(57)【要約】【課題】新規な光学補償シート、及びこれを用いた液晶表示装置及び、前記光学補償シートの製造方法を提供する。【解決手段】少なくとも、支持体と、該支持体上に設けられた光学異方性層とからなり、前記光学異方性層は、少なくとも、下記一般式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる２種の互いに異なる化合物と液晶性化合物とからなることを特徴とする光学補償シート。一般式（Ｉ）    （Ｒｆ−Ｘ−）mＡｒ（−Ｗ）n（式（Ｉ）中、Ａｒは芳香族ヘテロ環又は芳香族炭化水素環を表し、Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆは一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗはスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｍは１〜４を表し、ｎは１又は２を表す。）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、支持体と、該支持体上に設けられた光学異方性層とからなり、前記光学異方性層は、少なくとも、下記一般式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる２種の互いに異なる化合物と液晶性化合物とからなることを特徴とする光学補償シート。
一般式（Ｉ）
（Ｒｆ−Ｘ−）mＡｒ（−Ｗ）n
（式（Ｉ）中、Ａｒは芳香族ヘテロ環又は芳香族炭化水素環を表し、Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆは一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗはスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｍは１〜４を表し、ｎは１又は２を表す。）
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる２種の互いに異なる化合物の一方が、下記一般式（II）で表される化合物であることを特徴とする請求項１に記載の光学補償シート。
一般式（II）
（Ｒｆ1−Ｘ1−）2Ａｒ1（−Ｗ1）n1
（式（II）中、Ａｒ1は芳香族ヘテロ環又は芳香族炭化水素環を表し、Ｘ1は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆ1は一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗ1はスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｎ１は１又は２を表す。）
【請求項３】
前記光学異方性層が、フルオロ脂肪族基含有ポリマーを含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の光学補償シート。
【請求項４】
前記光学異方性層が、１，３，５−トリアジン環基を有する化合物を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項５】
前記液晶性化合物が、ディスコティック液晶性化合物である請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項６】
前記光学異方性層が、ハイブリット配向した液晶性化合物を含み、かつ、該ハイブリッド配向した液晶性化合物が固定されている請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項７】
前記支持体上に配向膜を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学補償シートを有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
少なくとも、支持体と、該支持体上に設けられた光学異方性層とからなり、前記光学異方性層は、少なくとも、一般式（Ｉ）
（Ｒｆ−Ｘ−）mＡｒ（−Ｗ）n
（式（Ｉ）中、Ａｒは芳香族ヘテロ環又は芳香族炭化水素環を表し、Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆは一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗはスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｍは１〜４を表し、ｎは１又は２を表す。）で表される化合物から選ばれる２種の互いに異なる化合物と液晶性化合物とからなる、光学補償シートの製造方法であって、少なくとも、前記液晶性化合物を前記支持体上に水平配向させる工程と、該水平配向した液晶性化合物をハイブリッド配向させる工程と、該ハイブリッド配向した前記液晶性化合物を固定する工程とからなることを特徴とする光学補償シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な光学補償シート、及びこれを用いた液晶表示装置及び、前記光学補償シートの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学補償シートは画像着色解消や視野角拡大のために、様々な液晶表示装置で用いられている。従来、光学補償シートとしては延伸複屈折フイルムが使用されていたが、近年、延伸複屈折フイルムに代えて、支持体上にディスコティック液晶性化合物からなる光学異方性層を有する光学補償シートを使用することが提案されている。この光学異方性層は、通常、ディスコティック液晶性化合物を含む組成物を配向膜上に塗布し、配向温度よりも高い温度に加熱してディスコティック液晶性化合物を配向させ、その配向状態を固定することにより形成される。
【０００３】
一般に、ディスコティック液晶性化合物は、大きな複屈折率を有するとともに、多様な配向形態がある。そして、ディスコティック液晶性化合物を用いることで、従来の延伸複屈折フイルムでは得ることができない光学的性質を実現することが可能になった。
【０００４】
一方、ディスコティック液晶性化合物は、多様な配向形態が存在するため、所望の光学特性の発現には光学異方性層におけるディスコティック液晶性化合物の配向を制御する必要がある。特に、光学補償性能の発現には、ディスコティック液晶性化合物の傾斜角を支持体面からの距離に伴って変化するように配向させる、いわゆる「ハイブリッド配向」の状態を実現することが重要であり、光学補償シートの性能、すなわち、視野角拡大、視角変化によるコントラスト低下、階調反転、黒白反転、及び色相変化等を決める最も重要な因子となる。このハイブリッド配向は、ディスコティック液晶性化合物の配向の方位角を規制する目的で支持体上に設けられる配向膜表面の傾斜角と光学補償シートの最外面である空気側界面の傾斜角との差を利用して実現されている。ディスコティック液晶性化合物を用いて光学補償シートを塗設、乾燥した後、ディスコティック液晶性化合物は、空気界面と配向膜界面の両方でそれぞれ安定な傾斜角でモノドメイン配向する。その結果、膜の厚み方向に連続的に傾斜角が変化した配向状態が形成される。ディスコティック液晶性化合物は、空気界面では５０度以上の高い傾斜角を持つ性質がある。そのため、ハイブリッド配向を実現するには、配向膜界面の傾斜角は、空気界面の傾斜角より大幅に小さくしなくてはならない。ポリビニルアルコールを用いた配向膜は、その傾斜角が０度に近いために目的のハイブリッド配向の実現に好適に用いられる（特許文献１）。
【０００５】
一方で所望の光学補償機能を得るためには、空気界面側の傾斜角を精密に制御する必要がある。通常の空気界面で得られる傾斜角である５０度を凌ぐ角度を得る方法としてセルロース部分エステル化物を添加する方法（特許文献２）又はフッ素置換アルキル基と親水基（スルホ基が連結基を介してベンゼン環に結合した）を有する化合物を添加する方法（特許文献３の第７−１０頁）が提案されている。しかし、本発明者がこれらの光学補償シートを実際に使用してみたところ、偏光板の斜め方向からの光漏れが認められ、視野角が充分に（理論的に期待できる程度まで）拡大しないものもあることが判明した。さらに、発明者は、光学補償機能が不充分になる理由の１つとして、ディスコティック液晶性化合物の傾斜角が充分に制御できていないことがあると考えた。
【０００６】
また、これらの方法では、空気界面でディスコティック液晶性化合物を方位角方向で規制することができないため、方位角方向の異なる領域が生じ、その結果、配向欠陥（シュリーレン欠陥）が生じ易い状態を形成する。光学異方性層に配向欠陥が生じると光散乱が起こり、光学特性を損なうという問題がある。配向欠陥は、温度コントロールにより液晶状態を保持して充分な配向熟成時間を与えれば、ディスコティック液晶性化合物が欠陥を打ち消し合う様に配向の方位角方向を変動させて、時間と共に消失し、最終的にはモノドメイン化して無欠陥のハイブリッド配向が達成される。そのため、製造の効率化のために熟成時間を短縮すると、配向欠陥の発生が顕著になり易いという問題があり、モノドメイン化時間の短縮を実現させる技術の開発が必要であった。特に所望の光学性能を得るために、前記の化合物を添加して空気界面側の傾斜角を大きくした場合、欠陥消失速度が著しく遅延化して製造の極端な非効率化を招いてしまう。そのため、液晶性化合物のハイブリッド配向を効率的に促進すると共に、空気界面の傾斜角を精密に制御しうる技術の開発が強く望まれていた。
【０００７】
さらに、従来の技術では、主に、１５インチ以下の小型あるいは中型の液晶表示装置を想定して、光学補償シートが開発されていた。しかし、最近では、１７インチ以上の大型、かつ輝度の高い液晶表示装置も想定する必要がある。大型の液晶表示装置の偏光板に、従来技術の光学補償シートを保護フイルムとして装着したところ、パネル上にムラが発生していることが判明した。この欠陥は、小型あるいは中型よりも、大型化、高輝度化したものについて、特に、起こりやすい。そこで、これらの光漏れムラに対処した光学フイルムをさらに開発する必要が生じている。
ムラの改良を行う技術として、重合性液晶にレベリング剤を含有させる方法が開示されている（特許文献４）。しかしながら、発明者が検討したところ、この方法は重合性液晶がホモジニアス配向の場合にのみ有効であり、本発明のようにハイブリット配向をはじめとした複雑な配向には、適用できないことが判った。
【０００８】
【特許文献１】特開平８−５０２０６号公報
【特許文献２】特開平８−９５０３０号公報
【特許文献３】特開２００１−３３０７２５号公報
【特許文献４】特開平１１−１４８０８０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、光学異方性層のハイブリッド配向する液晶性化合物の傾斜角を制御し、光学補償機能に優れ、かつ、画像表示装置に適用した場合に、広い視野角拡大性能を有する新規な光学補償シート及びその製造方法を提供することを課題とする。とりわけ、空気界面側の傾斜角を制御し、ハイブリッド配向したディスコティック液晶性化合物を光学異方性層に含有する、ＴＮモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、ＶＡモード等の液晶表示装置の視野角改善に寄与する光学補償シートを提供することを課題とする。さらに、大型の液晶表示装置に適用した場合でも、ムラを生じることなく、表示品位の高い画像を表示することができる光学フイルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するための手段は、以下のとおりである。
［１］  少なくとも、支持体と、該支持体上に設けられた光学異方性層とからなり、前記光学異方性層は、少なくとも、下記一般式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる２種の互いに異なる化合物と液晶性化合物とからなることを特徴とする光学補償シート。
一般式（Ｉ）
（Ｒｆ−Ｘ−）mＡｒ（−Ｗ）n
（式（Ｉ）中、Ａｒは芳香族ヘテロ環又は芳香族炭化水素環を表し、Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆは一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗはスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｍは１〜４を表し、ｎは１又は２を表す。）
[１−２]
[１]において、一般式（Ｉ）で表される化合物の含量を１００質量％としたときに、該化合物のうち、含量が最も多い２種のうちの含量が少ない方の含量が、少なくとも、５質量％（好ましくは１０質量％、より好ましくは２０質量％）であることを特徴とする光学補償シート。
［２］  前記一般式（Ｉ）で表される化合物から選ばれる２種の互いに異なる化合物の一方が、下記一般式（II）で表される化合物であることを特徴とする[１]に記載の光学補償シート。
一般式（II）
（Ｒｆ1−Ｘ1−）2Ａｒ1（−Ｗ1）n1
（式（II）中、Ａｒ1は芳香族ヘテロ環又は芳香族炭化水素環を表し、Ｘ1は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆ1は一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗ1はスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｎ１は１又は２を表す。）
[２−２]  前記一般式（I）で表される化合物から選ばれる２種の互いに異なる化合物のち、一方が一般式（Ia）で表され、他方が一般式（IIa）で表されることを特徴とする[１]に記載の光学補償シート。
［３］  前記光学異方性層が、フルオロ脂肪族基含有ポリマーを含むことを特徴とする[１]又は[２]に記載の光学補償シート。
［４］  前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーが下記一般式（III）で表されるモノマーから導かれる繰り返し単位を含む重合体であることを特徴とする［１］〜［３］のいずれかに記載の光学補償シート。
一般式（III）
【化１】
2005189285.tif 000002
（式（III）において、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子又はＮ（Ｒ2）−を表し、Ｒ2は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｈｆは水素原子又はフッ素原子を表し、ｍは１〜６の整数、ｎは２〜４の整数を表す。）
［５］  前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーが、下記一般式（IV）で表されるモノマーから導かれる繰り返し単位を含む重合体であることを特徴とする［４］に記載の光学補償シート。
一般式（IV）
【化２】
2005189285.tif 000003
（式（IV）において、Ｒ3は水素原子又はメチル基を表し、Ｙは２価の連結基を表し、Ｒ4は置換基を有しても良いポリ（アルキレンオキシ）基又は置換基を有しても良い炭素数１〜２０の直鎖、炭素数４〜２０の分岐又は炭素数３〜２０の環状のアルキル基を表す。）
［６］  前記光学異方性層が、１，３，５−トリアジン環基を有する化合物を含むことを特徴とする［１］〜［５］のいずれかに記載の光学補償シート。
［７］  前記液晶性化合物が、ディスコティック液晶性化合物である［１］〜［６］のいずれかに記載の光学補償シート。
［８］  前記光学異方性層が、ハイブリット配向した液晶性化合物を含み、かつ、該ハイブリッド配向した液晶性化合物が固定されている［１］〜［７］のいずれかに記載の光学補償シート。
［９］  前記支持体上に配向膜を有することを特徴とする［１］〜［８］のいずれかに記載の光学補償シート。
