(57)【要約】【課題】  磁性材を含む被加工体をドライエッチングにより加工し、且つ、磁性材表面に残存する粒子や不純物を確実に除去して、良好な磁気特性の磁気記録媒体、磁気記録・再生機器等を効率よく製造することができる磁性材を含む被加工体の加工方法及び磁気記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】  磁性材を含む被加工体をドライエッチングにより加工し、アルカリ性溶液を用いて被加工体を洗浄（例えばスクラブ処理、超音波洗浄）する。【選択図】      図９
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性材を含む被加工体をドライエッチングにより加工する加工工程の後に、アルカリ性溶液を用いて前記被加工体を洗浄する洗浄工程を有することを特徴とする磁性材を含む被加工体の加工方法。
【請求項２】
前記洗浄工程は、前記アルカリ性溶液中で前記被加工体の表面をスポンジによってスクラブする工程を有することを特徴とする請求項１に記載の磁性材を含む被加工体の加工方法。
【請求項３】
前記洗浄工程は、前記アルカリ性溶液中で超音波洗浄を行う超音波洗浄工程を有することを特徴とする請求項１又は２に記載の磁性材を含む被加工体の加工方法。
【請求項４】
前記超音波洗浄の超音波周波数を高くしていくことを特徴とする請求項３に記載の磁性材を含む被加工体の加工方法。
【請求項５】
前記ドライエッチングが、反応性ガスを利用したドライエッチングを有することを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の磁性材を含む被加工体の加工方法。
【請求項６】
前記反応性ガスが、ハロゲン系ガス、酸素系ガスの少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項５に記載の磁性材を含む被加工体の加工方法。
【請求項７】
前記アルカリ性溶液が、アンモニアを含むことを特徴とする請求項１から６のいずれかに記載の磁性材を含む被加工体の加工方法。
【請求項８】
請求項１から７のいずれかに記載の磁性材を含む被加工体の加工方法を用いて、磁性材を含む磁気記録媒体を加工することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、磁気記録ディスク等の磁気記録媒体、磁気ヘッド等の磁気記録・再生機器等を製造するための、磁性材を含む被加工体の加工方法及び磁気記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気記録媒体、磁気記録・再生機器の製造分野では、記録容量の向上、コンパクト化等に伴い、磁性材の微細加工技術の重要性が増している。
【０００３】
例えば、ハードディスク等の磁気記録媒体は、記録層を構成する磁性粒子の微細化、材料の変更等の改良により著しい面記録密度の向上が図られているが、このような従来の改良手法による面記録密度の向上は限界にきており、一層の面記録密度の向上を実現可能である磁気記録媒体の候補として、連続記録層（磁性材）を多数の分割記録要素に分割加工してなるディスクリートトラックタイプやパターンドメディアタイプの磁気記録媒体が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
又、面記録密度が高い磁気記録媒体を利用するためには、それだけ磁気ヘッドを微細に加工する必要がある。
【０００５】
磁性材の微細加工技術としては、半導体製造等の分野で多く用いられるイオンビームエッチングや、ハロゲン系ガスや酸素系ガス等を反応ガスとする反応性イオンエッチング等のドライエッチングの手法を利用しうる。尚、磁性材に適したドライエッチングとしては、ＣＯ（一酸化炭素）ガス等を反応ガスとする反応性イオンエッチングが知られているが（例えば、特許文献２参照）、この反応性イオンエッチングを用いる場合も、マスク層の加工のために、ハロゲン系ガスや酸素系ガス等を反応ガスとする反応性イオンエッチングの手法を利用しうる。
