(57)【要約】【課題】横方向のクリアランスを必要とすることなく、また、剛性の低下も生じることなく、容易に精度良く高さ調整を行うことのできる高さ調整機構及び高さ調整方法及び真空処理装置を提供する。【解決手段】高さ調整機構２０は、第１のブロック２１の側方に、傾斜面とされた当接部２５において当接された第２のブロック２２が設けられ、第２のブロック２２の上部に、傾斜面とされた当接部２６において当接された第３のブロック２３が設けられて構成されている。固定ネジ２７を緩めた状態で高さ調整ネジ２４を回転させると、第１のブロック２１が上下に移動し、第２のブロック２２が水平方向に移動し、第３のブロック２３が上下方向に移動してリニアガイドのレール３０ａの高さを調整できるようになっている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基台と、この基台上に設けられる所定部材との間に配置され、前記所定部材の高さを調整するための高さ調整機構であって、
上側から前記基台に締め付け可能な高さ調整ネジが設けられ、この高さ調整ネジの調節によって上下方向に移動可能とされた第１のブロックと、
前記第１のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第１のブロックの上下動に応じて水平方向に移動する第２のブロックと、
前記第２のブロックの上側に前記第２のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第２のブロックの水平方向の移動に応じて上下方向に移動し、かつ、上側から締め付けて前記基台に対して固定するための固定ネジが設けられた第３のブロックと
を具備したことを特徴とする高さ調整機構。
【請求項２】
前記高さ調整ネジと前記固定ネジが複数設けられていることを特徴とする請求項１記載の高さ調整機構。
【請求項３】
基台と、この基台上に設けられるリニアガイドとの間に配置され、前記リニアガイドの高さを調整するための高さ調整機構であって、
上側から前記基台に締め付け可能な高さ調整ネジが設けられ、この高さ調整ネジの調節によって上下方向に移動可能とされた第１のブロックと、
前記第１のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第１のブロックの上下動に応じて水平方向に移動する第２のブロックと、
前記第２のブロックの上側に前記第２のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第２のブロックの水平方向の移動に応じて上下方向に移動し、かつ、上側から締め付けて前記基台に対して固定するための固定ネジが設けられた第３のブロックと
を具備したことを特徴とする高さ調整機構。
【請求項４】
前記高さ調整ネジと前記固定ネジが複数設けられていることを特徴とする請求項３記載の高さ調整機構。
【請求項５】
前記リニアガイドの長手方向に沿って複数設けられ、前記リニアガイドを略水平に支持することを特徴とする請求項３又は４記載の高さ調整機構。
【請求項６】
基台上に設けられる所定部材の高さを調整する高さ調整方法であって、前記基台と前記所定部材との間に、
上側から前記基台に締め付け可能な高さ調整ネジが設けられ、この高さ調整ネジの調節によって上下方向に移動可能とされた第１のブロックと、
前記第１のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第１のブロックの上下動に応じて水平方向に移動する第２のブロックと、
前記第２のブロックの上側に前記第２のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第２のブロックの水平方向の移動に応じて上下方向に移動し、かつ、上側から締め付けて前記基台に対して固定するための固定ネジが設けられた第３のブロックとを設け、
前記固定ネジを緩めた状態で前記高さ調整ネジによって高さを調節し、この後前記固定ネジを締めて前記所定部材を所定高さ位置に固定することを特徴とする高さ調整方法。
【請求項７】
基台上に設けられるリニアガイドの高さを調整する高さ調整方法であって、前記基台と前記リニアガイドとの間に、
上側から前記基台に締め付け可能な高さ調整ネジが設けられ、この高さ調整ネジの調節によって上下方向に移動可能とされた第１のブロックと、
前記第１のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第１のブロックの上下動に応じて水平方向に移動する第２のブロックと、
