(57)【要約】【課題】近接露光装置等の物品を載置して位置決めする位置決めテーブルの位置を短い反射手段を使用して測定する。【解決手段】ＸＹ方向に位置決め制御されるワークステージ２にガラス基板Ｗを載置して移動させるときに、その移動方向と直交する位置で距離を測定する際に、干渉計６２，６３及び６４と対向する短尺ミラー６６及び６８を保持するミラー移動保持機構６６及び６８の移動体７４Ｙ及び７４Ｘをリニアモータ７５Ｙ及び７５Ｘを駆動してワークステージ２の移動方向とは反対方向に移動させることにより、短尺ミラー６６及び６８を干渉計６２，６３及び７４と対向する位置に定位置制御する。【選択図】      図２
2005017204.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定部と、物品を載置してＸＹ方向の移動距離測定手段で移動距離を測定しながら所定方向に位置決めする位置決めテーブルとを有する位置決め装置において、
少なくとも前記所定方向と直交する方向の前記移動距離測定手段は、前記位置決めテーブル上で前記位置決めテーブルに対して前記所定方向に移動可能に配設された移動保持機構と、該移動保持機構上に載置された測長光を反射する短尺反射手段と、前記固定部に対する前記移動保持機構の移動距離を、前記固定部に対する前記位置決めテーブルの移動距離より小さい移動距離となるように移動規制する移動規制手段と、該移動規制手段で移動規制される移動保持機構に載置された短尺反射手段と対向して固定部に配置された移動距離測定部とを備えていることを特徴とする位置決め装置。
【請求項２】
前記移動規制手段は、前記移動保持機構を、前記短尺反射手段が定位置を保持するように移動規制するように構成されていることを特徴とする請求項１記載の位置決め装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイに使用されるガラス等の材料の基板上にマスクのマスクパターンを位置を変えて露光転写を繰り返す方式の露光装置等の比較的長い移動範囲内で位置決めする場合に適用して好適な位置決め装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の移動可能なステージの位置決め装置で、特に大きな移動距離が必要で且つ高精度位置決めを要する場合、レーザ測長器が使用されることがある。この場合、移動するステージ上にミラーを設置するとともに、これと対向するように固定部にレーザ干渉計を設置する必要がある。例えば、ステージの移動方向と直交する方向について、ステージの位置の変化（直角度誤差等によるもの）を監視する場合や、ＸＹ二次元方向に移動可能なステージが測定対象となる場合、等では、従来、ミラーとして棒状の所謂バーミラーが用いられてきた。しかし、長尺のバーミラーは製作が困難で、入手可能な長さには限界があった。そのため、従来、移動可能なステージに設けられて移動領域の全域に延びる干渉用ミラーを２つに分割して夫々複数のバーミラーで構成すると共に、バーミラーに対向するレーザ干渉計に複数の測長可能位置を設定し、制御部でレーザ干渉計による２つの測長のうち、干渉用ミラーの分割位置を照射していないレーザ光による測長に基づいてステージの位置を判定するようにしたレーザ干渉計を用いたステージ位置決め装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
また、他の従来例として、Ｘ方向に所定速度Ｖで移動するステージ上にＸ方向に延長する移動鏡を配置すると共に、移動鏡に対向してＸ方向に所定速度Ｖの半分即ちＶ／２で移動されるビームスプリッタステージを配設し、このビームスプリッタステージ上に分離光学系を配置し、さらに固定部に光源部を固定し、この光源部からのレーザビームを分離光学系に照射して、この分離光学系によって参照ビームと測定ビームとに分離して、これらを夫々参照鏡及び移動鏡に照射し、参照鏡及び移動鏡からの反射光を分離光学系を介して光検出器で受光することにより、ステージの位置情報を得るようにしたレーザ干渉計が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開２０００−７５９２８号公報（第１頁〜第４頁、図１）
【特許文献２】
特開２０００−１３１０１５号公報（第１頁〜第８頁、図２，図５）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記特許文献１に記載された位置決め装置にあっては、ＸＹ方向に移動可能なステージの移動量に対応した長さの干渉用ミラーを必要とし、この干渉用ミラーを構成するバーミラーは高精度な加工が要求されることから、ステージの移動量が長くなるにつれて長い干渉用ミラーを必要とし、長尺のバーミラーを形成するには、価格が非常に高くなることから、複数に分割した比較的短いバーミラーを組み合わせることで価格を低下させることができるが、複数のバーミラーを高精度で直列に配置することが面倒であると共に、何れにしてもステージの移動量に応じた長さの干渉用ミラーを設けなければならないことから干渉用ミラーの総額を大幅に低減させることはできないと共に、ステージを高速移動させる場合に、干渉用ミラーの分割位置で少なくともステージの移動速度を低下させる必要があり、ステージの定速高速移動を行うことができないうえ、スループットが低下するという未解決の課題がある。
【０００６】
また、上記特許文献２に記載された位置決め装置にあっては、分離光学系を移動鏡の半分の速度で移動させるようにしており、この移動によって、分離光学系の位置と姿勢が変わるため、分離光学系までのレーザ光軸長さが長くなるとレベルダウンや入力角度エラーを発生する可能性が高まり、干渉計の移動テーブルの走り精度及びレーザ光軸の環境が重要となり制作が困難となるという未解決の課題がある。
【０００７】
そこで、本発明は、上記従来例の未解決の課題に着目してなされたものであり、測長光を反射する短尺反射手段を設けるだけで、位置決めテーブルが広範囲に移動する場合であってもレーザ光軸長さを変更することなく正確に測長することができる位置決め装置を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、請求項１に係る位置決め装置は、固定部と、物品を載置してＸＹ方向の移動距離測定手段で移動距離を測定しながら所定方向に位置決めする位置決めテーブルとを有する位置決め装置において、少なくとも前記所定方向と直交する方向の前記移動距離測定手段は、前記位置決めテーブル上で前記位置決めテーブルに対して前記所定方向に移動可能に配設された移動保持機構と、該移動保持機構上に載置された測長光を反射する短尺反射手段と、前記固定部に対する前記移動保持機構の移動距離を、前記固定部に対する前記位置決めテーブルの移動距離より小さい移動距離となるように移動規制する移動規制手段と、該移動規制手段で移動規制される移動保持機構に載置された短尺反射手段と対向して固定部に配置された移動距離測定部とを備えていることを特徴としている。
