(57)【要約】【課題】  吐出装置による塗布工程中に吐出の異常を検出すること。【解決手段】  吐出装置において、走査部がＹ軸方向に並んだ複数の被吐出部のそれぞれに対応するそれぞれの領域にノズルが所定の時間間隔で達するように、ヘッドとステージとの少なくとも一方を他方に対してＹ軸方向に相対移動させる。ヘッド駆動部は、ノズルから上記所定の時間間隔で液状の材料が吐出されるように、上記所定の時間間隔で振動子に駆動信号を与える。そして、吐出異常検出部は、上記所定の時間間隔の期間内に、駆動信号による振動子の振動の残留振動を検出する。吐出装置。【選択図】  図１
2005211873.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｙ軸方向に並んだ複数の被吐出部を有する基体を載せるステージと、
液状の材料を含んだキャビティと、前記キャビティ内の圧力が上昇した場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、前記圧力が上昇するように駆動信号に応じて振動する振動子と、を有するヘッドと、
前記駆動信号を出力するヘッド駆動部と、
前記Ｙ軸方向に並んだ複数の被吐出部のそれぞれに対応するそれぞれの領域に前記ノズルが所定の時間間隔で達するように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対して前記Ｙ軸方向に相対移動させる走査部と、
ヘッドの吐出異常を検出する吐出異常検出部と、
を備えた吐出装置であって、
前記ヘッド駆動部は、前記ノズルから前記所定の時間間隔で前記液状の材料が吐出されるように、前記所定の時間間隔で前記振動子に前記駆動信号を与え、
前記吐出異常検出部は、前記所定の時間間隔の期間内に、前記駆動信号による前記振動子の振動の残留振動を検出する、
吐出装置。
【請求項２】
被吐出部を有する基体を載せるステージと、
液状の材料を含んだキャビティと、前記キャビティ内の圧力が上昇した場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、前記圧力が上昇するように駆動信号に応じて振動する振動子と、を有するヘッドと、
前記駆動信号を出力するヘッド駆動部と、
前記ノズルから前記被吐出部に前記液状の材料が吐出されるように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対して前記Ｙ軸方向に相対移動させる走査部と、
ヘッドの吐出異常を検出する吐出異常検出部と、
を備えた吐出装置であって、
前記ヘッド駆動部は、前記基体に対応する領域外の位置で、前記ノズルから前記液状の材料がフラッシングされるように、前記駆動信号を与え、
前記吐出異常検出部は前記駆動信号による前記振動子の振動の残留振動を検出する、
吐出装置。
【請求項３】
Ｘ軸方向および前記Ｘ軸方向に直交するＹ軸方向に並んだ複数の被吐出部を有する基体を載せるステージと、
液状の材料を含んだキャビティと、前記キャビティ内の圧力が上昇した場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、前記圧力が上昇するように第１の駆動信号に応じて振動する振動子と、を有するヘッドと、
前記駆動信号を出力するヘッド駆動部と、
前記Ｙ軸方向に延びる第１の列における前記複数の被吐出部のそれぞれに前記ノズルから前記液状の材料が吐出されるように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対して前記Ｙ軸方向に相対移動させるとともに、前記第１の列に沿って前記ノズルが相対移動した後で、前記ノズルが前記Ｙ軸方向に伸びる第２の列における前記複数の被吐出部に対応するように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対して前記Ｘ軸方向に相対移動させる走査部と、
ヘッドの吐出異常を検出する吐出異常検出部と、
を備えた吐出装置であって、
前記ヘッド駆動部は、前記ノズルが前記Ｘ軸方向に相対移動する期間内に、前記振動子に第２の駆動信号を与え、前記第２の駆動信号は、前記ノズルから前記液状の材料が吐出しない範囲内の駆動信号であり、
前記吐出異常検出部は、前記第２の駆動信号による前記振動子の振動の残留振動を検出する、
吐出装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載の吐出装置であって、
前記走査部は前記ステージをＹ軸方向に移動させる、
吐出装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の吐出装置であって、
前記ヘッドは、前記キャビティと、前記ノズルと、前記振動子と、を含む吐出部を複数有しており、
前記吐出異常検出部は、前記複数の吐出部の前記残留振動を順次に検出する、
吐出装置。
【請求項６】
Ｙ軸方向に並んだ複数の被吐出部を有する基体を載せるステージと、
液状の材料を含んだキャビティと、前記キャビティ内の圧力が上昇した場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、前記圧力が上昇するように駆動信号に応じて振動する振動子と、を有するヘッドと、
を備えた吐出装置を用いた材料塗布方法であって、
前記Ｙ軸方向に並んだ複数の被吐出部のそれぞれに対応するそれぞれの領域に前記ノズルが所定の時間間隔で達するように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対して前記Ｙ軸方向に相対移動させるステップ（Ａ）と、
前記ノズルから前記所定の時間間隔で前記液状の材料が吐出されるように、前記所定の時間間隔で前記振動子に前記駆動信号を与えるステップ（Ｂ）と、
前記所定の時間間隔の期間内に、前記駆動信号による前記振動子の振動の残留振動を検出するステップ（Ｃ）と、
を含んだ材料塗布方法。
【請求項７】
基体を載せるステージと、
液状の材料を含んだキャビティと、前記キャビティ内の圧力が上昇した場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、前記圧力が上昇するように駆動信号に応じて振動する振動子と、を有するヘッドと、
を備えた吐出装置を用いた材料塗布方法であって、
前記ノズルから前記被吐出部に前記液状の材料が吐出されるように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対して前記Ｙ軸方向に相対移動させるステップ（Ａ）と、
前記基体に対応する領域外の位置で、前記ノズルから前記液状の材料がフラッシングされるように、前記駆動信号を与えるステップ（Ｂ）と、
前記駆動信号による前記振動子の振動の残留振動を検出するステップ（Ｃ）と、
を含んだ材料塗布方法。
【請求項８】
Ｘ軸方向および前記Ｘ軸方向に直交するＹ軸方向に並んだ複数の被吐出部を有する基体を載せるステージと、
液状の材料を含んだキャビティと、前記キャビティ内の圧力が上昇した場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、前記圧力が上昇するように第１の駆動信号に応じて振動する振動子と、を有するヘッドと、
を備えた吐出装置を用いた材料塗布方法であって、
前記Ｙ軸方向に延びる第１の列における前記複数の被吐出部のそれぞれに前記ノズルから前記液状の材料が吐出されるように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対して前記Ｙ軸方向に相対移動させるステップ（Ａ）と
前記第１の列に沿って前記ノズルが相対移動した後で、前記ノズルが前記Ｙ軸方向に伸びる第２の列における前記複数の被吐出部に対応するように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対して前記Ｘ軸方向に相対移動させるステップ（Ｂ）と、
前記ノズルが前記Ｘ軸方向に相対移動する期間内に、前記振動子に第２の駆動信号を与えるステップ（Ｃ）であって、前記第２の駆動信号は、前記ノズルから前記液状の材料が吐出しない範囲内の駆動信号であるステップ（Ｃ）と、
前記第２の駆動信号による前記振動子の振動の残留振動を検出するステップ（Ｄ）と、
を含んだ材料塗布方法。
【請求項９】
請求項６から８のいずれかに記載の吐出装置であって、
ステップ（Ａ）は前記ステージをＹ軸方向に移動させるステップ（Ａ１）を含む、
材料塗布方法。
【請求項１０】
請求項６または７記載の吐出装置であって、
前記ヘッドは、前記キャビティと、前記ノズルと、前記振動子とを含む吐出部を複数有しており、
前記ステップ（Ｃ）は、前記複数の吐出部の前記残留振動を順次に検出する、
材料塗布方法。
【請求項１１】
請求項８記載の吐出装置であって、
前記ヘッドは、前記キャビティと、前記ノズルと、前記振動子とを含む吐出部を複数有しており、
前記ステップ（Ｄ）は、前記複数の吐出部の前記残留振動を順次に検出する、
材料塗布方法。
【請求項１２】
Ｙ軸方向に並んだ複数の被吐出部を有する基体を載せるステージと、
液状のカラーフィルタ材料を含んだキャビティと、前記キャビティ内の圧力が上昇した場合に前記キャビティ内の前記液状のカラーフィルタ材料を外部に吐出するノズルと、前記圧力が上昇するように駆動信号に応じて振動する振動子と、を有するヘッドと、
を備えた吐出装置を用いたカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記Ｙ軸方向に並んだ複数の被吐出部のそれぞれに対応するそれぞれの領域に前記ノズルが所定の時間間隔で達するように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対して前記Ｙ軸方向に相対移動させるステップ（Ａ）と、
前記ノズルから前記所定の時間間隔で前記液状のカラーフィルタ材料が吐出されるように、前記所定の時間間隔で前記振動子に前記駆動信号を与えるステップ（Ｂ）と、
前記所定の時間間隔の期間内に、前記駆動信号による前記振動子の振動の残留振動を検出するステップ（Ｃ）と、
を含んだカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１３】
それぞれが、液状の材料を含んだキャビティと、前記キャビティ内の圧力が上昇した場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、前記圧力が上昇するように第１の駆動信号に応じて振動する振動子とを含んだ複数の吐出部を備えた吐出装置の検査方法であって、
前記振動子に第２の駆動信号を与えるステップ（Ａ）と、
前記第２の駆動信号による前記振動子の振動の残留振動を検出するステップ（Ｂ）と、
を含んだ検査方法であって、
前記ステップ（Ａ）および（Ｂ）は前記複数の吐出部について順次行われる、
検査方法。
【請求項１４】
請求項１３記載の検査方法であって、
前記第２の駆動信号は前記第１の駆動信号と同じである、
検査方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流動性を有する材料を吐出する吐出装置の吐出異常検出に関し、特に、カラーフィルタ基板などの製造に好適な吐出装置、およびその製造方法、ならびに検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルタ、エレクトロルミネッセンス表示装置などの製造に用いられるインクジェット装置が知られている（例えば特許文献１）。一方、インクジェット印刷装置におけるヘッド内に混入した気泡を検出する技術が知られている（例えば特許文献２）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−２２１６１６号公報
【特許文献２】特公昭５８−３０８２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
流動性を有する機能性材料には、時間の経過に伴なって分散異常が生じることがある。機能性材料には、カラーフィルタ材料や、蛍光材料などの発光材料や、導電性材料がある。分散異常が生じた機能性材料をインクジェット装置が吐出しようとすると、ノズルから適切に吐出されない場合がある。さらに、そのような分散異常が生じた機能性材料は、塗布された後に所望の機能を発揮しないこともある。
【０００５】
特許文献１に示すような従来の検査方法では、ヘッドに問題が生じたのか、材料に変質（分散異常）が生じたのかを区別しにくい。なお、ヘッドの問題とは、ここでは、ノズル内での液状の材料の固着や、ヘッド内の液状の材料への気泡の混入や、ノズルの開口部へのゴミの付着などによって、ノズルから液状の材料が正常に吐出されない状態を指す。
【０００６】
また、液状の材料を塗布している最中に、ヘッドの問題や材料の変質（分散異常）が生じる場合がある。カラーフィルタ基板などの製造段階では、塗布工程中であっても速やかに異常が検出されることが好ましい。ヘッドに問題がある場合には、フラッシングなどの材料の捨て打ち工程や、ノズルのクリーニング工程によって、正常な吐出が回復する場合が多い。したがって、カラーフィルタ基板が吐出装置のステージ上に位置している段階で、吐出の異常が検出されれば、カラーフィルタ基板をステージに対して再度位置決めすることなく、ヘッドから塗布不良箇所へ液状の材料が再吐出され得る。
【０００７】
本発明はこのような問題を鑑みてなされたものであり、その目的の一つは、吐出装置による塗布工程中に吐出の異常を検出することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の吐出装置は、Ｙ軸方向に並んだ複数の被吐出部を有する基体を載せるステージと、ヘッドと、前記駆動信号を出力するヘッド駆動部と、前記Ｙ軸方向に並んだ複数の被吐出部のそれぞれに対応するそれぞれの領域に前記ノズルが所定の時間間隔で達するように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対して前記Ｙ軸方向に相対移動させる走査部と、ヘッドの吐出異常を検出する吐出異常検出部と、を備えている。前記ヘッドは、液状の材料を含んだキャビティと、前記キャビティ内の圧力が上昇した場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、前記圧力が上昇するように駆動信号に応じて振動する振動子と、を有する。前記ヘッド駆動部は、前記ノズルから前記所定の時間間隔で前記液状の材料が吐出されるように、前記所定の時間間隔で前記振動子に前記駆動信号を与える。そして、前記吐出異常検出部は、前記所定の時間間隔の期間内に、前記駆動信号による前記振動子の振動の残留振動を検出する。
【０００９】
上記構成によって得られる効果の一つは、複数の被吐出部への塗布工程中に生じるノズルの吐出異常、または塗布工程中に生じる液状の材料自体の変質を検出できることである。
【００１０】
本発明の吐出装置は、被吐出部を有する基体を載せるステージと、ヘッドと、前記駆動信号を出力するヘッド駆動部と、前記ノズルから前記被吐出部に前記液状の材料が吐出されるように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対して前記Ｙ軸方向に相対移動させる走査部と、ヘッドの吐出異常を検出する吐出異常検出部と、を備えている。前記ヘッドは、液状の材料を含んだキャビティと、前記キャビティ内の圧力が上昇した場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、前記圧力が上昇するように駆動信号に応じて振動する振動子と、を有する。前記ヘッド駆動部は、前記基体に対応する領域外の位置で、前記ノズルから前記液状の材料がフラッシングされるように、前記駆動信号を与える。そして、前記吐出異常検出部は前記駆動信号による前記振動子の振動の残留振動を検出する。
【００１１】
上記構成によって得られる効果の一つは、ノズルの吐出異常または液状の材料の変質を、被吐出部への塗布工程の前後に行われるフラッシング処理時に検出できることである。
【００１２】
本発明の吐出装置は、Ｘ軸方向および前記Ｘ軸方向に直交するＹ軸方向に並んだ複数の被吐出部を有する基体を載せるステージと、ヘッドと、前記駆動信号を出力するヘッド駆動部と、前記Ｙ軸方向に延びる第１の列における前記複数の被吐出部のそれぞれに前記ノズルから前記液状の材料が吐出されるように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対して前記Ｙ軸方向に相対移動させるとともに、前記第１の列に沿って前記ノズルが相対移動した後で、前記ノズルが前記Ｙ軸方向に伸びる第２の列における前記複数の被吐出部に対応するように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対して前記Ｘ軸方向に相対移動させる走査部と、ヘッドの吐出異常を検出する吐出異常検出部と、を備えている。前記ヘッドは、液状の材料を含んだキャビティと、前記キャビティ内の圧力が上昇した場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、前記圧力が上昇するように第１の駆動信号に応じて振動する振動子と、を有する。前記ヘッド駆動部は、前記ノズルが前記Ｘ軸方向に相対移動する期間内に、前記振動子に第２の駆動信号を与える。ここで、前記第２の駆動信号は、前記ノズルから前記液状の材料が吐出しない範囲内の駆動信号である。そして、前記吐出異常検出部は、前記第２の駆動信号による前記振動子の振動の残留振動を検出する。
【００１３】
上記構成によって得られる効果の一つは、ノズルの吐出異常または液状の材料の変質を、複数の被吐出部への塗布工程中に行われるヘッドの改行動作（Ｘ軸方向への相対移動）の際に検出できることである。
【００１４】
本発明のある態様によれば、前記走査部は前記ステージをＹ軸方向に移動させる。
【００１５】
上記構成によって得られる効果の一つは、塗布工程を行う際にヘッドを移動させる必要がないため、検出される残留振動に、ヘッドの移動に起因する振動が混入しないことである。
【００１６】
本発明のある態様によれば、前記ヘッドは、前記キャビティと、前記ノズルと、前記振動子と、を含む吐出部を複数有している。そして、前記吐出異常検出部は、前記複数の吐出部の前記残留振動を順次に検出する。
【００１７】
上記構成によって得られる効果の一つは、残留振動が通常の残留振動からずれた場合に、その原因が、ノズル（吐出部）の吐出異常に起因するのか、液状の材料自体の変質に起因するのかを、区別しやすいことである。
【００１８】
本発明の材料塗布方法は、Ｙ軸方向に並んだ複数の被吐出部を有する基体を載せるステージと、ヘッドと、を備えた吐出装置を用いた材料塗布方法である。ここで、前記ヘッドは、液状の材料を含んだキャビティと、前記キャビティ内の圧力が上昇した場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、前記圧力が上昇するように駆動信号に応じて振動する振動子と、を有する。そして、本発明の材料塗布方法は、前記Ｙ軸方向に並んだ複数の被吐出部のそれぞれに対応するそれぞれの領域に前記ノズルが所定の時間間隔で達するように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対して前記Ｙ軸方向に相対移動させるステップ（Ａ）と、前記ノズルから前記所定の時間間隔で前記液状の材料が吐出されるように、前記所定の時間間隔で前記振動子に前記駆動信号を与えるステップ（Ｂ）と、前記所定の時間間隔の期間内に、前記駆動信号による前記振動子の振動の残留振動を検出するステップ（Ｃ）と、を含んでいる。