前記第２のブロックの上側に前記第２のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第２のブロックの水平方向の移動に応じて上下方向に移動し、かつ、上側から締め付けて前記基台に対して固定するための固定ネジが設けられた第３のブロックとを設け、
前記固定ネジを緩めた状態で前記高さ調整ネジによって高さを調節し、この後前記固定ネジを締めて前記リニアガイドを所定高さ位置に固定することを特徴とする高さ調整方法。
【請求項８】
前記第１のブロックと、前記第２のブロックと、前記第３のブロックと、を、前記リニアガイドの長手方向に沿って所定間隔で複数配置し、
一方の端部の前記第３のブロックの高さを、所定の基準面の高さを基準として高さ調整する第１の工程と、
前記第１の工程で高さ調整した前記第３のブロックの高さを基準として、隣接する前記第３のブロックの高さを調整する第２の工程とを具備し、
一方の端部の前記第３のブロックから順次隣接する前記第３のブロックの高さを調整することを特徴とする請求項７記載の高さ調整方法。
【請求項９】
前記第１のブロックに高さ調整ネジを複数設け、これらの複数の高さ調整ネジによって、１つの前記第３のブロックの高さ調節を、位置を変えて複数回行うことを特徴とする請求項８記載の高さ調整方法。
【請求項１０】
真空チャンバ内に、基台と、この基台上に設けられるリニアガイドと、前記基台と前記リニアガイドとの間に配置され前記リニアガイドの高さを調整するための高さ調整機構とが設けられ、前記リニアガイドに沿って基板を搬送し真空処理する真空処理装置であって、
前記高さ調整機構が、
上側から前記基台に締め付け可能な高さ調整ネジが設けられ、この高さ調整ネジの調節によって上下方向に移動可能とされた第１のブロックと、
前記第１のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第１のブロックの上下動に応じて水平方向に移動する第２のブロックと、
前記第２のブロックの上側に前記第２のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第２のブロックの水平方向の移動に応じて上下方向に移動し、かつ、上側から締め付けて前記基台に対して固定するための固定ネジが設けられた第３のブロックと
を具備したことを特徴とする真空処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば半導体ウエハ等を搬送する際に使用されるリニアガイド等の高さを調整する高さ調整機構及び高さ調整方法及び真空処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、例えば半導体ウエハ等の基板を搬送し、エッチング処理や成膜処理等の真空処理を行う真空処理装置が知られている。このような真空処理装置では、基板をある程度長い距離、直線状に搬送する際に、リニアガイドを使用し、リニアガイドに沿って搬送機構が移動するよう構成することが行われている。このような場合、リニアガイドは原則として精密に水平に設定することが必要とされる。このため、リニアガイドを固定する際に、高さ調整が行われる。
【０００３】
このようなリニアガイド等の高さを調整する方法として、シムを挟み込む方法が知られている。すなわち、この方法では、例えば図７に示すように、基台１とリニアガイド２との間に、リニアガイド２を基台１に固定するための固定ネジ３を緩めた状態で、シム４を横方向から挿入して高さを調整する。しかしながら、このようなシムを挟み込む方法では、横方向からシム４を挿入しなければならないため、横方向にクリアランスが必要になるという問題と、経時変化によって高さが変化してしまった際に再調整を行うような場合、挿入してあったシムを引き抜かなければならず、再調整が繁雑で時間がかかるという問題があった。
【０００４】
また、例えば図８に示すように、押し引きネジ６によって高さを調整する方法も知られている。しかしながら、このような方法では、リニアガイド２と基台１との間に間隙Ｓが形成され、押し引きネジ６の部分でのみ支持された状態で固定されるため、剛性の低下が生じる可能性があるという問題があった。
【０００５】
さらに、その他の位置合わせ方法としては、位置合わせを行う部材の下側に傾斜面を形成しておき、この部材の下に楔型の部材を挿入し、楔型の部材を横方向からネジ等によって移動させる方法も知られている（例えば、特許文献１参照）。しかしながら、この方法においても、楔型の部材の位置を横方向から調整するため横方向にクリアランスが必要になるという問題がある。
