(57)【要約】【課題】  高感度でありハイライトの付きがよく、網点や細線の再現性に優れ、プレートを長期貯蔵した際でも感度低下することなくハイライトの付きを維持できる画像記録材料を提供する。【解決手段】  支持体上に、（ａ）少なくとも一つの光酸化性基を有するとともにエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物、または、ポリエポキシ化合物とヒドロキシル基若しくはカルボキシル基を有する（メタ）アクリレートとの反応により得られるエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物、（ｂ）有機線状高分子結合剤、（ｃ）重合開始剤、（ｄ）増感色素、および（ｅ）分子中に硫黄原子およびカルボキシル基を有する分子量３００以下の化合物を含有する感光層を有する画像記録材料。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に下記成分（ａ）〜（ｅ）を含有する感光層を有する画像記録材料：
（ａ）少なくとも一つの光酸化性基を有するとともにエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物、または、ポリエポキシ化合物とヒドロキシル基若しくはカルボキシル基を有する（メタ）アクリレートとの反応により得られるエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物、
（ｂ）有機線状高分子結合剤、
（ｃ）重合開始剤、
（ｄ）増感色素、および
（ｅ）分子中に硫黄原子およびカルボキシル基を有する分子量３００以下の化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は画像記録材料に関するものであり、詳しくは、高感度であり、網点や細線の再現性に優れ、かつ貯蔵安定性がある感光性平版印刷版用画像記録材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、感光性平版印刷版としては親水性支持体の上に親油性の感光性樹脂を設けた構成を有するＰＳ版が広く用いられ、そのＰＳ版からの平版印刷版の製版方法としては、通常は、リスフィルムを介してマスク露光（面露光）後、非画像部を溶解除去することにより所望の印刷版を得ていた。
近年、画像情報をコンピューターを用いて電子的に処理、蓄積、出力する、デジタル化技術が広く普及しそれに対応した新しい画像出力方式が種々実用化されるようになってきた。その結果レーザー光のような指向性の高い光をデジタル化された画像情報に従って走査し、リスフィルムを介することなく直接印刷版を製造するコンピュータ・トウ・プレート（ＣＴＰ）技術が望まれこれに適応した平版印刷版用原版が開発されてきている。
【０００３】
このようなＣＴＰシステムにおいて、ヴァイオレットＬＤ（４０５ｎｍ）、Ａｒレーザー（４８８ｎｍ）、ＦＤ−ＹＡＧレーザー（５３２ｎｍ）はＵＶ光をマスク露光する従来の平版印刷版よりも少ないエネルギー量で画像を形成する必要がある。
【０００４】
しかしながら、上記のようなレーザー感光性平版印刷版は、一般に感度が低く、低露光量ではハイライトの網点が消失してしまう。このことを克服するために、例えば下記特許文献１には、ａ）重合体結合剤、ｂ）重合性基および光酸化性基を分子内に有する化合物、ｃ）メタロセンからなる光反応開始剤を含む重合性混合物が提案されている。しかしながら、該混合物は、経時によりハイライトの付きの劣化の程度が大きく、感度アップ効果が目減りしてしまうという問題があった。
【特許文献１】特開平４−２２１９５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、高感度でありハイライトの付きがよく、網点や細線の再現性に優れ、プレートを長期貯蔵した際でも感度低下することなくハイライトの付きを維持できる画像記録材料を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、以下のとおりである。
（１）   支持体上に下記成分（ａ）〜（ｅ）を含有する感光層を有する画像記録材料：
（ａ）少なくとも一つの光酸化性基を有するとともにエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物、または、ポリエポキシ化合物とヒドロキシル基若しくはカルボキシル基を有する（メタ）アクリレートとの反応により得られるエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物、
（ｂ）有機線状高分子結合剤、
（ｃ）重合開始剤、
（ｄ）増感色素、および
（ｅ）分子中に硫黄原子およびカルボキシル基を有する分子量３００以下の化合物。
【０００７】
また本発明によれば、前記有機顔料がβおよび／またはε型フタロシアニン顔料である
画像記録材料が好ましい。
さらに本発明によれば、前記重合開始剤がチタノセン化合物である画像記録材料が好ましい。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、高感度でありハイライトの付きがよく、網点や細線の再現性に優れ、プレートを長期貯蔵した際でも感度低下することなくハイライトの付きを維持できる画像記録材料が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の好適な実施形態である感光性平版印刷版について詳細に説明する。
本発明のレーザー光で走査露光する画像記録材料は、（ａ）少なくとも一つの光酸化性基を有するとともにエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物、または、ポリエポキシ化合物とヒドロキシル基若しくはカルボキシル基を有する（メタ）アクリレートとの反応により得られるエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物、（ｂ）有機線状高分子結合剤、（ｃ）重合開始剤、（ｄ）増感色素、および（ｅ）分子中に硫黄原子およびカルボキシル基を有する分子量３００以下の化合物を含有する感光層を支持体上に有する。このような感光層は、上記成分を含む感光性組成物を支持体上に塗布する方法などにより形成することができる。以下、これらの成分について具体的に説明する。
【００１０】
[(ｅ) 分子中に硫黄原子およびカルボキシル基を有する分子量３００以下の化合物]
本発明において、分子中に硫黄原子およびカルボキシル基を有する分子量３００以下の化合物としては、下記一般式（Ｉ）または一般式（ＩＩ）で表される化合物が好ましい。
【００１１】
【化１】
2005227320.tif 000002
【００１２】
【化２】
2005227320.tif 000003
【００１３】
一般式（Ｉ）において、Ｒ1はＣ１〜3のアルキレン基を表し、Ｘ1およびＸ2は互いに独立に酸素原子又は硫黄原子を表す。但し、Ｘ1およびＸ2の少なくとも一方は硫黄原子である。
【００１４】
一般式（Ｉ）で表される化合物のうち、分子内に少なくとも１個の硫黄原子を含む化合物が好ましい。より好ましくは、下記一般式（Ｉａ）〜（Ｉｃ）で表される化合物である。
【００１５】
【化３】
2005227320.tif 000004
【００１６】
式中、Ｒ１は式（Ｉ）におけるものと同様の意味を有する。
【００１７】
一般式（ＩＩ）において、Ｘ３は単結合または２価の連結基を表し、Ｙ１は１価の有機基を表し、Ｚ１はカルボキシル基を有する１価の有機基を表す。ｎは０から５の整数を表す。
【００１８】
Ｘ３で表される２価の連結基としては、炭素数１〜２０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルキレン基、炭素数２〜２０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルケニレン基、炭素数２〜２０のアルキニレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基（単環、複素環）、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｎ−、−ＮＣ（＝Ｏ）Ｎ−、−ＳＣ（＝Ｏ）Ｎ−、−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−ＮＣ（＝Ｓ）−、−ＳＣ（＝Ｓ）−、−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＳＯ3−、−ＳＯ2Ｎ−、−ＮＨ−、−ＮＲ−、−ＮＡｒ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｎ（＝ＮＨ）Ｎ−等が好ましい。  ここで、Ｒはアルキル、アルケニル、アルキニルを表し、Ａｒは、アリール（単環、ヘテロ環）を表す。
【００１９】
また、上記２価の連結基は置換基を有していてもよく、その置換基の例としては、炭素数１〜２０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルキレン、炭素数２〜２０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルケニレン、炭素数２〜２０のアルキニル基、炭素数６〜２０のアリーレン、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルオキシ基、炭素数１〜２０のカルバモイルオキシ基、炭素数１〜２０のカルボンアミド基、炭素数１〜２０のスルホンアミド基、炭素数１〜２０のカルバモイル基、炭素数０〜２０のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜２０のＮ−アシルスルファモイル基、炭素数１〜２０のＮ−スルファモイルカルバモイル基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜２０のイミノ基、炭素数３〜２０のアンモニオ基、カルボキシル基、スルホ基、オキシ基、メルカプト基、炭素数１〜２０のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜２０のアリールスルフィニル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のウレイド基、炭素数２〜２０のヘテロ環基、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数０〜２０のスルファモイルアミノ基、炭素数２〜２０のシリル基、ヒドロキシ基、イソシアネート基、イソシアニド基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、ニトロ基、オニウム基等が挙げられる。
【００２０】
