(57)【要約】【課題】  高温成形時における有機材料の着色や熱劣化を抑制する有機ケイ素化合物、及び該有機ケイ素化合物の製造法等を提供する。【解決手段】  下式（Ｉ）で示される有機ケイ素化合物。2005263640.tif 000027        （Ｉ）［式中、Ｒ１〜Ｒ２０は、それぞれ独立にハロゲン、アルキル、アルコキシ、アリールオキシ、シクロアルキル、アルキルシクロアルキル、アリール、ジアルキルアミノを表す。上記のアリールオキシ及びアリールは、アルキル、アルコキシ、ハロゲン、ハロゲン置換アルキル及びアルコキシアルキルからなる群より選ばれる置換基で置換されていてもよい。］【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下式（Ｉ）で示される有機ケイ素化合物。
2005263640.tif 000021
（Ｉ）
［式中、Ｒ１〜Ｒ２０は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のアルキル基、１〜３個の水素原子が１〜３個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシル基、炭素数２〜３０のアルコキシアルキル基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のアルキルシクロアルキル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、炭素数１〜３０のアルキルチオ基、炭素数１〜３０のアルキルアミノ基又は炭素数２〜３０のジアルキルアミノ基を表す。（但し、Ｒ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない。また、上記の炭素数６〜１８のアリールオキシ基及び炭素数６〜１８のアリール基における１〜３個の水素原子は、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシル基、ハロゲン原子、１〜３個の水素原子が１〜３個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜３０のアルキル基及び炭素数２〜３０のアルコキシアルキル基からなる群より選ばれる１〜３個の置換基で置換されていてもよい。）］
【請求項２】
式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０が、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基、１〜３個の水素原子が１〜３個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシル基、炭素数２〜３０のアルコキシアルキル基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のアルキルシクロアルキル基、炭素数１〜３０のアルキルチオ基、炭素数１〜３０のアルキルアミノ基又は炭素数２〜３０のジアルキルアミノ基を表す［但し、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない。また、上記の炭素数６〜１８のアリールオキシ基及び炭素数６〜１８のアリール基における１〜３個の水素原子は、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシル基、ハロゲン原子、１〜３個の水素原子が１〜３個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜３０のアルキル基及び炭素数２〜３０のアルコキシアルキル基からなる群より選ばれる１〜３個の置換基で置換されていてもよい］請求項１に記載の有機ケイ素化合物。
【請求項３】
式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０が、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基又は炭素数１〜３０のアルコキシル基を表す［但し、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない］請求項１又は２に記載の有機ケイ素化合物。
【請求項４】
式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０が、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基又は炭素数１〜３０のアルコキシル基を表し、Ｒ１とＲ６とＲ１１とＲ１６が同一であり、Ｒ２とＲ７とＲ１２とＲ１７が同一であり、Ｒ３とＲ８とＲ１３とＲ１８が同一であり、Ｒ４とＲ９とＲ１４とＲ１９が同一であり、Ｒ５とＲ１０とＲ１５とＲ２０が同一である［但し、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない］請求項１〜３のいずれかに記載の有機ケイ素化合物。
【請求項５】
下式（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）で示されるフェニル金属化合物と下式（ＶＩＩ）で示される置換ケイ素化合物とを反応させ、次いで得られる反応生成物を加水分解し、必要に応じてさらに縮合させることを特徴とする請求項１記載の式（Ｉ）で示される有機ケイ素化合物の製造方法。
2005263640.tif 000022
（ＩＩＩ）
2005263640.tif 000023
（ＩＶ）
2005263640.tif 000024
（Ｖ）
2005263640.tif 000025
（ＶＩ）
［式（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）中、Ｒ１〜Ｒ２０は請求項１における定義と同じである（但し、Ｒ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない）。ＭはＭｇＸ又はＬｉを表す。Ｘはハロゲン原子を表す。］
2005263640.tif 000026
［式中、Ｙ１〜Ｙ３はそれぞれ独立にハロゲン原子又はアルコキシル基を表す。］
【請求項６】
有機材料と請求項１記載の式（Ｉ）で示される有機ケイ素化合物を含有し、該有機材料と有機ケイ素化合物の重量比が１００：０．０００１〜１００：１０の範囲であることを特徴とする有機材料組成物。
【請求項７】
式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０が、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基、１〜３個の水素原子が１〜３個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシル基、炭素数２〜３０のアルコキシアルキル基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のアルキルシクロアルキル基、炭素数１〜３０のアルキルチオ基、炭素数１〜３０のアルキルアミノ基又は炭素数２〜３０のジアルキルアミノ基を表す［但し、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない。また、上記の炭素数６〜１８のアリールオキシ基及び炭素数６〜１８のアリール基における１〜３個の水素原子は、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシル基、ハロゲン原子、１〜３個の水素原子が１〜３個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜３０のアルキル基及び炭素数２〜３０のアルコキシアルキル基からなる群より選ばれる１〜３個の置換基で置換されていてもよい］請求項６に記載の有機材料組成物。
【請求項８】
式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０が、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基又は炭素数１〜３０のアルコキシル基を表す［但し、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない］請求項６又は７に記載の有機材料組成物。
【請求項９】
式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０が、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基又は炭素数１〜３０のアルコキシル基を表し、Ｒ１とＲ６とＲ１１とＲ１６が同一であり、Ｒ２とＲ７とＲ１２とＲ１７が同一であり、Ｒ３とＲ８とＲ１３とＲ１８が同一であり、Ｒ４とＲ９とＲ１４とＲ１９が同一であり、Ｒ５とＲ１０とＲ１５とＲ２０が同一である［但し、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない］請求項６〜８のいずれかに記載の有機材料組成物。
【請求項１０】
有機材料が、熱可塑性樹脂である請求項６〜９のいずれかに記載の有機材料組成物。
【請求項１１】
熱可塑性樹脂が、ポリオレフィン又はエンジニアリング樹脂である請求項１０に記載の有機材料組成物。
【請求項１２】
エンジニアリング樹脂が、ポリカーボネート又はポリエステルである請求項１１に記載の有機材料組成物。
【請求項１３】
エンジニアリング樹脂が、ポリカーボネートである請求項１１に記載の有機材料組成物。
【請求項１４】
ポリオレフィンが、ポリプロピレン又は環状ポリオレフィン樹脂である請求項１１に記載の有機材料組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規な有機ケイ素化合物、その製造方法、及び、有機ケイ素化合物と有機材料からなる組成物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、天然又は合成ゴム、鉱油、潤滑油、接着剤や塗料等の有機材料は、製造時、加工時及び使用時に熱や酸素等の作用により劣化し、分子切断や分子架橋といった現象に起因する有機材料の強度物性の低下、流動性の変化、着色や表面物性の低下等を伴い、商品価値が著しく損なわれることがある。
また、熱可塑性樹脂の一種であるポリカーボネートは、耐衝撃性、透明性や寸法安定性等が優れていることから、電子機器のハウジング、光学レンズや窓ガラス等の建材に汎用されている。
【０００３】
特許文献１には、主たる繰り返し単位が次式
2005263640.tif 000002
［式中、Ｒ１’、Ｒ２’、Ｒ３’及びＲ４’は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、アラルキル基又はアリール基であり、Ｗはアルキリデン基、シクロアルキレン基、アリール基で置換されたアルキレン基、酸素原子、イオウ原子、スルホキシド基又はスルホン基を表す。］
で表されるポリカーボネートの１００重量部と、次式（Ａ）で示されるシラン型安定剤の０．０００１〜５重量部を含むポリカーボネート組成物が記載されている。
【０００４】
2005263640.tif 000003
［式中、Ｒ５’〜Ｒ７’は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基若しくは置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、又は次式（Ｂ）で表されるシリル基を表す。
【０００５】
2005263640.tif 000004
【０００６】
｛式中、Ｘ’は単結合、酸素原子、硫黄原子又は炭素数１〜１０のアルキレン基を表す。Ｙ１’〜Ｙ３’は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、炭素数１〜２０のアルキルシロキシ基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０のアリール基、炭素数６〜２０のアリールシリル基、炭素数６〜２０のアリールシロキシ基又はシロキサニル基を表す。｝］
【０００７】
【特許文献１】特開２００１−２４７７５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、本発明者は、特許文献１記載のシラン型安定剤（Ａ）を用いると、高温成形時におけるポリカーボネートを始めとしてポリエステル、ポリオレフィン、天然ゴム、合成ゴム、鉱油、潤滑油、接着剤等の有機材料の着色防止効果、熱劣化防止効果やゲル発生抑制効果が必ずしも充分ではないという知見を得た。
【０００９】
本発明の目的は、高温成形時における上記のポリカーボネート等の有機材料の着色、劣化やゲル発生等をより効果的に抑制する有機ケイ素化合物、該有機ケイ素化合物の製造方法、及び、上記有機ケイ素化合物と有機材料からなる組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、鋭意検討した結果、特定の構造を有する有機ケイ素化合物が有機材料の着色、劣化やゲル発生等を効果的に抑制することを見出し、本発明を完成した。
【００１１】
すなわち、本発明（イ）は、下式（Ｉ）で示される有機ケイ素化合物を提供するものである。
2005263640.tif 000005
（Ｉ）
［式中、Ｒ１〜Ｒ２０は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のアルキル基、１〜３個の水素原子が１〜３個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシル基、炭素数２〜３０のアルコキシアルキル基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のアルキルシクロアルキル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、炭素数１〜３０のアルキルチオ基、炭素数１〜３０のアルキルアミノ基又は炭素数２〜３０のジアルキルアミノ基を表す（但し、Ｒ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない。また、上記の炭素数６〜１８のアリールオキシ基及び炭素数６〜１８のアリール基における１〜３個の水素原子は、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシル基、ハロゲン原子、１〜３個の水素原子が１〜３個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜３０のアルキル基及び炭素数２〜３０のアルコキシアルキル基からなる群より選ばれる１〜３個の置換基で置換されていてもよい。）］
【００１２】
また、本発明（ロ）は、下式（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）で示されるフェニル金属化合物と、下式（ＶＩＩ）で示される置換ケイ素化合物とを反応させ、次いで得られる反応生成物を加水分解し、必要に応じてさらに縮合させることを特徴とする上記（イ）記載の式（Ｉ）で示される有機ケイ素化合物の製造方法を提供するものである。
【００１３】
2005263640.tif 000006
（ＩＩＩ）
【００１４】
2005263640.tif 000007
（ＩＶ）
【００１５】
2005263640.tif 000008
（Ｖ）
【００１６】
2005263640.tif 000009
（ＶＩ）
［式（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）中、Ｒ１〜Ｒ２０は上記（イ）における定義と同じである（但し、Ｒ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない）。ＭはＭｇＸ又はＬｉを表す。Ｘはハロゲン原子を表す。］
2005263640.tif 000010
［式中、Ｙ１〜Ｙ３はそれぞれ独立にハロゲン原子又はアルコキシル基を表す。］
【００１７】
さらに、本発明（ハ）は、有機材料と上記（イ）記載の有機ケイ素化合物を含有し、該有機材料と有機ケイ素化合物の重量比が１００：０．０００１〜１００：１０の範囲であることを特徴とする有機材料組成物を提供するものである。
【発明の効果】
【００１８】
本発明（イ）の有機ケイ素化合物によれば、高温成形時におけるポリカーボネート等の有機材料の着色、熱劣化やフィッシュアイゲルの発生が抑制される。また、本発明（ロ）の製造方法によれば、高純度の上記有機ケイ素化合物が容易に製造される。さらに、本発明（ハ）の有機材料組成物によれば、高温でポリカーボネートを始めとする上記の有機材料を成形しても、有機材料の着色や熱劣化が抑制され、フィルムに成形した際のフィッシュアイゲルの発生を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の（イ）は、上式（Ｉ）で示される有機ケイ素化合物である。
式（Ｉ）において、Ｒ１〜Ｒ２０は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のアルキル基、１〜３個の水素原子が１〜３個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシル基、炭素数２〜３０のアルコキシアルキル基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のアルキルシクロアルキル基、ヒドロキシル基、メルカプト基、炭素数１〜３０のアルキルチオ基、炭素数１〜３０のアルキルアミノ基又は炭素数２〜３０のジアルキルアミノ基を表すが、Ｒ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない。
【００２０】
Ｒ１〜Ｒ２０で表される上記のアルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基、ｉ−オクチル基、ｔ−オクチル基や２−エチルヘキシル基等の炭素数１〜３０のアルキル基が挙げられる。該炭素数１〜３０のアルキル基のなかでも、メチル基、エチル基やｔ−ブチル基が好ましい。Ｒ１〜Ｒ２０で表される上記のアルコキシル基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｉ−プロピルオキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｔ−ペンチルオキシ基、ｉ−オクチルオキシ基、ｔ−オクチルオキシ基や２−エチルヘキシルオキシ基等の炭素数１〜３０のアルコキシル基が挙げられる。該炭素数１〜３０のアルコキシル基のなかでも、メトキシ基やエトキシ基が好ましい。Ｒ１〜Ｒ２０で表される上記のハロゲン置換アルキル基としては、例えばクロロメチル基、ブロモメチル基、フルオロメチル基やトリフルオロメチル基等が挙げられる。
