(57)【要約】【課題】  多環性化合物に関して、核間位に第４級不正炭素原子を有する化合物を立体選択的に合成する手法を提供することができる。【解決手段】  本発明の課題は、下記一般式（Ｉ）：  【化１７】2005255592.tif 000018（式中、Ｒ1は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基等を示し；Ｒ2はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基等を形成し；Ｒ3はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基等を形成し；Ｒ4は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等を示し；ｍは０〜３の整数を示し；そしてｎは０〜６の整数を示す）で示される多環性ケトン化合物、およびその製造方法によって達成される。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）：
【化１】
2005255592.tif 000011
（式中、Ｒ1は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基を示し；
Ｒ2はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基又は置換されていてもよい５〜７員環の複素環基を示すか、あるいは２個のＲ2が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい４〜６員環の炭化水素基を形成し；
Ｒ3はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基又は置換されていてもよいＣ6〜Ｃ20炭化水素基を示すか、あるいは２個のＲ3が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい４〜６員環の炭化水素基を形成し；
Ｒ4は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基、置換されてもよいフェニル基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基を示し；
ｍは０〜３の整数を示し；そしてｎは０〜６の整数を示す）で示される多環性ケトン化合物を製造する製造方法であって、
下記式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）：
【化２】
2005255592.tif 000012
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ｍ及びｎは上記と同様である）で示される化合物を、酸性条件下で処理することを特徴とする多環化合物製造方法。
【請求項２】
触媒の存在下で、前記処理を行う前記請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
前記触媒が、ルイス酸、プロトン酸、及びこれらの混合物から選ばれる前記請求項１に記載の製造方法。
【請求項４】
前記プロトン酸が、塩化水素等の鉱酸、アルカンスルホン酸、カルボン酸、及びこれらの混合物から選ばれる前記請求項３に記載の製造方法。
【請求項５】
―７８℃〜１５０℃の温度で、０．１時間〜５０時間処理される前記請求項１に記載の製造方法。
【請求項６】
−３０℃〜４０℃の温度で、１時間〜２０時間処理される前記請求項１に記載の製造方法。
【請求項７】
前記溶媒が、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジクロロメタン、クロロエチレン、ジクロロエチレン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びジメチルケトン、水、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン及びこれらの混合物から選ばれる前記請求項１に記載の製造方法。
【請求項８】
下記一般式（ＩＩＩ）：
【化３】
2005255592.tif 000013
（式中、Ｒ1は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基を示し；
Ｒ2はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基又は置換されていてもよい５〜７員環の複素環基を示すか、あるいは２個のＲ2が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい４〜６員環の炭化水素基を形成し；
Ｒ3はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基又は置換されていてもよいＣ6〜Ｃ20炭化水素基を示すか、あるいは２個のＲ3が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい４〜６員環の炭化水素基を形成し；
ｍは０〜３の整数を示し；そしてｎは０〜６の整数を示す）で示される化合物を下記式（ＩＶ）
Ｒ4−Ｍ    （ＩＶ）
（式中、Ｍは金属を示し、Ｒ4は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基、置換されてもよいフェニル基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基を示す）で示される化合物の存在下での処理することを含む製造方法を用いて、下記式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）：
【化４】
2005255592.tif 000014
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ｍ及びｎは上記と同様である）
で示される化合物を製造する製造方法。
【請求項９】
下記式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）：
【化５】
2005255592.tif 000015
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ｍ及びｎは上記と同様である）で示される化合物が単一の異性体として得られる、前記請求項８に記載の製造方法。
【請求項１０】
上記式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ｍ及びｎは上記と同様である）で示される化合物が、―１２０℃〜４０℃の温度で、０．０１時間〜５時間処理されて製造される前記請求項７に記載の製造方法。
【請求項１１】
上記式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ｍ及びｎは上記と同様である）で示される化合物が、−１００℃〜−２０℃の温度で、０．０５時間〜１時間処理される前記請求項８に記載の製造方法。
