(57)【要約】【課題】  簡易な方法でありながら、極めて短時間にかつ確実にマスター担体の表面に付着した異物を取り除くことが可能な磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法を提供する。【解決手段】  マスター担体の基体の磁気転写面とされる表面及び裏面に保護皮膜剤を塗布する塗布ステップ（Ｓ２１）と、塗布した保護皮膜剤を乾燥させる乾燥ステップ（Ｓ２２）と、乾燥後に形成された塗布皮膜を磁気転写面から剥離する剥離ステップ（Ｓ２３）とをこの順で少なくとも１回以上実施して磁気転写面に付着した異物を除去し、その後、塗布皮膜の磁気転写面から剥離されずに残留した皮膜片を除去する残留物除去ステップ（Ｓ２６、Ｓ２７、又はＳ２８）を実施する。【選択図】      図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録媒体へ転写する情報信号に対応したパターン上に磁性層が形成されてなる磁気転写面を備えた磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法であって、
前記マスター担体の磁気転写面に保護皮膜剤を塗布する塗布ステップと、
該塗布した保護皮膜剤を乾燥させる乾燥ステップと、
乾燥後に形成された塗布皮膜を前記磁気転写面から剥離する剥離ステップとをこの順で少なくとも１回以上実施して該磁気転写面に付着した異物を除去し、
その後、前記塗布皮膜の前記磁気転写面から剥離されずに残留した皮膜片を除去する残留物除去ステップを実施することを特徴とする磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法。
【請求項２】
磁気記録媒体へ転写する情報信号に対応したパターン上に磁性層が形成されてなる磁気転写面を備えた磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法であって、
前記マスター担体の磁気転写面に粘着シートを貼り付ける貼り付けステップと、該貼り付けた粘着シートを前記磁気転写面から剥がし取る剥離ステップとを少なくとも１回以上実施して該磁気転写面に付着した異物を除去し、
その後、前記粘着シートの前記磁気転写面から剥離されずに残留した粘着剤を除去する残留物除去ステップを実施することを特徴とする磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法。
【請求項３】
前記磁気転写面に付着した異物を、該磁気転写面へ前記磁性層を成膜する前に除去することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法。
【請求項４】
前記磁気転写面に付着した異物を、該磁気転写面へ前記磁性層を成膜した後に除去することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法。
【請求項５】
前記残留物除去ステップが、有機溶剤を用いた洗浄処理により残留物を除去するステップであることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項記載の磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法。
【請求項６】
前記残留物除去ステップが、ドライエッチング処理により残留物を除去するステップであることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項記載の磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体へ転写する情報信号に対応したパターン上に磁性層が形成されてなる磁気転写面を備えた磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、図１０に示すように、ハードディスク１には、複数のサーボ信号が径方向に書き込まれたサーボゾーン２を有しており、軸３を中心として回動するポジショナ４の先端に設けられた記録ヘッド５の位置調整が指示される。
近年、ハードディスクの記録密度が高密度化され、これに伴い、サーボ信号も細かくなり、このため、磁気転写により書き込み時間の短縮化を図ることが行われつつある。この磁気転写の原理は、ハードディスクに限らず、フロッピーディスクにも応用可能である。
