溶媒が残存してしまうことが多かった。このような残存有機溶媒は、通常、記録層の記録特性や再生特性を低下させることは殆どないが、上述したＴＦＰが残存した記録層は、他の溶媒が残存している場合に比べて経時的な特性劣化を生じ易いことが判明した。この要因は明らかではないものの、記録層中のＴＦＰが、記録又は再生を行う際のレーザー照射によってフッ素ラジカルを生じ、このフッ素ラジカルが色素や反射膜等を変質させることが一因であると推測される。
【０００６】
そこで、本発明者らは、このような経時劣化を低減するために、ＴＦＰ以外の有機溶媒について検討を行った。しかし、例えば上記特許文献１に記載された溶媒のうち、ＴＦＰ以外の溶媒を用いたところ、条件によってはポリカーボネートからなる光記録媒体の基板を溶解してしまうものが多かった。このため、塗布液に用いる有機溶媒としては必ずしも好ましくないことが判明した。
【０００７】
本発明は、このような事情にかんがみてなされたものであり、経時劣化し難い記録層を形成可能であり、しかも、記録層を設層する際に基板の溶解を極めて生じ難い光記録媒体の製造方法、これに用いる塗布液、及び、この製造方法により得られた光記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らが更に詳細な検討を行った結果、塗布液に含有させる有機溶媒として、特定の官能基を有するヒドロキシル化合物を用いることによって上記目的を達成可能となることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００９】
すなわち、本発明の光記録媒体の製造方法は、基板上に、溶媒とこの溶媒に溶解した色素とを含む塗布液を塗布する工程を有しており、溶媒として、下記一般式（１）で表される化合物を含有するものを用い、色素として、下記一般式（２）で表される化合物と、アゾ化合物と金属とのキレート化合物とを含有するものを用いることを特徴とする。
【化１】
2005305837.tif 000002
【化２】
2005305837.tif 000003
［式（１）中、Ｒ１１は、炭素−炭素三重結合を有する一価の炭化水素基、炭素数１〜４のアルコキシ基又は炭素数１〜５のアシル基、Ｒ１２は、炭素数１〜８のアルキレン基を示す。また、式（２）中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいベンジル基又は炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ２５は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又はシアノ基、Ｒ２６及びＲ２７は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいベンゼン環又は置換基を有していてもよいナフタレン環を構成する原子群、Ｒ２８及びＲ２９は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアリール基又は炭素数１〜４のアルキル基を示す。ただし、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４のうちの少なくとも一つの基はメチル基ではない。なお、Ｒ２１とＲ２２及び／又はＲ２３とＲ２４は、互いの炭素同士が結合して３〜６員環を形成していてもよい。］
【００１０】
かかる光記録媒体の製造方法においては、塗布液の溶媒として、三重結合を有する一価の炭化水素基（好ましくはエチニル基）、炭素数１〜４のアルコキシ基又は炭素数１〜５のアシル基を有するヒドロキシル化合物を含有するものを用いている。このようなヒドロキシル化合物は、記録層に残存してレーザー等を照射されても、記録層の特性劣化を引き起こすような物質は殆ど生じない。このため、かかる製造方法により得られた光記録媒体は、記録層の経時的な特性劣化が少ないものとなる。
【００１１】
また、上記ヒドロキシル化合物は、上記一般式（２）で表される化合物を含む色素の溶解性に優れている一方、一般的な基板材料であるポリカーボネートを溶解することは殆どない。このため、上記製造方法においては、塗布液を基板上に塗布する際に基板が溶解されてしまうといった不都合が生じ難い。
【００１２】
さらに、従来塗布液に含有させる有機溶媒として用いられてきたＴＦＰは、他の溶媒に比して高価なものであった。これに対し、上記ヒドロキシル化合物は比較的安価に入手可能な化合物である。よって、本発明の製造方法によれば、ＴＦＰを含む塗布液を用いる場合に比して、光記録媒体の製造コストを低減することも可能となる。
【００１３】
加えて、上記一般式（２）で表される化合物は、追記型ＤＶＤに用いられる比較的短波長の光（６２０〜６９０ｎｍ）に対する吸収性に優れるという特性を有している。このため、かかる化合物を含む色素により形成された記録層によれば、高密度の記録を行うことが可能となる。
【００１４】
その上、上記一般式（２）で表される化合物は、記録用のレーザーにより加熱された場合であっても、迅速に熱を分散できるという特性を有している。このため、かかる化合物を含む記録層は、前のピットを形成させた際に発生した熱が次のピットを形成する時に影響を与える、いわゆる熱干渉を引き起こし難い。よって、このような記録層を備える光記録媒体は、高速記録を行った場合であっても書き込みエラー等が生じ難いものとなる。
【００１５】