［１０］  ［１］〜［９］のいずれかに記載の光学補償シートを有することを特徴とする液晶表示装置。
［１１］  少なくとも、支持体と、該支持体上に設けられた光学異方性層とからなり、前記光学異方性層は、少なくとも、一般式（Ｉ）
（Ｒｆ−Ｘ−）mＡｒ（−Ｗ）n
（式（Ｉ）中、Ａｒは芳香族ヘテロ環又は芳香族炭化水素環を表し、Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆは一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗはスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｍは１〜４を表し、ｎは１又は２を表す。）で表される化合物から選ばれる２種の互いに異なる化合物と液晶性化合物とからなる、光学補償シートの製造方法であって、少なくとも、前記液晶性化合物を前記透明支持体上に水平配向させる工程と、該水平配向した液晶性化合物をハイブリッド配向させる工程と、該ハイブリッド配向した前記液晶性化合物を固定する工程とからなることを特徴とする光学補償シートの製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の光学補償フイルムを用いれば、液晶表示装置の視野角を拡大することができ、しかも大型の液晶表示装置においても、ムラを生じることなく、表示品位の高い画像を表示することができる。さらに本発明の液晶性化合物の配向方法を用いれば、光学補償フイルムの製造効率を格段に向上させることができる。
【発明の実施の形態】
【００１２】
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
【００１３】
本発明における液晶性化合物は、ハイブリッド配向していることが好ましい。ここで、ハイブリット配向とは、液晶性化合物の長軸方向（例えば、ディスコティック液晶性化合物の場合はコアの円盤面）と液晶層の水平面（例えば液晶層が支持体上に形成されている場合は支持体の表面）とのなす角度（本発明では「傾斜角」と定義する）が、液晶層の厚さ方向に連続的に変化する配向をいう。また、「水平配向」とは、液晶層の水平面（例えば液晶層が支持体上に形成されている場合は支持体の表面）に対して液晶性化合物の長軸方向（例えば、ディスコティック液晶性化合物の場合、コアの円盤面）が平行であることをいう。但し、本発明において、厳密に平行であることを要求するものではなく、液晶性化合物の長軸方向と水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。前記第一の配向工程において、液晶性化合物が水平配向した際の傾斜角は５度以下が好ましく、３度以下がより好ましく、２度以下がさらに好ましく、１度以下が最も好ましい。前記傾斜角は０度であってもよい。
【００１４】
本発明の光学補償シートに用いられる一般式（Ｉ）で表される化合物について説明する。該化合物は、主として、液晶性化合物の傾斜角制御剤として機能する。
【００１５】
一般式（Ｉ）
（Ｒｆ−Ｘ−）mＡｒ（−Ｗ）n
式（Ｉ）中、Ａｒは芳香族ヘテロ環又は芳香族炭化水素環を表し、Ｘは単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆはフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗはスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｍは１〜４を表し、ｎは１又は２を表す。
【００１６】
更に詳細に説明すると、上記一般式（Ｉ）において、Ａｒで表される芳香族ヘテロ環基は、好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２の芳香族ヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、フラン環基、ピロール環基、イミダゾール環基、ピラゾール環基、イソキサゾール環基、ピリジン環基、ピリミジン環基、１，３，５−トリアジン環基、インドール環基、インダゾール環基、キノリン環基、カルバゾール環基が好ましい。Ａｒで表される芳香族炭化水素環基は、好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環基であり、炭素数６のものが最も好ましい。
【００１７】
Ａｒで表される芳香族ヘテロ環基又は芳香族炭化水素環基は置換基を有していてもよく、置換基としては以下の基を挙げることができる。
アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）（アルキル基の炭素数は、置換基の炭素原子を含まない。以下、他の基の炭素数についても同様である。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリール基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【００１８】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【００１９】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。
【００２０】
これらの置換基は、さらに、これらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００２１】
Ａｒで表される芳香族ヘテロ環又は芳香族炭化水素環の置換基としては、上記の中でも、好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルキルチオ基であり、特に好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基であり、最も好ましくは無置換の芳香族ヘテロ環又は芳香族炭化水素環である。
【００２２】
Ｘで表される２価の連結基はアルキレン基、アルケニレン基、２価のアリール基、２価のヘテロ環基、−ＣＯ−、−ＮＲa−（Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが好ましい。２価の連結基は、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの群より選ばれる２価の連結基を少なくとも２つ組み合わせた基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基及びアリーレン基は、可能であれば前述のＡｒ1の置換基として例示された基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基など）によって置換されていてもよい。
Ｘは２価の連結基が好ましく、なかでもアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる２価の連結基であることが特に好ましい。
【００２３】
Ｒｆで表されるフッ素原子で置換されたアルキル基は環状構造又は分岐構造を有していてもよく、炭素数１〜２０であることが好ましく、炭素数４〜１６であることがより好ましく、炭素数４〜１２であることが特に好ましい。フッ素原子の置換率は、アルキル基に含まれる水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されていることが好ましく、６０％以上が置換されていることがより好ましい。Ｒｆは、末端がＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基であることが好ましく、ＣＦ3基であることが特に好ましい。Ｒｆで表されるフッ素原子で置換されたアルキル基は、可能であれば前述のＡｒの置換基として例示された基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基など）によって置換されていてもよい。
以下に、Ｒｆの具体例を示す。
【００２４】
【化３】
2005189285.tif 000004
【００２５】
Ｗはスルホ基であることが好ましく、ｍは１が好ましく、ｎは１が好ましい。ｍ及び／又はｎが２以上の場合は、それぞれのＲｆ−Ｘ−及び／又はＷは、同一であっても、異なっていてもよい。
【００２６】
前記一般式（Ｉ）は、好ましくは、下記一般式（Ｉａ）である。
【００２７】
一般式（Ｉａ）
【化４】
2005189285.tif 000005
一般式（Ｉａ）において、Ｘ2は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆ2はフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｒは水素原子又はアルコキシ基を表す。
【００２８】
一般式（Ｉａ）において、Ｘ2及びＲｆ2は一般式（Ｉ）におけるＸ及びＲｆと同義であり、好ましい範囲も同一である。Ｒで表されるアルコキシ基は、環状構造又は分岐構造を有していてもよく、炭素数１〜２０であることが好ましく、炭素数４〜２０であることがより好ましく、炭素数８〜２０であることが特に好ましい。Ｒで表されるアルコキシ基は、可能であれば前述のＡｒの置換基として例示された基によって置換されていてもよい。
【００２９】
次に、一般式（I）で表される化合物の他の好ましい態様は、一般式（II）で表される化合物である。該化合物も、液晶性化合物の傾斜角制御剤として機能する。
【００３０】
一般式（II）
（Ｒｆ1−Ｘ1−）2Ａｒ1（−Ｗ1）n1
式（II）中、Ａｒ1は芳香族ヘテロ環又は芳香族炭化水素環を表し、Ｘ1は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆ1はフッ素原子で置換されたアルキル基を表し、Ｗ1はスルホ基又はカルボキシル基を表し、ｎ１は１又は２を表す。
【００３１】
更に詳細に説明すると、上記一般式（II）において、Ａｒ1、Ｘ1、Ｒｆ1、Ｗ1、及びｎ１は一般式（Ｉ）におけるＡｒ、Ｘ、Ｒｆ、Ｗ、及びｎと同義であり、好ましい範囲も同一である。式（II）中、２つのＲｆ1−Ｘ1−は、同一でも異なっていてもよい。
【００３２】
特に好ましくは、前記一般式（II）は、下記一般式（IIａ）である。
【００３３】
一般式（IIａ）
【化５】
2005189285.tif 000006
一般式（IIａ）において、Ｘ3は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆ3はフッ素原子で置換されたアルキル基を表す。
【００３４】
一般式（IIａ）において、Ｘ3及びＲｆ3は一般式（II）におけるＸ1及びＲｆ1と同義であり、好ましい範囲も同一である。
【００３５】
上記一般式（Ｉ）及び（II）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。
【００３６】
【化６】
2005189285.tif 000007
【００３７】
【化７】
2005189285.tif 000008
【００３８】
【化８】
2005189285.tif 000009
【００３９】
【化９】
2005189285.tif 000010
【００４０】
前記一般式（Ｉ）及び（II）で表される化合物は、一般的なヒドロキシ基のアルキル化反応、エステル化反応、及びアミド化反応等を組み合わせることによって容易に合成することができる。
【００４１】
本発明の化合物の添加量としては、液晶性化合物の量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％が特に好ましく、０．１〜５質量％が最も好ましい。
さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物の含量を１００質量％としたときに、該化合物のうち、含量が最も多い２種のうちの含量が少ない方の含量が、少なくとも、５質量％、好ましくは１０質量％、より好ましくは２０質量％となるように、該化合物を含める。
【００４２】
さらに具体的には、液晶性化合物の量に対し、一般式（I）で表される化合物を０．０５〜５質量％（より好ましくは０．１〜１質量％）、一般式（II）で表される化合物を０．０５〜５質量％（より好ましくは０．１〜１質量％）とするのが好ましい。さらには、液晶性化合物の量に対し、一般式（Iａ）で表される化合物が０．１〜  １質量％、一般式（IIａ）で表される化合物が０．１〜１質量％であるのが好ましい。
【００４３】
次にフルオロ脂肪族基含有重合体について説明する。本発明において、該フルオロ脂肪族基含有重合体は、光学フイルムのムラをより効果的に防止するムラ防止剤として機能する。したがって、その光学フイルムを大型の液晶表示装置に適用することにより、よりムラを生じることがなく、表示品位の高い画像を表示することが可能となる。
【００４４】
以下、本発明に係るフルオロ脂肪族基含有重合体について詳細に説明する。
本発明で用いるフルオロ脂肪族基含有重合体は上記一般式（III）で表されるモノマーを含む重合体、一般式（III）及び（IV）で表されるモノマーを含む重合体、さらに、これらモノマーと重合可能なビニル系モノマーが重合した重合体が好ましい。重合体は、具体的には、アクリル樹脂、メタアクリル樹脂が好ましい。なお、本発明でいう重合体とは、１種類のモノマーを重合した場合のほか、２種類以上のモノマーを共重合した場合を含む趣旨である。
【００４５】
本発明にかかわるフルオロ脂肪族基含有重合体におけるフルオロ脂肪族基の１つは、テロメリゼーション法（テロマー法）又はオリゴメリゼーション法（オリゴマー法）により製造されたフルオロ脂肪族化合物から導かれるものである。これらのフルオロ脂肪族化合物の製造法に関しては、例えば、「フッ素化合物の合成と機能」（監修：石川延男、発行：株式会社シーエムシー、１９８７）の１１７〜１１８ページや、「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｆｌｕｏｒｉｎｅ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ  ＩＩ」（Ｍｏｎｏｇｒａｐｈ  １８７，Ｅｄ  ｂｙ  Ｍｉｌｏｓ  Ｈｕｄｌｉｃｋｙ  ａｎｄ  Ａｔｔｉｌａ  Ｅ．Ｐａｖｌａｔｈ，Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ  １９９５）の７４７−７５２ページに記載されている。テロメリゼーション法とは、ヨウ化物等の連鎖移動常数の大きいアルキルハライドをテローゲンとして、テトラフルオロエチレン等のフッ素含有ビニル化合物のラジカル重合を行い、テロマーを合成する方法である（Ｓｃｈｅｍｅ−１に例を示した）。
【００４６】
【化１０】
2005189285.tif 000011
【００４７】
得られた、末端ヨウ素化テロマーは通常、例えば（Ｓｃｈｅｍｅ２）のごとき適切な末端化学修飾を施され、フルオロ脂肪族化合物へと導かれる。これらの化合物は必要に応じ、さらに所望のモノマー構造へと変換されフルオロ脂肪族基含有ポリマーの製造に使用される。
【００４８】
【化１１】
2005189285.tif 000012
【００４９】
上記一般式（III）においては、Ｒ1は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子、又は−Ｎ（Ｒ2）−を表し、Ｈfは水素原子又はフッ素原子を表す。ここでＲ2は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基、具体的にはメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基を表し、好ましくは水素原子又はメチル基である。Ｘは酸素原子が好ましい。
一般式（III）中のｍは１〜６の整数が好ましく、１又は２が特に好ましい。
一般式（III）中のｎは２〜４であって、特に２又は３が好ましく、また、これらの混合物を用いてもよい。
