(57)【要約】【課題】耐衝撃性および摺動性能に優れた軸受機構を提供する。【解決手段】ハードディスク駆動装置に取り付けられるモータは、シャフト４１およびシャフト４１が挿入されるスリーブ４２を有する軸受機構４を備える。シャフト４１およびスリーブ４２はステンレス鋼にて形成され、シャフト４１の表面には無電解ニッケルメッキによりリン濃度が６パーセント以上１２パーセント以下にて形成されたメッキ層４１０であって、さらに５００℃以上７００℃以下の雰囲気中にて析出硬化処理が施されたものが設けられる。これにより、優れた耐衝撃性を有する軸受機構４の摺動性能を向上することができる。【選択図】図３
2005155673.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸受機構の製造方法であって、
シャフト部材およびスリーブ部材を形成する工程と、
前記シャフト部材および前記スリーブ部材のうち一方の部材に無電解ニッケルメッキを施してリン濃度が６パーセント以上１２パーセント以下のメッキ層を形成する工程と、
前記一方の部材に５００℃以上７００℃以下の雰囲気中にて析出硬化処理を施す工程と、
を備えることを特徴とする軸受機構の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の軸受機構の製造方法であって、
前記一方の部材が、ステンレス鋼にて形成されることを特徴とする軸受機構の製造方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の軸受機構の製造方法であって、
前記一方の部材が前記シャフト部材であることを特徴とする軸受機構の製造方法。
【請求項４】
軸受機構であって、
シャフトと、
前記シャフトが挿入されるスリーブと、
を備え、
前記シャフトおよび前記スリーブのうち一方が、無電解ニッケルメッキにより形成されたリン濃度が６パーセント以上１２パーセント以下のメッキ層であって、さらに５００℃以上７００℃以下の雰囲気中にて析出硬化処理が施されたものを有することを特徴とする軸受機構。
【請求項５】
請求項４に記載の軸受機構であって、
前記シャフトおよび前記スリーブのうち前記一方が、ステンレス鋼にて形成されることを特徴とする軸受機構。
【請求項６】
請求項４または５に記載の軸受機構であって、
前記シャフトが前記メッキ層を有することを特徴とする軸受機構。
【請求項７】
電動式のモータであって、
請求項４ないし６のいずれかに記載の軸受機構と、
前記シャフトを前記スリーブに対して相対的に回転させる駆動機構と、
を備えることを特徴とするモータ。
【請求項８】
ディスク駆動装置であって、
情報を記録するディスク状の記録媒体を収容する筐体と、
前記筐体内部に固定されて、前記記録媒体を回転させる請求項７に記載のモータと、
前記記録媒体に対する情報の書き込みまたは読み出しを行うアクセス手段と、
を備えることを特徴とするディスク駆動装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、シャフトおよびスリーブを有する軸受機構、電動式のモータ、並びに、ディスク駆動装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、シャフトを円筒状のスリーブに挿入し、潤滑油を介してシャフトを回転可能に支持する軸受機構を有するモータが様々な電子機器に利用されている。例えば、各種情報を記憶するハードディスク駆動装置では、情報が磁気的に記録されるディスク状の記録媒体（すなわち、ハードディスク）がモータにより回転してヘッドにより情報の書き込みおよび読み出しが行われる。
【０００３】
ところで、このようなモータでは、起動や停止の際、あるいは外部から大きな衝撃を受けた際に、シャフトとスリーブとが直接的に（すなわち、潤滑油をほとんど介さずに）摺接してしまう。このとき、シャフトおよびスリーブの表面が同一の材料にて形成されていると摺接時の摩擦熱による凝着が生じ易くなるため、一般的にはシャフトとスリーブとの材料構成（いわゆる、マテリアルシステム）として互いに相違するものが用いられる。例えば、シャフトおよびスリーブのうち一方はステンレス鋼にて形成された後に窒化処理が施され、他方はステンレス鋼にて形成されてそのまま用いられ、高い耐摩耗性を有しつつ凝着の発生を抑制することが可能な軸受機構が構成される。
