(57)【要約】【課題】  大型基板やタイリング基板等の基板サイズを採用した場合であっても高精度の液滴吐出動作を実現して十分な吐出精度を得ることが可能となると共に、基板上に描画された機能層の乾燥ムラを抑制し、均一な膜質の機能層を形成することが可能となる液滴吐出装置、及び液滴吐出方法を提供する。【解決手段】  吐出ヘッド２０と基板Ｐとを相対移動させながら、基板Ｐ上にパターンを形成する描画手段１４、１６と、基板Ｐ上のアライメント情報を取得する撮像手段２４と、当該アライメント情報に応じて、吐出ヘッド２０及び基板Ｐの相対位置を決定する位置決め手段１４、１６と、制御手段ＣＯＮＴとを備え、撮像手段２４は、アライメント情報によって一括取得されたアライメント情報に基づき、制御手段ＣＯＮＴが位置決め手段１４、１６と描画手段１４、１６を動作させて、描画領域の各々にパターンを形成することを特徴とする。【選択図】  図１
2005288412.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体材料が充填された吐出ヘッドと基板とを相対移動させながら、前記基板上の描画領域に前記液体材料のパターンを形成する描画手段と、
前記基板上の複数のアライメントマークを撮像してアライメント情報を取得する撮像手段と、
当該アライメント情報に応じて、前記吐出ヘッド及び前記基板の相対位置を決定する位置決め手段と、
前記描画手段、前記撮像手段、及び前記位置決め手段を制御する制御手段と、
を備え、
前記撮像手段は、前記基板上の前記アライメント情報を一括して取得し、
前記制御手段は、当該一括して取得されたアライメント情報に基づき、複数の前記描画領域の各々において前記位置決め手段と前記描画手段を動作させて、前記描画領域の各々に前記パターンを形成することを特徴とする液滴吐出装置。
【請求項２】
前記撮像手段を複数備えることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
【請求項３】
前記撮像手段は、前記基板上の前記アライメントマークに対応する位置に固定されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の液滴吐出装置。
【請求項４】
前記撮像手段は、前記基板上の前記アライメントマークに対応する位置に移動可能となっていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の液滴吐出装置。
【請求項５】
前記制御手段は、前記アライメント情報を演算処理し、前記吐出ヘッドと前記基板の相対位置データを作成することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれかに記載の液滴吐出装置。
【請求項６】
液体材料が充填された吐出ヘッドと基板とを相対移動させながら、前記基板上の描画領域に前記液体材料のパターンを形成する描画工程と、
前記基板上の複数のアライメントマークを撮像してアライメント情報を取得する撮像工程と、
当該アライメント情報に応じて、前記吐出ヘッド及び前記基板の相対位置を決定する位置決め工程と、
を含み、
前記撮像工程は、前記基板上の前記アライメント情報を一括して取得し、
当該一括して取得されたアライメント情報に基づき、複数の前記描画領域の各々において前記位置決め工程と前記描画工程を行い、前記描画領域の各々に前記パターンを形成することを特徴とする液滴吐出方法。
【請求項７】
前記基板は、複数の前記描画領域を有していることを特徴とする請求項６に記載の液滴吐出方法。
【請求項８】
前記基板は、前記描画領域を有する複数の描画基板と、当該複数の描画基板を支持する支持基板とからなることを特徴とする請求項６に記載の液滴吐出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出装置、及び液滴吐出方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話機、携帯型コンピュータなどといった電子機器の表示部として、液晶装置、有機エレクトロルミネッセンス装置等が用いられている。例えば、液晶装置においては、ガラス、プラスチック等からなる基板の表面に、各種の機能層が形成されている。例えば、機能層としてカラーフィルタを基板上に形成する場合には、赤、緑、青のドット状の各色フィルタエレメントを所謂ストライプ配列、デルタ配列又はモザイク配列等といった所定の配列で並べることにより、当該カラーフィルタを形成している。
【０００３】
最近では、このようなカラーフィルタを始めとする機能層の形成方法として、インクジェット装置を用いる方法が提案されている。当該インクジェット装置においては、例えば、赤、緑、青の各色素の液滴が充填されたインクジェットヘッドをスキャンしながら、ガラス基板上に各液滴を吐出することにより、容易にカラーフィルタを製造することが可能となる。また、インクジェット装置及びインクジェット方法の応用範囲は、カラーフィルタの製造工程だけでなく、金属材料を含む液体を所定パターンで描画して金属配線を形成する工程や、発光材料や正孔注入材料を含む液体材料を描画して画素を形成する工程においても利用可能である。即ち、インクジェット装置は、分散液や溶液に対して分散又は溶解する機能性材料であれば各種機能層の製造工程に適用可能である。
【０００４】
このようなインクジェット装置においては、インクジェット描画時の精度を向上させるために、インクジェットヘッド組み立て精度やノズル位置検出を精密にする方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
一方、インクジェット装置においては、基板上のアライメントマークを撮像して得られたアライメント情報に基づいて、液滴吐出を行い、基板上にパターンを形成している。例えば、図１０に示すように、基板２００上の複数の描画領域２０１〜２０４に各々パターンを形成するには、図１１のフローチャート図に示すような工程を経て、各描画領域にパターンを形成している。
【０００６】
具体的には、まず、第１描画領域２０１のアライメントマーク２０１ａを撮像してアライメント情報を取得（ステップＳ１０１）し、当該アライメント情報に基づいて吐出ヘッドと基板２００の相対位置を概ね合わせることにより、ラフ位置を調整（ステップＳ１０２）し、更に精密に位置を調整（ステップＳ１０３）し、液滴吐出／描画（ステップＳ１０４）を行って、第１描画領域２０１にパターンを形成する。その後、第２描画領域２０２のアライメントマーク２０２ａを撮像してアライメント情報を取得（ステップＳ１０５）し、当該アライメント情報に基づいて吐出ヘッドと基板２００の相対位置を概ね合わせることにより、ラフ位置を調整（ステップＳ１０６）し、更に精密に位置を調整（ステップＳ１０７）し、液滴吐出／描画（ステップＳ１０８）を行って、第２描画領域２０２にパターンを形成する。
このような動作を第３及び第４描画領域においても同様に連続して行う（ステップＳ１０９〜ステップＳ１１６）ことにより、第１〜第４描画領域２０１〜２０４に順次パターを形成している。
