(57)【要約】【課題】  酵素の作用機構解明に有用な、光アフィニティー標識スフィンゴミエリン類縁体。【解決手段】  式（１）【化１】2005263774.tif 000055または  式（２）【化２】2005263774.tif 000056（式中、Ｒ5、Ｒ6は炭素数１〜２０を有するアルキル基、Ｒ1、Ｒ7は炭素数１〜２０を有するアルキレン基、Ｚは光アフィニティー標識基を意味する。）で表される光アフィニティー標識スフィンゴミエリン類縁体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
2005263774.tif 000035
（式中、Ｒ1は炭素数１〜２０を有するアルキレン基を意味し、Ｒ5は炭素数が１〜２０のアルキル基、アリール基、またはアリール基置換炭素数１〜６のアルキル基を意味し、Ｚは光アフィニティー標識基を意味し、そしてＭｅはメチル基を意味する。）
で表される光アフィニティー標識スフィンゴミエリン類縁体またはその光学活性体。
【請求項２】
一般式（１）において、Ｚが４−（３−トリフルオロメチル−３Ｈ−ジアジリン−３−イル）−フェニルである請求項１に記載の光アフィニティー標識スフィンゴミエリン類縁体またはその光学活性体。
【請求項３】
一般式（２）
【化２】
2005263774.tif 000036
（式中、Ｒ6は炭素数１〜２０を有するアルキル基を意味し、Ｒ7は炭素数１〜２０を有するアルキレン基を意味し、Ｚは光アフィニティー標識基を意味し、そしてMeはメチル基を意味する。）
で表されるアシル基に光アフィニティ標識を有するスフィンゴミエリン類縁体またはその光学活性体。
【請求項４】
一般式（２）において、Ｚが４−（３−トリフルオロメチル−３Ｈ−ジアジリン−３−イル）−フェニルである請求項３に記載のアシル基に光アフィニティ標識を有するスフィンゴミエリン類縁体またはその光学活性体。
【請求項５】
一般式（３）
【化３】
2005263774.tif 000037
（式中、Ｒ1は炭素数１〜２０を有するアルキレン基を意味し、Ｐ1は水酸基保護基を意味し、そしてＰ2はアミノ保護基を意味する。）
で表される化合物の水酸基を脱保護し、一般式（４）
【化４】
2005263774.tif 000038
（式中、Ｒ1およびＰ2は前掲に同じ。）
で表されるトリオールとし、２つの水酸基をアセタール化し、一般式（５）
【化５】
2005263774.tif 000039
（式中、Ｒ2およびＲ3は、同一または異なって水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、またはフェニル基を意味し、またＲ2およびＲ3は隣接する炭素原子と共に炭素数３〜６のシクロアルキル環を形成してもよく、そしてＲ1およびＰ2は前掲に同じ。）
で表される化合物とし、これを光アフィニティー標識基を有する化合物と反応させ、続いて水酸基を脱保護し、一般式（６）
【化６】
2005263774.tif 000040
（式中、Ｚは光アフィニティー標識基を意味し、Ｒ1およびＰ2は前掲に同じ。）
で表される化合物とし、２−ハロゲノエチルジアルキルホスファイトと反応させ、一般式（７）
【化７】
2005263774.tif 000041
（式中、Ｒ4はアルキル基を意味し、Ｘはハロゲンを意味し、そしてＲ1、Ｐ2およびＺは前掲に同じ。）
で表される化合物とし、アミノ基を脱保護し、更に、アミド化し、一般式（８）
【化８】
2005263774.tif 000042
（式中、Ｒ5は炭素数が１〜２０のアルキル基、アリール基、またはアリール基置換炭素数１〜６のアルキル基を意味し、そしてＸ、Ｚ、Ｒ1およびＲ4は前掲に同じ。）
で表される化合物とし、Ｘをトリメチルアミンで置換し、ついでリン酸エステルの加水分解を行うことを特徴とする、一般式（１）
【化９】
2005263774.tif 000043
（式中、Ｒ1、Ｒ5、ＺおよびMeは前掲に同じ。）
で表される光アフィニティー標識スフィンゴミエリン類縁体またはその光学活性体の製造方法。
【請求項６】
一般式（９）
【化１０】
2005263774.tif 000044
（式中、Ｒ6は炭素数１〜２０を有するアルキル基を意味し、そしてＰ3はアミノ保護基を意味する。）
で表される化合物に２−ハロゲノエチルジアルキルホスファイトを反応させ、一般式（１０）
【化１１】
2005263774.tif 000045
（式中、Ｒ4はアルキル基を意味し、Ｘはハロゲンを意味し、そしてＲ6およびＰ3は前掲に同じ。）
で表される化合物を得、アミノ基を脱保護し、更に、一般式（１１）
【化１２】
2005263774.tif 000046
（式中、Ｒ7は炭素数１〜２０を有するアルキレン基を意味し、Ｒ10は炭素数１〜２０を有するアルキル基を意味し、そしてＺは前掲に同じ。）
で表される化合物と反応させ、一般式（１２）
【化１３】
2005263774.tif 000047
（式中、Ｘ、Ｚ、Ｒ4、Ｒ6およびＲ7は前掲に同じ。）
で表される化合物を得、Ｘをトリメチルアミンで置換し、ついでリン酸エステルの加水分解を行うことを特徴とする、一般式（２）
【化１４】
2005263774.tif 000048
（式中、Ｒ6、Ｒ7、ＺおよびMeは前掲に同じ。）
で表されるアシル基に光アフィニティー標識基を有するスフィンゴミエリン類縁体またはその光学活性体の製造方法。
【請求項７】
一般式（１３）
【化１５】
2005263774.tif 000049
（式中、Ｒ9は低級アルキル基を意味し、そしてＲ7は前掲に同じ。）
で表される化合物をオゾン分解してアルデヒドとし、ついで還元し、一般式（１４）
【化１６】
2005263774.tif 000050
（式中、Ｒ7およびＲ9は前掲に同じ。）
で表される化合物を得、光アフィニティー標識基を有する化合物と反応させ、一般式（１５）
【化１７】
2005263774.tif 000051
（式中、Ｚは光アフィニティー標識基を意味し、Ｒ7およびＲ9は前掲に同じ。）
で表される化合物を得、加水分解し、ついで酸無水物にすることを特徴とする一般式（１１）
【化１８】
2005263774.tif 000052
（式中、Ｚ、Ｒ7およびＲ10は前掲に同じ。）
で表される化合物の製造方法。
【請求項８】
一般式（１４）
【化１９】
2005263774.tif 000053
（式中、Ｒ7およびＲ9は前掲に同じ。）
で表される化合物と光アフィニティー標識基を有する化合物と反応させることを特徴とする一般式（１５）
【化２０】
2005263774.tif 000054
（式中、Ｚ、Ｒ7およびＲ9は前掲に同じ。）
で表される化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光アフィニティー標識スフィンゴミエリン類縁体およびその製法に関する。
【背景技術】
【０００２】
スフィンゴミエリンの代謝物であるセラミド、スフィンゴシン、スフィンゴシン１−リン酸などのスフィンゴ脂質は、細胞死、細胞分化、ＰＫＣ阻害など様々な生体内情報伝達に関与していることから大きな注目を集めている。このことから、スフィンゴミエリンをセラミドへ変換する酵素、スフィンゴミエリナーゼは非常に重要な酵素であると位置づけることができる。しかし、この酵素の作用機構や高次構造などの情報はまだわかっておらず、その作用解明のための物質の開発が望まれている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明者らは、スフィンゴミエリナーゼの作用機構を調べるために有用な、以下に示す二つのツール分子を設計し、その合成を行ったものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは種々検討した結果、特開２００３−２６１７９４で開示した後記式（３）で表される化合物を原料に用いて製造される下記一般式（１）で表される光アフィニティー標識スフィンゴミエリン類縁体が当該目的を達成すること、および本発明に係る製法により当該類縁体が効率よく合成できることを見出した。
