(57)【要約】【課題】高密度記録が達成できるとともに、高度な走行性及び耐久性を発揮できる磁気記録媒体の製法を提供する。【解決手段】可撓性支持体の表面に磁性層が形成されてなる磁気記録媒体の製法。連続走行する帯状の可撓性支持体Ｗの表面に、放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液Ｆ１を塗布し、未乾燥の第１の塗布液の上に磁性体を含む第２の塗布液Ｆ２を塗布する。【選択図】  図１
2005092984.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性支持体の表面に磁性層が形成されてなる磁気記録媒体の製造方法において、
連続走行する帯状の可撓性支持体の表面に、放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液を塗布する工程と、
未乾燥の前記第１の塗布液の上に磁性体を含む第２の塗布液を塗布する工程と、
を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
可撓性支持体の表面に磁性層が形成されてなる磁気記録媒体の製造方法において、
連続走行する帯状の可撓性支持体の表面に、放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液を塗布する工程と、
未乾燥の前記第１の塗布液の上に磁性体を含まない第３の塗布液を塗布する工程と、
塗布後の前記第１及び第３の塗布液を乾燥させる工程と、
乾燥後の前記第３の塗布液の上に磁性体を含む第２の塗布液を塗布する工程と、
を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
可撓性支持体の表面に磁性層が形成されてなる磁気記録媒体の製造方法において、
連続走行する帯状の可撓性支持体の表面に、放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液を塗布する工程と、
未乾燥の前記第１の塗布液の上に磁性体を含まない第３の塗布液を塗布する工程と、
未乾燥の前記第３の塗布液の上に磁性体を含む第２の塗布液を塗布する工程と、
を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記第１の塗布液の乾燥後の厚さを０．１〜１．０μｍとなるように調整する請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気記録媒体の製造方法に係り、特に、ガイドローラなどの走行案内手段により支持されて連続走行する可撓性支持体上に磁気記録層を塗布することにより製造される磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピューターの小型化、情報処理能力の増大と相まって、記録装置の大容量化、小型化の要求が強くなっている。これに伴い、記録媒体の記録容量の向上が強く要求されている。このような磁気記録媒体、特に磁気テープにあっては、安定な記録・再生を維持するためには従来よりも更に高度な走行性及び耐久性が要求される。
【０００３】
塗布型の磁気記録媒体において、記録密度と走行耐久性と改善するためには、支持体表面の表面粗さを向上させることが重要である。すなわち、Ｃ／Ｎ比を向上させるのには、支持体の表面を平滑にするのが効果的である。また、支持体表面にいわゆる「フィッシュアイ」と称される微小な突起が存在すると、これにより磁性層が影響を受け、ドロップアウトの悪化となる。すなわち、ドロップアウトの低減には、支持体表面の微小な突起を減少させるのが効果的である。
【０００４】
このような問題点に鑑み、本出願人等により、各種の提案がなされており（特許文献１、２等参照）、所定の効果が得られている。このうち、特許文献１は、支持体表面に平滑化層を形成する構成のものである。特許文献２は、非磁性の下層に放射線硬化樹脂を使用する構成のものである。
【特許文献１】特開２００３−１３２５２２号公報
【特許文献２】特開２００１−８４５５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記のような従来の技術においても、問題点が完全には解消されていないのが現状である。すなわち、特許文献１に記載の提案のように、支持体表面を平滑化した場合には、後工程において支持体同士が貼り付いてしまい、ハンドリングが困難であるという懸念があった。また、特許文献２に記載の提案のように、磁性層の下層に非磁性の放射線硬化樹脂を含有させる構成では、平滑化の効果が十分には得られなかった。
【０００６】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、高密度記録が達成できるとともに、高度な走行性及び耐久性を発揮できる磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に係る本発明は、前記目的を達成するために、可撓性支持体の表面に磁性層が形成されてなる磁気記録媒体の製造方法において、連続走行する帯状の可撓性支持体の表面に、放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液を塗布する工程と、未乾燥の前記第１の塗布液の上に磁性体を含む第２の塗布液を塗布する工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【０００８】
本発明によれば、粗面である可撓性支持体の表面に、平滑化層となる放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液を塗布し、次いで未乾燥の状態で、磁性体を含む第２の塗布液を塗布する。すなわち、いわゆるウェット・オン・ウェットで塗布膜を形成する。これにより、表面の平滑化が促進され、高度な走行性及び耐久性を発揮できる。また、平滑過ぎる表面状態は、ハンドリングの妨げになるが、本発明によれば、平滑化層となる第１の塗布液層の上に機能層が略同時に形成されるので、表面は適度な粗さになり、高速走行においても安定的なハンドリングが可能となる。
【０００９】
なお、「放射線硬化樹脂」とは、放射線の照射により重合可能な樹脂であり、後述する実施の態様において具体例を列挙する。
【００１０】
請求項２に係る本発明は、可撓性支持体の表面に磁性層が形成されてなる磁気記録媒体の製造方法において、連続走行する帯状の可撓性支持体の表面に、放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液を塗布する工程と、未乾燥の前記第１の塗布液の上に磁性体を含まない第３の塗布液を塗布する工程と、塗布後の前記第１及び第３の塗布液を乾燥させる工程と、乾燥後の前記第３の塗布液の上に磁性体を含む第２の塗布液を塗布する工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【００１１】