一般式（III）で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーのより具体的なモノマーの例を以下にあげるがこの限りではない。
【００５０】
【化１２】
2005189285.tif 000013
【００５１】
【化１３】
2005189285.tif 000014
【００５２】
【化１４】
2005189285.tif 000015
【００５３】
【化１５】
2005189285.tif 000016
【００５４】
【化１６】
2005189285.tif 000017
【００５５】
【化１７】
2005189285.tif 000018
【００５６】
【化１８】
2005189285.tif 000019
【００５７】
一般式（IV）において、Ｒ3は水素原子又はメチル基を表し、Ｙは２価の連結基を表す。２価の連結基としては、酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ5）−が好ましい。ここでＲ5は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が好ましい。Ｒ5のより好ましい形態は水素原子及びメチル基である。
Ｙは、酸素原子、−Ｎ（Ｈ）−及び−Ｎ（ＣＨ3）−がより好ましい。
Ｒ4は置換基を有しても良いポリ（アルキレンオキシ）基又は置換基を有しても良い炭素数１〜２０の直鎖、炭素数４〜２０の分岐又は炭素数３〜２０の環状のアルキル基を表す。
【００５８】
ポリ（アルキレンオキシ）基は（ＲＯ）ｘで表すことができ、Ｒは２〜４個の炭素原子を有するアルキレン基、例えば−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−、又はＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ（ＣＨ3）−であることが好ましい。
前記のポリ（アルキレンオキシ）基中のアルキレンオキシ単位はポリ（プロピレンオキシ）におけるように同一であってもよく、また互いに異なる２種以上のアルキレンオキシが不規則に分布されたものであっても良く、直鎖又は分岐状のプロピレンオキシ又はエチレンオキシ単位、又は直鎖又は分岐状のプロピレンオキシ単位のブロック及びエチレンオキシ単位のブロックのように存在するものであっても良い。
このポリ（アルキレンオキシ）鎖は、複数のポリ（アルキレンオキシ）単位同士が１つ又はそれ以上の連鎖結合（例えば−ＣＯＮＨ−Ｐｈ−ＮＨＣＯ−、−Ｓ−など、ここでＰｈはフェニレン基を表す）で連結されたものも含むことができる。連鎖の結合が３つ又はそれ以上の原子価を有する場合には、これは分岐鎖のアルキレンオキシ単位を得るための手段を供する。またこの重合体を本発明に用いる場合には、ポリ（アルキレンオキシ）基の分子量は２５０〜３０００が適当である。
【００５９】
Ｒ4で表される炭素数１〜２０の直鎖、炭素数４〜２０の分岐又は炭素数３〜２０の環状のアルキル基としては、直鎖及び分岐してもよいメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、オクタデシル基、エイコサニル基等、また、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等の単環シクロアルキル基及びビシクロヘプチル基、ビシクロデシル基、トリシクロウンデシル基、テトラシクロドデシル基、アダマンチル基、ノルボルニル基、テトラシクロデシル基等の多環シクロアルキル基が好適に用いられる。
【００６０】
Ｒ4で表されるポリ（アルキレンオキシ）基又はアルキル基の置換基としては、水酸基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、カルボキシル基、アルキルエーテル基、アリールエーテル基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アミノ基等があげられるがこの限りではない。
【００６１】
一般式（IV）で表されるモノマーは、アルキル（メタ）アクリレート又はポリ（アルキレンオキシ）（メタ）アクリレートであることが特に好ましい。
【００６２】
一般式（IV）で示されるモノマーの具体例を次に示すが、この限りではない。
【００６３】
【化１９】
2005189285.tif 000020
【００６４】
【化２０】
2005189285.tif 000021
【００６５】
【化２１】
2005189285.tif 000022
【００６６】
【化２２】
2005189285.tif 000023
【００６７】
【化２３】
2005189285.tif 000024
【００６８】
【化２４】
2005189285.tif 000025
【００６９】
【化２５】
2005189285.tif 000026
【００７０】
【化２６】
2005189285.tif 000027
【００７１】
【化２７】
2005189285.tif 000028
【００７２】
【化２８】
2005189285.tif 000029
【００７３】
【化２９】
2005189285.tif 000030
【００７４】
【化３０】
2005189285.tif 000031
【００７５】
【化３１】
2005189285.tif 000032
【００７６】
なお、ポリ（アルキレンオキシ）アクリレート及びメタクリレートは、市販のヒドロキシポリ（アルキレンオキシ）材料、例えば、商品名“プルロニック” （Ｐｌｕｒｏｎｉｃ（旭電化工業（株）製））、“アデカポリエーテル”（旭電化工業（株）製）“カルボワックス”（Ｃａｒｂｏｗａｘ（グリコ・プロダクス））、“トリトン” （Ｔｒｉｔｏｎ（ローム・アンド・ハース（Ｒｏｈｍ  ａｎｄ  Ｈａａｓ製）））及び“Ｐ．Ｅ．Ｇ”（第一工業製薬（株）製）として販売されているものを公知の方法でアクリル酸、メタクリル酸、アクリルクロリド、メタクリルクロリド又は無水アクリル酸等と反応させることによって製造できる。
また、公知の方法で製造したポリ（オキシアルキレン）ジアクリレート等を用いることもできる。
【００７７】
本発明のフルオロ脂肪族基含有重合体としては、一般式（III）で表されるモノマーのホモポリマー又は一般式（III）で表されるモノマーとポリアルキレンオキシ（メタ）アクリレートとの重合体が好ましく、ポリエチレンオキシ（メタ）アクリレート又はポリプロピレンオキシ（メタ）アクリレートを含むことが特に好ましい。
【００７８】
本発明に用いる上記一般式（III）で表されるモノマーと一般式（IV）で表されるモノマーの重合体は、上記各モノマーの他に、さらにこれらと重合可能なモノマーをも加えて反応させた重合体であってもよい。この重合可能なモノマーの好ましい重合比率としては、全モノマー中の２０モル％以下、より好ましくは１０モル％以下である。このようなモノマーとしては、Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ２ｎｄ  ｅｄ．，Ｊ．Ｂｒａｎｄｒｕｐ，Ｗｉｌｅｙ  ｌｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ（１９７５）Ｃｈａｐｔｅｒ  ２，Ｐａｇｅ  １〜４８３頁に記載のものを用いることが出来る。例えば、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル酸エステル類、メタクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等から選ばれる付加重合性不飽和結合を１個有する化合物等をあげることができる。
【００７９】
具体的には、以下のモノマーをあげることができる。
アクリル酸エステル類：
フルフリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレートなど、
メタクリル酸エステル類：
フルフリルメタクリレート、テトラヒドロフルフリルメタクリレートなど、
【００８０】
アリル化合物：
アリルエステル類（例えば酢酸アリル、カプロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸アリル、アセト酢酸アリル、乳酸アリルなど）、アリルオキシエタノールなど
【００８１】
ビニルエーテル類：
アルキルビニルエーテル（例えばヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチルプロピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニルエーテル、ジエチルアミノエチルビニルエーテル、ブチルアミノエチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテルなど
【００８２】
ビニルエステル類：
ビニルビチレート、ビニルイソブチレート、ビニルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、ビニルバレート、ビニルカプロエート、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテート、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテート、ビニルラクテート、ビニル−β―フェニルブチレート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレートなど
【００８３】
イタコン酸ジアルキル類：
イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジブチルなど
フマール酸のジアルキルエステル類又はモノアルキルエステル類：
ジブチルフマレートなど
その他、クロトン酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、マレイロニトリル、スチレンなど
【００８４】
本発明で用いられるフルオロ脂肪族基含有重合体中の一般式（III）で示されるフルオロ脂肪族基含有モノマーの量は、該ポリマーの構成モノマー総量の５モル％以上であり、好ましくは２０モル％以上であり、より好ましくは３０モル％以上である。
本発明のフルオロ脂肪族基含有重合体中の一般式（IV）で示されるモノマーの量は、フルオロ脂肪族基含有重合体の構成モノマー総量の５モル％以上であり、好ましくは５〜７０モル％であり、より好ましくは５〜６０モル％である。
【００８５】
本発明で用いられるフルオロ脂肪族基含有重合体の好ましい重量平均分子量は、３０００〜１００，０００が好ましく、６，０００〜８０，０００がより好ましい。
更に、液晶性化合物を主とする塗布組成物（溶媒を除いた塗布成分）に対する本発明に係るフルオロ脂肪族基含有重合体の好ましい含有量は、０．００５〜８質量％の範囲であり、好ましくは０．０１〜１質量％の範囲であり、更に好ましくは０．０５〜０．５質量％の範囲である。フルオロ脂肪族基含有重合体の添加量が０．００５質量％以上とすることにより、より良好なものが得られ、また、８質量％以下とすることにより、塗膜の乾燥が十分に行われなくなったり光学フイルムとしての性能（例えばレターデーションの均一性等）に悪影響を及ぼすのをより効果的に防止できる。
【００８６】
本発明で用いられるフルオロ脂肪族基含有重合体は公知慣用の方法で製造することができる。例えば先にあげたフルオロ脂肪族基を有する（メタ）アクリレート、ポリアルキレンオキシ基を有する（メタ）アクリレート等の単量体を含む有機溶媒中に、汎用のラジカル重合開始剤を添加し、重合させることにより製造できる。また、場合によりその他の付加重合性不飽和化合物を、さらに添加して上記と同じ方法にて製造することができる。各モノマーの重合性に応じ、反応容器にモノマーと開始剤を滴下しながら重合する滴下重合法なども、均一な組成のポリマーを得るために有効である。
【００８７】
以下、本発明で用いられるフルオロ脂肪族基含有重合体の具体的な構造の例を示すが、本発明は、これらに限定されるものではない。なお式中の数字は各モノマー成分の質量百分率を示す。Ｍｗは重量平均分子量を表す。
【００８８】
【化３２】
2005189285.tif 000033
【００８９】
【化３３】
2005189285.tif 000034
【００９０】
【化３４】
2005189285.tif 000035
【００９１】
【化３５】
2005189285.tif 000036
【００９２】
【化３６】
2005189285.tif 000037
【００９３】
【化３７】
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【００９４】
【化３８】
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【００９５】
【化３９】
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【００９６】
【化４０】
2005189285.tif 000041
【００９７】
（光学異方性層の製造方法）
本発明の光学異方性層の製造方法は、液晶性化合物をハイブリッド配向状態に固定することを特徴とする製造方法であって、少なくとも、液晶性化合物を水平配向させる第一の配向工程と、水平配向した液晶性化合物をハイブリッド配向させる第二の配向工程と、ハイブリッド配向した液晶性化合物をその配向状態に固定する固定化工程とからなる。本発明の製造方法では、液晶性化合物を一旦水平配向させた後、ハイブリッド配向に転移させることにより、配向欠陥などの欠陥の少ないハイブリッド配向に迅速に転移させて製造している。
【００９８】
前記第一及び／又は第二の配向工程において、液晶性化合物に電場、磁場、放射線及び熱の少なくとも１種を供与することによって、液晶性化合物を水平配向及び／又はハイブリッド配向させることができる。例えば、第一と第二の配向工程において、外部から供与するエネルギーの大きさを変化させる（例えば、加熱により配向させる場合は、加熱温度を変化させる）ことによって、又は供与するエネルギーの種類を替えることによって、液晶性化合物の配向状態を調整することができる。ここで、エネルギーの種類としては、加熱、紫外線照射、（電場、磁場  ）等があげられる。製造適性の観点から、前記第一及び第二の配向工程において、液晶性化合物の加熱温度を変化させることによって、水平配向からハイブリッド配向に転移させるのが好ましい。
【００９９】
本発明では、前述した様に、外部からのエネルギーの供与によって、液晶性化合物を所望の配向状態に配向させることができるが、光学異方性層を配向膜上に形成することによって、又は液晶性化合物の配向状態を制御し得る化合物（前記一般式（Ｉ）及び（II）で表される化合物等）を光学異方性層に添加することによっても、所望の配向状態を達成することができる。特に、後述する１，３，５−トリアジン環基を有する化合物をはじめとする、水平配向を促進する添加剤を用いると、より迅速に、欠陥の少ないハイブリッド配向の光学異方性層を製造できるので好ましい。
【０１００】
本発明の光学異方性層の製造方法の好ましい態様としては、以下の方法を挙げることができる。
【０１０１】
前記一般式（I）で表される化合物、前記一般式（II）で表される化合物、及び１，３，５−トリアジン環基を有する化合物の存在下で、液晶性化合物を温度Ｔ1度で水平配向させる第一の配向工程と、前記第一の配向工程の後、液晶性化合物を温度Ｔ2度（但し、Ｔ1＜Ｔ2）でハイブリッド配向させる第二の配向工程と、ハイブリッド配向した液晶性化合物をその配向状態に固定する固定化工程を含む光学異方性層の製造方法である。
【０１０２】