一価の有機基Ｙ1の具体例としては、炭素数１〜２０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルキル基、炭素数２〜２０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルケニル基、炭素数２〜２０のアルキニル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルオキシ基、炭素数１〜２０のカルバモイルオキシ基、炭素数１〜２０のカルボンアミド基、炭素数１〜２０のスルホンアミド基、炭素数１〜２０のカルバモイル基、炭素数０〜２０のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜２０のＮ−アシルスルファモイル基、炭素数１〜２０のＮ−スルファモイルカルバモイル基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜２０のイミノ基、炭素数３〜２０のアンモニオ基、カルボキシル基、スルホ基、オキシ基、メルカプト基、炭素数１〜２０のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜２０のアリールスルフィニル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のウレイド基、炭素数２〜２０のヘテロ環基、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数０〜２０のスルファモイルアミノ基、炭素数２〜２０のシリル基、ヒドロキシ基、イソシアネート基、イソシアニド基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、ニトロ基、オニウム基等が挙げられる。これらの置換基は、更に置換基を有していてもよい。
【００２１】
１価の有機基Ｚ１の具体例としてはカルボキシル基を有する炭素数２〜２０のアルキル、アリール、アラルキル基が挙げられる。
【００２２】
以下に一般式（Ｉ）および一般式（ＩＩ）で表される化合物の具体例を示すが、これらに限定されるものではない。
【００２３】
【化４】
2005227320.tif 000005
【００２４】
【化５】
2005227320.tif 000006
【００２５】
【化６】
2005227320.tif 000007
【００２６】
【化７】
2005227320.tif 000008
【００２７】
これらの化合物は分子量が３００以下が好ましく、より好ましくは２５０以下である。
これらの化合物は感光層全体に対して０.１質量％以上、５.０質量％以下であるのがよ
い。好ましくは０.３質量％以上、３.０質量％以下である。０.１質量％以上であることにより、経時によるハイライトの付きをさらに改善することができ、５.０質量％以下であることにより、感度をさらに高めることができる。これらの化合物の作用機構は明確ではないが、カルボキシル基により基板密着効果が奏され、また化合物が酸化防止剤としての機能し、感光系が安定化することにより、高感度と経時安定性とが両立すると考えられる。
【００２８】
［（ａ）エチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物］
本発明で用いられるエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物は、少なくとも一つの光酸化性基を有するとともにエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物、または、ポリエポキシ化合物とヒドロキシル基若しくはカルボキシル基を有する（メタ）アクリレートとの反応により得られるエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物である。
【００２９】
[ポリエポキシ化合物とヒドロキシル基またはカルボキシル基を有する（メタ）アクリレートとの反応により得られるエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物]
本発明の、ポリエポキシ化合物とヒドロキシル基またはカルボキシル基を有する（メタ）アクリレートとの反応により得られるエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物としては、エポキシ（メタ）アクリレート類としては、例えば、（メタ）アクリル酸、又は、ヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリセロールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールエタントリ（メタ）アクリレート等のヒドロキシ（メタ）アクリレート化合物と、（ポリ）エチレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）プロピレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）テトラメチレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ペンタメチレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ネオペンチルグリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ヘキサメチレングリコールポリグリシジルエーテル、（ポリ）トリメチロールプロパンポリグリシジルエーテル、（ポリ）グリセロールポリグリシジルエーテル、（ポリ）ソルビトールポリグリシジルエーテル等の脂肪族ポリエポキシ化合物、フェノールノボラックポリエポキシ化合物、ブロム化フェノールノボラックポリエポキシ化合物、（ｏ-，ｍ-，ｐ-）クレゾールノボラックポリエポキシ化合物、ビスフェノールＡポリエポキシ化合物、ビスフェノールＦポリエポキシ化合物等の芳香族ポリエポキシ化合物、ソルビタンポリグリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレート、トリグリシジルトリス（２-ヒドロキシエチル）イソシアヌレート等のヘテロ環ポリエポキシ化合物等のポリエポキシ化合物との反応物等が挙げられる。
【００３０】
[少なくとも一つの光酸化性基を有するとともにエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物]
本発明の、少なくとも一つの光酸化性基を有するとともにエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物としては、分子中に少なくとも１個の光酸化性基および所望ならば少なくとも１個のウレタン基を含有する重合性化合物が、特に好ましい。好適な光酸化性基は、特にアミノ基、尿素基、チオ基（複素環式環の成分であることもできる）およびカルボキシル基（オレフィン二重結合との組み合わせ）である。この種の基の例としては、トリエタノールアミノ、トリフェニルアミノ、チオ尿素、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、アセチルアセトニル、Ｎ−フェニルグリシンおよびアスコルビン酸基等が挙げられる。これらのうち、第一級、第二級および特に第三級アミノ基を有する重合性化合物が好適である。
光酸化性基を含有する付加重合性化合物として、好適には下記一般式(III)で表される化合物が挙げられる。
【００３１】
【化８】
2005227320.tif 000009
【００３２】
〔式中、Ｑは、
【００３３】
【化９】
2005227320.tif 000010
【００３４】
または−Ｓ−を表す。Ｒはアルキル基、ヒドロキシアルキル基またはアリール基を表す。Ｒ5およびＲ6は各々独立に水素原子、アルキル基またはアルコキシアルキル基を表す。Ｒ7は水素原子、メチル基またはエチル基を表す。Ｘ1は炭素数２〜１２の飽和炭化水素基を表す。Ｘ2は（ｃ＋１）価の飽和炭化水素基を表し、５個以下のメチレン基は酸素原子で置換されてもよい。Ｄ1 およびＤ2は各々独立に炭素数１〜５の飽和炭化水素基を表す。Ｅは炭素数２〜１２の飽和炭化水素基、５〜７環員の脂環式基（これは所望ならば環員として２個までのＮ、ＯまたはＳ原子を含有できる）、炭素数６〜１２のアリーレン基または５または６環員の複素環式芳香族基を表す。ａは０または１〜４の数であり、ｂは０または１であり、ｃは１〜３の整数であり、ｍはＱの原子価に応じて２、３または４であり、ｎは１〜ｍの整数であり、同じ定義のすべての記号は互いに同一または異種であることが可能である。
【００３５】
上記一般式（III)で表される化合物と、その製法および用途については、欧州特許第２８７，８１８号明細書（対応特開昭６３−２７７６５３号公報）に詳述されている。なお、一般式（III)の化合物において、１個以上のＲ基または角括弧中に挙げた型の１個以上の基が中心の基Ｑに結合される場合には、これらの基は相互に異なっていてもよい。
【００３６】
Ｑのすべての置換基が重合性基である、即ち、ｍがｎである化合物は、一般に好ましい。一般に、ａは、１個以下の基において０であり、好ましくはすべての基において０ではない。好ましくは、ａは１である。
Ｒがアルキル基またはヒドロキシアルキル基である場合、この基は、一般に２〜８個の炭素原子、好ましくは２〜４個の炭素原子を有する。Ｒがアリール基の場合、一般に単環または二環、好ましくは単環であってもよく、且つ炭素数５までのアルキル基若しくはアルコキシ基またはハロゲン原子によって置換されてもよい。
Ｒ5およびＲ6 がアルキル基またはアルコキシアルキル基である場合、これらは１〜５個の炭素原子を含有してもよい。Ｒ7は、好ましくは水素原子またはメチル基であり、特にメチル基が好ましい。
Ｘ1は、好ましくは直鎖または分枝脂肪族または脂環式基（好ましくは炭素数４〜１０）である。Ｘ2は、好ましくは２〜１５個の炭素原子を有し、それらの５個までは酸素原子によって置換されてよい。これらが単純な炭素鎖である場合には、炭素数２〜１２、好ましくは炭素数２〜６のものが、一般に使用される。また、Ｘ2 は、炭素数５〜１０の脂環式基が好ましく、特にシクロヘキシレン基が好ましい。Ｄ1 およびＤ2 は、同一または異なっていてもよく、且つ２個の窒素原子と一緒に５〜１０個の環員、好ましくは６個の環員を有する飽和複素環式環を形成する。
Ｅがアルキレン基であるならば、Ｅは、好ましくは２〜６個の炭素原子を有し且つアリーレン基として好ましくはフェニレン基である。好ましい脂環式基はシクロヘキシレン基であり、好ましい芳香族複素環式物はヘテロ原子としてＮまたはＳを有し、且つ５または６個の環員を有するものである。ｃの値は、好ましくは１である。
【００３７】
光酸化性基を含有する付加重合性化合物として、更に他の好適な化合物は、下記式（ＩＶ）で表される化合物が挙げられる。
【００３８】
【化１０】
2005227320.tif 000011
【００３９】
〔式（ＩＶ）中、Ｑ、Ｒ、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、ｍおよびｎは式(III)と同様の意味を有し、Ｑは追加的に下記基
【００４０】
【化１１】
2005227320.tif 000012
【００４１】
（式中、Ｅ′は下記式（Ｖ）を表す。）
【００４２】
【化１２】
2005227320.tif 000013
【００４３】
（式中、ｃは式（III)と同様の意味を有する。）であることができ；ａ１およびｂ１は１〜４の整数である。〕
上記式の化合物と、その製法および用途は、欧州特許第３１６，７０６号明細書（対応特開平１−１６５６１３号公報）に詳述されている。
【００４４】
光酸化性基を有する付加重合性化合物の更に他の好適な化合物としては、下記一般式（
ＶＩ）で表される化合物が挙げられる。
【００４５】
【化１３】
2005227320.tif 000014
【００４６】
〔式（ＶＩ）中、Ｑ１は
【００４７】
【化１４】
2005227320.tif 000015
【００４８】
のいずれかであり、Ｘ1 はＣi Ｈ2iまたは
【００４９】
【化１５】
2005227320.tif 000016
【００５０】
