(57)【要約】  【課題】グラビア印刷用の被製版ロールに対してブツやピットがない均一な厚さの厚付き硫酸銅メッキを付けることができて、砥石研磨に拠らないで中仕上げ研磨、鏡面仕上げ研磨が短時間に行えて高品質な被製版ロールを提供できる、セルを形成する前までの被製版ロールのメッキ及び研磨方法を提供すること。  【解決手段】被製版ロールに硫酸銅メッキを付けてから研磨を行い鏡面仕上げ状態とする。硫酸銅メッキは、回転する被製版ロールに最大ロール長以上の長さを有する不溶性陽極を上昇させてロール下面に近接させ、ブツやピットの原因となる不可避不純物をフィルターで除去したメッキ液を供給してロール両端で厚くならないメッキを行う。研磨は、被製版ロールを陽極に接続して回転し、陰極部を備えた研磨ヘッド本体に、液含浸性砥粒固定可撓体又はスーパー繊維を重ねて被製版ロールに密着し電解液を供給し、研磨ヘッドを往復動させ電極部に対応する部分では電解研磨を行い他の部分では摩擦研磨を行い、もってメッキの厚みに沿った研磨を行う。【選択図】図１
2005146322.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被製版ロールに硫酸銅メッキを付けてから研磨を行い鏡面仕上げ状態とする、被製版ロールのメッキ及び研磨方法であって、
前記硫酸銅メッキは、被メッキ体である被製版ロールを回転自在に両端支持してメッキ槽内に位置させて陰極となるように通電して所要回転数で回転し、該被製版ロールの下方に位置して設けられていて被製版ロールの最大長以上の長さを有しロール対向面が平滑で被製版ロールに平行し陽極となるように通電される不溶性陽極を上昇させて被製版ロールの下面に近接させ、ブツやピットの原因となる不可避不純物をフィルターで除去したメッキ液を供給してメッキを行う構成であり、
前記研磨は、被製版ロールを回転自在に両端支持し陽極に接続して回転し、ロール押圧面の一部に陰極に接続する電極部を備えた研磨ヘッド本体に、摩擦強度が大きい不織布に砥粒を固定してなる液含浸性砥粒固定可撓体又はスーパー繊維を重ねて、該液含浸性砥粒固定可撓体又はスーパー繊維を前記被製版ロールに密着しかつ密着面に電解液を供給し前記凹筒面により被製版ロールへ押圧させ、研磨ヘッドをロール面長方向に往復動させることにより被製版ロールの電極部に対応する部分では電解研磨を行い電解電流が流れない他の部分では摩擦研磨を行う構成であることを特徴とするセルを形成する前までの被製版ロールのメッキ及び研磨方法。
【請求項２】
被製版ロールに硫酸銅メッキを付けてから中仕上げ研磨を行い、次いで鏡面仕上げ研磨を行う、被製版ロールのメッキ及び研磨方法であって、
前記硫酸銅メッキは、被メッキ体である被製版ロールを回転自在に両端支持してメッキ槽内に位置させて陰極となるように通電して所要回転数で回転し、該被製版ロールの下方に位置して設けられていて被製版ロールの最大長以上の長さを有しロール対向面が平滑で被製版ロールに平行し陽極となるように通電される不溶性陽極を上昇させて被製版ロールの下面に近接させ、ブツやピットの原因となる不可避不純物をフィルターで除去したメッキ液を供給してメッキを行う構成であり、
前記中仕上げ研磨は、被製版ロールを回転自在に両端支持し陽極に接続して回転し、凹筒面を有しかつ該凹筒面の一部分に陰極に接続する電極部を有する研磨ヘッド本体に、摩擦強度が大きい不織布に砥粒を固定してなる液含浸性砥粒固定可撓体を掛け、該液含浸性砥粒固定可撓体を前記被製版ロールに密着し前記凹筒面により被製版ロールへ押圧させ、被製版ロールと研磨帯との密着面に電解液を供給し研磨ヘッドをロール面長方向に往復動させることにより研磨帯をロール面長方向に往復動させ被製版ロールの電極部に対応する部分では電解研磨を行い電解電流が流れない他の部分では摩擦研磨を行い、もって研磨帯を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させる研磨による中仕上げ研磨を行う構成であり、
前記鏡面仕上げ研磨は、被製版ロールを回転自在に両端支持し陽極に接続して回転し、凹筒面を有しかつ該凹筒面の一部分に陰極に接続する電極部を有する研磨ヘッド本体に掛けた所要広幅の可撓性を有するスーパー繊維を前記被製版ロールに密着して前記凹筒面により被製版ロールへ押圧させ、被製版ロールとスーパー繊維との密着面に電解液を供給し研磨ヘッドをロール面長方向に往復動させることによりスーパー繊維をロール面長方向に往復動させ被製版ロールの電極部に対応する部分では電解研磨を行い電解電流が流れない他の部分では摩擦研磨を行い、もってスーパー繊維を用いた電解研磨と摩擦研磨を混在させる鏡面仕上げ研磨の処理工程を行うことを特徴とするセルを形成する前までの被製版ロールのメッキ及び研磨方法。
【請求項３】
前記硫酸銅メッキは、メッキ液補給槽において硫酸に酸化第二銅粉末、炭酸銅粉末、又は硫酸銅粉末のいずれかの含銅微粉末を添加してなる硫酸銅メッキが行えるメッキ液を貯留し、メッキ液中の不可避不純物をフィルターにより除去して不溶性陽極を備えたメッキ槽へ供給してメッキを行う、ことを特徴とする〔請求項１〕又は〔請求項２〕に記載のセルを形成する前までの被製版ロールのメッキ及び研磨方法。
【請求項４】
使用中のメッキ液の銅濃度を計測して銅濃度が不足するとき、又は一本の被製版ロールのメッキ処理をする毎に積算メッキ電流値を計測してメッキ処理を終える毎に含銅微粉末の必要量を自動補給するとともに、使用中のメッキ液の硫酸濃度を計測して硫酸濃度が不足するときは必要量の硫酸を自動補給することを特徴とする〔請求項３〕に記載のセルを形成する前までの被製版ロールのメッキ及び研磨方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、グラビア印刷用の被製版ロールに対してブツやピットがない均一な厚さの厚付き硫酸銅メッキを付けることができて、砥石研磨に拠らないで中仕上げ研磨、鏡面仕上げ研磨が短時間に行えて高品質な被製版ロールを提供できる、セルを形成する前までの被製版ロールのメッキ及び研磨方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
グラビア印刷用の被製版ロールの製版方法を二種類説明する。
（１）直版タイプの被製版ロールのレーザー製版工程は、ロールの搬入−旋盤で超精密円筒加工を行ってから砥石による中仕上げ研磨・上仕上げ研磨・鏡面仕上げ研磨を行う工程を実施するか、又は塩酸によりクロム剥離して真円に補正する円筒研磨を行ってから一定の厚みを削る落版研磨を行う−脱脂−ニッケルメッキ−硫酸銅メッキ−砥石による中仕上げ研磨・上仕上げ研磨・鏡面仕上げ研磨を行う工程を実施する。次いで、感光膜塗布形成−レーザー露光装置による画像焼付−アルカリ現像−食刻によるセルの形成−強アルカリによるレジスト剥離−クロムメッキ−ペーパー研磨−搬出の工程となっている。
（２）バラードメッキタイプの被製版ロールのレーザー製版工程は、使用済みのバラード銅メッキを取り除いたロールの搬入−脱脂−写真廃液をコートする弱密着性表面処理−硫酸銅メッキ−砥石による中仕上げ研磨・上仕上げ研磨・鏡面仕上げ研磨を行う工程を実施する。次いで、感光膜塗布形成−レーザー露光装置による画像焼付−アルカリ現像−食刻によるセルの形成−強アルカリによるレジスト剥離−クロムメッキ−ペーパー研磨−搬出の工程となっている。
なお、この他に電子彫刻機やレーザー彫刻機による彫刻製版等がある。
グラビア製版技術に関連する先行技術文献としては、特願平10−193551、特願平10−193552、特開2000−062342、特開2000−062343、特開2000−062344、特開2001−179923、特開2001−179924、特開2001−187440、特開2001−187441、特開2001−191475、特開2001−191476、特開2001−260304、特開2002−127369、特開2002−187249、特開2002−187250、特開2002−200728、特開2002−200729、特開2002−307640、特開2002−307641等がある。
【０００３】
従来のグラビア印刷用の被製版ロールの硫酸銅メッキ方法・装置においては、銅を電気メッキするための陽極として含燐銅陽極が使われることは知られており、この電気メッキ用含燐銅陽極の一つとして燐：３５０〜７００ｐｐｍ、酸素：２〜５ｐｐｍを含有し、残部が銅および不可避不純物からなる組成を有する含燐銅陽極が知られている。
従来のグラビア印刷用の被製版ロールの硫酸銅メッキ方法・装置は、スタッカクレーンにより搬送されるカセット形ロールチャック回転搬送ユニットをメッキ装置本体フレームに載置して該カセット形ロールチャック回転搬送ユニットにより両端チャックされるグラビア印刷用の被製版ロールを陰極に接続してメッキ槽に貯留されるメッキ液に浸漬して回転し、メッキ液に浸漬するメッキ金属である含燐銅ボールを陽極にして被製版ロールとの間にメッキ電流を流す方法であった。そして、酸素：２〜５ｐｐｍ、Ｐ：３５０〜７００ｐｐｍを含有する含燐銅からなる銅ボールがメッキ槽に陽極籠に投入・補給して、１０〜１５Ａ／ｄｍ2 の高電流密度でメッキしている。
含燐銅ボールには不可避不純物が含まれていてメッキ金属銅ボールの表面に黒色のアノードスラッジが付着する。そして、液の攪拌とメッキ金属銅ボールの溶解によってアノードスラッジがメッキ金属銅ボールから離れてメッキ液中を浮遊し被製版ロールの表面に付着してブツ（微小突起）やピット（ピンホール）の原因になっていた。
又、メッキ金属銅ボールの溶解量が多過ぎてメッキ液中の銅イオン濃度が高すぎて適切な硫酸銅メッキができなくなるのを回避するために定期的にメッキ液を抜いて希釈して適切な銅イオン濃度のメッキ液とするメンテナンスが必要であった。
なお、半導体ウエハにおける電気銅めっき方法においても、含燐銅ボールを陽極にしてメッキ電流を流す方法が行われている。
【特許文献１】特開平５−２１４５８６号公報
【特許文献２】特開平８−６７９３２号公報
【特許文献３】特開平１１−０６１４８８号公報
【特許文献４】特開２００３−１７１７９７号公報
【特許文献５】特開２００２−２７５６９８号公報
【０００４】
従来のグラビア印刷用の被製版ロールの硫酸銅メッキ方法・装置においては、不溶性陽極を用いたメッキ方法及び装置は全く採用されていない。
含リン銅ボールを溶解する方法以外の不溶性陽極を用いた硫酸銅メッキ方法・装置としては以下の技術文献がある。
