(57)【要約】【課題】  設置スペースを小さくできる集積弁を提供すること。【解決手段】第１開閉弁３と連通する第１ポート２２と、第２開閉弁４と連通する第２ポート４２と、第１開閉弁３を介して第１ポート２２に連通するとともに、第２開閉弁４を介して第２ポート４２に連通する第３ポート５５とを備え、第１開閉弁３と第２開閉弁４の開閉弁動作を制御することにより、第１ポート２２と第２ポート４２と第３ポート５５の連通状態を切り換える集積弁１に、第１開閉弁３と第２開閉弁４とが上下に重ねて固定される取付ブロック２と、第１開閉弁３の出力ポート２３と第２開閉弁４の出力ポート４３とを連通させるものであって、第３ポート５５が開設された連結ブロック５とを設ける。【選択図】    図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１制御弁と連通する第１ポートと、第２制御弁と連通する第２ポートと、前記第１制御弁を介して第１ポートに連通するとともに、前記第２制御弁を介して前記第２ポートに連通する第３ポートとを備え、前記第１制御弁と前記第２制御弁の開閉弁動作を制御することにより、前記第１ポートと前記第２ポートと前記第３ポートの連通状態を切り換える集積弁において、
前記第１制御弁と前記第２制御弁とが上下に重ねて固定される取付ブロックと、
前記第１制御弁の出力ポートと前記第２制御弁の出力ポートとを連通させるものであって、前記第３ポートが開設された連結部材とを有することを特徴とする集積弁。
【請求項２】
請求項１に記載する集積弁において、
前記連結部材は、ブロック状をなし、前記第１制御弁及び前記第２制御弁の側方に固定され、前記第１制御弁の出力ポートと前記第２制御弁の出力ポートに連通する流路が上下方向に形成され、前記流路の延長線上に第３ポートが設けられていることを特徴とする集積弁。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載する集積弁において、
前記第１制御弁と前記第２制御弁がエアオペレイトバルブであり、
前記取付ブロックに前記第１制御弁に操作流体を供給する第１操作ポートと、前記第２制御弁に操作流体を供給する第２操作ポートが開設され、
前記取付ブロックが前記第１制御弁と前記第２制御弁に対して回転自在に連結していることを特徴とする集積弁。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３の何れか１つに記載する集積弁において、
プロセスガス供給ユニットに対して上方から４個の締結部材で固定されることを特徴とする集積弁。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造工程で使用される集積弁に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体製造装置や液晶製造装置に使用され、エッチングガスなどのプロセスガスの供給を制御するプロセスガス供給ユニットが開発されている。プロセスガス供給ユニットは、複数の流体制御機器を流路ブロックなどに固定することにより一体化される。流体制御機器には、例えば、マスフローコントローラの上流側に図１０又は図１１に示すような集積弁１００，２００が配設されている。
【０００３】
図１０に示す集積弁１００は、流路ブロック１０３，１０４，１０５，１０６に形成された流路が第１開閉弁１０１と第２開閉弁１０２を介して相互に連通するように集積されている。第１開閉弁１０１は、入力ポート１０１ａと出力ポート１０１ｂが弁部を介して連通している。入力ポート１０１ａは流路ブロック１０３を介してプロセスガス供給源に接続し、出力ポート１０１ｂは流路ブロック１０４を介して第２開閉弁１０２の入力ポート１０２ａに連通している。第２開閉弁１０２は、入力ポート１０２ａと出力ポート１０２ｂが常時連通し、出力ポート１０２ｂが流路ブロック１０６を介して図示しないマスフローコントローラに接続している。また、第２開閉弁１０２には、パージポート１０２ｃが開設され、パージポート１０２ｃと出力ポート１０２ｂが弁部を介して連通している。パージポート１０２ｃは流路ブロック１０５を介してパージガス供給源に接続している。