上記本発明の光記録媒体の製造方法において、塗布液は、溶媒として、上記一般式（１）で表される化合物以外のものを含んでいても構わないが、上述した記録層の経時劣化を低減する観点からは、溶媒は、少なくともテトラフルオロプロパノールを含有していないことが好ましい。
【００１６】
さらに、上記一般式（２）で表される化合物において、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４のうちの少なくとも一つの基は置換基を有していてもよいベンジル基であるとより好適である。このような化合物は、上述した熱を分散する特性に特に優れるものである。このため、かかる化合物を含む記録層を有する光記録媒体は、高速記録を行う際の記録エラーを一層生じ難いものとなる。
【００１７】
本発明はまた、上記本発明の光記録媒体に用いるための塗布液を提供する。すなわち、本発明の塗布液は、光記録媒体の記録層を形成するための塗布液であって、溶媒とこの溶媒に溶解した色素とを含有しており、溶媒は、下記一般式（１）で表される化合物を含むものであり、色素は、下記一般式（２）で表される化合物と、アゾ化合物と金属とのキレート化合物とを含むものであることを特徴とする。
【化３】
2005305837.tif 000004
【化４】
2005305837.tif 000005
［式（１）中、Ｒ１１は、炭素−炭素三重結合を有する一価の炭化水素基、炭素数１〜４のアルコキシ基又は炭素数１〜５のアシル基、Ｒ１２は、炭素数１〜８のアルキレン基を示す。また、式（２）中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいベンジル基又は炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ２５は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又はシアノ基、Ｒ２６及びＲ２７は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいベンゼン環又は置換基を有していてもよいナフタレン環を構成する原子群、Ｒ２８及びＲ２９は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアリール基又は炭素数１〜４のアルキル基を示す。ただし、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４のうちの少なくとも一つの基はメチル基ではない。なお、Ｒ２１とＲ２２及び／又はＲ２３とＲ２４は、互いの炭素同士が結合して３〜６員環を形成していてもよい。］
【００１８】
本発明はさらに、上記本発明の製造方法により得られる光記録媒体を提供する。このような光記録媒体は、記録層に、上記一般式（２）で表される化合物及びアゾ化合物と金属とのキレート化合物のほか、塗布液に用いた溶媒を所定量含むものとなる。すなわち、本発明の光記録媒体は、基板とこの基板上に形成された記録層とを備え、記録層が、下記一般式（１）で表される化合物、下記一般式（２）で表される化合物、及び、アゾ化合物と金属とのキレート化合物を含有していることを特徴とする。
【化５】
2005305837.tif 000006
【化６】
2005305837.tif 000007
［式（１）中、Ｒ１１は、炭素−炭素三重結合を有する一価の炭化水素基、炭素数１〜４のアルコキシ基又は炭素数１〜５のアシル基、Ｒ１２は、炭素数１〜８のアルキレン基を示す。また、式（２）中、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいベンジル基又は炭素数１〜４のアルキル基、Ｒ２５は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又はシアノ基、Ｒ２６及びＲ２７は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいベンゼン環又は置換基を有していてもよいナフタレン環を構成する原子群、Ｒ２８及びＲ２９は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいアリール基又は炭素数１〜４のアルキル基を示す。ただし、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４のうちの少なくとも一つの基はメチル基ではない。なお、Ｒ２１とＲ２２及び／又はＲ２３とＲ２４は、互いの炭素同士が結合して３〜６員環を形成していてもよい。］
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、経時劣化し難い記録層を形成可能であり、しかも、記録層形成時に基板を溶解することが極めて少ない光記録媒体の製造方法、これに用いる塗布液、及び、この製造方法により得られた光記録媒体を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の好適な実施形態について、必要に応じて図面を参照しながら説明する。なお、同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。また、上下左右等の位置関係は、図面の位置関係に基づくものとする。
【００２１】
実施形態に係る光記録媒体は、基板上に、溶媒及び色素を含む塗布液を塗布する工程を有している。以下、かかる製造方法に用いられる塗布液について説明する。
【００２２】
［溶媒］