であり、Ｄ3 は炭素数４〜８の飽和炭化水素基（これは窒素原子と一緒に５または６員環を形成）であり、Ｚは水素原子または下記式
【００５１】
【化１６】
2005227320.tif 000017
【００５２】
の基であり、ｉおよびｋはそれぞれ独立に１〜１２の整数であり、ｎ′はＱ1の原子価に応じて１、２または３であり、Ｒ7 、Ｘ1 、Ｘ2 、Ｄ1 、Ｄ2 、ａおよびｂは前記一般式（ＩＩＩ）で与えられた意味を有し、同じ定義のすべての記号は互いに同一または異種であってもよく、且つＱ基上の少なくとも１個の置換基中のａは０である。〕
【００５３】
式（ＶＩ）の化合物のうち、尿素基に加えて少なくとも１個のウレタン基を含有するものが、好ましい。
式（ＶＩ）中の記号ａは、好ましくは０または１である。ｉは、好ましくは２〜１０の数である。
式（ＶＩ）の重合性化合物は、前記一般式（ＩＩＩ）の化合物と類似に生成することができる。式（ＶＩ）の化合物およびその製法は、欧州特許第３５５，３８７号明細書（対応特開平２−７３８１３号公報）に詳述されている。
【００５４】
本発明において前記（ａ）付加重合性化合物の使用量は、感光層の１０〜８０質量％が好ましく、より好ましくは２０〜６０質量％である。    
【００５５】
［（ｂ）有機線状高分子結合剤］
有機線状高分子結合剤は、例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可能になる。この様な有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号各公報に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。
【００５６】
また同様に、側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用である。特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル（メタ）アクリレート（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。この他に水溶性有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミドや２，２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用である。
また特公平７−１２００４０号、特公平７−１２００４１号、特公平７−１２００４２号、特公平８−１２４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開昭６３−２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、特開平１１−３５２６９１号各公報に記載のポリウレタン樹脂も本発明の用途には有用である。
【００５７】
これら高分子重合体は側鎖にラジカル反応性基を導入することにより硬化皮膜の強度を向上させることができる。付加重合反応し得る官能基不飽和結合基、アミノ基、エポキシ基等が、又光照射によりラジカルになり得る官能基としては、メルカプト基、チオール基、ハロゲン原子、トリアジン構造、オニウム塩構造等が、又極性基としてカルボキシル基、イミド基等が挙げられる。上記付加重合反応し得る官能基としては、アクリル基、メタクリル基、アリル基、スチリル基などエチレン性不飽和結合基が特に好ましいが、又アミノ基、ヒドロキシ基、ホスホン酸基、燐酸基、カルバモイル基、イソシアネート基、ウレイド基、ウレイレン基、スルホン酸基、アンモニオ基から選ばれる官能基も有用である。
組成物の現像性を維持するため、本発明の高分子重合体は適当な分子量、酸価を有することが好ましい。具体的には、重量平均分子量Ｍｗが５０００から３０万で、酸価０．２〜５．０ｍｅｑ／ｇの高分子重合体を使用することが好ましい。
【００５８】
これらの高分子重合体は全組成中に任意な量を混和させることができる。好ましくは１０〜９０％、より好ましくは３０〜８０％である。また付加重合性化合物と有機線状高分子結合体は、質量比で１／９〜９／１の範囲とするのが好ましい。より好ましい範囲は２／８〜８／２であり、更に好ましくは３／７〜７／３である。
【００５９】
［（ｃ）重合開始剤］
本発明に使用される重合開始剤としては、特許、文献等で公知である種々の光開始剤、あるいは２種以上の光開始剤の併用系（光開始系）を適宜選択して使用することができる。
【００６０】
例えば、染料とアミンの複合開始系（特公昭４４‐２０１８９号公報）、ヘキサアリールビイミダゾール類（特公昭４７‐２５２８号、特開昭５４‐１５５２９２号、特開昭５９‐１４０２０３号、特開平１０‐３６３５４号各公報等）、環状シス−α−ジカルボニル化合物（特開昭４８‐８４１８３号公報等）、トリアジン化合物（特開昭５４‐１５１０２４号公報等）、有機過酸化物（特開昭５９‐１５０４号、特開昭５９‐１４０２０３号、特開昭５９‐１８９３４０号、特開昭６２‐１７４２０３号、特公昭６２‐１６４１号各公報、米国特許第４７６６０５５号明細書等）、活性ハロゲン（特開昭６３‐２５８９０３号、特開平２‐６３０５４号各公報等）、ボレート化合物（特開昭６２‐１４３０４４号、特開平１−２２９００３号、特開平９‐１８８６８５号、特開平９‐１８８６８６号、特開平９‐１８８７１０号各公報等）およびチタノセン化合物（特開昭６３‐２２１１１０号、特開平４‐２２１９５８号、特開平４‐２１９７５６号、特開平６‐２９５０６１号、特開平８‐３３４８９７号各公報等）等を挙げることが出来る。
【００６１】
本発明においては、特にチタノセン化合物を用いた系が、感度の点で優れており好ましい。
チタノセン化合物としては、種々のものを用いることができるが、例えば、特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７号各公報に記載されている各種チタノセン化合物から適宜選んで用いることができる。さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフエニ−１−イル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）−フェニ−１−イル等を挙げることができる。
【００６２】
さらに、本発明で用いる重合開始剤に必要に応じてアミン化合物、チオール化合物などの助剤を加えても良く、これらの水素供与性化合物を加えることによってさらに重合開始能力を高めることができる。
これらの重合開始剤の使用量は、付加重合性化合物１００質量部に対し、０．０５〜１００質量部が好ましく、より好ましくは０．１〜７０質量部、更に好ましくは０．１〜５０質量部の範囲である。
【００６３】
〔（ｄ）増感色素〕
本発明の感光性平版印刷版に用いられる増感色素は特に制限されないが、下記一般式（ＶＩＩ）で表されるメロシアニン色素類、下記一般式(ＶＩＩＩ)で表されるベンゾピラン類またはクマリン類、下記一般式（ＩＸ）で表される芳香族ケトン類、下記一般式（Ｘ）で表されるアントラセン類、下記一般式(ＸＩ)で表されるスチリル系色素類、下記一般式（ＸＩＩ）で表されるシアニン系、等を挙げることができる。
【００６４】
【化１７】
2005227320.tif 000018
【００６５】
（式（ＶＩＩ）中、ＡはＳ原子または−Ｎ（Ｒ6）−を表し、Ｒ6は一価の非金属原子団を表す。Ｙは隣接するＡおよび、隣接炭素原子と共同して色素の塩基性核を形成する非金属原子団を表す。Ｘ1およびＸ2はそれぞれ独立に、一価の非金属原子団を表し、Ｘ1およびＸ2は互いに結合して色素の酸性核を形成してもよい。なお、Ｘ1及びＸ2の詳細については後述する。）
【００６６】
【化１８】
2005227320.tif 000019
【００６７】
（式（ＶＩＩＩ）中、＝Ｚは、カルボニル基、チオカルボニル基、イミノ基又は上記部分構造式（Ｉ'）で表されるアルキリデン基を表す。Ｘ1およびＸ2は一般式（ＶＩＩ）のＸ1及びＸ2と同義である。Ｒ7からＲ12はそれぞれ独立に、一価の非金属原子団を表す。）
【００６８】
【化１９】
2005227320.tif 000020
【００６９】
（式（ＩＸ）中、Ａｒ3は、置換基を有していてもよい芳香族基またはヘテロ芳香族基を表す。Ｒ13は一価の非金属原子団を表し、好ましくは、芳香族基またはヘテロ芳香族基であり、Ａｒ3とＲ13が互いに結合して環を形成してもよい。）
【００７０】
【化２０】
2005227320.tif 000021
【００７１】
（式（Ｘ）中、Ｘ3、Ｘ4およびＲ14からＲ21はそれぞれ独立に、１価の非金属原子団を表す。Ｘ3およびＸ4はハメットの置換基定数が負の電子供与性基であることが好ましい。）
【００７２】
【化２１】
2005227320.tif 000022
【００７３】
（式（ＸＩ）中、Ｘ1、Ｘ2は一般式（ＶＩＩ）におけるものと同義であり、Ｒ22からＲ27はそれぞれ独立に、一価の非金属原子団であり、好ましくは、Ｒ22からＲ26のうち、少なくとも一個がハメットの置換基定数が負の電子供与性置換基である。）
【００７４】
【化２２】
2005227320.tif 000023
【００７５】
（式（ＸＩＩ）中、Ｚ1およびＺ2はベンゾイミダゾールまたはナフトイミダゾール環を形成するのに必要な非金属原子群を表わし、同一でも異なっていてもよい。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ置換されていてもよいアルキル基を表わす。Ｘ-は対アニオンを表わし、ｎは０または１である。）
【００７６】
キサンテン系色素としては、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、エチルエオシン、アルコール可溶性エオシン、ピロニンＹ、ピロニンＢ等を挙げることができる。
【００７７】
一般式（ＶＩＩ）から（ＸＩＩ）における、Ｘ1からＸ4、Ｒ6からＲ27で表される一価の非金属原子団の好ましい例としては下記の基が挙げられる。
水素原子、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファモイルオクチル基、ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナトブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナトヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル基
