(57)【要約】【課題】  シート材のサイズに関わらず、シート材の周縁部を吸着固定台に吸着させてシート材の反りを矯正し、且つ、吸着固定台の吸引用の孔の数を低減する。【解決手段】  レーザー露光装置１０に備えられた吸着固定装置１１では、基板材料２００のサイズに応じて基板材料２００のステージ本体２２（３２）への配置をシフトさせ、基板材料２００が被さった最も外側の小孔２２Ｂ（３２Ｂ）と基板材料２００の周縁部との距離が所定距離以上大きくならないようにしている。【選択図】  図２０
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
負圧を発生させる複数の負圧発生孔が所定ピッチで形成され、載置されたシート材を負圧によって吸着して固定する吸着固定台を備える吸着固定装置であって、
前記シート材を前記吸着固定台に位置決めする位置決め手段が、前記シート材が前記負圧発生孔を最大個数塞ぐように、前記シート材を前記吸着固定台に位置決めすることを特長とする吸着固定装置。
【請求項２】
前記位置決め手段は、前記シート材の周縁部を前記吸着固定台に吸着する最も外側の前記負圧発生孔と前記シート材の周縁部との距離Ｄが全て略同一となる前記吸着固定台上のシフト位置に、前記シート材を位置決めすることを特徴とする請求項１に記載の吸着固定装置。
【請求項３】
前記位置決め手段は、前記吸着固定台に載置される前に前記シート材が待機するシート材待機位置から前記シート材を搬送し、位置決め部材に押し当てて前記吸着固定台上のシフト位置に載置するローダであることを特徴とする請求項１又は２に記載の吸着固定装置。
【請求項４】
前記位置決め手段は、
前記吸着固定台に載置される前に前記シート材が待機するシート材待機位置に設けられ、前記吸着固定台上のシフト位置から前記所定距離だけ離れた位置で前記シート材を位置決めする待機位置位置決め手段と、
前記シート材待機位置で前記シート材を保持し、所定距離だけ移動して前記シート材を前記吸着固定台上のシフト位置に載置するローダと、
を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の吸着固定装置。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れかに記載の吸着固定装置を備え、
前記吸着固定台の基準位置に載置された前記シート材に前記シート材のサイズに応じた画像形成領域で画像を形成する画像形成手段と、
前記吸着固定台上のシフト位置に載置された前記シート材の前記基準位置からのシフト量に応じて、画像形成領域をシフトさせて前記画像形成手段に画像を形成させる画像形成領域変更手段と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
前記画像形成領域変更手段が、
前記シート材に表示された位置マークを読み取り前記シート材の位置情報を前記画像形成手段に送信する位置情報取得手段と、
前記位置情報取得手段を前記シート材の前記吸着固定台上の基準位置からシフト位置までのシフト量に応じてシフトさせるシフト手段と、
を有することを特徴とする請求項５に記載の画像形成装置。
【請求項７】
前記画像形成手段が、空間変調素子であることを特徴とする請求項５又は６に記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、負圧を発生させる複数の負圧発生孔が形成され、載置されたシート材を負圧によって吸着して固定する吸着固定台を備える吸着固定装置、及び、吸着固定装置に吸着固定されたシート材に画像を形成する画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来からプリント基板等のシート材を露光して画像を形成する画像露光装置では、多数の負圧発生孔が形成された吸着固定台に基板を吸着固定して露光を行う方法が用いられている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
特許文献１では、複数のサイズのシート材を吸着固定台に吸着固定するための方法が開示されている。この方法では、吸着固定台に基板を載置する際、吸着固定台に設けられた基準部材にシート材を押し当てることによって、シート材の吸着固定台上での位置決めが行われている。
【０００４】
このため、基準部材に押し当てられたシート材の縁部とこの縁部に最も近接する負圧発生穴との距離は常に一定となる。しかし、基準部材に押し当てられていない縁部とこの縁部に最も近接する負圧発生穴との距離は、シート材のサイズによって異なり、この距離は、最大で（負圧発生孔のピッチ）−（負圧発生孔の孔径）となる。
【０００５】
ここで、シート材には多少の反りがあり、この反りを負圧発生孔からの負圧で吸着固定台に吸着することによって矯正する必要がある。しかし、縁部と縁部に最も近接する負圧発生穴との距離が大きくなってしまうと、シート材の反りを矯正するだけの大きな吸着力をシート材の縁部に付与することができなくなってしまう。
【０００６】
これは、負圧発生孔のピッチを小さくすることによって解決可能であるが、負圧発生孔のピッチを小さくすると、負圧発生孔の孔数が増え、吸着固定台の加工コストが増大し、また、負圧発生孔に負圧を発生させるための配管類が煩雑化する、という問題があった。
【特許文献１】登録実用新案３０１３０７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上記事実を考慮してなされたものであり、シート材の周縁部にシート材の反りを矯正するだけの吸着力を付与し、且つ吸着固定台に形成する負圧発生孔の孔数を低減することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１に記載の吸着固定装置は、負圧を発生させる複数の負圧発生孔が所定ピッチで形成され、載置されたシート材を負圧によって吸着して固定する吸着固定台を備える吸着固定装置であって、前記シート材を前記吸着固定台に位置決めする位置決め手段が、前記シート材が前記負圧発生孔を最大個数塞ぐように、前記シート材を前記吸着固定台に位置決めすることを特長とする。
【０００９】
請求項１に記載の吸着固定装置では、シート材が吸着固定台に形成された負圧発生孔から発生される負圧によって吸着固定台に吸着されて固定される。この際、シート材は位置決め手段によって吸着固定台に位置決めされる。
【００１０】
ここで、位置決め手段は、シート材が負圧発生孔を最大個数塞ぐように、シート材を吸着固定台に位置決めする。これによって、シート材の周縁部とシート材によって塞がれる最も外側の負圧発生孔との距離を、シート材を基準位置からシフトさせない場合と比して短くできる。従って、シート材の周縁部を吸着固定台に吸着でき、シート材の反りを矯正できる。また、シート材の所定ピッチを広くする余裕が生まれるので、負圧発生孔の孔数を低減でき、吸着固定台の加工コストを低減できる。また、負圧発生孔に負圧を発生させるための配管類を簡素化できる。
【００１１】
請求項２に記載の吸着固定装置は、請求項１に記載の吸着固定装置であって、前記位置決め手段は、前記シート材の周縁部を前記吸着固定台に吸着する最も外側の前記負圧発生孔と前記シート材の周縁部との距離Ｄが全て略同一となる前記吸着固定台上のシフト位置に、前記シート材を位置決めすることを特徴とする。
【００１２】
ここで、シート材を吸着固定台に吸着する最も外側の負圧発生孔とシート材の周縁部との距離Ｄが大きい程、シート材の周縁部を吸着固定台に吸着する力が弱くなり、シート材は反りを矯正されず、この矯正されない反り量が増加する。そして、この距離Ｄの最大値ＤMAXは、シート材のサイズによっては負圧発生孔のピッチ程度になる。
【００１３】
そこで、請求項２に記載の吸着固定装置では、位置決め手段が、距離Ｄが全て略同一となるように吸着固定台上のシフト位置に位置決めする。これによって、最大値ＤMAXは負圧発生孔のピッチの１／２程度となり、従来と比して半分となる。このように、最大値ＤMAXを小さくすることでシート材の周縁部の反り量も小さくなるので、シート材全域の反り量の最大値を最小化することができる。
【００１４】
また、最大値ＤMAXが、常に負圧発生孔の１／２となるので、負圧発生孔のピッチを従来の２倍としても従来と同様の反り矯正力が発揮される。従って、従来と比して負圧発生孔の孔数を減少させることができるので、吸着固定台の加工コストを低減でき、負圧発生孔に負圧を発生させるための配管類を簡素化できる。
【００１５】
請求項３に記載の吸着固定装置は、請求項１又は２に記載の吸着固定装置であって、前記位置決め手段は、前記吸着固定台に載置される前に前記シート材が待機するシート材待機位置から前記シート材を搬送し、前記シート材のサイズに応じてシフトされる位置決め部材に押し当てて前記吸着固定台上のシフト位置に載置するローダであることを特徴とする。
【００１６】
請求項３に記載の吸着固定装置では、基板サイズに応じて位置決め部材がシフトされる。そして、ローダがシート材待機位置からシート材を搬送し、位置決め部材に押し当てて吸着固定台上のシフト位置に載置する。
【００１７】
請求項４に記載の吸着固定装置は、請求項１又は２に記載の吸着固定装置であって、前記位置決め手段は、前記吸着固定台に載置される前に前記シート材が待機するシート材待機位置に設けられ、前記吸着固定台上のシフト位置から前記所定距離だけ離れた位置で前記シート材を位置決めする待機位置位置決め手段と、前記シート材待機位置で前記シート材を保持し、所定距離だけ移動して前記シート材を前記吸着固定台上のシフト位置に載置するローダと、を有することを特徴とする。
【００１８】
請求項４に記載の吸着固定装置では、シート材が吸着固定台に載置される前にシート材待機位置で待機する。このシート材待機位置には待機位置位置決め手段が設けられている。この待機位置位置決め手段は、吸着固定台上のシート材のサイズに応じたシフト位置から所定距離だけ離れた位置でシート材を位置決めする。
【００１９】
シート材待機位置に位置決めされたシート材は、ローダによって保持され所定距離だけ移動されて吸着固定台のシフト位置に載置される。
【００２０】
即ち、ローダは、シフト位置に対応して位置決めされたシート材を保持して所定ストロークだけ移動し、シート材をシフト位置に載置する。これによって、ローダの移動量を制御する必要がなく、ローダの移動機構を簡素化でき、コストの上昇を抑制できる。
【００２１】
請求項５に記載の画像形成装置は、請求項１乃至４の何れかに記載の吸着固定装置を備え、前記吸着固定台の基準位置に載置された前記シート材に前記シート材のサイズに応じた画像形成領域で画像を形成する画像形成手段と、前記吸着固定台上のシフト位置に載置された前記シート材の前記基準位置からのシフト量に応じて、画像形成領域をシフトさせて前記画像形成手段に画像を形成させる画像形成領域変更手段と、を有することを特徴とする。
【００２２】
請求項５に記載の画像形成装置では、画像形成手段が、吸着固定台の基準位置に載置されたシート材にシート材のサイズに応じた画像形成領域で画像を形成する。シート材が基準位置からシフトすると、画像形成領域変更手段は、シート材の基準位置からのシフト量に応じて画像形成領域をシフトさせて画像形成手段に画像を形成させる。これによって、シート材の所望の領域に画像を形成できる。
【００２３】
請求項６に記載の画像形成装置は、請求項５に記載の画像形成装置であって、前記画像形成領域変更手段が、前記シート材に表示された位置マークを読み取り前記シート材の位置情報を前記画像形成手段に送信する位置情報取得手段と、前記位置情報取得手段を前記シート材の前記吸着固定台上の基準位置からシフト位置までのシフト量に応じてシフトさせるシフト手段と、を有することを特徴とする。
【００２４】
請求項６に記載の画像形成装置では、位置情報取得手段がシート材に表示された位置マークを読み取りシート材の位置情報を画像形成手段に送信する。また、位置情報取得手段は、シフト手段によってシート材の基準位置からのシフト量に応じてシフトされる。このため、シート材が基準位置からシフトされても、位置情報取得手段によって位置マークを読み取ることができる。また、シート材が基準位置からシフトされても、シート材の所望の位置へ画像を形成できる。
【００２５】
請求項７に記載の画像形成装置は、請求項５又は６に記載の画像形成装置であって、前記画像形成手段が、空間変調素子であることを特徴とする。
