(57)【要約】【課題】  精密な電気めっきに際して、めっき浴の組成変動をリアルタイムで検出することを可能にし、該組成変動に対して添加剤の補給などの対応を素早く取って良好な電気めっき膜が継続して得られるようにする。【解決手段】  電子装置並びに電子装置実装用基板への電気めっきに際して、めっきされる基体カソードの参照電極に対する電位をめっき途上において所定の周期で検出し、その電位の変動の様子を特徴量のベクトルとして把握し、これを予め定めた電位変動の特徴量のパターンと比較して、どのパターンに最も近いかを表示し、異常と分類されるパターンに近づいた際には警報を発せしめる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気めっき浴において、該浴中に挿入された標準となる電極の電位に対して、めっきを施される導体基板が相対的に示す電位を、電気めっき途上において所定の時間間隔で検出する手段と、検出された電位の時間的推移から予め設定した基準に基いて特徴を抽出し、該特徴が予め設定した条件を満足しているか否かを調べることにより、該めっき浴の状態を診断する手段とすることを特徴とした電気めっき方法。
【請求項２】
前記めっき浴の状態を診断する手段が、前記した特徴の集合が示すパターンを、予め設定した複数のパターンのうちの最も類似性が高いパターンに帰着せしめる工程を含むことを特徴とした請求項１に記載の電気めっき方法。
【請求項３】
前記所定の時間間隔で抽出される導体基板の電位が、特徴を抽出するのに用いる電位データの時間間隔よりも短い時間間隔で検出された電位に基づいて移動平均処理によるスムージング処理を行った後、前記特徴の抽出に供されることを特徴とする請求項１に記載の電気めっき方法。
【請求項４】
前記した特徴を抽出する際、前記電位の時間的推移が電位の極小値又は極大値を有するか否かを基準として含むことを特徴とする請求項１に記載の電気めっき方法。
【請求項５】
前記導体基板の電位の時間的推移が、極小値又は極大値を有するか否かを特徴の一つとして診断基準とする際に、該極小値又は極大値を示す時間を特徴抽出の基準として含む請求項１に記載の電気めっき方法。
【請求項６】
電気めっきを開始して所定の時間を経過した後に前記導体基板が示す電位を特徴抽出の基準として含むことを特徴とする請求項１に記載のめっき方法。
【請求項７】
前記導体基板の電位が電気めっきを開始して所定の時間を経過した後に電位の増加もしくは電位の減少もしくは電位の不変の傾向のいずれが示されるかを特徴抽出の基準として含むことを特徴とする請求項１に記載の電気めっき方法。
【請求項８】
前記電気めっきが直流電流のみからなることを特徴とする請求項１に記載の電気めっき方法。
【請求項９】
前記電気めっきが交流成分を含む電流からなることを特徴とする請求項１に記載の電気めっき方法。
【請求項１０】
前記電気めっきが電気銅めっきであることを特徴とする請求項１に記載の電気めっき方法。
【請求項１１】
電気めっき浴において、該浴中に挿入された標準となる電極の電位に対して、めっきを施される導体基板が示す電位を、電気めっき途上において所定の時間間隔で検出する手段と、検出された電位の時間的推移から予め設定した基準に基づいて特徴を抽出し、それぞれの特徴が予め設定した条件を満足しているか否かを調べることにより、該めっき浴の状態を診断する手段を具備することを特徴とした電気めっき装置。
【請求項１２】
前記所定の時間間隔で抽出される導体基板の電位が、特徴を抽出するのに用いる電位データの時間間隔よりも短い時間間隔で検出された電位に基づいて移動平均処理によるスムージング処理を行った後、前記特徴の抽出に供されることを特徴とする手段を具備した請求項１１に記載の電気めっき装置。
【請求項１３】
前記した特徴を抽出する際、前記電位の時間的推移が電位の極小値又は極大値を有するか否かを基準として含むことを特徴とする手段を具備した請求項１２に記載の電気めっき装置。
【請求項１４】
前記導体基板の電位の極小又は極大の有無を特徴の一つとして診断基準とする際に、該極小値又は極大値を示す時間を特徴抽出の基準として含む請求項１３に記載の電気めっき装置。
【請求項１５】
前記特徴が、めっき開始後所定の時間後に示す電位を抽出の基準として含むことを特徴とする手段を具備した請求項１１に記載の電気めっき装置。
【請求項１６】
