(57)【要約】【課題】  エアーブローを利用して、自重による基板の歪み・撓みを低減することができ、また、好適に基板の取付け・取外しを行なうことができ、さらに、異なるサイズの基板にも対応することの可能な基板保持装置，基板処理装置，基板検査装置及び基板保持方法の提供を目的とする。【解決手段】  基板保持装置１は、基板１０を平板状のステージ２に保持する基板保持装置１であって、ステージ２の上面に、載置面２２を有する凸部２１ａ，２１ｂ，２１ｃと、基板１０の下面に気体を吹き付けるための吐出孔２５とを備え、凸部２１ａ，２１ｂが基板１０を吸着保持する吸着孔２３を有し、かつ、基板１０の下面に吹き付けられた気体が水平方向に排気される。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板をステージに保持する基板保持装置であって、
前記ステージの上面に、凸部と、前記基板の下面に気体を吹き付けるための吐出孔とを備え、
前記凸部が、前記基板を部分的に載置する載置面と前記基板を保持する保持手段を有し、かつ、前記基板の下面に吹き付けられた気体が、水平方向に排気されることを特徴とする基板保持装置。
【請求項２】
前記保持手段が、前記基板を吸着して保持する吸着孔である請求項１記載の基板保持装置。
【請求項３】
前記基板を保持しているときに、前記基板が平坦状になる流量で前記基板の下面に前記吐出孔から前記気体を吹き付け、かつ、前記基板をステージへ取り付けるとき及び／又は前記基板をステージから取り外すとき、前記基板を浮上させる流量で前記基板の下面に前記吐出孔から前記気体を吹き付ける、送風手段を備えた請求項１又は２記載の基板保持装置。
【請求項４】
前記吐出孔を複数配設した請求項１〜３のいずれかに記載の基板保持装置。
【請求項５】
前記ステージと前記基板との間の空間の圧力を測定する圧力計を設けた請求項１〜４のいずれかに記載の基板保持装置。
【請求項６】
前記基板を、マスク用基板，マスクブランク，マスク又はこれらの中間形成物とした請求項１〜５のいずれかに記載の基板保持装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の基板保持装置を有する基板処理装置であって、
前記基板保持装置によって保持された前記基板の表面に、電子線又はレーザー光を照射する照射手段を有することを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれかに記載の基板保持装置を有する基板検査装置であって、
前記基板保持装置によって保持された前記基板の表面に検査光を照射する検査光照射手段と、
前記検査光にもとづく前記基板の表面の光を検出する光検出手段と、
を有することを特徴とする基板検査装置。
【請求項９】
基板をステージに保持する基板保持方法であって、
前記基板をステージへ取り付けるとき及び／又は前記基板をステージから取り外すとき、前記基板を浮上させる流量で前記基板の下面に気体を吹き付け、
前記基板を保持しているときに、前記基板が平坦状になる流量で前記基板の下面に気体を吹き付けることを特徴とする基板保持方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板保持装置，基板処理装置，基板検査装置及び基板保持方法に関し、特に、エアーブローを利用して、基板の自重による歪み・撓みを低減することができ、また、好適に基板の取付け・取外しを行なうことのできる基板保持装置，基板処理装置，基板検査装置及び基板保持方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトマスクに関連する分野、たとえば、描画・露光工程、フラットネス測定、座標測定等においては、基板をステージに保持したときの僅かな歪みであっても、位置ずれ不良や測定精度不良を引き起こすことが指摘されている。
すなわち、所定の設計パターンを電子線又はレーザーを用いて基板に描画する描画工程や、所定のマスクを用いて基板に露光を行なう露光工程においては、ステージに保持された基板に歪みがあると、パターンに位置ずれが発生する。また、基板のフラットネス測定や座標測定においては、ステージに保持された基板に歪みがあると、測定精度が低下する。
