(57)【要約】【課題】蒸発量を可変制御できるようにすると共に、蒸発性能を低下させることなく、かつ給水受け皿の空焚き異常を迅速に判定し得る蒸気発生手段を備えた高周波加熱調理装置を実現する。【解決手段】複数の発熱体であるシーズヒータ４ｃ、４ｄを内蔵した伝熱体４ｅを給水受け皿４ｂに密着して取り付け、かつ伝熱体４ｅに設けたサーミスタの温度情報を利用して、安定した蒸発量の可変制御を前記複数のシーズヒータ４ｃ、４ｄの通電により達成し、給水受け皿４ｂの水量が少なくても集水し易くして確実に蒸発ができる構成の高周波加熱調理装置とする。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱調理物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、前記加熱室内の底面に設けた給水受け皿および前記給水受け皿を加熱して蒸気を発生させる複数の発熱体を内蔵した伝熱体を前記給水受け皿の下面に密着して取り付けて構成した蒸気発生部を有する蒸気発生手段とを備え、前記複数の発熱体からの総発熱量によって前記被加熱調理物を加熱する蒸気量を制御する構成としたことを特徴とする高周波加熱調理装置。
【請求項２】
複数の発熱体を内蔵し給水受け皿に密着する伝熱体には、前記伝熱体の温度を検出するサーミスタを配設し、前記サーミスタからの温度情報によって前記給水受け皿から発生する蒸気量の制御と前記給水受け皿に水が無くなったときの異常時の検知を行うことを特徴とする請求項１記載の高周波加熱調理装置。
【請求項３】
伝熱体はアルミニウムダイキャスト製とし、伝熱体が内蔵する複数の発熱体はシーズヒータとし、前記複数のシーズヒータを前記伝熱体において高さの異る位置に配設し、ヒータの発熱出力を可変にする際に、高さの低い位置に設けたシーズヒータを高さの高い位置に設けたシーズヒータよりも優先して通電する制御構成としたことを特徴とする請求項１または２記載の高周波加熱調理装置。
【請求項４】
伝熱体が内蔵する複数の発熱体としてのシーズヒータの間には、直線状に複数のサーミスタを配設し、前記サーミスタにより給水受け皿の空焚き異常を検知するように構成したことを特徴とする請求項２または３記載の高周波加熱調理装置。
【請求項５】
給水受け皿は、その水を入れる部分が長辺と短辺を有し、その短手方向に傾斜する傾斜面を設け、前記傾斜面に沿って伝熱体を配設したことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の高周波加熱調理装置。
【請求項６】
給水受け皿は、その水を入れる部分に高さの異る複数の段部を形成して、前記複数の段部に沿う段部を有する伝熱体を配設したことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の高周波加熱調理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は高周波及び蒸気によって被加熱調理物を加熱調理する高周波加熱調理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、被加熱調理物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段を備えた高周波加熱調理装置は、加熱室内の被加熱調理物に対して、短時間で効率のよい加熱ができるため、電子レンジとして急速に普及した。
【０００３】
そして、高周波加熱による加熱だけでは、加熱調理の利用範囲が限られるなどの不便があるため、加熱室内で発熱する電熱器を追加して、オーブン加熱を可能にした高周波加熱調理装置が提案され、近年では、更に、加熱室内に蒸気を供給する蒸気供給機構を追加して、蒸気による加熱調理も可能にした蒸気発生機能付き高周波加熱調理装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。以下図５を用いて上記従来周知の蒸気発生機能付き高周波加熱調理装置について説明する。
