(57)【要約】【課題】  パターン形状に優れたＰＤＰ部材の製造方法および該製造方法に好適に使用しうる転写フィルムを提供すること。【解決手段】  基板上に、第一の層として、無機粉体とアクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する部材形成材料層を形成し、当該第一の層上に、第二の層として、無機粉体とメタクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する部材形成材料層を形成する工程を含むことを特徴とする。【選択図】          なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、第一の層として、無機粉体とアクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する非感光性の部材形成材料層を形成し、当該第一の層上に、第二の層として、無機粉体とメタクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する感光性の部材形成材料層を形成し、当該第二の層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該第二の層をアルカリ現像処理してパターンを顕在化させ、当該パターンを介して現像液を作用させて第一の層を選択的に溶解させることによりパターンを形成し、得られたパターンを焼成処理する工程を含む、プラズマディスプレイパネル部材の製造方法。
【請求項２】
基板上に、第一の層として、無機粉体とアクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する非感光性の部材形成材料層を形成し、当該第一の層上に、第二の層として、無機粉体とメタクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する非感光性の部材形成材料層を形成し、当該第二の層上にレジスト層を形成し、当該レジスト層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該レジスト層をアルカリ現像処理してパターンを顕在化させ、当該パターンを介して現像液を作用させて第一の層および第二の層を選択的に溶解させることによりパターンを形成し、得られたパターンを焼成処理する工程を含む、プラズマディスプレイパネル部材の製造方法。
【請求項３】
プラズマディスプレイパネル部材が、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれる少なくとも一種の部材であることを特徴とする請求項１乃至２記載のプラズマディスプレイパネル部材の製造方法。
【請求項４】
プラズマディスプレイパネル部材が隔壁である、請求項１乃至２記載のプラズマディスプレイパネル部材の製造方法。
【請求項５】
支持フィルム上に、無機粉体とメタクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する部材形成材料層と、無機粉体とアクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する部材形成材料層とが積層形成されてなることを特徴とする、転写フィルム。
【請求項６】
無機粉体とメタクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する部材形成材料層が感光性を有する層であり、無機粉体とアクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する部材形成材料層が非感光性の層である、請求項５記載の転写フィルム。
【請求項７】
支持フィルム上に、レジスト層と、無機粉体とメタクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する非感光性の部材形成材料層と、無機粉体とアクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する非感光性の部材形成材料層とが積層形成されてなることを特徴とする、請求項５記載の転写フィルム。
【請求項８】
無機粉体がガラス粉末である、請求項５記載の転写フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はプラズマディスプレイパネル部材の製造方法と、当該製造方法に好適に用いられる転写フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平板状の蛍光表示体としてプラズマディスプレイが注目されている。図１は交流型のプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」ともいう。）の断面形状を示す模式図である。同図において、１および２は対抗配置されたガラス基板、３は隔壁であり、ガラス基板１、ガラス基板２および隔壁３によりセルが区画形成されている。４はガラス基板１に固定された透明電極、５は透明電極４の抵抗を下げる目的で、当該透明電極４上に形成されたバス電極、６はガラス基板２に固定されたアドレス電極、７はセル内に保持された蛍光物質、８は透明電極４およびバス電極５を被覆するようガラス基板１の表面に形成された誘電体層、９はアドレス電極６を被覆するようガラス基板２の表面に形成された誘電体層、１０は例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜である。また、カラーＰＤＰにあっては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター（赤色・緑色・青色）やブラックマトリックスなどを設けることがある。
【０００３】
ＰＤＰのパネル部材である隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックス等の形成方法としては、フォトリソグラフィー法が好適である。ここで、フォトリソグラフィー法とは、無機粉体とビヒクルとを含むペースト状の感光性組成物からなる層を基板等の表面に形成し、これを露光、現像することによりパターンを形成し、次いでこのパターンを焼成して有機物質を除去し無機粉体を焼結させる方法である。特に、感光性組成物からなる層を有する転写フィルムを用いて、基板等の表面に転写することを特徴とするフォトリソグラフィー法は、厚みの均一性に優れた膜が得られるとともに、作業効率が改善されることから非常に好ましい。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述した方法で、例えば隔壁を形成する場合、焼成工程で有機物質が除去されて膜厚が小さくなるので、転写層（隔壁形成材料層）は形成すべき隔壁の膜厚の１．３〜２．０倍程度とすることが必要である。例えば、隔壁の膜厚を１００〜１５０μｍとするためには、転写層の厚みを１３０〜３００μｍ程度にする必要がある。ＰＤＰを構成する隔壁は、良好な電気的特性を発現させる観点から、アスペクト比が高く、形状が均一であることが望ましい。しかしながら、転写層の厚みが大きいと、現像の際にパターンの側壁がえぐれた形状になりやすく、パターン形状が均一かつ良好な隔壁が得られにくい。また、現像の際にパターンの側壁がえぐれた状態で焼成処理を行うと、パターンが剥離したり、変形がひどくなったりする場合がある。
