(57)【要約】【課題】クリーニングを人手によらず自動的に短時間で且つ確実に行え、製造効率の向上を図ることができる極めて実用性及び生産性に秀れた有機ＥＬ素子製造装置を提供するものである。【解決手段】仕込み室，前処理室，成膜室，スパッター室，ＣＶＤ室，金属電極蒸着室，缶封止室等の一つ若しくは複数種の処理室と、この処理室に基板を搬送する搬送室とから成る有機ＥＬ素子製造装置において、一つ若しくは複数種の処理室または搬送室にオゾンガスを供給するオゾンガス供給機構を備えたものである。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
仕込み室，前処理室，成膜室，スパッター室，ＣＶＤ室，金属電極蒸着室，缶封止室等の一つ若しくは複数種の処理室と、この処理室に基板を搬送する搬送室とから成る有機ＥＬ素子製造装置において、一つ若しくは複数種の処理室または搬送室にオゾンガスを供給するオゾンガス供給機構を備えたことを特徴とする有機ＥＬ素子製造装置。
【請求項２】
前記一つ若しくは複数種の処理室及び搬送室のうち、仕込み室及び搬送室にオゾンガスを供給するように前記オゾンガス供給機構を構成したことを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ素子製造装置。
【請求項３】
仕込み室，取り出し室，前処理室，成膜室，スパッター室，ＣＶＤ室，金属電極蒸着室，缶封止室等の複数種の処理室と、前記処理室に基板を搬送する複数の搬送室とから成り、この搬送室同志を連結する一つ若しくは複数の受け渡し室を有する有機ＥＬ素子製造装置において、一つ若しくは複数種の処理室または搬送室にオゾンガスを供給するオゾンガス供給機構を備えたことを特徴とする有機ＥＬ素子製造装置。
【請求項４】
前記一つ若しくは複数種の処理室及び搬送室のうち、仕込み室，取り出し室，受け渡し室及び搬送室にオゾンガスを供給するように前記オゾンガス供給機構を構成したことを特徴とする請求項３記載の有機ＥＬ素子製造装置。
【請求項５】
前記オゾンガス供給機構にオゾンガスを供給するオゾンガス生成機構を備えたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子製造装置。
【請求項６】
前記オゾンガス供給機構と前記オゾンガス生成機構とを有するオゾンガス供給装置を備えたことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子製造装置。
【請求項７】
前記一つ若しくは複数種の処理室または搬送室に配管系を通じてオゾンガスを供給するようにオゾンガス供給装置を構成したことを特徴とする請求項６記載の有機ＥＬ素子製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機ＥＬ素子製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
従来、有機ＥＬ素子は、仕込み室，前処理室，有機成膜室，スパッター室，ＣＶＤ室，金属電極蒸着室，缶封止室等の一つ若しくは複数種の処理室と、この処理室に基板を搬送する搬送室とから成る有機ＥＬ素子製造装置により、ガラス基板上に下部金属電極，有機ＥＬ薄膜，上部透明電極を積層することで製造されるが、このガラス基板上や、透明電極上に薄い有機物が存在すると、有機ＥＬ素子の物理的，科学的，電気的特性が低下し、歩留まり低下の原因となることから、通常、前記搬送室及び一若しくは複数種の処理室は定期的にウエットクリーニングと呼ばれる方法でクリーニングされる。
【０００３】
ウエットクリーニングは、メタノール，エタノール等のアルコールやアセトン等の有機溶剤を用いて前記処理室及び搬送室内の有機物汚れを除去し、最後に純水によって洗浄する方法であり、真空装置におけるクリーニング法として広く用いられており、具体的には以下の手順により行う。
【０００４】
１）真空状態から窒素（Ｎ２）等をベントして、搬送室を大気圧に戻す。
【０００５】
２）人手でクリーニングするために、大気圧に戻した搬送室を開放してクリーニングの邪魔になる場所にある部品を取り外す。
【０００６】
３）搬送室内壁及び内部の構造物等をアルコール・アセトン・純水等を使用して人手にて有機物汚れを除去する。取り外した部品もアルコール・アセトン・純水等を使用して有機物汚れを除去する。
【０００７】
４）取り外した部品を元通りに取り付ける。
【０００８】
５）仕込み室等の他の処理室も同様にしてクリーニングする。
【０００９】
６）搬送室，仕込み室及び他の処理室を排気して真空状態にする。
【００１０】
７）真空リーク，パーティクル等、生産に必要な項目をチェックする。
【００１１】
８）ＯＫなら生産を開始する。
【００１２】
このようにアルコール・アセトン・純水等を使用するウェットクリーニング法は人手で行うため、一回の作業に必要な工程が多く、作業に時間がかかる。
