(57)【要約】【課題】  基板を回転させないで当該基板の周縁部を処理することのできる基板処理装置、及び基板処理方法を提供すること。また装置高さを小さくすること。【解決手段】  基板の表面に処理液を供給して所定の処理をする基板処理装置において、この基板の中央部を中心とする円に沿ってリング状に多数配列された羽部材に向けて洗浄液を吐出し、例えばその吐出圧により羽部材を回転させると共に当該羽部材により外側に向きを変えられた洗浄液を基板に供給する構成とする。この場合、基板の周縁部に全周に亘っていわば放物線を描くようにスパイラル状に洗浄液を広げることができる。このため基板を回転させずに基板の周縁部を洗浄することができる。基板を非回転で洗浄することができるので、基板を回転させるための例えばモータなどの駆動機構を備えない分において装置の高さを小さくすることができる。【選択図】      図１
2005259874.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面に対して処理液を供給して液処理を行う基板処理装置において、
基板を水平に保持する基板保持部と、
基板保持部に保持される基板に対向して設けられ、前記基板の中央部を中心とする円に沿って羽部材がリング状に多数配列された流体規制部材と、
この流体規制部材をその周方向に沿って回転自在に支持する支持部材と、
前記羽部材に向けて洗浄液を吐出する洗浄液ノズルと、を備え、
洗浄液が回転する羽部材により外側に向きを変えられて基板の周縁部に供給されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記洗浄ノズルから羽部材に向けて吐出された洗浄液の吐出圧により当該羽部材を回転させることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
洗浄液ノズルは流体規制部材の周方向に沿って複数設けられていることを特徴とする請求項１又は２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記羽部材に向けて乾燥用気体を吐出し、その吐出圧により羽部材を回転させる乾燥用気体ノズルを備えたことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一つに記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記洗浄液ノズルと前記乾燥用気体ノズルとは共通化され、洗浄液及び乾燥用気体を切り替えて吐出できるように構成されていることを特徴とする請求項４記載の基板処理装置。
【請求項６】
流体規制部材は、同心円上において外側に位置する第１の流体規制部材と、この第１の流体規制部材の内側に位置し、当該第１の流体規制部材と一体的にまたは独立して回転する第２の流体規制部材と、を備えたことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか一つに記載の基板処理装置。
【請求項７】
洗浄液ノズルは前記第１の流体規制部材の羽部材に向けて洗浄液を吐出し、
前記第２の流体規制部材の羽部材に向けて乾燥用気体を吐出し、その吐出圧により羽部材を回転させる乾燥用気体ノズルを設けたことを特徴とする請求項６記載の基板処理装置。
【請求項８】
羽部材の回転を停止するための手段を備えたことを特徴とする請求項１ないし７のいずれか一つに記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記羽部材は、屈曲していることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか一つに記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記羽部材の表面には抵抗部材が設けられるか、又は溝が形成されたことを特徴とする請求項１ないし９のいずれか一つに記載の基板処理装置。
【請求項１１】
基板の表面に対して処理液を供給して液処理を行う基板処理装置において、
基板を水平に保持する基板保持部と、
基板保持部に保持される基板の裏面に対向して設けられ、前記基板の裏面に向けて斜めに洗浄液を吐出する吐出口を備えた回転部材と、
この回転部材を前記基板の中央部を回転中心として回転自在に支持する支持部材と、を備え、
前記吐出口から基板に向けて洗浄液を吐出し、その反力により回転部材を回転させることを特徴とする基板処理装置。
【請求項１２】
前記吐出口は、前記回転中心を中心とする円の径方向に沿って複数配列されていることを特徴とする請求項１１記載の基板処理装置。
【請求項１３】
前記回転部材は、前記基板の裏面に向けて斜めに乾燥用気体を吐出する吐出口を備えたことを特徴とする請求項１１又は１２記載の基板処理装置。
【請求項１４】
洗浄液の吐出口と乾燥気体の吐出口とは共通化され、洗浄液及び乾燥用気体を切り替えて吐出できるように構成されていることを特徴とする請求項１３記載の基板処理装置。
【請求項１５】
基板の表面に対して処理液を供給して液処理を行う基板処理方法において、
基板を水平に保持する工程と、
この基板に対向する流体規制部の羽部材に向けて洗浄液を吐出すると共に、当該羽部材を基板の中央部を中心とする周方向に回転させる工程と、
この羽部材により外側に向きを変えられた洗浄液を基板の周縁部に供給する工程と、を有することを特徴とする基板処理方法。
【請求項１６】
前記羽部材は洗浄液の吐出圧により回転させることを特徴とする請求項１５記載の基板処理方法。
【請求項１７】
基板の周縁部に洗浄液を供給している間に、あるいは洗浄液を供給した後に、前記羽部材に向けて乾燥用気体を吐出すると共に、当該羽部材を基板の中央部を中心とする周方向に回転させる工程と、
この羽部材により外側に向きを変えられた乾燥用気体を基板の周縁部に供給する工程と、を含むことを特徴とする請求項１５記載の基板処理方法。
【請求項１８】
前記羽部材は乾燥用気体の吐出圧により回転させることを特徴とする請求項１７記載の基板処理方法。
【請求項１９】
前記洗浄液及び乾燥用気体は共通化されたノズルから供給され、洗浄液及び乾燥用気体を切り替えて供給することを特徴とする請求項１７又は１８記載の基板処理方法。
【請求項２０】
