(57)【要約】【課題】本発明の目的は、良好に観察を行える欠陥修正機能付き顕微鏡を提供することである。【解決手段】欠陥修正機能付き顕微鏡装置１は、被検査対象物の欠陥を観察するための観察顕微鏡２０と、欠陥を修正するためのレーザ装置とを有している。この顕微鏡装置１において、観察顕微鏡２０の光学系と、上記レーザ装置の光学系とは、夫々独立している。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検査対象物の欠陥を観察するための観察顕微鏡と、欠陥を修正するためのレーザ装置とを有する欠陥修正機能付き顕微鏡装置であって、
上記観察顕微鏡の光学系と、上記レーザ装置の光学系とは、夫々独立している欠陥修正機能付き顕微鏡装置。
【請求項２】
上記観察顕微鏡と、上記レーザ装置との動作を制御する制御部をさらに有しており、
上記制御部は、観察顕微鏡の光学系の合焦位置を記憶し、上記合焦位置を用いて上記レーザ装置の合焦を行うように、該レーザ装置を移動させる請求項１に記載の欠陥修正機能付き顕微鏡装置。
【請求項３】
上記制御部は、上記観察顕微鏡の位置と、上記レーザ装置の位置とのずれ量を取得する請求項１又は２に記載の欠陥修正機能付き顕微鏡装置。
【請求項４】
上記観察顕微鏡は、上記被検査対象物を撮像するための撮像手段をさらに有しており、
上記制御部は、上記撮像された画像を用いて、欠陥を検査する検査部を有している請求項１に記載の欠陥修正機能付き顕微鏡装置。
【請求項５】
上記制御部は、観察対象の欠陥を選択し、選択した欠陥のみ観察するように、上記観察顕微鏡の駆動を制御する請求項１に記載の欠陥修正機能付き顕微鏡。
【請求項６】
上記制御部は、修正対象の欠陥を選択し、選択した欠陥のみ修正するように、上記レーザ装置の駆動を制御する請求項１に記載の欠陥修正機能付き顕微鏡。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、被検査対象物の観察並びに修正を行う欠陥修正機能付き顕微鏡装置に関している。
【０００２】
【従来の技術】
半導体等の基板を製造する際に、基板の欠陥部分を修正する欠陥修正処理が行われている。この欠陥修正処理において、修正される欠陥箇所を、観察するとともにレーザ光により修正する欠陥修正機能付き顕微鏡装置が、一般的に用いられている。
【０００３】
例えば、上記従来の欠陥修正機能付き顕微鏡装置は、特許文献１に示されている。この特許文献１の従来の欠陥修正機能付き顕微鏡装置１００は、図３中に概略的に示されている。この顕微鏡装置１００は、被検査対象である基板３を観察するための観察手段１２０と、レーザを出力するレーザ手段１３０と、これらに共通の対物レンズ１４０とを有している。また、顕微鏡装置１００は、観察手段１２０並びにレーザ手段１３０と、対物レンズ１４０との間に配置されたプリズム１５０により、対物レンズ１４０からの光路を、観察手段１２０又はレーザ手段１３０へと切り替え可能である。このため、この従来の顕微鏡装置１００は、観察手段１２０並びにレーザ手段１３０をプリズム１５０により切り替えて、被検査対象物の撮像、観察並びにレーザリペアを行い得る。
【０００４】
【特許文献１】
特開平０８−２９０２８０号公報（第２−６頁、  図１）
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上述のように、この従来の顕微鏡装置は、観察手段１２０並びにレーザ手段１３０が、共通の対物レンズ１４０を用いて、撮像、観察並びにレーザリペアを行う。このため、レーザ手段から照射されるレーザ光は、観察にも用いられる対物レンズ１４０を通る。対物レンズ１４０は、上記レーザ光により、焼けが生じてしまったり、レーザによる修正の際のレーザ加工により加工くずが飛散し、この加工くずにより先端が汚れたりする虞がある。また、処理範囲やレーザパワーなどのレーザリペアにおける処理条件は、上記観察手段の観察結果に基づいて設定される場合がある。このとき、対物レンズ１４０が焼けたり汚れたりした場合、目視や撮像等の被検査対象物に対する観察が、良好に行えない虞を有している。
