(57)【要約】【課題】  本発明は熱可塑性エラストマーの性質を有し、高温長期の耐熱老化性、耐光性に優れた芳香族アミドブロック共重合体組成物を提供する。【解決手段】  下記一般式（１）で示される繰り返し単位からなる芳香族アミドブロック共重合体１００重量部に対して、酸化防止剤、紫外線吸収剤または光安定剤からなる群から選ばれる少なくとも１種以上の添加剤０．０１〜２０重量部からなることを特徴とする芳香族アミドブロック共重合体組成物。【化１】2005247982.tif 000026                                                                          （１）【選択図】  選択図なし。【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示される繰り返し単位からなる芳香族アミドブロック共重合体１００重量部に対して、酸化防止剤、紫外線吸収剤または光安定剤からなる群から選ばれる少なくとも１種以上の添加剤０．０１〜２０重量部からなることを特徴とする芳香族アミドブロック共重合体組成物。
【化１】
2005247982.tif 000020
（１）
（ここで、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して炭素数１〜２０の２価のオキシアルキレン基、アルキレンカルバモイル基、またはアリーレンカルバモイル基を示す。また、Ｇ１は下記一般式（２）及び／または（３）に示される２価の有機基示す。）
【化２】
2005247982.tif 000021
（２）
（ここで、Ｒ３、Ｒ４は、それぞれ独立して炭素数２〜２０の２価の脂肪族炭化水素基、ｐ、ｑはそれぞれ独立して１以上の実数を示す。また、Ｘは下記一般式（４）、（５）、（６）に示される群から選ばれる少なくとも１種以上の単位を示す。）
【化３】
2005247982.tif 000022
（３）
（ここで、Ｇ２は２価のポリオール残基を示す。また、Ｘは下記一般式（４）、（５）、（６）に示される群から選ばれる少なくとも１種以上の単位を示す。）
【化４】
2005247982.tif 000023
（４）
（ここで、Ｒ５は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【化５】
2005247982.tif 000024
（５）
（ここで、Ｒ６は炭素数２〜２０の２価の有機基を示す。）
【化６】
2005247982.tif 000025
（６）
（ここで、Ｒ７はカルボニル基または炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【請求項２】
Ｘが、二官能性ハライド化合物、二官能性イソシアネート化合物、二官能性カーボネート化合物、二官能性エステル化合物、二官能性アシルラクタム化合物、二官能性エポキシ化合物、二官能性テトラカルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種以上の化合物残基である芳香族アミドブロック共重合体からなることを特徴とする請求項１に記載の芳香族アミドブロック共重合体組成物。
【請求項３】
Ｇ１がポリエステルを含む芳香族アミドブロック共重合体からなることを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の芳香族アミドブロック共重合体組成物。
【請求項４】
Ｇ１がポリ（ε−カプロラクトン）を含む芳香族アミドブロック共重合体からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の芳香族アミドブロック共重合体組成物。
【請求項５】
添加剤が、酸化防止剤並びに、紫外線吸収剤及び／または光安定剤からなることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の芳香族アミドブロック共重合体組成物。
【請求項６】
酸化防止剤が、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、ビタミンＥ系酸化防止剤からなる群から選ばれる少なくとも２種類以上の酸化防止剤からなることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の芳香族アミドブロック共重合体組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は熱可塑性エラストマーの性質を有し、高温長期の耐熱老化性、耐光性に優れた芳香族アミドブロック共重合体組成物、特に繊維、フィルム、シート、ブーツ、ギヤ、チューブ、パッキンなどの各種成形材料に適した芳香族アミドブロック共重合体組成物に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
熱可塑性エラストマーは常温でゴム弾性を示し、プラスチック成形加工機で容易に成形可能なことから近年注目を集め、自動車部品、電気・電子部品、機械部品等に使用されている。そして、本出願人は、耐熱性、機械特性に優れた熱可塑性エラストマーとして、ハードセグメントに芳香族オリゴアミド単位、ソフトセグメントに脂肪族ポリ（オキシアルキレン）単位、ポリオルガノシロキサン単位、脂肪族炭化水素単位、脂環式炭化水素単位、脂肪族ポリエステル単位、脂肪族ポリカーボネート単位を用いた芳香族アミドブロック共重合体について、すでに提案を行っている。（特願２００３−３７５５０８号、特願２００３−３１５６０９号）。
【０００３】
一般に、熱可塑性エラストマーは、使用環境に応じて、耐熱性、耐光性等の諸特性が優れていることが要求される材料であり、種々の添加剤を用いることにより、材料の特性を向上させる方法が提案されている（例えば、特許文献１〜４参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−３０５０号公報
【０００５】
【特許文献２】特開平１１−３０２５１３号公報
【特許文献３】特開平８−９２４２９号公報
