(57)【要約】      （修正有）【課題】新規な金属−ヒドリド錯体を用いて一酸化炭素を六量化する方法を提供する。【解決手段】一般式（１）で表わされる金属−ヒドリド錯体をエーテル系溶媒中でＣＯと反応させると特定のＣＯの六量体成分を含むタンタル錯体が得られる。2005247774.tif 000026【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）：
【化１】
2005247774.tif 000016
（式中、Ｒ1はiso-プロピル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｒ2はメチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｒ3はメチル基、エチル基、iso-プロピル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｍはアルカリ金属、Ｌはエーテル系溶媒でありｎは１又は２を示す）
で表されるタンタル−ヒドリド錯体。
【請求項２】
一般式（２）：
【化２】
2005247774.tif 000017
（式中、Ｒ1はiso-プロピル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｒ2はメチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｒ3はメチル基、エチル基、iso-プロピル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｍはアルカリ金属、Ｌはエーテル系溶媒でありｎは１又は２、Ｌ’はエーテル系溶媒を示す）
で表される一酸化炭素の六量体成分を含むタンタル錯体。
【請求項３】
一般式（３）：
【化３】
2005247774.tif 000018
（式中、Ｒ1はiso-プロピル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｒ2はメチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｒ3はメチル基、エチル基、iso-プロピル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基を示す）
で表されるタンタル錯体。
【請求項４】
一般式（３）：
【化４】
2005247774.tif 000019
（式中、Ｒ1はiso-プロピル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｒ2はメチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｒ3はメチル基、エチル基、iso-プロピル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基を示す）
で表されるタンタル錯体を、エーテル系溶媒（Ｌ）を含有する溶媒中で、還元剤を用いて還元することを特徴とする、一般式（１）：
【化５】
2005247774.tif 000020
（式中、ｎは１又は２を示し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｍ及びＬは前記に同じ）
で表されるタンタル−ヒドリド錯体の製造方法。
【請求項５】
一般式（１）：
【化６】
2005247774.tif 000021
（式中、Ｒ1はiso-プロピル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｒ2はメチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｒ3はメチル基、エチル基、iso-プロピル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｍはアルカリ金属、Ｌはエーテル系溶媒でありｎは１又は２を示す）
で表されるタンタル−ヒドリド錯体を、エーテル系溶媒（Ｌ’）を含む溶媒中で一酸化炭素と反応させることを特徴とする、一般式（２）：
【化７】
2005247774.tif 000022
（但し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｍ、Ｌ、Ｌ’及びｎは前記に同じ）
で表される一酸化炭素の六量体成分を含むタンタル錯体の製造方法。
【請求項６】
一般式（６）：
【化８】
2005247774.tif 000023
（式中、Ｒ1はiso-プロピル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｒ2はメチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｒ3はメチル基、エチル基、iso-プロピル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基を示す）