【特許文献６】特開２００３−１６６１００号公報・・・銅メッキ方法に使用される銅粉及び銅粉の使用方法。
【特許文献７】特開２００２−０６８７４３号公報・・・易溶解性酸化銅の製造方法、易溶解性酸化銅及び銅メッキ材料並びに銅メッキ方法。
【特許文献８】特表２００２−５１５５４９号公報・・・基体の電気銅めっき方法
【特許文献９】特表平０８−５０１８２７号公報・・・銅の電解メッキ方法及び装置
【０００５】
上記の製版工程で分かるように、砥石研磨装置による処理工程はいくつかあって、硫酸銅メッキを行う前の研磨と、硫酸銅メッキを行った後の研磨とで３０分以上の時間を要している。又、砥石研磨装置は、落版用の粗仕上げ砥石と、鏡面状態に仕上げるまでの中仕上げ砥石と上仕上げ砥石と鏡面仕上げ砥石の四種類を用意する必要があり、しかも、100ｍｍφ×1,000ｍｍ〜300ｍｍφ×２０００ｍｍまでのロールの大きさに対応できる汎用性が必要であり、砥石のオートチェンジャー機構を装備している必要があり、さらに時間短縮のために両側から同時に研磨を行う２ヘッド研磨又は４ヘッド研磨になっている。このため、砥石研磨装置は、極めて高価な設備になっている。さらに、砥石研磨装置は、湿式装置であるので、水分を嫌い感光膜塗布装置やレーザー露光装置とは同じ部屋に置くことはできない一方、メッキラインに設備されるスタッカクレーンで搬送されるカセット形ロールチャック回転搬送ユニットにチャックされたままの被製版ロールに対して研磨できる構成にはなっていない。
【０００６】
従来のグラビア印刷用の被製版ロールの研磨方法・装置においては、電解砥粒研磨方法及び装置は全く採用されていない。
電解砥粒研磨方法及び装置としては以下の技術文献がある。
【特許文献１０】特開平10-156627 タングステンの電解鏡面仕上げ研磨方法
【特許文献１１】特開平10-086020 動圧軸受における動圧溝の電解加工方法及び装置
【特許文献１２】特開平09-192933 微少量電解加工方法及び装置
【特許文献１３】特開平09-192932 電解微小溝加工方法及び装置
【特許文献１４】特開平07-241728 ステンレス鋼の電解砥粒研磨方法
【特許文献１５】特開平07-185938 高速電解粗仕上げ方法及びその装置
【特許文献１６】特開平06-023663 超平滑化非接触研磨方法および装置
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上掲の、従来の含燐銅ボールを陽極とする銅メッキ方法によれば、メッキ液中に不可避不純物が集積して該不可避不純物が被製版ロールの表面に付着してブツやピットの原因となる。半導体ウエハにおける硫酸銅メッキに使用する高純度の含燐銅ボールを陽極とする銅メッキ方法を採用することはメッキコストの高騰につながり採用できない。
又、従来の含燐銅ボールを陽極とする銅メッキ方法によれば、陽極と被製版ロールとの距離が大きかったのでメッキ電流がロールの両端に集中してメッキ厚がロールの両端付近で大きくなっていた。このため、砥石円筒研磨を行うときにロールの両端付近で大きく研磨していた。砥石円筒研磨装置は大形であり高価であり加工に時間がかかる等の問題があるので、装置が小形であり安価であり加工に短時間である電解研磨装置の採用が検討したところ、電解研磨装置は、不均一なメッキ厚を均一になるように研磨することはできないので、電解研磨装置を適用するには被製版ロールの全長に渡りメッキ厚を均一にできるメッキシステムの構築が必要であることが分かった。
【０００８】
本願発明者らは、上記の問題点を解決するために、不溶解性陽極を用いて被製版ロールに銅メッキ処理を施す手法の採用を考えた。この手法は、不溶解性陽極として例えばチタンの表面に触媒をコーティングしたものを用い、メッキ槽外でメッキ液を作り、不可避不純物をフィルターで捕捉して不可避不純物が含まれていないメッキ液を用いてメッキを行うものでアノードスラッジが発生しない。しかし、グラビア印刷用の被製版ロールのメッキラインで採用された例がない。
【０００９】
本願発明者らは、不溶性陽極を有するメッキ槽とメッキ液を作りメッキ槽との間で循環するメッキ液補給槽を有するメッキ装置を設備し、スタッカクレーンにより搬送されるカセット形ロールチャック回転搬送ユニットをメッキ装置本体フレームに載置して該カセット形ロールチャック回転搬送ユニットにより両端チャックされるグラビア印刷用の被製版ロールを、前記のメッキ槽上側に位置させる構成の研究設備を整えた上で、メッキ槽に備える不溶性陽極をどのように設ければ大きさが様々に異なる被製版ロールに対してブツやピットが生じることなく全長に渡り均一な厚みのメッキが行えるかについて鋭意に研究した。
その結果、メッキ液補給槽からメッキ槽へメッキ液を給送する過程でメッキ液に含まれる不可避不純物を補足除去することによりブツやピットが生じないメッキが行えることを見出し、そして、ロール対向面が平滑で被製版ロールに平行し陽極となるように通電される不溶性陽極を被製版ロールの下面に５ｍｍ〜３０ｍｍのギャップとなるように近接させてメッキ電流を流したところ、ロールの両端においてメッキ電流の回り込みによる電流集中の影響が生じずにロール全長に渡り均一な厚みのメッキが行えてしかも超音波を照射したり被製版ロールのメッキ液浸漬面積を小さくしたりシャワーをかけること等により高電流を流して短時間で所要厚みのメッキが得られることを見出した。次いで、沢山の被製版ロールのメッキを行うとメッキ液の銅濃度及び硫酸濃度が不足するので、メッキ液の銅濃度とメッキ電流の積算値との関係及び硫酸濃度を検出してメッキ液補給槽において必要量の含銅微粉末又は硫酸を自動補給することとしてメッキラインの自動化・無人運転に繋げる成果が得られた。
【００１０】
続いて、本願発明者らは、製版ラインから砥石研磨装置を撤廃することを検討し、砥石研磨装置に替えて電解砥粒研磨装置を設備するべく研究開発に着手した。
本願発明者らは、初めに、特公昭57-36995号公報に示すカセット形ロール自動脱着装置と実質的に同一のカセット形ロールチャック回転搬送ユニットを水洗装置の上に載置して水洗水貯留タンクに純水＋硝酸ナトリウム１wt％＋粒子径が0.8μｍφ以下の砥粒１wt％からなる電解液メッキを貯留し、装置後方に研磨ヘッドの往復移動手段として産業用ロボットに備えて、ロボットアームの先端に、研磨砥石と同等の大きさの凹筒面を有する研磨ヘッド本体を用意して陰極に接続し該凹筒面を電極部として液含浸性を有する多孔質弾性体を重ね最後に高耐クリープ性・高強度・高温耐久性を有するスーパー繊維（具体的にはザイロン（登録商標＝東洋紡株式会社製品））を表面に重ねてなる研磨ヘッドを備えた、研磨システムを作って、電解砥粒研磨を試みた。
なお、ザイロンは剛直で極めて直線性の高い分子構造をもつ、ポリパラフェニレンベンゾビスオキサゾール（PBO）を液晶紡糸した繊維であり、僅か１ｍｍφの太さで、450キロを吊り下げる驚異的強度を有し、既存の有機繊維の中で最高レベルの強度・弾性率・耐熱性・難燃性を有しているので採択した。
【００１１】
カセット形ロールチャック回転搬送ユニットに被製版ロールを両端チャックして被製版ロールを陽極に接続して所要回転数で回転し、研磨ヘッドで被製版ロールを押圧して電解液をシャワーして電解電流を流して研磨を行った。この研磨理論は、電解電流を流すことにより被製版ロールの研磨ヘッドの対向表面に形成される不働態皮膜の中、ミクロの突起部分を覆っている不働態皮膜を研磨ヘッドのスーパー繊維の表面に捕捉する砥粒で擦り取り、不働態皮膜が除去されたミクロの突起部分を電解電流で溶解し、もって平滑化するものである。ところが、ロールを有効に研磨できなかった。開始から比較的短時間経過した時点より被製版ロールの表面が電解されない役割を果たす不働態皮膜が堆積していきことが、ロールの有効な研磨を阻んだ。電解電流が流れることによりロール表面の研磨ヘッドに対応する部分に形成される不働態皮膜が取去られないで時間が経過すると酸化被膜になり、酸化被膜になると砥粒により取り除き難い膜になって堆積していくことが分かった。
又、研磨ヘッドのスーパー繊維の表面に電解液中の砥粒を捕捉して該砥粒で被製版ロールを研磨は、研磨が大きく促進しないことが分かった。
研磨圧力が小さいときは電解砥粒研磨が僅かに行われることが分かり、研磨圧力を大きくしたところ電解砥粒研磨が大きくなることが分かったが、被製版ロールのチャック回転に支障が生じない限度に研磨圧力を高くしても不働態皮膜が堆積してしまい、電解液に含まれる砥粒では不働態皮膜を有効に除去できないことが分かった。
【００１２】
そこで、スーパー繊維に替えて、８００番相当の研磨砥石に相当する砥粒が固定されたスポンジ状弾性体（具体的にはナイロン不織布に砥粒を接着させた構造のスコッチブライト（登録商標＝住友スリーエム社製品））を重ねた研磨ヘッドとして電解砥粒研磨を行った。
結果は、時間が経過すると不働態皮膜が取去られないで酸化被膜として斑模様に堆積していき電解砥粒研磨が阻まれることが分かった。
そこで、電解電流を流す時間と流さない時間を２０秒間ずつ交番したところ、不働態皮膜の酸化を回避することができて約４５分かかって全面的な研磨が達成できたが、表面粗さを調べたところ、鏡面仕上げ研磨の精度には達しなかった。又、研磨ができた部位は紫色になった。これはアルカリ焼けと考えられた。
【００１３】
そこで、電解液を酸性にしたところ、紫色にならないことが分かった。しかし、電解電流を常時流すと不働態皮膜が酸化して堆積していくことが分かった。
【００１４】
そこで、電解電流を常時流して電解砥粒研磨を行うことと、電解電流を流さないで砥粒研磨を行うこととが同時に存在するように、研磨ヘッドについて以下の改善を行った。
研磨ヘッド本体の凹筒面に陰極に接続する電極部を備えさらに二枚の帯状の板ゴムを重ねて凹筒面の中途の電極部を露出させさらに電極部が露出する溝に多孔質弾性体（スポンジ）を重ねて平坦化して最後に研磨ウエブとしてスコッチブライトを重ねてなる研磨ヘッドとした。研磨の結果は、約１５分でブツが残らない粗仕上げ研磨が達成できた。
【００１５】
この研磨ヘッドは、電極部が露出する溝に多孔質弾性体を重ねてあるから電解液が介在して電解電流が流れることが確保されていて、電解電流を流すことにより被製版ロールの電極部が露出する溝に対向した表面部位に瞬時に形成される不働態皮膜の中、ミクロの突起部分を覆っている不働態皮膜をスコッチブライトに固定されている砥粒が擦り取りかつ不働態皮膜が除去されたミクロの突起部分を電解電流が溶解しもって平滑化する電解砥粒研磨を行ない得るとともに、板ゴムが重なっていて多孔質弾性体の上流側部分と下流側部分では電解電流が流れないから不働態皮膜の形成が無く電極部が露出する溝に対向した表面部位が電解砥粒研磨を行なわれた後に引き続いてスコッチブライトが砥粒研磨（粗仕上げ研磨）を行ない得る。