【０００６】
一方、従来の連続記録層を有する磁気記録体や、磁気記録媒体へ磁気転写を行うための磁気転写用マスタディスクの製造において、これまで純水やＩＰＡ（イソプロピルアルコール）を用いた洗浄工程が適用されており、大気中あるいは成膜中に付着した不純物粒子を除去する場合においては充分の効果があることが確認されている（例えば、特許文献３参照）。
【０００７】
【特許文献１】特開平９−９７４１９号公報
【特許文献２】特開２０００―３２２７１０号公報
【特許文献３】特開２００３−５１１０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、磁気記録媒体表面に対して上述したような加工処理工程が適用される場合においては、磁性材の加工にドライエッチングという工程が含まれるために、ドライエッチングによって生成した多数の破片（粒子）が磁気記録媒体表面に残留してしまう。このため、洗浄工程が従来のような純水やＩＰＡによる方法では、磁気記録媒体として使用できるだけの充分に清浄な磁気記録媒体表面を実現することが困難であるという問題がある。
【０００９】
又、ドライエッチングにより磁性材を加工する前のレジスト塗布工程やマスク層加工工程などの工程において発生した不純物粒子などが磁性材表面に多数存在又は固着している場合もあり、これらの不純物粒子を核として腐食などが起きるという問題もある。又、磁性材やマスク層の加工に反応性ガスを利用したドライエッチングを用いる場合には、磁性材と反応性の高いガスや磁性材を腐食や酸化させる性質を有するガス（例えばハロゲン系ガスや酸素系ガス）を用いるため、加工処理後の磁性材表面に残存したそれらのガス成分の除去が不完全な場合には、それらのガス成分によって腐食や酸化などの材質変化が起きるという問題もある。
【００１０】
以上のような腐食や酸化などの材質変化は、特にディスクリートトラックタイプやパターンドメディアタイプの磁気記録媒体や磁気ヘッドなどのように、被加工体である磁性材の特性を利用するような磁気記録・再生機器においては致命的な問題となる。
【００１１】
本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであって、磁性材を含む被加工体をドライエッチングにより加工し、且つ、磁性材表面に残存する粒子や不純物を確実に除去して、良好な磁気特性の磁気記録媒体、磁気記録・再生機器等を効率よく製造することができる磁性材を含む被加工体の加工方法及び磁気記録媒体の製造方法を提供することをその課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、アルカリ性溶液を用いて磁性材を含む被加工体を洗浄することにより、効率よく確実に磁性材表面に残存する粒子や不純物を除去することを実現したものである。
【００１３】
このようにアルカリ性溶液を用いて磁性材を含む被加工体を洗浄することにより、効率よく確実に磁性材表面に残存する粒子や不純物を除去できる理由は概ね次の通りである。磁性材表面に残存する粒子の多くはマイナス側に帯電している。被加工体をアルカリ性溶液を用いて洗浄することにより、磁性材表面の表面電位（ゼータ電位）をマイナス側にすることができる。その結果、磁性材表面に残存するマイナス側に帯電している粒子は反発して磁性材表面から離れやすくなり、粒子の除去に有効である。
【００１４】
又、アルカリ性溶液は還元性を有しているので、磁性材表面に残存したフッ素系ガス、塩素系ガス等のハロゲン系ガス、酸素ガス、オゾンガス等の酸素系ガス等の腐食や酸化の原因となる酸化性を有するガスを効率よく除去することができ、また、それらのガスが引き起こす磁性材表面の酸化反応を防止することができる。
