(57)【要約】【課題】            パターンの焼成時における有機成分の熱分解性に優れ、形成されたガラス焼結体に有機成分が残留しにくいガラスペースト組成物、転写フィルムおよびこれを用いたガラス焼結体の形成方法を提供すること。【解決手段】        （Ａ）ガラス粉体、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）特定のメタクリレート化合物、および（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とするガラスペースト組成物と、それから得られる転写フィルム、並びに、基板上に上記ガラスペースト組成物を用いて層を形成し、所望のパターンに放射線を照射して前記層を露光させ、露光部分を架橋させてアルカリ性現像液に対して不溶化させた後、アルカリ性現像液を使用して未露光部分を溶解、除去してパターンを形成し、前記パターンを焼成処理することを特徴とするガラス焼結体の形成方法を提供する。【選択図】          なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）ガラス粉体、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）下記式（１）で表される化合物と下記式（２）で表される化合物とからなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物、および（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴とするガラスペースト組成物。
【化１】
2005255716.tif 000004
・・・  式（１）
［式（１）中、Ｒ１は水素原子、水酸基、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基である。］
【化２】
2005255716.tif 000005
・・・式（２）
［式（２）中、Ｒ２は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ、（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）ｂ、ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏまたは炭素数２〜１８のアルキレン基である。ａおよびｂは各々独立に１〜１２の数である。］
【請求項２】
アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）がメタクリレート共重合体である請求項１記載のガラスペースト組成物。
【請求項３】
支持フィルムと、この支持フィルム上に請求項１に記載のガラスペースト組成物を用いて形成された層とからなることを特徴とする転写フィルム。
【請求項４】
（ｉ）基板上に請求項１に記載のガラスペースト組成物を用いて層を形成し、
（ｉｉ）所望のパターンに放射線を照射して前記層を露光させ、露光部分を架橋させてアルカリ性現像液に対して不溶化させた後、
（ｉｉｉ）アルカリ性現像液を使用して未露光部分を溶解、除去してパターンを形成し、
（ｉｖ）前記パターンを焼成処理する
ことを特徴とするガラス焼結体の形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なガラスペースト組成物、およびこれを用いたガラス焼結体の形成方法に関する。本発明のガラスペースト組成物は焼成時の有機成分の熱分解性に優れ、形成されたガラス焼結体に有機成分が残留しにくい。そのため、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、無機エレクトロルミネッセンス（無機ＥＬ）用の部材、特に隔壁形成用材料として有用である。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報社会の発展により、通信、視野情報の受け渡し機能の役割を担うディスプレイの用途が拡大し、その重要性が高まっている。このような中、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）等の平面型ディスプレイが開発されている。この中でフィールドエミッションディスプレイは、自発光型、広視野角、高応答速度、高精細、低消費電力という優れた性能を有し注目されている。
フィールドエミッションディスプレイは電界印可によって陰極から真空中に電子を放出させ、その電子を陽極上の蛍光体に照射することにより発光、表示を行うディスプレイである。
【０００３】
このようなディスプレイに用いられる隔壁の形成方法としては（１）ペースト状の隔壁形成用組成物を用いてスクリーン印刷により隔壁パターンを形成させるスクリーン印刷法、（２）感光性の隔壁形成用組成物層を形成し、フォトマスクを介して紫外線を照射した上で現像することにより隔壁パターンを形成させるフォトリソグラフィー法、等が知られている。これらの方法では隔壁パターンを形成した後、高温下で焼成を行い樹脂等の有機成分を除去し、隔壁を形成する。
しかしながら、前記スクリーン印刷法では、隔壁パターンの位置精度が劣る、高精細な隔壁パターンが形成できない、という問題がある。そのため、大型基板の隔壁、高精細の隔壁を筆頭に、前記フォトリソグラフィー法が用いられ隔壁パターンの形成が行われている。
【０００４】
また、前記焼成過程において、有機成分の除去が不十分であると、ディスプレイのパネル性能が劣ることとなる。特にフィールドエミッションディスプレイでは陰極から電子を放出するためにパネル内を真空にする必要があり、隔壁中に残留有機成分が多いと十分な真空度を得るのに時間を要する、或いは、時間とともに真空度が低下し、それに伴いパネルの輝度が低下するという問題が発生する。とりわけ、フォトリソグラフィー法で用いられる感光性隔壁形成材料には、光重合開始剤によって架橋する不飽和化合物が含有されているため、焼成時の有機成分の除去性能の向上が求められている。