前記流体規制部材は、同心円上において外側に位置する第１の流体規制部材と、この第１の流体規制部材の内側に位置し、当該第１の流体規制部材と一体的にまたは独立して回転する第２の流体規制部材と、を備え、第１の流体規制部材の羽部材に向けて洗浄液を吐出すると共に、第２の流体規制部材の羽部材に向けて乾燥用気体を吐出することを特徴とする請求項１７又は１８記載の基板処理方法。
【請求項２１】
基板の表面に対して処理液を供給して液処理を行う基板処理方法において、
基板を水平に保持する工程と、
この基板の裏面に対向する回転部材の吐出口から当該基板の周縁部に向けて斜めに洗浄液を吐出する工程と、
前記吐出口から基板に向けて洗浄液を吐出した反力により回転部材を前記基板の中央部を回転中心として回転させる工程と、を有することを特徴とする基板処理方法。
【請求項２２】
基板の周縁部に洗浄液を供給した後に、前記吐出口から当該基板の周縁部に向けて斜めに乾燥用気体を吐出する工程と、
前記吐出口から基板に向けて乾燥用気体を吐出した反力により回転部材を前記基板の中央部を回転中心として回転させる工程と、を含むことを特徴とする請求項２１記載の基板処理方法。
【請求項２３】
洗浄液の吐出口と乾燥気体の吐出口とは共通化され、洗浄液及び乾燥用気体を切り替えて吐出することを特徴とする請求項２２記載の基板処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の表面に対して処理液を供給して液処理を行う基板処理装置及び基板処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体製造工程の一つであるフォトレジスト工程においては、例えば半導体ウエハ（以下、単にウエハという）の表面に薄膜状に例えば化学増幅型のレジストを塗布し、このレジストを所定のパターンで露光した後、現像液により現像してマスクパターンを形成している。このような処理は、一般に塗布・現像装置に露光装置を接続したシステムを用いて行われる。
【０００３】
基板例えばウエハに対して行われる処理の一つに、露光後のウエハに処理液である現像液を供給して現像する現像処理がある。従来の現像装置について図１９を用いて簡単に説明しておく。図中１はウエハＷを水平に保持すると共に、このウエハＷを鉛直軸回りに回転させるスピンチャックである。このスピンチャック１は軸部１０を介して駆動機構であるモータ１１と接続されており、更にモータ１１は振動防止用の支持台１２に支持されている。またスピンチャック１上のウエハＷの周囲を囲むようにしてミストの飛散防止のためのカップ体１３が設けられている。更にウエハＷの表面と対向するように現像液ノズル１４及び上側洗浄ノズル１５が各々独立して進退自在に設けられている。またウエハＷの裏面側には下側洗浄ノズル１６が設けられている。なお現像液ノズル１４はウエハＷの直径よりも長い吐出口を備えている。
【０００４】
上述の現像装置を用いてウエハＷを現像する場合、先ず、表面にレジストが塗布され、露光された後のウエハをスピンチャック１に水平に保持させる。続いて図２０（ａ）に示すように、このウエハＷの表面から僅かに浮かせた高さ位置に設定された現像液ノズル１４の吐出口から現像液Ｄを吐出すると共に、ウエハＷの一端から他端に向かって当該現像液ノズル１４をスキャンする。これによりウエハＷの表面に現像液Ｄが薄膜状に液盛りされる。そして所定の時間静止現像を行った後、図２０（ｂ）に示すように、ウエハＷを鉛直軸回りに回転させると共に、上側洗浄ノズル１５からウエハの表面中央部に洗浄液を供給し、更に下側洗浄ノズル１６から裏面周縁部に洗浄液を供給する。しかる後、洗浄液の供給を停止し、例えば図２０（ｃ）に示すように、ウエハＷを高速回転させて洗浄液を振り切る、いわゆるスピン乾燥が行われる（例えば、特許文献１参照。）。
【０００５】
ところで上述の現像装置では、ウエハＷを鉛直軸回りに回転させる工程、特にスピン乾燥工程においては２５００ｒｐｍといった高速でウエハＷを回転させるため、例えば１２インチサイズのウエハを回転処理する装置ではモータが大型化し、その分装置の高さが大きくなってしまう場合がある。装置高さが大きくなると、例えば塗布・現像装置にユニット化して組み込む際に当該ユニットを多段に配置するのが難しい。更に、塗布・現像装置に組み込む場合にはモータ１１の回転動作時の振動が他の処理ユニットの処理精度に悪影響を及ぼさないようにするため、支持台１２などの振動防止手段を必要とするが、モータ１１が大きくなればその分振動防止手段も大掛かりになり、ますます多段化するのが難しくなる。このような問題を解決するため、本発明者らによりウエハＷを非回転で現像する手法の検討が進められている。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−７７８２０号公報（図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながらウエハＷを回転させる手段を備えない構成にしてしまうと、これまでのようにウエハＷを回転させて裏面を洗浄することができなくなるため、ウエハＷを回転させるための駆動機構を完全になくすまでには至っていないのが現状である。即ち、非回転で基板を現像するにあたり、ウエハＷの裏面及びエッジ部を洗浄するための装置構成の更なる検討が必要である。
【０００８】
本発明はこのような事情に基づいてなされたものであり、その目的は基板を回転させないで当該基板の周縁部を処理することのできる基板処理装置、及び基板処理方法を提供することにある。また他の目的は基板処理装置の装置高さを小さくすることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の基板処理装置は、基板の表面に対して処理液を供給して液処理を行う基板処理装置において、
基板を水平に保持する基板保持部と、
基板保持部に保持される基板に対向して設けられ、前記基板の中央部を中心とする円に沿って羽部材がリング状に多数配列された流体規制部材と、
この流体規制部材をその周方向に沿って回転自在に支持する支持部材と、
前記羽部材に向けて洗浄液を吐出する洗浄液ノズルと、を備え、
洗浄液が回転する羽部材により外側に向きを変えられて基板の周縁部に供給されることを特徴とする。
【００１０】
