(57)【要約】【課題】アンモニア又はヒドラジンを含有する窒素化合物含有排水の電解処理に際して、難分解性副生物及び臭気成分の生成量を低減して、水質の良好な処理水を得ることができる窒素化合物含有排水の電解処理方法を提供する。【解決手段】少なくともアンモニア又はヒドラジンを含有する窒素化合物含有排水を電解槽で電解処理して窒素化合物を分解する排水処理方法において、電解処理される排水中の遊離残留塩素濃度を、排水中のアンモニア性窒素濃度の６倍と排水中のヒドラジン性窒素濃度の４倍との合計量以上に調整したのち、電解処理することを特徴とする窒素化合物含有排水の電解処理方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくともアンモニア又はヒドラジンを含有する窒素化合物含有排水を電解槽で電解処理して窒素化合物を分解する排水処理方法において、電解処理される排水中の遊離残留塩素濃度を、排水中のアンモニア性窒素濃度の６倍と排水中のヒドラジン性窒素濃度の４倍との合計量以上に調整したのち、電解処理することを特徴とする窒素化合物含有排水の電解処理方法。
【請求項２】
排水を連続的に電解槽に給水することにより電解処理を行い、電解槽の出口の水の一部を電解処理水として抜き取り、残部を電解槽の入口に返送して循環する請求項１記載の窒素化合物含有排水の電解処理方法。
【請求項３】
排水を受水槽に貯留し、電解槽に循環して電解処理を半バッチ方式で行い、電解処理終了後に受水槽より電解処理水の一部を抜き出したのち、排水を受水槽に供給して電解処理を開始する請求項１記載の窒素化合物含有排水の電解処理方法。
【請求項４】
受水槽に撹拌機を設けて、水を撹拌混合する請求項３記載の窒素化合物含有排水の電解処理方法。
【請求項５】
電解処理後の電解処理水を、金属過酸化物触媒と接触させる請求項１記載の窒素化合物含有排水の電解処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、窒素化合物含有排水の電解処理方法に関する。さらに詳しくは、本発明は、アンモニア又はヒドラジンを含有する窒素化合物含有排水の電解処理に際して、難分解性副生物及び臭気成分の生成量を低減して、水質の良好な処理水を得ることができる窒素化合物含有排水の電解処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
窒素化合物は、水中へ放出されると富栄養化の原因となり、窒素酸化物として大気中に放出されると、それ自体が健康に有害であるばかりでなく、光化学反応に関与してスモッグと呼ばれる二次的複合汚染現象の一因となる。このために、窒素化合物を含有する排水は、脱窒処理を行うとともに、処理工程中における窒素化合物の大気中への揮散も防止しなければならない。窒素化合物を含有する排水は、窒素化合物のほかに有機化合物が含まれていたり、窒素化合物自体が有機性又は酸素消費性の化合物であったりして、化学的酸素消費量（ＣＯＤ）が大きい場合が多い。このような場合には、窒素化合物を分解すると同時に、化学的酸素消費量をも低下させる必要がある。
本発明者らは、窒素化合物を含有する水を電解処理したのち、金属過酸化物触媒と接触させる窒素化合物含有排水の処理方法を提案した（特許文献１）。この方法によれば、酸化剤を使用することなく、窒素化合物含有排水を常温常圧で処理して、水中の窒素化合物を下記の反応式などにより酸化分解して窒素ガスとして除去し、同時に化学的酸素消費量をも低下することができる。
２ＮＨ３ ＋ ３ＯＣｌ- → Ｎ２ ＋ ３Ｈ２Ｏ ＋ ３Ｃｌ-     …［１］
Ｎ２Ｈ４ ＋ ２ＯＣｌ- → Ｎ２ ＋ ２Ｈ２Ｏ ＋ ２Ｃｌ-      …［２］
２Ｈ２ＮＣＨ２ＣＨ２ＯＨ ＋ １３ＯＣｌ-
→ Ｎ２ ＋ ４ＣＯ２ ＋ ７Ｈ２Ｏ ＋ １３Ｃｌ-    …［３］
しかし、窒素化合物含有排水を電解処理すると、難分解性副生物が生成し、臭気成分も発生することから、その改良が望まれていた。
