(57)【要約】【課題】  金属酸化物を記録層に用いる光記録媒体を低コスト、高タクトタイムで製造可能な光記録媒体の製造方法、及び該製造方法により得られる光記録媒体を提供する。【解決手段】  基板上に、金属酸化物を含む記録層を有する光記録媒体の製造方法であって、前記記録層の形成において、金属酸化物層を形成後、物理的エッチング又は化学的エッチングを施す金属酸化物層形成工程を有することを特徴とする光記録媒体の製造方法である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、金属酸化物を含む記録層を有する光記録媒体の製造方法であって、
前記記録層の形成において、金属酸化物の層を形成後、物理的エッチング又は化学的エッチングを施す金属酸化物層形成工程を有することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記金属酸化物の層を、スパッタリング法によって形成することを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項３】
さらに、前記金属酸化物の金属とは異なる金属の酸化物である異種金属酸化物の層を形成する異種金属酸化物層形成工程を有し、前記金属酸化物層形成工程と前記異種金属酸化物層形成工程とを繰り返し行い、金属酸化物層と異種金属酸化物層とを積層することを特徴とする請求項１または２に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記物理的エッチング又は化学的エッチングを施す時間が１２０〜３００秒であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項に記載の光記録媒体の製造方法により得られることを特徴とする光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録層に金属酸化物を用いる光記録媒体及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＣＤ、ＤＶＤに代表される光記録媒体は、透明ディスク基板上に記録層、反射層等を積層成膜することにより作製され、レーザービームの照射により情報の記録・再生消去が行われる。近年では、ＨＤＴＶやデジタルＶＴＲ等に対応できる容量を確保するため、更なる記録密度の向上が図られている。記録密度を向上させる手段としては、レーザー光のスポット径を小さくし、記録パターン（記録マーク）を微小化すればよく、最近では４０５ｎｍ短波長レーザー光対応、かつ高ＮＡレンズに対応した光記録媒体が開発されている。
【０００３】
上述のように、これまで光記録媒体の高密度化は、基本的にレーザーの短波長化により行われてきた。しかし、近年、レーザーの短波長化、レンズの高ＮＡ化には限界が近づいていると言われており、今後、単なる短波長レーザーや高ＮＡレンズを組合わせることで、飛躍的に記録密度を高めることは困難と考えられる。よって、次世代の高密度光記録媒体には、記録メカニズムを根本的に刷新することが必要とされる。
【０００４】
最近では、金属酸化物を記録膜に用いる光記録媒体が提案されている（例えば、非特許文献１、２参照。）。このような光記録媒体は、着色現象や均一化現象といった全く新しいメカニズムによる記録・再生原理を有し、かつ材料によっては赤外光〜紫外光レーザーに対応するため、次世代高密度光記録媒体として大変期待されている。また、材料が酸化物ベースであるため、耐久性・アーカイブ特性が良好と推定される。
【０００５】
このような記録媒体において、記録膜に用いる金属酸化物は、一般的にパルス・レーザー・デポジション（ＰＬＤ）法で形成する。しかし、このＰＬＤ法は、高コスト、低タクトタイム、広面積作製不可能などの問題があるため、実用化には程遠いのが現状である。一方、低コスト、高タクトタイムを目的とし、金属酸化物をスパッタリング法で形成することも検討されている。しかし、金属酸化物ターゲットを用いたスパッタリングでは、着色化に寄与する金属材料の形成が困難となり、良好な特性が得られない。また、金属ターゲットを用いると、チャンバー内が極度に汚染されるため、チャンバー内を頻繁にクリーニングする必要が出てくるなど、好ましくない。
【非特許文献１】青木孝憲、外４名、「ブルーレーザー対応型光ディスクにおける特性の改善」J.Vac.Soc.Jpn.Vol.45,No.3,2002,p.129-132
【非特許文献２】鈴木晶雄、外５名、「パルスレーザー堆積法により作製したＺｎＯ系光記録膜（ＩＩ）」、第３８回真空に関する連合講演会プロシーディングス、p.176-179
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、以上の従来の問題点に鑑みてなされたものであり、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、