このため、従来、歪みを発生させずに基板を保持する基板保持装置が様々開発されてきた。
【０００３】
たとえば、特許文献１には、プレートチャック本体の一部に一又は二以上の突出部を設け、突出部の上部を基準平面に平行となる平面に形成して一又は二以上の載置面を形成し、これら載置面の全体の面積を、載置面に載置されるフォトマスク基板の面積に比較して小さくし、かつ、載置面を、板状体の被載置面に対して摩擦係数の低い低摩擦部材で構成するとともに、載置面の少なくとも一つに真空吸着孔を設けたことを特徴とするフォトマスク基板保持用プレートチャックの技術が開示されている。
この技術によれば、大型のフォトマスク基板であっても全体的な歪みや部分的な歪みの発生を防止しつつ良好に固定・保持することができる。
【０００４】
また、特許文献２には、基板の一方の面に負荷を与える補正手段を備え、基板の表面形状を補正し、基板を支持部で支持することによりその姿勢を一意的に定めて保持するステージの技術が開示されている。
このステージは、基板の一方の面と相対する面との間に差圧を発生させる機構を具備し、基板の接触面の面精度に制約されることなく、基板の姿勢を一意的に定めて基板の変形にともなう位置精度のばらつきを抑制することができる。
【０００５】
【特許文献１】実開平６−７３７６０号公報（請求項１、図１）
【特許文献２】特開２０００−２２３３８８号公報（請求項３、図１，７）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に開示されたフォトマスク基板保持用プレートチャックは、基板の被支持面を部分的に支持する構造なので、支持されていない基板の非接触部が自重により撓むことがあった。
また、基板を着脱するための工夫が施されていないので、支持面を大きくすると基板との接触面積が増大し、基板に傷をつける危険性が高くなるといった心配があった。
【０００７】
さらに、より高いレベルで基板の変形を抑制しようとすると、真空吸着やばねを用いただけの単純な基板保持方法では、基板をステージに保持するだけで基板を変形させてしまうこともあった。
このため、最新のＬＳＩ用マスクの座標測定機では三箇所のピンに基板を載せるだけのフリーな固定方法が用いられている。ただし、このフリーな固定方法は、自重により撓んでしまうような大型基板に適用することができない。
【０００８】
また、特許文献２に開示されたステージは、基板の裏面をその周縁部において密封させる構造なので、機密性を保つため複雑かつ大掛かりな構造となってしまうといった問題があった。
さらに、大型マスク用の通常のステージは、異なるサイズに対応できる構造としてあるが、このステージは、一つのサイズの基板にしか対応できず、ステージの共用化を図れないといった問題があった。
【０００９】
本発明は、上記諸問題を解決すべく、エアーブローを利用して、自重による基板の歪み・撓みを低減することができ、また、好適に基板の取付け・取外しを行なうことができ、さらに、異なるサイズの基板にも対応することの可能な基板保持装置，基板処理装置，基板検査装置及び基板保持方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この目的を達成するために、本発明の基板保持装置は、基板をステージに保持する基板保持装置であって、前記ステージの上面に、凸部と、前記基板の下面に気体を吹き付けるための吐出孔とを備え、前記凸部が、前記基板を部分的に載置する載置面と前記基板を保持する保持手段を有し、かつ、前記基板の下面に吹き付けられた気体が、水平方向に排気される構成としてある。
このようにすると、基板に下方から気体を吹き付ける（エアーブローする）ことにより、自重による基板の撓みを低減することができる。また、吹き付けた気体を水平方向に排気することにより、基板のサイズに応じた補正手段等を設けなくてもすむので、異なるサイズの基板に対して共用化を図ることができる。
