(57)【要約】【課題】浮上方向の力は強く、横ずれ方向の力を弱くし、横方向制御機構の消費エネルギーの低減を図る。【解決手段】固定磁石１１，１２で可動磁石２１を挟み込み、同極が対面した配置にし、両者が相対的に浮上方向及び固定磁石１１，１２の着磁方向と直交する交差方向に移動可能な状態で保持されており、可動磁石２１は、該可動磁石２１の固定磁石１２と対向する対向面における前記固定磁石が該固定磁石間に作る磁束密度の前記交差方向の分布の極値位置の範囲に配置される。【選択図】      図１
2005209670.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可動部を固定部に対して磁気を利用して浮上させる磁気浮上装置において、前記可動部と前記固定部の一方に設けられる複数の第１磁石で前記可動部と前記固定部の他方に設けられる第２磁石を同極が対面した配置で挟み込み、前記可動部と前記固定部が相対的に浮上方向及び前記第１磁石の着磁方向と交差する交差方向に移動可能な状態で保持されており、前記第２磁石は、前記第２磁石の前記第１磁石に対向する対向面における前記第１磁石が前記第１磁石間に作る磁束密度の前記交差方向の分布の極値位置の範囲に配置されることを特徴とする磁気浮上装置。
【請求項２】
前記第２磁石は、端部が、該第２磁石の前記対向面での前記交差方向の分布における磁束密度の極値位置から第１磁石端部を基点とする第１磁石の前記交差方向寸法の１/4までの範囲にあり、他の片側端部も上記の範囲に配置されるように、前記第１磁石と第２磁石との前記交差方向の寸法関係に基づいて位置設定されたことを特徴とする請求項１に記載の磁気浮上装置。
【請求項３】
前記第２磁石は、端部が、該第２磁石の前記対向面での前記交差方向の分布における磁束密度の極値位置から、磁気浮上装置の着磁方向中心での前記交差方向の分布における磁束密度の極値位置までの範囲にあり、他の片側端部も上記の範囲に配置されるように、前記第１磁石と第２磁石との前記交差方向の寸法関係に基づいて位置設定されたことを特徴とする請求項１に記載の磁気浮上装置。
【請求項４】
少なくとも角型形状で磁化均一の第１磁石が、該第１磁石間の距離より前記交差方向寸法が長く、第１磁石の前記交差方向長さ  ＞  第２磁石の前記交差方向長さ、なる要件を満たすことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の磁気浮上装置。
【請求項５】
可動部を固定部に対して磁気を利用して浮上させる磁気浮上装置において、前記可動部と前記固定部の一方に設けられる複数の第１磁石で前記可動部と前記固定部の他方に設けられる第２磁石を同極が対面した配置で挟み込み、前記可動部と前記固定部が相対的に浮上方向及び前記第１磁石の着磁方向と交差する交差方向に移動可能な状態で保持されており、前記第２磁石は、端部が前記第１磁石に対向する前記第２磁石の対向面での前記浮上方向の分布における磁束密度の極値位置から、磁気浮上装置の中心位置までの範囲に配置されることを特徴とする磁気浮上装置。
【請求項６】
２つの同寸法・同着磁方向で角型の第１磁石の間に、前記第１磁石と異なる寸法で着磁方向が対向する角型の第２磁石を配置した磁気浮上装置において、浮上方向及び前記第１磁石の着磁方向と交差する交差方向の該第１磁石の寸法をLsｘ、該第１磁石の着磁方向寸法をLsｙ、前記第２磁石の前記交差方向の寸法をLrｘ、着磁方向寸法をLrｙ、第１磁石間の間隔をGdとした時、Lsｘ/2  ＜  Lrｘ  ＜  Lsｘ−（Lsｙ−Gd−Lrｙ）、なる要件を満たすことを特徴とする磁気浮上装置。
【請求項７】
２つの同寸法・同着磁方向で角型の第１磁石の間に、前記第１磁石と異なる寸法で着磁方向が対向する角型の第２磁石を配置した磁気浮上装置において、浮上方向及び前記第１磁石の着磁方向と交差する交差方向の該第１磁石の寸法をLsｘ、着磁方向寸法をLsｙ、第２磁石の前記交差方向の寸法をLrｘ、着磁方向寸法をLrｙ、第１磁石間の間隔をGdとした時、Lsｘ−（Lsｙ＋Gd）  ＜  Lrｘ  ＜  Lsｘ−（Lsｙ−Gd−Lrｙ）、なる要件を満たすことを特徴とする磁気浮上装置。
【請求項８】
２つの同寸法・同着磁方向で角型の第１磁石の間に、前記第１磁石と異なる寸法で着磁方向が対向する角型の第２磁石を配置した磁気浮上装置において、第１磁石の着磁方向寸法をLsｙ、第２磁石の着磁方向寸法をLsｙ、該第１磁石間の間隔をGdとした時、少なくとも前記第２磁石の片側端部が磁気浮上装置の浮上方向の端部から±1/2＊(Lsｙ＋Gd)の距離の範囲に来るように配置されていることを特徴とする磁気浮上装置。
【請求項９】
請求項１〜6のいずれか1項に記載の要件及び請求項7または8のいずれか1項に記載の要件を組み合わせたことを特徴とする磁気浮上装置。
【請求項１０】
前記第１磁石が該第１磁石間に作る磁束密度の着磁方向成分の前記交差方向の分布または、浮上方向の分布における、磁束密度の極値位置近傍に第２磁石の端部が配置されるように、前記第２磁石の着磁方向の形状に変化を持たせて設定されたことを特徴とする請求項1〜9のいずれか１項に記載の磁気浮上装置。
【請求項１１】
請求項1〜10のいずれか１項に記載の磁気浮上装置を微動ステージに用いた露光装置。
【請求項１２】
請求項1〜10のいずれか１項に記載の磁気浮上装置を微動ステージに用いた位置決め装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、固定部に対して可動部を磁気反発力で浮上させ、且つ非接触の浮上状態を維持できる磁気支持機構を有する磁気浮上装置、並びに、該磁気浮上装置を用いた位置決め装置、及び露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
