(57)【要約】【課題】２つの移動体の独立した位置決めを高速かつ高精度で実行することを可能にしつつ装置構成の簡略化が容易な技術を提供する。【解決手段】第１、第２定盤４Ｂ、４Ｃと、第１、第２定盤４Ｂ、４Ｃによってガイドされて第１、第２定盤４Ｂ、４Ｃ上で移動する２つの移動体１２、１３と、第１定盤４Ｂと第２定盤４Ｃとの距離を変更する定盤駆動機構４Ｄとを備える。定盤駆動機構４Ｄは、２つの移動体１２、１３のうち一方の移動体が第１定盤４Ｂ上で移動し他方の移動体が第２定盤４Ｃ上で移動する際には第１定盤４Ｂと第２定盤４Ｃとの間に所定距離を確保し、第１定盤４Ｂと第２定盤４Ｃとの間において２つの移動体１２、１３が移動する際には第１定盤４Ｂと第２定盤４Ｃとを近接させる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２定盤と、
前記第１及び第２定盤によってガイドされて前記第１及び第２定盤上で移動する２つの移動体と、
前記第１定盤と前記第２定盤との距離を変更する定盤駆動機構とを備え、
前記定盤駆動機構は、前記２つの移動体のうち一方の移動体が前記第１定盤上で移動し前記２つの移動体のうち他方の移動体が前記第２定盤上で移動する際には前記第１定盤と前記第２定盤との間に所定距離を確保し、前記第１定盤と前記第２定盤との間において前記２つの移動体が移動する際には前記第１定盤と前記第２定盤とを前記所定距離よりも近接させることを特徴とする位置決め装置。
【請求項２】
前記２つの移動体のうち一方の移動体が前記第１定盤上から前記第２定盤上に移動するのと同時に前記２つの移動体のうち他方の移動体が前記第２定盤上から前記第１定盤上に移動することを特徴とする請求項１に記載の位置決め装置。
【請求項３】
前記移動体は、前記定盤と前記移動体との間に作用する電磁力により移動することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の位置決め装置。
【請求項４】
前記移動体は、前記第１及び第２定盤と前記移動体との間に作用する電磁力により前記第１及び第２移動体の間で移動することを特徴とする請求項３に記載の位置決め装置。
【請求項５】
前記第１定盤上で前記２つの移動体のうち一方の移動体と連結されて前記一方の移動体を移動させる第１移動体駆動機構と、
前記第２定盤上で前記２つの移動体のうち他方の移動体と連結されて前記他方の移動体を移動させる第２移動体駆動機構と、
を更に備え、前記２つの移動体は、前記第１及び第２移動体駆動機構によって駆動されて、前記第１定盤上、前記第２定盤上、及び、前記第１定盤と前記第２定盤との間で、移動することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の位置決め装置。
【請求項６】
前記移動体は、エアーベアリングによって前記第１及び第２定盤上に支持されることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の位置決め装置。
【請求項７】
前記第１定盤と前記第２定盤との間で前記移動体が移動する場合に、前記第１又は前記第２定盤上で前記移動体が移動する場合よりも前記エアーベアリングのエアー圧力を高くすることを特徴とする請求項６に記載の位置決め装置。
【請求項８】
前記第１定盤と前記第２定盤との相対的な位置関係を検知するセンサーを更に備え、前記定盤駆動機構は、前記センサーの出力に基づいて駆動されることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の位置決め装置。
【請求項９】
前記第１及び第２定盤は、前記２つの移動体をガイドするガイド面を有し、前記第１及び第２定盤は、前記ガイド面の端部であって前記第１及び第２定盤が相互に対向する部分が面取りされていることを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれか１項に記載の位置決め装置。
【請求項１０】
前記第１及び第２定盤は、それぞれ係合部を有し、前記定盤駆動機構により前記第１及び前記第２定盤が近接するように駆動される際に、前記第１定盤の係合部と前記第２定盤の係合部とが係合することにより、前記第１定盤と前記第２定盤とが相互に位置決めされることを特徴とする請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載の位置決め装置。
【請求項１１】
第１及び第２定盤と、
前記第１及び第２定盤によってガイドされて前記第１及び第２定盤上で移動する２つの移動体とを備え、
前記第１定盤と前記第２定盤との間で所定距離を確保し、前記第１定盤と前記第２定盤との間において前記２つの移動体が移動する際には前記第１定盤および前記第２定盤のガイド面を共用することを特徴とする位置決め装置。
【請求項１２】
感光剤が塗布された基板を露光する露光装置であって、
第１、第２ステージを有し、前記第１、第２ステージ上に基板を保持してそれぞれ位置決めする位置決め装置と、
前記第１、第２ステージのうち露光領域内に位置するステージ上に保持された基板上の感光剤を露光して潜像パターンを形成するパターン形成部とを備え、
前記位置決め装置として請求項１乃至請求項１１のいずれか１項に記載の位置決め装置を備え、前記第１、第２移動体がそれぞれ前記第１、第２ステージを含むことを特徴とする露光装置。
【請求項１３】
デバイス製造方法であって、
請求項１１に記載の露光装置を用いて、感光剤が塗布された基板の該感光剤に潜像パターンを形成する工程と、
前記潜像パターンを現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２つの移動体を位置決めする位置決め装置、該位置決め装置が組み込まれた露光装置、及び、該露光装置を利用したデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス等の各種のデバイスの製造において、感光剤が塗布された基板の該感光剤に潜像パターンを形成する露光装置が使用されている。潜像パターンは、その後の現像工程においてパタニングされる。露光装置において重要な事項の１つとして、露光処理能力、すなわちスループットを挙げることができる。
【０００３】
