(57)【要約】【課題】  チャックローラの回転性能を長期に亘って確保することができ、更に、ワークの汚染を伴わないでワークをチャックすることができるチャック装置を提供すること。【解決手段】  本発明のチャック装置１は、ワーク１の外周縁部に当接して該ワーク１をチャックするチャックローラ５を有している。チャックローラ５は、マトリックス樹脂としての機械材料樹脂に潤滑性粉末が混合添加された樹脂製の滑り軸受７を介して、軸４に回転自在に取り付けられている。機械材料樹脂はポリアセタールであることが望ましい。潤滑性粉末はポリテトラフルオロエチレン粉末であることが望ましい。【選択図】      図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークの外周縁部に当接して該ワークをチャックするチャックローラを有するチャック装置において、
前記チャックローラが、マトリックス樹脂としての機械材料樹脂に潤滑性粉末が混合添加された樹脂製の滑り軸受を介して、軸に回転自在に取り付けられていることを特徴とするチャック装置。
【請求項２】
前記機械材料樹脂は、ポリアセタールである請求項１記載のチャック装置。
【請求項３】
前記潤滑性粉末は、六方晶窒化ホウ素、グラファイト、二硫化モリブデン又はフッ素樹脂の粉末である請求項１又は２記載のチャック装置。
【請求項４】
前記フッ素樹脂は、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化エチレンポリプロピレンコポリマー、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテルコポリマー、ポリクロロトリフルオロエチレン、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー及びポリフッ化ビニリデンからなる群から選ばれたいずれか１種である請求項３記載のチャック装置。
【請求項５】
前記フッ素樹脂は、ポリテトラフルオロエチレンである請求項３記載のチャック装置。
【請求項６】
前記潤滑性粉末は、ポリテトラフルオロエチレン粉末であり、
前記ポリテトラフルオロエチレン粉末の添加率が１０〜３０質量％の範囲に設定されている請求項１又は２記載のチャック装置。
【請求項７】
前記ポリテトラフルオロエチレン粉末の平均粒径が０．１〜１μｍの範囲に設定されている請求項６記載のチャック装置。
【請求項８】
前記チャックローラは、超高分子量ポリエチレン製である請求項１〜７のいずれか１項記載のチャック装置。
【請求項９】
前記ワークは、磁気ディスク用基板である請求項１〜８のいずれか１項記載のチャック装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項記載のチャック装置を備え、  ワークが前記チャック装置のチャックローラによりチャックされた状態で洗浄されるものとなされていることを特徴とする洗浄装置。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれか１項記載のチャック装置を用い、  ワークを前記チャック装置のチャックローラによりチャックした状態で洗浄することを特徴とする洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、記録ディスク（磁気ディスク、光ディスク等）用基板、半導体ウエハ（シリコンウエハ、化合物半導体ウエハ等）、液晶ディスプレイ用ガラス基板、セラミック基板等の様々なワークをチャックするためのチャック装置、該チャック装置を備えた洗浄装置、及び前記チャック装置を用いた洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えばハードディスク用の磁気ディスクは、一般的に、アルミニウム（その合金を含む。）基板の表面に、無電解Ｎｉ−Ｐメッキ層や磁気記録層等の各種層が順次、形成されることにより、製造されている。
【０００３】
この磁気ディスクの製造工程において、基板の表面に各種層を形成する工程の前や後には、基板の表面に付着した微細な粒子や研磨液等を除去するために、基板の表面をスクラブ洗浄することが行われている。
