(57)【要約】【課題】各種特性に優れた透明導電膜を形成し得る透明導電膜形成用組成物、かかる透明導電膜形成用組成物を用いた透明導電膜の形成方法、各種特性に優れる透明導電膜、信頼性の高い電子デバイスおよび電子機器を提供すること。【解決手段】本発明の透明導電膜形成用組成物は、透明導電膜の形成に用いられるものであり、導電性粒子９と、加熱により収縮して導電性粒子９同士の緻密化を促進する緻密化促進物質８と、液状媒体とを含んでいる。この透明導電膜形成用組成物を、基板７上に供給して被膜８１を形成し、その後、被膜８１に熱処理を施すことにより透明導電膜８２を得ることができる。緻密化促進物質８は、室温から４００℃まで加熱したとき、その重量減少率が１０％以上のものであるのが好ましい。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明導電膜の形成に用いられる透明導電膜形成用組成物であって、
主として無機酸化物で構成された導電性粒子と、加熱により収縮して前記導電性粒子同士の緻密化を促進する緻密化促進物質と、液状媒体とを含むことを特徴とする透明導電膜形成用組成物。
【請求項２】
前記緻密化促進物質は、室温から４００℃まで加熱したとき、その重量減少率が１０％以上のものである請求項１に記載の透明導電膜形成用組成物。
【請求項３】
前記緻密化促進物質は、その収縮物が導電性を有するものである請求項１または２に記載の透明導電膜形成用組成物。
【請求項４】
前記緻密化促進物質は、形成された透明導電膜において、その収縮物が前記導電性粒子１重量部に対して０．０１〜１重量部となるように混合されている請求項１ないし３のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物。
【請求項５】
前記緻密化促進物質は、無機酸化物前駆体であり、該無機酸化物前駆体の少なくとも一部は、前記加熱により無機酸化物に変化する請求項１ないし４のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物。
【請求項６】
前記緻密化促進物質の加熱により得られる無機酸化物と、前記導電性粒子の主材料である無機酸化物とは、同種のものである請求項１ないし５のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物。
【請求項７】
前記導電性粒子の平均粒径は、２〜２０００ｎｍである請求項１ないし６のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物。
【請求項８】
前記導電性粒子は、前記液状媒体１重量部に対して０．０５〜０．９重量部となるように混合されている請求項１ないし７のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の透明導電膜形成用組成物を、基材上に供給して被膜を形成し、その後、該被膜に熱処理を施すことにより透明導電膜を得ることを特徴とする透明導電膜の形成方法。
【請求項１０】
前記被膜に熱処理を施す前に、前記被膜を乾燥する請求項９に記載の透明導電膜の形成方法。
【請求項１１】
前記熱処理における温度は、５０〜５００℃である請求項９または１０に記載の透明導電膜の形成方法。
【請求項１２】
前記熱処理における時間は、１〜１８０分である請求項９ないし１１のいずれかに記載の透明導電膜の形成方法。
【請求項１３】
請求項９ないし１２のいずれかに記載の透明導電膜の形成方法により形成されることを特徴とする透明導電膜。
【請求項１４】
前記透明導電膜は、その比抵抗値が６．０×１０−４Ω・ｃｍ以下である請求項１３に記載の透明導電膜。
【請求項１５】
請求項１３または１４に記載の透明導電膜を備えることを特徴とする電子デバイス。
【請求項１６】
請求項１５に記載の電子デバイスを備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電膜形成用組成物、透明導電膜の形成方法、透明導電膜、電子デバイスおよび電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば液晶画像表示装置では、液晶を駆動する画素電極および走査電極として透明導電膜が設けられている。
この透明導電膜の形成方法としては、酸化インジウムや酸化錫等の光透過性を有する導電性材料を、例えば蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等によって基板上に被着する乾式プロセスがある。しかし、これらの方法は、大がかりな装置が必要であり、また成膜に要する消費エネルギーが大きく、高コストになる等の問題がある。
【０００３】
これに対して、酸化インジウムや酸化錫等よりなる導電性粒子を水系の分散媒に分散された塗液を、基板上に塗布した後、熱処理することにより、透明導電膜を形成する湿式プロセスは、簡易な設備で透明導電膜を形成することができ、実用性の高い方法として期待される。
ところが、この湿式プロセスで形成される透明導電膜１１０は、図９に示すように、導電性粒子１２０同士の接触が点接触であるとともに、導電性粒子１２０同士の接触に不十分な部分が生じてしまい、この部分に大きな空隙１３０が形成される。
【０００４】
このため、導電性粒子１２０間での導通が不良となり、透明導電膜１１０全体として十分な導電性が得られないことがある。また、空隙１３０によって膜の緻密性が低くなることから、膜強度や密着性が低く、経時的に膜特性が変化する（膜安定性が低い）という問題もある。
かかる問題点の一つである膜強度の改善を目的として、シリケートにＩＴＯ粒子を分散させた構成の透明導電膜が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
しかしながら、ＩＴＯ粒子は、シリケートに分散状態となっており、また、シリケート自体は、絶縁材料であるため、分散液中のシリケートの量を増やすと、空隙１３０は減少するが、シリケートの絶縁性が導電性粒子１２０同士の接触に影響を与え、導通が不良になる。しかし、分散液中のシリケートの量を少なくすると、シリケートの導電性粒子１２０同士の接触への影響は軽減されるが、空隙が十分に埋まらず前記の問題が解決されなくなる。しかもこのような透明導電膜においても、依然として十分な導電性が得られていないと言う問題がある。
