(57)【要約】【課題】  作業者の出入りに際して、外部雰囲気の内部への流入及び内部雰囲気の外部への流出の両方を抑制できるチャンバ装置、チャンバ設備、及び液滴吐出設備、並びに電気光学装置の製造方法を実現する。【解決手段】  チャンバ装置７は、ワーク処理を周囲の雰囲気と隔絶した雰囲気中で行うことを要するワーク処理装置を収容する主室８０と、主室８０に隣接する予備室８１と、主室出入り口１５１を開閉する主室扉１５２と、外部出入り口を開閉する予備室扉１６２とを備える。また、チャンバ装置７は、主室８０及び予備室８１のそれぞれが給気装置と排気装置とを備える。さらに、チャンバ装置７は、それぞれの扉の開閉状態を検知する開閉検出装置と、ロック装置１５５，１６４とを備え、主室扉１５２と予備室扉１６２のうち少なくとも一方は開放禁止状態になっているように制御する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワーク処理を周囲の雰囲気と隔絶した雰囲気中で行うことを要するワーク処理装置を収容するチャンバ装置であって、
前記ワーク処理装置を収容する主室と、
前記主室に隣接する予備室と、
前記主室と前記予備室とを隔てる隔壁に設けられた主室出入り口を開閉する扉であって、閉鎖時には、前記主室の内部の気体と前記予備室の内部の気体とを隔絶可能な主室扉と、
前記予備室の壁に設けられた外部出入り口を開閉する扉であって、閉鎖時には、前記チャンバ装置の外部の気体と前記予備室の内部の気体とを隔絶可能な予備室扉とを備えたことを特徴とするチャンバ装置。
【請求項２】
前記主室及び前記予備室のそれぞれが給気装置と排気装置とを備えるとともに、
少なくとも前記予備室に備えられた前記排気装置は排気流量調整装置を有することを特徴とする請求項１に記載のチャンバ装置。
【請求項３】
前記主室扉と前記予備室扉とのそれぞれの開閉状態を検知する開閉検出装置と、
前記主室扉と前記予備室扉とのそれぞれを開放禁止状態または開放禁止解除状態にするロック装置と、
前記開閉検出装置の検出結果に基づいて前記ロック装置を作動させ、前記主室扉と前記予備室扉のうち少なくとも一方は開放禁止状態になっているように制御するロック制御装置とを設けたことを特徴とする請求項１または２に記載のチャンバ装置。
【請求項４】
前記開閉検出装置の検出結果に基づいて、前記予備室扉が開放して閉まってからの時間を計測できる計時装置をさらに設け、
前記ロック制御装置は、前記計時装置によって前記予備室に備えられた前記排気装置が少なくとも前記予備室内の容量に相当する気体を排気する所定時間が計測されると、前記ロック装置による前記主室扉の開放禁止状態を解除することを特徴とする請求項３に記載のチャンバ装置。
【請求項５】
前記開閉検出装置の検出結果に基づいて、前記主室扉が開放して閉まってからの時間を計測できる計時装置をさらに設け、
前記ロック制御装置は、前記計時装置によって前記予備室に備えられた前記排気装置が少なくとも前記予備室内の容量に相当する気体を排気する所定時間が計測されると、前記ロック装置による前記予備室扉の開放禁止状態を解除することを特徴とする請求項３に記載のチャンバ装置。
【請求項６】
前記主室内及び前記予備室内が無人であるかの判断部を有し、前記判断部が、前記主室内及び前記予備室内が無人の時は、前記予備室に備えられた前記排気装置の排気を前記排気流量調整装置によって停止することを特徴とする請求項４または５に記載のチャンバ装置。
【請求項７】
前記予備室に備えられた前記排気装置の排気が停止した状態から、前記排気装置が排気を開始してからの時間を計測できる計時装置をさらに設け、当該計時装置によって前記予備室に備えられた前記排気装置が少なくとも前記予備室内の容量に相当する気体を排気する時間を計測し、その計時情報に基づいて前記ロック装置による前記予備室扉の開放禁止状態を解除することを特徴とする請求項２乃至６のいずれか１項に記載のチャンバ装置。
【請求項８】
前記主室を構成するとともに前記隔壁と対向しない壁に前記ワークを供給及び排出するワーク給排口を設け、
前記外部出入り口及び前記予備室扉は、前記隔壁と対向しない壁に設けられていることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のチャンバ装置。
【請求項９】
前記外部出入り口及び前記予備室扉を複数設け、複数の前記予備室扉に対応する前記ロック装置は互いに連動して制御されることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のチャンバ装置。
【請求項１０】
前記予備室は、前記主室を挟んだ両側の２箇所に設けられていることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のチャンバ装置。
【請求項１１】
前記予備室は、前記主室扉が開けられた状態で、前記主室に収容された前記ワーク処理装置に対して前記主室出入り口を介して作業を行うための作業用スペースであることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のチャンバ装置。
【請求項１２】
前記予備室内の室圧を、前記主室の室圧より高くしたことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のチャンバ装置。
【請求項１３】
前記予備室内の室圧を、前記チャンバ装置の周辺の室圧より低くしたことを特徴とする請求項１２に記載のチャンバ装置。
【請求項１４】
前記予備室内の室圧を、前記主室の室圧より低くしたことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のチャンバ装置。
【請求項１５】
前記予備室内の室圧を、前記チャンバ装置の周辺の室圧より高くしたことを特徴とする請求項１４に記載のチャンバ装置。
【請求項１６】
前記ワーク処理装置が液滴吐出装置であって、
前記主室内に設けられており、前記隔壁を介して前記予備室に隣接する副室と、
前記副室内の気体を排気する排気装置とを設け、
前記副室に前記液滴吐出装置の給液タンクを設置し、
前記副室内の気体は前記排気装置から排気されることを特徴とする請求項１乃至１１および１４，１５のいずれか１項に記載のチャンバ装置。
【請求項１７】
前記副室と前記予備室の間の前記隔壁に設けた作業開口と、
前記作業開口を開閉する扉であって、閉鎖時には、前記副室の内部の気体と前記予備室の内部の気体とを隔絶可能な副室扉とを備えたことを特徴とする請求項１６に記載のチャンバ装置
【請求項１８】
請求項１乃至１７いずれか１項に記載のチャンバ装置を前記予備室の部分で互いに連結し、連結された前記予備室は一体の空間としたことを特徴とするチャンバ設備。
【請求項１９】
請求項１乃至１５のいずれか１項に記載のチャンバ装置または請求項１８に記載のチャンバ設備の主室に前記ワーク処理装置として液滴吐出装置を設置したことを特徴とする液滴吐出設備。
【請求項２０】
請求項１７または請求項１８に記載のチャンバ装置またはチャンバ設備、または請求項１９に記載の液滴吐出設備により、前記主室内の前記液滴吐出装置を用いて電気光学装置を製造することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、装置を収容した内部の雰囲気を外部の雰囲気と隔絶するチャンバ装置、チャンバ設備、及び液滴吐出設備、並びに電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、機能液滴吐出ヘッドの吐出ノズルからワーク（基板など）に向けて機能液滴を吐出して描画するような液滴吐出装置（インクジェット装置）を用い、電気光学装置などを製造することが行われている。
【０００３】
このような液滴吐出装置は、高い精度でパターンを形成する必要があり、埃などの少ない清浄な雰囲気中で使用することが必要である。そのため、液滴吐出装置をチャンバで封止し、液滴吐出装置の周辺の雰囲気と外部の雰囲気とを隔絶することで、液滴吐出装置の周辺の雰囲気を清浄に保っていた。
【０００４】
また、頻繁に行われるワークなどの交換時に外部雰囲気が進入するのを抑制するために、ワークなどを一時的に収容する予備室を設け、予備室内の気体をチャンバ内の雰囲気と同じ気体で置き換えることが行われていた（特許文献１参照）。
【０００５】
【特許文献１】再公表特許  国際公開番号  ＷＯ００／５５８９１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、電気光学装置などを製造する工程には、液滴吐出装置を使用する工程以外にも高い精度を必要とする工程がある。それらの各工程は連続して実施する場合があり、その場合には、高い精度を必要とする工程で使用される高い精度を必要とする各装置が、液滴吐出装置の近くに設置されている。また、近年の高細密化が進んだ電気光学装置においては、電気光学装置の画素を駆動するためのスイッチング素子などの半導体素子が電気光学装置に一体に形成されている。半導体素子を形成する半導体製造プロセスは、清浄な環境下で実施することが必要であり、半導体素子を形成した基板は清浄な環境下に保管する必要がある。さらに、近年の電気光学装置の基板は、装置の大型化や製造の効率化のために大型化する傾向があり、２メートル角を超えるものも多くなっている。このような大型の基板は輸送途中での破損の危険が大きいことに加えて、輸送作業そのものが困難である。従って、半導体素子を形成した基板を長距離にわたって輸送することは好ましくなく、半導体製造装置もまた液滴吐出装置の近くに設置されていることが好ましい。
【０００７】
一方、液滴吐出装置が扱う機能液には様々な溶液があり、有機ガスが揮発する機能液もあり、液滴を吐出する際にはミストが発生する機能液もある。その機能液のミストや機能液から揮発した有機ガスなどが流出して周辺に設置された装置などに付着することで装置を損なう場合があり、高い精度を必要とする工程で使用する装置を損なうと伴に、製造される製品の歩留まりを低下させる場合があった。特に、微細化が進んでいる半導体素子は、分子レベルでの汚染であっても深刻な影響を受けやすく、極微量の汚染物質であっても製品の受ける影響は大きく、有機ガスなどが半導体素子などに付着することによって電気光学装置の回路が破損し電気光学装置の電気特性に影響を及ぼし、電気光学装置の製造歩留まりを低下させることがあった。しかし、プラスセンサなどの樹脂製品や金属配線等の形成に用いる機能液は揮発ガスの抑制が困難で、これらの機能液は揮発ガスの発生を抑制することで上記した課題に対応することは、困難である。
【０００８】
特に、液滴吐出装置の保守作業や機能液の補充や交換作業のときには、人間が関与するため、人間（作業者）が出入りできる程度に開口部を大きくとる必要があり、チャンバの内部雰囲気と外部雰囲気とが混じりあい、ミストや有機ガスなどの流出が防止できなかった。特許文献１の従来の予備室は、人間が通れるような大きな開口部に対応できるようなものではなく、チャンバ内の気体の流出を抑制するものでもなく、このような問題を解決するものではなかった。
【０００９】
そこで、本発明は、作業者の出入りに際して、外部雰囲気の内部への流入及び内部雰囲気の外部への流出の両方を抑制できるチャンバ装置、チャンバ設備、及び液滴吐出設備、並びに電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明のチャンバ装置は、ワーク処理を周囲の雰囲気と隔絶した雰囲気中で行うことを要するワーク処理装置を収容するチャンバ装置であって、ワーク処理装置を収容する主室と、主室に隣接する予備室と、主室と予備室とを隔てる隔壁に設けられた主室出入り口を開閉する扉であって、閉鎖時には、主室の内部の気体と予備室の内部の気体とを隔絶可能な主室扉と、予備室の壁に設けられた外部出入り口を開閉する扉であって、閉鎖時には、チャンバ装置の外部の気体と予備室の内部の気体とを隔絶可能な予備室扉とを備えたことを特徴とする。
【００１１】
本発明の構成および方法によれば、主室は予備室を介して外部と連通されるため、主室内部の気体が外部にもれることを抑制できるとともに、外部の気体が主室内部に侵入することを抑制できる。さらに、主室と予備室とが連通される開口および予備室と外部とが連通される開口のそれぞれに開口を閉鎖できる扉を設けたため、より確実に主室内部の気体が外部にもれることを抑制できるとともに、外部の気体が主室内部に侵入することを抑制できる。
【００１２】
この場合、主室及び予備室のそれぞれが給気装置と排気装置とを備えるとともに、少なくとも予備室に備えられた排気装置は排気流量調整装置を有することが好ましい。
【００１３】
この構成によれば、予備室と主室及び外部とを隔絶した状態で予備室内の気体を清浄な給気と入れ替えることができ、予備室に進入した主室または外部から予備室に進入した気体を排除することができる。従って、主室または外部の気体が予備室を介して外部または主室に混入する可能性を極めて小さくすることができる。
【００１４】
この場合、主室扉と予備室扉とのそれぞれの開閉状態を検知する開閉検出装置と、主室扉と予備室扉とのそれぞれを開放禁止状態または開放禁止解除状態にするロック装置と、開閉検出装置の検出結果に基づいてロック装置を作動させ、主室扉と予備室扉のうち少なくとも一方は開放禁止状態になっているように制御するロック制御装置とを設けたことが好ましい。
【００１５】
この構成によれば、主室扉か予備室扉の少なくとも何れか一方は必ず閉鎖しているため、主室と外部とが連続した状態になる機会がなく、主室または外部の気体が予備室に進入しても、さらに外部または主室にまで侵入することはできない。従って、主室または外部の気体が予備室を通過して外部または主室に混入する可能性を極めて小さくすることができる。
【００１６】
この場合、開閉検出装置の検出結果に基づいて、予備室扉が開放して閉まってからの時間を計測できる計時装置をさらに設け、ロック制御装置は、計時装置によって予備室に備えられた排気装置が少なくとも予備室内の容量に相当する気体を排気する所定時間が計測されると、ロック装置による主室扉の開放禁止状態を解除することが好ましい。
【００１７】
この構成によれば、予備室扉が開くことによって外部の気体が混入した可能性のある予備室の気体は、予備室が外部および主室と隔絶された状態で、給気装置から供給される空気に入替えられた後、主室扉が開かれる。従って、外部から予備室に進入した気体がさらに主室にまで侵入する可能性を極めて小さくすることができる。
【００１８】
この場合、開閉検出装置の検出結果に基づいて、主室扉が開放して閉まってからの時間を計測できる計時装置をさらに設け、ロック制御装置は、計時装置によって予備室に備えられた排気装置が少なくとも予備室内の容量に相当する気体を排気する所定時間が計測されると、ロック装置による予備室扉の開放禁止状態を解除することが好ましい。
【００１９】
この構成によれば、主室扉が開くことによって主室内の気体が混入した可能性のある予備室の気体は、予備室が外部および主室と隔絶された状態で、給気装置から供給される空気に入替えられた後、予備室扉が開かれる。従って、主室から予備室に進入した気体がさらに外部にまで流出する可能性を極めて小さくすることができる。
【００２０】
この場合、主室内及び予備室内が無人であるかの判断部を有し、判断部が、主室内及び予備室内が無人の時は、予備室に備えられた排気装置の排気を排気流量調整装置によって停止することが好ましい。
【００２１】
この構成によれば、排気を停止したことにより、給気が不要となり、給気装置の負荷を軽減して消費エネルギーを節減することができる。予備室内が無人のときは、予備室は主室や外部と隔絶された空間であり、空調の必要はないため、排気停止によってチャンバ装置が影響を受けることはない。従って、チャンバ装置の性能に影響することなく消費エネルギーを節減することができる。
【００２２】
この場合、予備室に備えられた排気装置の排気が停止した状態から、排気装置が排気を開始してからの時間を計測できる計時装置をさらに設け、計時装置によって予備室に備えられた排気装置が少なくとも予備室内の容量に相当する気体を排気する時間を計測し、その計時情報に基づいてロック装置による予備室扉の開放禁止状態を解除することが好ましい。
【００２３】
この構成によれば、予備室が外部および主室と隔絶された状態で、給気装置から供給される空気に入替えられた後、予備室扉が開かれる。従って、主室から予備室に進入していた気体が、開かれた予備室扉からさらに外部にまで流出する可能性を極めて小さくすることができる。
【００２４】
この場合、主室を構成するとともに隔壁と対向しない壁にワークを供給及び排出するワーク給排口を設け、外部出入り口及び予備室扉は、隔壁と対向しない壁に設けられていることが好ましい。
【００２５】
この構成によれば、ワーク給除材口へのワークの供給作業や除材作業に影響を与えることなく、また予備室を主室の両側に設けても、予備室扉を使用可能な状態のままチャンバ装置を隣接させて設置することができる。
【００２６】
この場合、外部出入り口及び予備室扉を複数設け、複数の予備室扉に対応するロック装置は互いに連動して制御されることが好ましい。
【００２７】
この構成によれば、チャンバ装置周辺のレイアウトに従って都合のよい出入り口を選択することができる。また、チャンバ装置への出入りの都合によって装置配置の自由度が制限されることを軽減することができる。
【００２８】
この場合、予備室は、前記主室を挟んだ両側の２箇所に設けられていることが好ましい。
【００２９】
この構成によれば、チャンバ装置周辺のレイアウトに従って都合のよい出入り口を選択することができる。また、チャンバ装置への出入りの都合によって装置配置の自由度が制限されることを軽減することができる。また、主室内の装置に対応して、効率の良い方向から作業をしたり主室に入ったりすることができる。さらに、複数の作業者が同時に主室内の装置に対して作業することが容易になる。
【００３０】
この場合、予備室は、主室扉が開けられた状態で、主室に収容されたワーク処理装置に対して主室出入り口を介して作業を行うための作業用スペースであることが好ましい。
【００３１】
この構成によれば、予備室は、主室内の気体と外部の気体の混入を抑制する設備と、作業を実施するための領域を兼ねており、主室内の気体と外部の気体の混入を抑制する設備を別途設ける必要がなく、設備の省スペースを可能にしている。