【化１】
2005263774.tif 000002
（式中、Ｒ1は炭素数１〜２０を有するアルキレン基を意味し、Ｒ5は炭素数が１〜２０のアルキル基、アリール基、またはアリール基置換炭素数１〜６のアルキル基を意味し、Ｚは光アフィニティー標識基を意味し、そしてＭｅはメチル基を意味する。）
【０００５】
また、後記一般式（９）で表される化合物を用いることにより一般式（２）で表されるアシル基に光アフィニティー標識を有するスフィンゴミエリン類縁体が当該目的を達成すること、および本発明に係る製法により当該類縁体が効率よく合成できることを見出した。
【化２】
2005263774.tif 000003
（式中、Ｒ6は炭素数１〜２０を有するアルキル基を意味し、Ｒ7は炭素数１〜２０を有するアルキレン基を意味し、Ｚは光アフィニティー標識基を意味し、そしてＭｅはメチル基を意味する。）
【０００６】
即ち、本発明は、上記一般式（１）で表される光アフィニティー標識スフィンゴミエリン類縁体およびその光学活性体、並びに上記一般式（２）で表されるアシル基に光アフィニティ標識を有するスフィンゴミエリン類縁体およびその光学活性体に関する。
【０００７】
本発明は、また一般式（３）
【化３】
2005263774.tif 000004
（式中、Ｒ1は炭素数１〜２０を有するアルキレン基を意味し、Ｐ1は水酸基保護基を意味し、そしてＰ2はアミノ保護基を意味する。）
で表される化合物の水酸基を脱保護（Ｐ1の脱離）し、一般式（４）
【化４】
2005263774.tif 000005
（式中、Ｒ1およびＰ2は前掲に同じ。）
で表されるトリオールとし、２つの水酸基をアセタール化し、一般式（５）
【化５】
2005263774.tif 000006
（式中、Ｒ2およびＲ3は、同一または異なって水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基を意味し、またＲ2およびＲ3は隣接する炭素原子と共に炭素数３〜６のシクロアルキル環を形成してもよく、そしてＲ1およびＰ2は前掲に同じ。）
で表される化合物とし、これを光アフィニティー標識基を有する化合物と反応させ、続いて水酸基を脱保護することにより、一般式（６）
【化６】
2005263774.tif 000007
（式中、Ｚは光アフィニティー標識基を意味し、そしてＲ1およびＰ2は前掲に同じ。）
で表される化合物とし、２−ハロゲノエチルジアルキルホスファイトと反応させ、一般式（７）
【化７】
2005263774.tif 000008
（式中、Ｒ4はアルキル基を意味し、Ｘはハロゲンを意味し、そしてＲ1、Ｐ2およびＺは前掲に同じ。）
で表される化合物とし、アミノ基を脱保護し、更に、アミド化することにより、一般式（８）
【化８】
2005263774.tif 000009
（式中、Ｒ5は炭素数が１〜２０のアルキル基、アリール基、またはアリール基置換炭素数１〜６のアルキル基を意味し、そしてＸ、Ｚ、Ｒ1およびＲ4は前掲に同じ。）
で表される化合物とし、Ｘをトリメチルアミンで置換し、リン酸エステルの加水分解を行うことを特徴とする、一般式（１）
【化９】
2005263774.tif 000010
（式中、Ｒ1、Ｒ5、ＺおよびMeは前掲に同じ。）
で表される光アフィニティー標識スフィンゴミエリン類縁体またはその光学活性体の製造方法にも関する。
【０００８】
一般式（１）で表される化合物の合成法を反応式で示すと下記の通りである。
【化１０】
2005263774.tif 000011
（上記式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｐ1、Ｐ2、Ｘ、Ｚ、およびＭｅは前掲に同じ。）
【０００９】
以下に工程ごとの反応につき、具体的に説明する。
特開２００３−２６１７９４で開示した上記一般式（３）で表される化合物の製法については特に限定はないが、３−ベンジル−４−アルコキシカルボニル−２−オキサゾリジノンにアセチリドイオンを反応させケトンとし、カルボニルを還元してアルコールとし、三重結合を還元してオキサゾリジノン環を加水分解するという手段で製造することができる。
【００１０】
一般式（３）で表される化合物の水酸基を脱保護（Ｐ1の脱離）することにより一般式（４）で表される化合物が得られる。
脱保護は、保護基の種類により公知の方法で行い得るが、例えば保護基がテトラヒドロピラニル基の場合、メタノール等の溶媒中、ｐ−トルエンスルホン酸等の酸触媒存在下、脱保護することができる。
【００１１】
一般式（４）で表される化合物の２つの水酸基を酸触媒存在下アセタール化することにより一般式（５）で表される化合物が得られる。
使用する酸としては、ｐ−トルエンスルホン酸、ピリジニウムパラトルエンスルホネート、カンファースルホン酸等の有機酸、塩酸、硫酸、リン酸等の鉱酸、三フッ化ホウ素等のルイス酸が好ましく挙げられる。
酸の使用量は基質に対して０．０１〜１当量が好ましく、さらに好ましくは０．０１〜０．１当量である。
【００１２】
アセタール化剤としては、例えば一般式（５）においてＲ2＝Ｒ3＝Ｈの場合はホルムアルデヒドを、Ｒ2＝Ｒ3＝フェニルの場合はベンゾフェノンを、Ｒ2、Ｒ3が隣接する炭素と共に６員環を形成する化合物の場合はシクロヘキサノンを用いることができる。また、Ｒ2＝Ｒ3＝メチルの場合はアセタール化剤としてアセトン、２，２−ジメトキシプロパン、２−メトキシプロペンを使用することが特に好ましい。
【００１３】
溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライム、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒等を好ましく用いることができ、また、アセタール化剤をそのまま溶媒として用いてよい。
反応温度は０℃から使用する溶媒の還流温度までであってよく、より好ましくは０℃から２５℃である。
【００１４】
一般式（５）で表される化合物と光アフィニティー標識基を有する化合物を反応させ、脱アセトナイドすることにより一般式（６）で表される化合物が得られる。光アフィニティー標識基を有する化合物は分子内に光アフィニティー標識基が存在すれば何ら限定されないが、例えば４−（３−トリフルオロメチル−３Ｈ−ジアジリン−３−イル）−フェノールを用いる場合はChem．Pharm．Bull．826(1994)に記載されている方法で合成することができる。
使用する試薬としては、アゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル等のアゾジカルボン酸エステルと、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン等のホスフィン化合物の組み合わせが挙げられる。
【００１５】
使用することができる溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライム、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、並びにこれらの混合溶媒等が挙げられる。
【００１６】
反応温度は−７８℃から使用することができる溶媒の還流温度までであってよく、好ましくは０℃から２５℃である。
脱アセトナイドは公知の方法で行うことができるが、例えば、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒中、希塩酸や希硫酸等の鉱酸やｐ−トルエンスルホン酸やピリジニウムパラトルエンスルホネート等の有機酸を用いることにより脱アセトナイドすることができる。
反応温度は−７８℃から溶媒の還流温度までで、より好ましくは０℃から５０℃である。
【００１７】
