(57)【要約】【課題】十分な可とう性と優れた凝集力（強度）を有する膜形成材料層の原料である無機粉体含有樹脂組成物を提供すること。また、該組成物からなる膜形成材料層、転写シート、誘電体層、誘電体層形成基板の製造方法、及び誘電体層形成基板を提供すること。【解決手段】無機粉体及びバインダを含有する無機粉体含有樹脂組成物において、前記バインダは、重量平均分子量５〜５０万、且つ、ガラス転移温度−７０〜３０℃の（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）と、重量平均分子量５００〜１００００、且つ、ガラス転移温度−７０〜３０℃の（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）とを含有することを特徴とする無機粉体含有樹脂組成物。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機粉体及びバインダを含有する無機粉体含有樹脂組成物において、前記バインダは、
重量平均分子量５〜５０万、且つ、ガラス転移温度−７０〜３０℃の（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）と、
重量平均分子量５００〜１００００、且つ、ガラス転移温度−７０〜３０℃の（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）とを含有することを特徴とする無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項２】
誘電体層の形成材料として用いられる請求項１記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項３】
バインダは、無機粉体１００重量部に対して、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）を５〜５０重量部、及び（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）を１〜２５重量部含有する請求項１又は２記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項４】
無機粉体がガラス粉末である請求項１〜３のいずれかに記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の無機粉体含有樹脂組成物をシート状に形成してなる膜形成材料層。
【請求項６】
支持フィルム上に、少なくとも請求項５記載の膜形成材料層が積層されている転写シート。
【請求項７】
請求項５記載の膜形成材料層を焼結させてなる誘電体層。
【請求項８】
請求項６記載の転写シートの膜形成材料層を基板に転写する転写工程、及び転写された膜形成材料層を４００〜６５０℃で焼結させ、基板上に誘電体層を形成する焼結工程を含むことを特徴とする誘電体層形成基板の製造方法。
【請求項９】
請求項８記載の方法によって製造される誘電体層形成基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、無機粉体含有樹脂組成物、該組成物からなる膜形成材料層、転写シート、誘電体層、誘電体層形成基板の製造方法、及び誘電体層形成基板に関する。特に、本発明の無機粉体含有樹脂組成物はプラズマディスプレイパネルの誘電体層の形成材料として有用である。
【０００２】
【従来の技術】
近年、薄型平板状の大型ディスプレイとしては、液晶ディスプレイと共にプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」という）が注目されている。ＰＤＰの一部分は、ガラス基板の表面上にガラス焼結体からなる誘電体層が形成された構造をしている。この誘電体層の形成方法としては、ガラス粉末、アクリル酸エステル系樹脂及び溶剤を含有するペースト状組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を形成し、支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、電極が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表面に誘電体層を形成する方法が開示されている（特許文献１〜４）。
【０００３】
膜形成材料層を有する転写シートは十分な可とう性が必要である。可とう性が不十分な場合には、基板への膜形成材料層の転写が困難になったり、転写シートを折り曲げた際に表面に微少な亀裂が発生したり、長尺のシートをロール状に巻き取ることが困難となる。
【０００４】
可とう性を付与するために、特定構造の脂肪族二塩基酸エステルおよび特定構造のプリピレングリコール脂肪酸エステルから選ばれた少なくとも１種の可塑剤を添加する技術が開示されている（特許文献５）。
【０００５】
【特許文献１】
特開平９−１０２２７３号公報
【特許文献２】
特開平１１−３５７８０号公報
【特許文献３】
特開２００１−１８５０２４号公報
【特許文献４】
国際公開第００／４２６２２号パンフレット
【特許文献５】
特開２０００−１０９３４１号公報
【発明が解決しようとする課題】
