(57)【要約】【課題】凸版反転オフセット印刷法において、転写除去されるインク層がブランケット上に残留し、或いはブランケット上に残留するインク層が転写除去され基板上に転写され、パターン欠陥を発生させるのを未然に防ぐパターン形成方法を提供する。パターン形成装置、有機ＥＬ素子、カラーフィルタを提供する。【解決手段】１）ブランケット１２上にインク層１４を形成する工程、２）インク層に、ネガ版の凸版１５を押圧離脱させ、圧着された部分のインク層をブランケット上から凸版の凸部１６上へ転写除去する工程、３）凸部上のインク層の検査を行い良否を判定する工程、４）判定が良の際に、ブランケット上のインク層を基板２０に転写する工程を具備する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
凸版反転オフセット印刷法によるパターン形成方法において、
１）ブランケット上にパターン形成用のインクを塗布し、インク層を形成する工程、
２）該インク層に、パターンに対しネガ版の凸版を押圧、離脱させ、圧着された部分のインク層をブランケット上から凸版の凸部上へ転写除去する工程、
３）該凸部上のインク層の形状を光学的手段で検査を行い欠陥を検出し、良否を判定する工程、
４）該判定が良の際に、上記ブランケット上に残留しているインク層をブランケット上から被印刷体に転写する工程、
を少なくとも具備することを特徴とするパターン形成方法。
【請求項２】
凸版反転オフセット印刷法によるパターン形成方法において、
１）ブランケット上にパターン形成用のインクを塗布し、インク層を形成する工程、
２）該インク層に、パターンに対しネガ版の凸版を押圧、離脱させ、圧着された部分のインク層をブランケット上から凸版の凸部上へ転写除去する工程、
３）該凸部上のインク層の形状を光学的手段で第一検査を行い欠陥を検出し、良否を第一判定する工程、
４）上記ブランケット上に残留しているインク層の形状を光学的手段で第二検査を行い欠陥を検出し、良否を第二判定する工程、
５）第一判定及び第二判定が共に良の際に、上記ブランケット上に残留しているインク層をブランケット上から被印刷体に転写する工程、
を少なくとも具備することを特徴とするパターン形成方法。
【請求項３】
前記第一検査及び第二検査を行う際のインク層への照明が、透過照明、投射照明、又は暗視野照明であることを特徴とする請求項１又は請求項２記載のパターン形成方法。
【請求項４】
前記第一検査及び第二検査を行う際の光が、紫外光又は可視光であることを特徴とする請求項１、請求項２、又は請求項３記載のパターン形成方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のパターン形成方法を用いたことを特徴とするパターン形成装置。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のパターン形成方法を用い有機層のパターンを形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のパターン形成方法を用いカラーフィルタのパターンを形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
請求項６記載の有機ＥＬ素子の製造方法を用いて製造したことを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項９】
請求項７記載のカラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とするカラーフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、凸版反転オフセット印刷法によるパターン形成方法、特に液晶ディスプレイ用カラーフィルタの着色層のパターン形成や有機ＥＬ素子の有機層のパターン形成に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置等は大型化、高性能化、さらに低価格化が進んでおり、用いられるカラーフィルタにも無欠陥、耐熱性、耐光性、耐薬品性などに加え、高透過率、高コントラストといった高性能化が要求されている、また、同時にカラーフィルタの低コスト化も強く求められており、製造工程における歩留まり向上、工程短縮、スループットの向上が必要となっている。
【０００３】