【００１６】
続いて、砥粒が固定されたスコッチブライトに替えてスーパー繊維のザイロンを重ねて硫酸銅メッキを終えたばかりの被製版ロールに対して電解砥粒研磨を行ったところ鏡面仕上げ研磨は行えなかった。そこで、前記のスコッチブライトによる粗仕上げ研磨を終えた被製版ロールに対して電解砥粒研磨を行ったところ、約１５分で鏡面仕上げ研磨ができた。
又、砥粒が固定されたスコッチブライトを重ねた研磨ヘッドで、セルを形成した後硬質メッキを付けた被製版ロールに対して電解砥粒研磨を行ったところセルの角に延びているクロムメッキバリを除去することが短時間にできた。
【００１７】
次に、例えば曲率半径150mmである凹筒面を有するブロック体である研磨ヘッドを一つ用意して、直径が80mm〜300mmの範囲内の種々の大きさのグラビア印刷用の被製版ロールについて粗仕上げ研磨又は鏡面仕上げ研磨を行うには、被製版ロールの径が小さくなるにつれてスコッチブライトやザイロンスコッチブライトの被製版ロールとの接触角が小さくなるために良好な研磨が行えない。
そこで、被製版ロールの径に応じてスコッチブライトやザイロンスコッチブライトの被製版ロールとの接触角が可変になるようにしてスコッチブライトやザイロンスコッチブライトを被製版ロールに対して良好に押圧できる研磨ヘッドを作って研磨の実験を繰り返したところ、電解砥粒研磨による良好な鏡面仕上げが実現できた。又、回転駆動形で往復移動できる研磨ディスクを作り、電極を放射状に埋め込み、円形のスコッチブライトやザイロンスコッチブライトを重ねて研磨した場合でも、電解砥粒研磨による良好な鏡面仕上げが実現できた。
以上の経過により、本願発明を完成することができた。
【００１８】
本願発明は、グラビア印刷用の被製版ロールに対してブツやピットがない均一な厚さの厚付き硫酸銅メッキを付けることができて、砥石研磨に拠らないで中仕上げ研磨、鏡面仕上げ研磨が短時間に行えて高品質な被製版ロールを提供できる、特に、不溶性陽極を用いたメッキシステムをグラビア印刷用の被製版ロールに対して適用できるとともに、砥石研磨ではなくて電解研磨が適用できるメッキシステムが実現できる、セルを形成する前までの被製版ロールのメッキ及び研磨方法を提供することを解決課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
［請求項１］に記載の発明は、被製版ロールに硫酸銅メッキを付けてから研磨を行い鏡面仕上げ状態とする、被製版ロールのメッキ及び研磨方法であって、
前記硫酸銅メッキは、被メッキ体である被製版ロールを回転自在に両端支持してメッキ槽内に位置させて陰極となるように通電して所要回転数で回転し、該被製版ロールの下方に位置して設けられていて被製版ロールの最大長以上の長さを有しロール対向面が平滑で被製版ロールに平行し陽極となるように通電される不溶性陽極を上昇させて被製版ロールの下面に近接させ、ブツやピットの原因となる不可避不純物をフィルターで除去したメッキ液を供給してメッキを行う構成であり、
前記研磨は、被製版ロールを回転自在に両端支持し陽極に接続して回転し、ロール押圧面の一部に陰極に接続する電極部を備えた研磨ヘッド本体に、摩擦強度が大きい不織布に砥粒を固定してなる液含浸性砥粒固定可撓体又はスーパー繊維を重ねて、該液含浸性砥粒固定可撓体又はスーパー繊維を前記被製版ロールに密着しかつ密着面に電解液を供給し前記凹筒面により被製版ロールへ押圧させ、研磨ヘッドをロール面長方向に往復動させることにより被製版ロールの電極部に対応する部分では電解研磨を行い電解電流が流れない他の部分では摩擦研磨を行う構成であることを特徴とするセルを形成する前までの被製版ロールのメッキ及び研磨方法である。
［請求項２］に記載の発明は、被製版ロールに硫酸銅メッキを付けてから中仕上げ研磨を行い、次いで鏡面仕上げ研磨を行う、被製版ロールのメッキ及び研磨方法であって、
前記硫酸銅メッキは、被メッキ体である被製版ロールを回転自在に両端支持してメッキ槽内に位置させて陰極となるように通電して所要回転数で回転し、該被製版ロールの下方に位置して設けられていて被製版ロールの最大長以上の長さを有しロール対向面が平滑で被製版ロールに平行し陽極となるように通電される不溶性陽極を上昇させて被製版ロールの下面に近接させ、ブツやピットの原因となる不可避不純物をフィルターで除去したメッキ液を供給してメッキを行う構成であり、
前記中仕上げ研磨は、被製版ロールを回転自在に両端支持し陽極に接続して回転し、凹筒面を有しかつ該凹筒面の一部分に陰極に接続する電極部を有する研磨ヘッド本体に、摩擦強度が大きい不織布に砥粒を固定してなる液含浸性砥粒固定可撓体を掛け、該液含浸性砥粒固定可撓体を前記被製版ロールに密着し前記凹筒面により被製版ロールへ押圧させ、被製版ロールと研磨帯との密着面に電解液を供給し研磨ヘッドをロール面長方向に往復動させることにより研磨帯をロール面長方向に往復動させ被製版ロールの電極部に対応する部分では電解研磨を行い電解電流が流れない他の部分では摩擦研磨を行い、もって研磨帯を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させる研磨による中仕上げ研磨を行う構成であり、
前記鏡面仕上げ研磨は、被製版ロールを回転自在に両端支持し陽極に接続して回転し、凹筒面を有しかつ該凹筒面の一部分に陰極に接続する電極部を有する研磨ヘッド本体に掛けた所要広幅の可撓性を有するスーパー繊維を前記被製版ロールに密着して前記凹筒面により被製版ロールへ押圧させ、被製版ロールとスーパー繊維との密着面に電解液を供給し研磨ヘッドをロール面長方向に往復動させることによりスーパー繊維をロール面長方向に往復動させ被製版ロールの電極部に対応する部分では電解研磨を行い電解電流が流れない他の部分では摩擦研磨を行い、もってスーパー繊維を用いた電解研磨と摩擦研磨を混在させる鏡面仕上げ研磨の処理工程を行うことを特徴とするセルを形成する前までの被製版ロールのメッキ及び研磨方法である。
［請求項３］に記載の発明は、前記硫酸銅メッキは、メッキ液補給槽において硫酸に酸化第二銅粉末、炭酸銅粉末、又は硫酸銅粉末のいずれかの含銅微粉末を添加してなる硫酸銅メッキが行えるメッキ液を貯留し、メッキ液中の不可避不純物をフィルターにより除去して不溶性陽極を備えたメッキ槽へ供給してメッキを行う、ことを特徴とする〔請求項１〕又は〔請求項２〕に記載のセルを形成する前までの被製版ロールのメッキ及び研磨方法である。
［請求項４］に記載の発明は、使用中のメッキ液の銅濃度を計測して銅濃度が不足するとき、又は一本の被製版ロールのメッキ処理をする毎に積算メッキ電流値を計測してメッキ処理を終える毎に含銅微粉末の必要量を自動補給するとともに、使用中のメッキ液の硫酸濃度を計測して硫酸濃度が不足するときは必要量の硫酸を自動補給することを特徴とする〔請求項３〕に記載のセルを形成する前までの被製版ロールのメッキ及び研磨方法である。
【発明の効果】
【００２０】
〔請求項１〕に記載の発明の効果
(1) 不溶性陽極を用いたメッキと電解砥粒研磨との組み合わせであるから、メッキ前のロール径を全長に渡り均一に精密加工しておけばメッキ後のロール径も全長に渡り均一な精密度に維持されるから、メッキ後のロールの円筒研磨も砥石研磨ではなくて柔らかい材料を摺接する電解砥粒研磨が適用でき、セルを形成する前の製版ラインの硫酸銅メッキ処理と研磨処理に好適であり、従来のメッキ方法と砥石研磨方法との組み合わせに比べてピットやブツが生じない良好な硫酸銅メッキが実現できてロール径が均一になり6000番から7000番のスポンジ砥石で研磨して得られる鏡面よりも良好な鏡面状態が得られる。
もしも、不溶性陽極を用いたメッキと電解砥粒研磨との組み合わせでないとき、具体的には、従来のメッキと電解砥粒研磨との組み合わせのときには、ロール面の両端付近のメッキ厚が他部分よりも大きくなりこれを電解砥粒研磨では均一なロール径になるように修正することはできないし、鏡面研磨してもピットやブツが生じることがあり得る。
さらに詳述すると、不溶性陽極を用いたメッキ方法でありメッキ液に補給する銅源としてメッキ液補給槽にて含燐銅ボールを溶解するか又はメッキ液補給槽へ酸化第二銅粉末、炭酸銅粉末、又は硫酸銅粉末を投入するどちらの方法も取りうるが、銅源に含まれるブツやピットの原因となる不可避不純物をフィルターで捕捉除去したメッキ液をメッキ槽に供給してメッキを行うことができるから、ピットやブツが生じない良好な硫酸銅メッキが行える。
そして、従来では陽極と被製版ロールとの距離が大きかったのでメッキ電流がロールの両端に集中してメッキ厚がロールの両端付近で大きくなっていた。このため、円筒研磨もロールの両端付近で大きく研磨していた。これに対して、この発明は、ロール対向面が平滑で被製版ロールに平行する不溶性陽極を被製版ロールの下面に近接させてメッキを行うのでメッキ電流がロール全長に渡って均一な密度になり均一な厚さのメッキが行える。すなわち、被製版ロールの最大長以上の長さを有する不溶性陽極を上昇させて被製版ロールの下面に近接させメッキを行うので、直径の長さが様々に異なる被製版ロールに対する汎用性を有する。不溶性陽極を被製版ロールに近接させてメッキを行うから、不溶性陽極に対して被製版ロールの長さが例えば１/２であったとしても、メッキ電流がロール端面付近に集中することがなく、ロール全長に渡って均一なメッキ電流密度が維持されて均一な厚さのメッキが行える。従って、メッキ前のロール径を全長に渡り均一に精密加工しておけばメッキ後のロール径も全長に渡り均一な精密度に維持されるから、メッキ後のロールの円筒研磨も砥石研磨ではなくて柔らかい材料を摺接する電解砥粒研磨が適用できる。
（2) 不溶性陽極を用いたメッキと電解砥粒研磨との組み合わせであるから、処理時間を大幅に短縮できる。すなわち、被製版ロールに不溶性陽極を近接して行うメッキ方法であり、ロール両端でのメッキ厚がロールの中ほどに比べて大きくならないようにしてメッキ電流密度を大きくすることができるので、メッキ時間を短縮することができ、そして、研磨時間も大幅に短縮できるから、ラインの処理能力を向上できる。
