(57)【要約】【課題】  ＤＶＤ等の厚さが薄く、高容量の光情報記録媒体の製造に有利な光硬化性転写シートで、光情報記録媒体を製造する際にピット等の凹凸を有する基板或いはスタンパの該凹凸形状を常温で容易に転写することが可能な光硬化性転写シートを提供すること。【解決手段】  光重合性官能基を有する反応性ポリマーを含み、且つ周波数１Ｈｚ、０．０１Ｈｚ及び１００Ｈｚにおける貯蔵弾性率が、２５℃において、それぞれ１×１０３〜９×１０４Ｐａ、５×１０３Ｐａ以上、及び１×１０７Ｐａ以下である光硬化性転写層を有する光硬化性転写シート；及びこれを用いた光情報記録媒体。【選択図】          図１
2005116051.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光重合性官能基を有する反応性ポリマーを含む光硬化性組成物からなり、且つ周波数１Ｈｚ、０．０１Ｈｚ及び１００Ｈｚにおける貯蔵弾性率が、２５℃において、それぞれ１×１０３〜９×１０４Ｐａ、５×１０３Ｐａ以上、及び１×１０７Ｐａ以下である光硬化性転写層を有する光硬化性転写シート。
【請求項２】
光硬化性組成物が、さらに、分子量が１０００以下の、光重合性官能基を有する可塑化反応性希釈剤を含んでいる請求項１に記載の光硬化性転写シート。
【請求項３】
光硬化性組成物が、可塑化反応性希釈剤を固形分で１０質量％以上含む請求項２に記載の光硬化性転写シート。
【請求項４】
光重合性官能基を有する可塑化反応性希釈剤が、アルカンジオールのジ（メタ）アクリレートである請求項２又は３に記載の光硬化性転写シート。
【請求項５】
反応性ポリマーのガラス転移温度が２０℃以下である請求項１〜４のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項６】
反応性ポリマーの数平均分子量が１００００〜３０００００である請求項１〜５のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項７】
反応性ポリマーの重量平均分子量が１００００〜３０００００である請求項１〜６のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項８】
３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透過率が７０％以上である請求項１〜７のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項９】
３８０〜８００ｎｍの波長領域の光透過率が７０％以上である請求項１〜８のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項１０】
光硬化性転写層の厚さが５〜３００μｍである請求項１〜９のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項１１】
光硬化性転写層の一方又は両方の表面に、剥離シートが設けられている請求項１〜１０のいずれかに記載の光硬化性転写シート。
【請求項１２】
光硬化性転写シートが長尺状であり、かつ光硬化性転写層と剥離シートの幅が略同一である請求項１１に記載の光硬化性転写シート。
【請求項１３】
下記の工程（２）〜（４）：
（２）請求項１１又は１２に記載の光硬化性転写シートの一方の剥離シートを除去する工程；
（３）表面に記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有し、さらに該凹凸表面の凹凸に沿って反射層が設けられた基板の該反射層上に、該光硬化性転写シートの光硬化性転写層の表面が該反射層の凹凸表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該反射層の凹凸表面に沿って密着された積層体を形成する工程；
を含むことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１４】
前記工程（２）の前に、
（１）光硬化性転写シートを円盤状に打ち抜く工程；又は
（１）光硬化性転写シートの光硬化性転写層と一方の剥離シートを円盤状に打ち抜き、もう一方の剥離シートをそのまま残す工程；
を行う請求項１３に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１５】
前記工程（４）を行った後、さらに
（５）該積層体の剥離シートが除去された光硬化性転写層の表面に、記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有するスタンパの該凹凸表面を裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該凹凸表面に沿って密着した積層体を形成する工程；
（６）該スタンパを有する積層体の光硬化性転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、光硬化性転写層の表面に凹凸を設ける工程；
を含む請求項１３又は１４に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１６】
前記（５）〜（６）の工程を行った後、さらに
（７）光硬化性転写層の凹凸表面に反射層を設ける工程；
を含む請求項１５に記載の光情報記録媒体の製造方法。
【請求項１７】
請求項１３〜１６のいずれかに記載の製造方法により得られる光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＤＶＤ（Digital Versatile Disc）、ＣＤ（Compact Disc）等の大容量の文字、音声、動画像等の情報をディジタル信号として記録された及び／又は記録可能な光情報記録媒体、その製造方法及びこれらに有利に使用される光硬化性転写シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
ディジタル信号として表面にピット形成された記録済み光情報記録媒体として、オーディオ用ＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭが広く使用されているが、最近、動画像と記録も可能な両面にピット記録がなされたＤＶＤが、ＣＤの次世代記録媒体として注目され、徐々に使用されるようになってきている。またピット及びグルーブが形成されたユーザが記録可能なＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ、ＤＶＤ−ＲＷ等も注目されている。
【０００３】
