(57)【要約】  特に燐光体又はシンチレータ材料のオンライン蒸着のために開発された蒸着装置であって、原材料の混合物を含有するるつぼ；前記るつぼと連通する少なくとも一つの入口及び線状スロット出口を持つ煙突；前記煙突内に含まれる一以上の線状加熱要素；加熱要素、遮熱要素及び冷却要素を含有する、前記るつぼを包囲するオーブンを含む蒸着装置。【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記のものを含む蒸着装置：
ａ）原材料の混合物を含有するるつぼ；
ｂ）幅Ｗ及び長さＬを有する、前記るつぼと連通する少なくとも一つの入口及び線状スロット出口を持つ煙突；
ｃ）前記煙突内に含まれる一以上の線状加熱要素；
ｄ）加熱要素、遮熱要素及び冷却要素を含有する、前記るつぼを包囲するオーブン。
【請求項２】
前記るつぼ及び煙突の長手方向部分が一つの一体化された部分を形成し、かつその界面において材料損失を防止するために一片の材料から作られる請求項１に記載の蒸着装置。
【請求項３】
少なくとも一つの線状加熱要素が前記煙突に装着されている請求項１又は２に記載の蒸着装置。
【請求項４】
前記煙突の前記スロット出口の前記幅Ｗをその長さＬに沿って調整する手段をさらに含む請求項１〜３のいずれかに記載の蒸着装置。
【請求項５】
前記煙突スロット出口が平均幅Ｗ１を有し、前記煙突入口が平均幅Ｗ２を有し、Ｗ２／Ｗ１の比が３より大きい請求項１〜４のいずれかに記載の蒸着装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は高エネルギー放射線検出及び像形成、特にコンピュータ放射線写真、スクリーン／フィルム放射線写真及び直接放射線写真に使用するために好適なスクリーン、パネル又はプレートに使用される、シンチレータ又は燐光体シートの製造又は生産における燐光体又はシンチレータ材料のオンライン蒸着のために特に開発された蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
放射線写真においては、被写体の内部は、Ｘ線、γ線及び高エネルギー素粒子線、例えばβ線、電子ビーム又は中性子線の群に属する、イオン化放射線としても知られる高エネルギー放射線である透過放射線によって再現される。
【０００３】
透過放射線を可視光及び／又は紫外放射線に変換するため、“燐光体”と称される“ルミネセント”物質が使用される。例えばＣＲＴスクリーンに使用されるカソードルミネセント燐光体は二つの関連したルミネセント特性（蛍光及び燐光）を示す。蛍光は電子ビーム励起の時間中に燐光体から放出された光のルミネセント発生又は放出である。燐光は電子ビーム励起の休止後に生じる燐光体からの光の放出である。燐光の持続時間、又は残光の減衰割合は定常状態の蛍光の明るさの１０％レベルに減少又は減衰するために燐光のために要求される時間の測定値として通常表示される持続性として示される。
【０００４】
例えばＵＳ−Ａ  ３８３８２７３に開示されているような公知のＸ線像増倍管では、入力スクリーンは蛍光層又はシンチレータとして一般に言及されるＸ線増感放射線変換層を付着したガラス又はアルミニウムの如き支持体を含む。
【０００５】
従来の放射線写真システムでは、Ｘ線写真は、被写体を通って像に従って透過し、かついわゆる増感スクリーン（Ｘ線変換スクリーン）において対応する強度の光に変換されたＸ線によって得られる。そこでは燐光体粒子は透過されたＸ線を吸収し、それらを可視光及び／又は紫外放射線に変換する。写真フィルムはＸ線の直接衝突に対してより可視光及び／又は紫外放射線に対しての方がより感受性がある。実際には前記スクリーンによって像に従って放出された光は密着する写真ハロゲン化銀乳剤層を照射し、それは露光後、現像されてＸ線像と一致した銀像をそこに形成する。
【０００６】
例えばＵＳ−Ａ  ３８５９５２７に記載されているように光刺激性貯蔵燐光体が使用されるＸ線記録システムが開発されており、前記燐光体はそれらのＸ線照射時の即座の光放出（即発）に加えて、Ｘ線エネルギーの大部分を一時的に貯蔵する性質を有する。前記エネルギーは光刺激に使用される光とは異なる波長の蛍光の形の光刺激によって放出される。前記Ｘ線記録システムでは光刺激時に放出された光は光電子的に検出され逐次電気信号に変換される。かかる燐光体で被覆された貯蔵スクリーン又はパネルは入射パターンに従って変調されたＸ線ビームに露光され、その結果としてＸ線放射パターンと一致して、エネルギーが被覆された貯蔵燐光体に一時的に貯蔵される。露光後ある間隔で、可視又は赤外光のビームは貯蔵されたエネルギーの光としての放出を刺激するためにパネルを走査する。その光は検出されて逐次電気信号に変換され、それは可視像を生成するように処理される。刺激光は例えば光増倍管の如き光電気変換要素を利用することによって電気信号に変換されることができる。燐光体は走査ビームによって刺激されるまで入射Ｘ線エネルギーをできるだけ多く貯蔵すべきであり、貯蔵されたエネルギーをできるだけ少なく放出すべきであることは明らかである。これは“デジタル放射線写真”又は“コンピュータ放射線写真（ＣＲ）”と称される。
【０００７】
最近、病院では患者のＸ線露光直後にコンピュータモニター上にＸ線像を得る傾向が増加している。そのデジタル化情報を貯蔵及び送信することによって、診断のスピード及び効率は増強される。従って直接デジタル診断Ｘ線像を与える“直接放射線写真”は放射線写真装置における適応された検出パネルの露光後、従来のスクリーン／フィルムシステムの代わりに好ましくなる。Ｘ線量子は“像ピックアップ”要素としてソリッドステート平面検出器を利用することによって電気信号に変換される。かかるフラット検出器は一般に“フラットパネル検出器”と称され、二次元に配置される。ａ−Ｓｅの如き検出手段として光伝導性材料をそこで使用し、電子の負電荷及び正孔の正電荷をＸ線エネルギーによって発生し、前記Ｘ線エネルギーをそれらの分離された電荷に直接変換する。かくして得られた電荷は微細領域単位で二次元に配置された読み出し要素によって電気信号として読み出される。
【０００８】
さらに間接タイプのフラットパネル検出器が知られ、そこではＸ線エネルギーはシンチレータによって光に変換され、変換された光は微細領域単位で二次元に配置されたａ−Ｓｉの如き光電気変換要素によって電荷に変換される。電荷は微細領域単位で二次元に配置された光電気変換読み出し要素によって電気信号として再び読み出される。
【０００９】
さらに直接放射線写真検出器が知られ、そこではＸ線エネルギーはシンチレータによって光に変換され、変換された光はレンズ又は光ファイバーの如き変換体を通して同じ平面内でマトリックスに従って配置された一以上のＣＣＤ又はＣＭＯＳセンサ上に投射される。ＣＣＤ又はＣＭＯＳセンサの内側では、光電気変換、及び電荷電圧変換によって、各画素ごとに電気信号が得られる。それゆえ、このタイプの検出器はソリッドステート平面検出器としても規定される。
【００１０】
