(57)【要約】【課題】  偽造防止性が高く、印字記録された内容の改竄を確実に防止することができ、製造コストが高くつかず、実用性の高い印字記録媒体を提供することを目的とする。【解決手段】  印字記録媒体１は、放電破壊印字層４と光学可変層３の積層された構成において、該放電破壊印字層３が印字記録により破壊、除去されて、印字部分５だけの箇所で、下地に位置する光学可変層３が露出して見える状態になる。そして、前記の光学可変層３と放電破壊印字層４とがこの順序で、基材２上の少なくとも一部分に積層されてなる構成が好ましく、偽造防止性が非常に高く、印字記録された内容の改竄が非常に困難となり、また光学可変層３と放電破壊印字層４とを基材２上に全面ではなく、部分的に設けることで、製造コストを抑えることができ、実用性の高い印字記録媒体１を得ることができた。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電破壊印字層と光学可変層の積層された印字記録媒体において、該放電破壊印字層が印字記録により破壊、除去されて、印字部分だけの箇所で、下地に位置する光学可変層が露出して見える状態になることを特徴とする印字記録媒体。
【請求項２】
前記の光学可変層と放電破壊印字層とがこの順序で、これらの層の少なくとも１層が基材上の少なくとも一部分に積層されてなることを特徴とする請求項１に記載の印字記録媒体。
【請求項３】
前記の基材と光学可変層との間に粘着層が設けられていることを特徴とする請求項２に記載の印字記録媒体。
【請求項４】
前記の放電破壊印字の上に、保護層が積層されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一つに記載の印字記録媒体。
【請求項５】
前記の光学可変層の下に、隠蔽層が設けられていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一つに記載の印字記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偽造防止性が高く、印字記録された内容の改竄を確実に防止することができ、製造コストが高くつくことがなく、実用性の高い印字記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
記録媒体として、プラスチック等の基材表面に磁気記録層が設けられ、磁気ヘッド等により、該磁気記録層に磁気情報を記録する磁気記録媒体、また基材上に電子供与性の通常無色ないし淡色の染料前駆体（ロイコ染料）と、電子受容性の顕色剤とを主成分とする感熱記録層を設け、熱ヘッド、レーザー光等で加熱により、染料前駆体と顕色剤とが瞬時に反応し、発色した記録画像が得られる感熱記録媒体、さらに、記録ピンによって記録情報に応じた放電を生じさせて、放電破壊印字記録層に放電破壊部位を形成することによって情報記録を行う放電破壊記録媒体等が知られている。
【０００３】
例えば、特許文献１、２に示すように、磁気記録媒体において記録された情報を目視確認するために、媒体に感熱記録や放電破壊記録等の記録を併用して形成することが行われている。感熱記録や放電破壊記録等の記録方法は、簡便かつ広く普及している方法であるが、これに偽造防止性を付与するための技術としては、例えば、特許文献３がある。これは、反射型レリーフホログラム層を構成する反射層が放電破壊印字層を兼ねることを特徴とする情報記録媒体であり、偽造が難しい反射型レリーフホログラムの金属反射層を破壊することによって印字を行なうことで偽造防止性を高めている。しかし、この場合では、印字記録エリア全面に反射型レリーフホログラムを用いることは、製造上のコストが高くついてしまい、問題がある。
【０００４】
記録媒体における偽造防止性を向上させるために、上記のように種々提案されているが、実用性が高いものとして、満足するものは未だ見い出されていないのが、現状である。
【特許文献１】特開昭５９−１９９２８４号公報
【特許文献２】特開平７−５２５４６号公報
【特許文献３】特開平５−１６２４８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