しかし、基板への膜形成材料層の転写を良好に行える程度まで前記可塑剤を添加すると、転写シートの凝集力（強度）が大きく低下し、転写工程時に転写シートが破損するという問題があった。また、前記可塑剤は時間がたつにつれて膜形成材料層の表面にブリードアウトしてくるため、膜形成材料層と基板との密着性が低下し、転写後に容易に剥がれてしまうという問題も有していた。
【０００６】
本発明は、このような従来技術の課題を解決したものであって、十分な可とう性と優れた凝集力（強度）を有する膜形成材料層の原料である無機粉体含有樹脂組成物を提供することを目的とする。また、該組成物からなる膜形成材料層、転写シート、誘電体層、誘電体層形成基板の製造方法、及び誘電体層形成基板を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、以下に示す無機粉体含有樹脂組成物により上記目的を達成できることを見出し本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明は、無機粉体及びバインダを含有する無機粉体含有樹脂組成物において、前記バインダは、
重量平均分子量５〜５０万、且つ、ガラス転移温度−７０〜３０℃の（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）と、
重量平均分子量５００〜１００００、且つ、ガラス転移温度−７０〜３０℃の（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）とを含有することを特徴とする無機粉体含有樹脂組成物、に関する。
【０００９】
本発明では無機粉体含有樹脂組成物のバインダとして、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）と、（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）とを併用することにより、十分な可とう性と優れた凝集力（強度）を有するシート状物（膜形成材料層）を形成することができる。このような顕著な効果が発現する理由としては、（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）は、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）と同種の物質であるため良く混じり合い、それにより優れた凝集力（強度）が発現し、さらに（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）は重量平均分子量が十分小さいため、可塑化効果を適度に付与すると考えられる。
【００１０】
前記無機粉体含有樹脂組成物は、特に誘電体層の形成材料として用いられる。
【００１１】
本発明において、バインダは、無機粉体１００重量部に対して、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）を５〜５０重量部、及び（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）を１〜２５重量部含有することが好ましい。さらには、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）を１０〜２５重量部、及び（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）を２〜２０重量部含有することが好ましい。（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）が５重量部未満の場合には、無機粉体含有樹脂組成物をシート状に形成することが困難になり、５０重量部を超える場合には、樹脂成分が多くなりすぎて適切な分散操作が行えず、樹脂成分と無機粉体との界面化学的な十分な濡れ性が得られにくくなり、無機粉体の分散性が悪くなる傾向にある。また、（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）が１重量部未満の場合は、シート状物（膜形成材料層）に可とう性を十分に付与できなかったり、無機粉体の分散性が悪くなる傾向にある。一方、２５重量部を超える場合には、シート状物の凝集力（強度）が低下する傾向にある。
【００１２】
本発明においては、無機粉体がガラス粉末であることが好ましい。
【００１３】
本発明は、前記無機粉体含有樹脂組成物をシート状に形成してなる膜形成材料層、に関する。前記（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）は、従来の可塑剤のように経時により膜形成材料層の表面にブリードアウトすることがないため、膜形成材料層と基板との密着性を高くすることができ、転写後に膜形成材料層が容易に基板から剥がれてしまうこともない。
【００１４】
また、本発明は、支持フィルム上に、少なくとも前記膜形成材料層が積層されている転写シート、に関する。
【００１５】
本発明の誘電体層は、前記膜形成材料層を焼結させてなるものである。
【００１６】
