(57)【要約】【課題】ＭＭＴｒＳ基の特性を保持したまま、ヌクレオチドの５‘水酸基への選択的導入を可能にする新規保護基を提供すること。この保護基を有するヌクレオチド化合物は、酸化的脱保護法による核酸オリゴマーの合成に有利に使用することが出来る。【解決手段】一般式  （Ｉ）：【化１】2005255528.tif 000011（式（Ｉ）中、Ｘは置換基を有していてもよいトリフェニルメチル基を示し、Ｙは水素原子、イミダゾール−１−カルボニル、又はクロロカルボニルを示す。）で表される化合物。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式  （Ｉ）：
【化１】
2005255528.tif 000009
（式（Ｉ）中、Ｘは置換基を有していてもよいトリフェニルメチル基を示し、Ｙは水素原子、イミダゾール−１−カルボニル、又はクロロカルボニルを示す。）で表される化合物。
【請求項２】
一般式  （ＩＩ）：
【化２】
2005255528.tif 000010
（式（ＩＩ）中、Ｒはアリール又はヘテロアリールを示し、Ｘは置換基を有していてもよいトリフェニルメチル基を示し、Ｚは水素原子、ターシャリブチルジメチルシリル基、炭素数１〜５のアシル基、置換基を有していてもよいベンゾイル基、又はホスホロアミダイト基を示す。）で表されるヌクレオシド化合物。
【請求項３】
トリフェニルメチル基上の置換基が、メトキシ基、エトキシ基、プロパン−１−イルオキシ基、又はプロパン−２−イルオキシ基である、請求項１又は２記載の化合物。
【請求項４】
置換基を有していてもよいトリフェニルメチル基が、４−メトキシトリチル基、又は４，４‘−ジメトキシトリチル基である、請求項３記載の化合物。
【請求項５】
Ｒが保護基を有していてもよい、アデニン−９−イル、グアニン−９−イル、シトシン−９−イル、又はチミン−９−イルである、請求項２ないし４のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項６】
Ｒの保護基が、アセチル基、ベンゾイル基、フェノキシアセチル基、イソブチリル基、（４−イソプロピルフェニル）オキシアセチル基、又は（ｔ−ブチルフェニル）オキシアセチル基である、請求項２ないし５のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項７】
ホスホロアミダイト基が一般式（ＩＩＩ）：−Ｐ（ＯＲ１）Ｎ（Ｒ２）（Ｒ３）    （ＩＩＩ）
（式中、Ｒ１はリン酸基の保護基であり、Ｒ２及びＲ３はアルキル基、又はＲ２及びＲ３は互いに結合して環構造を形成してもよい）で示される、請求項２ないし６のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項８】
リン酸基の保護基が２−シアノエチル基、４−ニトロフェニルエチル基、Ｎ−（トリフルオロアセチル）−４−アミノブチル基、又は、４−［Ｎ−メチル−Ｎ−（トリフルオロアセチル）アミノ］ブチル基である、請求項７記載の化合物。
【請求項９】
リン酸基の保護基が２−シアノエチル基である、請求項８記載の化合物。
【請求項１０】
Ｒ２及びＲ３は炭素数１〜４のアルキル基である、請求項７〜９のいずれか一項に記載の化合物。
【請求項１１】
Ｒ２及びＲ３はイソプロピル基である、請求項１０記載の化合物。
【請求項１２】
請求項１に記載の化合物を出発原料として用いる、請求項２ないし１１のいずれか一項に記載の化合物の合成法。
【請求項１３】
