(57)【要約】【課題】マスクを保護するとともに、マスクのフレームからの取り付け取り外しの際のマスク位置再現性を向上させたマスクフレームなどを提供する。【解決手段】マスクフレーム２０は、上プレート２１と下プレート２３を有し、両プレートはビス２５で締結される。マスク１０は、下プレート２３の基準側マスク保持パッド３３と、上プレート２１の下面のマスク保持パッド３１に挟まれて保持される。マスク１０はノッチ１１において、ノッチ押さえピン３５−１を含む３つのマスク位置決めピン３５によって、基準側マスク保持パッド３３の上面上で拘束される。両プレート２１、２３の中央部には、電子線を通過させるための窓（開口）２７、２９が開けられている。パターン位置検査時と露光時は、マスク１０はフレーム２０に保持されたまま検査装置や露光装置に保持される。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
感応基板上に露光転写すべきデバイスパターンが形成されたパターン面、該パターン面を補強する支持体層、及び、該支持体層の周囲に設けられた保持部からなるマスクを保持するマスクフレームであって、
該マスクフレームによって前記マスクを保持したまま露光装置内のマスクステージ及び検査装置への搭載並びに保管が可能であり、
また、前記マスクの前記マスクフレームからの取り外し・取り付けが可能であることを特徴とするマスクフレーム。
【請求項２】
前記マスクを前記マスクフレームから取り外して再度取り付けた場合における両者の相対的位置決めの再現性が１０μｍ以下の位置決め手段を有することを特徴とする請求項１記載のマスクフレーム。
【請求項３】
前記マスクフレームが、
前記マスクの保持部の下面に当てられる、開口を有する下プレートと、
前記マスクの保持部の上面に当てられる、開口を有する上プレートと、
両プレートを締結する手段と、
前記下プレート及び／又は上プレートと前記マスクとの位置決め手段と、
を備えることを特徴とする請求項１又は２記載のマスクフレーム。
【請求項４】
前記マスクフレームが、体積低効率が１０００Ωｃｍ以下の非磁性材料で作製されていることを特徴とする請求項１、２又は３記載のマスクフレーム。
【請求項５】
前記マスクフレームと前記マスクとが導通していることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載のマスクフレーム。
【請求項６】
感応基板上に露光転写すべきデバイスパターンをマスク上に形成し、ここで、該マスクは、前記デバイスパターンが形成されたパターン面と、該パターン面を補強する支持体層と、該支持体層の周囲に設けられた保持部と、を有し、
該マスクをエネルギ線で照明し、
該マスクを通過又は反射したエネルギ線を前記感応基板上のしかるべき位置に投影結像させて前記デバイスパターンを転写する露光方法において、
前記マスクを、前記保持部において取り付け・取り外しが可能で、開口を有するマスクフレームに保持した状態で検査した後、同マスクフレームに保持した状態で露光を行うことを特徴とする露光方法。
【請求項７】
感応基板上に露光転写すべきデバイスパターンが形成されたマスクを載置するマスクステージと、
該マスクにエネルギ線を照明する照明光学系と、
該マスクを通過又は反射したエネルギ線を前記感応基板上のしかるべき位置に投影結像させる投影光学系と、
該感応基板を載置する感応基板ステージと、
を具備する露光装置であって、
前記マスクが、取り付け・取り外しが可能で、開口を有するマスクフレームに保持されたまま前記マスクステージに載置されることを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感応基板上に露光転写されるパターンの原版であるマスク（レチクル含む）を保持するマスクフレームに関する。特には、マスクのフレームからの取り付け取り外しの際のマスク位置再現性を向上させたマスクフレーム、及び、マスクを同マスクフレームに保持したまま露光転写する露光装置及び方法に関する。
【０００２】
【背景技術】
まず、露光装置内のマスクホルダ（保持装置）の例を説明する。
図８（Ａ）は、露光装置内のマスクホルダの構造の一例を示す平面図であり、図８（Ｂ）は、マスクの構造を示す平面図である。
