(57)【要約】  【課題】  冷凍品を短時間で内部からムラなく解凍できる解凍方法を提供する。  【解決手段】  冷凍品を高周波加熱により解凍する解凍方法であって、冷凍品を融解温度付近まで高周波加熱する第１高周波加熱工程と、前記第１高周波加熱工程中の冷凍品の温度を測定し、その測定温度が前記融解温度に達したことを検出する温度検出工程と、前記温度検出工程で前記融解温度が検出されると蒸気供給を開始して、冷凍品の表面に結露膜を形成する蒸気供給工程と、前記蒸気供給工程の開始後に冷凍品を高周波加熱する第２高周波加熱工程とを有する。【選択図】  図１０
2005143353.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
冷凍品を高周波加熱により解凍する解凍方法であって、
冷凍品を融解温度付近まで高周波加熱する第１高周波加熱工程と、
前記第１高周波加熱工程中の冷凍品の温度を測定し、その測定温度が前記融解温度に達したことを検出する温度検出工程と、
前記温度検出工程で前記融解温度が検出されると蒸気供給を開始して、冷凍品の表面に結露膜を形成する蒸気供給工程と、
前記蒸気供給工程の開始後に冷凍品を高周波加熱する第２高周波加熱工程とを有する解凍方法。
【請求項２】
請求項１記載の解凍方法であって、
前記温度検出工程で測定される冷凍品の温度上昇率に基づいて、この冷凍品の重量を判定する重量判定工程を有し、
前記重量判定工程による重量判定結果に応じて前記第１高周波加熱工程の加熱時間を設定する解凍方法。
【請求項３】
請求項１記載の解凍方法であって、
前記温度検出工程で測定される冷凍品の温度上昇率に基づいて、この冷凍品の重量を判定する重量判定工程を有し、
前記重量判定工程による重量判定結果に応じて前記蒸気供給工程の蒸気供給時間を設定する解凍方法。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか一項記載の解凍方法であって、
前記蒸気供給工程の後、
前記冷凍品が載置された加熱室内の蒸気量を減少させる蒸気排出工程を有する解凍方法。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか一項記載の解凍方法であって、
前記温度検出工程は、複数点を同時に計測する赤外線センサを走査しながら測定した前記冷凍品の表面温度の平均値が前記融解温度に達したことを検出する解凍方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、冷凍品を高周波加熱により解凍する解凍方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、高周波（マイクロ波）によって食品を加熱する電子レンジが広く普及している。一般に、従来の電子レンジでは、加熱しようとする食品に応じて高周波を加熱室内に出力することによって加熱調理を行っている。この種の電子レンジは、冷凍された食品を解凍することを目的に使用されることがある。
【０００３】
しかし、従来の電子レンジでは、冷凍品を解凍する場合、単に高周波を出力して加熱するだけであるので、食品の大きさや形状によっては加熱温度に大きなムラが生じて、均一な解凍が行えない問題があった。例えば、食品の形状に角部があると、この角部が先に解凍されて他の部位は凍結したままとなり、解凍された部分と凍結したままの部分とができてしまう。この状態になると、高周波は先に解凍された部分に多く吸収されるため、高周波加熱を続けると、角部と他の部分との温度差がますます増大することになる。