さらに、凸部により基板との接触面積が小さくなり、ステージと基板の間にごみ等の異物が介入して基板が撓むといった不具合を防止することができる。
【００１１】
また、本発明の基板保持装置は、保持手段を、基板を吸着して保持する吸着孔とした構成としてある。
このようにすると、基板を容易に保持することができる。さらに、基板に気体を吹き付けて基板の撓みを抑制するので、たとえば、大型基板に対しても支持部による三点支持が可能となり、吸着保持を行なってもほぼフリーな保持状態を実現することができる。
【００１２】
また、本発明の基板保持装置は、前記基板を保持しているときに、前記基板が平坦状になる流量で前記基板の下面に前記吐出孔から前記気体を吹き付け、かつ、前記基板をステージへ取り付けるとき及び／又は前記基板をステージから取り外すとき、前記基板を浮上させる流量で前記基板の下面に前記吐出孔から前記気体を吹き付ける、送風手段を備えた構成としてある。
このように、ステージへの基板の取付け・取外しを行なうとき、基板に気体を吹き付けて浮上させることにより、凸部が基板と擦れて基板が損傷したり発塵したりする危険性を低減することができる。さらに、基板を保持している間、基板に気体を吹き付けて、歪みや撓みをより確実に抑制することができるので、基板を平坦性が高い状態で保持することができる。
ここで、「平坦」及び「平坦状」とは、平坦な状態は勿論のこと、平坦に近い状態、たとえば、基板処理や基板検査において、平坦性が問題とならない程度の歪みや撓みを残している場合をも含む意味である。
なお、基板を保持している間に基板に吹き付ける気体の流量は、基板が浮上せずに、基板の自重が最大限に低減できる圧力を発生させる流量とすることが好ましい。
【００１３】
また、本発明の基板保持装置は、前記吐出孔を複数配設した構成としてある。
このように複数の吐出孔を均等に配設することにより、気体が均等に基板に吹き付けられるため、基板の浮上及び歪みや撓みの抑制を容易に行なうことができる。
【００１４】
また、本発明の基板保持装置は、前記ステージと前記基板との間の空間の圧力を測定する圧力計を設けた構成としてある。
このようにすると、圧力計により測定された圧力値にもとづいて、基板の下面に気体を吹き付ける流量を制御することができ最適な気体流量を監視することができるため、基板の浮上及び歪みや撓みの抑制を容易に行なうことができる。
【００１５】
また、本発明の基板保持装置は、前記基板を、マスク用基板，マスクブランク，マスク又はこれらの中間形成物とした構成としてある。
このようにすると、たとえば、液晶表示装置製造用の大型フォトマスク（各辺が３００ｍｍ以上の矩形基板）等の大型基板に対して、歪みや撓みをより確実に抑制することができる。なお、マスクとしては、フォトマスク，Ｘ線マスク，電子線マスク，ＥＵＶ反射型マスクなどが挙げられる。
【００１６】
また、本発明の基板処理装置は、請求項１〜６のいずれかに記載の基板保持装置を有する基板処理装置であって、前記基板保持装置によって保持された前記基板の表面に、電子線又はレーザー光を照射する照射手段を有する構成としてある。このようにすると、歪みや撓みをより確実に抑制した基板に対して基板処理を行なうことができる。
すなわち、上記構成の基板保持装置は、平坦度を高精度に維持した状態で基板を保持する必要のあるあらゆる装置に適用が可能である。
この種の基板処理装置としては、例えば、フォトレジストがコーティングされたフォトマスクブランク等の基板を用い、これにレーザー光を照射してパターンを形成するための描画装置又は露光装置が挙げられる。
この他の基板処理装置として、レーザービームを用いて、イオン注入による照射損傷や注入不純物の活性化、及び、多結晶シリコンを再結晶化させることにより単結晶シリコンを作るＳＯＩ（Silicon  on  Insulator）技術等のアニール処理装置や、半導体基板上に選択的成膜を行なうＣＶＤ処理装置が挙げられる。
【００１７】
