(57)【要約】【課題】  電磁変換特性、特に高密度記録特性が良好で、且つ優れた耐久性を併せ持った、磁気記録媒体を提供する。【解決手段】  非磁性支持体上の片方の面に磁性層を有し、もう一方の面にバック層を有する磁気記録媒体において、該バック層が可溶性アニオン量が１５０ｐｐｍ以下のカーボンブラックを含有することを特徴とする磁気記録用媒体。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体上の片方の面に磁性層を有し、もう一方の面にバック層を有する磁気記録媒体において、該バック層が可溶性アニオン量１５０ｐｐｍ以下のカーボンブラックを含有することを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
当該磁性層が平均長軸長６０ｎｍ以下の強磁性金属粉末を含有することを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
磁性層の厚みが０．０２〜０．２μｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
該バック層がニトロセルロース樹脂及びポリウレタン樹脂を含有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
当該磁性層と当該非磁性支持体との間に、非磁性無機粉末及び結合剤を含有する下層塗布層を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体に関し、特に改良されたバック層を持ち、磁気テープとして有利に利用できる磁気記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、コンピューター用データを記録するための磁気テープ（バックアップテープ）などの磁気記録媒体用の磁気記録再生システムは、高い密度で記録することができ、また記録再生を高速で処理できるように改良が進んでいる。一方、磁気テープ自体は、より大きな記録容量を達成するために益々薄型化する傾向がある。従って、このように薄型化された磁気テープであっても従来に増して高い走行耐久性が必要とされる。また高密度記録用として開発されたシステムにおいては、僅かなテープの変形が安定な走行性を妨げる原因になったり、また磁気ヘッドとの接触状態に悪影響を与え、出力低下の発生原因になる。  このため、上記薄型化された磁気テープであっても出来る限り変形が少なく、高い品質で製造されていることが望まれている。
【０００３】
一般に磁気テープは、非磁性支持体上に磁性層を設けられた構成である。また近年はより高密度記録を達成させるために、非磁性支持体上に非磁性層を設け、更にこの上に薄い磁性層を設けた構成の磁気テープも提案されている。そして一般に良好な感度を維持させるためには磁性層の表面は平滑であることが好ましいが、この平滑化による巻き乱れや走行性の悪化を防止するために、支持体の磁性層とは反対側の面にバックコート層を設けることが行われている。そして磁気テープの薄型化に伴ってバックコート層も薄くなる傾向にある。
【０００４】
特許文献１には、全体の厚みが３〜１０μｍと薄型化された磁気テープであるにも拘らず、高い走行耐久性が付与されたバックコート層に特徴を有するコンピューター記録用の磁気テープが開示されている。このバックコート層の厚みは０．２〜０．８μｍと薄く形成されており、また、実施例においてバックコート層の結合剤には、ニトロセルロース（ＮＣ）とポリウレタン樹脂が約９：１の質量比で使用されている。
バックコート層の結合剤として、フェノキシ樹脂、熱可塑性ポリウレタンエラストマー、ポリイソシアネートを組み合わせた構成のものも提案されている。（特許文献２〜４）。
上記バックコート層の結合剤は、熱可塑性ポリウレタンエラストマーを主成分として含む樹脂からなり、耐磨耗性が付与され、従って高い走行耐久性及び電磁変換特性を示す磁気テープが得られるとされている。
【０００５】
【特許文献１】特開平９−１１５１３４号公報
【特許文献２】特公昭５６−５０３３６号公報
【特許文献３】特開昭５８−２００４２６号公報
【特許文献４】特開昭６４−１４７２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、電磁変換特性、特に高密度記録特性が良好で、且つ優れた耐久性を併せ持った、磁気記録媒体を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、鋭意検討の結果、バック層中のカーボンブラックに由来する可溶性アニオンが、ニトロセルロースなどの結合剤を劣化させ、結果としてバック層の耐久性を低下さ
せることを見出し、上記課題を下記構成の磁気記録媒体により解決した。
（１）非磁性支持体上の片方の面に磁性層を有し、もう一方の面にバック層を有する磁気記録媒体において、該バック層が可溶性アニオン量が１５０ｐｐｍ以下のカーボンブラックを含有することを特徴とする磁気記録媒体。
【０００８】
更に、好ましい態様として以下の構成を挙げることができる。
（２）当該磁性層が平均長軸長６０ｎｍ以下（好ましくは２０〜６０ｎｍ）の強磁性金属粉末を含有することを特徴とする上記（１）に記載の磁気記録媒体。
【０００９】
（３）磁性層の厚みが０．０２〜０．２μｍ以下であることを特徴とする上記（１）又は（２）に記載の磁気記録媒体。
【００１０】
（４）  該バック層がニトロセルロース樹脂及びポリウレタン樹脂を含有することを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【００１１】
（５）  当該磁性層と当該非磁性支持体との間に、非磁性無機粉末及び結合剤を含有する下層塗布層を有することを特徴とする上記（１）〜（４）のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、電磁変換特性、特に高密度記録特性が良好であるとともに、耐久性に優れた磁気記録媒体が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
非磁性支持体上の片方の面に磁性層を有し、もう一方の面にバック層を有する磁気記録媒体において、該バック層が可溶性アニオン量が１５０ｐｐｍ以下のカーボンブラックを含有することを特徴とする磁気記録媒体である。
【００１４】
〔バック層〕
本発明の磁気記録媒体は、可溶性アニオン量が１５０ｐｐｍ以下、好ましくは１００ｐｐｍ以下のカーボンブラックを含有するバック層を有する。
バック層に複数種のカーボンブラックを含む場合には、その可溶性アニオン量の合計がカーボンブラックの全量に対し、１５０ｐｐｍ以下であることが好ましい。
〔カーボンブラック〕
バック層における可溶性アニオン量が１５０ｐｐｍ以下のカーボンブラックの含有量は、全結合剤１００質量部に対して通常８０〜２００質量部、好ましくは１００〜１５０質量部である。
【００１５】
可溶性アニオンとは、カーボンブラック中の水に可溶なアニオンであり、ＳＯ42-、Ｃｌ-を意味する。
【００１６】
可溶性アニオン量が１５０ｐｐｍ以下のカーボンブラックは、カーボンブラックを生産する工程の中で、純粋による洗浄工程を設けて洗浄し、乾燥し、得ることができる。
【００１７】
カーボンブラックが有する可溶性アニオン量は、カーボンブラック１００ｇに対して純水５００ｇを加え、３０分煮沸し、冷却後上澄み液をろ過後、イオンクロマトグラフィーにて可溶性アニオン（硫酸イオン、塩化物イオン）を定量することにより算出することができる。
【００１８】
バック層に含有されるカーボンブラックは、平均粒子サイズが１０〜３０ｎｍの微粒子
状カーボンブラックと平均粒子サイズが５０〜５００ｎｍ(このましくは６０〜４００ｎｍ)の粗粒子状カーボンブラックであることが好ましい。
一般に、上記のような微粒子状のカーボンブラックの添加により、バック層の表面電気抵抗を低く設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録の装置によっては、テープの光透過率を利用し、動作の信号に使用しているものが多くあるため、このような場合には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効になる。また微粒子状カーボンブラックは一般に潤滑剤の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄与する。一方、５０〜５００ｎｍ(このましくは６０〜４００ｎｍ）の粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機能を有しており、またバック層の表面に微小突起を形成し、接触面積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与する。しかし粗粒子状カーボンブラックは、過酷な走行系では、テープ摺動により、バック層からの脱落が生じ易くなり、エラー比率の増大につながる欠点を有している。
【００１９】