【請求項１２】
上記式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ｍ及びｎは上記と同様である）で示される化合物の製造において、前記溶媒が、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジクロロメタン、クロロエチレン、ジクロロエチレン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びジメチルケトン、水、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン及びこれらの混合物から選ばれる前記請求項８に記載の製造方法。
【請求項１３】
Ｒ1は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基を示し；Ｒ2はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基を示すか、あるいは２個のＲ2が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい５〜６員環の炭化水素基を形成し；Ｒ3はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ5アルコキシカルボニル基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基を示すか、あるいは２個のＲ3が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい５〜６員環の炭化水素基を形成し；Ｒ4は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ10アルケニル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ10アルキニル基は置換されてもよいフェニル基を示し；Ｍは金属を示し；
ｍは０〜２の整数を示し；そしてｎは０〜４の整数を示す前記請求項１又は８に記載の製造方法。
【請求項１４】
Ｒ1は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシ基又はＣ1〜Ｃ5アルコキシＣ1〜Ｃ5アルコキシ基を示し；Ｒ2はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基を示すか、あるいは２個のＲ2が隣接する炭素原子と共に６員環の炭化水素基を形成し；Ｒ3はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基を示し、あるいは２個のＲ3が隣接する炭素原子と共に６員環の炭化水素基を形成し；Ｒ4は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ5アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ5アシル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ5アルキル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ5アルケニル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ5アルキニル基、又は置換されてもよいフェニル基を示し；Ｍは、リチウム、マグネシウム、ナトリウム、カリウム又は亜鉛を示し；ｍは０又は１を示し；そしてｎは０〜３の整数を示す前記請求項１又は８に記載の製造方法。
【請求項１５】
Ｒ1は水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基、メトキシ基又はメトキシメトキシ基；Ｒ2はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基又はＣ1〜Ｃ3アルキル基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ3アルコキシ基を示すか、あるいは２個のＲ2が隣接する炭素原子と共に縮合ベンゼン環を形成し；Ｒ3はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ3アルキル基を示すか、あるいは２個のＲ3が隣接する炭素原子と共に縮合シクロヘキシル環を形成し；Ｒ4は置換されてもよいＣ1〜Ｃ3アルキル基、ビニル基、フェニル基又はトリル基を示し；Ｍは、リチウムを示し；ｍは０又は１を示し；そしてｎは０又は１を示す前記請求項１又は８に記載の製造方法。
【請求項１６】
下記一般式（Ｉ）：
【化６】
2005255592.tif 000016
（式中、Ｒ1は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基を示し；
Ｒ2はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基又は置換されていてもよい５〜７員環の複素環基を示すか、あるいは２個のＲ2が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい４〜６員環の炭化水素基を形成し；
Ｒ3はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基又は置換されていてもよいＣ6〜Ｃ20炭化水素基を示すか、あるいは２個のＲ3が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい４〜６員環の炭化水素基を形成し；
Ｒ4は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基、置換されてもよいフェニル基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基を形成し；ｍは０〜２の整数；ｎが０〜４の整数を示す）で示される多環性ケトン化合物。
【請求項１７】
Ｒ1は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基を示し；Ｒ2はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基を示すか、あるいは２個のＲ2が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい５〜６員環の炭化水素基を形成し；Ｒ3はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ5アルコキシカルボニル基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基を示すか、あるいは２個のＲ3が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい５〜６員環の炭化水素基を形成し；Ｒ4は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基、又は置換されてもよいフェニル基を示し；ｍは０〜２の整数；ｎが０〜４の整数を示す前記請求項１６に記載の多環性ケトン化合物。
