(57)【要約】【課題】  オフセットラインのデータを変更することでオフセットラインの自己交差又は相互交差を解消して、刺繍データの作成を簡単化することができる刺繍データ作成装置及び刺繍データ作成プログラムを提供する。【解決手段】  刺繍領域を規定する輪郭線を、オフセット幅だけ内側へオフセットさせたオフセットラインのデータを作成し(Ｓ１０,Ｓ１１)、オフセットラインが自己交差する場合は(Ｓ１２；Yes)、自己交差点を検出し(Ｓ１３)、自己交差点に最も近いオフセット点を検出し(Ｓ１４)、そのオフセット点を頂点方向へ移動させ(Ｓ１５)、新たなオフセット点に基づいて、自己交差点部分と近傍部分のオフセット幅が減少されたオフセットラインのデータを生成して(Ｓ１１)、オフセットラインのデータを変更する。この後、自己交差が検出されなくなるまでＳ１１〜Ｓ１５が繰り返されてオフセットラインの自己交差が解消される。【選択図】  図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
刺繍領域を規定する輪郭線のデータに基づいて、前記輪郭線を設定されたオフセット幅だけ刺繍領域内側へオフセットさせたオフセットラインのデータを生成するオフセットライン生成手段を備えた刺繍データ作成装置において、
前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインの自己交差を検出する自己交差検出手段と、
前記自己交差検出手段により自己交差が検出された場合に、その自己交差を解消するように前記オフセットライン生成手段が生成したオフセットラインのデータを変更するオフセットライン変更手段と、
を備えたことを特徴とする刺繍データ作成装置。
【請求項２】
前記オフセットライン変更手段は、前記自己交差検出手段により検出された自己交差を解消するように前記オフセットラインの少なくとも一部の前記オフセット幅を減少させ、この減少させたオフセット幅を用いてオフセットラインを変更することを特徴とする請求項１に記載の刺繍データ作成装置。
【請求項３】
前記オフセットライン変更手段は、前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインが自己交差する部分とその近傍部分の前記オフセット幅のみを減少させることによってオフセットラインのデータを変更することを特徴とする請求項１又は２に記載の刺繍データ作成装置。
【請求項４】
前記オフセットライン変更手段は、前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットライン全体に亙って前記オフセット幅を減少させることによってオフセットラインのデータを変更することを特徴とする請求項１又は２に記載の刺繍データ作成装置。
【請求項５】
前記オフセットライン変更手段は、前記オフセット幅を所定量だけ減少させることによって前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインのデータを変更することを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の刺繍データ作成装置。
【請求項６】
前記オフセットライン変更手段は、前記オフセット幅を所定割合だけ減少させることによって前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインのデータを変更することを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の刺繍データ作成装置。
【請求項７】
前記オフセットライン変更手段は、前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインが自己交差する部分とその近傍部分のオフセットラインの形状を変形させることによってオフセットラインのデータを変更することを特徴とする請求項１に記載の刺繍データ作成装置。
【請求項８】
前記オフセットライン変更手段が変更したオフセットラインのデータに基づいて、刺繍データに含まれる下縫いデータと内部走り縫いデータとアップリケ関連縫いデータのうちの少なくとも１つのデータを作成することを特徴とする請求項１〜７の何れかに記載の刺繍データ作成装置。
【請求項９】
刺繍領域を規定する輪郭線のデータに基づいて、前記輪郭線を設定されたオフセット幅だけ刺繍領域内側へオフセットさせたオフセットラインのデータを生成するオフセットライン生成手段を備えた刺繍データ作成装置において、
前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインと前記輪郭線との相互交差を検出する相互交差検出手段と、
前記相互交差検出手段により相互交差が検出された場合に、その相互交差を解消するように前記オフセットライン生成手段が生成したオフセットラインのデータを変更するオフセットライン変更手段と、
を備えたことを特徴とする刺繍データ作成装置。
【請求項１０】
前記オフセットライン変更手段は、前記相互交差検出手段により検出された相互交差を解消するように前記オフセットラインの少なくとも一部の前記オフセット幅を減少させ、この減少させたオフセット幅を用いてオフセットラインを変更することを特徴とする請求項９に記載の刺繍データ作成装置。
【請求項１１】
前記オフセットライン変更手段は、前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインが前記輪郭線と相互交差する部分とその近傍部分の前記オフセット幅のみを減少させることによってオフセットラインのデータを変更することを特徴とする請求項９又は１０の何れかに記載の刺繍データ作成装置。
【請求項１２】
前記オフセットライン変更手段は、前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットライン全体に亙ってオフセット幅を減少させることによってオフセットラインのデータを変更することを特徴とする請求項９又は１０の何れかに記載の刺繍データ作成装置。
【請求項１３】
前記オフセットライン変更手段は、前記オフセット幅を所定量だけ減少させることによって前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインのデータを変更することを特徴とする請求項９〜１２に記載の刺繍データ作成装置。
【請求項１４】
前記オフセットライン変更手段は、前記オフセット幅を所定割合だけ減少させることによって前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインのデータを変更することを特徴とする請求項９〜１２に記載の刺繍データ作成装置。
【請求項１５】
前記オフセットライン変更手段は、前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインが前記輪郭線と相互交差する部分の近傍のオフセットラインの形状を変形させることによりオフセットラインのデータを変更することを特徴とする請求項９に記載の刺繍データ作成装置。
【請求項１６】
前記オフセットライン変更手段が変更したオフセットラインのデータに基づいて、刺繍データのうちの内部走り縫いデータが作成されることを特徴とする請求項９〜１５の何れかに記載の刺繍データ作成装置。
【請求項１７】
刺繍領域を規定する輪郭線のデータに基づいて、前記輪郭線を設定されたオフセット幅だけ刺繍領域内側へオフセットさせたオフセットラインのデータを作成するオフセットラインデータ生成手段を備えた刺繍データ作成装置のコンピュータに実行させるための刺繍データ作成プログラムにおいて、
前記オフセットラインの自己交差を検出する第１ルーチンと、