スループットを飛躍的に向上させる方式として、アライメント処理（アライメント用の計測処理）と露光処理（アライメント処理によって得られた情報に基づいて基板を位置決めしながら該基板に潜像パターンを形成する処理）とを並行して実行する方式がある。この方式は、２つのステージを設け、アライメント処理領域内のステージ上の基板についてアライメント処理を実行するとともに露光処理領域内にステージ上の基板について露光処理を実行するものである。このような並行処理が終了すると、アライメント処理が終了した基板を保持しているステージをアライメント処理領域内から露光処理領域内に移動させるとともに露光処理が終了した基板を保持しているステージを露光処理領域内からアライメント処理領域内に移動させる。
【０００４】
このような方式においては、アライメント処理領域と露光処理領域とにおいて２つのステージを入れ替える必要がある。ここで、２つのステージの入れ替えを可能にするために２つのステージを単一のステージ定盤上で移動させる露光装置があるが、単一のステージ定盤上に２つのステージが配置された構成においては、アライメント処理と露光処理とを並行して実行する際に、一方のステージの駆動に伴って発生する反力によって生じうる振動が他方のステージの駆動や位置決めに悪影響を及ぼす。具体的には、一方のステージの駆動に伴う反力によって、他方のステージの位置決め精度が低下したり、位置決めの際の整定時間が長くなったりしうる。
【０００５】
特許文献１には、ベースプレート上に２つのステージ定盤を配置し、各ステージ定盤上にＸＹ方向に移動可能なステージ本体を配置し、ウエハテーブルを搬送機構の搬送アーム機構によって保持して２つのステージ本体の間で入れ替える露光装置が開示されている。特許文献１に記載された露光装置では、一方のステージ本体で発生しうる振動が他方のステージ本体に伝達することが防止されている。
【特許文献１】特開２００１−２０３１４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１に開示されたウエハテーブルの入れ替え方式では、ウエハ或いはウエハテーブルの位置決め機構の他に、２つのウエハテーブルを入れ替えるために、これらを２次元駆動するための搬送機構が不可欠である。しかも、この搬送機構は、ウエハ或いはウエハテーブルの位置決め機構との部品の共有はなされず、完全に独立した構造であるので、露光装置の構造が複雑である。
【０００７】
また、特許文献１に開示されたウエハテーブルの入れ替えのための搬送機構は、ウエハテーブルをそれぞれ保持する２つの搬送アーム機構の位置を入れ替えることができないために、２つの搬送アーム機構でそれぞれウエハテーブルを保持した状態で２つのウエハテーブルを２つのステージ本体の間で同時に入れ替えることはできない。したがって、特許文献１に開示されたウエハテーブルの入れ替えのための搬送機構では、ウエハテーブルの入れ替えのために長時間を要する。
【０００８】
本発明は、上記の背景に鑑みてなされたものであり、例えば、２つの移動体の独立した位置決めを高速かつ高精度で実行することを可能にしつつ装置構成の簡略化が容易な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の位置決め装置は、第１及び第２定盤と、前記第１及び第２定盤によってガイドされて前記第１及び第２定盤上で移動する２つの移動体と、前記第１定盤と前記第２定盤との距離を変更する定盤駆動機構とを備え、前記定盤駆動機構は、前記２つの移動体のうち一方の移動体が前記第１定盤上で移動し前記２つの移動体のうち他方の移動体が前記第２定盤上で移動する際には前記第１定盤と前記第２定盤との間に所定距離を確保し、前記第１定盤と前記第２定盤との間において前記２つの移動体が移動する際には前記第１定盤と前記第２定盤とを前記所定距離よりも近接させる。
【００１０】
本発明の好適な実施形態によれば、前記２つの移動体のうち一方の移動体が前記第１定盤上から前記第２定盤上に移動するのと同時に前記２つの移動体のうち他方の移動体が前記第２定盤上から前記第１定盤上に移動することが好ましい。
【００１１】
本発明の好適な実施形態によれば、前記移動体は、例えば、前記定盤と前記移動体との間に作用する電磁力により移動する。更には、前記移動体は、前記第１及び第２定盤と前記移動体との間に作用する電磁力により前記第１及び第２移動体の間で移動しうる。
【００１２】
本発明の好適な実施形態によれば、前記位置決め装置は、前記第１定盤上で前記２つの移動体のうち一方の移動体と連結されて前記一方の移動体を移動させる第１移動体駆動機構と、前記第２定盤上で前記２つの移動体のうち他方の移動体と連結されて前記他方の移動体を移動させる第２移動体駆動機構とを備えることができ、前記２つの移動体は、前記第１及び第２移動体駆動機構によって駆動されて、前記第１定盤上、前記第２定盤上、及び、前記第１定盤と前記第２定盤との間で、移動する。
【００１３】
本発明の好適な実施形態によれば、前記移動体は、エアーベアリングによって前記第１及び第２定盤上に支持されうる。ここで、前記第１定盤と前記第２定盤との間で前記移動体が移動する場合に、前記第１又は前記第２定盤上で前記移動体が移動する場合よりも前記エアーベアリングのエアー圧力を高くすることが好ましい。
【００１４】
本発明の好適な実施形態によれば、前記位置決め装置は、前記第１定盤と前記第２定盤との相対的な位置関係を検知するセンサーを備えることができ、前記定盤駆動機構は、前記センサーの出力に基づいて駆動されうる。
【００１５】
本発明の好適な実施形態によれば、前記第１及び第２定盤は、前記２つの移動体をガイドするガイド面を有し、前記第１及び第２定盤は、前記ガイド面の端部であって前記第１及び第２定盤が相互に対向する部分が面取りされていることが好ましい。
【００１６】
本発明の好適な実施形態によれば、前記第１及び第２定盤は、それぞれ係合部を有することができ、前記定盤駆動機構により前記第１及び前記第２定盤が近接するように駆動される際に、前記第１定盤の係合部と前記第２定盤の係合部とが係合することにより、前記第１定盤と前記第２定盤とが相互に位置決めされうる。
【００１７】
本発明の他の側面における位置決め装置は、第１及び第２定盤と、前記第１及び第２定盤によってガイドされて前記第１及び第２定盤上で移動する２つの移動体とを備え、前記第１定盤と前記第２定盤との間で所定距離を確保し、前記第１定盤と前記第２定盤との間において前記２つの移動体が移動する際には前記第１定盤および前記第２定盤のガイド面を共用する。
【００１８】