前記洗浄ノズルから羽部材に向けて吐出された洗浄液の吐出圧により当該羽部材を回転させる構成であってもよい。また前記洗浄液ノズルは例えば流体規制部材の周方向に沿って複数設けた構成であってもよい。更に前記羽部材に向けて乾燥用気体を吐出し、その吐出圧により羽部材を回転させる乾燥用気体ノズルを備えるようにしてもよく、この場合前記洗浄液ノズルと前記乾燥用気体ノズルとは共通化し、洗浄液及び乾燥用気体を切り替えて吐出する構成であってもよい。
【００１１】
更に流体規制部材は、同心円上において外側に位置する第１の流体規制部材と、この第１の流体規制部材の内側に位置し、当該第１の流体規制部材と一体的にまたは独立して回転する第２の流体規制部材と、を備えた構成であってもよく、この場合、洗浄液ノズルを前記第１の流体規制部材の羽部材に向けて洗浄液を吐出し、前記第２の流体規制部材の羽部材に向けて乾燥用気体を吐出し、その吐出圧により羽部材を回転させる乾燥用気体ノズルを設けた構成であってもよい。
【００１２】
更にまた、前記基板処理装置は前記羽部材の回転を停止するための手段を備えた構成であってもよい。更には、前記羽部材は、例えば屈曲させてもよくあるいは表面には抵抗部材が設けるか、又は溝を形成した構成であってもよい。
【００１３】
本発明の他の基板処理装置は、基板の表面に対して処理液を供給して液処理を行う基板処理装置において、
基板を水平に保持する基板保持部と、
基板保持部に保持される基板の裏面に対向して設けられ、前記基板の裏面に向けて斜めに洗浄液を吐出する吐出口を備えた回転部材と、
この回転部材を前記基板の中央部を回転中心として回転自在に支持する支持部材と、を備え、
前記吐出口から基板に向けて洗浄液を吐出し、その反力により回転部材を回転させることを特徴とする。
【００１４】
前記吐出口は、例えば前記回転中心を中心とする円の径方向に沿って複数配列された構成であってもよい。また前記回転部材は、前記基板の裏面に向けて斜めに乾燥用気体を吐出する吐出口を備えた構成であってもよい。更には洗浄液の吐出口と乾燥気体の吐出口とは共通化され、洗浄液及び乾燥用気体を切り替えて吐出できるように構成してもよい。
【００１５】
本発明の基板処理方法は、基板の表面に対して処理液を供給して液処理を行う基板処理方法において、
基板を水平に保持する工程と、
この基板に対向する流体規制部の羽部材に向けて洗浄液を吐出すると共に、当該羽部材を基板の中央部を中心とする周方向に回転させる工程と、
この羽部材により外側に向きを変えられた洗浄液を基板の周縁部に供給する工程と、を有することを特徴とする。
【００１６】
前記羽部材は洗浄液の吐出圧により回転させるようにしてもよい。また前記基板の周縁部に洗浄液を供給している間に、あるいは洗浄液を供給した後に、前記羽部材に向けて乾燥用気体を吐出すると共に、当該羽部材を基板の中央部を中心とする周方向に回転させる工程と、この羽部材により外側に向きを変えられた乾燥用気体を基板の周縁部に供給する工程と、を含むようにしてもよい。この場合、羽部材は乾燥用気体の吐出圧により回転させるようにしてもよい。また前記洗浄液及び乾燥用気体は共通化されたノズルから供給され、洗浄液及び乾燥用気体を切り替えて供給するようにしてもよい。
【００１７】
更に前記流体規制部材は、同心円上において外側に位置する第１の流体規制部材と、この第１の流体規制部材の内側に位置し、当該第１の流体規制部材と一体的にまたは独立して回転する第２の流体規制部材と、を備え、第１の流体規制部材の羽部材に向けて洗浄液を吐出すると共に、第２の流体規制部材の羽部材に向けて乾燥用気体を吐出するようにしてもよい。
【００１８】
本発明の他の基板処理方法は、基板の表面に対して処理液を供給して液処理を行う基板処理方法において、
基板を水平に保持する工程と、
この基板の裏面に対向する回転部材の吐出口から当該基板の周縁部に向けて斜めに洗浄液を吐出する工程と、
前記吐出口から基板に向けて洗浄液を吐出した反力により回転部材を前記基板の中央部を回転中心として回転させることを特徴とする。
【００１９】
前記基板の周縁部に洗浄液を供給した後に、前記吐出口から当該基板の周縁部に向けて斜めに乾燥用気体を吐出する工程と、前記吐出口から基板に向けて乾燥用気体を吐出した反力により回転部材を前記基板の中央部を回転中心として回転させる工程と、を含むようにしてもよい。また洗浄液の吐出口と乾燥気体の吐出口とは共通化され、洗浄液及び乾燥用気体を切り替えて吐出するようにしてもよい。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、基板に対向して設けられ、この基板の中央部を中心とする円に沿ってリング状に多数配列された羽部材に向けて洗浄液を吐出し、例えばその吐出圧により羽部材を回転させると共に当該羽部材により外側に向きを変えられた洗浄液を基板に供給する構成とすることにより、基板の周縁部に全周に亘っていわば放物線を描くように洗浄液を広げることができる。このため基板を回転させずに基板の周縁部を洗浄することができる。更に本発明によれば、基板を非回転で洗浄することができるので、基板を回転させるための例えばモータなどの駆動機構を備えない分において装置の高さを小さくすることができる。従って、当該基板処理装置を例えばユニット化して塗布・現像ユニットに組み込む際に多段化するのに有効である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明にかかる基板処理装置の実施の形態について、現像装置を一例に挙げて図１及び図２を参照しながら説明する。当該現像装置は、被処理基板例えばウエハＷの裏面を吸着して水平に保持する基板保持部である例えばバキュームチャックからなる載置部２を備えている。この場合、載置部２は回転機構を持たない固定式に形成されている。
【００２２】
前記載置部２に保持されたウエハＷを囲むようにして上部側が開口するカップ体２１が設けられている。このカップ体２１は、少なくとも上部側が上から見て四角状に形成された外カップ２２を備えている。この外カップ２２は下端面に設けられた軸部を介して昇降部２３と接続されており、当該昇降部２３により外カップ２２は昇降自在なように構成されている。またカップ体２１の下部側には、断面凹部をなす液受け部２４が全周に亘って形成され、更に当該液受け部２４の底面部には例えばドレインや排気流を排出するための排出口２５が設けられている。また液受け部２４の内側上端面には円形板２６が設けられており、その外側には上端部がウエハＷの裏面に例えば０．５〜２ｍｍで接近する断面三角形状のリング部材２７が設けられている。このリング部材２７をウエハＷの裏面に接近させる事でウエハＷ表面から現像液などの処理液が裏面側に廻り込むのを防いでいる。更にリング部材２７は昇降部２７ａにより昇降自在なように構成されている。