また、本発明の基板検査装置は、請求項１〜６のいずれかに記載の基板保持装置を有する基板検査装置であって、前記基板保持装置によって保持された前記基板の表面に検査光を照射する検査光照射手段と、前記検査光にもとづく前記基板の表面の光を検出する光検出手段と、を有する構成としてある。このようにすると、歪みや撓みをより確実に抑制した基板に対して基板検査を行なうことができる。
この種の基板検査装置としては、例えば、基板の平坦度を測定する検査装置や基板表面に形成されたパターンの位置精度の測定を行なう座標測定装置が挙げられる。
【００１８】
また、本発明の基板保持方法は、基板をステージに保持する基板保持方法であって、前記基板をステージへ取り付けるとき及び／又は前記基板をステージから取り外すとき、前記基板を浮上させる流量で前記基板の下面に気体を吹き付け、前記基板を保持しているときに、前記基板が平坦状になる流量で前記基板の下面に気体を吹き付ける方法としてある。
このように、本発明は、基板保持方法としても有効であり、上述した各基板保持装置と同様の効果を発揮することができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明における基板保持装置によれば、基板に下方から気体を吹き付ける（エアーブローする）ことにより、自重による基板の撓みを低減することができる。また、吹き付けた気体を水平方向に排気することにより、基板のサイズに応じた補正手段等を設けなくてもすむので、異なるサイズの基板に対して共用化を図ることができる。
また、ステージへの基板の取付け・取外しを行なうとき、基板に気体を吹き付けることにより、凸部が基板と擦れて基板が損傷したり発塵したりする危険性を低減することができる。
さらに、基板を保持する前に基板に気体を吹き付け、平坦な状態とした基板を保持することにより、歪みや撓みをより確実に抑制することができる。
【００２０】
また、本発明の基板保持装置は、平坦度を高精度に維持した状態で基板を保持する必要のあるあらゆる装置、たとえば、基板処理装置や基板検査装置等に適用が可能である。
さらに、本発明は基板保持方法としても有効であり、上述した各基板保持装置と同様の効果を発揮することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
[基板保持装置]
図１は、本発明にかかる基板保持装置の概略構成図を示している。
また、図２は、本発明にかかる基板保持装置のステージの概略平面図を示している。
図１において、基板保持装置１は、ステージ２，真空発生手段３，送風手段４，制御手段５，及び圧力計６とからなっている。
なお、基板保持装置１が保持する基板１０としては、マスク用基板，マスクブランク，マスク又はこれらの中間形成物等が挙げられる。
【００２２】
基板保持装置１は、基板１０を平板状のステージ２に保持する構成としてあり、図２に示すように、ステージ２の上面には、基板１０を部分的に保持する複数の凸部２１ａ，２１ｂ，２１ｃが突設してある。凸部２１ａ，２１ｂ，２１ｃは、縦方向に伸びた帯状の突起部であり、中央部に空隙２４が形成された状態で、横方向に等間隔で７列並設されている。このように、同一方向に凸部２１ａ，２１ｂ，２１ｃを並設することにより、容易に清掃することができる。また、空隙２４を設けることにより、エアーブローの圧力をより均一化することができる。
【００２３】
凸部２１ａ，２１ｂ，２１ｃは、上面が載置面２２となっており、基板１０が載置される。この際、基板１０の下面の一部が載置面２２と接触し接触面積が小さくなるので、ステージ２と基板１０の間にごみ等の異物が介入して基板１０が撓むといった不具合を防止することができる。
載置面２２は、基板１０が平坦な状態で載置されるように、平坦度及び高さが極めて精度よく加工されている。
