(57)【要約】    【課題】  本発明は、経時熱安定性に優れる近赤外線吸収フィルターの形成に好適なコーティング剤であって、且つ経時での流動性も良好なコーティング剤を提供することを目的とする。    【解決手段】  ポリサルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル及びポリエーテルサルホンからなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂（以下、ポリサルホン等ともいう）とジイモニウム系化合物とを含有することを特徴とするコーティング剤。    【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリサルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル及びポリエーテルサルホンからなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂とジイモニウム系化合物とを含有することを特徴とするコーティング剤。
【請求項２】
ジチオール金属錯体化合物を更に含有することを特徴とする請求項１記載のコーティング剤。
【請求項３】
ジイモニウム系化合物が下記一般式（１）で表される部分構造を有するものであることを特徴とする請求項１ないし２いずれか記載のコーティング剤。
【化１】
2005255804.tif 000019
【請求項４】
ジイモニウム系化合物が下記一般式（２）又は下記一般式（３）で表される化合物であることを特徴とする請求項１ないし３いずれか記載のコーティング剤。
【化２】
2005255804.tif 000020
（式中、Ｒ1〜Ｒ8は互いに同一もしくは相異なる水素、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未置換のアルコキシ基、置換又は未置換のアリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、Ｘ-は、１価の陰イオンを表している。）
【化３】
2005255804.tif 000021
（式中、Ｒ9〜Ｒ14は互いに同一もしくは相異なるアルキル基であり、Ｘ-は、１価の陰イオンを表している。）
【請求項５】
ジチオール金属錯体化合物が下記一般式（４）で表される化合物であることを特徴とする請求項１ないし４いずれか記載のコーティング剤。
【化４】
2005255804.tif 000022
（式中、Ｒ15〜Ｒ18は互いに同一もしくは相異なる水素原子、ハロゲン、シアノ基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は未置換のアルキル基、あるいは置換又は未置換のアリール基を表し、かつ、隣り合う２個の置換基が連結基を介して繋がっていてもよい。Ｍは、ニッケル、白金、パラジウム、又は銅の金属である。）
【請求項６】
基材に請求項１ないし５いずれか記載のコーティング剤から形成される近赤外線吸収層が積層されてなる近赤外線吸収積層体。
【請求項７】
紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層、耐衝撃層からなる少なくとも１つの層が、基材側及び／又は近赤外線吸収層上に積層されてなる請求項６記載の近赤外線吸収積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コーティング剤に関し、詳しくはプラズマディスプレイ装置などの画像出力装置などから発生される近赤外線を吸収し、プラズマディスプレイ装置の外部におかれる種々の電子機器に近赤外線が進入することを防止し、周辺電子機器の誤動作を防ぐ、近赤外線吸収積層体の形成に好適なコーティング剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型ディスプレイとして様々な形式のディスプレイが開発、商品化されている。プラズマディスプレイもその１つであり、特に４０ｉｎｃｈサイズ以上の大型化、薄型化及び軽量化の点から壁掛け用の大型ディスプレイとして注目されている。このプラズマディスプレイは光源或いは放電部を構成する各々の画素部分の構造的要因により、可視光領域から赤外線波長領域にわたってカラー映像の３原色（赤、緑、青）の波長帯以外の光線が発せられ、例えば、波長が８２０ｎｍ、８８０ｎｍ、９８０ｎｍ付近等に強い近赤外線の放出がある。これら近赤外線は周辺電子機器、例えばテレビ、ビデオやクーラーのリモートコントローラー、携帯通信、パソコン等の近赤外線通信機器等の作動波長と合致しているため、誤作動の問題が生じる。
【０００３】
そこで、近赤外線を吸収する光学フィルターを利用することが提案されている。このような近赤外線吸収フィルターとしては、２価の銅イオンを含むリン酸塩含有ガラス製フィルターや、ガラス等の表面に金属（例えば銀）の薄い層を蒸着法、スパッター法やイオンプレーティング法その他の方法により形成したフィルターや、近赤外領域の波長を吸収する色素を樹脂中に添加したフィルター等を挙げることができる。
【０００４】
しかしながら、上記のような近赤外線吸収フィルターのうち、リン酸塩含有ガラス製フィルターは、製造が煩雑であり、しかも吸湿性し易いという問題がある。  また、ガラス等の表面に金属の薄い層を設ける場合は、近赤外線領域と比較すれば少ないものの、可視光領域の光も反射してしまうため金属層の膜厚を厚くしすぎると透過率が低下することや、製造コストが高い等の問題がある。
さらに、これらの方法はいずれも共通してガラスを用いるので、得られるフィルターが重く割れやすい、加工が困難等といった問題がある。
【０００５】
これに対し、近赤外線領域の波長を吸収する色素を樹脂中に添加したフィルターは、ガラスを用いたフィルターに比べ軽量であり、製造も簡便であるという様に利点が多い。
【０００６】
しかし、近赤外線領域の光を吸収する色素には、同時に可視光領域においても吸収を持つものが多く、これら色素を添加した近赤外線吸収フィルターは、多くの場合、近赤外線領域以外にも吸収を有する。可視領域の光の吸収は、プラズマディスプレー等の画像表示装置にとっては大きな問題となる。従って、近赤外線領域の光を吸収する色素としては、できるだけ可視光領域の吸収の小さいものが望まれる。
近赤外線吸収領域の波長を吸収する色素のうち、ジイモニウム系化合物は、
（１）可視光領域における光吸収率が極めて小さく、
（２）紫外線領域を吸収し、
（３）近赤外線領域に有する極大吸収波長が極めて大きく、
（４）更に近赤外線吸収領域も８５０〜１２００ｎｍと広いので、
プラズマディスプレイ用近赤外線吸収フィルター用の色素としては特に好ましい。
【０００７】
しかしながら、ジイモニウム系化合物は、耐熱性に劣るものが多い。
従って、例えばジイモニウム系化合物を各種樹脂に混練・成形して、近赤外線吸収フィルター、即ち近赤外線吸収フィルムを得ようとすると、混練・成形時の熱でジイモニウム系化合物が分解し、得られる近赤外線吸収フィルターの近赤外線領域の吸収が低下してしまう。
【０００８】
近赤外線領域の波長を吸収する色素を樹脂中に添加したコーティング剤を、プラスチックフィルム等の基材に塗布・乾燥し、近赤外線吸収層を設ける方法は、コーティング法、キャスト法等とも呼ばれ、このようなコーティング法の場合、上記の混練・成形法に比べ比較的低温でフィルターを製造することができる。
しかし、プラズマディスプレイは発光体基板表面が約５０℃〜８０℃となる。従って、その前面板に積層される近赤外線吸収フィルターも長時間加熱されることとなる。その結果、プラズマディスプレイの前面板に積層された後に、近赤外線吸収フィルターを構成する近赤外線吸収層中の色素が熱により分解し、近赤外線領域の吸収が低くなってしまう。
【０００９】
ジイモニウム系化合物を含有する近赤外線吸収フィルターの熱安定性を改善する方法として、ポリカーボネート樹脂やポリアリレート樹脂とジイモニウム系化合物を含有するコーティング剤の利用が、特許文献１〜２に記載されている（特許文献１：特許第３４５１２２８号公報、特許文献２：特許第３３２１７０５号公報参照）。
【００１０】
ところで、ポリカーボネート樹脂やポリアリレート樹脂は、芳香族・脂肪族・脂環族炭化水素系、エステル系、アルコール系、ケトン系溶媒には溶解し難く、塩素系溶媒（クロロホルム、ジクロロメタン、トリクロロメタン、塩化メチレン等）、エーテル系溶媒（テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン等）、非プロトン性溶媒（Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等）には溶解し易い。
【００１１】
しかしながら、塩素系溶媒は、毒性や環境負荷等の問題がある。