液晶表示装置用カラーフィルタは、ガラス等の透明基材の表面に複数のフィルタ色の微細な画素あるいは帯（ストライプ）を一定の配列で配置したもので構成されており，その画素サイズあるいは帯の幅は数十〜数百μｍという極めて微細なものである。このためカラーフィルタの製造方法については従来から様々な方法が提案されてきたが、諸特性や、生産性など多くの点から顔料分散法と呼ばれる製造方法が広く採用されている。この製造方法は、感光性樹脂中に顔料を分散した感光性着色組成物を用いフォトリソグラフィによってパターン（画素あるいは帯）を形成する方法である。
【０００４】
この顔料分散法は、顔料と母体からなる樹脂と架橋剤とを含有してなる感光性着色組成物を基板上に塗布し、フォトリソグラフィを用いて所定のパターン形状に各色の着色層を形成するものである。即ち、１つのフィルタ色の顔料を含んだ感光性着色組成物をガラス等の基板上に塗布し、パターン露光、現像を行うことで１色目のパターンの形成を行う。同様にして、赤色、緑色、青色、３色のパターンの形成を行う。
【０００５】
この感光性着色組成物は、カラーフィルタとしての物性、材料の豊富さ、及び生産性の点からネガ型の感光性着色組成物が主流である。また、現像は環境に与える影響の点から溶剤はほとんど用いられなくなり、アルカリ水溶液による現像が主流である。また、露光に関しては通常、紫外線を用いた露光が行われている。この製造工程においては感光性着色組成物の所定位置のみにフォトマスク等を介して紫外線を照射し、その照射部分においては塗膜中の光開始剤が開裂してラジカルを発生させてラジカル重合を起こさせるという反応を利用している。
【０００６】
しかしながら、近年、特に液晶テレビに用いるカラーフィルタには、ＣＲＴテレビと同等以上の色再現性が求められてきた。すなわち、カラーフィルタの分光特性は色純度を重視する傾向が強まってきた。色純度を向上させるために、感光性着色組成物中の顔料濃度を高めると、塗膜中にて顔料に吸収される紫外光の量が多くなり重合反応の効率は悪化する。また、顔料濃度を高めると、塗布適性を保ために感光性着色組成物中の光重合開始剤やモノマーの添加量を減量することになる。その結果、塗膜の深さ方向に従って重合反応の効率は低下し、塗膜内部の硬化不良が発生し、現像時に剥がれなどのパターン不良が生じてしまう。
【０００７】
また、液晶表示装置は製造コストを低減させるため、多面付けによる製造が行われているが、例えば、液晶テレビのように、大画面が大きくなるに従いガラス基板の大型化が進行している。その結果、カラーフィルタの製造装置も大型化し、特にフォトリソグラフィ
工程における設備投資の金額を上昇させている。さらに、近年のカラーフィルタはカラーフィルタ基板とＴＦＴ基板の間のセルギャップを保持する為のスペーサービーズのフォトスペーサへの移行や、液晶表示装置の視野角拡大のために開発されたＭＶＡ（マルチドメインバーティカルアライメント）方式に必要なリブなどのカラーフィルタ基板上への形成、などでフォトリソグラフィ工程は増える傾向にある。そのため、カラーフィルタの製造装置の投資額は莫大なものになっている。
【０００８】
これらの問題点に鑑み、近年ではフォトリソグラフィを用いない、あるいはフォトリソグラフィ工程が少ないカラーフィルタの製造方法が研究されており、特にインクジェット法によってカラーフィルタの着色層を形成する研究は広く行われている。インクジェット法におけるカラーフィルタの製造方法は、インクジェットノズルから溶剤に溶かした着色層材料をインク化し、基板上に噴出させ、基板上で乾燥させることで所望のパターンを得る方法である。
しかしながら、ノズルから噴出されたインク液滴は球状をしている為、基板上に着弾する際にインクが円形状に広がり、形成したパターンの形状が直線性に欠けたり、着弾精度が悪くパターンの直線性が得られないという問題点がある。
【０００９】
これに対し、特開平６−１１８２１７号公報、特開平９−１７８９２９号公報などで開示されている方法は、予め基板上にレーザ加工やフォトリソグラフィで撥インク性のある材料を用いてバンクを形成し、そこにインク液滴を着弾させることで、バンク形状に応じてインクがはじき、直線のパターンが得られるという方法である。しかし、インクジェット法を用いてパターンを形成する場合、原理的には大きな基板へのパターン形成が可能ではあるが、インクジェットノズルが単位時間で描画処理する面積が小さく、パターン形成のスループットが小さいという問題が残る。
【００１０】
一方、有機ＥＬ素子は、電子注入電極をなす陰極と正孔注入電極をなす陽極との間に蛍光あるいは燐光性有機化合物を含む薄膜の有機層を挟んだ構造を有し、有機層に電子及び正孔を注入して再結合させることにより励起子を生成させ、この励起子が失活する際の光の放出（蛍光・燐光）を利用して表示を行う表示素子である。