【００１５】
即ち、本発明は、請求項１乃至８に記載の技術により、上記課題の解決を図ったものである。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１に記載の発明によれば、磁性材を含む被加工体をドライエッチングにより加工する加工工程の後に、アルカリ性溶液を用いて被加工体を洗浄する洗浄工程を有するので、ドライエッチングによる加工等で発生した磁性材表面に残存する粒子や不純物、磁性材表面に残存したハロゲン系ガス、酸素系ガス等の腐食や酸化の原因となる酸化性を有するガスを効率よく確実に除去することができ、また、それらのガスが引き起こす磁性材表面の酸化反応を確実に防止することができる。
【００１７】
さらに、請求項２に記載の発明によれば、アルカリ性溶液中で被加工体の表面をスポンジによってスクラブする工程を有するので、磁性材表面に残存する粒子や不純物を一層効率よく確実に除去することができる。
【００１８】
又、請求項３に記載の発明によれば、アルカリ性溶液中で超音波洗浄を行う超音波洗浄工程を有するので、磁性材表面に残存する粒子や不純物を一層効率よく確実に除去することができる。
【００１９】
さらに、請求項４に記載の発明によれば、前記超音波洗浄の超音波周波数を高くしていくので、磁性材表面に残存する粒子や不純物をより一層効率よく確実に除去することができる。
【００２０】
又、請求項５に記載の発明によれば、前記ドライエッチングが反応性ガスを利用したドライエッチングを有するので、磁性材を含む被加工体を効率的に加工することができる。
【００２１】
さらに、請求項６に記載の発明によれば、前記反応性ガスがハロゲン系ガス、酸素系ガスの少なくともいずれかを含むので、磁性材を含む被加工体を一層効率的に加工することができる。
【００２２】
又、請求項７に記載の発明によれば、前記アルカリ性溶液がアンモニアを含むので、磁性材表面に残存した特にハロゲン系ガス等の腐食や酸化の原因となる酸化性を有するガスを一層効率よく確実に除去することができる。
【００２３】
又、請求項８に記載の発明によれば、上述した磁性材を含む被加工体の加工方法を用いて、磁性材を含む磁気記録媒体を加工するので、ドライエッチングによる加工等で発生した磁性材表面に残存する粒子や不純物を効率よく確実に除去することができ、良好な磁気特性の磁気記録媒体を効率よく確実に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００２５】
本実施形態は、図１に示されるような磁性薄膜層２０（磁性材）を含む試料１０（被加工体）にドライエッチングによる加工を施すことにより、図２に示されるような所定のラインアンドスペースパターンの形状に磁性薄膜層２０を加工するものであり、加工工程及び加工工程後の洗浄工程に特徴を有している。使用される装置等の構成については従来と同様であるので説明を適宜省略することとする。
【００２６】
試料１０の加工出発体は、ガラス基板１２に、下地層１４、軟磁性層１６、配向層１８、磁性薄膜層２０、第１のマスク層２２、第２のマスク層２４、レジスト層２６がこの順で形成された構造とされている。
【００２７】
下地層１４は、厚さが３０〜２００ｎｍで、材料はＣｒ（クロム）又はＣｒ合金である。軟磁性層１６は、厚さが５０〜３００ｎｍで、材料はＦｅ（鉄）合金又はＣｏ（コバルト）合金である。配向層１８は、厚さが３〜３０ｎｍで、材料はＣｏＯ（酸化コバルト）、ＭｇＯ（酸化マグネシウム）、ＮｉＯ（酸化ニッケル）等である。磁性薄膜層２０は、厚さが５〜３０ｎｍで、材料はＣｏＣｒ（コバルト−クロム）合金である。第１のマスク層２２は、厚さが３〜２０ｎｍで、材料はＴａＳｉ合金（組成比は原子比でＴａ：８０％、Ｓｉ：２０％）である。第２のマスク層２４は、厚さが３〜１５ｎｍで、材料はＮｉ（ニッケル）である。レジスト層２６は、厚さが３０〜３００ｎｍで、材料はネガ型レジスト（ＮＥＢ２２Ａ  住友化学工業株式会社製）である。