この問題を解決するためには、有機成分を十分に除去するために、高温で長時間焼成処理を行うことが必要になる。しかしながら、高温および長時間の焼成処理は、ディスプレイ基板の変形や劣化という大きな問題につながるため、好ましくない。一方、生産性向上の点からも、焼成時間の短縮化を目的として、焼成時の有機成分の除去性能の向上が望まれている。
【特許文献１】特開平８−５９５４４号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、パターンの焼成時における有機成分の熱分解性に優れ、形成されたガラス焼結体に有機成分が残留しにくいガラスペースト組成物、およびこれを用いたガラス焼結体の形成方法を提供することを目的としている。
また本発明は、前記ガラスペースト組成物から得られる塗膜を有し、ハンドリング性、転写後の膜厚均一性に優れた転写フィルムを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係るガラスペースト組成物は、（Ａ）ガラス粉体、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）下記式（１）で表される化合物（以下、「化合物（Ｃ１）」ともいう）と下記式（２）で表される化合物（以下、「化合物（Ｃ２）」ともいう）とからなる群から選ばれる少なくとも一種の化合物（以下、これらをまとめて「化合物（Ｃ）」ともいう）、ならびに（Ｄ）光重合開始剤を含有することを特徴としている。
【０００７】
【化１】
2005255716.tif 000002
・・・  式（１）
【０００８】
［式（１）中、Ｒ１は水素原子、水酸基、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数１〜４のヒドロキシアルキル基である。］
【０００９】
【化２】
2005255716.tif 000003
・・・  式（２）
【００１０】
［式（２）中、Ｒ２は（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ、（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）ｂ、ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ、ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏまたは炭素数２〜１８のアルキレン基である。ａおよびｂは各々独立に１〜１２の数である。］
【００１１】
上記ガラスペースト組成物は、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）がメタクリレート共重合体であることが好ましい。
本発明に係る転写フィルムは、支持フィルムと、この支持フィルム上に上記ガラスペースト組成物を用いて形成された層とからなることを特徴としている。
本発明に係るガラス焼結体の形成方法は、
（ｉ）基板上に前記ガラスペースト組成物を用いて層を形成し、
（ｉｉ）所望のパターンに放射線を照射して前記層を露光させ、露光部分を架橋させてアルカリ性現像液に対して不溶化した後、
（ｉｉｉ）アルカリ性現像液を使用して未露光部分を溶解、除去してパターンを形成し、
（ｉｖ）前記パターンを焼成処理する
ことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明に係るガラスペースト組成物は、パターンの焼成時における有機成分の熱分解性に優れ、形成されたガラス焼結体には有機成分が残留しにくい。
本発明に係る転写フィルムは、前記ガラスペースト組成物から得られる層が支持フィルム上に形成されたものであり、ハンドリング性に優れている。この転写フィルムを用いることにより、膜厚均一性に優れたガラス焼結体形成用塗膜を得ることができる。
本発明に係るガラス焼結体の形成方法は、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、無機エレクトロルミネッセンス（無機ＥＬ）用の部材、特に隔壁の形成に好適に用いられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明を具体的に説明する。
＜ガラスペースト組成物＞
本発明に係るガラスペースト組成物は、（Ａ）ガラス粉体、（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｃ）上記式（１）、式（2）で表される化合物、ならびに（Ｄ）光重合開始剤を含有する。
（Ａ）ガラス粉体
本発明のガラスペースト組成物を構成するガラス粉体としては、例えば、１．酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化珪素の混合物（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、２．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化珪素の混合物（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、３．酸化鉛、酸化ホウ素、酸化珪素、酸化アルミニウムの混合物（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、４．酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化珪素の混合物（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）等を挙げることができる。これらは一種または二種以上を混合して用いてもよい。
【００１４】
ガラス粉体の軟化点としては、ガラス焼結体形成における焼成温度の観点から、４００〜６００℃の範囲内であることが好ましい。また、ガラス粉体の平均粒子径は０．５〜２．５μｍであることが好ましい。