【００１３】
ところで、このような製造装置のクリーニングは、クリーニングする間隔を長くすると、製作するデバイスに悪影響を及ぼし、特性の劣化及び歩留まりの低下を招くことになるし、一方、間隔を短くすると、装置の稼働率が低下して総生産量の低下を招くというトレードオフの関係にあり、そのため、製造効率の更なる向上を図るためには、クリーニングそのものにかかる時間を短縮する必要がある。
【００１４】
しかし、上述のように、ウエットクリーニング法は人手により行うため、大幅な作業時間の短縮は望めないのが現状である。
【００１５】
更に、ウエットクリーニングにおいては、アルコール・アセトン・純水等の液体を含ませた布で、内壁及び内部の構造物の表面を拭うようにして、この表面に付着した汚れを除去するが、この際、汚れを十分に除去することができないと、汚れを引き伸ばしてしまうこともある。即ち、クリーニング効果が必ずしも十分でないという欠点もある。
【００１６】
クリーニングが不十分で前記処理室等に汚れが残っていると、この汚れに大気中の水分が吸着され、この水分の存在により排気効率が低下して、到達真空度が低下したり、到達真空度に達するまでの時間が長くなったりするだけでなく、仮にこの汚れが製品の表面に付着した場合には、この製品の特性や歩留まりにも大きく影響することになる。
【００１７】
本発明は、上述のような問題点を解決したもので、クリーニングを人手によらず自動的に短時間で且つ確実に行え、製造効率の向上を図ることができる極めて実用性及び生産性に秀れた有機ＥＬ素子製造装置を提供するものである。
【００１８】
【課題を解決するため手段】
添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。
【００１９】
仕込み室，前処理室，成膜室，スパッター室，ＣＶＤ室，金属電極蒸着室，缶封止室等の一つ若しくは複数種の処理室と、この処理室に基板を搬送する搬送室とから成る有機ＥＬ素子製造装置において、一つ若しくは複数種の処理室または搬送室にオゾンガスを供給するオゾンガス供給機構を備えたことを特徴とする有機ＥＬ素子製造装置に係るものである。
【００２０】
また、前記一つ若しくは複数種の処理室及び搬送室のうち、仕込み室及び搬送室にオゾンガスを供給するように前記オゾンガス供給機構を構成したことを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ素子製造装置に係るものである。
【００２１】
また、仕込み室，取り出し室，前処理室，成膜室，スパッター室，ＣＶＤ室，金属電極蒸着室，缶封止室等の複数種の処理室と、前記処理室に基板を搬送する複数の搬送室とから成り、この搬送室同志を連結する一つ若しくは複数の受け渡し室を有する有機ＥＬ素子製造装置において、一つ若しくは複数種の処理室または搬送室にオゾンガスを供給するオゾンガス供給機構を備えたことを特徴とする有機ＥＬ素子製造装置に係るものである。
【００２２】
また、前記一つ若しくは複数種の処理室及び搬送室のうち、仕込み室，取り出し室，受け渡し室及び搬送室にオゾンガスを供給するように前記オゾンガス供給機構を構成したことを特徴とする請求項３記載の有機ＥＬ素子製造装置に係るものである。
【００２３】
また、前記オゾンガス供給機構にオゾンガスを供給するオゾンガス生成機構を備えたことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子製造装置に係るものである。
【００２４】
また、前記オゾンガス供給機構と前記オゾンガス生成機構とを有するオゾンガス供給装置を備えたことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子製造装置に係るものである。
【００２５】
また、前記一つ若しくは複数種の処理室または搬送室に配管系を通じてオゾンガスを供給するようにオゾンガス供給装置を構成したことを特徴とする請求項６記載の有機ＥＬ素子製造装置に係るものである。
【００２６】
【発明の実施の形態】
好適と考える本発明の実施の形態（発明をどのように実施するか）を、図面に基づいてその作用効果を示して簡単に説明する。
【００２７】
オゾンガスを、一つ若しくは複数種の処理室または搬送室に供給することにより、この処理室または搬送室内壁及び内部の構造物に付着した有機物を除去する。
【００２８】
オゾン（Ｏ３）は、有機物を灰化する効果があるため、有機ＥＬ素子製造装置内に付着する汚れ、具体的には、有機ＥＬ材料を基板上に成膜する際、この有機ＥＬ材料が基板上に付着するのと同様に薄膜状に前記処理室の内壁や内部の構造物の表面に付着した有機材料による汚れや、大気や人が出入りすることにより付着する油脂による汚れをクリーニングする際、特に効果を発揮する。