したがって、上記のような課題を解決するために、本発明は、偽造防止性が高く、印字記録された内容の改竄を確実に防止することができ、製造コストが高くつくことがなく、実用性の高い印字記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に記載の発明は、放電破壊印字層と光学可変層の積層された印字記録媒体において、該放電破壊印字層が印字記録により破壊、除去されて、印字部分だけの箇所で、下地に位置する光学可変層が露出して見える状態になることを特徴とする。請求項２の発明は、請求項１に記載の光学可変層と放電破壊印字層とがこの順序で、これらの層の少なくとも１層が基材上の少なくとも一部分に積層されてなることを特徴とする。
【０００７】
請求項３は、請求項２に記載の基材と光学可変層との間に粘着層が設けられていることを特徴とする。請求項４は、請求項１〜３のいずれか一つに記載の放電破壊印字の上に、保護層が積層されていることを特徴とする。請求項５は、請求項１〜４のいずれか一つに記載の光学可変層の下に、隠蔽層が設けられていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の印字記録媒体は、放電破壊印字層と光学可変層の積層された構成において、該放電破壊印字層が印字記録により破壊、除去されて、印字部分だけの箇所で、下地に位置する光学可変層が露出して見える状態になる。そして、前記の光学可変層と放電破壊印字層とがこの順序で、基材上の少なくとも一部分に積層されてなる構成が好ましく、偽造防止性が非常に高く、印字記録された内容の改竄が非常に困難となり、また光学可変層と放電破壊印字層とを基材上に全面ではなく、部分的に設けることで、製造コストを抑えることができ、実用性の高い印字記録媒体を得ることができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
図１（ａ）は、本発明の印字記録媒体１の一つの実施形態を示す概略図であり、基材２上に、光学可変層３と放電破壊印字層４とがこの順序で、積層されたもので、光学可変層３と放電破壊印字層４は同等の大きさのもので、基材２表面の全面の大きさに対して、光学可変層３と放電破壊印字層４は両方とも小さく、基材２上の一部分に積層されたものである。また、図１（ｂ）は、本発明の印字記録媒体１の別の実施形態を示す概略図であり、基材２上に、光学可変層３と放電破壊印字層４とがこの順序で、積層され、光学可変層３の大きさの方が放電破壊印字層４の大きさよりも大きく、光学可変層３上の一部分に放電破壊印字層４が積層されている。また、光学可変層３は、基材２上の一部分に積層されている。
【００１０】
また図１（ｃ）は、本発明の印字記録媒体１の別の実施形態を示す概略図であり、基材２上に、光学可変層３と放電破壊印字層４とがこの順序で、積層され、光学可変層３の大きさが放電破壊印字層４の大きさよりも小さく、光学可変層３全体を覆う形態で放電破壊印字層４が積層されている。また、放電破壊印字層４は、基材２上の全面ではなく、基材２表面の一部分に積層されている。
【００１１】
図１に示した印字記録媒体１は、基材２表面の大きさに対して、光学可変層３と放電破壊印字層４の各々の大きさの関係は異なるが、全て印字記録前の状態を示すものである。それに対して、図２は本発明の印字記録媒体１の印字記録前と印字記録後の双方の状態を示す概略図である。印字記録前では、印字記録媒体１は基材２上の一部分に、放電破壊印字層４と光学可変層３が積層され、放電破壊印字層４と光学可変層３ともに均一な膜として形成されている。それに対し、印字記録後は、記録された部分５が放電破壊部位として、その放電破壊印字層４が破壊、除去されて、表面から見ると、光学可変層３が露出して見える状態になる。
【００１２】
図２に示した印字記録媒体１は、印字記録前では光学可変層３が隠蔽されて全く見えない状態であるが、印字記録後では光学可変層３が、放電破壊の部位として印字された部分だけの箇所５で、下地に位置していた光学可変層３が露出してきて、見える状態になる。その露出された記録部分５が可変のパターンを有しており、偽造防止性が高く、印字記録された部分の改竄が非常に困難なものとなる。
【００１３】
尚、図１（ｂ）に示した印字記録媒体では、印字記録前から光学可変層３が部分的に見える状態であり、放電破壊印字層４の下に位置する光学可変層３は、印字記録後に記録された部分において、見える状態として加わることになる。また、図１（ｃ）に示した印字記録媒体において、印字記録を行った場合、その印字記録部分５が放電破壊印字層４の下に光学可変層３が位置する真上の場合は、放電破壊印字層４が破壊、除去されて、印字部分の箇所で、下地に位置する光学可変層３が露出して見える状態になる。また、印字記録部分５が放電破壊印字層４の下に光学可変層３が無く、基材２が位置する場合は、放電破壊印字層４が破壊、除去されて、印字部分５の箇所で、下地に位置する基材２が露出して見える状態になる。