また、エーテル系溶媒は、塩素系溶媒や窒素含有溶媒と比較し溶解力が低い。従って、ポリカーボネート樹脂やポリアリレート樹脂を溶解しようとしても白濁してしまったり、経時にて流動性が無くなったり、固化したりして、コーティング剤として使用できないという問題がある。
さらに、非プロトン性溶媒は、上記のような問題が生じないとはいうものの、比較的高沸点のものが多いので、乾燥しにくく、乾燥条件によっては塗膜中、即ち近赤外線吸収層中に残留溶剤として残り易い。そして、この残留溶剤は、ジイモニウム系化合物を経時にて分解するという問題がある。
【特許文献１】特許第３４５１２２８号広報
【特許文献２】特許第３３２１７０５号広報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、可視光域の透過率が高く、プラズマディスプレイ装置から放出される近赤外線を吸収し、周辺電子機器の誤動作防止のための近赤外線吸収フィルターであって、経時熱安定性に優れる近赤外線吸収フィルターの形成に好適なコーティング剤であって、且つ経時での流動性の良好なコーティング剤を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、上記課題に鑑み鋭意検討した結果、ポリサルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル及びポリエーテルサルホンからなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂にジイモニウム系化合物を有する色素を含有するコーティング剤がこれらの欠点を解消し得ることを見出し、本発明を完成した。
即ち、第１の発明は、ポリサルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル及びポリエーテルサルホンからなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂（以下、ポリサルホン等ともいう）とジイモニウム系化合物とを含有することを特徴とするコーティング剤である。
【００１４】
第２の発明は、ジチオール金属錯体化合物を更に含有することを特徴とする第１の発明に記載のコーティング剤である。
【００１５】
第３の発明は、ジイモニウム系化合物が、下記一般式（１）で表される部分構造を有する化合物であることを特徴とする第１ないし第２の発明いずれか記載のコーティング剤である。
【００１６】
【化１】
2005255804.tif 000002
【００１７】
第４の発明は、ジイモニウム系化合物が、一般式（２）又は一般式（３）で表される化合物であることを特徴とする第１ないし第３の発明いずれか記載のコーティング剤に関する。
【００１８】
【化２】
2005255804.tif 000003
（式中、Ｒ1〜Ｒ8は互いに同一もしくは相異なる水素、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未置換のアルコキシ基、置換又は未置換のアリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、Ｘ-は、１価の陰イオンを表している。）
【００１９】
【化３】
2005255804.tif 000004
（式中、Ｒ9〜Ｒ14は互いに同一もしくは相異なるアルキル基であり、Ｘ-は、１価の陰イオンを表している。）
【００２０】
第５の発明は、ジチオール金属錯体化合物が下記一般式（４）で表されることを特徴とする第１ないし第４の発明いずれか記載のコーティング剤である。
【００２１】
【化４】
2005255804.tif 000005
（式中、Ｒ15〜Ｒ18は互いに同一もしくは相異なる水素原子、ハロゲン、シアノ基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は未置換のアルキル基、あるいは置換又は未置換のアリール基を表し、かつ、隣り合う２個の置換基が連結基を介して繋がっていてもよい。Ｍは、ニッケル、白金、パラジウム、又は銅の金属である。）
【００２２】
第６の発明は、基材に第１ないし第５の発明いずれか記載のコーティング剤から形成される近赤外線吸収層が積層されてなる近赤外線吸収積層体である。
【００２３】
第７の発明は、紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層、耐衝撃層からなる少なくとも１つの層が、基材側及び／又は近赤外線吸収層上に積層されてなる第６の発明記載の近赤外線吸収積層体である。
【発明の効果】
【００２４】
本発明のコーティング剤を用いた近赤外線吸収積層体は、近赤外線の波長領域を十分遮蔽でき、且つ高い可視光透過性を持ち、更に耐熱性を有しているため、高温下であっても長時間にわたって安定した近赤外線遮蔽効果があり、プラズマディスプレイパネル用の近赤外線吸収フィルターとしても有効である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において使用するポリサルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル及びポリエーテルサルホンは、非晶性エンジニアプラスチックや非晶性スーパーエンジニアプアスチックに類する透明な高分子樹脂であり、ガラス転移点（Ｔｇ）が１５０℃以上と高く耐熱性、熱安定性が良好である。
また、上記ポリサルホン等は、非晶性高分子樹脂なので種々の有機溶媒への溶解性もあり、プラズマディスプレイ用近赤外線吸収積層体の形成に好適なコーティング剤を作成できる。
【００２６】
本発明において使用するポリサルホンとしては、一般式（５）で表されるジフェニルスルホン基を有する部分構造を基本的な繰り返し単位とする非晶性ポリマーである。このようなポリサルホンは、一般にジクロロフェニルスルホンとビスフェノール成分とを重縮合して合成される。具体的には、ソルベイアドバンストポリマーズの商品名「ユーデル」シリーズ等が挙げられる。
【００２７】
【化５】
2005255804.tif 000006
【００２８】
本発明において使用するポリエーテルイミドとしては、分子内にイミド基とエーテル基を合わせ持つものであり、具体的には、一般式（６）で表される部分構造を基本的な繰り返し単位とするポリマーであり、日本ＧＥプラスチックスの商品名「ウルテム」シリーズ等が挙げられる。
【００２９】
【化６】
2005255804.tif 000007
【００３０】
本発明において使用するポリエーテルサルホンとしては、一般式（７）又は一般式（８）で表される部分構造を基本的な繰り返し単位とするポリマーであり、具体的には、ソルベイアドバンストポリマーズの商品名「ラーデル」シリーズ、住友化学の商品名「スミカエクセルＰＥＳ」シリーズ、ＢＡＳＦの商品名「ウルトラゾーン」シリーズ等が挙げられる。
【００３１】
【化７】
2005255804.tif 000008
【００３２】
【化８】
2005255804.tif 000009
【００３３】
本発明において使用するポリアミドイミドとは、ポリイミドのポリマー主鎖中にアミド基を有するコポリマーであり、一般式（９）で表される部分構造を基本的な繰り返し単位とするポリマーである。具体的には東洋紡績の商品名「バイロマックス」シリーズ等が挙げられる。
【００３４】
【化９】
2005255804.tif 000010
【００３５】
本発明において使用するポリイミドとしては、分子中にイミド基を有するポリマーであり、代表的には芳香族二無水物と芳香族ジアミンから調製される。具体的には三井化学の商品名「オーラム」シリーズ等が挙げられる。
【００３６】
本発明において使用するポリフェニレンエーテルとしては、一般的にジアルキルフェノールを原料とするフェニレンエーテル骨格を基本的な繰り返し単位とするポリマーである。具体的には旭化成ケミカルズの商品名「ザイロン」シリーズ等が挙げられる。
【００３７】
本発明において使用するジイモニウム系化合物としては、一般式（１）で表される部分構造を有するものが挙げられる。
【００３８】
【化１０】
2005255804.tif 000011
【００３９】
具体的には、下記一般式（２）で表されるものや、後述する一般式（３）で表されるものが例示できる。一般式（２）で表されるものと一般式（３）で表されるものとを併用することもできるし、また各一般式で表されるもの同士を複数使用することもできる。
【００４０】
【化１１】
2005255804.tif 000012
【００４１】
式中、Ｒ1〜Ｒ8は互いに同一もしくは相異なる水素、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置換のアリール基、置換又は未置換のアルコキシ基、置換又は未置換のアリールオキシ基、ヒドロキシ基である。
【００４２】