【特許文献４】特開平８−３１１３３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一般に熱可塑性エラストマーを単独で用いた場合、その化学結合様式により劣化の機構は異なるが、熱や光によって比較的容易に劣化し、機械特性の低下、着色等の好ましくない現象が生じることがあり、高温の酸素含有雰囲気下や直射日光が当たる場所で長期に使用される用途において、その使用に制限を受ける可能性があった。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、特定の芳香族アミドブロック共重合体及び酸化防止剤、紫外線吸収剤または光安定剤からなる群から選ばれる少なくとも１種以上の添加剤からなる芳香族アミドブロック共重合体組成物が、高温長期の耐熱老化性、耐光性に優れることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明は、下記一般式（１）で示される繰り返し単位からなる芳香族アミドブロック共重合体１００重量部に対して、酸化防止剤、紫外線吸収剤または光安定剤からなる群から選ばれる少なくとも１種以上の添加剤０．０１〜２０重量部からなる芳香族アミドブロック共重合体組成物に関するものである。
【０００９】
【化１】
2005247982.tif 000002
（１）
（ここで、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して炭素数１〜２０の２価のオキシアルキレン基、アルキレンカルバモイル基、またはアリーレンカルバモイル基を示す。また、Ｇ１は下記一般式（２）及び／または（３）に示される２価の有機基示す。）
【００１０】
【化２】
2005247982.tif 000003
（２）
（ここで、Ｒ３、Ｒ４は、それぞれ独立して炭素数２〜２０の２価の脂肪族炭化水素基、ｐ、ｑはそれぞれ独立して１以上の実数を示す。また、Ｘは下記一般式（４）、（５）、（６）に示される群から選ばれる少なくとも１種以上の単位を示す。）
【００１１】
【化３】
2005247982.tif 000004
（３）
（ここで、Ｇ２は２価のポリオール残基を示す。また、Ｘは下記一般式（４）、（５）、（６）に示される群から選ばれる少なくとも１種以上の単位を示す。）
【００１２】
【化４】
2005247982.tif 000005
（４）
（ここで、Ｒ５は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【００１３】
【化５】
2005247982.tif 000006
（５）
（ここで、Ｒ６は炭素数２〜２０の２価の有機基を示す。）
【００１４】
【化６】
2005247982.tif 000007
（６）
（ここで、Ｒ７はカルボニル基または炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）。
【００１５】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００１６】
本発明の芳香族アミドブロック共重合体組成物は、芳香族アミドブロック共重合体と添加剤からなる組成物であり、該添加剤としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤から選ばれるものである。
【００１７】
本発明で用いられる芳香族アミドブロック共重合体とは、上記一般式（１）で示される繰り返し単位からなるものである。該一般式（１）中のＲ１およびＲ２は、それぞれ独立して炭素数１〜２０の２価のオキシアルキレン基、アルキレンカルバモイル基、アリーレンカルバモイル基であり、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、また直鎖状又は分岐状であってよい。
【００１８】
該オキシアルキレン基としては、例えばオキシエチレン基、オキシトリメチレン基、オキシテトラメチレン基、オキシペンタメチレン基、オキシヘキサメチレン基等の無置換オキシアルキレン基またはこれらにメチル基、エチル基等のアルキル置換基もしくはフェニル基等のアリール置換基が１個以上結合したものが挙げられる。さらには、上記の無置換オキシアルキレン基単位やアルキルまたはアリール置換オキシアルキレン基単位が任意に２個以上結合したものであっても良く、これらの１種または２種以上が使用される。中でも、オキシエチレン基、オキシプロピレン基が好ましい。
【００１９】
該アルキレンカルバモイル基としては、例えばメチレンカルバモイル基、エチレンカルバモイル基、トリメチレンカルバモイル基、テトラメチレンカルバモイル基、ペンタメチレンカルバモイル基、２，２−ジメチルトリメチレンカルバモイル基、ネオペンチルカルバモイル基、ヘキサメチレンカルバモイル基、３−メチルペンタメチレンカルバモイル基、２−メチルヘプタメチレンカルバモイル基、ヘプタメチレンカルバモイル基、オクタメチレンカルバモイル基、ノナメチレンカルバモイル基、デカメチレンカルバモイル基、１，４−シクロヘキシレンカルバモイル基等を挙げることができ、これらの１種または２種以上が使用される。中でもエチレンカルバモイル基が好ましい。
【００２０】
該アリーレンカルバモイル基としては、例えば２−ベンジルカルバモイル基、３−ベンジルカルバモイル基、４−ベンジルカルバモイル基、１，２−フェニレンカルバモイル基、１，３−フェニレンカルバモイル基、１，４−フェニレンカルバモイル基等を挙げることができ、これらの１種または２種以上が使用される。
【００２１】
該一般式（１）中のＧ１は下記一般式（２）及び／または（３）に示される２価の有機基を示す。
【００２２】
【化７】
2005247982.tif 000008
（２）
（ここで、Ｒ３、Ｒ４は、それぞれ独立して炭素数２〜２０の２価の脂肪族炭化水素基、ｐ、ｑはそれぞれ独立して１以上の実数を示す。また、Ｘは下記一般式（４）、（５）、（６）に示される群から選ばれる少なくとも１種類以上の単位を示す。）
【００２３】
【化８】
2005247982.tif 000009
（３）
（ここで、Ｇ２は２価のポリオール残基を示す。また、Ｘは下記一般式（４）、（５）、（６）に示される群から選ばれる少なくとも１種類以上の単位を示す。）。