【００１１】
有機ＥＬ素子の発光層に用いられる有機材料は、低分子の材料と高分子の材料とに分類されている。発光層の形成方法は材料によって異なり、低分子材料は主に蒸着法で成膜させる方法が用いられ、高分子材料は溶剤に溶解あるいは分散させて基板上に塗布する方法が行われている。
また、有機ＥＬ素子をフルカラー化するために発光層をパターニングする手段としては、低分子系材料を用いる場合は、所望の画素形状に応じたパターンが形成されたマスクを用いて、異なる発光色の発光材料を所望の画素に対応した部分に蒸着し形成する方法が行われている。
この方法は所望の形状に薄膜を均一に形成するには優れた方法であるが、マスクの精度の点から蒸着される基板が大型になると、パターンの形成が困難になるという問題点がある。
【００１２】
高分子系材料を用いる場合は、インクジェット法によってパターンを形成する方法が提案されている。例えば、特開平１０−１２３７７号公報に開示されているインクジェット法は、インクジェットノズルから溶剤に溶かした発光層材料を基板上に噴出させ、基板上で乾燥させることで所望する発光層のパターンを得る方法である。
しかしながら、インクジェット法を用いて発光層のパターンを形成する場合、インクジェット法によってカラーフィルタの着色層のパターンを形成する場合と同様に、ノズルから噴出されたインク液滴は球状をしている為、基板上に着弾する際にインクが円形状に広がり、形成したパターンの形状が直線性に欠けたり、着弾精度が悪くパターンの直線性が得
られないという問題点がある。
【００１３】
これに対し、例えば、特開２００２−３０５０７７号公報では、予め基板上にフォトリソグラフィなどを用いて、撥インク性のある材料でバンクを形成し、そこにインク液滴を着弾させることで、バンク形状に応じてインクがはじき、直線性のパターンが得られるという方法が開示されている。
【００１４】
しかし、インクジェット法を用いてパターンを形成する場合、特開平１０−１５３９６７号公報にインク材料が水溶性或いはアルコール及びグリコール系の溶剤に可溶であることが好ましいと記載されているように、インクジェットのヘッドの関係からインクの溶剤の種類が限定されてしまい、高分子系材料の選択肢を狭めてしまっている要因になっている。
上記のようにインクジェット法によるカラーフィルタの着色層や有機ＥＬ素子の発光層のパターニングは様々な点で難点があり、カラーフィルタや有機ＥＬ素子の製造方法として実用レベルで広く採用されるには至っていない。
【００１５】
インクジェット法に代わるカラーフィルタの着色層や、有機ＥＬ素子の発光層のパターンを形成する方法として近年注目されているのが凸版反転オフセット印刷法である。凸版反転オフセット印刷法によるカラーフィルタの着色層の形成方法は、特開２０００−２８９３２０号公報に記載されているように、まず、ブランケット胴に巻いたシリコンブランケット上にワイヤーバーコータやダイコータを用いてカラーフィルタの着色層材料をインク化したものを塗布してインク層を形成し、次に、目的のパターン形状に対してネガ版になっている凸版または凹版をブランケットに押し当てて、不要な部分のインク層を転写除去し、残ったインク層を基板上に転写することでカラーフィルタの着色層を形成するという方法である。
【００１６】
また、凸版反転オフセット印刷法による有機ＥＬ素子の発光層の形成方法は、例えば、特開２００３−１７２６１号公報に開示されているように、形成方法としては基本的には前述の特開２０００−２８９３２０号公報の方法と同じである。凸版反転オフセット印刷法によるパターン形成方法はこれらの公報に開示されているように、大面積の基板に均一な膜のパターンを短時間で形成する事が可能であり、使用する装置も少なく、材料の利用も効率的であるため、コストダウンに繋がる上に、有機ＥＬ素子の発光層やカラーフィルタの着色層の形成など、適用範囲も広範囲に渡っており、パターン形成方法として優れている。
【００１７】
しかし、インク層が形成されたブランケットから目的のパターンに対し、ネガ版になっている凸版を押し当てて不要な部分を転写除去する工程においては、図１（ａ）のように、ブランケット１上のインク層２に凸版３の凸部６が接触し、その部分が引き剥がされる時、図１（ｂ）のように、基板に形成されるインク層のパターン（ブランケットに残る部分）の端部Ａと、インク層の凸版に転写除去された部分の端部Ｂとは、その境界でインクが引き千切られたものであるために、転写時の条件によっては基板に形成されるインク層のパターンの端部Ａは直線性が悪くパターン形状の不良につながる場合もある。