、２−ブチニル基、３−ブチニル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基等）、ヘテロアリール基（例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジン等）、アルケニル基（例えばビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基、等）、アルキニル基（例えば、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等）、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ'−アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアルキルウレイド基、Ｎ'−アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアリールウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ'−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ'，Ｎ'−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ'−アリール−Ｎ−アルキル��レイド基、Ｎ'−アルキル−Ｎ'−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基基（以下、スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以下、ホスホナト基と称す）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基（以後、アルキルホスホナト基と称す）、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ(aryl)）及びその共役塩基基（以後、アリールホスホナト基と称す）、ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以後、ホスホナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基（以後、アルキルホスホナトオキシ基と称す）、モノアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ(aryl)）及びその共役塩基基（以後、アリールホスホナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、等が挙げられ、以上の置換基のうち、水素原子、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシル基が特に好ましい。
また、Ｘ1及びＸ2が互いに結合して形成する色素の酸性核としては、後述するＧ1及びＧ2が相互に連結して形成する環と同じものが挙げられる。
【００７８】
一般式（ＶＩＩ）に於けるＹが隣接するＡおよび、隣接炭素原子と共同して形成する色素の塩基性核としては、５、６、７員の含窒素、あるいは含硫黄複素環が挙げられ、好ましくは５、６員の複素環がよい。
【００７９】
含窒素複素環の例としては例えば、L.G.Brooker et al., J. Am. Chem. Soc.,73, 5326-5358  (1951)及び参考文献に記載されるメロシアニン色素類における塩基性核を構成するものとして知られるものをいずれも好適に用いることができる。
具体例としては、チアゾール類（例えば、チアゾール、４−メチルチアゾール、４ーフェニルチアゾール、５−メチルチアゾール、５−フェニルチアゾール、４，５−ジメチルチアゾール、４，５−ジフェニルチアゾール、４，５−ジ（ｐ−メトキシフェニルチアゾール）、４−（２−チエニル）チアゾール、等）、ベンゾチアゾール類（例えば、ベンゾチアゾール、４−クロロベンゾチアゾール、５−クロロベンゾチアゾール、６−クロロベンゾチアゾール、７−クロロベンゾチアゾール、４−メチルベンゾチアゾール、５−メチルベンゾチアゾール、６−メチルベンゾチアゾール、５−ブロモベンゾチアゾール、４−フェニルベンゾチアゾール、５−フェニルベンゾチアゾール、４−メトキシベンゾチアゾール、５−メトキシベンゾチアゾール、６−メトキシベンゾチアゾール、５−ヨードベンゾチアゾール、６−ヨードベンゾチアゾール、４−エトキシベンゾチアゾール、５−エトキシベンゾチアゾール、テトラヒドロベンゾチアゾール、５，６−ジメトキシベンゾチアゾール、５，６−ジオキシメチレンベンゾチアゾール、５−ヒドロキシベンゾチアゾール、６−ヒドロキシベンゾチアゾール、６ージメチルアミノベンゾチアゾール、５−エトキシカルボニルベンゾチアゾール等）、ナフトチアゾール類（例えば、ナフト［１，２］チアゾール、ナフト［２，１］チアゾール、５−メトキシナフト［２，１］チアゾール、５−エトキシナフト［２，１］チアゾール、８−メトキシナフト［１，２］チアゾール、７−メトキシナフト［１，２］チアゾール等）、チアナフテノ−７’，６’，４，５−チアゾール類（例えば、４’−メトキシチアナフテノ−７’，６’，４，５−チアゾール等
）、オキサゾール類（例えば、４−メチルオキサゾール、５−メチルオキサゾール、４−フェニルオキサゾール、４，５−ジフェニルオキサゾール、４−エチルオキサゾール、４，５−ジメチルオキサゾール、５−フェニルオキサゾール等）、ベンゾオキサゾール類（ベンゾオキサゾール、５−クロロベンゾオキサゾール、５−メチルベンゾオキサゾール、５−フェニルベンゾオキサゾール、６−メチルベンゾオキサゾール、５，６−ジメチルベンゾオキサゾール、４，６−ジメチルベンゾオキサゾール、６−メトキシベンゾオキサゾール、５−メトキシベンゾオキサゾール、４−エトキシベンゾオキサゾール、５−クロロベンゾオキサゾール、６−メトキシベンゾオキサゾール、５−ヒドロキシベンゾオキサゾール、６−ヒドロキシベンゾオキサゾール等）、ナフトオキサゾール類（例えば、ナフト［１，２］オキサゾール、ナフト［２，１］オキサゾール等）、セレナゾール類（例えば、４−メチルセレナゾール、４−フェニルセレナゾール等）、ベンゾセレナゾール類（例えば、ベンゾセレナゾール、５−クロロベンゾセレナゾール、５−メトキシベンゾセレナゾール、５−ヒドロキシベンゾセレナゾール、テトラヒドロベンゾセレナゾール等）、ナフトセレナゾール類（例えば、ナフト［１，２］セレナゾール、ナフト［２，１］セレナゾール等）、チアゾリン類（例えば、チアゾリン、４−メチルチアゾリン等）、２−キノリン類（例えば、キノリン、３−メチルキノリン、５−メチルキノリン、７−メチルキノリン、８−メチルキノリン、６−クロロキノリン、８−クロロキノリン、６−メトキシキノリン、６−エトキシキノリン、６−ヒドロキシキノリン、８−ヒドロキシキノリン等）、４−キノリン類（例えば、キノリン、６−メトキシキノリン、７−メチルキノリン、８−メチルキノリン等）、１−イソキノリン類（例えば、イソキノリン、３，４−ジヒドロイソキノリン、等）、３−イソキノリン類（例えば、イソキノリン等）、ベンズイミダゾール類（例えば、１，３−ジエチルベンズイミダゾール、１−エチル−３−フェニルベンズイミダゾール等）、３，３−ジアルキルインドレニン類（例えば、３，３−ジメチルインドレニン、３，３，５−トリメチルインドレニン、３，３，７−トリメチルインドレニン等）、２−ピリジン類（例えば、ピリジン、５−メチルピリジン等）、４−ピリジン（例えば、ピリジン等）等を挙げることができる。
【００８０】
また、含硫黄複素環の例としては、例えば、特開平３−２９６７５９号公報に記載の色素類におけるジチオール部分構造をあげることができる。
具体例としては、ベンゾジチオール類（例えば、ベンゾジチオール、５−ｔ−ブチルベンゾジチオール、５−メチルベンゾジチオール等）、ナフトジチオール類（例えば、ナフト［１，２］ジチオール、ナフト［２，１］ジチオール等）、ジチオール類（例えば、４，５−ジメチルジチオール類、４−フェニルジチオール類、４−メトキシカルボニルジチオール類、４，５−ジメトキシカルボニルベンゾジチオール類、４，５−ジトリフルオロメチルジチオール、４，５−ジシアノジチオール、４−メトキシカルボニルメチルジチオール、４−カルボキシメチルジチオール等を挙げることができる。
【００８１】
以上、述べた複素環に関する説明に用いた記述は、便宜上、慣例上、複素環母骨格の名称を用いたが、増感色素の塩基性骨格部分構造をなす場合は例えばベンゾチアゾール骨格の場合は３-置換-２(３Ｈ)-ベンゾチアゾリリデン（benzothiazolylidene）基のように、不飽和度を一つ下げたアルキリデン型の置換基形で導入される。
【００８２】
本発明において使用することのできる増感色素のうち、高感度の観点からより好ましい色素は、３６０ｎｍから４５０ｎｍの波長域に吸収極大を持つ下記一般式（１）で表される色素である。
【００８３】
【化２３】
2005227320.tif 000024
【００８４】
（一般式（１）中、Ａは置換基を有してもよい芳香族環またはヘテロ環を表し、Ｘは酸素原子、硫黄原子またはＮ−（Ｒ3）をあらわす。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、水素原子または一価の非金属原子団を表し、ＡとＲ1およびＲ2とＲ3はそれぞれ互いに、脂肪族性または芳香族性の環を形成するため結合してもよい。）
【００８５】
一般式（１）について更に詳しく説明する。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は、それぞれ独立に、水素原子または、一価の非金属原子団であり、好ましくは、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアルケニル基、置換もしくは非置換のアリール基、置換もしくは非置換の芳香族複素環残基、置換もしくは非置換のアルコキシ基、置換もしくは非置換のアルキルチオ基、ヒドロキシル基、ハロゲン原子を表す。
【００８６】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の好ましい例について具体的に述べる。好ましいアルキル基の例としては、炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキル基がより好ましい。
【００８７】
置換アルキル基の置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキルウレイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）およびその共役塩基基（以下、スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基（−ＰＯ3Ｈ2）およびその共役塩基基（以下、ホスフォナト基と称す）、ジアルキルホスフォノ基（−ＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスフォノ基（−ＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスフォノ基（−ＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォノ基（−ＰＯ3Ｈ(alkyl)）およびその共役塩基基（以後、アルキルホスフォナト基と称す）、モノアリールホスフォノ基（−ＰＯ3Ｈ(aryl)）およびその共役塩基基（以後、アリールホスフォナト基と称す）、ホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ2）およびその共役塩基基（以後、ホスフォナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3(alkyl)2）、ジアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3(aryl)2）、アルキルアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ(alkyl)）およびその共役塩基基（以後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す）、モノアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ(aryl)）およびその共役塩基基（以後、アリールフォスホナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
【００８８】