従って、レーザ手段を有しながら、良好に被検査対象物の観察が行える顕微鏡装置が望まれている。
【０００６】
上記課題を鑑みて、本発明の目的は、良好に観察を行える欠陥修正機能付き顕微鏡を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を鑑みて、本発明の欠陥修正機能付き顕微鏡装置は、以下の構成を有している。
【０００８】
本発明の一態様の欠陥修正機能付き顕微鏡装置は、被検査対象物の欠陥を観察するための観察顕微鏡と、欠陥を修正するためのレーザ装置とを有している。この顕微鏡装置において、上記観察顕微鏡の光学系と、上記レーザ装置の光学系とは、夫々独立している。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の１つの実施の形態に従った欠陥修正機能付き顕微鏡装置について図１を用いて説明する。
【００１０】
図１は、本実施の形態に従った欠陥修正機能付き顕微鏡装置１を示す概略的な一部切欠斜視図である。
顕微鏡装置１は、被検査対象物の観察並びに欠陥修正を行う装置であり、装置本体１０と、観察顕微鏡２０と、修正顕微鏡３０と、を具備している。なお、本実施の形態において、被検査対象物は、複数のパターンを有している基板であり、図１中において、参照符号３で指摘されている。
【００１１】
装置本体１０は、Ｘステージ１１と、Ｙステージ支持部１２とを有している。
Ｘステージ１１は、装置本体１０上に配置されており、基板３を保持し、この基板３を所定の軸線に沿って移動させる載物台である。本明細書中において、Ｘステージ１１による基板の移動方向をＸ軸とし、また、このＸ軸と直交する軸線をＹ軸とする。さらに、Ｘ並びにＹ軸と直交する軸線を、Ｚ軸とする。なお、本実施の形態において、Ｘステージ１１は、Ｘ並びにＹ軸を通る面（水平面）に対して実質的に平行に、基板３を保持する。また、Ｘステージ１１は、観察顕微鏡２０並びに修正顕微鏡３０を支持するＹステージ支持部１２を有している。
【００１２】
Ｙステージ支持部１２は、Ｙ軸に沿ってＸステージ１１を跨ぐように装置本体１０に架橋されており、装置本体１０のＸ軸に沿った略中央に配置されている。このＹステージ支持部１２は、２つのＹステージ１２ａ，ｂを有している。より具体的には、Ｙステージ１２ａ，ｂは、Ｙ軸に対して線対称の配置になるように、Ｙステージ支持部１１に支持されている。これらのＹステージ１２ａ，ｂは、Ｙステージ支持部１２上をＹ軸に沿って駆動可能に構成されている。
【００１３】
Ｙステージ１２ａ，ｂには夫々、Ｚ軸に沿って駆動するＺステージ１３ａ，ｂが固定されている。なお、Ｚステージ１３ａには、観察顕微鏡２０が固定されており、Ｚステージ１３ｂには、修正顕微鏡３０が固定されている。従って、観察顕微鏡２０並びに修正顕微鏡３０は、Ｘステージ１１，Ｙステージ１２ａ，ｂ、及びＺステージ１３ａ，ｂ（駆動系）により、Ｘステージ１１上に配置された基板３に対して、Ｘ、Ｙ、及びＺ軸に沿って相対的に移動可能である。
【００１４】
観察顕微鏡２０は、Ｘステージ１１上に配置された基板３を観察するための観察手段である。この観察顕微鏡２０は、変倍可能な光学系を有しており、上記光学系により結像された像を撮像する顕微鏡カメラ２１を有している。また、この観察顕微鏡２０は、基板３上に焦点を合わせる（合焦する）ための図示しないオートフォーカス（ＡＦ）機構を有している。このＡＦ機構は、Ｚステージ１３ａと接続されており、Ｚステージ１３ａを動作させることにより、観察位置に対する合焦を行う。
【００１５】
修正顕微鏡３０は、レーザ光を出力し、上記レーザ光により欠陥を修正するためのレーザ装置である。修正顕微鏡３０は、変倍可能な光学系を有しており、上記光学系により結像された像を撮像する顕微鏡カメラ３１と、欠陥修正するためのレーザ光を出力するレーザヘッド３２とを有している。また、修正顕微鏡３０も、観察顕微鏡２０と同様に、Ｚステージ１３ｂと接続されたＡＦ機構を有しており、Ｚステージ１３ｂを動作させることにより、基板３の修正対象に対する合焦を行う。
【００１６】
