(57)【要約】【課題】  従来に無い屈曲性を有し、かつ耐擦傷性、寸法安定性、透明性、ガスバリア性にも優れた電子ペーパー基材用ポリエステルフィルム及びそれを用いた電子ペーパー基材を提供すること。【解決手段】  ブチレンテレフタレート繰り返し単位を主たる成分とし、チタン化合物をチタン原子として１００ｐｐｍ以下１ｐｐｍ以上含有する固有粘度が１．０〜２．５（ｄｌ／ｇ）のポリエステル（１）からなり、結晶融解熱量△Ｈｍが３８Ｊ／ｇ以上、かつ面内屈折率（△ｎ）が０．１５未満、全光線透過率が７５％以上であるポリエステルフィルム（Ａ）である電子ペーパー基材用フィルム、及びそれを用いた電子ペーパー基材。【選択図】          なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブチレンテレフタレート繰り返し単位を主たる成分とし、チタン化合物をチタン原子として１００ｐｐｍ以下１ｐｐｍ以上含有する固有粘度が１．０〜２．５（ｄｌ／ｇ）のポリエステル（１）からなり、結晶融解熱量△Ｈｍが３８Ｊ／ｇ以上、かつ面内屈折率（△ｎ）が０．１５未満、全光線透過率が７５％以上であるポリエステルフィルム（Ａ）であることを特徴とする電子ペーパー基材用ポリエステルフィルム。
【請求項２】
ポリエステルフィルム（Ａ）の少なくとも一方の面にハードコート層（Ｂ）が積層されてなることを特徴とする請求項１に記載の電子ペーパー基材用ポリエステルフィルム。
【請求項３】
ブチレンテレフタレート繰り返し単位を主たる成分とし、チタン化合物をチタン原子として１００ｐｐｍ以下１ｐｐｍ以上含有する固有粘度が１．０〜２．５（ｄｌ／ｇ）のポリエステル（１）からなり、結晶融解熱量△Ｈｍが３８Ｊ／ｇ以上、かつ面内屈折率（△ｎ）が０．１５未満、全光線透過率が７５％以上であるポリエステルフィルム（Ａ）の片面に、ハードコート層（Ｂ）、及び透明導電層（Ｃ）が、順に積層されてなることを特徴とする電子ペーパー基材。
【請求項４】
ブチレンテレフタレート繰り返し単位を主たる成分とし、チタン化合物をチタン原子として１００ｐｐｍ以下１ｐｐｍ以上含有する固有粘度が１．０〜２．５（ｄｌ／ｇ）のポリエステル（１）からなり、結晶融解熱量△Ｈｍが３８Ｊ／ｇ以上、かつ面内屈折率（△ｎ）が０．１５未満、全光線透過率が７５％以上であるポリエステルフィルム（Ａ）の片面に、ハードコート層１（Ｂ１）、ガスバリアー層（Ｄ）、ハードコート層２（Ｂ２）、及び透明導電層（Ｃ）が、順に積層されてなることを特徴とする電子ペーパー基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電子ペーパー基材用ポリエステルフィルム及びそれを用いた電子ペーパー基材に関し、詳しくはブチレンテレフタレート単位を主たる繰り返し単位とした特定のポリエステルフィルム、更に必要に応じてハードコート層、透明導電層、ガスバリア層等から構成される、電子ペーパー基材用積層ポリエステルフィルムに関する。更に詳しくは、特定のポリエステルフィルムが高い寸法安定性を有する他、耐擦傷性、屈曲性、透明性、ガスバリア性にも優れた電子ペーパー基材用ポリエステルフィルム及び電子ペーパー基材に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子ペーパーは、電子ディスプレイと紙の長所を併せ持ち、紙同様に情報を保持したまま持ち歩くことができる書き換えが可能な次世代ディスプレイである。その構造としては、例えばシート状の透明電極と背面電極の間に、部分的に帯電させてある色素を用いた電子インクの液や粒子がサンドイッチされた構造を有し、当該電極に電圧をかけた際に、該電子インクやその粒子等を動かしたり、回転させることにより、種々の表示が可能である。
更にフレキシブルなトランジスタを採用し、前面板、背面板とも柔軟性を有した基材で構成した場合には、紙のように自由に曲げられるディスプレイとしても期待されている。
【０００３】
そのような中、特許文献１には電子ペーパー基材用基材として、ハードコート塗布層を施したポリエチレンテレフタレートフィルムが開示されている。このフィルムは耐汚性、耐擦傷性には優れるものの、透明導電膜等を積層した際の耐屈曲性が無く、透明電極やトランジスタ等の機能層にダメージが生じるので、自在に曲げて使用される電子ペーパー基材用フィルムの性能としては不充分であった。