【００１９】
上記構成によって得られる効果の一つは、複数の被吐出部への塗布工程中に生じるノズルの吐出異常、または塗布工程中に生じる液状の材料自体の変質を検出できることである。
【００２０】
本発明の材料塗布方法は、基体を載せるステージと、ヘッドと、を備えた吐出装置を用いた材料塗布方法である。ここで、ヘッドは、液状の材料を含んだキャビティと、前記キャビティ内の圧力が上昇した場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、前記圧力が上昇するように駆動信号に応じて振動する振動子と、を有する。そして、本発明の材料塗布方法は、前記ノズルから前記被吐出部に前記液状の材料が吐出されるように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対して前記Ｙ軸方向に相対移動させるステップ（Ａ）と、前記基体に対応する領域外の位置で、前記ノズルから前記液状の材料がフラッシングされるように、前記駆動信号を与えるステップ（Ｂ）と、前記駆動信号による前記振動子の振動の残留振動を検出するステップ（Ｃ）と、を含んでいる。
【００２１】
上記構成によって得られる効果の一つは、ノズルの吐出異常または液状の材料の変質を、被吐出部への塗布工程の前後に行われるフラッシング処理時に検出できることである。
【００２２】
本発明の材料塗布方法は、Ｘ軸方向および前記Ｘ軸方向に直交するＹ軸方向に並んだ複数の被吐出部を有する基体を載せるステージと、ヘッドと、を備えた吐出装置を用いた材料塗布方法である。ここで、前記ヘッドは、液状の材料を含んだキャビティと、前記キャビティ内の圧力が上昇した場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、前記圧力が上昇するように第１の駆動信号に応じて振動する振動子と、を有する。そして、本発明の材料塗布方法は、前記Ｙ軸方向に延びる第１の列における前記複数の被吐出部のそれぞれに前記ノズルから前記液状の材料が吐出されるように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対して前記Ｙ軸方向に相対移動させるステップ（Ａ）と、前記第１の列に沿って前記ノズルが相対移動した後で、前記ノズルが前記Ｙ軸方向に伸びる第２の列における前記複数の被吐出部に対応するように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対して前記Ｘ軸方向に相対移動させるステップ（Ｂ）と、前記ノズルが前記Ｘ軸方向に相対移動する期間内に、前記振動子に第２の駆動信号を与えるステップ（Ｃ）であって、前記第２の駆動信号は、前記ノズルから前記液状の材料が吐出しない範囲内の駆動信号であるステップ（Ｃ）と、前記第２の駆動信号による前記振動子の振動の残留振動を検出するステップ（Ｄ）と、を含んでいる。
【００２３】
上記構成によって得られる効果の一つは、ノズルの吐出異常または液状の材料の変質を、複数の被吐出部への塗布工程中に行われるヘッドの改行動作（Ｘ軸方向への相対移動）の際に検出できることである。
【００２４】
本発明は種々の態様で実現することが可能であり、例えば、カラーフィルタ基板の製造方法の態様でも実現することができる。
【００２５】
本発明の検査方法は、それぞれが、液状の材料を含んだキャビティと、前記キャビティ内の圧力が上昇した場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、前記圧力が上昇するように第１の駆動信号に応じて振動する振動子とを含んだ複数の吐出部を備えた吐出装置の検査方法である。そして、本発明の検査方法は、前記振動子に第２の駆動信号を与えるステップ（Ａ）と、前記第２の駆動信号による前記振動子の振動の残留振動を検出するステップ（Ｂ）と、を含んでいて、前記ステップ（Ａ）および（Ｂ）は前記複数の吐出部について順次行われる。
【００２６】
上記構成によって得られる効果の一つは、残留振動が正常な残留振動からずれた場合に、その原因が、ノズル（吐出部）の吐出異常に起因するのか、液状の材料自体の変質に起因するのかを、区別しやすいことである。
【００２７】
本発明のある態様によれば、前記第２の駆動信号は前記第１の駆動信号と同じであってもよい。
【００２８】
上記構成によって得られる効果の一つは、被吐出部（カラーフィルタ材料や、発光材料、蛍光材料などが塗布される部位）へ液状の材料を吐出しながら、残留振動の検出ができることである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
（実施形態１）
以下、本実施形態を下記記載の順番で説明する。
Ａ．吐出装置の全体構成
Ｂ．ヘッド
Ｃ．制御部
Ｄ．吐出ヘッド部
Ｅ．塗布工程
【００３０】
（Ａ．吐出装置の全体構成）
図１は吐出装置１００Ｒを示す模式図である。吐出装置１００Ｒは、２つのタンク１０１Ｒと、２つのチューブ１１０Ｒと、吐出走査部１０２と、を備えている。２つのタンク１０１Ｒはどちらも、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを蓄えている。２つのチューブ１１０Ｒのそれぞれは、対応するタンク１０１Ｒから吐出走査部１０２にカラーフィルタ材料１１１Ｒを供給している。吐出走査部１０２は、ステージ１０６と、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃと、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄと、走査部と、グランドステージＧＳと、制御部１１２と、を備えている。
【００３１】
第１の吐出ヘッド部１０３Ｃおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｄはどちらも、ステージ１０６側に向けてカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴を吐出するように構成されている。第１の吐出ヘッド部１０３Ｃと、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄとは、互いにＹ軸方向に所定の距離ＹＫだけ離れている。また、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄの位置は、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃに対して固定されている。そして、走査部は、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｄの組と、ステージ１０６との少なくとも一方を他方に対してＹ軸方向に相対移動させる。
【００３２】
ここで、本明細書におけるＹ軸方向は、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｄの組とステージ１０６とのどちらか一方が他方に対して相対移動する方向に一致している。また、本明細書においてＺ軸方向は、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｄが液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴を吐出する方向であり、本実施形態では地球の重力加速度の方向に一致している。Ｘ軸方向は、このようなＹ軸方向およびＺ軸方向のどちらにも垂直な方向である。そして、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向を規定するＸＹＺ座標系の仮想的な原点は、吐出装置１００Ｒの基準部分に固定されている。
【００３３】
さらに、本明細書において、Ｘ座標、Ｙ座標、およびＺ座標とは、このようなＸＹＺ座標系における座標である。なお、上記の仮想的な原点は、基準部分だけでなく、ステージ１０６に固定されていてもよいし、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃまたは第２の吐出ヘッド部１０３Ｄに固定されていてもよい。
【００３４】
走査部は、位置制御装置１０８と、第１の支持構造体１４Ａと、第２の支持構造体１４Ｂと、を有している。
【００３５】
位置制御装置１０８は、ステージ１０６を移動させる。本実施形態では、位置制御装置１０８は、制御部１１２からの信号に応じて、Ｙ軸方向に沿ってステージ１０６を移動させる。さらに、位置制御装置１０８は、Ｚ軸に平行な軸の回りでステージ１０６を回転させる機能も有する。
【００３６】
より具体的には、位置制御装置１０８は、Ｙ軸方向に延びる一対のリニアモータと、Ｙ軸方向に延びる一対のＹ軸ガイドレールと、Ｙ軸エアスライダと、θテーブルと、を備えている。一対のリニアモータおよび一対のＹ軸ガイドレールは、グランドステージＧＳ上に位置している。一方、Ｙ軸エアスライダは、一対のＹ軸ガイドレールに移動可能に支持されている。そして、Ｙ軸エアスライダは、一対のリニアモータの働きによって、一対のＹ軸ガイドレールに沿ってＹ軸方向に移動する。Ｙ軸エアスライダは、θテーブルを介してステージ１０６の裏面に連結されているので、ステージ１０６は、Ｙ軸エアスライダとともにＹ軸方向に移動する。θテーブルはモータを有しており、ステージ１０６をＺ軸に平行な軸の回りで回転させる。
【００３７】
ステージ１０６は、基体を載せる本体部１０６Ａと、本体部１０６ＡのＹ軸方向の端部に、Ｘ軸方向に沿って設けられた受け皿部１０６Ｂと、を有する。基体は、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが塗布されるべき複数の被吐出部を有しており、吐出装置１００Ｒは、複数の被吐出部のそれぞれに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。受け皿部１０６Ｂは、後述する吐出ヘッド部１０３Ａ，１０３Ｂにおけるノズル１１８からフラッシング（捨て吐出）された液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを受け止める部分である。この受け皿部１０６Ｂにフラッシングされた液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒは、受け皿部１０６Ｂに連結されたチューブおよびポンプ（どちらも図示せず）を介して廃タンクに収納される。
【００３８】
第１の支持構造体１４Ａは、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃを支持している。より具体的には、第１の支持構造体１４Ａは、第１の吐出ヘッド部１０３ＣがグランドステージＧＳからＺ軸方向に所定の距離だけ離れるように、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃを保持している。一方、第２の支持構造体１４Ｂは、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄを支持している。より具体的には、第２の支持構造体１４Ｂは、第２の吐出ヘッド部１０３ＤがグランドステージＧＳからＺ軸方向に所定の距離だけ離れるように、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃを保持している。
【００３９】
第１の支持構造体１４Ａおよび第２の支持構造体１４Ｂのそれぞれは、２つの支持部と、２つの支持部によって支えられている固定部とを有する。２つの支持部は、グランドステージＧＳ上でステージ１０６を挟むように位置するとともに、それぞれがＺ軸方向に延びている。固定部は、グランドステージＧＳからＺ軸方向に距離を置いて位置するように、２つの支持部に連結されている。そして、固定部は、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃまたは第２の吐出ヘッド部１０３Ｄにおける吐出ノズル１１８Ｔ（図２）が、グランドステージＧＳ側に向くように、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃまたは第２の吐出ヘッド部１０３Ｄを保持している。
【００４０】
第１の支持構造体１４Ａの固定部は、Ｚ軸方向に平行な軸の回りで第１の吐出ヘッド部１０３Ｃを回転させる自由度も有する。この自由度は、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃの微調整を行う場合に活用される。ただし、後述する吐出工程が行われている間には、固定部は、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃが回転しないように第１の吐出ヘッド部１０３Ｃを固定している。第２の支持構造体１４Ｂの固定部も第１の支持構造体１４Ａと同様に、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄを固定している。
【００４１】
本実施形態では、第１の支持構造体１４Ａおよび第２の支持構造体１４Ｂの位置は、グランドステージＧＳ（または吐出装置１００Ｒ）に対して固定されている。このため、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃの位置も、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄの位置も、グランドステージＧＳに対して固定されている。第１の吐出ヘッド部１０３Ｃと第２の吐出ヘッド部１０３Ｄとが同じ基準に対して固定されているので、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃと第２の吐出ヘッド部１０３Ｄとの相対位置関係は一定である。したがって、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄの位置は、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃに対して固定されている。
【００４２】
本実施形態では、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｄが吐出装置に対して固定されている。一方、ステージ１０６がＹ軸方向に移動する。このことによって、ステージ１０６に対する第１の吐出ヘッド部１０３Ｃおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｄの相対位置が変化する。このような構成であれば、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃ、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄを静止させたままでよいので、後述するキャビティ１２０（吐出部１２７）の残留振動の検出の精度が高くなる。さらに、ヘッド１１４が液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを安定して吐出できる。これは、ヘッド１１４が移動しないので、ヘッド１１４の移動に起因する振動が生じず、この結果、ヘッド１１４内の液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒに余分な振動が伝わらないからである。
【００４３】
（Ｂ．ヘッド）
図２に示すヘッド１１４は、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｄが有する複数のヘッドの一つである。図２は、ヘッド１１４の底面を示す。ヘッド１１４は、Ｘ軸方向に並んだ複数のノズル１１８を有する。これら複数のノズル１１８は、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰが、例えば約７０μｍとなるように配置されている。ここで、「ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰ」は、ヘッド１１４におけるノズル１１８のすべてを、Ｘ軸方向に直交する方向からＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。
【００４４】
本実施形態では、ヘッド１１４における複数のノズル１１８は、ともにＸ軸方向に延びるノズル列１１６Ａと、ノズル列１１６Ｂと、をなす。ノズル列１１６Ａと、ノズル列１１６Ｂとは、Ｙ軸方向に隣り合っている。そして、ノズル列１１６Ａおよびノズル列１１６Ｂのそれぞれにおいて、例えば９０個のノズル１１８が一定間隔でＸ軸方向に一列に並んでいる。本実施形態では、この一定間隔は約１４０μｍである。つまり、ノズル列１１６ＡのノズルピッチＬＮＰおよびノズル列１１６ＢのノズルピッチＬＮＰは、ともに約１４０μｍである。
【００４５】
ノズル列１１６Ｂの位置は、ノズル列１１６Ａの位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの半分の長さ（約７０μｍ）だけＸ軸方向の正の方向（図２の右方向）にずれている。このため、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰは、ノズル列１１６Ａ（またはノズル列１１６Ｂ）のノズルピッチＬＮＰの半分の長さ（約７０μｍ）である。
【００４６】
したがって、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズル線密度は、ノズル列１１６Ａ（またはノズル列１１６Ｂ）のノズル線密度の２倍である。なお、本明細書において「Ｘ軸方向のノズル線密度」とは、複数のノズルを、Ｘ軸方向に直交する方向からＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像の単位長さ当たりの数に相当する。
【００４７】
もちろん、ヘッド１１４が含むノズル列の数は、２つだけに限定されない。ヘッド１１４はＭ個のノズル列を含んでもよい。ここで、Ｍは１以上の自然数である。ヘッド１１４がＭ個のノズル列を含む場合には、Ｍ個のノズル列のそれぞれにおいて複数のノズル１１８は、ノズルピッチＨＸＰのＭ倍の長さのピッチで並ぶ。ただし、Ｍが２以上の自然数の場合には、Ｍ個のノズル列のうちの一つに対して、他の（Ｍ−１）個のノズル列は、ノズルピッチＨＸＰのｉ倍の長さだけ重複無くＸ軸方向にずれている。ここで、ｉは１から（Ｍ−１）までの自然数である。
【００４８】
さて、ノズル列１１６Ａおよびノズル列１１６Ｂのそれぞれが９０個のノズル１１８からなるため、１つのヘッド１１４は１８０個のノズル１１８を有する。ただし、ノズル列１１６Ａの両端のそれぞれ５ノズルは「休止ノズル」として設定されている。同様に、ノズル列１１６Ｂの両端のそれぞれ５ノズルも「休止ノズル」として設定されている。そして、これら２０個の「休止ノズル」からは液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されない。このため、ヘッド１１４における１８０個のノズル１１８のうち、１６０個のノズル１１８が液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するノズル１１８として機能する。本明細書では、これら１６０個のノズル１１８を「吐出ノズル１１８Ｔ」と表記することもある。