また、修正顕微鏡３０は、出力するレーザ光の照射範囲を調整するために、例えば、スリット等の照射範囲設定機構（図示せず）を有している。
【００１７】
顕微鏡カメラ３１とレーザヘッド３２とは、修正顕微鏡３０の上記光学系を共用している。このため、修正顕微鏡３０において、上記光学系により合焦した位置は、顕微鏡カメラ３１で撮像し得る位置であるとともに、レーザヘッド３２によりレーザ修正が行える位置である。
【００１８】
上記構成の顕微鏡装置１には、この顕微鏡装置１の駆動を制御する顕微鏡制御装置４が接続されている。顕微鏡制御装置４は、制御用コンピュータ４１と、操作パネル４２と、モニタ４３とを有している。
制御用コンピュータ４１は、顕微鏡装置１の上記駆動系及び、観察顕微鏡２０並びに修正顕微鏡３０に接続されており、これらの駆動を制御する。なお、制御用コンピュータ４１は、上記駆動系に接続されているため、観察顕微鏡２０並びに修正顕微鏡３０夫々の位置を検出することが可能である。
【００１９】
この制御用コンピュータ４１は、上記顕微鏡装置１に加えて、ホストコンピュータ４４にも接続されている。このホストコンピュータ４４は、基板製造工程に用いられる少なくとも１つの他の装置と接続されているコンピュータである。このホストコンピュータ４４は、接続された装置からの情報を取得する機能を有している。本実施の形態のホストコンピュータ４４は、基板３の欠陥部の位置を検出する欠陥検出装置（図示せず）と接続されており、基板３の欠陥部の位置等を示す情報（欠陥情報）を取得し得る。０
操作パネル４２は、制御用コンピュータ４１に接続されており、制御用コンピュータ４１に対して、顕微鏡装置１を走査するために必要なデータ並びに操作命令などを入力する入力装置である。モニタ４３は、制御用コンピュータ４１と接続された制御用コンピュータの出力装置である。
【００２０】
以下に、上記構成の欠陥修正機能付き顕微鏡装置１の動作について説明する。この欠陥修正機能付き顕微鏡装置１では、基板３上に発生した欠陥を修正する（欠陥修正処理）ために、以下の複数の工程を行う。なお、本実施の形態において、欠陥修正処理を行う前に、上記欠陥検出装置により、基板３の欠陥部の位置並びに種類が検出され、各欠陥部の上記欠陥情報がホストコンピュータ４４中に格納されている。
【００２１】
（検査対象配置工程）
本実施の形態の欠陥修正機能付き顕微鏡装置１は、まず、この検査対象配置工程において、修正対象となる基板３がＸステージ１１上に配置される。これとともに、顕微鏡制御装置４の制御用コンピュータ４１は、ホストコンピュータ４４から各欠陥の上記欠陥情報を取得する。このようにして検査対象配置工程が完了した後、続いて、観察工程が行われる。
【００２２】
（観察工程）
この観察工程において、顕微鏡装置１は、顕微鏡制御装置４の命令に従って、欠陥部の観察を行う。具体的には、制御用コンピュータ４１は、取得した欠陥情報中の欠陥部の位置座標に基づいて、Ｘステージ１１並びにＹステージ１２ａに対して、駆動命令を出す。駆動命令を受けたＸ並びにＹステージ１１，１２ａは、観察顕微鏡２０の観察位置が上記欠陥部上に配置されるように、観察顕微鏡２０を基板３に対して相対的に移動させる。言い換えると、修正顕微鏡２０は、光軸が、上記欠陥部上に配置されるように、基板３に対して相対的に移動される。
【００２３】
このようにして観察顕微鏡２０のＸ並びにＹ軸における位置が確定した後、制御用コンピュータ４１は、確定後の観察顕微鏡２０の位置に対する、Ｘ並びにＹ軸における修正顕微鏡３０の位置のずれ量をＸＹずれ量情報として取得する。これとともに、上記ＡＦ機構が、Ｚステージ１３ａを動作させ、欠陥部に対して観察顕微鏡２０を合焦させる。このとき制御用コンピュータ４１は、観察顕微鏡２０の合焦した際のＺ軸に沿った位置を合焦情報として記憶する。
【００２４】
合焦した後、顕微鏡カメラ２１が、観察顕微鏡２０の観察箇所を撮像し、制御用コンピュータ４１に撮像データを送る。制御用コンピュータ４１は、取得した撮像データをモニタ４３に出力する。使用者は、モニタ４３に出力された画像を目視することにより、上記欠陥部が修正すべき欠陥であるか否かを判断（欠陥判断）し得る。
