(57)【要約】【課題】  防錆剤として用いた際に各種金属に対して優れた防錆性を有する化合物を提供すること。【解決手段】  下記の一般式で表されるアミジン化合物を使用する。  【化３】2005263671.tif 000011  （式中、Ｒ3は互いに独立で水素、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数２〜３０のアルケニル基、アルキニル基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数７〜３０のアリールアルキル基、炭素数１〜５００からなりエーテル基、イミノ基、チオエーテル基、エステル基、及びアミド基からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する炭化水素基、及びシロキサン基を表し、かつＲ3の内少なくとも１つが上記の水素以外で、Ｒ3中の水素原子は水酸基、アミノ基、カルボキシル基、カルボキシレートアニオン基、スルホン酸基、スルホン酸アニオン基、メルカプト基又はハロゲン原子で置換されていても良く、互いに結合し炭素数４〜１２の環を形成しても良い。ｍ及びｎは互いに独立で１〜１２の整数を表す。）【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で表されるアミジン化合物。
【化１】
2005263671.tif 000008
（式中、Ｒ1、Ｒ2は、互いに独立して水素、炭素数１２〜３０（ただし、Ｒ1は炭素数は２０〜３０）のアルキル基、炭素数１２〜３０のアルケニル基、炭素数１２〜３０のアルキニル基、炭素数７〜３０のアリールアルキル基、炭素数１〜５００からなりエーテル基、イミノ基、チオエーテル基、エステル基、およびアミド基からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する炭化水素基、およびシロキサン基を表し、かつＲ1、Ｒ2の内の少なくとも１つが上記の水素以外である。また、Ｒ1、Ｒ2中の水素原子は水酸基、アミノ基、カルボキシル基、カルボキシレートアニオン基、スルホン酸基、スルホン酸アニオン基、メルカプト基またはハロゲン（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）によってさらに置換されていてもよく、また互いに結合して炭素数４〜１２の環を形成してもよい。ｍおよびｎは互いに独立して１〜１２の整数を表す。ｍまたはｎが２以上の場合、各Ｒ1または各Ｒ2はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
【請求項２】
一般式（１）において、ｍが３〜５であり、ｎが２〜４である請求項１記載のアミジン化合物。
【請求項３】
一般式（２）で表される化合物を用いて、該化合物に（メタ）アクリロニトリルを付加する工程、該（メタ）アクリロニトリル付加物に水素添加する工程、該水素添加物の脱水環化反応によりアミジン環を形成する工程を含む製造法で製造した請求項１または２記載のアミジン化合物。
【化２】
2005263671.tif 000009
（式中、Ｒ1およびｍは一般式（１）と同じ。）
【請求項４】
一般式（３）で示されるアミジン化合物の少なくとも１種からなることを特徴とする界面活性剤組成物。
【化３】
2005263671.tif 000010
（式中、Ｒ3は、互いに独立して水素、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数２〜３０のアルケニル基、炭素数２〜３０のアルキニル基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数７〜３０のアリールアルキル基、炭素数１〜５００からなりエーテル基、イミノ基、チオエーテル基、エステル基、およびアミド基からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する炭化水素基、およびシロキサン基を表し、かつＲ3の内の少なくとも１つが上記の水素以外である。また、Ｒ3中の水素原子は水酸基、アミノ基、カルボキシル基、カルボキシレートアニオン基、スルホン酸基、スルホン酸アニオン基、メルカプト基またはハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）によってさらに置換されていてもよく、また互いに結合して炭素数４〜１２の環を形成してもよい。ｍおよびｎは互いに独立して１〜１２の整数を表す。ｍまたはｎが２以上の場合、各Ｒ3はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。）
【請求項５】
請求項４記載の界面活性剤組成物からなる防錆剤、潤滑剤または殺菌剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アミジン化合物とそれからなる界面活性剤組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、水溶性の切削油、研削油、プレス油、圧延油、鍛造油、引き抜き油、焼き入れ油等の金属加工油や機械金属部品の中間防錆に脂肪族カルボン酸、アルケニルコハク酸、ザルコシン酸、ドデカン二酸等とモノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等の低級アミンとの塩、アルカノールアミン、アルキルリン酸エステル塩、アルキルアミンのエチレンオキサイド付加物等が使用されている。
また、近年、銅あるいは銅合金の防錆剤としてイミダゾール化合物が提案されている（特許文献１〜３）。
【０００３】
【特許文献１】特開平２−９３０７９号公報
【特許文献２】特開平４−２０２７８０号公報
【特許文献３】特開平４−２０６６８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記方法では、銅あるいは銅合金の防錆性について幾分改良できているものの、まだ十分に満足するレベルには到達できていなかった。特に、極めて高い防錆性が要求される分野、例えば、半導体製造またはプリント配線基板製造時における銅配線の防錆等には、性能が不足するといった問題があった。