【０００４】
この洗浄の際には、基板をチャックするためにチャック装置が用いられる。このチャック装置は、複数個のチャックローラを有しており、これらのチャックローラを基板の外周縁部に周方向に間隔をおいて当接させることにより、該基板をチャックするものとなされている（例えは、特許文献１−３参照。）。
【０００５】
基板の洗浄時には、基板の外周縁部のチャックローラとの当接部及びその近傍部についても洗浄することができるように、基板は、その外周縁部にチャックローラが当接した状態で、洗浄ブラシの回転力を受けて従動回転されるものとなされている。さらに、この基板の回転動作に従動してチャックローラが前記軸を中心に回転されるものとなされている。
【０００６】
従来、このチャック装置のチャックローラは、ステンレス鋼製の軸に直接、回転自在に取り付けられている。
【０００７】
而して、上記従来のチャック装置において、チャックローラは、基板へのチャック時に該基板が傷付かないように、比較的柔らかい樹脂で製作されていた。
【特許文献１】特開２００１−２３１５９号公報（請求項１）
【特許文献２】特開２００１−３４１８２７号公報（請求項１）
【特許文献３】特開平３−２４５５３０号公報（第２頁、第１図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上述した比較的柔らかい樹脂で製作されたチャックローラは、耐摩耗性に劣るため、軸との接触部で摩耗し易いという難点があった。このようにチャックローラの軸との接触部が摩耗すると、該チャックローラの回転動作の円滑性が低下し、その結果、基板の洗浄が不十分となるという問題が発生する。
【０００９】
そこで、チャックローラの軸との接触による摩耗を防止するため、チャックローラを転がり軸受（即ち玉軸受やころ軸受）を介して軸に回転自在に取り付けることが提案される。しかしながら、この提案方法によれば、洗浄時に転がり軸受から汚れ物質（例えば転動体に付着した潤滑油）が流出し、基板を汚染するという問題が発生する。
【００１０】
この発明は、上述した技術背景に鑑みてなされたもので、その目的は、チャックローラの回転性能を長期に亘って良好に確保することができ、更に、ワークの汚染を伴わないでワークをチャックすることができるチャック装置、該チャック装置を備えた洗浄装置及び前記チャック装置を用いた洗浄方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するため、本発明は、以下の手段を提供する。
【００１２】
［１］  ワークの外周縁部に当接して該ワークをチャックするチャックローラを有するチャック装置において、前記チャックローラが、マトリックス樹脂としての機械材料樹脂に潤滑性粉末が混合添加された樹脂製の滑り軸受を介して、軸に回転自在に取り付けられていることを特徴とするチャック装置。
【００１３】
［２］  前記機械材料樹脂は、ポリアセタールである前項１記載のチャック装置。
【００１４】
［３］  前記潤滑性粉末は、六方晶窒化ホウ素、グラファイト、二硫化モリブデン又はフッ素樹脂の粉末である前項１又は２記載のチャック装置。
【００１５】
［４］  前記フッ素樹脂は、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化エチレンポリプロピレンコポリマー、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテルコポリマー、ポリクロロトリフルオロエチレン、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー及びポリフッ化ビニリデンからなる群から選ばれたいずれか１種である前項３記載のチャック装置。
【００１６】
［５］  前記フッ素樹脂は、ポリテトラフルオロエチレンである前項３記載のチャック装置。
【００１７】
［６］  前記ポリテトラフルオロエチレン粉末は、ポリテトラフルオロエチレン粉末であり、前記潤滑性粉末の添加率が１０〜３０質量％の範囲に設定されている前項１又は２記載のチャック装置。
【００１８】
［７］  前記ポリテトラフルオロエチレン粉末の平均粒径が０．１〜１μｍの範囲に設定されている前項６記載のチャック装置。