【特許文献１】特開平１０−１７４９７６号公報（第２頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、アンモニア又はヒドラジンを含有する窒素化合物含有排水の電解処理に際して、難分解性副生物及び臭気成分の生成量を低減し、水質の良好な処理水を得ることができる窒素化合物含有排水の電解処理方法を提供することを目的としてなされたものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、窒素化合物含有排水の電解処理を開始する際に、水中に存在するアンモニアとヒドラジンを酸化分解するための遊離残留塩素を共存させることにより、難分解性副生物と臭気成分の生成を防ぎ、安定して窒素化合物含有排水の電解処理を行うことが可能となることを見いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
（１）少なくともアンモニア又はヒドラジンを含有する窒素化合物含有排水を電解槽で電解処理して窒素化合物を分解する排水処理方法において、電解処理される排水中の遊離残留塩素濃度を、排水中のアンモニア性窒素濃度の６倍と排水中のヒドラジン性窒素濃度の４倍との合計量以上に調整したのち、電解処理することを特徴とする窒素化合物含有排水の電解処理方法、
（２）排水を連続的に電解槽に給水することにより電解処理を行い、電解槽の出口の水の一部を電解処理水として抜き取り、残部を電解槽の入口に返送して循環する第１項記載の窒素化合物含有排水の電解処理方法、
（３）排水を受水槽に貯留し、電解槽に循環して電解処理を半バッチ方式で行い、電解処理終了後に受水槽より電解処理水の一部を抜き出したのち、排水を受水槽に供給して電解処理を開始する第１項記載の窒素化合物含有排水の電解処理方法、
（４）受水槽に撹拌機を設けて、水を撹拌混合する第３項記載の窒素化合物含有排水の電解処理方法、及び、
（５）電解処理後の電解処理水を、金属過酸化物触媒と接触させる第１項記載の窒素化合物含有排水の電解処理方法、
を提供するものである。
【発明の効果】
【０００５】
本発明方法によれば、窒素化合物含有排水の電解処理に際して、臭気成分と難分解性副生物の生成を抑え、水質の良好な処理水を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明の窒素化合物含有排水の電解処理方法においては、少なくともアンモニア又はヒドラジンを含有する窒素化合物含有排水を電解槽で電解処理して窒素化合物を分解する排水処理方法において、電解処理される排水中の遊離残留塩素濃度を、排水中のアンモニア性窒素濃度の６倍と排水中のヒドラジン性窒素濃度の４倍との合計量以上に調整したのち、電解処理する。
窒素化合物含有排水を塩化物イオン共存下で電解処理すると、ＪＩＳ Ｋ ０１０２において遊離残留塩素と定義される次亜塩素酸が生成する。次亜塩素酸イオンは、上記の反応式［１］、［２］、［３］などにより表される反応により、窒素化合物を酸化分解して窒素ガスとする。しかし、電解処理の初期に、水中の次亜塩素酸の濃度が低く、次亜塩素酸に対して窒素化合物が過剰に存在する状態では、窒素化合物は完全に窒素ガスまで分解されず、アンモニア、ヒドラジンなどからはクロロアミンが生成し、モノエタノールアミンからは２−オキサゾリドンなどが生成する。クロロアミンは、水相から一部が気相に移行して刺激臭の原因となる。また。２−オキサゾリドンなどは難分解性の物質であり、電解処理後の処理水を金属過酸化物触媒と接触させても完全には分解されず、触媒処理水の化学的酸素消費量を高める原因となる。
【０００７】
本発明方法においては、電解処理される窒素化合物含有排水中の遊離残留塩素濃度を、排水中のアンモニア性窒素濃度の６倍と排水中のヒドラジン性窒素濃度の４倍との合計量以上、より好ましくはアンモニア性窒素濃度の７.６倍とヒドラジン性窒素濃度の５.１倍との合計量以上、さらに好ましくはアンモニア性窒素濃度の９.１倍とヒドラジン性窒素濃度の６.１倍との合計量以上に調整したのち、電解処理する。
