(57)【要約】【課題】  像面側に液体が配置される液浸式の投影光学系の光学性能を精確且つ容易に検査することができる投影光学系の検査方法及び検査装置等を提供する。【解決手段】  検査対象の投影光学系ＰＬは像面側に液浸露光用の液体が供給される状態で所期の光学性能を発揮するよう設計された液浸式の投影光学系である。投影光学系ＰＬの像面側に液体が供給されているのと光学的にほぼ等価な状態を形成するための補正ガラス１０を投影光学系ＰＬの像面側に配置し、投影光学系ＰＬと補正ガラス１０とを通過した測定光を液体を介さずに光電検出することで投影光学系ＰＬの光学性能を検査する。【選択図】  図１
2005109117.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
検査対象の液浸露光用の投影光学系の像面側に、補正用の光学部材を配置し、
前記投影光学系と前記光学部材とを通過した測定光を液体を介さずに光電検出することによって、前記液浸用の投影光学系の光学性能を検査することを特徴とする投影光学系の検査方法。
【請求項２】
前記光電検出の結果から前記光学部材に起因する誤差を除いて前記投影光学系の光学性能を求めることを特徴とする請求項１記載の投影光学系の検査方法。
【請求項３】
前記投影光学系を光軸回りに回転させながら前記投影光学系と前記光学部材とを通過した測定光を光電検出することによって、前記光学部材の設置誤差に起因する誤差を除いた前記投影光学系の光学性能を求めることを特徴とする請求項２記載の投影光学系の検査方法。
【請求項４】
前記投影光学系を回転させながら得られた前記投影光学系の光学性能の平均値から前記光学部材の設置誤差に起因する非回転対称成分を除いた光学性能を得ることを特徴とする請求項３記載の投影光学系の検査方法。
【請求項５】
前記投影光学系を回転しながら得られた前記投影光学系の光学性能の平均値から求められる非回転対称成分に基づいて、前記光学部材の姿勢を調整し、
前記調整後に、前記投影光学系と前記光学部材とを通過した測定光を光電検出して、前記投影光学系の光学性能を検査することを特徴とする請求項４記載の投影光学系の検査方法。
【請求項６】
前記光学部材単体での光学特性を測定し、該測定結果に基づいて、前記光学部材に起因する誤差を除いた光学性能を得ることを特徴とする請求項２から請求項５の何れか一項に記載の投影光学系の検査方法。
【請求項７】
前記光学部材は、前記投影光学系の像面側に液浸露光用の液体が配置されているのと光学的にほぼ等価な状態を形成するための平行平板状の光透過部材であることを特徴とする請求項１から請求項６の何れか一項に記載の投影光学系の検査方法。
【請求項８】
前記投影光学系の光学性能は波面収差を含むことを特徴とする請求項１から請求項７の何れか一項に記載の投影光学系の検査方法。
【請求項９】
検査対象の液浸露光用の投影光学系の像面側に配置された、反射球面部を有する反射部材と、
前記投影光学系と前記反射部材との間に配置される収差補正用の光学部材と、
前記投影光学系と前記光学部材とを介して前記反射球面部で反射した測定光を光電検出する光電検出器とを備え、
前記光電検出器の検出結果に基づいて、前記投影光学系の光学性能を検査することを特徴とする検査装置。
【請求項１０】
前記投影光学系の波面収差を計測することを特徴とする請求項９記載の検査装置。
【請求項１１】
請求項１から請求項８の何れか一項に記載の投影光学系の検査方法又は請求項９若しくは請求項１０記載の検査装置を用いて前記投影光学系の検査を行う検査工程と、
前記検査工程の検査結果に基づいて前記投影光学系の光学性能を調整する調整工程と
を含むことを特徴とする投影光学系の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、投影光学系の検査方法、検査装置、及び投影光学系の製造方法に係り、特にリソグラフィー工程において用いられてマスクに形成されたパターンの像を基板に投影する露光装置に設けられる投影光学系の検査方法、検査装置、及び投影光学系の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、又は薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイスの製造においては、マスクやレチクル（以下、これらを総称する場合はマスクという）に形成されたパターンをフォトレジスト等の感光剤が塗布されたウェハやガラスプレート等（以下、これらを総称する場合は基板という）に転写する露光装置が用いられる。露光装置は、例えば極めて微細なパターンが形成される半導体素子等を製造する場合に多用されるステッパー等の一括露光型の投影露光装置と、例えば大面積の液晶表示素子を製造する場合に多用されるステップ・アンド・スキャン方式等の走査露光型の投影露光装置とに大別されるが、通常これらの露光装置の何れもがマスクのパターンを基板に転写するための投影光学系を備える。
【０００３】
一般的にマイクロデバイスは複数のパターンが層状に形成されて製造されるため、露光装置を用いてマイクロデバイスを製造する際には、投影されるマスクのパターン像と基板上に既に形成されているパターンとの正確な位置合わせを行った上で、マスクのパターン像を高解像度で忠実に基板上へ投影しなければならない。従って、投影光学系は収差が良好に抑えられ、高い解像度を有する極めて優れた光学性能が要求される。投影光学系の光学性能は、理想的な球面波を生成して、例えば以下の手順で検査される。つまり、生成した理想的な球面波を測定光及び参照光に分割して測定光のみを投影光学系に入射させ、投影光学系を透過した測定光を投影光学系の像面側に配置された凹状の球面ミラーを有する反射部材で反射させ、再度投影光学系を透過した測定光と投影光学系を介さない参照光とを干渉させて得られる干渉縞を解析することで投影光学系の性能を検査する。従来の投影光学系の検査方法の詳細については、例えば以下の特許文献１，２を参照されたい。
【特許文献１】特開２００２−２９６００５号公報