【０００６】
【特許文献１】特開平６−２３４５５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、各種特性に優れた透明導電膜を形成し得る透明導電膜形成用組成物、かかる透明導電膜形成用組成物を用いた透明導電膜の形成方法、各種特性に優れる透明導電膜、信頼性の高い電子デバイスおよび電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の透明導電膜形成用組成物は、透明導電膜の形成に用いられる透明導電膜形成用組成物であって、
主として無機酸化物で構成された導電性粒子と、加熱により収縮して前記導電性粒子同士の緻密化を促進する緻密化促進物質と、液状媒体とを含むことを特徴とする。
これにより、緻密性が高く、高い導電性が得られ、膜強度および密着性、膜特性の安定性に優れた透明導電膜を形成することができる。
【０００９】
本発明の透明導電膜形成用組成物では、前記緻密化促進物質は、室温から４００℃まで加熱したとき、その重量減少率が１０％以上のものであることが好ましい。
これにより、導電性粒子同士の緻密化をより促進することができ、形成された透明導電膜をより導電性に優れたものとすることができる。
本発明の透明導電膜形成用組成物では、前記緻密化促進物質は、その収縮物が導電性を有するものであることが好ましい。
これにより、形成された透明導電膜の導電性をより向上させることができる。
【００１０】
本発明の透明導電膜形成用組成物では、前記緻密化促進物質は、形成された透明導電膜において、その収縮物が前記導電性粒子１重量部に対して０．０１〜１重量部となるように混合されていることが好ましい。
これにより、導電性粒子同士の緻密化を十分に進行させることができる。
本発明の透明導電膜形成用組成物では、前記緻密化促進物質は、無機酸化物前駆体であり、該無機酸化物前駆体の少なくとも一部は、前記加熱により無機酸化物に変化することが好ましい。
これにより、形成された透明導電膜の導電性をより向上させることができる。
【００１１】
本発明の透明導電膜形成用組成物では、前記緻密化促進物質の加熱により得られる無機酸化物と、前記導電性粒子の主材料である無機酸化物とは、同種のものであることが好ましい。
これにより、形成された透明導電膜は、より導電性、膜強度および密着性、膜特性の安定性が優れたものとなる。
【００１２】
本発明の透明導電膜形成用組成物では、前記導電性粒子の平均粒径は、２〜２０００ｎｍであることが好ましい。
これにより、透明導電膜形成用組成物の取り扱いが容易となるとともに、形成された透明導電膜を、より導電性、膜強度および密着性、膜特性の安定性に優れたものとすることができる。
【００１３】
本発明の透明導電膜形成用組成物では、前記導電性粒子は、前記液状媒体１重量部に対して０．０５〜０．９重量部となるように混合されていることが好ましい。
これにより、透明導電膜形成用組成物の取り扱いが容易となるとともに、形成された透明導電膜を、より導電性、膜強度および密着性、膜特性の安定性に優れたものとすることができる。
【００１４】
本発明の透明導電膜の形成方法は、本発明の透明導電膜形成用組成物を、基材上に供給して被膜を形成し、その後、該被膜に熱処理を施すことにより透明導電膜を得ることを特徴とする。
これにより、緻密性が高く、高い導電性が得られ、膜強度および密着性、膜特性の安定性に優れた透明導電膜を形成することができる。
【００１５】
本発明の透明導電膜の形成方法では、前記被膜に熱処理を施す前に、前記被膜を乾燥することが好ましい。
乾燥速度を調節することにより、導電性粒子同士の緻密化を促進する効果を向上させることができる。
本発明の透明導電膜の形成方法では、前記熱処理における温度は、５０〜５００℃であることが好ましい。
これにより、導電性粒子同士の固着や、緻密化促進物質の収縮を十分に進行させることができる。
本発明の透明導電膜の形成方法では、前記熱処理における時間は、１〜１８０分であることが好ましい。
これにより、導電性粒子同士の固着や、緻密化促進物質の収縮を十分に進行させることができる。
【００１６】
本発明の透明導電膜は、本発明の透明導電膜の形成方法により形成されることを特徴とする。
これにより、緻密性が高く、高い導電性が得られ、膜強度および密着性、膜特性の安定性に優れたものとなる。
本発明の透明導電膜は、その比抵抗値が６．０×１０−４Ω・ｃｍ以下であることが好ましい。
これにより、電子デバイスを構築した際に、かかる電子デバイスをより応答速度の速いものとすることができる。
本発明の電子デバイスは、本発明の透明導電膜を備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子デバイスが得られる。
本発明の電子機器は、本発明の電子デバイスを備えることを特徴とする。
これにより、信頼性の高い電子機器が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の透明導電膜形成用組成物、透明導電膜の形成方法、透明導電膜、電子デバイスおよび電子機器の好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
なお、以下では、本発明の電子デバイスを、アクティブマトリックス駆動方式の透過型液晶表示装置に適用した場合を一例として説明する。
【００１８】
＜透過型液晶表示装置の構成＞
図１は、本発明の電子デバイスを透過型液晶表示装置に適用した場合の実施形態を示す分解斜視図である。
なお、図１では、図が煩雑となるのを避けるため一部の部材を省略している。また、以下の説明では、図１中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
【００１９】
図１に示す透過型液晶表示装置１（以下、単に「液晶表示装置１」と言う。）は、液晶パネル（表示パネル）２と、バックライト（光源）６とを有している。
