(57)【要約】【課題】所定の画素からの光が隣接する画素上で出射することを低減すること。【解決手段】ＥＬディスプレイパネルであるフラットディスプレイパネル２は、基板１２と、基板１２上にマトリクス状に配列された画素電極１６と、それぞれの画素電極１６上に形成されたＥＬ層１５と、これらＥＬ層１５全体を被覆した共通電極１３と、共通電極１３を被覆した封止膜１７と、を具備する。封止膜１７の表面には光学接着剤４を介して光学シート３が接着されている。光学シート３には、多数の断面二等辺三角形状のプリズム３ａが形成されている。プリズム３ａのピッチａは、フラットディスプレイパネル２の画素のピッチｂよりも小さい。【選択図】    図２
2005017911.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素が間隔をあけてマトリクス状に配列され、前記複数の画素が光透過性材料で被覆されたフラットディスプレイパネルと、前記フラットディスプレイパネルの正面指向性を付与するための光学シートと、を備え、
前記複数の画素のうちの所定の画素から出射され、当該画素以外の領域上に位置する前記光学シートの表面から外側正面方向に出射される光が、当該画素の周辺に配置される周辺画素に重なる幅は、前記周辺画素の画素幅の２０％以下であることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記光学シートは稜角がαとなる複数のプリズムを有し、
当該画素から前記光学シートの表面の光の出射位置までの縦方向の高さｄは下記式（１）を満たすように設定されている、
【数１】
2005017911.tif 000012
（式中、ｎは当該画素から前記光学シートの表面の光の前記出射位置までの光路の屈折率、ｐは当該画素から前記光学シートの表面の光の前記出射位置までの横方向の幅）
ことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記幅ｐは、当該画素から前記周辺画素までの幅以下であることを特徴とする請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
複数の画素が間隔をあけてマトリクス状に配列され、前記複数の画素が光透過性材料で被覆されたフラットディスプレイパネルと、前記フラットディスプレイパネルの正面指向性を付与するために、前記光透過性材料の表面に配列された複数の所定形状の光学素子と、を備え、
前記複数の光学素子のピッチが前記複数の画素のピッチよりも小さいことを特徴とする表示装置。
【請求項５】
間隔をあけてマトリクス状に配列された画素と、前記複数の画素の領域を前記複数の画素に対応するようにマトリクス状の複数のセルに区画した網目状の隔壁と、前記隔壁によって区画された前記複数のセルに充填された光透過性材料と、を有したフラットディスプレイパネルと、
前記フラットディスプレイパネルの正面指向性を付与するために、前記光透過性材料及び前記隔壁の表面に配列された複数の所定形状の光学素子と、を備えることを特徴とする表示装置。
【請求項６】
前記複数の光学素子は、前記光透過性材料の表面に互いに平行となって配列された断面三角形状のプリズムであることを特徴とする請求項４又は５に記載の表示装置。
【請求項７】
前記フラットディスプレイパネルは画素としてエレクトロルミネッセンス素子を用いたエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルであることを特徴とする請求項１から６の何れか一項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記フラットディスプレイパネルは画素としてエレクトロルミネッセンス素子を用いたエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルであり、
前記画素の幅は前記エレクトロルミネッセンス素子が発光している部分の幅であり、当該画素から前記周辺画素までの幅は、互いに隣接するエレクトロルミネッセンス素子の間で発光していない非発光領域の幅であることを特徴とする請求項２記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ：Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）ディスプレイパネル等のフラットディスプレイパネルを用いた表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、フラットディスプレイパネルの研究・開発が盛んに行われている。フラットディスプレイパネルには、透過光を利用した液晶ディスプレイパネル、放電現象を利用したプラズマディスプレイパネル、フィールドエミッションディスプレイパネル、電界発光現象を利用したＥＬディスプレイパネル等がある。ドットマトリクス方式により表示を行う場合、何れのディスプレイパネルにおいても、画素がマトリクス状に配列されている。
【０００３】
フラットディスプレイパネルの視認性を向上させるために、フラットディスプレイパネルの表示面に光学的加工を施すことがある。例えば、フラットディスプレイパネルの表示面での外光の反射を抑制するために、フラットディスプレイパネルの表示面にＡＲ（Ａｎｔｉ  Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）コートを施すことが行われている。また、フラットディスプレイパネルの光の出射率を向上させるために、フラットディスプレイの表示面にマイクロレンズアレイを形成することも行われている（例えば、特許文献１参照。）。また、フラットディスプレイパネルの正面指向性を向上させ更に輝度を向上させるために、多数の断面三角形状のプリズムが形成されたプリズムシートをフラットディスプレイパネルの表示面に接着することも行われている。
【０００４】
【特許文献１】
特開２０００−３２２０００号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、マイクロレンズアレイ、プリズムシート等の光学手段をフラットディスプレイパネルの表示面に設けた場合、正面に向けた光の出射率が向上する反面、例えば発光した画素（Ｒ）から放射状に輻射する光のうち画素（Ｒ）に隣接した画素（Ｇ）の上方まで達する光が、画素（Ｇ）に対向する光学手段によって屈折又は反射して正面方向に出射されると、画素（Ｒ）から出射する光が画素（Ｇ）の本来の発光画素上にかかってしまい、画素（Ｇ）の色のみが見える面積が小さくなるといった問題があった。