また、特に重量の大きい食品の場合、高周波加熱により食品の表面は解凍されているが内部は凍結したままとなる傾向が強くなる。そこで、食品の内部を解凍するために長時間高周波加熱すると、食品表面と内部との温度差が増大して、ついには、食品表面が過加熱状態となって煮えてしまうことがあった。また、マグネトロンを駆動して食品を高周波加熱した後、冷却ファン装置を駆動して食品に風を送る電子レンジが特許文献１に開示されているが、送風による温度均一化効果は食品表面に対しては顕著であるが、食品内部に対する加熱ムラを解消するまでには至っていない。
【０００４】
【特許文献１】特開平９−１０１０３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記従来の事情に鑑みてなされたものであって、冷凍品を短時間で内部からムラなく解凍できる解凍方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の解凍方法は、冷凍品を高周波加熱により解凍する解凍方法であって、冷凍品を氷の融解温度付近まで高周波加熱する第１高周波加熱工程と、前記第１高周波加熱工程中の冷凍品の温度を測定し、その測定温度が前記融解温度に達したことを検出する温度検出工程と、前記温度検出工程で前記融解温度が検出されると蒸気供給を開始して、冷凍品の表面に結露膜を形成する蒸気供給工程と、前記蒸気供給工程の開始後に冷凍品を高周波加熱する第２高周波加熱工程とを有する。この構成により、第１高周波加熱工程で冷凍品を短時間で内部から加熱できると共に、蒸気供給工程で表面に結露膜が形成された冷凍品を、第２高周波加熱工程で再度高周波加熱することにより、冷凍品を表面全体からムラなく解凍できる。また、冷凍品の表面全体に結露膜を形成するため、冷凍品表面の霜をとることができる。
【０００７】
また、前記温度検出工程で測定される冷凍品の温度上昇率に基づいて、この冷凍品の重量を判定する重量判定工程を有し、前記重量判定工程による重量判定結果に応じて前記第１高周波加熱工程の加熱時間を設定するものである。この構成により、冷凍品の重量に応じた適切な時間、冷凍品を高周波加熱することができ、過加熱や解凍不足を防止できる。
【０００８】
また、本発明の解凍方法は、前記温度検出工程で測定される冷凍品の温度上昇率に基づいて、この冷凍品の重量を判定する重量判定工程を有し、前記重量判定工程による重量判定結果に応じて前記蒸気供給工程の蒸気供給時間を設定するものである。この構成により、冷凍品の重量に応じた適切な量の蒸気を加熱室内に供給することができ、加熱室内に余分な蒸気が残らないため結露を防止でき、また、冷凍品に余分な水分が付着するのを防ぐことができる。
【０００９】
また、本発明の解凍方法は、前記蒸気加熱工程の後、前記冷凍品が載置された加熱室内の蒸気量を減少させる蒸気排出工程を有するものである。この構成により、加熱室内に余分な蒸気が残った場合であっても、加熱室内の蒸気量を減少するため結露を防止でき、また、冷凍品に余分な水分が付着するのを防ぐことができる。
【００１０】
さらに、本発明の解凍方法は、前記温度検出工程が、複数点を同時に計測する赤外線センサを走査しながら測定した前記冷凍品の表面温度の平均値が前記融解温度に達したことを検出するものである。この構成により、温度検出の精度を向上できる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、冷凍品を短時間で内部からムラなく解凍できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明は、冷凍品を高周波加熱により解凍する方法に関するものであるが、本実施形態では、加熱調理器を用いて冷凍品を解凍する例について説明する。
【００１３】
図１は本発明の一実施形態を説明するための加熱調理器の開閉扉を開けた状態を示す正面図、図２は加熱調理器の制御ブロック図、図３は操作パネルのキー配列例を示す正面図である。
【００１４】