で表される化合物に、アルキルリチウムを反応させた後、五塩化タンタルを反応させることを特徴とする、一般式（３）：
【化９】
2005247774.tif 000024
（但し、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前記に同じ）
で表されるタンタル錯体の製造方法。
【請求項７】
一酸化炭素を六量化させるための一般式（１）：
【化１０】
2005247774.tif 000025
（式中、Ｒ1はiso-プロピル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｒ2はメチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｒ3はメチル基、エチル基、iso-プロピル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｍはアルカリ金属、Ｌはエーテル系溶媒でありｎは１又は２を示す）
で表されるタンタル−ヒドリド錯体の使用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属錯体を用いて一酸化炭素を六量化する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一酸化炭素は、カルボニル配位子として金属錯体に安定に配位することが知られているが、一般に一酸化炭素の炭素−炭素結合形成は熱力学的に不利であるため、金属錯体を用いて一酸化炭素のオリゴマー化に成功した例は、これまで報告されていない。
【０００３】
一酸化炭素のオリゴマー化が可能となれば、ポリケトンやポリオールなどの構成単位を構築することができ、特に、グルコースやフルクトースなどの単糖類の鎖状構造と同じ骨格を簡便に合成することができると考えられ、有機合成上極めて重要なツールとなり得る。
【０００４】
ところで、これまでには、アクチニド金属錯体を用いて一酸化炭素を四量化した例が非特許文献１及び２に報告されており、また、遷移金属錯体を用いて一酸化炭素を二量化した例が非特許文献３に報告されている。
【０００５】
しかし、タンタル錯体を用いて一酸化炭素を六量化した例については、これまで報告されていない。
【非特許文献１】Tobin J. Marks et al., J. Am. Chem. Soc. 1986, 108, 56-67
【非特許文献２】Tobin J. Marks et al., J. Am. Chem. Soc. 1980, 102, 5393-5396
【非特許文献３】T. Don Tilley et al., Organometallics 1993, 12, 2584-2590
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、新規な金属−ヒドリド錯体を用いて一酸化炭素を六量化する方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記の課題を解決するため鋭意検討を行った結果、特定のタンタル−ヒドリド錯体と一酸化炭素とを反応させたところ、一酸化炭素が六量化した化合物を含むタンタル錯体を製造し得ることを見出した。この知見に基づき、さらに研究を重ねて、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明は以下の金属−ヒドリド錯体等を提供する。
【０００９】
項１．一般式（１）：
【００１０】
【化１】
2005247774.tif 000002
（式中、Ｒ1はiso-プロピル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｒ2はメチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｒ3はメチル基、エチル基、iso-プロピル基、sec−ブチル基又はtert−ブチル基、Ｍはアルカリ金属、Ｌはエーテル系溶媒でありｎは１又は２を示す）
で表されるタンタル−ヒドリド錯体。
【００１１】
項２．一般式（２）：
【００１２】
【化２】
2005247774.tif 000003
（式中、Ｌ’はエーテル系溶媒を示し、他の記号は前記に同じ）
で表される一酸化炭素の六量体成分を含むタンタル錯体。
【００１３】
項３．一般式（３）：
【００１４】
【化３】
2005247774.tif 000004
（但し、記号は前記に同じ）
で表されるタンタル錯体。
【００１５】
項４．一般式（３）：
【００１６】
【化４】
2005247774.tif 000005
（但し、記号は前記に同じ）
