(57)【要約】  【課題】  パネル駆動時のアドレスミスの発生が少なく、高い画像品質を有し、且つ、高い発光効率を有するプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供する。  【解決手段】  各蛍光体層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂの表面には、これと放電空間３０とを隔てるように、蛍光体皮膜２６で被覆されている。そして、蛍光体層２５における放電空間３０側の表面を覆うように形成されている蛍光体皮膜２６は、ＭｅＦ2からなる層２６１と、ＭｅＦ2とＭｅＯとの混合相からなる層２６２との２層構造を有する。  ここで、Ｍｅとしては、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の少なくとも１種の元素を用いることができる。  【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電空間内に放電ガスが充填されてなる密閉容器を有し、当該密閉容器における放電空間を臨む一部領域に蛍光体層が形成されてなるプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記蛍光体層の表面上には、アルカリ金属の弗化物またはアルカリ土類金属の弗化物を含む皮膜が形成されている
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記蛍光体層は、互いに帯電特性が異なる赤色領域、緑色領域および青色領域から構成されており、当該３色の領域の内少なくとも１色の領域における帯電特性が負極性であり、
前記皮膜は、少なくとも前記負極性の帯電特性を有する色の領域上を覆っている
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記蛍光体層は、負極性の帯電特性を有する緑色領域と、正極性の帯電特性を有する赤色および青色の両領域とから構成されており、
前記皮膜は、前記緑色領域上を覆っている
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記緑色領域は、ジンクシリケート系の蛍光体から形成されている
ことを特徴とする請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記皮膜は、ＭｇＦ2、ＣａＦ2、ＢａＦ2、ＬｉＦ2で構成される群の中から選択された少なくとも一種を主成分として含む
ことを特徴とする請求項１から４の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前記皮膜は、アルカリ金属の酸化物またはアルカリ土類金属の酸化物も含んでおり、
当該皮膜の厚み方向において、その一部領域に前記弗化物と酸化物とが混合されてなる混合相が存在する構成を有する
ことを特徴とする請求項２から５の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
前記混合相においては、前記皮膜の厚み方向に弗素原子の分布比率が漸減または漸増し、これに伴い酸素原子の分布比率が漸増または漸減する
ことを特徴とする請求項６に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
前記厚み方向において、前記混合相内の弗素原子および酸素原子の各分布比率は、連続的に変化している
ことを特徴とする請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前記皮膜に含まれる酸化物は、前記弗化物における弗素原子が酸素原子に置換された関係を有する
ことを特徴とする請求項６から８の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記皮膜を平面視するとき、当該皮膜は、斑点状または縞状に形成されている
ことを特徴とする請求項１から９の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】
前記皮膜の被覆領域を平面視するとき、当該皮膜の被覆率は、当該被覆領域を含む１の放電セルで、前記放電空間に臨む表面での帯電特性が正極性となるように設定されている
ことを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
前記放電容器は、２枚のパネルが、間に前記放電空間を有する状態で対向配置され構成されており、一方のパネルに対をなすスキャン電極とサスティン電極とを有し、他方のパネルに前記スキャン電極およびサスティン電極と交差する方向にアドレス電極を有しており、
前記蛍光体層は、前記アドレス電極を備えるパネルの前記放電空間を臨む領域に形成されており、
前記皮膜は、前記蛍光体層の表面上における前記スキャン電極に近い領域にオフセットして形成されている
ことを特徴とする請求項１から１１の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】
基板の一方の主面における一部領域に蛍光体を含む蛍光体材料を層状に配し、当該蛍光体材料を焼成することで蛍光体層を形成する蛍光体層形成ステップと、
前記蛍光体層の表面上の一部に、アルカリ金属の弗化物またはアルカリ土類金属の弗化物を含む皮膜を形成する皮膜形成ステップとを備える
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１４】
前記蛍光体層形成ステップでは、赤色領域、緑色領域および青色領域の各々を区分けして形成し、
前記３色の領域の内少なくとも緑色領域の帯電特性が負極性であるときに、
前記皮膜形成ステップでは、少なくとも緑色領域上に皮膜を形成する
ことを特徴とする請求項１３に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１５】
前記蛍光体層形成ステップにおける緑色領域の形成においては、ジンクシリケート系の蛍光体を用いる
ことを特徴とする請求項１４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１６】
前記皮膜の形成後において、当該皮膜に対して酸素雰囲下で熱処理を所望時間施す熱処理ステップを備え、
前記熱処理ステップ後の皮膜では、当該皮膜の厚み方向において、表面から所望の深さまでの弗素原子が酸素原子に置換された酸化物が形成された状態となっており、一部領域に前記弗化物と酸化物とからなる混合相が存在する
ことを特徴とする請求項１４または１５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１７】
前記熱処理ステップでは、前記皮膜の表面での弗素原子から酸素原子への置換率が３０ｍｏｌ％以上６０ｍｏｌ％以下の範囲内となる状態に、熱処理を施す時間を設定する
ことを特徴とする請求項１６に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１８】
前記皮膜形成ステップでは、形成後における皮膜が、当該皮膜を平面視するときに、斑点状または縞状となるように前記皮膜の形成条件を設定する
