(57)【要約】【課題】  有機抗菌剤の抗菌力を増強させて低濃度で、且つ長期間使用しても菌に対して抵抗性・耐性を獲得させることなく使用できる化合物を提供することである。【解決手段】  下記式（１）で示される第四アンモニウム塩化合物による抗菌力増強剤である。また、当該抗菌力増強剤を含有する抗菌剤配合剤である。【化１】2005120060.tif 000015  式（１）中、Ｒ1とＲ4とは分岐があっても良い炭素数６〜１６のアルキル基であり、Ｒ2とＲ5とはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ3とＲ6とは炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘn-は無機性または有機性のアニオン基であり、ｎはアニオン基Ｘn-の価数であって１又は２のいずれかから選ばれ、ｍはｎが１のとき２であり、ｎが２のとき１である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で示される第四アンモニウム塩化合物を有効成分とする抗菌力増強剤。
【化１】
2005120060.tif 000014
［式（１）中、Ｒ1は分岐があっても良い炭素数６〜１６のアルキル基であり、Ｒ2はヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ3は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ4は分岐があっても良い炭素数６〜１６のアルキル基であり、Ｒ5はヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ6は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘn-は無機性または有機性のアニオン基であり、ｎはアニオン基Ｘn-の価数であって１又は２のいずれかから選ばれ、ｍはｎが１のとき２であり、ｎが２のとき１である。］
【請求項２】
請求項１記載の第四アンモニウム塩化合物を含有することを特徴とする抗菌配合剤。
【請求項３】
請求項１記載の第四アンモニウム塩化合物が、抗菌配合剤中の抗菌剤合計１００質量部に対し１〜８０質量部含有することを特徴とする請求項２記載の配合剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、抗菌剤に配合することにより抗菌力を増強させる化合物に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機抗菌剤は古くから知られ、細菌に対し抗菌効果が高く即効性を示すことから、現在でも抗菌剤として広く一般に用いられている。有機抗菌剤として、アミン化合物や、アルコール化合物、アルデヒド化合物やハロゲン化合物、カルボン酸化合物やフェノール化合物、第四アンモニウム塩化合物、両性界面活性剤、ビグアニド化合物、イソチアゾリン化合物など、非常に多くの種類の化合物が知られており、そして多岐に渡り広く使用されている。下記に代表的なものを挙げる。
【０００３】
塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウム、ジデシルジメチルアンモニウムクロライドなどの第四アンモニウム塩化合物類、アルキルポリアミノエチルグリシンやアルキルジアミノエチルグリシンなどの両性界面活性剤、グルコン酸クロルヘキシジンなどのビグアナイド系化合物、２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミドやビス−１，４−ブロモアセトキシ−２−ブテンなどの有機臭素系抗菌剤類などが挙げられる。
【０００４】
しかし、有機系抗菌剤は通常、繰り返し使用すると、菌がこれら抗菌剤に対して抵抗性を獲得し、抗菌効果が低下するようになる。また、他の抗菌剤と配合して使用することもあるが、抗菌剤に対する菌の抵抗性獲得を阻害することはできなかった。即ち、有機抗菌剤は、長期間使用すると菌が抵抗性・耐性を獲得していき、使用することが困難となる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
有機抗菌剤の抗菌力を増強させて低濃度で、且つ長期間使用しても菌に対して抵抗性・耐性を獲得させることなく使用できる化合物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
発明者は、鋭意検討した結果、下記式（１）の第四アンモニウム塩化合物を用いることにより課題が解決できることを見出し、本発明を完成させた。即ち、本発明は、下記式（１）で示される第四アンモニウム塩化合物による抗菌力増強剤である。また、当該抗菌力増強剤を含有する抗菌剤配合剤である。
【化１】
2005120060.tif 000002
【０００７】