すなわち本発明の目的は、従来の防錆剤では成し得ることのできなかった優れた防錆性を示す化合物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、この課題を解決すべく鋭意検討した結果本発明に到達した。
すなわち、本発明は、一般式（１）で表されるアミジン化合物；一般式（２）で表される化合物を用いて、（メタ）アクリロニトリルを付加する工程、水素添加する工程、脱水環化反応によりアミジン環を形成する工程を含むことを特徴とする一般式（１）で示されるアミジン化合物の製造法；並びに一般式（３）で示されるアミジン化合物の少なくとも１種からなることを特徴とする界面活性剤組成物である。
【０００６】
【化１】
2005263671.tif 000002
（式中、Ｒ1、Ｒ2は、互いに独立して水素、炭素数１２〜３０（Ｒ1は炭素数２０〜３０）のアルキル基、炭素数１２〜３０のアルケニル基、炭素数１２〜３０のアルキニル基、炭素数７〜３０のアリールアルキル基、炭素数１〜５００からなりエーテル基、イミノ基、チオエーテル基、エステル基、およびアミド基からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する炭化水素基、およびシロキサン基を表し、かつＲ1、Ｒ2の内の少なくとも１つが上記の水素以外である。また、Ｒ1、Ｒ2中の水素原子は水酸基、アミノ基、カルボキシル基、カルボキシレートアニオン基、スルホン酸基、スルホン酸アニオン基、メルカプト基またはハロゲン（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）によってさらに置換されていても良く、また互いに結合して炭素数４〜１２の環を形成しても良い。ｍおよびｎは互いに独立して１〜１２の整数を表す。）
【０００７】
【化２】
2005263671.tif 000003
（式中、Ｒ1およびｍは一般式（１）と同じ。）
【０００８】
【化３】
2005263671.tif 000004
（式中、Ｒ3は互いに独立して水素、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数２〜３０のアルケニル基、炭素数２〜３０のアルキニル基、炭素数６〜３０のアリール基、炭素数７〜３０のアリールアルキル基、炭素数１〜５００からなりエーテル基、イミノ基、チオエーテル基、エステル基、およびアミド基からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する炭化水素基、およびシロキサン基を表し、かつＲ3の内の少なくとも１つが上記の水素以外である。また、Ｒ3中の水素原子は水酸基、アミノ基、カルボキシル基、カルボキシレートアニオン基、スルホン酸基、スルホン酸アニオン基、メルカプト基またはハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）によってさらに置換されていても良く、また互いに結合して炭素数４〜１２の環を形成しても良い。ｍおよびｎは互いに独立して１〜１２の整数を表す。）
【発明の効果】
【０００９】
本発明のアミジン化合物は、金属、特に銅あるいは銅合金に対して優れた防錆効果を奏する。また本発明の製造方法により、本発明の化合物を高収率かつ高純度で得ることができることから、本発明のアミジン化合物を安価に製造できるというメリットがある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明のアミジン化合物は、前記の一般式（１）で表される。
同式におけるＲ1、Ｒ2は、互いに独立して水素、炭素数２０〜３０（Ｒ1は炭素数２０〜３０）のアルキル基（１ａ）、炭素数１２〜３０のアルケニル基（１ｂ）、炭素数１２〜３０のアルキニル基（１ｃ）、炭素数７〜３０のアリールアルキル基（１ｄ）、炭素数１〜５００からなりエーテル基、イミノ基、チオエーテル基、エステル基、およびアミド基からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する炭化水素基（１ｅ）、およびシロキサン基（１ｆ）を表し、また本発明の優れた防錆効果を発揮するためには、Ｒ1、Ｒ2の内の少なくとも１つが上記の水素以外である。また、Ｒ1、Ｒ2中の水素原子は水酸基、アミノ基、カルボキシル基、カルボキシレートアニオン基、スルホン酸基、スルホン酸アニオン基、メルカプト基またはハロゲン（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）によってさらに置換されていても良い。
また各基Ｒ1、Ｒ2は、互いに独立して直鎖状もしくは分岐鎖状であっても良く、または少なくとも２つの各基間で互いに結合して炭素数４〜１２の環を形成しても良い。
【００１１】
炭素数１２〜３０のアルキル基（１ａ）としてはドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基、ヘキコシル基、ドコシル基、トリコシル基、テトラコシル基、ペンタコシル基、ヘキサコシル基、ヘプタコシル基、オクタコシル基、およびノナコシル基ならびに２−エチルデシル基等が挙げられる。
【００１２】
炭素数１２〜３０のアルケニル基（１ｂ）としては、直鎖状、分岐状のいずれでもよく、例えば、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、エイコセニル基、ドコセニル基、テトラコセニル基、ヘキサコセニル基、およびオクタコセニル基、ならびに２−エチルデセニル基等が挙げられる。
【００１３】
炭素数１２〜３０のアルキニル基（１ｃ）としては、直鎖状、分岐状のいずれでもよく、例えば、１−および２−ドデシニル基、１−および２−トリデシニル基、１−および２−テトラデシニル基、１−および２−ヘキサデシニル基、１−および２−ステアリニル基、１−および２−ノナデシニル基、１−および２−エイコシニル基、１−および２−テトラコシニル基、１−および２−ペンタコシニル基、１−および２−ヘキサコシニル基、１−および２−ヘプタコシニル基、１−および２−オクタコシニル基、１−および２−ノナコシニル基等が挙げられる。
【００１４】
