(57)【要約】【課題】フレキシブルな各種表示装置の表面に積層、又は、配置して使用して、強く折り曲げても、柔軟に追従することができると共に、密着性に優れ、更に、高温多湿雰囲気下においても、反射防止等の光学機能性、気体遮断性等の機能を維持でき、優れるものを提供する。【解決手段】可撓性基材の上に、直接、または、他の層を介して、屈折率の異なる多層膜からなる反射防止層を形成する反射防止フィルムにおいて、前記の反射防止層のうち、基材側の層が、炭素原子を１０ａｔ％以上５０ａｔ％以下含有する有機基を有する酸化珪素層からなり、かつ、当該基材側の層の上に、無機酸化物を主成分とし、炭素原子を１ａｔ％以上１０ａｔ％以下含有する層を少なくとも一層形成し、気体遮断性、および可撓性を有する反射防止フィルム、及び、および、それを用いた画像表示装置を特徴とする。【選択図】  図１
2005017544.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性基材の上に、直接、または、他の層を介して、屈折率の異なる多層膜からなる反射防止層を形成する反射防止フィルムにおいて、前記の反射防止層のうち、基材側の層が、炭素原子を１０Ａｔｏｍｉｃ％以上５０Ａｔｏｍｉｃ％以下含有する有機基を有する酸化珪素層からなり、かつ、当該基材側の層の上に、無機酸化物を主成分とし、炭素原子を１Ａｔｏｍｉｃ％以上１０Ａｔｏｍｉｃ％以下含有する層を少なくとも一層形成し、気体遮断性、および可撓性を有することを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記の基材側の層が、屈性率、１．５以上１．８以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、膜厚、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲にあることを特徴とする請求項１記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記の基材側の層の上に形成する層のうち、最外層を形成する層が、屈性率、１．４以上１．５以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、膜厚、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲にある酸化珪素層であることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記の基材側の層の上に形成する層において、前記の最外層と基材側の層との層間に中間層を設け、当該中間層が、酸化チタンを主成分とする層、または、ＩＴＯ（インジウム／スズ酸化物）を主成分とする層であり、かつ、屈性率、１．８以上２．５以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、膜厚、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲にあることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記の反射防止層が、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング、またはプラズマＣＶＤ法によって形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学機能性フィルム。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルムにおいて、ハードコート層が設けられていることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項７】
最上層に防汚層が積層されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか記載の反射防止フィルムが、表示部の観察側に積層、又は、配置されていることを特徴とする画像表示装置。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか記載の反射防止フィルムが、可撓性を有する表示部の観察側に積層、又は、配置されていることを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射防止フィルム、および画像表示装置に関し、さらに詳しくは、ワープロ、コンピュータ、テレビ等の各種ディスプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板の表面、透明プラスチック類サングラスレンズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファインダーレンズなどの光学レンズ、各種計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラス等の表面に使用され、更に、フレキシブルな各種ディスプレイに使用しても、柔軟に追従することができる可撓性に優れ、高温多湿雰囲気下でも、気体遮断性に優れる反射防止フィルム、およびそれを用いた画像表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来技術】
従来より、カーブミラー、バックミラー、ゴーグル、窓ガラス、テレビ、パソコン・ワープロ等のディスプレイ、その他種々の商業ディスプレイ等には、ガラスやプラスチック等の透明基板が使用されている。
そして、それらの透明な基材には、基材を通して、文字や図形その他の情報を読み取るため、基材の表面で光が反射するのを防止するため、反射防止機能を付与することが行われる。
透明な基材に反射防止機能を付与するために、例えば、透明基材に、酸化珪素、酸化チタン等の無機誘電体からなり、互いに屈折率の異なる層を積層し多層膜を形成することが知られている。
例えば、表示装置の最外部に貼り付ける反射防止フィルムとして、基材の上に、無機誘電体からなる３層積層薄膜による反射防止膜を形成した反射防止フィルムが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
【特許文献１】
特開平８−１２９１０１号公報
【０００４】
そして、前記の反射防止膜の層構成としては、多層膜を構成する最外層（基材層と反対の表面）としては、光の反射を防止するために、酸化珪素等からなる屈折率の小さい層を設けることが知られており、前記の最外層の内側（基材層と最外層との層間）としては、最外層より屈折率の大きい層を１層以上形成するものが知られている。
また、前記の反射防止膜を作成する方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法等の物理的蒸着方法や、プラズマＣＶＤ法等の化学的蒸着方法等が用いられることが知られている。
一方、薄型、安価で、携帯可能なＩＴ機器に対する需要が高まり、例えば、折り曲げ可能なフレキシブルディスプレイ等の新しいディスプレイが提案されてきている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記の無機誘電体は、可撓性基材の上に形成して反射防止フィルムとして使用すると、反射防止フィルムを構成する可撓性基材を変形させると、前記の無機誘電体が、可撓性基材に追従することができず、その結果、膜割れ、膜剥がれの発生により、反射防止等の密着性、光学機能性、気体遮断性等の機能を著しく低下させるという欠点があり、更に、このような反射防止フィルムを液晶ディスプレイや、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ等に使用するすると、駆動素子や発光素子が劣化するという問題点がある。
また、その反射防止フィルムをフレキシブルディスプレイの最外部に貼り付けて使用すると、フレキシブルディスプレイを構成する可撓性基材を変形させると、前記の無機誘電体が、フレキシブルディスプレイに追従することができず、その結果、上記と同様に、膜割れ、膜剥がれの発生により、密着性、反射防止等の光学機能性、気体遮断性等の機能を著しく低下させるという欠点がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