まず、加熱調理器１００の構成を説明する。図１に示すように、加熱調理器１００は、高周波（マイクロ波）を発生するマグネトロン１３と、加熱室１１内でスチーム（蒸気）を発生する蒸気発生部１５と、冷凍品の解凍処理を開始するための操作パネル９１（図３参照）とを基本構成要素として有する。
【００１５】
マグネトロン１３からの高周波は、回転駆動される電波撹拌用のアンテナ２３によって加熱室１１の全体に分散される。そして、蒸気発生部１５には、加熱室１１の側方に設けた給水タンク２７から水が供給される構成となっている。
【００１６】
蒸気発生部１５は、加熱室１１内の底面奥側で蒸気を発生させるように構成している。加熱室１１の奥側背面には、赤外線センサ等の被加熱物温度センサ３２が取り付けられ、加熱室１１の壁面に設けた検出用孔１８を通じて被加熱物（冷凍品）の温度を測定する。
【００１７】
加熱室１１は、前面開放の箱形の本体ケース１０内部に形成されており、本体ケース１０の前面には、加熱室１１の被加熱物取出口を開閉する透光窓４１ａ付きの開閉扉４１が開閉自在に取り付けられている。
【００１８】
また、加熱室１１の一方の側壁の上部には給気口２が設けられ、加熱室１１の他方の側壁の下部には排気口１が設けられている。給気口２及び排気口１は、加熱室１１外と加熱室１１内との給排気を行うための開口部であり、多数のパンチ孔として形成されている。なお、給気口及び排気口が設けられる位置は、上述した位置に限定されない。すなわち、例えば、給気口及び排気口は、それぞれ、側壁の上部及び下部のいずれに設けられても良いし、給気口及び排気口は、同一壁面に設けられても良い。
【００１９】
また、本実施形態の加熱調理器１００には、加熱室１１内の空気を撹拌・循環させる循環ファン３３や、加熱室１１内を循環する空気を加熱するコンベクションヒータ３５からなる室内気加熱部３７が取り付けられる。また、加熱調理器１００には、加熱室１１内の上部や側方等の壁面にマイカヒータやシーズヒータ等からなるヒータ手段１７（図２参照）が設けられる。これら各部の動作は、マイクロプロセッサを備えてなる制御部３９からの制御指令により行われる（図２参照）。
【００２０】
また、開閉扉４１に設けられる図３に一例として示す操作パネル９１には、加熱（解凍）の開始を指示するスタートキー９３が設けられている。また、操作パネル９１には、加熱温度や加熱時間の設定等に用いられるつまみ９６が設けられる。なお、食品解凍を行う際には、調理メニューキー９４，９７の一つとして用意された「解凍」キーを操作した後、スタートキー９３により開始指示するようになっている。
【００２１】
制御部３９は、商用電源に接続される電源部４０から電力供給されており、マグネトロン１３、ヒータ手段１７、蒸気発生部１５等の加熱電力が許容電力値を超えないように、各部への電力配分を制御している。また、制御部３９は、タイマ１０１によって各部を時間制御する。
【００２２】
マグネトロン１３は、加熱室１１の下側の空間に配置されている。また、加熱室１１底面の略中央の、マグネトロンより発生した高周波を受ける位置にはアンテナ２３を設けてある。これらマグネトロン１３やアンテナ２３は、加熱室１１の底部に限らず、加熱室１１の他の面側に設けることもできる。また、アンテナ２３の代わりにターンテーブルを備えた構成としてもよい。
【００２３】
次に、図４を参照して蒸気発生部１５について説明する。図４に蒸気発生部１５の分解斜視図を示す。
【００２４】