そこで、本発明は、上記のような問題点を解決しようとしてなされたものであり、所定の画素からの光が隣接する画素上で出射することを低減することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
以上の課題を解決するために、請求項１に記載の発明の表示装置は、
複数の画素が間隔をあけてマトリクス状に配列され、前記複数の画素が光透過性材料で被覆されたフラットディスプレイパネルと、前記フラットディスプレイパネルの正面指向性を付与するための光学シートと、を備え、
前記複数の画素のうちの所定の画素から出射され、当該画素以外の領域上に位置する前記光学シートの表面から外側正面方向に出射される光が、当該画素の周辺に配置される周辺画素に重なる幅は、前記周辺画素の画素幅の２０％以下であることを特徴とする。
【０００７】
請求項１に記載の発明では、所定の画素以外の領域上に位置する前学シートの表面から外側正面方向に出射される光が周辺画素の幅の最大２０％までしか重なることがないので、混色により周辺画素の表示色が打ち消される部分を抑え、良好な表示を得ることができる。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１記載の表示装置において
前記光学シートは稜角がαとなる複数のプリズムを有し、
当該画素から前記光学シートの表面の光の出射位置までの縦方向の高さｄは下記式（１）を満たすように設定されている、
【数２】
2005017911.tif 000003
（式中、ｎは当該画素から前記光学シートの表面の光の前記出射位置までの光路の屈折率、ｐは当該画素から前記光学シートの表面の光の前記出射位置までの横方向の幅）
ことを特徴とする。
【０００９】
請求項２記載の発明によれば、式（１）を用いて正面方向に出射される光を光学的に解析することにより、適用する光学シートの稜角αや、光学シートによって設定される、当該画素から前記光学シートの表面の光の前記出射位置までの横方向の幅ｐ、に合わせて、当該画素から光学シートの表面の光の出射位置までの縦方向の高さｄを容易に算出することができ、このような高さｄとすることで良好な表示が可能となる。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、請求項２記載の表示装置において、前記幅ｐは、当該画素から前記周辺画素までの幅以下であることを特徴とする。
【００１１】
請求項３に記載の発明によれば、当該画素からの光が周辺画素上に位置する光学シートに達して正面方向に出射することがないので、当該画素の光によって周辺画素の光の色が打ち消されることをほぼ防止できる。
【００１２】
請求項４に記載の発明の表示装置は、複数の画素が間隔をあけてマトリクス状に配列され、前記複数の画素が光透過性材料で被覆されたフラットディスプレイパネルと、前記フラットディスプレイパネルの正面指向性を付与するために、前記光透過性材料の表面に配列された複数の所定形状の光学素子と、を備え、
前記複数の光学素子のピッチが前記複数の画素のピッチよりも小さい構成とする。
【００１３】
請求項４に記載の発明では、複数の光学画素のピッチが複数の画素のピッチより小さいため、一画素につき一以上の光学素子が相対する。そのため、それぞれの光学素子から出射する光は一画素から発したものとなる。従って、隣り合う画素間で混色が起きた表示画面を防止することができる。
【００１４】
請求項５に記載の発明の表示装置は、間隔をあけてマトリクス状に配列された画素と、前記複数の画素の領域を前記複数の画素に対応するようにマトリクス状の複数のセルに区画した網目状の隔壁と、前記隔壁によって区画された前記複数のセルに充填された光透過性材料と、を有したフラットディスプレイパネルと、
前記フラットディスプレイパネルの正面指向性を付与するために、前記光透過性材料及び前記隔壁の表面に配列された複数の所定形状の光学素子と、を備えた構成とする。
【００１５】
請求項５に記載の発明では、画素から発した光は隔壁によって遮蔽されることによって隣りの画素に対応したセルには入射しない。そのため、隣り合う画素間で混色が起きた表示画面を抑制することができる。
【００１６】
請求項６に記載の発明は、請求項４又は５に記載の表示装置において、前記複数の光学素子は、前記光透過性材料の表面に互いに平行となって配列された断面三角形状のプリズムである構成とする。
【００１７】
請求項６に記載の発明では、正面指向性がより向上する。
【００１８】
請求項７に記載の発明は、請求項１から６の何れか一項に記載の表示装置において、前記フラットディスプレイパネルは画素としてエレクトロルミネッセンス素子を用いたエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルである構成とする。
【００１９】
請求項７に記載の発明では、正面指向性があり且つ隣り合う画素間での混色のない表示を行うエレクトロルミネッセンス表示装置が提供される。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明を実施するための好適な形態について図面を用いて説明する。但し、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい種々の限定が付されているが、発明の範囲を以下の実施形態及び図示例に限定するものではない。また、以下の説明において、『平面視して』とは、『表示面に対して垂直な方向に向かって見て』という意味である。
【００２１】
図１は本発明が適用された表示装置１の分解斜視図である。図１に示すように、この表示装置１は、画素が列方向にｍ（２以上の自然数）個、行方向にｎ（ｎは２以上の自然数）個のマトリクス状に配列されてなるフラットディスプレイパネル２と、フラットディスプレイパネル２の表示光に正面指向性を付与するためにフラットディスプレイパネル２の光出射面（表示面）２ａに貼着された光学シート（プリズムシート）３と、を備える。
【００２２】
まず、図２を用いてフラットディスプレイパネル２について説明する。図２（ａ）は、マトリクス状に配列されている複数の画素のうち横方向に隣り合う三つの画素を示した平面図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）に示されたＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
【００２３】
