(57)【要約】      （修正有）【課題】  半透過型カラー液晶表示素子の製造工程を削減する。【解決手段】  一方の透明基板１０上に色の異なる三原色の各カラー要素Ｒ，Ｇ，Ｂをストライプ状に連続して並設してなるカラーフィルタを有し、各カラー要素Ｒ，Ｇ，Ｂごとに光透過表示部１２と、拡散層１１ａ上に完全反射のミラーを形成してなる光反射表示部１１とが各カラー要素Ｒ，Ｇ，Ｂのストライプ方向に沿って形成され、かつ、他方の透明基板に形成されている透明電極間を遮光する遮光膜１１ｃが各カラー要素Ｒ，Ｇ，Ｂを横切る方向に形成されている半透過型カラー液晶表示素子において、上記拡散層１１ａと上記遮光膜１１ｃとを同一の樹脂材により一体に形成する。【選択図】  図１（ａ）
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一方の透明基板上に色の異なる各カラー要素をストライプ状に連続して並設してなるカラーフィルタを有し、上記各カラー要素ごとに光透過表示部と、拡散層上に完全反射のミラーを形成してなる光反射表示部とが上記各カラー要素のストライプ方向に沿って形成され、かつ、他方の透明基板に形成されている透明電極間を遮光する遮光膜が上記各カラー要素を横切る方向に形成されている半透過型カラー液晶表示素子において、
上記拡散層と上記遮光膜とが、同一の樹脂材により一体に形成されていることを特徴とする半透過型カラー液晶表示素子。
【請求項２】
上記拡散層と上記遮光膜とが、黒色顔料を含むレジスト樹脂からなることを特徴とする請求項１に記載の半透過型カラー液晶表示素子。
【請求項３】
上記黒色顔料を含むレジスト樹脂には、平均径が上記拡散層の厚さの１／３〜２／３であるフィラーが５〜２０重量％含まれていることを特徴とする請求項２に記載の半透過型カラー液晶表示素子。
【請求項４】
上記光反射表示部は、上記ミラーの一部分を上記ストライプ方向に沿ってスリット状に除去してなる無ミラー帯を備え、上記各カラー要素の色境界が上記無ミラー帯に沿って配置されていることを特徴とする請求項１，２または３に記載の半透過型カラー液晶表示素子。
【請求項５】
上記無ミラー帯から上記ミラーの一部の領域にかけて上記カラー要素が存在しないミラー露出部が形成されていることを特徴とする請求項４に記載の半透過型カラー液晶表示素子。
【請求項６】
一方の透明基板上に色の異なる各カラー要素をストライプ状に連続して並設してなるカラーフィルタを有し、上記各カラー要素ごとに光透過表示部と、拡散層上に完全反射のミラーを形成してなる光反射表示部とが上記各カラー要素のストライプ方向に沿って形成され、かつ、他方の透明基板に形成されている透明電極間を遮光する遮光膜が上記各カラー要素を横切る方向に形成されている半透過型カラー液晶表示素子の製造方法において、
マザー基板に含まれている上記一方の透明基板上に、遮光性を有する樹脂材により上記拡散層と上記遮光膜とを同時に形成する第１工程と、上記拡散層上に完全反射のスリットミラーを形成して上記光反射表示部とする第２工程と、上記光反射表示部と上記光透過表示部とにかけて所定の上記カラー要素を形成する第３工程とを実施することを特徴とする半透過型カラー液晶表示素子の製造方法。
【請求項７】
上記第１工程において、遮光性を有する樹脂材により上記拡散層と上記遮光膜とを同時に形成する際、上記マザー基板の余白部に、以後の工程で使用される位置合わせマークを上記遮光性を有する樹脂材により同時に形成することを特徴とする請求項６に記載の半透過型カラー液晶表示素子の製造方法。
【請求項８】
表示面側透明基板と裏面側透明基板とを含み、上記裏面側透明基板の内面に、拡散層，完全反射のミラーからなる光反射部およびカラーフィルタがこの順序で形成されている反射型カラー液晶表示素子において、
上記拡散層が、着色されたレジスト樹脂からなることを特徴とする反射型カラー液晶表示素子。
【請求項９】
上記着色されたレジスト樹脂が、遮光性を備えていることを特徴とする請求項８に記載の反射型カラー液晶表示素子。
【請求項１０】
上記カラーフィルタが、色の異なる各カラー要素をストライプ状に連続して並設してなるストライプ配列型カラーフィルタであり、上記光反射部は、上記ミラーの一部分を上記ストライプ方向に沿ってスリット状に除去してなる第１無ミラー帯を備え、上記各カラー要素の色境界が上記第１無ミラー帯に沿って配置されていることを特徴とする請求項８または９に記載の反射型カラー液晶表示素子。
【請求項１１】
上記カラーフィルタが、色の異なる各カラー要素をストライプ状に連続して並設してなるストライプ配列型カラーフィルタであり、上記光反射部は、上記ストライプ方向に配列されている各画素間に、上記ミラーの一部分を上記ストライプ方向と直交する方向に沿ってスリット状に除去してなる第２無ミラー帯を備え、上記第２無ミラー帯を上記表示面側透明基板に形成されている透明電極間を遮光する遮光膜として用いることを特徴とする請求項８，９または１０に記載の反射型カラー液晶表示素子。
【請求項１２】