そこで、本発明者らは、上記の課題を解決するために、鋭意研究の結果、本発明は、可撓性基材の上に、直接、または、他の層を介して、屈折率の異なる多層膜からなる反射防止層を形成する反射防止フィルムにおいて、前記の反射防止層のうち、基材側の層が、炭素原子を１０Ａｔｏｍｉｃ％以上５０Ａｔｏｍｉｃ％以下含有する酸化珪素層からなり、かつ、当該基材側の層の上に、無機酸化物を主成分とし、炭素原子を１Ａｔｏｍｉｃ％以上１０Ａｔｏｍｉｃ％以下含有する層を少なくとも一層形成し、気体遮断性、および、可撓性を有することを特徴とする反射防止フィルムを製造したところ、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（以下「ＥＬ」ともいう。）表示装置、無機ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ（以下「ＰＤＰ」ともいう。）等の各種表示装置の表面だけでなく、フレキシブルな各種表示装置の表面に積層、又は、配置して使用して、強く折り曲げても、柔軟に追従することができると共に、密着性に優れ、更に、高温多湿雰囲気下においても、反射防止等の光学機能性、気体遮断性等の機能を維持できるものである。
また、本発明によれば、上記において、前記の基材側の層が、屈性率、１．５以上１．８以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、膜厚、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲にあることを特徴とする反射防止フィルムを提供することができる。
また、前記の基材側の層の上に形成する層のうち、最外層が、屈性率、１．４以上１．５以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、膜厚、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲にある酸化珪素層であることを特徴とする反射防止フィルムを提供することができる。
また、前記の基材側の層の上に形成する層において、前記の最外層と基材側の層との層間に中間層を設け、当該中間層が、酸化チタンを主成分とする層、または、ＩＴＯ（インジウム／スズ酸化物）を主成分とする層であり、かつ、屈性率、１．８以上２．５以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、膜厚、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲にあることを特徴とする反射防止フィルムを提供することができる。
また、前記の反射防止層が、真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング、またはプラズマＣＶＤ法によって形成されていることを特徴とする光学機能性フィルムを提供することができる。
また、上記において前記の反射防止フィルムにおいて、ハードコート層が設けられていることを特徴とする反射防止フィルムを提供することができる。
また、最上層に防汚層が積層されていることを特徴とする反射防止フィルムを提供することができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
上記の本発明について以下に更に詳しく説明する。
まず、本発明にかかる反射防止フィルム、及び、それを使用した表示装置の構成についてその二三を例示して図面を用いて説明すると、図１、図２は、本発明に係る多層反射防止膜を形成する反射防止フィルムの一態様である層構成を示す概略断面図であり、図３は、本発明に係る多層型反射防止フィルムにより表示面を被覆した液晶表示装置の一例を示す概略断面図であり、図４、図５は、プラズマＣＶＤ法による本発明に係る可撓性基材上に光学機能性膜を形成する反射防止フィルムの製造方法を説明するための概略図である。
【０００８】
図１は、本発明に係る多層反射防止膜を形成する反射防止フィルム３６の一態様である層構成を示す概略断面図である。
図１に示すように、本発明に係る反射防止フィルム３６は、可撓性基材３０の上に反射防止層を複数層形成するものであり、前記の反射防止層のうち、基材側の層１３は、炭素原子、１０Ａｔｏｍｉｃ％以上５０Ａｔｏｍｉｃ％以下を含有する有機基を有する酸化珪素層からなり、前記の基材側の層の上に形成する層１４は、炭素原子、１Ａｔｏｍｉｃ％以上１０Ａｔｏｍｉｃ％以下を含有する無機酸化物層からなることが必要である。
これは、本発明に係る反射防止フィルム３６を上記の層構成とすることによって、気体遮断性、可撓性とを併せ持つ光学機能性フィルムを得ることができる。
【０００９】
図２は、本発明に係る多層反射防止膜を形成する反射防止フィルム３６の別態様の層構成を示す概略断面図である。
図２に示すように、本発明に係る反射防止フィルムの層構成は、外側から、低屈折率層１５／高屈折率層１６／中屈折率層１３／可撓性基材層３０からなり、気体遮断性と可撓性とを併せ持つ光学機能性フィルムである。
前記の反射防止層において、最外層の低屈折率層１５は、炭素原子を１Ａｔｏｍｉｃ％以上１０Ａｔｏｍｉｃ％以下含有する層からなる酸化珪素層からなるものである。
前記の高屈折率層１６は、炭素原子を１Ａｔｏｍｉｃ％以上１０Ａｔｏｍｉｃ％以下含有する層からなるものである。
基材層側の中屈折率層１３は、炭素を１０Ａｔｏｍｉｃ％以上５０Ａｔｏｍｉｃ％以下含有する層からなり、有機基を有する酸化珪素層である。
【００１０】
次に、上記のような本発明にかかる反射防止フィルム、画像表示装置等を構成する材料、その製造法等について説明すると、まず、本発明にかかる反射防止フィルムを構成する反射防止層は、気体遮断性、および、可撓性を有する屈折率の異なる多層薄膜層からなる。
まず、本発明にかかる基材側の反射防止層１３は、炭素原子を１０Ａｔｏｍｉｃ％以上５０Ａｔｏｍｉｃ％以下含有する無機−有機の混合物で可視域で透明な構成材料であれば特に限定はないが、屈性率、１．５以上１．８以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、膜厚、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲にあり、有機物を含有する酸化珪素層であることが好ましいものである。
有機物を含有する酸化珪素の原料としては、例えば、有機シリコーンや珪素アルコキシド等が考えられるが、これらの材料は世の中で広く使用され、安全であり、真空成膜法で膜形成する際に、蒸気圧が高いため原料供給しやすいという利点を有する。
酸化珪素の原料として、具体的に、例えば、シラン、ジシラン、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、メチルトリメトキシシラン（ＭＴＭＯＳ）、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、テトラメトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、テトラエトキシシラン、ヘキサメチルシラザン等のＳｉ系化合物が挙げられる。
また、本発明に係る基材側の層１３を構成する材料として、炭素原子を１０Ａｔｏｍｉｃ％以上５０Ａｔｏｍｉｃ％以下含有することが必要である理由としては、基材側の反射防止層を上記の範囲の炭素原子を含有し、有機基を有する酸化珪素層とすることにより、無機材料を主成分とする反射防止層（上層）１３と、有機材料を主成分とする可撓性基材（下層）３０との接着性に優れるため、膜割れや、剥離を生じず、光学特性（反射防止機能）を維持でき、反射防止フィルムの取り扱う上で、柔軟に追従することができ、また、当該酸化珪素層を所望の屈折率とすることができるため、好ましいものである。
また、上記の本発明に係る反射防止フィルムをフレキシブルな各種表示装置の表面に積層、又は、配置して使用することによって、変形しても、反射防止機能を維持すると共に、柔軟に追従することができるという利点がある。
一方、本発明に係る基材側の反射防止層１３において、炭素原子の含有量が、１０ａｔ％未満であると、可撓性に劣り、下層の可撓性基材に追従することができず、膜割れや剥離を生じ、反射防止機能の低下を招くため、好ましくないものである。
これに対し、炭素原子の含有量が、５０Ａｔｏｍｉｃ％を超えると、酸化珪素膜が黄色に着色したり、酸化珪素膜の透明度が低下してしまい、反射防止フィルムの反射防止機能多層膜として好適に用いることができなくなり、また、気体遮断性も劣化するため好ましくない。
【００１１】
また、前記の本発明にかかる反射防止層において、基材側の層１３に求められる光学特性（反射防止機能）としては、屈性率、１．５以上１．８以下（波長λ＝５５０ｎｍ）の範囲にあることが必要である。
【００１２】
また、本発明における基材側の反射防止層１３の厚さは、特に限定されるものではなく、可撓性、反射防止効果を奏することができればいかなる厚さでもよいが、５ｎｍ〜３００ｎｍ程度が特に好ましく、５０ｎｍ〜１５０ｎｍ程度がより好ましい。