【００１９】
［８］  前記チャックローラは、超高分子量ポリエチレン製である前項１〜７のいずれか１項記載のチャック装置。
【００２０】
［９］  前記ワークは、磁気ディスク用基板である前項１〜８のいずれか１項記載のチャック装置。
【００２１】
［１０］  前項１〜９のいずれか１項記載のチャック装置を備え、ワークが前記チャック装置のチャックローラによりチャックされた状態で洗浄されるものとなされていることを特徴とする洗浄装置。
【００２２】
［１１］  前項１〜９のいずれか１項記載のチャック装置を用い、ワークを前記チャック装置のチャックローラによりチャックした状態で洗浄することを特徴とする洗浄方法。
【００２３】
次に、上記各項の発明を説明する。
【００２４】
［１］の発明では、チャックローラの滑り軸受が、マトリックス樹脂としての機械材料樹脂に潤滑性粉末が混合添加された樹脂製のものであることにより、次のような作用を奏する。
【００２５】
すなわち、マトリックス樹脂として機械材料樹脂が用いられることにより、滑り軸受の耐摩耗性が向上する。さらに、この機械材料樹脂に潤滑性粉末を混合添加することにより、滑り軸受の潤滑性（摺動性）が向上する。その結果、チャックローラの回転性能が長期に亘って良好に確保され、チャックローラの耐用寿命（耐久時間）が延びる。
【００２６】
もとより、チャックローラの軸受は、転がり軸受（即ち玉軸受やころ軸受）ではなく、滑り軸受であるから、軸受から汚れ成分が流出する虞がない。そのため、ワークの汚染を伴わないで該ワークをチャックすることができる。
【００２７】
なお、［１］の発明において、機械材料樹脂としては、後述するポリアセタール（ＰＯＭ）をはじめ、モノマーキャスティングナイロン（ＵＭＣ）、フッ素樹脂、ポリアミド、高密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイミド、芳香族ポリエステル、ポリフェニレンスルフィルド、ポリエーテルエーテルケトン、フェノール樹脂、ＢＴ樹脂等が用いられる。
【００２８】
一方、チャックローラの材質は限定されるものではない。チャックローラとしては、後述する超高分子量ポリエチレン等の各種ポリエチレン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミド（例えばナイロン）等の様々な樹脂で製作されたものが用いられる。
【００２９】
［２］の発明では、機械材料樹脂がポリアセタールであることにより、滑り軸受の耐摩耗性が確実に向上する。
【００３０】
［３］の発明では、潤滑性粉末が、六方晶窒化ホウ素（ｈＢＮ）、グラファイト、二硫化モリブデン又はフッ素樹脂の粉末であることにより、滑り軸受の潤滑性が確実に向上する。
【００３１】
［４］の発明では、フッ素樹脂が、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化エチレンポリプロピレンコポリマー、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテルコポリマー（ＰＦＡ）、ポリクロロトリフルオロエチレン、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー及びポリフッ化ビニリデンからなる群から選ばれたいずれか１種であることにより、滑り軸受の潤滑性が更に確実に向上する。
【００３２】
［５］の発明では、フッ素樹脂がポリテトラフルオロエチレンであることにより、上記［４］の発明と同じく、滑り軸受の潤滑性が更に確実に向上する。
【００３３】
［６］の発明では、ポリテトラフルオロエチレン粉末の添加率が１０〜３０質量％の範囲に設定されていることにより、滑り軸受の潤滑性が確実に向上するとともに、ポリテトラフルオロエチレン粉末の添加に伴う滑り軸受の耐摩耗性の低下及び機械的強度の低下を防止することができる。
【００３４】
すなわち、潤滑性粉末としてのポリテトラフルオロエチレン粉末の添加率が１０質量％未満では、滑り軸受への潤滑性の付与が十分ではない。一方、その添加率が３０質量％を超えると、滑り軸受の耐摩耗性が低下するとともに、滑り軸受の機械的強度（即ち、曲げ強さ、圧縮強さ、引張強さ、衝撃強さ等）が低下し、その結果、チャックローラの耐用寿命（耐久時間）が減少する。