前記第一の配向工程では、例えば、ディスコティック液晶、前記一般式（I）で表される化合物、前記一般式（II）で表される化合物、及び１，３，５−トリアジン環基を有する化合物、及び適宜光学異方性層の形成に必要な化合物を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布したのち乾燥する。次いで、ディスコティックネマチック相形成温度まで加熱し、さらに液晶相状態において水平配向状態をとる温度（Ｔ1度）まで昇温する（第一の配向工程）。温度Ｔ1度において、前記ディスコティック液晶は水平配向状態になる。その後、該液晶相状態を呈する温度範囲の高温度領域（Ｔ2度）までさらに昇温して、ハイブリッド配向状態に転移させる（第二の配向工程）。最後に、ＵＶ光の照射等により重合し配向状態を固定化する（固定化工程）。この製造方法によれば、ディスコティック液晶がハイブリッド配向してなる光学異方性層をシュリーレン欠陥の発生を抑制しつつ、迅速に製造できる。
【０１０３】
前記製造方法では、液晶性化合物の配向過程における温度制御が重要である。水平配向状態を呈する温度（Ｔ1度）としては、５０〜２００度が好ましく、７０〜２００度がより好ましく、７０〜１２０度が特に好ましい。水平配向状態を呈する温度（Ｔ1度）は、好ましくは、ハイブリッド配向状態を呈する温度（Ｔ2度）よりも低温である。その温度差（Ｔ2−Ｔ1）は１０度以上であるのが好ましく、２０度以上であるのがより好ましい。なお、Ｔ1及びＴ2度は、光学異方性層の膜面温度として測定される温度である。
【０１０４】
液晶性化合物が水平配向化状態を呈する温度は、液晶性化合物及び後述する添加剤の種類や添加量によって任意に制御することができ、それに応じて、Ｔ1度及びＴ2度を設定することができる。また、Ｔ1度及びＴ2度の各温度に維持する時間、ならびにＴ1度からＴ2度に変化させる時間については、液晶性化合物の種類等に応じて、適宜設定することができるが、好ましくは、１０秒〜２分である。
【０１０５】
次に、本発明の製造方法に用いられる１，３，５−トリアジン環基を有する化合物について詳細に説明する。本発明に使用可能な１，３，５−トリアジン環基を有する化合物としては、下記一般式（V）又は（VI）で表される化合物が好ましい。
【０１０６】
一般式（V）
【化４１】
2005189285.tif 000042
一般式（V）において、Ｌ1、Ｌ2及びＬ3は、単結合又は二価の連結基を表し、それぞれ同一でも異なっていても良い。Ａ1、Ａ2及びＡ3はアルキレン基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｍ2、ｍ3及びｍ4は０以上の整数を表す。好ましくは、ｍ2、ｍ3及びｍ4は、（０〜５）の整数である。Ｒ10、Ｒ11及びＲ12は有機基であり、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｍ2が０の時、Ｒ10はアルキル基であり、ｍ3が０の時、Ｒ11はアルキル基であり、ｍ4が０の時、Ｒ12はアルキル基である。
【０１０７】
一般式（VI）
【化４２】
2005189285.tif 000043
一般式（VI）において、Ｘ4、Ｙ4はＮＲa（Ｒaは水素原子又はアルキル基を表す）、Ｏ、Ｓのいずれかを表し、それぞれ、同一でも異なっていてもよい。Ｚ4は二価の連結基をあらわす。Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は置換基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
【０１０８】
まず、前記一般式（VI）で表される化合物について詳細に説明する。
Ｌ1、Ｌ2及びＬ3で各々表される二価の連結基の例としては、例えば−ＣＯ−、―ＮＲａ−（Ｒａはアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。より好ましくは、−ＣＯ−、−ＮＲａ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも２つ組み合わせである。さらに好ましくは−ＣＯ−、−ＮＲａ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基の２又は３つ組み合わせである。もっとも好ましくは−ＮＲａ−、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基の２又は３つ組み合わせである。
【０１０９】
Ａ1、Ａ2及びＡ3はアルキレン基（直鎖又は分岐の置換もしくは無置換のアルキレン基で、好ましくは炭素数２〜３０のアルキレン基であり、例えば−ＣＨ2−、−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−、−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ3）2−、−（ＣＨ2）4−）である。好ましくは−（ＣＨ2）2−、−ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）−、−（ＣＨ2）4−である。
【０１１０】
ｍ2、ｍ3及びｍ4は０以上の整数を表わし、好ましくは１〜１０で、より好ましくは１〜５である。
【０１１１】
Ｒ10、Ｒ11及びＲ12で各々表される有機基としては、アルキル基（直鎖又は分岐の置換もしくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ドデシル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２−エチルヘキシル基、２‐へキシルデシル基、２−オクチルドデシル基、３−（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピル基、
【０１１２】
シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基が挙げられ、多シクロアルキル基、例えば、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基で、例えば、ビシクロ（１．２．２）ヘプタン−２−イル基、ビシクロ（２．２．２）オクタン−３−イル基）やトリシクロアルキル基等の多環構造の基が挙げられる。好ましくは単環のシクロアルキル基、ビシクロアルキル基であり、単環のシクロアルキル基が得に好ましい。）、
【０１１３】
アルケニル基（直鎖又は分岐の置換もしくは無置換のアルケニル基で、好ましくは炭素数２〜３０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基で、例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基、多シクロアルケニル基、好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基で、例えば、ビシクロ（２．２．１）ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ（２．２．２）オクト−２−エン−４−イル基又はトリシクロアルケニル基であり、単環のシクロアルケニル基が特に好ましい）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基）、
【０１１４】
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基で、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基、ｏ−２−（パーフルオロヘキシル）エトキシフェニル基、ｏ−３−（パーフルオロヘキシル）プロピルオキシフェニル基、ｏ−２−（６Ｈ−ドデカフルオロヘキシル）エトキシフェニル基、ｏ−（８Ｈ−ヘキサデカフルオロオクチル）メトキシフェニル基）、ヘテロ環基（好ましくは５〜７員の置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香族もしくは非芳香族、単環もしくは縮環のヘテロ環基であり、より好ましくは、環構成原子が炭素原子、窒素原子及び硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子及び硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族ヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、等が挙げられる。
【０１１５】
Ｒ10、Ｒ11及びＲ12で各々表される有機基は置換基を有してもよく、置換基としては前記一般式（I）においてＡｒで表される芳香族ヘテロ環基又は芳香族炭化水素環基の置換基として挙げた基と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｒ10、Ｒ11及びＲ12で各々表される有機基の置換基は、特に好ましくは、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基である。
【０１１６】
特に好ましくは、前記一般式（V）は、下記一般式（Va）である。
【０１１７】
一般式（Va）
【化４３】
2005189285.tif 000044
一般式（Va）において、Ａ1、Ａ2及びＡ3はアルキレン基を表し、それぞれ同一でも異なっていても良い。ｍ2、ｍ3及びｍ4は０以上の整数を表す。Ｒ10、Ｒ11及びＲ12は有機基であり、それぞれ同一でも異なっていても良い。ｍ2が０の時、Ｒ10はアルキル基であり、ｍ3が０の時、Ｒ11はアルキル基であり、ｍ4が０の時、Ｒ12はアルキル基である。
【０１１８】
一般式（Va）においてＡ1、Ａ2及びＡ3、ｍ２、ｍ３及びｍ４、Ｒ10、Ｒ11及びＲ12は一般式（V）で示したものと同義であり、好ましい範囲も同一である。
【０１１９】
次に、前記一般式（VI）で表される化合物について詳細に説明する。
Ｚ4で表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価のアリール基、二価のヘテロ環基、−ＣＯ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。
【０１２０】
Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16で各々表される置換基としては、アルキル基（直鎖又は分岐の置換もしくは無置換のアルキル基で、好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ドデシル基、エイコシル基、２−クロロエチル基、２−シアノエチル基、２−エチルヘキシル基、２‐へキシルデシル基、２−オクチルドデシル基、３−（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピル）基、シクロアルキル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基が挙げられ、多シクロアルキル基、例えば、ビシクロアルキル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルキル基で、例えば、ビシクロ（１．２．２）ヘプタン−２−イル基、ビシクロ（２．２．２）オクタン−３−イル基）やトリシクロアルキル基等の多環構造の基が挙げられる。好ましくは単環のシクロアルキル基、ビシクロアルキル基であり、単環のシクロアルキル基が得に好ましい。）、
【０１２１】
アルケニル基（直鎖又は分岐の置換もしくは無置換のアルケニル基で、好ましくは炭素数２〜３０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、プレニル基、ゲラニル基、オレイル基）、シクロアルケニル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシクロアルケニル基で、例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基が挙げられ、多シクロアルケニル基、例えば、ビシクロアルケニル基（好ましくは、炭素数５〜３０の置換もしくは無置換のビシクロアルケニル基で、例えば、ビシクロ（２．２．１）ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ（２．２．２）オクト−２−エン−４−イル基）、やトリシクロアルケニル基であり、単環のシクロアルケニル基が得に好ましい。）、アルキニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基、例えば、エチニル基、プロパルギル基、トリメチルシリルエチニル基）、
【０１２２】
アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリール基で、例えばフェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基、ｍ−クロロフェニル基、ｏ−ヘキサデカノイルアミノフェニル基、ｏ−２−（パーフルオロヘキシル）エトキシフェニル基、ｏ−３−（パーフルオロヘキシル）プロピルオキシフェニル基、ｏ−２−（６Ｈ−ドデカフルオロヘキシル）エトキシフェニル、ｏ−（８Ｈ−ヘキサデカフルオロオクチル）メトキシフェニル基）、ヘテロ環基（好ましくは５〜７員の置換もしくは無置換、飽和もしくは不飽和、芳香族もしくは非芳香族、単環もしくは縮環のヘテロ環基であり、より好ましくは、環構成原子が炭素原子、窒素原子及び硫黄原子から選択され、かつ窒素原子、酸素原子及び硫黄原子のいずれかのヘテロ原子を少なくとも一個有するヘテロ環基であり、更に好ましくは、炭素数３〜３０の５もしくは６員の芳香族のヘテロ環基である。例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基）、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、
【０１２３】
アルコキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルコキシ基で、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナノキシ基、２−パーフルオロヘキシルエトキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシ基で、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、２，４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基、ｏ−２−（パーフルオロヘキシル）エトキシフェノキシ基、ｏ−３−（パーフルオロヘキシル）プロピルオキシフェノキシ基、ｏ−２−（６Ｈ−ドデカフルオロヘキシル）エトキシフェノキシ基、ｏ−（８Ｈ−ヘキサデカフルオロオクチル）メトキシフェノキシ基）、シリルオキシ基（好ましくは、炭素数３〜２０のシリルオキシ基で、例えば、トリメチルシリルオキシ基、ｔ−ブチルジメチルシリルオキシ基）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環オキシ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基）、
【０１２４】
アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルオキシ基であり、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基）、カルバモイルオキシ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイルオキシ基で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルオキシ基で、例えばメトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基で、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基）、
【０１２５】
