(57)【要約】【課題】  光磁気記録媒体の製造において、アニールエラーの発生に基づく不良セクターによる、光磁気記録媒体の記録／再生特性の低下の回避を図る。【解決手段】  ランド・グルーブ記録型の光磁気記録媒体の製造において、ランド２ｂ及びグルーブ２ｃの境界壁面２ｄに対するアニールを行うと共に、アニール光Ｌ１の主たる被照射部とされる境界壁面２ｄと、この境界壁面２ｄに隣接するセクターのアドレスに関する位置情報を取得する。境界壁面２ｄの一部でアニールが十分になされなかった場合には、この一部の境界壁面に隣接するセクターを不良セクターとして光磁気記録媒体に記録し、不良セクターの存在による光磁気記録媒体の記録／再生特性の低下の回避を図る。【選択図】        図１ 
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ランド及びグルーブを有する基体上に、光磁気記録構成層が形成され、
上記ランド及びグルーブの少なくとも一方が、信号記録エリアとされ、
上記ランド及びグルーブの境界壁面にアニール処理を施す、磁壁移動検出方式による光磁気記録媒体の製造方法であって、
上記境界壁面を被照射部の少なくとも一部とするトラッキング光の照射を行い、上記境界壁面の形状による変調光に基づいて上記境界壁面の位置情報の取得を行う位置情報取得工程と、
上記境界壁面を主たる被照射部とするアニール光の照射を行うアニール処理工程とを有し、
上記位置情報取得工程で得た位置情報によって、上記アニール処理工程におけるアニール光照射の制御を行うことを特徴とする光磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
上記位置情報を、上記信号記録エリアのアドレス信号として取得することを特徴とする請求項１に記載の光磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
上記ランド及びグルーブの境界壁面が、上記光磁気記録構成層の記録トラックの幅方向に凹凸するウォブルを、上記記録トラック長方向の少なくとも一部に有し、
上記位置情報を、上記ウォブルによるウォブル信号との対応関係によって得ることを特徴とする請求項１または２に記載の光磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
上記位置情報取得工程において、上記アニール処理工程のアニール光走査照射の開始位置及び終了位置の少なくとも一方の特定を行うことを特徴とする請求項１または２に記載の光磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
上記位置情報取得工程において、上記境界壁面の形状に応じて、上記トラッキング光の数を選定することを特徴とする請求項１または２に記載の光磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
上記位置情報取得工程において、上記ランド及びグルーブのうち、位置情報の取得がなされた境界壁面に対応する部分のみを上記信号記録エリアとすることを特徴とする請求項１または２に記載の光磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
上記アニール処理工程におけるアニール光の主たる被照射部である境界壁面に隣り合う境界壁面が、上記位置情報取得工程におけるトラッキング光の被照射部の少なくとも一部とされ、上記アニール光の主たる被照射部とされる境界壁面と、該境界壁面に隣り合う境界壁面とが、互いに異なる形状を有することを特徴とする請求項１または２に記載の光磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
ランド及びグルーブを有する基体上に、光磁気記録構成層が形成され、
上記ランド及びグルーブの少なくとも一方が、信号記録エリアとされ、
上記ランド及びグルーブの境界壁面にアニール処理を施す、磁壁移動検出方式による光磁気記録媒体の製造装置であって、
少なくとも、上記境界壁面にアニール光を照射してアニールを行う光学系と、該光学系の上記基体上で生じた変調光から取得される上記境界壁面の位置情報を判別ないし認識する制御系とを有し、
上記光学系で特定されたアニールの位置に応じて、上記制御系において制御信号を生成し、該制御信号によって、少なくとも上記光学系を構成するアニール光光源及び対物レンズの動作の補正がなされ、上記アニール光の位置の選定がなされることを特徴とする光磁気記録媒体の製造装置。
【請求項９】
上記アニールが、上記境界壁面を主たる被照射部とする上記アニール光と、上記境界壁面を被照射部の少なくとも一部とするトラッキング光とによってなされ、
該トラッキング光の上記境界壁面の形状による変調光に基づいて、上記位置情報の取得がなされ、
上記位置情報が、上記信号記録エリアのアドレス信号とされることを特徴とする請求項８に記載の光磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１０】
上記ランド及びグルーブの境界壁面が、上記光磁気記録構成層の記録トラックの幅方向に凹凸するウォブルを、上記記録トラック長方向の少なくとも一部に有し、
上記位置情報が、上記ウォブルによるウォブル信号との対応関係によって得られることを特徴とする請求項８または９に記載の光磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１１】