前記第１ルーチンにより自己交差が検出された場合に、その自己交差を解消するように前記オフセットラインを変更する第２ルーチンと、
を含むプログラムを有することを特徴とする刺繍データ作成プログラム。
【請求項１８】
前記第２ルーチンは、前記オフセットラインの少なくとも一部の前記オフセット幅を所定幅減少させ、この減少させたオフセット幅を用いてオフセットラインを変更するルーチンであることを特徴とする請求項１７に記載の刺繍データ作成プログラム。
【請求項１９】
前記第１及び第２ルーチンを前記自己交差が解消されるまで複数回繰り返させる第３ルーチンを更に含むことを特徴とする請求項１８に記載の刺繍データ作成プログラム。
【請求項２０】
刺繍領域を規定する輪郭線のデータに基づいて、前記輪郭線を設定されたオフセット幅だけ刺繍領域内側へオフセットさせたオフセットラインのデータを作成するオフセットラインデータ生成手段を備えた刺繍データ作成装置のコンピュータに実行させるための刺繍データ作成プログラムにおいて、
前記オフセットラインと前記輪郭線との相互交差を検出する第１ルーチンと、
前記第１ルーチンにより相互交差が検出された場合に、その相互交差を解消するように前記オフセットラインを変更する第２ルーチンと、
を含むプログラムを有することを特徴とする刺繍データ作成プログラム。
【請求項２１】
前記第２ルーチンは、前記オフセットラインの少なくとも一部の前記オフセット幅を所定幅減少させ、この減少させたオフセット幅を用いてオフセットラインを変更するルーチンであることを特徴とする請求項２０に記載の刺繍データ作成プログラム。
【請求項２２】
前記第１ルーチン及び第２ルーチンを前記相互交差が解消されるまで複数回繰り返させる第３ルーチンを更に含むことを特徴とする請求項２１に記載の刺繍データ作成プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は刺繍データ作成装置及び刺繍データ作成プログラムに関し、特に、刺繍領域を規定する輪郭線を刺繍領域の内側へオフセットさせたオフセットラインデータを作成可能な刺繍データ作成装置及び刺繍データ作成プログラムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、輪郭線の内側を本縫いの縫目で埋めて刺繍を施す場合、本縫いが施された縫目に立体感を出したり、本縫いする場合の加工布の縮みを防止し、縫製品質を向上させる為に、その本縫いの縫目の下に本縫いよりも粗い下縫いを縫製する場合がある。一般に、この下縫いは、刺繍データ作成装置により刺繍領域を規定する輪郭線を、設定されたオフセット幅(例えば、１ｍｍ)内側へオフセットさせたオフセットラインのデータを作成し、そのオフセットライン上に複数の下縫い点を作成し、これら下縫い点を順々にジグザグ状に結んだ下縫いデータに基づいて下縫いが縫製される。
【０００３】
また、刺繍領域の内部を縫い順に従って移動するために行われる内部走り縫いを、刺繍縫製の本縫いの糸密度が粗い場合にも目立たなくする為に輪郭線近傍に形成されるオフセットライン上に縫製することもある。更に、アップリケ縫いにおいては、アップリケ布片を加工布に縫製する場合に、アップリケ布片の外形の内側にオフセットラインのデータを作成し、このオフセットラインのデータに基づいてアップリケ布片を縫製する場合がある。
【０００４】
しかし、オフセットラインは刺繍領域を規定する輪郭線からオフセット幅だけ内側にオフセットさせて作成されるため、刺繍領域の形状によっては相互に対向する２本の輪郭線が非常に接近することもあり、このような場合には、一連のオフセットラインの一部がそのオフセットラインの他の部分と交差する自己交差や、オフセットラインと輪郭線とが交差する相互交差などが生じるようになり、このようなオフセットラインのデータに基づいて下縫いや内部走り縫いやアップリケ関連縫いなどの縫製品質を向上させることは困難である。
【０００５】
そこで、特許文献１には、オフセットラインが自己交差していても下縫いデータを作成可能な刺繍ミシンの刺繍データ処理装置が開示されている。この刺繍データ処理装置においては、作成されたオフセットラインが自己交差している場合には、自己交差点を境界として下縫い領域をオフセットラインによって囲まれた複数の部分下縫い領域に分割する。更に、夫々の部分下縫い領域においてオフセット点が輪郭線よりも内側に有るか否かを判断し、オフセット点が１つでも輪郭線よりも外側に有る部分下縫い領域については、補助部分下縫いデータが作成される。一方、全てのオフセット点が輪郭線よりも内側に有る下縫い領域については、通常の方法で部分下縫いデータが作成され、通常の部分下縫いデータの夫々を自己交差点と補助下縫いデータを介して連結した下縫いデータが作成される。
【０００６】
上述した補助部分下縫データを作成する場合、２つの自己交差点間にあるオフセット点とそのオフセット点に対応する輪郭線の頂点とを連結した直線を延長し、その直線と輪郭線とが交差する交点を求め、その交点と輪郭線の頂点との中点を求め、自己交差点と全ての中点と順番に連結した内部走り縫いデータが作成され、この内部走り縫いデータが補助下縫いデータとして用いられる。
【特許文献１】特開平１０−１７９９６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、特許文献１に記載の刺繍データ処理装置においては、オフセットラインの自己交差を解消するのではなく、自己交差点を境界として複数の部分下縫い領域に分割し、その下縫い領域の夫々に部分下縫データを作成しなければならず、演算制御が非常に複雑化する。特に、自己交差点間の補助部分下縫いデータを作成する場合には、オフセット点と頂点との直線、その直線と輪郭線との交点、その交点と頂点との中点を求めるなどの非常に複雑な演算制御が必要となる。この技術を内部走り縫いやアップリケ縫いデータのためのオフセットラインを作成する場合にも、同様に演算制御が複雑化する。
【０００８】
また、補助部分下縫いは略直線状の走り縫いであるため、補助部分下縫いされた領域の加工布の強度が低下し、本縫いを行うに際して加工布が縮み、縫製品質が低下したり、この刺繍領域における刺繍模様の立体感を効果的に発揮できないといった問題がある。この技術を内部走り縫いデータの作成に適用した場合、最初と最後の両方の内部走り縫いが上述した補助部分下縫い部分に重ねて縫製される場合もあり、本縫いしたにも関わらず内部走り縫いが目立つようになり、縫製品質が低下するといった問題がある。更に、この技術を、所望の形状に切断されたアップリケ布片を、アップリケ布片の輪郭線から所定幅内側へオフセットさせたオフセットライン上に沿って縫製するアップリケ縫いデータを作成する場合に適用すると、アップリケ布片の幅が狭い領域において、上述のような補助部分下縫いのデータが作成され、その補助部分下縫いデータを用いてアップリケ縫いを行うと、幅の狭い領域の相互に対向する２つの縫製部分のアップリケ縫いが重なって縫製されることになり、縫製品質が劣化するといった問題がある。
【０００９】
本発明の目的は、オフセットラインのデータを変更することでオフセットラインの自己交差又はオフセットラインと輪郭線との相互交差を解消して、刺繍データの作成の為の演算制御を簡単化することができる刺繍データ作成装置及び刺繍データ作成プログラムを提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１の発明は、刺繍領域を規定する輪郭線のデータに基づいて、前記輪郭線を設定されたオフセット幅だけ刺繍領域内側へオフセットさせたオフセットラインのデータを生成するオフセットライン生成手段を備えた刺繍データ作成装置において、前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインの自己交差を検出する自己交差検出手段と、前記自己交差検出手段により自己交差が検出された場合に、その自己交差を解消するように前記オフセットライン生成手段が生成したオフセットラインのデータを変更するオフセットライン変更手段とを備えたことを特徴とするものである。
