(57)【要約】【課題】優れたＣ／Ｎ特性と走行安定性との両立を図った磁気記録媒体を得る。【解決手段】非磁性支持体１の一主面に、膜厚０．２５μｍ以下の磁性層２を有し、反対側の主面上にバック層３を有し、線記録密度が１９５ｋｆｃｉ以上に設定されてなる記録再生システムにおいて信号の記録及び／又は再生を行う磁気記録媒体において、磁性層２の膜硬度Ｈ（ｓ）とバック層３の膜硬度Ｈ（ｂ）との比α＝Ｈ（ｓ）／Ｈ（ｂ）を、１．１≦αに規定する。【選択図】図１
2005032383.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体の一主面に、膜厚０．２５μｍ以下の磁性層を有し、当該磁性層形成面とは反対側の主面にバック層を有し、  
線記録密度が１９５ｋｆｃｉ以上に設定されてなる記録再生システムにおいて信号の記録及び／又は再生を行う磁気記録媒体であって、
上記磁性層の膜硬度Ｈ（ｓ）と、上記バック層の膜硬度Ｈ（ｂ）との比、
α＝Ｈ（ｓ）／Ｈ（ｂ）が、１．１≦αであることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
上記バック層の表面粗度ＳＲａ（ｂ）が、
７．０μｍ≦ＳＲａ（ｂ）≦１８．０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
磁気抵抗効果型ヘッドを用いて信号の再生を行うことを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
非磁性支持体の一主面に、膜厚０．２５μｍ以下の磁性層を有し、当該磁性層形成面とは反対側の主面にバック層を有し、
線記録密度が１９５ｋｆｃｉ以上に設定されてなる記録再生システムにおいて上記バック層と上記記録再生システムのガイド部とが非接触状態で信号の記録及び／又は再生を行う磁気記録媒体であって、
上記バック層の表面粗度ＳＲａ（ｂ）が、ＳＲａ（ｂ）≦７．０μｍであることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項５】
非磁性支持体の一主面に、膜厚０．２５μｍ以下の磁性層を有し、当該磁性層形成面とは反対側の主面にバック層を有し、
線記録密度が１９５ｋｆｃｉ以上に設定されてなる記録再生システムにおいて上記バック層と上記記録再生システムのガイド部とが非接触状態で信号の記録及び／又は再生を行う磁気記録媒体であって、
上記磁性層の膜硬度Ｈ（ｓ）と、上記バック層の膜硬度Ｈ（ｂ）との比、
α＝Ｈ（ｓ）／Ｈ（ｂ）が、１．１≦αであることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項６】
上記磁性層の膜硬度Ｈ（ｓ）と、上記バック層の膜硬度Ｈ（ｂ）との比、α＝Ｈ（ｓ）／Ｈ（ｂ）が、１．１≦αであることを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体。
【請求項７】
磁気抵抗効果型ヘッドを用いて信号の再生を行うことを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁変換特性についての向上を図った高密度記録型の磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、デジタル記録等の普及により、磁気記録媒体の高密度化及び短波長記録化への要求がますます高まってきている。これに伴い、短波長出力及びＣ／Ｎ特性の向上を図るために、磁気特性の改善を図り、記録再生信号を劣化させるスペーシングロスやモジュレーションノイズを低減化させるべく、磁性層を薄層化したり、表面を平滑化したりしている。
【０００３】
例えば従来においては、強磁性金属材料をメッキや真空薄膜形成術（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等）によって、薄層で平滑な磁性層が形成された磁気記録媒体が実用化されてきた。
【０００４】
そして今後においては、再生用の磁気ヘッドとして高感度な磁気抵抗効果型ヘッド（ＭＲヘッド）を搭載した記録再生システムが主流になると考えられており、より一層のモジュレーションノイズの低減化、及び磁性層表面の平滑化を図ることが必要になってくるものと考えられているが、近年の高密度記録の需要に対し、従来のように磁性層の表面性のみに着目した設計では不充分となってきている。
【０００５】
すなわち、例えば長尺形状の磁気記録媒体においては、通常何らかの形で長く巻かれて保存・待機している時間が長く、この際、磁性層表面はバック層側の表面と所定の圧力の下で接触し続けるため、その際にバック表面の粗さや突起形状が磁性層表面に転写してしまい、磁性層表面形状を磁性層面形成初期の状態から著しく悪化させることがあるからである。
【０００６】
このような問題に鑑み、従来においてはバック層の表面粗度について検討した種々の磁気記録媒体についての提案がなされている（例えば、特許文献１、２参照。）。
