(57)【要約】【課題】  メッキ処理等の歩留まりを悪化させることなく、端だれの端だれ値を極力小とすることができること。【解決手段】  第１の研磨工程において、端だれの断面形状と点対称となるような隆起部（スキージャンプ）１０’Ｐが、記録媒体用基板１０’の表面１０’ａの最外周端部近傍に機械加工により形成されるもの。【選択図】  図１
2005203021.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体用基板において記録領域が形成されるべき表面における外周縁部近傍に、所定の端だれの断面形状と略点対称となるような断面形状を有する隆起部を形成するように機械加工により研磨する第１の工程と、
前記第１の工程により研磨された記録媒体用基板の前記表面全体を平坦面にするように機械的に研磨する第２の工程と、
を含んでなる記録媒体用基板の製造方法。
【請求項２】
記録媒体用基板において記録領域が形成されるべき表面を研磨する研磨部材を該記録媒体用基板の半径方向に沿って移動させるスライド機構と、
前記研磨部材に対向する前記記録媒体用基板を回動させる回動手段と、
前記回動手段により前記記録媒体用基板が回動されるとき、前記スライド機構に、
前記記録媒体用基板において記録領域が形成されるべき表面における外周縁部近傍に、所定の端だれの断面形状と略点対称となるような断面形状を有する隆起部を形成するように移動させる動作を行わせる制御部と、
を具備して構成される記録媒体用基板の製造装置。
【請求項３】
前記制御部は、研磨加工の開始時点からの経過時間をパラメータとした二次関数の式に基づいて前記研磨部材の送り量を演算する送り量演算部を含むことを特徴とする請求項２記載の記録媒体用基板の製造装置。
【請求項４】
前記研磨部材は、研磨用パッドまたは研磨用テープであることを特徴とする請求項２記載の記録媒体用基板の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録媒体用基板の表面を加工する工程を含む記録媒体用基板の製造方法およびそれを用いる製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
記録媒体としての円板状ディスクが搭載される例えばハードディスク装置におけるディスクが磁気ディスクの場合、記録面が形成されるべき基板の材料としては、一般に、無電解ＮｉＰメッキアルミウム系合金基板またはガラス基板等が用いられている。ガラス基板は、その剛性が高いので高速回転時の面振れなどを抑えることが可能である観点から多く用いられるようになってきている。また、ガラス製基板としては、結晶化基板がある。結晶化基板は、先ず、プレス成形もしくはフロート法により得られた板ガラスを円盤状に切り出し、その表面にラップ加工，ポリッシュ加工を行い、次に、化学強化を行った化学強化基板、あるいはプレス成形を行った板を結晶化させ、その表面にラップ加工，ポリッシュ加工を行うことにより、得られるものである。
【０００３】
このような記録媒体用基板は、その基板表面上に、順次、クロム（Cr）などからなる非磁性金属下地層、コバルト（Co）合金からなる薄膜磁性層、アモルファスカーボンからなる保護膜、液体潤滑剤を塗布した潤滑層等が積層されることにより、磁気記録媒体とされる。
【０００４】
このような磁気記録媒体を製造するにあたっては、先ず、アルミニウム合金等からなる円盤状基体表面上に無電解めっき法などでNiP層などを形成し、次に、図１２に示されるように、１次ポリッシュ工程Ｓ１および２次ポリッシュ工程Ｓ２としてそのNiP層の表面を平滑化，鏡面化するためにポリッシュ加工を行い、さらに、ポリッシュ加工されたその表面に磁気記録特性を高める目的でテクスチャー加工を行い、洗浄工程Ｓ３において洗浄することにより基板を準備する、その後の成膜工程Ｓ４としては、その加工された基板表面上にスパッタ法で上述の非磁性金属下地層を形成した後、上述の薄膜磁性層および保護膜を順次、成膜積層し、そして、その上に潤滑層を形成する一連の工程を含んでいる。
【０００５】