層の厚さが５ｎｍより薄いと、可撓性、反射防止効果が低下するため好ましくなく、一方、層の厚さが３００ｎｍより厚いと、密着性等が低下するため好ましくない。
【００１３】
次に、本発明にかかる反射防止層において、基材側の反射防止層の上に更に形成する低屈折率層としては、炭素原子の含有量を１Ａｔｏｍｉｃ％以上１０Ａｔｏｍｉｃ％以下の範囲にある含有する無機酸化物層からなることが必要である。
これは、上記の範囲に炭素原子を含有する無機酸化物層を基材側の層の上に形成することにより、緻密な膜となるため、気体遮断性に優れる光学機能性（反射防止機能）層を形成するという利点を有する。
また、可撓性に優れる中屈折率層（基材側の層）の上に更に形成する反射防止層であるため、反射防止フィルムや、フレキシブルな各種表示装置の表面に積層、又は、配置して使用する場合に、変形しても、柔軟に追従することができ、気体遮断性、反射防止機能を維持することができるという利点を有する。
一方、炭素原子の含有量が、１０Ａｔｏｍｉｃ％を超えると、水蒸気やガスの遮断性が劣化する問題や、所望の屈折率に設定できなくなる問題が生じるため好ましくない。
【００１４】
また、本発明における基材側の反射防止層の上に更に形成する反射防止層１４の厚さは、特に限定されるものではなく、可撓性、反射防止効果を奏することができればいかなる厚さでもよいが、５ｎｍ〜３００ｎｍ程度が特に好ましく、５０ｎｍ〜１５０ｎｍ程度がより好ましい。
層の厚さが５ｎｍより薄いと、気体遮断性、反射防止効果を奏しないため好ましくなく、一方、層の厚さが３００ｎｍより厚いと、密着性、反射防止能力が低下するため好ましくない。
【００１５】
前記の基材側の層の上に形成する層を複数層形成する場合、その最外層１５が、屈性率、１．４以上１．５以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、膜厚、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下、炭素原子を１Ａｔｏｍｉｃ％以上１０Ａｔｏｍｉｃ％以下含有する酸化珪素層であることが好ましい。
これは、酸化珪素が低屈折率であると、光学機能性膜を多層形成する際、反射防止の効果が大きいためである。
また、前記の最上層１５としては、炭素原子の割合を１０Ａｔｏｍｉｃ％以下であることが好ましく、特に、有機成分は含まない方がより好ましい。
これは、有機成分を含まないことによって、緻密な膜となるため、気体遮断性に優れる光学機能性（反射防止機能）層を形成するという利点を有する。
なお、最外層１５を構成する材料としては、酸化珪素の材料の他に、フッ素を含有する原料も好適に使用することができる。
これは、フッ素系材料を含有させることによって、低屈折率、撥水性を向上させることができるという利点を有する。
一方、炭素原子の割合を１０Ａｔｏｍｉｃ％より多くすると、気体遮断性が劣化し、屈折率が上昇するため、所望の反射防止機能を低下させるため好ましくない。
また、最外層１５の酸化珪素膜は、反射防止フィルム３６を構成する反射防止多層膜中の一層として、より具体的には低屈折率層として利用することを主たる目的としているため、その屈折率は上記の範囲であることが好ましい。
シリカ層の厚さについては、本発明の反射防止フィルムは特に限定することはなく反射防止の効果を奏する程度の厚さであれば特に限定されるものではないが、５ｎｍ〜３００ｎｍが好ましく、５０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内がより好ましい。
５ｎｍより層厚が薄い場合には、可撓性基材に膜形成しても、反射防止効果を奏しない場合があるため好ましくなく、また、３００ｎｍを超える場合には、密着性、反射防止機能が低下してしまうため好ましくない。
【００１６】
前記の基材側の層の上に形成する層を複数層形成し、前記の最外層の内側に設ける層（中間層）１６が、屈性率、１．８以上２．５以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、膜厚、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下の範囲にあり、炭素原子を１Ａｔｏｍｉｃ％以上１０Ａｔｏｍｉｃ％以下含有する層からなるものであることが好ましい。
本発明に係る反射防止層の中間層１６を構成する材料としては、具体的に、例えば、酸化チタン、または、ＩＴＯ（インジウム／スズ酸化物）、窒化珪素、酸窒化珪素、酸化タンタル、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、等を使用することができる。
さらに、金属材料を使用することによって、気体遮断性や反射防止性能が向上することができ、例えば、銅、クロム、ニッケル、モリブデン、窒化チタン、銀、金、チタン、アルミニウム等の金属を使用することができる。
中でも、酸化チタン、または、ＩＴＯを主成分とするものは、屈折率１．８以上で高屈折率材料であり、気体遮断性も高いため、好ましいものである。
また、前記の酸化チタンの有機金属原料としては、チタンテトライソプロポキシド（ＴＴＩＰ）、チタンテトラメトキシド、チタンテトラエトキシド、チタンテトラｎ−プロポキシド、チタンテトラｎ−ブトキシド、チタンテトラｔ−ブトキシド、チタンテトラｓｅｃ−ブトキシド、四塩化チタン等が使用でき、中でも、チタンテトライソプロポキシド（ＴＴＩＰ）、チタンテトラｔ−ブトキシドを使用することができる。
また、ＩＴＯ膜は、不順物が混入すると導電性や透過率の低下を生じる場合が多いため、有機物の含有量は１０Ａｔｏｍｉｃ％以下であることが好ましい。
【００１７】
また、本発明に係る中間層１６に求められる光学特性（反射防止機能）としては、屈性率、１．８以上２．５以下（波長λ＝５５０ｎｍ）である。
本発明の中間層１６は、反射防止フィルムを構成する反射防止多層膜中の一層として、より具体的には高屈折率層として利用することを主たる目的としているため、その屈折率は上記の範囲であることが好ましい。
これは、当該屈折率が１．８に満たないと、高屈折率層として好適に用いることができないため好ましくない。
上記の高屈折率層として用いることにより、反射防止多層膜中において、他の薄層（例えば、前記の酸化珪素膜等の低屈折率層）との相乗的な効果をもって反射防止機能を高めることができる。
高屈折率層の厚さについては、本発明の反射防止フィルムは特に限定することなく反射防止の効果を奏する程度の厚さであれば特に限定されるものではないが、５ｎｍ〜３００ｎｍが好ましく、５ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内がより好ましい。
５ｎｍより層厚が薄い場合には、可撓性基材に膜形成しても、反射防止効果を奏しない場合があるため好ましくなく、また、３００ｎｍを超える場合には、可視光線透過率が低下してしまうため好ましくない。
【００１８】
ここで、高屈折率層を設ける位置については、本発明は特に限定するものではなく反射防止全体として反射防止機能が向上するような位置であればいかなる位置に設けることも可能であるが、図２に示すように高屈折率層と低屈折率層とは接触している方が効率よく光の反射を防止することができるため、高屈折率層は低屈折率層と中屈折率層の間に設置することが好ましい。
【００１９】
次に、本発明に係る反射防止フィルムの基材３０としては、当該反射防止フィルムの土台となる部分である。
可撓性基材は、可視光域で透明な高分子フィルムであれば特に限定されるものではなく、具体的に、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリスチレン系樹脂フィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネイト系樹脂フィルム、ポリスルホンフィルム、環状オレフィン系樹脂フィルム、ポリエーテルフィルム、トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォン系フィルム、アクリロニトリルフィルム、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂（ＡＳ樹脂）フィルム、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体樹脂（ＡＢＳ樹脂）フィルム、ポリアミド系樹脂フィルム、フッ素系樹脂フィルム、アセタール系樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム等が使用できる。