【特許文献２】特開平１０−１６０５８２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、近年、基板に形成されるパターンの微細化の要求が高まっている。その理由は、半導体素子を製造する場合を例に挙げると、パターンを微細化することにより、１枚の基板から製造される半導体素子の数が増加するため、半導体素子の製造コストを下げることができるとともに、半導体素子そのものを小型化することができるからであり、また、微細化することにより動作周波数を向上させることができ、更に低消費電力化を図ることもできるからである。現在のＣＰＵ（中央処理装置）は、０．１〜０．２μｍ程度のプロセスルールで製造されているが、今後０．１μｍ以下のプロセスルールでの製造が行われつつある。
【０００５】
微細なパターンを形成するには、露光時にマスクを照明する照明光を短波長化するとともに、投影光学系の開口数（Ｎ．Ａ．）を高く設定する必要がある。照明光を短波長化すると、投影光学系のレンズとして使用することができる硝材が制限されるため、投影光学系の設計の自由度が低下するとともに、投影光学系自体が高価になってしまう。そこで、近年においては、投影光学系と基板との間に気体（空気又は窒素ガス）よりも屈折率の高い液体を充満させることで解像度を向上させた液浸式の投影光学系が案出されており、この液浸式の投影光学系の光学性能を精度良く検査（測定）したいという要望が強くなっている。
【０００６】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、像面側に液体が配置される液浸式の投影光学系の光学性能を精確且つ容易に検査することができる投影光学系の検査方法及び検査装置、並びに当該方法又は装置を用いた投影光学系の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明の投影光学系の検査方法は、検査対象の液浸露光用の投影光学系（ＰＬ）の像面側に、補正用の光学部材（１０）を配置し、前記投影光学系と前記光学部材とを通過した測定光を液体を介さずに光電検出することによって、前記液浸用の投影光学系の光学性能を検査することを特徴としている。
この発明によると、液浸露光用の投影光学系を通過した測定光は、液体を介さずに投影光学系の像面側に配置された補正用の光学部材を通過して光電検出され、この検出結果に基づいて投影光学系の光学性能が検査される。
また、本発明の投影光学系の検査方法は、前記光電検出の結果から前記光学部材に起因する誤差を除いて前記投影光学系の光学性能を求めることを特徴としている。
この発明によると、投影光学系及び補正用の光学部材を通過した測定光の光電検出の結果から光学部材に起因する誤差が除かれて投影光学系の光学性能が求められる。
上記課題を解決するために、本発明の検査装置は、検査対象の液浸露光用の投影光学系（ＰＬ）の像面側に配置された、反射球面部（１１ａ）を有する反射部材（１１）と、前記投影光学系と前記反射部材との間に配置される収差補正用の光学部材（１０）と、前記投影光学系と前記光学部材とを介して前記反射球面部で反射した測定光を光電検出する光電検出器（３０）とを備え、前記光電検出器の検出結果に基づいて、前記投影光学系の光学性能を検査することを特徴としている。
この発明によると、液浸露光用の投影光学系を通過した測定光は、液体を介さずに投影光学系の像面側に配置された収差補正用の光学部材を通過し、反射部材の反射球面部で反射された後に光電検出され、この検出結果に基づいて投影光学系の光学性能が検査される。
また、本発明の投影光学系の製造方法は、上記の検査方法又は上記の検査装置を用いて前記投影光学系の検査を行う検査工程と、前記検査工程の検査結果に基づいて前記投影光学系の光学性能を調整する調整工程とを含むことを特徴としている。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、検査対象である液浸露光用の投影光学系の像面側に補正用の光学部材を配置した状態で検査を行っているため、投影光学系の像面側に液体がなくとも容易に投影光学系の光学性能を検査することができる。
また、本発明によれば、投影光学系及び補正用の光学部材を通過した測定光の光電検出の結果から補正用の光学部材に起因する誤差を除いた投影光学系の光学性能を求めているため、投影光学系の光学性能を精確に検査することができる。
更に、本発明によれば、上記の検査装置又は上記の検査方法を用いて投影光学系の光学性能を検査し、この検査結果に基づいて投影光学系の光学性能を調整しているため、所期の性能を有する液浸露光用の投影光学系を効率よく製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、図面を参照して本発明の一実施形態による投影光学系の検査方法、検査装置、及び投影光学系の製造方法について詳細に説明する。図１は、本発明の一実施形態による検査装置の全体構成の概略を示す図である。尚、以下の説明においては、図中にＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部材の位置関係について説明する。ＸＹＺ直交座標系は、Ｙ軸及びＺ軸が紙面に対して平行となるよう設定され、Ｘ軸が紙面に対して直交する方向に設定されている。図中のＸＹＺ座標系は、実際にはＸＹ平面が水平面に平行な面に設定され、Ｚ軸が鉛直上方向に設定される。
【００１０】
図１において、１は所定形状の断面を有する光束を射出する光源であり、例えばＡｒＦエキシマレーザ光源（波長１９３ｎｍ）とほぼ等しい波長を有する固体レーザである。光源１から射出される光束は干渉計部２に供給される。干渉計部２は、光源１から供給される光束から参照光と測定光とを生成し、測定光を検査対象としての投影光学系ＰＬに供給するとともに、投影光学系ＰＬを介した測定光と参照光とを干渉させて得られる干渉光の干渉縞を検出する。
【００１１】
尚、投影光学系ＰＬは、例えばマスクに形成されたパターンを基板に転写する露光装置に設けられ、マスクのパターン像を基板上に投影するために、マスクと基板との間に配置される。この投影光学系ＰＬが露光装置に設けられる場合には、基板を露光するための露光光は、例えばＡｒＦエキシマレーザ光源から射出される光（波長１９３ｎｍ）が用いられ、投影光学系ＰＬと基板との間に純水等の液体が供給されている状態で露光転写が行われる。