研磨時間も大幅に短縮できることについては、以下の通りである。
電解電流が流れることで被製版ロールの表面であって電極板の対向位置に瞬時に不働態被膜が形成される。電極部が露出する部分では電解電流が流れるので不働態皮膜が瞬時に形成され、研磨ウエブがミクロの突起部分を覆っている不働態皮膜を擦り取りかつ不働態皮膜が除去されたミクロの突起部分を電解電流が溶解し、又、不働態皮膜の堆積が回避されるから電解電流が流れない部位においては研磨ウエブによる全面研磨が併行して、研磨ウエブの種類により（スコッチブライト等又はザイロン等の相違により）、中仕上げ研磨及び/又は鏡面仕上げ研磨を短時間に行えるから、使用済みのバラードタイプの被製版ロールに対して、砥石研磨装置に拠らないで円筒研磨が短時間に行えて全体として製版時間を短縮できる。
【００２１】
〔請求項２〕に記載の発明の効果
〔請求項１〕に記載の発明の効果(1)及び(2)と同一の効果が得られる。
研磨についてはさらに以下の効果が得られる。
使用済みの直版タイプの被製版ロールに対して、旋盤による落版円筒精密加工後の中仕上げ研磨について、スコッチブライト等を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨により中仕上げ研磨が従来の砥石研磨装置よりも極めて短時間に行える。
そして、メッキ後の鏡面仕上げ研磨について、スコッチブライト等を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨により中仕上げ研磨と、ザイロン等を用いた電解研磨と摩擦研磨を混在させた鏡面仕上げ研磨が従来の砥石研磨装置による中仕上げ研磨→上仕上げ研磨→鏡面仕上げ研磨の処理工程よりも極めて短時間に行える。
又、使用済みのバラードタイプの被製版ロールに対して、旋盤による落版円筒精密加工後の中仕上げ研磨について、スコッチブライト等を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨により中仕上げ研磨が従来の砥石研磨装置よりも極めて短時間に行える。
そして、メッキ後の鏡面仕上げ研磨について、スコッチブライト等を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨により中仕上げ研磨と、ザイロン等を用いた電解研磨と摩擦研磨を混在させた鏡面仕上げ研磨が従来の砥石研磨装置による中仕上げ研磨→上仕上げ研磨→鏡面仕上げ研磨の処理工程よりも極めて短時間に行える。
【００２２】
〔請求項３〕に記載の発明の加重的効果
銅ボールの使用を止めて、硫酸に酸化第二銅粉末、炭酸銅粉末、又は硫酸銅粉末を添加してなる硫酸銅メッキが行えるメッキ液を用いるので、高電流を流して強力なメッキを行っても銅源材料の不足が生じることが回避される。
【００２３】
〔請求項４〕に記載の発明の加重的効果
従来は含燐銅ボールと硫酸の補給を行うときはラインの運転を停止させ計測してから必要量を補給していたが、本発明は、メッキ液の銅イオン濃度及び硫酸濃度の管理と銅源材料の自動計量・自動補給を実現できるから、銅源の補給時にメッキラインの運転を停止させることを回避できてラインの稼動率が上がる、又、毒性が有る酸化第二銅粉末、炭酸銅粉末、又は硫酸銅粉末の人手による取り扱いを回避できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
工場設備としては、〔実施例１〕に示すように、ロボット室とメッキ室とに分け、ロボット室には産業用ロボットとターンテーブル式のロールストック装置が設備され、そして、各種の製版方法のいずれかが行えるようにするには、レーザー感光・現像・食刻製版に対応して感光膜乾燥促進装置と感光膜塗布装置とレーザ露光装置が設備され、レーザーアブレーション・食刻製版に対応して感光膜乾燥促進装置とレーザーアブレーション用黒色膜塗布装置とアブレーション用レーザ露光装置が設備され、レーザー彫刻製版に対応してレーザー彫刻装置が設備され、電子彫刻製版に対応して電子彫刻装置が設備される。メッキ室には、天井に設備されるスタッカクレーンの走行ラインの下側に、被製版ロールにメッキを行うための硫酸銅メッキ装置又はクロムメッキ装置又はニッケルメッキ装置をメイン設備とするメッキライン設備を備える。
【００２５】
特に、硫酸銅メッキ装置として、〔実施例２〕に示すように、不溶性陽極を用いかつ含銅微粉末及び硫酸を自動補給する硫酸銅メッキ装置を備えるとともに、研磨手段として、電解研磨を伴う研磨方法が採用され、〔実施例３〕に示すように、中仕上げ用研磨装置と鏡面仕上げ用研磨装置を備えることが好ましい。
【００２６】
メッキ槽は、固定された槽として構成されていてロール回転手段にチャックされる被製版ロールがメッキ槽内に位置した後にメッキ液補給槽からメッキ液の供給が行われて液面を上昇していきメッキ液が被製版ロールを全没乃至約１/３直径だけ液没し所定の液面レベルで溢流するメッキ液をメッキ液補給槽へ帰還する構成であるか、又は、昇降自在な可動槽として構成されていて、ロール回転手段にチャックされる被製版ロールがメッキ装置本体内に位置した後に可動槽が被製版ロールの径に対応して所要ストローク上昇して被製版ロールを槽内に位置させてからメッキ液補給槽からメッキ液の供給が行われて液面を上昇していきメッキ液が被製版ロールを約１/３直径乃至約１/４直径だけ液没し液面レベル保つように溢流するメッキ液をメッキ液補給槽へ帰還する構成であることが望ましい。
この被製版ロールの硫酸銅メッキ方法・装置は、メッキ液をメッキ液補給槽において作りメッキ槽に銅イオンを供給する。メッキ液の生成方法としては、含燐銅ボールをメッキ液補給槽に投入し空気撹拌を行いメッキ液中の遊離の硫酸と溶存酸素との相乗作用によって溶解して銅イオン（陽イオン）の生成を行い、チャッキ弁式揚液口と揚液ポンプと配管と流量調整弁と不可避不純物を捕捉するフィルター等からなる液供給手段によりメッキ槽内に不足する銅イオンの供給を行うようにすることを含む。この場合、メッキ液に浸す金属銅を金、白金、パラジュウムなどの銅よりも貴な金属に接触させかつ空気撹拌をおこなうことによって銅の溶解を促進するように構成されていることが好ましい。
しかし、上記のように、含燐銅ボールを溶解するのではなくて、硫酸に易溶解性を有し銅イオンになりやすい酸化第二銅粉末、炭酸銅粉末、又は硫酸銅粉末の含銅微粉末をメッキ液補給槽へ補給する方式とすることの方が好ましい。
【００２７】
ラインに設備する場合に、スコッチブライト（登録商標）等、摩擦強度が大きい不織布に砥粒を固定してなる砥粒固定液含浸性可撓体で摩擦して粗仕上げ円筒研磨が行える円筒研磨装置と、スーパー繊維であり砥粒が固定されていない研磨ウエブで摩擦して鏡面仕上げ研磨が行える円筒研磨装置とを分けて設備することが望ましい。
砥粒固定液含浸性可撓体によって粗仕上げ円筒研磨が行える円筒研磨装置は、クロムメッキバリの除去研磨が行える。粗仕上げ円筒研磨を行う研磨ヘッドと鏡面仕上げ研磨を行う研磨ヘッドを備えた２ヘッド型二段研磨式円筒研磨装置とすることも可能であるが、分けた方が処理能力が大きいので好ましい。
最大長さ（1300ｍｍ位）の被製版ロールよりも例えば100ｍｍ長い研磨ヘッドを有していて研磨ヘッドの研磨のための往復ストロークを100ｍｍ位としても全長が同時に研磨ヘッドに当っている研磨であっても良いし、或いは、最少長さ（500ｍｍ位）の被製版ロールと略同じ長さの研磨ヘッドを有していて、最少長さ（500ｍｍ位）の被製版ロールに対しては研磨ヘッドの研磨のための往復ストロークを100ｍｍ位とし、又、最大長さ（1300ｍｍ位）の被製版ロールに対しては研磨時の研磨ヘッドの往復ストロークを900ｍｍ位としても良い。
被製版ロールを両端チャックし陽極に接続して回転するように構成する。粗仕上げ円筒研磨を行う研磨ヘッドと鏡面仕上げ研磨を行う研磨ヘッドは、いずれも、直径が例えば80mm〜300mmの範囲内の種々の大きさのグラビア印刷用の被製版ロールについていずれに場合でもスコッチブライトやザイロンと被製版ロールとの接触角を大きく取れるバックアップ機能を有する可変式研磨ヘッドであることが好ましい。
具体的には、被製版ロールを両端チャックし陽極に接続して回転するように構成され、前記被製版ロールに所要広幅の可撓性を有する研磨帯を密着し該研磨帯を被製版ロールに押圧する研磨ヘッド本体を有しかつ該凹筒面の一部分に陰極に接続する電極部を有し、被製版ロールと研磨帯との密着面に電解液を供給し研磨ヘッドをロール面長方向に往復動させることにより研磨帯をロール面長方向に往復動させ被製版ロールの電極部に対応する部分では電解研磨を行い電解電流が流れない他の部分では摩擦研磨を行う構成とする。
そして、研磨帯として、スコッチブライト（登録商標）等、摩擦強度が大きい不織布に砥粒を固定してなる砥粒固定液含浸性可撓体であり、被製版ロールの電極部に対応する部分では電解砥粒研磨を行い電解電流が流れない他の部分では摩擦砥粒研磨を行う構成とするか、又は、研磨帯として、ザイロン（登録商標）等、摩擦強度・耐熱強度・クリープ強度が大きいスーパー繊維であり、被製版ロールの電極部に対応する部分では電解摩擦研磨を行い電解電流が流れない他の部分では摩擦研磨を行う構成とする。
さらに、研磨ヘッド本体は、研磨ヘッド本体は、開閉自在であり常時は開くように付勢されている左右の開脚リンクによって二本の水平バーが離れた状態に両端支持されていて、該二本の水平バーに帯状の電極部が付設されている研磨帯押圧用ウエブが両端固定されて平面状に張られて成り、前記研磨ヘッド本体が被製版ロールに接近するように相対的に所要寸法移動するようになっていて、この移動により、研磨帯押圧用ウエブが研磨帯を被製版ロールに巻き付けて押圧する構成とする。
可変式研磨ヘッドであると、スコッチブライトやザイロンスコッチブライトは、被製版ロールに対してロール周方向の接触長さの全長に渡り、均一な摺動接触が図られる。
不織布に砥粒を固定してなるスコッチブライト等の砥粒固定液含浸性可撓体を用いる場合、被製版ロールの電極部に対応する部分では電解砥粒研磨が行われかつ電解電流が流れない他の部分では摩擦研磨が併行して行われ、もって粗仕上げ研磨が行われる。これは、硫酸銅メッキ前の研磨、硫酸銅メッキ後の研磨、クロムメッキバリを除去する研磨に適用できる。
又、ザイロン等のスーパー繊維であり砥粒が固定されていない研磨ウエブを用いる場合、被製版ロールの電極部に対応する部分では電解摩擦研磨が行われかつ電解電流が流れない他の部分では摩擦研磨が行われ、もって鏡面仕上げ研磨が行われる。これは、硫酸銅メッキ後の粗仕上げ・中仕上げ研磨後の研磨に適用できる。