これらのガラス粉体には、例えば、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化マンガン、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化ケイ素、酸化セリウム、酸化コバルトなどの無機酸化物を混合して使用してもよい。混合する無機酸化物の含有量は、好ましくは無機粉体全量（ガラス粉体＋無機酸化物）の３０重量％以下である。
【００１５】
（Ｂ）アルカリ可溶性樹脂：
本明細書における「アルカリ可溶性」とは、アルカリ性の現像液によって溶解し、アルカリ性の現像液を使用した現像処理が遂行される程度に溶解性を有する性質をいう。
このようなアルカリ可溶性樹脂としては、たとえば（メタ）アクリル系樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂などを挙げることができる。  このようなアルカリ可溶性樹脂のうち、好ましいものとしては、下記のモノマー（ａ）とモノマー（ｃ）との共重合体、モノマー（ａ）とモノマー（ｂ）とモノマー（ｃ）との共重合体などの（メタ）アクリル系樹脂を挙げることができる。さらに好ましくは、焼成時の熱分解性に優れる点から、メタクリレートモノマーを共重合したメタクリレート共重合体であることが好ましい。
【００１６】
モノマー（ａ）：カルボキシル基含有モノマー類
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、ヘキサヒドロフタル酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、フタル酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなど。
モノマー（ｂ）：水酸基含有モノマー類
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピルなどの水酸基含有モノマー類；ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類など。
モノマー（ｃ）：その他の共重合可能なモノマー類
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−ラウリル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルなどのモノマー（ａ）以外の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル系モノマー類；ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類；ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の末端に（メタ）アクリロイル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマー類など。
【００１７】
上記モノマー（ａ）とモノマー（ｃ）との共重合体や、モノマー（ａ）とモノマー（ｂ）とモノマー（ｃ）との共重合体は、モノマー（ａ）に由来する構成単位の存在により、アルカリ可溶性を有するものとなる。中でもモノマー（ａ）とモノマー（ｂ）とモノマー（ｃ）との共重合体は、ガラス粉体の分散安定性に優れる点や、後述するアルカリ現像液への溶解性に優れる点から、特に好ましい。
上記モノマー（ａ）とモノマー（ｃ）との共重合体、および、モノマー（ａ）とモノマー（ｂ）とモノマー（ｃ）との共重合体におけるモノマー（ａ）に由来する構成単位の含有率は、好ましくは５〜６０質量％、特に好ましくは１０〜４０質量％であり、モノマー（ｂ）に由来する構成単位は、好ましくは１〜５０質量％、特に好ましくは５〜３０質量％である。構成単位が上記範囲にあると、ガラス粉体の分散安定性に優れる点や、後述するアルカリ現像液への溶解性に優れる点から、特に好ましい。
【００１８】
また、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）として、上記アルカリ可溶性樹脂にグリシジルメタクリレート、または（メタ）アクリロイロキシエチルイソシアネートを付加重合し、アルカリ可溶性樹脂に不飽和基を導入した樹脂を用いることもできる。
【００１９】
アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５，０００〜５，０００，０００であることが好ましく、さらに好ましくは１０，０００〜３００，０００とされる。
Ｍｗが上記範囲にあると、アルカリ現像液への溶解性に優れ、転写フィルムを形成したときにフィルム強度が十分保たれる点から、好ましい。
また、本発明に用いられるアルカリ可溶性樹脂（Ｂ）の含有量は、ガラス粉体（Ａ）１００質量部に対して、通常１〜２００質量部であり、好ましくは５〜１００質量部、特に好ましくは１０〜８０質量部である。
【００２０】
（Ｃ）メタクリロイル基含有化合物
本発明に用いられる化合物（Ｃ）は、上記式（１）で表される化合物と上記式（２）で表される化合物とからなる群からとから選ばれる少なくとも一種の化合物であり、本発明の組成物から得られた塗膜の露光部分を架橋させる効果を有する。
【００２１】
式（１）で表される化合物（Ｃ１）としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、グリセリントリメタクリレートなどのトリメタクリレートが挙げられる。これらは単独で、または２種以上を組み合わせて使用することができる。これらの中で、特に好ましいものはトリメチロールプロパントリメタクリレートである。
【００２２】