燐光体スクリーン又はパネルを使用するいかなる放射線写真システムによっても、特に本発明の範囲内ではデジタル放射線写真システムにおいて生成される像品質は燐光体スクリーンの構成に大きく依存する。一般に、Ｘ線の所定量の吸収において燐光体スクリーンが薄いほど、像品質は良好になるだろう。これは燐光体スクリーンの燐光体に対する結合剤の比率が低いほど、そのスクリーン又はパネルで達成されうる像品質は良好になることを意味する。従って、最適なシャープネスは結合剤が全くないスクリーンが使用されるときに得られることができる。かかるスクリーンは例えば支持体上の燐光体材料の物理蒸着（それは熱蒸着、スパッタリング、電子線蒸着などであってもよい）によって製造されることができる。かかるスクリーンは化学蒸着によっても製造されることができる。しかしながら、この製造方法は入手可能な全ての任意の燐光体で高品質スクリーンを製造するためには使用されることができない。上述の製造方法は高い結晶対称性及び単純な化学組成を有する燐光体結晶が使用されるときに最良の結果に導く。従って好ましい例では貯蔵スクリーン又はパネルにおけるアルカリ金属ハロゲン化物燐光体の使用は貯蔵燐光体放射線の分野で良く知られており、これらの燐光体の高い結晶対称性は構造化されたスクリーン及び結合剤のないスクリーンを与えることができる。
【００１１】
アルカリハロゲン化物燐光体を有する結合剤のないスクリーンが製造されるとき、かかるスクリーンを使用するときに得られうる像品質を向上するために燐光体結晶を幾つかの種類のパイル又は柱状ブロック、針、タイルなどのように蒸着させることが有益であることが開示されている。ＵＳ−Ａ  ４７６９５４９では結合剤のない燐光体スクリーンの像品質は燐光体層が細い柱で形成されたブロック構造を有するときに改良されうることが開示されている。ＵＳ−Ａ  ５０５５６８１ではパイル状構造でアルカリハロゲン化物燐光体を含む貯蔵燐光体スクリーンが開示されている。またＥＰ−Ａ  １１１３４５８では選択された蒸着されたＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体を与えられた燐光体パネルが開示され、そこでは結合剤のない燐光体が最適化された像品質のために微細な針状結晶として存在する。
【００１２】
シンチレータの化学組成及び層厚さの均一性の観点から、一定スピード、像品質及び診断信頼性のために、貯蔵燐光体プレートの製造において二次元パネル表面全体にわたって前記一定の組成及び層厚さを与えることが最も重要であることは明らかである。従って、均一な被覆プロファイルを得るように努力すべきである。
【００１３】
真空蒸着装置において支持体を被覆する装置がプレートの形の回転可能な支持体保持構造を含む、ＵＳ−Ａ  ４４４９４７８のような蒸着技術を利用する製造方法は数及び被覆される面積において制限される被覆パネルを与える。さらに、正方形又は矩形パネルが望ましいとき、蒸発源の上で円形対称性で回転するプレート上に蒸着されない極めて多くの高価な残留物が作られる。加えて、かかる回転支持体上に固定された源から材料を蒸着するとき、一定の厚さを有する層を得ることは困難である。回転軸を中心として持つ支持体上の円は同一の蒸着履歴を持つだろう。これは中心対称性厚さプロファイルを作り、それは蒸着された層の厚さが特別な手段（例えばマスクの使用、但し材料損失に導くだろう）がとられない限り、矩形支持体の側部のいずれに沿っても一定でないことを意味する。
【００１４】
真空蒸着装置においてバッチ方式（プレート対プレート）で硬い支持体を被覆するための装置が運搬機構によって負荷チャンバーから非負荷チャンバーへ運搬される支持体ホルダーを含む。ＵＳ出願２００３／００２４４７９のような蒸着技術を利用する製造方法は工程収率において制限された被覆パネルを与える。別のバッチ法はＵＳ−Ａ  ６４０２９０５に記載され、そこでは一般に蒸着被覆法が適用され、それによって蒸気は一般に従来技術に適用されるように蒸着領域に垂直な一つの軸のまわりで回転する支持体上に蒸着される。また、そこでは支持体上の蒸着厚さ分布の不均一性を制御及び補償するためのシステム及び方法が記載される。
【００１５】
かかるバッチ法では被覆失敗は一般にパネルの完全な損失に導くだろう。さらにかかるバッチ法では原材料の高い損失が常にあるだろう。
【００１６】
支持体の変形性の不足はまた、支持体上の燐光体又はシンチレータ層の被覆のフォーマットを真空蒸着チャンバーの最大横断面に制限する。異なるあつらえたサイズの燐光体プレートが利用可能であるように製造プロセスにおける層厚さが大きな表面積にわたって一定である燐光体又はシンチレータプレート又はパネルの製造方法を提供するための解決策は２００３年３月２０日に出願されたＥＰ出願Ｎｏ．０３１００７２３及び２００４年３月２０日に出願されたＥＰ出願Ｎｏ．０４１０１１３８に与えられている。そのプロセスは同じ蒸着法から高い工程収率を生じ、従って極めて大きな可撓性支持体上に燐光体又はシンチレータプレート又はパネルを製造する方法であって、これらの大きな表面積を所望のフォーマットに切断し、物理的、化学的又は機械的損傷、又はそれらの組合せに対してこれらの可撓性プレート又はパネルを保護する方法を提供する。そこには多くの手段が記載されているが、特に全てのフォーマットのコンピュータ放射線写真、スクリーン／フィルム放射線写真及び直接放射線写真における走査装置において使用準備のできたスクリーン、プレート又はパネルが考えられるとき、診断像形成品質のために、パネルのダスト又は汚れをなくすことが極めて重要である。
【００１７】
２００３年７月４日に出願されたＥＰ出願０３１０２００３において確立されているように、加熱された容器に存在する液化された原材料の吐き出しによる燐光体又はシンチレータの不均一な蒸着を生じる“スポットエラー”又は“ピット”を避けるために注意を払うべきである。表面における望ましくない不均一の物理的存在に加えて、スピード又は感度における差は特にそれらの燐光体がシンチレータとして直接放射線写真に、即発燐光体として増感スクリーンに又はコンピュータ放射線写真（ＣＲ）に使用される刺激性燐光体として貯蔵パネルに使用するために好適であるとき、診断像形成に使用するためのスクリーン、プレート又はパネルとしてのその使用に実際に負担を掛けるかもしれない。
【００１８】
二つのプレート又はカバーを含むアセンブリであって、それらのうちの一つが最外プレート又はカバーであり、両方が少なくとも一部において、原材料を含有する底部及び周囲側壁を有するるつぼの開放側をカバーする表面領域上に穿孔パターンを有するものであり、前記最外カバーはるつぼの前記開放側をカバーする前記カバーより前記るつぼから遠い距離に装着されており、両カバーは前記二つのプレート又はカバーの間の距離の少なくとも１０倍の前記最外カバーへの距離からるつぼの底部に垂直な方向の軸を通して見たときにその内容物を観察することができないように互いに対して装着されるアセンブリはその問題のための解決策として提供されている。しかしながら、燐光体プレートの表面全体にわたってスピードの均一性を与えるだけでなく、燐光体プレート上に同じ被覆量の均一に分布された蒸着燐光体層に対して可能な最高に達成可能なスピードも提供することが永遠に続く要求である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
それゆえ本発明の目的は燐光体又はシンチレータプレートを製造するために開発された蒸着装置を提供することであり、大きな面積のプレートから作られた前記プレートは前記大きな面積のプレートの全面積にわたってスピード及びシャープネスにおける改良された均一性をさらに示し、使用準備するときのそれらの寸法にかかわらず、それらのプレート又はパネルは所望の寸法を有するプレートに切断した後に蒸着中及び／又はその後に発生するダスト又は汚れによる欠陥が全くないものである。
【００２０】
他の目的は以下の記述から明らかとなるだろう。
【課題を解決するための手段】
【００２１】
上述の有利な効果は請求項１に述べられた特別な特徴を有する特別な蒸着装置によって有利に実現される。本発明の好ましい例のための特別な特徴は従属請求項及び図面に述べられている。
【００２２】