【特許文献１】特開２００３−１８２００９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、従来に無い屈曲性を有し、かつ耐擦傷性、寸法安定性、透明性、ガスバリア性にも優れた電子ペーパー基材用ポリエステルフィルム及びそれを用いた電子ペーパー基材を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは上記課題を解決するため鋭意検討した結果、特定の物性を有するポリエステルフィルムを選択することにより上記の目的を容易に達成し得るとの知見を得、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明の要旨は、ブチレンテレフタレート繰り返し単位を主たる成分とし、チタン化合物をチタン原子として１００ｐｐｍ以下１ｐｐｍ以上含有する固有粘度が１．０〜２．５（ｄｌ／ｇ）のポリエステル（１）からなり、結晶融解熱量△Ｈｍが３８Ｊ／ｇ以上、かつ面内屈折率（△ｎ）が０．１５未満、全光線透過率が７５％以上であるポリエステルフィルム（Ａ）であることを特徴とする電子ペーパー基材用ポリエステルフィルムに存する。
また、本発明の他の発明としては、該ポリエステルフィルム（Ａ）の片面に、ハードコート層（Ｂ）、及び透明導電層（Ｃ）が、順に積層されてなることを特徴とする電子ペーパー基材、更には、該ポリエステルフィルム（Ａ）の片面に、ハードコート層１（Ｂ１）、ガスバリアー層（Ｄ）、ハードコート層２（Ｂ２）、及び透明導電層（Ｃ）が、順に積層されてなることを特徴とする電子ペーパー基材にも存する。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の特定の物性を有するポリエステルフィルムは、耐熱性、耐擦傷性に優れ、透明導電膜などを積層した場合にも屈曲割れが無く、自在に屈曲させることのできる電子ペーパー基材用フィルムとして好適であり、それを用いた電子ペーパー基材は優れた性能を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明で使用するブチレンテレフタレート繰り返し単位を主たる成分とするポリエステルは、多価アルコール成分として１，４−ブタンジオール、多価カルボン酸成分としてテレフタル酸又はそのエステル形成性誘導体を用いて得られるブチレンテレフタレート単位を主たる繰り返し単位とするポリエステルである。主たる繰り返し単位とは、ブチレンテレフタレート単位が、全多価カルボン酸−多価アルコール単位中の６０モル％以上であることを意味する。更にブチレンテレフタレート単位は、好ましくは７５モル％以上、更には８５モル％、特には９０モル％以上である。
【０００８】
ポリエステルに用いられるテレフタル酸以外の多価カルボン酸成分の一例としては、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、イソフタル酸、フタル酸、トリメシン酸、トリメリット酸等の芳香族多価カルボン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸、或いは上記多価カルボン酸のエステル形成性誘導体（例えばテレフタル酸ジメチル等の多価カルボン酸の低級アルキルエステル類等）が挙げられる。これらの多価カルボン酸成分は単独でも良いし複数を混合して用いても良い。
【０００９】
一方、１，４−ブタンジオール以外の多価アルコール成分の一例としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の脂肪族多価アルコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等の脂環族多価アルコール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＺ等の芳香族多価アルコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリテトラメチレンオキシドグリコール等のポリアルキレングリコール等が挙げられる。これら多価アルコール成分は単独で用いても良いし、複数で用いても良い。
【００１０】
本発明で使用するポリエステルは、チタン化合物をチタン原子として１００ｐｐｍ以下１ｐｐｍ以上含むことを特徴とする。このチタン化合物は、主として触媒由来である。（以下、チタン化合物のチタン原子としての含有量を、単に「チタン含有量」と称する。）。チタンの含有量が１００ｐｐｍより多い場合は、ポリエステルフィルムのヘーズが著しく高くなる他、フィルム中に異物が混在するという問題がある。