また、本発明は、前記転写シートの膜形成材料層を基板に転写する転写工程、及び転写された膜形成材料層を４００〜６５０℃で焼結させ、基板上に誘電体層を形成する焼結工程を含むことを特徴とする誘電体層形成基板の製造方法、及び前記方法によって製造される誘電体層形成基板、に関する。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００１８】
本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、無機粉体及びバインダを含有する。
【００１９】
無機粉体は、公知のものを特に制限なく用いることができ、具体的には、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化カルシウム、酸化ホウ素、酸化亜鉛、ガラス粉末などが挙げられる。無機粉体の平均粒子径は０．１〜１０μｍであることが好ましい。
【００２０】
本発明においては、無機粉体としてガラス粉末を用いることが好ましい。ガラス粉末としては公知のものを特に制限なく用いることができ、例えば、１）酸化鉛、酸化ホウ素、酸化珪素（ＰｂＯ−Ｂ２  Ｏ３  −ＳｉＯ２  系）の混合物、２）酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化珪素（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ２  Ｏ３  −ＳｉＯ２  系）の混合物、３）酸化鉛、酸化ホウ素、酸化珪素、酸化アルミニウム（ＰｂＯ−Ｂ２  Ｏ３  −ＳｉＯ２  −Ａｌ２  Ｏ３  系）の混合物、４）酸化鉛、酸化バリウム、酸化ホウ素、酸化珪素（ＰｂＯ−ＢａＯ−Ｂ２  Ｏ３  −ＳｉＯ２  系）の混合物、５）酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化バリウム、酸化珪素（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ２  Ｏ３  −ＢａＯ−ＳｉＯ２  系）の混合物などを挙げることができる。焼結処理により誘電体層を形成することを考慮すると、軟化点が４００〜６００℃であるガラス粉末が好ましい。
【００２１】
バインダは、重量平均分子量５〜５０万、且つ、ガラス転移温度−７０〜３０℃の（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）と、重量平均分子量５００〜１００００、且つ、ガラス転移温度−７０〜３０℃の（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）とを含有する。
【００２２】
（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、アクリル系モノマー又はメタクリル系モノマーの１種モノマーの重合体、前記モノマーの共重合体、又はそれらの混合物である。前記モノマーの具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレ−ト、アミル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレートなどのアルキル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、トリル（メタ）アクリレートなどのアリール（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００２３】
また、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）の原料として水酸基やカルボキシル基などの極性基を有する（メタ）アクリル系モノマーを用いてもよい。該極性基を有する（メタ）アクリル系モノマーの具体例としては、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルフタル酸、イミノール（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００２４】
（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）は、重量平均分子量５〜５０万のポリマーであり、好ましくは重量平均分子量５〜３０万である。重量平均分子量が５万未満の場合には、無機粉体含有樹脂組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を形成した転写シートの強度が低く（凝集力が乏しく）なり、その後の作業上好ましくなく、一方、５０万を超える場合には、無機粉体含有樹脂組成物の粘度が高くなり、無機粉体の分散性が悪くなるため好ましくない。
【００２５】
また、（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）のガラス転移温度は−７０〜３０℃である。ガラス転移温度が−７０℃未満の場合には、無機粉体含有樹脂組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を形成した転写シートの強度が低く（凝集力が乏しく）なり、その後の作業上好ましくなく、一方、３０℃を超える場合には、転写シートとした際に可とう性のない膜となり転写性やハンドリングが悪化してしまうため好ましくない。
【００２６】