【００３５】
なお［６］の発明において、特に望ましいポリテトラフルオロエチレン粉末の添加率の範囲は、１５〜２５質量％である。
【００３６】
［７］の発明では、ポリテトラフルオロエチレン粉末の平均粒径が０．１〜１μｍの範囲に設定されていることにより、滑り軸受の潤滑性が更に確実に向上する。
【００３７】
すなわち、ポリテトラフルオロエチレン粉末の平均粒径が０．１μｍ未満では、潤滑性に劣る。一方、その平均粒径が１μｍを超えると、ポリテトラフルオロエチレン粉末が脱離し易く、その結果、滑り軸受の潤滑性の低下を招く。
【００３８】
なお［７］の発明において、特に望ましいポリテトラフルオロエチレン粉末の平均粒径の範囲は、０．３〜０．７μｍである。
【００３９】
［８］の発明では、チャックローラが超高分子量ポリエチレン製であることにより、チャックローラのワークへのチャック時に該ワーク及びチャックローラの双方が傷付いてしまう不具合を防止することができる。更には、チャックローラの耐摩耗性が向上して、チャックローラの耐久時間（耐用寿命）が延びる。
【００４０】
［９］の発明では、ワークが磁気ディスク用基板であることにより、磁気ディスク用基板の汚染を伴わないで該基板をチャックすることができる。
【００４１】
［１０］の発明では、洗浄装置が前項１〜９のいずれか１項記載のチャック装置を備えていることから、チャックローラの回転性能が長期に亘って確保されて、ワークを長期に亘って良好に洗浄することが可能となる。
【００４２】
［１１］の発明では、前項１〜９のいずれか１項記載のチャック装置を用い、ワークを前記チャック装置のチャックローラによりチャックした状態で洗浄することから、ワークを長期に亘って良好に洗浄することができる。
【発明の効果】
【００４３】
上述の次第で、この発明は次の効果を奏し得る。
【００４４】
［１］の発明によれば、チャックローラが、マトリックス樹脂としての機械材料樹脂に潤滑性粉末が混合添加された樹脂製の滑り軸受を介して、軸に回転自在に取り付けられているので、ワークの汚染を伴わないで該ワークをチャックすることができるし、更には、チャックローラの回転性能を長期に亘って確保することができて、チャックローラの耐用寿命を延ばすことができる。
【００４５】
［２］の発明によれば、機械材料樹脂がポリアセタールであるから、滑り軸受の耐摩耗性を確実に向上させることができる。
【００４６】
［３］の発明によれば、潤滑性粉末が所定の粉末であるから、滑り軸受の潤滑性を確実に向上させることができる。
【００４７】
［４］の発明によれば、フッ素樹脂が所定の樹脂であるから、滑り軸受の潤滑性を更に確実に向上させることができる。
【００４８】
［５］の発明によれば、フッ素樹脂がポリテトラフルオロエチレンであるから、上記［４］の発明と同じく、滑り軸受の潤滑性を更に確実に向上させることができる。
【００４９】
［６］の発明によれば、潤滑性粉末としてのポリテトラフルオロエチレン粉末の添加率が所定の範囲に設定されているから、滑り軸受の潤滑性を確実に向上させることができる上、ポリテトラフルオロエチレン粉末の添加に伴う滑り軸受の耐摩耗性の低下及び機械的強度の低下を防止することができる。
【００５０】
［７］の発明によれば、ポリテトラフルオロエチレン粉末の平均粒径が所定の範囲に設定されているから、滑り軸受の潤滑性を更に確実に向上させることができる。
【００５１】
［８］の発明によれば、チャックローラが超高分子量ポリエチレン製であるから、チャックローラのワークへのチャック時に該ワーク及びチャックローラの双方が傷付いてしまう不具合を防止することができる。更には、チャックローラの耐摩耗性が向上して、チャックローラの耐用寿命を延ばすことができる。
【００５２】
［９］の発明によれば、磁気ディスク用基板の汚染を伴わないで該基板をチャックすることができる。
【００５３】
［１０］の発明によれば、チャックローラの回転性能を長期に亘って確保できて、ワークを長期に亘って良好に洗浄することができる。
【００５４】
［１１］の発明によれば、ワークを長期に亘って良好に洗浄することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５５】
