(57)【要約】  【課題】  マスクを使用することなくＡＤ法による膜パターンを形成できる、高速制御可能な成膜装置を提供する。  【解決手段】  成膜チャンバ２と、該成膜チャンバに配置され、構造物が形成される基板を保持する基板ステージ１１と、成膜チャンバ内を排気する排気ポンプ１５と、容器に配置された原料の粉体をガスによって吹き上げることにより、エアロゾルを生成するエアロゾル生成室１と、成膜チャンバに配置され、エアロゾル生成室によって生成されたエアロゾルを基板に向けて噴射するエアロゾル噴射ノズル１２と、該エアロゾル噴射ノズルから噴射されるエアロゾルに向けてエアを噴射するサイドノズル１３と、該サイドノズルにエアを供給するコンプレッサ３と、形成される膜のパターンに応じて、基板ステージの位置及びサイドノズルの動作を制御する制御部５とを含む。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
成膜室と、
前記成膜室に配置され、構造物が形成される基板を保持する可動ステージと、
前記成膜室内を排気する排気手段と、
容器に配置された原料の粉体をガスによって吹き上げることにより、エアロゾルを生成するエアロゾル生成手段と、
前記成膜室に配置され、前記エアロゾル生成手段によって生成されたエアロゾルを基板に向けて噴射することによりエアロゾルビームを形成する少なくとも１つの噴射ノズルと、
前記少なくとも１つの噴射ノズルから噴射されるエアロゾルに向けてエアを噴射し、又は、該エアロゾルを吸引する少なくとも１つの補助ノズルと、
前記少なくとも１つの補助ノズルにエアを供給し、又は、前記少なくとも１つの補助ノズルによって吸引されたエアロゾルを排気するポンプと、
形成される膜のパターンに応じて、前記可動ステージの位置と、前記少なくとも１つの補助ノズルの動作を制御する制御手段と、
を具備する成膜装置。
【請求項２】
前記制御手段が、形成される膜のパターンの内の成膜が不要な領域においては、前記少なくとも１つの噴射ノズルから噴射されるエアロゾルの気流が擾乱するように、前記少なくとも１つの補助ノズルからエアを噴射させ、又は、エアロゾルを吸引させる、請求項１記載の成膜装置。
【請求項３】
前記少なくとも１つの噴射ノズルが、配列された複数の噴射ノズルを含み、
前記少なくとも１つの補助ノズルが、前記複数の噴射ノズルからそれぞれ噴射されるエアロゾルに向けてそれぞれエアを噴射し、又は、該エアロゾルをそれぞれ吸引する複数の補助ノズルを含み、
前記制御手段が、形成される膜のパターンに応じて、前記複数の補助ノズルの各々の動作を制御する、請求項１又は２記載の成膜装置。
【請求項４】
前記少なくとも１つの噴射ノズルが、スリット状の開口を有するノズルを含み、
前記少なくとも１つの補助ノズルが、前記スリット状の開口を有するノズルの長辺に沿うようにライン状に配列された複数の補助ノズルを含み、
前記制御手段が、形成される膜のパターンに応じて、前記複数の補助ノズルの各々の動作を制御する、
請求項１又は２記載の成膜装置。
【請求項５】
前記制御手段が、形成される膜の平坦ムラを補正するように、前記複数の補助ノズルの各々の動作を制御する、請求項３又は４記載の成膜装置。
【請求項６】
前記制御手段が、所定の凹凸を有する膜が形成されるように、前記複数の補助ノズルの各々の動作を制御する、請求項３又は４記載の成膜装置。
【請求項７】
前記少なくとも１つの補助ノズルが、前記少なくとも１つの噴射ノズルから噴射されたエアロゾルに向けて互いに異なる方向からエアを噴射し、又は、互いに異なる方向からエアロゾルを吸引するように配置された少なくとも２つの補助ノズルを含み、
前記制御手段が、形成される膜のパターンに応じてエアロゾルビームを偏向するように、前記少なくとも２つの補助ノズルの動作を制御する、
請求項１記載の成膜装置。
【請求項８】
前記少なくとも１つの噴射ノズルから噴射されたエアロゾルを囲むように配置され、該エアロゾルに向けてエアを噴射する複数の噴射口を有するエア噴射手段をさらに具備し、
前記制御手段が、前記複数の噴射口から噴射されたエアを吹き付けられることにより、エアロゾルビームの径を変化させるように、前記エア噴射手段の動作を制御する、
請求項１〜７のいずれか１項記載の成膜装置。
【請求項９】