本発明のさらなる利点及び具体例は以下の記載及び図面から明らかになるだろう。
【００２３】
図面の簡単な記述
以下の図面は被覆が行われる蒸着装置の図を表す。本発明による装置の好ましい例を示すこれらの図面は決してそれらに限定されないことは明らかである。
【００２４】
図１は２００４年３月１９日に出願されたＥＰ出願Ｎｏ．０４１０１１３８から知られており、真空チャンバー（１）として作用する封止された領域を示し、可撓性シート（５）は蒸気流（１６）を通して矢印（２１）によって示される方向に移動する二つの運搬ローラ（即ち下方の運搬ローラ（６）及び上方の運搬ローラ（２０））のまわりで延ばされ、蒸気流（１６）はるつぼ、トレー又はボート（３）に存在しかつ前記蒸気流（１６）を発生する蒸気源を与えるために加熱される原材料の混合物（４）によって与えられ、るつぼ、トレー又はボート（３）は容器（２５）、内部加熱された煙突（２６）及び制御可能な出口（２７）を与えられ、燐光体層を（好ましくは連続的な）多数の連続工程で蒸気流を通過する可撓性シート（５）上に蒸着させ、可撓性シート（５）は真空チャンバー（１）を去らず、少なくとも前記蒸着工程中、封止された領域は真空条件下で維持される。図は限定されないこと及び多くの構成が２００３年３月２０日付出願のＥＰ出願Ｎｏ．０３１００７２３及び２００４年３月１９日付出願のＥＰ出願Ｎｏ．０４１０１１３８から既に述べられたような真空チャンバー（１）の空間内で可能であることは明らかである。
【００２５】
ダスト又は汚れを避ける目的を達成するために存在する特定の部品は可撓性支持体シート（５）上に存在する場合は燐光体又はシンチレータ層を蒸着する前に除去される支持体（５）の保護箔（２９）である。保護箔は上部ローラ（２４）上に巻き上げられかつ収集され、その後所望によりダスト又は汚れ残留物をさらに除去するためにコロナ放電を適用し、蒸着を開始する。
【００２６】
ローラ上に支持体ウェブを位置させるための手段として作用する吸引テーブル（３０）は巻き出しローラ（２３）によって与えられかつ燐光体又はシンチレータ蒸着後に積層ユニット（３６）を介して適用された保護積層箔（３７）の正確な位置決めを与えるためにさらに使用される。特別な例では積層箔（３７）、剥離箔（４６）及びそれらの間の接着剤層からなる積層パッケージの積層剥離箔（４６）はガイドローラ（４５）上に案内され、支持体シート（５）上に存在する初期離層箔のための同じ離層収集ローラ上に巻き上げられる。
【００２７】
蒸着の均一性をさらに改良する目的を達成するために存在する特定の部品は加熱システムである：煙突（２６）の壁上にシンチレータ又は燐光体材料の凝縮を避けるためにるつぼ内の温度をあるレベルに維持するために既に述べられたものに加えて、蒸気をそれに通過させるためのスリットを有する遮熱材（４１）が温度を高い所望レベルに維持する別の源として作用する。
【００２８】
蒸着の均一性のための別の重要な部品は封止された領域内の熱の損失を避ける反射ケージ（１０）である：その空間配置は蒸着の均一性及び再現性のためにさらなる過剰な手段を避けるように最適化される。それにもかかわらず別の重要な部品は支持体中に十分な熱を持つために“オフ”及び“オン”状態を与える冷却ユニット（３９）である：いったん燐光体が蒸着を開始すると、支持体の温度の増加で冷却が“オン”状態に切り換わり、一方冷却中のさらなる温度減少は実施例にさらに説明されるように“オフ”状態に切り換わることによって補償される。
【００２９】
制御及びかじ取り部品はランプの近くでかつ燐光体又はシンチレータ原材料レベルの下のるつぼの内側の（タンタル）保護された熱電対（４４）及び外側るつぼ壁と接触する熱電対（４３）である。
【００３０】
重要な制御部品はキャパシタンス測定に基づいて蒸着されたシンチレータ又は燐光体層の厚さを決定する厚さ測定システム（２２）である。
【００３１】
さらに全手順中、支持体シート（５）上の緊張の制御及び調整のための一以上の圧力調整シリンダ（３１）が存在する。
【００３２】
図２は、煙突（２６）内に一つの煙突ヒータ（２８）を有し、煙突ヒータ（２８）の下にるつぼの反対側に位置された入口（４７）を有するるつぼ（３）の詳細像を示す。図２Ｂは図２Ａに示されたるつぼ（３）の改良版を図示し、そこではるつぼの上部分が折り曲げられ広げられている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
本発明の目的を達成するために、下記のものを含む蒸着装置が提供される：
ａ）（蒸着された燐光体又はシンチレータ層を製造するための）原材料の混合物を含有するるつぼ；
ｂ）（前記原材料の蒸気を前記るつぼの外に向けるための）幅Ｗ及び長さＬを有する、前記るつぼと連通する少なくとも一つの入口及び線状スロット出口を持つ煙突；
ｃ）（凝縮を避けるために煙突を加熱し、支持体に対して源材料の飛び跳ねを克服するように適応された）前記煙突内に含まれる一以上の線状加熱要素；
ｄ）（原材料の混合物を含有するるつぼを加熱するための）加熱要素、遮熱要素及び（環境の加熱を防止するための）冷却要素を含有する、（るつぼを加熱するための）るつぼを包囲する（電気的に加熱された）オーブン。
【００３４】
本発明による蒸着装置は特別な例においてるつぼ（３）及び煙突（２６）の長手方向部分が一つの一体化された部分を形成し、かつその界面において材料損失を防止するために一片の材料から作られるようにるつぼ及び煙突を与えられる。
【００３５】
本発明による蒸着装置は前記（内部加熱された）煙突（２６）内に装着された少なくとも一つの線状加熱要素をさらに有する。
【００３６】
本発明による蒸着装置は好ましい例では三つの線状煙突加熱要素（煙突ヒータ２８）をさらに有し、それらの加熱要素は前記スロット出口に対して装着され、かつ前記原材料からの蒸発粒子が前記スロット出口を通って逃げるための直接的な通路が全くないように位置づけられる。かかる配置は特に噴き出しを避けるために要求され、煙突ヒータはそらせ板として作用する。別の例では耐火プレート、例えばタンタルプレートはそらせている煙突ヒータの下でるつぼの内部に装着される。前記るつぼ及び前記プレートは燐光体又はシンチレータ材料の均一な蒸着のため、熱伝導アセンブリ全体にわたってさらなる均一な加熱を与えるために電極対間にさらに装着される。
【００３７】
本発明による蒸着装置では前記（制御可能な）スロット出口（２７）は矩形スロット出口である。
【００３８】
本発明による蒸着装置では前記線状煙突加熱要素（２８）が上又は下方向の位置に移動可能であることが特別な利点である。
【００３９】
さらなる例では本発明による蒸着装置は前記煙突のまわりに遮熱材（４１）を含む。前記遮熱材は図１に示されるようなスリットをさらに与えられ、蒸気が蒸着される領域を通過するキャリアローラの余計な加熱を避ける。
【００４０】
本発明による蒸着装置は前記煙突（２６）の前記スロット出口（２７）の前記幅Ｗをその長さＬに沿って調整するための手段をさらに含む。
【００４１】
本発明による蒸着装置において前記煙突スロット出口（２７）は平均幅Ｗ１を有し、前記煙突入口（４７）は平均幅Ｗ２を有し、Ｗ２／Ｗ１の比は３より大きい。
【００４２】
本発明による蒸着装置の別の例では前記煙突スロット出口（２７）は平均幅Ｗ１を有し、前記煙突入口（４７）は平均幅Ｗ２を有し、Ｗ２／Ｗ１の比は４より大きい。
【００４３】
本発明による蒸着装置のさらに別の例では前記煙突スロット出口（２７）は平均幅Ｗ１を有し、前記煙突入口（４７）は平均幅Ｗ２を有し、Ｗ２／Ｗ１の比は８より大きい。
【００４４】