研磨帯は被製版ロールに密着され研磨ヘッドによって被製版ロールへ押圧されるが、研磨帯と研磨ヘッドは分離している構成と一体構成のいずれも含む。好ましくは、研磨中に研磨帯が自身の長尺方向に遅速移動して研磨帯の被製版ロールに対する研磨位置が更新するように構成されているのがよい。
電解液がアルカリ性であるときは、硫酸銅メッキの電解砥粒研磨にあっては、不働態膜の堆積が見られ、円筒全面を良好に研磨するには、電解液が酸性とする。そして、研磨中に被製版ロールと研磨帯との密着面に電解液を供給し、被製版ロールから研磨帯が離れた研磨後は被製版ロールにアルカリ性の液を速やかにシャワーしてさらに中性水をシャワーするように構成され、受け皿の開閉等により酸性の電解液にアルカリ性及び中性のシャワー水が混ざらないように構成されているのが好ましい。
【００２８】
製版方法が多岐にわたるので、ライン設備は、発明を実施するための最良の形態は以下に示すように分かれる。
【００２９】
〔直版タイプの被製版ロールに対するレーザー感光・現像・食刻製版〕
使用済みの直版タイプの印刷ロールを再使用する被製版ロールに対して、
（１）旋盤による落版円筒精密加工（＝旋盤にロールを両端チャックして回転してバイトで例えば25μｍ〜50μｍ位を削る精密円筒加工）、
→（２）スコッチブライトに代表されるように、摩擦強度が大きい不織布に砥粒を固定してなる液含浸性砥粒固定可撓体を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨による中仕上げ研磨、
→（３）不溶性陽極を用いた硫酸銅メッキ（＝ロールを両端チャックして所要速度で回転しロールの下半分を硫酸銅メッキに浸漬回転して例えば10分〜15分位で所要厚みの硫酸銅メッキを得る。メッキ液の銅イオン濃度及び硫酸濃度の管理と酸化第二銅粉末等の銅源材料の自動計量・自動補給を行う。）、
→（４）液含浸性砥粒固定可撓体を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨による中仕上げ研磨、
→（５）ザイロンに代表されるように、摩擦強度・耐熱強度・クリープ強度が大きいスーパー繊維を用いた電解研磨と摩擦研磨を混在させた鏡面仕上げ研磨、
→（６）感光膜塗布形成（＝ロールを両端チャックして所要速度で回転し感光膜塗布ヘッドをロールの一端に近接しロールの他端に向かって走査しファウンティン方式で感光膜塗布ヘッドから溢れ出るポジ形感光剤又ネガ形感光剤をロールに均一に塗布し乾固して成膜する）、
→（７）レーザー露光装置による画像焼付（＝ロールを両端チャックして所要速度で回転しレーザーヘッドをロールの一端に近接しロールの他端に向かって走査しレーザー光を画像データに対応して点滅させて感光膜を露光し潜像を形成する）
→（８）アルカリ現像（＝PH9.5〜PH12.0位のアルカリ現像液にロールの下半分を浸漬回転して45秒〜60秒間位でレジスト画像を得る）、
→（９）食刻によるセルの形成（＝塩化第二銅又は塩化第二鉄の酸性水溶液にロールの下半分を浸漬回転して7分〜８分間位、露出金属面を化学食刻してセルを掘り込む）、
→（１０）レジスト剥離（＝PH12.0〜PH13.0位の強アルカリ現像液にロールの下半分を浸漬回転して１分間位でレジスト画像を溶解除去する）、
→（１１）硬質クロムメッキ、焼入れ可能なニッケル合金メッキあるいは炭化チタン膜あるいはＤＬＣ膜、有機硬質被膜等の耐刷力を付与する硬質被膜形成、
の一連の処理工程を行う。
【００３０】
〔直版タイプの被製版ロールに対するレーザーアブレーション・食刻製版〕
使用済みの直版タイプの印刷ロールを再使用する被製版ロールに対して、
（１）旋盤による落版円筒精密加工、
→（２）液含浸性砥粒固定可撓体を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨による中仕上げ研磨、
→（３）不溶性陽極を用いた硫酸銅メッキ、
→（４）液含浸性砥粒固定可撓体を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨による中仕上げ研磨、
→（５）スーパー繊維を用いた電解研磨と摩擦研磨を混在させた鏡面仕上げ研磨、
→（６）レーザーアブレーション用黒色膜塗布形成、
→（７）レーザーアブレーション装置によるレーザーアブレーション、
→（８）食刻によるセルの形成、
→（９）黒色膜画像の除去、
→（１０）クロムメッキあるいは炭化チタン膜あるいはＤＬＣ膜、有機硬質被膜等の耐刷力を付与する硬質被膜形成、
の一連の処理工程を行う。
【００３１】
〔直版タイプの被製版ロールに対する電子彫刻製版〕
使用済みの直版タイプの印刷ロールを再使用する被製版ロールに対して、
（１）旋盤による落版円筒精密加工、
→（２）液含浸性砥粒固定可撓体を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨による中仕上げ研磨、
→（３）不溶性陽極を用いた硫酸銅メッキ、
→（４）液含浸性砥粒固定可撓体を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨による中仕上げ研磨、
→（５）スーパー繊維を用いた電解研磨と摩擦研磨を混在させた鏡面仕上げ研磨、
→（６）ダイヤモンド彫刻針を駆動してセルを彫刻するヘリオクリッショグラフ等の電子彫刻装置によるセルの形成、
→（７）クロムメッキあるいは炭化チタン膜あるいはＤＬＣ膜、有機硬質被膜等の耐刷力を付与する硬質被膜形成、
の一連の処理工程を行う。
【００３２】
〔直版タイプの被製版ロールに対するレーザー彫刻製版〕
使用済みの直版タイプの印刷ロールを再使用する被製版ロールに対して、
（１）旋盤による落版円筒精密加工、
→（２）液含浸性砥粒固定可撓体を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨による中仕上げ研磨、
→（３）不溶性陽極を用いた硫酸銅メッキ、
→（４）液含浸性砥粒固定可撓体を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨による中仕上げ研磨、
→（５）スーパー繊維を用いた電解研磨と摩擦研磨を混在させた鏡面仕上げ研磨、
→（６）ＹＡＧレーザー、ファイバーレーザー、フェトム秒レーザー、吸収率のよいＵＶレーザ等の強力なレーザーによるセルの形成、
→（７）クロムメッキあるいは炭化チタン膜あるいはＤＬＣ膜、有機硬質被膜等の耐刷力を付与する硬質被膜形成、
の一連の処理工程を行う。
【００３３】
〔バラードメッキタイプの被製版ロールに対するレーザー感光・現像・食刻製版〕
使用済みのバラードメッキを剥離して再使用する被製版ロールに対して、
（１）脱脂（＝例えば、ロールを両端チャックして所要速度で回転しロールにアルカリをかけ水洗し酸性液をかけて残存のありうるアルカリを中和し、この処理を二回繰り返して最古に推薦する）、
→（２）使用済み写真廃液の塗布（剥離性表面処理）、
→（３）不溶性陽極を用いたバラード硫酸銅メッキ（例えば80μｍ〜100μｍ）、
→（４）液含浸性砥粒固定可撓体を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨による中仕上げ研磨、
→（５）砥粒を固定されていないスーパー繊維を用いた電解研磨と摩擦研磨を混在させた鏡面仕上げ研磨、
→（６）感光膜塗布形成、
→（７）レーザー露光装置による画像焼付、
→（８）アルカリ現像、
→（９）食刻によるセルの形成、
→（１０）レジスト剥離、
→（１１）クロムメッキあるいは炭化チタン膜あるいはＤＬＣ膜、有機硬質被膜等の耐刷力を付与する硬質被膜形成、
の一連の処理工程を行う。
【００３４】
〔バラードメッキの被製版ロールに対するレーザーアブレーション・食刻製版〕
使用済みのバラードメッキを剥離して再使用する被製版ロールに対して、
（１）脱脂、
→（２）使用済み写真廃液の塗布、
→（３）不溶性陽極を用いたバラード硫酸銅メッキ、
→（４）液含浸性砥粒固定可撓体を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨による中仕上げ研磨、
→（５）砥粒を固定されていないスーパー繊維を用いた電解研磨と摩擦研磨を混在させた鏡面仕上げ研磨、
→（６）レーザーアブレーション用黒色膜塗布形成、
→（７）レーザーアブレーション装置によるレーザーアブレーション、
→（８）食刻によるセルの形成、
→（９）黒色膜画像の除去、
→（１０）クロムメッキあるいは炭化チタン膜あるいはＤＬＣ膜、有機硬質被膜等の耐刷力を付与する硬質被膜形成、
の一連の処理工程を行う。
【００３５】
〔バラードメッキタイプの被製版ロールに対する電子彫刻製版〕
使用済みの直版タイプの印刷ロールを再使用する被製版ロールに対して、
使用済みのバラードメッキを剥離して再使用する被製版ロールに対して、
（１）脱脂、
→（２）使用済み写真廃液の塗布、
→（３）不溶性陽極を用いたバラード硫酸銅メッキ、
→（４）液含浸性砥粒固定可撓体を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨による中仕上げ研磨、
→（５）砥粒を固定されていないスーパー繊維を用いた電解研磨と摩擦研磨を混在させた鏡面仕上げ研磨、
→（６）ダイヤモンド彫刻針を駆動してセルを彫刻するヘリオクリッショグラフ等の電子彫刻装置によるセルの形成、
→（７）クロムメッキあるいは炭化チタン膜あるいはＤＬＣ膜、有機硬質被膜等の耐刷力を付与する硬質被膜形成、
の一連の処理工程を行う。
【００３６】
〔バラードメッキタイプの被製版ロールに対するレーザー彫刻製版〕
使用済みのバラードメッキを剥離して再使用する被製版ロールに対して、
（１）脱脂、
→（２）使用済み写真廃液の塗布、
→（３）不溶性陽極を用いたバラード硫酸銅メッキ、
→（４）液含浸性砥粒固定可撓体を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨による中仕上げ研磨、
→（５）砥粒を固定されていないスーパー繊維を用いた電解研磨と摩擦研磨を混在させた鏡面仕上げ研磨、
→（６）ＹＡＧレーザー、ファイバーレーザー、フェトム秒レーザー、吸収率のよいＵＶレーザ等の強力なレーザーによるセルの形成、