式（１）中、Ｒ1は分岐があっても良い炭素数６〜１６のアルキル基であり、Ｒ2はヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ3は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ4は分岐があっても良い炭素数６〜１６のアルキル基であり、Ｒ5はヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ6は炭素数１〜４のアルキル基またはヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｘn-は無機性または有機性のアニオン基であり、ｎはアニオン基Ｘn-の価数であって１又は２のいずれかから選ばれ、ｍはｎが１のとき２であり、ｎが２のとき１である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の抗菌力増強剤は、抗菌剤に対し抗菌力を増強させる働きを有している。このことから、本発明の抗菌力増強剤を配合した抗菌配合剤は、低濃度で使用することができる。また、抗菌剤は、長期間使用していると抗菌剤に抵抗性を示す菌株（耐性菌）が出現してくるが、本発明の抗菌力増強剤を配合することにより耐性株の出現を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明は、上記（１）式で表される第四アンモニウム塩化合物を抗菌力増強剤とするものである。式（１）以外の有機系抗菌剤を単独で使用するものに比べ、配合したものは低濃度で抗菌活性を示し、且つ有機系抗菌剤に対する抵抗性を菌が獲得することを阻害できるものである。以下、本発明を詳細に説明する。
【００１０】
本発明は、上記式（１）で表される第四アンモニウム塩化合物による抗菌力増強剤であり、式（１）以外の有機系抗菌剤を単独で使用するものに比べ、当該抗菌力増強剤を配合したものは低濃度で抗菌活性を示し、且つ有機系抗菌剤に対する抵抗性を菌が獲得することを阻害できるものである。このことから、本発明の抗菌力増強剤を配合した抗菌配合剤は、有機系抗菌剤の使用量が少なくてすみ、且つ長期間使用することができる。なお、有機系抗菌剤を以下抗菌剤と称する。
【００１１】
上記式（１）のＸn-は無機性または有機性のアニオン基であり、好ましくは、ヨウ素イオン、臭素イオン、塩素イオン、フッ素イオン、ヨウ素酸イオン、臭素酸イオン、塩素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、過塩素酸イオン、亜塩素酸イオン、次亜塩素酸イオン、硝酸イオン、亜硝酸イオン、硫酸イオン、水酸化物イオン又は下記式（２）〜（５）で表されるアニオン基等であり、更に好ましくはヨウ素イオン、臭素イオン、塩素イオンである。
式（１）の化合物にアニオン基Ｘが結合する数（ｍ）は、アニオン基Ｘn-の価数をｎとしたとき、ｎとｍとの積が２となる数であり、例えば、アニオン基Ｘn-が２価の場合には１であり、１価の場合には２である。
【００１２】
Ｒ7ＣＯＯ-  （２）
式（２）中、Ｒ7は水酸基またはカルボニル基を有しても良い炭素数１〜７のアルキル基または炭素数２〜７のアルケニル基である。
【００１３】
-ＯＯＣ−（Ｒ8）P−ＣＯＯ-    （３）
式（３）中、ｐは０または１であり、ｐが１のとき、Ｒ8は水酸基を有しても良い炭素数１〜８のアルキル基または炭素数２〜７のアルケニル基である。
【００１４】
Ｒ9ＳＯ4-    （４）
式（４）中、Ｒ9は炭素数１〜１６のアルキル基を表す。
【化２】
2005120060.tif 000003
【００１５】
式（５）中、Ｒ10及びＲ11はそれぞれ水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、またはカルボキシル基を表す。
【００１６】
本発明の抗菌力増強剤は、式（１）以外の抗菌剤に対し抗菌力を増強させる活性を有している。このことから、本発明の抗菌力増強剤を配合した抗菌配合剤は、抗菌剤単独に比べ低濃度で使用することができる。
また、抗菌剤は、長期間使用していくと菌が抵抗性・耐性を獲得していくが、本発明の抗菌力増強剤を配合した抗菌配合剤は、このようなことがない。このことから、本発明の式（１）の化合物を配合した抗菌配合剤は、式（１）以外の化合物を配合した抗菌配合剤と比べ抵抗性・耐性を有する菌株の出現を心配することなく長期間使用することができる。
【００１７】