本発明によれば、粗面である可撓性支持体の表面に、平滑化層となる放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液を塗布し、次いで未乾燥の状態で、磁性体を含まない第３の塗布液を塗布する。すなわち、いわゆるウェット・オン・ウェットで塗布膜を形成する。これによっても、表面の平滑化が促進され、高度な走行性及び耐久性を発揮できる。また、平滑過ぎる表面状態は、ハンドリングの妨げになるが、本発明によれば、平滑化層となる第１の塗布液層の上に機能層が略同時に形成されるので、表面は適度な粗さになり、高速走行においても安定的なハンドリングが可能となる。
【００１２】
請求項３に係る本発明は、可撓性支持体の表面に磁性層が形成されてなる磁気記録媒体の製造方法において、連続走行する帯状の可撓性支持体の表面に、放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液を塗布する工程と、未乾燥の前記第１の塗布液の上に磁性体を含まない第３の塗布液を塗布する工程と、未乾燥の前記第３の塗布液の上に磁性体を含む第２の塗布液を塗布する工程と、を含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【００１３】
本発明によれば、粗面である可撓性支持体の表面に、平滑化層となる放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液を塗布し、次いで未乾燥の状態で、磁性体を含まない第３の塗布液を塗布し、次いで未乾燥の状態で、磁性体を含む第２の塗布液を塗布する。すなわち、いわゆるウェット・オン・ウェットで塗布膜を形成する。これによっても、表面の平滑化が促進され、高度な走行性及び耐久性を発揮できる。また、平滑過ぎる表面状態は、ハンドリングの妨げになるが、本発明によれば、平滑化層となる第１の塗布液層の上に機能層が略同時に形成されるので、表面は適度な粗さになり、高速走行においても安定的なハンドリングが可能となる。
【００１４】
本発明において、前記第１の塗布液の乾燥後の厚さを０．１〜１．０μｍとなるように調整することが好ましい。このような厚さの平滑化層を設けることにより、本発明の効果が発揮できる。
【発明の効果】
【００１５】
以上説明したように、請求項１に係る本発明によれば、粗面である可撓性支持体の表面に、平滑化層となる放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液を塗布し、次いで未乾燥の状態で、磁性体を含む第２の塗布液を塗布する。すなわち、いわゆるウェット・オン・ウェットで塗布膜を形成する。これにより、表面の平滑化が促進され、高度な走行性及び耐久性を発揮できる。また、平滑過ぎる表面状態は、ハンドリングの妨げになるが、本発明によれば、平滑化層となる第１の塗布液層の上に機能層が略同時に形成されるので、表面は適度な粗さになり、高速走行においても安定的なハンドリングが可能となる。
【００１６】
請求項２に係る本発明によれば、粗面である可撓性支持体の表面に、平滑化層となる放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液を塗布し、次いで未乾燥の状態で、磁性体を含まない第３の塗布液を塗布する。すなわち、いわゆるウェット・オン・ウェットで塗布膜を形成する。これによっても、表面の平滑化が促進され、高度な走行性及び耐久性を発揮できる。また、平滑過ぎる表面状態は、ハンドリングの妨げになるが、本発明によれば、平滑化層となる第１の塗布液層の上に機能層が略同時に形成されるので、表面は適度な粗さになり、高速走行においても安定的なハンドリングが可能となる。
【００１７】
請求項３に係る本発明によれば、粗面である可撓性支持体の表面に、平滑化層となる放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液を塗布し、次いで未乾燥の状態で、磁性体を含まない第３の塗布液を塗布し、次いで未乾燥の状態で、磁性体を含む第２の塗布液を塗布する。すなわち、いわゆるウェット・オン・ウェットで塗布膜を形成する。これによっても、表面の平滑化が促進され、高度な走行性及び耐久性を発揮できる。また、平滑過ぎる表面状態は、ハンドリングの妨げになるが、本発明によれば、平滑化層となる第１の塗布液層の上に機能層が略同時に形成されるので、表面は適度な粗さになり、高速走行においても安定的なハンドリングが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、添付図面に基づいて、本発明の実施態様の例について説明する。図１は、本発明に適用される塗布装置のうち、塗布ヘッド１０の一部を切断して示す斜視図である。図２は、塗布ヘッド１０の先端部分と可撓性支持体（以下、「ウェブ」と称する）Ｗとの位置関係を示す概略断面図であり、ウェブＷを塗布ヘッド１０に対してセットし、塗布液を塗布している状態を示す。
【００１９】
図１及び図２に示されるように、塗布ヘッド１０は、２種類の塗布液を供給できるように独立した下記の液供給系が２組設けられている。以下、この２組の液供給系の構成について説明するが、上流側の液供給系については部材番号の後にＡを附し、下流側の液供給系については部材番号の後にＢを附して区別することとする。
【００２０】
塗布ヘッド１０の本体１２には、長手方向（ウェブＷの幅方向）に延びた液溜め部１４Ａ、１４Ｂと、液溜め部１４Ａ、１４Ｂと連通するとともに、長手方向（ウェブＷの幅方向）においてウェブＷと対向し、開口部より塗布液を吐出するスリット１６Ａ、１６Ｂと、液溜め部１４Ａ、１４Ｂへ塗布液を供給する液供給口１８Ａ、１８Ｂと、液溜め部１４Ａ、１４Ｂから塗布液を引き抜く液排出口２０Ａ、２０Ｂと、を備えている。
【００２１】
液溜め部１４Ａ、１４Ｂは、「ポケット」又は「マニホールド」とも称され、その断面が略円形をなし、図１に示されるように、ウェブＷの幅方向に略同一の断面形状をもって延長された液溜め機能を有する空洞部である。その有効長さは、通常、塗布幅と同等又は若干長く設定される。液溜め部１４Ａ、１４Ｂの貫通した両端開口部は、図１に示されるように、本体１２の両端部に取付けられる閉鎖板２２、２４により閉止されている。なお、既述の液供給口１８Ａ、１８Ｂは閉鎖板２２に、液排出口２０Ａ、２０Ｂは閉鎖板２４にそれぞれ設けられている。
【００２２】
スリット１６Ａ、１６Ｂは、液溜め部１４Ａ、１４ＢからウェブＷに向け、通常、０. ０１〜０. ５ｍｍの開口幅をもって塗布ヘッド１０の本体１２内部を貫通し、かつ液溜め部１４Ａ、１４Ｂと同じようにウェブＷの幅方向に延長された比較的狭隘な流路であり、ウェブＷの幅方向の開口長さは塗布幅と略同等に設定される。
【００２３】
なお、スリット１６Ａ、１６ＢにおけるウェブＷに向けた流路の長さは、塗布液の液組成、物性、供給流量、供給液圧、等の諸条件を考慮して適宜設定し得る。すなわち、塗布液がウェブＷの幅方向に均一な流量と液圧分布をもって層流状にスリット１６Ａ、１６Ｂから供給できればよい。
【００２４】