式（２）で表される化合物（Ｃ２）としては、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、１，９−ノナンジオールジメタクリレート、１，１０−デカンジオールジメタクリレート、グリセロールジメタクリレートなどのジメタクリレートが挙げられる。これらは単独で、または２種以上を組み合わせて使用することができる。これらの中で、特に好ましいものは、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、グリセロールジメタクリレートである。
【００２３】
また、化合物（Ｃ）として、化合物（Ｃ１）と化合物（Ｃ２）のいずれか一方を用いてもよいが、併用することが好ましい。併用の場合、好ましくは質量比で（Ｃ１）：（Ｃ２）＝０．２〜０．８：０．８〜０．２、特に好ましくは０．４〜０．７：０．６〜０．３の割合である。ただし、（Ｃ１）と（Ｃ２）との合計を１とする。質量比が上記範囲であると形成されるガラス焼結体のパターン精度に優れる点から、好ましい。
【００２４】
化合物（Ｃ）の含有量は、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）１００質量部に対して、１００質量部以下であり、さらに２０〜８０質量部であることが好ましい。２０質量部未満では、露光部の硬化不良により、パターンの形成が困難となることがある。また、１００質量部を超えると焼成時のパターンの変形が大きくなることがある。
【００２５】
（Ｄ）光重合開始剤
光重合開始剤（Ｄ）としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、カンファーキノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなどのカルボニル化合物；アゾイソブチロニトリル、４−アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物あるいはアジド化合物；メルカプタンジスルフィドなどの有機硫黄化合物；ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパーオキシドなどの有機パーオキシド；１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどのトリハロメタン類；２，２’−ビス（２−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾール二量体などを挙げることができる。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００２６】
光重合開始剤（Ｄ）の含有量は、化合物（Ｃ）１００質量部に対して、通常、１〜１００質量部であり、好ましくは、５〜５０質量部である。
含有量が上記範囲であると形成されるパターンの精度に優れる点から、好ましい。
【００２７】
（Ｅ）溶剤
本発明に係るガラスペースト組成物には、通常、適当な流動性または可塑性、良好な膜形成性を付与するために、溶剤が含有される。このような溶剤としては、ガラス粉体との親和性、アルカリ可溶性樹脂の溶解性が良好で、ガラスペースト組成物に適度な粘性を付与することができると共に、乾燥することにより容易に蒸発除去できるものであることが好ましい。
特に好ましい溶剤として、標準沸点（１気圧における沸点）が１００〜２００℃であるケトン類、アルコール類およびエステル類を挙げることができる。
【００２８】
上記ケトン類としては、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなどが挙げられる。
上記アルコール類としては、ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル系アルコール類などが挙げられる。
上記エステル類としては、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；乳酸エチル、乳酸−ｎ−ブチルなどの乳酸エステル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどのエーテル系エステル類などが挙げられる。
これらの溶剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
これらのうち、メチルブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどが好ましい。
上記例示した溶剤以外の溶剤としては、テレビン油、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、テルピネオール、ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコールなどを挙げることができる。
本発明に係るガラスペースト組成物における溶剤（Ｅ）の含有量は、良好な膜形成性（流動性または可塑性）が得られる範囲内において適宜選択することができる。
たとえば、ガラスペースト組成物全量に対して、通常１〜９０質量％、好ましくは５〜７０質量％である。
【００２９】
（Ｆ）添加剤
また、本発明に係るガラスペースト組成物には、任意成分として、可塑剤、分散剤、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、レベリング剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、増感剤、連鎖移動剤などの各種添加剤が含有されてもよい。
【００３０】
（組成物の調製方法）
本発明に係るガラスペースト組成物は、上記ガラス粉体（Ａ）、アルカリ可溶性樹脂（Ｂ）、化合物（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、および必要に応じて溶剤（Ｅ）と添加剤（Ｆ）とを、ロール混練機、ミキサー、ホモミキサー、ボールミル、ビーズミルなどの混練機を用いて混練することにより調製することができる。
上記のようにして調製されるガラスペースト組成物は、塗布に適した流動性を有するペースト状の組成物であり、その粘度は、通常１００〜１，０００，０００ｃｐ、好ましくは５００〜３００，０００ｃｐである。