請求項２ないし１１のいずれか一項に記載の化合物を用いる、ＤＮＡオリゴマーの合成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ヌクレオチド５‘水酸基への選択的導入を可能にする新規保護基、該保護基が導入されたヌクレオチド化合物を、及び、該化合物を用いるＤＮＡオリゴマーの合成方法等に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ゲノム創薬や遺伝子診断・治療などの最先端バイオ関連研究分野の急速な発展に伴い、合成オリゴデオキシヌクレオチドの需要が以前に増して拡大している。今後もその用途は益々増加の一途をたどるものと予想される。そのため、より短時間で高純度のＤＮＡオリゴマーを合成できる新しい合成技術の開発が強く望まれている。また、人工修飾を施し、様々な機能を付与した非天然核酸が開発され、高精度遺伝子診断やｍＲＮＡの発現解析のための検出プローブなどへ応用されている。一方、さらに優れた高度な機能が人工ＤＮＡに次第に要求されるようになり、もはや従来のＤＮＡ合成法ではその要求に答えられなくなってきているのも事実である。そのため、現行のＤＮＡ合成法の更なる発展が必要とされている。
【０００３】
また、がんやアルツハイマー病などの発病の解明が進展するにしたがって、これらの疾病に直接関連するｍＲＮＡの発現をハイスループットで解析する必要性が高まってきた。このためには、多種類のＤＮＡチップやマイクロアレイを迅速に作製する合成技術の開発が必要になっている。
【０００４】
現在、ＤＮＡの化学合成法として最も汎用されているホスホロアミダイト法は、カップリング、キャップ化、酸化、脱ＤＭＴｒ化の四ステップの反応操作に基づく鎖伸長サイクルからなる。Ｍ．Ｈ．Ｃａｒｕｔｈｅｒｓらは、“ｃｏｍｂｉｎｅｄ  ｄｅｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ／ｏｘｉｄａｔｉｏｎ  ｓｔｒａｔｅｇｙ”「酸化的脱保護法」と名づけた短工程ＤＮＡ化学合成を開発した（非特許文献１）。この方法の利点として、下記の三つが挙げられる。
【０００５】
第一に、亜リン酸エステルの酸化と同時にヌクレオチド５‘水酸基の保護基を脱保護し、脱ＤＭＴｒ化のステップを省くことで短工程でオリゴＤＮＡが
合成できる。
第二に、この「酸化的脱保護法」では酸処理を用いないため、副反応であるデプリネーションを起こさない。
第三に、酸性条件では不安定と考えられる修飾核酸の導入が可能となる。
【０００６】
この「酸化的脱保護法」では、亜リン酸エステルの酸化工程で用いていた従来のヨウ素酸化法の代わりに、塩基性条件下過酸化物を用いている。５‘水酸基の保護基には、弱アルカリ性条件下過酸化物によって除去できる新しい保護基である４−トリフルオロメチルフェノキシカルボニル基を用いている。本法では、アセチル化によるキャップ化が省かれている。この理由については、全く論文中に言及されていないので定かではないが、おそらく、キャップ化してもアルカリの作用で、アセチル基が一部脱落してしまうためと予想される。
【０００７】
さて本発明者らは、これまでに、全く独自の視点で「酸化的脱保護法」の開発をおこなってきた。数年前にＳ−Ｏ単結合がヨウ素 (ピリジン-水) 溶液で酸化的に切断されることに着目し、４−モノメトキシトリチルチオ （ＭＭＴｒＳ）基を５‘ 糖水酸基の保護基として活用する新規ＤＮＡ化学合成法を報告した（非特許文献２）。
【０００８】
このＤＮＡ化学合成法によれば、５‘水酸基の保護基である基が、通常のＤＮＡ合成法で亜リン酸エステル中間体の酸化に用いるヨウ素処理の条件（０．１Ｍヨウ素溶液、ピリジン−水＝９：１、ｖ／ｖ）下で、瞬時に除去できることを見いだした。しかし、このＭＭＴｒＳ基のデオキシヌクレオシドの５’水酸基への導入は、あらかじめデオキシヌクレオシド誘導体の５‘水酸基を有機リチオ化剤などの強塩基でリチオ化したあと４−モノメトキシトリチルクロライド
（ＭＭＴｒＳＣｌ）と反応させる必要があった。そのため５’水酸基への選択的な導入は難しく、実際には３‘水酸基をあらかじめ保護した３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジンを用いて導入をしなければならなかった。このため、３’−Ｏ−ｔ−ブチルジメチルシリルチミジンを合成するための合成工程数が増えることが問題となっていた。