本発明の抗菌力増強剤は、式（１）以外の抗菌剤と配合して使用することができる。この抗菌剤としては、アミン化合物系抗菌剤、アルコール化合物系抗菌剤、アルデヒド化合物系抗菌剤、ハロゲン化合物系抗菌剤、カルボン酸化合物系抗菌剤、フェノール化合物系抗菌剤、第四アンモニウム塩化合物系抗菌剤、両性界面活性剤系抗菌剤、ビグアニド化合物系抗菌剤、イソチアゾリン化合物系抗菌剤、ベータラクタム系抗生物質またはキノロン系合成抗菌剤などである。好ましく配合できる抗菌剤としては、塩化ベンザルコニウム、塩化ベンゼトニウムやジデシルジメチルアンモニウムクロライドなどの第四アンモニウム塩化合物類、アルキルポリアミノエチルグリシンやアルキルジアミノエチルグリシンなどの両性界面活性剤類、グルコン酸クロルヘキシジンなどのビグアナイド系化合物類、２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミドやビス−１，４−ブロモアセトキシ−２−ブテンなどの有機臭素系抗菌剤類などを挙げることができ、更に好ましくは第四アンモニウム塩化合物類、ビグアナイド系化合物類、有機臭素系抗菌剤類であり、特に好ましくは第四アンモニウム塩化合物類である。
【００１８】
本発明の抗菌力増強剤は、式（１）で表される化合物であり、上記式（１）において第四アンモニウム塩がビフェニルに結合する位置はいずれでも良いが、４，４’位が好ましい。
【００１９】
本発明の抗菌力増強剤は、式（１）のＲ1とＲ4とが異なっていても良く、同一であることが好ましい。また、Ｒ2とＲ5とが異なっていても良く、同一であることが好ましい。Ｒ3とＲ6とが異なっていても良く、同一であることが好ましい。本化合物が有する水酸基の個数は、１〜４個であり、好ましくは２〜４個であり、更に好ましくは４個である。また、式（１）のアルキル基は、分岐があっても良いが、好ましくは直鎖のものである。
【００２０】
本発明の式（１）で表される抗菌力増強剤のＲ1とＲ4は、炭素数４〜２０のアルキル基であり、好ましくは分岐があっても良い炭素数６〜１６のアルキル基であり、更に好ましくは直鎖の炭素数８〜１４のアルキル基であり、特に好ましくは偶数のものである。
【００２１】
本発明の式（１）で表される抗菌力増強剤のＲ2は、ヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２〜４のアルキル基であり、更に好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２個のアルキル基であり、２−ヒドロキシエチル基である。
【００２２】
本発明の式（１）で表される抗菌力増強剤のＲ5は、ヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基であり、好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２〜４のアルキル基であり、更に好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２個のアルキル基であり、２−ヒドロキシエチル基である。Ｒ2とＲ5は異なっていても良いが同一のほうがより好ましい。
【００２３】
本発明の式（１）で表される抗菌力増強剤のＲ3は、ヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のアルキル基であり、好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２〜４のアルキル基または炭素数１〜２のアルキル基であり、更に好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２個のアルキル基またはメチル基であり、２−ヒドロキシエチル基である。
【００２４】
本発明の式（１）で表される抗菌力増強剤のＲ6は、ヒドロキシル基を有する炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のアルキル基であり、好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２〜４のアルキル基または炭素数１〜２のアルキル基であり、更に好ましくはヒドロキシル基を有する炭素数２個のアルキル基またはメチル基であり、２−ヒドロキシエチル基である。Ｒ3とＲ6は異なっていても良いが同一のほうがより好ましい。更に、Ｒ2とＲ3とＲ5とＲ6の全てが同一のほうがより好ましい。
【００２５】
本発明の抗菌力増強剤の抗菌配合剤における配合割合は、抗菌配合剤中の抗菌剤合計１００質量部に対し、本発明の抗菌力増強剤が１〜８０質量部が好ましく、５〜６０質量部が更に好ましく、１０〜５０質量部が特に好ましい。
【００２６】
本発明の抗菌配合剤は、適宜固体又は液体の担体に担持させて使用することもできる。また、本発明の抗菌配合剤は、必要に応じて界面活性剤等の他の成分を配合して、エマルジョン、水和剤、粒状剤、粉末、スプレー、エアゾール等として利用できる。この界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル等のノニオン系界面活性剤やアルキル（アミド）ベタイン等の両性界面活性剤が使用することができる。具体例としては、式（１）で表される化合物とポリオキシエチレンアルキルエーテルとに塩化ベンザルコニウムおよび／またはポリヘキサメチレンビグアナイドを添加したものが抗菌剤や洗浄剤として使用することができる。また、式（１）で表される化合物とアルキルアミドベタインとに塩化ベンザルコニウムおよび／またはポリヘキサメチレンビグアナイドを添加したものが抗菌剤や洗浄剤として使用することができる。