【００１１】
この刺繍データ作成装置によれば、オフセットライン生成手段により、刺繍領域を規定する輪郭線のデータに基づいて、その輪郭線から設定されたオフセット幅だけ刺繍領域内側へオフセットされたオフセットラインのデータが生成され、その生成された一連のオフセットラインの一部が、自己交差検出手段によりオフセットラインの他の部分と交差する自己交差の有無が検出され、自己交差が検出された場合には、オフセットライン変更手段により自己交差が解消するようにオフセットライン生成手段で生成されたオフセットラインのデータが変更され、このように自己交差が解消されたオフセットラインのデータに基づいて刺繍データが作成される。
【００１２】
請求項２の発明は、請求項１の発明において、前記オフセットライン変更手段は、前記自己交差検出手段により検出された自己交差を解消するように前記オフセットラインの少なくとも一部の前記オフセット幅を減少させ、この減少させたオフセット幅を用いてオフセットラインを変更することを特徴するものである。
【００１３】
この刺繍データ作成装置によれば、オフセットライン変更手段により、オフセットラインの少なくとも一部のオフセット幅が減少され、そのオフセット幅を用いてオフセットラインが変更されて、自己交差検出手段により検出されたオフセットラインの自己交差が解消される。
【００１４】
請求項３の発明は、請求項１又は２の発明において、前記オフセットライン変更手段は、前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインが自己交差する部分とその近傍部分の前記オフセット幅のみを減少させることによってオフセットラインのデータを変更することを特徴とするものである。この刺繍データ作成装置によれば、オフセットライン変更手段によってオフセットラインが自己交差する部分とその近傍部分のオフセット幅のみが減少され、そのオフセット幅に基づいてオフセットラインのデータが変更されて、自己交差が解消される。
【００１５】
請求項４の発明は、請求項１又は２の発明において、前記オフセットライン変更手段は、前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットライン全体に亙って前記オフセット幅を減少させることによってオフセットラインのデータを変更することを特徴とするものである。この刺繍データ作成装置によれば、オフセットライン変更手段によってオフセットライン全体に亙ってオフセット幅が減少され、そのオフセット幅に基づいてオフセットラインのデータが変更されて、自己交差が解消される。
【００１６】
請求項５の発明は、請求項１〜４の何れかの発明において、前記オフセットライン変更手段は、前記オフセット幅を所定量だけ減少させることによって前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインのデータを変更することを特徴とするものである。この刺繍データ作成装置によれば、オフセットライン変更手段によって、オフセットラインの少なくとも一部のオフセット幅が所定量だけ減少され、このオフセット幅に基づいてオフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインのデータが変更される。
【００１７】
請求項６の発明は、請求項１〜４の何れかの発明において、前記オフセットライン変更手段は、前記オフセット幅を所定割合だけ減少させることによって前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインのデータを変更することを特徴とするものである。この刺繍データ作成装置によれば、オフセットライン変更手段によって、オフセットラインの少なくとも一部のオフセット幅が所定割合だけ減少され、このオフセット幅に基づいてオフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインのデータが変更される。
【００１８】
請求項７の発明は、請求項１の発明において、前記オフセットライン変更手段は、前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインが自己交差する部分とその近傍部分のオフセットラインの形状を変形させることによってオフセットラインのデータを変更することを特徴とするものである。この刺繍データ作成装置によれば、オフセットライン変更手段によってオフセットラインが自己交差する部分の近傍のオフセットラインの形状が変形されてオフセットラインのデータが変更され、自己交差が解消される。
【００１９】
請求項８の発明は、請求項１〜７の何れかの発明において、前記オフセットライン変更手段が変更したオフセットラインのデータに基づいて、刺繍データに含まれる下縫いデータと内部走り縫いデータとアップリケ関連縫いデータのうちの少なくとも１つのデータを作成することを特徴とするものである。
【００２０】
この刺繍データ作成装置によれば、オフセットライン変更手段によって変更されて自己交差が解消されたオフセットラインのデータに基づいて、刺繍データに含まれる下縫いデータと内部走り縫いデータとアップリケ関連縫いデータのうちの少なくとも１つのデータが作成される。
【００２１】
請求項９の発明は、刺繍領域を規定する輪郭線のデータに基づいて、前記輪郭線を設定されたオフセット幅だけ刺繍領域内側へオフセットさせたオフセットラインのデータを生成するオフセットライン生成手段を備えた刺繍データ作成装置において、前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインと前記輪郭線との相互交差を検出する相互交差検出手段と、前記相互交差検出手段により相互交差が検出された場合に、その相互交差を解消するように前記オフセットライン生成手段が生成したオフセットラインのデータを変更するオフセットライン変更手段とを備えたことを特徴とするものである。
【００２２】
この刺繍データ作成装置によれば、オフセットライン生成手段により、刺繍領域を規定する輪郭線のデータに基づいて、その輪郭線から設定されたオフセット幅だけ刺繍領域内側へオフセットさせたオフセットラインのデータが作成され、相互交差検出手段により、オフセットラインと輪郭線が交差する相互交差の有無が検出され、相互交差が検出された場合には、オフセットライン変更手段により相互交差を解消するようにオフセットライン生成手段で生成されたオフセットラインのデータが変更され、このように相互交差が解消されたオフセットラインのデータに基づいて刺繍データが作成される。
【００２３】
請求項１０の発明は、請求項９の発明において、前記オフセットライン変更手段は、前記相互交差検出手段により検出された相互交差を解消するように前記オフセットラインの少なくとも一部の前記オフセット幅を減少させ、この減少させたオフセット幅を用いてオフセットラインを変更することを特徴とするものである。
【００２４】
この刺繍データ作成装置によれば、オフセットライン変更手段により、オフセットラインの少なくとも一部のオフセット幅が減少され、そのオフセット幅を用いてオフセットラインが変更されて、相互交差検出手段により検出されたオフセットラインと輪郭線との相互交差が解消される。
【００２５】
請求項１１の発明は、請求項９又は１０の何れかの発明において、前記オフセットライン変更手段は、前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインが前記輪郭線と相互交差する部分とその近傍部分の前記オフセット幅のみを減少させることによってオフセットラインのデータを変更することを特徴とするものである。