本発明による蒸着装置は封止された領域内に少なくとも二つの円柱形キャリアローラ（６）をさらに有し、前記キャリアローラの各々は互いに平行な配置の軸を有する。
【００４５】
本発明による蒸着装置は封止された領域内に燐光体又はシンチレータ層を被覆するための支持体として可撓性支持体を有するシート又はパネルをさらに有し、前記領域は可撓性支持体を運搬するための少なくとも二つの円柱形キャリアローラを含み、前記円柱形キャリアローラの各々は互いに平行な配置の軸を有する。
【００４６】
特別な例では本発明による蒸着装置は前記領域において前記層に対して所望の燐光体又はシンチレータ組成を与える原材料の混合物を含有する二以上のるつぼをさらに含む。
【００４７】
本発明による蒸着装置は積層ユニットをさらに含む。
【００４８】
別の例では本発明による蒸着装置は積層ユニットに加えて、さらに離層ユニットを含む。
【００４９】
本発明による蒸着装置は一つのキャリアローラに対してその軸まわりにモータによって制御された方法で回転する能力を与え、一方他のローラは前記一つのローラの動きによって回転し、回転中、ローラ上の可撓性支持体の位置は前記可撓性支持体の位置調整を与える圧力調整シリンダに接続された光学位置センサによって制御される。
【００５０】
本発明による蒸着装置では前記キャリアローラは熱絶縁層及び／又は複数の耐熱性コイルスばねによって前記可撓性支持体から熱的に絶縁されており、前記コイルばねは前記コイルばねが前記円柱形キャリアローラの軸と平行な線と２０°〜４０°の範囲の角度を作るような方法で円柱体の長さにわたって装着される。
【００５１】
本発明による蒸着装置は前記円柱形キャリアローラに沿って設置されたアドレス可能な冷却ユニット及び調整可能なヒータをさらに含む。本発明による蒸着装置では前記冷却ユニット（３９）は後側上に室温の水で冷却された黒体冷却要素、及び前記冷却要素の前又は支持体側上に多数のスラットの形のルーバのアドレス可能な（開放又は閉鎖）スクリーンから形成される。
【００５２】
本発明による蒸着装置では一組の高温形が前記円柱形キャリアローラの全幅にわたって装着される。
【００５３】
さらに、本発明による蒸着装置では前記円柱形キャリアローラは熱放射線のための反射ケージによって空間的に包囲される。
【００５４】
好ましい例では本発明による蒸着装置は原材料を与えられ、前記原材料は燐光体プリカーサとして少なくともＣｓｘＥｕｙＸ′ｘ＋αｙを含み、ｙに対するｘの比率は０．２５の値を越え、α≧２であり、Ｘ′はＣｌ，Ｂｒ及びＩ及びそれらの組合せからなる群から選択されるハロゲン化物である。
【００５５】
別の好ましい例では本発明による蒸着装置は原材料を与えられ、前記原材料は燐光体プリカーサとして少なくともＣｓＢｒ及びＣｓｘＥｕｙＸ′ｘ＋αｙを含み、ｙに対するｘの比率は０．２５の値を越え、α≧２であり、Ｘ′はＣｌ，Ｂｒ及びＩ及びそれらの組合せからなる群から選択されるハロゲン化物である。
【００５６】
光刺激性燐光体は酸化アルミニウム、二酸化シリコン、及び／又は酸化ジルコニウムの如き金属酸化物をセシウム１ｍｏｌあたり０．５ｍｏｌ以下の量で含有してもよい。さらに少量のＣｓ以外のアルカリ金属（Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｒｂ）及びアルカリ土類金属（Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ）の各々を示されているようにそれぞれ１０ｐｐｍ未満及び２ｐｐｍ未満の量でＣｓＢｒ：Ｅｕマトリックスに存在させてもよい。Ｅｕ以外の希土類元素の各々及び他の元素の各々を通常の条件下ではそれぞれ２０ｐｐｍ未満及び１０ｐｐｍ未満の量で同じＣｓＢｒ：Ｅｕマトリックスにさらに存在させてもよい。
【００５７】
シンチレータ又は燐光体材料が本発明の蒸着装置において蒸着される支持体材料として、ガラス、セラミック材料、ポリマー材料又は金属；より好ましくはガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、アルミニウム、Ｐｙｒｅｘ（登録商標）、ポリメチルアクリレート、ポリメチルメタクリレート、サファイア、セレン化亜鉛、Ｚｅｒｏｄｕｒ（登録商標）、セラミック層及びアルミニウム、鋼、黄銅及び銅から選択される金属又は合金を使用することができる。支持体は原則としてそれらに限定されるべきではなく、本発明の被覆方法に一般に適用されるような範囲のエネルギーの付加後、例えば溶融によるような不可逆性の変形に抵抗するいかなる金属又は合成材料も使用のために好適である。本発明の方法において可撓的に動く支持体として特に好ましいものは支持体全体にわたって完全に均一な温度を可能にする極めて良好な熱伝導性材料としてのアルミニウムである。特に有用なアルミニウム支持体は限定されないが、輝かされた陽極酸化アルミニウム、アルミニウム鏡及び酸化物パッケージ、さらに所望によりパリレン層を有する陽極酸化アルミニウム、及び銀鏡及び酸化物パッケージ、さらに所望によりパリレン層を有する陽極酸化アルミニウム（ＡＬＡＮＯＤ、ドイツから入手可能）が推奨される。従って、好ましい可撓性支持体として保護箔でカバーされた陽極酸化アルミニウム支持体層が推奨される。かかる陽極酸化されたアルミニウム支持体層は５０〜５００μｍの範囲、より好ましくは２００〜３００μｍの範囲の厚さを有する。かかる陽極酸化されたアルミニウム支持体は蒸着された燐光体又はシンチレータに関して特に好ましい接着特性を示し、５００μｍ〜１０００μｍの厚さを有するシンチレータ層で被覆された可撓性アルミニウム支持体を曲げたときであってもシンチレータ又は燐光体“フレーク”の離層又は“クラック”を起こさない：本発明の蒸着装置で作られるとき望ましくないクラックの発生に関して全く問題に遭遇しなかった。支持体の装着は好ましくは吸引テーブル（３０）によって行われ、そこでは可撓性支持体上の張力制御は２ローラ（一方（上方）のローラが他方（下方）のローラの上に存在する）の構成の場合に一方のローラを押し上げる（空気）圧力シリンダ（３１）を調整することによって行われる。前記装着工程では支持体の二つの端は耐熱性接着剤で、一以上の（例えば一対の）リベットで又はそれらの組合せで一緒に接着される。
【００５８】
本発明の蒸着装置では一つのキャリアローラは制御された方法でその軸まわりでモータによって回転し、他のローラは前記一つのローラの動きによって回転し、回転中、ローラ上の可撓性支持体の位置は前記可撓性支持体の位置調整を与える圧力調整シリンダに接続された光学位置センサによって制御される。前記可撓性支持体上に最初に積層された保護積層箔はいったん前記可撓性支持体が緊張させられると前記離層工程において除去される。前記保護積層箔は本発明の蒸着装置の真空チャンバーに存在する離層ユニットを使用して、離層によって真空下で除去される。前記箔は例えばポリエチレン箔、ポリイミド箔及びポリエステル箔のようなポリマー箔であるが、それらに限定されない。
【００５９】
本発明の蒸着装置ではキャリアローラは耐熱性コイルばねが円柱形キャリアローラの軸と平行な線と２０°〜４０°の範囲の角度を作るような方法で円柱体の長さにわたって装着された複数の耐熱性コイルばね及び／又は熱絶縁層によって前記可撓性支持体から熱的に絶縁される。より好ましくは前記コイルばねは２５°〜３５°の範囲の角度を作り、より一層好ましくは約３０°の角度が考えられる。
【００６０】