この液晶表示装置１は、バックライト６からの光を液晶パネル２に透過させることにより画像（情報）を表示し得るものである。
液晶パネル２は、互いに対向して配置された第１の基板２２と第２の基板２３とを有し、これらの第１の基板２２と第２の基板２３との間には、表示領域を囲むようにしてシール材（図示せず）が設けられている。
【００２０】
そして、これらの第１の基板２２、第２の基板２３およびシール材により画成される空間には、電気光学物質である液晶が収納され、液晶層（中間層）２４が形成されている。すなわち、第１の基板２２と第２の基板２３との間に、液晶層２４が介挿されている。
なお、図示は省略したが、液晶層２４の上面および下面には、それぞれ、例えばポリイミド等で構成される配向膜が設けられている。これらの配向膜により液晶層２４を構成する液晶分子の配向性（配向方向）が規制されている。
【００２１】
第１の基板２２および第２の基板２３は、それぞれ、例えば、各種ガラス材料、各種樹脂材料等で構成されている。
第１の基板２２は、その上面（液晶層２４側の面）２２１に、マトリックス状（行列状）に配置された複数の画素電極２２３と、Ｘ方向に延在する信号電極２２４とが設けられ、１列分の画素電極２２３の各々が１本の信号電極２２４に、それぞれ、ＴＦＤ素子（スイッチング素子）２２２を介して接続されている。
【００２２】
画素電極２２３は、透明性（光透過性）を有する透明導電膜（本発明の透明導電膜）により構成されている。この透明導電膜は、後述する本発明の透明導電膜形成用組成物および透明導電膜の形成方法により形成される。
ＴＦＤ素子２２２は、信号電極２２４から引き出された引き出し部２２８上に、絶縁膜を介して金属層２２９が積層されて構成され、金属層２２９が画素電極２２３に接続されている。なお、このＴＦＤ素子２２２は、金属／絶縁体／金属のサンドイッチ構造を採るため、正負双方向のダイオードスイッチング特性を有することになる。
なお、スイッチング素子には、ＴＦＤ素子２２２に代わり、ＴＦＴ素子を用いることもでき、この場合、スイッチング素子は、正負双方向のトランジスタスイッチング特性を有することになる。
また、第１の基板２２の下面には、偏光板２２５が設けられている。
【００２３】
一方、第２の基板２３は、その下面（液晶層２４側の面）２３１に、複数の帯状をなす走査電極２３２が設けられている。これらの走査電極２３２は、信号電極２２４とほぼ直交するＹ方向に沿って、互いに所定間隔をおいてほぼ平行に配置され、かつ、画素電極２２３の対向電極となるように配列されている。
画素電極２２３と走査電極２３２とが重なる部分（この近傍の部分も含む）が１画素を構成し、これらの電極間で充放電を行うことにより、各画素毎に、液晶層２４の液晶が駆動、すなわち、液晶の配向状態が変化する。
【００２４】
走査電極２３２も、前記画素電極２２３と同様に、透明性（光透過性）を有する透明導電膜（本発明の透明導電膜）により構成されている。この透明導電膜も、後述する本発明の透明導電膜形成用組成物および透明導電膜の形成方法により形成される。
走査電極２３２および画素電極２２３を構成する透明導電膜は、構成材料の種類等によっても若干異なるが、その比抵抗値が６．０×１０−４Ω・ｃｍ以下であるのが好ましく、４．０×１０−４Ω・ｃｍ以下であるのがより好ましい。透明導電膜の比抵抗値を前記範囲とすることにより、液晶表示装置１をより応答速度の速いものとすることができる。
【００２５】
各走査電極２３２の下面には、それぞれ、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の有色層（カラーフィルター）２３３が設けられ、これらの各有色層２３３がブラックマトリックス２３４によって仕切られている。
ブラックマトリックス２３４は、遮光機能を有し、例えば、クロム、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、亜鉛、チタンのような金属、カーボン等を分散した樹脂等で構成されている。
また、第２の基板２３の上面には、前記偏光板２２５とは偏光軸が異なる偏光板２３５が設けられている。
【００２６】
このような構成の液晶パネル２では、バックライト６から発せられた光は、偏光板２２５で偏光された後、第１の基板２２および各画素電極２２３を介して、液晶層２４に入射する。液晶層２４に入射した光は、各画素毎に配向状態が制御された液晶により強度変調される。強度変調された各光は、有色層２３３、走査電極２３２および第２の基板２３を通過した後、偏光板２３５で偏光され、外部に出射する。これにより、液晶表示装置１では、第２の基板２３の液晶層２４と反対側から、例えば、文字、数字、図形等のカラー画像（動画および静止画の双方を含む）を視認することができる。
【００２７】
＜透明導電膜形成用組成物＞
次に、本発明の透明導電膜形成用組成物について説明する。
本発明の透明導電膜形成用組成物は、前述したような画素電極２２３および走査電極２３２を構成する透明導電膜の形成に用いられものであり、主として無機酸化物で構成された導電性粒子と、加熱により収縮して導電性粒子同士の緻密化を促進する緻密化促進物質と、液状媒体（分散媒）とを含むものである。
【００２８】
透明導電膜を形成する際には、透明導電膜形成用組成物を基材上に供給して被膜を形成し、その後、この被膜に熱処理を施すことにより、透明導電膜を得ることができる。
このとき、透明導電膜形成用組成物が緻密化促進物質を含むことにより、前記熱処理により、緻密化促進物質が収縮し、導電性粒子同士の緻密化を促進する。これにより、導電性粒子同士の接触面積が増大し、その結果、得られた透明導電膜では、より高い導電性が得られる。また、導電性粒子同士が緻密化する（導電性粒子の密度が高くなる）ことにより、得られた透明導電膜では、膜の強度および密着性の向上、膜特性の安定化を図ることができる。
【００２９】
導電性粒子の主材料である無機酸化物としては、導電性を有するものであれば、いかなるものも使用可能であるが、比較的高い透明性（光透過性）を有するものが好ましい。