本発明の露光装置は、感光剤が塗布された基板を露光する露光装置に係り、該露光装置は、第１、第２ステージを有し前記第１、第２ステージ上に基板を保持してそれぞれ位置決めする位置決め装置と、前記第１、第２ステージのうち露光領域内に位置するステージ上に保持された基板上の感光剤を露光して潜像パターンを形成するパターン形成部とを備え、前記位置決め装置として本発明の位置決め装置を備え、前記第１、第２移動体がそれぞれ前記第１、第２ステージを含む。
【００１９】
本発明のデバイス製造方法は、本発明の露光装置を用いて、感光剤が塗布された基板の該感光剤に潜像パターンを形成する工程と、前記潜像パターンを現像する工程とを含む。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、例えば、２つの移動体の独立した位置決めを高速かつ高精度で実行することを可能にしつつ装置構成の簡略化が容易な技術を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態を説明する。
【００２２】
［第１実施形態］
図１は、本発明の好適な実施形態の露光装置の概略構成を示す側面図、図２は、図１に示す露光装置に組み込まれる本発明の好適な実施形態の位置決め装置の概略構成を示す斜視図である。位置決め装置２００は、ウエハ（基板）を保持して移動する第１、第２ステージ１２、１３を有する。位置決め装置２００が組み込まれた露光装置１００は、露光処理（感光剤が塗布されたウエハの該感光剤に潜像パターンを形成する処理）を実行する露光処理領域９６（図５参照）、アライメント処理（アライメントのためにウエハ上のマーク位置等を検出する処理）をアライメント処理領域９５（図５参照）、及び、露光処理領域に存在するステージとアライメント処理領域に存在するステージとを入れ替えるスワップ領域１６（図５参照）を有する。スワップ領域の一部は、典型的には、露光処理領域の一部及びアライメント処理領域の一部と重なりうる。
【００２３】
露光装置１００は、露光処理領域において露光処理が実行されている間に、アライメント処理領域において、次の露光に供されるウエハに関してアライメント処理を実行する。露光処理及びアライメント処理が終了すると、露光処理領域に存在するステージとアライメント処理領域に存在するステージとをスワップ領域を通して入れ替える。これにより、アライメント処理が完了したウエハが露光処理領域内に配置され、アライメント処理によって得られた情報（ウエハの各ショット領域にパターンを位置合わせするための情報）に基づいて位置決めがなされ各ショット領域に潜像パターンが形成される。一方、露光処理が完了したウエハは、露光処理領域、アライメント処理領域、スワップ領域、又は、他の領域において、ロボットハンド等の搬送機構により回収される。
【００２４】
レチクル（原板）は、レチクルステージ（原板ステージ）２によって保持され、照明ユニット１によって照明され、そのパターンが縮小投影レンズ３を通して、露光領域内のステージ１２又は１３（図１では、ステージ１２）上のウエハ（基板）４Ａに投影され、これにより、ウエハ上の感光剤に潜像パターンが形成される。露光装置１００は、ステップアンドリピート方式、ステップアンドスキャン方式、又は、その他の方式として構成されうる。露光装置１００がステップアンドスキャン方式として構成される場合は、レチクルステージ２によってレチクルをスキャン駆動するとともにウエハを保持したステージをスキャン駆動しながら、スリット光によってレチクルパターンをウエハに転写する。レチクル及びウエハは、縮小投影レンズ３の縮小倍率に従った速度比でスキャン駆動される。
【００２５】
位置決め装置２００は、第１、第２ステージ（第１、第２移動体）１２、１３を支持するステージ定盤として分離された第１、第２ステージ定盤（第１、第２定盤）４Ｂ、４Ｃを備えている。第１、第２ステージ１２、１３を独立して駆動する際（すなわち、露光処理とアライメント処理とを並行して実行する際）は、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃは、互いに所定距離だけ隔てて配置される。一方、第１、第２ステージ１２、１３の位置を交換する際は、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃは、互いに前記所定距離よりも近接され、典型的には、互いに接触させられる。露光処理とアライメント処理とを並行して実行する際に、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃを互いに所定距離だけ隔てて配置することにより、第１、第２ステージ１２、１３の独立した駆動において、一方のステージの駆動に起因して発生する反力が他方のステージに影響（振動、位置決め誤差等）を与えることを防止することができる。
【００２６】
第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃは、それぞれマウント４Ｄによって支持されている。マウント４Ｄは、典型的には、アクティブマウントとして構成される。アクティブマウントは、ステージ定盤を駆動する定盤駆動機構を備え、ステージ定盤等に設けられた振動センサー等のセンサーからの出力に基づいて、振動を低減するように定盤駆動機構が制御される。この定盤駆動機構は、後述するように、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃ間の距離を変更するためにも使用されうる。
【００２７】
レチクルステージ２、縮小投影レンズ３、アライメントスコープ６、干渉計７〜１１等は、中間定盤５によって支持されうる。
【００２８】
アライメントスコープ６は、アライメント処理領域内のウエハ上に形成されているアライメントマーク及びそのウエハを保持しているステージ（図１では、ステージ１３）に設けられている基準マーク１４の位置を計測してウエハの位置決め及びウエハとレチクルとの間の位置決めのためのアライメント情報を得る顕微鏡を含む。
【００２９】
Ｘ干渉計７（７Ａ〜７Ｃ）は、露光処理領域内のステージ（図１では、ステージ１２）のＸ軸方向の位置を計測する。Ｙ干渉計８（８Ａ〜８Ｄ）は、露光処理領域内のステージ（図１では、ステージ１２）のＹ軸方向の位置を計測する。
【００３０】
Ｘ干渉計９（９Ａ〜９Ｃ）は、アライメント処理領域内のステージ（図１では、ステージ１３）のＸ軸方向の位置を計測する。Ｙ干渉計１０（１０Ａ〜１０Ｄ）は、アライメント処理領域内のステージ（図１では、ステージ１３）のＹ軸方向の位置を計測する。