【０００４】
こうした集積弁１００は、第１開閉弁１０１を開弁して第２開閉弁１０２を閉弁した状態で流路ブロック１０３にプロセスガスを供給すると、プロセスガスが流路ブロック１０３、第１開閉弁１０１、流路ブロック１０４、第２開閉弁１０２、流路ブロック１０６を流れてマスフローコントローラに供給される。第１開閉弁１０１を閉弁すると、プロセスガスの供給が停止される。また、第１開閉弁１０１を閉弁して第２開閉弁１０２を開弁した状態で流路ブロック１０５にパージガスを供給すると、パージガスが流路ブロック１０５、第２開閉弁１０２、流路ブロック１０６を流れてマスフローコントローラに供給される。
【０００５】
また、図１１に示す集積弁２００は、第１開閉弁２０１と第２開閉弁２０２が流路ブロック２０３，２０４にそれぞれ取り付けられ、流路ブロック２０３，２０４を連結することにより集積されている。流路ブロック２０３は、入力ポート２０３ａと出力ポート２０３ｂとの間に弁座２０３ｃが設けられ、第１開閉弁２０１が弁座２０３ｃを開閉するようになっている。また、流路ブロック２０３は、入力ポート２０３ａと出力ポート２０３ｂの下方にパージ流路２０３ｄが形成されている。また、流路ブロック２０４は、入力ポート２０４ａと出力ポート２０４ｂが常時連通するように形成され、弁座２０４ｃと連通するようにパージ流路２０４ｄが形成されている。流路ブロック２０３，２０４は、流路ブロック２０３の出力ポート２０３ｂと流路ブロック２０４の入力ポート２０４ａとが接続し、流路ブロック２０３のパージ流路２０３ｄと流路ブロック２０４のパージ流路２０４ｄとが接続するように連結されている。
【０００６】
こうした集積弁２００は、第１開閉弁２０１を開弁して第２開閉弁２０２を閉弁した状態で流路ブロック２０３の入力ポート２０３ａにプロセスガスを供給すると、プロセスガスは入力ポート２０３ａから第１開閉弁２０１、出力ポート２０３ｂ、流路ブロック２０４の入力ポート２０４ａ、第２開閉弁２０２、出力ポート２０４ｂへと流れ、流路ブロック２０４の出力ポート２０４ｂからマスフローコントローラに供給される。第１開閉弁２０１を閉弁すると、プロセスガスの供給が停止する。その後、第１開閉弁２０１を閉弁して第２開閉弁２０２を開弁した状態で流路ブロック２０３にパージガスを供給すると、パージガスが流路ブロック２０３のパージ流路２０３ｄから流路ブロック２０４のパージ流路２０４ｄ、第２開閉弁２０２、出力ポート２０４ｂへと流れ、流路ブロック２０４の出力ポート２０４ｂからマスフローコントローラに供給される（例えば、特許文献１、特許文献２参照）。
【０００７】
【特許文献１】特開平１０−１４８２７２号公報
【特許文献２】特開平１０−３１１４５１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、従来の集積弁１００，２００は、いずれも第１開閉弁１０１，２０１と第２開閉弁１０２，２０２を流体の流れ方向に並設しており、設置スペースが大きかった。近年、半導体製造装置や液晶製造装置などでは装置サイズを小さくするためにプロセスガス供給ユニットをコンパクトにする要請が高く、集積弁１００，２００の設置スペースを小さくすることが望まれている。
【０００９】
本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであり、設置スペースを小さくできる集積弁を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る集積弁は、次のような構成を有している。