Ｒ１〜Ｒ２０で表される上記のアルコキシアルキル基としては、例えばメトキシメチル基、エトキシメチル基、ｎ−プロポキシメチル基、ｉ−プロポキシメチル基、ｎ−ブトキシメチル基、ｉ−ブトキシメチル基、ｓｅｃ−ブトキシメチル基、ｔ−ブトキシメチル基、ｔ−ペンチルオキシメチル基、ｉ−オクチルオキシメチル基、ｔ−オクチルオキシメチル基、２−エチルヘキシルオキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、ｎ−プロポキシエチル基、ｉ−プロポキシエチル基、ｎ−ブトキシエチル基、ｉ−ブトキシエチル基、ｓｅｃ−ブトキシエチル基、ｔ−ブトキシエチル基、ｔ−ペンチルオキシエチル基、ｉ−オクチルオキシエチル基、ｔ−オクチルオキシエチル基や２−エチルヘキシルオキシエチル基等の炭素数２〜３０のアルコキシアルキル基が挙げられる。Ｒ１〜Ｒ２０で表される上記のアルキルチオ基としては、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｉ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ｔ−ペンチルチオ基、ｉ−オクチルチオ基、ｔ−オクチルチオ基や２−エチルヘキシルチオ基等が挙げられる。
【００２１】
Ｒ１〜Ｒ２０で表される上記のアリール基としては、例えばフェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２−ヒドロキシフェニル基、３−ヒドロキシフェニル基、４−ヒドロキシフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基や４−メトキシフェニル基等のような炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ基及びヒドロキシ基からなる群より選ばれる１〜３個の置換基で置換されていてもよい単環〜三環のアリール基（炭素数６〜１８）が挙げられる。Ｒ１〜Ｒ２０で表される上記のアリールオキシ基としては、例えばフェノキシ基、２−メチルフェニルオキシ基、３−メチルフェニルオキシ基、４−メチルフェニルオキシ基、２−ｔ−ブチルフェニルオキシ基、３−ｔ−ブチルフェニルオキシ基、４−ｔ−ブチルフェニルオキシ基、２，４−ジメチルフェニルオキシ基、２，６−ジメチルフェニルオキシ基、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニルオキシ基、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニルオキシ基、２，４，６−トリメチルフェニルオキシ基、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニルオキシ基、２−ヒドロキシフェニルオキシ基、３−ヒドロキシフェニルオキシ基、４−ヒドロキシフェニルオキシ基、２−メトキシフェニルオキシ基、３−メトキシフェニルオキシ基や４−メトキシフェニルオキシ基等の炭素数６〜１８のアリールオキシ基が挙げられる。該炭素数６〜１８のアリールオキシ基のなかでも、フェノキシ基が好ましい。
【００２２】
Ｒ１〜Ｒ２０で表される上記のシクロアルキル基としては、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基やシクロオクチル基等の炭素数５〜８のシクロアルキル基が挙げられる。Ｒ１〜Ｒ２０で表される上記のアルキルシクロアルキル基としては、例えば１−メチルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基や１−メチル−４−ｉ−プロピルシクロヘキシル基等の炭素数６〜２０のアルキルシクロアルキル基が挙げられる。
【００２３】
Ｒ１〜Ｒ２０で表される上記のハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、フッ素原子又はヨウ素原子が挙げられる。
Ｒ１〜Ｒ２０で表される上記のアルキルアミノ基としては、例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、ｎ−プロピルアミノ基、ｉ−プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ｉ−ブチルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ｔ−ブチルアミノ基、ｔ−ペンチルアミノ基、ｉ−オクチルアミノ基、ｔ−オクチルアミノ基や２−エチルヘキシルアミノ基等が挙げられる。Ｒ１〜Ｒ２０で表される上記のジアルキルアミノ基としては、例えばジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジ−ｉ−プロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｉ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔ−ブチルアミノ基、ジ−ｔ−ペンチルアミノ基、ジ−ｉ−オクチルアミノ基、ジ−ｔ−オクチルアミノ基やジ−２−エチルヘキシルアミノ基等が挙げられる。
【００２４】
本発明の有機ケイ素化合物は、例えば、上式（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）で示されるフェニル金属化合物と、上式（ＶＩＩ）で示される置換ケイ素化合物とを反応させ、次いで得られる反応生成物を加水分解し、必要に応じてさらに縮合させることにより製造することができる。
【００２５】
フェニル金属化合物（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）における「Ｍ」中のＭgＸにおいて、Ｘはハロゲン原子を表す。該ハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子が挙げられる。上記のフェニル金属化合物（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）は、該式（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）における「Ｍ」が水素原子又はハロゲン原子である原料化合物とマグネシウム、リチウム又はｎ−ブチルリチウム等の反応試剤とを、反応溶媒の存在下に常法により反応させることによって製造することができる。
上記の反応溶媒としては、エーテル系反応溶媒（テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル又はジ−ｎ−ブチルエーテル等）や、該エーテル系反応溶媒と炭化水素系反応溶媒（ｎ−ヘキサン又はｎ−ヘプタン等）の混合物等が用いられる。
上記の反応によって製造されたフェニル金属化合物（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）は、反応液のまま次の反応に使用することもできるし、常法により単離して使用することもできる。
置換ケイ素化合物（ＶＩＩ）におけるＹ１〜Ｙ３は、ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子やヨウ素原子等）又はアルコキシル基（メトキシ基、エトキシ基、ｉ−プロポキシ基やｎ−ブトキシ基等）を表す。
【００２６】
フェニル金属化合物（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）と置換ケイ素化合物（ＶＩＩ）の反応は、反応溶媒の存在下又は不存在下に−８０〜２００℃程度の温度範囲で行われる。該反応溶媒の存在下に反応を行う場合は、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテルやジ−ｎ−ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、又は該エーテル系溶媒と炭化水素系溶媒（ｎ−ヘキサンやｎ−ヘプタン等）との混合物等が用いられる。
この反応においては、置換ケイ素化合物（ＶＩＩ）にフェニル金属化合物（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）を添加してもよく、フェニル金属化合物（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）に置換ケイ素化合物（ＶＩＩ）を添加してもよいが、置換ケイ素化合物（ＶＩＩ）中にフェニル金属化合物（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）を添加する方法がより好ましい。
フェニル金属化合物（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）と置換ケイ素化合物（ＶＩＩ）とを反応させる際のモル比は、置換ケイ素化合物（ＶＩＩ）の１モル当り、フェニル金属化合物（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）の合計モル数が１．８〜２．２モル倍程度の範囲であることが好ましい。
この際に、フェニル金属化合物（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）のそれぞれの使用割合を適宜調節してもよい。
【００２７】
フェニル金属化合物（ＩＩＩ）〜（ＶＩ）と置換ケイ素化合物（ＶＩＩ）とを反応させて得られた反応生成物は加水分解後、縮合させることにより、有機ケイ素化合物（Ｉ）が得られる。
上記反応生成物の加水分解は、水や無機塩（塩化ナトリウムや塩化アンモニウム等）の水溶液の存在下に行われる。該加水分解は、必要に応じて、塩化水素水や硫酸水等の酸の水溶液を併用してもよい。上記の縮合は、通常は加水分解と同時に進行する場合が多いが、加水分解後に得られた反応混合物を２８０℃程度まで昇温することにより、縮合反応を進行させてもよい。これらの反応の進行は、例えばガスクロマトグラフィーや液体クロマトグラフィー等の分析方法により追跡することができる。
有機ケイ素化合物（Ｉ）を精製する際には、蒸留、晶析やカラムクロマトグラフィー等の通常の手段が用いられる。晶析する際に用いる溶媒としては、例えばトルエンやキシレン等の芳香族炭化水素溶媒；ｎ−ヘキサンやｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；シクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒；メタノール、エタノールやｉ−プロパノール等のアルコール系溶媒；アセトンやメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；酢酸エチル等のエステル系溶媒；テトラヒドロフランやジエチルエーテル等のエーテル系溶媒；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒；クロロホルム、塩化メチレンやクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒；及びこれらの溶媒の混合物が用いられる。
【００２８】
かくして、式（Ｉ）で示される有機ケイ素化合物が製造される。
該有機ケイ素化合物（Ｉ）としては、例えば、以下の化合物が挙げられる。
【００２９】
［Ｒ１〜Ｒ２０がアルキル基である有機ケイ素化合物］
１，１，３，３−テトラキス（２−メチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−メチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−メチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−エチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−エチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｎ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ｎ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−ｎ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｔ−オクチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ｔ−オクチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−ｔ−オクチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３−ジメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４−ジメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，５−ジメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，６−ジメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，４−ジメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，５−ジメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３−ジエチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４−ジエチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，５−ジエチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，６−ジエチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，４−ジエチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，５−ジエチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，６−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，４−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，５−ジ−ｎ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３−ジ−ｔ−オクチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４−ジ−ｔ−オクチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，５−ジ−ｔ−オクチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，６−ジ−ｔ−オクチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，４−ジ−ｔ−オクチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，５−ジ−ｔ−オクチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，４−トリメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，５−トリメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，６−トリメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，５−トリメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，６−トリメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，４−トリエチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，５−トリエチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，６−トリエチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，５−トリエチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，６−トリエチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，４−トリ−ｎ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，５−トリ−ｎ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，６−トリ−ｎブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，５−トリ−ｎ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，６−トリ−ｎ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，４−トリ−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，５−トリ−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，５−トリ−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，４−トリ−ｔ−オクチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，５−トリ−ｔ−オクチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，６−トリ−ｔ−オクチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，５−トリ−ｔ−オクチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，６−トリ−ｔ−オクチルフェニル）ジシロキサン。
【００３０】
［Ｒ１〜Ｒ２０がアルコキシル基である有機ケイ素化合物］