ポリッシュ加工は、例えば、特許文献１にも示されるように、1組の2枚の上下定盤を所定の間隔を設けて重ね、各定盤の互いに対向する面にそれぞれにパッドが貼り付けられるもとで、その上下のパッド相互間にキャリアにより固定された基板が配されて行われる。ポリッシュ加工は、基板の全表面がそのパッドに接触した状態でその各定盤を回転させながら、その上下パッド間にスラリーなどの研磨液が流されて行われる。これにより、その基板の表面が、研磨されて鏡面化される。
【０００６】
テクスチャー加工は、基板の表面に円周方向に溝を形成する加工方法である。  
テクスチャー加工は、例えば、研磨テープもしくはロール状にカットしたパッドなどの加工部材を一方向に送りながら、回転する基板の表面にその半径方向と加工部材の移動方向とが直角になるようにゴムローラーにより加工部材を基板の表面に押し付け、接触面にスラリーなどの研磨液を滴下しながら行われる。
【０００７】
磁気記録媒体の記録容量上昇に伴い磁気ヘッドの低浮上化の要請が益々要求されるので磁気記録媒体用基板には、高記録密度を得るために上述のような高度な精密加工，精密研磨により、基板の表面形状精度、即ち、高精度の平滑性の確保が必要とされることとなる。
【０００８】
このような要請に応じて磁気記録媒体の記録容量を拡大するためには、記録領域に相当する平滑な領域をできるだけ広くする必要がある。
【０００９】
しかし、基板の表面を平滑にするために精密研磨を実施する場合、特許文献２、３、４、および、５にも示されるように、中央の表面部分の研磨量に比べて基板の外周縁の端面研磨量が多くなるので、所謂、端だれ（ロールオフ）が生じる場合がある。
端だれが生じた部分では、磁気ヘッドの浮上が不安定になるため、クラッシュなどの不具合が発生し易くなり、記録領域拡大の障害となる。
【００１０】
また、近年は、ＣＳＳ（ｃｏｎｔａｃｔ  ｓｔａｒｔ  ｓｔｏｐ）方式からＬＤ／ＵＬ（Ｌｏａｄ／Ｕｎｌｏａｄ）方式に移行しつつあるが、ＬＤ／ＵＬ方式では、端だれの部分を回避するために外周端部形状を厳密に制御しなければならない。例えば、従来の磁気ディスク用基板の製造プロセスにおいて、高い平滑性を得るために研磨を施す場合、表面の平滑性と端だれの回避とが両立できない関係になることが多く、端だれが基板表面の平滑性の向上を妨げる一因となっていた。  
その端だれが発生する要因を、図１３乃至図１５に示される特性図を参照して説明する。
【００１１】
図１３は、上述したような相対向する定盤のパッド４の間に配されるその被研磨面２ａ上にパッドの表面が摺接した状態で研磨される基板素材２の被研磨面２ａの外周部の端部を部分的に示している。図１３において、摺接するパッド４の表面は、被研磨面２ａの全面を覆うとともに、被研磨面２ａの端面からさらに外方に張り出している。また、基板素材２の被研磨面２ａが研磨されるとき、所定の加圧力Ｆがパッド４を介して基板素材２の被研磨面２ａに作用している。これにより、図１３に示されるように、摺接するパッド４において基板素材２の被研磨面２ａの端部の位置に対応する部分４Ｄは、被研磨面２ａからの反作用として圧縮力を受ける他の部分に比べて若干、盛り上がるように変形することとなる。
【００１２】
このような状態において、被研磨面２ａにおける半径方向に沿った被研磨面２ａに作用する圧力の分布は、図１４に示されるように、分布することとなる。なお、図１４は、縦軸に圧力Ｆをとり、横軸に半径方向に沿った位置Ｒをとり、圧力分布を示す（出典：「最新CMPプロセスと材料技術」技術情報協会出版土肥俊郎ら監修）。
【００１３】
図１４において、被研磨面２ａに作用する圧力は、基板素材２の中心位置から端部近傍の所定の位置Ｒ２まで加圧力Ｆに対応した圧力Ｆｓである。また、圧力は、摺接するパッド４において基板素材２の被研磨面２ａの端部の位置に対応する部分４Ｄの応力集中により、位置Ｒ２から端面の位置Ｒ１に近づくにつれて徐々に増大し端面の位置Ｒ１直前で局部的に最大値Ｆｍとなった後、端面の位置Ｒ１で略零となる。
【００１４】