上記アニールの制御において、上記アニール光の走査照射の開始位置及び終了位置の少なくとも一方が特定されることを特徴とする請求項８または９に記載の光磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１２】
上記ランド及びグルーブの、位置情報の取得がなされた境界壁面に対応する部分のみが、上記信号記録エリアとされることを特徴とする請求項８または９に記載の光磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１３】
上記アニールがなされる境界壁面の形状に応じて、上記トラッキング光の数の選定がなされることを特徴とする請求項８または９に記載の光磁気記録媒体の製造装置。
【請求項１４】
上記アニールがなされる境界壁面に隣り合う境界壁面が、上記トラッキング光の被照射部の少なくとも一部とされ、上記アニールの主たる被照射部とされる境界壁面と、該境界壁面に隣り合う上記境界壁面とが、互いに異なる形状を有することを特徴とする請求項８または９に記載の光磁気記録媒体の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光磁気記録媒体、特に磁壁移動検出方式による光磁気記録媒体の製造方法及び光磁気記録媒体の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、情報のデジタル化に伴い、デジタルデータの記録／再生が可能な、光磁気記録媒体をはじめとする記録媒体において、益々大容量化、すなわちより高い記録密度でのデータ記録／再生の実現が求められている。
光磁気記録媒体における大容量化を図る技術として、磁壁移動検出（ＤＷＤＤ）方式による再生技術がある。
【０００３】
このＤＷＤＤ方式による再生がなされる光磁気記録媒体の基本構成は、図１２に概略断面図を示すように、データの記録／再生がなされる光磁気記録構成層が、光照射側から少なくとも、再生層を構成する磁性層と、遮断層を構成する磁性層と、記録層を構成する磁性層とを有するものである。
この構成による光磁気記録媒体にデータの記録がなされた場合、室温においては、記録層と再生層とが遮断層を介して磁気交換結合されており、記録層の記録磁区が再生層に転写されている状態にある。
【０００４】
これに対し、記録されているデータを再生する再生用レーザ光を照射した場合、光磁気記録構成層の昇温によって遮断層の磁性が消失して再生層と記録層との磁気的結合が遮断されるとともに、再生層においては昇温による温度分布の形成によって再生層の記録磁区の拡大がなされる。
したがって、ＤＷＤＤ方式による光磁気記録媒体においては、記録磁区の微細化及び高密度化と高い再生特性を得ることが可能とされ、線記録密度も極めて大きくすることができる。
【０００５】
このＤＷＤＤ方式による再生においては、再生層における昇温時の記録磁区拡大、すなわち磁壁の移動がスムーズに進行することが重要であるが、このためには隣接する記録トラックからの磁界の影響を回避することが望ましい。
例えば、図１３に概略構成図を示すような、光磁気記録構成層のランド及びグルーブを共に信号記録エリアすなわちデータトラックとして使用する、いわゆるランド・グルーブ記録型の光磁気記録媒体においては、隣接する記録トラック間の距離が境界壁面のみに相当する特に小さいものであることから、隣接トラック間の磁界の影響を回避することが特に必要とされる。
【０００６】
これに対して、トラック間の磁性層、例えば上述の境界壁面を構成する磁性層に被照射部とするアニール光照射をすることによって、この境界壁面の面内磁化膜化或いは非磁性化等の変質化を行う、アニール処理方法による提案がなされた（例えば特許文献１及び非特許文献１）。
【特許文献１】特開平８−１４７７７７号公報
【非特許文献１】the Society of Photo-Optical Instrumentation Engineers発行 Optical Data Strage 2003；Vol.5069；pp.64-73
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このようなアニール処理は、必ずしも上述した境界壁面の全長に渡って行う必要はないことから、上述のデータトラックに対するアニール光の走査照射時に、アニール処理の開始位置や終了位置を判別ないし認識して、アニール処理を所定の境界壁面に選択的に行うことが望ましい。
しかし、従来の光磁気記録媒体の製造においては、アニール光の照射において、例えば上述の境界壁面に関する照射位置を判別ないし認識して、アニール処理を選択的に行うことが困難とされてきた。
【０００８】
また、光磁気記録媒体が、図１４に概略図を示すようなディスク型光磁気記録媒体である場合、上述のデータトラックは、一般にディスクの中心に対して同心円状や螺旋状に形成される。
しかし、このディスク型媒体のように、データトラックの分布が、ディスクの回転等をはじめとする光磁気記録媒体の移動の方向とは異なる方向に変位するように分布する光磁気記録媒体においては、アニール処理の途中でエラーが発生すると、アニール処理が十分になされなかった境界壁面がデータトラック中のどのセクターに隣接するものであるか、つまりどのセクターが不良セクターとなったかが把握できず、アニール処理終了後も不良セクターを管理することができない。
【０００９】