【００１８】
また、ブランケットから凸版へのインク層の転写除去の際に、インクの材料のわずかな物性の違いや、インク層の乾燥条件のわずかな違いによって、ブランケット表面へのインクの密着性や、凸版表面へのインクの密着性、及び半乾燥状態のインク層の膜の強度に差が生じるため、ブランケット上のインク層の、凸版の凸部を圧着した箇所を引き剥がす時に、インク層が凸部の端部でうまく切れ離されず、凸部にインク層が転写除去されないことがある。すなわち、凸版の凸部に転写除去されるべきインク層の部分がブランケット上に残留してしまうといった転写欠陥が発生することがある。このため、インク層の材料の
物性や、転写除去時のプロセス条件を厳密に制御しなければならないという問題がある。
【００１９】
カラーフィルタの場合、形成されたパターンに欠陥が発生しているかどうかを確認する為に、一般的には透過照明、投射照明、暗視野の散乱照明など各種の照明を用い、光学的に欠陥検査を行う方法が広く行われている。この方法は、着色層あるいは遮光層のパターンが形成された後の基板を、遮光層あるいは各着色層が形成される毎に、または全ての層を形成した後に行われる。凸版反転オフセット印刷法によって製造されたカラーフィルタにおいても、この光学的な欠陥検査を行うことが可能である。
【００２０】
しかしながら、パターン形成後にカラーフィルタの欠陥検査を行った場合には、欠陥検査の結果、パターンに欠陥が発生していて、不良品と判定された基板は破棄しなければならない。例えば、転写除去の工程に異常が連続して発生してしまった状況下では、その工程異常によりパターンに欠陥が発生した１枚目の基板が、パターン形成されてからパターン欠陥検査装置で検査を受け、欠陥の発見がなされるまでの間に、２枚目以降の基板は工程異常の条件のまま、パターン形成工程を継続している。結果として、パターンに欠陥が発生した１枚目の基板の検査結果がでるまで、不良基板を出しつづけてしまうことになる。
特に、ＴＦＴ基板上に直接着色層を形成するＣＯＡ（カラーフィルタ・オン・アレイ）方式の場合、パターンを形成する基板が高価なＴＦＴ基板であるために、上記のような状況下での不良発生による損失は非常に大きなものになる。
【００２１】
また、有機ＥＬ素子の場合、有機層に低分子材料を用いる場合は、真空下での有機層の蒸着後に連続して陰極形成工程に入る為、基本的には有機層を形成した後のパターン欠陥検査は行わず、陰極形成、封止、電極取り付け工程を行った後、点灯検査によって良否判定を行う。そのため、有機層の形成時に生じた欠陥が点灯検査で発見されるまで、有機層を形成する工程の異常状態の回復を行うことができず、不良基板を大量に発生させてしまう。
【００２２】
有機層に高分子材料を用い、凸版反転オフセット印刷法を用いて有機層の形成を行う場合には、基板への有機層の形成工程が大気下で行えるためにパターン形成後の基板に上記のような光学的な欠陥検査を行うことが出来る。しかしながら、この場合でも、製造する有機ＥＬ素子がアクティブ駆動方式である場合、ＣＯＡ方式による着色層の形成の際と同様に、有機層の転写を行う基板が高価なＴＦＴ基板であるために、不良発生時の損失は大きい。
また、パターン形成後の基板を光学的手法で欠陥検査が可能であるとは言え、発光層の材料は大気下では非常に光に弱いので、大気下で転写を行った後の基板に強い検査光を照射して欠陥検査を行うと、発光層を劣化させてしまう可能性がある。
【特許文献１】特開平６−１１８２１７号公報
【特許文献２】特開平９−１７８９２９号公報
【特許文献３】特開平１０−１２３７７号公報
【特許文献４】特開２００２−３０５０７７号公報
【特許文献５】特開２００３−１７２６１号公報
【特許文献６】特開平１０−１５３９６７号公報
【特許文献７】特開２０００−２８９３２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２３】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、凸版反転オフセット印刷法を用いたパターン形成方法において、本来、転写除去されるべきインク層の部分が、ブランケット上に残留したまま基板上に転写されて、或いは、本来、ブランケット上に残留すべきインク層の部分が、転写除去されまま基板上に転写されて、パターンに欠陥を発生させてしまうことを未然に防ぐことのできるパターン形成方法を提供することを課題とする。また、そのパターン形成方法を用いたパターン形成装置、有機ＥＬ素子及びカラーフィルタの製造方法、並びに有機ＥＬ素子及びカラーフィルタを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