一般式（６）で表される化合物に四臭化炭素存在下、２−ハロゲノエチルジアルキルホスファイトを反応させることにより式（７）で表される化合物が得られる。
２−ハロゲノエチルジアルキルホスファイトとしては２−クロロエチルジメチルホスファイト、２−ブロモエチルジメチルホスファイト等が好ましく挙げられる。
これら２−ハロゲノエチルジアルキルホスファイトの使用量は基質に対して１〜３当量が好ましく、更に好ましくは１〜１．５当量である。
【００１８】
使用することができる溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライム、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、並びにこれらの混合溶媒等が挙げられる。
【００１９】
使用することができる塩基としてはトリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、ピコリン、ルチジン、コリジン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等の３級アミンが挙げられるが、好ましくはピリジンであり、これは溶媒としても使用できる。
反応温度は、０℃から使用する溶媒の還流温度までが好ましく、更に好ましくは０℃から２５℃が望ましい。
【００２０】
一般式（７）で表される化合物のアミノ基の脱保護、続いてアミド化することにより一般式（８）で表される化合物が得られる。
アミノ基の脱保護は常法により行うことができるが、例えばＰ2がｔ−ブトキシカルボニル基の場合、トリフルオロ酢酸、希塩酸等を用いてよい。
【００２１】
続いてのアミド化において、用いられる試薬としては、アセチルクロリド、プロピオニルクロリド、ブチリルクロリド、バレリルクロリド、ヘキサノイルクロリド、ベンゾイルクロリド等の炭素数２〜２１の環状または非環状アシルクロリドが好ましく挙げられる。これら酸クロリドの使用量は、基質に対して１〜３当量が好ましく、更に好ましくは１〜１．５当量が望ましい。
【００２２】
使用することができる溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライム、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、水媒体、並びにこれらの混合溶媒が好ましく挙げられる。
反応温度は０℃から使用する溶媒の還流温度までであってよく、好ましくは０℃から２５℃である。
【００２３】
そして、一般式（８）で表される化合物のＸをトリメチルアミンで置換しリン酸エステルの加水分解を行うことより一般式（１）で表される光アフィニティー標識スフィンゴミエリン類縁体が得られる。
【００２４】
使用する溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライム、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、水媒体、並びにこれらの混合溶媒等が好ましく挙げられるが、更に好ましくはメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒である。
【００２５】
反応温度は０℃から使用する溶媒の還流温度までであってよく、好ましくは０℃から２５℃である。
【００２６】
本発明は、また一般式（９）
【化１１】
2005263774.tif 000012
（式中、Ｒ6は炭素数１〜２０を有するアルキル基を意味し、そしてＰ3はアミノ保護基を意味する。）
で表される化合物に２−ハロゲノエチルジアルキルホスファイトと反応させ、一般式（１０）
【化１２】
2005263774.tif 000013
（式中、Ｒ4はアルキル基を意味し、Ｘはハロゲンを意味し、そしてＲ6およびＰ3は前掲に同じ。）
で表される化合物を得、アミノ基を脱保護し、更に、一般式（１１）
【化１３】
2005263774.tif 000014
（式中、Ｒ7は炭素数１〜２０を有するアルキレン基を意味し、Ｒ10は炭素数１〜２０を有するアルキル基を意味し、そしてＺは前掲に同じ。）
で表される化合物と反応させ、一般式（１２）
【化１４】
2005263774.tif 000015
（式中、Ｘ、Ｚ、Ｒ4、Ｒ6、およびＲ7は前掲に同じ。）
で表される化合物を得、Ｘをトリメチルアミンで置換し、ついでリン酸エステルの加水分解を行うことを特徴とする、一般式（２）
【化１５】
2005263774.tif 000016
（式中、Ｒ6、Ｒ7、ＺおよびMeは前掲に同じ。）
で表されるアシル基に光アフィニティー標識基を有するスフィンゴミエリン類縁体またはその光学活性体の製造方法にも関する。
【００２７】
アシル基に光アフィニティー標識基を有するスフィンゴミエリン類縁体（２）の合成法を反応式で示すと次の通りである。
【化１６】
2005263774.tif 000017
（上記式中、Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ10、Ｐ3、Ｘ、ＺおよびＭｅは前掲に同じ。）
【００２８】
以下に工程ごとの反応につき、具体的に説明する。
一般式（９）で表される化合物は、特に限定されないが、例えばＲ6がＣ13Ｈ27の場合は市販されているスフィンゴシンのアミノ基を保護することにより入手できる。
【００２９】
一般式（９）で表される化合物に四臭化炭素存在下、２−ハロゲノエチルジアルキルホスファイトを反応させることにより式（１０）で表される化合物が得られる。
２−ハロゲノエチルジアルキルホスファイトとしては２−クロロエチルジメチルホスファイト、２−ブロモエチルジメチルホスファイト等が好ましく挙げられる。
これら２−ハロゲノエチルジアルキルホスファイトの使用量は基質に対して１〜３当量が好ましく、更に好ましくは１〜１．５当量である。
【００３０】
使用することができる溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライム、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、並びにこれらの混合溶媒が好ましく挙げられる。
【００３１】
使用することができる塩基としては、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、ピコリン、ルチジン、コリジン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等の３級アミンが好ましく挙げられるが、更に好ましくはピリジンであり、これは溶媒としても使用できる。
反応温度は、０℃から使用する溶媒の還流温度までが好ましく、更に好ましくは０℃から２５℃が望ましい。
【００３２】
一般式（１０）で表される化合物のアミノ基を脱保護し、次いで一般式（１１）で表される化合物を反応させることにより一般式（１２）で表される化合物が得られる。
アミノ基の脱保護は常法により行うことができるが、例えばＰ2がｔ−ブトキシカルボニル基の場合、トリフルオロ酢酸、希塩酸等を好ましく用いることができる。
【００３３】
次のアミド化に用いることができる塩基としては、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸セシウム等の炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸水素塩、トリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、ピコリン、ルチジン、コリジン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等の３級アミンが好ましく挙げられるが、更に好ましくは炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸セシウム等の炭酸塩が望ましい。