非接触の浮上機構は、例えば空気圧、または磁気を用いるタイプがある。そして磁気を用いるタイプには電磁石、もしくは永久磁石、または両者を併用するタイプに分類することができ、さらにそれらは磁気的な吸引力により浮上させるタイプと、磁気的な反発力により浮上させるタイプとに大別される。図２２に永久磁石を用いた従来の磁気反発浮上装置を示す。同図中、矢印は磁化ベクトルを表し、同極が対向するように配置してある。１は可動部、２は固定部を示す。可動部１に働く鉛直方向Ｚの磁気反発力Fｚと可動部１の自重Wとが釣り合うように、永久磁石の磁化、及び各部の寸法が決められる。
【特許文献１】特開平０５−０９００２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、磁気的反発力を用いて可動部を浮上させると、横方向（水平方向）に変位しようとする力（横ずれ力）が作用して不安定状態になることが知られている。また、この横ずれ力の剛性は磁気的反発力の合成が強いほど大きくなることも知られている。そのため、この横ずれ力を弱めることを目的として浮上装置を設計すると浮上力も弱くなるという弊害が生じてくる。
【０００４】
本発明は上記従来技術の有する問題点に鑑みてなされたものであり、磁気浮上装置において浮上方向の力は強く、横ずれ方向の力を弱くすることによって横方向制御機構の消費エネルギーの低減化になる磁気浮上装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記の目的を達成するため、本発明は、可動部を固定部に対して磁気を利用して浮上させる磁気浮上装置において、前記可動部と前記固定部の一方に設けられる複数の第１磁石で前記可動部と前記固定部の他方に設けられる第２磁石を同極が対面した配置で挟み込み、前記可動部と前記固定部が相対的に浮上方向及び前記第１磁石の着磁方向と交差する交差方向に移動可能な状態で保持されており、前記第２磁石は、前記第２磁石の前記第１磁石に対向する対向面における前記第１磁石が前記第１磁石間に作る磁束密度の前記交差方向の分布の極値位置の範囲に配置されることを特徴とする。前記第２磁石は、端部が、該第２磁石の前記対向面での前記交差方向の分布における磁束密度の極値位置から第１磁石端部を基点とする第１磁石の前記交差方向寸法の１/4までの範囲にあり、他の片側端部も上記の範囲に配置されるように、前記第１磁石と第２磁石との前記交差方向の寸法関係に基づいて位置設定されてもよく、前記第２磁石は、端部が、該第２磁石の前記対向面での前記交差方向の分布における磁束密度の極値位置から、磁気浮上装置の着磁方向中心での前記交差方向の分布における磁束密度の極値位置までの範囲にあり、他の片側端部も上記の範囲に配置されるように、前記第１磁石と第２磁石との前記交差方向の寸法関係に基づいて位置設定されてもよい。少なくとも角型形状で磁化均一の第１磁石が、該第１磁石間の距離より前記交差方向寸法が長く、第１磁石の前記交差方向長さ  ＞  第２磁石の前記交差方向長さ、なる要件を満たすことが好ましい。
【０００６】
また、本発明は、可動部を固定部に対して磁気を利用して浮上させる磁気浮上装置において、前記可動部と前記固定部の一方に設けられる複数の第１磁石で前記可動部と前記固定部の他方に設けられる第２磁石を同極が対面した配置で挟み込み、前記可動部と前記固定部が相対的に浮上方向及び前記第１磁石の着磁方向と交差する交差方向に移動可能な状態で保持されており、前記第２磁石は、端部が前記第１磁石に対向する前記第２磁石の対向面での前記浮上方向の分布における磁束密度の極値位置から、磁気浮上装置の中心位置までの範囲に配置されることを特徴としてもよい。
【０００７】
また、本発明は、２つの同寸法・同着磁方向で角型の第１磁石の間に、前記第１磁石と異なる寸法で着磁方向が対向する角型の第２磁石を配置した磁気浮上装置において、浮上方向及び前記第１磁石の着磁方向と交差する交差方向の該第１磁石の寸法をLsｘ、該第１磁石の着磁方向寸法をLsｙ、前記第２磁石の前記交差方向の寸法をLrｘ、着磁方向寸法をLrｙ、第１磁石間の間隔をGdとした時、Lsｘ/2  ＜  Lrｘ  ＜  Lsｘ−（Lsｙ−Gd−Lrｙ）、なる要件を満たすことを特徴としてもよい。
【０００８】
また、本発明は、２つの同寸法・同着磁方向で角型の第１磁石の間に、前記第１磁石と異なる寸法で着磁方向が対向する角型の第２磁石を配置した磁気浮上装置において、浮上方向及び前記第１磁石の着磁方向と交差する交差方向の該第１磁石の寸法をLsｘ、着磁方向寸法をLsｙ、第２磁石の前記交差方向の寸法をLrｘ、着磁方向寸法をLrｙ、第１磁石間の間隔をGdとした時、Lsｘ−（Lsｙ＋Gd）  ＜  Lrｘ  ＜  Lsｘ−（Lsｙ−Gd−Lrｙ）、なる要件を満たすことを特徴としてもよい。
【０００９】
また、本発明は、２つの同寸法・同着磁方向で角型の第１磁石の間に、前記第１磁石と異なる寸法で着磁方向が対向する角型の第２磁石を配置した磁気浮上装置において、第１磁石の着磁方向寸法をLsｙ、第２磁石の着磁方向寸法をLsｙ、該第１磁石間の間隔をGdとした時、少なくとも前記第２磁石の片側端部が磁気浮上装置の浮上方向の端部から±1/2＊(Lsｙ＋Gd)の距離の範囲に来るように配置されていることを特徴とすることもできる。
【００１０】
また、本発明は、上記いずれかの要件と他のいずれかに記載の要件とを組み合わせたことを特徴とする磁気浮上装置であってもよく、前記固定部もしくは可動部の一方に設けられる複数の第１磁石が該第１磁石間に作る磁束密度の着磁方向成分の前記交差方向の分布または、浮上方向の分布は、磁束密度の極値位置近傍に前記固定部もしくは可動部の他方に設けられる第２磁石の端部が配置されるように、前記第２磁石の着磁方向の形状に変化を持たせて設定されたことを特徴とすることもでき、本発明は、上述のいずれかの磁気浮上装置を微動ステージに用いた露光装置または位置決め装置にも適用可能である。
【発明の効果】
【００１１】