【００２７】
本発明の抗菌配合剤は、広範囲の分野で利用できる。例えば、防菌防臭加工繊維製品、皮革製品、建材、木材、塗料、接着剤、プラスティック、フィルム、紙、パルプ、金属加工油、食品、医薬品、医療・環境消毒剤、眼科治療剤、コンタクトケア用品、点眼剤、洗浄剤、化粧品、文房具、農薬、畜産分野等において有用である。例えば、食品工場や飲料水工場等における施設及び設備等の消毒剤や洗浄剤として使用することができる。
式（１）で表される化合物は、界面活性剤と配合して抗菌剤や洗浄剤として使用することができる。このときの界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル等のノニオン系界面活性剤やアルキル（アミド）ベタイン等の両性界面活性剤が使用することができる。具体例としては、式（１）で表される化合物とポリオキシエチレンアルキルエーテルとによる抗菌剤や洗浄剤として使用することができる。また、式（１）で表される化合物とアルキルアミドベタインとによる抗菌剤や洗浄剤として使用することができる。
【００２８】
＜実施例＞
以下、本発明を実施例、比較例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。各表のＭＩＣの単位は、μｇ／ｍｌである。
【００２９】
＜合成例１＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル５．０２ｍｍｏｌとＮ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）デシルアミン１２．５ｍｍｏｌを１５ｍｌのアセトニトリルに加え、加熱還流下で２４時間反応させた後、析出する固体をろ過・回収した。回収した固体を酢酸エチルで洗浄後、エタノール／酢酸エチル混合溶液にて再結晶し、減圧乾燥により、白色の４，４’−ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−デシルアンモニオメチル）ビフェニル  ジクロリド（４Ｂ２ＯＨ−１０と略す）を６．０８ｇ得た。目的化合物の収率は８２％であった。
融点は、１８７〜１９０℃であった。
４Ｂ２ＯＨ−１０の1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ6）分析結果を次に示す。
δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）  ７．７４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）  ５．５７（４Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ）  ４．７８（４Ｈ，ｓ）  ３．９５（８Ｈ，ｍ）  ３．４２（８Ｈ，ｍ）  ３．２８（４Ｈ，ｍ）  １．８２（４Ｈ，ｍ）  １．２６（２８Ｈ，ｍ）  ０．８６（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）。
更に元素分析の結果を下記に示す（４Ｂ２ＯＨ−１０の分子式はＣ42Ｈ74Ｃｌ2Ｎ2Ｏ4）。
炭素            水素          窒素
理論値（％）      ６７．９９      １０．１５      ３．７８
実測値（％）      ６７．６４      １０．０８      ３．８５
以上の結果より、得られた物質が目的化合物であることを確認した。
【００３０】
＜合成例２＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（１．２６ｇ、５．０２ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）オクチルアミン（２．７３ｇ、１２．５ｍｍｏｌ）を１５ｍｌのエタノールに加え、加熱還流下で１２時間反応させた後、溶媒のエタノールを減圧除去した。残渣を酢酸エチルで洗浄後、アセトニトリル／酢酸エチル混合溶液にて再結晶し、減圧乾燥により、白色の４，４’−ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−オクチルアンモニオメチル）ビフェニル  ジクロリド（４Ｂ２ＯＨ−８と略す）を３．４４ｇ得た。目的化合物の収率は９１％であった。
【００３１】
４Ｂ２ＯＨ−８の1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ6）分析結果を次に示す。
δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．７４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），５．６０（４Ｈ，ｔ），４．７９（４Ｈ，ｓ），３．９５（８Ｈ，ｍ），３．４２（８Ｈ，ｍ），３．３４（４Ｈ，ｍ），１．８２（４Ｈ，ｍ），１．２７（２０Ｈ，ｍ），０．８６（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