【００１４】
図３は、本発明の印字記録媒体１の別の実施形態を示す概略図であり、基材２上に、粘着層８、隠蔽層６、光学可変層３、放電破壊印字層４、保護層７がこの順序で積層されたものであり、粘着層８、隠蔽層６、光学可変層３、放電破壊印字層４、保護層７からなる部分は、いわゆる印字ラベル９として任意の物品としての基材２に粘着層８を利用して、貼付することができる。本発明の印字記録媒体を構成する各層について、以下に詳細に説明する。
【００１５】
（基材）
本発明の印字記録媒体は、放電破壊印字層と光学可変層の積層された構成であるが、その放電破壊印字層と光学可変層を支持する基材２とともに使用することが好ましい。この基材２はシート状、フィルム状あるいは板状の材質からなり、材料としては特に制限されるものではなく、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ナイロン、セルロースジアセテート、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリイミド、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネートなどのプラスチック、銅、アルミニウムなどの金属、紙、含浸紙などを単独あるいは組み合わせて、積層したりして用いることができる。基材の厚さは、０．００５〜５mm程度が適当である。
【００１６】
（光学可変層）
本発明の印字記録媒体における光学可変層３は、ホログラム又は回折格子の構成をとったり、カラーシフト効果を有するセラミックス薄膜や金属薄膜から構成される多層膜で構成したり、あるいは偏光性を示す高分子液晶を使用したカラーシフト効果を有する潜像層を構成したものが使用できる。本発明の印字記録媒体は、光学可変層と後記する放電破壊印字層の両方とも、図１（ａ），（ｂ），（ｃ）に示したように、基材表面の大きさよりも、小さい状態であることが、製造する上でのコストが安くなり好ましい。
【００１７】
（レリーフ形成層）
光学可変層として、ホログラム又は回折格子の構成の場合、レリーフ形成層と反射層を積層して形成することができる。図１で示された光学可変層３で説明すると、レリーフ形成層が放電破壊印字層４側に位置し、反射層が基材２側に位置する。レリーフ形成層を構成する材料としては、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（例、ポリメチルメタアクリレート）、ポリスチレン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂、そして、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、トリアジン系アクリレート等の熱硬化性樹脂を硬化させたもの、不飽和エチレン系モノマーと不飽和エチレン系オリゴマーを適宜混合したものに増感剤を添加した組成物等の紫外線硬化性樹脂を硬化させたもの、或いは、上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂の混合物やラジカル重合性不飽和基を有する熱成形性物質が使用可能である。特に耐薬品性、耐光性及び耐候性等の耐久性に優れた熱硬化性樹脂、紫外線や電子線などの電離放射線硬化性樹脂が好ましい。電離放射線硬化樹脂としては、例えば、エポキシ変性アクリレート樹脂、ウレタン変性アクリレート樹脂、アクリル変性ポリエステル等の電離放射線硬化性樹脂を硬化させたものが適用できる。
【００１８】
レリーフ形成層を設ける方法としては、干渉縞が凹凸の形状で、表面に記録されたホログラム原版をプレス型として、そのプレス型の凹凸面と前述した樹脂からなるシートとを接するように重ね合わせて、加熱ロール等の手段で両者を加熱圧接して、樹脂シート表面にホログラム原版の凹凸模様を複製して、レリーフ形成層（ホログラム）を形成することができる。このような平面ホログラムに限らず、体積ホログラムとして、フォトポリマー等のシートと、あらかじめ作成してあるホログラム原版と重ね合せて、スリット状のレーザー光を照射することにより、複製することもできる。その後、熱現像等の処理をしてもよい。
【００１９】