【００２３】
更に載置部２に保持されたウエハＷの上方には、このウエハＷの表面と例えば２〜５ｍｍの隙間が形成されるように離れて対向し、当該ウエハＷの有効領域（デバイス形成領域）と同じか又はそれよりも大きい例えば角状の面状体からなる液膜形成板３が昇降自在に設けられている。なお、ウエハＷと液膜形成板３との離間距離は、例えば現像液の種類、ウエハＷの表面に形成する現像液の液膜の目標とする厚み等に基づいて設定される。また液膜形成板３は支持部材３１を介して昇降部３２と接続されており、この昇降部３２により昇降自在であると共に載置部２上のウエハＷの表面に対して前記所定の離間距離に設定可能なように構成されている。
【００２４】
またウエハＷを裏面側から支持するための３本の基板支持ピン３３が円形板２６を貫通するようにして設けられており、これら基板支持ピン３３は共通の支持部材３４により連結されている。更に支持部材３４は昇降部３５と接続され、当該昇降部３５により基板支持ピン３３は昇降自在なように構成されている。そして例えばウエハＷを搬入出する際には、図示しないウエハ搬送用の基板搬送アームと、当該基板支持ピン３３との協働作用により載置部２にウエハＷの受け渡しがなされるように構成されている。
【００２５】
載置部２上のウエハＷの表面の高さから液膜形成板３の裏面の高さに亘る範囲内の高さレベルに横において伸びる現像液ノズル４が進退自在に設けられている。この現像液ノズル４は、例えば外径１〜４ｍｍ、内径０．５〜３．５ｍｍの管状に形成されている。また材質は例えばステンレスやエポキシ樹脂が選択される。更に現像液ノズル４の周胴部の下方側表面には現像液を吐出するための小径の吐出口４１が軸方向に沿って間隔をおいて複数形成されている。更にまた、現像液ノズル４は、図１では記載を省略するが、支持部材４２により両端部が支持されており、この支持部材４２は移動基体４３と接続されている。これら移動基体４３は載置部２上のウエハＷを挟んで両側に配置された一対のガイドレール４４に支持されている。そして例えば移動基体４３が有する図示しない駆動機構により現像液ノズル４はウエハＷと液膜形成板３との間の隙間を水平方向に移動可能なように構成されている。更に現像液ノズル４の例えば両端部は供給路４５例えば配管を介して現像液供給源４６と接続されており（図２では作図の便宜上一端部に接続した記載としている）、その途中には図示しない流量調整部が設けられている。なお、現像液ノズル４によりウエハＷの表面に液盛りした現像液を吸引して回収する吸引ノズルを設けることもある。
【００２６】
更に外カップ２２の内側には、例えば前記現像液ノズル４と同じ高さにて横に伸びる洗浄液及び乾燥用気体のいずれか一方をウエハＷ表面に供給する上側洗浄・乾燥ノズル５が進退自在に設けられている。この上側洗浄・乾燥ノズル５は、例えば前記現像ノズル４と同様の長さ、内径及び外径を有する管状に形成されている。更にその周胴部には洗浄液及び乾燥用気体を吐出するための小径の吐出口５１が例えばウエハＷ側及び平板側と対向する側であって且つその軸方向に沿って間隔をおいて複数設けられている。
【００２７】
前記上側洗浄・乾燥ノズル５は、図１では記載を省略するが、支持部材５２により両端部が支持されており、この支持部材５２は移動基体５３と接続されている。これら移動基体５３は外カップ２２の内側にあって且つ載置部２上のウエハＷを挟むようにして両側に配置された一対のガイドレール５４に支持されている。そして例えば移動基体５３が有する図示しない駆動機構により上側洗浄・乾燥ノズル５はウエハＷと液膜形成板３との間の隙間を水平方向に移動可能なように構成されている。更に上側洗浄・乾燥ノズル５の両端には供給路例えば配管５５の一端が接続されている（図２では作図の便宜上一端部に接続した記載としている）。この配管５５の他端側は切替え部５６を介して分岐され、洗浄液例えば純水の供給源５７、及び乾燥用気体例えば温度及び湿度が調整された空気又は窒素などの不活性ガスの供給源５８と夫々接続されている。更には分岐された配管５５の各々には洗浄液及び乾燥用気体の流量を調整するための図示しない流量調整部が設けられている。前記した切替え部５６は例えば三方バルブであり、この三方バルブの切り替えにより洗浄液及び乾燥用気体のいずれか一方を吐出口５１から吐出可能なように構成されている。
【００２８】
載置部２上に保持されたウエハＷの裏面側には、例えばその周縁部と例えば１ｍｍ以下の隙間をあけて接近して対向する裏面洗浄機構の一部を構成するリング状の流体規制部材６が設けられている。この流体規制部材６の外周縁は例えばウエハＷの外周縁から５ｍｍ以下の範囲内で内側になるように設定されている。更に流体規制部６について図３（ａ）、（ｂ）及び図４を用いて詳しく説明すると、流体規制部材６は内側リング部材６１ａ及び外側リング部材６１ｂと、これらリング部材６１ａ、６１ｂの間に周方向に沿って例えば内側リング部材６１ａの輪隔をなす円の中心角において１０°間隔に複数設けられ、前記の円の接線方向であって、同じ方向に傾斜する傾斜羽根６２とを備えている。この前記傾斜羽根６２は、例えば幅１０ｍｍ、長さ３０ｍｍ、厚み１ｍｍに設定されている。
【００２９】
前記各傾斜羽根６２は、前後（周方向）に設けられた傾斜羽根６２の互いに対向する表面同士が隙間をあけて対向するようにして設けられており、その傾斜角θは例えば３０〜６０度に設定されている。即ち、流体規制部材６は、ウエハＷの中央部を中心とする円に沿って傾斜羽根６２がリング状に多数配列された構成である。なおリング部材６１ａ、６１ｂ及び傾斜羽根６２の材質は、例えばＰＦＡ（パーフロロアルコキシエチレン）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ＰＶＣ（塩化ビニル）などの樹脂が選択される。なお前記傾斜角θは例えば流体規制部材６の目標とする回転速度に応じて決められる。
【００３０】
