(57)【要約】【課題】  ラビング処理に起因した異物の発生を抑え、連続的な製造を可能とすることによって、光学フィルム製造時の歩留まりの向上、工程数の低減、省力化、製造時間の短縮等を実現可能な、光学フィルムの製造装置を提供する。【解決手段】  本発明は、画像表示装置を構成する光学フィルムの製造装置であって、第一の基材１ａを供給する基材供給部１と、高分子液晶に配向性を持たせることができる配向軸を有する第二の基材２ａを備え、第一の基材１ａに第二の基材２ａを圧着させることによって、配向性を第一の基材１ａに転写する圧着転写部２と、第一の基材１ａ上に高分子液晶を含有した溶液を塗布する液晶塗布部３と、第一の基材１ａ上の高分子液晶を含有した溶液を乾燥させる液晶乾燥部４と、高分子液晶を有する第一の基材１ａを巻き取る巻き取り部５とを備えたことを特徴としている。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子液晶に配向性を持たせることができる配向軸を有する第二の基材を第一の基材に圧着させて、配向性を前記第一の基材に転写する圧着転写工程と、
前記第一の基材上に高分子液晶を含有した溶液を塗布して、高分子液晶を配向させる液晶配向工程と
を備えたことを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記液晶配向工程の後に、前記第一の基板上の高分子液晶を含有した溶液を乾燥させる液晶乾燥工程を備えた請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記第一の基材に対して、ケン化処理が施されている請求項１または２に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記第二の基材に対して、延伸処理およびラビング処理の少なくとも一方が施されている請求項１から３のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記第二の基材として、ポリエチレンテレフタレートまたはトリアセチルセルロースが用いられる請求項１から４のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法にて得られた光学フィルムを用いて構成されたことを特徴とする画像表示装置。
【請求項７】
第一の基材を供給する基材供給部と、
高分子液晶に配向性を持たせることができる配向軸を有する第二の基材を備え、前記第一の基材に前記第二の基材を圧着させることによって、配向性を前記第一の基材に転写する圧着転写部と、
前記第一の基材上に高分子液晶を含有した溶液を塗布する液晶塗布部と、
前記第一の基材上の前記高分子液晶を含有した溶液を乾燥させる液晶乾燥部と、
前記高分子液晶を有する前記第一の基材を巻き取る巻き取り部と
を備えたことを特徴とする光学フィルムの製造装置。
【請求項８】
請求項７に記載の光学フィルムの製造装置にて得られた光学フィルムを用いて構成されたことを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルムを製造する際において、短時間で基材に液晶配向規制力を持たせ、且つ製造に要する工程数を減少させ得る光学フィルムの製造方法、およびかかる方法を用いた光学フィルムの製造装置、ならびにこれらの方法等にて得られた光学フィルムを用いて構成された画像表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、位相差フィルム等の光学フィルムを用いて構成される液晶表示装置等の画像表示装置は、液晶の特定の分子配列を電界等の外部からの作用によって別の異なる分子配列に状態変化させて、その間の光学的特性の変化を視覚的な変化として画像等の表示に利用している。そして、液晶分子を特定の配列状態とするために、液晶を挟む光学フィルムを構成する基材に対しては、延伸処理やラビング処理等の前処理を施すのが一般的である。
【０００３】
また、前処理を施した基材に、液晶を塗布する塗工方式としては、スロットダイ、リバースグラビアコート、マイクログラビア等の様々な方式があるが、いずれの塗工方式を用いても、ラビング処理等の際に発生した異物の混入により、あるいは塗工工程に入る前に基材をロール形状で巻き取ってしまうことに起因して、基材の配向規制力が低下するという問題があった。このように、基材の配向規制力が低下すると、完成した光学フィルムの外観不良、特性異常等による歩留まり低下が発生する。
【０００４】
さらに、前処理として、基材の表面にラビング処理を施す場合においては、ラビング布を用いて摩擦等を行っているため、レーヨン、コットン材質の異物が多発し、静電気の影響などがある。したがって、ラビング処理のために、製造ラインを分ける必要があり、別のクリーンルームを設置しなければならない。よって、工程数が増えるという問題点があった。
【０００５】
なお、ラビング処理の不具合を解消して画像表示装置を製造する方法として、例えば、配向処理を施した配向構造を表面に有する母基板を用いて、この母基板の配向状態に対応した配向状態を転写工程によって子基板に転写する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。しかしながら、この方法においても、単に転写するだけではなく、配向転写工程における電界印加や電界除去、および分離工程における加熱、分離等が必要となるため、これらの工程を行うための装置および工数が必要となる。また、これらの各工程は連続的な処理を行うことが困難である。つまり、この特許文献１によっても、上記と同様に、工程数が増え、連続的に効率よく製造を行うことができないという問題点があった。
【特許文献１】特開平９−０４３６０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで、本発明は、上記従来技術の問題点を解決するためになされたものであって、ラビング処理に起因した異物の発生を抑え、連続的な製造を可能とすることによって、光学フィルム製造時の歩留まりの向上、工程数の低減、省力化、製造時間の短縮等を実現可能な、光学フィルムの製造方法、および光学フィルムの製造装置を提供することを課題とする。また、本発明は、これらの方法等にて得られた光学フィルムを用いて構成された画像表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明にかかる光学フィルムの製造方法は、上記課題を解決するためになされたものであって、高分子液晶に配向性を持たせることができる配向軸を有する第二の基材を第一の基材に圧着させて、配向性を前記第一の基材に転写する圧着転写工程と、前記第一の基材上に高分子液晶を含有した溶液を塗布して、高分子液晶を配向させる液晶配向工程とを備えたことを特徴としている。
【０００８】