上記のように、レリーフ形成層の表面へレリーフを賦形して、ホログラム画像を形成する。該レリーフは、凹凸レリーフであればよく、例えば、２次元または３次元画像を再生可能な表面凹凸パターン（光回折パターン）が形成されたものである。この表面凹凸パターンとしては、物体光と参照光との光の干渉による干渉縞の光の強度分布が凹凸模様で記録されたホログラムや回折格子が適用できる。ホログラムとしては、フレネルホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム（ＣＧＨ）、ホログラフィック回折格子などがある。回折格子としては、ホログラム記録手段を利用したホログラフィック回折格子があげられ、その他、電子線描画装置等を用いて機械的に回折格子を作成することにより、計算に基づいて任意の回折光が得られる回折格子をあげることもできる。これらのホログラムおよび／または回折格子の単一若しくは多重に記録しても、組み合わせて記録しても良い。また、ホログラム、回折格子以外の表面凹凸パターンとしては、万線状の凹凸、干渉パターン、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズなども適用できる。
【００２０】
（反射層）
ホログラム又は回折格子等のレリーフ構造を設けたレリーフ形成層面のレリーフへ反射層を設けることにより、ホログラムの再生像及び／又は回折格子などが明瞭に視認できるようになる。該反射層として、光を反射する金属を用いると不透明タイプとなり、レリーフ形成層面と屈折率に差のある透明金属化合物を用いると透明タイプとなる。反射層としては、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｇｅ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｂ、Ｐｂ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｂｉ、Ｓｎ、Ｓｅ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｒｂ等の金属、及びその酸化物、硫化物、窒化物等の薄膜を単独又は複数を組み合わせてもよい。好ましい金属としてはアルミニウム、クロム、ニッケル、金、銀である。
【００２１】
また、透明タイプの反射層としては、レリーフ形成層面と屈折率に差のある透明金属化合物を用いる。その光学的な屈折率がレリーフ形成層のそれとは異なることにより、ほぼ無色透明な色相で、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラム等のレリーフを視認できる。該反射層の屈折率としては、レリーフ形成層面との屈折率の差が大きいほど効果があり、屈折率の差が０．３以上、好ましくは０．５以上、さらに好ましくは１．０以上である。例えば、ＺｎＳ、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｉＯ、ＴｉＯ、ＳｉＯ2、ＩＴＯ、等が適用でき、好ましくは、ＩＴＯ、又は酸化スズで、屈折率はいずれも２．０であり、充分な屈折率の差を有している。また、屈折率が小さいものでは、ＬｉＦ、ＭｇＦ2、ＡｌＦ2などがある。なお、この透明とは、可視光が十分透過すれば良く、無色または有色で透明なものも含まれる。
【００２２】
上記の金属及び透明金属化合物の薄膜形成は、いずれも１０〜５０００ｎｍ程度、好ましくは２０〜２０００ｎｍの厚さになるよう、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの真空薄膜法で得られる。反射層の厚さがこの範囲未満では、光がある程度透過して効果が減じ、また、その以上では、反射効果は変わらないので、コスト的に無駄である。ラメ効果の点では、金属薄膜が好ましい。
【００２３】
（カラーシフト効果を有する多層膜）
光学可変層として、カラーシフト効果を有するセラミックス薄膜や金属薄膜から構成される多層膜で構成することができる。ここで、カラーシフトとは、見る角度により色の変化を生じることであり、このカラーシフト効果を有する多層膜は、異なる光学適性を有する多層の薄膜層であり、金属薄膜、セラミックス薄膜またはそれらを併設してなる複合薄膜として積層形成される。例えば、屈折率の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜を組み合わせても良く、また特定の組み合わせを交互に積層するようにしてもよい。それらの組み合わせにより、所望の多層薄膜を得ることができる。