１，１，３，３−テトラキス（２−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｔ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ｔ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−ｔ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｔ−オクチルオキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ｔ−オクチルオキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−ｔ−オクチルオキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３−ジメトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４−ジメトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，５−ジメトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，６−ジメトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，４−ジメトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，５−ジメトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３−ジエトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４−ジエトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，５−ジエトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，６−ジエトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，４−ジエトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，５−ジエトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３−ジ−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４−ジ−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，５−ジ−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，６−ジ−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，４−ジ−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，５−ジ−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３−ジ−ｔ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，５−ジ−ｔ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，６−ジ−ｔ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，４−ジ−ｔ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３−ジ−ｔ−オクチルオキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４−ジ−ｔ−オクチルオキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，５−ジ−ｔ−オクチルオキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，６−ジ−ｔ−オクチルオキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，４−ジ−ｔ−オクチルオキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，５−ジ−ｔ−オクチルオキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，４−トリメトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，５−トリメトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，６−トリメトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，５−トリメトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，６−トリメトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，４−トリエトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，５−トリエキトシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，６−トリエトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，５−トリエトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，６−トリエトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，４−トリ−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，５−トリ−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，６−トリ−ｎブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，５−トリ−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，６−トリ−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，４−トリ−ｔ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，５−トリ−ｔ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，６−トリ−ｔ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，５−トリ−ｔ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，６−トリ−ｔ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，４−トリ−ｔ−オクチルオキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，５−トリ−ｔ−オクチルオキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，６−トリ−ｔ−オクチルオキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，５−トリ−ｔ−オクチルオキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，６−トリ−ｔ−オクチルオキシフェニル）ジシロキサン。
【００３１】
［Ｒ１〜Ｒ２０の一部がアルキル基、残りがアルコキシル基である有機ケイ素化合物］
１，１，３，３−テトラキス（２−メチル−３−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メチル−４−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メチル−５−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メチル−６−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−メチル−４−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−メチル−５−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メトキシ−３−メチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メトキシ−４−メチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メトキシ−５−メチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−メトキシ−４−メチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メチル−３−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メチル−４−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メチル−５−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メチル−６−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−メチル−４−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−メチル−５−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エトキシ−３−メチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エトキシ−４−メチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エトキシ−５−メチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−エトキシ−４−メチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メチル−３−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メチル−４−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メチル−５−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メチル−６−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−メチル−４−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−メチル−５−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｎ−ブトキシ−３−メチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｎ−ブトキシ−４−メチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｎ−ブトキシ−５−メチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ｎ−ブトキシ−４−メチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エチル−３−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エチル−４−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エチル−５−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エチル−６−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−エチル−４−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−エチル−５−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メトキシ−３−エチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メトキシ−４−エチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メトキシ−５−エチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−メトキシ−４−エチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エチル−３−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エチル−４−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エチル−５−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エチル−６−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−エチル−４−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−エチル−５−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エトキシ−３−エチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エトキシ−４−エチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エトキシ−５−エチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−エトキシ−４−エチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エチル−３−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エチル−４−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エチル−５−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エチル−６−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−エチル−４−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−エチル−５−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｎ−ブトキシ−３−エチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｎ−ブトキシ−４−エチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｎ−ブトキシ−５−エチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ｎ−ブトキシ−４−エチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｔ−ブチル−３−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｔ−ブチル−６−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ｔ−ブチル−４−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ｔ−ブチル−５−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メトキシ−４−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メトキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−メトキシ−４−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｔ−ブチル−３−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｔ−ブチル−４−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｔ−ブチル−５−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｔ−ブチル−６−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ｔ−ブチル−４−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ｔ−ブチル−５−エトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エトキシ−４−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エトキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−エトキシ−４−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｔ−ブチル−３−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｔ−ブチル−４−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｔ−ブチル−５−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｔ−ブチル−６−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ｔ−ブチル−４−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ｔ−ブチル−５−ｎ−ブトキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｎ−ブトキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｎ−ブトキシ−４−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ｎ−ブトキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ｎ−ブトキシ−４−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、
