(57)【要約】【課題】  光ディスク原盤の露光時間を短縮し、且つ、装置の小型化、省電力化、低価格化が可能な光ディスク原盤露光装置を提供すること。【解決手段】  搭載した３台の半導体レーザ１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｃから発光されたレーザ光束１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃを、光ディスク原盤１１１上に、光ディスク原盤１１１の回転方向に対して垂直方向にわずかにずれた位置である光スポット１０２ｄ，１０２ｅ，１０２ｆとしてそれぞれ収束させ、３台の半導体レーザ１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｃを各々独立にＯＮ／ＯＦＦすることにより、光ディスク原盤１１１上にラジアル方向にウォブルした露光領域が形成される。【選択図】  図１
2005310221.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ディスク原盤上に螺旋状又は同心円状にトラッキング用案内溝潜像を形成する光ディスク原盤露光装置であって、
独立にレーザ光束を発光する複数の露光用半導体レーザと、
複数の前記露光用半導体レーザを各々ＯＮ／ＯＦＦする制御部と、
を有する光ディスク原盤露光装置。
【請求項２】
複数の前記露光用半導体レーザの前記レーザ光束が、前記光ディスク原盤上の異なる位置に各々収束することを特徴とする請求項１記載の光ディスク原盤露光装置。
【請求項３】
前記制御部の制御により各々ＯＮ／ＯＦＦされた複数の前記露光用半導体レーザにより、前記光ディスク原盤上に、当該光ディスク原盤の半径方向に位置が異なる領域を露光することを特徴とする請求項１記載の光ディスク原盤露光装置。
【請求項４】
所定の回転台に載置された光ディスク原盤上の第１の位置に収束するレーザ光を発光する第１の露光用半導体レーザと、
光ディスク原盤上の前記第１の位置と異なる第２の位置に収束するレーザ光を発光する第２の露光用半導体レーザと、
前記第１の露光用半導体レーザ及び前記第２の露光用半導体レーザを交互にＯＮ／ＯＦＦする制御部と、
を有することを特徴とする光ディスク原盤露光装置。
【請求項５】
前記第１の位置及び前記第２の位置が、前記光ディスク原盤の回転方向には略同じ位置であり、且つ、前記光ディスク原盤の回転方向の垂直方向に所定量ずれた位置であることを特徴とする請求項４記載の光ディスク原盤露光装置。
【請求項６】
光ディスク原盤上に螺旋状又は同心円状にトラッキング用案内溝潜像を形成する光ディスク原盤露光装置であって、
各々独立にレーザ光束を発光する複数の露光用半導体レーザと、
前記レーザ光束が、前記光ディスク原盤上の異なる位置に各々収束するように、当該レーザ光束の振れ角を変動させる光束角度調整手段と、
を有することを特徴とする光ディスク原盤露光装置。
【請求項７】
複数の前記露光用半導体レーザを各々ＯＮ／ＯＦＦし、前記光ディスク原盤上にラジアル方向にウォブルした前記トラッキング用案内溝潜像を形成することを特徴とする請求項６記載の光ディスク原盤露光装置。
【請求項８】
３台の前記露光用半導体レーザを搭載し、前記光ディスク原盤上の前記第１のレーザ光束の集光位置に対して、前記第２のレーザ光束の集光位置が前記光ディスク原盤の回転方向には略同じ位置且つ前記光ディスク原盤の回転方向の垂直方向に所定量ずれた位置であり、前記第３のレーザ光束の集光位置が、前記光ディスク原盤の回転方向には略同じ位置且つ前記光ディスク原盤の回転方向の垂直方向に所定量ずれた位置であって、前記第２のレーザ光束とは反対方向の位置であることを特徴とする請求項６記載の光ディスク原盤露光装置。
【請求項９】
前記レーザ光束は、開口数（ＮＡ）が０．８以上である対物レンズを用いて前記光ディスク原盤上に収束されることを特徴とする請求項６記載の光ディスク原盤露光装置。
【請求項１０】
前記露光用半導体レーザのレーザ光束の振れ角を、所定の搬送中心周波数に応じて変動する音響光学（ＡＯ）偏向器をさらに備えることを特徴とする請求項６記載の光ディスク原盤露光装置。
【請求項１１】
光ディスク原盤上に所定のトラッキング用案内溝潜像を形成する光ディスク原盤の製造方法であって、
前記光ディスク原盤上の異なる位置に各々収束するレーザ光束を発光する複数の露光用半導体レーザを、所定の制御手段により各々ＯＮ／ＯＦＦするＯＮ／ＯＦＦステップと、
