(57)【要約】【課題】射出成形機等のダイプレート間の平行度測定が容易に遂行できるマーキングを形成した固定ダイプレートまたは移動ダイプレートの表面構造を提供する。【解決手段】移動ダイプレートＭＰＬの金型取付け面上の平行度測定位置に、帯状の溝ＢＧＶを形成し、当該帯状の溝で囲まれた金型取付け面上の領域を、内測マイクロメータＭＴＬの先端部が接触する接触領域ＭＳＦとしたマーキングを定義する。測定作業者は前記接触領域に内測マイクロメータの一方の先端部を接触させ、その状態を保持する際に前記帯状の溝と接触領域とからの反射光量の相違を容易に識別することができるので、内測マイクロメータ先端部の接触領域上でのずれを簡単に修正でき、従って、当該先端部を所定位置に保持することが可能である。【選択図】図２
2005335202.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
射出成形機等のベースフレーム上に組付けられた一対の固定ダイプレート及び移動ダイプレートの平行度測定用マーキングを有する前記固定ダイプレートまたは移動ダイプレートの金型取付け面の構造であって、
少なくとも一方の前記ダイプレートの金型取付け面の所定測定位置近傍に、測定用内測マイクロメータの先端部外径とほぼ同じ形状の面積を有する接触部領域と、同接触部領域の周りに形成された帯状の溝とからなるマーキングを設けたことを特徴とする固定ダイプレートまたは移動ダイプレートの金型取付け面構造。
【請求項２】
請求項１において、前記接触部領域からの光の反射量に比べ前記帯状の溝からの反射量が実質的に異なるように当該帯状の溝の幅及び深さを定めたことを特徴とする固定ダイプレートまたは移動ダイプレートの金型取付け面構造。
【請求項３】
射出成形機等のベースフレーム上に組付けられた一対の固定ダイプレート及び移動ダイプレートの平行度測定用マーキングを有する前記固定ダイプレートまたは移動ダイプレートの金型取付け面の構造であって、
少なくとも一方の前記ダイプレートの金型取付け面の所定測定位置近傍に、測定用内測マイクロメータの先端部外径よりもわずかに大きい外径に形成された凹溝からなるマーキングを設けたことを特徴とする固定ダイプレートまたは移動ダイプレートの金型取付け面構造。
【請求項４】
請求項３において、前記凹溝は前記内測マイクロメータの先端部が係止される程度の深さに定めたことを特徴とする固定ダイプレートまたは移動ダイプレートの金型取付け面構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は射出成形機やダイカストマシン（以下射出成形機等という）のベースフレーム上に組付けられた一対の固定ダイプレート及び移動ダイプレートの平行度測定用マーキングに係り、特に、マーキングとして溝を設けた前記ダイプレートの金型取付け面の構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
射出成形機等における固定ダイプレートと移動ダイプレートとの平行度を所定の精度に保持することは当該射出成形機等の基本的な仕様の一つであり、この精度が保持されないと、前記固定ダイプレートと移動ダイプレートにそれぞれ固定金型及び移動金型を取付けた状態で型閉あるいは特に型締動作の際に移動ダイプレートを介して与えられる軸方向の力が均等に両金型へ伝達されず、当該金型の破損、成形品質不良、さらに、移動ダイプレートの軸方向移動に際し、当該ダイプレートを摺動させてガイドするタイバー表面の損傷などの原因となる。このため射出成形機等を組み立てた段階や射出成形機等として稼動可能な状態においても定期的に、前記平行度の測定が行なわれ、同平行度が所定精度内にあることの確認が行なわれている。
【０００３】
図４は、射出成形機における前記平行度測定の様子を例示する固定ダイプレートと移動ダイプレート部分の正面図である。