【００１２】
干渉計部２は干渉縞の検出結果を主制御装置１６に出力する。主制御装置１６は干渉計部２から出力された検出結果を解析して投影光学系ＰＬにおいて生ずる波面収差を数値的に求めて、得られた数値をモニタに表示する。この干渉計部２は、ステージ３上に保持されている。ステージ３は、ＸＹ平面内において移動可能であるとともに、Ｚ方向に沿って移動可能に構成され、更に姿勢（Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸の回りの回転）を変更することができるように構成されている。ステージ３の一端には移動鏡４ａ，４ｂが取り付けられており、移動鏡４ａの鏡面に対応してレーザ干渉計５が設けられており、移動鏡４ｂに対してレーザ干渉計６が設けられている。尚、図１では図示を簡略化しているが、移動鏡４ａはＸ軸に垂直な鏡面を有する移動鏡及びＹ軸に垂直な鏡面を有する移動鏡から構成されている。
【００１３】
また、レーザ干渉計５は、Ｙ軸に沿って移動鏡４ａにレーザ光を照射する２個のＹ軸用のレーザ干渉計及びＸ軸に沿って移動鏡４ａにレーザ光を照射するＸ軸用のレーザ干渉計より構成され、Ｙ軸用の１個のレーザ干渉計及びＸ軸用の１個のレーザ干渉計によりステージ３のＸ座標及びＹ座標が計測される。また、Ｙ軸用の２個のレーザ干渉計の計測値の差により、ステージ３のＺ軸回りの回転角が計測される。
【００１４】
更に、レーザ干渉計６は、移動鏡４ｂに対してレーザ光を照射し、その反射光を検出することによって、ステージ３の表面のＺ方向の位置及び姿勢を検出する。尚、図１においてはレーザ干渉計６及び移動鏡４ｂを１つのみ図示しているが、実際にはそれぞれ３つ設けられており、ステージ３のＺ方向の位置及び傾き（Ｘ軸及びＹ軸回りの回転角）が検出されている。
【００１５】
レーザ干渉計５によって検出されたステージ３のＸ座標、Ｙ座標、及びＺ軸回りの回転角を示す情報、並びにレーザ干渉計６によって検出されたステージ３のＺ座標、Ｘ軸回りの回転角、及びＹ軸回りの回転角を示す情報は、主制御装置１６に出力される。主制御装置１６は出力されてきたこれらの情報をモニタしつつ、駆動コントローラ７へ制御信号を出力してステージ３の位置及び姿勢を制御する。
【００１６】
干渉計部２の−Ｚ方向には、干渉計部２で生成された測定光が供給される検査対象としての投影光学系ＰＬが回転支持機構８によって支持された状態で配置されている。回転支持機構８は、投影光学系ＰＬを支持するとともに、駆動装置９から出力される駆動信号に基づいて投影光学系ＰＬを光軸ＡＸの回りに回転させる。駆動装置９は主制御装置１６から出力される制御信号に応じた駆動信号９を出力する。よって、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ回りの回転角は、主制御装置１６によって制御される。
【００１７】
投影光学系ＰＬの像面側には平行平板状の補正ガラス１０及び反射部材１１が配置されている。補正ガラス１０は、投影光学系ＰＬの像面側に液体が供給されているのと光学的にほぼ等価な状態を形成するように設計されており、投影光学系ＰＬの像面側に配置されることで投影光学系ＰＬの像面側に液体を供給することなく投影光学系ＰＬの光学性能を検査するためのものである。
【００１８】
この補正ガラス１０は、干渉計部２から投影光学系ＰＬに供給される測定光（波長１９３ｎｍ）に対して高い透過率を有する合成石英又は蛍石（フッ化カルシウム：ＣａＦ２）等の硝材を用いて形成されている。補正ガラス１０が平行平板状に形成されているのは以下の２つの理由による。第１に、投影光学系ＰＬの光軸に対して補正ガラス１０が横ずれ（ＸＹ面内における位置ずれ）した状態で配置されていても、補正ガラス１０の横ずれ量によって補正ガラス１０で生ずる収差量が変化しないからである。第２に、光軸ＡＸ方向の配置位置に応じて補正ガラス１０で生ずる収差が変化しないためである。
【００１９】
検査対象の投影光学系ＰＬが液浸式の露光装置に搭載される場合には、投影光学系に対して露光対象の基板（例えばウェハ）が数ｍｍ程度の間隔で離間され、投影光学系と基板との間に液体が供給されている状態で露光転写が行われる。液体が純水である場合には、波長１９３ｎｍの光に対しては、純水の屈折率と蛍石で形成された補正ガラス１０の屈折率は同程度である。このため、補正ガラス１０の厚みは数ｍｍ程度であり、補正ガラス１０の屈折率と液体の屈折率との差を考慮して最適化されている。補正ガラス１０は、投影光学系ＰＬと反射部材１１との間であれば、配置される位置は制限されない。しかしながら、投影光学系ＰＬの像面は、測定光の光強度が高くなって補正ガラス１０の光学損傷が生ずる可能性があるため、投影光学系ＰＬの像面からずれた位置に補正ガラス１０を配置することが好ましい。
【００２０】
反射部材１１は、投影光学系ＰＬ及び補正ガラス１０を介した測定光を反射して再度補正ガラス１０を介して投影光学系ＰＬに導くためのものである。この反射部材１１の一端側には反射球面部１１ａが形成されており、この反射球面部１１ａが補正ガラス１０及び投影光学系ＰＬに対向するように配置されている。反射球面部１１ａは、例えば反射部材１１に形成された球面部にクロム（Ｃｒ）等の金属を蒸着して形成される。
【００２１】
補正ガラス１０及び反射部材１１は、ステージ１２に保持されている。尚、反射部材１１は、ステージに１２に固定されているが、補正ガラス１０はステージ１２に対して着脱自在に保持されている。ステージ１２は、前述したステージ３と同様に、ＸＹ平面内において移動可能であるとともに、Ｚ方向に沿って移動可能に構成され、更に姿勢（Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸の回りの回転）を変更することができるように構成されている。ステージ１２の一端には移動鏡１３ａ，１３ｂが取り付けられており、移動鏡１３ａの鏡面に対面してレーザ干渉計１４が設けられ、移動鏡１３ｂに対してレーザ干渉計１５が設けられている。