まず、塗布液に含まれる溶媒について説明する。溶媒は、上記一般式（１）で表される化合物を主として含むものであり、好ましくは上記一般式（１）で表される化合物からなるものである。また、当該溶媒中には、少なくともテトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）例えば、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール（２，２，３，３−ＴＦＰ）を含有していないことが好ましい。
【００２３】
上記一般式（１）で表される化合物としては、下記一般式（３ａ）で表される化合物、下記一般式（３ｂ）で表される化合物、又は、下記一般式（３ｃ）で表される化合物が好ましい。これらは単独で用いてもよく、組み合わせて用いてもよい。
【００２４】
【化７】
2005305837.tif 000008
【００２５】
式（３ａ）中、Ｒ３１は炭素数１〜４のアルキル基（好ましくはメチル基又はエチル基）を示し、Ｒ３２は炭素数１〜４のアルキレン基（好ましくはエチレン基、メチルメチレン基、プロピレン基又はメチルエチレン基）を示す。また、式（３ｂ）中、Ｒ３３はメチル基又はエチル基、Ｒ３４は炭素数１〜４のアルキレン基を示す。さらに、式（３ｃ）中、Ｒ３５は炭素数１〜６のアルキレン基を示す。
【００２６】
上記一般式（３ａ）で表される化合物としては、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ヒドロキシエチルイソプロピルエーテル、２−ヒドロキシエチルプロピルエーテル、３−ヒドロキシプロピルメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、３−ヒドロキシプロピルエチルエーテル、２−ヒドロキシエチルブチルエーテル、４−ヒドロキシブチルメチルエーテル、３−ヒドロキシプロピルエチルエーテル、２−ヒドロキシ−１−メチルエチルメチルエーテル、２−ヒドロキシ−１−メチルエチルイソプロピルエーテル、２−ヒドロキシ−２−メチルエチルメチルエーテル、２−ヒドロキシ−２−メチルエチルイソプロピルエーテル等が挙げられる。なかでも、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール又は１−メトキシ−２−プロパノールが好ましい。
【００２７】
また、上記一般式（３ｂ）で表される化合物としては、アセトール、アセトイン、アセトエチルアルコール、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンが挙げられ、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンが好ましい。さらに、上記一般式（３ｃ）で表される化合物としては、３−メチル−１−ペンチン−１−オール、３，５−ジメチル−１−ヘキシン−３−オール、３−ブチン−１−オール、２−プロピン−１−オールが挙げられる。
【００２８】
［色素］
次に、塗布液に含まれる色素について説明する。色素は、上記一般式（２）で表される化合物及びアゾ化合物と金属とのキレート化合物を含むものである。
【００２９】
＜シアニン系化合物＞
上記一般式（２）で表される化合物は、いわゆるシアニン系化合物に分類されるものである。上記一般式（２）で表される化合物においては、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４（以下、「Ｒ２１〜Ｒ２４」のように表記する）は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいベンジル基又は炭素数１〜４のアルキル基であり、これらの全てがメチル基ではない。
【００３０】
ここで、Ｒ２１〜Ｒ２４で表される基を構成する炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。また、Ｒ２１とＲ２２及び／又はＲ２３とＲ２４は、それぞれの組み合わせの両方が炭素数１〜４のアルキル基である場合、当該アルキル基における炭素同士が結合して３〜６員環を形成していてもよい。好適な場合、Ｒ２１、Ｒ２２、Ｒ２３及びＲ２４で表される基のうち、少なくとも一つは置換基を有していてもよいベンジル基、より好ましくはベンジル基である。
【００３１】
また、Ｒ２５としては、水素原子が好ましい。さらに、Ｒ２８及びＲ２９は、置換基を有していてもよいアリール基又は炭素数１〜４のアルキル基であり、それぞれ同一でも異なっていてもよい。なかでも、Ｒ２８及びＲ２９は、炭素数１〜４のアルキル基であると好ましく、メチル基であるとより好ましい。
【００３２】
このような構造を有する上記一般式（２）で表される化合物としては、以下に示すものが例示できる。以下、Ｒ２６及びＲ２７で表される基の組み合わせごとに分類して説明する。なお、上記一般式（２）で表される化合物としては、下記に分類される化合物を任意に選択して用いることができる。
【００３３】
（Ｒ２６及びＲ２７の両方がベンゼン環である化合物）
まず、Ｒ２６及びＲ２７の両方が置換基を有していてもよいベンゼン環である化合物としては、下記一般式（４）で表されるものが挙げられる。
【００３４】
【化８】
2005305837.tif 000009
【００３５】