【０００４】
図５において、５１は調理装置の本体で、外ケース５２と内部に加熱室５３を形成した加熱箱５４とを備えている。５５は加熱室５３内の下部に配設したターンテーブルで、本体５１底部に設けたターンテーブルモータ５６により回転駆動される。５７は加熱室５３内へ導波管５８を介して高周波を供給するマグネトロン、５９は高周波供給口、６０は貯水タンク、６１は底面にスチーム発生用電熱ヒータ６２を埋設した気化室で、前記貯水タンク６０とパイプにより連通している。６３はスチーム供給管、６４、６５は加熱室５３内の上部と下部にそれぞれ設けた電熱ヒータである。上記加熱調理装置では、高周波と電熱とスチームとのそれぞれを単独または一部併用の加熱手段として調理ができ、加熱手段の選択によって調理範囲の拡大が図られる使い勝手のよい利点がある。
【０００５】
しかしながら、前記従来の構成では、高周波加熱を動作させた後にスチーム加熱動作或いは電熱加熱動作を行ったり、又はスチーム加熱動作或いは電熱加熱動作を行った後に高周波加熱を動作させることは開示されているが、スチーム加熱動作と電熱加熱動作を同時に行う調理モードは開示されていない。また、蒸気を発生する複数の熱源を内蔵していること、及びそれぞれの熱源の出力を切替えて蒸気の発生量を制御可能とした構成のものは見受けられない。
【特許文献１】特開昭５４−１１５４４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
前記、従来周知の高周波加熱調理装置の問題点に鑑み、本発明が解決しようとする課題は、被加熱調理物に応じて、最適な蒸気量と、蒸気温度の制御を行いながら、高周波加熱手段と併用して迅速な加熱調理を行う装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記従来の課題を解決するために、本発明の高周波加熱調理装置は、被加熱調理物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、加熱室内の底面に設けられた給水受け皿および前記給水受け皿を加熱する複数の発熱体を内蔵した伝熱体を給水受け皿の下面に密着して取り付けた蒸気発生部を有する蒸気加熱手段を備えることとしたものである。
【０００８】
これによって、発生する蒸気量を可変にするとともに、高周波加熱出力との組み合わせパターンで加熱させることが可能となり最適な加熱調理が可能となる。また、加熱室の壁面と一体化した給水受け皿を用いることにより高周波を加熱室に投入しても電界強度によるスパークを発生させることなく被加熱調理物を加熱することが可能になる。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の高周波加熱調理装置は、蒸気発生量および高周波出力をさまざまなパターンで制御しながら加熱調理ができ、しかも電波漏洩や電界強度によるスパーク発生などの問題を起こさずに被加熱調理物に対して最適な調理法を実現することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
第１の発明は、被加熱調理物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段と、前記加熱室内の底面に設けた給水受け皿および前記給水受け皿を加熱して蒸気を発生させる複数の発熱体を内蔵した伝熱体を前記給水受け皿の下面に密着して取り付けて構成した蒸気発生部を有する蒸気発生手段を備え、前記複数の発熱体からの総発熱量によって前記被加熱調理物を加熱する蒸気量を制御しつつ、高周波加熱を行うことができると共に、簡単な制御で電波漏洩や電界強度によるスパーク発生などの問題を起こさずに被加熱調理物に対して最適な調理法を実現することができる。