【００２２】
尚、図１では図示を簡略化しているが、移動鏡１３ａはＸ軸に垂直な鏡面を有する移動鏡及びＹ軸に垂直な鏡面を有する移動鏡から構成されている。また、レーザ干渉計１４は、Ｙ軸に沿って移動鏡１３ａにレーザ光を照射する２個のＹ軸用のレーザ干渉計及びＸ軸に沿って移動鏡１３ａにレーザ光を照射するＸ軸用のレーザ干渉計より構成され、Ｙ軸用の１個のレーザ干渉計及びＸ軸用の１個のレーザ干渉計によりステージ１２のＸ座標及びＹ座標が計測される。また、Ｙ軸用の２個のレーザ干渉計の計測値の差により、ステージ１２のＺ軸回りの回転角が計測される。
【００２３】
レーザ干渉計１５は、移動鏡１３ｂの表面に対してレーザ光を照射し、その反射光を検出することによって、ステージ１２の表面のＺ方向の位置及び姿勢を検出する。尚、図１においてはレーザ干渉計１５及び移動鏡１３ｂの各々を１つのみ図示しているが、実際には３つ設けられており、ステージ１２のＺ方向の位置及び傾き（Ｘ軸及びＹ軸回りの回転角）が検出されている。
【００２４】
レーザ干渉計１４によって検出されたステージ１２のＸ座標、Ｙ座標、及びＺ軸回りの回転角を示す情報、並びにレーザ干渉計１５によって検出されたステージ１２のＺ座標、Ｘ軸回りの回転角、及びＹ軸回りの回転角を示す情報は、主制御装置１６に出力される。主制御装置１６は出力されてきたこれらの情報をモニタしつつ、駆動コントローラ１７へ制御信号を出力してステージ１２の位置及び姿勢を制御する。かかる制御により、反射部材１１に形成された反射球面部１１ａの位置及び姿勢が制御される。
【００２５】
以上、本発明の一実施形態による検査装置の全体構成の概略について説明したが、次に検査装置が備える干渉計部２の構成について説明する。図２は、本発明の一実施形態による検査装置が備える干渉計部２の構成を示す図である。尚、図２においては、図１に示した部材と同一の部材には同一の符号を付している。図２に示す通り、干渉計部２は、レンズ２１、コリメートレンズ２２、折り曲げミラー２３、ビームスプリッタ２４、折り曲げミラー２５，２６、基準レンズ２７、リレーレンズ２８，２９、及びセンサ３０を含んで構成される。
【００２６】
レンズ２１は光源１から供給される光束を一度集光し、コリメートレンズ２２はレンズ２１で集光された光束を平行光束に変換する。折り曲げミラー２３は、コリメートレンズ２２を介した−Ｙ方向に進む光束を＋Ｚ方向に偏向する。ビームスプリッタ２４は、折り曲げミラー２３で偏向されて＋Ｚ方向に進む光束を透過させるとともに、折り曲げミラー２５から−Ｚ方向に進む光束を＋Ｙ方向に反射する。折り曲げミラー２５はビームスプリッタ２４を透過して＋Ｚ方向に進む光束を−Ｙ方向に偏向し、折り曲げミラー２６は折り曲げミラー２５で偏向されて−Ｙ方向に進む光束を−Ｚ方向に偏向する。
【００２７】
基準レンズ２７は＋Ｚ方向に凸となるよう配置されたメニスカスレンズであり、参照光及び測定光を生成するために設けられる。この基準レンズ２７は、投影光学系ＰＬ側の面が球面に設定された基準面２７ａを有しており、折り曲げミラー２６で偏向されて−Ｚ方向に進む光束は基準面２７ａに対して垂直に入射する。基準面２７ａを透過した光束は測定光として用いられ、基準面２７ａで反射された光束は参照光として用いられる。尚、図１に示した主制御装置１６は、基準レンズ２７の焦点が投影光学系ＰＬの物体面ＯＰに配置されるよう、レーザ干渉計６の検出結果をモニタしつつ駆動コントローラ７を介してステージ３のＺ方向の位置を制御する。
【００２８】
リレーレンズ２８，２９は、折り曲げミラー２６，２５を順に介してビームスプリッタ２４で反射された光束（参照光と測定光との干渉光）をリレーするレンズである。干渉計部２に設けられたレンズ２１、コリメートレンズ２２、基準レンズ２７、及びリレーレンズ２８，２９は投影光学系ＰＬが備える光学素子と同様に合成石英又は蛍石等の硝材を用いて形成されている。
【００２９】
センサ３０は、干渉光を検出するものであり、例えば二次元ＣＣＤ（Charge Coupled Device）等の光電変換素子を用いることができる。このように、図２に示す干渉計部２においては、フィゾー型の干渉計が構成されている。センサ３０の検出結果は図１に示した主制御装置１６に出力される。尚、図２においては、便宜上、投影光学系ＰＬに設けられる光学素子のうち、最も物体面側に配置される光学素子Ｌ１、及び最も像面側に配置される光学素子Ｌ２，Ｌ３を図示しているが、実際には十数〜数十個の光学素子が設けられている。
【００３０】
次に、以上説明した構成の検査装置を用いて検査対象としての投影光学系ＰＬの光学性能を検査する検査方法について説明する。投影光学系ＰＬの検査方法は、検査を行う上で必要となる検査精度に応じて複数の検査方法が用意されている。図１及び図２を参照して説明した通り、本実施形態においては、投影光学系ＰＬの像面に補正ガラス１０を配置した状態で投影光学系ＰＬの光学性能を検査するため、補正ガラス１０自体が有する収差と、補正ガラス１０の取り付け誤差（光軸ＡＸに対する傾斜）とが投影光学系ＰＬを検査する上での誤差となることが考えられる。
【００３１】
補正ガラス１０自体が有する収差及び補正ガラス１０の取り付け誤差による検出誤差が共に小さければ、従来と同様の方法により投影光学系ＰＬの光学性能を検査すればよい。しかしながら、これらの何れか一方による計測誤差が必要となる検査精度以上である場合には、その影響を排除する必要がある。このため、本実施形態においては複数の検査方法が用意されている。以下、各々の検査方法について順に説明する。
【００３２】
〔第１検査方法〕
図３は、第１検査方法を示すフローチャートである。投影光学系ＰＬの検査を行う際には、まず、図１に示す検査装置に検査対象の投影光学系ＰＬを組み込む作業を行う（ステップＳ１１）。投影光学系ＰＬの組み込みは、投影光学系ＰＬを検査装置が設置される位置まで搬送し、投影光学系ＰＬを回転支持機構８で回転可能に支持することで行われる。
【００３３】