（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）は、前記（メタ）アクリル系モノマーの共重合体、又はそれらの混合物である。
【００２７】
（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）は、シート状物（膜形成材料層）の可とう性を向上させることを目的に添加されるものであって、重量平均分子量は５００〜１００００であり、好ましくは重量平均分子量１０００〜８０００である。（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）の重量平均分子量が５００未満の場合には、シート状物（膜形成材料層）が可塑化しすぎて凝集力（強度）が大幅に低下するため好ましくない。一方、重量平均分子量が１００００を超える場合には、十分な可塑化効果が得られず、シート状物（膜形成材料層）の可とう性も不十分となるため好ましくない。
【００２８】
また、（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）のガラス転移温度は−７０〜３０℃である。ガラス転移温度が−７０℃未満の場合には、無機粉体含有樹脂組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を形成した転写シートの強度が低く（凝集力が乏しく）なり、その後の作業上好ましくなく、一方、３０℃を超える場合には、転写シートとした際に可とう性のない膜となり転写性やハンドリングが悪化してしまうため好ましくない。
【００２９】
無機粉体含有樹脂組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を形成した転写シートを作製する場合には、支持フィルム上に均一に塗布できるように該組成物中に溶剤を加えることが好ましい。
【００３０】
溶剤としては、無機粉体との親和性がよく、且つ、バインダ樹脂との溶解性がよいものであれば特に制限されるものではない。例えば、テルピネオール、ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、テレビン油、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロへキサノン、ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロへキサノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコ−ルモノメチルエーテル、エチレングリコ−ルモノエチルエーテル、エチレングリコ−ルモノブチルエーテル、ジエチレングリコ−ルモノメチルエーテル、ジエチレングリコ−ルモノエチルエーテル、ジエチレングリコ−ルモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、任意の割合で２種類以上を併用してもよい。
【００３１】
溶剤の添加量は、無機粉体１００重量部に対して、１０〜５０重量部であることが好ましい。
【００３２】
また、本発明の無機粉体含有樹脂組成物には、シート状物（膜形成材料層）の目的とする凝集力（強度）を損なわない範囲において可塑剤を添加してもよい。可塑剤を添加することにより、無機粉体含有樹脂組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を形成した転写シートの柔軟性や膜形成材料層の基板への転写性などを調整することができる。
【００３３】
可塑剤としては、公知のものを特に制限なく使用することができる。例えば、ジイソノニルアジペート、ジ−２−エチルヘキシルアジベート、ジブチルジグリコールアジべ−トなどのアジピン酸誘導体、ジ−２−エチルヘキシルアゼレートなどのアゼライン酸誘導体、ジ−２−エチルヘキシルセバケートなどのセバシン酸誘導体、トリ（２−エチルヘキシル）トリメリテート、トリイソノニルトリメリテート、トリイソデシルトリメリテートなどのトリメリット酸誘導体、テトラ−（２−エチルヘキシル）ピロメリテートなどのピロメリット酸誘導体、プロピレングリコールモノオレートなどのオレイン酸誘導体、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールなどのグリコール系可塑剤などがあげられる。
【００３４】
可塑剤の添加量は、無機粉体１００重量部に対して、５重量部以下であることが好ましい。可塑剤の添加量が５重量部を超えると、得られる転写シートの凝集力（強度）が低下してしまうため好ましくない。
【００３５】
無機粉体含有樹脂組成物には、上記の成分の他、分散剤、シランカップリング剤、粘着性付与剤、レベリング剤、安定剤、消泡剤などの各種添加剤を添加してもよい。
【００３６】
本発明の転写シートは、支持フィルムと、少なくともこの支持フィルム上に形成された膜形成材料層とにより構成されており、支持フィルム上に形成された膜形成材料層を基板表面に一括転写するために用いられるものである。
【００３７】
転写シートは、前記無機粉体含有樹脂組成物を支持フィルム上に塗布し、溶剤を乾燥除去して膜形成材料層を形成することにより作製される。
【００３８】