【００４９】
なお、１つのヘッド１１４におけるノズル１１８の数は、１８０個に限定されない。１つのヘッド１１４に３６０個のノズルが設けられていてもよい。この場合には、ノズル列１１６Ａおよび１１６Ｂのそれぞれが、１８０個のノズル１１８からなればよい。また、本発明において吐出ノズル１１８Ｔの数は、１６０個に限定されない。１つのヘッド１１４にＰ個の吐出ノズルがあってもよい。ここで、Ｐは２以上の自然数であって、ヘッド１１４における全ノズル数以下であればよい。
【００５０】
本明細書では、ヘッド１１４間の相対位置関係を説明する目的で、それぞれのヘッド１１４における１６０個の吐出ノズル１１８Ｔのうち、最もＸ座標が小さい吐出ノズル１１８Ｔを、「第１の基準ノズル１１８Ｒ１」と表記する。同時に、１６０個の吐出ノズル１１８Ｔのうちで、最もＸ座標が大きい吐出ノズル１１８Ｔを、「第２の基準ノズル１１８Ｒ２」と表記する。図２の場合には、ノズル列１１６Ａの左から６番目のノズル１１８が、最もＸ座標が小さい吐出ノズル１１８Ｔであるので、このノズルが第１の基準ノズル１１８Ｒ１である。一方、ノズル列１１６Ｂの右から６番目のノズル１１８が、最もＸ座標が大きい吐出ノズル１１８Ｔであるので、このノズルが第２の基準ノズル１１８Ｒ２である。なお、すべてのヘッド１１４に対して、「第１の基準ノズル１１８Ｒ１」と「第２の基準ノズル１１８Ｒ２」との組の指定の仕方が同じであればよいので、「第１基準ノズル１１８Ｒ１」の位置および「第２の基準ノズル１１８Ｒ２」の位置は、上記の位置（図２の位置）でなくてもよい。
【００５１】
図３（ａ）および（ｂ）に示すように、それぞれのヘッド１１４は、所謂インクジェットヘッドである。より具体的には、それぞれのヘッド１１４は、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、を備えている。振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、２つのタンク１０１Ｒ（図１）の一方から孔１３１を介して供給される液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが常に充填される液たまり１２９が位置している。
【００５２】
また、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、複数の隔壁１２２が位置している。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、１対の隔壁１２２と、によって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、１対の隔壁１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される。
【００５３】
振動板１２６上には、それぞれのキャビティ１２０に対応して、アクチュエータとしての振動子１２４が位置する。振動子１２４は、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂと、を含む。この１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂの間に駆動電圧を与えることで、振動板１２６が振動し、キャビティ１２０の容積（キャビティ内の圧力）が変化し、キャビティ１２０内に充填された液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが、対応するノズル１１８から吐出される。なお、ノズル１１８からＺ軸方向に液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されるように、ノズル１１８の形状が調整されている。
【００５４】
ここで、本実施形態の液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒは、本発明の「液状の材料」に対応する。また、本明細書において「液状の材料」とは、ノズルから吐出可能な粘度を有する材料をいう。この場合、材料が水性であると油性であるとを問わない。ノズルから吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。
【００５５】
制御部１１２（図１）は、複数の振動子１２４のそれぞれに互いに独立に信号を与えるように構成されていてもよい。つまり、ノズル１１８から吐出される材料１１１の体積が、制御部１１２からの信号に応じてノズル１１８毎に制御されてもよい。そのような場合には、ノズル１１８のそれぞれから吐出される材料１１１の体積は、０ｐｌ〜４２ｐｌ（ピコリットル）の間で可変にしてもよい。また、制御部１１２は、後述するように、塗布工程の間に吐出動作を行うノズル１１８と、吐出動作を行わないノズル１１８と、を設定することでもできる。
【００５６】
本明細書では、１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティ１２０に対応するアクチュエータとしての振動子１２４と、を含んだ部分を「吐出部１２７」と表記することもある。この表記によれば、１つのヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の吐出部１２７を有する。
【００５７】
（Ｃ．制御部）
次に、制御部１１２の構成を説明する。図４に示すように、制御部１１２は、処理部２２０と、走査駆動部２２５と、ヘッド駆動部２２６と、吐出異常検出部２２７と、を備えている。なお、制御部１１２の各構成要素は、図示しないバスを介して電気的に接続されている。
【００５８】
処理部２２０は、吐出処理や吐出異常検出処理などの各種処理を実行するＣＰＵ（Central Processing Unit）２２１と、外部情報処理装置からインターフェイス（ＩＦ）を介して入力される吐出データを格納する不揮発性半導体メモリの一種であるＥＥＰＲＯＭ（Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory）２２２と、後述する吐出異常検出処理等を実行する際に各種データを一時的に格納する、あるいは吐出処理などのプログラムを一時的に展開するＲＡＭ（Random Access Memory）２２３と、各部を制御する制御プログラム等を格納するＲＯＭ２２４とを備えている。
【００５９】
制御部１１２は、処理部２２０において外部情報処理装置から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴の吐出を行うための吐出データを受け取る。吐出データは、基体上のすべての被吐出部の相対位置を表すデータと、すべての被吐出部に液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを所望の厚さにまで塗布するのに必要となる吐出の回数を示すデータと、休止ノズルを指定するデータと、吐出ノズル１１８Ｔのうち吐出を行うノズルを指定するデータと、吐出ノズル１１８Ｔのうち吐出を行わないノズルを指定するデータと、を含む。吐出データは、ＲＡＭ２２３に格納される。
【００６０】
処理部２２０は、ＲＡＭ２２３に格納された吐出データに基づいて、被吐出部に対するノズル１１８の相対位置を示すデータを走査駆動部２２５に与える。走査駆動部２２５はこのデータと、後述する吐出周期ＥＰ（図５）と、に応じた駆動信号を位置制御装置１０８に与える。この結果、被吐出部に対してヘッド１１４が相対走査する。一方、処理部２２０は、ＲＡＭ２２３に記憶された吐出データと、吐出周期ＥＰと、に基づいて、吐出タイミング毎のノズル１１８のオン・オフを指定する選択信号ＳＣ（ｉ）をヘッド駆動部２２６へ与える。ヘッド駆動部２２６は、選択信号ＳＣ（ｉ）に基づいて、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出に必要な吐出信号ＥＳ（ｉ）をヘッド１１４に与える。この結果、ヘッド１１４における対応するノズル１１８から、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが液滴として吐出される。
【００６１】
以上の構成によって、吐出装置１００Ｒは、制御部１１２に与えられた吐出データに応じて、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの塗布を行う。
【００６２】
次に制御部１１２におけるヘッド駆動部２２６の構成と吐出異常検出処理を説明する。図５（ａ）に示すように、ヘッド駆動部２２６は、１つのヘッド駆動回路２０３と、切替手段２２８と、複数のアナログスイッチＡＳ（ｉ）とを有する。なお、切替手段２２８は、処理部２２０からの駆動／検出切替え信号に応じて、複数のアナログスイッチＡＳ（ｉ）に、吐出異常検出部２２７およびヘッド駆動回路２０３のどちらかを電気的に接続する。この切替手段２２８については後述する。
【００６３】
図５（ｂ）に示すように、ヘッド駆動回路２０３は駆動信号ＤＳを生成する。駆動信号ＤＳの電位は、基準電位Ｌに対して時間的に変化する。具体的には、駆動信号ＤＳは、吐出周期ＥＰで繰り返される複数の吐出波形Ｐを含む。ここで、吐出波形Ｐは、ノズル１１８から１つの液滴を吐出するために、対応する振動子１２４の一対の電極間に印加されるべき駆動電圧波形に対応する。
【００６４】
駆動信号ＤＳは、アナログスイッチＡＳ（ｉ）のそれぞれの入力端子に供給される。アナログスイッチＡＳ（ｉ）のそれぞれは、吐出部１２７のそれぞれに対応して設けられている。つまり、アナログスイッチＡＳ（ｉ）の数と吐出部１２７の数（つまりノズル１１８の数）とは同じである。
【００６５】
処理部２２０は、ノズル１１８のオン・オフを表す選択信号ＳＣ（ｉ）を、アナログスイッチＡＳ（ｉ）のそれぞれに与える。ここで、選択信号ＳＣ（ｉ）（図５のＳＣ（１）〜ＳＣ（７））は、アナログスイッチＡＳ（ｉ）毎に独立にハイレベルおよびローレベルのどちらかの状態を取り得る。一方、アナログスイッチＡＳ（ｉ）は、駆動信号ＤＳと選択信号ＳＣ（ｉ）とに応じて、振動子１２４の電極１２４Ａに吐出信号ＥＳ（ｉ）（図５のＥＳ（１）〜ＥＳ（７））を供給する。具体的には、選択信号ＳＣ（ｉ）がハイレベルの場合には、アナログスイッチＡＳ（ｉ）は電極１２４Ａに吐出信号ＥＳ（ｉ）として駆動信号ＤＳを伝播する。一方、選択信号ＳＣ（ｉ）がローレベルの場合には、アナログスイッチＡＳ（ｉ）が出力する吐出信号ＥＳ（ｉ）の電位は基準電位Ｌとなる。なお、選択信号ＳＣ（ｉ）のレベルがハイレベルに立ち上がるタイミングは、吐出波形Ｐの先頭のタイミングよりも若干早い。
【００６６】
処理部２２０から供給される選択信号ＳＣ（ｉ）におけるハイレベルの期間の長さは、αまたはβである。ここで、αの長さはβの長さよりも長く、そしてαの長さおよびβの長さは、どちらも吐出周期ＥＰの長さよりも短い。そして、選択信号ＳＣ（ｉ）のレベルがハイレベルに立ちあがるエッジのタイミングは、すべての選択信号ＳＣ（ｉ）間で同期している。
【００６７】
ハイレベルの期間の長さがαである選択信号ＳＣ（ｉ）は、残留振動が検出される振動子１２４に対応する選択信号である。αの長さは、残留振動が減衰する時間を考慮した一定値に設定される。一方、ハイレベルの期間の長さがβである選択信号ＳＣ（ｉ）は、残留振動の検出が行わなれない振動子１２４に対応する選択信号である。βの長さは、１つの吐出波形Ｐを有する駆動信号ＤＳが振動子１２４に印加されるのに必要な期間に設定されている。理想的には吐出波形Ｐの長さとβの長さとは同じであればよいが、現実には吐出波形Ｐの長さよりもβの長さがわずかに長い。
【００６８】
本実施形態において、一度の吐出タイミング後に残留振動が検出されるノズル１１８の数は、吐出装置１００Ｒにおいて一つである。具体的には、図５（ｂ）に示すように、ある吐出タイミングに対応して、選択信号ＳＣ（１）は期間αだけハイレベルに維持され、ＳＣ（２）は期間βだけハイレベルに維持され、ＳＣ（３）はローレベルに維持される。一方、次の吐出タイミングに対応して、選択信号ＳＣ（１）は期間βだけハイレベルに維持され、ＳＣ（２）は期間αだけハイレベルに維持され、ＳＣ（３）はローレベルに維持される。このように、吐出タイミング毎に対応して、複数の選択信号ＳＣ（ｉ）のうち、どれか一つの選択信号ＳＣ（ｉ）が期間αだけハイレベルに設定され、残りの選択信号ＳＣ（ｉ）は期間βだけハイレベルに設定されるか、またはローレベルに維持される。処理部２２０がこのように選択信号ＳＣ（ｉ）を設定することで、吐出装置１００Ｒの吐出タイミングに応じて、残留振動を検出する対象のノズル１１８（吐出部１２７）を変えることができる。
【００６９】
一方、選択手段２２８は、選択信号ＳＣ（ｉ）の立ち上がりエッジのタイミングから期間βの長さだけ、ヘッド駆動回路２０３とアナログスイッチＡＳ（ｉ）とを接続している。したがって、期間β内に複数の吐出部１２７が動作を行う。言い換えると、期間β内に複数の振動子１２４が振動する。期間βが終わると、選択手段２２８は、アナログスイッチＡＳ（ｉ）と吐出異常検出部２２８とを接続する。このため、（α−β）の長さの期間に亘って、対応する一つの振動子１２４の残留振動によって生じる起電圧が吐出異常検出部２２７に供給される。本実施形態では、このような起電圧または起電圧の変化を「残留振動信号」とも表記する。
【００７０】
振動子１２４の電極１２４Ａに駆動信号ＤＳが与えられると、その振動子１２４に対応するノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。なお、それぞれの振動子１２４の電極１２４Ｂには基準電位Ｌが与えられている。
【００７１】
図５（ｂ）に示す例では、２つの吐出信号ＥＳ（１）、ＥＳ（２）のそれぞれにおいて、吐出周期ＥＰの２倍の周期２ＥＰで吐出波形Ｐが現れるように、２つの選択信号ＳＣ（１）、ＳＣ（２）のそれぞれにおいてハイレベルの期間とローレベルの期間とが設定されている。これによって、対応する２つのノズル１１８のそれぞれから、周期２ＥＰで液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。また、これら２つのノズル１１８に対応する振動子１２４のそれぞれには、共通のヘッド駆動回路２０３からの共通の駆動信号ＤＳがパラレルに与えられている。このため、２つのノズル１１８からほぼ同じタイミングで液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００７２】
各キャビティ１２０内の液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒと、対応するノズル１１８におけるメニスカスと、対応する振動子１２４とは、この一連の動作（ヘッド駆動回路２０３の駆動信号による液状の材料の吐出動作）によって、次の駆動信号（駆動電圧）が入力されて再び液状の材料を吐出するまでの間、減衰振動をしている。この減衰振動を、吐出部１２７の残留振動とも称する。吐出部１２７の残留振動は、ノズル１１８の形状、あるいは液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの粘度、キャビティ１２０内（液たまり１２９）の液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの重量等によって決定される固有振動周波数を有するものと想定される。
【００７３】
こうしたヘッド１１４の吐出部１２７のそれぞれにおいて、吐出動作を行ったにもかかわらずノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが正常に吐出されない現象、すなわち液滴の吐出異常が発生する場合がある。この吐出異常が発生する原因としては、（１）キャビティ１２０内への気泡の混入、（２）ノズル１１８付近での液状の材料の乾燥（増粘）、（３）ノズル１１８出口付近への異物付着、等が挙げられる。
【００７４】
この吐出異常が発生すると、その結果としては、典型的にはノズル１１８から液滴が吐出されないこと、すなわち液滴の不吐出現象が現れ、その場合、液状の材料が塗布される基体（ワークとも呼ぶ）に塗布抜けを生じる。また、ノズル１１８から液滴が吐出されたとしても、液滴の量が過少であったり、その液滴の飛行方向がずれたりして適正に着弾しないので、やはり塗布抜けとなって現れる。
【００７５】
図６には、吐出部１２７の残留振動が、対応する振動子１２４の電極１２４Ａと１２４Ｂとの間に現れる起電圧で表されている。図６（ａ）は、ノズル１１８から液滴が正常吐出された時の残留振動を示す。図６（ｂ）は、キャビティ１２０内へ気泡が混入した時の残留振動を示す。図６（ｃ）は、ノズル１１８付近で液状の材料が乾燥した時の残留振動を示している。
【００７６】
一般的に減衰波形の数式は、振幅Ｘ0,減衰率σ，角速度ω，位相φ，定数（オフセット）αとして時間の関数で表すと、ｙ（ｔ）＝Ｘ0ｅ-σｔｅｊ(ωｔ＋φ)＋α、で表すことができる。また、残留振動成分は、振動子１２４（振動板１２６）の振動、キャビティ１２０内（液たまり１２９）を満たす液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの振動、あるいはノズル１１８のメニスカスの振動などの、さまざまな振動波形が合成された波形であると考えられる。残留振動波形をＹ（ｔ）、各振動成分をｙ1（ｔ）、ｙ2（ｔ）…と表すと、Ｙ（ｔ）＝ｙ1（ｔ）＋ｙ2（ｔ）＋…で表すことができる。
【００７７】
図６（ｂ）に示すように、吐出装置１００Ｒに衝撃などが加わることにより、キャビティ１２０内へ気泡が生じた場合、あるいはキャビティ１２０内へ気泡が混入した場合には、図６（ａ）に示す、液滴が正常吐出された時の残留振動に比較して、残留振動の周波数が高くなると共に、減衰が遅くなる。これは、キャビティ１２０内（液たまり１２９）を満たす液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの重量が気泡の混入した分減ることにより、周波数が高くなると考えられる。また、図６（ｃ）に示すように、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒに含まれる溶媒が気化するなどにより、ノズル１１８付近で液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが乾燥（増粘）した場合には、残留振動の振幅が小さくなると共に、減衰が早くなる。
【００７８】
以上に説明した吐出部１２７の残留振動の変化によって、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出異常を検出すると共に、液滴吐出異常の原因を特定することができる。
【００７９】