このフラットディスプレイパネル２の画素には自発光素子としてのＥＬ素子１１を用いており、一つの画素を構成するＥＬ素子１１につき二つのトランジスタ２１，２１が設けられており、フラットディスプレイパネル２はアクティブマトリクス駆動方式によりドットマトリクス表示を行うものであり、トランジスタ２１，２１のいずれかに流れる電流の電流値により階調を制御する電流階調表示型でもよく、トランジスタ２１，２１のいずれかに印加される電圧の電圧値により階調を制御する電圧階調表示型でもよい。
【００２４】
このフラットディスプレイパネル２は基板１２を具備し、基板１２はホウケイ酸ガラス、石英ガラス、その他のガラス、ＰＭＭＡ、ポリカーボネート、その他の樹脂で平板状に形成されたものである。
【００２５】
基板１２の表面１２ａ上には、行方向に長尺となって帯状に形成された複数の走査線（図示略）が互いに平行になって配列されている。これら走査線は絶縁膜（図示略）によって被覆されており、この絶縁膜上には、走査線と直交するように列方向に長尺となって帯状に形成された複数の信号線が互いに平行となって配列されている。更に、トランジスタ２１，２１…は、基板１２の表面１２ａに形成されている。これらトランジスタ２１，２１，…はＭＯＳ型電界効果薄膜トランジスタである。一画素中の二つのトランジスタ２１，２１のうち一方のトランジスタ２１のゲート電極が走査線と接続されており、他方のトランジスタ２１のドレイン電極が信号線と共通となっている。トランジスタ２１，２１は逆スタガ構造でもコプラナ型でもよく、またｎチャネル型トランジスタでもｐチャネル型トランジスタであってもよく、アモルファスシリコンＴＦＴでもポリシリコンＴＦＴであってもよい。
【００２６】
二つのトランジスタ２１，２１は、データドライバ・走査ドライバから信号線及び走査線を介して信号を入力し、入力した信号に従ってＥＬ素子１１に流れる電流の電流値を次の周期まで保持することでＥＬ素子１１の発光輝度を一定に保持する画素回路を構成している。
【００２７】
全てのトランジスタ２１，２１，…は絶縁被覆膜１８によって被覆されている。絶縁被覆膜１８は基板１２のほぼ全面に成膜されており、基板１２の表面１２ａとトランジスタ２１，２１，…との間に生じた段差がこの絶縁被覆膜１８によって緩和され、絶縁被覆膜１８の表面はほぼ平坦な面となっている。この絶縁被覆膜１８は、有機樹脂（例えば、アクリル樹脂（メタクリル樹脂を含む）、エポキシ樹脂）或いは酸化シリコン、窒化シリコン等の無機化合物からなるものである。なお、トランジスタ２１，２１，…の光劣化を防止するために、例えばカーボンブラック等の顔料を混在させるようにして遮光性の絶縁被覆膜１８とすることが望ましい。
【００２８】
絶縁被覆膜１８上には、ＥＬ素子１１が形成されている。ＥＬ素子１１は、アノードとしての画素電極１６、電界発光を行うためのＥＬ層１５、カソードとしての共通電極１３の順に積層した積層構造となっている。このうち、画素電極１６及びＥＬ層１５はＥＬ素子１１ごとに独立して形成され、複数の画素電極１６及び複数のＥＬ層１５が平面視してマトリクス状となって配列されているが、共通電極１３は複数のＥＬ素子１１，１１，…に跨って共通して形成され平面視して基板１２のほぼ全面に形成されている。
【００２９】
画素電極１６は、金属、金属酸化物、合金等の導電性を有した材料で形成されており、比較的仕事関数の高いものである。画素電極１６としては、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛若しくは酸化スズ又はこれらのうちの少なくとも一つを含む混合物（例えば、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム、カドミウム−錫酸化物（ＣＴＯ））で形成されたものが挙げられる。
【００３０】
画素電極１６は、絶縁被覆膜１８に形成されたコンタクトホールを通じて一方のトランジスタ２１のソース電極に電気的に接続されている。
【００３１】
画素電極１６上には、ＥＬ層１５が形成されている。ＥＬ層１５は、発光材料で形成された層であって、画素電極１６から注入された正孔と共通電極１３から注入された電子を再結合させることによって発光する層である。なお、図１においてＥＬ素子１１に付されたＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）はＥＬ層１５で発する光の色を表している。
【００３２】
ＥＬ層１５には、電子輸送性の物質が適宜混合されていても良いし、正孔輸送性の物質が適宜混合されても良いし、電子輸送性の物質及び正孔輸送性の物質が適宜混合されていても良い。つまり、ＥＬ層１５は、画素電極１６から正孔輸送層、発光層、電子輸送層の順に積層した三層構造であっても良いし、正孔輸送層、発光層の順に積層した二層構造であっても良いし、発光層、電子輸送層の順に積層した二層構造であっても良いし、発光層からなる単層構造であっても良い、これらの層構造において適切な層間に電子或いは正孔の注入層が介在した多層構造であっても良い。また、ＥＬ層１５を構成した層全てが有機化合物からなるものであっても良いし、ＥＬ層１５を構成した層全てが無機化合物（例えば、硫化亜鉛）からなるものであっても良いし、ＥＬ層１５が無機化合物からなる層と有機化合物からなる層とを積層したものでも良い。なお、ＥＬ層１５を構成した層全てが無機化合物からなる場合には、ＥＬ素子１１が無機ＥＬ素子であり、ＥＬ層１５を構成した層に有機化合物からなる層がある場合には、ＥＬ素子１１が有機ＥＬ素子である。
【００３３】
ＥＬ層１５が低分子有機材料又は無機物からなる場合、蒸着法、スパッタリング法等の気相成長法によってＥＬ層１５を形成することができる。一方、ＥＬ層１５が高分子有機材料又は低分子有機材料からなる場合、有機化合物含有液を塗布すること（つまり、湿式塗布法）によってＥＬ層１５を形成することができる。有機化合物含有液とは、ＥＬ層１５を構成した有機化合物又はその前駆体を含有した液であり、ＥＬ層１５を構成した有機化合物又はその前駆体が溶質として溶媒に溶けた溶液であっても良いし、ＥＬ層１５を構成した有機化合物又はその前駆体が分散媒に分散した分散液であっても良い。
【００３４】
ここでは、ＥＬ層１５は、湿式塗布法により形成された層であって、導電性高分子であるＰＥＤＯＴ（ポリチオフェン）及びドーパントであるＰＳＳ（ポリスチレンスルホン酸）からなる正孔輸送層１５ａ、ポリフルオレン系発光材料からなる発光層１５ｂの順に積層した二層構造である。なお、ＥＬ層１５が湿式塗布法により形成される場合、液体に対してなじんで液体が４０°以下の接触角で濡れる性質（以下、「親液性」という。）を有した親液性膜を画素電極１６上に形成した状態で有機化合物含有液をその親液性膜に塗布するのが望ましい。