【００３２】
［Ｒ１〜Ｒ２０がアルコキシアルキル基、アリールオキシ基、シクロアルキル基、アルキルシクロアルキル基又はアリール基である有機ケイ素化合物］
１，１，３，３−テトラキス（２−メトキシメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−メトキシメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−メトキシメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−フェニルオキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−フェニルオキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−フェニルオキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−シクロヘキシルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−シクロヘキシルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−シクロヘキシルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ビフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ビフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−ビフェニル）ジシロキサン。
【００３３】
［Ｒ１〜Ｒ２０がハロゲン原子である有機ケイ素化合物］
１，１，３，３−テトラキス（２−クロロフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−クロロフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−クロロフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ブロモフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ブロモフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−ブロモフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−フルオロフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−フルオロフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−フルオロフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３−ジクロロフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４−ジクロロフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，５−ジクロロフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，６−ジクロロフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，４−ジクロロフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，５−ジクロロフェニル）ジシロキサン。
【００３４】
［Ｒ１〜Ｒ２０がヒドロキシル基、メルカプト基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基又はハロゲン置換アルキル基である有機ケイ素化合物］
１，１，３，３−テトラキス（２−ヒドロキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ヒドロキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３−ジヒドロキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４−ジヒドロキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，５−ジヒドロキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，６−ジヒドロキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，４−ジヒドロキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３，５−ジヒドロキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，５−トリヒドロキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，３，６−トリヒドロキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，５−トリヒドロキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２，４，６−トリヒドロキシフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メルカプトフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−メルカプトフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−メルカプトフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メチルチオフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−メチルチオフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−メチルチオフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−メチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−メチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−メチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−エチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−エチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−エチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−ブチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−ブチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−ブチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルアミノフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−クロロメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−クロロメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−クロロメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（２−トリフルオロメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（３−トリフルオロメチルフェニル）ジシロキサン、１，１，３，３−テトラキス（４−トリフルオロメチルフェニル）ジシロキサン。
【００３５】
［非対称形である有機ケイ素化合物］
１，３−ジフェニル−１，３−ビス（２−メチルフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（３−メチルフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（４−メチルフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（２−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（３−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（２−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（３−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（４−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（２，３−ジメトキシフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（２，４−ジメトキシフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（２，５−ジメトキシフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（３，４−ジメトキシフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（３，５−ジメトキシフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（２−メチル−３−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（２−メチル−４−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（２−メチル−５−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（２−メチル−６−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（３−メチル−４−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（３−メチル−５−メトキシフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（２−メトキシ−３−メチルフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（２−メトキシ−４−メチルフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（２−メトキシ−５−メチルフェニル）ジシロキサン、１，３−ジフェニル−１，３−ビス（３−メトキシ−４−メチルフェニル）ジシロキサン等。
【００３６】
本発明（イ）の有機ケイ素化合物の中でも、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０が、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基、１〜３個の水素原子が１〜３個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシル基、炭素数２〜３０のアルコキシアルキル基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のアルキルシクロアルキル基、炭素数１〜３０のアルキルチオ基、炭素数１〜３０のアルキルアミノ基又は炭素数２〜３０のジアルキルアミノ基を表す［但し、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない。また、上記の炭素数６〜１８のアリールオキシ基及び炭素数６〜１８のアリール基における１〜３個の水素原子は、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシル基、ハロゲン原子、１〜３個の水素原子が１〜３個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜３０のアルキル基及び炭素数２〜３０のアルコキシアルキル基からなる群より選ばれる１〜３個の置換基で置換されていてもよい］化合物が好ましい。
また、上記化合物の中でも、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０が、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基又は炭素数１〜３０のアルコキシル基を表す［但し、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない］化合物がより好ましい。
さらに、本発明（イ）の有機ケイ素化合物の中でも、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０が、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基又は炭素数１〜３０のアルコキシル基を表し、Ｒ１とＲ６とＲ１１とＲ１６が同一であり、Ｒ２とＲ７とＲ１２とＲ１７が同一であり、Ｒ３とＲ８とＲ１３とＲ１８が同一であり、Ｒ４とＲ９とＲ１４とＲ１９が同一であり、Ｒ５とＲ１０とＲ１５とＲ２０が同一である［但し、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない］化合物が特に好ましい。
【００３７】
本発明（ロ）の有機ケイ素化合物の製造方法の中でも、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０が、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基、１〜３個の水素原子が１〜３個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシル基、炭素数２〜３０のアルコキシアルキル基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のアルキルシクロアルキル基、炭素数１〜３０のアルキルチオ基、炭素数１〜３０のアルキルアミノ基又は炭素数２〜３０のジアルキルアミノ基を表す［但し、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない。また、上記の炭素数６〜１８のアリールオキシ基及び炭素数６〜１８のアリール基における１〜３個の水素原子は、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシル基、ハロゲン原子、１〜３個の水素原子が１〜３個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜３０のアルキル基及び炭素数２〜３０のアルコキシアルキル基からなる群より選ばれる１〜３個の置換基で置換されていてもよい］化合物の製造方法が好ましい。
また、該化合物の製造方法の中でも、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０が、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基又は炭素数１〜３０のアルコキシル基を表す［但し、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない］化合物の製造方法がより好ましい。
さらに、本発明の有機ケイ素化合物の製造方法において、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０が、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基又は炭素数１〜３０のアルコキシル基を表し、Ｒ１とＲ６とＲ１１とＲ１６が同一であり、Ｒ２とＲ７とＲ１２とＲ１７が同一であり、Ｒ３とＲ８とＲ１３とＲ１８が同一であり、Ｒ４とＲ９とＲ１４とＲ１９が同一であり、Ｒ５とＲ１０とＲ１５とＲ２０が同一である［但し、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない］化合物の製造方法が特に好ましい。
【００３８】
本発明の有機ケイ素化合物（Ｉ）は、有機材料の熱劣化や酸化劣化等に対する安定剤として有用である。
上記の有機材料としては、例えば次のようなものが挙げられる。これらの有機材料は単独で、又は二種以上の混合物として用いられる。
【００３９】
以下に記載する熱可塑性樹脂：