本発明で用いることができる微粒子状カーボンブラックの具体的な商品としては、以下のものを挙げることができる。かっこ内は、平均粒子サイズを示す。ＲＡＶＥＮ２０００Ｂ（１８nm）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（１７nm）（以上、コロンビアカーボン社製）、ＢＰ８００（１７nm）（キャボット社製）、ＰＲＩＮＮＴＥＸ９０（１４nm）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（１５nm）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５（１６nm）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５（１７nm）（以上、デグサ社製）、＃３９５０（１６nm）（三菱化学（株）製）。
また粗粒子カーボンブラックの具体的な商品の例としては、サーマルブラック（２７０nm）（カーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮＭＴＰ（２７５nm）（コロンビアカーボン社製）を挙げることができる。５０〜５００nmのカーボンブラックは，ゴム用カーボンブラックや，カラー用カーボンブラックより選択することができる。
【００２０】
本発明において、１０〜３０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと５０〜５００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックの含有比率（質量比）は、前者：後者＝９８：２〜７５：２５の範囲が好ましく、更に好ましくは、９５：５〜８５：１５である。また、バック層におけるカーボンブラック（微粒子状と粗粒子状を加えた全量）の含有量は、後述する結合剤１００質量部に対して、通常３０〜８０質量部の範囲であり、好ましくは、４５〜６５質量部の範囲である。
【００２１】
結合剤としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物を挙げることができる。熱可塑性樹脂の例としては、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリルニトリル共重合体、アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル−スチレン共重合体、メタアクリル酸エステル−アクリルニトリル共重合体、メタアクリル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、メタアクリル酸エステル−スチレン共重合体、ポリ弗化ビニル、塩ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、繊維素系樹脂（セルロースアセテートブチレート、セルロースダイアセテート、セルロースプロピオネート、ニトロセルロースなど）、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテル−アクリル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種ゴム系樹脂を挙げることができる。
【００２２】
また熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては、例えば、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシーポリアミド樹脂、ポリイソシアネートを挙げることができる。
【００２３】
また、ニトロセルロース樹脂及びポリウレタン樹脂を含有することが好ましい。
ニトロセルロース樹脂は、カーボンブラックの分散性に優れるが、硬い樹脂であり内部応力が蓄積されやすい。しかしながら、ニトロセルロース樹脂とともに、柔軟性のあるポリウレタン樹脂を併用することにより、走行性とともにテープ変形がない磁気テープを作成することができることを見出した。特にガラス転移点が低いポリウレタン樹脂を併用することが好ましい。
【００２４】
〔ニトロセルロース樹脂〕
ニトロセルロース樹脂は特に限定されないが、ニトロセルロース樹脂の質量平均分子量としては、４００００〜６００００が好ましく、４５０００〜５７０００が更に好ましい。
【００２５】
〔ポリウレタン樹脂〕
ポリウレタン樹脂は、ポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用できる。優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、(以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属塩基)、ＯＨ、ＮＲ2、Ｎ+Ｒ3（Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したポリウレタン樹脂をもちいることが好ましい。
【００２６】
ポリウレタン樹脂の質量平均分子量は、３００００〜２０００００が好ましい。Ｔｇは０〜１５０℃が好ましい。
極性基として、−ＳＯ3Ｍ、−ＣＯＯＭ、−ＯＳＯ3Ｍ、−ＰＯ3Ｍ2が好ましく、これらの含有量は、好ましくは１×１０-5〜２×１０-4ｅｑ／ｇである。
【００２７】
ニトロセルロース樹脂とポリウレタン樹脂の比（質量比）は、１／０．５〜１／１．５が好ましい。
ニトロセルロース樹脂とポリウレタン樹脂の総量は、バック層を構成する全固形分に対し３０〜８０質量％が好ましく、４０〜７０質量％がより好ましい。
【００２８】
バック層は基本的に帯電防止やカール補正などの効果を有する。バック層は、微粒子で電気伝導性がすぐれたカーボンブラックを主なフィラーとし、平均粒子サイズの異なる二種類のカーボンブラックを含有させたり、必要により無機質粉末を含有してもよい。例えば、モース硬度５〜９の無機質粉末を含有させることができる。無機顔料粉体のバック層への配合量は、カーボンブラック１００質量部に対しては、通常０．５〜１５０質量部であり、好ましくは０．５〜１００質量部である。
【００２９】
バック層に添加することができる無機質粉末としては、平均粉体サイズが８０〜２５０ｎｍでモース硬度が５〜９の無機質粉末が挙げられる。無機質粉末としては、前述した下層塗布層に使用される非磁性粉末や研磨剤などと同様のものが使用されるが、中でもα−酸化鉄、α−アルミナ等が好ましい。
【００３０】
無機質粉末のバック層への添加量は、後述する結合剤１００質量部に対して、好ましくは０．５〜４０質量部の範囲であり、更に好ましくは１〜３０の範囲である。本発明に係るバック層は、上記各成分が後述する結合剤中に分散されてなるものであるが、他の任意の成分として、分散剤、潤滑剤を添加することが好ましい。分散剤としては、例えば、カプリル酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、ステアロール酸等の炭素数１２〜１８個の脂肪酸（ＲＣＯＯＨ、Ｒは炭素数１１〜１７個のアルキル基、又はアルケ
ニル基）、前記脂肪酸のアルカリ金属又はアルカリ土類金属からなる金属石けん、前記の脂肪酸エステルのフッ素を含有した化合物、前記脂肪酸のアミド、ポリアルキレンオキサイドアルキルリン酸エステル、レシチン、トリアルキルポリオレフィンオキシ第四級アンモニウム塩（アルキルは炭素数１〜５個、オレフィンは、エチレン、プロピレンなど）、硫酸エステル、及び銅フタロシアニン等を使用することができる。これらは、単独でも組み合わせて使用しても良い。分散剤は、結合剤樹脂１００質量部に対して通常、０．５〜２０質量部の範囲で添加される。
【００３１】
バック層は、通常の方法に従って支持体の磁性層が設けられている側とは反対側に設けられる。即ち、前記の各成分を適当な有機溶媒に溶解、分散させた塗布液を調製し、これを常法の塗布方法に従い、塗布、乾燥することにより、支持体上にバック層を設けることができる。
【００３２】
本発明において、バック層は、その表面粗さＲａが、３Ｄ−ＭＩＲＡＵ法による中心面平均表面粗さで好ましくは２．０〜１５ｎｍ、更に好ましくは２．０〜１０ｎｍの範囲にある。この表面粗さは、テープが巻かれた状態でバック層の表面が磁性層の表面に転写され、再生出力に影響を与えたり、ガイドポールに対する摩擦係数に影響を与えるため、上記の範囲に調整することが好ましい。なお、この表面粗さＲａの調整は、通常バック層を塗布形成後、カレンダーによる表面処理工程において、用いるカレンダーロールの材質、その表面性、圧力等の調整により行われる。
本発明において、バック層は、その厚みが０．２〜０．８μｍ、さらに好ましくは０．２〜０．７μｍの範囲である。
【００３３】
〔磁性層〕
本発明の磁気記録媒体の層構成は、基本的に支持体の上に磁性層を設けてなり、該磁性層を支持体面の一方側に設けたものであれば、特に制限されない。また、磁性層は単層であっても２層以上から構成してもよく、後者の場合、それら層同士の位置関係は目的により隣接して設けても間に磁性層以外の層を介在させて設けてもよく、公知の層構成が採用できる。尚、本発明において、磁性層の厚みとは、複層の場合は最上層の磁性層の乾燥厚みを言う。