【００２９】
即ち、処理室や搬送室を、窒素（Ｎ２）等のガスをベントして大気圧に戻した後（若しくは真空状態のまま）、単にオゾンガスをこの処理室や搬送室に供給するだけで、処理室や搬送室の内壁及び内部の構造物に付着した薄膜状の有機物を除去することができる。
【００３０】
従って、人手によるクリーニングと異なり、手間がかからずに短時間でクリーニングを行うことができるのは勿論、汚れを拭き取る際に引き伸ばしたりすることなく確実に処理室や搬送室内の有機物を除去することができ、よって、この処理室や搬送室内の有機ＥＬ素子上に問題となる薄い有機物が付着することが阻止され、有機ＥＬ素子の物理的，科学的，電気的特性も安定し、歩留まりも安定する。
【００３１】
また、前記処理室等の内壁や内部の構造物の表面を、人手により一々拭き取る必要なく、単にこの処理室等にオゾンガスを供給するだけで自動的に且つ短時間で簡単に汚れである有機物を灰化せしめることができ、処理室等を大気にさらすことがないから、処理室等の内壁及び内部の構造物の表面に付着した汚れが水分を吸着することを確実に阻止でき排気が阻害されず、到達真空度に達する時間も短く、また、到達真空度も低下しない。
【００３２】
従って、本発明によれば、特に物理的，科学的，電気的特性が極微小な汚れにより変化してしまう有機ＥＬ素子を製造する際、常に良好な真空度を保ちつつ前記有機ＥＬ素子への汚れの付着を確実に阻止できる有機ＥＬ素子製造装置とすることができるから、効率良く秀れた特性の有機ＥＬ素子を製造することができ、よって、歩留まりが確実に向上し、生産性良く有機ＥＬ素子を製造できることになる。
【００３３】
従って、本発明は、クリーニングを人手によらず自動的に短時間で且つ確実に行え、製造効率の向上を図ることができる極めて実用性及び生産性に秀れた有機ＥＬ素子製造装置となる。
【００３４】
【実施例】
本発明の具体的な実施例について図面に基づいて説明する。
【００３５】
本実施例は、仕込み室，取り出し室，前処理室，成膜室，スパッター室，ＣＶＤ室，金属電極蒸着室，缶封止室等の複数種の処理室と、前記処理室に基板を搬送する複数の搬送室とから成り、この搬送室同志を連結する一つ若しくは複数の受け渡し室を有する有機ＥＬ素子製造装置において、一つ若しくは複数種の処理室または搬送室にオゾンガスを供給するオゾンガス供給機構を備えたものである。
【００３６】
具体的には、図１に図示したように、搬送室１の周囲には、仕込み室，四つの成膜室及び前処理室が設けられ、搬送室２の周囲には、検査室，二つの封止室，キャップ供給室，取り出し室が設けられており、この搬送室１及び搬送室２は受け渡し室により連結されているものである。
【００３７】
有機ＥＬ素子は、ガラス基板等の基板を前記仕込み室を通じて搬送室に搬送し、この搬送したガラス基板を更にこの搬送室により前記各処理室に順次搬送して各処理室において夫々所定の処理を施すことで製造される。
【００３８】
具体的には、表面にＩＴＯ薄膜が形成されたガラス基板を搬送室１の仕込み室に収納し、真空排気を行う。次にゲートバルブを開け、前記ガラス基板を真空排気された前処理室（プラズマクリーニング室）に移動し、酸素ガス等を導入し、高周波により酸素プラズマを生成し、表面処理を行う。次に、真空排気された四つの成膜室に前記ガラス基板を移動し、赤、緑、青各々の発光層を夫々成膜した後、更に、陰極金属電極を成膜し、続いて、このガラス基板を受け渡し室を介して搬送室２に移動し、キャップ供給室から供給される封止キャップにより封止室において封止を行うことで有機ＥＬ素子が製造され、この有機ＥＬ素子は検査室で検査された後、取り出し室から取り出される。
【００３９】
また、本実施例は、前記オゾンガス供給機構にオゾンガスを供給するオゾンガス生成機構を備えた構成である。具体的には、このオゾンガス供給機構とオゾンガス生成機構とを有するオゾンガス供給装置を備えている。
【００４０】
このように、オゾンガスの生成と供給とを一の装置で行うようにすることで、一層コスト安に前記オゾンガスによるクリーニングを行うことが可能となる。
【００４１】
尚、本実施例においては、オゾンガス供給機構とオゾンガス生成機構とを一の装置にまとめて設けているが、このオゾンガス生成機構とオゾンガス供給機構とを別々の装置に設けた構成としても良い。
【００４２】
具体的には、このオゾンガス供給装置のオゾンガス生成機構には、酸素，窒素，圧縮空気，水が夫々ユーティリティーより供給されてオゾンガスが生成され、この生成されたオゾンガスは前記オゾンガス供給機構に供給されて、このオゾンガス供給機構から一つ若しくは複数種の処理室または搬送室にオゾンガスが供給されるように構成している。
【００４３】
このオゾンガス供給装置は、前記一つ若しくは複数種の処理室または搬送室に配管系を介して連設状態に配設した構成とし、この配管系を通じてオゾンガスを前記一つ若しくは複数種の処理室または搬送室に供給するように構成している。