【請求項１８】
Ｒ1は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシ基又はＣ1〜Ｃ5アルコキシＣ1〜Ｃ5アルコキシ基を示し；Ｒ2はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基を示すか、あるいは２個のＲ2が隣接する炭素原子と共に６員環の炭化水素基を形成し；Ｒ3はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基を示し、あるいは２個のＲ3が隣接する炭素原子と共に６員環の炭化水素基を形成し；Ｒ4は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ5アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ5アシル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ5アルキル基、又は置換されてもよいフェニル基を示し；ｍは０又は１を示し；そしてｎは０〜３の整数を示す前記請求項１６に記載の多環性ケトン化合物。
【請求項１９】
Ｒ1は水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基、メトキシ基又はメトキシメトキシ基；Ｒ2はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基又はＣ1〜Ｃ3アルキル基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ3アルコキシ基を示すか、あるいは２個のＲ2が隣接する炭素原子と共に縮合ベンゼン環を形成し；Ｒ3はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ3アルキル基を示すか、あるいは２個のＲ3が隣接する炭素原子と共に縮合シクロヘキシル環を形成し；Ｒ4は置換されてもよいＣ1〜Ｃ3アルキル基又はトリル基を示し；ｍは０又は１を示し；そしてｎは０又は１を示す前記請求項１６に記載の多環性ケトン化合物。
【請求項２０】
下記式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）：
【化７】
2005255592.tif 000017
（式中、Ｒ1は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基を示し；
Ｒ2はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基又は置換されていてもよい５〜７員環の複素環基を示すか、あるいは２個のＲ2が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい４〜６員環の炭化水素基を形成し；
Ｒ3はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基又は置換されていてもよいＣ6〜Ｃ20炭化水素基を示すか、あるいは２個のＲ3が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい４〜６員環の炭化水素基を形成し；
Ｒ4は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基、置換されてもよいフェニル基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基で示され；ｍは０〜２の整数；ｎが０〜４の整数を示す）で示される多環性化合物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、選択的に得られたα−ケトールに対し種種のアルキル金属を付加させると、それぞれ対応する付加体が、高い立体選択性で得られることに関する。また、酸性条件下における転移反応によって、イソオキサゾール骨格を有する化合物及びアントラキノン骨格等を有する多環性ケトン化合物の合成法に関する。本発明は、多環性ケトン化合物を有する医薬化合物、農薬化合物、染料化合物およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、多環性化合物に関して、核間位に第４級不正炭素原子を有する化合物を立体選択的に合成する手法は極めて少なく、ほとんど知られていない。
【０００３】
また、各種の生理活性化合物や機能性材料には、しばしば多環性化合物が含まれている。例えば、ある置換アントラキノン化合物は、従来、染料として知られている。例えば、アントラキノンのα位にアミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基を有し、その他の位置にスルホン酸基を有する化合物はアントラキノン系酸性染料として公知である。より具体的には、アントラキノンアイリスＲ、アントラキノンバイオレットＲＮ，３ＲＮ、アントラキノンブルーＲＸＯ、アントラシアニンなどが染料として製造・販売されている。また、ある種のアントラキノン化合物は、抗腫瘍剤、写真材料としての用途が見出されている。
このようにアントラキノン骨格等を有する多環性ケトン化合物は、種々の工業的に有用な用途を有するものの、反応条件、反応段階数、適用範囲などの点で満足すべき合成方法は必ずしも多くない。そこで、種々のアントラキノン骨格等を有する多環性ケトン化合物を立体選択的に合成する方法が望まれていた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
多環性化合物に関して、核間位に第４級不正炭素原子を有する化合物を立体選択的に合成すること。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、アントラキノン骨格等を有する多環性ケトン化合物を合成する方法について種々検討した結果、例えば生理活性天然有機化合物等に見られる、アントラキノン骨格等を有する多環性ケトン化合物を立体選択的に高収率に合成できることを見出した。
【０００６】
即ち、本発明の第１の態様は、下記一般式（Ｉ）：
【化８】
2005255592.tif 000002
（式中、Ｒ1は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基を示し；
Ｒ2はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基又は置換されていてもよい５〜７員環の複素環基を示すか、あるいは２個のＲ2が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい４〜６員環の炭化水素基を形成し；