【０００５】
このような問題点を解決するため、例えばＰＤＰ用隔壁の製造方法において、隔壁形成用組成物の膜が、現像液に対する溶解性の異なる２以上の隔壁形成用組成物を積層してなる構造を有することを特徴とするＰＤＰ用隔壁の製造方法に関する発明が開示されている（例えば特許文献１および２参照。）
しかし、上記開示方法では、当該組成物の共重合組成比を変えて溶解性を変化させているにすぎないため、必ずしも溶解性の違いが十分でない場合があり、パターン形状が均一かつ良好な隔壁を得る点ではいまだ問題があった。
【０００６】
【特許文献１】特開平９−９２１３７号公報
【特許文献２】特開２０００−２２８１４３号公報
【０００７】
本発明は、パターン形状に優れたＰＤＰ部材の製造方法および該製造方法に好適に使用しうる転写フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第一のＰＤＰ部材の製造方法（以下、「ＰＤＰ部材の製造方法Ｉ」ともいう）は、基板上に、第一の層として、無機粉体とアクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する非感光性の部材形成材料層（以下、「材料層Ａ１」ともいう）を形成し、当該第一の層上に、第二の層として、無機粉体とメタクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する感光性の部材形成材料層（以下、「材料層Ｂ１」ともいう）を形成し、当該第二の層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該第二の層をアルカリ現像処理してパターンを顕在化させ、当該パターンを介して現像液を作用させて第一の層を選択的に溶解させることによりパターンを形成し、得られたパターンを焼成処理する工程を含むことを特徴とする。
【０００９】
本発明の第二のＰＤＰ部材の製造方法（以下、「ＰＤＰ部材の製造方法II」ともいう）は、基板上に、第一の層として、無機粉体とアクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する非感光性の部材形成材料層（以下、「材料層Ａ２」ともいう）を形成し、当該第一の層上に、第二の層として、無機粉体とメタクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する非感光性の部材形成材料層（以下、「材料層Ｂ２」ともいう）を形成し、当該第二の層上にレジスト層を形成し、当該レジスト層を露光処理してパターンの潜像を形成し、当該レジスト層をアルカリ現像処理してパターンを顕在化させ、当該パターンを介して現像液を作用させて第一の層および第二の層を選択的に溶解させることによりパターンを形成し、得られたパターンを焼成処理する工程を含むことを特徴とする。
本発明の転写フィルムは、支持フィルム上に、無機粉体とメタクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する部材形成材料層と、無機粉体とアクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する部材形成材料層とが積層形成されてなることを特徴とする。
本発明のＰＤＰ部材の製造方法は、隔壁を形成するために特に好ましく用いられ、隔壁を形成するための転写フィルムは、無機粉体としてガラス粉末を有するものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のＰＤＰ部材の製造方法によればパターン形状に優れた部材が形成できる。また、本発明の転写フィルムを用いれば、膜厚が均一なＰＤＰ部材を形成でき、また、実質的に工程数が削減されるため作業効率が改善される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
＜ＰＤＰ部材の製造方法Ｉ＞
本発明のＰＤＰ部材の製造方法Ｉは、［１］材料層Ａ１の形成工程、［２］材料層Ｂ１の形成工程、［３］材料層Ｂ１の露光工程、［４］材料層Ｂ１および材料層Ａ１の現像工程および［５］焼成工程を含む方法により、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの少なくともひとつのパネル部材を形成する。本発明のＰＤＰ部材の製造方法は、隔壁の形成に特に好ましく用いられる。
ＰＤＰ部材の製造方法Ｉにおいては、材料層Ａ１を構成するアルカリ可溶性樹脂がアクリル酸由来の単位を有し、材料層Ｂ１を構成するアルカリ可溶性樹脂がメタクリル酸由来の単位を有するところに特徴がある。このようなアルカリ可溶性樹脂を用いることにより、材料層Ａ１が材料層Ｂ１と比較して現像液に対する溶解性に優れたものとなり、このような積層を用いることにより、部材のパターン形状が良好なものとなる顕著な効果を有する。
【００１２】
以下に、本発明のＰＤＰ部材の製造方法における各工程について、隔壁の形成を例にとって説明する。
【００１３】
［１］材料層Ａ１の形成工程
基板上に材料層Ａ１を形成する方法としては、特に限定されないが、作業の簡便さと得られる層の膜厚均一性の面から、転写法を用いることが好ましい。具体的には、支持フィルム上にあらかじめ材料層Ａ１を形成し、それを転写する方法が好ましい。
【００１４】
ここに、転写フィルムは、支持フィルムと、この支持フィルム上に形成された材料層Ａ１とを有してなり、当該材料層Ａ１の表面には保護フィルムが設けられていてもよい。当該転写フィルムにおける支持フィルムと、材料層Ａ１を構成する部材形成用組成物（以下、「組成物Ａ１」ともいう）は、後述する本発明の転写フィルムの構成成分と同じものである。
【００１５】
転写工程の一例を示せば以下のとおりである。必要に応じて使用される転写フィルムの保護フィルム層を剥離した後、基板の表面に、材料層Ａ１の表面が当接されるように転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、材料層Ａ１から支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板の表面に材料層Ａ１が転写されて密着した状態となる。ここで、転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が８０〜１４０℃、加熱ローラによるロール圧が１〜５ｋｇ／ｃｍ2 、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０．０ｍ／分を示すことができる。また、基板は予熱されていてもよく、予熱温度としては例えば４０〜１００℃とすることができる。
材料層Ａ１の膜厚としては、得られる部材によっても異なるが、隔壁の場合には通常、５０〜１５０μｍ、好ましくは、７０〜１２０μｍである。