【００２６】
この刺繍データ作成装置によれば、オフセットライン変更手段によってオフセットラインが輪郭線と相互交差する部分とその近傍部分のオフセット幅のみが減少され、そのオフセット幅に基づいてオフセットラインのデータが変更されて、相互交差が解消される。
【００２７】
請求項１２の発明は、請求項９又は１０の何れかの発明において、前記オフセットライン変更手段は、前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットライン全体に亙ってオフセット幅を減少させることによってオフセットラインのデータを変更することを特徴とするものである。この刺繍データ作成装置によれば、オフセットライン変更手段によってオフセットライン全体に亙ってオフセット幅が減少され、そのオフセット幅に基づいてオフセットラインのデータが変更されて、相互交差が解消される。
【００２８】
請求項１３の発明は、請求項９〜１２の何れかの発明において、前記オフセットライン変更手段は、前記オフセット幅を所定量だけ減少させることによって前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインのデータを変更することを特徴とするものである。この刺繍データ作成装置によれば、オフセットライン変更手段によって、オフセットラインの少なくとも一部のオフセット幅が所定量だけ減少され、このオフセット幅に基づいてオフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインのデータが変更される。
【００２９】
請求項１４の発明は、請求項９〜１２の何れかの発明において、前記オフセットライン変更手段は、前記オフセット幅を所定割合だけ減少させることによって前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインのデータを変更することを特徴とするものである。この刺繍データ作成装置によれば、オフセットライン変更手段によって、オフセットラインの少なくとも一部のオフセット幅が所定割合だけ減少され、このオフセット幅に基づいてオフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインのデータが変更される。
【００３０】
請求項１５の発明は、請求項９の発明において、前記オフセットライン変更手段は、前記オフセットライン生成手段により生成されたオフセットラインが前記輪郭線と相互交差する部分の近傍のオフセットラインの形状を変形させることによりオフセットラインのデータを変更することを特徴とするものである。この刺繍データ作成装置によれば、オフセットライン変更手段によってオフセットラインが自己交差又は相互交差する部分の近傍のオフセットラインの形状が変形されてオフセットラインのデータが変更され、相互交差が解消される。
【００３１】
請求項１６の発明は、請求項９〜１５の何れかの発明において、前記オフセットライン変更手段が変更したオフセットラインのデータに基づいて、刺繍データのうちの内部走り縫いデータが作成されることを特徴とするものである。この刺繍データ作成装置によれば、オフセットライン変更手段によって変更されて相互交差が解消されたオフセットラインのデータに基づいて刺繍データのうちの内部走り縫いデータが作成される。
【００３２】
請求項１７の発明は、刺繍領域を規定する輪郭線のデータに基づいて、前記輪郭線を設定されたオフセット幅だけ刺繍領域内側へオフセットさせたオフセットラインのデータを生成するオフセットラインデータ生成手段を備えた刺繍データ作成装置のコンピュータに実行させるための刺繍データ作成プログラムにおいて、前記オフセットラインの自己交差を検出する第１ルーチンと、前記第１ルーチンにより自己交差が検出された場合に、その自己交差を解消するように前記オフセットラインを変更する第２ルーチンとを含むプログラムを有することを特徴とするものである。
【００３３】
この刺繍データ作成プログラムによれば、刺繍データ作成装置のコンピュータにより実行されると、まず、オフセットラインデータ生成手段によって、刺繍領域を規定する輪郭線のデータに基づいて、輪郭線から設定されたオフセット幅だけ刺繍領域内側へオフセットさせたオフセットラインのデータが作成され、次に、第１ルーチンでは一連のオフセットラインの一部がオフセットラインの他の部分と交差する自己交差の有無が検出され、次に、第２ルーチンでは第１ルーチンにおいて自己交差が検出されると自己交差が解消するようにオフセットラインが変更され、この後、この変更されたオフセットラインのデータに基づいて刺繍データが作成される。
【００３４】
請求項１８の発明は、請求項１７の発明において、前記第２ルーチンは、前記オフセットラインの少なくとも一部の前記オフセット幅を所定幅減少させ、この減少させたオフセット幅を用いてオフセットラインを変更するルーチンであることを特徴とするものである。この刺繍データ作成プログラムによれば、第２ルーチンにおいて、オフセットラインの少なくとも一部のオフセット幅が所定幅だけ減少され、この減少されたオフセット幅を用いてオフセットラインが変更されて、オフセットラインの自己交差が解消される。
【００３５】
請求項１９の発明は、請求項１８の発明において、前記第１及び第２ルーチンを前記自己交差が解消されるまで複数回繰り返させる第３ルーチンを更に含むことを特徴とするものである。この刺繍データ作成プログラムによれば、第３ルーチンにおいて、第１ルーチン及び第２ルーチンが複数回繰り返されて自己交差が解消される。
【００３６】
請求項２０の発明は、刺繍領域を規定する輪郭線のデータに基づいて、前記輪郭線を設定されたオフセット幅だけ刺繍領域内側へオフセットさせたオフセットラインのデータを生成するオフセットラインデータ生成手段を備えた刺繍データ作成装置のコンピュータに実行させるための刺繍データ作成プログラムにおいて、前記オフセットラインと前記輪郭線との相互交差を検出する第１ルーチンと、前記第１ルーチンにより相互交差が検出された場合に、その相互交差を解消するように前記オフセットラインを変更する第２ルーチンとを含むプログラムを有することを特徴とするものである。
【００３７】
この刺繍データ作成プログラムによれば、刺繍データ作成装置のコンピュータにより実行されると、まず、オフセットラインデータ生成手段によって、刺繍領域を規定する輪郭線のデータに基づいて、輪郭線から設定されたオフセット幅だけ刺繍領域内側へオフセットされたオフセットラインのデータが生成され、次に、第１ルーチンによりオフセットラインと輪郭線とが交差する相互交差の有無が検出され、次に、第２ルーチンにより第１ルーチンで相互交差が検出されると相互交差が解消するようにオフセットラインが変更され、この後、この変更されたオフセットラインのデータに基づいて刺繍データが作成される。
【００３８】
請求項２１の発明は、請求項２０の発明において、前記第２ルーチンは、前記オフセットラインの少なくとも一部の前記オフセット幅を所定幅減少させ、この減少させたオフセット幅を用いてオフセットラインを変更するルーチンであることを特徴とするものである。この刺繍データ作成プログラムによれば、第２ルーチンにおいて、オフセットラインの少なくとも一部のオフセット幅が所定幅だけ減少され、この減少されたオフセット幅を用いてオフセットラインが変更されて、オフセットラインと輪郭線との相互交差が解消される。
【００３９】
請求項２２の発明は、請求項１７の発明において、前記第１ルーチン及び第２ルーチンを前記相互交差が解消されるまで複数回繰り返させる第３ルーチンを更に含むことを特徴とするものである。この刺繍データ作成プログラムによれば、第３ルーチンにおいて、第１ルーチン及び第２ルーチンが複数回繰り返されて相互交差が解消される。