【００２６】
請求項７に記載の画像形成装置では、吸着固定台に吸着固定されたシート材の反りが矯正されているので、空間変調素子とシート材との光学的距離が略一定となり、良好な画像を形成できる。
【発明の効果】
【００２７】
本発明は上記構成にしたので、シート材の周縁部にシート材の反りを矯正するだけの吸着力を付与することができ、且つ吸着固定台に形成する負圧発生孔の孔数を低減できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下に図面を参照しながら本発明の実施形態について説明する。
【００２９】
図１、図２は本発明の吸着固定装置１１と画像形成手段としての露光ヘッド１００等を備えるレーザー露光装置１０を示す概略斜視図である。本発明に係るレーザー露光装置１０は、プリント配線基板の材料となる薄肉プレート状の基板材料２００を、所定の速度で搬送しながら、画像情報により変調されたレーザービームＢによって露光し、その基板材料２００に、配線パターンに対応する画像（潜像）を形成するものである。
【００３０】
そこで、説明の便宜上、図１の矢印Ｘで表す方向を基板材料２００の「搬送方向」とし、それを基準に「上流側」及び「下流側」の表現をする。また、それとは反対方向を基板材料２００の「復帰方向」とする。更に、矢印Ｘと直交する方向を矢印Ｙで表し、レーザー露光装置１０における「幅方向」とする。
【００３１】
［露光装置の概要］
まず、最初に、レーザー露光装置１０の概要を説明する。図１、図２で示すように、レーザー露光装置１０は、基板材料２００を表面（上面）に吸着して保持しながら搬送方向へ移動する所定厚さの側面視略「Ｌ」字状ステージ部材を２基備えている。この２基のステージ部材２０、３０は、共に同じ構成であるが、説明の便宜上、搬送方向に向かって左側をステージ部材２０、右側をステージ部材３０とする。また、基板材料２００は、ステージ部材２０上に吸着保持されている方を基板材料２００Ａ、ステージ部材３０上に吸着保持されている方を基板材料２００Ｂ等として説明する場合がある。
【００３２】
各ステージ部材２０、３０は、それぞれ搬送手段としてのリニア走行体４０、６０に昇降自在に片持ち支持されており、各リニア走行体４０、６０はステージ部材２０、３０が内側に来るように隣接して搬送方向及び復帰方向へ移動可能に支持されている。したがって、各リニア走行体４０、６０がすれ違うときには、内側にあるステージ部材２０、３０が互いに干渉しないように、例えば一方のステージ部材２０を上方位置に、他方のステージ部材３０を下方位置にそれぞれ昇降移動させるようにしている。つまり、各ステージ部材２０、３０は、上方位置にて搬送方向へ移動し、それに吸着保持された基板材料２００が露光され、その基板材料２００が取り除かれた後、下方位置にて復帰方向へ移動し、元の初期位置（基板材料２００がロードされる搭載位置）に復帰するようになっている。
【００３３】
リニア走行体４０、６０は基台１２上に移動可能に支持され、その基台１２の搬送方向両側には一対の側壁１４が立設されている。そして、その側壁１４の上部には画像位置検出装置１８０を構成するＣＣＤカメラ１８２（アライメントカメラ）を取り付けるゲート１８が幅方向に架設されている。そして更に、そのゲート１８と所定間隔を隔てた下流側の側壁１４の上部には複数個の露光ヘッド１００を取り付けるゲート１６が幅方向に架設されている。
【００３４】
露光ヘッド１００は、そのゲート１６を通過する基板材料２００に向かってレーザービームＢを照射できるように下向き状態で固定されており、ＣＣＤカメラ１８２は、そのゲート１８を通過する基板材料２００の位置（描画領域）検出用のアライメントマーク２０１（図２０参照）を撮像できるように下向き状態で、かつ幅方向へ往復移動自在に設けられている。
【００３５】
したがって、このレーザー露光装置１０は、主に次のように動作する。まず、基板材料２００Ａがローダ８０によってステージ部材２０の載置面２２Ａ上に載置される。そして、その載置面２２Ａ上に吸着保持された状態で搬送されながら、ＣＣＤカメラ１８２によりアライメントマーク２０１が撮像されて、その位置（描画領域）が検出され、更に、その検出結果に基づいて、所定の描画領域が露光ヘッド１００により露光される。露光が終了すると、基板材料（プリント配線基板）２００Ａは、ステージ部材２０上からアンローダ９０によって取り除かれる。
【００３６】
一方、このとき、すでにステージ部材３０は、次の基板材料２００Ｂを載置面３２Ａ上に吸着保持した状態で搬送され、ＣＣＤカメラ１８２により位置検出されて露光が開始されている。すなわち、先に基板材料（プリント配線基板）がアンロードされたステージ部材３０は、ステージ部材２０上の基板材料２００Ａが露光されている間に、そのステージ部材２０の下方を通って初期位置（搭載位置）に復帰移動し、次の基板材料２００Ｂがロードされて、ＣＣＤカメラ１８２により位置検出される工程まで進むように構成されている。
【００３７】
このように、レーザー露光装置１０は、各ステージ部材２０、３０が交互に循環移動することにより、基板材料２００の露光が順次絶え間なく行われる構成になっており、露光ヘッド１００の稼働率、即ちプリント配線基板の製造効率が向上されるようになっている。
【００３８】
ここで、レーザー露光装置１０では、載置面２２Ａ、３２Ａに形成された小孔２２Ｂ、３２Ｂと基板材料２００の周縁部との位置関係によっては、基板材料２００の周縁部を載置面２２Ａ、３２Ａに吸着できずに基板材料２００の反りを矯正できない場合がある。このため、ローダ８０によって、基板材料２００を基板サイズに応じて載置面２２Ａ、３２Ａに位置決めする。なお、詳細は後述する。
【００３９】
以上がレーザー露光装置１０の概要であり、以下、各部の構成について詳細に説明する。
【００４０】
［露光ヘッドの構成］
まず、図６乃至図１８を基に露光ヘッド１００の構成について詳細に説明する。上記したように、露光ヘッド１００は、レーザー露光装置１０の幅方向に架設されたゲート１６の上部に垂設され、その真下の露光位置をステージ部材２０に吸着保持されて搬送されて来た基板材料２００が通過するときに、その基板材料２００の被露光面２０２に対して、上方から画像情報に基づいて変調されたレーザービームＢを照射して露光し、その被露光面２０２にプリント配線基板の配線パターンに対応する画像（潜像）を形成するようになっている。
【００４１】
ここで、基板材料２００の上面部は、感光材料により薄膜状の感光性塗膜が成膜された被露光面２０２となっており、被露光面２０２は潜像（画像）形成後に、エッチング等の所定の処理を受けることにより、潜像に対応する配線パターンが形成されるようになっている。なお、感光性塗膜は、基板材料２００に液状の感光材料を塗布して乾燥硬化させるか、予めフィルム状に成膜された感光材料をラミネートすることによって形成される。
【００４２】
露光ヘッド１００は、図６、図７で示すように、ｍ行ｎ列（例えば３行５列）の略マトリックス状に複数（例えば１４個）配列されて構成されており、図示のものは、基板材料２００の幅との関係で、３行目には４個の露光ヘッド１００が配置されている。なお、以下、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドを示す場合は、露光ヘッド１００mnと表記する。
【００４３】
露光ヘッド１００による露光エリア１０２は、副走査方向が短辺となる矩形状とされている。したがって、ステージ部材２０が搬送方向へ移動することにより（露光ヘッド１００が相対的に副走査方向へ移動することにより）、基板材料２００における被露光面２０２上の描画領域２０４には露光ヘッド１００毎に帯状の露光済み領域２０６が順次形成される。なお、以下、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッド１００による露光エリア１０２を示す場合は、露光エリア１０２mnと表記する。
【００４４】
また、図７で示すように、帯状の露光済み領域２０６が副走査方向と直交する方向（主走査方向）に隙間無く並ぶように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド１００は、それぞれ配列方向に所定間隔（露光エリアの長辺の自然数倍、本実施形態では２倍）ずらして配置されている。このため、１行目の露光エリア１０２11と露光エリア１０２12との間の露光できない部分は、２行目の露光エリア１０２21と３行目の露光エリア１０２31とにより露光することができる。
【００４５】
各露光ヘッド１００11〜１００mnは、図８で示すように、入射された光ビームを画像情報に応じて各画素毎に変調する空間光変調素子としてのデジタル・マイクロミラー・デバイス（以下、「ＤＭＤ」という）１０６を備えている。ＤＭＤ１０６は、図示するように、ＳＲＡＭセル（メモリーセル）１０８上に、画素（ピクセル）を構成する多数の（例えば６００個×８００個）の微小ミラー（以下、「マイクロミラー」という）１１０が格子状に配列されて一体的に構成されたミラーデバイスであり、マイクロミラー１１０の表面には、反射率が９０％以上となるように、アルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。そして、各マイクロミラー１１０は、ヒンジ及びヨークを含む支柱（図示省略）によって支持されている。
【００４６】
したがって、ＤＭＤ１０６のＳＲＡＭセル１０８にデジタル信号が書き込まれると、支柱に支えられたマイクロミラー１１０が、対角線を中心としてＤＭＤ１０６が配置された基部側に対して±α°（例えば±１０°）の範囲で傾けられる。つまり、画像信号に応じてＤＭＤ１０６のマイクロミラー１１０の傾きが制御されることにより、ＤＭＤ１０６に入射された光がそれぞれのマイクロミラー１１０の傾き方向へ反射される。ちなみに、図９（Ａ）はマイクロミラー１１０がＯＮ状態である＋α°に傾いた状態を示し、図９（Ｂ）はマイクロミラー１１０がＯＦＦ状態である−α°に傾いた状態を示している。また、ＯＦＦ状態のマイクロミラー１１０により光ビームが反射される方向には、光吸収体（図示省略）が配置されている。
【００４７】
また、ＤＭＤ１０６は、上記したように、マイクロミラー１１０を多数個（例えば８００個）長手方向に配列してなるマイクロミラー列が、多数組（例えば６００組）短手方向に配列されて構成されているが、更にその短手方向の辺（短辺）が副走査方向と所定角度θ（例えば１°〜５°）をなすように、僅かに傾斜させられて配置されている。図１０（Ａ）はＤＭＤ１０６を傾斜させない場合の各マイクロミラー１１０による反射光像（露光ビーム）１０４の走査軌跡を示し、図１０（Ｂ）はＤＭＤ１０６を所定角度θ傾斜させた場合の反射光像（露光ビーム）１０４の走査軌跡を示している。このように、ＤＭＤ１０６を傾斜させると、各マイクロミラー１１０による露光ビームの走査軌跡（走査線）のピッチＰ2を、ＤＭＤ１０６を傾斜させない場合の走査線のピッチＰ1より狭くすることができるので、解像度を大幅に向上させることができる。
【００４８】
そして更に、異なるマイクロミラー列により同じ走査線上が重ねて露光（多重露光）されることになるため、露光位置の微少量をコントロールすることができ、高精細な露光を実現することができる。したがって、主走査方向に配列された複数の露光ヘッド１００間のつなぎ目を微少量の露光位置制御により段差無くつなぐことができる。なお、ＤＭＤ１０６の傾斜角度θは微小であるので、ＤＭＤ１０６を傾斜させた場合の走査幅Ｗ2と、ＤＭＤ１０６を傾斜させない場合の走査幅Ｗ1とは略同一である。また、ＤＭＤ１０６を傾斜させる代わりに、各マイクロミラー列を副走査方向と直交する方向に所定間隔ずらした千鳥状に配置しても、同様の効果が得られることは言うまでもない。
【００４９】
また、露光ヘッド１００を駆動制御する制御装置１３（図１９参照）には、画像情報処理部１５（図１９参照）とミラー駆動制御部１７（図１９参照）とが組み込まれている。画像情報処理部１５では、レーザー露光装置１０全体を制御するコントローラー１９（図１９参照）から入力された配線パターンに対応する画像情報に基づいて、各露光ヘッド１００毎にＤＭＤ１０６の制御すべき領域内の各マイクロミラー１１０を駆動制御する制御信号を生成する。そして、ミラー駆動制御部１７では、画像情報処理部１５で生成した制御信号に基づいて、各露光ヘッド１００毎にＤＭＤ１０６の各マイクロミラー１１０の角度をＯＮ状態又はＯＦＦ状態に制御するようになっている。