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−９０９０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記特許文献に記載された技術においては、インクジェット装置のステージ精度が不十分であり、十分な精度で液滴を吐出することができないという問題があった。更に、大型基板やタイリング基板に対して描画する場合、十分な精度を得ることができず、目的の画素内に吐出インクを吐出することができないという問題があった。
【０００９】
また、インクジェット装置においては、溶媒を含有する液体材料を基板上に吐出／描画し、溶媒を乾燥させて基板上にパターンを形成しているので、図１１に示すような動作を行うと、他の描画領域よりも先に液体材料が塗布された描画領域（例えば、第１描画領域）において、液体材料が先に乾燥してしまい、基板２上において乾燥ムラが生じてしまう。このような乾燥ムラは、カラーフィルタ等の機能層の膜厚バラツキを招いてしまうという問題があった。このような膜厚バラツキは、基板サイズが大きい程、面内の膜厚均一性を得ることが困難になるという問題があった。また、アライメント情報取得（ステップＳ１０５）により液滴吐出を長時間中断させると、液体材料に含まれる固形物がインクジェット装置のノズル面に付着し吐出不良を発生させる虞がある。
【００１０】
例えば、機能層の一例として、カラーフィルタの膜厚バラツキが生じた場合には、複数の着色層の色バランスが不均一になってしまうという問題があった。また、機能層の一例として、金属配線パターンの膜厚バラツキが生じた場合には、金属抵抗が不均一になってしまうという問題があった。また、機能層の一例として、発光材料や正孔注入材料等からなる発光機能層の膜厚バラツキが生じた場合には、発光特性や発光寿命が不均一になってしまうという問題があった。
従って、基板上において各種機能性材料の乾燥ムラが生じてしまうことによって、インクジェット装置を利用して形成される各種機能層の膜厚バラツキを招き、当該機能層の性能劣化を招くという問題があった。
【００１１】
本発明は、上述の課題に鑑み創案されたもので、大型基板やタイリング基板等の基板サイズを採用した場合であっても高精度の液滴吐出動作を実現して十分な吐出精度を得ることが可能となると共に、基板上に描画された機能層の乾燥ムラを抑制し、均一な膜質の機能層を形成することが可能となる液滴吐出装置、及び液滴吐出方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
本発明の液滴吐出装置は、液体材料が充填された吐出ヘッドと基板とを相対移動させながら、前記基板上の描画領域に前記液体材料のパターンを形成する描画手段と、前記基板上の複数のアライメントマークを撮像してアライメント情報を取得する撮像手段と、当該アライメント情報に応じて、前記吐出ヘッド及び前記基板の相対位置を決定する位置決め手段と、前記描画手段、前記撮像手段、及び前記位置決め手段を制御する制御手段と、を備え、前記撮像手段は、前記基板上の前記アライメント情報を一括して取得し、前記制御手段は、当該一括して取得されたアライメント情報に基づき、複数の前記描画領域の各々において前記位置決め手段と前記描画手段を動作させて、前記描画領域の各々に前記パターンを形成することを特徴としている。
【００１３】
ここで、上記背景技術と本発明について説明すると、背景技術においては、複数の描画領域の各々を形成する前に、アライメント情報を取得し、更に、吐出ヘッドと基板の相対位置をラフに調整している。即ち、描画動作の前に複数の予備動作を行っている。従って、背景技術においては、このような予備動作時間が累積することにより、基板上の全ての描画領域にパターンを形成するまでの時間が多くかかってしまい、これに起因して、先にパターンが形成された描画領域において液体材料が先に乾燥してしまい、基板全体として、乾燥ムラが生じていた。
これに対して、本発明においては、描画領域にパターンを形成する前に、撮像手段が一括してアライメント情報を取得し、当該アライメント情報に基づいて制御手段が位置決め手段と描画手段を動作させて、複数の描画領域の各々にパターンを形成している。特に、本発明では、アライメント情報が一括して取得されているので、複数の描画領域の各々において、吐出ヘッドと基板の位置決めを行うためのアライメント情報を取得する必要がなく、当該アライメント情報を取得する動作を省くことができる。
【００１４】
また、撮像手段によって一括してアライメント情報が取得されていることから、一つの描画領域においてパターンが形成された後に、他の描画領域におけるアライメント情報を取得する必要がない。従って、一つの描画領域のパターンが形成された後に、他の描画領域にパターンを形成する前に、位置決め動作のみを行うだけよく、その後、描画動作を行うことによって当該他の描画領域にパターンを形成することができる。
【００１５】
このようにすれば、背景技術と比較して、各描画領域にパターンを描画する前の予備動作時間の合計が極めて少なくなるので、基板上の乾燥ムラを抑制することができる。従って、液滴吐出装置を用いて形成される機能層において、均一な膜厚を達成することができる。また、基板サイズが大きい程、膜厚のバラツキが生じやすい傾向があるが、本発明によって、大型基板においても膜厚均一性を達成することができる。また、液滴吐出を中断させアライメント情報取得を行う必要がないため、液体材料に含まれる固形物のノズル面への付着を低減させることができる。
【００１６】
更に、描画領域に形成されたパターンがカラーフィルタである場合には、均一な膜厚でカラーフィルタを形成することができるので、複数の着色層の色バランスを均一にすることができる。また、描画領域に形成されたパターンが金属配線パターンである場合には、金属抵抗を均一にすることができる。また、描画領域に形成されたパターンが発光材料や正孔注入材料等からなる発光機能層である場合には、発光特性や発光寿命を均一にすることができる。また、各種機能性材料からなるパターンを形成する場合においても、各種機能層の膜厚バラツキを抑制し、当該機能層の性能劣化を抑制することができる。
【００１７】
また、本発明は、アライメントマークを撮像し、当該アライメント情報に基づいて、描画動作を行っているので、上記特許文献と比較して高精度にパターンを形成することができる。また、大型基板やタイリング基板等の基板サイズを採用した場合であっても描画動作を高精度に行うことができるので、十分な吐出精度を得ることができる。
【００１８】
また、このようにアライメントマークを一括して撮像することによって、アライメント情報が取得されるので、全てのアライメントマーク間の距離を測定することができる。従って、基板の伸び縮みがあった場合でも、当該アライメント情報に基づいて位置決め動作及び描画動作が行われるので、高精度にパターンを形成することができる。
【００１９】
また、前記液滴吐出装置においては、前記撮像手段を複数備えることを特徴としている。
ここで、一つの撮像手段では、複数のアライメントマークを一括して撮像することによって、高精度のアライメント情報を取得することが難しい。これは、一つの撮像手段で複数のアライメントマークを撮像するには、当該撮像手段の倍率を低下させて、広範囲に基板上を撮像しなければならないため、必然的に高精度のアライメント情報を取得することができない。