これらの置換基における、アルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙げられ、アリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等を挙げることができる。
【００８９】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3として好ましいヘテロアリール基としては、窒素、酸素、硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多環芳香族環が用いられ、特に好ましいヘテロアリール基の例としては、例えば、チオフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロール、ピラゾール、イソチア
ゾール、イソオキサゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾール、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジンや等があげられ、これらは、さらにベンゾ縮環してもよく、また置換基を有していてもよい。
【００９０】
また、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3として好ましいアルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。アシル基（Ｇ1ＣＯ−）におけるＧ1としては、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を挙げることができる。これら置換基の内、更により好ましいものとしてはハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げられる。
【００９１】
一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数１から２０までのアルキル基上の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキレン基を挙げることができる。
【００９２】
該置換基とアルキレン基を組み合わせることにより得られるＲ1、Ｒ2およびＲ3として好ましい置換アルキル基の、具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、等を挙げることができる。
【００９３】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3として好ましいアリール基の具体例としては、１個から３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
【００９４】
Ｒ1、Ｒ2およびＲ3として好ましい置換アリール基の具体例としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。この様な、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。
【００９５】
次に、一般式（１）におけるＡについて説明する。Ａは置換基を有してもよい芳香族環またはヘテロ環を表し、置換基を有してもよい芳香族環またはヘテロ環の具体例としては、一般式（１）中のＲ1、Ｒ2およびＲ3で記載したものと同様のものが挙げられる。
【００９６】
本発明の一般式（１）で表される増感色素は、上に示したような酸性核や、活性メチレン基を有する酸性核と、置換、もしくは非置換の、芳香族環またはヘテロ環との縮合反応によって得られるが、これらは特公昭５９−２８３２９号公報を参照して合成することができる。
【００９７】
以下に一般式（１）で表される化合物の好ましい具体例（Ｄ１）から（Ｄ３８）を示す。また、酸性核と塩基性核を結ぶ２重結合による異性体については、どちらかの異性体に限定されるものではない。
【００９８】
【化２４】
2005227320.tif 000025
【００９９】
【化２５】
2005227320.tif 000026
【０１００】
【化２６】
2005227320.tif 000027
【０１０１】
【化２７】
2005227320.tif 000028
【０１０２】
【化２８】
2005227320.tif 000029
【０１０３】
なお、これら増感色素は、感光層の全成分の１．０〜１０．０質量％の範囲で使用されるのが好ましい。
【０１０４】
本発明の式（ＶＩＩ）〜（ＸＩＩ）で示される増感色素は公知の合成法およびその関連合成法、例えば特公昭５９−２８３２９号公報に記載の方法を用いて容易に合成できる。
【０１０５】
〔その他の成分〕
本発明の感光性平版印刷版の感光層には上記成分（ａ）〜（ｅ）を必須成分として含有するが、さらに有機顔料分散物を含有することが好ましい。
以下、本発明の感光性平版印刷版の感光層に好ましく含有される有機顔料分散物につい
て説明する。
【０１０６】
本発明に用いられる好ましい有機顔料をColour Index（Published by The Society of Dyes and Colourists, Third Edition）記載されるC.I. Numberによって以下に記載する。
【０１０７】
例えば、Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  ２９（ペリレン系顔料）Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １９（キナクリドン系顔料），Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ  １、３（塩基性染料レーキ系顔料）Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  ６０（スレン系顔料）Ｐｉｇｍｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  １５、１５：３、１５：６（フタロシアニン系顔料）等が挙げられるが、βおよび／またはε型フタロシアニン顔料が好ましく、この中でも、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ ６０とＰｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５、１５：３、１５：６等が特に好ましい。
【０１０８】
本発明において有機顔料分散物を構成する着色性化合物は、感光層中において、固体分散でなく分子分散状態（溶解）をとると、カブリの増加もしくは、減感といった悪影響が生じるので、そのような影響のできるだけ少ない顔料を用いることが好ましい。
次に、本発明における有機顔料の一般的な分散方法について説明するが、本発明はこれらの記述により制限されるものではない。
従来、これら有機顔料は合成後、種々の方法で乾燥を経て供給される。通常は水媒体から乾燥させて粉末体として供給されるが、水が乾燥するには大きな蒸発潜熱を必要とするため、乾燥して粉末とさせるには大きな熱エネルギーを与える。そのため、顔料は一次粒子が集合した凝集体（二次粒子）を形成しているのが普通である。
この様な凝集体を形成している有機顔料を微粒子にして、感光層中に分散するのは容易ではない。そのため有機顔料をあらかじめ種々の樹脂で処理しておくことが好ましい。これら樹脂として、前述の（ｂ）有機線状高分子結合剤を挙げることができる。処理の方法としては、フラッシング処理やニーダー、エクストルーダ、ビーズミル、ボールミル、２本又は３本ロールミル等による混練方法がある。このうち、フラッシング処理や２本又は３本ロールミル、ビーズミルによる混練法が微粒子化に好適である。
【０１０９】
フラッシング処理は通常、有機顔料の水分散液と水と混和しない溶媒に溶解した樹脂溶液を混合し、水媒体中から有機媒体中に有機顔料を抽出し、有機顔料を樹脂で処理する方法である。この方法によれば、有機顔料の乾燥を経ることがないので、凝集を防ぐことができ、分散が容易となる。２本又は３本ロールミルによる混練では、有機顔料と樹脂又は樹脂の溶液を混合した後、高いシェア（せん断力）をかけながら、有機顔料と樹脂を混練することによって、有機顔料表面に樹脂をコーティングすることによって、有機顔料を処理する方法である。この過程で凝集していた有機顔料粒子はより低次の凝集体から一次粒子にまで分散される。ビーズミルは細長いベッセルにディスクを複数枚取り付けた攪拌軸（回転軸）を挿入し、ベッセル内のビーズを高速で攪拌する。ポンプで送り込まれたミルベース中の凝集した顔料は、高速で動くビーズ相互間やビーズがベッセル内壁シャフトとぶつかる時に生じる強いずり応力により分散させられる。
【０１１０】
また、あらかじめアクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、マレイン酸樹脂、エチルセルロース樹脂、ニトロセルロース樹脂等で処理した加工有機顔料も都合良く用いることができる。上記の種々の樹脂で処理された加工有機顔料の形態としては、樹脂と有機顔料が均一に分散している粉末、ペースト状、ペレット状、ペースト状が好ましい。一方、樹脂がゲル化した不均一な塊状のものは好ましくない。
【０１１１】
微細な粒子サイズ分布を有する有機顔料分散液を得るには、先ず有機顔料をフラッシング処理したり、ニーダー、エクストルーダ、ビーズミル、２本または３本ロールミルで結着樹脂と混練する。好ましい混練法としては、有機顔料と顔料分散剤を含む他の構成成分
と混合し湿式分散（一次分散）を行う。得られた分散液を、目的の粒子サイズ分布になるまで、より微細なビーズを用いて再度湿式分散（二次分散）を行う。または、湿式分散した分散液を遠心分離によって分別したり、デカンテーションにより粗大粒子を除去し目的の粒子サイズとサイズ分布を有する粒子を得る。
【０１１２】
また、有機顔料の分散性を向上させる目的で従来公知の顔料分散剤や界面活性剤を添加することが出来る。これらの分散剤としては、多くの種類の化合物が用いられるが、例えば、フタロシアニン誘導体（市販品ＥＦＫＡ−７４５（森下産業製））；オルガノシロキサンポリマーＫＰ３４１（信越化学工業製）、（メタ）アクリル酸系（共）重合体ポリフローＮo.７５、Ｎo.９０、Ｎo.９５（共栄社油脂化学工業製）、Ｗ００１（裕商製）等のカチオン系界面活性剤；ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル等のノニオン系界面活性剤；エフトップＥＦ３０１、ＥＦ３０３、ＥＦ３５２（新秋田化成製）、メガファックＦ１７１、Ｆ１７２、Ｆ１７３（大日本インキ製）、フロラードＦＣ４３０、ＦＣ４３１（住友スリーエム製）、アサヒガードＡＧ７１０、サーフロンＳ３８２、ＳＣ−１０１、ＳＣ−１０２、ＳＣ−１０３、ＳＣ−１０４、ＳＣ−１０５、ＳＣ−１０６８（旭硝子製）等のフッ素系界面活性剤；Ｗ００４、Ｗ００５、Ｗ０１７（裕商製）等のアニオン系界面活性剤；ＥＦＫＡ−４６、ＥＦＫＡ−４７、ＥＦＫＡ−４７ＥＡ、ＥＦＫＡポリマー１００、ＥＦＫＡポリマー４００、ＥＦＫＡポリマー４０１、ＥＦＫＡポリマー４５０（以上森下産業製）、ディスパースエイド６、ディスパースエイド８、ディスパースエイド１５、ディスパースエイド９１００（サンノプコ製）等の高分子分散剤；ソルスパース３０００、５０００、９０００、１２０００、１３２４０、１３９４０、１７０００、２４０００、２６０００、２８０００などの各種ソルスパース分散剤（ゼネカ株式会社製）；アデカプルロニックＬ３１，Ｆ３８，Ｌ４２，Ｌ４４，Ｌ６１，Ｌ６４，Ｆ６８，Ｌ７２，Ｐ９５，Ｆ７７，Ｐ８４，Ｆ８７、Ｐ９４，Ｌ１０１，Ｐ１０３，Ｆ１０８、Ｌ１２１、Ｐ−１２３（旭電化製）およびイソネットＳ−２０（三洋化成製）が挙げられる。