置換又は未置換のアルキル基のうち、未置換のアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、シクロペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、１，３−ジメチルブチル基、１−ｉｓｏ−プロピルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、１，４−ジメチルペンチル基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルプロピル基、１−エチル−３−メチルブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、３−メチル１−ｉｓｏ−プロピルブチル基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピル基、１−ｔ−ブチル−２−メチルプロピル基、ｎ−ノニル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基等の炭素数１〜２０の直鎖、分岐または環状の炭化水素基が挙げられる。
【００４３】
置換アルキル基とは、上記の未置換のアルキル基の少なくとも１つの水素が種々の官能基に置換されたものである。
例えば、
未置換のアルキル基の水素がアルコキシ基に置換されたアルコキシアルキル基、
未置換のアルキル基の水素がアルコキシアルコキシ基に置換されたアルコキシアルコキシアルキル基、
未置換のアルキル基の水素がアルコキシアルコキシアルコキシ基に置換されたアルコキシアルコキシアルコキシアルキル基、
未置換のアルキル基の水素がハロンゲンに置換されたハロゲン化アルキル基、
未置換のアルキル基の水素がアミノ基に置換されたアミノアルキル基、
未置換のアルキル基の水素がアルキルアミノ基に置換されたアルキルアミノアルキル基やジアルキルアミノアルキル基、
その他アルコキシカルボニルアルキル基、アルキルアミノカルボニルアルキル基、アルコキシスルホニルアルキル基等が挙げられる。
【００４４】
アルコキシアルキル基としては、メトキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、メトキシエトキシメチル基、エトキシエトキシエチル基、ジメトキシメチル基、ジエトチキシメチル基、ジメトキシエチル基、ジエトキシエチル基等が挙げられ、
ハロゲン化アルキル基としては、クロロメチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、トリフルオロメチル基、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ２−プロピル基等が挙げられる。
【００４５】
置換又は未置換のアリール基のうち、未置換のものとしては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられ、置換アリール基とは、上記の未置換のアリール基の少なくとも１つの水素が種々の官能基に置換されたものである。
例えば、置換フェニル基としては、
クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリクロロフェニル基、ブロモフェニル基、フロロフェニル基、ペンタフロロフェニル基、ヨウ化フェニル基等のハロゲン化フェニル基、
【００４６】
トリル基、キシリル基、メシチル基、エチルフェニル基、ジメチルエチルフェニル基、ｉｓｏ−プロピルフェニル基、ｔ−ブチルフェニル基、ｔ−ブチルメチルフェニル基、オクチルフェニル基、ノニルフェニル基、トリフロロメチルフェニル基等のアルキル誘導体置換フェニル基、
【００４７】
メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロポキシフェニル基、イソプロポキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、シクロヘキシルオキシフェニル基、オクチルオキシフェニル基、２−エチルヘキシルオキシフェニル基、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシフェニル基、メチルエトキシフェニル基、ジメトキシフェニル基、１−メトキシ−５−エトキシフェニル基、１−メトキシ−２−エトキシフェニル基、１−メトキシ−３−エトキシフェニル基、１−メトキシ−４−エトキシフェニル基、１−エトキシ−２−メトキシフェニル基、２−メトキシ−３−エトキシフェニル基、２−メトキシ−４−エトキシフェニル基、２−メトキシ−５−エトキシフェニル基、１−エトキシ−４−メトキシフェニル基、２−メトキシ−３−エトキシフェニル基、ジエトキシフェニル基、エトキシエトキシフェニル基、ジ（エトキシエトキシ）フェニル基、エトキシエトキシエトキシフェニル基、ジ（エトキシエトキシエトキシ）フェニル基、３−メトキシ−４−（２−メトキシエトキシ）フェニル基、３−メトキシ−４−（２−エトキシエトキ）シフェニル基、３−エトキシ−４（２−メトキシエトキ）シフェニル基、３−エトキシ−４−（２−エトキシエトキ）シフェニル基、３−プロポキシ−４−（２−メトキシエトキシ）フェニル基、３−プロポキシ−４−（２−エトキシエトキ）シフェニル基、３−ｉｓｏ−プロポキシ−４−（２−メトキシエトキ）シフェニル基、３−ｉｓｏ−プロポキシ−４−（２−エトキシエトキ）シフェニル基、２−（２−ヒドロキシ）−３−メトキシフェニル基、３−メトキシ−４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル基、クロロメトキシフェニル基、クロロエトキシフェニル基等のアルコキシ置換フェニル基、
【００４８】
メチルチオフェニル基、エチルチオフェニル基、ｔ−ブチルチオフェニル基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルチオフェニル基、２−メチル−１−メチルチオフェニル基等のアルキルチオ基置換フェニル基、
【００４９】
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジアミルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノフェニル基、Ｎ−ブチル−Ｎ−エチルアミノフェニル基、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−エチルアミノフェニル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルフェニル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−エチルフェニル基、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルフェニル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルフェニル基等のアルキルアミノフェニル基等が挙げられる。
【００５０】
また、置換ナフチル基としては、
クロロナフチル基、ジクロロナフチル基、トリクロロナフチル基、ブロモナフチル基、フロロナフチル基、ペンタフロロナフチル基、ヨウ化ナフチル基等のハロゲン化ナフチル基、
【００５１】
エチルナフチル基、ジメチルエチルナフチル基、ｉｓｏ−プロピルナフチル基、ｔ−ブチルナフチル基、ｔ−ブチルメチルナフチル基、オクチルナフチル基、ノニルナフチル基、トリフロロメチルナフチル基のアルキル誘導体置換ナフチル基、
【００５２】
メトキシナフチル基、エトキシナフチル基、プロポキシナフチル基、ヘキシルオキシナフチル基、シクロヘキシルオキシナフチル基、オキチルオキシナフチル基、２−エチルヘキシルオキシナフチル基、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシナフチル基、メチルエトキシナフチル基、ジメトキシナフチル基、クロロメトキシナフチル基、エトキシエトキシナフチル基、エトキシエトキシエトキシナフチル基等のアルコキシ基置換ナフチル基、
【００５３】
メチルチオナフチル基、エチルチオナフチル基、ｔ−ブチルチオナフチル基、メチルエチルチオナフチル基、ブチルメチルチオナフチル基等のアルキルチオ基置換ナフチル基、
【００５４】
Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジアミルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジヘキシルアミノナフチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノナフチル基、Ｎ−ブチル−Ｎ−エチルアミノナフチル基、Ｎ−ヘキシル−Ｎ−エチルアミノナフチル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルナフチル基、４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−エチルナフチル基、３−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルナフチル基、２−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）−エチルナフチル基等のアルキルアミノナフチル基が挙げられる。