【００３４】
本発明の磁気記録媒体は、支持体と、強磁性粉末及び結合剤を含有する磁性層との間に、非磁性粉末と結合剤を含有する非磁性層（下層塗布層）を有することが好ましい。
磁性層の厚みは好ましくは０．０２〜０．２μｍである。
【００３５】
磁性層が含有する強磁性粉末としては、強磁性酸化鉄、強磁性コバルト変性酸化鉄、ＣｒＯ2 粉末、六方晶系フェライト粉末、強磁性金属粉末等が挙げられ、特に強磁性金属粉末が好ましい。
【００３６】
〔強磁性金属粉末〕
平均長軸長が６０ｎｍ以下、特に２０〜６０ｎｍである強磁性金属粉末が好ましい。これによりノイズが低減でき、エラーレイトが大幅に改善できる。
強磁性金属粉末としては、α−Ｆｅを主成分とする強磁性金属粉末が好ましい。強磁性金属粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｂａ、Ｗ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｃｏ、Ｎｉの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましい。ＣｏはＦｅと合金を作ると飽和磁化が増加し、かつ減磁が改良されるので特に好ましい。Ｃｏの含有量はＦｅに対して１原子％〜４０原子％が好ましく、さらに好ましくは１５原子％〜３５原子％、より好ましくは２０原子％〜３５原子％である。Ｙ等の希土類元素の含有量は１．５原子
％〜１２原子％が好ましく、さらに好ましくは３原子％〜１０原子％、より好ましくは４原子％〜９原子％である。Ａｌは１．５原子％〜１２原子％が好ましく、さらに好ましくは３原子％〜１０原子％、より好ましくは４原子％〜９原子％である。Ｙを含む希土類やＡｌは焼結防止剤として機能しており、組合わせて使用することでより高い焼結防止効果が得られる。これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１３号、特公昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５号、特公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８５０９号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１０３０７号、特公昭４６−３９６３９号、米国特許第３０２６２１５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号などに記載されている。
【００３７】
強磁性金属粉末には少量の水酸化物、または酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末の公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げることができる。焼結防止処理を行った含水酸化鉄、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて粉末を得る方法などである。このようにして得られた強磁性金属粉末は公知の徐酸化処理する。含水酸化鉄、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元し、酸素含有ガスと不活性ガスの分圧、温度、時間を制御して表面に酸化皮膜を形成する方法が、減磁量が少なく好ましい。
【００３８】
本発明の磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ法による比表面積（ＳBET）で表せば４０〜８０m2/gであり、好ましくは４５〜７０m2/gである。４０m2/g以下ではノイズが高くなり、８０m2/g以上では平滑な表面が得にくく好ましくない。本発明の磁性層の強磁性粉末の結晶子サイズは８０〜１８０Ａであり、好ましくは１００〜１７０Ａ、更に好ましくは１１０〜１６５Ａである。
上述のように強磁性金属粉末の平均長軸長は６０ｎｍ以下であることが好ましく、２０〜６０ｎｍがであることがより好ましい。
強磁性粉末の平均針状比｛（長軸長／短軸長）の平均｝は３〜１５が好ましく、さらには３〜１０が好ましい。磁性金属粉末の飽和磁化σs は通常、９０〜１７０Ａ・ｍ2／ｋｇであり、好ましくは１００〜１６０Ａ・ｍ2／ｋｇ、更に好ましくは１１０〜１６０Ａ・ｍ2／ｋｇである。強磁性金属粉末の抗磁力は１７００エルステッド〜３５００エルステッド（１３５〜２７９ｋＡ／ｍ）が好ましく、更に好ましくは１８００エルステッド〜３０００エルステッド（１４２〜２３９ｋＡ／ｍ）である。
【００３９】
強磁性金属粉末の含水率は０．１〜２質量％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性粉末のｐＨは、用いる結合剤との組合せにより最適化することが好ましい。その範囲は６〜１２であるが、好ましくは７〜１１である。強磁性金属粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量(表面の塩基性点の尺度)は１〜１５μｍol／m2、好ましくは２〜１０μｍol／m2、さらに好ましくは３〜８μｍol／m2である。ステアリン酸吸着量が多い強磁性金属粉末を使用する時、表面に強く吸着する有機物で表面修飾して磁気記録媒体を作成することが好ましい。強磁性粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒ、ＮＨ4、ＳＯ4、Ｃｌ、ＮＯ2、ＮＯ3などの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に無い方が好ましい。各イオンの総和が３００ppm以下程度であれば、特性には影響しない。また、本発明に用いられる強磁性粉末は空孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さらに好ましくは５容量％以下である。また形状については先に示した粉体サイズ、磁気特性を満足すれば針状、米粒状、紡錘状のいずれでもかまわない。強磁性粉末自体のＳＦＤ（switching-field distribution）は小さい方が好ましく、強磁性粉末のＨｃ分布を小さくする必要がある。テ−プのＳＦＤが小さいと、磁化反転がシャープでピークシフトが小さくなり、高密度デジタル磁気記録に好適である。Ｈｃ分布を小さくするためには、強磁性金属粉末においてはゲ−タイトの粒度分布を良くする、単分散αＦｅ2Ｏ3を使用する、粒子間の焼結を防止するなどの方法がある。
【００４０】
〔六方晶フェライト粉末〕
六方晶フェライトとしては、バリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトおよびこれらの各種の各置換体、Ｃｏ置換体等がある。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネル相を含有した複合マグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、ＳｎーＺｎ−Ｃｏ、Ｓｎ−Ｃｏ−Ｔｉ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。粉体サイズは六角板径で好ましくは平均板径が１０〜５５ｎｍ、更に好ましくは１０〜４５ｎｍである。
【００４１】
〔結合剤〕
結合剤としては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１,０００〜２００,０００、好ましくは１０,０００〜１００,０００、重合度が約５０〜１０００程度のものである。このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセタ−ル、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９号に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネ−トを組み合わせたものがあげられる。
【００４２】
ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用できる。ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ3Ｍ、−ＯＳＯ3Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2、(以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属塩基)、ＯＨ、ＮＲ2、Ｎ+Ｒ3
（Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものをもちいることが好ましい。このような極性基の量は１０-1〜１０-8モル／ｇであり、好ましくは１０-2〜１０-6モル／ｇである。
【００４３】
