(57)【要約】  【課題】  露光性能に悪影響を与える振動を低減できる、あるいは、装置中の光学系、ステージ等をモジュール化して全体の組み立てを容易にし、構成をコンパクトにできる等の利点を有するＥＵＶ光投影露光装置及び方法を提供する。  【解決手段】  本発明のＥＵＶ露光装置１０は、可動時に振動発生を伴うステージ装置４１、４３（ステージユニット４０）やローダー５１、５３（ローダーユニット５０）と、可動時にも振動は発生しない照明光学系チャンバ２１、投影光学系鏡筒３１とが分離されており、ステージ装置４１、４３、ローダー５１、５３が除振台４５で、照明光学系２１、投影光学系３１が除振台１５、３５でそれぞれ除振される。そのため、両光学系２１、３１には、建物床Ｆからの振動や、ステージ装置４１、４３、ローダー５１、５３の可動に伴う振動が伝わり難く、振動の影響による露光性能の悪化を低減できる。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＥＵＶ光（照明光）を原版に当てる照明光学系と、
前記原版を移動・位置決めする原版ステージと、
前記原版で反射したＥＵＶ光を感応基板上に投影結像する投影光学系と、
前記感応基板を移動・位置決めする感応基板ステージと、
を備えるＥＵＶ光投影露光装置であって、
前記原版ステージ及び前記感応基板ステージ、並びに、前記原版や前記感応基板の搬送装置等の可動機構系が装置下側に配置されており、
前記照明光学系及び前記投影光学系等の固定機構系が装置上側に配置されており、
前記可動機構系と前記固定機構系が、建物床から別々に除振台を介して支持されていることを特徴とするＥＵＶ光投影露光装置。
【請求項２】
前記ＥＵＶ光が、前記原版から前記投影光学系に下側から入射し、さらに該投影光学系から下側に出射して前記感応基板に当たることを特徴とする請求項１記載のＥＵＶ光投影露光装置。
【請求項３】
前記投影光学系等を前記建物床上で支持するボディをさらに備え、
前記建物床と前記ボディとの間及び／又は前記ボディと前記投影光学系との間に前記除振台が設けられていることを特徴とする請求項１又は２記載のＥＵＶ光投影露光装置。
【請求項４】
前記建物床と前記両ステージとの間に前記除振台が設けられていることを特徴とする請求項１、２又は３記載のＥＵＶ光投影露光装置。
【請求項５】
ＥＵＶ光（照明光）を原版に当てる照明光学系と、
前記原版を移動・位置決めする原版ステージと、
前記原版で反射したＥＵＶ光を感応基板上に投影結像する投影光学系と、
前記感応基板を移動・位置決めする感応基板ステージと、
を備える露光装置を用いるＥＵＶ光投影露光方法であって、
装置下側に配置した前記原版ステージ及び前記感応基板ステージ、並びに、前記原版や前記感応基板の搬送装置等の可動機構系と、装置上側に配置した前記照明光学系及び前記投影光学系等の固定機構系を、除振台で別々に除振することを特徴とするＥＵＶ光投影露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＥＵＶ光（Extreme Ultra Violet光：極端紫外光）を用いて原版上に形成したパターンを感応基板に転写するＥＵＶ光投影露光装置及び方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、デバイスパターンの微細化に伴い、光の回折限界によって制限される投影光学系の解像力をさらに向上させることが望まれている。そこで、軟Ｘ線又はＥＵＶ光と呼ばれる数ｎｍ〜数１０ｎｍの波長のＸ線が注目されており、具体的には１３ｎｍ程度の波長を有するＥＵＶ光を使用したリソグラフィー技術の開発が進められている。この技術は、光露光の延長上にある波長１９０ｎｍ程度の紫外線を用いた光リソグラフィでは実現不可能な、７０ｎｍ以下の解像力を得られる技術として期待されている。
【０００３】
ところで、ＥＵＶ光領域においては、光が透過する有力な物質は存在しないため、透過・屈折型の投影光学系を構成することはできない。そこで、ＥＵＶ光露光においては、複数枚の反射ミラーを用いた反射型の投影光学系を用いることとなる。このような反射型投影光学系の反射ミラーの枚数は、４枚、６枚又は８枚等が考えられているが、Ｎ．Ａ．をより大きくするためには、６枚又は８枚にすると効果的である。一方、反射型投影光学系で用いられる反射ミラーは、現状では反射率が約７０％と低いため、ミラー枚数が増えると露光光の幾何級数的な強度低下が生じる。したがって、照明光学系中の反射ミラーの枚数は、できる限り少なくしたいという意向もある。そこで、例えば特許文献１〜５等に開示されているような５枚の反射ミラーを用いる投影光学系も開発されつつある。
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−２１９９００号公報
【特許文献２】ＵＳ  ６，０７２，８５２
【特許文献３】ＵＳ  ６，１９９，９９１
【特許文献４】ＵＳ  ６，２９９，３１８
【特許文献５】ＵＳ  ６，３８６，７１５