Ｒ3はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基又は置換されていてもよいＣ6〜Ｃ20炭化水素基を示すか、あるいは２個のＲ3が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい４〜６員環の炭化水素基を形成し；
Ｒ4は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基、置換されてもよいフェニル基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基を示し；
ｍは０〜３の整数を示し；そしてｎは０〜６の整数を示す）で示される多環性ケトン化合物を製造する製造方法であって、
下記式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）：
【化９】
2005255592.tif 000003
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ｍ及びｎは上記と同様である）で示される化合物を、酸性条件下で処理することを特徴とする多環化合物製造方法である。
【０００７】
また、本発明の第１の態様における前記処理は触媒の存在下で行うことが好ましい。その触媒としては、好ましくは、ルイス酸、プロトン酸、及びこれらの混合物から選ばれる。また、前記プロトン酸は、塩化水素等の鉱酸、アルカンスルホン酸、カルボン酸、及びこれらの混合物から選ばれることが好ましい。また、前記アルカンスルホン酸としては、トリフルオロメタンスルホン酸（ＣＦ3Ｏ3ＨＳであることが好ましい。
【０００８】
本発明の第１の態様において、―７８℃〜１５０℃の温度で、０．１時間〜５０時間処理されることが好ましく、−３０℃〜４０℃の温度で、１時間〜２０時間処理されることがさらに好ましい。
【０００９】
本発明の第１の態様において、前記溶媒が、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジクロロメタン、クロロエチレン、ジクロロエチレン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びジメチルケトン、水、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン及びこれらの混合物から選ばれることが好ましい。
【００１０】
本発明の第２の態様は、下記一般式（ＩＩＩ）：
【化１０】
2005255592.tif 000004
（式中、Ｒ1は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基を示し；
Ｒ2はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基又は置換されていてもよい５〜７員環の複素環基を示すか、あるいは２個のＲ2が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい４〜６員環の炭化水素基を形成し；
Ｒ3はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基又は置換されていてもよいＣ6〜Ｃ20炭化水素基を示すか、あるいは２個のＲ3が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい４〜６員環の炭化水素基を形成し；
ｍは０〜３の整数を示し；そしてｎは０〜６の整数を示す）で示される化合物を下記式（ＩＶ）
Ｒ4−Ｍ    （ＩＶ）
（式中、Ｍは金属を示し、Ｒ4は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基、置換されてもよいフェニル基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基を示す）で示される化合物の存在下での処理することを含む製造方法を用いて、下記式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）：
【化１１】
2005255592.tif 000005
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ｍ及びｎは上記と同様である）
で示される化合物を製造する製造方法である。
【００１１】
また、本発明の第２の態様において、上記一般式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ｍ及びｎは上記と同様である）で示される化合物が単一の異性体として得られる。
【００１２】
本発明の第２の態様において、上記一般式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ｍ及びｎは上記と同様である）で示される化合物が、―１２０℃〜４０℃の温度で、０．０１時間〜５時間処理されて製造されることが好ましく、−１００℃〜−２０℃の温度で、０．０５時間〜１時間処理されることがさらに好ましい。
【００１３】
本発明の第２の態様において、上記一般式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ｍ及びｎは上記と同様である）で示される化合物を製造するための処理で用いられる前記溶媒が、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジクロロメタン、クロロエチレン、ジクロロエチレン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びジメチルケトン、水、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン及びこれらの混合物から選ばれる製造方法を提供する。
【００１４】
本発明の第３の態様は、  下記一般式（Ｉ）：
【化１２】
2005255592.tif 000006
（式中、Ｒ1は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基を示し；
Ｒ2はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基又は置換されていてもよい５〜７員環の複素環基を示すか、あるいは２個のＲ2が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい４〜６員環の炭化水素基を形成し；
Ｒ3はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基又は置換されていてもよいＣ6〜Ｃ20炭化水素基を示すか、あるいは２個のＲ3が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい４〜６員環の炭化水素基を形成し；
