(57)【要約】【課題】  ロードビームに、ヘッド本体を接着した弾性変形可能な舌片を有するフレキシャを結合し、このロードビームとフレキシャ舌片の一方と他方に、ヘッド本体の変位支点を構成する半球状接触部と平面状接触面とを設けた磁気ヘッド装置において、ヘッド本体のディスク記録面凹凸に対する追従性を向上させる。【解決手段】  平面状接触面と半球状接触部の少なくとも一方に、レーザポリッシュを施し、半球状接触部の面粗さＲａを１００ｎｍ以下、平面状接触面の面粗さＲａを５０ｎｍ以下とした磁気ヘッド装置。【選択図】  図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属材料からなり記録媒体上に延びるロードビームと、このロードビームの記録媒体側に位置する弾性変位可能な舌片を有し該ロードビームに結合される金属材料からなるフレキシャと、上記舌片の記録媒体側の面に固定されたヘッド本体とを有し、上記ヘッド本体を固定した舌片とロードビームとのいずれか一方に平面状接触面を設け、他方にこの平面状接触面に接触してヘッド本体の変位支点を構成する半球状接触部を突出形成した磁気ヘッド装置において、
上記平面状接触面と半球状接触部の少なくとも一方に、レーザポリッシュを施したことを特徴とする磁気ヘッド装置。
【請求項２】
請求項１記載の磁気ヘッド装置において、レーザポリッシュは、ＹＡＧレーザ、ＲＵＢＢＹレーザ、ＣＯ2レーザのいずれかにより実行される磁気ヘッド装置。
【請求項３】
請求項１または２記載の磁気ヘッド装置において、レーザポリッシュ後の半球状接触部の面粗さＲａは１００ｎｍ以下、平面状接触面の面粗さＲａは５０ｎｍ以下である磁気ヘッド装置。
【請求項４】
金属材料からなり記録媒体上に延びるロードビームと、このロードビームの記録媒体側に位置する弾性変位可能な舌片を有し該ロードビームに結合される金属材料からなるフレキシャと、上記舌片の記録媒体側の面に固定されたヘッド本体とを有し、上記ヘッド本体を固定した舌片とロードビームとのいずれか一方に平面状接触面を設け、他方にこの平面状接触面に接触してヘッド本体の変位支点を構成する半球状接触部を突出形成した磁気ヘッド装置において、
上記半球状接触部の面粗さＲａを１００ｎｍ以下、平面状接触面の面粗さＲａを５０ｎｍ以下としたことを特徴とする磁気ヘッド装置。
【請求項５】
金属材料からなり記録媒体上に延びるロードビームと、このロードビームの記録媒体側に位置する弾性変位可能な舌片を有するフレキシャと、上記舌片の記録媒体側の面に固定されたヘッド本体とを有し該ロードビームに結合される金属材料からなるフレキシャと、上記ヘッド本体を固定した舌片とロードビームとのいずれか一方に平面状接触面を構成し、他方にこの平面状接触面に接触してヘッド本体の変位支点を構成する半球状接触部を突出形成した磁気ヘッド装置において、
上記ロードビームとフレキシャとを結合する前に、上記平面状接触面と半球状接触部の少なくとも一方に、レーザポリッシュを施し、
その後、該平面状接触面と半球状接触部を接触させた状態で、ロードビームとフレキシャを結合することを特徴とする磁気ヘッド装置の製造方法。
【請求項６】
請求項５記載の磁気ヘッド装置の製造方法において、レーザポリッシュは、ＹＡＧレーザ、ＲＵＢＢＹレーザ、ＣＯ2レーザのいずれかにより実行される磁気ヘッド装置の製造方法。
【請求項７】
請求項５または６記載の磁気ヘッド装置の製造方法において、レーザポリッシュによって、半球状接触部の面粗さＲａを１００ｎｍ以下、平面状接触面の面粗さＲａを５０ｎｍ以下とする磁気ヘッド装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードディスク装置などに装備される磁気ヘッド装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