炭素数７〜３０のアリールアルキル基（１ｄ）としては、例えば、ベンジル基、２−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、４−フェニルブチル基、５−フェニルペンチル基、６−フェニルヘキシル基、７−フェニルヘプチル基、８−フェニルオクチル基、１０−フェニルデシル基、１２−フェニルドデシル基、１４−フェニルテトラデシル基、１６−フェニルヘキサデシル基、１８−フェニルオクタデシル基、２０−フェニルエイコシル基、ナフチルメチル基、およびナフチルエチル基等が挙げられる。
【００１５】
炭素数１〜５００からなりエーテル基、エステル基、アミド基、イミノ基およびチオエーテル基からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する炭化水素基（１ｅ）としては、該炭化水素基中に上記構造を有していれば特に限定無く、例えば以下の構造を有する物が挙げられる。
【００１６】
（１ｅ−１）エーテル基を有する炭化水素基
式：−Ｏ−Ｒ4、または−Ｒ5−Ｏ−Ｒ6で表される基を表す。Ｒ4またはＲ6は、水素原子または炭素数１〜３０のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、ｎ−、ｉ−プロピル基、ｎ−、ｉ−およびｓｅｃ−ブチル基、ｎ−およびｉ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、２−メチルペンチル基、シクロヘキシル基、ｎ−およびｉ−ヘプチル基、ｎ−およびｉ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−およびｉ−ノニル基、ｎ−およびｉ−デシル基、ｎ−およびｉ−ウンデシル基、ｎ−およびｉ−ドデシル基、ｎ−およびｉ−トリデシル基、ｎ−およびｉ−テトラデシル基、ｎ−およびｉ−ヘキサデシル基、ステアリル基、ノナデシル基、エイコシル基、テトラコシル基等）、炭素数２〜３０のアルケニル基（例えば、ブテニル基、ヘキセニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、テトラデセニル基、、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、オレイル基、ガドレイル基および２−エチルデセニル基等）、式：−（Ａ1Ｏ）x−Ｚ1で表される基が挙げられる。Ａ1としては炭素数１〜３０のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ−、ｉ−プロピレン基、ｎ−、ｉ−およびｓｅｃ−ブチレン基、シクロヘキシレン基、１−フェニル−エチレン基、１−アルキル（炭素数３〜２８）−エチレン基、２−アルキル（炭素数１〜１２）−２−ヒドロキシメチル−プロピレン基、２−アルキル（炭素数１〜１２）−２−アルキル（炭素数１〜１２）オキシメチル−プロピレン基等）、Ｚ1は水素原子または炭素数１〜３０のアルキル基（前記のもの等）もしくはアシル基等、Ｘは１〜１００，０００の整数が挙げられる。また、−（Ａ1Ｏ）x部分は同一でも異なっていてもよく、ブロック状でもランダム状でもよい。なお、式中のＯは酸素原子を表す（以下、同様）。
式中、Ｒ5は、炭素数１〜３０のアルキレン基（例えば、メチレン基、エチレン基、ｎ−、ｉ−プロピレン基、ｎ−、ｉ−およびｓｅｃ−ブチレン基、ｎ−およびｉ−ペンチレン基、ｎ−ヘキシレン基、２−メチルペンチレン基、シクロヘキシレン基、ｎ−およびｉ−ヘプチレン基、ｎ−およびｉ−オクチレン基、２−エチルヘキシレン基、ｎ−およびｉ−ノニレン基、ｎ−およびｉ−デシレン基、ｎ−およびｉ−ウンデシレン基、ｎ−およびｉ−ドデシレン基、ｎ−およびｉ−トリデシレン基、ｎ−およびｉ−テトラデシレン基、ｎ−およびｉ−ヘキサデシレン基、ステアリレン基、ノナデシレン基、エイコシレン基、テトラコシレン基等）、式：−（ＯＡ2）Y−で表される基が挙げられる。
Ａ2は前記のＡ1と同様のものが挙げられ、Ｙは１〜１００，０００の整数が挙げられる。また、−（ＯＡ2）Y部分は同一でも異なっていてもよく、ブロック状でもランダム状でもよい。
【００１７】
（１ｅ−２）イミノ基を有する炭化水素基
式：−Ｎ−Ｒ7Ｒ8、または−Ｒ9−Ｎ−Ｒ10Ｒ11で表される基を表す。Ｒ7、Ｒ8、Ｒ10、Ｒ11は、前記のＲ4またはＲ6と同様のものが挙げられる。また、Ｒ9は前記のＲ5と同様のものが挙げられる。なお、式中のＮは窒素原子を表す（以下、同様）。
【００１８】
（１ｅ−３）チオエーテル基を有する炭化水素基
式：−Ｓ−Ｒ12、または−Ｒ13−Ｓ−Ｒ14で表される基を表す。Ｒ12またはＲ14は、前記のＲ4またはＲ6と同様のものが挙げられる。また、Ｒ13は前記のＲ5と同様のものが挙げられる。なお、式中のＳは硫黄原子を表す（以下、同様）。
【００１９】
（１ｅ−４）エステル基を有する炭化水素基
式：−Ｒ15−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ16、−Ｒ17−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−Ｒ18、−Ｑ1−Ｒ19−Ｃ（Ｏ）−Ｏ−Ｒ20、−Ｑ1−（Ａ3Ｏ）l−Ｃ（Ｏ）−Ｒ21で表される基を表す。Ｒ16、Ｒ20としては、Ｒ4またはＲ6と同様のもの、Ｒ18、Ｒ21は前記の炭素数１〜３０のアルキル基またはアルケニル基、Ｒ15、Ｒ19は、前記の炭素数１〜３０のアルキレン基、Ｒ17は前記の炭素数１〜３０のアルキレン基、Ｑ1は、Ｏ、Ｓ、ＮＨ、ＮＲ22である。なお、Ｈは水素原子を表す（以下、同様）。Ｒ22は前記の炭素数１〜３０のアルキル基またはアルケニル基が挙げられる。Ａ3は前記のＡ1と同様のものが挙げられ、ｌは１〜１００，０００の整数が挙げられる。また、−（Ａ3Ｏ）l−部分は同一でも異なっていてもよく、ブロック状でもランダム状でもよい。
【００２０】
（１ｅ−５）アミド基を有する炭化水素基
式：−Ｒ23−Ｃ（Ｏ）−Ｎ−Ｒ24Ｒ25、−Ｒ26−Ｎ（Ｒ27）−Ｃ（Ｏ）−Ｒ28、−Ｑ2−Ｒ29−Ｃ（Ｏ）−Ｎ−Ｒ30Ｒ31で表される基を表す。
Ｒ24、Ｒ25、Ｒ27、Ｒ30、Ｒ31としては、Ｒ4またはＲ6と同様のもの、Ｒ28は前記の炭素数１〜３０のアルキル基またはアルケニル基、Ｒ23、Ｒ26、Ｒ29は、前記の炭素数１〜３０のアルキレン基で表される基が挙げられる。
