(57)【要約】【課題】  安定したセルギャップ保持が可能な電気光学装置及びその電気光学装置を用いた電子機器を提供すること。また、安定したセルギャップ保持を可能とするスペーサの散布方法及び電気光学装置の製造方法を提供すること【解決手段】  着色層１３とオーバーコート層１４のように基板間の厚さが異なる領域と、この厚さの異なる領域に夫々配置され、当該基板間の厚さに対応した径を有するスペーサ２０ａ及びスペーサ２０ｂとを具備することとしたので、それぞれの場所のセルギャップに応じてスペーサの径を異ならせた複数のスペーサを配置することができ、マルチギャップ構造であっても、セルギャップを安定して保持することができる。また、より広い面積でセルギャップを維持することとなるので例えば耐衝撃性の高い電気光学装置である液晶装置１とすることができる。【選択図】  図１
2005092044.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学材料を狭持する一対の基板と、
前記一対の基板間に設けられ、その基板間の厚さが異なる複数の領域と、
前記複数の領域に配置され、前記基板間の厚さに対応した径を有するスペーサと
を具備することを特徴とする電気光学装置。
【請求項２】
前記複数の領域は、その領域ごとに吸収する光の波長が異なるカラーフィルタにより形成されていることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記複数の領域は、夫々別々の配線を更に具備することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の電気光学装置を備えていることを特徴とする電子機器。
【請求項５】
基板上に、電気抵抗が夫々異なる少なくとも第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、
前記第１の領域を選択して吸着するように第１の電圧を第１のスペーサに印加する工程と、
前記第２の領域を選択して吸着するように前記第１の電圧とは異なる第２の電圧を、前記第１のスペーサと径が異なる第２のスペーサに印加する工程と、
前記第１及び第２のスペーサを前記第１の領域及び第２の領域に放散する工程と
を具備することを特徴とするスペーサの散布方法。
【請求項６】
前記少なくとも第１の領域及び第２の領域を形成する工程は、その領域ごとに吸収する光の波長が異なるカラーフィルタにより形成されていることを特徴とする請求項５に記載のスペーサの散布方法。
【請求項７】
基板上に、電気的極性が夫々異なる第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、
前記第１の領域の電気的極性と逆の極性を第１のスペーサに付与する工程と、
前記第２の領域の電気的極性と逆の極性を、前記第１のスペーサとは径が異なる第２のスペーサに付与する工程と、
前記第１及び第２のスペーサを前記第１の領域及び第２の領域に放散する工程と
を具備することを特徴とするスペーサの散布方法。
【請求項８】
基板上に、電気的極性が夫々異なる第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、
前記第１の領域の電気的極性と同じ極性を第１のスペーサに付与する工程と、
前記第２の領域の電気的極性と同じ極性を、前記第１のスペーサとは径が異なる第２のスペーサに付与する工程と、
前記第１及び第２のスペーサを前記第１の領域及び第２の領域に放散する工程と
を具備することを特徴とするスペーサの散布方法。
【請求項９】
前記第１の領域及び第２の領域を形成する工程は、その領域ごとに吸収する光の波長が異なるカラーフィルタにより形成されていることを特徴とする請求項７又は請求項８に記載のスペーサの散布方法。
【請求項１０】
前記第１の領域及び第２の領域を形成する工程は、夫々別々の配線を具備すると共に、前記第１のスペーサ及び第２のスペーサに夫々極性を付与する工程は、前記別々の配線に基づき付与されるものであることを特徴とする請求項７から請求項９のいずれか一項に記載のスペーサの散布方法。
【請求項１１】
電気光学材料を狭持する一対の基板間の厚さ及び電気抵抗が夫々異なる少なくとも第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、
前記第１の領域を選択して吸着するように第１の電圧を第１のスペーサに印加する工程と、
前記第２の領域を選択して吸着するように前記第１の電圧とは異なる第２の電圧を、前記第１のスペーサとは異なる径の第２のスペーサに印加する工程と、
前記第１及び第２のスペーサを前記少なくとも第１の領域及び第２の領域に放散する工程と
を具備することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１２】
電気光学材料を狭持する一対の基板間の厚さ及び電気的極性が夫々異なる第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、
前記第１の領域の電気的極性と逆の極性を第１のスペーサに付与する工程と、
前記第２の領域の電気的極性と逆の極性を、前記第１のスペーサとは径の異なる第２のスペーサに付与する工程と、
前記第１及び第２のスペーサを前記第１の領域及び第２の領域に放散する工程と
を具備することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項１３】
電気光学材料を狭持する一対の基板間の厚さ及び電気的極性が夫々異なる第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、
前記第１の領域の電気的極性と同じ極性を第１のスペーサに付与する工程と、
前記第２の領域の電気的極性と同じ極性を、前記第１のスペーサとは径の異なる第２のスペーサに付与する工程と、
前記第１及び第２のスペーサを前記第１の領域及び第２の領域に放散する工程と
を具備することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、携帯電話や携帯情報端末等に用いられる電気光学装置、その電気光学装置を用いた電子機器及びその電気光学装置の製造等に用いられるスペーサの散布方法に関する。また、その電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話、携帯型パーソナルコンピュータ等に用いられる電気光学装置である液晶装置は、例えばＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のカラーフィルタ等が形成されたガラス基板と、配線等が形成されたガラス基板とが貼り合わされた構成になっている。ここで、両基板の間には、液晶を注入する間隙（セルギャップ）を形成するためスペーサが、例えばカラーフィルタが形成された基板の全体に亘って散布され、介挿されている。