【非特許文献１】A. B. Sierzchala, C. J. Dellinger, J. R. Betley, T. K. Wyrzykiewicz,C. M. Yamada, M. H. Caruthers, J. Am. Chem. Soc., 2003, 125, 13427-41
【非特許文献２】K. Seio, M. Sekine, Tetrahedron Letters 2001, 42, 8657-8660
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
そこで、本発明者は、ＭＭＴｒＳ基の特性を保持したまま、ヌクレオチド５‘水酸基への選択的導入を可能にする新規保護基の開発を目指し、鋭意研究の結果、新規保護基の骨格として、テトラヒドロフラン骨格を有するものを選び、水酸基への導入が容易となるようにアシル基を含むようにデザインした。置換基を有していてもよいトリチルチオ（ＴｒＳ）基あるいはＭＭＴｒＳ基をカルボニル基に隣接する水酸基あるいはアミノ基型の官能基に前もって導入し、置換基を有していてもよいＴｒＳあるいはＭＭＴｒＳ基の酸化的脱離反応を経て分子内環化反応による二段階の工程を経ることによって結果的に脱保護が可能になるように工夫を凝らした。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
即ち、本発明は、一般式  （Ｉ）：
【化１】
2005255528.tif 000002
【００１１】
（式（Ｉ）中、Ｘは置換基を有していてもよいトリフェニルメチル基を示し、Ｙは水素原子、イミダゾール−１−カルボニル、又はクロロカルボニルを示す。）で表される化合物に係る。
【００１２】
更に、本発明は、一般式  （ＩＩ）：
【００１３】
【化２】
2005255528.tif 000003
【００１４】
（式（ＩＩ）中、Ｒはアリール又はヘテロアリールを示し、Ｘは置換基を有していてもよいトリフェニルメチル基を示し、Ｚは水素原子、ターシャリブチルジメチルシリル基、炭素数１〜５のアシル基、置換基を有していてもよいベンゾイル基、又はホスホロアミダイト基を示す。）で表されるヌクレオシド化合物に係る。
【００１５】
上記式（ＩＩ）の化合物は、式（Ｉ）の化合物を出発原料として用いて合成することが出来る。従って、本発明は、式（Ｉ）の化合物を出発原料として用いる、（ＩＩ）の化合物の合成法にも係る。更に本発明は、こうして得られる（ＩＩ）の化合物を用いる、ＤＮＡオリゴマーの合成方法にも係る。
【発明の効果】
【００１６】
式（Ｉ）の化合物（Ｙはイミダゾール−１−カルボニル）は、ＭＭＴｒＳ基の特性を保持したまま、５‘水酸基への選択的な保護基導入試薬として有用であり、その際に３‘水酸基をあらかじめ保護する必要がない。更に、得られた式（ＩＩ）の化合物は、酸化的脱保護法による核酸オリゴマーの合成に有利に使用することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の式（Ｉ）及び（ＩＩ）の化合物において、トリフェニルメチル基上の置換基の例として、メトキシ基、エトキシ基、プロパン−１−イルオキシ基、又はプロパン−２−イルオキシ基を挙げることが出来る。より具体的には、４−メトキシトリチル基、又は４，４‘−ジメトキシトリチル基である。
【００１８】
本発明の式（ＩＩ）の化合物において、アリール又はヘテロアリールであるＲは当業者に公知の任意の基であり得、例えば、保護基を有していてもよい、アデニン−９−イル、グアニン−９−イル、シトシン−９−イル、又はチミン−９である。Ｒがアデニン−９−イル、グアニン−９−イル、シトシン−９−イル、又はチミン−９−イルである。又、Ｒの保護基としては、ＤＮＡ合成に用い得るものであれば特に制限は無く当業者に公知の任意のものを使用することができるが、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、フェノキシアセチル基、イソブチリル基、（４−イソプロピルフェニル）オキシアセチル基、又は（ｔ−ブチルフェニル）オキシアセチル基が好ましい。