したがって、トラック間の磁性層すなわち上述の境界壁面に対するアニールが全面的になされたにもかかわらず、アニールが十分でない境界壁面に隣接するセクターが残って不良セクターとなってしまい、更にこの不良セクターの管理がなされないことから、このようにして製造された光磁気記録媒体は、記録／再生特性において不都合を生じるものとなってしまう。
【００１０】
本発明は、上述の光磁気記録媒体、及び光磁気記録媒体の製造における、上述の諸問題の解決を図るものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明による光磁気記録媒体の製造方法は、ランド及びグルーブを有する基体上に、光磁気記録構成層が形成され、上述のランド及びグルーブの少なくとも一方が、信号記録エリアとされ、上述のランド及びグルーブの境界壁面にアニール処理を施す、磁壁移動検出方式による光磁気記録媒体の製造方法であって、境界壁面を被照射部の少なくとも一部とするトラッキング光の照射を行い、境界壁面の形状による変調光に基づいて上記境界壁面の位置情報の取得を行う位置情報取得工程と、境界壁面を主たる被照射部とするアニール光の照射を行うアニール処理工程とを有し、上述の位置情報取得工程で得た位置情報によって、上述のアニール処理工程におけるアニール光照射の制御を行うことを特徴とする。
【００１２】
また、本発明は、上述の光磁気記録媒体の製造方法において、上述の位置情報を、信号記録エリアのアドレス信号として取得することを特徴とする。
【００１３】
また、本発明は、上述の光磁気記録媒体の製造方法において、上述のランド及びグルーブの境界壁面が、光磁気記録構成層の記録トラックの幅方向に凹凸するウォブルを、記録トラック長方向の少なくとも一部に有し、上述の位置情報を、上述のウォブルによるウォブル信号との対応関係によって得ることを特徴とする。
【００１４】
また、本発明は、上述の光磁気記録媒体の製造方法において、上述の位置情報取得工程において、アニール処理工程のアニール光走査照射の開始位置及び終了位置の少なくとも一方の特定を行うことを特徴とする。
【００１５】
また、本発明は、上述の光磁気記録媒体の製造方法において、上述の位置情報取得工程において、境界壁面の形状に応じて、トラッキング光の数を選定することを特徴とする。
【００１６】
また、本発明は、上述の光磁気記録媒体の製造方法において、上述の位置情報取得工程において、ランド及びグルーブのうち、位置情報の取得がなされた境界壁面に対応する部分のみを信号記録エリアとすることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明は、上述の光磁気記録媒体の製造方法において、上述のアニール処理工程におけるアニール光の主たる被照射部である境界壁面に隣り合う境界壁面が、上述の位置情報取得工程におけるトラッキング光の被照射部の少なくとも一部とされ、アニール光の主たる被照射部とされる境界壁面と、この境界壁面に隣り合う境界壁面とが、互いに異なる形状を有することを特徴とする。
【００１８】
本発明による光磁気記録媒体の製造装置は、ランド及びグルーブを有する基体上に、光磁気記録構成層が形成され、上述のランド及びグルーブの少なくとも一方が、信号記録エリアとされ、上述のランド及びグルーブの境界壁面にアニール処理を施す、磁壁移動検出方式による光磁気記録媒体の製造装置であって、少なくとも、上述の境界壁面にアニール光を照射してアニールを行う光学系と、この光学系の上述の基体上で生じた変調光から取得される境界壁面の位置情報を判別ないし認識する制御系とを有し、上述の光学系で特定されたアニールの位置に応じて、上述の制御系において制御信号を生成し、この制御信号によって、少なくとも上述の光学系を構成するアニール光光源及び対物レンズの動作の補正がなされ、アニール光の位置の選定がなされることを特徴とする。
【００１９】
また、本発明は、上述の光磁気記録媒体の製造装置において、アニールが、上述の境界壁面を主たる被照射部とするアニール光と、上述の境界壁面を被照射部の少なくとも一部とするトラッキング光とによってなされ、このトラッキング光の境界壁面の形状による変調光に基づいて、上述の位置情報の取得がなされ、位置情報が、上述の信号記録エリアのアドレス信号とされることを特徴とする。
【００２０】
また、本発明は、上述の光磁気記録媒体の製造装置において、上述のランド及びグルーブの境界壁面が、光磁気記録構成層の記録トラックの幅方向に凹凸するウォブルを、記録トラック長方向の少なくとも一部に有し、上述の位置情報が、ウォブルによるウォブル信号との対応関係によって得られることを特徴とする。
【００２１】
また、本発明は、上述の光磁気記録媒体の製造装置において、上述のアニールの制御において、アニール光の走査照射の開始位置及び終了位置の少なくとも一方が特定されることを特徴とする。
【００２２】
また、本発明は、上述の光磁気記録媒体の製造装置において、上述のランド及びグルーブの、位置情報の取得がなされた境界壁面に対応する部分のみが、上述の信号記録エリアとされることを特徴とする。
【００２３】
また、本発明は、上述の光磁気記録媒体の製造装置において、上述のアニールがなされる境界壁面の形状に応じて、トラッキング光の数の選定がなされることを特徴とする。
【００２４】
また、本発明は。上述の光磁気記録媒体の製造装置において、上述のアニールがなされる境界壁面に隣り合う境界壁面が、上述のトラッキング光の被照射部の少なくとも一部とされ、アニールの主たる被照射部とされる境界壁面と、この境界壁面に隣り合う上記境界壁面とが、互いに異なる形状を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２５】
