(57)【要約】【課題】  インキのパターンを形成するとき、ガラス基板の上に印刷法によって高精細にパターンニングすることが可能な有機ＥＬ表示装置の製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】  本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法は、電極間に挟まれた有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ表示装置を作製する製造方法であり、被転写体表面における、有機媒体を転写したい箇所を選択的に加熱する加熱過程と、前記被転写体表面に対し、インクが塗布された転写体を密着させて、相対的に移動させる転写過程とを有し、加熱された箇所において、選択的に転写体から前記インクを剥離させて、所定の箇所にインクのパターンを形成することを特徴とする。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極間に挟まれた有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ表示装置を作製する製造方法であって、
被転写体表面における、有機媒体を転写したい箇所を選択的に加熱する加熱過程と、
前記被転写体表面に対し、インクが塗布された転写体を密着させて、相対的に移動させる転写過程と
を有し、加熱された箇所において、選択的に転写体から前記インクを剥離させて、所定の箇所にインクのパターンを形成することを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記被転写体の下部にある電極のうち、前記パターンに対応した電極に選択的に通電を行い、発生するジュール熱により、前記転写したい箇所を加熱することを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記被転写体の下部にある電極のうち、前記パターンに対応した電極に選択的にレーザ光照射による輻射熱により、前記転写したい箇所を加熱することを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法。
【請求項４】
電極間に挟まれた有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ表示装置を作製する製造装置であって、
被転写体表面における、有機媒体を転写したい箇所を選択的に加熱する加熱部と、
前記被転写体表面に対し、インクが塗布された転写体を密着させて、相対的に移動させる転写制御部と
を有し、加熱された箇所において、選択的に転写体から前記インクを剥離させて、所定の箇所にインクのパターンを形成することを特徴とする有機ＥＬ表示装置の製造装置。
【請求項５】
前記加熱部が被転写体の下部にある電極のうち、前記パターンに対応した電極を選択して、この選択した電極に通電を行い、この電極に発生するジュール熱により、前記転写したい箇所を加熱することを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ表示装置の製造装置。
【請求項６】
前記加熱部が被転写体の下部にある電極のうち、前記パターンに対応した電極に選択し、て、この選択した電極に対してレーザ光照射を行い、この電極に発生する輻射熱により、前記転写したい箇所を加熱することを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ表示装置の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板の上にインキを高精度にパターンニングして印刷することで画像を形成する技術に関し、例えば有機エレクトロルミネッセンス素子（以下有機ＥＬ素子という）の作成において、インキ化した有機発光材料をガラス基板の上にパターンニングする有機ＥＬ表示装置の製造方法及び製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年フラットパネルディスプレイとして、最近、有機発光材料を用いた有機電界発光素子（以下、有機ＥＬ素子）が開発されてる。
この有機ＥＬ素子は、発光材料として有機化合物を用いることにより、自発光であって応答速度が高速であり、かつ視野角依存性がないフラットパネルディスプレイを実現するものとして期待されている。
有機ＥＬ素子は、透明基板（例えば、ガラス基板）上に、陽極の透明電極と、有機機能層と、陰極の金属電極とが順次積層されて構成される。
【０００３】
この有機機能層は、例えば発光層の単一層、または有機正孔輸送層及び発光層の２層構造、あるいは有機正孔輸送層、発光層及び有機電子輸送層の３層構造、さらにこれらの適切な層間に電子或いは正孔の注入層を挿入した積層体である。