（１）高密度ポリエチレン（ＨＤ−ＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤ−ＰＥ）や直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）等のポリエチレン、（２）ポリプロピレン、（３）エチレン／プロピレン共重合体、（４）メチルペンテンポリマー、（５）ＥＥＡ（エチレン／アクリル酸エチル共重合）樹脂、（６）エチレン／酢酸ビニル共重合樹脂、（７）ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）やポリ（α−メチルスチレン）等のポリスチレン類、（８）ＡＳ（アクリロニトリル／スチレン共重合）樹脂、（９）透明ＡＢＳ樹脂等のＡＢＳ（アクリロニトリル／ブタジエン／スチレン共重合）樹脂、（１０）ＡＡＳ（特殊アクリルゴム／アクリロニトリル／スチレン共重合）樹脂、（１１）ＡＣＳ（アクリロニトリル／塩素化ポリエチレン／スチレン共重合）樹脂、（１２）ＡＢ（アクリロニトリル／ブタジエン共重合）樹脂、（１３）ＭＳ（メチルメタクリレート／スチレン共重合）樹脂、（１４）塩素化ポリエチレン、ポリクロロプレンや塩素化ゴム、（１５）ポリ塩化ビニルやポリ塩化ビニリデン、（１６）メタクリル樹脂、（１７）エチレン／ビニルアルコール共重合樹脂、（１８）ポリアクリレート、（１９）アイオノマー樹脂、（２０）ポリビニルアルコール、（２１）三酢酸セルロース等のセルロース系樹脂、（２２）ポリウレタン、次の（２３）〜（３４）に示すエンジニアリング樹脂；（３５）〜（４０）に示す樹脂、並びに、以下に登録商標名で示す環状ポリオレフィン樹脂（４１）。
【００４０】
（２３）ポリテトラフルオロエチレン等のフッ素樹脂、（２４）変性ポリフェニレンエーテル樹脂とポリフェニレンサルファイド樹脂、（２５）ポリアセタール、（２６）ポリアミド、（２７）ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、液晶ポリマー［ＬＣＰ］やポリ乳酸等のポリエステル樹脂、（２８）ポリカーボネート、（２９）ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトンやポリエーテルスルホン、（３０）芳香族ポリエステル樹脂、（３１）ポリアミドイミド、（３２）ポリイミド、（３３）ポリアリレート及び（３４）ポリエーテルイミド；（３５）ポリブタジエン、（３６）１，２−ポリブタジエン、（３７）ポリイソプレン、（３８）ブロック共重合体や水添化されたスチレン／ブタジエン共重合体、（３９）ブロック共重合体や水添化されたスチレン／イソプレン共重合体、（４０）ブタジエン／アクリロニトリル共重合体；（４１）環状ポリオレフィン樹脂；
【００４１】
Ｔｏｐａｓ（Ｔｉｃｏｎａ社の登録商標）
2005263640.tif 000011
［該式中、ｌ及びｍは、正の整数である。］
【００４２】
ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲの登録商標）
2005263640.tif 000012
［該式中、ｎは正の整数である。Ｘ及びＲはアルキル基等の置換基を表す。］
【００４３】
アペル（三井化学の登録商標）
2005263640.tif 000013
［該式中、ｌ、ｍ及びｎは、それぞれ独立に正の整数である。］
【００４４】
ＺＥＯＮＥＸ（日本ゼオンの登録商標）
2005263640.tif 000014
［該式中、ｎは正の整数である。また、該式中のＲ１及びＲ２はそれぞれ独立にアルキル基等の置換基を表す。］
【００４５】
（４２）シリコーンゴム、（４３）エピクロルヒドリンゴム、（４４）アクリルゴム、（４５）天然ゴム、（４６）塩素ゴム系塗料、（４７）ポリエステル樹脂塗料、（４８）ウレタン樹脂塗料、（４９）エポキシ樹脂塗料、（５０）アクリル樹脂塗料、（５１）ビニル樹脂塗料、（５２）アミノアルキド樹脂塗料、（５３）アルキド樹脂塗料、（５４）ニトロセルロース樹脂塗料、（５５）油性塗料、（５６）ワックス等。
【００４６】
次に示す（５７）〜（６４）の熱硬化性樹脂：
（５７）エポキシ樹脂、（５８）ジアリルフタレートプリポリマー、（５９）シリコーン樹脂、（６０）不飽和ポリエステル樹脂、（６１）アクリル変性ベンゾグアナミン樹脂、（６２）ベンゾグアナミン／メラミン樹脂、（６３）ユリア樹脂及び（６４）フェノール樹脂。
【００４７】
本発明の有機材料組成物の中でも、有機材料として熱可塑性樹脂［上記の（１）〜（４１）］を含む組成物が好ましい。これらの熱可塑性樹脂を含む組成物の中でも、ポリエチレン、ポリプロピレンや環状ポリオレフィン樹脂［（４１）］等のポリオレフィンを含む組成物；ポリアミド、ポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレート等のエンジニアリング樹脂［（２３）〜（３４）］を含む組成物がより好ましい。
また、エンジニアリング樹脂を含む有機材料組成物の中でも、エステル結合を有するエンジニアリング樹脂を含む組成物がより好ましい。これらのエステル結合を有するエンジニアリング樹脂を含む組成物の中でも、ポリカーボネート又はポリエステルを含む組成物が特に好ましく、ポリカーボネートを含む組成物が殊に好ましい。
さらに、上記のポリエチレン、ポリプロピレンや環状ポリオレフィン樹脂等のポリオレフィンを含む有機材料組成物の中でも、ポリプロピレン又は環状ポリオレフィン樹脂を含む組成物がより好ましい。
上述したポリオレフィンは、特に限定されるものではない。例えば、ラジカル重合によって得られたポリオレフィンでもよく、周期表ＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂ又はＶＩＩＩ族の金属を含有する触媒を用いる重合により製造されたポリオレフィンでもよい。上記の金属を含有する触媒としては、１つ以上の配位子、例えばπ又はσ結合によって配位する酸化物、ハロゲン化合物、アルコレート、エステル、アリール等を有する金属錯体であってもよく、これらの錯体はそのままであっても、塩化マグネシウム、塩化チタン、アルミナや酸化ケイ素等の基材に担持されていてもよい。
上記ポリオレフィンとしては、例えば、チーグラー・ナッタ触媒、ＴＮＺ触媒、メタロセン触媒やフィリップス触媒等を用いて製造されたものが好ましく使用される。
エンジニアリング樹脂のうち、ポリアミド樹脂としては、ポリマー鎖にアミド結合を有する樹脂であって、加熱溶融できるものであればよい。例えば、ジアミン類とジカルボン酸類との縮合反応、アミノカルボン酸類の縮合反応、ラクタム類の開環重合等のいずれかの方法によって製造されたものでもよい。
これらのポリアミド樹脂の具体例としては、ナイロン６６、ナイロン６９、ナイロン６１０、ナイロン６１２、ポリ−ビス（ｐ−アミノシクロヘキシル）メタンドデカミド、ナイロン４６、ナイロン６、ナイロン１２、ナイロン６６とナイロン６の共重合体であるナイロン６６／６やナイロン６／１２のような共重合体が挙げられる。
エンジニアリング樹脂のうち、ポリエステル樹脂としては、ポリマー鎖にエステル結合を有するものであって、加熱溶融できる樹脂であればよい。例えば、ジカルボン酸類とジヒドロキシ化合物との重縮合等によって得られるポリエチレンテレフタレートやポリブチレンテレフタレート等のポリエステルが挙げられる。該ポリエステルは、ホモポリエステルでもよく、コポリエステルでもよい。
【００４８】
本発明において用いられるポリカーボネートとしては、例えば二価フェノールとハロゲン化カルボニル、ハロホルメートやカーボネートエステル等のカーボネート前駆体等とを反応させることにより製造された樹脂を挙げることができる。
【００４９】
上記の二価フェノールとしては、例えばビスフェノールＡ、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、レゾルシノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、ビフェノール、ビス（２−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、３，３−ビス(４−ヒドロキシフェニル)ペンタン、２，２’−ジヒドロキシビフェニル、１，５−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、ビス(４−ヒドロキシフェニル)スルホン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル)スルホン、２，２−ビス(３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル)プロパン、２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニルエーテル、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル)プロパン、２，２−ビス(３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル)プロパン、２，２−ビス(３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル)プロパン、２，２−ビス(３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル)プロパン、２，２−ビス(３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル)プロパン、２，２−ビス(４−ヒドロキシフェニル)−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、１，１−ビス(４−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、１，１−ビス(３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、３，３’，５，５’−テトラメチル−４，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、ビス(４−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(３−メチル−４−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(４−ヒドロキシフェニル)スルフィド又は９，９−ビス(４−ヒドロキシフェニル)フルオレン等が挙げられる。
【００５０】
上記のハロゲン化カルボニルとしては、例えば、ホスゲンや臭化カルボニル等が挙げられる。また、上記のハロホルメートとしては、例えば、ハイドロキノンビスクロロホルメート等の二価フェノールのハロホルメートや、エチレングリコールハロホルメート等のグリコールホルメート等が挙げられる。さらに、上記のカーボネートエステルとしては、例えば、ジフェニルカーボネート、ジ(クロロフェニル)カーボネート、ジ(トリル)カーボネート、ジナフチルカーボネートやジメチルカーボネート等が挙げられる。
【００５１】
本発明において用いられるポリカーボネートとしては、分岐状ポリカーボネートも挙げられる。該分岐状ポリカーボネートは、フェノール性水酸基を３個以上有する化合物及び二価フェノールのフェノール混合物と上記カーボネート前駆体とを反応させて調製することができる。
フェノール性水酸基を３個以上有する化合物としては、例えば、１，３，５−トリヒドロキシベンゼン、２，４−ビス(４−ヒドロキシフェニルイソプロピル)フェノール、２，６−ビス(２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル)−４−メチルフェノール、２−(４−ヒドロキシフェニル)−２−(２，４−ジヒドロキシフェニル)プロパン、１，４−ビス｛ジ(４−ヒドロキシフェニル)メチル｝ベンゼン等が挙げられる。
上述したポリカーボネートは、界面重合法、ピリジン法やエステル交換法等の方法により製造することができる。該方法で製造されたポリカーボネートはホモポリマーやコポリマーであってもよい。また、ポリカーボネートは、ポリエステルカーボネートやポリホスホネートカーボネートであってもよい。
【００５２】
ポリカーボネートの分子量は、粘度平均分子量(２５℃における塩化メチレン溶融粘度より換算した値)で表すと、好ましくは10000〜100000の範囲、より好ましくは12000〜50000の範囲である。
また、ポリカーボネートはポリマーアロイであってもよい。
ポリマーアロイを形成するポリカーボネート以外の樹脂としては、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリメチルメタクリレート等のメタクリル樹脂；アクリロニトリルブタジエンスチレン(ＡＢＳ樹脂)；飽和ポリエステル(ＰＥＴ，ＰＢＴ)；ポリアミド；ポリフェニレンエーテル(ＰＰＥ)；ポリエステル系樹脂；アクリレート系樹脂；シリコーン系樹脂；ポリイミド樹脂；ポリエーテルイミド樹脂；ポリウレタン；ポリフェニレンンスルフィド樹脂；ポリスルホン樹脂；ポリスチレン樹脂；アクリロニトリル−スチレン共重合体（ＡＳ）；フェノール樹脂；エポキシ樹脂；スチレン／ブタジエン／スチレンブロック共重合体(ＳＢＳ)；イソブチレン／イソプレンゴム；スチレン／ブタジエンゴム；エチレン／プロピレンゴム；アクリル系エラストマー；ポリエステル系エラストマー；ポリアミド系エラストマー；メタクリル酸メチル／ブタジエン／スチレン（ＭＢＳ）；メタクリル酸メチル／アクリロニトリル／スチレン（ＭＡＳ）熱可塑性エラストマー；水素添加スチレン／ブタジエン／スチレンブロック共重合体(ＳＥＢＳ)；スチレン／イソプレン／スチレンブロック共重合体(ＳＩＳ)；水素添加スチレン／イソプレン／スチレンブロック共重合体(ＳＥＰＳ)等が挙げられる。
さらに、ポリカーボネートは、ガラス繊維、カーボン繊維やフッ素樹脂等を充填したものであってもよい。
【００５３】
本発明（ハ）の有機材料組成物は、上記有機材料と上記（イ）記載の有機ケイ素化合物（Ｉ）を含有し、該有機材料と有機ケイ素化合物の重量比が１００：０．０００１〜１００：１０の範囲であることを特徴とする。
本発明の（ハ）において、有機材料と有機ケイ素系化合物（Ｉ）の重量比が１００：０．０００１よりも小さいと、有機材料の劣化を十分に防止できない場合がある。一方、有機材料と有機ケイ素系化合物（Ｉ）の重量比が１００：１０を超えても有機材料の劣化防止効果はそれほど向上せず、経済的には不利となる。
【００５４】
本発明（ハ）の有機材料組成物としては、上記の式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０が、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基、１〜３個の水素原子が１〜３個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシル基、炭素数２〜３０のアルコキシアルキル基、炭素数６〜１８のアリールオキシ基、炭素数６〜１８のアリール基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜２０のアルキルシクロアルキル基、炭素数１〜３０のアルキルチオ基、炭素数１〜３０のアルキルアミノ基又は炭素数２〜３０のジアルキルアミノ基を表す［但し、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない。また、上記の炭素数６〜１８のアリールオキシ基及び炭素数６〜１８のアリール基における１〜３個の水素原子は、炭素数１〜３０のアルキル基、炭素数１〜３０のアルコキシル基、ハロゲン原子、１〜３個の水素原子が１〜３個のハロゲン原子で置換された炭素数１〜３０のアルキル基及び炭素数２〜３０のアルコキシアルキル基からなる群より選ばれる１〜３個の置換基で置換されていてもよい］ものが好ましい。
また、本発明（ハ）の有機材料組成物としては、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０が、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基又は炭素数１〜３０のアルコキシル基を表す［但し、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない］組成物がより好ましい。
さらに、本発明（ハ）の有機材料組成物としては、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０が、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基又は炭素数１〜３０のアルコキシル基を表し、Ｒ１とＲ６とＲ１１とＲ１６が同一であり、Ｒ２とＲ７とＲ１２とＲ１７が同一であり、Ｒ３とＲ８とＲ１３とＲ１８が同一であり、Ｒ４とＲ９とＲ１４とＲ１９が同一であり、Ｒ５とＲ１０とＲ１５とＲ２０が同一である［但し、式（Ｉ）におけるＲ１〜Ｒ２０の全てが水素原子であることはない］組成物が特に好ましい。
【００５５】
本発明（ハ）の有機材料組成物は、有機材料と有機ケイ素化合物（Ｉ）を含有する組成物であるが、必要に応じて、他の添加剤、例えばフェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、ヒドロキシルアミン、金属不活性化剤、金属石鹸類、造核剤、滑剤、防曇剤、可塑剤、難燃剤、離型剤、帯電防止剤、顔料、染料、充填剤、発泡剤や有機過酸化物等を添加することもできる。更に、米国特許第４，３２５，８５３号明細書、米国特許第４，３３８，２４４号明細書、米国特許第５，１７５，３１２号明細書、米国特許第５，２１６，０５３号明細書、米国特許第５，２５２，６４３号明細書、ＤＥ−Ａ−４，３１６，６１１号公報、ＤＥ−Ａ−４，３１６，６２２号公報、ＤＥ−Ａ−４，３１６，８７６号公報、ＥＰ−Ａ−５８９，８３９号公報、ＥＰ−Ａ−５９１，１０２号公報、ＣＡ−２，１３２，１３２号公報等に記載のベンゾフラノン類やインドリン類等を添加することもできる。また、エポキシ化大豆油等のエポキシ化合物やオキセタン系化合物を添加することもできる。
本発明の（ハ）における有機材料がポリカーボネートである場合は、有機ケイ素化合物以外に添加できる添加剤としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、紫外線吸収剤、離型剤、染料、難燃剤、帯電防止剤、顔料や充填剤が挙げられる。
本発明の（ハ）における有機材料としては、上記の熱可塑性樹脂が好ましい。また、該熱可塑性樹脂としては、上記のポリオレフィン又はエンジニアリング樹脂が好ましい。該エンジニアリング樹脂としては、上記のポリカーボネート又は上記のポリエステルが好ましい。上記のエンジニアリング樹脂としては、ポリカーボネートが特に好ましい。
さらに、上記のポリオレフィンとしては、ポリプロピレン又は環状ポリオレフィンが好ましい。
【００５６】
本発明の（ハ）における有機材料がポリカーボネートである場合に、上記のフェノール系酸化防止剤としては、次の（１）〜(１７)の酸化防止剤が挙げられる。
(１)アルキル化モノフェノール
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２−(α−メチルシクロヘキシル)−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−(１’−メチルウンデシル−１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−(１’−メチルヘプタデシル−１’−イル）フェノール又は２，４−ジメチル−６−(１’−メチルトリデシル−１’−イル)フェノール、及びこれらの混合物。