【０００３】
ところが、スペーサの散布については、例えばカラーフィルタが形成された画素部、形成されない非画素部の区別なく散布されるので、光透過性が低下するという問題が生じた。
【０００４】
そこで、例えばスペーサと配置面との電気的極性により生じる斥力・引力の作用で、スペーサを所望の個所に選択的に散布すること等が提案されている（例えば、特許文献１参照）。  
【特許文献１】特開平９−１４６１０１号公報（段落［００１７］、［００１８］、［００２４］、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１のような方法によっても、例えばカラーフィルタが形成される表示領域にセルギャップが異なった構造（マルチギャップ構造）を採ると共に、表示領域の高精細化により、少ない面積でギャップを維持せざるを得なくなった。その結果、衝撃等でスペーサが移動してしまい、安定したセルギャップ保持が困難となる等の問題が生じた。
【０００６】
本発明は、上述の課題に鑑みてなされるもので、安定したセルギャップ保持が可能な電気光学装置及びその電気光学装置を用いた電子機器を提供することを目的とする。
【０００７】
また、安定したセルギャップ保持を可能とするスペーサの散布方法及び電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明の主たる観点に係る電気光学装置は、電気光学材料を狭持する一対の基板と、前記一対の基板間に設けられ、その基板間の厚さが異なる複数の領域と、前記複数の領域に配置され、前記基板間の厚さに対応した径を有するスペーサとを具備することを特徴とする。ここで「複数の領域」とは、例えば厚さの異なる着色層、オーバーコート層などをいう。
【０００９】
本発明では、一対の基板間に設けられ、その基板間の厚さが異なる複数の領域と、該複数の領域に配置され、当該基板間の厚さに対応した径を有するスペーサとを具備することとしたので、それぞれの場所のセルギャップに応じてスペーサの径を異ならせた複数のスペーサを配置することができ、マルチギャップ構造であっても、セルギャップを安定して保持することができる。
【００１０】
また、より広い面積でセルギャップを維持することとなるので例えば耐衝撃性の高い電気光学装置とすることができる。例えばマルチギャップ構造においては、スペーサの径を１種類のみとすると、基板間の厚さが薄い領域に配置されたスペーサだけでセルギャップを維持することを余儀なくされるため不安定であり、耐衝撃性も不十分であったが、本発明では、基板間の厚さが異なる領域において、それぞれの厚さに対応する径を有するスペーサを配置させているので、スペーサを無駄にすることなく、セルギャップを安定して維持でき、耐衝撃性を高くすることができる。
【００１１】
本発明の一の形態によれば、前記複数の領域は、その領域ごとに吸収する光の波長が異なるカラーフィルタにより形成されていることを特徴とする。これにより、カラーフィルタの厚さを色ごとに異ならせるようにして、それぞれのカラーフィルタを通過した光の波長にとって透過率が最適となるように、セルギャップを設定することができる。また、厚さの異なる領域で異なる径のスペーサを配置することができるので、安定的にセルギャップを維持することができる。
【００１２】
本発明の一の形態によれば、前記複数の領域は、夫々別々の配線を更に具備することを特徴とする。これにより、例えばそれぞれの配線に異なる電圧を印加することにより、径の異なるスペーサを選択的に散布することができる。
【００１３】
本発明の他の観点に係る電子機器は、上記の電気光学装置を備えていることを特徴とする。
【００１４】
本発明では、一対の基板間に設けられ、その基板間の厚さが異なる複数の領域と、該複数の領域に配置され、その基板間の厚さに対応した径を有するスペーサとを具備することとしたので、例えば携帯電話機等の電子機器で耐衝撃性を向上させることができる。
【００１５】
本発明の他の観点に係るスペーサの散布方法は、基板上に、電気抵抗が夫々異なる少なくとも第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、前記第１の領域を選択して吸着するように第１の電圧を第１のスペーサに印加する工程と、前記第２の領域を選択して吸着するように前記第１の電圧とは異なる第２の電圧を、前記第１のスペーサと径が異なる第２のスペーサに印加する工程と、前記第１及び第２のスペーサを前記第１の領域及び第２の領域に放散する工程とを具備することを特徴とする。
【００１６】
本発明では、電気抵抗が夫々異なる少なくとも第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、当該第１の領域を選択して吸着するように第１の電圧を第１のスペーサに印加する工程と、第２の領域を選択して吸着するように第１の電圧とは異なる第２の電圧を、第１のスペーサと径が異なる第２のスペーサに印加する工程と、第１及び第２のスペーサを第１の領域及び第２の領域に放散する工程とを具備することしたので、例えば第１の領域が第２の領域より高い電気抵抗として、第１のスペーサに第２のスペーサより高い電圧を印加すれば、第１のスペーサは第１の領域に引き寄せられ、第２のスペーサは第２の領域に引き寄せられることとなる。
【００１７】
すなわち、各領域自体の抵抗値の差を利用して径の異なる第１及び第２のスペーサを所望の領域に選択的に散布することができる。
【００１８】
本発明の一の形態によれば、前記少なくとも第１の領域及び第２の領域を形成する工程は、その領域ごとに吸収する光の波長が異なるカラーフィルタにより形成されていることを特徴とする。これにより、カラーフィルタ自体の電気抵抗を利用して、それぞれのカラーフィルタに径の異なるスペーサを選択的に散布することができる。
【００１９】
本発明の他の観点に係るスペーサの散布方法は、基板上に、電気的極性が夫々異なる第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、前記第１の領域の電気的極性と逆の極性を第１のスペーサに付与する工程と、前記第２の領域の電気的極性と逆の極性を、前記第１のスペーサとは径が異なる第２のスペーサに付与する工程と、前記第１及び第２のスペーサを前記第１の領域及び第２の領域に放散する工程とを具備することを特徴とする。
【００２０】
本発明では、電気的極性が夫々異なる第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、当該第１の領域の電気的極性と逆の極性を第１のスペーサに付与する工程と、第２の領域の電気的極性と逆の極性を、第１のスペーサとは径が異なる第２のスペーサに付与する工程と、第１及び第２のスペーサを第１の領域及び第２の領域に放散する工程とを具備することしたので、例えば第１及び第２の領域に径の異なる第１のスペーサ及び第２のスペーサが引き寄せられたときに、夫々のスペーサの上端と基板面との距離を同じにでき、安定的にセルギャップを維持できる。