有機ＥＬ表示パネルは複数の有機ＥＬ素子が所定パターンでもって基板上に形成されることにより、マトリクス表示パネルを得ることができる。カラーディスプレイは、交差している行と列において配置された複数の有機ＥＬ素子の発光画素からなる画像表示配列を有している発光装置である。
【０００４】
上述したガラス基板の上に、高精細に各相をパターンニングして、すなわち各有機機能層の材料である有機材料のインキを印刷する方法としては、オフセット印刷による方法や凸版印刷による方法およびスクリーン印刷による方法等が考えられる。
ここで、基板が硬質なガラス基板であるため、グラビア印刷のように金属版で直刷りタイプの印刷方式は、基板を損傷させてしまうために用いることができず、柔らかいゴムブランケットからガラス基板に上記インキを転移させるオフセット印刷や同じく柔らかいゴム版からインキを転移させる凸版印刷または非転移方式のスクリーン印刷等が印刷可能な方式である。
【０００５】
一方、有機ＥＬ素子の作成において、有機発光材料を高精細にパターンニングする方法としては、低分子有機材料を用いてマスク蒸着法によりパターンニングする方法が一般的である。
しかしながら、この方法においては、ガラス基板が大型化すればするほどパターンニング精度を満足させることが出来なくなるという問題があった。
このため、すでに述べたように、高分子有機発光材料をインキ化し、これを印刷法によりパターンニングする方法が試みられるようになり、オフセット印刷による方法（特許文献１）、凸版印刷による方法（特許文献２）、スクリーン印刷による方法（特許文献３）及び凸版反転オフセット法（特許文献４）などが提唱されている。
【０００６】
例えば、図８に示す凸版反転オフセット法によれば、ロール１０１表面にシリコン樹脂１０２等を設けたブランケット１００（図８（ａ））に対して、ワイヤバー等（図示せず）によりインキ１０３（電子輸送発光層）を所定の厚さに塗布し（図８（ｂ））、ブランケット１００をガラス製の凸版１０４（転写したいパターンの反転マスク）に密着させて、ロール１０１と凸版１０４を相対的に移動させて、凸版１０４の突部に不要なインキを転写してパターンをブランケット１００表面に形成する（図８（ｃ））。
【０００７】
そして、正孔輸送層１０表面における、Ｒ／Ｇ／Ｂ各々の陽極（透明画素電極）１１に対応する位置にインキ１０３のパターンを転写し（図８（ｄ）、ここではＲの発光層１２Ｒためのインキ１０３）。
ここで、陽極１１はガラス基板１３上に形成されている。
こののち、Ｇ及びＢの発光層についても、上述の処理と同様にＧ／Ｂ各々の有機電子材料の発光層１２Ｇ，１２Ｂ（点線で示してある）ためのインキ１０３のパターンが、順次、Ｇ／Ｂに対応する陽極上に形成される。
【特許文献１】特開２００１−９３６６８号公報
【特許文献２】特開２００１−１５５８５８号公報
【特許文献３】特開平３−２６９９９５号公報
【特許文献４】特開２００３−１７２４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、オフセット印刷や凸版印刷では、ゴムブランケットやゴム版上に、一旦パターンとして形成したインキを基材に転移させて印刷するが、ゴムブランケットやゴム版上でのインキのパターンと、被転写物とパターン形成部分との位置あわせが困難であり、処置の位置に高精度に、インキのパターンを転写することが困難である。
本発明においては、インキのパターンを形成するとき、ガラス基板の上に印刷法によってインキを高精細にパターンニングすることが可能な有機ＥＬ表示装置を作製する製造方法及び製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１記載の発明は、電極間に挟まれた有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ表示装置を作製する製造方法であって、被転写体表面における、有機媒体を転写したい箇所を選択的に加熱する加熱過程と、前記被転写体表面に対し、インクが塗布された転写体を密着させて、相対的に移動させる転写過程とを有し、加熱された箇所において、選択的に転写体から前記インクを剥離させて、所定の箇所にインクのパターンを形成することを特徴とする。
【００１０】
請求項２記載の発明は、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法において、前記被転写体の下部にある電極のうち、前記パターンに対応した電極に選択的に通電を行い、発生するジュール熱により、前記転写したい箇所を加熱することを特徴とする。
【００１１】