【００５５】
置換又は未置換のアリール基としては、これらの他、置換又は未置換のｐ−ニトロフェニル基、置換又は未置換のピリジル基、置換又は未置換のピロジリル基、置換又は未置換のピペリジル基、置換又は未置換のモルホリン基、置換又は未置換のテトラヒドロピリジル基、置換又は未置換のチオフェニル基、置換又は未置換のイミダゾリル基、置換又は未置換のフリル基等も挙げられる。
【００５６】
一般式（２）におけるＲ1〜Ｒ8のうち、置換又は未置換のアルコキシ基のうち、未置換のアルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｉｓｏ−ブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｉｓｏ−ペンチルオキシ基、ｉｓｏ−ペンチルオキシ基、ｎｅｏ−ペンチルオキシ基、１，２−ジメチル−プロピルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、シクリヘキシルオキシ基、１，３−ジメチルブチルオキシ基、１−ｉｓｏ−プロピルプロピルオキシ基、１，２−ジメチルブチルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、１，４−ジメチルペンチルオキシ基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルプロピルオキシ基、１−エチル−３−メチルブチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、３−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルブチルオキシ基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルオキシ基、１−ｔ−ブチル−２−メチルプロピルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基等の炭素数１〜２０の直鎖又は分岐のアルコキシ基が挙げられる。
【００５７】
置換アルコキシ基とは、上記の未置換のアルコキシ基の少なくとも１つの水素が種々の官能基に置換されたものである。
例えば、
未置換のアルコキシ基の水素がアルコキシ基に置換されたアルコキシアルコキシ基、
未置換のアルコキシ基の水素がアルコキシアルコキシ基に置換されたアルコキシアルコキシアルコキシ基、
未置換のアルコキシ基の水素がハロンゲンに置換されたハロゲン化アルコキシ基、
未置換のアルコキシ基の水素がアミノ基に置換されたアミノアルコキシ基、
未置換のアルコキシ基の水素がアルキルアミノ基に置換されたアルキルアミノアルコキシ基やジアルキルアミノアルコキシ基等が挙げられる。
【００５８】
アルコキシアルコキシ基としては、メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、ブトキシエトキシ基、３−メトキシプロポピルオキシ基、３−エトキシプロポピルオキシ基、ジメトキシメトキシ基、ジエトキシメトキシ基、ジメトキセトキシ基等が挙げられる。
【００５９】
アルコキシアルコキシアルコキシ基としては、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、ブチルオキシエトキシエトキシ基等が挙げられる。
【００６０】
ハロゲン化アルコキシ基としては、クロロメトキシ基、２，２，２−トリクロロエトキシ基、トリフルオロメトキシ基、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ２−プロピルオキシ基等が挙げられる。
【００６１】
ジアルキルアミノアルコキシ基としては、ジメチルアミノエトキシ基、ジエチルアミノエトキシ基等が挙げられる。
【００６２】
一般式（２）におけるＲ1〜Ｒ8のうち、置換又は未置換のアリールオキシ基の例としては、フェノキシ基、ナフトキシ基、アルキルフェニキシ基等が挙げられる。
【００６３】
一般式（２）におけるＸ-は、陰イオンである。
Ｘ-の例としては、塩素化イオン、臭素化イオン、ヨウ素化イオン、過塩素酸塩イオン、硝酸塩イオン、ベンゼンスルホン酸塩イオン、ｐ−トルエンスルホン酸塩イオン、メチル硫酸塩イオン、エチル硫酸塩イオン、プロピル硫酸塩イオン、テトラフルオロホウ酸塩イオン、テトラフェニルホウ酸塩イオン、ヘキサフルオロリン酸塩イオン、ベンセンスルフィン酸塩イオン、酢酸塩イオン、トリフルオロ酢酸塩イオン、プロピオン酢酸塩イオン、安息香酸塩イオン、シュウ酸塩イオン、コハク酸塩イオン、マロン酸塩イオン、オレイン酸塩イオン、ステアリン酸塩イオン、クエン酸塩イオン、一水素二リン酸塩イオン、二水素一リン酸塩イオン、ペンタクロロスズ酸塩イオン、クロロスルホン酸塩イオン、フルオロスルホン酸塩イオン、トリフルオロメタンスルホン酸塩イオン、ヘキサフリオロヒ酸塩イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸塩イオン、モリブデン酸塩イオン、タングステン酸塩イオン、チタン酸塩イオン、ジルコン酸塩イオン等が挙げられる。
【００６４】
本発明においては、先に述べたようにジイモニウム系化合物として、一般式（３）で表されるものを使用することができる。
【００６５】
【化１２】
2005255804.tif 000013
【００６６】
一般式（３）における、Ｒ9〜Ｒ14は互いに同一もしくは相異なる置換又は未置換のアルキル基であり、具体的には一般式（２）におけるＲ1〜Ｒ8の１つとして先に例示した種々の置換又は未置換のアルキル基を同様に例示することができる。
また、一般式（３）におけるＸ-は、陰イオンであり、これも一般式（２）の場合に例示したものが同様に例示できる。
【００６７】
本発明において用いられるジイモニウム系化合物としては、一般式（２）で表されるものが好ましく、一般式（２）におけるＲ1〜Ｒ8がアルキル基であり、Ｘ-の陰イオンが過塩素酸塩イオン又はヘキサフルオロアンチモン酸塩イオンである化合物が好ましい。
即ち、このような化合物は、近赤外線領域に比べて可視光領域に殆ど吸収を持たず、また、溶媒に対する溶解性が高いので、コーティング剤中の色素濃度を高めることができる。その結果、塗膜、つまり前記コーティング剤から形成される近赤外線吸収層の厚みを薄くすることができるので好ましい。
【００６８】
本発明のコーティング剤中に含まれるジイモニウム系化合物の含有量は、本発明のコーティング剤により形成される近赤外線吸収層が積層されてなる近赤外線吸収積層体を近赤外線吸収フィルターとして使用する場合、当該近赤外線吸収フィルターの厚さや要求される吸収能により決定される。
吸収能を一定とすれば、形成される近赤外線吸収層の膜厚が薄い場合は、コーティング剤中にジイモニウム系化合物を多く添加する必要があり、逆に形成される近赤外線吸収層の膜厚が厚い場合は、コーティング剤中のジイモニウム系化合物の添加量は少なくて良い。即ち、要求される近赤外線吸収能に応じて、コーティング剤中のジイモニウム系化合物の量及び形成される近赤外線吸収層の膜厚を決定することができる。
【００６９】
例えば、ジイモニウム系化合物の添加量は、本発明のコーティング剤により形成される近赤外線吸収層の単位面積１ｍ2当たり、１〜１０００ｍｇが好ましく、より好ましくは５〜５００ｍｇである。
より具体的には、本発明のコーティング剤は、ポリサルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル及びポリエーテルサルホンからなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂１００重量部に対し、ジイモニウム系化合物を０．１〜１０重量部配合することが好ましく、０．５〜５重量部配合することがより好ましい。
ジイモニウム系化合物の配合量が上記範囲未満の場合、所望の近赤外線吸収能を得るためには近赤外線吸収層の膜厚を相当厚くすることが好ましい。一方、ジイモニウム系化合物の配合量が上記範囲を超えると可視光の透過率が低下することがあるので、近赤外線吸収層の膜厚を相当薄くすることが好ましい。
【００７０】
尚、一般式（２）で表されるジイモニウム系化合物は、８５０〜１２００ｎｍの範囲に近赤外線吸収能があり、特に１０００ｎｍ前後の近赤外線吸収が強く、リモコン等に使用される近赤外線の波長の光以外にも、将来使用が見込まれるコンピューター通信の波長の光をも遮断し、この誤作動の防止にも効果が期待できる。
【００７１】