（１）第１制御弁と連通する第１ポートと、第２制御弁と連通する第２ポートと、第１制御弁を介して第１ポートに連通するとともに、第２制御弁を介して第２ポートに連通する第３ポートとを備え、第１制御弁と第２制御弁の開閉弁動作を制御することにより、第１ポートと第２ポートと第３ポートの連通状態を切り換える集積弁において、第１制御弁と第２制御弁とが上下に重ねて固定される取付ブロックと、第１制御弁の出力ポートと第２制御弁の出力ポートとを連通させるものであって、第３ポートが開設された連結部材とを有することを特徴とする。
【００１１】
（２）（１）に記載の発明において、連結部材は、ブロック状をなし、第１制御弁及び第２制御弁の側方に固定され、第１制御弁の出力ポートと第２制御弁の出力ポートに連通する流路が上下方向に形成され、流路の延長線上に第３ポートが設けられていることを特徴とする。
【００１２】
（３）（１）又は（２）に記載の発明において、第１制御弁と第２制御弁がエアオペレイトバルブであり、取付ブロックに第１制御弁に操作流体を供給する第１操作ポートと、第２制御弁に操作流体を供給する第２操作ポートが開設され、取付ブロックが第１制御弁と第２制御弁に対して回転自在に連結していることを特徴とする。
【００１３】
（４）（１）乃至（３）の何れか１つに記載の発明において、プロセスガス供給ユニットに対して上方から４個の締結部材で固定されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
次に、上記構成を有する発明の作用効果について説明する。
集積弁は、例えば、第１制御弁を開弁して第２制御弁を閉弁した状態で第１ポートに第１流体を供給すると、第１流体が第１制御弁の出力ポートから連結部材に流れ、第３ポートから出力される。また例えば、集積弁は、第１制御弁を閉弁して第２制御弁を開弁した状態で第２ポートに第２流体を供給すると、第２流体が第２制御弁の出力ポートから連結部材に流れ、第３ポートから出力される。こうした集積弁は、取付ブロックに第１制御弁と第２制御弁とが上下に重ねて取り付けられているため、例えば、流路ブロックに第１制御弁と第２制御弁とを並設する場合と比較して、設置スペースが小さくなる。
よって、本発明によれば、集積弁の設置スペースを小さくすることができる。
【００１５】
ここで、連結部材をブロック形状にし、第１制御弁の出力ポートと第２制御弁の出力ポートに連通する流路が上下方向に形成され、その延長線上に第３ポートが設けられていれば、連結部材内の流路構成が簡単なので、流量損失を生じにくい。
【００１６】
また、第１制御弁と第２制御弁がエアオペレイトバルブである場合には、取付ブロックに開設された第１操作ポート又は第２操作ポートから第１制御弁又は第２制御弁に操作流体を供給して、第１制御弁又は第２制御弁を開閉する。取付ブロックが第１制御弁と第２制御弁に対して回転自在に連結されていれば、取付ブロックを回転させて第１操作ポートと第２操作ポートの位置を調節することができ、操作流体供給源を第１操作ポートと第２操作ポートに接続しやすい。
【００１７】
さらに、集積弁をプロセスガス供給ユニット上に配設し、上方から４個の締結部材を締結して集積弁をプロセスガス供給ユニットに固定すれば、１個の制御弁をプロセスガス供給ユニットに取り付ける作業で２個の制御弁を同時にプロセスガス供給ユニットに取り付けることができ、作業性がよい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
次に、本発明に係る集積弁の一実施の形態について図面を参照して説明する。図１は、集積弁１の斜視図である。