【００５０】
また、図１１で示すように、ＤＭＤ１０６の光入射側には、光ファイバーの出射端部（発光点）が露光エリア１０２の長辺方向と対応する方向に沿って１列に配列されたレーザー出射部１１４を備えたファイバーアレイ光源１１２と、ファイバーアレイ光源１１２から出射されたレーザー光を補正してＤＭＤ１０６上に集光させるレンズ系１２０と、レンズ系１２０を透過したレーザー光をＤＭＤ１０６に向けて反射するミラー１１６とが順に配置されている。そして、ＤＭＤ１０６の光反射側には、ＤＭＤ１０６で反射されたレーザー光を基板材料２００の被露光面２０２上に結像するレンズ系１２２、１２４が、ＤＭＤ１０６と被露光面２０２とが共役な関係となるように配置されている。
【００５１】
レンズ系１２０は、図１２で示すように、ファイバーアレイ光源１１２から出射されたレーザー光を平行光化する１対の組合わせレンズ１２６と、平行光化されたレーザー光の光量分布が均一になるように補正する１対の組合わせレンズ１２８と、光量分布が補正されたレーザー光をＤＭＤ１０６上に集光する集光レンズ１１８とで構成されている。組合わせレンズ１２８は、レーザー出射端の配列方向に対しては、レンズの光軸に近い部分は光束を広げ、光軸から離れた部分は光束を縮め、更に、この配列方向と直交する方向に対しては、光をそのまま通過させる機能を備えており、光量分布が均一となるようにレーザー光を補正するようになっている。
【００５２】
また、ファイバーアレイ光源１１２は、図１３（Ａ）で示すように、複数（例えば６個）のレーザーモジュール１３０を備えており、各レーザーモジュール１３０には、マルチモード光ファイバー１３２の一端が結合されている。マルチモード光ファイバー１３２の他端には、コア径がマルチモード光ファイバー１３２と同一で、かつクラッド径がマルチモード光ファイバー１３２より小さい光ファイバー１３４が結合され、図１３（Ｃ）で示すように、光ファイバー１３４の出射端部（発光点）が副走査方向と直交する主走査方向に沿って１列に配列されることによって、レーザー出射部１１４が構成されている。なお、図１３（Ｄ）で示すように、光ファイバー１３４の出射端部（発光点）を主走査方向に沿って２列に配列することも可能である。
【００５３】
光ファイバー１３４の出射端部は、図１３（Ｂ）で示すように、表面が平坦な２枚の支持板１３６に挟み込まれて固定されている。また、光ファイバー１３４の光出射側には、光ファイバー１３４の端面を保護するために、ガラス等の透明な保護板１３８が配置されている。保護板１３８は、光ファイバー１３４の端面と密着させて配置してもよく、光ファイバー１３４の端面が密封されるように配置してもよい。光ファイバー１３４の出射端部は、光密度が高く、集塵しやすく、劣化しやすいが、保護板１３８を配置することにより、端面への塵埃の付着を防止することができるとともに、劣化を遅らせることができる。
【００５４】
また、図１３（Ｂ）で示すように、クラッド径が小さい光ファイバー１３４の出射端を隙間なく１列に配列するために、クラッド径が大きい部分で隣接する２本のマルチモード光ファイバー１３２の間にマルチモード光ファイバー１３２を積み重ね、積み重ねられたマルチモード光ファイバー１３２に結合された光ファイバー１３４の出射端が、クラッド径が大きい部分で隣接する２本のマルチモード光ファイバー１３２に結合された２本の光ファイバー１３４の出射端間に挟まれるように配列されている。これは、クラッド径が大きいマルチモード光ファイバー１３２のレーザー光出射側の先端部分に、長さ１〜３０ｃｍのクラッド径が小さい光ファイバー１３４を同軸的に結合する、例えば光ファイバー１３４の入射端面を、マルチモード光ファイバー１３２の出射端面に、両方の中心軸が一致するように融着することにより得ることができる。
【００５５】
なお、マルチモード光ファイバー１３２及び光ファイバー１３４としては、ステップインデックス型光ファイバー、グレーテッドインデックス型光ファイバー、複合型光ファイバーの何れも使用可能であり、図１４で示すように、光ファイバー１３４のコア１３４Ａの径は、マルチモード光ファイバー１３２のコア１３２Ａの径と同じ大きさになっている。すなわち、光ファイバー１３４は、クラッド径＝６０μｍ、コア径＝２５μｍであり、マルチモード光ファイバー１３２は、クラッド径＝１２５μｍ、コア径＝２５μｍである。そして、マルチモード光ファイバー１３２の入射端面コートの透過率が９９．５％以上になっている。
【００５６】
また、図示しないが、長さが短くてクラッド径が大きい光ファイバーに、クラッド径が小さい光ファイバーを融着させた短尺光ファイバーを、フェルールや光コネクター等を介してマルチモード光ファイバー１３２の出射端に結合してもよい。このように、光コネクター等を用いて、短尺光ファイバー（クラッド径が小さい光ファイバー）を、マルチモード光ファイバー１３２に着脱可能に構成すると、クラッド径が小さい光ファイバーが破損した場合等には、その部分の交換が容易にできるようになるので、露光ヘッド１００のメンテナンスに要するコストを低減することができる。なお、以下では、光ファイバー１３４を、マルチモード光ファイバー１３２の出射端部と称する場合がある。
【００５７】
レーザーモジュール１３０は、図１５で示す合波レーザー光源（ファイバー光源）によって構成されている。この合波レーザー光源は、ヒートブロック１４０上に配列固定された複数（例えば７個）のチップ状の横マルチモード、又はシングルモードのＵＶ系半導体レーザーＬＤ１、ＬＤ２、ＬＤ３、ＬＤ４、ＬＤ５、ＬＤ６、ＬＤ７と、ＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７の各々に対応して設けられたコリメーターレンズ１４２、１４４、１４６、１４８、１５０、１５２、１５４と、１つの集光レンズ１５６と、１本のマルチモード光ファイバー１３２とで構成されている。つまり、コリメーターレンズ１４２〜１５４及び集光レンズ１５６によって集光光学系が構成され、その集光光学系とマルチモード光ファイバー１３２とによって合波光学系が構成されている。
【００５８】
したがって、露光ヘッド１００において、ファイバーアレイ光源１１２の合波レーザー光源を構成するＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７の各々から発散光状態で出射したレーザービームＢ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４、Ｂ５、Ｂ６、Ｂ７の各々は、まず、対応するコリメーターレンズ１４２〜１５４によって平行光化される。そして、平行光化されたレーザービームＢ１〜Ｂ７は、集光レンズ１５６によって集光され、マルチモード光ファイバー１３２のコア１３２Ａの入射端面に収束する。
【００５９】
マルチモード光ファイバー１３２のコア１３２Ａの入射端面に収束したレーザービームＢ１〜Ｂ７は、そのコア１３２Ａに入射して光ファイバー内を伝搬し、１本のレーザービームＢに合波される。ＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７は、発振波長及び最大出力がすべて同じであり、このときの結合効率が、例えば８５％であるとすると、ＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７の各出力が３０ｍＷの場合には、出力約１８０ｍＷ（＝３０ｍＷ×０．８５×７）の合波レーザービームＢを得ることができる。
【００６０】
こうして、マルチモード光ファイバー１３２の出射端部に結合された光ファイバー１３４から合波レーザービームＢが出射されるが、例えば図１１、図１３（Ｃ）で示すように、６本の光ファイバー１３４がアレイ状に配列された（高輝度の発光点が主走査方向に沿って１列に配列された）レーザー出射部１１４の場合には、その出力は約１Ｗ（＝１８０ｍＷ×６）の高出力となる。なお、合波レーザー光源を構成するＵＶ系半導体レーザーの個数は７個に限定されるものではない。
【００６１】
また、以上のような合波レーザー光源（ＵＶ系半導体レーザー）は、図１６、図１７で示すように、他の光学要素と共に、上方が開口した箱状のパッケージ１６０内に収納されている。パッケージ１６０は、その開口を閉塞可能なパッケージ蓋１６２を備えており、脱気処理をした後に封止ガスを注入し、パッケージ１６０の開口をパッケージ蓋１６２で閉じることにより、パッケージ１６０とパッケージ蓋１６２とにより形成される閉空間（封止空間）内に、上記の合波レーザー光源が気密封止されるようになっている。
【００６２】
パッケージ１６０の底面にはベース板１６４が固定されており、このベース板１６４の上面には、ヒートブロック１４０と、集光レンズ１５６を保持する集光レンズホルダー１５８と、マルチモード光ファイバー１３２の入射端部を保持するファイバーホルダー１６６とが取り付けられている。マルチモード光ファイバー１３２の出射端部は、パッケージ１６０の壁面に形成された開口からパッケージ１６０外に引き出されている。
【００６３】
また、ヒートブロック１４０の側面にはコリメーターレンズホルダー１６８が取り付けられており、コリメーターレンズ１４２〜１５４が保持されている。パッケージ１６０の横壁面には開口が形成され、この開口を通してＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７に駆動電流を供給する配線１７０がパッケージ１６０外に引き出されている。なお、図１６、図１７においては、図の煩雑化を避けるために、複数のＵＶ系半導体レーザーのうち、ＵＶ系半導体レーザーＬＤ７にのみ符号を付し、複数のコリメーターレンズのうち、コリメーターレンズ１５４にのみ符号を付している。
【００６４】
また、コリメーターレンズ１４２〜１５４の取り付け部分の正面形状を図１８で示す。コリメーターレンズ１４２〜１５４の各々は、非球面を備えた円形レンズの光軸を含む領域を、平行な平面で細長く切り取った形状に形成されている。この細長形状のコリメーターレンズ１４２〜１５４は、例えば樹脂又は光学ガラスをモールド成形することによって得ることができる。そして、コリメーターレンズ１４２〜１５４は、長さ方向がＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７の発光点の配列方向（図の左右方向）と直交するように、かつ発光点の配列方向に密接配置されている。
【００６５】
また、ＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７としては、発光幅が２μｍの活性層を備え、活性層と平行な方向、直角な方向の拡がり角が各々、例えば１０°、３０°の状態で各々レーザービームＢ１〜Ｂ７を発するレーザーが用いられている。これらＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７は、活性層と平行な方向に発光点が１列に並ぶように配設されている。したがって、各発光点から発せられたレーザービームＢ１〜Ｂ７は、細長形状の各コリメーターレンズ１４２〜１５４に対して、拡がり角度が大きい方向が長さ方向と一致し、拡がり角度が小さい方向が幅方向（長さ方向と直交する方向）と一致する状態で入射することになる。
【００６６】
また、集光レンズ１５６は、非球面を備えた円形レンズの光軸を含む領域を平行な平面で細長く切り取って、コリメーターレンズ１４２〜１５４の配列方向、つまり水平方向に長く、それと直角な方向に短い形状に形成されている。この集光レンズ１５６も、例えば樹脂又は光学ガラスをモールド成形することにより得ることができる。
【００６７】
［ローダ及びステージ本体の載置面の構成］
次に、ローダ８０及びステージ本体２２、３２の載置面２２Ａ、３２Ａについて説明する。図１、図４に示すように、ローダ８０は、基台１２の搬送方向上流側に設けられた供給コンベア８６の下流端部（シート材待機位置）を跨ぐように設けられている。
【００６８】
また、図２０に示すように、供給コンベア８６の下流端部には供給コンベア８６によって搬送されてきた基板材料２００を位置決めする位置決め装置２３が設けられている。この位置決め装置２３は、供給コンベア８６の上面に当接するコ字状の枠体２５を備える。
【００６９】