以上、説明したように本発明の磁気浮上装置は余計な横ずれ方向の力を低減する事が可能となる。また本発明の磁気浮上装置の浮上力も大きくなるので小型・軽量化が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の実施形態としては、例えば、第２磁石を可動磁石とする場合には、可動磁石に生じる磁気力をフレミングの左手の法則（F=I×B＊l）で評価し、浮上力を発生させる磁束密度成分は大きく、他の横ずれ力を発生させる磁束密度成分は小さくなるようすることを特徴としてもよく、横ずれ方向において可動磁石の対向する面に発生する磁気力の方向が逆方向であり、横ずれ力が打ち消し合う構成及び可動磁石形状を有することを特徴としてもよい。上記形態の磁気浮上装置を用いた露光装置または位置決め装置は、リニアモータの負荷を軽減し、及び他の制御機関の消費エネルギーを抑えることを可能にする。
【００１３】
本発明を実施するための好ましい形態について、実施例を挙げて図面に基づいて以下に説明する。なお、以下の説明では、複数の第１磁石を固定側として固定磁石と呼称し、第１磁石の間に挟まれる第２磁石を可動側として可動磁石と呼称するが、複数の第１磁石側を可動とし、第２磁石側を固定としても良いことはいうまでも無い。従って、以下の実施例では、第１及び第２磁石の固定と可動の関係が、逆になっている場合も説明されているものである。
【実施例１】
【００１４】
図１〜３に本発明の実施例１に係る磁気浮上装置を示す。図１はＸ-Ｙ平面図、図２はＹ-Ｚ平面図、図３は立体図を示す。図１〜３の磁気浮上装置において、Ｘ軸方向は長手方向、Ｙ軸方向は磁石の着磁方向、Ｚ軸方向は浮上方向であり、長手方向は着磁方向及び浮上方向と直交する。図中の矢印は磁石の磁化の方向を示し、×印は原点（磁気浮上装置の中心）を示す。11,12は固定磁石であり、磁化の向きは図１に示した様にＹ軸方向に同方向に設定されている。
【００１５】
21は可動磁石であり、磁化の向きは図１に示した様にＹ軸方向に固定磁石と反対方向に設定されている。可動磁石21に生じるＸ軸方向の磁気力は図１の面21a、及び面21bにおいて、逆方向に働いている。また、可動磁石21に生じるＺ軸方向の磁気力は図２の面21c、及び面21dにおいて、同方向に働いている。
【００１６】
本発明の磁気浮上装置において、可動磁石21に生じる磁気力はフレミングの左手則よりそれぞれ以下のように表現できる。
Fｘ  ＝  Iｚ  ×  Bｙ  *lｚ・・・・（１）
Fｙ  ＝  Iｚ  ×  Bｘ  *lｚ・・・・（２）
Fｙ  ＝  Iｘ  ×  Bｚ  *lｘ・・・・（３）
Fｚ  ＝  Iｘ  ×  Bｙ  *lｘ・・・・（４）
式（１）〜（４）において、Fは可動磁石21に働く磁気力であり、Iは可動磁石21の（等価磁化）電流、Bは固定磁石11,12が可動磁石21部分に作る磁束密度、ｌは可動磁石21の寸法を表す。また、添え字はＸ軸、Ｙ軸、Ｚ軸方向をそれぞれ表している。式（１）、（２）において固定磁石11,12が作る磁束密度成分BｙとBｘ成分はＸ-Ｙ平面内で正弦、余弦関係になっており、式（３）、（４）においてBｙとBｚ成分もＹ-Ｚ平面内で正弦、余弦関係になる。
【００１７】
図１のＸ-Ｙ平面図において、可動磁石21の磁化を無くし、固定磁石11,12が作るＺ=0におけるＹ軸磁束密度（Bｙ）成分（以下これを「Bｙ成分」という。）のＸ軸方向分布を図４に示す。そして、図５には図４に示したＺ=0における固定磁石11,12間のBｙ分布図をグラフ化して示す。横軸はＸ座標（範囲は固定磁石内のみ）、縦軸はBｙ値をそれぞれ示す。図５においてＹ＝０は磁気浮上装置中心のBｙ-Ｘ特性を示し、Ｙ＝１０[mm]はＹ軸方向でＹの最大座標値に対応する可動磁石21の図５中の上側面(固定磁石12に対向する対向面21e)におけるBｙ-Ｘ特性を示す。積分値はＹ軸についてBｙ-Ｘ特性を積分したものであり、積分したBｙ成分の極値位置はＹ＝０とＹ＝１０[mm]とにおけるBｙ-Ｘ特性の極値位置の間にできる。
【００１８】
特許請求の範囲における記載の『着磁方向成分の長手方向の分布』とは図５のBｙ-Ｘ特性を示し、『磁気浮上装置の着磁方向中心』とは図５においてＹ＝０、『可動磁石の着磁方向の対向面』とはＹ＝１０[mm]の位置を示している。図５の範囲Aは可動磁石21の対向面（Ｙ＝１０[mm]）における固定磁石11,12が該固定磁石間に作るBｙ成分の長手方向分布について、固定磁石最端にできる極値位置を結んだ範囲である。図５の範囲Aの内部に可動磁石21の端部がある場合、Ｘ軸方向の磁気力について可動磁石の面21a,21bにおいて逆方向に働くので、着磁方向磁束密度成分BｙのＸ軸に対する変化が少なくなるので式（１）より可動磁石21に働くＸ軸方向の磁気力は小さくなる。また、Ｙ軸方向の磁気力について式（２）中のＢｘは固定磁石11,12の端部から離れるほど弱まるので可動磁石21に働くＹ軸方向の横ずれ力は小さくなる。
【００１９】
可動磁石21のＸ軸方向長さと固定磁石11,12のＸ軸方向長さが同じとき、可動磁石21に働く最大浮上力の大きさを１とすると、可動磁石21の端部が図５の範囲Ａの内にあり、可動磁石21のＸ軸方向長さが固定磁石11,12のＸ軸方向長さの半分以上あれば、式（４）：Fｚ＝Iｘ×Bｙ*lｘよりlｘが0.5以上になるので、最大浮上力に対して浮上力の減少は半分以下に抑えられる。
【００２０】
また、固定磁石は四角い形状で磁化均一の場合、図５のように固定磁石11,12間にＢｙ成分の極値が3つ以上できるためには、固定磁石11,12間のギャップ間隔より固定磁石11,12のＸ軸方向長さが長いことが必要になる。固定磁石11,12間のギャップ間隔より固定磁石11,12のＸ軸方向長さが短ければ、Ｂｙ成分は端部が近くなることで干渉して固定磁石中心で強くなり、その結果固定磁石間には極値は１つだけできることになる。
【実施例２】
【００２１】
図６は、本発明の実施例２に係る磁気浮上装置を説明するための図であって実施例１の図５に相等する。実施例１では横ずれ力を小さくできるが、浮上力も減少してしまう。実施例２では、横ずれ力を小さくして、浮上力を大きくする場合の例を挙げる。図６の範囲Ｂは磁気浮上装置中心（Ｙ＝０）におけるＢｙ成分の固定磁石最端の極値位置から固定磁石12との可動磁石21の対向面（Ｙ＝１０[mm]）におけるＢｙ成分の固定磁石最端の極値位置までをそれぞれ結ぶ範囲である。特許請求の範囲に記載の『磁気浮上装置の着磁方向中心』とは図６におけるＹ＝０のことである。