【００１１】
第２の発明は、伝熱体には前記伝熱体の温度を検出するサーミスタを配設し、サーミスタからの温度情報によって、給水受け皿から発生する蒸発量の制御と給水受け皿の水無し異常の検知を行うことにより、給水受け皿の異常過加熱の防止を簡単な構成で実現することが可能となる。
【００１２】
第３の発明は、伝熱体をアルミニウムダイキャスト製とし、その発熱体を複数のシーズヒータで形成し、複数の前記シーズヒータを高さの異なる位置に配置させるとともに、ヒータ出力を可変にする際に、高さの低い位置に設けたシーズヒータを高さの高い位置に設けたシーズヒータに優先して通電するように制御することによって、蒸発性能を低下させることなく蒸発量の制御が可能となる。
【００１３】
第４の発明は、複数のシーズヒータの間に直線状に複数のサーミスタを配置したことにより、高周波加熱調理装置が傾いたとしても、給水受け皿内の空焚き異常を迅速に判定することができるものである。またサーミスタを複数設けることで、給水受け皿の水切れを予測することも可能となり、給水受け皿にフッ素樹脂などの撥水処理を施すことにより、蒸発時に発生して析出するスケールの清掃除去が容易となる。
【００１４】
第５の発明は、長辺と短辺を有する給水受け皿の水を入れる部分の短手方向に傾斜する傾斜面を設け、その傾斜に沿って伝熱体を配設することで、発熱体の通電に伴って、給水受け皿内の水の量を可能な限り減少させた状態で蒸気を発生させることが可能となる。    
【００１５】
よって、短時間で蒸気の発生をし、しかも給水受け皿の残水を極力少なくすることが可能となる。
【００１６】
第６の発明は、給水受け皿は、その水を入れる部分を高さの異る複数の段部を形成し、その複数の段部に沿う段部を有する伝熱体を配設したことにより、発熱体の通電に拌って給水受け皿の水の量を出来る限り減少させて蒸気を発生することができる。よって、短時間で蒸気の発生をし、しかも給水受け皿の残水を少なくすることができる。
【００１７】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。尚、実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
【００１８】
（実施の形態１）
図１は、本発明の第１の実施の形態における高周波加熱調理装置の概観斜視図、図２は同装置の加熱室の開閉扉を開いた状態で、加熱室内を前面から見た時の概略構成図、図３及び図４は蒸気発生手段の給水受け皿と発熱体を内蔵した伝熱体との分解斜視図である。
図１〜図４において、この一実施の形態の高周波加熱調理装置１は、食材の加熱調理に高周波加熱及び加熱蒸気、熱風、熱輻射による加熱が可能なスチームオーブンレンジとして使用されるもので、食材等の被加熱調理物を収容して高周波発生手段２のマグネトロン２ａとスタラー羽根２ｂとにより高周波照射を受ける加熱室３内に加熱蒸気を供給する蒸気発生手段４と、輻射熱を発生する平面ヒータ５及びコンベクションヒータ６と、加熱室３内の雰囲気を撹拌する循環ファン７とを備え、高周波、蒸気、輻射熱、熱風の少なくともいずれか１つ以上の熱源を加熱室３に供給して加熱室３内の被加熱調理物を加熱調理する。
【００１９】
そして加熱室３は、前面開放の箱形の本体ケース８の内部に形成されており、本体ケース８の前面に、加熱室３の被加熱調理物取出口を開閉する開閉手段９が設けられており、前記開閉手段９には透光窓９ａが設けられている。
【００２０】
加熱室３と本体ケース８との壁面間には所定の断熱空間が確保されており、必要に応じてその空間には断熱材が装填されている。
【００２１】
特に加熱室３の背後の空間は、加熱室３内の雰囲気を撹拌する循環ファン７及びその駆動モータ（図示せず）を収容した循環ファン室（図示せず）となっており、加熱室３の後面の壁が、加熱室３と循環ファン室とを画成する仕切壁１０となっている。
【００２２】