図７を参照して、ヘッド駆動部２２６と吐出異常検出部２２７とをさらに説明する。ヘッド駆動部２２６は、ヘッド駆動回路２０３と、切替手段２２８と、複数のアナログスイッチＡＳ（ｉ）と、を有してる。ヘッド駆動回路２０３は、駆動信号ＤＳを生成する。駆動信号ＤＳは、切替手段２２８を介して複数のアナログスイッチＡＳ（ｉ）のそれぞれの入力端子に与えられる。複数のアナログスイッチＡＳ（ｉ）のそれぞれは、駆動信号ＤＳと、対応する選択信号ＳＣ（ｉ）とに応じて、対応する振動子１２４に吐出信号ＥＳ（ｉ）を与える。切替手段２２８は、処理部２２０からの駆動／検出切替え信号に応じて、アナログスイッチＡＳ（ｉ）を、ヘッド駆動回路２０３および吐出異常検出部２２７におけるノイズフィルタ１８１のどちらかに電気的に接続するスイッチである。
【００８０】
吐出異常検出部２２７は、ノイズフィルタ１８１と、増幅回路１８２と、Ａ／Ｄ変換回路１８３と、デジタルフィルタ１８４と、判定部１８５と、を有している。処理部２２０からの駆動／検出切替え信号がＯＮ状態を示す場合には、切替手段２２８は、アナログスイッチＡＳ（ｉ）とヘッド駆動回路２０３との電気的接続を切り離すとともに、アナログスイッチＡＳ（ｉ）とノイズフィルタ１８１とを電気的に接続する。したがって、駆動／検出切替え信号がＯＮ状態を表す場合には、振動子１２４が振動することによって生じる起電圧の時間的変動が、残留振動信号としてノイズフィルタ１８１に供給される。
【００８１】
ノイズフィルタ１８１は残留振動信号からノイズ成分を除去する。増幅回路１８２は、ノイズが除去された残留振動信号を増幅する。Ａ／Ｄ変換回路１８３は増幅回路１８２によって増幅された残留振動信号をデジタル信号に変換する。デジタル化された残留振動信号は、デジタルフィルタ１８４によるフィルタ処理を受けて、判定部１８５に入力する。判定部１８５は、フィルタ処理が施された残留振動信号から、残留振動信号の周波数、減衰率、振幅、位相、およびオフセット（振動中心からのずれ）を導出する。これら周波数、減衰率、振幅、位相、およびオフセットは、１つの振動子１２４の残留振動の周波数、減衰率、振幅、位相、およびオフセットをそれぞれ表す。以下では、残留振動の周波数、減衰率、振幅、位相、およびオフセットのそれぞれを、残留振動のパラメータとも呼ぶ。
【００８２】
判定部１８５は、導出された残留振動の各パラメータのデータに応じて、ノズル１１８の吐出異常の有無を判定する。そして、判定部１８５は、判定結果を表すデータを生成する。
【００８３】
キャビティ１２０の残留振動の各パラメータを検出する際には、まず切替手段２２８によってヘッド駆動回路２０３とアナログスイッチＡＳ（ｉ）とを電気的に接続させる。そのうえで、振動板１２６上に配置された振動子１２４（図３）の一対の電極１２４Ａ，１２４Ｂに、ヘッド駆動回路２０３からの駆動信号が、対応するアナログスイッチＡＳ（ｉ）を介して印加される。駆動信号ＤＳの駆動波形が印加された直後に、切替手段（スイッチ）２２８には処理部２２０から駆動／検出切替え信号が入力されて、このことによって、ヘッド１１４（振動子１２４）と吐出異常検出部２２７のノイズフィルタ１８１とが電気的に接続される。
【００８４】
切替手段２２８には、次の振動子１２４の駆動タイミングに間に合うように、処理部２２０から駆動／検出切替え信号が入力される。このことによって、再びヘッド駆動回路２０３とアナログスイッチＡＳ（ｉ）とが電気的に接続する。
【００８５】
そして、判定部１８５において判定された吐出異常の有無のデータと、吐出ノズル１１８Ｔの吐出異常有が判定されたＹ座標は、処理部２２０のＲＡＭ２２３に格納される。
【００８６】
ところで、キャビティ１２０の吐出ノズル１１８Ｔのメニスカスは、振動板１２６の残留振動に同期して振動する。そして、メニスカスの振動は、ノズル１１８からの液滴の吐出量に影響を与える。このため、ノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが一旦吐出された場合には、同じノズル１１８から次の液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されるタイミングは、振動板１２６およびメニスカスの残留振動が充分に減衰した後に設定されている。本実施形態では、吐出タイミングと吐出タイミングとの間のこのような待機時間内に残留振動が検出される。
【００８７】
（Ｄ．吐出ヘッド部）
図８および図９に示すように、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃは、第２の吐出ヘッド部１０３ＤからＹ軸方向に所定の距離ＹＫだけ離れている。図８の場合、第１の吐出ヘッド部１０３ＣのＹ座標は、第２の吐出ヘッド部１０３ＤのＹ座標よりも大きい。なお、上記所定の距離ＹＫは、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃにおいて最も大きいＹ座標を有するノズル列と、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄにおいて最も大きいＹ座標を有するノズル列と、の間の距離でもある。
【００８８】
以下では、まず第１の吐出ヘッド部１０３Ｃにおけるヘッド１１４の相対位置関係を説明する。
【００８９】
図８に示すように、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃは複数のヘッド群１１４Ｇを有する。複数のヘッド群１１４Ｇは、Ｘ軸方向に延びる１列を構成している。
【００９０】
それぞれのヘッド群１１４Ｇは、Ｙ軸方向に隣合う４つのヘッド１１４からなる。そして、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰが、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰの１／４倍の長さとなるように、ヘッド群１１４において４つのヘッド１１４が配置されている。より具体的には、ヘッド群１１４Ｇにおいて、１つのヘッド１１４の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標に対して、他のヘッド１１４の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標が、ノズルピッチＨＸＰのｊ／４倍の長さだけ、Ｘ軸方向に重複無くずれて位置している。ここで、ｊは１から３までの自然数である。このため、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰは、ノズルピッチＨＸＰの１／４倍である。
【００９１】
本実施形態では、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰは約７０μｍだから、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰは、その１／４倍の約１７．５μｍである。ここで、「ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰ」は、ヘッド群１１４Ｇにおけるノズル１１８のすべてを、Ｘ軸方向に直交する方向からＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。
【００９２】
もちろん、ヘッド群１１４Ｇが含むヘッド１１４の数は、４つだけに限定されない。ヘッド群１１４ＧはＮ個のヘッド１１４からなってもよい。ここで、Ｎは２以上の自然数である。ヘッド群１１４ＧがＮ個のヘッド１１４からなる場合には、ノズルピッチＧＸＰがノズルピッチＨＸＰの１／Ｎ倍の長さになるように、ヘッド群１１４ＧにおいてＮ個のヘッド１１４が配置されればよい。あるいは、Ｎ個のヘッド１１４の一つにおける第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標に対して、他の（Ｎ−１）個のヘッド１１４における基準ノズル１１８のＸ座標が、ノズルピッチＨＸＰのｊ／Ｎ倍の長さだけ重複無くずれていればよい。なお、この場合には、ｊは１から（Ｎ−１）までの自然数である。
【００９３】
以下では、本実施形態のヘッド１１４の相対位置関係をより具体的に説明する。
【００９４】
まず、説明を平易にする目的で、図８および図９の最も左側のヘッド群１１４Ｇに含まれる４つのヘッド１１４を、上からそれぞれヘッド１１４１、ヘッド１１４２、ヘッド１１４３、ヘッド１１４４と表記する。同様に、図８および図９の左から２番目のヘッド群１１４Ｇに含まれる４つのヘッド１１４を、上からそれぞれヘッド１１４５、ヘッド１１４６、ヘッド１１４７、ヘッド１１４８と表記する。
【００９５】
そして図９に示すように、ヘッド１１４１におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列１Ａ、１Ｂと表記し、ヘッド１１４２におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列２Ａ、２Ｂと表記し、ヘッド１１４３におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列３Ａ、３Ｂと表記し、ヘッド１１４４におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列４Ａ、４Ｂと表記する。同様に、ヘッド１１４５におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列５Ａ、５Ｂと表記し、ヘッド１１４６におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列６Ａ、６Ｂと表記し、ヘッド１１４７におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列７Ａ、７Ｂと表記し、ヘッド１１４８におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列８Ａ、８Ｂと表記する。
【００９６】
これらノズル列１Ａ〜８Ｂのそれぞれは、実際には９０個のノズル１１８からなる。そして、上述したように、ノズル列１Ａ〜８Ｂのそれぞれにおいて、これら９０個のノズルは、Ｘ軸方向に並んでいる。ただし、図９では説明の便宜上、ノズル列１Ａ〜８Ｂのそれぞれが、４つの吐出ノズル１１８Ｔ（ノズル１１８）からなるように描かれている。さらに、図８および図９では、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１であり、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４２の第１の基準ノズル１１８Ｒ１であり、ノズル列３Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４３の第１の基準ノズル１１８Ｒ１であり、ノズル列４Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４４の第１の基準ノズル１１８Ｒ１であり、ノズル列５Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４５の第１の基準ノズル１１８Ｒ１である。なお図８および図９の左方向は、Ｘ軸方向の負の方向である。
【００９７】
ヘッド１１４１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標と、ヘッド１１４２の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標との差の絶対値は、ノズルピッチＬＮＰの１／４倍の長さ、すなわちノズルピッチＨＸＰの１／２倍の長さ、である。図８および図９の例では、ヘッド１１４１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッド１１４２の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの１／４倍の長さだけＸ軸方向の負の方向（図８および図９の左方向）にずれている。ただし、ヘッド１１４１がヘッド１１４２に対してずれる方向は、Ｘ軸方向の正の方向（図８および図９の右方向）であってもよい。
【００９８】
ヘッド１１４３の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標と、ヘッド１１４４の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標との差の絶対値は、ノズルピッチＬＮＰの１／４倍の長さ、すなわちノズルピッチＨＸＰの１／２倍の長さ、である。図８および図９の例では、ヘッド１１４３の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッド１１４４の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの１／４倍の長さだけＸ軸方向の負の方向（図８および図９の左方向）にずれている。ただし、ヘッド１１４３がヘッド１１４４に対してずれる方向は、Ｘ軸方向の正の方向（図８および図９の右方向）であってもよい。
【００９９】
ヘッド１１４２の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標と、ヘッド１１４３の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標との差の絶対値は、ノズルピッチＬＮＰの１／８倍または３／８倍の長さ、すなわちノズルピッチＨＸＰの１／４倍または３／４倍の長さ、である。図８および図９の例では、ヘッド１１４２の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッド１１４３の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの１／８、すなわち１７．５μｍだけＸ軸方向の正の方向（図８および図９の右方向）にずれている。ただし、ヘッド１１４２がヘッド１１４３に対してずれる方向は、Ｘ軸方向の負の方向（図８および図９の左方向）であってもよい。
【０１００】
本実施形態では、Ｙ軸方向の負の方向（図面の下方向）に向かって、ヘッド１１４１、１１４２、１１４３、１１４４が、この順番で並んでいる。しかしながら、Ｙ軸方向に並んだこれら４つのヘッド１１４の順番は、本実施形態の順番でなくてもよい。具体的には、ヘッド１１４１とヘッド１１４２とが、Ｙ軸方向に隣合うとともに、ヘッド１１４３とヘッド１１４４とがＹ軸方向に隣合っていればよい。
【０１０１】
上記配置によって、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標とノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標との間に、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列３Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列４Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、が収まる。同様に、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標とノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８のＸ座標との間に、ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列３Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列４Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、が収まる。ノズル列１Ａの他のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列１Ｂの他のノズル１１８のＸ座標と、の間にも、同様にノズル列２Ａ（または２Ｂ）のノズル１１８のＸ座標、ノズル列３Ａ（または３Ｂ）のノズル１１８のＸ座標、ノズル列４Ａ（または４Ｂ）のノズル１１８のＸ座標が収まる。
【０１０２】
より具体的には、上記のヘッドの配置によって、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。そして、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列３Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列３Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列４Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列４Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。
【０１０３】
図８および図９の左から２番目のヘッド群１１４Ｇにおけるヘッド１１４５、１１４６、１１４７、１１４８の配置、つまりコンフィギュレーションも、ヘッド１１４１、１１４２、１１４３、１１４４の配置と同様である。
【０１０４】
次に、Ｘ軸方向に隣合う２つのヘッド群１１４Ｇの間の相対位置関係を、ヘッド１１４５とヘッド１１４１との間の相対位置関係に基づいて説明する。
【０１０５】
ヘッド１１４５の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッド１１４１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置から、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰと、ヘッド１１４における吐出ノズル１１８Ｔの数と、の積の長さだけＸ軸方向の正の方向にずれている。本実施形態では、ノズルピッチＨＸＰは約７０μｍであるとともに、１つのヘッド１１４における吐出ノズル１１８Ｔの数は１６０個なので、ヘッド１１４５の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッド１１４１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置から１１．２ｍｍ（７０μｍ×１６０）だけＸ軸方向の正の方向にずれている。ただし、図８および図９では、説明の便宜上、ヘッド１１４１における吐出ノズル１１８Ｔの数は８個なので、ヘッド１１４５の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置が、ヘッド１１４１の基準ノズル１１４１の位置から５６０μｍ（７０μｍ×８）だけずれているように描かれている。
【０１０６】
ヘッド１１４１とヘッド１１４５とが上述のように配置されているので、ノズル列１Ａの最も右の吐出ノズル１１８ＴのＸ座標と、ノズル列５Ａの最も左の吐出ノズル１１８ＴのＸ座標とは、ノズルピッチＬＮＰだけずれている。このため、２つのヘッド１１４Ｇ全体のＸ軸方向のノズルピッチは、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰの１／４倍である。
【０１０７】
第１の吐出ヘッド部１０３Ｃにおける他のヘッド群１１４Ｇにおいても、４つのヘッド１１４の相対位置関係は、上記と同じ相対位置関係である。また、Ｘ軸方向に隣合う他の２つのヘッド群の相対位置関係も、上記２つのヘッド群間の相対位置関係と同じである。