ことを特徴とする請求項１３から１７の何れかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１９】
前記皮膜が形成されてなる前記基板を、対をなす状態にスキャン電極とサスティン電極とを形成した第２の基板に対して、間に空間を有する状態で対向配置し、外周部を封止する配置ステップを有しており、
前記皮膜形成ステップにおける前記皮膜の形成領域は、前記蛍光体層の表面上における前記スキャン電極に近い領域にオフセットして設定する
ことを特徴とする請求項１３から１８の何れかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２０】
前記皮膜形成ステップでは、ＭｇＦ2、ＣａＦ2、ＢａＦ2、ＬｉＦ2で構成される群の中から選択される少なくとも１種を、スパッタリング法または真空蒸着法を用いて蛍光体層の表面上の一部に前記弗化物からなる皮膜の形成を行う
ことを特徴とする請求項１３から１９の何れかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、普及が進む交流面放電型のプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」という。）は、前面パネルと背面パネルとが、間に隔壁を介した状態で対峙して配置され、２枚のパネルにおける互いの外周部どうしがフリットガラスなどによって封止された密閉容器構造を有している。両パネル間に形成され、隔壁によって仕切られた放電空間には、Ｎｅ−Ｘｅ系やＨｅ−Ｘｅ系などの放電ガスが、例えば、５３．２〜７９．８（ｋＰａ）の内圧で封入されている。
【０００３】
２枚のパネルの内、背面パネルは、背面基板をベースとし、この一方の主表面に、アドレス電極、誘電体層が順に形成され、その上に隣り合うアドレス電極間に隔壁が立設された構成を有する。また、背面パネルには、誘電体層と隣り合う一対の隔壁とで構成される溝の壁部分に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各蛍光体層が溝毎にわけて形成されている。ここで、緑色蛍光体層の形成には、種々の種類の蛍光体を用いることができるが、中でもジンクシリケート系蛍光体は、高い輝度、高い色純度が得られるということから一般に用いられている。
【０００４】
そして、ＰＤＰにおいては、前面パネルの表示電極対および背面パネルのアドレス電極に対して電圧を印加することによって、放電空間内で放電を生じさせ、これに伴って放電ガス中のＸｅから放出される紫外線を背面パネルの蛍光体層の蛍光体で可視光に変換して発光させ、画像の表示を行う。
このような構造のＰＤＰにおいては、画像表示のために一般的にフィールド内時分割階調表示方式が採用されており、初期化、書き込み、維持の各期間から構成される１フィールド（１６．６ｍｓｅｃ．）を表示時間単位としてしている。
【０００５】
ところで、従来のＰＤＰでは、駆動時の書き込み期間の際に、所望の電荷を蓄積できないアドレスミスが発生し、維持期間に維持放電が生じない、所謂、黒ノイズが発生することがある。特に、ジンクシリケート系蛍光体からなる緑色蛍光体層では、他の２色の蛍光体層と異なり、帯電特性が負極性となるためにアドレスミスを生じやすい傾向にある。
このような黒ノイズの対策として、特許文献１には、Ａｌ2Ｏ3などの金属酸化物膜で緑色蛍光体層の表面上を被覆するという技術が開示されている。この文献の技術は、蛍光体層の帯電特性が各色の蛍光体層を構成する蛍光体材料毎に異なり、パネル駆動時において蛍光体層を構成する蛍光体の種類毎にアドレスミスの生じやすさが異なる、という点に着目してなされたものである。即ち、緑色蛍光体層の表面を金属酸化物膜で被覆することによって、色間における蛍光体層の帯電特性の差異を少しでも緩和し、これによってアドレスミスの発生の抑制を図ろうとしている。
【特許文献１】特開平１１−８６７３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１のＰＤＰで皮膜として用いている金属酸化物膜は、帯電特性を変化させる効果を少しは有するものの、ＰＤＰ駆動時におけるアドレスミスの発生を抑制できるまでに帯電特性を変化させることは困難である。即ち、負極性の帯電特性を有するジンクシリケート系蛍光体からなる緑色蛍光体層の上に金属酸化物膜を被覆することでは、他の２色の蛍光体層における帯電特性との差異を小さくすることには限界があり、実際にアドレスミスの発生を低減することは難しい。特に、緑色蛍光体層をジンクシリケート系蛍光体から構成したときには、上記金属酸化物膜を形成するだけでは、他の二色との帯電特性における極性を揃えるまでには至らない。
【０００７】
また、特許文献１で用いられている金属酸化物膜は、紫外線透過率が低く、ＰＤＰの発光効率を低下させてしまう原因ともなる。これらのことから、上記特許文献１に係る技術を実際に採用することは困難である。
本発明は、このような問題を解決するためになされたものであって、パネル駆動時のアドレスミスの発生が少なく、高い画像品質を有し、且つ高い発光効率を有するプラズマディスプレイパネルおよびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明に係るＰＤＰは、次のような特徴を有する。
（１）放電空間内に放電ガスが充填されてなる密閉容器を有し、当該密閉容器における放電空間を臨む一部領域に蛍光体層が形成されてなるＰＤＰであって、蛍光体層の表面上には、アルカリ金属の弗化物またはアルカリ土類金属の弗化物（以下、「ＭｅＦ2」という。）を含む皮膜が形成されていることを特徴とする。
【０００９】
（２）上記（１）に係るＰＤＰであって、蛍光体層は、互いに帯電特性が異なる赤色領域、緑色領域および青色領域から構成されており、当該３色の領域の内少なくとも１色の領域における帯電特性が負極性であり、皮膜は、少なくとも負極性の帯電特性を有する色の領域上を覆っていることを特徴とする。
（３）上記（１）に係るＰＤＰであって、蛍光体層は、負極性の帯電特性を有する緑色領域と、正極性の帯電特性を有する赤色および青色の両領域とから構成されており、皮膜は、緑色領域上を覆っていることを特徴とする。
【００１０】
（４）上記（３）に係るＰＤＰであって、緑色領域は、ジンクシリケート系の蛍光体から形成されていることを特徴とする。
（５）上記（１）〜（４）の何れかに係るＰＤＰであって、皮膜は、ＭｇＦ2、ＣａＦ2、ＢａＦ2、ＬｉＦ2で構成される群の中から選択された少なくとも一種を主成分として含むことを特徴とする。
【００１１】
（６）上記（２）〜（５）の何れかに係るＰＤＰであって、皮膜は、アルカリ金属の酸化物またはアルカリ土類金属の酸化物（以下、「ＭｅＯ」という。）も含んでおり、当該皮膜の厚み方向において、その一部領域にＭｅＦ2とＭｅＯとが混合されてなる混合相が存在する構成を有する  ことを特徴とする。
（７）上記（６）に係るＰＤＰであって、混合相においては、皮膜の厚み方向に弗素原子の分布比率が漸減または漸増し、これに伴い酸素原子の分布比率が漸増または漸減することを特徴とする。
【００１２】
（８）上記（７）に係るＰＤＰであって、皮膜の厚み方向において、混合相内の弗素原子および酸素原子の各分布比率は、連続的に変化していることを特徴とする。