Ｒ4は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基、置換されてもよいフェニル基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基を形成し；ｍは０〜２の整数；ｎが０〜４の整数を示す）で示される多環性ケトン化合物である。
【００１５】
本発明の第４の態様は、下記一般式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）：
【化１３】
2005255592.tif 000007
（式中、Ｒ1は水素原子、水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基を示し；
Ｒ2はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基又は置換されていてもよい５〜７員環の複素環基を示すか、あるいは２個のＲ2が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい４〜６員環の炭化水素基を形成し；
Ｒ3はそれぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシカルボニル基又は置換されていてもよいＣ6〜Ｃ20炭化水素基を示すか、あるいは２個のＲ3が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい４〜６員環の炭化水素基を形成し；
Ｒ4は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基、置換されてもよいフェニル基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基で示され；ｍは０〜２の整数；ｎが０〜４の整数を示す）で示される多環性化合物である。
【００１６】
本発明において、好ましくは、Ｒ1は、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基であり；より好ましくは、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基、Ｃ1〜Ｃ5アルコキシ基又はＣ1〜Ｃ5アルコキシＣ1〜Ｃ5アルコキシ基であり；さらに好ましくは、水酸基、ハロゲン原子、置換されてもよいシリルオキシ基、メトキシ基又はメトキシメトキシ基である。
【００１７】
また、本発明において、好ましくは、Ｒ2は、それぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ20炭化水素基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基を示すか、あるいは２個のＲ2が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい５〜６員環の炭化水素基であり；より好ましくは、それぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基を示すか、あるいは２個のＲ2が隣接する炭素原子と共に６員環の炭化水素基であり；さらに好ましくは、それぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基又はＣ1〜Ｃ3アルキル基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ3アルコキシ基を示すか、あるいは２個のＲ2が隣接する炭素原子と共に縮合ベンゼン環である。
【００１８】
また、本発明において、好ましくは、Ｒ3は、それぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ5アルコキシカルボニル基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基を示すか、あるいは２個のＲ3が隣接する炭素原子と共に、置換されていてもよい５〜６員環の炭化水素基であり；より好ましくは、それぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基を示し、あるいは２個のＲ3が隣接する炭素原子と共に６員環の炭化水素基であり；さらに好ましくは、それぞれ互いに独立し、同一または異なってもよい、ハロゲン原子、水酸基、又は置換されていてもよいＣ1〜Ｃ3アルキル基を示すか、あるいは２個のＲ3が隣接する炭素原子と共に縮合シクロヘキシル環である。
【００１９】
また、本発明において、好ましくは、Ｒ4は、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ10アシル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ10アルキル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ10アルケニル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ10アルキニル基は置換されてもよいフェニル基であり；より好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、置換されていてもよいアミノ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ5アルコキシ基、置換されていてもよいＣ1〜Ｃ5アシル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ5アルキル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ5アルケニル基、置換されてもよいＣ1〜Ｃ5アルキニル基、又は置換されてもよいフェニル基であり；さらに好ましくは、置換されてもよいＣ1〜Ｃ3アルキル基、ビニル基、フェニル基又はトリル基である。
【００２０】
本発明において、好ましくは、Ｍは、リチウム、マグネシウム、ナトリウム、カリウム又は亜鉛等の金属である。
【００２１】
本発明において、ｍは具体的には０〜２の整数；より具体的には、０又は１である。ｎは具体的には０〜４の整数であり、より具体的には０〜３の整数、さらに具体的には０又は１である。
【００２２】
本明細書中、「Ｃ1〜Ｃ20炭化水素基」は、飽和若しくは不飽和の非環式であってもよいし、飽和若しくは不飽和の環式であってもよい炭化水素基をいい、非環式の場合には、線状でもよいし、枝分かれしていてもよい。Ｃ1〜Ｃ20炭化水素基としては、例えば、Ｃ1〜Ｃ20アルキル基、Ｃ2〜Ｃ20アルケニル基、Ｃ2〜Ｃ20アルキニル基、Ｃ3〜Ｃ20アリル基、Ｃ4〜Ｃ20アルキルジエニル基、Ｃ4〜Ｃ20ポリエニル基、Ｃ6〜Ｃ18アリール基、Ｃ6〜Ｃ20アルキルアリール基、Ｃ6〜Ｃ20アリールアルキル基、Ｃ4〜Ｃ20シクロアルキル基、Ｃ4〜Ｃ20シクロアルケニル基、（Ｃ3〜Ｃ10シクロアルキル）Ｃ1〜Ｃ10アルキル基などが挙げられる。