【００２８】
次に、試料１０を加工する加工工程について、図３に示すフローチャートに沿って説明する。
【００２９】
まず、図１に示される試料１０の出発体を用意する（Ｓ１０１）。試料１０の出発体はガラス基板１２に、下地層１４、軟磁性層１６、配向層１８、磁性薄膜層２０、第１のマスク層２２、第２のマスク層２４を、この順でスパッタリング法により形成し、更にレジスト層２６をスピンコート法で塗布することにより得られる。
【００３０】
この被加工体１０のレジスト層２６にインプリント法を用いて、図８に示されるような分割記録要素２０Ａの分割パターンに相当する溝及びコンタクトホールを含む所定のサーボパターン（図示省略）を、図４に示されるようにインプリント法により転写する（Ｓ１０２）。このようにインプリント法を用いることで、分割パターンに相当する溝を被加工体１０に効率よく転写することができる。
【００３１】
次に、酸素ガス（酸素系ガスの一例）のプラズマを用いたアッシング（反応性ガスを利用したドライエッチングの一例）により、図５に示されるように凹凸パターンの凹部底面のレジスト層２６を除去する（Ｓ１０３）。尚、この際、凹部以外の領域のレジスト層２６も若干除去されるが、凹部底面との段差の分だけ残存する。尚、リソグラフィ等により、被加工体１０に分割パターンに相当する溝を形成することも当然可能である。
【００３２】
次に、Ａｒ（アルゴン）ガスを用いたイオンビームエッチングにより、図６に示されるように溝底面の第２のマスク層２４を除去する（Ｓ１０４）。尚、この際、溝以外の領域のレジスト層２６も若干除去される。
【００３３】
次に、ＳＦ６ガス（ハロゲン系ガスの一例）を反応ガスとする反応性イオンエッチング（反応性ガスを利用したドライエッチングの一例）により、図７に示されるように溝底面の第１のマスク層２２を除去する（Ｓ１０５）。
【００３４】
これにより、溝底面に磁性薄膜層２０が露出する。尚、ここで、溝以外の領域のレジスト層２６は完全に除去される。又、溝以外の領域の第２のマスク層２４も一部除去されるが若干量が残存する。
【００３５】
次に、カルボニル系ガス（一例としてＣＯガスとＮＨ３ガスの混合ガス）を反応ガスとする反応性イオンエッチングにより、図８に示されるように溝底面の磁性薄膜層２０を除去する（Ｓ１０６）。これにより、磁性薄膜層２０が多数の記録要素２０Ａに分割される。
【００３６】
尚、この反応性イオンエッチングにより、溝以外の領域の第２のマスク層２４が完全に除去される。又、溝以外の領域の第１のマスク層２２も一部が除去されるが一定量が記録要素２０Ａの上面に残存する。
【００３７】
次に、ＳＦ６ガス（ハロゲン系ガスの一例）を用いた反応性イオンエッチングにより、図８に示されるように記録要素２０Ａの上面に残存する第１のマスク層２２を完全に除去する（Ｓ１０７）。
【００３８】
これにより、図２に示される試料１０の加工が完了する。
【００３９】
以上のように、酸素ガスのような酸素系ガスや、ＳＦ６ガスのようなハロゲン系ガスを反応性ガスとするドライエッチングを用いることで、効率的に試料１０を加工することができる。
【００４０】
次に、試料１０を洗浄する洗浄工程について、図９に示すフローチャートに沿って説明する。
【００４１】
まず、一例として、加工が完了した試料１０をｐＨ約１２のアンモニア溶液（アルカリ性溶液の一例）中に浸漬しながら約４０ｋＨｚの超音波を印加し約３分間超音波洗浄する（Ｓ２０１）。
【００４２】
次に、一例として、ｐＨ約１１のアンモニア溶液中に浸漬しながらＰＶＡ（ポリビニルアルコール）スポンジを用いて試料１０表面を約１分間スクラブ処理する（Ｓ２０２）。
【００４３】
次に、一例として、ｐＨ約１１のアンモニア溶液中に浸漬しながら約１２０ｋＨｚの超音波を印加し約３分間超音波洗浄する（Ｓ２０３）。
【００４４】