このタイプの磁気ヘッド装置は、回転駆動されるハードディスク（記録媒体）上に延び揺動運動するロードビームに、ヘッド本体を固定した弾性変位可能な舌片を有するフレキシャを結合し、ロードビームに、フレキシャ（ヘッド本体を固定した舌片）と接触してヘッド本体の揺動支点を構成する揺動突起を設けている。ディスクが停止しているときは、ロードビームの弾性力によりヘッド本体の下面がディスクの記録面に接触し、ディスクが始動すると、ディスクの移動方向に沿ってヘッド本体とディスク表面の間に空気流が導かれ、ヘッド本体の下面が空気流による浮上力を受けて、ヘッド本体がディスク表面から浮上する。揺動突起は、ディス記録面の微細な凹凸にヘッド本体（フレキシャ舌片）を追従させて変位させるための揺動支点となる。揺動突起は、フレキシャ側に設けることも可能である。
【０００３】
この磁気ヘッド装置では、揺動突起と相手側の平面状接触面とが可及的に「点」でかつ正しい設計位置で接触することが望ましい。このため各種の提案がなされているが、従来はその揺動支点の形成方法あるいは伝統的な半球状突起に代える形状についての提案が主であった。しかし、従来のこれらの試みは、ディスク記録面凹凸にヘッド本体の姿勢をより柔軟に追従させるために必ずしも十分ではなかった。
【特許文献１】特開平１０-３４０５５２号公報
【特許文献２】特開平９-３２９２７１号公報
【特許文献３】特開２０００-２７４３７４号公報
【特許文献４】特開２００３-９０４４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、以上の従来技術に対する問題意識に基づき、揺動突起の形状は伝統的な半球状としたまま、従来とは異なるアプローチによりヘッド本体のディスク記録面凹凸に対する追従性を向上させることができる磁気ヘッド装置を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、揺動突起の形状は半球状としたまま、その面粗さを改善する（面精度を高める）ことによりヘッド本体の追従性を向上できること、及び面粗さを改善する手段としてレーザポリッシュが最適であることを見出して完成されたものである。
【０００６】
本発明は、金属材料からなり記録媒体上に延びるロードビームと、このロードビームの記録媒体側に位置する弾性変位可能な舌片を有し該ロードビームに結合される金属材料からなるフレキシャと、上記舌片の記録媒体側の面に固定されたヘッド本体とを有し、上記ヘッド本体を固定した舌片とロードビームとのいずれか一方に平面状接触面を設け、他方にこの平面状接触面に接触してヘッド本体の変位支点を構成する半球状接触部を突出形成した磁気ヘッド装置において、平面状接触面と半球状接触部の少なくとも一方に、レーザポリッシュを施したことを特徴としている。
【０００７】
レーザポリッシュは、少なくともＹＡＧレーザ、ＲＵＢＢＹレーザ、ＣＯ2レーザのいずれかにより実行することができる。それぞれのレーザの出力、レーザ光束径等の要素は、金属材料（一般的にステンレス）からなるロードビームとフレキシャの対象部位をスキャンすることにより、レーザポリッシュ後において、半球状接触部の面粗さＲａを１００ｎｍ以下、平面状接触面の面粗さＲａを５０ｎｍ以下とするように定める。別言すると、レーザポリッシュによると、このような面粗さを容易に得ることができる。
【０００８】
本発明は、別の表現によると、金属材料からなり記録媒体上に延びるロードビームと、このロードビームの記録媒体側に位置する弾性変位可能な舌片を有し該ロードビームに結合される金属材料からなるフレキシャと、上記舌片の記録媒体側の面に固定されたヘッド本体とを有し、上記ヘッド本体を固定した舌片とロードビームとのいずれか一方に平面状接触面を設け、他方にこの平面状接触面に接触してヘッド本体の変位支点を構成する半球状接触部を突出形成した磁気ヘッド装置において、半球状接触部の面粗さＲａを１００ｎｍ以下、平面状接触面の面粗さＲａを５０ｎｍ以下としたことを特徴している。
【０００９】
