(57)【要約】【課題】  海底地盤の沈下に際し、海底地盤沈下量に応じて人工地盤支持面高さを調整でき、且つ支持脚機構の傾きと沈下を回復できる人工地盤の支持脚機構を提供することを課題とする。【解決手段】  人工地盤を水平及び鉛直方向に支持する支持脚機構において、海底に設置された直接基礎と、該直接基礎上に設けられた基礎側直立筒体と、該基礎側直立筒体に昇降可能に嵌合する昇降式直立筒体と、該昇降式直立筒体を所定の高さに基礎側直立筒体へ固定する大ピッチ調整用のロック機構と、上記人工地盤と上記昇降式直立筒体との間に配設されナットロック式ジャッキとゴム支承とを有する高さ微調整手段とを備えたことを特徴とする。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
人工地盤を水平及び鉛直方向に支持する支持脚機構において、海底に設置された直接基礎と、該直接基礎上に設けられた基礎側直立筒体と、該基礎側直立筒体に昇降可能に嵌合する昇降式直立筒体と、該昇降式直立筒体を所定の高さに上記基礎側直立筒体へ固定する大ピッチ調整用のロック機構と、上記人工地盤と上記昇降式直立筒体との間に配設されナットロック式ジャッキとゴム支承とを有する高さ微調整手段とを備えたことを特徴とする人工地盤の支持脚機構。
【請求項２】
上記高さ微調整手段が、上記人工地盤の下向きリセスの圧気空間内に維持されるように構成されたことを特徴とする請求項１に記載の人工地盤の支持脚機構。
【請求項３】
上記ナットロック式ジャッキと上記ゴム支承とを有する上記高さ微調整手段が、上記昇降式直立筒体上部に取り付けられた昇降式支持台上に複数組配設されると共に、上記ナットロック式ジャッキが個別に調整可能であることを特徴とする請求項２に記載の人工地盤の支持脚機構。
【請求項４】
上記ゴム支承はストッパ付の小径移動プレート上に固定され、上記昇降式支持台上にストッパ付の大径固定ベースプレートが固定され、上記小径移動プレートは上記大径固定ベースプレート上にスペーサープレートを用いて位置調整可能に固定され、上記ゴム支承の頂面にリングストッパが固着され、上記ナットロック式ジャッキの底部に固定された端板が上記リングストッパに嵌合していることを特徴とする請求項３に記載の人工地盤の支持脚機構。
【請求項５】
上記人工地盤の上面から下面に通じる複数のグラウト注入路を円周方向及び放射方向に穿設したことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の人工地盤の支持脚機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、海上空港などの人工地盤等を海底地盤に対し水平及び鉛直方向に支持するための人工地盤の支持脚機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
海上空港などの大規模人工地盤の基礎構造としては、埋立て式、杭式、浮体式、軟着底式などが一般的に知られている。そして、これら各形式の人工地盤においては、海底地盤の沈下に伴う人工地盤の沈下や基礎構造の傾きや変動などが発生する可能性がある。
このため、近時、海底地盤が沈下した場合にも、その沈下量を吸収して人工地盤を安定的に維持することの可能な種々の基礎構造が、検討され始めている。
【０００３】
例えば、図１１に示すように、人工地盤５０の上部デッキの下面に軟着底浮力体５１を突設し、海底基礎地盤５３上にはケーソン式等のある程度大きな底面積を有する締切構造物５２を設置し、この締切構造物５２内に浮力体５１を挿入し、締切構造物５２内には内水５４を充填し、締切構造物５２の内底面に浮力体５１を軟着底させ、かつ大きな底面積を有する締切構造物５２を使用することで、海底基礎地盤接地力を小さくし、また潮位変動により人工地盤等の高さが変動しないようにするものが提案されている。（例えば、特許文献１参照）