集積弁１は、例えば、半導体製造装置や液晶製造装置などに搭載されるプロセスガス供給ユニットに取り付けられ、下流に設置されるマスフローコントローラにプロセスガス又はパージガスを供給する。集積弁１は、円筒形状の取付ブロック２に対して下方から第１開閉弁（「第１制御弁」に相当するもの。）３を取り付けるとともに、上方から第２開閉弁（「第２制御弁」に相当するもの。）４を取り付け、第１開閉弁３と第２開閉弁４の側面に連結ブロック（「連結部材」に相当するもの。）を固定したものであり、あたかも１個の流体制御機器を構成するような外観を備える。
【００１９】
図２は、集積弁１の縦断面図である。図３は、図２のＡＡ断面図である。
集積弁１には、取付ブロック２に第１開閉弁３と第２開閉弁４が上下逆さに重ねて取り付けられている。第１開閉弁３には第１ポート２２が設けられ、第２開閉弁４には第２ポート４２が設けられており、連結ブロック５を介して第１ポート２２と第２ポート４２が第３ポート５５に連通するようになっている。
【００２０】
取付ブロック２は、円柱形状をなし、第１開閉弁３を取り付けるための凹部１１が下端面に穿設され、第２開閉弁４を取り付けるための凹部１３が上端面に穿設されている。取付ブロック２の側面には、第１凹部１１に連通する第１操作ポート１２と、第２凹部１３に連通する第２操作ポート１４とが同一断面上に開設されている。
【００２１】
第１開閉弁３は、ノーマルクローズタイプのエアオペレイトバルブである。第１開閉弁３は、ボディ１５が連結フレーム１６を介して取付ブロック２に図中下方から回転自在に連結されている。ボディ１５は、略直方体形状のブロック状をなし、ボルト孔６０，６０が形成されている。ボディ１５は、連結フレーム１６が螺設される円柱状の連結凹部１７が開設され、連結凹部１７と同軸上に弁座１８がかしめ固定されている。連結凹部１７内には、ダイアフラム１９が配設され、略円筒状のダイアフラム押さえ２０を介して連結フレーム１６をボディ１５の連結凹部１７にねじ込むことにより、ダイアフラム１９の周縁部をダイアフラム押さえ２０とボディ１５との間で狭持している。そのため、連結フレーム１６とボディ１５との間に形成される空間は、ダイアフラム１９によって気密に区画されて弁室２１が形成されている。ボディ１５には、第１ポート２２が図中下端面から穿設され、出力ポート２３が図中水平方向に穿設されており、第１ポート２２と出力ポート２３は弁座１８と弁室２１を介して連通している。ダイアフラム１９の背室には、弁体２４がダイアフラム押さえ２０の内周面に沿って上下方向に摺動可能に保持され、弁体２４の摺動に応じてダイアフラム１９が弁座１８に当接又は離間するようになっている。
【００２２】
取付ブロック２の凹部１１と連結フレーム１６の間には、ピストン室２６が形成され、ピストン２７により一次室２６Ａと二次室２６Ｂとに気密に区画されている。一次室２６Ａには、圧縮ばね３０が縮設され、ピストン２７を常時図中Ｙ方向に付勢している。ピストン２７には、ピストンロッド２８が貫き通されて一体化されている。ピストンロッド２８は、先端部が連結フレーム１６を貫いて弁体２４に突き当てられ、弁体２４を介してダイアフラム１９を図中Ｙ方向にに押し下げて弁座１８に当接させている。ピストンロッド２８には、第１操作ポート１２に供給された操作エアを二次室２６Ｂに供給するための流路２９が形成されている。従って、一次室２６Ａと二次室２６Ｂの圧力変動を制御することにより、ピストン２７を図中Ｘ方向又はＹ方向に移動させ、ダイアフラム１９を弁座１８に当接又は離間させることが可能である。
【００２３】
一方、第２開閉弁４は、ノーマルオープンタイプのエアオペレイトバルブである。第２開閉弁４は、ボディ３５が連結フレーム３６を介して取付ブロック２に図中上方から回転自在に連結されている。ボディ３５は、略直方体形状のブロック状をなし、第２開閉弁４側から第１開閉弁３のボルト孔６０，６０が見えるように第１開閉弁３のボディ１５より幅が小さく設定されている。ボディ３５は、連結フレーム３６が螺設される円柱状の連結凹部３７が開設され、連結凹部３７と同軸上に弁座３８がかしめ固定されている。