本発明による光磁気記録媒体の製造方法によれば、所望の境界壁面を主たる被照射部とするアニール光照射を行うアニール処理工程とは別に、少なくともアニールがなされる境界壁面と、例えばこの境界壁面に隣り合う境界壁面とを被照射部とするトラッキング光照射を行う位置情報取得工程を行うことから、アニール処理工程におけるアニール光の照射を、上述の位置情報取得工程において得られた情報、例えば上述のランド及びグルーブのアドレス情報等の位置情報に基づいて行うことができる。
したがって、本発明による光磁気記録媒体の製造方法によれば、アニール光の主たる被照射部である境界壁面の位置を判別ないし認識して、所望の位置にアニールを選択的に行うことができ、例えばアニールの開始位置や終了位置の判別、認識及び設定を行うこともできる。
【００２６】
また、本発明による光磁気記録媒体の製造方法によれば、例えばディスク型媒体のように、データトラックの分布が光磁気記録媒体の移動例えば回転の方向とは異なる方向に変位を有する光磁気記録媒体の製造においても、アニールが十分になされなかった境界壁面がデータトラック中のどのセクターに隣接する境界壁面であるかを把握ないし認識することができる。
したがって、本発明による光磁気記録媒体の製造方法によれば、どのセクターが不良セクターとなったかを、光磁気記録媒体中の例えばＴＯＣ（Table of Contents）エリアに記録する等の不良セクター管理を行うことができる。
【００２７】
また、本発明による光磁気記録媒体の製造方法によれば、アニールが十分になされなかった境界壁面に隣接するセクター、つまり不良セクターの位置情報が得られることから、アニールに関するエラーの原因解析を行うこともできる。
【００２８】
また、本発明による光磁気記録媒体の製造装置によれば、光磁気記録媒体の製造において、例えばＴＯＣエリアに記録された情報によって、記録／再生を行うセクター群から不良セクターを選択的に除くことができることから、好適な記録／再生特性を有する光磁気記録媒体とされるなど、本発明構成によれば、重要かつ多くの効果をもたらすことができるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明するが、本発明は、この実施の形態に限られるものでないことは、言うまでもない。
【００３０】
まず、本発明による光磁気記録媒体の製造方法の実施の形態例を、本発明による光磁気記録媒体の製造装置の要部の一例の概略とともに、図１〜図８を参照して説明する。
なお、この実施の形態例において、本発明製造方法によって製造される光磁気記録媒体は、例えば図１４で説明したようなディスク型媒体とする。また、この実施の形態例は、ランド・グルーブ記録による光磁気記録媒体の製造に関する例である。
【００３１】
まず、本発明による光磁気記録媒体の製造方法の実施例について、本発明による光磁気記録媒体の基本構成例と共に、図１〜図５を参照して説明する。
この実施例においては、図１に模式的光路図を示すように、後述する本発明による光磁気記録媒体の製造装置１１を構成する光学系１１ａにおいて、レーザ光源１２からの例えば中心波長４０５ｎｍのレーザ光Ｌが、グレーティング１４によって０次光のアニール光Ｌ１と回折によって生じる±１次光のトラッキング光Ｌ２ａ及びＬ２ｂとに分割され、これらアニール光Ｌ１とトラッキング光Ｌ２ａ及びＬ２ｂとが、対物レンズ１６の選定によって所望の焦点距離を以ってそれぞれ集中される。
そして、後述するように、上述のグレーティング１４で±１次光を生成する回折格子等の配置の選定と、上述の対物レンズ１６によるアニール光及びトラッキング光の焦点距離の選定によって、光磁気記録媒体１の基体２の凹凸面２ａ上における各光スポットＳ１とＳ２ａ及びＳ２ｂとの、スポット径の選定がなされる。
【００３２】
なお、この実施例においては、単一光Ｌのグレーティング１４における分割によってアニール光Ｌ１とトラッキング光Ｌ２ａ及びＬ２ｂとが生じ、これらが共通の対物レンズ１６によって凹凸面２ａ上に集中される構成としたが、アニール及びトラッキングに支障のない限り、アニール光及びトラッキング光を個別の光源から出射することや、対物レンズ１６を個別に設けることもできる。しかし、部品点数の低減及び構成の簡略化の観点からは、上述の構成によることが望ましいと考えられる。
【００３３】
すなわち、この実施の形態例における本発明による光磁気記録媒体の製造方法は、位置情報取得工程とアニール処理工程とを、１つの製造工程において同時に行い、アニール処理工程の終了に続いて、製造された光磁気記録媒体に不良セクター情報等の情報を、光磁気記録媒体の例えばＴＯＣエリアに記録することが望ましいことから、アニール光とトラッキング光とを同一のレーザ光から分割形成して、同時に凹凸面２ａに照射する構成としたものである。
なお、この実施例において、トラックピッチ５４０ｎｍ、ランド−グルーブ深さ５５ｎｍの基体を用いた。また、対物レンズ１６の開口数Ｎ．Ａ．は０．８５、アニール光の走査における線速は５ｍ／ｓ、アニールパワーは４．０ｍＷとした。
【００３４】
この実施例において、光磁気記録媒体１の基板となる基体２には、図２に要部の断面図を示すように、ランド２ｂ及びグルーブ２ｃによる凹凸面２ａが形成され、この凹凸面２ａ上に、複数の磁性層からなる光磁気記録構成層（ＭＯ層）３と、例えばＳｉＮによる誘電体層４と、例えば紫外線硬化樹脂による保護層５とが積層形成されている。また、この光磁気記録媒体１に要求される熱拡散特性やエンハンス特性に応じ、基体２と光磁気記録構成層３との間に例えばＳｉＮによる誘電体層６が形成された構成とすることもできる。