前記流体規制部材６は、例えば外側リング部材６１ｂの下端面側に配置された支持部材例えばリングリニアガイド６３により下方側から回転自在に支持されている。このリングリニアガイド６３は、外側リング部材６１ｂの下端面に沿って同心円状に配置されたレール部材６４と、このレール部材の表面に全周に亘って形成された溝部に並べられた複数のボール６５と、当該ボール６５を介してレール部６４に支持されたガイド部材６６とを備えている。このガイド部材６６の外周縁及び内周縁にはズレ防止用の耳片がレール部６４の側周面まで下に伸びている。またガイド部材６６の上側表面は外側リング部材６１ｂの下端面と例えば固着されており、一方レール部６４は円形板２６の表面に垂立された複数の支持部材６７により支持されている。即ち、ガイド部材６６はレール部６４の表面に沿ってその中心の鉛直軸回りに摺動可能であり、これによりガイド部材６６と一体となって傾斜羽根６２が流体規制部材６の中心を回転軸として回転可能なように構成されている。
【００３１】
また流体規制部材６の内側には、内側リング部材６１ａの内周面を押圧して傾斜羽根６２の回転動作を停止するための例えば矩形状のブレーキ部６８が設けられている。このブレーキ部６８は軸部６９ａを介して駆動機構６９と接続されており、この駆動機構６９によりブレーキ部６８は内側リング部材６１ａの側周面を押圧するまで進退自在なように構成されている。即ち、ブレーキ部６８、駆動機構６９は流体規制部材６の回転を停止させる手段を構成する。
【００３２】
説明を図１及び図２に戻し、円形板２６の表面には、その上方にある一の傾斜羽根６２の表面に向かって下方向から処理流体である洗浄液及び乾燥用気体のいずれか一方を吐出し、この傾斜羽根６２を介してウエハＷの裏面に洗浄液及び乾燥用気体を供給する下側洗浄・乾燥ノズル７が同一円の周方向に沿って等間隔に例えば６本設けられている。即ち、洗浄ノズルと乾燥用気体ノズルとを備えている。各下側洗浄・乾燥ノズル７には供給路例えば配管７１の一端が接続されている。この配管７１の他端側は切替え部７２を介して分岐され、洗浄液例えば純水の供給源７３、及び乾燥用気体例えば温度及び湿度が調整された空気又は窒素などの不活性ガスの供給源７４と夫々接続され、各分岐路の途中には洗浄液及び乾燥用気体の流量を調整するための図示しない流量調整部が設けられている。前記切替え部７２は例えば三方バルブであり、この三方バルブの切り替えにより洗浄液及び乾燥用気体のいずれか一方を下側洗浄・乾燥ノズル７から吐出可能なように構成されている。
【００３３】
即ち、流体規制部材６、下側洗浄・乾燥ノズル７はウエハＷの裏面洗浄機構を構成し、更に裏面洗浄機構はウエハＷを乾燥させる機能を有している。なお、下側洗浄・乾燥ノズル７及び上側洗浄・乾燥ノズル５は、必ずしも洗浄液及び乾燥用気体の両方を吐出可能な構成としなくともよく、例えば洗浄液を吐出するための洗浄ノズルと、乾燥用気体を吐出するための乾燥ノズルとを別個に設けるようにしてもよい。
【００３４】
また図中８は制御部であり、昇降部２３、２７ａ、３２及び３５、切り替え部５６、７２、移動基体４３及び５３の有する図示しない駆動機構の動作を制御する機能を備えている。
【００３５】
上述の現像装置を用いて基板例えばウエハＷを現像処理する工程について説明する。先ず、例えば液膜形成板３が上方の待機位置まで上昇し、外カップ２２が下降位置に設定され、更に各ノズル４、５が後方の待機位置にある状態にて、例えばレジストが塗布され、露光された後のウエハＷが図示しない基板搬送アームにより外カップ２２の上端面と液膜形成板３との間の隙間を介して搬入される。更にウエハＷは載置部２の上方に案内され、次いで当該基板搬送アームと基板支持ピン３３との協働作用によりウエハＷは載置部２に受け渡され、載置部２上に吸着保持される。その一方でウエハＷを載置部２に受け渡した基板搬送アームは現像装置外へ後退する。しかる後、昇降部３２により液膜形成板３を下降させ、ウエハＷの表面に対して例えば現像液の種類及びウエハＷの表面に形成する現像液の液膜の目標とする厚みに基づいて決められた所定の離間距離となるようにその高さ位置が設定される。即ち、ウエハＷと液膜形成板３との間に液膜形成領域（隙間）が形成される。更に昇降部２７ａによりリング部材２７の上端がウエハＷの裏面と例えば１ｍｍの隙間をあけて対向するように設定する。
【００３６】
続いて、例えば図５（ａ）に示すように、現像液ノズル４の吐出口４１から所定の流量例えば５〜５０ｍｌ／ｓｅｃで現像液Ｄを吐出すると共に、当該現像液ノズル４をウエハＷの一側端から他側端に向かって所定の移動速度例えば５０〜１５０ｍｍ／ｓｅｃで移動（スキャン）する。これによりウエハＷと液膜形成板３との間の隙間内に現像液Ｄが供給され、当該隙間内に現像液Ｄが満たされることにより、例えば図５（ｂ）に示すように、ウエハＷの表面に前記隙間の厚みに相当する現像液の液膜が形成される。その一方で現像液ノズル５はカップ体２１の外側の前方の待機位置まで移動する。そして例えば現像液の表面張力により隙間内に現像液が満たされた状態にて静止現像が行われる。
【００３７】
しかる後、その上端面が液膜形成板３の表面と接近する位置まで外カップ２２を昇降部２３により上昇させた後、上側洗浄・乾燥ノズル５の吐出口５１から洗浄液を所定の流量で吐出すると共に、当該上側洗浄・乾燥ノズル５をウエハＷの一側端から他側端に向かって所定の移動速度で移動（スキャン）する。これによりウエハＷ表面から現像液が除去されて現像（レジストの溶解）が停止されると共に、ウエハＷ表面及びウエハＷと対向する側の液膜形成板３の表面が洗浄される。
【００３８】
前記ウエハＷの表面の洗浄を行うと共に、あるいは洗浄をした後に、昇降部２７ａによりリング部材２７を下降させ、続いて例えば図６（ａ）に示すように、ウエハＷの裏面側に設けられた下側洗浄・乾燥ノズル７からその上方にある傾斜羽根６２に向けて洗浄液を吐出する。この吐出された洗浄液は傾斜羽根６２の表面に衝突し、傾斜羽根６２の表面に沿って流れるようにその向きを変えられ、そして傾斜羽根６２の傾斜角にもよるが小さい仰角（供給角度）でウエハＷの裏面に供給される。その一方で、洗浄液が衝突した傾斜羽根６２は衝突圧（つまり洗浄液の吐出圧）により押されて前方側に移動し、次の傾斜羽根６２に洗浄液が衝突する。この繰り返しにより図６（ｂ）に模式的に示すように、流体規制部材６が鉛直軸回りに回転する。
【００３９】