【００３１】
Ｙ干渉計１１（１１Ａ、１１Ｂ）は、スワップ領域において、ステージ１２、１３のＹ軸方向の位置を計測する。
【００３２】
照度センサー１５は、第１、第２ステージ１２、１３の上面に設けられ、露光光の照度を露光前に計測し、露光量補正（キャリブレーション）のために使用されうる。
【００３３】
以下、図３〜図７を参照しながら、位置決め装置２００の構成例を説明する。図３に示すように、第１ステージ１２は、第１スライダー１２Ｂ上に搭載され、第２ステージ１３は、第２スライダー１３Ｂ上に搭載されている。ここで、この実施形態では、第１ステージ１２及びスライダー１２Ｂによって第１移動体が構成され、第２ステージ１３及び第２スライダー１３Ｂによって第２移動体が構成されている。
【００３４】
図４は、図３におけるＡ部を拡大した図であり、第１ステージ定盤４Ｂは、平面モーターを構成するコイル（平面モーターコイル）１２Ａを有する。平面モーターコイル１２Ａは、露光処理領域内において第１スライダー１２Ｂを移動させる範囲をカバーするように配置されている。第１スライダー１２Ｂは、平面モーターを構成するマグネット（平面モーターマグネット）１２Ｃを有する。平面モーターコイル１２Ａに駆動電流を印加することにより、平面モーターマグネット１２Ｃに対してローレンツ力（電磁力）を作用させて、第１スライダー１２ＢをＸＹ方向に移動させることができる。
【００３５】
同様に、第２ステージ定盤１３は、平面モーターコイル１３Ａを有し、第２スライダー１３Ｂは、平面モーターマグネットを有し、第２ステージ定盤１３の平面モーターコイル１３Ａに駆動電流を印加することにより、第２スライダー１３Ｂの平面モーターマグネットに対してローレンツ力（電磁力）を作用させて、第２スライダー１３ＢをＸＹ方向に移動させることができる。
【００３６】
第１、第２スライダー１２Ｂ、１３Ｂと第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃとの間には、エアーベアリング（不図示）が設けられていて、第１、第２スライダー１２Ｂ、１３Ｂは、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃのガイド面に対して浮上して、非接触状態で移動する。
【００３７】
図６、図７に示すように、平面モーターコイル１２Ａは、互いに直交する第１、第２単線コイルで構成されている。各単線コイルは、それが配置されている領域の周辺部において折り返して平行に配置されている。第１コイルは、コイル端子１２Ｄ、１２Ｅを有し、第２コイルは、コイル端子１２Ｆ、１２Ｇを有する。平面モーターコイル１３Ａも、平面モーターコイル１２Ａと同様の構成を有する。
【００３８】
ここで、平面モーターの原理を説明する。平面モーターコイル１２Ａに対して、図７に示すように、駆動電流１２Ｈ、１２Ｉを矢印で示す方向に印加した場合、直交する２つのコイルがそれぞれ発生する磁界によって、第１スライダー１２Ｂ（又は第２スライダー１３Ｂ）の平面コイルマグネットにローレンツ力（電磁力）が２方向に作用し、その合力により第１スライダー１２Ｂ（又は第２スライダー１３Ｂ）が−Ｘ方向に駆動される。このような原理により、平面モーターコイルを構成する２つのコイルに印加する駆動電流の方向を変更することにより、スライダーをＸ方向及びＹ方向に駆動することができる。
【００３９】
図５に示すように、第１ステージ定盤４Ｂには、露光処理時及びアライメント処理時のそれぞれにおいてステージ（図５では、ステージ１２）を駆動するための並行処理用（又は独立駆動用）の平面モーターコイルの他に、スワップ時にステージを駆動するためのスワップ用の平面モーターコイル１６Ａ１、１６Ｂ１が設けられている。また、同様に、第１ステージ定盤４Ｂには、露光処理時及びアライメント処理時のそれぞれにおいてステージ（図５では、ステージ１３）を駆動するための並行処理用（又は独立駆動用）の平面モーターコイルの他に、スワップ時にステージを駆動するためのスワップ用の平面モーターコイル１６Ａ２、１６Ｂ２が設けられている。
【００４０】
ここで、スワップ用平面モーター１６Ａ１、１６Ｂ１は、並行処理用平面モーターコイル１２Ａによるステージの駆動可能領域とスワップ用平面モーター１６Ａ１、１６Ｂ１によるステージの駆動可能領域とが重なるように、並行処理用平面モーターコイル１２Ａが配置された領域と重なっている。同様に、スワップ用平面モーター１６Ａ２、１６Ｂ２は、並行処理用平面モーターコイル１３Ａによるステージの駆動可能領域とスワップ用平面モーター１６Ａ２、１６Ｂ２によるステージの駆動可能領域とが重なるように、並行処理用平面モーターコイル１３Ａが配置された領域と重なっている。このような構成により、並行して実行される露光処理及びアライメント処理において並行処理用平面モーターコイル１２Ａ、１３Ｂによって駆動されていたステージ１２、１３をスワップ用平面モーター１６Ａ１、１６Ａ２、１６Ｂ１、１６Ｂ２によって入れ替えることができる。
【００４１】
図８に示すように、スワップ領域１６では、第１ステージ１２を搭載した第１スライダー１２Ｂの位置と第２ステージを搭載した第２スライダー１３の位置とを入れ替えるために、第１、第２スライダー１２、１３を、矢印で示すように一旦スワップ領域１６内に位置させ、その後、スワップ用平面モーターコイル１６Ａ１、１６Ａ２、１６Ｂ１、１６Ｂ２を駆動することにより、第１、第２スライダー１２、１３の位置を入れ替える。
【００４２】
図９は、位置決め装置２００の制御システムの構成例を示す図である。露光ステージＸＹ干渉計システム１７は、露光処理領域９６内に位置するステージ（図９では、ステージ１２）のＸＹ方向の位置を前述のＸ干渉計７及びＹ干渉計８を使って計測して、その計測結果をステージ制御システム１９に提供する。
【００４３】
アライメントステージＸＹ干渉計１８は、アライメント処理領域９５内に位置するステージ（図９では、ステージ１３）のＸＹ方向の位置を前述のＸ干渉計９及びＹ干渉計１０を使って計測し、その計測結果をステージ制御システム１９に提供する。
【００４４】
ステージ系制御システム１９は、干渉計システム１７、１８から提供されるステージ１２、１３の位置情報に基づいてステージ１２、１３の位置決めを制御するとともに、露光処理領域内のステージとレチクルステージ２との間の位置決めを制御する。
【００４５】