【０００３】
磁気転写は、少なくとも表層に磁性層を有するサーボ信号等のプリフォーマット情報に対応した凹凸形状の転写パターンを有するマスター担体（パターンドマスター）を、磁気記録部を有する磁気記録媒体であるスレーブ媒体と密着或いは僅かな隙間で対峙させた状態で、転写用磁界を印加してマスター担体に担持した情報に対応する磁気パターンをスレーブ媒体に転写記録するものである。
【０００４】
この磁気転写を行う際に用いるマスター担体は、上下の刃によって基体を円板状に打ち抜き、切断箇所に生じたバリを研磨して取り除き、その後、表面に磁性層を形成することにより得られる（例えば、特許文献１〜３参照）。
ところで、上記マスター担体では、研磨時に生じた研磨粉、空気中の塵などのコンタミネーション、その他の異物が付着していると、磁性層を形成する際あるいはスレーブ媒体へ密着させて磁気転写を行う際に不具合が生じるため、これら磁性層の形成あるいは磁気転写前に表面の異物を完全に除去しておく必要がある。
このため、従来では、磁性層の形成及び磁気転写前に、純水にマスター担体を投入し、超音波を印加することによる超音波洗浄等の洗浄処理を行っている。
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−２７３０７０号公報
【特許文献２】特開平１１−２９６８４９号公報
【特許文献３】特開２００１−１２６２４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記超音波洗浄は、作業が繁雑である上、純水の管理に手間がかかり、しかも洗浄能力が十分ではなかった。
このため、より簡易な方法により、短時間でマスター担体の表面に付着した異物を除去することができる除去方法が望まれているのが現状であった。
【０００７】
この発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、簡易な方法でありながら、極めて短時間にかつ確実にマスター担体の表面に付着した異物を取り除くことが可能な磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法は、磁気記録媒体へ転写する情報信号に対応したパターン上に磁性層が形成されてなる磁気転写面を備えた磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法であって、前記マスター担体の磁気転写面に保護皮膜剤を塗布する塗布ステップと、該塗布した保護皮膜剤を乾燥させる乾燥ステップと、乾燥後に形成された塗布皮膜を前記磁気転写面から剥離する剥離ステップとをこの順で少なくとも１回以上実施して該磁気転写面に付着した異物を除去し、その後、前記塗布皮膜の前記磁気転写面から剥離されずに残留した皮膜片を除去する残留物除去ステップを実施することを特徴とする。
【０００９】
この磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法によれば、単に、マスター担体の表面の磁気転写面に、塗布して乾燥させた保護皮膜剤を剥離し、その後、保護皮膜剤の残留物を除去することにより、煩雑な作業を行うことなく、短時間で異物を略完全に取り除くことができる。
【００１０】
請求項２記載の磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法は、磁気記録媒体へ転写する情報信号に対応したパターン上に磁性層が形成されてなる磁気転写面を備えた磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法であって、前記マスター担体の磁気転写面に粘着シートを貼り付ける貼り付けステップと、該貼り付けた粘着シートを前記磁気転写面から剥がし取る剥離ステップとを少なくとも１回以上実施して該磁気転写面に付着した異物を除去し、その後、前記粘着シートの前記磁気転写面から剥離されずに残留した粘着剤を除去する残留物除去ステップを実施することを特徴とする。
【００１１】
この磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法によれば、単に、マスター担体の表面の磁気転写面に貼り付けた粘着シートを剥離し、その後、粘着シートの残留物を除去することにより、煩雑な作業を行うことなく、また乾燥処理がないために一層短時間で異物を略完全に取り除くことができる。