【発明の効果】
【００４０】
請求項１の発明によれば、オフセットラインの自己交差が検出された場合、オフセットライン変更手段によりオフセットラインを変更することで自己交差を解消し、この自己交差が解消されたオフセットラインによって刺繍データを作成するので、オフセットラインのデータの完成後の処理において、自己交差がない場合の通常の演算制御処理によって刺繍データが作成でき、刺繍データの作成のための演算制御を簡単化することができる。
【００４１】
請求項２の発明によれば、オフセットラインの少なくとも一部のオフセット幅を変更するだけの簡単な演算制御によってオフセットラインの自己交差を解消することができるので、オフセットラインのデータを生成する際の演算制御を簡単化することができ、その結果、刺繍データの作成のための演算制御をも簡単化することができる。
【００４２】
請求項３の発明によれば、自己交差する部分とその近傍部分のオフセット幅のみを変更するので、オフセットラインの変更も当該部分のみにおいて行えばよく、オフセットラインのデータの生成のための演算制御を簡単化することができる。
【００４３】
請求項４の発明によれば、オフセットライン全体に亙ってオフセット幅を変更するので、輪郭線から同じオフセット幅だけ刺繍領域内側へオフセットされたオフセットラインのデータを生成することができる。
【００４４】
請求項５の発明によれば、オフセット幅を所定量だけ減少させて自己交差を解消して、請求項１〜４と同様の効果を奏することができる。
【００４５】
請求項６の発明によれば、オフセット幅を所定割合だけ減少させて自己交差を解消して、請求項１〜４と同様の効果を奏することができる。
【００４６】
請求項７の発明によれば、自己交差する部分とその近傍のみオフセットラインの形状を変形するので、オフセットラインのデータの生成のための演算制御を簡単化することができる。
【００４７】
請求項８の発明によれば、自己交差が解消されたオフセットラインのデータに基づいて下縫いデータが作成されるので、この下縫いデータを用いて下縫いされた場合、刺繍模様は、下縫いが輪郭線よりもはみ出すことがない。また、対向する輪郭線間の幅が小さい刺繍領域でも、相互に接近するオフセットライン間に、必要最小限の幅が確保されるため、下縫いが直線状になることがなく、加工布が下縫いによって補強されて、本縫いの際に加工布の縮みを防ぐことができると共に、幅の狭い刺繍領域でも本縫いされた刺繍模様の立体感を発揮できるので、縫製品質を高めることができる。
【００４８】
自己交差が解消されたオフセットラインによって内部走り縫いのデータを作成するので、輪郭線からはみ出すことなく、輪郭線の近くに内部走り縫いを縫製することができると共に、オフセットラインが重複しなくなり、同じ部分のオフセットライン上に最初と最後の内部走り縫いが実行されることがなく、内部走り縫いが目立つことを防止できる。自己交差が解消されたオフセットラインによりアップリケ関連縫いのデータが作成されるので、アップリケ布の幅が狭い領域においても相対向するアップリケ縫いが重なることがなく、縫製品質を高めることができる。
【００４９】
請求項９の発明によれば、オフセットラインと輪郭線との相互交差が検出された場合、オフセットライン変更手段によりオフセットラインを変更することで相互交差を解消し、この相互交差が解消されたオフセットラインによって刺繍データを作成するので、オフセットラインのデータの完成後の処理において、相互交差がない場合の通常の演算制御処理によって刺繍データが作成でき、刺繍データの作成のための演算制御を簡単化することができる。
【００５０】
請求項１０の発明によれば、オフセットラインの少なくとも一部のオフセット幅を変更するだけの簡単な演算制御によってオフセットラインと輪郭線との相互交差を解消することができるので、オフセットラインのデータの生成においても演算制御を簡単化することができ、その結果、刺繍データの作成の演算制御をも簡単化することができる。
【００５１】
請求項１１の発明によれば、相互交差する部分とその近傍部分のオフセット幅のみを変更するので、オフセットラインの変更も当該部分のみにおいて行えばよく、オフセットラインのデータの生成のための演算制御を簡単化することができる。
【００５２】
請求項１２の発明によれば、オフセットライン全体に亙ってオフセット幅を変更するので、輪郭線から同じオフセット幅だけ刺繍領域内側へオフセットされたオフセットラインのデータを生成することができる。
【００５３】
請求項１３の発明によれば、オフセット幅を所定量だけ減少させて相互交差を解消して、請求項９〜１２と同様の効果を奏することができる。
【００５４】
請求項１４の発明によれば、オフセット幅を所定割合だけ減少させて相互交差を解消して、請求項９〜１２と同様の効果を奏することができる。
【００５５】
請求項１５の発明によれば、相互交差する部分とその近傍のみオフセットラインの形状を変形するので、オフセットラインのデータの生成のための演算制御を簡単化することができる。
【００５６】
請求項１６の発明によれば、相互交差が解消されたオフセットラインによって内部走り縫いのデータを作成するので、輪郭線からはみ出すことなく輪郭線の内側の近傍に内部走り縫いを縫製することができ、内部走り縫いが目立つことを防止できる。
【００５７】
請求項１７の発明によれば、オフセットラインの自己交差が検出された場合、オフセットラインを変更することで自己交差を解消し、この自己交差が解消されたオフセットラインによって刺繍データを作成するので、オフセットラインのデータの完成後の処理において、自己交差がない場合の通常の演算制御処理によって刺繍データが作成でき、刺繍データの作成のための演算制御を簡単化することができる。
【００５８】
請求項１８の発明によれば、オフセットラインの少なくとも一部のオフセット幅を変更するだけの簡単な演算制御によってオフセットラインの自己交差を解消することができるので、オフセットラインのデータの生成においても演算制御を簡単化することができ、その結果、刺繍データの作成の演算制御をも簡単化することができる。
【００５９】
請求項１９の発明によれば、自己交差が解消されるまで第１ルーチン及び第２ルーチンが複数回繰り返されるので、確実に自己交差を解消することができる。
【００６０】
請求項２０の発明によれば、オフセットラインと輪郭線との相互交差が検出された場合、オフセットラインを変更することで相互交差を解消し、この相互交差が解消されたオフセットラインによって刺繍データを作成するので、オフセットラインのデータの完成後の処理において、相互交差がない場合の通常の演算制御処理によって刺繍データが作成でき、刺繍データの作成のための演算制御を簡単化することができる。
【００６１】
請求項２１の発明によれば、オフセットラインの少なくとも一部のオフセット幅を変更するだけの簡単な演算制御によってオフセットラインと輪郭線との相互交差を解消することができるので、オフセットラインのデータの生成においても演算制御を簡単化することができ、その結果、刺繍データの作成の演算制御をも簡単化することができる。
【００６２】
請求項２２の発明によれば、相互交差が解消されるまで第１ルーチン及び第２ルーチンが複数回繰り返されるので、確実に相互交差を解消することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００６３】
本願の発明は、刺繍領域を規定する輪郭線のデータに基づいて、前記輪郭線を設定されたオフセット幅だけ刺繍領域内側へオフセットさせたオフセットラインのデータを生成するオフセットライン生成手段を備えた刺繍データ作成装置又は刺繍データ作成プログラムにおいて、オフセットラインの自己交差又は輪郭線との相互交差が検出された場合に、自己交差又は相互交差を解消するようにオフセットラインのデータを変更するものである。
