(57)【要約】【課題】  高収率で、且つ簡便な方法により工業的規模で３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンを包含する３−メチルアルカン−２−オン類を製造する方法を提供すること。【解決手段】  下記式（８）【化１】2005089308.tif 000044（式中、ＲはＣ１０からＣ５０の分岐してもよいアルキル基またはアルケニル基を示し、Ｘは脱離基を示す。）で表される化合物から６工程を経て、下記式（１）【化２】2005089308.tif 000045（式中、Ｒは上記したと同義である。）で表される３−メチルアルカン−２−オン類の製造方法。【選択図】        なし        【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（８）
【化１】
2005089308.tif 000024
（式中、ＲはＣ１０からＣ５０の分岐してもよいアルキル基またはアルケニル基を示し、Ｘは脱離基を示し、ハロゲン原子又は下記式（１０）を示す。）
【化２】
2005089308.tif 000025
（式中、Ｒ’はメチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基および４−メチルフェニル基を示す。）
で表される化合物を、下記式（７）
【化３】
2005089308.tif 000026
（式中、Ｒ１は置換基を有してもよい低級アルキル基を示す。）
で表されるアセト酢酸エステル類と反応させ、下記式（６）
【化４】
2005089308.tif 000027
（式中、ＲおよびＲ１は上記したと同義である。）
で表される２−アルキル又はアルケニルアセト酢酸エステル類を得、ケトン部をアセタール化して保護基を導入して下記式（５）
【化５】
2005089308.tif 000028
（式中、ＲおよびＲ１は上記したと同義であり、Ｒ２は同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換基を有してもよい低級アルキル基を示すか、又は二つのＯＲ２は一緒になって下記式（９）を示し、ここでＲ３は置換基を有してもよい低級アルキレン基を示す。）
【化６】
2005089308.tif 000029
で表される化合物を得、該化合物を還元して下記式（４）
【化７】
2005089308.tif 000030
（式中、ＲおよびＲ２は上記したと同義である。）
で表される化合物を得、該化合物の保護基を脱保護して下記式（３）
【化８】
2005089308.tif 000031
（式中、Ｒは上記したと同義である。）
で表される化合物を得、脱水して下記式（２）
【化９】
2005089308.tif 000032
（式中、Ｒは上記したと同義である。）
で表される化合物を得、次いで水素添加することを特徴とする下記式（１）
【化１０】
2005089308.tif 000033
（式中、Ｒは上記したと同義である。）
で表される３−メチルアルカン−２−オン類の製造方法。
【請求項２】
下記式（８’）
【化１１】
2005089308.tif 000034
（式中、Ｘは脱離基を示し、ハロゲン原子又は下記式（１０）を示し、破線は二重結合又は単結合を示し、二重結合の場合のシス／トランスは限定されず、混合物であってもよい。）
【化１２】
2005089308.tif 000035
（式中、Ｒ’はメチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基および４−メチルフェニル基を示す。）
で表される化合物を、下記式（７）
【化１３】
2005089308.tif 000036
（式中、Ｒ１は置換されていてもよい低級アルキル基を示す。）
で表されるアセト酢酸エステル類と反応させ、下記式（６’）
【化１４】
2005089308.tif 000037
（式中、Ｒ１および破線は上記したと同義である。）
で表される２−（８−置換）−アセト酢酸エステル類を得、ケトン部をアセタール化して保護基を導入して下記式（５’）
【化１５】
2005089308.tif 000038
（式中、Ｒ１および破線は上記したと同義であり、Ｒ２は同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換されていてもよい低級アルキル基を示すか、又は二つのＯＲ２は一緒になって下記式（９）を示し、ここでＲ３は置換されていてもよい低級アルキレン基を示す。）
【化１６】
2005089308.tif 000039
で表される化合物を得、該化合物を還元して下記式（４’）
【化１７】
2005089308.tif 000040
（式中、Ｒ２および破線は上記したと同義である。）