【００２５】
なお、上記結果判断の判断結果は、操作パネル４２により、制御用コンピュータ４１に入力可能である。使用者が、上記欠陥部を、修正すべき欠陥（修正対象欠陥）でないと判断した場合、続いて、別の欠陥部を対象として、再びこの観察工程が行われる。また、基板３における全ての欠陥部を欠陥判断する際に、上記修正対象となる欠陥部でないと判断された欠陥部が、最後の欠陥部である場合、現在検査を行っている基板３は、基板製造工程における次の工程に回されるとともに、次の検査対象となる別の基板３に対して再び検査対象配置工程から処理が行われる。
【００２６】
また、上記欠陥判断において、検査対象の欠陥部が、修正対象となる欠陥部であると判断された場合、続いて、欠陥修正工程が行われる。
【００２７】
（欠陥修正工程）
この欠陥修正工程では、修正対象となる欠陥部の修正処理を行う。具体的には、制御用コンピュータ４１は、修正顕微鏡３０により修正処理を行わせるために、Ｘ並びにＹステージ１１，１２ｂを駆動させて、修正対象欠陥に対して修正顕微鏡３０を位置合わせする。このとき制御用コンピュータ４１は、上記観察工程において取得したＸＹずれ量情報に基づいて、Ｘ並びＹステージ１１，１２ｂを制御し、修正顕微鏡３０を観察顕微鏡２０の位置に対する差分だけ移動させる。
この移動により、修正顕微鏡３０は、上記修正対象となる欠陥部と対向する位置に配置される。言い換えると、修正顕微鏡３０の光軸が、上記修正対象となる欠陥部上に配置される。
【００２８】
このようにして、修正顕微鏡３０は、Ｘ並びにＹ軸に沿った位置が確定した後、修正対象となる欠陥部に対して合焦される。この合焦において、制御用コンピュータ４１は、上記合焦情報に示されたＺ軸に沿った位置に、修正顕微鏡３０を移動させるように、Ｚステージ１３ｂに駆動命令を出す。これにより、修正顕微鏡３０のＺ軸に沿った位置が略確定された後、図示しないＡＦ機構が、Ｚステージ１３ｂを動作させ、Ｚ軸に沿った位置を微調整する。この微調整により、修正顕微鏡３０の合焦が、完了する。
【００２９】
合焦が完了した後、顕微鏡カメラ３１が、合焦した上記修正対象欠陥を撮像し、制御用コンピュータ４１に撮像データを送る。制御用コンピュータ４１は、取得した撮像データをモニタ４３に出力する。使用者は、モニタ４３に出力された画像を目視することにより、観察してレーザの照射範囲、出力エネルギー量等の出力条件を決める。
【００３０】
上記出力条件を設定後、レーザヘッド３２は、上記出力条件に従って、レーザ光を出力し、上記修正対象となる欠陥部の修正を行う。この修正が完了した際に、上記観察工程において、欠陥判断が行われていない欠陥部がある場合、再び観察工程が行われる。また、全ての欠陥部に対する欠陥判断と全ての修正対象となる欠陥部に対する修正とが完了している場合、以下のように処理が行われる。この場合には、現在検査を行っている基板３が、基板製造工程における次の工程に回されるとともに、次の検査対象となる別の基板３に対して再び検査対象配置工程から処理が行われる。
【００３１】
このようにして、欠陥修正機能付き顕微鏡装置１は、基板３に対する欠陥修正を完了する。
上記構成に示すように、本実施の形態の欠陥修正機能付き顕微鏡装置１において、観察顕微鏡２０の光学系と、上記レーザ装置である修正顕微鏡３０の光学系とは、夫々独立している。従って、レーザヘッド３２が出力したレーザ光は、観察顕微鏡の光学系を通ることはない。このため、観察顕微鏡２０の光学系の光学部材は、観察顕微鏡とレーザ装置とが光学系を共用している場合と異なり、上記レーザ光により、焼けが生じることはない。従って、観察顕微鏡２０は、常に、被検査対象物である基板３を良好に観察することが出来、より確実に上記欠陥判断を行い得る。また、観察顕微鏡２０の光学系は、上記レーザ装置である修正顕微鏡３０の光学系とは、独立しているため、レーザ装置のレーザ光の特性に合わせて選定する必要がない。従って、観察顕微鏡２０の光学系は、より自由に光学部材を選定し得る。
【００３２】