【０００４】
なお、特許文献１では、スリーブにリンを１〜５パーセント含むニッケルリン系無電解メッキを施すことにより、表面硬度が高くかつ形状精度の高いスリーブを作製し、さらに、シャフトにフッ素樹脂の粉を３〜２０パーセント、および、リンを７〜１５パーセント含む無電解メッキを施してシャフトとスリーブとが凝着することを抑制する手法が開示されている。
【特許文献１】特開平１１−２２３２１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
近年、ハードディスク駆動装置が携帯可能な様々な電子機器の記憶装置として利用されつつあり、小型化に加えて耐衝撃性や信頼性に対する要求が益々厳しくなっている。ところが、モータの軸受機構において従来のマテリアルシステムでは、耐衝撃性や信頼性に関わる摺動性能の更なる向上が困難である。また、特許文献１の手法ではスリーブの表面硬度を高くすることは可能であるが、耐衝撃性の向上は必ずしも硬度を高くすることにより実現されるものではないと考えられる。
【０００６】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、耐衝撃性および摺動性能に優れた軸受機構を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、軸受機構の製造方法であって、シャフト部材およびスリーブ部材を形成する工程と、前記シャフト部材および前記スリーブ部材のうち一方の部材に無電解ニッケルメッキを施してリン濃度が６パーセント以上１２パーセント以下のメッキ層を形成する工程と、前記一方の部材に５００℃以上７００℃以下の雰囲気中にて析出硬化処理を施す工程とを備える。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の軸受機構の製造方法であって、前記一方の部材が、ステンレス鋼にて形成される。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の軸受機構の製造方法であって、前記一方の部材が前記シャフト部材である。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、軸受機構であって、シャフトと、前記シャフトが挿入されるスリーブとを備え、前記シャフトおよび前記スリーブのうち一方が、無電解ニッケルメッキにより形成されたリン濃度が６パーセント以上１２パーセント以下のメッキ層であって、さらに５００℃以上７００℃以下の雰囲気中にて析出硬化処理が施されたものを有する。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の軸受機構であって、前記シャフトおよび前記スリーブのうち前記一方が、ステンレス鋼にて形成される。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項４または５に記載の軸受機構であって、前記シャフトが前記メッキ層を有する。
【００１３】
請求項７に記載の発明は、電動式のモータであって、請求項４ないし６のいずれかに記載の軸受機構と、前記シャフトを前記スリーブに対して相対的に回転させる駆動機構とを備える。
【００１４】
請求項８に記載の発明は、ディスク駆動装置であって、情報を記録するディスク状の記録媒体を収容する筐体と、前記筐体内部に固定されて、前記記録媒体を回転させる請求項７に記載のモータと、前記記録媒体に対する情報の書き込みまたは読み出しを行うアクセス手段とを備える。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、優れた耐衝撃性を有する軸受機構の摺動性能を向上することができ、これにより、耐衝撃性が高いモータおよびディスク駆動装置の信頼性の向上を図ることもできる。
【００１６】
また、請求項３および６の発明では、軸受機構を容易に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