【００３４】
使用することができる溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライム、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、水媒体、並びにこれらの混合溶媒等が好ましく挙げられる。
反応温度は０℃から使用する溶媒の還流温度までが好ましく、更に好ましくは０℃から２５℃が望ましい。
【００３５】
一般式（１２）で表される化合物のＸをトリメチルアミンで置換し、次いでリン酸エステルの加水分解を行うことより一般式（２）で表されるアシル基に光アフィニティー標識基を有するスフィンゴミエリン類縁体が得られる。
【００３６】
使用することができる溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライム、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、水媒体、並びにこれらの混合溶媒等が好ましく挙げられるが、更に好ましくはメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒が望ましい。
反応温度は０℃から使用する溶媒の還流温度までが好ましく、更に好ましくは０℃から２５℃が望ましい。
【００３７】
本発明は、化合物（２）の原料化合物として有用な化合物（１１）の製造法、即ち
一般式（１３）
【化１７】
2005263774.tif 000018
（式中、Ｒ9は低級アルキル基を意味し、そしてＲ7は前掲に同じ。）
で表される化合物をオゾン分解してアルデヒドとし、その後還元し、一般式（１４）
【化１８】
2005263774.tif 000019
（式中、Ｒ7およびＲ9は前掲に同じ。）
で表される化合物を得、光アフィニティー標識基を有する化合物と反応させ、一般式（１５）
【化１９】
2005263774.tif 000020
（式中、Ｚは光アフィニティー標識基を意味し、Ｒ7およびＲ9は前掲に同じ。）
で表される化合物を得、加水分解し、ついで酸無水物にすることを特徴とする一般式（１１）
【化２０】
2005263774.tif 000021
（式中、Ｚ、Ｒ7、およびＲ10は前掲に同じ。）
で表される化合物の製造方法にも関する。
一般式（１１）で表される化合物の合成法は下記反応式で示される。
【化２１】
2005263774.tif 000022
（上記式中のＲ7、Ｒ9、Ｒ10およびＺは前掲に同じ。）
【００３８】
一般式（１３）で表される化合物を一般的な手段によりオゾン分解してアルデヒドとし、その後還元することにより一般式（１４）で表される化合物が得られる。
オゾン分解に使用することができる溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライム、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、並びにこれらの混合溶媒が好ましく挙げられる。
【００３９】
オゾン分解の際の反応温度は、−７８℃から２５℃が好ましく、更に好ましくは−７８℃から０℃が望ましい。
アルデヒドの還元に使用する還元剤は水素化リチウムアルミニウム、水素化ホウ素ナトリウム等アルデヒドがアルコールに還元される試薬ならば何ら限定されない。
【００４０】
還元の際に使用する溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライムジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、並びにこれらの混合溶媒が好ましく挙げられる。
還元の際の反応温度は、−７８℃から溶媒の還流温度までで、好ましくは−７８℃から２５℃である。
【００４１】
一般式（１４）で表される化合物と光アフィニティー標識基を有する化合物を反応させることにより一般式（１５）で表される化合物が得られる。光アフィニティー標識基を有する化合物は分子内に光アフィニティー標識基が存在すれば何ら限定されないが、例えば４−（３−トリフルオロメチル−３Ｈ−ジアジリン−３−イル）−フェノールを用いる場合は前記のChem. Pharm. Bull. 826(1994)に記載されている方法で合成することができる。使用する試薬としては、アゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル等のアゾジカルボン酸エステルと、トリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィン等のホスフィン化合物の組み合わせが挙げられる。
【００４２】
使用する溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライム、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、並びにこれらの混合溶媒が好ましく挙げられる。
反応温度は−７８℃から使用する溶媒の還流温度までが好ましく、更に好ましくは０℃から２５℃が望ましい。
【００４３】
一般式（１５）で表される化合物を加水分解し、酸無水物にすることにより一般式（１１）で表される化合物が得られる。
加水分解に用いる試薬としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等のアルカリまたはアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸セシウム等の炭酸塩、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の炭酸水素塩、水素化カリウム、水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の水素化物等が好ましく挙げられるが、更に好ましくは水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等のアルカリまたはアルカリ土類金属の水酸化物が望ましい。
【００４４】
使用することができる溶媒としては、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライム、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒、並びにこれらの混合溶媒等が好ましく挙げられる。
【００４５】
酸無水物にする際用いる試薬としては、アセチルクロリド、ブチリルクロリド、ピバロイルクロリド等の炭素数１〜６の酸クロリドが好ましく挙げられる。
その際使用できる塩基としてはトリエチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、ピリジン、ピコリン、ルチジン、コリジン、４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン等の３級アミンが好ましく挙げられる。
【００４６】
また、使用できる溶媒としてはヘキサン、ベンゼン、トルエン等の炭化水素系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、ジグライム、トリグライム、ジエチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系溶媒、並びにこれらの混合溶媒が好ましく挙げられる。
【００４７】
ところで、光学活性な光アフィニティ標識スフィンゴミエリン類縁体（１）は、出発物質である上記式に記載の一般式（３）で表される化合物の光学活性体を用いることにより、高光学純度の光学活性体を合成できる。
また、光学活性なアシル基に光アフィニティ標識を有するスフィンゴミエリン類縁体（２）は、出発物質である上記式に記載の一般式（９）で表される化合物の光学活性体を用いることにより、高光学純度の光学活性体を合成できる。