本発明において用いるジチオール金属錯体化合物としては、一般的にジチオール金属錯体化合物と呼ばれるものであれば特に限定はないが、具体的には一般式（４）で表される金属錯体化合物である。
【００７２】
【化１３】
2005255804.tif 000014
【００７３】
一般式（４）中、Ｒ15〜Ｒ18は互いに同一もしくは相異なる水素原子、ハロゲン、シアノ基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換又は未置換のアルキル基、あるいは置換又は未置換のアリール基を表し、かつ、隣り合う２個の置換基が連結基を介して繋がっていてもよい。また、Ｍはニッケル、白金、パラジウム、又は銅の金属である。これら一般式（４）で表されるジチオール金属錯体化合物は、１種類を使用しても２種類以上を使用してもよい。
【００７４】
一般式（４）で表されるジチオールニッケル錯体化合物中、Ｒ15〜Ｒ18で表される置換基について、以下に具体的に記載する。
【００７５】
ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
【００７６】
アシル基の例としては、アセチル基、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基、ペンチルカルボニル基、ヘキシルカルボニル基、ベンゾイル基、ｐ−ｔ−ブチルベンゾイル基等が挙げられる。
【００７７】
アルキルアミノカルボニル基の例としては、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルアミノカルボニル基、ｎ−ペンチルアミノカルボニル基、ｎ−ヘキシルアミノカルボニル基、ｎ−ヘプチルアミノカルボニル基、ｎ−オクチルアミノカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−プロピルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ペンチルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノカルボニル基、ジ−ｎ−ヘプチルアミノカルボニル基、ジ−オクチルアミノカルボニル基等が挙げられる。
【００７８】
アルコキシカルボニル基の例としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉｓｏ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｉｓｏ−ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｉｓｏ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎｅｏ−ペンチルオキシカルボニル基、１，２−ジメチル−プロピルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、１，３−ジメチル−ブチルオキシカルボニル基、１−ｉｓｏ−プロピルプロピルオキシカルボニル基、１，２−ジメチルブチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、１，４−ジメチルペンチロキシカルボニル基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルプロピルオキシカルボニル基、１−エチル−３−メチルブチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、３−メチル−ｉｓｏ−プロピルブチルオキシカルボニル基、２−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルオキシカルボニル基、１−ｔ−ブチル−２−メチルプロピルオキシカルボニル基、ｎ−ノニルオキシカルボニル基等の炭素数２〜２０の直鎖又は分岐のアルキルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【００７９】
アリールオキシカルボニル基の例としては、フェニルオキシカルボニル基、ナフチルオキシカルボニル基、トリオキシカルボニル基、キシリルオキシカルボニル基、クロロフェニルオキシカルボニル基等が挙げられる。
【００８０】
置換又は未置換のアルキル基としては、具体的には一般式（２）におけるＲ1〜Ｒ8の１つとして先に例示した種々の置換又は未置換のアルキル基を同様に例示することができる。
【００８１】
置換又は未置換のアリール基としては、具体的には一般式（２）におけるＲ1〜Ｒ8の１つとして先に例示した種々の置換又は未置換のアリール基を同様に例示することができる。
【００８２】
一般式（４）で表されるチオール金属錯体化合物のＲ15〜Ｒ18で表される置換基で特に好ましいものは、互いに同一もしくは相異なるアルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、ｉｓｏ−プロピルフェニル基、ｔ−ブチルフェニル基、ｔ−ブチルメチルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、プロポキシフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノフェニル基、エチルナフチル基、ジメチルエチルナフチル基、ｉｓｏ−プロピルナフチル基、ｔ−ブチルナフチル基、ｔ−ブチルメチルナフチル基、メトキシナフチル基、エトキシナフチル基、プロポキシナフチル基、メチルチオナフチル基、エチルチオナフチル基、ｔ−ブチルチオナフチル基、メチルエチルチオナフチル基、ブチルメチルチオナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミノナフチル基、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミノナフチル基等の炭素数３〜２０の置換又は未置換のアルキル基、フェニル基或いはナフチル基であり、
また、特に好ましいＭはニッケルである。
【００８３】
これら一般式（４）で表されるジチオール金属錯体化合物は、８００〜９００ｎｍの近赤外線領域で吸収極大を持ち、且つ可視光領域での吸収が小さいという特徴を持つ。そこでジイモニウム系化合物と組み合わせることにより、両者の相乗効果で８００〜１０００ｎｍの近赤外線領域を効率良く吸収遮蔽するので、プラズマディスプレイが発する不要な近赤外線を吸収することができる。
また、ジイモニウム系化合物は、一般に他の色素と混合した場合に、その耐熱性が著しく低下することが知られているが、ジチオール金属錯体化合物との混合においてはジイモニウム系化合物の耐熱性を低下することは少なく、この点においても両者の併用は好ましい。
【００８４】
本発明のコーティング剤中に含まれるジチオール金属錯体化合物の含有量は、本発明のコーティング剤により形成される近赤外線吸収層が積層されてなる近赤外線吸収積層体を近赤外線吸収フィルターとして使用する場合、当該近赤外線吸収フィルターの厚さや要求される吸収能により決定される。
吸収能を一定とすれば、形成される近赤外線吸収層の膜厚が薄い場合は、コーティング剤中にジチオール金属錯体化合物を多く添加する必要があり、逆に形成される近赤外線吸収層の膜厚が厚い場合は、コーティング剤中のジチオール金属錯体化合物の添加量は少なくて良い。即ち、要求される近赤外線吸収能に応じて、コーティング剤中のジチオール金属錯体化合物の量及び形成される近赤外線吸収層の膜厚を決定することができる。
【００８５】
例えば、ジチオール金属錯体化合物の添加量は、本発明のコーティング剤により形成される近赤外線吸収層の単位面積１ｍ2当たり、１〜１０００ｍｇが好ましく、より好ましくは５〜５００ｍｇである。
より具体的には、本発明のコーティング剤は、ポリサルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル及びポリエーテルサルホンからなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂１００重量部に対し、ジチオール金属錯体化合物を０．０５〜１０重量部配合することが好ましく、０．２〜５重量部配合することがより好ましい。
ジチオール金属錯体化合物の配合量が上記範囲未満の場合、所望の近赤外線吸収能を得るためには近赤外線吸収層の膜厚を相当厚くすることが好ましい。一方、ジチオール金属錯体化合物の配合量が上記範囲を超えると可視光の透過率が低下することがあるので、近赤外線吸収層の膜厚を相当薄くすることが好ましい。
【００８６】
また、一般式（２）や一般式（３）で表されるジイモニウム系化合物と一般式（４）で表されるジチオール金属錯体化合物との配合比は、５：１〜１：１（重量比）とすると、近赤外線領域の波長を効率良く吸収するので好ましい。
【００８７】