【００２４】
本発明で用いられる芳香族アミドブロック共重合体における一般式（２）中のＲ３およびＲ４は、それぞれ独立して炭素数２〜２０の２価の脂肪族炭化水素基であり、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、直鎖状または分岐状であってもよい。該脂肪族炭化水素基としては、例えばエチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基等の炭素数２〜２０のアルキレン基またはこれらにメチル基等のアルキル置換基が１個以上結合したものが挙げられ、これらの１種または２種以上が使用される。中でも安価なことからペンタメチレン基が好ましい。
【００２５】
該一般式（２）中のｐ、ｑは、それぞれ１以上の実数であり、平均連鎖数（ｐ＋ｑ）の合計は１〜５０００が好ましく、さらには２〜１００が好ましく、ゴム状弾性が得られることから特に４〜５０であることが好ましい。
【００２６】
また、該一般式（２）中のＸは下記一般式（４）、（５）、（６）に示される群から選ばれる少なくとも１種類以上の単位を示す。
【００２７】
【化９】
2005247982.tif 000010
（４）
（ここで、Ｒ５は炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
【００２８】
【化１０】
2005247982.tif 000011
（５）
（ここで、Ｒ６は炭素数２〜２０の２価の有機基を示す。）
【００２９】
【化１１】
2005247982.tif 000012
（６）
（ここで、Ｒ７はカルボニル基または炭素数１〜２０の２価の有機基を示す。）
本発明で用いられる芳香族アミドブロック共重合体における一般式（２）、（３）中のＸは、二官能性ハライド化合物、二官能性イソシアネート化合物、二官能性カーボネート化合物、二官能性エステル化合物、二官能性アシルラクタム化合物、二官能性エポキシ化合物、二官能性テトラカルボン酸無水物からなる群から選ばれる少なくとも１種類以上の化合物の残基であることが好ましい。
【００３０】
本発明で用いられる芳香族アミドブロック共重合体における一般式（４）中のＲ５は炭素数１〜２０の２価の有機基であり、例えばアリーレン基、置換アリーレン基、アルキレン基、置換アルキレン基等が挙げられ、該置換基にヘテロ原子を含有していてもよい。該有機基の具体例としては、例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基等のアルキレン基；１，２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、２，６−ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、２，７−ナフチレン基、ビフェニレン基等のアリーレン基等が挙げられ、これらの１種または２種以上が使用される。中でも特に耐熱性に優れることから、テトラメチレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基が好ましい。
【００３１】
本発明で用いられる芳香族アミドブロック共重合体における一般式（５）中のＲ６は炭素数２〜２０の２価の有機基であり、例えばエチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基等のアルキレン基；１，２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、２，６−ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、２，７−ナフチレン基等のアリーレン基；これらのアルキル置換体；メチレン基もしくはアルキレン基とアリーレン基とが結合した置換基等を挙げることができ、これらの１種または２種以上が使用される。中でも特に耐熱性に優れることから、４，４’−ジフェニルメタン基、１，２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、キシリレン基、ヘキサメチレン基、またはこれらのメチル置換体が好ましい。
【００３２】
本発明で用いられる芳香族アミドブロック共重合体における一般式（６）中のＲ７はカルボニル基または炭素数１〜２０の２価の有機基であり、例えばアリーレン基、置換アリーレン基、アルキレン基、置換アルキレン基、該置換基にヘテロ原子を含有していてもよい。該有機基の具体例としては、例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、ヘプタメチレン基、オクタメチレン基、ノナメチレン基、デカメチレン基等のアルキレン基；１，２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、２，６−ナフチレン基、１，５−ナフチレン基、２，７−ナフチレン基、ビフェニレン基等のアリーレン基；テレフタル酸ジグリシジルエステル残基等のジカルボン酸のジグリシジルエステル化合物残基；ｐ−フェニレンジグリシジルエーテル残基等のジグリシジルエーテル化合物残基等を挙げることができ、これらの１種または２種以上が使用される。
【００３３】
本発明で用いられる芳香族アミドブロック共重合体における一般式（３）中のＧ２は２価のポリオール残基であり、例えばポリエステル系ポリオール、ポリエーテル系ポリオール、ポリカーボネート系ポリオール、ビニル系ポリオール、ジエン系ポリオール、ひまし油系ポリオール、ポリオルガノシロキサン系ポリオール、ポリオレフィン系ポリオール、ダイマージオールまたはこれらの共重合体等の残基が挙げられ、これらの１種または２種以上が使用される。
【００３４】