（９）上記（６）〜（８）の何れかに係るＰＤＰであって、皮膜に含まれるＭｅＯは、ＭｅＦ2における弗素原子が酸素原子に置換された関係を有することを特徴とする。即ち、ＭｅＯにおける「Ｍｅ」とＭｅＦ2における「Ｍｅ」とは同一元素である。
【００１３】
（１０）上記（１）〜（９）の何れかに係るＰＤＰであって、皮膜を平面視するとき、当該皮膜は、斑点状または縞状に形成されていることを特徴とする。
（１１）上記（１０）に係るＰＤＰであって、皮膜の被覆領域を平面視するとき、当該皮膜の被覆率は、当該被覆領域を含む１の放電セル全体として、放電空間に臨む表面での帯電特性が正極性となるように設定されていることを特徴とする。
【００１４】
（１２）上記（１）〜（１１）の何れかに係るＰＤＰであって、放電容器は、２枚のパネルが、間に前記放電空間を有する状態で対向配置され構成されており、一方のパネルに対をなすスキャン電極（以下、「ＳＣＮ電極」という。）とサスティン電極（以下、「ＳＵＳ電極」という。）とを有し、他方のパネルにＳＣＮ電極およびＳＵＳ電極と交差する方向にアドレス電極（以下、「Ａｄｒ電極」という。）を有しており、蛍光体層は、Ａｄｒ電極を備えるパネルの放電空間を臨む領域に形成されており、皮膜は、蛍光体層の表面上におけるＳＣＮ電極に近い領域にオフセットして形成されていることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明に係るＰＤＰの製造方法は、次のような特徴を有する。
（１３）基板の一方の主面における一部領域に蛍光体を含む蛍光体材料を層状に配し、当該蛍光体材料を焼成することで蛍光体層を形成し（蛍光体層形成ステップ）と、蛍光体層の表面上の一部に、ＭｅＦ2を含む皮膜を形成する（皮膜形成ステップ）ことを特徴とする。
【００１６】
（１４）上記（１３）に係るＰＤＰの製造方法であって、蛍光体層形成ステップでは、赤色（Ｒ）領域、緑色（Ｇ）領域および青色（Ｂ）領域の各々を区分けして形成し、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の領域の内少なくともＧ領域の帯電特性が負極性であるときに、皮膜形成ステップでは、少なくとも緑色領域上に皮膜を形成することを特徴とする。
（１５）上記（１４）に係るＰＤＰの製造方法であって、蛍光体層形成ステップにおけるＧ領域の形成においては、ジンクシリケート系の蛍光体を用いることを特徴とする。具体的なジンクシリケート系Ｇ蛍光体としては、例えば、ＺｎＳｉＯ4：Ｍｎ、Ｚｎ2ＧａＯ4：Ａｓ、Ｚｎ2ＧｅＯ4：Ｍｎ、Ｚｎ2ＧａＯ4：Ｍｎ等があげられる。
【００１７】
（１６）上記（１４）または（１５）に係るＰＤＰの製造方法であって、皮膜の形成後において、当該皮膜に対して酸素雰囲下で熱処理を所望時間施す熱処理ステップを備え、熱処理ステップ後の皮膜では、当該皮膜の厚み方向において、表面から所望の深さまでの弗素原子が酸素原子に置換された酸化物が形成された状態となっており、一部領域にＭｅＦ2とＭｅＯとからなる混合相が存在することを特徴とする。
【００１８】
（１７）上記（１６）に係るＰＤＰの製造方法であって、熱処理ステップでは、皮膜の表面での弗素原子から酸素原子への置換率が３０（ｍｏｌ％）以上６０（ｍｏｌ％）以下の範囲内となる状態に、熱処理を施す時間を設定することを特徴とする。
（１８）上記（１３）〜（１７）の何れかに係るＰＤＰの製造方法であって、皮膜形成ステップでは、形成後における皮膜が、当該皮膜を平面視するときに、斑点状または縞状となるように皮膜の形成条件を設定することを特徴とする。
【００１９】
（１９）上記（１３）〜（１８）の何れかに係るＰＤＰの製造方法であって、皮膜が形成されてなる基板を、対をなす状態にＳＣＮ電極とＳＵＳ電極とを形成した第２の基板に対して、間に空間（放電空間）を有する状態で対向配置し、外周部を封止する配置ステップを有しており、皮膜形成ステップにおける皮膜の形成領域は、蛍光体層の表面上におけるＳＣＮ電極に近い領域にオフセットして設定することを特徴とする。
【００２０】
（２０）上記（１３）〜（１９）の何れかに係るＰＤＰの製造方法であって、皮膜形成ステップでは、ＭｇＦ2、ＣａＦ2、ＢａＦ2、ＬｉＦ2で構成される群の中から選択される少なくとも１種を、スパッタリング法または真空蒸着法を用いて蛍光体層の表面上の一部にＭｅＦ2からなる皮膜の形成を行うことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係るＰＤＰでは、蛍光体層の表面上にＭｅＦ2を含む皮膜を形成しているので、上記従来のＰＤＰのように金属酸化物膜を形成する場合に比べて、飛躍的にアドレスミスの発生を抑制することができ、高い画像品質が得られる。即ち、上記特許文献１に係るＰＤＰのように緑色蛍光体層の表面上に金属酸化物膜（例えば、Ａｌ2Ｏ3からなる。）を形成した場合に比べて、皮膜で覆った部分での帯電特性を正極性へと変化させることができる。これより、蛍光体層の帯電特性にかかわりなく、蛍光体層の内、負極性の帯電特性を有する領域にＭｅＦ2の皮膜を形成することで、皮膜表面での帯電特性を正極性とすることができ、パネル全体における放電空間を望む表面の帯電特性を正極性に揃えることができる。従って、本発明では、帯電特性にかかわりなく高い輝度、高い色純度を有する蛍光体を選択的に用いて蛍光体層を形成し、且つ、アドレスミスが生じ難いという優位性を有するＰＤＰを実現できるものである。
【００２２】
また、ＭｅＦ2は、Ａｌ2Ｏ3等の金属酸化物で形成した皮膜に比べて紫外線の透過率が大きく、蛍光体層上にＭｅＦ2からなる皮膜を形成したとしても、実質的に問題となるレベルの発光効率の低下を招くことはない。
また、パネルの製造において、放電空間内に微量の水分が残留している場合には、蛍光体層の劣化を招く原因となるが、本発明に係るＰＤＰでは、撥水性能も有するＭｅＦ2を蛍光体層上に形成しているので、少なくとも皮膜で覆われた領域の蛍光体層については水分の影響による劣化が抑制されることになる。
【００２３】
さらに、本発明に係るＰＤＰの製造方法は、上記本発明に係るＰＤＰを簡易に製造することができる。
なお、本発明に係るＰＤＰでは、Ｇ蛍光体層の構成要素としてジンクシリケート系蛍光体を用いる場合に、特に効果的である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下では、本発明を実施するための最良の形態について、交流面放電型のＰＤＰを一例として、図面に基づいて説明する。ただし、以下で説明の実施の形態については、本発明の構成・作用等を説明するために用いる一例であって、本発明がこれらの構成等に限定を受けるものではないことを前言しておく。
（実施の形態１）
１−１．ＰＤＰ１の全体構成
本実施の形態に係るＰＤＰ１の全体構成について、図１を用い説明する。図１は、ＰＤＰ１の要部斜視図であって、表示領域の一部を抜き出して示している。
【００２５】