両面に記録層を持つＤＶＤには、例えば、図５に示すようにそれぞれ片面に信号ビットを形成した２枚の透明樹脂基板１，２の該信号ビット形成面にそれぞれ反射層１ａ，２ａを形成し、これら反射層１ａ，２ａを互いに対面させた状態で基板１，２を接着剤層３を介して貼り合わせ、接合した両面読み出し方式のもの、及び、図６に示すように、それぞれ片面に信号ビットを形成した基板１，２において、一方の基板１の信号ビット面に半透明層１ｂを形成すると共に、他方の基板２の信号ビット面に反射層２ａを形成し、これら半透明反射層１ｂと反射層２ａとを対向させた状態で基板１，２を接着剤層３を介して貼り合わせ、接合した片面読み出し方式のものとが知られている。
【０００４】
２００２年２月１０日に次世代光ディスクの統一規格「ブル−レイ・ディスク（Blu-ray Disc）」が提案された。主な仕様は、記録容量：２３．３／２５／２７ＧＢ、レーザ波長：４０５ｎｍ（青紫色レーザ）、レンズ開口数(N/A)：０．８５、ディスク直径：１２０ｍｍ、ディスク厚：１．２ｍｍ、トラックピッチ：０．３２μｍ等である。
【０００５】
上記のようにブル−レイ・ディスクでは、溝の幅が狭く、且つピットも小さくなっている。このため読み取りレーザのスポットを小さく絞る必要があるが、スポットを小さくするとディスクの傾きによる影響を大きく受けるようになり、再生しようとするＤＶＤがわずかに曲がっていても再生できなくなる。このような不利を補うため、基板の厚さを薄くし、またレーザ照射側のピット上のカバー層の厚さを０．１ｍｍ程度にすることが考えられている。
【０００６】
非特許文献１の６８頁に上記要求に合うＤＶＤの製造方法が記載されている。図７を参照しながら説明する。凹凸表面に反射層（又は記録層）６ａを有するディスク基板(1.1mm)４ａのその反射層上に紫外線硬化樹脂５Ａを塗布により設け、凹凸表面に反射層（又は記録層）を有するポリカーボネート製スタンパ４ｂの上に紫外線硬化樹脂５Ｂを塗布により設ける。次いで、基板を表裏反転させて、基板とスタンパを貼り付け、スタンパ側から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂５Ａ及び５Ｂを硬化させる。紫外線硬化樹脂５Ｂの層からスタンパ４ｂを除去し、その凹凸面に反射層（又は記録層）６ｂを形成し、その上にカバー層（厚さ０．１ｍｍ程度）７を形成する。
【０００７】
上記の方法において、ディスク基板及びスタンパの表面には、塗布により紫外線硬化樹脂が設けられ、さらにその後基板を表裏反転させて、スタンパと貼り付けている。このように塗布及び反転の複雑な工程を行う必要があり、また反転して基板とスタンパを貼り付けする際、粘チョウな紫外線硬化樹脂同士の接触の際に気泡の発生等の不利があり、良好な貼り付けを行うことができないとの問題がある。さらに、上記紫外線硬化樹脂は硬化時に収縮が大きく、得られる媒体の反り等の変形が目立つとの問題もある。
【０００８】
特許文献１には、上記液状の紫外線硬化樹脂の代わりに特定の貯蔵弾性率（周波数１Ｈｚにおける貯蔵弾性率が２５℃において１×１０５Ｐａ以下）を有する接着剤フィルムの使用を提案している。この接着剤フィルムの使用により、ＤＶＤ−ＲＯＭ等の信号記録層に形成された微細なピット等に対する追従性が改良され、光透過層の厚さ精度が改善されるとしている。接着剤フィルムには、（メタ）アクリル酸、そのエステルの重合体を主成分とし、遊離の不飽和二重結合を有するアクリル系樹脂が使用されている。
【０００９】
【特許文献１】特開２００２−２４１７１１号公報
【非特許文献１】日経エレクトロニクス(NIKKEI ELECTRONICS)、２００１．１１．５号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、特許文献１に記載の特定の貯蔵弾性率を有する接着剤フィルムを用いて光ディスクを作製する際、ドーナツ状に打ち抜いた接着剤フィルムを７０℃に加熱した真空ラミネータを用い、事前に８０℃に加熱したＤＶＤ基板と貼り合わせを行っている。即ち、特許文献１に記載の接着剤フィルムを用いて光ディスクを作製する場合は、フィルム、ディスク等を加熱する必要があり、これを常温で行うことができれば生産性において極めて有利である。
【００１１】
従って、本発明は、ＤＶＤ等の厚さが薄く、高容量の光情報記録媒体の製造に有利な光硬化性転写シートであって、生産性に優れた光硬化性転写シートを提供することをその目的とする。
【００１２】
また、上記光情報記録媒体の製造方法を提供することをその目的とする。
【００１３】
さらに、上記製造方法により得られる厚さの薄い光情報記録媒体を提供することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的は、光重合性官能基を有する反応性ポリマー含む、加圧により変形可能な光硬化性組成物からなり、且つ
周波数１Ｈｚ、０．０１Ｈｚ及び１００Ｈｚにおける貯蔵弾性率が、２５℃において、それぞれ１×１０３〜９×１０４Ｐａ、５×１０３Ｐａ以上、及び１×１０７Ｐａ以下である光硬化性転写層を有する光硬化性転写シートにより達成することができる。
【００１５】
光硬化性転写シートにおいて、光硬化性組成物は、一般にさらに、分子量が１０００以下の、光重合性官能基を有する可塑化反応性希釈剤を含んでいる。この可塑化反応性希釈剤の量は光硬化性組成物の総量に対して固形分で１０質量％以上（特に２０質量％以上、特に２５質量％以上；上限は４０質量％が好ましい）含むことが好ましい。光重合性官能基を有する可塑化反応性希釈剤は、一般に（好ましくは直鎖の）アルカンジオールのジ（メタ）アクリレートであり、アルカンジオールの炭素原子数が３〜１０個であることが特に好ましい。特にアクリレートが好ましい。
【００１６】
光硬化性組成物のガラス転移温度が２０℃以下（特に１５℃〜−１０℃）であることが一般的で、特に反応性ポリマーのガラス転移温度が２０℃以下（特に１５℃〜−１０℃））であることが好ましい。凹凸面の転写性の向上に有利である。
【００１７】
反応性ポリマーが、光重合性官能基を１〜５０モル％含むことが適当な硬化性、硬化被膜強度を得る上で好ましい。光重合性官能基が、（メタ）アクリロイル基であることが、硬化性の点で好ましい。光硬化性組成物が、光重合開始剤を０．１〜１０質量％含むことが適当な硬化性を得る上で好ましい。光硬化性転写シートの厚さが１〜１２００μｍ（特に５〜３００μｍ）であることが、転写性、作業性の点から好ましい。反応性ポリマーの数平均分子量が１００００〜３０００００であること、また重量平均分子量が１００００〜３０００００であることが好ましい。転写性、作業性の点から好ましい。
【００１８】
光硬化性転写シートは３８０〜４２０ｎｍの波長領域（好ましくは３８０〜６００ｎｍ、特に３８０〜８００ｎｍの波長領域）の光透過率が７０％以上であることが好ましい。これにより得られる媒体にレーザによる信号の読み取りを行った場合に、エラーの無い操作が保証される。上記光硬化性転写シートの硬化収縮率が８％以下であることが好ましい。
【００１９】