【００２４】
この多層薄膜には、セラミックスや金属などの材料が用いられ、おおよそ屈折率が２．０以上の高屈折率材料と屈折率が１．５程度の低屈折率材料を所定の膜厚で積層したものである。以下に用いられる材料の一例を挙げる。まずセラミックスとしては、例えば、Ｓｂ2Ｏ3（３．０＝屈折率：以下同じ）、Ｆｅ2Ｏ3（２．７）、ＴｉＯ2（２．６）、ＣｄＳ（２．６）、ＣｅＯ2（２．３）、ＺｎＳ（２．３）、ＰｂＣｌ2（２．３）、ＣｄＯ（２．２）、Ｓｂ2Ｏ3（２．０）、ＷＯ3（２．０）、ＳｉＯ（２．０）、Ｓｉ2Ｏ3（２．５）、Ｉｎ2Ｏ3（２．０）等が挙げられる。
【００２５】
金属単体もしくは合金の薄膜としては、例えば、Ａｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ等が挙げられる。また、低屈折率の有機ポリマーとしては、例えば、ポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフロロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタアクリレート（１．４９）等が挙げられる。これらの高屈折率材料より少なくとも一種、低屈折率材料より少なくとも一種選択し、所定の厚さで交互に積層させて、特定の波長の可視光に対する吸収あるいは反射を示す多層薄膜とする。
【００２６】
上記の多層薄膜の形成方法は公知の手法を用いることができ、通常の真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相析出法やＣＶＤ法などの化学的気相析出法を用いることができる。また、低屈折率の有機ポリマーの成膜方法として、公知のグラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法などの印刷方法やバーコート法、グラビア法、ロールコート法等などの塗布方法を用いることができる。上記の多層薄膜層の膜厚は、多層を全て含んだ総合厚みで５０〜２００００Åの範囲で使用することができる。
【００２７】
（カラーシフト効果を有する潜像層）
光学可変層として、偏光性を示す高分子液晶を使用したカラーシフト効果を有する潜像層で構成することができる。この潜像層として、全面に同一の配向を有し全面に同一の偏光性を示す材料、部分的に配向の異なる材料、或いは、部分的に外力によって配向を変化させ、部分的に異なった偏光性を付与できる材料などが使用できる。例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリエステル等の高分子の樹脂材料が使用可能である。
【００２８】
また、潜像層として、高分子液晶材料を用いることができ、具体的にはポリエステル共重合体、ポリエーテル、ポリカーボネート、ポリイソシアネート、ポリグルタミン酸エステル等の高分子液晶材料が使用可能である。また、この高分子液晶材料は、加熱・加圧で容易に配向させることが可能なサーモトロピック性を有していることが好ましい。また、配向させる方法として、ホットスタンプ、サーマルヘッド、レーザーによる加熱等の簡便な方法が挙げられ、これらの方法によって高精細な潜像部分を容易に形成することができる。
【００２９】
また、予め配向させて偏光性を有した高分子材料を微小片に細かくして、ポリエステルやアクリルなどの高分子樹脂に分散させた塗工液を準備し、その液を塗布することにより潜像層を形成することができる。その塗工方法は、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、ノズルコーター法等の既知の塗布手段を用いることができ、或いは、押し出し成型法、二軸延伸法等のフィル成形技術で得られたフィルムを貼り合わせて形成することも可能である。このような潜像層の膜厚は、上記のカラーシフト効果を有する多層膜の場合と同様である。
【００３０】
（放電破壊印字層）
放電破壊印字層４は単体金属、合金あるいは化合物の薄膜からなり、放電現象を利用して記録部位が破壊され得る層からなる。その放電破壊印字層を構成する材料は、具体的には、Ａｌ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｅ、Ｉｎ、Ｂｉ、Ｐｂなどの金属、あるいはこれらの合金、化合物が挙げられる。また放電破壊印字層は、真空蒸着法、スパッタ法、メッキ法などの方法によって、光学可変層の上に形成することができる。放電破壊印字層の膜厚は、１００Å〜１μｍ、さらに好ましくは３００Å〜１０００Å（１μｍ）程度である。