【特許文献１】特開2001-345365 （第５図、第３−４頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述したとおり従来においては、リニアガイド等の高さを調整する場合、横方向にクリアランスが必要になるという問題や、高さを再調整する際に調整が困難であるという問題、また、剛性の低下が生じるという問題があった。
【０００７】
本発明はこのような従来の事情に対処してなされたもので、横方向のクリアランスを必要とすることなく、また、剛性の低下も生じることなく、容易に精度良く高さ調整を行うことのできる高さ調整機構及び高さ調整方法及び真空処理装置を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１記載の高さ調整機構は、基台と、この基台上に設けられる所定部材との間に配置され、前記所定部材の高さを調整するための高さ調整機構であって、上側から前記基台に締め付け可能な高さ調整ネジが設けられ、この高さ調整ネジの調節によって上下方向に移動可能とされた第１のブロックと、前記第１のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第１のブロックの上下動に応じて水平方向に移動する第２のブロックと、前記第２のブロックの上側に前記第２のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第２のブロックの水平方向の移動に応じて上下方向に移動し、かつ、上側から締め付けて前記基台に対して固定するための固定ネジが設けられた第３のブロックとを具備したことを特徴とする。
【０００９】
請求項２記載の高さ調整機構は、高さ調整ネジと前記固定ネジが複数設けられていることを特徴とする。
【００１０】
請求項３記載の高さ調整機構は、基台と、この基台上に設けられるリニアガイドとの間に配置され、前記リニアガイドの高さを調整するための高さ調整機構であって、上側から前記基台に締め付け可能な高さ調整ネジが設けられ、この高さ調整ネジの調節によって上下方向に移動可能とされた第１のブロックと、前記第１のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第１のブロックの上下動に応じて水平方向に移動する第２のブロックと、前記第２のブロックの上側に前記第２のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第２のブロックの水平方向の移動に応じて上下方向に移動し、かつ、上側から締め付けて前記基台に対して固定するための固定ネジが設けられた第３のブロックとを具備したことを特徴とする。
【００１１】
請求項４記載の高さ調整機構は、前記高さ調整ネジと前記固定ネジが複数設けられていることを特徴とする。
【００１２】
請求項５記載の高さ調整機構は、前記リニアガイドの長手方向に沿って複数設けられ、前記リニアガイドを略水平に支持することを特徴とする。
【００１３】
請求項６記載の高さ調整方法は、基台上に設けられる所定部材の高さを調整する高さ調整方法であって、前記基台と前記所定部材との間に、上側から前記基台に締め付け可能な高さ調整ネジが設けられ、この高さ調整ネジの調節によって上下方向に移動可能とされた第１のブロックと、前記第１のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第１のブロックの上下動に応じて水平方向に移動する第２のブロックと、前記第２のブロックの上側に前記第２のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第２のブロックの水平方向の移動に応じて上下方向に移動し、かつ、上側から締め付けて前記基台に対して固定するための固定ネジが設けられた第３のブロックとを設け、前記固定ネジを緩めた状態で前記高さ調整ネジによって高さを調節し、この後前記固定ネジを締めて前記所定部材を所定高さ位置に固定することを特徴とする。
【００１４】
請求項７記載の高さ調整方法は、基台上に設けられるリニアガイドの高さを調整する高さ調整方法であって、前記基台と前記リニアガイドとの間に、上側から前記基台に締め付け可能な高さ調整ネジが設けられ、この高さ調整ネジの調節によって上下方向に移動可能とされた第１のブロックと、前記第１のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第１のブロックの上下動に応じて水平方向に移動する第２のブロックと、前記第２のブロックの上側に前記第２のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第２のブロックの水平方向の移動に応じて上下方向に移動し、かつ、上側から締め付けて前記基台に対して固定するための固定ネジが設けられた第３のブロックとを設け、前記固定ネジを緩めた状態で前記高さ調整ネジによって高さを調節し、この後前記固定ネジを締めて前記リニアガイドを所定高さ位置に固定することを特徴とする。