これに対し、本発明では、複数の撮像手段を備えるので、基板上の複数のアライメントマークを撮像することができる。従って、基板上の複数のアライメントマークを一括して撮像することが可能となり、複数の撮像手段によるアライメント情報を取得することができる。
また、複数のアライメントマークの各々に対応させて、複数の撮像手段を有することにより、各撮像手段が一つのアライメントマークのみを撮像すればよいので、高倍率で各アライメントマークを撮像することができる。従って、高精度に位置決めを行うことができる。
【００２０】
また、前記液滴吐出装置においては、前記撮像手段は前記基板上の前記アライメントマークに対応する位置に固定されていることを特徴としている。
このようにすれば、液滴吐出装置に固定された撮像手段によって、基板上のアライメントマークを撮像することができる。従って、複数の基板における同一位置にアライメントマークが形成されている場合において、各基板のアライメントマークを一括して撮像することが可能となり、アライメント情報を取得することができる。
このように、固定された撮像手段を備える液滴吐出装置は、同一のアライメントマークが形成されている複数の基板にパターンを描画する単品種大量生産において、特に有効である。
【００２１】
前記液滴吐出装置においては、前記撮像手段は前記基板上の前記アライメントマークに対応する位置に移動可能となっていることを特徴としている。
このようにすれば、液滴吐出装置に移動可能となっている撮像手段によって、基板上のアライメントマークを撮像することができる。従って、複数の基板において各基板のアライメントマークの位置が異なる場合に、当該アライメントマークに対応して撮像手段を移動させて、各基板のアライメントマークを一括して撮像することが可能となり、アライメント情報を取得することができる。
このように、移動可能な撮像手段を備える液滴吐出装置は、異なる位置にアライメントマークが形成されている複数の基板の各々にパターンを描画する多品種少量生産において、特に有効である。
【００２２】
また、前記液滴吐出装置においては、前記制御手段は、前記アライメント情報を演算処理し、前記吐出ヘッドと前記基板の相対位置データを作成することを特徴としている。
このように、制御手段がアライメント情報の基づいた相対位置データを作成するので、当該相対位置データに基づいて位置決め工程を行うことができる。また、このような演算処理を行うことにより、一括して取得されたアライメント情報から複数の描画領域の相対位置データを一括して演算することができる。従って、当該一括して演算された相対位置データに基づいて、複数の描画領域の各々における位置決め工程を行うことができる。
【００２３】
また、本発明の液滴吐出方法は、液体材料が充填された吐出ヘッドと基板とを相対移動させながら、前記基板上の描画領域に前記液体材料のパターンを形成する描画工程と、前記基板上の複数のアライメントマークを撮像してアライメント情報を取得する撮像工程と、当該アライメント情報に応じて、前記吐出ヘッド及び前記基板の相対位置を決定する位置決め工程と、を含み、前記撮像工程は、前記基板上の前記アライメント情報を一括して取得し、当該一括して取得されたアライメント情報に基づき、複数の前記描画領域の各々において前記位置決め工程と前記描画工程を行い、前記描画領域の各々に前記パターンを形成することを特徴としている。
【００２４】
このようにすれば、描画領域にパターンを形成する前に、撮像工程によって一括してアライメント情報を取得し、当該アライメント情報に基づいて位置決め工程と描画工程を行い、複数の描画領域の各々にパターンを形成している。特に、本発明では、アライメント情報が一括して取得されているので、複数の描画領域の各々において、吐出ヘッドと基板の位置決めを行うためのアライメント情報を取得する必要がなく、当該アライメント情報を取得する動作を省くことができる。
また、撮像手段によって一括してアライメント情報が取得されていることから、一つの描画領域においてパターンが形成された後に、他の描画領域におけるアライメント情報を取得する必要がない。従って、一つの描画領域のパターンが形成された後に、他の描画領域にパターンを形成する前に、位置決め動作のみを行うだけよく、その後、描画動作を行うことによって当該他の描画領域にパターンを形成することができる。
このようにすれば、背景技術と比較して、各描画領域にパターンを描画する前の予備工程の合計時間が極めて少なくなるので、基板上の乾燥ムラを抑制することができる。従って、液滴吐出装置を用いて形成される機能層において、均一な膜厚を達成することができる。また、基板サイズが大きい程、膜厚のバラツキが生じやすい傾向があるが、本発明によって、大型基板においても膜厚均一性を達成することができる。
【００２５】
更に、描画領域に形成されたパターンがカラーフィルタである場合には、均一な膜厚でカラーフィルタを形成することができるので、複数の着色層の色バランスを均一にすることができる。また、描画領域に形成されたパターンが金属配線パターンである場合には、金属抵抗を均一にすることができる。また、描画領域に形成されたパターンが発光材料や正孔注入材料等からなる発光機能層である場合には、発光特性や発光寿命を均一にすることができる。また、各種機能性材料からなるパターンを形成する場合においても、各種機能層の膜厚バラツキを抑制し、当該機能層の性能劣化を抑制することができる。
【００２６】
また、本発明は、アライメントマークを撮像し、当該アライメント情報に基づいて、描画工程を行っているので、上記特許文献と比較して高精度にパターンを形成することができる。また、大型基板やタイリング基板等の基板サイズを採用した場合であっても描画工程を高精度に行うことができるので、十分な吐出精度を得ることができる。
【００２７】
また、前記液滴吐出方法においては、前記基板は、複数の前記描画領域を有していることを特徴としている。
ここで、例えば、基板が第１〜第４の描画領域を有している場合には、上記のように撮像手段が一括してアライメントマークを撮像してアライメント情報を取得しているので、第２〜第４の描画領域にパターンを描画する前に、アライメントマークを撮像する必要がなく、また、位置決め動作を行う際に、吐出ヘッドと基板の相対位置をラフに調整する必要がない。従って、液滴吐出装置の動作を簡略化することができる。また、吐出ヘッドと基板の相対位置を高精度に決定することができる。
従って、第２〜第４の各描画領域にパターンを形成する前に、位置決め動作のみを行うだけよく、その後、各描画領域に描画動作を行うことによって、第２〜第４の各描画領域の各々にパターンを形成することができる。
このように、第２〜第４の各描画領域にパターンを形成する際に、パターンを描画する前の予備動作時間の合計が極めて少なくなるので、基板上の乾燥ムラを抑制することができる。従って、液滴吐出装置を用いて形成される機能層において、均一な膜厚を達成することができる。また、基板サイズが大きい程、膜厚のバラツキが生じやすい傾向があるが、本発明によって、大型基板においても膜厚均一性を達成することができる。
【００２８】
また、前記液滴吐出方法においては、前記基板は、前記描画領域を有する複数の描画基板と、当該複数の描画基板を支持する支持基板とからなることを特徴としている。
ここで、本発明は、複数の基板が貼り合わされたタイリング基板にパターンを形成するものであり、本発明において、「支持基板」とは、先に記載した「基板」に相当し、また、「描画基板」とは、先に記載した「描画領域」に相当している。