かかる無機酸化物としては、例えば、Ｌｉ、Ｂｅ、Ｂ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｌａ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ等を含む酸化物が挙げられる。
【００３０】
これらの中でも、無機酸化物としては、特に、Ｓｎを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）、Ｓｂを含有する酸化スズ（ＡＴＯ）、Ｆを含有する酸化スズ（ＦＴＯ）、Ａｌ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｔｉのうちの少なくとも１種を含有する酸化亜鉛が好ましい。これらの無機酸化物を主材料とする導電性粒子は、特に高い導電性と透明性とを有するものとなる。
【００３１】
また、以上のような導電性粒子は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いるようにしてもよい。
なお、導電性粒子として、Ｓｎを含有する酸化インジウム（ＩＴＯ）を主材料とする粒子を用いる場合には、インジウムとスズとの原子比（インジウム／スズ比）は、９９／１〜８０／２０であるのが好ましく、９７／３〜８５／１５であるのがより好ましい。
このような導電性粒子の形状は、例えば、球状、針状、葉状等のいかなるものであってもよいが、球状であるのが好ましい。球状の導電性粒子を用いることにより、導電性粒子同士をより確実に緻密化させることができる。
【００３２】
この場合、導電性粒子の平均粒径は、２〜２０００ｎｍであるのが好ましく、５〜１０００ｎｍであるのがより好ましく、１０〜５００ｎｍであるのがさらに好ましい。導電性粒子の平均粒径が小さ過ぎると、導電性微粒子の表面積の増大に伴う経時的な膜特性の変化が顕著になるおそれがある。一方、導電性粒子の平均粒径が大き過ぎると、形成された透明導電膜において、導電性粒子同士の空隙が大きくなり、その結果、十分な導電性が得られなかったり、膜の強度、密着性および膜特性が低下するおそれがある。
【００３３】
なお、他の形状の導電性粒子を用いる場合、これらの導電性粒子は、その最大長さの平均値が前記平均粒径の範囲となるようにするのが好ましい。
また、導電性粒子は、それらをより確実に緻密化（密着）させる観点からは、単一の形状のものを用いるのが好ましいが、２種以上の異なる形状のものを組み合わせて用いるようにしてもよい。
【００３４】
このような導電性粒子は、これを分散させる液状媒体１重量部に対して０．０５〜０．９重量部となるよう混合するのが好ましく、０．１〜０．５重量部となるように混合するのがより好ましい。導電性粒子の混合量（添加量）が少な過ぎると、形成される透明導電膜が薄膜化しすぎて断線しやすくなったり、導電膜として十分な導電性が得られないおそれがある。一方、導電性粒子の混合量が多過ぎると、透明導電膜が厚膜化して透過率が低下したり、導電性粒子の透明導電膜形成用組成物中での分散性が低下し、透明導電膜形成用組成物の調製や基材上への塗布（供給）が困難になるおそれがある。
【００３５】
緻密化促進物質は、導電性粒子同士の緻密化を促進することができるものであれば、いかなるものであってもよいが、室温から４００℃（好ましくは３５０℃）まで加熱したとき、その重量減少率が１０％以上であるものが好適である。
ここで、重量減少率とは、［（室温での重量−加熱後の重量）／室温での重量］×１００（％）で算出される値である。
【００３６】
重量減少率が前記範囲の緻密化促進物質を用いることにより、導電性粒子同士の緻密化をより促進することができ、形成された透明導電膜をより導電性に優れたものとすることができる。
また、緻密化促進物質としては、透明導電膜が形成された後において、導電性粒子同士の空隙を埋めるように残存するものであるのが好ましい。これにより、形成された透明導電膜の膜強度をより向上させることができる。
【００３７】
このような緻密化促進物質としては、加熱により、例えば加水分解、熱分解等をして、縮合反応を生じる物質（熱分解性物質）が好適である。緻密化促進物質として熱分解性物質を使用することにより、この熱分解性物質の反応の過程で、導電性粒子同士の緻密化が促進されるとともに、その反応生成物が導電性粒子同士の空隙を埋めるように残存する。これにより、形成された透明導電膜は、導電性、膜強度および密着性、膜特性の安定性がより優れたものとなる。
【００３８】
また、緻密化促進物質およびその収縮物は、導電性を有するものであってもよく、導電性を有さないもののいずれであってもよいが、少なくとも収縮物の状態において導電性を有するもの（導電性材料）であるのが好ましい。これにより、形成された透明導電膜の導電性をより向上させることができる。
ここで、緻密化促進物質の収縮物とは、加熱により収縮（変化）した後の緻密化促進物質のことを言う。
【００３９】
以上のようなことを考慮した場合、緻密化促進物質としては、加熱により無機酸化物（導電性酸化物）に変化する無機酸化物前駆体を用いるのが特に好ましい。
無機酸化物前駆体としては、Ｌｉ、Ｂｅ、Ｂ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｌａ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ等のアルコキシドや塩、または、これらの誘導体や錯体等が挙げられる。
【００４０】
アルコキシドとしては、例えば、メトキシド、エトキシド、プロポキシド、イソプロポキシド、ブトキシド等が挙げられる。塩としては、例えば、ハロゲン化物、蟻酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、シュウ酸塩、硝酸塩等が挙げられる。
また、誘導体としては、例えば、水和物、中和または加水分解により得られる水酸化物等が挙げられる。錯体としては、例えば、α−またはβ−ジケトン類、α−またはβ−ケト酸類、α−またはβ−ケト酸エステル類、アミノアルコール類等とのキレート化合物が挙げられる。
【００４１】
これらの無機酸化物前駆体は、目的とする無機酸化物の種類等に応じて、１種または２種以上を適宜組み合わせて用いるようにすればよい。