また、本実施の形態の顕微鏡装置１は、観察顕微鏡２０と修正顕微鏡３０とを有しているため、欠陥判断のための観察と、修正顕微鏡３０による修正前の観察とが略同条件で行い得る。従って、本実施の形態の顕微鏡装置１は、より高精度に欠陥判断並びに上記修正前観察とを行い得る。
【００３３】
また、本実施の形態において、顕微鏡制御装置４の制御用コンピュータ４１は、観察顕微鏡２０の光学系の合焦位置を合焦情報として記憶する。そして、制御用コンピュータ４１は、上記合焦情報を用いて修正顕微鏡３０の合焦を行うように、Ｚステージ１３ｂにより、修正顕微鏡３０を移動させる。これにより、修正顕微鏡３０は、上記合焦位置を参考にしないで合焦を行う場合に比べて、より迅速に合焦を行うことができ、全体のスループットを向上させ得る。なお、本実施の形態において、修正顕微鏡３０は、合焦するようにＺ軸に沿って移動された後、図示しないＡＦ機構により微調整を行い得る。これにより、本実施の形態の修正顕微鏡３０は、迅速でありながら確実に合焦し得る。なお、顕微鏡装置１の駆動精度が高い場合、上記ＡＦ機構による微調整は、省くことが可能である。
【００３４】
制御用コンピュータ４１は、観察顕微鏡２０と修正顕微鏡との位置のずれ量をＸＹずれ量情報として取得している。これにより、制御用コンピュータ４１は、ＸＹずれ量情報に基づいて、Ｘ並びＹステージ１１，１２ｂを制御し、修正顕微鏡３０を観察顕微鏡２０の位置に対する差分だけ移動させ、修正対象となる欠陥部に修正顕微鏡３０の位置合わせを行い得る。従って、修正顕微鏡３０は、上記ずれ量を参考にしないで位置合わせを行う場合に比べて、迅速でかつ正確に修正対象となる欠陥部に対して位置合わせを行い得る。従って、本実施の形態の顕微鏡装置１は、上記迅速なレーザ装置の位置合わせにより、全体のスループットを向上させ得る。
【００３５】
また、本実施の形態において、欠陥の修正は、修正対象として選択された修正対象となる欠陥部に対してのみ行っている。このため、本実施の形態の顕微鏡装置１は、修正する必要がある欠陥部のみを修正することが可能であり、全体のスループットを向上させ得る。また、上記選択的な修正処理により、観察顕微鏡２０の動作回数に比べて、修正顕微鏡３０の動作回数を少なくし得る。従って、修正顕微鏡３０の移動回数を減らし、修正顕微鏡３０の耐用期間を向上させ得る。
【００３６】
また、本実施の形態の顕微鏡装置１は、観察顕微鏡２０と修正顕微鏡３０とがＹステージ支持部１２を介して互いに離間している。従って、修正顕微鏡３０のレーザ光による欠陥修正処理により、基板３の修正個所から加工くずが飛散した場合においても、上記加工くずが観察顕微鏡２０の光学系を汚染することは無い。従って、本実施の形態の顕微鏡装置１は、観察顕微鏡２０により、常に良好に観察し得る。なお、上記離間距離は、加工くずにより汚染されないのであれば任意であるし、離間方向も任意である。
【００３７】
また、本実施の形態の顕微鏡装置１において、観察顕微鏡２０と修正顕微鏡３０とは、Ｙステージ支持部１２により、Ｙ軸に対して線対称に配置されている。上記配置は、観察顕微鏡２０と修正顕微鏡３０とがバランスよく重心が安定してＹステージ支持部１２に支持される。従って、上記構成は、上記駆動系の駆動精度を高められ得るため好ましい。しかしながら、観察顕微鏡２０と修正顕微鏡３０とは、Ｙ軸に沿って配置されることも可能であるし、配置において限定されることはない。
【００３８】
また、本実施の形態の顕微鏡装置１は、各欠陥部毎に観察並びに修正を交互におこなっているが、全ての欠陥部を観察した後、上記観察により選定された修正対象となる欠陥部に対して修正を行うことも可能である。この場合においても、顕微鏡制御装置４は、各欠陥部を観察する毎に、合焦情報並びにＸＹずれ量情報を取得する。取得したこれらの情報は、制御用コンピュータ４１に記憶される。
これにより、全ての欠陥部を観察した後に欠陥修正を行う場合においても、修正顕微鏡３０は、上記情報を用いて、修正対象欠陥に対して迅速に位置合わせ並びに合焦を行い得る。
【００３９】