【実施例１】
【００６４】
以下、本発明の実施例１について図面を参照して説明する。本実施例は、刺繍ミシンを用いて刺繍模様を縫製するための刺繍データであって、下縫いデータを含む刺繍データを作成する為の刺繍データ作成装置及び刺繍データ作成プログラムに本発明を適用した一例である。図１に示すように、刺繍ミシン１にデータ転送用ケーブル３を介して刺繍データ作成装置２が接続されている。
【００６５】
まず、刺繍ミシン１について簡単に説明する。図１に示すように、刺繍ミシン１は、ミシン本体４と、刺繍枠１７を左右方向(Ｘ軸方向)と前後方向(Ｙ方向)に移動させるための刺繍枠移動機構５とを備えている。ミシン本体４は、ベッド部６と、このベッド部６の右端部から立設された脚柱部７と、脚柱部７の上端からベッド部６に対向するように左方に延びるアーム部８とを有する。ミシン本体４は、そのベッド部６をミシンテーブル９に組み込んでミシンテーブル９に設置されている。アーム部８の左端部のアーム頭部には、縫針１０が装着された針棒１１が設けられ、この針棒１１は針棒駆動機構(図示略)により上下に駆動される。針板１２の下側には、針棒１１の上下動と調時して駆動される釜機構(図示略)が設けられている。
【００６６】
次に、刺繍枠移動機構５について説明する。図１に示すように、ミシンテーブル９には、前後に所定距離隔離した２つの可動体１３,１４が左右方向に移動可能に設けられ、これら可動体１３,１４の間に２本のガイドロッド１５,１６が左右に所定間隔離隔して平行に配設され、これら２本のガイドロッド１５,１６に加工布を保持する刺繍枠の左端部が前後方向に移動可能に連結されている。更に、ミシンテーブル９には左右１対のブラケット１８,１９が固着され、これらブラケット１８,１９によりネジ軸２０と回転伝達軸２１とが回転可能に支持されている。ネジ軸２０には可動体１３が螺合され、ネジ軸２０の回転により可動体１３は左右方向に移動される。可動体１３,１４の間にはワイヤ２３が配設され、このワイヤ２３には刺繍枠１７の左端部が連結されている。
【００６７】
ネジ軸２０はＸ軸駆動モータ２２により回転駆動され、このネジ軸２０の回転により可動体１３が左右方向に駆動されると、可動体１４、刺繍枠１７も可動体１３と一体的に左右方向に移動される。一方、回転伝達軸２１はＹ軸駆動モータ２４により回転駆動され、この回転伝達軸２１の回転によりワイヤ２３を介して刺繍枠１７が前後方向に駆動される。この刺繍ミシン１においては、刺繍データ作成装置２により作成された刺繍データに基づいて、Ｘ軸駆動モータ２２とＹ軸駆動モータ２４によって刺繍枠１７をＸ方向及びＹ方向に駆動することにより、加工布をＸ方向及びＹ方向に移動させて刺繍縫製を行う。
【００６８】
次に、刺繍データ作成装置２について説明する。この刺繍データ作成装置２は、刺繍領域を規定する輪郭線のデータに基づいて、輪郭線を設定されたオフセット幅だけ刺繍領域内側へオフセットさせたオフセットラインのデータを生成し、そのオフセットラインが自己交差する場合にはこの自己交差を解消するようにオフセットラインのデータを変更し、そのオフセットラインに基づいて下縫いデータを生成するものである。
【００６９】
刺繍データ作成装置２は、パーソナルコンピュータ２５(以下、ＰＣ２５という)と、ディスプレイ２６と、キーボード２７と、マウス２８と、イメージスキャナ２９などで構成されている。図５−１に示すような刺繍模様４５を縫製する場合、刺繍模様４５が描かれた原画がイメージスキャナー２９により読み込まれ、その刺繍模様４５の刺繍領域４６を規定する輪郭線４７がデータ化される。
【００７０】
図２に示すように、ＰＣ２５は、刺繍データ作成に関する制御全般を司るものである。このＰＣ２５は、ＣＰＵ３１と、ＲＯＭ３２と、ＲＡＭ３３と、これらを接続するバス３４とを含むマイクロコンピュータと、バス３４に接続されハードディスク(ＨＤ)３５を備えたハードディスクドライブ(ＨＤＤ)３６と、入出力インターフェース３９等を有する。また、バス３４には、フレキシブルディスクドライブ３７と、ＣＤ−ＲＯＭドライブ３８も接続されている。入出力インターフェース３９には、刺繍ミシン１、ディスプレイ２６を接続する為の表示駆動回路４０、キーボード２７、マウス２８、イメージスキャナ２９などが接続されている。
【００７１】
ＲＯＭ３２には、ＰＣ２５の電源ＯＮ時にＰＣ２５を起動する為の起動プログラム等が格納されている。一方、ＨＤ３５には、ＯＳ(オペレーティングシステム)や、ディスプレイ２６、キーボード２７、マウス２８、イメージスキャナ２９等を使用可能とする為の各種ドライバが組み込まれると共に、後述の刺繍データ作成プログラム等の各種プログラムが格納されている。更に、イメージスキャナ２９で読み込まれた入力画像データや刺繍データ作成プログラムで作成された刺繍模様４５の刺繍データなどもＨＤ３５に格納される。
【００７２】
次に、刺繍データ作成プログラムについて説明する。尚、以下の説明においてＳｉ(ｉ＝１,２,３・・・)はステップ数を示す。この刺繍データ作成プログラムは、図５−１に示すような刺繍模様４５の輪郭線４７を読み込み、その輪郭線４７に基づいて下縫いデータや本縫いデータなどを含む刺繍データを作成するためにＰＣ２５に実行させるためのものである。
【００７３】
まず、図３に示すメインルーチンについて説明する。最初に、イメージスキャナー２９にセットされた原画から刺繍模様４５の輪郭線４７を読み込み(Ｓ１)、刺繍領域４６を規定する輪郭線４７のデータが演算処理によって作成される(Ｓ２)。尚、原画の刺繍模様４５の輪郭線４７が曲線の場合、その曲線に近い折れ線に変換して輪郭線４７のデータが作成される。
【００７４】
次に、輪郭線４７の内側へオフセットさせたオフセットライン４８のデータを生成する(Ｓ３)。尚、このオフセットライン４８のデータの生成処理の詳細は後述する。次に、このオフセットラインのデータ上に複数の下縫い点を作成し、その下縫い点を連結して下縫い用のデータが作成される(Ｓ４)。次に、輪郭線４７のデータ上に複数の本縫い点を作成し、その本縫い点を連結した本縫いのデータが作成される(Ｓ５)。尚、Ｓ１における刺繍模様の読み込み、Ｓ２における輪郭線４７のデータ作成、Ｓ５における本縫いのデータ作成処理は、公知の技術であるため、その詳細な説明は省略する。また、Ｓ４における下縫いデータ作成処理についても、後述のＳ３におけるオフセットラインのデータ生成処理により生成されたオフセットライン４８に基づいて下縫いデータが作成される点を除いて、上述の従来の技術と同様な下縫いデータ作成処理を用いることができる為に詳細な説明は省略するが、生成されたオフセットライン４８の内部を本縫いに比べて粗い糸密度(例えば、糸密度：１本/２ｍｍ、縫目ピッチ：４ｍｍ)で縫製を行うためのデータを作成するものである。
【００７５】
次に、Ｓ３のオフセットライン４８のデータ生成処理に関して、図４のフローチャートに基づいて説明する。まず、予め設定されてＨＤ３５に格納されているオフセット幅Ｄ(例えば、１ｍｍ)を読み出し、図５−１に示す刺繍領域４６を規定する輪郭線４７をオフセット幅Ｄだけ刺繍領域４６の内側へオフセットさせた平行線を求め、夫々の平行線の交点から輪郭線４７の各輪郭線頂点Ｐ１〜Ｐ６に対応するオフセット頂点Ｑ１〜Ｑ６が演算により求められる(Ｓ１０)。次に、各オフセット頂点Ｑ１〜Ｑ６を対応する輪郭線頂点Ｐ１〜Ｐ６と同じ順番で連結し、図５−２に示すオフセットライン４８'のデータが生成される(Ｓ１１)。
【００７６】