電子線露光装置に使用されるマスク１０は、図８（Ｂ）に示すように円板状で、例えば、径が２００ｍｍ、厚さが０．７ｍｍのシリコン基板を加工して作製されている。マスク１０の中央部には、この例では２つのパターン形成領域４０が設けられている。マスク１０は、パターン形成領域４０の周辺の領域４７でマスクホルダに保持される。
【０００３】
図８（Ａ）に示すマスクホルダ３００は、露光装置のマスクステージに固定されている。マスクホルダ３００の上面には、マスク１０の形状より少し大きい形状のマスク載置面３０１が、その周囲３０３より一段低く形成されている。マスク載置面３０１の中央部には、電子線が通過する窓３０５が形成されている。窓３０５の形状は、マスク１０のパターン形成領域４０より大きい方形である。マスク載置面３０１上の、窓３０５の外側には、４個の静電チャック３０７が配置されている。マスク１０の周辺領域４７はこの静電チャック３０７に静電的に吸着されて、ホルダ３００に保持される。
【０００４】
通常、マスク１０は、図８（Ｂ）に示す裸の状態のまま、露光装置外のマスク保管庫から搬送装置等によって露光装置内に搬送される。そして、マスクを使用しないときや、マスクを持ち運ぶときは、マスクを専用のケース等に収容して保管や持ち運びを行う。
また、マスクの機械強度を高めるために、基板の周辺領域の周囲にフレーム（外周リング）を接着し、フレームを接着したままで露光や保管する場合もある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
フレームのないマスクの場合、マスクの機械強度が低いため、マスクを搬送する際や、ケースに入れて持ち運ぶ際に、マスクが破損するという危険性がある。また、マスクのパターン位置を位置検査装置で検査する場合には、マスクを検査装置のホルダで保持する。ところが、検査装置のホルダと露光装置のホルダは形状やチャックの強さ等が同じでないため、マスクを検査装置のホルダに保持した状態と、露光装置のホルダに保持した状態では、マスクの歪による変形状態が異なる。すると、検査装置で計測したパターン位置が、露光装置におけるパターン位置と異なり、位置再現性が得られないことがある。
【０００６】
また、フレームを接着したマスクは、フレーム接着後にマスクを洗浄する必要がある。このとき、洗浄液がマスクとフレームの接着状態に影響して、接着強度が低下したり、接着強度が不均一になるなどの問題がある。
【０００７】
本発明は上記の問題点に鑑みてなされたものであって、マスクを保護するとともに、マスクのフレームからの取り付け取り外しの際のマスク位置再現性を向上させたマスクフレームなどを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記の問題点を解決するため、本発明のマスクフレームは、  感応基板上に露光転写すべきデバイスパターンが形成されたパターン面、該パターン面を補強する支持体層、及び、該支持体層の周囲に設けられた保持部からなるマスクを保持するマスクフレームであって、  該マスクフレームによって前記マスクを保持したまま露光装置内のマスクステージ及び検査装置への搭載並びに保管が可能であり、  また、前記マスクの前記マスクフレームからの取り外し・取り付けが可能であることを特徴とする。
マスクフレームをマスクに装着することにより、マスクの機械強度が増し、マスク搬送時や持ち運び時のマスクの破損を防ぐことができる。また、パターン位置検査時と露光時は、マスクはフレームに保持されたまま検査装置や露光装置に保持されるため、両装置の保持方法（チャック方法）によるマスク歪の差が少なくなる。そして、露光装置中におけるマスクの歪を予測してマスクのパターンの位置検査データを補正することにより、パターン転写精度を向上できる。
【０００９】
本発明においては、  前記マスクを前記マスクフレームから取り外して再度取り付けた場合における両者の相対的位置決めの再現性が１０μｍ以下の位置決め手段を有することが好ましい。マスクをマスクフレームから外して単体で洗浄し、その後再びマスクフレームを付ける際などにも、複雑な位置決め作業などを行わずにすむ。
【００１０】