また、本実施の形態において、顕微鏡カメラ３１とレーザヘッド３２とは、光学系を共有しているが、それぞれが独立した光学系を有することも可能である。この場合、顕微鏡カメラ３１の光学系に用いられる光学部材は、レーザヘッド３２の出力するレーザ光が短波長である場合であっても、短波長に対応した光学部材を用いる必要がない。なお、短波長に対応した光学部材を用いず構成された顕微鏡カメラ３１の光学系は、収差の発生を抑制し得るため、観察に用いる上で好ましい。従って、上述のように独立された場合、修正顕微鏡３０は、より良好に修正対象欠陥を観察し得る。
【００４０】
また、本実施の形態において、上記観察工程では、観察顕微鏡２０により全ての欠陥部の観察を行っている。しかしながら、本実施の形態の顕微鏡装置１は、全ての欠陥部の中から観察対象となる欠陥部を選択し、選択した欠陥部のみ観察するように、観察顕微鏡２０の動作を制御することが可能である。一般的に、各欠陥部において、修復の必要度は、被検査対象物上の配置などにより、異なる。例えば、半導体の基板上の欠陥の場合、複数の配線にまたがる欠陥部は、配線をショートさせる虞が高いため、重要度が高い。また、基板製造工程における後工程において修復が困難な箇所の欠陥部は、現工程においては重要度が高い。逆に、これら以外の欠陥部に対して修復を行うかどうかは、製造される基板に対する要求により異なる。このため、本実施の形態の顕微鏡装置１は、重要度の高い欠陥部のみに上記選択的な観察を行うことにより、観察回数を減らし、全体のスループットを向上させることが可能である。また、本実施の形態の顕微鏡装置１は、上記修正の必要度の高い欠陥部に対しては、修正を行う必要があるため、観察を行わず修正にまわし、上記修正の必要度の低い欠陥部のみ観察し、修正を行うか否かの欠陥判断を行うことも可能である。この場合においても、顕微鏡装置１は、観察回数が減り、全体のスループットを向上させ得る。
【００４１】
なお、上記選択は、使用者が任意に行うことも可能である。また、上記選択は、制御用コンピュータ４１が欠陥情報として各欠陥部の特徴データをホストコンピュータ４４から取得し、上記特徴データに基づいて、制御用コンピュータ４１が自動的に設定することも可能である。例えば、上記特徴データとして、欠陥部の位置、大きさ、種類（配線に掛かっている欠陥部であるかなどの識別種類）等のデータを、ホストコンピュータ４４から取得し、制御用コンピュータ４１が、上記特徴データに基づいて、上記選択を行い得る。
【００４２】
また、本実施の形態の顕微鏡装置１は、欠陥判断を使用者が目視により行っている。しかしながら、顕微鏡装置１は、制御用コンピュータ４１中に取得した画像データに基づいて欠陥を検査する検査部を設けることが可能である。具体的には、検査部は、被検査対象物又は被検査対象物と同一構成の物の欠陥を有していない領域を撮像した参照画像を取得する。そして、上記検査部は、上記参照画像と観察顕微鏡２０の撮像した画像データとを比較することにより、欠陥部を検出する。これにより、本実施の形態の顕微鏡装置１は、ホストコンピュータ４４に接続されていなくても、動作可能にない、独立した装置として、欠陥検出並びに修正を行い得る。なお、上述した複数のパターンを有する基板３を検査する場合、上記参照画像は、１つのパターン（単位パターン）を撮像した画像により構成すると、全てのパターンに対して共通に使えるため好ましい。
【００４３】
また、本実施の形態において、上記レーザの出力条件は、欠陥修正工程において、修正顕微鏡３０による撮像画像を用いて行っている。しかしながら、上記出力条件の設定は、観察工程において行うことも可能である。この場合、上記条件設定は、顕微鏡カメラ３１とレーザヘッド３２との光学系を共用する修正顕微鏡３０により撮像された画像を用いて行う必要がない。言い換えると、上記条件設定は、良好に観察しえる観察顕微鏡２０による観察に従って行い得る。従って、上記観察工程における条件設定は、修正対象となる欠陥部をより良好に観察して行えるため、より高精度に行い得る利点を有している。
【００４４】
また、本実施の形態の顕微鏡装置１は、観察顕微鏡２０と修正顕微鏡３０との駆動装置（Ｙ並びＺステージ１２ａ，ｂ、１３ａ，ｂ）を独立して有しているが、共用することも可能である。これにより、顕微鏡装置１は、構成を簡単にし得る。