で表される化合物を得、該化合物の保護基を脱保護して下記式（３’）
【化１８】
2005089308.tif 000041
で表される化合物を得、脱水して下記式（２’）
【化１９】
2005089308.tif 000042
で表される化合物を得、次いで水素添加することを特徴とする下記式（１’）
【化２０】
2005089308.tif 000043
で表される３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンを包含する３−メチルアルカン−２−オン類の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンは、ゴキブリの性フェロモンとして単離、構造決定された化合物である。該化合物の合成方法はこれまで種々提案されている。例えば、エチルメチルアセトアセテートと１−ブロモ−８−メチル−８−ヘキサコセンを反応して得られたエチル  ２，１０−ジメチル−２−アセチル−１１−オクタコセノエートを加水分解し、次いで脱炭酸反応を行い、得られる３，１１−ジメチル−２−オキソ−１１−ノナコセンを接触水素添加によって得る方法（例えば、非特許文献１、非特許文献２、非特許文献３：以下、タイプＡの合成方法という）、２−ヒドロキシ−３，１１−ジメチルノナコサンを酸化して得る方法（例えば、特許文献１、非特許文献４、非特許文献５、非特許文献６、非特許文献７：以下、タイプＢの合成方法という）、２，１０−ジメチルオクタコサンをメチルリチウムの存在下に処理する方法（例えば、非特許文献８、非特許文献９、非特許文献１０：以下、タイプＣの合成方法という）、１−ブロモ−８−メチルヘキサコサンを（２−オキソブチリデン）トリフェニルホスホランと反応し、得られた３，１１−ジメチル−２−オキソノナコシリデントリフェニルホスホランを加水分解する方法（例えば、非特許文献１１：以下、タイプＤの合成方法）、２，１０−ジメチルオクタコサン酸エステルをトリアルキルシリルメチルリチウムと反応させ、脂肪族アルコールと反応させるか、又はジメチルスルホキシド中の塩基と反応させた後、還元する方法（例えば、特許文献２：以下、タイプＥの合成方法）、メチルアセトアセテートとエチル  ４−ブロモブチレートを反応させ、次いで加水分解、脱炭酸により得られた５−メチル−６−オキソヘプタン酸を６−メチルテトラコサン酸と共に共電解する方法（例えば、非特許文献１２：以下、タイプＦの合成方法）、３−ヒドロキシ−３−メチル−１−ペンテン−１−インから８工程を経て得られた６−メチル−５−エン−７−インテトラコサナールを、リチウムの存在下に別途調製した（４−エチレンジオキソ）−３−メチル−１−クロロペンタンと反応させて得られる３，１１−ジメチル−２−エチレンジオキソ−６−ヒドロキシ−１０−ノナコセン−１２−インを得た後、４工程を経て目的化合物を得る方法（例えば、非特許文献１３：以下、タイプＧの合成方法）、１０−ウンデシレン酸から６工程を経て得られた１−メチル−２−（８−メチルヘキサコシル）−１−シクロプロパノールを水酸化カリウム中で反応して得る方法（例えば、非特許文献１４：以下、タイプＨの合成方法）などが提案されている。
【特許文献１】特許第２７３６４６５号公報
【特許文献２】特開昭６０−６４９４２号公報
【非特許文献１】Agr.Biol.Chem.,40(2),391-394(1976)
【非特許文献２】Appl.Entomol.Zool.,(10),10(1975)
【非特許文献３】Synthesis,(6),405-407(1977)
【非特許文献４】Tetrahedron,Vol.46,4473-4486(1990)
【非特許文献５】Tetrahedron,Vol.37(7),1329-1340(1981)
【非特許文献６】Tetrahedron Letters,No.37,3447-3450(1978)
【非特許文献７】Tetrahedron Letters,No.6,419-422(1976)
【非特許文献８】Tetrahedron Letters,No.28,651-654(1987)
【非特許文献９】Croatica Chemica Acta,Vol.59,No.1,177-181(1981)
【非特許文献１０】J.Org.Chem.,Vol.40,No.23,3456-3458(1975)
【非特許文献１１】J.Org.Chem.,Vol.40,No.16,2410-2411(1975)
【非特許文献１２】Chem.Ber.,113(2),451-456(1980)
【非特許文献１３】Tetrahedron,34(13),1931-1933(1978)
【非特許文献１４】Tetrahedron Letters,39,1823-1826(1998)