なお、無機酸化物（金属酸化物）前駆体として、インジウム化合物と有機スズ化合物とを組み合わせて用いる場合には、インジウムとスズとの原子比（インジウム／スズ比）は、９９／１〜８０／２０であるのが好ましく、９７／３〜８５／１５であるのがより好ましい。
【００４２】
また、無機酸化物前駆体として、例えば、アルコキシドや塩を用いる場合には、無機酸化物前駆体の無機酸化物への変化（変換）を促進する酸触媒、塩基触媒等を添加するのが好ましい。
酸触媒としては、例えば、塩酸、硝酸、ホウ酸、ホウフッ化水素酸等の無機酸や、酢酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸等が挙げられる。
【００４３】
このような緻密化促進物質は、形成された透明導電膜において、その収縮物が導電性粒子１重量部に対して０．０１〜１重量部（特に、０．０５〜０．７重量部）となるように混合するのが好ましい。
緻密化促進物質の混合量（添加量）が少な過ぎると、導電性粒子同士の緻密化が不十分となるおそれがある。一方、緻密化促進物質の混合量は、前記上限値を超えて多くしても、それ以上の効果の増大が見込めない。
【００４４】
また、緻密化促進物質として無機酸化物前駆体を用いる場合、加熱により得られる無機酸化物と、導電性粒子の主材料である無機酸化物とは、同種のものであるのが好ましい。例えば、導電性粒子がＩＴＯを主材料として構成される場合、緻密化促進物質には、ＩＴＯ前駆体を用いるのが好ましい。これにより、形成された透明導電膜は、より導電性、膜強度および密着性、膜特性の安定性が優れたものとなる。
なお、この場合、緻密化促進物質の加熱により得られる無機酸化物と、導電性粒子の主材料である無機酸化物とは、それらの組成が若干異なるものであってもよく、同一であってもよい。
【００４５】
液状媒体（導電性粒子や緻密化促進物質を溶解または分散する液体）としては、例えば、水、メタノール、エタノール、ｎ−またはｉ−プロパノール、ｎ−、ｓ−またはｔ−ブタノールのような単価アルコール類、エチレングリコール、トリメチレングリコールのようなグリコール類（多価アルコール類）、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、アセチルアセトン、イソホロンのようなケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルのようなエステル類、メトキシエタノール、エトキシエタノールのようなエーテルアルコール類、ジオキサン、テトラヒドロフランのようなエーテル類、酸アミド類、芳香族炭化水素類等が挙げられ、これらのうちの１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、液状媒体としては、水、アルコール類、グリコール類、ケトン類を用いるのが好ましい。これらの液体を用いることにより、透明導電膜形成用組成物中で導電性粒子を良好に分散させることができ、基材上への透明導電膜形成用組成物の供給（塗布）を容易かつ確実に行うことができる。
【００４６】
＜透明導電膜の形成方法＞
次に、本発明の透明導電膜の形成方法について説明する。
本発明の透明導電膜の形成方法では、前述したような透明導電膜形成用組成物を用いて、基材上に透明導電膜を形成する。
図２は、本発明の透明導電膜の形成方法を説明するための模式図である。なお、以下の説明では、図２中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
本発明の透明導電膜の形成方法は、［１］透明導電膜形成用組成物の供給工程と、［２］被膜の乾燥工程と、［３］被膜の熱処理工程とを有している。以下、これらの工程について、順次説明する。
【００４７】
［１］  透明導電膜形成用組成物の供給工程
まず、基板（平板状の基材）７を用意する（図２（ａ）参照）。この基板７の構成材料、形状、寸法等は、特に限定されない。
本発明の透明導電膜の形成方法を、前述したような液晶表示装置１の画素電極２２３、信号電極２２４の形成に適用する場合には、基板７は、第１の基板２２および第２の基板２３で挙げたものが使用される。
【００４８】
ここで、透明導電膜形成用組成物を調製するのに液状媒体として、例えば、水、アルコール類、グリコール類等を用いる場合、基板７の透明導電膜を形成する領域には、親水化処理を施すのが好ましい。これにより、均一な厚さの被膜８１を形成することができる。
親水化処理としては、例えばプラズマ処理、グロー放電、コロナ放電、紫外線照射等の物理活性化処理の他、界面活性剤、水溶性シリコン、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等の付与（塗布）等により行うことができる。
【００４９】
次に、図２（ｂ）に示すように、基板７上に透明導電膜形成用組成物を供給し、被膜８１を形成する。
基板７上に透明導電膜形成用組成物を供給する方法としては、特に限定されず、例えば、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法等の各種塗布法を用いるのが好適である。
【００５０】
塗布法によれば、比較的容易かつ精度よく、目的とする膜厚の被膜８１を形成することができる。また、所定形状のマスクを用いることにより、被膜８１のパターンニングを容易に行うこともできる。
なお、被膜８１の平均厚さは、目的とする透明導電膜の厚さ、供給（塗布）する透明導電膜形成用組成物中の導電性粒子の濃度（含有量）等に応じて適宜設定される。
【００５１】
［２］  被膜の乾燥工程
次に、形成された被膜８１を乾燥し、液状媒体の一部または全部を除去（脱分散媒）する（図２（ｃ）参照）。
この被膜８１を乾燥する温度（乾燥温度）は、液状媒体の種類等に応じて適宜設定され、特に限定されないが、２０〜２００℃であるのが好ましく、５０〜１５０℃であるのがより好ましい。
また、被膜８１を乾燥する時間も、特に限定されず、乾燥温度を前記範囲とする場合、１〜４０分であるのが好ましく、１〜２０分であるのがより好ましい。
【００５２】