【００３２】
この場合、予備室内の室圧を、主室の室圧より高くしたことが好ましい。
【００３３】
この構成によれば、主室扉が開放されたとき、予備室の気体は、より室圧が低い主室のほうに流れるため、主室扉が開放されていても、主室から予備室への気体の流出の可能性を小さくすることができる。
【００３４】
この場合、予備室内の室圧を、チャンバ装置の周辺の室圧より低くしたことが好ましい。
【００３５】
この構成によれば、予備室扉が開放されたとき、予備室の気体は、より室圧が高い外部の方に流れにくいため、予備室扉が開放されていても、予備室から外部への気体の流出の可能性を小さくすることができる。従って、主室から外部への気体の流出の可能性を小さくすることができる。
【００３６】
この場合、予備室内の室圧を、主室の室圧より低くしたことが好ましい。
【００３７】
この構成によれば、主室扉が開放されたとき、予備室の気体は、より室圧が高い主室の方に流れにくいため、主室扉が開放されていても、予備室から主室への気体の流入の可能性を小さくすることができる。
【００３８】
この場合、予備室内の室圧を、チャンバ装置の周辺の室圧より高くしたことが好ましい。
【００３９】
この構成によれば、予備室扉が開放されたとき、予備室の気体は、より室圧が低い外部のほうに流れるため、予備室扉が開放されていても、外部から予備室への気体の進入の可能性を小さくすることができる。従って、外部から主室への気体の進入の可能性を小さくすることができる。
【００４０】
この場合、ワーク処理装置が液滴吐出装置であって、主室内に設けられており、隔壁を介して予備室に隣接する副室と、副室内の気体を排気する排気装置とを設け、副室に液滴吐出装置の給液タンクを設置し、副室内の気体は排気装置から排気されることが好ましい。
【００４１】
この構成によれば、周辺が機能液のミストや蒸発した機能液溶媒などの濃度が高い可能性が高い供給タンクを主室内で隔離することにより、主室内の機能液ミストや蒸発した機能液溶媒などの濃度の低減ができる。さらに排気を副室からとることによって、機能液ミストや蒸発した機能液溶媒などの濃度が高い可能性の高い気体が主室内に拡散することを防止することができる。
【００４２】
この場合、副室と予備室の間の隔壁に設けた作業開口と、作業開口を開閉する扉であって、閉鎖時には、副室の内部の気体と予備室の内部の気体とを隔絶可能な副室扉とを備えたことが好ましい。
【００４３】
この構成によれば、周辺が機能液ミストや蒸発した機能液溶媒などの濃度が高い可能性が高い給液タンクの交換などを予備室から実施することができる。機能液ミストや蒸発した機能液溶媒などの濃度が高い可能性の高い気体が予備室に流出しても、予備室の気体を清浄な空気と入替えた後でないと外部とのあいだの予備室扉は開放されないため、予備室内に流出した機能液ミストや蒸発した機能液溶媒などの濃度が高い可能性の高い気体が、さらに外部に放出される可能性を極めて小さくすることができる。
【００４４】
本発明のチャンバ設備は、上記したチャンバ装置を予備室の部分で互いに連結し、連結された予備室は一体の空間としたことを特徴とする。
【００４５】
この構成によれば、チャンバ装置内に設置することが好ましい複数の装置を効率よく設置することができる。
【００４６】
本発明の液滴吐出設備は、上記したチャンバ装置またはチャンバ設備の主室に前記ワーク処理装置として液滴吐出装置を設置したことを特徴とする。
【００４７】
この構成によれば、有機ガスを発生させ、その有機ガスが他の製造装置に付着した場合に、付着した製造装置を腐食する可能性が高く、製造される製品の歩留まりを低下させる可能性が高く、また、製品に付着することによって製品の特性に影響を及ぼし、製品の製造歩留まりを低下させる可能性が高い機能液を用いるとともに、雰囲気中に機能液のミストなどを飛散させやすい液滴吐出を行う液滴吐出装置を、内部の気体を外部に放出する可能性が極めて小さいチャンバ装置内に設置したため、周辺への機能液のミストなどの飛散の可能性を極めて小さくすることができ、周辺装置への重大な悪影響の可能性を極めて小さくするとともに、製品の特性に影響を及ぼし、製品の製造歩留まりを低下させる可能性を極めて小さくすことができる。
【００４８】
本発明による電気光学装置の製造方法は、チャンバ装置、チャンバ設備、または液滴吐出設備により、主室内の液滴吐出装置を用いて電気光学装置を製造することを特徴とする。
【００４９】
この方法によれば、外部からの埃などの進入を抑制した雰囲気の中で液滴吐出装置によるパターン形成などが為されるため、電気光学装置のパターン形成などを高い品質と高い歩留まりで実施できる。さらに、液滴吐出装置から発生する機能液のミストや機能液から蒸発した溶媒の流出を抑制して、周辺に設置された電気光学装置の他の製造装置及び製造される電気光学装置に及ぼす悪影響を抑制することができ、電気光学装置の歩留まり低下を抑制することができ、高い品質と高い歩留まりの電気光学装置を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５０】
以下に、添付の図面を参照して、本発明の一実施形態に係るチャンバ装置及びチャンバ装置を適用した液滴吐出設備、及びこれにより製造される電気光学装置の構造および製造方法（製造プロセス）について説明する。
【００５１】
（第１の実施形態）
図１および図２は、それぞれ、本発明の液滴吐出設備の実施形態を示す平面図および側面図である。なお、以下では、説明の便宜上、水平な一方向（図１および図２中の左右方向に相当する方向）を「Ｙ軸方向」と言い、このＹ軸方向に垂直であって水平な方向（図１中の上下方向に相当する方向）を「Ｘ軸方向」と言う。
【００５２】
これらの図に示す液滴吐出設備（液滴吐出系）１０は、液滴吐出ヘッド１１１を有する液滴吐出装置（インクジェット描画装置）１と、これを収容するチャンバ装置７とを備えている。液滴吐出装置１は、ワークとしての基板Ｗに対し、例えばインクや、目的とする材料を含む機能液等の液体（吐出液）をインクジェット方式（液滴吐出方式）により微小な液滴の状態で吐出して所定のパターンを形成（描画）する装置であり、例えば液晶表示装置におけるカラーフィルタや有機ＥＬ装置等を製造したり、基板上に金属配線を形成したりするのに用いることができる産業用の液滴吐出装置である。
【００５３】
まず液滴吐出装置１に付いて説明し、チャンバ装置７については後述する。液滴吐出装置１は、装置本体２と、基板テーブル（ワーク載置部）３と、複数の液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１１１が設置されたヘッドユニット１１と、液滴吐出ヘッド１１１のメンテナンスをするメンテナンス装置１２と、基板Ｗにガスを吹き付けるブロー装置１４と、基板テーブル３の移動距離を測定するレーザー測長器１５と、制御装置１６と、ドット抜け検出ユニット１９とを備えている。
【００５４】
図２に示すように、装置本体２は、床上に設置された架台２１と、架台２１上に設置された石定盤２２とを有している。石定盤２２の上には、基板テーブル３が装置本体２に対しＹ軸方向に移動可能に設置されている。基板テーブル３は、リニアモータ１０１の駆動により、Ｙ軸方向に前進・後退する。基板Ｗは、基板テーブル３上に載置される。
【００５５】
図１に示すように、基板テーブル３のＸ軸方向に沿った２つの辺の付近には、それぞれ、基板Ｗに対する液滴吐出（描画）前に液滴吐出ヘッド１１１から捨て吐出（フラッシング）された吐出液滴を受ける描画前フラッシングユニット（図示せず）が設置されている。描画前フラッシングユニットには、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、捨て吐出された吐出液は、この吸引チューブを通り、排液装置により回収される。
【００５６】
基板テーブル３のＹ軸方向の移動距離は、移動距離検出手段としてのレーザー測長器１５により測定される。レーザー測長器１５は、装置本体２に設置されたレーザー測長器センサヘッド５１、プリズム５２およびレーザー測長器本体５３と、基板テーブル３に設置されたコーナーキューブ５４とを有している。レーザー測長器センサヘッド５１からＸ軸方向に沿って出射したレーザー光は、プリズム５２で屈曲してＹ軸方向に進み、コーナーキューブ５４に照射される。コーナーキューブ５４での反射光は、プリズム５２を経て、レーザー測長器センサヘッド５１に戻る。液滴吐出装置１では、このようなレーザー測長器１５によって検出された基板テーブル３の移動距離（現在位置）に基づいて、液滴吐出ヘッド１１１からの吐出タイミングが生成される。
【００５７】
また、装置本体２には、ヘッドユニット１１を支持するメインキャリッジ１０２が、基板テーブル３の上方空間においてＸ軸方向に移動可能に設置されている。複数の液滴吐出ヘッド１１１を有するヘッドユニット１１は、リニアモータとガイドとを備えたリニアモータアクチュエータ１０３の駆動により、メインキャリッジ１０２とともにＸ軸方向に前進・後退する。
【００５８】
本実施形態の液滴吐出装置１では、液滴吐出ヘッド１１１のいわゆる主走査は、基板テーブル３をＹ軸方向に移動しつつ、レーザー測長器１５を用いて生成した吐出タイミングに基づいて、液滴吐出ヘッド１１１の駆動（吐出液滴の選択的吐出）を行う。また、これに対応して、いわゆる副走査は、ヘッドユニット１１（液滴吐出ヘッド１１１）のＸ軸方向への移動により行われる。
【００５９】
また、装置本体２には、基板Ｗ上に吐出された液滴を半乾燥させるブロー装置１４が設置されている。ブロー装置１４は、Ｘ軸方向に沿ってスリット状に開口するノズルを有しており、基板Ｗを基板テーブル３によりＹ軸方向に搬送しつつ、このノズルより基板Ｗへ向けてガスを吹き付ける。本実施形態の液滴吐出装置１では、Ｙ軸方向に互いに離れた個所に位置する２個のブロー装置１４が設けられている。
【００６０】
メンテナンス装置１２は、架台２１および石定盤２２の側方に設置されている。このメンテナンス装置１２は、ヘッドユニット１１の待機時に液滴吐出ヘッド１１１をキャッピングするキャッピングユニット（キャッピング装置）１２１と、液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面をワイピングするクリーニングユニット（クリーニング装置）１２２と、液滴吐出ヘッド１１１の定期的なフラッシングを受ける定期フラッシングユニット１２３と、重量測定ユニット１２５とを有している。
【００６１】
また、メンテナンス装置１２は、Ｙ軸方向に移動可能な移動台１２４を有しており、キャッピングユニット１２１、クリーニングユニット１２２、定期フラッシングユニット１２３および重量測定ユニット１２５は、移動台１２４上にＹ軸方向に並んで設置されている。ヘッドユニット１１がメンテナンス装置１２の上方に移動した状態で移動台１２４がＹ軸方向に移動することにより、キャッピングユニット１２１、クリーニングユニット１２２、定期フラッシングユニット１２３および重量測定ユニット１２５のいずれかが液滴吐出ヘッド１１１の下方に位置し得るようになっている。ヘッドユニット１１は、待機時にはメンテナンス装置１２の上方に移動し、キャッピング、クリーニング（ワイピング）および定期フラッシングを所定の順番で行う。
【００６２】
キャッピングユニット１２１は、複数の液滴吐出ヘッド１１１のそれぞれに対応するように配置された複数のキャップとこれらキャップを昇降させる昇降機構とを有している。ヘッドユニット１１の待機時には、このキャップで液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を覆うことにより、ノズル形成面が乾燥するのを防止することができる。また、キャッピングユニット１２１によるキャッピングは、ヘッドユニット１１に吐出液を初期充填する際や、吐出液を異種のものに交換する場合にヘッドユニット１１から吐出液を排出する際、洗浄液により流路を洗浄する際などにも行われる。
【００６３】
キャッピングユニット１２１には、各キャップに通じる吸引チューブ（図示せず）が接続されており、キャッピング中に液滴吐出ヘッド１１１から吐出された機能液は、この吸引チューブを通り、キャッピング排液装置（図示せず）により回収され、再利用に供される。ただし、流路の洗浄時に回収した洗浄液は再利用しない。
【００６４】
クリーニングユニット１２２は、洗浄液（例えば、機能液を溶解可能な溶剤など）を含ませたワイピングシートをローラーにより走行させ、このワイピングシートにより液滴吐出ヘッド１１１のノズル形成面を拭き取り、清掃するよう作動するものである。
【００６５】
定期フラッシングユニット１２３は、ヘッドユニット１１の待機時のフラッシングに使用されるものであり、液滴吐出ヘッド１１１が捨て吐出した吐出液滴を受けるものである。定期フラッシングユニット１２３には、吸引チューブ（図示せず）が接続されており、捨て吐出された機能液は、この吸引チューブを通り、排液装置（図示せず）により回収される。
【００６６】
重量測定ユニット１２５は、基板Ｗに対する液滴吐出動作の準備段階として、液滴吐出ヘッド１１１からの１回の液滴吐出量（重量）を測定するのに利用するものである。すなわち、基板Ｗに対する液滴吐出動作前、ヘッドユニット１１は、重量測定ユニット１２５の上方に移動し、各液滴吐出ヘッド１１１の全吐出ノズルから１回または複数回液滴を重量測定ユニット１２５に対し吐出する。重量測定ユニット１２５は、吐出された液滴を受ける液受けと、電子天秤等の重量計とを備えており、吐出された液滴の重量を計測する。または、液受けを取り外して装置外部の重量計で計測してもよい。後述する制御装置は、その重量計測結果に基づいて、吐出ノズルにおける１回の吐出液滴の量（重量）を算出し、その算出値が予め定められた設計値に等しくなるように、液滴吐出ヘッド１１１を駆動するヘッドドライバの印加電圧を補正する。
【００６７】
ドット抜け検出ユニット１９は、石定盤２２上における基板テーブル３の移動領域と重ならない場所であって、ヘッドユニット１１の移動領域の下方に位置する場所に固定的に設置されている。ドット抜け検出ユニット１９は、液滴吐出ヘッド１１１のノズルの目詰まりが原因となって生じるドット抜けを検出するものであり、例えばレーザー光を投光・受光する投光部および受光部を備えている。ドット抜け検出を行う際には、ヘッドユニット１１がドット抜け検出ユニット１９の上方空間をＸ軸方向に移動しつつ、各ノズルから液滴を捨て吐出し、ドット抜け検出ユニット１９は、この捨て吐出された液滴に対し投光・受光を行って、目詰まりしているノズルの有無および個所を光学的に検出する。この際に液滴吐出ヘッド１１１から吐出された吐出液は、ドット抜け検出ユニット１９が備える受け皿に溜まり、この受け皿の底部に接続された吸引チューブ（図示せず）を通って、排液装置（図示せず）により回収される。
【００６８】
制御装置（制御手段）（図示せず）は、液滴吐出装置１の各部の作動を制御するものであり、ＣＰＵ（Central Processing Unit）と、液滴吐出装置１の制御動作を実行するためのプログラム等の各種プログラムおよび各種データを記憶（格納）する記憶部とを有している。図示の構成では、制御装置は、後述するチャンバ７０の外部に設置されている。
【００６９】
架台２１は、アングル材等を方形に組んで構成された枠体２１１と、枠体２１１の下部に分散配置された複数の支持脚２１２とを有している。石定盤２２は、無垢の石材で構成され、その上面は、高い平面度を有している。この石定盤２２により、周囲の環境条件や振動等の影響を防ぎ、基板テーブル３およびヘッドユニット１１が高精度に移動することができる。
【００７０】
石定盤２２の上には、Ｙ軸方向移動機構としてのリニアモータ１０１およびエアスライダ１０８が設置されている。基板テーブル３は、エアスライダ１０８によりＹ軸方向に円滑に移動可能に支持され、リニアモータ１０１の駆動によりＹ軸方向に移動する。また、基板テーブル３の下部には、θ軸回転機構（図示省略）が設けられており、これにより、基板テーブル３は、基板テーブル３の中心を通る鉛直なθ軸を回転中心として所定範囲で回動可能になっている。また、基板テーブル３には、載置された基板Ｗを吸着して固定するための複数の吸引溝（吸引部）３３が形成されている。
【００７１】
装置本体２は、石定盤２２の上に設置された４本の支柱２３と、これらの支柱２３により支持されたＸ軸方向に沿って延びる互いに平行な２本の桁（梁）２４および２５とをさらに有している。基板テーブル３は、桁２４および２５の下を通過可能になっている。
【００７２】
桁２４および２５には、メインキャリッジ１０２と、カメラキャリッジ１０６とがそれぞれ桁２４および２５の間に架け渡されるようにして設置されている。桁２４には、メインキャリッジ１０２およびカメラキャリッジ１０６の共通のＸ軸方向移動機構として、リニアモータアクチュエータ１０３が設置されている。メインキャリッジ１０２と、カメラキャリッジ１０６とは、それぞれ、リニアモータアクチュエータ１０３と、桁２５に設けられたリニアガイドとの案内により、Ｘ軸方向に円滑に移動可能に設置されている。メインキャリッジ１０２と、カメラキャリッジ１０６とは、リニアモータアクチュエータ１０３の駆動により、それぞれ独立してＸ軸方向に移動する。
【００７３】
メインキャリッジ１０２には、ヘッドユニット１１が支持されている。ヘッドユニット１１がメインキャリッジ１０２とともにＸ軸方向に移動することにより、液滴吐出ヘッド１１１の副走査が行われる。ヘッドユニット１１には、吐出液を供給するための配管（図示せず）や、配線ケーブル（図示せず）等がそれぞれ接続されている。また、ヘッドユニット１１は、メインキャリッジ１０２に対し着脱可能になっている。
【００７４】
カメラキャリッジ１０６には、基板Ｗの所定の個所に設けられたアライメントマークを画像認識するための認識カメラが設置されている。認識カメラは、カメラキャリッジ１０６から下方に吊り下げられた状態で支持されている。なお、認識カメラは、他の用途に用いてもよい。
【００７５】