本発明の目的は、金属酸化物を記録層に用いる光記録媒体を低コスト、高タクトタイムで製造可能な光記録媒体の製造方法、及び該製造方法により得られる光記録媒体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するための手段は以下の通りである。即ち、
＜１＞  基板上に、金属酸化物を含む記録層を有する光記録媒体の製造方法であって、前記記録層の形成において、金属酸化物の層を形成後、物理的エッチング又は化学的エッチングを施す金属酸化物層形成工程を有することを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
【０００８】
＜２＞  前記金属酸化物の層を、スパッタリング法によって形成することを特徴とする前記＜１＞に記載の光記録媒体の製造方法である。
【０００９】
＜３＞  さらに、前記金属酸化物の金属とは異なる金属の酸化物である異種金属酸化物の層を形成する異種金属酸化物層形成工程を有し、前記金属酸化物層形成工程と前記異種金属酸化物層形成工程とを繰り返し行い、金属酸化物層と異種金属酸化物層とを積層することを特徴とする前記＜１＞または＜２＞に記載の光記録媒体の製造方法である。
【００１０】
＜４＞  前記物理的エッチング又は化学的エッチングを施す時間が１２０〜３００秒であることを特徴とする前記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の光記録媒体の製造方法である。
【００１１】
＜５＞  前記＜１＞から＜４＞のいずれか１項に記載の光記録媒体の製造方法により得られることを特徴とする光記録媒体である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、金属酸化物を記録層に用いる光記録媒体を低コスト、高タクトタイムで製造可能な光記録媒体の製造方法、及び該製造方法により得られる光記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明の光記録媒体の製造方法は、金属酸化物を含む記録層を有する光記録媒体の製造方法であって、前記記録層を形成する工程において、金属酸化物の層を形成後、物理的エッチング又は化学的エッチングを施す金属酸化物層形成過程を有することを特徴としている。以下、先ず、本発明の光記録媒体の製造方法により製造される本発明の光記録媒体について詳述する。
【００１４】
＜光記録媒体＞
本発明の光記録媒体は、基板上に少なくとも記録層を有し、必要に応じて、光反射層、バリア層、保護層（光透過層）、下地層、中間層、誘電体層など他の層を有してなる。以下、基板及び各層について説明する。
【００１５】
［基板］
基板としては、従来の光記録媒体の基板材料として用いられている各種の材料を任意に選択して使用することができる。
具体的には、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィンが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さは、０．５〜１．４ｍｍとすることが好ましい。
【００１６】
基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（プレグルーブ）が形成されている。より高い記録密度を達成するためにＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチのプレグルーブが形成された基板を用いることが好ましい。プレグルーブのトラックピッチは、０．２〜０．６μｍである。また、プレグルーブの深さ（溝深さ）は、２０〜１５０ｎｍの範囲である。
【００１７】
なお、基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成することが好ましい。
該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００１８】
［記録層］
記録層は、基板上に形成され、波長３４０〜６８０ｎｍのレーザー光により情報の記録再生が可能な層である。前述のように、記録層は、少なくとも、金属酸化物層を有し、該金属酸化物層は、金属酸化物の一部から金属が単体として遊離することで、着色している（着色化現象）。そして、この記録層にレーザー光を照射すると、レーザー光が照射された領域において、記録層の着色に寄与する金属単体が酸化され透明となり、酸化された領域の透過率が上昇する。透過率が上昇した領域を記録マークとし、従来のＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒなどと同様に、記録マークの有無に基づき情報の記録を行うことができる。