【００３２】
また元素分析の結果を下記に示す（４Ｂ２ＯＨ−８の分子式はＣ38Ｈ66Ｃｌ2Ｎ2Ｏ4）。
炭素            水素          窒素
理論値（％）  ６６．５５      ９．７０      ４．０８
実測値（％）  ６６．２０      ９．６６      ４．１７
以上の結果より、得られた物質が目的化合物であることを確認した。
【００３３】
＜合成例３＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（１．５０ｇ＝５．９７ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）ドデシルアミン（４．１０ｇ＝１４．６ｍｍｏｌ）を１０ｍｌのイソプロピルアルコールに加え、加熱還流下で１０時間反応させた後、溶媒のイソプロパノールを減圧除去した。残渣を酢酸エチルで洗浄後、アセトニトリル／酢酸エチル混合溶液から再結晶し、減圧乾燥により、白色の化合物４，４’−ビス（Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−ドデシルアンモニオメチル）ビフェニル  ジクロリド（４Ｂ２ＯＨ−１２と略す）を４．０５ｇ得た。目的化合物の収率は８５％であった。
【００３４】
４Ｂ２ＯＨ−１２の1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ6）分析結果を次に示す。
δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），５．６０（４Ｈ，ｔ），４．７９（４Ｈ，ｓ），３．９４（８Ｈ，ｍ），３．４１（８Ｈ，ｍ），３．２９（４Ｈ，ｍ），１．８２（４Ｈ，ｍ），１．２５（３６Ｈ，ｍ），０．８６（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
以上の結果より、得られた物質が目的化合物であることを確認した。
【００３５】
＜合成例４＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（１．５２ｇ＝６．０５ｍｍｏｌ）とＮ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルアミン（２．８４ｇ＝１５．２ｍｍｏｌ）を１０ｍｌのイソプロパノールに加え、２時間還流した。反応液を室温に戻し、溶媒のイソプロパノールを減圧除去し、残渣を酢酸エチルで洗浄し粗晶を得た。この粗晶をクロロホルム／酢酸エチル混合溶液から再結晶し、減圧乾燥により、白色の４，４’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−オクチルアンモニオメチル）ビフェニル  ジクロリド（４Ｂ１ＯＨ−８と略す）を３．４１ｇ得た。目的化合物の収率は９０％であった。
【００３６】
４Ｂ１ＯＨ−８の1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ6）分析結果を次に示す。
δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），７．７３（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ），５．６４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），４．７１（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ），３．９２（４Ｈ，ｍ），３．４９−３．２８（８Ｈ，ｍ），３．０２（６Ｈ，ｓ），１．８０（４Ｈ，ｍ），１．３０−１．２７（２０Ｈ，ｍ），０．８７（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
以上の結果より、得られた物質が目的化合物であることを確認した。
【００３７】
＜合成例５＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（１．５６ｇ＝６．２１ｍｍｏｌ）とＮ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−デシルアミン（３．３９ｇ＝１５．７ｍｍｏｌ）を１０ｍｌのイソプロパノールに加え、２時間還流した。反応液を室温に戻し、溶媒のイソプロパノールを減圧除去し、残渣を酢酸エチルで洗浄し粗晶を得た。この粗晶をクロロホルム／酢酸エチル混合溶液から再結晶し、減圧乾燥により、白色の４，４’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−デシルアンモニオメチル）ビフェニル  ジクロリド（４Ｂ１ＯＨ−１０と略す）を４．０５ｇ得た。目的化合物の収率は９６％であった。