【００２９】
従って、例えば、支持基板が第１〜第４の描画基板を有している場合には、撮像手段が一括してアライメントマークを撮像し、アライメント情報を取得しているので、第２〜第４の描画基板にパターンを描画する前に、アライメントマークを撮像する必要がなく、また、位置決め動作を行う際に、吐出ヘッドと支持基板の相対位置をラフに調整する必要がない。従って、液滴吐出装置の動作を簡略化することができる。また、吐出ヘッドと支持基板の相対位置を高精度に決定することができる。
従って、第２〜第４の各描画基板にパターンを形成する前に、位置決め動作のみを行うだけよく、その後、各描画基板に描画動作を行うことによって、第２〜第４の各描画基板の各々にパターンを形成することができる。
【００３０】
このように、第２〜第４の各描画基板にパターンを形成する際に、パターンを描画する前の予備動作時間の合計が極めて少なくなるので、支持基板上の乾燥ムラを抑制することができる。従って、液滴吐出装置を用いて形成される機能層において、均一な膜厚を達成することができる。また、タイリング基板にパターンを描画する場合においては、支持基板サイズが大きい程、膜厚のバラツキが生じやすい傾向があるが、本発明によって大型のタイリング基板においても膜厚均一性を達成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明を詳しく説明する。
本実施形態は、本発明の一部の態様を示すものであり、本発明を限定するものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。また、本発明の技術範囲は本実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた装置構成等は、ほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
【００３２】
（液滴吐出装置の第１実施形態）
図１は、本発明の実施形態に係る液滴吐出装置の構成を示す斜視図である。
図１において、図１（ａ）は液滴吐出装置の平面図、図１（ｂ）は液滴吐出装置の側面図である。
図１に示すように液滴吐出装置１は、ベース１２と、ベース１２上で基板Ｐを支持するステージＳＴと、ベース１２とステージＳＴとの間に介在し、ステージＳＴを移動可能に支持する第１移動装置（位置決め手段、描画手段）１４と、ステージＳＴに支持されている基板Ｐに対して所定の液体材料材料を吐出可能な吐出ヘッド（描画手段）２０と、吐出ヘッド２０を移動可能に支持する第２移動装置（位置決め手段、描画手段）１６と、吐出ヘッド２０から吐出される液体材料が貯蔵されたタンク６３と、吐出ヘッド２０の液体材料の吐出動作を制御する制御装置（制御手段）ＣＯＮＴと、アライメントカメラ（撮像手段）２４とを具備した構成となっている。
また、液滴吐出動作を行うために吐出ヘッド２０へ供給する駆動信号の作成、第１移動装置１４及び第２移動装置１６の駆動制御、アライメントカメラ２４の撮像動作及び撮像した画像の処理等、を含む液滴吐出装置１の動作は、制御装置ＣＯＮＴによって制御される。
【００３３】
第１移動装置１４はベース１２の上に設置されており、Ｙ軸方向に沿って位置決めされている。第２移動装置１６は、支柱１６Ａ、１６Ａと、サイドフレーム１６Ｂ、１６Ｂを用いてベース１２に対して立てて取り付けられており、ベース１２の後部１２Ａにおいて取り付けられている。第２移動装置１６のＸ軸方向は、第１移動装置１４のＹ軸方向と直交する方向である。ここで、Ｙ軸方向はベース１２の前部１２Ｂと後部１２Ａ方向に沿った方向である。これに対してＸ軸方向はベース１２の左右方向に沿った方向であり、各々水平である。また、Ｚ軸方向はＸ軸方向及びＹ軸方向に垂直な方向である。
【００３４】
第１移動装置１４は、例えばリニアモータによって構成され、ガイドレール４０、４０と、このガイドレール４０に沿って移動可能に設けられているスライダー４２（位置決め手段）とを備えている。ここで、スライダー４２はステージ４２の底部に設けられている。このリニアモータ形式の第１移動装置１４のスライダー４２は、ガイドレール４０に沿ってＹ軸方向に移動して位置決め可能である。
【００３５】
また、スライダー４２はＺ軸回り（θＺ）用のモータ４４を備えている。このモータ４４は、例えばダイレクトドライブモータであり、モータ４４のロータはステージＳＴに固定されている。これにより、モータ４４に通電することでロータとステージＳＴとは、θＺ方向に沿って回転してステージＳＴをインデックス（回転割り出し）することができる。すなわち、第１移動装置１４は、ステージＳＴをＹ軸方向及びθＺ方向に移動可能である。
【００３６】
ステージＳＴは基板Ｐを保持し、所定の位置に位置決めするものである。また、ステージＳＴは吸着保持装置（不図示）を有しており、吸着保持装置が作動することによって、ステージＳＴの穴を通して基板ＰをステージＳＴの上に吸着して保持する。
【００３７】
第２移動装置１６はリニアモータによって構成され、支柱１６Ａ、１６Ａに固定されたガイドレール６２Ａと、ガイドレール６２Ａに沿ってＸ軸方向に移動可能に支持されているスライダー６０とを備えている。スライダー６０はガイドレール６２Ａに沿ってＸ軸方向に移動して位置決め可能であり、吐出ヘッド２０はスライダー６０に取り付けられている。従って、吐出ヘッド２０はＸ軸方向に移動可能となっている。
【００３８】
吐出ヘッド２０は、揺動位置決めモータを有しており、当該モータが作動することで、吐出ヘッド２０はＺ軸に沿って上下動して位置決め可能となっている。このＺ軸はＸ軸とＹ軸に対して各々直交する方向（上下方向）である。また、吐出ヘッド２０は、Ｙ軸回りのθＹ方向、Ｘ軸回りのθＸ方向、Ｚ軸回りのθＺ方向に揺動して位置決め可能となっている。即ち、第２移動装置１６は、吐出ヘッド２０をＸ軸方向及びＺ軸方向に移動可能に支持するとともに、この吐出ヘッド２０をθＸ方向（Ｘ軸回り）、θＹ方向（Ｙ軸回り）、θＺ方向（Ｚ軸回り）に移動可能に支持する。
【００３９】
このように、図１の吐出ヘッド２０は、スライダー６０において、Ｚ軸方向に直線移動して位置決め可能で、θＸ方向、θＹ方向、θＺ方向に沿って揺動して位置決め可能であり、吐出ヘッド２０のノズル形成面２０Ｐは、ステージＳＴ側の基板Ｐに対して正確に位置あるいは姿勢をコントロールすることができる。なお、吐出ヘッド２０のノズル形成面２０Ｐには液体材料を吐出する複数のノズル２１１（図２及び図３参照）が設けられている。
【００４０】
次に、図２及び図３を参照して、吐出ヘッド２０の構造について説明する。
図２は吐出ヘッド２０を示す分解斜視図であり、図３は図２の斜視図の一部を断面視した断面図である。