排水中のアンモニアが反応式［１］にしたがって次亜塩素酸イオンと反応すると、アンモニア性窒素の７.６０重量倍の遊離残留塩素が消費される。排水中のヒドラジンが反応式［２］にしたがって次亜塩素酸イオンと反応すると、ヒドラジン性窒素の５.０６重量倍の遊離残留塩素が消費される。排水中に存在する遊離残留塩素の量が、反応式［１］及び［２］より求められる反応当量の７５％未満になると、電解処理の初期において、クロロアミン、２−オキサゾリドンなどの臭気成分や難分解性副生物が生成するおそれがある。電解処理後に、遊離残留塩素の共存下で金属過酸化物触媒と接触させても、クロロアミン、２−オキサゾリドンなどは分解しにくく、触媒処理水に残存してＣＯＤや残留塩素の上昇の原因となる。
本発明方法において、窒素化合物含有排水中のアンモニア性窒素は、ＪＩＳ Ｋ ０１０２ ４２.にしたがって、インドフェノール青吸光光度法、中和滴定法、イオン電極法、イオンクロマトグラフ法などにより測定することができる。ヒドラジン性窒素は、ＪＩＳ Ｂ ８２２４にしたがって、ｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド吸光光度法、ヨウ素滴定法などにより測定することができる。遊離残留塩素濃度は、ＪＩＳ Ｋ ０１０２ ３３.にしたがって、ｏ−トリジン比色法、ジエチル−ｐ−フェニレンジアンモニウム（ＤＰＤ）比色法などにより測定することができる。
【０００８】
本発明方法においては、電解処理後の処理水を、金属過酸化物触媒と接触させることが好ましい。電解処理水を金属過酸化物触媒と接触させることにより、電解処理水中に残存するＣＯＤ成分を分解して、ＣＯＤＭｎの低い良好な水質の触媒処理水を得ることができる。また、電解処理水中には比較的高濃度の遊離残留塩素が含まれるが、電解処理水を金属過酸化物触媒と接触させることにより、遊離残留塩素を分解して無害な塩化物イオンとすることができる。
本発明方法に使用する金属過酸化物触媒としては、例えば、過酸化コバルト、過酸化ニッケル、過酸化銅、過酸化銀などを挙げることができる。これらの中で、過酸化ニッケル触媒及び過酸化コバルト触媒を特に好適に使用することができる。金属過酸化物触媒は、１種を単独で使用することができ、あるいは、２種以上を組み合わせて使用することもできる。過酸化ニッケル触媒は、有機化合物及び窒素化合物の酸化分解の促進に優れた性能を有し、過酸化コバルト触媒は次亜塩素酸イオンの分解に優れた性能を有するので、過酸化ニッケル触媒と接触させることによりエタノールアミンなどの有機化合物と、ヒドラジンなどの窒素化合物を分解除去したのち、過酸化コバルト触媒と接触させることにより、残留する次亜塩素酸イオンを分解除去することが好ましい。
本発明方法において使用する金属過酸化物触媒は、多孔質担体に担持されたものであることが好ましい。金属過酸化物触媒を担持させる多孔質担体としては、例えば、ゼオライト、チタニア、γ−アルミナ、α−アルミナなどを挙げることができる。これらの中で、Ｘ型、Ｙ型、Ａ型などの合成ゼオライト、クリノプチロライト型、モルデナイト型などの天然ゼオライト、チタニアなどを好適に使用することができる。これらの多孔質担体は、１種を単独で使用することができ、あるいは、２種以上を混合して使用することもできる。
【０００９】
本発明方法において、窒素化合物含有排水中の遊離残留塩素濃度を所定の値に調整する方法に特に制限はなく、例えば、電解を連続的に行い、電解槽の出口の水の一部を電解処理水として抜き取り、残部を電解槽の入口に返送して循環することにより、遊離残留塩素濃度を調整することができ、電解を半バッチ式に行い、一工程の電解処理が終了したのちに、電解処理水の一部と新たな排水を混合することにより、遊離残留塩素濃度を調整することもでき、あるいは、窒素化合物含有排水に次亜塩素酸塩などを添加することにより、遊離残留塩素濃度を調整することもできる。電解処理により発生させる遊離残留塩素を所定の濃度に調整するためには、電解槽における電流量の調整、単純一過式の電解処理における原水流量と循環流量の調整、半バッチ方式における１バッチ当たりの原水受入量の調整などを行うことができる。