枠体２５は、供給コンベア８６の幅方向に延出する第１部材２５Ａと、第１部材２５Ａの両端部付近から搬送方向上流側へ延出する第２部材２５Ｂ、第３部材２５Ｃとで構成されている。第１部材２５Ａは、搬送方向に移動可能に支持部材（図示省略）に支持されており、第２部材２５Ｂ、第３部材２５Ｃは、幅方向に移動可能に支持部材（図示省略）に支持されている。
【００７０】
また、第１部材２５Ａには、図示しないラックやギア等の駆動力伝達機構が備えられ、この駆動力伝達機構にステッピングモータ２７（図１９参照）から駆動力が付与される。また同様に、第２部材２５Ｂ、第３部材２５Ｃにも、駆動力伝達機構が備えられており、この駆動力伝達機構にステッピングモータ２９、３１（共に図１９参照）から駆動力が付与される。
【００７１】
ユーザーによって基板材料２００のサイズがサイズ入力部３３（図１９参照）に入力されると、そのサイズに応じた駆動信号がコントローラ１９によってステッピングモータ２７、２９、３１に送信される。そして、ステッピングモータ２７は、駆動信号に基づいた回転数だけ回転し、第１部材２５Ａを搬送方向の基板サイズに応じた所定位置まで移動させる。また、ステッピングモータ２９、３１は、駆動信号に基づいた回転数だけ回転し、第２部材２５Ａ、第３部材２５Ｃを幅方向の基板サイズに応じた所定位置まで移動させる。
【００７２】
また、第１部材２５Ａ、第２部材２５Ｂ、第３部材２５Ｃの内側の縁部には、２個の位置決め突起２５Ｄ、２５Ｅ、２５Ｆがそれぞれ形成されており、この位置決め突起２５Ｄ、２５Ｅ、２５Ｆが基板材料２００の周縁部に当接することによって基板材料２００は位置決めされる。
【００７３】
さらに、第２部材２５Ｂ、第３部材２５Ｃには、上流側の位置決め突起２５Ｅ、２５Ｆから搬送方向の上流側へ向けて次第に広がるテーパ形状の案内部２５Ｇ、２５Ｈが形成されている。このため、供給コンベア８６によって位置決め装置２３へ搬送されてきた基板材料２００は、案内部２５Ｇ、２５Ｈによって幅方向の両側の位置決め突起２５Ｅ、２５Ｆの間に案内され、そして、第１部材２５Ａの位置決め突起２５Ｄに当接して停止する。これによって、基板材料２００は、搬送方向、及び幅方向を位置決めされる。
【００７４】
図１、図４に示すように、位置決めされた基板材料２００をステージ本体２２、３２の載置面２２Ａ、３２Ａへ受け渡すローダ８０（載置手段）は、基板材料２００の４隅を吸着する４個の吸着部材８２を備える。この吸着部材８２の吸着面には多数の吸引孔が形成されており、基板材料２００の４隅は吸引孔からの負圧によって吸着部材８２に吸着される。
【００７５】
また、吸着部材８２は、伸縮可能とされた伸縮アーム８３によって支持プレート８５から垂下されている。この支持プレート８５は、アーム８７によってガイドプレート８４に昇降可能に垂下されている。ガイドプレート８４は、供給コンベア８６の下流端部から初期位置（搭載位置）に位置するステージ部材２０、３０の上方まで延出しており、アーム８７は、ガイドプレート８４に往復動可能に支持されている。
【００７６】
また、アーム８７、及びガイドプレート８４には、駆動力伝達機構（図示省略）が設けられており、この駆動力伝達機構に駆動力を付与するモータ８８（図１９参照）が設けられている。このモータ８８は、正回転方向、逆回転方向へ所定回転数だけ回転し、アーム８７を搬送方向、及び復帰方向へ一定距離Ｓ（図２０参照）だけ移動させる。
【００７７】
図２０に示すように、ステージ本体２２、３２の載置面２２Ａ、３２Ａには多数の小孔（負圧発生孔）２２Ｂ、３２Ｂが縦横に所定ピッチＡで形成されている。この小孔２２Ｂ、３２Ｂは、基板材料２００を負圧によって吸引するエアー吸引用の孔で、ステージ部材２０、３０には、負圧を発生させるための電源ライン又は空気配管を備えたケーブルベア（図示省略）が接続される。
【００７８】
即ち、ステージ部材２０、３０がエアー吸引用の真空ポンプ等の真空発生装置（図示省略）を具備している場合は、その真空発生装置駆動用の電源ラインを備えたケーブルベアとなり、真空発生装置を具備していない場合は、別途設置される真空ポンプ等の真空発生装置（図示省略）と接続する空気配管を備えたケーブルベアとなる。なお、このケーブルベアはステージ部材２０、３０の移動に追従可能となるように、フレキシブルなチューブ等で構成されるのが好ましいが、ステージ部材２０、３０を一体に支持するリニア走行体４０、６０は、同一平面上を搬送方向及び復帰方向に往復移動するだけなので、ステージ部材２０、３０に対するケーブルベアの取付構造が簡略で済み、そのケーブルベアが絡まるような不具合も起きない。
【００７９】
ここで、基板材料２００の周縁部を載置面２２Ａ、３２Ａに吸着したとき、基板材料２００を被せられ基板材料２００を吸着する最も外側の小孔２２Ｂ、３２Ｂと基板材料２００の周縁部との距離Ｄが小さいほど、吸着により矯正できない反り量が小さくなる。
【００８０】
そこで、図２０（Ａ）、（Ｂ）に示すように、基板サイズに応じて載置面２２Ａ、３２Ａへの配置を搬送方向、及び幅方向へシフトする。なお、ローダアーム８１は、一定距離Ｓを移動するだけであり、基板材料２００は、吸着部材８２に吸着される時点で載置面２２Ａ、３２Ａの所定位置に載置されるように位置決め装置２３によって位置決めされている。
【００８１】
以下、図２１を参照して、基板材料２００のシフト量の決定方法を説明する。
【００８２】
まず、ｎＡ＜Ｌ＜（ｎ＋１）Ａを満たすｎを算出する。ここで、Ｌは、基板材料２００の１辺の長さ（ここでは、搬送方向に沿った１辺を例に取って説明する。）であり、ｎは、図２１（Ａ）の搬送方向においてはｎ＝２、図２１（Ｂ）、（Ｃ）の搬送方向においてはｎ＝３となる。
【００８３】
そして、Ｄ＝（Ｌ−ｎＡ）／２を算出し、このようなＤとなるように基板材料２００をシフトして載置面２２Ａ、３２Ａに載置することで基板材料２００が最大個数の小孔２２Ｂ、３２Ｂを塞ぎ、且つ、基板材料２００の両端部の距離Ｄが等距離となる。これによって、基板材料２００の距離Ｄの最大値ＤMAXはＡ／２となり、従来の配置方法を用いた場合と比して小さくなる。
【００８４】
なお、図２１（Ｂ）に示すように、上記決定方法を取らずに、基板サイズに関わらず、基板材料２００を載置面２２Ａ、３２Ａ上の基準部材に押し当てて配置する場合は、距離Ｄの最大値ＤMAXが所定ピッチＡと同等となるので、上記のシフト量の決定方法を用いることによって、所定ピッチＡを半分にしたのと同等の効果が得られる。
【００８５】
即ち、従来の２倍のピッチで小孔２２Ｂ、３２Ｂを形成すれば良くなり、孔数を１／４に削減することができ、小孔２２Ｂ、３２Ｂの加工コストを低減でき、エアー吸引のための配管類も削減することができるので、吸着固定装置１１を格段にコストダウンできる。
【００８６】
［ローダ、及びステージ本体の載置面の変形例］
図２２に示すように、供給コンベア８６の下流端部にはストッパ３５のみが設けられており、供給コンベア８６上において基板材料２００の位置決めは行われない。その替わりとして、載置面２２Ａ、３２Ａ上に位置決めピン３７Ａ、３７Ｂが搬送方向、及び幅方向にそれぞれ移動可能に設けられている。
【００８７】
コントローラ１９は、サイズ入力部３３に基板サイズが入力されると基板サイズに応じて位置決めピン３７Ａ、３７をそれぞれ搬送方向、及び幅方向の所定位置に移動させる。そして、伸縮アーム８３は、搬送方向及び幅方向に移動可能とされており、この伸縮アーム８３を搬送方向へ基板材料２００の搬送方向の一端部が位置決めピン３７Ａに当接するまで移動させる。そして次に、伸縮アーム８３を幅方向へ基板材料２００の幅方向の一端部が位置決めピン３７Ｂに当接するまで移動させる。
【００８８】
ここで、伸縮アーム８３は、搬送方向、及び幅方向へ図示しない付勢手段によって付勢されているので、伸縮アーム８３の搬送方向、及び幅方向への移動量を厳密に制御する必要はない。
【００８９】
このようにして、基板材料２００は、基板サイズに応じて載置面２２Ａ、３２Ａのシフト位置に載置され、反りを矯正されて載置面２２Ａ、３２Ａに吸着固定される。
【００９０】
［画像位置検出装置の構成］
次に、画像位置検出装置１８０について説明をする。画像位置検出装置１８０は、上記したように、レーザー露光装置１０の幅方向に架設されたゲート１８に、その幅方向に沿って移動自在に取り付けられたＣＣＤカメラ１８２と、アライメント制御部２１（図１９参照）を含んで構成されている。ＣＣＤカメラ１８２は、２次元ＣＣＤを撮像素子として備えるとともに、撮像時の光源として１回の発光時間が極めて短いストロボを備えており、このストロボの発光時のみ撮像が可能となるように、各ＣＣＤ素子の受光感度が設定されている。アライメント制御部２１は、ＣＣＤカメラ１８２からの画像信号を処理し、ＣＣＤカメラ１８２により撮像されたアライメントマーク２０１の位置に対応する位置情報を上記コントローラー１９へ出力するようになっている。
【００９１】
また、ＣＣＤカメラ１８２は、ホルダー１８４に下向き状態で保持されており、このホルダー１８４が、ゲート１８の下部に平行に配設されたガイドプレート１８６に移動可能に支持されている。したがって、ＣＣＤカメラ１８２は、そのガイドプレート１８６に沿って幅方向に往復移動可能であり、基板材料２００の異なる領域を撮像可能になっている。つまり、ＣＣＤカメラ１８２は、撮像対象となる基板材料２００に形成されたアライメントマーク２０１の位置等に応じて、その位置の調整が可能とされている。なお、ＣＣＤカメラ１８２は図示の１台に限定されるものではなく、複数台設けて適宜位置に固定配置してもよい。
【００９２】
一方、基板材料２００の被露光面２０２上には、予め配線パターンに対応する潜像が形成される描画領域２０４が設定されており、この描画領域２０４に対応する複数のアライメントマーク２０１が搬送方向に沿って形成されている。そして、ＣＣＤカメラ１８２は、その真下の撮像位置（読取位置）を、ステージ部材２０に吸着保持されて所定の速度で搬送されて来る基板材料２００が通過する際に、所定のタイミングでストロボを発光させ、このストロボからの光の反射光を受光することにより、基板材料２００におけるアライメントマーク２０１を含む撮像範囲をそれぞれ撮像するようになっている。
【００９３】
アライメントマーク２０１は、基板材料２００の被露光面２０２に、円形の貫通孔又は凹部を設けることにより形成されており、これによって、ステージ部材２０上の基板材料２００の位置（描画領域）が検出されるようになっている。なお、アライメントマーク２０１は貫通孔や凹部ではなく、基板材料２００の被露光面２０２に予め形成されている配線パターンであるランド等を利用してもよい。
【００９４】
また、ＣＣＤカメラ１８２を保持しているホルダー１８４には駆動力伝達機構（図示省略）が設けられており、この駆動力伝達機構に駆動力を付与するカメラシフト手段としてのステッピングモータ１８８（図１９参照）が設けられている。このステッピングモータ１８８は、ユーザーによって基板材料２００のサイズがサイズ入力部３３（図１９参照）に入力されると、そのサイズに応じた駆動信号をコントローラ１９から受信する。そして、ステッピングモータ１８８は、駆動信号に基づいた回転数だけ回転し、ホルダー１８４をＣＣＤカメラ１８２がアライメントマーク２０１を読取ることができる位置まで移動させる。
【００９５】
［ステージ部材及び循環手段の構成］
次に、ステージ部材２０、３０及びその循環手段の構成について、図１乃至図５を基に詳細に説明する。ステージ部材２０、３０は、上面（表面）が基板材料２００を載置するための平面状の載置面２２Ａ、３２Ａとされたステージ本体２２、３２と、そのステージ本体２２、３２の外方側端部に上方に向かって一体的に立設されたガイド壁２４、３４とで、鉛直方向よりも水平方向が長い側面視略「Ｌ」字状に形成されている。
【００９６】
そして、ガイド壁２４、３４の外面両端部には上下方向に沿って、かつ全長に亘って断面視略逆「凹」形状のガイド溝が形成された一対のレール２６、３６が突設されている。また、ステージ本体２２、３２の内部は空洞になっており、上述したように、載置面２２Ａ、３２Ａには、基板材料２００を負圧によって吸着するためのエアー吸引用の小孔２２Ｂ、３２Ｂが多数穿設されている。
【００９７】