前記ＯＮ／ＯＦＦステップにより各々独立に発光する複数の前記露光用半導体レーザにより、前記光ディスク原盤上にラジアル方向にウォブルした前記トラッキング用案内溝潜像を形成する潜像形成ステップと、
を有することを特徴とする光ディスク原盤の製造方法。
【請求項１２】
前記潜像形成ステップにおいて、複数の前記露光用半導体レーザの前記レーザ光束が、前記光ディスク原盤上に当該光ディスク原盤の回転方向に対して垂直方向に所定量ずれて収束することを特徴とする請求項１１記載の光ディスク原盤の製造方法。
【請求項１３】
所定のトラッキング用案内溝を有する光ディスクの製造方法であって、前記トラッキング用案内溝を有する光ディスク原盤を形成する原盤形成工程と、前記原盤形成工程により形成された前記光ディスク原盤上の前記トラッキング用案内溝の形状が転写された金型鋳型を形成する鋳型形成工程と、を有し、前記原盤形成工程が、前記光ディスク原盤上の異なる位置に収束するレーザ光束を発光する複数の前記露光用半導体レーザを各々ＯＮ／ＯＦＦし、前記光ディスク原盤上にラジアル方向にウォブルしたトラッキング用案内溝潜像を形成することを特徴とする光ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ディスク原盤露光装置等に関し、より詳しくは、光記録媒体（光ディスク）のマスタリングに用いる光ディスク原盤を製造するための光ディスク原盤露光装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光ディスク原盤上に案内溝潜像を形成する装置として、アルゴンレーザ、ＤＵＶレーザ等のガスレーザを用いる光ディスク原盤露光装置が広く使用されている（特許文献１参照）。
例えば、図８は、従来の光ディスク原盤露光装置を説明する図である。図８には、アルゴンレーザを使用した光ディスク原盤露光装置８００が示されている。光ディスク原盤露光装置８００は、気体レーザであるアルゴンレーザ８０１と、アルゴンレーザ８０１から出射されたレーザ光８０２の光軸上に設けられたシャッター８０３及び２個の凸レンズ８０４ａ，８０４ｂと、凸レンズ８０４ａ，８０４ｂ間に設けられ、入力される周波数によって光の回折角度を変化させてレーザ光８０２をＯＮ／ＯＦＦするＡＯ変調器８０５と、入力される周波数に応じて出射光束の振れ角を２本の光束８０２ａ，８０２ｂのように角度を変化させるＡＯ偏向器８０６と、平行光束の光束径を広げ、且つ、ＡＯ偏向器８０６から出射された２本の光束８０２ａ，８０２ｂの振れ角を低減するビームエキスパンダー８０７と、光ディスク原盤８１１上の光スポット８０２ｃ，８０２ｄ，８０２ｅの位置に集光ビームを形成する対物レンズ８１０と、ビームエキスパンダー８０７から光束を対物レンズ８１０に導くハーフミラー８０８及び反射ミラー８０９と、を備えている。
【０００３】
また、光ディスク原盤８１１上の光スポット８０２ｃ、８０２ｄ，８０２ｅの位置に形成された集光ビームの像は、ハーフミラー８０８及び結像レンズ８１２を通して撮像管８１３上に結像し、ＴＶモニター８１４によりその像が観察できる。
【０００４】
図８に示すように、アルゴンレーザ８０１から出射されたレーザ光８０２は、シャッター８０３を通過して、２ケの凸レンズ８０４ａ，８０４ｂ間に設けたＡＯ変調器８０５に入る。ＡＯ変調器８０５は入力される周波数によって光の回折角度を変化させる素子であり、これを用いてレーザ光８０２をＯＮ／ＯＦＦさせることが出来る。ＡＯ変調器８０５を通ったレーザ光８０２は、凸レンズ８０４ｂを通り、ＡＯ偏向器８０６に入射する。ＡＯ偏向器８０６の搬送中心周波数は約２００ＭＨｚであり、約２００ＭＨｚ近傍の周波数を入力することにより、周波数に応じて出射光束の振れ角を制御でき、２本の光束８０２ａ，８０２ｂのように角度を変化させる。
【０００５】
ＡＯ偏向器８０６を出射した光は、ビームエキスパンダー８０７、ハーフミラー８０８、反射ミラー８０９を経て対物レンズ８１０に入射し、光ディスク原盤８１１上の光スポット８０２ｃ、８０２ｄ、８０２ｅの位置に集光ビームを形成する。ここで、ビームエキスパンダー８０７は、対物レンズ８１０に入射する平行光束の光束径を、対物レンズ８１０の入射瞳有効径程度又はそれ以上に広げる働きを有し、且つ、ＡＯ偏向器８０６から出射された２個の光束８０２ａ，８０２ｂの振れ角を低減する働きを有する。光束径を対物レンズ８１０の有効瞳径程度又はそれ以上に太くすることにより、対物レンズ８１０の結像パワーを有効に利用し、微小集光ビームを光ディスク原盤８１１上に形成可能となる。また、ＡＯ偏向器８０６から出射される光束の偏向角を低減させることにより、ＡＯ偏向器８０６に入力する２周波の周波数差が高められる。