【実施例】
【００４８】
以下に実施例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４９】
[実施例１]
トリオール（１７）の合成
ジオール（１６）(1.60 g, 3.60 mmol)のメタノール(18.0 mL)溶液に室温で、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物 (687 mg, 3.60 mL)を加え、同温にて30分間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、中和した後、減圧濃縮を行った。残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮を行った。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(66% to 75% 酢酸エチル（ヘキサン中））により分離・精製し、トリオール（１７）(1.20 g, 92.4%)を得た。
【化２２】
2005263774.tif 000023
[α]D22.0 -0.645 (c= 1.102, CHCl3)
IR (KBr disk): 3339.08, 1682.08, 1527.76, 1172.83, 667.43 cm-1
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ: 5.76 (dtd, J = 1.2, 6.8, 15.4 Hz, 1H), 5.53 (ddd, J = 1.2, 6.4, 15.4 Hz, 1H), 5.35 (d, J = 6.3 Hz, 1H), 4.28 (m, 1H), 3.91 (m, 1H ), 3.68 (m, 2H), 3.63 (t, J = 6.6 Hz, 2H), 3.15 (brs, 1H), 3.11 (brs, 1H), 2.05 (q, J = 6.8 Hz, 2H), 1.97 (m, 2H), 1.55 (q, J = 6.6 Hz, 2H), 1.45 (s, 9H), 1.37-1.28 (m, 12H); 
13C NMR (CDCl3, 100 MHz) δ: 156.3, 133.9, 129.0, 79.8, 74.6, 62.9, 62.5, 32.6, 32.2, 29.4, 29.2, 29.2, 28.9, 28.4, 25.6.
【００５０】
[実施例２]
アセトナイド（１８）の合成
トリオール（１７）(3.59 g, 9.98 mmol)のDMF (49.9 mL)溶液に０℃で、２，２−ジメトキシプロパン (3.68mL, 29.9 mmol)、カンファースルホン酸 (1.16 g, 4.99 mmol)を加え、室温にて４時間攪拌した。その後反応混合物を０℃に冷やし、水を加え５分間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、中和した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮を行った。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(33%−50%酢酸エチル（ヘキサン中）)により分離・精製し、アセトナイド（１８）(3.83 g, 96.1%)を得た。
【化２３】
2005263774.tif 000024
[α]D22.0 1.26 (c= 0.764, CHCl3)
IR (KBr disk): 3402.74, 1687.87, 1514.26, 1170.90, 1014.65 cm-1
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ: 5.77 (td, J = 6.6, 15.4 Hz, 1H), 5.43 (dd, J = 7.6, 15.4 Hz, 1H), 4.37 (m, 1H), 3.97 (m, 2H ), 3.63 (t, J = 6.6 Hz, 2H), 3.62 (m, 1H), 3.49 (m, 1H), 2.04 (m, 2H), 1.79-1.28 (m, 29H); 
13C NMR (CDCl3, 100 MHz) δ: 155.1, 136.3, 134.1, 127.2, 126.3, 98.6, 77.2, 74.6, 63.0, 62.9, 48.9, 32.7, 32.3, 29.4, 29.3, 29.3, 29.1, 28.8, 28.7, 28.3, 28.3, 25.7.
【００５１】
[実施例３]
N−Ｂｏｃ−４−（３−トリフルオロメチル−３Ｈ−ジアジリン−３−イル）−フェノキシール（ＴＦＤＰ）−スフィンゴシン（２０）の合成
アセトナイド（１８）(2.50 g, 6.26 mmol)のTHF (25.0 mL)溶液に０℃で、トリフェニルホスフィン (2.46 g, 9.39 mmol)、アゾジカルボン酸ジイソプロピル (1.85 mL, 9.39 mmol)、続いて、フェノール（１９）(1.90 g, 9.39 mmol)のTHF (6.3 mL)溶液を加え、室温にて１時間攪拌した。その後、反応混合物の溶媒を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(25% ethyl acetate in hexane)により粗精製し、ＴＦＤＰ−アセトナイド体を得た。上記で得られたＴＦＤＰ−アセトナイド体のメタノール (62.6 mL)溶液に０℃で、ｐ−トルエンスルホン酸一水和物(1.19 g, 6.26 mmol)を加え、同温にて１時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、中和した後、減圧濃縮を行った。残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮を行った。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(from 33% to 50% ethyl acetate in hexane)により分離・精製し、N−Ｂｏｃ−ＴＦＤＰ−スフィンゴシン（２０）(2.47 g, 72.5%)を得た。
【化２４】
2005263774.tif 000025
[α]D22.0 -2.17 (c= 1.021, CHCl3)
IR (KBr disk): 3366.09, 1662.79, 1520.04, 1182.47, 823.68 cm-1
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ: 7.13 (md, J = 9 Hz, 2H), 6.89 (md, J = 9 Hz, 2H), 5.77 (dtd, J =1.0, 6.8, 15.4 Hz, 1H), 5.53 (dd, J = 6.4, 15.4 Hz, 1H), 5.32 (brs, 1H), 4.31 (m, 1H), 3.94 (t, J = 6.6 Hz, 2H), 3.93 (m, 1H ), 3.71 (m, 1H), 3.60 (m, 1H), 2.76 (brm, 2H), 2.05 (q, J = 6.8, 2H), 1.77 (m, 2H), 1.49-1.28 (m, 21H);
13C NMR (CDCl3, 100 MHz) δ: 160.2, 156.2, 134.0, 129.0, 128.1, １122.2 (q, JC-F = 274.6 Hz), 120.6, 114.8, 79.8, 74.8, 68.1, 64.4, 62.6, 55.4, 34.2, 32.2, 29.4, 29.3, 29.3, 29.1, 29.1, 28.4, 25.9.