露光ステージドライバー２０は、ステージ制御システム１９から提供される指令にしたがって、露光処理領域９６内のステージの目標位置及び駆動電流を決定し、その駆動電流を平面モーターコイル１２Ａに印加する。アライメントステージドライバー２１は、ステージ制御システム１０から提供される指令にしたがって、アライメント領域９５内のステージの目標位置及び駆動電流を決定し、その駆動電流を平面モーターコイル１３Ａに印加する。
【００４６】
次いで、図１０及び図１１を参照しながら、露光装置１００のステージの入れ替え動作に着目して説明する。
【００４７】
ステップＳ１０１においてアライメント処理領域内のウエハについてアライメント処理が終了し、ステップＳ１０２において露光処理領域内のウエハについて露光処理が終了する。
【００４８】
次いで、ステップＳ１０３では、アライメント処理領域内の、ステージ１３を搭載したスライダー１３Ｂを図１１（ａ）に示す位置（アライメント処理領域内の位置）から図１１（ｂ）に示す位置を経由して図１１（ｃ）に示す位置（スワップ領域内の位置）に、平面モーターコイル１３Ａに駆動電流を印加することによって移動させる。ステップＳ１０３と並行して、ステップＳ１０４では、露光処理領域内の、ステージ１２を搭載したスライダー１２Ｂを図１１（ａ）に示す位置（露光処理領域内の位置）から図１１（ｂ）に示す位置を経由して図１１（ｃ）に示す位置（スワップ領域内の位置）に、平面モーターコイル１２Ａに駆動電流を印加することによって移動させる。
【００４９】
次いで、ステップＳ１０５では、スワップ領域内のスライダー１２Ｂ、１３Ｂをスワップ領域に配置されたスワップ平面モーターコイル１６Ａ１、１６Ａ２、１６Ｂ１、１６Ｂ２に駆動電流を印加することによって図１１（ｃ）に示す位置（スワップ領域内の位置）から図１１（ｄ）に示す位置（スワップ領域内の位置）に移動させる。
【００５０】
次いで、ステップＳ１０６では、並行処理用平面モーターコイル１２Ａ、１３Ａによって、それぞれスライダー１３Ｂ、１２Ｂを図１１（ｄ）から図１１（ｅ）に示す位置を経由し図１１（ｆ）に示す位置まで駆動する。以上の動作により、スライダー１２Ｂ、１３Ｂの位置が入れ替えられる。
【００５１】
次いで、ステップＳ１０７では、アライメント処理領域において、スライダー１２Ｂに搭載されたステージ１２上のウエハ（露光処理が終了したウエハ）と新しいウエハとが不図示の搬送機構によって交換され、その新しいウエハについてアライメント処理が開始される。ステップＳ１０７と並行して、ステップＳ１０８では、露光処理領域において、スライダー１３Ｂに搭載されたステージ１３上のウエハ（アライメント処理（アライメント用の計測）が完了したウエハ）について露光処理（レチクルのパターンの転写）が開始される。
【００５２】
以上のような動作を繰り返すことにより、各サイクルにおいてアライメント処理と露光処理とが並行して実行されながら、複数枚のウエハが連続的に処理される。
【００５３】
以上の一連の動作において、スライダー（ステージ）のＸＹ方向の位置計測のための干渉計の切り換えは、次のようになされる。図１１（ａ）に示す配置においては、スライダー１２Ｂは、そのＸ軸方向の位置をＸ干渉計７Ｂ、そのＹ軸方向の位置及びＺ軸周りの回転角をＹ干渉計８Ａ及び８Ｂにより、計測される。また、スライダー１３Ｂは、そのＸ軸方向の位置をＸ干渉計９Ｂ、そのＹ軸方向の位置及びＺ軸周りの回転角をＹ干渉計１０Ｃ及び１０Ｄにより、計測される。
【００５４】
図１１（ｂ）に示す配置においては、スライダー１２Ｂは、そのＸ軸方向の位置をＸ干渉計７Ａ及び７Ｂ、そのＹ軸方向の位置及びＺ軸周りの回転角をＹ干渉計８Ａ及び８Ｂにより、計測される。また、スライダー１３Ｂは、そのＸ軸方向の位置をＸ干渉計９Ｂ及び９Ｃ、そのＹ軸方向の位置及びＺ軸周りの回転角をＹ干渉計１０Ｃ及び１０Ｄにより、計測される。
【００５５】
図１１（ｃ）に示す配置においては、スライダー１２Ｂは、そのＸ軸方向の位置をＸ干渉計７Ａ、そのＹ軸方向の位置及びＺ軸周りの回転角をＹ干渉計８Ｂ、及びＹ干渉計１１Ａにより、計測される。また、スライダー１３Ｂは、そのＸ軸方向に位置をＸ干渉計９Ｃ、そのＹ軸方向の位置及びＺ軸周りの回転角をＹ干渉計１０Ｃ及びＹ干渉計１１Ｂにより、計測される。
【００５６】
図１１（ｄ）に示す配置においては、スライダー１２Ｂは、そのＸ軸方向の位置をＸ干渉計７Ａ、そのＹ軸方向の位置及びＺ軸周りの回転角をＹ干渉計１０Ａ及び１１Ａにより、計測される。スライダー１３Ｂは、そのＸ軸方向の位置をＸ干渉計９Ｃ、そのＹ軸方向に位置及びＺ軸周りの回転角をＹ干渉計８Ｄ及び１１Ｂにより、計測される。
【００５７】
図１１（ｅ）に示す配置においては、スライダー１２Ｂは、そのＸ軸方向の位置をＸ干渉計９Ａ及び９Ｂ、そのＹ軸方向の位置及びＺ軸周りの回転角をＹ干渉計１０Ａ及び１０Ｂにより、計測される。また、スライダー１３Ｂは、そのＸ軸方向の位置をＸ干渉計７Ｂ及び７Ｃ、そのＹ軸方向の位置及びＺ軸周りの回転角をＹ干渉計８Ｃ及び８Ｄにより、計測される。
【００５８】
図１１（ｆ）に示す配置においては、スライダー１２Ｂは、Ｘ軸方向の位置をＸ干渉計９Ｂ、そのＹ軸方向の位置及びＺ軸周り回転角をＹ干渉計１０Ａ及び１０Ｂにより、計測される。また、スライダー１３Ｂは、そのＸ軸方向の位置をＸ干渉計７Ｂ、そのＹ軸方向の位置及びＺ軸周りの回転角をＹ干渉計８Ｃ及び８Ｄにより、計測される。
【００５９】
以上のように、各軸についての計測結果が途切れないように計測用の干渉計を切り換えることにより、露光処理領域とアライメント処理領域との間で平面モーターによって２つのステージを入れ替えることができる。
【００６０】
前述のように、第１、第２ステージ１２、１３を支持するステージ定盤は、第１ステージ定盤４Ｂと第２ステージ定盤４Ｃとに分離されている。図１２は、図３のＣ部を拡大した図である。第１、第２ステージ１２、１３を独立して駆動する際（すなわち、露光処理とアライメント処理とを並行して実行する際）は、図１２（ａ）に示すように、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃは、ステージを搭載したスライダーを駆動した際に発生する反力によって第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃが互いに接触することがないように十分に距離を隔てて配置される。一方、第１、第２ステージ１２、１３の位置を交換する際は、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃは、互いに近づけられて、典型的には、互いに接触させられる。露光処理とアライメント処理とを並行して実行する際に、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃを互いに所定距離だけ隔てて配置することにより、第１、第２ステージ１２、１３の独立した駆動において、一方のステージの駆動に起因して発生する反力が他方のステージに影響（振動の伝達、位置決め誤差の増加、整定時間の増加等）を与えることを防止することができる。第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃの相互の位置関係は、定盤駆動機構を含むマウント４Ｄによって第１ステージ定盤４Ｂ及び／又は第２ステージ定盤４Ｃを駆動することによって実現することができる。