表示面側透明基板と裏面側透明基板とを含み、上記裏面側透明基板の内面に、拡散層，完全反射のミラーからなる光反射部およびカラーフィルタがこの順序で形成されている反射型カラー液晶表示素子の製造方法において、
マザー基板に含まれている上記裏面側透明基板の内面にレジスト樹脂にて上記拡散層を形成する際、上記レジスト樹脂として着色されたレジスト樹脂を用い、上記拡散層と同時に、上記マザー基板の余白部に以後の工程で使用される位置合わせマークを形成することを特徴とする反射型カラー液晶表示素子の製造方法。
【請求項１３】
上記着色されたレジスト樹脂が、遮光性を備えていることを特徴とする請求項１２に記載の反射型カラー液晶表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、内面に光透過表示部と光反射表示部とを有する半透過型カラー液晶表示素子および裏面側透明基板の内面に光反射部を有する反射型カラー液晶表示素子とその製造方法に関し、さらに詳しく言えば、製造工程数を削減して生産性を高める技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半透過型カラー液晶表示素子には、アルミニウムなどの薄膜からなる半透過反射膜を用いるもの（例えば特許文献１参照）と、開口部（光透過部）を有する完全反射膜を用いるもの（例えば特許文献２参照）とがあるが、これら反射膜の下に拡散層を備える場合、半透過反射膜では透過光に拡散層の色味が付くことがある。
【０００３】
これに対して、完全反射膜（ミラー）を用いる場合、通常、その開口部には拡散層が設けられないため、透過光に対して拡散層の色味による影響がなく、良好な表示性能が得られる。この完全反射膜による半透過型カラーフィルタの製造工程の一例を図１１ないし図１４により説明する。なお、これらの図において、（ａ）は要部拡大平面図，（ｂ）はその断面図である。
【０００４】
ここで説明する半透過型カラーフィルタは三原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）のストライプ配列によるカラー表示で、まず、図１１に示すように、液晶表示素子を構成する一方の透明基板１０の片面（内面側）に光反射表示部１１と光透過表示部１２とを交互にストライプ状に形成するため、例えば感光性樹脂（フォトレジスト樹脂）を透明基板１０の片面全面にわたって塗布し、光反射表示部１１となる部分にのみ感光性樹脂による拡散層１１ａが残るように露光し、現像する。すなわち、光透過表示部１２からは感光性樹脂を除去する。
【０００５】
そして、図１２に示すように、各拡散層１１ａ上に例えば蒸着法などにより完全反射膜からなるミラー１１ｂを形成した後、図１３に示すように、遮光膜（ブラックマスク）１１ｃを形成する。
【０００６】
この遮光膜１１ｃは、バックライト使用時に、図示しない他方の透明基板側に形成されている透明電極（例えば、コモン側電極）間からの光漏れを防止するためのもので、ミラー１１ｂ付き拡散層１１ａを横切るように形成される。なお、図１３（ｂ）は図１３（ａ）の遮光膜１１ｃに沿った断面図である。この一方の透明基板１０の透明電極（例えば、セグメント側電極）間からの透過光の光漏れはミラー１１ｂにより防止される。すなわち、ミラー１１ｂは遮光膜としても作用する。
【０００７】
最後の工程として、図１４に示すように、遮光膜１１ｃの部分を含めて隣接する光反射表示部１１と光透過表示部１２とにかけてＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の各カラー要素（カラートリオ）をそれぞれ形成する。なお、図１４（ｂ）も図１４（ａ）の遮光膜１１ｃに沿った断面図である。
【０００８】
このように、半透過型カラーフィルタを形成するにあたって、従来の技術では、拡散層形成（第１工程），ミラー成膜（第２工程），遮光膜形成（第３工程），各カラー要素形成（第４工程）の少なくとも４工程を必要とするため、製品のコストダウンを図るうえで、さらなる工程の削減が求められている。
【特許文献１】特開２００１−１００１９０号公報（〔０００３〕段落〜〔０００６〕段落）
【特許文献２】特開２００１−２８１６４８号公報（〔０００２〕段落〜〔０００６〕段落，図４）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、このような要望に応えてなされたもので、第１の課題は、半透過型カラー液晶表示素子および反射型カラー液晶表示素子において、より少ない工程でストライプ配列による半透過型カラーフィルタおよび反射型カラーフィルタが得られるようにすることにある。