次に、本発明の好ましい一実施形態について図面を参照して説明する。
【００５６】
図１において、（１）は本発明の一実施形態に係るチャック装置、（10）は本発明の一実施形態に係る洗浄装置、（Ｗ）は円板状ワークとしてのアルミニウム（その合金を含む。以下同じ。）基板である。
【００５７】
基板（Ｗ）は、コンピュータのハードディスクに用いられる磁気ディスク用のものである。この基板（Ｗ）は、その厚さ方向両側の表面に無電解Ｎｉ−Ｐメッキ層や磁気記録層等の各種層が順次、形成されるものである。こうして各種層が形成されることにより、磁気ディスクが製造される。
【００５８】
洗浄装置（10）は、基板（Ｗ）の表面に各種層を形成する工程の前や後に、基板（Ｗ）の表面に付着した微細な粒子や研磨液等を洗浄除去するために用いられるものである。この洗浄装置（10）は、図１及び図４に示すように、ターンテーブル（11）と、複数個（同図では６個）の前記チャック装置（１）と、互いに対向状に配置された一対の洗浄ブラシ（12）と、洗浄液の飛散を防止するカバー（13）とを備えている。
【００５９】
ターンテーブル（11）は、回転駆動装置（図示せず）によって鉛直面内で回転されるものとなされている。このターンテーブル（11）には、図４に示すように、複数個の前記チャック装置（１）が周方向に間隔をおいて立設されている。このターンテーブル（11）は、間欠的に回転されることにより、基板（Ｗ）を基板受取りステージ（21）、基板洗浄ステージ（22）及び基板取出しステージ（23）へと順次、移行させるためのものである。
【００６０】
各チャック装置（１）は、図２に示すように、複数個（同図では３個）の把持指部（２）と、該各指部（２）の先端部に設けられたチャックローラ（５）とを有している。
【００６１】
指部（２）は、チャック装置（１）がターンテーブル（11）に設けられた状態において、略水平方向に延びている。この指部（２）の先端部には、図３に示すように軸取付け穴（３）が設けられており、この軸取付け穴（３）に軸（４）が圧入されることにより、該軸（４）が指部（２）の先端部に水平方向に突出状に取り付けられている。この軸（４）は、金属製のものであり、詳述すると、例えばＳＵＳ３０３等のステンレス鋼製のものである。
【００６２】
チャックローラ（５）は、基板（Ｗ）の外周縁部に当接して該基板（Ｗ）をチャックするためのものである。このチャックローラ（５）の中心軸部には、滑り軸受用取付け孔（６）が設けられており、この取付け孔（６）内に２個の円筒状の滑り軸受（詳述するとラジアル滑り軸受）（７）が軸方向に並んで圧入されることにより、該両滑り軸受（７）がチャックローラ（５）の中心軸部に固定状態に取り付けられている。そして、この滑り軸受（７）の軸孔（7a）に軸（４）が挿通されることにより、チャックローラ（５）が滑り軸受（７）を介して軸（４）に回転自在に取り付けられている。さらに、軸（４）の先端部には、該軸（４）が軸孔（7a）から抜出しないようＥリング（Ｅ形止め輪）（８）が取り付けられている。
【００６３】
また、チャックローラ（５）の外周面には、周方向に延びた断面略Ｖ字状の溝（９）が全周に亘って形成されている。
【００６４】
而して、図２に示すように、チャック装置（１）の複数個のチャックローラ（５）は、基板（Ｗ）の外周縁部に周方向に間隔をおいて当接し、これにより、該基板（Ｗ）をチャックする。こうして基板（Ｗ）をチャックした状態において、該基板（Ｗ）は図３に示すように鉛直面内に配置されるとともに、該基板（Ｗ）の外周縁部はチャックローラ（５）の溝（９）に嵌め入れられる。
【００６５】
カバー（13）は、図１に示すように透明なものである。このカバー（13）は、ターンテーブル（11）の基板洗浄ステージ（22）に対応する位置に配置されている（図４参照）。ターンテーブル（11）の基板洗浄ステージ（22）に移行されてきた基板（Ｗ）は、このカバー（13）によって包囲される。そして、この包囲状態のもとで、基板（Ｗ）の洗浄が行われる。
【００６６】