【００３５】
ＥＬ層１５の周囲には、ポリイミド等の感光性樹脂、酸化珪素、窒化珪素等から選択された絶縁膜１４が形成されている。平面視して、絶縁膜１４が網目状に形成されることで、絶縁膜１４によって囲繞された複数の囲繞領域がマトリクス状に配列され、囲繞領域内にＥＬ層１５が形成されている。絶縁膜１４の一部は画素電極１６の外縁の一部に重なっている。なお、ＥＬ層１５を湿式塗布法により形成する場合には、絶縁膜１４の表面に、液体をはじいて液体が５０°以上の接触角で濡れる性質（以下、「撥液性」という。）を有した撥液性膜（例えば、フッ素樹脂膜、反応性シリコン膜）が形成されていても良い。
【００３６】
ＥＬ層１５上には、共通電極１３が形成されている。共通電極１３は基板１２のほぼ全面に形成されている。共通電極１３は、ＥＬ層１５側から電子注入層１３ａ、補助電極１３ｂの順に積層した積層構造である。電子注入層１３ａは、光を透過する程度に非常に薄く形成されており、比較的仕事関数の低い材料（例えば、マグネシウム、カルシウム、リチウム、バリウム若しくは希土類からなる単体金属又はこれらの単体を少なくとも一種を含む合金）からなるものであり、その厚さは可視光波長域よりも薄く、１０〜２００ｎｍである。補助電極１３ｂは、可視光に対して透過性を有するとともに導電性を有し、例えば酸化インジウム、酸化亜鉛若しくは酸化スズ又はこれらのうちの少なくとも一つを含む混合物（例えば、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム、カドミウム−錫酸化物（ＣＴＯ））で形成されている。
【００３７】
共通電極１３は封止膜１７によって被覆されている。封止膜１７はＥＬ素子１１に水や酸素が浸入しないための遮蔽膜であり、封止膜１７の表面はほぼ平坦な面となっている。この封止膜１７は光を透過する性質を有し、透明な樹脂（例えば、アクリル樹脂（メタクリル樹脂も含む）、エポキシ樹脂）からなるものである。封止膜１７の表面１７ａが、図１におけるフラットディスプレイパネル２の光出射面２ａとなる。
【００３８】
次に、光学シート３について説明する。
光学シート３の表面には、光学素子である多数のマイクロプリズム３ａが形成されており、マイクロプリズム３ａの裏面には、両面が平滑なシート材３ｂが設けられている。マイクロプリズム３ａ及びシート材３ｂは屈折率がほぼ等しい方が望ましい。マイクロプリズム３ａ及びシート材３ｂのように複数に分割されていた光学シート３の場合、後述する『光学シート３の屈折率』は他に注釈がなければ、光学シート３内の光路となる複数の部材の屈折率を考慮してなされた値とする。光学シート３の厚さは、封止膜１７の厚さに比べて極めて薄いため、複数の部材の屈折率が多少異なっていても光路が大きく変わることはなく、その影響は小さい。どのマイクロプリズム３ａも、縦方向に長尺であり、その長手方向に直交する面で破断した断面形状、つまり、Ｂ−Ｂ線で破断した断面形状が三角形状、より好ましくは二等辺三角形状に形成されている。これら複数のマイクロプリズム３ａは長手方向が互いに平行となってほぼ等間隔に配列されている。どのマイクロプリズム３ａの稜角αも互いに等しい。
【００３９】
光学シート３は、光透過性の透明な光学接着剤４を介して封止膜１７の表面１７ａに接着されている。光学接着剤４としては、カナダバルサム、紫外線硬化性エポキシ系光学接着剤、紫外線硬化性アクリル系光学接着剤等があり、光学シート３の屈折率と封止膜１７の屈折率との間の屈折率が望ましい。光学接着剤４の厚さが厚いほどＥＬ素子１１の発光領域における隣接するＥＬ素子１１の光が混色する幅が広がり、光学接着剤４を透過する光の割合が減少するので、できるだけ薄い方が好ましい。
【００４０】
一例として、光学シート３のシート材３ｂは、ポリエステル（屈折率１．５８〜１．６８）又はポリエチレンテレフタレートからなり、マイクロプリズム３ａは、アクリル樹脂（屈折率１．４９〜１．５１）又は紫外線硬化樹脂からなる。マイクロプリズム３ａ及びシート材３ｂは同一材料で一体化して形成されていてもよく、光学シート３を封止膜１７の表面１７ａに接着する代わりに、多数のマイクロプリズム３ａをフォトリソグラフィー法によって封止膜１７の表面１７ａに直接形成しても良い。
【００４１】
このような光学シート３をフラットディスプレイパネル２の光出射面２ａに接着することによって、表示装置１の出射光の正面指向性が高くなり、表示装置１の表示画面に対して垂直に表示装置１を見た場合にはその表示画面が明るく見え、表示画面に対して所定の傾斜角をもって表示装置１を見た場合には表示画面が暗く見える。稜角αが７０度の光学シート３（商品名ｃｔｒａｆ    住友３Ｍ社製）では、光学シート３がない場合に比べて正面の輝度が１．１１倍に向上し、２０度、３０度での光束がそれぞれ１．１３倍、１．１３倍に向上した。稜角αが９０度の光学シート３（商品名ｂｅｆｈｐ    住友３Ｍ社製）では、光学シート３がない場合に比べて正面の輝度が１．１８倍に向上し、２０度、３０度での光束がそれぞれ１．２０倍、１．２０倍に向上した。稜角αが９５度の光学シート３（商品名ｈ２１０  三菱レーヨン社製）では、光学シート３がない場合に比べて正面の輝度が１．２４倍に向上し、２０度、３０度での光束がそれぞれ１．２７倍、１．２６倍に向上した。稜角αが１００度の光学シート３（商品名ｂｅｆ１００  住友３Ｍ社製）では、光学シート３がない場合に比べて正面の輝度が１．３０倍に向上し、２０度、３０度での光束がそれぞれ１．３０倍、１．２８倍に向上した。稜角αが１１０度の光学シート３（商品名ｐｖ７    大日本印刷社製）では、光学シート３がない場合に比べて正面の輝度が１．２４倍に向上し、２０度、３０度での光束がそれぞれ１．２８倍、１．２７倍に向上した。このように、マイクロプリズム３ａの稜角αが７０〜１１０°の場合には、出射光の正面指向性がより高くなり、稜角αが１００°の場合には、出射光の正面での指向性が最も高い結果となった。比較例として稜角αが１０度の光学シート３では、光学シート３がない場合に比べて正面の輝度が０．９７倍となり、２０度、３０度での光束がそれぞれ０．９８倍、０．９９倍であった。
また、光学シート３の再帰反射効果により、光学シート３から外部への光の取出効率が向上する。
【００４２】