また、本発明のコーティング剤には、ジイモニウム系化合物やジチオール金属錯体化合物の安定性を低下させない範囲で、他の近赤外線吸収化合物を添加することもできる。かかる、近赤外線吸収化合物としては、シアニン（ポリメチン）系、アズレニウム系、スクアリリウム系、クロコニウム系、オキサジン系、アジン系、トリスアゾトリフェニルアミン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系、ナフトキノン系、アントラキノン系、トリフェニル（アリール）メタン系、インドアニリン系、アミニウム系等の近赤外線吸収色素の他、金属銅あるいは硫化銅等の銅塩、酸化亜鉛を主成分とする金属混合物、タングステン化合物、ＹｂＰＯ４、ＩＴＯ（錫ドープ酸化インジウム）、ＡＴＯ（錫ドープ酸化アンチモン）等の微粒子を含む、周期律表の４，５又は６族に属する金属の酸化物、炭化物、ホウ化物等の微粒子も添加できる。これらの平均粒径は１μｍ以下、好ましくは０．２μｍ以下、更に好ましくは０．１μｍであり、これらは単独で加えることもできるし、２種類以上を併用することもできる。
【００８８】
本発明のコーティング剤には、色調補正用色素を用いて色調を調節することも可能である。このような色調補正用色素としては、長時間安定であり後述の溶媒やポリサルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルホンに可溶で、可視光吸収領域が狭くそれ以外の波長での透過率が高い物が好ましい。色調補正用色素としては、シアニン（ポリメチン）系、キノン系、アゾ系、インジゴ系、ポリエン系、スピロ系、ポルフィリン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系等の色素が挙げられるがこれに限られたものではない。
【００８９】
また、本発明のコーティング剤は、紫外線吸収剤、可塑剤、架橋剤、酸化防止剤、重合遅延剤、光安定剤（ＨＡＬＳ）等もさらに含有することができる。
【００９０】
本発明のコーティング剤を製造するには、ジイモニウム系化合物、及び必要に応じて使用されるジチオール金属錯体化合物を、ポリサルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル及びポリエーテルサルホンからなる群より選ばれる少なくとも１種の樹脂に添加するだけでよく、その手段に特に制限はないが、上記樹脂を溶解する溶媒を用いて樹脂溶液を得、ジイモニウム系化合物、及び必要に応じて使用されるジチオール金属錯体化合物を該樹脂溶液に添加し、溶解することが好ましい。
【００９１】
本発明のコーティング剤に含まれる溶媒としては、ポリサルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルホンを溶解するものが使用できる。
例えば、塩素系溶媒（クロロホルム、ジクロロメタン、トリクロロメタン、塩化メチレン等）、エーテル系溶媒（テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン等）、非プロトン性溶媒（Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等）等、又はこれらの混合溶媒を挙げることができる。
しかしながら、背景技術の項でも述べたように、塩素系溶媒は毒性や環境負荷等の問題がある。一方、非プロトン性溶媒は、上記のような問題が生じないとはいうものの、比較的高沸点のものが多いので、乾燥しにくく、乾燥条件によっては塗膜中、即ち近赤外線吸収層中に残留溶剤として残り易い。そして、この残留溶剤は、ジイモニウム系化合物を経時にて分解するという問題がある。
非プロトン性高沸点溶媒の残留溶剤を残さないようにするために高温乾燥させる方法もあるが、乾燥時点でジイモニウムの劣化が起き好ましくはない。また、低温にて減圧乾燥する方法もあるが、ジイモニウムの劣化は少なくなるものの、減圧装置等乾燥装置が煩雑になり、また生産性が落ちるという問題がある。
【００９２】
これに対し、エーテル系溶媒にはこのような問題がなく、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂を用いる場合のように、コーティング剤が経時で固化することもなく流動性が保たれるので、エーテル系溶媒が好ましい。
エーテル系溶媒に溶解する樹脂としては、ポリサルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド等がある。
【００９３】
上述のコーティング剤から形成される近赤外線吸収層を基材に積層することによって、本発明の近赤外線吸収積層体を得ることができる。
具体的には上述のコーティング剤を種々の方法で平たい状態の基材の少なくとも一方の面に塗布し、乾燥し、コーティング剤中の溶剤を除去することによって、近赤外線吸収層を基材上に形成し、本発明の近赤外線吸収積層体を得ることができる。
【００９４】
本発明のコーティング剤を基材に塗工する方法としては、バーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースコーティング、ダイティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、リップコーティング、エアーナイフコーティング、ディッピング法などにより塗布し、タックフリーになるように加熱乾燥し、近赤外線吸収積層体を得ることができる。
【００９５】
本発明でいう基材としては、プラスチックフィルム、ガラスが挙げられるが、透明性が高いことはもちろんのこと、コスト、取り扱いやすさという点で、プラスチックフィルムが好ましい。具体的には、ポリエステル系、アクリル系、トリアセチルセルロース系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系、ポリオレフィン系、ポリシクロオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリカーボネート系、フェノール系、ウレタン系樹脂等から形成されたフィルムが挙げられ、物理的特性、光学特性、耐薬品性、環境負荷等の点からポリエステル系フィルムが好ましい。より具体的にはポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、ＰＥＴフィルムともいう）が好ましい。
基材としては、ポリエステル系フィルムに、更にアクリル系樹脂、共重合ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、スチレン−マレイン酸グラフトポリエステル樹脂、アクリルグラフトポリエステル樹脂等の樹脂層を設けたいわゆる易接着タイプのフィルムも用いることができる。
【００９６】
本発明においては、上述のプラスチックフィルムに更に紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層、耐衝撃層等種々の機能付与層を少なくとも１層積層してなるものを基材として使用することもできる。
あるいは、上述のプラスチックフィルムとプラスチックフィルムの間に紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層等を設けてなるフィルムも基材として用いることができる。例えば、種々の機能を有する粘着剤や接着剤を用いて、複数のプラスチックフィルムを貼り合わせることによって、このような多層プラスチックフィルムを得ることができる。
【００９７】
本発明のコーティング剤を、予めプラスチックフィルムに紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層、耐衝撃層、を設けた機能性の基材に塗布する場合、前記各層の層間又は層上に設けることができる。また、電磁波吸収層が後述するようなメッシュ形状である場合、メッシュの開口部に塗布することにより設けても良い。
【００９８】
紫外線吸収層としては、４００ｎｍ以下の波長の紫外線を効率よく吸収できるものであり、３５０ｎｍの波長を８０％以上吸収できるものが好ましい。紫外線吸収層は特に制限されないが、紫外線吸収剤を樹脂中に添加し、コーティング法、カレンダー法、キャスト法等によりプラスチックフィルムに成膜するのが好ましい。
樹脂としては、透明な高分子樹脂でプラスチックフィルムに接着すれば特に限定はなく、共重合ポリエステル、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、アモルファスポリオレフィン、シクロオレフィン、ポリウレタン、ポリアリレート、トリアセチルセルロース等の樹脂のほか、本発明のコーティング剤で使用したポリサルホン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルホン等の非晶性エンジニアプラスチック樹脂も使用できる。