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−３３１３２７号公報
【特許文献２】特開２００１−２０２６１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、今後さらなる磁気記録媒体の高記録密度化が進むことに鑑みれば、上述したような従来提案されている技術をもってしては、充分なノイズの低減化が図れず、電磁変換特性上の致命的な欠陥となり得ると考えられ、より精密な表面特性についての検討が必要となってきている。
【０００９】
また、一般的にバック層表面は記録再生システム内でのテープ走行の安定性を担っており、特にバック層がガイドに接触しながら走行するシステムでは、バック層表面粗さを適度に保つ必要がある。
一方、バック層表面がガイドに接触しないシステムを適用する場合には、上述したような走行安定性を考慮した表面粗度の設計が必要ないので、極めて平滑な面を形成することが可能である。
【００１０】
上記記録再生システムのうち、特にバック層表面がガイドに接触しながら走行する記録再生システムにおいては、磁気記録媒体のバック層表面の粗度を良好な走行性が得られるように設計する必要があるため、今後において、線記録密度が１９５ｋｆｃｉ以上の極めて高密度記録型の記録再生システムに適用することを考えれば、未だ充分なＣ／Ｎ特性の向上及びエラーレートの低減化を図られていないのが現状である。
【００１１】
そこで本発明においては、特に、線記録密度が１９５ｋｆｃｉ以上の記録再生システムに適用する極めて高記録密度の磁気記録媒体において、バック層の表面特性、及び磁性層の表面特性に関し検討を行い、磁性層表面へのバック層表面からの転写の影響を最小限に抑制し、かつ安定した走行性を確保して、走行信頼性が高く、優れた電磁変換特性を有する磁気記録媒体を提供することとした。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
第１の発明においては、非磁性支持体の一主面に、膜厚０．２５μｍ以下の磁性層を有し、磁性層形成面とは反対側の主面にバック層を有し、線記録密度が１９５ｋｆｃｉ以上に設定されてなる記録再生システムにおいて信号の記録及び／又は再生を行う磁気記録媒体であって、磁性層の膜硬度Ｈ（ｓ）と、バック層の膜硬度Ｈ（ｂ）との比α＝Ｈ（ｓ）／Ｈ（ｂ）が、１．１≦αである磁気記録媒体を提供する。
【００１３】
第２の発明においては、非磁性支持体の一主面に、膜厚０．２５μｍ以下の磁性層を有し、磁性層形成面とは反対側の主面にバック層を有し、線記録密度が１９５ｋｆｃｉ以上に設定されてなる記録再生システムにおいてバック層とガイド部とが非接触状態で信号の記録及び／又は再生を行う磁気記録媒体であって、バック層の表面粗度ＳＲａ（ｂ）が、ＳＲａ（ｂ）≦７．０μｍであるものとした磁気記録媒体を提供する。
【００１４】
第３の発明においては、非磁性支持体の一主面に膜厚０．２５μｍ以下の磁性層を有し、磁性層形成面とは反対側の主面にバック層を有し、線記録密度が１９５ｋｆｃｉ以上に設定されてなる記録再生システムにおいてバック層とガイド部とが非接触状態で信号の記録及び／又は再生を行う磁気記録媒体であって、磁性層の膜硬度Ｈ（ｓ）と、バック層の膜硬度Ｈ（ｂ）との比α＝Ｈ（ｓ）／Ｈ（ｂ）が、１．１≦αであるものとした磁気記録媒体を提供する。
【００１５】
第１の発明によれば、磁性層の硬度とバック層の硬度との比について所定の規定を行ったことにより、磁性層表面へのバック層表面からの転写の影響が軽減される。
【００１６】
第２の発明によれば、特にバック層とガイド部とが非接触状態で信号の記録及び／又は再生を行う磁気記録媒体において、バック層表面が極めて平滑になるように表面粗度を規定したことにより、磁性層面へのバック層表面からの転写の影響が軽減される。
【００１７】
第３の発明によれば、特にバック層とガイド部とが非接触状態で信号の記録及び／又は再生を行う磁気記録媒体において、磁性層の膜硬度Ｈ（ｓ）と、バック層の膜硬度Ｈ（ｂ）との比α＝Ｈ（ｓ）／Ｈ（ｂ）を制御したことにより、磁性層面へのバック層表面からの転写の影響が軽減される。
【発明の効果】
【００１８】
第１の発明によれば、高密度記録型の磁気記録媒体において、磁性層の硬度とバック層の硬度との比について所定の規定を行い、磁性層面へのバック層表面からの転写の影響を低減化したことにより、優れた走行安定性を確保しつつ、良好なＣ／Ｎ特性が実現された。
【００１９】
第２の発明によれば、特にバック層とガイド部とが非接触状態で信号の記録及び／又は再生を行う磁気記録媒体において、バック層表面が極めて平滑になるように表面粗度を規定し、磁性層面へのバック層表面からの転写の影響を低減化したことにより、Ｃ／Ｎ特性の向上が図られた。
【００２０】