【００６１】
図１２に示す構成例では、ステージ定盤４Ｂ、４Ｃの間の相対的な位置（例えば、Ｘ、Ｙ、Ｚ方向）を検出する相対位置センサー２２Ａ、２２Ｂが設けられている。図９に示すステージ制御システム１９は、ステージ１２、１３の位置を入れ替える際、及び、入れ替えが終了してアライメント処理及び露光処理を開始する前に、相対位置センサー２２Ａ、２２Ｂの出力に基づいてマウント４Ｄに備えられた駆動機構を制御してステージ定盤４Ｂ、４Ｃ間の距離を調整する。
【００６２】
この実施形態によれば、相対位置センサー２２Ａ、２２Ｂによる計測結果に基づいてマウント４Ｄによって第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃを相互に位置決めすることにより、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃ間でのステージ１２、１３の交換時に、ステージ１２、１３をそれぞれ搭載した第１、第２スライダー１２Ｂ、１３Ｂをエアーベアリングで支持した状態で第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃ間で円滑に移動させることができる。
【００６３】
ここで、ステージ１２、１３の入れ替え時は、第１、第２スライダー１２Ｂ、１３Ｂと第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃとの間のエアーベアリングのエアー圧力をアライメント処理及び露光処理の並行実行時（入れ替えを行わない時）よりも増加させることが好ましい。これにより、エアーベアリングによるスライダーの浮上量（ステージ定盤とスライダーとの間隙）を大きくすることができるので、外乱等によって第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃが振動した場合などにおいても、ステージ定盤の角へのスライダーの衝突を防止することができる。
【００６４】
［第２実施形態］
この実施形態は、第１実施形態の変形例を提供する。ここで特に言及しない事項は、第１実施形態に従いうる。図１３は、図３のＣ部を拡大した図である。
【００６５】
第１、第２ステージ１２、１３を支持するステージ定盤は、第１実施形態と同様に、第１ステージ定盤４Ｂと第２ステージ定盤４Ｃとに分離されている。第１、第２ステージ１２、１３を独立して駆動する際（すなわち、露光処理とアライメント処理とを並行して実行する際）は、図１３（ａ）に示すように、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃは、ステージを搭載したスライダーを駆動した際に発生する反力によって第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃが互いに接触することがないように十分に距離を隔てて配置される。一方、第１、第２ステージ１２、１３の位置を交換する際は、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃは、互いに近づけられる。露光処理とアライメント処理とを並行して実行する際に、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃを互いに距離を隔てて配置することにより、第１、第２ステージ１２、１３の独立した駆動において、一方のステージの駆動に起因して発生する反力が他方のステージに影響を与えることを防止することができる。第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃの相互の位置関係は、定盤駆動機構を含むマウント４Ｄによって第１ステージ定盤４Ｂ及び／又は第２ステージ定盤４Ｃを駆動することによって実現することができる。
【００６６】
この実施形態では、第１ステージ定盤４Ｂと第２ステージ定盤４Ｃとを相互に位置決めするための機構として、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃにそれぞれ係合部が設けられている。図１３に示す例では、第１ステージ定盤４Ｂは、係合部として位置決めピン２３Ａを有し、第２ステージ定盤４Ｃは、係合部として凹部２３Ｂを有する。第１、第２ステージ１２、１３の位置を入れ替える際は、ステージ制御システム１９は、第１ステージ定盤４Ｂと第２ステージ定盤４Ｃとを接近させるようにマウント４Ｄに備えられた駆動機構を制御する。これにより、位置決めピン２３Ａと凹部２３Ｂとが係合し、第１ステージ定盤４Ｂと第２ステージ定盤４ＣとがＸ、Ｙ、Ｚ方向について所定の位置関係になるように相互に位置決めされる。ここで、所定の位置関係とは、Ｚ方向については、第１ステージ定盤４Ｂのガイド面（スライダーをガイドする面）と第２ステージ定盤４Ｃのガイド面とが同一高さになることを意味し、Ｘ、Ｙ方向については、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃ間でステージ１２、１３を入れ替え可能な位置関係を意味する。
【００６７】
この実施形態によれば、位置決めピン２３Ａ及び凹部２３Ｂのような係合部によって第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃを相互に位置決めすることにより、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃ間でのステージ１２、１３の交換時に、ステージ１２、１３をそれぞれ搭載した第１、第２スライダー１２Ｂ、１３Ｂをエアーベアリングで支持した状態で第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃ間で円滑に移動させることができる。