ここで、載置面２２の高さＨ（図１参照）は、基板１０の浮上量（吐出孔２５から基板１０までの高さ）の１／２以下とすることが好ましい。この理由は、１／２以下とすることにより、基板１０を浮上させた際、載置面２２に基板１０が接触することを防ぐことができる。具体的には、基板１０の浮上する高さは、通常、約０．２ｍｍ〜約０．５ｍｍであるので、載置面２２の高さＨを約５０μｍ〜約１００μｍとすると、基板１０を容易に浮上させることができるとともに、基板１０を浮上させた際、載置面２２に基板１０が接触することを防ぐことができる。また、載置面２２の高さＨを約１００μｍより低くすると、吐出孔２５から基板１０の下面までの距離が必要以上に長くならず、基板１０を浮上させる際、大量かつ高い吐出圧の気体を必要とせず、また、約５０μｍより高くすると、摩擦などで発塵した異物が介入しても基板１０が撓んだりすることがない。
【００２４】
また、載置面２２は、基板１０が簡単に滑らない範囲でより小さな摩擦係数を有することが好ましく、このようにすると、基板１０を滑らすことなく保持することができ、かつ、載置面２２と接触した状態で基板１０を移動させることができる。上記摩擦係数は、載置面２２の面粗度を粗くしたり、グリスを塗ったり、あるいは、オイル含浸材料を使用することにより実現することができる。
なお、本実施形態では、複数の凸部２１ａ，２１ｂ，２１ｃを配設した構造としてあるが、この構造に限定されるものではなく、たとえば、環状の凸部（図示せず）を一つ設ける構造としてもよい。
【００２５】
また、凸部２１ａは、載置面２２の中央側端部に、基板１０の下面を吸着する吸着孔２３が一つ穿設され、凸部２１ｂは、載置面２２の中央側端部と載置面２２の中央部に吸着孔２３が二つ穿設してある。この凸部２１ａ，２１ｂは、吸着孔２３を介して真空吸着することにより、基板１０を容易に保持することができる。さらに、吸着孔２３を複数箇所に設け、使用する吸着孔２４を吸着用バルブ３１で選択することにより、簡単かつ短時間で、異なるサイズの基板１１に対応でき、保持力（吸着力）の大きさを調整することができる。
なお、凸部２１ｃは、吸着部を備えていないが、基板１０が載置されることにより、基板１０を保持する。
【００２６】
ステージ２の上面には、凸部２１ａ，２１ｂ，２１ｃを避けて、ほぼ均等に、縦８列×横３段の位置に２４個の吐出孔２５が穿設してあり、この吐出孔２５から基板１０の下面に気体を吹き付ける。このように、基板１０に下方から気体を吹き付けることにより、基板１０を上方に押し上げ、載置面２２に載置されていない部分の基板１０が自重により撓むのを防止する。
また、本発明の基板保持装置１は、基板１０の下面に吹き付けた気体を、水平方向に排気する構成としており、これにより、基板１０のサイズに応じた補正手段等を設けなくてもすむので、異なるサイズの基板１１に対して共用化を図ることができる。特に、大型基板に対しても共用化を図ることができ、経済的に大きな効果を発揮することができる。
【００２７】
なお、各吐出孔２５と送風手段４の間には、流量調整バルブ４３が取り付けられており、基板１０の下面に吹き付ける気体の流量を調整し、また、必要としない吐出孔２５を閉めることができる。
ここで、好ましくは、気体の流量を調整する際、各吐出孔２５の近傍に埋設した圧力計６の圧力値にもとづいて流量を調整するとよく、このようにすると、最適な圧力とするための流量調整を精度よくかつ短時間で行なうことができる。
なお、本実施形態の圧力計６は、ゲージ式の圧力センサ６１と圧力表示部６２とからなっているが、このようなタイプの圧力計６に限定されるものではなく、たとえば、圧力測定孔（図示せず）を設けて、直接圧力を測定してもよい。また、圧力計は、ステージ２上の一箇所又は複数箇所に設ける構成としてもよい。
【００２８】
真空発生手段３は、図１に示すように、各吸着孔２３に対応した吸着用バルブ３１及び配管３２を介して、各吸着孔２３と接続されている。また、真空発生手段３の吸込み口には真空破壊用バルブ３３が設けてある。
真空発生手段３は、一般的に、小型の真空ポンプが使用されるが、これに限定されるものではなく、真空を発生させる手段であればよい。
また、吸着用バルブ３１と真空破壊用バルブ３３は、一般的に、電磁バルブが用いられ、真空発生手段３とともに制御手段５により制御される。
【００２９】
送風手段４は、一般的に、コンプレッサー（図示せず）からの圧縮気体を減圧するレギュレータ４１ａ，４１ｂと、吐出孔２５への送風をオンオフする電磁弁４２ａ，４２ｂとからなっている。