図１は本発明の一の実施の形態に係る電動式のモータ１が取り付けられた一般的なハードディスク駆動装置８０の内部構成を示す図である。ハードディスク駆動装置８０の内部はハウジング８１により塵や埃が極度に少ないクリーンな空間とされる。ハウジング８１は、円板状の記録媒体である記録ディスク８２、記録ディスク８２への情報の書き込みおよび（または）読み出しを行うアクセス部８３、並びに、記録ディスク８２を回転させるモータ１を収容する。
【００１８】
アクセス部８３は、記録ディスク８２に近接して情報の書き込みおよび読み出しを磁気的に行うヘッド８３１、ヘッド８３１を支持するアーム８３２、並びに、アーム８３２を移動させることによりヘッド８３１と記録ディスク８２との相対的位置を変更するヘッド移動機構８３３を有する。このような構成により、ヘッド８３１は回転する記録ディスク８２に近接した状態で記録ディスク８２の所要の位置にアクセスし、情報の書き込みおよび読み出しを行う。
【００１９】
図２は、ディスク駆動用のモータ１の構成を示す縦断面図である。モータ１は回転体であるロータ部２、および、固定体であるステータ部３を有し、ロータ部２はシャフト４１およびスリーブ４２を有する軸受機構４によりステータ部３に対して回転可能に支持される。
【００２０】
ロータ部２は、ステータ部３側（図２において下側）に開口する略椀状のロータ本体２１を有し、ロータ本体２１の中央にはステンレス鋼（例えば、ＳＵＳ３０３Ｃｕ）にて形成されるとともに表面にメッキ層を有するシャフト４１が開口側に突出するようにして固定される。ロータ本体２１の外周面にはステータ部３側において、外側に広がった後に下方に向かって屈曲する環状突起部２１１が形成され、環状突起部２１１の内周面には多極着磁された円環状の界磁用磁石２２が固定される。
【００２１】
ステータ部３はシャフト４１の中心軸Ｊ１に垂直な方向に広がる略円板状のベースプレート３１を有し、ベースプレート３１の中央には上方に突出する円筒部３１１が形成される。円筒部３１１には、ステンレス鋼（例えば、ＤＨＳ−１）にて形成されるとともにシャフト４１の自由端側が挿入される略円筒状のスリーブ４２が挿入されて固定される。また、円筒部３１１の周囲には、環状コアに設けた複数の突極に巻線を施した電機子３２が界磁用磁石２２の中心軸Ｊ１側に対向して設けられる。界磁用磁石２２および電機子３２はモータ１の駆動機構を構成し、電機子３２に接続された図示省略の電流供給回路により供給される電流が制御されることにより、ロータ部２をシャフト４１を中心としてステータ部３に対して回転させるトルク（回転力）が発生する。
【００２２】
シャフト４１の自由端側の端部には中心軸Ｊ１を中心として広がる円板状のスラストプレート４１１が形成される。また、スリーブ４２の内周面上において、シャフト４１の自由端側には円環状の切欠部４２１が形成され、スラストプレート４１１は切欠部４２１により形成される円板状の空間に嵌入される。さらに、スリーブ４２の下側の端部にはスリーブ４２の下側開口を閉塞するカウンタープレート４３が設けられ、カウンタープレート４３はスラストプレート４１１の下面に対向する。
【００２３】
図３はモータ１の軸受機構４を拡大して示す図であり、図２の中心軸Ｊ１から右側のみを示している。図３に示すように、シャフト４１の外周面上には環状溝４１２が形成されており、シャフト４１とスリーブ４２との間において環状溝４１２より上側および下側には、それぞれ潤滑油が充填されるラジアル軸受部６１，６２が構成される。ラジアル軸受部６１，６２においてスリーブ４２の内周面には、流体動圧発生用の溝（例えば、ヘリングボーン溝）が形成されており、モータ１の回転時においてシャフト４１が中心軸Ｊ１に垂直なラジアル方向に支持される。なお、ラジアル軸受部６１，６２では、シャフト４１の外周面およびスリーブ４２の内周面のうち少なくともいずれか一方に流体動圧発生用の溝が形成されることにより、流体動圧を利用したラジアル軸受部としての機能が果たされる。
【００２４】