次に、一例として、ｐＨ約１０のアンモニア溶液中に浸漬しながら約１ＭＨｚの超音波を印加し約３分間超音波洗浄する（Ｓ２０４）。
【００４５】
次に、一例として、純水中に浸漬しながら約１ＭＨｚの超音波を印加し約３分間超音波洗浄し（Ｓ２０５）、その後試料１０をスピンドライによって乾燥させる（Ｓ２０６）。
【００４６】
これにより、図２に示される試料１０の洗浄が完了する。
【００４７】
洗浄が完了した試料１０の磁性薄膜層の表面にＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）等の保護層をＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法等によって成膜し、ＰＦＰＥ（パーフロロポリエーテル）等の潤滑層をディッピング法等により塗布することで磁気記録媒体が完成する。磁性薄膜層の表面にＤＬＣを成膜後に上記のような洗浄を行っても、表面に残存する粒子や不純物を除去する一定の効果が得られる。
【００４８】
又、記録要素２０Ａ間の凹部を例えばＳｉＯ２等の非磁性材で充填した後に、磁気記録媒体の表面の凹凸をドライエッチング等により平坦化するような構成にすることもできる。このような場合、表面を平坦化加工した後に上記のような洗浄を行うことで、平坦化加工の際に発生した不純物粒子を効率良く確実に除去することができる。
【００４９】
以上のように、アルカリ性溶液を用いて試料１０を洗浄することにより、試料１０表面（磁性材表面）の表面電位（ゼータ電位）をマイナス側にすることができ、残存する粒子が反発して磁性材表面から離れやすくなり、残存する粒子を効率よく確実に除去することができる。又、アルカリ性溶液は還元性を有しているので、試料１０表面に残存した酸素ガス、ＳＦ６ガス等の腐食や酸化の原因となる酸化性を有するガスを効率よく確実に除去することができ、また、それらのガスが引き起こす試料１０表面の酸化反応を確実に防止することができる。したがって、ドライエッチングによる加工等で発生した磁性材表面に残存する粒子や反応ガス等の不純物を効率よく確実に除去することができ、良好な磁気特性の磁気記録媒体を効率よく確実に製造することができる。
【００５０】
更に、アルカリ性溶液としてアンモニアを含むアンモニア溶液を用いて洗浄することで、試料１０表面に残存した特にＳＦ６ガス等の腐食や酸化の原因となる酸化性を有するハロゲン系ガスを一層効率よく確実に除去することができる。
【００５１】
更に、アルカリ性溶液中で試料１０表面をＰＶＡスポンジによってスクラブ処理することで、試料１０表面に残存する粒子や不純物を一層効率よく確実に除去することができる。
【００５２】
更に、アルカリ性溶液中で試料１０を超音波洗浄することで、試料１０表面に残存する粒子や不純物を一層効率よく確実に除去することができる。
【００５３】
更に、超音波洗浄の超音波周波数を高くしていくことで、試料１０表面に残存する粒子や不純物をより一層効率よく確実に除去することができる。これは、比較的低い超音波周波数では磁性材表面に固着している粒子を磁性材表面から除去する効果が高く、比較的高い超音波周波数では除去された粒子が磁性材表面に再付着するのを防止する効果が高いためである。従って、洗浄の初期段階では比較的低い超音波周波数で洗浄を行い、洗浄工程が進むにしたがって超音波周波数を高くしていくことで、粒子を効率よく確実に除去することができる。又、粒子の径により除去されやすい超音波周波数が異なるため、異なる超音波周波数で洗浄を行うことで、粒子径の異なる粒子を効率よく確実に除去することができる。
【００５４】
尚、本実施形態において、洗浄工程を複数の工程に分け、１つの工程では同一の超音波周波数で洗浄を行い、工程が進むごとに超音波周波数を高くしているが、本発明はこれに限定されるものではなく、１つの工程の中で超音波周波数を高くしていくようにしてもよい。この場合、超音波周波数を段階的に高くしていくようにしてもよいし、連続的に高くしていくようにしてもよい。
