(57)【要約】【課題】  ブランケットから基板へのインキの転移性が良好で、かつ高精度で基板へのパターニングを行うことを可能とする。【解決手段】  有機発光材料インキが均一な膜厚で形成されるインキロール１０と、ガラス基板に形成する有機発光層のパターンに対応するように形成された印刷版１２がマウントされた版胴１３と、ブランケット１４が被覆されたオフセットロール１５と、インキロール、版胴及びオフセットロールを回転駆動する駆動手段と、印刷版から有機発光材料インキで形成されたパターンが転写されたブランケットから、ガラス基板へインキを転写する位置において、レーザ光をブランケット上に形成されたパターンに合わせて高速描画しながら照射し有機発光材料インキを加熱・溶融させるレーザ照射装置２２と、駆動手段を駆動制御し、かつレーザ照射装置の照射タイミングを制御する制御手段とを有する。【選択図】    図１
2005310410.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、オフセット印刷法により基板上に形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
オフセットロールに被覆されたブランケット上に塗布された有機発光材料インキを前記基板に転写する際に転写するインキを加熱手段により加熱・溶融させながら行うことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項２】
有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、オフセット印刷法により基板上に形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
前記基板に形成する前記有機発光層のパターンに対応するように形成された印刷版がマウントされた版胴における前記印刷版からオフセットロールに被覆されたブランケットへはパターニングしてインキが塗布されており、前記ブランケットから前記基板へインキを転写する位置において、レーザ照射装置によりレーザ光を前記ブランケット上に形成されたパターンに合わせて高速描画しながら照射してインキを加熱・溶融させて前記ブランケットから前記ガラス基板へのインキの転写を行うことを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項３】
有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、オフセット印刷法により基板上に形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
オフセットロールに被覆されたブランケット上に塗布された有機発光材料インキの前記基板への転写をレーザ照射装置によりレーザ光を照射してパターニングしながら行うことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項４】
有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、オフセット印刷法により基板上に形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、
印刷版がマウントされた版胴における前記印刷版からオフセットロールに被覆されたブランケットへは全面、均一に有機発光材料インキを塗布し、該全面、均一に有機発光材料インキが塗布されたブランケットから前記基板へ有機発光材料インキを転写する位置において、
レーザ照射装置により前記ブランケット上に画像形成するパターンに合わせてレーザ光で高速描画しながら照射して有機発光材料インキを加熱・溶融させて前記ブランケットから前記基板への有機発光材料インキの転写を行うことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項５】
前記印刷版から前記オフセットロールに被覆された前記ブランケットへ全面、均一に有機発光材料インキを塗布した後に、前記ブランケット上で乾燥手段により前記有機発光材料インキを乾燥させることを特徴とする請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。
【請求項６】
有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、オフセット印刷法により基板上に形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置であって、
インキ供給手段によりロール表面に供給された前記有機発光材料インキが均一な膜厚で形成されるインキロールと、
前記基板に形成する前記有機発光層のパターンに対応するように形成された印刷版がマウントされ、前記インキロールに近接して配置される版胴と、
前記版胴に近接して配置され、ブランケットが被覆されたオフセットロールと、
前記インキロール、版胴及びオフセットロールを回転駆動する駆動手段と、
前記駆動手段による前記インキロール、版胴及びオフセットロールの回転に伴い、前記印刷板から前記有機発光材料インキによる前記パターンが転写されたブランケットから、前記基板へインキを転写する位置において、レーザ光を前記ブランケット上に形成されたパターンに合わせて高速描画しながら照射して前記有機発光材料インキを加熱・溶融させるレーザ照射手段と、
前記駆動手段を駆動制御し、かつ前記レーザ照射手段の照射タイミングを制御する制御手段と、
を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項７】
有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、オフセット印刷法により基板上に形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置であって、
インキ供給手段によりロール表面に供給された前記有機発光材料インキが均一な膜厚で形成されるインキロールと、
ブランケットにインキの全面均一ベタ層を形成可能な印刷版がマウントされ、前記インキロールに近接して配置される版胴と、
前記版胴に近接して配置され、ブランケットが被覆されたオフセットロールと、
前記インキロール、版胴及びオフセットロールを回転駆動する駆動手段と、
前記駆動手段による前記インキロール、版胴及びオフセットロールの回転に伴い、前記印刷板から前記有機発光材料インキが全面に均一に転写されたブランケットから、前記基板へインキを転写する位置において、レーザ光を前記基板上に形成するパターンに合わせて高速描画しながら照射して前記有機発光材料インキを加熱・溶融させるレーザ照射手段と、