なお、本発明において、該チタン含有量の値はポリエステル（１）に対する原子の重量比である。これは、湿式灰化などの方法でポリマー中の金属を回収した後、原子発光、原子吸光、Ｉｎｄｕｃｅｄ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ（ＩＣＰ）等の方法を使用して測定することが出来る。上記のチタン含有量の下限は、好ましくは３ｐｐｍ、より好ましくは５ｐｐｍ、特に好ましくは８ｐｐｍ、一層好ましくは１２ｐｐｍである。チタン含有量の上限は、好ましくは８０ｐｐｍ、更に好ましくは５０ｐｐｍ、特には４０ｐｐｍ以下である
【００１１】
該ポリエステルの触媒として使用されるチタン化合物としては、具体的には、酸化チタン、四塩化チタン等の無機チタン化合物、テトラメチルチタネート、テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート等のチタンアルコラート、テトラフェニルチタネート等のチタンフェノラート等が挙げられる。これらの中ではテトラアルキルチタネートが好ましく、その中ではテトラブチルチタネートが好ましい。
【００１２】
また、スズを触媒として併用しても良い。スズは、通常、スズ化合物として使用され、具体例としては、ジブチルスズオキサイド、メチルフェニルスズオキサイド、テトラエチルスズ、ヘキサエチルジスズオキサイド、シクロヘキサヘキシルジスズオキサイド、ジドデシルスズオキサイド、トリエチルスズハイドロオキサイド、トリフェニルスズハイドロオキサイド、トリイソブチルスズアセテート、ジブチルスズジアセテート、ジフェニルスズジラウレート、モノブチルスズトリクロライド、トリブチルスズクロライド、ジブチルスズサルファイド、ブチルヒドロキシスズオキサイド、メチルスタンノン酸、エチルスタンノン酸、ブチルスタンノン酸などが挙げられる。
【００１３】
また、このほか、酢酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、酸化マグネシウム、マグネシウムアルコキサイド、燐酸水素マグネシウム等のマグネシウム化合物、酢酸カルシウム、水酸化カルシウム、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、カルシウムアルコキサイド、燐酸水素カルシウム等のカルシウム化合物の他、三酸化アンチモン等のアンチモン化合物、二酸化ゲルマニウム、四酸化ゲルマニウム等のゲルマニウム化合物、マンガン化合物、亜鉛化合物、ジルコニウム化合物、コバルト化合物、正燐酸、亜燐酸、次亜燐酸、ポリ燐酸、それらのエステルや金属塩などの燐化合物、水酸化ナトリウム、安息香酸ナトリウムなどの反応助剤を併用してもよい。
【００１４】
本発明のポリエステルフィルムに使用されるポリエステルの固有粘度［η］は、１．０〜２．５ｄｌ／ｇであり、好ましくは１．１〜２．２、特には１．２〜２．０である。尚、本発明における固有粘度は、フェノール／１，１，２，２−テトラクロロエタン＝５０／５０（重量比）溶媒中、３０℃で測定した値から求めたものである。［η］が１．０ｄｌ／ｇ未満であると、フィルムヘーズが大きく、フィルム成形時のネックイン現象が大きく、端部と中心部の厚み差が大きくなり、また屈曲した際にもフィルムにクラックやピンホールが発生する場合があるので好ましくない。一方、［η］が２．５ｄｌ／ｇを越えると、ポリエステル樹脂の生産性が著しく低下する場合があるので好ましくない。
【００１５】
本発明のポリエステル（１）の結晶融解熱量（Ｊ／ｇ）は、３８（Ｊ／ｇ）以上であり、好ましくは、３９（Ｊ／ｇ）以上、特には４０（Ｊ／ｇ）である。結晶融解熱量が３８（Ｊ／ｇ）未満であると、耐熱性に劣り、熱処理後の表面抵抗値やガスバリア性が悪化するので好ましくない。
本発明で使用するポリエステル（１）は、本発明の要件を満たせば、単独であってもよいし、或いは末端カルボキシル基濃度、融点、触媒量等の異なる複数の混合物であってもよい。
【００１６】
また、本発明におけるポリエステルフィルム（Ａ）の面内屈折率（△ｎ）は０．１５未満であることが必要であり、好ましくは０．１０未満、より好ましくは０．０５未満、特には０．０２未満である。ここでいう面内屈折率（△ｎ）とは、面内最大屈折率（ｎγ）とそれに直角方向の屈折率（ｎβ）の差（ｎγ−ｎβ）を表す。△ｎが０．１を越えると、表面保護層塗布時の加熱工程や、透明電極層積層時の加熱により、フィルムが変形するので好ましくない。