【００１２】
請求項３記載の磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法は、前記磁気転写面に付着した異物を、該磁気転写面へ前記磁性層を成膜する前に除去することを特徴とする。
この磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法によれば、磁性層を成膜する前に、磁気転写面から略完全に異物を取り除くので、異物による信号抜け等の不具合を生じさせることなく、高品質なマスター担体を得ることができる。
【００１３】
請求項４記載の磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法は、前記磁気転写面に付着した異物を、該磁気転写面へ前記磁性層を成膜した後に除去することを特徴とする。
この磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法によれば、磁性層を成膜した後に、磁気転写面から略完全異物を取り除くので、異物による磁気記録媒体への転写不良を生じることなく円滑に磁気記録媒体への磁気転写を行うことができる。
【００１４】
請求項５記載の磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法は、前記残留物除去ステップが、有機溶剤を用いた洗浄処理により残留物を除去するステップであることを特徴とする。
この磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法によれば、磁気転写面に付着した残留物を有機溶剤を用いて確実にかつ簡単に取り除くことができる。
【００１５】
請求項６記載の磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法は、ドライエッチング処理により残留物を除去するステップであることを特徴とする。
この磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法によれば、磁気転写面に付着した残留物をドライエッチングによって容易に取り除くことができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法によれば、単に、マスター担体の表面の磁気転写面に、塗布して乾燥させた保護皮膜剤を剥離し、又は、単に、マスター担体の磁気転写面に貼り付けた粘着シートを剥離し、その後、保護皮膜剤又は粘着シートの残留物を除去することにより、煩雑な作業を行うことなく、短時間で異物を略完全に取り除くことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明に係る磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法の最適な実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
まず、磁気転写について説明する。
図１は磁気転写について説明するスレーブ媒体及びマスター担体の斜視図、図２は磁気転写の原理を説明する断面図である。
マスター担体１００は、基体１１の表層に、サーボ信号等のフォーマット信号の転写パターンが凹凸形状に形成された磁性層１３を有している。そして、このマスター担体１００を、基体１５の表裏に磁気記録部１７を有するスレーブ媒体１９の表裏から密着させた状態で、転写用磁界を印加してマスター担体１００に担持した情報に対応する磁気パターンを磁気記録媒体であるスレーブ媒体１９に転写記録することにより行う。
【００１８】
具体的には、図２（ａ）に示すように、予め一方向へ向かう初期磁化Ｈｉｎが磁気記録部１７に付与されたスレーブ媒体１９に、図２（ｂ）に示すように、マスター担体１００を密着させて転写用磁界Ｈｄｕを印加する。
このようにすると、この転写用磁界Ｈｄｕは、スレーブ媒体１９が密着した転写パターン２１の凸部２３の磁性層１３部分に吸い込まれ、この部分におけるスレーブ媒体１９の初期磁化Ｈｉｎは反転せず、その他の部分の初期磁化Ｈｄｕが反転する結果、図２（ｃ）に示すように、スレーブ媒体１９には、マスター担体１００の転写パターン２１に応じた磁化パターンが転写記録される。