このような構成によれば、前記第一の基材に前記第二の基材を圧着させることによって、前記第一の基材上の前記高分子液晶を配向させ得るように、前記第一の基材に配向性を転写している。つまり、前記第一の基材にラビング処理等を行うことなく、前記高分子液晶を配向させることができる。したがって、この構成によれば、ラビング処理に起因した異物の発生を抑えることが可能となって、光学フィルム製造時の歩留まりの向上、工程数の低減、省力化、製造時間の短縮等を実現することができる。
【０００９】
また、本発明にかかる光学フィルムの製造方法においては、前記液晶配向工程の後に、前記第一の基板上の高分子液晶を含有した溶液を乾燥させる液晶乾燥工程を備えた構成が好ましい。
【００１０】
また、本発明にかかる光学フィルムの製造方法においては、前記第一の基材に対して、ケン化処理が施されている構成が好ましい。
【００１１】
この好ましい構成によれば、配向性の転写と、形成された液晶層の密着性とを向上させることができる。
【００１２】
また、本発明にかかる光学フィルムの製造方法においては、前記第二の基材に対して、延伸処理およびラビング処理の少なくとも一方が施されている構成が好ましい。
【００１３】
また、本発明にかかる光学フィルムの製造方法においては、前記第二の基材として、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、またはポリイミドが用いられる構成が好ましい。
【００１４】
さらに、本発明にかかる画像表示装置は、上述したいずれかの光学フィルムの製造方法にて得られた光学フィルムを用いて構成されたことを特徴としている。
【００１５】
また、本発明にかかる光学フィルムの製造装置は、上記課題を解決するためになされたものであって、第一の基材を供給する基材供給部と、高分子液晶に配向性を持たせることができる配向軸を有する第二の基材を備え、前記第一の基材に前記第二の基材を圧着させることによって、配向性を前記第一の基材に転写する圧着転写部と、前記第一の基材上に高分子液晶を含有した溶液を塗布する液晶塗布部と、前記第一の基材上の前記高分子液晶を含有した溶液を乾燥させる液晶乾燥部と、前記高分子液晶を有する前記第一の基材を巻き取る巻き取り部とを備えたことを特徴としている。
【００１６】
このような構成によれば、前記第一の基材に前記第二の基材を圧着させるべく圧着転写部を設け、前記第一の基材上の前記高分子液晶を配向させ得るように、前記第一の基材に配向性を転写している。つまり、前記第一の基材にラビング処理等を行うことなく、前記高分子液晶を配向させることができる。加えて、このような構成によれば、圧着転写部等を経た前記第一の基材を巻き取る巻き取り部が設けられているため、前記基材供給部から前記第一の基材を連続的に供給することによって、光学フィルムを連続的に製造することができる。
したがって、この構成によれば、ラビング処理に起因した異物の発生を抑え、連続的な製造を可能とすることによって、光学フィルム製造時の歩留まりの向上、工程数の低減、省力化、製造時間の短縮等を実現することができる。
【００１７】
さらに、本発明にかかる画像表示装置は、上述した光学フィルムの製造装置にて得られた光学フィルムを用いて構成されたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、ラビング処理に起因した異物の発生を抑え、連続的な製造を可能とすることによって、光学フィルム製造時の歩留まりの向上、工程数の低減、省力化、製造時間の短縮等を実現可能な、光学フィルムの製造方法、および光学フィルムの製造装置を得ることができる。また、本発明によれば、これらの方法等にて得られた光学フィルムを用いて、上述した種々の効果を有する画像表示装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を参照して本発明の一実施形態である製造方法及び製造装置について説明する。
【００２０】
図１は、本発明の実施形態にかかる光学フィルムの製造装置（製造ライン）の概略図を示したものである。なお、本実施形態においては、光学フィルムが「位相差板」である場合について説明する。
【００２１】
この図１に示すように、本実施形態にかかる光学フィルムの製造装置は、位相差板基材（本発明の「第一の基材」に相当）１ａを適宜供給可能な基材供給部１と、あらかじめ配向規制力を付与された高分子フィルム２ａ（本発明の「第二の基材」に相当）をロール状に巻き付けた圧着転写部２と、位相差板基材１ａの一面（圧着転写部２にて圧着された面）に高分子液晶を含有した混合溶液（本発明の「溶液」に相当）を塗布する液晶塗布部３と、この位相差板基材１ａ上の高分子液晶を含有した混合溶液を乾燥させる液晶乾燥部４と、高分子液晶（高分子液晶層）を有する位相差板基材１ａ（すなわち、「位相差板」）を巻き取るように設けられた巻き取り部５とを用いて構成されている。
【００２２】
すなわち、本実施形態にかかる光学フィルムの製造装置によれば、位相差板基材１ａを供給する「基材供給工程」、位相差板基材１ａに対する圧着転写部２による「圧着転写工程」、位相差板基材１ａに高分子液晶を含有した混合溶液を塗布して高分子液晶を配向させる「液晶配向工程」、位相差板基材１ａ上の高分子液晶を含有した混合溶液を乾燥させる「液晶乾燥工程」、および「巻き取り工程」等を経て、「位相差板」が製造される。
そして、本実施形態においては、図１に示すように、「基材供給工程」時においては、ロール状態から位相差板基材１ａが供給され、製造された位相差板がロール状態に巻き取られる「巻き取り工程」が行われる。つまり、本実施形態は、“ロールｔｏロール”にて「位相差板」を製造すべく構成されている。
【００２３】
基材供給部１は、位相差板基材１ａ（第一の基材）をロール状に巻回し、適宜引き出して各工程に向けて供給可能に構成されている。
この位相差板基材１ａとしては、例えば、ケン化処理が行われた、厚みが８０μｍ程度のトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）が用いられる。そして、この位相差板基材１ａは、液晶を塗布する塗工面を上に（圧着転写部２側に）向けた状態で、基材供給部１から繰り出される。
【００２４】
圧着転写部２は、ゴム等にて形成されたローラ２ｂの表面に、配向規制力を有する高分子フィルム２ａ（第二の基材）をロール状に巻き付けて構成されている。高分子フィルム２ａは、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等を用いて構成される。また、この圧着転写部２は、配向規制力を有するＴＡＣ等の高分子フィルム２ａが、図１に示すように、位相差板基材１ａと圧着可能な位置に巻き付けられており、高分子フィルム２ａには、あらかじめラビング処理等が施されている。
【００２５】