【００２１】
すなわち、第１のスペーサと第１の領域とは逆の電気的極性を有しているので、第１のスペーサは第１の領域に引き寄せられ、同様に第２のスペーサは第２の領域に引き寄せられる。また、第１のスペーサと第２の領域とは同じ電気的特性を有しているので、第１のスペーサは第２の領域に対して反発し、同様に、第２のスペーサは第１の領域に対して反発する。この結果、第１及び第２の領域に、径が異なる第１及び第２のスペーサを選択的に散布することができる。
【００２２】
本発明の他の観点に係るスペーサの散布方法は、基板上に、電気的極性が夫々異なる第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、前記第１の領域の電気的極性と同じ極性を第１のスペーサに付与する工程と、前記第２の領域の電気的極性と同じ極性を、前記第１のスペーサとは径が異なる第２のスペーサに付与する工程と、前記第１及び第２のスペーサを前記第１の領域及び第２の領域に放散する工程とを具備することを特徴とする。
【００２３】
本発明では、基板上に、電気的極性が夫々異なる第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、当該第１の領域の電気的極性と同じ極性を第１のスペーサに付与する工程と、第２の領域の電気的極性と同じ極性を、第１のスペーサとは径が異なる第２のスペーサに付与する工程と、第１及び第２のスペーサを第１の領域及び第２の領域に放散する工程とを具備することとしたので、例えば第１及び第２の領域から径の異なる第１のスペーサ及び第２のスペーサが引き離されたときに、それ以外の引き寄せられた夫々のスペーサの上端と基板面との距離を同じにでき、安定的にセルギャップを維持できる。
【００２４】
すなわち、第１のスペーサと第１の領域と同じの電気的極性を有しているので、第１のスペーサは第１の領域と引き離され、同様に第２のスペーサは第２の領域と引き離されるので、第１及び第２の領域に、径が異なる第１及び第２のスペーサを選択的に散布することができる。
【００２５】
本発明の一の形態によれば、前記第１の領域及び第２の領域を形成する工程は、その領域ごとに吸収する光の波長が異なるカラーフィルタにより形成されていることを特徴とする。
【００２６】
本発明の一の形態によれば、前記第１の領域及び第２の領域を形成する工程は、夫々別々の配線を具備すると共に、前記第１のスペーサ及び第２のスペーサに夫々極性を付与する工程は、前記別々の配線に基づき付与されるものであることを特徴とする。
【００２７】
本発明の他の観点に係る電気光学装置の製造方法は、電気光学材料を狭持する一対の基板間の厚さ及び電気抵抗が夫々異なる少なくとも第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、前記第１の領域を選択して吸着するように第１の電圧を第１のスペーサに印加する工程と、前記第２の領域を選択して吸着するように前記第１の電圧とは異なる第２の電圧を、前記第１のスペーサとは異なる径の第２のスペーサに印加する工程と、前記第１及び第２のスペーサを前記少なくとも第１の領域及び第２の領域に放散する工程とを具備することを特徴とする。
【００２８】
本発明では、電気光学材料を狭持する一対の基板間の厚さ及び電気抵抗が夫々異なる少なくとも第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、当該第１の領域を選択して吸着するように第１の電圧を第１のスペーサに印加する工程と、第２の領域を選択して吸着するように第１の電圧とは異なる第２の電圧を、第１のスペーサとは異なる径の第２のスペーサに印加する工程と、第１及び第２のスペーサを少なくとも第１の領域及び第２の領域に放散する工程とを具備することしたので、例えば第１の領域が第２の領域より高い電気抵抗として、第１のスペーサに第２のスペーサより高い電圧を印加すれば、第１のスペーサは第１の領域に引き寄せられ、第２のスペーサは第２の領域に引き寄せられることとなる。
【００２９】
また、基板間の厚さの異なる第１及び第２の領域に径の異なる第１のスペーサ及び第２のスペーサが引き寄せられたときに、第１のスペーサ及び第２のスペーサはそれぞれの場所のセルギャップに応じて配置されるので、安定的にセルギャップを維持できる電気光学装置を容易に製造することができる。
【００３０】
本発明の他の観点に係る電気光学装置の製造方法は、電気光学材料を狭持する一対の基板間の厚さ及び電気的極性が夫々異なる第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、前記第１の領域の電気的極性と逆の極性を第１のスペーサに付与する工程と、前記第２の領域の電気的極性と逆の極性を、前記第１のスペーサとは径の異なる第２のスペーサに付与する工程と、前記第１及び第２のスペーサを前記第１の領域及び第２の領域に放散する工程とを具備することを特徴とする。
【００３１】
本発明では、電気光学材料を狭持する一対の基板間の厚さ及び電気的極性が夫々異なる第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、当該第１の領域の電気的極性と逆の極性を第１のスペーサに付与する工程と、第２の領域の電気的極性と逆の極性を、第１のスペーサとは径の異なる第２のスペーサに付与する工程と、第１及び第２のスペーサを第１の領域及び第２の領域に放散する工程とを具備することとしたので、例えば第１及び第２の領域に径の異なる第１のスペーサ及び第２のスペーサが引き寄せられたときに、第１のスペーサ及び第２のスペーサはそれぞれの場所のセルギャップに応じて配置されるので、安定的にセルギャップを維持できる電気光学装置を容易に製造することができる。
【００３２】
すなわち、第１のスペーサと第１の領域とは逆の電気的極性を有しているので、第１のスペーサは第１の領域に引き寄せられ、同様に第２のスペーサは第２の領域に引き寄せられる。また、第１のスペーサと第２の領域とは同じ電気的特性を有しているので、第１のスペーサは第２の領域に対して反発し、同様に、第２のスペーサは第１の領域に対して反発する。この結果、基板間の厚さが異なる第１及び第２の領域に、径が異なる第１及び第２のスペーサを選択的に散布することができ、容易にセルギャップの調整をすることが可能となる。
【００３３】
本発明の他の観点に係る電気光学装置の製造方法は、電気光学材料を狭持する一対の基板間の厚さ及び電気的極性が夫々異なる第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、前記第１の領域の電気的極性と同じ極性を第１のスペーサに付与する工程と、前記第２の領域の電気的極性と同じ極性を、前記第１のスペーサとは径の異なる第２のスペーサに付与する工程と、前記第１及び第２のスペーサを前記第１の領域及び第２の領域に放散する工程とを具備することを特徴とする。