図２に示すように、吐出ヘッド２０は、複数のノズル２１１が設けられたノズルプレート２１０及び振動板２３０が設けられた圧力室基板２２０を、筐体２５０に嵌め込んで構成されている。この吐出ヘッド２０の主要部構造は、図３に示すように、圧力室基板２２０をノズルプレート２１０と振動板２３０で挟み込んだ構造を備える。ノズルプレート２１０は、圧力室基板２２０と貼り合わせられたときにキャビティ２２１に対応する位置にノズル２１１が形成されている。圧力室基板２２０には、シリコン単結晶基板等をエッチングすることにより、各々が圧力室として機能可能にキャビティ２２１が複数設けられている。キャビティ２２１間は側壁２２２で分離されている。各キャビティ２２１は供給口２２４を介して共通の流路であるリザーバ２２３に繋がっている。振動板２３０は、例えば熱酸化膜等により構成される。振動板２３０には液体材料タンク口２３１が設けられ、図１のタンク６３から液体材料流路６１を通して任意の液体材料を供給可能に構成されている。振動板２３０上のキャビティ２２１に相当する位置には、圧電素子（吐出手段）２４０が形成されている。圧電素子２４０は、ピエゾ素子等の圧電性セラミックスの結晶を上部電極及び下部電極（図示せず）で挟んだ構造を備える。圧電素子２４０は、制御装置ＣＯＮＴから供給される駆動信号の電圧波形に対応して体積変化を生ずることが可能に構成されている。
また、図２及び図３に示すノズルプレート２１０は、ステンレス等の金属材料からなり、そして、特にノズル２１１近傍には、共析メッキ等の成膜処理によって薄膜が形成されており、ノズル２１１の周縁部を主として撥液性が確保された状態になっている。
【００４１】
吐出ヘッド２０から液体材料を吐出するには、まず、制御装置ＣＯＮＴが液体材料を吐出するための電圧波形を吐出ヘッド２０に供給する。液体材料は吐出ヘッド２０のキャビティ２２１に流入しており、吐出信号が供給された吐出ヘッド２０では、その圧電素子２４０がその上部電極と下部電極との間に加えられた電圧により体積変化を生ずる。この体積変化は振動板２３０を変形させ、キャビティ２２１の体積を変化させる。この結果、そのキャビティ２２１のノズル２１１から液体材料の液滴が吐出される。液体材料が吐出されたキャビティ２２１には吐出によって減った液体材料が新たにタンクから供給される。
【００４２】
なお、本実施形態においては、液滴吐出装置１が図２及び図３に示したような吐出ヘッド２０を一つ備えた構成を採用しているが、これを限定するものではない。
例えば、液滴吐出装置１が、複数の吐出ヘッド２０を備えた吐出ヘッド群を有する構成を採用してもよい。また、ノズル形成面２０Ｐにおいて、図２や図３に示したものよりも多数のノズル２１１を備えた構成、例えば１８０個のノズル２１１が一列に穿設された構成を採用してもよい。また、複数の吐出ヘッド２０を一列に配置させるだけでなく、複数の吐出ヘッド２０を複数列に配置させた構成を採用してもよい。また、複数の吐出ヘッド２０を備えた場合に、ノズル２１１の穿設間隔（ピッチ）に対して、Ｘ軸方向に１／２ピッチずらした吐出ヘッド２０を２列配置してもよい。このように吐出ヘッド２０を多数配列した場合には、ノズル２１１の穿設間隔よりも小さい間隔で液滴の吐出ができる。
また、吐出ヘッド２０をＸ軸方向に対して所定の角度で傾かせて配置してもよい。この場合でも、ノズル２１１の穿設間隔よりも小さい間隔で液滴の吐出ができる。
【００４３】
また、上記の吐出ヘッド２０から吐出される液体材料としては、例えば、カラーフィルタを形成する際に使用される着色材料を含有するインク、金属配線を形成する際に使用される金属微粒子等の材料を含有する分散液、有機エレクトロルミネッセンス装置を形成する際に使用されるＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ等の正孔注入材料や発光材料等の有機エレクトロルミネッセンス物質を含有する溶液、液晶装置を形成する際に使用される液晶材料等の高粘度の機能性液体、マイクロレンズを形成する際に使用される材料を含有する機能性液体、ＤＮＡチップのようなマイクロアレイを形成する際に使用されるたんぱく質等の生体高分子溶液等、種種の目的の機能層に応じた材料を含有する液体材料が採用される。
【００４４】
なお、吐出ヘッド２０の液滴吐出手段としては、上記の圧電素子を用いた電気機械変換体以外でもよく、例えば、エネルギ発生素子として電気熱変換体を用いた方式や、帯電制御型、加圧振動型といった連続方式、静電吸引方式、更にはレーザーなどの電磁波を照射して発熱させ、この発熱による作用で液体材料を吐出させる方式を採用することもできる。
【００４５】
アライメントカメラ２４は、後述する基板Ｐに形成されたアライメントマークの近傍を撮像して、アライメント情報を取得するものである。また、アライメントカメラ２４は、第２移動装置１６のガイドレール６２Ａに固定して設けられ、基板Ｐと対向する側、即ち、図１（ｂ）のＺ軸方向における紙面下側に向けて配置されている。このようなアライメントカメラ２４は、図１（ａ）に示すように６個設けられており、各々、基板Ｐのアライメントマークの位置に対応している。
このようなアライメントカメラ２４は、ＣＣＤやＣＭＯＳセンサ等の受像素子からなり、当該受像素子によって撮像された画像は、制御装置ＣＯＮＴによって記憶される。また、アライメントカメラ２４は、アライメントマークを含む近傍を所定の倍率で撮像することが可能となっており、アライメントマーク近傍を拡大撮像したり、縮小撮像したりすることができる。
【００４６】
制御装置ＣＯＮＴは、上述の液滴吐出装置１の各構成要素に電気的に接続されたものであり、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＲＯＭ、ＲＡＭ、入出力用のインターフェイス、発振回路等がバス接続された所謂コンピュータである。このような制御装置ＣＯＮＴは、予め入力されたプログラムに応じて液滴吐出装置１を統括して制御するようになっている。また、当該制御装置ＣＯＮＴは、上述のように液滴吐出装置１における各構成要素、吐出ヘッド２０、第１移動装置１４、第２移動装置１６、アライメントカメラ２４等を駆動制御すると共に、アライメントカメラ２４によって撮像されたアライメント情報に基づいて、位置決めを行うための相対位置データを演算処理するようになっている。そして、このような演算結果に基づいて、第１移動装置１４及び第２移動装置１６を駆動させることにより、描画動作の前に短時間で基板Ｐと吐出ヘッド２０の相対位置を決定することが可能となっている。
【００４７】
次に、図４を参照して基板Ｐについて説明する。
図４は、基板Ｐの平面図である。
基板Ｐは、ガラス基板や樹脂基板等の透明基板や、金属基板等の非透明性基板である。また、そのサイズとしては、多種のサイズが採用され、例えば、縦横が各々５００ｍｍ程度のものから１０００ｍｍを超えるサイズが採用される場合もある。
また、基板Ｐには、複数のアライメントマークＡ１〜Ａ６が形成されている。当該アライメントマークＡ１〜Ａ６は、アライメントカメラ２４によって撮像されることによって、アライメント情報が取得され、基板Ｐと吐出ヘッド２０の相対位置が所望に設定されるようになっている。
また、基板Ｐは、第１描画領域２０１及び第２描画領域２０２を有している。当該第１描画領域２０１及び第２描画領域２０２は、吐出ヘッド２０に充填された液体材料が吐出することによって所定のパターンが形成される領域である。
このような第１描画領域２０１及び第２描画領域２０２は、後述するように、アライメント情報に基づいて位置決めされた後に、パターンが形成されるようになっている。