本発明は、凸版反転オフセット印刷法によるパターン形成方法において、
１）ブランケット上にパターン形成用のインクを塗布し、インク層を形成する工程、
２）該インク層に、パターンに対しネガ版の凸版を押圧、離脱させ、圧着された部分のインク層をブランケット上から凸版の凸部上へ転写除去する工程、
３）該凸部上のインク層の形状を光学的手段で検査を行い欠陥を検出し、良否を判定する工程、
４）該判定が良の際に、上記ブランケット上に残留しているインク層をブランケット上から被印刷体に転写する工程、
を少なくとも具備することを特徴とするパターン形成方法である。
【００２５】
また、本発明は、凸版反転オフセット印刷法によるパターン形成方法において、
１）ブランケット上にパターン形成用のインクを塗布し、インク層を形成する工程、
２）該インク層に、パターンに対しネガ版の凸版を押圧、離脱させ、圧着された部分のインク層をブランケット上から凸版の凸部上へ転写除去する工程、
３）該凸部上のインク層の形状を光学的手段で第一検査を行い欠陥を検出し、良否を第一判定する工程、
４）上記ブランケット上に残留しているインク層の形状を光学的手段で第二検査を行い欠陥を検出し、良否を第二判定する工程、
５）第一判定及び第二判定が共に良の際に、上記ブランケット上に残留しているインク層をブランケット上から被印刷体に転写する工程、
を少なくとも具備することを特徴とするパターン形成方法である。
【００２６】
また、本発明は、上記発明によるパターン形成方法において、前記第一検査及び第二検査を行う際のインク層への照明が、透過照明、投射照明、又は暗視野照明であることを特徴とするパターン形成方法である。
【００２７】
また、本発明は、上記発明によるパターン形成方法において、前記第一検査及び第二検査を行う際の光が、紫外光又は可視光であることを特徴とするパターン形成方法である。
【００２８】
また、本発明は、請求項１〜４のいずれか１項に記載のパターン形成方法を用いたことを特徴とするパターン形成装置である。
【００２９】
また、本発明は、請求項１〜４のいずれか１項に記載のパターン形成方法を用い有機層のパターンを形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法である。
【００３０】
また、本発明は、請求項１〜４のいずれか１項に記載のパターン形成方法を用いカラーフィルタのパターンを形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【００３１】
また、本発明は、上記発明による有機ＥＬ素子の製造方法を用いて製造したことを特徴とする有機ＥＬ素子である。
【００３２】
また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とするカラーフィルタである。
【発明の効果】
【００３３】
本発明は、１）ブランケット上にパターン形成用インク層を形成する工程、２）インク層にネガ版の凸版を押圧離脱させ、圧着された部分のインク層をブランケット上から凸版の凸部上へ転写除去する工程、３）凸部上のインク層の形状を検査を行い欠陥を検出し良否を判定する工程、４）判定が良の際に、ブランケット上に残留しているインク層を被印刷体に転写する工程を具備するパターン形成方法であるので、凸版反転オフセット印刷法を用いたパターン形成方法において、本来、転写除去されるべきインク層の部分が、ブランケット上に残留したまま基板上に転写されて、或いは、本来、ブランケット上に残留すべきインク層の部分が、転写除去されまま基板上に転写されて、パターンに欠陥を発生させることを未然に防ぐパターン形成方法となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下に、本発明によるパターン形成方法を一実施例に基づいて詳細に説明する。
図２（ａ）、（ｂ）、及び図３（ａ）、（ｂ）は、本発明によるパターン形成方法において用いられるパターン形成装置の概略であり、パターン形成方法の説明図である。先づ、図２（ａ）に示すように、ブランケット胴１３に巻かれたブランケット１２上にパターン形成用のインク層１４を形成する。
【００３５】