アミノ基（好ましくは、アミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアミノ基、炭素数０〜３０のヘテロ環アミノ基であり、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、３−パーフルオロヘキシルプロピルアミノ基、３−（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピルアミノ基、３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミノ基、３−（２−ヘキシルデカノオキシ）プロピルアミノ基、３−ドデシルオキシプロピルアミノ基、３−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）プロピルアミノ基、３−（３−（６Ｈ−パーフルオロヘキシル）プロピルオキシ）プロピルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基、２−メチルオキシアニリノ基、２−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ基、２−（２−パーフルオロブチルエチルオキシ）アニリノ基、２、４−ジ（２−パーフルオロヘキシルエチルオキシ）アニリノ基、２−（６Ｈ−パーフルオロヘキシルメチルオキシ）アニリノ基、３，４−ジ（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ基、Ｎ−１，３，５−トリアジン−２−イルアミノ基）、アシルアミノ基（好ましくは、ホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニルアミノ基であり、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、３，４，５−トリ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニルアミノ基）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアミノカルボニルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニルアミノ基で、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基）、
【０１２６】
アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイルアミノ基で、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールスルホニルアミノ基であり、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基）、メルカプト基、
【０１２７】
アルキルチオ基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のアルキルチオ基で、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールチオ基で、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基で、ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましく、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換もしくは無置換のスルファモイル基で、例えば、Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイ基ル、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基）、スルホ基、
【０１２８】
アルキル基及びアリールスルフィニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルフィニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルフィニル基であり、例えば、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基）、アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルスルホニル基、６〜３０の置換又は無置換のアリールスルホニル基であり、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニル基、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールカルボニル基であり、例えば、アセチル基、ピバロイル基、２−クロロアセチル基、ステアロイル基、ベンゾイル基、ｐ−ｎ−オクチルオキシフェニルカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは、炭素数７〜３０の置換もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基で、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、
【０１２９】
アルコキシカルボニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換アルコキシカルボニル基で、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基）、カルバモイル基（好ましくは、炭素数１〜３０の置換もしくは無置換のカルバモイル基、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基）、アリール基及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換もしくは無置換のアリールアゾ基、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のヘテロ環アゾ基（ヘテロ環部は前述のヘテロ環基で説明されたヘテロ環部が好ましい）、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基）、イミド基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のイミド基で、例えばＮ−スクシンイミド基、Ｎ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィノ基、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基）、ホスフィニル基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニル基で、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基）、
【０１３０】
ホスフィニルオキシ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルオキシ基で、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは、炭素数２〜３０の置換もしくは無置換のホスフィニルアミノ基で、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜３０の置換もしくは無置換のシリル基で、例えば、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基）が挙げられる。
【０１３１】
上記の官能基の中で、水素原子を有するものは、これを取り去り更に上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基が挙げられ、具体的には、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基が挙げられる。
【０１３２】
これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が２つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１３３】
好ましくはＲ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16は、置換たまは無置換のアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基であり、さらに好ましくは置換又は無置換のアルキルアミノ基（例えばメチルアミノ基、ジメチルアミノ基、３−パーフルオロヘキシルプロピルアミノ基、３−（２、４−ジ−ｔ−アミルフェノキシ）プロピルアミノ基、３−（２−エチルヘキシルオキシ）プロピルアミノ基、３−（２−ヘキシルデカノオキシ）プロピルアミノ基、３−ドデシルオキシプロピルアミノ基、３−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）プロピルアミノ基、３−（３−（６Ｈ−パーフルオロヘキシル）プロピルオキシ）プロピルアミノ）基、アリールアミノ基（例えばアニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基、２−メチルオキシアニリノ基、２−（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ基、２−（２−パーフルオロブチルエチルオキシ）アニリノ基、２、４−ジ（２−パーフルオロヘキシルエチルオキシ）アニリノ基、２−（６Ｈ−パーフルオロヘキシルメチルオキシ）アニリノ基、３，４−ジ（３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ）アニリノ基）である。置換基としては前述のＲ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16の置換基として挙げた例が挙げられる。
【０１３４】
特に好ましくは、前記一般式（VI）は、下記一般式（VIa）である。
【０１３５】
一般式（VIa）
【化４４】
2005189285.tif 000045
一般式（VIa）において、Ｚ5はポリ（アルキレンオキシ）基を表し、Ｒａは水素原子又はアルキル基を表し、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ20は置換基を表し、それぞれ同一でも異なっていてもよい。ｊ１、ｊ２、ｊ３及びｊ４はそれぞれ０〜５の整数をあらわし、ｊ１、ｊ２、ｊ３及びｊ４が２以上のとき複数の、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ20はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、互いに結合して環を形成してもよい。
【０１３６】
ｊ１、ｊ２、ｊ３及びｊ４はそれぞれ０〜５の整数をあらわす。好ましくは１、２、３の整数である。
【０１３７】
Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19及びＲ20で各々表される置換基の例としては、前記一般式（VI）におけるＲ13、Ｒ14、Ｒ15及びＲ16として挙げた基が挙げられる。好ましくは置換又は無置換のアルコキシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基である。さらに好ましくは置換又は無置換のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノナノキシ基、２−パーフルオロヘキシルエトキシ基、３−パーフルオロヘキシルプロピルオキシ基、２−パーフルオロブチルエチルオキシ基、６Ｈ−パーフルオロヘキシルメチルオキシ基）である。
【０１３８】
１，３，５−トリアジン環基を有する化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。
【０１３９】
【化４５】
2005189285.tif 000046
【０１４０】
【化４６】
2005189285.tif 000047
【０１４１】
【化４７】
2005189285.tif 000048
【０１４２】
本発明において、１，３，５−トリアジン環基を有する化合物の添加量としては、液晶性化合物（好ましくはディスコティック液晶性化合物）の量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％がより好ましく、０．１〜５質量％がさらに好ましい。
【０１４３】
以下、光学フイルムに必要な構成材料について説明する。
（支持体）
本発明の支持体は、ガラス、もしくは透明なポリマーフイルム（透明支持体）であることが好ましい。
支持体は、光透過率が８０％以上であることが好ましい。ポリマーフイルムを構成するポリマーの例には、セルロースエステル（例、セルロースアセテート、セルロースジアセテート）、ノルボルネン系ポリマー及びポリメチルメタクリレートが含まれる。市販のポリマー（ノルボルネン系ポリマーでは、アートン及びゼオネックスいずれも商品名））を用いてもよい。
中でもセルロースエステルが好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。特に炭素原子数が２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）又は４（セルロースブチレート）が好ましい。セルロースアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。
【０１４４】
なお、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても、例えば、ＷＯ００／２６７０５号公報に記載のように、分子を修飾することで複屈折の発現性を制御すれば、本発明の光学フイルムに用いることもできる。
偏光板保護フイルム、もしくは位相差フイルムに本発明の光学フイルムを使用する場合は、ポリマーフイルムとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。酢化度は、５７．０〜６２．０％であることがさらに好ましい。
【０１４５】
酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定及び計算によって求められる。
セルロースアセテートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、セルロースアセテートは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜１．７であることが好ましく、１．０〜１．６５であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。
【０１４６】
セルロースアセテートでは、セルロースの２位、３位、６位のヒドロキシルが均等に置換されるのではなく、６位の置換度が小さくなる傾向がある。本発明に用いるポリマーフイルムでは、セルロースの６位置換度が、２位、３位に比べて同程度又は多い方が好ましい。
２位、３位、６位の置換度の合計に対する、６位の置換度の割合は、３０〜４０％であることが好ましく、３１〜４０％であることがさらに好ましく、３２〜４０％であることが最も好ましい。６位の置換度は、０．８８以上であることが好ましい。
各位置の置換度は、ＮＭＲによって測定することできる。
６位置換度が高いセルロースアセテートは、特開平１１−５８５１号公報の段落番号００４３〜００４４に記載の合成例１、段落番号００４８〜００４９に記載の合成例２、そして段落番号００５１〜００５２に記載の合成例３の方法を参照して合成することができる。
【０１４７】