【００１６】
［２］材料層Ｂ１の形成工程
この工程においては、形成された材料層Ａ１の表面に感光性の材料層Ｂ１を形成する。この材料層Ｂ１を構成する部材形成用組成物（以下、「組成物Ｂ１」ともいう）は、後述する本発明の転写フィルムの構成成分と同じものである。
材料層Ｂ１は、スクリーン印刷法、ロール塗布法、回転塗布法、流延塗布法等種々の方法によって組成物Ｂ１を塗布した後、塗膜を乾燥することにより形成することができる。
また、支持フィルム上に形成された材料層Ｂ１を、材料層Ａ１の表面に転写することによって形成してもよい。このような形成方法によれば、材料層Ｂ１の形成工程における工程改善（高効率化）を図ることができるとともに、形成されるパターンの膜厚均一性を図ることができる。材料層Ｂ１の膜厚としては、得られる部材によっても異なるが、隔壁の場合には通常、５０〜１５０μｍ、好ましくは、７０〜１２０μｍである。
工程［１］と工程［２］とは別々に行うことも可能であるが、膜厚均一性、作業効率の改善の観点から、本発明の転写フィルムを用い、工程［１］および工程［２］を一括して行う方法が特に好ましい。
【００１７】
［３］材料層Ｂ１の露光工程  
この工程においては、材料層Ａ１上に形成された材料層Ｂ１の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの放射線を選択的照射（露光）して、材料層Ｂ１のパターンの潜像を形成する。
ここに、放射線照射装置としては特に限定されないが、一般的なフォトリソグラフィー法で使用されている紫外線照射装置、または半導体もしくは液晶表示装置を製造する際に用いられている露光装置を用いることができる。
【００１８】
［４］材料層Ｂ１および材料層Ａ１の現像工程
この工程においては、露光された材料層Ｂ１を現像処理することにより、材料層Ｂ１のパターン（潜像）を顕在化させる。そして、形成された材料層Ｂ１のパターンを介して、現像処理により材料層Ａ１を選択的に溶解し、材料層Ａ１のパターンを形成する。
ここに、現像処理条件としては、材料層Ｂ１における樹脂の種類などに応じて、現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度、現像方法（例えば浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法）、現像装置などを適宜選択することができる。
この現像工程により、材料層Ｂ１の残留部と、材料層Ｂ１の除去部とから構成される材料層Ｂ１パターン（露光用マスクＭに対応するパターン）が形成される。このパターンは、連続的に現像される材料層Ａ１のマスクとして作用する。すなわち、材料層Ａ１の、材料層Ｂ１パターンの材料層Ｂ１除去部に対応する部分が現像液に溶解されて選択的に除去される。そして、更に現像処理を継続すると、材料層Ａ１における材料層Ｂ１除去部に対応する部分で基板表面が露出する。これにより、材料層Ｂ１のパターンの下に材料層Ａ１のパターンが形成された構造を有する材料層残留部と、材料層除去部とから構成される、材料層積層パターンが形成される。
【００１９】
［５］焼成処理工程
この工程においては、材料層積層パターンを焼成処理する。これにより、材料層残留部中の有機物質が焼失して、無機物層が形成され、基板の表面にパターンが形成されてなるパネル部材を得ることができる。
ここに、焼成処理の温度としては、材料層残留部Ａ中の有機物質が焼失する温度であることが必要であり、通常、４００〜６００℃である。また、焼成時間は、通常１０〜９０分間である。
【００２０】
＜ＰＤＰ部材の製造方法II＞
本発明のＰＤＰ部材の製造方法IIは、［１］材料層Ａ２の形成工程、［２］材料層Ｂ２の形成工程、［２’］レジスト層の形成工程、［３］レジスト層の露光工程、［４］レジスト層、材料層Ｂ２および材料層Ａ２の現像工程および［５］焼成工程を含む方法により、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスの少なくともひとつのパネル部材を形成する。
ＰＤＰ部材の製造方法IIにおいては、材料層Ａ２を構成するアルカリ可溶性樹脂がアクリル酸由来の単位を有し、材料層Ｂ２を構成するアルカリ可溶性樹脂がメタクリル酸由来の単位を有するところに特徴がある。このようなアルカリ可溶性樹脂を用いることにより、材料層Ａ２が材料層Ｂ２と比較して現像液に対する溶解性に優れたものとなり、このような積層を用いることにより、部材のパターン形状が良好なものとなる顕著な効果を有する。
上記各工程はそれぞれ、ＰＤＰ部材の製造方法Ｉの各工程に準ずる。また、上記工程［１］、［２］および［２’］は、本発明の転写フィルムを用い、材料層Ａ２、材料層Ｂ２およびレジスト層を一括転写することにより、一括して行う方法が特に好ましく用いられる。本発明のＰＤＰ部材の製造方法は、隔壁の形成に特に好ましく用いられる。
【００２１】
以下に、前記ＰＤＰ部材の製造方法ＩおよびIIの各工程に用いられる材料、各種条件などについて説明する。
基板
基板材料は、例えばガラス、シリコン、アルミナなどの絶縁性材料である。この基板表面は、必要に応じて、シランカップリング剤などによる薬品処理；プラズマ処理；イオンプレーティング法、スパッタリング法、気相反応法、真空蒸着法などによる薄膜形成処理のような適宜の前処理を施されていてもよい。
【００２２】
露光用マスク
露光工程において使用される露光用マスクＭの露光パターンは、目的によって異なるが、例えば、１０〜５００μｍ幅のストライプが用いられる。
【００２３】
現像液
現像液としては、アルカリ現像液が好ましく用いられる。
アルカリ現像液の有効成分としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどの無機アルカリ性化合物；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどの有機アルカリ性化合物などを挙げることができる。
アルカリ現像液は、前記アルカリ性化合物の１種または２種以上を水などに溶解させることにより調整することができる。ここに、アルカリ性現像液におけるアルカリ性化合物の濃度は、通常０．００１〜１０重量％とされ、好ましくは０．０１〜５重量％とされる。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。
【００２４】
＜転写フィルム＞
本発明の転写フィルムは、支持フィルムと、この支持フィルム上に形成された材料層とを有してなり、当該材料層の表面に保護フィルム層が設けられていてもよい。転写フィルムは、支持フィルム上に部材形成用組成物を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部または全部を除去することにより部材形成材料層を形成することにより作製することができる。なお、必要に応じて、支持フィルム上にレジスト組成物を塗布し、塗膜を乾燥してレジスト層を形成し、当該レジスト層上に部材形成用組成物を塗布、乾燥して部材形成材料層を形成して、転写フィルムを作製してもよい。
本発明の好ましい転写フィルムの様態は、下記の通りである。