蒸気発生部１５は、上面に水溜凹所４８ａを有する細長状の蒸発皿４８と、この蒸発皿４８を加熱するための後述する加熱ブロック４５を有し、これら蒸発皿４８と加熱ブロック４５は、加熱調理器１００の筐体底面部４７に固定される。具体的には、２つの加熱ブロック４５は、加熱面４５ａを表出させる開口４６ａを有した支持板４６に一旦ネジ止めされて筐体底面部４７の裏側に固定される。一方、筐体底面部４７には蒸発皿４８の水溜凹所４８ａによる突出部を収容する開口４７ａが形成されており、蒸発皿４８は、この開口４７ａから水溜凹所４８ａを下方に突き出して固定される。また、加熱ブロック４５が取り付けられた支持板４６が下方側から筐体底面部４７の裏面に固定される。これにより、蒸発皿４８の底面は、加熱ブロック４５の加熱面４５ａに接触して、加熱ブロック４５からの発熱を蒸発皿４８に伝熱可能としている。なお、支持板４６，蒸発皿４８は、熱伝導性の高いアルミ等の金属材料で形成されることが望ましい。
【００２５】
図５に加熱ブロックの外観斜視図を示した。（ａ）は上面側で（ｂ）は裏面側である。
【００２６】
加熱ブロック４５は、軽量で熱伝導性の高いアルミのダイキャスト成形品としている。加熱ブロック４５は、本体６１の内部に蒸発部加熱ヒータとしてＵ字形のシーズヒータ５３が埋設されており、上面側の側部近傍にはシーズヒータ５３の直線部と平行に、２本のリブ６２が本体６１長手方向全体にわたって突設され、リブ６２の対面する内側面６２ａは、蒸発皿４８の底面角部の曲面に合わせた傾斜曲面となっている。この曲面形状が蒸発皿４８との密着性を向上させて熱伝達を良好にしている。加熱ブロック４５は、四隅にネジ穴が開けられ、リブ６２が板状部材４６の開口４６ａに内接するようにして四隅がネジ止めされる。本実施形態では、２つの加熱ブロック４５が板状部材４６を介して蒸発皿４８の中央近傍に設けられる。なお、加熱ブロックは、上記構成に限らず、１つ又は３つ以上設けられても良い。また、蒸発皿４８の下部に長手方向に沿って、シーズヒータ等の加熱手段を配設する構成としてもよい。
【００２７】
加熱ブロック４５が、熱伝導性の高いアルミダイキャストにより形成されることで、シーズヒータ５３の熱が高効率で水溜凹所４５ａに伝熱可能となっている。なお、シーズヒータ５３等の形状や取り付け位置等は、必要とする加熱量や加熱調理器１００の筐体内への設置スペース等に応じて適宜変更され得るものである。上記シーズヒータ５３は、線ヒータ、セラミックヒータ等の他種類のヒータであっても構わない。
【００２８】
蒸気発生部１５は、加熱室１１の底面から蒸気を供給して加熱室１１内で効率良く蒸気拡散する構成となっている。また、蒸発皿４８に仮に汚れが付着しても簡単に除去できるようにしている。即ち、蒸気発生の過程では、水分中のカルシウムやマグネシウム、塩素化合物等が濃縮されて水溜凹所４５ａ底部に沈殿固着することがあるが、水溜凹所４５ａが加熱室１１内に開放されているため、水溜凹所４５ａを布等で拭き取るだけで、きれいにこのような汚れを払拭することができる。
【００２９】
ここで、図６を参照して、図１に示す給水タンク２７から蒸気発生部１５までの給水経路を説明する。図６は、加熱室１１の奥側角部を外側から見た概略斜視図である。
給水タンク２７は、取水筒７４に接続されたノズル７５を、加熱調理器１００側に固定された給水接続口７６に着脱自在に挿入することで蒸発皿４８への水を供給可能にするもので、水位を視認できる透明ケース内に水を貯留してなる。
給水用ポンプ７９は、制御部３９（図２参照）からの指令により駆動され、給水接続口７６を介して給水タンク２７の水を吸い上げ、送水パイプ７７を通して、吐出ノズル７８から所定量の水を蒸発皿４８に送出する。
【００３０】
蒸気発生部１５は、給水タンク２７の水が蒸発皿４８に供給された状態で、加熱ブロック４５のシーズヒータ５３が発熱することによって蒸発皿４８下部が加熱され、蒸発皿４８内の水を蒸発させる。
【００３１】
次に、加熱室１１内の蒸気を効率良く排出するために、加熱室１１内に冷却風を供給する構成を説明する。