【０００４】
同図４において、射出成形機のベースフレームＢＦ上には固定ダイプレートＦＰＬが固定して取付けられており、それに対向して移動ダイプレートＭＰＬがガイドＧＤ上を軸方向即ち、金型のセンターラインＣＬの方向に摺動可能に配置されている。
【０００５】
前記各ダイプレートＦＰＬ、ＭＰＬの対向する面（以下金型取付け面という）には一点鎖線で示す固定金型ＦＭＤ、移動金型ＭＭＤが成形品成形のために取付けられる。参照符号ＴＣＬはタイバー軸線を示す。なお、射出成形機では固定ダイプレートＦＰＬの右側と、移動ダイプレートＭＰＬの左側にそれぞれ射出装置、型締め駆動機構が配置されるが、これらは本発明の主題と直接関係しないので省略してある。
【０００６】
参照符号ＭＴＬは平行度測定用の測定ツールである内測マイクロメータを示している。
【０００７】
平行度測定に先行して、その準備段階として固定ダイプレートＦＰＬの金型取付け面がセンターラインＣＬと垂直であることを確認するための作業が水準器を用いて行なわれ、次いで平行度測定作業に入る。
【０００８】
平行度測定作業は、当該射出成形機の許容する最小金型寸法位置、最大金型寸法位置（ここで「寸法」とは軸方向における両金型間の距離を意味する）及び移動ダイプレートＭＰＬの後退限位置などに移動ダイプレートＭＰＬを停止させた後、前記内測マイクロメータＭＴＬを図示のように各ダイプレートの金型取付け面の間に配置しその間の距離として測定される。
【０００９】
この内測マイクロメータＭＴＬによる測定点は平行度測定という目的のため当該ダイプレートの金型取付け面上で、図４では上下及び左右（紙面垂直方向）の位置、換言すれば前記各タイバーが貫通する位置近辺の少なくとも４箇所設定されることが必要である。そして、得られた少なくとも４箇所の測定データにより、移動ダイプレートＭＰＬの固定ダイプレートＦＰＬに対する取付け面の傾斜の度合いが判明する。即ち、移動ダイプレートＭＰＬの、軸方向の倒れ及び前記左右方向の傾斜量が判明するので、それらの測定データに基づいて移動ダイプレートＭＰＬの取付け状態を図示しない底部に設けた楔部材を調整する等の方法により修正する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
上述した平行度測定において、作業者は、例えば、予め前記ダイプレートの一方の金型取付け面上にマジックインキ（登録商標）等のフェルトペンなどで所定測定位置にマーキングを施しておき、そのマーキング近傍に内測マイクロメータＭＴＬの一方の端部を接触させつつ、その他方の端部を他方の金型取付け面上で図示のようなＹ（上下）方向及び、左右方向（紙面垂直方向Ｘとする）に揺動させてもっとも短い距離となる位置を探すことによりそのときのマイクロメータ上の目盛りを読み取ることによって当該測定位置における測定データを得るようにしている。
【００１１】
しかしながら、上記の、他方の端部を他方の金型取付け面上でＸ、Ｙ方向に揺動させてもっとも短い距離となる位置を探すという作業プロセスでは、測定作業者は一方の端部が当該マーキング位置からずれないように注意を払いながら一方の手で保持し、他方の手で他方の端部の出入り即ち、長さを調整し、且つＸ、Ｙの両方向における金型取付け面との接触状態の感触を確認しつつ行なわれるため１つのマーキング位置における測定作業に要する時間及び注意力、さらに熟練が要求される。こうした平行度測定作業は、移動ダイプレートＭＰＬの測定位置が前記最小金型寸法位置の場合はともかく、前記最大金型寸法位置や後退限位置である場合には内測マイクロメータＭＴＬそのものの長さが長くなり、さらに、射出成形機が大型になると前記作業プロセスは益々、その測定作業に要する時間及び注意力、さらに熟練が要求されることになり、その改善が求められていた。また、マジックインキ（登録商標）等のフェルトペンで測定位置にマーキングを施してもそのマーキングはその後射出成形機の稼動により金型の高温度などのため消失し、次回の測定作業の際には改めてマーキングを施さなければならなかった。特に、ダイカストマシンの場合高温度に加え離型剤をキャビティへ吹き付けることもあってマジックインキ（登録商標）等のフェルトペンによるマーキングを次回以降の測定にも使用できる保証はない。
