(57)【要約】    【課題】レジストフィルタ部の内容積を低減して容易にして、確実で、しかも安全なレジスト配管の洗浄が可能なレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法を提供する。    【解決手段】  レジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、配管を有する上蓋１３に、レジストフィルタのハウジング１２より浅い凹部４２を有するキャップ４１を装着して洗浄するようにしたものである。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、
配管を有する上蓋に、レジストフィルタのハウジングより浅い凹部を有するキャップを装着して洗浄することを特徴とするレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
【請求項２】
前記キャップは、前記ハウジングより内容積を少なくするものであることを特徴とする請求項１記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
【請求項３】
前記キャップは、前記ハウジングを取り外して、該ハウジングの代わりに前記上蓋に取り付けられることを特徴とする請求項１または２に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
【請求項４】
前記キャップは、鍔部を有し、該鍔部を前記上蓋にクランプにて留めることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
【請求項５】
前記上蓋と前記鍔部との間にはＯリングを介在させることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
【請求項６】
前記キャップは、前記ハウジングの凹部内に配置させるものであることを特徴とする請求項１または２に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
【請求項７】
前記キャップは、凸部を有する台座部を持ち、該凸部は前記ハウジングが有する配管内に配置されることを特徴とする請求項６記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
【請求項８】
前記台座部と前記ハウジングとの間はＯリングが装着されることを特徴とする請求項７記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
【請求項９】
前記凹部の深さは前記配管の内径のサイズと同等程度であることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
【請求項１０】
前記上蓋の前記配管としてイン配管、及びアウト配管が設けられており、前記キャップの凹部は、洗浄の際にイン配管からアウト配管への流路を構成することを特徴とする請求項１〜５、９のいずれか１項に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
【請求項１１】
前記上蓋の前記配管として設けられるアウト配管と、前記ハウジングに設けられるイン配管とを有し、前記キャップの凹部は、洗浄の際にイン配管からアウト配管への流路を構成することを特徴とする請求項６〜９のいずれか１項に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造装置に係り、特に、レジスト塗布装置（以下、レジストコータという）のレジスト配管の洗浄方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、このような分野の技術としては、例えば、以下に示すようなものがあった。
【０００３】
図４はかかる従来のレジストコータ内のレジスト配管システムの全体構成図、図５はその第１のレジストフィルタの構成図、図６はその第２のレジストフィルタの構成図である。
【０００４】
図４に示すように、レジストコータ内のレジスト配管システムは、加圧されたＮ2 ガスを通すフィルタ１、ガロン瓶２（レジスト瓶、シンナ瓶、空瓶等）、残量センサタンク３、ボールバルブ４、ポンプ５、ドレインタンク６、ニードルバルブ７、レジストフィルタ８、エア弁及びサックバックユニット９、ノズル１０とを有している。
【０００５】
このように、レジスト配管システムでは、レジストフィルタ８が設けられており、ポンプ５から排出されるレジストを濾過するようにしている。
【０００６】
そのレジストフィルタ８は、第１の例としては、図５に示すように、カートリッジ１１、ハウジング１２、上蓋１３、Ｏリング１４、クランプ（留め具）１５、イン配管１６、アウト配管１７、ドレイン配管１８を有している。