スラストプレート４１１の上面（環状面）と切欠部４２１の下側を向く面との間、および、スラストプレート４１１の下面とカウンタープレート４３の上面との間には、それぞれ、潤滑油が充填されるスラスト軸受部６３，６４が構成される。スラスト軸受部６３，６４において、スラストプレート４１１の上面および下面には、流体動圧発生用の溝（例えば、ポンプイン型のスパイラル溝）が形成されており、モータ１の回転時においてシャフト４１が中心軸Ｊ１方向（アキシャル方向とも呼ばれる。）に支持される。なお、スラスト軸受部６３，６４においてもラジアル軸受部６１，６２と同様に、対向面の少なくともいずれか一方に流体動圧発生用の溝が形成されることにより流体動圧を利用したスラスト軸受部としての機能が果たされる。
【００２５】
また、前述のようにシャフト４１の表面全体にはメッキ層４１０が後述する製造工程において特定の条件にて形成される。
【００２６】
次に、モータ１の軸受機構４を製造する工程の流れについて説明する。図４は軸受機構４を製造する工程の流れを示す図である。軸受機構４を製造する際には、まず、ステンレス鋼にて形成されるシャフト部材（すなわち、後述する工程において表面にメッキ層４１０が形成されてシャフト４１となる部材）、および、スリーブ部材（すなわち、スリーブ４２）が、例えば切削加工により作製される（ステップＳ１１）。続いて、表面脱脂やスケール除去、表面活性化等の処理が必要に応じて行われた後、シャフト部材に対してニッケルストライクメッキが施され、下地層が形成される（ステップＳ１２）。ストライクメッキが終了すると、シャフト部材に無電解ニッケルメッキ（すなわち、ニッケルリン系の無電解メッキ）が施され、所定のリン濃度のメッキ層がシャフト部材の下地層上に形成される（ステップＳ１３）。
【００２７】
続いて、クロメート処理が施されて防錆皮膜が形成され（ステップＳ１４）、洗浄が行われた後に、シャフト部材に対して析出硬化処理が施されて非晶質のメッキ層が結晶化される（ステップＳ１５）。析出硬化処理は、シャフト部材が載置される炉内雰囲気を、例えば、後述する所定の温度まで６０分以内に加熱して、およそ６０分間保持した後、３０分以内に３００℃程度まで急冷することにより行われる。そして、シャフト部材にメッキ層が形成されたシャフト４１がスリーブ４２に挿入され、さらに、カウンタープレート４３がスリーブ４２の一方の開口に取り付けられて軸受機構４が完成する（ステップＳ１６）。なお、ステップＳ１２のストライクメッキ、および、ステップＳ１４のクロメート処理は、メッキ層の密着性や耐食性等に応じて必要な場合にのみ行われる。
【００２８】
次に、図４の製造工程により製造された軸受機構を有するモータが用いられたハードディスク駆動装置に対して、耐衝撃性を評価する試験を行った結果について説明する。表１は、衝撃試験の一例であるチルトドロップ試験の結果を示している。なお、表１において「”」はインチを示している。ここで、チルトドロップ試験とは、図５に示すようにモータが定格回転数にて駆動中のハードディスク駆動装置８０において、直方体のハウジングの一の側面と底面とが交わる辺を支軸Ａ１とし、支軸Ａ１側の側面とは反対側の側面と底面とが交わる辺Ａ２を所定の高さＨまで持ち上げて離すことにより、ハードディスク駆動装置８０に衝撃を与えてモータの回転が停止するか否かによりその耐衝撃性を評価する試験であり、ジャイロモーメントを加味した衝撃試験として知られるものである。
【００２９】
【表１】
2005155673.tif 000003
【００３０】
表１では、軸受機構を製造する際のシャフトのメッキ層のリン濃度と析出硬化処理における処理温度との組み合わせに対するチルトドロップ試験の結果を示しており、表１中の各組み合わせに対応する欄において上段右側および左側の数字はそれぞれ試験を行ったサンプルの数量および結果が得られたサンプルの数量を示し、下段は試験の結果を示している。試験結果において、例えば、「５”ＮＧ」は、高さＨを５インチ（１２７ｍｍ）として衝撃が与えられた場合にモータの回転が停止した（ただし、５インチより低い高さＨではモータの回転は停止しなかった。）ことを示し、「７”および垂直ＯＫ」は、高さＨを７インチ（約１７８ｍｍ）として衝撃が与えられた場合でもモータの回転が停止せず、さらに、辺Ａ２が支軸Ａ１の真上に位置する状態（すなわち、ハードディスク駆動装置が垂直に立てられて高さＨが最大となる状態）から倒されて衝撃が与えられた場合でさえもモータの回転が停止しなかったことを示している。