Ｑ2は、Ｏ、Ｓ、ＮＨ、ＮＲ32である。Ｒ32は前記の炭素数１〜３０のアルキル基またはアルケニル基が挙げられる。
【００２１】
シロキサン基（１ｆ）としては、式：−Ｏ−（ＳｉＲ33Ｒ34−Ｏ）k−Ｒ35、または−Ｒ36−Ｑ3−（ＳｉＲ37Ｒ38−Ｏ）k−Ｒ39で表される基が挙げられる。
Ｒ33、Ｒ34、Ｒ37、Ｒ38としては、前記の炭素数１〜３０のアルキル基またはアルケニル基、式：−（ＯＡ4）w−Ｚ2で表される基が挙げられる。Ａ4、Ｚ2は前記のＡ1、Ｚ1と同様のものが挙げられ、ｗは１〜１００，０００の整数が挙げられる。また、−（ＯＡ4）w−部分は同一でも異なっていてもよく、ブロック状でもランダム状でもよい。Ｒ35、Ｒ39はＲ4またはＲ6と同様のもの、Ｒ36は前記の炭素数１〜３０のアルキレン基、Ｑ3は、Ｏ、Ｓ、ＮＨ、ＮＲ40である。Ｒ40は前記の炭素数１〜３０のアルキル基またはアルケニル基が挙げられる。なお、Ｓｉは珪素原子を表す（以下、同様）。
【００２２】
これらの（１ａ）〜（１ｆ）に結合する水素原子は水酸基、アミノ基、カルボキシル基、カルボキシレートアニオン基、スルホン酸基、スルホン酸アニオン基、メルカプト基またはハロゲン（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）によってさらに置換されていても良い。
アミノ基としては、−ＮＨ2、−ＮＨＲ41、−ＮＲ42で表され、Ｒ41、Ｒ42は前記の炭素数１〜３０のアルキル基またはアルケニル基が挙げられる。
カルボキシレートアニオン基またはスルホン酸アニオン基を形成するための塩基性化合物としては、アルカリ金属（例えば、リチウム、ナトリウム、カリウム等）水酸化物、アルカリ土類金属（例えば、マグネシウム、カルシウム等）水酸化物、３級アミンが挙げられる。
【００２３】
３級アミンとしては、炭素数３〜１２またはそれ以上の３級モノアミン、例えば脂肪族３級モノアミン（トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン等）；複素環式３級モノアミン（Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−メチルモルホリン等）；不飽和環式３級モノアミン（Ｎ−メチルピリジン、Ｎ−メチルキノリン等）；芳香環含有脂肪族３級モノアミン（ベンジルジメチルアミン、α−メチルベンジルジメチルアミン等）；芳香族３級モノアミン（Ｎ−ジメチルアニリン等）およびこれらの２種以上の併用が挙げられる。
また、カルボキシレートアニオン基またはスルホン酸アニオン基は、本発明の化合物中の分子内のアミジン部と塩を形成しても良い。
【００２４】
これらの（１ａ）〜（１ｆ）中の水素原子と置換できる上記置換基およびハロゲンの数としては、１つの（１ａ）〜（１ｆ）に対して、好ましくは０〜４０、より好ましくは０〜１７、特に好ましくは０〜１２である。
【００２５】
これら例示した物の中で、優れた防錆性を示す点から、好ましくは（１ｅ）、（１ｆ）であり、より好ましくは（１ｅ）、特に好ましくは（１ｅ−１）、（１ｅ−２）、（１ｅ−３）、（１ｅ−４）、最も好ましくは（１ｅ−１）、（１ｅ−２）である。
【００２６】
また、本発明の化合物は、以下の有機酸（１）または無機酸（２）の塩として用いても良い。
（１）無機酸
ハロゲン化水素酸（例えば、塩酸、臭素酸、沃素酸等）、硝酸、炭酸、燐酸等；
（２）有機酸
（２ａ）アルキル硫酸エステル
メチル硫酸、エチル硫酸等の炭素数１〜４のアルキル硫酸エステル；
（２ｂ）アルキル燐酸エステル
ジメチル燐酸、ジエチル燐酸等の炭素数１〜８のモノおよび／またはジアルキル燐酸エステル；
【００２７】
（２ｃ）炭素数１〜３０の脂肪族モノカルボン酸
飽和モノカルボン酸（炭素数１〜３０の脂肪酸からＣＯＯＨ基を除いた残基等）、不飽和モノカルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、オレイン酸等）、および脂肪族オキシカルボン酸（例えば、グリコール酸、乳酸、オキシ酪酸、オキシカプロン酸、リシノール酸、オキシステアリン酸、グルコン酸、アスコルビン酸等）；
（２ｄ）炭素数７〜３０の芳香族または複素環モノカルボン酸
芳香族モノカルボン酸（例えば、安息香酸、ナフトエ酸、ケイ皮酸等）、芳香族オキシカルボン酸（例えば、サリチル酸、ｐ−オキシ安息香酸、マンデル酸等）、および複素環モノカルボン酸（例えば、ピロリドンカルボン酸等）；
【００２８】
（２ｅ）２〜４価のポリカルボン酸
炭素数２〜３０の直鎖状または分岐状の脂肪族ポリカルボン酸［飽和ポリカルボン酸（例えば、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバチン酸、ドデカン二酸等）、炭素数４〜３０の不飽和ポリカルボン酸（例えば、マレイン酸、フマール酸、イタコン酸等）］；炭素数４〜２０の脂肪族オキシポリカルボン酸（例えば、リンゴ酸、酒石酸、クエン酸等）；炭素数８〜３０の芳香族ポリカルボン酸［ジカルボン酸〔例えば、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸およびビフェニルジカルボン酸（例えば、２，２’−、３，３’−および／または２，７−体）等〕、トリもしくはテトラカルボン酸（例えば、トリメリット酸、ピロメリット酸等）］；硫黄を含有する炭素数４〜３０のポリカルボン酸（例えば、チオジプロピオン酸等）；
【００２９】
（２ｆ）炭素数２〜３０のアミノ酸
例えば、アスパラギン酸、グルタミン酸、システィン酸等のアミノ酸；
（２ｇ）有機酸変性シリコーン
ポリオルガノシロキサンのメチル基の一部が、−Ｒ3ＣＯＯＨ基および／または−Ｒ3ＳＯ3Ｈ基で置換された有機酸（例えば、カルボキシ当量が２００〜２０，０００のカルボキシ変性シリコーン等）等；
【００３０】
（２ｈ）脂肪族アルコール（炭素数８〜２４）のカルボキシメチル化物
オクチルアルコールのカルボキシメチル化物、デシルアルコールのカルボキシメチル化物、ラウリルアルコールのカルボキシメチル化物、ドバノール２３（三菱油化製）のカルボキシメチル化物およびトリデカノール（協和発酵製）のカルボキシメチル化物等。