液晶塗布部３は、圧着転写部２にて圧着転写工程が行われた位相差板基材１ａに対して、高分子液晶を含んだ混合溶液を塗布すべく構成されている。ここでは、例えば、液晶高分子樹脂を２０％、溶剤を８０％含んだ溶液を「混合溶液」として使用する。そして、ワイヤーバー等（図示省略）を用いて、位相差基材１ａに対する混合溶液の塗布が行われる。
【００２６】
続いて、液晶乾燥部４においては、位相差板基材１ａに塗布された混合溶液の乾燥処理が行われる。ここで、液晶乾燥部４としては、例えば、温風噴射、ＵＶ照射等が用いられる。
【００２７】
最後に、本実施形態にかかる製造装置においては、位相差板（高分子液晶層を備えた位相差板基材１ａ）が、二つの搬送ローラ６ａ，６ｂを介して巻き取り部５にて巻き取られる。この巻き取り部５は、ローラおよびこのローラを回転させる電動モータ等を用いて構成されている。そして、この巻き取り部５にて巻き取られた位相差板が、このように巻き取られた状態のままで、画像表示装置を構成する際の次工程以降に送られる。
具体的には、ここで製造された位相差板が液晶セルの少なくとも一方に配設することによって画像表示装置が構成される本発明の画像表示装置は、上記位相差板と共に１又は２以上の種々の光学層を積層して形成することができる。
【００２８】
光学層については、特に限定されないが、例えば、偏光板や反射板、半透過板、従来の位相差板（１／２や１／４等の波長板を含む）、視覚補償フィルムあるいは輝度向上フィルムなどが挙げられる。偏光板の基本的な構成は、例えば、二色性物質含有のポリビニルアルコール系フィルム等からなる偏光子の片面または両面に、ビニルアルコール系ポリマー等からなる適宜な接着層を介して保護シートを接着したものからなる。
【００２９】
偏光子の製造方法としては、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬し、水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるとともに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果のある膨潤工程、ヨウ素等の二色性物質や二色性染料等の染料の入った浴中にて染色する染色工程、ホウ酸やホウ砂等の架橋剤の入った浴中にて架橋する架橋工程および元長の３〜７倍に延伸する延伸工程等の工程を経て製造される。これらの工程の順番は特に限定されるものではなく、また、いくつかの工程を同時に行っても良い。例えば、延伸はヨウ素で染色した後に行ってもよいし、染色しながら延伸してもよく、また延伸してからヨウ素で染色してもよい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。
【００３０】
偏光子としては、特に限定されることなく各種のものを使用できる。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等があげられる。これらのなかでもポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素などの二色性物質からなる偏光子が好適である。これら偏光子の厚さは特に限定されるものではないが、一般的に、５〜８０μｍ程度である。
【００３１】
偏光子は、必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいてもよく、ヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。
【００３２】
前記偏光子の片面または両面に設けられる保護シートを形成する材料としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるものが好ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマーがあげられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや方向族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、または前記ポリマーのブレンド物なども前記保護シートを形成するポリマーの例としてあげられる。保護シートは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型、紫外線硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。これらの中でもセルロース系ポリマーが好ましい。
【００３３】
また、保護シートとしては、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルム、例えば、（Ａ）側鎖に置換および／または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、（Ｂ）側鎖に置換および／または非置換フェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が挙げられ、具体例としてはイソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物のフィルムが挙げられる。フィルムは樹脂組成物の混合押出し品などからなるフィルムを用いることができる。
【００３４】
保護シートの厚さは特に限定されるものではないが、一般には５００μｍ以下であり、１〜３００μｍが好ましい。特に５〜２００μｍとするのがより好ましい。また、偏光特性や耐久性などの点より、保護フィルム表面をアルカリなどでケン化処理することが好ましい。
【００３５】
また、保護シートはできるだけ色付きがないことが好ましい。したがって、Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］・ｄ（ただし、ｎｘ、ｎｙはフィルム平面内の主屈折率、ｎｚはフィルム厚方向の屈折率、ｄはフィルム厚である）で表されるフィルム厚み方向の位相差値が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍである透明保護フィルムが好ましく用いられる。かかる厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ）が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍのものを使用することにより、透明保護フィルムに起因する偏光板の着色（光学的な着色）をほぼ解消することができる。厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ）は、さらに好ましくは−８０ｎｍ〜＋６０ｎｍ、特に−７０ｎｍ〜＋４５ｎｍが好ましい。
【００３６】