【００２２】
図６の範囲Ｂの内部に可動磁石21の端部がある場合、Ｘ軸方向の磁気力について、可動磁石21の面21a,21bにおいて逆方向に磁気力が生じ、範囲ＢではＢｙ成分の長手方向分布についてほぼ対称性があるため、可動磁石21のＸ軸方向の変位に対して磁束密度の変動が少なくなる。よって式（１）より可動磁石21に働くＸ軸方向の磁気力は小さくなる。Ｙ軸方向の磁気力についてＢｙとＢｘは正弦・余弦の関係にあるので、Ｂｙ成分が範囲ＢにあることによりＢｘ成分が小さくなるため、式（２）より可動磁石21に働くＹ軸方向の磁気力が小さくなる。また、Ｚ軸方向の磁気力についてＢｙ成分が範囲Ｂで絶対値が大きくなるため、式（４）より大きな浮上力（Ｚ軸方向力）が得られる。
【実施例３】
【００２３】
本発明の実施例３は、図２のＹ-Ｚ平面図において、可動磁石21の磁化を無くし、固定磁石11,12が作るＸ=0断面におけるＹ軸磁束密度（Bｙ）成分のＺ軸方向分布を図７に示すようにした場合の例である。そして、図８には図７に示したＸ=0におけるBｙ成分のＺ軸方向分布図をグラフ化して示す。横軸はＺ座標、縦軸はBｙ成分をそれぞれ示す。図８においてＹ＝０は磁気浮上装置中心のBｙ-Ｘ特性、Ｙ＝１０[mm]は可動磁石21の図８における上側面(固定磁石１２に対向する対向面21e)におけるBｙ-Ｚ特性を示す。積分値はＹ軸についてBｙ-Ｚ特性を積分したものであり、積分したＹ軸磁束密度Bｙの極値位置はＹ＝０とＹ＝１０[mm]の極値位置の間にできる。
【００２４】
特許請求の範囲に記載の『着磁方向成分の浮上方向の分布』とは、図７及び図８のBｙ成分のＺ軸方向分布を示している。図８においてＹ＝０は磁気浮上装置中心のBｙ-Ｚ特性、Ｙ＝１０[mm]は図８中の可動磁石21の上側面(固定磁石12に対向する対向面21e)におけるBｙ-Ｚ特性を示す。積分値はＹ軸についてBｙ-Ｚ特性を積分したものである。
【００２５】
図８の範囲Cは磁気浮上装置のＺ軸方向の中心と、固定磁石12に対向する可動磁石21の対向面（Ｙ＝１０[mm]）におけるBｙ−Ｚ特性の固定磁石最端の極値位置を結ぶ範囲である。図８の範囲Cの内部に可動磁石21の端部がある場合、Ｙ軸方向の磁気力について式（３）中のBｚ固定磁石端部から離れるほど弱まり、またBｙの極値位置ではBｚは正弦・余弦の関係なのでさらに弱くなる。そのためＹ軸方向の横ずれ力は小さくなる。Ｚ軸方向の磁気力について式（４）より、図８のＢｙ-Ｚ特性の絶対値が大きくなるＺ座標に可動磁石21の端部があれば、浮上力は大きくなる。図８では固定磁石11,12間にはＢｙの極値は３つあるが、Ｂｙの極値の数は１個でも良い。
【００２６】
実施例１または実施例２は、実施例３と組み合わせて使用することが可能であり、組み合わせたほうがより最適化される。つまり、可動磁石21の端部が固定磁石11,12の作るＢｙ成分の極値近傍にあることにより、式（１）〜（４）より浮上方向の力は大きくなり、横ずれ方向の力は小さくなる。
【００２７】
図９及び図１０に示した様に、固定磁石を電磁石と考えた時、固定磁石11,12が該固定磁石間に作る磁束密度Ｂは以下の式で表される。
【００２８】
【数１】
2005209670.tif 000003
I:固定磁石に流れる電流、ri:固定磁石端から測定点までの距離、μ0:真空の透磁率、総和数=８は固定磁石11,12に流れる電流が8面ある。式（5）のＢは、距離ｒに反比例するので、図９に示した面11a、面12a、面11c、面12cが支配的となり、他の面の影響が少なくなるので、Ｙ軸方向の磁束密度成分は以下の式で考えることができる（対称条件より固定磁石の片側で考える）。
【００２９】
【数２】
2005209670.tif 000004
ｘ：面11a,12aから測定点までのＸ軸距離、ｚ：面11c,12cから測定点までのＺ軸方向距離である。式(6)をｘについて偏微分して、Ｂｙ−Ｘ特性の極値になるｘを求め、ｘとｙの関係を調べる。
【００３０】
【数３】
2005209670.tif 000005
【００３１】
【数４】
2005209670.tif 000006
よって式(8)の関係になり、Ｂｙの極値になるｘは、測定位置から固定磁石電流（固定磁石端部）までのＹ軸方向距離で決まる。式(8)は面11a,12a側の固定磁石内部にｘ=ｙ1,ｙ2と２つの極値を持つが、これは固定磁石の支配的な面（11a,12a）を定義して、他の面の影響は無いと仮定したからである。そのため実施例１及び実施例２で示したＢｙ-Ｘ特性の極値位置はｘ≧0以上の範囲で１つであり、測定位置から支配的な固定磁石までのＹ軸方向距離になっている。
同様に式(6)をｚについて偏微分し、Ｂｙ-Ｚ特性の極値になるｚは測定位置から固定磁石電流（固定磁石端部）までのＹ軸方向距離で決まる。
【００３２】
【数５】
2005209670.tif 000007
式(9)は面11c,12c側の固定磁石内部にｚ=ｙ1,ｙ2と２つの極値を持つが、これは固定磁石の支配的な面（11c,12c）を定義して、他の面の影響は無いと仮定したからである。そのため実施例３で示したＢｙ-Ｚ特性の極値位置はｚ≦0以下の範囲で１つであり、測定位置から支配的な固定磁石までのＹ軸方向距離になっている。
【００３３】
図１１及び図１２に磁気浮上装置の寸法の名称を示す。原点、座標軸は図１１及び図１２に示したようにとり、浮上方向はＺ軸方向である。固定磁石11,12のＸ,Ｙ,Ｚ軸方向寸法をLsｘ、Lsｙ、Lsｚと表す。可動磁石21のＸ,Ｙ,Ｚ軸方向寸法をLrｘ、Lrｙ、Lrｚと表す。また、可動磁石21のＹ軸方向上側面を対向面21eとする。固定磁石11,12が該固定磁石間に作る磁束密度に関して、Ｙ軸方向位置が対向面21e上にある場合におけるＢｙ-Ｘ特性の極値のＸ座標は、固定磁石12が支配的なので式(8)から以下の式で表せる。(図１１参照)
【００３４】
【数６】