本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例としてはユニオンカ−バイト製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化製、ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三菱化学製、ＭＸ５００４、三洋化成製サンプレンＳＰ−１５０、旭化成製サランＦ３１０、Ｆ２１０などがあげられる。
【００４４】
本発明の磁性層、後述する非磁性層に用いられる結合剤は非磁性粉末または磁性体に対し、通常、５〜５０質量％の範囲、好ましくは１０〜３０質量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０質量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０質量％、ポリイソシアネートは２〜２０質量％の範囲でこれらを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンのみまたはポリウレタンとイソシアネートのみを使用することも可能である。本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が通常、−５０〜１５０℃、好ましくは０〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Kg/mm2（０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０５〜１０Kg/mm2（０．４９〜９８ＭＰａ）が好ましい。
【００４５】
本発明の磁気記録媒体は好ましくは二層以上からなる。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ各層とで変えることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各層でバインダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁性層のバインダー量を増量することが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするためには、非磁性層のバインダー量を多くして柔軟性を持たせることができる。
【００４６】
本発明に用いるポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン製、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲミリオネートＭＴＬ、武田薬品製、タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル製、デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮデスモジュールＨＬ、等がありこれらを単独または硬化
反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで各層とも用いることができる。
【００４７】
〔カーボンブラック〕
本発明の磁性層に使用されるカーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、導電性カーボンブラック、アセチレンブラック、等を用いることができる。比表面積は５〜５００m2/g、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００mｌ／１００ｇ、平均粒子サイズは５nm〜３００nm、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０質量％、タップ密度は０．１〜１ｇ／cc、が好ましい。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、９０５、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭カーボン製、＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５、三菱化学製、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃９００、＃１０００＃３０、＃４０、＃１０Ｂ、コロンビアンカーボン製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０、４０、１５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ−Ｐ、アクゾー社製、ケッチェンブラックＥＣ、などがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは単独、または組合せで使用することができる。カーボンブラックを使用する場合は磁性体に対する量の０．１〜３０質量％でもちいることが好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用されるこれらのカーボンブラックは上層磁性層、下層塗布層（非磁性層）でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。本発明の磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会編 を参考にすることができる。
【００４８】
〔研磨剤〕
本発明の磁性層に使用できる研磨剤としては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、微粒子ダイヤモンド、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモ−ス硬度６以上の公知の材料が単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤同士の複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０質量％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の粉体サイズは０．０１〜１μｍが好ましく、特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるには必要に応じて粉体サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることも可能である。タップ密度は０．３〜１．５g/cc、含水率は０．１〜５質量％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜４０m2/gが好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１０、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５０、ＨＩＴ−６０Ａ、ＨＩＴ−５０Ｇ、ＨＩＴ−７０、ＨＩＴ−８０、ＨＩＴ−８２、ＨＩＴ−１００、レイノルズ社製ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、不二見研磨剤社製ＷＡ１００００、上村工業社製ＵＢ２０、日本化学工業社製Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社製ＴＦ１００、ＴＦ１４０、イビデン社製ベータランダムウルトラファイン、昭和鉱業社製Ｂ−３などが挙げられる。これらの研磨剤は必要に応じ下層塗布層に添加することもできる。下層塗布層に添加することで表面形状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりすることができる。これら磁性層、下層塗布層の添加する研磨剤の粉体サイズ、量はむろん最適値に設定すべきものである。
【００４９】
〔添加剤〕
本発明の磁性層、後述の非磁性層に使用される、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果などをもつものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングステン、グラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホスフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、およびこれらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、などが使用できる。
【００５０】