ヘッドユニット１１は、図４（ａ）に示すように互いに同じ構造を有する複数の液滴吐出ヘッド１１１を保持している。ここで、図４（ａ）は、ヘッドユニット１１を基板テーブル３側から観察した図である。ヘッドユニット１１には６個の液滴吐出ヘッド１１１からなる列が、それぞれの液滴吐出ヘッド１１１の長手方向がＸ軸方向に対して角度をなすように２列配置されている。また、機能液を吐出するための液滴吐出ヘッド１１１は、図４（ｂ）に示すように、それぞれが液滴吐出ヘッド１１１の長手方向に延びる２つのノズル列１１２，１１２を有している。１つのノズル列は、それぞれ１８０個のノズル１１４が一列に並んだ列のことであり、このノズル列１１２，１１２の方向に沿ったノズル１１４の間隔は、約１４０μｍである。２つのノズル列１１２，１１２間のノズル１１４はそれぞれ半ピッチ（約７０μｍ）ずれて配置されている。各液滴吐出ヘッド１１１はノズル１１４がＸ軸方向に一定ピッチで連続するように配置されており、液滴吐出ヘッド１１１のＸ軸方向に対して角度を調整すれば、ピッチを変えることができる。
【００７６】
この配列パターンは一例であり、各種の基板Ｗに対し液滴吐出ヘッド１１１を専用部品とすれば、基板Ｗに合致したノズルの配設をすれば良い。あるいは、６個の液滴吐出ヘッド１１１の列を一つの液滴吐出ヘッドで構成しても良い。すなわち、液滴吐出ヘッド１１１の個数や列数、さらに配列パターンは任意に設定できる。いずれにしても、１２個の液滴吐出ヘッド１１１の全吐出ノズル１１４によるドットが、Ｘ軸方向において連続していればよい。また、ヘッド切替バルブは、各液滴吐出ヘッド１１１毎に取り付けても、複数の液滴吐出ヘッド１１１に対して一個取り付ける構成であっても良い。
【００７７】
図５（ａ）（ｂ）に示すように、それぞれの液滴吐出ヘッド１１１は、振動板６３と、ノズルプレート６４とを、備えている。振動板６３と、ノズルプレート６４との間には、機能液タンク４５から孔６７を介して供給される材料液が常に充填される液たまり６５が位置している。また、振動板６３と、ノズルプレート６４との間には、複数のヘッド隔壁６１が位置している。そして、振動板６３と、ノズルプレート６４と、１対のヘッド隔壁６１とによって囲まれた部分がキャビティ６０である。キャビティ６０はノズル１１４に対応して設けられているため、キャビティ６０の数とノズル１１４の数とは同じである。キャビティ６０には、１対のヘッド隔壁６１間に位置する供給口６６を介して、液たまり６５から材料液が供給される。
【００７８】
振動板６３上には、それぞれのキャビティ６０に対応して、振動子６２が位置する。振動子６２は、ピエゾ素子６２ｃと、ピエゾ素子６２ｃを挟む１対の電極６２ａ、６２ｂとから成る。この１対の電極６２ａ、６２ｂに駆動電圧を与えることで、対応するノズル１１４から機能液が液滴となって吐出される。なお、ノズル１１４のそれぞれから吐出される液滴の体積は、０ｐｌ〜４２ｐｌ（ピコリットル）の間で可変である。なお、材料液を吐出させるために、振動子６２の代わりに電気熱変換素子を用いてもよく、これは電気熱変換素子による材料液の熱膨張を利用して、材料液を吐出する構成である。
【００７９】
このような液滴吐出装置１の近傍には、ラック（棚）を有するタンク収納部が設置されている。タンク収納部には、液滴吐出ヘッド１１１から吐出する機能液を貯留する機能液タンク４５と、クリーニングユニット１２２に供給する洗浄液を貯留する洗浄液タンク４６と、キャッピングユニット１２１から回収された排液を貯留する再利用タンク４７と、描画前フラッシングユニット、定期フラッシングユニット１２３およびドット抜け検出ユニット１９において液滴吐出ヘッド１１１より捨て吐出された排液を貯留する排液タンク４８とがそれぞれ設置（収納）されている。それぞれのタンクはそれぞれ複数個備えられており、使用するタンクを切換えることによって、タンクの交換などは、液滴吐出装置１の運転を停止することなく実施することができる。
【００８０】
機能液タンク４５に貯留された機能液は、給液系統を介して、ヘッドユニット１１の各液滴吐出ヘッド１１１に供給される。機能液タンク４５は、それぞれ、空になったときに機能液を補充したり、満杯になっているタンクに交換したりすることができるようになっている。機能液タンク４５は、交換（着脱）と、吐出液の補充との少なくとも一方が行えるようになっていればよい。
【００８１】
同様に、洗浄液タンク４６も、それぞれ交換または洗浄液の補充を行うことができるようになっている。また、再利用タンク４７、および排液タンク４８は、それぞれ、満杯になったときに空のタンクへの交換または排液の抜き取りを行うことができるようになっている。
【００８２】
ここで、制御装置の制御による液滴吐出装置１の全体の作動について簡単に説明する。液滴吐出装置１が備える基板位置決め装置（説明省略）の作動により基板テーブル３上に載置（給材）された基板Ｗが所定の位置に位置決め（プリアライメント）されると、基板テーブル３の各吸引溝３３からのエアー吸引により、基板Ｗは、基板テーブル３に吸着・固定される。次いで、基板テーブル３およびカメラキャリッジ１０６がそれぞれ移動することにより、認識カメラが基板Ｗの所定の個所（１箇所または複数箇所）に設けられたアライメントマークの上方に移動し、このアライメントマークを認識する。この認識結果に基づいて、θ軸回転機構が作動して基板Ｗのθ軸回りの角度が補正されるとともに、基板ＷのＸ軸方向およびＹ軸方向の位置補正がデータ上で行われる（本アライメント）。
【００８３】
以上のような基板Ｗのアライメント作業が完了すると、ヘッドユニット１１を停止した状態で、基板テーブル３の移動により基板Ｗを主走査方向（Ｙ軸方向）に移動させつつ、各液滴吐出ヘッド１１１から基板Ｗへの選択的な液滴吐出動作を行う。このとき、液滴吐出動作は、基板テーブル３の前進（往動）中に行っても、後退（復動）中に行っても、前進および後退の両方（往復）で行ってもよい。また、基板テーブル３を複数回往復させて、液滴吐出動作を複数回繰り返し行ってもよい。以上の動作により、基板Ｗ上の、所定の幅（ヘッドユニット１１により吐出可能な幅）で主走査方向に沿って伸びる領域に、機能液の液滴の吐出が終了する。
【００８４】
その後、メインキャリッジ１０２を移動させることにより、ヘッドユニット１１を前記所定の幅の分だけ副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させる。この状態で、前述した動作と同様に、基板Ｗを主走査方向に移動させつつ、各液滴吐出ヘッド１１１から基板Ｗへの選択的な液滴吐出動作を行う。そして、この領域への液滴吐出動作が終了したら、ヘッドユニット１１をさらに前記所定の幅の分だけ副走査方向（Ｘ軸方向）に移動させた状態として、基板Ｗを主走査方向に移動させつつ、同様の液滴吐出動作を行う。これを、数回繰り返すことで、基板Ｗの全領域に液滴吐出が行われる。このようにして、液滴吐出装置１は、基板Ｗ上に所定のパターンを形成（描画）する。
【００８５】
次に、液滴吐出設備１０を構成するとともに、液滴吐出装置１を収容して、液滴吐出装置１の雰囲気を外部の雰囲気と遮断するチャンバ装置７について説明する。図１はチャンバ装置を含む液滴吐出設備の平面図であり、図２はチャンバ装置の断面図を含む液滴吐出設備の断面図であり、図３はチャンバ装置の予備室部分の断面図である。
【００８６】
チャンバ装置７は、液滴吐出装置１を収容するチャンバ７０と、チャンバ７０に調整された空気を供給する空調機７１と、チャンバ装置７を制御するチャンバコントロール装置７５を収容する制御盤ボックス７２とで構成されている。本実施形態のチャンバ装置７は、クリーンルーム内に設置されている。
【００８７】
チャンバ７０は、チャンバ７０を設置する床上に、後述する各外壁と、天パネル７４とで形成し、内部の気体と外部の気体を隔絶できるように構成されており、略直方体形状をしている。チャンバ７０の内部を隔壁７６で区切って、液滴吐出装置１を収容する主室８０と、主室８０を間に挟むように配置された予備室８１，８１とを設けている。
【００８８】
主室８０は、隔壁７６と、第１主室外壁７７と、第２主室外壁７８と、天パネル７４とで形成されている。天パネル７４の近くには、天パネル７４と平行に主室天井８４を設けて主室天井裏８５を形成している。さらに、主室８０の一部を副室壁７９で区切って、副室８２を形成している。
【００８９】
主室８０には制御装置を除く液滴吐出装置１が設置されており、副室８２には液滴吐出装置１の機能液タンク４５と、洗浄液タンク４６と、再利用タンク４７と、排液タンク４８とが、設置されている。副室８２が、上記した液滴吐出装置１の近傍に設置されているタンク収納部に相当する。
【００９０】
図２，図３に示すように、主室天井裏８５には、空調機７１と連通している主室給気ダクト８６と給気フィルタ８７とが配置され、主室天井裏８５に給気できるようになっている。主室天井８４には全面に小径開口（図示省略）が設けてあり、主室天井裏８５内に供給された空気が主室８０全体に均等に降りるようになっている。第１主室外壁７７には、主室排気ダクト８８が設けてあり、工場の排気設備に連通している。主室排気ダクト８８内には、排気流量を制御する主室排気ダンパ１４１と、排気流量を測定する主室排気流量センサ１４２とが設けられている。副室８２に臨む第１主室外壁７７には、副室排気ダクト（図示省略）が設けてあり、工場の排気設備に連通している。
【００９１】
空調機７１から供給された空気は、給気フィルタ８７を通過して主室天井裏８５に入り、主室天井８４の小径開口を通過して主室８０及び副室８２に供給される。主室８０内の空気は、主室排気ダクト８８を介して工場の排気設備に排気される。副室８２内の空気は、副室排気ダクトを介して工場の排気設備に排気される。
【００９２】
予備室８１は、隔壁７６と、第１主室外壁７７に連なる第１予備室外壁９１と、第２主室外壁７８に連なる第２予備室外壁９２と、隔壁７６に対向する第３予備室外壁９３と、天パネル７４とで形成されている。天パネル７４の近くには、天パネル７４と平行に予備室天井９４を設けて予備室天井裏９５を形成している。
【００９３】
図３に示すように、予備室天井裏９５に臨む隔壁７６には、主室給気ダクト８６に連通している予備室給気ダクト９６が設けてあり、予備室天井裏９５内に設けた給気フィルタ９７を介して、予備室天井裏９５に給気できるようになっている。予備室８１に臨む隔壁７６には、予備室排気ダクト９８が設けてあり、主室８０と主室天井裏８５を通って第１主室外壁７７の開口からチャンバ７０の外に出され、工場の排気設備に連通している。予備室排気ダクト９８内には、排気流量を制御する予備室排気ダンパ１４３と、排気流量を測定する予備室排気流量センサ１４４とが、設けられている。予備主室天井９４には全面に小径開口（図示省略）が設けてあり、予備室天井裏９５内に供給された空気が予備室８１全体に均等に降りるようになっている。
【００９４】
空調機７１から供給された空気は、給気フィルタ９７を通過して予備室天井裏９５に入り、予備室天井９４の小径開口を通過して予備室８１に供給される。予備室８１内の気体は、予備室排気ダクト９８を介して工場の排気設備に排気される。
【００９５】
図１，図２に示すように、第２主室外壁７８には、ワークＷを主室８０内の液滴吐出装置１に供給するとともに処理済みのワークＷを排出するためのワーク給排口１４６が設けられている。ワーク給排口１４６の開口サイズは、ワークＷが出入りできる最小サイズにすることが望ましい。第２主室外壁７８の外側には、ワーク給排口１４６の開口を閉鎖可能な開閉シャッタ１４７と、開閉シャッタ１４７を駆動してワーク給排口１４６を開閉するエアシリンダ１４８とが設けられている。また、ワーク給排口１４６の上下にはエアカッタ１４９が設けられている。
【００９６】
ワークＷの供給や排出が行われないときには、開閉シャッタ１４７でワーク給排口１４６を閉鎖し、主室８０内の気体がチャンバ７０の外部に流出するのを防止している。エアカッタ１４９は気体流のカーテンを構成するものであるが、本実施形態では、気体流の噴出し方向を第２主室外壁７８に平行な面より僅かに主室８０の内側方向にして、主室８０内の気体がチャンバ７０の外部のクリーンルーム内に流出するのを抑制している。
【００９７】
図１、図３に示すように、主室８０と予備室８１を隔てる隔壁７６には、予備室８１から主室８０へ出入りしたり、液滴吐出装置１の保守などの各種作業を行うための開口である主室出入り口１５１が形成されており、主室出入り口１５１を閉鎖可能な主室扉１５２が設けられている。主室扉１５２には、主室扉１５２の開閉状態を検出する開閉検出装置である主室扉開閉センサ１５３が設けられている。また、主室扉１５２には、主室扉１５２を開放禁止状態にできるロック装置である主室扉ロック装置１５５が設けられている。主室扉ロック装置１５５は、主室扉ロック機構１５６と主室扉ロック機構１５６を駆動させる第１アクチュエータ１５７とを備えており、後述するように第１アクチュエータ１５７によって主室扉ロック機構１５６を作動させて、主室扉１５２を開放禁止状態または開放許容状態にする。主室扉１５２の開閉は手作業で行われ、開閉操作を行う開閉レバー（図示省略）には、後述する、作業者が開放操作を行ったときに、主室扉１５２を開放しようとしていることを検知する主室扉スイッチ１５８（図１、２、３では図示省略）が設けられている。
【００９８】
副室８２と予備室８１を隔てる隔壁７６には、予備室８１から副室８２に設置された機能液タンク４５、洗浄液タンク４６、再利用タンク４７または排液タンク４８の交換などの各種作業を行うための開口である副室作業口１７１が形成されており、副室作業口１７１を閉鎖可能な副室扉１７２が設けられている。副室扉１７２には、副室扉１７２の開閉状態を検出する開閉検出装置である副室扉開閉センサ１７３が設けられている。また、副室扉１７２には、副室扉１７２を開放禁止状態にできるロック装置である副室扉ロック装置１７４が設けられている。副室扉ロック装置１７４は、副室扉ロック機構１７６と副室扉ロック機構１７６を駆動する第３アクチュエータ１７７を備えており、後述するように第３アクチュエータ１７７によって副室扉ロック機構１７６を作動させて、副室扉１７２を開放禁止状態または開放許容状態にする。副室扉１７２の開閉は手作業で行われ、開閉操作を行う開閉レバー（図示省略）には、後述する、作業者が開放操作を行ったときに、副室扉１７２を開放しようとしていることを検知する副室扉スイッチ１７８（図１、３では図示省略）が設けられている。
【００９９】
予備室８１を形成する第１予備室外壁９１と、第２予備室外壁９２とには、チャンバ７０の外部から予備室８１へ出入りするための開口である予備室出入り口１６１がそれぞれ形成されており、予備室出入り口１６１を閉鎖可能な予備室扉１６２がそれぞれ設けられている。予備室扉１６２には、予備室扉１６２の開閉状態を検出する開閉検出装置である予備室扉開閉センサ１６３が設けられている。また、予備室扉１６２には、予備室扉１６２を開放禁止状態にできるロック装置である予備室扉ロック装置１６４が設けられている。予備室扉ロック装置１６４は、予備室扉ロック機構１６６と予備室扉ロック機構１６６を駆動する第２アクチュエータ１６７とを備えており、後述するように第２アクチュエータ１６７によって予備室扉ロック機構１６６を作動させて、予備室扉１６２を開放禁止状態または開放許容状態にする。予備室扉１６２の開閉は手作業で行われ、開閉操作を行う開閉レバー（図示省略）には、後述する、作業者が開放操作を行ったときに、予備室扉１６２を開放しようとしていることを検知する予備室扉スイッチ外１６８がチャンバ７０の外部に、予備室扉スイッチ内１６９が予備室８１の中に設けられている（図示省略）。予備室出入り口１６１が特許請求の範囲に記載した外部出入り口に相当する。
【０１００】
次に、上記したような構成を有するチャンバ装置７を駆動するための電気的構成について説明する。図６は、チャンバ装置の電気的構成を示す電気構成ブロック図である。図６に示したチャンバコントロール装置７５は、チャンバ制御マイクロコンピュータ１８１を内蔵したチャンバコントローラ１８２と、入力装置及び表示装置としてのタッチパネルディスプレイ１８４とを有する。上記チャンバ制御マイクロコンピュータ１８１は、図６に示すように、演算処理を行うＣＰＵ（Central Processing Unit）１８５と、各種情報を記憶するメモリすなわち情報記憶媒体であるＲＡＭ１８６ａと、ＲＯＭ１８６ｂとを有している。ＣＰＵ１８５は、時間を計測するタイマ１８７を有している。
【０１０１】
上記した、主室排気ダンパ１４１、予備室排気ダンパ１４３、副室排気ダンパ１４０、第１アクチュエータ１５７、第２アクチュエータ１６７、第３アクチュエータ１７７、エアシリンダ１４８の各機器は、それぞれ、主室排気ダンパドライバ１４１ｄ、予備室排気ダンパドライバ１４３ｄ、第１アクチュエータドライバ１５７ｄ、第２アクチュエータドライバ１６７ｄ、第３アクチュエータドライバ１７７ｄ、エアシリンダドライバ１４８ｄを介してＣＰＵ１８５に接続されている。また、主室排気流量センサ１４２、予備室排気流量センサ１４４、副室排気流量センサ１４５、主室扉開閉センサ１５３、予備室扉開閉センサ１６３、副室扉開閉センサ１７３、主室扉スイッチ１５８、予備室扉外スイッチ１６８、予備室扉内スイッチ１６９、副室扉スイッチ１７８及びタッチパネルディスプレイ１８４の各機器も入出力インターフェース（図示省略）を介してＣＰＵ１８５に接続されている。
【０１０２】
メモリは、本実施例のＲＡＭ（Random Access Memory）、ＲＯＭ（Read Only Memory
）等といった半導体メモリや、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ読取り装置、ディスク型記憶媒体等といった外部記憶装置等を含む概念であり、機能的には、チャンバ装置７の動作の制御手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記憶領域や、ＣＰＵ１８５のためのワークエリアやテンポラリファイル等として機能する領域や、その他各種の記憶領域が設定される。ＣＰＵ１８５は、ＲＯＭ１８６ｂ内に記憶されたプログラムソフトに従って、チャンバ７０の給気や排気の制御や、各扉の開放禁止や開放許容などの制御を行うものである。
【０１０３】
なお、本実施形態では、上記の各機能をＣＰＵ１８５を用いてソフト的に実現することにしたが、上記の各機能がＣＰＵを用いない単独の電子回路によって実現できる場合には、そのような電子回路を用いることも可能である。
【０１０４】