また、基板Ｐ上に形成されるパターンとしては、例えば、ＲＧＢ等の複数色の着色層を描画してカラーフィルタを形成するための画素パターンや、金属微粒子の分散液を描画して回路配線を形成するための金属配線パターンや、正孔注入層材料や発光材料を含有する機能性液体材料を描画して発光機能層を形成するための画素パターンや、液晶材料等の高粘度の機能性液体を描画して液晶層を形成するための液晶パターンや、マイクロレンズ材料を描画して当該マイクロレンズを形成するためのレンズパターンや、ＤＮＡチップを形成する際に使用されるたんぱく質等の生体高分子溶液を描画してマイクロアレイを形成するためのマイクロアレイパターン等、種種の目的に応じたパターンが採用される。
【００４８】
（液滴吐出方法の第１実施形態）
次に、図１〜図５を参照して、液滴吐出方法について説明する。
図５は、図１〜図４に示した液滴吐出装置１を利用して液滴吐出方法を行うためのフローチャート図である。以下の説明では、液滴吐出装置１において、予めステージＳＴ上に基板Ｐが搭載されているものとして説明する。
【００４９】
まず、図５に示すように、基板Ｐ上の第１及び第２描画領域２０１、２０２のアライメント情報を取得する（ステップＳ１、撮像工程）。
当該ステップＳ１においては、基板Ｐを搭載したステージＳＴがベース１２の後部１２Ａへ移動することによって、アライメントマークＡ１〜Ａ６に対応する位置に配置されたアライメントカメラ２４の下方に基板Ｐを配置する。ここで、複数のアライメントカメラ２４の各々は、アライメントマークＡ１〜Ａ６を含むその近傍を一括して撮像し、アライメント情報を取得する。当該アライメント情報は、制御装置ＣＯＮＴによって記憶されると共に、制御装置ＣＯＮＴはアライメント情報を演算処理して、第１描画領域２０１にパターンを描画するための相対位置座標（相対位置データ）、及び第２描画領域２０１にパターンを描画するための相対位置座標（相対位置データ）を演算する。ここで、相対位置座標とは、基板Ｐと吐出ヘッド２０の相対位置座標を意味する。
【００５０】
次に、制御装置ＣＯＮＴの演算結果に基づいて、第１移動装置１４及び第２移動装置１６が動作し、吐出ヘッド２０と基板Ｐの相対位置を概ね合わせることにより、第１描画領域２０１に精密調整する前のラフ位置を調整する（ステップＳ２、位置決め工程）。
【００５１】
次に、制御装置ＣＯＮＴの演算結果に基づいて、第１移動装置１４及び第２移動装置１６が動作し、第１描画領域２０１に液体材料を吐出するための、基板Ｐと吐出ヘッド２０の精密な相対位置が調整される（ステップＳ３、位置決め工程）。
【００５２】
次に、制御装置ＣＯＮＴに予め記憶された描画パターンの電子データに基づいて、吐出ヘッド２０と基板Ｐとを相対移動させながら、吐出ヘッド２０内の液体材料を液滴化して基板Ｐの第１描画領域２０１に吐出し、当該第１描画領域２０１にパターンを描画する（ステップＳ４、描画工程）。
【００５３】
次に、制御装置ＣＯＮＴの演算結果に基づいて、第１移動装置１４及び第２移動装置１６が動作し、吐出ヘッド２０と基板Ｐの相対位置を概ね合わせることにより、第２描画領域２０２に精密調整する前のラフ位置を調整する（ステップＳ５、位置決め工程）。
【００５４】
次に、制御装置ＣＯＮＴの演算結果に基づいて、第１移動装置１４及び第２移動装置１６が動作し、第２描画領域２０２に液体材料を吐出するための、基板Ｐと吐出ヘッド２０の精密な相対位置が調整される（ステップＳ６、位置決め工程）。
【００５５】
次に、制御装置ＣＯＮＴに予め記憶された描画パターンの電子データに基づいて、吐出ヘッド２０と基板Ｐとを相対移動させながら、吐出ヘッド２０内の液体材料を液滴化して基板Ｐの第２描画領域２０２に吐出し、当該第２描画領域２０２にパターンを描画する（ステップＳ７、描画工程）。
【００５６】
上述したように、本実施形態の液滴吐出装置及び液滴吐出方法においては、第１及び第２描画領域２０１、２０２にパターンを形成する前に、アライメントカメラ２４が一括してアライメント情報を取得し、当該アライメント情報に基づいて第１描画領域２０１と第２描画領域２０２に各々パターンを形成している。このように、アライメント情報が一括して取得されているので、第２描画領域２０２の位置決めを行うためのアライメント情報を取得する必要がなく、当該アライメント情報を取得する動作を省くことができる。
【００５７】
また、アライメントカメラ２４によって一括してアライメント情報が取得されていることから、第１描画領域２０１にパターンが形成された後に、第２描画領域２０２におけるアライメント情報を取得する必要がない。従って、第１描画領域２０１におけるパターン形成後において、第２描画領域２０２にパターンを形成する前に、ラフ位置調整と、精密位置調整のみを行うだけよく、その後、描画工程を行うことによって第２描画領域２０２にパターンを形成することができる。
【００５８】
このようにすれば、背景技術と比較して、各描画領域２０１、２０２にパターンを描画する前の予備動作時間の合計が極めて少なくなるので、基板Ｐ上の乾燥ムラを抑制することができる。従って、液滴吐出装置１を用いて形成される機能層において、均一な膜厚を達成することができる。また、基板サイズが大きい程、膜厚のバラツキが生じやすい傾向があるが、液滴吐出装置１を用いることにより大型基板においても膜厚均一性を達成することができる。
【００５９】
更に、第１及び第２描画領域２０１、２０２に形成されたパターンがカラーフィルタである場合には、均一な膜厚でカラーフィルタを形成することができるので、複数の着色層の色バランスを均一にすることができる。また、描画領域に形成されたパターンが金属配線パターンである場合には、金属抵抗を均一にすることができる。また、描画領域に形成されたパターンが発光材料や正孔注入材料等からなる発光機能層である場合には、発光特性や発光寿命を均一にすることができる。また、各種機能性材料からなるパターンを形成する場合においても、各種機能層の膜厚バラツキを抑制し、当該機能層の性能劣化を抑制することができる。
【００６０】
また、アライメントマークＡ１〜Ａ６を撮像し、当該アライメント情報に基づいて、描画工程を行っているので、背景技術と比較して高精度にパターンを形成することができる。また、大型基板やタイリング基板等の基板サイズを採用した場合であっても描画工程を高精度に行うことができるので、十分な吐出精度を得ることができる。
【００６１】
また、制御装置ＣＯＮＴがアライメント情報の基づいた相対位置座標を作成するので、当該相対位置座標に基づいて位置決め工程を行うことができる。また、このような演算処理を行うことにより、一括して取得されたアライメント情報から複数の描画領域の相対位置座標を一括して演算することができる。従って、当該一括して演算された相対位置データに基づいて、複数の描画領域の各々における位置決め工程を行うことができる。
【００６２】
また、このようにアライメントマークＡ１〜Ａ６を一括して撮像することによって、アライメント情報が取得されるので、全てのアライメントマークＡ１〜Ａ６間の距離を測定することができる。従って、基板Ｐの伸び縮みがあった場合でも、当該アライメント情報に基づいて位置決め工程及び描画工程が行われるので、高精度にパターンを形成することができる。
【００６３】
（液滴吐出方法の第２実施形態）
次に、図６及び図７を参照して、液滴吐出方法の第２実施形態について説明する。
図６は、タイリング基板（基板）Ｐ’の平面図である。
タイリング基板Ｐ’は、支持基板（基板）Ｐ１と、描画基板（描画領域）Ｐ２〜Ｐ５をから構成されている。