第３の発明によれば、特にバック層とガイド部とが非接触状態で信号の記録及び／又は再生を行う磁気記録媒体において、磁性層の膜硬度Ｈ（ｓ）と、バック層の膜硬度Ｈ（ｂ）との比α＝Ｈ（ｓ）／Ｈ（ｂ）を制御し、磁性層面へのバック層表面からの転写の影響を低減化したことにより、Ｃ／Ｎ特性の向上を図ることができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の磁気記録媒体について具体的に説明するが、本発明は、以下に示す例に限定されるものではない。
【００２２】
図１に本発明の磁気記録媒体の一例の概略構成図を示す。磁気記録媒体１０は、非磁性支持体１の一主面上に、膜厚０．２５μｍ以下の磁性層２を有し、磁性層形成面側の反対側の主面上に、バック層３を有している。
【００２３】
非磁性支持体１形成用の材料としては、従来公知の磁気記録媒体用の支持体として使用されているものをいずれも適用可能である。例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルローストリアセテート、セルロースダイアセテート、セルロースアセテートブチレート等のセルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド等のプラスチック類、紙、アルミニウム、銅等の金属、アルミニウム合金、チタン合金等の軽合金、セラミックス、単結晶シリコン等が挙げられる。
また、非磁性支持体１の形態としては、フィルム状、テープ状、シート状、ディスク状、カード状、ドラム状等、従来公知の各種形状を適用できる。
【００２４】
磁性層２は、強磁性粉末及び結合剤を主成分とし、研磨剤、帯電防止剤、防錆剤、硬化剤等の各種添加剤を加え、有機溶剤等を用いて従来公知の方法によって調整した磁性塗料を非磁性支持体１上に塗布することによって形成されてなるものとする。
本発明の磁気記録媒体１０は、磁性層２の膜厚は０．２５μｍ以下であるものとし、高密度記録型の磁気記録媒体の実用上、０．０５μｍ〜０．２５μｍに形成する。
【００２５】
磁性層２形成用の強磁性粉末としては、例えば強磁性酸化鉄粒子、強磁性二酸化クロム、強磁性合金粉末、窒化鉄等が挙げられ、いわゆる塗布型の磁気記録媒体の磁性層形成用塗料に適用されるものであれば、従来公知のものをいずれも適用できる。これらは単独で用いてもよく、あるいは適宜組み合わせて用いてもよい。
【００２６】
磁性層２形成用の結合剤としては、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重合体、熱可塑性ポリウレタン、フェノキシ樹脂、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−メタクリル酸共重合体、ポリビニルブチラール、セルロース誘導体、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられ、これらを単独で用いてもよく、あるいは二種以上を混合して用いてもよい。
特に、柔軟性を付与することのできるポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体等と、剛性を付与することのできるセルロース誘導体、フェノール樹脂、エポキシ樹脂等が好適である。これらはイソシアネート化合物を架橋剤として、より耐久性を向上させたり、あるいは適当な極性基を導入して表面性を改善させたりしてもよい。
【００２７】
磁性層２形成用の溶剤としては、従来磁性塗料調整用の有機溶剤として用いられているものを、いずれも適用することができる。例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、酢酸グリコールモノエチルエステル等のエステル系溶剤、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン等のグリコールエーテル系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロロヒドリン、ジクロロベンゼン等の有機塩素化合物系溶剤が挙げられる。
【００２８】
バック層３は、例えば従来公知の無機粉末、結合剤を主成分とし、その他帯電防止剤、防錆剤、硬化剤等の各種添加剤を含有する分散液を、有機溶剤等を用いて調整したバック層用塗料を塗布することにより形成されたものとする。
【００２９】
なお、バック層３形成用の分散液として、上記磁性分散液の同等品をそのまま用いてもよく、また、無機粉末としてカーボンブラックや各種セラミックス粒子、金属酸化物等を用いてもよい。
バック層用の結合剤としては、例えばポリエステル系ポリウレタン樹脂、フェノキシ樹脂、ニトロセルロース樹脂等が挙げられるが、これらに限定されるものではなく、上述した磁性層用の結合剤として用いられているものをいずれも適用できる。
【００３０】
バック層用分散液を調整するための溶剤としては、例えば、メチルエチルケトン、トルエンが挙げられるが、これらに限定されるものではなく、上述した磁性層塗料調整用の有機溶剤をいずれも適用できる。
【００３１】
本発明の磁気記録媒体の構成は、図１に示したものに限定されるものではなく、例えば非磁性支持体１と磁性層２との間に任意の非記録層を形成したり、磁性層２を複数の積層構造としたり、各種構成上の付加を加えてもよい。