（２ｉ）脂肪族アルコール（炭素数８〜２４）のエチレンオキサイド（以下、ＥＯと記載。）および／またはプロピレンオキサイド（以下、ＰＯと記載。）１〜２０モル付加物のカルボキシメチル化物、オクチルアルコールＥＯ３モル付加物のカルボキシメチル化物、ラウリルアルコールＥＯ２．５モル付加物のカルボキシメチル化物、イソステアリルアルコールＥＯ３モル付加物のカルボキシメチル化物、ドバノール２３ＥＯ３モル付加物のカルボキシメチル化物およびトリデカノールＥＯ２モル付加物のカルボキシメチル化物等。
（２ｊ）フェノール誘導体
フェノール、アルキル（炭素数１〜２４）フェノール（例えば、３−メチルフェノール、３−エチルフェノール等）、ポリフェノール等。
【００３１】
さらに本発明の化合物は４級塩として用いても良い。４級化の方法としては、公知の方法が利用できる。例えば、本発明の化合物と４級化剤を用いたメンシュトキン反応により製造することができる。具体例としては、耐圧性の密閉容器（例えば、オートクレーブ等）に第３級アミンを水またはアルコール（例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等）等の極性溶媒中に溶解または懸濁させ、反応温度約５０〜１００℃で４級化剤｛例えば、アルキル（炭素数１〜３０）クロライド（例えば、メチルクロライド、ラウリルクロライド、ステアリルクロライド等）、ベンジルクロライド、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸等｝等を加え、２〜１０時間反応する方法等が利用できる。
【００３２】
また式（１）中のｍおよびｎは互いに独立して１〜１２の整数を表す。これらの範囲で、工業的に製造しやすいといった観点から、好ましくはｍが１〜１０、より好ましくは２〜８、特に好ましくは３〜６、最も好ましくは３〜５であり、好ましくはｎが１〜１０、より好ましくは１〜７、特に好ましくは２〜５、最も好ましくは２〜４である。
【００３３】
本発明のアミジン化合物の製造法としては、例えば、（１）ラクタム化合物のＮ−アミノアルキル化工程を経て、その後、ラクタム誘導体の脱水環化反応によって形成させる方法（例えば、Oedinger et al., Synthesis (1972), p.591-598; Xing-Quan, J.Nat.Gas Chem.4 (1995）p.119-127等）、（２）環状ラクトンとジアミン化合物を高圧下で反応させる方法（例えば、欧州特許出願公開第０６６２４７６号公報等）、（３）アニオン化剤（例えば、ｎ−ブチルリチウム等）によりカルバニオンを形成した後、置換基を導入する方法（例えば、特開２００３−８１９９７５号公報等）等が挙げられる。
これらの方法の内、製造時の収率、または不純物が生成し難く所望の化合物が純度良く得やすいといった観点、また比較的安価に製造可能な観点から、特に好ましくは（１）の方法である。
（１）の方法を具体的に説明すると、カプロラクタム誘導体（ｘ）の窒素原子上に末端アミノ基を有する炭化水素基（炭素数１〜１２）を導入する工程（Ａ）、酸触媒（例えば、硫酸、パラトルエンスルホン酸等）を用いて脱水環化させる工程（Ｂ）からなる。また、工程（Ａ）は、シアノ基を有する不飽和化合物｛例えば、（メタ）アクリロニトリル等｝を用いて、付加反応により窒素原子上に末端シアノ基を有する炭化水素基（炭素数１〜１２）を導入する工程（Ａ１）、還元剤（例えば、ラネーニッケル等）を用いた水素添加により所望のラクタム誘導体を生成する工程（Ａ２）を経ても良い。付加反応条件が比較的穏やかで、かつプロセスが簡単である点から、工程（Ａ１）と（Ａ２）を含む方法がより好ましい。
【００３４】
本製造方法に用いることができる該カプロラクタム誘導体（ｘ）としては、一般式（２）で表される化合物が挙げられる。
【化２】
2005263671.tif 000005
（式中、Ｒ1およびｍは一般式（１）と同じ。）
【００３５】
具体的な化合物としては、例えば、３−アルキル（炭素数２０〜３０）−２−ピロリドン（例えば、３−エイコシル−２−ピロリドン、３−ヘキコシル−２−ピロリドンなど）、４−アルキル（炭素数２０〜３０）−２−ピロリドン（例えば、４−エイコシル−２−ピロリドン、４−ヘキコシル−２−ピロリドンなど）、５−アルキル（炭素数２０〜３０）−２−ピロリドン（例えば、５−エイコシル−２−ピロリドン、５−ヘキコシル−２−ピロリドンなど）、３−アルキル（炭素数２０〜３０）−ε−カプロラクタム（例えば、３−エイコシル−ε−カプロラクタム、３−ヘキコシル−ε−カプロラクタムなど）、４−アルキル（炭素数２０〜３０）−ε−カプロラクタム（例えば、４−エイコシル−ε−カプロラクタム、４−ヘキコシル−ε−カプロラクタムなど）、５−アルキル（炭素数２０〜３０）−ε−カプロラクタム（例えば、５−エイコシル−ε−カプロラクタム、５−ヘキコシル−ε−カプロラクタムなど）、６−アルキル（炭素数２０〜３０）−ε−カプロラクタム（例えば、６−エイコシル−ε−カプロラクタム、６−ヘキコシル−ε−カプロラクタムなど）、７−アルキル（炭素数２０〜３０）−ε−カプロラクタム（例えば、７−エイコシル−ε−カプロラクタム、７−ヘキコシル−ε−カプロラクタムなど）、３−オキシ−ポリ（重合度１〜１００，０００）アルキレン（炭素数１〜３０）オキサイド−２−ピロリドン、４−オキシ−ポリ（重合度１〜１００，０００）アルキレン（炭素数１〜３０）オキサイド−２−ピロリドン、３−アミノ−ジ−ポリ（重合度１〜１００，０００）アルキレン（炭素数１〜３０）オキサイド−２−ピロリドン、４−アミノ−ジ−ポリ（重合度１〜１００，０００）アルキレン（炭素数１〜３０）オキサイド−２−ピロリドン、３−オキシ−ポリ（重合度１〜１００，０００）アルキレン（炭素数１〜３０）オキサイド−ε−カプロラクタム、４−オキシ−ポリ（重合度１〜１００，０００）アルキレン（炭素数１〜３０）オキサイド−ε−カプロラクタム、３−アミノ−ジ−ポリ（重合度１〜１００，０００）アルキレン（炭素数１〜３０）オキサイド−ε−カプロラクタム、４−アミノ−ジ−ポリ（重合度１〜１００，０００）アルキレン（炭素数１〜３０）オキサイド−ε−カプロラクタムなどが挙げられる。
【００３６】