連結凹部３７内には、ダイフラム３９が配設され、略円筒状のダイアフラム押さえ４０を介して連結フレーム３６をボディ３５の連結凹部３７にねじ込むことにより、ダイアフラム３９の周縁部をダイアフラム押さえ４０とボディ３５との間で狭持している。そのため、連結フレーム３６とボディ３５との間に形成される空間は、ダイアフラム３９によって気密に区画されて弁室４１が形成されている。ボディ３５には、弁座３８と同軸上に継手３５ａが図中突設されて第２ポート４２が設けられ、出力ポート４３が図中水平方向に穿設されており、第２ポート４２と出力ポート４３は弁座３８と弁室４１を介して連通している。ダイアフラム３９の背室には、弁体４４がダイアフラム押さえ４０の内周面に沿って上下方向に摺動可能に保持され、弁体４４の摺動に応じてダイアフラム３９が弁座３８に当接又は離間するようになっている。
【００２４】
取付ブロック２の凹部１３と連結フレーム３６の間には、ピストン室４６が形成され、ピストン４７により一次室４６Ａと二次室４６Ｂとに気密に区画されている。二次室４６Ｂには、圧縮ばね５０が縮設され、ピストン４７を常時図中Ｙ方向に付勢している。ピストン４７には、ピストンロッド４８が貫き通されて一体化されている。ピストンロッド４８は、先端部が連結フレーム３６を貫くものの、図中Ｙ方向に下降しているため、弁体４４を介してダイアフラム３９を図中Ｘ方向に押し上げず、ダイアフラム３９が弁座３８から離間している。従って、一次室４６Ａと二次室２６Ｂの圧力変動を制御することにより、ピストン４７を図中Ｘ方向又は図中Ｙ方向に移動させ、ダイアフラム３９を弁座３８に当接又は離間させることが可能である。
【００２５】
第１開閉弁３のボディ１５と第２開閉弁４のボディ３５には、連結ブロック５が側方から固定され、第１開閉弁３の出力ポート２３と第２開閉弁４の出力ポート４３とを第３ポート５５に連通させている。連結ブロック５は、直方体形状の第１ブロック５１と直方体形状の第２ブロック５２とをパイプ５３で連結した形状を有し、第３ポート５５が第１ブロック５１の下端面から穿設されている。連結ブロック５は、第３ポート５５と同軸上に共通流路５６が図中上下方向に形成され、共通流路５６に対して直交するように第１連通路５７と第２連通路５８が形成されている。第１連通路５７は、第１ブロック５１の第１開閉弁３に当接する側面に第１開閉弁３の出力ポート２３と接続するように形成されている。また、第２連通路５８は、第２ブロック５２の第２開閉弁４に当接する側面に第２開閉弁４の出力ポート４３と接続するように形成されている。
【００２６】
図４は、連結ブロック５の正面図である。図５は、連結ブロック５の下面図である。
連結ブロック５は、第１ブロック５１が第２ブロック５２より幅が大きく設定され、ボルト孔６０が第２ブロック５２側から見えるように第１ブロック５１に形成されている。第１ブロック５１は、第１連通路５７の両側にボルト孔５１ａ，５１ａが形成され、第２ブロック５２には、第２連通録５８の両側にボルト孔５２ａ，５２ａが形成されている。そのため、第１開閉弁３の出力ポート２３と連結ブロック５の第１連通路５７との間、及び、第２開閉弁４の出力ポート４３と連結ブロック５の第２連通路５８との間にＯリングなどのシール部材（図示せず）をそれぞれ配設し、第１ブロック５１のボルト孔５１ａ，５１ａと第２ブロック５２のボルト孔５２ａ，５２ａに挿通したボルトＶ…（図１参照）を第１開閉弁３のボディ１５と第２開閉弁４のボディ３５にねじ込んで連結ブロック５を固定するときに、シール性が確保される。
【００２７】
次に、上記構成を有する本実施の形態の集積弁１の作用について説明する。