【００３４】
本発明では、電気光学材料を狭持する一対の基板間の厚さ及び電気的極性が夫々異なる第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、当該第１の領域の電気的極性と同じ極性を第１のスペーサに付与する工程と、第２の領域の電気的極性と同じ極性を、第１のスペーサとは径の異なる第２のスペーサに付与する工程と、第１及び第２のスペーサを第１の領域及び第２の領域に放散する工程とを具備することしたので、例えば第１及び第２の領域から径の異なる第１のスペーサ及び第２のスペーサが引き離されたときに、第１のスペーサ及び第２のスペーサはそれぞれの場所のセルギャップに応じて配置されるので、安定的にセルギャップを維持できる電気光学装置を容易に製造することができる。
【００３５】
すなわち、第１のスペーサと第１の領域と同じの電気的極性を有しているので、第１のスペーサは第１の領域と引き離され、同様に第２のスペーサは第２の領域と引き離されので、基板間の厚さが異なる第１及び第２の領域に、径が異なる第１及び第２のスペーサを選択的に散布することができ、容易にセルギャップの調整をすることが可能となる。
【発明の効果】
【００３６】
本発明によれば、基板間のギャップ維持を安定して行うことができ、耐衝撃性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づき説明する。尚、以下に実施形態を説明するにあたっては、電気光学装置の例として液晶装置及びその液晶装置を用いた電子機器について説明する。また、基板間の厚さの異なるマルチギャップ構造は、一方の基板側の層の厚さの違いにより形成されている場合について説明するが、勿論本発明はこれに限られるものではない。
【００３８】
（第１の実施形態）
まず、本発明を反射半透過型のＴＦＴ（薄膜トランジスタもしくは三端子型スイッチング素子）アクティブマトリクス方式の液晶装置に適用した第１の実施形態について説明する。
【００３９】
図１は、本発明の第１の実施形態に係る液晶装置の概略断面図である。尚、図１及び以下に示す各図においては、各層や各部材の大きさ等はその説明に応じて異ならせている。
【００４０】
液晶装置１は、図１に示すように横型電界駆動方式（ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式）を採用しており、液晶パネル２、バックライト３を有する。
【００４１】
（液晶パネルの構成）
液晶パネル２は、一対の基板であるガラス又は合成樹脂等から形成された透明基板４を基体とするカラーフィルタ基板５と、これに対向する同様の透明基板６を基体とする対向基板７とがシール材８を介して貼り合わされている。また、液晶パネル２はカラーフィルタ基板５と対向基板７との間に、電気光学材料である液晶が封入されて狭持された液晶層９及び夫々の径が異なる第１のスペーサ及び第２のスペーサであるスペーサ２０ａ及び２０ｂを有する。
【００４２】
また、透明基板４の外面には偏光板１１が配置され、透明基板６の外面には偏光板１０が配置されている。
【００４３】
カラーフィルタ基板５は、例えば図１に示すように透明基板４の液晶層９側の表面に、光を遮蔽する遮蔽層１２、通過する光を着色する着色層１３及び光を反射する反射層１５が形成されている。
【００４４】
また、着色層１３上にはその一部にオーバーコート層１４が形成されており、更にそのオーバーコート層１４に覆われていない着色層１３とオーバーコート層１４及び遮蔽層１２を覆うように配向膜１６が形成されている。
【００４５】
一方対向基板７には、例えば図１に示すように透明基板６の液晶層９側の表面に、横電界を生成すると共に後述するＴＦＴに駆動信号を送る電極部１８及びその電極部１８から駆動信号を受け取るＴＦＴ２８を有し、更に電極部１８及びＴＦＴ２８を覆うように配向膜１９が形成されている。
【００４６】
ここで、着色層１３は図１に示すように一部が反射層１５を覆うように形成されている。これにより、反射型表示の場合の反射層１５で反射した外部光も、着色層１３で着色されることとなる。
【００４７】
また、着色層１３は吸収する光の波長が異なるカラーフィルタ、例えば赤、緑及び青の３色の着色層１３Ｒ（赤）、着色層１３Ｇ（緑）及び１３Ｂ（青）である。更に着色層１３は、着色層１３Ｒ、着色層１３Ｇ及び着色層１３Ｂの３色の領域で１画素となり、各色毎の領域ではサブ画素となる。
【００４８】
また、着色層１３は例えば図２に示すように透明基板４上にストライプ配列されている。勿論、このストライプ配列の他に、斜めモザイク配列又はデジタル配列等種々のパターン形状を採用することもできる。
【００４９】
図６は、着色層１３に含まれる代表的な材料名を示した表である。
【００５０】
着色層１３は、例えばレジスト基材に顔料を混合させたレジストを原料とする。このレジストは、顔料として例えばアゾレーキ系や縮合アゾ系、キナクリドン系等の材料が用いられ、レジスト基材として例えばアクリル酸エステル系やポリアクリル酸系、ポリイミド系等の樹脂が用いられる。
【００５１】
また、必要に応じて、重合時間を調整する例えば１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン等の開始剤や、膜の分布を均一にする例えばポリオキシエチレンアルギルフェニルエーテル系等の分散剤を含ませてもよい。この材料の配合比を変えることにより、後述するようにレジスト顔料の抵抗値を所望の値にすることができ、必要なスペーサを必要なところに配置させることが可能となる。
【００５２】
次に反射層１５は、例えば図１に示すように透明基板４と着色層１３の間に配置され、その着色層１３Ｒ、１３Ｇ及び１３Ｂ夫々の片側略半分を占める範囲に形成されており、その材質は例えばアルミニウムや銀等の単体金属膜である。
【００５３】
遮蔽層１２は、例えば図１及び図２に示すように各サブ画素間の境界領域の遮光を行うためのもので、その境界領域に図２のＸ軸及びＹ軸方向に延びる帯状に形成されている。
【００５４】
また、オーバーコート層１４は反射層１５と一致するように反射層の真上（図１中のＺ軸方向）に形成されており、図２に示すように各着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ（各サブ画素）を跨るような帯状に（図２のＹ軸方向に）形成されている。
【００５５】
これは、オーバーコート層１４が反射型表示の場合に液晶層９を２回通過するのに対し透過型表示の場合は１回しか通過しない点を考慮して、双方の液晶層９を通過する光の経路を等しくするものであるから、反射層１５上にその反射層１５の位置に一致するように形成されている。この結果、１つのサブ画素内において透明基板４及び６間の厚さが異なるように複数の厚さの異なる領域が形成されることになる。このような構造をマルチギャップ構造という。
【００５６】