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ＥＵＶ露光装置は、原版又は感応基板を移動・位置決めするステージや、原版又は感応基板を搬送するローダー等の可動装置を備えているが、ステージの移動時やローダーの搬送時に発生した振動が投影光学系に伝わると、露光精度の悪化等が引き起こされることがある。そこで、露光性能に悪影響を与えるおそれのある振動を低減できる手段・方法が望まれている。あるいは、露光装置全体をコンパクトに構成することも望まれている。
【０００６】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであって、露光性能に悪影響を与える振動を低減できる、あるいは、装置中の光学系、ステージ等をモジュール化して全体の組み立てを容易にし、構成をコンパクトにできる等の利点を有するＥＵＶ光投影露光装置及び方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明のＥＵＶ光投影露光装置は、ＥＵＶ光（照明光）を原版に当てる照明光学系と、  前記原版を移動・位置決めする原版ステージと、  前記原版で反射したＥＵＶ光を感応基板上に投影結像する投影光学系と、  前記感応基板を移動・位置決めする感応基板ステージと、を備えるＥＵＶ光投影露光装置であって、  前記原版ステージ及び前記感応基板ステージ、並びに、前記原版や前記感応基板の搬送装置等の可動機構系が装置下側に配置されており、  前記照明光学系及び前記投影光学系等の固定機構系が装置上側に配置されており、  前記可動機構系と前記固定機構系が、建物床から別々に除振台を介して支持されていることを特徴とする。
【０００８】
この露光装置によれば、可動機構系と固定機構系が分離され、それぞれが除振台によって除振されるので、ステージや搬送装置の振動が光学系へと伝わり難くなる。そのため、可動機構系から生じる振動により露光性能が悪化する可能性を低減できる。さらに、可動機構系と固定機構系をそれぞれモジュール化すると、機構系ごとにアライメント調整した後に組み立てることができ、装置全体もコンパクトに構成できる。
【０００９】
本発明のＥＵＶ光投影露光装置においては、前記極端紫外光が、前記原版から前記投影光学系に下側から入射し、さらに該投影光学系から下側に出射して前記感応基板に当たるものとすることができる。
この場合、ＥＵＶ光の入射する原版を保持する原版ステージとＥＵＶ光の照射される感応基板を保持する感応基板ステージ、さらにこれらステージ上に原版・感応基板を搬送する搬送装置をモジュール化して、可動機構系を装置下部に纏めて配置することができる。
【００１０】
本発明のＥＵＶ光投影露光装置においては、前記投影光学系等を前記建物床上で支持するボディをさらに備え、  前記建物床と前記ボディとの間及び／又は前記ボディと前記投影光学系との間に前記除振台が設けられてもよい。
さらに、前記建物床と前記両ステージとの間に前記除振台が設けられていることが好ましい。
これらの場合、振動を一層低減できるので、露光性能の悪化を一層低減できる。
【００１１】
本発明の極端紫外光投影露光方法は、ＥＵＶ光（照明光）を原版に当てる照明光学系と、  前記原版を移動・位置決めする原版ステージと、  前記原版で反射したＥＵＶ光を感応基板上に投影結像する投影光学系と、  前記感応基板を移動・位置決めする感応基板ステージと、を備える露光装置を用いるＥＵＶ光投影露光方法であって、  装置下側に配置した前記原版ステージ及び前記感応基板ステージ、並びに、前記原版や前記感応基板の搬送装置等の可動機構系と、装置上側に配置した前記照明光学系及び前記投影光学系等の固定機構系を、除振台で別々に除振することを特徴とする。
この発明によれば、除振台により鏡筒の振動を低減できるので、露光性能の悪化を低減できる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、露光性能に悪影響を与える振動を低減できる、あるいは、装置中の光学系、ステージ等をモジュール化して全体の組み立てを容易にし、構成をコンパクトにできる等の利点を有するＥＵＶ光投影露光装置及び方法を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。
図１は、本発明の一実施例に係るＥＵＶ露光装置の全体構成を示す模式図である。
この図に示すＥＵＶ露光装置１０は、ボディ１１を備えている。このボディ１１は、支柱１３を介して、建物床Ｆ上に配置されている。ボディ１１下面と各支柱１３上面間には、それぞれ除振台１５が介装されている。
【００１４】
ボディ１１の上部には、照明光学系チャンバ２１が配置されている。この照明光学系チャンバ２１内には、ＥＵＶ光ｅを放射するＥＵＶ光源２３が設けられている。このＥＵＶ光源２３は、装置１０の図中右側に立ち上げられたＥＵＶ光発生装置２５にベローズ２７を介して繋がれている。照明光学系チャンバ２１内において、ボディ１１には投影光学系鏡筒３１が取り付けられている。この投影光学系鏡筒３１は、側面にフランジ状に張り出したベース部３２を備えている。投影光学系鏡筒３１は、ボディ１１を貫通した状態で、ベース部３２がボディ１１上面に除振台３５を介して載置されている。これにより、投影光学系鏡筒３１は、ボディ１１、支柱１３及びその間の除振台１５、３５を介して建物床Ｆ上に支持されている。