リニア走行体４０、６０は、底板４２、６２と、その底板４２、６２の外方側端部に上方に向かって一体的に立設されたガイド壁４４、６４とで、水平方向よりも鉛直方向が長い側面視略「Ｌ」字状に形成されており、そのガイド壁４４、６４の内面両端部に一対のガイドレール４６、６６が上下方向に沿って、かつ全長に亘って突設されている。そして、このガイドレール４６、６６にガイド溝が摺動可能に嵌合されて、ステージ部材２０、３０がリニア走行体４０、６０に一体に片持ち支持されている。
【００９８】
また、ガイドレール４６、６６の間にはボールネジ４８、６８が平行に配設され、そのボールネジ４８、６８の一方の端部（例えば下端部）には、ボールネジ４８、６８を正逆回転可能なモーター（図示省略）が取り付けられている。一方、ガイド壁２４、３４のレール２６、３６の間には、内部にネジ山を有する筒状部材２８、３８が上下方向に沿って一体的に突設されており、その筒状部材２８、３８にボールネジ４８、６８が螺合した状態で挿通されている。したがって、モーター（図示省略）が正逆回転駆動することにより、ガイド壁２４、３４、即ちステージ部材２０、３０が、ガイド壁４４、６４のガイドレール４６、６６に沿って昇降移動自在となる構成である。
【００９９】
また、底板４２、６２の下面で、かつ四隅の近傍には、搬送方向に沿って断面視略逆「凹」形状のガイド溝が形成されたレール５２、７２が一体的に突設されており、そのガイド溝が、所定厚さの平板状基台１２の上面に突設された一対のガイドレール５４、７４に摺動可能に嵌合されている。ガイドレール５４、７４は、図示するように、基台１２上の所定位置に隣接して２組、それぞれ搬送方向（復帰方向）に沿って、かつ略全長に亘って並設されており、それぞれのガイドレール５４、７４の間（内側）には、ボールネジ５６、７６が所定長さ平行に配設されている。ボールネジ５６、７６の両端部近傍はそれぞれ一対の支持部（図示省略）によって支持され、その上流側（又は下流側でもよいが）の端部には、それぞれ正逆回転可能なモーター５０、７０が取り付けられている。
【０１００】
一方、底板４２、６２の下面略中央には、内部にネジ山を有する筒状部材（図示省略）が、搬送方向（復帰方向）に沿って一体的に突設されており、この筒状部材にボールネジ５６、７６が螺合した状態で挿通されている。したがって、モーター５０、７０が正逆回転駆動することにより、リニア走行体４０、６０がガイドレール５４、７４に沿って搬送方向及び復帰方向に所定の速度（例えば露光時にあっては３０ｍｍ／ｓ）で離合可能（すれ違い可能）に移動可能となる構成である。なお、上記モーター５０、７０は、図示しない搬送制御部から出力される駆動パルス信号により回転駆動するように構成されており、その搬送制御部は上記コントローラーに接続されている。また、リニア走行体４０、６０を走行させる手段は図示のボールネジ５６、７６等に限定されるものではなく、リニアモーター等によって走行させるように構成してもよい。
【０１０１】
また、図示するように、リニア走行体４０、６０は、片持ち支持したステージ部材２０、３０を対向させた状態で搬送方向及び復帰方向へ移動するようになっており、上記したように、ステージ本体２２、３２の幅方向の長さが、底板４２、６２の幅方向の長さよりも長く形成されている（互いに内方側に向かって張り出し、平面視で各ステージ部材２０、３０のステージ本体２２、３２が同一エリア内を移動するようになっている）。したがって、各リニア走行体４０、６０がすれ違うときには、ステージ本体２２、３２が互いに干渉しないように、ステージ部材２０、３０は上方位置と下方位置にずれて移動するようになっている。
【０１０２】
すなわち、ステージ部材２０、３０は、ＣＣＤカメラ１８２によるアライメント処理と、露光ヘッド１００による露光処理が行われるときには、基板材料２００を載置面２２Ａ、３２Ａ上に搭載しているため、上方位置にて搬送方向へ移動し、取出位置から搭載位置へ復帰移動するときには、基板材料２００は載置面２２Ａ、３２Ａ上から取り除かれているため、下方位置にて復帰方向へ移動するようになっている。このように、各ステージ部材２０、３０が上下に移動して、互いの干渉が回避されるようになっていると、レーザー露光装置１０の幅方向をコンパクトに構成できる（設置スペースを低減できる）利点がある。
【０１０３】
また、このように、ステージ部材２０、３０が上方位置に上昇してから、ＣＣＤカメラ１８２によるアライメント処理が行われるようになっていると、ステージ部材２０、３０を上昇させたときの基板材料２００の位置ずれが、そのＣＣＤカメラ１８２による測定時に補正することができる。したがって、描画領域２０４に対する位置合わせを高精度に行うことができる。
【０１０４】
また、ステージ部材２０、３０が上方位置に上昇して、露光ヘッド１００による露光処理が行われるため、基板材料２００の厚さに応じて、その基板材料２００の被露光面２０２と露光ヘッド１００との焦点距離を調節することが可能となる。すなわち、基板材料２００の厚さに拘わらず、基板材料２００の被露光面２０２と露光ヘッド１００との距離が一定となるように、ステージ部材２０、３０の昇降量を調整することができるので、厚さの異なる基板材料２００毎に、露光ヘッド１００の取付高さ位置を変更するような焦点距離調整が不要となる。また、ステージ部材２０、３０は、リニア走行体４０、６０と常に一体に走行するので、その移動は精度よく行われる。
【０１０５】
［露光装置の動作］
以上のような構成のレーザー露光装置１０において、次に、その一連の動作を主に図１、図４、図５を参照しながら説明する。まず、供給コンベア８６によって順次供給されてくる基板材料２００Ａが、位置決め装置２３により停止させられると共に位置決めされ、ローダ８０の吸着部材８２によって四隅が吸着される。そして、ローダ８０は、供給コンベア８６上から、初期位置（搭載位置）にて待機しているステージ部材２０の載置面２２Ａ上に基板材料２００Ａを搬送して載置する。
【０１０６】
このとき、ステージ部材２０にはケーブルベアを介して真空ポンプ等により負圧が供給されているので、載置面２２Ａに穿設された多数の小孔２２Ｂからエアーが吸引されており、また、上記距離Ｄが上記限界距離Ｄ´よりも小さくなるように載置面２２Ａに配置されているので、基板材料２００Ａが載置面２２Ａ上に密着状態で、且つ反りを矯正されて固定される。そして、ステージ部材２０は所定位置まで上昇させられる。このときの上方位置は基板材料２００Ａの厚さに応じて適宜調整される。
【０１０７】
こうして、基板材料２００Ａがステージ部材２０の載置面２２Ａ上に吸着保持され、上方位置に保持されると、搬送制御部からの駆動パルス信号によりモーター５０が駆動してボールネジ５６が回転する。すると、リニア走行体４０が、ガイドレール５４に沿って搬送方向へ所定の速度で移動し、まず、基板サイズに応じて所定位置まで移動したＣＣＤカメラ１８２によって、基板材料２００Ａの搬送方向に沿って設けられたアライメントマーク２０１が撮像され、基板材料２００Ａの描画領域２０４の位置が検出される。
【０１０８】
すなわち、基板材料２００Ａのアライメントマーク２０１がＣＣＤカメラ１８２の撮像位置（読取位置）に達したら、ストロボを発光させ、ＣＣＤカメラ１８２によって被露光面２０２におけるアライメントマーク２０１を含む撮像領域を撮像する。そして、ＣＣＤカメラ１８２により得られた撮像情報はアライメント制御部２１へ出力される。アライメント制御部２１は、撮像情報をアライメントマーク２０１の走査方向及び幅方向に沿った位置に対応する位置情報に変換し、この位置情報をコントローラー１９へ出力する。
【０１０９】
コントローラー１９は、アライメント制御部２１からのアライメントマーク２０１の位置情報に基づき、描画領域２０４に対応して設けられたアライメントマーク２０１の位置を判断し、このアライメントマーク２０１の位置から、描画領域２０４の走査方向及び幅方向に沿った位置と、描画領域２０４の走査方向に対する傾き量をそれぞれ判断する。つまり、コントローラー１９は、ステージ部材２０上の基板材料２００Ａの位置を判断するとともに、画像情報に基づいて、基板材料２００Ａにおける各アライメントマーク２０１の位置を判断し、その描画領域２０４を判断する。
【０１１０】
そして、コントローラー１９は、描画領域２０４の走査方向に沿った位置に基づいて描画領域２０４に対する露光開始のタイミングを算出するとともに、描画領域２０４の幅方向に沿った位置及び走査方向に対する傾き量に基づいて、配線パターンに対応する画像情報に対する変換処理を実行し、変換処理した画像情報をフレームメモリー内に格納する。
【０１１１】
ここで、変換処理の内容としては、座標原点を中心として画像情報を回転させる座標変換処理、幅方向に対応する座標軸に沿って画像情報を平行移動させる座標変換処理が含まれる。更に必要に応じて、コントローラー１９は、描画領域２０４の幅方向及び走査方向に沿った伸長量及び縮長量に対応させて画像情報を伸長又は縮長させる変換処理を実行する。
【０１１２】
また、このようにして得られた変換処理後の画像情報及び描画領域２０４の位置情報に基づき、コントローラ１９は、図２０（Ａ）、図２１（Ａ）に示す基準位置（基板材料２００の枠内）から図２０（Ｂ）、図２１（Ｃ）に示すシフト位置（基板材料２００の枠内）まで、描画領域２０４をシフトさせ、基板材料２００の所望の領域に画像を形成しても良い。
【０１１３】
そして、変換処理後の画像情報及び描画領域２０４の位置情報は、ステージ部材２０に関連付けられてコントローラー１９のフレームメモリー内に一時記憶され、基板材料２００Ａがステージ部材２０上から（レーザー露光装置１０から）次の工程へ搬送するための図示しない搬送装置へ送り出された後に、フレームメモリー内から消去される。なお、本実施形態におけるアライメント処理時間は１５秒である。
【０１１４】
さて、アライメントマーク２０１が撮像された基板材料２００Ａは、ステージ部材２０（リニア走行体４０）が更に搬送方向に移動することにより、ゲート１６に垂設されている露光ヘッド１００の露光位置へ供給される。そして、所定の速度（例えば３０ｍｍ／ｓ）で移動しながら、ＣＣＤカメラ１８２による撮像を基にアライメント制御部２１によって位置検出された描画領域２０４が、配線パターンに応じた画像情報に基づいて露光され、基板材料２００Ａの描画領域２０４に配線パターン等の潜像（画像）が形成される。すなわち、基板材料２００Ａがステージ部材２０と共に搬送方向へ移動されることにより、相対的に露光ヘッド１００が復帰方向へ副走査されるので、基板材料２００Ａには、各露光ヘッド１００毎に帯状の露光済み領域２０６（図６、図７参照）が順次形成される。
【０１１５】
ここで、その露光処理工程を具体的に説明すると、まず、コントローラー１９が、ステージ部材２０上の基板材料２００Ａの位置を判断し、フレームメモリー内に格納された描画領域２０４の位置情報に基づいて、描画領域２０４の先端が露光位置に達するタイミングを判断する。そして、その描画領域２０４の先端が露光位置に達するタイミングに同期して露光開始信号を画像情報処理部１５へ出力する。これにより、画像情報処理部１５は、フレームメモリーに記憶された画像情報を複数ライン分ずつ順次読み出し、読み出した画像情報に基づいて各露光ヘッド１００毎に制御信号を生成する。そして、ミラー駆動制御部１７は、その生成された制御信号に基づいて各露光ヘッド１００毎にＤＭＤ１０６のマイクロミラー１１０の各々をＯＮ状態あるいはＯＦＦ状態に制御する。
【０１１６】
こうして、ＤＭＤ１０６のマイクロミラー１１０がＯＮ・ＯＦＦ制御されたら、ファイバーアレイ光源１１２からＤＭＤ１０６にレーザー光が照射され、ＯＮ状態のマイクロミラー１１０に反射されたレーザー光が、レンズ系１２２、１２４により基板材料２００Ａの被露光面２０２上に結像される。つまり、ファイバーアレイ光源１１２から出射されたレーザー光が画素毎にＯＮ・ＯＦＦされて、基板材料２００Ａの描画領域２０４がＤＭＤ１０６の使用画素数と略同数の画素単位（露光エリア）で露光される。なお、ここで言う画像情報は、画像を構成する各画素の濃度を２値（ドットの記録の有無）で表したデータであり、本実施形態における露光ヘッド１００による露光処理時間は１５秒となっている。
【０１１７】
一方、ステージ部材３０は、ステージ部材２０上の基板材料２００Ａがアライメント処理されて、露光処理が開始されるまでの間に、復帰動作している。すなわち、ステージ部材３０が下方位置に下降して、リニア走行体６０がガイドレール７４に沿って取出位置から搭載位置へ所定の速度で移動している。そして、ステージ部材２０の露光処理中に、搭載位置にて、ローダ８０により、次の基板材料２００Ｂが供給コンベア８６上からその載置面３２Ａ上に搬送されて載置される。このとき、上記と同様に、基板材料２００Ｂは、ステージ部材３０の小孔３２Ｂからエアーが吸引されていることによる負圧作用で、その載置面３２Ａ上に吸着保持される。