前記少なくとも１つの噴射ノズルから噴射されたエアロゾルを囲むように配置され、該エアロゾルに向けてエアを噴射する複数のノズル群をさらに具備し、
前記制御手段が、前記複数のノズル群から噴射されたエアを吹き付けられることにより、エアロゾルビームの径を変化させるように、前記複数のノズル群の動作を制御する、
請求項１〜７のいずれか１項記載の成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、原料の粉体を基板に向けて噴射して堆積させることによって膜を形成する成膜装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、微小電気機械システム（ＭＥＭＳ：micro electrical mechanical system）の分野では、圧電セラミックスを利用したセンサやアクチュエータ等をさらに集積化し、実用に供するために、成膜によってそれらの素子を作製することが検討されている。その１つとして、セラミックスや金属等の成膜技術として知られるエアロゾルデポジション法が注目されている。エアロゾルデポジション（aerosol deposition）法（以下、ＡＤ法ともいう）とは、原料の粉体（成膜粉）を含むエアロゾルを生成し、それをノズルから基板に向けて噴射することにより、その際の衝突エネルギーによって粉体を堆積させて成膜する方法である。ここで、エアロゾルとは、気体中に浮遊している固体や液体の微粒子のことをいう。なお、ＡＤ法は、噴射堆積法、又は、ガスデポジション法とも呼ばれている。
【０００３】
ＡＤ法を用いて基板上に所望の成膜パターンを形成するためには、例えば、高分子系のレジストやくり抜きマスクを用いることが考えられる。即ち、パターン作製面にレジスト等を配置して成膜を行い、その後で、レジスト等の除去を含む後処理を行う。しかしながら、このような方法は、プロセス数が多くなるので、煩雑である。また、この方法を用いる場合には、位置に応じて膜厚を変化させることが困難である。さらに、基板や下層が平坦でない面や立体形状の表面には、フォトリソグラフィによるマスク形成はできない。
【０００４】
そのため、マスクを使用せずにＡＤ法による成膜を行うために、メカニカルな機構を用いて成膜粉を遮蔽することが提案されている。即ち、エアロゾルを噴射するノズル付近にメカニカルなチョッパーを設け、成膜が不要な部分においては噴射された成膜粉をシャッティングする。例えば、特許文献１には、微粒子を含むエアロゾルをノズルから基材に向けて噴射させて衝突させ、該基材表面に微粒子の構成材料からなる構造物を形成させる複合構造物形成方法において、エアロゾルを遮断する遮断手段と、該遮断手段を移動せしめる移動手段とを設け、噴射されたエアロゾルが基材上の構造物を形成させない位置に衝突するように上記ノズル若しくは基材が移動したときには、上記エアロゾルを遮断する位置に遮断手段が移動されるように制御される複合構造物形成方法が開示されている。しかしながら、高速で噴射される成膜粉をメカニカルに制御するためには、粉塵環境下においても故障し難く、且つ、成膜粉の衝突に耐え得る頑強な機構のシャッターを用いる必要があるが、そのような機構を有するシャッターを高速制御するのは困難である。そのため、精細な膜パターンを形成することはできない。
【０００５】
或いは、エアロゾルの噴射ノズルへの供給を制御することにより、成膜が不要な部分においてはノズルから成膜粉が噴射されないようにすることも考えられる。しかしながら、特許文献２に開示されているように、エアロゾルの噴射を再開した直後には、エアロゾルの濃度や流速が不安定であり、そのような状態で成膜粉を基板に吹き付けると、不均一な堆積物や、脆弱な構造物が形成されてしまう。また、エアロゾルの気流条件が整うまでには、時間を要してしまう。さらに、気流条件が整ったとしても、エアロゾルの流れは多少の広がりを持つため、やはり、微細な膜パターンを形成することは困難である。
【特許文献１】特開２００３−１１７４５０号公報（第２頁、図１）