また、請求項２に係る位置決め装置は、請求項１に係る発明において、前記移動規制手段は、前記移動保持機構を、前記短尺反射手段が定位置を保持するように移動規制するように構成されていることを特徴としている。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図を参照して説明する。
図１は本発明を分割逐次近接露光装置に適用した場合の分解斜視図、図２はワークステージの平面図、図３はワークステージの正面図である。
図中、ＰＥは分割逐次近接露光装置であって、この分割逐次近接露光装置ＰＥは、図１の分解斜視図で明らかなように、マスクＭを保持するマスクステージ１、物品としてのガラス基板（被露光材）Ｗを保持する位置決めテーブルとしてのワークステージ２、パターン露光用の照射手段としての照明光学系３、マスクステージ１及びワークステージ２を支持する装置ベース４を備えており、ガラス基板Ｗは、マスクＭに対向配置されて該マスクＭに描かれたマスクパターンＰを露光転写すべく表面（マスクＭの対向面）に感光剤が塗布されている。
【００１０】
説明の便宜上、照明光学系３から説明すると、照明光学系３は、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ３１と、この高圧水銀ランプ３１から照射された光を集光する凹面鏡３２と、凹面鏡３２の焦点近傍に配置されたオプチカルインテグレータ３３と、平面ミラー３５，３６及びこれらを経由して入射する光束を平行な光束として露光面に導く曲面ミラー３７と、平面ミラー３６とオプチカルインテグレータ３３との間に配置されて照射光路を開閉制御する露光制御用シャッター３４とを備えている。
【００１１】
露光時に露光制御用シャッター３４を開制御されると、高圧水銀ランプ３１から照射された光が、図１に示す光路Ｌを経て、マスクステージ１に保持されるマスクＭひいてはワークステージ２に保持されるガラス基板Ｗの表面に対して垂直にパターン露光用の平行光として照射され、これにより、マスクＭのマスクパターンＰが基板Ｗ上に露光転写されるように構成されている。
【００１２】
次に、マスクステージ１及びワークステージ２の順に説明する。
マスクステージ１はマスクステージベース１０を備えており、該マスクステージベース１０は装置ベース４から突設されたマスクステージ支柱１１に支持されてワークステージ２の上方に配置されている。
マスクステージベース１０は、図１に示すように、長方形状とされて中央部に開口１０ａを有しており、この開口１０ａにはマスク保持枠１２がＸ，Ｙ方向に移動可能に装着され、このマスク保持枠１２にマスクパターンＰが描かれているマスクＭが真空式吸着装置（図示せず）を介して着脱自在に保持されるようになっている。
【００１３】
また、マスクステージベース１０の上面には、後述のアライメントカメラ１５による検出結果、又はレーザ測長装置６０による測定結果に基づき、マスク保持枠１２をＸ，Ｙ平面内で移動させて、このマスク保持枠１２に保持されたマスクＭの位置及び姿勢を調整するマスク位置調整装置１３が設けられており、このマスク位置調整装置１３は、マスク保持枠１２のＹ軸方向に沿う一辺に取り付けられたＸ軸方向駆動装置１３ｘと、マスク保持枠１２のＸ軸方向に沿う一辺に取り付けられた二台のＹ軸方向駆動装置１３ｙとを備えている。
【００１４】
マスク保持枠１２のＸ軸方向に互いに対向する二辺の内側には、マスクＭと基板Ｗとの対向面間のすき間を測定する手段としてのギャップセンサ１４と、マスクＭと位置合わせ基準との平面ずれ量を検出する手段としてのアライメントカメラ１５とが配設されており、ギャップセンサ１４及びアライメントカメラ１５は共に移動機構１６を介してＸ軸方向に移動可能とされている。
【００１５】
なお、マスクステージベース１０の開口１１のＹ軸方向の両端部にはマスクＭの両端部を必要に応じて遮蔽するマスキングアパーチャ（遮蔽板）１７がマスクＭより上方に位置して配置されており、このマスキングアパーチャ１７はモータ，ボールねじ及びリニアガイドよりなるマスキングアパーチャ駆動装置１８によりＹ軸方向に移動可能とされてマスクＭの両端部の遮蔽面積を調整できるようになっている。
【００１６】
ワークステージ２は、装置ベース４上に設置されており、マスクＭと基板Ｗとの対向面間のすき間を所定量に調整するＺ軸送り台（ギャップ調整手段）２Ａと、このＺ軸送り台２Ａ上に配設されてワークステージ２をＸＹ軸方向に移動させるワークステージ送り機構２Ｂとを備えている。
【００１７】
Ｚ軸送り台２Ａは、装置ベース４上に立設された上下粗動装置２１によってＺ軸方向に粗動可能に支持されたＺ軸粗動ステージ２２と、このＺ軸粗動ステージ２２の上に上下微動装置２３を介して支持されたＺ軸微動ステージ２４とを備えている。上下粗動装置２１には例えばモータ及びボールねじ等からなる電動アクチュエータ、或いは空圧シリンダが用いられ、単純な上下動作を行うことによりＺ軸粗動ステージ２２を予め設定した位置までマスクＭと基板Ｗとのすき間の計測を行うことなく昇降させる。
【００１８】
一方、上下微動装置２３は、モータとボールねじとくさびとを組み合わせてなる可動くさび機構を備えており、この実施の形態では、例えばＺ軸粗動ステージ２２の上面に設置したモータ２３１によってボールねじのねじ軸２３２を回転駆動させるようにすると共にボールねじナット２３３をくさび状に形成してそのくさび状ナット２３３の斜面をＺ軸微動ステージ２４の下面に突設したくさび２４１の斜面と係合させ、これにより、可動くさび機構を構成している。
【００１９】
そして、ボールねじのねじ軸２３２を回転駆動させると、くさび状ナット２３３がＹ軸方向に水平微動し、この水平微動運動が両くさび２３３，２４１の斜面作用により高精度の上下微動運動に変換される。