以下、上記構成から成るチャンバ装置７における各扉１５２，１６２，１７２の開閉に関る動作を説明する。液滴吐出装置１が通常の運転をしており保守作業などを行わない場合には、チャンバ装置７の各扉１５２，１６２，１７２は閉じられている。主室８０内は、給排気が行われており、ＣＰＵ１８５によって主室排気ダンパ１４１が制御されることによって排気流量が制御されている。実際の排気流量は、主室排気ダクト８８内に設けられた主室排気流量センサ１４２によって測定され、測定結果がＣＰＵ１８５にフィードバックされている。本実施形態では、液滴吐出設備１０はクリーンルーム内に設置されており、チャンバ７０内の気体がクリーンルーム内に流出することを抑制するために、主室８０内の室圧がクリーンルームの室圧より低くなるように、排気流量が制御されている。
【０１０５】
チャンバ装置７の各扉が全て閉じられている状態が所定の時間継続すると、ＣＰＵ１８５は予備室排気ダンパ１４３を閉じて、予備室８１の排気を停止する。この場合、ＣＰＵ１８５及び各扉開閉センサ１５３，１５３，１７３が、請求項に記載した無人の判断部に相当する。液滴吐出装置１が通常の運転をしており保守作業などを行わない場合には、チャンバ装置７の各扉１５２，１６２，１７２は閉じられており、各扉１５２，１６２，１７２のロック装置１５５，１６４，１７４は各扉１５２，１６２，１７２を開放禁止状態にしており、予備室８１は排気が停止しており、給排気が停止した状態になっている。
【０１０６】
最初に、上記した、チャンバ装置７の各扉１５２，１６２，１７２は閉じられており、各扉のロック装置は各扉を開放禁止状態にしており、主室８０内は給排気が行われており、予備室８１は給排気が停止した状態のチャンバ７０に入るときの動作について説明する。図７は、チャンバ外部からチャンバ内部へ入るときの、チャンバ装置の動作を説明するフローチャートである。
【０１０７】
作業者が予備室扉１６２を開ける開閉レバーを操作すると、予備室扉外スイッチ１６８がＯＮ状態となる（ステップＳ２１でＹＥＳ）。このとき、予備室扉ロック装置１６４は、開放禁止状態のままであり、予備室扉１６２を開けることはできない。主室扉開閉センサ１５３の検出結果によって、主室扉１５２の閉鎖が確認される（ステップＳ２２）。主室扉１５２が開放されていた場合（ステップＳ２２でＮＯ）には、主室扉１５２が開放されているという警告を出す（ステップＳ２３）。
【０１０８】
主室扉１５２の閉鎖が確認された場合（ステップＳ２２でＹＥＳ）には、副室扉開閉センサ１７３の検出結果によって、副室扉１７２の閉鎖が確認される（ステップＳ２４）。副室扉１７２が開放されていた場合（ステップＳ２４でＮＯ）には、副室扉１７２が開放されているという警告を出す（ステップＳ２５）。
【０１０９】
副室扉１７２の閉鎖が確認された場合（ステップＳ２４でＹＥＳ）には、予備室排気ダンパ１４３を開放して、予備室８１の排気を行う（ステップＳ２６）。予備室排気ダンパ１４３を開放して、予備室８１の排気を開始してから、タイマ１８７によって経過時間を計時し、予備室８１内の気体を入替えることができる所定の時間にわたって排気を継続する（ステップＳ２７）。予備室扉ロック装置１６４は、開放禁止状態が解除され、予備室扉１６２を開けることができるようになる（ステップＳ２８）。なお、予備室排気ダクト９８に設けられた予備室排気流量センサ１４４によって、予備室８１からの排気流量が計測されており、所定の流量となるように、予備室排気ダンパ１４３の開口状態が制御される。
【０１１０】
次に、上記した図７の各ステップを経て開放可能になった予備室扉１６２を開けて、予備室８１に入った状態で、主室扉１５２を開ける場合の動作について説明する。この場合、チャンバ装置７の各扉１５２，１６２，１７２は閉じられており、主室扉ロック装置１５５及び副室扉ロック装置１７４は、主室扉１５２及び副室扉１７２を開放禁止状態にしており、主室８０及び予備室８１は給排気が行われている。図８は、予備室に入った状態で、主室扉を開ける場合の、チャンバ装置の動作を説明するフローチャートである。
【０１１１】
作業者が主室扉１５２を開ける開閉レバーを操作すると、主室扉スイッチ１５８がＯＮ状態となる（ステップＳ３１でＹＥＳ）。このとき、主室扉ロック装置１５５は、開放禁止状態のままであり、主室扉１５２を開けることはできない。予備室扉開閉センサ１６３の検出結果によって、予備室扉１６２の閉鎖が確認される（ステップＳ３２）。予備室扉１６２が開放されていた場合（ステップＳ３２でＮＯ）には、予備室扉１６２が開放されているという警告を出す（ステップＳ３３）。本実施例では、予備室８１内に設置されたブザーが鳴る。
【０１１２】
予備室扉１６２の閉鎖が確認された場合（ステップＳ３２でＹＥＳ）には、予備室扉ロック装置１６４を作動させて、予備室扉１６２をロックして開放禁止状態にする（ステップＳ３４）。なお、１箇所の予備室８１には２箇所の予備室扉１６２が設けてあるが、２箇所の予備室扉１６２の双方とも閉じている場合にのみ、予備室扉１６２が閉じているとして各制御を行う。また、２箇所の予備室扉ロック装置１６４は双方が同じ状態となるように制御される。
【０１１３】
タイマ１８７によって予備室扉１６２が閉鎖されてからの経過時間を計時し、予備室８１内の気体を入替えることができる所定時間が経過しているか、即ち所定時間にわたって排気を継続したかを確認する（ステップＳ３５）。所定時間が経過していない場合（ステップＳ３５でＮＯ）は、そのままの状態を所定時間が経過するまで維持する。所定時間が経過した場合（ステップＳ３５でＹＥＳ）は、主室扉ロック装置１５５は、開放禁止状態が解除され、主室扉１５２を開けることができるようになる（ステップＳ３６）。作業者は、手作業で主室扉１５２を開けて、液滴吐出装置１の保守などの作業を行う。作業者がチャンバ７０の内部に居る間は、主室扉１５２は開放したままで作業を行う。
【０１１４】
また、上記した図７の各ステップを経て開放可能になった予備室扉１６２を開けて、予備室８１に入った状態で、副室扉１７２を開ける場合の動作は、上記した図８の各ステップを経て主室扉１５２を開ける場合と同様である。
【０１１５】
次に、上記した図８の各ステップを経て開放可能になった主室扉１５２を開けて、各種作業を行った後、予備室扉１６２を開けてチャンバ７０から出る場合の動作について説明する。この場合、作業者がチャンバ７０の内部に居り、主室扉１５２は開放されている。予備室扉１６２は閉じられており、予備室扉ロック装置１６４は、予備室扉１６２を開放禁止状態にしており、主室８０及び予備室８１は給排気が行われている。
【０１１６】
主室８０内の室圧の制御は、空調機７１からの給気状態をほぼ一定に保ち、主室排気ダクト８８内の主室排気ダンパ１４１の開口状態を調整することで行われている。さらに、主室排気流量センサ１４２によって排気流量を測定しており、測定結果によって流量を調整することができる。予備室８１内の室圧は、空調機７１からの給気状態はほぼ一定であり、予備室排気ダクト９８内の予備室排気ダンパ１４３の開口状態を調整することで制御されている。さらに、予備室排気流量センサ１４４によって排気流量を測定しており、測定結果によって流量を調整することができる。
【０１１７】
本実施形態における液滴吐出設備１０はクリーンルームに設置されており、チャンバ７０内の気体がクリーンルーム内に流出することが好ましくない。従って、予備室８１内の室圧は、チャンバ装置７の室外に相当するクリーンルーム内の室圧より低くなるように、予備室排気ダンパ１４３の開口状態を調整している。また、主室８０内の室圧は、予備室８１内の室圧より低くなるように、主室排気ダンパ１４１の開口状態を調整している。
【０１１８】
図９は、予備室扉１６２を開けてチャンバ７０から出る場合の、チャンバ装置の動作を説明するフローチャートである。予備室扉１６２を開けるためには、まず開放されている主室扉１５２を閉鎖し、副室扉１７２を閉鎖して、予備室８１と主室８０または副室８２とを隔絶した状態にする。作業者が、予備室８１内で、予備室扉１６２を開ける開閉レバーを操作すると、予備室扉内スイッチ１６９がＯＮ状態となる（ステップＳ４１でＹＥＳ）。このとき、予備室扉ロック装置１６４は、開放禁止状態のままであり、予備室扉１６２を開けることはできない。
【０１１９】
主室扉開閉センサ１５３の検出結果によって、主室扉１５２の閉鎖が確認される（ステップＳ４２）。主室扉１５２が開放されていた場合（ステップＳ４２でＮＯ）には、主室扉１５２が開放されているという警告を出す（ステップＳ４３）。本実施形態では、予備室８１内に設置されたブザーが鳴る。主室扉１５２の閉鎖が確認された場合（ステップＳ４２でＹＥＳ）には、主室扉ロック装置１５５を作動させて、主室扉１５２をロックして開放禁止状態にする（ステップＳ４４）。
【０１２０】
次に、副室扉開閉センサ１７３の検出結果によって、副室扉１７２の閉鎖が確認される（ステップＳ４５）。副室扉１７２が開放されていた場合（ステップＳ４５でＮＯ）には、副室扉１７２が開放されているという警告を出す（ステップＳ４６）。本実施形態では、予備室８１内に設置されたブザーが鳴る。副室扉１７２の閉鎖が確認された場合（ステップＳ４５でＹＥＳ）には、副室扉ロック装置１７４を作動させて、副室扉１７２をロックして開放禁止状態にする（ステップＳ４７）。
【０１２１】
次に、ステップＳ４８で、タイマ１８７によって、主室扉１５２と副室扉１７２とのなかで、後から閉鎖された扉が閉鎖されてからの経過時間を計時し、予備室８１内の気体を入替えることができる所定時間が経過しているか、即ち所定時間にわたって排気を継続したかを確認する。所定時間が経過していない場合（ステップＳ４８でＮＯ）は、そのままの状態を所定時間が経過するまで継続する。所定時間が経過した場合（ステップＳ４８でＹＥＳ）は、予備室扉ロック装置１６４は、開放禁止状態（ロック状態）が解除され、予備室扉１６２を開けることができるようになる（ステップＳ４９）。
【０１２２】
次に、予備室扉開閉センサ１６３によって、一旦予備室扉１６２が開放されたことを確認し（ステップＳ５０）、さらに予備室扉１６２が閉鎖されたことを確認する（ステップＳ５１）。ステップＳ５０またはステップＳ５１でＮＯの場合は、ステップＳ４９を実行後の状態のまま待機する。予備室扉１６２が一旦開放されており（ステップＳ５０でＹＥＳ）、さらに予備室扉１６２が閉鎖された（ステップＳ５１でＹＥＳ）場合、予備室扉ロック装置１６４を作動させて、予備室扉１６２をロックして開放禁止状態にする（ステップＳ５２）。なお、１箇所の予備室８１には２箇所の予備室扉１６２が設けてあるが、１箇所の予備室扉１６２において開放及びその後の閉鎖が確認されれば、２箇所の予備室扉１６２において、ステップＳ５２が実行される。
【０１２３】
タイマ１８７によって予備室扉１６２が閉鎖されてからの経過時間を計時し、予備室８１内の気体を入替えることができる所定時間が経過しているか、即ち所定時間にわたって排気を継続したかを確認する（ステップＳ５３）。所定時間が経過していない場合（ステップＳ５３でＮＯ）は、そのままの状態を所定時間が経過するまで継続する。所定時間が経過した場合（ステップＳ５３でＹＥＳ）は、予備室排気ダンパ１４３を閉鎖して、予備室８１の排気を停止する（ステップＳ５４）。
【０１２４】
この第１の実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）チャンバ７０は、主室８０と予備室８１とを有し、主室８０は予備室８１を介して外部と連通されるとともに、主室扉１５２と予備室扉１６２とを設け、主室出入り口１５１と予備室出入り口１６１を閉鎖可能にしたため、主室８０と外部とが直接連通されていることがなく、扉を閉鎖して連通を遮断することもでき、主室８０内部の気体がチャンバ７０の外部にもれることを抑制することができる。
【０１２５】
（２）主室８０と予備室８１とにはそれぞれ給気ダクト８６，９６と排気ダクト８８，９８が設置されているため、主室８０から予備室８１に進入した気体を外部に流出する前に排気することができ、主室８０内部の気体がチャンバ７０の外部にもれることをより確実に抑制することができる。
【０１２６】
（３）主室扉１５２と予備室扉１６２との開閉状態を検知する開閉センサと、開放禁止状態にロックできるロック装置とを設けて、一方が開放されているときには他方はロックされるように制御したため、主室８０と外部とが連続した状態になる機会がなく、主室８０の気体が予備室８１に進入しても、さらに外部まで流出することはできない。従って、主室８０内の気体が予備室８１を通過して外部に流出する可能性を極めて小さくすることができる。
【０１２７】
（４）タイマ１８７によって、全扉が閉まった状態となってからの時間を計測して、所定時間を経過すると、チャンバ７０内は無人と判断して、予備室排気ダンパ１４３を閉じるように制御したため、無人状態では必要でない予備室８１の換気を停止して、空調機７１の給気負荷を減らすことによって、運転に必要なエネルギーを節減することができる。
【０１２８】
（５）作業者がチャンバ７０の外部から予備室８１に入る場合、タイマ１８７によって、予備室８１の換気実施時間を計時し、予備室８１内の全容量が換気される時間が経過した後予備室扉１６２を開放可能にするようにした。従って、主室８０から予備室８１に進入した気体があっても、予備室扉１６２を開放する前に排除することができ、作業者がチャンバ７０の外部から予備室８１に入るのに伴って、主室８０内部の気体がチャンバ７０の外部にもれることをより確実に抑制することができる。
【０１２９】
（６）作業者が予備室８１からチャンバ７０の外部へ出る場合、タイマ１８７によって、主室扉１５２が閉まった後の予備室８１の換気実施時間を計時し、予備室８１内の全容量が換気される時間が経過した後予備室扉１６２を開放可能にするようにした。これによって、主室８０から予備室８１に進入した気体を、予備室扉１６２を開放する前に排除することができ、主室８０内部の気体がチャンバ７０の外部に漏れることをより確実に抑制することができる。
【０１３０】
（７）作業者が予備室８１からチャンバ７０の外部へ出る場合、タイマ１８７によって、副室扉１７２が閉まった後の予備室８１の換気実施時間を計時し、予備室８１内の全容量が換気される時間が経過した後予備室扉１６２を開放可能にするようにした。これによって、副室８２から予備室８１に進入した気体を、予備室扉１６２を開放する前に排除することができ、副室８２内部の気体がチャンバ７０の外部に漏れることをより確実に抑制することができる。
【０１３１】
（８）予備室８１内では、予備室扉１６２を閉鎖し、主室扉１５２を開放したままで、液滴吐出装置１の保守作業などの作業を実施することができるため、別途作業スペースを設けることなく、外部と遮断された作業環境を実現することができ、主室８０内部の気体がチャンバ７０の外部にもれることを抑制するとともに、設備の省スペースを可能にしている。
【０１３２】
（９）主室排気ダンパ１４１によって主室８０からの排気量を制御することで、主室８０の室圧を制御し、予備室排気ダンパ１４３によって予備室８１からの排気量を制御することで、予備室８１の室圧を制御し、予備室８１の室圧を主室８０の室圧より高くしたことによって、主室８０内部の気体が予備室８１に流出することを抑制することができ、主室８０内部の気体がチャンバ７０の外部に漏れることをより確実に抑制することができる。
【０１３３】
（１０）予備室排気ダンパ１４３によって予備室８１からの排気量を制御することで、予備室８１の室圧を制御し、予備室８１の室圧をチャンバ７０の外部であるクリーンルームの室圧より低くしたことによって、予備室８１内部の気体がクリーンルームに流出することを抑制することができ、主室８０内部の気体がチャンバ７０の外部であるクリーンルームに漏れることをより確実に抑制することができる。
【０１３４】
（１１）液滴吐出装置１を収容する主室８０を区切って副室８２を設け、副室８２に機能液の溶媒などの蒸発ガスを発生させる可能性が高い機能液タンク４５と、洗浄液タンク４６と、再利用タンク４７と、排液タンク４８とを収容したため、液滴吐出装置１の雰囲気が機能液の溶媒などの蒸発ガスで汚染されることを抑制することができる。
【０１３５】
（１２）予備室８１と副室８２を隔てる隔壁７６に、副室８２内の機能液タンク４５などの交換などの作業ができる副室作業口１７１を設けたため、副室作業口１７１を介して予備室８１から機能液タンク４５などの交換などの作業が実施でき、機能液タンク４５などの交換などの作業によって、機能液の溶媒などの蒸発ガスがチャンバ７０の外部であるクリーンルームに漏れることを抑制することができる。
【０１３６】
（１３）副室扉１７２と予備室扉１６２との開閉状態を検知する開閉センサ１６３，１７３と、開放禁止状態にロックできるロック装置１６４，１７４とを設けて、一方が開放されているときには他方はロックされるように制御した。これによって、副室８２と外部とが連続した状態になる機会がなくなり、副室８２内の気体が予備室８１に進入しても、さらにその外部まで流出することはできない。従って、副室８２の気体が予備室８１を通過して外部に流出する可能性を極めて小さくすることができる。
【０１３７】
（１４）第２主室外壁７８にワーク給排口１４６を設け、ワーク給排口１４６の上下にエアカッタ１４９を設け、エアカッタ１４９の気体流の噴出し方向を第２主室外壁７８に平行な面より僅かに主室８０の内側方向にしたことにより、ワークＷの供給排出に伴う、主室８０内部の気体のチャンバ７０の外部への流出を抑制することができる。
【０１３８】
（１８）第２主室外壁７８にワーク給排口１４６を設け、その開口サイズを、ワークＷが出入りできる最小のサイズにするとともに、主室排気ダンパ１４１によって主室８０からの排気量を制御することで、主室８０の室圧を制御し、主室８０の室圧を外部のクリーンルームの室圧より低くしたことによって、ワークＷの供給排出に伴う、主室８０内部の気体のチャンバ７０の外部への流出を抑制することができる。
【０１３９】
（第２の実施形態）
次に、本発明の一実施形態である液滴吐出設備に係る第２の実施形態について説明する。本実施形態の液滴吐出設備２１０は、第１の実施形態で説明した液滴吐出設備１０を３台連ねて構成されたものであり、ワーク処理装置としての液滴吐出装置１は、第１の実施形態で説明した液滴吐出装置１と全く同一のものである。第１の実施形態とは異なる、チャンバ設備の構成についてのみ説明する。