これらの具体例としては脂肪酸では、カプリン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキシジエチルステアレート、２−エチルヘキシルステアレート、２−オクチルドデシルパルミテート、２−ヘキシルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレート、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリデシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチルグリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレイル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリルアルコール、ラウリルアルコール、などがあげられる。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物 等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０質量％以下が好ましく、さらに好ましくは１０質量％以下である。
【００５１】
本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここに示した例のみに限ら
れるものではない。一般には潤滑剤の総量として磁性体または非磁性粉末に対し、０．１質量％〜５０質量％、好ましくは２質量％〜２５質量％の範囲で選択される。
【００５２】
磁性層は、面記録密度が好ましくは０．３〜３Ｇbit/inch2、更に好ましくは面記録密度が０．５〜３Ｇbit/inch2である。このような高い面記録密度は単層磁性層を持つ磁気記録媒体でも実現できるが、最上層に磁性層を設けた複数層以上より構成される磁気記録媒体で効果的に実現できる。
【００５３】
本発明の磁性層の中心面平均表面粗さＲａは、３Ｄ−ＭＩＲＡＵ法により測定される値であり、本発明では好ましくは１．０〜６．０ｎｍ、更に好ましくは１．０〜５．５ｎｍ、特に好ましくは１．０〜５．０ｎｍである。６．０ｎｍを越えると磁気記録媒体とヘッドのスペーシングロスが大きくなり、出力が低くなる傾向があり、本発明の磁気記録媒体が有する媒体性能を発揮することが困難となる傾向がある。耐久性は磁気記録媒体にとって重要な要素である。特に高転送レートを実現するために磁気ヘッドの回転数を従来の記録システムに比べて０．５〜１桁以上上げたり、リニアドライブ系ではテープ走行速度を０．５〜１桁以上上げる必要があり、磁気ヘッド／カートリッジ内部品と媒体とが高速摺動する場合の媒体の耐久性の確保は重要な課題である。媒体の耐久性を向上させる手段には、媒体自身の膜強度を上げるバインダー処方と、磁気ヘッドとの滑り性を維持する潤滑剤処方がある。本発明の媒体では超薄層磁性層に適した３次元ネットワークバインダーシステムを用い、高速回転時における走行の安定性、耐久性を確保し、さらにバック層に工夫をして高転送レートを実現している。
【００５４】
潤滑剤は、使用される種々の温・湿度環境下でそれぞれ優れた効果を発揮する潤滑剤を複数組み合わせて使用し、広範囲な温度（低温、室温、高温）、湿度（低湿、高湿）環境下でも各潤滑剤がそれぞれ機能を発揮し、総合的に安定した潤滑効果を維持できるものである。
【００５５】
また上下２層の構造を活用し、下層塗布層に潤滑剤のタンク効果を持たせることで上層磁性層に常に適量の潤滑剤が供給されるようにし、上層磁性層の耐久性を向上できるようにしたものである。超薄層の磁性層に含ませることが出来る潤滑剤量には限度があり、単純に磁性層をうすくすることは潤滑剤の絶対量が減少し、走行耐久性の劣化につながるので耐久性を確保することは困難であった。上下２層に別々の機能を持たせ、互いに補完することで電磁変換特性の向上と耐久性の向上を両立させた。この機能分化は磁気ヘッドとメデイアを高速摺動させるシステムでは特に有効であった。
【００５６】
下層塗布層には潤滑剤の保持機能の他に表面電気抵抗のコントロール機能を付与できる。一般に電気抵抗のコントロールには、磁性層中にカーボンブラック等の固体導電材料を加えることが多い。これらは磁性体の充填密度を上げることの制約となるほか、磁性層が薄層になるに従い、表面粗さにも影響を与える。下層塗布層に導電材料を加えることによってこれらの欠点を除くことができる。また下層塗布層のクッション効果は良好なヘッドタッチと安定した走行性をもたらすことができる。
【００５７】
〔下層塗布層〕
次に、下層塗布層（非磁性層）に関する詳細な内容について説明する。下層塗布層は、実質的に非磁性であれば、特に制限されるべきものではないが、好ましくは非磁性粉末と結合剤を含む構成である。下層塗布層は実質的に非磁性である範囲で磁性粉末も使用され得るものである。下層塗布層が実質的に非磁性であるとは、上層の電磁変換特性を実質的に低下させない範囲で下層塗布層が磁性を有することを許容するということである。
【００５８】
本発明の下層塗布層に用いられる非磁性粉末としては、例えば、金属酸化物、含水金属
酸化物、金属炭酸塩、金属窒化物、金属炭化物、等の無機質化合物から選択することができる。無機質化合物としては例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲータイト、窒化珪素、二酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、などが単独または組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、α−酸化鉄、ゲ−タイト、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α−酸化鉄、ゲ−タイトである。α−酸化鉄は、粉体サイズがそろった磁性酸化鉄やメタル用原料を加熱脱水、アニ−ル処理し空孔を少なくし、必要により表面処理をしたものが好ましい。通常、二酸化チタンは光触媒性を持っているので、光があたるとラジカルが発生しバインダー、潤滑剤と反応する懸念がある。このため、本発明に使用する二酸化チタンは、Ａｌ、Ｆｅ等を１〜１０質量％固溶させ光触媒特性を低下させることが好ましい。さらに表面をＡｌ及び／又はＳｉ化合物で処理し、触媒作用を低下させることが好ましい。  これら非磁性粉末の粉体サイズは０．００５〜１μｍが好ましいが、必要に応じて粉体サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の粉体サイズは０．０１μｍ〜０．５μｍである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子サイズ０．０８μｍ以下が好ましく、針状金属酸化物である場合は、平均長軸長が０．３μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以下がさらに好ましい。タップ密度は通常、０．３〜１．５g/ml、好ましくは０．４〜１．３g/mlである。非磁性粉末の含水率は通常、０．２〜５質量％、好ましくは０．３〜３質量％、更に好ましくは０．３〜１．５質量％である。非磁性粉末のｐＨは通常、３〜１２であるが、ｐＨは５．５〜１１の間が特に好ましい。非磁性粉末の比表面積は通常、１〜１００m2/g、好ましくは５〜８０m2/g、更に好ましくは１０〜８０m2/gである。非磁性粉末の結晶子サイズは４０〜１０００Åが好ましく、４０〜８００Åが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は通常、５〜１００ml/100g、好ましくは１０〜８０ml/100g、更に好ましくは２０〜６０ml/100gである。比重は通常、１．５〜７、好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は通常、１〜２０μｍol／m2、好ましくは２〜１５μｍol/m2、さらに好ましくは３〜８μｍol/m2である。ステアリン酸吸着量が多い非磁性粉末を使用する時、表面に強く吸着する有機物で表面修飾して磁気記録媒体を作成することが好ましい。これらの非磁性粉末の表面にはＡｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ、Ｙ化合物で表面処理することが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＭｇＯおよびこれらの含水酸化物であるが、更に好ましいのはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、ＺｒＯ2およびこれらの含水酸化物である。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナを被覆処理した後にその表層をシリカを被覆処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００５９】