【００３１】
＜転写フィルム＞
本発明に係る転写フィルムは、支持フィルムと、この支持フィルム上に上記ガラスペースト組成物から得られる層とから構成される。このような転写フィルムは、たとえば支持フィルム上に上記ガラスペースト組成物を塗布し、この塗膜を乾燥することにより得られる。転写フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有すると共に可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコータによってペースト状組成物を塗布することができ、ガラスペースト組成物をロール状に巻回した状態で保存し、供給することができる。支持フィルムを形成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィルムの厚さは、例えば２０〜１００μｍである。
ガラスペースト組成物が塗布される支持フィルムの表面には、離型処理が施されていることが好ましい。これにより、後述する転写工程において、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。
【００３２】
ガラスペースト組成物を支持フィルム上に塗布する方法としては、膜厚の均一性に優れた塗膜を効率よく形成することができるものであることが必要とされる。具体的には、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコータによる塗布方法、ダイコータによる塗布方法、ワイヤーコータによる塗布方法などを好ましいものとして挙げることができる。
【００３３】
上記のようにして塗布された塗膜の乾燥条件は、例えば、５０〜１５０℃で０．５〜３０分間程度であり、乾燥後における溶剤の残存割合（乾燥後の塗膜中の含有率）は、通常２質量％以内である。
上記のようにして支持フィルム上に形成されたガラス焼結体形成用塗膜の厚さは、ガラス粉体の含有率やサイズなどによっても異なるが、例えば５〜５０μｍである。
なお、ガラス焼結体形成用塗膜の表面に設けられることのある保護フィルム層としては、ポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどを挙げることができる。
【００３４】
＜ガラス焼結体の形成方法＞
本発明に係るガラス焼結体の形成方法は、
（ｉ）基板上に前記ガラスペースト組成物を用いて層を形成し、
（ｉｉ）所望のパターンに放射線を照射して前記層を露光させ、露光部分を架橋させてアルカリ性現像液に対して不溶化させた後、
（ｉｉｉ）アルカリ性現像液を使用して未露光部分を溶解、除去してパターンを形成し、
（ｉｖ）前記パターンを焼成処理する
ことを特徴とする。
【００３５】
基板上にガラスペースト組成物を用いて層（ガラス焼結体形成用塗膜）を形成する方法としては、基板上にガラスペースト組成物を塗布する方法や、本発明に係る転写フィルムを用い、基板上にガラス焼結体形成用塗膜を転写する方法が挙げられる。これらの内、転写フィルムを用いる方法が好ましく、膜厚均一性に優れたガラス焼結体形成用塗膜を容易に形成することができ、形成されるパターンの膜厚均一化を図ることができる。
【００３６】
用いられる放射線としては、特に限定されるものではないが、低圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、ｇ線・ｉ線ステッパー等の紫外線が挙げられる。また、電子線、レーザー光線等も挙げられる。
放射線の照射は、放射線が紫外線の場合は、通常、所望のパターンを有するフォトマスクを介して照射することが好ましい。この場合、照射量は通常５０〜２０００ｍＪ／ｃｍ２である。
電子線あるいはレーザー光線等の場合は、直接所望のパターンに照射するのが好ましい。
【００３７】
また、上記アルカリ性現像液の有効成分としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどの無機アルカリ性化合物；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどの有機アルカリ性化合物などを挙げることができる。
アルカリ現像液は、前記アルカリ性化合物の１種または２種以上を水などに溶解させることにより調製することができる。アルカリ性現像液におけるアルカリ性化合物の濃度は、通常０．００１〜１０質量％とされ、好ましくは０．０１〜５質量％とされる。
なお、アルカリ性現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。
【実施例】
【００３８】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、以下において「部」は「質量部」を示す。
＜重量平均分子量の測定方法＞
重量平均分子量は、東ソー株式会社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（装置機種名：ＨＬＣ−８０２Ａ  ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量である。
【００３９】
＜アルカリ可溶性樹脂の合成＞
［合成例１］
表１
プロピレングリコールモノメチルエーテル                １８０部
コハク酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）            ３５部
メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル                      １５部
メタクリル酸ｎ−ブチル                                  ５０部
アゾビスイソブチロニトリル                                ２部
【００４０】