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−８１０４８号公報（第４頁、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このような従来の人工地盤においては、海底地盤の傾きと沈下を回復できるようにはなっていないという問題がある。
本発明は、上記問題の解決を目的とし、海底地盤の沈下に際し、海底地盤沈下量に応じて人工地盤支持面高さを調整でき、且つ支持脚機構の傾きと沈下を回復できる人工地盤の支持脚機構を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、その第１の手段としての人工地盤の支持脚機構は、海底に設置された直接基礎と、該直接基礎上に設けられた基礎側直立筒体と、該基礎側直立筒体に昇降可能に嵌合する昇降式直立筒体と、該昇降式直立筒体を所定の高さに上記基礎側直立筒体へ固定する大ピッチ調整用のロック機構と、上記人工地盤と上記昇降式直立筒体との間に配設されナットロック式ジャッキとゴム支承とを有する高さ微調整手段とを備えたことを特徴とする。
第１の手段によれば、人工地盤の上面高さは上下方向に大きい長さで無段階に微調整可能される。
【０００７】
（２）第２の手段として、第１の手段の人工地盤の支持脚機構において、上記高さ微調整手段が、上記人工地盤の下向きリセスの圧気空間内に維持されるように構成されたことを特徴とする。
第２の手段によれば、微調整手段が人工地盤の下向きリセスの圧気空間内に維持されているので、随時メンテナンスが可能となる。
【０００８】
（３）第３の手段として、第２の手段の人工地盤の支持脚機構において、上記ナットロック式ジャッキと上記ゴム支承とを有する上記高さ微調整手段が、上記昇降式直立筒体上部に取り付けられた昇降式支持台上に複数組配設されると共に、上記ナットロック式ジャッキが個別に調整可能であることを特徴とする。
第３の手段によれば、ナットロック式ジャッキにより、個別に高さ及び支持脚傾き時のゴム支承位置が調整される。
【０００９】
（４）第４の手段として、第３の手段の人工地盤の支持脚機構において、上記ゴム支承はストッパ付の小径移動プレート上に固定され、上記昇降式支持台上にストッパ付の大径固定ベースプレートが固定され、上記小径移動プレートは上記大径固定ベースプレート上にスペーサープレートを用いて位置調整可能に固定され、上記ゴム支承の頂面にリングストッパが固着され、上記ナットロック式ジャッキの底部に固定された端板が上記リングストッパに嵌合していることを特徴とする。
第４の手段によれば、ストッパプレートを調整することにより、微調整手段と昇降式直立筒体との水平ずれが容易に調整される。
【００１０】
（５）第５の手段として、上記人工地盤の上面から下面に通じる複数のグラウト注入路を円周方向及び放射方向に穿設したことを特徴とする。
第５の手段によれば、現場でグラウト注入路を通し固定基礎の下側にグラウト注入を行うことにより支持脚機構の傾きまたは沈下が回復される。
【発明の効果】
【００１１】
（１）請求項１に係る人工地盤の支持脚機構は、海底に設置された直接基礎と、該直接基礎上に設けられた基礎側直立筒体と、該基礎側直立筒体に昇降可能に嵌合する昇降式直立筒体と、該昇降式直立筒体を所定の高さに上記基礎側直立筒体へ固定する大ピッチ調整用のロック機構と、上記人工地盤と上記昇降式直立筒体との間に配設されナットロック式ジャッキとゴム支承とを有する高さ微調整手段とを備えているので、徐々に進行する地盤沈下に対応して、人工地盤の上面高さを上下方向に大きい長さで無段階に微調整できる。
【００１２】
また、微調整用のナットロック式ジャッキと、基礎側直立筒体側の大ピッチ調整用のロック機構とを組合せることにより、地盤沈下深さ数ｍまでの支持点調整を無段階に行うことができる。
【００１３】
（２）請求項２に係る人工地盤の支持脚機構は、上記高さ微調整手段が、上記人工地盤の下向きリセスの圧気空間内に維持されるように構成されているので、支承手段が随時メンテナンスできる。