【００１９】
次に、マスター担体１００の製造工程を説明する。
図３にマスター担体の製造工程を説明するフローチャート、図４に各種工程におけるマスター担体の断面図を示した。
まず、ガラス基板２５（図４（ａ）参照）の表面に、下塗りとしての密着用液を塗布し（ステップ１、以降はＳ１と略記する）、さらに、レジスト液を塗布して（Ｓ２）、ベーキングを行う。これにより、ガラス基板２５上にレジスト層２７が形成される（図４（ｂ）参照）。
【００２０】
次いで、レジスト層２７に転写パターン２１の凹凸形状に対応するパターンを露光して（Ｓ３）ベーキングを行い、現像処理を行い（Ｓ４）、レジスト層２７にパターンを形成する（図４（ｃ）参照）。
次に、ニッケル導電膜をスパッタし（Ｓ８）、さらに、その上からニッケル電鋳（Ｓ６）により、マスター担体１００の基体１１を形成する（図４（ｄ）参照）。
【００２１】
基体１１を形成したら、基体１１からガラス基板２５を剥離し（Ｓ７）、基体１１を裏返し、表面に保護材を塗布し（Ｓ５）、基体１１の表面を保護剤２９からなる膜によって覆う（図４（ｅ）参照）。
裏返した基体１１を元に戻し（図４（ｆ）参照）、基体１１の裏面を研磨して（Ｓ９）、基体１１の裏面にも保護材を塗布して（Ｓ１０）基体１１の裏面を保護剤２９からなる膜によって覆う（図４（ｇ）参照）。
次に、基体１１を、打ち抜き加工により円板状に打ち抜き（Ｓ１１）、基体１１の表裏に塗布した保護剤２９を剥離して（Ｓ１２）、外縁部や内縁部に発生したバリを研磨して取り除く。
【００２２】
上記工程により、転写パターン２１に対応する凹凸形状が表面に形成されたマスター担体１００となる基体１１が完成する（図４（ｈ）参照）。
その後、この基体１１の表面に磁性層１３を成膜し（Ｓ１４）、マスター担体１００を完成させる（図４（ｉ）参照）。このマスター担体１００によってスレーブ媒体１９への磁気転写が実施可能となる。
ここで、本発明の表面異物除去方法では、基体１１へ成膜して磁性層１３を形成する形成工程（Ｓ１４）の前に、表面異物除去作業を行う（Ｓ１３）。
また、基体１１に磁性層１３を形成し（Ｓ１４）、マスター担体１００とした後、マスター担体１００によってスレーブ媒体１９へ磁気転写を行う前にも、表面異物除去作業を行う（Ｓ１５）。なお、Ｓ１３とＳ１５の表面異物除去作業は、いずれか一方のみを行うものであってもよい。
【００２３】
次に、この表面異物除去作業について、基体１１への磁性層１３の形成工程（Ｓ１４）の前に行う場合を例にとって説明する。
図５に表面異物除去作業を説明するフローチャート図、図６に表面異物除去工程におけるマスター担体の断面図を示した。
【００２４】
（１）塗布ステップ
図６（ｊ）に示すように、基体１１の表裏面に付着した研磨粉、空気中の塵などのコンタミネーション、その他の異物を取り除くために、まず、基体１１の表裏面に、保護皮膜剤３１（例えば、トライレーナーインターナショナル社製、シリテクト−２）を塗布する（Ｓ２１）。
ここで、この保護皮膜剤３１は、トルエン、メチルイソブチルケトン、ビニールレジンを溶剤に溶かした溶液である。
【００２５】
（２）乾燥ステップ
基体１１の表裏面に塗布した保護皮膜剤３１を乾燥させる（Ｓ２２）。保護皮膜剤３１は、乾燥することにより固化し、基体１１の表裏面に膜となって付着した状態となる。
【００２６】
（３）剥離ステップ
図６（ｋ）に示すように、乾燥により固化して基体１１の表裏面に付着した保護皮膜剤３１からなる塗布膜を基体１１の表裏面から剥離する（Ｓ２３）。
このようにすると、基体１１の表面に付着していた異物が、剥離される保護皮膜剤３１の粘着力により、基体１１の表面から取り去られる。
なお、上記（１）〜（３）の工程は、基体１１の表裏面から異物が完全に取り除かれるまで繰り返し行われる（Ｓ２４）。
【００２７】
ここで、基体１１の表裏面から異物が除去されたとしても、異物を除去するために基体１１の表裏面に塗布した保護皮膜剤３１の皮膜片が僅かに残留している場合も考えられる。
したがって、このように、異物を除去した基体１１の表裏面における有無を判断し（Ｓ２５）、残留している場合には、次の工程を行う。
【００２８】
（４）残留物除去ステップ
残留物除去ステップには、有機溶剤を用いた洗浄処理及びドライエッチング処理の２種類があり、適宜選択して行う。