該ポリエステル系ポリオールは、例えばジカルボン酸と短鎖ポリオールを縮合重合することによって得られる。このときジカルボン酸成分としてはコハク酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン酸、フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等が挙げられ、これらの１種または２種以上が使用される。一方短鎖ポリオール成分としては、脂肪族、脂環式、芳香族、置換脂肪族または複素環式のジヒドロキシ化合物、トリヒドロキシ化合物、テトラヒドロキシ化合物等であり、例えば１，２−エタンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ブテンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，１０−デカメチレンジオール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、ビス（β−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン、ｐ−キシレンジオール、ジヒドロキシエチルテトラハイドロフタレート、トリメチロールプロパン、グリセリン、２−メチルプロパン−１，２，３−トリオール、１，２，６−ヘキサントリオール等が挙げられ、これらの１種または２種以上が使用される。
【００３５】
該ポリエステル系ポリオールを得る別の方法として、β−プロピオラクトン、ピバロラクトン、δ−バレロラクトン、β−メチル−δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン、メチル−ε−カプロラクトン、ジメチル−ε−カプロラクトン、トリメチル−ε−カプロラクトン等のラクトン化合物の１種または２種以上を前記短鎖ポリオール成分から選ばれる１種または２種以上のヒドロキシ化合物と共に反応せしめる方法によることも可能である。
【００３６】
該ポリエーテル系ポリオールとしては、ポリテトラメチレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール等が挙げられ、これらの１種または２種以上が使用される。
【００３７】
該ポリカーボネート系ポリオールとしては、前記の短鎖ポリオールから選ばれるヒドロキシ化合物の１種または２種以上と、ジアリルカーボネート、ジアルキルカーボネート、エチレンカーボネート等のカーボネート化合物とのエステル交換法によって得られたものが挙げられ、該カーボネート化合物としては、例えばポリ（１，６−ヘキサメチレンカーボネート）、ポリ（２，２’−ビス（４−ヒドロキシヘキシル）プロピレンカーボネート）等が挙げられる。また、ポリカーボネートポリオールを得る他の方法としては、いわゆるホスゲン法によっても得ることもできる。
【００３８】
その他の該ポリオールとしては、ブタジエン、イソプレン等の共役ジエン単量体よりなるポリジエン系ポリオール；ポリジエン系ポリオールを水素添加したポリオレフィン系ポリオールまたはエチレン、プロピレン、イソブチレン等のオレフィン類の単独重合体、ランダム共重合体、交互共重合体、ブロック共重合体の両末端をヒドロキシル化したポリオレフィン系ジオール；β−ヒドロキシエチルアクリレート、β−ヒドロキシエチルメタクリレート等のヒドロキシ基を持つアクリル単量体とアクリル酸エステルとの共重合によって得られるアクリル系ポリオール等のビニル系ポリオール；ポリプロピレングリコールリシノレート等のひまし油系ポリオール；ポリジメチルシロキサンの両末端をヒドロキシル化したポリオルガノシロキサン系ポリオール等も使用することができる。
【００３９】
本発明で用いられる芳香族アミドブロック共重合体はゴム状弾性を有することからＧ２の数平均分子量は３００〜１００００の範囲であることが好ましく、特に５００〜５０００の範囲であることが好ましい。
【００４０】
本発明で用いられる芳香族アミドブロック共重合体は耐熱性に優れることからＧ１はポリエステル含むことが好ましく、さらには製造のし易さからＧ１はポリ（ε−カプロラクトン）を含むことが好ましい。
【００４１】
また、本発明で用いられる芳香族アミドブロック共重合体におけるＧ１の含有量は特に制限はなく、柔軟性、ゴム弾性、成形加工性に優れることから、Ｇ１の含有量は５〜９５重量％の範囲であることが好ましく、さらに１０〜８５重量％の範囲であることが好ましい。
【００４２】
本発明で用いられる芳香族アミドブロック共重合体の分子量は、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（以下、ＧＰＣと記す。）で測定した標準ポリスチレン換算の数平均分子量が１００００〜１００００００であることが好ましく、さらに好ましくは３００００〜５０００００である。
【００４３】
本発明で用いられる酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、ビタミンＥ系酸化防止剤が挙げられる。
【００４４】
該フェノール系酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔ−アミルハイドロキノン、ペンタエリスリチル−テトラキス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、テトラキス〔メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、カルシウム（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジル−モノエチル−フォスフェート）、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン〕、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル〕２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、ビス〔３，３−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）酪酸〕グリコールエステル、トリフェノール、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ，Ｎ’−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン、２，２’−オキサミドビス〔エチル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，１，３−トリス（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナミックアシッドトリエステルと１，３，５−トリス（２−ヒドロキシエチル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）の混合物、Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナアミド）、３，９−ビス〔２−｛３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝−１，１−ジメチルエチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン等を挙げることができる。