レギュレータ４１ａ及び電磁弁４２ａは、レギュレータ４１ｂ及び電磁弁４２ｂと並列に接続されている。また、レギュレータ４１ａは、基板１０を完全に浮上させることの可能な圧力に設定され、レギュレータ４１ｂは、基板１０を浮上させないが浮上させる直前の圧力であって、基板１０の撓みを抑制し平坦な状態で保持することの可能な圧力に設定されている。このようにすると、電磁弁４２ａ，４２ｂを制御することにより、二つの吐出圧の気体を連続的に吹き付けることができる。
電磁弁４２ａ，４２ｂは、吐出孔２５ごとに設けられた流量調整バルブ４３を介して、配管４４で各吐出孔２５と接続されている。また、電磁弁４２ａ，４２ｂは、制御手段５により制御される。
なお、圧縮気体は、一般的にエアを使用するが、装置や基板の種類，用途等によっては、窒素ガスその他の不活性ガスを使用してもよい。
【００３０】
制御手段５は、一般的に、シーケンサ等が使用され、基板搬送装置（図示せず）から、搬送に関する外部入力信号を入力し、真空発生手段３，吸着用バルブ３１，真空破壊用バルブ３３及び電磁弁４２ａ，４２ｂを制御する。
なお、本実施形態では、制御手段５が真空発生手段３，吸着用バルブ３１，真空破壊用バルブ３３及び電磁弁４２ａ，４２ｂを制御する構成としてあるが、この構成に限定されるものではなく、たとえば、各圧力計６からの圧力値を入力して、流量調整バルブ４３を自動調整する構成としてもよい。
【００３１】
次に、上記構成の基板保持装置１の動作について、図面を参照して説明する。
まず、基板保持装置１は、制御手段５が、基板搬送装置（図示せず）から、基板載置信号を入力する（ステップＳ１）と、電磁弁４２ａ，４２ｂをオンし、吐出孔２５から気体を吐出する（ステップＳ２）。このとき、流量調整バルブ４３の上流側における配管４４内の圧力は、レギュレータ４１により設定された基板１０を完全に浮上させる圧力となり、載置面２２の高さＨが、たとえば、約５０μｍ〜約１００μｍのときは、基板１０を吐出孔２５（吐出孔２５が穿設されたステージ２の上面）から約０．２ｍｍ〜約０．５ｍｍ浮上させる。
【００３２】
次に、基板搬送装置は、吐出孔２５の上方約０．２ｍｍ〜約０．５ｍｍの位置に基板１０を搬送し、この位置で基板１０を放すとともに基板開放信号を出力する。開放された基板１０は、ほぼ均等に配設された吐出孔２５から吹き付けられる気体により浮上し、自重により撓むことなく平坦な状態となる。
【００３３】
次に、制御手段５は、基板開放信号を入力すると、必要な吸着用バルブ３１を開くとともに電磁弁４２ａを閉じて、基板１０を吸着する（ステップＳ３）。
なお、本実施形態では、基板載置信号を入力すると、制御手段５が、吸着用バルブ３１及び真空破壊用バルブ３３を閉じて、真空発生手段３を作動させ、吸着用バルブ３１より上流側の配管３２を真空状態としてあるので、吸着用バルブ３１を開くと、ただちに基板１０を吸着することができる。
また、電磁弁４２ａを閉じても、電磁弁４２ｂが開いているので、基板１０の撓みを抑制する気体を連続的に吹き付けることができる。
【００３４】
ここで、基板搬送装置が基板１０を放してから基板１０が吸着（保持）されるまでの時間は、コンマ数秒程度の短い時間である。
この間、基板搬送装置から開放された基板１０は、浮上しながら自重により撓むことなく平坦な状態となり、吸着用バルブ３１が開かれるのとほぼ同時に気体の流量が減らされると、この状態を維持したまま降下し、凸部２１ａ，２１ｂの吸着孔２３に保持される。したがって、撓みが抑制された状態の基板１０をそのまま保持するので、基板１０を吸着する際、基板１０が載置面２２と擦れ、基板１０に傷をつけたり発塵するといった不具合を防止することができる。
また、基板保持装置１は、基板１０に流量を減らした気体を吹き付けながら、基板１０を吸着するので、基板１０を保持する際の衝撃を緩衝することができ、さらに、基板１０に気体を吹き付け続けるので、平坦な状態で保持された基板１０が自重により撓んでしまうといった不具合を防止することができる。なお、このときの流量は、基板１０が浮上せず、かつ、基板１０の自重をより低減可能な圧力が基板下面にかかるように、適宜制御される。