例えば図１に示すように着色層１３上の配向膜１６の表面から透明基板６側の配向膜１９の表面までの距離ｔ１は、同じくオーバーコート層１４上の配向膜１６の表面から透明基板６側の配向膜１９の表面までの距離ｔ２より大きく、マルチギャップ構造を構成している。
【００５７】
スペーサは、例えば球状のシリカ又はポリスチレン等により形成されていて、上述した２つのセルギャップのｔ１及びｔ２に収まるように、基板間の厚さに対応した径であるｔ１の第１のスペーサ２０ａ及びｔ２の第２のスペーサ２０ｂが形成されている。
【００５８】
次に電極部１８は、例えば図３に示すようにＸ軸方向に帯状に形成されたゲート電極２６、Ｙ軸方向に帯状に形成されたソース電極２７、そのソース電極２７からサブ画素ごとに形成された画素電極２９及び各サブ画素に共通する共通電極３０を有する。
【００５９】
ここで、ゲート電極２６とソース電極２７とは夫々ＴＦＴ２８に接続されており駆動信号がゲート電極２６とソース電極２７とを介しサブ画素ごとに設けられているＴＦＴ２８に受け渡されることとなる。
【００６０】
また、画素電極２９と共通電極３０とは例えば図３に示すように相互に櫛歯状に形成されていて、Ｘ軸方向に細長く、Ｙ軸方向に一定間隔を置いて交互に配置されている。更に共通電極３０は、ゲート電極２６、ソース電極２７、ＴＦＴ２８及び画素電極２９のいずれとも絶縁されている。
【００６１】
図４は、図３のＭ―Ｍでの断面を示した図であるが、この図４に示すように、ゲート電極２６と共通電極３０との間には、例えば層間絶縁膜３１が形成される。
【００６２】
これにより、電界は選択された画素電極２９から隣接する共通電極３０に向けてＹ方向（図４の矢印の向き）に発生し、液晶は横方向に回転させられることとなる。
【００６３】
次にバックライト３は、例えば発光ダイオードで形成される光源２１、光源２１から発せられた光を液晶パネル２全面に導く導光板２２、導光板２２に導かれた光を液晶パネル２に対して拡散させる拡散板２３、導光板２２により液晶パネル２とは反対側に導かれる光を液晶パネル２側に反射させる反射板２４を有する。
【００６４】
ここで、光源２１は常に点灯しているのではなく、外光がほとんどないような環境において使用される場合に、ユーザからの指示や図示しないセンサからの検出信号等に応じて点灯し、これにより透過表示が行われるようになっている。
【００６５】
なお、ここでは、液晶装置１は、ＩＰＳ方式を採用するため、カラーフィルタ基板５側には電極は設けられていない。
【００６６】
（液晶装置の動作）
まず、外光が対向基板７側から入射し反射層１５で反射され偏光板１０から射出する反射型表示の場合について簡単に説明する。
【００６７】
所定の画素電極２９と共通電極３０とに駆動信号が供給されるとその間に横電界が発生し、そこに保持されている液晶のみが駆動されることとなる。
【００６８】
従って、図１の矢印Ａの経路例えば透明基板６を通過して厚さｔ２の液晶層９に入射した外光は、該液晶層９によってサブ画素ごとに光変調され、オーバーコート層１４を透過し着色層１３に入射して反射層１５により反射させられて再び着色層１３に入射して偏光板１０から射出する。
【００６９】
以上の反射型表示の場合は、厚さｔ２の液晶層９を２回通過すると共に着色層１３を２回通過してその着色層１３の色に着色させられる。
【００７０】
次に、バックライト３からの光が透明基板４から入射し偏光板１０から射出する透過型表示の場合について簡単に説明する。
【００７１】
まず、反射型表示と同様、所定の画素電極２９と共通電極３０とに駆動信号が供給されるとその間に横電界が発生し、そこに保持されている液晶のみが駆動されることとなる。
【００７２】
従って、図１の矢印Ｂの経路例えば透明基板４に入射したバックライト３の光は着色層１３に入射する。ここで、着色層１３の色に着色され、厚さｔ１の液晶層９を透過し偏光板１０から射出する。
【００７３】
この場合着色層１３は一回のみ通過し液晶層９も一回のみ透過することとなるが、液晶層の厚さ（セルギャップ）が透過型表示の方が、例えば２倍あるとすれば反射と透過での液晶層９での差は解消されることとなる。
【００７４】
（スペーサの散布方法及び液晶装置の製造方法）
次に、本実施形態の液晶装置のスペーサの散布方法及び液晶装置の製造方法について説明する。
【００７５】
図５は、液晶装置の製造方法を示すフロー図である。
【００７６】
まず、透明基板４上に遮蔽層１２、反射層１５、着色層１３、オーバーコート層１４、配向膜１６を順に形成する（ステップ５０１）。
【００７７】
次に第１のスペーサであるスペーサ２０ａ及び第２のスペーサであるスペーサ２０ｂに所定の電圧を印加し（ステップ５０２）、着色層１３などが形成された透明基板４上に、例えば窒素ガス等の気流によりスペーサ２０ａ及び２０ｂを散布する（ステップ５０３）。なお、スペーサ２０ａ及びスペーサ２０ｂに電圧を印加し、散布する工程（ステップ５０２、ステップ５０３）は、両スペーサについて同時に行うようにしてもよいし、別々に、例えば一方のスペーサについて先に行ってから、後で他方のスペーサについて行うようにしてもよい。
【００７８】
スペーサ２０ａ、２０ｂが散布されると、これらスペーサ２０ａ、２０ｂに印加された電圧値と着色層１３の抵抗値により、図７及び図８に示すように、径の異なるスペーサ２０ａ及び２０ｂが選択的に配置される。このとき、カラーフィルタ基板５上のスペーサ２０ａ及び２０ｂの上端の高さが一致するように、予め両スペーサの径を調整しておくようにする。例えば図８に示すように第１のスペーサ２０ａはｔ１、第２のスペーサ２０ｂはｔ２というようにすることで、安定したセルギャップの保持が可能となる。
【００７９】
ここで、具体的にどのような抵抗値と印加電圧とすれば必要なところに必要なスペーサを配置できるか説明する。
【００８０】
図９は、レジストの抵抗値及びスペーサに印加する電圧値と、レジストに散布されることになるスペーサの個数との関係を示した表である。それぞれの値は、説明の簡単のため、実験値に基づく概数として示したものである。また、ここでいうレジストＡは、例えばアクリル樹脂に銅フタロシアニン系顔料をエステル系分散剤で分散したレジストであり、レジストＢは、例えばアクリル系樹脂にジアントラキノン系顔料を脂肪酸エステル系分散剤で分散したレジストであり、レジストＣは、例えばアクリル系樹脂にフタロシアニングリーン系顔料を脂肪酸エステル系分散剤などで分散させたレジストである。
【００８１】
例えば、スペーサに＋５００ボルトの電圧を印加して散布した場合、レジストの抵抗値が１０１５Ωのときは１ｍｍ２あたり１００個が散布され、抵抗値が１０１０Ωのときは１ｍｍ２あたり３５０個が散布されたことを示す。また、例えばスペーサに＋３００ボルトの電圧を印加して散布した場合、レジストの抵抗値が１０１５Ωのときは散布されず、レジストの抵抗値が１０１０Ωのときは１ｍｍ２あたり２５０個が散布されることを示す。これらのことから、スペーサに電圧を印加して散布したときには、レジストの抵抗値によって散布量が異なってくることがわかる。
【００８２】