支持基板Ｐ１は、当該支持基板Ｐ１自身に貼り付けられた描画基板Ｐ２〜Ｐ５を支持する基板である。支持基板Ｐ１のサイズとしては、多種のサイズが採用され、例えば、縦横が各々５００ｍｍ程度のものから１０００ｍｍを超えるサイズが採用される場合もある。
描画基板Ｐ２〜Ｐ５は、支持基板Ｐ１に接着剤等によって貼り付けられている。また、当該描画基板Ｐ２〜Ｐ５には各々アライメントマークＡ１〜Ａ８が形成されている。当該アライメントマークＡ１〜Ａ８は、アライメントカメラ２４によって撮像されることによって、アライメント情報が取得され、基板Ｐと吐出ヘッド２０の相対位置が所望に設定されるようになっている。
【００６４】
図７は、図１〜図４に示した液滴吐出装置１を利用して液滴吐出方法を行うためのフローチャート図である。以下の説明では、液滴吐出装置１において、予めステージＳＴ上にタイリング基板Ｐ’が搭載されているものとして説明する。また、本実施形態における液滴吐出装置１は、アライメントカメラ２４を８個設けた構成となっている。従って、アライメントマークＡ１〜Ａ８を８個のアライメントカメラ２４によって一括撮像することが可能となっている。
なお、本実施形態においては、先の実施形態と同一構成には同一符号を付して説明を簡略化する。
【００６５】
まず、図７に示すように、タイリング基板Ｐ’上の第１〜第４描画基板Ｐ２〜Ｐ５のアライメント情報を取得する（ステップＳ１１、撮像工程）。
当該ステップＳ１１においては、タイリング基板Ｐ’を搭載したステージＳＴがベース１２の後部１２Ａへ移動することによって、アライメントマークＡ１〜Ａ８に対応する位置に配置されたアライメントカメラ２４の下方にタイリング基板Ｐ’を配置する。ここで、複数のアライメントカメラ２４の各々は、アライメントマークＡ１〜Ａ８を含むその近傍を一括して撮像し、アライメント情報を取得する。当該アライメント情報は、制御装置ＣＯＮＴによって記憶されると共に、制御装置ＣＯＮＴはアライメント情報を演算処理して、第１〜第４描画基板Ｐ２〜Ｐ５の各々にパターンを描画するための相対位置座標を演算する。
【００６６】
次に、制御装置ＣＯＮＴの演算結果に基づいて、第１移動装置１４及び第２移動装置１６が動作し、吐出ヘッド２０とタイリング基板Ｐ’の相対位置を概ね合わせることにより、第１描画基板Ｐ２に精密調整する前のラフ位置を調整する（ステップＳ１２、位置決め工程）。
【００６７】
次に、制御装置ＣＯＮＴの演算結果に基づいて、第１移動装置１４及び第２移動装置１６が動作し、第１描画基板Ｐ２に液体材料を吐出するための、タイリング基板Ｐ’と吐出ヘッド２０の精密な相対位置が調整される（ステップＳ１３、位置決め工程）。
【００６８】
次に、制御装置ＣＯＮＴに予め記憶された描画パターンの電子データに基づいて、吐出ヘッド２０とタイリング基板Ｐ’とを相対移動させながら、吐出ヘッド２０内の液体材料を液滴化して第１描画基板Ｐ２に吐出し、当該第１描画基板Ｐ２にパターンを描画する（ステップＳ１４、描画工程）。
【００６９】
次に、制御装置ＣＯＮＴの演算結果に基づいて、第１移動装置１４及び第２移動装置１６が動作し、吐出ヘッド２０とタイリング基板Ｐ’の相対位置を概ね合わせることにより、第２描画基板Ｐ３に精密調整する前のラフ位置を調整する（ステップＳ１５、位置決め工程）。
【００７０】
次に、制御装置ＣＯＮＴの演算結果に基づいて、第１移動装置１４及び第２移動装置１６が動作し、第２描画基板Ｐ３に液体材料を吐出するための、タイリング基板Ｐ’と吐出ヘッド２０の精密な相対位置が調整される（ステップＳ１６、位置決め工程）。
【００７１】
次に、制御装置ＣＯＮＴに予め記憶された描画パターンの電子データに基づいて、吐出ヘッド２０とタイリング基板Ｐ’とを相対移動させながら、吐出ヘッド２０内の液体材料を液滴化して第２描画基板Ｐ３に吐出し、当該第２描画基板Ｐ３にパターンを描画する（ステップＳ１７、描画工程）。
【００７２】
次に、制御装置ＣＯＮＴの演算結果に基づいて、第１移動装置１４及び第２移動装置１６が動作し、吐出ヘッド２０とタイリング基板Ｐ’の相対位置を概ね合わせることにより、第３描画基板Ｐ４に精密調整する前のラフ位置を調整する（ステップＳ１８、位置決め工程）。
【００７３】
次に、制御装置ＣＯＮＴの演算結果に基づいて、第１移動装置１４及び第２移動装置１６が動作し、第３描画基板Ｐ４に液体材料を吐出するための、タイリング基板Ｐ’と吐出ヘッド２０の精密な相対位置が調整される（ステップＳ１９、位置決め工程）。
【００７４】
次に、制御装置ＣＯＮＴに予め記憶された描画パターンの電子データに基づいて、吐出ヘッド２０とタイリング基板Ｐ’とを相対移動させながら、吐出ヘッド２０内の液体材料を液滴化して第３描画基板Ｐ４に吐出し、当該第３描画基板Ｐ４にパターンを描画する（ステップＳ２０、描画工程）。
【００７５】
次に、制御装置ＣＯＮＴの演算結果に基づいて、第１移動装置１４及び第２移動装置１６が動作し、吐出ヘッド２０とタイリング基板Ｐ’の相対位置を概ね合わせることにより、第４描画基板Ｐ５に精密調整する前のラフ位置を調整する（ステップＳ２１、位置決め工程）。
【００７６】
次に、制御装置ＣＯＮＴの演算結果に基づいて、第１移動装置１４及び第２移動装置１６が動作し、第４描画基板Ｐ５に液体材料を吐出するための、タイリング基板Ｐ’と吐出ヘッド２０の精密な相対位置が調整される（ステップＳ２２、位置決め工程）。
【００７７】
次に、制御装置ＣＯＮＴに予め記憶された描画パターンの電子データに基づいて、吐出ヘッド２０とタイリング基板Ｐ’とを相対移動させながら、吐出ヘッド２０内の液体材料を液滴化して第４描画基板Ｐ５に吐出し、当該第４描画基板Ｐ５にパターンを描画する（ステップＳ２３、描画工程）。
【００７８】
上述したように、本実施形態の液滴吐出方法においては、タイリング基板Ｐ’において、描画基板Ｐ２〜Ｐ５にパターンを形成する前に、アライメントカメラ２４が一括してアライメント情報を取得し、当該アライメント情報に基づいて描画基板Ｐ２〜Ｐ５に各々パターンを形成している。このように、アライメント情報が一括して取得されているので、描画基板Ｐ２〜Ｐ５の位置決めを行うためのアライメント情報を取得する必要がなく、当該アライメント情報を取得する動作を省くことができる。
【００７９】
また、アライメントカメラ２４によって一括してアライメント情報が取得されていることから、第１描画基板Ｐ２にパターンが形成された後に、第２描画基板Ｐ３におけるアライメント情報を取得する必要がない。従って、第１描画基板Ｐ２におけるパターン形成後において、第２描画基板Ｐ３にパターンを形成する前に、ラフ位置調整と、精密位置調整のみを行うだけよく、その後、描画工程を行うことによって第２描画基板Ｐ３にパターンを形成することができる。
従って、第１描画基板Ｐ２におけるパターン形成後において、第２描画基板Ｐ３にパターンを形成する前に、位置決め工程のみを行うだけよく、その後、描画工程を行うことによって第２描画基板Ｐ３にパターンを形成することができる。また、描画基板Ｐ４、Ｐ５においても同様の効果が得られる。
このようにすれば、背景技術と比較して、各描画基板Ｐ２〜Ｐ５にパターンを描画する前の予備動作時間の合計が極めて少なくなるので、タイリング基板Ｐ’上の乾燥ムラを抑制することができる。従って、液滴吐出装置１を用いて形成される機能層において、均一な膜厚を達成することができる。また、基板サイズが大きい程、膜厚のバラツキが生じやすい傾向があるが、液滴吐出装置１を用いることにより大型基板においても膜厚均一性を達成することができる。