【００５７】
（２）アルキルチオメチルフェノール
２，４−ジオクチルチオメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール、及びこれらの混合物。
（３）ヒドロキノン及びアルキル化ヒドロキノン
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス(３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル)アジペート、及びこれらの混合物。
【００５８】
（４）トコフェロール
α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール、及びこれらの混合物。
（５）ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル
２，２’−チオビス(６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス(４−オクチルフェノール）、４，４’−チオビス(３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス(２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス(３，６−ジ−ｔ−アミルフェノール）、４，４’−(２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル)ジスルフィド、及びこれらの混合物。
【００５９】
（６）アルキリデンビスフェノール及びその誘導体
２，２’−メチレンビス(４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス(４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−(α−メチルシクロヘキシル）フェノール)］、２，２’−メチレンビス(４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス(４−メチル−６−ノニルフェノール）、２，２’−メチレンビス(４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス(４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス(４−イソブチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［６−(α−メチルベンジル)−４−ノニルフェノール］、２，２’−メチレンビス［６−(α，α−ジメチルベンジル)−４−ノニルフェノール］、４，４’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコール  ビス［３，３−ビス−３’−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルベンジル）−６−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニル  アクリレート、２，４−ジ−ｔ−ペンチル−６−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］フェニル  アクリレート、及びこれらの混合物。
【００６０】
（７）Ｏ−、Ｎ−及びＳ−ベンジル誘導体
３，５，３’，５’−テトラ−ｔ−ブチル−４，４’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、及びこれらの混合物。
（８）ヒドロキシベンジル化マロネート誘導体
ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシル−２−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、及びこれらの混合物。
（９）芳香族ヒドロキシベンジル誘導体
１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール、及びこれらの混合物。
【００６１】
（１０）トリアジン誘導体
２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−ｎ−オクチルチオ−４，６−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−ｎ−オクチルチオ−４，６−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−フェノキシ）−１，３，５−トリアジン、トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピル）−１，３，５−トリアジン、トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、トリス［２−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシシンナモイルオキシ)エチル]イソシアヌレート、及びこれらの混合物。
【００６２】
（１１）ベンジルホスホネート誘導体
ジメチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエステルのカルシウム塩、及びこれらの混合物。
（１２）アシルアミノフェノール誘導体
４−ヒドロキシラウリル酸アニリド、４−ヒドロキシステアリン酸アニリド、オクチル−Ｎ−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバネート、及びこれらの混合物。
（１３）β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の１価又は多価アルコールとのエステル
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、１、３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２，２，２］オクタン、及びこれらの混合物。
【００６３】
（１４）β−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と以下の１価又は多価アルコールとのエステル
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２，２，２］オクタン、及びこれらの混合物。
（１５）β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の１価又は多価アルコールとのエステル
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4-ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２，２，２］オクタン、及びこれらの混合物。
【００６４】
（１６）３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と以下の１価又は多価アルコールとのエステル
メタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、チオエチレングリコール、スピログリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒドロキシエチル）オキサミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２，２，２］オクタン、及びこれらの混合物。
（１７）β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸のアミド
Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル)プロピオニル]トリメチレンジアミン、及びこれらの混合物。
【００６５】
特に好ましいフェノール系酸化防止剤としては、以下の化合物が挙げられる。フェノール系酸化防止剤は２種以上の混合物として用いてもよい。
２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，２’−チオビス（６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１，３−トリス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、エチレングリコール  ビス［３，３−ビス−３’−ブチル−４’−ヒドロキシフェニルブチレート］、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニル  アクリレート、２，４−ジ−ｔ−ペンチル−６−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル]フェニル  アクリレート、
【００６６】
２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−フェノキシ）−１，３，５−トリアジン、トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、トリス［２−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシシンナモイルオキシ）エチル］イソシアヌレート、ジエチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジ−ｎ−オクタデシル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエステルのカルシウム塩、ｎ−オクタデシル  ３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ−ト、ネオペンタンテトライルテトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシシンナメート）、チオジエチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシシンナメート）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、３，６−ジオキサオクタメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシシンナメート）、ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシシンナメート）、トリエチレングリコール  ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルシンナメート）、３，９−ビス［２−（３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ）−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス［３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヘキサメチレンジアミン等。
【００６７】
また、リン系酸化防止剤としては、以下のものが挙げられ、これらは２種以上の混合物として使用してもよい。
トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリル  ペンタエリスリトール  ジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトール  ジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリスリトール  ジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトール  ジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ジフェニレンジホスホナイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）  ２−エチルヘキシル  ホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）  フルオロ  ホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）  エチルホスファイト、２−（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）−５−エチル−５−ブチル−１，３，２−オキサホスホリナン、２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス（３，３’，５，５’−テトラ−ｔ−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）  ホスファイトや２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−６−［３−（３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）プロポキシ］ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトール  ジホスファイト等。
【００６８】
イオウ系酸化防止剤としては、例えば次のようなものが挙げられ、これらは２種以上の混合物として使用してもよい。
ジラウリル  ３，３’−チオジプロピオネート、トリデシル  ３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル  ３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル  ３，３’−チオジプロピオネート、ラウリル  ステアリル  ３，３’−チオジプロピオネート、ネオペンタンテトライルテトラキス  （３−ラウリルチオプロピオネート）等。
【００６９】
ベンゾフラノン類としては、５，７−ジ−ｔ−ブチル−３−（３，４−ジメチルフェニル）−３Ｈ−ベンゾフラン−２−オン等が挙げられる。
【００７０】
紫外線吸収剤としては、例えば次のようなものが挙げられ、これらは２種以上の混合物として使用してもよい。
（１）サリシレート誘導体
フェニル  サリシレート、４−ｔ−ブチルフェニル  サリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル  ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−オクチルフェニル  サリシレート、ビス（４−ｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、ヘシサデシル  ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル  ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、２−メチル−４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル  ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、及びこれらの混合物等。
（２）２−ヒドロキシベンゾフェノン誘導体
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、及びこれらの混合物等。
【００７１】
（３）２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール
２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［（３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）−５’−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］−５−クロロベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］フェニル］ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾールと２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾールとの混合物、２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２，２’−メチレンビス［４−ｔ−ブチル−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、ポリ（３〜11）（エチレングリコール）と２−［３’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル］ベンゾトリアゾールとの縮合物、ポリ（３〜１１）（エチレングリコール）とメチル  ３−［（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネートとの縮合物、２−エチルヘキシル  ３−［３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート、オクチル  ３−［３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート、メチル  ３−［３−ｔ−ブチル−５−（���−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオネート、３−［３−ｔ−ブチル−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−ヒドロキシフェニル］プロピオン酸、及びこれらの混合物等。
（４）２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン系
２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２，４−ジヒドロキシフェニル−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール、及びこれらの混合物等。
（５）マロン酸エステル系
ｐ−メトキシベンジリデンマロン酸ジメチルエステル、ホスタビンＢ−ＣＡＰＸＰ、及びこれらの混合物等。
【００７２】
特に好ましい紫外線吸収剤としては、以下のものが挙げられ、これらは２種以上の混合物として使用してもよい。