【００４５】
また、このように駆動装置を共用した顕微鏡装置１は、上記駆動装置の精度によっては、観察工程で行ったＺ軸に沿った位置を維持した状態で、欠陥修正工程に移行出来る。従って、この構成の顕微鏡装置１は、全体のスループットを向上させ得る。
【００４６】
また、本実施の形態の顕微鏡装置１は、観察工程において、ＸＹずれ量情報を取得しているが、上記ＸＹずれ量情報は、観察工程の前に予め取得しておくことも可能である。例えば、上記欠陥修正処理を行う前に、図２中に示されるような位置決め用サンプル６０を用いて、上記ＸＹずれ量情報を取得する。具体的には、まず、Ｘステージ１１上に、サンプル６０配置する。続いて、観察顕微鏡２０が、このサンプルの十字模様の中心に光軸が来るように位置合わせされる。位置合わせされた際に、制御用コンピュータ４１は、観察顕微鏡２０の位置を取得する。続いて、制御用コンピュータ４１は、Ｘ並びにＹステージ１１、１２ｂを駆動させ、修正顕微鏡３０の光軸とサンプル６０の十字模様の中心とが一致する位置にサンプル６０を移動させる。この移動後に、制御用コンピュータ４１は、修正顕微鏡３０の位置を取得する。このようにして、観察顕微鏡２０並びに修正顕微鏡３０の位置の取得した後、制御用コンピュータ４１は、これらの位置の差分を算出して上記ＸＹずれ量情報を設定し得る。これにより、上記ＸＹずれ量情報は、観察顕微鏡２０と修正顕微鏡３０の光軸の位置のずれ量として、正確に算出され得る。
【００４７】
このようにして、予め上記ＸＹずれ量情報を取得している場合、観察顕微鏡２０の位置に基づいて、修正顕微鏡３０の光軸の位置を正確に算出し得る。このため、上記観察工程において、上記ＸＹずれ量情報を求めるために、毎回修正顕微鏡３０の位置を取得する必要がない。即ち、予め上記ＸＹずれ量情報を取得した場合、顕微鏡装置１は、上記観察工程を簡略化し、上記観察工程を迅速に行い得る。
【００４８】
また、上述のようにしてＸＹずれ情報を求めた場合、再びサンプル６０を用いて、駆動系の調整を行うことが出来る。具体的には、観察顕微鏡２０の光軸をサンプル６０の十字模様の中心に配置し、その後修正顕微鏡３０を、ＸＹずれ情報に示された観察顕微鏡２０の光軸に対する差分だけ移動させる。この移動により、修正顕微鏡３０の光軸がサンプル６０の十字模様の中心に位置しなかった場合、駆動系（Ｘ並びにＹステージ１１，１２ｂ）は、駆動精度が悪いことが分かる。上記移動後において、修正顕微鏡３０の光軸のサンプル６０の十字模様に対するずれを補正することにより、上記駆動系の調整は、行われ得る。これにより、顕微鏡装置１は、より精度よく観察顕微鏡２０並びに修正顕微鏡３０を駆動させ得る。
【００４９】
これまで、一つ実施の形態について図面を参照しながら具体的に説明したが、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で行なわれるすべての実施を含む。
【００５０】
【発明の効果】
本発明は、良好に観察を行える欠陥修正機能付き顕微鏡を提供し得る。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明の一実施の形態に従った欠陥修正機能付き顕微鏡を示す概略的な一部切欠斜視図である。
【図２】図２は、位置調整用のサンプルを示す図である。
【図３】図３は、従来の欠陥修正機能付き顕微鏡を示す図である。
【符号の説明】
１…欠陥修正機能付き顕微鏡装置、３…基板、４…顕微鏡制御装置、１０…装置本体、１１…Ｘステージ、１２…Ｙステージ支持部、１２ａ，ｂ…Ｙステージ、１３ａ，ｂ…Ｚステージ、２０…観察顕微鏡、２１…顕微鏡カメラ、３０…修正顕微鏡、３１…顕微鏡カメラ、３２…レーザヘッド、４１…制御用コンピュータ、４２…操作パネル、４３…モニタ、４４…ホストコンピュータ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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