本発明の蒸着装置の真空チャンバーに残る空間が大きいほど、利用可能な制御部位が多くなる。自由空間には例えば移動する可撓性支持体上への均一な蒸着を最適化することに関して異なる部位での温度制御のためのセンサ及び熱制御手段を与えることができる。そうでなければ例えば赤外線によるような加熱によって温度を局部的に増大するための手段が真空チャンバー中に与えられ、そこでは自由空間は（例えばローラの近隣に又は真空チャンバー内の臨界的部位に）かかる設置を可能にする。
【００６１】
本発明の蒸着装置において蒸着が行われている間、前記可撓性支持体の温度は調節可能なヒータによって及び支持体に沿って設置されたアドレス可能な冷却ユニットによって１５０℃〜３００℃、より好ましくは１５０℃〜２５０℃、さらにより好ましくは１８０℃〜２２０℃の範囲（ターゲット温度は約２００℃であると考えられる）に維持される。ヒータとして、赤外線ヒータが有利に使用される。特に後に反射スクリーンを有する前記支持体に沿って水平に、例えば縦方向に配置された大きな石英ランプが使用される。しかしながら、垂直配置は除外されない。追加の赤外線ヒータとして後に反射スクリーンを有する少なくとも二つの小さな石英ランプが可撓性支持体の縁において使用され、前記支持体の中央と縁の間の温度差を減らす。大きな縦方向石英ランプと約６０°の角度を作るために前記追加のランプが配置されることが有利である。さらに小さなランプの電池が後述の実施例の追加実験に記載されるように有利に使用される。
【００６２】
本発明の蒸着装置では冷却ユニットは後側上の室温の水で冷却された黒体冷却要素、及び前記冷却要素の前又は支持体側上の多数のスラットの形のルーバのアドレス可能な（開放又は閉鎖）スクリーンから構成される。その一つの例では前記スラットは互いに部分的に重ならせてそれらの長い側を支持体の移動方向に沿って置かれ、それによって前側上で反射する能力（“冷却オフ”）及びそれらの長い軸に沿って回転する能力（“冷却オン”）を与える。本発明によれば前記温度は測定及び登録され、前記可撓性支持体の全幅にわたる温度プロファイルは支持体加熱及び／又は支持体冷却をかじとるための入力として使用される。
【００６３】
本発明の蒸着装置では温度は一組の高温計によって前記可撓性支持体の全幅にわたって測定される。一つの例では前記高温計は上部にパラボラ反射器を有するレンズベースの高温計である。その好ましい例では前記反射器は金蒸着された鏡であり、前記パラボラ反射器の各焦点は対応する高温計レンズの各焦点と一致するように配置される。蒸着された材料の層厚さを制御するための手段は所望の厚さが達成されたときに蒸着工程を停止するように設置されることが有利である。本発明の蒸着装置では前記封止された領域は前記シンチレータ又は燐光体層を蒸着しながら厚さを決定する厚さ測定システムを制御部としてさらに含み、前記測定システムはキャパシタンス測定に基づく。さらに前記可撓性支持体は熱放射線のための反射ケージによって空間的に包囲される。
【００６４】
本発明の蒸着装置の積層ユニットでは前記燐光体又はシンチレータ層を蒸着した後に保護箔を与えられてもよい。この一時的な保護層は切断前又は後に離層工程によって除去されてもよく、又は永続する保護箔層であってもよい。積層工程は最初の支持体ウェブの位置決め中にすでに前に使用された吸引テーブル（３０）を利用することが有利である。
【００６５】
本発明の蒸着装置では離層ユニットは一以上のローラ（３５）によって離層巻き上げローラ（３３）に装着される離層先駆体（３４）を利用することが有利である。別の例では離層は前記離層ユニット上に前記保護積層箔をフック又は固定することによって行われる。さらなる側面によれば前記燐光体又はシンチレータ層を蒸着した後に前記保護箔を積層する工程によって与えられる前記保護箔は永続する保護層であり、前記永続する保護層は巻き上げローラ上に巻き上げられかつさらなる離層工程において除去される剥離層を含む保護層パッケージから与えられる。
【００６６】
本発明の蒸着装置では前記燐光体又はシンチレータ層を蒸着した後に前記箔を積層する工程によって与えられる保護箔は永続する保護層であり、前記永続する保護層は保護積層箔を最初に与えられたときに前記可撓性支持体の離層工程中に使用される同じ離層ユニットによってさらなる離層工程において除去される剥離層を含む保護層パッケージから与えられる。積層パッケージにおけるかかる保護層は一方の側に接着剤層を、他方の側に剥離層を有するポリマー層からなることが有利である。好ましい剥離層（剥離ライナーとも称される）は例えば接着剤層と接触したシリコーン処理されたポリエチレンテレフタレート剥離層であり、一方保護箔は例えばポリエチレン箔、ポリエステル箔又はポリイミド箔のようなポリマー箔であるが、それらに限定されない。積層パッケージは積層箔を供給するための機構を有する積層ユニット（３６）を通過することが有利であり、保護箔は蒸着された燐光体層上に積層されるためには剥離層から離層される。この操作が真空で有利に行われるとき、燐光体層はダスト及びほこりが全くなく、本発明の目的に対応する。剥離層はさらに保護された支持体上に存在する最初の積層体の離層のために利用可能であるのと同じ離層収集ローラへガイドローラ（４５）上で案内される。支持体上の最初の積層体の特別な存在は本発明の目的を十分に達成するために考えられていることは明らかである。例えばポリエチレン保護された陽極酸化アルミニウム支持体で開始することによって利点が得られるが、それに限定されない。
【００６７】
所望のフォーマットを有するシート又はパネルに燐光体又はシンチレータ層で被覆された前記可撓性支持体を切断することは本発明の蒸着装置の真空チャンバーの外で行う。
【００６８】
真空圧力（真空条件は少なくとも１０−１ｍｂａｒであり、もし被覆装置の好ましい構成において達成可能であるなら１０−４ｍｂａｒ以下にも相当する）下での封止された領域内の一般的配置では、容器は好ましくは図２に図示されたように前述のような一つのるつぼである。二次元に被覆される表面の各方向に配置された複数のるつぼを使用することは除外されない。さらにＥＰ出願Ｎｏ．０３１０２００３及び０３１２０００４（ともに２００３年７月４日出願）に記載されるようにるつぼに関して考慮した有利な手段を使用することが推奨される。
【００６９】
本発明の蒸着装置の容器（るつぼ）中の原材料の組成は望むような最終組成又は被覆組成を与えるように選択され、前記組成は存在する原材料の比率によって決定されることは明らかである。原材料の比率は蒸発された原材料の蒸着後に所望の化学燐光体又はシンチレータ組成を与えるために選択される。固体粉末、粒子又は顆粒の形でるつぼ中の均一な原料混合物を得るために原材料を混合することが望ましく、又は移動する支持体材料上に被覆された所望の燐光体を与えるために原材料の所望の比率に相当する組成を有する芳香剤（ｐａｓｔｉｌｌｅｓ）として存在させることが望ましい。微粉砕法は蒸発前の高度の均一性を与えるために有利であり、それゆえ推奨される。様々な成分が前述したように一連に又は平行に又は組合わされた配置で配置された様々なるつぼから蒸発されてもよい。但し、均一な蒸気クラウドは蒸気流によって可撓性支持体に与えられ、前記支持体上への凝縮によって蒸着されることが条件である。同じ又は異なる原材料含有物又は原材料混合物を有する二つの細長いワンパートのボートは例えばウェブの移動方向に連続して存在させてもよい。別の例では、もしより均一な被覆プロファイルを与えるなら、ボートは支持体の移動方向に垂直な一つの軸又はより多くの軸に平行に配置されてもよい。但し、重なり合う蒸気クラウドは前記燐光体又はシンチレータの均一な厚さ、組成及び被覆量を有する燐光体又はシンチレータ層において支持体上に蒸着される蒸気流を与えることが条件である。一つより多いるつぼの存在は単位時間あたりに蒸着される燐光体又はシンチレータ材料の量をより多く供給する能力のために有利であるかもしれない。支持体の極めて高い温度増加を避けるために十分に高い速度で可撓性支持体が蒸気流を通過すべきであるときはさらにそうである。支持体が容器を通過する速度は十分な冷却手段が凝縮のために存在しない限り、蒸着を不可能にする支持体の望ましくない局部的な加熱に照らしてあまり遅すぎないようにすべきである。支持又は被支持の支持体はそれゆえ所望の最適な特性を有する蒸着された燐光体又はシンチレータ層を得るために５０℃〜３００℃の温度を有することが好ましい。