本発明のマスクフレームは、  前記マスクフレームが、  前記マスクの保持部の下面に当てられる、開口を有する下プレートと、  前記マスクの保持部の上面に当てられる、開口を有する上プレートと、  両プレートを締結する手段と、  前記下プレート及び／又は上プレートと前記マスクとの位置決め手段と、を備えることとできる。
そして、  前記マスクフレームを、体積低効率が１０００Ωｃｍ以下の非磁性材料で作製すれば、マスクのチャージアップを防止できる。
さらに、  前記マスクフレームを前記マスクとを導通させれば、マスクを接地電位とすることができる。
【００１１】
本発明の露光方法は、  感応基板上に露光転写すべきデバイスパターンをマスク上に形成し、ここで、該マスクは、前記デバイスパターンが形成されたパターン面と、該パターン面を補強する支持体層と、該支持体層の周囲に設けられた保持部と、を有し、  該マスクをエネルギ線で照明し、  該マスクを通過又は反射したエネルギ線を前記感応基板上のしかるべき位置に投影結像させて前記デバイスパターンを転写する露光方法において、  前記マスクを、前記保持部において取り付け・取り外しが可能で、開口を有するマスクフレームに保持した状態で検査した後、同マスクフレームに保持した状態で露光を行うことを特徴とする。
【００１２】
本発明の露光装置は、  感応基板上に露光転写すべきデバイスパターンが形成されたマスクを載置するマスクステージと、  該マスクにエネルギ線を照明する照明光学系と、  該マスクを通過又は反射したエネルギ線を前記感応基板上のしかるべき位置に投影結像させる投影光学系と、  該感応基板を載置する感応基板ステージと、を具備する露光装置であって、  前記マスクが、取り付け・取り外しが可能で、開口を有するマスクフレームに保持されたまま前記マスクステージ上に載置されることを特徴とする。
露光装置中におけるマスクの歪を予測してマスクのパターンの位置検査データを補正することにより、パターン転写精度を向上できる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しつつ説明する。
まず、分割転写方式の電子線露光装置に用いられるマスクの構造の一例を説明する。
図７は、マスクの構成例を模式的に示す図であり、図７（Ａ）は全体の平面図、図７（Ｂ）は一部斜視図、図７（Ｃ）は一つの小メンブレン領域の平面図である。
このようなマスク１０は、例えばシリコンウェハに電子線描画・エッチングを行うことにより作製できる。
【００１４】
図７（Ａ）に示すように、マスク１０の中央には２つのパターン形成領域４０が形成されている。各パターン形成領域４０は、複数の小メンブレン領域４１に分割されている。小メンブレン領域４１は、図７（Ｃ）に示すように、中央部のサブフィールド４２と、サブフィールド４２の周囲の非パターン領域（スカート）４３とからなる。各サブフィールド４２には、感応基板上に露光転写すべきデバイスパターンが分割して形成されており、スカート４３には照明ビームの縁の部分が当たる。
【００１５】
小メンブレン領域４１の周囲には、直交する格子状のマイナーストラット（支持体層）４５が設けられ、マスク１０に機械強度を与えている。マイナーストラット４５の厚さは、例えば０．７ｍｍである。小メンブレン領域４１は、マイナーストラット４５の下縁と同一の面に広がっている。マスク１０のパターン形成領域４０の外側の部分（マイナーストラットの外側の部分）は、マイナーストラットと同じ厚さの周辺領域４７となっている。マスク１０は、この周辺領域（保持部）４７で、後述するマスクフレームに保持される。
【００１６】
図１は、本発明の実施の形態に係るマスクフレームの構造を示す図であり、図１（Ａ）は平面図、図１（Ｂ）は側面図である。
図２は、図１のマスクフレームの分解図である。図２（Ａ）は、下プレートの平面図、図２（Ａ´）は同下プレートの側面断面図、図２（Ｂ）は、上プレートの平面図、図２（Ｂ´）は同上プレートの側面断面図である。
このマスクフレーム２０は、下プレート２１と上プレート２３を備える。両プレートは、体積抵抗率が１０００Ωｃｍ以下で非磁性の材料で作製される。例えば、非磁性材料であるチタンの導電コートがなされた非磁性のセラミックス材を使用できる。両プレートの平面形状は、マスク１０の大きさより大きい方形である。
【００１７】