加熱室３の後面壁である仕切壁１０には、加熱室３側から循環ファン室側への吸気を行う吸気用通風孔と、循環ファン室側から加熱室３側への送風を行う送風用通風口とが形成領域を区別して設けられている。各通風孔は、多数のパンチ孔１０ａとして形成されている。
【００２３】
また、加熱室３の上面にはマイカで絶縁された発熱体で形成される平面ヒータ５が備えられているとともに、加熱室３の上面隅には温度検知手段である加熱室内サーミスタ１１ａがその先端の赤外線センサ１１ｂを加熱室３内に突出するようにして仕切り壁１０の上方中央の貫通穴から被加熱調理物の表面温度を検知可能なように備え付けられている。
【００２４】
この加熱室内サーミスタ１１ａの検出信号は、制御回路（図示しない）によって監視され、平面ヒータ５、コンベクションヒータ６、循環ファン７のそれぞれの動作制御としての温度過昇防止制御、発熱量制御、回転数制御に使用される。
【００２５】
また、握り部９ｂのある開閉扉９には、操作用スイッチ群を含む操作パネル９ｃが設けられている。
【００２６】
また、高周波発生手段２は、マグネトロン２ａが加熱室３の下側の空間に配置されており、このマグネトロン２ａから発生した高周波を受ける位置にはスタラー羽根２ｂが設けられている。そして、アンテナ（図示せず）からの高周波を、回転するスタラー羽根２ｂに照射することにより、スタラー羽根２ｂによって高周波を加熱室３内に撹拌しながら供給するようになっている。なお、マグネトロン２ａやスタラー羽根２ｂは、加熱室３の底部に限らず、加熱室３の上面または側面に設けることもできる。
【００２７】
蒸気供給機構４は、高周波加熱調理装置１に着脱可能に装備される貯水タンク４ａと、加熱室３内に装備される１つの給水受け皿４ｂと、図３に示す給水受け皿４ｂを加熱して給水受け皿４ｂに入れた水を蒸発させるためにシーズヒータ４ｃ、４ｄを内蔵したアルミニウムダイキャストで形成された伝熱体４ｅと、貯水タンク４ａの水を図２に示す送水ポンプ４ｆで給水受け皿４ｂに導く給水路４ｇと、給水受け皿４ｂの上方に着脱可能に設けられた開口部を有する図３に示す受け皿カバー４ｈを備えている。給水受け皿４ｂは図３に示すように、長辺と短辺を有しその短手方向に傾斜しており、少ない水量でも皿下方部４ｊに集水するようにしている。また蒸発量を多くする場合は、送水ポンプ４ｆで送水量を多くし、下方位置に設けたシーズヒータ４ｃに加え、上方位置に設けたシーズヒータ４ｄにも通電することで発熱量を多くするようにしている。また蒸発量を少なくする際には、送水ポンプ４ｆで送水量を減少させ、下方位置に設けたシーズヒータ４ｃのみに通電するようにしている。
【００２８】
本実施の形態において、貯水タンク４ａは、取り扱い性に優れる偏平な直方体状のカートリッジ式で、高周波加熱調理装置１に対して着脱が容易にでき、しかも、加熱室３内の加熱によって熱的なダメージを受けにくいように、側面に組み付けられたタンク収納部（図示せず）に差込装着される。
【００２９】
また、図３（ａ）に示すように伝熱体４ｅは、給水受け皿４ｂの下面裏側に、導電性グリス或いはカーボンシートなどを介して密着状態に取り付けられる。さらに、図３（ｂ）に示すように伝熱体４ｅの裏側底面には伝熱体４ｅの温度を検出するサーミスタ（図示せず）が直管で形成されるシーズヒータ４ｃ、４ｄの間に直線状に複数個、取り付け孔４ｉに埋設状態で装備される。このサーミスタの検出信号は、制御回路（図示せず）によって監視され、それぞれの動作制御としての温度過昇防止制御、発熱量制御に使用される。
【００３０】