この可動くさび機構からなる上下微動装置２３は、Ｚ軸微動ステージ２４のＹ軸方向の一端側（図１の手前側）に２台、他端側に１台（図示せず）合計３台設置され、それぞれが独立に駆動制御されるようになっており、これにより、上下微動装置２３は、チルト機能も兼ね備えていることになり、３台のギャップセンサ１４によるマスクＭと基板Ｗとのすき間の測定結果に基づき、マスクＭと基板Ｗとが平行且つ所定のすき間を介して対向するようにＺ軸微動ステージ２４の高さを微調整するようになっている。
【００２０】
なお、上下粗動装置２及び上下微動装置２３はＹ軸送り台５２の部分に設けるようにしてもよい。
ワークステージ送り機構２Ｂは、Ｚ軸微動ステージ２４の上面に、Ｙ軸方向に互いに離間配置されてそれぞれＸ軸方向に沿って延設された二組の転がり案内の一種であるリニアガイド４１と、このリニアガイド４１のスライダ４１ａに取り付けられたＸ軸送り台４２と、Ｘ軸送り台４２をＸ軸方向に移動させるＸ軸送り駆動装置４３とを備えており、Ｘ軸送り駆動装置４３のモータ４３１によって回転駆動されるボールねじ軸４３２に螺合されたボールねじナット４３３にＸ軸送り台４２が連結されている。
【００２１】
また、このＸ軸送り台４２の上面に、Ｘ軸方向に互いに離間配置されてそれぞれＹ軸方向に沿って延設された二組の転がり案内の一種であるリニアガイド５１と、該リニアガイド５１のスライダ５１ａに取り付けられたＹ軸送り台５２と、Ｙ軸送り台５２をＹ軸方向に移動させるＹ軸送り駆動装置５３とを備えており、Ｙ軸送り駆動装置５３のモータ５３１によって回転駆動されるボールねじ軸５３２に螺合されたボールねじナット（図示せず）にＹ軸送り台５２が連結されている。このＹ軸送り台５２の上面にワークステージ２が取り付けられている。
【００２２】
そして、ワークステージ２のＸ軸，Ｙ軸位置を検出する移動距離測定部としてのレーザー測長装置６０が装置ベース４に設けられている。上記のように構成されたワークステージ２では、ボールねじやリニアガイド自体の形状等の誤差や、これらの取り付け誤差などに起因し、ワークステージ２の移動に際し、位置決め誤差、ヨーイング、真直度などの発生は不可避である。そこで、これらの誤差の測定を目的とするのがこの移動距離測定部である。このレーザー測長装置６０は、装置ベース４の左後方隅部に配設されたレーザー測長器６１と、ワークステージ２のＹ軸方向端部に対向して設けられた一対のＹ軸干渉計６２，６３と、ワークステージ２のＸ軸方向端部に設けられた一つのＸ軸干渉計６４と、レーザー測長器６０からＹ軸干渉計６２，６３を透過するレーザー光をＸ軸干渉計６４に入射させるコーナーミラー６５と、ワークステージ２のＹ軸干渉計６２，６３と対向する位置に配設されたＸ軸方向に移動自在のＹ軸用短尺ミラー６６と、この短尺ミラー６６を移動保持するＹ軸ミラー移動保持機構６７と、ワークステージ２のＸ軸干渉計６４と対向する位置に配設されたＹ軸方向に移動自在のＸ軸用短尺ミラー６８と、このＸ軸用短尺ミラー６８を移動保持するＸ軸ミラー移動保持機構６９とで構成されている。
【００２３】
Ｙ軸方向についてＹ軸干渉計を２台設けていることにより、ワークステージ２のＹ軸方向位置の情報のみでなく、Ｙ軸干渉計６２と６３の位置データの差分によりヨーイング誤差を知ることもできる。Ｙ軸方向位置については両者の平均値に、ワークステージ２のＸ軸方向位置、ヨーイング誤差を加味して適宜、補正を加えてることにより算出することができる。
【００２４】
ここで、Ｙ軸ミラー移動保持機構６７は、図４（ａ）及び（ｂ）に拡大図示するように、Ｙ軸送り台５２のＹ軸方向端部の上面に固定されてＸ軸方向に延長する断面凸状の基台７１Ｙと、この基台７１Ｙの上面におけるＹ軸方向の両端部に互いに平行に固定された固定案内軸７２Ｙ及び７３Ｙと、両固定案内軸７２Ｙ及び７３Ｙに案内されて移動可能な幅狭の移動体７４Ｙと、この移動体７４ＹをＸ軸方向に移動させるリニアモータ７５Ｙと、移動体７４Ｙと基台７１Ｙとの間に配設された移動体７４ＹのＸ軸方向位置を検出するリニアスケール７６Ｙとで構成され、移動体７４Ｙの上面中央位置に干渉計６２及び６３と対向する短尺ミラー６６が固定されている。
【００２５】
そして、固定案内軸７２Ｙ及び７３Ｙと移動体７４Ｙとで例えば多孔質形のエアスライドが構成されている。すなわち、移動体７４Ｙは、固定案内軸７２Ｙ及び７３Ｙの上面間に橋架され固定案内軸７２Ｙ及び７３Ｙの上面に僅かな軸受すき間を介して対向する上面板７４ａと、この上面板７４ａの両端下面から固定案内軸７２Ｙらの左側面及び固定案内軸７３Ｙの右側面に僅かな軸受すき間を介して対向する側面板７４ｂ及び７４ｃと、これら側面板７４ｂ及び７４ｃの下面から固定案内軸７２Ｙ及び７３Ｙの下面に僅かな軸受すき間を介して対向する下面板７４ｄ及び７４ｅとで構成されている。この移動体７４Ｙの固定案内軸７２Ｙ及び７３Ｙの軸受面と対向する上面板７４ａの下面、側面板７４ｂ及び７４ｃの内面並びに下面板７４ｄ及び７４ｅの上面に多孔質体（図示せず）が配設され、これら多孔質体に内部の気体案内通路を介して圧縮空気が供給されることにより、多孔質材の表面から軸受すきま内に噴出して、移動体７４Ｙが固定案内軸７２Ｙ及び７３Ｙに対し軸と直角方向に非接触に支持されている。
【００２６】
また、Ｘ軸ミラー移動保持機構６９も、上述したＹ軸ミラー移動保持機構６７と同様の構成を有し、Ｙ軸ミラー移動保持機構６７との対応部分には末尾の符号ＹをＸに置換した符号を付して示す。
このような構成のエアスライドでは、ボールねじ及び転がり案内であるリニアガイドの組合せにより移動される場合と比べると、十分に高い真直度を容易に得ることができる。従って、Ｘ軸ミラー移動保持機構６９に案内される短尺ミラー６８、及びＹ軸ミラー移動保持機構６７に案内される短尺ミラー６６の位置の変化をレーザ測長装置６０により測定することにより、ワークステージ２の位置や姿勢の変化を正確に知ることができる。
【００２７】
そして、各干渉計６２〜６４よりワークステージ２のＸＹ方向位置やＹ軸送り台５２ひいては前の分割パターンの露光に続いて次の分割パターンをつなぎ露光する際に基板Ｗを次のエリアに送る段階で検出信号を、図５に示すように、制御装置８０に出力するようにしている。この制御装置８０は、この検出信号に基づいて分割露光のためのＸＹ方向の移動量を調整するためにＸ軸送り駆動装置４３及びＹ軸送り駆動装置５３を制御すると共に、ワークステージ２のＸＹ方向の移動制御時にＹ軸ミラー移動保持機構６７及びＸ軸ミラー移動保持機構６９のリニアモータ７５Ｙ及び７５Ｘを短尺ミラー６６及び６８がそれぞれ干渉計６２，６３及び６４と対向する定位置となるように駆動するモータ駆動回路８１Ｙ及び８１Ｘにモータ制御指令を出力し、さらに、移動完了時のＸ軸干渉計６４による検出結果及びＹ軸干渉計６２，６３による検出結果に基づき、つなぎ露光のための位置決め補正量を算出して、その算出結果をマスク位置調整装置１３（及び必要に応じて上下微動装置２３）に出力し、これにより、この補正量に応じてマスク位置調整装置１３等が駆動されてＸ軸送り駆動装置４３又はＹ軸送り駆動装置５３による位置決め誤差、真直度誤差、及びヨーイング等の影響が解消される。