プレストンの関係によると研磨量は、圧力に比例するので、このような圧力分布で研磨される場合、端部の研磨量が多くなる。従って、図１５に示されるように、研磨された基板素材２’の外周端部近傍は、その端部が丸くなる、所謂、端だれが形成されることとなるのである。その端だれは、その外周端部よりも若干内側の位置２’ｓで基準面２から離れ始めて基準面２’ａに対し傾斜した後、端面に向かって湾曲するように形成されることとなる。端だれの度合いは、図１５に示されるように、基準面２’ａから端面におけるその厚さ方向の所定位置までの距離の値である端だれ値ΔＴとしてあらわされる。
【００１５】
このような端だれの端だれ値ΔＴを極力小とするような対策としては、例えば、特許文献５にも示されるように、上述のようなNiPメッキ層が形成されるとき、外周部のメッキ層の膜厚を内部の膜厚よりも２〜８％厚くすることにより、基板の最外周のロールオフを０．００１〜０．０５μｍの範囲内に低減する方法が提案されている。
【００１６】
【特許文献１】特開平５−８９４５９号公報
【特許文献２】特開２００１−３４４７４４号公報
【特許文献３】特開２００２−１６７５７５号公報
【特許文献４】特開２００１−１６７４２７号公報
【特許文献５】特開２０００−１３２８３０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１７】
上述のような最外周部のメッキ層の膜厚を内部の膜厚よりも２〜８％厚くする方法の場合、その後の工程において、最外周部の余分なメッキ層がポリッシュ工程により削りとられ、また、余分に厚く形成されるメッキ層の部分の断面形状は、端だれの断面形状を厳密に反映させたものではないので製造工程におけるメッキ処理の歩留まりが悪化する虞がある。また、メッキ層が不要とされるような基板、例えば、ガラス基板の場合はなくてもよい。そのような場合にあっては、その方法は、端だれの防止のために適用できないこととなる。
【００１８】
以上の問題点を考慮し、記録媒体用基板の表面を加工する工程を含む記録媒体用基板の製造方法およびそれを用いる製造装置であって、メッキ処理等の歩留まりを悪化させることなく、端だれの端だれ値を極力小とすることができる記録媒体用基板の製造方法およびそれを用いる製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
上述の目的を達成するために、本発明に係る記録媒体用基板の製造方法は、記録媒体用基板において記録領域が形成されるべき表面における外周縁部近傍に、所定の端だれの断面形状と略点対称となるような断面形状を有する隆起部を形成するように機械加工により研磨する第１の工程と、第１の工程により研磨された記録媒体用基板の表面全体を平坦面にするように機械的に研磨する第２の工程とを含んでなる。
【００２０】
また、本発明に係る記録媒体用基板の製造装置は、記録媒体用基板において記録領域が形成されるべき表面を研磨する研磨部材を該記録媒体用基板の半径方向に沿って移動させるスライド機構と、研磨部材に対向する前記記録媒体用基板を回動させる回動手段と、回動手段により記録媒体用基板が回動されるとき、スライド機構に、記録媒体用基板において記録領域が形成されるべき表面における外周縁部近傍に、所定の端だれの断面形状と略点対称となるような断面形状を有する隆起部を形成するように移動させる動作を行わせる制御部と、を備えて構成される。
【発明の効果】
【００２１】
以上の説明から明らかなように、本発明に係る記録媒体用基板の製造方法およびそれを用いる製造装置によれば、記録媒体用基板において記録領域が形成されるべき表面における外周縁部近傍に、所定の端だれの断面形状と略点対称となるような断面形状を有する隆起部を形成するように機械加工により研磨する第１の工程と、第１の工程により研磨された記録媒体用基板の表面全体を平坦面にするように機械的に研磨する第２の工程とを含むことにより第２の工程において隆起部が、発生するであろう端だれと相殺されるように研磨されることとなるのでメッキ処理等の歩留まりを悪化させることなく、端だれの端だれ値を極力小とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
図７は、本発明に係る記録媒体用基板の製造方法の一例における各加工工程を示す。  