転写フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性及び耐溶剤性を有すると共に可とう性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可とう性を有することにより、ロールコーターなどによってペースト状の無機粉体含有樹脂組成物を塗布することができ、膜形成材料層をロール状に巻き取った状態で保存し、供給することができる。
【００３９】
支持フィルムを形成する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフルオロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。
【００４０】
支持フィルムの厚さは特に制限されないが、２５〜１００μｍ程度であることが好ましい。
【００４１】
なお、支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましい。これにより、膜形成材料層を基板上に転写する工程において、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。
【００４２】
無機粉体含有樹脂組成物を支持フィルム上に塗布する方法としては、例えば、グラビア、キス、コンマなどのロ−ルコ−タ−、スロット、ファンテンなどのダイコータ−、スクイズコータ−、カーテンコータ−などの塗布方法を採用することができるが、支持フィルム上に均一な塗膜を形成できればいかなる方法でもよい。
【００４３】
塗布された無機粉体含有樹脂組成物の乾燥条件としては、例えば、１００〜１５０℃で３〜１０分間程度である。
【００４４】
膜形成材料層の厚さは、無機粉体の含有率、パネルの種類やサイズなどによっても異なるが、１０〜２００μｍであることが好ましく、さらに好ましくは３０〜１００μｍである。この厚さが１０μｍ未満である場合には、最終的に形成される誘電体層の膜厚が不十分となり、所望の誘電特性を確保することができない傾向にある。通常、この厚さが３０〜１００μｍであれば、大型のパネルに要求される誘電体層の膜厚を十分に確保することができる。また、膜厚は均一であるほど好ましく、膜厚公差は±５％以内であることが好ましい。
【００４５】
なお、転写シートは、膜形成材料層の表面に保護フィルムを設けてもよい。保護フィルムの形成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレンなどが挙げられる。保護フィルムでカバーされた転写シートは、ロール状に巻き取った状態で保存し、供給することができる。
【００４６】
本発明の誘電体層形成基板の製造方法は、前記転写シートの膜形成材料層を基板に転写する転写工程、及び転写された膜形成材料層を４００〜６５０℃で焼結させ、基板上に誘電体層を形成する焼結工程を含むことを特徴とする。
【００４７】
基板としては、セラミックや金属などの基板が挙げられ、特にＰＤＰを作製する場合には、適切な電極が固定されたガラス基板が用いられる。
【００４８】
転写工程の一例を以下に示すが、基板表面に膜形成材料層が転写されて密着した状態にできれば、その方法は特に制限されるものではない。
【００４９】
適宜使用される転写シートの保護フィルムを剥離した後、電極が固定されたガラス基板の表面に、膜形成材料層表面を当接するように転写シートを重ね合わせ、この転写シートを加熱ロール式のラミネーターなどにより熱圧着した後、膜形成材料層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、ガラス基板表面に膜形成材料層が転写されて密着した状態となる。
【００５０】
転写条件としては、例えば、ラミネーターの表面温度２５〜１００℃、ロール線圧０．５〜１５ｋｇ／ｃｍ、移動速度０．１〜５ｍ／分であるが、これら条件に限定されるものではない。また、ガラス基板は予熱されていてもよく、予熱温度は５０〜１００℃程度である。
【００５１】
膜形成材料層の焼結工程の一例を以下に示すが、膜形成材料層を４００〜６５０℃で焼結させ、基板上に誘電体層を形成できれば、その方法は特に制限されるものではない。
【００５２】
膜形成材料層が形成された前記ガラス基板を、４００〜６５０℃の高温雰囲気下に配置することにより、膜形成材料層中の有機物質（バインダ、残存溶剤、各種の添加剤など）が分解除去され、無機粉体（ガラス粉末）が軟化して焼結する。これにより、ガラス基板上には、無機焼結体（ガラス焼結体）からなる誘電体層が形成され、誘電体層形成基板が製造される。
【００５３】
誘電体層の厚さは、使用する膜形成材料層の厚さよって異なるが、１５〜５０μｍ程度である。
【００５４】
本発明の誘電体層形成基板は、誘電体層に微細ボイドやクラックがなく、透過率などの光学特性に優れている。
【００５５】
【実施例】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５６】
（重量平均分子量の測定）
作製したポリマー又はオリゴマ−をＴＨＦに０．１ｗｔ％で溶解させて、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）を用いてポリスチレン換算により重量平均分子量を測定した。詳しい測定条件は以下の通りである。