なお、本工程［２］において、乾燥温度や乾燥時間等を適宜設定して、被膜８１の乾燥速度を調節することにより、乾燥後の被膜８１において、導電性粒子９をより整然と並べる（配置する）ことができ、次工程［３］による熱処理により、導電性粒子９同士の緻密化をより確実に進行させることができる。
かかる観点からは、本工程［２］は、被膜８１に対して、例えば超音波の付与等により振動を与えつつ行うようにしてもよい。
【００５３】
[３]  被膜の熱処理工程
次に、乾燥後の被膜８１に熱処理（例えば焼成等）を施して、硬化（固化）させる。これにより、本発明の透明導電膜８２が得られる。
この熱処理を行うと、図２（ｄ）に示すように、緻密化促進物質８が収縮して、この収縮により導電性粒子９同士の緻密化が促進され、導電性粒子９が整然と配置するようになり、その結果、導電性粒子９の密度が高まる。また、このとき、導電性粒子９同士の間に拡散が生じ、互いに固着（焼結）される。
【００５４】
例えば、緻密化促進物質８として、金属アルコキシドを用いた場合には、加熱により金属アルコキシドが加水分解し、アルコールと金属の水酸化物が生成する。さらに、この金属水酸化物に縮合反応が生じることにより、金属酸化物（緻密化促進物質の収縮物８’）が生成する。
この反応の過程で、導電性粒子９同士の緻密化（被膜８１の収縮）が促進されるとともに、生成した金属酸化物（緻密化促進物質の収縮物８’）が導電性粒子９同士の空隙を埋める。その結果、導電性粒子９同士の接触面積が増大し、導電性、膜強度および密着性、膜特性の安定性に優れた透明導電膜８２が得られる。
【００５５】
この熱処理の温度（加熱温度）は、特に限定されないが、５０〜５００℃であるのが好ましく、１５０〜３５０℃であるのがより好ましい。加熱温度が低過ぎると、導電性粒子９同士の固着や、緻密化促進物質８の収縮が十分に進行しないおそれがある。一方、熱処理の温度を前記上限値を超えて高くしても、それ以上の効果が見込めない。
また、熱処理の時間（加熱時間）も、特に限定されず、加熱温度を前記範囲とする場合、１〜１８０分であるのが好ましく、５〜１２０分であるのがより好ましい。前記範囲の加熱時間で、導電性粒子９同士の固着や、緻密化促進物質８の収縮を十分に進行させることができる。
【００５６】
また、この熱処理における雰囲気は、酸化性雰囲気、非酸化性雰囲気、還元性雰囲気のいずれであってもよい。
なお、熱処理は、複数回に繰り返し行ってもよく、この場合、各熱処理における熱処理条件は、同一であっても異なっていてもよい。
このように、本発明の透明導電膜の形成方法では、湿式プロセスによって透明導電膜を形成するので、簡易な設備および工程により低コストで透明導電膜を形成することができる。
【００５７】
また、透明導電膜形成用組成物に、導電性粒子同士の緻密化を促進する緻密化促進物質が混合（添加）されているので、導電性粒子同士の接触面積を増大させることができ、これらが良好に導通し、また膜強度および密着性、膜特性の安定性に優れた透明導電膜が得られる。
したがって、このような透明導電膜形成用組成物および透明導電膜の形成方法を用いて、図１に示す液晶表示装置１の画素電極２２３および走査電極２３２を形成することにより、液晶の駆動性能、耐久性等の各種特性に優れた液晶表示装置１を、低コストで製造することができる。
【００５８】
なお、前記実施形態では、本発明の電子デバイスを、アクティブマトリックス駆動方式の透過型液晶表示装置に適用した場合を代表に説明したが、本発明の電子デバイスは、パッシブマトリックス駆動方式の透過型液晶表示装置に適用することができるのはもちろんのこと、反射型液晶表示装置や、電気光学物質として有機または無機ＥＬ材料を用いたＥＬ表示装置、電気光学物質として電気泳動粒子を用いた電気泳動表示装置に適用することもできる。
【００５９】
＜電子機器＞
本発明の電子デバイスは、各種電子機器の表示部に用いることができる。
図３は、本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
この図において、パーソナルコンピュータ１１００は、キーボード１１０２を備えた本体部１１０４と、表示ユニット１１０６とにより構成され、表示ユニット１１０６は、本体部１１０４に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。
このパーソナルコンピュータ１１００においては、表示ユニット１１０６が前述の液晶表示装置（電気光学装置）１を備えている。
【００６０】
図４は、本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。
この図において、携帯電話機１２００は、複数の操作ボタン１２０２、受話口１２０４および送話口１２０６とともに、前述の液晶表示装置（電気光学装置）１を表示部に備えている。
【００６１】
図５は、本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。なお、この図には、外部機器との接続についても簡易的に示されている。
ここで、通常のカメラは、被写体の光像により銀塩写真フィルムを感光するのに対し、ディジタルスチルカメラ１３００は、被写体の光像をＣＣＤ（Charge Coupled Device）などの撮像素子により光電変換して撮像信号（画像信号）を生成する。
【００６２】
ディジタルスチルカメラ１３００におけるケース（ボディー）１３０２の背面には、前述の液晶表示装置１が表示部に設けられ、ＣＣＤによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、被写体を電子画像として表示するファインダとして機能する。
ケースの内部には、回路基板１３０８が設置されている。この回路基板１３０８は、撮像信号を格納（記憶）し得るメモリが設置されている。
【００６３】
また、ケース１３０２の正面側（図示の構成では裏面側）には、光学レンズ（撮像光学系）やＣＣＤなどを含む受光ユニット１３０４が設けられている。
撮影者が液晶表示装置１に表示された被写体像を確認し、シャッタボタン１３０６を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信号が、回路基板１３０８のメモリに転送・格納される。