【００１４】
（３）請求項３に係る人工地盤の支持脚機構は、上記ナットロック式ジャッキと上記ゴム支承とを有する上記高さ微調整手段が、上記昇降式直立筒体上部に取り付けられた昇降式支持台上に複数組配設されると共に、上記ナットロック式ジャッキが個別に調整可能であるので、個別に高さ及び軽度の支持脚傾き時のゴム支承位置の調整が可能となる。
【００１５】
（４）請求項４に係る人工地盤の支持脚機構は、上記ゴム支承はストッパ付の小径移動プレート上に固定され、上記昇降式支持台上にストッパ付の大径固定ベースプレートが固定され、上記小径移動プレートは上記大径固定ベースプレート上にスペーサープレートを用いて位置調整可能に固定され、上記ゴム支承の頂面にリングストッパが固着され、上記ナットロック式ジャッキの底部に固定された端板が上記リングストッパに嵌合しているので、ストッパプレートを調整することにより、微調整手段と昇降式直立筒体との水平ずれが容易に調整される。
【００１６】
（５）請求項５に係る人工地盤の支持脚機構は、上記人工地盤の上面から下面に通じる複数のグラウト注入路を円周方向及び放射方向に穿設したので、現場でグラウト注入路を通し固定基礎の下側にグラウト注入を行うことにより支持脚機構の大きい傾きの垂直復元と、地盤沈下量の復元が可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。
図１は本発明の実施の形態に係る人工地盤の全体側面図、図２は本発明の実施の形態に係る人工地盤の平面図である。
図３は本発明の実施の形態に係る人工地盤の支持脚機構の側面断面図、図４は本発明の実施の形態に係るロックピン差込み孔を示す断面図、図５は本発明の実施の形態に係る高さ微調整機構の配置を示す平面図、図６は本発明の実施の形態に係る高さ微調整機構の詳細断面図である。
【００１８】
図１及び図２に示すように、本発明の実施の形態に係る海洋構造物は、海面付近に浮遊する人工地盤１、海底に敷設された６組の直接基礎１２、および人工地盤１と直接基礎１２との間に昇降可能に配設された６組の支持脚機構１０とにより構成されている。
【００１９】
人工地盤１は、海中に潜水している浮力体２と、海面の上方に位置し海上空港などに使用可能なプラットホーム４と、浮力体２とプラットホーム４との間に配設された多数のコラム３により構成されている。
なお、コラム３は、海水の潮位の変化及び波による浮力の変動を小さくするために、断面積の小さいものとなっている。また、浮力体２内には、図示しないバラストポンプ等によりバラスト調整可能な多数の浮力調整用バラストタンク７が配設されている。
そして、人工地盤１は、直接基礎１２および支持脚機構１０とにより水平方向及び鉛直方向に支持される。
【００２０】
人工地盤１のプラットホーム４の対称的な６個所には、下向きに浮力体２を貫通して一体に延びる気密囲壁５が配設されている。そして、この気密囲壁５とプラットホーム４の隔壁とにより、下端が海中に開放された下向きの圧気区画６が形成されている。この圧気区画６は図示しないコンプレッサ等により、圧気区画６内の海面４３の高さが調整可能になっている。
【００２１】
各々の圧気区画６の直下の海底付近は、ＣＤＭ（深層混合処理工法）などにより補強された海底の改良地盤１１が形成されている。そして、この各々の改良地盤１１上に円盤状の直接基礎１２が載置されている。
なお、直接基礎１２には、図３に示すように、円周方向及び放射方向に分散して上面から下面へ通じる多数のグラウト注入路３９が設けられている。
【００２２】
つぎに、図３，４，５，６に基づき、本発明の実施の形態に係る人工地盤１の支持脚機構１０につき説明する。
図３に示すように、直接基礎１２と人工地盤１のプラットホーム４との間の各圧気区画６内には、高さ大調整手段９と高さ微調整手段１５とにより構成された６組の支持脚機構１０が配設されている。
【００２３】
高さ大調整手段９は、直接基礎１２上に取り付けられている。