中でも、無色透明の延伸フィルムが好ましく、一軸または二軸延伸ポリエステルフィルムが透明性、耐熱性に優れていることからより好ましい。
また、光学異方性のない点でトリアセチルセルロースも好ましい。
可撓性基材の厚みとしては、通常は６μｍ〜５００μｍ程度のものが好ましい。
なお、本発明の可撓性基材は、本質的に透明である限り着色されていてもよく、印刷などで模様や文字などが付与されていてもよい。
【００２０】
また、図１、図２に示す反射防止フィルム３６としては、ハードコート層３１も設けることができる。
本発明に用いられるハードコート層３１は、本発明の反射防止フィルムに強度を持たせることを目的として形成される層である。従って、反射防止フィルムの用途によっては必須の層ではない。
【００２１】
ハードコート層３１を形成するための材料としては、同様に可視光域で透明な材料であり反射防止フィルムに強度をもたせることができるものであれば特に限定されるものではなく、その強度としては、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４で示す鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すことが好ましい。
具体的には、熱硬化型樹脂、及び／又は、電離放射線硬化型樹脂を用いることが好ましく、さらに具体的には、アクリレート系の官能基をもつもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル、ポリエーテル、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン、ポリチオールポリエン系樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート（以下、アクリレートとメタアクリレートとを（メタ）アクリレートと記載する。）等のオリゴマー又はプレポリマー及び反応性の希釈剤であるエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、ビニルトルエン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、へキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を含むものが好適に用いられる。
前記のハードコート層の膜厚としては、通常１〜３０μｍの範囲のものが好適に用いられる。
その形成方法は、通常のコーティング方法を用いることが可能であり、特に限定されるものではない。
【００２２】
また、ハードコート層３１を設ける位置であるが、ハードコートを設ける目的は反射防止フィルムに強度を持たせることであり、反射防止機能を向上せしめるためのものではないため、最上層のシリカ層から離れた位置であって、基材のすぐ上に設置することが好ましい。
【００２３】
本発明の反射防止フィルムとしては、最上層のシリカ層の更に上に防汚層３５を設けてもよい。
防汚層は、ディスプレイパネルの前面に配置した反射防止フィルムにごみや汚れが付着するのを防止し、あるいは付着しても除去しやすくするために形成される。具体的には、反射防止等の光学機能を低下させない範囲でフッ素系界面活性剤等の界面活性剤、フッ素系樹脂を含む塗料、シリコーンオイル等の剥離剤、もしくはワックス等をごく薄く塗布し、余剰分を拭い除去しておく。防汚層は、恒久的な層として形成してもよいが、必要の都度、塗布して形成してもよい。防汚層３５の厚みとしては、１〜３０ｎｍが好ましい。
３０ｎｍを超えると、光学的な影響が生じ、反射防止フィルムとしての光学特性を低下せしめるため、好ましくない。
【００２４】
本発明の反射防止フィルムとしては、前記の可撓性基材の無機酸化物薄膜を形成しない面に、粘着層を設けてもよい。
かかる粘着層は、いずれの接着剤、粘着剤を用いても良いが、好ましくは、ガラス転移温度の低い粘着性樹脂やゴム弾性を有する熱可塑性エラストマーとワックスとの混合物からなるものを用いることができる。
具体的に、ガラス転移温度の低い粘着性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂が用いられ、ゴム弾性を有する熱可塑性エラストマーとしては、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、ニトリルゴム、ニトリル−ブタジエンゴム、ハイスチレンゴム、アクリルゴム等の合成ゴム、天然ゴム等を使用することができる。
また、粘着層は、ロールコータ、ダイコータ、ブレードコータ等により形成する。
【００２５】
本発明に係る反射防止層を構成する高屈折率層、及び、低屈折率層を可撓性基材の上に形成する方法としては、例えば、前記の材料をプラズマ化学蒸着（ＣＶＤ）法、熱ＣＶＤ法、真空蒸着法、スパッタリング法、ゾルゲル法等のウェットコーティング法、イオンプレーティング法等の薄膜形成法で形成あるいは積層することができる。
中でも、プラズマＣＶＤ法を用いることにより、シリカ層を形成する際の膜密度、膜厚、屈折率等の条件を比較的容易に制御することができるため、気体透過性とガラス基板に対する密着性との両性能をバランスよく有する光学機能性膜を形成することができるという利点を有するため好ましいものである。
また、本発明の酸化珪素膜は有機基を含有する珪素化合物により層を構成する際には、原料をガス状にして用いるプラズマＣＶＤ法、スパッタ法が安定した薄膜を形成することができ、また、複数の薄層を同時に形成することができるため、生産性の向上を図ることができるという利点を有するため好ましいものである。
【００２６】
図４は、プラズマＣＶＤ法による本発明に係る反射防止フィルムの製造方法を説明するための概略図である。
図４に示すように、プラズマＣＶＤ装置を用いて可撓性基材上に反射防止層を形成したフィルムの製造方法としては、まず、ウェブ状の高分子フィルム（可撓性基材）１が基材巻き出し部２より巻きだされて、真空容器３中のプラズマＣＶＤの反応室４に導入される。
この反応容器３の全体は、真空ポンプ５により排気される。また、同時に反応室４には、原料ガス導入口６より規定流量の原料ガスが供給され、反応室４の内部は、常に一定圧力のこれらのガスで満たされている。
【００２７】
次に、基材巻き出し部２より巻き出され、反応室４に導入された高分子フィルム１は、反転ロール７を経て、成膜用ドラム８に巻き付き、成膜用ドラム８の回転と同期しながら反転ロール７’の方向に送られていく。
次に、電極９と成膜用ドラム８との間には、電源１０によりＲＦ電圧が印加される。
このとき、電源の周波数は、ラジオ波に限らず、直流からマイクロ波まで適当な周波数を使用することも可能である。
そして、電極９と成膜用ドラム８の間にＲＦ電圧を印加することにより、この両電極の周辺にプラズマ１１が発生する。
そして、このプラズマ１１中で原料ガスが反応し、無機酸化物を生成して成膜用ドラム８に巻き付いた高分子フィルム１上に堆積して、反射防止膜１２が形成される。
その後、反射防止膜１２が表面に形成された高分子フィルム１は、反転ロール７’を経て、基材巻き取り部２’で巻き取られる。
本発明において、温度、材料ガス流量・圧力、放電条件、高分子フィルム１の送りスピートのコントロールにより、形成される反射防止膜１２の屈折率、膜厚、組成、密度等を広範囲でコントロールしうるため、材料を変更することなく、所望の気体透過性、可撓性、および光学特性を有する反射防止膜１２を得ることができる。
【００２８】
図５は、プラズマＣＶＤ法による本発明に係る反射防止フィルムの製造方法を説明するための別態様の概略図である。
反射防止フィルムの作製には、図５に示すようなプラズマＣＶＤ装置を用いることも可能である。
当該プラズマＣＶＤ装置は容量結合型のプラズマＣＶＤ装置であり、その基本的構造及び原理は図４の装置と同様である。
従って、当該装置においてもウェブ状の高分子フィルム２１は基材巻き出し部２２より巻きだされて、真空容器２３中の反応室（ａ，ｂ，ｃ）に導入される。そして、当該反応室内の成膜用ドラム２４上で所定の膜が形成され、基材巻き取り部２６により巻き取られる。
【００２９】
従って、当該装置においてもウェブ状の高分子フィルム２１は基材巻き出し部２２より巻きだされて、真空容器２３中の反応室（ａ，ｂ，ｃ）に導入される。そして、当該反応室内の成膜用ドラム２４上で所定の膜が形成され、基材巻き取り部２６により巻き取られる。
【００３０】
図５に示す装置と図４に示す装置との差は、図４に示す装置においては、フィルム上に反射防止膜を形成するための反応室は一つしか設置されていないが、図５に示すプラズマＣＶＤ装置は、複数（３つ）の反応室を有している点にある。夫々の反応室（ａ，ｂ，ｃ）は隔離壁２５で隔離されることで形成されている。ここで、以下の説明の便宜上、当該３つの反応室を右側から反応室ａ、反応室ｂ、反応室ｃとする。そして、各反応室には、夫々電極版ａ１、ｂ１、ｃ１及び原料ガス導入口ａ２、ｂ２、ｃ２が設置されている。