１．ＰＤＰ部材の製造方法Ｉに好適な転写フィルム
支持フィルム上に、無機粉体とメタクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する感光性の部材形成材料層（上記「材料層Ｂ１」に相当）を有し、当該材料層上に、無機粉体とアクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する非感光性の部材形成材料層（上記「材料層Ａ１」に相当）を有する転写フィルム。
２．ＰＤＰ部材の製造方法IIに好適な転写フィルム
支持フィルム上に、レジスト層と、無機粉体とメタクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する非感光性の部材形成材料層（上記「材料層Ｂ２」に相当）と、無機粉体とアクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂とを含有する非感光性の部材形成材料層（上記「材料層Ｂ２」に相当）とがこの順に積層された構造を有する、転写フィルム。
以下、本発明の転写フィルムの各構成要素について具体的に説明する。
【００２５】
支持フィルム
本発明の転写フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有すると共に可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコータによってペースト状組成物を塗布することができ、隔壁形成用組成物層をロール状に巻回した状態で保存し、供給することができる。支持フィルムを形成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィルムの厚さとしては、例えば２０〜１００μｍとされる。
なお、支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましい。これにより、前述の転写工程において、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。
【００２６】
材料層Ａ１
材料層Ａ１は、無機粉体、結着樹脂および溶剤を含有してなるペースト状で非感光性の組成物（以下、「組成物ａ１」ともいう）を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部又は全部を除去することにより形成することができる。材料層Ａ１を構成する結着樹脂は、アクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂を含有するものである。
【００２７】
（１）無機粉体
本発明の組成物ａ１に使用される無機粉体は、形成材料の種類によって異なる。
ＰＤＰの隔壁形成材料に使用される無機粉体としては、低融点ガラスフリットを挙げることができる。具体例としては、１．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、２．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、３．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、４．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、５．酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、６．酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（ Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）などを挙げることができる。また、適宜フィラーとしてアルミナなどを添加しても良い。
ＰＤＰの電極形成材料に使用される無機粉体としては、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｎｉ、Ａｇ−Ｐｄ合金、Ｃｕ、Ｃｒなどを挙げることができる。また、透明電極形成材料に使用される無機粉体としては、酸化インジウム、酸化錫、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素添加酸化インジウム（ＦＩＯ）、フッ素添加酸化錫（ＦＴＯ）、フッ素添加酸化亜鉛（ＦＺＯ）、ならびに、Ａｌ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｉｎ、ＳｎおよびＴｉから選ばれた一種もしくは二種以上の金属を含有する酸化亜鉛微粉体などを挙げることができる。
ＰＤＰの抵抗体形成材料に使用される無機粉体としては、ＲｕＯ2などを挙げることができる。
ＰＤＰの蛍光体形成材料に使用される無機粉体は、赤色用としてはＹ2 Ｏ3 ：Ｅｕ3+、Ｙ2 ＳｉＯ5 ：Ｅｕ3+、Ｙ3 Ａｌ5 Ｏ12：Ｅｕ3+、ＹＶＯ4 ：Ｅｕ3+、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3 ：Ｅｕ3+、Ｚｎ3 （ＰＯ4 ）2 ：Ｍｎなど、緑色用としてはＺｎ2 ＳｉＯ4 ：Ｍｎ、ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｍｎ、ＬａＰＯ4 ：（Ｃｅ，Ｔｂ）、Ｙ3 （Ａｌ，Ｇａ）5 Ｏ12：Ｔｂなど、青色用としてはＹ2 ＳｉＯ5 ：Ｃｅ、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ2+、（Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ）10（ＰＯ4 ）6 Ｃｌ2 ：Ｅｕ2+、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ａｇなどを挙げることができる。
ＰＤＰ、ＬＣＤ、有機ＥＬ素子などのカラーフィルター形成材料に使用される無機粉体は、赤色用としてはＦｅ2 Ｏ3 など、緑色用としてはＣｒ2 Ｏ3 など、青色用としてはＣｏＯ・Ａｌ2 Ｏ3 などを挙げることができる。
ＰＤＰ、ＬＣＤ、有機ＥＬ素子などのブラックマトリックス形成材料に使用される無機粉体としては、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒなどの金属や、ＣｕＯ−Ｃｒ2 Ｏ3 、ＣｕＯ−Ｆｅ2 Ｏ3 −Ｍｎ2 Ｏ3 、ＣｕＯ−Ｃｒ2 Ｏ3 −Ｍｎ2 Ｏ3 、ＣｏＯ−Ｆｅ2 Ｏ3 −Ｃｒ2 Ｏ3 などの複合酸化物を挙げることができる。
なお、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックスの形成材料など、低融点ガラスフリット以外の無機粉体を用いる場合には、隔壁形成材料に使用される低融点ガラスフリットを併用しても良い。この場合の低融点ガラスフリットの含有量は、用途によって異なるが、通常、低融点ガラスフリットを含む無機粉体全量１００重量部に対して５０重量部以下である。
【００２８】
（２）結着樹脂