そして流体規制部材６が回転することにより、例えばウエハＷの裏面に供給された洗浄液は落下しようとしても後続の傾斜羽根６２の表面に跳ね上げられてウエハＷ側に戻されるので、例えば図７に模式的に示すように、傾斜羽根６２の上端面とウエハＷの裏面との間に洗浄液１００がいわば保持された状態となる。更には回転する流体規制部材６の遠心力の作用と、洗浄液１００の表面張力とにより、洗浄液はウエハＷの裏面に沿って放物線を描くようにして外側に広がる。そのため、図８に模式的に示すように、上方からみるとウエハＷの全周に亘ってスパイラル状に広がる洗浄液の流れが形成される。そして更に洗浄液は表面張力によりウエハＷの側周面に回り込む。これによりウエハＷの裏面及び側周面（エッジ部）が洗浄される。
【００４０】
このようにしてウエハＷが洗浄されると洗浄液の吐出を停止し、続いて切替え部５６を切り替えて上側洗浄・乾燥ノズル５の吐出口５１から乾燥用気体例えば温度及び湿度が調整された空気又は窒素などの不活性ガスを所定の流量で吐出すると共に、当該上側洗浄・乾燥ノズル５をウエハＷの一側端から他側端に向かって所定の移動速度で移動（スキャン）する。この乾燥用気体によりウエハＷ及び液膜形成板３に付着する純水が吹き飛ばされ、これによりウエハＷの表面及び液膜形成板３の表面が乾燥させる。
【００４１】
前記ウエハＷの表面の乾燥を行うと共に、あるいは乾燥させた後に、切り替え部７２を切り替えて下側洗浄・乾燥ノズル７から乾燥用気体例えば温度及び湿度が調整された空気又は窒素などの不活性ガスを所定の流量で吐出する。吐出された乾燥用気体は、前記した洗浄液の場合と同様に、傾斜羽根６２に衝突してその向きを変えてウエハＷの裏面側周縁部に供給されると共に、その吐出圧により流体規制部材６を回転させる。そして前記した洗浄液の場合と同様にスパイラル状に広がる気流を形成する。これによりウエハＷの裏面及び側周面に付着する洗浄液が吹き飛ばされて乾燥される。しかる後、乾燥用気体の吐出を停止し、更にブレーキ部６８を前進させて内側リング部材６１ａの内周面に押圧することにより、流体規制部材６の回転を停止させる。続いて外カップ２２が下降すると共に液膜形成板３が上昇した後、ウエハＷが図示しない基板搬送アームにより装置外に搬出されて現像処理を終了する。
【００４２】
上述の実施の形態によれば、ウエハＷの裏面と対向して設けられ、当該ウエハＷの中央部を中心とする円に沿ってリング状に多数配列された傾斜羽根６２に向けて洗浄液を吐出し、この傾斜羽根６２を周方向に回転させると共に、当該傾斜羽根６２により外側に向きを変えられた洗浄液をウエハＷの裏面側の周縁部に供給する構成とすることにより、ウエハＷの裏面側の周縁部に全周に亘っていわば放物線を描くように洗浄液をスパイラル状に広げることができる。このため洗浄液の一つの液滴の線長効率が高くなり、且つ勢いよく洗浄することができる。その結果、ウエハＷを回転させないで裏面側周縁部及び側周面（エッジ部）を全周に亘って洗浄することができる。また洗浄液に代えて乾燥用気体を供給した場合も同様の作用が得られ、これにより乾燥用気体の線長効率が高くなり、且つ勢いよく乾燥することができる。即ち、本例によれば、ウエハＷを非回転で洗浄（及び乾燥）をすることができる。更にウエハＷを回転させるためのモータを備えない分において装置の高さを小さくすることができる。本発明者らは、実際に装置を組み立てることで、従来約５００ｍｍの高さであった装置をその半分以下の約２００ｍｍにすることができたことを確認している。従って、本例によれば当該現像装置をユニット化して塗布・現像ユニットに組み込む際に多段化するのに有効である。更にモータを使わない分において電力を低減することができるので、製造コストの低下を図ることができる。更に本例によれば、前記したように洗浄液（又は乾燥用気体）の線長効率が高いため、ウエハＷの全周に亘って洗浄液（又は乾燥用気体）を供給するのに必要な下側洗浄・乾燥ノズル７の数を少なくできるので、装置構成を簡単にできる点で得策である。
【００４３】
更に上述の実施の形態によれば、洗浄液及び乾燥用気体の吐出圧を移用して流体規制部材６を回転させる構成とすることにより、当該流体規制部材６を回転させるための専用の駆動機構例えばモータを必要としないので装置構成を簡単にすることができる。
【００４４】
更に上述の実施の形態によれば、洗浄液を傾斜羽根６２に一旦衝突させてその向きを変えてからウエハＷに供給する構成とすることにより、傾斜羽根６２の傾斜角にもよるがウエハＷの表面に対して小さい仰角で洗浄液が供給されるので、洗浄液がウエハＷの表面に衝突した際に弾かれてミストになることが少ない。洗浄液のミストが多く発生して装置の内壁面などに付着してしまうと、結果としてパーティクル発生の一因となる場合があるので、このようにミストの発生を抑制することは繰り返しウエハＷを処理しても清浄なウエハＷを得ることができる点で有利である。
【００４５】
上述の実施の形態においては、傾斜羽根６２に対して垂直方向に洗浄液及び乾燥用気体を吐出する構成に限られず、例えば流体規制部材６の回転速度を調整することを目的の一つとして、斜め方向から吐出するようにしてもよい。具体的には、例えば流体規制部材６の回転速度を低くする場合には図９（ａ）に示すように、傾斜羽根６２の移動方向に対して前方側から洗浄液及び乾燥用気体を吐出する。あるいは流体規制部材６の回転速度を高くする場合には図９（ｂ）に示すように傾斜羽根６２の移動方向に対して後方側から吐出する。このような構成であっても上述の場合と同様の効果を得ることができる。更に本例においては、回転速度を変えることにより、洗浄液又は乾燥気体の広がり具合を制御することができるので有利である。更には、流体規制部材６の外側又は内側方向から斜めに洗浄液及び乾燥用気体を吐出するようにしてもよい。
【００４６】
更に上述の実施の形態においては、傾斜羽根６２は平面板に限られず、例えば洗浄液及び乾燥用気体のウエハＷに対する供給角度を調節することを目的の一つとして、屈曲させるようにしてもよい。具体的には、より小さい仰角で供給する場合には図１０（ａ）に示すように、傾斜羽根６２の移動方向に対して後方側に向かって屈曲させてもよく、あるいは大きい仰角で供給する場合には図１０（ｂ）に示すように、前方側から上方に向かって屈曲させるようにしてもよい。どの位屈曲させるかは例えば実験を行なって決めるのが好ましい。更には、流体規制部材６の回転速度を高くするために、例えば図１０（ｃ）に示すように、傾斜羽根６２の表面に抵抗部材６２ａを設けるようにしてもよく、あるいは図示は省略するが傾斜羽根６２の表面に溝を形成するようにしてもよい。