【００５５】
又、アルカリ溶液のｐＨ値については特に限定されるものではないが、磁性材表面の表面電位（ゼータ電位）をマイナス側に帯電させることによる磁性材表面の吸着物や固着物の除去効果、及び洗浄中の粒子の磁性材表面への再付着抑制効果を効果的に得るために、後述するようにｐＨ１１以上のアルカリ溶液を用いる工程を有することが好ましく、ｐＨ１２以上のアルカリ溶液を用いる工程を有することがより好ましい。ｐＨ値の上限値は洗浄効果に関しては特になく、ｐＨ値が大きいほど洗浄効果は高いが、ｐＨ１４を超えると磁性材が変質する恐れがあるので、ｐＨ１４以下であることが好ましい。
【００５６】
又、本実施形態において、洗浄工程を複数の工程に分け、アルカリ溶液のｐＨ値を徐々に小さくしながら洗浄を行っているが、これは除去された粒子を洗い流す役割と、純水への置換の役割を果たしている。が、本発明はこれに限定されるものではなく、これらの工程の工程数やアルカリ溶液のｐＨ値、さらには浸漬時間、超音波の周波数等は磁性材表面の汚れ具合に応じて適宜調整すればよい。
【００５７】
又、本実施形態のＳ２０６の工程における乾燥方法についても、ここに示した方法に限られず、例えばＩＰＡ蒸気乾燥法などを用いてもよい。
【００５８】
又、本実施形態において、レジスト層２６に対するアッシングの反応ガスとして酸素ガス（酸素系のガス）を用い、第１のマスク層２２を加工するための反応性イオンエッチングの反応ガスとしてＳＦ６ガス（ハロゲン系のガス）を用いているが、本発明はこれに限定されるものではなく、酸素ガスに代えて例えばオゾン等の他の酸素系の反応ガスを用いてレジスト層２６に対するアッシングを行い、ＳＦ６ガスに代えて例えばＣＦ４ガス等の他のフッ素系ガス、Ｃｌ２ガス、ＢＣｌ３等の塩素系ガス等の他のハロゲン系の反応ガスを用いて第１のマスク層２２を加工する場合にも、アルカリ性溶液を用いて試料１０を洗浄することにより、磁性材表面に残存する粒子や反応ガス等の不純物を効率よく確実に除去することができる。
【００５９】
又、本実施形態において、酸素ガス（酸素系のガス）を反応ガスとするアッシングを凹部底面のレジスト層２６の除去のために用い、ＳＦ６ガス（ハロゲン系のガス）を反応ガスとする反応性イオンエッチングを第１のマスク層２２を加工するために用いているが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、第２のマスク層２４、磁性薄膜層２０等の他の層の加工のために酸素系ガスやハロゲン系のガスを反応ガスとするドライエッチングを用いる場合にも、アルカリ性溶液を用いて試料１０を洗浄することにより、磁性材表面に残存する粒子や反応ガス等の不純物を効率よく確実に除去することができる。
【００６０】
又、本実施形態において、第１のマスク層２２、第２のマスク層２４、レジスト層２６を磁性薄膜層２０上に形成し、４段階のドライエッチングで磁性薄膜層２０を分割しているが、磁性薄膜層２０を所望の凹凸パターンに加工できれば、レジスト層、マスク層の材料、積層数、厚さ、ドライエッチングの種類等は特に限定されない。
【００６１】
又、本実施形態において、磁性薄膜層２０の材質はＣｏＣｒ合金であるが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、鉄族元素（Ｃｏ、Ｆｅ（鉄）、Ｎｉ）を含む他の合金、これらの積層体等の他の材質の磁性材を含む被加工体に対しても本発明を適用可能である。又、フェライト等の酸化物の磁性材を含む被加工体に対しても本発明を適用可能である。
【００６２】
又、本実施形態において、磁性薄膜層２０の下に下地層１４、軟磁性層１６、配向層１８が形成されているが、本発明はこれに限定されるものではなく、磁性薄膜層２０の下の層の構成は、磁気記録媒体の種類に応じて適宜変更すればよい。例えば、下地層１４、軟磁性層１６、配向層１８のうち一又は二の層を省略してもよい。又、基板上に磁性薄膜層を直接形成してもよい。