【００１５】
請求項８記載の高さ調整方法は、前記第１のブロックと、前記第２のブロックと、前記第３のブロックと、を、前記リニアガイドの長手方向に沿って所定間隔で複数配置し、一方の端部の前記第３のブロックの高さを、所定の基準面の高さを基準として高さ調整する第１の工程と、前記第１の工程で高さ調整した前記第３のブロックの高さを基準として、隣接する前記第３のブロックの高さを調整する第２の工程とを具備し、一方の端部の前記第３のブロックから順次隣接する前記第３のブロックの高さを調整することを特徴とする。
【００１６】
請求項９記載の高さ調整方法は、前記第１のブロックに高さ調整ネジを複数設け、これらの複数の高さ調整ネジによって、１つの前記第３のブロックの高さ調節を、位置を変えて複数回行うことを特徴とする。
【００１７】
請求項１０記載の真空処理装置は、真空チャンバ内に、基台と、この基台上に設けられるリニアガイドと、前記基台と前記リニアガイドとの間に配置され前記リニアガイドの高さを調整するための高さ調整機構とが設けられ、前記リニアガイドに沿って基板を搬送し真空処理する真空処理装置であって、前記高さ調整機構が、上側から前記基台に締め付け可能な高さ調整ネジが設けられ、この高さ調整ネジの調節によって上下方向に移動可能とされた第１のブロックと、前記第１のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第１のブロックの上下動に応じて水平方向に移動する第２のブロックと、前記第２のブロックの上側に前記第２のブロックと傾斜面を介して当接され、前記第２のブロックの水平方向の移動に応じて上下方向に移動し、かつ、上側から締め付けて前記基台に対して固定するための固定ネジが設けられた第３のブロックとを具備したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の高さ調整機構及び高さ調整方法及び真空処理装置によれば、横方向のクリアランスを必要とすることなく、また、剛性の低下も生じることなく、容易に精度良く高さ調整を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の詳細を、図面を参照して一実施形態について説明する。
【００２０】
図１、２は、本発明の一実施形態に係る高さ調整機構の縦断面構成を示すもので、同図において１０は、基台を示している。この基台１０には、略矩形状の凹部１１が形成されており、この凹部１１内に高さ調整機構２０が配置されている。また、本実施形態では、高さ調整機構２０の上には、リニアガイドのレール３０ａが設けられ、高さ調整機構２０によってこのリニアガイドのレール３０ａの高さを調整するようになっている。高さ調整機構２０は、図３，４に示すように、基台１０上に所定間隔で複数（図３，４では５つ）並べて配置されており、図４に示すように、リニアガイドのレール３０ａはこれらの高さ調整機構２０の上に跨がって配置されるようになっている。なお、凹部１１は、高さ調整機構２０の配列方向に沿って形成され、これらの高さ調整機構２０が配置される１本の溝状のものでも良く、また、個々の高さ調整機構２０が一つ一つ配置される正方形状のものでも良い。強度的には正方形状の凹部１１とすることが好ましい。
【００２１】
図１、２に示すように、上記高さ調整機構２０は、第１のブロック２１と、第２のブロック２２、及び第３のブロック２３を具備している。第１のブロック２１には、この第１のブロック２１を貫通するように、高さ調整ネジ２４が設けられている。この高さ調整ネジ２４の先端部は、基台１０に螺合されており、この高さ調整ネジ２４を上方から回転させることによって、第１のブロック２１を上下方向に移動させることができるようになっている。
【００２２】
上記第１のブロック２１の側方に、第２のブロック２２が設けられており、これらの第１のブロック２１と、第２のブロック２２とは、傾斜面とされた当接部２５において当接されている。したがって、図１中に矢印で示すように、高さ調整ネジ２４を締め付けて、第１のブロック２１を下方に移動させると、第２のブロック２２が水平方向（図１において右側方向）に移動するよう構成されている。