【００２８】
ここで、モータ駆動回路８１Ｙ及び８１Ｘのそれぞれは、リニアスケール７６Ｙ及び７６Ｘで検出される移動体７４Ｙ及び７４ＸのＸ及びＹ方向の移動検出信号が入力され、制御装置８０から入力されるモータ制御指令とリニアスケール７６Ｙ及び７６Ｘで検出された移動検出信号とに基づいてフィードバック制御が行われる。
【００２９】
そして、制御装置８０では、電源投入時に、図６に示すミラー位置制御処理を実行する。このミラー位置制御処理は、先ず、ステップＳ１で、レーザー測長装置６０で測長したワークステージ２のＹ方向位置ＰＹ及びＸ方向位置ＰＸを読込む。なお、ＰＹは、干渉計６２，６３による検出結果の何れか、又は両者の平均値、又は、さらに正確を期す場合であれば前記平均値にワークステージ２のＸ軸方向位置及びヨーイングを加味して補正したもの、の何れかとすることができる。しかし、ミラー位置制御の目的に対しては、あまり高精度を要しないので、本実施形態では干渉計６２，６３の何れか一方の値を用いている。
【００３０】
次いで、ステップＳ２に移行して、ワークテーブル２を制御原点に位置決めするワークテーブル初期位置決め処理が行われ、次いでステップＳ３に移行して、ワークテーブル初期位置決めが完了したか否かを判定し、初期位置決めが完了してないときには、前記ステップＳ１に戻り、初期位置決めが完了したときには、ステップＳ４に移行する。
【００３１】
このステップＳ４では、リニアスケール７６Ｙ及び７６Ｘで検出したＹ軸ミラー位置ＭＰｙ及びＸ軸ミラー位置ＭＰｘを読込み、次いでステップＳ５に移行して、Ｙ軸ミラー移動保持機構６７及びＸ軸ミラー移動保持機構６９の移動体７４Ｙ及び７４Ｘで保持している短尺ミラー６６及び６８を干渉計６２，６３及び６４と正確に対向する原点位置に位置決めするミラー初期位置決め処理を行い、次いでステップＳ６に移行して、ミラー初期位置決めが完了したか否かを判定し、ミラー初期位置決めが完了していないときには前記ステップＳ４に戻り、ミラー初期位置決めが完了したときにステップＳ７に移行する。
【００３２】
このステップＳ７では、レーザー測長装置６０で測長したワークステージ２のＹ方向現在位置ＰＹ（ｎ）  及びＸ方向現在位置ＰＸ（ｎ）  を読込み、次いでステップＳ８に移行して、ワークステージ２がＹ方向に移動したか否かを判定する。この判定は前回のＹ方向位置ＰＹ（ｎ−１）  とＹ方向現在位置ＰＹ（ｎ）  とが一致するか否かを判断することにより行い、ＰＹ（ｎ−１）  ＝ＰＹ（ｎ）  であるときには、ワークステージ２がＹ方向へ移動していないものと判断して後述するステップＳ１１にジャンプし、ＰＹ（ｎ−１）  ≠ＰＹ（ｎ）  であるときには、ワークステージ２がＹ方向へ移動したものと判断してステップＳ９に移行し、Ｙ方向現在位置ＰＹ（ｎ）  から前回のＹ方向位置ＰＹ（ｎ−１）  を減算してＹ方向移動量ＬＹ（＝ＰＹ（ｎ）  −ＰＹ（ｎ−１）  ）を算出し、次いでステップＳ１０に移行して、Ｙ方向移動量ＬＹの符号反転した値−ＬＹをＸ軸ミラー移動保持機構６９のリニアモータ７５Ｘに対するモータ制御指令ＭＣｘとしてモータ駆動回路８１Ｘに出力してからステップＳ１１に移行する。
【００３３】
ステップＳ１１では、ワークステージ２がＸ方向に移動したか否かを判定する。この判定は前回のＸ方向位置ＰＸ（ｎ−１）  とＸ方向現在位置ＰＸ（ｎ）  とが一致するか否かを判断することにより行い、ＰＸ（ｎ−１）  ＝ＰＸ（ｎ）  であるときには、ワークステージ２がＸ方向へ移動していないものと判断して前記ステップＳ７に戻り、ＰＸ（ｎ−１）  ≠ＰＸ（ｎ）  であるときには、ワークステージ２がＸ方向へ移動したものと判断してステップＳ１２に移行し、Ｘ方向現在位置ＰＸ（ｎ）  から前回のＸ方向位置ＰＸ（ｎ−１）  を減算してＸ方向移動量ＬＸ（＝ＰＸ（ｎ）  −ＰＸ（ｎ−１）  ）を算出し、次いでステップＳ１３に移行して、Ｘ方向移動量ＬＸの符号反転した値−ＬＸをＹ軸ミラー移動保持機構６７のリニアモータ７５Ｙに対するモータ制御指令ＭＣｙとしてモータ駆動回路８１Ｙに出力してから前記ステップＳ７に戻る。
【００３４】
なお、制御装置８０はＸ軸送り駆動装置４３及びＹ軸送り駆動装置５３の制御も行うので、ステップＳ８及びＳ１１を省き、何れの送り駆動装置を駆動させるかにより、ステップＳ９及びＳ１０、又はＳ１２及びＳ１３（両軸とも駆動の場合はステップＳ９，Ｓ１０，Ｓ１２，Ｓ１３）を行うようにしてもよい。また、ステップＳ７において、駆動しない軸についての現在位置の読込についても、駆動しない軸については省くようにしてもよい。
【００３５】
この図６のミラー位置制御処理及びモータ駆動回路８１Ｘ及び８１Ｙで移動規制手段を構成している。
このように構成された分割逐次近接露光装置ＰＥは、図示しないプリアライメントユニットから搬送機構によってプリアライメントされたガラス基板Ｗがワークステージ２上に載置されると、これを真空吸着した状態で、分割逐次露光処理を行う。
【００３６】
ところで、分割逐次露光を行う場合には、仮にワークステージ２の送り誤差が全くないときでも、最初の状態でマスクＭのマスクパターンＰの向きがワークステージ２の送り方向（Ｙ軸方向）とずれていると、分割逐次露光により基板Ｗ上に形成される各パターンが傾いた状態で形成されてしまったり、つなぎ露光で基板Ｗ上に分割形成されたパターン同士の継ぎ目がずれて整合しない。また、上述したようにマスクＭは真空式吸引装置を介してマスク保持枠１２の下面に吸着保持させるのであるが、この吸着保持させる際にマスクＭのマスクパターンＰの向きとワークステージ送り機構２Ｂによるワークステージ２の移動方向（Ｙ軸方向）とを精度よく合わせることは困難である。
【００３７】
例えば、図９（ａ）のように、最初の位置において傾いた状態で露光されると、送り誤差が全くない場合でも次の位置での露光パターンは２点鎖線で示すように同様に傾いた状態で形成される。