→（７）クロムメッキあるいは炭化チタン膜あるいはＤＬＣ膜、有機硬質被膜等の耐刷力を付与する硬質被膜形成、
の一連の処理工程を行う。
【００３７】
上記の〔００２９〕〜〔００３６〕に記載した製版方法のいずれにおいても、耐刷力を付与する硬質被膜がクロムメッキである場合に、セルの縁に形成されるメッキバリを、スコッチブライト（登録商標）等、摩擦強度が大きい不織布に砥粒を固定してなる液含浸性砥粒固定可撓体を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨による中仕上げ研磨により除去する処理工程を行う。
【実施例１】
【００３８】
図１は、上記の〔００２９〕〜〔００３６〕に記載した全ての製版方法に共通して適用できる製版工場の平面図を示すものである。
図１に示す設備構成は、クライアントの多様な注文に応じた各種の処理工程が必要な製版会社にとって一ラインで全ての注文に対応できる好ましいライン設備を示している。
特に、図１に示す設備構成では、クロムメッキ装置を設備しておらず、替わりに、ニッケル合金メッキ―焼入れ―放熱冷却が行えるライン設備になっている。
【００３９】
この製版工場は、ロボット室Ａとメッキ室Ｂとからなる。
ロボット室Ａには、メッキ室Ｂに近い側に、被製版ロールＲを両端チャックしてハンドリングできるロボットハンド１aを有する往復旋回自在な産業用ロボット１を備えているとともに、ロボット室Ａ内のメッキ室Ｂから離れた側に、被製版ロールＲを両端チャックしてハンドリングできるロボットハンド２aを有する往復旋回自在な産業用ロボット２を備えている。
【００４０】
産業用ロボット１のハンドリングエリア内に、ポジ型又はネガ型の感光膜を塗布すると感光膜乾燥促進装置３ａが上に載っている感光膜塗布装置３ｂとレーザ露光装置４が設備され、鏡面研磨されたロールに感光膜を塗布して現像が良好に行い得るように十分に乾燥してレーザ露光により潜像を形成できる。産業用ロボット２のハンドリングエリア内に、高周波焼入れ装置５と冷却装置６が設備され、クロムメッキに替わるニッケル合金メッキに対して高周波焼入れを行い、その後冷却（放冷）して取り出すことができる。
【００４１】
二基のターンテーブル式のロールストック装置７Ａ、７Ｂは、ロールを斜めに立て掛けた円周配列に二段ストックされインデックス位置決めされる構成であり、産業用ロボット１，２の両方のハンドリングエリア内に位置する。
【００４２】
メッキ室Ｂには、天井に設備されたスタッカクレーン８の走行ラインの下側に中継台装置９と中仕上げ用研磨装置１０と鏡面仕上げ用研磨装置１１と写真廃液塗布装置１２とカセット形ロールチャック回転搬送ユニットＵをストックするカセットストック台１３と脱脂装置１４と現像装置１５と腐食装置１６とレジスト剥離装置１７と下地ニッケルメッキ装置１８と二基の硫酸銅メッキ装置１９，１９と二基のクロムメッキ代替のニッケル合金メッキ装置２０，２０とカセット組み込み台装置２１とカセットストック台２２が設備されている。
【００４３】
アウトラインとして、落版のための精密円筒加工ができるＮＣ旋盤２３と、ロール計測装置２４と校正刷り印刷機２５が備えられている。
【００４４】
中仕上げ用研磨装置１０は、液含浸性砥粒固定可撓体を用いた電解砥粒研磨と砥粒研磨を混在させた研磨による中仕上げ研磨を行う。
鏡面仕上げ用研磨装置１１は、砥粒を固定されていないスーパー繊維を用いた電解研磨と摩擦研磨を混在させた鏡面仕上げ研磨を行う。
【００４５】
なお、産業用ロボット２と焼入れ装置５と冷却装置６をアウトラインとして設備しても良く、又、ＮＣ旋盤２３とロール計測装置２４をインラインとして設備しても良い。ペーパー研磨装置はラインに設置することができるが、中仕上げ用研磨装置１０がメッキバリを除去するために兼用することができる。
【００４６】
メッキ室における被製版ロールＲの搬送手段は、スタッカクレーン４と、対向一対のチャック手段を備えたカセット形ロールチャック回転搬送ユニット１７の共同作用により行われる。
【００４７】
カセット形ロールチャック回転搬送ユニットＵは、例えば特開昭55-164095公報／特公昭57-36995号公報に示すように、対向一対のチャック手段で被製版ロールＲを両端チャックしかつチャックコーンの外側を密封できてさらに各装置に載置されたときに回転できて必要に応じてチャックコーンを介してメッキ電流を流すことができる構成である。
【００４８】
スタッカクレーン８とカセット形ロールチャック回転搬送ユニットＵに換えて、被製版ロールＲを両端チャックしてハンドリングできるロボットハンドを有する往復旋回自在な走行形の産業用ロボットを備えかつ各装置１０〜２０に被製版ロールを両端チャックして回転できて必要に応じてチャックコーンを介してメッキ電流を流すことができる対向一対のチャック手段を設けた設備としても良い。
【００４９】
図１に示す設備構成は、上記の〔００２９〕と〔００３３〕に記載した製版方法を実施できる。又、メッキ処理して中仕上げ研磨してさらに鏡面仕上げ研磨する処理工程は、〔００３０〕と〔００３１〕と〔００３２〕と〔００３４〕と〔００３５〕と〔００３６〕に記載した製版方法にも適用できる。レーザーアブレーション装置や電子彫刻装置やレーザー彫刻装置等を備えれば、上記の〔００２９〕〜〔００３６〕に記載した製版方法のいずれも実施できる。
【実施例２】
【００５０】
この実施例は、製版方法の一部を構成している、不溶性陽極を用いた硫酸銅メッキについての実施例について図面を参照して詳細に説明するものである。
【００５１】
図２は、特公昭57-36995号公報に示すカセット形ロール自動脱着装置と実質的に同一のカセット形ロールチャック回転搬送ユニットを適用できる不溶性陽極を用いた硫酸銅メッキ装置を示すもので、メッキ装置本体Ｘの上にカセット形ロールチャック回転搬送ユニットＵを載置して硫酸銅メッキを行う。
詳述すると、メッキ装置本体Ｘの上にカセット形ロールチャック回転搬送ユニットＵを載置すると、メッキ装置本体Ｘに備えたモータ２６により走行駆動されるチェーン巻掛け装置のチェーン２７に、カセット形ロールチャック回転搬送ユニットＵの駆動側のスピンドル２８に被嵌固定したスプロケット２９が係合する。
カセット形ロールチャック回転搬送ユニットＵは、吊り上げフレーム３０の両端より設けられ互いに対向する一対のスピンドル２８，３１の先端に付設した一対の通電可能なロールチャック３２，３３により、被製版ロールＲの両端の円錐孔を支持するとともに、各スピンドル２８，３１に被嵌された一対の防液キャップ３４，３５を移動して被製版ロールＲの端面に当接して通電を行なうロールチャック３２，３３への処理液の浸入を防止する構成である。
カセット形ロールチャック回転搬送ユニットＵのスピンドル２８、３１は陰極に接続される摺電ブラシと接触している。従って、モータ２６により回転される被製版ロールＲが陰極に接続される。モータ２６の駆動により被製版ロールＲを回転して被製版ロールＲと不溶性陽極３６との間にメッキ電流を流してメッキを行う。
【００５２】
この硫酸銅メッキ装置は、スタッカクレーンにより搬送されるカセット形ロールチャック回転搬送ユニットＵをメッキ装置本体ＸのフレームＦに載置して該カセット形ロールチャック回転搬送ユニットＵにより両端チャックされるグラビア印刷用の被製版ロールＲをメッキ槽３７に貯留されるメッキ液３８に浸漬し不溶性陽極３６を上昇して被製版ロールＲの下面に５ｍｍ〜３０ｍｍのギャップとなるように近接させ超音波装置３９から超音波を発振させて、不溶性陽極３６を陽極となるように、被製版ロールＲを陰極となるように、通常のメッキ電流よりも所要大きいメッキ電流を流して硫酸銅メッキを行う。
【００５３】
不溶性陽極３６は、長さ方向の両端付近を昇降装置４０に連結されたブラケット４１に支持されていて、被製版ロールＲがメッキ槽３７に位置されると昇降装置４０が作動して上昇されていきロール対向面が被製版ロールＲの下面に５ｍｍ〜３０ｍｍのギャップとなるように平行に近接する。不溶性陽極３６は、長さが被製版ロールＲの最大長以上に確保されていて、ロール対向面が平滑である。不溶性陽極３６の上昇ストロークは、個々の被製版ロールＲをメッキラインで処理するに当って前もって径をデータ入力することにより算出される。ロールの径とロールがメッキ液に浸漬する深さは被メッキ面積を決めるものとなるので、ロールに与えたいメッキ電流密度と被メッキ面積とから必要なメッキ電流を決定することができる。
【００５４】
この硫酸銅メッキ装置は、メッキ液補給槽４２内のメッキ液４３をチャッキ弁式揚液口と揚液ポンプと配管と流量調整弁とフィルター４４a等からなるメッキ液供給手段４４によりメッキ槽３７へ給送することにより、メッキ槽３７内に不足する銅イオンの補給を行い、不可避不純物を捕捉するフィルター４４aが有ることによりメッキ時に不可避不純物の付着に起因するピットやブツの発生を回避できる。
【００５５】
この硫酸銅メッキ装置は、メッキ槽３７が長手方向の両端に溢流槽３７aを備えていて被製版ロールＲがメッキ液３８に全没に近い浸漬状態になるようにオーバーフロー方式でメッキ槽３７のメッキ液の液面レベルを管理し、溢流するメッキ液を重力流下方式で液帰還手段（管路）４５を通してメッキ液補給槽４２に帰還するように構成されている。
なお、メッキ槽３７は上記構成のような固定式ではなく昇降式としても良い。
【００５６】
この硫酸銅メッキ装置は、一本の被製版ロールＲのメッキを開始する毎にメッキ電流を積算してメッキを終えた時点での電流を積算するように電流積算計が設けられ、一本の被製版ロールＲのメッキを終えた時点で、消耗した銅イオンに見合う銅源となる酸化第二銅粉末、炭酸銅粉末、又は硫酸銅粉末の含銅微粉末の必要量を粉末自動計量投入装置４６で計量してメッキ液補給槽４２内へ投入するようになっており、こうした投入が多数回反復されると、メッキ液４３の銅濃度が管理目標値よりずれてくるので、メッキ液補給槽４２内のメッキ液の銅濃度を銅濃度センサ４７により常時に計測するようになっていて、銅濃度が不足したことを銅濃度センサ４７が検知したときには、急遽、含銅微粉末の必要量を粉末自動計量投入装置４６で計量してメッキ液補給槽４２内へ投入し、他方、一本の被製版ロールＲのメッキを終えた時点で銅濃度が不足していないことを銅濃度センサ４７が検知したときには、粉末自動計量投入装置４６からメッキ液補給槽４２内への含銅微粉末の投入を行わない、二重管理方式となっている。