投影光学系ＰＬの組み込みが完了すると、主制御装置１６は、まず投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ回りの回転角を初期角度に設定する。また、主制御装置１６はレーザ干渉計５の検出結果をモニタしつつ、干渉計部２に設けられた基準レンズ２７のＸＹ平面内における焦点位置が最初の検査位置に配置されるように、駆動コントローラ７を介してステージ３を駆動し、ＸＹ平面内においてステージ３を位置決めする。これと同時に、主制御装置１６は、レーザ干渉計１４の検出結果をモニタしつつ駆動コントローラ１７を介してステージ１２をＸＹ平面内で移動させて、ステージ３のＸＹ平面内における位置に応じた位置にステージ１２を位置決めする。これにより、反射部材１１に形成された反射球面部８ｂの最底部を通る光軸が、投影光学系ＰＬに関して基準レンズ２７の焦点の位置と光学的に共役な点を通るように反射部材１１は位置決めされる。
【００３４】
これと同時に主制御装置１６は、レーザ干渉計６，１５の検出結果をモニタしつつ、ステージ３，１２のＺ方向の位置及び姿勢を制御する。このとき、Ｚ方向における基準レンズ２７の焦点位置が投影光学系ＰＬの物体面ＯＰ内に含まれるようステージ３を制御するとともに、反射球面部１１ａの焦点が投影光学系ＰＬの像面と一致するようにステージ１２を制御する。
【００３５】
以上の処理が完了すると、主制御装置１６は光源１に対して制御信号を出力して光源１を発光させる。光源１が発光すると、光源１から−Ｙ方向に進む光束は干渉計部２に設けられたレンズ２１に導かれる。レンズ２１に導かれた光束は、コリメートレンズ２２を介して平行光に変換された後、折り曲げミラー２３に入射し、＋Ｚ方向に偏向される。この光束はビームスプリッタ２４を透過して折り曲げミラー２５で−Ｙ方向に偏向され、更に折り曲げミラー２６で−Ｚ方向に偏向された後、基準レンズ２７に入射する。
【００３６】
光束が基準レンズ２７に入射すると、基準レンズ２７の基準面２７ａに垂直に入射し、光束の一部が透過し、残りが反射される。基準面２７ａを透過した光束は、測定光として干渉計部２から射出され、投影光学系ＰＬの物体面ＯＰの位置に集光する。集光した測定光は球面波状に広がりながら投影光学系ＰＬに入射し、光学素子Ｌ１，Ｌ２等を介して光学素子Ｌ３に入射し、光学素子Ｌ３から投影光学系ＰＬの像面側に射出される。投影光学系ＰＬから射出された測定光は、補正ガラス１０を通過した後、反射部材１１の反射球面部１１ａで反射されて光路を逆方向に進み、補正ガラス１０を及び投影光学系ＰＬを再び介して干渉計部２に設けられた基準レンズ２７に入射する。
【００３７】
基準レンズ２７に入射した測定光及び基準レンズ２７の基準面２７ａで生成される参照光は、折り曲げミラー２６，２５を順に介してビームスプリッタ２４で反射され、リレーレンズ２８，２９を順に介してセンサ３０で受光される。センサ３０には投影光学系ＰＬを介した測定光と投影光学系ＰＬを介していない参照光との干渉光が入射するため、センサ３０では補正ガラス１０及び投影光学系ＰＬの光学性能（残存収差等）に応じた干渉縞が検出される。この検出結果は主制御装置１６へ出力されて主制御装置１６によって解析されて投影光学系ＰＬの波面収差が求められる。
【００３８】
次に、主制御装置１６はレーザ干渉計５の検出結果をモニタしつつ、ＸＹ平面内における基準レンズ２７の焦点の位置が次の検査位置に配置されるように、駆動コントローラ７を介してステージ３を駆動し、ＸＹ平面内においてステージ３を位置決めする。これと同時に、主制御装置１６は、レーザ干渉計１４の検出結果をモニタしつつ駆動コントローラ１７を介してステージ１２をＸＹ平面内で移動させて、改めて位置決めされたステージ３のＸＹ平面内における位置に応じた位置にステージ１２を位置決めする。ここでも、反射部材１１に形成された反射球面部８ｂの最底部を通る光軸が、投影光学系ＰＬに関して基準レンズ２７の焦点の位置と光学的に共役な点を通るように反射部材１１は位置決めされる。
【００３９】
ステージ３，１２のＸＹ平面内の位置を変えたときにも、主制御装置１６はレーザ干渉計６，１５の検出結果をモニタしつつ、ステージ３，１２のＺ方向の位置及び姿勢を制御して、Ｚ方向における基準レンズ２７の焦点位置が投影光学系ＰＬの物体面ＯＰ内に含まれ、球面反射部１１ａの焦点が投影光学系ＰＬの像面と一致するようにする。ステージ３，１２の位置決めが終了すると再度上記と同様に干渉縞を検出する。以下同様にして、ステージ３，１２のＸＹ平面内における位置を変えつつ複数箇所で測定を行う。このようにして、像高が異なる複数箇所における投影光学系ＰＬの波面収差を測定する。
【００４０】
予め設定された複数の検査位置における検査が終了すると、主制御装置１６は駆動装置９に対して投影光学系ＰＬを光軸ＡＸ回りに所定角度（例えば、４５°又は２２．５°）だけ回転させる制御信号を出力する。この制御信号が入力されると、駆動装置９は回転支持機構８を駆動して投影光学系ＰＬを光軸ＡＸの回りで制御信号で指示された角度だけ回転させる。投影光学系ＰＬの回転が完了すると、主制御装置１６はステージ３，１２の位置及び姿勢を制御するとともに光源１を発光させて、上述した手順と同様の手順を行って複数の検査位置における投影光学系ＰＬの波面収差を測定する。以下同様に、光軸ＡＸの回りの投影光学系ＰＬの回転角を変えながら投影光学系ＰＬが１回転（３６０°回転）するまで、複数の検査位置における投影光学系ＰＬの波面収差を測定する（ステップＳ１２）。
【００４１】
投影光学系ＰＬの波面収差の測定が完了すると、主制御装置１６はステップＳ１２で投影光学系ＰＬを回転させながら得られた測定結果を平均化して平均値を算出する。例えば、投影光学系ＰＬを４５°づつ回転させながら測定を行った場合には、８つの測定結果が得られるが、これら８つの測定結果を平均化して平均値を算出する。また、この平均値を用いて収差の非回転対称成分を算出する。具体的には、投影光学系ＰＬを回転させながら得られた各々の測定結果から、測定結果の平均値を減ずることにより求める。（ステップＳ１３）。
【００４２】