【００２３】
本発明で用いられるＣ1〜Ｃ20炭化水素基としては、より具体的には、Ｃ1〜Ｃ10アルキル基、Ｃ2〜Ｃ10アルケニル基、Ｃ2〜Ｃ10アルキニル基、Ｃ3〜Ｃ10アリル基、Ｃ4〜Ｃ10アルキルジエニル基、Ｃ4〜Ｃ10ポリエニル基、Ｃ6〜Ｃ10アリール基、Ｃ6〜Ｃ12アルキルアリール基、Ｃ6〜Ｃ12アリールアルキル基、Ｃ4〜Ｃ10シクロアルキル基、Ｃ4〜Ｃ10シクロアルケニル基などが挙げられる。
【００２４】
本明細書中、「アルキル基」とは、線状でもよいし、枝分かれしてもよいアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などが挙げられる。
【００２５】
本明細書中、「アルケニル基」としては、１〜３個の２重結合を有する炭素数２〜１０の直鎖または分岐鎖のアルケニル基が挙げられ，具体的には、エテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−メチルエテニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、２−メチル−２−プロペニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、４−ペンテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル、１−ヘプテニル、２−ヘプテニル、１−オクテニル、２−オクテニル、１，３−オクタジエニル、２−ノネニル、１，３−ノナジエニル、２−デセニル等が挙げられる。
【００２６】
「アルキニル基」としては、１〜３個の３重結合を有する炭素数２〜１０の直鎖または分岐鎖のアルキニル基が挙げられ、具体的には、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、４−ペンチニル、１−オクチニル、６−メチル−１−ヘプチニル、２−デシニル等が挙げられる。
【００２７】
「シクロアルキル基」としては、例えば炭素数３〜１０のシクロアルキル基が挙げられ、具体的には、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル等が挙げられる。低級シクロアルキル基としては、炭素数３〜６のシクロアルキル基が挙げられる。
【００２８】
「アルコキシ基」とは、アルキル基が結合したオキシ基をいい、具体的には、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、２−プロポキシ、ブトキシ、１，１−ジメチルエトキシ、ペントキシ、ヘキソキシ等が挙げられる。
【００２９】
「アシル基」としては、例えば、ホルミル、アセチル、プロパノイル、２−プロパノイル、ピバロイル、バレリル、ピバロイル、トリフルオロアセチル、ベンゾイル、ナフトイル、ニコチノイル、メタンスルホニル、トリフルオロメタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル等が挙げられる。
【００３０】
「アリール基」としては、例えば、フェニル基、１−ナフチル基または２−ナフチル基などのナフチル基、２−インデニル基などのインデニル基、２−アンスリル基などのアンスリル基、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基などのトリル基、ビフェニル基などが挙げられる。
【００３１】
「シリルオキシ基」としては、例えば、ジメチルシリルオキシ、ジエチルシリルオキシ、トリメチルシリルオキシ、トリエチルシリルオキシ、トリメトキシシリルオキシ、トリエトキシシリルオキシ、ジフェニルメチルシリルオキシ、トリフェニルシリルオキシ、トリフェノキシシリルオキシ、ジメチルメトキシシリルオキシ、ジメチルフェノキシシリルオキシ、メチルメトキシフェニルオキシなどが挙げられる。
【００３２】
「複素環基」としては、例えば１〜３個の窒素原子、酸素原子および／または硫黄原子を含有する５〜７員環の飽和複素環基または不飽和複素環基が挙げられる。飽和複素環基としては、例えば、テトラヒドロフリル、ピロリジニル、ピラゾリジニル、イミダゾリジニル、ピペリジル、モルホリニル、チアモルホリニル、ピペラジニルが挙げられる。不飽和複素環基としては、例えば、フリル、チエニル、インドリル、イソチアゾリル等が挙げられる。
「４〜６員環の炭化水素基」としては、例えば、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フェニル等が挙げられる。
【００３３】
また、炭化水素基、複素環基などに置換され得る基としては、例えば、ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素など）、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルキル基、ハロゲン化されていてもよいＣ3-6シクロアルキル基、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルコキシ基、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルキルチオ基、ヒドロキシ基、アミノ基、モノ−Ｃ1-6アルキルアミノ基（例、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基など）、ジ−Ｃ1-6アルキルアミノ基（例、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジプロピルアミノ基、ジブチルアミノ基、エチルメチルアミノ基など）、ホルミル基、カルボキシ基、カルバモイル基、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルキルカルボニル基、Ｃ1-6アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基など）、モノ−Ｃ1-6アルキルカルバモイル基（例、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基など）、ジ−Ｃ1-6アルキルカルバモイル基（例、ジメチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、エチルメチルカルバモイル基など）、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルキルスルホニル基、ホルミルアミノ基、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルキルカルボキサミド基、Ｃ1-6アルコキシカルボキサミド基（例、メトキシカルボキサミド基、エトキシカルボキサミド基、プロポキシカルボキサミド基、ブトキシカルボキサミド基など）、Ｃ1-6アルキルスルホニルアミノ基（例、メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基など）、Ｃ1-6アルキルカルボニルオキシ基（例、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基など）、Ｃ1-6アルコキシカルボニルオキシ基（例、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、プロポキシカルボニルオキシ基、ブトキシカルボニルオキシ基など）、モノ−Ｃ1-6アルキル−カルバモイルオキシ基（例、メチルカルバモイルオキシ基、エチルカルバモイルオキシ基など）、ジ−Ｃ1-6アルキルカルバモイルオキシ基（例、ジメチルカルバモイルオキシ基、ジエチルカルバモイルオキシ基など）などが挙げられる。これらの置換基が置換される数は特に限定されないが、例えば、これらの置換基は１〜５、より具体的には１〜３個置換される。