又、この硫酸銅メッキ装置は、メッキ液補給槽４２内のメッキ液の硫酸濃度を硫酸濃度センサ４８により常時に計測するようになっていて、硫酸濃度が不足したこと硫酸濃度センサ４８が検知したときには、その時点で硫酸の必要量を硫酸自動計量投入装置４９で計量してメッキ液補給槽４２内へ補給する管理方式となっている。
【００５７】
粉末自動計量投入装置４６は、酸化第二銅粉末、炭酸銅粉末、又は硫酸銅粉末の含銅微粉末の必要量を予め自動計量して下端に投入口がありバルブがあるチャンバに貯留しておいて、銅濃度センサが出力する電気信号を入力したときはバルブを開いてチャンバ内の含銅微粉末をメッキ液補給槽に投入するように構成されている。
又、液体自動計量投入装置４９は、必要量を予め自動計量して投入タンクに貯留しておいて、硫酸濃度センサから出力する電気信号を入力したときは投入タンクのバルブを開いてメッキ液補給槽に必要量の硫酸を投入するように構成されている。
【００５８】
この硫酸銅メッキ装置は、硫酸と、酸化第二銅粉末、炭酸銅粉末、又は硫酸銅粉末の含銅微粉末を所要割合でメッキ液補給槽４２の一側より投入して攪拌装置５０により攪拌し銅イオン（陽イオン）の生成を行う。
反応式は例えば酸化第二銅粉末を用いる場合には、ＣuＯ+Ｈ２ＳＯ４→ＣuＳＯ４+Ｈ２Ｏ・・・となる。
【００５９】
上記のようにして、チャッキ弁式揚液口と揚液ポンプと配管と流量調整弁と不可避不純物を捕捉するフィルター４４a等からなるメッキ液供給手段４４によりメッキ液補給槽４２からメッキ槽３７へメッキ液の給送を行うことによりメッキ槽３７内に不足する銅イオンの供給を行うとともに、メッキ槽３７のメッキ液の液面レベルを全没に近い浸漬状態になるようにオーバーフロー方式で管理し、溢流するメッキ液を重力流下方式で液帰還手段（管路）２０を通してメッキ液補給槽４２に帰還するように構成されている。
なお、メッキを終了するときは、メッキ槽３７とメッキ液補給槽４２とを繋いでいる落液管５１に設けた自動開閉弁５２を開いてメッキ槽３７内のメッキ液をメッキ液補給槽４２に回収できるようになっている。
【００６０】
上記の構成であると、メッキ液中の銅イオン濃度を常に適切な状態に管理できるから良好な硫酸銅メッキを持続できる。そして、メッキ槽においてアノードスラッジが発生しないので被製版ロールに着いた硫酸銅メッキの表面にブツやピットの形成がなくなり、短時間に綺麗な表面の硫酸銅メッキを形成できて、製版において電解砥粒研磨を適用すると研磨代が小さくてもブツやピットが無い極めて良好な鏡面研磨ができるからメッキの厚みを小さくすることができメッキ時間を短縮できかつ製版の失敗が少なくなる。
【実施例３】
【００６１】
この実施例は、製版方法の一部を構成している、液含浸性砥粒固定可撓体を用いた中仕上げ研磨と砥粒が固定されていないスーパー繊維による鏡面仕上げ研磨についての実施例について図面を参照して詳細に説明するものである。
【００６２】
図３は、本願発明のグラビア印刷用の被製版ロールに対して電解研磨方式の円筒研磨方法を実施するための円筒研磨装置の平面図を示し、図４は平面図を示し、図５は要部縦断側面図を示す。
装置本体Ｙの上にカセット形ロールチャック回転搬送ユニットＵを載置して円筒研磨を行う。カセット形ロールチャック回転搬送ユニットＵは、特公昭57-36995号公報に示すカセット形ロール自動脱着装置と実質的に同一の構成である。従って、カセット形ロールチャック回転搬送ユニットＵについて図２に示す符号と同一の符号を付けて説明は省略する。
【００６３】
装置本体Ｙのフレーム上にカセット形ロールチャック回転搬送ユニットＵを載置すると、装置本体Ｘに備えたモータ５３により走行駆動されるチェーン巻掛け装置のチェーン５４に、カセット形ロールチャック回転搬送ユニットＵの駆動側のスピンドル５５に被嵌固定したスプロケット５６が係合する。
【００６４】
メッキの場合とは異なり、カセット形ロールチャック回転搬送ユニットＵのスピンドル２８、３１は陽極に接続される摺電ブラシ５７，５８と接触している。従って、モータ５３により回転される被製版ロールＲが陽極に接続される。
【００６５】
図４に示すように、装置本体Ｙは、直動ガイド５８に案内されるスライドブロック５９がサーボモータ６０により移動されるようになっている。
研磨ヘッド６１は、例えば、研磨ヘッド本体６１aの背面両端部に固定された２本の水平ガイド６２,６２がスライドブロック５９のガイド孔に嵌合案内されかつスライドブロック５９にシリンダ本体を固定されたエアシリンダ６３のピストンロッドの先端が研磨ヘッド本体６１aの背面に枢着されており、もって、エアシリンダ６３の伸縮作動により研磨ヘッド６１が被製版ロールＲに対して接触し又は離れるようになっている。
【００６６】
再び図３に戻り装置本体Ｙについて説明する。
装置本体Ｙは、研磨槽６４と、電解液帰還槽６５と、電解液貯留槽６６と、金属粉捕捉フィルター６７と、研磨ヘッド６１の研磨部位に向けてシャワーするシャワー管６８と、チャッキ弁式揚液口と揚液ポンプと配管と流量調整弁とフィルター等からなり電解液貯留槽６６に貯留される電解液をシャワー管６８に供給する液供給手段６９を備えている。
【００６７】
電解液貯留槽６６には、純水＋硝酸ナトリウム１wt％からなる電解液メッキを貯留する。そして、必要量の酸を入れて電解液を酸性に保つ。好ましくはＰＨ３．０位にする。
シャワー管６８は、研磨ヘッド本体６１aに支持され一体に往復動する。
研磨槽６４はオープンタンクとなっていて、シャワーした電解液を受けてドレン管を通して電解液帰還槽６５に返す。
電解液帰還槽６５に帰還する電解液は金属粉捕捉フィルター６７を通り金属粉が除去され電解液貯留槽６６に帰還する。
研磨槽６４はオープンタンクとなっているが、研磨の後のロール表面を中和するアルカリ液シャワー及びさらにその後の水道水等のシャワーが研磨槽６４に落ちないようにドレン皿が開閉自在に設けられるものとする。
なお、電解液帰還槽６５に帰還する金属粉は酸により略溶解されるので電解液帰還槽６５に金属イオンを捕捉するイオン交換塔を設置しても良い。
【００６８】
作動を説明する。
装置本体Ｙに備えたモータ５３が駆動して被製版ロールＲが所要回転数で回転する。次いで、エアシリンダ６３が伸張作動して研磨ヘッド６１が回転する被製版ロールＲに摺接して円筒研磨を開始するとともに、液供給手段６９のポンプが作動してシャワー管６８が研磨ヘッド６１の研磨部位の背面に向けて電解液をシャワーする。次いで、サーボモータ６０が駆動してスライドブロック５９が待機位置から被製版ロールＲの面長方向方向に往復移動を開始する。スライドブロック５９は、研磨ヘッド６１の両端が被製版ロールＲの端縁外方へ例えば５０ｍｍ張り出すように往復動する。
なお、図示していないが、研磨終了後に中和・水洗を行うシャワー手段が備えられる。このシャワー手段は、アルカリ性の液を最初にシャワーして酸性の電解液に対する中和を行い、次いで、水道水等の中性水をシャワーする。このシャワーのとき、受け皿が被製版ロールの下側に来て研磨時にシャワーする電解水への混入を回避するように構成される。
【００６９】
研磨ヘッド６１の詳細を説明する。
図５(a)に示すように、研磨ヘッド６１は、研磨ヘッド本体６１aの正面両側部に一対のブラケット６１bが設けられ、各ブラケット６１bに上下の開脚リンク６１c、６１cが枢支され、かつ各側の開脚リンク６１c、６１cの両側基部に固定した歯車６１d、６１d同士が外接噛合していて、ばね６１eとストッパー６１fによって上下の開脚リンク６１c、６１cが最大に開いた状態に揺動し、上側の開脚リンク６１cの先端部間及びに下側の開脚リンク６１cの先端部間に水平バー６１gが両端支持され、該二本の水平バー６１g,６１gにメッシュ材料よりなる研磨帯押圧用ウエブ６１hが両端固定されて平面状に張られ、該研磨帯押圧用ウエブ６１hの中途に帯状の電極部６１iが付設され、電極部６１iの上流側と下流側にゴム板６１j、６１kが貼着されて成る。
研磨ヘッド６１は、電極部６１iとゴム板６１j、６１kに密着して張られる研磨帯６１mを含んでいる。
【００７０】
研磨帯６１mは、スコッチブライトに代表される摩擦強度が大きい不織布に砥粒を固定してなる液含浸性砥粒固定可撓体であるか、又は、ザイロンに代表される摩擦強度・耐熱強度・クリープ強度が大きいスーパー繊維である。
【００７１】
研磨帯６１mが液含浸性砥粒固定可撓体であるときは、横方向から見て大きな輪となるように形成され、研磨中にロール回転とは反対回転となるように送りが与えられ、一箇所での研磨が行われないようになっていて、下方に存在する部分が電解液に洗われ、目詰まりしている金属粉及び遊離砥粒を洗い落とすようになっている。研磨帯６１m を走行する手段は、図示していない。適宜の送り手段を採用できる。
【００７２】
研磨帯６１mが液含浸性砥粒固定可撓体であるときは、下側から上側へ送りが与えられる。やはり、詳細を図示していないが、例えば、下側のチャック手段にボビンがチャックされ、ボビンに液含浸性砥粒固定可撓体が巻かれており、ボビンに接続されたトルクモータにより液含浸性砥粒固定可撓体がボビンに巻きれていく回転方向にモーメントが作用するようになっており、そして、ボビンから繰り出す液含浸性砥粒固定可撓体が上側の水平バー６１g の上方で駆動ロールとピンチロールに挟まれてトルクモータの付勢に抗して引き出されるようになっており巻き取り用のボビンに巻かれるようになっている。
【００７３】
図５(a)に示す状態は、研磨ヘッド６１が待機位置にあり、上下の開脚リンク６１c、６１cが最大に開いた状態であり、図５(b)に示す状態は、エアシリンダ装置６３が伸張作動して研磨ヘッド６１の研磨帯６１mが被製版ロールＲに密着していき、上下の開脚リンク６１c、６１cが閉じて被製版ロールＲに近接して停止し、研磨を行っている状態である。
図５(c)に示す状態は、径が小さい被製版ロールＲに対して、研磨帯６１mが被製版ロールＲに密着していき、上下の開脚リンク６１c、６１cが閉じていき被製版ロールＲから離れて停止し、研磨を行っている状態である。
図５(b)及び図５(c)に示すように、図３，図４に示すシャワー管６８は、上側の開脚リンク６１cと下側の開脚リンク６１dの外方に設けられていて、シャワー液を研磨帯押圧用ウエブ６１hの後面に電極部６１iに向けてかけるようになっている。
【００７４】
研磨理論について説明する。