前記特徴を抽出する際、めっきを開始して所定の時間が経過した後に示す電位を基準として含むことを特徴とする手段を具備した請求項１１に記載の電気めっき装置。
【請求項１７】
前記導体基板の電位がめっき通電を開始して所定の時間を経過した後に電位の増加もしくは電位の減少もしくは電位の不変の傾向のいずれが現れるかを特徴抽出の基準として含むことを特徴とする手段を具備した請求項１１に記載の電気めっき装置。
【請求項１８】
前記電気めっきが直流電流のみからなることを特徴とする手段を具備した請求項１１に記載の電気めっき装置。
【請求項１９】
前記電気めっきが交流成分を含む電流からなることを特徴とする手段を具備した請求項１１に記載の電気めっき装置。
【請求項２０】
前記電気めっきが電気銅めっきであることを特徴とする手段を具備した請求項１１に記載の電気めっき装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体基板や電子装置実装用基板に電気めっきを施して、所望の電気回路を形成するめっき装置及びめっき方法に係り、特に、電気めっき浴の組成変動をめっき途上に把握するめっき装置及びめっき方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器の小型化・高性能化に対する要求はますます大きくなっており、このような動向に対応して、半導体基板に電気めっきによって設ける配線や、種々の電子デバイスを実装するプリント配線板に対しても、高密度化・高集積化と高接続信頼性に対する要求が一段と強くなっている。このような要求に応えるべく、電気めっき技術は高度化の一途をたどっており、このため、これに用いる電気めっき浴においてもその組成を可能な限り一定に保つことが重要になっている。このような精密なめっきを要する分野では、所望のめっき性能を得るために通常複数の物質を添加して用いている。精密なめっきを施すことを目的とした硫酸銅電気めっき浴においても、銅イオンや硫酸の他に少なくとも数種類の微量の添加剤成分を含ませるのが一般的であるが、その濃度は通常数ｍｇ/Ｌという極めて小さい場合が多い。このため、繰り返しめっきによる負荷の蓄積でこれら添加剤の濃度が変動した際にも、迅速かつ簡便にこれら添加剤濃度の変動を知る十分な手段が無く、めっき品質の維持に重大な問題を生じていた。
【０００３】
これらを避けるには、めっき浴全体を一定のめっき負荷毎に交換することが有効と考えられるが、この方法はめっき浴材料のコストがかさむ他、交換に要する間中めっき作業を中断せざるを得ず、生産性にも大きい影響を及ぼすことになる。
【０００４】
めっき浴中の添加剤の濃度を知る最も直接的な方法としては、例えば、液体クロマトグラフィーなどにより液中成分の濃度を検量する方法がある。しかしながら、この方法は、高価な装置を要するほか、分析検量に多大の前処理時間を要するという欠点を有しており、日常的に生産現場に比較的近い場所でめっき浴の管理の手段として用いるには必ずしも適切な方法ではない。
【０００５】
めっき浴中の添加剤濃度の消長を知る別の良く知られた方法は、ＣＶＳ（Cyclic Voltammetric Stripping）と呼ばれる方法で、この方法の詳細については、例えば、下記非特許文献１に述べられている。この方法は一定の電位掃引のもとでは、めっきされる量が添加剤の濃度に依存しているといった性質を利用した方法であり、比較的簡便にめっき浴中の添加剤濃度の変化を推定する優れた方法ではあるものの、３種以上の添加剤が通常用いられる精密めっきの分野では、各添加剤の寄与を十分に分離することが容易ではないという問題から、その利用価値に限界がある。この問題の原因は、ＣＶＳ法では専らある電位幅での掃引に際してめっきされる量を問題とするため、得られる情報量が必ずしも多くないことに起因している。また、それぞれの添加剤成分の濃度を推定するために、事前にめっき浴を用いて各添加剤についての検量線を作製しておく必要があり、生産現場でリアルタイムに近い状況で浴組成の変動を検出することは困難であった。 
【０００６】