本発明は、方法の表現によると、ロードビームとフレキシャとを結合する前に、平面状接触面と半球状接触部の少なくとも一方に、レーザポリッシュを施し、その後、該平面状接触面と半球状接触部を接触させた状態で、ロードビームとフレキシャを結合することを特徴としている。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、揺動突起の形状は伝統的な半球状としたまま、ヘッド本体のディスク記録面に対する追従性を向上させた磁気ヘッド装置を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本実施形態の磁気ヘッド装置は、図１ないし図３に示すように、ヘッド本体１とこれを支持する支持部材２とから構成されている。ヘッド本体１は、ハードディスクなどの記録ディスク（記録媒体）Ｄ（図３）に対向するスライダ３を有し、このスライダ３のトレーリング側端面に薄膜素子４が設けられている。スライダ３はセラミック材料などにより形成されている。薄膜素子４は、磁気抵抗効果を利用してディスクＤからの洩れ磁界を検出し磁気信号を読み取るＭＲヘッド（読み出しヘッド）と、コイルなどがパターン形成されたインダクティブヘッド（書き込みヘッド）とを有している。
【００１２】
支持部材２は、周知のように、回転駆動されるディスクＤ外に揺動支点を持ちディスクＤ上に延びるロードビーム５と、このロードビーム５に結合されたフレキシャ６とから構成されている。ロードビーム５とフレキシャ６はともに、板ばね材料（金属材料、一般的にステンレス）により形成される。ロードビーム５には、その長さ方向の中間位置から先部にかけての両側部に、剛性を高める折り曲げ部５ａ、５ａが形成されている。また折り曲げ部５ａ、５ａに挟まれた平坦部５ｂの先端部付近には、図示下方向（ディスクＤ側）に突出する半球状接触部（半球状突起）７が形成されている。
【００１３】
フレキシャ６は、固定部６ａと舌片６ｂと連結部６ｃとで構成されている。図１に示すように、固定部６ａには位置決め孔９が形成されており、この位置決め孔９と、ロードビーム５の平坦部５ｂに形成された位置決め孔８とが位置合せされた後、固定部６ａがロードビーム５の下面（ディスクＤ側の面）にスポット溶接などの手段などにより固定される。またフレキシャ６の先端部には切欠きが形成され、この切欠きにより舌片６ｂと連結部６ｃとが離隔形成されている。連結部６ｃに段差部６ｄ、６ｄが形成されることにより、舌片６ｂが固定部６ａよりも下側（ディスクＤ側）に位置している。舌片６ｂの上面はロードビーム５に形成された半球状接触部７に突き当てられる平面状接触面６ｐを構成し、舌片６ｂの下面に接着固定されたヘッド本体１が舌片６ｂの弾性により、半球状接触部７の頂点を支点として姿勢を自由に変えることができる。ロードビーム５は、ヘッド本体１をディスクＤに接触させる方向の弾性力を有する。
【００１４】
フレキシャ６の裏側には、図４に示すように薄膜による導電パターン１４が形成されている。この導電パターン１４は、例えばフレキシャ６上に、ポリイミド樹脂製の下地層が形成され、この下地層の上に金（Ａｕ）、銅（Ｃｕ）製などの回路パターンが蒸着またはスパッタ法、あるいはエッチング法などにより形成され、さらに回路パターンの上に、ポリイミド樹脂製の保護層が形成された三層構造となっている。
【００１５】
導電パターン１４は、フレキシャ６の先端領域ではフレキシャ６の固定部６ａから舌片６ｂにかけて形成されている。また舌片６ｂに形成されている導電パターン１４の幅は、フレキシャ６の基端部方向に向けて徐々に大きくなっており、この部分がヘッド本体１との接続部１４ａとなっている。またヘッド本体１のトレーリング側端部には、薄膜素子４から引き出された薄膜による電極端子部４ａが、導電パターン１４の接続部１４ａと同じ間隔にて形成されている。
【００１６】
本実施形態では、例えば以上の構成を有する磁気ヘッド装置において、互いに接触するロードビーム５に形成した半球状接触部７とフレキシャ６の舌片６ｂ（平面状接触面６ｐ）とにそれぞれ、レーザポリッシュを施している。ロードビーム５の半球状接触部７は、例えば図５に模式的に示すように、ポンチ１０とダイス１１を有するプレス機械により突出形成することができる。図６は、このように形成した半球状接触部７に対し、レーザポリッシュを施す装置及び工程を示しており、ロードビーム５を載置するＸＹステージ２１上には、レーザ光源２２及び集光レンズ２３が位置している。レーザ光源２２からのレーザ光束２４は集光レンズ２３により半球状接触部７の表面に集光され、このレーザ光束２４と半球状接触部７とには、ＸＹステージ２１を介して、図６（Ｂ）に一例を示す相対的なスキャニング軌跡２５が与えられる。このレーザスキャン（ポリッシュ）により、少なくとも平面状接触部６ｐとの接触部を含む、半球状接触部７の頂部にレーザ光が照射される。図示しないが、フレキシャ６の平面状接触面６ｐに対しても同様にしてレーザポリッシュを施す。