【００６８】
[第３実施形態]
この実施形態は、第１又は第２実施形態の変形例を提供する。ここで特に言及しない事項は、第１又は第２実施形態に従いうる。図１４は、図３のＣ部を拡大した図である。
【００６９】
この実施形態では、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃが対向する部分であって第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃのガイド面の端部に面取り部４Ｅを有する。面取り部４Ｅは、図１４に示すように平面で構成されてもよいし、Ｒ加工された構造のように滑らかな面で構成されてもよい。第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃにこのような面取り部４Ｅを備えることにより、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃ間に位置決め誤差が存在する場合や、外乱等により第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃが振動した場合などのように、第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃ間の高低差がエアーベアリングによるスライダーの浮上量（ステージ定盤とスライダーとの間隙）を超えた場合においても、スライダーがステージ定盤の角に激しく衝突してスライダー及びステージ定盤が損傷を受けることを防止することができる。
【００７０】
［第４実施形態］
この実施形態は、第１〜第３実施形態における平面モーターの他の駆動方式を提供するものである。ここで特に言及しない事項は、第１〜第実施形態に従いうる。
【００７１】
この実施形態では、第１〜第３実施形態におけるローレンツ駆動方式と同様に有用な方式であるソーヤ方式の平面パルスモーターの適用例を提供する。図１５に示すように、第１〜第３実施形態の第１、第２スライダー１２Ｂ、１３Ｂは、第１、第２平面パルスモータースライダー３２Ｂ、３２Ｃに置き換えられ、第１〜第３実施形態の第１、第２ステージ定盤４Ｂ、４Ｃは、第１、第２平面パルスモータープラテン３２Ａ、３３Ａをそれぞれ有する第１、第２ステージ定盤３４Ｂ、３４Ｃに置き換えられる。
【００７２】
図１６は、図１５のＤ部を拡大した図である。平面パルスモータースライダー３２Ｂの駆動コイル３２Ｃによってヨーク３２Ｄが励磁され、ステージ定盤３４Ｂ上面に設けられた平面パルスモータープラテン３２Ａの櫛歯状の純鉄定盤に対して、ヨーク３２Ｄの櫛歯状ヨークが３相吸引力制御（不図示）されることにより連続的に吸引力を発生し、平面パルスモータースライダー３２Ｂが平面パルスモータープラテン３２Ａに対して移動する。
【００７３】
このような平面パルスモーター方式においても、第１、第２ステージ１２、１３を独立して駆動する際（すなわち、露光処理とアライメント処理とを並行して実行する際）は、分離された第１、第２ステージ定盤３４Ｂ、３４Ｃを離間させ、第１、第２ステージ１２、１３の位置を入れ替える際は、第１、第２ステージ定盤３４Ｂ、３４Ｃを近接又は密着させることにより、第１、第２ステージ定盤３４Ｂ、３４Ｃ間で第１、第２ステージ１２、１３を円滑に移動させる。
【００７４】
[第５実施形態]
第１〜第４実施形態では、平面モーターによって２つのステージを駆動するが、この実施形態では、リニア駆動機構によって２つのステージを駆動する。ただし、この実施形態においても、２つのステージ定盤と、それらを移動させる定盤駆動機構（例えば、前述のマウント）とを備え、２つのステージを独立して駆動する際（すなわち、露光処理とアライメント処理とを並行して実行する際）は、２つのステージ定盤を離間させ、２つのステージの位置を入れ替える際は、２つのステージ定盤を近接又は密着させることにより２つのステージ定盤間で２つのステージを円滑に移動させる。
【００７５】
なお、ここで特に言及しない事項、例えば露光装置の全体構成等は、第１〜第４実施形態に従いうる。
【００７６】
露光処理領域には、ウエハを保持するステージが搭載された第１スライダー４３Ａと、第１スライダー４３ＡをＹ軸方向に駆動するＹ駆動機構４３Ｂと、Ｙ軸駆動機構４３ＢをＸ軸方向に駆動することにより第１スライダー４３ＡをＸ軸方向に駆動するＸ駆動機構４３Ｃ、第１スライダー４３ＡをＸＹ面内で移動可能に支持する第１ステージ定盤４３Ｄが配置されている。
【００７７】
アライメント処理領域には、ウエハを保持するステージが搭載された第２スライダー４２Ａと、第２スライダー４２ＡをＹ軸方向に駆動するＹ駆動機構４２Ｂと、Ｙ軸駆動機構４２ＢをＸ軸方向に駆動することにより第２スライダー４２ＡをＸ軸方向に駆動するＸ駆動機構４２Ｃ、第２スライダー４２ＡをＸＹ面内で移動可能に支持する第２ステージ定盤４２Ｄが配置されている。
【００７８】
以上の構成において、露光処理領域において露光処理が実行されるとともにアライメント処理領域においてアライメント処理が実行されている間は、図１７（ａ）に示すように、第１、第２ステージ定盤４３Ｄ、４２Ｄは、相互に距離を隔てた状態でマウント（前述のマウント４Ｄに相当）によって支持される。これにより、両ステージの加減速時に発生する反力及び振動がステージ相互間で伝達されることがなく、両ステージを完全に独立した環境で動作させることができる。
【００７９】
次に、アライメント処理領域においてアライメント処理（アライメントのためにウエハ上のマーク位置を検出する処理）が終了したウエハを露光処理領域に移動させる際と、露光処理領域において露光処理が終了したウエハを回収する際（ここでは、ウエハの回収がアライメント処理領域においてなされるものと仮定する）には、両ステージ（スライダー）の位置を交換する必要がある。
【００８０】
図１７（ｂ）〜（ｄ）は、両ステージの交換シーケンスを例示的に示している。まず、図１７（ｂ）に示すように、スライダー４３Ａ、４３Ｂをスワップ準備位置に移動させ、定盤駆動機構を含むマウントによってステージ定盤４３Ｄ、４２Ｄを相互に近接又は接触させる。この際のステージ定盤４３Ｄ、４２Ｄの位置制御及び位置決めは、第１〜第４実施形態に従いうる。
【００８１】