本発明の下層塗布層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００、ＨＩＴ−８２、戸田工業製α−酸化鉄ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＲＸ、ＤＢＮ−６５０ＲＸ、ＤＡＮ−８５０ＲＸ、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、α−酸化鉄α−４０、テイカ製酸化チタンＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製酸化鉄ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ2 Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられる。下層塗布層にカーボンブラックを混合させて公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率を小さくすること、所望のマイクロビッカース硬度を得る事ができる。また、下層塗布層にカーボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、導電性カーボンブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。  下層塗布層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得られることがある。下層塗布層のカーボンブラックの比表面積は通常、５０〜５００m2/g、好ましくは７０〜４００m2/g、ＤＢＰ吸油量は通常、２０〜４００ml/100g、好ましくは３０〜４００ml/100gである。カーボンブラックの平均粒子サイズは通常、５〜８０nm、好ましく１０〜５０nm、さらに好ましくは１０〜４０nmである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０質量％、タップ密度は０．１〜１ｇ／mlが好ましい。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット製 ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化学製 ＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−２３０、＃４０００、＃４０１０、コロンビアンカーボン製 ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８００、１５００、１２５５、１２５０、アクゾー製ケッチェンブラックＥＣなどがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上記無機質化合物粉末に対して５０質量％を越えない範囲、非磁性層の総質量の４０質量％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、また���組合せで使用することができる。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【００６０】
また下層塗布層には有機質粉末を目的に応じて、添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記されているようなものが使用できる。
【００６１】
下層塗布層の結合剤樹脂(種類と量)、潤滑剤・分散剤・添加剤の量、種類、溶剤、分散方法などに関しては上述したような磁性層に関する技術が適用できる。
【００６２】
また本発明で用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的が達成される場合がある。また、目的によってはカレンダ−した後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。本発明で用いられる有機溶剤は公知のものが使用でき、例えば特開昭６−６８４５３号に記載の溶剤を用いることができる。
【００６３】
〔層構成〕
本発明の磁気記録媒体の厚み構成は支持体が好ましくは２．５〜８μｍであるが、体積密度を大きくするため更に好ましくは２．５〜７．５μｍ、特に好ましくは３．０〜７μ
ｍである。非磁性可撓性支持体と非磁性層また磁性層の間に密着性向上のための下塗り層を設けてもかまわない。下塗層厚みは０．０１〜０．５μｍ、好ましくは０．０２〜０．５μｍである。これらの下塗層は公知のものが使用できる。
本発明の媒体の磁性層の厚みは用いるヘッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化されるものであるが、磁性層の厚みは０．０２μｍ〜０．２μｍであることが好ましい。磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。
【００６４】
下層塗布層の厚みは通常０．２〜３．０μｍ、好ましくは０．３〜２．５μｍ、さらに好ましくは０．５〜２．０μｍである。なお、下層塗布層は実質的に非磁性であればその効果を発揮するものであり、たとえば不純物としてあるいは意図的に少量の磁性体を含んでも、本発明の効果を示すものであり、本発明と実質的に同一の構成と見なすことができることは言うまでもない。実質的に非磁性とは下層塗布層の残留磁束密度が０．０５Ｔ以下もしくは抗磁力が上層磁性層の４０％以下であることを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力がゼロである。
【００６５】
〔支持体〕
本発明に用いられる支持体はポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロ−ストリアセテ−ト、ポリカ−ボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、芳香族ポリアミド、ポリベンゾオキサゾ−ルなどの公知のフィルムが使用できる。ガラス転移温度が１００℃以上の支持体がこのましく、ポリエチレンナフタレ−ト、アラミドなどの高強度支持体を用いることが特に好ましい。また必要に応じ、磁性面とベ−ス面の表面粗さを変えるため特開平３−２２４１２７号に示されるような積層タイプの支持体を用いることもできる。  これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などを行ってもよい。
【００６６】
本発明の目的を達成するには、支持体としてＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３ＤのＭＩＲＡＵ法で測定した中心面平均表面粗さ(ＳＲａ)は通常、５．０nm以下、好ましくは３．０nm以下、さらに好ましくは２．０nm以下のものを使用することが好ましい。これらの支持体は単に中心面平均表面粗さが小さいだけではなく、０．５μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラ−の大きさと量により自由にコントロ−ルされるものである。これらのフィラ−としては一例としてはＣａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機粉末があげられる。支持体の最大高さＳＲmaxは１μｍ以下、十点平均粗さＳＲzは０．５μｍ以下、中心面山高さＳＲpは０．５μｍ以下、中心面谷深さＳＲvは０．５μｍ以下、中心面面積率ＳＳrは１０％以上、９０％以下、平均波長Ｓλaは５μｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るため、これら支持体の表面突起分布をフィラーにより任意にコントロールできるものであり、０．０１μｍから１μｍの大きさのもの各々を０．１mm2あたり０個から２０００個の範囲でコントロ−ルすることができる。
【００６７】
本発明に用いられる支持体のＦ−５値は好ましくは５〜５０Kg/mm2 （４９〜４９０ＭＰａ）、また、支持体の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、更に好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、更に好ましくは０．５％以下である。破断強度は５〜１００Kg/mm2（４９〜９８０ＭＰａ）、弾性率は１００〜２０００Kg/mm2（９８０〜１９６００ＭＰａ）、が好ましい。温度膨張係数は１０-4〜１０-8/℃であり、好ましくは１０-5〜１０-6／℃である。湿度膨張係数は１０-4/RH%以下であり、好ましくは１０-5/RH％以下である。これらの熱特性、寸法特性、機械強度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼ等しいことが好ましい。
【００６８】
〔製法〕