【００１９】
本発明の式（ＩＩ）の化合物におけるＺのホスホロアミダイト基は具体的には、一般式（ＩＩＩ）：−Ｐ（ＯＲ１）Ｎ（Ｒ２）（Ｒ３）    （ＩＩＩ）
（式中、Ｒ１はリン酸基の保護基であり、Ｒ２及びＲ３はアルキル基、又はＲ２及びＲ３は互いに結合して環構造を形成してもよい。リン酸基の保護基としては、例えば、２−シアノエチル基、４−ニトロフェニルエチル基、Ｎ−（トリフルオロアセチル）−４−アミノブチル基、又は、４−［Ｎ−メチル−Ｎ−（トリフルオロアセチル）アミノ］ブチル基を挙げることが出来、２−シアノエチル基が好適である。Ｒ２及びＲ３の好適例としては、炭素数１〜４のアルキル基、特に、イソプロピル基を挙げることが出来る。
【００２０】
尚、本発明において、核酸誘導体における糖の３‘水酸基がホスホロアミダイト化、及び、本発明の核酸誘導体を含む核酸オリゴマーは、本明細書の記載を参照し、当該技術分野における技術常識に基き、当業者であれば容易に調製することが出来る。
【実施例】
【００２１】
以下、実施例に則して本発明を更に詳しく説明する。尚、本発明の技術的範囲はこれらの記載によって何等制限されるものではない。
【００２２】
（３Ｓ＊、４Ｒ＊）−４−（トリチルチオ）オキシ−テトラヒドロフラン−３−オールの合成
【００２３】
【化３】
2005255528.tif 000004
【００２４】
１、４−アンヒドロエリスリトール（４８５  ｍｇ、４．７  ｍｍｏｌ（４８５ｍｇ，４．７ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（１８ｍＬ）に溶解し、４６℃に加熱した。そこへ水酸化ナトリウム（２８０ｍｇ、６．７ｍｍｏｌ，６０％  ｉｎ  ｏｉｌ）を加え、その懸濁液を４７℃で１５分撹拌した。反応系を室温まで冷却し、その後トリチルチオクロリド（１．４５ｇ，４．７ｍｍｏｌ）を加えた。  一時間撹拌し、濃アンモニア水（３ｍＬ）を加えてクエンチした。溶液は酢酸エチル（１００ｍＬ）と水（１００ｍＬ×２）、食塩水（１００ｍＬ）で抽出した。有機層を回収し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後、ろ過、減圧下濃縮した。精製はシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて、ヘキサン−酢酸エチル（８：１，ｖ／ｖ）で溶出、濃縮した後、室温で放置して結晶化させた。０℃に冷やしたヘキサンでろ過をして化合物（１．４８ｇ，８４％）を得た。
【００２５】
１Ｈ  ＮＭＲ  （５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）＝２．３６
（ｓ，１Ｈ），３．３４（ｍ，２Ｈ），３．５２  （ｄｄ，１Ｈ），３．６５（ｍ，２Ｈ），３．８４（ｄｄ，１Ｈ），７．２０，７．２１，７．２３，７．２３，７．２３，７．２４、７．２４，７．２５，７．２５，７．２６，７．２６，７．２７、７．２７、７．２８、７．２８、７．２８、７．２９、７．２９、７．２９、７．３０、７．３５、７．３５、７．３６、７．３６、７．３６、７．３７、７．３７．（ｍ，１５Ｈ）
【００２６】
イミダゾール−１−カルボン酸 （３Ｓ＊、４Ｒ＊）−４−（トリチルチオ）オキシ−テトラヒドロフラン−３−イルエステルの合成
【００２７】
【化４】
2005255528.tif 000005
【００２８】
（３Ｓ＊、４Ｒ＊）−４−（トリチルチオ）オキシ−テトラヒドロフラン−３−オール（１８９ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）は無水ピリジンで共沸脱水をした。その後ピリジンで溶解させ、カルボニルジイミダゾール（１２２ｍｇ，０．７５ｍｍｏｌ）を加えた。常温で３５分撹拌した後、溶媒のピリジンを減圧下留去した。その後酢酸エチル、水で抽出をした。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、ろ過をして、溶媒を減圧下留去した。（２３７ｍｇ，ｑｕａｎｔ．）