【特許文献２】特開２００３−１１９５７５号公報（第３頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで、上記の点に鑑み、本発明は、マスクを使用することなくＡＤ法による膜パターンを形成できる、高速制御可能な成膜装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明に係る成膜装置は、成膜室と、該成膜室に配置され、構造物が形成される基板を保持する可動ステージと、成膜室内を排気する排気手段と、容器に配置された原料の粉体をガスによって吹き上げることにより、エアロゾルを生成するエアロゾル生成手段と、成膜室に配置され、エアロゾル生成手段によって生成されたエアロゾルを基板に向けて噴射することによりエアロゾルビームを形成する少なくとも１つの噴射ノズルと、該少なくとも１つの噴射ノズルから噴射されるエアロゾルに向けてエアを噴射し、又は、該エアロゾルを吸引する少なくとも１つの補助ノズルと、該少なくとも１つの補助ノズルにエアを供給し、又は、少なくとも１つの補助ノズルによって吸引されたエアロゾルを排気するポンプと、形成される膜のパターンに応じて、可動ステージの位置と、少なくとも１つの補助ノズルの動作を制御する制御手段とを具備する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、ノズルから噴射されるエアロゾルにエアを吹き付け、又は、エアロゾルを吸引することによって成膜条件を崩すので、成膜のオン／オフを高速に制御することができる。従って、マスクを用いることなく任意の膜パターンを直接的に形成することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。なお、同一の構成要素には同一の参照番号を付して、説明を省略する。
図１は、本発明の第１の実施形態に係る成膜装置を示す模式図である。この成膜装置は、原料の粉体を含むエアロゾルを基板に吹き付けることによって原料を堆積させるエアロゾルデポジション（aerosol deposition：ＡＤ）法を用いた成膜装置である。
【００１０】
図１に示す成膜装置は、エアロゾル生成室１と、成膜チャンバ２と、コンプレッサ（圧縮ポンプ）３と、制御弁４と、制御部５とを含んでいる。
エアロゾル生成室１は、原料の微小な粉体（成膜粉）が配置される容器である。エアロゾル生成室１には、ガスボンベ等の圧空ラインが接続されており、そこから窒素（Ｎ２）、酸素（Ｏ２）、ヘリウム（Ｈｅ）、アルゴン（Ａｒ）、又は、乾燥空気等のキャリアガスが導入される。これにより、エアロゾル生成室１において、成膜粉が吹き上げられてエアロゾルが生成される。生成されたエアロゾルは、エアロゾル搬送ライン１ａを通って成膜チャンバ２に導入される。
【００１１】
成膜チャンバ２には、基板ステージ１１と、噴射ノズル１２と、ノズルガイド１４に保持されたサイドノズル（補助ノズル）１３とが配置されている。また、成膜チャンバ２の内部は、排気ポンプ１５により所定の圧力となるように減圧されている。基板ステージ１１は、成膜基板１００が配置される可動ステージであり、制御部５の制御の下で、ＸＹ平面内を２次元的に移動する。また、噴射ノズル１２は、エアロゾル搬送ライン１ａを介して導入されたエアロゾルを基板１００に向けて噴射することにより、エアロゾルビームを形成する。サイドノズル１３は、噴射ノズル１２の開口付近に配置されており、噴射ノズル１２から噴射されたエアロゾルに向けてエアを吹き付ける。さらに、ノズルガイド１４には、噴射ノズル１２から噴射されたエアロゾルを整形するためのスリット１４ａが設けられている。
【００１２】
コンプレッサ３は、サイドノズル１３にエアを圧送する。このコンプレッサ３からサイドノズル１３に供給されるエアの供給ラインには、制御弁４が設けられている。制御部５は、基板１００に形成される膜のパターンに応じて、基板ステージ１１の位置と、制御弁４の開閉の切り替えとを制御する。
【００１３】
次に、図１に示す成膜装置の動作について説明する。
まず、成膜室２の基板ステージ１１に、シリコン（Ｓｉ）、ガラス、セラミックス等の基板１００を配置し、所定の温度に保つと共に、排気ポンプ１５を用いて、成膜室２の内部を所定の真空度まで排気する。次に、エアロゾル生成室１に、セラミックス等の成膜粉を配置し、キャリアガスを導入することによってエアロゾルを生成し、噴射ノズル１２に導入して基板１００に向けて噴射させる。
【００１４】