前記偏光板は、実用に際して各種光学層を積層して用いることができる。その光学層については特に限定されるものではないが、例えば、前記透明保護フィルムの偏光子を接着させない面（前記接着剤塗布層を設けない面）に対して、ハードコート処理や反射防止処理、スティッキング防止や、拡散ないしアンチグレアを目的とした表面処理を施したり、視角補償等を目的とした配向液晶層を積層する方法があげられる。また、反射板や半透過板、従来の位相差板（１／２や１／４等の波長板（λ板）を含む）、視角補償フィルムなどの液晶表示装置等の形成に用いられる光学フィルムを１層または２層以上貼りあわせたものもあげられる。特に偏光板に、反射板または半透過反射板が積層されてなる反射型偏光板または半透過型偏光板、位相差板が積層されてなる楕円偏光板または円偏光板、視角補償層または視角補償フィルムが積層されてなる広視野角偏光板、あるいは輝度向上フィルムが積層されてなる偏光板が好ましい。また、前記光学層あるいは前記光学フィルムを透明保護フィルムと積層するタイミングは、偏光子と貼りあわせた後でも良いし、偏光子と貼りあわせる前でも良い。
【００３７】
ハードコート処理は偏光板表面の傷つき防止などを目的に施されるものであり、例えばアクリル系、シリコーン系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れる硬化皮膜を透明保護フィルムの表面に付加する方式などにて形成することができる。反射防止処理は偏光板表面での外光の反射防止を目的に施されるものであり、従来に準じた反射防止膜などの形成により達成することができる。また、スティッキング防止処理は隣接層との密着防止を目的に施される。
【００３８】
また、アンチグレア処理は偏光板の表面で外光が反射して、偏光板透過光の視認を阻害することの防止等を目的に施されるものであり、例えば、サンドブラスト方式やエンボス加工方式による粗面化方式や透明微粒子の配合方式などの適宜な方式にて透明保護フィルムの表面に微細凹凸構造を付与することにより形成することができる。前記表面微細凹凸構造の形成に含有させる微粒子としては、例えば平均粒径が０．５〜５０μｍのシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等からなる導電性のこともある無機系微粒子、架橋または未架橋のポリマー等からなる有機系微粒子などの透明微粒子が用いられる。表面微細凹凸構造を形成する場合、微粒子の使用量は、表面微細凹凸構造を形成する透明樹脂１００重量部に対して一般的に２〜７０重量部程度であり、５〜５０重量部が好ましい。アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角などを拡大するための拡散層（視角拡大機能など）をかねるものであってもよい。
【００３９】
なお、前記反射防止層、スティッキング防止層、拡散層やアンチグレア層等の光学層は、透明保護フィルムそのものに設けることができるほか、別途、透明保護フィルムとは別体のものとして設けることもできる。
【００４０】
前記偏光子と透明保護フィルムとの接着処理は特に限定されるものではないが、例えば、ビニルポリマーからなる接着剤、あるいは、ホウ酸やホウ砂、グルタルアルデヒドやメラミン、シュウ酸などのビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤から少なくともなる接着剤などを介して行うことができる。この接着層は、水溶液の塗布乾燥層などとして形成しうるが、その水溶液の調製に際しては、必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒も配合することができる。
【００４１】
反射型偏光板は、偏光板に反射層を設けたもので、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置などを形成するためのものであり、バックライト等の光源の内臓を省略できて、液晶表示装置の薄型化を図りやすいなどの利点を有する。反射型偏光板の形成は、必要に応じ透明保護層等を介して偏光板の片面に金属等からなる反射層を付設する方式などの適宜な方式にて行うことができる。
【００４２】
反射型偏光板の具体例としては、必要に応じ、マット処理した透明保護フィルムの片面に、アルミニウム等の反射性金属からなる箔や蒸着膜を付設して反射層を形成したものなどがあげられる。また、前記透明保護フィルムに微粒子を含有させて表面微細凹凸構造とし、その上に微細凹凸構造の反射層を有するものなどもあげられる。前記した微細凹凸構造の反射層は、入射光を乱反射により拡散させて指向性やギラギラした見栄えを防止し、明暗のムラを抑制しうる利点などを有する。また微粒子含有の透明保護フィルムは、入射光およびその反射光がそれを透過する際に拡散されて、明暗ムラをより抑制しうる利点なども有している。透明保護フィルムの表面微細凹凸構造を反映させた微細凹凸構造の反射層の形成は、例えば真空蒸着方式、イオンプレーティング方式、スパッタリング方式等の蒸着方式やメッキ方式などの適宜な方式で、金属を透明保護層の表面に直接付設する方法などにより行うことができる。
【００４３】
反射板は、前記偏光板の透明保護フィルムに直接付与する方式に代えて、その透明フィルムに準じた適宜なフィルムに反射層を設けてなる反射シートなどとして用いることもできる。なお、反射層は通常、金属からなるので、その反射面が透明保護フィルムや偏光板等で被覆された状態の使用形態が、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続の点や、保護層の別途付設回避の点などにより好ましい。
【００４４】
なお、半透過型偏光板は、上記において反射層で光を反射し、かつ透過するハーフミラー等の半透過型の反射層とすることにより得ることができる。半透過型偏光板は通常、液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置などを比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側（表示側）からの入射光を反射させて画像を表示し、比較的暗い雰囲気においては、半透過型偏光板のバックサイドに内蔵されているバックライト等の内臓光源を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置などを形成できる。すなわち、半透過型偏光板は、明るい雰囲気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節約でき、比較的明るい雰囲気下においても内蔵光源を用いて使用できるタイプの液晶表示装置などの形成に有用である。
【００４５】