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら従来提案されている上記した３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンの製造方法はそれぞれ問題点があり、例えば、上記したタイプＡの合成方法では、小スケールでは順調に反応が進むが、スケールアップすることにより、例えば、脱炭酸工程でレトロクライゼン反応による副生成物が生成するなどの問題があり、タイプＢでは、反応工程中に水酸基のクロム酸などによる酸化工程を含み工業的な製法とは言い難い。またタイプＣでは、高価で発火性のあるメチルリチウムを使用しており、タイプＤでは、メチルケトン部のメチル基側をトリフェニルホスホランで保護して位置選択的にアルキル化を達成しているが、収率が低いという問題がある。さらにタイプＥでは、高価なシリル化合物を使用し、厳密な無水反応条件が必要であり、また、高価で毒性の高いジメチルスルホキシドを使用しており、またさらに、タイプＦでは、共電解装置が必要であり、タイプＧでは、多工程で、工業化に不向きな工程が多いという問題がある。さらにタイプＨでは、特殊な反応試薬（過剰量のグリニヤール試薬、リン、ヨウ素など）を用いたり、有毒なヒドラジンを使用しているなどの問題点があった。
【０００４】
従って、本発明の目的は、好収率、高純度で、且つ簡便な方法により工業的規模で３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンを包含する３−メチルアルカン−２−オン類を製造する方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
そこで本発明者らは、上記の課題を解決するため、新規合成法について鋭意検討を行った結果、今回、上記したタイプＡの合成方法に改良を加え、１−ハロゲノ−９−メチル−９−ヘプタコセンにアセト酢酸エステルを縮合させて得た２−（８−メチル−８−ヘキサコセン）−アセト酢酸エステル類のケトン部をアセタール化して保護基を導入し、次いでエステル部をアルコールまで還元し、脱保護、脱水、水素添加することにより、容易に目的化合物を好収率、高純度で工業的規模で製造できることを見出し本発明を完成するに至った。
【０００６】
従って、本発明は、下記式（８）
【０００７】
【化１】
2005089308.tif 000002
【０００８】
（式中、ＲはＣ１０からＣ５０の分岐してもよいアルキル基またはアルケニル基を示し、Ｘは脱離基を示し、ハロゲン原子又は下記式（１０）を示す。）
【０００９】
【化２】
2005089308.tif 000003
【００１０】
（式中、Ｒ’はメチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基および４−メチルフェニル基を示す。）
で表される化合物を、下記式（７）
【００１１】
【化３】
2005089308.tif 000004
【００１２】
（式中、Ｒ１は置換基を有してもよい低級アルキル基を示す。）
で表されるアセト酢酸エステル類と反応させ、下記式（６）
【００１３】
【化４】
2005089308.tif 000005
【００１４】
（式中、ＲおよびＲ１は上記したと同義である。）
で表される２−アルキル又はアルケニルアセト酢酸エステル類を得、ケトン部をアセタール化して保護基を導入して下記式（５）
【００１５】
【化５】
2005089308.tif 000006
【００１６】
（式中、ＲおよびＲ１は上記したと同義であり、Ｒ２は同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換基を有してもよい低級アルキル基を示すか、又は二つのＯＲ２は一緒になって下記式（９）を示し、ここでＲ３は置換基を有してもよい低級アルキレン基を示す。）
【００１７】
【化６】
2005089308.tif 000007
【００１８】
で表される化合物を得、該化合物を還元して下記式（４）
【００１９】
【化７】
2005089308.tif 000008
【００２０】
（式中、ＲおよびＲ２は上記したと同義である。）
で表される化合物を得、該化合物の保護基を脱保護して下記式（３）
【００２１】
【化８】
2005089308.tif 000009
【００２２】
（式中、Ｒは上記したと同義である。）
で表される化合物を得、脱水して下記式（２）
【００２３】
【化９】
2005089308.tif 000010
【００２４】
（式中、Ｒは上記したと同義である。）
で表される化合物を得、次いで水素添加することを特徴とする下記式（１）
【００２５】
【化１０】
2005089308.tif 000011
【００２６】
（式中、Ｒは上記したと同義である。）
で表される３−メチルアルカン−２−オン類の製造方法を提供するものである。