また光硬化性転写層は、透明微粒子を含むことが好ましい。これにより、長尺状シートのロールの状態でも、光硬化性転写層の成分のしみ出しが無く、シート厚の変動のない光硬化性転写シートを得ることができる。
【００２０】
光硬化性転写層の一方又は両方の表面に、剥離シートが設けられていることが、実際の製造の効率を向上させる。光硬化性転写シートが長尺状であり、かつ光硬化性転写層と剥離シートの幅が略同一である（いわゆるフルエッジ；しかしドライエッジでも使用可能）ことが、作業性の向上、コスト削減に有効である。
【００２１】
本発明の上記光硬化性転写シートを用いて、下記の工程（２）〜（４）：
（２）上記光硬化性転写シートの一方の剥離シートを除去する工程；
（３）表面に記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有し、さらに該凹凸表面の凹凸に沿って反射層が設けられた基板の該反射層上に、該光硬化性転写シートの光硬化性転写層の表面が該反射層の凹凸表面に接触するように裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該反射層の凹凸表面に沿って密着された積層体を形成する工程；及び
（４）該積層体からもう一方の剥離シートを除去する工程、
を含むことを特徴とする製造方法を実施することにより光情報記録媒体を得ることができる。
【００２２】
なお、前記工程（２）の前に、
（１）上記の光硬化性転写シートを円盤状（一般に中央に貫通孔を有する）に打ち抜く工程；又は
（１）上記の光硬化性転写シートの光硬化性転写層と一方の剥離シートを円盤状に打ち抜き、もう一方の剥離シートをそのまま残す工程；
を行うことが好ましい。
【００２３】
後者の場合、工程（２）において、剥離シートの除去は打ち抜かれた側の剥離シートを除去することが好ましい。
【００２４】
前記工程（４）を行った後、さらに
（５）該積層体の剥離シートが除去された光硬化性転写層の表面に、記録ピット及び／又はグルーブとしての凹凸を有するスタンパの該凹凸表面を裁置し、これらを押圧して該光硬化性転写シートの表面が該凹凸表面に沿って密着した積層体を形成する工程；
（６）該スタンパを有する積層体の光硬化性転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、光硬化性転写層の表面に凹凸を設ける工程；
を含むのが一般的である。
【００２５】
前記（６）の工程を行った後、さらに
（７）光硬化性転写層の凹凸表面に反射層を設ける工程；
を含むこともでききる。
【００２６】
本発明は、また上記の製造方法により得られる光情報記録媒体にもある。
【発明の効果】
【００２７】
本発明の光硬化性転写シートは、ＤＶＤ等の厚さが薄く、高容量の光情報記録媒体の製造に有利な光硬化性転写シートであり、このシートを用いることにより、光情報記録媒体を製造する際にピット等の凹凸を有する基板或いはスタンパの該凹凸形状を常温付近で容易に転写することが可能である。即ち、本発明の光硬化性転写層は、その硬化前の貯蔵弾性率が特定の範囲に設定されており、これにより常温転写を極めて容易に且つ優れた凹凸追随性を確保して行うことができ、且つ転写性向上に伴う悪影響（例えば、光情報記録媒体の製造における転写層の膜厚の変動等）も見られないものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下に図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００２９】
図１は本発明で使用される光硬化性転写シート１０の実施形態の一例を示す断面図である。光硬化性転写層１１は、両面に剥離シート１２ａ，１２ｂを有する。剥離シートは一方のみでも、無くても良い。使用態様により適宜設定される。
【００３０】
光硬化性転写層１１は、スタンパの凹凸表面を押圧することにより常温でも精確に転写できるように、特定の貯蔵弾性率を有する層である。即ち、光硬化性転写層１１は、周波数１Ｈｚ、０．０１Ｈｚ及び１００Ｈｚにおける貯蔵弾性率が、２５℃において、それぞれ１×１０３〜９×１０４Ｐａ、５×１０３Ｐａ以上（特に８×１０３Ｐａ以上）、及び１×１０７Ｐａ以下（特に５×１０６Ｐａ以下）である加圧により変形し易い層である。光硬化性転写層１１を構成する光硬化性組成物（特に反応性ポリマー）のガラス転移温度が２０℃以下（特に１５℃〜−１０℃）であることが好ましい。また情報の高密度化のため、再生レーザにより読み取りが容易に行えるように３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透過率が７０％以上である層であることが好ましい。特に、３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透過率が８０％以上である層が好ましい。従って、この転写シート用いて作製される本発明の光情報記録媒体は３８０〜４２０ｎｍの波長のレーザを用いてピット信号を再生する方法に有利に使用することができる。
【００３１】
上記光硬化性転写シート１０を用いて、本発明の光情報記録媒体を、例えば下記の図２に示すように製造することができる。
【００３２】
光硬化性転写シート１０は、一般に、先ず円盤状（一般に中央に貫通孔を有するドーナツ状）に打ち抜かれる。この際、光硬化性転写層１１と両面の剥離シート１２ａ，１２ｂ全てを打ち抜く場合と、光硬化性転写層１１と一方の剥離シート１２ｂを円盤状に打ち抜き、もう一方の剥離シート１２ａをそのまま残す場合があり、適宜選択して行われる（１）。このように予めの打ち抜き作業は、本発明の光硬化性転写シートに、例えば透明微粒子を含有させることにより、転写層のしみ出し、はみ出し無く、作業性良く行うことができ有利である。
【００３３】
次いで、光硬化性転写シート１０から剥離シート１２ａを除去し、剥離シート１２ｂ付き光硬化性転写層を用意する（２）。表面に記録ピットとしての凹凸を有する基板２１の該凹凸表面の半透明反射層２３（一般にＡｇＸ等の反射率の比較的低い反射層）上に、剥離シートの無い側を対向させて光硬化性転写シート１１を押圧する（３）。これにより光硬化性転写シートの表面が該凹凸表面に沿って密着された積層体（１１，２３，２１からなる）を形成する。この構成で光情報記録媒体として使用する場合は、光硬化性転写シート１１を紫外線照射により硬化させ、剥離シート１２ｂを除去する（４）。本発明の光硬化性転写シートは、前記特定の貯蔵弾性率を有しているので、常温付近において、その表面を基板の凹凸表面に沿って、極めて優れた追随性を持って密着させることができる。