【００５２】
[実施例４]
Ｎ−Ｂｏｃ−リン酸エステル（２１）の合成
四臭化炭素(1.37 g, 4.14 mmol)のピリジン(13.8 mL)溶液に０℃で、２−ブロモエチルジメチルホスファイト(0.62 mL, 4.14 mmol)を加え、続いて、N−Ｂｏｃ−ＴＦＤＰ−スフィンゴシン（２０）(1.50 g, 2.76 mmol)を加えた。徐々に室温まで昇温しながら３．５時間攪拌した。反応混合物を濾過し、2N-塩酸で中和した後、酢酸エチルで抽出した。有機層を２Ｎ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮を行った。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(33%−50% 酢酸エチル（ヘキサン中））により分離・精製し、Ｎ−Ｂｏｃ−リン酸エステル（２１）(1.49 g, 72.4%)を得た。
【化２５】
2005263774.tif 000026
[α]D22.0 2.44  (c= 1.078, CHCl3)
IR (NaCl neat): 3406.60, 1712.94, 1518.11, 1257.70, 1055.16 cm-1
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ: 7.13 (md, J = 9 Hz, 2H), 6.89 (md, J = 9 Hz, 2H), 5.76 (dtd, J =0.7, 6.7, 15.4 Hz, 1H), 5.50 (dd, J = 7.1, 15.4 Hz, 1H), 5.06 (brs, 1H), 4.36-4.31 (m, 3H), 4.16 (m, 2H), 3.94 (t, J = 6.6 Hz, 2H), 3.83 (d, J = 11.2 Hz, 3/2H ), 3.80 (d, J = 11.2 Hz, 3/2H), 3.81 (m, 1H), 3.54 (ddd, J = 1.0, 6.1, 6.1 Hz, 2/2H), 3.54 (ddd, J = 1.0, 6.1, 6.1 Hz, 2/2H), 2.04 (m, 2H), 1.77 (m,2H), 1.44 (s, 9H), 1.35-1.28 (m, 12H);
13C NMR (CDCl3, 100 MHz) δ: 160.2, 155.6, 134.8, 128.5, 128.0, 122.2 (q, JC-F = 274.6 Hz), 120.6, 114.8, 79.7, 72.4, 68.1, 66.9 (m, 2C), 54.7 (m, 2C), 32.2, 29.4, 29.3, 29.3, 29.2, 29.0, 29.0, 28.3, 25.9.
【００５３】
[実施例５]
Ｎ−アシルリン酸エステル（２２）の合成
Ｎ−Ｂｏｃ−リン酸エステル（２１）(489 mg, 0.657 mmol)のジクロロメタン(3.28 mL)溶液に０℃で、トリフルオロ酢酸(1.31 mL)を加えた。同温にて１．５時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮した。残渣のTHF (3.28 mL)溶液に０℃でトリエチルアミン、ヘキサデカン酸４−ニトロフェニルエステル(372 mg, 0.985 mmol)を加えた。室温にて１日間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、続いて、残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(0 to 2% メタノール（クロロホルム中）)により分離・精製し、Ｎ−アシルリン酸エステル（２２）(355 mg, 61.2%)を得た。
【化２６】
2005263774.tif 000027
[α]D22.0 -1.86(c= 0.892, CHCl3)
IR (KBr disk): 3302.43, 1649.29, 1520.04, 1261.56, 1184.40, 1045.51 cm-1
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ: 7.13 (md, J = 9 Hz, 2H), 6.88 (md, J = 9 Hz, 2H), 6.17 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 5.75 (td, J = 6.8, 15.4 Hz, 1H), 5.49 (dd, J = 6.6, 15.4 Hz, 1H), 4.33 (m, 3H), 4.17 (m, 3H), 3.94 (t, J = 6.6 Hz, 2H), 3.81 (d, J = 11.2 Hz, 3/2H ), 3.81 (d, J = 11.2 Hz, 3/2H), 3.54 (ddd, J = 0.7, 6.1, 6.1 Hz, 2/2H), 2.20 (dt, J = 2.2, 8.1, Hz. 2H), 2.03 (td, J = 6.8, 6.8 Hz, 2H), 1.77 (m,2H), 1.44-1.28 (m, 36H), 0.88 (t, J = 6.8 Hz, 3H); 
13C NMR (CDCl3, 100 MHz) δ: 173.6, 160.2, 134.9, 128.5, 128.1, 122.2 (q, JC-F = 274.6 Hz), 120.6, 114.8, 72.5, 68.1, 67.1 (m), 66.8 (JC-P = 5.8 Hz), 54.8 ( JC-P = 5.8 Hz), 53.8 (JC-P = 5.0 Hz), 36.8, 32.3, 31.9, 29.7, 29.6, 29.5, 29.5, 29.4, 29.3, 29.3, 29.2, 29.1, 26.0, 25.7, 22.7, 14.1. 