【０００６】
【特許文献１】特開平０７−１６９１１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、図８に示されるような、従来のアルゴンレーザ８０１を備えた光ディスク原盤露光装置８００に備えられたＡＯ偏向器８０６は、搬送中心周波数が約２００ＭＨｚ程度の音響光学素子であり、周波数に応じて出射光束の振れ角を制御し光束角度を変化させるものである。このような音響光学素子であるＡＯ偏向器８０６の応答速度は搬送中心周波数が律速になるため、応答速度を搬送中心周波数以上に増大させることが困難である。そのため、光ディスク原盤８１１上にウォブルピット又はウォブルグルーブを形成するための露光時間が長時間必要となるという問題がある。
【０００８】
さらに、従来のアルゴンレーザ８０１を備えた光ディスク原盤露光装置８００は、装置を構成する部品には大型且つ高価なものが多く、措置全体が大型化するという問題がある。また、アルゴンレーザ８０１から出射されたレーザ光８０２の利用効率が低く、構成部品が高価であることと合わせて装置全体のコストが増大するという問題がある。
【０００９】
本発明は、このような技術的課題を解決するためになされたものである。
即ち、本発明の目的は、光ディスク原盤の露光時間を短縮し、且つ、装置の小型化、省電力化、低価格化が可能な光ディスク原盤露光装置を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、光ディスク原盤の露光時間が短縮された光ディスク原盤の製造方法を提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、光ディスクの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
かかる課題を解決するために、本発明では、複数の半導体レーザを各々ＯＮ／ＯＦＦすることにより、光ディスク原盤上のラジアル方向にウォブルした露光領域を形成する方式を採用している。
即ち、本発明によれば、光ディスク原盤上に螺旋状又は同心円状にトラッキング用案内溝潜像を形成する光ディスク原盤露光装置であって、独立にレーザ光束を発光する複数の露光用半導体レーザと、複数の露光用半導体レーザを各々ＯＮ／ＯＦＦする制御部と、を有する光ディスク原盤露光装置が提供される。
本発明が適用される光ディスク原盤露光装置は、複数の露光用半導体レーザのレーザ光束が、光ディスク原盤上の異なる位置に各々収束することを特徴とするものである。さらに、制御部の制御により各々ＯＮ／ＯＦＦされた複数の露光用半導体レーザにより、光ディスク原盤上に、光ディスク原盤の半径方向に位置が異なる領域を露光することを特徴とすれば、従来の装置と比べて短い露光時間により、光ディスク原盤上にラジアル方向にウォブルしたトラッキング用案内溝潜像を形成することができる。
【００１１】
次に、本発明によれば、所定の回転台に載置された光ディスク原盤上の第１の位置に収束するレーザ光を発光する第１の露光用半導体レーザと、光ディスク原盤上の第１の位置と異なる第２の位置に収束するレーザ光を発光する第２の露光用半導体レーザと、第１の露光用半導体レーザ及び第２の露光用半導体レーザを交互にＯＮ／ＯＦＦする制御部と、を有することを特徴とする光ディスク原盤露光装置が提供される。
本発明が適用される光ディスク原盤露光装置は、第１の位置及び第２の位置が、光ディスク原盤の回転方向には略同じ位置であり、且つ、光ディスク原盤の回転方向の垂直方向に所定量ずれた位置であることを特徴とするものである。
【００１２】
さらに、本発明によれば、光ディスク原盤上に螺旋状又は同心円状にトラッキング用案内溝潜像を形成する光ディスク原盤露光装置であって、各々独立にレーザ光束を発光する複数の露光用半導体レーザと、レーザ光束が、光ディスク原盤上の異なる位置に各々収束するように、レーザ光束の振れ角を変動させる光束角度調整手段と、を有することを特徴とする光ディスク原盤露光装置が提供される。
本発明が適用される光ディスク原盤露光装置は、複数の露光用半導体レーザを各々ＯＮ／ＯＦＦし、光ディスク原盤上にラジアル方向にウォブルしたトラッキング用案内溝潜像を形成することを特徴とするものである。
【００１３】