式中、Ｒ２３及びＲ２４は上記と同義であり、Ｒ４０は、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基、Ｒ４１は、メチル基又は置換基を有していてもよいベンジル基を示す。このような化合物としては、例えば、Ｒ４１がメチル基である場合、Ｒ２３とＲ２４とが、いずれか一方がアルキル基であり他方が置換基を有していてもよいベンジル基である組み合わせのもの、又は、両者が炭素数１〜４のアルキル基であり互いの炭素同士が結合して３〜６員環を形成しているものが挙げられ、例えば下記化学式（５ａ）〜（５ｄ）で表される化合物が好適である。また、Ｒ４１が置換基を有していてもよいベンジル基である場合、Ｒ２３とＲ２４とが置換基を有していてもよいベンジル基である下記化学式（５ｅ）で表される化合物が好適である。
【００３６】
【化９】
2005305837.tif 000010
【００３７】
（Ｒ２６がベンゼン環であり、Ｒ２７がナフタレン環である化合物）
上記一般式（２）で表される化合物において、Ｒ２６が置換基を有していてもよいベンゼン環であり、Ｒ２７が置換基を有していてもよいナフタレン環であるものとしては、下記一般式（６）で表される化合物が挙げられる。
【００３８】
【化１０】
2005305837.tif 000011
【００３９】
式中、Ｒ２３及びＲ２４は上記と同義であり、Ｒ６１は置換基を有していてもよいナフタレン環を構成する原子群、Ｒ６２は水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基を示す。上記一般式（６）で表される化合物としては、Ｒ２３及びＲ２４の両方がメチル基である組み合わせ、又は、一方がメチル基であり他方がエチル基である組み合わせのものが好適である。このような化合物としては、下記化学式（７ａ）〜（７ｆ）で表される化合物が挙げられる。
【００４０】
【化１１】
2005305837.tif 000012
【００４１】
また、上記一般式（６）で表される化合物としては、Ｒ２３及びＲ２４の両者が炭素数１〜４のアルキル基であり、互いの炭素同士が結合して３〜６員環を形成している化合物も好適である。このような化合物としては、下記化学式（８ａ）又は（８ｂ）で表される化合物が挙げられる。
【００４２】
【化１２】
2005305837.tif 000013
【００４３】
（Ｒ２６がナフタレン環であり、Ｒ２７がベンゼン環である化合物）
上記一般式（２）で表される化合物のうち、Ｒ２６が置換基を有していてもよいナフタレン環であり、Ｒ２７が置換基を有していてもよいベンゼン環であるものとしては、下記一般式（９）で表される化合物が挙げられる。
【化１３】
2005305837.tif 000014
【００４４】
式中、Ｒ２３及びＲ２４は上記と同義であり、Ｒ９１は置換基を有していてもよいナフタレン環を構成する原子群、Ｒ９２は水素原子、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基又はニトロ基を示す。上記一般式（９）で表される化合物としては、Ｒ２３及びＲ２４の両方がメチル基である組み合わせのもの、一方がメチル基であり他方がエチル基又はｎ−プロピル基である組み合わせのもの、又は、両方がエチル基である組み合わせのものが好適である。このような化合物は、例えば、下記化学式（１０ａ）〜（１０ｅ）で表される化合物が例示できる。
【００４５】
【化１４】
2005305837.tif 000015
【００４６】
また、上記一般式（９）で表される化合物としては、Ｒ２３及びＲ２４のうちの一方がメチル基であり、他方が置換基を有していてもよいベンジル基である組み合わせのものも好ましい。かかる化合物としては、下記化学式（１１ａ）又は（１１ｂ）で表される化合物が挙げられる。
【００４７】
【化１５】
2005305837.tif 000016
【００４８】
さらに、上記一般式（９）で表される化合物としては、Ｒ２３とＲ２４との両方が置換基を有していてもよいベンジル基である化合物も好適である。このような化合物としては、下記化学式（１２）で表される化合物が例示できる。
【００４９】
【化１６】
2005305837.tif 000017
【００５０】
（Ｒ２６及びＲ２７の両方がナフタレン環である化合物）
上記一般式（２）で表される化合物のうち、Ｒ２６及びＲ２７の両方が置換基を有していてもよいナフタレン環である化合物としては、下記一般式（１３）で表される化合物が挙げられる。
【００５１】
【化１７】
2005305837.tif 000018
【００５２】
式中、Ｒ２３及びＲ２４は上記と同義であり、Ｒ１３１及びＲ１３２は置換基を有していてもよいナフタレン環を構成する原子群を示す。かかる構造を有する化合物としては、Ｒ２３及びＲ２４の両方がメチル基である組み合わせのもの、一方がメチル基であり他方が置換基を有していてもよいベンジル基である組み合わせのもの、又は、両者が炭素数１〜４のアルキル基であり、互いの炭素同士が結合して３〜６員環を形成している組み合わせのものが好ましい。なかでも、両方がメチル基である組み合わせ、又は、３〜６員環を形成している組み合わせが特に好ましい。このような化合物としては、下記化学式（１４ａ）〜（１４ｃ）で表される化合物が例示できる。
【００５３】
【化１８】
2005305837.tif 000019
【００５４】
色素として含有させる化合物としては、上述したなかでも、上記化学式（１２）で表される化合物又は上記化学式（１４ａ）で表される化合物が特に好ましい。これらの化合物は、加熱後の熱を分散する特性に優れている。よって、これらを含む塗布液を用いることにより、熱干渉が極めて生じ難い光記録媒体を得ることが可能となる。