【００１９】
記録層のさらに好適な構成としては、前記金属酸化物の金属とは異なる金属の酸化物である異種金属酸化物の層が、前記金属酸化物層と交互に積層された構成である。異種金属酸化物を積層成膜した場合、格子歪みや格子定数の違いによる影響で準安定状態を形成しやすくなると推定される。
この構成の場合、金属酸化物層と異種金属酸化物層とをそれぞれ１０〜１５０層積層することが好ましく、２０〜５０積層することがより好ましい。
【００２０】
金属酸化物としては、例えば、ＺｎＯ系酸化物、ＺｎＧａＩｎＯ系酸化物、ＺｎＧａＩｎＣｕＯ系酸化物、ＧａＩｎＣｕＯ系酸化物、ＧａＩｎＯ系酸化物などが挙げられ、中でも特に、ＺｎＯ系酸化物、ＺｎＧａＩｎＯ系酸化物が好適に用いられる。
【００２１】
金属酸化物と異種金属酸化物との好ましい組合わせは、ＺｎＯ／Ａｌ2Ｏ3、ＺｎＯ／Ｇａ2Ｏ3、ＺｎＯ／Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ／Ａｇ2Ｏなどが挙げられる。
【００２２】
記録層の層厚としては、０．０１〜０．２μｍが好ましく、０．０３〜０．０８μｍがより好ましい。
【００２３】
［光反射層］
光反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率としては、７０％以上である。
反射率の高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、Ａｕ、Ａｇあるいはこれらの合金である。
【００２４】
［保護層］
光反射層もしくは記録層の上には、記録層などを物理的および化学的に保護する目的で保護層を設けることが好ましい。なお、ＤＶＤ−Ｒ型の光記録媒体の製造の場合と同様の形態、すなわち二枚の基板を記録層を内側にして貼り合わせる構成をとる場合は、必ずしも保護層の付設は必要ではない。保護層に用いられる材料の例としては、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2、Ｓｉ3Ｎ4等の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質を挙げることができる。保護層の層厚は一般には０．１μｍ〜１ｍｍの範囲にある。
【００２５】
また、その他の構成として本発明の光記録媒体が、基板上に光反射層、記録層および光透過層をこの順に有する構成である場合、前記光透過層は、接着層または粘着剤層等を介して記録層上に形成されていることが好ましい。この場合、光透過層以外の構成については、既述の通りである。
【００２６】
［光透過層］
光透過層は、光記録媒体内部を衝撃などから防ぐために形成され、透明な材質であれば特に限定されないが、好ましくはポリカーボネート、三酢酸セルロース等であり、より好ましくは、２３℃５０％ＲＨでの吸湿率が５％以下の材料である。
なお、「透明」とは、記録光および再生光の光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。
【００２７】
光透過層の厚さは、０．０１〜０．２ｍｍの範囲であり、好ましくは０．０３〜０．１ｍｍの範囲、より好ましくは０．０５〜０．０９５ｍｍの範囲である。
また、光透過層として、粘着剤が貼り合わせ面に付与されたポリカーボネートシート等を使用することもできる。この場合、上記接着剤層は必要ない。
【００２８】
また、本発明の光記録媒体は、既述の構成のほかに種々の改良を施してもよい。例えば、既述の記録層と保護層（もしくは光透過層）との間にバリア層を形成してもよい。バリア層を構成する材料としては、レーザー光を透過する材料であれば、特に制限はないが、誘電体であることが好ましく、より具体的には、ＺｎＳ、ＴｉＯ2、ＳｉＯ2、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＧｅＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、Ｇｅ3Ｎ4、ＭｇＦ2、等の無機酸化物、窒化物、硫化物が挙げられ、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、あるいはＳｉＯ2が好ましい。バリア層の厚さは、１〜１００ｎｍとすることが好ましい。
【００２９】
＜光記録媒体の製造方法＞
次に、以上の光記録媒体を製造する本発明の製造方法について詳述する。
【００３０】
［記録層の形成］
先ず、前述の基板を準備し、該基板上に、金属酸化物層を形成する。金属酸化物の層の形成手法は、スパッタリング法、パルスレーザーデポジション（ＰＬＤ）法、イオンプレーティング法が挙げられ、中でも特に、スパッタリング法、ＰＬＤ法が好ましい。以下、スパッタリングによって金属酸化物層を形成する場合について説明する。