【０１１８】
こうして、基板材料２００Ｂが搭載されると、ステージ部材３０が上方位置へ上昇し、搬送制御部からの駆動パルス信号によりモーター７０が駆動してボールネジ７６が回転する。すると、リニア走行体６０が、ガイドレール７４に沿って搬送方向へ所定の速度で移動し、ゲート１８に取り付けられたＣＣＤカメラ１８２によって、基板材料２００Ｂの四隅に設けられたアライメントマーク２０１が撮像され、基板材料２００Ｂの描画領域２０４の位置が検出される。つまり、ステージ部材２０の露光開始から終了までの１５秒で、ステージ部材３０への基板材料２００Ｂの搭載からここまでの工程が略完了するようになっている。
【０１１９】
他方、基板材料２００Ａの露光が終了すると、ステージ部材２０は下方位置に下降し、真空ポンプ等による負圧が解除されるとともに、載置面２２Ａ上から基板材料（プリント配線基板）２００Ａがアンローダ９０によって取り出される。すなわち、アンローダ９０の吸着部材９２によって基板材料２００Ａの四隅が吸着され、ガイドプレート９４に沿ってステージ部材２０上から排出コンベア９６上へ搬送される。そして、その基板材料（プリント配線基板）２００Ａは、次の工程へ図示しない搬送装置によって搬送される。
【０１２０】
また、基板材料２００Ａが取り除かれたステージ部材２０（リニア走行体４０）は、モーター５０がボールネジ５６を搬送時とは反対の方向に回転駆動することにより、元の搭載位置（初期位置）へ復帰移動する。そして、ローダ８０によって次の基板材料２００Ａが、その載置面２２Ａ上に搭載される。なお、このとき、すでにステージ部材３０上では、それに搭載された基板材料２００Ｂのアライメントマーク２０１がＣＣＤカメラ１８２により撮像されて、その描画領域２０４の位置が検出され、露光が開始されている。つまり、コントローラー１９は、基板材料２００Ａの描画領域２０４に対する露光を完了すると、この描画領域２０４に対する場合と同様に、変換処理をした画像情報及び位置情報に基づいて、次の基板材料２００Ｂの描画領域２０４に対する露光を実行する。
【０１２１】
そして、ステージ部材３０上に吸着保持されている基板材料２００Ｂの露光が終了したら、ステージ部材３０は下方位置に下降し、真空ポンプ等による負圧が解除されるとともに、載置面３２Ａ上から基板材料（プリント配線基板）２００Ｂがアンローダ９０によって取り出される。この状態を図４で示す。そして、搭載位置にて新しい基板材料２００Ａが搭載されたステージ部材２０は上記動作を繰り返し行い、基板材料が取り除かれたステージ部材３０（リニア走行体６０）も、ステージ部材２０と同様の工程で復帰動作をし、次の基板材料（図示省略）がその載置面３２Ａ上に載置されて、上記動作を繰り返し行うものである。
【０１２２】
次に、第２実施形態について説明する。なお、第１実施形態と同様の構成には同一の符号を付し、説明は省略する。
【０１２３】
図２３乃至図２５には、第２実施形態のフラッドベッドタイプのレーザー露光装置１が示されている。
【０１２４】
レーザー露光装置１は、棒状の角パイプを枠状に組み付けて構成された矩形状の枠体２に各部が収容されて構成されている。なお、枠体２には、図示しないパネルが張り付けられることで、内外を遮断している。
【０１２５】
枠体２は、背高の筐体部２Ａと、この筐体部２Ａの一側面から突出するように設けられたステージ部２Ｂと、で構成されている。
【０１２６】
ステージ部２Ｂは、その上面が筐体部２Ａよりも低位とされ、作業者がこのステージ部２Ｂの前に立ったときに、ほぼ腰高の位置となっている。
【０１２７】
ステージ部２Ｂの上面には、開閉蓋４が設けられている。開閉蓋４の筐体部２Ａ側の一辺には、図示しない蝶番が取付けられており、この一辺を中心として、開閉動作が可能となっている。
【０１２８】
開閉蓋４を開放した状態のステージ部２Ｂの上面には、露光ステージ６（図２６参照）が露出可能となっている。
【０１２９】
露光ステージ６の下面には、断面略コ字型の脚部６Ａ（図２６参照）が取り付けられており、この脚部６Ａは、このステージ部２Ｂから前記筐体部２Ａまで延設された定盤８に対して、当該露光ステージ６を摺動可能に支持すると共に、互いに平行、かつ定盤８の長手方向に沿って配設された一対の摺動レール９を介して支持されている。
【０１３０】
露光ステージ６は、前記摺動レール９に支持されることで、ほとんど摩擦抵抗なく（ベアリング等を介している場合は、そのベアリングの転がり抵抗のみで）ｙ方向へ摺動可能となっている。
【０１３１】
この定盤８の長手方向一端部は、前記ステージ部２Ｂまで至っており、この位置に露光ステージ６が位置している状態で、作業者は露光ステージ６上に感光材料２２０を載置、或いは取り出すことができる。
【０１３２】
定盤８は、筐体部２Ａを構成する角パイプに対して強固に固定された架台２４０に支持されており、露光ステージ６の移動軌跡の基準となっている。
【０１３３】
前記定盤８の長手方向に沿って配設された一対の摺動レール９の間には、リニアモータ部２６０が配設されている。
【０１３４】
リニアモータ部２６０は、周知の如く、ステッピングモータの駆動力を応用した直線型の駆動源であり、定盤８の長手方向に沿って設けられた棒状のコイル部２６０Ａと、露光ステージ６の下面側に設けられ前記コイル部２６０Ａとは所定の間隔を持って配置されたステータ部（磁石部）２６０Ｂ（図２４参照）とで、構成されている。
【０１３５】
すなわち、露光ステージ６は、コイル部２６０Ａへの通電によって発生する磁界により駆動力を得て、前記摺動レール９に沿って定盤８上を、その長手方向（ｙ方向）に移動する構成である。
【０１３６】
前述したように、原理はステッピングモータと同様であるため、本実施の形態に係る露光ステージ６は、定速性、位置決め精度、並びに始動、停止時のトルク変動等、電気的な制御により精度の高い駆動制御が可能となっている。
【０１３７】
露光ステージ６には、前述の如く、感光材料２２０が敷設されるようになっている。露光ステージ６には、前記感光材料２２０の載置面６Ｃに複数の小孔６Ｄが設けられており、感光材料２２０がローダ８０によって搭載された状態で、バキュームポンプ等によって小孔２２から負圧を発生させることで、感光材料２２０を密着させることができる。
【０１３８】
図２４に示すように、ステージ部１２Ｂには第１実施形態と同様の供給コンベア８６とローダ８０が隣接されている。感光材料２２０は、供給コンベア８６によって順次搬送されて、位置決め装置２３（図２０参照）によって第１実施形態と同様に位置決めされる。そして、感光材料２２０は、ローダ８０によって吸着保持されて所定ストローク移動されて載置面６Ｃに第１実施形態と同様に搭載される。
【０１３９】
これによって、感光材料２２０の周縁部と、感光材料２２０を被せられ感光材料２２０を吸着する最も外側の小孔６Ｄとの距離Ｄ（図２１参照）を、感光材料２２０のサイズに関わらず常にＡ／２（図２１参照）以下とすることができる。従って、感光材料２２０の周縁部を載置面６Ｃに吸着でき、感光材料２２０の反りを矯正できる。
【０１４０】
露光ステージ６における定盤８上での移動軌跡のほぼ中間位置には、露光ヘッドユニット２８０（図２７参照）が配設されている。
【０１４１】
露光ヘッドユニット２８０は、前記定盤８の幅方向両端部の外側にそれぞれ立設された一対の支柱３０に掛け渡されるように破折されている。すなわち、露光ヘッドユニット２８０と定盤８との間を前記露光ステージ６が通過するゲートが形成される構成である。
【０１４２】
露光ヘッドユニット２８０は、複数のヘッドアッセンブリ２８０Ａが前記定盤８の幅方向に沿って配列されて構成されており、前記露光ステージ６を定速度で移動させながら、所定のタイミングでそれぞれのヘッドアッセンブリ２８０Ａから照射される複数の光ビーム（詳細後述）を前記露光ステージ６上の感光材料２２０へ照射することで、感光材料１６を露光することができるようになっている。
【０１４３】
図２８（Ｂ）に示される如く、露光ヘッドユニット２８０を構成するヘッドアッセンブリ２８０Ａは、ｍ行ｎ列（例えば、２行５列）の略マトリックス状に配列されており、これら複数のヘッドアッセンブリ２８０Ａが前記露光ステージ６の移動方向（以下走査方向という）と直交する方向に配列される。本実施の形態では、感光材料２２０の幅との関係で、２行で合計１０個のヘッドアッセンブリ２８０Ａとした。
【０１４４】
ここで、１つのヘッドアッセンブリ２８０Ａによる露光エリア２８０Ｂは、走査方向を短辺とする矩形状で、且つ、走査方向に対して所定の傾斜角で傾斜しており、露光ステージ６Ａの移動に伴い、感光材料２２０にはヘッドアッセンブリ２８０Ａ毎に帯状の露光済み領域が形成される（図２８（Ａ）参照）。
【０１４５】
図２３に示される如く、前記筐体部２Ａ内には、前記定盤８上の露光ステージ６の移動を妨げない別の場所に光源ユニット３００が配設されている。この光源ユニット３００には複数のレーザー（半導体レーザー）を収容しており、このレーザーから出射する光を光ファイバー（図示省略）を介して、それぞれのヘッドアッセンブリ２８０Ａへ案内している。
【０１４６】
それぞれのヘッドアッセンブリ２８０Ａは、前記光ファイバーによって案内され、入射された光ビームを空間光変調素子である図示しないデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）によって、ドット単位で制御し、感光材料２２０に対してドットパターンを露光する。本実施の形態では、前記複数のドットパターンを用いて１画素の濃度を表現するようになっている。
【０１４７】
図２９に示される如く、前述した帯状の露光済み領域２８０Ｂ（１つのヘッドアッセンブリ２８０Ａ）は、二次元配列（例えば４×５）された２０個のドットによって形成される。
【０１４８】
また、前記二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶ各ドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、実質的なドット間ピッチを狭めることができ、高解像度化を図ることができる。なお、上記のようにヘッドアッセンブリ２８０Ａの傾斜は、装置の標準解像度の設定によっては、同一走査線上に複数のドットパターンが重複する場合がある。このような場合には、何れか一方のドットパターン（図２９では、斜線としたドットパターン）に対応するＤＭＤを常にオフ状態し、不使用のドットパターンを設ければよい。
【０１４９】
ここで、ステージ部２Ｂにおいて、前記露光ステージ６上に位置決めされた感光材料２２０への露光処理は、前記露光ステージ６に感光材料２２０を載置し、定盤８上の摺動レール９に沿って奥側へ移動するとき（往路）ではなく、一旦、定盤８の奥側端部へ到達して、前記ステージ部２Ｂへ戻るとき（復路）に実行される。
【０１５０】
すなわち、往路走行は、露光ステージ６上の感光材料２２０の位置情報を得るための移動であり、この位置情報を得るためのユニットとして、定盤８上には、アライメントユニット３２０（図３０参照）が配設されている。
【０１５１】
アライメントユニット３２０は、前記露光ヘッドユニット２８０よりも往路方向奥側に配設されており、筐体部２Ａの一部を構成する一対の梁部３４０（図３０参照）に固定されている。
【０１５２】
アライメントユニット３２０は、前記一対の梁部３４０に固定されるベース部３６０と、このベース部３６０に対して定盤８の幅方向へ移動可能な複数（本実施の形態では、４台）のカメラ部３８０と、で構成されている。
【０１５３】
カメラ部３８０は、それぞれ独立して前記ベース部３６０に沿って配設された互いに平行な一対のレール部４００にカメラベース４２０を介してｘ方向に摺動可能に取付けられている。
【０１５４】
カメラ部３８０は、カメラ本体３８０Ａの下面にレンズ部３８０Ｂが設けられ、当該レンズ部３８０Ｂの突出先端部には、リング状のストロボ光源３８０Ｃが取付けられている。
【０１５５】
このストロボ光源３８０Ｃからの光が、前記露光ステージ６上の感光材料２２０へ照射され、その反射光を前記レンズ部３８０Ｂを介してカメラ本体３８０Ａに入力させることで、感光材料２２０上のマークＭ（図３１参照）を撮影することができる。
【０１５６】