【００４７】
続いて、本発明の基板処理装置である現像装置の他の実施の形態について図１１〜図１３を参照しながら説明する。但し、図１記載の例と同じ構成を採用するところについては同じ符号を付することで説明を省略する。この例の現像装置は、載置部２に設けられた支持部材例えばベアリング９と、このベアリング９の側面から例えばウエハＷの直径方向に周縁部と対向する位置まで横に伸びる例えば２本の回転部材９０とを備えている。当該ベアリング９について詳しくは、図１３に示すように、載置部２の軸部２ａの側周面を囲むようにリング部材９１が設けられており、このリング部材９１の内周面と載置部２の外周面とに互いに対向するように周方向に形成された半円状の溝部に複数のボール９２が並べて設けられている。これによりリング部材９１が鉛直軸回りに摺動可能であり、このリング部材９１と一体となって回転部材９０が鉛直軸回りに回転可能なように構成されている（図１２参照）。
【００４８】
前記回転部材９０の各々の先端部表面には、複数例えば３個の吐出口９３が例えば径方向に並んで形成されており、これら吐出口９３は一の方向例えば時計回りの方向に夫々傾斜している。更にこれら吐出口９３は、回転部材９０及びリング部材９１の内部に亘って形成された流路９４により連通している。一方、載置部２には、軸部２ａの下端部にて配管７１の一端が接続されており、更に内部を中心軸に沿って上方に伸びると共に、前記流路９４と同じ高さレベルにて例えば放射線状に横に伸びる流路９５が形成されている。これにより前記リング部材９１が回転しても、当該リング部材９１の内周面に形成された流路９４と対向する位置にある載置部２の流路９５とが連通し、吐出口９３から洗浄液又は乾燥用気体のいずれか一方を吐出可能なように構成されている。なお、９６はリング部材９１と軸部２ａとの隙間から洗浄液及び乾燥用気体が漏れないようにするためのシール部材である。
【００４９】
このような構成において、ウエハＷの裏面を洗浄する場合、ウエハＷの裏面に向かって吐出口９３から洗浄液を斜めに吐出すると、吐出した洗浄液の慣性力（反力）により回転部材９０が鉛直軸回りに回転する。本例においては時計回りの方向に吐出口９３を傾斜させていることから、回転部材９０は反時計回りに回転することとなる。そのためウエハＷの裏面側周縁部に全周に亘って洗浄液が供給され、更に洗浄液は遠心力の作用と表面張力により側周面まで回り込む。これによりウエハＷの裏面周縁部及び側周面が洗浄される。そして洗浄した後、切り替え部７２を切り替えて乾燥用気体を吐出した場合も同様に回転部材９０が回転してウエハＷの裏面周縁部及び側周面が乾燥される。即ち、この例においてもウエハＷを非回転で処理することができるので、上述の場合と同様の効果を得ることができる。
【００５０】
本発明においては、洗浄液及び乾燥用気体に共通の流体規制部材６を設けた構成に限られず、例えば図１４に示すように、洗浄液ノズル７Ａと乾燥ノズル７Ｂとを別個に設け、例えば洗浄液用の第１の流体規制部材６Ａの内側に同心円上に乾燥用気体用の第２の流体規制部材６Ｂを一体的に又は独立して回転可能なように配置する構成であってもよい。あるいは反対に内側に洗浄液用の流体規制部材６Ａを設けるようにしてもよい。この場合、例えば外側の第１の流体規制部材６Ａに洗浄液を供給した後、あるいは当該第１の流体規制部材６Ａに洗浄液を供給すると共に乾燥用気体を第２の流体規制部材６Ｂに供給する構成とする（図１４（ｂ）の模式図参照）。このような構成であっても上述の場合と同様の効果を得ることができる。なお第１の流体規制部材６Ａと第２の流体規制部材６Ｂを一体的に設け、且つ洗浄液を供給すると共に乾燥用気体を内側に配置した第２の流体規制部材６Ｂに供給するようにすれば、ウエハＷに供給された洗浄液を素早く吹き飛ばして乾燥の効率化を図ることができ、また同時に供給する分において流体規制部材６Ａ、６Ｂを回転させるための駆動力を増加させることができる。
【００５１】
更に本発明においては、ウエハＷの裏面側に流体規制部６及び処理ノズル（下側洗浄・乾燥ノズル７）を配置した構成に限られず、例えば図１５（ａ）及び、図１５（ｂ）に模式的に示すように、ウエハＷの表面側に配置するようにしてもよい。このような構成にてウエハＷを処理する具体例としては、その表面にレジストが塗布されたウエハＷの周縁部にシンナーを供給し、当該周縁部のレジストを除去する例が一例として挙げられる。この場合であっても上述の場合と同様の効果を得ることができる。
【００５２】
更に本発明においては、上述の傾斜羽根６２を備えた流体規制部材６を洗浄液及び乾燥用気体の吐出圧のみにより回転させる構成に限られず、例えば当該流体規制部材６を回転させるための駆動機構を補助的に設けるようにしてもよい。この駆動機構について一例を挙げて説明すると、例えば図１６に示すように、ガイド部材６６の例えば外周縁側の側面と当接するようにして例えば小径の押圧ローラ１００を設けておき、この押圧ローラ１００に軸部１０１を介して接続された駆動部例えばモータ１０２により押圧ローラ１００を回転させることで流体規制部材６を回転させるようにする。押圧ローラ１００、軸部１０１及びモータ１０２を備えた駆動機構はガイド部材６６の周方向に間隔をおいて複数個配置するようにしてもよい。当該押圧ローラ１００の少なくとも押圧面は弾性部材例えばゴム材で形成されている。この場合であっても、押圧ローラ１００による回転作用と、洗浄液及び乾燥用気体の吐出圧による回転作用とが相俟ってより確実に流体規制部材６を回転させることができるので、上述の場合と同様の効果を得ることができる。この場合、流体規制部材６は既述のように例えば樹脂などの軽い材質により形成されていることから、ウエハＷを回転させる場合に比べて小型のモータ１０２で済むので、このような構成としても装置高さに与える影響は小さい。
【００５３】
最後に本発明の基板処理装置の一つである上述の現像装置が組み込まれた塗布・現像装置の一例の構成について図１７及び図１８を参照しながら簡単に説明する。図中Ｂ１は基板であるウエハＷが例えば１３枚密閉収納された キャリアＣを搬入出するためのキャリア載置部であり、キャリアＣを複数個載置可能な載置部３００ａを備えた キャリアステーション３００と、この キャリアステーション３００から見て前方の壁面に設けられる開閉部３０１と、開閉部３０１を介してキャリアＣからウエハＷを取り出すための受け渡し手段Ａ１とが設けられている。