【００１２】
本願発明者は上述した問題点を解決せんとして鋭意検討・努力を重ねた結果、射出成形機等のダイプレート表面上の所定測定位置に溝を形成することで前記測定作業プロセスにおける問題点が大幅に改善できることを突き止めた。
【００１３】
従って、本発明の目的は、射出成形機等のダイプレート間の平行度測定が内測マイクロメータを使用して容易に遂行できるマーキングを形成した固定ダイプレートまたは移動ダイプレートの表面構造を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
前記目的を達成するための本発明による射出成形機等における固定ダイプレートまたは移動ダイプレートの金型取付け面構造は、
射出成形機等のベースフレーム上に組付けられた一対の固定ダイプレート及び移動ダイプレートの平行度測定用マーキングを有する前記固定ダイプレートまたは移動ダイプレートの金型取付け面の構造であって、
少なくとも一方の前記ダイプレートの金型取付け面の所定測定位置近傍に、測定用内測マイクロメータの先端部外径とほぼ同じ形状の面積を有する接触部領域と、同接触部領域の周りに形成された帯状の溝とからなるマーキングを設けて構成される。
【００１５】
その場合、前記接触部領域と前記帯状部分の区別がはっきり識別できるようにするために前記接触部領域からの光の反射量に比べ前記帯状の溝からの反射量が実質的に異なるように当該帯状の溝の幅及び深さを定めることが好ましい。
【００１６】
また、前記目的を達成するための本発明による射出成形機等における固定ダイプレートまたは移動ダイプレートの金型取付け面構造は、
射出成形機等のベースフレーム上に組付けられた一対の固定ダイプレート及び移動ダイプレートの平行度測定用マーキングを有する前記固定ダイプレートまたは移動ダイプレートの金型取付け面の構造であって、
少なくとも一方の前記ダイプレートの金型取付け面の所定測定位置近傍に、測定用内測マイクロメータの先端部外径よりもわずかに大きい外径に形成された凹溝からなるマーキングを設けて構成されることができる。
【００１７】
その場合、前記凹溝は前記内測マイクロメータの先端部が係止される程度の深さに定めることが好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
請求項１に記載された本発明は、
射出成形機等のベースフレーム上に組付けられた一対の固定ダイプレート及び移動ダイプレートの平行度測定用マーキングを有する前記固定ダイプレートまたは移動ダイプレートの金型取付け面の構造であって、
少なくとも一方の前記ダイプレートの金型取付け面の所定測定位置近傍に、測定用内測マイクロメータの先端部外径とほぼ同じ形状の面積を有する接触部領域と、同接触部領域の周りに形成された帯状の溝とからなるマーキングを設けて構成されており、従って、接触領域上に内測マイクロメータの一端部を保持する場合、測定作業中のずれに対して帯状の溝を参照することにより作業者はそのずれを最小限に抑えることが容易となり、また、両方のダイプレート上に帯状の溝を形成しておけば、測定位置を探すための測定作業におけるＸ，Ｙ方向への揺動動作をしなくてもよく、単に内測マイクロメータの両端部をそれぞれの接触領域に接触するだけでよく結果として測定作業の時間、注意力、を軽減でき、熟練度に依存する度合いも大幅に軽減できる。さらに、帯状の溝はマーキングとして消失することはなく、定期点検の際に、マーキング位置を都度設定する作業も必要としない。また帯状の溝と接触領域との光の反射量が異なるので、作業者は内測マイクロメータの端部が当該接触領域上の正常な測定位置にあるか否かを一目瞭然に識別可能となる。