ポリマーフイルムを光学補償シートに用いる場合、ポリマーフイルムは、所望のレターデーション値を有することが好ましい。フイルムのＲｅレターデーション値及びＲｔｈレターデーション値は、それぞれ、下記式（１）及び（２）で定義される。
式（１）  Ｒｅ＝｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄ
式（２）  Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
式（１）及び（２）において、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率、ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率、ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率、ｄは、単位をｎｍとするフイルムの厚みである。
ポリマーフイルムレターデーション値は光学補償フイルムが用いられる液晶セルやその使用の方法に応じて好ましい範囲が異なるがＲｅレターデーション値は０〜２００ｎｍであり、そして、Ｒｔｈレターデーション値は７０〜４００ｎｍ範囲に調節することが好ましい。
【０１４８】
液晶表示装置に二枚の光学的異方性層を使用する場合、ポリマーフイルムのＲｔｈレターデーション値は７０〜２５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。液晶表示装置に一枚の光学的異方性層を使用する場合、基材のＲｔｈレターデーション値は１５０〜４００ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【０１４９】
尚、基材フイルムの複屈折率（Δｎ：ｎｘ−ｎｙ）は、０．０００２８〜０．０２０の範囲にあることが好ましい。また、セルロースアセテートフイルムの厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝は、０．００１〜０．０４の範囲にあることが好ましい。
【０１５０】
ポリマーフイルムのレターデーションを調整するためには延伸のような外力を与える方法が一般的であるが、又、光学異方性を調節するためのレターデーション上昇剤が、場合により添加される。セルロースアシレートフイルムのレターデーションを調整するには、芳香族環を少なくとも２つ有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用することが好ましい。芳香族化合物は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用することが好ましい。また、２種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。例えば、欧州特許０９１１６５６Ａ２号明細書、特開２０００−１１１９１４号、同２０００−２７５４３４号公報等記載の化合物等が挙げられる。
【０１５１】
更には、本発明の光学補償シートに用いるセルロースアセテートフイルムの吸湿膨張係数を３０×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１０×１０-5／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０-5／％ＲＨ以上の値である。
吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。
この吸湿膨張係数を調節することで、光学補償シートの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇（歪みによる光漏れ）を防止することができる。
吸湿膨張係数の測定方法について以下に示す。作製したポリマーフイルムから幅５ｍｍ。長さ２０ｍｍの試料を切り出し、片方の端を固定して２５度、２０％ＲＨ（Ｒ0）の雰囲気下にぶら下げた。他方の端に０．５ｇの重りをぶら下げて、１０分間放置し長さ（Ｌ0）を測定した。次に、温度は２５度のまま、湿度を８０％ＲＨ（Ｒ1）にして、長さ（Ｌ1）を測定した。吸湿膨張係数は下式により算出した。測定は同一試料につき１０サンプル行い、平均値を採用した。
吸湿膨張係数［／％ＲＨ］＝｛（Ｌ1−Ｌ0）／Ｌ0｝／（Ｒ1−Ｒ0）
【０１５２】
ポリマーフイルムの吸湿による寸度変化を小さくするには、疎水基を有する化合物或は微粒子等を添加することが好ましい。疎水基を有する化合物としては、分子中に脂肪族基やアリール基のような疎水基を有する可塑剤や劣化防止剤の中で該当する素材が特に好ましく用いられる。これらの化合物の添加量は、調整する溶液（ドープ）に対して０．０１〜１０質量％の範囲にあることが好ましい。又、ポリマーフイルム中の自由体積を小さくしてもよく、具体的には、後述のソルベントキャスト方法による成膜時の残留溶剤量が少ない方が、自由堆積が小さくなる。セルロースアセテートフイルムに対する残留溶剤量が、０．０１〜１．００質量％の範囲となる条件で乾燥することが好ましい。
【０１５３】
ポリマーフイルムに添加する上記した添加剤或は種々の目的に応じて添加できる添加剤（例えば、紫外線防止剤、剥離剤、帯電防止剤、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）、赤外吸収剤を等）は、固体でもよく油状物でもよい。また、フイルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。これらの詳細は、上記の公技番号  ２００１−１７４５号技法の１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。これらの添加剤の使用量は、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されないが、ポリマーフイルム全組成物中、０．００１〜２５質量％の範囲で適宜用いられることが好ましい。
【０１５４】
（ポリマーフイルムの製造方法）
ポリマーフイルムは、ソルベントキャスト法によりを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、ポリマー材料を有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフイルムを製造する。
ドープは、ドラム又はバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラム又はバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
ドープは、表面温度が１０度以下のドラム又はバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフイルムをドラム又はバンドから剥ぎ取り、さらに１００〜１６０度まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラム又はバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【０１５５】
流延工程では１種類のセルロースアシレート溶液を単層流延してもよいし、２種類以上のセルロースアシレート溶液を同時又は逐次共流延してもよい。
上記のような二層以上の複数のセルロースアシレート溶液を共流延する方法としては、例えば、支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させる方法（例えば、特開平１１−１９８２８５号公報記載の方法）、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延する方法（特開平６−１３４９３３号公報記載の方法）、高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高、低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押出す方法（特開昭５６−１６２６１７号公報記載の方法）等が挙げられる。本発明ではこれらに限定されるものではない。
これらのソルベントキャスト方法の製造工程については、前記の公技番号  ２００１−１７４５の２２頁〜３０頁に詳細に記載され、溶解、流延（共流延を含む）、金属支持体、乾燥、剥離、延伸などに分類される。
【０１５６】
本発明のフイルムの厚さは、１５〜１２０μｍであることが好ましく、更には３０〜８０μｍが好ましい。
【０１５７】
（ポリマーフイルムの表面処理）
ポリマーフイルムは、表面処理を施すことが好ましい。表面処理には、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理及び紫外線照射処理が含まれる。これらについては、詳細が前記の公技番号  ２００１−１７４５の３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアシレートフイルムの表面処理としては極めて有効である。
アルカリ鹸化処理は、鹸化液中に浸漬、鹸化液を塗布する等何れでもよいが、塗布方法が好ましい。塗布方法としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法及びＥ型塗布法を挙げることができる。アルカリ鹸化処理液は、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの規定濃度は、０．１〜３．０Ｎの範囲にあることが好ましい。更に、アルカリ処理液として、フイルムに対する濡れ性が良好な溶媒（例、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、メタノール、エタノール等）、界面活性剤、湿潤剤（例えば、ジオール類、グリセリン等）を含有することで、鹸化液の透明支持体に対する濡れ性、鹸化液の経時安定性等が良好となる。具体的には、例えば、特開２００２−８２２２６号公報、国際公開第０２／４６８０９号パンフレットに記載の内容が挙げられる。
【０１５８】
表面処理の代わりに、表面処理に加えて下塗り層（特開平７−３３３４３３号公報記載）、或は疎水性基と親水性基との両方を含有するゼラチン等の樹脂層を一層のみ塗布する単層法第１層として高分子フイルムによく密着する層（以下、下塗第１層と略す）を設け、その上に第２層として配向膜とよく密着するゼラチン等の親水性の樹脂層（以下、下塗第２層と略す）を塗布する所謂重層法（例えば、特開平１１−２４８９４０号公報記載）の内容が挙げられる。
【０１５９】
（光学異方性層）
液晶性化合物からなる光学異方性層の好ましい態様について詳細を記述する。
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶化合物を補償するように設計することが好ましい。黒表示における液晶セル中の液晶化合物の配向状態は、液晶表示装置のモードにより異なる。この液晶セル中の液晶化合物の配向状態に関しては、ＩＤＷ’００、ＦＭＣ７−２、Ｐ４１１〜４１４に記載されている。
【０１６０】
上記のように表面処理したポリマー基材と、その上に設ける光学異方性層との間に、配向膜を設けることが好ましい。
【０１６１】
（配向膜）
配向膜は、液晶性分子の配向方向を規定する機能を有する。従って、配向膜は本発明の好ましい態様を実現する上では必須である。しかし、液晶性化合物を配向後にその配向状態を固定してしまえば、配向膜はその役割を果たしているために、本発明の構成要素としては必ずしも必須のものではない。即ち、配向状態が固定された配向膜上の光学異方性層のみを偏光子上に転写して本発明の偏光板を作製することも可能である。
【０１６２】
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。
【０１６３】
配向膜は、ポリマーのラビング処理により形成することが好ましい。配向膜に使用するポリマーは、原則として、液晶性分子を配向させる機能のある分子構造を有する。
本発明では、液晶性分子を配向させる機能に加えて、架橋性官能基（例、二重結合）を有する側鎖を主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する架橋性官能基を側鎖に導入することが好ましい。
配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができし、これらの組み合わせを複数使用することができる。
【０１６４】
ポリマーの例には、例えば特開平８−３３８９１３号公報明細書中段落番号［００２２］記載のメタクリレート系重合体、スチレン系重合体、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリカーボネート等が含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。
【０１６５】
ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００であることが好ましい。
【０１６６】
液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖は、一般に疎水性基を官能基として有する。具体的な官能基の種類は、液晶性分子の種類及び必要とする配向状態に応じて決定する。
例えば、変性ポリビニルアルコールの変性基としては、共重合変性、連鎖移動変性又はブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基（カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等）、炭素数１０〜１００個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基（不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等）、アルコキシシリル基（トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ）等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［００２２］〜［０１４５］、同２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２２］に記載のもの等が挙げられる。
【０１６７】
架橋性官能基を有する側鎖を配向膜ポリマーの主鎖に結合させるか、あるいは、液晶性分子を配向させる機能を有する側鎖に架橋性官能基を導入すると、配向膜のポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを共重合させることができる。その結果、多官能モノマーと多官能モノマーとの間だけではなく、配向膜ポリマーと配向膜ポリマーとの間、そして多官能モノマーと配向膜ポリマーとの間も共有結合で強固に結合される。従って、架橋性官能基を配向膜ポリマーに導入することで、光学補償シートの強度を著しく改善することができる。
配向膜ポリマーの架橋性官能基は、多官能モノマーと同様に、重合性基を含むことが好ましい。具体的には、例えば特開２０００−１５５２１６号公報明細書中段落番号［００８０］〜［０１００］記載のもの等が挙げられる。
【０１６８】
配向膜ポリマーは、上記の架橋性官能基とは別に、架橋剤を用いて架橋させることもできる。
架橋剤としては、アルデヒド、Ｎ−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾール及びジアルデヒド澱粉が含まれる。２種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開２００２−６２４２６号公報明細書中の段落番号［００２３］〜［０２４］記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
【０１６９】