ところが、光学シート３を設けると、光学シート３の表面の或る一点からは隣り合う幾つかのＥＬ素子１１から発した光が出射することがある。そのため、ユーザにとっては隣り合う画素間で混色の起きた表示画面に見えてしまうことがある。封止膜１７として屈折率１．５２、厚さ７００μｍのガラス基板を用い、光学接着剤４の屈折率を１．５２に設定し、屈折率１．５８、厚さ１２５μｍのシート材３ｂ、屈折率１．５１、頂点の高さが５０μｍのマイクロプリズム３ａの場合、１０００μｍで混色領域の幅が４００μｍ程度、１５００μｍで混色領域の幅が６００μｍ近くに達していた。
【００４３】
そこで、本実施形態では、マイクロプリズム３ａのピッチａ（例えば隣接するマイクロプリズム３ａの稜角を定義する頂点間の距離）が画素（ＥＬ素子１１）のピッチｂ以下となるように、マイクロプリズム３ａのピッチａ及び画素のピッチｂを設定している。つまり、一つの画素につき一つ以上のマイクロプリズム３ａが相対している。これは、図３（ａ）に示すようにマイクロプリズム３ａのピッチａが画素のピッチｂより大きくなると、一つのマイクロプリズム３ａからは隣り合うＥＬ素子１１から発した光が出射するが、図３（ｂ）に示すようにマイクロプリズム３ａのピッチａが画素のピッチｂ以下となると隣のＥＬ素子１１から出射する光が減り、一つのマイクロプリズム３ａからは一つのＥＬ素子１１から発した光が出射するようになるためである。従って、隣り合う画素間で混色の起きた表示画面を低減することができる。ここで、ピッチｂは、横方向における画素の幅と、横方向に隣り合う画素の間にある非発光領域の幅との和である。
【００４４】
なお、マイクロプリズム３ａの代わりに、断面半円状のシリンドリカルレンズが形成されていても良い。断面半円状のシリンドリカルレンズが形成されている場合であっても、シリンドリカルレンズのピッチａが画素のピッチｂより小さくすると、正面指向性が高く且つ混色のない表示画面となる。
【００４５】
また、光学シート３に断面三角形状のマイクロプリズム３ａが形成されている場合、ある画素のＥＬ層１５の発する光が当該画素上以外で光学シート３の外側表面から正面方向に出射される位置における当該画素（ＥＬ素子１１）から当該出射位置までの縦方向の高さｄ（つまり、当該出射位置におけるマイクロプリズム３ａの膜厚と封止膜１７の膜厚と光学接着剤４の膜厚の和）と、当該ある画素から当該出射位置までの横方向の幅ｐと、マイクロプリズム３ａの屈折率ｎと稜角αとの関係は、次式（１）のようになっている。
【数３】
2005017911.tif 000004
【００４６】
式（１）を満たし、幅ｐが互いに隣接する画素間の幅に設定することによって、絶縁膜１４に対応する領域のみで隣り合うＥＬ素子１１から出射した光が混合してマイクロプリズム３ａの表面から出射し、ＥＬ素子１１に対応する領域では隣りのＥＬ素子１１から発した光がマイクロプリズム３ａの表面から出射しない。従って、混色の起きた表示画面を低減することができる。
【００４７】
ここで、式（１）について図４を用いて説明する。なお、以下の説明において角度の単位は、ラジアン値で表している。
ＥＬ素子１１からマイクロプリズム３ａの外側表面に到達する際の光の入射角をθ１とし、その光がマイクロプリズム３ａの界面から出射する出射角をθ２とし、マイクロプリズム３ａの屈折率をｎとすると、スネルの法則より次式（２）が成立する。ここではマイクロプリズム３ａの表面に接している空気の屈折率を１としている。
【数４】
2005017911.tif 000005
【００４８】
マイクロプリズム３ａが二等辺三角形状の断面形状であるため、底角βと稜角αとの関係は、次式（３）が成立する。
【数５】
2005017911.tif 000006
【００４９】
そして、マイクロプリズム３ａから出射した光が表示画面に対して垂直となるためには、次式（４）が成立する。
【数６】
2005017911.tif 000007
【００５０】
式（２）〜式（４）より、次式（５）が成立する。
【数７】
2005017911.tif 000008
【００５１】
ＥＬ素子１１の端から出射した光が隣りのＥＬ素子１１の端に対応するマイクロプリズム３ａの表面において角度θ２で出射するためには、式（６）、式（７）が成立する。但し、光学シート３の膜厚が厚さｄよりも十分に小さいものとする。
【数８】
2005017911.tif 000009
【数９】
2005017911.tif 000010
【００５２】
式（５）〜式（７）より次式（８）が成立する。
【数１０】
2005017911.tif 000011
【００５３】
このように、ある画素のＥＬ層１５の発する光が当該画素上以外で光学シート３の外側表面から正面方向に出射される位置における当該画素から光学シート３の外側出射面までの縦方向の高さｄ（つまり、当該出射位置におけるマイクロプリズム３ａの膜厚と封止膜１７の膜厚と光学接着剤４の膜厚の和）を、当該画素から当該出射位置まで横方向の幅ｐで割った値は、光学シート３の屈折率ｎ、稜角αにより一義的に決まる。また、どのような光学シート３を採用するかによって屈折率ｎ、稜角αが決まる。すなわち、幅ｐをパネルの設計に基づき設定し、光学シート３の屈折率ｎ、稜角αが決まると、ある画素のＥＬ層１５の発する光が当該画素上以外で光学シート３の外側表面から正面方向に出射される位置におけるＥＬ素子１１から光学シート３の外側表面までの高さｄが自動的に算出することができる。
【００５４】
高さｄは、光学接着剤４の厚さ及び封止膜１７の厚さの和である高さｄ１と画素から幅ｐだけずれた位置の光学シート３の高さｄ２との和になる。ここで光学シート３の高さｄ２は、適用する光学シート３の構造が予め決まっていれば、光学シート３とフラットディスプレイパネル２との相対的位置により自動的に算出できる。したがって、式（８）を満たすように高さｄ１、つまり光学接着剤４の厚さ及び封止膜１７の厚さの少なくともいずれか一方の厚さを制御することで画素の混色を抑制することができる。
【００５５】
例えば、画素上に混色部分を全く設けないように設計するためには、横方向に隣り合う画素の間にある非発光領域の幅を、光学シート３から外部に出射される光の画素端部までの幅ｐ以上にすればよい。
【００５６】