図１に示すように、ＰＤＰ１は、大きく分けて前面パネル１０と背面パネル２０とから構成されている。この内、前面パネル１０は、前面基板１１の一方の主面（図１においては、Ｚ方向下側に向く主面）に表示電極対１２（各々がＹ方向に延びるサスティン電極（以下、「ＳＵＳ電極」という。）１２ａとスキャン電極（以下、「ＳＣＮ電極」という。）１２ｂとで対を形成。）がＸ方向に複数対形成され、この表示電極対１２が形成された側の前面基板１１の主面を覆うように誘電体層１３、誘電体保護層１４が順に形成され構成されている。ここで、ＳＵＳ電極１２ａおよびＳＣＮ電極１２ｂは、例えば、銀（Ａｇ）を主成分とする金属材料から形成され、誘電体層１３は、例えば、鉛系の低融点ガラスから形成されている。また、誘電体保護層１４は、例えば、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）により形成されている。
【００２６】
なお、ＳＵＳ電極１２ａおよびＳＣＮ電極１２ｂの各々については、上述のような金属材料から構成された構造のほか、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）とバスラインとを組み合わせた構造や、クロム（Ｃｒ）−銅（Ｃｕ）−クロム（Ｃｒ）の積層構造を有するものとしてもよい。
また、誘電体保護層１４の形成にあたっては、斜め蒸着法を用いてもよいし、また、重量密度を単結晶材料の７０〜８５（％）の範囲内に設定しておいてもよい。
【００２７】
一方、背面パネル２０は、背面基板２１の一方の主面（図１においては、Ｚ方向上側に向く主面）にアドレス電極（以下、「Ａｄｒ電極」という。）２２がストライプ状に形成され、このＡｄｒ電極２２が形成された側の背面基板２１の主面を覆うように誘電体層２３が形成され構成されている。また、誘電体層２３の面上には、隣り合うＡｄｒ電極２２とＡｄｒ電極２２との間隙に合わせた部分に隔壁２４がそれぞれ立設されており、誘電体層２３および隣り合う２条の隔壁２４で形成される溝の壁面に、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各蛍光体層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂが溝毎に分けて形成されている。そして、各蛍光体層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂの表面は、これと放電空間３０とを隔てるように、蛍光体皮膜２６で被覆されている。この蛍光体皮膜２６については、本実施の形態における特徴的な部分であり、後述する。
【００２８】
なお、背面パネル２０におけるＡｄｒ電極２２は、上記前面パネル１０におけるＳＵＳ電極１２ａ、ＳＣＮ電極１２ｂと同様に、例えば、Ａｇを主成分とする金属材料から形成されている。また、誘電体層２３は、上記前面パネル１０の誘電体層１３と同様に鉛系の低融点ガラスを主名材料として形成されているが、可視光等の反射効率を考慮して、酸化チタン（ＴｉＯ2）が含有されている。各色の蛍光体層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂの形成にあたっては、例えば、以下のような蛍光体材料を用いることができる。
【００２９】
赤色（Ｒ）蛍光体；（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ
緑色（Ｇ）蛍光体；Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ
青色（Ｂ）蛍光体；（Ｂａ、Ｅｕ）ＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ
前面パネル１０と背面パネル２０とは、各パネルの外周部どうしでフリットガラスをもって封着されている。そして、パネル１０、２０間に形成された放電空間３０には、ヘリウム（Ｈｅ）、キセノン（Ｘｅ）、ネオン（Ｎｅ）などの不活性ガス成分からなる放電ガス（ペニング混合ガス）が所定の圧力（例えば、５３．２〜７９．８ｋＰａ）で封入されている。
【００３０】
１−２．蛍光体皮膜２６の構成
次に、本実施の形態に係るＰＤＰ１において、最も特徴を有する部分である蛍光体皮膜２６の構成について、図２および図３の両図を用いて説明する。図２は、上記図１におけるＡ部を拡大して示した図であり、図３は、蛍光体皮膜２６中における酸素原子の分布比率（酸素原子と弗素原子との総和に対する酸素原子の比率；ｍｏｌ％）を示すグラフである。
【００３１】
まず、図２に示すように、蛍光体層２５における放電空間３０側の表面を覆うように形成されている蛍光体皮膜２６は、図の拡大部分に示す通り、ＭｅＦ2からなる第１層２６１と、ＭｅＦ2とＭｅＯとの混合相からなる第２層２６２との２層構造を有する。
ここで、Ｍｅとしては、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の少なくとも１種の元素を用いることができるが、次にあげる元素群から選択される少なくとも１種を示すものを用いることが望ましい。
【００３２】
Ｍｅ；Ｍｇ、Ｃａ、Ｂａ、Ｌｉ
なお、Ｍｅは、上記元素群の中から選択される１種類である必要は必ずしもなく、複数種のものを選択することとしてもよい。
図２の拡大部分に示すように、第１層２６１は、層厚みＴ１を有し、蛍光体層２５の表面に接している。また、第２層２６２は、第１層２６１の外側（放電空間３０側）表面に積層された状態にあり、層厚みＴ２を有する。そして、蛍光体皮膜２６は、全体として膜厚みＴを有している。
【００３３】
蛍光体皮膜２６の膜厚みＴは、例えば、１０００（ｎｍ）以下としておくことが望ましい。これは、仮に蛍光体皮膜２６の膜厚みＴを１０００（ｎｍ）以上とした場合には、紫外線損失が大きくなってしまい、ＰＤＰ１の発光効率の低下を招くおそれが生じるためである。例えば、膜厚みＴを１０００（ｎｍ）以下に設定している場合では紫外線損失を最大約５％以下に抑えることができるが、膜厚みＴを１０００（ｎｍ）を少し超える１１００（ｎｍ）に設定した場合では、紫外線損失は３０％と急激に紫外線損失が大きくなる。
【００３４】
次に、蛍光体皮膜２６を構成する２つの層２６１、２６２の内、第１層２６１については、上述のようにＭｅＦ2の組成からなり、層中で均質であるのに対して、その上にある第２層２６２については、ＭｅＦ2とＭｅＯの混合相からなるが、膜厚み方向、即ち、膜表面２６ｆ２から蛍光体層２５との界面２６ｆ１への方向に不均質となっている。具体的には、第２層２６２中においては、膜表面２６ｆ２の側から膜界面２６ｆ１の側に向けた方向に、組成中の酸素原子の分布比率が漸減するとともに、その分、弗素原子の分布比率が漸増する。これについて、図３を用いて説明する。
【００３５】
図３に示すように、蛍光体皮膜２６の膜表面２６ｆ２においては、酸素原子と弗素原子との総和に対する酸素原子の比率（以下、単に「酸素原子の比率」という。）が略７０（ｍｏｌ％）に設定されている。そして、この酸素原子の比率は、蛍光体層２５との界面２６ｆ１の側にゆくほど、漸減している。蛍光体皮膜２６における第２層２６２の酸素原子は、連続的に減少しており、その減少度合いは、図３にも示す通り、ｎ次関数的（ｎ≧２）あるいは指数関数的なものとなっている。
【００３６】