また、非磁性支持体１や、磁性層２に含有されている強磁性粉末及び結合剤、非記録層に混入する無機粉末、結合剤、及び分散剤、その他研磨剤、帯電防止剤、防錆剤、塗料調整用溶剤としては、従来公知のものがいずれも適用することができ、何ら限定されるものではない。
【００３２】
次に、磁気記録媒体１０の作製方法について説明する。
先ず、所定の非磁性支持体１を用意する。次に、磁性層用の塗料、及び必要に応じて非記録層用の塗料を調整する。
磁性塗料及び非記録層用の塗料は、上述した各材料を所定の溶剤とともに混練分散して調製する。混練分散の方法は、公知の方法をいずれも適用でき、特に制限されるものではないが、例えば連続二軸混練機（エクストルーダー）、コニーダー、加圧ニーダー等を用いる方法が挙げられる。
【００３３】
非記録層及び磁性層２は、それぞれの塗料を、例えばグラビアコート、押出コート、エアードクターコート、リバースロールコート等の従来の塗布方法により塗布することによって形成される。
【００３４】
また、非記録層上に磁性層２を形成する場合には、塗料を順次塗布して乾燥を行う、いわゆるウエット・オン・ドライ方式を用いてもよく、湿潤状態にある非記録層を形成するための塗料の上に磁性層２を形成するための塗料を重ねて塗布する、いわゆるウエット・オン・ウエット方式を用いてもよい。
【００３５】
磁性層２を形成した後、磁場配向処理、加熱乾燥処理を行い、その後、バック層３を上述したバック層用の塗料を塗布して形成した。その後カレンダー処理、硬化処理を施す。このときのカレンダー処理条件、効果処理条件を制御することにより、膜硬度及び表面粗度を調整した。
【００３６】
次に、本発明の磁気記録媒体の磁性層２とバック層３の表面特性として、膜硬度と表面粗度について説明する。
【００３７】
図２に、磁性層２及びバック層３の膜硬度を測定する硬度測定装置の一例の概略斜視図を示す。この硬度測定装置２０は、装置台座３０上に、変位センサー２１及び荷重センサー２２を具備する測定器２３と、評価試料２４が配置されたステージ２５が設置された構成を有している。
測定器２３の評価試料２４と対向する側には、荷重台座２６が設けられており、この荷重台座２６は、図３の拡大概略図に示されているように、荷重針２７を備え、荷重針２７の先端部には、例えば径０．３μｍ程度の球状部２８を備えている。
【００３８】
ステージ２５上に、評価試料２４として上述したようにして作製した磁気記録媒体を、磁性層形成面あるいはバック層形成面を荷重台座２６に対向するようにして配置し、荷重針２７に荷重して鉛直方向に押し込み、単位押し込み深さ〔μｍ〕当たりにかかる応力〔ｋｇｆ〕を算出し、これを膜硬度（Ｈ（ｓ）、Ｈ（ｂ））と定義する。
【００３９】
上述したようにして定義される磁性層２の膜硬度Ｈ（ｓ）と、バック層３の膜硬度Ｈ（ｂ）に関し、これらの比α＝Ｈ（ｓ）／Ｈ（ｂ）が、１．１≦αであるものと規定することにより、極めて高密度記録型の磁気記録媒体においても、バック層３の表面形状の磁性層２表面への転写を効果的に防止でき、Ｃ／Ｎ特性の劣化を効果的に回避できることを見出した。
【００４０】
次に、バック層３の表面粗度について説明する。
バック層３の表面粗度ＳＲａ（ｂ）は、従来公知の表面粗度測定装置、例えばNano Scope IIIa/D-3000（ディジタルインスツルメント社製）を使用し、任意の面積範囲を測定することにより求めることができる。バック層３の表面粗度ＳＲａ（ｂ）を、７．０μｍ≦ＳＲａ（ｂ）≦１８．０μｍと規定することにより、記録再生システムにおいてバック層とガイド部とが接触状態で信号の記録及び／又は再生を行うような場合においても、安定した走行性を確保できる。
【００４１】
一方、バック層３と記録再生システムのガイド部とが、非接触状態で信号の記録及び／又は再生を行う磁気記録媒体においては、バック層３は極めて平滑に形成することができる。よってこの場合においては、表面粗度ＳＲａ（ｂ）を、ＳＲａ（ｂ）≦７．０μｍに選定することにより、磁性層面へのバック層表面からの転写の影響を効果的に低減化でき、Ｃ／Ｎ特性の向上を図ることができる。
また、さらにバック層３と記録再生システムのガイド部とが非接触状態で信号の記録及び／又は再生を行う磁気記録媒体において、磁性層２の膜硬度Ｈ（ｓ）と、バック層３の膜硬度Ｈ（ｂ）の比α＝Ｈ（ｓ）／Ｈ（ｂ）を、１．１≦αに規定することにより、確実にバック層３の表面形状の磁性層２表面への転写を防止でき、Ｃ／Ｎ特性の劣化を効果的に回避できる。
【実施例】
【００４２】
以下、本発明の磁気記録媒体について、具体的な実施例及び比較例を挙げて説明する。
【００４３】
〔実施例Ａ１〜Ａ８〕、〔比較例Ａ１〜Ａ１１〕
以下に示す組成の磁性層用分散液を調整した。
〔磁性層用分散液組成〕
強磁性粉末：鉄−コバルト合金系メタル磁性粉：１００重量部
結合剤：ポリエステル系ポリウレタン樹脂：８重量部
（量平均分子量４１２００）