本発明に用いるブランケット１２の材質は、この方法に用いることが出来るのであれば特に限定されるものではないが、インクの溶剤に対する耐性、膨潤性、形状安定性、インクとの密着性と濡れ性などを考慮するとシリコーンゴムやフッ素化シリコーンゴムなどを用いることが好ましい。また、ブランケット上に目的のパターンを形成するためのインク層を均一に塗布する方法としては既知の塗布工程、例えば、ダイコータやワイヤーバーコータ、キャップコータなどを用いることが出来る。
【００３６】
本発明のパターン形成方法においてパターン形成に用いられるインク層１４の材料は、パターン形成を行う材料を溶剤に分散あるいは溶解させたものが用いられるが、必要に応じて密着性や乾燥性、インク層の膜の可撓性等を改善するために添加剤を添加しても良い。
【００３７】
次に、図２（ｂ）に示すように、ブランケット１２上に形成したインク層１４に、目的のパターン形状に対してネガ版になっている凸版１５を押し当てて、ブランケット胴を転動させ、若しくは凸版１５を移動させることでブランケット胴１３に追従した回転をさせ、インク層１４から凸版１５を離脱させ、圧着された部分のインク層１４をブランケット１２上から凸版１５の凸部１６へと転写除去する。１４Ａは転写除去したインク層、１４Ｂはブランケット１２上に残留したインク層を示している。
【００３８】
本発明に用いる凸版の材質は、この方法に用いることが出来るのであれば特に限定はされないが、インクに対する濡れ性と密着性を考慮するとガラス板、石英板、金属板、樹脂板などを用いることが可能である。光学的手段の光源として透過照明を用いるのであれば、ガラス板あるいは石英板、透明樹脂板等の透明基板を用いる。また、これらの版の表面にインクとの密着性などを付与する目的で表面処理を行ったり、適切な材料を塗布して密着層を形成しても良い。
【００３９】
次に、図３（ａ）に示すように、凸部１６上の転写除去したインク層１４Ａの形状を光学的手段で検査を行い欠陥を検出する。検査光源１７からの光は透明な凸版１５を照射し、転写除去したインク層１４Ａでは遮光され、転写除去したインク層１４Ａ以外の部分では透過して光学検出素子１８に達し、光学検出素子１８は転写除去したインク層１４Ａの形状を検出する。
【００４０】
この際に、凸版上に転写除去したインク層１４Ａのパターンは、基板２０に転写を行う、ブランケット１２上に残留したインク層１４Ｂのパターンに対し、ネガのパターンになっている。このインク層１４Ａ（ネガパターン）に光学的手段を用いて欠陥検査を行うことで、例えば、このネガパターンに欠けが見られた場合はブランケット上に残っているインク層１４Ａのうち、上記欠けの見られた場所に転写除去の不良が発生しており、本来凸版に転写除去されているはずのインク層が未だブランケット上に残っていることが推測される。このブランケット上のインク層を目的の基板２０へ転写を行えば、基板上に不要な部分のインク層１４Ａまで転写されてしまうことは明白である。
【００４１】
また、逆に検査したネガパターンに、本来、転写除去されていないはずの凸版の凹部にまでインク層が存在していることが検出された場合、ブランケット上に残っているインク層のうち、上記凸版の凹部の場所に余分な転写除去が発生していることになる。すなわち、本来、ブランケット側に残されているはずのパターン形成に必要なインク層１４Ｂが欠落していることが推測される。このままブランケット上のインク層を目的の基板２０へ転写を行えば、基板上のパターンに欠けが発生してしまうことは明白である。
【００４２】
また、検査したネガパターンにインク層１４Ａのムラが検出された場合、ブランケット１２上に均一なインク層１４が形成されなかった事が推測され、このブランケット上のインク層１４Ｂを目的の基板へ転写を行えば、基板上に転写されたパターンにもムラが発生することは明白である。
【００４３】
また、ブランケット上からインク層の不要部を転写除去した凸版を光学的に検査する場所は、ブランケット上から凸版へのインク層の不要部の転写除去が行われた場所でも良いし、また、転写除去に必要な機構と検査に必要な機構が干渉し、装置の配置に制限が生じる可能性があることや、また検査を行った後の凸版は、その検査結果にかかわらず、凸版上のインク層１４Ａは最終的には別の場所で洗浄して除去する必要があることから、ロボットやコンベアなどを用いて、転写除去後の凸版は別の場所に移動させてから検査を行っても良い。
【００４４】