【発明の効果】
【００３４】
本発明の反応は、触媒的に進行できる。また、本発明によれば、高度に官能基化された多環性ケトン化合物を提供でき、各種の天然物合成、特に芳香環と脂環式構造を併せ持つ化合物の合成に有用である。
さらに、本発明の反応は高い立体選択性を有する反応であるから、出発物質における不斉情報を最終生成物の光学純度に反映することができることを見出した。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、本発明の製造方法についてより詳細に説明する。
【００３６】
本発明の多環性化合物は、例えば、下記スキーム１に示す方法によって製造できる。
【００３７】
スキーム１
【化１４】
2005255592.tif 000008
（上記式中、式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ｍ及びｎは上記と同意義を示す）
【００３８】
上記スキーム１において、一般式（IIａ）又は一般式（IIｂ）で示される化合物を、酸性条件下で、触媒存在下で処理するとピナコール型等の転移反応が進行し、核間位の水酸基がアルキル基に置換された一般式（I）で示される化合物が得られる。この際、一般式（IIａ）と一般式（IIｂ）とのどちらか一方を選択することによって、Ｒ４の結合する方向を決定することができる。
【００３９】
ここで用いられる好適な触媒は、酸であることが好ましい。例えば、酸として、ルイス酸、プロトン酸、及びこれらの混合物から選ばれることが好ましい。また、前記プロトン酸として、塩化水素等の鉱酸、アルカンスルホン酸、カルボン酸、及びこれらの混合物等から選ばれることが好ましい。また、前記アルカンスルホン酸として、トリフルオロメタンスルホン酸が用いられることが好ましい。前記酸の使用量は、上記一般式（IIａ）又は（IIｂ）で示される化合物１モルに対し、０．０５〜０．４モル、好ましくは０．０５〜０．２モルである。
【００４０】
この反応は、溶媒の不存在下または反応に不活性な溶媒中で行なわれる。この反応で用いられ得る反応に不活性な溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジクロロメタン、クロロエチレン、ジクロロエチレン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びジメチルケトン、水、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタンなどが挙げられる。これらは、二種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。これらの溶媒のうち、1.1-ジクロロエチレンが好適に用いられる。
【００４１】
上記反応は、例えば、―７８℃〜１５０℃、好ましくは、−３０℃〜４０℃の温度で、０．１時間〜５０時間、好ましくは、０．１時間〜５時間行われる。この反応は、通常、常圧で行われるが、必要に応じて減圧下または加圧下で行うことができる。
このようにして得られた反応混合物から、必要に応じて、例えば、各種クロマトグラフィーなどの分離手段によって目的とする式（Iａ）又は（Iｂ）の化合物を単離することができる。
【００４２】
上記スキーム１において用いられた上記一般式（IIａ）又は（IIｂ）で示される化合物は、公知であるか、あるいは下記スキーム２の方法によって合成することができる。
【００４３】
スキーム２
【化１５】
2005255592.tif 000009
（上記式中、式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｍ、ｍ及びｎは上記と同意義を示す）
【００４４】
上記スキーム２において、一般式（IIａ）又は（IIｂ）で示される化合物は、一般式（III）で示される化合物にアルキル金属を付加させると、それぞれに対応する付加体（Ｒ4）が高い立体選択性で得られる。一般式（IV）で示されるＲ4―Ｍの存在下で、溶媒不存在下または反応に不活性な溶媒中で反応させることによって得ることができる。Ｒ4―Ｍの使用量は、上記一般式（III）で示される化合物１モルに対し、約２〜５モル、好ましくは約２〜３モルである。
【００４５】
この反応で用いられ得る反応に不活性な溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジクロロメタン、クロロエチレン、ジクロロエチレン、クロロホルム、ベンゼン、トルエン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド及びジメチルケトン、水、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタンなどが挙げられる。これらは、二種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。上記反応においては、テトラヒドロフラン溶媒が好ましく用いられる。
【００４６】
上記反応は、例えば、―１２０℃〜４０℃、好ましくは、−１００℃〜−２０℃の温度で、０．０１時間〜５時間、好ましくは、０．０５時間〜１時間行われる。この反応は、通常、常圧で行われるが、必要に応じて減圧下または加圧下で行うことができる。
このようにして得られた反応混合物から、必要に応じて、例えば、各種クロマトグラフィーなどの分離手段によって、上記一般式（ＩＩ）で示される化合物を得ることができる。
【００４７】
以上のようにして得られる本発明、上記一般式（Ｉ）で示される多環性ケトン化合物は、公知の方法に基づいてさらに化学修飾することによって、有用な医薬化合物、農薬化合物、染料化合物、写真材料用化合物などに変換することができる。
【実施例】
【００４８】
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。ただし、本発明は、下記の実施例に制限されるものではない。
【００４９】
（5a-(4-メチルフェニル)-10-(2,2-ジメチルエチル)ジメチルシリルオキシ-6-オキソ-3,4,5,5a-テトラヒドロアントラ[9,1-cd]isoxazole）の合成