【０００７】
また、そのレジストフィルタ８は、第２の例としては、図６に示すように、イン配管１６Ａが上蓋１３側になく、ハウジング１２の下方に設置されている場合がある。
【０００８】
そのレジストフィルタの交換時のレジスト配管の洗浄方法は次の通りである（図４参照）。
【０００９】
使用済のフィルタ８を取外した後、空のフィルタハウジングを取付け、ガロン瓶２として、レジスト瓶の代わりにシンナ瓶を接続し、これをＮ2 ガスでの加圧によりレジスト配管９Ａに流し込み、ノズル１０から出す。吐出される液の色からレジスト色が消えて、シンナの無色透明になるまでシンナを流し続けてレジスト配管９Ａを洗浄する。洗浄が終了したら、ガロン瓶２として空瓶を接続し、これをＮ2 ガスで加圧して、レジスト配管９Ａ内に残存するシンナをノズル１０から押し出す。
【特許文献１】なし
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、上記した従来の装置では、シンナによるレジスト配管洗浄時に次の問題点があった。
【００１１】
フィルタを外した後に空のハウジングを取付けているため、シンナを流し込んだ際に、一定量のシンナがハウジング内に溜まる。従って、
（１）ハウジング内に溜まったシンナの置換が迅速に行われず、洗浄に多量のシンナが必要となる。
【００１２】
（２）ハウジング内に溜まったシンナは、洗浄後のＮ2 ガス加圧によっても完全に排除できず、ハウジング内に残り、ハウジング取外し時にこぼれ出る等の作業性の障害となる。
【００１３】
本発明は、上記問題点を除去し、レジストフィルタ部の内容積を低減して容易にして、確実で、しかも安全なレジスト配管の洗浄が可能なレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は、上記目的を達成するために、
〔１〕レジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、
配管を有する上蓋に、レジストフィルタのハウジングより浅い凹部を有するキャップを装着して洗浄することを特徴とする。
【００１５】
〔２〕上記〔１〕記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、前記キャップは、前記ハウジングより内容積を少なくするものであることを特徴とする。
【００１６】
〔３〕上記〔１〕または〔２〕に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、前記キャップは、前記ハウジングを取り外して、該ハウジングの代わりに前記上蓋に取り付けられることを特徴とする。
【００１７】
〔４〕上記〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、前記キャップは、鍔部を有し、該鍔部を前記上蓋にクランプにて留めることを特徴とする。
【００１８】
〔５〕上記〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、前記上蓋と前記鍔部との間にはＯリングを介在させることを特徴とする。
【００１９】
〔６〕上記〔１〕または〔２〕に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、前記キャップは、前記ハウジングの凹部内に配置させるものであることを特徴とする。
【００２０】
〔７〕上記〔６〕記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、前記キャップは、凸部を有する台座部を持ち、該凸部は前記ハウジングが有する配管内に配置されることを特徴とする。
【００２１】
〔８〕上記〔７〕記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、前記台座部と前記ハウジングとの間はＯリングが装着されることを特徴とする。
【００２２】
〔９〕上記〔１〕〜〔８〕のいずれか１項に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、前記凹部の深さは前記配管の内径のサイズと同等程度であることを特徴とする。
【００２３】
〔１０〕上記〔１〕〜〔５〕、〔９〕のいずれか１項に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、前記上蓋の前記配管としてイン配管、及びアウト配管が設けられており、前記キャップの凹部は、洗浄の際にイン配管からアウト配管への流路を構成することを特徴とする。
【００２４】