前記カメラベース４２０は、それぞれ、ボールねじ機構部４４０の駆動によって、定盤８の幅方向（ｘ方向）へ移動可能となっており、前記露光ステージ６の移動と、このボールねじ機構部４４０の駆動力による定盤８の幅方向への移動とによって、感光材料２２０の所望の位置にレンズ部３８Ａの光軸を配置することが可能となっている。すなわち、露光ステージ６と、感光材料２２０とは、作業者が感光材料２２０を載置することで、その相対位置関係が決まるため、若干のずれが生じることがある。
【０１５７】
そこで、感光材料２２０に設けられたマークＭ（図３１参照）をカメラ本体３８０Ａによって撮影する。この撮影によって前記ずれが認識され、露光ステージ６と既知の相対関係となっている前記露光ヘッドユニット２８０による露光タイミングに補正をかけ、感光材料２２０と画像との相対位置を所望の位置としている。
［露光ヘッドユニット２８０とアライメントユニット３２０との相対位置関係］
ところで、本実施の形態では、このアライメントユニット３２０と露光ヘッドユニット２８０との相対位置は、当該アライメントユニット３２０の外観構造と、露光ヘッドユニット２８０の外観構造に基づいて、露光ステージ６が最も短距離の往復移動ですむような配置としている。
【０１５８】
図３２（Ａ）は、本実施の形態の露光ヘッドユニット２８０とアライメントユニット３２０との配置関係を示す概略図である。
【０１５９】
ステージ部２Ｂに位置する露光ステージ６が定盤８に沿って往路移動（図３２（Ａ）の右方向）するとき、まず、露光ヘッドユニット２８０の下を通過して、アライメントユニット３２０へと至り、アライメントユニット３２０へ到達する。このアライメントユニット３２０を露光ステージ６の全面が通過までの距離が寸法Ｌ１となる。
【０１６０】
一方、図３２（Ｂ）は、往路でアライメントユニット３２０による撮影、復路で露光ヘッドユニット１６による露光が行われる系において、最も実施される配置関係を示す概略図である。
【０１６１】
図３２（Ａ）と同様に、ステージ部２Ｂに位置する露光ステージ６が定盤８に沿って往路移動（図３２（Ｂ）の右方向）するとき、まず、アライメントユニット３２０の下を通過する。これにより、アライメントユニット３２０による撮影が可能となる。
【０１６２】
しかし、復路で露光ヘッドユニット２８０による露光を実施するためには、露光ステージ６の全面が露光ヘッドユニット２８０を通過するまで往路を継続しなければならず、結果として露光ステージ６の移動距離は、寸法Ｌ２となる。
【０１６３】
ここで、寸法Ｌ１と寸法Ｌ２との関係は、明らかにＬ１＜Ｌ２であり、本実施の形態にように、往路で実施するアライメントユニット３２０を往路移動方向奥側とすることで、露光ステージ６の移動量を軽減することが可能となっている。
［塵埃排除構造］
図２３に示される如く、定盤８における前記露光ヘッドユニット２８０を含む奥側は、筐体部２Ａ内の空間に対してさらに隔離するように、チャンバ４６０が設けられている。
【０１６４】
すなわち、チャンバ４６０内には、露光ヘッドユニット２８０とアライメントユニット３２０が配設され、定盤８がこのチャンバ４６０内から前記ステージ部２Ｂへ連続されており、露光ステージ２８のみが、チャンバ４６０内外を行き来（往路移動及び復路移動）する構造となっている。
【０１６５】
チャンバ４６０の天井部には、送風ダクト４８０の一端が取付けられている。この送風ダクト４８０の他端部は、送風機５００のエア排出口に取付けられており、送風機５００が作動すると、エアが送風ダクト４８０を介して前記チャンバ４６０内へ送り込まれる構成である。
【０１６６】
ここで、チャンバ４６０にエアが送り込まれると、チャンバ４６０内は正圧となり、唯一の逃げ場、すなわち、露光ステージ６の移動空間を通って、ステージ部２Ｂへと流動する。この流動により、最も塵埃を回避するべき、露光ヘッドユニット２８０周辺の塵埃を排出することができ、かつ開閉蓋４の開放時であっても、圧力差によって新たな塵埃の侵入を防止することが可能となっている。
【０１６７】
また、本実施の形態では、前記露光ヘッドユニット２８０における露光ステージ６の往路移動方向手前側、すなわちステージ部２Ｂに近い側には、定盤８の幅方向に亘り、除電装置（イオナイザ）５２０が配設されている。
【０１６８】
除電装置５２０は、中空パイプ状の吹出部５２０Ａと、この吹出部５２０Ａへイオン化されたエアを供給するイオン発生部５２０Ｂと、で構成されており、定盤８に向けて、イオン化されたエアを吹き出す構造となっている。
【０１６９】
より具体的には、イオン発生部５２０Ｂでは、アース電極と放電電極との間でコロナ放電が発生することでイオンが生成され、このイオンを送風源によって吹出部５２０Ａへ案内し、静電気によって耐電している塵埃と異極のイオンによる中和し除電を行う。
【０１７０】
これにより、感光材料２２０が載置された露光ステージ６が定盤８上を移動するとき、感光材料２２０の表面を除電し、静電気によって付着している塵埃を除去すると共に、エアブローで露光ステージ６の上方空間に浮遊する塵埃を除去することが可能となる。
［マーク検出制御］
上記構成のレーザー露光装置１におけるアライメントの際に実行される、感光材料２２０と、露光ヘッドユニット２８０の相対位置関係を把握するための、感光材料２２０に付与されたマーク検出制御について説明する。
【０１７１】
図３３には、アライメントユニット３２０におけるマーク検出のための制御系の機能ブロック図が示されている。
【０１７２】
コントローラ部５４０のカメラ動作制御部５６０では、露光ステージ動作制御信号が入力されると、カメラ部３８０に対して起動信号を送出する。この起動信号によりカメラ部３８０では、撮影が開始される。すなわち、露光ステージ６の動作タイミングと、カメラ部３８０による撮影タイミングとは同期がとられている。
【０１７３】
また、上記露光ステージ動作制御信号と共に、サイズデータが幅方向位置設定部５８０に入力され、この幅方向位置設定部５８０により、ボールねじ機構部４４０の動作が制御され、カメラ部３８０の定盤８に対する幅方向位置が調整される。
【０１７４】
前記カメラ部３８０の撮影動作中において、露光ステージ６は、定盤８上の往路を定速度移動する。このため、露光ステージ６上に載置されている感光材料２２０に付与されたマークＭ（図３１参照）がカメラ部３８０によって撮影される。
【０１７５】
撮影されたデータは、撮影データ解析部６００へ送出され、撮影データの解析が行わる。基本的には、撮影された画像データはアナログデータ（光電変換直後は、光量が電圧に変換される）であるため、このアナログデータをデジタル画像データに変換し、当該デジタル画像データが位置データと共に数値（濃度値）管理される。
【０１７６】
撮影データ解析部６００で解析されたデジタル画像データは、マーク抽出部６２０へ送出され、マークを抽出し、マーク照合部６４０へ送出する。一方、前記デジタル画像データに対応付けられた位置データは、露光位置補正係数演算部６６０へ送出される。
【０１７７】
前記マーク照合部６４０では、抽出したマークの画像データと、予めマークデータメモリ６８０に記憶されたマークデータとを照合し、一致／不一致を示す信号を前記露光位置補正係数演算部６６０へ送出する。
【０１７８】
露光位置補正係数演算部６６０では、照合の結果、一致していると判別されたマークデータに対応する位置データと、本来の（設計上の）マークの位置データとの誤差を認識し、露光位置（露光ステージ６の移動方向における露光開始位置並びに、露光ステージ６の幅方向におけるドットのシフト位置）の補正係数を演算し、露光制御系へ送出する。
【０１７９】
ここで、本実施の形態におけるマーク検出の特徴は、露光ステージ６を定速度で移動しながらマークを検出することにある。図３１に示される如く、本来、感光材料２２０に付与されたマークＭが円形とした場合（図３１（Ａ）参照）。これを露光ステージ６を移動しながら撮影すると、撮影画像は撮影時のシャッタースピード等にもよるが、長円形マークＭＬ（図３１（Ｂ）参照）となる。このため従来は、マークＭを撮影（検出）する場合、露光ステージ６を一旦停止させていた。
【０１８０】
しかし、この露光ステージ６の一旦停止は、作業効率の低下を招き、高速処理に支障をきたす原因となる。
【０１８１】
そこで、本実施の形態では、マークデータメモリ６８０（図３３参照）に記憶するマークデータを、カメラ部３８０の撮影環境（シャッタースピード、露光ステージ６の移動速度等）を加味した画像ＭＬ’（図３１（Ｃ）に示す長円形）とした。すなわち、本来のマーク形状ではなく、前記撮影環境下での実際に撮影した画像に対応したマークデータを記憶することで、照合の適正化を図っている。
【０１８２】
以下に本実施の形態の作用を説明する。
［画像記録の流れ］
ローダ８０によって載置された感光材料２２０を表面に吸着した露光ステージ６は、リニアモータ部２６０の駆動力により、定盤８の摺動レール９に沿ってステージ部２Ｂから筐体部２Ａの奥側へ一定速度で移動される（往路移動）。ここで露光ステージ６がアライメントユニット３２０を通過する際に、カメラ部３８０により感光材料２２０に予め付与されたマークＭを検出する。このマークＭは、予め記憶されたマークと照合され、その位置関係に基づいて露光ヘッドユニット２８０による露光開始時期等が補正される。
【０１８３】
図３４には、上記露光開始時期補正ルーチンを示すフローチャートが示されている。
【０１８４】
ステップ１００では、露光開始指示があったか否かが判断され、肯定判定されると、ステップ１０２へ移行してカメラ部３８０を起動させるように指示する。なお、ステップ１００で否定判定の場合は、このルーチンは終了する。
【０１８５】
ステップ１０２でカメラ部３８０の起動を指示すると、次いでステップ１０４へ移行して感光材料２２０のサイズデータが入力されたか否かが判断される。このステップ１０４で肯定判定されると、ステップ１０６へ移行して入力したサイズデータに基づいてカメラ部３８０の定盤８に対する幅方向位置を調整する（ボールねじ機構部４４０の駆動制御）。
【０１８６】
ステップ１０８では、調整が完了したか否かが判断され、肯定判定されると、ステップ１１０へ移行して露光ステージ６の往路移動を開始する。この露光ステージ６の移動は定速度搬送である。
【０１８７】
露光ステージ６が往路移動中、ステップ１１２では、この露光ステージ６の位置を確認し（リニアモータ部２６０の駆動パルスで判別可能）、ステップ１１４において撮影タイミングか否かが判断される。すなわち、露光ステージ６の移動方向先端がカメラユニット３８の真下を通過する直前の位置か否かを判断し、肯定判定されると、ステップ１１６へ移行して撮影を開始する。
【０１８８】
次のステップ１１８では、露光ステージ６の位置を確認し、ステップ１２０において撮影終了タイミングか否かが判断される。すなわち、露光ステージ６の移動方向後端がカメラユニット３８の真下を通過し終えたか否かを判断し、肯定判定されると、ステップ１２２へ移行して撮影を終了する。
【０１８９】
次のステップ１２４では、撮影したデータを解析し、次いでステップ１２６へ移行してマークＭに相当する画像データを抽出する。
【０１９０】
次いで、ステップ１２８では、マークデータメモリ６８０（図３３参照）から基準データを読出し、ステップ１３０において、撮影し、かつ抽出したマーク画像データと基準データとを照合する。
【０１９１】
次のステップ１３２では、照合結果に基づいて露光位置補正係数を演算し、ステップ１３４へ移行して露光制御系へ演算した補正係数データを送出し、このルーチンは終了する。
【０１９２】
ところで、このアライメントユニット３２０による感光材料２２０のマークＭの撮影並びに露光開始時期補正は、前記往路移動中に露光ステージ６が停止することなく実行される。
【０１９３】
一般に、移動方向の位置決めのみであれば（すなわち一次元）、移動中の検出であっても検出誤差を生じることはほとんどないが、感光材料の平面的な位置決め（すなわち二次元）の場合、少なくとも移動方向とこの移動方向と直交する方向の十字マーク（所謂トンボマーク）が必要である。さらに、精度向上のためには、所定の面積をもつ画像をマークＭとして用いることが好ましく、最適な形状が円形である。本実施の形態では、この円形画像をマークＭ（図３１（Ａ）参照）として適用している。
【０１９４】