したがって、例えば、第１の領域である着色層１３をレジストＢで形成し、第２の領域であるオーバーコート層１４の抵抗値を１０１０Ωとすれば、スペーサ２０ａに第１の電圧である−３００ボルトの電圧を印加して散布すれば、オーバーコート層１４には散布されず、着色層１３にのみ散布することができる。また、スペーサ２０ｂに第２の電圧である＋５００ボルト（又は＋３００ボルト）の電圧を印加して散布すれば、着色層１３には散布されず、オーバーコート層１４にのみ散布することができる。これにより、径が異なるスペーサを着色層１３とオーバーコート層１４とに選択的に散布することができる。
【００８３】
レジストの抵抗値は、例えば、図８の表に記載されているレジストの基材の種類、極性の低い（例えばポリマー等）樹脂の配合比及び分散剤の配合比を変えることにより、変化させることができる。
【００８４】
以上でスペーサの散布方法の説明を終了する。
【００８５】
その後、例えばカラーフィルタ基板５にスペーサを散布する工程と並行して、図５に示すように透明基板６上に電極部１８、ＴＦＴ２８、配向膜１９などを形成し（ステップ５０４）、更にシール材８を形成して（ステップ５０５）対向基板７を作成する。
【００８６】
そして、スペーサ２０ａ、２０ｂが散布されたカラーフィルタ基板５と、シール材８が形成された対向基板７を貼り合わせて（ステップ５０６）液晶パネル２を形成する。これにより、カラーフィルタ基板５と対向基板７とのセルギャップを簡単で、安定した保持が可能なように調整することができることとなる。
【００８７】
この液晶パネル２に、図示しない液晶注入口から液晶を注入し、注入が完了したら液晶注入口を封止し、表面に偏光板１０、１１を貼り付け、電極部１８に対応する駆動素子（図示せず）を実装し、バックライト３を取り付けて、液晶装置１が完成する。
【００８８】
以上で液晶装置の製造方法についての説明を終了する。
【００８９】
このように本実施形態によれば、例えば着色層１３とオーバーコート層１４のように基板間の厚さが異なる領域と、この厚さの異なる領域に夫々配置され、当該基板間の厚さに対応した径を有するスペーサ２０ａ及びスペーサ２０ｂとを具備することとしたので、それぞれの場所のセルギャップに応じてスペーサの径を異ならせた複数のスペーサを配置することができ、マルチギャップ構造であっても、セルギャップを安定して保持することができる。
【００９０】
また、より広い面積でセルギャップを維持することとなるので例えば耐衝撃性の高い電気光学装置である液晶装置１とすることができる。
【００９１】
具体的には、基板間の厚さの異なる領域に応じてスペーサ２０ａ、２０ｂの径を異ならせることで、着色層１３上では例えばｔ１の径を有するスペーサ２０ａにより、またオーバーコート層１４上ではｔ２の径を有するスペーサ２０ｂにより、それぞれセルギャップを維持することができるので、マルチギャップ構造であっても、セルギャップを安定して維持することができ、耐衝撃性の高い電気光学装置を形成することができる。
【００９２】
更に、電気抵抗が夫々異なる少なくとも第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、第１の領域を選択して吸着するように第１の電圧を第１のスペーサに印加する工程と、第２の領域を選択して吸着するように第１の電圧とは異なる第２の電圧を、第１のスペーサと径が異なる第２のスペーサに印加する工程と、第１及び第２のスペーサを第１の領域及び第２の領域に放散する工程とを具備することしたので、例えば第１の領域である着色層１３が第２の領域であるオーバーコート層１４より高い電気抵抗として、第１のスペーサに第２のスペーサより高い電圧を印加すれば、第１のスペーサは第１の領域に引き寄せられ、第２のスペーサは第２の領域に引き寄せられることとなる。
【００９３】
また、電気的極性が夫々異なる第１の領域及び第２の領域を形成する工程と、第１の領域の電気的極性と逆の極性を第１のスペーサに付与する工程と、第２の領域の電気的極性と逆の極性を、第１のスペーサとは径が異なる第２のスペーサに付与する工程と、第１及び第２のスペーサを第１の領域及び第２の領域に放散する工程とを具備することとしたので、例えば第１及び第２の領域に径の異なるスペーサ２０ａ及びスペーサ２０ｂが引き寄せられたときに、夫々のスペーサの上端と基板面との距離を同じにでき、安定的にセルギャップを維持できる。
【００９４】
すなわち、第１のスペーサと第１の領域とは逆の電気的極性を有しているので、第１のスペーサは第１の領域に引き寄せられ、同様に第２のスペーサは第２の領域に引き寄せられる。また、第１のスペーサと第２の領域とは同じ電気的特性を有しているので、第１のスペーサは第２の領域に対して反発し、同様に、第２のスペーサは第１の領域に対して反発する。この結果、厚さが異なる第１及び第２の領域に、径が異なる第１及び第２のスペーサを選択的に散布することができる。
【００９５】
（第２の実施形態）
次に、本発明に係る液晶装置の第２の実施形態について説明する。本実施形態においては、第１の実施形態が着色層とオーバーコート層とによるマルチギャップの場合であったのに対し、同じ着色層でのマルチギャップの場合である点が異なるだけであるので、第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。また、第１の実施形態の構成要素と共通する構成要素については、第１の実施形態と同一の符号を付しその説明を省略する。
【００９６】
図１０は、カラーフィルタ基板の一部を示す断面図である。
【００９７】
（液晶パネルの構成）
まず、透明基板４の液晶層側の表面には、着色層１３（１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ）が形成され、夫々の色の着色層の境界部分には遮蔽層１２が形成されている。また、その着色層１３と遮蔽層１２等の表面には、配向膜１６が形成されており、その配向膜１６上にはそれぞれの色の着色層上にスペーサ４０ａ、４０ｂ及び４０ｃが配置されている。
【００９８】
ここで、着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂは図１０に示すように夫々の着色層の配向膜１６表面から各スペーサの上端までの距離（セルギャップ）が夫々着色層１３Ｒでｔ１、着色層１３Ｇでｔ２、着色層１３Ｂでｔ３形成されている。
【００９９】
ここで、着色層１３の光の色ごとの透過率の差をなくし、表示精度を向上させるために最適なセルギャップを説明する。
【０１００】
図１１は、液晶の光透過率とセルギャップとの関係を示したグラフである。
【０１０１】
グラフの縦軸は電界をかけない状態での液晶を透過する光の透過率であり、横軸は液晶の複屈折率Δｎと液晶セルギャップｄとの積Δｎ・ｄである。
【０１０２】
液晶装置１の２枚の偏光板１０及び１１を、偏光方向が互いに平行になるように設けた場合、電圧を印加しない状態ではいわゆるノーマリーブラックモードになる。このときの光の透過率Ｉは、ツイスト角をΘとして、次のように表される。