【００３５】
また、上述の光磁気記録構成層３の磁性層構成は、図３に光磁気記録媒体の構成の詳細断面図を示すように、例えば、基体２側から順に、厚さ４０ｎｍのＧｄＦｅＣｏによる再生層３ａと、厚さ２０ｎｍのＴｂＦｅＣｏによる制御層３ｂと、厚さ１５ｎｍのＴｂＦｅＣｒによる切断層３ｃと、厚さ５０ｎｍのＴｂＦｅＣｏによる記録層３ｄと、厚さ１５ｎｍのＧｄＦｅＣｏによる記録補助層３ｅとによる多層構造とすることができる。
図３において、図２と対応する部分には同一符号を付して重複説明を省略する。
【００３６】
次に、上述のアニール光Ｌ１とトラッキング光Ｌ２ａ及びＬ２ｂとの分割及び集中に関して、図４及び図５を参照して説明する。
この実施の形態例において、上述のグレーティング１４に設けられる回折部１４ａ例えば回折格子は、図４Ａにその平面図を示すように、グレーティング１４に入射するレーザ光Ｌの一部のみが回折部１４ａに入射するように、位置及び形状を選定して設けられる。このようにすることによって、図４Ｂにグレーティング１４による分割光の構成図を示すように、グレーティングを直進透過するアニール光Ｌ１と、トラッキング光Ｌ２ａ及びＬ２ｂとの分割形成が図られる。
すなわち、図４Ｃに同様の分割光の構成図を示すように、グレーティング１４に入射するレーザ光Ｌから、幅の大きな、後述する対物レンズ１６の通過時の実効開口数がアニール光Ｌ１における実効開口数に近い回折光が生成することを回避する構成とすることができ、また、透過光すなわちアニール光Ｌ１の径を、回折光すなわちトラッキング光Ｌ２ａ及びＬ２ｂの径に比して大とすることができる。
【００３７】
そして、この実施例においては、上述したように、共通の対物レンズ１６によって光磁気記録媒体１の凹凸面２ａ上への集中すなわち光照射がなされるが、一般に、同一の開口数Ｎ．Ａ．を有するレンズに径の異なる光が入射した場合、図５Ａにその光路図を示すように、入射した光の径が小さいほど、実効開口数は小さくなる。したがって、スポットサイズは波長と開口数とによって定められることから、アニール光スポットＳ１とトラッキング光スポットＳ２ａ及びＳ２ｂのスポットサイズを相違させることができる。
すなわち、［数１］に示す関係が成立することから、上述した対物レンズ１６と凹凸面２ａとの距離を、上述のグレーティング１４の回折部１４ａ及び透過部１４ｂの関係と共に調整することにより、トラッキング光Ｌ２ａ及びＬ２ｂの光スポットＳ２ａ及びＳ２ｂと、アニール光Ｌ１の境界壁面における光スポットＳ１に比して十分に大とされる、例えばランドを隔てて隣り合う境界壁面２ｄと２ｅとを共に含む大きさとして構成とすることが可能となる。
【００３８】
【数１】
2005310339.tif 000003
【００３９】
したがって、上述したように、アニール光Ｌ１の径をトラッキング光Ｌ２ａ及びＬ２ｂの径と相違させて、例えばより大として対物レンズ１６に入射させ、光磁気記録媒体１の境界壁面２ｄでアニール光Ｌ１が焦点を結ぶ構成とすることにより、トラッキング光Ｌ２ａ及びＬ２ｂのスポット径がアニール光Ｌ１のスポット径と等しくなることを、実効開口数の差に基づいて回避できる。
【００４０】
次に、本発明による光磁気記録媒体の製造方法における、位置情報取得工程とアニール処理工程とに関して、図６〜図８を参照して詳細に説明する。
上述した理由により、位置情報取得工程及びアニール処理工程は同時に行うことが望ましいことから、この実施の形態例においては、レーザ光の分割によってアニール光及びトラッキング光を同時に形成し、これらのアニール光及びトラッキング光によって、同時に位置情報取得工程とアニール処理工程とを行う例を説明する。
【００４１】
この例における光磁気記録媒体１は、図６に境界壁面とアニール光及びトラッキング光との関係を示し、図７Ａ及びＢに、これによって得る位置情報信号を示すように、トラック幅方向に隣り合う境界壁面の一方がウォブルスロープ形状、他方がストレートスロープ形状とされた構成を有する。
また、この例は、図６において、走査照射されるアニール光スポットＳ１とトラッキング光スポットＳ２ａ及びＳ２ｂとは、共に図の上方に向かう走査照射により形成される例である。
【００４２】
まず、光磁気記録媒体１の、ウォブルスロープ形状の境界壁面に対してアニールを行う場合の、本発明による光磁気記録媒体の製造方法の実施例について、図６を参照して説明する。
【００４３】
この実施例において、例えばグレーティングによって分割形成されたトラッキング光Ｌ２ａ及びＬ２ｂによる光スポットＳ２ａ及びＳ２ｂは、アニール光Ｌ１による光スポットＳ１に対して、アニール光の走査方向の前方及び後方、つまり図６において光スポットＳ１の上方側と下方側に形成される構成とする。
また、この実施例において、光スポットＳ２ａ及びＳ２ｂ、すなわちトラッキング光Ｌ２ａ及びＬ２ｂの各被照射部は、より確実にトラッキングを行う目的から、アニール光Ｌ１の主たる被照射部とされるウォブルスロープ形状の境界壁面２ｄと、この境界壁面に隣り合う、互いに異なるストレートスロープ形状の境界壁面２ｅとを含んで形成される構成とする。
【００４４】
この例において、アニール光スポットＳ１とトラッキング光スポットＳ２ａ及びＳ２ｂとは、ウォブルスロープ形状の境界壁面２ｄを中心として分布し、共に図６において上方側へ走査すなわち移動される。