紫外線吸収剤としては、無機系あるいは有機系のいずれも使用できるが、有機系の紫外線吸収剤が実用的である。有機系の紫外線吸収剤としては、３００〜４００ｎｍの間に極大吸収を有し、その領域の光を効率よく吸収ものであり、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、オギザリックアシッドアニリド系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤等が挙げられる。これらは、単独で用いてもよいが、数種類組み合わせて用いることがより好ましい。また、上記紫外線吸収剤とヒンダードアミン系光安定剤、あるいは酸化防止剤をブレンドすることで安定化が向上できる。また、紫外線吸収剤を含有する（練り込み等）プラスチックフィルムを基材として使用することで、紫外線吸収剤層の代替とすることもできる。
【００９９】
電磁波吸収層は、プラズマディスプレイからでる電磁波を遮断するものであり、それらの作成方法は特に制限を受けない。例えば、電磁波吸収層は、透明な導電フィルムであり、プラスチックフィルムに金属、金属酸化物、金属塩等の薄膜を蒸着したものが好ましく用いられる。導電フィルムの面抵抗が低いほど、電磁波の吸収能は高いが、逆に蒸着層が厚くなると可視光透過率は低下する。また、スクリーン印刷等で導電性の塗料をメッシュ状に印刷したものや、プラスチックフィルムに導電性金属を張り合わせこれをエッチング等により導電性金属をメッシュ状に形成したものも使用できる。
【０１００】
傷つき防止層は、プラズマディスプレイの表面の傷つきを防止するものであり、紫外線硬化型、電子線硬化型、熱硬化型等の樹脂を用いることができるが、それらの作成方法は特に制限を受けない。例えば、種々の（メタ）アクリレート類、光重合開始剤及び必要に応じて有機溶剤を主成分とするコート剤により形成することができる。種々の（メタ）アクリレート類としては、ポリウレタン（メタ）アクリレートやエポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート、あるいは他の多官能（メタ）アクリレート類を好適に使用することができる。
【０１０１】
エポキシ（メタ）アクリレートは、エポキシ樹脂のエポキシ基を（メタ）アクリル酸でエステル化し官能基を（メタ）アクリロイル基としたものであり、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂への（メタ）アクリル酸付加物、ノボラック型エポキシ樹脂への（メタ）アクリル酸付加物等がある。
【０１０２】
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、ポリオールとポリイソシアネートとをイソシアネート基過剰の条件下に反応させてなるイソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを、水酸基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得ることができる。あるいは、ポリオールとポリイソシアネートとを水酸基過剰の条件下に反応させてなる水酸基含有ウレタンプレポリマーを、イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得ることもできる。
ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサントリオール、トリメリロールプロパン、ポリテトラメチレングリコール、アジピン酸とエチレングリコールとの縮重合物等が挙げられる。
ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。
水酸基をもつ（メタ）アクリレート類としては、２−ヒドロキシエチルアクリレート，２−ヒドロキシプロピルアクリテート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等が挙げられる。
イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート類としては、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタクリロイルイソシアネート等が挙げられる。
【０１０３】
その他の多官能の（メタ）アクリレート類は、分子内に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有するものであり、分子内に３個以上のアクリロイル基を有するものが好ましい。具体的にはトリメチロールプロパントリアクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、プロピレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（アクリロイルキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロイルキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、及びこれら２種以上の混合物が挙げられる。
【０１０４】
光重合開始剤としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、ゲンジルジメチルケタール、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾインジフェニルホスフィンオキシド、ミヒラーズケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、２−クロロチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられ、これらの光重合開始剤は２種以上を適宜併用することもできる。
【０１０５】
傷つき防止層形成用コート剤に用いられる有機溶剤としては、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸−ｉｓｏ−プロピル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸−ｉｓｏ−ブチル等のエステル類、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉｓｏ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンシクロヘキサノン等のケトン類、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキエタノール、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル等のエーテル類、２−メトキシエチルアセタート、２−エトキシエチルアセタート、２−ブトキシエチルアセタート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等のエーテルエステル類が挙げられ、またこれらの２種以上を混合して使用することもできる。
【０１０６】
また、上記成分の他、耐摩耗性向上のため、コロイド状金属酸化物、あるいは有機溶剤を分散媒としたシリカゾル等を加えることもできる。傷つき防止層は、上記コート剤の塗工液をバーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースコーティング、ダイティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、リップコーティング、エアーナイフコーティング、ディッピング法等の塗工方法で塗工した後、溶剤を乾燥させ、更に活性エネルギー線を照射することにより塗工したコート剤を架橋硬化せしめることによって形成される。前記活性エネルギー線としては、キセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等の光源から発せられる紫外線あるいは、通常２０〜２０００ＫｅＶの電子線加速器から取り出される電子線、α線、β線、γ線等を用いることができる。このようにして形成される傷つき防止層は、通常１〜５０μｍ、好ましくは３〜２０μｍの厚みとする。
【０１０７】
反射防止層は、表面反射を防ぎ、可視光線透過率を上げると同時にギラツキを防止するものであり、形成方法に任意の加工方法選択することができ特に制限はない。外光を乱反射させることにより視感反射率を低減させる方法、例えばプラスチックフィルムの片面に二酸化ケイ素、アクリル、メラミン等の微粒子を塗料化してコーティングすることにより光の乱反射が生じる反射防止膜を形成する方法、またはプラスチックフィルムの片面に硬化膜を形成し、その上にフッ化マグネシウム層を蒸着法により反射防止層を形成する方法、もしくはプラスチックフィルムの片面または両面に薄膜の低屈折率層、または屈折率の異なる多層薄膜を形成し薄膜の表面反射光と界面における屈折反射光との光の干渉により反射率を低減する方法等が一般的である。