【０１０８】
以上のことから、第１の範囲ＥＸＴにおいて、吐出ノズル１１８Ｔは、Ｘ軸方向のノズルピッチがノズルピッチＨＸＰのほぼ１／４倍の長さ、つまり１７．５μｍとなるように、分布している。ここで「第１の範囲ＥＸＴ」とは、本実施形態では、Ｘ軸方向に沿った範囲であって、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃにおいて最も外側に位置する２つの吐出ノズル１１８Ｔの間で規定される範囲である。ただし、第１の範囲ＥＸＴには、これら最も外側に位置する２つの吐出ノズル１１８Ｔも含まれる。
【０１０９】
図８に示すように、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄにおけるヘッド１１４の配置パターンは、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃにおけるヘッド１１４の配置パターンと同じである。つまり、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄの吐出ノズル１１８Ｔの配置パターンと、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃの吐出ノズル１１８Ｔの配置パターンとは、同じである。
【０１１０】
以上のことから、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄにおいても、第１の範囲ＥＸＴにおいて、吐出ノズル１１８Ｔは、Ｘ軸方向のノズルピッチがノズルピッチＨＸＰのほぼ１／４倍の長さになるように、分布している。そして、共通なＸ座標を有する２つの吐出ノズル１１８Ｔが、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃと第２の吐出ヘッド部１０３Ｄとに一つずつ位置している。
【０１１１】
（Ｅ．塗布工程）
【０１１２】
図１０（ａ）および（ｂ）に示す基体１０Ａは、後述する製造装置１（図１２）による処理を経て、カラーフィルタ基板１０となる基板である。基体１０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂを有する。
【０１１３】
具体的には、基体１０Ａは、光透過性を有する支持基板１２と、支持基板１２上に形成されたブラックマトリクス１４と、ブラックマトリクス１４上に形成されたバンク１６と、を含む。ブラックマトリクス１４は遮光性を有する材料で形成されている。そして、ブラックマトリクス１４とブラックマトリクス１４上のバンク１６とは、支持基板１２上にマトリクス状の複数の光透過部分、すなわちマトリクス状の複数の画素領域、が規定されるように位置している。
【０１１４】
それぞれの画素領域において、支持基板１２、ブラックマトリクス１４、およびバンク１６で規定される凹部は、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、被吐出部１８Ｂに対応する。被吐出部１８Ｒは、赤の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｇは、緑の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｂは、青の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＢが形成されるべき領域である。
【０１１５】
図１０（ｂ）に示す基体１０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体１０Ａにおいて、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、および被吐出部１８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部１８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部１８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、そして、被吐出部１８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【０１１６】
なお、被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８ＢがＸ軸方向に分布する範囲は、第１の範囲ＥＸＴ内（図８）に収まっている。
【０１１７】
被吐出部１８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部１８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＧＹと同じであり、被吐出部１８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＢＹとも同じである。また、被吐出部１８Ｒの平面像は、互いに直交する長軸方向と短軸方向とを有する形状である。本実施形態では、被吐出部１１８Ｒの平面像は長辺と短辺とで決まるほぼ矩形である。具体的には、被吐出部１８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部１８Ｇおよび被吐出部１８Ｂも被吐出部１８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【０１１８】
次に、吐出装置１００Ｒの動作を説明する。吐出装置１００Ｒは、基体１０Ａ上でマトリクス状に配置された複数の被吐出部１８Ｒに同一の材料（つまりカラーフィルタ材料１１１Ｒ）を吐出する。なお、実施形態３〜５において説明するように、基体１０Ａは、エレクトロルミネッセンス表示装置用の基板に置き換わってもよいし、プラズマ表示装置用の背面基板に置き換わってもよいし、電子放出素子を備えた画像表示装置の基板に置き換わってもよい。
【０１１９】
図１１の基体１０Ａは、被吐出部１８Ｒの長辺方向および短辺方向がそれぞれＸ軸方向およびＹ軸方向に一致するように、ステージ１０６に保持されている。
【０１２０】
まず、走査期間が始る前に、制御部１１２は、吐出データに応じて、いくつかのノズル１１８のＸ座標が被吐出部１８ＲのＸ座標範囲に収まるように、吐出ヘッド部１０３、すなわちヘッド群１１４Ｇ、を基体１０Ａに対してＸ軸方向に相対移動させる。被吐出部１８ＲのＸ座標範囲とは、被吐出部１８Ｒの両端のＸ座標で決まる範囲である。本実施形態では、被吐出部１８Ｒの長辺の長さは約３００μｍであり、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰは１７．５μｍである。このため、ヘッド群１１４Ｇにおける１６個または１７個のノズル１１８が、１つの被吐出部１８ＲのＸ座標範囲に入る。Ｘ座標範囲外のノズル１１８からは、走査期間の内になんらカラーフィルタ材料１１１Ｒは吐出されない。
【０１２１】
ところで、本実施形態において「走査期間」とは、図２９に示すように、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃの一辺がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４の一端Ｅ１（または他端Ｅ２）から他端Ｅ２（または一端Ｅ１）まで、ステージ１０６に対して相対移動を１回行う期間を意味する。「走査範囲１３４」とは、基体１０Ａ上のすべての被吐出部１８Ｒに材料を塗布するために吐出ヘッド部１０３が相対移動する範囲を意味し、走査範囲１３４によってすべての被吐出部１８Ｒが覆われている。本実施形態では、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｄは、走査範囲１３４を１つの走査期間内に移動する。
【０１２２】
なお、場合によって用語「走査範囲」は、ステージ１０６に対して１つのノズル１１８（図２）が相対移動する範囲を意味することもあるし、１つのノズル列１１６Ａ（１１６Ｂ）（図２）が相対移動する範囲を意味することもあるし、１つのヘッド１１４（図２）が相対移動する範囲を意味することもある。
【０１２３】
さらに、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃ、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄ、ヘッド群１１４Ｇ（図８）、ヘッド１１４（図２）、またはノズル１１８（図２）が相対移動するとは、ステージ１０６、基体１０Ａ、または被吐出部１８Ｒに対するこれらの相対位置が変わることを意味する。このため、本明細書では、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃ、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄ、ヘッド群１１４Ｇ、ヘッド１１４、またはノズル１１８が吐出装置１００Ｒに対して静止して、ステージ１０６のみが移動する場合であっても、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃ、第２の吐出ヘッド部１０３Ｄ、ヘッド群１１４Ｇ、ヘッド１１４、またはノズル１１８が、ステージ１０６、基体１０Ａ、または被吐出部１８Ｒに対して相対移動すると表記する。また、相対走査または相対移動と、材料の吐出と、の組合せを指して「塗布走査」と表記することもある。
【０１２４】
さて、制御部１１２は、吐出周期ＥＰ（図５（ｂ））の整数倍の時間間隔毎に、１つのノズル１１８とＹ軸方向に並んだ被吐出部１８Ｒとが重なるように、吐出ヘッド部１０３の相対移動の速度を決定する。そうすれば、その１つのノズル１１８を含むノズル列における他のノズル１１８も、吐出周期ＥＰの整数倍の時間間隔毎に、それぞれの被吐出部１８Ｒと重なる。本実施形態では、被吐出部１８ＲのＹ軸方向のピッチがＬＲＹ（図１０（ｂ））なので、ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対移動の速度をＶとすると、Ｖ＝ＬＲＹ／（ｋ・ＥＰ）である。ここで、ｋは整数である。なお、吐出周期ＥＰはほぼ一定なので、相対移動の速度Ｖは等速である。
【０１２５】
走査期間が始ると、走査範囲１３４の一端Ｅ１からＹ軸方向の正の方向（図１１の紙面上方向）に、ステージ１０６が相対移動し始める。そうすると、図９を参照しながら説明したノズル列１Ａ、１Ｂ、２Ａ、２Ｂ、３Ａ、３Ｂ、４Ａ、４Ｂがこの順番で、被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入する。なお、走査期間の間、ヘッド群１１４ＧのＸ座標は変化しない。
【０１２６】
図１１に示す例の場合には、ノズル列１Ａがある１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８と、左から３番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。さらに、ノズル列１Ｂがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズルとから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【０１２７】
その後、ノズル列２Ａがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。次に、ノズル列２Ｂがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【０１２８】
そして、ノズル列３Ａがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列３Ａの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。次に、ノズル列３Ｂがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列３Ｂの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【０１２９】
さらに、ノズル列４Ａがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列４Ａの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。次に、ノズル列４Ｂがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列４Ｂの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【０１３０】
本実施形態によれば、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰは、１つのヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰのほぼ１／４であり、このため、１つの走査期間内に、より多くのノズル１１８が１つの被吐出部に重なる。
【０１３１】
被吐出部１８Ｒ内でカラーフィルタ材料１１１Ｒが着弾する位置の順番は、図１１の左からＰ１、Ｐ６、Ｐ４、Ｐ８、Ｐ３、Ｐ７、Ｐ５、Ｐ９、Ｐ２で並んだ位置のうちであれば、Ｐ１（Ｐ２）、Ｐ３、Ｐ４、Ｐ５、Ｐ６、Ｐ７、Ｐ８、Ｐ９の順番に着弾する。なお、Ｐ１とＰ２には、ほぼ同時にカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴が着弾する。
【０１３２】
つまり、本実施形態によれば、カラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴は、既に液滴で覆われた２つの位置の中間位置に着弾する。このため、後に着弾する液滴は、自らの着弾位置に対して対称な２つの位置において、先に着弾した２つの液滴と接する。このため、後に着弾する液滴には、相反する２つの方向への力が働き、この結果、後に着弾した液滴はその着弾位置から対称な形状に広がる。この理由から、本実施形態の塗布工程によれば、カラーフィルタ材料１１１Ｒの塗布ムラが生じにくい。
【０１３３】
一方、図１１に示すように、走査期間内では、ノズル列１Ａにおける最も左側のノズル１１８と、ノズル列２Ａにおける右から２番目のノズル１１８と、ノズル列３Ａにおける右から２番目のノズル１１８と、ノズル列４Ａにおける右から２番目のノズル１１８とは、一度も被吐出部１８Ｒに重ならない。したがって、これらのノズルからはなんらカラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出は行われない。
【０１３４】
吐出異常検出部２２７は、複数の吐出部１２７の一つずつについて、順次、残留振動を検出する。このため、塗布走査中に、カラーフィルタ材料１１１Ｒの変質（例えば分散異常）が生じても、そのような変質を検出することができる。さらに、残留振動における異常が、吐出部１２７のそれぞれ自体の異常を示すのか、カラーフィルタ材料１１１Ｒ自体の変質を示すのかも、区別することができる。これは、複数の被吐出部１２７のそれぞれには、同じカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給されているからである。例えば、第１の吐出部１２７の残留振動が通常の残留振動から外れていても、第２の吐出部１２７の残留振動が通常の残留振動であれば、その第１の吐出部１２７に異常が生じていると見なせる。一方、多数の吐出部１２７の残留振動が通常の残留振動からずれていれば、カラーフィルタ材料１１１Ｒ自体の変質が生じている可能性が高い。
【０１３５】
こうした塗布工程において、吐出異常検出部２２７によって、ある吐出ノズル１１８Ｔの吐出異常が検出（判定）された場合には、吐出ノズル１１８Ｔの回復工程と、基体１０Ａへの再塗布工程とが行われる。ある吐出ノズル１１８Ｔの吐出異常が検出されたタイミングよりも前に、この吐出ノズル１１８Ｔが液状の材料を吐出した領域（被吐出部１８Ｒ）が塗布欠損部分である可能性が高い。再塗布工程は、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが充分に塗布されなかった塗布欠損部分（被吐出部１８Ｒ）へ、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを再度吐出する工程である。
【０１３６】
回復工程は、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃ、および第２の吐出ヘッド部１０３Ｄが基体に液状の材料の液滴を吐出した後に、受け皿部１０６Ｂが、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃの全ての吐出ノズル１１８Ｔを包含するように、ステージ１０６がＹ軸方向に移動して、吐出ヘッド部１０３Ａの各吐出ノズル１１８Ｔのフラッシング（捨て打ち、あるいは空吐出とも言う）を行う。そして、同様にステージ１０６がＹ軸方向に移動して、吐出ヘッド部１０３Ｂの吐出ノズル１１８Ｔのフラッシングを行う。なお、フラッシングは基体に対して行わないノズル１１８の吐出動作である。受け皿部１０６Ｂにフラッシングされた液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒは、チューブおよびポンプを介して廃タンクに収納される。
【０１３７】
この回復工程のフラッシング時に、吐出異常検出部２２７において各吐出ノズル１１８Ｔの残留振動を検出し吐出異常検出を行うのが好ましい。また、回復工程を、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが気化し易い溶媒、あるいは固体物質などを混入した流動性を有する材料の場合に、吐出ノズル１１８Ｔの吐出異常以前にフラッシングを行う予防吐出動作としてもよい。
【０１３８】
回復工程のフラッシング後に、再塗布工程が行われる。再塗布工程は、吐出異常検出部２２７の判定部１８５において判定され、制御部１１２（処理部２２０）のＲＡＭ２２３に格納された、吐出ノズル１１８Ｔの吐出異常有無のデータと、吐出ノズル１１８Ｔの吐出異常有が判定されたＹ軸方向の座標（Ｙ座標）と、基体上のすべての被吐出部の相対位置を表すデータとに基づいて、基体１０Ａの塗布欠損部分（被吐出部）のＹ座標位置にステージ１０６が移動して、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃ、もしくは第２の吐出ヘッド部１０３Ｄの吐出ノズル１１８Ｔから液状の材料が吐出される。この再塗布工程により、全て良品の液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが塗布される基体（製品）を得ることができる。
【０１３９】
（実施形態１の変形例）
【０１４０】