一方、制御部５は、形成される膜のパターンに応じて基板ステージ１１を移動させ、噴射ノズル１２から噴射されたエアロゾルビームに基板１００を走査させる。これにより、エアロゾルビームに含まれる成膜粉が基板１００や基板１００上の堆積物に付着し、所望の膜パターンが直接的に形成される。
【００１５】
また、制御部５は、基板１００上の成膜不要な領域が噴射ノズル１２上に至ると、サイドノズル１３からエアが噴射されるように、制御弁４を開かせる。ここで、ＡＤ法による成膜を行うためには、成膜粉の種類、エアロゾルを噴射する際の圧力（成膜粉噴射圧力）、基板の硬さ等の基板条件、成膜温度の４つの条件がバランス良く満たされている必要がある。これらの条件の内の１つでも欠けてしまうと、形成された膜の性能が変化してしまったり、或いは、成膜そのものがされなくなってしまう。そこで、成膜が不要な領域においては、エアロゾルビームにエアを吹き付けることにより、エアロゾルの気流を擾乱させる。これにより、上記の４つの条件の内、成膜粉噴射圧力に関する条件が崩れるので、成膜粉の堆積を停止させることができる。
制御部５は、成膜不要な領域が噴射ノズル１２を通過すると、制御弁４を閉じさせる。これにより、成膜条件に適合する元の成膜粉噴射圧力が速やかに回復し、基板１００において、成膜粉の堆積が再び開始される。
【００１６】
ここで、サイドノズル１３から噴射されるエアの方向は、エアロゾルビームの進行方向に対して方向余弦を有する方向であることが望ましい。即ち、図２の（ａ）に示すように、エアロゾルビームの進行方向に対して、エアが負の速度成分を有している場合や、図２の（ｂ）に示すように、エアロゾルビームの進行方向に対して、エアが正の速度成分を有している場合には、エアロゾルビームが有する基板方向への速度成分を変化させることができるので、上記の成膜粉噴射圧力に関する条件を効果的に崩すことができる。
【００１７】
以上説明したように、本実施形態においては、制御弁４の開閉を制御することにより、成膜のオン／オフを高速に切り換えることができる。従って、煩雑な工程や複雑な機構を用いることなく、ＡＤ法による精細な膜パターンを容易に形成することが可能になる。
【００１８】
本実施形態においては、エアロゾルビームにエアを吹き付けることにより、ＡＤ法における成膜条件の内の１つを制御したが、反対に、サイドノズルからエアロゾルを吸引することによっても同様の効果を得ることができる。その場合には、図１に示すコンプレッサ４の替わりに排気ポンプを設ければよい。
なお、サイドノズル１３は、必ずしも図１に示すように噴射ノズル１２の開口の直近に配置する必要はなく、例えば、基板１００の直前や、エアロゾル搬送管１ａの途中に配置しても良い。
【００１９】
次に、本実施形態に係る成膜装置の変形例について、図３及び図４を参照しながら説明する。
本実施形態に係る成膜装置においては、図１に示す噴射ノズル１２及びサイドノズル１３の替わりに、図３に示す複数の噴射ノズル２１ａ、２１ｂ、…、及び、ノズルガイド２３に保持された複数のサイドノズル２２ａ、２２ｂ、…を用いても良い。
【００２０】
複数の噴射ノズル２１ａ、２１ｂ、…は、ライン状に配置されており、図１に示すエアロゾル生成室１から供給されるエアロゾルを並行して噴射することにより、複数のエアロゾルビームを形成する。また、サイドノズル２２ａ、２２ｂ、…は、噴射ノズル２１ａ、２１ｂ、…の開口付近にそれぞれ配置されており、図１に示すコンプレッサ３から供給されたエアを、対応する噴射ノズルから噴射されたエアロゾルビームにそれぞれ吹き付ける。なお、コンプレッサ３とサイドノズル２２ａ、２２ｂ、…との間の制御弁の開閉は、それぞれ独立に制御されている。
【００２１】
ここで、噴射ノズルから噴射されたエアロゾルビームは、多少広がりながら基板に衝突する。そのため、この変形例のように、複数の噴射ノズルを所定の間隔で並べ、そこからエアロゾルを噴射することにより、隣接する噴射ノズルから噴射されたエアロゾルビームの裾が重なるので、幅が広い膜を形成することができる。その際に、制御弁の開閉を制御することにより、所望のパターンを有する大面積の成膜を効率良く行うことができる。
【００２２】