偏光板にさらに位相差板が積層されてなる楕円偏光板または円偏光板について説明する。直線偏光を楕円偏光または円偏光に変えたり、楕円偏光または円偏光を直線偏光に変えたり、あるいは直線偏光の偏光方向を変える場合に、位相差板などが用いられる。特に、直線偏光を円偏光に変えたり、円偏光を直線偏光に変えたりする位相差板としては、いわゆる１／４波長板（λ／４板ともいう）が用いられる。１／２波長板（λ／２板ともいう）は、通常、直線偏光の偏光方向を変える場合に用いられる。
【００４６】
楕円偏光板はスーパーツイストネマチック（ＳＴＮ）型液晶表示装置の液晶層の複屈折により生じた着色（青または黄）を補償（防止）して、前記着色のない白黒表示する場合などに有効に用いられる。さらに、三次元の屈折率を制御したものは、液晶表示装置の画面を斜め方向から見た際に生じる着色も補償（防止）することができて好ましい。円偏光板は、例えば画像がカラー表示になる反射型液晶表示装置の画像の色調を整える場合などに有効に用いられ、また、反射防止の機能も有する。
【００４７】
位相差板としては、高分子素材を一軸または二軸延伸処理してなる複屈折性フィルム、液晶ポリマーの配向フィルム、液晶ポリマーの配向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。延伸処理は、例えばロール延伸法、長間隙沿延伸法、テンター延伸法、チューブラー延伸法などにより行うことができる。延伸倍率は、一軸延伸の場合には１．１〜３倍程度が一般的である。位相差板の厚さも特に制限されないが、一般的には１０〜２００μｍ、好ましくは２０〜１００μｍである。
【００４８】
前記高分子素材としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリメチルビニルエーテル、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリアリルスルホン、ポリビニルアルコール、ポリアミド、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、セルロース系重合体、またはこれらの二元系、三元系各種共重合体、グラフト共重合体、ブレンド物などがあげられる。これら高分子素材は延伸等により配向物（延伸フィルム）となる。
【００４９】
前記液晶ポリマーとしては、例えば、液晶配向性を付与する共役性の直線状原子団（メソゲン）がポリマーの主鎖や側鎖に導入された主鎖型や側鎖型の各種のものなどがあげられる。主鎖型の液晶性ポリマーの具体例としては、屈曲性を付与するスペーサ部でメソゲン基を結合した構造の、例えばネマチック配向性のポリエステル系液晶性ポリマー、ディスコティックポリマーやコレステリックポリマーなどがあげられる。側鎖型の液晶性ポリマーの具体例としては、ポリシロキサン、ポリアクリレート、ポリメタクリレートまたはポリマロネートを主鎖骨格とし、側鎖として共役性の原子団からなるスペーサ部を介してネマチック配向付与性のパラ置換環状化合物単位からなるメソゲン部を有するものなどがあげられる。これら液晶ポリマーは、例えば、ガラス板上に形成したポリイミドやポリビニルアルコール等の薄膜の表面をラビング処理したもの、酸化ケイ素を斜方蒸着したものなどの配向処理面上に液晶性ポリマーの溶液を展開して熱処理することにより行われる。配向処理面を形成する上で本発明の製造方法を適用することもできる。
【００５０】
位相差板は、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償を目的としたものなどの使用目的に応じた適宜な位相差を有するものであってよく、２種以上の位相差板を積層して位相差等の光学特性を制御したものなどであってもよい。
【００５１】
また上記の楕円偏光板や反射型楕円偏光板は、偏光板または反射型偏光板と位相差板を適宜な組み合わせで積層したものである。かかる楕円偏光板等は、（反射型）偏光板と位相差板の組み合わせとなるようにそれらを液晶表示装置の製造過程で順次別個に積層することによっても形成しうるが、前記のごとくあらかじめ楕円偏光板等の光学フィルムとしたものは、品質の安定性や積層作業性等に優れて、液晶表示装置などの製造効率を向上させうる利点がある。
【００５２】
視角補償フィルムは、液晶表示装置の画面を、画面に垂直でなくやや斜めの方向から見た場合でも、画像が比較的鮮明に見えるように視野角を広げるためのフィルムである。このような視角補償位相差板としては、例えば位相差板、液晶ポリマー等の配向フィルムや透明基材上に液晶ポリマー等の配向層を支持したものなどからなる。通常の位相差板は、その面方向に一軸延伸された複屈折を有するポリマーフィルムが用いられるのに対し、視角補償フィルムとして用いられる位相差板には、面方向に二軸に延伸された複屈折を有するポリマーフィルムとか、面方向に一軸に延伸され、厚さ方向にも延伸された、厚さ方向の屈折率を制御した複屈折を有するポリマーや傾斜配向フィルムのような二方向延伸フィルムなどが用いられる。傾斜配向フィルムとしては、例えばポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを延伸処理または／および収縮処理したものや、液晶ポリマーを斜め配向させたものなどが挙げられる。位相差板の素材原料ポリマーは、先の位相差板で説明したポリマーと同様のものが用いられ、液晶セルによる位相差に基づく視認角の変化による着色等の防止や良視認の視野角の拡大などを目的とした適宜なものを用いうる。
【００５３】
また、良視認の広い視野角を達成する点などより、液晶ポリマーの配向層、特にディスコティック液晶ポリマーの傾斜配向層からなる光学的異方性層をトリアセチルセルロースフィルムにて支持した光学補償位相差板が好ましく用いうる。
【００５４】
偏光板と輝度向上フィルムを貼りあわせた偏光板は、通常液晶セルの裏側サイドに設けられて使用される。輝度向上フィルムは、液晶表示装置などのバックライトや裏側からの反射などにより自然光が入射すると所定偏光軸の直線偏光または所定方向の円偏光を反射し、他の光は透過する特性を示すもので、輝度向上フィルムを偏光板と積層した偏光板は、バックライト等の光源からの光を入射させて所定偏光状態の透過光を得るとともに、前記所定偏光状態以外の光は透過せずに反射される。この輝度向上フィルム面で反射した光をさらにその後ろ側に設けられた反射層等を介し反転させて輝度向上フィルムに再入射させ、その一部または全部を所定偏光状態の光として透過させて輝度向上フィルムを透過する光の増量を図るとともに、偏光子に吸収させにくい偏光を供給して、液晶画像表示等に利用しうる光量の増大を図ることにより輝度を向上させうるものである。すなわち、輝度向上フィルムを使用せずに、バックライトなどで液晶セルの裏側から偏光子を通して光を入射した場合には、偏光子の偏光軸に一致していない偏光方向を有する光は、ほとんど偏光子に吸収されてしまい、偏光子を透過してこない。すなわち、用いた偏光子の特性によっても異なるが、およそ５０％の光が偏光子に吸収されてしまい、その分、液晶画像表示等に利用しうる光量が減少し、画像が暗くなる。輝度向上フィルムは、偏光子に吸収されるような偏光方向を有する光を偏光子に入射させずに、輝度向上フィルムでいったん反射させ、さらにその後ろ側に設けられた反射層等を介して反転させて輝度向上フィルムに再入射させることを繰り返し、この両者間で反射、反転している光の偏光方向が偏光位置を通過しうるような偏光方向になった偏光のみを透過させて偏光子に供給するので、バックライトなどの光を効率的に液晶表示装置の画像の表示に使用でき、画面を明るくすることができる。