【００１９】
また、請求項３に記載された本発明は、
射出成形機等のベースフレーム上に組付けられた一対の固定ダイプレート及び移動ダイプレートの平行度測定用マーキングを有する前記固定ダイプレートまたは移動ダイプレートの金型取付け面の構造であって、
少なくとも一方の前記ダイプレートの金型取付け面の所定測定位置近傍に、測定用内測マイクロメータの先端部外径よりもわずかに大きい外径に形成された凹溝からなるマーキングを設けて構成されており、従って、作業者にとって、前記凹溝とそれ以外の取付け面領域との識別が容易であり、また、凹溝内に内測マイクロメータの一端部を接触させるだけで、当該内測マイクロメータ端部は溝の壁部に係止されるので脱落の恐れがなく、所定の測定位置に保持させることが容易となり、当該端部のずれを気にすることもない。さらに内測マイクロメータの他端部側を接触させるダイプレート表面の対応する測定位置にも凹溝を形成することにより、内測マイクロメータの両端部をそれぞれの凹溝領域に接触させた後のＸ，Ｙ方向への揺動動作の必要性が減少し、結果として測定作業の時間、注意力等大幅に軽減でき、熟練度に依存する度合いも大幅に軽減できる。さらに、凹溝はマーキングとして消失することはなく、定期点検の際に、マーキング位置を都度設定する作業も必要としない。
【００２０】
また前記他端部側を接触させるダイプレート表面の対応する測定位置に帯状の溝を形成することにより、同様な効果を達成することも可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下図１乃至図３により本発明の実施形態に係る実施例について詳細に説明する。
【００２２】
図１は、固定及び移動ダイプレートの互いに対向する金型取付け面の詳細を例示する図であって、（ａ）は移動ダイプレートＭＰＬの金型取付け面、（ｂ）は固定ダイプレートＦＰＬの金型取付け面を示す。図１（ａ）、（ｂ）において、参照符号ＴＨ１、ＴＨ２はタイバーの貫通孔でそれぞれ同一タイバーが貫通する。参照符号ＭＸＳは最大の金型が金型取付け面に固定された状態を示す。また、図１（ａ）で参照符号ＭＰ１、ＭＰ２、ＭＰ３、・・・ＭＰ１２は移動ダイプレート側の平行度測定位置を示す。これらの平行度測定位置に対応する固定ダイプレートＦＰＬ上の平行度測定位置をＦＰ１、ＦＰ２、ＦＰ３、・・・ＦＰ１２として示す。
【００２３】
図１（ａ）、（ｂ）には平行度測定位置として各タイバー貫通孔の近傍に２箇所、及びそれらの中間位置に各１箇所の合計１２点が例示されている。
【００２４】
図２は、移動ダイプレートＭＰＬの金型取付け面の平行度測定位置に形成されたマーキングを示す。同図２（ａ）において、参照符号ＢＧＶは深さＤ幅Ｗの帯状の溝であって、平行度測定時、同帯状の溝ＢＧＶに囲まれた取付け面上の領域ＭＳＦへ内測マイクロメータＭＴＬの一端部が接触するようになっている。この接触領域ＭＳＦは内測マイクロメータＭＴＬ先端部の外径とほぼ同じ外形形状をしており、従って、作業者が内測マイクロメータＭＴＬの一端部を移動ダイプレートＭＰＬの接触領域ＭＳＦ上に接触させる場合、帯状の溝ＢＧＶを見ることによって内測マイクロメータＭＴＬの接触状態にずれがあるか否かを容易に判断できる。即ち、帯状の溝ＢＧＶの深さＤ、幅Ｗを適切に形成することにより接触領域ＭＳＦと帯状の溝ＢＧＶとからの反射光量に明白な相違ができるので内測マイクロメータＭＴＬを所定の測定位置に保持することが作業者にとって容易になるものである。
【００２５】
図２（ｂ）は同図２（ａ）を右方からみた平面図であって、帯状の溝ＢＧＶが接触領域ＭＳＦと同心円状に形成されていることを示す。前記接触領域ＭＳＦは外形が円に形成されているが内測マイクロメータＭＴＬの先端部の円柱形状に合わせたものであって、先端部が四角状であれば例えば正方形の接触領域であってもよい。