2005209670.tif 000008
Ｂｙ成分を可動磁石21の全面にわたって積分した時の極値は、式(10)のＸ座標より、固定磁石内側にできる。よって、可動磁石21に働く余分な方向の磁気力が弱まるための、可動磁石21と固定磁石11,12のＸ軸方向寸法の関係は次式となる。
【００３５】
【数７】
2005209670.tif 000009
式(11)は浮上力の減少があるので、浮上力の減少が抑えられる可動磁石21のＸ軸方向寸法の関係を求める。固定磁石11,12が固定磁石間に作る磁束密度に関して、Ｙ軸方向位置が磁気浮上装置中心にある場合におけるＢｙ-Ｘ特性の極値のＸ座標は式(8)から以下の式で表せる。（図９参照）
【００３６】
【数８】
2005209670.tif 000010
Ｂｙ成分を可動磁石21の全面にわたって積分した時の極値は、式(12)のＸ座標より、外側にでき、式(10)より内側にできるので、可動磁石21に働く余分な方向の磁気力が弱まり、浮上力の減少が抑えられる可動磁石21と固定磁石11,12のＸ軸方向寸法の関係は次式で表せる。
【００３７】
【数９】
2005209670.tif 000011
式(13)は式(11)に比べ、可動磁石のＸ軸方向寸法を長くできるので、浮上力の減少は抑えられる。
【００３８】
可動磁石21の浮上方向の配置について考える。固定磁石11,12が該固定磁石間に作る磁束密度に関して、Ｙ軸方向位置が磁気浮上装置中心にある場合におけるＢｙ-Ｚ特性の極値のＺ座標は式(9)から以下の式で表せる(図１２参照)。
【００３９】
【数１０】
2005209670.tif 000012
【００４０】
よって図１２に示した固定磁石の端部面（面11c,面12c,面11d,面12d）から±(Lsｙ＋Gd)／２の距離の範囲に、固定磁石11,12が作るＢｙ成分を可動磁石21の全面にわたって積分した時の極値が存在するので、可動磁石の端部面（面21c、面21d）を上記の範囲に配置して使用すれば、大きな浮上力が得られ、余分な方向の磁気力が抑えられる。上記では固定磁石を電磁石として考えたが、永久磁石を用いても同じことが言える。
【００４１】
固定磁石11,12が作るＢｙ成分の長手方向分布の極値位置に可動磁石21の端部があるときの効果を表１に示す。表1は可動磁石21の寸法は変化させず、固定磁石11,12の長手方向寸法だけを変化させ、可動磁石21を微小変位させてシミュレーションした結果である。表1の片側逃げ寸法差とは固定磁石11,12の長手方向寸法から可動磁石21の長手方向寸法を引いた半分の値である。
【表１】
2005209670.tif 000013
【００４２】
片側逃げ寸法差13[mm]は固定磁石11,12が作るＢｙ成分を可動磁石21の全面に渡って積分したときの極値の位置である。表１の結果より固定磁石11,12のＢｙ成分の極値位置にあることにより各横ずれ力は小さくなり、また浮上力の減少を抑えることができる。表1の片側逃げ寸法差-横ずれ（Ｘ軸）特性を図１３に、片側逃げ寸法差-浮上力（Ｚ軸）特性を図１４に示す。
【実施例４】
【００４３】
図１５に本発明の実施例４に係る磁気浮上装置を示す。11,12は固定磁石、21は可動磁石である。図１６にはＺ=0における固定磁石11,12が該固定磁石間に作るＢｙ-Ｘ特性図を示す。可動磁石21の端部形状をＹ軸原点付近では固定磁石11,12の作るBｙ成分の極値位置を通り、可動磁石21の上下面においては固定磁石11,12の作るBｙ成分の極値位置より内側を通るような形状に施してある。磁気浮上装置のＸ軸方向力は、可動磁石21が受ける磁束密度を全面に渡って積分した値で決まる。そのため可動磁石21に生じるＸ軸方向力は式（１）Fｘ＝Iｚ×Bｙ*lｚで与えられるので可動磁石21を全面に渡って積分したBｙ成分が極値周りでより対称性を持てば、Ｘ軸方向の横ずれ力は低減できる。図１５に示したような可動磁石の形状にすることにより、Bｙ成分が極値周りでより対称化され、式（１）から可動磁石21に生じるＸ軸方向の横ずれ力を低減する効果が得られる。
【実施例５】
【００４４】
図１７に本発明の実施例５に係る磁気浮上装置を用いた露光装置のウエハステージにおける構成を示す。また、図１８は図１７に示すウエハステージの構造を分解して示す図である。図１９は図１７に示したウエハステージの粗動ステージ部分の構成を示す図である。図２０は図１７に示したウエハステージにおいて用いられる微動ステージ用のリニアモータの構成を示す図である。更に、図２１は、図１７に示したウエハステージの粗動ステージ用リニアモータの構成を示す図である。ウエハステージは、大きくはＸＹ軸方向の長ストローク移動のための粗動ステージと、精密位置決めのための微動ステージからなる。微動ステージの天板は6軸方向について直接的にリニアモータで制御されているのが特徴である。
【００４５】
まず、微動ステージについて説明する。
ウエハ天板901は、工作物であるウエハをウエハチャック902により載置しＸ、Ｙ、Ｚ、ωｘ、ωｙ、ωｚの６自由度方向に位置決めするものである。ウエハ天板901は、矩形の板状の形をしており、中央にウエハを載置するためのウエハチャック902が設けられている。
【００４６】
ウエハ天板901の側面には干渉計のレーザを反射するためのミラー903、904,905が設けられ、ウエハ天板901の位置を計測できるようになっている。詳細にはウエハ天板901には都合6本の光ビームが照射され、ウエハ天板901の6自由度の位置を計測している。Ｘ軸に平行でＺ軸方向位置の異なる２本の干渉計ビームによりＸ軸方向の位置およびωｙ方向の回転量が計測できる。また、Ｙ軸に平行でＸ軸方向位置およびＺ軸方向位置の異なる３本の干渉計ビームによりＹ軸方向の位置およびωｘ、ωｙ方向の回転量が計測できる。さらにミラーのC面部（904）に照射されるビームによりＺ軸方向の位置が計測できるようになっている。実際にはこれらのビームの測定値は独立ではなく相互に干渉するのが剛体としての座標変換により代表位置のＸ、Ｙ、Ｚ、ωｘ、ωｙ、ωｚが計測できる。
【００４７】