集積弁１は、プロセスガス供給ユニットのマスフローコントローラの上流に配置され、４隅に設けられたボルト孔６０，６０，６０，６０（図１参照）に図示しないボルトを第２開閉弁４側から挿通して図示しないプロセスガス供給ユニットにねじ込むことにより固定される。このとき、ボルト孔６０，６０，６０，６０が第２開閉弁４側から見えるため、ボルトを締結しやすい。これにより、集積弁１は、第１ポート２２が図示しないプロセスガス供給源に連通し、第３ポート５５が図示しないマスフローコントローラに連通する。そして、第２開閉弁４の継手３５ａにパージガス供給源を接続することにより、第２ポート４２がパージガス供給源に連通する。集積弁１は、第２開閉弁４の継手３５ａが上向きに突き出しているので、隣り合う流体制御機器との隙間が狭い場合でも、パージガス供給源を接続できる。それから、第１操作ポート１２と第２操作ポート１４に図示しない操作エア供給源を接続する。このとき、取付ブロック２を第１開閉弁３と第２開閉弁４に対して自由に回転させて第１操作ポート１２と第２操作ポート１４の位置を調節できるため、第１，第２操作ポート１２，１４に図示しない操作エア供給源を接続しやすい。
【００２８】
集積弁１は、第１操作ポート１２と第２操作ポート１４に操作エアが供給されないときには、第１開閉弁３が閉弁し、第２開閉弁４が開弁している。この状態を初期状態として説明する。
【００２９】
プロセスガスを図示しないマスフローコントローラに供給する場合には、第１操作ポート１２と第２操作ポート１４に操作エアを供給する。第２開閉弁４は、一次室４６Ａが加圧されて、ピストン４７が圧縮ばね５０に抗して図中Ｘ方向に上昇する。ピストンロッド４８は、ピストン４７と一体的に図中Ｘ方向に上昇して弁体４４を弁座３８側に押し上げ、ダイアフラム３９を弁座３８に当接させる。これにより、第２開閉弁４が閉弁する。
一方、第１開閉弁３は、操作エアがピストンロッド２８の連通路２９から二次室２６Ｂに供給され、二次室２６Ｂが加圧される。ピストン２７は、圧縮ばね３０に抗して図中Ｘ方向に上昇し、弁体２４から離間する。第１ポート２２にプロセスガスを供給すると、ダイアフラム１９がプロセスガスの圧力によって弁体２４を図中Ｘ方向に押し上げ、弁座１８から離間する。これにより、第１開閉弁３が開弁する。
【００３０】
第１ポート２２に供給されたプロセスガスは、第１ポート２２から弁座１８、弁室２１、出力ポート２３、連結ブロック５の第１連通路５７、第３ポート５５へと流れ、第３ポート５５から図示しないマスフローコントローラに供給される。このとき、プロセスガスは、ガスの流れに沿って連結ブロック５の第１連通路５７から第３ポート５５に引き込まれるが、たとえ、プロセスガスの一部が連結ブロック５の共通流路５６内に拡散しても、第２開閉弁４が閉弁しているため、第２開閉弁４の弁座３８から第２ポート４２に逆流しない。
【００３１】
その後、プロセスガスの供給を停止する場合には、第１操作ポート１２への操作エアの供給を停止する。第１開閉弁３は、二次室２６Ｂが加圧されなくなり、ピストン２７が圧縮ばね３０の弾圧力で図中Ｙ方向に押し下げられる。ピストンロッド２８は、ピストン２７と一体的に図中Ｙ方向に下降して弁体２４を弁座１８側に押し下げ、ダイアフラム１９を弁座１８に当接させる。これにより、第１開閉弁３が閉弁し、プロセスガスが第１開閉弁３から供給されなくなる。
【００３２】
その後、パージガスをマスフローコントローラに供給する場合には、第２操作ポート１４への操作エアの供給を停止する。第２開閉弁４は、一次室４６Ａが加圧されなくなり、ピストン４７が圧縮ばね５０の弾圧力で図中Ｙ方向に押し下げられる。ピストンロッド４８は、ピストン４７と一体的に図中Ｙ方向に下降して弁体４４を押し上げなくなる。弁体４４は、自重によって図中Ｙ方向に移動し、ダイアフラム３９が弁座３８から離間する。これにより、第２開閉弁４が開弁する。
【００３３】
第２ポート４２に供給されたパージガスは、第２ポート４２から弁座３８、弁室４１、出力ポート４３、連結ブロック５の第１連通路５８、共通流路５６、第３ポート５５へと流れ、第３ポート５５からマスフローコントローラに供給される。このとき、第１開閉弁３が閉弁しているため、パージガスが第１開閉弁３の弁座１８から第１ポート２２に逆流しない。