ここで、収差の非回転対称性分とはコマ収差を含む収差である。ザイデルの５収差の１つであるコマ収差は波面収差として表す場合に非回転対称成分の低次成分として表されるが、ここにいう非回転対称成分とは、この低次成分以外に高次成分も含むものである。いま仮に、投影光学系ＰＬにコマ収差に代表される非回転対称成分が残存しており、且つ補正ガラス１０が光軸ＡＸに対して傾斜した配置されて姿勢誤差が生じた状態にあり、この姿勢誤差に起因してコマ収差が生じている場合を考える。コマ収差に代表される非回転対称成分は、光軸ＡＸの回りで平均化すると値が零になるという性質を有する。このため、投影光学系ＰＬを回転させつつ測定した測定結果を平均化することで非回転対称成分を零にすることができる。
【００４３】
しかしながら、波面収差を測定するときに、補正ガラス１０は光軸ＡＸの回りに回転させていないため、補正ガラス１０の姿勢誤差に起因するコマ収差は測定結果に反映され、補正ガラス１０を含めた投影光学系ＰＬの波面収差として測定される。従って、測定結果を平均化したときに、コマ収差に代表される非回転対称成分があれば、この非回転対称成分は補正ガラス１０の姿勢誤差が原因で生じているものとなる。よって、投影光学系ＰＬを回転させつつ測定した測定結果を平均化した平均値から非回転対称成分を除けば、補正ガラス１０の影響を排除した投影光学系ＰＬのみの波面収差を求めることができる。主制御装置１６は、以上の原理に基づいて、ステップＳ１３で算出した平均値から非回転対称成分を除いて投影光学系ＰＬの波面収差を算出する（ステップＳ１４）。算出された波面収差は、主制御装置１６が備える不図示のモニタに表示される。
【００４４】
以上説明した第１検査方法においては、投影光学系ＰＬを回転させながら得られた測定結果の平均値から非回転対称成分を除くことで投影光学系ＰＬの波面収差を求めていた。この方法では投影光学系ＰＬに残存する収差の非回転対称成分は求められないが、検査方法にさほど時間を要せず、また投影光学系ＰＬを検査装置に組み込んで検査を開始すれば自動的に投影光学系ＰＬの波面収差が求められる。このため、第１検査方法は、例えば高い検査精度が要求されない組み立て直後の投影光学系ＰＬの光学性能を測定するときに用いると良い。
【００４５】
〔第２検査方法〕
図４は、第２検査方法を示すフローチャートである。本検査方法においても、投影光学系ＰＬの検査を行う際には、検査対象の投影光学系ＰＬを検査装置が設置される位置まで搬送し、投影光学系ＰＬを回転支持機構８で回転可能に支持して検査装置に投影光学系ＰＬを組み込む作業が行われる（ステップＳ２１）。
【００４６】
投影光学系ＰＬの組み込みが完了すると、第１検査方法と同様に、投影光学系ＰＬを光軸ＡＸの回りに所定角度（例えば、４５°又は２２．５°）だけ回転させながら投影光学系ＰＬが１回転（３６０°回転）するまで、投影光学系ＰＬの波面収差を測定する（ステップＳ２２）。波面収差の測定が完了すると、主制御装置１６はこれらの測定結果を平均化して平均値を算出するとともに、各測定結果から測定結果の平均値を減算して収差の非回転対称成分を算出する（ステップＳ２３）。
【００４７】
次に、主制御装置１４は非回転対象成分の算出結果をモニタに表示する。ここで算出される非回転対称成分は、前述した通り補正ガラス１０の姿勢誤差が原因で生じているものである。このため、作業員はモニタに表示された非回転対称成分に基づいて補正ガラス１０の姿勢調整を行う（ステップＳ２４）。尚、ここでは作業員が補正ガラス１０の姿勢調整を行うとして説明しているが、補正ガラス１０の姿勢を調整する調整機構をステージ１２に設けて、主制御装置１６が算出した非回転対称成分に基づいて調整機構を制御して補正ガラス１０の姿勢を調整するようにしても良い。
【００４８】
補正ガラス１０の姿勢調整が完了すると、ステージ制御装置１６はレーザ干渉計５，６の検出結果をモニタしつつ、ステージ３の位置及び姿勢を制御して基準レンズ２７の焦点位置を最初の検査位置に配置する。これとともに、レーザ干渉計１４，１５の検出結果をモニタしつつ、ステージ１２の位置及び姿勢を制御して反射球面部１１ａの焦点を投影光学系ＰＬに関して基準レンズ２７の焦点位置と光学的に共役な位置に配置する。そして、主制御装置１６は光源１を発光させて投影光学系ＰＬの波面収差を測定する。かかる動作を、予め設定された複数の検査位置において行い、補正ガラス１０の姿勢が調整された状態における投影光学系ＰＬの波面収差を測定する（ステップＳ２５）。この測定により得られた波面収差は、主制御装置１６が備える不図示のモニタに表示される。
【００４９】
以上説明した第２検査方法においては、投影光学系ＰＬを回転させながら得られた測定結果を用いて算出された非回転対称成分に基づいて補正ガラス１０の姿勢を調整し、補正ガラス１０の姿勢が調整された状態において投影光学系ＰＬの波面収差を測定している。この方法では、補正ガラス１０の姿勢誤差に起因するコマ収差等が殆ど生じない状態で測定が行われるため、高い精度で投影光学系ＰＬの波面収差を測定することができ、また投影光学系ＰＬで生ずるコマ収差等の非回転対称成分を測定することもできる。このため、第２検査方法は、例えば第１検査方法よりも計測精度が求められるときに用いると良い。
【００５０】
〔第３検査方法〕
図５は、第３検査方法を示すフローチャートである。本検査方法においては、まず補正ガラス１０の収差測定が行われる（ステップＳ３１）。補正ガラス１０の収差補正は、補正ガラス１０をステージ１２から取り外し、不図示の測定装置を用いて行う。この測定装置はフィゾー干渉計等の干渉計を含んで構成され、測定光として平行光束を補正ガラス１０に照射したときの透過光を平坦度の高い基準反射面で反射させ、再度補正ガラス１０を介した測定光を参照光と干渉させて補正ガラス１０の波面収差を測定する。
【００５１】
補正ガラス１０の波面収差の測定は平行光光束を用いて行っているため、厳密には測定によって得られた補正ガラス１０単体の波面収差と、補正ガラス１０が投影光学系ＰＬの像面に配置されたときに補正ガラス１０で生ずる収差とは僅かながら異なる。しかしながら、補正ガラス１０の厚みは数ｍｍ程度であり、両者はほぼ等しいため上記の測定装置による波面収差の測定で足りる。補正ガラス１０の波面収差の測定結果は図１に示した主制御装置１６に入力される。この入力は、作業員がキーボード等の入力装置を操作して主制御装置１６に入力してもよく、また上記の測定装置と主制御装置１６とを接続して測定装置の測定結果が自動的に主制御装置１６に入力されるようにしても良い。