〔１１〕上記〔６〕〜〔９〕のいずれか１項に記載のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法において、前記上蓋の前記配管として設けられるアウト配管と、前記ハウジングに設けられるイン配管とを有し、前記キャップの凹部は、洗浄の際にイン配管からアウト配管への流路を構成することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、以下のような効果を奏することができる。
【００２６】
〔Ａ〕レジストフィルタのハウジングに代えて、浅い凹部を有するキャップを装着して、内容積を必要かつ十分に小さくすることによって、シンナが流された場合、過剰なシンナがキャップ内に溜まることがない。
【００２７】
従って、シンナはイン配管からアウト配管またはドレイン配管へ連続的に滞留なく流れるようになる。
【００２８】
これによって、シンナの置換は促進され、洗浄に要するシンナの量及び作業時間が削減される。
【００２９】
さらに、洗浄が終了し、Ｎ2 ガス圧送により配管内のシンナを排出した後にも、キャップ内にはシンナの残りはなく、キャップを取外してもシンナがこぼれ出るといった不具合が生じず、作業（安全）性の向上を図ることができる。
【００３０】
〔Ｂ〕ハウジング内にレジスト配管洗浄用治具（アダプタ）を装着したことによって、上記〔Ａ〕と同様に、シンナの滞留スペースをなくすことができ、同等の効果を奏することができる。
【００３１】
つまり、イン配管がハウジングの底側に設置してあるために、ハウジング自体を用いざるを得ない場合に、レジスト配管の洗浄時のハウジング内の内容積を低減することができ、シンナの滞留スペースをなくすことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
本発明のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法は、配管を有する上蓋に、レジストフィルタのハウジングより浅い凹部を有するキャップを装着して洗浄することを特徴とする。
【実施例】
【００３３】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
【００３４】
図１は本発明の第１実施例を示すレジスト配管洗浄用治具の断面図である。
【００３５】
この実施例では、通常のレジストフィルタを構成するハウジング１２（図５参照）の代わりに、内容積を減少させるために、レジスト配管洗浄用治具として凹部２２の深さが浅いキャップ２１を用いる。材質はテフロン（登録商標）等の耐薬品性のものを使用する。
【００３６】
このキャップ２１と上蓋１３との接触部２３の形状、寸法は、従来のハウジング１２と全く同等とする。上蓋１３とキャップ２１の鍔部２４はＯリング１４でシールされ、クランプ１５で留める。このＯリング１４及びクランプ１５の構造は従来のもの（図５参照）と同じである。
【００３７】
キャップ２１の凹部２２の深さｄ（隙間）は、イン配管１６から入ったシンナがアウト配管１７、ドレイン配管１８の両配管へ流れ出る径路であり、ある程度の幅が必要であるが、広すぎるとシンナの溜まりが増え、置換効率が悪くなるため、例えば、イン配管１６、アウト配管１７、ドレイン配管１８等の配管の内径サイズと同等程度の５ｍｍ前後とする。
【００３８】
そこで、図４に示したレジスト配管全体を洗浄する場合、レジストフィルタにおいて図５に示したカートリッジ１１及びハウジング１２を取外し、図１に示したキャップ２１の鍔部２４にＯリング１４を装着し、キャップ２１の鍔部２４を上蓋１３にクランプ１５で留めて取付ける。
【００３９】
次に、図４に示すガロン瓶２にシンナの入った瓶を接続し、このシンナ瓶内をＮ2 ガスで加圧する。圧送されたシンナは、各部を通過し、レジストフィルタ８を経由してノズル１０から吐出される。
【００４０】
レジストフィルタ８では、図１に示すイン配管１６からシンナが入り、アウト配管１７から流出する。ドレイン配管１８からは、図４に示すニードルバルブ７を開いた場合にのみシンナが流出する。
【００４１】
洗浄が終了したら、図４に示すガロン瓶２に空瓶を接続し、これをＮ2 ガスで加圧し、配管全体にＮ2 ガスを圧送する。これにより、レジスト配管内に残存するシンナをノズル１０から吐出及びニードルバルブ７を通してドレインタンク６へ排出する。
【００４２】
以上のように、第１実施例によれば、キャップ２１によってレジストフィルタ８の内容積を必要かつ十分に小さくしたことによって、シンナを流しても、過剰なシンナがキャップ２１内に溜まることがない。
【００４３】
従って、シンナはイン配管１６からアウト配管１７、またはドレイン配管１８へ連続的に滞留なく流れるようになる。
【００４４】
これによって、シンナの置換は促進され、洗浄に要するシンナの量及び作業時間が削減されるという効果が得られる。
【００４５】
さらに、洗浄が終了し、Ｎ2 ガス圧送により配管内のシンナを排出した後にも、キャップ内にはシンナの残りはなく、キャップを取外してもシンナがこぼれ出るといった不具合が生じず、作業（安全）性の向上を図ることができる。