酸素原子の比率は、膜表面２６ｆ２からの深さがＴ２となる第１層２６１と第２層２６２との境界で略０（ｍｏｌ％）となる。そして、蛍光体皮膜２６における境界より界面２６ｆ１側の範囲では、組成がＭｅＦ2のみからなる第１層２６１が存在することになる。ただし、第１層２６１においても、不純物レベル（例えば、１０ｐｐｍ未満のレベル）の酸素原子が存在する。即ち、第１層２６１中および第２層２６２における第１層２６１との境界部分での酸素原子の比率は、限りなく０（ｍｏｌ％）になっているが、完全な０（ｍｏｌ％）ではない。図３においては、これら部分での酸素原子の比率を、便宜上、０（ｍｏｌ％）として表している。
【００３７】
なお、蛍光体皮膜２６の構成については、上記に限定されるものではない。例えば、膜表面２６ｆ２側にＭｅＯからなる層、蛍光体層２５との界面２６ｆ１側にＭｅＦ2からなる層、そして、この間に上記第1層と同様のＭｅＯとＭｅＦ2との混合相からなる領域が存在するような構成とすることも可能であり、さらには、ＭｅＯからなる層とＭｅＦ2からなる層とが反転するような構成としてもよい。そして、間に形成される混合相からなる領域においては、酸素原子および弗素原子の分布比率が漸減および漸増するような構成としておけばよい。ただし、蛍光体皮膜中にＭｅＯからなる層を形成、特に膜表面部分に形成した場合には、ＭｅＯにおける紫外線透過率に低さに起因して、ＰＤＰの発光効率が低下することが避けられない。よって、上記図３に示すように、膜表面２６ｆ２においてもＭｅＦ2とＭｅＯとの混合相が存在する構成としておくことが望ましい。
【００３８】
また、第２層２６２の厚みＴ２については、５（ｎｍ）以上１００（ｎｍ）以下としておくことが望ましい。これは、第２層２６２に含まれるＭｅＯは、紫外線透過率はＭｅＦ2と比べて低いが、イオン衝撃からの蛍光体層の保護という面で優れる。この両特性を加味し、パネルとしての望ましい範囲として、上記厚みＴ２の範囲が規定される。
蛍光体皮膜２６における膜表面２６ｆ２での酸素原子の比率については、上記理由から、６０（ｍｏｌ％）以下としておくことが望ましい。例えば、膜表面２６ｆ２における酸素原子の比率が１００（ｍｏｌ％）、即ち、膜表面２６ｆ２の部分にＭｅＯの層が形成されている場合には、紫外線の透過率は、６０となり、ＰＤＰを構成する上で実用的ではないのに対して、膜表面２６ｆ２における酸素原子の比率を６０（ｍｏｌ％）とした場合には、紫外線の透過率は６０となり、ＰＤＰを構成する上で許容されるレベルとなる。
【００３９】
１−３．ＰＤＰ１の駆動方法
次に、ＰＤＰ１の駆動方法について、図４を用いて説明する。図４は、フィールド内時分割階調表示方式をもって、例えば、２５６階調を表現するために１フィールドを８つのサブフィールドＳＦ１〜ＳＦ８に分割してＰＤＰ１の駆動方法を示すものであって、横軸が時間を示している。なお、各電極１２ａ、１２ｂ、２２には、駆動回路（不図示）からの信号ラインが接続されており、駆動回路における各ドライバからパルス信号が印加される構成となっている（これらの構成については、説明を省略する。）。
【００４０】
図４に示すように、本実施の形態に係るＰＤＰ１を駆動する方法では、１フィールドを８つのサブフィールドＳＦ１〜ＳＦ８に分割し、各サブフィールドの輝度相対比率が１：２：４：８：１６：３２：６４：１２８となるように維持パルス数が設定されている。そして、各サブフィールドＳＦ１〜ＳＦ８の点灯（ＯＮ）／非点灯（ＯＦＦ）を表示輝度のデータに従って制御することにより、８つのサブフィールドの組み合わせをもって２５６階調が表示可能になっている。なお、本実施の形態においては、ＰＤＰ１を２５６階調で制御し駆動するものであるが、勿論これに限定を受けるものではない。
【００４１】
各サブフィールドは、一定の時間を割り当てられた初期化期間Ｔ1、書き込み期間Ｔ2と、輝度の相対比率に応じた長さの時間で設定された維持期間Ｔ3とから構成されている。例えば、本実施の形態に係るＰＤＰ１の表示駆動を行う際には、まず、初期化期間Ｔ1において、ＰＤＰ１の全放電セルにおいて初期化放電を発生させ、これによって当該サブフレームよりも前のサブフィールドで行われた放電による影響の除去や放電特性のバラツキを吸収するための初期化が実施される。
【００４２】
次に、書き込み期間Ｔ2において、サブフィールドデータに基づいてＳＣＮ電極１２ｂ（１）〜１２ｂ（ｋ）を１ライン毎に順にスキャンして各電極１２ａ、１２ｂ、２２に対して各パルス３００、３１０、３２０を印加して行き、当該サブフィールドで維持放電を生じさせたい放電セルに対して、ＳＣＮ電極１２ｂとＡｄｒ電極２２との間で微少な放電を発生させる。このようにＳＣＮ電極１２ｂとＡｄｒ電極２２との間で微少な放電を生じた放電セルでは、前面パネル１０の誘電体保護層１４の表面に壁電荷が蓄えられる。
【００４３】
その後、維持期間Ｔ3において、ＳＵＳ電極１２ａおよびＳＣＮ電極１２ｂに対し、所定の電圧、所定の周期（例えば、２．５μｓｅｃ．）で矩形波の維持パルス３００、３１０を印加する。ＳＵＳ電極１２ａに印加する維持パルス３００と、ＳＣＮ電極１２ｂに印加する維持パルス３１０とは、互いに同一の周期を有し、且つその位相が半周期ずれた状態となっており、ＰＤＰ１における全放電セルに対して同時に印加される。
【００４４】
以上のようにして、ＰＤＰ１の表示駆動がなされる。
１−４．ＰＤＰ１の優位性
本実施の形態に係るＰＤＰ１の優位性について、図５を用い、蛍光体皮膜を有さない従来のＰＤＰとの比較で説明する。図５は、（ａ）が本実施の形態に係るＰＤＰ１における書き込み期間Ｔ2後における放電セル内の帯電状態を模式的に示す図であり、（ｂ）が従来のＰＤＰにおける書き込み期間直後の帯電状態を示す図である。なお、両ＰＤＰは、ともに緑色蛍光体層がジンクシリケート系の蛍光体から構成されており、この領域においては負極の帯電特性を有している。また、蛍光体皮膜２６の有無以外に、構成上の差異はない。
【００４５】
先ず、図５（ｂ）に示すように、緑色蛍光体層が負極性の帯電特性を有していることから、蛍光体皮膜２６を有していない従来のＰＤＰでは、書き込み期間Ｔ2において、ＳＣＮ電極５１２ｂ上の領域５３０ｂに電荷の蓄積がなされない。即ち、図５（ｂ）の従来のＰＤＰでは、負極性の帯電特性を有する蛍光体層が放電空間５３０に露出された状態にあり、この露出された表面５３０ｃの帯電特性の影響を受けて、ＳＣＮ電極５１２ｂ上の電荷が相殺されてしまう状態となりアドレスミスを生じる。このような状況となった場合には、維持期間Ｔ3において、ＳＵＳ電極５１２ａおよびＳＣＮ電極５１２ｂの間での放電が生じることはなく、黒ノイズを発生することになる。
【００４６】
これに対して、図５（ａ）に示すように、ＰＤＰ１では、蛍光体層２５の上を蛍光体皮膜２６で覆うことによって、背面パネル２０における放電空間３０を臨む表面３０ｃが正極性の帯電特性を有するに至る。よって、書き込み期間Ｔ２の後において、前面パネル１０における放電空間３０を臨む表面におけるＳＵＳ電極１２ａ上の領域３０ａに負の電荷、ＳＣＮ電極１２ｂ上の領域３０ｂに正の電荷が十分に蓄積されることになる。即ち、ＰＤＰ１では、アドレスミスを生じることはなく、維持期間Ｔ3において所望の放電セルで確実に維持放電を生じさせることができる。
【００４７】
蛍光体皮膜２６を形成する前の状態での各蛍光体層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂの各表面における表面電位は、約２５（ｍＶ）、約−２０（ｍＶ）、約３０（ｍＶ）であったのに対し、蛍光体皮膜２６を形成した後においては、蛍光体皮膜２６の表面は下の蛍光体層２５の帯電特性にかかわらず、一様に約４０（ｍＶ）の値を示す。