【００３１】
金属酸化物をスパッタリングして金属酸化物層を形成し、該金属酸化物層を形成後、物理的エッチング又は化学的エッチングを施す（金属酸化物形成工程）。スパッタリングにより金属酸化物層を形成した直後は、該層にはほぼ１００％金属酸化物が存在し、この状態では記録層は着色されていない。そこで、金属酸化物層に対して物理的エッチング又は化学的エッチングを施し、金属酸化物から着色化に寄与する金属を単体として遊離し着色させるのである。以上のようにして記録層を形成する。
【００３２】
本発明の光記録媒体の製造方法においては、特に、記録層の成膜にスパッタリング法を採用する場合、金属単体をそのままスパッタリングするのではなく、まず金属酸化物をスパッタリングして金属酸化物層を形成し、形成後に物理的エッチング又は化学的エッチングにより金属を遊離させるため、金属単体をターゲットとしてスパッタリングしたときと比べてチャンバー内の汚染を低減することができる。また、本発明においては、スパッタリング法を用いての製造であるため、広い面積に薄膜を形成することができ、ＰＬＤ法で形成するのとは異なり、生産適性が飛躍的に向上し好ましい。さらに、例えば、直径１２０ｍｍの基板上の膜厚分布を±５％以内に抑えることができる。従って、光記録媒体の面内の特性を確保する上で有効である。
【００３３】
さらに、前記金属酸化物とは金属が異なる異種金属酸化物の層を形成する工程（異種金属酸化物層形成工程）を設け、前記金属酸化物層形成工程と前記異種金属酸化物層形成工程とを繰り返し行い、金属酸化物層と異種金属酸化物層とを積層することが好ましい。このようにして製造すると、前述の通り、異種金属酸化物を積層成膜した場合、格子歪みや格子定数の違いによる影響で準安定状態を形成しやすくなり好ましい。
【００３４】
記録層の形成において、金属酸化物層と異種金属酸化物層とを積層して形成する場合、前記金属酸化物層形成工程と、前記異種金属酸化物層形成工程は繰り返し、１０〜１５０回行い、それぞれ、１０〜１５０層形成することが好ましい。
【００３５】
（スパッタリング）
前記金属酸化物又は異種金属酸化物のスパッタリングにおいて、スパッタパワー（出力）は０．５〜３．０ｋＷとすることが好ましく、１．０〜２．０ｋＷとすることがより好ましい。スパッタ圧力（成膜時におけるチャンバー内の圧力）は０．１５〜０．７０Ｐａとすることが好ましく、０．２０〜０．５０ｈＰａとすることがより好ましい。
【００３６】
スパッタリングの種類としては、ＲＦスパッタリング、ＤＣスパッタリング、ＤＣマグネトロンスパッタリング等、種々の方法を使用することができる。
スパッタガスとしては、ＡｒガスまたはＡｒにその他のガスを添加した混合ガス等を使用することが好ましい。
【００３７】
（物理的エッチング）
前記物理的エッチングとしては、イオンエッチング、プラズマエッチング、イオンミリング、ＥＣＲエッチング等が挙げられるが、特に、イオンエッチングを適用することが好ましい。
また、チャンバー内圧力＝０．２〜０．６Ｐａ、加速電圧＝８０〜１００Ｖ、Ａｒガス使用、基板までの到達距離＝１５０〜２５０ｍｍの条件においては、エッチング時間は、１２０〜３００秒が好ましく、より好ましくは、１８０〜２４０秒である。
イオンエッチングによって表面の有機物等の不純物を除去し、良好な界面状態を得ることができる。イオンエッチング用プロセスガスには、アルゴン、酸素、もしくはこれらの混合ガスを使用することができる。
【００３８】
イオンエッチングは、例えば下記条件で行うことが好ましい。すなわち、
（１）プロセスガス流量：２０〜１６０ｓｃｃｍ（より好ましくは、４０〜８０ｓｃｃｍ）
（２）加速電圧：７０〜９５Ｖ（より好ましくは、８０〜９０Ｖ）
【００３９】
（化学的エッチング）
化学的エッチングは、酸化還元反応などの化学反応を利用したエッチングであって、本発明においては、金属酸化物を還元して金属単体を遊離できればよいから、還元ガスを用いる。本発明において使用可能な還元ガスとしては、水素、一酸化炭素、メタン等が挙げられ、中でも特に、水素を用いることが好ましい。
【００４０】
［光反射層の形成］
光反射層は、前述した光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。光反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００４１】
［保護層の形成］
保護層は、例えばプラスチックの押出加工で得られたフィルムを接着剤を介して反射層上にラミネートすることにより形成することができる。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられてもよい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによっても形成することができる。これらの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００４２】