【００６３】
又、本実施形態において、試料１０は記録要素２０Ａがトラックの径方向に微細な間隔で並設された垂直記録型のディスクリートトラックタイプの磁気記録媒体となるものであるが、他のハードディスク等の磁気ディスク、光磁気ディスク、磁気テープ、磁気ヘッド等、磁性材を有して構成される種々の記録媒体、装置の加工に本発明を適用可能であることは言うまでもない。
【実施例】
【００６４】
以下、実施例と比較例により本発明を更に具体的に説明する。
【００６５】
（実施例１）
上記実施形態のとおり、試料１０を１０個作製した。具体的には、試料１０の加工出発体に対し、記録要素２０Ａを約２００ｎｍのピッチで、記録要素幅と溝幅の比率は１：１で形成し（図２参照）た。より具体的には、Ｓ１０３、Ｓ１０５及びＳ１０７の各工程を下記のような条件でドライエッチング加工を行った。
【００６６】
（Ｓ１０３）
酸素ガスの流量        ：５０ｓｃｃｍ
真空チャンバー内の圧力：０．３Ｐａ
バイアスパワー        ：１００Ｗ
（Ｓ１０５）
ＳＦ６ガスの流量      ：２０ｓｃｃｍ
真空チャンバー内の圧力：０．３Ｐａ
ソースパワー          ：１０００Ｗ
バイアスパワー        ：１５０Ｗ
（Ｓ１０７）
ＳＦ６ガスの流量      ：２０ｓｃｃｍ
真空チャンバー内の圧力：１．０Ｐａ
ソースパワー          ：１０００Ｗ
バイアスパワー        ：５０Ｗ
【００６７】
加工が完了した１０個の試料１０に対し、上記実施形態のとおり洗浄を行った。
【００６８】
このようにして得られた試料１０の表面を光学顕微鏡及び走査型電子顕微鏡を用いて観察したところ、表面における残存粒子数の平均値は１個以下（洗浄前の残存粒子数からの減少率は９９．９％以上）であり、清浄な面が得られていることが確認された。
【００６９】
更に、試料１０を、温度８０℃、湿度８０％の高温高湿環境に保持された恒温槽内に約４０時間載置した。
【００７０】
この後、試料１０の表面を光学顕微鏡及び走査型電子顕微鏡を用いて観察したところ、いずれの媒体にも酸化あるいは腐食している箇所は一箇所も見られなかった。
【００７１】
（比較例１）
上記実施例１に対し、洗浄に用いる液を全て純水とし、その他は実施例１と同様にして、試料１０を１０個作製した。
【００７２】
実施例１と同様に洗浄後の試料１０の表面を光学顕微鏡及び走査型電子顕微鏡を用いて観察したところ、表面における残存粒子数の洗浄前からの減少率は約９０％であった。
【００７３】
更に、実施例１と同様に試料１０を、温度８０℃、湿度８０％の高温高湿環境に保持された恒温槽内に約４０時間載置した後、試料１０の表面を光学顕微鏡及び走査型電子顕微鏡を用いて観察したところ、いずれの媒体にも腐食が発生しており、パターン形成された領域中の約１０％の領域が腐食していた。
【００７４】
このように、純水のみによる洗浄では、実施例１に対し、磁性材表面の残存粒子の除去及び酸化あるいは腐食の原因となる反応性ガスの除去に関して充分な効果が得られないことが確認された。
【００７５】
（比較例２）
上記実施例１に対し、Ｓ２０１及びＳ２０３の各工程の洗浄に用いる液をＩＰＡ（イソプロピルアルコール）とし、Ｓ２０２、Ｓ２０４及びＳ２０５の各工程の洗浄に用いる液を純水とし、その他は実施例１と同様にして、試料１０を１０個作製した。
【００７６】
実施例１と同様に洗浄後の試料１０の表面を光学顕微鏡及び走査型電子顕微鏡を用いて観察したところ、表面における残存粒子数の洗浄前からの減少率は約７０％であった。
【００７７】
更に、実施例１と同様に試料１０を、温度８０℃、湿度８０％の高温高湿環境に保持された恒温槽内に約４０時間載置した後、試料１０の表面を光学顕微鏡及び走査型電子顕微鏡を用いて観察したところ、いずれの媒体にも酸化あるいは腐食している箇所は一箇所も見られなかった。