フェニル  サリシレート、４−ｔ−ブチルフェニル  サリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル  ３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−オクチルフェニル  サリシレート、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５’−ｔ−ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−ｓ−ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−ｔ−アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール、ｐ−メトキシベンジリデンマロン酸ジメチルエステル、ホスタビンＢ−ＣＡＰＸＰ等。
【００７３】
光安定剤としては、例えば次のようなものが挙げられる。
（１）ヒンダードアミン系光安定剤
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）  セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）  スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）  セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）  セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）  セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）  ２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）  ２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル  デカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル  メタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）  １，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）  １，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノール及び１−トリデカノールとの混合エステル化物、
【００７４】
１，２，３，４−ブタンテトラボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール及び１−トリデカノールとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノール及び３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカンとの混合エステル化物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール及び３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカンとの混合エステル化物、ジメチル  サクシネートと１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルホリノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）ヘキサメチレン（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）］、ポリ［（６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ）ヘキサメチレン（（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ））、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと１，２−ジブロモエタンとの重縮合物、Ｎ，Ｎ’，４，７−テトラキス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０ジアミン、Ｎ，Ｎ’，４−トリス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、Ｎ，Ｎ’，４，７−テトラキス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、又はＮ，Ｎ’，４−トリス［４，６−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、及びこれらの混合物等。
【００７５】
（２）アクリレート系光安定剤
エチル  α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、イソオクチル  α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル  α−カルボメトキシシンナメート、メチル  α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、ブチル  α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメート、メチル  α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナメート、又はＮ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン、及びこれらの混合物等。
（３）ニッケル系光安定剤
２，２’−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］のニッケル錯体、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキルエステルのニッケル塩、ケトキシムのニッケル錯体及びそれらの混合物等。
【００７６】
（４）オキサミド系光安定剤
４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチルアニリド、２，２’−ジドデシルオキシ−５，５’−ジ−ｔ−ブチルアニリド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エトキシ−５−ｔ−ブチル−２’−エトキシアニリド、２−エトキシ−５，４’−ジ−ｔ−ブチル−２’−エチルオキサニリド、及びこれらの混合物等。
【００７７】
ヒドロキシアミンとしては、例えばＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシアミン、及びこれらの混合物等が挙げられる。
【００７８】
金属不活性化剤としては、例えば次のようなものが挙げられる。
Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）オキサリルジヒドラジド、オキサニリド、イソフタロイルジヒドラジド、セバコイルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）オキサリルジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプロピオニルジヒドラジド、及びこれらの混合物等。
【００７９】
過酸化物スカベンジャーとしては、例えばβ−チオジプロピオン酸のエステル、メルカプトベンゾイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸の亜鉛塩、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリスリトール  テトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピオネート、及びこれらの混合物等が挙げられる。
ポリアミド安定剤としては、例えば、ヨウ化物、又はリン化合物の銅もしくは２価のマンガン塩、及びこれらの混合物等が挙げられる。
中和剤としては、例えばステアリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウム、ハイドロタルサイト（塩基性マグネシウム・アルミニウム・ヒドロキシ・カーボネート・ハイドレード）、メラミン、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、及びこれらの混合物等が挙げられる。
滑剤としては、例えばパラフィンやワックス等の脂肪族炭化水素、炭素数８〜２２の高級脂肪族酸、炭素数８〜２２の高級脂肪族酸金属塩（Ａｌ、Ｃａ、ＭｇやＺｎ塩）、炭素数８〜２２の脂肪族アルコール、ポリグリコール、炭素数４〜２２の高級脂肪酸と炭素数４〜１８の脂肪族１価アルコールとのエステル、炭素数８〜２２の高級脂肪族アマイド、シリコーン油やロジン誘導体等が挙げられる。
【００８０】
造核剤としては、例えば次のようなものが挙げられる。
ナトリウム  ２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフェート、［リン酸−２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）］  ジヒドロオキシアルミニウム、ビス［リン酸−２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）］  ヒドロオキシアルミニウム、トリス［リン酸−２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）］  アルミニウム、ナトリウム  ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ホスフェート、安息香酸ナトリウム等の安息香酸金属塩、ｐ−ｔ−ブチル安息香酸アルミニウム、１，３：２，４−ビス（Ｏ−ベンジリデン）ソルビトール、１，３：２，４−ビス（Ｏ−メチルベンジリデン）ソルビトール、１，３：２，４−ビス（Ｏ−エチルベンジリデン）ソルビトール、１，３−Ｏ−３，４−ジメチルベンジリデン−２，４−Ｏ−ベンジリデンソルビトール、１，３−Ｏ−ベンジリデン−２，４−Ｏ−３，４−ジメチルベンジリデンソルビトール、１，３：２，４−ビス（Ｏ−３，４−ジメチルベンジリデン）ソルビトール、１，３−Ｏ−ｐ−クロロベンジリデン−２，４−Ｏ−３，４−ジメチルベンジリデンソルビトール、１，３−Ｏ−３，４−ジメチルベンジリデン−２，４−Ｏ−ｐ−クロロベンジリデンソルビトール、１，３：２，４−ビス（Ｏ−ｐ−クロロベンジリデン）ソルビトール、及びこれらの混合物等。
【００８１】
充填剤としては、例えばガラス繊維、炭素繊維、アルミナ繊維、カーボンブラック、グラファイト、酸化チタン、シリカ、タルク、マイカ、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、炭酸バリウム、オキシサルフェート、酸化スズ、アルミナ、カオリン、炭化ケイ素、金属粉末、及びこれらの混合物等が挙げられる。
【００８２】
帯電防止剤としては、例えばポリエーテルエステルアミド、グリセリンモノステアレート、ドデシルベンゼンスルホン酸アンモニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ホスホニウム塩、無水マレイン酸モノグリセライド、無水マレイン酸ジグリセライド、カーボン、グラファイト、金属粉末等が挙げられる。
【００８３】
染料の代表例としては、ＣＩ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｖｉｏｌｅｔ１３、バイエル社のマクロレックスバイオレットＢやテラゾ−ルブル−ＲＬＳ等が挙げられる。
【００８４】
難燃剤としては、ハロゲン化ビスフェノールＡのポリカーボネート型難燃剤、有機塩系難燃剤、芳香族リン酸エステル系難剤又はハロゲン化芳香族リン酸エステル型難燃剤、及びこれらの混合物等が挙げられる。
ハロゲン化ビスフェノールＡのポリカーボネート型難燃剤は、テトラブロモビスフェノールＡのポリカーボネート型難燃剤、テトラブロモビスフェノールＡとビスフェノールＡとの共重合ポリカーボネート型難燃剤等が挙げられる。
有機塩系難燃剤としては、ジフェニルスルホン−３，３’−ジスルホン酸ジカリウム、ジフェニルスルホン−３−スルホン酸カリウム、２，４，５−トリクロロベンゼンスルホン酸ナトリウム、２，４，５−トリクロロベンゼンスルホン酸カリウム、ビス（２，６−ジブロモ−４−クミルフェニル）リン酸カリウム、ビス（４−クミルフェニル）リン酸ナトリウム、ビス（ｐ−トルエンスルホン）イミドカリウム、ビス（ジフェニルリン酸）イミドカリウム、ビス（２，４，６−トリブロモフェニル）リン酸カリウム、ビス（２，４−ジブロモフェニル）リン酸カリウム、ビス（４−ブロモフェニル）リン酸カリウム、ジフェニルリン酸カリウム、ジフェニルリン酸ナトリウム、パーフルオロブタンスルホン酸カリウム、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸カリウム、ヘキサデシル硫酸ナトリウム、又はヘキサデシル硫酸カリウム等が挙げられる。
ハロゲン化芳香族リン酸エステル型難燃剤としては、トリス（２，４，６−トリブロモフェニル）ホスフェート、トリス（２，４−ジブロモフェニル）ホスフェート又はトリス（４−ブロモフェニル）ホスフェート等が挙げられる。
芳香族リン酸エステル系難燃剤としては、トリフェニルホスフェート、トリス（２，６−キシリル）ホスフェート、テトラキス（２，６−キシリル）レゾルシンジホスフェート、テトラキス（２，６−キシリル）ヒドロキノンジホスフェート、テトラキス（２，６−キシリル）−４，４’−ビフェノールジホスフェート、テトラフェニルレゾルシンジホスフェート、テトラフェニルヒドロキノンジホスフェート、テトラフェニル−４，４’−ビフェノールジホスフェート、芳香環供給源がレゾルシンとフェノールであり且つフェノール性ＯＨ基を含まない芳香族ポリホスフェート、芳香環供給源がレゾルシンとフェノールであり且つフェノール性ＯＨ基を含む芳香族ポリホスフェート、芳香環供給源がヒドロキノンとフェノールであり且つフェノール性ＯＨ基を含まない芳香族ポリホスフェート、芳香環供給源がヒドロキノンとフェノールであり且つフェノール性ＯＨ基を含む芳香族ポリホスフェート、芳香環供給源がビスフェノールＡとフェノールである芳香族ポリホスフェート、芳香環供給源がテトラブロモビスフェノールＡとフェノールである芳香族ポリホスフェート、芳香環供給源がレゾルシンと２，６−キシレノールである芳香族ポリホスフェート、芳香環ソースがヒドロキノンと２，６−キシレノールである芳香族ポリホスフェート、芳香環供給源がビスフェノールＡと２，６−キシレノールである芳香族ポリホスフェート、芳香環供給源がテトラブロモビスフェノールＡと２，６−キシレノールである芳香族ポリホスフェート等が挙げられる。
【００８５】
離型剤としては、例えば、一価アルコールと脂肪酸のエステル、多価アルコールと脂肪酸との部分エステル、又は多価アルコールと脂肪酸との全エステル等のアルコールと脂肪酸のエステルが挙げられる。
一価アルコールと飽和脂肪酸のエステルとしては、ステアリルステアレート、パルミチルパルミテート、ブチルステアレート、メチルラウレート、イソプロピルパルミテート等が挙げられる。一価アルコールと飽和脂肪酸のエステルとしては、ステアリルステアレートが好ましい。
多価アルコールと飽和脂肪酸との部分エステル又は全エステルとしては、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸ジグリセリド、ステアリン酸トリグリセリド、ステアリン酸モノソルビテート、ベヘニン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、ペンタエリスリトールテトラペラルゴネート、プロピレングリコールモノステアレート、ビフェニルビフェネ−ト、ソルビタンモノステアレート、２−エチルヘキシルステアレートやジペンタエリスルトールヘキサステアレート等のジペンタエリスルトールの全エステル又は部分エステル等が挙げられる。
これらのエステルの中でも、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸トリグリセリド、ペンタエリスリトールテトラステアレートやステアリン酸トリグリセリドとステアリルステアレートとの混合物が好ましく用いられる。
上記脂肪酸エステルの酸価は、３以下が好ましく、２以下がより好ましい。
ステアリン酸モノグリセリドの場合は、酸価１．５以下、純度９５重量％以上が好ましく、酸価１．２以下、純度９８重量％以上が特に好ましい。
上記エステル以外の離型剤としては、オレフィン系ワックス、カルボキシル基及び／またはカルボン酸無水物基を含有するオレフィン系ワックス、シリコーンオイル、オルガノポリシロキサン、パラフィンワックスや蜜蝋等が挙げられる。
【００８６】
有機過酸化物としては、例えば、ジクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキセン、１，３−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼンや３，６，９−トリエチル−３，６，９−トリメチル−１，４，７−トリパーオキシノナン等の過酸化アルキル類；ベンゾイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイドやデカノイルパーオキサイド等の過酸化ジアシル類；１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシネオデカネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカネート、α−クミルパーオキシネオデカネート、ｔ−ブチルネオヘプタネート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサネート、ｔ−アミルパーオキシ−２−エチルヘキサネート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ジ−ｔ−ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ｔ−アミルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサネート、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエートやジ−ｔ−ブチルパーオキシトリメチルアジテート等の過酸化エステル類；ジ−３−メトキシブチルパーオキシジカーボネート、ジ（２−エチルヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、ジ（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジセチルパーオキシジカーボネートやジミリスチルパーオキシジカーボネート等の過酸化カーボネート類が挙げられる。