［光透過層の形成］
次いで、光記録媒体に光透過層を形成する場合の形成手法について説明する。光透過層は、接着層を構成する光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を所定温度で記録層上に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜上に、例えば、プラスチックの押出加工で得られた三酢酸セルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）をラミネートし、ラミネートしたＴＡＣフィルムの上から光を照射して塗布膜を硬化させて形成することができる。前記ＴＡＣフィルムとしては、紫外線吸収剤を含むものが好ましい。
【００４３】
［バリア層の形成］
バリア層を形成する場合、ＺｎＳ、ＴｉＯ2、ＳｉＯ2、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＧｅＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、Ｇｅ3Ｎ4、ＭｇＦ2、等の無機酸化物、窒化物、硫化物をスパッタリング、イオンプレーティング等により形成することができる。
【００４４】
本発明の光記録媒体は、以上の本発明の光記録媒体の製造方法のより製造されるものであるから、特に、記録層をスパッタ法で形成した場合、膜厚の分布を小さくすることができる。例えば、直径１２０ｍｍの基板上の膜厚分布を±５％以内に抑えられる。
【実施例】
【００４５】
［実施例１］
射出成形にて、ポリカーボネート樹脂を、スパイラル状（螺旋状）のグルーブ（深さ：１００ｎｍ、幅２００ｎｍ、トラックピッチ：０．４μｍ）を有する厚さ０．６ｍｍ、直径１２０ｍｍの基板を成形した。
金属酸化物材料としてＺｎＯターゲットを使用して、以下の条件でスパッタリングし、前記基板上にＺｎＯ単層膜（金属酸化物層）を形成した。さらに、金属酸化物層に対して以下の条件のエッチング処理を施し記録層を形成した。以上により実施例１の光記録媒体を得た。
（スパッタリング条件）
使用装置：静止対向型スパッタ装置、Ａｒ流量：３０ｓｃｃｍ、圧力：０．１６Ｐａ、ＲＦパワー：１５０Ｗ、基板−ターゲット間距離：７５ｍｍ、ターゲットサイズ：φ１８０×ｔ１０ｍｍ、基板温度制御なし、基板バイアス印加なし
（エッチング条件）
使用装置：イオンビームガンによるＡｒエッチング、Ａｒ流量：４０ｓｃｃｍ、加速電圧：８５Ｖ、イオンガス−基板間距離：１７０ｍｍ、エッチング時間：６０秒
【００４６】
［実施例２］
異種金属酸化物としてＡｌ2Ｏ3ターゲットを追加し、ＺｎＯ／Ａｌ2Ｏ3積層膜を形成したこと以外は実施例１と同様にして実施例２の光記録媒体を作製した。
【００４７】
［比較例１］
エッチング処理を施さなかったこと以外は実施例１と同様にして比較例１の光記録媒体を作製した。
【００４８】
［比較例２］
エッチング処理を施さなかったこと以外は実施例２と同様にして比較例２の光記録媒体を作製した。
【００４９】
［評価］
実施例１〜２、比較例１〜２の光記録媒体のについて、記録層の波長４０５ｎｍの光に対する透過率を吸光度計（（株）島津製作所製、ＵＶ−３１００ＰＣ）で測定した。測定結果を表１に示す。
【００５０】
【表１】
2005209259.tif 000002
【００５１】
表１より、ＺｎＯ層を形成後、エッチング処理を施した実施例１の光記録媒体は、エッチング処理を施していない比較例１と比較して、４０５ｎｍの波長のレーザー光に対する透過率が９８％から８７％（ｎ＝５平均値）へ低下した。これは、エッチング処理を施すことにより、ＺｎＯが準安定状態となり、完全な酸化物であるＺｎＯからＺｎ単体が生成したことが推察される。
また、ＺｎＯ／Ａｌ2Ｏ3を２０層積層成膜した後、エッチング処理を施した実施例２の光記録媒体は、エッチング処理を施していない比較例１と比較して、４０５ｎｍの波長のレーザー光に対する透過率が９５％から７５％（ｎ＝５平均値）へ低下した。異種金属酸化物を積層成膜した場合、格子歪みや格子定数の違いによる影響で準安定状態を形成しやすくなると考えられる。
図１に、ＺｎＯ／Ａｌ2Ｏ3を２０層積層した場合のエッチング時間に対する光透過率の推移をグラフで示す。図１より、エッチング時間が１２０〜３００秒が適切であることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】エッチング時間に対する光透過率の推移をグラフで示す図である。
【図１】
2005209259.tif 000003