（１）吐出装置１００Ｒの走査期間が始る前に、吐出ヘッド部１０３Ｃおよび吐出ヘッド部１０３Ｄが、基体１０Ａに対応する領域外の位置で、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒのフラッシングを行ってもよい。例えば、走査期間が開始される前に、吐出ヘッド１０３Ｃを受け皿部１０６Ｂに対面する位置に位置させて、それぞれの吐出ノズル１１８Ｔから液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒをフラッシングすればよい。このフラッシング工程の際にも、吐出異常検出部２２７がそれぞれの吐出部１２７の残留振動を順次検出することが好ましい。塗布工程が始る前に、吐出部１２７の異常または液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの変質を検出できるからである。
【０１４１】
（２）上記実施形態において、第１の吐出ヘッド部１０３Ｃおよび第２の吐出ヘッド部１０３Ｄのどちらにおいても、吐出ノズル１１８Ｔは、Ｘ軸方向に沿って被吐出部１８Ｒをすべてを覆うように分布している。このため、吐出ヘッド部１０３Ｃおよび吐出ヘッド部１０３Ｄのどちらも、Ｘ軸方向に相対移動する必要がない。
【０１４２】
ただし、ノズル１１８がＸ軸方向に分布する範囲が、被吐出部１８ＲがＸ軸方向に分布する範囲よりも小さい場合には、以下のような塗布走査が行えるように、吐出装置１００Ｒを改変すればよい。
【０１４３】
まず、Ｙ軸方向に延びる第１の列における被吐出部１８Ｒのそれぞれにノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されるように、ヘッド１１４とステージ１０６との少なくとも一方を他方に対してＹ軸方向に相対移動させる。この相対移動の期間中に、ノズル１１８が第１の列における被吐出部１８Ｒに対応する領域に達した場合には、そのノズル１１８から被吐出部１８Ｒに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。次に、そのノズル１１８がＹ軸方向に延びる第２の列における被吐出部に対面できるように、前記ヘッドと前記ステージとの少なくとも一方を他方に対してＸ軸方向に相対移動させる。そして、第２の列における被吐出部１８Ｒのそれぞれにそのノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されるように、ヘッド１１４とステージ１０６との少なくとも一方を他方に対してＹ軸方向に相対移動させる。
【０１４４】
ヘッド駆動回路２０３は、ノズル１１８がＸ軸方向への相対移動によって第１の列から第２の列に至るまでの期間内に、振動子１２７に非吐出駆動信号を与えてもよい。非吐出駆動信号とは、ノズル１１８から液状の材料が吐出しない範囲内の駆動信号である。具体的には、非吐出駆動信号の電位差は、吐出の駆動信号の電位差よりも小さい。
【０１４５】
そして、吐出異常検出部は、非吐出駆動信号による振動子１２４の振動の残留振動を検出してもよい。そうすれば、効率よく残留振動を検出できるため、好ましい。
【０１４６】
（３）上記実施形態では、複数の吐出ノズル１１８Ｔに対応する残留振動を順次に検出したが、本発明はこのような構成に限定されない。例えば、１つのみの吐出ノズル１１８Ｔに対応する残留振動を、塗布工程中に検出してもよい。このような構成であっても、塗布工程中における液状の材料の変質を検出できるからである。
【０１４７】
（実施形態２）
実施形態１では、被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する工程を説明した。本実施形態では、製造装置１によってカラーフィルタ基板１０が得られるまでの一連の工程を説明する。
【０１４８】
図１２に示す製造装置１は、図１０の基体１０Ａの被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂのそれぞれに対して、対応するカラーフィルタ材料を吐出する装置である。具体的には、製造装置１は、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する吐出装置１００Ｒと、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを乾燥させる乾燥装置１５０Ｒと、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇを塗布する１００Ｇと、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを乾燥させる乾燥装置１５０Ｇと、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂを塗布する１００Ｂと、被吐出部１８Ｂのカラーフィルタ材料１１１Ｂを乾燥させる乾燥装置１５０Ｂと、カラーフィルタ材料１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂを再度加熱（ポストベーク）するオーブン１６０と、ポストベークされたカラーフィルタ材料１１１Ｒ，１１１Ｇ、１１１Ｂの層の上に保護膜２０を設ける吐出装置１００Ｃと、保護膜２０を乾燥させる乾燥装置１５０Ｃと、乾燥された保護膜２０を再度加熱して硬化する硬化装置１６５と、を備えている。さらに製造装置１は、吐出装置１００Ｒ、乾燥装置１５０Ｒ、吐出装置１００Ｇ、乾燥装置１５０Ｇ、吐出装置１００Ｂ、乾燥装置１５０Ｂ、吐出装置１００Ｃ、乾燥装置１５０Ｃ、硬化装置１６５の順番に基体１０Ａを搬送する複数の搬送装置１７０も備えている。複数の搬送装置１７０のそれぞれは、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。
【０１４９】
図１２に示す吐出装置１００Ｒの構成は、実施形態１（図１）で説明した通りである。一方、吐出装置１００Ｇの構成と、吐出装置１００Ｂの構成と、吐出装置１００Ｃの構成とは、いずれも基本的に吐出装置１００Ｒの構造と同じある。ただし、吐出装置１００Ｒにおける２つのタンク１０１Ｒと、対応する２つのチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｇがカラーフィルタ材料１１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置１００Ｇの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｂがカラーフィルタ材料１１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置１００Ｂの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。さらに、タンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｃが保護膜材料用のタンクとチューブとを備える点で吐出装置１００Ｃの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂは、本発明の液状の材料の一例である。
【０１５０】
吐出装置１００Ｇおよび１００Ｂのそれぞれにおける吐出異常検出部２２７が行う吐出異常検出処理、回復動作、および基体への再塗布動作は、実施形態１と同様であり、このため説明を省略する。
【０１５１】
以下では、製造装置１によってカラーフィルタ基板１０が得られるまでの一連の工程を説明する。
【０１５２】
まず、以下の手順にしたがって図１０の基体１０Ａを作成する。まず、スパッタ法または蒸着法によって、支持基板１２上に金属薄膜を形成する。その後、フォトリソグラフィー工程によってこの金属薄膜から格子状のブラックマトリクス１４を形成する。ブラックマトリクス１４の材料の例は、金属クロムや酸化クロムである。なお、支持基板１２は、可視光に対して光透過性を有する基板、例えばガラス基板である。続いて、支持基板１２およびブラックマトリクス１４を覆うように、ネガ型の感光性樹脂組成物からなるレジスト層を塗布する。そして、そのレジスト層の上にマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム密着させながら、このレジスト層を露光する。その後、レジスト層の未露光部分をエッチング処理で取り除くことで、バンク１６が得られる。以上の工程によって、基体１０Ａが得られる。
【０１５３】
なお、バンク１６に代えて、樹脂ブラックからなるバンクを用いても良い。その場合は、金属薄膜（ブラックマトリクス１４）は不要となり、バンク層は、１層のみとなる。
【０１５４】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体１０Ａを親液化する。この処理によって、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、で規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における支持基板１２の表面と、ブラックマトリクス１４の表面と、バンク１６の表面と、が親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体１０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部におけるバンク１６の表面がフッ化処理（撥液性に処理）され、このことで、バンク１６の表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた支持基板１２の表面およびブラックマトリクス１４の表面は若干親液性を失うが、それでもこれら表面は親液性を維持する。このように、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂとなる。
【０１５５】
なお、支持基板１２の材質、ブラックマトリクス１４の材質、およびバンク１６の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面が被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂである。
【０１５６】
被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂが形成された基体１０Ａは、搬送装置１７０によって、吐出装置１００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図１３（ａ）に示すように、吐出装置１００Ｒは、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４（図８）からカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。また、カラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置１００Ｒにおける複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０１５７】
基体１０Ａの被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｒ上にフィルタ層１１１ＦＲを得る。
【０１５８】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図１３（ｂ）に示すように、吐出装置１００Ｇは、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４（図８）からカラーフィルタ材料１１１Ｇを吐出する。また、カラーフィルタ材料１１１Ｇの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置１００Ｇにおける複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０１５９】
基体１０Ａの被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｇ上にフィルタ層１１１ＦＧを得る。
【０１６０】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図１３（ｃ）に示すように、吐出装置１００Ｂは、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４（図８）からカラーフィルタ材料１１１Ｂを吐出する。また、カラーフィルタ材料１１１Ｂの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置１００Ｂにおける複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０１６１】
基体１０Ａの被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｂ上のカラーフィルタ材料１１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｂ上にフィルタ層１１１ＦＢを得る。
【０１６２】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを、オーブン１６０内に位置させる。その後、オーブン１６０はフィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢを再加熱（ポストベーク）する。
【０１６３】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｃのステージ１０６に位置させる。そして、吐出装置１００Ｃは、フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆って保護膜２０が形成されるように、液状の保護膜材料を吐出する。フィルタ層１１１ＦＲ，１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆う保護膜２０が形成された後に、搬送装置１７０は基体１０Ａをオーブン１５０Ｃ内に位置させる。そして、オーブン１５０Ｃが保護膜２０を完全に乾燥させた後に、硬化装置１６５が保護膜２０を加熱して完全に硬化することで、基体１０Ａはカラーフィルタ基板１０となる。
【０１６４】
（実施形態３）
次に、本発明をエレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置に適用した例を説明する。なお、吐出異常検出部２２７において行われる吐出異常検出処理、回復動作、および基体への再塗布動作は、実施形態１と同様であり説明を省略する。
【０１６５】
図１４（ａ）および（ｂ）に示す基体３０Ａは、後述する製造装置２（図１５）による処理によって、エレクトロルミネッセンス表示装置３０（例えば有機ＥＬ表示装置）となる基板である。基体３０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂを有する。
【０１６６】
具体的には、基体３０Ａは、支持基板３２と、支持基板３２上に形成された回路素子層３４と、回路素子層３４上に形成された複数の画素電極３６と、複数の画素電極３６の間に形成されたバンク４０と、を有している。支持基板は、可視光に対して光透過性を有する基板であり、例えばガラス基板である。複数の画素電極３６のそれぞれは、可視光に対して光透過性を有する電極であり、例えば、ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）電極である。また、複数の画素電極３６は、回路素子層３４上にマトリクス状に配置されており、それぞれが画素領域を規定する。そして、バンク４０は、格子状の形状を有しており、複数の画素電極３６のそれぞれを囲む。また、バンク４０は、回路素子層３４上に形成された無機物バンク４０Ａと、無機物バンク４０Ａ上に位置する有機物バンク４０Ｂとからなる。
【０１６７】
回路素子層３４は、支持基板３２上で所定の方向に延びる複数の走査電極と、複数の走査電極を覆うように形成された絶縁膜４２と、絶縁膜４２上に位置するともに複数の走査電極が延びる方向に対して直交する方向に延びる複数の信号電極と、走査電極および信号電極の交点付近に位置する複数のスイッチング素子４４と、複数のスイッチング素子４４を覆うように形成されたポリイミドなどの層間絶縁膜４５と、を有する層である。それぞれのスイッチング素子４４のゲート電極４４Ｇおよびソース電極４４Ｓは、それぞれ対応する走査電極および対応する信号電極と電気的に接続されている。層間絶縁膜４５上には複数の画素電極３６が位置する。層間絶縁膜４５には、各スイッチング素子４４のドレイン電極４４Ｄに対応する部位にスルーホール４４Ｖが設けられており、このスルーホール４４Ｖを介して、スイッチング素子４４と、対応する画素電極３６と、の間の電気的接続が形成されている。また、バンク４０に対応する位置にそれぞれのスイッチング素子４４が位置している。つまり、図１０（ｂ）の紙面に垂直な方向から観察すると、複数のスイッチング素子４４のそれぞれは、バンク４０に覆われるように位置している。
【０１６８】
基体３０Ａの画素電極３６とバンク４０とで規定される凹部（画素領域の一部）は、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、被吐出部３８Ｂに対応する。被吐出部３８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｂは、青の波長域の光線を発光する発光層２１１ＧＢが形成されるべき領域である。
【０１６９】
図１４（ｂ）に示す基体３０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体３０Ａにおいて、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、および被吐出部３８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部３８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部３８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部３８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【０１７０】
なお、被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８ＢがＸ軸方向に分布する範囲は、第１の範囲ＥＸＴ内（図８）に収まっている。
【０１７１】
被吐出部３８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部３８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＧＹと同じであり、被吐出部１８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＢＹとも同じである。また、被吐出部３８Ｒの平面像は、長辺と短辺とで決まる矩形である。具体的には、被吐出部３８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部３８Ｇおよび被吐出部３８Ｂも被吐出部３８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【０１７２】