本発明の磁気記録媒体の磁性塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する磁性体、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることができる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニ−ダ、加圧ニ−ダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。ニ−ダを用いる場合は磁性体または非磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０質量％以上が好ましい）および磁性体１００部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号、特開平１−７９２７４号に記載されている。また、磁性層液および非磁性層液を分散させるにはガラスビーズを用ることができるが、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分散機は公知のものを使用することができる。分散速度がことなる磁性体、研磨剤、カーボンブラックをあらかじめ別々に分散し、混合し必要によりさらに微分散して塗布液とすることができる。
【００６９】
重層構成の磁気記録媒体は、下層塗布層と磁性層を支持体上に、下層塗布層を塗布後、下層塗布層が湿潤状態の内に上層を同時、又は逐次に塗布するウェット・オン・ウェット法（Ｗ／Ｗ）でも、下層塗布層が乾燥した後に上層磁性層を設けるドライ・オン・ウェット法（Ｗ／Ｄ）でも作成できる。生産得率の点から同時、又は逐次湿潤塗布が好ましい。本発明では同時、又は逐次湿潤塗布（Ｗ／Ｗ）では上層／下層塗布層が同時に形成できるため、カレンダー工程などの表面処理工程を有効に活用でき、超薄層でも上層磁性層の表面粗さを良化できる。
【００７０】
本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布する場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布装置等により、まず下層塗布層を塗布し、下層塗布層がウェット状態のうちに特公平１−４６１８６号や特開昭６０−２３８１７９号、特開平２−２６５６７２号に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布する方法。第二に特開昭６３−８８０８０号、特開平２−１７９７１号、特開平２−２６５６７２号に開示されているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。第三に特開平２−１７４９６５号に開示されているバックアップロール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭６２−９５１７４号や特開平１−２３６９６８号に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、特開平３−８４７１号に開示されている数値範囲を満足する必要がある。本発明の構成を実現するには下層塗布層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性層を設ける逐次重層塗布をもちいてもむろんかまわず、本発明の効果が失われるものではない。ただし、塗布欠陥を少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上させるためには、前述の同時重層塗布を用いることが好ましい。
【００７１】
カレンダ処理ロ−ルとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロ−ルまたは金属ロ−ルで処理することが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力は好ましくは２００kg/cm（１９６０Ｎ／ｃｍ）以上、さらに好ましくは３００kg/cm（２９４０Ｎ／ｃ
ｍ）以上である。
【００７２】
本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩擦係数は温度−１０℃〜４０℃、湿度０％〜９５％の範囲において０．５以下、好ましくは０．３以下、表面固有抵抗は好ましくは磁性面１０4〜１０12オ−ム/sq、帯電位は−５００Vから＋５００V以内が好ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾性率は面内各方向で好ましくは１００〜２０００Kg/mm2（９８０〜１９６００ＭＰａ）、破断強度は好ましくは１０〜７０Kg/mm2（９８〜６８６ＭＰａ）、磁気記録媒体の弾性率は面内各方向で好ましくは１００〜１５００Kg/mm2（９８０〜１４７００ＭＰａ）、残留のびは好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下である。磁性層のガラス転移温度(１１０Hzで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点)は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、非磁性層のそれは０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は１×１０3〜８×１０4Ｎ/cm2の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方向で１０％以内でほぼ等しいことが好ましい。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００mg/m2以下、さらに好ましくは１０mg/m2以下である。塗布層が有する空隙率は非磁性層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い場合がある。
【００７３】
磁性層を３Ｄ−ＭＩＲＡＵ法で測定した中心面表面粗さＲａは、好ましくは１．０〜６．０ｎｍ、さらに好ましくは５．５ｎｍ以下である。磁性層の最大高さＲmaxは０．５μｍ以下、十点平均粗さＲzは０．３μｍ以下、中心面山高さＲpは０．３μｍ以下、中心面谷深さＲvは０．３μｍ以下、中心面面積率Ｓrは２０〜８０％、平均波長λaは５〜３００μｍが好ましい。磁性層の表面突起は０．０１μｍ〜１μｍの大きさのものを０〜２０００個の範囲で任意に設定することが可能であり、これにより電磁変換特性、摩擦係数を最適化することが好ましい。これらは支持体のフィラ−による表面性のコントロ−ルや磁性層に添加する粉体の粒径と量、カレンダ処理のロ−ル表面形状などで容易にコントロ−ルすることができる。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ましい。
【００７４】
本発明の磁気記録媒体で非磁性層と磁性層を有する場合、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。
【００７５】
本発明について、以下の実施例でより具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【実施例】
【００７６】
以下に、実施例及び比較例を記載し、本発明を更に具体的に説明する。
尚、以下に示す「部」は、特に断らない限り「質量部」を表わす。
【００７７】
〔実施例１〕
＜磁気テープ作成方法＞
磁性層  実施例１
強磁性金属微粉末    組成 Ｆｅ／Ｃｏ＝１００／３０          １００部
Ｈｃ  ２３５０Ｏｅ
ＢＥＴ法による比表面積  ６９ｍ2／ｇ
表面処理剤  Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ3、Ｙ2Ｏ3
粒子サイズ（平均長軸長）５０ｎｍ
針状比  ７
σｓ：１２０ｅｍｕ／ｇ
【００７８】
塩化ビニル共重合体  ＭＲ１１０（日本ゼオン社製）            １２部
ポリウレタン樹脂  ＵＲ８２００（東洋紡社製）                  ５部
α−Ａｌ2Ｏ3  モース硬度９（平均粒径０．１μｍ）              ５部
カーボンブラック（平均粒径０．０８μｍ）                  ０．５部
ブチルステアレート                                            １部
ステアリン酸                                                  ５部
メチルエチルケトン                                          ９０部
シクロヘキサノン                                            ３０部
トルエン                                                    ６０部
【００７９】
上記の塗料について、各成分をオープンニーダで混練したのち、サンドミルを用いて分散させた。得られた分散液にそれぞれにメチルエチルケトン、シクロヘキサノン混合溶媒４０部を加え、１μｍ高平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、塗布液を調製した。
【００８０】
下層塗布層（非磁性層）
非磁性粉体  αＦｅ2Ｏ3    ヘマタイト                        ８０部