【００５４】
[実施例６]
ＴＦＤＰ−スフィンゴミエリン（２３）の合成
Ｎ−アシルリン酸エステル（２２）(200 mg, 0.227 mmol)のメタノール(2.3 mL)溶液に３０％トリメチルアミン水溶液(2.3 mL)を室温で加え、１日間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、続いて、残渣をクロロホルム、メタノールに溶かし、水で洗浄した。有機層を減圧濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー(25% メタノール（クロロホルム中）, クロロホルム:メタノール:Ｈ2Ｏ＝６５：２５：４)により分離・精製し、ＴＦＤＰ−スフィンゴミエリン（２３）(136 mg, 70.8%)を得た。
【化２７】
2005263774.tif 000028
[α]D23.0 0.741(c= 0.594, CHCl3)
IR (KBr disk): 3364.16, 1639.64, 1520.04, 1234.55, 1153.54, 1087.95 cm-1
1H NMR (CD3OD, 400 MHz) δ: 7.16 (md, J = 9 Hz, 2H), 6.96 (md, J = 9 Hz , 2H), 5.71 (td, J = 6.8, 15.4 Hz, 1H), 5.46 (dd, J = 7.6, 15.4 Hz, 1H), 4.27 (m, 2H), 4.13-4.03 (m, 4H), 4.05 (t, J = 6.3 Hz, 2H), 3.64 (m, 2H ), 3.23 (s, 9H), 2.18 (m, 2H), 2.03 (td, J = 6.8, 6.8 Hz, 2H), 1.76 (m, 2H), 1.59-1.26 (m, 34H), 0.88 (t, J = 6.6 Hz, 3H); 
13C NMR (CD3OD, 100 MHz) δ: 175.8, 161.9, 135.0, 131.3, 129.2, 123.7 (q, JC-F = 273.8 Hz), 121.4, 116.2, 72.5, 69.2, 67.4 (m), 65.9 (JC-P = 5.8 Hz), 60.4 (JC-P = 5.0 Hz), 55.3 (JC-P = 6.6 Hz), 54.73, 54.70, 54.67, 33.5, 33.3, 33.0, 30.8, 30.8, 30.7, 30.7, 30.6, 30.6, 30.5, 30.5, 30.4, 30.3, 30.2, 28.9, 27.2, 27.1, 23.7, 14.5.
FAB HRMS m/z calcd for C43H74F3N4NaO7P (M + Na+) 869.5145, found 869.5147.
【００５５】
[実施例７]
アルコール体（２４）の合成
１０−ウンデセン酸メチルエステル (1.50 g, 7.56 mmol)のジクロロメタン、メタノール溶液(45.4 mL, １：１)に−７８℃でオゾンを吹き込みながら１時間攪拌した。窒素を５分間吹き込み溶解しているオゾンを除き、水素化ホウ素ナトリウム (429 mg, 11.4 mmol)を加えた。徐々に室温に昇温しながら８時間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え中和した後、減圧濃縮を行った。残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮を行った。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(25% to 33%酢酸エチル（ヘキサン中））により分離・精製し、アルコール体（２４）(1.40g, 91.3%)を得た。
【化２８】
2005263774.tif 000029
IR (NaCl neat): 3385.38, 1739.95, 1437.10, 1172.83, 1057.09 cm-1
1H NMR (CDCl3, 400MHz) δ: 3.67 (s, 3H), 3.63 (t, J = 6.8 Hz, 2H), 2.30 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 1.93 (brs, 1H), 1.64 (m, 2H), 1.55 (m, 2H), 1.30 (m, 10H); 
13C NMR (CDCl3, 100MHz) δ: 174.3, 62.8, 51.4, 34.0, 32.7, 29.3, 29.3, 29.1, 29.0, 25.6, 24.8.
【００５６】
[実施例８]
ＴＦＤＰ−エステル（２５）の合成
アルコール体（２４）(150 mg, 0.742 mmol) のTHF (2.2 mL)溶液に0 oCで、triphenylphosphine (233 mg, 0.890 mmol)、アゾジカルボン酸ジイソプロピルエステル (0.19 mL, 0.96 mmol)、続いて、フェノール体（１９）(240 mg, 1.19 mmol)のTHF (1.48 mL)溶液を加え、室温にて１．５時間攪拌した。その後、反応混合物の溶媒を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(5%酢酸エチル（ヘキサン中））により分離・精製し、ＴＦＤＰ−エステル（２５）(278 mg, 96.9%)を得た。
【化２９】
2005263774.tif 000030
IR (NaCl neat): 1739.95, 1614.56, 1520.04, 1234.55, 1180.54 cm-1
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ: 7.13 (md, J = 9 Hz, 2H), 6.88 (md, J = 9 Hz, 2H), 3.94 (t, J = 6.6 Hz, 2H), 3.66 (s, 3H), 2.30 (t, J = 7.6 Hz, 2H), 1.76 (m, 2H), 1.61 (m, 2H), 1.45-1.31 (m, 10H); 
13C NMR (CDCl3, 100 MHz) δ: 174.3, 160.2, 128.1, 122.2 (q, JC-F = 274.6 Hz), 120.6, 114.8, 68.1, 51.4, 34.1, 29.3, 29.2, 29.1, 29.1, 25.9, 24.9.
【００５７】
[実施例９]
ＴＦＤＰ−酸無水物（２６）の合成
ＴＦＤＰ−エステル（２５）(10.35 g, 26.8 mmol)のメタノール(134 mL)溶液に２Ｎ水酸化カリウム水溶液(53.5 mL)を加え、24時間攪拌した。反応混合物に２Ｎ塩酸を加え、酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮を行い、ＴＦＤＰ−カルボン酸を得た。上記のＴＦＤＰ−カルボン酸(476 mg, 1.23 mmol)のTHF (4.91 mL)溶液にトリエチルアミン (0.22 mL, 1.47 mmol)、ピバロイルクロリド (0.14 mL, 1.18 mmol)を順次加え、１５分間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮を行い、ＴＦＤＰ−酸無水物（２６）を得た。このＴＦＤＰ−酸無水物（２６）は精製することなく下記の反応に用いた。
【化３０】
2005263774.tif 000031
【００５８】
[実施例１０]
Ｎ−Ｂｏｃ−リン酸エステル（２８）の合成
四臭化炭素(0.375 mmol, 124 mg)のピリジン(1.3 mL)溶液に０℃で、２−ブロモエチルジメチルホスファイト(0.056 mL, 0.375 mmol)を加え、続いて、Ｎ−Ｂｏｃ−スフィンゴシン（２７）(100 mg, 0.250 mmol)を加えた。徐々に室温まで昇温しながら３．５時間攪拌した。反応混合物を濾過し、２Ｎ塩酸で酸性にした後、酢酸エチルで抽出した。有機層を２Ｎ塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮を行った。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(33%−50% 酢酸エチル（ヘキサン中)により分離・精製し、Ｎ−Ｂｏｃ−リン酸エステル（２８）(133 mg, 88.7%)を得た。
【化３１】
2005263774.tif 000032
[α]D22.0 2.58 (c=1.021, CHCl3)
IR (NaCl neat): 3387.31, 1712.94, 1521.97, 1460.25, 1259.63, 1174.75, 1024.29 cm-1
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ: 5.76 (td, J =6.8, 15.4 Hz, 1H), 5.50 (dd, J = 7.1, 15.4 Hz, 1H), 5.05 (brs, 1H), 4.36-4.31 (m, 3H), 4.16 (m, 2H), 3.82 (d, J=11.2 Hz, 3/2H ), 3.82 (d, J=11.2 Hz, 3/2H), 3.79 (m, 1H), 3.55 (dd, J=6.1, 6.1 Hz, 2H), 2.04 (m, 2H), 1.44 (s, 9H), 1.26 (m, 22H), 0.88 (t, 6.8 Hz, 3H); 
13C NMR (CDCl3, 100MHz) δ: 155.6, 134.9, 128.5, 79.7, 72.4, 66.9 (m, 2C), 54.7 (m, 2C), 32.3, 31.9, 29.6, 29.6, 29.5, 29.3, 29.2, 29.1, 28.3, 22.6, 14.1. 