上記工程（Ａ１）の反応条件としては、例えば、撹拌、温調が可能な反応容器中で、一般式（２）で表される化合物（ｘ）を、必要により不活性溶媒（例えば、トルエン、キシレン等）および塩基性触媒（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）を用いて、反応温度（約４０〜１５０℃）下で、必要により重合禁止剤（例えば、ハイドロキノン）を添加した（メタ）アクリロニトリルを（ｘ）に約０．５〜１０時間かけて添加する。さらに同温度で約１〜２０時間反応させることにより、所望の末端シアノ基を有するカプロラクタム誘導体（ｙ）を得ることができる。また、反応後、必要により酸（例えば、塩酸等）を添加して触媒を失活させる工程、さらに減圧蒸留等により生成物を精製する工程を含んでも良い。
【００３７】
工程（Ａ２）の反応条件としては、例えば、上記の方法で得られた（ｙ）を、反応溶媒｛例えば、メタノール／液体アンモニア＝５０／４０（ｖ／ｖ）｝中で、還元剤（例えば、ラネーニッケル等）の存在下で、反応温度（約１００〜１２０℃）、水素圧（約９０〜１１０ｋｇ／ｃｍ2）下で還元反応させ、ほぼ計算量の水素が吸収された後、触媒をろ別、溶媒を留去し、所望の末端アミノ基を有するカプロラクタム誘導体（ｚ）を得ることができる。また、反応後、減圧蒸留等により生成物を精製する工程を含んでも良い。
工程（Ｂ）の反応条件としては、例えば、上記の方法で得られた（ｚ）を不活性の溶媒（例えば、トルエン、キシレン等）中、酸触媒（例えば、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸等）の存在下で、反応温度（約９０〜１５０℃）で分子内脱水反応により環化反応させ、溶媒を留去することで本発明の化合物を得ることができる。また、反応後、減圧蒸留等により生成物を精製する工程を含んでも良い。
【００３８】
また本発明のアミジン化合物は、界面、特に金属表面への吸着力が高いことから防錆剤等の界面活性剤として好適に使用できる。
本発明の防錆剤としては、前記の一般式（３）で表されるアミジン化合物およびこれらの塩の少なくとも１種を含んでなる組成物が挙げられる。一般式（３）で示されるアミジン化合物の製造法は限定されるものではなく、本発明の製造法で製造したアミジン化合物も使用できる。
【００３９】
【化３】
2005263671.tif 000006
同式におけるＲ3は、互いに独立して水素、炭素数１〜３０のアルキル基（３ａ）、炭素数２〜３０のアルケニル基（３ｂ）、炭素数２〜３０のアルキニル基（３ｃ）、炭素数６〜３０のアリール基（３ｄ）、炭素数７〜３０のアリールアルキル基（３ｅ）、炭素数１〜５００からなりエーテル基、イミノ基、チオエーテル基、エステル基、およびアミド基からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する炭化水素基（３ｆ）、およびシロキサン基（３ｇ）を表し、かつＲ3の内の少なくとも１つが上記の水素以外である。また、Ｒ3中の水素原子は水酸基、アミノ基、カルボキシル基、カルボキシレートアニオン基、スルホン酸基、スルホン酸アニオン基、メルカプト基またはハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）によってさらに置換されていても良い。
また各Ｒ3は、互いに独立して直鎖状もしくは分岐鎖状であっても良く、または少なくとも２つの各基間で互いに結合して炭素数４〜１２の環を形成しても良い。
【００４０】
炭素数１〜３０のアルキル基（３ａ）としては、直鎖状、分岐状のいずれでもよく、前述したものが挙げられる。
炭素数２〜３０のアルケニル基（３ｂ）としては、直鎖状、分岐状のいずれでもよく、前述したものが挙げられる。
炭素数２〜３０のアルキニル基（３ｃ）としては、直鎖状、分岐状のいずれでもよく、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、前記の炭素数１２〜３０のアルケニル基（１ｃ）等が挙げられる。
【００４１】
炭素数６〜３０のアリール基（３ｄ）としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、メチルナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基等が挙げられる。
炭素数７〜３０のアリールアルキル基（３ｅ）としては前記の（１ｄ）が挙げられる。
炭素数１〜５００からなりエーテル基、イミノ基、チオエーテル基、エステル基、およびアミド基からなる群から選ばれる少なくとも１種を含有する炭化水素基（３ｆ）、およびシロキサン基（３ｇ）としては、前記の（１ｅ）および（１ｆ）と同じ物が挙げられる。
【００４２】
本発明の防錆剤を塩として用いる場合、使用する塩としては前述した有機酸、無機酸が挙げられる。また、本発明の防錆剤は前述した４級化物としても使用できる。
【００４３】
前記の式（３）で表される化合物の内、防錆剤として好ましい化合物としては、（３ａ）の炭素数が１２〜３０のもの、（３ｂ）の炭素数が１２〜３０のもの、（３ｃ）の炭素数が１２〜３０のもの、（３ｄ）の炭素数が６〜１２のもの、（３ｅ）の炭素数が７〜１３のもの、（３ｆ）の内の炭化水素基が（１ｅ−１）、（１ｅ−２）、（１ｅ−３）、（１ｅ−４）、および（３ｇ）であり、より好ましくは（３ａ）の炭素数が２０〜２４のもの、（３ｄ）の炭素数が６〜１２のもの、（３ｅ）の炭素数が７〜１３のもの、（３ｆ）の内の炭化水素基が（１ｅ−１）、（１ｅ−２）、（１ｅ−３）、（１ｅ−４）、および（３ｇ）、特に好ましくは（３ｆ）の内の炭化水素基が（１ｅ−１）、（１ｅ−２）、（１ｅ−３）、（１ｅ−４）、および（３ｇ）、最も好ましくは（３ｆ）の内の炭化水素基が（１ｅ−１）および（１ｅ−２）である。
【００４４】
前記の式（３）で表される化合物の内、潤滑剤として好ましい化合物としては、（３ａ）の炭素数が１２〜３０のもの、（３ｂ）の炭素数が１２〜３０のもの、（３ｃ）の炭素数が１２〜３０のもの、（３ｄ）の炭素数が６〜３０のもの、（３ｅ）の炭素数が７〜３０のもの、（３ｆ）の内の炭化水素基が（１ｅ−１）、（１ｅ−２）、（１ｅ−３）、（１ｅ−４）、および（３ｇ）であり、より好ましくは（３ａ）の炭素数が２０〜２４のもの、（３ｄ）の炭素数が６〜３０のもの、（３ｅ）の炭素数が７〜３０のもの、（３ｆ）の内の炭化水素基が（１ｅ−１）、（１ｅ−２）、（１ｅ−３）、（１ｅ−４）、および（３ｇ）、特に好ましくは（３ｆ）の内の炭化水素基が（１ｅ−１）、（１ｅ−２）、（１ｅ−３）、（１ｅ−４）、および（３ｇ）、最も好ましくは（３ｆ）の内の炭化水素基が（１ｅ−１）および（１ｅ−２）である。