結合剤：塩化ビニル系共重合体（平均重合度３５０）：１０重量部
無機粉末（研磨剤）：α−アルミナ：５重量部
（粒径２００ｎｍ、比表面積／ＢＥＴ法１１．１ｍ2／ｇ）
潤滑剤：ステアリン酸：１重量部
ステアリン酸ブチル：２重量部
溶剤：メチルエチルケトン：２０重量部
トルエン：２０重量部
シクロヘキサノン：１０重量部
【００４４】
上記材料をニーダーで混練処理し、さらにメチルエチルケトン、トルエン、シクロヘキサノンで希釈した後、サンドミル分散した。サンドミル分散後の分散液にポリイソシアネート（日本ポリウレタン製硬化剤「コロネートＬ」）４重量部添加し、撹拌後これを非磁性支持体上に所定の膜厚に塗布した。その後、磁場配向処理を行い、所定の温度にて乾燥させて巻取った。
【００４５】
次に、バック層用分散液を作製した。
バックコート層用分散液は、下記に示すように２種類の無機粉末を用い、配合比を異にする３種類の分散液ａ１、ａ２、ａ３を用意した。そしてそれぞれにポリイソシアネート（日本ポリウレタン製硬化剤「コロネートＬ」）を１０重量部添加し、磁性層とは反対側の面に塗布し、膜厚０．５μｍのバック層３を形成した。
【００４６】
〔バック層用分散液組成ａ１〕
無機粉末：カーボンブラック：５０重量部
（粒径４０ｎｍ、ＤＢＰ吸油量１１２．０ｍｌ／１００ｇ）
無機粉末：カーボンブラック：５０重量部
（粒径８０ｎｍ、ＤＢＰ吸油量５５．０ｍｌ／１００ｇ）
結合剤：ポリエステル系ポリウレタン樹脂：１３重量部
（量平均分子量７１２００）
結合剤：フェノキシ樹脂（平均重合度１００）：４３重量部
結合剤：ニトロセルロース樹脂（平均重合度９０）：１０重量部
溶剤：メチルエチルケトン：５００重量部
トルエン：５００重量部
【００４７】
〔バック層用分散液組成ａ２〕
無機粉末：カーボンブラック：３０重量部
（粒径４０ｎｍ、ＤＢＰ吸油量1１２．０ｍｌ／１００ｇ）
無機粉末：カーボンブラック：７０重量部
（粒径８０ｎｍ、ＤＢＰ吸油量５５．０ｍｌ／１００ｇ）
結合剤：ポリエステル系ポリウレタン樹脂：１３重量部
（量平均分子量７１２００）
結合剤：フェノキシ樹脂（平均重合度１００）：４３重量部
結合剤：ニトロセルロース樹脂（平均重合度９０）：１０重量部
溶剤：メチルエチルケトン：５００重量部
トルエン：５００重量部
【００４８】
〔バック層用分散液組成ａ３〕
無機粉末：カーボンブラック：１００重量部
（粒径８０ｎｍ、ＤＢＰ吸油量５５．０ｍｌ／１００ｇ）
結合剤：ポリエステル系ポリウレタン樹脂：１３重量部
（量平均分子量７１２００）
結合剤：フェノキシ樹脂（平均重合度１００）：４３重量部
結合剤：ニトロセルロース樹脂（平均重合度９０）：１０重量部
溶剤：メチルエチルケトン：５００重量部
トルエン：５００重量部
【００４９】
上述した塗料を用いてバック層を形成した後、９０℃にて乾燥処理を行い、さらにカレンダー処理を施した。このカレンダー処理時の線圧は、５０、１００、１５０、２００、２５０〔ｋｇｆ／ｃｍ〕の５条件設定し、温度は１００、１３０℃の２条件設定し、適宜組み合わせてカレンダー処理を行った。その後、硬化処理を行い、得られた広幅テープを１２ｍｍ幅にスリットし、サンプル磁気テープとした。
【００５０】
〔実施例Ａ１〜Ａ８〕、及び〔比較例Ａ１〜Ａ１１〕のサンプル磁気テープのバック層形成用の分散液種類、磁性層の膜厚、乾燥処理温度、カレンダー処理線圧、及びカレンダー処理温度について、それぞれ下記表１に示した。
【００５１】
【表１】
2005032383.tif 000003
【００５２】
上述したようにして作製したサンプル磁気テープについて、バック層の表面粗度ＳＲａ（ｂ）、磁性層の表面粗度ＳＲａ（ｍ）、磁性層の表面硬度Ｈ（ｓ）、バック層の表面硬度Ｈ（ｂ）、Ｃ／Ｎ特性、及びドロップアウトの測定を行った。各測定方法を下記に示す。
【００５３】
〔表面粗度測定〕
商品名：Nano Scope IIIa/D-3000（ディジタルインスツルメント社製）を使用して５０×５０〔μｍ2〕の範囲を測定した。測定においては、通常用いられる周波数フィルター（カットオフ周波数）等は用いないものとした。
【００５４】
〔表面硬度測定〕
径０．３μｍの球状ダイアモンド針を有する、図２に示すような構成の押し込み式硬度測定装置２０を用いて塗膜硬度測定を行った。
任意形状の磁気テープの磁性層、バック層のそれぞれを鉛直方向に針にて加重し、単位押し込み深さ〔μｍ〕当たりに針にかかる応力〔ｋｇｆ〕を算出（単位は〔ｋｇｆ／μｍ〕）して、硬度を測定した。測定結果を下記表２、表３に示した。
【００５５】
〔Ｃ／Ｎ特性測定〕
サンプル磁気テープは、記録用磁気ヘッド（ＭＩＧ 、ギャップ０．１５μｍ）を取り付けたドラムテスターを用い、１９５ｋｆｃｉ、あるいは２５０ｋｆｃｉの信号を記録後、再生出力とノイズを、スペクトラムアナライザーを用いて測定した。なお、再生用の磁気ヘッドとして、積層アモルファスヘッド及びＭＲヘッドを用いた。再生信号から±２ＭＨｚの周波数成分の大きさをノイズレベルと定義し、ノイズ出力の再生信号出力比をＣ／Ｎ特性とした。