【００４４】
オゾンガスによる有機物汚れの除去が有効なのは、特に有機物汚れが多い、有機材料を成膜する成膜室及び基板の出入りのため頻繁に大気に戻す仕込み室，取り出し室及び搬送室であるが、他の処理室においても導入される大気による有機物汚れを除去するために有効であるのは勿論である。
【００４５】
よって、本実施例においては、オゾンガス供給装置と、前処理室を除く全ての処理室及び搬送室とを配管系で接続し、この配管系を通じて各処理室及び搬送室にオゾンガスを供給するように構成している。
【００４６】
尚、前処理室においては酸素プラズマが生じることから、オゾンガスによるクリーニング効果と同様のクリーニング効果が得られるため、オゾンガスが供給されるように設定していないが、供給されるように設定しても良い。
【００４７】
また、図２は搬送室が一つの場合の本実施例の別例であるが、仕込み室，取り出し室及びキャップ供給室が兼用となる他は上述と同様の構成でオゾンガスによるクリーニングを行うことができる。尚、本実施例や別例に限らず、例えば、搬送室を三つ有する構成等、他の構成でも良い。
【００４８】
例えば、オゾンガスによるクリーニングは以下に示すような手順で行うことができる。
【００４９】
１）搬送室を真空状態のまま、若しくは、真空状態から窒素（Ｎ２）等をベントして搬送室を大気圧に戻す。
【００５０】
２）オゾンガス供給機構によりオゾンガスを搬送室に充填し、一定時間放置する。
【００５１】
３）仕込み室等の他の処理室も同様にクリーニングする。
【００５２】
４）仕込み室等の処理室や搬送室を排気して真空状態にする。
【００５３】
５）（残留オゾンを除去するため）窒素（Ｎ２）等をベント後、再度排気して真空状態にする。
【００５４】
６）真空リーク、パーティクル等の生産に必要な項目をチェックする。
【００５５】
７）ＯＫなら生産を開始する。
【００５６】
即ち、処理室や搬送室を、窒素（Ｎ２）等のガスをベントして大気圧に戻した後（若しくは真空状態のまま）、単にオゾンガスをこの処理室や搬送室に供給するだけで、処理室や搬送室の内壁及び内部の構造物に付着した薄膜状の有機物を除去することができる。
【００５７】
従って、人手によるクリーニングと異なり、手間がかからずに短時間でクリーニングを行うことができるのは勿論、汚れを拭き取る際に引き伸ばしたりすることなく確実に処理室や搬送室内の有機物を除去することができ、よって、この処理室や搬送室内の有機ＥＬ素子上に問題となる薄い有機物が付着することが阻止され、有機ＥＬ素子の物理的，科学的，電気的特性も安定し、歩留まりも安定する。
【００５８】
また、前記処理室等の内壁や内部の構造物の表面を、人手により一々拭き取る必要なく、単にこの処理室等にオゾンガスを供給するだけで自動的に且つ短時間で簡単に汚れである有機物を灰化せしめることができ、処理室等を大気にさらすことがないから、処理室等の内壁及び内部の構造物の表面に付着した汚れが水分を吸着することを確実に阻止でき排気が阻害されず、到達真空度に達する時間も短く、また、到達真空度も低下しない。
【００５９】
従って、本実施例によれば、特に物理的，科学的，電気的特性が極微小な汚れにより変化してしまう有機ＥＬ素子を製造する際、常に良好な真空度を保ちつつ前記有機ＥＬ素子への汚れの付着を確実に阻止できるから、効率良く秀れた特性の有機ＥＬ素子を製造することができ、よって、歩留まりが確実に向上し、生産性良く有機ＥＬ素子を製造できることになる。
【００６０】
よって、本実施例は自動的に短時間で且つ確実に有機物を除去することで、製造効率の向上を図ることができる極めて実用性及び生産性に秀れた有機ＥＬ素子製造装置となる。
【００６１】
【発明の効果】
本発明は上述のように構成したから、クリーニングを人手によらず自動的に短時間で且つ確実に行え、製造効率の向上を図ることができる極めて実用性及び生産性に秀れた有機ＥＬ素子製造装置となる。
【００６２】
また、請求項２，４記載の発明においては、本発明を一層容易に実現できる一層実用性に秀れたものとなる。
【００６３】
また、請求項５記載の発明においては、一層良好にオゾンガスを供給できる一層実用性に秀れたものとなる。
【００６４】
また、請求項６，７記載の発明においては、より一層容易にオゾンガスによるクリーニングを行うことができるより一層実用性に秀れたものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施例の概略説明図である。
【図２】別例の概略説明図である。
【図１】
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【図２】
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