前記駆動手段を駆動制御し、かつ前記レーザ照射手段の照射タイミングを制御する制御手段と、
を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【請求項８】
さらに、前記印刷版から前記オフセットロールに被覆された前記ブランケットへ全面、均一に有機発光材料インキを塗布した後に、前記ブランケット上で前記有機発光材料インキを乾燥させる乾燥手段を有することを特徴とする請求項７に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板の上にインキを高精度にパターンニングして印刷することで画像を形成する技術に係り、例えば有機エレクトロルミネッセンス素子の作製において、インキ化した有機発光材料をガラス基板の上にオフセット印刷法でパターンニングする有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板の上に、高精細にパターンニングしてインキを印刷する方法としては、オフセット印刷による方法や凸版印刷による方法およびスクリーン印刷による方法等が考えられる。基板がガラスであるため、グラビア印刷のように金属版で直刷りタイプの印刷方式は用いることができず、柔らかいゴムブランケットから基板にインキを転移させるオフセット印刷が印刷法として適している。
【０００３】
一方、有機エレクトロルミネッセンス素子の作成において、有機発光材料を高精細にパターニングする方法としては、低分子有機材料を用いてマスク蒸着法によりパターニングする方法が一般的であるが、この方法では基板が大型化すればするほどパターニング精度が出難いという問題が有った。
【０００４】
そこで、高分子有機発光材料をインキ化し、これを印刷法によりパターンニングする方法が試みられるようになり、オフセット印刷による方法（特許文献１）などが提唱されている。
【特許文献１】特開２００１−９３６６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、オフセット印刷では、ブランケット上でインキの乾燥が進み、ブランケットへのインキの密着強度が上昇してしまうために、インキをブランケットから有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する基板上に再転移させるときに、ブランケット表面と基板との間でインキの取合いが起こり、基板上に安定してインキを転移させることが難しくなるという問題が有った。
【０００６】
また、オフセット印刷では、印刷版からブランケットへインキを転移させる時と、ブランケットから基板へインクを転移させる時の２回、パターニングの精度を要する機会があり、高精度のパターニングが難しいという問題が有った。
【０００７】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであり、ブランケットから有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する基板へのインキの転移性が良好で、かつ高精度で前記基板へのパターニングを行うことができる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために請求項１に記載の発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、オフセット印刷法により基板上に形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、オフセットロールに被覆されたブランケット上に塗布された有機発光材料インキを前記基板に転写する際に転写するインキを加熱手段により加熱・溶融させながら行うことを特徴とする。
【０００９】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、トロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、オフセット印刷法により基板上に形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、前記基板に形成する前記有機発光層のパターンに対応するように形成された印刷版がマウントされた版胴における前記印刷版からオフセットロールに被覆されたブランケットへはパターニングしてインキが塗布されており、前記ブランケットから前記基板へインキを転写する位置において、レーザ照射装置によりレーザ光を前記ブランケット上に形成されたパターンに合わせて高速描画しながら照射してインキを加熱・溶融させて前記ブランケットから前記基板へのインキの転写を行うことを特徴とする。
【００１０】
また、請求項３に記載の発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、オフセット印刷法により基板上に形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、オフセットロールに被覆されたブランケット上に塗布された有機発光材料インキの前記基板への転写をレーザ照射装置によりレーザ光を照射してパターニングしながら行うことを特徴とする。
【００１１】
また、請求項４に記載の発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、オフセット印刷法により基板上に形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法であって、印刷版がマウントされた版胴における前記印刷版からオフセットロールに被覆されたブランケットへは全面、均一に有機発光材料インキを塗布し、該全面、均一に有機発光材料インキが塗布されたブランケットから前記基板へ有機発光材料インキを転写する位置において、レーザ照射装置により前記ブランケット上に画像形成するパターンに合わせてレーザ光で高速描画しながら照射して有機発光材料インキを加熱・溶融させて前記ブランケットから前記基板への有機発光材料インキの転写を行うことを特徴とする。
【００１２】
また、請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、前記印刷版から前記オフセットロールに被覆された前記ブランケットへ全面、均一に有機発光材料インキを塗布した後に、前記ブランケット上で乾燥手段により前記有機発光材料インキを乾燥させることを特徴とする。