【０１１３】
有機顔料の使用量は、感光層成分の重合反応性や、感光性平版印刷版の現像処理性を著しく低下させない様に上限を設定する。一方、下限は検版性の向上に十分な効果がえられる様に設定する。これらは個々の顔料の光学特性によって異なる。通常は０．００１〜５ｇ／ｍ2であり、好ましくは０．０５〜３ｇ／ｍ2、より好ましくは０．１〜２ｇ／ｍ2の範囲がよい。
【０１１４】
さらに有機顔料の好ましい使用形態として従来公知の様々な技術の適用も可能である。  特に、特開平８−１０１４９８号公報記載の様に、顔料の分散の際に、主鎖、又は側鎖に脂肪族二重結合を有するポリマーを共存させると、高感度な感光層を得ることができる。その他、光重合系での顔料の使用に際する従来の提案としては、特開平１０−２８２６４７号、特開平９−２３０６０１号各公報等に記載がある。
【０１１５】
また本発明においては、以上の成分の他に、感光層用の感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために、少量の熱重合禁止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、全組成物の質量に対して約０．０１％〜約５％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やべヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０．５％〜約１０％が好ましい。
【０１１６】
上記感光層を後述の支持体上に塗布する際には、感光層用組成物を種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は、１〜５０質量％が適当である。
【０１１７】
前記重合性感光層用組成物には、塗布面質を向上するために界面活性剤を添加することができる。
その被覆量は乾燥後の質量で約０．１ｇ／ｍ2〜約１０ｇ／ｍ2の範囲が好ましい。より好ましくは０．３〜５ｇ／ｍ2、更に好ましくは０．５〜３ｇ／ｍ2である。
【０１１８】
（支持体）
本発明で用いられる感光性平版印刷版の支持体としては、寸度的に安定な板状物であれば、特に限定されないが、アルミニウム支持体が好適である。
アルミニウム支持体は、寸度的に安定なアルミニウムを主成分とするアルミニウムおよびアルミニウム含有（例えばケイ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミニウムとの合金）合金、またはアルミニウムまたはアルミニウム合金がラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムまたは紙の中から選ばれる。さらに特公昭４８−１８３２７号公報に記載の様なポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートでもかまわない。このアルミニウム支持体には、適宜後述の基板表面処理を施し、親水性支持体とすることが好ましい。
【０１１９】
（砂目立て処理）
砂目立て処理方法は、特開昭５６−２８８９３号公報に開示されているような機械的砂目立て、化学的エッチング、電解グレインなどがある。さらに塩酸または硝酸電解液中で電気化学的に砂目立てする電気化学的砂目立て方法、及びアルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立でするボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法のような機械的砂目立て法を用いることができ、上記砂目立て方法を単独あるいは組み合わせて用いることもできる。
【０１２０】
その中でも本発明に有用に使用される表面粗さを作る方法は、塩酸または硝酸電解液中で化学的に砂目立てする電気化学的方法であり、適する電流密度は１００Ｃ／ｄｍ2〜４
００Ｃ／ｄｍ2の範囲である。さらに具体的には、０．１〜５０％の塩酸または硝酸を含む電解液中、温度２０〜１００℃、時間１秒〜３０分、電流密度１００Ｃ／ｄｍ2〜４００Ｃ／ｄｍ2の条件で電解を行うことが好ましい。
このように砂目立て処理したアルミニウム支持体は、酸またはアルカリにより化学的にエッチングされる。酸をエッチング剤として用いる場合は、微細構造を破壊するのに時間がかがり、工業的に本発明を適用するに際しては不利であるが、アルカリをエッチング剤として用いることにより改善できる。
本発明において好適に用いられるアルカリ剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を用い、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ１〜５０％、２０〜１００℃であり、Ａｌの溶解量が５〜２０ｇ／ｍ3となるような条件が好ましい。
【０１２１】
エッチングのあと表面に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗いが行われる。用いられる酸は硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。特に電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭５３−１２７３９号公報に記載されているような５０〜９０℃の温度の１５〜６５質量％の硫酸と接触させる方法及び特公昭４８−２８１２３号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙げられる。
なお、本発明で特に有効に用いられるＡｌ支持体の表面粗さは（Ｒａ）は０．３〜０．７μｍである。
【０１２２】
（陽極酸化処理）
以上のようにして処理されたアルミニウム支持体は、さらに陽極酸化処理が施される。
陽極酸化処理はこの分野で従来より行われている方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいはこれらの二種以上を組み合わせて水溶液または非水溶液中でアルミニウムに直流または交流を流すとアルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成することができる。
陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液の濃度が１〜８０％、液温５〜７０℃、電流密度０．５〜６０アンペア／ｄｍ2、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０〜１００秒の範囲が適当である。
【０１２３】
これらの陽極酸化処理のうちでも特に英国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている、硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法及び米国特許第３，５１１，６６１号明細書に記載されているリン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。
本発明においては、陽極酸化皮膜は１〜１０ｇ／ｍ2であることが好ましく、１ｇ／ｍ2以下であると版に傷が入りやすく、１０ｇ／ｍ2以上は製造に多大な電力が必要となり、経済的に不利である。好ましくは、１．５〜７ｇ／ｍ2である。更に好ましくは、２〜５ｇ／ｍ2である。
更に、本発明においては、砂目立て処理及び陽極酸化後、アルミニウム支持体に封孔処理を施してもかまわない。かかる封孔処理は、熱水及び無機塩または有機塩を含む熱水溶液への基板の浸漬ならびに水蒸気浴などによって行われる。またこのアルミニウム支持体にはアルカリ金属珪酸塩によるシリケート処理以外の処理、たとえば弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理などの表面処理がなされてもかまわない。
【０１２４】
また、本発明の感光性平版印刷版の支持体には、前記アルミニウム支持体の他に、寸度的に安定な以下の板状物も好適に用いられる。例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、ポリビニルアセタール等）、上記の如き金属がラミネート若しくは蒸着された紙またはプラスチックフィルム等が挙げられる。
【０１２５】
また、これらの支持体に対しては、その支持体に応じた表面親水化処理を行うことも好ましい。表面親水化処理には、エッチングや酸化、還元、ゾル−ゲルコーティングなどの化学反応による処理や、支持体表面に吸着するような特定の化合物をコーティングすること等が挙げられる。
例えば、陽極酸化アルミニウム支持体の場合には、特に燐系の酸原子団を有する有機化合物（燐酸、ホスホン酸、ホスフィン酸）が好適に使用される。
上記の支持体上に、前述の感光層を形成することで、本発明の感光性平版印刷版が製造されるが、感光層を塗設する前に必要に応じて有機または無機の下塗り層が設けられてもかまわない。
【０１２６】
（酸素遮断性保護層）
本発明の感光性平版印刷版は、その重合性感光層の上に水溶性ビニル重合体を主成分とする酸素遮断性保護層を有していてもよい。
酸素遮断性保護層に含まれる水溶性ビニル重合体としては、ポリビニルアルコール、およびその部分エステル、エーテル、およびアセタール、またはそれらに必要な水溶性を有せしめるような実質的量の未置換ビニルアルコール単位を含有するその共重合体が挙げられる。ポリビニルアルコールとしては、７１〜１００％加水分解され、重合度が３００〜２４００の範囲のものが挙げられる。具体的には、株式会社クラレ製ＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等が挙げられる。上記の共重合体としては、８８〜１００％加水分解されたポリビニルアセテートクロロアセテートまたはプロピオネート、ポリビニルホルマールおよびポリビニルアセタールおよびそれらの共重合体が挙げられる。その他有用な重合体としては、ポリビニルピロリドン、ゼラチンおよびアラビアゴム等が挙げられ、これらは単独または、併用して用いてもよい。
【０１２７】
この酸素遮断性保護層を塗布する際用いる溶媒としては、純水が好ましいが、メタノール、エタノールなどのアルコール類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類を純水と混合してもよい。そして塗布溶液中の固形分の濃度は１〜２０質量％が適当である。
この酸素遮断性保護層にはさらに塗布性を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良するための水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
水溶性の可塑剤としては、たとえばプロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等がある。また、水溶性の（メタ）アクリル系ポリマーなどを添加してもよい。
その被覆量は、乾繰後の質量で約０．１ｇ／ｍ2〜約１５ｇ／ｍ2の範囲が好ましい。より好ましくは１．０ｇ／ｍ2〜約５．０ｇ／ｍ2である。
【０１２８】
［製版プロセス］