被製版ロールＲと研磨帯６１mとの密着面に電解液を供給し研磨ヘッド６１をロール面長方向に往復動させることにより研磨帯６１mをロール面長方向に往復動させ被製版ロールＲの電極部６１iに対応する部分では電解研磨を行い電解電流が流れない他の部分では摩擦研磨を行う。研磨帯６１mは自身の長尺方向に遅速移動して研磨帯６１mの被製版ロールＲに対する研磨位置を更新し、もって良好な研磨条件を維持する。
研磨帯６１mがスコッチブライト（登録商標）等、摩擦強度が大きい不織布に砥粒を固定してなる液含浸性砥粒固定可撓体であるときには、被製版ロールＲの電極部６１iに対応する部分では電解砥粒研磨を行い電解電流が流れない他の部分（ゴム被覆部分）６１j、６１kでは摩擦砥粒研磨を行い、もって粗仕上げ研磨又はクロムメッキバリの除去研磨を行うように構成されている。
研磨帯６１mがザイロン（登録商標）等、摩擦強度・耐熱強度・クリープ強度が大きいスーパー繊維であるときには、被製版ロールＲの電極部６１iに対応する部分では電解摩擦研磨を行い電解電流が流れない他の部分（ゴム被覆部分）６１j、６１kでは摩擦研磨を行い、もって鏡面仕上げ研磨を行うように構成されている。
研磨帯押圧用ウエブ６１hは研磨帯６１mを被製版ロールＲに巻き付けて押圧する役目を果たす。
スコッチブライトを用いる研磨では、被製版ロールの円周速度200r.p.m、電極のロール面長方向の速度mm/sec、電流密度0.025A/cm２、圧力150g/cm２の条件で研磨したところ、良好な中仕上げ研磨ができた。
スコッチブライトを用いる研磨の後に、ザイロンを用いる研磨を行った。ザイロンを用いる研磨では、被製版ロールの円周速度200r.p.m、電極のロール面長方向の速度mm/sec、電流密度0.025A/cm２、圧力200g/cm２の条件で研磨したところ、良好な鏡面仕上げ研磨ができた。
【００７５】
ライン設備する場合に、スコッチブライト（登録商標）等、摩擦強度が大きい不織布に砥粒を固定してなる液含浸性砥粒固定可撓体で摩擦して粗仕上げ円筒研磨が行える円筒研磨装置と、スーパー繊維であり砥粒が固定されていない研磨ウエブで摩擦して鏡面仕上げ研磨が行える円筒研磨装置とを分けて設備することが望ましい。
【００７６】
液含浸性砥粒固定可撓体によって粗仕上げ円筒研磨が行える円筒研磨装置は、クロムメッキバリの除去研磨が行える。粗仕上げ円筒研磨を行う研磨ヘッドと鏡面仕上げ研磨を行う研磨ヘッドを備えた２ヘッド型二段研磨式円筒研磨装置とすることも可能であるが、分けた方が処理能力が大きいので好ましい。
【００７７】
最大長さ（1300ｍｍ位）の被製版ロールよりも例えば100ｍｍ長い研磨ヘッドを有していて研磨ヘッドの研磨のための往復ストロークを100ｍｍ位としても全長が同時に研磨ヘッドに当っている研磨であっても良いし、或いは、最少長さ（500ｍｍ位）の被製版ロールと略同じ長さの研磨ヘッドを有していて、最少長さ（500ｍｍ位）の被製版ロールに対しては研磨ヘッドの研磨のための往復ストロークを100ｍｍ位とし、又、最大長さ（1300ｍｍ位）の被製版ロールに対しては研磨時の研磨ヘッドの往復ストロークを900ｍｍ位としても良い。
【００７８】
被製版ロールを両端チャックし陽極に接続して回転するように構成する。粗仕上げ円筒研磨を行う研磨ヘッドと鏡面仕上げ研磨を行う研磨ヘッドは、いずれも、直径が例えば80mm〜300mmの範囲内の種々の大きさのグラビア印刷用の被製版ロールについていずれに場合でもスコッチブライトやザイロンと被製版ロールとの接触角を大きく取れるバックアップ機能を有する可変式研磨ヘッドであることが好ましい。
【００７９】
可変式研磨ヘッドであると、スコッチブライトやザイロンスコッチブライトは、被製版ロールに対してロール周方向の接触長さの全長に渡り、均一な摺動接触が図られる。
不織布に砥粒を固定してなるスコッチブライト等の液含浸性砥粒固定可撓体を用いる場合、被製版ロールの電極部に対応する部分では電解砥粒研磨が行われかつ電解電流が流れない他の部分では摩擦研磨が併行して行われ、もって粗仕上げ研磨が行われる。これは、硫酸銅メッキ前の研磨、硫酸銅メッキ後の研磨、クロムメッキバリを除去する研磨に適用できる。
【００８０】
又、ザイロン等のスーパー繊維であり砥粒が固定されていない研磨ウエブを用いる場合、被製版ロールの電極部に対応する部分では電解摩擦研磨が行われかつ電解電流が流れない他の部分では摩擦研磨が行われ、もって鏡面仕上げ研磨が行われる。これは、硫酸銅メッキ後の粗仕上げ・中仕上げ研磨後の研磨に適用できる。
【００８１】
研磨帯は被製版ロールに密着され研磨ヘッドによって被製版ロールへ押圧されるが、研磨帯と研磨ヘッドは分離している構成と一体構成のいずれも含む。好ましくは、研磨中に研磨帯が自身の長尺方向に遅速移動して研磨帯の被製版ロールに対する研磨位置が更新するように構成されているのがよい。
【００８２】
電解液がアルカリ性であるときは、硫酸銅メッキの電解砥粒研磨にあっては、不働態膜の堆積が見られ、円筒全面を良好に研磨するには、電解液が酸性とする。そして、研磨中に被製版ロールと研磨帯との密着面に電解液を供給し、被製版ロールから研磨帯が離れた研磨後は被製版ロールにアルカリ性の液を速やかにシャワーしてさらに中性水をシャワーするように構成され、受け皿の開閉等により酸性の電解液にアルカリ性及び中性のシャワー水が混ざらないように構成されているのが好ましい。
【００８３】
研磨ヘッド本体は、上記の実施例３に示す構成に限定されるものでない。
スコッチブライトを重ねた粗仕上げ用の第一の研磨ヘッドと、ザイロンを重ねた鏡面仕上げ用の第二の研磨ヘッドとを研磨対象の被製版ロールを挟んで対向して備えた２ヘッドタイプの装置によりグラビア印刷用の被製版ロールの円筒研磨を行うようにしても良い。又、１ヘッドタイプの装置でスコッチブライトとザイロンを交換する等の切り替えを行って研磨しても良い。
【００８４】
本願発明は、カセット形ロールチャック回転搬送ユニットを用いず、研磨装置本体に被製版ロールを両端チャックして所要回転数で回転しかつ被製版ロールを陽極に接続しうる手段を備えていても良い。
装置本体Ｙの上にカセット形ロールチャック回転搬送ユニットＵを載置して円筒研磨を行う構成に限定されない。装置本体Ｙに、被製版ロールをチャックして陽極に接続して回転する一対のチャック回転手段を備え、産業用ロボットとの間で被製版ロールの授受を行っても良い。
【００８５】
本願発明は、硫酸銅メッキを付けてからセルを形成する前の鏡面仕上げ研磨について砥石研磨装置による研磨時間よりも短時間に研磨することができ、又、セルを形成し硬質メッキを付けたときに生じるクロムメッキバリを除去に適用できる。
【００８６】
本願発明は、銅メッキを付けた被製版ロールの粗仕上げ研磨と鏡面仕上げ研磨、並びにセルを形成し硬質メッキを付けた被製版クロムメッキバリを除去する研磨に限定されない。製版には、被製版ロールに亜鉛メッキを付けて円筒研磨してレーザー彫刻してクロムメッキするものや、被製版ロールにニッケルメッキを付けて円筒研磨して色々な方法でセルをするものがあるので、本願発明方法は、被製版ロールの円筒研磨の全般に適用され得る。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】本願発明の実施例１の製版工場の平面図を示す。
【図２】本願発明の実施例２の円筒研磨装置の縦断正面図を示す。
【図３】本願発明の実施例３の円筒研磨装置の縦断正面図を示す。
【図４】本願発明の実施例３の円筒研磨装置の平面図を示す。
【図５】本願発明の実施例３の円筒研磨装置の研磨ヘッドの縦断側面図を示すもので、（a）は最大径の被製版ロールに対する研磨前の状態図、（b）は最大径の被製版ロールに対する研磨中の状態図、（c）は最小径の被製版ロールに対する研磨前の状態図。
【符号の説明】
【００８８】
Ａ・・・ロボット室、Ｂ・・・メッキ室、Ｒ・・・被製版ロール、１・・・産業用ロボット、１a・・・ロボットハンド、２・・・産業用ロボット、２a・・・ロボットハンド、３a・・・感光膜乾燥促進装置、３b・・・感光膜塗布装置、４・・・レーザ露光装置、５・・・高周波焼入れ装置、６・・・冷却装置、７Ａ、７Ｂ・・・ロールストック装置、８・・・スタッカクレーン、９・・・中継台装置、１０・・・中仕上げ用研磨装置、１１・・・鏡面仕上げ用研磨装置、１２・・・写真廃液塗布装置、Ｕ・・・カセット形ロールチャック回転搬送ユニット、１３・・・カセットストック台、１４・・・脱脂装置、１５・・・現像装置、１６・・・腐食装置、１７・・・レジスト剥離装置、１８・・・下地ニッケルメッキ装置、１９・・・硫酸銅メッキ装置、２０・・・ニッケル合金メッキ装置、２１・・・カセット組み込み台装置、２２・・・カセットストック台、２３・・・ＮＣ旋盤、２４・・・ロール計測装置、２５・・・校正刷り印刷機、Ｘ・・・メッキ装置本体、Ｆ・・・フレーム、Ｒ・・・被製版ロール、２６・・・モータ、２７・・・チェーン、２８・・・スピンドル、２９・・・スプロケット、３０・・・吊り上げフレーム、３１・・・スピンドル、３２，３３・・・ロールチャック、３４，３５・・・防液キャップ、３６・・・不溶性陽極、３７・・・メッキ槽、３７a・・・溢流槽、３８・・・メッキ液、３９・・・超音波装置、４０・・・昇降装置、４１・・・ブラケット、４２・・・メッキ液補給槽、４３・・・メッキ液、４４・・・メッキ液供給手段、４４a・・・フィルター、４５・・・液帰還手段（管路）、４６・・・粉末自動計量投入装置、４７・・・銅濃度センサ、４８・・・硫酸濃度センサ、４９・・・硫酸自動計量投入装置、５０・・・攪拌装置、５１・・・落液管、５２・・・自動開閉弁、Ｙ・・・装置本体、５３・・・モータ、５４・・・チェーン、５５・・・駆動側のスピンドル、５６・・・スプロケット、５７・・・摺電ブラシ、５８・・・直動ガイド、５９・・・スライドブロック、６０・・・サーボモータ、６１・・・研磨ヘッド、６１a・・・研磨ヘッド本体、６１b・・・ブラケット、６１c・・・開脚リンク、６１d・・・歯車、６１e・・・ばね、６１f・・・ストッパー、６１g・・・水平バー、６１h・・・研磨帯押圧用ウエブ、６１i・・・電極部、６１j，６１k・・・ゴム板、６１m・・・研磨帯、６２・・・水平ガイド、６３・・・エアシリンダ、６４・・・研磨槽、６５・・・電解液帰還槽、６６・・・電解液貯留槽、６７・・・金属粉捕捉フィルター、６８・・・シャワー管、６９・・・液供給手段、
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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