【０１０８】
また、特にプラズマディスプレイ、ＣＲＴ、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような蛍光体を用いる表示装置では、塗布した蛍光体に電子線や紫外線を照射して、蛍光体を発光させ、蛍光面を透過あるいは反射した光により表示を行う。蛍光体は一般に白色で反射率が高いため、蛍光面での外部光の反射が多い。そのため、外部光の写り込みによる表示コントラストの低下問題は、蛍光体を用いる表示装置において、特に深刻である。蛍光面での反射を防止することは技術的に難しい。そこで、蛍光体を用いる表示装置では、更に別の対策として反射光を吸収するために、ニュートラルグレーのフィルターをディスプレイ前面に設置することが行われる。ニュートラルグレーのフィルターは、ＮＤフィルターとも呼ばれ、その透過率は一般に４０〜８０％である。
【０１０９】
また、表示色の色バランスを補正するため、色調整フィルターをディスプレイ前面に設置することが行われている。以上のように、プラズマディスプレイ表示装置では、表示のコントラストを改善したり表示品位を向上させる目的で色調整フィルター、ニュートラルグレーのフィルター等色調補正フィルターをディスプレイ前面に設置することが多い。特に色調整を主目的とした、色調補正フィルターは重要である。この色調補正フィルターはプラスチックフィルムに色調補正層を積層して形成される。
【０１１０】
かかる色調補正層としては、色調補正用色素を樹脂中に添加し、コーティング法、カレンダー法、キャスト法等によりプラスチックフィルムに成膜するのが好ましい。樹脂としては、透明な高分子樹脂でプラスチックフィルムに接着すれば特に限定はなく、紫外線吸収層で記載している樹脂が使用できる。色調補正用色素としては、シアニン（ポリメチン）系、キノン系、アゾ系、インジゴ系、ポリエン系、スピロ系、ポルフィリン系、フタロシアニン系、ナフタロシアニン系等の色素が挙げられるがこれに限られたものではない。
【０１１１】
本発明の近赤外線吸収積層体は、近赤外線吸収層を設けた後に、紫外線吸収層、電磁波吸収層、傷つき防止層、反射防止層、色調補正層、放熱層及び耐衝撃層からなる群より選ばれる少なくとも１つの層をさらに積層することができる。
即ち、近赤外線吸収層上に上記種々の機能を有する層をさらに積層することもできるし、基材上、即ち近赤外線吸収層とは反対の面に上記種々の機能層を設けることもできる。近赤外線吸収層とは反対の面に種々の機能層を設ける場合、プラスチックフィルム上に種々の機能層を設けることもできるし、近赤外線吸収層を設ける際に種々の機能層を既に設けたものを基材として用いた場合、既積層機能層上にさらに種々の機能層を形成することもできる。
【実施例】
【０１１２】
以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら具体例のみに限定されるものではない。なお、例中［部］とあるのは［重量部］を示す。
［実施例１］
１，３−ジオキソラン１００部に、ポリサルホン樹脂［商品名ＵＤＥＬ  Ｐ−３７０３（ソルベイアドバンスポリマーズ株式会社製）］２５部を溶解し、固形分２０重量％の樹脂溶液を得た。
これに、下記式（１０）で表されるジイモニウム系化合物［商品名ＣＩＲ−１０８１（日本カーリット株式会社製）０．５部、及び下記式（１１）で表されるジチオール金属錯体化合物［商品名ＭＩＲ−１０１（みどり化学株式会社製）］０．２５部を加え溶解し、液温２５℃での粘度１８０ｍＰａ・ｓの近赤外線吸収コーティング剤（Ａ）を調製し、以下のようにしてコーティング剤としの経時安定性を評価した。
このコーティング剤（Ａ）を厚さ１００μｍの易接着ＰＥＴフィルム［商品名Ａ４３００（東洋紡績株式会社製）］にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１３μｍの近赤外線吸収積層体（１）を得、以下のようにして耐熱性を評価した。
【０１１３】
【化１４】
2005255804.tif 000015
【０１１４】
【化１５】
2005255804.tif 000016
【０１１５】
［経時安定性評価］
近赤外線吸収コーティング剤（Ａ）の一部を、恒温槽中に２０℃で４日静置した後の、液温２５℃での粘度を測定した結果を表１に表す。
【０１１６】
［耐熱性評価］
得られた近赤外線吸収積層体（１）を、分光光度計（日本分光株式会社製、Ｖ−５７０型）にて８５０ｎｍと９５０ｎｍの各波長での透過率（％）を測定した（試験前の透過率）。
次いで得られた近赤外線吸収積層体（１）を恒温槽中に８０℃で５００時間静置した後の透過率（％）を上記と同様に測定した（試験後の透過率）。結果を表１に表す。
【０１１７】
［実施例２］
１，３−ジオキソラン１００部に、ポリサルホン樹脂［商品名ＵＤＥＬ  Ｐ−３７０３（ソルベイアドバンスポリマーズ株式会社製）］２５部を溶解し、固形分２０重量％の樹脂溶液を得た。
これに、式（１０）で表されるジイモニウム系化合物［商品名ＣＩＲ−１０８１（日本カーリット株式会社製）０．５部、式（１１）で表されるジチオール金属錯体化合物［商品名ＭＩＲ−１０１（みどり化学株式会社製）］０．１３部、及び下記式（１２）で表されるジチオール金属錯体化合物［商品名ＭＩＲ−１０３（みどり化学株式会社製）］０．２５部を加え溶解し、液温２５℃での粘度１９０ｍＰａ・ｓの近赤外線吸収コーティング剤（Ｂ）を調製した。
このコーティング剤（Ｂ）を厚さ１００μｍの易接着ＰＥＴフィルム［商品名Ａ４３００（東洋紡績株式会社製）］にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１３μｍの近赤外線吸収積層体（２）を得た。
得られたコーティング剤（Ｂ）及び近赤外線吸収積層体（２）に関し、実施例１と同様に経時安定性及び耐熱性を評価した。その結果を表１に表す。
【０１１８】
【化１６】
2005255804.tif 000017
【０１１９】
［実施例３］
１，３−ジオキソラン１００部に、ポリエーテルイミド樹脂［商品名ウルテム１００（日本ＧＥプラスチックス株式会社製）］２５部を溶解し、固形分２０重量％の樹脂溶液を得た。
これに、式（１０）で表されるジイモニウム系化合物［商品名ＣＩＲ−１０８１（日本カーリット株式会社製）］０．５部、及び式（１１）で表されるジチオール金属錯体化合物［商品名ＭＩＲ−１０１（みどり化学株式会社製）］０．２５部、加え溶解し、液温２５℃での粘度９６０ｍＰａ・ｓの近赤外線吸収コーティング剤（Ｃ）を調製した。
このコーティング剤（Ｃ）を厚さ１００μｍの易接着ＰＥＴフィルム［商品名Ａ４３００（東洋紡績株式会社製）］にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１３μｍの近赤外線吸収積層体（３）を得た。
得られたコーティング剤（Ｃ）及び近赤外線吸収積層体（３）に関し、実施例１と同様に経時安定性及び耐熱性を評価した。その結果を表１に表す。
【０１２０】
［比較例１］
１，３−ジオキソラン１００部に、ポリアリレート樹脂［商品名Ｕ−１００（ユニチカ株式会社製）］１７．６部を溶解し、固形分１５重量％の白濁した樹脂溶液を得た。
これに、式（１０）で表されるジイモニウム系化合物［商品名ＣＩＲ−１０８１（日本カーリット株式会社製）０．３８部、及び式（１１）で表されるジチオール金属錯体化合物［商品名ＭＩＲ−１０１（みどり化学株式会社製）］０．１９部、加え溶解し、液温２５℃での粘度１２２０ｍＰａ・ｓの近赤外線吸収コーティング剤（Ｄ）を調製した。
このコーティング剤（Ｄ）を厚さ１００μｍの易接着ＰＥＴフィルム［商品名Ａ４３００（東洋紡績株式会社製）］にバーコーターを用いて塗工し、１００℃で１分乾燥させ、塗膜厚１４μｍの近赤外線吸収積層体（４）を得た。
得られたコーティング剤（Ｄ）及び近赤外線吸収積層体（４）に関し、実施例１と同様に経時安定性及び耐熱性を評価した。その結果を表１に表す。
【０１２１】
【表１】
2005255804.tif 000018
【０１２２】
表１から、実施例１〜３で得られた近赤外線吸収積層体は、試験前の透過率と試験後の透過率の差が小さく耐熱性に優れていることがわかる。且つ、コーティング剤の経時での粘度の変化が小さく経時安定性に優れている。
それに対して、比較例１で得られた近赤外線吸収積層体は、試験前の透過率と試験後の透過率の差が小さく耐熱性に優れてはいるが、コーティング剤が経時にて固化し経時安定性に劣っていることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１２３】
本発明によって、環境上使用回避が望まれる塩素系溶媒や、ジイモニウム系化合物を分解する原因となる非プロトン性溶媒ではなく、ジイモニウム系化合物に影響を及ぼさないエーテル系溶剤を使用しても、経時にて固化することのない経時安定性に優れるコーティング剤を得ることができる。