で表されるタンタル錯体を、エーテル系溶媒（Ｌ）を含有する溶媒中で、還元剤を用いて還元することを特徴とする、一般式（１）：
【００１７】
【化５】
2005247774.tif 000006
（但し、記号は前記に同じ）
で表されるタンタル−ヒドリド錯体の製造方法。
【００１８】
項５．一般式（１）：
【００１９】
【化６】
2005247774.tif 000007
（但し、記号は前記に同じ）
で表されるタンタル−ヒドリド錯体を、エーテル系溶媒（Ｌ’）を含む溶媒中で一酸化炭素と反応させることを特徴とする、一般式（２）：
【００２０】
【化７】
2005247774.tif 000008
（但し、記号は前記に同じ）
で表される一酸化炭素の六量体成分を含むタンタル錯体の製造方法。
【００２１】
項６．一般式（６）：
【００２２】
【化８】
2005247774.tif 000009
（但し、記号は前記に同じ）
で表される化合物に、アルキルリチウムを反応させた後、五塩化タンタルを反応させることを特徴とする、一般式（３）：
【００２３】
【化９】
2005247774.tif 000010
（但し、記号は前記に同じ）
で表されるタンタル錯体の製造方法。
【００２４】
項７．一酸化炭素を六量化させるための一般式（１）：
【００２５】
【化１０】
2005247774.tif 000011
（但し、記号は前記に同じ）
で表されるタンタル−ヒドリド錯体の使用。
以下、本発明を詳述する。
【００２６】
タンタル−ヒドリド錯体
本発明の一般式（１）で表されるタンタル−ヒドリド錯体（以下、「Ta-H錯体」とも表記する）において、Ｒ1は嵩高い置換基が好適であり、iso-プロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基などが挙げられ、そのうち特に嵩高いtert−ブチル基が好ましい。Ｒ2は、メチル基、エチル基、n-プロピル基、iso-プロピル基、n-ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基などが挙げられ、そのうちメチル基が好ましい。Ｒ3は、メチル基、エチル基、iso-プロピル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基などが挙げられ、そのうちtert−ブチル基が好ましい。
【００２７】
Ｍで示されるアルカリ金属としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋなどが挙げられる。
【００２８】
Ｌで示されるエーテル系溶媒は、分子内に１又は２個のエーテル結合を有し、アルカリ金属（Ｍ）に対し単座又は二座の配位子となり得るエーテル系溶媒である。単座配位子となり得るエーテル系溶媒としては、具体的には、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、テトラヒドロフラン（THF）、テトラヒドロピラン、ジオキサン、ブチルメチルエーテルなどが例示される。また、二座配位子となりうるエーテル系溶媒としては、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、ジメトキシプロパン、エチレングリコールジエチルエーテル等が例示される。
【００２９】
通常、エーテル系溶媒(Ｌ)が、アルカリ金属（Ｍ）に対し単座配位子となり得る場合、ｎは２となる。一方、エーテル系溶媒(Ｌ)が、アルカリ金属（Ｍ）に対し二座配位子となり得る場合、ｎは１又は２となる。つまり、一般式（１）で示されるアルカリ金属（Ｍ）上には、エーテル系酸素の配位座が２個あるいは４個存在することになる。
【００３０】
なお、一般式（１）で示されるTa-H錯体では、金属と配位子との結合状態が、共有結合性又は配位結合性を有するかは明瞭ではないため、金属と配位子との化学結合をすべて一重結合で表記している。
【００３１】
一般式（１）で表される具体的な化合物としては、Ｒ1がtert−ブチル基、Ｒ2がメチル基、Ｒ3がtert−ブチル基であり、Ｌがジエチルエーテル（ｎ＝２）、テトラヒドロフラン（ｎ＝２）、又はジメトキシエタン（ｎ＝１）である化合物が挙げられる。これらの化合物は、後述する一酸化炭素に対しても速やかに反応し一酸化炭素の六量体を与える。
【００３２】
本発明のTa-H錯体のより具体的な一実施形態として、実施例２〜７で得られる化合物が挙げられる。そのうち、実施例７で得られる化合物のＸ線構造解析の結果を図２に示す。
【００３３】
一酸化炭素の六量体を含むタンタル錯体
本発明の一般式（２）で表されるタンタル錯体（以下、「Ta錯体」とも表記する）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｍ、Ｌ及びｎは、それぞれ一般式（１）で表される化合物と同義である。
【００３４】