【００２６】
図３は移動ダイプレートＭＰＬの金型取付け面の平行度測定位置に形成された他のマーキングの例を示す。同図３（ａ）においては、前記測定位置を含む深さＤの凹溝ＣＧＶが形成されている。この凹溝ＣＧＶは内測マイクロメータＭＴＬの外径よりわずかに大きい径に形成されており、内測マイクロメータＭＴＬの先端部はその中の溝底へ当接されるようになっている。その場合、凹溝ＣＧＶの深さＤの壁部に内測マイクロメータＭＴＬの先端部が係止されるので、凹溝ＣＧＶからの脱落を防ぐことが可能である。
【００２７】
同図３（ｂ）に示されているように、凹溝ＣＧＶの中心位置は内測マイクロメータＭＴＬの中心位置から偏心しているので、所定の測定位置の上下方向位置としては内測マイクロメータＭＴＬの中心となる。さらにまた、同図３（ａ）、（ｂ）に示されているように、内測マイクロメータＭＴＬの先端部はその上下方向位置が凹溝ＣＧＶの下端部に支持され、その左右方向は凹溝ＣＧＶの内周壁に支持されているので作業者にとり安定した状態に保持することが容易である。
【００２８】
上記図２、図３に示した例では、これら帯状の溝ＢＧＶまたは凹溝ＣＧＶは移動ダイプレートＭＰＬの金型取付け面上に形成された場合を示したが、固定ダイプレートＦＰＬ上の対応する表面位置に形成されることも可能である。
【００２９】
さらに、固定ダイプレートＦＰＬと移動ダイプレートＭＰＬとの金型取付け面上の対応する所定測定位置に、それぞれ同一の帯状の溝ＢＧＶまたは凹溝ＣＧＶを形成するかまたは、帯状の溝ＢＧＶと凹溝ＣＧＶとを組み合わせて形成するようにしてもよい。このように固定ダイプレートＦＰＬと移動ダイプレートＭＰＬとの両方の金型取付け面上の対応する所定測定位置に溝ＢＧＶまたは凹溝ＣＧＶからなるマーキングを形成することにより、作業者は、従来行なっていたＸ，Ｙ方向への内測マイクロメータＭＴＬの揺動動作をしなくてもよく、単に内測マイクロメータＭＴＬの両端部をそれぞれ溝ＢＧＶ内の接触領域または、凹溝領域に接触させるだけで結果として測定作業の時間、注意力等を大幅に軽減でき、熟練度に依存する度合いも大幅に軽減できる。
【００３０】
なお、以上は、射出成形機について説明したがダイカストマシンの場合も同様である。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明が適用される固定ダイプレート及び移動ダイプレートの金型取付け面の平面図を示す。
【図２】図１に示される平行度測定用の所定位置に形成されるマーキングの詳細例であって、（ａ）はその要部断面図、（ｂ）はその平面図である。
【図３】図１に示される平行度測定用の所定位置に形成される他のマーキングの詳細例であって、（ａ）はその要部断面図、（ｂ）はその平面図である。
【図４】射出成形機における平行度測定の様子を例示する固定ダイプレートと移動ダイプレート部分の正面図である。
【符号の説明】
【００３２】
Ｄ        深さ
Ｗ        幅
ＢＦ      ベースフレーム
ＧＤ      ガイド
ＣＬ      センターライン
ＢＧＶ    帯状の溝
ＣＧＶ    凹溝
ＭＳＦ    接触領域
ＭＴＬ    内測マイクロメータ
ＭＰＬ    移動ダイプレート
ＦＰＬ    固定ダイプレート
ＭＸＳ    最大金型の取付状態
ＦＰ１、ＦＰ２、ＦＰ３、ＦＰ１２      固定ダイプレート上の所定測定位置
ＭＰ１、ＭＰ２、ＭＰ３、ＭＰ１２      移動ダイプレート上の所定測定位置
ＴＣＬ    タイバー貫通孔
【図１】
2005335202.tif 000003
【図２】
2005335202.tif 000004
【図３】
2005335202.tif 000005
【図４】
2005335202.tif 000006