次に、スリット１６Ａ、１６Ｂの開口部について、図２を参照しながら説明する。スリット１６Ａは、塗布ヘッド１０の本体１２（図１参照）のフロントエッジ２６と第１ドクターエッジ２８とにより形成される。スリット１６Ｂは、塗布ヘッド１０の本体１２の第１ドクターエッジ２８と第２ドクターエッジ３０とにより形成される。また、塗布ヘッド１０の本体１２の上面（ウェブＷと対向する面）には、上流側より、フロントエッジ面２６ａ、第１ドクターエッジ面２８ａ、第２ドクターエッジ面３０ａがそれぞれ形成されている。
【００２５】
図２に示されるように、フロントエッジ面２６ａは断面が略直線状に、第１ドクターエッジ面２８ａと第２ドクターエッジ面３０ａは、断面がそれぞれ所定の局率半径Ｒ１、Ｒ２の円弧状に形成されている。また、フロントエッジ面２６ａの後端エッジ部と第１ドクターエッジ面２８ａの先端エッジ部とには所定の段差が設けられ、第１ドクターエッジ面２８ａの後端エッジ部と第２ドクターエッジ面３０ａの先端エッジ部とには所定の段差が設けられ、いずれも塗布液Ｆ１、Ｆ２の所定厚さの膜が形成できるようになっている。
【００２６】
次に、塗布ヘッド１０を主体として、塗布装置の作用について説明する。塗布液Ｆ１、Ｆ２は、連続的に、かつ一定の流量で送液可能な定量送液手段、一般的には定量ポンプ（図示略）により、図１に示されるように、液供給口１８Ａ、１８Ｂを経て液溜め部１４Ａ、１４Ｂに供給される。定量ポンプとしては、たとえば、プランジャポンプ、歯車ポンプ等の流量可変の送液手段が好ましく使用できる。
【００２７】
液溜め部１４Ａ、１４Ｂに供給された塗布液Ｆ１、Ｆ２は、所定量がスリット１６Ａ、１６Ｂの開口部より吐出され、残りの量が液排出口２０Ａ、２０Ｂより排出され、定量送液手段に回収される。このような運転を行うことにより、塗布液Ｆ１、Ｆ２が液溜め部１４Ａ、１４Ｂ内で著しく滞留することを防止できる。このような運転方法は、揺変性を有しかつ凝集し易い磁性塗布液に対しては極めて有効である。但し、液排出口２０Ａ、２０Ｂを具備しない構造であり、スリット１６Ａ、１６Ｂの開口部より吐出される所定量を液供給口１８Ａ、１８Ｂより供給する構造であってもよい。
【００２８】
ガイドローラなどの走行案内手段（図示略）により支持されて連続走行するウェブＷは、ガイドローラ等の各走行案内手段の間で略一定した張力をもって、かつその厚さ方向に若干湾曲可能な状態に装架され、図２に示されるように、塗布ヘッド１０の上面（ウェブＷと対向する面）に押し付けられながら図の矢印方向に所定速度で移動する。これにより、スリット１６Ａの開口部より吐出された塗布液Ｆ１は、ウェブＷの幅方向に均一な流量及び圧力分布をもって所定厚さに塗布される。そして、その下流において、スリット１６Ｂの開口部より吐出された塗布液Ｆ２は、ウェブＷの幅方向に均一な流量及び圧力分布をもって、塗布液Ｆ１の上に所定厚さに塗布される。
【００２９】
次に、本発明に使用される各種材料について説明する。ウェブＷとしては、樹脂フィルム、紙（レジンコーティッド紙、合成紙、等）、金属箔（アルミニウムウェブ等）等を使用できる。樹脂フィルの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、ポリアミド、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特にポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドが好ましく使用できる。
【００３０】
これらのウェブＷは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。ウェブＷの表面粗さＲａはカットオフ値０．２５ｍｍにおいて３〜１０ｎｍが好ましい。
【００３１】
磁性層に使用する強磁性粉末としては、特に制限されるべきものではないが、α−Ｆｅを主成分とする強磁性金属粉末、六方晶フェライト粉末が好ましい。これらの強磁性金属粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましく、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌの少なくとも一つを含むことが更に好ましい。
【００３２】
Ｃｏの含有量はＦｅに対して０原子％以上４０原子％以下が好ましく、１５原子％以上３５％以下が更に好ましく、２０原子％以上３５原子％以下が最も好ましい。Ｙの含有量は１．５原子％以上１２原子％以下が好ましく、３原子％以上１０原子％以下が更に好ましく、４原子％以上９原子％以下が最も好ましい。Ａｌは１．５原子％以上１２原子％以下が好ましく、３原子％以上１０原子％以下が更に好ましく、４原子％以上９原子％以下が最も好ましい。これらの強磁性粉末には、分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。
【００３３】
強磁性粉末には少量の水酸化物、又は酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末は公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅ又はＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩又はヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。
【００３４】
このようにして得られた強磁性金属粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いることができる。
【００３５】
磁性層の強磁性金属粉末をＢＥＴ法による比表面積で表せば４５〜８０ｍ2 ／ｇが好ましく、５０〜７０ｍ2 ／ｇが更に好ましい。４５ｍ2 ／ｇ未満ではノイズが高くなり、一方、８０ｍ2 ／ｇを超えると表面性が得にくく、いずれも好ましくない。
【００３６】
磁性層の強磁性金属粉末の結晶子サイズは８０〜１８０Åが好ましく、１００〜１８０Åが更に好ましく、１１０〜１７５Åが最も好ましい。強磁性金属粉末の長軸長は０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下が好ましく、０．０３μｍ以上０．１５μｍ以下が更に好ましく、０．０３μｍ以上０．１２μｍ以下が最も好ましい。
【００３７】
強磁性金属粉末の針状比は３以上１５以下が好ましく、５以上１２以下が更に好ましい。強磁性金属粉末の飽和磁化σs は１００〜１８０Ａ・ｍ2 ／ｋｇが好ましく、１１０〜１７０Ａ・ｍ2 ／ｋｇが更に好ましく、１２５〜１６０Ａ・ｍ2 ／ｋｇが最も好ましい。強磁性金属粉末の抗磁力は１６０〜２８０ｋＡ／ｍが好ましく、１７６〜２４０ｋＡ／ｍが更に好ましい。
【００３８】