【００７０】
るつぼ、トレー又はボートとしても知られる一以上の容器にエネルギーを供給すべきであり、かくしてそこに存在する原材料の蒸気流（又は蒸気）を起こし、それは封止された真空領域において蒸発されることは明らかである：エネルギーは熱、電気、又は電磁エネルギー源によってそこに与えられる。電磁エネルギー源の例としてダイオード、陰極アーク、レーザビーム、電子ビーム、イオンビーム、磁気放射線又は無線周波数を使用してもよく、それらはパルス化されていてもパルス化されていなくてもよく、それらに限定されない。電気エネルギーは、熱エネルギーへの変換を与え、それによって蒸発されるべき原材料を充填した容器又はるつぼへの熱の伝達を与えるための構成で容器又はるつぼのまわりに巻かれた抵抗コイルを利用する抵抗加熱によって一般に与えられる。５５０℃〜９００℃の範囲の温度まで容器又はるつぼを加熱する程度のエネルギー供給が極めて望まれる。それらの温度では、容器は腐蝕抵抗を有するべきであることは明らかであり、従って耐火容器が好ましい。そのための好ましい容器又はるつぼ材料はタングステン、タンタル、モリブデン及び他の好適な耐火金属である。前述のようなエネルギー供給はるつぼ中の原材料の混合物を４５０℃以上、好ましくは５５０℃以上の温度まで、より好ましくは５５０℃〜９００℃の範囲、例えば約７００℃に加熱する。
【００７１】
ターゲット原材料から生じる蒸発された材料のクラウドは移動する支持体の方向に容器又はるつぼからの流れ又は蒸気の形のクラウドとして逃避し、そこで被覆された層は凝縮によって形成される。上の記載から、考えられるような均一な被覆プロファイルを得るために、均一性が液化された原材料の本体に与えられるときのみ均一なクラウドが実現されることは明らかである。結果として、容器上に供給されるエネルギーの均一な分布は厳しい要求である。好ましい例では、均一性のために、るつぼは前記るつぼ上で動く可撓性支持体の幅と一致する最大寸法を有する単一の細長い“ボート”の形であり、従ってその表面領域の各点において瞬間的な速度の大きさが一定である。もし蒸着工程中又は後に要求されるなら、酸素はアルゴンガス入口（４２）を介して酸素ガスの形で真空蒸着チャンバー中に導入されることができる。特に二つの蒸着工程の間又は燐光体蒸着の終わりのアニール工程が有益であるかもしれない。
【００７２】
本発明の蒸着装置における支持体上で得られる被覆量プロファイルに関する重要な要因は容器と動く支持体の間の距離である。その距離は可撓性支持体の位置における蒸気クラウドのプロファイルを決定するからである。るつぼと支持体の間の最短距離の平均値は５〜１０ｃｍの範囲であることが好ましい。大きすぎる距離は材料の損失及び方法の減少した収率に導き、一方少なすぎる距離は支持体の温度の過度の上昇に導くだろう。加熱された容器に存在する液化された原材料の飛びはねによって、燐光体又はシンチレータの不均一な蒸着を生じる“スポットエラー”又は“ピット”を避けることに関してさらに注意を払うべきである。そのためにとられる手段は図１に、さらに詳細には図２に示されており、特にそらせ板として使用されるランプを持つもの、より好ましくはスロット出口に対して装着されかつ前記スロット出口を通って逃げる前記原材料からの蒸発された粒子のため直接的な通路が全くないように位置づけられた三つの線形煙突加熱要素をもつものである。他の適用可能な手段はＥＰ出願Ｎｏ．０３１０２００３及び０３１０２００４（２００３年７月４日出願）に記載されたものである。
【００７３】
本発明の蒸着装置では前記燐光体又はシンチレータ組成の蒸着は一以上のるつぼからの原材料の蒸気流によって開始され、前記蒸気流は熱、電気、又は電磁エネルギー又はそれらの組合せによって前記原材料及び前記容器にエネルギーを加えることにより生成される。前記燐光体又はシンチレータ組成の蒸着は物理蒸着によって、化学蒸着によって又は物理蒸着と化学蒸着の組合せによって行われる。
【００７４】
本発明の蒸着装置で得られた被覆燐光体に関して、前記燐光体は一つの例では光刺激性燐光体である。本発明の蒸着装置でうまく蒸着される極めて重要な光刺激性（貯蔵）燐光体はＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体である。ＣｓＢｒ：Ｅｕ貯蔵燐光体プレート又はパネルの製造方法に使用される原材料はＰＣＴ出願ＷＯ  ０１／０３１５６に開示されるような製造方法に使用されるようなＣｓＢｒ及びＥｕＸ′２，ＥｕＸ′３及びＥｕＯＸ′からなる群から選択されるユウロピウム化合物の１０−３〜５ｍｏｌ％であり、Ｘ′はＦ，Ｃｌ，Ｂｒ及びＩからなる群から選択されるハロゲン化物である。さらにより好ましいものはＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒ原材料から選択されたＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体の結合剤のない被覆であり、そこでは前記燐光体はその特定の針状形態を特徴とする。高い結晶化度はＥＰ−Ａ  １１１３４５８に図示されるような特定のＸＲＤスペクトルを与えるＸ線回折技術によって容易に分析される。それゆえＣｓＢｒとＥｕＯＢｒの混合物はるつぼにおいて原材料混合物として与えられ、両原材料間の比は通常、約９０重量％の安価なＣｓＢｒと１０重量％の高価なＥｕＯＢｒである。しかしながら、被覆（蒸発）温度の関数として低い材料及び製造コストに有利なように組成に変化を生じさせずに比率を適応することができることが示された：９９．５重量％ＣｓＢｒ及び０．５重量％ＥｕＯＢｒの比率の量で原材料混合物の蒸発温度を高くすると前と同じ結果を与える。
【００７５】
本発明の蒸着装置において針状燐光体として蒸着後に得られた好ましいＣｓＢｒ：Ｅｕ２＋燐光体は針状結晶間の間隙を特徴とする。それらの間隙を満たすために、間隙がポリマー化合物で部分的に満たされるＥＰ−Ａ  １３４７４６０、好ましいβ−Ｃｕ−フタロシアニンナノ結晶染料化合物のような蒸着された顔料が前記間隙を満たすＥＰ−Ａ  １３４９１７７又は間隙がシラザン及びシロキサザンタイプのポリマー化合物、それらの混合物及び前記シラザン又はシロキサザンタイプのポリマー化合物と相溶性のポリマー化合物からなる群から選択されるポリマー化合物で少なくとも部分的に満たされるＥＰ出願Ｎｏ．０３１００４７１（２００３年２月２６日出願）に記載のような手段をとることができる。特に前記染料又は顔料に関して、その蒸着は本発明による製造方法の構成に使用される真空蒸着チャンバー内で行うことができる。
【００７６】
好ましいＣｓＢｒ：Ｅｕ２＋燐光体を与えられたシート又はパネルを作るために本発明の蒸着装置はるつぼ中で混合された原材料で開始し、前記原材料は燐光体プリカーサとして少なくともＣｓｘＥｕｙＸ′ｘ＋αｙを含み、ｙに対するｘの比率は０．２５の値を越え、α≧２であり、Ｘ′はＣｌ，Ｂｒ及びＩ及びそれらの組合せからなる群から選択されるハロゲン化物である。
【００７７】