また、本実施の形態に係るＰＤＰ１では、蛍光体皮膜２６の構成材料としてＭｅＦ2だけでなくＭｅＯも含んでいるので、パネル駆動時における水分およびイオン衝撃の両影響から蛍光体層２５を保護する機能を有し、駆動が長期に及んでも、蛍光体層２５を構成する蛍光体の劣化が抑制される。なお、蛍光体皮膜２６には、紫外線透過率の低いＭｅＯが含まれているが、上記図３のように、ＭｅＦ2とＭｅＯとの混合相を有し、且つ、混合相内でＭｅＦ2およびＭｅＯの分布割合が連続的に変化するように設定しているので、紫外線および可視光の反射損失を最小に止めることができる。よって、蛍光体皮膜２６は、ＭｅＦ2とＭｅＯとの物質特性上の明確な界面が存在せず、膜の成分としてイオン衝撃に強いＭｅＯを含んでいても、上記特許文献１のＰＤＰのようにパネルの発光効率が小さくなってしまうことがない。
【００４８】
従って、本実施の形態に係るＰＤＰ１では、輝度および色純度が高い材料からなる蛍光体層を備えながら、アドレスミスの発生が少なく高い画像品質を有し、且つ高い発光効率を有するという優位性を有する。
なお、蛍光体皮膜２６中にＭｅＯを含むことでＭｅＦ2のみからなる膜に比べて膜の紫外線透過率が低下することにはなるが、上述のようにイオン衝撃の影響から蛍光体層２５を保護するという付加的な優位性を得ることができる。
【００４９】
１−５．蛍光体皮膜２６の形成方法
次に、ＰＤＰ１に製造の中でも、本実施の形態で特徴を有する蛍光体皮膜２６の形成方法について、図６を用いて説明する。なお、以下で説明する蛍光体皮膜２６の形成以外の部分については、従来からのＰＤＰの製造方法を適用することができるので、ここでの説明は省略する。
【００５０】
図６（ａ）に示すように、背面基板２１上にＡｄｒ電極２２をストライプ状に形成し、その上をＴｉＯ2を含む誘電体層２３で覆った後、隔壁２４を立設し、蛍光体層２５を形成する。ここまでの工程は、上述の通り、公知のものである。そして、このように形成された蛍光体層２５の表面に対して、スパッタリング法を用いて、ＭｅＦ2からなる厚みＴの前駆体膜２６０を形成する（前駆体膜形成ステップ）。蛍光体層２５の表面上に前駆体膜２６０を形成した状態は、図６（ｂ）に示す通りである。
【００５１】
図６（ｂ）に示すように、前駆体膜２６０の両端部は、一部隔壁２４の表面にまで達する状態となっている。
次に、この前駆体膜２６０に対して、酸素雰囲気下において、熱処理（例えば、約４５０℃の温度で、１５ｍｉｎ．）を実施する。この工程によって、前駆体膜２６０を構成するＭｅＦ2の組成中における弗素原子は、膜表面の側から酸素原子に置換されてゆく。ここで、熱処理として、アニール処理を施してもよい。この場合には、スパッタリング法でＭｅＦ2からなる前駆体膜２６０を形成した際に、一部分のＭｅＦ2における弗素原子が欠損し、アニール処理によりこの欠損部分に酸素原子が埋め込まれるという原理をもって、ＭｅＦ2とＭｅＯとからなる混合相の形成が可能となる。
【００５２】
図６（ｃ）に示すように、熱処理工程後においては、ＭｅＦ2からなる第１層２６１と、ＭｅＦ2とＭｅＯとの混合相からなる第２層２６２とから構成される蛍光体皮膜２６の形成が行われる（皮膜形成ステップ）。
具体的な一例を示すと、第１層２６１および第２層２６２におけるＭｅがマグネシウム（Ｍｇ）、膜厚みＴ＝１５（ｎｍ）とする場合には、図６（ａ）〜（ｃ）の条件で、上記図２における第１層２６１の層厚みＴ１＝８（ｎｍ）、第２層２６２の層厚みＴ２＝７（ｎｍ）となる。また、この条件で熱処理を施すことで、膜表面２６ｆ２の組成中における酸素原子の比率（酸素原子と弗素原子との総和に対する酸素原子の比率）は、上記図３のように、略７０（ｍｏｌ％）となる。
【００５３】
蛍光体皮膜２６における第１層２６１、第２層２６２の各層の層厚み、および、第２層２６２の組成中における酸素原子の分布比率等に関しては、上記図６（ｂ）から図４（ｃ）に至る間の熱処理の条件、具体的には、熱処理温度、熱処理時間、雰囲気中の酸素濃度等の設定によって変化させることができる。
なお、本実施の形態においては、蛍光体皮膜２６の形成にあたって、上述のように酸素雰囲気中で熱処理を実施することとしたが、酸素プラズマ中で熱処理を施すこととしてもよい。この場合には、熱処理時における処理温度をより低く、処理時間をより短くすることが可能となり、熱処理時における背面基板２１などへの悪影響をより確実に除外することができる。
【００５４】
また、上記図６（ｂ）のように前駆体膜２６０の形成後に、この前駆体膜２６０に対して酸素原子をイオン注入し、その後に、上述のように、所望の温度（例えば、４００℃）でアニールすることによっても、蛍光体皮膜２６を形成することが可能である。このようにイオン注入およびアニールという方法を用いて蛍光体皮膜２６を形成する場合には、上記実施の形態の熱処理（４５０℃）での形成の場合に比べて、より低い温度を背面基板２１等に付加するだけでよく、品質および製造コストなどの面から優位である。
【００５５】
さらに、上記図６（ａ）から図６（ｂ）に至る前駆体膜２６０の形成にあたっては、上記においてはスパッタリング法を用いることとしたが、これ以外の方法、例えば、電子ビーム蒸着法などを用いることも可能である。
（実施の形態２）
２−１．ＰＤＰ２の構成および作用・効果
次に、本発明に係る実施の形態２のＰＤＰ２の構成について、上記ＰＤＰ１との相違点を主として、図７を用いて説明する。図７は、ＰＤＰ２の要部断面図である。
【００５６】
図７に示すように、ＰＤＰ２では、背面パネル４０に形成されている３色の蛍光体層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂの内、負極性の帯電特性を有する緑色蛍光体層２５Ｇの表面だけが蛍光体皮膜２７で覆われた構成を有している。なお、各蛍光体層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂを構成する蛍光体材料については、上記実施の形態１と同様であり、蛍光体皮膜２７は、負極性の帯電特性を有するジンクシリケート系蛍光体（Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ）からなる緑色蛍光体層２５Ｇの表面だけを被覆している。
【００５７】
緑色蛍光体層２５Ｇの表面にのみ形成される蛍光体皮膜２７については、紫外線の透過性に優れるＭｅＦ2（例えば、ＭｇＦ2、ＣａＦ2、ＢａＦ2、ＬｉＦ2など。）で構成されており、ＭｅＯは含んでいない。ただし、その形成過程において不純物レベルでＭｅＦ2以外の組成物を含むことがあるが、本実施の形態は不純物レベルでの他の物質の含有までも排除するものではない。また、蛍光体皮膜２７の膜厚その他については、上記構成以外に蛍光体皮膜２６との差異はない。
【００５８】
このように緑色蛍光体層２５Ｇの表面のみを蛍光体皮膜２７で被覆することで、ＰＤＰ２においては、アドレスミスの発生の低減とパネルの発光効率の低下抑制とを両立させることができる。即ち、上記ＰＤＰ１と同様にそれ自体が負極性の帯電特性を有する緑色蛍光体層２５Ｇの表面をＭｅＦ2からなる蛍光体皮膜２７で被覆することで、この部分における放電空間３０に露出される表面での帯電特性が正極性へと変化し、書き込み期間Ｔ2におけるアドレスミスの発生を抑制することができる。そして、蛍光体皮膜２７は、ＭｅＯを含まないＭｅＦ2だけから構成され、紫外線の透過率については、上記ＰＤＰ１よりも優れる。