【００４６】
次に、本発明の第２実施例について説明する。
【００４７】
図２は本発明の第２実施例を示すレジスト配管洗浄用治具の断面図、図３はそのレジスト配管洗浄用治具の斜視図である。
【００４８】
レジストフィルタは、図５に示すもの以外に、図６に示すようにイン配管１６Ａが上蓋１３側になく、ハウジング１２の下方に設置されている場合がある。この場合には、この実施例に示すレジスト配管洗浄用治具（アダプタ）４０を使用する。
【００４９】
このレジスト配管洗浄用治具（アダプタ）４０は、ハウジング１２内にセットされ、下方に配置される台座部４４とパイプ４３を介して上方に配置される第１実施例で示したキャップ２１と同様の構造のキャップ４１を有する。すなわち、そのキャップ４１は深さが浅い凹部４２を形成し、その深さｄ（隙間）を確保されている。また、パイプ４３の下端は台座部４４から下方に突出し、凸部４５を形成している。
【００５０】
そこで、レジスト配管洗浄用治具（アダプタ）４０の台座部４４から突出した凸部４５を、ハウジング１２のイン配管１６Ａに差し込み、凸部４５の根元には、Ｏリング４６を装着しシールする。
【００５１】
一方、レジスト配管洗浄用治具（アダプタ）４０の上方には、キャップ４１が配置される。すなわち、そのキャップ４１は深さの浅い凹部４２を形成し、その深さｄ（隙間）を確保し、Ｏリング４７でシールする。このキャップ４１上端の高さはハウジング１２の高さと同一に揃える。
【００５２】
このように、台座部４４とキャップ４１とはパイプ４３でつながっており、このパイプ４３の径はイン配管１６Ａと同等とする。
【００５３】
このように構成したので、レジスト配管の洗浄のために流されたシンナは、ハウジング１２下方のイン配管１６Ａから流入し、レジスト配管洗浄用治具（アダプタ）４０の下方の凸部４５の口からレジスト配管洗浄用治具（アダプタ）４０の内に入る。そして、パイプ４３内を通り上方に上がったシンナは、アウト配管１７及びドレイン配管１８へと流出する。
【００５４】
他の基本的な動作は全て第１実施例と同等である。
【００５５】
以上のように、第２実施例によれば、ハウジング１２内にレジスト配管洗浄用治具（アダプタ）４０を装着したことによって、第１実施例と同様に、シンナの滞留スペースをなくすことができ、第１実施例と全く同等の効果を奏することができる。
【００５６】
また、イン配管１６Ａがハウジング１２側に設置してあるために、ハウジング１２自体を用いざるを得ない場合に、ハウジング１２内のスペースを低減することができる。
【００５７】
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これらを本発明の範囲から排除するものではない。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
本発明のレジスト塗布装置のレジスト配管の洗浄方法は、半導体デバイスの製造に利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の第１実施例を示すレジスト配管洗浄用治具の断面図である。
【図２】本発明の第２実施例を示すレジスト配管洗浄用治具の断面図である。
【図３】本発明の第２実施例を示すレジスト配管洗浄用治具の斜視図である。
【図４】従来のレジストコータ内のレジスト配管システムの全体構成図である。
【図５】従来のレジストコータ内のレジスト配管システムの第１のレジストフィルタの構成図である。
【図６】従来のレジストコータ内のレジスト配管システムの第２のレジストフィルタの構成図である。
【符号の説明】
【００６０】
２    ガロン瓶
６    ドレインタンク
７    ニードルバルブ
８    レジストフィルタ
１０    ノズル
１１    カートリッジ
１２    ハウジング
１３    上蓋
１４，４６，４７    Ｏリング
１５    クランプ
１６，１６Ａ    イン配管
１７    アウト配管
１８    ドレイン配管
２１，４１    キャップ
２２，４２    凹部
２３    接触部
２４    鍔部
４０    レジスト配管洗浄用治具（アダプタ）
４３    パイプ
４４    台座部
４５    凸部
【図１】
2005305435.tif 000003
【図２】
2005305435.tif 000004
【図３】
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【図４】
2005305435.tif 000006
【図５】
2005305435.tif 000007
【図６】
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