また表示特性を著しく劣化しないのであれば、画素上の混色面積の割合が多少あってもよく、つまり、幅ｐが横方向に隣り合う画素間の距離より長くてもよい。例えば１μｍ厚の酸化シリコン、酸化亜鉛等の封止膜１７及び２０μｍの高さの光学シート３を用いると、１２８行、１６０列のＲＧＢストライプ配列の２インチ角のフラットディスプレイパネル２では、フラットディスプレイパネル２のパネル面積に対するＥＬ画素の発光面積の割合が２０％、６０％の場合の画素の横方向の混色領域の幅はそれぞれ６７μｍ以下、３４μｍ以下となり、３２０行、２４０列のＲＧＢストライプ配列の２インチ角のフラットディスプレイパネル２では、フラットディスプレイパネル２のパネル面積に対するＥＬ画素の発光面積の割合が２０％、６０％の場合の画素の横方向の混色領域の幅はそれぞれ２７μｍ以下、１３μｍ以下となり、１３６５行、７６８列のＲＧＢストライプ配列の３７インチ角のフラットディスプレイパネル２では、フラットディスプレイパネル２のパネル面積に対するＥＬ画素の発光面積の割合が２０％、６０％の場合の画素の横方向の混色領域の幅はそれぞれ１６０μｍ以下、８０μｍ以下となる。色純度の観点から、ある発光する画素の色が横方向に隣接する画素上を混色するときの混色幅は、隣接画素の横方向の幅の２０％以内であることが望ましい。
【００５７】
〔変形例１〕
以下、図５を用いて変形例１について説明する。
変形例１の表示装置では、封止膜１７が隔壁５によって区画されている。つまり、共通電極１３上には絶縁膜１４に対応するように平面視して網目状に形成された隔壁５が形成されている。平面視して、隔壁５が網目状に形成されることで、隔壁５によって囲繞された複数のセルがマトリクス状に配列されている。また、平面視して、それぞれのセル内にＥＬ層１５が配置されている。封止膜１７は、隔壁５による各セル内に充填されている。隔壁５の膜厚は封止膜１７の膜厚と同じであり、封止膜１７及び隔壁５により形成された平坦な表面２ａに光学シート３が光学接着剤４を介して接着されている。隔壁はＥＬ層１５が発する光に対して遮光性を示すものが好ましく、反射性を示すものが最も好ましい。この変形例１の表示装置は、以上のことを除いては、図２に示された表示装置１と同様の構成をしている。
【００５８】
ＥＬ素子１１から発した光は隔壁５によって遮蔽されることによって隣りのＥＬ素子１１に対応する領域から出射しない。従って、混色の起きた表示画面を低減することができる。ここで、隔壁５がアルミ等の金属又は合金で形成されていても良いし、隔壁５のフレームの表面にアルミ等の金属又は合金の膜が形成されていても良い。これにより、隔壁５が高反射率のミラー状となり、ＥＬ素子１１から発した光が隔壁５によって反射することによって、光学シート３から外部への光の取出効率が向上する。
【００５９】
〔変形例２〕
以下、図６を用いて変形例２について説明する。
変形例１の表示装置ではフラットディスプレイパネル２の表面２ａに光学シート３を接着していたが、変形例２の表示装置では図６に示すように多数のマイクロプリズム３ａをフォトリソグラフィー法によってフラットディスプレイパネル２の表面２ａに直接形成している。ここでは隣り合うマイクロプリズム３ａの間には間隔があり、その間隔は横に隣り合う画素の間の非発光領域の幅と同じである。また、画素の縦一列につき一つのマイクロプリズム３ａが相対して配置されている。この変形例２の表示装置は、以上のことを除いては、図５に示された変形例１の表示装置と同様の構成をしている。
【００６０】
〔変形例３〕
以下、図７を用いて変形例３について説明する。
変形例１の表示装置では、光学シート３の隣り合うマイクロプリズム３ａの間には間隔がなく、マイクロプリズム３ａの一方の斜面は隣りのマイクロプリズム３ａの他方の斜面と交差している。それに対して変形例３の表示装置では、図７に示すように光学シート３の隣り合うマイクロプリズム３ａの間には間隔があり、隣り合うマイクロプリズム３ａの間には光学シート３の裏面と略平行となる底面３ｂが形成されており、マイクロプリズム３ａの一方の斜面は底面３ｂと交差しており、隣りのマイクロプリズム３ａの他方の斜面が底面３ｂと交差している。また、画素の縦一列につき一つのマイクロプリズム３ａが相対して配置されており、底面３ｂが隔壁５に相対している。この変形例３の表示装置は、以上のことを除いては、図５に示された変形例１の表示装置と同様の構成をしている。
【００６１】
〔変形例４〕
以下、図８を用いて変形例４について説明する。
図２に示された表示装置１では、フラットディスプレイパネル２が、封止膜１７側から外部に光出射するいわゆるトップエミッション型のパネルであった。それに対して、変形例４の表示装置では、フラットディスプレイパネル２が、基板１２側から外部に光出射するいわゆるボトムエミッション型のパネルである。つまり、図８に示すように、基板１２はガラス等からなる透明基板であり、この基板１２上にマトリクス状に配列された画素電極１６もＩＴＯ等からなる透明電極である。絶縁被覆膜１８は形成されておらず、トランジスタ２１は絶縁膜１４によって被覆されている。また、電子注入層１３ａは、光を透過する程の薄膜に形成されている必要はなく、更に、補助電極１３ｂも金属、金属酸化物、合金等のような導電性材料で形成されていれば、特に透明である必要はない。
【００６２】
変形例４の表示装置では、フラットディスプレイパネル２の光出射面２ａが基板１２の裏面１２ｂであるため、光学シート３が透明な光学接着剤４を介して基板１２の裏面１２ｂに接着されている。
【００６３】
この変形例４の表示装置は、以上のことを除いては、図２に示された表示装置１と同様の構成をしている。つまり、マイクロプリズム３ａのピッチａが画素（ＥＬ素子１１）のピッチｂ以下となるように、マイクロプリズム３ａのピッチａ及び画素のピッチｂを設定している。その上、適用する光学シート３が決まれば、つまり、光学シート３の屈折率ｎと稜角αとが決まれば、予め設定されている、横方向に隣り合う画素の間にある非発光領域の幅ｅを、上述の式（８）の幅ｐとして代入することで、ある画素のＥＬ層１５の発する光が光学シート３の外側表面から出射される位置が横方向に隣り合う画素に重ならないために要するＥＬ素子１１からの高さｄが自動的に算出される。また、ある画素から幅ｅだけずれた位置の光学シート３の高さｄ２は、光学シート３とフラットディスプレイパネル２との相対的位置が決まれば、自動的に算出できるので、式（８）を満たすように光学接着剤４の厚さと基板１２の厚さの和である高さｄ１、つまり光学接着剤４の厚さ及び基板１２の厚さの少なくともいずれか一方の厚さを制御することで混色を防止することができる。
このように画素上に混色部分を全く設けないように設計するためには、横方向に隣り合う画素の間にある非発光領域の幅ｅを、光学シート３から外部に出射される光の画素端部までの幅ｐとし、ピッチｂを、横方向における画素の幅と幅ｐとの和にすればよい。
【００６４】
また表示特性を著しく劣化しないのであれば、画素上の混色面積の割合が多少あってもよく、つまり、式（８）の幅ｐが横方向に隣り合う画素間の幅ｅより長くしてもよい。画素の度の観点から、ある発光する画素の色が横方向に隣接する画素上を混色するときの混色幅は、隣接画素の横方向の幅の２０％以内であることが望ましい。