ケトン３（（5a-(4-メチルフェニル)-10-(2,2-ジメチルエチル)ジメチルシリルオキシ-6-オキソ-3,4,5,5a-テトラヒドロアントラ[9,1-cd]isoxazole））（5a-(4-methylphenyl)-10-(2,2-dimethylethyl)dimethylsililoxy-6-oxo-3,4,5,5a-tetrahydroanthra[9,1-cd]isoxazole）は、下記の示す反応によって製造される。即ち、ケトン３は、ケトール１（10-(2,2-ジメチルエチル)ジメチルシリルオキシ-5a-ヒドロキシ-6-オキソ-3,4,5,5a-テトラヒドロアントラ[9,1-cd]イソキサゾール）（10-(2,2-dimethylethyl)dimethylsililoxy-5a-hydroxy-6-oxo-3,4,5,5a-tetrahydroanthra[9,1-cd]isoxazole）にｐ−トリルリチウム４を反応させて、ジオール２（10-(2,2-ジメチルエチル)ジメチルシリルオキシ-5a,6-ジヒドロキシ-6-(4-メチルフェニル)-3,4,5,5a-テトラヒドロアントラ[9,1-cd]イソキサゾール）（10-(2,2-dimethylethyl)dimethylsililoxy-5a,6-dihydroxy-6-(4-methylphenyl)-3,4,5,5a-tetrahydroanthra[9,1-cd]isoxazole）を製造させる工程（第１工程）、および、ルイス酸を触媒として、ジオール２をピナコール型の転移反応が進行し、核間位の水酸基がアルキル基に置換されたケトン３を合成する工程（第２工程）を経て製造される。
以下に、それらの２つの工程を、下記の反応式にしたがって説明する。
【化１６】
2005255592.tif 000010
【００５０】
第１工程
４−ブロモトルエン（0.52 mL, d=1.39 g/mL, 4.2 mmol）の ＴＨＦ溶液（5.0 mL）を−７８ ℃に冷却し、ｎ−ブチルリチウム(2.4 mL, 1.6 M hexane solution, 3.8 mmol)を加えた。そのままの温度で２０分撹拌し、ｐ−トリルリチウム４を合成した。当該溶液に、ケトール１（475 mg, 1.28 mmol）のＴＨＦ溶液（5.0 mL）を１０分かけて加えた。５分撹拌した後、反応溶液に飽和塩化アンモニウム溶液を加え、反応を停止した。
生成物を酢酸エチルで２回抽出し、あわせた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別したのち、ろ液を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン/酢酸エチル ＝86/14)で精製し、白色固体としてジオール２ (546 mg, 92%) を得た。
得られたジオール２の物理化学性状は下記の通りである。
【００５１】
1H NMR (CDCl3) δ 7.43 (d, 1 H, J = 8.0 Hz), 7.29 (t, 1 H, J = 8.0 Hz), 6.89-7.05 (m, 5H), 4.07 (s, 1 H), 2.77 (dd, 1 H, J = 17.6, 4.7 Hz), 2.33-2.45 (m, 1 H), 2.21 (s, 3 H),2.00-2.14 (m, 2 H), 1.90-1.99 (m, 2 H), 1.09 (s, 9 H), 0.36 (s, 3H), 0.29 (s, 3 H); 13CNMR (CDCl3) δ 169.6, 154.7, 153.1, 147.3, 138.3, 136.8, 131.7, 128.6, 126.2, 121.4,119.2, 116.5, 113.7, 80.7, 70.5, 28.8, 25.9, 22.2, 20.9, 18.8, 18.5, -3.9, -4.0;Anal. Calcd for C27H33O4: C, 72.46; H, 6.08, Found: C, 72.58; H, 6.21.
【００５２】
第２工程
ジオール２(83.1 mg, 0.179 mmol) の塩化メチレン溶液（1.5 mL）を ０℃に冷却した後、三フッ化ホウ素ジエチルエーテル錯体の塩化メチレン溶液 (0.10 mL,0.18 M, 0.018 mmol) をゆっくりと加えた。そのままの温度で３０分撹拌した後、反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、反応を停止した。
生成物を酢酸エチルで３回抽出し、あわせた有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。乾燥剤をろ別したのち、ろ液を減圧濃縮し、得られた粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー (ヘキサン/酢酸エチル ＝90/10)で精製し、白色固体として、ケトン３(79.4 mg, 99%) を得た
得られたケトン３の物理化学性状は下記の通りである。
【００５３】
1H NMR (CDCl3) δ 7.45 (d, 1 H, J = 8.0 Hz), 7.26 (t, 1 H, J = 8.0 Hz), 7.10 (d, 1 H, J =8.0 Hz), 7.10 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 7.03 (d, 2 H, J = 8.1 Hz), 2.86 (dd, 1 H, J = 18.0, 6.2Hz), 2.68 (ddd, 1 H, J = 18.0, 11.2, 6.6 Hz), 2.50-2.58 (m, 1 H), 2.25 (s, 3 H),1.97-2.05 (m, 1 H), 1.90 (dd, 1 H, J = 13.2, 2.7 Hz), 1.52-1.66 (m, 1 H), 1.07 (s, 9 H),0.28 (s, 3H), 0.26 (s, 3 H); 13C NMR (CDCl3) δ 198.6, 168.0, 154.0, 152.7, 137.4, 135.9,134.5, 130.8, 129.3, 127.3, 125.4, 122.1, 120.5, 113.7, 51.4, 31.8, 25.9, 22.0, 20.9, 18.5,18.1, -4.08, -4.13; IR 3010, 2947, 2927, 2856, 1701, 1666, 1571, 1454, 1267, 1241,1001, 966, 835, 811, 785, 752 cm-1.
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明の製造方法を用いることによって、多様な置換基を立体選択的に導入することができるため、医薬化合物、農薬化合物、染料化合物、写真材料用化合物等を合成するための有用な中間体およびその製造方法を提供することができる。さらには、材料科学の分野にも貢献できるものである。