(57)【要約】【課題】  ステージの制御性を低下させる事無い二重露光対応のツインレチクルステージを提供することである。【解決手段】  レチクル（原盤）を逐次ウェハー（基板）に転写露光する露光装置において、粗動位置決めステージと微動位置決めステージを持つレチクルステージにおいて、一つの粗動位置決めステージ上に複数の微動位置決めステージを持つ。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レチクル（原盤）を逐次ウェハー（基板）に転写露光する露光装置において、粗動位置決めステージと微動位置決めステージを持つレチクルステージにおいて、一つの粗動位置決めステージ上に複数の微動位置決めステージを持つことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
１に記載の露光装置において、露光に使用しない微動ステージを、粗動ステージに対して機械的に一体支持することを特徴とする露光装置。
【請求項３】
１〜２に記載の露光装置において、複数の微動ステージは、それぞれ独立のアクチュエータを持つことを特徴とする露光装置。
【請求項４】
１〜３に記載の露光装置において、複数微動ステージ上に、同一パターンまたは異なるパターンのレチクルを多数搭載し、１回のスキャンで複数回の露光を連続して行うことを特徴とした露光装置。
【請求項５】
１〜４に記載の露光装置において微動ステージ上にそれぞれレチクル位置を測定するセンサを設け、基板のずれを検出し、微動位置にフィードフォワードすることを特徴とする露光装置。
【請求項６】
１〜５に記載の露光装置において、レチクル供給アライメント装置を複数持ち、複数の微動ステージに同時、または同時に近くレチクルを供給することを特徴とする露光装置。
【請求項７】
１〜６に記載の露光装置において、二重露光を行うとき、第一露光時のステージ制御偏差をメモリーし、第二露光時のステージ駆動目標値の補正値として用いることを特徴とした露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体リソグラフィ工程等の高精度の加工に好適に用いられる移動装置、この移動装置からなるステージ、このステージを備える露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来例を図７に示す。図７は、従来の二重露光対応レチクルステージを示したものである。１０１はレチクルステージ駆動用リニアモータの固定子である。１０２はステージの計測基準となるバーミラーである。１０３は固定子に対するリニアモータ可動子で、１０４はレチクル（原盤、マスク）である。レチクルは一つのステージ天板１０５上に複数枚搭載される。図では２枚のレチクルを搭載し、二重露光時の高スループット化に対応している。１０６はレチクルをチャッキングする機構であり、ステージ天板上に複数を搭載する。大気中の露光装置では真空吸着、真空中の露光装置においては、静電チャックを用いたものが使用される。１０７はステージ走行面でエアー静圧軸受けが使用される。１０８はステージ計測基準の干渉計コーナーキューブである。不図示の干渉計によりステージ位置を高精度に計測、制御する。
【０００３】
レチクルを同一ステージ天板上に２枚以上を装着可能なステージおいては、ステージ天板のサイズの増大と重量増加によって剛性が低下し、メカ系の固有振動数が低下することによってステージの制御性が低下し問題となっていた。
【特許文献１】特開２０００−０２１７１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明が目的とするところは、ステージの制御性を低下させる事無い二重露光対応のツインレチクルステージを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、大ストロークの位置決め用の粗動ステージと、粗動ステージ上で、ステージ位置の微小最終位置決めを行う微動ステージを持つステージシステムにおいて、１つの粗動ステージ上に、互いに独立したアクチュエータを持つ複数の微動ステージを搭載することで、上記課題が解決されることを見出したものである。
【発明の効果】
【０００６】
二重露光を連続して高効率に行う露光装置において、ステージ制御性を犠牲にする事無く露光を行うことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
（実施例１）
以下に本発明の実施例を説明する。
【０００８】
図１に本実施例を示す。
【０００９】