【００４５】
前記の式（３）で表される化合物の内、殺菌剤として好ましい化合物としては、（３ａ）の炭素数が１２〜３０のもの、（３ｂ）の炭素数が１２〜３０のもの、（３ｃ）の炭素数が１２〜３０のもの、（３ｄ）の炭素数が６〜１２のもの、（３ｅ）の炭素数が７〜１３のもの、（３ｆ）の内の炭化水素基が（１ｅ−１）、（１ｅ−２）、（１ｅ−３）、（１ｅ−４）、および（３ｇ）であり、より好ましくは（３ａ）の炭素数が２０〜２４のもの、（３ｄ）の炭素数が６〜１２のもの、（３ｅ）の炭素数が７〜１３のもの、（３ｆ）の内の炭化水素基が（１ｅ−１）、（１ｅ−２）、（１ｅ−３）、（１ｅ−４）、および（３ｇ）、特に好ましくは（３ｆ）の内の炭化水素基が（１ｅ−１）、（１ｅ−２）、（１ｅ−３）、（１ｅ−４）、および（３ｇ）、最も好ましくは（３ｆ）の内の炭化水素基が（１ｅ−１）および（１ｅ−２）である。
【００４６】
本発明の防錆防食剤は、必要により水で希釈（例えば、質量基準で５〜２０００倍）して使用する。本発明の防錆剤の含量が０．０５〜３０重量％（特に、０．１〜８重量％）となるように希釈して用いるのがさらに好ましい。
【００４７】
本発明の防錆剤はそのまま直接使用できるが、水または溶剤（例えば、鉱物油等）に
溶解させて用いても良い。水または溶剤で希釈（例えば、質量基準で１０〜５００倍）して使用する場合は、対象とする用途によって適宜調整することが好ましいが、特に本発明の防錆剤の含量が０．１〜２重量％となるように希釈して用いるのが好ましい。
水溶液として用いる場合のｐＨは、防錆効果の観点から、通常２〜１２、好ましくは３〜１０、特に好ましくは７〜９である。
【００４８】
ｐＨを調節するために、前述した有機酸および無機酸を添加してもよい。これらの内、好ましくはリン酸、炭素数８〜１８の有機酸（例えば、オクタン酸、ラウリン酸等）である。使用する場合の添加量は、上記ｐＨになるように適宜調整することが好ましい。
また、希釈に用いる溶剤としては、安定に溶解または乳化できれば特に限定無く使用できるが、例えば、アルコール系溶剤（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール等）、ケトン系溶剤（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等）、エーテル系溶剤（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等）、その他の溶剤（例えば、ジメチルスルフォキシド、ジメチルホルムアミド等）が挙げられる。
【００４９】
本発明の防錆防食剤の対象とする金属としては、鋼鉄、鋳鉄等の鉄、および銅、黄銅、アルミニウム、亜鉛、ハンダ、マグネシウム等の非鉄金属が挙げられる。
【００５０】
本発明の防錆剤は、切削（穿孔、研削を含む）油、引き抜き油等の加工油（例えば、特公昭３６−１０４０７号公報に記載のもの）、不凍液（自動車等の液冷式内燃機関用冷却液の凍結防止および冷却機構の防食用に使用するエチレングリコールを主成分とする不凍液等）、焼き入れ油（例えば、特公昭４０−８２４７号公報、特開昭５０−９８４０９号公報に記載のもの）および作動油（自動車、航空機の油圧機器用等、例えば、水−グリコール系、Ｏ／ＷもしくはＷ／Ｏ乳化形、特開昭５１−３１７４８号公報に記載のもの）等の防錆剤、また塗料（例えば、自動車、建造物等）、アルカリ電池、半導体製造時に用いる防錆剤、プリント配線板（例えば、プリフラックス等）、磁気記録媒体等の防錆剤として好適に用いることができる。これらの内、好ましくは不凍液、作動油、半導体製造時に用いる防錆剤、プリント配線板用防錆剤、特に好ましくは半導体製造時に用いる防錆剤、プリント配線板用防錆剤である。
本発明の防錆剤の添加量は、対象の用途により適宜調整することが好ましい。
【００５１】
本発明の防錆剤は、従来用いられてきた防錆剤と併用することができる。従来の防錆剤としては、例えば、ドデカン二酸塩、炭素数８〜３６のアルカノールアミン、炭素数８〜３６のアルキルリン酸エステル塩、炭素数１２〜２２のアルケニルコハク酸、アルキルアミン（炭素数８〜１８）のエチレンオキシド付加物（エチレンオキシドの付加モル数１〜１０）等が挙げられる。
【００５２】
また本発明の界面活性剤は、その他の界面活性機能（湿潤・浸透機能、起泡・消泡機能、乳化・分散機能、可溶化機能、洗浄機能、平滑機能、帯電防止機能、潤滑機能、吸着機能、殺菌機能）についても従来にない優れた機能を有することから、湿潤剤、浸透剤、起泡剤、消泡剤、乳化剤、分散剤、可溶化剤、洗浄剤、平滑剤、帯電防止剤、潤滑剤、防錆剤、均染剤、染料固着剤、疎水化剤、殺菌剤、凝集剤等にも使用することができる。
これらの内で、より効果を発揮しやすい点から、好ましくは洗浄剤、潤滑剤、殺菌剤であり、特に好ましくは、潤滑剤、殺菌剤である。
【００５３】
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は重量部、％は重量％を示す。
また、防錆防食試験は下記の方法により実施した。
【００５４】
＜防錆防食性試験＞
水中における防錆防食性は、防錆防食剤濃度０．２質量％および０．５質量％の水溶液中に、研磨洗浄した試験片[ＪＩＳ  Ｚ−２９１２（錆発生度測定方法）に規定の試験片を使用。材質：ＪＩＳ  Ｇ−３３１０、ＳＰＣ−１（冷間圧延軟鋼板）；寸法：１．３×８０×６０ｍｍ]を浸漬し、室温で３０日間放置した後取り出してＪＩＳ  Ｚ−２９１２（錆発生度測定方法）に従って、１００区画中の発錆区画数（錆発生度）を求め、下記の判定基準に従って判定した。
【００５５】
室内に放置したときおよび４０℃、湿度８０％ＲＨの恒温恒湿槽内に放置したときの防錆防食性は、防錆防食剤濃度０．２質量％および０．５質量％の水溶液中に、研磨洗浄した試験片[ＪＩＳ  Ｚ−２９１２（錆発生度測定方法）に規定の試験片を使用。材質：ＪＩＳ  Ｇ−３３１０、ＳＰＣ−１（冷間圧延軟鋼板）；寸法：１．３×８０×６０ｍｍ]を１分間浸漬後取り出し、室内に３０日間放置する。その後、ＪＩＳ  Ｚ−２９１２（錆発生度測定方法）に従って、１００区画中の発錆区画数（錆発生度）を求め、下記の判定基準に従って判定した。