【００２３】
また、第２のブロック２２の上部には、第３のブロック２３が設けられており、これらの第２のブロック２２と、第３のブロック２３とは、傾斜面とされた当接部２６において当接されている。したがって、上述したように、第２のブロック２２が水平方向（図１において右側方向）に移動すると、第３のブロック２３が上下方向（この場合上方向）に移動するようになっている。
【００２４】
また、第３のブロック２３には、この第３のブロック２３を貫通するように、固定ネジ２７が設けられている。この固定ネジ２７の先端部は、基台１０に螺合されており、固定ネジ２７は、リニアガイドのレール３０ａを配置していない状態で、上方から回転させることができるようになっている。そして、この固定ネジ２７を緩めた状態で、高さ調整ネジ２４を回転させて高さ調整し、この後固定ネジ２７を締め付けることによって、第３のブロック２３を所望の高さ位置に固定するようになっている。そしてこの後、第３のブロック２３の上にリニアガイドのレール３０ａを固定することにより、実質的にリニアガイドのレール３０ａの高さを所望の高さ位置に固定する。
【００２５】
なお、図２及び図４に示すように、高さ調整ネジ２４と固定ネジ２７は、１つの高さ調整機構２０に２つずつ設けられている。また、リニアガイドのレール３０ａは、２つの固定ネジ２７の間に配置されたリニアガイド固定ネジ３１によって第３のブロック２３に固定するようになっている。また、同図に示されるように、リニアガイドのレール３０ａには、これに沿って移動可能とされたベアリング３０ｂが配置され、これらによってリニアガイドが構成されている。
【００２６】
本実施の形態の高さ調整機構２０では、上記のように高さ調整ネジ２４と固定ネジ２７の双方を上側から回転操作できるようになっているので、横方向のクリアランスを必要とすることなく、かつ、高さ調整を容易に精度良く行うことができる。また、第１のブロック２１、第２のブロック２２、第３のブロック２３及び基台１０は、全て面接触した状態で固定されるので、例えば、押し引きネジを使用した場合のように剛性が損なわれることもない。
【００２７】
上記のように、高さ調整機構２０の上にリニアガイドのレール３０ａを配置する場合であって、リニアガイドのレール３０ａの長さがある程度長い場合は、図３、４に示したように、リニアガイドのレール３０ａの長手方向に沿って所定間隔で複数の高さ調整機構２０を配置しておき、その上にリニアガイドのレール３０ａを配置する。このような場合では、リニアガイドのレール３０ａを配置する前に、夫々の高さ調整機構２０の高さ調整を行う必要がある。以下、このような場合の高さ調整方法について説明する。
【００２８】
図５（Ａ）に示すように、まず定盤５０上の水平部分で、高さを測定するためのゲージ５１の原点を求める。この後、このゲージ５１を用いて、まず一方の端の高さ調整機構２０について、基準面５２からの高さを調整する。この高さ調整は、図５（Ｂ），（Ｃ）に示すように、一つの高さ調整機構２０について、２度行い高さ調整機構２０の２点で高さ調整を行う。これによって、高さとともに水平の調整も行う。このように水平の調整を行うために、図３、４に示すように、１つの高さ調整機構２０に、２つの高さ調整ネジ２４と２つの固定ネジ２７が設けられている。
【００２９】
上記のようにして、一方の端の高さ調整機構２０の調整が終了すると、次に、図５（Ｄ）に示すように、この調整が終了した高さ調整機構２０を基準として、隣接する高さ調整機構２０の調整を上記と同様に行い、このような手順を繰り返すことにより、並べて配設された全ての高さ調整機構２０の調整を行う。そして、これらの調整の済んだ高さ調整機構２０の上にリニアガイドのレール３０ａを配置することにより、所定高さ位置に水平にリニアガイドのレール３０ａを配置することが可能となる。
【００３０】
ところで、上記のような高さ調整機構２０及びリニアガイドのレール３０ａを、真空処理装置の真空チャンバ内に配置して、リニアガイドのレール３０ａを使用した半導体ウエハの搬送機構等を構成する場合がある。このような場合、常圧の状態でリニアガイドのレール３０ａを水平に調整しても、実際に使用する場合に真空チャンバ内を真空雰囲気とすると、真空チャンバが撓み、上述した基台１０とリニアガイドのレール３０ａが撓む場合がある。このような場合、予め基台１０の撓みを考慮して、常圧状態ではリニアガイドのレール３０ａが水平な状態とはならないように調整しておき、真空チャンバ内を真空雰囲気として撓みが生じた際に、リニアガイドのレール３０ａが水平な状態となるように調整することが好ましい。