【非特許文献１】W．O．Freitag,Plating and Surface Technology誌第70巻、第55頁（1983年）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記のような事情を考慮してなされたものであり、めっき浴の組成を精密なめっきに適した状態に保つことを可能にするべく、生産現場でリアルタイムに近い状況でめっき浴の状態を把握し、必要な添加剤の補給等に関する情報を得ることができる安価で簡便な方法、及びこれを実施しうる装置を提案するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によるめっき浴の組成状態を診断する方法は、定電流もしくは外部から制御した電流の通電による電気めっき途上にモニターされる基板の電位が、浴中の添加剤濃度の変動を鋭敏に反映して推移するという本発明者が見出した知見に基づくものである。最初の段階は、組成が変化していない良好なめっき膜を与えるめっき浴に基づいて、めっきされる導体基板の電位を電気めっき途上所定の時間間隔で検出し、この電位の推移の様子から一つもしくは複数個の特徴を抽出して特徴の群を構成せしめる。この電位のめっき途上における推移を以下、電位プロファイルと呼ぶことにする。また、組成が変動する前の良好なめっき膜を与える浴から得られた電位プロファイルを以下模範的電位プロファイルと呼ぶことにする。この模範的電位プロファイルから、その特徴を一つ又は複数個抽出して特徴群を構成せしめる訳である。次いで、めっき負荷を受けて浴組成が変動しているか否かを知る必要のある浴についても上記と同様に、めっきされる導体基板の電位を電気めっき途上所定の時間間隔で検出して電位プロファイルを得、上記特徴群の個々の特徴を満足しているか否かを判定アルゴリズムに基いてデータ処理装置により判定し、もし一つでも特徴を満たしていない場合には警報を発せしめる。このような方法により、実際に生産に供せられているめっき浴が、良好なめっき膜を与える組成から逸脱しているか否かを短い時間で把握することを可能とするものである。
【０００９】
めっきされる導体基板は、電気化学的にはめっき槽中でカソードを構成することになる。このカソードの電位を何らかの基準となる電位に基づいて検出する必要がある。このような基準となる電位を与える最も一般的な方法は、普通参照電極と呼ばれる電極を該カソードの近傍に設置することであり、この参照電極とカソードの間の電位差をボルトメータで測定することにより簡便にカソードの電位を知りうる。ここで、デジタルボルトメータを使用すれば、デジタル化した電位の値を用いてパターン照合等のアルゴリズム実行のためのステップに容易に移行しうる。参照電極の例としては、銀/塩化銀参照電極や、飽和甘こう電極などが挙げられる。あるいは、化学的変性を受け難い白金などの貴金属の板なども参照電極に準ずるものとして用いうる。
【００１０】
本発明の特徴の一つは、実際の生産に用いられている浴に電位検出用のカソードと参照電極を挿入して電位プロファイルをモニターするだけで生産を妨げることがない点にあり、生産性を低下させることがない。上記した検出用カソードを用いる代りに、めっきすべき生産用基板を電位検出用に直接用いることも原理的に可能である。
【００１１】
本発明者の知見によれば、良好なめっき膜を与えるめっき浴でも、そのめっき浴組成が元々異なる場合には、それぞれ異なった電位プロファイルが得られる。従って、浴組成が変動したか否かの判定に用いる特徴群を作製するためには、それぞれのめっき浴に基づいて模範的な電位プロファイルを得ることが必要である。言い換えれば、各浴組成ごとに模範的電位プロファイルが存在し、浴組成が変動したか否かの判定に用いる特徴群は、各模範的電位プロファイルごとに作製する必要がある。逆に、同じめっき浴組成から出発する限り、浴組成の変動の程度が異なっても、同じ判定基準、即ち特徴群を使用することが可能である。ただし、判定に用いる模範的な電位プロファイルは、検体となる電位プロファイルと常に同じ条件、すなわち、同じ電流密度、温度、撹拌条件等のもとでのめっきにより得られたことを基本とする。しかし、実際にはこれらめっきの条件の変動ににもかかわらず得られるめっき膜の特性の変動が小さい場合も少なからずあり、そのような場合にはめっき条件の変動は一定の変動幅のなかで許容されうる。
【００１２】