そして、有機溶剤を用いた洗浄処理は、残留物が僅かに付着している基体１１を有機溶剤中に浸漬させ（Ｓ２６）、その後、基体１１を有機溶剤から取り出して乾燥させる（Ｓ２７）。
【００２９】
また、ドライエッチング処理は、残留物が僅かに付着している基体１１をエッチング装置内に入れ、このエッチング装置によってドライエッチングを行う（Ｓ２８）。ドライエッチングとしては、装置内に導入したガスに高周波電力を印加してプラズマ状態とし、そこで生じた＋イオンを加速して、基体１１に衝突させ、エッチング反応を促進させるものがある。
【００３０】
以上の表面異物除去作業を行うことにより、マスター担体１００となる基体１１の表裏面から完全に異物が取り除かれる。
なお、磁気転写前に表面異物除去作業を行う場合も、上記と同様の工程を行うことにより、マスター担体１００の表裏面から完全に異物が取り除かれる。
【００３１】
そして、上記実施形態にかかる磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法によれば、単に、マスター担体１００の表面の磁気転写面を含む表裏面に、塗布して乾燥させた保護皮膜剤３１を剥離し、その後、保護皮膜剤３１の残留物を、有機溶剤を用いた洗浄処理によりあるいはドライエッチング処理により除去することにより、煩雑な作業を行うことなく、短時間で異物を略完全に取り除くことができる。
特に、磁性層１３を成膜する前に異物を除去することにより、異物による不具合なく高品質なマスター担体１００を得ることができる。また、磁性層１３を成膜した後に異物を除去することにより、異物による不具合なく極めて円滑にスレーブ媒体１９への磁気転写を行うことができる。
【００３２】
次に、他の表面異物除去作業について、基体１１への磁性層１３の形成工程（Ｓ１４）の前に行う場合を例にとって説明する。
図７は、表面異物除去作業を説明するフローチャート図、図８は、表面異物除去作業に用いる粘着シートを説明する概略斜視図、図９は、表面異物除去工程におけるマスター担体の断面図である。
【００３３】
（１）貼り付けステップ
図９（ｌ）に示すように、基体１１の表裏面に付着した研磨粉、空気中の塵などのコンタミネーション、その他の異物を取り除くために、まず、基体１１の表裏面に、粘着シート（例えば、日東電工製、エレップホルダー）４１を貼り付ける（Ｓ３１）。
ここで、この粘着シート４１は、図８に示すように、基材フィルム４３の表面に粘着剤層４５を有するもので、粘着剤層４５が、ポリエチレンテレフタレートから形成された剥離フィルム４７によって保護された状態でロール状に巻回されている。
つまり、所定の寸法に切断した粘着シート４１の剥離フィルム４７を剥がして粘着剤層４５を露出させ、この粘着剤層４５を、基体１１の表裏面に押し付けることにより、粘着シート４１を基体１１に貼り付ける。
【００３４】
粘着剤層４５は、アクリル系の粘着剤からなるもので、厚さ１０μｍのものでは、例えば、ミラーウエハに対して、約０.３９（Ｎ／２０ｍｍ）、ポロイミドウエハに対しては約２.４０（Ｎ／２０ｍｍ）程度の粘着力を生じ、貼り剥がしにより残留する異物の程度を表すパーティクル数（０.２８μｍ以下）は約７（個／４ｉｎｃｈ）である。また、この粘着剤層４５は、厚さ１５μｍのものでは、例えば、ミラーウエハに対して、約１.８（Ｎ／２０ｍｍ）、ポロイミドウエハに対しても約１.８（Ｎ／２０ｍｍ）程度の粘着力を生じ、そのときのパーティクル数（０.２８μｍ以下）は約１０（個／４ｉｎｃｈ）である。
【００３５】
基材フィルム４３の厚さは、約１３５μｍ程度とされ、剥離フィルム４７の厚さは、約５０μｍ程度とされている。
また、この基材フィルム４３としては、合成樹脂、天然ゴム、合成ゴム等から製造されたフィルムが挙げられる。具体的に例示すると、ポリオレフィン、ポリエステル、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリブタジエン、軟質塩化ビニル樹脂、ポリアミド、アイオノマー等の樹脂、およびそれらの共重合体エラストマー、およびジエン系、ニトリル系、シリコーン系、アクリル系等の合成ゴム等のフィルムが挙げられる。基材フィルム４３は単層体であっても、また、積層体であってもよい。
【００３６】
さらに、基材フィルム４３と粘着剤層との接着力を向上させるため、基材フィルム４３の粘着剤層を設ける面にはコロナ放電処理または化学処理等を施すことが好ましい。また、基材フィルム４３と粘着剤層の間に下塗り剤を用いてもよい。