表１に示した化合物を混合し、この混合物を攪拌器付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下で室温で均一になるまで攪拌した後、８０℃で３時間重合し、さらに１００℃で１時間反応を続けた後、室温まで冷却し、共重合体（Ｐ１）の溶液を得た。
得られた共重合体（Ｐ１）は、重合転化率が９７％であり、ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が７０，０００であった。
【００４１】
［合成例２］
コハク酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）の代わりに、ヘキサヒドロフタル酸モノ（２−メタクリロイロキシエチル）３５部を用いた以外は合成例１と同様にして、共重合体（Ｐ２）を得た。得られた共重合体（Ｐ２）は、重合転化率が９７％であり、ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）が６６，０００であった。
【００４２】
［実施例１］
表２
ガラス粉末（Bi2O3-B2O3-SiO2-Al2O3系、軟化点560℃、平均粒径2.0μｍ）     １００部
共重合体（Ｐ１）（固形分換算）                                            ４０部
トリメチロールプロパントリメタクリレート                                  １０部
プロピレングリコールジメタクリレート                                      １０部
2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-（4-モルフォリノフェニル）-ブタン-1-オン    ８部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                                １２０部
【００４３】
表２に示した化合物を混合し、この混合物を分散機で混練することによりガラスペースト組成物（Ｓ１）を製造した。
得られたガラスペースト組成物（Ｓ１）をＰＥＴフィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）上にダイコータを用いて塗布し、塗膜を１００℃で５分間乾燥して溶剤を除去し、厚さが１０μｍのガラス焼結体形成用塗膜を有する転写フィルム（Ｆ１）を作製した。
得られた転写フィルム（Ｆ１）のガラス焼結体形成用塗膜がガラス基板の表面に当接するように重ね合わせ、加熱ローラにて熱圧着し転写を行い、ガラス基板上にガラス焼結体形成用塗膜を形成した。ここで圧着条件は、加熱ローラの表面温度を９０℃、ロール圧を２ｋｇ／ｃｍ２、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。
【００４４】
続いて、ガラス基板上に形成されたガラス焼結体形成用塗膜に対して、フォトマスク（Ｌ/Ｓ＝２００/２００μｍのストライプパターン）を介して、支持フィルム側から８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線（ｉ線：波長３６５ｎｍ）を露光させた後、支持フィルムを剥離した。
その後、０．６質量％の炭酸ナトリウム水溶液（３０℃）を現像液とするシャワー法による現像処理を行い、次いで、１分間超純水のシャワーを浴びせることにより、紫外線未露光部を除去した。さらに乾燥処理を行ない、パターンを基板上に形成した。
その後、このパターンが形成されたガラス基板を焼成炉内で５９０℃の温度雰囲気下で１５分間焼成を行い、有機成分を除去し、ガラス焼結体からなる隔壁を形成することが出来た。
一方、８００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線で硬化させたガラスペースト組成物（Ｓ１）を熱天秤に載せ、２０℃／分の速度で昇温を行い、重量減少を測定したところ、３８０℃までに重量減少は完了し、有機成分の熱分解性が良好であった。
【００４５】
［実施例２］
合成例１で得た共重合体（Ｐ１）の代わりに合成例２で得た共重合体（Ｐ２）４０部を用いた以外は、実施例１と同様にしてガラスペースト組成物（Ｓ２）を製造し、その後、隔壁の形成を行った。その結果、実施例１と同様に隔壁を形成することが出来た。
また、実施例１と同様にして重量減少を測定したところ、実施例１と同様に３８０℃までに重量減少は完了し、有機成分の熱分解性が良好であった。
【００４６】
［実施例３］
プロピレングリコールジメタクリレートの代わりにグリセロールジメタクリレート１２．５部を用いた以外は、実施例１と同様にして電極形成用組成物（Ｓ３）を製造し、その後、電極の形成を行った。その結果、実施例１と同様に電極を形成することが出来た。
また、実施例１と同様にして重量減少を測定したところ、実施例１と同様に３８０℃までに重量減少は完了し、有機成分の熱分解性が良好であった。
【００４７】
［比較例］
トリメチロールプロパントリメタクリレートの代わりにトリメチロールプロパントリアクリレート１０部を、プロピレングリコールジメタクリレートの代わりにプロピレングリコールジアタクリレート１０部を用いた以外は、実施例１と同様にしてガラスペースト組成物（ＣＳ１）を製造し、その後、隔壁の形成を行った。その結果、実施例１と同様に目的とする隔壁を形成することが出来た。
しかし、実施例１と同様にして重量減少を測定したところ、重量減少が完了したのは４６０℃と高く、有機成分の熱分解性が劣った。
【産業上の利用可能性】
【００４８】
本発明は、新規なガラスペースト組成物に関する。本発明のガラスペースト組成物は焼成時の有機成分の熱分解性に優れ、形成されたガラス焼結体に有機成分が残留しにくい。そのため、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、無機エレクトロルミネッセンス（無機ＥＬ）用の部材形成材料、特に隔壁形成材料として有用である。