強磁性金属粉末の含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性金属粉末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性金属粉末のｐＨは、用いる結合剤との組合せにより最適化することが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、６〜１０が好ましい。強磁性金属粉末は必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ又はこれらの酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性金属粉末に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ2 以下になり好ましい。
【００３９】
強磁性金属粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に無い方が好ましいが、２００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えることは少ない。また、本発明に用いられる強磁性金属粉末は空孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下が好ましく、５容量％以下が更に好ましい。また形状については先に示した粒子サイズについての特性を満足すれば針状、米粒状、紡錘状のいずれでもかまわない。
【００４０】
強磁性金属粉末自体のＳＦＤは小さい方が好ましく、０．８以下が好ましい。強磁性金属粉末のＨｃの分布を小さくする必要がある。なお、ＳＦＤが０．８以下であると、電磁変換特性が良好で、出力が高く、また、磁化反転がシャープでピークシフトも少なくなり、高密度デジタル磁気記録に好適である。Ｈｃの分布を小さくするためには、強磁性金属粉末においてはゲ−タイトの粒度分布を良くする、焼結を防止するなどの方法がある。
【００４１】
次に六方晶フェライト粉末について述べる。本発明に用いることができる六方晶フェライトとしてバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等がある。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、ＳｂーＺｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。原料・製造方法によっては特有の不純物を含有するものもある。
【００４２】
粒子サイズは六角板径で通常、１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜６０ｎｍであり、特に好ましくは１０〜５０ｎｍである。特にトラック密度を上げるためＭＲヘッドで再生する場合、低ノイズにする必要があり、板径は４０ｎｍ以下が好ましいが、１０ｎｍより小さいと熱揺らぎのため安定な磁化が望めない。１００ｎｍを越えるとノイズが高く、いずれも高密度磁気記録には向かない。
【００４３】
板状比（板径／板厚）は１〜１５が望ましい。好ましくは１〜７である。板状比が小さいと磁性層中の充填性は高くなり好ましいが、十分な配向性が得られない。１５より大きいと粒子間のスタッキングによりノイズが大きくなる。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表面積は１０〜１００ｍ2 ／ｇを示す。比表面積は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と符号する。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定する事で比較できる。
【００４４】
分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均サイズ＝０．１〜２．０である。粒子サイズ分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだけ均一にするとともに、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われている。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。
【００４５】
磁性体で測定される抗磁力Ｈｃは通常、４０〜４００ｋＡ／ｍ程度まで作成できる。Ｈｃは高い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限される。本発明では磁性体のＨｃは１６０〜３２０ｋＡ／ｍ程度であるが、好ましくは１７６〜２８０ｋＡ／ｍである。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラを越える場合は、１７６ｋＡ／ｍ以上にすることが好ましい。Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。
【００４６】
飽和磁化σｓは４０〜８０Ａ・ｍ2 ／ｋｇである。σｓは高い方が好ましいが微粒子になるほど小さくなる傾向がある。σｓ改良のためマグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合すること、含有元素の種類と添加量の選択等が良く知られている。またＷ型六方晶フェライトを用いることも可能である。磁性体を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われている。
【００４７】
表面処理材は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物又は水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。量は磁性体に対して０．１〜１０％である。磁性体のｐＨも分散に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１１程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常０．０１〜２．０％が選ばれる。
【００４８】
六方晶フェライトの製造方法としては、（１）酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法、（２）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、（３）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１１００℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は製造方法を選ばない。
【００４９】
放射線硬化樹脂としては、脂環式環状構造を有する放射線硬化性化合物が使用できる。すなわち、分子中にアクリロイル基又はメタクロイル基を２つ以上有し、脂環式環状構造を有するものである。脂環式環状構造とはシクロ骨格、ビシクロ骨格、トリシクロ骨格、スピロ骨格、ジスピロ骨格等の骨格を有するものである。具体的な化合物としては以下のようなものが挙げられる。
【００５０】