積層アモルファスヘッドを用いた場合の測定結果を表２に示し、表２の中から任意のサンプル磁気テープを選定して、ＭＲヘッドを用いて信号の再生を行った場合の測定結果を表３に示した。
いずれにおいても比較例Ａ１の磁気テープを基準とし、このＣ／Ｎ値を０．０ｄＢ定義した場合の相対値を示した。
【００５６】
〔ドロップアウト測定〕
ＬＴＯ用media tester（Ｄ＆ＴＴ社製  改造機）を用いて、ドロップアウト評価を行った。磁気テープ長２０ｍ間の、テープ全幅内にあるドロップアウト数を計測し、基準テープの計数値との比(基準磁気テープを１００％とした場合の比)で表し、表２、表３に示した。なお、ドロップアウトは、上記計測装置を用い、−９ｄＢよりも大きい信号出力の劣化が、１μｍ以上続いた場合を１個として計測した。
但し、計測装置にはＭＲヘッドが搭載されていたが、ドロップアウトは、ヘッド種が誘導型、ＭＲ型を問わず同一のシステムで評価ができる。従って本測定で使用した装置がＭＲヘッド搭載型のみであっても、この評価結果は、実際のシステムが誘導型ヘッド搭載である場合の評価結果をも反映している。
【００５７】
〔走行安定性〕
LTO1 Ultrium drive(Seagate社製 Viper200 改造機)と、VS-160 drive(Quantum社製 VS-160 改造機)を用いて、室温状態（２５℃５０％）にて走行安定性を評価した。このUltrium driveは磁気記録媒体のバック層表面がガイドに非接触状態で走行するシステムであり、VS-160 driveは磁気記録媒体のバック層表面がガイドに接触した状態で走行するシステムである。
各々の磁気テープを上記ドライブを用いてシャトル試験を行った。
シャトル試験においては、任意の８０ＧＢの記録部位のうち、２０ＧＢ目から６０ＧＢ目の間を、２５０００回往復させて評価を行った。走行中の磁気テープの状態を観察し、評価結果を下記表２、表３に示した。
規定回数走行中に磁気テープがガイドやヘッドに貼り付いた場合、ガイドからずれて磁気テープにダメージが生じた場合、あるいは走行中に磁気テープが破断した場合には、走行不安定とみなし×とし、実用上充分な走行安定性を示したものを○とした。
但し、測定用ドライブにはＭＲヘッドが搭載されているものを適用したが、ここで着目する走行安定性は、ヘッド種が誘導型、ＭＲ型を問わず同一のシステムで評価ができるものである。
【００５８】
【表２】
2005032383.tif 000004
【００５９】
【表３】
2005032383.tif 000005
【００６０】
上記表２、表３に示すように、磁性層の膜硬度Ｈ（ｓ）と、バック層の膜硬度Ｈ（ｂ）との比α＝Ｈ（ｓ）／Ｈ（ｂ）を１．１≦αとした実施例Ａ１〜Ａ８の磁気テープにおいては、線記録密度が１９５ｋｆｃｉ以上に設定されたいずれのシステムにおいても、良好なＣ／Ｎ特性が得られ、ドロップアウトの大幅な改善が確認された。
【００６１】
また、バック層の表面粗度ＳＲａ（ｂ）を、７．０μｍ≦ＳＲａ（ｂ）≦１８．０μｍとしたことにより、バック層がガイドに接触した状態で走行するシステム（VS-160 drive）においても、高い走行信頼性が得られた。
【００６２】
一方、磁性層の膜硬度Ｈ（ｓ）と、バック層の膜硬度Ｈ（ｂ）との比α＝Ｈ（ｓ）／Ｈ（ｂ）が、１．１未満とした比較例Ａ１〜Ａ８のサンプル磁気テープにおいては、バック層側の形状が磁性層側に転写してしまい、Ｃ／Ｎ特性、ドロップアウト特性等を充分に改善することができなかった。
【００６３】
また、比較例Ａ９においては、バック面が平滑すぎるため、バック層がガイドに接触した状態で走行するシステム（VS-160 drive）において、走行信頼性が劣化した。
比較例Ａ１０においてはバック面が粗いため、わずかにノイズの増加が確認された。
【００６４】
また、比較例Ａ１１においては、磁性層の膜厚が０．２５μｍよりも厚いため、高周波領域におけるＣ／Ｎ特性の劣化が確認された。
【００６５】
また、表３に示すように、本発明の磁気記録媒体に係る実施例４〜７のサンプル磁気テープにおいては、１９５ｋｆｃｉ、２５０ｋｆｃｉのいずれの記録密度においても、誘導型ヘッドを用いた場合同様、良好なＣ／Ｎ特性が得られた。
すなわち、本発明の磁気記録媒体によれば、ヘッドの種類に寄らず良好なＣ／Ｎ特性及び良好なドロップアウト、さらにはドライブの種類によらない高い走行信頼性のいずれも実現できることが確認された。
【００６６】
一方、比較例Ａ１、Ａ２、Ａ４、Ａ６〜Ａ８においては、誘導型ヘッドを用いた試験同様にＣ／Ｎ特性の劣化が確認された。
また、比較例Ａ１１においては、磁性層の膜厚が０．２５μｍよりも厚いため、高周波領域におけるＣ／Ｎ特性の劣化が確認された。
【００６７】
〔実施例Ｂ１〜Ｂ９〕、〔比較例Ｂ１、Ｂ２〕
まず、以下に示す組成の磁性層を形成するための磁性層用の分散液を調整した。
〔磁性層用分散液組成〕
微細強磁性粉末：鉄−コバルト合金系メタル磁性粉：１００重量部
結合剤：ポリエステル系ポリウレタン樹脂（量平均分子量４１２００）：８重量部