また、本発明の第２の課題は、ストライプ配列の各カラー要素間での迷光による混色の発生を防止して、カラー表示のコントラストの向上を図ることにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記第１の課題を解決するため、本願の請求項１に係る発明は、一方の透明基板上に色の異なる各カラー要素をストライプ状に連続して並設してなるカラーフィルタを有し、上記各カラー要素ごとに光透過表示部と、拡散層上に完全反射のミラーを形成してなる光反射表示部とが上記各カラー要素のストライプ方向に沿って形成され、かつ、他方の透明基板に形成されている透明電極間を遮光する遮光膜が上記各カラー要素を横切る方向に形成されている半透過型カラー液晶表示素子において、上記拡散層と上記遮光膜とが、同一の樹脂材により一体に形成されていることを特徴としており、これによれば、上記拡散層と上記遮光膜とを同時に形成することができるため、製造工程を１工程削減することができる。
【００１１】
カラーフィルタは不連続なストライプ状であってもよい。すなわち、上記遮光膜が形成される位置においてカラーフィルタ材が除去されていてもよいが、カラーフィルタを形成するうえでの容易性の面からすれば、遮光膜が形成される位置にもカラーフィルタ材が存在する連続的なストライプ状が好ましい。
【００１２】
上記拡散層の上面はミラーによって覆われるため、上記拡散層に上記遮光膜と同じく黒色顔料を含むレジスト樹脂を用いても表示性能に影響を与えることはない。したがって、本願の請求項２に係る発明は、上記拡散層と上記遮光膜とに黒色顔料を含むレジスト樹脂を用いることを特徴としている。
【００１３】
本願の請求項３に係る発明においては、上記光反射表示部での光の拡散性がより均一になるように、上記拡散層の表面を粗面化するうえで、上記黒色顔料を含むレジスト樹脂には、平均径が上記拡散層の厚さの１／３〜２／３であるフィラーが５〜２０重量％含まれる態様を特徴としている。
【００１４】
上記第２の課題を解決するため、本願の請求項４に係る発明は、上記光反射表示部は、上記ミラーの一部分を上記ストライプ方向に沿ってスリット状に除去してなる無ミラー帯を備え、上記各カラー要素の色境界が上記無ミラー帯に沿って配置されていることを特徴としている。
【００１５】
また、本願の請求項５に係る発明では、光反射表示部による表示色と光透過表示部による表示色との調整を可能とするため、上記請求項４に規定されている上記無ミラー帯から上記ミラーの一部の領域にかけて上記カラー要素が存在しないミラー露出部が形成されていることを特徴としている。
【００１６】
本願の請求項６に係る発明は、上記請求項１の半透過型カラー液晶表示素子を製造するにあたって、マザー基板に含まれている上記一方の透明基板上に、遮光性を有する樹脂材により上記拡散層と上記遮光膜とを同時に形成する第１工程と、上記拡散層上に完全反射のスリットミラーを形成して上記光反射表示部とする第２工程と、上記光反射表示部と上記光透過表示部とにかけて所定の上記カラー要素を形成する第３工程とを実施することを特徴としており、これによれば、従来では４工程必要であったものが、３工程で済ませることができる。
【００１７】
本願の請求項７に係る発明においては、上記第１工程において、遮光性を有する樹脂材により上記拡散層と上記遮光膜とを同時に形成する際、上記マザー基板の余白部に、以後の工程で使用される位置合わせマークを上記遮光性を有する樹脂材により同時に形成することを特徴としている。ちなみに、従来の拡散層には透明のレジスト樹脂を用いており、これでは視認しづらく画像認識可能な位置合わせマークを形成できないため、別工程で画像認識可能な位置合わせマークを形成していたが、本発明によれば、同一の工程で拡散層と遮光膜と位置合わせマークとを同時に形成することができる。
【００１８】
上記第１の課題を解決するため、本願の請求項８に係る発明は、表示面側透明基板と裏面側透明基板とを含み、上記裏面側透明基板の内面に、拡散層，完全反射のミラーからなる光反射部およびカラーフィルタがこの順序で形成されている反射型カラー液晶表示素子において、上記拡散層が、着色されたレジスト樹脂からなることを特徴としている。この場合、本願の請求項９に記載されているように、上記着色されたレジスト樹脂は、遮光性を備えていることが好ましい。
【００１９】
本願の請求項１０に係る発明では、上記第２の課題を解決するため、本願の請求項８に係る発明の反射型カラー液晶表示素子において、上記カラーフィルタが、色の異なる各カラー要素をストライプ状に連続して並設してなるストライプ配列型カラーフィルタであり、上記光反射部は、上記ミラーの一部分を上記ストライプ方向に沿ってスリット状に除去してなる第１無ミラー帯を備え、上記各カラー要素の色境界が上記第１無ミラー帯に沿って配置されていることを特徴としている。
【００２０】
また、本願の請求項１１に係る発明では、上記第２の課題を解決するため、本願の請求項８に係る発明の反射型カラー液晶表示素子において、上記カラーフィルタが、色の異なる各カラー要素をストライプ状に連続して並設してなるストライプ配列型カラーフィルタであり、上記光反射部は、上記ストライプ方向に配列されている各画素間に、上記ミラーの一部分を上記ストライプ方向と直交する方向に沿ってスリット状に除去してなる第２無ミラー帯を備え、上記第２無ミラー帯を上記表示面側透明基板に形成されている透明電極間を遮光する遮光膜として用いることを特徴としている。
【００２１】