また元素分析の結果を下記に示す（４Ｂ１ＯＨ−１０の分子式はＣ40Ｈ70Ｃｌ2Ｎ2Ｏ2）。
炭素          水素            窒素
理論値（％）    ７０．４５      １０．３５      ４．１１
実測値（％）    ７０．０８      １０．２８      ４．３０
【００３８】
４Ｂ１ＯＨ−１０の1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ6）分析結果を次に示す。
δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７４（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），５．６６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），４．７２（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ），３．９２（４Ｈ，ｍ），３．４９−３．２８（８Ｈ，ｍ），３．０２（６Ｈ，ｓ），１．８０（４Ｈ，ｍ），１．２６（２８Ｈ，ｍ），０．８６（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
以上の結果より、得られた物質が目的化合物であることを確認した。
【００３９】
＜合成例６＞
４，４’−ビス（クロロメチル）ビフェニル（１．５４ｇ＝６．１３ｍｍｏｌ）とＮ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシルアミン（３．８１ｇ＝１５．７ｍｍｏｌ）を１０ｍｌのイソプロパノールに加え、３時間還流した。反応液を室温に戻し、溶媒のイソプロパノールを減圧除去し、残渣を酢酸エチルで洗浄し粗晶を得た。この粗晶をクロロホルム／酢酸エチル混合溶液から再結晶し、減圧乾燥により、白色の４，４’−ビス（Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−メチル−Ｎ−ドデシルアンモニオメチル）ビフェニル  ジクロリド（４Ｂ１ＯＨ−１２と略す）を４．４３ｇ得た。目的化合物の収率は９８％であった。
４Ｂ１ＯＨ−１２の1Ｈ−ＮＭＲ（溶媒ＤＭＳＯ−ｄ6）分析結果を次に示す。
δ（ｐｐｍ）：７．８８（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．７３（４Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），５．６４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝５．２Ｈｚ），４．７１（４Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ），３．９２（４Ｈ，ｍ），３．４９−３．２８（８Ｈ，ｍ），３．０２（６Ｈ，ｓ），１．８０（４Ｈ，ｍ），１．２７（３６Ｈ，ｍ），０．８７（６Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．８Ｈｚ）．
以上の結果より、得られた物質が目的化合物であることを確認した。
【００４０】
○比較例用化合物
比較例用の化合物としては、下記記載のものを使用した。
・塩化ベンザルコニウム（和光純薬工業社製）：以下ＢＡＣと略す。
・ジデシルジメチルアンモニウムブロマイド（Aldrich社製）：以下ＤＤＡＢと略す。
・グルコン酸クロルヘキシジン（和光純薬工業社製）：以下ＣＨＧと略す。
・２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミド（中国のSuzhou Jinlong New Chemical Material Co.,Ltd.（蘇州金龍化工新材料有限公司）社製）：以下ＤＢＮＰＡと略す。
・ビス−１，４−ブロモアセトキシ−２−ブテン（中国のSuzhou Jinlong New Chemical Material Co.,Ltd.（蘇州金龍化工新材料有限公司）社製）：以下ＢＢＡＢと略す。
【００４１】
＜試験例１＞
○細菌に対する最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）
一般的なブロス希釈法に従い、ニュトリエントブロスを用いて菌懸濁濃度が、１０6ｃｅｌｌ／ｍｌになるように調整した定常期状態の菌液を、段階希釈した薬剤溶液に添加し、３７℃で２４時間静置培養後、増殖の有無により、ＭＩＣ値を決定した。
供試菌として、Escherichia coli K12 W 3110（E. coli と称する）とStaphylococcus aureus IFO 12732（S. aureusと称する）を用いた。結果を表１に示す。