加熱調理器１００の底部には、マグネトロンや回路基板等の電装部品が搭載されており、マグネトロンの冷却用ファン６からの風を各電装部品に吹き当てて冷却している。このときの冷却風は、加熱調理器１００の底部から加熱室１１の周囲に設けたダクト４，５を通じて加熱室１１内に供給可能にしている。例えば、図７に示すように、ダクト４，５の途中にダンパ３を設け、このダンパ３の変位動作によって冷却風を加熱室１１に供給、或いは排気口６から外部に排出する。なお、ダンパの代わりに単にダクト４，５の流路を塞ぐシャッタを設けた構成としてもよく、さらには、図８に示すように、加熱室１１の排気口１を塞ぐダンパ７を設けた構成としてもよい。
ここで、冷却用ファン６は、マグネトロン冷却用のファン以外にも、専用の冷却ファンを別途設けて、高周波発生に有無に係わらず、任意のタイミングで加熱室１１へ風を供給するようにしてもよい。この構成により、加熱室１１内に残留する余分な蒸気を効率良く排出して加熱室１１内の蒸気量（密度）を低減できる。さらに、循環ファン３３を回転させれば、蒸気排出効率を向上させることができる。
【００３２】
次に、上述した加熱調理器１００を用いて本発明に係る解凍方法を実施する一例を図９及び図１０を参照して説明する。図９は、本実施形態の解凍方法を説明するフローチャートであり、図１０は、本実施形態の解凍方法を機能的に説明する説明図であり、−１８℃の冷凍スライス肉３００ｇ（以下「冷凍品Ｍ」という。）を解凍する場合の温度変化例を示している。
【００３３】
まず、解凍しようとする冷凍品Ｍを皿等に載せて加熱室１１内に入れ、開閉扉４１を閉める。そして、操作パネル９１の「解凍」キーをＯＮにした後、スタートキーをＯＮにする（ステップＳ０）。
【００３４】
スタートキーがＯＮされると、マグネトロン１３が高周波（マイクロ波）を発生すると共に、被加熱物温度センサ３２が冷凍品Ｍの温度測定を開始する（ステップＳ２）。また、ステップＳ２では、冷凍品Ｍの重量判定を行う。このときの温度測定及び重量判定についての詳細は後述する。また、ステップＳ２で行った重量判定の結果に基づいて、ステップＳ６で行う蒸気供給の時間やステップＳ８で行う高周波加熱の時間を設定する。
【００３５】
ステップＳ２の高周波加熱により、冷凍品Ｍは内部から加熱される。一般に高周波は、氷に対しては吸収が少なく浸透深さが大きくなるため、冷凍品Ｍの高周波加熱時には、冷凍品Ｍの表面のみならず内部にも加熱作用が働き、解凍を加速させる効果がある。そして、高周波加熱が続けられると、冷凍品Ｍの温度が次第に上昇し、凍結状態にあった冷凍品Ｍの表面の一部が溶け始める。
【００３６】
また、ステップＳ２で測定される冷凍品Ｍの表面温度が所定値に達したか否かを判断し（ステップＳ４）、冷凍品Ｍの表面温度が所定温度（後述する融解温度）に達した場合は、高周波加熱を停止すると共に、蒸気発生部１５により加熱室１１内への蒸気供給を開始する（ステップＳ６）。なお、高周波加熱が行われている間、被加熱物温度センサ３２は、冷凍品Ｍの温度をモニタし、蒸気供給が開始されると温度測定を終了する。
【００３７】
蒸気供給開始のタイミングを決定付ける融解温度は、冷凍品Ｍの表面の一部が溶け始める温度であり、予め実験によって定められた数値に設定される。この融解温度は、食品内部の温度が−５℃〜０℃程度（最大氷結晶生成帯）となるときの表面温度である。例えば、図８に示す例の場合、冷凍品Ｍの表面の一部が溶け始めるとき、被加熱物温度センサ３２による測定温度は３〜７℃であり、冷凍品Ｍの実温度（冷凍品Ｍの表面から内部全体にわたる平均温度）は−５〜０℃となっている。すなわち、この場合、蒸気供給開始のタイミングを決定付ける融解温度は、３〜７℃である。なお、図８に示す冷凍品Ｍの表面温度及び実温度は、予め行った実験の結果に基づくものである。図８に示す例の場合、高周波加熱開始から約２分経過後、蒸気供給を開始する。
【００３８】