長軸長  ０．１０μｍ
ＢＥＴ法による比表面積  ５２ｍ2／ｇ
ｐＨ  ６
タップ密度  ０．８
ＤＢＰ吸油量  ２７〜３８ｇ／１００ｇ
表面処理剤  Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2
カーボンブラック                                            ２０部
平均一次粒子径  １６ｍμ
ＤＢＰ吸油量  ８０ｍｌ／１００ｇ
ｐＨ  ８．０
ＢＥＴ法による比表面積  ２５０ｍ2／ｇ
揮発分  １．５％
【００８１】
塩化ビニル共重合体  ＭＲ１１０（日本ゼオン社製）            １７部
ポリウレタン樹脂  ＵＲ８２００（東洋紡社製）                  ５部
α−Ａｌ2Ｏ3（平均粒径０．２μｍ）                            ５部
ブチルステアレート                                            １部
ステアリン酸                                                  １部
メチルエチルケトン                                        １００部
シクロヘキサノン                                            ５０部
トルエン                                                    ５０部
【００８２】
上記の塗料について、各成分をオープンニーダで混練したのち、サンドミルを用いて分散させた。得られた下層塗布層形成用分散液にそれぞれにメチルエチルケトン、シクロヘキサノン混合溶媒４０部を加え、１μｍ高平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、下層塗布層、磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。
得られた下層塗布層形成用塗布液を、乾燥後の厚さが１μｍになるようにさらにその直後にその上に磁性層の厚さが０．２μｍになるように、厚さ４．５μｍで磁性層塗布面の中心線表面粗さが０．００１μｍの予め、コロナ処理を施して、ベース表面を親水性にしたポリアミド樹脂支持体上に同時重層塗布を行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに５０
００Ｇの磁力をもつコバルト磁石と４０００Ｇの磁力をもつソレノイドにより配向させ乾燥後、金属ロールとエポキシ樹脂ロールから構成される７段のカレンダで温度１００℃にて分速２００ｍ／ｍｉｎで処理を行い、その後、やはり、予めコロナ処理を施したベース面に厚み０．３μｍのバック層を塗布した。３．８ｍｍ幅にスリットしてデジタル記録用テープを作成した。
【００８３】
バック層処方
混練物（１）
カーボンブラックＡ  粒径４０ｍμ                          １００部
ニトロセルロース  ＲＳ１／２                                ５０部
ポリウレタン樹脂（ガラス転移温度：５０℃）                  ４０部
分散剤    オレイン酸銅                                        ５部
銅フタロシアニン                                    ５部
沈降性硫酸バリウム                                  ５部
メチルエチルケトン                                        ５００部
トルエン                                                  ５００部
上記をロールミルで予備混練した後、
【００８４】
混練物（２）
カーボンブラックＢ  ＳＳＡ ８．５ｍ2／ｇ                  １００部
平均粒径  ２７０ｍμ：ＤＢＰ吸油量３６ｍｌ／１００ｇ  Ｐｈ１０
ニトロセルロース  ＲＳ１／２                                ４０部
ポリウレタン樹脂                                            １０部
メチルエチルケトン                                        ３００部
トルエン                                                  ３００部
上記（１）と（２）とをサンドグラインダーで分散し、完成後、以下を添加した。
ポリエステル樹脂  東洋紡製  バイロン３００                    ５部
ポリイソシアナート  日本ポリウレタン社製コロネートＬ          ５部
以上を加えて、バック層形成用分散液を作成し、磁性層液を塗布、乾燥させた後に塗布した。
【００８５】
〔実施例２〜４〕
磁性層及び下層塗布層（非磁性層）は実施例１と同じように作成した。
表１に示すようにバック層に使用するカーボンブラックの可溶性アニオン量を変えたものを使用し、実施例１と同じようにして試料を作成した。
【００８６】
〔実施例５〕
実施例１の磁性層の強磁性粉末を以下に変更して、それ以外は実施例１と同じようにサンプルを作成した。
強磁性金属微粉末  組成  Ｆｅ／Ｃｏ＝１００／３０
Ｈｃ  ２３００Ｏｅ
ＢＥＴ法による比表面積  ７９ｍ2／ｇ
表面処理剤  Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ3、Ｙ2Ｏ3
粒子サイズ（平均長軸長）３０ｎｍ
針状比  ８    σｓ：１３０ｅｍｕ／ｇ
【００８７】
〔実施例６〕
実施例１の磁性層の強磁性粉末を以下に変更して、それ以外は実施例１と同じようにサンプルを作成した。
強磁性金属微粉末  組成  Ｆｅ／Ｃｏ＝１００／４０
Ｈｃ  ２３００Ｏｅ
ＢＥＴ法による比表面積  ５０ｍ2／ｇ
表面処理剤  Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ3、Ｙ2Ｏ3
粒子サイズ（平均長軸長）６０ｎｍ
針状比  ８    σｓ：１３０ｅｍｕ／ｇ
【００８８】
〔比較例１〜３〕
磁性層及び下層塗布層は実施例１と同じように作成した。
バック層に使用するカーボンブラックの可溶性アニオン量を変更し、実施例１と同じようにして試料を作成した。
【００８９】
カーボンブラックの可溶性アニオン量は、カーボンブラックを作成する過程の水洗工程での水洗度の度合いを変更してサンプルを作成した。
【００９０】
〔測定方法〕
＜カッピング：磁気テープの幅方向のカール＞
長さ３００ｍｍに切断したテープを用意した。テープの磁性層面またはバックコート層面を下にして、平面台の上に置いた。そしてテープが平面から幅方向に浮き上がっている量（カール量）を測定し、カッピングの値とした。但し、磁性層が凸にカールしている場合を「マイナス（−）」、バックコート層側が凸にカールしている場合を「プラス（＋）」の符号をつけて表した。表示の絶対値が小さいほど、カッピングは小さい。
【００９１】
＜繰り返しテープダメージ＞
磁気テープをＬＴＯドライブにて１００００回繰り返し走行させた。走行後の磁気テープのバックコート層表面、エッジ等の損傷の発生、あるいはバックコート層表面の汚れの付着を目視、及び顕微鏡で観察し、以下のようなランク付けで評価した。
Ａ：損傷の発生、汚れの付着もなかった。
Ｂ：損傷の発生、汚れの付着が僅かにあった。
Ｃ：損傷の発生、汚れの付着が著しかった。
【００９２】
＜バックコート層の摩擦係数：μ値の測定＞
４ｍｍφのＳＵＳ４２０Ｊのバックコート層面を接触させるように１８０度の角度でテープを渡し、荷重２０ｇ、秒速１４ｍｍの条件で摺動させて、オイラーの式に基づいてバックコート層の摩擦係数を求めた。
μ＝（１／π）ｌｎ（Ｔ２／Ｔ１）
Ｔ２：摺動抵抗値（ｇ）、Ｔ１：荷重
測定は、繰り返し５００パスまで行い、１パス目（μ１）と５００パス目（μ５００）の摩擦係数を求めた。
【００９３】
＜再生出力＞
ＬＴＯドライブ（ＩＢＭ製）を用いて、２５℃６０％ＲＨでデータ出力波形を観察した。レファレンスには富士製ＬＴＯテープを用いている。
【００９４】
＜全長走行後のエラーレート＞
ＬＴＯドライブ（ＩＢＭ製）を用いて、４０℃８０％ＲＨ環境で再生；巻き戻しを１００００回繰り返した。初期のエラーレートに対する、１００００パス後のエラーレートを測定し、初期のエラーレートに対する、走行後の劣化分を測定した。
【００９５】
＜カーボンブラックの可溶性アニオン量＞
カーボンブラック１００ｇに対して純水５００ｇを加え、３０分煮沸させる。冷却後上澄み液をろ過後、イオンクロマトにて可溶性アニオン（具体的には硫酸イオン、塩化物イオン）を定量した。
評価結果を表１に示す。
【００９６】
【表１】
2005259249.tif 000002
【００９７】
本発明の磁気記録媒体は、高密度記録特性が良好で、且つ耐久性に優れていることがわかる。