【００２７】
また本発明は、下記式（８’）
【００２８】
【化１１】
2005089308.tif 000012
【００２９】
（式中、Ｘは脱離基を示し、ハロゲン原子又は下記式（１０）を示し、破線は二重結合又は単結合を示し、二重結合の場合のシス／トランスは限定されず、混合物であってもよい。）
【００３０】
【化１２】
2005089308.tif 000013
【００３１】
（式中、Ｒ’はメチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基および４−メチルフェニル基を示す。）
で表される化合物を、下記式（７）
【００３２】
【化１３】
2005089308.tif 000014
【００３３】
（式中、Ｒ１は置換されていてもよい低級アルキル基を示す。）
で表されるアセト酢酸エステル類と反応させ、下記式（６’）
【００３４】
【化１４】
2005089308.tif 000015
【００３５】
（式中、Ｒ１および破線は上記したと同義である。）
で表される２−（８−置換）−アセト酢酸エステル類を得、ケトン部をアセタール化して保護基を導入して下記式（５’）
【００３６】
【化１５】
2005089308.tif 000016
【００３７】
（式中、Ｒ１および破線は上記したと同義であり、Ｒ２は同一でも異なっていてもよく、それぞれ置換されていてもよい低級アルキル基を示すか、又は二つのＯＲ２は一緒になって下記式（９）を示し、ここでＲ３は置換されていてもよい低級アルキレン基を示す。）
【００３８】
【化１６】
2005089308.tif 000017
【００３９】
で表される化合物を得、該化合物を還元して下記式（４’）
【００４０】
【化１７】
2005089308.tif 000018
【００４１】
（式中、Ｒ２および破線は上記したと同義である。）
で表される化合物を得、該化合物の保護基を脱保護して下記式（３’）
【００４２】
【化１８】
2005089308.tif 000019
【００４３】
で表される化合物を得、脱水して下記式（２’）
【００４４】
【化１９】
2005089308.tif 000020
【００４５】
で表される化合物を得、次いで水素添加することを特徴とする下記式（１’）
【００４６】
【化２０】
2005089308.tif 000021
【００４７】
で表される３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００４８】
本発明によれば、好収率、高純度で、且つ簡便な方法により工業的規模でゴキブリの性フェロモンとして有用な３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンを包含する３−メチルアルカン−２−オン類を製造する方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４９】
本発明の製造方法に従って、前記式（１）の化合物の合成法を反応工程図で示すと以下の反応式Ａのとおりである。
【００５０】
【化２１】
2005089308.tif 000022
【００５１】
［式中、Ｒ、Ｘ、Ｒ１およびＲ２は前記したと同義である。］
上記反応式Ａに従って、式（８）と式（７）の化合物から式（１）の化合物を合成する方法について工程別に詳細に説明する。
【００５２】
出発物質である式（８）の化合物は公知であり、市場において入手することができ、また従来提案の方法でも容易に製造することができる。式（８）の化合物としては、例えば、式（８’）の構造を持つ１−ハロゲノ−８−メチル−８−ヘキサコセンの他、１−メタンスルホニルオキシドデカン、１−ハロゲノドデカン、１−ハロゲノヘキサデカンなどを挙げることができる。ここで、ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などを例示することができる。
【００５３】
もう一方の出発物質である式（７）のアセト酢酸エステル類も市場で入手することができ、また従来提案されている方法でも容易に製造することができる。式（７）のアセト酢酸エステル類を具体的に示せば、例えば、メチルアセトアセテート、エチルアセトアセテート、ｎ−プロピルアセトアセテート、ｉｓｏ−プロピルアセトアセテート、ベンジルアセトアセテートなどを例示することができる。
【００５４】
式（８）と式（７）の化合物から式（６）の化合物の合成（第１工程）
上記反応式Ａにおいて、式（６）の化合物の合成は、式（８）の化合物に式（７）の化合物を塩基の存在下に縮合させることにより容易に合成することができる。
【００５５】