【００５４】
キャリア載置部Ｂ１の奥側には筐体３０２にて周囲を囲まれる処理部Ｂ２が接続されており、この処理部Ｂ２には手前側から順に加熱・冷却系のユニットを多段化した棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３と、後述する塗布・現像ユニットを含む各処理ユニット間のウエハＷの受け渡しを行う主搬送手段Ａ２，Ａ３とが交互に配列して設けられている。即ち、棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３及び主搬送手段Ａ２、Ａ３は キャリア載置部Ｂ１側から見て前後一列に配列されると共に、各々の接続部位には図示しないウエハ搬送用の開口部が形成されており、ウエハＷは処理部Ｂ１内を一端側の棚ユニットＵ１から他端側の棚ユニットＵ３まで自由に移動できるようになっている。また主搬送手段Ａ２、Ａ３は、 キャリア載置部Ｂ１から見て前後方向に配置される棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３側の一面部と、後述する例えば右側の液処理ユニットＵ４，Ｕ５側の一面部と、左側の一面をなす背面部とで構成される区画壁３０３により囲まれる空間内に置かれている。また図中３０４、３０５は各ユニットで用いられる処理液の温度調節装置や温湿度調節用のダクト等を備えた温湿度調節ユニットである。
【００５５】
液処理ユニットＵ４，Ｕ５は、例えば図１８に示すように塗布液（レジスト液）や現像液といった薬液供給用のスペースをなす収納部３０６の上に、塗布ユニットＣＯＴ、上述の現像装置をユニット化した現像ユニットＤＥＶ及び反射防止膜形成ユニットＢＡＲＣ等を複数段例えば５段に積層した構成とされている。また既述の棚ユニットＵ１，Ｕ２，Ｕ３は、液処理ユニットＵ４，Ｕ５にて行われる処理の前処理及び後処理を行うための各種ユニットを複数段例えば１０段に積層した構成とされており、その組み合わせはウエハＷを加熱（ベーク）する加熱ユニット、ウエハＷを冷却する冷却ユニット等が含まれる。
【００５６】
処理部Ｂ２における棚ユニットＵ３の奥側には、例えば第１の搬送室３０７及び第２の搬送室３０８からなるインターフェイス部Ｂ３を介して露光部Ｂ４が接続されている。インターフェイス部Ｂ３の内部には処理部Ｂ２と露光部Ｂ４との間でウエハＷの受け渡しを行うための２つの受け渡し手段Ａ４、Ａ５の他に、棚ユニットＵ６及びバッファキャリアＣ０が設けられている。
【００５７】
この装置におけるウエハの流れについて一例を示すと、先ず外部からウエハＷの収納されたキャリアＣが載置台３００に載置されると、開閉部３０１と共に キャリアＣの蓋体が外されて受け渡し手段ＡＲ１によりウエハＷが取り出される。そしてウエハＷは棚ユニットＵ１の一段をなす受け渡しユニット（図示せず）を介して主搬送手段Ａ２へと受け渡され、棚ユニットＵ１〜Ｕ３内の一の棚にて、塗布処理の前処理として例えば反射防止膜形成処理、冷却処理が行われ、しかる後、塗布ユニットにてレジスト膜が形成されると、ウエハＷは棚ユニットＵ１〜Ｕ３の一の棚をなす加熱ユニットで加熱（ベーク処理）され、更に冷却された後棚ユニットＵ３の受け渡しユニットを経由してインターフェイス部Ｂ３へと搬入される。このインターフェイス部Ｂ３においてウエハＷは例えば受け渡し手段Ａ４→棚ユニットＵ６→受け渡し手段Ａ５という経路で露光部Ｂ４へ搬送され、露光が行われる。露光後、ウエハＷは逆の経路で主搬送手段Ａ２まで搬送され、現像ユニットＤＥＶにて現像されることでレジストマスクが形成される。しかる後ウエハＷは載置台３００上の元のキャリアＣへと戻される。
【００５８】
更に本発明においては、処理する基板はウエハＷに限られず、例えばＬＣＤ基板、フォトマスク用のレチクル基板であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の実施の形態にかかる基板処理装置を示す縦断面図である。
【図２】本発明の実施の形態にかかる基板処理装置を示す平面図である。
【図３】上記基板処理装置の流体規制部材を示す説明図である。
【図４】上記基板処理装置の流体規制部材を示す説明図である。
【図５】上記基板処理装置を用いて基板の表面を現像する様子を示す説明図である。
【図６】上記基板処理装置を用いて基板の裏面を洗浄する様子を示す説明図である。
【図７】上記基板処理装置を用いて基板の裏面を洗浄する様子を示す説明図である。
【図８】上記基板処理装置を用いて基板の裏面を洗浄する様子を示す説明図である。
【図９】上記流体規制部材に供給する他の手法を示す説明図である。
【図１０】上記流動規制部の傾斜羽根の他の例を示す説明図である。
【図１１】本発明の実施の形態にかかる他の基板処理装置を示す縦断面図である。
【図１２】上記基板処理装置の裏面洗浄機構を示す説明図である。
【図１３】上記基板処理装置の裏面洗浄機構を示す説明図である。
【図１４】本発明の実施の形態にかかる更に他の基板処理装置を示す説明図である。
【図１５】本発明の実施の形態にかかる更に他の基板処理装置を示す説明図である。
【図１６】流体規制部材の更に他の例を示す説明図である。
【図１７】本発明の基板処理装置が組み込まれる塗布・現像装置を示す平面図である。
【図１８】本発明の基板処理装置が組み込まれる塗布・現像装置を示す斜視図である。
【図１９】従来の現像装置を示す説明図である。
【図２０】従来の現像装置を用いて基板を現像する工程を示す説明図である。
【符号の説明】
【００６０】
Ｗ      ウエハ
２      載置部
２１    カップ体
３      液膜形成板
４      現像液ノズル
５      上側洗浄・乾燥ノズル
６      流体規制部材
６２    傾斜羽根
７      下側洗浄・乾燥ノズル
８      制御部
【図１】
2005259874.tif 000003
【図２】
2005259874.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
2005259874.tif 000018
【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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