【００５５】
塗布液中に含まれる色素は、上述したシアニン系化合物と、当該化合物のカウンターイオン（カウンターアニオン）を含むものである。このようなカウンターアニオンとしては、具体的には、ハロゲン化物イオン（Ｃｌ−、Ｂｒ−、Ｉ−等）、ＣｌＯ４−、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＶＯ３−、ＶＯ４３−、ＷＯ４２−、ＣＨ３ＳＯ３−、ＣＦ３ＣＯＯ−、ＣＨ３ＣＯＯ−、ＨＳＯ４−、ＣＦ３ＳＯ３−、パラトルエンスルホン酸イオン（ＰＴＳ−）、ｐ−三フッ化メチルフェニルスルホン酸イオン（ＰＦＳ−）等が挙げられる。なかでも、ＣｌＯ４−、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＳｂＦ６−等が好ましい。
【００５６】
＜キレート化合物＞
塗布液に含まれる色素は、上述したシアニン化合物に加えて、アゾ化合物と金属とのキレート化合物（アゾ系金属錯体）を含有するものである。かかるキレート化合物としては、例えば、芳香族環で置換されたアゾ基を有するアゾ化合物が金属と配位して形成される金属キレート化合物が挙げられる。このような化合物は、アゾ系色素、アゾ系染料等とも呼ばれるものである。このキレート化合物を構成するアゾ化合物としては、下記一般式（１５）で表される化合物が挙げられる。
【化１９】
2005305837.tif 000020
【００５７】
かかる化合物において、Ｒ１５１及びＲ１５２は芳香環であり、少なくともいずれか一方は、金属原子に配位可能な置換基を有する芳香環、又は、金属原子に配位可能な窒素原子を有する含窒素複素芳香環である。このＲ１５１及びＲ１５２は、同一でも異なっていてもよい。ここで、金属原子に配位可能な置換基及び金属原子に配位可能な窒素原子は、アゾ基で置換された位置に対して隣接する位置（例えば、ベンゼン環の場合はオルソ位）にあることが好ましい。
【００５８】
Ｒ１５１及びＲ１５２を構成する芳香族環は、単環であっても、縮合多環や環集合の多環であってもよい。このような芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、イミダゾール環、ピラジン環、ピロール環等が挙げられる。これらのなかでも、ベンゼン環、ピリジン環、キノリン環及びチアゾール環が特に好ましい。
【００５９】
金属原子に配位可能な置換基としては、活性水素を有する基が挙げられる。活性水素を有する基としては、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＨ２、−ＣＯＯＨ、−ＣＯＮＨ２、−ＳＯ２ＮＨ２、−ＳＯ３Ｈ、−ＮＨＳＯ２ＣＦ３等が挙げられる。これらのなかでも、−ＯＨが特に好ましい。
【００６０】
また、Ｒ１５１及びＲ１５２は、上記に加えて他の置換基を有していてもよい。Ｒ１５１及びＲ１５２が有する置換基は同一でも異なっていてもよい。異なっている場合には、Ｒ１５１がニトロ基、ハロゲン原子（例えば塩素原子、臭素原子等）、カルボキシル基、スルホ基、スルファモイル基及びアルキル基（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくはメチル基）からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を有し、Ｒ１５２がアミノ基（総炭素数が２〜８のジアルキルアミノ基が好ましく、例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチルエチルアミノ基、メチルプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、ヒドロキシエチルメチルアミノ基等が挙げられる）、アルコキシ基（炭素数が１〜４であることが好ましく、例えばメトキシ基等が挙げられる）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくはメチル基）、アリール基（単環のものが好ましく、例えばフェニル基、クロロフェニル基等が挙げられる）、カルボキシル基及びスルホ基からなる群より選ばれる少なくとも１種の基を有していると好ましい。なお、Ｒ１５１の置換基はアゾ基に対してメタ位又はパラ位にあることが好ましく、メタ位にあることがより好ましい。
【００６１】
キレート化合物を構成する金属（中心金属）としては、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｕ、Ｆｅ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ａｌ等の遷移金属が好ましい。あるいは、Ｖ、Ｍｏ、Ｗを、それぞれその酸化物イオンである、ＶＯ２＋、ＶＯ３＋、ＭｏＯ２＋、ＭｏＯ３＋、ＷＯ３＋等として有していてもよい。これらのなかでも、ＶＯ２＋、ＶＯ３＋、Ｃｏ、Ｎｉ及びＣｕが特に好ましい。
【００６２】
これらのキレート化合物においては、通常、上記のようなアゾ化合物を３座配位子として、金属との間に配位結合を形成している。なお、アゾ化合物が活性水素を有する置換基を有する場合には、通常、その活性水素が脱離して３座配位子となる。
【００６３】