すなわち、図３に示すように、各々の直接基礎１２上には、基礎側直立筒体１３が固定されている。
この基礎側直立筒体１３は二重筒型に形成され、昇降式直立筒体１４が非旋回で昇降自由に出入りするように構成されている。
【００２４】
そして、図４に示すように、二重の基礎側直立筒体１３には、円周方向の等間隔の複数位置で上端付近に半径方向の共通軸線上に揃えて設けたロックピン差込み孔１８が設けられている。また、昇降式直立筒体１４には、基礎側直立筒体１３のロックピン差込み孔１８と一致する位置に縦方向に一例として５００ｍｍピッチで同径のロックピン差込み孔２３列が設けられている。
【００２５】
また、図３に示すように、基礎側直立筒体１３の上部の内部には、複数個のピン差込みロック手段１９が、各ロックピン差込み孔１８に対向して設けられている。そして、海底地盤及び直接基礎１２の沈下状況に応じて選択された昇降式直立筒体１４側のロックピン差込み孔２３と、基礎側直立筒体１３側のロックピン差込み孔１８とに、ピン差込みロック手段１９のピンが差込まれ、ロックされて所定の高さに固定されるようになっている。
【００２６】
つぎに、図５、図６に基づき、本発明の実施の形態に係る海洋構造物人工地盤の支持脚機構１０における高さ微調整手段１５を詳細に説明する。
各々の昇降式直立筒体１４上には、円形に張出した水平な昇降式支持台１６が取り付けられており、この昇降式支持台１６上に図５に示すように、４組の高さ微調整手段１５が載置されている。
【００２７】
図６に示すように、水平な昇降式支持台１６上には、ストッパ付の凹型の大径固定ベースプレート３２が取り付けられている。そして、大径固定ベースプレート３２上にはストッパ付の凹型の小径移動プレート１７が移動可能に載置されている。
この大径固定ベースプレート３２と小径移動プレート１７との間には多数枚のスペーサープレート３４が挿入さており、挿入するスペーサープレート３４の枚数および位置を変えることにより、小径移動プレート１７の位置を大径固定ベースプレート３２の直径の範囲内で任意の位置に設定できるようになっている。なお、小径移動プレート１７は、位置が設定された後にボルト等で固定される。
【００２８】
小径移動プレート１７上には水平及び鉛直支持兼用のゴム支承２５が取り付けられると共に、そのゴム支承２５上にはストッパ付の凹型のリングストッパ３１が取り付けられている。なお、このゴム支承２５は、水平及び鉛直方向の動揺に対応できるようになっている。
【００２９】
一方、圧気区画６内のプラットホーム４の裏面の天井には、ナットロック式ジャッキ２４が下向きに取り付けられている。
このナットロック式ジャッキ２４の流体圧シリンダ２６内には、例えば５５０ｍｍのストロークを有する外ネジ付のピストンロッド２７が挿入されている。また、流体圧シリンダ２６の下端には油圧モータ２９の駆動で自動追従回転するロックナット２８がピストンロッド２７の外ネジに噛合わせて設けられている。
【００３０】
ピストンロッド２７の下端には端板３０が取り付けられ、リングストッパ３１上に緩く嵌り合うように載置されている。そして、端板３０と上向きリングストッパ３１との間には、密閉ゴム３３が挿入されている。なお、端板３０は円板とされるのが好ましい。
【００３１】
そして、自動追従は次のようにして制御される。
流体圧シリンダ２６とプラットホーム４との連結部あるいは、ピストンロッド２７の下端には図示しない圧力センサが設けられている。
この圧力センサからの検出圧力が所定の許容圧力範囲を超えた場合、直接基礎１２が沈下を起こした可能性があると判断し、直接基礎の沈下量を計測する。次に直接基礎１２の高さ計測値より、それを補うだけの流体圧シリンダ２６の伸縮量を決定し、流体圧シリンダ２６を図示しない流体圧ポンプ等により伸縮させる。圧力センサにより設計許容圧力になった事を確認し、要すれば伸縮量を微調整し、その後、油圧モータ２９によりロックナット２８を回動してピストンロッド２７をロックする。その後、油圧モータ２９を停止すると共に流体圧シリンダ２６の油圧配管弁を閉じ流体圧シリンダ２６をロックする。