【００５６】
恒温恒湿槽内に放置したときの防錆防食性は、防錆防食剤濃度０．２質量％および０．５質量％の水溶液中に、研磨洗浄した試験片[ＪＩＳ  Ｚ−２９１２（錆発生度測定方法）に規定の試験片を使用。材質：ＪＩＳ  Ｇ−３３１０、ＳＰＣ−１（冷間圧延軟鋼板）；寸法：１．３×８０×６０ｍｍ]を１分間浸漬後取り出し、ただちに温度４０℃、湿度８０％の恒温恒湿槽内に２０日間放置する。その後、ＪＩＳ  Ｚ−２９１２（錆発生度測定方法）に従って、１００区画中の発錆区画数（錆発生度）を求め、下記の判定基準に従って判定した。
＜判定基準＞
Ａ；錆発生度  ０
Ｂ；錆発生度  １〜１０
Ｃ；錆発生度  １１〜２５
Ｄ；錆発生度  ２６〜５０
Ｅ；錆発生度  ５１以上
【００５７】
非鉄金属に対する防錆防食性は、防錆防食剤濃度０．４質量％の水溶液中に研磨、洗浄し、組み立てられた下記試験片を室温で１０日間浸漬後、取り出し、表面の水分をぬぐい取り表面変化および質量変化を観察することにより判定した。その後ＪＩＳ  Ｋ−２２３４（不凍液）の金属腐食試験方法に従って、それぞれの金属を洗浄、後処理し、重量を測定した。その重量の差から腐食性を判定した。
＜試験片＞
ＪＩＳ  Ｋ−２２３４（不凍液）の金属腐食試験に規定の試験片を使用。
材質：銅            ＪＩＳ  Ｈ−３１０１（銅板）のＳＰＣ−１、半硬質。
黄銅          ＪＩＳ  Ｈ−３２０１（黄銅板）のＳＰＣ−３。
アルミニウム  ＪＩＳ  Ｈ−５２０２（アルミニウム合金鋳物）のＳＰＣ−２。
ハンダ        ＪＩＳ  Ｈ−４３４１（ハンダ）の５０ＳｎＡ．。
寸法：銅、黄銅は約１．５×５０×２５ｍｍ、穴は直径６．５ｍｍ。
アルミニウム、ハンダは約３×５０×２５ｍｍ、穴は直径６．５ｍｍ
【００５８】
製造例１
J.Heterocycl.Chem., 23(3), p.885(1986)に記載されている合成方法に準じて、６−（ｎ−ステアリル）−ＤＢＵを得た（収率７５％）。得られた化合物１００部（０．２５ｍｏｌ）に対し、酢酸１５部（０．２５ｍｏｌ）を加えて撹拌することにより、アミジン化合物（１）１１５部を得た。
【００５９】
製造例２
製造例１と同様にして６−（ｎ−ブチル）−ＤＢＵを得た（収率８０％）。得られた化合物１００部（０．４８ｍｏｌ）に対し、酢酸２９部（０．４８ｍｏｌ）を加えて撹拌することにより、アミジン化合物（２）１２９部を得た。
【００６０】
実施例１
撹拌、温調が可能なＳＵＳ製耐圧容器に３−アミノ−ε−カプロラクタム｛東京化成工業（株）社製｝１２８部（１．０ｍｏｌ）を入れ、反応温度１３０℃下でエチレンオキサイド８８部（２．０ｍｏｌ）を５時間かけて滴下し、そのまま１０時間反応させることで、３−Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシエチル−アミノ−ε−カプロラクタム２１６部（１−１）を得た。
得られた（１−１）２１６部（１．０ｍｏｌ）に水酸化カリウム０．５部を入れ、反応温度８０℃で、アクリロニトリル５３部をゆっくり（１．５時間）に添加した。同温度で１０時間反応させた。反応後、３６％塩酸水溶液１．４ｍｌを添加して触媒を失活させ、水を減圧下（１．３ｋＰａ）、５０℃で留去することにより、Ｎ−シアノエチル−カプロラクタム誘導体（１−２）２６９部を得た。
得られた（１−２）１８０部（０．６７ｍｏｌ）をメタノール／液体アンモニア混合液｛５０／４０（ｖ／ｖ）｝１５０ｍｌに溶解し、ラネーニッケル９部の存在下、反応温度１００〜１２０℃で、約９５〜１１０ｋｇ／ｃｍ2の水素圧下で還元反応させ、ほぼ計算量の水素が吸収された後、触媒をろ別した。溶媒を留去し、Ｎ−（３−アミノプロピル）−カプロラクタム誘導体（１−３）１８０部を得た。
得られた（１−３）８８部（０．３２ｍｏｌ）を還流、分液装置を備え付けた撹拌、温調可能なガラス製反応器に移し、キシレン１００ｍｌ、ｐ−トルエンスルホン酸０．５部を加え、反応温度１５０℃で分子内脱水反応により環化反応させた。なお、反応で生じる水は分液装置により系外へ排出した。所定量の水が生成した後（反応開始から約１２時間後）、減圧下（１．３ｋＰａ）溶媒を留去した。さらに、酢酸１９部（０．３２ｍｏｌ）を加え、撹拌することにより、本発明のアミジン化合物（３）１００部を得た（粗収率９８％）。
【００６１】
実施例２
エチレンオキサイド８８部の代わりに１，２−エポキシペンタン１７４部（２．０ｍｏｌ）を用いる以外は、実施例１と同様にして、本発明のアミジン化合物（４）１００部を得た（粗収率９５％）。
【００６２】
比較例１
特開平６−３２９６３５号公報、実施例１に記載の方法により、２−フェニル−４−（４−クロロフェニルメチル）イミダゾール（比１）１００部を得た（収率３０％）。
【００６３】
実施例３〜６  、比較例２〜４
製造例１〜２で得られたアミジン化合物（１）、（２）、実施例１〜２で得られた本発明のアミジン化合物（３）、（４）と、比較例１で得られた２−フェニル−４−（４−クロロフェニルメチル）イミダゾール（比１）、ドデカン二酸ナトリウム（比２）、シクロヘキシルアミンＥＯ（２モル）付加物｛三洋化成工業（株）製、サンヒビターＮｏ．５０｝（比３）を用いて、下記の防錆防食性試験を行った。
【００６４】
水中における防錆防食性、室内および４０℃、湿度８０％ＲＨにおける防錆防食性、非鉄金属に対する防錆防食性の結果を表１に示す。
【００６５】
【表１】
2005263671.tif 000007
【００６６】
本発明の防錆防食剤を用いた実施例３〜６のいずれも、水中における防錆防食性、室内および４０℃、湿度８０％ＲＨにおける防錆防食性、非鉄金属に対する防錆防食性に優れていることがわかった。
それに対して、比較例２〜４は、水中における防錆防食性、室内および４０℃、湿度８０％ＲＨにおける防錆防食性、非鉄金属に対する防錆防食性がいずれも不十分であることがわかった。
【産業上の利用可能性】
【００６７】
本発明のアミジン化合物は、鉄および非鉄金属に対する防錆剤として有用である。また、その他の界面活性剤の用途（例えば、湿潤剤、浸透剤、起泡剤、消泡剤、乳化剤、分散剤、可溶化剤、洗浄剤、平滑剤、帯電防止剤、潤滑剤、防錆剤、均染剤、染料固着剤、疎水化剤、殺菌剤、凝集剤等）に対しても有用である。