次いで、表面に記録ピットとしての凹凸を有するスタンパ２４を、積層体から剥離シート１２ｂを除去して未硬化状態の光硬化性転写シート１１の表面（基板と接触していない側の表面）に押圧する（５）。光硬化性転写シート１１の表面がスタンパ２４の凹凸表面に沿って密着した積層体（２１，２３，１１，２４からなる）を形成し、そして積層体の光硬化性転写シートを紫外線照射により硬化させた（６）のちスタンパ２４を除去することにより、硬化シートの表面に記録ピット等の凹凸を設ける。これにより、基板１１、反射層２３及び硬化した光硬化性転写シート１１から成る積層体（光情報記録媒体）を得る。通常、この凹凸上（硬化シートの表面）に、反射層（一般にＡｌ等の高反射率の反射層））２５を設け（７）、さらにその上に有機ポリマーフィルム（カバー層）２６を接着剤層を介して貼付する（８）。記録ピットを有する硬化シートの表面に、さらに光硬化性転写シートを押圧し、紫外線照射により硬化させても良い。或いは、硬化シートの表面に紫外線硬化性樹脂を塗布、硬化させても良い。半透明反射層は、通常のＡｌ等の反射層でも良い（両面読み出し用）。また反射層２５を半透明反射層、半透明反射層２３を高反射率の反射層としても良い。
【００３４】
上記方法においては、再生専用の光情報記録媒体について説明をしたが、記録可能な光情報記録媒体についても同様に行うことができる。記録可能媒体の場合、グルーブ或いはグルーブ及びピットを有しており、この場合反射層及び半透明反射層の代わりに金属記録層（色素記録層の場合や金属記録層の反射率が低い場合は、記録層及び反射層）が一般に設けられる。それ以外は上記と同様に光情報記録媒体を製造することができる。
【００３５】
本発明では、基板２１の記録ピット及び／又はグルーブである凹凸形状が、光硬化性転写層１１と基板２１とを５０℃以下の比較的低い温度（好ましくは常温）で押圧する（好ましくは減圧下）ことにより精確に転写されるように光硬化性転写シートが設計されている。基板２１と、光硬化性転写層１１との重ね合わせは、一般に圧着ロールや簡易プレスで行われる（好ましくは減圧下）。また、光硬化性転写層１１の硬化後の層は、基板２１の表面の反射層に用いられる金属との接着力が良好で剥離することはない。必要により反射層上に接着促進層を設けても良い。
【００３６】
また、同様に、スタンパ２４の記録ピット及び／又はグルーブである凹凸形状も、光硬化性転写層１１とスタンパ２４とを５０℃以下の低温（好ましくは常温）で押圧する（好ましくは減圧下）ことにより精確に転写されるように光硬化性転写シートが設計されている。スタンパ２１と、光硬化性転写シート１１との重ね合わせは、一般に圧着ロールや簡易プレスで行われる（好ましくは減圧下）。また、光硬化性転写層１１の硬化後の層は、スタンパに用いられるニッケルなどの金属との接着力が極めて弱く、光硬化性転写シートをスタンパから容易に剥離することができる。
【００３７】
基板２１は、一般に厚板（通常０．３〜１．５ｍｍ、特に１．１ｍｍ程度）であるので、従来の射出成形法で作製することが一般的である。しかし光硬化性転写シートとスタンパを用いて製造しても良い。本発明の光硬化性転写シートは３００μｍ以下（好ましくは１５０μｍ以下）に薄くすることができるので、もう一方の基板を従来法で作製し、基板の厚さを大きくすることができるのでピット形状の転写精度を上げることができる。
【００３８】
上記工程において、光硬化性転写層を基板に押圧する際、或いはスタンパを光硬化性転写層に押圧する際に、減圧下に押圧を行うことが好ましい。これにより、気泡の除去等が円滑に行われる。
【００３９】
上記減圧下の押圧は、例えば、減圧下に２個のロール間に、光硬化性転写シートとスタンパを通過させる方法、あるいは真空成形機を用い、スタンパを型内に裁置し、減圧しながら光硬化性転写シートをスタンパに圧着させる方法を挙げることができる。
【００４０】
また、二重真空室方式の装置を用いて減圧下の押圧を行うことができる。図４を参照しながら説明する。図４には二重真空室方式のラミネータの一例が示されている。ラミネータは下室４１、上室４２、シリコーンゴムシート４３、ヒータ４５を備えている。ラミネータ内の下室４１に、凹凸を有する基板と光硬化性転写シートとの積層体４９、又は基板と光硬化性転写シートとスタンパとの積層体４９を置く。上室４２及び下室４１共に排気する（減圧する）。積層体４９を必要によりヒータ４５で加熱し、その後、下室４１を排気したまま上室４２を大気圧に戻し、積層体を圧着する。冷却して積層体を取り出し、次工程に移す。これにより排気時に脱泡が十分に行われ、気泡の無い状態で、スタンパ又は基板と光硬化性転写シートとを圧着することができる。
【００４１】
本発明で使用される光硬化性転写シート１０は、光重合性官能基を有する反応性ポリマーを含む光硬化性組成物からなり、且つ前記特定の貯蔵弾性率を有する光硬化性転写層１１を有するものである。
本発明の光硬化性組成物は、一般に、上記光重合性官能基を有する反応性ポリマー（一般にガラス転移温度が２０℃以下のもの）、さらに光重合性官能基（好ましくは（メタ）アクリロイル基）を有する可塑化反応性希釈剤（モノマー及びオリゴマー）、光重合性開始剤及び、所望により他の添加剤から構成される。
【００４２】
光硬化性転写層１１は、スタンパの凹凸表面を押圧することにより常温付近で精確に転写できるように、特定の貯蔵弾性率を有する層である。即ち、光硬化性転写層１１は、周波数１Ｈｚ、０．０１Ｈｚ及び１００Ｈｚにおける貯蔵弾性率が、２５℃において、それぞれ１×１０３〜９×１０４Ｐａ、５×１０３Ｐａ以上（特に８×１０３Ｐａ以上）、及び１×１０７Ｐａ以下（特に５×１０６Ｐａ以下）である加圧により変形し易い層である。０．０１Ｈｚにおける貯蔵弾性率は、未硬化時の貯蔵安定性に関わり、この値が５×１０３Ｐａ未満の場合はロール状態で保存している時に端部からの浸みだしが発生したり、転写層の厚さの変動が起こる。また１００Ｈｚにおける貯蔵弾性率は、スタンパ等でピット等の凹凸形状を転写する際の硬さに関わり、この値が１×１０７Ｐａを超えた場合、転写温度における転写性が充分でなく凹凸形状が精確に転写されない。周波数１Ｈｚにおける貯蔵弾性率は上記両方の特性に関連する。周波数１Ｈｚにおいて、１×１０３Ｐａ未満の場合は、未硬化時の厚さが変化しやすく、９×１０４Ｐａを超えた場合は転写不良を起こしやすい。
【００４３】
上記特定の貯蔵弾性率を有する光硬化性転写層は、主として、上記反応性ポリマーと可塑化反応性希釈剤との、種類及び量の好適な組合せにより得ることができる。
【００４４】
光重合性官能基を有する反応性ポリマーとしては、例えばアルキルアクリレート（例、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート）及び／又はアルキルメタクリレート（例、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート）から得られる単独重合体又は共重合体（即ちアクリル樹脂）で、且つ、主鎖又は側鎖に光重合性官能基を有するものを挙げることができる。このような重合体は、例えば１種以上の（メタ）アクリレートと、ヒドロキシル基等の官能基を有する（メタ）アクリレート（例、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート）とを共重合させ、得られた重合体とイソシアナトアルキル（メタ）アクリレートなどの、重合体の官能基と反応し且つ光重合性基を有する化合物と反応させることにより得ることができる。従って、光重合性官能基をウレタン結合を介して有するアクリル樹脂が好ましい。