組成物ａ１に使用される結着樹脂としては、種々の樹脂を用いることができるが、アルカリ可溶性樹脂として少なくともアクリル酸をモノマーとして重合された樹脂を用いることを必須とする。
ここに、「アルカリ可溶性」とは、目的とする現像処理が可能な程度に、前述のアルカリ現像液に溶解する性質をいう。
本発明で用いられるアルカリ可溶性樹脂において、アクリル酸の共重合成分としては、下記モノマー（イ）〜（ハ）から選ばれるモノマーが好ましく、特にモノマー（ロ）が好ましい。
本発明で用いられるアルカリ可溶性樹脂におけるアクリル酸由来の単位の割合は、全繰り返し単位中、通常、５〜５０重量％、好ましくは、１０〜４０重量％、特に好ましくは、１５〜３０重量％である。
【００２９】
モノマー（イ）：
マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどのアクリル酸以外のカルボキシル基含有モノマー類；（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（α-ヒドロキシメチル）アクリレートなどの水酸基含有モノマー類；ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類などに代表されるアルカリ可溶性官能基含有モノマー類。
モノマー（ロ）：
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸−ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートなどのモノマー（イ）以外の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル系モノマー類；ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類などに代表されるモノマー（イ）と共重合可能なモノマー類。
モノマー（ハ）：
ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の末端に、（メタ）アクリロイル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーなどに代表されるマクロモノマー類。
【００３０】
アルカリ可溶性樹脂の重合は、例えばラジカル重合によって行うことができる。ラジカル重合の開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル等を用いることができる。ラジカル重合の溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等を用いることができる。重合温度は通常５０〜１００℃で行うことができ、重合時間は通常３０〜６００分である。
組成物ａ１における結着樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量は、通常、５，０００〜５００，０００、好ましくは、１０，０００〜２００，０００である。
組成物ａ１における結着樹脂の含有割合としては、無機粉体１００重量部に対して、通常１〜５００重量部、好ましくは５〜１００重量部、特に好ましくは１５〜４０重量部である。
【００３１】
（３）溶剤
組成物ａ１を構成する溶剤は、当該組成物ａ１に、適当な流動性または可塑性、良好な膜形成性を付与するために含有される。
組成物ａ１を構成する溶剤としては、特に制限されるものではなく、例えばエーテル類、エステル類、エーテルエステル類、ケトン類、ケトンエステル類、アミド類、アミドエステル類、ラクタム類、ラクトン類、スルホキシド類、スルホン類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類などを挙げることができる。
かかる溶剤の具体例としては、テトラヒドロフラン、アニソール、ジオキサン、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、酢酸エステル類、ヒドロキシ酢酸エステル類、アルコキシ酢酸エステル類、プロピオン酸エステル類、ヒドロキシプロピオン酸エステル類、アルコキシプロピオン酸エステル類、乳酸エステル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、アルコキシ酢酸エステル類、環式ケトン類、非環式ケトン類、アセト酢酸エステル類、ピルビン酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミド類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアセトアミド類、Ｎ−アルキルピロリドン類、γ−ラクトン類、ジアルキルスルホキシド類、ジアルキルスルホン類、ターピネオール、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
組成物ａ１における溶剤の含有割合としては、良好な膜形成性（流動性または可塑性）が得られる範囲内において適宜選択することができる。
【００３２】
組成物ａ１には、任意成分として、可塑剤、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、フィラー、低融点ガラス等の各種添加剤が含有されていてもよい。
【００３３】
材料層Ｂ１
材料層Ｂ１は、無機粉体、結着樹脂、溶剤および感光性成分を必須成分として含有する、ペースト状で感光性の組成物（以下、「組成物ｂ１」ともいう）を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部又は全部を除去することにより形成することができる。材料層Ｂ１を構成する結着樹脂は、メタクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂を含有するものである。
組成物ｂ１を構成する無機粉体および溶剤は、前記組成物ａ１の構成成分として記載したものと同一のものを用いることができる。また、前述の組成物ａ１における任意成分も、同様に用いることができる。
【００３４】
（１）結着樹脂
組成物ｂ１に使用される結着樹脂としては、種々の樹脂を用いることができるが、アルカリ可溶性樹脂として少なくともメタクリル酸をモノマーとして重合された樹脂を用いることを必須とする。
ここに、「アルカリ可溶性」とは、前述のアルカリ性の現像液によって溶解し、目的とする現像処理が遂行される程度に溶解性を有する性質をいう。
本発明で用いられるアルカリ可溶性樹脂において、メタクリル酸の共重合成分としては、前述したモノマー（イ）〜（ハ）から選ばれるモノマーが好ましく、特にモノマー（ロ）が好ましい。
本発明で用いられるアルカリ可溶性樹脂におけるメタクリル酸由来の単位の割合は、全繰り返し単位中、通常、５〜５０重量％、好ましくは、１０〜４０重量％、特に好ましくは、１５〜３０重量％である。  
組成物ｂ１における結着樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量は、通常、５，０００〜５００，０００、好ましくは、１０，０００〜２００，０００である。