【００５９】
[実施例１１]
Ｎ−アシルリン酸エステル（２９）の合成
Ｎ−Ｂｏｃ−リン酸エステル（２８）(590 mg, 0.982 mmol)のジクロロメタン(4.9 mL)溶液に０℃で、トリフルオロ酢酸(1.96 mL)を加えた。同温にて１．５時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮した。残渣のＴＨＦ、Ｈ2Ｏ (9.82 mL, １：１)溶液に０℃で炭酸カリウム(679 mg, 4.91 mmol)、上記のＴＦＤＰ−酸無水物（２６）(1.18 mmol)を順次加え、４５分間攪拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥、続いて、減圧濃縮を行った。残渣をシリカゲルクロマトグラフィー(0−2% メタノール（クロロホルム中））により精製し、Ｎ−アシルリン酸エステル（２９）(678 mg, 80.7%)を得た。
【化３２】
2005263774.tif 000033
[α]D21.5 -2.53 (c= 1.065, CHCl3)
IR (KBr disk): 3294.71, 1643.50, 1520.04, 1259.63, 1184.40, 1151.61, 1055.16 cm-1
1H NMR (CDCl3, 400 MHz) δ: 7.13 (md, J = 9 Hz 2H), 6.88 (md, J = 9 Hz , 2H), 6.27 (d, J = 7.6 Hz, 1H), 5.75 (td, J = 6.8, 15.4 Hz, 1H), 5.48 (dd, J = 6.6, 15.4 Hz, 1H), 4.36-4.30 (m, 3H), 4.18 (m, 3H), 3.94 (t, J = 6.6 Hz, 2H), 3.81 (d, J = 11.2 Hz, 3/2H ), 3.80 (d, J = 11.2 Hz, 3/2H), 3.54 (ddd, J = 0.7, 6.1, 6.1 Hz, 2H), 2.20 (dt, J = 2.2, 8.1, Hz. 2H), 2.03 (m, 2H), 1.76 (m, 2H), 1.62 (m, 2H), 1.45-1.20 (m, 32H), 0.88 (t, J = 6.6 Hz, 3H); 
13C NMR (CDCl3, 100 MHz) δ: 173.7, 160.2, 135.0, 128.4, 128.0, 122.2 (q, JC-F = 274.6 Hz), 120.6, 114.8, 72.5, 68.1, 67.1 (m), 66.8 (JC-P = 5.79 Hz), 54.8 (m), 53.7, 36.7, 32.3, 31.9, 29.7, 29.6, 29.6, 29.5, 29.5, 29.3, 29.2, 29.1, 29.1, 27.4, 25.9, 25.6, 22.7, 14.1.
【００６０】
[実施例１２]
ＴＦＤＰ−スフィンゴミエリン（３０）の合成
Ｎ−アシルリン酸エステル（２９）(200 mg, 0.234 mmol)のメタノール(2.3 mL)溶液に３０％トリメチルアミン水溶液(2.3 mL)を室温で加え、１日間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、続いて、残渣をクロロホルム、メタノールに溶かし、水で洗浄した。有機層を減圧濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィー(25% メタノール（クロロホルム中）, クロロホルム:メタノール:Ｈ2Ｏ＝６５：２５：４)により分離・精製し、ＴＦＤＰ−スフィンゴミエリン（３０）(112 mg, 58.3%)を得た。
【化３３】
2005263774.tif 000034
[α]D23.0 -1.59 (c=0.724, CHCl3)
IR (KBr disk): 3423.96, 1639.64, 1520.04, 1234.55, 1087.95 cm-1
1H NMR (CD3OD, 400 MHz) δ: 7.16 (md, J = 9 Hz, 2H), 6.97 (md, J = 9 Hz , 2H), 5.71 (td, J = 6.8, 15.4 Hz, 1H), 5.45 (dd, J = 7.6, 15.4 Hz, 1H), 4.27 (m, 2H), 4.12-3.95 (m, 4H), 3.98 (t, J = 6.3 Hz, 2H), 3.63 (m, 2H ), 3.22 (s, 9H), 2.18 (m, 2H), 2.02 (td, J = 6.8, 6.8 Hz, 2H), 1.77 (m, 2H), 1.58 (m, 2H), 1.47-1.26 (m, 32H), 0.88 (t, J = 6.8 Hz, 3H); 
13C NMR (CD3OD, 100 MHz) δ: 1775.9, 162.0, 135.1, 131.2, 129.2, 123.8 (q, JC-F = 273.8 Hz), 121.4, 116.2, 72.6, 69.2, 67.5 (m), 65.8 (JC-P = 5.0 Hz), 60.4 (JC-P = 5.0 Hz), 55.3 (JC-P = 6.6 Hz), 54.73, 54.69, 54.66, 37.3, 33.5, 33.1, 30.8, 30.8, 30.8, 30.7, 30.6, 30.5, 30.5, 30.4, 30.3, 27.1, 23.7, 14.4.
FAB HRMS m/z calcd for C41H70F3N4NaO7P (M + Na+) 841.4832, found 841.4866.