【０１４０】
図１０は、液滴吐出設備及び周辺装置の配置を示す平面図である。図１０に示す液滴吐出設備２１０は、３台の液滴吐出装置１と、これを収容する３台のチャンバ装置７で構成されたチャンバ設備２０７とを備えている。液滴吐出設備２１０の周辺には、ワーク給排装置２２１と、ワーク収容棚２２２と、ワーク乾燥装置２２３とが、各々３台づつ、３台の液滴吐出装置１のそれぞれに対応した適当な位置に配置されている。
【０１４１】
ワーク給排装置２２１は、処理前のワークＷをワーク給排口１４６を介して、液滴吐出装置１に供給し、処理後のワークＷを取出す装置である。ワーク収容棚２２２は、処理前および処理後のワークＷを一時的に保管するものである。ワーク乾燥装置２２３は、液滴吐出装置１によって液滴吐出処理されたワークＷを乾燥させる装置である。ワーク給排装置２２１は、ワーク乾燥装置２２３へのワークＷの供給および取出し作業も行う。
【０１４２】
チャンバ設備２０７は、３台のチャンバ７０で構成されたチャンバ２７０と、３台の空調機７１と、３台の制御盤ボックス７２とで構成されている。チャンバ２７０は、第１の実施形態で説明したチャンバ７０を３台連ねた構成となっている。３台のチャンバ７０を、チャンバ７０の第３予備室外壁どうしが接合部になり、ワーク給排口１４６が同一方向になるように配置している。接合部は、第３予備室外壁を取り払い、主室８０に挟まれた予備室２８１は、第１の実施形態で説明した予備室８１を２台連ねた形状となっており、両側の主室８０の予備室となっている。
【０１４３】
第２予備室外壁９２に設けられた予備室扉１６２は、ワーク乾燥装置２２３を設置したことによって外側に開放できなくなっているものがあるが、本実施形態においては、扉を内側に開くようにすることで、開放可能にしている。さらに、一方の予備室出入り口１６１全体が塞がれても、第１予備室外壁９１に設けたもう一方予備室扉１６２を使用して、予備室８１や予備室２８１に出入りすることができる。
【０１４４】
３台の空調機７１と３台の制御盤ボックス７２とは、それぞれ３箇所の主室８０に対して、第１の実施形態の液滴吐出設備１０と同様に配置されている。チャンバ設備２０７は、１組の主室８０と、空調機７１と、制御盤ボックス７２と、予備室８１と、予備室２８１と毎に、各々独立して運転される。ただし、主室８０に挟まれた予備室２８１に係る制御は、予備室２８１に隣接した副室８２がある主室８０に係る制御を行うチャンバコントロール装置７５が行う。なお、１箇所の予備室２８１に臨む主室扉１５２は、２箇所あるが、２箇所の主室扉１５２の双方とも閉じている場合にのみ、主室扉１５２が閉じているとして各制御を行う。また、２箇所の主室扉ロック装置１５５は双方が同じ状態となるように制御される。独立して運転される各１組は、第１の実施形態で説明したチャンバ装置７と同様に動作する。
【０１４５】
３台の液滴吐出装置１は、同一の工程を並行して行っても良い。また、同一のワークＷの連続する３つの異なる工程を、３台の液滴吐出装置１がそれぞれ１工程ずつ行っても良い。
【０１４６】
この第２の実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）隔壁７６と対向しない第２主室外壁７８にワーク給排口１４６を形成し、隔壁７６と対向しない第１予備室外壁９１及び第２予備室外壁９２に予備室扉１６２を設け、予備室扉１６２を設けてない壁面でチャンバ７０を連結した。これによって、ワーク給排口１４６に影響を与えることなく、チャンバ装置７を連ねたチャンバ設備２０７を形成することができる。
【０１４７】
（２）各予備室８１には、２箇所に予備室扉１６２が設けてあるため、周辺の装置の都合などにより、一方の予備室扉１６２が使用できなくてももう一方の予備室扉１６２で対応することができ、装置配置の自由度の制限を軽減することができる。
【０１４８】
（３）チャンバ装置７を連ねてチャンバ設備２０７を形成したため、チャンバ装置間のスペースを必要とせず、効率よく多数のチャンバ装置を設置することができる。
【０１４９】
（４）同様に、チャンバ装置内に設置することが望ましい複数の装置を、効率よく配置することができる。
【０１５０】
（５）液滴吐出装置１を収容する主室８０を、予備室２８１を挟んで連なるように配置したため、チャンバ装置７を連ねたチャンバ設備２０７においても第１の実施形態と同様の効果が得られる。
【０１５１】
（第３の実施形態）
次に、本発明の液滴吐出設備１０または液滴吐出設備２１０を使って製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。
【０１５２】
先ず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図１１は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１２は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ６００（フィルタ基体６００Ａ）の模式断面図である。まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ７１）では、図１２（ａ）に示すように、基板（Ｗ）６０１上にブラックマトリクス６０２を形成する。ブラックマトリクス６０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス６０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【０１５３】
続いて、バンク形成工程（Ｓ７２）において、ブラックマトリクス６０２上に重畳する状態でバンク６０３を形成する。即ち、まず図１２（ｂ）に示すように、基板６０１及びブラックマトリクス６０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層６０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム６０５で被覆した状態で露光処理を行う。さらに、図１２（ｃ）に示すように、レジスト層６０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層６０４をパターニングして、バンク６０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。このバンク６０３とその下のブラックマトリクス６０２は、各画素領域６０７ａを区画する区画壁部６０７ｂとなり、後の着色層形成工程において液滴吐出ヘッド１１１により着色層（成膜部）６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【０１５４】
以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体６００Ａが得られる。なお、本実施形態においては、バンク６０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）６０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク６０３（区画壁部６０７ｂ）に囲まれた各画素領域６０７ａ内への液滴の着弾位置精度が向上する。
【０１５５】
次に、着色層形成工程（Ｓ７３）では、図１２（ｄ）に示すように、液滴吐出ヘッド１１１によって機能液滴を吐出して区画壁部６０７ｂで囲まれた各画素領域６０７ａ内に着弾させる。この場合、液滴吐出ヘッド１１１を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１５６】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成する。着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ７４）に移り、図１２（ｅ）に示すように、基板６０１、区画壁部６０７ｂ、および着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂの上面を覆うように保護膜６０９を形成する。即ち、基板６０１の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜６０９が形成される。そして、保護膜６０９を形成した後、カラーフィルタ６００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【０１５７】
図１３は、上記のカラーフィルタ６００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置６２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ６００は図１２に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省
略する。
【０１５８】
この液晶装置６２０は、カラーフィルタ６００、ガラス基板等からなる対向基板６２１、及び、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層６２２により概略構成されており、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置している。なお、図示していないが、対向基板６２１およびカラーフィルタ６００の外面（液晶層６２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板６２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【０１５９】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層側）には、図２９において左右方向に長尺な短冊状の第１電極６２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６２３のカラーフィルタ６００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜６２４が形成されている。一方、対向基板６２１におけるカラーフィルタ６００と対向する面には、カラーフィルタ６００の第１電極６２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極６２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極６２６の液晶層６２２側の面を覆うように第２配向膜６２７が形成されている。これらの第１電極６２３および第２電極６２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【０１６０】
液晶層６２２内に設けられたスペーサ６２８は、液晶層６２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材６２９は液晶層６２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極６２３の一端部は引き回し配線６２３ａとしてシール材６２９の外側まで延在している。そして、第１電極６２３と第２電極６２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１６１】
通常の製造工程では、カラーフィルタ６００に、第１電極６２３のパターニングおよび第１配向膜６２４の塗布を行ってカラーフィルタ６００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板６２１に、第２電極６２６のパターニングおよび第２配向膜６２７の塗布を行って対向基板６２１側の部分を作成する。その後、対向基板６２１側の部分にスペーサ６２８およびシール材６２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材６２９の注入口から液晶層６２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【０１６２】
実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板６２１側の部分にカラーフィルタ６００側の部分を貼り合わせる前に、シール材６２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材６２９の印刷を、液滴吐出ヘッド１１１で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜６２４，６２７の塗布を液滴吐出ヘッド１１１で行うことも可能である。
【０１６３】
図１４は、本実施形態において製造したカラーフィルタ６００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置６３０が上記液晶装置６２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ６００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。この液晶装置６３０は、カラーフィルタ６００とガラス基板等からなる対向基板６３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層６３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板６３１およびカラーフィルタ６００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【０１６４】
カラーフィルタ６００の保護膜６０９上（液晶層６３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極６３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極６３３の液晶層６３２側の面を覆うように第１配向膜６３４が形成されている。対向基板６３１のカラーフィルタ６００と対向する面上には、カラーフィルタ６００側の第１電極６３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極６３６が所定の間隔で形成され、この第２電極６３６の液晶層６３２側の面を覆うように第２配向膜６３７が形成されている。
【０１６５】
液晶層６３２には、この液晶層６３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ６３８と、液晶層６３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材６３９が設けられている。そして、上記した液晶装置６２０と同様に、第１電極６３３と第２電極６３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ６００の着色層６０８Ｒ、６０８Ｇ、６０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１６６】
図１５は、本発明を適用したカラーフィルタ６００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【０１６７】
この液晶装置６５０は、カラーフィルタ６００と、これに対向するように配置された対向基板６５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ６００の上面側（観測者側）に配置された偏光板６５５と、対向基板６５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。カラーフィルタ６００の保護膜６０９の表面（対向基板６５１側の面）には液晶駆動用の電極６５６が形成されている。この電極６５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極６６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極６５６の画素電極６６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜６５７が設けられている。
【０１６８】
対向基板６５１のカラーフィルタ６００と対向する面には絶縁層６５８が形成されており、この絶縁層６５８上には、走査線６６１及び信号線６６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた領域内には画素電極６６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極６６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【０１６９】
また、画素電極６６０の切欠部と走査線６６１と信号線６６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ６６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線６６１と信号線６６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ６６３をオン・オフして画素電極６６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【０１７０】
なお、上記の各例の液晶装置６２０，６３０，６５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【０１７１】
次に、図１６は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置７００と称する）の要部断面図である。この表示装置７００は、基板（Ｗ）７０１上に、回路素子部７０２、発光素子部７０３及び陰極７０４が積層された状態で概略構成されている。この表示装置７００においては、発光素子部７０３から基板７０１側に発した光が、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部７０３から基板７０１の反対側に発した光が陰極７０４により反射された後、回路素子部７０２及び基板７０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【０１７２】