電気めっきに際しては、通常空気を吹き込むなどの撹拌操作が必要なため、これによって検出される電位に揺らぎが生じることが往々にしてある。このような場合には、検出された電位のデータを、上記電位の検出よりも実質的に短い時定数に基づく移動平均処理などを施して、スムージングしておくことが得策である。しかしながら、電位の揺らぎが、電気めっきの進行の仕方に本質的に根ざしているような場合があり得ることから、単なる電位検出の問題か否かについては十分に注意する必要がある。また、スムージングの方法としては、上記移動平均処理以外の方法も可能であり、本発明は特定のスムージング処理法に関係づけられるべきではない。
【００１３】
このようににして得られた時間を関数とするカソード電位のデータ列は、例えば、Ｖｃ(ｔ１),Ｖｃ(ｔ２),…,Ｖｃ(ｔｎ−１), Ｖｃ(ｔｎ),Ｖｃ(ｔｎ+１),…と表すことができる。ここで、Ｖｃは用いた参照電極を基準としたカソード電位を表し、(ｔｎ)などはめっき通電開始後、ｎ番目の時間に収集した電位のデータであることを表している。
【発明の効果】
【００１４】
以上説明したように、本発明の方法及び本発明の方法を用いたデータ処理装置を採用することにより、電気めっき浴の組成変動によるめっきを簡便に把握しうることが分かった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
次に、本発明の実施の形態を、実際に電気銅めっきの途上得られた電位プロファイルをもとに説明する。良好なめっき膜を与えた電気銅めっき浴から得られた模範的電位プロファイルを図１中のプロファイル１に、また、同じめっき浴がめっき負荷を受けてめっき膜の品質が低下した際の電位プロファイルを図１中のプロファイル２に示す。図１は銀/塩化銀参照電極を基準とした電位を、定電流による電気銅めっき開始直後からめっきが終了するまでの２５分間にわたり１分おきに測定して時間に対してプロットしたものである。プロファイル２では、プロファイル１に見られるめっき開始５分あたりに中心をもつ極大が見られないほか、プロファイル１に見られるそれ以降の電位の漸減が見られないばかりか、電位は逆に漸増している。したがって、浴劣化の判定のために、プロファイル１の模範的電位プロファイルから抽出すべき特徴としては、上記電位の極大があることの他、該電位極大以降の電位の漸減現象も特徴として挙げられるべきである。さらに、電位プロファイル自体がどのあたりの電位レベルにあるかといった点も重要であり、通電開始後２０分の時点の電位を特徴群に加えるのもこの場合重要である。図１に用いためっき浴組成の場合には、良好なめっき特性を示すのはｔ=２０分でＶｃ=−１４０ｍＶ乃至−２００ｍＶの範囲にあることが経験的に分かっている。
【００１６】
検体めっき浴の電位プロファイルを模範的電位プロファイルから抽出した特徴と照合する操作を、別の表現で表わすこともできる。模範的電位プロファイル上に予め幾つかのあまり多くないデータ点を指定しておき、（時間,電位）座標上における各データ座標の相対的な位置関係を特徴として抽出し、参照データに照合し、次いで、その電位軸上の位置関係を比較すれば良い。指定すべきデータ点の数は、特徴を表現するに必要な最少の数で良い。
【００１７】
図１に示した組成では、微量添加剤を３種類使用しているが、その内の添加剤の濃度がある閾値以下になると、電位プロファイルの上に濃度が低下した添加剤の種類に応じて特徴的なパターンが出現する。上記３種類の添加剤を今仮にそれぞれＡ、Ｂ、Ｃとすると、Ａの濃度が低下した際には電位プロファイルは−２００ｍＶ以下の低い電位からスタートし、電位は極大を示すことなく一様に増加の一途をたどる。また、Ｂの濃度が低下すると、通電開始初期の電位が逆に高くなるばかりでなく、電位が不安定になり、プロファイル１に現れているような電位プロファイルの極大ピークが見られなくなるばかりでなく全体に凹凸の激しい、しかし、全体として電位があまり変化しないプロファイルを与える。また、Ｃの濃度が不足すると、電位は通電開始のごく初期に小さい極大を示すのみで、あとは電位が漸減する。
【００１８】
以上のような添加剤の濃度が低下した兆候が電位プロファイルに現れると、得られるめっき膜は、著しい欠陥を示すことが多い。特にめっき膜の緻密性、平坦性、ブラインドビアの充填性などに重大な欠陥として現れる。従って、このような際にはめっき浴の組成異常として警報が発せられる仕組みにすべきである。
【００１９】