次に、このＳ１０,Ｓ１１で生成された一連のオフセットライン４８'の一部が、オフセットライン４８'の他の部分と交差する自己交差の有無が検出され、自己交差していない場合は(Ｓ１２；No)、オフセットライン４８のデータが完成したものとして、メインルーチンに戻る。一方、Ｓ１２において自己交差が検出された場合には(Ｓ１２；Yes)、自己交差点Ａ１,Ａ２が検出され(Ｓ１３)、夫々の自己交差点Ａ１,Ａ２に最も近いオフセット頂点Ｑ２,Ｑ５が検出される(Ｓ１４)。ここで、自己交差点から同距離の位置に最も近いオフセット頂点が複数ある場合にはそれら全てを検出するものとする。
【００７７】
次に、検出された自己交差を解消するように、オフセット頂点Ｑ２,Ｑ５を対応する輪郭線４７の輪郭線頂点Ｐ２,Ｐ５の方向へ所定幅(例えば、０.１ｍｍ)だけ移動させたオフセット点を求め、これらを新たなオフセット頂点Ｑ２',Ｑ５'とする(Ｓ１５)。次に、この新しく求めたオフセット頂点Ｑ２',Ｑ５'を用いて、オフセットライン４８'のデータを生成することで(Ｓ１１)、自己交差部分とその近傍部分のオフセット幅が減少されたオフセットライン４８'のデータに変更する。その後、Ｓ１２において自己交差が検出されなくなるまで、Ｓ１１〜Ｓ１５が繰り返し実行され、図５−３に示すように自己交差が解消されたオフセットライン４８のデータが生成された場合、メインルーチンにリターンする。その後、メインルーチンのＳ４において、このように変更されて自己交差が解消されたオフセットライン４８のデータに基づいて下縫いデータが作成される。
【００７８】
ここでＰＣ２５とＳ１０,Ｓ１１が請求項１のオフセットライン生成手段に相当し、ＰＣ２５とＳ１２が自己交差検出手段に相当し、ＰＣ２５とＳ１３〜Ｓ１５,Ｓ１１がオフセットライン変更手段に相当する。また、Ｓ１２が請求項１７の第１ルーチンに相当し、Ｓ１３〜Ｓ１５,Ｓ１１が第２ルーチンに相当し、Ｓ１１〜Ｓ１５を繰り返すことが請求項１９の第３ルーチンに相当する。
【００７９】
次に、以上説明した刺繍データ作成装置２及び刺繍データ作成プログラムの作用及び効果について説明する。この刺繍データ作成装置２及び刺繍データ作成プログラムによれば、オフセットラインが自己交差する場合には、オフセットライン４８のオフセット幅Ｄを減少させて、自己交差が解消されたオフセットライン４８に変更するので、オフセットライン４８のデータ生成後の下縫いデータの作成において、通常の下縫いデータの作成処理によって下縫いのデータを作成することができ、刺繍データ作成において演算制御を簡単化することができる。
【００８０】
オフセット幅Ｄを減少させるだけで自己交差を解消すると共に、オフセット幅Ｄを減少させた後、オフセットライン４８のデータを生成するステップと同じステップ(Ｓ１１)によりオフセットライン４８のデータを生成することで、オフセットライン４８のデータを生成するための演算制御を簡単化することができる。
【００８１】
自己交差が解消されたオフセットライン４８に基づいて下縫いデータが作成されるので、輪郭線４７の幅が狭い領域でもオフセットライン４８が重なることなく、近接するオフセットライン４８間にある程度の幅ができるので、下縫いによって加工布が補強され本縫いする場合に加工布が縮むことがなく、本縫いされた刺繍模様に立体感が形成される。
【００８２】
尚、上述した実施例においては、オフセットラインに基づいて生成される下縫いデータを含む刺繍データを作成する刺繍データ作成装置と刺繍データ作成プログラムに本発明を適用したが、オフセットラインに基づいて生成される内部走り縫いデータやアップリケ関連縫いデータを含む刺繍データを作成する刺繍データ作成装置と刺繍データ作成プログラムに本発明を適用してもよい。ここで内部走り縫いデータとは、オフセットライン４８の内部を下縫いにより縫製を行う際に、オフセットライン４８の内部領域を縫目が重なることなく１回の縫目で縫製が行われるように、その内部領域の縫い順(縫針が内部領域を移動する経路)を設定するためにオフセットライン４８上或いはそれに沿って走り縫いを行うための縫いデータである。また、アップリケ関連縫いデータとは、アップリケ布片を加工布に縫い付けるための縫目データや、アップリケ布片を加工布に縫い付ける際に加工布にアップリケ布片の縫い付け位置を示す位置合わせ線の縫い目を形成するための縫製データである。
【００８３】
本発明を内部走り縫いデータを含む刺繍データを作成する刺繍データ作成装置及び刺繍データ作成プログラムに適用した場合、自己交差が解消されたオフセットラインに基づいて内部走り縫いを行うための縫いデータを作成することができる。このため、自己交差したオフセットラインに基づいて内部走り縫いデータを作成した場合には、その自己交差部分において針落ち点が集中することにより加工布が盛り上がってしまったりする等して内部走り縫いが目立つといった不具合が生じるが、自己交差が解消されたオフセットラインを用いて内部走り縫いデータを作成することによりこのような不具合を解消することができる。また、本発明をアップリケ関連縫いデータを含む刺繍データを作成する刺繍データ作成装置と刺繍データ作成プログラムに適用した場合、幅の狭い領域においても、アップリケ布の内側に縫製されるアップリケ縫いが重なることがなく、縫製品質を高めることができる。
【実施例２】
【００８４】
次に、上述の実施例を内部走り縫いを含む刺繍データを作成する刺繍データ作成装置及び刺繍データ作成プログラムについて説明する。この実施例は、内部走り縫いのためのオフセットラインを生成する場合に、オフセットラインが輪郭線と交差する相互交差を解消するためのものである。尚、刺繍データ作成装置の制御系及び刺繍データ作成装置に接続される刺繍ミシンは実施例１と同様のため説明を省略する。
【００８５】
次に、図６〜図８を参照して、刺繍データ作成プログラムについて説明する。まず、メインルーチンにおいて、実施例１のＳ１,Ｓ２と同様にＳ２１,Ｓ２２が実行され、Ｓ２３において相互交差のないオフセットライン５２のデータが生成され、Ｓ２４において相互交差のないオフセットライン５２の一部を用いて内部走り縫いデータが作成され、次に、Ｓ２５が実行される。尚、Ｓ２１,Ｓ２２,Ｓ２４,Ｓ２５において実行される処理は、公知の技術のため詳細は省略する。
【００８６】
次に、Ｓ２３におけるオフセットライン５２のデータ生成に関して図７のフローチャートに基づいて説明する。まず、実施例１のＳ１０,Ｓ１１と同様に、図８−１,図８−２に示すように、設定されたオフセット幅Ｄに基づいて、刺繍領域５０を規定する輪郭線５１の各輪郭線頂点Ｐ１１〜Ｐ１６に対応するオフセット頂点Ｑ１１〜Ｑ１６が演算処理により求められ(Ｓ３０)、これらの各オフセット頂点Ｑ１１〜Ｑ１６を連結してオフセットライン５２'のデータが生成される(Ｓ３１)。
【００８７】
次に、この一連のオフセットライン５２'のうち、その一部が輪郭線５１と交差する相互交差の有無が検出され、相互交差してない場合は(Ｓ３２；No)、オフセットラインが完成したものとして、メインルーチンに戻る。一方、図８−２に示すオフセットライン５２'のように、Ｓ３２において相互交差が検出された場合には(Ｓ３２；Yes)、相互交差点Ｂ１〜Ｂ４が検出され(Ｓ３３)、その相互交差点Ｂ１〜Ｂ４に最も近いオフセット頂点Ｑ１２,Ｑ１５が検出される(Ｓ３４)。
【００８８】
次に、相互交差を解消するために、オフセット頂点Ｑ１２,Ｑ１５のオフセット幅Ｄを所定幅だけ対応する輪郭線頂点Ｐ１２,Ｐ１５の方向へ移動させた新たなオフセット頂点Ｑ１２',Ｑ１５'が求められる(Ｓ３５)。次に、この新しく求められたオフセット頂点Ｑ１２',Ｑ１５'を用いて、相互交差の部分とその近傍部部分のオフセット幅Ｄが減少されたオフセットライン４８のデータが生成され、オフセットライン４８'のデータが変更される(Ｓ３１)。その後、相互交差が検出されなくなるまでＳ３１〜Ｓ３５が繰り返し実行され、図８−３に示すように、相互交差が解消されたオフセットライン５２のデータが生成されたら、メインルーチンにリターンし、Ｓ２４において、この相互交差が解消されたオフセットライン５２に基づいて内部走り縫いのデータが作成される。