【００３１】
表１より、析出硬化処理温度が６００℃および７００℃では、リン濃度が６〜８パーセントのいずれの場合も、結果が「７”および垂直ＯＫ」となっており優れた耐衝撃性が得られることが判る。また、析出硬化処理温度が５００℃であっても、リン濃度が６パーセントおよび８パーセントの場合にそれぞれ「５”ＮＧ」および「６”ＮＧ」となり、３５０℃の場合と比較して良好な耐衝撃性が得られる。なお、析出硬化処理温度が高すぎるとメッキ層において鋭敏化が進行し、結晶間に炭素（Ｃ）が生じて粒界腐食が発生することが一般的に知られているが、少なくとも７００℃まではこのような問題がないことが確認されている。
【００３２】
一方で、リン濃度に注目すると、析出硬化処理温度３５０℃および５００℃において６パーセントより８パーセントのほうが良い結果を示しており、リン濃度が高いほど耐衝撃性が向上することが判る。したがって、無電解ニッケルメッキを安定して行うことができるリン濃度の経験的範囲を考慮すると、リン濃度６パーセント以上１２パーセント以下が優れた耐衝撃性を得ることができる範囲であるといえる。
【００３３】
図６（ａ）ないし（ｉ）は、シャフトのメッキ層のリン濃度と析出硬化処理における処理温度との組み合わせに対するメッキ層のＸ線解析の結果を示す図である。図６（ａ）ないし（ｉ）中のスペクトルが示すピークにおいて、上方に○を付すピークはＮｉ３Ｐの結晶を示すピークであり、×を示すピークはＮｉ単体の結晶を示すピークである。
【００３４】
図６（ａ）および（ｂ）は、析出硬化処理温度が３５０℃であり、リン濃度がそれぞれ６パーセントおよび８パーセントであるメッキ層のＸ線解析結果を示しており、Ｎｉ３Ｐの結晶を示すピークがそれぞれ０個と２個であり、Ｎｉ３Ｐの結晶化があまり進んでいないことを示している。
【００３５】
一方で、図６（ｃ）および（ｄ）は析出硬化処理温度が５００℃であり、リン濃度がそれぞれ６パーセントおよび８パーセントの場合のＸ線解析結果を示しており、Ｎｉ３Ｐの結晶を示すピークがそれぞれ３個存在し、Ｎｉ３Ｐの結晶化が比較的進んでいることが判る。
【００３６】
また、図６（ｅ）ないし（ｇ）は、析出硬化処理温度が６００℃であり、リン濃度がそれぞれ６パーセント、７パーセントおよび８パーセントのＸ線解析結果を示し、図６（ｈ）および（ｉ）は、析出硬化処理温度が７００℃であり、リン濃度がそれぞれ６パーセントおよび８パーセントのＸ線解析結果を示しており、図６（ｅ）ないし（ｉ）のそれぞれではＮｉ３Ｐの結晶を示すピークが４個以上存在し、Ｎｉ３Ｐの結晶化がより進んでいることが判る。さらに、各析出硬化処理温度にて比較すると、リン濃度が高いほどＮｉ３Ｐの結晶化が進むことが判る。これらの結果は表１のチルトドロップ試験の結果に一致しており、Ｎｉ３Ｐの結晶化が進むほど耐衝撃性が向上するといえる。
【００３７】
図７は、メッキ層のリン濃度を変更した場合の析出硬化処理における処理温度とビッカース硬度（以下、単に「硬度」という。）との関係を示す図である。なお、図７では図３に示すラジアル軸受部６１，６２にそれぞれ対応するシャフト４１の外周面上の位置における硬度の平均値をＲａｄと示し、スラスト軸受部６３，６４にそれぞれ対応するスラストプレート４１１の上面および下面上の位置における硬度の平均値をＡｘｉと示している。また、ＲａｄまたはＡｘｉの前に示す比率がメッキ層のリン濃度である。
【００３８】
図７に示すように、析出硬化処理温度３５０℃〜６００℃の間では温度が高くなるにつれて硬度はおよそ線形に低下し、６００℃と７００℃ではおよそ一定の硬さとなっている。したがって、表１のチルトドロップ試験の結果も考慮すると、析出硬化処理温度が低い場合には硬度は高くなるが耐衝撃性は低下し、析出硬化処理温度が高い場合には硬度は低くなるが耐衝撃性は向上するといえる。よって、析出硬化処理温度６００℃ではチルトドロップ試験で高さＨが最大（垂直）とされてもモータの回転が停止しないほどの優れた耐衝撃性が得られること、並びに、析出硬化処理温度３５０℃〜６００℃の間で硬度が線形に低下することを考えれば、析出硬化処理温度が５５０℃程度でも十分に良好な耐衝撃性が得られるといえる。