【００５５】
輝度向上フィルムと上記反射層等の間に拡散板を設けることもできる。輝度向上フィルムによって反射した偏光状態の光は上記反射層等に向かうが、設置された拡散板は通過する光を均一に拡散すると同時に偏光状態を解消し、非偏光状態とする。すなわち元の自然光状態にもどす。この非偏光状態すなわち自然光状態の光が反射層等に向かい、反射層等を介して反射して、拡散板を再び通過して輝度向上フィルムに再入射することを繰り返す。元の自然光状態に戻す拡散板を設けることにより、表示画面の明るさを維持しつつ、同時に表示画面の明るさのムラを少なくし、均一の明るい画面を提供することができる。元の自然光状態に戻す拡散板を設けることにより、初回の入射光は反射の繰り返し回数が程よく増加し、拡散板の拡散機能とあいまって均一の明るい表示画面を提供することができたものと考えられる。
【００５６】
前記輝度向上フィルムとしては、例えば誘電体の多層薄膜や屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体の如き、所定偏光軸の直線偏光を透過して他の光は反射する特性を示すもの、コレステリック液晶ポリマーの配向フィルムやその配向液晶層をフィルム基材上に支持したものの如き、左回りまたは右回りのいずれか一方の円偏光を反射して他の光は透過する特性を示すものなどの適宜なものを用いうる。
【００５７】
したがって、前記した所定偏光軸の直線偏光を透過させるタイプの輝度向上フィルムでは、その透過光をそのまま偏光板に偏光軸をそろえて入射させることにより、偏光板による吸収ロスを抑制しつつ、効率よく透過させることができる。一方、コレステリック液晶層の如く円偏光を透過するタイプの輝度向上フィルムでは、そのまま偏光子に入射させることもできるが、吸収ロスを抑制する点よりその円偏光を位相差板を介し直線偏光化して偏光板に入射させることが好ましい。なお、その位相差板として１／４波長板を用いることにより、円偏光を直線偏光に変換することができる。
【００５８】
可視光域等の広い波長範囲で１／４波長板として機能する位相差板は、例えば波長５５０ｎｍの単色光に対して１／４波長板として機能する位相差層と他の位相差特性を示す位相差層、例えば１／２波長板として機能する位相差層とを重畳する方式などにより得ることができる。したがって、偏光板と輝度向上フィルムの間に配置する位相差板は、１層または２層以上の位相差層からなるものであってよい。
【００５９】
なお、コレステリック液晶層についても、反射波長が相違するものの組み合わせにして２層または３層以上重畳した配置構造とすることにより、可視光領域等の広い波長範囲で円偏光を反射するものを得ることができ、それに基づいて広い波長範囲の透過円偏光を得ることができる。
【００６０】
また、本発明の偏光板は、上記の偏光分離型偏光板の如く、偏光板と２層または３層以上の光学層とを積層したものからなっていてもよい。したがって、上記の反射型偏光板や半透過型偏光板と位相差板を組み合わせた反射型楕円偏光板や半透過型楕円偏光板などであってもよい。
【００６１】
偏光板に前記光学層を積層した光学フィルムは、液晶表示装置等の製造過程で順次別個に積層する方式にても形成することができるが、あらかじめ積層して光学フィルムとしたものは、品質の安定性や組立作業等に優れていて液晶表示装置などの製造工程を向上させうる利点がある。積層には粘着剤層等の適宜な接着手段を用いうる。前記の偏光板と他の光学層の接着に際し、それらの光学軸は目的とする位相差特性などに応じて適宜な配置角度とすることができる。
【００６２】
本発明による偏光板や、前記の積層光学部材には、液晶セル等の他部材と接着するための粘着層を設けることもできる。その粘着層は、特に限定されるものではないが、アクリル系等の従来に準じた適宜な粘着剤にて形成することができる。吸湿による発泡現象や剥がれ現象の防止、熱膨張差等による光学特性の低下や液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる画像表示装置の形成性等の点により、吸湿率が低くて耐熱性に優れる粘着層であることが好ましい。また、微粒子を含有して光拡散性を示す粘着層などとすることもできる。粘着層は必要に応じて必要な面に設ければよく、例えば、本発明のような偏光子と保護フィルムからなる偏光板について言及するならば、必要に応じて、保護層の片面または両面に粘着層を設ければよい。
【００６３】
前記粘着層が表面に露出する場合には、その粘着層を実用に供するまでの問の汚染防止等を目的としてセパレータにて仮着カバーをすることが好ましい。セパレータは、上記の透明保護フィルム等に準じた適宜な薄葉体に、必要に応じてシリコーン系や長鎖アルキル系、フッ素系や硫化モリブデン等の適宜な剥離剤による剥離コートを設ける方式などにより形成することができる。
【００６４】
なお、上記の偏光板や光学部材を形成する偏光子や透明保護フィルム、光学層や粘着層などの各層は、例えば、サリチル酸エステル系化合物やベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物やシアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で処理する方式などの適宜な方式により紫外線吸収能を持たせたものであってもよい。
【００６５】
本発明による光学フィルムは液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、ＰＤＰ等の画像表示装置の形成に好ましく用いることができる。
【００６６】
本発明の偏光板は、液晶表示装置等の各種装置の形成などに好ましく用いることができ、例えば、偏光板を液晶セルの片側あるいは両側に配置してなる反射型や半透過型、あるいは透過・反射両用型等の液晶表示装置に用いることができる。液晶セル基板は、プラスチック基板、ガラス基板のいずれでも良い。液晶表示装置を形成する液晶セルは任意であり、例えば薄膜トランジスタ型に代表されるアクティブマトリクス駆動型のもの、ツイストネマチック型やスーパーツイストネマチック型に代表される単純マトリクス駆動型のものなど適宜なタイプの液晶セルを用いたものであっても良い。
【００６７】