そこで、この実施の形態では、図９に示すように、ワークステージ２（実際にはワークステージ２上に設置されているワークチャック８）の上面の少なくとも２か所に、例えば十字形状を有するワーク側アライメントマーク１００をＸ軸方向に互いに離間して形成し、一方、マスクＭの方にはワーク側アライメントマーク１００に対応させたマスク側アライメントマーク１０１を形成している。基準側である２ヶ所のアライメントマーク１００の中心同士を結ぶ線は、最初の状態（基準位置）においてＸ軸方向と一致し、Ｙ軸方向と直交するように予め調整されている。
【００３８】
そして、最初の状態（基準位置）において、アライメントカメラ１５により、アライメントマーク１００と１０１との位置ずれ量を検出し、Ｘ軸方向駆動装置１３ｘ及びＹ軸方向駆動装置１３ｙによってマスク保持枠１２の位置を調整することにより、ワーク側アライメントマーク１００とマスク側アライメントマーク１０１との中心同士が実質的にＸＹ平面内で一致して整合するようにしている。
【００３９】
なお、この実施の形態では、基板Ｗとして、図７に示す一辺１ｍを超える大型の基板Ｗでディスプレイ用材ＤＰを１２面取り（Ｘ方向４×Ｙ方向３）するものを用いる。
次に、上記構成の動作を説明する。
例えば、大型液晶ディスプレイ用のＲＧＢカラーフィルタを作成する工程には、材料となる基板Ｗ上に所定のパターンを露光する工程が含まれる。パターンの形成は、先ず各画素間を仕切るブラックマトリックスＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の三原色の個々のパターンを各色毎にブラックマトリックスのパターン形成と同様の工程を繰り返しながら形成していく。
【００４０】
ここでは、一層目すなわち、ブラックマトリックスのパターンのステップ露光に際して、図７に示すディスプレイ用材ＤＰを１２面取りするガラス基板ＷでＸ方向ステップ回数Ｎｘ＝２、Ｙ方向ステップ回数Ｎｙ＝３とし、マスクとして図８のマスクＭを用いる場合を例に取り、大型液晶ディスプレイ用のカラーフィルタのガラス基板Ｗの上に一層目のブラックマトリックスのパターンを分割逐次近接露光により形成する。また、この例では、初期位置決め位置（原点位置）において最初の露光を行い、以後ステップ送り、露光を繰り返すものとする。
【００４１】
分割逐次近接露光装置のマスクステージ１の下面には、一層目のパターンが描かれたマスクＭが予め真空吸着により装着されている。また、ワークステージ２は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の前進限近傍に位置し且つＺ軸方向の最下限迄下降している。
【００４２】
（１）ワークステージ２及びミラー６６，６８の初期位置決め調整
制御装置８０に電源を投入すると、先ず、図６のミラー位置決め処理のステップＳ１〜Ｓ６が実行される。先ず、レーザー測長装置６０からＸ方向現在位置ＰＸ（ｎ）  及びＹ方向減算位置ＰＹ（ｎ）  を読込み（ステップＳ１）、読込んだＹ方向減算位置ＰＹ（ｎ）  及びＸ方向減算位置ＰＸ（ｎ）  に基づいてワークテーブル２を予め設定した制御原点位置となるようにＸ軸送り駆動装置４３及びＹ軸送り駆動装置５３を駆動制御してワークテーブル２の初期位置決めを行う（ステップＳ２）。このワークテーブルの初期位置決めが完了すると、Ｙ軸ミラー移動保持機構６７及びＸ軸ミラー移動保持機構６９のリニアスケール７６Ｙ及び７６Ｘで検出したＹ軸用短尺ミラー６６及びＸ軸用短尺ミラー６８のミラー位置ＭＰｙ及びＭＰｘを読込み（ステップＳ４）、読込んだミラー位置ＭＰｙ及びＭＰｘに基づいてＹ軸用短尺ミラー６６及びＸ軸用短尺ミラー６８を干渉計６２，６３及び６４と正確に対向させる初期位置とするようにリニアモータ７５Ｙ及び７５Ｘのモータ駆動回路８１Ｙ及び８１Ｘに対してモータ制御指令ＭＣｙ及びＭＣｘを出力する（ステップＳ５）。そして、Ｙ軸用短尺ミラー６６及びＸ軸用短尺ミラー６８の初期位置決めが完了する。
【００４３】
（２）アライメント調整
まず、ギャップ調整手段６を構成するＺ軸送り台２Ａの上下粗動装置２１及び上下微動装置２３を駆動してワークステージ２とマスクＭとを所定のギャップを介して対向させ、マスク位置調整装置１３によりマスクＭの向きをＹ軸方向に対し傾きのないよう調整する。
【００４４】
すなわち、アライメントカメラ１５によってワーク側アライメントマーク１００とマスク側アライメントマーク１０１との間にずれが検出されると〔例えば図９（ａ）〕、その検出信号をマスク位置調整装置１３の制御装置（図示せず）に出力し、この制御装置によってＸ方向駆動装置１３ｘ及び二つのＹ方向駆動装置１３ｙの駆動を制御することにより、マスク保持枠１２の姿勢を修正して両マーク１００，１０１を図９（ｂ）に示すように整合させる。これにより、マスクＭとＹ軸方向との傾きθ（同図は、基板Ｗの長辺方向とＹ軸方向と、マスクＭの短辺方向とマスクパターンＰの短辺方向とが、それぞれ平行である場合を示している）が解消される。
【００４５】
（３）基板Ｗの挿入及び１ステップ目の露光
アライメント終了後、ギャップ調整手段６により一旦ワークステージ２を搬送機構からガラス基板Ｗの受け取りが可能な位置まで下降させる。この状態で搬送機構で保持しているガラス基板Ｗをワークチャック上に受け取り、この状態で、ワークチャックでガラス基板Ｗを真空吸着する。
その後、再度ギャップ調整手段６により、マスクＭの下面とワークＷ上面とのすき間を、露光する際に必要な所定の値となるように調整する。
【００４６】
なお、ギャップ調整手段６によりワークステージ２を上下動させる際に、わずかではあるがワークステージ２がＸＹ平面内でも多少動いてしまう場合もある。このような場合のために、上記（２）のアライメント終了後での各レーザ干渉計６２、６３、６４による位置データを、前記制御装置８０により記憶しておき、ギャップ調整後の位置データが記憶されているデータとは変わっている場合には、マスク位置調整手段１３で変化分だけ補正することにより、マスクＭの向きとＹ軸方向との傾きのない状態に戻すことができる。
次に、照明光学系３の露光制御用シャッター３４を開制御して１ステップ目の露光を行い、マスクＭのマスクパターンＰを基板Ｗの所定位置に焼き付けて、基板Ｗ上に第１の分割パターンＰ１を得る。
【００４７】
（４）２ステップ目の露光位置へのワークステージ２の移動