【００３９】
次に、軸受機構４の他の評価手法であるファレックス試験について述べる。ファレックス試験とは、図８に示すように、スリーブが形成される材料であるステンレス鋼にて作製される一対の試験片（以下、「Ｖブロック」という。）９１の間にシャフト４１が配置され（正確には、Ｖブロック９１に互いに対向して形成された切欠部９１１に、シャフト４１の材料であるメッキ層を有するステンレス鋼から成る棒状の試験片が挟持され）、潤滑油を常時供給しつつシャフト４１を一定の回転数（例えば、１２００ｒｐｍ）にて回転させながら、一方のＶブロック９１を固定し、他方のＶブロック９１に荷重Ｐを負荷して、焼き付き（または、凝着）が生じるまでの時間やその際の荷重の大きさ等の摺動性能が調べられる。
【００４０】
図９ないし図１３は、ファレックス試験の各種結果を示す図である。図９および図１０は、メッキ層のリン濃度を変更した場合の析出硬化処理における処理温度と比摩耗量との関係を示し、それぞれシャフト４１の比摩耗量およびＶブロック９１の比摩耗量を示している。ここで、比摩耗量とは摩耗率（＝（体積摩耗量）／（摺動距離））を荷重Ｐで除した値である。なお、図９および図１０、並びに、後述する図１１ないし図１３では、析出硬化処理を施さなかったメッキ層を有するシャフト（以下、「未処理シャフト」という。）の結果を符号７１を付して示し、従来の窒化処理のみが施されたシャフト（以下、「窒化処理シャフト」という。）の結果を符号７２を付して示している。
【００４１】
図９に示すように、シャフト４１においては析出硬化処理温度５００〜７００℃でリン濃度６パーセントおよび７パーセントの場合に窒化処理シャフトよりも優れた耐摩耗性が実現される。また、図１０のＶブロック９１の比摩耗量については、未処理シャフトおよび窒化処理シャフトと比較して析出硬化処理温度３５０℃および５００℃では、ほぼ同等であるが、６００℃および７００℃では非常に少なくなっている。
【００４２】
図１１はメッキ層のリン濃度を変更した場合の析出硬化処理における処理温度と焼き付きが生じる荷重との関係を示しており、図１２は処理温度と所定の荷重にて焼き付きが生じるまでの時間との関係を示している。図１１および図１２では、未処理シャフトおよび窒化処理シャフトと比較して、析出硬化処理温度３５０℃ではシャフト４１の焼き付き荷重および焼き付き時間が同等であるが、５００℃〜７００℃では、５００℃におけるリン濃度７パーセントの場合を除いて、温度が高いほど焼き付き荷重が大きくなるとともに焼き付き時間が長くなり、特に、６００℃および７００℃では非常に良好な結果となっている。
【００４３】
また、図１１および図１２では、析出硬化処理温度５００℃から６００℃の間において焼き付き荷重および焼き付き時間が急激に向上しているため、析出硬化処理温度５５０℃とすればリン濃度７パーセントの場合であっても、未処理シャフトおよび窒化処理シャフトよりも良好な結果が得られると考えられる。
【００４４】
図１３はメッキ層のリン濃度を変更した場合の析出硬化処理における処理温度と摩擦係数との関係を示す図である。図１３においても、析出硬化処理温度５００℃〜７００℃で窒化処理シャフトよりもシャフト４１の摩擦係数が小さくなる。このように、ファレックス試験の結果では、析出硬化処理温度を５００℃〜７００℃とすることで従来の窒化処理シャフトよりも優れた摺動性能が得られることが確認された。
【００４５】
以上のように、図２に示すモータ１はシャフト４１とスリーブ４２とを有する軸受機構４を備え、シャフト４１は表面にメッキ層４１０を有し、このメッキ層４１０は無電解ニッケルメッキによりリン濃度が６パーセント以上１２パーセント以下にて形成され、さらに５００℃以上７００℃以下の雰囲気中にて析出硬化処理が施されたものとされる。また、スリーブ４２はシャフト４１のメッキ層４１０とは異なる材料にて形成される。これにより、シャフト４１とスリーブ４２とが凝着することが抑制されるとともに優れた耐衝撃性を有する軸受機構４が実現され、モータ１の高速回転時に大きな衝撃が与えられた場合であっても、モータ１の駆動に支障が生じることを防止することができる。また、軸受機構４の摺動性能の向上を図ることもでき、モータ１の信頼性を向上することができる。さらに、このようなモータ１を用いることにより、耐衝撃性が高いハードディスク駆動装置８０の信頼性の向上も実現することができる。