ところで、一般に、ライン状に並べられた複数の噴射ノズルに１つの搬送管からエアロゾルを供給する場合には、中心付近の噴射ノズルの成膜粉噴射圧力は比較的高く、周辺の噴射ノズルの成膜粉噴射圧力は比較的低くなるものと考えられる。そのような複数の噴射ノズルから一律にエアロゾルを噴射すると、形成された膜の厚さが不均一になってしまう。そのため、この変形例においては、周辺の噴射ノズルと比較して、中心付近の噴射ノズルによる堆積可能な時間が短くなるように、サイドノズル２２ａ、２２ｂ、…からのエア噴射をそれぞれ制御することが望ましい。これにより、形成される膜の平坦ムラを補正することができる。
或いは、反対に、所望の凹凸のある膜を形成するために、サイドノズル２２ａ、２２ｂ、…からのエア噴射をそれぞれ制御しても良い。
【００２３】
また、本実施形態に係る成膜装置においては、図１に示す噴射ノズル１２及びサイドノズル１３の替わりに、図４に示すように、スリット状の開口を有する噴射ノズル２５、及び、ノズルガイド２７に保持された複数のサイドノズル２６を用いても良い。この場合においては、噴射ノズル２５を用いて、幅が広い膜パターンを効率良く形成することができる。その際に、複数のサイドノズル２６からのエア噴射をそれぞれ制御することにより、膜厚の平坦ムラを補正したり、反対に、所望の凹凸が形成された膜を作製することができる。
以上説明した本発明の第１の実施形態においては、サイドノズルからエアを噴射することにより、噴射ノズルの目詰まりをクリーニングすることも可能である。
【００２４】
次に、本発明の第２の実施形態に係る成膜装置について、図５及び図６を参照しながら説明する。
図５に示すように、本実施形態に係る成膜装置は、図１に示す制御弁４、制御部５、及び、サイドノズル１３の替わりに、制御弁３１及び３２、制御部３３、及び、ノズルガイド３６に保持された２つのサイドノズル３４及び３５を有している。その他の構成については、図１に示す成膜装置と同様である。
【００２５】
制御弁３１及び３２は、コンプレッサ３からサイドノズル３４及び３５に圧送されるエアの供給ラインにそれぞれ設けられている。制御部３３は、形成される膜のパターンに応じて、基板ステージ１１の位置と、制御弁３１及び３２の開閉とを制御する。
サイドノズル３４及び３５は、エアロゾルビームに向けて、互いに異なる方向からエアを噴射するように配置されている。図６は、図５に示す噴射ノズル１２並びにサイドノズル３４及び３５を、基板１００側から見た図である。本実施形態において、サイドノズル３４はＸ方向にエアを噴射し、サイドノズル３５はマイナスＹ方向にエアを噴射する。
【００２６】
このような成膜装置において、制御部３３の制御の下でサイドノズル３４及び３５から噴射されるエアの量を調節しつつ、噴射ノズル１２から噴射されたエアロゾルビームにエアを吹き付けることにより、エアロゾルビームを偏向することができる。従って、基板ステージ１１の位置と、エアロゾルビームの偏向方向及び偏向量を調整しつつ成膜を行うことにより、所望の膜パターンを効率良く形成することができる。
【００２７】
ここで、２つのサイドノズルの配置は必ずしも互いに垂直である必要はなく、それらのエア噴射方向が互いに非平行となる配置であれば良い。また、サイドノズルの数を増やすことにより、エアロゾルビームの偏向方向をより細かく制御することが可能になる。
なお、本実施形態においても、コンプレッサ３の替わりに排気ポンプを設け、サイドノズルによってエアロゾルを吸引することにより、エアロゾルビームを偏向しても良い。
【００２８】
次に、本発明の第３の実施形態について、図７及び図８を参照しながら説明する。
図７に示すように、本実施形態に係る成膜装置は、図５に示す成膜装置に加えて、制御弁４１と、エアフローレンズ４２と、エアフローレンズ駆動部４３とを有している。また、この成膜装置は、図５に示す制御部３３の替わりに、制御部４４を有している。ここで、本願において、エアフローレンズとは、気流を用いることにより、あたかもレンズのようにエアロゾルビームの径を変化させる機構のことをいう。
【００２９】
制御弁４１は、コンプレッサ３からエアフローレンズ４２に圧送されるエアの供給ラインに設けられている。エアフローレンズ駆動部４３は、制御部４４の制御の下で、エアフローレンズ４２をＸＹ方向に移動させる。制御部４４は、形成される膜のパターンに応じて、基板ステージ１１の位置と、制御弁３１、３２、及び４２の開閉とを制御する。また、制御部４４は、噴射ノズル１２から噴射されたエアロゾルビームがサイドノズル３４及び３５から噴射されたエアによって偏向された場合に、その偏向方向に応じてエアフローレンズ４２を移動させるように、エアフローレンズ駆動部４３を制御する。