この場合、露光ステージ６の移動中に撮影を行うと、カメラ部３２のシャッタースピードや露光ステージ６の移動速度等の環境条件により、撮影された画像が円形とならず長円マークＭＬ（図３１（Ｂ）参照）となる場合がある。
【０１９５】
そこで、本実施の形態では、マークデータメモリ６８０内に記憶する基準となるマーク画像を前記環境条件に基づいて設定された長円形画像ＭＬ’として記憶しておく（図３１（Ｃ）参照）。これにより、実際に撮影し長円形状となったマークＭＬとの照合が可能となり、感光材料２２０の位置決めを精度よく行うことができる。
【０１９６】
露光ステージ６が往路端まで至ると、折り返してステージ部２Ｂ方向へ定速度で戻ってくる（復路移動）。この復路移動中に露光ヘッドユニット２８０を通過することになる。
【０１９７】
露光ヘッドユニット２８０では、前記補正された露光開始時期に基づいて、ＤＭＤにレーザ光が照射され、ＤＭＤのマイクロミラーがオン状態のときに反射されたレーザ光が光学系を介して感光材料２２０へと案内され、この感光材料２２０上に結像される。
【０１９８】
上記のように、本実施の形態のレーザー露光装置１は、露光ステージ６の往復移動によって、感光材料２２０と露光ヘッドユニット１６との相対位置に基づいて、露光開始時期を設定し（往路移動）、露光ヘッドユニット１６による露光処理が実行される（復路移動）構成となっているが、このとき、往路移動に必要なユニットに先に到達する配置とするのが一般的である（図３２（Ｂ）参照）。
【０１９９】
しかし、本実施の形態では、露光ステージ６の往路移動方向の手前側に露光ヘッドユニット２８０を配し、その往路移動方向奥側にアライメントユニット３２０を配している（図３２（Ａ）参照）。
【０２００】
これは、アライメントユニット３２０が、定盤８の幅方向に移動させるための機構を具備しており、定盤８の長手方向を占有する寸法が大きく、仮に図３２（Ｂ）のように露光ステージ６の往路移動方向手前側に配置すると、このアライメントユニット３２０の定盤８の長手方向の占有寸法分、露光ヘッドユニット２８０が後退された位置となる。
【０２０１】
この結果、露光ステージ６の往路移動方向後端が、奥側の露光ヘッドユニット２８０の真下を通過し終えるまでに必要は距離が寸法Ｌ２となる。
【０２０２】
一方、本実施の形態の配置である図３２（Ａ）の場合、露光ヘッドユニット２８０とアライメントユニット３２０とを比較的接近させた状態で配置することが可能となる。このため、露光ステージ６の往路移動方向後端分が、奥側のアライメントユニット３２０の真下を通過し終えるまでに必要な距離は寸法Ｌ１となる。
【０２０３】
すなわち、往路でアライメントユニット３２０を用い、復路で露光ヘッドユニット２８０を用いるということから、露光ステージ６が必要なユニットに最先に到達するように配置するという一般的な概念ではなく、上記のように、アライメントユニット３２０が定盤８の幅方向へ移行させるための機構が定盤８の長手方向を占有する場合、この移動機構と反対側を露光ヘッドユニット２８０に対面させ、露光ヘッドユニット２８０とアライメントユニット３２０とが最も接近する配置することにより、露光ステージ６の移動距離を短くすることができ、ひいては処理効率の向上を図ることができる。
【０２０４】
ここで、感光材料２２０が被さり、感光材料２２０を吸着する最も外側の小孔６Ｄと、感光材料２２０の周縁部との距離Ｄ（図２１参照）がＡ／２（図２１参照）以下となっており、感光材料２２０の周縁部が載置面６Ｃに吸着される。即ち、感光材料２２０の反りが矯正される。このため、感光材料２２０と露光ヘッドユニット２８０との光学距離が一定になり、良好な露光画像が得られる。
【０２０５】
次に、前記露光ヘッドユニット２８０及びアライメントユニット３２０が配設された領域は、チャンバ４６０によって他の筐体１２Ａ内の空間とは完全に隔離している。また、このチャンバ４６０の天井部には、送風ダクト４８０の一端が取付けられている。送風機５００の作動によって、当該送風機５００のエア排出口からのエアがチャンバ４６０内へ送り込まれる。
【０２０６】
エアの送り込みより、チャンバ４６０内は正圧となり、エアは、唯一の逃げ場であるステージ部２Ｂへと流動する。
【０２０７】
この流動により、最も塵埃を回避するべき、露光ヘッドユニット２８０及びアライメントユニット３２０周辺の塵埃をステージ部２Ｂから排出することができる。
【０２０８】
また、感光材料２２０の露光ステージ６上への着脱の際、ステージ部２Ｂの開閉蓋４を開放する。このとき、この開放状態のステージ部２Ｂから塵埃が侵入することがあったが、本実施の形態では、チャンバ４６０内部を正圧としているため、圧力差によって新たな塵埃が侵入することはなく、露光ヘッドユニット２８０及びアライメントユニット３２０の周囲の環境悪化を防止することできる。
【０２０９】
一方、感光材料２２０はそのベースの材質により静電気を帯び、電荷が帯電することで、塵埃を引き寄せることがある。静電気によってひきよせられて付着している塵埃は、前記エアの流動のみでは払拭しきれない場合がある。そこで、露光ヘッドユニット２８０における露光ステージ６の往路移動方向手前側に、定盤８の幅方向に亘って、除電装置（イオナイザ）５２０を配設した。
【０２１０】
これにより、定盤８上を摺動する露光ステージ６に位置決めされた感光材料２２０は、必ずこの除電装置５２０に対向し、吹出部５２０Ａからイオン化されたエアが吹き付けられる。
【０２１１】
すなわち、イオン発生部５２０Ｂでアース電極と放電電極との間でコロナ放電を発生させて、静電気によって帯電している塵埃と異極のイオンを生成し、このイオンを送風源によって吹出部５２０Ａから吹き出しているため、中和によって除電がなされる。
【０２１２】
これにより、感光材料２２０が載置された露光ステージ６が定盤８上を移動するとき、感光材料２２０の表面を除電し、静電気によって付着している塵埃を除去すると共に、エアブローで露光ステージ６の上方空間に浮遊する塵埃を除去することができる。
【０２１３】
以上、第１、第２実施形態では、本発明に係る吸着固定装置を、吸着固定装置を備えるレザー露光装置を例に取って説明したが、これに限らず、検査装置等、シート材を吸着固定台に吸着固定する必要がある装置に適用可能である。また、本発明に係る吸着固定装置を備える画像形成装置の一例として、プリント配線基板の素材となる基板材料２００を露光するレーザー露光装置について説明をしたが、本発明に係る画像形成装置は、基板材料２００を露光するレーザー露光装置に限定されるものではなく、ＰＳ板、ＣＴ刷板等の感光性印刷板、感光紙等の感光材料を露光する露光装置等にも適用できる。
【０２１４】
また、デジタル露光を行うレーザー露光装置に限定されるものではなく、マスク露光を行うレーザー露光装置にも適用できる。この場合、アライメントマークの走行位置に応じてマスクを移動させることによって、露光領域を所望の位置にシフトできる。また、これらを露光するための光ビームとしては、レーザービーム以外に可視光線、Ｘ線等も用いることができる。更に、本発明に係る画像形成装置は、インクジェット方式の画像形成装置やディスプレイ製造装置にも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【０２１５】
【図１】第１実施形態のレーザー露光装置とローダ及びアンローダを示す概略斜視図である。
【図２】第１実施形態のレーザー露光装置の構成を示す概略斜視図である。
【図３】第１実施形態のレーザー露光装置の構成を示す要部概略正面図である。
【図４】第１実施形態のレーザー露光装置の工程を示す概略模式図である。
【図５】第１実施形態のレーザー露光装置のタクトを示す説明図である。
【図６】露光ヘッドを示す概略斜視図である。
【図７】（Ａ）は基板材料に形成される露光済み領域を示す説明図、（Ｂ）は露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す説明図である。
【図８】デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）の構成を示す部分拡大図である。
【図９】（Ａ）はＤＭＤの動作を説明するための説明図、（Ｂ）はＤＭＤの動作を説明するための説明図である。
【図１０】（Ａ）はＤＭＤを傾斜配置しない場合の露光ビームの走査線を示す概略平面図、（Ｂ）はＤＭＤを傾斜配置する場合の露光ビームの走査線を示す概略平面図である。
【図１１】露光ヘッドの構成を示す概略斜視図である。
【図１２】（Ａ）は露光ヘッドの構成を示す光軸に沿った副走査方向の概略断面図、（Ｂ）は（Ａ）の概略側面図である。
【図１３】（Ａ）はファイバーアレイ光源の構成を示す概略斜視図、（Ｂ）は（Ａ）の部分拡大図、（Ｃ）はレーザー出射部における発光点の配列を示す説明図、（Ｄ）はレーザー出射部における発光点の配列を示す説明図である。
【図１４】マルチモード光ファイバーの構成を示す説明図である。
【図１５】合波レーザー光源の構成を示す概略平面図である。
【図１６】レーザーモジュールの構成を示す概略平面図である。
【図１７】レーザーモジュールの構成を示す概略側面図である。
【図１８】レーザーモジュールの構成を示す概略正面図である。
【図１９】レーザー露光装置の回路構成の概略を示すブロック図である。
【図２０】（Ａ）、（Ｂ）は、吸着固定装置のローダ、及びステージ本体の構成を示す概略平面図である。
【図２１】（Ａ）、（Ｃ）は、載置面への基板材料の配置方法を示す概略平面図、（Ｂ）は、基板材料を載置面の基準部材に押し当てて基板材料を位置決めする方法を示す概略平面図である。
【図２２】（Ａ）、（Ｂ）は、吸着固定装置のローダ、及びステージ本体の構成を示す概略平面図である。
【図２３】第２実施形態の画像記録装置の概略を示す斜視図である。
【図２４】第２実施形態の画像記録装置の概略略を示す側面図である。
【図２５】第２実施形態の画像記録装置の概略を示す平面図である。
【図２６】露光ステージの斜視図である。
【図２７】露光ヘッドユニットの斜視図である。
【図２８】（Ａ）露光ヘッドユニットによる露光領域を示す平面図、（Ｂ）はヘッドアッセンブリの配列パターンを示す平面図である。拡大倍率時のドットパターンの平面図である。
【図２９】単一のヘッドアッセンブリにおけるドットパターンの配列状態を示す平面図である。
【図３０】カメラユニットの斜視図である。
【図３１】感光材料の上のマークと、基準となるメモリ上のマークとの照合の手順を示す説明図である。
【図３２】露光ヘッドユニットとカメラユニットとの位置関係を示し、（Ａ）が本実施の形態の位置関係の側面図、（Ｂ）が一般形態（従来）の位置関係の側面図である。
【図３３】カメラユニットにおけるマーク検出のための制御系の機能ブロック図である。
【図３４】露光開始時期補正ルーチンを示す制御フローチャートである。
【符号の説明】
【０２１６】
１    レーザー露光装置（画像形成装置、吸着固定装置）
６    露光ステージ（吸着固定台）
６Ｄ  小孔（負圧発生孔）
１０  レーザー露光装置（画像形成装置）
１１  吸着固定装置
１３  制御装置（画像形成領域変更手段）
１９  コントローラ（画像形成領域変更手段）
２１  アライメント制御部（画像形成領域変更手段）
２２、３２  ステージ本体（吸着固定台）
２２Ｂ、３２Ｂ  小孔（負圧発生孔）
２３  位置決め装置（待機位置位置決め手段）
３７Ａ、３７Ｂ  位置決めピン（位置決め手段）
４０、６０  リニア走行体（搬送手段）
８０  ローダ（位置決め手段）
１００  露光ヘッド（画像形成手段）
１０６  ＤＭＤ（空間変調素子）
１８２  ＣＣＤカメラ（画像形成領域変更手段、位置情報取得手段）
１８８  ステッピングモータ（シフト手段）
２００  基板材料（シート材）
２０１  アライメントマーク（位置マーク）
２０４  描画領域（画像形成領域）
２２０  感光材料（シート材）
２６０  リニアモータ部（搬送手段）
２８０  露光ヘッドユニット（画像形成手段）
２８０Ａ  ヘッドアッセンブリー（空間変調素子）
２８０Ｂ  露光済み領域（画像形成領域）
３８０  カメラ部（画像形成領域変更手段、位置情報取得手段）
４４０  ボールねじ機構（シフト手段）
５４０  コントロール部（画像形成領域変更手段）
Ｍ    マーク（位置マーク）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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