【００３１】
なお、このような撓みは、真空チャンバの底板部分では、一般的に、中央部が上方に向かって持ち上がる方向に生じる。このような場合は、常圧雰囲気で高さ調整を行う場合は、予めリニアガイドのレール３０ａの中央部分が下に下がった状態に調整しておくことになる。
【００３２】
図６は、上記のように真空チャンバ内にリニアガイドが配置された真空処理装置の構成を示すものである。同図に示すように、真空処理装置の中央部分には、真空搬送チャンバ１００が設けられており、この真空搬送チャンバ１００に沿って、その周囲には、合計６個の真空処理チャンバ１０１〜１０６が配設されている。このような構成において、真空搬送チャンバ１００の内部には、図中点線で示すように、その長手方向に沿ってリニアガイドのレール３０ａが設けられ、このリニアガイドのレール３０ａに沿って半導体ウエハを搬送するための搬送機構３２が設置されたベース３３が直線状に移動するようになっている。なお、これらのリニアガイドのレール３０ａの下部には、その長手方向に沿って、前述した高さ調整機構２０（図６には図示せず。）が複数配置されている。そして、リニアガイドのレール３０ａ上の直線運動と、搬送機構３２の回転運動及び搬送機構３２のアームの伸縮運動によって、各真空処理チャンバ１０１〜１０６に未処理の半導体ウエハＷを搬送し、各真空処理チャンバ１０１〜１０６から例えば、エッチング処理や成膜処理等の所定の処理が済んだ半導体ウエハＷを搬出するようになっている。
【００３３】
なお、真空搬送チャンバ１００の手前側（図中下側）には、２つのロードロック室１０７が設けられ、これらのロードロック室１０７のさらに手前側（図中下側）には、大気中で半導体ウエハＷを搬送するための搬送チャンバ１０８が設けられている。また、搬送チャンバ１０８のさらに手前側（図中下側）には、複数枚の半導体ウエハＷを収容可能とされたカセット又はフープが配置される載置部１０９が複数（図６では３つ）設けられており、搬送チャンバ１０８の側方（図中左側）には、オリエンテーションフラット或いはノッチにより半導体ウエハＷの位置合せを行う位置合せ機構１１０が設けられている。
【００３４】
そして、載置部１０９に載置されたカセット又はフープから搬送チャンバ１０８内に設けられた図示しない搬送機構によって半導体ウエハＷを取り出し、位置合せ機構１１０に搬送して位置合せした後、ロードロック室１０７内に配置し、搬送機構３２で各真空処理チャンバ１０１〜１０６に搬送して所定の処理を施し、処理の終了した半導体ウエハＷを搬送機構３２でロードロック室１０７内に配置し、ロードロック室１０７内から搬送チャンバ１０８内の搬送機構によって取り出して、載置部１０９に載置されたカセット又はフープに収容するように構成されている。
【００３５】
上記構成の真空処理装置の真空搬送チャンバ１００内にリニアガイドのレール３０ａを設ける場合に、前述した高さ調整機構２０を用いることによって、リニアガイドのレール３０ａを所定高さ位置に、かつ、真空搬送チャンバ１００内を真空雰囲気とした際に水平になるように、容易に配置することができる。
【００３６】
なお、上記の実施形態では、リニアガイドのレール３０ａを水平に配置する場合について説明したが、本発明は、水平面に限らずその他の平面に沿って位置調整するような場合についても、同様にして適用することができることは、勿論である。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の一実施形態における高さ調整機構の断面構成を示す図。
【図２】図１の高さ調整機構の他の断面における断面構成を示す図。
【図３】図１の高さ調整機構をリニアガイドの高さ調整に用いた場合の構成を示す図。
【図４】図３の高さ調整機構の上にリニアガイドを配置した状態を示す図。
【図５】リニアガイドの高さ調整方法を説明するための図。
【図６】本発明の一実施形態にかかる真空処理装置全体の概略構成を示す図。
【図７】従来の高さ調整方法を説明するための図。
【図８】従来の高さ調整方法を説明するための図。
【符号の説明】
【００３８】
１０…基台、１１…凹部、２０…高さ調整機構、２１…第１のブロック、２２…第２のブロック、２３…第３のブロック、２４…高さ調整ネジ、２５…当接部、２６…当接部、２７…固定ネジ、３０ａ…リニアガイドのレール、Ｗ…半導体ウエハ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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