【００８０】
（液滴吐出装置の第２実施形態）
次に、液滴吐出装置の第２実施形態について説明する。
本実施形態においては、第１実施形態と異なる部分についてのみ説明する。
本実施形態の液滴吐出装置は、複数のアライメントカメラ２４が基板Ｐに対向する位置において、移動可能となっている。そして、アライメントカメラ２４は、基板Ｐ上のアライメントマークの位置に応じて移動するようになっており、当該アライメントカメラ２４の移動は、制御装置ＣＯＮＴによって統括的に制御されている。
【００８１】
上述したように、本実施形態の液滴吐出装置においては、移動可能なアライメントカメラ２４を備えることによって、基板Ｐ上の任意位置のアライメントマークを撮像することができる。従って、複数の基板において各基板のアライメントマークの位置が異なる場合に、当該アライメントマークに対応してアライメントカメラ２４を移動させて、各基板Ｐのアライメントマークを一括して撮像することが可能となり、アライメント情報を取得することができる。
このように、移動可能なアライメントカメラ２４を備える液滴吐出装置は、異なる位置にアライメントマークが形成されている複数の基板の各々にパターンを描画する多品種少量生産において、特に有効である。
【００８２】
（液滴吐出方法の第３実施形態）
次に、図８及び図９を参照して、液滴吐出方法の第３実施形態について説明する。
ここでは、上記の移動可能なアライメントカメラ２４を備えた液滴吐出装置を用いた場合の液滴吐出方法について説明する。
図８は、複数の描画領域を備えた基板Ｐの平面図であり、図８（ａ）は基板Ｐから描画領域を４面取りのする場合を示す図、図８（ｂ）は基板Ｐから描画領域を６面取りのする場合を示す図である。図８において、符号Ａ１〜Ａ９に示したのは、アライメントマークである。
図９は、図８（ａ）及び図８（ｂ）の基板Ｐに対して液滴吐出方法を行うためのフローチャート図である。
【００８３】
（４面取りの場合）
まず、図８（ａ）に示した４面取りの場合について説明する。
図９に示すように、液滴吐出装置１において、アライメントカメラ２４がアライメントマークＡ１〜Ａ６に対応する位置に移動する（ステップＳ３１）。
【００８４】
次に、基板Ｐ上の第１〜第４描画領域２０１〜２０４のアライメント情報を取得する（ステップＳ３２、撮像工程）。
当該ステップＳ３２においては、複数のアライメントカメラ２４の各々が、アライメントマークＡ１〜Ａ６を含むその近傍を一括して撮像し、アライメント情報を取得する。ここで、一括してアライメントマークが撮像される間は、アライメントカメラ２４は固定状態となる。アライメント情報は、制御装置ＣＯＮＴによって記憶されると共に、制御装置ＣＯＮＴはアライメント情報を演算処理して、第１〜第４描画領域２０１〜２０４の各々にパターンを描画するための相対位置座標を演算する。
【００８５】
次に、ステップＳ３２によって取得されたアライメント情報及び相対位置座標に基づいて、ステップＳ３３〜Ｓ３８に示す処理を行う。ここで、ステップＳ３３〜Ｓ３８は、先の実施形態のステップＳ２〜Ｓ７に相当しており、説明を簡略化する。また、ステップＳ３８以降は、第３及び第４描画領域２０３〜２０４にパターンを形成するための位置決め工程と描画工程を行っており、上記同様の工程が行われる。
【００８６】
（６面取りの場合）
続いて、図８（ｂ）に示した６面取りの場合について説明する。
図９に示すように、液滴吐出装置１において、アライメントカメラ２４がアライメントマークＡ１〜Ａ９に対応する位置に移動する（ステップＳ３１）。
【００８７】
次に、基板Ｐ上の第１〜第６描画領域２０１〜２０６のアライメント情報を取得する（ステップＳ３２、撮像工程）。
当該ステップＳ３２においては、複数のアライメントカメラ２４の各々が、アライメントマークＡ１〜Ａ６を含むその近傍を一括して撮像し、アライメント情報を取得する。ここで、一括してアライメントマークが撮像される間は、アライメントカメラ２４は固定状態となる。アライメント情報は、制御装置ＣＯＮＴによって記憶されると共に、制御装置ＣＯＮＴはアライメント情報を演算処理して、第１〜第４描画領域２０１〜２０４の各々にパターンを描画するための相対位置座標を演算する。
【００８８】
次に、ステップＳ３２によって取得されたアライメント情報及び相対位置座標に基づいて、ステップＳ３３〜Ｓ３８に示す処理を行う。ここで、ステップＳ３３〜Ｓ３８は、先の実施形態のステップＳ２〜Ｓ７に相当しており、説明を簡略化する。また、ステップＳ３８以降は、第３〜第６描画領域２０３〜２０６にパターンを形成するための位置決め工程と描画工程を行っており、上記同様の工程が行われる。
【００８９】
上述したように、本実施形態の液滴吐出方法においては、移動可能なアライメントカメラ２４を用いることにより、基板Ｐ上の任意位置のアライメントマークを撮像することができる。従って、面取り数が異なる基板において各基板のアライメントマークの位置が異なる場合に、当該アライメントマークＡ１〜Ａ９に対応してアライメントカメラ２４を移動させて、各基板Ｐのアライメントマークを一括して撮像することが可能となり、アライメント情報を取得することができる。
このように、移動可能なアライメントカメラ２４を備える液滴吐出装置は、異なる位置にアライメントマークが形成されている複数の基板の各々にパターンを描画する多品種少量生産において、特に有効である。
【図面の簡単な説明】
【００９０】
【図１】本発明の液滴吐出装置における第１実施形態を示す図。
【図２】本発明の液滴吐出装置における第１実施形態の吐出ヘッドを示す図。
【図３】本発明の液滴吐出装置における第１実施形態の吐出ヘッドを示す図。
【図４】本発明の液滴吐出装置における第１実施形態の基板を示す平面図。
【図５】本発明の液滴吐出方法における第１実施形態のフローチャート図。
【図６】本発明の液滴吐出方法における第２実施形態の基板を示す平面図。
【図７】本発明の液滴吐出方法における第２実施形態のフローチャート図。
【図８】本発明の液滴吐出方法における第３実施形態の基板を示す平面図。
【図９】本発明の液滴吐出方法における第３実施形態のフローチャート図。
【図１０】従来の液滴吐出方法における基板を示す平面図。
【図１１】従来の液滴吐出方法におけるフローチャート図。
【符号の説明】
【００９１】
１  液滴吐出装置、１４  第１移動装置（位置決め手段、描画手段）、１６  第２移動装置（位置決め手段、描画手段）、２０  吐出ヘッド（描画手段）、２４  アライメントカメラ（撮像手段）、２０１  第１描画領域（描画領域）、２０２  第２描画領域（描画領域）、２０３、２０４、２０５、２０６  描画領域、Ｐ  基板、Ｐ’  タイリング基板（基板）、Ｐ１  支持基板（基板）、Ｐ２、Ｐ３、Ｐ４、Ｐ５  描画基板（描画領域）、ＣＯＮＴ  制御装置（制御手段）、Ａ１、Ａ２、Ａ３、Ａ４、Ａ５、Ａ６、Ａ７、Ａ８、Ａ９  アライメントマーク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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