【００３５】
次に、制御手段５は、基板１０を正常に吸着すると、基板１０をステージ２に正常に保持した旨の保持完了信号を基板搬送装置に出力する（ステップＳ４）。
次に、基板処理装置又は基板測定装置（図示せず）が処理又は測定を行なう。
【００３６】
次に、基板の処理又は測定が終了すると、基板搬送装置は、ピックアップ部（図示せず）が基板１０を開放した位置に移動し、ピックアップ開始信号を出力する。
次に、制御手段５は、このピックアップ開始信号を入力し（ステップＳ５）、続いて、電磁弁４２ａを開くとともに真空発生手段３を停止し、真空破壊用バルブ３３を開放し、基板１０の吸着を解除する。ここで、電磁弁４２ａを開くと気体の流量が増加し、吐出孔２５の上方約０．２ｍｍ〜約０．５ｍｍの位置に、基板１０を完全に浮上させる（ステップＳ６）。このようにすると、ピックアップ部が基板１０を保持する際、基板１０が載置面２２上を移動し擦れるといった不具合を防止することができる。
【００３７】
次に、基板搬送装置は、浮上してきた基板１０を保持すると、ピックアップ完了信号を出力する。
次に、基板保持装置１は、制御手段５がピックアップ完了信号を入力する（ステップＳ７）と、電磁弁４２ａ，４２ｂを閉じて吐出孔２５からの気体の吐出を停止する（ステップＳ８）。
【００３８】
上述したように、本発明にかかる基板保持装置１によれば、気体を水平方向に排気することにより、基板の大きさに応じた補正手段等を設けなくてもすむので、異なる大きさの基板に対して共用化を図ることができる。
また、基板保持装置１は、基板１０を保持しているときに、基板１０に気体を吹き付けているので、歪みや撓みをより確実に抑制し、平坦な状態とした基板１０を保持することができる。さらに、基板１０の取付け・取外しを行なう際、基板１０に気体を吹き付けて浮上させ、基板１０が載置面２２と擦れないようにすることによって、基板１０が損傷したり発塵したりする危険性を低減することができる。
【００３９】
なお、上記基板保持装置１によれば、ガラス基板上にクロムからなる遮光膜パターンを形成した、大型のフォトマスク（たとえば、サイズ＝約３９０ｍｍ×約６１０ｍｍ×厚さ約６ｍｍ）に対して、歪み及び撓みを抑制した状態で保持することができる。
ここで、ほぼ均等に配設された複数の吐出孔２５から、大型のフォトマスクが浮上するような圧力を発生させる気体を吹き付けると、上記大型のフォトマスクを完全に浮上させることができる。また、大型のフォトマスクが浮上しない程度の気体を吹き付けながら保持することにより、大型のフォトマスクの歪みや撓みを抑制することができる。
【００４０】
［基板処理装置］
上記構成の基板保持装置１は、フォトマスクブランクやフォトマスク等を製造する際に用いる基板処理装置に利用することができる。
本発明にかかる基板処理装置は、基板保持装置１を有する基板処理装置であって、基板保持装置１によって保持された基板１０の表面に、電子線又はレーザー光を照射する照射手段を有する構成としてある。
このようにすると、基板処理装置は、基板１０を保持する際に発生する歪み及び撓みを低減した状態で、照射手段からの電子線又はレーザー光の照射により、精度よく基板１０にパターンを描画したり、基板１０に形成されたパターンを修正したりするなど、所定の処理を施すことができる。
また、このような基板処理装置としては、例えば、フォトレジストがコーティングされたフォトマスクブランク等の基板を用い、これにレーザー光を照射してパターン形成するための描画装置又は露光装置が挙げられる。
【００４１】
［基板検査装置］
上記構成の基板保持装置１は、基板１０を検査する基板検査装置に利用することができる。
本発明にかかる基板検査装置は、基板保持装置１を有する基板検査装置であって、基板保持装置１によって保持された基板１０の表面に検査光を照射する検査光照射手段と、検査光にもとづく基板１０の表面の光を検出する光検出手段とを有する構成としてある。