ＧＰＣ装置：東ソー社製、ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ
カラム：東ソー社製、ＴＳＫｇｅｌ  ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ、Ｈ−ＲＣ、ＨＺ−Ｈ
流量：０．６ｍｌ／ｍｉｎ
濃度：０．２ｗｔ％
注入量：２０μｌ
カラム温度：４０℃
溶離液：ＴＨＦ
（ガラス転移温度の測定）
作製したポリマー又はオリゴマ−を厚さ１ｍｍに成形し、φ８ｍｍに打ち抜いたものを動的粘弾性測定装置（レオメトリックス社製）を用いて、周波数１Ｈｚにて損失弾性率Ｇ”の温度依存性を測定した。得られた損失弾性率Ｇ”のカーブにおけるピークトップの温度をガラス転移温度Ｔｇとした。
【００５７】
（可とう性の評価）
得られた転写シート（５０ｍｍ×１００ｍｍ）を２つに折り曲げて、転写シートの膜形成材料層にひび割れやクラックが発生するかどうかを目視により下記の条件で評価した。
○：ひび割れやクラックが発生していない
△：ひび割れやクラックがほとんど発生していない
×：ひび割れやクラックが多く発生している
（転写シートの凝集力（強度）の評価）
クリープ試験により転写シートの凝集力を評価した。以下にクリープ試験の方法を示す。作成した転写シート（５０ｍｍ×１００ｍｍ）の保護フィルムを剥離し、該転写シートを剥離処理を施していないポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚さ５０μｍ）上に貼り付けた。そして、支持フィルムを剥離して膜形成材料層をＰＥＴフィルム上に転写した。この積層体を１０ｍｍ幅にカットし、ベークライト板上に接着面積が２００ｍｍ２  となるように該膜形成材料層を貼り付けた。該ベークライト板を２３℃の雰囲気下で垂直に固定し、膜形成材料層付きＰＥＴフィルムの端部に５００ｇの荷重をかけてせん断応力を与えた。１時間経過後にせん断方向への膜形成材料層付きＰＥＴフィルムのズレ距離を測定した。ズレ距離が小さいほど凝集力（強度）が大きいことを示す。
【００５８】
（密着性の測定）
作成した転写シート（５０ｍｍ×１００ｍｍ）の保護フィルムを剥離し、該転写シートの膜形成材料層を８０℃の加熱ロール式ラミネータを用いてガラス板の表面に熱圧着した。そして、支持フィルムを膜形成材料層から剥離角度１３５°、剥離速度０．３ｍ／ｍｉｎの条件で剥離し、その際の膜形成材料層の密着性を下記の基準で評価した。
【００５９】
○：剥離の際に膜形成材料層の全体がガラス板に密着していた
×：剥離の際に膜形成材料層の一部がガラス板から剥がれた
実施例１
〔（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）の調製〕
撹拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器、滴下ロートを備えた四つ口フラスコにブチルメタクリレート５９重量部、ラウリルメタクリレート４０重量部、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸１重量部、酢酸エチル１００重量部、及び重合開始剤０．２重量部を仕込み、緩やかに撹拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を７５℃付近に保って８時間重合反応を行い、固形分５０重量％のメタクリル系ポリマー（Ａ−１）溶液を調製した。得られたメタクリル系ポリマー（Ａ−１）の重量平均分子量は３０万であり、ガラス転移温度は−２０℃であった。
【００６０】
〔（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）の調製〕
撹拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器、滴下ロ−トを備えた四つ口フラスコにラウリルメタクリレート１００重量部、トルエン１００重量部、重合開始剤、及び連鎖移動剤を仕込み、緩やかに撹拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を７５℃付近に保って８時間重合反応を行い、固形分５０重量％のメタクリル系オリゴマ−（Ｂ−１）溶液を調製した。得られたメタクリル系オリゴマ−（Ｂ−１）の重量平均分子量は５０００であり、ガラス転移温度は−６５℃であった。
【００６１】
〔無機粉体含有樹脂組成物の調製〕
無機粉体としてＰｂＯ／Ｂ２  Ｏ３  ／ＢａＯ／ＣｕＯ／ＳｉＯ２  ／Ａｌ２  Ｏ３  のガラス粉末１００重量部、前記メタクリル系ポリマー（Ａ−１）１６重量部、前記メタクリル系オリゴマ−（Ｂ−１）１５重量部、及び溶剤としてα−テルピネオール４０重量部を配合し、分散機を用いて混合分散して無機粉体含有樹脂組成物（ａ）を調製した。
【００６２】
〔転写シートの作製〕
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚さ：７５μｍ）に剥離剤処理を施した支持フィルム上に、前記調製した無機粉体含有樹脂組成物をロールコータを用いて塗布し、塗膜を１５０℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去して膜形成材料層（厚さ：６０μｍ）を形成した。その後、膜形成材料層上に保護フィルム（ＰＥＴ、厚さ：２５μｍ）をカバーして転写シートを作製し、ロール状に巻き取った。