【００４５】
本発明の上記反応性ポリマーは、光重合性官能基を一般に１〜５０モル％、特に５〜３０モル％含むことが好ましい。この光重合性官能基は、一般に不飽和二重結合を有する基であり、その好ましい例としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、特にアクリロイル基、メタクリロイル基を挙げることができる。
【００４６】
またこの反応性ポリマーのガラス転移温度は、一般に２０℃以下であり、ガラス転移温度を２０℃以下とすることにより、得られる光硬化性転写層がスタンパの凹凸面に圧着されたとき、常温においてもその凹凸面に緊密に追随できる可撓性を有することができる。特に、ガラス転移温度が１５℃〜−５０℃の範囲（特に１５℃〜−１０℃）にすることにより追随性が優れている。ガラス転移温度が高すぎると、貼り付け時に高圧力及び高圧力が必要となり作業性の低下につながり、また低すぎると、硬化後の十分な高度が得られなくなる。
【００４７】
さらに、本発明の反応性ポリマーは、一般に数平均分子量が５０００〜１００００００、好ましくは１００００〜３０００００であり、また重量平均分子量が一般に５０００〜１００００００、好ましくは１００００〜３０００００であることが好ましい。
【００４８】
可塑化反応性希釈剤は、硬化前の光硬化性転写層を可塑化できる化合物であり、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類、ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４'−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４'−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２'，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロール��ノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら光重合可能な官能基を有する可塑化反応性希釈剤は１種又は２種以上、混合して使用することができる。
【００４９】
これらのなかで、分子量が１０００以下、更に５００以下、特に２００〜４００を有する化合物が好ましい。また二官能性の化合物が好ましい。好ましい化合物として、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオール等を挙げることができる（本発明では、特にアクリレート類が好ましい）。この可塑化反応性希釈剤の量は光硬化性組成物の総量に対して固形分で１０質量％以上（特に２０質量％以上、特に２５質量％以上；上限は４０質量％が好ましい）含むことが好ましい。また反応性ポリマーと可塑化反応性希釈剤との質量比が、６０：１０〜５０が一般的で、６０：２０〜５０、特に６０：２０〜４５であることが好ましい。
【００５０】
光重合開始剤としては、公知のどのような光重合開始剤でも使用することができるが、配合後の貯蔵安定性の良いものが望ましい。このような光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系又は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。光硬化性組成物中に、光重合開始剤を一般に０．１〜２０質量％、特に１〜１０質量％含むことが好ましい。
【００５１】
光重合開始剤のうち、アセトフェノン系重合開始剤としては、例えば、４−フェノキシジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−ジクロロアセトフェノン、４−ｔ−ブチル−トリクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１−（４−ドデシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１など、ベンゾフェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、４−ベンッゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノンなどが使用できる。
【００５２】
アセトフェノン系重合開始剤としては、特に、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１が好ましい。ベンゾフェノン系重合開始剤としては、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、ベンゾイル安息香酸メチルが好ましい。また、第３級アミン系の光重合促進剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４，４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシルなどが使用できる。特に好ましくは、光重合促進剤としては、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシルなどが挙げられる。
【００５３】
他の添加剤として、シランカップリング剤（接着促進剤）を添加することができる。このシランカップリング剤としてはビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどがあり、これらの１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。これらシランカップリング剤の添加量は、上記反応性ポリマー１００質量部に対し通常０．０１〜５質量部で十分である。
【００５４】