このようにすると、基板検査装置は、基板１０を保持する際に発生する歪み及び撓みを低減した状態で、検査光照射手段から検査光を照射し、光検出手段が検査光にもとづく基板１０の表面の光を検出することができ、検査の再現性及び精度を効果的に向上させることができる。
また、このような基板検査装置としては、例えば、基板の平坦度を測定する検査装置や基板表面に形成されたパターンの位置精度の測定を行なう座標測定装置が挙げられる。
【００４２】
［基板保持方法］
本発明は、基板保持方法としても有効であり、この基板保持方法は、基板１０を平板状のステージ２に保持する基板保持方法であって、基板１０をステージ２へ取り付けるとき及び／又は基板１０をステージ２から取り外すとき、基板１０を浮上させる流量で基板１０の下面に気体を吹き付け、基板１０を保持しているときに、基板１０の自重を低減し基板１０が平坦状になる流量で基板１０の下面に気体を吹き付ける方法としてある。
このようにすると、ステージ２への基板１０の取付け及び／又は取外しを行なうとき、凸部２１ａ，２１ｂ，２１ｃが基板１０と擦れることによって、基板１０が損傷したり発塵したりする危険性を低減することができる。
さらに、基板１０を保持するとき、基板１０に気体を吹き付けて自重を低減しながら保持することにより、撓みや歪みをより確実に抑制し平坦な状態とした基板１０を保持することができる。
【００４３】
また、本発明の基板保持装置，基板処理装置，基板検査装置及び基板保持方法について、好ましい実施形態を示して説明したが、本発明は、上述した実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の範囲で種々の変更実施が可能であることは言うまでもない。
たとえば、基板保持装置のステージは、上記実施形態のステージ１に限定されるものではなく、図４に示すステージ２ａを用いてもよい。
このステージ２ａは、ステージ２ａの上面の、二等辺三角形の頂点と対応する位置に、円形の載置面２２ａを有する凸部２１ｄを突設し、載置面２２ａに吸着孔２３を設け、基板保持装置１と同様に吐出孔２５及び圧力センサ６１を設けた構造としてある。なお、その他の構成は基板保持装置１のステージ２とほぼ同様としてある。このようにすると、基板１０を三つの凸部２１ｄによって三点支持することができ、歪みや撓みの抑制されたほぼフリーの状態の基板保持を実現することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明の基板保持装置，基板処理装置，基板検査装置及び基板保持方法は、保持対象を基板としてあるが、これに限定されるものではなく、たとえば、基板の代わりに板状部材でもよく、板状部材保持装置や板状部材保持方法等にも適用が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明にかかる基板保持装置の概略構成図を示している。
【図２】本発明にかかる基板保持装置のステージの概略平面図を示している。
【図３】本発明にかかる基板保持装置の動作を説明する概略フローチャート図を示している。
【図４】本発明の応用例にかかる基板保持装置のステージの概略平面図を示している。
【符号の説明】
【００４６】
１  基板保持装置
２，２ａ  ステージ
３  真空発生手段
４  送風手段
５  制御手段
６  圧力計
１０，１１  基板
２１ａ，２１ｂ，２１ｃ，２１ｄ  凸部
２２，２２ａ  載置面
２３  吸着孔
２４  空隙
２５  吐出孔
３１  吸着用バルブ
３２  配管
３３  真空破壊用バルブ
４１ａ，４１ｂ  レギュレータ
４２ａ，４２ｂ  電磁弁
４３  流量調整バルブ
４４  配管
６１  圧力センサ
６２  圧力表示部
【図１】
2005101226.tif 000003
【図２】
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【図３】
2005101226.tif 000005
【図４】
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