シクロプロパンジアクリレート、シクロペンタンジアクリレート、シクロヘキサンジアクリレート、シクロブタンジアクリレート、ジメチロールシクロプロパンジアクリレート、ジメチロールシクロペンタンジアクリレート、ジメチロールシクロヘキサンジアクリレート、ジメチロールシクロブタンジアクリレート、シクロプロパンジメタクリレート、シクロペンタンジメタクリレート、シクロヘキサンジメタクリレート、シクロブタンジメタクリレート、ジメチロールシクロプロパンジメタクリレート、ジメチロールシクロペンタンジメタクリレート、ジメチロールシクロヘキサンジメタクリレート、ジメチロールシクロブタンジメタクリレート、ビシクロブタンジアクリレート、ビシクロオクタンジアクリレート、ビシクロノナンジアクリレート、ビシクロウンデカンジアクリレート、ジメチロールビシクロブタンジアクリレート、ジメチロールビシクロオクタンジアクリレート、ジメチロールビシクロノナンジアクリレート、ジメチロールビシクロウンデカンジアクリレート、ビシクロブタンジメタクリレート、ビシクロオクタンジメタクリレート、ビシクロノナンジメタクリレート、ビシクロウンデカンジメタクリレート、ジメチロールビシクロブタンジメタクリレート、ジメチロールビシクロオクタンジメタクリレート、ジメチロールビシクロノナンジメタクリレート、ジメチロールビシクロウンデカンジメタクリレート、トリシクロヘプタンジアクリレート、トリシクロデカンジアクリレート、トリシクロドデカンジアクリレート、トリシクロウンデカンジアクリレート、トリシクロテトラデカンジアクリレート、トリシクロデカントリデカンジアクリレート、ジメチロールトリシクロヘブタンジアクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、ジメチロールトリシクロドデカンジアクリレート、ジメチロールトリシクロウンデカンジアクリレート、ジメチロールトリシクロテトラデカンジアクリレート、ジメチロールトリシクロデカントリデカンジアクリレート、トリシクロヘブタンジジメタクリレート、トリシクロデカンジメタクリレート、トリシクロドデカンジメタクリレート、トリシクロウンデカンジメタクリレート、トリシクロテトラデカンジメタクリレート、トリシクロデカントリデカンジメタクリレート、ジメチロールトリシクロへブタンジメタクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジメタクリレート、ジメチロールトリシクロドデカンジメタクリレート、ジメチロールトリシクロウンデカンジメタクリレート、ジメチロールトリシクロテトラデカンジメタクリレート、ジメチロールトリシクロデカントリデカンジメタクリレート、スピロオクタンジアクリレート、スピロヘブタンジアクリレート、スピロデカンジアクリレート、シクロペンタンスピロシクロブタンジアクリレート、シクロヘキサンスピロシクロペンタンジアクリレート、スピロビシクロヘキサンジアクリレート、ジスピロへブタデカンジアクリレート、ジメチロールスピロオクタンジアクリレート、ジメチロールスピロへブタンジアクリレート、ジメチロールスピロデカンジアクリレート、ジメチロールシクロペンタンスピロシクロブタンジアクリレート、ジメチロールシクロヘキサンスピロシクロペンタンジアクリレート、ジメチロールスピロビシクロヘキサンジアクリレート、ジメチロールジスピロへブタデカンジアクリレート、スピロオクタンジメタクリレート、スピロヘブタンジメタクリレート、スピロデカンジメタクリレート、シクロペンタンスピロシクロブタンジメタクリレート、シクロヘキサンスピロシクロペンタンジメタクリレート、スピロビシクロヘキサンジメタクリレート、ジスピロへブタデカンジメタクリレート、ジメチロールスピロオクタンジメタクリレート、ジメチロールスピロへブタンジメタクリレート、ジメチロールスピロデカンジメタクリレート、ジメチロールシクロペンタンスピロシクロブタンジメタクリレート、ジメチロールシクロヘキサンスピロシクロペンタンジメタクリレート、ジメチロールスピロビシクロヘキサンジメタクリレート、ジメチロールジスピロヘブタデカンジメタクリレート。
【００５１】
このうち好ましいものは、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、ジメチロールビシクロオクタンジアクリレート、ジメチロールスピロオクタンジアクリレートであり、特に好ましいものは、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレートである。市販されている具体的化合物としては、日本化薬製（商品名：ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−６８４、同  Ｒ−６０４）、共栄社化学製（商品名：ライトアクリレート  ＤＣＰ−Ａ、同  ＢＰ４ＰＡ）、大日本インキ製（商品名：ＬＵＭＩＣＵＲＥ  ＤＣＡ−２００）等がある。
【００５２】
放射線硬化樹脂の分子量は２００〜１０００が好ましく、２００〜５００が更に好ましい。放射線硬化樹脂の粘度は、２５°Ｃで５〜２００ｍＰａ・Ｓが好ましく、５ｍ〜１００ｍＰａ・Ｓが更に好ましい。官能基としては、アクリロイル基が好ましく、分子中に２官能以上あることが好ましく、２官能であることが最も好ましい。
【００５３】
前記化合物のほかに、併用できる放射線硬化型化合物として、１官能のアクリレート、メタクリレート化合物を反応性希釈剤として併用することもできる。好ましい構造は、脂環式炭化水素骨格をもつアクリレート化合物である。この具体的な例としては、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート等である。反応性希釈剤の配合量は、前記の２官能以上の化合物に対して１０〜１００重量％が好ましい。
【００５４】
平滑化層となる放射線硬化樹脂を含む第１の塗布層の硬化後の厚さとしては、０. １〜１. ０μｍが好ましく、０．５〜０．７μｍが更に好ましい。膜厚が０．１μｍ未満では、十分な平滑性が得られず、一方、１．０μｍ超では、塗膜が乾燥しにくくなり粘着故障を起こすことがあり、いずれも好ましくないからである。
【００５５】
放射線硬化樹脂を含む第１の塗布層の硬化処理は、ウェブＷのカレンダー処理後が好ましいが塗布乾燥後でもよい。硬化処理は放射線の照射により行う。使用される放射線としては、電子線や紫外線を用いることができる。紫外線を使用する場合には前記の化合物に光重合開始剤を添加することが必要となる。電子線硬化の場合は重合開始剤が不要であり、透過深さも深いので好ましい。
【００５６】
電子線加速器としてはスキャニング方式、タブルスキャニング方式、又はカーテンビーム方式が採用できるが、好ましいのは、比較的安価で大出力が得られるカーテンビーム方式である。電子線の特性としては、加速電圧が３０〜１０００ｋＶが好ましく、５０〜３００ｋＶが更に好ましい。吸収線量として０．５〜２０Ｍｒａｄが好ましく、２〜１０Ｍｒａｄが更に好ましい。加速電圧が３０ｋＶ未満の場合はエネルギーの透過率が不足し、好ましくない。一方、３００ｋＶを超えると重合に使われるエネルギーの効率が低下し、経済性に劣る。
【００５７】