図２に、図１に示したものとは別の添加剤系による電気銅めっき浴を例にとる。めっき負荷による組成の変動が無視できる際には、図２中のプロファイル３の模範的電位プロファイルが得られ、また、めっき負荷によってめっき特性が低下した浴については、図２中のプロファイル４に示した電位プロファイルを示すことを発明者が見出している。そこで、プロファイル３の模範的電位プロファイルの特徴を抽出し、これがプロファイル４の電位プロファイルに近づく際、浴劣化の兆候として警報を発せしめるべきである。模範的電位プロファイルから抽出すべき特徴は、プロファイル３における電位の単調な増加あるいは減少とその大きさ、さらに、それに引き続く電位変化の平坦化である。
【００２０】
このようにして作製した特徴群では、検体の電位プロファイルのパターンを模範的な電位プロファイルのパターンに照合するのが容易であり、判定は各模範的電位プロファイルの各特徴を検体の電位プロファイルが満足しているか否かによって容易に判定しうる。極大の存在や電位の漸減といった特徴に、ある程度任意な数値的許容幅を持たせることによって、実際の状況に合わせたシステムの運用が可能となる。通常ｔ=５分の前後出現する極大ピークについては、ｔ=１，５，９，１３，１７等におけるＶｃの値を用いて判定すれば十分である場合が多い。
【００２１】
これらは、閾値の設定と言い換えることもできる。本発明においては、実際に検出された電位のデータ列Ｖｃ(ｔ１),Ｖｃ(ｔ２),…,Ｖｃ(ｔｎ−１),Ｖｃ(ｔｎ),Ｖｃ(ｔｎ+１),…から極小もしくは極大を抽出するに当っては、何らかの閾値を設けるのが得策である。これによって、ごく小さい値の上下を極小もしくは極大として拾い出すことを防ぐことが可能になる。閾値の設け方としては、電位の減少→ 増加、もしくは電位の増加 → 減少に関わる全時間幅と、電位の減少幅もしくは増大幅の双方に設けるのが有利である。先の電位表示を用いれば、Ｖｃ(ｔｎ−ｍ)からＶｃ(ｔｎ)まで電位が上昇した後、電位が減少に転じてＶｃ(ｔｎ+ｋ)まで上昇の際と同程度の変化率で減少したとすると、［(ｔｎ+ｋ)− (ｔｎ−ｍ)］の大きさに閾を設けるのも重要である。あるいは、│Ｖｃ(ｔｎ)− Ｖｃ(ｔｎ−ｍ)│や│Ｖｃ(ｔｎ)− Ｖｃ(ｔｎ+ｋ)│で表わされる極大や極小の大きさの絶対値に閾を設ける方法も可能である。このような閾値を設けることにより、あまりに短い時間幅や、あまりに小さい電位幅を特徴として拾い出すことを防ぐことが可能になるわけである。
【００２２】
異なるめっき浴添加剤の濃度変化が、電位プロファイルの変化に対してそれぞれ異なった寄与の仕方を示すことは、使用した添加剤のうち、濃度が変化した添加剤の種類を知る上で重要である。めっき負荷によって複数の添加剤の濃度が一度に変化した際にも、電位プロファイルの変化がそれぞれの添加剤成分の濃度変化の効果を重ね合わせたものとして現れることから、それぞれの添加剤濃度の変化を分離することが可能であり、本発明による方法の有効性の根拠をなしている。このような重ね合わされた添加剤濃度の減衰も、それぞれの添加剤について、予め意図的に添加剤濃度を標準よりも低下させた浴を用いて電位プロファイルを作製しておくことにより、容易に解析することが可能である。このような減衰された既知の添加剤濃度に基く電位プロファイルを、参考電位プロファイルと呼ぶことにする。
【００２３】
電位の検出は、先に例示したごとく、一定の時間間隔で行うのが便利である。時間間隔としては、１秒乃至５分位が望ましく、２０秒乃至１分くらいがより好ましい。検出される電位のデータには、浴の撹拌に因る揺らぎの影響がしばしば含まれることから、１秒よりも短い時間間隔を採用するのは注意を様子する。
【００２４】
先には、図１や図２をもとに模範的電位プロファイルから特徴を抽出することを述べたが、このような特徴として抽出すべき電位プロファイルのポイントとしては、下記の項目が挙げられる。
１）所定の時間間隔で検出された電位を時間軸に対してプロットした際、極小値又は極大値が含まれるか否か。また、この極小値又は極大値がめっき通電の開始後に現れるまでに要した時間。
２）上記極小値又は極大値が、めっき開始直後乃至所定時間後の電位に対してどれだけ隔たっているか。
３）めっきの通電を開始した直後及び所定の時間後に検出される電位の大きさ。
４）めっきの通電を開始した後、所定の時間後に電位が増加傾向にあるか、あるいは減少傾向にあるか、あるいは所定の誤差範囲におさまって推移しているか。