また、液晶セルの両側に偏光板や光学部材を設ける場合、それらは同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。さらに、液晶表示装置の形成に際しては、例えばプリズムアレイシートやレンズアレイシート、光拡散板やバックライト等の適宜な部品を適宜な位置に１層または２層以上配置することができる。
【００６８】
次いで、有機エレクトロルミネセンス装置（有機ＥＬ表示装置）について説明する。一般に、有機ＥＬ表示装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層して発光体（有機エレクトロルミネセンス発光体）を形成している。ここで、有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あるいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入層、発光層、および電子注入層の積層体等、種々の組み合わせを持った構成が知られている。
【００６９】
有機ＥＬ表示装置は、透明電極と金属電極とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物質を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性に伴う強い非線形性を示す。
【００７０】
有機ＥＬ表示装置においては、有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明でなくてはならず、通常、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉなどの金属電極を用いている。
【００７１】
このような構成の有機ＥＬ表示装置において、有機発光層は、厚さ１０ｎｍ程度と極めて薄い膜で形成されている。このため、有機発光層も透明電極と同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認したとき、有機ＥＬ表示装置の表示面が鏡面のように見える。
【００７２】
電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス発光体を含む有機ＥＬ表示装置において、透明電極の表面側に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光板との間に位相差板を設けることができる。
【００７３】
位相差板および偏光板は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相差板を１／４波長板で構成し、かつ偏光板と位相差板との偏光方向のなす角をπ／４に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【００７４】
すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射する外部光は、偏光板により直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は位相差板により一般に楕円偏光となるが、特に位相差板が１／４波長板でしかも偏光板と位相差板との偏光方向のなす角がπ／４のときには円偏光となる。
【００７５】
この円偏光は、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相差板で再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【００７６】
本実施形態にかかる光学フィルムの製造装置は、以上のように構成されており、具体的に次のように機能する。
【００７７】
本実施形態においては、基材供給部１から供給された位相差板基材１ａに、圧着転写部２にてラビング処理が施された高分子フィルム２ａを圧着させることによって、配向規制力が付与される。
次いで、圧着転写部２を経て配向規制力が付与された位相差板基材１ａの一面に、液晶塗布部３にて高分子液晶を含有した混合溶液が塗布される。この際、位相差板基材１ａの一面には、配向規制力が付与されているため、塗布された混合溶液中の高分子液晶は、その配向規制力に基づいて配向方向が制御される。
次いで、高分子液晶を含有する混合溶液が塗布された位相差板基材１ａは、温風噴射やＵＶ照射等が行われる液晶乾燥部４に送られ、位相差板基材１ａ上の溶剤成分が除去される。すなわち、この液晶乾燥部４を経ることによって、位相差板基材１ａ上に高分子液晶層を備えた「位相差板」が製造されることとなる。
そして、この位相差板が巻き取り部５にて巻き取られることによって、この製造装置における製造工程が終了する。
【００７８】
本実施形態にかかる光学フィルムの製造方法及び製造装置は、以上の構成され機能するため、次のような効果を得ることができる。
【００７９】
本実施形態によれば、以上のように、位相差板基材１ａに高分子フィルム２ａを圧着させることによって、位相差板基材１ａに配向規制力を持たせることが可能であるため、従来必要であったラビング処理等を行うことなく（位相差板基材１ａに対してラビング処理等を行うことなく）、位相差板等の光学フィルムを製造することができる。
したがって、本実施形態によれば、ラビング処理等の際に発生する異物を位相差板基材１ａに発生させることなく、位相差板等の光学フィルムを製造可能となって、光学フィルム製造時の歩留まりを向上させることができる。
【００８０】
また、本実施形態によれば、位相差板基材１ａに対して、ラビング処理を行うことなく、圧着転写工程によって配向規制力を持たせている。さらに、位相差板の製造が、圧着転写工程等の各工程を連続的なラインとした“ロールｔｏロール”方式で行われている。
したがって、本実施形態によれば、製造工程時における工程数の低減、省力化、製造時間の短縮等を図ることができる。
【実施例】
【００８１】
次に本発明の実施例を示すが、本発明はもとより下記実施例によって制限を受けるものではなく、前後記の趣旨に適合し得る範囲で適当に変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に含まれる。
【００８２】
実施例１においては、第一の基材である位相差板基材１ａとして、ケン化処理を行った厚みが８０μｍの帯状のＴＡＣが用いられた。また、第二の基材である高分子フィルム２ａとしても、ケン化処理を行った厚みが８０μｍのＴＡＣが用いられ、この高分子フィルム２ａには、あらかじめラビング処理が施された。
【００８３】
そして、位相差板基材１ａの長手方向に対して、高分子フィルム２ａのラビング処理方向（高分子フィルム２ａの長手方向となるローラ２ｂの回転方向）とが略４５°の角度を有するように、位相差板基材１ａ上に圧着転写部２を配置した。この圧着転写部２は、ローラ（ゴムローラ）２ｂを用いて、位相差板基材１ａに高分子フィルム２ａを十分に圧着させることができるように構成した。