【００４５】
該リン系酸化防止剤としては、例えば、トリス（ミックスド、モノ及びジノニルフェニル）フォスファイト、トリス（２，３−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト、４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェニル−ジ−トリデシル）フォスファイト、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ジ−トリデシルフォスファイト−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルフォスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジフォスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレン  フォスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリストールジフォスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレンジフォスファイト、トリフェニルフォスファイト、ジフェニルデシルフォスファイト、トリデシルフォスファイト、トリオクチルフォスファイト、トリドデシルフォスファイト、トリオクタデシルフォスファイト、トリノニルフェニルフォスファイト、トリドデシルトリチオフォスファイト等を挙げることができる。
【００４６】
該イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３’−チオジプロピオネート、ジオクタデシル３，３’−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３’−チオジプロピオン酸エステル、ペンタエリスチルテトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ジオクタデシルサルファイド、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジエチルジチオカルバミン酸ニッケル、ジブチルジチオカルバミン酸ニッケル、１，３−ビス（ジメチルアミノプロピル）−２−チオ尿素、トリブチルチオ尿素等を挙げることができる。
【００４７】
該アミン系酸化防止剤としては、例えば、２，２，４−トリメチル−１，２−ジヒドロキノリン重合体、６−エトキシ−１，２−ジヒドロ−２，２，４−トリメチルキノリン、ジフェニルアミンとアセトンの反応物、フェニル−１−ナフチルアミン、アルキル化ジフェニルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、４，４’−ビス（α、α−ジメチルベンジル）ジフェニルアミン、ｐ−（ｐ−トルエンスルホニルアミド）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−２−ナフチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−（１，３−ジメチルブチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−（３−メタクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピル）−ｐ−フェニレンジアミン等を挙げることができる。
【００４８】
該ラクトン系酸化防止剤としては、例えば、３−ヒドロキシ−５，７−ジ−ｔ−ブチルフラン−２−オンとＯ−キシレンとの反応生成物を挙げることができる。
【００４９】
該ビタミンＥ系酸化防止剤としては、例えば、３，４−ジヒドロ−２，５，７，８−テトラメチル−２−（４，８，１２−トリメチルトリデシル）−２Ｈ−ベンゾピラン−６−オールを挙げることができる。
【００５０】
また、これらの酸化防止剤は、より大きな効果を発現するために２種以上を併用して用いることができる。
【００５１】
本発明で用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤が挙げられる。
【００５２】
該ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、例えば、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ペンチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジイソアミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。
【００５３】
該ベンゾエート系紫外線吸収剤としては、例えば、サリチル酸フェニル、サリチル酸ｐ−ブチルフェニル、サリチル酸ｐ−オクチルフェニル、レゾルシノールモノベンゾエート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、４−オクチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等を挙げることができる。
【００５４】
該ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、例えば、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ステアリロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン−５−スルホン酸、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４−メチルベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンゾイロキシベンゾフェノン、５−クロロ−２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン等を挙げることができる。
【００５５】
また、これらの紫外線吸収剤は２種以上を併用して用いることができる。
【００５６】
本発明で用いられる光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系光安定剤が挙げられ、該ヒンダードアミン系光安定剤としては常温液状型と分子量５００以上の常温固体型が挙げられる。
【００５７】
該常温液状型ヒンダードアミン系光安定剤としては、常温（２３℃）で液状のヒンダードアミン系光安定剤であり、例えば、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ポリメチルプロピル−３−オキシ［１−（２，２−６，６−テトラメチル）ピペリジル］シロキサン等を挙げることができる。
【００５８】
該分子量５００以上の常温固体型ヒンダードアミン系光安定剤としては、分子量が５００以上、好ましくは７００以上で、常温（２３℃）で固体のヒンダードアミン系光安定剤であり、例えば、テトラ（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラ（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、Ｎ，Ｎ´−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物等を挙げることができる。
【００５９】
また、これらのヒンダードアミン系光安定剤は２種以上を併用して用いることができる。
【００６０】
本発明の芳香族アミドブロック共重合体組成物は、芳香族アミドブロック共重合体と、酸化防止剤、紫外線吸収剤または光安定剤からなる群から選ばれる少なくとも１種以上の添加剤からなり、その中でも特に良好な高温長期の耐熱老化性、耐光性に優れた芳香族アミドブロック共重合体組成物が得られることから、添加剤が、酸化防止剤並びに、紫外線吸収剤及び／または光安定剤からなることが好ましい。
【００６１】
本発明の芳香族アミドブロック共重合体組成物は、芳香族アミドブロック共重合体１００重量部に対して、酸化防止剤、紫外線吸収剤または光安定剤からなる群から選ばれる少なくとも１種以上の添加剤が０．０１〜２０重量部、好ましくは０．０５〜１０重量部配合されたものである。これらの酸化防止剤、紫外線吸収剤または光安定剤からなる群から選ばれる少なくとも１種以上の添加物の配合量が０．０１重量部未満では、高温長期の耐熱老化性、耐光性の改良効果がなく、２０重量部を超えると、着色、ブリードアウトする。
【００６２】
本発明の芳香族アミドブロック共重合体組成物の製造方法は特に制限がなく、公知のいかなる方法を用いて製造してもよく、例えば、芳香族アミドブロック共重合体の重合中に添加剤を添加する方法；重合後の任意の時期に添加剤を添加する方法；加熱ロール、押出機、バンバリミキサー等の混練機により芳香族アミドブロック共重合体と添加剤を溶融混合する方法等が挙げられる。芳香族アミドブロック共重合体と添加剤とを溶融混合する際の温度としては、芳香族アミドブロック共重合体組成物の熱安定性を考慮すると１５０〜２８０℃が好ましい。
【００６３】
また、本発明の芳香族アミドブロック共重合体組成物には、本発明の効果を著しく損なわない限りにおいて、熱可塑性樹脂、繊維、染料、有機顔料、無機顔料、ナノ粒子、ガラス繊維、ウィスカーを含む無機補強剤、カーボンナノチューブ及びその化学修飾物、フラーレン類及びその化学修飾物、難燃剤、帯電防止剤、可塑剤、発砲剤、エポキシ化合物やイソシアネート化合物等の公知の添加剤を加えることができる。
【００６４】
本発明の芳香族アミドブロック共重合体組成物は、一般の成形加工機で容易に成形加工でき、優れた柔軟性及び耐熱老化性を有する成形体を得ることができる。
【００６５】
本発明の芳香族アミドブロック共重合体組成物は、例えば、バンパー部品、シールド、ステアリングホイール、ジョイントブーツ、モール、エアバック、座席シート、ワイパーゴム等の自動車部品；革靴、サンダル等の履物；電線被覆、コネクター、キャッププラグ等の電気部品；野球バット、ゴルフクラブ、テニスラケット、スキーポール等のグリップ部分；水泳用フィン、水中眼鏡、ゴルフボール、サッカーボール等のスポーツまたはレジャー用品；マスク、サック、手袋、コンドーム、水枕、哺乳器用乳首、キャップ容器、レインウェア等の日用品；水着、レオタード、パンティストッキング、靴下等の弾性繊維衣服；油圧ホース、パワーステリングホース、スプレーホース等のホース類；バキュームチューブ、コイルチューブ等のガーデンホース等のチューブ類；キーボードスイッチ等のラバーコンタクト；カールコード、カップリング、Ｏリング、ガスケット、防水布等のパッキン類；印刷用ロール、帯電ロール、給紙ロール、定着ロール等の各種機器用ロール等のロール類；帯電ベルト、転写ベルト、給紙ベルト、定着ベルト等のＯＡ機器用ベルトやコンベヤベルト等の搬送用コンベヤベルト類；Ｖベルト、歯付きベルト等の動力伝達ベルト類等に用いることができる。
【発明の効果】
【００６６】
本発明の芳香族アミドブロック共重合体組成物は、熱可塑性エラストマーの性質を有し、高温長期の耐熱老化性、耐光性に優れている。
【実施例】
【００６７】
以下、本発明を実施例によって詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【００６８】