図１５に示す製造装置２は、図１４の基体３０Ａの被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂのそれぞれに対して、対応する発光材料を吐出する装置である。製造装置２は、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒを塗布する吐出装置２００Ｒと、被吐出部３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを乾燥させる乾燥装置２５０Ｒと、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇを塗布する吐出装置２００Ｇと、被吐出部３８Ｇ上の発光材料２１１Ｇを乾燥させる乾燥装置２５０Ｇと、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂを塗布する吐出装置２００Ｂと、被吐出部３８Ｂ上の発光材料Ｂを乾燥させる乾燥装置２５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置２は、吐出装置２００Ｒ、乾燥装置２５０Ｒ、吐出装置２００Ｇ、乾燥装置２５０Ｇ、吐出装置２００Ｂ、乾燥装置２５０Ｂの順番に基体３０Ａを搬送する複数の搬送装置２７０も備えている。複数の搬送装置２７０のそれぞれは、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。
【０１７３】
図１６に示す吐出装置２００Ｒは、液状の発光材料２１１Ｒを保持する２つのタンク２０１Ｒと、２つのチューブ２１０Ｒと、２つのチューブ２１０Ｒを介して２つのタンク２０１Ｒから発光材料２１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施形態１の吐出走査部１０２の構成と同じである。なお、吐出装置２００Ｒにおいて、実施形態１の構成要素または実施形態２の構成要素と同様な構成要素には同一の参照符号を付けるとともに、重複する説明を省略する。また、吐出装置２００Ｇの構成と吐出装置２００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置２００Ｒの構造と同じある。ただし、タンク２０１Ｒとチューブ２１０Ｒとの代わりに、吐出装置２００Ｇが発光材料２１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置２００Ｇの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク２０１Ｒとチューブ２１０Ｒとの代わりに、吐出装置２００Ｂが発光材料２０１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置２００Ｂの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状の発光材料２１１Ｒ、２１１Ｂ、２１１Ｇは、本発明の液状の材料の一例である。
【０１７４】
製造装置２を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置３０の製造方法を説明する。まず、公知の製膜技術とパターニング技術とを用いて、図１４に示す基体３０Ａを製造する。
【０１７５】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体３０Ａを親液化する。この処理によって、画素電極３６とバンク４０とで規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における画素電極３６の表面、無機物バンク４０Ａの表面、および有機物バンク４０Ｂの表面が、親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体３０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部における有機物バンク４０Ｂの表面がフッ化処理（撥液性に処理）されて、このことで有機物バンク４０Ｂの表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた画素電極３６の表面および無機物バンク４０Ａの表面は、若干親液性を失うが、それでも親液性を維持する。このように、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂとなる。
【０１７６】
なお、画素電極３６の材質、無機バンク４０の材質、および有機バンク４０の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面は被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂである。
【０１７７】
ここで、表面処理が施された複数の画素電極３６のそれぞれの上に、対応する正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂ（図１５）を形成してもよい。正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂが、画素電極３６と、後述の発光層２１１ＲＦ、２１１ＧＦ、２１１ＢＦと、の間に位置すれば、エレクトロルミネッセンス表示装置の発光効率が高くなる。複数の画素電極３６のそれぞれの上に正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを設ける場合には、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂと、バンク４０と、によって規定された凹部が、被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂに対応する。
【０１７８】
なお、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂ（図１７）をインクジェット法により形成することも可能である。この場合、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを形成するための材料を含む溶液を各画素領域ごとに所定量塗布し、その後、乾燥させることにより正孔輸送層を形成することができる。
【０１７９】
被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成された基体３０Ａは、搬送装置２７０によって、吐出装置２００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図１７（ａ）に示すように、吐出装置２００Ｒは、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４（図８）から発光材料２１１Ｒを吐出する。また、発光材料２１１Ｒの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置２００Ｒにおける複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０１８０】
基体３０Ａの被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｒ上に発光層２１１ＦＲを得る。
【０１８１】
次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図１７（ｂ）に示すように、吐出装置２００Ｇは、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４（図８）から発光材料２１１Ｇを吐出する。また、発光材料２１１Ｇの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置２００Ｇにおける複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０１８２】
基体３０Ａの被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｇ上の発光材料Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｇ上に発光層２１１ＦＧを得る。
【０１８３】
次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図１７（ｃ）に示すように、吐出装置２００Ｂは、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４（図８）から発光材料２１１Ｂを吐出する。また、発光材料２１１Ｂの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置２００Ｂにおける複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０１８４】
基体３０Ａの被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｂ上の発光材料２１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｂ上に発光層２１１ＦＢを得る。
【０１８５】
図１７（ｄ）に示すように、次に、発光層２１１ＦＲ，２１１ＦＧ、２１１ＦＢ、およびバンク４０を覆うように対向電極４６を設ける。対向電極４６は陰極として機能する。その後、封止基板４８と基体３０Ａとを、互いの周辺部で接着することで、図１７（ｄ）に示すエレクトロルミネッセンス表示装置３０が得られる。なお、封止基板４８と基体３０Ａとの間には不活性ガス４９が封入されている。
【０１８６】
エレクトロルミネッセンス表示装置３０において、発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢから発光した光は、画素電極３６と、回路素子層３４と、支持基板３２と、を介して射出する。このように回路素子層３４を介して光を射出するエレクトロルミネッセンス表示装置は、ボトムエミッション型の表示装置と呼ばれる。
【０１８７】
（実施形態４）
本発明をプラズマ表示装置の背面基板の製造装置に適用した例を説明する。なお、吐出異常検出部２２７において行われる吐出異常検出処理、回復動作、および基体への再塗布動作は、実施形態１と同様であり説明を省略する。
【０１８８】
図１８（ａ）および（ｂ）に示す基体５０Ａは、後述する製造装置３（図１９）による処理によって、プラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる基板である。基体５０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂを有する。
【０１８９】
具体的には、基体５０Ａは、支持基板５２と、支持基板５２上にストライプ状に形成された複数のアドレス電極５４と、アドレス電極５４を覆うように形成された誘電体ガラス層５６と、格子状の形状を有するとともに複数の画素領域を規定する隔壁６０と、を含む。複数の画素領域はマトリクス状に位置しており、複数の画素領域が形成するマトリクスの列のそれぞれは、複数のアドレス電極５４のそれぞれに対応する。このような基体５０Ａは、公知のスクリーン印刷技術で形成される。
【０１９０】
基体５０Ａのそれぞれの画素領域において、誘電体ガラス層５６および隔壁６０によって規定される凹部が、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、被吐出部５８Ｂに対応する。被吐出部５８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｂは、青の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＢが形成されるべき領域である。
【０１９１】
図１８（ｂ）に示す基体５０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体５０Ａにおいて、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、および被吐出部５８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部５８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部５８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部５８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【０１９２】
なお、被吐出部５８Ｒ、５８Ｇ、５８ＢがＸ軸方向に分布する範囲は、第１の範囲ＥＸＴ内（図９）に収まっている。
【０１９３】
被吐出部５８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部５８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＧＹと同じであり、被吐出部５８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＢＹとも同じである。また、被吐出部５８Ｒの平面像は、長辺と短辺とで決まる矩形である。具体的には、被吐出部５８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部５８Ｇおよび被吐出部５８Ｂも被吐出部５８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【０１９４】
図１９に示す製造装置３は、図１８の基体５０Ａの被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂのそれぞれに対して、対応する蛍光材料を吐出する装置である。製造装置３は、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒを塗布する吐出装置３００Ｒと、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを乾燥させる乾燥装置３５０Ｒと、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇを塗布する吐出装置３００Ｇと、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料３１１Ｇを乾燥させる乾燥装置３５０Ｇと、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂを塗布する吐出装置３００Ｂと、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料３１１Ｂを乾燥させる乾燥装置３５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置３は、吐出装置３００Ｒ、乾燥装置３５０Ｒ、吐出装置３００Ｇ、乾燥装置３５０Ｇ、吐出装置３００Ｂ、乾燥装置３５０Ｂの順番に基体５０Ａを搬送する複数の搬送装置３７０も備えている。複数の搬送装置３７０のそれぞれは、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。
【０１９５】
図２０に示す吐出装置３００Ｒは、液状の蛍光材料３１１Ｒを保持する２つのタンク３０１Ｒと、２つのチューブ３１０Ｒと、２つのチューブ３１０Ｒを介してタンク３０１Ｒからカラーフィルタ材料が供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施形態１の吐出走査部１０２と基本的に同じである。なお、吐出装置３００Ｒにおいて、実施形態１の構成要素または実施形態２の構成要素と同様な構成要素には、同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【０１９６】
吐出装置３００Ｇの構成と吐出装置３００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置３００Ｒの構造と同じある。ただし、タンク３０１Ｒとチューブ３１０Ｒとの代わりに、吐出装置３００Ｇが蛍光材料３１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置３００Ｇの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク３０１Ｒとチューブ３１０Ｒとに代えて、吐出装置３００Ｂが蛍光材料３１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置３００Ｂの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状の蛍光材料３１１Ｒ、３１１Ｂ、３１１Ｇは、発光材料の一種であり、本発明の液状の材料に対応する。
【０１９７】
製造装置３を用いたプラズマ表示装置の製造方法を説明する。まず、公知のスクリーン印刷技術によって、支持基板５２上に、複数のアドレス電極５４と、誘電体ガラス層５６と、隔壁６０と、を形成して、図１８に示す基体５０Ａを得る。
【０１９８】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体５０Ａを親液化する。この処理によって、隔壁６０および誘電体ガラス層５６によって規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）の隔壁６０の表面、誘電体ガラス層５６の表面が、親液性を呈し、これらの表面が被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂとなる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、隔壁６０と、誘電体ガラス層５６と、によって規定された凹部の表面は、被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂである。
【０１９９】
被吐出部５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂが形成された基体５０Ａは、搬送装置３７０によって、吐出装置３００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図２１（ａ）に示すように、吐出装置３００Ｒは、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４（図８）から蛍光材料３１１Ｒを吐出する。また、蛍光材料３１１Ｒの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置３００Ｒにおける複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０２００】
基体５０Ａの被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｒ上に蛍光層３１１ＦＲを得る。
【０２０１】