【００８４】
圧着転写部２における圧着転写工程を経て、高分子フィルム２ａから剥離した位相差板基材１ａの一面（高分子フィルム２ａと圧着した面）には、ワイヤーバーを用いて、高分子液晶を含有した混合溶液（液晶高分子樹脂２０％、溶剤８０％）の塗布を行った。この後、９０℃、２分間という条件で、位相差板基材１ａ上の混合溶液の乾燥処理を行った。
【００８５】
さて、位相差板基材１ａ上の液晶層の乾燥厚みは、光干渉膜厚法（大塚電子社製「ＭＣＰＤ−２０００」使用）で測定したところ、２．１μｍであった。また、位相差を測定したところ２５１ｎｍであり、その配向軸は、位相差板基材１ａ（第一の基材）の長手方向に対して４４．８°の角度を有しており、圧着した高分子フィルム２ａ（第二の基材）の配向軸（位相差板基材１ａに対する高分子フィルム２ａのラビング処理方向）と一致していることがわかった。配向軸、位相差の測定には、王子計測器社製「ＫＯＢＲＡ−３１ＰＲ」を使用した。
【００８６】
次に、実施例２〜６においては、第一の基材１ａとして、ケン化処理を行った８０μｍ厚みのＴＡＣが使用され、この第一の基材１ａが基材供給部１から繰り出される。また、これらの実施例においては、ラビング処理を行っている第二の基材２ａの配向軸が、第一の基材１ａの搬送方向と４５°の角度を有するように、圧着転写部２に保持される。
【００８７】
基材供給部１から繰り出された第一の基材１ａに対しては、圧着転写部２にて十分に圧着処理が行われた後、液晶塗布部３にて、重量パーセント濃度で、液晶高分子成分約２０％、溶剤成分約８０％の混合溶液の塗布工程が行われる。そして、この後、例えば、９０℃、２分間という条件で、第一の基材１ａ上の混合溶液の乾燥処理が行われる。
【００８８】
さて、上記乾燥処理までの工程を経て得られたサンプル（実施例２〜実施例６）についての乾燥厚みは、光干渉膜厚法（大塚電子社製「ＭＣＰＤ−２０００」使用）で測定した。また、配向軸、位相差の測定には、王子計測器社製「ＫＯＢＲＡ−３１ＰＲ」を使用した。
【００８９】
各実施例は、使用した第二の基材２ａ、液晶高分子、あるいは溶剤が異なることから、結果として得られる乾燥厚みや歩留まり等が相違する。以下、各実施例に適用した条件、および測定結果等を表１に示す。
【００９０】
なお、実施例２、３、５及び６で用いた第２の基材２ａは、次のように作成した。すなわち、まずＴＡＣ樹脂フィルムの上にポリビニルアルコール（ＰＶＡ）あるいはポリイミド（ＰＩ）といった溶液（塗工液は下記参照）を、塗工機（ダイコーター）を用いて塗布、乾燥させ、成膜した。
・ＰＶＡ塗工液  →  溶媒は水を使用した。
・ポリイミド塗工液  →  溶媒はγブチロラクトンを使用した。
次に、塗布膜の形成されている面をレーヨン製のラビング布を巻き付けたロールにより任意の方向に均一に摩擦させ、こうして第２の基材２ａを作成した。
【００９１】
【表１】
2005227348.tif 000003
【００９２】
一方、比較例１〜６（従来技術にかかる方法にて得られたサンプル）は、第一の基材として、すでにラビング処理を施して配向規制力を付与したものを使用した。すなわち、上記実施例と異なり、圧着転写部２のような圧着部を通すことなく、その表面に、液晶高分子成分約２０％、溶剤成分約８０％の混合溶液を塗布し、乾燥処理を施した。
【００９３】
評価は、上記実施例と同様に、乾燥厚みは、光干渉膜厚法（大塚電子社製「ＭＣＰＤ−２０００」使用）で測定し、配向軸、位相差の測定には、王子計測器社製「ＫＯＢＲＡ−３１ＰＲ」を使用した。
【００９４】
以下、各比較例に適用した条件、および測定結果等を表２に示す。
【００９５】
【表２】
2005227348.tif 000004
【００９６】
なお、上記表中に記載の「ＬＣ２４２」は、「Ｐａｌｉｏｃｏｌｏｒ ＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社製）」を使用した。また、「Ａ−ｐｏｌｙｍｅｒ」については、以下に示す構造式の液晶材料を使用した。
【００９７】
【化１】
2005227348.tif 000005
【００９８】
さらに、「歩留まり」は、次のようにして計算した。
すなわち、各条件（実施例あるいは比較例）で作成したサンプルを、２９７×２１０サイズで切り抜き、１５０μｍ以上の異物、欠点がないものを「良品」として、１００枚を評価した。つまり、「良品」が１００枚中７８枚であれば、「歩留まり」は７８％となる（例えば、実施例1）。
【００９９】
上記表１および表２の結果から、本発明にかかる技術（実施例）と従来技術（比較例）とを対比した場合、それぞれの条件にて得られた位相差フィルムの位相差特性（Δｎｄ）は、同等レベルであることが確認された。
また、「歩留まり」については、実施例１〜６の方が、比較例１〜６よりも明らかに良好であることが確認された。これは、実施例の方は、第一の基材に対してラビング処理を施さないことから、異物が少なくなるためであると考えられる。
【０１００】
したがって、以上の実施例等の結果から、基材に対する転写処理によって、配向性の付与が可能であること、異物混入が少ないため歩留まりが向上することが明らかとなった。
【０１０１】
なお、本発明は上記実施形態および実施例に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて、上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。
【０１０２】
上記実施形態および実施例においては、第一の基材および第二の基材としてＴＡＣを用いる場合について説明したが、本発明はこの構成に限定されるものではなく、例えば、ＰＥＴ、ＰＩ（ポリイミド）、ＰＶＡ（ポリビニルアルコール）等を用いてもよい。勿論、第二の基材として用いる場合には、あらかじめラビング処理を施す。
【０１０３】
また、上記実施例においては、位相差板基材１ａの長手方向に対して、高分子フィルム２ａのラビング処理方向（高分子フィルム２ａの長手方向となるローラ２ｂの回転方向）とが略４５°の角度を有するように、位相差板基材１ａ上に圧着転写部２を配置した場合について説明したが、本発明はこの構成に限定されず、例えば、１°〜５０°の任意の角度に設定可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１０４】
【図１】本発明の実施形態にかかる光学フィルムの製造装置の概略図を示したものである。
【符号の説明】
【０１０５】
１    基材供給部
１ａ    位相差板基材（第一の基材）
２    圧着転写部
２ａ    高分子フィルム（第二の基材）
２ｂ    ローラ
３    液晶塗布部
４    液晶乾燥部
５    巻き取り部
６ａ，６ｂ    搬送ローラ
【図１】
2005227348.tif 000006