本発明に係る記録媒体用基板の製造方法の一例が適用される記録媒体用基板素材１０は、例えば、所定の厚さの円環状ガラスであって外径約６５ｍｍ（２．５インチ用）を有し、板ガラスから切り出されて作られる。なお、記録媒体用基板素材１０は、ＮｉＰメッキアルミニウム合金基板または結晶化ガラス基板であってもよい。
【００２３】
図１（Ａ）に示される記録媒体用基板素材１０における記録領域が形成される双方の表面１０ａは、それぞれ、予め、ラップ加工等により所定の表面粗さで加工されている。
図７における第１の研磨工程Ｓ１０においては、記録媒体用基板素材１０が、図２に示されるような研磨装置により、研磨されることにより、図１（Ｂ）に示されるように、基板１０’における記録領域が形成される表面の最外周端近傍に、隆起部（スキージャンプ部）１０’Ｐが形成されることとなる。
【００２４】
図２および図３に示される研磨装置は、研磨される記録媒体用基板素材１０を回動可能に支持する回転支持軸１４を有する基台１２と、記録媒体用基板素材１０の周辺に円周方向に沿って均等に３箇所、それぞれ配され記録媒体用基板素材１０を協働して回転させる３個のローラ部材１６と、各ローラ部材１６の軸に連結される出力軸を有しローラ部材１６を所定の方向に回動させる駆動用モータ１８と、記録媒体用基板素材１０の各表面１０ａをそれぞれ、研磨する研磨用パッド２０を出力軸に有する研磨用スライド機構２２と、を含んで構成されている。
【００２５】
回転支持軸１４は、その段差部を有する先端部が記録媒体用基板素材１０の中央の孔１０ｂに同一軸心上となるように嵌合されることにより、記録媒体用基板素材１０を下方から支持することとなる。回転支持軸１４の下端は、図示が省略される軸受部を介して基台１２に回動可能に支持されている。
【００２６】
各ローラ部材１６の軸は、基台１２の貫通した長孔を介し図３に示されるように、基台１２の下方に配される可動テーブル２４上に支持される駆動用モータ１８の出力軸に連結されている。可動テーブル２４は、図示が省略される可動テーブル駆動機構により、各ローラ部材１６が、記録媒体用基板素材１０の最外周端を保持する図２に示される研磨位置と、記録媒体用基板素材１０の最外周端から離れた図３に二点鎖線で示される待機位置との間を移動するように制御される。
【００２７】
各ローラ部材１６は、記録媒体用基板素材１０の最外周端が選択的に係合される略Ｖ字状の溝を有している。  
これにより、各ローラ部材１６が記録媒体用基板素材１０の最外周端を保持する図２に示される研磨位置にある場合、駆動用モータ１８が作動状態とされるとき、各ローラ部材１６が回動されることによって、記録媒体用基板素材１０が例えば、図２において矢印の示す時計回り方向に所定の回転数で回動されることとなる。その所定の回転数は、例えば、約１００〜２０００ｒｐｍの範囲に設定されている。
【００２８】
研磨用スライド機構２２は、図２に示される研磨加工位置と、記録媒体用基板素材の着脱のために研磨用パッド２０が記録媒体用基板素材１０に対し離隔した待機位置とをとるように図示が省略される支持機構により支持されている。研磨用スライド機構２２は、研磨用パッド２０を一端に有し、記録媒体用基板素材１０の半径方向に沿って移動するように案内されるロッド部材と、そのロッド部材の他端に連結されるリニアシリンダと、そのリニアシリンダに連結される出力軸を有しリニアシリンダを水平移動させる駆動用パルスモータとを含んで構成されている。
【００２９】
研磨用パッド２０は、例えば、約硬度６０（ショア硬さ）程度の軟質パッドとされる。  各研磨用パッド２０は、記録媒体用基板素材１０を挟んで相対向して配され、図示が省略されるエアシリンダーのロッドの先端により所定の圧力ＦＣで記録媒体用基板素材１０の記録面１０ａに向けて付勢されている。
【００３０】
駆動用パルスモータは、後述する制御ユニットからの制御信号により制御されている。  これにより、駆動用パルスモータが作動状態とされる場合、研磨用パッド２０は、例えば、約１００ｎｍ／ｍｉｎ程度の平均研磨速度で記録媒体用基板素材１０の記録面１０ａ上をその半径方向に沿って移動せしめられる。その平均研磨速度は、記録媒体用基板素材１０の回転数とエアシリンダーのロッドの先端による所定の圧力ＦＣとが予め調整されて設定される。記録媒体用基板素材１０の回転数およびエアシリンダーのロッドの先端による所定の圧力ＦＣは、研磨開始から研磨終了までの間、例えば、約２０秒間、設定された所定の値に維持される。また、研磨用パッド２０は、所定の位置精度、例えば、±０．０１ｍｍ程度の精度をもって制御される。