下プレート２３の上面には、マスク１０の大きさよりやや大きい円形のマスク載置面２３ａが、同載置面の周辺部２３ｂより一段低くなるように形成されている。逆に表現すれば、周辺部２３ｂは、下プレート２３の上面の縁の部分が一段盛り上がった堤のような形態をしている。
上プレート２１は平坦なプレート状である。上プレート２１は、下プレート２３の周辺部２３ｂ上に載置され、両プレート２１、２３は複数のビス（締結手段）２５で取り外し可能に締結される。両プレート２１、２３が締結された状態で、上プレート２１と下プレート２３は導通する。
【００１８】
両プレート２１、２３の中央部には、電子線を通過させるための窓（開口）２７、２９が開けられている。これらの窓２７、２９は両プレートにおいて同じ大きさで、形状はマスク１０のパターン形成領域４０の大きさよりも一回り大きい方形である。そして、図１（Ｂ）、図２に示すように、上プレート２１の窓２７の周囲の壁は、同プレートの下面から上面に向かって外方向に傾斜しており、下プレート２３の窓２９の周囲の壁は、同プレートの上面から下面に向かって外方向に傾斜している。この傾斜面の作用については後述する。
【００１９】
図２（Ａ）にも示すように、下プレート２３上面のレチクル載置面２３ａ上には、基準側マスク保持パッド３３が設けられている。各基準側マスク保持パッド３３は、この例では、平面形状が端部において半円形の帯状のものであり、窓２９の各辺の外側に４個配置されている。そして、図２（Ｂ）にも示すように、上プレート２１の下面にも、同様の平面形状を有するマスク保持パッド３１が設けられている。下プレート２３の基準側マスク保持パッド３３は、セラミックス等の剛性を有する材料で作製され、各パッドの上面は同じ水平面上にある。一方、上プレート２１のマスク保持パッド３１は、バイトンゴムのような弾性を有する材料やばね材で作製される。
【００２０】
マスク１０の外縁には、図１（Ａ）の下部に示すように、マスク位置決め用ノッチ１１が形成されている。そして、下プレート２３上面のレチクル載置面２３ａの周囲の壁面には、マスク位置決めピン３５が設けられている。マスク位置決めピン３５は、中心に対して１２０°の等間隔振り分けで３個配置されており、その内の一つ３５−１（図１（Ａ）の下部に示すもの）は、ばね３７で内方向へ付勢されたノッチ押さえピンとなっている。これらのマスク位置決めピン３５が、マスク位置決め手段を構成する。
【００２１】
次に、マスク１０をマスクフレーム２０に取り付ける方法について説明する。
まず、マスク１０のパターン形成面１０ａを下側にして、マスク１０のノッチ１１をノッチ押さえピン３５−１に合わせ、マスク１０を下プレート２３上の基準側マスク保持パッド３３上に載置する。このとき、マスク１０はノッチ１１において、ノッチ押さえピン３５−１によって２本のマスク位置決めピン３５の方向に付勢される。そして、これら３つのマスク位置決めピン３５によって、基準側マスク保持パッド３３の上面上で拘束される。
【００２２】
次に、上プレート２１を下プレート２３の周辺部２３ｂに載置して、両プレートを複数のビス２５で締結する。すると、上プレート２１側のマスク保持パッド３１の下面がマスク１０の周辺領域４７の上面に当接する。そして、基準側マスク保持パッド３３の上面上において、マスク周辺領域４７は、弾性を持った上プレートのマスク保持パッド３１によって、マスク１０を変形させない程度の力で下方向に押される。この際、マスク１０はもともと基板自体の平面度をもっているが、基準側マスク保持パッド３３の水平面に倣った平面状態で上下方向に拘束される。
【００２３】
マスク１０をマスクフレーム２０から取り外して再度装着する際の水平方向の位置ずれ精度を例えば１０μｍ以下とすることにより、マスク保持後のマスク基板形状に起因するパターンの位置ずれが５ｎｍ以下となることが可能と思われる。したがって、洗浄が必要な際にマスク１０をフレーム２０から取り外して有機溶剤を用いて洗浄した後も、高い精度でマスク１０をフレーム２０に再度取り付けることができる。
【００２４】
次に、このマスクフレームにマスクを保持して露光を行う方法を説明する。
まず、電子線露光装置の構成例を説明する。
図３は、本発明の実施の形態に係る露光装置の構成を模式的に説明するための図である。