５）極大値又は極小値を示さない場合には、めっきの通電開始後、一貫して電位が増加しているか、あるいは一貫して電位が減少しているか否か。
６）めっきの通電開始後、めっき終了までの一定時間の間、電位が比較的小さい所定の値の範囲に収まるか否か。
【実施例】
【００２５】
以下、本発明の実施例に従い説明する。
表面に銅箔を有する積層板に、通常ビルドアップ工法に用いられる公知のエポキシ樹脂絶縁層を１０μｍの厚さでコートし、次いでこの表面に炭酸ガスレーザを照射することによって、開口部６０μｍφ、底部５０μｍφ、深さ１０μｍのビアホールを形成した。この基板を過マンガン酸溶液に浸すことによってデスミヤ処理を施したのち、公知の触媒付与処理を行って厚さ０．６μｍの無電解銅めっき膜を形成した。この基板を、ビアホール部を含むように６０ｍｍ× ６０ｍｍに裁断したのち、下記表１に示す組成のめっき液に垂直に浸して、電流密度２．５５Ａ/ｄｍ２で２０分間通電し、電気めっきを施した。該電気めっきに供しためっき槽の内寸法は、幅２５０ｍｍ、奥行き２００ｍｍ、高さ２００ｍｍであり、電気めっきに際してはめっき槽の底面に微細な孔を多数設けたフッ素樹脂製のチューブより空気を毎分１２Ｌ送り出しながら行った。
【００２６】
電気めっき途上には電気めっき槽のめっき基板の近傍に銀/塩化銀参照電極を配置し、該参照電極に対する基板の電位をモニターすることにより電位プロファイルを得た。これを、図３中のプロファイル５に示す。電気めっきにより得たビアホール部を含む基板を切断し、研磨することによってビアホール部の断面を観察したところ、ビアは銅めっきにより充填されており、また、ランド部の平坦性も良好であった。上記電位プロファイルを模範的電位プロファイルとして、下記の特徴を抽出した。
（１）めっき通電開始直後に、ｔ = １分の電位に比較して１０ｍＶ以上大きい電位のピークがあること。
（２）ｔ = １０からｔ = ２０までの間で、電位の変化が３０ｍＶ以下であること。
この条件をデータ処理装置に入力した。
【００２７】
上記めっきに用いたものと同じ浴を用いて、さらに同様の基板５０枚に対して電気めっきを施し、それぞれの基板のめっき毎に電位プロファイルを得て上記データ処理装置に入力して各項目の特徴に照合した。このデータ処理装置には、ポリエチレングリコール４０００、ＳＰＳ、ヤヌスグリーンＢの添加剤が、表１に示した濃度から減衰した際の電位プロファイルも参考電位プロファイルとして記録され、それぞれ前記と同様に特徴を抽出した。その結果、４７枚目のめっきで上記２項目の特徴のうち（１）の項目の特徴を満足しないことが分かった。この検体電位プロファイルを記録した上記４７枚目の基板のビアホール部を含む基板を切断し、研磨することによってビアホール部の断面を観察したところ、ビアホールは半分しか充填されておらず、またランド部も光沢が低下していた。この４７枚目のめっきを実施した際に得られた電位プロファイルを図３中のプロファイル６として併記した。
【００２８】
【表１】
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【００２９】
次いで、図３の結果をもとに、ＳＰＳを３ｍｇ/Ｌ、ヤヌスグリーンＢを５ｍｇ/Ｌそれぞれめっき浴に補給したところ、図３の模範的電位プロファイル３にほぼ等しい電位プロファイルを得ることができた。さらに、この浴を用いためっきで、ビアホールの充填も達成しうることが分かった。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】めっき基板の電気銅めっきの途上でモニターされた電位を、めっき通電開始後の時間に対してプロットした図である。
【図２】めっき基板の電気銅めっきの途上でモニターされた電位を、めっき通電開始後の時間に対してプロットした図である。
【図３】めっき基板の電気銅めっきの途上でモニターされた電位を、めっき通電開始後の時間にたいしてプロットした図である。
【符号の説明】
【００３１】
１：模範的電位プロファイル、２：電位プロファイル、３：模範的電位プロファイル、４：電位プロファイル、５：模範的電位プロファイル、６：電位プロファイル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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