一対の洗浄ブラシ（12）は、ターンテーブル（11）の基板洗浄ステージ（22）に移行されてきた基板（Ｗ）をその厚さ方向に挟んだ状態で、カバー（13）内において回転駆動装置（図示せず）により回転駆動されるものとなされている。
【００６７】
なお、図１において、（15）は洗浄液ホース、（16）は洗浄液ホース（15）の先端部に設けられた洗浄液噴出口部である。
【００６８】
而して、上記洗浄装置（10）は次のように作動される。
【００６９】
すなわち、上記洗浄装置（10）では、基板（Ｗ）は、まずターンテーブル（11）の基板受取りステージ（21）に待機している２個のチャック装置（１）のチャックローラ（５）により２個同時にチャックされる（図４参照）。
【００７０】
次いで、ターンテーブル（11）が所定の角度（同図では１２０°）回転することにより、この基板（Ｗ）は、チャックされた状態のままで、基板洗浄ステージ（22）に移行される。
【００７１】
次いで、図１に示すように、洗浄液ホース（15）の洗浄液噴出口部（16）から噴出された洗浄液を基板（Ｗ）の厚さ方向両側の表面に供給しながら、回転している一対の洗浄ブラシ（12）によって基板（Ｗ）を挟み、この状態で、該基板（Ｗ）の両面を一対の洗浄ブラシ（12）で同時に洗浄する。この洗浄により、基板（Ｗ）の両面に付着した微細な粒子や研磨液等が除去される。
【００７２】
この洗浄時において、基板（Ｗ）は、その外周縁部にチャックローラ（５）が当接した状態で、洗浄ブラシ（12）の回転力を受けて回転される。こうして基板（Ｗ）が回転されることにより、該基板（Ｗ）の外周縁部のチャックローラ（５）との当接部及びその近傍部についても洗浄されるようになる。さらに、この基板（Ｗ）の回転動作に従動してチャックローラ（５）が軸（４）を中心に回転される。
【００７３】
基板（Ｗ）の洗浄が終了すると、ターンテーブル（11）が所定の角度（同図では１２０°）回転する（図４参照）。これにより、基板（Ｗ）は、ターンテーブル（11）の取出しステージ（23）に移行され、そして基板取出し装置（図示せず）によって取り出される。
【００７４】
而して、上記洗浄装置（10）のチャック装置（１）では、チャックローラ（５）の滑り軸受（７）は、マトリックス樹脂としての機械材料樹脂に潤滑性粉末が混合添加された樹脂で製作されている。そのため、チャックローラ（５）の滑り軸受（７）は次のような利点を有している。
【００７５】
すなわち、マトリックス樹脂として機械材料樹脂が用いられているので、滑り軸受（７）は優れた耐摩耗性を有している。さらに、この機械材料樹脂に潤滑性粉末が混合添加されているので、滑り軸受（７）は優れた潤滑性（摺動性）をも有している。そのため、チャックローラ（５）の回転性能を長期に亘って確保することができて、チャックローラ（５）の耐用寿命（耐用時間）を延ばすことができる。
【００７６】
一方、上記洗浄装置（10）は、このチャック装置（１）を備えているから、基板（Ｗ）を長期に亘って良好に洗浄することができる。
【００７７】
なお、機械材料樹脂とは、例えば、「プラスチック読本」（プラスチックス・エージ社発行、１９９２年）に記載されているが、機械的強度に優れ、弾性率が高く、耐衝撃性、耐摩耗性、耐熱性、耐薬品性などの物性に優れる材料である。
【００７８】
前記機械材料樹脂としては、ポリアセタール、モノマーキャスティングナイロン、フッ素樹脂、ポリアミド、高密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリイミド、芳香族ポリエステル、ポリフェニレンスルフィルド、ポリエーテルエーテルケトン、フェノール樹脂、ＢＴ樹脂等が用いられ、特に、本発明ではポリアセタールを用いることが望ましい。こうすることにより、滑り軸受（７）の耐摩耗性を確実に向上させることができる。
【００７９】
前記潤滑性粉末は、六方晶窒化ホウ素（ｈＢＮ）、グラファイト、二硫化モリブデン又はフッ素樹脂の粉末であることが望ましい。この場合には、滑り軸受（７）の潤滑性を確実に向上させることができる。
【００８０】