回路素子部７０２と基板７０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜７０６が形成され、この下地保護膜７０６上（発光素子部７０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜７０７が形成されている。この半導体膜７０７の左右の領域には、ソース領域７０７ａ及びドレイン領域７０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域７０７ｃとなっている。
【０１７３】
また、回路素子部７０２には、下地保護膜７０６及び半導体膜７０７を覆う透明なゲート絶縁膜７０８が形成され、このゲート絶縁膜７０８上の半導体膜７０７のチャネル領域７０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極７０９が形成されている。このゲート電極７０９及びゲート絶縁膜７０８上には、透明な第１層間絶縁膜７１１ａと第２層間絶縁膜７１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜７１１ａ、７１１ｂを貫通して、半導体膜７０７のソース領域７０７ａ、ドレイン領域７０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール７１２ａ，７１２ｂが形成されている。
【０１７４】
そして、第２層間絶縁膜７１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極７１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極７１３は、コンタクトホール７１２ａを通じてソース領域７０７ａに接続されている。また、第１層間絶縁膜７１１ａ上には電源線７１４が配設されており、この電源線７１４は、コンタクトホール７１２ｂを通じてドレイン領域７０７ｂに接続されている。このように、回路素子部７０２には、各画素電極７１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ７１５がそれぞれ形成されている。
【０１７５】
上記発光素子部７０３は、複数の画素電極７１３上の各々に積層された機能層７１７と、各画素電極７１３及び機能層７１７の間に備えられて各機能層７１７を区画するバンク部７１８とにより概略構成されている。これら画素電極７１３、機能層７１７、及び、機能層７１７上に配設された陰極７０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極７１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極７１３の間にバンク部７１８が形成されている。
【０１７６】
バンク部７１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機材料により形成される無機物バンク層７１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層７１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層７１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部７１８の一部は、画素電極７１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。そして、各バンク部７１８の間には、画素電極７１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部７１９が形成されている。
【０１７７】
上記機能層７１７は、開口部７１９内において画素電極７１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層７１７ａと、この正孔注入／輸送層７１７ａ上に形成された発光層７１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層７１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。正孔注入／輸送層７１７ａは、画素電極７１３側から正孔を輸送して発光層７１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層７１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【０１７８】
発光層７１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）の何れかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層７１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層７１７ａを再溶解させることなく発光層７１７ｂを形成することができる。そして、発光層７１７ｂでは、正孔注入／輸送層７１７ａから注入された正孔と、陰極７０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１７９】
陰極７０４は、発光素子部７０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極７１３と対になって機能層７１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極７０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１８０】
次に、上記の表示装置７００の製造工程を図１７〜図２５を参照して説明する。この表示装置７００は、図１７に示すように、バンク部形成工程（Ｓ８１）、表面処理工程（Ｓ８２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ８３）、発光層形成工程（Ｓ８４）、及び対向電極形成工程（Ｓ８５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１８１】
まず、バンク部形成工程（Ｓ８１）では、図１８に示すように、第２層間絶縁膜７１１ｂ上に無機物バンク層７１８ａを形成する。この無機物バンク層７１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層７１８ａの一部は画素電極７１３の周縁部と重なるように形成される。
【０１８２】
無機物バンク層７１８ａを形成したならば、図１９に示すように、無機物バンク層７１８ａ上に有機物バンク層７１８ｂを形成する。この有機物バンク層７１８ｂも無機物バンク層７１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。このようにしてバンク部７１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部７１８間には、画素電極７１３に対して上方に開口した開口部７１９が形成される。この開口部７１９は、画素領域を規定する。
【０１８３】
表面処理工程（Ｓ８２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層７１８ａの第１積層部７１８ａａ及び画素電極７１３の電極面７１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極７１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。また、撥液化処理は、有機物バンク層７１８ｂの壁面７１８ｓ及び有機物バンク層７１８ｂの上面７１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。この表面処理工程を行うことにより、液滴吐出ヘッド１１１を用いて機能層７１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部７１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１８４】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体７００Ａが得られる。この表示装置基体７００Ａは、図１及び図２に示した液滴吐出装置１の基板テーブル３に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ８３）及び発光層形成工程（Ｓ８４）が行われる。
【０１８５】
図２０に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ８３）では、液滴吐出ヘッド１１１から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部７１９内に吐出する。その後、図３７に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面７１３ａ）７１３上に正孔注入／輸送層７１７ａを形成する。
【０１８６】
次に発光層形成工程（Ｓ８４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層７１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層７１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。しかしその一方で、正孔注入／輸送層７１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層７１７ａと発光層７１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層７１７ｂを均一に塗布できない虞がある。そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層７１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層７１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層７１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層７１７ａに均一に塗布することができる。
【０１８７】
そして次に、図２２に示すように、各色のうちの何れか（図２２の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部７１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層７１７ａ上に広がって開口部７１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部７１８の上面７１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面７１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部７１９内に転がり込み易くなっている。
【０１８８】
その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２３に示すように、正孔注入／輸送層７１７ａ上に発光層７１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂが形成されている。
【０１８９】
同様に、液滴吐出ヘッド１１１を用い、図２４に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層７１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層７１７ｂを形成する。なお、発光層７１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１９０】
以上のようにして、画素電極７１３上に機能層７１７、即ち、正孔注入／輸送層７１７ａ及び発光層７１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ８５）に移行する。
【０１９１】
対向電極形成工程（Ｓ８５）では、図２５に示すように、発光層７１７ｂ及び有機物バンク層７１８ｂの全面に陰極７０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極７０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。この陰極７０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ2、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１９２】
このようにして陰極７０４を形成した後、この陰極７０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置７００が得られる。
【０１９３】
次に、図２６は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置８００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される放電表示部８０３を含んで概略構成される。放電表示部８０３は、複数の放電室８０５により構成されている。これらの複数の放電室８０５のうち、赤色放電室８０５Ｒ、緑色放電室８０５Ｇ、青色放電室８０５Ｂの３つの放電室８０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１９４】
第１基板８０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極８０６が形成され、このアドレス電極８０６と第１基板８０１の上面とを覆うように誘電体層８０７が形成されている。誘電体層８０７上には、各アドレス電極８０６の間に位置し、且つ各アドレス電極８０６に沿うように隔壁８０８が立設されている。この隔壁８０８は、図示するようにアドレス電極８０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極８０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。そして、この隔壁８０８によって仕切られた領域が放電室８０５となっている。
【０１９５】
放電室８０５内には蛍光体８０９が配置されている。蛍光体８０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室８０５Ｒの底部には赤色蛍光体８０９Ｒが、緑色放電室８０５Ｇの底部には緑色蛍光体８０９Ｇが、青色放電室８０５Ｂの底部には青色蛍光体８０９Ｂが各々配置されている。
【０１９６】
第２基板８０２の図中下側の面には、上記アドレス電極８０６と直交する方向に複数の表示電極８１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層８１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜８１３が形成されている。第１基板８０１と第２基板８０２とは、アドレス電極８０６と表示電極８１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極８０６と表示電極８１１は図示しない交流電源に接続されている。そして、各電極８０６，８１１に通電することにより、放電表示部８０３において蛍光体８０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１９７】
本実施形態においては、上記アドレス電極８０６、表示電極８１１、及び蛍光体８０９を、図１及び図２に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板８０１におけるアドレス電極８０６の形成工程を例示する。この場合、第１基板８０１を液滴吐出装置１の基板テーブル３に載置された状態で以下の工程が行われる。まず、液滴吐出ヘッド１１１により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１９８】
補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極８０６が形成される。
【０１９９】
ところで、上記においてはアドレス電極８０６の形成を例示したが、上記表示電極８１１及び蛍光体８０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。表示電極８１１の形成の場合、アドレス電極８０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。また、蛍光体８０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を液滴吐出ヘッド１１１から液滴として吐出し、対応する色の放電室８０５内に着弾させる。
【０２００】
次に、図２７は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置９００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置９００を、その一部を断面として示してある。この表示装置９００は、互いに対向して配置された第１基板９０１、第２基板９０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部９０３を含んで概略構成される。電界放出表示部９０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部９０５により構成されている。