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このように調節することで、配向膜を液晶表示装置に長期使用、或は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、レチキュレーション発生のない充分な耐久性が得られる。
【０１７０】
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なって良い。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で、水：メタノールが０より大きく９９以下：１００未満１以上が好ましく、０より大きく９１以下：１００未満９以上であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。
【０１７１】
配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法又はロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１〜１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０度〜１１０度で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０度〜１００度が好ましく、特に８０度〜１００度が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。
【０１７２】
配向膜は、透明支持体上又は上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。
【０１７３】
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【０１７４】
次に、配向膜を機能させて、配向膜の上に設けられる光学異方性層の液晶性分子を配向させる。その後、必要に応じて、配向膜ポリマーと光学異方性層に含まれる多官能モノマーとを反応させるか、あるいは、架橋剤を用いて配向膜ポリマーを架橋させる。
配向膜の膜厚は、０．１〜１０μｍの範囲にあることが好ましい。
【０１７５】
光学異方性層に用いる液晶性分子には、棒状液晶性分子及びディスコティック液晶性分子が含まれる。棒状液晶性分子及びディスコティック液晶性分子は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。
【０１７６】
（棒状液晶性化合物）
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。
なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、本発明の棒状液晶性化合物として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。
棒状液晶性化合物については、例えば、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章及び第１１章、及び液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載のものを採用できる。
棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。
【０１７７】
棒状液晶性分子は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、ラジカル重合性不飽基或はカチオン重合性基が好ましく、具体的には、例えば特開２００２−６２４２７号公報明細書中の段落番号［００６４］〜［００８６］記載の重合性基、重合性液晶化合物が挙げられる。
【０１７８】
（ディスコティック液晶性分子）
ディスコティック液晶性分子には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。
【０１７９】
ディスコティック液晶性分子としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造である液晶性を示す化合物も含まれる。分子又は分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。ディスコティック液晶性分子から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物がディスコティック液晶性分子である必要はなく、例えば、低分子のディスコティック液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合又は架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。ディスコティック液晶性分子の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。
【０１８０】
ディスコティック液晶性分子を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状コアと重合性基は、連結基を介して結合する化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことが出来る。例えば、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１５１］〜[０１６８]記載の化合物等が挙げられる。
【０１８１】
ハイブリッド配向では、ディスコティック液晶性分子の長軸（円盤面）と偏光膜の面との角度が、光学異方性層の深さ方向でかつ偏光膜の面からの距離の増加と共に増加又は減少している。角度は、距離の増加と共に減少することが好ましい。さらに、角度の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加及び減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度は、角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加又は減少していればよい。さらに、角度は連続的に変化することが好ましい。
【０１８２】
偏光膜側のディスコティック液晶性分子の長軸の平均方向は、一般にディスコティック液晶性分子あるいは配向膜の材料を選択することにより、又はラビング処理方法の選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）のディスコティック液晶性分子の長軸（円盤面）方向は、一般にディスコティック液晶性分子あるいはディスコティック液晶性分子と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。ディスコティック液晶性分子と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー及びポリマーなどを挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。
【０１８３】
（光学異方性層の他の組成物）
上記の液晶性分子と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性分子の配向性等を向上することが出来る。液晶性分子と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。
【０１８４】
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開２００２−２９６４２３号公報明細書中の段落番号［００１８］〜［００２０］記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、ディスコティック液晶性分子に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【０１８５】
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］記載の化合物が挙げられる。
【０１８６】
ディスコティック液晶性分子とともに使用するポリマーは、ディスコティック液晶性分子に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。
ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開２０００−１５５２１６号公報明細書中の段落番号［０１７８］記載のものが挙げられる。液晶性分子の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましい。
ディスコティック液晶性分子のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００度が好ましく、７０〜１７０度がさらに好ましい。
【０１８７】
（光学異方性層の形成）
光学異方性層は、液晶性分子及び必要に応じて後述の重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。
【０１８８】
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
塗布液の塗布は、公知の方法（例、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。
光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。
【０１８９】
（液晶性分子の配向状態の固定）
配向させた液晶性分子を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2の範囲にあることが好ましく、２０〜５０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがより好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。
【０１９０】
（偏光膜）
本発明の光学フイルムは、偏光板と貼り合せるか、偏光板の保護フイルムとして使用することで、その機能を著しく発揮する。
【０１９１】
光学異方性層（複数の光学異方性層を設ける場合、最も偏光膜側の第１光学異方性層）は、偏光膜上に直接液晶性分子から形成するか、もしくは配向膜を介して液晶性分子から形成することが好ましい。具体的には、上記のような光学異方性層用塗布液を偏光膜の表面に塗布することにより光学異方性層を形成する。その結果、偏光膜と光学異方性層との間にポリマーフイルムを使用することなく、偏光膜の寸度変化にともなう応力（歪み×断面積×弾性率）が小さい薄い偏光板が作成される。本発明に従う偏光板を大型の液晶表示装置に取り付けると、光漏れなどの問題を生じることなく、表示品位の高い画像を表示する。
【０１９２】
偏光膜は、Ｏｐｔｉｖａ  Ｉｎｃ．に代表される塗布型偏光膜、もしくはバインダーと、ヨウ素又は二色性色素からなる偏光膜が好ましい。
偏光膜におけるヨウ素及び二色性色素は、バインダー中で配向することで偏向性能を発現する。ヨウ素及び二色性色素は、バインダー分子に沿って配向するか、もしくは二色性色素が液晶のような自己組織化により一方向に配向することが好ましい。
例えば、現在市販されている偏光子は、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素をバインダー中に浸透させることで作製されるのが一般的である。
市販の偏光膜は、ポリマー表面から４μｍ程度（両側合わせて８μｍ程度）にヨウ素もしくは二色性色素が分布しており、十分な偏光性能を得るためには、少なくとも１０μｍの厚みが必要である。浸透度は、ヨウ素もしくは二色性色素の溶液濃度、同浴槽の温度、同浸漬時間により制御することができる。
上記のように、バインダー厚みの下限は、１０μｍであることが好ましい。厚みの上限は、液晶表示装置の光漏れの観点からは、薄ければ薄い程よい。好ましくは３０μｍ以下であり、より好ましくは２５μｍ以下であり、さらに好ましくは２０μｍ以下である。特に、２０μｍ以下であると、光漏れ現象が、１７インチの液晶表示装置では全く観察されなくなる等、極めて好ましい。
【０１９３】
偏光膜のバインダーは架橋していてもよい。架橋しているバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーを用いることができる。官能基を有するポリマーあるいはポリマーに官能基を導入して得られるバインダーを、光、熱あるいはｐＨ変化により、バインダー間で反応させて偏光膜を形成することもできる。
また、架橋剤によりポリマーに架橋構造を導入してもよい。
架橋は一般に、ポリマー又はポリマーと架橋剤の混合物を含む塗布液を、透明支持体上に塗布したのち、加熱を行なうことにより実施される。最終商品の段階で耐久性が確保できれば良いため、架橋させる処理は、最終の偏光板を得るまでのいずれの段階で行なっても良い。
【０１９４】
偏光膜のバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。ポリマーの例としては、前記配向膜のところで述べたポリマーと同様のものが挙げられる。この中でも、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
変性ポリビニルアルコールについては、例えば、特開平８−３３８９１３号、同９−１５２５０９号及び同９−３１６１２７号の各公報に記載がある。
ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコールは、２種以上を併用してもよい。
【０１９５】
バインダーの架橋剤の添加量は、バインダーに対して、０．１〜２０質量％が好ましい。偏光素子の配向性、偏光膜の耐湿熱性がより良好となる。
配向膜は、架橋反応が終了した後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含んでいる。但し、残存する架橋剤の量は、配向膜中に１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。このようにすることで、偏光膜を液晶表示装置に組み込み、長期使用、或は高温高湿の雰囲気下に長期間放置しても、偏光度の低下を生じない。
架橋剤については、例えば、米国再発行特許２３２９７号明細書に記載がある。また、ホウ素化合物（例、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。
【０１９６】
二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例、スルホ、アミノ、ヒドロキシル）を有することが好ましい。
二色性色素の例としては、例えば、発明協会公開技法、公技番号２００１−１７４５号、５８頁（発行日２００１年３月１５日）に記載の化合物が挙げられる。
【０１９７】
液晶表示装置のコントラスト比を高めるためには、偏光板の透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることがさらに好ましく、４０〜５０％の範囲にあることが最も好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることがさらに好ましく、９９〜１００％の範囲にあることが最も好ましい。
【０１９８】
偏光膜と光学異方性層、あるいは、偏光膜と配向膜とを接着剤を介して配置することも可能性である。接着剤は、ポリビニルアルコール系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基による変性ポリビニルアルコールを含む）やホウ素化合物水溶液を用いることができる。ポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。接着剤層の厚みは、乾燥後に０．０１〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５〜５μｍの範囲にあることが特に好ましい。