【００５２】
補正ガラス１０の収差測定が終了すると、測定を終えた補正ガラス１０をステージ１２内に組み込み込んで大まかな姿勢の調整を行うとともに、検査対象の投影光学系ＰＬを検査装置が設置される位置まで搬送し、投影光学系ＰＬを回転支持機構８で回転可能に支持して検査装置に投影光学系ＰＬを組み込む作業が行われる（ステップＳ３２）。投影光学系ＰＬの組み込み等が完了すると、前述した第１検査方法と同様に、投影光学系ＰＬを光軸ＡＸの回りに所定角度（例えば、４５°又は２２．５°）だけ回転させながら投影光学系ＰＬが１回転（３６０°回転）するまで、投影光学系ＰＬの波面収差を測定する（ステップＳ３３）。
【００５３】
波面収差の測定が完了すると、主制御装置１６はこれらの測定結果を平均化して平均値を算出するとともに、各測定結果から測定結果の平均値を減算して収差の非回転対称成分を算出する（ステップＳ３４）。帆回転対称成分を算出すると、主制御装置１６はその算出結果をモニタに表示する。作業員はモニタに表示された非回転対称成分に基づいて補正ガラス１０の姿勢調整を行う（ステップＳ３５）。尚、第２実施形態と同様に、補正ガラス１０の姿勢を調整する調整機構をステージ１２に設けて、主制御装置１６が算出した非回転対称成分に基づいて調整機構を制御して補正ガラス１０の姿勢を調整するようにしても良い。
【００５４】
補正ガラス１０の姿勢調整が完了すると、第２実施形態と同様に、予め設定された複数の検査位置において、補正ガラス１０の姿勢が調整された状態での投影光学系ＰＬの波面収差を測定する（ステップＳ３６）。波面収差の測定が完了すると、主制御装置１６はこの測定結果からステップＳ３１で測定された補正ガラス１０の波面収差の測定結果を除いて投影光学系ＰＬの波面収差を算出する（ステップＳ３７）。この処理によって得られた波面収差は、主制御装置１６が備える不図示のモニタに表示される。
【００５５】
以上説明した第３検査方法においては、補正ガラス１０の姿勢誤差に起因するコマ収差等が殆ど生じない状態で投影光学系ＰＬの波面収差が測定され、更に得られた測定結果から補正ガラス１０自体で生ずる波面収差の測定結果を除いているため、極めて高い精度で投影光学系ＰＬの波面収差を測定することができる。このため、第３検査方法は、例えば前述した２つの方法よりもより高い計測精度が要求されるときに用いると良い。
【００５６】
尚、上記のステップＳ３１においては、干渉計を含む測定装置を用いて補正ガラス１０の波面収差を測定していたが、補正ガラス１０の波面収差を求める方法はこの方法に制限されない。例えば、補正ガラス１０の厚みの分布及び屈折率分布を測定し、これらの測定結果を用いて光学的なシミュレーションによって補正ガラス１０の波面収差を算出しても良い。
【００５７】
また、第３検査方法においては、ステップＳ３３において投影光学系ＰＬを光軸ＡＸの回りに回転させながら投影光学系ＰＬの波面収差を測定し、ステップＳ３４において非回転対称成分を算出し、ステップＳ３５において非回転対称成分に基づいて補正ガラス１０の姿勢の調整している。しかしながら、ステップＳ３２において補正ガラス１０を組み込んだ際の姿勢誤差が無視できる程度であれば、ステップＳ３３〜ステップＳ３５を省略してステップＳ３２に続いてステップＳ３６を行うようにしても良い。即ち、補正ガラス１０の収差測定、非回転成分の算出、補正ガラス１０の姿勢の調整は、要求される計測精度に応じて、何れも行わないようにしても良いし、適宜組み合わせて実行するようにしても良い。また、上述した実施形態では、補正ガラス１０はステージ１２に保持されているが、ステージ１２とは別の保持部材に保持するようにしても良い。
【００５８】
また、上述の第１〜第３の検査方法においては、投影光学系ＰＬを回転させながら、それぞれの回転角において、複数の検査位置で投影光学系ＰＬの波面収差を測定しているが、本実施形態においては補正ガラス１０が平行平板なので、それぞれの回転角において光軸ＡＸ近傍の１点で投影光学系ＰＬの波面収差を計測し、その平均値からコマ収差に代表される非回転対称成分を求めるようにしてもよい。この場合、複数の検査位置で求められる波面収差の各々を、光軸ＡＸ近傍の１点で計測された非回転対称成分で補正することによって、投影光学系ＰＬのみの波面収差を十分な精度で計測することが可能である。
【００５９】
以上説明した本発明の一実施形態による投影光学系の検査方法及び露光装置においては、ステージ３，１２を移動させつつ複数の検出点において投影光学系ＰＬの波面収差を測定しているが、波面収差の測定は投影光学系ＰＬの像面に液体が供給されていない状態で行われる。このため、液体の抵抗なしにステージ１２の移動を容易に行うことができ、測定に要する時間を短縮することができる。
【００６０】
尚、投影光学系ＰＬの製造工程の概略は以下の通りである。つまり、まず投影光学系ＰＬを通過する光の波長、必要となる解像度等から投影光学系ＰＬを設計する。次に、設計された投影光学系ＰＬに設けられる光学素子（例えば、レンズ、回折格子）の各々を製造し、投影光学系ＰＬの鏡筒に組み込んで投影光学系ＰＬを組み立てる。投影光学系ＰＬの組み立てが完了すると、前述した検査装置及び検査方法を用いて、組み立てられた投影光学系ＰＬが必要となる光学性能を有しているか否かを検査する（検査工程）。必要となる光学性能が得られない場合には、投影光学系ＰＬ内に設けられた光学素子の位置及び姿勢の微調整を行い（調整工程）、再度検査を行う。この微調整及び検査を繰り返して投影光学系ＰＬの光学性能が所望の光学性能になるよう調整する。
【００６１】