また同様に接着性を向上させる目的でエポキシ基含有化合物を添加することができる。エポキシ基含有化合物としては、トリグリシジルトリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート；ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル；１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル；アクリルグリシジルエーテル；２−エチルヘキシルグリシジルエーテル；フェニルグリシジルエーテル；フェノールグリシジルエーテル；ｐ−ｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル；アジピン酸ジグリシジルエステル；ｏ−フタル酸ジグリシジルエステル；グリシジルメタクリレート；ブチルグリシジルエーテル等が挙げられる。また、エポキシ基を含有した分子量が数百から数千のオリゴマーや重量平均分子量が数千から数十万のポリマーを添加することによっても同様の効果が得られる。これらエポキシ基含有化合物の添加量は上記反応性ポリマー１００質量部に対し０．１〜２０質量部で十分で、上記エポキシ基含有化合物の少なくとも１種を単独で又は混合して添加することができる。
【００５５】
さらに他の添加剤として、加工性や貼り合わせ等の加工性向上の目的で炭化水素樹脂を添加することができる。この場合、添加される炭化水素樹脂は天然樹脂系、合成樹脂系のいずれでも差支えない。天然樹脂系ではロジン、ロジン誘導体、テルペン系樹脂が好適に用いられる。ロジンではガム系樹脂、トール油系樹脂、ウッド系樹脂を用いることができる。ロジン誘導体としてはロジンをそれぞれ水素化、不均一化、重合、エステル化、金属塩化したものを用いることができる。テルペン系樹脂ではα−ピネン、β−ピネンなどのテルペン系樹脂のほか、テルペンフェノール樹脂を用いることができる。また、その他の天然樹脂としてダンマル、コーバル、シェラックを用いても差支えない。一方、合成樹脂系では石油系樹脂、フェノール系樹脂、キシレン系樹脂が好適に用いられる。石油系樹脂では脂肪族系石油樹脂、芳香族系石油樹脂、脂環族系石油樹脂、共重合系石油樹脂、水素化石油樹脂、純モノマー系石油樹脂、クマロンインデン樹脂を用いることができる。フェノール系樹脂ではアルキルフェノール樹脂、変性フェノール樹脂を用いることができる。キシレン系樹脂ではキシレン樹脂、変性キシレン樹脂を用いることができる。
【００５６】
アクリル樹脂も添加することができる。例えば、アルキルアクリレート（例、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート）及び／又はアルキルメタクリレート（例、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ブチルメタクリレート）から得られる単独重合体又は共重合体を挙げることができる。またこれらのモノマーと、他の共重合可能なモノマーとの共重合体も挙げることができる。特に、光硬化時の反応性や硬化後の耐久性、透明性の点からポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）が好ましい。
【００５７】
上記炭化水素樹脂等のポリマーの添加量は適宜選択されるが、上記反応性ポリマー１００質量部に対して１〜２０質量部が好ましく、より好ましくは５〜１５質量部である。
【００５８】
本発明の光硬化性転写層は、平均粒径が３００ｎｍ以下の透明微粒子を含んでいることが好ましい。これにより、反応性ポリマー等の光硬化性組成物から構成される光硬化性転写層の転写性、光硬化性等を損なうことなく、光硬化性転写シートをロール状としたときの側面からの転写層成分の滲みだし、はみ出し、そしてシート厚の変動を大きく抑制するものである。
【００５９】
上記透明微粒子は、透明性を有し、平均粒径が３００ｎｍ以下のものであれば、無機微粒子でも、有機微粒子でも良い。上記無機微粒子の例としては、ガラスビーズ、タルク、シリカ、アルミナ、マグネシア、亜鉛華、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、二酸化チタン、水酸化アルミニウム、マイカ、長石粉、石英粉を挙げることができ、上記有機微粒子の例としては、アクリル樹脂（例、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ））、ポリスチレン、スチレン／アクリル共重合体、ポリエチレン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリフッ化ビニリデン、テフロン（登録商標）、ジビニルベンゼン／スチレン共重合体、フェノール樹脂、ポリウレタン、酢酸セルロース、ナイロン、セルロース、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂の微粒子を挙げることができる。透明微粒子としては、シリカ、二酸化チタン及びポリメチルメタクリレートが好ましく、特にシリカ微粒子が好ましい。これらの微粒子の平均粒径は、一般に１〜３００ｎｍであり、１〜２００ｎｍが好ましい。３００ｎｍを超えた場合、転写性が低下しやすくなる。反対に小さすぎると本発明の滲み抑制効果が低下する傾向にある。
【００６０】
上記シリカ微粒子は、平均粒子径（１次粒子径）が１〜３００ｎｍ、さらに１〜２００ｎｍ、特に１０〜１００ｎｍの範囲にあることが好ましい。上記シリカ微粒子は、粉体状シリカ又はコロイダルシリカであり、その形状は球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、もしくは不定形状であり、好ましくは球状である。シリカ微粒子の比表面積は、一般に０．１〜３０００ｍ２／ｇであり、１０〜１５００ｍ２／ｇが好ましい。またシリカ微粒子の細孔容積は、一般に０．１〜５ｍｌ／ｇであり、０．２〜２ｍｌ／ｇが好ましい。
【００６１】
好ましい例として、にアエロジル１３０、アエロジル３００、アエロジル３８０、アエロジルＴＴ６００及びアエロジルＯＸ５０；日本シリカ工業（株）製のニプシルＶＮ−３；綜研化学（株）製のケミスノーＭＰを挙げることができる。
【００６２】
透明微粒子は、光硬化性組成物中に一般に０．５〜２０質量％、特に１〜１０質量％の範囲で含まれることが好ましい。この範囲に設定することにより、しみ出し、シート厚の変動を抑えながら、透明性を維持するのに特に有利となる。
【００６３】
以上の添加剤の他、本発明の光硬化性組成物は紫外線吸収剤、老化防止剤、染料、加工助剤等を少量含んでいてもよい。
【００６４】
本発明の光硬化性組成物からなる光硬化性転写シートは、上記反応性ポリマー、光重合可能な官能基を有する可塑化反応性希釈剤（モノマー及びオリゴマー）及び、所望により他の添加剤とを均一に混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の製膜法により所定の形状に製膜することにより得られる。支持体（一般に剥離シート）を用いる場合は、支持体上に製膜する必要がある。より好ましい本発明の光硬化性接着剤の製膜方法は、各構成成分を良溶媒に均一に混合溶解し、この溶液をシリコーンやフッ素樹脂を精密にコートしたセパレーターにフローコート法、ロールコート法、グラビアロール法、マイヤバー法、リップダイコート法等により支持体上に塗工し、溶媒を乾燥することにより製膜する方法を用いる。