本願の請求項１２に係る発明は、上記請求項８に係る発明の反射型カラー液晶表示素子を製造するにあたって、本願の請求項７に係る発明と同様に、マザー基板に含まれている上記裏面側透明基板の内面にレジスト樹脂にて上記拡散層を形成する際、上記レジスト樹脂として着色されたレジスト樹脂を用い、上記拡散層と同時に、上記マザー基板の余白部に以後の工程で使用される位置合わせマークを形成することを特徴としている。
【００２２】
本願の請求項１３に係る発明においては、上記着色されたレジスト樹脂が、遮光性を備えていることを特徴としており、これによれば、その上に形成されているミラーの一部分を除去することにより、その部分を遮光膜として利用することができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、半透過型カラー液晶表示素子および反射型カラー液晶表示素子において、一方の透明基板の光反射表示部に設けられる拡散層と、他方の透明基板に形成されている透明電極間を遮光する遮光膜とを同一の樹脂材により一体に形成するようにしたことにより、半透過型カラー液晶表示素子の製造工程を従来技術に対して１工程削減することができる。
【００２４】
また、拡散層および遮光膜を形成する樹脂材に着色された樹脂材（好ましくは黒色などの遮光性樹脂材）を用いることにより、次のような効果が奏される。
第１に、マザー基板上で個々の液晶パネル面内に遮光性樹脂材により拡散層と遮光膜とを同時に形成する際、マザー基板の余白部に、以後の工程で使用される位置合わせマークを遮光性樹脂材により同時に形成することができるため、従来において別途に必要とされていた位置合わせマークの形成工程をさらに省くことができる。
【００２５】
第２として、光反射表示部のミラーの一部分をストライプ方向に沿ってスリット状に除去して遮光性樹脂材よりなる拡散層が露出された無ミラー帯とし、その無ミラー帯に沿って各カラー要素の色境界を配置することにより、各カラー要素間での迷光による混色の発生が防止され、カラー表示のコントラストを向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
まず、図１ないし図３により、本発明の第１実施形態に係る半透過型カラー液晶表示素子が備える半透過型カラーフィルタの構成をその製造工程順にしたがって説明する。なお、図１ないし図３において、（ａ）は要部拡大平面図，（ｂ）はその平面図内の遮光膜に沿った断面図である。また、先に説明した従来技術と同一もしくは同一と見なされる構成要素には、それと同じ参照符号を用いる。
【００２７】
この実施形態に係る半透過型カラー液晶表示素子が備える半透過型カラーフィルタは、先に説明した従来技術と同じく、色が異なる三原色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）のストライプ配列によるカラー表示である。なお、カラー要素としては少なくとも色が異なる２色であればよく、色もＲ，Ｇ，Ｂの原色ではなく、例えば黄色や他の色であってもよい。
【００２８】
まず第１工程として、図１に示すように、液晶表示素子を構成する一方の透明基板１０の片面（内面側）に、拡散層１１ａを有する光反射表示部１１と、拡散層のない光透過表示部１２とを交互にストライプ状に形成するにあたって、本発明では、拡散層１１ａと遮光膜１１ｃとを同時に形成する。
【００２９】
すなわち、透明基板１０の片面全面にわたって黒色顔料を含む例えば感光性レジスト樹脂（遮光性樹脂）を所定の厚みに塗布し、拡散層１１ａの形成パターンと遮光膜１１ｃの形成パターンとを組み合わせたフォトマスクを介して露光して現像することにより、拡散層１１ａと遮光膜１１ｃとを同一の材料により同時に一体に形成し、光透過表示部１２からは遮光膜１１ｃの部分を残してレジスト樹脂を除去する。
【００３０】
遮光膜１１ｃは、バックライト使用時に、図示しない他方の透明基板側に形成されている透明電極（例えば、コモン側電極）間からの光漏れを防止するように、コモン側電極のピッチに合わせた位置に設けられる。
【００３１】
この例においては、図１（ｂ）に示すように、遮光膜１１ｃの厚みは拡散層１１ａの厚みよりも薄くなっているが、遮光膜１１ｃと拡散層１１ａは同一厚みであってもよく、むしろ遮光の信頼性からすれば拡散層１１ａと同一もしくはそれに近い厚みであることが好ましい。
【００３２】
次に第２工程として、図２に示すように、拡散層１１ａ上に完全反射のミラー（反射膜）１１ｂを例えば銀蒸着などによって成膜する。拡散層１１ａは粗面化された表面を有する層であり、拡散層１１ａの表面にその粗面化が反映されたミラー１１ｂを成膜することにより、反射光がランダムな方向に拡散する。
【００３３】
拡散層１１ａの表面を粗面化する方法の１つとして、拡散層１１ａを形成する樹脂内に例えば光吸収性を有するフィラーを含ませる方法があるが、反射光のランダム的な拡散をより均一とするには、平均径が拡散層１１ａの厚さの１／３〜２／３であるフィラーを、拡散層１１ａを形成する樹脂内に５〜２０重量％含有させることが好ましい。
【００３４】