【００３０】
図８は、図７に示すエアフローレンズ４２を拡大して示す斜視図である。エアフローレンズ４２は、リング状に配置された複数のエア噴射口４２ａを有している。このようなエアフローレンズ４２は、噴射ノズル１２から噴射されたエアロゾルビームがリングの中心を通るように配置されている。
【００３１】
ここで、先にも述べたように、噴射ノズル１２から噴射されたエアロゾルビームは、多少広がりつつ基板に衝突する。このエアロゾルビームの広がる度合いは、噴射ノズルの開口が小さいほど顕著になる。そのため、細いパターンを成膜したい場合においても、開口径によってエアロゾルビームを制御するには限界がある。そこで、本実施形態においては、エアフローレンズ４２を用いてエアロゾルビームを収束させている。即ち、エアロゾルビームにエアフローレンズ４２のリング中心を通過させ、その際に、複数のエア噴射口４２ａから、エアロゾルビームの進行方向に対して該垂直方向にエアを吹き付けることにより、エアロゾルビームの径を絞ることができる。このエアロゾルビームの径は、制御弁４１の開閉を制御してエアの圧力を調節することにより、高速に変化させることが可能である。
【００３２】
このように、本実施形態においては、所望の径を有するエアロゾルビームを形成することができる。併せて、基板１００の位置及びサイドノズル３４及び３５のエア噴射を制御することにより、微細なパターンを正確且つ効率良く成膜することが可能になる。
【００３３】
なお、このようなエアフローレンズを複数段配置することにより、多段レンズを構成しても良い。その場合には、各エアフローレンズによって少しずつエアロゾルを収束させることにより、エアロゾルの流れを大きく乱すことなく、エアロゾルの太さを細く絞ることができる。また、エアフローレンズにおける複数のエア噴射口の配置は、リング状でなくても、エアロゾルビームを囲むように配置されていれば良い。或いは、エアフローレンズを配置する替わりに、エアロゾルビームを囲むように多数のノズル群を配置することによっても、同様の効果を得ることができる。
【００３４】
以上説明した本発明の第１〜第３の実施形態においては、エアの替わりに、酸素や窒素等の目的に応じた気体をサイドノズルから噴射しても良い。エアロゾルにそれらの気体を混入させることにより、酸化膜や窒化膜を形成することができる。その際に、気体の濃度や流量を調節することにより、任意の化合比の膜を形成することが可能になる。
【産業上の利用可能性】
【００３５】
本発明は、原料の粉体を基板に向けて噴射して堆積させることによって膜を形成する成膜装置において利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る成膜装置の構成を示す模式図である。
【図２】エアロゾルに吹き付けられるエアの向きについて説明するための図である。
【図３】本発明の第１の実施形態に係る成膜装置の変形例の一部を示す模式図である。
【図４】本発明の第２の実施形態に係る成膜装置の別の変形例の一部を示す模式図である。
【図５】本発明の第２の実施形態に係る成膜装置の構成を示す模式図である。
【図６】図５に示す噴射ノズルを基板側から見た図である。
【図７】本発明の第３の実施形態に係る成膜装置の構成を示す模式図である。
【図８】図７に示すエアフローレンズを拡大して示す図である。
【符号の説明】
【００３７】
１  エアロゾル生成室
２  成膜チャンバ
３  コンプレッサ（圧縮ポンプ）
４、３１、３２、４１  制御弁
５、３３、４４  制御部
１１  基板ステージ
１２、２１ａ、２１ｂ、…、２５  噴射ノズル
１３、２２ａ、２２ｂ、…、２６、３４、３５  サイドノズル
１４、２３、２７、３６  ノズルガイド
１４ａ  スリット
１５  排気ポンプ
４２  エアフローレンズ
４３  エアフローレンズ駆動部
１００  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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