なお、この状態でパージガスの供給を停止すると、集積弁１は初期状態に戻る。
【００３４】
従って、本実施の形態の集積弁１によれば、第１開閉弁３と連通する第１ポート２２と、第２開閉弁４と連通する第２ポート４２と、第１開閉弁３を介して第１ポート２２に連通するとともに、第２開閉弁４を介して第２ポート４２に連通する第３ポート５５とを備え、第１開閉弁３と第２開閉弁４の開閉弁動作を制御することにより、第１ポート２２と第２ポート４２と第３ポート５５の連通状態を切り換えるものであって、第１開閉弁３と第２開閉弁４とが上下に重ねて固定される取付ブロック２と、第１開閉弁３の出力ポート２３と第２開閉弁４の出力ポート４３とを連通させるものであって、第３ポート５５が開設された連結ブロック５とを有しているので、例えば、流路ブロックに第１開閉弁と第２開閉弁とを並設する場合（例えば、図１０、図１１参照）と比較して、設置スペースを小さくすることができる。ここで、集積弁１は、連結ブロック５を第１開閉弁３と第２開閉弁４の側面に固定する。しかし、連結ブロック５が一般的な開閉弁より小さいため、集積弁１は２個の開閉弁を平面に並設する場合より設置スペースが小さくなる。
【００３５】
また、本実施の形態の集積弁１によれば、連結ブロック５は、ブロック状をなし、第１開閉弁３及び第２開閉弁４の側方に固定され、第１開閉弁３の出力ポート２３と第２開閉弁４の出力ポート４３に連通する共通流路５６が上下方向に形成され、共通流路５６の延長線上に第３ポート５５が設けられているので、連結ブロック５内の流路構成が簡単であり、流量損失を生じにくい。
【００３６】
また、本実施の形態の集積弁１によれば、第１開閉弁３と第２開閉弁４がエアオペレイトバルブであり、取付ブロック２に第１開閉弁３に操作エアを供給する第１操作ポート１２と、第２開閉弁４に操作流体を供給する第２操作ポート１４が開設され、取付ブロック２が第１開閉弁３と第２開閉弁４に対して回転自在に連結しているので、取付ブロック２を回転させて第１操作ポート１２と第２操作ポート１４の位置を調節することができ、図示しない操作エア供給源を第１操作ポート１２と第２操作ポート１４に接続しやすい。
【００３７】
また、本実施の形態の集積弁１によれば、図示しないプロセスガス供給ユニットに対して上方から４個のボルトで固定されるので、１個の開閉弁をプロセスガス供給ユニットに取り付ける作業で２個の開閉弁を同時にプロセスガス供給ユニットに取り付けることができ、作業性がよい。
【００３８】
尚、本発明の実施の形態について説明したが、本発明は、上記実施の形態に限定されることなく、色々な応用が可能である。
【００３９】
（１）例えば、上記実施の形態では、取付ブロック２の同一断面上に９０度の位相差をもって第１操作ポート１２と第２操作ポート１４を開設した。これに対して、図６の第１変形例に示すように、取付ブロック６２に第１操作ポート６３と第２操作ポート６４を高さを変えて開設し、同一断面上に設けないようにしてもよいし、また、図６の第１変形例及び図７の第２変形例に示すように、第１操作ポート６３，７３と第２操作ポート６４，７４を９０度でない位相差（例えば、１８０度）をもって開設してもよい。
【００４０】
（２）例えば、上記実施の形態では、取付ブロック２にノーマルクローズタイプの第１開閉弁３とノーマルオープンタイプの第２開閉弁４とを上下逆さに重ねて取り付けた。これに対して、第１開閉弁３と第２開閉弁４の向きを揃えて上下に重ねて取り付けても良い。また、図６の第１変形例に示すように、ノーマルクローズタイプの第１開閉弁３と第２開閉弁６５を上下に重ねて取り付けるようにしてよい。なお、この場合には、上記実施の形態で説明した第２開閉弁４のアクチュエータ部を、第１開閉弁３のアクチュエータ部と同様の構造として第２開閉弁６５を構成するようにしてもよい。また、図７の第２変形例に示すように、ノーマルオープンタイプの第１開閉弁７５と第２開閉弁４を上下に重ねて取り付けるようにしてよい。なお、この場合には、上記実施の形態の第１開閉弁３のアクチュエータ部を、第２開閉弁４のアクチュエータ部と同様の構造として第１開閉弁７５を構成するようにしてもよい。