ミラー１１ｂは、表示の観察面側から入射する外光を反射させるだけでなく、図示しないバックライトからの透過光に対しては遮光膜として作用する。したがって、ミラー１１ｂを拡散層１１ａ上だけでなく、遮光膜１１ｃ上にも成膜する場合には、拡散層１１ａと遮光膜１１ｃとを必ずしも上記したように黒色顔料を含むレジスト樹脂とする必要はなくなる。
【００３５】
しかしながら、遮光膜１１ｃ上にもミラー１１ｂを成膜すると、表示の観察面側から入射する外光の一部が、遮光膜１１ｃ上のミラー１１ｂにより反射されて迷光となり、この液晶表示素子を反射型として使用する場合、コントラストが低下するおそれがある。したがって、ミラー１１ｂは拡散層１１ａ上のみに成膜することが好ましい。
【００３６】
上記の第１および第２の工程を経たのち、最後の第３工程として、図３に示すように、遮光膜１１ｃの部分を含めて隣接する光反射表示部１１と光透過表示部１２とにかけてＲ（赤），Ｇ（緑），Ｂ（青）の各カラー要素をそれぞれストライプ状に形成する。
【００３７】
このＲ，Ｇ，Ｂの各カラー要素によりカラーフィルタが構成され、図示しないが、その後カラーフィルタ上に平滑化層が形成され、その平滑化層上に各カラー要素に沿って例えばセグメント側電極が形成される。他方の透明基板側には、遮光膜１１ｃ間の幅とほぼ同じ幅を有するコモン側電極が上記セグメント側電極と直交する方向に形成される。
【００３８】
そして、この一方の透明基板１０と他方の透明基板とを周辺シール材を介して圧着し、その基板間のセルギャップ内に液晶を注入することにより、半透過カラー液晶表示素子が作製される。この半透過カラー液晶表示素子において、カラーフィルタを有する一方の透明基板１０は非観察面側基板で、その背面側に図示しないバックライトが配置される。なお、透明基板はガラスもしくはプラスチックのいずれであってもよい。
【００３９】
ところで、実際の製造工程において、上記透明基板１０および図示しないその相手方の透明基板はともにマザー基板から多面取りされる。図４（ａ）に、一方の透明基板１０を形成するためのマザー基板１０Ｍを示す。この例では、マザー基板１０Ｍには３行×５列の配列をもって透明基板１０のパネル形成面が１５面分割り当てられている。
【００４０】
この各パネル形成面内に、上記第１工程で拡散層１１ａと遮光膜１１ｃとが同時に形成され、その後、上記第２工程で拡散層１１ａ上にミラー１１ｂが形成されるのであるが、ミラー１１ｂを形成する際、そのミラー形成用マスクを位置決めする位置決めマーク（アライメントマーク）１０ａが必要とされる。また、上記従来技術で説明したように、拡散層を形成したのち、次工程で遮光膜を形成するような場合にも、遮光膜形成用マスクを位置決めするためにも位置決めマーク１０ａが必要とされる。
【００４１】
位置決めマーク１０ａには、例えば図４（ｂ）に例示するような十文字マークが採用され、マザー基板１０Ｍの余白部（捨て基板部）に設けられる。通常、この種の位置決めマーク１０ａは、ミラー形成用マスクの位置決め手段に含まれている例えばＣＣＤカメラにて撮像され、その画像処理部にて２値化処理される。
【００４２】
このように位置決めマーク１０ａは、拡散層形成以後の位置基準となるものであるため、好ましくは拡散層と同時に形成され、かつ、ＣＣＤカメラで認識可能な樹脂材にて形成される必要がある。ちなみに、拡散層に光透過性のよい例えば透明樹脂材を用いる場合、これではＣＣＤカメラで認識できる位置決めマーク１０ａを形成することができないため、あらかじめ別工程で例えば黒色樹脂材にて位置決めマーク１０ａを形成したのち拡散層を形成する必要があり、位置決めマーク形成工程が一つ増えることになる。
【００４３】
そこで、本発明では好ましい態様として、拡散層１１ａと遮光膜１１ｃとを例えば黒色顔料を含む遮光性樹脂にて形成し、その際、同遮光性樹脂にて位置決めマーク１０ａをマザー基板１０Ｍの余白部に同時に形成するようにしている。この位置決めマーク１０ａの形成からミラー１１ｂの形成に至るまでの工程を図５（ａ）〜（ｄ）により説明する。なお図５の各図は、図１（ｂ），図２（ｂ）と同じく遮光膜１１ｃに沿った断面図である。
【００４４】
まず、図５（ａ）に示すように、マザー基板１０Ｍに含まれている透明基板１０上に、上記第１工程にしたがって黒色顔料を含む遮光性樹脂にて拡散層１１ａと遮光膜１１ｃとを同時に形成する際、その遮光性樹脂にてマザー基板１０Ｍの余白部に位置合わせマーク１０ａを同時に形成する。位置合わせマーク１０ａの数は任意であってよい。
【００４５】
次に、図５（ｂ）に示すように、拡散層１１ａ，遮光膜１１ｃおよび光透過表示部１２（図１（ａ）参照）を含む透明基板１０の片面全面に完全反射の例えば銀蒸着膜１１０を形成したのち、その上に感光性レジスト樹脂１２０をマザー基板１０Ｍの全面にわたって塗布する。
【００４６】
次に、ＣＣＤカメラ１４０にて位置合わせマーク１０ａを撮像し、その位置合わせマーク１０ａを基準としてミラー形成用マスク１３０を位置決する。この場合、位置合わせマーク１０ａは黒色の遮光性樹脂よりなり、また、感光性レジスト樹脂１２０はほぼ透明であるため、位置合わせマーク１０ａは明瞭に認識される。