図４は、図３の露光装置のマスクステージ付近を詳細に説明する図である。
電子線露光装置１００の上部には、光学鏡筒１０１が配置されている。光学鏡筒１０１には、真空ポンプ（図示されず）が設置されており、光学鏡筒１０１内を真空排気している。
【００２５】
光学鏡筒１０１の上部には、電子銃１０３が配置されており、下方に向けて電子線を放射する。電子銃１０３の下方には、順にコンデンサレンズ１０４ａ、電子線偏向器１０４ｂ等を含む照明光学系１０４が配置されている。同鏡筒１０４の下方には、マスクフレーム２０に保持されたマスク１０が配置されている。
電子銃１０３から放射された電子線は、コンデンサレンズ１０４ａによって収束される。続いて、偏向器１０４ｂにより図の横方向に順次走査（スキャン）され、光学系の視野内にあるマスク１０の各小領域（サブフィールド）の照明が行われる。なお、図ではコンデンサレンズ１０４ａは一段であるが、実際の照明光学系には、数段のレンズやビーム成形開口、ブランキング開口等が設けられている。
【００２６】
マスク１０は、上述のマスクフレーム２０に保持されている。そして、マスクフレーム２０が、マスクステージ１１１に固定されている。マスクフレーム２０のマスクステージ１１１への固定方法については後述する。
マスクステージ１１１は、定盤１１６に載置されている。
【００２７】
マスクステージ１１１には、図の左方に示す駆動装置１１２が接続されている。なお、実際には、駆動装置（リニアモータ）１１２はステージ１１１に組み込まれている。駆動装置１１２は、ドライバ１１４を介して、制御装置１１５に接続されている。また、マスクステージ１１１の側方（図の右方）にはレーザ干渉計１１３が設置されている。レーザ干渉計１１３も、制御装置１１５に接続されている。レーザ干渉計１１３で計測されたレチクルステージ１１１の正確な位置情報が制御装置１１５に入力される。マスクステージ１１１の位置を目標位置とすべく、制御装置１１５からドライバ１１４に指令が送出され、駆動装置１１２が駆動される。その結果、マスクステージ１１１の位置をリアルタイムで正確にフィードバック制御することができる。
【００２８】
定盤１１６の下方には、ウェハチャンバ（真空チャンバ）１２１が配置されている。ウェハチャンバ１２１の側方（図の右側）には真空ポンプ（図示されず）が接続されており、ウェハチャンバ１２１内を真空排気している。
ウェハチャンバ１２１内（実際にはチャンバ内の光学鏡筒内）には、コンデンサレンズ（投影レンズ）１２４ａ、偏向器１２４ｂ等を含む投影光学系１２４が配置されている。ウェハチャンバ１２１内の下部には、ウェハ（感応基板）Ｗが配置されている。
【００２９】
マスクを通過した電子線は、コンデンサレンズ１２４ａにより収束される。コンデンサレンズ１２４ａを通過した電子線は、偏向器１２４ｂにより偏向され、ウェハＷ上の所定の位置にマスク１０の像が結像される。なお、図ではコンデンサレンズ１２４ａは一段であるが、実際には、投影光学系中には複数段のレンズや収差補正用のレンズやコイルが設けられている。
【００３０】
ウェハＷは、ウェハステージ１３１の上部に設けられたチャック１３０に静電吸着等により固定されている。ウェハステージ１３１は、定盤１３６に載置されている。
ウェハステージ１３１には、図の左方に示す駆動装置１３２が接続されている。なお、実際には駆動装置１３２はステージ１３１に組み込まれている。駆動装置１３２は、ドライバ１３４を介して、制御装置１１５に接続されている。また、ウェハステージ１３１の側方（図の右方）にはレーザ干渉計１３３が設置されている。レーザ干渉計１３３も、制御装置１１５に接続されている。レーザ干渉計１３３で計測されたウェハステージ１３１の正確な位置情報が制御装置１１５に入力される。ウェハステージ１３１の位置を目標とすべく、制御装置１１５からドライバ１３４に指令が送出され、駆動装置１３２が駆動される。その結果、ウェハステージ１３１の位置をリアルタイムで正確にフィードバック制御することができる。
【００３１】
図４を参照して、マスクフレーム２０のマスクステージ１１１への固定方法について説明する。