請求項３記載の発明は、請求項１に記載の有機ＥＬ表示装置の製造方法において、前記被転写体の下部にある電極のうち、前記パターンに対応した電極に選択的にレーザ光照射による輻射熱により、前記転写したい箇所を加熱することを特徴とする。
【００１２】
請求項４記載の発明は、電極間に挟まれた有機ＥＬ層を有する有機ＥＬ表示装置を作製する製造装置であって、被転写体表面における、有機媒体を転写したい箇所を選択的に加熱する加熱部と、前記被転写体表面に対し、インクが塗布された転写体を密着させて、相対的に移動させる転写制御部とを有し、加熱された箇所において、選択的に転写体から前記インクを剥離させて、所定の箇所にインクのパターンを形成することを特徴とする。
【００１３】
請求項５記載の発明は、請求項４に記載の有機ＥＬ表示装置の製造装置において、前記加熱部が被転写体の下部にある電極のうち、前記パターンに対応した電極を選択して、この選択した電極に通電を行い、この電極に発生するジュール熱により、前記転写したい箇所を加熱することを特徴とする。
【００１４】
請求項６記載の発明は、請求項４に記載の有機ＥＬ表示装置の製造装置において、前記加熱部が被転写体の下部にある電極のうち、前記パターンに対応した電極に選択し、て、この選択した電極に対してレーザ光照射を行い、この電極に発生する輻射熱により、前記転写したい箇所を加熱することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
以上説明したように、本発明の有機ＥＬ表示装置の製造方法及び製造装置によれば、ガラス基板の上に印刷法によってインキを高精細にパターンニングするとき、特に有機ＥＬ素子を構成する有機発光層を印刷してパターンニングするとき、インキのパターンを転写したい箇所を選択的に加熱して、転写体から必要な位置において所定のパターン形状のインキを剥離させ、被転写体に転移させるため、特に高精度な位置あわせの機構を必要とせずに、高精度なインキのパターンを形成することができ、より微細化された工程により、有機ＥＬ表示装置を製造できるという効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の一実施形態による有機ＥＬ表示装置の製造方法及び製造装置を図面を参照して説明する。図１は同実施形態の有機ＥＬ表示装置の製造過程を示す、各過程ごとの有機ＥＬ表示装置の断面構造を示す概念図である。
ここで、有機ＥＬ素子は、例えば図１（ｄ）に示すように、透明基板（ガラス基板１３）上に、陽極１１の透明電極と、有機機能層（発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ）と、陰極１４の金属電極とが順次積層されて構成されている。
有機機能層は、例えば発光層の単一層、または図１のように有機正孔輸送層１０及び発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの２層構造、あるいは有機正孔輸送層、発光層及び有機電子輸送層の３層構造、さらにこれらの適切な層間に電子或いは正孔の注入層を挿入した積層体である。
【００１７】
有機ＥＬ表示パネルは複数の有機ＥＬ素子が所定パターンでもって透明基板上に形成されることにより、マトリクス表示パネルを得ることができる。
カラーディスプレイは、交差している行と列において配置された複数の有機ＥＬ素子の発光画素からなる画像表示配列を有している発光装置である。
例えば、図１のようなマトリクス表示タイプのものはガラス基板１３などの透明基板上に、透明電極である陽極１１を含む行電極と、発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの有機機能層と、上記行電極に交差する陰極１４の金属電極層を含む列電極とが順次積層された複数の有機ＥＬ素子と、行電極と列電極のショートを防ぐ目的として各々の有機ＥＬ素子の間に形成されたストライプ状、又は格子状等の絶縁膜１５と、で構成される。
【００１８】
行電極は、各々が帯状に形成されるとともに、所定の間隔をおいて互いに平行となるように配列されており、列電極も同様である。
このように、マトリクス表示タイプの表示パネルは、複数の行と列の電極の交差点に位置する複数の有機ＥＬ素子の発光画素からなる画像表示配列を有している。
また従来この絶縁膜１５としては、ポリイミド等の比較的透明な材料、もしくは液晶ディスプレイのブラックマトリクスで用いられている材料等が用いられている。
【００１９】
＜第１の実施形態＞
図１〜図３を参照して、本願発明の第１の実施形態の製造方法について説明する。図２及び図３は、本発明の有機ＥＬ表示装置１６の製造を行う製造装置を示す概念図である。
図１（ａ）に示すように、透明のガラス基板１３は、疎水性表面を有しており、洗浄剤を用いて超音波洗浄により基板洗浄を行い、超純水及び有機溶剤でのリンスが行われる。