式（７）の化合物の使用量は特に制限されるものではなく、反応条件等に応じて適宜選択することができるが、一般には、式（８）の化合物１モルに対して式（７）の化合物を約０．８〜約１０モル、特に約１〜約３モルの範囲内で使用することができる。該反応は、通常、有機溶媒の存在下または不存在下、好ましくは有機溶媒の存在下に、約０〜約１００℃の温度で、３０分〜５時間攪拌しながら行うことができる。ここで使用しうる有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、ジオキサン、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジクロロメタン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｔ−ブタノール等が挙げられ、その使用量は、式（８）の化合物に対して重量で、通常、１〜１０倍量とすることができる。
【００５６】
反応終了後、通常の後処理を行い、カラムクロマトグラフィーなどにより精製し、式（６）の化合物を得ることができる。
【００５７】
上述のようにして得られる式（６）の化合物を具体的に挙げれば、例えば、２−（８−メチル−８−ヘキサコセン）−アセト酢酸エステル、２−ドデシルアセト酢酸エステル、２−ヘキサデシルアセト酢酸エステルなどを例示することができる。
【００５８】
式（６）の化合物から式（５）の化合物の合成（第２工程）
上記反応式Ａにおいて、式（５）の化合物の合成は、式（６）の化合物のケトン部をアセタール化して保護基を導入することにより容易に得ることができる。
【００５９】
式（６）の化合物のケトン部をアセタール化する方法としては、特に制限されず、PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIC SYNTHESIS(Theodora W.Greene,Peter G.M.Wuts著；A WILEY-INTERSCIENCE PUBLICATION)に示されているような方法により、非環式または環式のアセタールを従来公知の方法を用いて形成させることができる。
【００６０】
反応終了後、通常の後処理を行い、カラムクロマトグラフィーなどにより精製し、式（５）の化合物を得ることができる。
【００６１】
上述のようにして得られる式（５）の化合物を具体的に挙げれば、例えば、２−（８−メチル−８−ヘキサコセン）−アセト酢酸エステル−ジメチルアセタール、２−（８−メチル−８−ヘキサコセン）−アセト酢酸エステル−エチレンアセタール、２−ドデシルアセト酢酸エステル−ジエチルアセタール、２−ヘキサデシルアセト酢酸エステル−エチレンアセタールなどを例示することができる。
【００６２】
式（５）の化合物から式（４）の化合物の合成（第３工程）
上記反応式Ａにおいて、式（４）の化合物の合成は、式（５）の化合物を還元することにより容易に得ることができる。
【００６３】
該反応に使用することができる還元剤としては、例えば、水素化アルミニウム、リチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化トリエトキシアルミニウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムなどを挙げることができる。該反応は、通常、有機溶媒の存在下に、約−２０〜約１００℃の温度で、３０分〜５時間攪拌しながら行うことができる。ここで使用しうる有機溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル等が挙げられ、その使用量は、式（５）の化合物に対して重量で、通常、２〜１０倍量とすることができる。
【００６４】
反応終了後、通常の後処理を行い、カラムクロマトグラフィーなどにより精製し、式（４）の化合物を得ることができる。
【００６５】
上述のようにして得られる式（４）の化合物を具体的に挙げれば、例えば、３−ヒドロキシメチル−１１−メチル−１１−ノナコセン−２−オン−ジメチルアセタール、３−ヒドロキシメチル−１１−メチル−１１−ノナコセン−２−オン−エチレンアセタール、３−ヒドロキシメチルペンタデカ−２−オン−ジエチルアセタール、３−ヒドロキシメチルノナデカ−２−オン−エチレンアセタールなどを例示することができる。
【００６６】
式（４）の化合物から式（３）の化合物の合成（第４工程）
上記反応式Ａにおいて、式（３）の化合物の合成は、式（４）の化合物を脱保護することにより容易に得ることができる。
【００６７】
該反応において脱保護する方法としては、アセタールの脱保護反応として従来公知の方法のいずれも採用することができ、例えば、酸性条件下の加水分解反応や過剰量のケトン存在下でのアセタール交換反応を採用することができる（PROTECTIVE GROUPS IN ORGANIC SYNTHESIS(Theodora W.Greene,Peter G.M.Wuts著；A WILEY-INTERSCIENCE PUBLICATION））。