図１は、本発明方法の実施の一態様の工程系統図である。原水槽１に貯留された窒素化合物含有排水は、ポンプ２により電解槽３に供給される。電解槽より流出する水は、一部が電解処理水として抜き取られて電解処理水槽４に送られ、残部が受水槽５に貯留される。受水槽又は電解処理水槽に貯留することにより、気液分離が行われ、電解槽と触媒充填塔への気泡の混入を防止することができる。受水槽の水は、ポンプ６により電解槽の入口に送られ、ポンプ２により供給される排水と混合される。受水槽の水には電解により生成した遊離残留塩素が含まれ、アンモニア又はヒドラジンを含有する排水は受水槽より返送される水と混合希釈されるので、電解処理される排水中の遊離残留塩素濃度を所定の値に調整することができる。電解処理水槽４に貯留された電解処理水は、ポンプ７により、過酸化ニッケル触媒充填塔８と過酸化コバルト触媒充填塔９に順次送られて、良好な水質を有する触媒処理水となる。
【００１０】
図２は、本発明方法の実施の他の態様の工程系統図である。前回の電解処理終了後に電解処理水の一部が残された受水槽１０に、新たに窒素化合物含有排水が加えられる。受水槽には撹拌機を設け、撹拌混合して均一な水質とすることが好ましい。受水槽に残された電解処理水には、電解により生成した遊離残留塩素が含まれ、アンモニア又はヒドラジンを含有する排水は電解処理水と混合希釈されるので、電解処理を開始する前に、水中の遊離残留塩素濃度を所定の値に調整することができる。受水槽の水は、ポンプ１１により電解槽３に送られて電解処理され、電解槽より流出する水は受水槽１０にいったん貯留されて気液分離が行われる。ポンプ１１により水を循環させながら電解処理を行い、所定の水質に達したとき電解処理を終了し、受水槽の電解処理水の一部を電解処理水槽４に抜き出す。電解処理水が残された受水槽には、抜き出された電解処理水とほぼ同量の窒素化合物含有排水が新たに供給され、次の電解処理が開始される。
１回の電解処理が終了したとき、受水槽の電解処理水の全部を抜き出し、新たに窒素化合物含有排水の電解処理を行う完全バッチ方式では、電解処理の初期には、水中に遊離残留塩素に対して過剰の窒素化合物が存在するので、臭気成分や難分解性副生物が生成する。しかし、本態様のように、１回の電解処理が終了したとき、受水槽の電解処理水の一部を残し、窒素化合物含有排水を追加して電解処理を行う半バッチ方式によれば、電解処理の初期から所定濃度の遊離残留塩素を水中に存在させ、臭気成分や難分解性副生物の生成を防ぐことができる。電解処理水槽４に貯留された電解処理水は、ポンプ７により、過酸化ニッケル触媒充填塔８と過酸化コバルト触媒充填塔９に順次送られて、良好な水質を有する触媒処理水となる。
本発明の窒素化合物含有排水の電解処理方法によれば、排水の電解処理に際して、臭気成分と難分解性副生物の生成を抑え、水質の良好な処理水を得ることができる。
【実施例】
【００１１】
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。
なお、実施例及び比較例においては、モノエタノールアミン２,６７５ｍｇ／Ｌ、アンモニア４５４ｍｇ／Ｌ、ヒドラジン７５ｍｇ／Ｌ、塩化物イオン１４,８８９ｍｇCl-／Ｌ、カルシウム４.０ｍｇ／Ｌ、マグネシウム０.６ｍｇ／Ｌを含有するｐＨ９.５３、ＣＯＤＭｎ１,０７０ｍｇO／Ｌの窒素化合物含有排水に、水酸化ナトリウム水溶液を加えてｐＨ１１.７〜１２.０に調整した原水を使用した。
また、電解処理は、それぞれ寸法５３ｍｍ×４５０ｍｍのＩｒＯ２／Ｐｔ／ＴｉＯ２電極を陽極、ＳＵＳ３１６電極を陰極とし、極間距離を３ｍｍとした電解槽４槽を直列に接続して通水し、電流密度１２Ａ／ｄｍ２で通電することにより行った。電解処理水は、Ｙ型ゼオライトに過酸化ニッケルをニッケルとして２.０重量％担持させた粒状触媒２００ｍＬを充填した塔と、Ｙ型ゼオライトに過酸化コバルトをコバルトとして２.０重量％担持させた粒状触媒１００ｍＬを充填した塔に、通水温度４５℃、通水速度３００ｍＬ／ｈ（ＳＶ＝１ｈ-１）で通水した。