また、本発明が適用される光ディスク原盤露光装置が、３台の露光用半導体レーザを搭載する場合は、光ディスク原盤上の第１のレーザ光束の集光位置に対して、第２のレーザ光束の集光位置が光ディスク原盤の回転方向には略同じ位置且つ光ディスク原盤の回転方向の垂直方向に所定量ずれた位置であり、第３のレーザ光束の集光位置が、光ディスク原盤の回転方向には略同じ位置且つ光ディスク原盤の回転方向の垂直方向に所定量ずれた位置であって、第２のレーザ光束とは反対方向の位置であることを特徴とすることにより、ウォブル状の連続したグルーブを形成することが可能となる。
本発明が適用される光ディスク原盤露光装置において、レーザ光束は、開口数（ＮＡ）が０．８以上、好ましくは０．９以上である対物レンズを用いて光ディスク原盤上に収束されることが好ましい。
また、露光用半導体レーザのレーザ光束の振れ角を、所定の搬送中心周波数に応じて変動する音響光学（ＡＯ）偏向器をさらに備えることが好ましい。
【００１４】
一方、本発明は、光ディスク原盤上に所定のトラッキング用案内溝潜像を形成する光ディスク原盤の製造方法であって、光ディスク原盤上の異なる位置に各々収束するレーザ光束を発光する複数の露光用半導体レーザを、所定の制御手段により各々ＯＮ／ＯＦＦするＯＮ／ＯＦＦステップと、ＯＮ／ＯＦＦステップにより各々独立に発光する複数の露光用半導体レーザにより、光ディスク原盤上にラジアル方向にウォブルしたトラッキング用案内溝潜像を形成する潜像形成ステップと、を有することを特徴とする光ディスク原盤の製造方法として把握することができる。
本発明が適用される光ディスク原盤の製造方法では、潜像形成ステップにおいて、複数の露光用半導体レーザのレーザ光束が、光ディスク原盤上に光ディスク原盤の回転方向に対して垂直方向に所定量ずれて収束することを特徴とするものである。
【００１５】
また、本発明によれば、所定のトラッキング用案内溝を有する光ディスクの製造方法であって、トラッキング用案内溝を有する光ディスク原盤を形成する原盤形成工程と、原盤形成工程により形成された光ディスク原盤上のトラッキング用案内溝の形状が転写された金型鋳型を形成する鋳型形成工程と、を有し、原盤形成工程が、光ディスク原盤上の異なる位置に収束するレーザ光束を発光する複数の露光用半導体レーザを各々ＯＮ／ＯＦＦし、光ディスク原盤上にラジアル方向にウォブルしたトラッキング用案内溝潜像を形成することを特徴とする光ディスクの製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１６】
かくして本発明によれば、光ディスク原盤の露光時間を短縮し、且つ、装置の小型化、省電力化、低価格化が可能な光ディスク原盤露光装置が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、添付図面に基づき、本発明を実施するための最良の形態（実施の形態）について詳述する。
図１は、本実施の形態が適用される光ディスク原盤露光装置の第１の実施形態を説明する図である。図１には、３台のレーザ光源を搭載した光ディスク原盤露光装置１００が示されている。光ディスク原盤露光装置１００は、露光用のレーザ光源としてそれぞれレーザ光束１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃを発光する３台の半導体レーザ１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｃと、３台の半導体レーザ１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｃのレーザ発光のＯＮ／ＯＦＦをそれぞれ独立に制御するＯＮ／ＯＦＦ制御手段として、レーザドライバ１１７ａ，１１７ｂ，１１７ｃと、レーザドライバ１１７ａ，１１７ｂ，１１７ｃから半導体レーザ１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｃに送られる信号を制御する制御部１１８と、を備えている。尚、半導体レーザ１０１ａは、レーザ光束１０２ａの偏光軸が紙面に対して水平方向になるように取り付けられている。また、半導体レーザ１０１ｂ，半導体レーザ１０１ｃは、それぞれレーザ光束１０２ｂ，１０２ｃの偏光軸が紙面に対して垂直方向になるように取り付けられている。
【００１８】