【００８７】
有機材料がポリカーボネートである場合、通常は２５０〜４００℃の温度範囲で加工されるが、好ましくは２８０〜３６０℃の範囲であり、更に好ましくは３００〜３５０℃の範囲である。有機材料としてポリカーボネートを含む本発明の有機材料組成物は、ポリカーボネートの熱分解が防止されており、例えば電子機器のハウジング、光学レンズ、照明カバー、ＣＤやＤＶＤ等のディスク、ヘッドランプレンズカバー等の自動車部品、窓ガラス、カーポートの屋根等のシート状成型物等に成型する際に、外観に優れた製品を得ることができる。
【００８８】
本発明において、有機ケイ素化合物（Ｉ）及び必要に応じて使用されるその他の添加剤を有機材料に添加する場合は、均質な組成物を得るようにすればよく、そのための方法や装置は特に限定されるものではない。例えば、有機ケイ素化合物（Ｉ）及び必要に応じて使用されるその他の添加剤を有機材料の製造工程（重合工程）において添加する場合は、重合途中又は重合直後のポリマー液に有機ケイ素化合物（Ｉ）及び必要に応じて使用されるその他の添加剤を、溶液又は分散液の形で添加してもよく、溶融状態で添加してもよい。
有機ケイ素化合物（Ｉ）及び必要に応じて使用されるその他の添加剤を脱揮後の加熱工程において添加する場合は、上記の有機ケイ素化合物及び必要に応じて使用されるその他の添加剤を有機材料に、直接、ドライブレンドしてもよく、ヘンシェルミキサー等のミキサーを用いて混合してもよい。また、有機ケイ素系化合物（Ｉ）及び必要に応じて使用されるその他の添加剤をマスターバッチの形で有機材料に配合することもできる。
【実施例】
【００８９】
以下、実施例等により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
【００９０】
実施例１
［１，１，３，３−テトラキス（２−メトキシフェニル）ジシロキサン（以下、化合物１という）の製造］
四つ口フラスコ（ｉ）に、窒素気流下で、マグネシウム３．６ｇ、テトラヒドロフラン５０ｍｌ及び少量の臭素を仕込み、攪拌下に、２−ブロモアニソール２５ｇとテトラヒドロフラン５０ｍｌの混合液を滴下した。滴下終了後、７０℃で３時間保温した。
得られた反応混合物を、四つ口フラスコ（ｉｉ）に仕込んだトリクロロシラン９ｇとテトラヒドロフラン５０ｍｌの混合物中に、氷冷下で滴下した。滴下終了後、室温で１８時間撹拌した。得られた反応混合液を飽和食塩水で３回洗浄後、有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥後、硫酸マグネシウムを濾別した。得られた濾液から溶媒を留去した。留去後の残留物をテトラヒドロフランにより再結晶して、５．６ｇの化合物１を得た。
【００９１】
＜化合物１の質量分析（ＦＤ−ＭＳ）＞
ｍ／ｚ＝５０２
＜化合物１の１Ｈ−ＮＭＲ（重テトラヒドロフラン）＞
δ３．５２（ｓ，１２Ｈ）、５．６３（ｓ，２Ｈ）、６．７５（ｄ，４Ｈ）、６．８２（ｔ，４Ｈ）、７．２７（ｔ，４Ｈ）、７．４０（ｍ，４Ｈ）
【００９２】
実施例２
［１，１，３，３−テトラキス（２−メチルフェニル）ジシロキサン（以下、化合物２という）の製造］
四つ口フラスコ（ｉｉｉ）に、トリクロロシラン６．８ｇとテトラヒドロフラン５０ｍｌを仕込んだ。該混合物中に、窒素気流下で、ｏ−トリルマグネシウムブロミドのテトラヒドロフラン溶液（１ｍｌ当り１．０ｍｍｏｌのｏ−トリルマグネシウムブロミドを含む）１００ｍｌを０℃で滴下した。
滴下終了後、室温で５時間撹拌した。攪拌終了後、水５０ｇとトルエン１００ｇを加え、１１３℃で５時間保温した。保温終了後、１Ｎ−塩酸３０ｇを添加し、室温で終夜放置した。終夜放置後、１１１℃迄昇温して同温度で１時間保温した。次いで、飽和食塩水で洗浄後、得られた有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムを濾別後、得られた濾液を蒸留して、低沸点のトルエンと高沸点の留分を得た。得られた高沸点の留分を、エタノールから再結晶し、１．４ｇの化合物２を得た。
【００９３】
＜化合物２の質量分析（ＦＤ−ＭＳ）＞
ｍ／ｚ＝４３８
＜化合物２の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）＞
δ２．２２〜２．２６（ｍ，１２Ｈ）、５．７５（ｓ，２Ｈ）、７．０７〜７．１４（ｍ，８Ｈ）、７．２６〜７．２９（ｍ，４Ｈ）、７．５４（ｄ，４Ｈ）
【００９４】
実施例３
［１，１，３，３−テトラキス（２−メチル−４−メトキシフェニル）ジシロキサン（以下、化合物３という）の製造］
四つ口フラスコ（ｉｖ）に、窒素気流下で、マグネシウム１．６ｇ、テトラヒドロフラン５０ｍｌ及び少量の臭素を仕込んだ。次いで、攪拌下に、２−ブロモ−５−メトキシトルエン１２ｇとテトラヒドロフラン５０ｍｌの混合液を滴下した。滴下終了後、７０℃で２時間保温した。四つ口フラスコ（ｖ）にトリクロロシラン３．２ｇとテトラヒドロフラン５０ｍｌの混合物を仕込み、該混合物中に上記の２時間保温後の反応液を−３０℃で滴下した。滴下終了後、室温で１時間撹拌した。得られた反応液に飽和食塩水を−３０℃で滴下し、滴下終了後、室温で１２時間攪拌した。得られた有機相を飽和食塩水で２回洗浄後、得られた有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムを濾別した。得られた濾液から溶媒を留去した。留去後の残留物をテトラヒドロフラン／ｎ−ヘキサン混合溶媒から再結晶して、０．５ｇの化合物３を得た。
【００９５】
＜化合物３の質量分析（ＦＤ−ＭＳ）＞
ｍ／ｚ＝５５８
＜化合物３の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）＞
δ２．３６（ｓ，１２Ｈ）、３．８０（ｓ，１２Ｈ）、５．６２（ｓ，２Ｈ）、６．７３−６．７５（ｍ，８Ｈ）、７．４８（ｄ，４Ｈ）
【００９６】
実施例４
［１，１，３，３−テトラキス（２、４−ジメトキシフェニル）ジシロキサン（以下、化合物４という）の製造］
四つ口フラスコ（ｖｉ）に、窒素気流下、マグネシウム３．１ｇとテトラヒドロフラン２０ｍｌを仕込んだ。該混合物中に、攪拌下、１−ブロモ−２，４−ジメトキシベンゼン２５ｇとテトラヒドロフラン８０ｍｌの混合液を滴下した。滴下終了後、還流下で２時間保温した。
四つ口フラスコ（ｖｉｉ）に、トリエトキシシラン９．５ｇとテトラヒドロフラン４０ｍｌを仕込んだ。該混合物中に、上記の還流下で２時間保温後の反応液を氷冷下に滴下し、滴下終了後、８０℃で２時間撹拌した。得られた反応混合物を塩化アンモニウム水１００ｍｌ及び飽和食塩水の順に洗浄した。洗浄後の有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムを濾別後、得られた有機相にシリカゲルを加えて脱色した。脱色後の有機相を濃縮して、１６．７ｇのビス（２，４−ジメトキシフェニル）エトキシシランを得た。上記のビス（２，４−ジメトキシフェニル）エトキシシランに、０℃で、テトラヒドロフラン５０ｍｌと１Ｎ−塩酸５０ｍｌを加えた。次に、トルエン１００ｇを加えて抽出した。有機相を飽和食塩水で２回洗浄した。洗浄後の有機相に、無水硫酸マグネシウムを加えて乾燥した。無水硫酸マグネシウムを濾別後、濾液を濃縮して溶媒を留去した。溶媒留去後の残分を、１５５℃で２時間保温後、さらに１６０℃で５時間保温した。その後、２３０℃で低沸点成分を留去した。低沸点成分留去後の反応混合物に、２−プロパノール／トルエンの混合溶液を加えて結晶を析出させ、５.３ｇの化合物４を得た。
【００９７】
＜化合物４の質量分析（ＦＤ−ＭＳ）＞
ｍ／ｚ＝６２２
＜化合物４の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）＞
δ３.５５（ｓ，１２Ｈ）、３．７７（ｓ，１２Ｈ）、５．５４（ｓ，２Ｈ）、６．２９（ｄ，４Ｈ）、６．４１−６．４３（ｍ，４Ｈ）、７．３２（ｄ，４Ｈ）
【００９８】
実施例５
［１，１，３，３−テトラキス（４−メトキシフェニル）ジシロキサン（以下、化合物５という）の製造］
四つ口フラスコ（ｖｉｉｉ）に、窒素気流下、マグネシウム３．６ｇ、テトラヒドロフラン２０ｍｌ及び少量の臭素を仕込み、攪拌下に４−ブロモアニソール２５ｇとテトラヒドロフラン８０ｍｌの混合液を滴下した。滴下終了後、７０℃で３時間保温した。
四つ口フラスコ（ｉｘ）にトリエトキシシラン１１．０ｇとテトラヒドロフラン４０ｍｌの混合物を仕込み、上記の７０℃で３時間保温して得た反応混合物を氷冷下に滴下した。滴下終了後、室温で１８時間撹拌した。得られた反応液を飽和食塩水で３回洗浄後、有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムを濾別後、濾液を濃縮して、溶媒を留去した。得られた残分に、エタノール／トルエンの混合溶液を加えて、結晶を析出させた。次いで、析出した結晶をトルエン／ｎ−ヘキサンの混合溶媒から再結晶して、７．８ｇの化合物５を得た。
【００９９】
＜化合物５の質量分析（ＦＤ−ＭＳ）＞
ｍ／ｚ＝５０２
＜化合物５の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）＞
δ３．７８（ｓ，１２Ｈ）、５．５４（ｓ，２Ｈ）、６．８７（ｄ，８Ｈ）、７．４６（ｄ，８Ｈ）
【０１００】
実施例６
［１，１，３，３−テトラキス（２，５−ジメトキシフェニル）ジシロキサン（以下、化合物６という）の製造］
四つ口フラスコ（ｘ）に、窒素気流下、マグネシウム１．５ｇ、テトラヒドロフラン５０ｍｌ及び少量の臭素を仕込んだ。次いで、攪拌下に１−ブロモ−２，５−ジメトキシベンゼン１２ｇとテトラヒドロフラン５０ｍｌの混合液を滴下した。滴下終了後、７０℃で２時間保温した。
四つ口フラスコ（ｘｉ）にトリクロロシラン３．４ｇとテトラヒドロフラン５０ｍｌを仕込み、上記の７０℃で２時間保温した反応液を−３０℃で滴下した。滴下終了後、室温で１時間撹拌した。得られた反応混合液を飽和食塩水で３回洗浄後、得られた有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。無水硫酸マグネシウムを濾別後、濾液を濃縮して溶媒を留去した。濃縮残分をテトラヒドロフラン／ヘキサンの混合溶媒から再結晶して、２．２ｇの化合物６を得た。
【０１０１】
＜化合物６の質量分析（ＦＤ−ＭＳ）＞
ｍ／ｚ＝６２２
＜化合物６の１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）＞
δ３．５４（ｓ，１２Ｈ）、３．６４（ｓ，１２Ｈ）、５．６１（ｓ，２Ｈ）、６．６７−６．６８（ｍ，４Ｈ）、６．８３−６．８５（ｍ，４Ｈ）、７．０３（ｍ，４Ｈ）
【０１０２】
実施例７及び比較例１
ポリカーボネート〔住友ダウ社製  カリバー〕の１００重量部に、化合物１の０．０２５重量部を加え、３０ｍｍφの一軸押出機を用いて３４０℃で溶融混練してポリカーボネート樹脂組成物のペレットを得た。
このペレットを、射出成型機を用いて３６０℃で１０分滞留させた後に成型して、シートを得た（実施例７）。
また、化合物１を添加しない以外は、実施例７と同様の操作を行ってシートを得た（比較例１）。
実施例７と比較例１で得られた２枚のシートの色差（ΔＹＩ）を色差計によって測定した。比較例２で得られたΔＹＩ値を１としたときの相対値の測定結果を表１に示す。なお、ΔＹＩ値は、値が小さいほど着色せず、滞留時の熱劣化が少ないことを示す。
【０１０３】
実施例８〜１２
実施例７で用いたポリカーボネートの１００重量部に、化合物１に代えて、化合物２、３、４、５、６をそれぞれ化合物１と同量添加する以外は、実施例７と同様にしてシートを得た。実施例８〜１２で得たシートの色差の測定結果（比較例１で得たシートを対照として測定）を、実施例７のシートの測定結果と併せて表１に示す。
【０１０４】
比較例２
実施例７で用いたポリカーボネートの１００重量部に、化合物１に代えて、トリフェニルシランの０．０２５重量部を加える以外は、実施例７と同様にしてシートを得た。また、このシートの色差を実施例７の場合と同様にして測定した。測定結果を表１に示す。
【０１０５】
【表１】
2005263640.tif 000015
【０１０６】
実施例１３〜１８
ポリカーボネート〔住友ダウ社製  カリバー〕の１００重量部に、化合物１の０．０２５重量部と２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール０．１重量部を加え、３０ｍｍφの一軸押出機を用いて３４０℃で溶融混練してポリカーボネート樹脂組成物のペレットを得た。このペレットを、射出成型機を用いて３４０℃で成型して、シートを得た（実施例１３）。また、化合物１を添加しない以外は、実施例１３と同様の操作を行ってシートを得た（ブランク試験）。
実施例１３とブランクで得られた２枚のシートの色差（ΔＹＩ）を色差計によって測定した。
【０１０７】
実施例１３の化合物１に代えて、化合物２、３、４、５及び６をそれぞれ化合物１と同量添加する以外は、実施例１３と同様にしてシートを得た。実施例１４〜１８で得たシートの色差の測定結果を、実施例１３のシートの測定結果と併せて表２に示す。なお、本実施例では、実施例１８で得たシートのΔＹＩ値を−１としたときの相対値で示した。
ΔＹＩ値は、値が小さいほど着色せず、滞留時の熱劣化が少ないことを示す。
【０１０８】
【表２】
2005263640.tif 000016
【０１０９】
実施例１９及び比較例３
ポリカーボネート〔住友ダウ社製  カリバー〕の１００重量部に、化合物１の０．０２５重量部とステアリン酸モノグリセリド０．１重量部を加え、３０ｍｍφの一軸押出機を用いて３４０℃で溶融混練してポリカーボネート樹脂組成物のペレットを得た。
このペレットを、射出成型機を用いて３６０℃で１０分滞留させた後に成型して、シートを得た（実施例１９）。また、化合物１を添加しない以外は、実施例１９と同様の操作を行ってシートを得た（比較例３）。
実施例１９と比較例３で得られたシートの色相（ＹＩ）を色差計によって測定し、結果を下表３に示した。なお、本実施例では、ＹＩ値は、比較例３で得たシートのＹＩ値を１としたときの相対値で示した。
ＹＩ値は、値が小さいほど着色せず、滞留時の熱劣化が少ないことを示す。
【０１１０】
【表３】
2005263640.tif 000017
【０１１１】
実施例２０及び比較例４
ポリカーボネート〔住友ダウ社製  カリバー〕の１００重量部に、化合物１の０．０２５重量部とｎ−オクタデシル  ３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネ−ト０．０２５重量部を加え、３０ｍｍφの一軸押出機を用いて３４０℃で溶融混練してポリカーボネート樹脂組成物のペレットを得た。
このペレットを、射出成型機を用いて３６０℃で成型し、シートを得た（実施例２０）。また、化合物１を添加しない以外は、実施例２０と同様の操作を行ってシートを得た（比較例４）。
実施例２０と比較例４で得られたシートの色相（ＹＩ）を色差計によって測定し、結果を下表４に示した。なお、本実施例では、ＹＩ値は、比較例４で得たシートのＹＩ値を１としたときの相対値で示した。
ＹＩ値は、値が小さいほど着色せず、滞留時の熱劣化が少ないことを示す。
【０１１２】
【表４】
2005263640.tif 000018
【０１１３】
実施例２１〜２３及び比較例５
ポリプロピレン〔住友化学社製  ノーブレン〕の１００重量部に、化合物１及び下記の酸化防止剤の所定量を加えて（下表５を参照）、３０ｍｍφの一軸押出機を用いて２７０℃で溶融混練してポリプロピレン樹脂組成物のペレットを得た。このペレットを、射出成型機を用いて２７０℃で成型して、シートを得た。シートの色相（ＹＩ）の測定結果を表５に示す。ＹＩは、比較例５の値を１とした相対値で示した。ＹＩ値は、値が小さいほど着色せず、成型時の熱劣化が少ないことを示す。
【０１１４】
酸化防止剤ＡＯ−１：  ネオペンタンテトライルテトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシジヒドロシンナメート）
酸化防止剤Ｐ−１：  トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト
【０１１５】
【表５】
2005263640.tif 000019
【０１１６】
実施例２４〜２６及び比較例６
ポリプロピレン〔住友化学社製  ノーブレン〕の１００重量部に対し、ステアリン酸カルシウムを０．０５重量部、下記の有機過酸化物ＰＯ−１を含浸させたポリプロピレンホモポリマー（ＰＯ−１濃度８％）を０．３１重量部（ＰＯ−１として０．０２５重量部）、化合物１及びＰＯ−１以外の下記添加物をドライブレンドした。この混合物を３０ｍｍφ単軸押し出し機で２５０℃の設定温度にて加熱溶融混練して、ペレットを調製した。
調製したペレットを、さらに３０ｍｍφ単軸押し出し機で２７０℃の設定温度にて加熱溶融混練して、ペレットを調製する作業を４回繰り返した。２５０℃で加工後調製したペレットのＭＦＲ（Ｍ０）と、２７０℃で４回繰り返し溶融混練後のペレットのＭＦＲ（Ｍ４）の差をΔＭＦＲとした。ΔＭＦＲは、比較例６の値を１としたときの相対値で、下表６に示した。ΔＭＦＲは、その値が小さいほど熱劣化が少ないことを示す。
【０１１７】
ＰＯ−１：  ２，５−ジメチル−２，５−ジ−（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン
ＡＯ−２：  トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート
ＨＡ−１：  ジメチル  サクシネートと１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンとの重縮合物
【０１１８】
【表６】
2005263640.tif 000020
【０１１９】
実施例２７及び比較例７
環状ポリオレフィン樹脂〔Ｔｉｃｏｎａ社製  Ｔｏｐａｓ〕の１００重量部に対し、化合物１を０．３重量部ドライブレンドした。この混合物をＴダイフィルム加工機で３００℃の設定温度にてフィルムを調製した（実施例２７）。また、化合物１を添加せずに加工したフィルムを別途調製した（比較例７）。得られたフィルムに認められるフィッシュアイゲルの発生状況を目視で確認したところ、比較例７に比べて、実施例２７のフィルムでは、ゲルの発生が抑制されていた。
【産業上の利用可能性】
【０１２０】
本発明（イ）の有機ケイ素化合物は、熱可塑性樹脂、天然ゴム、合成ゴム、鉱油、潤滑油、接着剤等の有機材料の着色防止剤、熱劣化防止剤やゲル発生抑制剤として有用である。
また、本発明（ロ）の製造方法によれば、上記（イ）の有機ケイ素化合物が容易に得られる。
さらに、本発明（ハ）の有機材料組成物は、電子機器のハウジング、光学レンズや窓ガラス等の建材等に用いられる。