結合剤：塩化ビニル系共重合体（平均重合度３５０）：１０重量部
無機粉末（研磨剤）：α−アルミナ  ：５重量部
（粒径２００ｎｍ、比表面積／ＢＥＴ法１１．１ｍ2／ｇ）
潤滑剤：ステアリン酸：１重量部  
ステアリン酸ブチル：２重量部
溶剤：メチルエチルケトン：２０重量部
トルエン          ：２０重量部
シクロヘキサノン  ：１０重量部
【００６８】
以上の材料をニーダーで混練処理を施し、さらにメチルエチルケトン、トルエン、シクロヘキサノンで希釈した後、サンドミル分散した。サンドミル分散後の分散液にポリイソシアネート（日本ポリウレタン製硬化剤「コロネートＬ」）４重量部添加、撹拌し、磁性層形成用の塗料を得た。
【００６９】
次に、バック層形成用の塗料を作製した。
バック層用分散液には２種類の無機粉末を用いることとし、これらの配合比を異にする３種類の分散液ｂ１〜ｂ３を作製した。これらにポリイソシアネート（日本ポリウレタン製硬化剤「コロネートＬ」）１０重量部を添加し、バック層形成用の塗料とした。
【００７０】
〔バック層形成用分散液ｂ１〕
無機粉末：カーボンブラック  ：５０重量部
（粒径４０ｎｍ、ＤＢＰ吸油量１１２．０ｍｌ／１００ｇ）
カーボンブラック：５０重量部
（粒径８０ｎｍ、ＤＢＰ吸油量５５．０ｍｌ／１００ｇ）
結合剤：ポリエステル系ポリウレタン樹脂  ：１３重量部
（量平均分子量７１２００）
結合剤：フェノキシ樹脂（平均重合度１００）：４３重量部
結合剤：ニトロセルロース樹脂（平均重合度９０）：１０重量部
溶剤：メチルエチルケトン：５００重量部
溶剤：トルエン：５００重量部
【００７１】
〔バック層用分散液組成ｂ２〕
無機粉末：カーボンブラック：３０重量部
（粒径４０ｎｍ、ＤＢＰ吸油量１１２．０ｍｌ／１００ｇ）
無機粉末：カーボンブラック：７０重量部
（粒径８０ｎｍ、ＤＢＰ吸油量５５．０ｍｌ／１００ｇ）
結合剤：ポリエステル系ポリウレタン樹脂：１３重量部
（量平均分子量７１２００）
結合剤：フェノキシ樹脂：４３重量部
（平均重合度１００）
結合剤：ニトロセルロース樹脂：１０重量部
（平均重合度９０）
溶剤：メチルエチルケトン：５００重量部
トルエン：５００重量部
【００７２】
〔バック層用分散液組成ｂ３〕
無機粉末：カーボンブラック：１００重量部
（粒径８０ｎｍ、ＤＢＰ吸油量５５．０ｍｌ／１００ｇ）
結合剤：ポリエステル系ポリウレタン樹脂：１３重量部
（量平均分子量７１２００）
結合剤：フェノキシ樹脂：４３重量部
（平均重合度１００）
結合剤：ニトロセルロース樹脂：１０重量部
（平均重合度９０）
溶剤：メチルエチルケトン：５００重量部
トルエン      ：５００重量部
【００７３】
非磁性支持体上に、上記磁性層形成用の塗料を塗布し、その後、磁場配向処理を行い、所定の温度にて乾燥させて巻取った。そして、バック層用塗料を、磁性層とは反対側の面に塗布し、０．５μｍ厚のバック層を形成した。
【００７４】
バック層を形成後、９０℃にて乾燥し、さらにカレンダー処理を施した。このカレンダー処理時の線圧は５０、１００、１５０、２００、２５０〔ｋｇｆ／ｃｍ〕の５条件、温度は１００、１３０℃の２条件から、それぞれ選定して組み合わせてカレンダー処理を行った。その後硬化処理を行い、得られた広幅テープを１２ｍｍ幅にスリットし、サンプル磁気テープとした。
【００７５】
〔実施例Ｂ１〜Ｂ９〕、及び〔比較例Ｂ１、Ｂ２〕のサンプル磁気テープのバック層形成用の分散液種類、磁性層の膜厚、カレンダー処理の線圧、及びカレンダー処理温度について、それぞれ下記表４に示した。
【００７６】
【表４】
2005032383.tif 000006
【００７７】
上述したようにして作製したサンプル磁気テープについて、バック層の表面粗度ＳＲａ（ｂ）、磁性層の表面粗度ＳＲａ（ｍ）、磁性層の表面硬度Ｈ（ｓ）、バック層の表面硬度Ｈ（ｂ）、Ｃ／Ｎ特性、ドロップアウトの測定を行った。各測定方法を下記に示す。
【００７８】
〔表面粗度測定〕
商品名：Nano Scope IIIa/D-3000（ディジタルインスツルメント社製）を使用して５０×５０〔μｍ2〕の範囲を測定した。
【００７９】
〔表面硬度測定〕
径０．３μｍの球状ダイアモンド針を有する、図２に示すような構成の押し込み式硬度測定装置２０を用いて塗膜硬度測定を行った。
任意形状の磁気テープの磁性層、バック層のそれぞれを鉛直方向に針にて加重し、単位押し込み深さ〔μｍ〕当たりに針にかかる応力〔ｋｇｆ〕を算出（単位は〔ｋｇｆ／μｍ〕）して、硬度を測定した。測定結果を下記表５、表６に示した。
【００８０】
〔Ｃ／Ｎ特性測定〕
サンプル磁気テープは、記録用磁気ヘッド（ＭＩＧ 、ギャップ０．１５μｍ）を取り付けたドラムテスターを用い、１９５ｋｆｃｉ、あるいは２５０ｋｆｃｉの信号を記録後、再生出力とノイズを、スペクトラムアナライザーを用いて測定した。なお、再生用の磁気ヘッドとして、積層アモルファスヘッド及び磁気抵抗効果型ヘッド（ＡＭＲヘッド）を用いた。
再生信号から±２ＭＨｚの周波数成分の大きさをノイズレベルと定義し、ノイズ出力の再生信号出力比をＣ／Ｎ特性とした。