【００６８】
反応終了後、通常の後処理を行い、カラムクロマトグラフィーなどにより精製し、式（３）の化合物を得ることができる。
【００６９】
上述のようにして得られる式（３）の化合物を具体的に挙げれば、例えば、３−ヒドロキシメチル−１１−メチル−１１−ノナコセン−２−オン、３−ヒドロキシメチルペンタデカ−２−オン、３−ヒドロキシメチルノナデカ−２−オンなどを例示することができる。
【００７０】
式（３）の化合物から式（２）の化合物の合成（第５工程）
上記反応式Ａにおいて、式（２）の化合物の合成は、式（３）の化合物を脱水することにより容易に得ることができる。
【００７１】
該反応は酸性触媒条件下に容易に脱水反応が進行する。酸性触媒としては、例えば、硫酸、塩酸、メタスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、三フッ化ホウ素またはそのエーテル錯体塩化カルシウムなどを例示することができ、式（３）の化合物に対して重量で約０．００１〜１０％を使用することができる。該反応は、通常、有機溶媒の存在下または不存在下、好ましくは有機溶媒の存在下に、約０〜約１５０℃の温度で、３０分〜５時間攪拌しながら行うことができる。ここで使用しうる有機溶媒としては、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、その使用量は、式（３）の化合物に対して重量で、通常、０．５〜１０倍量とすることができる。
【００７２】
反応中、生成する水を、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ水分分離装置により系外に除去することにより反応が促進され、より好ましい。反応終了後、通常の後処理を行い、カラムクロマトグラフィーなどにより精製し、式（２）の化合物を得ることができる。
【００７３】
上述のようにして得られる式（２）の化合物を具体的に挙げれば、例えば、１１−メチル−３−メチレン−１１−ノナコセン−２−オン、３−メチレンペンタデカ−２−オン、３−メチレンノナデカ−２−オンなどを例示することができる。
【００７４】
式（２）の化合物から式（１）の化合物の合成（第６工程）
上記反応式Ａにおいて、式（１）の化合物の合成は、式（２）の化合物を水素添加することにより容易に得ることができる。
【００７５】
該反応において水素添加する方法としては、例えば、炭素担持パラジウム、アルミナ担持パラジウム、ラネーニッケルなどを不均一触媒とし、大気圧〜５０Ｋｇ／ｃｍ２の水素雰囲気下に反応させることができる。該反応は、通常、有機溶媒の存在下または不存在下、約０〜約１００℃の温度で、３０分〜５時間攪拌しながら行うことができる。ここで使用しうる有機溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン、メチルイソブチルケトン等が挙げられ、その使用量は、式（２）の化合物に対して重量で、通常、０〜５０倍量とすることができる。
【００７６】
反応終了後、触媒を除去し、カラムクロマトグラフィーなどにより精製し、式（１）の化合物を得ることができる。
【００７７】
上述のようにして得られる式（１）の化合物を具体的に挙げれば、例えば、式（１’）の構造を持つ３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンの他、３−メチル−２−ペンタデカノン、３−メチルノナデカノンなどを例示することができる。
【００７８】
上記した式（１）に包含される前記した式（１’）で表される３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンの合成方法を具体的に示せば下記に示す反応式Ｂのとおりである。
【００７９】
【化２２】
2005089308.tif 000023
【００８０】
［Ｘ、Ｒ、Ｒ１およびＲ２は前記と同義である。］
以下、実施例および参考例により本発明を更に詳しく説明する。
【実施例】
【００８１】
実施例１：式（６’）の化合物の製造例
アセト酢酸エチル１１４５ｇとｔ−ブタノール２９６１ｇの溶液にカリウムｔ−ブトキシドの粉末を９８７ｇ加え、加熱して完全に溶解させた。式（８’）の化合物の臭化物１６１０ｇを８０〜９０℃で１時間かけて投入し、更に同温度で５時間反応した。冷却後、冷水５Ｋｇに反応液を注ぎ、トルエン５Ｋｇで抽出した。トルエン層は飽和ソーダ灰水溶液、ブライン各２Ｋｇで順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。トルエンを減圧回収後、式（６’）の化合物の粗生成物が１７９８ｇ得られた（定量的）。シリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製すると、純粋な式（６’）の化合物が得られるが、粗生成物のまま次の反応に用いることもできる。