さらに、レーザ光束１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃをそれぞれ平行な光束に変換するコリメートレンズ１０４ａ，１０４ｂ，１０４ｃと、レーザ光束１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃのビームプロファイルをそれぞれ円形に整形するビーム整形器１０５ａ，１０５ｂ，１０５ｃと、レーザ光束１０２ｂ及びレーザ光束１０２ｃを合成し、且つ、レーザ光束１０２ｃの角度を調整する光束角度調整手段であるハーフミラー１１５と、レーザ光束１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃを合成し、且つ、レーザ光束１０２ｂの角度を調整する光束角度調整手段であるビームスプリッター（ＰＢＳ）１１６と、ビームスプリッター（ＰＢＳ）１１６を透過した光束を９０度方向に反射するダイクロイックミラー１０９と、ダイクロイックミラー１０９により反射した光束を光ディスク原盤１１１に集光する対物レンズ１１０と、光ディスク原盤１１１から反射して元の光路をたどる光束を反射するビームスプリッター１０８と、ビームスプリッター１０８から反射した光束を集光する結像レンズ１１２と、結像レンズ１１２を透過した光束が入射する撮像管１１３と、その像が観察できるＴＶモニター１１４と、を有している。
【００１９】
次に、光ディスク原盤露光装置１００の作用について説明する。
図１に示すように、光ディスク原盤露光装置１００において、制御部１１８により制御されるＯＮ／ＯＦＦ信号に従い、レーザ光源である半導体レーザ１０１ａから発光するレーザ光束１０２ａは、ほぼ直線的に偏光し且つ発散した光束を発生する。レーザ光束１０２ａはコリメートレンズ１０４ａにより平行光束になり、ビーム整形器１０５ａでビームプロファイルがほぼ円形にされ、ビームスプリッター（ＰＢＳ）１１６及びビームスプリッター１０８を透過し、ダイクロイックミラー１０９で反射され、アクチュエータ（図示せず）に取り付けられた対物レンズ１１０により光ディスク原盤１１１に集光され、光スポット１０２ｄに結像される。
【００２０】
また、同様に、２台目のレーザ光源である半導体レーザ１０１ｂから発光するレーザ光束１０２ｂも、ほぼ直線的に偏光し且つ発散した光束を発生する。レーザ光束１０２ｂはコリメートレンズ１０４ｂにより平行光束になり、ビーム整形器１０５ｂでビームプロファイルがほぼ円形にされ、ハーフミラー１１５を透過し、ビームスプリッター（ＰＢＳ）１１６で反射され、ビームスプリッター１０８を透過した後、ダイクロイックミラー１０９で反射され、対物レンズ１１０により光ディスク原盤１１１に集光され、光スポット１０２ｅに結像される。
【００２１】
ここで、半導体レーザ１０１ｂから発光されたレーザ光束１０２ｂは、光束角度調整手段であるビームスプリッター（ＰＢＳ）１１６の角度を調整することにより、半導体レーザ１０１ａから発光されたレーザ光束１０２ａの集光スポットである光スポット１０２ｄの位置に対して、光ディスク原盤１１１の回転方向（タンジェンシャル方向）には略同じ位置に、且つ、光ディスク原盤１１１の回転方向と垂直方向（ラジアル方向）にわずかにずれた位置である光スポット１０２ｅの位置に集光されている。
【００２２】
また、３台目のレーザ光源である半導体レーザ１０１ｃから発光するレーザ光束１０２ｃも、ほぼ直線的に偏光し且つ発散した光束を発生する。レーザ光束１０２ｃはコリメートレンズ１０４ｃにより平行光束になり、ビーム整形器１０５ｃでビームプロファイルがほぼ円形にされ、ハーフミラー１１５で反射し、ビームスプリッター（ＰＢＳ）１１６で反射され、ビームスプリッター１０８を透過した後、ダイクロイックミラー１０９で反射され、対物レンズ１１０により光ディスク原盤１１１に集光され、光スポット１０２ｆに結像される。
【００２３】
半導体レーザ１０１ｃから発光されたレーザ光束１０２ｃは、光束角度調整手段であるハーフミラー１１５の角度を調整することにより、半導体レーザ１０１ａから発光されたレーザ光束１０２ａの集光スポットである光スポット１０２ｄの位置に対して、光ディスク原盤１１１の回転方向（タンジェンシャル方向）には略同じ位置に、且つ、光ディスク原盤１１１の回転方向と垂直方向（ラジアル方向）には、光スポット１０２ｅとは反対方向にわずかにずれた位置である光スポット１０２ｆの位置に集光されている。
【００２４】
図２は、光ディスク原盤上の光スポットの位置関係を説明する図である。図２に示すように、半導体レーザ１０１ａから発光されたレーザ光束１０２ａの集光スポットである光スポット１０２ｄの位置に対して、半導体レーザ１０１ｂから発光されたレーザ光束１０２ｂは、光ディスク原盤１１１の回転方向（タンジェンシャル方向）には略同じ位置に、且つ、光ディスク原盤１１１の回転方向と垂直方向（ラジアル方向）にわずかにずれた位置である光スポット１０２ｅの位置に集光される。