ステップＳ６では、蒸気供給が開始されると共に、高周波加熱を停止する。これにより、冷凍品Ｍの溶け始めた部分に高周波が集中して吸収されることがないため、解凍ムラを確実に防止できる。また、蒸気供給している間に冷凍品Ｍの局所的な温度ムラが伝熱によって軽減される。さらには、蒸気供給時の電力消費量を抑えることができる。なお、蒸気供給と高周波加熱を並行して行ってもよい。この場合、解凍ムラを防ぐため、高周波加熱を低出力で行うのが好ましい。これにより、結露による温度上昇率の低下を抑えることができ、調理時間を有効に利用して、迅速な解凍が行える。ステップＳ６では加熱室１１内の蒸気量が増加するため、温度の低い冷凍品Ｍの表面が結露しやすくなる。そして、蒸気供給開始から一定時間経過すると、冷凍品Ｍの表面全体が結露膜で覆われる。このような状態になったら、蒸気供給を停止する。なお、冷凍品の表面が結露膜で覆われるまでの時間は、冷凍品の重量から予想される体積、熱容量また冷凍品の初期温度等によって異なるため、冷凍品の重量等に基づいて蒸気供給時間を予め調節（設定）しておくとよい。制御部３９は、タイマ１０１により計測された加熱時間等の経過時間に基づいて、前述した各部の制御タイミングを設定する。ステップＳ６で蒸気供給を開始した後、予め設定した所定時間が経過したか否かを判断する（ステップＳ７）。所定時間経過した場合はステップＳ８に進み、経過していない場合は蒸気供給を継続する。なお、図８に示す例の場合、蒸気供給時間は約１分である。
【００３９】
次に、冷凍品Ｍの表面全体に結露膜が形成された後、再び高周波加熱を開始すると共に、加熱室１１内に残留する蒸気を排出する（ステップＳ８）。冷凍品Ｍは、全体が結露膜で覆われているため、この状態の冷凍品Ｍに高周波を与えると、高周波の吸収率が冷凍品全体にわたって均一になる。したがって、結露膜で覆われた冷凍品Ｍを高周波加熱することによって、ムラなく均一に加熱することができると共に、冷凍品Ｍ表面の霜を取ることができる。このときの高周波の出力はステップＳ２の場合よりも小さく設定して、急激な加熱を抑えることが好ましい。一方、ステップＳ６で蒸気が供給された後の加熱室１１内には蒸気が残存している。この蒸気を排気口１及び給気口２を用いて、効率良く加熱室１１外に排出する。すなわち、給気口２から加熱室１１外の空気を取り込むと共に排気口１から加熱室１１内の空気を排出する。これにより、加熱室１１内の空気に含まれる蒸気の量（密度）を低減することができ、加熱室１１内に余分な蒸気が残らないため、加熱室１１の壁面等に生じる過剰な結露を防止でき、また、冷凍品Ｍに余分な水分が付着するのを防ぐことができる。これにより、結露が必要なときだけ加熱室１１内に蒸気を充満させることができる。また、予め、前述したステップＳ２における重量判定結果に基づいて適切な蒸気供給時間を設定しておけば、必要量の蒸気だけが供給されるので、蒸気排出工程を省略することができる。
【００４０】
次に制御部３９は、タイマ１０１の計測時間を参照して、ステップＳ２で設定した高周波加熱時間が経過したか否かを判断する（ステップＳ１０）。ステップＳ１０で高周波加熱時間経過したと判断された場合、高周波加熱等を終了して解凍処理を終了する（ステップＳ１２）。なお、解凍処理終了時における冷凍品Ｍの実温度（出来上がり温度）は、例えば図８に示す例の場合、０〜１０℃程度であり、このときの冷凍品Ｍの表面温度（被加熱物温度センサ３２による測定結果）は約１５℃である。冷凍品の種類や重量、形状（塊であるか薄くスライスされたものであるか等）等によって、冷凍品の表面温度と実温度との相関関係は異なるが、予め行った実験の結果に基づいて、表面温度から実温度を知ることができる。
【００４１】