【００６５】
また、光硬化性転写シートの厚さは１〜１２００μｍ、特に５〜５００μｍとすることが好ましい。特に５〜３００μｍ（好ましくは１５０μｍ以下）が好ましい。１μｍより薄いと封止性が劣り、透明樹脂基板の凸凹を埋め切れない場合が生じる。一方、１０００μｍより厚いと記録媒体の厚みが増し、記録媒体の収納、アッセンブリー等に問題が生じるおそれがあり、更に光線透過に影響を与えるおそれもある。
【００６６】
上記光硬化性転写シートの一方の側又は両側には剥離シートが貼り付けられていることが好ましい。
【００６７】
剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明の有機樹脂が好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等の有機樹脂を主成分とする透明樹脂基板を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【００６８】
表面に信号記録用凹凸を有する基板２１の材料としてはとしては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明の有機樹脂が好ましく、このような支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等の有機樹脂を主成分とする透明樹脂基板を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが転写性、複屈折の点で優れており、好適に用いることができる。厚さは２００〜２０００μｍが好ましく、特に５００〜１５００μｍが好ましい。
【００６９】
有機ポリマーフィルムの材料２６としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明の有機樹脂が好ましく、このような支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等の有機樹脂を主成分とする透明樹脂基板を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが転写性、複屈折の点で優れており、好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に５０〜１００μｍが好ましい。
【００７０】
こうして得られる本発明に光硬化性転写シートは、ガラス転移温度が２０℃以下である反応性ポリマーを含む光硬化性組成物からなるものであるが、さらに光硬化性転写層の３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透過率が７０％以上であることが好ましい。即ち、ガラス転移温度が２０℃以下とすることにより、光硬化性転写層がスタンパの凹凸面に圧着されたとき、その凹凸面に緊密に追随できる可撓性を有することができる。特に、ガラス転移温度が１５℃〜−５０℃（特に１５℃〜−１０℃）の範囲にすることにより追随性が優れている。ガラス転移温度が高すぎると、貼り付け時に高圧力及び高温が必要となり作業性の低下につながり、また低すぎると、硬化後の十分な高度が得られなくなる。
【００７１】
光硬化性転写シートは３８０〜４２０ｎｍ（好ましくは３８０〜８００ｎｍ）の波長領域の光透過率が７０％以上であり、これはレーザによる読み取り信号の強度低下を防止するためである。さらに３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光透過率が８０％以上であることが好ましい。
【００７２】
光硬化性組成物中の反応性ポリマーには重合性官能基を１〜５０モル％有することが好ましい。これにより、得られる光硬化性転写シートが、硬化後に形状保持可能な強度を得ることができる。光重合開始剤は前記のように０．１〜１０質量％の範囲が好ましく、これより少ないと硬化速度が遅すぎて、作業性が悪く、多すぎると転写精度が低下する。
【００７３】
本発明に光硬化性転写シートは、膜厚精度を精密に制御したフィルム状で提供することができるため、基板及びスタンパとの貼り合わせを容易にかつ精度良くおこなうことが可能である。また、この貼り合わせは、圧着ロールや簡易プレスなどの簡便な方法で１０〜５０℃で仮圧着した後、光により常温、１〜数十秒で硬化できる上、本接着剤特有の自着力によりその積層体にズレや剥離が起き難いため、光硬化まで自由にハンドリングができるという特徴を有している。
【００７４】
本発明の光硬化性転写シートを硬化する場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等が挙げられる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。
【００７５】
また、硬化促進のために、予め積層体を３０〜８０℃に加温し、これに紫外線を照射してもよい。
【００７６】
得られた本発明の基板の凹凸表面の反射層は、基板に反射層を金属蒸着（例えばスパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング等）することにより形成する。金属としては、アルミニウム、金、銀、これらの合金等を挙げることができる。硬化シート上の半透明反射層は、金属として銀等を用いて形成される。即ち、上記反射層より低い反射率の反射層にする必要があり、成分、膜厚等が変更される。
【００７７】
硬化シートの反射層上に有機ポリマーフィルムを貼り付ける場合、一方に接着剤を塗布し、その上に他方を重ね、硬化させる。接着剤がＵＶ硬化性樹脂の場合はＵＶ照射により、ホットメルト接着剤の場合は、加熱下に塗布し、冷却することにより得られる。  
本発明の光情報記録媒体の製造は、通常、上記のように円盤状（一般に中央に貫通孔を有する）で処理されるが、シート状で連続的に作成し、最後に円盤状にしてもよい。
【００７８】
以下に実施例を示し、本発明ついてさらに詳述する。
【実施例】
【００７９】
［実施例１］
＜光硬化性転写シートの作製＞
（反応性ポリマーの作製）
配合Ｉ
２−エチルヘキシルメタクリレート                    ７０質量部
メチルメタクリレート                                ２０質量部
２−ヒドロキシエチルメタクリレート                  １０質量部
ベンゾフェノン                                        ５質量部
トルエン                                            ３０質量部
酢酸エチル                                          ３０質量部