また、ガラス基板１３の代わりに、プラスチック製のフィルムまたはシートを用いることができる。
【００２０】
上記プラスチック製のフィルムを用いれば、巻き取りにより高分子ＥＬ素子の製造が可能となり、安価に素子を提供することができる。プラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート等を用いることができる。
さらに、陽極１１を成膜しない側にセラミック蒸着フィルムやポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体鹸化物等の他のガスバリア性フィルムを積層しても良い。
【００２１】
そして、ガラス基板１３（透光性基板の一例）は、乾燥後に紫外線−オゾン（ＵＶ−ｏｚｏｎｅ）を照射した後、陽極１１（材料として、インジウムとスズとの複合酸化物、すなわちＩＴＯ膜）を真空蒸着及びスパッタリング法により製膜しフォトリソグラフィー法およびウェットエッチング法によってＩＴＯ膜をピッチ幅１０６μm、ギャップ幅１０μｍの短冊状パターンにパターニングして形成した。
また、オクチル酸インジウムやアセトンインジウムなどの前駆体をガラス基板１３上に塗布後、熱分解により酸化物を形成する塗布熱分解法等により形成することもできる。
あるいは、アルミニウム、金、銀等の金属が半透明状に蒸着されたものを用いることができる。あるいはポリアニリン等の有機半導体も用いることができる。
【００２２】
次に、絶縁体１５が陽極１１の各パターン間及び上部に、陽極１１の表面が露出する部分（コンタクト）を残して形成され、各々の陽極１１のパターンが絶縁分離される（図１（ａ））。
そして、正孔輸送層１０が絶縁体１５上に形成され、上記コンタクト部分を介して各陽極１１と電気的に接続される（図１（ｂ））。
上記正孔輸送層１０は、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸の混合物（以下ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳという）をスピンコート法により０．１μｍのコーティングを行った。
【００２３】
また、正孔輸送層１０は、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、水等の単独または混合溶媒に溶解または分散させた材料を使用することもでき、かつスピンコート、バーコート、ワイヤーコート、スリットコート等のコーティング法により塗布することもでき、必要に応じてパターニングを行っても良い。
また、正孔輸送層には必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等を添加してもよい。膜厚は０．０１〜０．２μｍである。
【００２４】
次に、電子輸送発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂを順次形成する（図１（ｃ））が、１２Ｒ→１２Ｇ→１２Ｂの順番で形成されるとして説明する。
これら、発光層１２（発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂを総称）は、高分子蛍光体層のみの単層構造に限らず、電荷輸送層等を授けた多層構造であってもよい。
上記高分子蛍光体層に用いる高分子蛍光体としては、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクリドン系、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系、インジウム錯体系等の蛍光性色素をポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に溶解させたものや、ポリアリーレン系、ポリアリーレンビニレン系やポリフルオレン系等の高分子蛍光体を用いることができる。
【００２５】
これらの高分子蛍光体はトルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、水等の単独または混合溶媒に溶解し、スピンコート法、カーテンコート法、バーコート法、ワイヤーコート法、スリットコート法等のコーティング法により、ブランケット１００表面に塗布できる。
また、高分子蛍光体層には必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等を添加してもよい。膜厚は単層または多層構造いずれの場合にも合わせて１０００ｎｍ以下であり、好ましくは合わせて５０〜１５０ｎｍである。
【００２６】