【００２９】
１Ｈ  ＮＭＲ  （５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）＝３．３１
（ｄ，１Ｈ），３．７３（ｍ，２Ｈ），３．８４  （ｄｄ，１Ｈ），４．９２（ｄｄ，１Ｈ），７．００，７．０１，７．０１，７．０１，７．１５，７．１６，７．１７，７．１８，７．１８，７．１９，７．２０，７．２１，７．２２，７．２３，７．２３，７．２３，７．２４、７．２４，７．２５，７．３６、７．３６、７．３７、７．３７．（ｍ，１７Ｈ）
【００３０】
３‘−Ｏ−（ターシャルブチルジメチルシリル）−５’−Ｏ−［（３Ｓ＊、４Ｒ＊）−４−（トリチルチオ）オキシテトラヒドロフラン−３−イルオキシ］カルボニルチミジンの合成
【００３１】
【化５】
2005255528.tif 000006
【００３２】
３‘−Ｏ−ターシャルブチルジメチルシリルチミジン（１７８ｍｇ、０．５ｍｍｏｌ）とイミダゾール−１−カルボン酸  （３Ｓ＊、４Ｒ＊）−４−（トリチルチオ）オキシ−テトラヒドロフラン−３−イルエステル（２３６ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）はそれぞれドライピリジンで共沸脱水を行ってから用いた。３‘−Ｏ−ターシャルブチルジメチルシリルチミジンをピリジン  (3 mL)  に溶解し、そこへ（３Ｓ＊、４Ｒ＊）−４−（トリチルチオ）オキシ−テトラヒドロフラン−３−イルエステル、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン（７４．８μＬ，０．５ｍｍｏｌ）を順番に加えた。  室温で８０分間撹拌した後、溶媒のピリジンを減圧下留去した。その後酢酸エチルに溶解し、食塩水と水で抽出をした。有機層を回収し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後にろ過し、減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーでヘキサン−酢酸エチル（７：３，ｖ／ｖ）を用いて精製し、化合物３‘−Ｏ−（ターシャルブチルジメチルシリル）−５’−Ｏ−［（３Ｓ＊、４Ｒ＊）−４−（トリチルチオ）オキシテトラヒドロフラン−３−イルオキシ］カルボニルチミジン
（２４６  ｍｇ，６５％）を得た。
【００３３】
１Ｈ  ＮＭＲ  （５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）＝０．０６（ｍ，６Ｈ），０．０８９（ｍ，９Ｈ），１．９５，１．２０（ｍ，３Ｈ）２．１２−２．３２（ｍ，２Ｈ），３．２６（ｍ，２Ｈ），３．７２−３．８４（ｍ，３Ｈ），４．０７（ｍ，１Ｈ），４．３９（ｍ，３Ｈ）４．８６（ｍ，１Ｈ），６．３４（ｍ，１Ｈ），７．２５−７．３３（ｍ，３２Ｈ），７．４５，７．４６（ｍ，１Ｈ）ｐｐｍ．
【００３４】
５’−Ｏ−［（３Ｓ＊、４Ｒ＊）−４−（トリチルチオ）オキシテトラヒドロフラン−３−イル］オキシカルボニルチミジンの合成
【００３５】
【化６】
2005255528.tif 000007
【００３６】
チミジン（２．４２ｇ，１０ｍｍｏｌ）とイミダゾール−１−カルボン酸  （３Ｓ＊、４Ｒ＊）−４−（トリチルチオ）オキシ−テトラヒドロフラン−３−イルエステル（４．７３ｇ，１０ｍｏｌ）はそれぞれドライピリジンで共沸脱水を行ってから用いた。チミジンをピリジンに溶解し、反応系を氷冷した。そこへ  １，８−ジアザビシクロ［５，４，０］−７−ウンデセン（１２９．６μＬ，１ｍｍｏｌ）を加えた。（３Ｓ＊、４Ｒ＊）−４−（トリチルチオ）オキシ−テトラヒドロフラン−３−イルエステルはピリジンに溶解し、二時間かけて反応系へ滴下した。氷冷中５