【０１９９】
（偏光板の製造）
偏光膜は、歩留まりの観点から、バインダーを偏光膜の長手方向（ＭＤ方向）に対して、１０〜８０度傾斜して延伸するか（延伸法）、もしくはラビングした（ラビング法）後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。傾斜角度は、ＬＣＤを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる２枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦又は横方向のなす角度にあわせるように延伸することが好ましい。
通常の傾斜角度は４５度である。しかし、最近は、透過型、反射型及び半透過型ＬＣＤにおいて必ずしも４５度でない装置が開発されており、延伸方向はＬＣＤの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。
【０２００】
延伸法の場合、延伸倍率は２．５〜３０．０倍が好ましく、３．０〜１０．０倍がさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸倍率は２．５〜５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸倍率は３．０〜１０．０倍が好ましい。延伸工程は、斜め延伸を含め数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。斜め延伸前に、横あるいは縦に若干の延伸（幅方向の収縮を防止する程度）を行ってもよい。
延伸は、二軸延伸におけるテンター延伸を左右異なる工程で行うことによって実施できる。上記二軸延伸は、通常のフイルム製膜において行われている延伸方法と同様である。二軸延伸では、左右異なる速度によって延伸されるため、延伸前のバインダーフイルムの厚みが左右で異なるようにする必要がある。流延製膜では、ダイにテーパーを付けることにより、バインダー溶液の流量に左右の差をつけることができる。
以上のように、偏光膜のＭＤ方向に対して１０〜８０度斜め延伸されたバインダーフイルムが製造される。
【０２０１】
ラビング法では、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されているラビング処理方法を応用することができる。すなわち、膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維を用いて一定方向に擦ることにより配向を得る。一般には、長さ及び太さが均一な繊維を平均的に植毛した布を用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
ロール自身の真円度、円筒度、振れ（偏芯）がいずれも３０μｍ以下であるラビングロールを用いて実施することが好ましい。ラビングロールへのフイルムのラップ角度は、０．１〜９０度が好ましい。ただし、特開平８−１６０４３０号公報に記載されているように、３６０度以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。
長尺フイルムをラビング処理する場合は、フイルムを搬送装置により一定張力の状態で１〜１００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送することが好ましい。ラビングロールは、任意のラビング角度設定のためフイルム進行方向に対し水平方向に回転自在とされることが好ましい。０〜６０度の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。液晶表示装置に使用する場合は、４０〜５０度が好ましい。４５度が特に好ましい。
【０２０２】
偏光膜の光学異方性層とは反対側の表面には、ポリマーフイルムを配置する（光学異方性層／偏光膜／ポリマーフイルムの配置とする）ことが好ましい。
ポリマーフイルムは、その最表面が防汚性及び耐擦傷性を有する反射防止膜を設けてなることも好ましい。反射防止膜は、従来公知のいずれのものも用いることが出来る。
【０２０３】
（液晶表示装置）
各液晶モードにおける光学異方性層の好ましい形態について、以下で説明する。
【０２０４】
（ＴＮモード液晶表示装置）
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
（ＯＣＢモード液晶表示装置）
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）  液晶モードとも呼ばれる。
ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
【０２０５】
（ＶＡモード液晶表示装置）
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ  ｏｆ  ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
【０２０６】
（その他液晶表示装置）
ＥＣＢモード及びＳＴＮモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。
【実施例】
【０２０７】
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操作などは本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に制限されるものではない。
【０２０８】
［実施例１］
（ポリマー基材の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０２０９】
（セルロースアセテート溶液組成）
酢化度６０．９％のセルロースアセテート（リンター）    ８０質量部
酢化度６０．８％のセルロースアセテート（リンター）    ２０質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                  ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）          ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                      ３００質量部
メタノール（第２溶媒）                                ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                            １１質量部
【０２１０】
ミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド８０質量部及びメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。
上記セルロースアセテート溶液組成物４７４質量部にレターデーション上昇剤溶液２５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、３．５質量部であった。
【０２１１】
【化４８】
2005189285.tif 000049
【０２１２】
得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０度となってから、１分間乾燥し、剥ぎ取った後、１４０度の乾燥風で、残留溶剤量が０．３質量％のポリマー基材（ＰＫ−１）を製造した。
得られたポリマー基材（ＰＫ−１）の幅は１５００ｍｍであり、厚さは、６５μｍであった。エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、４ｎｍであった。また、波長５９０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ、７８ｎｍであった。
【０２１３】
（光学異方性層付き光学補償シートの作製）
ポリマー基材（ＰＫ−１）を、２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５度）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。ＰＫ−２の表面エネルギーを接触角法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。
＜配向膜の形成＞
作製したＰＫ−１上に、下記の組成の塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ2の塗布量で塗布した。６０度の温風で６０秒、さらに９０度の温風で１５０秒乾燥した。
【０２１４】
＜配向膜塗布液組成＞
下記の変性ポリビニルアルコール                        １０質量部
水                                                  ３７１質量部
メタノール                                          １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                        ０．５質量部
次に、ポリマー基材（ＰＫ−１）の遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と平行方向に配向膜にラビング処理を実施した。
【０２１５】
【化４９】
2005189285.tif 000050
＜光学異方性層の形成＞
（光学異方性層組成物）
下記のディスコティック液晶性化合物                  ４１．０１  Ｋｇ
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                  ４．０６  Ｋｇ
一般式（Ｉ）の例示化合物（Ｉ−１）                    ０．０３２Ｋｇ
一般式（II）の例示化合物（II−２）                    ０．０４８Ｋｇ
フルオロ脂肪族基含有重合体例示化合物（Ｐ−７０）      ０．１６  Ｋｇ
１，３，５―トリアジン環基を有する例示化合物（Ｈ−６）０．０８  Ｋｇ
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）１．３５  Ｋｇ
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）      ０．４５  Ｋｇ
配向膜上に、上記光学異方性層組成物を、１０２Ｋｇのメチルエチルケトンに溶解して塗布液とし、これを、＃３．４のワイヤーバーで塗布した。これを１２０度の恒温ゾーンで１分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、６０度の雰囲気下で１２０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層を形成し、光学補償シート（ＫＨ−１）を作製した。
波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は４０ｎｍであった。
偏光板をクロスニコル配置とし、得られた光学補償シートのムラを観察したところ、正面、及び法線から６０度まで傾けた方向から見ても、ムラは検出出来なかった。
【０２１６】
ディスコティック液晶性化合物
【化５０】
2005189285.tif 000051
【０２１７】
（偏光板の作製）
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、ＫＨ−１（光学補償シート）を偏光子（ＨＦ−１）の片側に貼り付けた。また、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ−８０Ｕ：富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付けた。
偏光子の透過軸とＰＫ−２の遅相軸とは平行になるように配置した。偏光子の透過軸と上記トリアセチルセルロースフイルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板（ＨＢ−１）を作製した。
【０２１８】
［実施例２］
実施例１で用いた例示化合物（Ｈ−６）を添加せず、光学異方性層の加熱熟成方法を表１の如く変更した以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製した。
[実施例３〜５]
実施例１で用いた例示化合物（Ｎｏ．Ｉ−１）および（Ｎｏ．II−２）を表１の如く変更した以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製した。
［比較例１〜４］
実施例１で用いた例示化合物の添加を表１の如く変更した以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製した。
ここで、比較例２で採用した化合物Ａは、下記の通りである。
【化５１】
2005189285.tif 000052
【０２１９】
（ＴＮ液晶セルでの評価）
ＴＮ型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＡＱＵＯＳ  ＬＣ２０Ｃ１Ｓ、シャープ（株）製）に設けられている一対の偏光板を剥がし、代わりに実施例１で作製した偏光板（ＨＢ−１）を、光学補償シート（ＫＨ−１）が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸と、バックライト側の偏光板の透過軸とは、Ｏモードとなるように配置した。
作製した液晶表示装置について、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。測定結果を第１表に示す。
【０２２０】
[比較例５〜９]
実施例１で用いた例示化合物の添加を表１の如く変更した以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製した。
【０２２１】
（液晶表示装置パネル上でのムラ評価）
実施例１〜５及び比較例１〜９の液晶表示装置の表示パネルを全面中間調に調整し、ムラを評価した。結果を第１表に示す。
【０２２２】
（液晶性化合部の傾斜角評価）
光学補償シートの光学異方性層における液晶性化合物の配向膜近傍の傾斜角及び空気界面近傍の傾斜角は、エリプソメーター（ＡＰＥ−１００、島津製作所（株）製）を用いて観察角度を変えてレターデーションを測定し、屈折率楕円体モデルと仮想し、Ｄｅｓｉｇｎｉｎｇ  Ｃｏｎｃｅｐｔｓ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｄｉｓｃｏｔｉｃ  Ｎｅｇａｔｉｖｅ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ  Ｆｉｌｍｓ，ＳＩＤ９８  ＤＩＧＥＳＴ  に記載されている手法で算出した。測定波長は６３２．８ｎｍであり、結果を第１表に示す。
【０２２３】
【表１】
2005189285.tif 000053
【０２２４】
比較例２で用いた含フッ素化合物（Ａ）：特開２００１−３３０７２５号公報に記載の化合物（ＦＳ−７３）を採用した。
【０２２５】
上記表１に示した実施例１〜５と比較例１〜９の結果からわかるように、一般式（Ｉ）及び（II）で表される化合物を含有しない光学異方性層を有する光学補償シート（比較例１及び２）では、液晶性化合物の空気界面における傾斜角が低すぎるため、液晶表示装置の視野角が充分に拡大されていない。また、本発明に係る一般式（Ｉ）及び（II）で表される化合物のいずれか一方のみを含有する光学異方性層を有する光学補償シート（比較例３〜９）では、液晶性化合物の空気界面における傾斜角が低すぎるか、高すぎるため、視野角が充分に拡大されていない。