ウォブルスロープ形状の境界壁面をアニールする場合、上述のグレーティング１４によって分割形成されるアニール光及びトラッキング光が凹凸面２ａで生じる光量変化によって変調される。すなわち、このウォブルによって変調光が得られる、各光のスポットの位置関係で時間軸方向にずれを伴った信号波形が検出される。したがって、アニール光とトラッキング光とのスポット間距離をＬ、走査の線速度をＶとすると、アニール光に対応する信号波形とトラッキング光に対応する信号波形はＬ／Ｖに相当する時間差を有する。
【００４５】
通常、ウォブルスロープ形状の境界壁面２ｄのウォブルは一定の周期で凹凸を繰り返す形状を有している。
よって、各光スポットＳ１、Ｓ２ａ及びＳ２ｂの走査速度が一定であり、かつウォブルの形状が所定の空間周期の凹凸を有する形状（鎖線ｘ図示）である限り、アニール光及びトラッキング光の光磁気記録媒体１の凹凸面２ａにおける変調光の変調信号、例えばＤＰＰ（Differential Push-Pull）によるウォブル信号も、各光スポットＳ１、Ｓ２ａ及びＳ２ｂに関して図７Ａの波形図に示すような一定の時間周期で繰り返される信号波形を示す。
このＤＰＰによるウォブル信号は、後述する分割受光素子によって得られた信号成分から、［数２］に示すような演算式によって演算することによって求められる。
【００４６】
【数２】
2005310339.tif 000004
【００４７】
すなわち、走査速度が一定である限り、ウォブルの空間周波数と後述するセクターのトラック長方向の長さとの対応関係から、ウォブル信号によって、アニール光の主たる被照射部である境界壁面の位置情報を取得することができる。
更に、セクターに対応するアドレス信号が定められている場合には、例えばウォブルスロープの所定の空間周波数に基づいて走査位置すなわち走査照射対象のセクターを常に判別ないし認識することができる。すなわち、ウォブル信号とアドレス信号との対応関係から、走査位置の位置情報を取得することができるものである。
【００４８】
しかし、図６に示すように、アニールの途中でサーボが外れてアニールがなされなかったり、何らかの事情でスロープの形状が一定の周期で凹凸を繰り返す形状とされなかった部分（鎖線ｙ図示）が検出された場合については、例えば各光スポットの走査方向前方すなわち図６の上方側に先行するトラッキング光スポットＳ２ａに関して、例えばＤＰＰによるウォブル信号の、図７Ｂの波形図に示すような信号波形の乱れを検知することができる。
このような信号波形の乱れは、サーボが外れなくとも、後述するトラッキング光及びアニール光から戻り光により検出されるＳＵＭ信号、トラッキングエラー（Tracking Error）信号或いはフォーカスエラー（Focus Error）信号等のサーボ信号によって検知し、この信号すなわち情報を後述するＴＯＣ（Table of Contents）メモリーに記録することができる。
【００４９】
したがって、この構成によれば、アニール処理工程とは別に、例えばアニール処理工程に先立って位置情報工程を行うことによって、境界壁面からなるスロープのいずれの部分に対してアニール処理工程を行うときでも、先に得た走査位置の位置情報に基づいてアニールの制御が可能となることから、アニールが十分になされなかった境界壁面に隣接するセクター、すなわち不良セクター（図６のAddress01bで示す。なお、Address00b，00a，01aは正常アドレスセクターを示す。）の判別ないし認識が可能となる。
【００５０】
更に、このようにしてアニール光の主たる被照射部の位置情報が得られることにより、従来の光磁気記録媒体の製造においては困難とされてきたアニールの開始位置や終了位置の特定を行うことが可能となる。
なお、上述の信号波形によって位置情報を取得する上で、ランドもしくはグルーブを介して互いに隣り合う境界壁面は、ストレートスロープ形状とウォブルスロープ形状とによって構成することが望ましい。
【００５１】
一方、アニール光の主たる被照射部となる境界壁面の形状がストレートスロープ形状である場合には、アニール光スポットＳ１とトラッキング光スポットＳ２ａ及びＳ２ｂとは、光磁気記録媒体１上において、図８に境界壁面とアニール光及びトラッキング光との関係を示すように形成される。
上述のような、ウォブルスロープ形状の境界壁面に対してアニールがなされる場合には、アニール光スポットから生じる変調光によっても、トラッキング光から生じる変調光によっても記録エリアに関するアドレスの位置情報を得ることができるが、ストレートスロープ形状の境界壁面に対してアニールがなされる場合には、アニール光スポットから生じる変調光によっては、記録エリアに関するアドレスの位置情報を得ることはできない。
【００５２】
しかしながら、ストレートスロープ形状の境界壁面に対してアニールがなされる場合には、アニールの主たる被照射部である境界壁面が互いに異なるアドレスに属するセクターに隣接するものであることから、このストレートスロープ形状の境界壁面に隣り合う、互いに異なるアドレス内の２つのウォブルスロープ形状の境界壁面を被照射部の一部としてトラッキング光が照射されることから、互いに異なるセクターに帰属するアドレス情報をアニール光の位置情報として得ていることになる。
【００５３】