【００４１】
（３）例えば、上記実施の形態では、第２開閉弁４のボディ３５に継手３５ａを上方に突き出すように突設した。これに対して、例えば、図８の第３変形例に示すように、第２開閉弁４のボディ３５の側面に継手８２を突設して第２ポート８３を設け、第２ポート８３と出力ポート４３を弁座３８を介して連通させるようにしてもよい。
【００４２】
（４）例えば、上記実施の形態では、第１ポート２２を下方に開口するように形成した。これに対して、例えば、図９の第４変形例に示すように、第１開閉弁３のボディ１５の側面に継手９２を突設して第１ポート９３を設け、第１ポート９３と出力ポート２３を弁座１８を介して連通させるようにしてもよい。
【００４３】
（５）例えば、上記実施の形態では、第３ポート５５を下方に開口するように形成した。これに対して、例えば、図９の第４変形例に示すように、連結ブロック５の第１ブロック５１の側面に継手９５を突設して第３ポート９６を設け、連結ブロック５の共通流路５６と連通させるようにしてもよい。
【００４４】
（６）例えば、上記実施の形態では、第１開閉弁３と第２開閉弁４にエアオペレイトバルブを使用したが、第１開閉弁又は第２開閉弁に電磁式のものを使用してもよい。また、例えば、上記実施の形態では、第１開閉弁３と第２開閉弁４にダイアフラム弁を使用したが、ベローズ弁を使用してもよい。
（７）例えば、上記実施の形態では、第１ポート２２又は第２ポート４３に供給したガスを第３ポート５５から出力するが、第３ポート５５に供給したガスを第１ポート２２と第２ポート４３から分岐して出力するようにしてもよい。この場合には、第１開閉弁３と第２開閉弁４を比例弁にして、所定の分流比で流体を出力するようにしてもよい。
（８）例えば、上記実施の形態では、半導体製造装置や液晶製造装置に搭載されるプロセスガス供給ユニットに集積弁１を取り付けたが、複数の液又はガスを切り換えて出力するものであれば、流体の種類や使用用途はこれに限定されるものではない。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の実施の形態に係り、集積弁の斜視図である。
【図２】同じく、集積弁の縦断面図である。
【図３】同じく、図２のＡＡ断面図である。
【図４】同じく、連結ブロックの正面図である。
【図５】同じく、連結ブロックの下面図である。
【図６】本発明の集積弁の第１変形例である。
【図７】本発明の集積弁の第２変形例である。
【図８】本発明の集積弁の第３変形例である。
【図９】本発明の集積弁の第４変形例である。
【図１０】従来のガス又は液体集積弁の構造を示す図である。
【図１１】従来のガス又は液体集積弁の構造を示す図である。
【符号の説明】
【００４６】
１  集積弁
２  取付ブロック
３  第１開閉弁
４  第２開閉弁
５  連結ブロック
１２  第１操作ポート
１４  第２操作ポート
２２  第１ポート
２３  出力ポート
４２  第２ポート
４３  出力ポート
５５  第３ポート
５６  共通流路
６１  集積弁
６２  取付ブロック
６３  第１操作ポート
６４  第２操作ポート
６５  第２開閉弁
７１  集積弁
７２  取付ブロック
７５  第１開閉弁
８１  集積弁
８２  継手
８３  第２ポート
９１  集積弁
９２  継手
９３  第１ポート
９５  継手
９６  第３ポート
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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