【００６４】
また、このディジタルスチルカメラ１３００においては、ケース１３０２の側面に、ビデオ信号出力端子１３１２と、データ通信用の入出力端子１３１４とが設けられている。そして、図示のように、ビデオ信号出力端子１３１２にはテレビモニタ１４３０が、デ−タ通信用の入出力端子１３１４にはパーソナルコンピュータ１４４０が、それぞれ必要に応じて接続される。さらに、所定の操作により、回路基板１３０８のメモリに格納された撮像信号が、テレビモニタ１４３０や、パーソナルコンピュータ１４４０に出力される構成になっている。
【００６５】
なお、本発明の電子機器は、図３のパーソナルコンピュータ（モバイル型パーソナルコンピュータ）、図４の携帯電話機、図５のディジタルスチルカメラの他にも、例えば、テレビや、ビデオカメラ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、ラップトップ型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳（通信機能付も含む）、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニタ、電子双眼鏡、ＰＯＳ端末、タッチパネルを備えた機器（例えば金融機関のキャッシュディスペンサー、自動券売機）、医療機器（例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電表示装置、超音波診断装置、内視鏡用表示装置）、魚群探知機、各種測定機器、計器類（例えば、車両、航空機、船舶の計器類）、フライトシュミレータ、その他各種モニタ類、プロジェクター等の投射型表示装置等に適用することができる。
【００６６】
以上、本発明の透明導電膜形成用組成物、透明導電膜の形成方法、透明導電膜、電子デバイスおよび電子機器を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
例えば、本発明の透明導電膜形成用組成物では、必要に応じて、各種の添加剤を添加するようにしてもよい。
【００６７】
また、本発明の透明導電膜の形成方法では、任意の目的の工程が１または２以上追加されてもよい。
さらに、本発明の電子デバイスおよび電子機器では、各部の構成は、同様の機能を発揮する任意の構成のものに置換することができ、また、任意の構成を付加することもできる。
【実施例】
【００６８】
次に、本発明の具体的実施例について説明する。
Ａ．透明導電膜
以下のようにして、実施例１〜３および比較例１〜３において、それぞれ、透明導電膜をガラス基板上に１０個ずつ形成した。
【００６９】
（実施例１）
＜１−１＞  ガラス基板を用意し、このガラス基板の透明導電膜を形成する領域に、大気圧プラズマにより発生させた活性酸素による親水化処理を施した。
＜１−２＞  次に、液状媒体として水を用いて、この水に、ＩＴＯ粒子（平均粒径：２０ｎｍ）、塩化インジウムおよび塩化スズを、それぞれ、次のような混合比となるように混合して、透明導電膜形成用組成物を調製した。
ＩＴＯ粒子    ：水１重量部に対して０．１重量部
塩化インジウム：ＩＴＯ粒子１重量部に対して０．７重量部
塩化スズ      ：インジウム／スズ（原子比）＝９２．５／７．５
なお、塩化インジウムと塩化スズとを、インジウム／スズ（原子比）＝９２．５／７．５で混合した混合物（緻密化促進物質）は、室温から３５０℃まで加熱したところ、その重量減少率が１０％以上であった。
【００７０】
＜１−３＞  次に、この透明導電膜形成用組成物を、スピンコート法により、ガラス基板上に塗布して被膜を形成した。
なお、ガラス基板の回転数は、２０００ｒｐｍで行った。
＜１−４＞  次に、得られた被膜を、大気（酸化性雰囲気）中、温度１００℃×時間５分で乾燥した。
【００７１】
＜１−５＞  次に、乾燥後の被膜を、酸素雰囲気（酸化性雰囲気）中、温度２００℃×時間１０分、さらに、窒素雰囲気（非酸化性雰囲気）中、温度３５０℃×時間１０分で熱処理した。これにより、透明導電膜を得た。
なお、透明導電膜中において、ＩＴＯ粒子：ＩＴＯ（緻密化促進物質の収縮物）＝１：０．４３（重量比）であった。
【００７２】
（実施例２）
＜２−１＞  ガラス基板を用意し、このガラス基板の透明導電膜を形成する領域に、大気圧プラズマにより発生させた活性酸素による親水化処理を施した。
＜２−２＞  次に、液状媒体としてエタノールを用いて、このエタノールに、ＡＴＯ粒子（平均粒径：１００ｎｍ）、ジ−ｎ−ブチルスズ−ジ−アセテート（有機スズ化合物）および塩化アンチモンを、それぞれ、次のような混合比となるように混合して、透明導電膜形成用組成物を調製した。
ＡＴＯ粒子    ：エタノール１重量部に対して０．３重量部
有機スズ化合物：ＡＴＯ粒子１重量部に対して０．５重量部
塩化アンチモン：スズ／アンチモン（原子比）＝８０／２０
なお、有機スズ化合物と塩化アンチモンとを、スズ／アンチモン（原子比）＝８０／２０で混合した混合物（緻密化促進物質）は、室温から３５０℃まで加熱したところ、その重量減少率が１０％以上であった。
【００７３】
＜２−３＞  次に、この透明導電膜形成用組成物を、スピンコート法により、ガラス基板上に塗布して被膜を形成した。
なお、ガラス基板の回転数は、２０００ｒｐｍで行った。
＜２−４＞  次に、得られた被膜を、大気（酸化性雰囲気）中、温度８０℃×時間５分で乾燥した。
＜２−５＞  次に、乾燥後の被膜を、窒素雰囲気（非酸化性雰囲気）中、温度４００℃×時間１０分で熱処理した。これにより、透明導電膜を得た。
なお、透明導電膜中において、ＡＴＯ粒子：ＡＴＯ（緻密化促進物質の収縮物）＝１：０．２２（重量比）であった。
【００７４】
（実施例３）
＜３−１＞  ガラス基板を用意し、このガラス基板の透明導電膜を形成する領域に、大気圧プラズマにより発生させた活性酸素による親水化処理を施した。
＜３−２＞  次に、液状媒体としてエタノール水溶液を用いて、このエタノール水溶液に、ＦＴＯ粒子（平均粒径：１００ｎｍ）、ジ−ｎ−ブチルスズ−ジ−アセテート（有機スズ化合物）およびフッ化アンモニウムを、それぞれ、次のような混合比となるように混合して、透明導電膜形成用組成物を調製した。