評価・分析に用いた評価・分析機器及び方法を以下に示す。
【００６９】
〜数平均分子量の測定〜
カラム（東ソー（株）製、商品名ＴＳＫ−ＧＥＬ  ＧＭＨＨＲ−Ｈ）を装着したＧＰＣ装置（東ソー（株）製、商品名ＨＬＣ−８０２０）により、カラム温度４０℃、流量０．４ｍｌ／分の条件下で、溶離液に２０ｍｍｏｌ／ｌの塩化リチウム−Ｎ−メチル−２−ピロリドン溶液を用いて測定し、標準ポリスチレン換算で算出した。
【００７０】
〜平均連鎖数（ｐ＋ｑ）の測定〜
核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名ＪＮＭ−ＧＳＸ２７０型）を用い、重水素化ジメチルスルホキシド中、室温の条件で１Ｈ−ＮＭＲを測定した。
【００７１】
芳香族基とラクトン単位のメチレン基のピーク強度比より、一般式（１）における平均連鎖数（ｐ＋ｑ）を算出した。
【００７２】
〜融点測定〜
示差走査熱量計（セイコー電子工業製、商品名ＤＳＣ２００）を用い、昇温速度１０℃／分、−１００〜３００℃の範囲で測定した。
【００７３】
〜タイプＡデュロメータ硬さ〜
芳香族アミドブロック共重合体を圧縮成形した厚さ２ｍｍのシートを用いて、タイプＡデュロメータ硬さ（ＪＩＳ  Ｋ６２５３：１９９７年）を測定した。
【００７４】
〜耐熱老化試験〜
得られた芳香族アミドブロック共重合体組成物を、Ｄ＝３６ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝２０である東芝（株）製射出成形機ＩＳ１００Ｅを用い、射出温度２１０℃、金型温度６０℃にて厚さ２ｍｍの平板（７０ｍｍ×１５０ｍｍ）を成形した後、試験片を得た。この試験片をスガ試験機（株）製ギヤーオーブン中、１５０℃で、５００時間処理を行い、ＪＩＳ  Ｋ６２５１（１９９３年）に従い切断時伸びを求め、処理前後の切断時伸びより保持率を求め、この値を耐熱老化性伸び保持率とした。
【００７５】
〜耐光性試験〜
耐熱老化試験と同様に得た試験片を、８３℃、５００時間、フェードメーター照射処理を行い、ＪＩＳ  Ｋ６２５１（１９９３年）に従い切断時伸びを求め、処理前後の切断時伸びより保持率を求め、この値を耐光性伸び保持率とした。
【００７６】
合成例１（ジヒドロキシ芳香族アミド化合物の合成）
窒素導入管、温度計および攪拌翼を備えた１０Ｌの４つ口フラスコに、窒素雰囲気下でｐ−アミノフェノール７６３ｇ（７．０ｍｏｌ）及びＮ−メチル−２−ピロリドン（以下、ＮＭＰと記す。）２．１Ｌ、トルエン１．４Ｌを加え５０℃に昇温し溶解させた。別途、窒素導入管を備えた３Ｌ滴下ロートに、テレフタル酸ジクロライド７１０ｇ（３．５ｍｏｌ）、ＮＭＰ０．３Ｌ、トルエン１．４Ｌを加え、撹拌し均一溶液とし、この溶液を先の溶液中に８０℃を保ちながら３０分かけて滴下した。さらに８０℃で２時間反応を行った。
【００７７】
得られたスラリーの固形分を吸引濾過により回収し、メタノール７Ｌで２回攪拌洗浄した。Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）テレフタルアミドを得た。
【００７８】
続いて、窒素導入管、温度計および攪拌翼を備えた１０Ｌの４つ口フラスコに、窒素雰囲気下でＮ，Ｎ’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）テレフタルアミド１０４５ｇ（３．０ｍｏｌ）、炭酸エチレン５５５ｇ（６．３ｍｏｌ）、触媒としてカリウムｔ−ブトキシド１．５１ｇ（１３．５ｍｍｏｌ）、ＮＭＰ６．０Ｌを加え、１８０℃に昇温して完全に溶解させ、さらに１８０℃で２時間攪拌した。室温まで冷却後、析出した固形分を吸引濾過により回収し、得られた固形分をＮＭＰにより再結晶し、メタノール７．５Ｌで２回攪拌洗浄した。Ｎ，Ｎ’−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）−１，４−ベンゼンジカルボキサミド１０２８ｇ（収率７９％）を得た。その構造式を下記に示す。この化合物を（ａ）と記す。
【００７９】
【化１２】
2005247982.tif 000013
合成例２（ジヒドロキシ芳香族アミド化合物の合成）
窒素導入管、温度計および攪拌翼を備えた１０Ｌの４つ口フラスコに、４−アミノ−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）ベンズアミド１６００ｇ（８．９ｍｏｌ）、ＮＭＰ４．０Ｌを加え均一溶液を得た。別途に、窒素導入管を備えた３Ｌ滴下ロートに、イソフタル酸ジクロライド９０１ｇ（４．４ｍｏｌ）、ＮＭＰ２．０Ｌを加え、撹拌し均一溶液とし、この溶液を先の溶液中に１時間かけて滴下した。さらに５０℃で２時間反応させた後、得られたスラリーをアセトン２５Ｌに投入し、吸引ろ過により白色固体を回収した。得られた固体をＮＭＰにより再結晶を行い、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−（２−ヒドロキシエチルカルバモイル）フェニル）イソフタルアミド３７４５ｇ（収率８６％）を得た。その構造式を下記に示す。この化合物を（ｂ）と示す。
【００８０】
【化１３】
2005247982.tif 000014
合成例３（芳香族アミドブロック共重合体の合成）
窒素導入管を備えた１５Ｌのオートクレーブに、窒素雰囲気下で化合物（ａ）８９６ｇ（２．１ｍｏｌ）、ε−カプロラクトン２３４２ｇ（２０．５ｍｏｌ）、ＮＭＰ５３８０ｇを仕込み、１８０℃に昇温した後、テトラブチルチタネート１．４ｇ（４．１ｍｍｏｌ）を加え、１８０℃で２時間開環重合を行った。引き続いて、テレフタロイルビス（ε−カプロラクタム）７３１ｇ（２．１ｍｏｌ）を添加し、１８０℃で５時間反応させた。その後、内温を２５０℃まで昇温しながら、ＮＭＰ及び副生成物のε−カプロラクタムを減圧下で２時間かけて留去した。更に、同温で１時間反応させた。続いて、系内を加圧にした後、オートクレーブ下部から溶融状態のポリマーをストランドとして抜き出し、カッティングして芳香族アミドブロック共重合体のペレット３１００ｇを得た。
【００８１】