このようなキレート化合物は、全体として中性の場合もあるし、アニオン又はカチオンとなる場合もある。キレート化合物がアニオンである場合、そのカウンターカチオンとの塩を形成する。このカウンターカチオンとしては、Ｎａ＋、Ｌｉ＋、Ｋ＋等の金属カチオンや、アンモニウム、テトラアルキルアンモニウム等が挙げられる。あるいは、上述したシアニン化合物をカウンターカチオンとして、これらにより塩が形成されていてもよい。
【００６４】
キレート化合物の具体例としては、下記の表１〜６に記載のものが挙げられる。これらは単独または複数組み合わせて用いることができる。なお、表１〜６に示すキレート化合物においては、中心金属の元素１個に対してアゾ化合物２個が配位している。表中、アゾ化合物及び中心金属をそれぞれ２種示したものは、それらを１：１のモル比で含有することを示す。これらのキレート化合物は、公知の方法に従って合成して得ることができる（例えば、古川，Ａｎａｌ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ．，１４０，ｐ．２８９，１９８２年等参照。）。
【００６５】
【表１】
2005305837.tif 000021
【００６６】
【表２】
2005305837.tif 000022
【００６７】
【表３】
2005305837.tif 000023
【００６８】
【表４】
2005305837.tif 000024
【００６９】
【表５】
2005305837.tif 000025
【００７０】
【表６】
2005305837.tif 000026
【００７１】
このように、実施形態に係る製造方法に用いる塗布液は、好適な場合、色素として、上述したシアニン化合物及びキレート化合物を含むものである。なお、この塗布液においては、これら以外に他の種類の色素を併せて含有していてもよい。このような他の色素としては、サブフタロシアニン色素、ホルマザン色素、ローダミン色素、トリフェニルメタン系色素等が挙げられる。これらの他の色素を含有させる場合、上記シアニン系色素の含有量が、色素全体の３０〜９０モル％となるように配合することが好ましい。シアニン色素の含有量が３０モル％未満であると、光記録媒体における熱干渉を十分に抑制し難くなる。
【００７２】
上述した塗布液中の色素の含有量は、塗布液の総量に対する色素の合計質量が、好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．３〜５質量％、更に好ましくは０．５〜３質量％となるようにすることが好ましい。色素の合計含有量が０．１質量％未満であると、レーザーの照射によって良好にピットを形成できる記録層が得られ難くなる傾向にある。一方、１０質量％を超えると、塗布時に色素の析出が発生するおそれがある。このようにして析出した色素は記録層の欠陥となり易い。また、塗布液中には、これら以外に、例えば、バインダー、分散剤、安定剤等を適宜含有させてもよい。
【００７３】
［光記録媒体の製造方法］
好適な実施形態に係る光記録媒体の製造方法は、基板上に、上述した実施形態の塗布液を塗布する工程を有している。まず、このような製造方法により得られた光記録媒体の好適な実施形態について説明する。図１は、実施形態の製造方法により製造された光記録媒体の断面構造を模式的に示す図である。図１に示した光記録媒体１０は、ＤＶＤ規格に対応した追記型デジタルバーサタイルディスクであり、６２０〜６９０ｎｍ付近の短波長の光による記録・再生が可能なものである。
【００７４】
光記録媒体１０は、基板１２、記録層１３、反射層１４及び保護層１５がこの順に積層された片面光記録媒体３１と、基板２２、記録層２３、反射層２４及び保護層２５がこの順に積層された片面光記録媒体３２とが、互いの保護層１５，２５同士が対向するように接着剤層５０を介して張り合わされた構造を有するものである。すなわち、光記録媒体１は、図中下側から、基板１２、記録層１３、反射層１４、保護層１５、接着剤層５０、保護層２５、反射層２４、記録層２３、基板２２が順に積層された構造を有している。また、基板１２，２２における記録層１３，２３に対向している側の面には、溝状のグルーブ１２３，２２３がそれぞれ形成されている。
【００７５】
以下、このような構成を有する光記録媒体１０の製造方法について説明する。光記録媒体１０は、上述の如く、片面光記録媒体３１と片面光記録媒体３２とが貼り合わされて形成されたものであり、各片面光記録媒体は同様にして製造可能である。ここでは、片面光記録媒体３１の製造方法を例に用いて説明する。
【００７６】
片面光記録媒体３１の製造においては、まず、基板１２を準備する。基板１２は、直径が６４〜２００ｍｍ程度、厚さが０．６ｍｍ程度のディスク状の形状を有するものである。このような基板１２としては、光記録媒体１０に対して書き込み及び読み出しを行う際、基板１２の内側に設けられる記録層１３に記録光及び再生光を照射するために、これらの光に対して実質的に透明であるものが好ましい。より具体的には、基板１２の記録光及び再生光に対する透過率が８８％以上であると好ましい。このような条件を満たす基板１２の材料としては、透過率に関する上記条件を満たす樹脂又はガラスが好ましく、中でも、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、アモルファスポリオレフィン、ＴＰＸ、ポリスチレン系樹脂などの熱可塑性樹脂が特に好ましい。
【００７７】
また、基板１２における記録層１３に対向する側の面には、溝状のグルーブ１２３が形成されている。かかるグルーブ１２３は、基板を上方から見た場合にスパイラル状の形状を有している連続型グルーブである。このグルーブ１２３は、その深さが６０〜２００ｎｍであり、幅が２００〜５００ｎｍであり、グルーブピッチが０．６〜１．０μｍであると好ましい。グルーブ１２３をこのような構成とすれば、当該グルーブにおける反射レベルを低下させることなく、良好なトラッキング信号を得ることができる。