一般式（２）で表されるTa錯体において、Ｌ’で示されるエーテル系溶媒としては、分子内に１又は２個のエーテル結合を有し、アルカリ金属（Ｍ）に対し単座配位子となり得るエーテル系溶媒である。このエーテル系溶媒としては、具体的には、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチルエチルエーテル、テトラヒドロフラン（THF）、テトラヒドロピラン、ジオキサンなどが例示される。
【００３５】
一般式（２）で表されるTa錯体は、タンタル金属４個を含有し、分子内に一酸化炭素分子が六量化した化合物を含有しており、これまでにない新規な化合物である。
【００３６】
本発明の一般式（２）で表されるTa錯体のより具体的な一実施形態として、実施例８で得られる化合物が挙げられる。該化合物のＸ線構造解析の結果を図３に示す。
【００３７】
製造方法
本発明の一般式（１）で表されるTa-H錯体は、例えば次のようにして製造されるが、これに限定されるものではない。
【００３８】
まず、一般式（６）で表される化合物に、アルキルリチウムを反応させた後、五塩化タンタルを反応させて、一般式（３）で表されるTa錯体を製造する。ここで、一般式（６）で表される化合物における、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ一般式（１）で表される化合物と同義である。
【００３９】
具体的には、一般式（６）で表される化合物を、シュレンク管等の密閉された反応器に入れて不活性気体（例、アルゴン）で置換する。これに、溶媒（例、トルエン、キシレン）を加えて溶解し、該溶液を−90〜−50℃程度として、これに一般式（６）で表される化合物に対し３当量程度のアルキルリチウム（例、ｎ−ブチルリチウムのヘキサン溶液）を加えて撹拌する。これに、一般式（６）で表される化合物に対し１〜１．１当量の五塩化タンタルを加え、加熱還流して、一般式（３）で表される化合物を得る。この一般式（３）で表される化合物は、上記一般式（１）又は（２）で表される化合物の合成中間体となる化合物であり、新規な化合物である。なお、一般式（６）で表される化合物は、例えば、T. Sone, Y. Ohba, and H. Yamazaki, Bull. Chem. Soc. Jpn., 62, 1111 (1989)、 B. Dhaswan and C. D. Gutsche, J. Org. Chem., 48, 1536 (1983) 等に記載される方法に準じて、容易に合成することができる。
【００４０】
本発明の一般式（３）で表されるTa錯体のより具体的な一実施形態として、実施例１で得られる化合物が挙げられる。該化合物のＸ線構造解析の結果を図１に示す。
【００４１】
次に、一般式（３）で表されるTa錯体を、エーテル系溶媒（Ｌ）を含む溶媒中で、還元剤を用いて還元することにより、一般式（１）で示されるTa-H錯体を製造する。
【００４２】
具体的には、一般式（３）で表されるTa錯体を、シュレンク管等の密閉された反応器に入れて不活性気体（例、アルゴン）で置換する。これに、エーテル系溶媒（Ｌ）を含む溶媒を入れて、さらに還元剤を加え、一般式（３）で表されるTa錯体を還元する。
【００４３】
還元剤としては、一般式（４）：
ＭＢＨ（Ｒ）3          （４）
（式中、Ｒはアルキル基を示し、Ｍは前記に同じ）
で表される還元剤が用いられる。一般式（４）で表される還元剤において、Ｒで示されるアルキル基としては、Ｃ１〜６の直鎖又は分岐鎖のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、特にエチル基が好ましい。
【００４４】
また、他の還元剤として、一般式（５）：
ＭＨ              （５）
（但し、Ｍは前記に同じ）
で表される還元剤も用いられる。具体的には、水素化リチウム、水素化ナトリウム又は水素化カリウムが挙げられる。
【００４５】
還元剤の使用量は、一般式（３）で表されるTa錯体に対し、５〜８倍当量程度使用すればよい。用いる溶媒はエーテル系溶媒の他に、トルエン、ベンゼン、キシレン、エチルベンゼン等の還元剤に対し不活性な溶媒を含有していてもよい。還元反応温度は、最初は低温であることが好ましく、通常、−80〜−50℃程度とし、その後室温程度まで昇温して、さらに5〜12時間程度撹拌すればよい。反応終了後、反応液に無極性炭化水素（例、ヘキサン）などを加えて結晶化させて目的物を得る。或いは、反応液を反応終了時の溶媒量に対し１／5〜１／20程度（体積比）になるまで濃縮した後、これに上記無極性炭化水素を用いて結晶化させてもよい。
【００４６】
なお、結晶化の際に、上記還元反応で用いた溶媒（Ｌ）と異なるエーテル系溶媒（Ｌ0）を加えて溶媒を置換した後に結晶化を行うことも可能であり、これにより、エーテル系溶媒（Ｌ0）がＭ上に配位した一般式（１）で示されるTa-H錯体を得ることができる。なお、エーテル系溶媒（Ｌ0）は、上記のエーテル系溶媒（Ｌ）の中から選択することができる。