別の例では前記原材料の混合物は燐光体プリカーサとして少なくともＣｓＢｒ及びＣｓｘＥｕｙＸ′ｘ＋αｙを含み、ｙに対するｘの比率は０．２５の値を越え、α≧２であり、Ｘ′はＣｌ，Ｂｒ及びＩ及びそれらの組合せからなる群から選択されるハロゲン化物である。前述のプリカーサが使用される所望のＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体を製造及び被覆するための方法はＥＰ出願Ｎｏ．０４１００６７５及び０４１００６７８（ともに２００４年２月２０日出願）にそれぞれ記載されている。
【００７８】
蒸着の時に、本発明の蒸着装置で作られた好ましい刺激性燐光体又はシンチレータ層は結合剤のない層である。これは十分に理解されることができる。なぜならばかかる高温では容器中の燐光体又はシンチレータ原材料に加えてさらに追加の結合剤の存在は実際的でないからである。しかしながら、例えば支持体と燐光体又はシンチレータ層の間又は被覆層における好ましい燐光体又はシンチレータ針状結晶間で結合剤材料として作用するために蒸発される能力を示すポリマーを利用することは除外されない。さらにポリマー層を蒸着された層上に積層するとき、ポリマー材料がそれらの針状結晶間の間隙を少なくとも部分的に充填することは除外されない。さらに燐光体又はシンチレータシート又はパネルに対して所望のフォーマットに切断する前又は後に耐湿性層を与えて湿分感受性燐光体層を劣化に対して保護することは除外されない。特に好ましい層は例えばＥＰ出願Ｎｏ．０３１００４７２（２００３年２月２６日出願）に記載されているようなシラザン又はシロキサザンタイプのポリマー化合物又はそれらの混合物でオーバーコートされた又はされない、ＥＰ−Ａ  １２８６３６４に記載されているようなパリレン（ｐ−キシリレン）層である。“パリレン層”として保護パリレン層を燐光体又はシンチレータ被覆に適用する方法ではハロゲン含有層が好ましい。より好ましくは前記“パリレン層”はパリレンＤ、パリレンＣ及びパリレンＨＴ層からなる群から選択される。特別なケースでは架橋ポリマー層は燐光体スクリーン材料上に形成されることが有利であり、そこでは前記ポリマー材料層は少なくとも一つの成分の反応によって形成され、それによって自己凝縮ポリマーを形成する。反応性モノマーは支持体上に所望の凝縮ポリマーを形成するために加熱蒸気の形で与えられ、前記凝縮ポリマーは燐光体スクリーン支持体上ではｐ−キシリレン又は“パリレン”層の形である。これらの“パリレン”層の例はポリ−ｐ−キシリレン（パリレン−Ｎ）、ポリ−モノクロロ−ｐ−キシリレン（パリレン−Ｃ）及びポリジクロロ−ｐ−キシリレン（パリレン−Ｄ）である。もし望むならＪＰ−Ａ  ６２−１３５５２０に記載されているようにポリ−ｐ−キシリレンの薄膜中に顔料を組み込むことができる。
【００７９】
刺激性燐光体層を別として、即発ルミネセント燐光体を本発明の蒸着装置に被覆することができる。かかるルミネセント燐光体は例えばスクリーン／フィルム放射線写真に使用されるような増感スクリーンに使用するために好適である。
【００８０】
ＣＲ及びＤＲと関連した特定の用途に関して、像品質に照らして、特にシャープネスに関して、前述のような結合剤のない燐光体又はシンチレータ層が好ましいことは明らかである。それに関して所望のシンチレータ又は燐光体層を作るための本発明の蒸着装置における原材料の蒸発は好ましい技術であることは明らかである。但し、本発明によれば、可撓性支持体上に層が蒸着されることが条件であり、そこでは特定のＣＲ及びＤＲ用途に好適な使用準備された平坦なシート又はパネルを得るために可撓性支持体を変形することが考えられる。本発明に方法に従って有利に製造される好ましいＣｓＢｒ：Ｅｕ燐光体に加えて他の吸湿性燐光体又はシンチレータ層は例えば増感スクリーンに使用されるＢａＦＣｌ：Ｅｕ，ＢａＦＢｒ：Ｅｕ及びＧｄＯＢｒ：Ｔｍ；シンチレータパネルに適用されるＣｓＩ：Ｎａ及び例えばＢａＦＢｒ：Ｅｕ，ＢａＦＩ：Ｅｕ，（Ｂａ，Ｓｒ）Ｆ（Ｂｒ，Ｉ）：Ｅｕ，ＲｂＢｒ：Ｔｌ，ＣｓＢｒ：Ｅｕ，ＣｓＣｌ：Ｅｕ及びＲｂＢｒ：Ｅｕのようなコンピュータ放射線写真（ＣＲ）に使用するために好適な貯蔵燐光体；又はＥＰ出願Ｎｏ．０４１０２９８４及び０４１０２９８５（ともに２００４年６月２８日出願）に開示されるようなＤＲカセットに使用するために特に好適なＣｓＩ：Ｔｌ，Ｌｕ２Ｏ２Ｓ：ｘＭ及びＬｕ２Ｏ５Ｓｉ：ｘＭ（式中、ＭはＥｕ，Ｐｒ及びＳｍからなる希土類元素の群から選択され、ｘは０．０００１〜０．２である）である。
【００８１】
本発明をその好ましい例と関連して以下記載するが、本発明をそれらの例に限定することは意図されないことが理解されるだろう。
【００８２】
実施例
実施例１
可撓性の陽極酸化されたアルミニウム支持体を有するＣｓＢｒ：Ｅｕ光刺激性燐光体スクリーンを、原材料としてＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒの混合物から出発して熱蒸着法によって真空チャンバー内で製造した。前記可撓性の陽極酸化されたアルミニウム支持体上への前記蒸着法は前記支持体が瞬間的な速度の大きさがその全表面にわたって一定で動くような方法で実施された。
【００８３】
図２を参照すると１．４ｍの直径及び１．７５ｍの長さを有する円柱形真空チャンバー（１）は電気加熱オーブン（２）及び耐火性トレー又はボート（３）を含有し、耐火性トレー又はボート（３）には９９．５重量％／０．５重量％＝ＣｓＢｒ／ＥｕＯＢｒの比率のＣｓＢｒ及びＥｕＯＢｒの混合物（４）の４ｋｇを蒸発させるための原材料として存在させた。
【００８４】
るつぼ（３）は０．５ｍｍの厚さを有する“タンタル”から構成された１ｍの長さ及び４ｃｍの幅を有する細長いボートであり、るつぼ容器（２５）、内部加熱された煙突（２６）及び制御可能な出口（２７）の三つの部分から構成される。それらの縦方向部分は漏れを克服するために一つの連続するタンタルベースプレートから折り曲げられ、加熱部分は溶接されている。煙突は蒸発された材料の凝縮を克服するために煙突を加熱するための１１ｍｍの直径を有する三つの線形ＩＲ石英ヒータ（２８）を与えられた。さらに煙突ヒータ（２８）は制御されずかつ制限されない方法で支持体上への溶融又は蒸発された材料の飛散を克服するために方向を調整するように位置させた。制御可能な出口（２７）として５ｍｍのリップ開口が使用された。スリット開口を有する遮熱材（４１）は制御されかつ均一な方法で連続的に動く支持体上への蒸気の逃避及び蒸着を起こすために要求されるエネルギーの損失及び熱の逃避を避けるために熱をさらに遮蔽した。
【００８５】
真空チャンバー（１）中へのアルゴンガスの連続入口（４２）によって維持された真空圧力（２×１０−３ｍｂａｒと等価な２×１０−１Ｐａの圧力）下でかつ蒸気源（７６０℃）及び煙突（２６）の十分に高い温度で、得られた蒸気は移動するシート支持体（５）の方に向けられ、前記支持体が蒸気流（１６）に沿って移動している間、連続的にその上に蒸着された。蒸気源の前記温度は前記るつぼの底の下で圧縮されかつその外側に存在する熱電対（４３）及びるつぼ及び煙突（２６）に存在するタンタル保護された熱電対（４４）によって測定された。
【００８６】