電子線を照射する雰囲気は、窒素パージにより酸素濃度を２００ｐｐｍ以下にすることか好ましい。酸素濃度が高いと、表面近傍の架橋、硬化反応が阻害されるので好ましくない。紫外線光源としては水銀灯が用いられる。水銀灯は２０〜２４０Ｗ／ｃｍのランプを用い、速度０．３ｍ／分〜２０ｍ／分で使用される。基体と水銀灯との距離は一般に１〜３０ｃｍであることが好ましい。
【００５８】
紫外線硬化に用いる光重合開始剤として光ラジカル重合開始剤が用いられる。詳細は、たとえば「新高分子実験学  第２巻  第６章  光放射線重合」（共立出版１９９５発行、高分子学会編）に記載されているものを使用できる。具体例としては、アセトフエノン、ベンゾフエノン、アントラキノン、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルメチルケタール、ベンジルエチルケタール、ベンゾインイソブチルケトン、ヒドロキシジメチルフエニルケトン、１−ヒドロキシシクロへキシルフエニルケトン、２−２ジエトキシアセトフエノン、などがある。芳香族ケトンの混合比率は、放射線硬化化合物１００重量部に対し０．５〜２０重量部が好ましく、２〜１５重量部が更に好ましく、３〜１０重量部が最も好ましい。
【００５９】
放射線硬化装置、条件などについては「ＵＶ・ＥＢ硬化技術」（（株）総合技術センター発行）や「低エネルギー電子線照射の応用技術」（２０００、（株）シーエムシー発行）などに記載されている公知のものを用いることができる。
【００６０】
次に、第１の塗布層の上に形成される、磁性体を含まない第３の塗布液による非磁性層について説明する。第３の塗布液は実質的に非磁性であればその構成は制限されないが、通常、少なくとも樹脂からなり、好ましくは、粉体、たとえば、無機粉末又は有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げられる。無機粉末は、通常、好ましくは非磁性粉末であるが、この層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末も使用され得る。
【００６１】
非磁性粉末としては、たとえば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができる。無機化合物としてはたとえばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独又は組合せで使用される。
【００６２】
特に好ましいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。これら非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは、非磁性粉末の粒子サイズが０．０１μｍ〜０．２μｍのものである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下が好ましく、針状金属酸化物である場合は、長軸長が０．３μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以下が更に好ましい。
【００６３】
タップ密度は、０．０５〜２ｇ／ｍｌが好ましく、０．２〜１．５ｇ／ｍｌが更に好ましい。非磁性粉末の含水率は、０．１〜５質量％が好ましく、０．２〜３質量％が更に好ましく、０．３〜１．５質量％が最も好ましい。
【００６４】
非磁性粉末のｐＨは通常、２〜１１であるが、５．５〜１０の間が特に好ましい。非磁性粉末の比表面積は通常１〜１００ｍ2 ／ｇであり、５〜８０ｍ2 ／ｇが好ましく、１０〜７０ｍ2 ／ｇが更に好ましい。非磁性粉末の結晶子サイズは０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は５〜１００ｍｌ／１００ｇが好ましく、１０〜８０ｍｌ／１００ｇが更に好ましく、２０〜６０ｍｌ／１００ｇが最も好ましい。
【００６５】
非磁性粉末の比重は、１〜１２が好ましく、３〜６が更に好ましい。非磁性粉末の形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでもよい。非磁性粉末のモース硬度は４以上、１０以下のものが好ましい。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μｍol／ｍ2 が好ましく、２〜１５μｍol/ ｍ2 が更に好ましく、３〜８μｍol/ ｍ2 が最も好ましい。ｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。
【００６６】
これらの非磁性粉末の表面には表面処理が施され、Ａｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＳｎＯ2 、Ｓｂ2 Ｏ3 、ＺｎＯ、Ｙ2 Ｏ3 が存在することが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 であるが、更に好ましいのはＡｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＺｒＯ2 である。これらは組み合わせて使用してもよいし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いてもよいし、先ずアルミナを存在させた後にその表層をシリカで処理する方法、又はその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００６７】
次に、図３により、本発明の他の実施態様の例について説明する。図３は、塗布ヘッド１０’の先端部分と可撓性支持体（ウェブ）Ｗとの位置関係を示す概略断面である。なお、図１及び図２に示される構成と同一、類似の部材については、同様の符号を附し、その詳細な説明を省略する。
【００６８】
図３に示されるように、フロントエッジ２６はスリット１４Ａの出口からウェブＷの上流側に位置し、かつ、下流側に配設した第１ドクターエッジ２８の先端部よりもウェブＷ寄りに突出している。そして、ウェブＷの塗布面に塗布された第１の塗布液Ｆ１によって塗布面とフロントエッジ２６との間が液封された状態である。すなわち、本実施態様においては、フロントエッジ２６の上流側にて、第１の塗布液Ｆ１を適宜掻き落としながら液封している。また、図３において、フロントエッジ２６はウェブＷに対向するエッジ面全域がウェブＷ側に膨らむように形成されている。ウェブＷ側に膨らむ形態としては、一般的には曲率を持った湾曲面が用いられるが、同伴空気の巻き込みを防止できれば、これには限らない。
【００６９】
第１ドクターエッジ２８及び第２ドクターエッジ３０の先端部は、鋭角な形状であり、フロントエッジ２６のスリット１４Ａの出口部における接線（ウェブＷのほぼ通過線）から離れるように位置している。このように、第１ドクターエッジ２８はスリット１４Ａの出口部で最もウェブＷに接近しているシャープエッジ状であり、第２ドクターエッジ３０はスリット１６Ａの出口部で最もウェブＷに接近しているシャープエッジ状であるので、スリット１４Ａ及び１６Ａより吐出される塗布液Ｆ３及びＦ２は、シャープエッジ先端部で離され、これより下流ではスムージングされていない。この構成の場合、仮に第１ドクターエッジ２８又は第２ドクターエッジ３０の下流側斜面に塗布液が溢れると、この溢れた塗布液が固化したりしてスジ等の塗布故障となる。