【００４７】
続いて、本発明の一般式（２）で表されるTa錯体は、例えば、次のようにして製造されるが、これに限定されるものではない。
【００４８】
一般式（２）で表されるTa錯体は、上記の一般式（１）で表されるTa-H錯体を、エーテル系溶媒（Ｌ’）を含む溶媒中で、一酸化炭素と反応させることにより製造される。
【００４９】
具体的には、一般式（１）で表されるTa-H錯体を、シュレンク管等の密閉された反応器に入れて不活性気体（例、アルゴン）で置換する。これに、エーテル系溶媒（Ｌ’）を含む溶媒を入れた後、一酸化炭素を導入して不活性気体を一酸化炭素に置換して反応溶液を撹拌する。安定なTa-H錯体を得るためには、溶媒は、エーテル系溶媒が主成分であることが好ましく、通常、全溶媒中のエーテル系溶媒の割合が50体積％程度以上であることが必要である。反応温度は15〜25℃程度であり、一酸化炭素の圧力は１atm程度である。反応時間は通常0.5〜3時間程度である。反応終了後、反応液を反応終了時の溶媒量に対し１／２〜１／１０程度（体積比）になるまで濃縮した後、静置して結晶化させることにより目的物の結晶を得る。
【００５０】
このように、一般式（２）で表されるTa錯体は、一般式（１）で表されるTa-H錯体２分子と一酸化炭素６分子から、簡便且つ容易に製造することができる。このTa錯体は、一酸化炭素の六量化により生成する炭素６個と酸素６個からなる成分を、Taの配位子として含有しており、これまでにない新規な錯体である。
【００５１】
得られる一般式（２）で表されるTa錯体は、通常の加水分解反応の条件（例、塩酸、酢酸等）で加水分解することにより、Ｃ６骨格を有する化合物、例えば、グルコースやフルクトースなどの６炭糖の骨格を有する炭水化物への変換が可能となる。そのため、有機合成上有用な合成ツールとなり得る。
【発明の効果】
【００５２】
本発明によれば、特定のタンタル−ヒドリド錯体を用いることにより、一酸化炭素を簡便且つ容易に六量化することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５３】
次に、本発明を実施例によって更に詳述するが、これに限定されるものではない。
【００５４】
実施例１（タンタル錯体(3a)の合成）
【００５５】
【化１１】
2005247774.tif 000012
高真空系、冷却管、及び撹拌子を備えた200 mLシュレンク管を、脱気乾燥後アルゴン置換した。これに、2,6-ビス（4,6-ジメチルサリチル）-4-t-ブチルフェノール(6a)（12.3 g, 24.5 mmol）及びトルエン（100 mL）を入れてトルエン溶液とし、これを0℃に冷却した。該トルエン溶液に、ブチルリチウムのヘキサン溶液(48 mL, 73.5 mmol)を滴下した。0℃で１時間撹拌した後、室温にもどし、五塩化タンタル(8.76 g, 25.5 mmol)を加えた。反応混合物を、加熱還流下３時間撹拌することにより、化合物(3a)が黄色結晶として析出した。室温にもどし、反応溶液をろ過し、得られた固体をヘキサンで洗浄した後、減圧乾燥することにより化合物(3a)を黄色結晶として得た。収量10.3 g（6.85 mmol）。収率54％。
【００５６】
元素分析：計算値；C, 54.34; H, 5.77.  実測値；C, 53.89; H, 5.63.
結晶学的データ：三斜晶形、空間群P1(bar)、a = 13.529(5) Å、b = 14.237(4) Å、c = 21.265(8) Å、α= 73.911(9) deg、β= 90.04(1) deg、γ= 72.469(9) deg、V = 3754(2) Å3、密度（計算値）= 1.493 g cm-3 、観測反射数  16408点、R1 = 0.044、wR2 = 0.086.
化合物(3a)の結晶構造図を図１に示す。図１中、水素原子は省略している。
【００５７】
実施例２（タンタルヒドリド錯体（1a）の合成）
【００５８】
【化１２】
2005247774.tif 000013
高真空系及び撹拌子を備えた100 mLシュレンク管を、脱気乾燥後アルゴン置換した。これに、タンタル錯体(3a) (0.64 g, 0.43 mmol)とトルエン(40 mL)を入れ、マイナス78℃に冷却した。これに、リチウムトリエチルボロンハイドライド(LiBHEt3)(4a)のテトラヒドロフラン(THF)溶液(2.2 mL, 2.2 mmol)を加えた後、室温に戻し８時間撹拌した。反応混合物を5 mLまで濃縮し、不溶物を遠心分離機で除いた後、ヘキサンを加えることにより表題化合物(1a)が黄色結晶として得られた（表１）。収量0.28 g。収率41％。
【００５９】
元素分析：計算値；C, 62.09; H, 6.97.  実測値；C, 61.89; H 7.11.