処理水の液体クロマトグラフィーは、陽イオン交換樹脂ＳＣＲ−１０１Ｈを充填した直径７.９ｍｍ、長さ３００ｍｍのカラムと、移動相として０.０１モル／Ｌ過塩素酸水溶液を用い、カラム温度５０℃、流量１.０ｍＬ／ｍｉｎの条件で行い、ＵＶ検出器を用いて波長２１０ｎｍで検出した。この条件で、保持時間約１７.３分のピークが２−オキサゾリドンに相当する。
【００１２】
実施例１
図１に示す工程で、循環一過方式により、原水の電解処理を行った。
原水槽１から、ポンプ２により、３.９Ｌ／ｈの速度で原水を電解槽３に供給した。電解槽から流出する水のうち３.９Ｌ／ｈを電解処理水として抜き取って電解処理水槽４に貯留し、残余の流出水は受水槽５に貯留した。受水槽の水は、ポンプ６により７８Ｌ／ｈの速度で電解槽の入口に供給した。定常状態に達したとき、電解処理水の水質は、遊離残留塩素濃度６,１２０ｍｇCl／Ｌ、ＣＯＤＭｎ１７４ｍｇO／Ｌであった。また、受水槽で刺激臭は全く感じられなかった。
電解処理水を、ポンプ７により、さらに過酸化ニッケル触媒充填塔８と過酸化コバルト触媒充填塔９に通水し、触媒と接触させた。触媒処理水の水質は、ＣＯＤＭｎ５ｍｇO／Ｌ以下であった。
本実施例においては、原水３.９Ｌ／ｈと遊離残留塩素濃度６,１２０ｍｇCl／Ｌの水７８Ｌ／ｈが電解槽の入口で混合されて電解槽へ送り込まれるので、電解処理される水のアンモニア性窒素濃度の６倍とヒドラジン性窒素濃度の４倍の合計量は１１９.１ｍｇN／Ｌ、遊離残留塩素濃度は５,８３０ｍｇCl／Ｌとなり、電解処理される水中の遊離残留塩素濃度は、該合計量の４９倍となる。この処理において、原水中に含まれるアンモニア性窒素３７３ｍｇN／Ｌと反応する遊離残留塩素は２,８３５ｍｇCl／Ｌであり、原水中に含まれるヒドラジン性窒素６５.６ｍｇN／Ｌと反応する遊離残留塩素は３３５ｍｇCl／Ｌである。
【００１３】
実施例２
図２に示す工程で、半バッチ方式により、原水の電解処理を行った。
受水槽１０に前回の電解処理水１０Ｌを残し、新しく原水６Ｌを供給して、ポンプ１１により通水速度７８Ｌ／ｈで電解槽３に通水し、１.６時間電解処理を行った。次いで、受水槽の水６Ｌを電解処理水槽４に抜き取り、新たに原水６Ｌを受水槽に供給して、同様にして１.６時間の電解処理を行った。同様な操作を繰り返して、定常状態に達したとき、電解処理水の水質は、遊離残留塩素濃度４,４８０ｍｇCl／Ｌ、ＣＯＤＭｎ１２４ｍｇO／Ｌであった。また、受水槽で刺激臭は殆ど感じられなかった。
電解処理水を、ポンプ７により、さらに過酸化ニッケル触媒充填塔８と過酸化コバルト触媒充填塔９に通水し、触媒と接触させた。触媒処理水の水質は、ＣＯＤＭｎ８.４ｍｇO／Ｌであった。
本実施例においては、原水６Ｌと遊離残留塩素濃度４,４８０ｍｇCl／Ｌの水１０Ｌが受水槽で混合されて電解槽へ送り込まれるので、電解処理が開始されるときの水のアンモニア性窒素濃度の６倍とヒドラジン性窒素濃度の４倍の合計量は９３８ｍｇN／Ｌ、遊離残留塩素濃度は２,８００ｍｇCl／Ｌとなり、電解処理される水中の遊離残留塩素濃度は、該合計量の３.０倍となる。この処理において、新しく供給される原水６Ｌに含まれるアンモニア性窒素２,２４０ｍｇNと反応する遊離残留塩素は１７,０２４ｍｇClであり、ヒドラジン性窒素３９４ｍｇNと反応する遊離残留塩素は２,００９ｍｇClである。受水槽に残された電解処理水１０Ｌ中に含まれる遊離残留塩素は４４,８００ｍｇClなので、新しく供給された原水中のアンモニアとヒドラジンを酸化分解するに十分な遊離残留塩素が存在する。
【００１４】
実施例３
受水槽１０に前回の電解処理水８Ｌを残し、新しく原水８Ｌを供給し、受水槽に撹拌機を設けて受水槽内の水を撹拌混合し、電解時間を２.０時間とした以外は、実施例２と同じ操作を行った。
定常状態に達したとき、電解処理水の水質は、遊離残留塩素濃度４,９２０ｍｇCl／Ｌ、ＣＯＤＭｎ１２８ｍｇO／Ｌであった。また、受水槽で刺激臭が僅かに感じられた。触媒処理水の水質は、ＣＯＤＭｎ８.６ｍｇO／Ｌであった。