ウエハ天板901の下面には7個のリニアモータ可動子（906〜912）が取り付けられている。各可動子は図２０に示されるように、厚み方向に着磁された２極の磁石（911b,c、906b,c）およびヨーク（911a,d、906a,d）を２組有し、その２組の磁石およびヨークを側板で連結して箱状の構造を形成し、後述のリニアモータ固定子（918,913）を非接触で挟み込むように対面する。
【００４８】
７個の可動子のうち矩形状天板の辺端部に配置される３個の可動子906〜908はＺ可動子を形成する。Ｚ可動子においては、図２０の（a）に示すように上記2極の磁石906b,906cがＺ方向に沿って配置されており、後述のＺ方向に直角な直線部を持つＺ固定子長円コイル913bに流れる電流と相互作用してＺ方向の推力を発生する。これらをＺ1〜Ｚ3可動子（906〜908）と名づける。
【００４９】
残り4個の可動子909〜912は矩形状天板のほぼ中央に配置される。そのうち2個の可動子はＸ可動子を形成する。Ｘ可動子においては図２０の（c）に示されるように、２極の磁石909bがＸ方向に沿って配置されており、後述のＸ方向に直角な直線部を持つＸ固定子長円コイルに流れる電流と相互作用してＸ方向の推力を発生させる。これをＸ1、Ｘ2可動子（909，910）と名づける。
【００５０】
残りの２個の可動子はＹ可動子を形成する。Ｙ可動子においては、図２０（b）に示すように、２極の磁石911b,911cがＹ方向に沿って配置されており、後述のＹ方向に直角な直線部を持つＹ固定子長円コイル918bに流れる電流と相互作用してＹ方向の推力を発生する。これをＹ1、Ｙ2可動子（911，912）と名づける。
【００５１】
中間板920の上部にはウエハ天板901を6軸方向に位置制御するための7個のリニアモータの固定子913〜919と、ウエハ天板901の自重を支持するための本発明に係る磁気浮上装置100の固定子が配置されている。各固定子913〜919は図２０に示すように長円形のコイルを周辺枠で支持する構造になっており、前述のウエハ天板901の下面に固定されたリニアモータ可動子906〜912と非接触で対面するようになっている。磁気浮上装置100は前述の実施例の要件を満たしている装置を用いている。
【００５２】
7個の固定子のうち矩形状のＸステージ上板の辺のほぼ端に配置される3個の固定子はＺ固定子（913〜915）を形成する。Ｚ固定子では、図２０（a）に示すように、長円コイル913bがその直線部がＺ方向と直角になるように配置されており、Ｚ可動子（906〜908）のＺ方向に沿って配置された2極の磁石にＺ方向の推力を作用できるようになっている。このコイルをＺ1〜Ｚ3コイルと名づける。
【００５３】
残りの4個の固定子は中間板の中央部に配置される。そのうちの2個の固定子はＸ固定子（916，917）を形成する。Ｘ固定子では、図２０（c）に示した様に長円コイル916bにおいてその２つの直線部がＸ方向と直角になり、その２つの直線部がＸ方向に沿うように配置されており、Ｘ可動子909，910のＸ方向に沿って配置された2極の磁石にＸ方向の推力を作用できるようになっている。このコイルをＸ1、Ｘ2コイルと名づける。
【００５４】
残りの2個の固定子もまた矩形状の中間板の中央部に配置されＹ固定子918，919を形成する。Ｙ固定子では、図２０（b）に示すように、長円コイル918bにおいてその２つの直線部がＹ方向と直角になり、その２つの直線部がＹ方向に沿うように配置されており、Ｙ可動子のＹ方向に沿って配置された2極の磁石にＹ方向の推力を作用できるようになっている。このコイルをＹ1、Ｙ2コイルと名づける。
【００５５】
これらの7個のリニアモータはいわゆるローレンツ力により推力を発生するものである。以下、Ｚ固定子とＺ可動子で構成されるリニアモータをＺ微動リニアモータ、Ｘ固定子とＸ可動子で構成されるリニアモータをＸ微動リニアモータ、Ｙ固定子とＹ可動子で構成されるリニアモータをＹ微動リニアモータという。
【００５６】
また中間板920の中央部には前述した実施例１〜４のいずれかの磁気浮上装置100の固定子が配置されている。ウエハ天板901の下面には可動子が配置されていて、磁気浮上装置100の磁気反発力によりウエハ天板901の自重を支持している。このため前述のＺ可動子（906〜908）、Ｚ固定子（913〜915）で形成されるＺリニアモータは、ウエハ天板901の自重を支持するための推力を発生する必要がなく、目標位置からのずれを補正するためのわずかな力のみを発生すれば良いようになっている。
【００５７】
次に、図１８及び図１９を参照して粗動ステージについて説明する。
中間板920の下方には粗動ステージが配置される。中間板920は粗動ステージのＸスライダ921の上板921a上に固定される。つまり粗動ステージは、微動ステージの一部で、ウエハ天板901に制御力を及ぼすリニアモータの反力を受け止めるベースであるところの中間板920をＸＹの長ストロークにわたって移動させるためのものである。
【００５８】
ベース定盤922上にＹヨーガイド923が固定され、Ｙヨーガイド923の側面とベース定盤922の上面でガイドされるＹスライダ924は、ベース定盤922の上にＹ方向に不図示のエアスライドにより滑動自在に支持されている。Ｙスライダ924は主に２本のＸヨーガイド924a、手前端部材924b、奥側端部材924cの4部材から構成される。奥側端部材924cはその側面及び下面に設けられた不図示のエアパッドを介してＹヨーガイド923の側面及びベース定盤922の上面と対面する。また、手前端部材924bはその下面に設けられた不図示のエアパッドを介してベース定盤922の上面と対面している。この結果、Ｙスライダ924全体としては、前述のようにＹヨーガイド923の側面とベース定盤922の上面でＹ方向に滑動自在に支持されることになる。
【００５９】