【００３１】
各反応室（ａ，ｂ，ｃ）は、成膜用ドラム２４の外周に沿って設置されている。これは、積層膜が形成されるプラスティックフィルムは、図５に示す例で説明したように成膜用ドラム２４と同期しながら反応室内に挿入され、かつ成膜用ドラム上において多層膜を形成するものであることから、このように配置することにより連続して各膜を積層することができるからである。
なお、図５に示す装置では反応室の数を３室としたが、本発明の反射防止フィルムの製造方法に用いるプラズマＣＶＤ装置としてはこれに限定されるものではなく、必要に応じて変更することができる。
【００３２】
上述したようなプラズマＣＶＤ装置によれば、各反応室へ導入する原料ガスを変化させることにより、夫々の反応室内で独立して膜を形成することが可能であることから、例えば、酸化チタン膜とシリカ膜との多層膜をプラスティックフィルム上に形成する場合は、反応室ｂに有機チタン化合物を含むガスを導入し、反応室ａと反応室ｃにはケイ素を含むガスを導入することにより、プラスティックフィルム２１が成膜用ドラム２５を経て基材巻き取り部２６へ巻き取られるまでに当該プラスティックフィルム２１上に酸化チタン膜とシリカ膜とが形成された反射防止フィルムを形成することができる。
【００３３】
さらに、上記の場合において反応室ａと反応室ｃとに導入されたガスは、ケイ素を含むガスであるが、各々の反応室内の条件、例えばガスの流量や圧力、放電条件等を変化させることにより、反応室ａと反応室ｃとで形成されるシリカ膜の特性を変化させることも可能である。当該装置により酸化チタン膜、シリカ膜、また、これらの膜の厚さ、膜の組成、密度、および屈折率等を自在に組み合わせることが可能となる。
【００３４】
また、必ずしも夫々の反応室に異なる原料ガスを導入する必要もなく、例えば図５に示す反応室ａ，ｂ，ｃ全てに有機チタン化合物を含むガスを導入することで酸化チタン膜を形成し、その後に一旦反応室ａ，ｂ，ｃに導入されたガスを全て抜き、改めてケイ素を含むガスを反応室ａ，ｂ，ｃに導入して上記酸化チタン膜の上にシリカ膜を形成することも可能である。
【００３５】
本発明においては、上述した図４に示すような装置で複数回プラスティックフィルムを処理することにより、プラスティックフィルム上に酸化チタン膜とシリカ膜とが形成された積層フィルムを形成するようにしてもよいし、上述したように図５に示す装置を用いて一回でプラスティックフィルムを処理することにより、プラスティックフィルム上に酸化チタン膜とシリカ膜とが形成された反射防止フィルムを形成するようにしてもよい。また、図４に示す装置を用いて複数回プラスティックフィルムを処理することにより、酸化チタン膜とシリカ膜とが交互に複数層積層された反射防止フィルムを得ることも可能である。また、スパッタリング法を用いるＩＴＯ膜の場合も同様の方法で製造できる。
【００３６】
図３は、本発明に係る反射防止フィルムをガラス基板の表示面に被覆した画像表示装置の一例を示す概略断面図である。
本発明に係る画像表示装置としては、図３に示すように、液晶表示素子上に、反射防止フィルム層３６／偏光素子３８／ＴＡＣフィルム層３７からなる層構成の偏光板がラミネートされており、また液晶表示素子の他方の面には、ＴＡＣフィルム３７／偏光素子３８／ＴＡＣフィルム３７からなる層構成の偏光板がラミネートされている。
【００３７】
具体的には、上記で得られた図１、図２の反射防止フィルム層を最外層（基材と接する層の反対側の層）とし、この反射防止フィルム層から基材の方向へ向かって、反射防止フィルム層、例えば、防汚層３５／酸化珪素膜３２／酸化チタン膜３３／酸化珪素膜３４／ハードコート層３１／基材層３０からなる層構成の反射防止フィルム層３６と、偏光素子３８と、基材層としてのＴＡＣフィルム３７とを積層し、層構成を、反射防止フィルム層３６／偏光素子３８／ＴＡＣフィルム層３７とするものである。
なお、本発明の反射防止フィルムの下面には、粘着剤が塗布されていてもよく、この場合、反射防止フィルムは反射防止すべき対象物、例えば、ガラス等に貼着して用いることができる。又、バックライトは、図３の下側から照射される。
本発明の反射防止フィルムは通常バックライトの出射側に配置されるが、最下面のＴＡＣフィルムの代わりに本発明の反射防止フィルムを更に用いてもよい。
尚、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入される。また、この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられる。
【００３８】
本発明に係る画像表示装置を構成する偏光素子３８としては、よう素または染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマーフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を用いることができる。
このラミネート処理にあたって接着性を増すため及び静電防止のために、前記の反射防止フィルムの透明基材フィルムが、例えば、ＴＡＣフィルムである場合には、ＴＡＣフィルムにケン化処理を行なう。このケン化処理は、ＴＡＣフィルムにハードコート層を施す前後のどちらでもよい。
【００３９】
而して、本発明に係る反射防止フィルムや、偏光素子等を使用して上記の液晶表示装置以外に、図示しないが、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置、無機ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ、フレキシブルな各種ディスプレイの表面の材料等に使用することができ、本発明に係る光学機能性フィルムを画像表示部の観察側に積層、又は、配置することにより、膜剥離も発生せず、透明性、光学特性、密着性、強度を維持でき、外観、気体透過性、生産性に優れる性能を発現するものである。
【００４０】
【実施例】
次に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。
（実施例１）
図５の装置を使用して、プラズマＣＶＤ法により、可撓性基材（高分子フィルム）として、８０μｍのケン化処理を施したトリアセチルセルロースフィルム（製品名フジタック、富士写真フィルム製、屈折率１．５０）上に、厚み６μｍのハードコート層を形成した。このハードコート層の屈折率は１．５１であった。
また、図５に示す反応室ａでは酸化珪素膜（第１層）を、反応室ｂでは酸化チタン膜（第２層）を、ｃでは酸化珪素膜（第３層）をプラズマＣＶＤ法により形成するようにした。
高周波電源として１３．５６ＭＨｚのＲＦ電源を用い、連続成膜時の基材である高分子フィルムの送り速度は、各層の膜厚に合わせて調整した。その他の条件は、以下に示す通りである。
【００４１】＜第１層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ａ）＞
印加電力                                    １ｋＷ
酸素ガス流量                                １００ｓｃｃｍ
ヘキサメチルジシロキサンガス流量                    １０００ｓｃｃｍ
成膜圧力                                                ４Ｐａ
【００４２】＜第２層：酸化チタン膜の成膜条件（反応室ｂ）＞
印加電力                                  １ｋＷ
酸素ガス流量                                                              ３０００ｓｃｃｍ
チタンテトライソプロポキシドガス流量            １００ｓｃｃｍ
成膜圧力                                              ６Ｐａ
【００４３】＜第３層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ｃ）＞
印加電力                                  １ｋＷ
酸素ガス流量                                                              ３０００ｓｃｃｍ
テトラメトキシシランガス流量                      ８００ｓｃｃｍ
成膜圧力                                              ９Ｐａ