したがって、図８に示すように、アニール光の主たる被照射部となる境界壁面が所定のストレート形状に形成されている限り、例えば上述のＤＰＰによるウォブル信号は、トラッキング光スポットＳ２ａ及びＳ２ｂに関してほぼ同様の信号波形として得られることから、この場合にはトラッキング光スポットＳ２ａ及びＳ２ｂの両方をモニタリングする必要はなく、いずれか一方のみのウォブル信号によってアニール光の位置を判別ないし認識すればよい。
【００５４】
なお、この例においては、トラック間で隣接するセクター例えば図８におけるAddess01bとAddress00bとによるセクターは、ストレートスロープ形状の境界壁面を境として区画規定されていることから、図８において、ストレートスロープ形状の境界壁面２ｄのアニールにおいてエラーが検出された場合、つまりストレートスロープ形状の境界壁面２ｄの一部が所定の形状とされていなかった場合には、この境界壁面２ｄの両側のセクターすなわちAddess01bとAddress00bとによる両セクターが、不良セクターとして認識される。
また、この例では、１つのアドレスをランドとグルーブとによって構成し、それぞれ独立したセクターとするものである。
【００５５】
続いて、本発明による光磁気記録媒体の製造装置の構成例について、図９を参照して説明する。この製造装置の構成例の説明は、上述した本発明による光磁気記録媒体の製造方法の実施例における、位置情報取得工程とアニール処理工程との関係による光磁気記録媒体の製造の例、特に両工程を同時に行うことによる不良セクターの判別ないし認識による光磁気記録媒体の製造方法の例の説明を兼ねるものである。
【００５６】
この例では、図９にその構成図を示すように、本発明による製造方法の製造装置１１は、光学系１１ａのほかに制御系１１ｂを有する構成とする。なお、レーザ光源１２から出射された光は、上述したようにグレーティング１４通過時にアニール光とトラッキング光とに分割されるが、図９においてはこれを省略して示す。
【００５７】
まず、制御系１１ｂにおいて、制御ホスト３４からアドレス検出３３に、アニール処理の対象の境界壁面の形状がストレートスロープ形状かウォブルスロープ形状かの情報が送られる。
そして、アドレス検出ブロック３３では、上述の制御ホストから送られた情報に基づいて、つまりアニール処理においてアニール光の主たる被照射部となる境界壁面がストレートスロープ形状かウォブルスロープ形状かに基づいてマトリックス３２から送られるアドレス検出用の信号の選択を行い、その時点でのアニール光の被照射部となる境界壁面の位置情報例えばアドレス情報と、目標とする境界壁面の位置情報例えばアドレス情報とを検出して制御信号を生成する。
【００５８】
次に、その時点でのアドレスと目標アドレス例えばアニールの開始位置のアドレスをサーボ回路３６に送り、２軸駆動回路３７によって目標アドレスへのシークを行う。
目標アドレスへのシークの完了が制御ホストによって確認された、つまり開始位置が特定された時点で、記録パワー制御３５にアニールのモード切替を行ってアニール処理工程の開始を指示する。
【００５９】
アニール処理工程の開始が指示されると、光学系１１ａにおいて、レーザ光源１２から出射された光は、レンズ１３を通過して、グレーティング１４で上述したアニール光とトラッキング光とに分割され、ビームスプリッタ１５及び対物レンズ１６を経て光磁気記録媒体１に至る。
そして、光磁気記録媒体１の凹凸面２ａにおける変調例えば反射によって、アニール光及びトラッキング光のそれぞれに対応する変調光が生じ、この変調光を対物レンズ１６、ビームスプリッタ１５、レンズ１８を経てディテクター１９で検出する。
【００６０】
ディテクター１９で検出された変調光は、制御系１１ｂのＩ−Ｖ変換器３１における光電変換によって、所定の変調光以外の変調光が得られた場合にはエラー信号を生成し、このエラー信号はマトリックス３２へと送られる。
マトリックス３２は、Ｉ−Ｖ変換器３１で所定の変調光が検出された場合にはエラーなしとしてサーボ回路３６を直接制御するが、エラー信号がＩ−Ｖ変換器３１から送られた場合には、これらのエラー信号を演算処理してアドレス検出３３に送る。
【００６１】
アドレス検出３３には、記録パワー制御３５を管理する制御ホスト３４からもレーザ光源１２の出力に関する情報が送られ、アドレス検出３３と制御ホスト３４との間でエラー信号と記録パワー制御の信号との整合が図られる。そして、サーボ回路３６及び２軸駆動回路３７と記録パワー制御３５とに対して、光学系の２軸駆動素子１７とレーザ光源１２とを制御するための指示信号が送られる。
なお、マトリックス３２における演算は、まず、アニール光スポットＳ１とトラッキング光スポットＳ２ａ及びＳ２ｂとをそれぞれ図１０に分割受光素子によってそれぞれＡ〜Ｈの信号成分を得る。そして、これらを、［数３］に示した演算式によって演算することによって、目的とする信号を得る。
【００６２】
【数３】
2005310339.tif 000005
【００６３】
そして、アニール処理工程と同時になされる位置情報取得工程において、アニールが所定の終了位置に到達したことが検知された、つまり終了位置が特定された段階でアニールを停止する。
このアニール停止後は、必要に応じてアニールが完了した境界壁面以外の他の境界壁面、例えばアニールが完了した境界壁面とは異なるスロープ形状の境界壁面に対するアニール処理工程及び位置情報取得工程を順次行い、図１１に概略断面図を示す光磁気記録媒体１を得るものである。
【００６４】
なお、上述したように、アニール光スポットの位置情報が得られない場合、すなわち例えばサーボが外れたりトラックジャンプによって不連続な位置情報が得られるなど、ウォブル信号に基づいてアドレス信号情報を得ることができない場合は、そのアニール光の主たる被照射部となる境界壁面に隣接するセクターを不良セクターとして判別ないし認識し、位置情報の取得がなされた境界壁面に対応する部分のみを信号記録エリアとすることができる。