本発明の感光性平版印刷版の製版プロセスとしては、必要に応じ、露光前、露光中、露光から現像までの間に、全面を加熱してもよい。このような加熱により、感光層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や、感度の安定化といった利点が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性の向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱もしくは、全面露光を行うことも有効である。通常現像前の加熱は１５０℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。温度が高すぎると、非画像部までがかぶってしまう等の問題を生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用する。通常は２００〜５００℃の範囲である。温度が低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合には支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じる。
【０１２９】
本発明の感光性平版印刷版の露光方法は、公知の方法を制限なく用いることができる。光源としては３９０〜５５０ｎｍの波長を有するレーザーが好ましい。例えば、３９０〜５５０ｎｍの波長の入手可能なレーザー光源としては以下のものを利用することができる。
ガスレーザーとして、Ｈｅ−Ｃｄレーザー（４４１ｎｍ，１ｍＷ〜１００ｍＷ）、固体レーザーとして、Ｃｒ：ＬｉＳＡＦとＳＨＧ結晶の組み合わせ（４３０ｎｍ，１０ｍＷ）、半導体レーザー系として、ＫＮｂＯ3、リング共振器（４３０ｎｍ，３０ｍＷ）、導波型波長変換素子とＡｌＧａＡｓ、ＩｎＧａＡｓ半導体の組み合わせ（３８０ｎｍ〜４５０ｎｍ、５ｍＷ〜１００ｍＷ）、ＡｌＧａＩｎＮ（３５０ｎｍ〜４５０ｎｍ、５ｍＷ〜３０ｍＷ）、Ａｒレーザー（４８８ｎｍ）、ＦＤ−ＹＡＧレーザー（５３２ｎｍ）。
【０１３０】
特にこの中でＡｌＧａＩｎＮ半導体レーザー（市販ＩｎＧａＮ系半導体レーザー４００〜４１０ｎｍ、５〜３０mW）が波長特性、コストの面で好適である。
【０１３１】
また、露光機構は内面ドラム方式、外面ドラム方式、フラットベッド方式等のいずれでもよい。また本発明の感光性平版印刷版の感光層成分は高い水溶性のものを使用することで、中性の水や弱アルカリ水に可溶とすることもできるが、このような構成の感光性平版印刷版は印刷機上に装填後、機上で露光−現像といった方式を行うこともできる。
【０１３２】
本発明の感光性平版印刷版は、通常、画像露光したのち、現像液で感光層の未露光部を除去し、画像を得る。これらの感光性平版印刷版から平版印刷版の作成に使用する際の好ましい現像液としては、特公昭５７−７４２７号公報に記載されているような現像液が挙げられ、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤やモノエタノールアミンまたはジエタノールアミンなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当である。このようなアルカリ溶液の濃度が好ましくは０．１〜１０質量％、より好ましくは０．５〜５質量％になるように添加される。
【０１３３】
無機のアルカリ剤としては、上記物性値を与える物であれば、適宜使用可能であるが、例えば、第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、硼酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、及び、同リチウム等の無機アルカリ剤が挙げられる。
また、アルカリ濃度の微少な調整、感光層の溶解性補助の目的で、補足的に有機アルカリ剤を併用してもよい。有機アルカリ剤としては、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド等を挙げることができる。
これらのアルカリ剤は、単独もしくは２種以上を組み合わせて用いられる。
【０１３４】
本発明で使用される現像液のｐＨは１０．０〜１２．５の範囲が好ましい。より好ましいｐＨ範囲は１０．５〜１２．４であり、更に好ましくは、１１．０〜１２．３である。
【０１３５】
また、本発明で使用される現像液の導電率は、好ましくは４〜２５ｍＳ／ｃｍの範囲であり、更に好ましくは５〜２０ｍＳ／ｃｍの範囲である。
【０１３６】
本発明で使用される現像液には、ポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン界面活性剤を含有することが好ましく、この界面活性剤添加により、未露光部の感光層の溶解促進、露光部への現像液の浸透性の低減が可能となる。
ポリオキシアルキレンエーテル基を含有する界面活性剤としては、下記一般式（ＸＶ）の構造を有する物が好適に使用される。
【０１３７】
Ｒ30−Ｏ−（Ｒ31−Ｏ）nＨ        （ＸＶ）
式中、Ｒ30は、置換基を有してもよい炭素数３〜１５のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数６〜１５の芳香族炭化水素基、又は置換基を有してもよい炭素数４〜１５の複素芳香族環基（尚、置換基としては炭素数１〜２０のアルキル基、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｉ等のハロゲン原子、炭素数６〜１５の芳香族炭化水素基、炭素数７〜１７のアラルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数２〜２０のアルコキシ−カルボニル基、炭素数２〜１５のアシル基が挙げられる。）を示し、Ｒ31は、置換基を有してもよい炭素数１〜１００のアルキレン基（尚、置換基としては、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５の芳香族炭化水素基が挙げられる。）を示し、ｎは１〜１００の整数を表す。
【０１３８】
また式（ＸＶ）の（Ｒ31−Ｏ）nの部分は、上記範囲であれば、２種、又は３種の基であってもよい。具体的にはエチレンオキシ基とプロピレンオキシ基、エチレンオキシ基とイソプロピルオキシ基、エチレンオキシ基とブチレンオキシ基、エチレンオキシ基とイソブチレン基等の組み合わせのランダム又はブロック状に連なったもの等が挙げられる。
本発明において、ポリオキシアルキレンエーテル基を有する界面活性剤は、単独又は複合系で使用され、現像液中、好ましくは１〜３０質量％、より好ましくは２〜２０質量％添加することが効果的である。
前記一般式（ＸＶ）の非イオン性化合物の具体例を以下に示す。
【０１３９】
【化２９】
2005227320.tif 000030
【０１４０】
【化３０】
2005227320.tif 000031
【０１４１】
【化３１】
2005227320.tif 000032
【０１４２】
またさらに以下に記す、その他の界面活性剤を加えてもよい。その他の界面活性剤とし
ては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレンステアレート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオレエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノオレート等のモノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン界面活性剤；ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベンゼンスルホン酸塩類、ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ペンチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ヘキシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、オクチルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルナフタレンスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸塩類、ドデシルスルホン酸ソーダ等のアルキルスルホン酸塩類、ジラウリルスルホコハク酸ナトリウム等のスルホコハク酸エステル塩類等のアニオン界面活性剤；ラウリルベタイン、ステアリルベタイン等のアルキルベタイン類、アミノ酸類等の両性界面活性剤等が使用可能であるが、特に好ましいのはアルキルナフタレンスルホン酸塩類等のアニオン界面活性剤である。
これら界面活性剤は単独、もしくは組み合わせて使用することができる。また、これら界面活性剤の現像液中における含有量は有効成分換算で０．１〜２０質量％が好ましい。
【０１４３】
本発明の現像液には、上記の成分の他に、必要に応じて以下の様な成分を併用することができる。例えば安息香酸、フタル酸、ｐ−エチル安息香酸、ｐ−ｎ−プロピル安息香酸、ｐ−イソプロピル安息香酸、ｐ−ｎ−ブチル安息香酸、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸、ｐ−２−ヒドロキシエチル安息香酸、デカン酸、サリチル酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸等の有機カルボン酸；イソプロピルアルコール、べンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコール等の有機溶剤；この他、キレート剤、還元剤、染料、顔料、硬水軟化剤、防腐剤、消泡剤等が挙げられる。
また現像処理された感光性平版印刷版は、特開昭５４−８００２号、同５５−１１５０４５号、同５９−５８４３１号等の各公報に記載されているように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理される。本発明の感光性平版印刷版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。
このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【実施例】
【０１４４】
以下、実施例により、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
〔実施例１〕
［支持体の製造例］
（支持体１：陽極酸化アルミニウム支持体）
厚さ０．３０ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム板を８号ナイロンブラシと８００メッシュのパミストンの水懸濁液を用い、その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。１０％水酸化ナトリウムに７０℃で６０秒間浸漬してエッチングした後、流水で、水洗後、２０％ＨＮＯ3で中和洗浄、水洗した。これをＶA＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で３００クーロン／ｄｍ2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ０．４５μｍ（Ｒａ表示）であった。ひきつづいて３０％のＨ2ＳＯ4水溶液中に浸漬し、５５℃で２分間デスマットした後、３３℃、２０％Ｈ2ＳＯ4水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配置して、電流密度５Ａ／ｄｍ2において５０秒間陽極酸化したところ、厚さが２．７ｇ／ｍ2であった。  さらに下記の表面処理用下塗り液状組成物１をＰ量が約０．０５ｇ／ｍ2となるように塗布し、１００℃で１分間乾燥させたものを支持体１とした。        