【００４４】
上記のガス流量単位ｓｃｃｍは、ｓｔａｎｄａｒｄ    ｃｕｂｉｃ    ｃｍ    ｐｅｒ    ｍｉｎｕｔｅのことである。
【００４５】
上記の条件でＴＡＣフィルム上に形成した反射防止膜（光学機能性膜）の測定結果を以下に示す。
【００４６】＜第１層：酸化珪素膜の測定結果＞
膜厚                                              １１８ｎｍ
膜組成（Ａｔｏｍｉｃ％  ）              Ｓｉ：Ｃ：Ｏ＝３５：３５：３０
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    １．７０
【００４７】＜第２層：酸化チタン膜の測定結果＞
膜厚                                              ２０ｎｍ
膜組成（Ａｔｏｍｉｃ％  ）              Ｔｉ：Ｃ：Ｏ＝３５：５：６０
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    ２．２０
【００４８】＜第３層：酸化珪素膜の測定結果＞
膜厚                                              １２０ｎｍ
膜組成（Ａｔｏｍｉｃ％  ）              Ｓｉ：Ｃ：Ｏ＝３５：１：６４
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）  １．４５
【００４９】＜反射防止膜の測定結果＞
層構成：酸化珪素膜／酸化チタン膜／酸化珪素膜
酸素透過率                ０．１ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ（２３℃、０％Ｒｈ）
水蒸気透過率              ０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ（３８℃、１００％Ｒｈ）
視感度反射率              ０．４２％
【００５０】＜反射防止膜測定に使用した装置＞
組成分析                  光電子分光分析装置
型番  ＥＳＣＡＬＡＢ２２０ｉ−ＸＬ  メーカー  ＶＧ  Ｓｃｉｅｎｔ
屈折率・視感度反射率・膜厚      分光光度計
型番  ＵＶ−３１００ＰＣ          メーカー  島津製作所
酸素透過率                酸素ガス透過率測定装置
型番  ＯＸ−ＴＲＡＮ    ２／２０    メーカー  ＭＯＣＯＮ社
水蒸気透過率              水蒸気透過率測定装置
型番  ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ    ３／３１  メーカー  ＭＯＣＯＮ社
【００５１】
以上に示した反射防止膜の形成結果のように、視感度反射率、０．４２％の光学特性を有し、酸化珪素膜（第１層）の炭素原子含有量、３０ａｔ％、酸化チタン膜（第２層）及び、酸化珪素膜（第３層）の炭素原子含有量、１０ａｔ％以下、酸素透過率、２ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ、水蒸気透過率、０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙの反射防止膜をＴＡＣフィルム上に形成し、層構成、酸化珪素膜（第３層）／酸化チタン膜（第２層）／酸化珪素膜（第１層）／ハードコート層／ＴＡＣフィルムからなる本発明に係る反射防止フィルムを得た。
上記で得られた本発明に係る反射防止フィルムは、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置、ＰＤＰ等の各種表示装置の表面だけでなく、フレキシブルな各種表示装置の表面に積層、又は、配置して使用して、強く折り曲げても、柔軟に追従することができると共に、密着性に優れ、また、更に、高温多湿雰囲気下においても、反射防止等の光学機能性、気体遮断性等の機能を維持でき、優れるものであった。
【００５２】（実験例）
上記で形成された反射防止フィルムをＪＩＳ    Ｋ  ５６００−５−１に基いて、反射防止膜面が外側に折り曲げられるようにして試験板に挟み、２秒間かけて同速度で均一に角度１８０度折り曲げて、円筒形マンドレル法の曲げ試験を行った後（マンドレルの直径、８ｍｍ、折り曲げ時間、２秒）、反射防止膜に膜割れ、又は、剥離も認められず、均一で良好な膜質で、曲げ試験後の酸素透過率、及び、水蒸気透過率において、酸素透過率、０．１ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ、水蒸気透過率、０．２ｇ／ｍ２／ｄａｙであり、気体遮断性が維持されており、膜割れ、又は、基材からの剥離も認められず、可撓性に優れるものであった。
【００５３】（実施例２）
図５の装置を使用して、プラズマＣＶＤ法により、可撓性基材（高分子フィルム）として、８０μｍのケン化処理を施したトリアセチルセルロースフィルム（製品名フジタック、富士写真フィルム製、屈折率１．５０）上に、厚み６μｍのハードコート層を形成した。このハードコート層の屈折率は１．５１であった。
また、図５に示す反応室ａでは酸化珪素膜（第１層）をプラズマＣＶＤ法により形成し、反応室ｂではＩｎ２Ｏ３を主成分とするＩＴＯ膜（第２層）をスパッタリング法により形成し、ｃでは酸化珪素膜（第３層）をプラズマＣＶＤ法により形成するようにした。
高周波電源として１３．５６ＭＨｚのＲＦ電源を用い、連続成膜時の基材である高分子フィルムの送り速度は、各層の膜厚に合わせて調整した。その他の条件は、以下に示す通りである。
【００５４】＜第１層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ａ）＞
印加電力                                    １ｋＷ
酸素ガス流量                                １００ｓｃｃｍ
ヘキサメチルジシロキサンガス流量                    １０００ｓｃｃｍ
成膜圧力                                                ４Ｐａ
【００５５】＜第２層：ＩＴＯ膜の成膜条件（反応室ｂ）＞
印加電力                                  ５ｋＷ
導入ガス流量                                                              アルゴン、酸素
成膜圧力                                              ０．３Ｐａ
【００５６】＜第３層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ｃ）＞
印加電力                                  １ｋＷ
酸素ガス流量                                                              ３０００ｓｃｃｍ
テトラメトキシシランガス流量                      ８００ｓｃｃｍ
成膜圧力                                              ９Ｐａ
【００５７】
上記の条件でＴＡＣフィルム上に形成した反射防止膜（光学機能性膜）の測定結果を以下に示す。
なお、実施例２の反射防止膜の測定に使用した装置も、実施例１と同様であった。
【００５８】＜第１層：酸化珪素膜の測定結果＞
膜厚                                              ９６ｎｍ
膜組成（Ａｔｏｍｉｃ％  ）              Ｓｉ：Ｃ：Ｏ＝３４：３５：３１
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    １．７０
【００５９】＜第２層：ＩＴＯ膜の測定結果＞
膜厚                                              ４１ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    １．９８
【００６０】＜第３層：酸化珪素膜の測定結果＞
膜厚                                              １０３ｎｍ
膜組成（Ａｔｏｍｉｃ％  ）              Ｓｉ：Ｃ：Ｏ＝３５：１：６４
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    １．４５