マスク１０は、パターン形成面１０ａを下側にしてマスクフレーム２０に保持された状態でマスクステージ１１１に固定される。マスクステージ１１１には、固定側保持部材１５１と、この固定側保持部材１５１に対して上下に動く可動側保持部材１５３が備えられている。可動側保持部材１５３は、例えばピエゾアクチュエータ１５５のような上下昇降機構により上下に動く。
【００３２】
マスクフレーム２０をマスクステージ１１１に載置する際は、まず、ピエゾアクチュエータ１５５を作動させて可動側保持部材１５３を上昇させる。そして、マスクフレーム２０を各保持部材１５１、１５３の間に水平方向に移動させて、同フレーム２０を固定側保持部材１５１上に載置する。その後、ピエゾアクチュエータ１５５を作動させて可動側保持部材１５３を下降させて、マスクフレーム２０の端部（下プレート２３の周辺部２３ｂの近辺の部分）を両保持部材１５１、１５３の間に挟んでマスクステージ１１１に固定する。なお、この際、マスクフレーム２０に保持されたマスク１０のパターン形成面１０ａが照明光学系１０４の結像位置となるように、マスクステージ１１１の高さが位置決めされている。
【００３３】
このように、マスクフレーム２０は、剛性の高くなっている周囲の部分でマスクステージ１１１に固定されている。マスクフレーム２０は十分な剛性を有するため、上述のようにマスクステージ１１１に固定しても、固定力によってマスク１０の平面形状に影響を与えない。そのため、マスク１０上のパターンが、マスク固定力によって再現性のない位置変化を起こすような事態を防止できる。また、マスクフレーム２０をマスクステージ１１１等を介して接地することにより、マスク１０を接地電位とすることができる。さらに、マスク１０は体積抵抗率が１０００Ωｃｍ以下の材料で作製されているため、マスク１０のチャージアップを防止できる。さらに、マスクフレーム２０に電流検出器を接続すると、マスク１０へ電子線を照射した際にマスク１０に流れる電流量を検出することもできる。
【００３４】
斜入射式光学検出センサを使用して、マスク１０の高さ（Ｚ方向位置）を計測する場合は、図４のマスク１０の左下に示すように、センサからの検出光ＤＢが、マスクの下面（パターン形成面）１０ａに対して斜め下方から入射し、同面で斜め下方に反射する。この際に、上述のように、下プレート２３の窓２９の周囲の壁が、同プレートの上面から下面に向かって外方向に傾斜しているので、パターン形成面１０ａの全面において検出光ＤＢや反射光ＲＢがプレート２３の壁面にさえぎられるようなことがない。
【００３５】
次に、このマスクフレーム２０にマスク１０を保持して、パターン位置検査装置２００で検査する方法を説明する。
図５は、マスクフレームをパターン位置検査装置に搭載した状態を示す図である。
このパターン位置検査装置２００は光学検出式で、検出光学系２０１が上方に位置している。マスクフレーム２０は、マスク１０のパターン形成面１０ａが上側となるようにマスクフレーム２０に保持されて、検査装置２００の保持部材２０３上に載置される。この状態は、マスク１０のパターン形成面１０ａの向きが露光装置の場合と上下が逆である。マスク１０がマスクフレーム２０に保持された状態では、マスク１０の周囲の部分は両保持パッド３１、３３に挟まれて、重力方向に対して両側から保持されているため、マスク１０の周囲の部分の平面度は、マスクを上下逆にしても変わらない。しかし、マスク１０の中央の、フレーム２０に保持されていない部分では、この部分の自重による変形状態がマスクを上下逆にした場合は異なってくる。
【００３６】
そこで高精度に検査するためには、パターン形成面１０ａを上にしたときと下にしたときの両方の場合のパターン位置データを求め、これらのデータから、露光装置中におけるマスク歪を予測して、パターン位置検査データを補正すればよい。なお、このような補正方法については、本願を同一出願人に係る特願２００２−３２６５５９号などを参照されたい。
【００３７】
次に、マスク１０をマスクフレーム２０に保持したまま持ち運ぶためのケースについて説明する。
図６は、マスク持ち運びケースの構造を示す図である。
ケース５０は、例えばプラスチック製で、ベース５１と蓋５３とから構成される。ベース５１上面の外周には、マスクフレーム２０が載置される台座５５が複数個設けられている。そして、蓋５３の内面には、押さえ部材５７が複数個設けられている。ベース５１の台座５５上にマスクフレーム２０を載置し、蓋５３を被せる。そしてベース５１と蓋５３を固定すると、マスクフレーム２０は台座５５と押さえ部材５７との間に挟まれてケース５０内に保持される。