【００３１】
研磨用パッド２０の送り量Δｙは、例えば、所定の二次関数｛ｙ＝ａ（ｔ−ｔｏ）２｝に従い設定される。送り量Δｙは、図６において、移動した研磨用パッド２０の右端の端面から記録媒体用基板素材１０の最外周端面までの距離とされる。なお、図６においては、送り量Δｙを拡大して誇張して示している。
【００３２】
従って、図５に示されるように、研磨用パッド２０の右端の端面と記録媒体用基板素材１０の最外周端面とが一致している場合、研磨用パッド２０の送り量Δｙは、零である。
【００３３】
但し、ｔは、研磨加工の開始時点からの経過時間をあらわし、ｔｏは、研磨用パッド２０が記録媒体用基板素材１０の記録面１０ａを半径方向に沿って中心部に向けて移動を開始した時点までの研磨加工の開始時点からの経過時間（停止期間）をあらわす。ａは、定数である。
【００３４】
定数ａは、記録媒体用基板素材１０と同様な記録媒体用基板素材について後述する１次ポリッシュ工程Ｓ１１および２次ポリッシュ工程Ｓ１２が行われた場合の結果に基づいて設定される。
【００３５】
即ち、定数ａは、記録媒体用基板素材１０と同様な記録媒体用基板素材について後述する１次ポリッシュ工程Ｓ１１および２次ポリッシュ工程Ｓ１２が行われた場合において、端だれ値ΔＴとなる端だれが形成されるとき、図１（Ｂ）に示されるように、記録媒体用基板１０’の隆起部１０’Ｐの隆起高さΔＨとその端だれ値ΔＴとが略一致し、そのスキージャンプの形状がその端だれの断面形状と点対称な相似形となるような送り量となるように設定される。その際、その送り量は、予め実験により得られる単位時間あたりの磨耗量のデータを考慮して設定される。
【００３６】
従って、送り量Δｙ（ｍｍ）は、図８に示される特性線Ｌｙに従い、研磨開始時点から研磨終了時点までの間、変化することとなる。図８は、縦軸に送り量Δｙをとり、横軸に研磨開始時点からの経過時間Ｔ（ｓｅｃ）をとり、経過時間に応じた送り量Δｙの変化を示している。
【００３７】
図８において、送り量Δｙは、研磨開始時点から１０秒間経過する時点ｔｏまで零であり、即ち、研磨用パッド２０は、停止している状態となる。次に、送り量Δｙは、研磨開始時点から１０秒間経過後、徐々に増大し始める。続いて、送り量Δｙは、研磨終了時点（２０秒経過時点）において３．０（ｍｍ）となる。
【００３８】
記録媒体用基板素材１０の各記録面１０ａが、送り量が制御される研磨用パッド２０により研磨されることにより、図１（Ｂ）に示されるように、記録媒体用基板１０’の外周縁近傍に、記録面１０’ａに連なる隆起部１０’Ｐが形成されることとなる。
【００３９】
図９は、縦軸に記録媒体用基板１０’の記録面１０’ａの形状の半径方向に沿って変位ΔＤ（ｎｍ）、または、上述の研磨加工による研磨量（ｎｍ）の半径方向の分布をとり、横軸に半径方向の位置をとり、記録媒体用基板１０’の記録面１０’ａの形状の特性線Ｌｄ、および、研磨量の半径方向の分布の特性線Ｌｇを示している。なお、特性線Ｌｄおよび特性線Ｌｇは、それぞれ、本願の発明者による検証により得られた実験結果に基づいて作成されたものである。
【００４０】
図９の特性線Ｌｄから明らかなように、記録面１０’ａの形状は、端だれの開始位置（約３０ｍｍの位置）（図１５の位置２’ｓ参照）に対応した位置から略平坦な状態から変化し始め、端だれの断面形状と点対称となるような曲線に沿って増大し、最外周端で最大となる。一方、特性線Ｌｇから明らかなように、研磨量は、最外周方向に向かうにつれて端だれの開始位置（図１５の位置２’ｓ参照）に対応した位置（約３０ｍｍの位置）から図８に示される特性線Ｌｙに対応して徐々に減少することとなる。この理由は、研磨用パッド２０の接触時間の長短に基づくものである。
【００４１】