【００６１】＜反射防止膜の測定結果＞
層構成：酸化珪素膜／ＩＴＯ膜／酸化珪素膜
酸素透過率                ０．１ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ（２３℃、０％Ｒｈ）
水蒸気透過率              ０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ（３８℃、１００％Ｒｈ）
視感度反射率              ０．３５％
【００６２】
以上に示した反射防止膜の形成結果のように、視感度反射率、０．３５％の光学特性を有し、酸化珪素膜（第１層）の炭素原子含有量、３５ａｔ％、ＩＴＯ膜（第２層）、及び、酸化珪素膜（第３層）の炭素原子含有量、１０ａｔ％以下、酸素透過率、０．１ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ、水蒸気透過率、０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙの反射防止膜をＴＡＣフィルム上に形成し、層構成、酸化珪素膜（第３層）／酸化チタン膜（第２層）／酸化珪素膜（第１層）／ハードコート層／ＴＡＣフィルムからなる本発明に係る反射防止フィルムを得た。
上記で得られた本発明に係る反射防止フィルムは、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置、ＰＤＰ等の各種表示装置の表面だけでなく、フレキシブルな各種表示装置の表面に積層、又は、配置して使用して、強く折り曲げても、柔軟に追従することができると共に、密着性に優れ、また、更に、高温多湿雰囲気下においても、反射防止等の光学機能性、気体遮断性等の機能を維持でき、優れるものであった。
【００６３】（実験例）
上記で形成された反射防止フィルムをＪＩＳ    Ｋ  ５６００−５−１に基いて、反射防止膜面が外側に折り曲げられるようにして試験板に挟み、２秒間かけて同速度で均一に角度１８０度折り曲げて、円筒形マンドレル法の曲げ試験を行った後（マンドレルの直径、８ｍｍ、折り曲げ時間、２秒）、反射防止膜に膜割れ、又は、剥離も認められず、均一で良好な膜質で、曲げ試験後の酸素透過率、及び、水蒸気透過率において、酸素透過率、０．２ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ、水蒸気透過率、０．３ｇ／ｍ２／ｄａｙであり、気体遮断性が維持されており、膜割れ、又は、基材からの剥離も認められず、可撓性に優れるものであった。
【００６４】（比較例１）
可撓性基材（高分子フィルム）として、８０μｍのケン化処理を施したトリアセチルセルロースフィルム（製品名フジタック、富士写真フィルム製、屈折率１．５０）上に、厚み６μｍのハードコート層を形成したものを用いた。このハードコート層の屈折率は１．５１であった。
図５に示す反応室ａでは酸化チタン膜（第１層）を、反応室ｂでは酸化珪素膜（第２層）を、反応室ｃでは酸化チタン膜（第３層）を形成し、更に、反応室ｂで酸化珪素膜（第４層）をスパッタリング法により４層からなる反射防止層を形成した。
スパッタリングは、ＣＶＤ電極をスパッタリング用ターゲットに交換することで実施した。
高周波電源として１３．５６ＭＨｚのＲＦ電源を用い、連続成膜時の基材である高分子フィルムの送り速度は、各層の膜厚に合わせて調整した。その他の条件は、以下に示す通りである。
【００６５】＜第１層：酸化チタン膜の成膜条件（反応室ａ）＞
印加電力                                  ５ｋＷ
ターゲット                                チタン
導入ガス                                  アルゴン、酸素
成膜圧力                                              ０．５Ｐａ
【００６６】＜第２層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ｂ）＞
印加電力                                  ５ｋＷ
導入ガス                                  アルゴン、酸素
成膜圧力                                              ０．３Ｐａ
【００６７】＜第３層：酸化チタン膜の成膜条件（反応室ａ）＞
印加電力                                  ５ｋＷ
ターゲット                                チタン
導入ガス                                  アルゴン、酸素
成膜圧力                                              ０．５Ｐａ
【００６８】＜第４層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ｃ）＞
印加電力                                  ５ｋＷ
導入ガス                                  アルゴン、酸素
成膜圧力                                              ０．３Ｐａ
【００６９】
上記の条件でＴＡＣフィルム上に形成した反射防止膜（光学機能性膜）の測定結果を以下に示す。
なお、比較例１の反射防止膜の測定に使用した装置も、実施例１と同様であった。
【００７０】＜第１層：酸化チタン膜の測定結果＞
膜厚                                              ２０ｎｍ
膜組成（Ａｔｏｍｉｃ％  ）              Ｔｉ：Ｃ：Ｏ＝３５：２：６３
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    ２．４０
【００７１】＜第２層：酸化珪素膜の測定結果＞
膜厚                                              ４２ｎｍ
膜組成（Ａｔｏｍｉｃ％  ）              Ｓｉ：Ｃ：Ｏ＝３５：１：６４
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    １．４６
【００７２】＜第３層：酸化チタン膜の測定結果＞
膜厚                                              ３３ｎｍ
膜組成（Ａｔｏｍｉｃ％  ）              Ｔｉ：Ｃ：Ｏ＝３５：１：６３
【００７３】＜第４層：酸化珪素膜の測定結果＞
膜厚                                              １１０ｎｍ
膜組成（Ａｔｏｍｉｃ％  ）              Ｓｉ：Ｃ：Ｏ＝３４：１：６５
【００７４】＜反射防止膜の測定結果＞
層構成：酸化珪素膜／酸化チタン膜／酸化珪素膜／酸化チタン膜
酸素透過率                ０．２ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ（２３℃、０％Ｒｈ）
水蒸気透過率              ０．２ｇ／ｍ２／ｄａｙ（３８℃、１００％Ｒｈ）
視感度反射率              ０．２０％
【００７５】
以上に示した反射防止膜の形成結果のように、視感度反射率、０．２％の光学特性を有し、酸化チタン膜（第１層）、酸化珪素膜（第２層）、酸化チタン膜（第３層）、及び、酸化珪素膜（第４層）の炭素原子含有量、１０ａｔ％以下、酸素透過率、０．２ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ、水蒸気透過率、０．２ｇ／ｍ２／ｄａｙの反射防止膜をＴＡＣフィルム上に形成し、層構成、酸化チタン膜（第１層）／酸化珪素膜（第２層）／酸化チタン膜（第３層）／酸化珪素膜（第４層）／ハードコート層／ＴＡＣフィルムからなる比較例１の反射防止フィルムを得た。
【００７６】（実験例）
上記で形成された反射防止フィルムをＪＩＳ    Ｋ  ５６００−５−１に基いて、反射防止膜面が外側に折り曲げられるようにして試験板に挟み、２秒間かけて同速度で均一に角度１８０度折り曲げて、円筒形マンドレル法の曲げ試験を行った後（マンドレルの直径、８ｍｍ、折り曲げ時間、２秒）、曲げ試験後の酸素透過率、及び、水蒸気透過率において、酸素透過率、２．５ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ、水蒸気透過率、３．０ｇ／ｍ２／ｄａｙであり、膜割れ、基材からの剥離を発生し、気体遮断性に劣るものであった。