また、半導体レーザ１０１ｃから発光されたレーザ光束１０２ｃは、光ディスク原盤１１１の回転方向（タンジェンシャル方向）には略同じ位置に、且つ、光ディスク原盤１１１の回転方向と垂直方向（ラジアル方向）には、光スポット１０２ｅとは反対方向にわずかにずれた位置である光スポット１０２ｆの位置に集光されている。
【００２５】
本実施の形態が適用される光ディスク原盤露光装置１００においては、レーザ光源として使用する露光用の半導体レーザ１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｃは、例えば、波長４０５ｎｍのレーザ光を発信する発光素子が用いられる。また、対物レンズ１１０の開口数（ＮＡ）は０．９である。対物レンズ１１０の開口径と対物レンズ１１０に入射するレーザ光束の１／ｅ２径の比率（Ａ／Ｗ）は、タンジェンシャル方向及びラジアル方向ともに約０．６である。また、光ディスク原盤１１１上に形成されるトラックは、トラックピッチが０．６８μｍであり、グルーブのウォブル振幅は±６０ｎｍになるように調整されている。
尚、図示しないが、ダイクロイックミラー１０９を透過する長波長で且つ光ディスク原盤１１１上に塗布されたフォトレジストが感光しない波長のレーザ光を用いてフォーカス制御を行っている。
【００２６】
図３は、半導体レーザのＯＮ／ＯＦＦと光ディスク原盤上の露光状態を説明する図である。図３（ａ）、図３（ｂ）及び図３（ｃ）は、それぞれ、半導体レーザ１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｃのＯＮ／ＯＦＦを示し、図３（ｄ）は、光ディスク原盤１１１の露光状態を示し、図３（ｅ）は、ピット状または連続したウォブル形状のグルーブを示す。
図３（ａ）の３１及び３２は、半導体レーザ１０１ａがＯＮ状態を示し、図３（ｂ）の３３、３５及び３７は、半導体レーザ１０１ｂがＯＮ状態を示し、図３（ｃ）の３４及び３６は、半導体レーザ１０１ｃがＯＮ状態を示している。
【００２７】
図３（ｄ）に示すように、半導体レーザ１０１ａをＯＮ／ＯＦＦすることにより、光ディスク原盤１１１上に、ピット状（矩形状）の記録マーク３１ｄ，３２ｄが形成される。
また、２台の半導体レーザ１０１ｂ，１０１ｃを交互にＯＮ／ＯＦＦすることにより、光ディスク原盤１１１上に、光ディスク原盤１１１の回転方向とは垂直方向（ラジアル方向）にわずかにずれた記録マーク３３ｄ，３４ｄ，３５ｄ，３６ｄ，３７ｄが形成される。そして、図３（ｅ）に示すように、例えば、記録マーク３３ｄ及び記録マーク３４ｄ、記録マーク３５ｄ及び記録マーク３６ｄ等の断続部は、レーザ光の散乱、重ね合わせによってウォブル形状の連続したグルーブ３０が形成される。
【００２８】
次に、図４は、本実施の形態が適用される光ディスク原盤露光装置の第２の実施形態を説明する図である。図１に示した光ディスク原盤露光装置１００と重複する構成部品は同一の符号を用いている。
図４には、音響光学素子であるＡＯ偏向機と露光用の３台の半導体レーザとを組み合わせた光ディスク原盤露光装置４００が示されている。光ディスク原盤露光装置４００は、半導体レーザ１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｃと、レーザ光束１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃを平行な光束に変換するコリメートレンズ１０４ａ，１０４ｂ，１０４ｃと、レーザ光束１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃのビームプロファイルを円形にするビーム整形器１０５ａ，１０５ｂ，１０５ｃと、レーザ光束１０２ｂ，１０２ｃを合成するハーフミラー１１５と、レーザ光束１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃを合成するビームスプリッター（ＰＢＳ）１１６と、ビームスプリッター（ＰＢＳ）１１６を通過した光束を９０度方向に反射するダイクロイックミラー１０９と、ダイクロイックミラー１０９により反射した光束を光ディスク原盤１１１に集光する対物レンズ１１０と、光ディスク原盤１１１で反射して元の光路をたどる光束を反射するビームスプリッター１０８と、ビームスプリッター１０８から反射した光束を集光する結像レンズ１１２と、結像レンズ１１２を透過した光束が入射する撮像管１１３とを備えている。
【００２９】