ＦＴＯ粒子        ：エタノール水溶液１重量部に対して０．３５重量部
有機スズ化合物    ：ＦＴＯ粒子１重量部に対して０．５重量部
フッ化アンモニウム：スズ／フッ素（原子比）＝４０／６０
なお、有機スズ化合物とフッ化アンモニウムとを、スズ／フッ素（原子比）＝４０／６０で混合した混合物（緻密化促進物質）は、室温から３５０℃まで加熱したところ、その重量減少率が１０％以上であった。
【００７５】
＜３−３＞  次に、この透明導電膜形成用組成物を、スピンコート法により、ガラス基板上に塗布して被膜を形成した。
なお、ガラス基板の回転数は、２０００ｒｐｍで行った。
＜３−４＞  次に、得られた被膜を、大気（酸化性雰囲気）中、温度１５０℃×時間５分で乾燥した。
＜３−５＞  次に、乾燥後の被膜を、窒素雰囲気（非酸化性雰囲気）中、温度４００℃×時間１０分で熱処理した。これにより、透明導電膜を得た。
なお、透明導電膜中において、ＦＴＯ粒子：ＦＴＯ（緻密化促進物質の収縮物）＝１：０．２５（重量比）であった。
【００７６】
（比較例１）
塩化インジウムおよび塩化スズを用いなかった以外は、前記実施例１と同様にして調製した透明導電膜形成用組成物を用いて、透明導電膜を形成した。
（比較例２）
ジ−ｎ−ブチルスズ−ジ−アセテート（有機スズ化合物）および塩化アンチモンを用いなかった以外は、前記実施例２と同様にして調製した透明導電膜形成用組成物を用いて、透明導電膜を形成した。
（比較例３）
ジ−ｎ−ブチルスズ−ジ−アセテート（有機スズ化合物）およびフッ化アンモニウムを用いなかった以外は、前記実施例３と同様にして調製した透明導電膜形成用組成物を用いて、透明導電膜を形成した。
［評価１］
各実施例および各比較例で形成した透明導電膜について、それぞれ、平均厚さ、比抵抗値、波長５５０ｎｍの光の透過率を測定し、それぞれ、１０個の平均値を求めた。
その結果を表１に示す。
【００７７】
【表１】
2005078984.tif 000003
【００７８】
表１に示すように、各実施例の透明導電膜は、対応する各比較例に対して、光の透過率については同等であるが、比抵抗値が低く、導電性に優れるものであった。
［評価２］
各実施例および各比較例で形成した透明導電膜上に、それぞれ、６０ｎｍのポリイミド膜を形成した後、このポリイミド膜に対して、ラビング装置を用いてラビング処理を施した。
【００７９】
なお、ラビング処理の条件は、押込み量：０．４ｍｍ、回転数：６００ｒｐｍ、送り込み速度：１ｍ／ｍｉｎとした。
そして、目視にてポリイミド膜と透明導電膜との剥離の有無を観察した結果、各実施例で形成された透明導電膜では、いずれも、ポリイミド膜の剥離部分が観察されなかったのに対し、各比較例で形成された透明導電膜では、いずれも、ポリイミド膜の剥離部分の存在が確認された。
この結果は、各実施例で形成された透明導電膜が十分な膜強度および密着性を有することを示唆するものである。
【００８０】
Ｂ．液晶表示装置
次に、所定パターンの透明導電膜を、前記実施例１〜３および比較例１〜３と同様にして形成して、図１に示すような液晶表示装置を製造した。
透明導電膜を、前記実施例１〜３と同様にして形成した液晶表示装置は、いずれも、応答速度が速く、色ムラ等の発生も認められなかった。
【００８１】
これに対し、透明導電膜を、前記比較例１〜３と同様にして形成した液晶表示装置は、いずれも、透明導電膜の比抵抗値が１０−２Ω・ｃｍ台と高く、このため、液晶素子特有のＣＲ時定数が増加、画像信号に対する反応時間が長いもの（低応答速度）であった。また、色ムラの発生も生じた。
さらに、このような現象は、経時的に顕著となった。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１】本発明の透明導電膜形成用塗液および透明導電膜の形成方法によって形成された画素電極および走査電極を備える透過型液晶表示装置を示す分解斜視図である。
【図２】本発明の透明導電膜の形成方法を説明するための模式図である。
【図３】本発明の電子機器を適用したモバイル型（またはノート型）のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【図４】本発明の電子機器を適用した携帯電話機（ＰＨＳも含む）の構成を示す斜視図である。
【図５】本発明の電子機器を適用したディジタルスチルカメラの構成を示す斜視図である。
【図６】従来の方法によって形成された透明導電膜を示す模式図である。
【符号の説明】
【００８３】
１‥‥液晶表示装置  ２‥‥液晶パネル  ２２‥‥第１の基板  ２２１‥‥上面  ２２２‥‥ＴＦＤ素子  ２２３‥‥画素電極  ２２４‥‥信号電極  ２２５‥‥偏光板  ２２８‥‥引き出し部  ２２９‥‥金属層  ２３‥‥第２の基板  ２３１‥‥下面  ２３２‥‥走査電極  ２３３‥‥有色層  ２３４‥‥ブラックマトリックス  ２３５‥‥偏光板  ２４‥‥液晶層  ６‥‥バックライト  ７‥‥基板  ８‥‥緻密化促進物質  ８’‥‥緻密化促進物質の収縮物  ８１‥‥被膜  ８２‥‥透明導電膜  ９‥‥導電性粒子  １１００‥‥パーソナルコンピュータ  １１０２‥‥キーボード  １１０４‥‥本体部  １１０６‥‥表示ユニット  １２００‥‥携帯電話機  １２０２‥‥操作ボタン  １２０４‥‥受話口  １２０６‥‥送話口  １３００‥‥ディジタルスチルカメラ  １３０２‥‥ケース（ボディー）  １３０４‥‥受光ユニット  １３０６‥‥シャッタボタン  １３０８‥‥回路基板  １３１２‥‥ビデオ信号出力端子  １３１４‥‥データ通信用の入出力端子  １４３０‥‥テレビモニタ  １４４０‥‥パーソナルコンピュータ  １１０‥‥透明導電膜  １２０‥‥導電性粒子  １３０‥‥空隙
【図１】
2005078984.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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