【００６５】
〔変形例５〕
以下、図９を用いて変形例５について説明する。
図２に示された表示装置１では、フラットディスプレイパネル２がＥＬディスプレイパネルであったが、変形例５の表示装置では、図９に示すようにフラットディスプレイパネル２が交流電圧駆動型のプラズマディスプレイパネルである。
【００６６】
このフラットディスプレイパネル２は、所定間隔をあけて対向配置された前面基板１０１，背面基板１０２を具備し、背面基板１０２の前面基板１０１側の面には、複数のアドレス電極１０３が形成されている。これらアドレス電極１０３は帯状に形成されており、所定間隔をあけて互いに平行に配列されている。
【００６７】
背面基板１０２のアドレス電極１０３が形成された面全体に絶縁体（誘電体）層１０４が形成されており、これらアドレス電極１０３はまとめて絶縁体層１０４によって覆われている。絶縁体層１０４の表面には複数の隔壁１０５が立設されている。これら隔壁１０５はアドレス電極１０３と平行となるようにアドレス電極１０３の間に配置されており、基板１０１，１０２間の空間を区画し、ストライプ状の放電セル１０６を形成している。隔壁１０５は絶縁体から形成されている。
【００６８】
放電セル１０６に面する絶縁体層１０４から隔壁１０５の側面にかけて、紫外線によって発光する蛍光体層１０７が形成されている。蛍光体層１０７に付したＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）は発光する色を表しており、蛍光体層１０７はＲ、Ｇ、Ｂの順に規則正しく配列されている。
【００６９】
前面基板１０１はガラス等の透明な材料で形成されている。前面基板１０１の背面基板１０２に向いた面には、複数の表示電極１０８がアドレス電極１０３と直交するように帯状に形成されている。各表示電極１０１は、クロム等バス電極とＩＴＯ等からなる透明電極を対に形成したものである。
【００７０】
前面基板１０１の表示電極１０８が形成された面全体に透明な絶縁体層１１０が形成されており、これら表示電極１０８はまとめて絶縁体層１１０によって覆われている。更に、絶縁体層１１０が薄膜の保護層によって全体的に覆われていても良い。
【００７１】
前面基板１０１の表示電極１０８が形成された面が、背面基板１０２のアドレス電極１０３が形成された面に隔壁１０５を挟んだ状態で貼り合わせられており、隔壁１０５、前面基板１０１及び背面基板１０２によって囲まれた放電セル１０６が形成される。放電セル１０６には、キセノンとネオンの混合ガスが封入されている。
【００７２】
表示電極１０８は隣りの二本で一組の電極対１０９に組み分けられており、これら電極対１０９と複数のアドレス電極１０３は平面視して直交している。ここで、平面視して電極対１０９とアドレス電極１０３との交差部がマトリクス状に配列されており、一つの交差部が一画素となる。アドレス電極１０３と電極対１０９との交差部で選択的に放電させると、放電により蛍光体層１０５が励起して可視光が発する。発した可視光は、絶縁体層１１０、画素電極１０８、前面基板１０１を透過し、前面基板１０１の表示電極１０８が形成されている面の反対面から出射する。従って、フラットディスプレイパネル２の光出射面２ａは、前面基板１０１の表示電極１０８が形成されている面の反対面である。なお、所定輝度を維持するために電極対１０９のうち一方の表示電極１０８と他方の表示電極１０８との間に交流電圧が印加される。
【００７３】
ここで、図２に示された表示装置１の場合と同様に、前面基板１０１の表示電極１０８が形成されている面の反対面には、透明な光学接着剤４を介して光学シート３が接着されている。光学シート３は、図２に示された表示装置１に備わった光学シート３と同様である。つまり、マイクロプリズム３ａのピッチａが画素のピッチｂ（隔壁１０５の間隔ｂ）以下となるように、マイクロプリズム３ａのピッチａ及び画素のピッチｂが設定されている。その上、ある画素の蛍光体層１０７が発する光が当該画素上以外で光学シート３の外側表面から正面方向に出射される位置における当該画素から光学シート３の外側出射面までの縦方向の高さｄと、当該ある画素から当該位置までの横方向の幅ｐ（画素上に隣の画素の光を混色しない場合は隔壁１０５の幅ｐ）と、マイクロプリズム３ａの屈折率ｎとマイクロプリズム３ａの稜角αとの関係は、上述した式（１）のようになっている。
【００７４】
〔変形例６〕
以下、図１０を用いて変形例６について説明する。
図２に示された表示装置１では、フラットディスプレイパネル２がＥＬディスプレイパネルであったが、変形例６の表示装置では、図１０に示すようにフラットディスプレイパネル２がアクティブマトリクス駆動方式の透過型液晶ディスプレイパネルである。
【００７５】
このフラットディスプレイパネル２は、所定間隔をあけて対向配置された前面基板２０１、背面基板２０２を具備し、これら基板２０１，２０２はともにガラス等の透明な材料で形成されている。背面基板２０２の前面基板２０１側の面には、複数の走査線２０３が形成されている。これら走査線２０３は所定間隔をあけて互いに平行に配列されている。また、背面基板２０２の走査線２０３が形成されている面には、複数の信号線２０４が形成されている。これら信号線２０３は、平面視して走査線２０３に直交するように所定間隔をあけて互いに平行に配列されている。なお、平面視して走査線２０３と信号線２０４が交差する箇所では、走査線２０３が信号線２０４に対して絶縁されている。
【００７６】
走査線２０３と信号線２０４との交差部には、ＭＯＳ型電界効果型の薄膜トランジスタ２０５が形成されている。また、背面基板２０２の走査線２０３が形成された面には、ＩＴＯ等からなる透明な複数の画素電極２０６が形成されている。これら画素電極２０６は、平面視してマトリクス状に配列されており、一つの画素電極２０６が一画素となる。
【００７７】
背面基板２０２の画素電極２０６が形成された面の反対面には、偏光板２０７が対向配置されており、偏光板２０７を挟んでバックライト（図示略）が対向配置されている。
【００７８】
前面基板２０１の背面基板２０２側の面にはカラーフィルタ２０８が設けられており、カラーフィルタ２０８の表面全体には共通電極２０９が形成されている。カラーフィルタ２０３は、赤の光を透過する領域、青の光を透過する領域、緑の光を透過する領域が画素電極２０６と対応するように規則正しく配列したものである。共通電極２０９は、ＩＴＯ等の透明な導電性材料から形成されている。前面基板２０１の共通電極２０９が形成された面の反対面には偏光板２１０が設けられている。