【０２０１】
第１基板９０１の上面には、カソード電極９０６を構成する第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ９０８を形成した導電性膜９０７が形成されている。すなわち、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７により複数の電子放出部９０５が構成されている。導電性膜９０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ９０８は、導電性膜９０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０２０２】
第２基板９０２の下面には、カソード電極９０６に対峙するアノード電極９０９が形成されている。アノード電極９０９の下面には、格子状のバンク部９１１が形成され、このバンク部９１１で囲まれた下向きの各開口部９１２に、電子放出部９０５に対応するように蛍光体９１３が配置されている。蛍光体９１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部９１２には、赤色蛍光体９１３Ｒ、緑色蛍光体９１３Ｇおよび青色蛍光体９１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０２０３】
そして、このように構成した第１基板９０１と第２基板９０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置９００では、導電性膜（ギャップ９０８）９０７を介して、陰極である第１素子電極９０６ａまたは第２素子電極９０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極９０９に形成した蛍光体９１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０２０４】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂ、導電性膜９０７およびアノード電極９０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体９１３Ｒ，９１３Ｇ，９１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。
【０２０５】
第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７は、図２８（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２８（ｂ）に示すように、予め第１素子電極９０６ａ、第２素子電極９０６ｂおよび導電性膜９０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極９０６ａおよび第２素子電極９０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜９０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜９０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板９０１および第２基板９０２に対する親液化処理や、バンク部９１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０２０６】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光
拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を有する液滴吐出設備１０を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【０２０７】
この第３の実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）第１の実施形態や第２の実施形態と同様な効果が得られ、電気光学装置を形成する工程で発生する機能液のミストや機能液の溶媒の蒸発ガスが、液滴吐出設備の外部に漏れる可能性を非常に小さくすることができる。
【０２０８】
（２）機能液のミストや機能液の溶媒の蒸発ガスが、液滴吐出設備の外部に漏れる可能性を非常に小さくすることができるため、例えば半導体製造プロセスのような、機能液のミストや機能液の溶媒の蒸発ガスなどの影響を受け易い状態の製品を扱う工程も、電気光学装置に影響を与える可能性が極めて小さい環境を維持したまま、液滴吐出設備の近傍で実施することができる。
【０２０９】
（３）各製造設備を近接して設けることができるため、半完成製品の輸送の必要が少なくなり、製造を効率よく行うことができる。また、外部からの影響を受け易い半完成製品の状態で輸送される機会が少なくなり、電気光学装置が悪影響を受ける可能性を小さくすることができる。
【０２１０】
本発明の実施形態は、前記各実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論であり、以下のように実施することもできる。
【０２１１】
（変形例１）前記実施形態においては、本発明の液滴吐出設備をクリーンルーム内に設置していたが、設置場所はクリーンルームのような清浄な雰囲気の場所でなくてもよい。清浄でない雰囲気内で液滴吐出設備１０，２１０を使用する場合は、清浄でない雰囲気が液滴吐出装置１の周辺に侵入することを抑制することが好ましい。従って、予備室８１内の室圧は、チャンバ装置７またはチャンバ設備２０７の室外の室圧（大気圧）より高くなるように、予備室排気ダンパ１４３の開口状態を調整する。また、主室８０内の室圧は、予備室８１内の室圧より高くなるように、主室排気ダンパ１４１及び予備室排気ダンパ１４３の開口状態を設定する。
【０２１２】
また、第２主室外壁７８に設けられたワーク給排口１４６の上下に設けられたエアカッタ１４９については、気体流の噴出し方向を第２主室外壁７８に平行な面より僅かに主室８０の外側方向にして、チャンバ７０または２７０の周囲の気体が主室８０内に進入するのを抑制する。さらに、前記実施形態においては、エアカッタ１４９は第２主室外壁７８の内側に設けてあるが、第２主室外壁７８の外側に設けてもよい。
【０２１３】
（変形例２）前記実施形態においては、それぞれの扉１５２，１６２，１７２を開放禁止状態にすることができる主室扉ロック装置１５５などのロック装置を設けたが、ロック装置を設けることは必須ではない。ロック装置を廃止し、例えば主室扉１５２が開いた状態のときに予備室扉１６２を開けようとした場合に、主室扉１５２が開いていることを警告することのみで、対応ようにしてもよい。ロック機構が不要となり、装置を簡単化及び低コスト化できる。また、液滴吐出装置１の異常などの緊急時に際しては、警告を無視すれば、チャンバ装置７の動作に拘束されることなく、迅速にチャンバ７０内に入ることができ、緊急事態に迅速に対処することができる。
【０２１４】
（変形例３）前記実施形態においては、主室８０と副室８２とに排気ダクト８８，８９を設け、主室８０への吸気が主室の一角に形成した副室８２にも給気されるように構成されているが、排気ダクトは副室８２に設け、副室８２には主室８０への給気が直接流入しないようにしてもよい。この場合、副室８２に設けた排気ダクトが、上記した実施形態における主室排気ダクト８８に相当する。またこの場合には、主室８０と副室８２とを隔てる副室壁７９には、小径の通気窓を設け、主室８０内の液滴吐出装置１周囲の気体は通気窓を介して副室８２内の気体と連通するようにする。
【０２１５】
空調機７１から供給された空気は、給気フィルタ８７を通過して主室天井裏８５に入り、主室天井８４の小径開口を通過して主室８０に供給される。副室８２内の空気が副室８２内の主室排気ダクト８８を介して工場の排気設備に排気され、主室８０内の空気は、副室壁７９の通気窓を通過して副室８２内に流入し、副室８２内の主室排気ダクト８８を介して工場の排気設備に排気される。
【０２１６】
主室８０内の室圧は、空調機７１からの給気状態はほぼ一定であり、副室８２に設けた主室排気ダクト８８内の主室排気ダンパ１４１の開口状態を調整することで制御されている。予備室８１内の室圧は、空調機７１からの給気状態はほぼ一定であり、予備室排気ダクト９８内の予備室排気ダンパ１４３の開放状態を調整することで制御されている。本実変形例における液滴吐出設備では、主室８０内の室圧と、予備室８１内の室圧とが同等となるように、主室排気ダンパ１４１および予備室排気ダンパ１４３の開放状態を調整している。
【０２１７】
本変形例の構成によれば、主室８０内の室圧と、予備室８１内の室圧とが同等であり、主室扉１５２を開放した状態でも、主室８０と、予備室８１の一方から他方への気流が発生し難く、主室８０内の気体が予備室８１へ流出したり、予備室８１の気体が主室８０に侵入したりすることが起こり難い。従って、主室８０内の気体がチャンバ７０の外部に漏れることを抑制することができるとともに、主室８０内にチャンバ７０の外部の気体が侵入することを抑制することができる。
【０２１８】
また、本変形例の構成によれば、主室８０と副室８２とは小径の通気窓で連通しており、小径の通気窓部分では対流が発生し難いため、主室８０内の気体と副室８２内の気体とが混じりあって、液滴吐出装置１の雰囲気が機能液の溶媒などの蒸発ガスで汚染されることを抑制することができる。さらに、主室８０内の気体は副室８２を経由して排出されるようにしたため、主室８０内の気体は小径の通気窓を経由して副室８２に流入し、副室８２内の気体が主室８０に流入する可能性が極めて小さくなり、液滴吐出装置１の雰囲気が機能液の溶媒などの蒸発ガスで汚染されることを抑制することができる。
【０２１９】
さらに、本変形例の構成によれば、主室排気ダクト８８を副室８２に設けて主室８０内の気体は副室８２を経由して排出されるようにするとともに、主室排気ダンパ１４１によって主室８０からの排気量を制御することで、主室８０の室圧を制御し、予備室排気ダンパ１４３によって予備室８１からの排気量を制御することで、予備室８１の室圧を制御し、予備室８１の室圧と主室８０の室圧とを同等にした。これによって、予備室８１の室圧は副室８２の室圧より高くなり、副室８２内の機能液の溶媒などの蒸発ガスなどが予備室８１に流出することを抑制することができ、副室８２内の気体がチャンバ７０の外部に漏れることを抑制することができる。
【０２２０】
（変形例４）前記実施形態においては、各扉１５２，１６２，１７２を開放する前に予備室８１内の空気の入替えをおこなっているが、空気の入替えは必須ではない。例えば、予備室８１の室圧を、主室８０の室圧とチャンバ７０の外部の室圧とのうち高い方より高くすることにより、主室８０内の気体が予備室８１に漏れることを抑制することができるとともに、チャンバ７０の外部の気体が予備室８１に侵入することを抑制することができる。従って、主室８０内の気体がチャンバ７０の外部に漏れることを抑制することができるとともに、主室８０内にチャンバ７０の外部の気体が侵入することを抑制することができる。
【０２２１】
（変形例５）前記実施形態においては、作業者がチャンバ７０に入るために予備室扉１６２を開放する前に予備室８１内の空気の入替えをおこなっているが、チャンバ７０に入るときの空気の入替えは必須ではない。例えば、清浄でない雰囲気内で液滴吐出設備１０，２１０を使用する場合は、清浄でない雰囲気が液滴吐出装置１の周辺に侵入することを抑制することが好ましく、主室８０内の気体がチャンバ７０外部に漏れることは問題ではない。チャンバ７０に入る前の予備室８１内の空気の入替えを省くことにより、空気の入替えに要する時間が不要になり、時間を節減することができる。
【０２２２】
（変形例６）前記実施形態においては、作業者が予備室８１に入ってから主室扉１５２または副室扉１７２を開放する前に予備室８１内の空気の入替えをおこなっているが、この空気の入替えは必須ではない。例えば、クリーンルームのような清浄な雰囲気内で液滴吐出設備１０，２１０を使用する場合は、液滴吐出装置１の周辺や副室８２内の清浄でない気体がクリーンルームに漏れることを抑制することが好ましく、クリーンルーム内の気体が主室８０や副室８２に侵入することは問題ではない。主室扉１５２または副室扉１７２を開放する前の予備室８１内の空気の入替えを省くことにより、空気の入替えに要する時間が不要になり、時間をすることが節減できる。
【０２２３】
（変形例７）前記実施形態においては、作業者がチャンバ７０から出るために予備室扉１６２を開放する前に予備室８１内の空気の入替えをおこなっているが、チャンバ７０から出るときの空気の入替えは必須ではない。例えば、清浄でない雰囲気内で液滴吐出設備１０，２１０を使用する場合は、清浄でない雰囲気が液滴吐出装置１の周辺に侵入することを抑制することが好ましく、主室８０内の気体がチャンバ７０外部に漏れることは問題ではない。チャンバ７０から出る前の予備室８１内の空気の入替えを省くことにより、空気の入替えに要する時間が不要になり、時間を節減することができる。
【０２２４】
（変形例８）前記実施形態においては、作業者がチャンバ７０から出て、扉が閉鎖された後も所定時間の間予備室８１の排気をおこなっているが、この空気の入替えは必須ではない。この場合、主室扉１５２および副室扉１７２は閉じられており、予備室８１内に侵入した可能性がある外部の気体が、主室８０に侵入することは防止できる。扉が閉鎖された後、直ちに排気を停止することにより、給気装置の負荷を減らして消費エネルギーを節減することができる。
【０２２５】
（変形例９）前記実施形態においては、排気設備に排気ダクト８８，９８を接続して空気の入替えを行っているが、給気に圧縮空気を使用してもよい。前記実施形態においては、空気流量の制御及び室圧の制御は、排気流量を制御して行っているが、この場合には、給気流量を制御して空気流量の制御及び室圧の制御を行う。
【０２２６】
（変形例１０）前記実施形態においては、それぞれの扉１５２，１７２，１７２は手作業で開閉する構成となっているが、自動開閉機構及び自動開閉機構を操作する開閉スイッチを設けて、開閉スイッチの操作によって、自動で各扉を開閉する構成にしてもよい。この場合、各扉のロック装置は設けなくてもよい。開閉スイッチが扉を開けるように操作された場合、図７などに示した扉を開放するために必要な諸工程を実施した後迅速に扉が開放される。また、所定時間を超えて扉が開放された場合は自動的に扉を閉じるように設定することによって、閉め忘れによる扉の長時間開放を防止することができる。但し、主室扉１５２については、作業者を検知して、作業者が検知されなくなってから所定時間を超えて主室扉１５２が開放されている場合に閉じるようにする。
【０２２７】
（変形例１１）前記第２の実施形態においては、チャンバ設備２０７において、第２主室外壁７８にワーク給排口１４６を設け、チャンバ設備２０７の外部からワークの供給及び排出をおこなったが、予備室２８１からワークの供給及び排出を行ってもよい。この場合、ワークの供給及び排出は、主室出入り口１５１を介して行ってもよいし、予備室２８１の両側の隔壁７６に給排口１４６を設け、給排口１４６を介して行ってもよい。予備室２８１内に、ワーク給排装置２２１を設置してもよい。ワークの供給及び排出に伴ってチャンバ設備２０７の内部と外部が連通する機会がなくなるため、チャンバ設備２０７内の気体の外部への流出や、チャンバ設備２０７内への外部の気体の侵入を抑制することができる。
【０２２８】
また、予備室２８１を挟んで隣接する主室８０に設置したワーク処理装置で、連続する工程を実施し、最初の工程が終了したワークＷを排出し、直ちに次の工程を行うワーク処理装置に供給するようにしてもよい。ワークＷの移動工程が１回で済み、工程間の時間が節減できる。
【０２２９】
（変形例１２）前記第２の実施形態においては、チャンバ設備２０７において、第２主室外壁７８にワーク給排口１４６を設け、チャンバ設備２０７の外部からワークの供給及び排出をおこなったが、ワーク給排装置２２１とワーク収容棚２２２とワーク乾燥装置２２３とを収容する第２予備室を設けてもよい。また、第２予備室はワーク給排装置２２１とワーク収容棚２２２とワーク乾燥装置２２３とを各１台ずつ収容する構成でもよいし、各３台のワーク給排装置２２１とワーク収容棚２２２とワーク乾燥装置２２３とを収容する構成でもよい。ワークの供給及び排出に伴ってチャンバ設備２０７の内部と外部が連通する機会がなくなるため、チャンバ設備２０７内の気体の外部への流出や、チャンバ設備２０７内への外部の気体の侵入を抑制することができる。
【０２３０】
（変形例１３）前記実施形態においては、主室８０及び予備室８１の室圧の制御は、それぞれ主室排気流量センサ１４２及び予備室排気流量センサ１４４によって排気流量を測定し、その測定結果をＣＰＵ１８５にフィードバックして、排気ダンパを制御することで行っていたが、主室８０及び予備室８１の圧力センサを設けて、室圧を測定してもよい。
【０２３１】
（変形例１４）本発明のチャンバ装置およびチャンバ設備は、さらに、それを構成する壁の一部または一面の壁全部を取り外し可能に構成することが好ましい。壁を取り外すことによって、主室８０内にワーク処理装置を設置する作業が容易になる。
【０２３２】
（変形例１５）本発明のチャンバ装置およびチャンバ設備は、ワーク処理装置を設置し、次に、設置したワーク処理装置を囲むチャンバ装置またはチャンバ設備を組み立てるような組立方法を採ることが好ましい。主室８０にワーク処理装置を搬入する作業が不要となり、移動が困難な大型のワーク処理装置を収容するチャンバ装置またはチャンバ設備の場合、有用である。
【０２３３】