【００１７】
さらに該ポリエステルフィルム層（Ａ）の全光線透過率は、７５％以上であることが必要である。本発明において、全光線透過率法は、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準拠して波長５５０ｎｍにおいて測定した値を示す。
更に本発明のポリエステルフィルムは、面内屈折率（△ｎ）及び全光線透過率が上記規定値内であれば、成形方法は、Ｔダイ成形の様な実質的な未延伸法であっても、インフレーション成形法であっても、一軸延伸法であっても、二軸延伸法であっても構わず、延伸法の場合は逐次延伸法でも同時延伸法でも構わない。
【００１８】
上記本発明で使用するポリエステルフィルム（Ａ）には、本発明の特性を損なわない範囲において、ポリエステル以外の樹脂（例えばポリオレフィン系樹脂、ビニル系樹脂、ポリアミドやポリフェニレンエーテル等のエンジニアリングプラスチックス、ゴム等）、熱安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、離型剤、着色剤、印刷性改良剤等の第３成分が適量含まれていても良い。さらに、特公昭５９−５２１６号公報に開示されている耐熱性高分子微粉体などの有機架橋粒子、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、ゼオライト、フッ化リチウム、硫酸バリウム、カーボンブラックなどの無機粒子等の粒子が含まれていてもよい。これらの粒子は、平均粒径が０．０２〜２ミクロン、好ましくは０．０５〜１．５ミクロン、更に好ましくは０．０５〜１ミクロンであるのが好ましく、添加量は、０．００５〜１重量％、好ましくは０．０１〜１重量％の範囲が好ましい。これらの添加物は、ポリエステルを重合時、ないしは重合後、フィルム製造時に添加しても良い。該添加物は、必要ならばポリエステルフィルムに悪影響を与えない溶媒などを使用して添加しても良い。
【００１９】
本発明においては、ポリエステルフィルム（Ａ）の少なくとも一方の面にハードコート層（Ｂ）が積層されている構成のフィルムが電子ペーパー用基材用として好ましい。
該ハードコート層（Ｂ）としては、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、多官能アクリレート等のアクリレートと光重合開始剤を、必要に応じて有機溶剤に溶解させた塗布溶液を、ディッピング法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアナイフ法等の従来公知の塗布法で、ポリエステルフィルム、ガスバリアー層の層上に塗布し、乾燥させ、光あるいは熱硬化させることにより形成させたものであり、通常厚みは０．５〜２０ミクロン程度である。
【００２０】
また、本発明は、該ポリエステルフィルム（Ａ）の片面に、ハードコート層（Ｂ）、及び透明導電層（Ｃ）が、順に積層されてなることを特徴とする電子ペーパー基材に関する。
該透明導電層（Ｃ）としては、可視光線を透過し得る金属又は金属酸化物の薄膜からなり、その金属または金属酸化物としては、例えば、金、銀、銅、ニッケル、酸化インジウム、酸化錫等が挙げられ、これらは単独又は混合物として用いられる。その中、酸化インジウム９０〜９９％と酸化錫１〜１０％との混合物であるインジウムチンオキサイド（ＩＴＯ）が透明性と導電性のバランス面から好ましい。
【００２１】
前記ポリエステルフィルム（Ａ）上への透明導電層（Ｃ）の形成は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、プラズマ化学蒸着法等の従来公知のドライプレーティング法でなされ、その厚みは通常５０〜５０００Åであり、１００〜３０００Åであるのが好ましい。
【００２２】
また、本発明は、ガスバリアー層（Ｄ）を有していても良い。本発明においては、該ポリエステルフィルム（Ａ）の片面に、ハードコート層１（Ｂ１）、ガスバリアー層（Ｄ）、ハードコート層２（Ｂ２）、及び透明導電層（Ｃ）が、順に積層されてなる構成の電子ペーパー基材にも存する。
このとき、該ハードコート層１及び２（Ｂ１及びＢ２）としては、上記のようなものが挙げられ、同じでも異なっていても良い。なお、ハードコート層（Ｂ１）、（Ｂ２）のいずれかは省略しても良いが、有しているほうが良い。