【００４７】
そして、図示しない露光機にて露光し現像して、図５（ｃ）に示すように、拡散層１１ａの銀蒸着膜上にのみ感光性レジスト樹脂１２０を残したのち、図５（ｄ）に示すように、エッチングにより不要な銀蒸着膜１１０を除去して拡散層１１ａ上のみにミラー１１ｂを残す。このように、本発明によれば、位置合わせマーク１０ａのみを形成する工程が不要であり、拡散層と遮光膜とを別工程で形成していた上記従来例と対比した場合、２工程を削減できる。
【００４８】
次に、図６および図７（ａ）〜（ｄ）により、本発明による半透過型カラー液晶表示素子の第２実施形態について説明する。図６は、拡散層１１ａ上にミラー１１ｂを形成した図２（ａ）に対応する要部拡大平面図である。図７（ａ）は図６上にＲ，Ｇ，Ｂの各カラー要素を形成した図３（ａ）に対応する要部拡大平面図で、図７（ｂ），図７（ｃ），図７（ｄ）はそれぞれ図７（ａ）のＨ−Ｈ線，Ｉ−Ｉ線，Ｊ−Ｊ線に沿った断面図である。
【００４９】
透明基板１０上には、上記第１実施形態と同じく、光反射表示部１１と光透過表示部１２とが交互にストライプ状に設けられ、また、これらを横切るように画素単位で遮光膜１１ｃが形成されているが、この第２実施形態は、各カラー要素Ｒ，Ｇ，Ｂの色境界での迷光による混色の発生を防止して表示のコントラストを向上させる技術を提供する。
【００５０】
すなわち、この第２実施形態によると、図６に示すように、光反射表示部１１に形成されているミラー１１ｂの一部分を上記ストライプ方向に沿ってスリット状に除去してなる無ミラー帯２１０を備え、図７（ａ）〜（ｃ）の各断面図に示すように、各カラー要素の色境界が無ミラー帯２１０に沿って配置されている。
【００５１】
無ミラー帯２１０には、好ましくは黒色の遮光性樹脂よりなる下地としての拡散層１１ａが露出しており、図７（ｄ）に示すように、無ミラー帯２１０においてカラー要素はその拡散層１１ａ上に直接的に形成されている。
【００５２】
したがって、表示の観察面側から各カラー要素の色境界に入射する外光の一部は拡散層１１ａに吸収されるため、例えばカラー要素Ｒ，Ｇの色境界において、カラー要素Ｒ側から入った光の反射光がカラー要素Ｇを通って表示の観察面側に戻ることがほとんどなくなり、これにより表示のコントラストが高められる。
【００５３】
無ミラー帯２１０の幅は任意に決められてよいが、一例を挙げれば、遮光膜１１ｃの幅が５〜５０μｍである場合、無ミラー帯２１０の幅は５〜３０μｍ程度であることが好ましいといえる。また、この例において、無ミラー帯２１０は光反射表示部１１のほぼ中央に配置されているが、光反射表示部１１の片側に寄せて配置されてもよい。
【００５４】
次に、図８（ａ）〜（ｃ）により、本発明による半透過型カラー液晶表示素子の第３実施形態について説明する。図８（ａ）は要部拡大平面図で、図８（ｂ），（ｃ）はそれぞれ図８（ａ）のＫ−Ｋ線，Ｌ−Ｌ線に沿った断面図である。
【００５５】
この第３実施形態は、上記第２実施形態と同じく、光反射表示部１１にミラー１１ｂの一部分を上記ストライプ方向に沿ってスリット状に除去してなる無ミラー帯２１０を備えており、無ミラー帯２１０に各カラー要素の色境界を配置しているが、この第３実施形態においては、無ミラー帯２１０からミラー１１ｂの一部の領域にかけてカラー要素が存在しないミラー露出部２２０がさらに形成されている。
【００５６】
このミラー露出部２２０は開口部とも呼ばれ、光反射表示部１１による反射表示色と、バックライト点灯時の光透過表示部１２による透過表示色とが同一となるようにするためもしくは反射表示時の明るさ（輝度）を向上させるために光反射表示部１１に設けられるものであるが、この第３実施形態のように、ミラー露出部２２０を無ミラー帯２１０に隣接する一部分に配置することにより、光透過表示部１２に至ることのない開口部を容易に形成することができるという利点がある。
【００５７】
本発明には、上記半透過型カラー液晶表示素子のほかに、内面に拡散層を有する反射型カラー液晶表示素子も含まれ、図９（ａ）に示す要部拡大平面図およびそのＭ−Ｍ線断面図である図９（ｂ）により、そのカラーフィルタの構成について説明する。なお、この説明において、上記半透過型カラー液晶表示素子と同一もしくは同一と見なせる構成要素については、それと同じ参照符号を用いる。
【００５８】
反射型カラー液晶表示素子は、表示面側透明基板と裏面側透明基板とを備えているが、図９（ｂ）に示す透明基板１０はそのうちの裏面側透明基板である。この透明基板１０の内面には、拡散層１１ａ，完全反射のミラー１１ｂからなる光反射部１１およびＲ，Ｇ，Ｂの各カラー要素を含むカラーフィルタがこの順序で形成されている。
【００５９】
本発明の反射型カラー液晶表示素子においては、拡散層１１ａが透明でない着色されたレジスト樹脂からなることを特徴としている。これによれば、上記図４（ａ）により説明したのと同じく、拡散層１１ａを形成する際に、拡散層形成以後の例えばカラーフィルタ形成時などに位置基準として必要とされるＣＣＤカメラで読み取り可能な位置決めマーク１０ａを同時に形成することができるという利点がある。