組成物ｂ１における結着樹脂の含有割合としては、無機粉体１００重量部に対して、通常１〜５００重量部、好ましくは５〜１００重量部、特に好ましくは１５〜４０重量部である。
【００３５】
（２）感光性成分
組成物ｂ１を構成する感光性成分としては、例えば、（イ）多官能性モノマーと放射線重合開始剤との組み合わせ、（ロ）メラミン樹脂と放射線照射により酸を形成する光酸発生剤との組み合わせなどを好ましいものとして例示することができ、上記（イ）の組み合わせのうち、多官能性（メタ）アクリレートと放射線重合開始剤との組み合わせが特に好ましい。
【００３６】
感光性成分を構成する多官能性（メタ）アクリレートの具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；
グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類などの環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類などを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００３７】
また、感光性成分を構成する放射線重合開始剤の具体例としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、カンファーキノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなどのカルボニル化合物；アゾイソブチロニトリル、４−アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物あるいはアジド化合物；メルカプタンジスルフィドなどの有機硫黄化合物；ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパーオキシドなどの有機パーオキシド；１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどのトリハロメタン類；２，２’−ビス（２−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾール二量体などを挙げることができる。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
組成物ｂ１における感光性成分の含有割合としては、無機粉体１００重量部に対して、通常１０〜６０重量部とされ、好ましくは２０〜４０重量部とされる。特に、多官能性モノマーと放射線重合開始剤を用いる場合には、無機粉体１００重量部に対して、多官能性モノマーを、通常５〜４０重量部、好ましくは１０〜    ３０重量部用い、放射線重合開始剤を、多官能性モノマー１００重量部に対して、通常１〜２０重量部、好ましくは５〜１５重量部用いる。
【００３８】
材料層Ａ２
材料層Ａ２の組成および形成方法は、材料層Ａ１の組成および形成方法と同じである。すなわち、無機粉体、結着樹脂および溶剤を含有してなるペースト状で非感光性の組成物を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部又は全部を除去することにより形成することができ、ここで用いられる結着樹脂は、アクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂を含有するものである。
【００３９】
材料層Ｂ２
材料層Ｂ２は、無機粉体、結着樹脂および溶剤を含有してなるペースト状で非感光性の組成物（以下、「組成物ｂ２」ともいう）を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部又は全部を除去することにより形成することができる。材料層Ｂ２を構成する結着樹脂は、メタクリル酸由来の単位を有するアルカリ可溶性樹脂を含有するものである。
組成物ｂ２に用いられる無機粉体および溶剤は、前記組成物ａ１の構成成分として記載したものと同一のものを用いることができる。また、前述の組成物ａ１における任意成分も、同様に用いることができる。なお、組成物ｂ２に用いられる結着樹脂は、前記組成物ｂ１の構成成分として記載したものと同一のものを用いることができる。
【００４０】
レジスト層
レジスト層は、結着樹脂、多官能性モノマー、放射線重合開始剤および溶剤を含有するレジスト組成物を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部又は全部を除去することにより形成することができる。
レジスト組成物に用いられる各成分は、前記組成物ｂ１の構成成分として記載したものと同一のものを用いることができる。
【００４１】
転写フィルムの形成方法
各組成物を塗布する方法としては、膜厚の均一性に優れた膜厚の大きい塗膜を効率よく形成することができるものであることが必要とされ、具体的には、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコーターによる塗布方法、ワイヤーコーターによる塗布方法などを好ましいものとして挙げることができる。また、レジスト組成物を塗布する方法としては、上記本発明のパターンの製造方法においてレジスト膜を形成する方法に準ずる。
塗膜の乾燥条件としては、例えば、５０〜１５０℃で０．５〜３０分間程度とされ、乾燥後における溶剤の残存割合（隔壁形成用組成物層中の含有率）は、通常２重量％以内とされる。
上記のようにして支持フィルム上に形成される各材料層の厚さとしては、無機粉体の含有率、部材の種類やサイズなどによっても異なるが、例えば材料層Ａ１または材料層Ａ２が１０〜１５０μｍ、材料層Ｂ１または材料層Ｂ２が１０〜１５０μｍとされる。また、レジスト層の膜厚は、通常、５〜５０μｍとされる。
なお、材料層Ａ１または材料層Ａ２の表面に設けられることのある保護フィルム層としては、ポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどを挙げることができる。
【００４２】
また、本発明の転写フィルムは、支持フィルム上と保護フィルム上とにそれぞれ組成物を塗布して材料層（またはレジスト層）を形成し、互いの材料層（またはレジスト層）形成面を重ね合わせて圧着する方法によっても、好適に形成することができる。このような形成方法としては、例えば下記のような例が挙げられる。
１．支持フィルム上に材料層Ａ２を形成し、保護フィルム上に材料層Ａ１を形成して、材料層Ａ１の面と材料層Ａ２の面とを重ね合わせて圧着する方法。
２．支持フィルム上にレジスト層と材料層Ｂ２を形成し、保護フィルム上に材料層Ｂ１を形成して、材料層Ｂ１の面と材料層Ｂ２の面とを重ね合わせて圧着する方法。
３．支持フィルム上にレジスト層を形成し、保護フィルム上に材料層Ｂ１と材料層Ｂ２との積層を形成して、レジスト層の面と材料層Ｂ２の面とを重ね合わせて圧着する方法。
【実施例】
【００４３】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、以下において、「部」および「％」は、それぞれ「重量部」および「重量％」を示す。