続いて、第２の分割パターンＰ２のつなぎ露光を行うために、ワークステージ送り機構２ＢのＹ軸送り駆動装置５３を駆動してワークステージ２をＹ方向へ移動させることにより、ワークステージ２をマスクＭに対して図１０（ｂ）の矢印Ｙ方向に１ステップ量だけ送り、基板Ｗを２ステップ目の露光位置に配置する。このとき、基板ＷとマスクＭとの干渉を避けるため、ワークステージ２を必要な分だけＺ軸方向に下降させるようにしてもよい。このように、ワークステージ２がＹ軸方向に移動される間、所定の微小時間間隔で、レーザー測長装置６０により検出されるＹ軸方向現在位置ＰＹ（ｎ）  （Ｙ軸干渉計６２又は６３の何れかによる検出結果、又は両者の平均値、又はこれらにさらに補正を加味した値）が前回のＹ軸方向位置ＰＹ（ｎ−１）  より正方向に増加することになるので、図６のミラー位置制御処理で、ステップＳ７からステップＳ８に移行し、ワークステージ２のＹ軸方向現在位置ＰＹ（ｎ）  からＹ軸方向の前回位置ＰＹ（ｎ−１）  を減算することにより、Ｙ軸方向移動量ＬＹを算出し（ステップＳ９）、次いで算出したＹ軸方向移動量ＬＹを符号反転した−ＬＹをモータ制御指令ＭＣｘとしてモータ駆動回路８１Ｘに出力する。
【００４８】
このため、モータ駆動回路８１Ｘでは、入力されたモータ制御指令ＭＣｘを、リニアスケール７６Ｘで検出されるミラー現在位置ＭＰｘから減算し新たな目標ミラー位置ＭＰｘ＊  （＝ＭＰｘ−ＭＣｘ）を算出し、ミラー現在位置ＭＰｘが目標ミラー位置ＭＰｘ＊  に一致するようにリニアモータ７５Ｘを駆動制御する。
このため、ワークテーブル２のＹ方向の移動量ＬＹと等しい移動量だけ移動体７４ＸがＹ軸方向にワークテーブル２とは逆方向に移動されることにより、Ｘ軸用短尺ミラー６８が干渉計６４と対向した状態を維持する定位置制御が行われる。
【００４９】
この場合、Ｘ軸方向の駆動は行われないので上のようにステップＳ１０が完了したらステップＳ７に戻る。そして、Ｙ軸方向のステップ送りが完了するまでステップＳ７〜Ｓ１０が前記微小時間間隔で繰り返されることにより、Ｘ軸用短尺ミラー６８は常に略一定位置を維持し、常に干渉計６４と対向した状態を保つことになる。
【００５０】
（５）ワークステージ２の送り誤差によるアライメント調整
上記のようにワークステージ２をマスクＭに対して図９（ｂ）の矢印Ｙ方向に１ステップ量だけ送る際には、先に述べた要因による送り誤差が生じるため、そのまま２ステップ目の露光をすると第２の分割パターンＰ２がわずかではあるが位置ずれをおこす。例えば、ワークステージ２のステップ送り中にワークステージ２のヨーイングとＸ軸方向真直度のエラーにより、図９（ｃ）のように真直度Δｘ、傾斜角度θ’だけ正規位置からずれてしまう。
【００５１】
そこで、ガラス基板Ｗ上に第２の分割パターンＰ２を露光転写する前に、干渉計６２、６３及び６４により得られているステップ送り完了後のワークステージ２の位置の検出結果をつなぎ露光位置を補正する補正制御手段に出力し、該補正制御手段では該検出結果に基づいてつなぎ露光のための位置決め補正量を算出し、その算出結果に基づいてマスク位置調整装置１３（及び送り時のピッチング補正など、必要に応じてギャップ調整を行うために上下微動装置２３）のＸ軸方向駆動装置１３ｘ及びＹ軸方向駆動装置１３ｙを制御してマスク保持枠１２の位置を調整し、マスクＭの位置ずれを補正するアライメント調整を行う。ヨーイング、すなわち傾斜角度θ’は前記のとおり、２台のＹ軸干渉計６２，６３による検出結果の差に基づき、制御装置８０に含まれる演算装置により算出される。また、ΔｘはＸ軸干渉計６４による検出結果に基づき、得られる。Ｙ軸方向位置についてもヨーイング及びＸ軸方向現在位置を加味して必要に応じ補正すべき量が求められる。なお、ギャップ調整手段６によるマスクＭと基板Ｗとのギャップ調整を行った場合は、その後の状態でのヨーイング及び真直度のデータに基づいて前記アライメント調整を行う。
【００５２】
（６）２ステップ目の露光
その後、照明光学系３の露光制御用シャッター３４を開制御して２ステップ目の露光を行い、マスクＭのマスクパターンＰを基板Ｗの所定位置に焼き付けて、基板Ｗ上に位置ずれが修正された第２の分割パターンＰ２を得る（図９（ｄ）参照）。
【００５３】
（７）３ステップ目の露光
３ステップ目の露光については、前記（４），（５）及び（６）と同様にして２ステップ目の露光位置へのワークステージ２の移動、ワークステージ２の送り誤差によるアライメント調整及び３ステップ目の露光を行い、基板Ｗ上に位置ずれが修正された第３の分割パターンＰ３（図示せず）を得る。
【００５４】
（８）４ステップ目の露光
続いて、第４の分割パターンＰ４のつなぎ露光を行うために、ワークステージ送り機構２ＢのＸ軸送り駆動装置４３を駆動してワークステージ２をＸ方向へ移動させることにより、ワークステージ２をマスクＭに対してＸ方向に１ステップ量だけ送り、基板Ｗを４ステップ目の露光位置に配置する。このとき、基板ＷとマスクＭとの干渉を避けるため、ワークステージ２を必要な分だけＺ軸方向に下降させるようにしてもよい。このように、ワークステージ２がＸ軸方向に移動される間、所定の微小時間間隔で、レーザー測長装置６０により検出されるＸ軸方向現在位置ＰＸ（ｎ）  が前回のＸ軸方向位置ＰＸ（ｎ−１）  より正方向に増加することになるので、図６のミラー位置制御処理で、ステップＳ１１からステップＳ１２に移行し、ワークステージ２のＸ軸方向現在位置ＰＸ（ｎ）  からＸ軸方向の前回位置ＰＸ（ｎ−１）  を減算することにより、Ｘ軸方向移動量ＬＸを算出し（ステップＳ１２）、次いで算出したＸ軸方向移動量ＬＸを符号反転した−ＬＸをモータ制御指令ＭＣｙとしてモータ駆動回路８１Ｙに出力する。
【００５５】
このため、モータ駆動回路８１Ｙでは、入力されたモータ制御指令ＭＣｙを、リニアスケール７６Ｙで検出されるミラー現在位置ＭＰｙから減算し新たな目標ミラー位置ＭＰｙ＊  （＝ＭＰｙ−ＭＣｙ）を算出し、ミラー現在位置ＭＰｙが目標ミラー位置ＭＰｙ＊  に一致するようにリニアモータ７５Ｙを駆動制御する。
このため、ワークテーブル２のＸ方向の移動量ＬＸと等しい移動量だけ移動体７４ＹがＸ軸方向にワークテーブル２とは逆方向に移動されることにより、Ｙ軸用短尺ミラー６６が干渉計６２，６３と対向した状態を維持する定位置制御が行われる。
【００５６】
この場合、Ｙ軸方向の駆動は行われないので、上のようにステップＳ１３が完了したらステップＳ７に戻る。そして、Ｘ軸方向のステップ送りが完了するまでステップＳ７及びＳ１１〜Ｓ１３が前記微小時間間隔で繰り返されることにより、Ｙ軸用短尺ミラー６６は常に略一定の位置を維持し、常にＹ軸干渉計６２，６３と対向した状態を保つことになる。