【００４６】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、様々な変形が可能である。
【００４７】
上記実施の形態における軸受機構４の構造は、一例を示したにすぎず、用途に応じて適宜変更されてよい。
【００４８】
軸受機構４では、スリーブ４２に無電解ニッケルメッキにて形成されるとともに析出硬化処理が施されたメッキ層が形成されてもよい。なお、軸受機構４を容易に製造するには、スリーブ４２に比べて簡素な形状とされるシャフト４１にメッキ層が形成されることが好ましい。
【００４９】
シャフト部材およびスリーブ部材のうち、メッキ層が形成される部材は必ずしもステンレス鋼にて形成される必要はなく、実用可能な範囲で他の材料（例えば、リン青銅、鉄あるいはアルミニウム等の他の金属）にて形成されてもよい。
【００５０】
上記実施の形態では、シャフト４１がロータ部２に固定されスリーブ４２に対して回転するが、スリーブ４２がロータ部２に固定され（または、一体的に形成され）、シャフト４１に対して回転してもよい。
【００５１】
モータ１は、ハードディスク駆動装置８０以外に、例えば、光ディスク、光磁気ディスク、その他のディスク状の記録媒体を駆動する装置に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】ハードディスク駆動装置の構成を示す図である。
【図２】モータの構成を示す縦断面図である。
【図３】軸受機構を拡大して示す図である。
【図４】軸受機構を製造する工程の流れを示す図である。
【図５】チルトドロップ試験について説明するための図である。
【図６】（ａ）ないし（ｉ）は、シャフトのメッキ層のリン濃度と析出硬化処理における処理温度との組み合わせに対するメッキ層のＸ線解析の結果を示す図である。
【図７】メッキ層のリン濃度を変更した場合の析出硬化処理における処理温度とビッカース硬度との関係を示す図である。
【図８】ファレックス試験について説明するための図である。
【図９】メッキ層のリン濃度を変更した場合の析出硬化処理における処理温度とシャフトの比摩耗量との関係を示す図である。
【図１０】メッキ層のリン濃度を変更した場合の析出硬化処理における処理温度とＶブロックの比摩耗量との関係を示す図である。
【図１１】メッキ層のリン濃度を変更した場合の析出硬化処理における処理温度と焼き付きが生じる荷重との関係を示す図である。
【図１２】メッキ層のリン濃度を変更した場合の析出硬化処理における処理温度と焼き付きが生じるまでの時間との関係を示す図である。
【図１３】メッキ層のリン濃度を変更した場合の析出硬化処理における処理温度と摩擦係数との関係を示す図である。
【符号の説明】
【００５３】
１    モータ
４    軸受機構
２２    界磁用磁石
３２    電機子
４１    シャフト
４２    スリーブ
８０    ハードディスク駆動装置
８１    ハウジング
８２    記録ディスク
８３    アクセス部
４１０    メッキ層
Ｓ１１，Ｓ１３，Ｓ１５    ステップ
【図１】
2005155673.tif 000004
【図２】
2005155673.tif 000005
【図３】
2005155673.tif 000006
【図４】
2005155673.tif 000007
【図５】
2005155673.tif 000008
【図６】
2005155673.tif 000009
【図７】
2005155673.tif 000010
【図８】
2005155673.tif 000011
【図９】
2005155673.tif 000012
【図１０】
2005155673.tif 000013
【図１１】
2005155673.tif 000014
【図１２】
2005155673.tif 000015
【図１３】
2005155673.tif 000016