ここで、図１１を参照して、被加熱物温度センサ３２による冷凍品Ｍの温度測定について説明する。冷凍品Ｍは、加熱室１１内に載置されているが、解凍開始時は冷凍品Ｍが加熱室底面のどの位置に載置されたかは不明である。そこで、被加熱物温度センサ３２により得られる加熱室１１内の温度分布から、冷凍品Ｍの位置を割り出す。即ち、図１１（ａ）に示すように、被加熱物温度センサ３２は、一度に複数点（ｎ点）の温度を同時に検出しながら、被加熱物温度センサ３２自体を揺動させることで、図中矢印方向にスキャンし、加熱室１１内を複数の測定点（スキャン方向にｍ点）に対する温度検出を行う。従って、１スキャンで、図１１（ｂ）に示すｎ×ｍ点の測定点における温度検出を行うことができる。
【００４２】
図１１（ｂ）に示した被加熱物温度センサ３２の１スキャンにより測定された加熱室１１内の温度分布から明らかなように、通常、冷凍品Ｍが存在する場所の温度は、他の部分とは異なる温度が検出されるので、加熱室１１内における冷凍品Ｍの位置を特定することができる。つまり、温度測定開始時には、ある特定の領域で加熱室１１底面の温度（常温）に比べて低い温度が検出されることで、冷凍品Ｍの位置が特定できる。
【００４３】
図１２に、被加熱物温度センサ３２によるスキャンを連続的に複数回行ったときの図１１（ｂ）におけるＬ線位置の温度分布を示した。図１２において、１スキャン幅内で温度が特に変化している温度分布の温度低下のピーク位置は、図１１（ｂ）におけるＬ線上の冷凍品Ｍの位置に対応する。従って、加熱室１１における冷凍品Ｍの位置は、この温度分布のピーク位置から求められる。そして、この冷凍品Ｍの位置に対応する温度を、加熱初期時或いは温度測定開始時まで遡って求め、冷凍品Ｍの初期温度を判定する。
【００４４】
初期温度の判定を完了したら、図１２における温度分布曲線のピーク同士を連結する線（図１２における点線）の勾配から冷凍品Ｍの温度上昇率ΔＴを求める。この温度上昇率ΔＴにより、冷凍品Ｍの分量を推定する。これは、図１３に示すように、同じ初期温度で重量の異なる２つの冷凍品Ｍ１、Ｍ２を同じ条件で加熱すると、その重量に応じて温度上昇率ΔＴが異なることを利用して分量を推定している。例えば、分量の少ない冷凍品Ｍ１を加熱した場合には温度上昇率がΔＴＬとなり、分量が多い冷凍品Ｍ２を加熱した場合には温度上昇率がΔＴＬより小さなΔＴＭとなる。
【００４５】
このようにして、冷凍品Ｍの初期温度の判定及び温度上昇率ΔＴから冷凍品Ｍの分量の推定を完了し、求めた温度上昇率ΔＴに応じて高周波加熱時間を設定する。例えばＫ１／ΔＴ（Ｋ１は定数）として求められる。また、ここでは、冷凍品Ｍの分量に応じた最大加熱時間の設定も行う。以降の加熱処理においては、加熱時間の合計が最大加熱時間を超過するとき、この加熱処理を強制的に終了させる制御を行う。これにより、過加熱を防止して装置の安全性を確保できる。
【００４６】
このように、ステップＳ２において冷凍品Ｍの表面温度を測定する際、複数点同時計測する被加熱物温度センサ３２を走査して、冷凍品Ｍに相当する領域に対する平均値を算出することにより、温度測定の精度が向上する。
【００４７】
以上、冷凍品の重量に基づく所定時間経過したことによって各処理（ステップＳ２及びＳ８の高周波加熱、ステップＳ６の蒸気供給）を開始又は終了する場合について説明したが、他の方法で各処理のタイミングを決定してもよい。例えば、常に冷凍品の表面温度を測定し表面温度が所定値に達したとき、又は、冷凍品の種類や重量、形状等と、各処理を行う時間を変化させて取得した表面温度変化のサンプルデータとを示すテーブルを予め用意し、このテーブルに基づく所定時間経過したとき、等を各処理のタイミングとしてもよい。また、常に冷凍品の表面温度を測定し、実測値と上述したテーブルに示される温度とを比較して各処理のタイミングを決定しても良い。
【００４８】