また、Ｍｗは、東ソー株式会社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（商品名ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量である。ＧＰＣ測定条件は以下の通りである。
ＧＰＣカラム：（東ソー製  ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ  ＳｕｐｅｒＨＺ−Ｌ）
溶媒：（ＴＨＦ）
測定温度：（４０℃）
【００４４】
〔合成例１〕
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部、ｎ−ブチルメタクリレート７０部、アクリル酸３０部およびアゾビスイソブチロニトリル１部を、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、室温で均一になるまで攪拌した後、８０℃で３時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後室温まで冷却してポリマー溶液を得た。ここに、重合率は９８％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下、「ポリマー（Ａ）」という）のＭｗは、７０，０００であった。
【００４５】
〔合成例２〕
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部、ｎ−ブチルメタクリレート７０部、メタクリル酸３０部およびアゾビスイソブチロニトリル１部を攪拌機付きオートクレーブに仕込んだこと以外は合成例１と同様にしてポリマー溶液を得た。ここに、重合率は９７％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下、「ポリマー（Ｂ）」という）のＭｗは、７０，０００であった。
【００４６】
〔調製例１〕
無機粉体としてガラスフリット（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）１００部、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（Ａ）３０部、可塑剤としてジ−２−エチルヘキシルアゼレート２部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０部を混練りすることにより、ペースト状の非感光性組成物（以下、「隔壁形成用組成物（１）」という）を調製した。
【００４７】
〔調製例２〕
無機粉体として上記組成のガラスフリット１００部、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（Ｂ）３０部、可塑剤としてジ−２−エチルヘキシルアゼレート５部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０部を混練りすることにより、ペースト状の非感光性組成物（以下、「隔壁形成用組成物（２）」という）を調製した。
【００４８】
〔調製例３〕
無機粉体として上記組成のガラスフリット１００部、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（Ａ）３０部、可塑剤としてジ−２−エチルヘキシルアゼレート２部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００部および感光性成分としてトリメチロールプロパントリアクリレート１０部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン２部を混練りすることにより、ペースト状の感光性組成物（以下、「隔壁形成用組成物（３）」という）を調製した。
〔調製例４〕
無機粉体として上記組成のガラスフリット１００部、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（Ｂ）３０部、可塑剤としてジ−２−エチルヘキシルアゼレート２部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１００部および感光性成分としてトリメチロールプロパントリアクリレート１０部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン２部を混練りすることにより、ペースト状の感光性組成物（以下、「隔壁形成用組成物（４）」という）を調製した。
【００４９】
（現像速度評価方法）
ソーダガラス基板（１５ｃｍ角、厚さ１．１ｍｍ）の表面に、バーコーターを用いて各組成物を塗布し、１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を完全に除去し、厚さ１００μｍの隔壁形成材料層を有する試験片を作製した。
得られた試験片を０．２重量％の水酸化カリウム水溶液に浸漬し、マグネチックスターラーを用いて溶液の攪拌を行いながら試験片表面を観察した。試験片表面の隔壁形成材料層の溶解により、基板表面の半分が露出した時間を溶解時間として測定し、以下の式により溶解速度を算出した。算出結果は、下記表１に示す。
【００５０】
溶解速度（μｍ／秒）＝膜厚（μｍ）／溶解時間（秒）
【００５１】
＜実施例１＞
（転写フィルムの作製）
得られた隔壁形成用組成物（４）を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）上にロールコータにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去して、厚さ１００μｍの隔壁形成材料層Ｂ１を形成した。次に、隔壁形成用組成物（１）を、隔壁形成材料層Ｂ１上にロールコータにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去して厚さ１００μｍの隔壁形成材料層Ａ１を形成した。これにより、厚さ２００μｍの、二層からなる隔壁形成材料層を形成し、本発明の転写フィルム（以下、「転写フィルム（１）」という）を作製した。
【００５２】
（隔壁形成材料層の転写工程）
６インチパネル用のガラス基板の表面に、隔壁形成材料層Ａ１の表面が当接されるよう転写フィルム（１）を重ね合わせ、この転写フィルム（１）を加熱ローラにより熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱ローラの表面温度を１２０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2 、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。これにより、ガラス基板の表面に隔壁形成材料層の積層が転写されて密着した状態となった。この隔壁形成材料層（隔壁形成材料層Ａ１＋隔壁形成材料層Ｂ１）について膜厚を測定したところ、２００μｍ±５μｍの範囲にあった。
【００５３】
（隔壁形成材料層Ｂ１の露光工程）