【０１０３】
2005092044.tif 000003
ただし、
2005092044.tif 000004
光の透過率Ｉは、波長によって若干のずれを見せる。図１１に示すように、赤色光はグラフＡ、緑色光はグラフＢ、青色光はグラフＣのようになる。この場合、液晶の複屈折率Δｎ＝０．０９とすると、例えばセルギャップを１０μｍとしたとき、Δｎ・ｄの値は０．９であるから、このときの青色光の透過率は約１％であり、緑色光の透過率は約５％であり、赤色光の透過率は約１０％である。このように、光の波長によりばらつきが出るため、表示精度が悪くなってしまう。
【０１０４】
一方、３色の光の透過率をそれぞれの極大値に合わせるようにすれば、波長ごとの透過率のばらつきをなくすことができる。赤色光はΔｎ・ｄが約０．８のとき、緑色光はΔｎ・ｄが約０．７のとき、青色光はΔｎ・ｄが０．６のときに透過率が極大値となる。この値をもとにそれぞれのΔｎ・ｄの値から最適なセルギャップを求めると、赤色光は約８．８μｍ、緑色光は７．７μｍ、青色光は約６．６μｍとなる。
【０１０５】
すなわち、着色層１３Ｒ、着色層１３Ｇ、着色層１３Ｂのセルギャップをそれぞれｔ１を約８．８μｍ、ｔ２を約７．７μｍ、ｔ３を約６．６μｍとすれば、光の色ごとの透過率の差をなくし、表示精度を向上させることができる。
【０１０６】
次にスペーサ４０ａ、４０ｂ及び４０ｃは、図１０に示すようにその各上端を結んだ線が透明基板４と平行になるように、その径が夫々ｔ１、ｔ２、ｔ３に形成されている。具体的には、例えばスペーサ４０ａの径は約８．８μｍ、スペーサ４０ｂの径は７．７μｍ、スペーサ４０ｃの径は約６．６μｍとする。
【０１０７】
（スペーサの散布方法及び液晶装置の製造方法）
次に、本実施形態に係るスペーサの散布方法及び液晶装置の製造方法について簡単に説明する。なお、スペーサの散布方法及び液晶装置の製造方法においても液晶パネルの構成と同様に第１の実施形態と異なる点を中心に説明する。
【０１０８】
まず、スペーサ４０ａ、４０ｂ及び４０ｃのうちスペーサ４０ａとスペーサ４０ｂ、４０ｃの２つの群にわけ夫々の群を第１の実施形態での第１のスペーサ２０ａ或いは第２のスペーサ２０ｂとみなし、更に着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを着色層１３Ｒと着色層１３Ｇ、１３Ｂとの群に分ければ、第１の実施形態と同様に最終的に所望のスペーサを所望の位置に配置できることなる。
【０１０９】
また、最初から夫々異なる電圧が印加されたスペーサ４０ａ、４０ｂ及び４０ｃの夫々にのみ吸着するような抵抗値を有する着色層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂを形成し、スペーサを散布してもよい。
【０１１０】
このように本実施形態によれば、基板間の厚さが異なる複数の領域である着色層１３Ｒ、着色層１３Ｇ及び着色層１３Ｂと、この複数の領域に配置され、基板間の厚さに対応した径を有するスペーサ４０ａ、スペーサ４０ｂ及びスペーサ４０ｃとを具備することとしたので、それぞれの場所のセルギャップに応じてスペーサの径を異ならせた複数のスペーサを配置することができ、マルチギャップ構造であっても、セルギャップを安定して維持することができる。
【０１１１】
また、より広い面積でセルギャップを維持することとなるので例えば耐衝撃性の高い電気光学装置である液晶装置１とすることができる。
【０１１２】
具体的には、着色層１３の色ごとにセルギャップが異なる場合も夫々スペーサを配置したときの上端と透明基板４との距離が同じになるように、所望のスペーサを所望の領域に配置できるので、安定したセルギャップを保持できる。
【０１１３】
（第３の実施形態）
次に、本発明に係る液晶装置の第３の実施形態について説明する。本実施形態においては、第１の実施形態が反射半透過型のＴＦＴアクティブマトリクス方式の液晶装置であったのに対し、反射半透過型のパッシブマトリクス型の液晶装置である点を除けば第１の実施形態と同様であるので、異なる点を中心に説明する。また、第１の実施形態の構成要素と共通する構成要素については、第１の実施形態と同一の符号を付しその説明を省略する。
【０１１４】
図１２は、半透過型のパッシブマトリクス型構造であって、横型電界駆動方式（ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）方式）を採用した液晶装置の対向基板について示したものである。
【０１１５】
（液晶パネルの構成）
対向基板７には、例えば図１２に示すように図中のＸ軸方向に平行に画素電極２９と共通電極３０がお互いが櫛歯状に形成されている。
【０１１６】
これにより、共通電極３０と画素電極２９との間で横電界を生成することができ、その間の液晶のみを駆動させることができる。
【０１１７】
（スペーサの散布方法及び液晶装置の製造方法）
本実施形態に係るスペーサの散布方法及び液晶装置の製造方法については、透明基板６上にＴＦＴ２８などを形成しない点で、第１の実施形態とは異なっているが、第１の実施形態とほぼ同様のスペーサの散布方法及び液晶装置の製造方法となるため、ここでは説明を省略する。
【０１１８】
このように本実施形態によれば、基板間の厚さが異なる複数の領域と、その複数の領域に配置され、該基板間の厚さに対応した径を有するスペーサとを具備することとしたので、パッシブマトリクス型であってもマルチギャップ構造を有する着色層１３やオーバーコート層１４で、安定したセルギャップを保持できる。
【０１１９】
（電子機器）
次に、上述した液晶装置１を備えた本発明の第４実施形態に係る電子機器について説明する。
【０１２０】
図１３は本発明の第４の実施形態に係る電子機器の表示制御系の全体構成を示す概略構成図である。
【０１２１】
電子機器２００は、表示制御系として例えば図１３に示すように液晶パネル２及び表示制御回路２９０などを備え、その表示制御回路２９０は表示情報出力源２９１、表示情報処理回路２９２、電源回路２９３及びタイミングジェネレータ２９４などを有する。
【０１２２】
また、液晶パネル２には表示領域Ａを駆動する駆動回路２６１を有する。
【０１２３】
表示情報出力源２９１は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）などからなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスクなどからなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備えている。更に表示情報出力源２９１は、タイミングジェネレータ２９４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号などの形で表示情報を表示情報処理回路２９２に供給するように構成されている。