次に、検出した欠陥から凸部上のインク層の形状の良否を判定する。検査を行った画像データを元に、検査した凸版が正常に転写除去を行ったかどうかを判別する装置は、この用途に用いることが出来るのであれば特に制限はなく、市販のコンピュータ装置などを用いても良く、また、検査での判別の結果を記録・表示可能な機構を有することが好ましい。また、検査の結果、凸版の同一の箇所に２回以上連続して欠陥を発見した場合には、転写工程ではなく、ブランケット、あるいは凸版にキズが入っている、あるいは異物や汚れが付着しているなど他に原因があると判断して、作業者に異常を報告する手段を有することが好ましい。
【００４５】
次に、判定の結果が良の際に、ブランケット１２上に残留したインク層１４Ｂを目的の基板上に転写する。上記手順でパターン形成を行うことにより、凸版へのインク層の不要部を転写除去する段階までに不良が発生したインク層を目的の基板上に転写してしまうことがなくなり、基板へのインク層のパターンの転写後に基板の欠陥検査を行うのに比べ、基板のロスがなくなり、生産性が向上する。
また、判定の結果が不合格と判定されたときには、ブランケット上のパターンは目的の基板に転写せずに、予め用意されたダミー基板などに転写を行って、欠陥が発生したインク層をブランケットから除去することが好ましい。
【００４６】
また、本発明では、検査を行う為の照明が透過照明、投射照明、又は暗視野照明であり、これらの照明を目的のパターンの光学濃度や色相に応じて単独で、あるいは複数の照明を組み合わせた適切な照明下で、ＣＣＤなどの光学検出素子１８を用いてパターンの形状検査を行うことが可能である。
パターンの形状検査の手法としては既知の手法を用いることが可能で、ＣＣＤなどの光学検出素子でパターンを撮影し、繰り返しパターン比較法やダイツーダイの比較、輪郭抽出などの既知のアルゴリズムを用いて欠陥の検出を行うことが出来る。
【００４７】
これらの検査手法は顔料分散法におけるカラーフィルタの製造ラインに用いられている欠陥検査装置が用いている手法を利用することが可能である。また、検査用光源に少なくとも透過照明を用いた場合は、凸版が透明基材である必要がある。透明基材としては石英板やガラス板、透明樹脂板などを用いることが可能であるが、パターンの寸法精度、版の基材のコストの点からガラス板を用いることが好ましい。
【００４８】
また、本発明では、検査の光源が紫外光、又は可視光の光源である。カラーフィルタの着色層のように可視光領域に透過領域と吸収吸収領域のあるようなパターンを検査する場合は可視光の光源を用いることが好ましい。また、有機ＥＬ素子の有機層を検査する場合で、有機層が可視光領域においてほとんど無色透明である場合は、可視光での検査が困難な場合がある。
【００４９】
この場合は、紫外光を検査光にして、有機層を紫外光で励起させ、その蛍光を検出する事でパターンの検査を行うことができる。この場合、紫外光が直接、或いは検査面などからの反射によって、ＣＣＤなどの光学検出素子に直接入射する場合、光学検出素子が紫外線にさらされることになり、光学検出素子の劣化の原因になるため、紫外光の照明系を暗視野の照明系にして、光学検出素子への紫外光の入射を避けることが好ましく、また、光学検出素子の手前に紫外線のカットフィルタを設けても良い。
【００５０】
また、有機ＥＬ素子の有機層の凸版上でのインク層を検査する場合、凸版上に形成された有機層のインク層は短時間ながらも大気下で検査光の照射を受けるため劣化が発生し、実質的には破壊検査になるが、凸版上に形成されたネガパターンはもともと不要部のパターンであり、検査終了後は凸版上の有機層のインク層は洗浄によって除去されてしまう為に問題にはならない。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】凸版反転オフセット印刷法における、パターンの端部の悪い直線性の説明図である。
【図２】（ａ）、（ｂ）は、パターン形成装置の概略であり、パターン形成方法の説明図である。
【図３】（ａ）、（ｂ）は、パターン形成装置の概略であり、パターン形成方法の説明図である。
【符号の説明】
【００５２】
１・・・ブランケット
２・・・インク層
３・・・凸版
１２・・・ブランケット
１３・・・ブランケット胴
１４・・・インク層
１４Ａ・・・転写除去したインク層
１４Ｂ・・・ブランケット上に残留したインク層
１５・・・凸版
１６・・・凸版の凸部
１７・・・検査光源
１８・・・光学検出素子
２０・・・基板
【図１】
2005305743.tif 000003
【図２】
2005305743.tif 000004
【図３】
2005305743.tif 000005