次に、隆起部１０’Ｐが形成された記録媒体用基板１０’は、図７に示されるように、第２の研磨工程としての１次ポリッシュ工程Ｓ１１および２次ポリッシュ工程Ｓ１２において、それぞれ、研磨される。１次ポリッシュ工程Ｓ１１および２次ポリッシュ工程Ｓ１２においては、例えば、特許文献１にも示されるような、研磨装置により複数の記録媒体用基板１０’が同時に研磨される。１次ポリッシュ工程Ｓ１１においては、その記録領域とされる表面の形状が整えられ、また、２次ポリッシュ工程Ｓ１２においては、その記録領域とされる表面の鏡面仕上げがなされる。これにより、図１（Ｃ）に示されるように、所定の表面粗さの鏡面仕上げがなされた表面１０”ａを有する記録媒体用基板１０”が得られることとなる。
【００４２】
続いて、記録媒体用基板１０”は、図７に示される洗浄工程Ｓ１３において、水洗、超音波洗浄、ブラッシングによる洗浄等が順次、なされる。
【００４３】
そして、洗浄された記録媒体用基板１０”は、図７に示される成膜工程Ｓ１４において、スパッタ法で非磁性金属下地層が表面１０”ａに形成された後、薄膜磁性層および保護膜が順次、積層され、その上に潤滑層が形成される。これにより、記録媒体としての磁気ディスクが得られることとなる。
【００４４】
さらに、図２および図３に示される研磨装置においては、図４に示されるように、上述の研磨用スライド機構２２を制御する制御ユニット３０を備えている。
【００４５】
制御ユニット３０には、データ入力部３２からの定数ａ，研磨作業開始から終了するまでの期間、上述の停止期間、記録媒体用基板素材１０の回転数などをあらわすデータを含むデータ群ＤＡが供給される。また、制御ユニット３０に接続されるホストコンピュータからの研磨開始指令信号Ｓｓおよび、研磨終了／リセット指令信号Ｓｆが供給される。
【００４６】
制御ユニット３０は、供給されるデータ群ＤＡに基づいて上述の送り量Δｙを上述の二次関数｛ｙ＝ａ（ｔ−ｔｏ）２｝により演算する送り量演算部３０ａと、送り量演算部３０ａからの演算結果データに基づいて逐次、送り量を設定する送り量設定部３０ｂと、送り量設定部３０ｂからのデータに基づいて制御パルス信号を形成し、それを後述するモータ駆動回路部３４に送出する信号形成部３０Ｃとを含んで構成される。
【００４７】
研磨用パッド２０がエアシリンダーによりその表面１０ａに接触し押圧されるもとで、所定の回転数で記録媒体用基板素材１０が回転せしめられる場合、制御ユニット３０は、研磨開始指令信号Ｓｓが供給されるとき、研磨作業を開始する。次に、データ入力部３２からのデータ群ＤＡに基づいて送り量演算部３０ａは、経過時間に応じて二次関数の式｛ｙ＝ａ（ｔ−ｔｏ）２｝により送り量を演算し、演算結果を逐次、送り量設定部３０ｂに供給する。これにより、送り量設定部３０ｂは、停止期間ｔｏが１０秒間である場合、開始時点から１０秒間経過するまでは、送り量Δｙを零に設定することとなる。従って、図５に示されるように、記録媒体用基板素材１０の表面１０ａが、停止状態で研磨用パッド２０により研磨されることとなる。
【００４８】
続いて、開始時点から１０秒間経過後、送り量設定部３０ｂは、送り量演算部３０ａからの演算結果に基づいて経過時間に応じて送り量Δｙを順次、設定する。これにより、信号形成部３０ｃは、設定された送り量Δｙに基づいて制御パルス信号ＣＰを形成し、それをモータ駆動回路部３４に供給する。これにより、モータ駆動回路部３４は、制御パルス信号ＣＰに基づいて駆動パルス信号ＤＣを形成しそれを研磨用スライド機構２２に供給する。
【００４９】
従って、記録媒体用基板素材１０の各表面１０ａが、所定の速度でその半径方向に移動せしめられる研磨用パッド２０により研磨されることとなる。
【００５０】
そして、制御ユニット３０は、研磨終了／リセット指令信号Ｓｆが供給されるとき、制御パルス信号ＣＰの供給を一旦停止した後、研磨用パッド２０を初期位置に戻すべく、制御パルス信号ＣＰを形成し、それをモータ駆動回路部３４に供給する。これにより、研磨用パッド２０は、新たな別の記録媒体用基板素材１０の各表面１０ａを研磨すべく、図５に示されるように、初期位置に戻される。
【００５１】
図１０および図１１は、それぞれ、本発明に係る記録媒体用基板の製造方法の一例において用いられる研磨装置の他の例を示す。
【００５２】
なお、図１０および図１１に示される例においても、上述のような制御ユニットが備えられている。また、図１０および図１１において、図２および図３に示される例において同一とされる構成要素について同一の符号を付して示し、その重複説明を省略する。