【００５９】
また、ＰＤＰ２では、元々正極性の帯電特性を有する赤色蛍光体層２５Ｒ、青色蛍光体層２５Ｂの表面に蛍光体皮膜２７を被覆していないので、蛍光体皮膜２７の形成による紫外線および可視光の透過率の低下が発生することがない。
２−２．ＰＤＰ２が有する優位性の確認
上記の特許文献１のように緑色蛍光体層の表面をＡｌ2Ｏ3などの金属酸化物膜で被覆した場合と、ＰＤＰ２のようにＭｅＦ2からなる蛍光体皮膜２７で被覆した場合との各々における帯電特性の変化度合いを次表に示す。
【００６０】
【表１】
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表１に示すように、本実施の形態に係るＰＤＰ２のようにＭｅＦ2からなる蛍光体皮膜２７を緑色蛍光体層２５Ｇの表面に被覆形成することで、負極性であった帯電特性が正極性へと変化しているのに対して、上記特許文献１に係るＰＤＰのように金属酸化物からなる皮膜を形成した場合には、放電空間３０を望む表面の帯電特性を正極性まで変化させることはできない。具体的には、表１に示すように、蛍光体皮膜の材料としてＭｅＦ2を用いた場合には、皮膜形成前に負極性の「−４８」であった帯電特性が、皮膜形成後には、正極性の「３２」まで変化させることができた。これに対して、金属酸化物であるＡｌ2Ｏ3を材料とする皮膜を形成した場合には、皮膜形成後においても、帯電特性は「−１０」までしか変化させることができず、正極性へ変化させるには至らなかった。
【００６１】
従って、弗化物であるＭｅＦ2からなる蛍光体皮膜２７を有するＰＤＰ２では、金属酸化物からなる皮膜を有する従来のＰＤＰではなし得なかったアドレスミスの発生を確実に抑制するという効果を得ることができる。これは、次のような要因によるものであると考えられる。
金属酸化物であるＡｌ2Ｏ3は、紫外線、特に短波長紫外線の透過率が低いという性質を有しており、これを用いた蛍光体皮膜で蛍光体層表面を被覆した場合には、パネルの発光効率が低いものとなってしまう。また、例えば、パネルの発光効率の低下を抑えながら金属酸化物からなる皮膜を形成しようとする場合には、その被覆比率を小さなものとしなければならず、負極性の帯電特性を正極性まで変化させることはできない。つまり、パネルの発光効率を低下させることなく、アドレスミスの発生を抑制するためには、蛍光体皮膜の構成材料として金属酸化物を用いることは困難であるといえる。
【００６２】
これに対して、弗化物であるＭｅＦ2は、紫外線の透過率が高いという特性を有し、このために蛍光体層表面の広い領域を被覆した場合にもパネルの発光効率を低下させる原因とはならない。これより、ＭｅＦ2からなる蛍光体皮膜２７を形成したＰＤＰ２では、緑色蛍光体層２５Ｇの表面における帯電特性を負極性から正極性へと変化させることができ、且つ、パネルの発光効率も維持される。
【００６３】
なお、ＰＤＰ２においては、上述のように、蛍光体皮膜２７をＭｅＦ2からなる単一膜として構成したが、上記ＰＤＰ１における蛍光体皮膜２６と同様の構成を有するものとすることもできる。
（実施の形態３）
３−１．ＰＤＰ３の構成および作用・効果
次に、実施の形態３に係るＰＤＰ３の構成について、図８を用いて説明する。図８は、（ａ）がＰＤＰ３の要部断面図であり、（ｂ）がＰＤＰ３における背面パネル５０を放電空間３０の側から見た平面図である。
【００６４】
図８（ａ）に示すように、本実施の形態３に係るＰＤＰ３では、蛍光体皮膜２８は、３色全ての蛍光体層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂの表面上に形成されているが、ＰＤＰ３における蛍光体皮膜２８が上記蛍光体皮膜２６、２７と相違する点は、蛍光体層２５の全表面を覆っておらず、蛍光体層２５が放電空間３０に露出している部分がある点にある。なお、本実施の形態に係る蛍光体皮膜２８は、上記蛍光体皮膜２７と同様に、ＭｅＦ2から構成されており、酸化物であるＭｅＯを含んでいない。
【００６５】
図８（ｂ）に示すように、蛍光体皮膜２８は、蛍光体層２５の表面上に斑点状または縞状に形成されており、それ以外の領域には、蛍光体層２５の表面が放電空間３０に露出された状態を有する。蛍光体層２５の表面に対する蛍光体皮膜２８の被覆比率については、放電セル単位での平均として帯電特性が正極性となる範囲に設定されている。即ち、蛍光体皮膜２８の被覆率については、被覆される蛍光体層２５の帯電特性を予め把握しておき、これを考慮の上、平均的に帯電特性が正極性となるように設定することができる。
【００６６】
このように蛍光体層２５上に斑点状に蛍光体皮膜２８を形成するのは、紫外線および可視光の透過率をできるだけ低下させることなく、アドレスミスの発生を抑制するためである。つまり、蛍光体層表面２５における蛍光体皮膜２８で被覆されていない領域では、紫外線および可視光の透過率が略１００（％）確保され、斑点状に被覆形成された蛍光体皮膜２８によって、放電セル単位での平均として帯電特性が正極性へと変換される。
【００６７】
なお、蛍光体皮膜２８の形成形態については、必ずしも図８に示す斑点状である必要はなく、例えば、縞状などにすることによっても同様の効果を得ることができる。
また、各蛍光体層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂの表面上における蛍光体皮膜２８の被覆率については、各蛍光体層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂの帯電特に基づいて変化させることもできる。このように各色の蛍光体層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂ毎に被覆率を変化させることで、より発光効率の高いＰＤＰを得ることが可能となる。
【００６８】
３−２．蛍光体皮膜２８を形成した場合の表面電位とＰＤＰ３の放電開始電圧との関係
次に、上記のように斑点状の蛍光体皮膜２８を形成した場合において、その表面電位とパネルの放電開始電圧との関係について、図９を用いて説明する。図９では、蛍光体皮膜２８の被覆率を変化させることで表面電位の値を複数の水準で変化させ、各々のパネルでの放電開始電圧を測定し、各々を対応付けてプロットしている。
【００６９】
図９に示すように、パネルの放電開始電圧は、表面電位が０（ｍＶ）近傍を境として変化し、表面電位が約−５０（ｍＶ）未満では、約２００（Ｖ）であった放電開始電圧が、表面電位が約３０（ｍＶ）になると約１６０（Ｖ）程度まで低下する。即ち、パネルの放電の容易性は、表面電位が正極性であるか負極性であるかによって大きく異なり、少なくとも帯電特性を正極性とすることで放電開始を容易にすることができる。
【００７０】
また、実験データを示していないが、書き込み期間Ｔ2におけるアドレス放電または維持期間Ｔ3におけるサスティン放電において、書き込みパルスまたは維持パルスの変化タイミングに対する放電の遅延時間が小さくなることがわかった。