該ガスバリア層（Ｄ）としては、パネル内へ水分子や酸素分子の侵入による気泡発生やパネル内材料の劣化を防止する目的で設けられるものであり、可視光線を透過し得る金属、非金属、亜金属の酸化物、窒化物の薄膜からなり、それらの具体例としては、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化バナジウム、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化マンガン、酸化鉄、酸化コバルト、酸化ニッケル、酸化パラジウム、酸化白金、酸化銅、酸化銀、酸化金、酸化亜鉛、酸化カドミニウム、酸化インジウム、酸化アルミ、酸化珪素、酸化アンチモン、酸化錫、酸化ビスマス、窒化珪素等が挙げられ、中でも、酸化珪素（一酸化珪素、二酸化珪素）、酸化アルミニウム、窒化珪素が好ましい。
ポリエステルフィルムへのガスバリア層（Ｄ）の形成は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、プラズマ化学蒸着法等の従来公知のドライプレーティング法でなされ、その厚みは、通常５０〜２０００Åである。
【００２３】
本発明の電子ペーパー基材用フィルムが用いられる電子ペーパーとは、２枚のプラスチックフィルム間に透明電極と、ミクロ粒子状の顔料やマイクロカプセル状のインク層を形成し、そのインク層に電圧を負荷することにより、該インク層の粒子やマイクロカプセルを、動かしたり、回転させることにより、表示を行うものである。本発明では該２枚のプラスチックフィルムの少なくとも一方が前記ポリエステルフィルム（Ａ）であれば良いが、２枚共ポリエステルフィルム（Ａ）であるのが、より好ましい。
【実施例】
【００２４】
以下、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、これらの例に何ら限定されない。なお、以下の例における電子ペーパー基材用フィルムの製造方法、物性測定法、評価方法は以下のとおりである。
（１）ポリエステルの熱特性
試料樹脂を約１０ｍｇ削り出し、セイコーインスツルメント社製のＤＳＣ（示差走査熱量計「ＤＳＣ２２０Ｕ型」）を使用し、窒素雰囲気下、アルミパンに封入した試料を、３０〜３００℃の範囲で±２０℃／分のスピードで昇降温し、ポリエステル樹脂の降温結晶化温度(Ｔｃ)℃を測定した。
（２）固有粘度
原料ポリエステルチップは１２０℃で約６時間熱風乾燥後、ウベローデ型粘度計を使用し、フェノール／１,１,２,２−テトラクロロエタン＝５０／５０（重量比）の混合溶媒３０℃で固有粘度[η]（ｄｌ／ｇ）を測定した。
【００２５】
（３）触媒Ｔｉ濃度の定量
Ｉｎｄｕｃｅｄ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｐｌａｓｍａ（ＩＣＰ）によりポリエステル中のチタン触媒金属濃度を定量した。
（４）ラミネート層厚み測定
断面を切り出した後、ＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）にて各層の厚みを観察した。
（５）面内屈折率の測定
アタゴ製アッベ屈折率計を使用し、２３℃６５％ＲＨにおけるポリエステルフィルムの面内の最大屈折率ηγとそれに垂直な方向のηβを測定し、その差（△ｎ）＝ηγ−ηβを計算した。
（６）表面抵抗値
４端子法抵抗測定器（（株）ダイアインスツルメンツ製品、商品名：「ローレスタＭＰ」）を用いて、加熱処理前の初期、及び、加熱処理を施した後の表面抵抗値（Ω／□）を測定した。
（７）寸法安定性評価
８５℃の熱風乾燥機中に２４時間放置した後、２３℃６５％ＲＨの恒温恒湿室に２４時間放置した後、表面抵抗値、酸素ガス透過量を評価した。
【００２６】
（８）鉛筆硬度評価
ＪＩＳ  Ｋ５４００に準拠し、鉛筆硬度を測定した。
（９）屈曲性評価
積層ポリエステルフィルムを直径３０ｍｍの金属パイプに巻き付けた後、表面抵抗値を測定し、抵抗値の低下を評価した。低下の無いものは屈曲性が優れているということである。
（１０）フィルムヘーズ
分光光度計（島津製作所製「ＭＰＳ―２０００型」）を用い、ＪＩＳ  Ｋ７１０５に準拠して、波長５５０ｎｍにおける全光線透過率を測定した。
○：７５％以上
×：７５％未満
（１１）フィルム外観
１００ｃｍ２のフィルム中に存在する目視可能な異物の個数をカウントし、下記基準により評価した。
○：異物の数は２０個／１００ｃｍ２以下であった。
×：２０〜１００個／１００ｃｍ２であった。
××：１００個／１００ｃｍ２以上であった。