【００８９】
ここでＰＣ２５とＳ３０,Ｓ３１が請求項３のオフセットライン生成手段に相当し、ＰＣ２５とＳ３２が相互交差検出手段に相当し、ＰＣ２５とＳ３３〜Ｓ３５,Ｓ３１がオフセットライン変更手段に相当する。また、Ｓ３２が請求項２０の第１ルーチンに相当し、Ｓ３３〜Ｓ３５,Ｓ３１が第２ルーチンに相当し、Ｓ３１〜Ｓ３５を繰り返すことが請求項２２の第３ルーチンに相当する。
【００９０】
次に、以上説明した、刺繍データ作成装置及び刺繍データ作成プログラムの作用及び効果について説明する。この刺繍データ作成装置２及び刺繍データ作成プログラムによれば、オフセットライン５２'が輪郭線５１と相互交差する場合には、オフセットライン５２'のオフセット幅Ｄを減少させて、相互交差が解消されたオフセットライン５２に変更するので、オフセットライン５２のデータ生成後に通常の内部走り縫いデータ作成方法によって内部走り縫いデータを作成することができ、刺繍データ作成において演算制御を簡単化することができる。また、オフセット幅Ｄを減少させるだけで相互交差を解消すると共に、オフセット幅Ｄを減少させた後、オフセットライン５２のデータを生成するステップと同じステップ(Ｓ３１)によりオフセットライン５２のデータを生成することで、オフセットライン５２のデータを生成するための演算制御を簡単化することができる。更に、相互交差が解消されたオフセットライン５２によって内部走り縫いデータが作成されるので、内部走り縫いが輪郭線５１からはみ出すことがなく縫製品質を向上させることができる。尚、この実施例２をアップリケ関連縫いのアップリケ布片を加工布へ縫い付けるための縫い目データ、アップリケ布片の位置合わせ線のデータ生成にも適用することができる。
【００９１】
上述した実施例１,２の夫々の一部を変更した変更例について説明する。
(１)  自己交差又は相互交差が検出された場合に、オフセットラインの全体に亙ってオフセット幅を減少させて、自己交差又は相互交差を解消してもよい。このように構成した場合には、図９のフローチャートに示すように、Ｓ４０,Ｓ４１において、実施例１のＳ１０,Ｓ１１と同様に、輪郭線４７から設定されたオフセット幅Ｄだけ内側にオフセットさせたオフセットライン４８'のデータが生成され、図５−２に示すように生成されたオフセットライン４８'が自己交差している場合には(Ｓ４２;Yes)、オフセットライン４８'の全体に亙ってオフセット幅Ｄが所定幅減少されて、そのオフセット幅Ｄに基づいて新たなオフセット点及びオフセットラインのデータ４８’が生成されて(Ｓ４１)、オフセットライン４８’が変更され、Ｓ４２において自己交差が検出されなくなるまでこれらＳ４０〜Ｓ４３が繰り返し実行され、図１０に示すように自己交差が検出されないオフセットライン５５のデータが生成されたら、メインルーチンに戻る。
【００９２】
尚、相互交差を解消する場合には、Ｓ４２において相互交差を検出するように構成すればよいのでフローチャートに関しては省略する。このようにオフセットライン５５の全体に亙ってオフセット幅Ｄを減少させるので、輪郭線４７から同じオフセット幅だけ刺繍領域４６の内側へオフセットされたオフセットライン５５のデータを生成することができる。
【００９３】
(２)  上述した実施例においては、オフセット幅Ｄを減少させることで自己交差を解消させたが、自己交差又は相互交差する部分とその近傍部分のオフセットラインの形状を変形させることでオフセットラインを変更して、自己交差又は相互交差を解消するように構成してもよい。例えば、図５−２に示すように、オフセットライン４８'が自己交差している場合、図１１に示すように、この自己交差している部分とその近傍部分を曲線にしたオフセットライン５６のデータに変更して自己交差を解消してもよい。このように構成することで、自己交差又は相互交差の部分とその近傍部分のみのオフセットラインのデータを変更すればよいので、オフセットラインのデータの生成のための演算制御を簡単化することができる。また、自己交差又は相互交差する部分とその近傍部分のオフセットラインの一部を曲線ではなく折れ線状に変形してもよい。
【００９４】
(３)  上述した実施例１,２においては、自己交差点又は相互交差点から最も近いオフセット点のみを対応する頂点方向へと移動させたが、両交差点から所定距離内に位置する全てのオフセット点を頂点側に移動させるように構成してもよく、また、２つの交差点間に位置する全てのオフセット点を頂点側へ移動させるように構成してもよい。
【００９５】
(４)  自己交差又は相互交差を解消する際に、減少させるオフセット幅は所定量減少させるだけでなく、所定割合だけ減少させるように構成してもよい。
【００９６】
尚、本発明は以上説明した実施例に限定されるものではなく、当業者であれば、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で前記実施例に種々の変更を付加して実施することができ、本発明はそれらの変更例をも包含するものである。
【図面の簡単な説明】
【００９７】
【図１】本発明の実施例に係る刺繍データ作成装置及び刺繍ミシンを示す図である。
【図２】刺繍データ作成装置の制御系を説明するブロック図である。
【図３】刺繍データ作成プログラムのメインルーチンのフローチャートである。
【図４】オフセットラインのデータ生成ルーチンのフローチャートである。
【図５−１】刺繍模様の輪郭線を示す図である。
【図５−２】自己交差するオフセットラインを示す図である。
【図５−３】自己交差が解消されたオフセットラインを示す図である。
【図６】実施例２における図３相当図である。
【図７】実施例２における図４相当図である。
【図８−１】刺繍模様の輪郭線を示す図である。
【図８−２】相互交差するオフセットラインを示す図である。
【図８−３】相互交差が解消されたオフセットラインを示す図である。
【図９】変更例に係る図４相当図である。
【図１０】変更例に係る自己交差が解消されたオフセットラインを示す図である。
【図１１】別の変更例に係る自己交差が解消されたオフセットラインを示す図である。
【符号の説明】
【００９８】
２      刺繍データ作成装置
２５      パーソナルコンピュータ
４６,５０      刺繍領域
４７,５１      輪郭線
４８,５２,５５,５６      オフセットライン
【図１】
2005211206.tif 000003
【図２】
2005211206.tif 000004
【図３】
2005211206.tif 000005
【図４】
2005211206.tif 000006
【図５−１】
2005211206.tif 000007
【図５−２】
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【図５−３】
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【図６】
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【図７】
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【図８−１】
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【図８−２】
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【図８−３】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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