２８０μｍの厚さ、１．１８ｍの幅及び２．５０ｍの長さを有する陽極酸化されたアルミニウム支持体（５）は保護箔（２９）とともに二つの円柱形支持ローラ（６）及び（２０）（両者は４０ｃｍの直径及び１．１８ｍの長さを有する）のまわりの陽極酸化側上に装着された。前記陽極酸化側は燐光体が蒸着されるべきである側に位置された。支持体（５）は機械に存在する吸引テーブル（３０）によって正確に位置させた。位置決め中、真空条件下で作動することは要求されないが、所望により真空条件を使用することができる。支持体の二つの端は耐熱性接着剤及び二つのリベットで一緒に接着された。支持体上の緊張は上部支持ローラ（２０）を押し上げる二つの円柱体上の圧力を調整することによってさらに制御された。かかるシステムはさらに、支持体の熱膨張による陽極酸化されたアルミニウム支持体の加熱中の緊張の損失を回避又は補償する。下部ローラ（６）はその軸のまわりでモータによって制御された方法で回転し、一方上部ローラは回転する下部ローラ（６）によって移動する支持体によって回転した。真空下で回転中、ローラ上の支持体の位置は上部キャリアローラ（２０）を押し上げるために与えられた圧力調整シリンダ（３１）に接続された光学位置センサ（３２）（真空下に置かれる）によって制御されることができるだろう。陽極酸化されたアルミニウムは１分あたり２０ｍの一定の線速度で移動した。
【００８７】
下部円柱形キャリアローラ（６）及び上部キャリアローラ（２０）は耐熱性コイルばね（８）が円柱体の軸と平行な線と３０°の角度をなすような方法で円柱体の長さにわたって装着された耐熱性コイルばね（８）によって及び熱絶縁層（７）によって支持体シート（５）から熱的に絶縁された。
【００８８】
アルミニウムのための保護箔はいったん支持体が緊張状態になったら除去された。
【００８９】
支持体（５）の温度は２００℃の近くに（±１０℃）維持された。温度は五つの高温計でローラの全幅にわたって測定された。環境上の熱放射線の反射による加熱効果の測定による失敗のために誤った温度測定を解消するために、上部にパラボラ反射器を有するレンズベースの高温計（３８）を使用した。反射器における良好な反射を得るために金蒸着された鏡が使用された。パラボラ反射器の焦点は高温計レンズの焦点と一致するように向けられた。支持体の温度は支持体に沿って設置されたアドレス可能な冷却ユニット（３９）によって及び調整可能な赤外線ヒータ（９）によって調整された。使用された赤外線ヒータ（９）は石英ランプから作られた。それらのランプはアルミニウム支持体の吸収スペクトルに一致する波長スペクトル内でエネルギー放出を与えるために十分な出力で常にアドレスされた。有効熱放射時間は７パルスレベルによって調整され、放射線の量はランプの“オン”及び“オフ”期間の調整で決定した。それらのランプは支持体に沿って水平に置かれ、その後に反射スクリーンを有していた。さらに、後に反射スクリーンを有する二つの小さな石英ランプが縁に使用され、プレートの中央と縁の間の温度差を減らすようにした。これらのランプは大きな縦方向石英ランプと６０°の角度を作るような方法で配置された。
【００９０】
効果的な加熱を与えるため、支持体は熱放射線の損失を抑えるために反射ケージ（１０）によって包囲された。その反射ケージ（１０）は、空間限定を考慮し、障害物をできるだけ多く迂回して、反射材料（この場合にはアルミニウム）から作られた。
【００９１】
蒸発された燐光体又はシンチレータ材料を蒸着している間の過剰な温度増加を克服するために、支持体は支持体の全幅にわたってかつそれに沿って設置されたアドレス可能な冷却ユニット（３９）によって冷却された。冷却ユニットは“オン”又は“オフ”状態に“切り換える”ことによって有効であるように又は有効でないようにできるようにアドレス可能であった。それゆえ、それは後側で室温の水で冷却された黒体冷却要素、及び前又は支持体側でルーバ（多数のスラット）のアドレス可能な（開放又は閉鎖された）スクリーンから作られた。スラットは互いに部分的に重ならせてそれらの長い側を支持体の移動方向に沿って置かれ、前側上で反射する能力、及びそれらの長い軸に沿って回転する能力を与えた。“冷却オフ”状態（“閉鎖”状態）ではスラットの反射表面は支持体中に保持される熱を保つために支持体の方に向けられ、一方“冷却オン”状態ではスラットはスクリーンの後の冷却黒体が支持体の冷却を与えることができるようにスクリーンを開放するため９０°にわたって回転された。
【００９２】
４００μｍの平均厚さを有するＣｓＢｒ：Ｅｕ刺激性燐光体層は４５分の時間内で連続工程で支持体の全長さにわたって蒸着され、その間蒸着された層の厚さは増加した。支持体の各部位は耐火性ボート又はトレー上の蒸気流を多数回連続的に通過した。それによって層は回転ごとに厚さを増大させて成長し、前記増大した厚さはキャパシタンス測定に基づいた厚さ測定装置（２２）によってオンラインで測定された：キャパシタンスの変化は成長する燐光体層によって導入され、二つの電極（そのうちの一つは上部キャリアローラと接続され、接地電位で設定された）の間で測定された。結果として、支持体上への蒸着された層の均一性についての考えを与えるために、５９４μｍ〜６９１μｍの範囲の厚さの変化がその全幅にわたって得られた。
【００９３】
刺激性燐光体層はＵＶ放射線下で青色ルミネセンスを示した。
【００９４】
所望のサイズ、例えば３５ｃｍ×４５ｃｍを有するパネルは良好な縁品質を有する上記の大きなプレートから切断された。切断されたパネルは次いで転写可能な接着剤を使用して層の損傷なしに硬質平坦ガラスプレートに対して積層された。
【００９５】
本発明の好ましい例を詳細に記載したが、特許請求の範囲に規定された本発明の範囲から逸脱せずに多数の変形をなしうることが当業者には明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】真空チャンバーとして作用する封止された領域を示す。
【図２】煙突（２６）内に一つの煙突ヒータ（２８）を有し、煙突ヒータ（２８）の下にるつぼの反対側に位置された入口（４７）を有するるつぼ（３）の詳細像を示す。図２Ｂは図２Ａに示されたるつぼ（３）の改良版を示す。
【符号の説明】
【００９７】
１  真空チャンバー
２  オーブン
３  るつぼ、トレー又はボート
４  原材料の混合物
５  シート
６  運搬キャリアローラ
７  熱絶縁層
８  円柱形ばね
９  赤外線ヒータ
１０  反射ケージ
１１  高温計
１２  そらせ板
１３  そらせ板
１４  金属ラスタ
１５  分離プレート
１６  蒸気流
１７  そらせ板
１８  蒸発部
１９  加熱部
２０  上部運搬キャリアローラ
２１  走行路
２２  厚さ測定システム
２３  巻き出しローラ（積層体を供給するローラ）
２４  巻き上げローラ（支持体上の最初の積層保護箔を収集するローラ）
２５  るつぼ容器
２６  内部加熱された煙突
２７  制御可能なスロット出口
２８  煙突ヒータ
２９  最初に離層された保護箔
３０  （所望により真空の）吸引テーブル
３１  圧力調整シリンダ
３２  光学位置センサ
３３  （支持体上の最初の積層体のため、及び所望により蒸着された燐光体又はシンチレータ層を積層するための積層体パッケージの剥離層のための）離層箔のための離層収集ローラ
３４  離層先駆体
３５  離層ローラ
３６  蒸着工程後に保護箔を適用する積層ユニット
３７  蒸着工程後に積層される保護箔
３８  高温計
３９  冷却ユニット
４０  加熱システム
４１  スリットを有する遮熱材
４２  ガス入口
４３  熱電対
４４  保護された熱電対
４５  ガイドローラ
４６  積層剥離箔（任意）
４７  煙突入口
【図１】
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【図２】
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【外国語明細書】
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