【００６０】
この場合においても、拡散層１１ａは黒色顔料を含む遮光性樹脂であって、しかも光反射部１１の表面を粗面化して反射光をランダム的に拡散させるため、平均径が拡散層１１ａの厚さの１／３〜２／３であるフィラーを、拡散層１１ａを形成する樹脂内に５〜２０重量％含有していることが好ましい。
【００６１】
次に、図１０（ａ）〜（ｃ）により、本発明による反射型カラー液晶表示素子の別の実施形態について説明する。この実施形態は、上記半透過型カラー液晶表示素子の第２実施形態に対応しており、図１０（ａ）は拡散層１１ａ上にミラー１１ｂよりなる光反射部１１を形成した状態の要部拡大平面図で、図１０（ｂ）は図１０（ａ）上にＲ，Ｇ，Ｂの各カラー要素を形成した状態を示す要部拡大平面図，図１０（ｃ）は図１０（ｂ）のＮ−Ｎ線に沿った断面図である。
【００６２】
反射型カラー液晶表示素子の場合、光反射部１１は表示領域のほぼ全面にわたって形成されるが、図１０（ｂ）に示すように、カラーフィルタがＲ，Ｇ，Ｂの各カラー要素をストライプ状に連続して並設してなるストライプ配列型カラーフィルタである場合、この実施形態において、光反射部１１には、これを構成するミラー１１ｂの一部分を上記ストライプ方向に沿ってスリット状に除去してなる第１無ミラー帯２１０が形成され、各カラー要素の色境界が第１無ミラー帯２１０に沿って配置される。これにより、上記半透過型カラー液晶表示素子についての第２実施形態と同じく色境界のコントラストを高めることができる。
【００６３】
また、ストライプ配列型カラーフィルタの場合、Ｒ画素，Ｇ画素，Ｂ画素の各々は、図示しない他方の透明基板（表示観察面側透明基板）に形成されている透明電極（例えば、コモン電極）の電極幅が１画素単位とされるため、図１０（ａ）に示すように、光反射部１１を構成するミラー１１ｂの一部分を上記ストライプ方向と直交する方向に沿ってスリット状に除去して第２無ミラー帯２３０を形成し、この第２無ミラー帯２３０を表示観察面側透明基板に形成されている透明電極間を遮光する遮光膜とすることにより、画素間のコントラストをより向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１（ａ）】本発明による半透過型カラー液晶表示素子の第１製造工程を説明するための要部拡大平面図。
【図１（ｂ）】図１（ａ）の断面図。
【図２（ａ）】本発明による半透過型カラー液晶表示素子の第２製造工程を説明するための要部拡大平面図。
【図２（ｂ）】図２（ａ）の断面図。
【図３（ａ）】本発明による半透過型カラー液晶表示素子の第３製造工程を説明するための要部拡大平面図。
【図３（ｂ）】図３（ａ）の断面図。
【図４（ａ）】液晶パネルを多面取りするマザー基板を模式的に示す平面図。
【図４（ｂ）】上記マザー基板に設けられる位置合わせマークの一例を示す模式図。
【図５（ａ）】拡散層，遮光膜とともに上記位置合わせマークを同時に形成する工程を示す模式的な断面図。
【図５（ｂ）】上記位置合わせマークによりミラー形成用マスクを位置決めする工程を示す模式的な断面図。
【図５（ｃ）】図５（ｂ）のレジスト樹脂を露光・現像処理した状態を示す模式的な断面図。
【図５（ｄ）】エッチング処理により拡散層上にミラーを形成した状態を示す模式的な断面図。
【図６】本発明による半透過型カラー液晶表示素子の第２実施形態で、光反射表示部と光透過表示部の構成を示す要部拡大平面図。
【図７（ａ）】上記第２実施形態の光反射表示部と光透過表示部にカラーフィルタを形成した状態を示す要部拡大平面図。
【図７（ｂ）】図７（ａ）のＨ−Ｈ線に沿った断面図。
【図７（ｃ）】図７（ａ）のＩ−Ｉ線に沿った断面図。
【図７（ｄ）】図７（ａ）のＪ−Ｊ線に沿った断面図。
【図８（ａ）】本発明による半透過型カラー液晶表示素子の第３実施形態で、光反射表示部と光透過表示部にカラーフィルタを形成した状態を示す要部拡大平面図。
【図８（ｂ）】図８（ａ）のＫ−Ｋ線に沿った断面図。
【図８（ｃ）】図８（ａ）のＬ−Ｌ線に沿った断面図。
【図９（ａ）】本発明による反射型カラー液晶表示素子が備えるカラーフィルタを示す要部拡大平面図。
【図９（ｂ）】図９（ａ）のＭ−Ｍ線に沿った断面図。
【図１０（ａ）】本発明による反射型カラー液晶表示素子の別の実施形態で、その光反射部の構成を示す要部拡大平面図。
【図１０（ｂ）】上記別の実施形態における光反射部上にカラーフィルタを形成した状態を示す要部拡大平面図。
【図１０（ｃ）】図１０（ｂ）のＮ−Ｎ線に沿った断面図。
【図１１（ａ）】従来技術による半透過型カラー液晶表示素子の第１製造工程を説明するための要部拡大平面図。
【図１１（ｂ）】図１１（ａ）の断面図。
【図１２（ａ）】従来技術による半透過型カラー液晶表示素子の第２製造工程を説明するための要部拡大平面図。
【図１２（ｂ）】図１２（ａ）の断面図。
【図１３（ａ）】従来技術による半透過型カラー液晶表示素子の第３製造工程を説明するための要部拡大平面図。
【図１３（ｂ）】図１３（ａ）の断面図。
【図１４（ａ）】従来技術による半透過型カラー液晶表示素子の第４製造工程を説明するための要部拡大平面図。