【００１５】
ボディ１１の下方には、マスクステージ装置４１及びウェハステージ装置４３が一体化したステージユニット４０が配置されている。このステージユニット４０は、建物床Ｆ上に除振台４５を介して配置されている。ステージユニット４０上部のマスクステージ装置４１は、マスクＭを載置して移動・位置決めする。一方、ステージユニット４０下部のウェハステージ装置４３は、ウェハＷを載置して移動・位置決めする。マスクステージ装置４１は投影光学系鏡筒３１の下端側方に位置しており、ウェハステージ装置４３は投影光学系鏡筒３１の下方にまで延びている。マスクステージ装置４１とボディ１１下面との間、並びに、ウェハステージ装置４３と投影光学系鏡筒３１下端との間において、ＥＵＶ光ｅの通過する光路は、それぞれベローズ４７、４８で覆われている。
【００１６】
さらに、ステージユニット４０の図中左側には、マスクローダー５１及びウェハローダー５３を含むローダーユニット５０が配置されている。このローダーユニット５０とステージユニット４０とは、ローダーチャンバ５５を介して接続されている。ローダーユニット５０上部のマスクローダー５１は、マスクステージ装置４１へのマスクの搬出並びにマスクステージ装置４１からのマスクの搬入を行なうマニュピレータ（図示されず）を備えている。同様に、ローダーユニット５０下部のウェハローダー５３は、ウェハステージ装置４３へのウェハの搬出並びにウェハステージ装置４３からのウェハの搬入を行なうマニュピレータ（図示されず）を備えている。
【００１７】
照明光学系チャンバ２１内には、この例では３枚の折り返しミラー６１〜６３が配置されている。一方、この例の投影光学系鏡筒３１は、５枚の反射ミラー７１〜７５を備える５枚投影系である。なお、実際には、各反射ミラー７１〜７５はミラーホルダーとミラー本体からなるが、詳細な図示は省略してある。各反射ミラー７１〜７５の反射面には、一例でモリブデン（Ｍｏ）層とシリコン（Ｓｉ）層を交互に積層したＭｏ／Ｓｉ多層膜が成膜されている。
【００１８】
照明光学系チャンバ２１内のＥＵＶ光源２３から放射されたＥＵＶ光ｅは、折り返しミラー６１、６２、６３に順次当たった後、図中左上側からボディ１１に形成された光路１１ａを通ってステージユニット４０のマスクステージ装置４１上のマスクＭに当たる。そして、マスクＭに当たって反射したＥＵＶ光ｅは、ボディ１１に形成された光路１１ｂを通って、図中右下側から投影光学系鏡筒３１上部に入射する。投影光学系鏡筒３１内に入射したＥＵＶ光ｅは、反射ミラー７１、７２、７３、７４、７５に順次当たって反射した後に下方に導かれ、ステージユニット４０のウェハステージ装置４３上のウェハＷ上に至る。
【００１９】
このようなＥＵＶ露光装置１０は、可動時に振動発生を伴うステージ装置４１、４３やローダー５１、５３と、可動時にも振動は発生しない光学系２１、３１とが分離されており、ステージ装置４１、４３、ローダー５１、５３が除振台４５で、光学系２１、３１が除振台１５、３５でそれぞれ除振される。そのため、光学系２１、３１には、建物床Ｆからの振動や、ステージ装置４１、４３、ローダー５１、５３の可動に伴う振動が伝わり難く、振動の影響による露光性能の悪化を低減できる。
【００２０】
さらに、このＥＵＶ露光装置１０では、ステージユニット４０及びローダーユニット５０と、照明光学系チャンバ２１及び投影光学系鏡筒３１とが分離されてそれぞれがモジュール化されている。そのため、このＥＵＶ露光装置１０においては、それぞれのモジュールごとにアライメント調整を行ない、その後に全体を組み立てることが可能でなり、装置の全体構成もコンパクトである。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施例に係るＥＵＶ露光装置の全体構成を示す模式図である。
【符号の説明】
【００２２】
１０  ＥＵＶ露光装置
１１  ボディ                                １３  支柱
１５、３５  除振台                          ２１  照明光学系チャンバ
２３  ＥＵＶ光源                            ２５  ＥＵＶ光発生装置
２７、４７、４８  ベローズ
３１  投影光学系鏡筒                        ３２  ベース部
４０  ステージユニット
４１  マスクステージ装置                    ４３  ウェハステージ装置
５０  ローダーユニット
５１  マスクローダー                        ５３  ウェハローダー
５５  ローダーチャンバ
６１〜６３  折り返しミラー                  ７１〜７５  反射ミラー
Ｆ  建物床                                  Ｍ  マスク
Ｗ  ウェハ                                  ｅ  ＥＵＶ光
【図１】
2005136120.tif 000003