【００３２】
このようにして、ナットロック式ジャッキ２４と水平及び鉛直支持兼用のゴム支承２５とで構成された高さ微調整手段１５により、プラットホーム４の水平及び鉛直方向の動揺を吸収する。
【００３３】
なお、ナットロック式ジャッキ２４とゴム支承２５とは、上下を逆にしても良い。
また、人工地盤１、支持脚機構１０、直接基礎１２、基礎側直立筒体１３、昇降式直立筒体１４、ナットロック式ジャッキ２４、ゴム支承２５などの各々の構成は、図示の構成のみに限定されるものではなく、本発明の範囲内でその具体的構造に種々の変更を加えてよいことはいうまでもない。
【００３４】
一方、圧気区画６の上方のプラットホーム４内には、図３に示すように複数個のギヤージャッキ２０が水平に配置されている。そして、この各ギヤージャッキ２０から複数の支持ワイヤ２２が、プラットホーム４内に配設された複数のガイドシーブ２１ａを介して昇降式支持台１６の端部に接続されている。このようにして、支持脚機構１０は、ギヤージャッキ２０により昇降できるようになっている。
なお、ギヤージャッキ２０、ガイドシーブ２１ａ等は、円周状に少なくとも３個以上設けるのが望ましい。
【００３５】
なお、図３に示すように、圧気区画６内の海面４３は外部の海面より低くなるように、圧気区画６内の圧力が図示しないコンプレッサ等により加圧されており、これにより、ピン差込みロック手段１９等の機械類が水面より上に位置するようになっている。４２はバラストタンク７内の水面である。
【００３６】
次に、図７〜図１０に基づき、本発明の実施の形態に係る基礎地盤沈下に際しての人工地盤支持点高さの調整、または傾きの調整要領を説明する。
図７は本発明の実施の形態に係る高さを微調整する要領を示す図、図８は本発明の実施の形態に係る高さを大きく調整する要領を示す図、図９は本発明の実施の形態に係る傾きを微調整する要領を示す図面、図１０は本発明の実施の形態に係る傾きを大きく調整する要領を示す図である。
【００３７】
先ず、図７に基づき本発明の実施の形態に係る高さを微調整する要領を説明する。
図７（ａ）は地盤沈下していない正常時の現状を示している。このとき直接基礎１２、支持脚機構１０及びプラットホーム４は、図３で示す状態を維持している。
そして、図７（ｂ）に示すように地盤沈下が徐々に始まり、直接基礎１２の沈下量（ｄ１）が最大５５０ｍｍに達するまでの間は、高さ微調整手段１５のナットロック式ジャッキ２４にて高さの微調整を行う。
【００３８】
なお、小径移動プレート１７と大径固定ベースプレート３２との間、または、端板３０とリングストッパ３１との間等には図示しない圧力センサが設けられており、この圧力センサにより地盤沈下を感知できるようになっている。
そして、この圧力センサにて地盤沈下を感知（検出圧力が低下）した時点で、支持脚の沈下量を計測し流体圧シリンダ２６の伸縮量を決定する。その量に応じ複数のナットロック式ジャッキ２４を個別に又は一斉に自動又は半自動で伸ばし駆動し、端板３０がゴム支承２５の上向きリングストッパ３１面に所定の値で圧着した状態を維持する。
【００３９】
このようにして、地盤沈下の都度沈下量に応じて迅速に且つ的確に各ゴム支承２５を圧着状態に戻し調整し、人工地盤１を規定の高さに支持する。
なお、沈下量の計測は、圧力センサに加え、プラットホーム４と昇降式支持台１６との間の距離を測定する距離センサ等を併用し、計測精度を上げる。
【００４０】
次に、図８に基づき、本発明の実施の形態に係る高さを大きく調整する要領を説明する。
これは、上述のナットロック式ジャッキ２４による高さ微調整が、５００ｍｍを超えた場合の支持点高さ調整操作である。
先ず、図８（ａ）に示すように、直接基礎１２が沈下し、ナットロック式ジャッキ２４の延び量（ｄ２）が例えば５００ｍｍ＋αの設定値を越えたことを検出した時点で、ナットロック式ジャッキ２４を最縮小状態まで縮め駆動させる。
【００４１】