なお、台座と押さえ部材の代わりに、凹凸嵌合などによってフレームをケースに保持してもよい。
【００３８】
ベース５１に蓋５３を被せると、ケース５０内はほぼ密閉状態となり、マスクフレーム２０に保持されているマスク２１へごみが付着することを防ぐことができる。
【００３９】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、本発明によれば、マスクフレームを装着することにより、マスクの機械強度が増し、マスク搬送時や持ち運び時のマスクの破損を防ぐことができる。また、パターン位置検査時と露光時は、マスクはフレームに保持されたまま検査装置や露光装置に保持されるため、両装置の保持方法（チャック方法）によるマスク歪の差が少なくなる。そして、露光装置中におけるマスクの歪を予測してマスクのパターンの位置検査データを補正することにより、パターン転写精度を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態に係るマスクフレームの構造を示す図であり、図１（Ａ）は平面図、図１（Ｂ）は側面図である。
【図２】図１のマスクフレームの分解図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る露光装置の構成を模式的に説明するための図である。
【図４】図３の露光装置のマスクステージ付近を詳細に説明する図である。
【図５】マスクフレームをパターン位置検査装置に搭載した状態を示す図である。
【図６】マスク持ち運びケースの構造を示す図である。
【図７】マスクの構成例を模式的に示す図であり、図７（Ａ）は全体の平面図、図７（Ｂ）は一部斜視図、図７（Ｃ）は一つの小メンブレン領域の平面図である。
【図８】図８（Ａ）は、露光装置内のマスクホルダの構造の一例を示す平面図であり、図８（Ｂ）は、マスクの構造を示す平面図である。
【符号の説明】
１０  マスク                          １１  ノッチ
２０  マスクフレーム                  ２１  下プレート
２３  上プレート                      ２５  ビス
２７、２９  窓（開口）                ３１  マスク保持パッド
３３  基準側マスク保持パッド          ３５  マスク位置決めピン
３７  ばね
４０  パターン領域                    ４１  小メンブレン領域
４２  サブフィールド                  ４３  スカート
４５  マイナーストラット              ４７  周辺領域
５０  ケース                          ５１  ベース
５３  蓋                              ５５  台座
５７  押さえ部材
１００  電子線露光装置                １０１  光学鏡筒
１０３  電子銃                        １０４  照明光学系
１１１  マスクステージ                １１２  駆動装置
１１３  レーザ干渉計                  １１４  ドライバ
１１５  制御装置                      １１６  定盤
１２１  ウェハチャンバ                １２４  投影光学系
１３１  ウェハステージ                １３２  駆動装置
１３３  レーザ干渉計                  １３４  ドライバ
１５１  固定側保持部材                １５３  可動側保持部材
１５７  ピエゾアクチュエータ
２００  検査装置                      ２０１  検出光学系
２０３  保持部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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