次いで、図１７（ｃ）に示すように、ステージ定盤４３Ｄ、４２Ｄが相互に近接又は接触した状態において、スライダー４２ＡをＹ駆動機構４２Ｂから切り離すとともにスライダー４３ＡをＹ駆動機構４３Ｂから切り離し、次いで、スライダー４２ＡにＹ駆動機構４３Ａを連結するとともにスライダー４３ＡにＹ駆動機構４３Ｂに連結する。これにより、Ｙ駆動機構４２Ｂ、４３Ｂ間でスライダーが交換される。
【００８２】
次いで、図１７（ｄ）に示すように、スライダー４２ＡをＹ駆動機構４３Ｂ及びＸ駆動機構４３Ｃにより露光処理領域内に位置決めするとともに、スライダー４３ＡをＹ駆動機構４２Ｂ及びＸ駆動機構４２Ｃによりアライメント処理領域内に位置決めする。その後は、アライメント処理と露光処理とが並行して実行される。
【００８３】
[デバイス製造方法]
次に上記の露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図１８は、半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ1（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステップ2（マスク作製）では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。一方、ステップ3（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ4（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ5（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ4によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組立て工程を含む。ステップ6（検査）ではステップ5で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これを出荷（ステップ7）する。
【００８４】
図１９は、上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す図である。ステップ11（酸化）ではウエハの表面を酸化させる。ステップ12（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁膜を成膜する。ステップ13（電極形成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ14（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ15（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステップ16（露光）では上記の露光装置によってウエハ上の感光剤に回路パターンの潜像を形成する。ステップ17（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ18（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ19（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】本発明の好適な実施形態の露光装置の概略構成を示す側面図である。
【図２】図１に示す露光装置に組み込まれる本発明の好適な実施形態の位置決め装置の概略構成を示す斜視図である。
【図３】平面モーターの構成を概略的に示す断面図である。
【図４】図３におけるＡ部を拡大した図である。
【図５】平面モーターコイルの配置を示す図である。
【図６】平面モーターコイルの構成を示す図である。
【図７】平面モーターコイルの構成を示す図である。
【図８】ステージの入れ替え動作を説明する図である。
【図９】位置決め装置の制御システムの構成例を示す図である。
【図１０】露光装置のステージの入れ替え動作に着目して説明する図である。
【図１１】ステージの入れ替えて順を示す図である。
【図１２】図３のＣ部を拡大した図である。
【図１３】第２実施形態における図３のＣ部を拡大した図である。
【図１４】第３実施形態における図３のＣ部を拡大した図である。
【図１５】第４実施形態における位置決め装置の構成を概略的に示す図である。
【図１６】図１５のＤ部を拡大した図である。
【図１７】第５実施形態におけるステージの入れ替え動作を示す図である。
【図１８】半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。
【図１９】ウエハプロセスの詳細なフローを示す図である。
【符号の説明】
【００８６】
１：照明系ユニット
２：レチクルステージ
３：縮小投影レンズ
４：ウエハステージ
５：露光装置本体
６：アライメントスコープ
７：Ｘ干渉計
８：Ｙ干渉計
９：Ｘ干渉計
１０：Ｙ干渉計
１１：Ｙ干渉計
１２：第１ステージ
１２Ａ：平面モーターコイル
１２Ｂ：スライダー
１２Ｃ：平面モーターマグネット
１３：第２ステージ
１３Ａ：平面モーターコイル
１３Ｂ：スライダー
１４：基準マーク
１５：照度センサー
１６：スワップ領域
１６Ａ１、１６Ａ２、１６Ｂ１、１６Ｂ２：スワップ平面モーターコイル
２２Ｂ：相対位置センサー
２３Ａ：位置決めピン（係合部）
２３Ｂ：凹部（係合部）
３２：ステージ
３２Ａ：平面パルスモータープラテン
３２Ｂ：平面パルスモータースライダー
３２Ｃ：駆動コイル
３２Ｄ：ヨーク
３３Ａ：パルスモータープラテン
３３Ｂ：平面パルスモータースライダー
３４Ｂ：ステージ定盤
３４Ｃ：ステージ定盤
４２：アライメントステージ
４２Ａ：スライダー
４２Ｂ：Ｙ駆動機構
４２Ｃ：Ｘ駆動機構
４２Ｄ：定盤
４３：ステージ
４３Ａ：スライダー
４３Ｂ：Ｙ駆動機構
４３Ｃ：Ｘ駆動機構
４３Ｄ：定盤
【図１】
2005327993.tif 000003
【図２】
2005327993.tif 000004
【図３】
2005327993.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
2005327993.tif 000016
【図１５】
2005327993.tif 000017
【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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