図１において、１は粗動ステージ駆動用リニアモータの固定子である。２は粗動ステージの計測基準となるバーミラーである。３は粗動ステージリニアモータ可動子で、４はレチクルである。粗動ステージ天板５上に複数枚搭載された微動ステージ天板９上にチャッキングされる。図では２つの微動ステージに２枚のレチクルを搭載し、二重露光に対応している。６はレチクルをチャッキングする機構であり、微動ステージ上に複数搭載する。７は粗動ステージ走行面で、エアー静圧軸受けが使用される。８はステージ計測基準のコーナーキューブである。１０は微動ステージアクチュエータで、それぞれの微動ステージは互いに独立したアクチュエータを搭載している。レチクルを複数枚使用することで、粗動ステージの大きさは拡大しても、その上に複数搭載された微動ステージによって、最終位置決め精度、制御性が低下するものでは無い。
【００１０】
（他の実施例）
図２に第２の実施例を示す。図中で、図１と同じ符号は同一の構成要素を示す。図２の実施例においては、微動ステージと粗動ステージの間にメカニカルなチャッキング機構１２を設ける。仮に片側のステージのみを露光シーケンスに使用する際は、不使用のステージは駆動せずに保持することが可能となる。微動ステージチャッキング機構は、磁石を用いたものやメカニカルにクランプする機構であっても良い。
【００１１】
図３に第３の実施例を示す。図中で、図１、２と同じ符号は同一の構成要素を示す。図３の実施例においては、微動ステージとレチクルの間に位置センサを１３を設け、加減速時に発生する恐れのあるレチクルの微動天板に対する変位を常にモニタし、両ステージ位置にフィードバック、またはフィードフォワードするものである。
【００１２】
図４に第４の実施例を示す。図中で、複数レチクルを搭載可能なレチクルステージは、不図示であるが、図３と同一の構成である。１４のレチクル供給、回収、アライメント機構において、１５の供給ハンドを複数持ち、さらに、１７レチクル供給直動機構を構成し、複数の供給レチクル１６を供給ハンド上に供給できる。レチクルをステージに供給アライメントする際は、１８レチクル回収部にまずステージ上のレチクルを回収し、供給用レチクルをステージ上にアライメントする。ハンド上の回収部と供給部は同一の機構で、それぞれ入れ替わることが当然可能である。不図示のアライメント機構は、複数の供給ハンドに対して独立して構成されており、同時に複数枚のレチクルのアライメントを行うことが可能である。
【００１３】
図５に本発明での露光シーケンスの一例を示す。同一パターンのレチクルを２枚用いることで、一度のスキャンで図中の露光ステップ１と露光ステップ２を連続して行うことが可能となり、加減速回数、整定時間を短縮することが可能となり、更なるスループットアップが可能となる。また、２つの異なるパターンを用いることも可能であるが、その後のプロセス処理を考慮すると、同一パターンを２枚用いることが望ましい。
【００１４】
図６に本発明での二重露光における露光シーケンスの一例を示す。第一露光時のレチクルステージ、ウェハーステージの制御目標値は、両ステージ間にトラッキング制御を掛けない場合、ステージの駆動プロファイルと同一である。ここで、第一露光時にそれぞれのステージのステージ駆動プロファイルからの誤差（駆動偏差）を蓄えるメモリーを設け、制御システム内に格納しておく。その後、同一パターンに二重露光のトリムマスク等を重ね合わせる第二露光時のステージ制御パラメータとして、ステージ駆動プロファイルに、先ほどメモリーした駆動偏差を加味する。加味する際に、メモリーをそのまま時間領域で足し合わせてもいいが、周波数分析、学習分析等によって、制御偏差の中から装置固有の傾向を予め掴んでおいて、その値のみを、ステージプロファイルに加味しても良い。以上によって、高い精度での二重露光が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本実施例に示す移動装置
【図２】他の実施例に示す移動装置
【図３】他の実施例に示す移動装置
【図４】他の実施例に示す移動装置
【図５】他の実施例に示す露光シーケンス
【図６】他の実施例に示す位置制御シーケンス
【図７】従来例に示す移動装置
【符号の説明】
【００１６】
１  粗動ＬＭ固定子
２  粗動ステージ基準バーミラー
３  粗動ＬＭ可動子
４  レチクル
５  粗動ステージ天板
６  レチクルチャック
７  ステージ走行面
８  コーナーキューブ
９  微動ステージ天板
１０  微動ステージアクチュエータ
１１  微動ステージ基準バーミラー
１２  微動ステージチャッキング機構
１３  レチクル位置センサ
１４  レチクル供給、回収、アライメント機構
１５  レチクル供給ハンド
１６  供給用レチクル
１７  レチクル供給直動機構
１０１  リニアモータ固定子
１０２  ステージ基準バーミラー
１０３  リニアモータ可動子
１０４  レチクル
１０５  ステージ天板
１０６  レチクルチャック
１０７  ステージ走行面
１０８  干渉計コーナーキューブ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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