上記積層中の隔壁形成材料層Ｂ１に対して、露光用マスク（４０μｍ幅のストライプパターン）を介して、超高圧水銀灯により、ｉ線（波長３６５ｎｍの紫外線）を照射した。ここに、照射量は４００ｍＪ／ｃｍ2とした。
【００５４】
（隔壁形成材料層の現像工程）
露光工程の終了後隔壁形成材料層Ｂ１より支持フィルムを剥離除去した後、露光処理された隔壁形成材料層Ｂ１に対して、０．２重量％の水酸化カリウム水溶液（２５℃）を現像液とするシャワー法による現像処理を行った。これにより、紫外線が照射されていない未硬化の隔壁形成材料層Ｂ１を除去し、さらにそれをパターンとして連続的に隔壁形成材料層Ａ１の現像を行い、次いで超純水による水洗処理および乾燥処理を行った。これにより、材料層残留部と、材料層除去部とから構成される隔壁形成材料層のパターンを形成した。
【００５５】
（隔壁形成材料層の焼成工程）
隔壁形成材料層のパターンが形成されたガラス基板を焼成炉内で６００℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理を行った。これにより、ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパネル部材が得られた。
得られたパネル部材における隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、当該断面形状の底面の幅および高さを測定したところ、底面の幅が４０μｍ±３μｍ、高さが１５０μｍ±５μｍであり、寸法精度がきわめて高いものであり、かつ隔壁のエッヂがシャープなパターンが形成できた。また、残さやパターンの剥がれ、変形は観察されなかった。
【００５６】
＜実施例２＞
（転写フィルムの作製）
予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）上にロールコータを用いて下記組成のレジスト組成物を塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を８０℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去して、厚さ１５μｍのレジスト層を形成した。次に、隔壁形成用組成物（２）を、レジスト層上にロールコータにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去して、厚さ１００μｍの隔壁形成材料層Ｂ２を形成した。次に、隔壁形成用組成物（１）を、隔壁形成材料層Ｂ２上にロールコータにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去して厚さ１００μｍの隔壁形成材料層Ａ２を形成した。これにより、三層のトータル膜厚が２１５μｍである、本発明の転写フィルム（以下、「転写フィルム（２）」という）を作製した。
【００５７】
レジスト組成物の組成：
アルカリ可溶性樹脂：メタクリル酸３０重量％とメタクリル酸ベンジル７０重量％の共重合体（Ｍｗ＝４０，０００）…５０重量部
感放射線性成分：
多官能性モノマー：ペンタエリスリトールテトラアクリレート…４０重量部
光重合開始剤：１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン…１０重量部
溶剤：３−エトキシプロピオン酸エチル…１５０重量部      
【００５８】
（隔壁形成材料層およびレジスト層の転写工程）
６インチパネル用のガラス基板の表面に、隔壁形成材料層Ａ２の表面が当接されるよう転写フィルム（２）を重ね合わせ、この転写フィルム（２）を加熱ローラにより熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱ローラの表面温度を１２０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2 、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。これにより、ガラス基板の表面に隔壁形成材料層とレジスト層が転写されて密着した状態となった。この三層（隔壁形成材料層Ａ２＋隔壁形成材料層Ｂ２＋レジスト層）について膜厚を測定したところ、２１５μｍ±５μｍの範囲にあった。
【００５９】
（レジスト層の露光工程）
隔壁形成材料層の積層体上に形成されたレジスト層に対して、露光用マスク（４０μｍ幅のストライプパターン）を介して、超高圧水銀灯により、ｉ線（波長３６５ｎｍの紫外線）を照射した。ここに、照射量は４００ｍＪ／ｃｍ2とした。
【００６０】
（隔壁形成材料層の現像工程）
露光工程の終了後レジスト層より支持フィルムを剥離除去した後、露光処理されたレジスト層に対して、０．２重量％の水酸化カリウム水溶液（２５℃）を現像液とするシャワー法による現像処理を行った。これにより、紫外線が照射されていない未硬化のレジスト層を除去し、それをパターンとして隔壁形成材料層Ｂ２の現像を連続的に行い、さらに連続的に隔壁形成材料層Ａ２の現像を行い、次いで超純水による水洗処理および乾燥処理を行った。これにより、材料層残留部と、材料層除去部とから構成される隔壁形成用組成物層のパターンを形成した。
【００６１】
（隔壁形成材料層の焼成工程）
隔壁形成材料層のパターンが形成されたガラス基板を焼成炉内で６００℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理を行った。これにより、ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパネル部材が得られた。
得られたパネル部材における隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、当該断面形状の底面の幅および高さを測定したところ、底面の幅が４０μｍ±３μｍ、高さが１５０μｍ±５μｍであり、寸法精度がきわめて高いものであり、かつ隔壁のエッヂがシャープなパターンが形成できた。また、残さやパターンの剥がれ、変形は観察されなかった。
【００６２】
＜比較例１〜３＞
比較例として実施例１における二層それぞれに用いるポリマーの組み合わせ以外は実施例１と同様にして転写フィルムを製造し、得られた転写フィルムを用いてガラス基板上に隔壁を形成し、露光、現像、焼成した。実施例１、２および比較例１〜３における評価結果を表１に示す。
【００６３】
【表１】
2005209588.tif 000002
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】一般的なＰＤＰを示す説明用断面図である。
【符号の説明】
【００６５】
１      ガラス基板                  ２      ガラス基板
３      隔壁                        ４      透明電極
５      バス電極                    ６      アドレス電極
７      蛍光体                      ８      誘電体層
９      誘電体層                    １０    保護膜
【図１】
2005209588.tif 000003