また、給水受け皿４Ｂ、伝熱体４Ｅは図４の（ａ）、（ｂ）に示すような２段構成とすることもできる。すなわち、図４に示すように受け皿カバー４Ｈを備えた給水受け皿４Ｂには２段構成になった溝４Ｋがあり、その下段の溝４Ｋ−１の底部裏面には図４の（ａ）に示す伝熱体４Ｅの下段面４Ｅ−１が当接し、２段構構成の上段の溝４Ｋ−２の底部裏面には図４の（ａ）に示す伝熱体４Ｅの上段面４Ｅ−２が当接して、各当接面には導電性グリス或いはカーボンシートなどを介して密着状態に取り付けられる。そして図４（ｂ）に示すように伝熱体４Ｅの底面裏側には伝熱体４Ｅの温度を検出するサーミスタ（図示せず）がシーズヒータ４Ｃ、４Ｄの間に直線状に複数個、取り付け孔４Ｉに埋設状態で装備される。そしてそのサーミスタの検出信号は図３に示す伝熱体４ｅのサーミスタ(図示せず)と同様に制御回路によって温度過昇防止制御、発熱量制御に使用される。そして蒸発量に応じて、給水受け皿４Ｂの使用範囲を下段の溝４Ｋ−１のみ或いは上段の溝４Ｋ−２を含め溝４Ｋ全体といったように使い分けをすることができる。
【００３１】
次に蒸気発生手段４を用いて蒸気を発生させながら、コンベクションヒータ６及び循環ファン７を同時に動作させた場合について詳述する。
【００３２】
貯水タンク４ａがタンク収納部に差し込まれた状態で、シーズヒータ４ｃまたは４Ｃおよび４ｄまたは４Ｄに通電すると、その発熱により伝熱体４ｅまたは４Ｅが加熱され、給水受け皿４ｂまたは４Ｂへもその背面から伝熱される。この際、伝熱体４ｅまたは４Ｅに設けたスチームサーミスタ（図示せず）が所定の検知温度レベルに達すると、送水ポンプ４ｆが所定時間動作することで、給水口（図示せず）から給水受け皿４ｂまたは４Ｂに水が所定量だけ滴下供給される。給水受け皿４ｂまたは４Ｂは加熱されているため給水された水が即温されて気化する。基本的には、シーズヒータ４ｃまたは４Ｃを連続動作し、送水ポンプ４ｆを所定のタイミングで間欠動作させることで、連続的に多量の蒸気が発生する。
【００３３】
またこれと同時に、コンベクションヒータ６に通電しながら循環ファン７を動作すると、加熱室３内の雰囲気が温められ高温になり、加熱室３内に発生した蒸気も加熱される。
【産業上の利用可能性】
【００３４】
以上のように、本発明に係る高周波加熱調理装置は、給水受け皿近傍からの電波漏洩や水漏れ等、加熱室内での電界強度分布の不具合によるスパークなどを引き起こすことなく、簡単に伝熱体の複数の発熱体への通電切替を行うことで蒸発量の可変と、効率良く給水受け皿の水を確実に蒸発させることが可能となる。従って他の蒸気を発生する調理機器分野や高周波を用いた殺菌装置や乾燥装置などの用途にも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明の第１の実施の形態における高周波加熱調理装置の概観斜視図
【図２】同高周波加熱調理装置の加熱室の開閉扉を開いた状態で、加熱室内を前面から見た時の概略構成図
【図３】同高周波加熱調理装置の蒸気発生手段の給水受け皿および発熱体を内蔵した伝熱体の概略分解斜視図（ａ）：給水受け皿の内底面が傾斜構成の場合の伝熱体の斜視図（ｂ）：（ａ）に示す同伝熱体を裏返して下方側からみた斜視図
【図４】本発明の実施の形態１における他の態様の給水受け皿の底面が２段構成の場合の、給水受け皿および発熱体を内蔵した伝熱体の概略分解斜視図（ａ）：２段構成の伝熱体の斜視図（ｂ）：（ａ）に示す２段構成の伝熱体を裏返して下方側からみた斜視図
【図５】従来の技術を示す図
【符号の説明】
【００３６】
１  高周波加熱調理装置
２  高周波発生手段
２ａ  マグネトロン
２ｂ  スタラー羽根
３  加熱室
４  蒸気供給機構
４ａ  貯水タンク
４ｂ、４Ｂ  給水受け皿
４ｃ、４Ｃ、４ｄ、４Ｄ  シーズヒータ
４ｅ、４Ｅ  伝熱体
４ｆ  送水ポンプ
４ｇ  給水路
４ｈ、４Ｈ  受け皿カバー
４ｉ  取り付け孔
４ｊ  皿下方部
８  本体ケース
９  開閉扉
１１ａ  加熱室内サーミスタ
１１ｂ  赤外線センサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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