次に、複数個のギヤージャッキ２０を同期駆動し、支持ワイヤ２２に張力を加えながらピン差込みロック手段１９をピン引抜き側に駆動して昇降式直立筒体１４と基礎側直立筒体１３の結合を解除する。
その後、引き続きギヤージャッキ２０により支持ワイヤ２２を引込み、昇降式直立筒体１４、昇降式支持台１６、高さ微調整手段１５等を上昇させる。
【００４２】
そして、基礎側直立筒体１３が５００ｍｍ以上上昇したことを検出した時点で、ピン差込みロック手段１９をピン差込み側に駆動し、ギヤージャッキ２０により支持ワイヤ２２を緩める。
続いて、各ナットロック式ジャッキ２４を伸ばし駆動して、図８（ｃ）に示すように基礎側直立筒体１３が若干量（ｄ３）沈下し、ゴム支承２５の端板３０を昇降式支持台１６上のリングストッパ３１内に押当てた状態にする。
このようにして、基礎側直立筒体１３を５００ｍｍ（ピン差込孔１ピッチ分）上昇させるように盛替える操作が完了する。
【００４３】
その後、高さ微調整手段１５は初期段階に戻り、再び各ナットロック式ジャッキ２４による高さの微調整の操作が開始される。
上述の、図７に示す高さ微調整の操作と図８に示す高さを大きく調整する操作とを繰り返すことにより、無段階で、昇降式直立筒体１４の上昇可能な高さ及びロックピン差込み孔２３の数に応じた地盤沈下（例えば、ロックピン差込み孔２３の数が１５個であれば、７ｍ迄）に対応することが可能である。
【００４４】
次に、図９に基づき、本発明の実施の形態に係る傾きを微調整する要領を説明する。
偏った地盤の沈下により直接基礎１２に軽度の傾きが生じた場合は、図７に示す高さ微調整の操作において、複数個のナットロック式ジャッキ２４を個別に伸ばし操作して、ゴム支承２５側と当接させることで傾いた支持脚機構１０上に安定して支持点高さを調整する。
【００４５】
このとき、例えば図示のように支持脚機構１０の傾き角が２°あれば、傾斜方向に分かれて配置された複数のナットロック式ジャッキ２４の伸び代差と、同じく傾斜方向に分かれて配置された対応する密閉ゴム３３及びゴム支承２５の撓み代差によって均等に１°ずつ吸収されるようになる。
【００４６】
なお、上述のごとく、小径移動プレート１７と大径固定ベースプレート３２との間、または、端板３０とリングストッパ３１との間等には個別に図示しない圧力センサを設け、この個々の圧力センサが設計上の許容値内になるようナットロック式ジャッキ２４を個別操作しても良い。
【００４７】
次に、図１０に基づき本発明の実施の形態に係る傾きを大きく調整する要領を説明する。
この調整要領は、直接基礎１２および支持脚機構１０が例えば２°以上大きく傾いた場合に、垂直に復元するものである。
【００４８】
図１０（ａ）は海底地盤が偏って沈下し、直接基礎１２および支持脚機構１０が垂直復元を必要とする状態に傾いた状態である。
この状態において、直接基礎１２および支持脚機構１０が傾いた側のギヤージャッキ２０と昇降式直立筒体１４間の支持ワイヤ２２を外し、ギヤージャッキ２０と直接基礎１２間に別の引上げ用ワイヤ３５を、ガイドシーブ２１ｂを介して接続する。
【００４９】
このとき、直接基礎１２および支持脚機構１０の沈下側が、プラットホーム４内の隣り合う２個のギヤージャッキ２０の中間に位置する場合は、隣接する２個のギヤージャッキ２０から直接基礎１２へＶ形に２本のワイヤを接続することができる。
また、直接基礎１２の沈下側に対応できるように、この作業用の別のギヤージャッキをプラットホーム４内の天井室内へ搬入して使用することもできる。
【００５０】
次いで、図１０（ｂ）のように、ギヤージャッキ２０の引込み駆動で直接基礎１２の沈下側を引上げ、直接基礎１２を水平に支持する。
【００５１】
次いで、図１０（ｃ）のように、人工地盤１のプラットホーム４上に乗入れたグラウトポンプ車３７と直接基礎１２に形成されたグラウト注入路３９の上部接続口との間にグラウト注入ホース３６を接続する。
その後、グラウトポンプ車３７により、直接基礎１２と改良地盤１１との隙間のグラウト注入部分３８へグラウトを注入する。