さらに、前記フッ素樹脂は、ポリテトラフルオロエチレン、フッ化エチレンポリプロピレンコポリマー、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテルコポリマー、ポリクロロトリフルオロエチレン、エチレンテトラフルオロエチレンコポリマー及びポリフッ化ビニリデンからなる群から選ばれたいずれか１種であることが望ましい。この場合には、滑り軸受（７）の潤滑性が更に確実に向上する。特に、前記フッ素樹脂はポリテトラフルオロエチレンであることが望ましい。
【００８１】
さらに、潤滑性粉末がポリテトラフルオロエチレン粉末であり、潤滑性粉末としてのポリテトラフルオロエチレン粉末の添加率は、１０〜３０質量％の範囲に設定されていることが望ましい。その理由は次のとおりである。
【００８２】
すなわち、ポリテトラフルオロエチレン粉末の添加率が１０質量％未満では、滑り軸受（７）への潤滑性の付与が十分ではない。一方、その添加率が３０質量％を超えると、滑り軸受（７）の耐摩耗性が低下するとともに、滑り軸受（７）の機械的強度（即ち、曲げ強さ、圧縮強さ、引張強さ、衝撃強さ等）が低下する。したがって、ポリテトラフルオロエチレン粉末の添加率は、１０〜３０質量％の範囲に設定されていることが望ましく、こうすることにより、滑り軸受（７）の潤滑性が確実に向上するとともに、ポリテトラフルオロエチレン粉末の添加に伴う滑り軸受（７）の耐摩耗性の低下及び機械的強度の低下を防止することができる。特に望ましいポリテトラフルオロエチレン粉末の添加率の範囲は、１５〜２５質量％である。
【００８３】
さらに、ポリテトラフルオロエチレン粉末の平均粒径は、０．１〜１μｍの範囲に設定されていることが望ましい。その理由は次のとおりである。
【００８４】
すなわち、リテトラフルオロエチレン粉末の平均粒径が０．１μｍ未満では、潤滑性に劣る。一方、平均粒径が１μｍを超えると、ポリテトラフルオロエチレン粉末が脱離し易く、その結果、滑り軸受（７）の潤滑性の低下を招く。したがって、ポリテトラフルオロエチレン粉末の平均粒径は、０．１〜１μｍの範囲に設定されていることが望ましく、こうすることにより、滑り軸受（７）の潤滑性を確実に向上させることができる。特に望ましいポリテトラフルオロエチレン粉末の平均粒径の範囲は、０．３〜０．７μｍである。
【００８５】
一方、チャックローラ（５）としては、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリアミド（例えばナイロン）（ＰＡ）等の様々な樹脂で製作されたものが用いられるが、特に、本発明では平均分子量が２００万以上である超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）で製作されたものであることが望ましい。こうすることにより、チャックローラ（５）の基板（Ｗ）へのチャック時に該基板（Ｗ）及びチャックローラ（５）の双方が傷付いてしまう不具合を防止することができる。更には、チャックローラ（５）の耐摩耗性が向上して、チャックローラ（５）の耐用寿命（耐久時間）が延びる。
【００８６】
もとより、上記実施形態の洗浄装置（10）のチャック装置（１）では、チャックローラ（５）の軸受は、転がり軸受（即ち玉軸受やころ軸受）ではなく、滑り軸受（７）であるので、洗浄時に軸受から汚れ成分が流出する虞がない。そのため、基板（Ｗ）の汚染を伴わないで該基板（Ｗ）をチャックすることができて、基板（Ｗ）の汚れ発生率（即ち不良率）を低減することができる。
【００８７】
以上で、この発明の好ましい一実施形態を説明したが、本発明は上記実施形態に示したものに限定されるものではなく、様々に設定変更可能である。
【００８８】
例えば、本発明に係るチャック装置によりチャックされるワークは、磁気ディスク用の基板（Ｗ）に限定されるものではなく、例えば、光ディスク用基板であっても良いし、半導体ウエハ（シリコンウエハ、化合物半導体ウエハ等）であっても良いし、液晶ディスプレイ用ガラス基板であっても良い。
【実施例】
【００８９】
次に、本発明の具体的実施例及び比較例を示す。
【００９０】
［滑り軸受の潤滑性及び耐久性の調査］
上記実施形態の洗浄装置（10）を準備した。この洗浄装置（10）のチャック装置（１）におけるチャックローラ（５）及び滑り軸受（７）の構成は、ぞれぞれ次のとおりである。なお、説明の便宜上、ポリアセタールを「ＰＯＭ」、ポリテトラフルオロエチレンを「ＰＴＦＥ」とそれぞれ略記する。
【００９１】