一方、Ｙスライダ924の構成部品である２本のＸヨーガイド924aの側面とベース定盤922の上面とでガイドされるＸスライダ921は、Ｘ軸まわりにＹスライダ924を囲むように設けられ、不図示のエアスライドによりＸ方向に滑動自在に支持されている。Ｘスライダ921は、主に2枚のＸスライダ側板921bと、上下のＸスライダ上板921a、及びＸスライダ下板921cの4部材から構成される。Ｘスライダ下板921cはその下面に設けた不図示のエアパッドを介してベース定盤922の上面と対面し、2枚のＸスライダ側板921bはその側面に設けた不図示のエアパッドを介して、Ｙスライダ924の構成部材である２本のＸヨーガイド924aの側面と対面している。Ｘスライダ上板921aの下面とＸヨーガイド924aの上面、およびＸスライダ下板921cの上面とＸヨーガイド924aの下面は非接触になっている。この結果、Ｘスライダ921全体としては前述のように２本のＸヨーガイド924aの側面とベース定盤922の上面でＸ方向に滑動自在に支持されることになり、結果的にＸスライダ921はＸＹの2次元に滑動自在となる。
【００６０】
図１８、図１９、及び図２１を参照して駆動機構を説明する。駆動機構は、Ｘ駆動用に1本（固定子925a、可動子927a）、Ｙ駆動用に２本（固定子925b,c、可動子927b,c）の多相コイル切り替え方式の長距離リニアモータが用いられている。このリニアモータは図２１に示されているように、固定子925はストローク方向に並べた複数個のコイル926を枠に挿入したものである。可動子927は磁極ピッチがコイル926のコイルスパンに等しい4極の磁石をヨーク板929の上に並べたもので、コイル926を挟むように対向させて形成した箱型の磁石ユニットで構成される。そして、このリニアモータは、可動子927の位置によって固定子925のコイル926に選択的に電流を流すことにより推力を発生する。これらは一般的な空芯のブラシレスDCリニアモータである。
【００６１】
Ｙスライダ924は、手前側取り付け板931及び奥側取り付け板930によって可動子927b、927cと連結され、可動子の移動に従って移動する。また、Ｘスライダ921は、Ｘスライダ上板921aと可動子927a（図１９）が連結されることで、可動子927aの移動に従って移動する。また、Ｘスライダ921、Ｙスライダ924は微動ステージとは独立な各々のＸ位置、Ｙ位置を計測する手段をもっている。
【００６２】
この粗動ステージの役割は、微動ステージのリニアモータの反力を受け止めることと、微動ステージのリニアモータのストロークを使い切らないように常に目標位置近傍に中間板を移動させることである。微動ステージのリニアモータのストロークは１mm程度であるので、粗動ステージは特に微動ステージとの相対位置を計測してそれについていくような制御はせず、独自の計測系により微動ステージとは独立に位置を制御するようになっている。
【００６３】
この方式は以下の点で優れる。すなわち第１に、最終的な制御対象である微動天板に対してＸ、Ｙ、Ｚ微動リニアモータから直接的に６軸方向の力が作用すること、換言すると微動天板に対して間接的な機械的伝達要素が一切ないことである。このため非常に微動天板の制御帯域が高くでき、ひいては位置制御精度が非常に高くなる。第２に、床からの振動がＸ、Ｙ、Ｚ微動リニアモータによって絶縁されることである。前述のように微動リニアモータは、ローレンツ力を利用したものであり、これにより固定子の振動を可動子に伝達しない。
【００６４】
以上のような構成により、高精度な走査露光が実現し、磁気浮上装置100は、その横ずれ力が小さいので、他の外部制御機関（リニアモータ等）の消費エネルギーを低減できる。
【００６５】
図２３は、上記のステージ装置をウエハステージとする半導体デバイス製造用の露光装置を示す。
この露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用され、原版であるレチクルＲを介して基板としての半導体ウエハＷ上に光源６１からの露光エネルギーとしての露光光（この用語は、可視光、紫外光、ＥＵＶ光、Ｘ線、電子線、荷電粒子線等の総称である）を投影系としての投影レンズ（この用語は、屈折レンズ、反射レンズ、反射屈折レンズシステム、荷電粒子レンズ等の総称である）６２を介して照射することによって、基板上に所望のパターンを形成している。
【００６６】
この露光装置は、定盤５１上にガイド５２とリニアモータ固定子２１を固設している。前述と同様に、リニアモータ固定子２１は多相電磁コイルを、リニアモータ可動子１１は永久磁石群を有している。リニアモータ可動子１１を可動部５３として、ステージである可動ガイド５４に接続し、リニアモータＭ１の駆動によって可動ガイド５４を紙面法線方向に移動させる。可動部５３は、定盤５１の上面を基準に静圧軸受５５で、ガイド５２の側面を基準に静圧軸受５６で支持される。
【００６７】
可動ガイド５４を跨ぐようにして配置したステージである移動ステージ５７は静圧軸受５８によって支持されている。この移動ステージ５７は、上記と同様のリニアモータＭ２によって駆動され、可動ガイド５４を基準に移動ステージ５７が紙面左右方向に移動する。移動ステージ５７の動きは、移動ステージ５７に固設したミラー５９および干渉計６０を用いて計測する。
【００６８】
移動ステージ５７に搭載したチャック上に基板であるウエハＷを保持し、光源６１、投影光学系６２によって、原版であるレチクルＲのパターンをウエハＷ上の各領域にステップアンドリピートもしくはステップアンドスキャンで縮小転写する。
なお、本発明のリニアモータは、マスクを使用せずに半導体ウエハ上に回路パターンを直接描画してレジストを露光するタイプの露光装置にも、同様に適用できる。
【００６９】
次に、この露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図２４は半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ２（マスク作製）では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。
【００７０】