ここで、本発明の第１の実施形態による有機ＥＬ表示装置の製造装置、例えば、正孔輸送層１０の表面に発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂのパターンを形成する有機ＥＬ表示装置の製造装置を説明する。
まず、有機ＥＬ表示装置１６は、すでに形成された陽極１１各々が、共通電極１６ａにより電源２２に対して電気的に接続されている。
図示しない固定機構により、有機ＥＬ表示装置１６は、ステージ上に固定され、共通電極１６ａにプローブ４ｂが接続され、陽極１１各々にプローブ４ａが接続される。
【００２７】
プローブ４ａは、例えば、Ｒ，Ｇ，Ｂの発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ各々に対応する陽極１１毎に接続される。
すなわち、プローブ４ａは、陽極１１の３つ分の幅に対応するピッチで形成されており、移動ステージ４により、陽極１１の１ピッチずつ移動させられる。
これにより、移動ステージ４は、発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂのいずれかの発光層に対応する陽極１１を選択して、プローブ４ａを接続することができる。
【００２８】
スイッチ２４がオン状態となることにより、電源２５から所定の電圧が、プローブ４ａが接続されている各陽極１１に供給され、陽極１１の抵抗値に対応する電流がながれ、各陽極１１の温度が抵抗値と電流値とに対応して発生するジュール熱により上昇し、所定の温度（７０℃〜１００℃）となるよう制御する（抵抗値に対応する電圧を印加する）。
ロール２１は、シリコン樹脂が表面に設けられ、Ｒ（レッド）の発光色の高分子蛍光体が有機溶媒により溶解または分散されて調整されたインキ層２１ｂが、上記シリコン樹脂の表面に、ワイヤバー（図示せず）等により所定の厚さに塗布されている。
ロール２２は、シリコン樹脂が表面に設けられ、Ｇ（グリーン）の発光色の高分子蛍光体が有機溶媒により溶解または分散されて調整されたインキ層２２ｂが、上記シリコン樹脂の表面に、ワイヤバー（図示せず）等により所定の厚さに塗布されている。
【００２９】
ロール２３は、シリコン樹脂が表面に設けられ、Ｂ（ブルー）の発光色の高分子蛍光体が有機溶媒により溶解または分散されて調整されたインキ層２３ｂが、上記シリコン樹脂の表面に、ワイヤバー（図示せず）等により所定の厚さに塗布されている。このとき、各インキ層２１ｂ，２２ｂ，２３ｂは完全に硬化していない状態で使用する。
ここで、発光層１２としてメチルシリコーンゴムを用い、その上にスピンコーティング法を用いて、赤、緑、青の発光材料として、ポリ［２−メトキシ−５−（２’−エチル−ヘキシロキシ）−１，４−フェニレンビニレン（Poly [2-methoxy-5-(2'-ethyl-hexyloxy)-1,4-phenylene vinylene] 以下ＭＥＨ−ＰＰＶという）に、それぞれ色素分子（高分子蛍光体）としてナイル・レッド、クマリン６、1,1,4,4-テトラフェニル-1,3-ブタジエン（TPB）を混合させた材料をそれぞれべたでコーティングした。
上記ロール２１，２２，２３各々には、モータ等による駆動機構２１ａ，２２ａ，２３ａがそれぞれ設けられており、レール２０上をレールに沿って、一定の所定の速度により移動することができる。
【００３０】
これにより、ロール２１，２２，２３各々は、有機ＥＬ表示装置１６の正孔輸送層１４の表面にインキを密着された状態で、相対的に正孔輸送層１４表面を回転しつつ相対的に移動することとなる。
これにより、ロール２１，２２，２３各々の表面（シリコン樹脂層の表面）のインキ層２１ｂ、２２２ｂ、２３ｂは、陽極１１（対応する上部の正孔輸送層１０の表面）の温度により、溶融し、正孔輸送層１０の表面に対する密着性が増加し、かつシリコン樹脂からの剥離が容易となり、有機ＥＬ表示装置１６の正孔輸送層１４の表面にインキ層のパターンとして転写されることとなる。
【００３１】
次に、上述した有機ＥＬ表示装置の製造装置の動作について説明する。ここで、発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの順に転写することとする。
各ロールにおける移動機構２１ａ，２２ａ，２３ａ、移動ステーション４及びスイッチ２４各々は図示しない制御部が制御する。
上記制御部は、移動ステーション４を制御し、上部に発光層１２Ｒが形成される位置に対応する陽極１１各々にプローブ４ａを接続する。
そして、制御部は、スイッチ２４をオン状態にし、上記プローブ４ａが接続された陽極１１に電源２５を接続して、所定の電圧を印加して、陽極１１の抵抗値に対応する電流を流す。
【００３２】