【００５７】
その後、Ｘ方向ステップ送り完了時の干渉計６２，６３及び６４の検出結果に基づき、位置決め誤差、Ｙ軸方向真直度、及びヨーイング等を求め、これらの影響を解消すべく、位置決め補正量を算出し、マスク位置調整装置１３等によりアライメント調整を行う。必要に応じギャップ調整によるずれをさらに補正するのもＹ軸方向ステップの場合と同様である。
アライメント調整が完了したら露光を行う。
【００５８】
（９）５及び６ステップ目の露光
続いて、前述した２ステップ目及び１ステップ目とは逆方向にＹ軸ワークステージ送り機構２ＢのＹ軸送り駆動装置５３を駆動してワークステージ２を−Ｙ方向へ移動させることにより、ワークステージ２をマスクＭに対してＹ方向に１ステップ量づつ送り、基板Ｗを５ステップ目及び６ステップ目の露光位置に順次配置して、それぞれ上記（５）と同様にマスク位置調整装置１３によるアライメント調整を行った上で露光を行い、６ステップ目の露光が完了すると、ワークステージ２が制御原点位置に復帰され、ワークチャック８での真空吸着状態が解除されてから図示しない搬送装置でガラス基板Ｗが外部に搬出され、新たなガラス基板Ｗの露光のため前記（１）〜（９）の処理が繰り返される。
【００５９】
以上のように、上記実施形態では、ガラス基板Ｗに露光を行う際に、ワークテーブル２がＸＹ方向に大きく移動されることになるが、このワークテーブル２のＸＹ方向の移動位置ＰＸ（ｎ）  及びＰＹ（ｎ）  をレーザ測長装置６０で測定し、その測定結果に基づいてワークテーブルのＸＹ方向移動量ＬＸ及びＬＹを算出し、これらＸＹ移動量ＬＸ及びＬＹの符号反転した値−ＬＸ及び−ＬＹをモータ制御指令値ＭＣｘ及びＭＣｙとしてＹ軸ミラー移動保持機構６６Ｙ及びＸ軸ミラー移動保持機構６６Ｘのリニアモータ７５Ｙ及び７５Ｘを駆動制御するモータ駆動回路８１Ｙ及び８１Ｘに出力するので、ワークテーブル２のＸＹ方向の移動量ＬＸ及びＬＹとは逆方向に移動体７４Ｙ及び７４Ｘが移動されて、Ｙ軸用短尺ミラー６６及びＸ軸用短尺ミラー６８がそれぞれ干渉計６２，６３及び６４と正確に対向した位置に定位置制御されるので、従来例のようにワークテーブル２の総移動量に対応した長さのバーミラーを用意する必要がなく、短尺ミラー６６及び６８を用意するだけでよいので、ミラー単価を大幅に低減することができる。
【００６０】
しかも、短尺ミラー６６及び６８の移動をエアスライダを使用して行うようにしているので、ミラー移動時に振動が発生することもなく、円滑なミラー移動を確保することができるので、レーザー測長装置６０でＸ方向位置ＰＸ（ｎ）  及びＹ方向位置ＰＹ（ｎ）  を正確に測定することができる。
短尺ミラー６６，６８の代わりにそれぞれの干渉計６２，６３，６４に対向させて、レーザ測長装置専用の反射鏡を用いることも可能となる。
【００６１】
さらに、短尺ミラー６６，６８の移動はワークステージ２上で行われるので、ワークステージ２の位置決め誤差、真直度、ヨーイング等の誤差を、正確に求める上で有利である。
また、ミラー移動保持機構６７及び６９による短尺ミラー６６及び６８の移動制御精度が高いほど短尺ミラー６６及び６８のＸ軸方向及びＹ軸方向長さを短くすることができるが、短尺ミラー６６及び６８のＸ軸方向及びＹ軸方向の長さを長めに設定することにより、短尺ミラー６６及び６８の移動制御精度を低下させることができ、モータ駆動回路８１Ｘ及び８１Ｙでリニアモータ７５Ｘ及び７５Ｙをオープンループ制御することもできる。
【００６２】
さらにまた、上記実施形態では、ミラー位置制御処理をレーザ測長装置によるワークステージ２のＸ方向位置ＰＸ又はＹ方向位置ＰＹの検出結果に基づいてリニアモータ７５Ｙ又は７５Ｘを制御することによりミラーが常に略一定位置にあるように制御していたが、代わりに、Ｘ軸送り駆動装置又はＹ軸送り駆動装置のモータとともに回転するエンコーダを備え、その信号を位置決め制御に用い、この信号に基づき、ワークステージ２のステップ送りと、ミラー位置制御処理の短尺ミラーの位置決めと同期制御するようにしてもよい。
【００６３】
あるいは、エンコーダの代わりに、Ｚ軸微動ステージ２４上にＸ軸方向に平行にリニアスケールを、Ｘ軸送り台４２上にＹ軸方向に平行にリニアスケールを、それぞれ設け、これらのリニアスケールの信号を位置決め制御に用い、その信号に基づき、ワークステージ２のステップ送りと、ミラー位置制御処理の短尺ミラーの位置決めとを同期制御するようにしてもよい。
【００６４】
何れの場合も、ワークステージ２の移動方向とその上において短尺ミラーが移動する方向とを反対方向になるように設定することにより、上記実施の形態の場合と同様、ワークステージ２が移動しても常に短尺ミラーは略一定位置を保持し対応する干渉計と対向した状態を保つ。
あるいは、レーザ測長装置６０とは別に、短尺ミラー６６及び６８が固定される移動体７４Ｙ，７４Ｘの位置をそれぞれの移動方向から測定するためのレーザ測長装置を、例えば、Ｚ軸微動ステージ２４、及びＸ軸送り台４２上に設け、レーザ測長により移動体７４Ｘ，７４Ｙの位置を測定し、その信号に基づき移動体７４Ｘ，７４Ｙの位置が一定位置になるような位置制御を行い、短尺ミラー６６，６８が常に対応する干渉計６２，６３及び６４と対向するようにしてもよい。
【００６５】
また、何れの場合も、移動体７４Ｘ，７４Ｙをワークステージ２の移動方向と逆方向に移動させる速さは必ずしもワークステージ２の速さと同じ速さである必要はなく、ワークステージ２の速さより小さい速度であれば、固定部に対する短尺ミラーの移動距離はワークステージ２の移動距離より小さくなるので、ワークステージ２の移動量よりも短いバーミラーの使用が可能となる。
何れの場合も、ステップ送り完了後のレーザ測長装置６０の干渉計６２，６３，６４により得られる位置決め誤差、真直度誤差、及びヨーイングに基づきマスク位置調整装置１３により位置ずれの補正を行う点は上記実施の形態と同様である。
【００６６】
また、上記実施形態では、移動体７４Ｘ及び７４Ｙの移動位置をリニアスケール７６Ｘ及び７６Ｙで検出し、これをモータ駆動回路８１Ｘ及び８１Ｙにフィードバックするようにした場合について説明したが、これに限定されるものではなく、Ｚ軸微動ステージ２４上にワークステージ２のＸ方向移動と同期してＸ方向に移動する移動テーブルを配置すると共に、Ｘ軸送り台４２上にワークステージ２のＹ方向移動と同期してＹ方向に移動する移動テーブルを配置し、両移動テーブルにＸ軸用短尺ミラー６８及びＹ軸用短尺ミラー６６の絶対位置を測定するレーザ測長装置を設け、これらレーザ測長装置の測定結果に基づいてＹ軸用短尺ミラー６６及びＸ軸用短尺ミラー６８を干渉計６２，６３及び６４と対向する位置を保持するようにモータ駆動回路８１Ｙ及び８１Ｘにモータ制御指令を出力することにより、Ｙ軸用短尺ミラー６６及びＸ軸用短尺ミラー６８を定位置制御するようにしてもよい。