時間撹拌した後、溶媒のピリジンを常温中で減圧下留去した。その後酢酸エチルに溶解し、水で抽出をした。有機層を回収し、硫酸マグネシウムで乾燥させた後にろ過し、減圧下留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーでクロロホルム−メタノール（１００：１，ｖ／ｖ）を用いて精製し、化合物５’−Ｏ−［（３Ｓ＊、４Ｒ＊）−４−（トリチルチオ）オキシテトラヒドロフラン−３−イル］オキシカルボニルチミジン（２．１９ｇ，３７％）を得た。
【００３７】
１Ｈ  ＮＭＲ  （５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）＝１．９０，１．９２（ｍ，３Ｈ），２．４４−２．５９（ｍ，２Ｈ），２．７６（ｂｒ，０．５Ｈ）２．９７（ｂｒ，０．５Ｈ）３．２４（ｍ，２Ｈ），３．７３−３．８７（ｍ，５Ｈ），３．９２（ｓ，１Ｈ），４．８３（ｍ，１Ｈ）５．３２（ｍ，１Ｈ），６．１２，６．１９（ｍ，１Ｈ），７．２６−７．３５（ｍ，１５Ｈ），７．４３，（ｓ，１Ｈ），８．０３（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
【００３８】
５’−Ｏ−［（３Ｓ＊、４Ｒ＊）−４−（トリチルチオ）オキシテトラヒドロフラン−３−イル］オキシカルボニルチミジン  ３‘−（２−シアノエチルＮ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）の合成
【００３９】
【化７】
2005255528.tif 000008
【００４０】
５’−Ｏ−［（３Ｓ＊、４Ｒ＊）−４−（トリチルチオ）オキシテトラヒドロフラン−３−イル］オキシカルボニルチミジン（２．１１ｇ，３．２８ｍｍｏｌ）は無水ピリジン、トルエン、塩化メチレンをそれぞれ繰り返し用いて共沸脱水した。その後塩化メチレンに溶解した。２−シアノエチル（Ｎ，Ｎ，Ｎ‘，Ｎ’−テトライソプロピルホスホロアミダイト）（１．２５ｍＬ，３．９４ｍｍｏｌ）とジイソプロピルアンモニウム  テトラゾリド（２２３ｍｇ，１．３１ｍｍｏｌ）を加え、常温下で１２時間撹拌した。反応系は水でクエンチした。抽出は有機層に酢酸エチル−ジエチルエーテル−ジイソプロピルエーテル  （１２０ｍＬ，１：１：１，ｖ／ｖ／ｖ）を用いて、６
回５％炭酸ナトリウム（１００ｍＬ）で洗浄した。有機層は硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をＮＨシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、ヘキサン−酢酸エチル（１：１，ｖ／ｖ，トリエチルアミン０．５％）の溶出溶媒から５’−Ｏ−［（３Ｓ＊、４Ｒ＊）−４−（トリチルチオ）オキシテトラヒドロフラン−３−イル］オキシカルボニルチミジン  ３‘−（２−シアノエチルＮ，Ｎ−ジイソプロピルホスホロアミダイト）（１．９６ｇ，７１％）を得た。
【００４１】
１Ｈ  ＮＭＲ  （５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）１．１３（ｍ，１２Ｈ），１．８７（ｓ，３Ｈ），２．１１−２．１７（ｍ，１Ｈ）２．０４−２．５４（Ｍ，３Ｈ），３．０９−３．１６（ｍ，２Ｈ）３．５０−３．８６（ｍ，７Ｈ），４．２０−４．２３（ｍ，１Ｈ），４．７２−４．７５（ｍ，１Ｈ），５．１４−５．２５（ｍ，１Ｈ），６．２７−６．４１（ｍ，１Ｈ），７．１９−７．２８（ｍ，１５Ｈ），７．４２，７．４７，７．５４，７．５９（ｍ，１Ｈ），９．４４（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ．
【産業上の利用可能性】
【００４２】
本発明は、ゲノム創薬や遺伝子診断・治療に用いられるＤＮＡオリゴマー、又は、高精度遺伝子診断やｍＲＮＡの発現解析のための検出プローブなどへ応用される、様々な機能を付与した非天然核酸を含むようなＤＮＡオリゴマーを短時間で高純度に合成する手段を提供することが出来る。