【００７０】
ところが、本実施態様において、塗布ヘッド１０の先端部分のスリット１４Ａ、１６Ａの内面、フロントエッジ２６のフロントエッジ面２６ａ、及び第２ドクターエッジ３０の第２ドクターエッジ面３０ａの表面粗さＲａを所定の値（０．４μｍＲａ以下）にしてあるので、スジは殆ど発生しない。
【００７１】
図３に示される塗布ヘッド１０’を備えた塗布装置においては、第１の塗布液Ｆ１は、上流側に設けられる図示しない塗布ヘッドによりあらかじめ塗布される。この図示しない塗布手段としては、アプリケーション系では、ローラ塗布方法、ディップ塗布方法、ファウンテン塗布方法等が、計量系では、エアーナイフ塗布方法、ブレード塗布方法、バー塗布方法等が採用できる。また、アプリケーション系と計量系とを同一の部分で担当するものとして、エクストルージョン塗布方法、スライドビード塗布方法、カーテン塗布方法等が採用できる。
【００７２】
以上、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００７３】
たとえば、本実施形態の例では、液溜め部１４Ａ、１４Ｂを円筒状の空洞部としたが、このような円筒状のものに限らず、角形、船底形、等の各種の態様が採用できる。要は、ウェブＷの幅方向に液圧分布を均一可能とする形状であれば、特に限定されない。
【００７４】
また、請求項２に記載のように、乾燥後の第３の塗布液の上に磁性体を含む第２の塗布液を塗布する工程を採用する場合には、塗布ヘッド１０又は１０’の下流に乾燥手段と他の塗布手段を備える態様が採り得る。
【００７５】
更に、塗布ヘッド１０又は１０’の構成は、エクストルージョン塗布方法に限られず、カーテン塗布方法等も採用できる。
【００７６】
また、エクストルージョン塗布方法を採用する場合であっても、ウェブＷを塗布ヘッド１０又は１０’に押し付ける構成とせず、ウェブＷをバックアップローラに巻き掛け、ウェブＷの表面と塗布ヘッド１０又は１０’の先端面との間に所定のクリアランスをもって塗布する構成も採用できる。
【実施例】
【００７７】
次に、本発明の実施例を、比較例と対比して説明する。なお、以下の各例において、「部」の表示は「重量部」 を意味する。以下の各例（実施例１〜実施例３）において、放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液、磁性体を含む第２の塗布液、及び、磁性体を含まない第３の塗布液の組成は以下のように共通とした。
【００７８】
（１）放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液
Ａ液：共栄社化学製（ライトアクリレート  ＢＰ４ＰＡ）  ６０部
メチルエチルケトン                              ４０部
Ｂ液：日本化薬製（ＫＡＹＡＲＡＤ  Ｒ−６０４）        ６０部
メチルエチルケトン                              ４０部
（２）磁性体を含む第２の塗布液
強磁性金属微粉末  組成：Ｆｅ／Ｃｏ＝８０／２０  １００部
Ｈｃ  １８３ｋＡ／ｍ（２３００  Ｏｅ）
ＢＥＴ法による比表面積  ５４ｍ2 ／ｇ
結晶子サイズ  １６. ５ｎｍ
表面被覆化合物  Ａｌ2 Ｏ3 
粒子サイズ（長軸径）  ０. １０μｍ
針状比  ８  
σｓ  １５０Ａ・ｍ2 ／ｋｇ（ｅｍｕ／ｇ）
塩化ビニル系重合体                                  ５部
日本ゼオン社製  ＭＲ−１１０
ポリエステルポリウレタン樹脂                        ３部
ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝０. ９／２. ６／１
−ＳＯ3 Ｎａ基  １×１０−４ｅｑ／ｇ含有
αアルミナ（粒子サイズ  ０. １μｍ）                ５部
カーボンブラック（粒子サイズ  ０. １０μｍ）    ０. ５部
ブチルステアレート                              １. ５部
ステアリン酸                                    ０. ５部
メチルエチルケトン                                ９０部
シクロヘキサノン                                  ３０部
トルエン                                          ６０部
（３）磁性体を含まない第３の塗布液
非磁性粉体  α−Ｆｅ2 Ｏ3                         ８０部
平均長軸長  ０．１μｍ
ＢＥＴ法による比表面積  ４８ｍ2 ／ｇ
ｐＨ８、 Ｆｅ2 Ｏ3 含有量  ９０％以上
ＤＢＰ吸油量  ２７〜３８ｍｌ／１００ｇ
表面被覆化合物  Ａｌ2 Ｏ3 
カーボンブラック                                  ２０部
平均１次粒子径  １６μｍ
ＤＢＰ吸油量  ８０ｍｌ／１００ｇ
ｐＨ８
ＢＥＴ法による比表面積  ２５０ｍ2 ／ｇ
揮発分  １. ５％
塩化ビニル共重合体                                １０部
日本ゼオン社製  ＭＲ−１１０
ポリエステルポリウレタン樹脂                        ５部
分子量  ３．５万
ネオペンチルグリコール／カプロラクトンポリオール／ＭＤＩ＝０．９／２．６／１
−ＳＯ3 Ｎａ基  １×１０−４ｅｑ／ｇ含有  
ブチルステアレート                                  １部
ステアリン酸                                        １部
メチルエチルケトン                              １００部
シクロヘキサノン                                  ５０部
トルエン                                          ５０部
上記の（２）及び（３）の液については、各成分を連続ニーダーで混練し、その後スチールボールを使用したボールミルにて分散処理を６時間行った。得られた（２）の分散液にはポリイソシアネートを１部、（３）の分散液にはポリイソシアネートを３部加え、更に、それぞれにメチルエチルケトン、シクロヘキサノンの混合溶媒を４０部加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、それぞれ（２）及び（３）の液を調整した。
【００７９】
［実施例１］
図１及び図２に示される塗布ヘッド１０を使用して、ウェブＷの表面に放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液を塗布し、未乾燥の第１の塗布液の上に磁性体を含む第２の塗布液を塗布して磁気記録媒体を製造した。
【００８０】