粘着剤層４５から剥離フィルム４７を剥離する際に生じる静電気により、作業性が低下したり、外部からの汚染物が付着し易くなることを考慮すれば、基材フィルム４３の粘着剤層と反対側の面には静電気防止処理を施すことが好ましい。静電気防止処理方法としては、界面活性剤等の静電気防止剤を塗布する方法、コロナ放電処理を施す方法等が挙げられる。
【００３７】
粘着剤層４５は、基材フィルム４３または剥離フィルム４７の片表面に、粘着剤塗布液を塗布、乾燥することにより形成される。
粘着剤塗布液は、その基本成分である粘着剤ポリマー、及び、凝集力を上げたり粘着力を調整するための１分子中に２個以上の架橋反応性官能基を有する架橋剤を含む溶液またはエマルジョン液である。粘着特性を調整するためにロジン系、テルペン樹脂系等のタッキファイヤーを適宜添加してもよい。また、粘着剤ポリマーがエマルジョン液である場合はジエチレングリコールモノアルキルエーテル等の造膜助剤を添加してもよい。
【００３８】
また、粘着剤層４５を構成する粘着剤ポリマーとしては、架橋剤と架橋反応し得る官能基を有する各種合成ゴム系ポリマー等が挙げられる。これらの内、粘着物性の制御、再現性等を考慮すると、アクリル酸アルキルエステル系ポリマー、メタクリル酸アルキルエステル系ポリマー、ブタジエン系ポリマー、イソプレン系ポリマー、スチレン−ブタジエン系ポリマー等が挙げられる。これらの内、アクリル酸アルキルエステル系ポリマー、メタクリル酸アルキルエステル系ポリマーが好ましい。粘着剤ポリマーを含む液体（以下、粘着剤主剤）は溶液、エマルジョン液等のいずれでもよい。
【００３９】
粘着剤ポリマーがアクリル酸アルキルエステル系ポリマー、またはメタクリル酸アルキルエステル系ポリマーである場合、粘着剤ポリマーを構成する主モノマーとして、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、メタクリル酸ブチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、メタクリル酸−２−エチルヘキシル等のアクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。これらは単独で使用してもよいし、また、２種以上を混合して使用してもよい。主モノマーの使用量は粘着剤ポリマーの原料となる全モノマーの総量中に、通常、６０〜９９重量％の範囲で含まれていることが好ましい。
【００４０】
上記主モノマーと共重合させる、架橋剤と反応し得る官能基を有するコモノマーとして、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、メサコン酸、シトラコン酸、フマル酸、マレイン酸、イタコン酸モノアルキルエステル、メサコン酸モノアルキルエステル、シトラコン酸モノアルキルエステル、フマル酸モノアルキルエステル、マレイン酸モノアルキルエステル、アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル、アクリルアミド、メタクリルアミド、ターシャル−ブチルアミノエチルアクリレート、ターシャル−ブチルアミノエチルメタクリレート等が挙げられる。これらの一種を上記主モノマーと共重合させてもよいし、また２種以上を共重合させてもよい。上記の架橋剤と反応しうる官能基を有するコモノマーの使用量は、粘着剤ポリマーの原料となる全モノマーの総量中に、通常、１〜４０重量％の範囲で含まれていることが好ましい。
【００４１】
ここでは、上記粘着剤ポリマーを構成する主モノマー及び架橋剤と反応し得る官能基を有するコモノマーの他に界面活性剤としての性質を有する特定のコモノマー（以下、重合性界面活性剤と称する）を共重合してもよい。重合性界面活性剤は、主モノマー及びコモノマーと共重合する性質を有すると共に乳化重合する場合には乳化剤としての作用を有する。
【００４２】
（２）剥離ステップ
図９（ｍ）に示すように、基体１１の表裏面に貼り付けた粘着シート４１を、基体１１の表裏面から剥離する（Ｓ３２）。
このようにすると、基体１１の表面に付着していた異物が、剥離される粘着シート４１の粘着剤層４５の粘着力により、基体１１の表面から取り去られる。