得られた芳香族アミドブロック共重合体は、数平均分子量７８０００、融点２２５℃、タイプＡデュロメータ硬さ９５であった。また、平均連鎖数（ｐ＋ｑ）は９．２であった。この芳香族アミドブロック共重合体を共重合体Ａとする。
【００８２】
合成例４（芳香族アミドブロック共重合体の合成）
窒素導入管を備えた１５Ｌのオートクレーブに、窒素雰囲気下で化合物（ａ）９３４ｇ（２．１ｍｏｌ）、ε−カプロラクトン２４４２ｇ（２１．４ｍｏｌ）、ＮＭＰ５６１１ｇを仕込み、１８０℃に昇温した後、テトラブチルチタネート１．５ｇ（４．３ｍｍｏｌ）を加え、１８０℃で２時間開環重合を行った。その後、リン酸１．７ｇ（１７．１ｍｍｏｌ）を添加して１８０℃で３０分攪拌した。引き続いて、ヘキサメチレンジイソシアネート３６０ｇ（２．１ｍｏｌ）を３０分かけて滴下し、１８０℃で４時間反応させた。その後、内温を２５０℃まで昇温しながら、ＮＭＰを減圧下で２時間かけて留去した。更に、同温で１時間反応させた。続いて、系内を加圧にした後、オートクレーブ下部から溶融状態のポリマーをストランドとして抜き出し、カッティングして芳香族アミドブロック共重合体のペレット３３００ｇを得た。
【００８３】
得られた芳香族アミドブロック共重合体は、数平均分子量８４０００、融点２２６℃、タイプＡデュロメータ硬さ９５であった。また、平均連鎖数（ｐ＋ｑ）は９．３であった。この芳香族アミドブロック共重合体を共重合体Ｂとする。
【００８４】
合成例５（芳香族アミドブロック共重合体の合成）
窒素導入管を備えた１５Ｌのオートクレーブに、窒素雰囲気下で化合物（ｂ）９７９ｇ（２．０ｍｏｌ）、ε−カプロラクトン３９９１ｇ（３５．０ｍｏｌ）、ＮＭＰ３６６８ｇを仕込み、１８０℃に昇温した後、テトラブチルチタネート２．４ｇ（７．０ｍｍｏｌ）を加え、１８０℃で８時間開環重合を行った。引き続いて、テレフタロイルビス（ε−カプロラクタム）７１１ｇ（２．０ｍｏｌ）を添加し、１８０℃で５時間反応させた。その後、内温を２３０℃まで昇温しながら、ＮＭＰ及び副生成物のε−カプロラクタムを減圧下で２時間かけて留去した。更に、同温で１時間反応させた。続いて、系内を加圧にした後、オートクレーブ下部から溶融状態のポリマーをストランドとして抜き出し、カッティングして芳香族アミドブロック共重合体のペレット４７００ｇを得た。
【００８５】
得られた芳香族アミドブロック共重合体は、数平均分子量７５０００、融点１８８℃、タイプＡデュロメータ硬さ８０であった。また、平均連鎖数（ｐ＋ｑ）は１４．１であった。この芳香族アミドブロック共重合体を共重合体Ｃとする。
【００８６】
合成例６（芳香族アミドブロック共重合体の合成）
窒素導入管、温度計、攪拌翼を備えた１０Ｌのガラス製オートクレーブに、窒素雰囲気下で化合物（ａ）８７３ｇ（２．０ｍｏｌ）、ε−カプロラクトン４５６６ｇ（４０．０ｍｏｌ）、ＮＭＰ５Ｌを仕込み、１８０℃に昇温した後、テトラブチルチタネート１．４ｇ（４ｍｍｏｌ）を加え、１８０℃で１時間開環重合を行った。室温まで冷却し、ピリジン３１６ｇ（４．０ｍｏｌ）を加え、アジピン酸ジクロライド３６６ｇ（２．０ｍｏｌ）をゆっくり滴下し、さらに室温で１５時間反応させた。反応終了後の溶液に、ＮＭＰ１Ｌを加えて希釈溶解し、メタノール５０Ｌに投入した。得られた固形分をメタノール１０Ｌで２回洗浄後、８０℃で減圧乾燥し芳香族アミドブロック共重合体５３８０ｇを得た。
【００８７】
得られた芳香族アミドブロック共重合体は、数平均分子量９６０００、融点１６０℃、タイプＡデュロメータ硬さ８５であった。また、平均連鎖数（ｐ＋ｑ）は１９．４であった。この芳香族アミドブロック共重合体を共重合体Ｄとする。
【００８８】
実施例１
上記合成例３で得た共重合体Ａ１００重量部に対して、フェノール系酸化防止剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製、商品名  ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０）２．０重量部を配合し、Ｄ＝２０ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝２５である東洋精機（株）製二軸押出機を用い、押出温度２２０℃、回転数５０ｒｐｍで混合押出し、芳香族アミドブロック組成物を得た。得られた芳香族アミドブロック組成物の評価結果を表２に示す。
【００８９】
実施例２〜１２
上記合成例で得た共重合体、及び表１に示す酸化防止剤、紫外線吸収剤または光安定剤を、表２の通り配合し、実施例１と同様の方法により芳香族アミドブロック共重合体組成物を得た。その評価結果を表２に示す。
【００９０】
【表１】
2005247982.tif 000015
【００９１】
【表２】
2005247982.tif 000016
実施例１３〜１７
上記合成例で得た共重合体、及び表１に示す酸化防止剤、紫外線吸収剤または光安定剤を、表３の通り配合し、実施例１と同様の方法により芳香族アミドブロック共重合体組成物を得た。その評価結果を表３に示す。
【００９２】
【表３】
2005247982.tif 000017
実施例１８〜２４
上記合成例で得た共重合体、及び表１に示す酸化防止剤、紫外線吸収剤または光安定剤を、表４の通り配合し、実施例１と同様の方法により芳香族アミドブロック共重合体組成物を得た。その評価結果を表４に示す。
【００９３】
【表４】
2005247982.tif 000018
比較例１〜７
上記合成例で得た共重合体、及び表１に示す酸化防止剤、紫外線吸収剤または光安定剤を、表５の通り配合し、実施例１と同様の方法により芳香族アミドブロック共重合体組成物を得た。その評価結果を表５に示す。
【００９４】
【表５】
2005247982.tif 000019
比較例８
上記合成例３で得た共重合体Ａ１００重量部に対して、フェノール系酸化防止剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製、商品名  ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０）２５重量部を配合した以外は、実施例１と同様の方法により芳香族アミドブロック共重合体組成物を得た。添加量が多くブリードアウトが激しいため、使用に耐えうるものではなかった。