積層アモルファスヘッドを用いた場合の測定結果を表５に示し、表５の中から任意のサンプル磁気テープを選定して、ＭＲヘッドを用いて信号の再生を行った場合の測定結果を表６に示した。
いずれにおいても比較例Ｂ１の磁気テープを基準とし、このＣ／Ｎ値を０．０ｄＢ定義した場合の相対値を示した。
【００８１】
〔ドロップアウト測定〕
ＬＴＯ用media tester（Ｄ＆ＴＴ社製  改造機）を用いて、ドロップアウト評価を行った。磁気テープ長２０ｍ間の、テープ全幅内にあるドロップアウト数を計測し、基準テープの計数値との比(基準磁気テープを１００％とした場合の比)で表し、表５、表６に示した。なお、ドロップアウトは、上記計測装置を用い、−９ｄＢよりも大きい信号出力の劣化が、１μｍ以上続いた場合を１個として計測した。
但し、計測装置にはＭＲヘッドが搭載されていたが、ドロップアウトは、ヘッド種が誘導型、ＭＲ型を問わず同一のシステムで評価ができる。従って本測定で使用した装置がＭＲヘッド搭載型のみであっても、この評価結果は、実際のシステムが誘導型ヘッド搭載である場合の評価結果も反映している。
【００８２】
〔走行安定性〕
LTO1 Ultrium drive(Seagate社製 Viper200 改造機)を用いて、室温状態（２５℃５０％）にて走行安定性を評価した。この評価装置は、磁気記録媒体のバック層表面がガイドに非接触状態で走行するシステムである。
各々の磁気テープを用いてシャトル試験を行った。
シャトル試験においては、任意の１００ＧＢの記録部位のうち、２０ＧＢ目から５０ＧＢ目の間を、２５０００回往復させて評価を行った。走行中の磁気テープの状態を観察し、評価結果を下記表５、表６に示した。
規定回数走行中に磁気テープがガイドやヘッドに貼り付いた場合、ガイドからずれて磁気テープにダメージが生じた場合、あるいは走行中に磁気テープが破断した場合には、走行不安定とみなし×とし、実用上充分な走行安定性が得られたものを○とした。
但し、測定用ドライブにはＭＲヘッドが搭載されているものを適用したが、ここで着目する走行安定性は、ヘッド種が誘導型、ＭＲ型を問わず同一のシステムで評価ができるものである。
【００８３】
【表５】
2005032383.tif 000007
【００８４】
【表６】
2005032383.tif 000008
【００８５】
上記表５に示すように、バック層の表面粗度ＳＲａ（ｂ）をＳＲａ（ｂ）≦７．０μｍに選定した実施例Ｂ１〜Ｂ９の磁気テープにおいては、線記録密度が１９５ｋｆｃｉ以上に設定されたいずれのシステムにおいても、良好なＣ／Ｎ特性が得られ、ドロップアウトの大幅な改善が確認された。
【００８６】
磁性層の膜硬度Ｈ（ｓ）と、バック層の膜硬度Ｈ（ｂ）との比α＝Ｈ（ｓ）／Ｈ（ｂ）を１．１≦αとした実施例Ｂ５〜Ｂ８の磁気テープにおいては、線記録密度が１９５ｋｆｃｉ以上に設定されたいずれのシステムにおいても、さらに確実にＣ／Ｎ特性の向上が図られ、ドロップアウトが一層改善した。
【００８７】
一方、バック層の表面粗度ＳＲａ（ｂ）がＳＲａ（ｂ）＞７．０μｍであり、磁性層の膜硬度Ｈ（ｓ）と、バック層の膜硬度Ｈ（ｂ）との比α＝Ｈ（ｓ）／Ｈ（ｂ）が、１．１未満とした比較例Ｂ１のサンプル磁気テープにおいては、バック層側の形状が磁性層側に転写してしまい、Ｃ／Ｎ特性、ドロップアウト特性等を充分に改善することができなかった。
【００８８】
また、比較例Ｂ２においては、磁性層の膜厚が０．２５μｍよりも厚いため、高周波領域におけるＣ／Ｎ特性の劣化が確認された。
【００８９】
また、表６に示すように、本発明の磁気記録媒体に係る実施例１〜４、８、９のサンプル磁気テープにおいては、１９５ｋｆｃｉ、２５０ｋｆｃｉのいずれの記録密度においても、誘導型ヘッドを用いた場合同様に良好なＣ／Ｎ特性が得られた。
特に、バック層の膜硬度Ｈ（ｂ）との比α＝Ｈ（ｓ）／Ｈ（ｂ）が１．１≦αであり、バック層の表面粗度ＳＲａ（ｂ）がＳＲａ（ｂ）≦７．０μｍである実施例８の磁気テープにおいては、極めて優れたＣ／Ｎ特性、良好なドロップアウト特性が実現できた。
【００９０】
一方、比較例Ｂ１においては、誘導型ヘッドを用いた試験同様にＣ／Ｎ特性が劣化した。
また、比較例Ｂ２においては、磁性層の膜厚が０．２５μｍよりも厚いため、高周波領域におけるＣ／Ｎ特性の劣化が確認された。
【図面の簡単な説明】
【００９１】
【図１】本発明の磁気記録媒体の一例の概略断面図を示す。
【図２】硬度測定装置の概略斜視図を示す。
【図３】硬度測定装置の要部の概略図を示す。
【符号の説明】
【００９２】
１……非磁性支持体、２……磁性層、３……バック層、１０……磁気記録媒体、２０……硬度測定装置、２１……変位センサー、２２……荷重センサー、２３……測定器、２４……評価試料、２５……ステージ、２６……荷重台座、２７……荷重針、２８……球状部、３０……装置台座
【図１】
2005032383.tif 000009
【図２】
2005032383.tif 000010
【図３】
2005032383.tif 000011