なお、上記（１）〜（２）の工程は、基体１１の表裏面から異物が完全に取り除かれるまで繰り返し行われる（Ｓ３３）。
【００４３】
ここで、基体１１の表裏面から異物が除去されたとしても、異物を除去するために基体１１の表裏面に貼り付けた粘着シート４１の粘着剤などが僅かに残留している場合も考えられる。
したがって、このように、異物を除去した基体１１の表裏面における有無を判断し（Ｓ３４）、残留している場合には、次の工程を行う。
【００４４】
（４）残留物除去ステップ
残留物除去ステップには、有機溶剤を用いた洗浄処理及びドライエッチング処理の２種類があり、適宜選択して行う。
そして、有機溶剤を用いた洗浄処理は、残留物が僅かに付着している基体１１を、有機溶剤中に浸漬させ（Ｓ３５）、その後、基体１１を有機溶剤から取り出して乾燥させる（Ｓ３６）。
また、ドライエッチング処理は、残留物が僅かに付着している基体１１を、エッチング装置内に入れ、このエッチング装置によってドライエッチングを行う（Ｓ３７）。
【００４５】
以上の表面異物除去作業を行うことにより、基体１１の表裏面から完全に異物が取り除かれる。
なお、磁気転写前に表面異物除去作業を行う場合も、上記と同様の工程を行うことにより、マスター担体１００の表裏面から完全に異物が取り除かれる。
そして、上記実施形態に係る磁気転写用マスター担体の表面異物除去方法によれば、単に、マスター担体１００の磁気転写面を含む表裏面に貼り付けた粘着シート４１を剥離し、その後、保護皮膜剤３１の残留物を、有機溶剤を用いた洗浄処理によりあるいはドライエッチング処理により除去することにより、煩雑な作業を行うことなく、短時間で異物を略完全に取り除くことができる。
【００４６】
特に、磁性層１３を成膜する前に異物を除去することにより、異物による信号抜け等の不具合がなく、高品質なマスター担体１００を得ることができる。また、磁性層１３を成膜した後に異物を除去することにより、異物による不具合なく極めて円滑にスレーブ媒体１９への磁気転写を行うことができる。
【実施例】
【００４７】
レジスト層２７の除去後の基体１１に保護皮膜剤３１を塗布して乾燥させ剥離した場合及びレジスト層２７の除去後の基体１１に粘着シート４１を貼り付けて剥離した場合のそれぞれについて、所定面積当たりの異物の残留数を計測した。また、レジスト層２７の除去後の基体１１について、所定面積当たりの異物の残留数を計測した。なお、この異物の残留数の計測には、例えば横河電機株式会社製  ハードディスク表面付着塵埃測定装置  ＷＳ１０００ＨＡ等を利用できる。
その結果、レジスト層２７の除去後の基体１１では、サンプル数４個の平均で、所定面積２×３ｃｍ２当たり４９３.５個の異物が計測された。
【００４８】
これに対して、保護皮膜剤３１を塗布・乾燥させて剥離した場合は、サンプル数８個の平均で、所定面積２×３ｃｍ２当たり２７.３個となり、粘着シート４１を貼り付けて剥離した場合は、サンプル数８個の平均で、所定面積２×３ｃｍ２当たり８.４個となった。
このように、本実施形態に係る表面異物除去方法を基板１１に施すことにより、基板１１に付着していたほとんどの異物を除去することができた。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】磁気転写について説明するスレーブ媒体及びマスター担体の斜視図である。
【図２】磁気転写の原理を説明する断面図である。
【図３】マスター担体の製造工程を説明するフローチャート図である。
【図４】各種工程におけるマスター担体の断面図である。
【図５】表面異物除去作業を説明するフローチャート図である。
【図６】表面異物除去工程におけるマスター担体の断面図である。
【図７】他の表面異物除去作業を説明するフローチャート図である。
【図８】表面異物除去作業に用いる粘着シートの概略斜視図である。
【図９】表面異物除去工程におけるマスター担体の断面図である。
【図１０】磁気ディスクからなるハードディスク及び読み取りヘッドを示す概略平面図である。
【符号の説明】
【００５０】
１３  磁性層
１９  スレーブ媒体（磁気記録媒体）
３１  保護皮膜剤
４１  粘着シート
１００  磁気転写用マスター担体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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