ウェブＷとして、厚さ５．２μｍのＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）を使用した。ウェブＷの走行速度を２５０ｍ／分とした。そして、乾燥後の第１の塗布液の層（図４の表では「プレコート層」と表示）の厚さが０. ０２〜１. ０μｍに、乾燥後の第２の塗布液の層の厚さが０. １５μｍにそれぞれなるように、塗布液Ｆ１及びＦ２の吐出量を制御した。ウェブＷのカレンダー処理後に、加速電圧１５０ｋＶ、吸収線量５Ｍｒａｄで電子線を照射して第１の塗布液の硬化を促進させた。
【００８１】
比較例として、第１の塗布液を塗布しないものを２例製造し（図４の表では、プレコート層「なし」と表示）、実施例と比較した。このうち、比較例２は、非磁性下層液にＡ液を３０部添加し混合したものを塗布した。
【００８２】
製造後の磁気記録媒体の試料について、表面粗さＲａと電磁変換特性を評価した。表面粗さＲａは、ＷＹＣＯ社製の測定器（機種名：ＴＯＰＯ−３Ｄ）により評価した。電磁変換特性は、ＤＤＳ４ドライブにて４. ７ＭＨｚの単一周波数信号を最適記録電流で記録し、その再生出力を測定し、Ｃ／Ｎ比を評価した。結果を図４の表に示す。
【００８３】
表の実施例１−１〜１−４は、放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液としてＡ液を使用したものであり、実施例１−５〜１−８は、Ｂ液を使用したものである。結果を見ると、Ａ液とＢ液の差はそれ程なく、いずれも、第１の塗布液の層（プレコート層）の厚さが増加するにつれ表面粗さＲａが低下し（表面が平滑化し）、Ｃ／Ｎ比が増加（特性が向上）している傾向が読み取れる。
【００８４】
これに対し、比較例１及び２では、実施例と比べ、表面粗さＲａが大きく（表面が粗い）、また、Ｃ／Ｎ比が低い（特性が不良）。以上の結果より、本発明の効果が確認できた。
【００８５】
［実施例２］
図１及び図２に示される塗布ヘッド１０を使用して、ウェブＷの表面に放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液を塗布し、未乾燥の第１の塗布液の上に磁性体を含まない第３の塗布液を塗布し、８０〜１２０°Ｃの熱風にて塗布膜を乾燥させた後に、バーコーターにて磁性体を含む第２の塗布液を塗布して磁気記録媒体を製造した。
【００８６】
ウェブＷとして、厚さ４. ０μｍのアラミドを使用した。ウェブＷの走行速度を３００ｍ／分とした。そして、乾燥後の第１の塗布液の層（図５の表では「プレコート層」と表示）の厚さが０. ０２〜１. ０μｍに、乾燥後の第３の塗布液の層の厚さが２. ０μｍに、乾燥後の第２の塗布液の層の厚さが０. １μｍにそれぞれなるように、塗布液Ｆ１及びＦ２の吐出量、及びバーコーターを制御した。ウェブＷのカレンダー処理後に、加速電圧１５０ｋＶ、吸収線量５Ｍｒａｄで電子線を照射して第１の塗布液の硬化を促進させた。
【００８７】
比較例として、第１の塗布液を塗布しないものを２例製造し（図５の表では、プレコート層「なし」と表示）、実施例と比較した。このうち、比較例４は、非磁性下層液にＡ液を３０部添加し混合したものを塗布した。
【００８８】
製造後の磁気記録媒体の試料についての評価は、実施例１と同様に行なった。結果を図５の表に示す。
【００８９】
表の実施例２−１〜２−４は、放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液としてＡ液を使用したものであり、実施例２−５〜２−８は、Ｂ液を使用したものである。結果を見ると、Ａ液とＢ液の差はそれ程なく、いずれも、第１の塗布液の層（プレコート層）の厚さが増加するにつれ表面粗さＲａが低下し（表面が平滑化し）、Ｃ／Ｎ比が増加（特性が向上）している傾向が読み取れる。
【００９０】
これに対し、比較例３及び４では、実施例と比べ、表面粗さＲａが大きく（表面が粗い）、また、Ｃ／Ｎ比が低い（特性が不良）。以上の結果より、本発明の効果が確認できた。
【００９１】
［実施例３］
バーコーター（図示略）を使用して、ウェブＷの表面に放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液を塗布し、図３に示される塗布ヘッド１０’を使用して、未乾燥の第１の塗布液の上に磁性体を含まない第３の塗布液を塗布し、未乾燥の第３の塗布液の上に磁性体を含む第２の塗布液を塗布して磁気記録媒体を製造した。
【００９２】
ウェブＷとして、厚さ６. ０μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）を使用した。ウェブＷの走行速度を４００ｍ／分とした。そして、乾燥後の第１の塗布液の層（図６の表では「プレコート層」と表示）の厚さが０. ０２〜１. ０μｍに、乾燥後の第３の塗布液の層の厚さが１. ３μｍに、乾燥後の第２の塗布液の層の厚さが０. １８μｍにそれぞれなるように、塗布液Ｆ１及びＦ２の吐出量、及びバーコーターを制御した。ウェブＷのカレンダー処理後に、加速電圧１５０ｋＶ、吸収線量５Ｍｒａｄで電子線を照射して第１の塗布液の硬化を促進させた。
【００９３】
比較例として、第１の塗布液を塗布しないものを２例製造し（図６の表では、プレコート層「なし」と表示）、実施例と比較した。このうち、比較例６は、非磁性下層液にＡ液を３０部添加し混合したものを塗布した。
【００９４】
製造後の磁気記録媒体の試料についての評価は、実施例１と同様に行なった。結果を図６の表に示す。
【００９５】
表の実施例３−１〜３−４は、放射線硬化樹脂を含む第１の塗布液としてＡ液を使用したものであり、実施例３−５〜３−８は、Ｂ液を使用したものである。結果を見ると、Ａ液とＢ液の差はそれ程なく、いずれも、第１の塗布液の層（プレコート層）の厚さが増加するにつれ表面粗さＲａが低下し（表面が平滑化し）、Ｃ／Ｎ比が増加（特性が向上）している傾向が読み取れる。
【００９６】
これに対し、比較例５及び６では、実施例と比べ、表面粗さＲａが大きく（表面が粗い）、また、Ｃ／Ｎ比が低い（特性が不良）。以上の結果より、本発明の効果が確認できた。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】塗布装置のうち、塗布ヘッドの一部を切断して示す斜視図
【図２】塗布ヘッドの先端部分と可撓性支持体との位置関係を示す概略断面図
【図３】塗布ヘッドの先端部分と可撓性支持体との位置関係を示す概略断面図
【図４】実施例１の結果を示す表
【図５】実施例２の結果を示す表
【図６】実施例３の結果を示す表
【符号の説明】
【００９８】
１０…塗布ヘッド、１２…本体、１４…液溜め部、１６…スリット、１８…液供給口、２０…液排出口、２２、２４…閉鎖板、２６…フロントエッジ、２８…第１ドクターエッジ、３０…第２ドクターエッジ、Ｆ１…第１の塗布液、Ｆ２…第２の塗布液、Ｗ…可撓性支持体（ウェブ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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