本実施例においては、原水８Ｌと遊離残留塩素濃度４,９２０ｍｇCl／Ｌの水８Ｌが受水槽で混合されて電解槽へ送り込まれるので、電解処理が開始されるときの水のアンモニア性窒素濃度の６倍とヒドラジン性窒素濃度の４倍の合計量は１,２５０ｍｇN／Ｌ、遊離残留塩素濃度は２,４６０ｍｇCl／Ｌとなり、電解処理される水中の遊離残留塩素濃度は、該合計量の２.０倍となる。この処理において、新しく供給される原水８Ｌに含まれるアンモニア性窒素２,９８４ｍｇNと反応する遊離残留塩素は２２,６７８ｍｇClであり、ヒドラジン性窒素５２５ｍｇNと反応する遊離残留塩素は２,６７８ｍｇClである。受水槽に残された電解処理水８Ｌ中に含まれる遊離残留塩素は３９,４００ｍｇClなので、新しく供給された原水中のアンモニアとヒドラジンを酸化分解するに十分な遊離残留塩素が存在する。
【００１５】
比較例１
図２に示す工程で、完全バッチ方式により、原水の電解処理を行った。
空の受水槽に原水１６Ｌを入れ、ポンプ１１により通水速度７８Ｌ／ｈで電解槽３に通水し、４.８時間電解処理を行ったのち、全量を電解処理水槽４に移送した。電解処理水の水質は、遊離残留塩素濃度５,８５０ｍｇCl／Ｌ、ＣＯＤＭｎ２３２ｍｇO／Ｌであった。また、電解処理中、受水槽で強い刺激臭が感じられた。
電解処理水を、ポンプ７により、さらに過酸化ニッケル触媒充填塔８と過酸化コバルト触媒充填塔９に通水し、触媒と接触させた。触媒処理水の水質は、ＣＯＤＭｎ３２ｍｇO／Ｌであった。
実施例１〜３及び比較例１の結果を、第１表に示す。また、実施例１の電解処理水のクロマトグラムを図３、触媒処理水のクロマトグラムを図４に、比較例１の電解処理水のクロマトグラムを図５、触媒処理水のクロマトグラムを図６に示す。
【００１６】
【表１】
2005021863.tif 000003
【００１７】
実施例１〜３及び比較例１において、原水１Ｌ当たりに通電している電気量はすべて同じであるが、電解処理水及び触媒処理水のＣＯＤは、比較例１よりも実施例１〜３の方が低く、電解処理される窒素化合物含有排水に電解処理の初期から遊離残留塩素を存在させる本発明方法により、難分解性副生物の生成が少なく、良好な電解処理が行われることが分かる。また、比較例１においては、電解の際に強い刺激臭が感じられたが、実施例１〜３においては、塩素臭のみ又は僅かな刺激臭であり、臭気成分の生成も少ないことが分かる。
図５及び図６のクロマトグラムを見ると、いずれも保持時間約１７.３分にピークがあり、比較例１の電解処理では、２−オキサゾリドンが生成し、金属過酸化物触媒との接触によっても除去されていないことが分かる。一方、図３及び図４のクロマトグラムには、保持時間１６分以上のピークがほとんどなく、実施例１の電解処理では、２−オキサゾリドンが生成しないばかりでなく、その他の副生物の生成量も少ないことが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明方法の実施の一態様の工程系統図である。
【図２】本発明方法の実施の他の態様の工程系統図である。
【図３】電解処理水のクロマトグラムである。
【図４】触媒処理水のクロマトグラムである。
【図５】電解処理水のクロマトグラムである。
【図６】触媒処理水のクロマトグラムである。
【符号の説明】
【００１９】
１  原水槽
２  ポンプ
３  電解槽
４  電解処理水槽
５  受水槽
６  ポンプ
７  ポンプ
８  過酸化ニッケル触媒充填塔
９  過酸化コバルト触媒充填塔
１０  受水槽
１１  ポンプ
【図１】
2005021863.tif 000004
【図２】
2005021863.tif 000005
【図３】
2005021863.tif 000006
【図４】
2005021863.tif 000007
【図５】
2005021863.tif 000008
【図６】
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