【図１４（ｂ）】図１４（ａ）の断面図。
【符号の説明】
【００６５】
１０  透明基板
１０Ｍ  マザー基板
１０ａ  位置合わせマーク
１１  光反射表示部
１１ａ  拡散層
１１ｂ  ミラー（反射膜）
１１ｃ  遮光膜
１２  光透過表示部
１１０  銀蒸着膜
１２０  感光性レジスト樹脂
１３０  ミラー形成用マスク
１４０  ＣＣＤカメラ
２１０，２３０  無ミラー帯
２２０  ミラー露出部
Ｒ，Ｇ，Ｂ  カラー要素
【図１（ａ）】
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【図１（ｂ）】
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【図２（ａ）】
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【図２（ｂ）】
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【図３（ａ）】
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【図３（ｂ）】
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【図４（ａ）】
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【図４（ｂ）】
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【図５（ａ）】
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【図５（ｂ）】
2005018008.tif 000012
【図５（ｃ）】
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【図５（ｄ）】
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【図６】
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【図７（ａ）】
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【図７（ｂ）】
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【図７（ｃ）】
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【図７（ｄ）】
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【図８（ａ）】
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【図８（ｂ）】
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【図８（ｃ）】
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【図９（ａ）】
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【図９（ｂ）】
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【図１０（ａ）】
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【図１０（ｂ）】
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【図１０（ｃ）】
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【図１１（ａ）】
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【図１１（ｂ）】
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【図１２（ａ）】
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【図１２（ｂ）】
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【図１３（ａ）】
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【図１３（ｂ）】
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【図１４（ａ）】
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【図１４（ｂ）】
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