【００２７】
（１２）ガスバリア性
ＪＩＳ  Ｋ７１２６に準拠し、差圧法により加熱処理前後の積層ポリエステルフィルムの酸素ガス透過量（単位：ｃｃ／ｍ２・ａｔｍ・２４ｈｒ）を測定した。
【００２８】
（１３）低Ｔｉ触媒化ポリエステルの重合
ジメチルテレフタル酸、１，４−ブタンジオール、触媒としてテトラブチルチタネート（理論量として８０ｐｐｍ）を用い、該触媒あるいは該触媒由来の異物を、重合反応器のポリマー抜き出し配管にポリマーフィルターを設置する方法により除去した。この処理によりチタン触媒量の低減されたポリマーが得られた。フィルターは積層金属メッシュ（形状ディスクタイプ、濾過精度０．１〜５ミクロン）を用いた。フィルターの目開きが小さい場合、流体通過時に高剪断を受け、その剪断発熱によるポリブチレンテレフタレートの劣化が不可避となる。このため本実施例では低粘度時にフィルター濾過することとし、ポリマーの高粘度化は固相重合法を採用した。具体的には、ＩＶ＝０．６(dl/g)で重合槽より抜き出す際にフィルター濾過処理を実施し、ペレットを得た。濾過処理により所定の触媒量に低減した後、固相重合槽に導入し、下表１のＩＶまで重合した。尚、フィルター濾過精度の他にフィルター処理の回数を増やすことにより、触媒量３１ｐｐｍ、４９ｐｍ、７６ｐｐｍのポリエステルを製造した。
【００２９】
【表１】
2005162768.tif 000002
【００３０】
実施例１〜５及び比較例１〜５
前記表１に記載の各原料ポリエステルのチップを熱風乾燥機にて乾燥した後、リップ幅１３００ｍｍ、リップギャップ０．５ｍｍのＴダイの装着された９０ｍｍ単軸押出機のホッパーに投入し、樹脂温度を２５０℃で押出し、表３、表４記載の厚みとなるように、引き取りスピード約５０ｍ／ｍｉｎ．、キャスティングロール温度は３０℃でＴダイ成形フィルムを作製した。
比較例２では、３２０ミクロンのＴダイ成形フィルムをバッチ式延伸機を用いて６０℃で３倍の同時１軸延伸処理を施し、得られた１００ミクロンフィルムを使用した。
比較例５では、テレフタル酸、エチレングリコールを原料とし、酸化ゲルマニウム１００ｐｐｍを触媒とした、[η]＝０．６５（ｄｌ／ｇ）のポリエチレンテレフタレートを使用した二軸延伸フィルムを使用した。
実施例１及び比較例１、２では、それぞれのフィルム上にハードコート層として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（共栄社化学社「ＰＥ−３」）５０重量部、エポキシアクリレート（日本化薬社製「カヤラッドＲ１３０」）４０重量部、シランカップリング剤（東レ・コーニング社製「ＳＺ６０３０」）１０重量部、及び光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製「ダロキュア１１７３」）５重量部からなる塗布液を、バーコーターを用いてフィルム上に塗布した後、高圧水銀ランプを用いて、５．０Ｊ／ｍ２で紫外線照射して硬化させることにより、厚み３μｍのハードコート層を形成した。引き続いて、ハードコート層上に１００℃にてインジウムチンオキサイド（ＩＴＯ）をスパッタリングすることにより、厚み１０００Åの透明導電膜を形成した。
また、実施例２は、Ｔダイフィルム上に上記の方法でハードコート層を設け、該ハードコート層上に酸化珪素をスパッタリングすることにより厚み２５０ÅのＳｉＯｘガスバリア層を形成し、その上に、先ほどと同手順でハートコート層を塗布硬化し積層基板を得た。
さらに実施例３〜５と比較例３，４では、実施例２と同様に各々のフィルム上にハードコート層、酸化珪素層を設け、再びハードコート層を設けた後、透明電極層を設けた積層基板を得た。
また、比較例５は、基板用フィルムとしてポリエチレンテレフタレートを用いて、実施例３〜５及び比較例３，４と同様に積層基板を作成した。
【００３１】
【表２】
2005162768.tif 000003
【００３２】
【表３】
2005162768.tif 000004
【００３３】
実施例１〜５及び比較例１〜５の評価結果は表２、表３に示すとおりであり、実施例１〜５は、表２に記載した通り、表面抵抗値やガスバリアー性が優れ、耐熱性、屈曲性を有し、充分な透明性を有しており、電子ペーパー基材としての性能に優れることがわかった。一方、比較例１〜５の評価結果は、表３に示すとおりで、実施例１〜５に比べて、耐熱性、屈曲性、又は透明性が劣り、電子ペーパー基材として適していないことがわかった。