＜チャックローラ＞
材質：超高分子量ポリエチレン（平均分子量５５０万）
＜滑り軸受＞
マトリックス樹脂：ＰＯＭ
潤滑性粉末：ＰＴＦＥ粉末
ＰＴＦＥ粉末の添加率：表１に示す
ＰＴＦＥ粉末の平均粒径：表１に示す
なお、ＰＴＦＥ粉末の添加率とは、滑り軸受（７）を構成している樹脂の全体質量に対するＰＴＦＥ粉末の添加率であり、すなわち、添加したＰＴＦＥ粉末の質量をＰＯＭ（即ちマトリックス樹脂）の質量と添加したＰＴＦＥ粉末の質量との合計質量で割った値について百分率で示したものである。
【００９２】
次いで、この洗浄装置（10）によってワークとして磁気ディスク用アルミニウム基板（Ｗ）を洗浄することにより、この洗浄装置（10）のチャック装置（１）におけるチャックローラ（５）の潤滑性及び耐久時間について調査した。その結果を表１に示す。
【００９３】
【表１】
2005012202.tif 000003
【００９４】
同表に示すように、チャックローラ（５）の滑り軸受（７）が、マトリックス樹脂としてのＰＯＭに潤滑性粉末としてのＰＴＦＥ粉末が混合添加された樹脂で製作されている場合には、滑り軸受（７）の潤滑性が良好であり、また耐久時間が長くなることを確認し得た。特に、ＰＴＦＥ粉末の添加率が１０〜３０％の範囲に設定されている場合や、ＰＴＦＥ粉末の平均粒径が０．１〜１μｍの範囲に設定されている場合には、滑り軸受（７）の潤滑性が極めて良好であり、また耐久時間が著しく長くなることを確認し得た。
【００９５】
［ワークの汚れ発生率の調査］
チャックローラ（５）の軸受が滑り軸受（７）である洗浄装置（実施例１８）と、チャックローラ（５）の軸受が玉軸受である洗浄装置（比較例２）とをそれぞれ準備した。チャックローラ（５）及び軸受の構成は、それぞれ次のとおりである。
【００９６】
＜チャックローラ＞
材質：超高分子量ポリエチレン（平均分子量５５０万）
＜滑り軸受＞
マトリックス樹脂：ＰＯＭ
潤滑性粉末：ＰＴＦＥ粉末
ＰＴＦＥ粉末の添加率：表２に示す
ＰＴＦＥ粉末の平均粒径：表２に示す
＜玉軸受＞
玉（転動体）の材質：ステンレス鋼
【００９７】
次いで、この洗浄装置（10）によってワークとして磁気ディスク用アルミニウム基板（Ｗ）を洗浄することにより、基板（ワーク）の汚れ発生率を調査した。
【００９８】
その結果を表２に示す。なお、汚れ発生率とは、のべ洗浄時間が２００時間を経過したときの、基板（ワーク）の汚れ発生率である。この汚れ発生率は、２５枚の基板（Ｗ）の両面を顕微鏡にて観察して汚れの発生の有無を調べることにより、算出した。
【００９９】
【表２】
2005012202.tif 000004
【０１００】
同表に示すように、チャックローラ（５）の軸受が滑り軸受（７）である場合（実施例１８）には、チャックローラ（５）の軸受が玉軸受である場合（比較例２）よりも、汚れ発生率が著しく減少することを確認し得た。
【０１０１】
なお、チャックローラ（５）の軸受が玉軸受である場合に汚れ発生率が増加する原因は、洗浄時に玉軸受から汚れ物質（例えば玉に付着した潤滑油）が流出することにより、基板（Ｗ）が汚染されて汚れ発生率が増加したものと推測される。
【図面の簡単な説明】
【０１０２】
【図１】この発明の一実施形態に係るチャック装置を備えた洗浄装置の要部斜視図である。
【図２】同洗浄装置のチャック装置の拡大斜視図である。
【図３】同洗浄装置のチャック装置の要部断面図である。
【図４】同洗浄装置のターンテーブルの正面図である。
【符号の説明】
【０１０３】
１…チャック装置
２…把持指部
３…軸取付け穴
４…軸
５…チャックローラ
６…滑り軸受用取付け孔
７…滑り軸受
7a…軸孔
８…Ｅリング
９…溝
10…洗浄装置
11…ターンテーブル
12…洗浄ブラシ
13…カバー
15…洗浄液ホース
16…洗浄液噴出口部
21…基板受取りステージ（ワーク受取りステージ）
22…基板洗浄ステージ（ワーク洗浄ステージ）
23…基板取出しステージ（ワーク取出しステージ）
Ｗ…基板（ワーク）
【図１】
2005012202.tif 000005
【図２】
2005012202.tif 000006
【図３】
2005012202.tif 000007
【図４】
2005012202.tif 000008