【００３１】
（隠蔽層）
本発明の印字記録媒体は、光学可変層を見るうえで、明瞭に視認できるように、隠蔽層６を光学可変層の下に設けることができる。この隠蔽層としては、カーボンブラック等の黒色の着色剤を、バインダーでインキ化したものや、亜鉛末、アルミニウム顔料、金属粉（黄銅、銅）を含む金属顔料や、チタン系白色顔料、有機系白色顔料等の隠蔽性の高い顔料をバインダーでインキ化したものを使用して、公知のグラビア印刷法、オフセット印刷法、スクリーン印刷法などの印刷方法やバーコート法、グラビア法、ロールコート法等などの塗布方法により形成することができる。隠蔽層の厚さは、１０ｎｍ〜１５００μｍ程度である。隠蔽層を上記の黒色の着色剤を含むインキにより、印刷して形成すれば、黒色の隠蔽層として、光学可変層のバック（背景）が黒色になって、隣接した部分とのコントラストが高くなり、光学可変層における再生像やパターンが明瞭に視認できるようになり、好ましく用いられる。
【００３２】
（保護層）
本発明の印字記録媒体では、記録面の最上層として、保護層７を設けることができる。保護層は、一般には、記録媒体の物理特性、耐久性を確保するために、記録層である放電破壊印字層の保護を目的として形成する。保護層の材料を選択することにより、融着現象を防止し、かつ放電ピンの走行跡が付きにくくできる。保護層は以下に挙げるようなバインダー樹脂にテフロン（登録商標）ワックス、滑剤等の添加剤を加えることができる。
【００３３】
保護層のバインダー樹脂は、放電ピンの走行跡が付きにくくするために、紫外線又は電子線硬化型樹脂であることが好ましく、特に、多官能樹脂を用いることが適当である。多官能樹脂としては多官能アクリル樹脂を挙げることができる。多官能アクリル樹脂としては、例えば、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を挙げることができる。
【００３４】
また、上記バインダー樹脂には、必要に応じてアセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルメウラムモノサルファイド、チオキサントン類等の光重合開始剤や、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、Ｎ−ビニルピロリドン等の光増感剤を含有させることができる。
【００３５】
保護層を形成する方法としては、例えばオフセット印刷法、シルクスクリーン印刷法、ロールコート法、リバースコート法、グラビアコート法、グラビアリバースコート法、キスコート法、コンマコート法等が用いられる。紫外線硬化型樹脂の硬化は、カーボンアーク、キセノンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ等の光源又は各種電子線加速器により、１００〜１０００ｋｅｖ、好ましくは１００〜３００ｋｅｖのエネルギーの紫外線を照射することにより行うことができる。また電子線硬化型樹脂の硬化は、非走査型電子線硬化装置、走査型電子線硬化装置等を用いて電子線照射することにより行うことができる。保護層の厚さは０．５〜５μｍ程度である。
【００３６】
（粘着層）
本発明の印字記録媒体では、光学可変層と放電破壊印字層を順次積層したもので、光学可変層の下、つまり放電破壊印字層のある側とは反対側に、基材と貼着させて固定させるために、粘着層８を設けることができる。粘着層は、従来から公知である溶剤系及び水系のいずれの粘着剤を用いて形成することができる。粘着剤として、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、酢酸ビニル−アクリル共重合体、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレンアクリル酸共重合体、エチレン−アクリル酸エステル共重合体、ポリウレタン樹脂や、天然ゴム、クロロプレンゴム、ニトリルゴムなどが挙げられる。粘着層の厚さは、約８〜３０μｍが一般的であり、従来公知の方法、すなわち、グラビアコート、グラビアリバースコート、ロールコート等の方法で、塗布し、乾燥して粘着層を形成できる。
【実施例１】
【００３７】