本実施の形態に係るＰＤＰ３では、斑点状の蛍光体皮膜２８の被覆率を蛍光体層２５の各帯電特性に応じて設定し、パネルの全放電セル間で放電空間３０を臨む表面部分の帯電特性を揃えることが可能となり、これによって放電開始電圧を揃えることができるとともに遅延時間も揃えることができる。従って、ＰＤＰ３では、アドレスミスの発生を抑制しながら、高速スキャンを行った場合にも高い表示品質を確保することができる。
【００７１】
３−３．蛍光体皮膜２８の形成方法
以下では、図８（ａ）、（ｂ）に示す斑点状の蛍光体皮膜２８の形成方法について説明する。斑点状の蛍光体皮膜２８を形成するに際しても、基本的には上記図６（ａ）〜（ｂ）と同一の工程を用いるのであるが、斑点状に形成するためにその形成条件に工夫を凝らしている。
【００７２】
本実施の形態においては、電子ビーム蒸着法を用いて蛍光体層２５の表面に蛍光体皮膜２８の形成を行う。先ず、蛍光体層２５が形成されてなる背面パネル５０を準備し、この背面パネル５０を当該蛍光体層２５の表面が下側に向く状態に、真空チャンバー内に配する。この真空チャンバー内には、弗化マグネシウム顆粒の蒸着材料が下方領域に配置されている。
【００７３】
真空チャンバー内の到達圧力を１．３×１０-13（Ｐａ）（１．０×１０-15Ｔｏｒｒ）蒸着材料に対して電子ビームを照射してこれを加熱し、弗化マグネシウムと反応性の低いガス（例えば、アルゴンガス）を導入して蒸着を実施する。このとき、蒸着条件は、蒸着速度が１００〜２００（ｎｍ／ｍｉｎ．）、蒸着時間が５〜１０（ｍｉｎ．）に設定する。このような条件を採るとき、図８に示すような斑点状の蛍光体皮膜２８であって、その膜厚みを１０（ｎｍ）とすることができる。
【００７４】
また、蛍光体皮膜２８を形成する方法として、電子ビーム蒸着法以外にもスパッタリング法を採ることができる。この場合には、次のような条件とすれば図８に示す斑点状の蛍光体皮膜２８を形成することができる。
スパッタリング法の条件は、真空チャンバー内にアルゴンガスを導入し、蛍光体層とターゲットとの間の印加電力が４００〜８００（Ｗ）である。この条件下においては、５０〜１００（ｎｍ／ｍｉｎ．）の堆積速度で、数分間スパッタリングすることで、膜厚みが１０（ｎｍ）未満の斑点状の蛍光体皮膜２８を形成することができる。
【００７５】
なお、スパッタリング法を用いて蛍光体皮膜２８を形成した場合には、膜中に弗素欠陥を生じることになるが、酸素雰囲気下で５００（℃）、３（ｈｒ．）の熱処理を施すことで、弗素欠陥に酸素を補填することができる。この場合には、上記実施の形態１と同様にＭｅＦ2とＭｅＯとの混合相を有することになる。この混合相を有することにより奏される効果については、上述の通りである。
（実施の形態４）
次に、実施の形態４に係るＰＤＰ４の構成について、その特徴部分を図１０を用いて説明する。図１０は、（ａ）がＰＤＰ４の要部断面図であり、（ｂ）がその背面パネル６０だけを取り出して示す斜視図である。
【００７６】
図１０（ａ）に示すように、ＰＤＰ４では、蛍光体皮膜２９が各色の蛍光体層２５の表面上における一部領域に形成されている。蛍光体皮膜２９が形成された領域とは、背面パネル６０の蛍光体層２５上であって、前面パネル１０におけるＳＣＮ電極１２ｂに対応した位置である。そして、ＳＵＳ電極１２ａに対応した位置には、蛍光体皮膜２９が形成されていない。
【００７７】
このような形態をもって蛍光体皮膜２９を形成することにより、上記実施の形態１〜３に係る各ＰＤＰ１〜３と同様に、アドレスミスの発生を抑制できる。この際に、本実施の形態では、蛍光体皮膜２９の形成位置をＳＣＮ電極１２ｂ側にオフセットしているので、蛍光体皮膜２９ｂの被覆率を小さくしながら、確実にアドレスミスの発生を抑制することができる。よって、ＰＤＰ４では、蛍光体層２５の全表面を蛍光体皮膜で被覆する場合に比べて、パネルの発光効率を高く維持することができる。
【００７８】
なお、本実施の形態に係る蛍光体皮膜２９については、上記実施の形態１に係る蛍光体皮膜２６のようにＭｅＦ2とＭｅＯとの混合相を有する構成としてもよいし、上記実施の形態２のようにＭｅＦ2の単一膜とした構成とすることもできる。
また、蛍光体皮膜２９の形成形態については、皮膜表面における帯電特性を正極性とすることができる範囲内であれば、斑点状あるいは縞状とすることもできる。
【００７９】
このような形態を有する蛍光体皮膜２９については、蛍光体層２５の表面における膜形成を行わない部分にマスクを形成し、真空蒸着法などでＭｅＦ2などからなる膜を形成した後に、マスクを除去することで形成することができる。
（その他の事項）
上記実施の形態１〜４は、発明の構成上の特徴およびそれより奏される効果を説明するために用いた一例であって、本発明は、これに限定を受けるものではない。例えば、上記実施の形態１〜４では、緑色蛍光体２５Ｇに負極性の帯電特性を有するジンクシリケート系蛍光体を用い、この帯電特性を正極性に変換するのを主目的として各蛍光体皮膜２６〜２９の形成を実施したが、蛍光体層２５Ｒ、２５Ｇ、２５Ｂの各々を構成する蛍光体材料などについては、これに限定を受けるものではない。そして、蛍光体皮膜２６〜２９などについては、少なくとも負極性の帯電特性を有する蛍光体層の表面上を被覆すればよく、その被覆率についても、帯電特性が放電セル単位で正極性となるものであればよい。
【産業上の利用可能性】
【００８０】
本発明に係るＰＤＰは、コンピュータやテレビ等の表示デバイス、特に、高精細・高輝度であって高い画像品質を有する表示デバイスを実現するのに有効である。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】実施の形態１に係るＰＤＰ１の要部斜視図である。
【図２】ＰＤＰ１における蛍光体層２５および蛍光体皮膜２６の詳細を示す部分断面図である。
【図３】蛍光体皮膜２６の厚み方向において、酸素原子と弗素原子との総和に対する酸素（Ｏ）原子の比率を示すグラフである。
【図４】ＰＤＰ１の駆動において、各電極に対して印加されるパルス波形を示す波形図である。
【図５】（ａ）は、ＰＤＰ１における書き込み期間Ｔ2直後の帯電状態を示す概念図であり、（ｂ）は、従来のＰＤＰにおける書き込み期間直後の帯電状態を示す概念図である。
【図６】蛍光体皮膜２６の形成における各ステップを示す模式図である。
【図７】実施の形態２に係るＰＤＰ２の要部断面図である。
【図８】（ａ）は、実施の形態３に係るＰＤＰ３の要部断面図であり、（ｂ）は、蛍光体層２５上に形成された斑点状皮膜２８を示す平面図である。
【図９】ＰＤＰ３における皮膜２７の表面での帯電量と、放電開始電圧との関係を示す特性図である。
【図１０】（ａ）は、実施の形態４に係るＰＤＰ４の要部断面図であり、（ｂ）は、その一部の部分斜視図である。
【符号の説明】
【００８２】
１、２、３、４．ＰＤＰ
１０．前面パネル
１２．表示電極対
１４．誘電体保護層
２０、４０、５０、６０．背面パネル
２５．蛍光体層
２６．蛍光体皮膜
３０．放電空間
２６１．第１層
２６２．第２層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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