【００４２】
【表１】
2005120060.tif 000004
【実施例１】
【００４３】
○塩化ベンザルコニウム（ＢＡＣ）に対する活性
合成例１の４Ｂ２ＯＨ−１０と塩化ベンザルコニウム（ＢＡＣ）とを質量％で、２０：８０、４０：６０、６０：４０、８０：２０の割合で混合した。この混合薬剤並びに４Ｂ２ＯＨ−１０と塩化ベンザルコニウムについて、試験例１と同様の操作を行い、ＭＩＣ値を測定した。
供試菌として、試験例１で用いたものを使用した。結果を表２に示す。
【００４４】
【表２】
2005120060.tif 000005
【実施例２】
【００４５】
合成例１の４Ｂ２ＯＨ−１０と塩化ベンザルコニウム（ＢＡＣ）とを質量％で、４０：６０、３０：７０、２０：８０の割合で混合した。この混合薬剤並びに４Ｂ２ＯＨ−１０と塩化ベンザルコニウムについて、試験例１と同様の操作を行い、ＭＩＣ値を測定した。
供試菌として、E. coli を用いた。結果を表３に示す。
【００４６】
【表３】
2005120060.tif 000006
【実施例３】
【００４７】
○ＤＤＡＢに対する活性
ＢＡＣの代わりにＤＤＡＢを用いた以外は実施例１と同様の操作を行い、ＭＩＣ値を測定した。結果を表４に示す。
【００４８】
【表４】
2005120060.tif 000007
【実施例４】
【００４９】
○ＣＨＧに対する活性
ＢＡＣの代わりにＣＨＧを用いた以外は実施例１と同様の操作を行い、ＭＩＣ値を測定した。結果を表５に示す。
【００５０】
【表５】
2005120060.tif 000008
【実施例５】
【００５１】
○ＤＢＮＰＡに対する活性
ＢＡＣの代わりにＤＢＮＰＡを用いた以外は実施例１及び実施例２と同様の操作を行い、ＭＩＣ値を測定した。結果を表６及び表７に示す。
【００５２】
【表６】
2005120060.tif 000009
【００５３】
【表７】
2005120060.tif 000010
【実施例６】
【００５４】
○ＢＢＡＢに対する活性
ＢＡＣの代わりにＢＢＡＢを用いた以外は実施例１と同様の操作を行い、ＭＩＣ値を測定した。結果を表８に示す。
【００５５】
【表８】
2005120060.tif 000011
【００５６】
上記実施例の結果（表２〜８）から、本発明の化合物を配合した混合剤は、比較用化合物単剤の場合と比較して、ＭＩＣ値が小さくなる。このことから、本発明の化合物は、比較例の化合物と混合して使用することにより、抗菌力が増強することは明らかである。
【実施例７】
【００５７】
○最小発育阻止濃度（ＭＩＣ）の変化試験
試験は、合成例１のＢ２ＯＨ−１０とＢＡＣ、ＤＤＡＢ、ＣＨＧ、ＤＢＮＰＡ、ＢＢＡＢとを質量比で３０：７０に混合したものを用いて行った。
試験は、抗菌剤耐性菌を取得する方法に準じて行った。即ち、供試菌としてE. coli を用い、一般的なブロス希釈法に従い、ニュートリエントブロスを用いて菌懸濁液が、１０6ｃｅｌｌ／ｍｌになるように調整した定常期状態の菌液を、段階希釈した薬剤溶液に添加し、３７℃で２４時間静置培養後、濁りの認められない試験薬剤の最小濃度をＭＩＣ値とし、一段階試験化合物濃度の少ない検定液中の菌（即ち、濁りが認められた検定液の菌）を用いて、次の試験菌液とした。このようにして、この操作を１０回繰り返した。
１回目と１０回目の各化合物におけるＭＩＣ値の結果を表９に示す。
【００５８】
【表９】
2005120060.tif 000012
【実施例８】
【００５９】
○化合物単独でのＭＩＣの変化試験
Ｂ２ＯＨ−１０、ＢＡＣ、ＤＤＡＢ、ＣＨＧ、ＤＢＮＰＡまたはＢＢＡＢに対し実施例７の試験方法を用いて測定を行い、この１回目と１０回目におけるＭＩＣ値の結果を表１０に示す。
【００６０】
【表１０】
2005120060.tif 000013
【００６１】
表１０の結果から、比較例用化合物は、死滅しない程度の濃度で菌を接触させ続けると、ＭＩＣ値が２倍以上に上昇する菌株が出現する。しかし、本発明の抗菌力増強剤は、この操作を繰り返してもＭＩＣ値の上昇が認められないことから、抵抗性を示す菌株が出現しないことを示している。
また、表９および表１０から分かるように本発明の抗菌力増強剤を配合した抗菌配合剤は、死滅しない程度の濃度で菌を接触させ続けても抵抗性を示す菌株が出現しない。このことから、本発明の抗菌力増強剤を配合した抗菌配合剤は長期間続けて使用できることを示している。
【産業上の利用可能性】
【００６２】
本発明の式（１）で表される抗菌力増強剤は、抗菌剤に対し抗菌力を増強させる働きを有している。このことから、本発明の抗菌力増強剤を配合した抗菌配合剤は、低濃度で使用することができ、産業上有用である。また、抗菌剤は、長期間使用していると抗菌剤に抵抗性を示す菌株（耐性菌）が出現してくるが、本発明の抗菌力増強剤を配合することにより耐性株の出現を抑制することができる。このことから、本発明の抗菌力増強剤を配合した抗菌配合剤は、低濃度で且つ連続して長期間使用することができ、産業上有用である。