【０１４５】
＜下塗り用液状組成物１＞
フェニルホスホン酸                                    ２質量部
メタノール                                        ８００質量部
水                                                  ５０質量部
【０１４６】
［感材の製造例］
上述の支持体上に、下記組成の重合性組成物を乾燥塗布質量が1.5ｇ/ｍ2となるように塗布し、９０℃で乾燥させ、感光層を形成した。
続いて、この感光層上にポリビニルアルコール（ケン化度９８モル％、重合度５００）の６質量％の水溶液を乾燥塗布質量が２．５ｇ／ｍ2となるように塗布し、１００℃で１分半乾燥させ、感光性平版印刷版（感材）１を得た。
【０１４７】
（感光層塗布液１（重合性組成物））
エチレン性不飽和結合含有化合物（Ａ）                １．７０質量部
線状有機高分子重合体（Ｂ）                          １．９０質量部
増感色素（Ｃ）                                      ０．１５質量部
光開始剤（Ｉ）                                      ０．３０質量部
添加剤（Ｆ）                                        ０．５０質量部
フッ素系界面活性剤                                  ０．０３質量部
（メガファックF-177：大日本インキ化学工業(株)製）
熱重合禁止剤                                        ０．０１質量部
（Ｎ-ニトロソヒドロキシルアミンアルミニウム塩）
ε-フタロシアニン分散物 
（10％  １メトキシ２プロパノール溶液）              ０．２  質量部
メチルエチルケトン                                ３０．０  質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル            ３０．０  質量部
【０１４８】
なお、感光層塗布液に用いる、エチレン性不飽和結合含有化合物（Ａ）、線状有機高分子重合体（Ｂ）、増感色素（Ｃ）、光開始剤（Ｉ）、添加剤（F）を以下に示す。
【０１４９】
【化３２】
2005227320.tif 000033
【０１５０】
〔実施例２〜３〕
実施例１の感光層塗布液１を下記感光層塗布液２および感光層塗布液３に代えた以外は実施例１と同様に感光性平版印刷版（感材）２、感光性平版印刷版（感材）３を作成した。
（感光層塗布液２（重合性組成物））
エチレン性不飽和結合含有化合物（Ａ'）                １．７０質量部
線状有機高分子重合体（Ｂ'）                          １．９０質量部
増感色素（Ｃ'）                                      ０．１５質量部
光開始剤（Ｉ'）                                      ０．３０質量部
添加剤（Ｆ）                                         ０．５０質量部
フッ素系界面活性剤                                   ０．０３質量部
（メガファックF-177：大日本インキ化学工業(株)製）
熱重合禁止剤                                         ０．０１質量部
（Ｎ-ニトロソヒドロキシルアミンアルミニウム塩）
ε-フタロシアニン分散物
（10％  １メトキシ２プロパノール溶液）               ０．２   質量部
助剤（Ｄ1）                                          ０．１０ 質量部
助剤（Ｄ2）                                          ０．１０ 質量部
メチルエチルケトン                                 ３０．０   質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル             ３０．０   質量部
【０１５１】
なお、感光層塗布液２に用いる、エチレン性不飽和結合含有化合物（Ａ'）、線状有機高分子重合体（Ｂ'）、増感色素（Ｃ'）、光開始剤（Ｉ′）、助剤（Ｄ1）助剤（Ｄ2）を以下に示す。
【０１５２】
【化３３】
2005227320.tif 000034
【０１５３】
（感光層塗布液３（重合性組成物））
エチレン性不飽和結合含有化合物（Ａ''）                １．７０質量部
線状有機高分子重合体（Ｂ''）                          １．９０質量部
増感色素（Ｃ''）                                      ０．１５質量部
光開始剤（Ｉ）                                        ０．３０質量部
添加剤（Ｆ）                                          ０．５０質量部
助剤（Ｄ''）                                          ０．１０質量部
フッ素系界面活性剤                                    ０．０３質量部
（メガファックF-177：大日本インキ化学工業(株)製）
熱重合禁止剤                                          ０．０１質量部
（Ｎ-ニトロソヒドロキシルアミンアルミニウム塩）
ε-フタロシアニン分散物 （10％  １メトキシ２プロパノール溶液）  
０．２  質量部
メチルエチルケトン                                  ３０．０  質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル              ３０．０  質量部
【０１５４】
なお、感光層塗布液３に用いる、エチレン性不飽和結合含有化合物（Ａ''）、線状有機高分子重合体（Ｂ''）、増感色素（Ｃ''）、助剤（Ｄ''）を以下に示す。
【０１５５】
【化３４】
2005227320.tif 000035
【０１５６】
この感光性平版印刷版（１１０×４０ｃｍ）をＦＤ・ＹＡＧレーザー（富士写真フイルム（株）製  Ｌｕｘｅｌ  Ｐｌａｔｅ  Ｓｅｔｔｅｒ  Ｐ−９６００  ＣＴＰ  ＮＥＷＳ）で１５０μＪ／ｃｍ２の露光量で４０００ｄｐｉにて１７５線／インチの条件で、ベタ画像と１〜９９％の網点画像（１％刻み）を走査露光した。露光後の版は自動的に接続されている自動現像機ＬＰ１２５０ＰＬＸに送られ、１００℃−１０秒間加熱後、ＰＶＡ保護層を水洗除去し、引き続いて２８℃−２０秒間、現像処理した。現像液は富士写真フイルム（株）製現像液ＤＶ−２を水で５倍に希釈したものを仕込んだ。現像後の版はリンス浴で水洗後、ガム引き浴へ送られ、富士写真フイルム（株）製ガム液ＦＰ−２Ｗを水で２倍に希釈したものを用いた。ガム引き後の版は、熱風乾燥後排出した。各版材の２％の小点の付きおよび６０℃１０日間経時させた後に露光現像した場合の各版材の２％の小点の付きについての結果を表１に示す。
【０１５７】
実施例４〜６
添加剤（Ｆ）を下記添加剤（Ｆ'）に変更した以外は、実施例４は実施例１を繰り返し、実施例５は実施例２を繰り返し、実施例６は実施例３を繰り返した。結果を表１に示す。
【０１５８】
【化３５】
2005227320.tif 000036
【０１５９】
比較例１〜６
実施例１〜３において、添加剤（Ｆ）を使用しなかったこと以外は、実施例１〜３を繰り返した。それぞれ比較例１〜３とする。また実施例１〜３において、エチレン性不飽和結合含有化合物をペンタエリスリトールテトラアクリレートに変更したこと以外は、実施例１〜３を繰り返した。それぞれ比較例４〜６とする。結果を表１に示す。
【０１６０】
【表１】
2005227320.tif 000037
【０１６１】
表１から明らかなように本発明の感光性平版印刷版は、高感度であり、且つレーザー露光適性が優れ、網点や細線の再現性、保存安定性に優れる。
【０１６２】
実施例７〜９
［感材の製造例］
上述の支持体上に、下記組成の重合性組成物を乾燥塗布質量が1.5ｇ/ｍ2となるように塗布し、９０℃で乾燥させ、感光層を形成した。
続いて、この感光層上にポリビニルアルコール（ケン化度９８モル％、重合度５００）の６質量％の水溶液を乾燥塗布質量が２．５ｇ／ｍ2となるように塗布し、１００℃で１分半乾燥させ、感光性平版印刷版（感材）を得た。
【０１６３】
実施例７は実施例１の増感色素（C）を増感色素（Ｃ'''）に変更した。
実施例８は実施例２の増感色素（C'）を増感色素（Ｃ'''）に変更した。
実施例９は実施例３の増感色素（C''）を下記構造の増感色素（Ｃ'''）に変更した。
【０１６４】
【化３６】
2005227320.tif 000038
【０１６５】
〔実施例１０〜１２〕
添加剤（F）を添加剤（F'）に変更した以外は、実施例１０は実施例７を繰り返し、実施例１１は実施例８を繰り返し、実施例１２は実施例９を繰り返した。
【０１６６】
〔比較例７〜１２〕
実施例７〜９において、添加剤（Ｆ）を使用しなかったこと以外は、実施例７〜９を繰り返した。それぞれ比較例７〜９とする。また実施例１０〜１２において、エチレン性不飽和結合含有化合物をペンタエリスリトールテトラアクリレートに変更したこと以外は、実施例１０〜１２を繰り返した。それぞれ比較例１０〜１２とする。
【０１６７】
［現像液例］
実施例１と同様の現像液を用いた。
【０１６８】
［感度・画像再現性評価］
この感光性平版印刷版（１１０×４０ｃｍ）をＦＵＪＩＦＩＬＭ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃ  Ｉｍａｇｉｎｇ  Ｌｔｄ製Ｖｉｏｌｅｔ半導体レーザーセッターＶｘ９６００（ＩｎＧａＮ系半導体レーザ  ４０５ｎｍ±１０ｎｍ、発光／出力  ３０ｍＷ）に装填し、９０μＪ／ｃｍ２の露光量で解像度２４００ｄｐｉにて１７５線／インチの条件で、ベタ画像と１〜９９％の網点画像（１％刻み）を走査露光した。露光後の版は自動的に接続されている自動現像機ＬＰ１２５０ＰＬＸに送られ、１００℃−１０秒間加熱後、ＰＶＡ保護層を水洗除去し、引き続いて２８℃−２０秒間、現像処理した。現像液は富士写真フイルム（株）製現像液ＤＶ−２を水で５倍に希釈したものを仕込んだ。現像後の版はリンス浴で水洗後、ガム引き浴へ送られ、富士写真フイルム（株）製ガム液ＦＰ−２Ｗを水で２倍に希釈したものを用いた。ガム引き後の版は、熱風乾燥後排出した。各版材の２％の小点の付きおよび６０℃１０日間経時させた後に露光現像した場合の各版材の２％の小点の付きについての結果を表２に示す。
【０１６９】
【表２】
2005227320.tif 000039
【０１７０】
表２から明らかなように本発明の感光性平版印刷版は、高感度であり、且つレーザー露光適性が優れ、網点や細線の再現性、保存安定性に優れる。
【産業上の利用可能性】
【０１７１】
本発明によれば、高感度でありハイライトの付きがよく、網点や細線の再現性に優れ、プレートを長期貯蔵した際でも感度低下することなくハイライトの付きを維持できる感光性平板印刷版用画像記録材料が提供される。