次に、電圧が印加された各陽極１１に選択的にジュール熱が発生し、所定の温度となる所定の時間経過後に、制御部は移動機構２１ａを制御し、所定の圧力でロール２１を有機ＥＬ表示装置１６の正孔輸送層１０上面に密着させ、所定の速度によりステージ上の有機ＥＬ表示装置１６に対して相対的に矢印方向へロール２１を移動させる。
ここで、ロール２１には有機ＥＬ表示装置の幅ｄに対応する長さのインキ層２１ｂが塗布されている。
これにより、図２及び図３（ａ）に示すように、ロール２１から加熱されている陽極１１に対応する部分のインキ層２１ｂが選択的に剥離し、正孔輸送層１０の上部に転写され、発光層１２Ｒのパターンが形成される。
【００３３】
このとき、図３（ｂ）に示すように、加熱されている陽極１１上部の正孔輸送層１０の上面にロール２１からインキ層２１ｂが剥離するが、図３（ｃ）に示すように、加熱されていない陽極１１上部の正孔輸送層１０の上面にロール２１からインキ層２１ｂは剥離しない。図３（ｂ）は図３（ａ）における加熱された陽極１１に対応した部分、すなわち線分Ａにおける断面図であり、図３（ｃ）は図３（ａ）における加熱されていない陽極１１に対応した部分、すなわち線分Ｂにおける断面図である。
【００３４】
次に、図４に示すように、ロール２１が有機ＥＬ表示装置１６に対して発光層１２Ｒのパターンの形成が終了すると、制御部はスイッチ２４をオフ状態とし、移動ステーション４に対して、プローブ４ａを陽極１１の１ピッチ分横に移動させ、上部に発光層１２Ｇが形成される位置に対応する陽極１１各々にプローブ４ａを接続する。
そして、制御部は、スイッチ２４をオン状態にし、上記プローブ４ａが接続された陽極１１に電源２５を接続して、所定の電圧を印加して、陽極１１の抵抗値に対応する電流を流す。
【００３５】
次に、電圧が印加された各陽極１１にジュール熱が発生し、所定の温度となる所定の時間経過後に、制御部は移動機構２２ａを制御し、所定の圧力でロール２２を有機ＥＬ表示装置１６の正孔輸送層１０上面に密着させ、所定の速度によりステージ上の有機ＥＬ表示装置１６に対して相対的に矢印方向へロール２２を移動させる。
ここで、ロール２２には有機ＥＬ表示装置の幅ｄに対応する長さのインキ層２２ｂが塗布されている。
これにより、図４に示すように、ロール２２から加熱されている陽極１１に対応す部分のインキ層２２ｂが剥離し、正孔輸送層１０の上部に選択的に転写され、発光層１２Ｇのパターンが形成される。
【００３６】
次に、上述したロール２１及び２２の処理と同様に、ロール２２が有機ＥＬ表示装置１６に対して発光層１２Ｇのパターンの形成が終了すると、制御部はスイッチ２４をオフ状態とし、移動ステーション４に対して、プローブ４ａを陽極１１の１ピッチ分横に移動させ、上部に発光層１２Ｂが形成される位置に対応する陽極１１各々にプローブ４ａを接続する。
そして、制御部は、スイッチ２４をオン状態にし、上記プローブ４ａが接続された陽極１１に電源２５を接続して、所定の電圧を印加して、陽極１１の抵抗値に対応する電流を流す。
【００３７】
次に、電圧が印加された各陽極１１にジュール熱が発生し、所定の温度となる所定の時間経過後に、制御部は移動機構２３ａを制御し、所定の圧力でロール２３を有機ＥＬ表示装置１６の正孔輸送層１０上面に密着させ、所定の速度によりステージ上の有機ＥＬ表示装置１６に対して相対的に矢印方向へロール２３を移動させる。
ここで、ロール２３には有機ＥＬ表示装置の幅ｄに対応する長さのインキ層２３ｂが塗布されている。
これにより、図５に示すように、ロール２３から加熱されている陽極１１に対応する部分のインキ層２３ｂが剥離し、正孔輸送層１０の上部に選択的に転写され、発光層１２Ｂのパターンが形成される。
【００３８】
そして、図５に示すように、制御部はスイッチ２４をオフ状態とし、 フルカラー用の電子輸送発光層１２Ｒ（赤色用）、１２Ｇ（緑色用）、１２Ｂ（青色用）をそれぞれ形成することができる。
次に、発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂの上面に対して、真空蒸着等及びパターニングによって、カルシウム（Ｃａ）層を形成し、このカルシウム層１３上面に主電極としてのアルミニウム（Ａｌ）層を形成し、さらにこのアルミニウム層上面に保護及びボンディング性向上のためのＡｕ−Ｇｅ層を形成し、これらの多層構造により陰極層１４を形成する（図１（ｄ））。そして、最後に共通電極１６ａを電気的な接続を外して、有機ＥＬ表示装置１６が完成する。
【００３９】
上述した有機ＥＬ表示装置の製造装置により、インク層２１ｂ，２２ｂ，２３ｂの必要な部分を、有機系の正孔輸送層１０上面に、発光層１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂのパターンとして容易に転写でき、その転写されるインキ層はパターンくずれなしに密着性良好に転写できる。