【００７７】（比較例２）
図５の装置を使用して、スパッタリング法にて、反応室ａでは酸化珪素膜（第１層）を作成した。
更に、反応室ｂでは酸化チタン膜（第２層）を、反応室ｃでは酸化珪素膜（第３層）をプラズマＣＶＤ法により形成するようにした。
【００７８】＜第１層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ａ）＞
印加電力                                    ５ｋＷ
導入ガス                                    アルゴン、酸素
成膜圧力                                                ０．３Ｐａ
【００７９】＜第２層：酸化チタン膜の成膜条件（反応室ｂ）＞
印加電力                                  １ｋＷ
酸素ガス流量                                                              ３０００ｓｃｃｍ
チタンテトライソプロポキシドガス流量            １００ｓｃｃｍ
成膜圧力                                              ６Ｐａ
【００８０】＜第３層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ｃ）＞
印加電力                                  １ｋＷ
酸素ガス流量                                                              ３０００ｓｃｃｍ
テトラメトキシシランガス流量                      １０００ｓｃｃｍ
成膜圧力                                              ９Ｐａ
【００８１】
上記の条件でＴＡＣフィルム上に形成した反射防止膜（光学機能性膜）の測定結果を以下に示す。
なお、比較例２の反射防止膜の測定に使用した装置も、実施例１と同様であった。
【００８２】＜第１層：酸化珪素膜の測定結果＞
膜厚                                              １１８ｎｍ
膜組成（Ａｔｏｍｉｃ％  ）              Ｓｉ：Ｃ：Ｏ＝３８：５：５７
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    １．７０
【００８３】＜第２層：酸化チタン膜の測定結果＞
膜厚                                              ２０ｎｍ
膜組成（Ａｔｏｍｉｃ％  ）              Ｔｉ：Ｃ：Ｏ＝３５：５：６０
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    ２．２１
【００８４】＜第３層：酸化珪素膜の測定結果＞
膜厚                                              １２０ｎｍ
膜組成（Ａｔｏｍｉｃ％  ）              Ｓｉ：Ｃ：Ｏ＝３５：１：６４
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）    １．４５
【００８５】＜反射防止膜の測定結果＞
層構成：酸化珪素膜／酸化チタン膜／酸化珪素膜
酸素透過率                ０．２ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ（２３℃、０％Ｒｈ）
水蒸気透過率              ０．１ｇ／ｍ２／ｄａｙ（３８℃、１００％Ｒｈ）
視感度反射率              ０．４１％
【００８６】
以上に示した反射防止膜の形成結果のように、視感度反射率、０．４１％の光学特性を有し、酸化珪素膜（第１層）、酸化チタン膜（第２層）、及び、酸化珪素膜（第３層）の炭素原子含有量、１０ａｔ％以下、酸素透過率、０．２ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ、水蒸気透過率、０．２ｇ／ｍ２／ｄａｙの反射防止膜をＴＡＣフィルム上に形成し、層構成、酸化珪素膜（第１層）／酸化チタン膜（第２層）／酸化珪素膜（第３層）／ハードコート層／ＴＡＣフィルムからなる比較例２の反射防止フィルムを得た。
【００８７】（実験例）
上記で形成された反射防止フィルムをＪＩＳ    Ｋ  ５６００−５−１に基いて、反射防止膜面が外側に折り曲げられるようにして試験板に挟み、２秒間かけて同速度で均一に角度１８０度折り曲げて、円筒形マンドレル法の曲げ試験を行った後（マンドレルの直径、８ｍｍ、折り曲げ時間、２秒）、曲げ試験後の酸素透過率、及び、水蒸気透過率において、酸素透過率、２ｃｃ／ｍ２／ｄａｙ、水蒸気透過率、２．０ｇ／ｍ２／ｄａｙであり、膜割れ、基材からの剥離を発生し、気体遮断性に劣るものであった。
また、フィルムを目視で観察した結果、白濁が生じ、外観上劣り、また、光学的な機能性、気体気体遮断性、画像表示との密着性、密着性に劣るものであった。
【００８８】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明は、可撓性基材の上に、直接、または、他の層を介して、屈折率の異なる多層膜からなる反射防止層を形成する反射防止フィルムにおいて、前記の反射防止層のうち、基材側の層が、炭素原子を１０ａｔ％以上５０ａｔ％以下含有する有機基を有する酸化珪素層からなり、かつ、当該基材側の層の上に、無機酸化物を主成分とし、炭素原子を１ａｔ％以上１０ａｔ％以下含有する層を少なくとも一層形成し、気体遮断性、および可撓性を有することを特徴とする反射防止フィルムを製造したところ、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（以下「ＥＬ」ともいう。）表示装置、無機ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ（以下「ＰＤＰ」ともいう。）等の各種表示装置の表面だけでなく、フレキシブルな各種表示装置の表面に積層、又は、配置して使用して、強く折り曲げても、柔軟に追従することができると共に、密着性に優れ、更に、高温多湿雰囲気下においても、反射防止等の光学機能性、気体遮断性等の機能を維持でき、優れるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る多層反射防止膜を形成する反射防止フィルムの一態様である層構成を示す概略断面図である。
【図２】本発明に係る多層反射防止膜を形成する反射防止フィルムの一態様である層構成を示す概略断面図である。
【図３】本発明に係る多層型反射防止フィルムにより表示面を被覆した液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図４】プラズマＣＶＤ法による本発明に係る反射防止フィルムの製造方法を説明するための概略図である。
【図５】プラズマＣＶＤ法による本発明に係る反射防止フィルムの製造方法を説明するための概略図である。
【符号の説明】
１、２１、３０  高分子フィルム（基材）
２、２２  基材巻きだし部
２’、２６  基材巻き取り部
３、２３  真空容器
４、ａ、ｂ、ｃ  反応室
５、２７  真空ポンプ
６、ａ２、ｂ２、ｃ２  原料ガス導入口
７、７’    反転ロール
８、２４  成膜用ドラム
９、ａ１、ｂ１、ｃ１  電極
１０  電源
１１  プラズマ
１２  反射防止膜
１３  基材側の層（炭素含有酸化珪素からなる低屈折率層）
１４  基材側の層に形成する層（無機酸化物からなる層）
１５  最外層（低屈折率層）
１６  中間層（高屈折率層）
２５  隔離壁
３１  ハードコート層
３２  酸化珪素層
３３  酸化チタン層
３４  炭素含有酸化珪素層
３５  防汚層
３６    反射防止フィルム
３７    ＴＡＣ基材フィルム
３８    偏光素子
３９    液晶表示素子
４０  偏光板
４１  バックライトユニット
【図１】
2005017544.tif 000003
【図２】
2005017544.tif 000004
【図３】
2005017544.tif 000005
【図４】
2005017544.tif 000006
【図５】
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