さらに、ビーム整形器１０５ａとビームスプリッター（ＰＢＳ）１１６との間に設けられ、レーザ光束１０２ａを正弦波状に変換するＡＯ偏向器４０６と、ビームスプリッター（ＰＢＳ）１１６とビームスプリッター１０８との間にビームエキスパンダー４０７と、を有している。尚、レーザ光束１０２ａの偏光軸は、紙面に対して水平方向になるように半導体レーザ１０１ａが取り付けられている。また、レーザ光束１０２ｂ，１０２ｃの偏光軸が、それぞれ紙面に対して垂直方向になるように半導体レーザ１０１ｂ，１０１ｃが取り付けられている。
【００３０】
次に光ディスク原盤露光装置４００の作用について説明する。
図４に示すように、半導体レーザ１０１ａから発光するレーザ光束１０２ａは、ほぼ直線的に偏光しかつ発散した光束を発生する。レーザ光束１０２ａはコリメートレンズ１０４ａにより平行光束になり、ビーム整形器１０５ａでビームプロファイルがほぼ円形に整えられて、ＡＯ偏向器４０６に入射する。このとき平行光束であるレーザ光束１０２ａのビーム径が１ｍｍ程度になるようにコリメートレンズ１０４ａの焦点距離を設定する。
ＡＯ偏向器４０６を透過した正弦波状のレーザ光束は、ビームスプリッター（ＰＢＳ）１１６を通り、ビームエキスパンダー４０７にて光束が拡大され、ダイクロイックミラー１０９で反射されて対物レンズ１１０により光ディスク原盤１１１に集光され光スポット４０２ｇを結像する。ＡＯ偏向器４０６を用いることにより、露光速度は、従来のガスレーザを用いる露光装置の場合と変わらないが、正弦波状の溝形状を作成することができる。
【００３１】
尚、２台目のレーザ光源である半導体レーザ１０１ｂから発光されたレーザ光束１０２ｂは、光束角度調整手段であるビームスプリッター（ＰＢＳ）１１６の角度を調整することにより、光スポット４０２ｇの位置に対して、光ディスク原盤１１１の回転方向（タンジェンシャル方向）には略同じ位置に、且つ、光ディスク原盤１１１の回転方向と垂直方向（ラジアル方向）にわずかにずれた位置である光スポット４０２ｈの位置に集光されている。
【００３２】
また、３台目のレーザ光源である半導体レーザ１０１ｃから発光するレーザ光束１０２ｃは、光束角度調整手段であるハーフミラー１１５の角度を調整することにより、半導体レーザ１０１ａから発光されたレーザ光束１０２ａの集光スポットである光スポット４０２ｇの位置に対して、光ディスク原盤１１１の回転方向（タンジェンシャル方向）には略同じ位置に、且つ、光ディスク原盤１１１の回転方向と垂直方向（ラジアル方向）には、光スポット４０２ｇとは反対方向にわずかにずれた位置である光スポット４０２ｉの位置に集光されている。
【００３３】
図５は、図１に示した光ディスク原盤露光装置１００により形成されたピット形状を説明する図である。図５には、光ディスク原盤露光装置１００に搭載された３台の半導体レーザ１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｃを、それぞれ独立にＯＮ／ＯＦＦさせて光ディスク原盤１１１上に矩形状のピットを形成し、この矩形状のピットが形成された光ディスク原盤１１１を現像した後、その表面を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）により観察し３次元表示されたデータが示されている。尚、グラフの高さ方向は、実際の２倍のレンジになっている。
【００３４】
図６は、図１に示した光ディスク原盤露光装置１００により形成したグルーブ形状を説明する図である。図６には、光ディスク原盤露光装置１００に搭載された３台の半導体レーザ１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｃを、それぞれ独立にＯＮ／ＯＦＦさせて光ディスク原盤１１１上にウォブル形状の連続したグルーブを形成し、このグルーブが形成された光ディスク原盤１１１を現像した後、その表面をＡＦＭにより観察し３次元表示されたデータが示されている。尚、グラフの高さ方向は、実際の２倍のレンジになっている。
【００３５】
図７は、図４に示した光ディスク原盤露光装置４００により形成したグルーブ形状を説明する図である。図７には、光ディスク原盤露光装置４００に搭載された３台の半導体レーザ１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｃ及びＡＯ偏向器４０６を併用し、光ディスク原盤１１１上に正弦波状の連続的なグルーブを形成し、このグルーブが形成された光ディスク原盤１１１を現像した後、その表面をＡＦＭにより観察し３次元表示されたデータが示されている。尚、グラフの高さ方向は、実際の２倍のレンジになっている。
【００３６】