【００７８】
グルーブ１２３は、上記樹脂を用いて射出成形等を行うことにより基板１２を成形する際に同時に形成可能である。また、平板状の基板１２を製造した後、２Ｐ法等によりグルーブ１２３となる凹部を有する樹脂層を形成し、基板１２とかかる樹脂層との複合基板とすることにより形成してもよい。
【００７９】
次に、基板１２のグルーブ１２３が形成された面上に、上述した実施形態の塗布液を塗布して記録層１３を形成する。記録層１３の形成に際しては、上記塗布液を塗布した後、必要に応じて溶媒を除去する乾燥工程を実施してもよい。塗布液の塗布は、スピンコート法、グラビア塗布法、スプレーコート法、ディップコート法等により実施可能である。なかでも、平易に均一な厚さの塗布を行うことができるスピンコート法が好ましい。
【００８０】
塗布液の塗布は、乾燥後の記録層１３の厚さが５０〜２００ｎｍとなるように行うことが好ましく、７０〜１５０ｎｍとなるように行うことがより好ましい。記録層１３の厚さがこの範囲外であると、再生光に対する反射率が低下して、良好な再生を行うことが困難となる傾向にある。
【００８１】
記録層１３は、主に上記一般式（１）で表される化合物を含む色素から主として構成されるものとなる。また、こうして形成された記録層１３中には、上記乾燥工程後であっても、塗布液に含まれていた溶媒である上記一般式（１）で表される化合物が残存していることが多い。この場合、記録層１３における当該化合物の含有量は、１枚の記録層１３について、３０〜５０μｇであることが多い。この程度溶媒が残存していても、記録層１３の特性低下は極めて少ない。さらに、この含有量が０〜３０μｇ／１枚まで低減されると、当該残存溶媒の記録層１３に対する影響は実質的に見られないレベルとなる。
【００８２】
こうして形成された記録層１３の記録光及び再生光に対する消衰係数（複素屈折率の虚部ｋ）は、０〜０．２０であることが好ましい。消衰係数が０．２０を超えると十分な反射率が得られ難くなる傾向にある。また、記録層１３の屈折率（複素屈折率の実部ｎ）は、１．８以上であることが好ましい。屈折率が１．８未満の場合、信号の変調度が小さくなる傾向にある。なお、屈折率の上限は特に制限されないが、有機色素の合成上の都合から、通常２．６程度である。
【００８３】
ここで、記録層１３の消衰係数及び屈折率は以下の手順に従って求めることができる。まず、所定の透明基板上に記録層を４０〜１００ｎｍ程度に設けて測定用サンプルを作製し、次いで、この測定用サンプルの基板を通しての反射率あるいは記録層側からの反射率を測定することによって求められる。この場合、反射率は、記録・再生光の波長を用いて鏡面反射（５°程度）にて測定する。さらに、サンプルの透過率を測定する。そして、これらの測定値から、例えば共立全書「光学」、石黒浩三、第１６８〜１７８ページに記載の方法に準じ、消衰係数及び屈折率を算出することができる。
【００８４】
このようにして記録層１３を形成させた後、記録層１３における基板１２と反対側の面上に反射層１４を形成する。反射層１４は、高反射率の金属又は合金を用い、これらを蒸着、スパッタ等して堆積させること等により形成可能である。この反射層１４を形成するための金属及び合金としては、金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、ＡｇＣｕなどが挙げられる。反射層１４は、その厚さが５０〜１２０ｎｍとなるように形成することが好ましい。
【００８５】
その後、反射層１４における基板１２に対して反対側の面上に、紫外線硬化樹脂などの材料を含む保護層形成の塗布液を塗布し、必要に応じて塗膜を乾燥させて保護層１５を形成し、片面光記録媒体３１を得る。こうして形成された保護層１５は、例えば、層状又はシート状の形状を有するものとなり、その厚さは、０．５〜１００μｍであると好ましい。保護層形成用の塗布液の塗布は、記録層１３を形成させる場合と同様、スピンコート法、グラビア塗布法、スプレーコート法、ディップコート法等により実施することができる。
【００８６】
片面光記録媒体３２は、上述した片面光記録媒体３１と同様にして得ることができる。そして、得られた２枚の片面光記録媒体３１，３２を、互いの保護層１５，２５同士が向き合うようにして、公知の接着剤を用いて貼り合わせる。これにより、片面光記録媒体３１と片面光記録媒体３２とが接着剤層５０を介して接着された光記録媒体１０が得られる。
【００８７】
なお、本発明の製造方法により得られる光記録媒体は、必ずしも上述したような二枚の片面光記録媒体を貼り合わせた態様である必要は無く、片面記録媒体単独の形態であってもよい。図２は、このような態様の光記録媒体、すなわち基板の片面に記録層を備える光記録媒体の断面構造を示す図である。図２に示す光記録媒体１は、基板２上に、記録層３と、反射層４と、保護層５と、接着剤層７と、ダミー基板６とがこの順に積層された構造を有している。基板２における記録層３に対向している側の面には、溝状のグルーブが形成されている。
【００８８】
このように、光記録媒体１においては、保護層５上に接着剤層７を介してダミー基板６が接着されており、これにより片面光記録媒体の形態で十分な強度が確保されるようになっている。上記構成を有する光記録媒体１は、上述した片面光記録媒体３１の製造と同様にして基板２、記録層３、反射層４及び保護層５を備える積層体を形成した後、保護層５上に接着剤層７を介してダミー基板６を接着することにより形成することができる。