かかる製造工程を経て製造された投影光学系ＰＬは、例えば露光光を射出する露光光源、露光光源からの露光光をマスクに導く照明光学系、マスクを保持するマスクステージ、基板を保持する基板ステージ、投影光学系と基板との間の空間に液体を供給するとともに、空間に供給された液体を回収する液体供給回収装置等の各要素とともに電気的、機械的、又は光学的に連結して組み上げられる。そして、総合調整（電気調整、動作確認等）をすることにより、例えば国際公開第ＷＯ９９／４９５０４号パンフレットに開示された液浸式の露光装置が製造される。尚、露光装置の製造は、温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００６２】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に制限されず、本発明の範囲内で自由に変更が可能である。例えば、上記実施形態では、干渉計部２がフィゾー型の干渉計を備える場合を例に挙げて説明したが、トワイマン・グリーン型、ＰＤＩ型、シアリング型干渉計等の他の干渉計を備えることもできる。また、投影光学系ＰＬの光学性能を検査する方式としては、上述した実施形態のように測定光を投影光学系ＰＬ内を往復させる方法に限らず、投影光学系を測定光が１回通過する方法を用いても良い。また、上記実施形態では、投影光学系ＰＬの光学性能の検査として投影光学系の波面収差を測定する場合を例に挙げて説明したが、波面収差以外の光学性能（例えば、透過率等）を検査するときにも本発明を適用することができる。
【００６３】
また、上述のフィゾー型の干渉計を用いた装置においては、参照光と測定光との光路差が大きいため、コヒーレント長がその光路長よりも長い固体レーザを用いているが、上述のトワイマン・グリーン型、ＰＤＩ型、シアリング型等の他の干渉計を用いる場合には、参照光と測定光との光路が短いため露光装置と同じエキシマレーザ光源を用いることもできる。
【００６４】
また、上記実施形態においては、光源１がＡｒＦエキシマレーザ光源である場合を例に挙げて説明したが、ＡｒＦエキシマレーザ光源以外に、例えばｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）を射出する超高圧水銀ランプ、又はＫｒＦエキシマレーザ（波長２４８ｎｍ）、Ｆ２レーザ（波長１５７ｎｍ）、Ｋｒ２レーザ（波長１４６ｎｍ）、ＹＡＧレーザの高周波発生装置、若しくは半導体レーザの高周波発生装置を用いることができる。
【００６５】
更に、光源としてＤＦＢ半導体レーザ又はファイバーレーザから発振される赤外域、又は可視域の単一波長レーザ光を、例えばエルビウム（又はエルビウムとイットリビウムの両方）がドープされたファイバーアンプで増幅し、非線形光学結晶を用いて紫外光に波長変換した高調波を用いても良い。例えば、単一波長レーザの発振波長を１．５１〜１．５９μｍの範囲内とすると、発生波長が１８９〜１９９ｎｍの範囲内である８倍高調波、又は発生波長が１５１〜１５９ｎｍの範囲内である１０倍高調波が出力される。
【００６６】
特に、発振波長を１．５４４〜１．５５３μｍの範囲内とすると、発生波長が１９３〜１９４ｎｍの範囲内の８倍高調波、即ちＡｒＦエキシマレーザ光とほぼ同一波長となる紫外光が得られ、発振波長を１．５７〜１．５８μｍの範囲内とすると、発生波長が１５７〜１５８ｎｍの範囲内の１０倍高調波、即ちＦ２レ−ザ光とほぼ同一波長となる紫外光が得られる。また、発振波長を１．０３〜１．１２μｍの範囲内とすると、発生波長が１４７〜１６０ｎｍの範囲内である７倍高調波が出力され、特に発振波長を１．０９９〜１．１０６μｍの範囲内とすると、発生波長が１５７〜１５８μｍの範囲内の７倍高調波、即ちＦ２レーザ光とほぼ同一波長となる紫外光が得られる。この場合、単一波長発振レーザとしては例えばイットリビウム・ドープ・ファイバーレーザを用いることができる。
【００６７】
また、上記実施形態では投影光学系ＰＬに設けられる光学素子Ｌ１〜Ｌ３等、補正ガラス１０、並びに干渉計部２に設けられるレンズ２１、コリメートレンズ２２、基準レンズ２７、及びリレーレンズ２８，２９等の硝材として合成石英又は蛍石（フッ化カルシウム：ＣａＦ２）を用いる場合を例に挙げて説明した。しかしながら、これらは、光源１から射出される光束の波長に応じて蛍石（フッ化カルシウム：ＣａＦ２）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、フッ化ストロンチウム（ＳｒＦ２）、ＬｉＣＡＦ（コルキライト：ＬｉＣａＡｌＦ６）、ＬｉＳＡＦ（ＬｉＳｒＡｌＦ６）、ＬｉＭｇＡｌＦ６、ＬｉＢｅＡｌＦ６、ＫＭｇＦ３、ＫＣａＦ３、ＫＳｒＦ３等のフッ化物結晶又はこれらの混晶、又フッ素や水素等の物質をドープした石英硝子等の真空紫外光を透過する光学材料から選択される。尚、所定の物質をドープした石英硝子は、露光光の波長が１５０ｎｍ程度より短くなると透過率が低下するため、波長が１５０ｎｍ程度以下の真空紫外光を露光光ＩＬとして用いる場合には、光学素子の光学材料としては、蛍石（フッ化カルシウム）、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム、フッ化バリウム、フッ化ストロンチウム、ＬｉＣＡＦ（コルキライト）、ＬｉＳＡＦ（ＬｉＳｒＡｌＦ６）、ＬｉＭｇＡｌＦ６、ＬｉＢｅＡｌＦ６、ＫＭｇＦ３、ＫＣａＦ３、ＫＳｒＦ３等のフッ化物結晶又はこれらの混晶が使用される。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】本発明の一実施形態による検査装置の全体構成の概略を示す図である。
【図２】本発明の一実施形態による検査装置が備える干渉計部２の構成を示す図である。
【図３】第１検査方法を示すフローチャートである。
【図４】第２検査方法を示すフローチャートである。
【図５】第３検査方法を示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００６９】
１０      補正ガラス（光学部材）
１１      反射部材
１１ａ    反射球面部
３０      光源検出器
ＡＸ      光軸
ＰＬ      投影光学系
【図１】
2005109117.tif 000003
【図２】
2005109117.tif 000004
【図３】
2005109117.tif 000005
【図４】
2005109117.tif 000006
【図５】
2005109117.tif 000007