一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ５によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、ステップ７でこれを出荷する。
【００７１】
上記ステップ４のウエハプロセスは以下のステップを有する。ウエハの表面を酸化させる酸化ステップ、ウエハ表面に絶縁膜を成膜するＣＶＤステップ、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する電極形成ステップ、ウエハにイオンを打ち込むイオン打ち込みステップ、ウエハに感光剤を塗布するレジスト処理ステップ、上記の露光装置によって回路パターンをレジスト処理ステップ後のウエハに転写する露光ステップ、露光ステップで露光したウエハを現像する現像ステップ、現像ステップで現像したレジスト像以外の部分を削り取るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト剥離ステップ。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
【００７２】
＜実施態様の例＞
本発明の実施態様の例を以下に列挙する。
［実施態様１］  実施形例１〜５のいずれか１つのリニアモータと、前記リニアモータにより駆動されるステージとを備え、前記コイルに通電して前記ステージを移動させることを特徴とするステージ装置。
［実施態様２］ 実施形態１のステージ装置によって基板または原版あるいはその双方を位置決めすることを特徴とする露光装置。
［実施態様３］ 実施形態２の露光装置によってデバイスを製造する工程を有するデバイス製造方法。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】本発明の実施例に係る磁気浮上装置を浮上方向から見たＸ-Ｙ平面図である。
【図２】本発明の実施例に係る磁気浮上装置を側面方向から見たＹ-Ｚ側面図である。
【図３】本発明の実施例に係る磁気浮上装置を説明するための立体図である。
【図４】本発明の実施例における固定磁石が作る着磁方向磁束密度成分−長手方向(Bｙ−Ｘ)等高線図である。
【図５】本発明の実施例１を説明するための図であり、図４の等高線図をグラフ化したものである。グラフ中のＹ＝０は磁気浮上装置中心、Ｙ＝１０[mm]は可動磁石上面（対向面）における着磁方向磁束密度特性である。
【図６】本発明の実施例２を説明するためのＸ−Ｙ平面図である。
【図７】本発明の実施例における固定磁石が作る着磁方向磁束密度成分−浮上方向(Bｙ−Ｚ)等高線図である。
【図８】本発明の実施例３を説明するための図であり、図７の等高線図をグラフ化したものである。グラフ中のＹ＝０は磁気浮上装置中心、Ｙ＝１０[mm]は可動磁石上面（対向面）における着磁方向磁束密度特性である。
【図９】本発明の実施例に係る固定磁石が固定磁石間に作る磁束密度を説明するためのＸ−Ｙ平面図である。
【図１０】本発明の実施例に係る固定磁石が該固定磁石間に作る磁束密度を説明するためのＹ−Ｚ側面図である。
【図１１】本発明の実施例に係る磁気浮上装置の寸法を定義するためのＸ−Ｙ側面図である。
【図１２】本発明の実施例に係る磁気浮上装置の寸法を定義するためのＹ−Ｚ側面図である。
【図１３】本発明の効果を説明するための、Ｘ軸−横ずれ力特性図である。
【図１４】本発明の効果を説明するための、Ｚ軸−浮上力特性図である。
【図１５】本発明の実施例４におけるＸ−Ｙ平面図である。
【図１６】本発明の実施例４における可動磁石の形状を説明するためのＸ−Ｙ平面図である。
【図１７】本発明の磁気浮上装置を用いた露光装置の斜視図である。
【図１８】図１７に示したウエハステージの微動ステージ部分の構造を分解して示す斜視図である。
【図１９】図１７に示したウエハステージの粗動ステージ部分の構成を示す斜視図である。
【図２０】図１７に示したウエハステージにおいて用いられる微動ステージ用のリニアモータの構成を示す斜視図である。
【図２１】図１７に示したウエハステージの粗動ステージ用リニアモータの構成を示す斜視図である。
【図２２】従来の磁気浮上装置を示すＸ−Ｚ平面図である。
【図２３】露光装置の一例を示す図である。
【図２４】デバイス製造プロセスを示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００７４】
11,12：固定磁石、21：可動磁石、100：磁気浮上装置。
【図１】
2005209670.tif 000014
【図２】
2005209670.tif 000015
【図３】
2005209670.tif 000016
【図４】
2005209670.tif 000017
【図５】
2005209670.tif 000018
【図６】
2005209670.tif 000019
【図７】
2005209670.tif 000020
【図８】
2005209670.tif 000021
【図９】
2005209670.tif 000022
【図１０】
2005209670.tif 000023
【図１１】
2005209670.tif 000024
【図１２】
2005209670.tif 000025
【図１３】
2005209670.tif 000026
【図１４】
2005209670.tif 000027
【図１５】
2005209670.tif 000028
【図１６】
2005209670.tif 000029
【図１７】
2005209670.tif 000030
【図１８】
2005209670.tif 000031
【図１９】
2005209670.tif 000032
【図２０】
2005209670.tif 000033
【図２１】
2005209670.tif 000034
【図２２】
2005209670.tif 000035
【図２３】
2005209670.tif 000036
【図２４】
2005209670.tif 000037