ウレタン変性アクリレート樹脂のシート（厚さ０．５ｍｍ）を用意し、その樹脂シート表面にホログラムのレリーフを形成して、光学可変層とし、その光学可変層の上にアルミニウムを用いて真空蒸着法で４００Åの厚さの放電破壊印字層を形成して、本発明の印字記録媒体を作製した。
【実施例２】
【００３８】
基材として、厚み０．２ｍｍの白色に着色された塩化ビニルのセンターコアに対し、そのコアの両面に、厚み０．１５ｍｍの塩化ビニルの透明シートを熱圧着させて作製した３層構造のカード基材を用意した。その基材上の一部分に、カーボンブラックを含有する黒色インキを印刷して、隠蔽層を形成し、また、その隠蔽層の上に、隠蔽層の印刷パターンと重なるように、同じパターンで、ウレタン変性アクリレート樹脂を塗工し、レリーフ形成層を形成した。そのレリーフ形成層の表面にホログラムのレリーフを形成して、光学可変層を設けた。その光学可変層の上に、アルミニウムを用いて真空蒸着法で４００Åの厚さで、隠蔽層の印刷パターンと重なる位置で、放電破壊印字層を形成した。また、その放電破壊印字層の上に、下記組成により、厚さ１μｍで、隠蔽層の印刷パターンと重なる位置で、保護層を形成して、本発明の印字記録媒体を作製した。
【００３９】
（保護層塗工液）
ポリビニルブチラール樹脂                                                １０部
ウレタン樹脂                                                            １０部
テトラフルオロエチレンパウダー                                          １０部
酢酸エチル                                                              ３０部
トルエン                                                                ３０部
メチルエチルケトン                                                      ３０部
上記の「部」は全て質量基準である。
【実施例３】
【００４０】
上記の実施例２で作製した印字記録媒体において、保護層／放電破壊印字層／光学可変層／隠蔽層の条件は同様にしたが、隠蔽層の下に下記組成により、厚さ１０μｍで、隠蔽層の印刷パターンと重なる位置で、粘着層を形成して、印字ラベルを用意した。そして、その印字ラベルを身分証明書（基材）の一定の位置に、粘着層を利用して貼着させて、固定した。（図３に示すような構成となる。）
【００４１】
（粘着層塗工液）
アクリル共重合体（ＳＫダイン１３１０Ｌ、綜研化学（株）製）              ４８部
エポキシ樹脂（硬化剤Ｅ−ＡＸ、綜研化学（株）製）                    ０．３６部
酢酸エチル                                                        ５１．６４部
【００４２】
上記の作製した実施例１〜３の印字記録媒体に対し、記録ピンによって記録情報に応じた放電を生じさせて、放電破壊印字層に放電破壊部位を形成し、情報記録を行った。その結果、実施例全てにおいて、放電破壊の記録部分が破壊、除去されて、印字部分だけの箇所で、下地に位置する光学可変層が露出して見える状態になった。これにより、偽造防止性が高く、印字記録された内容の改竄を確実に防止することができた。また、実施例２、３では、光学可変層と放電破壊印字層とを基材上に全面ではなく、部分的に設けることにより、製造コストを抑えることができ、実用性の高い印字記録媒体を得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明の印字記録媒体の実施形態を示す概略図である。
【図２】本発明の印字記録媒体の印字記録前と印字記録後の双方の状態を示す概略図である。
【図３】本発明の印字記録媒体の別の実施形態を示す概略図である。
【符号の説明】
【００４４】
１      印字記録媒体
２      基材
３      光学可変層
４      放電破壊印字層
５      記録された部分
６      隠蔽層
７      保護層
８      粘着層
９      印字ラベル
【図１】
2005335286.tif 000003
【図２】
2005335286.tif 000004
【図３】
2005335286.tif 000005