【００８９】
さらに、上述した光記録媒体１、又は、光記録媒体１０における片面記録媒体３１，３２は、それぞれの基板上に単一の記録層が設けられた形態である必要はなく、複数層設けられた形態であってもよい。この場合、基板上に設けられた複数の記録層に、それぞれ異なる色素を含有させれば、波長が同一又は異なる複数の記録・再生光を用いることにより、各記録層に対してそれぞれ情報の記録・再生を行うことが可能となる。なお、かかる形態の光記録媒体においては、記録・再生光に対して透明である半透明反射膜を各々の記録層上に設けてもよい。
【実施例】
【００９０】
［塗布液の調製］
（実施例１〜８、比較例１〜３）
色素として、シアニン系化合物である上記化学式（１４ａ）で表される化合物、及び、キレート化合物である上記Ａ５の化合物を、これらのモル比が７０：３０となるように表７に示す溶媒にそれぞれ溶解して、実施例１〜８及び比較例１〜３の塗布液を調製した。なお、表中の色素濃度は、塗布液の総モル量に対する、シアニン化合物とキレート化合物との合計モル量を示している。
【００９１】
【表７】
2005305837.tif 000027
［光記録媒体の製造］
【００９２】
（実施例９）
直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート樹脂基板上に、スピンコート法により実施例１の塗布液を１５０ｎｍの厚さとなるように塗布した後、乾燥して記録層を形成した。
【００９３】
次に、記録層上にスパッタ法によりＡｇからなる反射層を形成した。反射層の厚さは、１００ｎｍとなるようにした。次いで、反射層上に、紫外線硬化型のアクリル樹脂をスピンコート法により厚さ５μｍとなるように塗布した後、紫外線を照射することにより硬化して保護層を形成した。そして、保護層上に接着剤層を介してダミー基板（厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート樹脂基板）を接着して、図２に示す構造の光記録媒体を得た。
【００９４】
（実施例１０〜１６、比較例４〜６）
実施例１の塗布液に代えて、実施例２〜８及び比較例１〜３の塗布液をそれぞれ用いたこと以外は、実施例９と同様にして実施例１０〜１６及び比較例４〜６の光記録媒体を製造した。
【００９５】
［特性評価］
（塗布液を塗布する際の基板への影響の評価）
実施例９〜１６及び比較例４〜６の光記録媒体の製造において、各実施例又は比較例に対応する塗布液を基板に塗布する際に、基板が塗布液に溶解するか否かを目視にて確認した。得られた結果を表８に示した。表中、溶解を生じなかったものを○で示した。
【００９６】
（反射率の変化率の測定）
実施例９〜１６及び比較例４〜６の光記録媒体に対して波長６５０ｎｍのレーザーを照射し、照射したレーザー（照射光）が光記録媒体によって反射された光（反射光）を検出して反射率を測定した。次いで、これらの光記録媒体を、温度８０℃、相対湿度８０％の環境に５０時間暴露した後、上記と同様にして反射率を測定した。そして、これらの結果に基づき、各光記録媒体について、上記環境に暴露する前後における反射率の変化率（％）を算出した。得られた結果を表８に示す。
【００９７】
（ジッターの変化率の測定）
実施例９〜１６及び比較例４〜６の光記録媒体の記録層に対し、波長６５５ｎｍのレーザーを用いて線速３．５ｍ／ｓ（等倍速に相当）又は２８．０ｍ／ｓ（８倍速に相当）で信号をそれぞれ記録し、次いで、波長６５０ｎｍのレーザーを用いて線速３．５ｍ／ｓで再生したときのジッターを測定した。その後、これらの光記録媒体を、温度８０℃、相対湿度８０％の環境に５０時間暴露した後、上記と同様の条件で再生したときのジッターを測定した。なお、このとき、レンズ孔径ＮＡは０．６０とした。これらの値に基づき、各光記録媒体について、上記環境に暴露する前後のジッターの変化率（％）を算出した。得られた結果を表８に示す。なお、等倍速で記録を行った場合と８倍速で記録を行った場合とでは、ジッターの変化率に大きな差が無かったことから、表８には８倍速の場合の結果のみを示した。
【００９８】
【表８】
2005305837.tif 000028
【００９９】
表８より、上記一般式（１）で表される化合物を含む塗布液（実施例１〜８）を用いて得られた光記録媒体（実施例９〜１６）は、かかる溶媒を含まない塗布液（比較例１〜３）を用いて得られた光記録媒体（比較例４〜６）に比して、反射率変化及びジッター変化が小さいことが判明した。これより、本発明の製造方法により得られた光記録媒体は、経時劣化し難いことが確認された。また、塗布液を塗布する際の基板の溶解は殆ど見られなかった。
【図面の簡単な説明】
【０１００】
【図１】実施形態の製造方法により製造された光記録媒体の断面構造を模式的に示す図である。
【図２】基板の片面に記録層を備える光記録媒体の断面構造を示す図である。
【符号の説明】
【０１０１】
１…光記録媒体、２…基板、３…記録層、４…反射層、５…保護層、６…ダミー基板、７…接着剤層、１０…光記録媒体、１２…基板、１３…記録層、１４…反射層、１５…保護層、２２…基板、２３…記録層、２４…反射層、２５…保護層、３１，３２…片面光記録媒体。
【図１】
2005305837.tif 000035
【図２】
2005305837.tif 000036