【００８２】
実施例２：式（５’）の化合物の製造例
実施例１で得られた式（６’）の化合物の粗生成物２１４ｇとエチレングリコール１３１ｇをトルエン２リットルに溶解させ、パラトルエンスルホン酸モノ水和物５ｇを加えて加熱した。トルエン還流下での反応の進行に従って生成する水は、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋの水分離装置を用いて系外に除去した。３時間反応して原料を消失させ、冷却した。反応液は飽和ソーダ灰水溶液、ブライン各２００ｇで順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。トルエンを減圧回収後、式（５’）の化合物の粗生成物が２４１ｇ得られた（出発原料式（８’）の臭化物から定量的）。シリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製すると、純粋な式（５’）の化合物が得られるが、粗生成物のまま次の反応に用いることもできる。
【００８３】
実施例３：式（４’）の化合物の製造例
エーテル１リットルに水素化リチウムアルミニウム１６ｇを懸濁させ、実施例２で得られた式（５’）の化合物の粗生成物２４１ｇのエーテル５００ミリリットル溶液を冷却下に０〜１０℃で１時間かけて加えた。１時間反応して１５０ｇの水を注意深く加えて反応を停止した。反応液に無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。エーテルを減圧回収後、式（４’）の化合物の粗生成物が２０６ｇ得られた（出発原料式（８’）の臭化物からの収率９６．７％）。シリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製すると、純粋な式（４’）の化合物が得られるが、粗生成物のまま次の反応に用いることもできる。
【００８４】
実施例４：式（３’）の化合物の製造例
実施例３で得られた式（４’）の化合物の粗生成物２０６ｇのアセトン１．５リットル溶液に、パラトルエンスルホン酸モノ水和物１ｇを加えて室温で５時間反応した。アセトンを減圧下に回収して得られた残渣をトルエン１リットルに希釈し、飽和ソーダ灰水溶液、ブライン各５００ｇで順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。トルエンを減圧回収後、式（３’）の化合物の粗生成物が１８１ｇ得られた（出発原料式（８’）の臭化物からの収率９３．０％）。シリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製すると、純粋な式（３’）の化合物が得られるが、粗生成物のまま次の反応に用いることもできる。
【００８５】
実施例５：式（２’）の化合物の製造例
実施例４で得られた式（３’）の化合物の粗生成物１８１ｇをトルエン８００ミリリットルに溶解し、パラトルエンスルホン酸モノ水和物１ｇを加えて加熱した。脱水反応の進行により生成する水は、Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋの水分離装置を用いて系外に除去した。２時間反応して原料を消失させ、冷却した。反応液は飽和ソーダ灰水溶液、ブライン各３００ｇで順次洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。トルエンを減圧回収後、式（２’）の化合物の粗生成物が１７２ｇ得られた（出発原料式（８’）の臭化物からの収率９２．０％）。シリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製すると、純粋な式（２’）の化合物が得られるが、粗生成物のまま次の反応に用いることもできる。
【００８６】
実施例６：式（１’）の化合物の製造例
実施例５で得られた式（２’）の化合物の粗生成物１７２ｇのヘプタン１００ミリリットル溶液に１０％パラジウム−炭素触媒を１ｇ加え、水素雰囲気下（大気圧）、室温で５時間反応した。反応液から触媒を濾別し、ヘプタンを減圧回収後、式（１’）の化合物の粗生成物が１７３ｇ得られた（出発原料式（８’）の臭化物から収率９１．７％）。シリカゲルのカラムクロマトグラフィーで精製すると、純粋な式（１’）の化合物が１６９ｇ得られた（出発原料の式（８’）の臭化物からの収率８９．６％）。ＧＣ純度は９８．９％（カラムＯＶ−１で測定）であり、核磁気共鳴スペクトルとマススペクトルは、製造した式（１’）が３，１１−ジメチル−２−ノナコサノンであることを強く指示した。