【００６７】
また、上記実施形態では、ワークテーブル２がＸＹ方向に移動可能に構成されている場合について説明したが、これに限定されるものではなく、Ｘ方向又はＹ方向のみに移動可能に構成されている場合には、その移動方向に沿ってミラー移動保持機構を配設し、このミラー移動保持機構で保持する短尺ミラーを定位置制御するようにすればよい。
【００６８】
この場合、あるいはＸＹ方向の移動の場合の少なくとも下側の位置決めテーブルに対応のミラー移動保持機構（上の例ではＸ軸短尺ミラー６８のミラー移動保持機構６９）については、リニアモータを用いる代わりに、下側のテーブル（上の例ではＸ軸送り台４２）から立設され、移動体７４ＸのＹ軸方向移動のみを規制するストッパを設けるようにしてもよい。
【００６９】
さらに、上記実施形態では、レーザー測長装置６０で測定したＸ方向現在位置ＰＸ（ｎ）  及びＹ方向現在位置ＰＹ（ｎ）  をそのまま使用して位置決めを行う場合について説明したが、これに限定されるものではなく、短尺ミラー６６及び６８を保持するミラー移動保持機構６７及び６９の走り精度を予め測定すると共に、ワークステージ２の移動精度も予め測定することにより、これら測定値に基づいてレーザ測長時の測定誤差補正を行うことができる。特に、液晶露光装置のように上位に独立したテーブルの位置測定が可能なカメラ等の測定装置が搭載されているときは、テーブル移動時の短尺ミラー６６及び６８の移動精度によるズレをスプライン補正することができ、より正確な補正が可能となる。
【００７０】
また、上記実施形態では、マスクステージ１をマスクステージ支柱１１で装置ベース４に固定して取り付け、ワークステージ２の方のみギャップ調整手段６で昇降させる構造を示したが、これに限らず、例えばマスクステージ支柱１１をシリンダで構成してマスクステージ１の方を昇降させる構造にしてもよい。その場合には、上下粗動装置を有するＺ軸粗動ステージ２２を省略することができる。
【００７１】
さらに、上記実施形態では、ミラー移動保持機構６７及び６９をエアスライダを含んで構成する場合について説明したが、これに限定されるものではなく、リニアガイド、リニアボールベアリング、カムフォロア等の転がり案内や摺動面や油静圧等による直動案内を適用することができ、また駆動形式としてはモータ駆動されるベルトやボールねじやエアシリンダ，油圧シリンダ等による直線駆動機構や超音波モータ駆動等の任意の直線駆動機構を適用し得る。
【００７２】
さらにまた、上記実施形態では、本発明を分割逐次近接露光装置に適用した場合について説明したが、これに限定されるものではなく、物品を載置して位置決めする位置決めテーブルを有する任意の位置決め装置に本発明を適用することができる。
この場合、位置決めテーブルの位置決め誤差、真直度、ヨーイング等の補正のための位置調整装置は位置決めテーブルに適宜設けられる。その方式としては、上記実施の形態のマスク位置調整装置に準じた構成のみならず、例えば電歪素子あるいはこれに類似のアクチュエータを利用したもの等、公知のものを用いることができる。
【００７３】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１に係る発明によれば、位置決めテーブルの移動量に応じて短尺反射手段を保持する移動保持機構を、位置決めテーブルの移動方向とは反対方向に位置決めテーブルの移動量より少ない移動量で移動規制することにより、短尺反射手段の移動量を抑制して、短い短尺反射手段を適用することが可能となり、すなわち、長いバーミラーが不要となり、反射手段の製造単価を大幅に低減して、全体のコストを低減することができるという効果が得られる。
【００７４】
また、短尺反射手段を移動規制するようにしたので、位置決めテーブルの移動速度に影響を与えることがなく、位置決めを行う場合のスループットを従来例に比較して格段に向上させることができるという効果が得られる。
さらに、請求項２に係る発明によれば、移動規制手段で短尺反射手段が距離測定部に対向する位置を保持するように定位置制御するようにしたので、位置決めテーブルの移動にかかわらず、短尺反射手段が距離測定部に対向した位置を保持するので、短尺反射手段の長さを必要最小限の長さに設定することができ、より製造単価を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を分割逐次近接露光装置に適用した場合の分解斜視図である。
【図２】ワークステージの平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ線断面図である。
【図４】ミラー移動保持機構を示す図であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。
【図５】位置決め制御系を示すブロック図である。
【図６】制御装置で実行するミラー位置制御処理手順の一例を示すフローチャートである。
【図７】１５インチディスプレイ用材ＤＰを１２面取りした基板Ｗ（１０００ｍｍ×１２００ｍｍ）の平面図である。
【図８】図７の基板に対向配置されるマスクを示す図である。
【図９】ステップ露光を説明するための説明図である。
【符号の説明】
ＰＥ…分割逐次近接露光装置
Ｗ…基板
Ｍ…マスク
Ｐ…マスクパターン
１…マスクステージ
２…ワークステージ
３…照明光学系（照射手段）
２Ａ…Ｚ方向送り台
２Ｂ…ワークステージ送り機構
４２…Ｘ方向送り台
４３…Ｘ軸送り駆動装置
５２…Ｙ方向送り台
５３…Ｙ軸送り駆動装置
６０…レーザ測長装置
６６…Ｙ軸用短尺ミラー
６７…Ｙ軸ミラー移動保持機構
６８…Ｘ軸用短尺ミラー
６９…Ｘ軸ミラー移動保持機構
７４Ｘ，７４Ｙ…移動体
７５Ｘ，７５Ｙ…リニアモータ
７６Ｘ，７６Ｙ…リニアスケール
８０…制御装置
８１Ｘ，８１Ｙ…モータ駆動回路
【図１】
2005017204.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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