以上説明したように、本実施形態の解凍方法によれば、高周波加熱によって冷凍品を内部からすばやく解凍できると共に、蒸気供給によって表面全体に結露膜が形成された冷凍品を再度高周波加熱することにより、冷凍品をムラなく均一に解凍できる。また、冷凍品の表面全体に結露膜を形成するため、冷凍品表面に付着している霜を溶かし取ることができる。さらに、解凍過程において冷凍品の表面温度を急激に上げることなく内部から徐々に解凍することが出来る。
【００４９】
また、被加熱物温度センサ３２を用いた温度測定結果に基づいて重量を判定するため、冷凍品の重量に応じた適切な時間、冷凍品を高周波加熱することができ、過加熱や解凍不足を防止した極めて効率の高い解凍処理が行える。
【００５０】
（第２の実施形態）
本実施形態の解凍方法は、第１の実施形態で説明した解凍方法と略同様であるが、図９に示すステップＳ６で蒸気供給を開始するタイミングが異なる。本実施形態では、測定された冷凍品Ｍの表面温度が融解温度に達したか否かにかかわらず、ステップＳ２における重量判定結果に基づいて設定された所定時間を経過した場合に、蒸気供給を開始する。すなわち、ステップＳ４で融解温度に達したと判断された場合であっても、前記設定された所定時間に達していなければ、蒸気供給を開始せず、高周波加熱を継続する。一方、ステップＳ４で融解温度に達したと判断されていない場合であっても、前記所定時間に達すれば、蒸気供給を開始し、高周波加熱を停止する。
【００５１】
これにより、例えば、突部を有する冷凍品等を解凍する場合において、冷凍品の一部の温度が上昇することにより、冷凍品の表面温度の平均値が実際よりも高く測定されてしまったときでも、適切な時間で冷凍品を高周波加熱することができる。
【産業上の利用可能性】
【００５２】
本発明の解凍方法は、冷凍品を短時間で内部からムラなく解凍できる効果を有し、冷凍品を高周波加熱により解凍する場合等に有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の一実施形態を説明するための加熱調理器の開閉扉を開けた状態を示す正面図
【図２】加熱調理器の制御ブロック図
【図３】操作パネルのキー配列例を示す正面図
【図４】加熱調理器の蒸気発生の基本原理を表す説明図
【図５】（ａ）熱ブロックの外観図（上面側）（ｂ）熱ブロックの外観図（裏面側）
【図６】加熱室の奥側角部を外側から見た概略斜視図
【図７】ダクトにダンパを設けた構成例の説明図
【図８】ダクトにダンパを設けた他の構成例の説明図
【図９】本実施形態の解凍方法を説明するフローチャート
【図１０】本実施形態の解凍方法を説明するタイムチャート
【図１１】（ａ）赤外線センサによる被加熱物の温度測定の状態を示す斜視図、（ｂ）は温度測定の結果を示すグラフ
【図１２】赤外線センサによるスキャンを連続的に行ったときの図１１（ｂ）におけるＬ線位置の温度分布を示すグラフ
【図１３】分量の違いによる加熱時間と測定温度との関係を示すグラフ
【符号の説明】
【００５４】
１  排気口
２  給気口
６  冷却用ファン
１１  加熱室
１３  マグネトロン
１５  蒸気発生部
１７  ヒータ手段
２７  給水タンク
３２  被加熱物温度センサ
３３  循環ファン
３５  コンベクションヒータ
４５  加熱ブロック
４５ａ  加熱面
４６  支持板
４６ａ  開口
４７  加熱調理器の筐体底面部
４７ａ  開口
４８  蒸発皿
４８ａ  水溜凹所
５３  シーズヒータ
６１  加熱ブロック本体
６２  リブ
６２ａ  内側面
６９  給水手段
７４  取水筒
７５  ノズル
７６  給水接続口
７７  送水ポンプ
７８  吐出ノズル
７９  給水用ポンプ
１００  加熱調理器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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