次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図２１（ｂ）に示すように、吐出装置３００Ｇは、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４（図８）から蛍光材料３１１Ｇを吐出する。また、蛍光材料３１１Ｇの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置３００Ｇにおける複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０２０２】
基体５０Ａの被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料３１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｇ上に蛍光層３１１ＦＧを得る。
【０２０３】
次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図２１（ｃ）に示すように、吐出装置３００Ｂは、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４（図８）から蛍光材料３１１Ｂを吐出する。また、発光材料３１１Ｂの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置３００Ｂにおける複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０２０４】
基体５０Ａの被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料Ｂの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料３１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｂ上に蛍光層３１１ＦＢを得る。
【０２０５】
以上の工程によって、基体５０Ａはプラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる。
【０２０６】
次に図２２に示すように、背面基板５０Ｂと、前面基板５０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせてプラズマ表示装置５０が得られる。前面基板５０Ｃは、ガラス基板６８と、ガラス基板６８上で互いに平行にパターニングされた表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂと、表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂとを覆うように形成された誘電体ガラス層６４と、誘電体ガラス層６４上に形成されたＭｇＯ保護層６２と、を有する。背面基板５０Ｂと前面基板５０Ｃとは、背面基板５０Ｂのアドレス電極５４と、前面基板５０Ｃの表示電極６６Ａ・表示スキャン電極６６Ｂとが、互いに直交するように位置合わせされている。各隔壁６０で囲まれるセル（画素領域）には、所定の圧力で放電ガス６９が封入されている。
【０２０７】
（実施形態５）
次に本発明を、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造装置に適用した例を説明する。なお、吐出異常検出部２２７において行われる吐出異常検出処理、回復動作、および基体への再塗布動作は、実施形態１と同様であり説明を省略する。
【０２０８】
図２３（ａ）および（ｂ）に示す基体７０Ａは、後述する製造装置４（図２４）による処理によって、画像表示装置の電子源基板７０Ｂとなる基板である。基体７０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部７８を有する。
【０２０９】
具体的には、基体７０Ａは、基体７２と、基体７２上に位置するナトリウム拡散防止層７４と、ナトリウム拡散防止層７４上に位置する複数の素子電極７６Ａ、７６Ｂと、複数の素子電極７６Ａ上に位置する複数の金属配線７９Ａと、複数の素子電極７６Ｂ上に位置する複数の金属配線７９Ｂと、を備えている。複数の金属配線７９ＡのそれぞれはＹ軸方向に延びる形状を有する。一方、複数の金属配線７９ＢのそれぞれはＸ軸方向に延びる形状を有する。金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとの間には絶縁膜７５が形成されているので、金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとは電気的に絶縁されている。
【０２１０】
１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを含む部分は１つの画素領域に対応する。１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂは、互いに所定の間隔だけ離れてナトリウム拡散防止層７４上で対向している。ある画素領域に対応する素子電極７６Ａは、対応する金属配線７９Ａと電気的に接続されている。また、その画素領域に対応する素子電極７６Ｂは、対応する金属配線７９Ｂと電気的に接続されている。なお、本明細書では、基体７２とナトリウム拡散防止層７４とを合わせた部分を支持基板と表記することもある。
【０２１１】
基体７０Ａのそれぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４とが、被吐出部７８に対応する。より具体的には、被吐出部７８は、導電性薄膜４１１Ｆ（図２７）が形成されるべき領域であり、導電性薄膜４１１Ｆは、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａ，７６Ｂの間のギャップとを覆うように形成される。図２３（ｂ）において点線で示すように、本実施形態における被吐出部７８の平面形状は円形である。このように、本発明の被吐出部の平面形状は、Ｘ座標範囲とＹ座標範囲とで決まる円形でも構わない。
【０２１２】
図２３（ｂ）に示す基体７０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部７８が形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。つまり、基体７０Ａにおいて、複数の被吐出部７８は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【０２１３】
なお、被吐出部７８がＸ軸方向に分布する範囲は、第１の範囲ＥＸＴ内（図８）に収まっている。
【０２１４】
被吐出部７８同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ１９０μｍである。また、被吐出部７８ＲのＸ軸方向の長さ（Ｘ座標範囲の長さ）はほぼ１００μｍであり、Ｙ軸方向の長さ（Ｙ座標範囲の長さ）もほぼ１００μｍである。被吐出部７８同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【０２１５】
図２４に示す製造装置４は、図２３の基体７０Ａの被吐出部７８のそれぞれに対して、導電性薄膜材料４１１を吐出する装置である。具体的には、製造装置４は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１を塗布する吐出装置４００と、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を乾燥させる乾燥装置４５０と、を備えている。さらに製造装置４は、吐出装置４００、乾燥装置４５０の順番に基体７０Ａを搬送する搬送装置４７０も備えている。搬送装置４７０は、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。
【０２１６】
図２５に示す吐出装置４００は、液状の導電性薄膜材料４１１を保持する２つのタンク４０１と、２つのチューブ４１０と、２つのチューブ４１０を介して２つのタンク４０１から導電性薄膜材料が供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施形態１の吐出走査部１０２の構成と基本的に同じである。なお、吐出装置４００の構成要素のうち、実施形態１の構成要素まはた実施形態２の構成要素と同様の構成要素には、同じ参照符号を付して、説明を省略する。
【０２１７】
本実施形態では、液状の導電性薄膜材料４１１は有機パラジウム溶液である。そして、本実施形態における液状の導電性薄膜材料４１１は、本発明の液状の材料の一例である。
【０２１８】
製造装置４を用いた画像表示装置の製造方法を説明する。まず、ソーダガラスなどから形成された基体７２上に、ＳｉＯ2を主成分とするナトリウム拡散防止層７４を形成する。具体的には、スパッタ法を用いて基体７２上に厚さ１μｍのＳｉＯ2膜を形成することによってナトリウム拡散防止層７４を得る。次に、ナトリウム拡散防止層７４上に、スパッタ法または真空蒸着法によって厚さ５ｎｍのチタニウム層を形成する。そして、フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いて、そのチタニウム層から、互いに所定の距離だけ離れて位置する１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを複数対形成する。
【０２１９】
その後、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ａ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｙ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ａを形成する。次に、スクリーン印刷技術を用いて、各金属配線７９Ａの一部分にガラスペーストを塗布して焼成することで、絶縁膜７５を形成する。そして、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ｂ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｘ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ｂを形成する。なお、金属配線７９Ｂを作製する場合には、金属配線７９Ｂが絶縁膜７５を介して金属配線７９Ａと交差するようにＡｇペーストを塗布する。以上のような工程によって、図２３に示す基体７０Ａを得る。
【０２２０】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体７０Ａを親液化する。この処理によって、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出した支持基板の表面とは、親液化される。そして、これらの表面が被吐出部７８となる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４の表面とは、被吐出部７８となる。
【０２２１】
被吐出部７８が形成された基体７０Ａは、搬送装置４７０によって、吐出装置４００のステージ１０６に運ばれる。そして、図２６に示すように、吐出装置４００は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜４１１Ｆが形成されるように、ヘッド１１４（図８）から導電性薄膜材料４１１を吐出する。また、導電性薄膜材料４１１の吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置４００における複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０２２２】
本実施形態では、被吐出部７８上に着弾した導電性薄膜材料４１１の液滴の直径が６０μｍから８０μｍの範囲となるように、制御部１１２はヘッド１１４に信号を与える。基体７０Ａの被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１の層が形成された場合には、搬送装置４７０が基体７０Ａを乾燥装置４５０内に位置させる。そして、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を完全に乾燥させることで、被吐出部７８上に酸化パラジウムを主成分とする導電性薄膜４１１Ｆを得る。このように、それぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間に露出したナトリウム拡散防止層７４と、を覆う導電性薄膜４１１Ｆが形成される。
【０２２３】
次に素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間に、パルス状の所定の電圧を印加することで、導電性薄膜４１１Ｆの一部分に電子放出部４１１Ｄを形成する。なお、素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間の電圧の印加を、有機物雰囲気下および真空条件下でもそれぞれ行うことが好ましい。そうすれば、電子放出部４１１Ｄからの電子放出効率がより高くなるからである。素子電極７６Ａと、対応する素子電極７６Ｂと、電子放出部４１１Ｄが設けられた導電性薄膜４１１Ｆと、は電子放出素子である。また、それぞれの電子放出素子は、それぞれの画素領域に対応する。
【０２２４】
以上の工程によって、図２７に示すように、基体７０Ａは電子源基板７０Ｂとなる。
【０２２５】
次に図２８に示すように、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせて画像表装置７０が得られる。前面基板７０Ｃは、ガラス基板８２と、ガラス基板８２上にマトリクス状に位置する複数の蛍光部８４と、複数の蛍光部８４を覆うメタルプレート８６と、を有する。メタルプレート８６は、電子放出部４１１Ｄからの電子ビームを加速するための電極として機能する。電子源基板７０Ｂと前面基板７０Ｃとは、複数の電子放出素子のそれぞれが、複数の蛍光部８４のそれぞれに対向するように、位置合わせされている。また、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃとの間は、真空状態に保たれている。
【０２２６】
なお、上記の電子放出素子を備えた画像表示装置７０は、ＳＥＤ（Surface-Conduction Electron-Emitter Display）またはＦＥＤ（Field Emission Display）と呼ばれることもある。また、本明細書では、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマ表示装置、電子放出素子を利用した画像表示装置など、を「電気光学装置」と表記することもある。ここで、本明細書でいう「電気光学装置」とは、複屈折性の変化や、旋光性の変化や、光散乱性の変化などの光学的特性の変化（いわゆる電気光学効果）を利用する装置に限定されず、信号電圧の印加に応じて光を射出、透過、または反射する装置全般を意味する。
【図面の簡単な説明】
【０２２７】
【図１】実施形態１の吐出装置を示す模式図。
【図２】実施形態１から５の吐出装置におけるヘッドの底面を示す模式図。
【図３】（ａ）および（ｂ）は実施形態１から５の吐出装置におけるヘッドの構造を示す模式図。
【図４】実施形態１から５の吐出装置における制御部の機能ブロック図。
【図５】（ａ）および（ｂ）は実施形態１から５の吐出装置におけるヘッド駆動部の模式図。
【図６】振動板の残留振動を示す概略グラフ。
【図７】ヘッド駆動部と吐出異常検出部の概略的なブロック図。
【図８】実施形態１の２つの吐出ヘッド部の模式図。
【図９】実施形態１のヘッド群を示す模式図。
【図１０】（ａ）は実施形態１の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態１の基体の上面を示す模式図。
【図１１】実施形態１の塗布工程を示す模式図。
【図１２】実施形態２のカラーフィルタ製造装置を示す模式図。
【図１３】実施形態２のカラーフィルタ基板の製造方法を示す模式図。
【図１４】（ａ）は実施形態３の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態３の基体の平面を示す模式図。
【図１５】実施形態３のエレクトロルミネッセンス表示装置を示す模式図。
【図１６】実施形態３の吐出装置を示す模式図。
【図１７】（ａ）〜（ｄ）は実施形態４のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を示す模式図。
【図１８】（ａ）は実施形態４の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態４の基体の平面を示す模式図。
【図１９】実施形態４のプラズマ表示装置の一部を示す模式図。
【図２０】実施形態４の吐出装置を示す模式図。
【図２１】（ａ）〜（ｃ）は実施形態５のプラズマ表示装置の製造方法の一部を示す模式図。
【図２２】実施形態５の製造方法によって製造されるプラズマ表示装置の断面を示す模式図。
【図２３】（ａ）は実施形態５の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態５の基体の平面を示す模式図。
【図２４】実施形態５の画像表示装置の製造装置を示す模式図。
【図２５】実施形態５の吐出装置を示す模式図。
【図２６】実施形態５の画像表示装置の製造方法を示す模式図。
【図２７】実施形態５の画像表示装置の製造方法を示す模式図。
【図２８】実施形態５の画像表示装置の製造方法を示す模式図。
【図２９】基体上の被吐出部と走査範囲との関係を示す模式図。
【符号の説明】
【０２２８】
１，２，３，４…製造装置、１Ａ〜８Ｂ…ノズル列、１０…カラーフィルタ基板、１０Ａ…基体、１４Ａ…第１の支持構造体、１４Ｂ…第２の支持構造体、１８Ｒ，１８Ｇ，１８Ｂ…被吐出部、１００，１００Ｒ，１００Ｇ，１００Ｂ，１００Ｃ…吐出装置、１０１Ｒ…タンク、１０２…吐出走査部、１０３Ｃ…第１の吐出ヘッド部、１０３Ｄ…第２の吐出ヘッド部、１０６…ステージ、１０６Ａ…本体部、１０６Ｂ…受け皿部、１０８…位置制御装置、１１０Ａ，１１０Ｂ…チューブ、１１１…液状の材料、１１１Ｒ，１１１Ｇ，１１１Ｂ…カラーフィルタ材料、１１１ＦＲ，１１１ＦＧ，１１１ＦＢ…フィルタ層、１１２…制御部、１１４…ヘッド、１１４Ｇ…ヘッド群、１１６Ａ，１１６Ｂ…ノズル列、１１８…ノズル、１１８Ｒ１…第１の基準ノズル、１１８Ｒ２…第２の基準ノズル、１１８Ｔ…吐出ノズル、１２４…アクチュエータとしての振動子、１２４Ａ，１２４Ｂ…電極、１２４Ｃ…ピエゾ素子、１２６…振動板、１２７…吐出部、１２８…ノズルプレート、１２９…液たまり、１３１…孔、２００Ｒ，２００Ｇ，２００Ｂ…吐出装置、２０３…ヘッド駆動回路、２１１Ｒ，２１１Ｇ，２１１Ｂ…発光材料、２２０…処理部、２２７…吐出異常検出部、２２８…切替手段、１８５…判定部、３００Ｒ，３００Ｇ，３００Ｂ…吐出装置、３１１Ｒ，３１１Ｇ，３１１Ｂ…蛍光材料、３１１ＦＲ，３１１ＦＧ，３１１ＦＢ…蛍光層、４１１…吐出装置、ＧＳ…グランドステージ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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