【０１２４】
また、表示情報処理回路２９２はシリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路などの周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２６１へ供給する。駆動回路２６１は、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路２９３は、上述した各構成要素に夫々所定の電圧を供給する。
【０１２５】
このように本実施形態によれば、電子機器２００は基板間の厚さが異なる複数の領域と、その複数の領域に配置され、基板間の厚さに対応した径を有するスペーサとを具備することとしたので、マルチギャップ構造であってもセルギャップを安定して保持でき、例えば携帯電話機等の電子機器で耐衝撃性を向上させることができる。
【０１２６】
特に携帯可能な電子機器にあっては、室外で使用される可能性が大きくその耐衝撃性の高い本発明の意義は大きいといえる。
【０１２７】
具体的な電子機器としては、携帯電話機やパーソナルコンピュータなどの他に液晶装置が搭載されたタッチパネル、プロジェクタ、液晶テレビやビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器の表示部として、上述した例えば液晶装置１が適用可能なのは言うまでもない。
【０１２８】
なお、本発明の電気光学装置及び電子機器は、上述した例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々変更を加え得ることは勿論である。
【０１２９】
例えば、上述した電気光学装置はいずれも液晶パネルを有する液晶表示装置であるが、無機或は有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、電気泳動ディスプレイ装置、電子放出素子を用いた装置（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ及びＳｕｒｆａｃｅ‐Ｃｏｎｄｕｃｔｉｏｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ‐Ｅｍｉｔｔｅｒ  Ｄｉｓｐｌａｙ等）などの各種電気光学装置であってもよい。
【０１３０】
本発明は、以上説明した実施形態には限定されるものではなく、種々の変形が可能である。
【０１３１】
例えば、上記実施形態では、着色層１３（１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂ）及びオーバーコート層１４に選択的にスペーサを散布する際に、それぞれの着色層１３、オーバーコート層１４の電気抵抗値に応じて、スペーサに電圧を印加していたが、各着色層１３やオーバーコート層の電気的極性を利用して、スペーサに散布させたい着色層１３やオーバーコート層１４の極性と正負が逆の極性を有する電荷を帯電させてから散布してもよい。このようにすれば、スペーサは所望の着色層１３又はオーバーコート層１４に引き寄せられるので、各層１３，１４の電気的極性の違いを利用して、層ごとに例えば径の異なるスペーサを選択的に散布することができる。
【０１３２】
着色層１３又はオーバーコート層１４の極性は、例えば極性制御剤を加えることで自在に変化させることができる。極性制御剤としては、例えば、樹脂酸の金属塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩等が用いられる。また、樹脂の場合、樹脂の極性の強さを決定する極性基の含有量と極性の強さを変えることにより、極性を変化させることができる。
【０１３３】
さらに、上記実施形態では、着色層１３の各層１３Ｒ、１３Ｇ、１３Ｂに反射層１５を形成する際に、遮蔽層１２で囲まれた部分のほぼ片側半分を占める範囲に形成されるようにしたが（寄せ窓方式）、例えば、遮蔽層１２で囲まれた部分の中央に形成されるようにしてもよい。
【０１３４】
また、ＴＦＴの変わりにＴＦＤ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｄｉｏｄｅ）を用いたＴＦＤアクティブマトリクス型の液晶装置についても、本発明の適用は勿論可能である。
【０１３５】
また、上記実施形態では、マルチギャップ構造はカラーフィルタ基板５側の層の厚さの違いにより形成されている場合について説明してきたが、勿論これに限られるものではなく、例えば、カラーフィルタ基板５及び対向基板７の双方の基板側にマルチギャップ構造が形成される場合であっても、本発明の適用は可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１３６】
【図１】第１の実施形態に係る液晶装置の断面図である。
【図２】第１の実施形態に係るカラーフィルタ基板を示す平面図である。
【図３】第１の実施形態に係る対向基板の一部を示す平面図である。
【図４】第１の実施形態に係る対向基板の一部を示す断面図である。
【図５】第１の実施形態に係る液晶装置の製造方法を示すフローチャートである。
【図６】第１の実施形態に係る着色層の材料を示す表である。
【図７】第１の実施形態に係るカラーフィルタ基板の斜視図である。
【図８】第１の実施形態に係るカラーフィルタの基板一部を示す断面図である。
【図９】レジストの抵抗値とスペーサの印加電圧との関係を示す表である。
【図１０】第２の実施形態に係る液晶装置の一部を示す断面図である。
【図１１】Δｎ・ｄと光の透過率との関係を示すグラフである。
【図１２】第３の実施形態に係る液晶装置の対向基板の一部を示す平面図である。
【図１３】第４の実施形態に係る電子機器の表示制御系の概略構成図である。
【符号の説明】
【０１３７】
１…液晶装置  ５…カラーフィルタ基板  ７…対向基板  ９…液晶層  １２…遮蔽層  １３…着色層  １３Ｒ…着色層  １３Ｇ…着色層  １３Ｂ…着色層  １４…オーバーコート層  １５…反射層  ２０ａ、２０ｂ、４０ａ、４０ｂ、４０ｃ…スペーサ  ２００  電子機器、  ２６１  駆動回路、  ２９０  表示制御回路、
【図１】
2005092044.tif 000005
【図２】
2005092044.tif 000006
【図３】
2005092044.tif 000007
【図４】
2005092044.tif 000008
【図５】
2005092044.tif 000009
【図６】
2005092044.tif 000010
【図７】
2005092044.tif 000011
【図８】
2005092044.tif 000012
【図９】
2005092044.tif 000013
【図１０】
2005092044.tif 000014
【図１１】
2005092044.tif 000015
【図１２】
2005092044.tif 000016
【図１３】
2005092044.tif 000017