こうして得たＴＯＣ（Table of Contents）用の不良セクター情報やアニール失敗アドレスは、例えばＴＯＣメモリー３８に記録する。
そして、光磁気記録媒体の出荷時に、この光磁気記録媒体のＴＯＣエリアに記録して、この不良セクターをデータセクターから除外した光磁気記録媒体とすることができるものである。
【００６５】
以上、本発明による光磁気記録媒体及び光磁気記録媒体の製造方法の実施の形態について説明したが、本発明は、上述の実施の形態に限定されるものでないことは言うまでもない。
【００６６】
例えば、上述した実施例では、２本のトラッキング光によってトラッキングを行う構成としたが、更に多くのトラッキング光を用いることも可能である。
【００６７】
また、例えば、アニール光スポットに比して先行するトラッキング光スポットによって予め不良セクターの情報が得られたときは、この不良セクターに隣接する位置の境界壁面に対してアニール光の照射自体を行わない等の設定をすることもできるなど、本発明による光磁気記録媒体の製造方法及び光磁気記録媒体の製造装置は、種々の変形及び変更をなされ得る。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明による光磁気記録媒体の製造方法の一例における、模式的光路図である。
【図２】本発明による光磁気記録媒体の製造方法の一例における、一製造工程における要部の断面図である。
【図３】本発明による光磁気記録媒体の製造方法の一例における、一製造工程における要部の詳細断面図である。
【図４】図４Ａ、図４Ｂ、図４Ｃは、それぞれ本発明による光磁気記録媒体の製造方法の一例における、グレーティングの概略平面図と、そのグレーティングにおける光の透過及び回折を示す概略模式図と、一般のグレーティングにおける光の回折を示す概略模式図である。
【図５】図５Ａ及び図５Ｂは、本発明による光磁気記録媒体の製造方法の一例における、対物レンズにおける光路図、及び凹凸面２ａ上での各光スポットの関係を示す平面図である。
【図６】本発明による光磁気記録媒体の製造方法の一例における、境界壁面とアニール光及びトラッキング光との関係を示す概略図である。
【図７】図７Ａ及び図７Ｂは、本発明による光磁気記録媒体の製造方法の一例における、アニール光及びトラッキング光の走査照射による変調光の信号を示す波形図である。
【図８】本発明による光磁気記録媒体の製造方法の一例における、境界壁面とアニール光及びトラッキング光との関係を示す概略図である。
【図９】本発明による光磁気記録媒体の製造装置の一例を示す概略構成図である。
【図１０】本発明による光磁気記録媒体の製造装置の一例で用いられる分割受光素子の模式図である。
【図１１】本発明による光磁気記録媒体の製造方法の一例によって製造した光磁気記録媒体の要部の概略断面図である。
【図１２】従来の光磁気記録媒体の要部の詳細断面図である。
【図１３】従来の光磁気記録媒体の概略断面図である。
【図１４】ディスク型光磁気記録媒体の概略上面図である。
【符号の説明】
【００６９】
１・・・光磁気記録媒体、２・・・基体、２ａ・・・凹凸面、２ｂ・・・ランド、２ｃ・・・グルーブ、２ｄ・・・境界壁面、３・・・光磁気記録構成層、３ａ・・・再生層、３ｂ・・・制御層、３ｃ・・・切断層、３ｄ・・・記録層、３ｅ・・・記録補助層、４・・・誘電体層、５・・・保護層、６・・・誘電体層、７・・・アニール部、１１・・・光磁気記録媒体の製造装置、１１ａ・・・光学系、１１ｂ・・制御系、１２・・・レーザ光源、１３・・・レンズ、１４・・・グレーティング、１５・・・ビームスプリッタ、１６・・・対物レンズ、１７・・・２軸駆動素子、１７ａ・・・駆動素子、１７ｂ・・・駆動素子、１８・・・レンズ、１９・・・ディテクター、２１・・・スピンドルモータ、３１・・・Ｉ−Ｖ変換、３２・・・マトリックス、３３・・・アドレス検出、３４・・・制御ホスト、３５・・・記録パワー制御、３６・・・サーボ回路、３７・・・２軸駆動回路、３８・・・ＴＯＣメモリー、１０１・・・光磁気記録媒体、１０２・・・基体、１０２ａ・・・凹凸面、１０２ｂ・・・ランド、１０２ｃ・・・グルーブ、１０２ｄ・・・境界壁面、１０３・・・光磁気記録構成層、１０３ａ・・・再生層、１０３ｃ・・・切断層、１０３ｄ・・・記録層、１０４・・・誘電体層、１０５・・・保護層、１０６・・・誘電体層、１５１・・・アニール開始位置、１５２・・・アニール終了位置
【図１】
2005310339.tif 000006
【図２】
2005310339.tif 000007
【図３】
2005310339.tif 000008
【図４】
2005310339.tif 000009
【図５】
2005310339.tif 000010
【図６】
2005310339.tif 000011
【図７】
2005310339.tif 000012
【図８】
2005310339.tif 000013
【図９】
2005310339.tif 000014
【図１０】
2005310339.tif 000015
【図１１】
2005310339.tif 000016
【図１２】
2005310339.tif 000017
【図１３】
2005310339.tif 000018
【図１４】
2005310339.tif 000019