なお、グラウト注入は、必要に応じて直接基礎１２の反対側や他の部分にも行って直接基礎１２を垂直に戻すことができる。
【００５２】
このとき、グラウト注入路３９は、一回使用してしまうと閉塞状態になってしまうが、グラウト注入路３９を多数設けておき、一回のグラウト注入において、その１／３のグラウト注入路３９を使用すれば、３回の傾き調整が可能となる。
【００５３】
次いで、図１０（ｄ）のように、引上げ用ワイヤ３５とグラウト注入ホース３６を撤去し、ギヤージャッキ２０と昇降式支持台１６との間に支持ワイヤ２２を接続することで、直接基礎１２および支持脚機構１０の傾きが垂直復元される。また、前記グラウト注入を直接基礎１２全体の下側に行うことで、沈下した地盤高さを復元することも可能である。
【００５４】
この結果、地盤沈下に伴う人工地盤支持点の沈下及び傾斜方向の調整及び支持脚の傾斜、地盤高さの復元が短時間で安全に容易に行える効果が得られる。
以上、本発明を図示の実施の形態について説明したが、本発明は上記の実施の形態に限定されず、本発明の範囲内でその具体的構造に種々の変更を加えてよいことはいうまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の実施の形態に係る人工地盤の全体側面図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る人工地盤の平面図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る人工地盤の支持脚機構の側面断面図である。
【図４】本発明の実施の形態に係るロックピン差込み孔を示す断面図である。
【図５】本発明の実施の形態に係る高さ微調整機構の配置を示す平面図である。
【図６】本発明の実施の形態に係る高さ微調整機構の詳細断面図である。
【図７】本発明の実施の形態に係る高さを微調整する要領を示す図である。
【図８】本発明の実施の形態に係る高さを大きく調整する要領を示す図である。
【図９】本発明の実施の形態に係る傾きを微調整する要領を示す図である。
【図１０】本発明の実施の形態に係る傾きを大きく調整する要領を示す図である。
【図１１】従来の海洋構造物における支持脚機構を示す図である。
【符号の説明】
【００５６】
１        人工地盤
２        浮力体
３        コラム
４        プラットホーム
５        気密囲壁
６        圧気区画
７        バラストタンク
９        高さ大調整手段
１０      支持脚機構
１１      改良地盤
１２      直接基礎
１３      基礎側直立筒体
１４      昇降式直立筒体
１５      高さ微調整手段
１６      昇降式支持台
１７      小径移動プレート
１８      ロックピン差込み孔
１９      ピン差込みロック手段
２０      ギヤージャッキ
２１ａ、２１ｂ      ガイドシーブ
２２      支持ワイヤ
２３      ロックピン差込み孔
２４      ナットロック式ジャッキ
２５      ゴム支承
２６      流体圧シリンダ
２７      ピストンロッド
２８      ロックナット
２９      油圧モータ
３０      端板
３１      リングストッパ
３２      大径固定ベースプレート
３３      密閉ゴム
３４      スペーサープレート
３５      引上げ用ワイヤ
３６      グラウト注入ホース
３７      グラウトポンプ車
３８      グラウト注入部分
３９      グラウト注入路
４２      バラストタンク内の水面
４３      圧気区画内の海面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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