仮に正孔輸送層１０を設けない素子構造の場合でも、転写の下地がＩＴＯであることから、インク層２１ｂ，２２ｂ，２３ｂの必要な部分の剥離による転写が上述した正孔輸送層１０に対する制度と同程度に行え、剥離条件を制御し易くなる。
【００４０】
しかも、各陽極１１自身が上部に必要な発光層のパターンを形成することとなるため、予め各ロールのシリコン樹脂表面に、電子輸送発光層のパターンを形成する必要がなく、下部の陽極１１に対する位置あわせを行うことなく、高精度なパターン形成が可能となる。
また、ロールに塗布するインク層の薄いパターンにとって、ジュール熱を電源２５の電圧により調整できるため、パターンの形状を好適なものに加工できることから、厚さの薄いインクの転写を必要とする有機電界発光素子に用いるとより有効となる。
【００４１】
また、図６に示すように、ロールの進行方向と形成するパターンとが平行でなくとも、すなわち、陽極１１の加熱によりパターニングを行うため、高い精度でロールの進行方向と形成するパターンとを平行とする制御を行う必要はない。
【００４２】
＜第２の実施形態＞
この図７において、図１に示す従来の装置と同一の部分には同一の符号を付し、その説明を省略する。この図に示す装置が従来の装置と異なる点は、発光層のパターンを形成する部の加熱に対し、所定のパターン領域を加熱する構成として、電圧印加の構成ではなく、レーザ照射装置３０が設けられている点である。
第１の実施形態においては、陽極１１に電圧を印加し、流れる電流値と抵抗値（電圧値）とにより生成されるジュール熱により、陽極１１を加熱してセルフパターニングを行っていたが、第２の実施形態においてはジュール熱の代わりに、上記レーザ照射装置３０から、転写する正孔輸送層１０表面を所望のパターン形状に（または正孔輸送層１０下部の陽極１１のパターンに対して）レーザビームを照射し、このレーザビームによる輻射熱により、正孔輸送層１０の表面を発光層のパターン形状に加熱を行う。
【００４３】
そして、制御部がロール２１を移動機構２１ａによりレール上を移動させて、剥離による発光層の転写を行うことについては、第１の実施形態と同様である。
上述したように、制御部がレーザ照射装置３０を制御し、発光するレーザビームにより正孔輸送層１０表面において、発光層１２Ｒ（赤色用）、１２Ｇ（緑色用）、１２Ｂ（青色用）をそれぞれ形成するため、順次、各電子輸送発光パターンを形成する位置の陽極１１をレーザビームにより選択的に照射し、この加熱した陽極１１上部の上記電子輸送発光パターンに対応させて、インキ層２１ｂ、２２ｂ，２３ｂを剥離させることでインキパターンの転写を行う。
【００４４】
例えば、レーザ照射装置３０として、発振波長１μｍのＹＡＧレーザ装置を用い、約１０Ｗの照射光強度のレーザービームを、赤色を転写するライン上に照射し、全ライン照射後赤色材料が塗布された基材が巻きつけられたローラ２１で、ローラ２１の進行速度を１００mm／秒により転写する。
また、第１及び第２の実施形態において、陽極１１の温度が１００℃以下、また、好ましくは７０℃程度に温度となるように、インキ層２１ｂ，２２ｂ，２３ｂを発光層のパターン形状に剥離させ、選択的に正孔輸送層１０上面に転写したい場合、発光層の下部の陽極１１を選択的にジュール熱または輻射熱を印加するよう制御する。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明により形成する有機ＥＬ表示装置の製造過程を示す、各工程毎の断面構造の概念図である。
【図２】本発明の第１の実施形態による有機ＥＬ表示装置の構成例を示す概念図である。
【図３】本発明により形成する有機ＥＬ表示装置の電子輸送発光層のパターンの転写を説明する概念図である。
【図４】本発明の第１の実施形態による有機ＥＬ表示装置の構成例を示す概念図である。
【図５】本発明の第１の実施形態による有機ＥＬ表示装置の構成例を示す概念図である。
【図６】本発明の第２の実施形態による有機ＥＬ表示装置の構成例を示す概念図である。
【図７】従来例による有機ＥＬ表示装置の構成例を示す概念図である。
【図８】凸版オフセット印刷法を示す概念図である。
【符号の説明】
【００４６】
４…移動ステージ
４ａ，４ｂ…プローブ
１０…正孔輸送層
１１…陽極
１２Ｒ，１２Ｇ，１２Ｂ…発光層
１３…ガラス基板
１４…陰極
１５…絶縁層
１６…有機ＥＬ表示装置
１６ａ…共通電極
２０…レール
２１，２２，２３…ロール
２１ａ，２２ａ，２３ａ…移動機構
２５…電源
２４…スイッチ
３０…レーザ照射装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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