【００６３】
〔誘電体層形成ガラス基板の作製〕
前記転写シートの保護フィルムを剥離後、転写シートの膜形成材料層表面をパネル用ガラス基板の表面（バス電極の固定面）に当接するように重ね合わせ、加熱ロール式ラミネータを用いて熱圧着した。圧着条件は、加熱ロールの表面温度８０℃、ロール線圧１ｋｇ／ｃｍ、ロール移動速度１ｍ／分であった。熱圧着処理後、膜形成材料層から支持フィルムを剥離除去すると、ガラス基板表面に膜形成材料層が転写されて密着した状態になっていた。
【００６４】
膜形成材料層が転写されたガラス基板を焼成炉内に配置し、炉内の温度を室温から６００℃まで１０℃／分の昇温速度で昇温し、６００℃の温度雰囲気下で６０分間維持することにより、ガラス基板表面にガラス焼結体からなる誘電体層を形成し、誘電体層形成ガラス基板を作製した。この誘電体層の厚さは約３０μｍであった。
【００６５】
比較例１
〔（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）の調製〕
実施例１と同様の方法でメタクリル系ポリマー（Ａ−１）を調製した。
【００６６】
〔無機粉体含有樹脂組成物の調製〕
前記メタクリル系樹脂（Ｂ−１）を用いず、可塑剤としてプロピレングリコールモノオレエート１０重量部を用いた以外は実施例１と同様の方法により無機粉体含有樹脂組成物（ｂ）を調製した。
【００６７】
〔転写シートの作製〕及び〔誘電体層形成ガラス基板の作製〕
無機粉体含有樹脂組成物（ｂ）を用いた以外は実施例１と同様の方法により転写シート及び誘電体層形成ガラス基板を作製した。この誘電体層の厚さは３０μｍ±２μｍであった。
【００６８】
実施例２
〔（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）の調製〕
撹拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに２−エチルヘキシルメタクリレート９９重量部、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸１重量部、酢酸エチル１００重量部、及び重合開始剤０．２重量部を仕込み、緩やかに撹拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を７５℃付近に保って８時間重合反応を行い、固形分５０重量％のメタクリル系ポリマー（Ａ−２）溶液を調製した。得られたメタクリル系ポリマー（Ａ−２）の重量平均分子量は３０万であり、ガラス転移温度は−１０℃であった。
【００６９】
〔（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）の調製〕
撹拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器、滴下ロートを備えた四つ口フラスコに２−エチルヘキシルメタクリレート９９重量部、２−メタクリロイロキシエチルコハク酸１重量部、酢酸エチル１００重量部、重合開始剤、及び連鎖移動剤を仕込み、緩やかに撹拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を７５℃付近に保って８時間重合反応を行い、固形分５０重量％のメタクリル系オリゴマー（Ｂ−２）溶液を調製した。得られたメタクリル系オリゴマー（Ｂ−２）の重量平均分子量は５０００であり、ガラス転移温度は−１０℃であった。
【００７０】
〔無機粉体含有樹脂組成物の調製〕
無機粉体として前記ガラス粉末１００重量部、前記メタクリル系ポリマー（Ａ−２）１６重量部、前記メタクリル系オリゴマ−（Ｂ−２）３重量部、可塑剤としてトリメリット酸トリオクチル３重量部、及び溶剤としてα−テルピネオール４０重量部を配合し、分散機を用いて混合分散して無機粉体含有樹脂組成物（ｃ）を調製した。
【００７１】
〔転写シートの作製〕及び〔誘電体層形成ガラス基板の作製〕
無機粉体含有樹脂組成物（ｃ）を用いた以外は実施例１と同様の方法により転写シート及び誘電体層形成ガラス基板を作製した。この誘電体層の厚さは３０μｍ±２μｍであった。
【００７２】
比較例２
〔（メタ）アクリル系ポリマー（Ａ）の調製〕
実施例２と同様の方法でメタクリル系ポリマー（Ａ−２）を調製した。
【００７３】
〔無機粉体含有樹脂組成物の調製〕
無機粉体として前記ガラス粉末１００重量部、前記メタクリル系ポリマー（Ａ−２）１６重量部、可塑剤としてプロピレングリコールモノオレエート６重量部、及び溶剤としてα−テルピネオール４０重量部を配合し、分散機を用いて混合分散して無機粉体含有樹脂組成物（ｄ）を調製した。
【００７４】
〔転写シートの作製〕及び〔誘電体層形成ガラス基板の作製〕
無機粉体含有樹脂組成物（ｄ）を用いた以外は実施例１と同様の方法により転写シート及び誘電体層形成ガラス基板を作製した。この誘電体層の厚さは３０μｍ±２μｍであった。
【００７５】
【表１】
2005029635.tif 000002
表１の結果から明らかなように、（メタ）アクリル系オリゴマー（Ｂ）を併用した場合（実施例１、２）には、併用しなかった場合（比較例１、２）に比べて可とう性は同等であるが、膜形成材料層の凝集力（強度）が高く、ガラス板との密着性にも優れていた。