実施例３
LiBHEt3に代えてNaBHEt3を用いること以外は、実施例２と同様に操作を行ったところ、化合物(1b)を得た（表１）。
【００６０】
元素分析：計算値；C, 59.68; H, 6.79.  実測値；C, 59.52; H 6.98.
実施例４
LiBHEt3に代えて、KBHEt3を用いること以外は、実施例２と同様に操作を行ったところ、化合物(1c)を得た（表１）。
【００６１】
元素分析：計算値；C, 57.06; H, 6.72.  実測値；C, 56.33; H 6.51.
実施例５
実施例２においてヘキサンによる結晶化の時に、溶媒をジメトキシエタン(DME)に置換することにより、化合物(1d)を得た（表１）。
【００６２】
元素分析：計算値；C, 59.26; H, 6.70.  実測値；C, 58.47; H 6.62.
実施例６
実施例２においてヘキサンによる結晶化の時に、溶媒をジエチルエーテル(Et2O)に置換することにより、化合物(1e)を得た（表１）。
【００６３】
元素分析：計算値；C, 60.15; H, 7.11.  実測値；C, 59.19; H 6.88.
実施例７
高真空系及び撹拌子を備えた100 mLシュレンク管を脱気乾燥後アルゴン置換した。これに、タンタル錯体(1a) (1.04 g, 0.69 mmol)とトルエン(60 mL)を入れ、マイナス78℃に冷却する。これに、リチウムトリエチルボロンハイドライドKBHEt3 (4b)のテトラヒドロフラン(THF) 溶液(3.5 mL, 3.5 mmol)を加えた後、室温に戻し12時間撹拌した。不溶物を遠心分離機で除いた後、溶媒を減圧留去した。残渣を1,2-ジメトキシエタン(DME)に溶かし、ヘキサンを加えることにより、化合物(1f)が黄色結晶として得られた（表１）。収量0.57 g。収率52％。
【００６４】
元素分析：計算値；C, 57.71; H, 6.82.  実測値；C, 57.46; H 6.62.
結晶学的データ：単斜晶形、空間群C2/c、a= 23.291(5) Å、b= 13.814(3) Å、c= 23.758(5) Å、β= 103.965(3) deg、V = 7417(2) Å3、密度（計算値）= 1.416 g cm-3 、観測反射数  28620点、R1 = 0.029、wR2 = 0.070.
化合物(1f)の結晶構造図を図２に示す。図２中、水素原子は省略している。
【００６５】
【表１】
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実施例８（一酸化炭素の６量化反応（2f））
【００６６】
【化１３】
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高真空系及び撹拌子を備えた100 mLシュレンク管を、脱気乾燥後アルゴン置換した。これに、タンタル−ヒドリド錯体(1f) (0.12 g, 0.080 mmol)を入れ、THF(10 mL)に溶かした。アルゴンを一酸化炭素(1 atm)に置換し、室温で１時間撹拌した。溶液を2 mLまで減圧濃縮し、一晩静置すると表題化合物（2f）が濃赤色結晶として得られた。収量61 mg。収率47％。
【００６７】
元素分析：計算値；C, 57.59; H, 6.42.  実測値；C, 58.13; H 6.86.
結晶学的データ：単斜晶形、空間群P21/c、a = 17.660(6) Å、b = 26.919(8) Å、c = 18.586(6) Å、β = 105.080(5) deg、V = 8535(4) Å3、密度（計算値）= 1.395 g cm-3 、観測反射数  11092点、R1 = 0.099、wR2 = 0.302.
化合物(2f)の結晶構造図を図３に示す。図３中、配位子のベンゼン環上の置換基(tert-ブチル基およびメチル基)と水素原子および対カチオンの[K(DME)]+は省略している。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】実施例１で得られるタンタル錯体の結晶構造解析の結果を示す図である。
【図２】実施例７で得られるタンタル−ヒドリド錯体の結晶構造解析の結果を示す図である。
【図３】実施例８で得られる一酸化炭素の六量体を含むタンタル錯体の結晶構造解析の結果を示す図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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