（変形例１６）前記実施形態においては、予備室扉１６２内の気体の入替え完了を確認するために、タイマ１８７によって各扉１５２，１６２，１７２が閉鎖されてからの経過時間を計時し、予備室８１内の気体を入替えることができる所定時間が経過しているか、即ち所定時間にわたって排気を継続したかを確認しているが、排気した気体量を測定することによってもよい。即ち、予備室排気流量センサ１４４によって排気流量を測定して、予備室８１，２８１の容量に相当する気体が排気されたことによって、気体の入替え完了を確認してもよい。
【０２３４】
（変形例１７）前記実施形態においては、レーザー測長器１５によって検出された基板テーブル３の移動距離（現在位置）に基づいて、液滴吐出ヘッド１１１からの吐出タイミングが生成されているが、リニアモータ１０１と平行にガラススケールを設け、ガラススケールの信号を元に吐出タイミングを生成してもよい。
【０２３５】
（変形例１８）前記実施形態においては、１箇所の予備室８１に設けてある２箇所の予備室扉ロック装置１６４は双方が同じ状態となるように制御されているが、２箇所の予備室扉１６２の双方が開いていることを禁止するように制御してもよい。
【０２３６】
この場合、例えば外部から予備室扉１５２を開ける場合について説明する。予備室扉外スイッチ１６８がＯＮ状態となる（上記実施形態のステップＳ２１でＹＥＳ）。続いて、主室扉開閉センサ１５３の検出結果によって、主室扉１５２の閉鎖が確認され（上記実施形態のステップＳ２２）、副室扉開閉センサ１７３の検出結果によって、副室扉１７２の閉鎖が確認される（ステップＳ２４）。それに加えて、同じ予備室８１，２８１に設けられ予備室扉外スイッチ１６８がＯＮとなっていない予備室扉１６２の開閉状態も確認し、開放されていた場合には、反対側の予備室扉１６２が開放されているという警告を出す。
【０２３７】
さらに、開放禁止状態が解除され、予備室扉１６２を開けることができるようになる（上記実施形態のステップＳ２８）予備室扉ロック装置１６４は、予備室扉外スイッチ１６８がＯＮ状態となっている方のみである。予備室扉外スイッチ１６８がＯＮとなっていない予備室扉１６２の予備室扉ロック装置１６４は、当該予備室扉１６２の閉鎖が確認された時点で開放禁止状態とされ、その開放禁止状態が維持される。
【０２３８】
開放できる予備室扉１６２は２箇所のうち１箇所のみであるため、２箇所の予備室扉１６２が開放された場合に比べて、予備室８１，２８１内の気体と外部の気体とが混じりあう可能性が低く、より確実に主室内部の気体が予備室８１，２８１を介して外部にもれることを抑制できるとともに、外部の気体が予備室８１，２８１内部に侵入することを抑制できる。
【０２３９】
（変形例１９）上記した実施形態においては、液滴吐出装置１の稼動非稼動に関りなく、主室扉１５２の開放が可能であったが、液滴吐出装置１が稼動状態のときには、主室扉１５２の開放を禁止してもよい。この場合、液滴吐出装置１の稼動非稼動を検知する稼動センサを設けておく。
【０２４０】
この場合の、上記した図７の各ステップを経て開放可能になった予備室扉１６２を開けて、予備室８１に入った状態で、主室扉１５２を開ける場合の動作について説明する。チャンバ装置７の各扉１５２，１６２，１７２は閉じられており、主室扉ロック装置１５５及び副室扉ロック装置１７４は、主室扉１５２及び副室扉１７２を開放禁止状態にしており、主室８０及び予備室８１は給排気が行われている。
【０２４１】
作業者が主室扉１５２を開ける開閉レバーを操作すると、主室扉スイッチ１５８がＯＮ状態となる（上記実施形態のステップＳ３１でＹＥＳ）。このとき、主室扉ロック装置１５５は、開放禁止状態のままであり、主室扉１５２を開けることはできない。稼動センサによって、液滴吐出装置１の稼動非稼動が確認される。液滴吐出装置１が稼動状態の場合には、液滴吐出装置１が稼動中であるという警告を出す。非稼動状態であった場合には、図８に示した予備室扉開閉センサ１６３の検出結果によって、予備室扉１６２の閉鎖が確認されるステップ（ステップＳ３２）に進み、以降図８に示したステップＳ３３以降の各ステップを実行する。
【０２４２】
液滴吐出装置１が稼動状態のときには、液滴を吐出したり、吐出した液滴が乾燥したりすることによって、主室８０内の機能液からの有機ガスや機能液のミストの濃度が、非稼動状態のときに比べて高くなっている。従って、液滴吐出装置１が稼動状態のときには主室扉１５２の開放を禁止することによって、主室８０内の有機ガスやミストが予備室扉１６２に流出することをさらに抑制することができ、主室８０内の有機ガスやミストがチャンバ７０，２７０の外部に流出することを抑制することができる。
【０２４３】
また、液滴吐出装置１が稼動状態のときには、作業者が主室８０内に入ることができないため、有機ガスや機能液のミストの濃度が高い空気を吸う可能性を少なくすることができ、安全衛生上好ましくない労働環境での作業の機会を減らすことができる。特に、液滴吐出装置１が、製品に発生した静電気を除去するための軟Ｘ線除電装置のように、稼動中は人体に害を与える可能性のある放出物を発生する装置を備えた場合には、作業者保護のために効果がある。このような作業者の保護のためには、保護具などの着用が通常行われるが、本変形例の構成によれば、保護具などを不要にすることができる。
【０２４４】
さらに、液滴吐出装置１が稼動状態のときには、作業者が液滴吐出装置１に近づくことを防止できるため、作業者が稼動中の液滴吐出装置１の稼動部に触れるなどして、負傷したり、装置を破損することを防止することができる。また、作業者が加工中の製品に触れるなどして、負傷したり、製品を破損することを防止することができる。
【０２４５】
このような装置や製品の破損や作業者の危険を防止するためには、危険防止装置を設けなければならないが、本変形例の構成によれば、危険防止装置を設けることが必須ではなくなり、危険防止装置を設けるためのコストアップや装置の大型化や設置スペースの増加を抑制することができる。
【０２４６】
上記した実施の形態および変形例から把握される技術的思想を以下に記載する。
（技術的思想１）  本発明によるチャンバ装置であって、前記副室扉と前記予備室扉とのそれぞれの開閉状態を検知する開閉検出装置と、前記副室扉と前記予備室扉とのそれぞれを開放禁止状態または開放禁止解除状態にするロック装置と、前記開閉検出装置の検出結果に基づいて前記ロック装置を作動させ、前記副室扉と前記予備室扉のうち少なくとも一方は開放禁止状態になっているように制御するロック制御装置とを設けたことを特徴とするチャンバ装置。
【０２４７】
これによれば、副室扉と予備室扉との一方が開放されているときには他方はロックされるため、副室と外部とが連続した状態になる機会がなく、副室または外部の気体が予備室に進入しても、直ちにさらに外部または副室まで流出することはない。従って、副室または外部の気体が予備室を通過して外部または副室に流出する可能性を極めて小さくすることができる。
【０２４８】
（技術的思想２）  技術的思想１に記載したチャンバ装置であって、前記開閉検出装置の検出結果に基づいて、前記予備室扉が開放して閉まってからの時間を計測できる計時装置をさらに設け、前記ロック制御装置は、前記計時装置によって前記予備室に備えられた前記排気装置が少なくとも前記予備室内の容量に相当する気体を排気する所定時間が計測されると、前記ロック装置による前記副室扉の開放禁止状態を解除することを特徴とするチャンバ装置。
【０２４９】
この構成によれば、予備室扉が開くことによって外部の気体が混入した可能性のある予備室の気体は、予備室が外部および副室と隔絶された状態で、給気装置から供給される空気に入替えられた後、副室扉が開かれる。従って、外部から予備室に進入した気体がさらに副室にまで侵入する可能性を極めて小さくすることができる。
【０２５０】
（技術的思想３）  技術的思想１に記載したチャンバ装置であって、前記閉鎖検出装置の検出結果に基づいて、前記副室扉が開放して閉まってからの時間を計測できる計時装置をさらに設け、前記ロック制御装置は、前記計時装置によって前記予備室に備えられた前記排気装置が少なくとも前記予備室内の容量に相当する気体を排気する所定時間が計測されると、前記ロック装置による前記予備室扉の開放禁止状態を解除することを特徴とするチャンバ装置。
【０２５１】
この構成によれば、副室扉が開くことによって副室内の気体が混入した可能性のある予備室の気体は、予備室が外部および副室と隔絶された状態で、給気装置から供給される空気に入替えられた後、予備室扉が開かれる。従って、副室から予備室に進入した気体がさらに外部にまで流出する可能性を極めて小さくすることができる。
【０２５２】
（技術的思想４）  本発明によるチャンバ装置であって、前記主室扉と前記予備室扉とのそれぞれの開閉状態を検知する開閉検出装置と、前記開閉検出装置の検出結果に基づいて、前記主室扉と前記予備室扉との双方とも開放状態の場合は警告を出す開放警報装置とを設けたことを特徴とするチャンバ装置。
【０２５３】
この構成によれば、主室扉と予備室扉の両方が開放され、主室と外部とが連続した状態になったことを警告することによって、主室と外部とが連続した状態の解消を促し、主室または外部の気体が予備室を通過して外部または主室に混入する可能性を小さくすることができる。
【０２５４】
（技術的思想５）  本発明によるチャンバ装置であって、前記副室扉と前記予備室扉とのそれぞれの開閉状態を検知する開閉検出装置と、前記開閉検出装置の検出結果に基づいて、前記主室扉と前記予備室扉との双方とも開放状態の場合は警告を出す開放警報装置とを設けたことを特徴とするチャンバ装置。
【０２５５】
この構成によれば、副室扉と予備室扉の両方が開放され、副室と外部とが連続した状態になったことを警告することによって、副室と外部とが連続した状態の解消を促し、副室または外部の気体が予備室を通過して外部または副主室に混入する可能性を小さくすることができる。
【０２５６】
（技術的思想６）  本発明によるチャンバ装置であって、前記主室扉と前記副室扉と前記予備室扉とのそれぞれの開閉状態を検知する閉鎖検出装置と、前記主室扉と前記副室扉と前記予備室扉とのそれぞれを開放禁止状態または開放禁止解除状態にするロック装置と、前記閉鎖検出装置の検出結果に基づいて前記ロック装置を作動させ、前記主室扉と前記予備室扉のうち少なくとも一方は開放禁止状態になっているように制御するとともに、前記副室扉と前記予備室扉のうち少なくとも一方は開放禁止状態になっているように制御するロック制御装置とを設け、前記ロック制御装置は、前記主室扉と前記副室扉との開閉状態の検出結果が前記主室扉と前記副室扉との一方または両方が開放状態のときは、前記主室扉と前記副室扉は両方とも開放状態であるとして扱い、予備室扉を開放禁止状態にすることを特徴とするチャンバ装置。
【０２５７】
（技術的思想７）  本発明によるチャンバ装置であって、１箇所の前記予備室にそれぞれ２箇所の前記予備室扉を設け、それぞれの前記予備室扉開閉状態を検知する閉鎖検出装置と、それぞれの前記予備室扉を開放禁止状態または開放禁止解除状態にするロック装置と、前記閉鎖検出装置の検出結果に基づいて前記ロック装置を作動させ、２箇所の前記予備室扉のうち少なくとも一方は開放禁止状態になっているように制御するロック制御装置とを設けたことを特徴とするチャンバ装置。
【０２５８】
この構成によれば、開放できる予備室扉は２箇所のうち１箇所のみであるため、２箇所の予備室扉が開放された場合に比べて、予備室内の気体と外部の気体とが混じりあう可能性が低く、より確実に主室内部の気体が予備室を介して外部にもれることを抑制できるとともに、外部の気体が予備室内部に侵入することを抑制できる。
【０２５９】
（技術的思想８）  前記予備室に備えられた前記排気装置の排気量を計測できる排気流量計測装置をさらに設け、前記予備室扉が開放して閉まってからの排気量を計測し、その計量情報に基づいて、前記排気量が前記予備室内の容量に達したとき前記ロック装置による前記主室扉の開放禁止状態を解除することを特徴とする請求項３に記載のチャンバ装置。
【０２６０】
この構成によれば、予備室扉が開くことによって外部の気体が混入した可能性のある予備室の気体は、予備室が外部および主室と隔絶された状態で、給気装置から供給される空気に入替えられた後、主室扉が開かれる。従って、外部から予備室に進入した気体がさらに主室にまで侵入する可能性を極めて小さくすることができる。
【０２６１】
（技術的思想９）  前記予備室に備えられた前記排気装置の排気量を計測できる排気流量計測装置をさらに設け、前記主室扉が開放して閉まってからの排気量を計測し、その計量情報に基づいて、前記排気量が前記予備室内の容量に達したとき前記ロック装置による前記予備室扉の開放禁止状態を解除することを特徴とする請求項３に記載のチャンバ装置。
【０２６２】
この構成によれば、主室扉が開くことによって主室内の気体が混入した可能性のある予備室の気体は、予備室が外部および主室と隔絶された状態で、給気装置から供給される空気に入替えられた後、予備室扉が開かれる。従って、主室から予備室に進入した気体がさらに外部にまで流出する可能性を極めて小さくすることができる。
【０２６３】
（技術的思想１０）  前記予備室に備えられた前記排気装置の排気量を計測できる排気流量計測装置をさらに設け、前記排気装置の排気が停止した状態から、前記排気装置が排気を開始してからの排気量を計測し、その計量情報に基づいて、前記排気量が前記予備室内の容量に達したとき前記ロック装置による前記予備室扉の開放禁止状態を解除することを特徴とするチャンバ装置。
【０２６４】
この構成によれば、予備室が外部および主室と隔絶された状態で、給気装置から供給される空気に入替えられた後、予備室扉が開かれる。従って、主室から予備室に進入していた気体が、開かれた予備室扉からさらに外部にまで流出する可能性を極めて小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【０２６５】
【図１】第１の実施形態における液滴吐出装置がチャンバ装置内に収容されて構成される液滴吐出設備の平面図。
【図２】液滴吐出設備の主室における側断面図。
【図３】液滴吐出設備の予備室における側断面図。
【図４】（ａ）は、ヘッドユニットの平面図、（ｂ）は、液滴吐出ヘッドの平面図。
【図５】（ａ）は、吐出ヘッドの構造を示す斜視図、（ｂ）は、ノズル部の詳細構造を示す吐出ヘッドの断面図。
【図６】チャンバ装置の電気的構成を示す電気構成ブロック図。
【図７】外部から予備室扉を開ける場合のチャンバ装置の動作を説明するフローチャート。
【図８】主室扉を開ける場合のチャンバ装置の動作を説明するフローチャート。
【図９】予備室内から予備室扉を開ける場合のチャンバ装置の動作を説明するフローチャート。
【図１０】第２の実施形態における液滴吐出設備を示す平面図。
【図１１】第３の実施形態におけるカラーフィルタの製造工程を説明するフローチャート。
【図１２】（ａ）〜（ｅ）の順に製造工程を示したカラーフィルタの模式断面図。
【図１３】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部の断面図。
【図１４】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部の断面図。
【図１５】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す分解斜視図。
【図１６】本発明を適用した有機ＥＬ装置の表示領域の要部の断面図。
【図１７】有機ＥＬ装置の製造工程を説明するフローチャート。
【図１８】無機物バンク層の形成を説明する断面図。
【図１９】有機物バンク層の形成を説明する断面図。
【図２０】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する断面図。
【図２１】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する断面図。
【図２２】青色の発光層を形成する過程を説明する断面図。
【図２３】青色の発光層が形成された状態を説明する断面図。
【図２４】各色の発光層が形成された状態を説明する断面図。
【図２５】陰極の形成を説明する断面図。
【図２６】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）の要部を示す分解斜視図。
【図２７】電子放出装置（ＦＥＤ装置）の要部の断面図。
【図２８】（ａ）は電子放出装置の電子放出部廻りの平面図、（ｂ）は電子放出装置の電子放出部廻りの形成方法を示す平面図。
【符号の説明】
【０２６６】
１…液滴吐出装置及びワーク処理装置としての液滴吐出装置、３…基板テーブル、７…チャンバ装置、１０，２１０…液滴吐出設備、４５…給液タンクとしての機能液タンク、４６…給液タンクとしての洗浄液タンク、４７…給液タンクとしての再利用液タンク、４８…給液タンクとしての排液タンク、７０，２７０…チャンバ、７１…空調機、７２…制御盤ボックス、７５…ロック制御装置としてのチャンバコントロール装置、７６…隔壁、８０…主室、８１，２８１…予備室、８２…副室、８６…給気装置としての主室給気ダクト、８８…排気装置としての主室排気ダクト、９６…給気装置としての予備室給気ダクト、９８…排気装置としての予備室排気ダクト、１４１…排気流量調整装置としての主室排気ダンパ、１４３…排気流量調整装置としての予備室排気ダンパ、１４６…ワーク給排口、１５１…主室出入り口、１５２…主室扉、１５３…開閉検出装置としての主室扉開閉センサ、１５５…ロック装置としての主室扉ロック装置、１６１…外部出入り口としての予備室出入り口、１６２…予備室扉、１６３…開閉検出装置としての予備室扉開閉センサ、１６４…ロック装置としての予備室扉ロック装置、１７２…副室扉、１７３…開閉検出装置としての副室扉開閉センサ、１７４…ロック装置としての副室扉ロック装置、１８２…ロック制御装置としてのチャンバコントローラ、１８７…計時装置としてのタイマ、２０７…チャンバ設備、６２０、６３０，６５０…電気光学装置としての液晶表示装置である液晶装置、７００…電気光学装置としてのＥＬ（Electro  Luminescence）装置である表示装置、８００…電気光学装置としてのプラズマ型表示装置である表示装置、９００…電気光学装置としての電子放出装置である表示装置、Ｗ…ワーク。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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