尚、本実施の形態では、露光用のレーザ光源として、波長４０５ｎｍの半導体レーザを使用したが、レーザ光の波長はこれに限定されず、波長のより短いレーザを使用することにより、例えば、青色レーザ用光ディスク原盤の作成も可能である。
【００３７】
また、本実施の形態においては、露光用の３台の半導体レーザを搭載した装置について説明したが、２台の半導体レーザを搭載した場合もウォブル形状のグルーブを形成することが可能である。
即ち、搭載した２台の半導体レーザの中、１台の半導体レーザの出射光束を対物レンズに対して傾けて入射させ、光ディスク原盤上の光スポットが、光ディスク原盤の回転方向に対して垂直方向にずれた位置に収束させる。次に、２台目の半導体レーザの出射光束も対物レンズに対して傾けて入射させ、光ディスク原盤上の光スポットが、光ディスク原盤の回転方向に対して垂直方向で、且つ、１台目の半導体レーザの光スポット位置と反対側にずれた位置で収束させる。そして、２台の半導体レーザを交互にＯＮ／ＯＦＦすることにより、光ディスク原盤上にラジアル方向にウォブルした露光領域を作成することが出来る。
【００３８】
また、本実施の形態が適用される光ディスク原盤露光装置１００等により調製された光ディスク原盤を用いて光ディスクを製造する方法は、通常、以下のように行われる。即ち、所定のレジストパターンを転写した光ディスク原盤の表面に導電膜を形成した後、ニッケル電気めっきを行ってニッケルめっき層を形成し、このニッケルめっき層をレジストパターンが転写された光ディスク原盤から剥離することにより光ディスク用スタンパを調製し、このように調製した光ディスク用スタンパを使用して、例えば、ポリカーボネイト樹脂等の射出成型を行うことにより、レジストパターンが転写された記録トラックが表面に形成された基板を調製し、この基板上に、例えば、記録層等の所定の各層を積層し、光ディスクを製造する。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】光ディスク原盤露光装置の第１の実施形態を説明する図である。
【図２】光ディスク原盤上の光スポットの位置関係を説明する図である。
【図３】半導体レーザのＯＮ／ＯＦＦと光ディスク原盤上の露光状態を説明する図である。図３（ａ）、図３（ｂ）及び図３（ｃ）は、それぞれ、半導体レーザ１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｃのＯＮ／ＯＦＦを示し、図３（ｄ）は、光ディスク原盤１１１の露光状態を示し、図３（ｅ）は、ピット状または連続したウォブル形状のグルーブを示す。
【図４】光ディスク原盤露光装置の第２の実施形態を説明する図である。
【図５】図１に示した光ディスク原盤露光装置により形成されたピット形状を説明する図である。
【図６】図１に示した光ディスク原盤露光装置により形成されたグルーブ形状を説明する図である。
【図７】図４に示した光ディスク原盤露光装置により形成されたグルーブ形状を説明する図である。
【図８】従来の光ディスク原盤露光装置を説明する図である。
【符号の説明】
【００４０】
３０…グルーブ、３１ｄ，３２ｄ，３３ｄ，３４ｄ，３５ｄ，３６ｄ，３７ｄ…記録マーク、１００，４００，８００…光ディスク原盤露光装置、１０１ａ，１０１ｂ，１０１ｃ…半導体レーザ、１０２ａ，１０２ｂ，１０２ｃ…レーザ光束、１０２ｄ，１０２ｅ，１０２ｆ，４０２ｇ，４０２ｈ，４０２ｉ，８０２ｃ，８０２ｄ，８０２ｅ…光スポット、１０４ａ，１０４ｂ，１０４ｃ…コリメートレンズ、１０５ａ，１０５ｂ，１０５ｃ…ビーム整形器、１０８…ビームスプリッター、１０９…ダイクロイックミラー、１１０，８１０…対物レンズ、１１１，８１１…光ディスク原盤、１１２，８１２…結像レンズ、１１３，８１３…撮像管、１１４，８１４…ＴＶモニター、１１５，８０８…ハーフミラー、１１６…ビームスプリッター（ＰＢＳ）、１１７ａ，１１７ｂ，１１７ｃ…レーザドライバ、１１８…制御部、４０６，８０６…ＡＯ偏向器、４０７，８０７…ビームエキスパンダー、８０１…アルゴンレーザ、８０２…レーザ光、８０２ａ，８０２ｂ…光束、８０３…シャッター、８０４ａ，８０４ｂ…凸レンズ、８０５…ＡＯ変調器、８０９…反射ミラー
【図１】
2005310221.tif 000003
【図２】
2005310221.tif 000004
【図３】
2005310221.tif 000005
【図４】
2005310221.tif 000006
【図５】
2005310221.tif 000007
【図６】
2005310221.tif 000008
【図７】
2005310221.tif 000009
【図８】
2005310221.tif 000010