【００１７】
レーザ光源２２の出力、集光レンズ２３のビーム径等の要素は、以上のレーザポリッシュにより半球状接触部７及び平面状接触面６ｐの面粗さが改善されるように設定される。次に具体例を示す。
レーザ光源２２の種類と出力；ＹＡＧレーザ、０．１〜１０００Ｗ
レーザ光束２４の集光ビーム径；０．００５〜０．５ｍｍφ
１．ロードビーム５の半球状接触部７に対するレーザポリッシュ
ロードビーム５の材質；ステンレス
半球状接触部７の径と厚さ；Ｒ＝０．０５〜０．５ｍｍ、ｔ＝０．０２５〜０．１ｍｍ
半球状接触部７のレーザポリッシュ前の面粗さ；Ｒａ≧３００ｎｍ
同レーザポリッシュ後の面粗さ；Ｒａ≦１００ｎｍ
２．フレキシャ６の平面状接触面６ｐに対するレーザポリッシュ
フレキシャ６の材質；ステンレス
平面状接触面６ｐのレーザポリッシュ前の面粗さ；Ｒａ≧２００ｎｍ
同レーザポリッシュ後の面粗さ；Ｒａ≦５０ｎｍ
【００１８】
以上のようにロードビーム５に形成した半球状接触部７と、フレキシャ６の舌片６ｂ（平面状接触面６ｐ）とにそれぞれにレーザポリッシュを施して面粗さを改善すると、半球状接触部７と平面状接触面６ｐとがより小さい接触面積（幾何学的な点に一層近い状態）で接触する。すなわち、組立に当たっては、以上のようにレーザポリッシュを施したフレキシャ６の舌片６ｂにヘッド本体１を接着固定し、その後、フレキシャ６の位置決め孔９とロードビーム５の位置決め孔８の位置を合致させ、フレキシャ６の平面状接触面６ｐと半球状接触部７を接触させた状態で、ロードビーム５とフレキシャ６を結合する。
【００１９】
図３は、ヘッド本体１の浮上状態（ディスクＤの回転状態）を示しており、ヘッド本体１のリーディング側がトレーリング側よりもディスクＤ上に高く持ち上がる傾斜した浮上姿勢となり、ヘッド本体１がディスクＤから距離δ３だけ浮上する。この浮上姿勢にて、薄膜素子４のＭＲヘッドによりディスクＤからの磁気信号が検出され、あるいはインダクティブヘッドにより磁気信号が書き込まれる。そして、この浮上状態において、ヘッド本体１が半球状接触部７の頂点と平面状接触部６ｐとの接触点（部）を中心に揺動してディスクＤ記録面の凹凸に追従する。本実施形態によれば、半球状接触部７の頂点と平面状接触部６ｐとの接触部は、より幾何学的な点に近いので、ヘッド本体１のディスクＤの記録面凹凸に対する追従性が向上する。
【００２０】
以上の実施形態では、半球状接触部７をロードビーム５に形成し、フレキシャ６にこの半球状接触部７が接触（当接）する平面状接触面６ｐを設けたが、この凹凸の関係は逆にし、フレキシャ６側に半球状接触部を設け、ロードビーム５側に平面状接触面を設け、これらにレーザポリッシュを施してもよい。また、半球状接触部と平面状接触面のいずれか一方のみにレーザポリッシュを施しても、施さない場合に比べ一定の効果を得ることができる。
【００２１】
なお本発明の磁気ヘッド装置は、ＣＳＳ（コンタクトスタートストップ）式、ランプロード（Ramp Load）式のいずれにも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明を適用する磁気ヘッド装置の分解斜視図である。
【図２】同平面図である。
【図３】同側面図である。
【図４】同磁気ヘッドのスライダに対する配線を示す斜視図である。
【図５】ロードビームに形成する半球状接触部のプレス成形状態を示す模式断面図である。
【図６】（Ａ）、（Ｂ）は同半球状接触部にレーザポリッシュを施す際の模式側面図と平面図である。
【符号の説明】
【００２３】
１  ヘッド本体
２  支持部材
３  スライダ
４  薄膜素子
４ａ  電極端子部
５  ロードビーム
６  フレキシャ
６ａ  固定部
６ｂ  舌片
６ｃ  連結部
６ｄ  段差部
６ｐ  平面状接触面
７  半球状接触部
８  ９  位置合せ孔
２１  ＸＹステージ
２２  レーザ光源
２３  集光レンズ
２４  レーザ光束
２５  スキャニング軌跡
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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