【００８０】
上記の配合の混合物を、穏やかに撹拌しながら、６０℃に加熱して重合を開始させ、この温度で１０時間撹拌し、側鎖にヒドロキシル基を有するアクリル樹脂を得た。その後、カレンズ  ＭＯＩ（２−イソシアナトエチルメタクリレート；昭和電工（株）製）５質量部を添加し、窒素雰囲気下で穏やかに撹拌しながら５０℃で反応させ、光重合性官能基を有する反応性ポリマーの溶液１を得た。
【００８１】
得られた反応性ポリマーは、Ｔｇが０℃であり、側鎖にメタクリロイル基を５モル％有していた。
【００８２】
配合II
反応性ポリマー溶液１                              １００質量部
ヘキサンジオールジアクリレート                      ３０質量部
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン            １質量部
【００８３】
上記配合の混合物を均一に溶解し、剥離シート（幅３００ｍｍ、長さ１０００ｍ、厚さ７５μｍ；商品名Ｎｏ．２３、藤森工業（株）製）上に、全面塗布し、乾燥厚さ２０±２μｍの光硬化性転写シートを形成し、シートの反対側に上記と同一の剥離シートを貼付し、ロール状に巻き上げ、光硬化性転写シートのロール（直径０．５ｍ）を得た。
【００８４】
［比較例１］
実施例１において、配合IIのヘキサンジオールジアクリレートを用いなかった以外は、同様にして光硬化性転写シートのロールを得た。
【００８５】
［比較例２］
実施例１において、配合IIのヘキサンジオールジアクリレートを６０質量部用いた以外は、同様にして光硬化性転写シートのロールを得た。
【００８６】
（１）光硬化性転写シートの評価
（１−１）転写シートの貯蔵弾性率の測定
上記実施例１、比較例１及び２で得られた転写シートの転写層の貯蔵弾性率を、粘弾性測定装置としてレオストレスＲＳ３００（ＨＡＡＫＥ社製）を用いて測定した。その際、φ＝２０ｍｍのパラレルプレートを用いて、測定厚さ１ｍｍ（転写層を押圧により薄くした）、測定温度２５℃にて、周波数０．０１Ｈｚ、１Ｈｚ、１００Ｈｚにおいて測定した。
（１−２）厚み精度
得られた光硬化性転写シートの厚さを１ｍ２当たり１０カ所測定し、厚さのばらつきの程度を測定した。ばらつきが５％以内の場合を○、５％を超える場合を×とした。
【００８７】
（２）得られる光情報記録媒体の評価
各例の光硬化性転写シートのロールを円盤状に打ち抜いた後、一方の剥離シートを除去し、得られた円盤状光硬化性転写シートを、射出成形により成形したピットとしての凹凸面を有するポリカーボネート基板（厚さ１．１ｍｍ）の凹凸面に設けられたアルミニウム反射層（７０ｎｍ）上に、転写シート面と反射層が接触するように配置し、表面温度が２５℃のシリコーンゴム製のローラを用いて２ｋｇの荷重で光硬化性転写シートを押圧し、積層体を形成した（図２の（３）に対応）。
【００８８】
積層体の光硬化性転写シートのもう一方の剥離シートを除去し、その除去された転写シート表面に、ピットとしての凹凸面を有するニッケル製のスタンパを、シート表面とスタンパの凹凸面とが接触するように配置して、表面温度が２５℃のシリコーンゴム製のローラを用いて２ｋｇの荷重でスタンパを押圧し、積層体を形成し、スタンパの凹凸形状を転写シート表面に転写した。
【００８９】
次に、光硬化性転写シート側から、メタルハライドランプを用いて、積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ２の条件でＵＶ照射し、転写シートを硬化させた。
【００９０】
積層体からスタンパを剥離、除去し、硬化した光硬化性転写シートの凹凸面上に銀合金をスパッタリングすることにより、銀合金の半透過反射層を形成した。この上に接着剤を介してポリカーボネートフィルム（厚さ７０μｍ；商品名ピュアエースＣ１１０−７０、帝人（株）製）を貼り付けた。
【００９１】
これにより２層の凹凸面を有する光情報記録媒体を得た。
【００９２】
（２−１）得られた光情報記録媒体の光線透過率（３８０〜４２０ｎｍの波長領域）
一方の光硬化性転写シートを、ＪＩＳ−Ｋ６７１７に従い３８０〜４２０ｎｍの波長領域の光線透過率を測定した。７０％以上を○、７０％未満を×とした。
【００９３】
（２−２）得られた光情報記録媒体の転写性（信号読み取り）
得られた光情報記録媒体の再生波形を、波長４０５ｎｍのレーザを用いて測定し、得られた再生波形と製造に用いたスタンパの波形と比較して、転写性を評価した。スタンパの波形と一致しているものを○、ほとんど一致していないものを×とした。
【００９４】
得られた試験結果を表１に示す。
【００９５】
【表１】
2005116051.tif 000003
【００９６】
実施例１で得られた光硬化性転写シートは厚さ精度が良好で作業性に優れ、且つこれを用いて得られる光情報記録媒体のピット形状は良好なもので、常温での転写性にも優れていることが分かる。一方、比較例１の、希釈剤を用いない貯蔵弾性率が本発明の範囲より高い光硬化性転写シートから作製された光情報記録媒体は、厚さ精度は良好なものであるが、転写性は劣っていた。また、貯蔵弾性率が本発明の範囲より低い転写シートから作製された光情報記録媒体は、転写性は良好であるが、厚さ精度は劣っていた。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明の光硬化性転写シートの実施形態の一例を示す断面図
【図２】本発明の光情報記録媒体の製造方法の一例を示す断面図である。
【図３】本発明の光情報記録媒体の一例を示す断面図である。
【図４】二重真空室方式の装置を用いた押圧法を説明するための該略図である。
【図５】従来の光情報記録媒体を示す断面図である。
【図６】従来の別の光情報記録媒体を示す断面図である。
【図７】日経エレクトロニクスに記載の光情報記録媒体の製造方法の手順を示す断面図である。
【符号の説明】
【００９８】
１１  光硬化性転写シート
１２ａ，１２ｂ  剥離シート
２１  基板
２３  半透明反射層
２４  スタンパ
２５  反射層
２６  有機ポリマーフィルム（カバー層）
１，２  透明樹脂基板
１ａ，２ａ  反射層
３  接着剤層
１ｂ  半透明層
４ａ  ディスク基板
５Ａ，５Ｂ  紫外線硬化樹脂
６ａ  反射層（又は記録層）
７  カバー層
【図１】
2005116051.tif 000004
【図２】
2005116051.tif 000005
【図３】
2005116051.tif 000006
【図４】
2005116051.tif 000007
【図５】
2005116051.tif 000008
【図６】
2005116051.tif 000009
【図７】
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