【００５３】
図２および図３に示される例においては、回転される記録媒体用基板素材１０に対し摺動される研磨用パッド２０により各表面１０ａが研磨されるものであるが、図１０および図１１に示される例においては、回転される記録媒体用基板素材１０の表面１０ａに対し接触しながら半径方向に摺動されるとともに、回転されるローラ４０の外周面に案内されるテープ部材４２により、各表面１０ａが研磨されるものである。ローラ４０は、研磨用スライド機構２２のロッド部材の一端に回動可能に支持されている。研磨用スライド機構２２のロッド部材は、所定の速度、例えば、数ｃｍ／ｍｉｎの速度で送られる。
【００５４】
テープ部材４２は、例えば、研磨用テープであり、図１１に示される矢印の示す方向に沿って連続的に、所定の速度で供給される。また、テープ部材４２は、例えば、布または発泡シートであってもよい。斯かる場合、表面１０ａは、所定の研磨スラリーＬＵが、各表面１０ａとテープ部材４２との間に連続的に供給されながら研磨されてもよい。
【００５５】
上述の例において、送り量Δｙが二次関数｛ｙ＝ａ（ｔ−ｔｏ）２｝により演算されているが、斯かる例に限られるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】（Ａ），（Ｂ）、（Ｃ）は、それぞれ、本発明に係る記録媒体用基板の製造方法の一例の研磨工程の説明に供される部分断面図であって、（Ａ）は第１の工程前の基板素材、（Ｂ）は、第１の工程後で第２の工程前の基板、（Ｃ）は第２の工程後の基板をそれぞれ示す。
【図２】本発明に係る記録媒体用基板の製造方法の一例に用いられる研磨装置の構成を概略的に示す平面図である。
【図３】図２に示される例における側面図である。
【図４】図２に示される研磨装置に備えられる制御ユニットの構成を示すブロック図である。
【図５】図２に示される例における動作説明に供される平面図である。
【図６】図２に示される例における動作説明に供される平面図である。
【図７】本発明に係る記録媒体用基板の製造方法の一例における各工程の流れを示す工程図である。
【図８】図２に示される例における動作説明に供される特性図である。
【図９】図２に示される例における動作説明に供される特性図である。
【図１０】本発明に係る記録媒体用基板の製造方法の一例に用いられる研磨装置の他の例の構成を概略的に示す平面図である。
【図１１】図１０に示される例における側面図である。
【図１２】従来の記録媒体用基板の製造工程を示す工程図である。
【図１３】従来の記録媒体用基板の研磨工程の説明に供される部分断面図である。
【図１４】図１３に示される従来の記録媒体用基板の研磨工程における圧力分布を示す特性図である。
【図１５】従来の記録媒体用基板の端だれの状態を示す部分断面図である。
【符号の説明】
【００５７】
１０    記録媒体用基板素材
１０’、１０”    記録媒体用基板
２０    研磨用パッド
２２    研磨用スライド機構
３０    制御ユニット
４２    テープ部材
Ｓ１０    第１の工程
Ｓ１１，Ｓ１２    第２の工程
【図１】
2005203021.tif 000003
【図２】
2005203021.tif 000004
【図３】
2005203021.tif 000005
【図４】
2005203021.tif 000006
【図５】
2005203021.tif 000007
【図６】
2005203021.tif 000008
【図７】
2005203021.tif 000009
【図８】
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【図９】
2005203021.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
2005203021.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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