【００７８】
このように、ＩＰＡを用いた洗浄では、酸化あるいは腐食の原因となる反応性ガスの除去に効果はあるが、実施例１に対し磁性材表面の残存粒子の除去に関して充分な効果が得られないことが確認された。
【００７９】
（実施例２）
上記実施例１に対し、Ｓ２０１の工程の洗浄に用いるアンモニア溶液のｐＨ値を約１１とし、その他は実施例１と同様にして、試料１０を１０個作製した。
【００８０】
実施例１と同様に洗浄後の試料１０の表面を光学顕微鏡及び走査型電子顕微鏡を用いて観察したところ、表面における残存粒子数の洗浄前からの減少率は約９９％であった。
【００８１】
更に、実施例１と同様に試料１０を、温度８０℃、湿度８０％の高温高湿環境に保持された恒温槽内に約４０時間載置した後、試料１０の表面を光学顕微鏡及び走査型電子顕微鏡を用いて観察したところ、いずれの媒体にも酸化あるいは腐食している箇所は一箇所も見られなかった。
【００８２】
（実施例３）
上記実施例１に対し、Ｓ２０１、Ｓ２０２及びＳ２０３の各工程の洗浄に用いるアンモニア溶液のｐＨ値を約１０とし、その他は実施例１と同様にして、試料１０を１０個作製した。
【００８３】
実施例１と同様に洗浄後の試料１０の表面を光学顕微鏡及び走査型電子顕微鏡を用いて観察したところ、表面における残存粒子数の洗浄前からの減少率は約９３％であった。
【００８４】
更に、実施例１と同様に試料１０を、温度８０℃、湿度８０％の高温高湿環境に保持された恒温槽内に約４０時間載置した後、試料１０の表面を光学顕微鏡及び走査型電子顕微鏡を用いて観察したところ、いずれの媒体にも酸化あるいは腐食している箇所は一箇所も見られなかった。
【００８５】
実施例１乃至３のいずれについても、高温高湿環境に保持後に酸化あるいは腐食している箇所は一箇所も観察されていない。が、表面における残存粒子数の洗浄前からの減少率については違いが見られる。実施例１乃至３及び比較例１についての、表面における残存粒子数の洗浄前からの減少率を表１に示す。減少率は実施例３では約９３％であるのに対し、実施例２では約９９％、実施例１では９９．９％以上と良好な結果となっており、ｐＨ１１以上のアルカリ溶液を用いる工程を有することが好ましく、ｐＨ１２以上のアルカリ溶液を用いる工程を有することがより好ましいことがわかる。
【００８６】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【００８７】
本発明は、磁気記録媒体、磁気記録・再生機器等の製造に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】本発明の実施形態に係る試料の出発体の構成を模式的に示す側断面図
【図２】同出発体を加工して得られる試料の完成体の構造を模式的に示す側断面図
【図３】同試料の加工工程を示すフローチャート
【図４】インプリント法によりレジスト層にパターンが転写された試料の形状を示す側断面図
【図５】レジスト層がパターンで分割された試料の形状を示す側断面図
【図６】溝底面の第２のマスク層が除去された試料の形状を模式的に示す側断面図
【図７】溝底面の第１のマスク層が除去された試料の形状を模式的に示す側断面図
【図８】磁性薄膜層が分割された試料の形状を模式的に示す側断面図
【図９】同試料の洗浄工程を示すフローチャート
【符号の説明】
【００８９】
１０…試料
１２…ガラス基板
１４…下地層
１６…軟磁性層
１８…配向層
２０…磁性薄膜層
２２…第１のマスク層
２４…第２のマスク層
２６…レジスト層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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