【００７９】
前面基板２０１の共通電極２０９が形成された面が、背面基板２０２の画素電極２０６が形成された面にスペーサ（図示略）を挟んだ状態で貼り合わせられている。前面基板２０１と背面基板２０２との間に液晶２１１が挟持されている。走査線２０３と信号線２０４との交差部にある薄膜トランジスタ２０５をオンさせると、その薄膜トランジスタ２０５に接続された画素電極２０５と共通電極２０９との間において液晶２１１の配向性が変化して、バックライトから発した光が偏光板２１０から出射する。従って、フラットディスプレイ２の光出射面２ａは、偏光板２１０の表面である。
【００８０】
ここで、図２に示された表示装置１の場合と同様に、偏光板２１０の表面には、透明な光学接着剤を介して光学シート３が接着されている。この光学シート３は、図２に示された表示装置１に備わった光学シート３と同様である。つまり、つまり、マイクロプリズム３ａのピッチａが画素（画素電極２０６）のピッチｂ以下となるように、マイクロプリズム３ａのピッチａ及び画素のピッチｂが設定されている。その上、ある画素が透過する光が当該画素上以外で光学シート３の外側表面から正面方向に出射される位置における当該画素から光学シート３の出射位置までの縦方向の高さｄ（つまり、前面基板２０１の厚と偏光板２１０と光学接着剤４の膜厚と当該位置での光学シート３の厚さの和）と、当該画素から当該出射位置までの横方向の幅ｐと、マイクロプリズム３ａの屈折率ｎ、稜角αとの関係は、式（１）のようになっている。
【００８１】
なお、変形例１〜７の何れの表示装置おいても、マイクロプリズム３ａの代わりに、断面半円状のシリンドリカルレンズが形成されていても良いが、この場合には式（１）を満たしている必要はない。また、フラットディスプレイパネル２は、ＥＬディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネル、液晶ディスプレイパネルの何れかとしたが、フィールドエミッションディスプレイパネルであっても良い。
【００８２】
【実施例】
以下、実施例を挙げて、本発明について説明する。
図２に示すような表示装置１において、光学シート３とくにマイクロプリズム３ａの屈折率ｎが１．６５、又は１．５０である場合について、式（１）に基づくｄ／ｐと稜角αとの関係をグラフに示したものが図１１である。光学シート３の屈折率ｎが１．６５であり且つ稜角αが９０°である場合、図１１からｄ／ｐは２．８となる。ｐ＝３５７μｍとした場合、ｄ＝１０００μｍとなり、適用する光学シート３と配置により高さｄ２が決まるので式（１）を満たすようにするために高さｄ２を設定する。
【００８３】
また、光学シート３の屈折率ｎ＝１．５１〜１．５８、稜角α＝９０°、ピッチａ＝５０μｍ、山までの高さ１７５μｍ、谷間での高さ１２５μｍ、として、封止膜１７の厚さ７００μｍ、屈折率１．５２と設定し、屈折率が１．５２の光学接着剤４の厚さｋを変化させて、ある画素のＥＬ層１５の発する光が当該画素上以外で光学シート３の外側表面から正面方向に出射される位置における当該画素から当該出射位置までの縦方向の高さｄを変調させた場合に、当該ある画素から当該出射位置までの横方向の幅ｐを実験により測定した。その結果を図１２に示す。図１２から、ｋと幅ｐとの関係は、おおよそｋ＝２．７ｐとなる。これは、式（８）の厚さｋと封止膜１７の厚さの和ｄとｐとの関係におおよそ適合し、幅ｐを画素間の非発光領域の幅ｅとすれば、隣り合う画素間で混色の起きた表示画面とならないことがわかる。
【００８４】
【発明の効果】
本発明によれば、隣り合う画素間で混色の起きた表示画面が発生することを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明が適用された表示装置の分解斜視図である。
【図２】（ａ）は図１に示された表示装置の平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
【図３】本実施形態の作用を説明するための図面である。
【図４】式（１）を説明するための図面である。
【図５】（ａ）は図２に示された表示装置とは別の表示装置の平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
【図６】（ａ）は図２、図５に示された表示装置とは別の表示装置の平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
【図７】（ａ）は図２、図５、図６に示された表示装置とは別の表示装置の平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。
【図８】図２、図５、図６、図７に示された表示装置とは別の表示装置の断面図である。
【図９】図２、図５、図６、図７、図８に示された表示装置とは別の表示装置の斜視図である。
【図１０】図２、図５、図６、図７、図８、図９に示された表示装置とは別の表示装置の斜視図である。
【図１１】プリズムの稜角αと、ｄ／ｐとの関係を示したグラフである。
【図１２】光学接着剤の厚さｋと、幅ｐとの関係を示したグラフである。
【符号の説明】
１  …  表示装置
２  …  フラットディスプレイパネル
３  …  光学シート
３ａ  …  プリズム（光学素子）
４  …  光学接着剤（光透過性材料）
５  …  隔壁
１１  …  ＥＬ素子
１３、２０９  …  共通電極
１５  …  ＥＬ層
１６、２０６  …  画素電極
１７  …  封止膜（光透過性材料）
１０１、２０１  …  前面基板（光透過性材料）
１０３  …  アドレス電極
１０８  …  表示電極
１０９  …  電極対
２１０  …  偏光板（光透過性材料）
【図１】
2005017911.tif 000013
【図２】
2005017911.tif 000014
【図３】
2005017911.tif 000015
【図４】
2005017911.tif 000016
【図５】
2005017911.tif 000017
【図６】
2005017911.tif 000018
【図７】
2005017911.tif 000019
【図８】
2005017911.tif 000020
【図９】
2005017911.tif 000021
【図１０】
2005017911.tif 000022
【図１１】
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【図１２】
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