【００１３】
また、請求項６に記載の発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、オフセット印刷法により基板上に形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置であって、インキ供給手段によりロール表面に供給された前記有機発光材料インキが均一な膜厚で形成されるインキロールと、前記基板に形成する前記有機発光層のパターンに対応するように形成された印刷版がマウントされ、前記インキロールに近接して配置される版胴と、前記版胴に近接して配置され、ブランケットが被覆されたオフセットロールと、前記インキロール、版胴及びオフセットロールを回転駆動する駆動手段と、  前記駆動手段による前記インキロール、版胴及びオフセットロールの回転に伴い、前記印刷板から前記有機発光材料インキによる前記パターンが転写されたブランケットから、前記基板へインキを転写する位置において、レーザ光を前記ブランケット上に形成されたパターンに合わせて高速描画しながら照射して前記有機発光材料インキを加熱・溶融させるレーザ照射手段と、前記駆動手段を駆動制御し、かつ前記レーザ照射手段の照射タイミングを制御する制御手段とを有することを特徴とする。
【００１４】
また、請求項７に記載の発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、オフセット印刷法によりガラス基板上に形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置であって、インキ供給手段によりロール表面に供給された前記有機発光材料インキが均一な膜厚で形成されるインキロールと、ブランケットにインキの全面均一ベタ層を形成可能な印刷版がマウントされ、前記インキロールに近接して配置される版胴と、前記版胴に近接して配置され、ブランケットが被覆されたオフセットロールと、前記インキロール、版胴及びオフセットロールを回転駆動する駆動手段と、前記駆動手段による前記インキロール、版胴及びオフセットロールの回転に伴い、前記印刷板から前記有機発光材料インキが全面に均一に転写されたブランケットから、前記基板へインキを転写する位置において、レーザ光を前記基板上に形成するパターンに合わせて高速描画しながら照射して前記有機発光材料インキを加熱・溶融させるレーザ照射手段と、
前記駆動手段を駆動制御し、かつ前記レーザ照射手段の照射タイミングを制御する制御手段とを有することを特徴とする。
【００１５】
また、請求項８に記載の発明は、請求項７に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、さらに、前記印刷版から前記オフセットロールに被覆された前記ブランケットへ全面、均一に有機発光材料インキを塗布した後に、前記ブランケット上で前記有機発光材料インキを乾燥させる乾燥手段を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１６】
以上説明したように、本発明によれば、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、オフセット印刷法によりガラス基板上に形成するにあたって、オフセットロールに被覆されたブランケット上に塗布された有機発光材料インキをブランケットから前記ガラス基板に転写する際にレーザ照射装置によりレーザ光でブランケット上のインキパターンに合わせて高速描画させながら照射するようにしたので、ブランケットからガラス基板へのインキの転移性を良好に保つことができる。
【００１７】
また、本発明によれば、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、オフセット印刷法によりガラス基板上に形成するにあたって、オフセットロールに被覆されたブランケット上に塗布された有機発光材料インキの前記ガラス基板への転写をレーザ照射装置によりレーザ光を照射してパターニングしながら行うようにしたので、インキの転移性が向上すると共に、パターン形成が、レーザ描画によるパターン精度のみ依存するため、パターニング精度の向上が図れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。本発明の第１実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置の構成を図１に示す。  本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置は、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、オフセット印刷法によりガラス基板上に形成する有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置であって、平台式オフセット印刷機を含んで構成される。
【００１９】
図１において、本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置は、図示してないインキ供給手段によりロール表面に供給された前記有機発光材料インキ１１が均一な膜厚で形成されるインキロール１０と、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成するガラス基板に形成する前記有機発光層のパターンに対応するように形成された印刷版１２がマウントされ、インキロール１０に近接して配置される版胴１３と、版胴１３に近接して配置され、ブランケット１４が被覆されたオフセットロール１５とを有している。
【００２０】
版胴１３にマウントされる印刷版１２は、本実施形態では、版は、線幅１００μｍ、ピッチ１５０μｍのストライプの印刷画像を形成するように、画線部、非画線部のパターンが形成された水なし平版を用いていた。この印刷版は、ガラス基板２０上に形成される有機発光層のパターンに対応するように例えば、レーザ光により製版される。
平台１８には、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成するガラス基板２０がブランケット１４による有機発光材料インクの転写位置まで図示してない搬送手段により搬送されるようになっている。
【００２１】
本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置は、さらに、インキロール１０、版胴１３及びオフセットロール１５を回転駆動する駆動手段（図示せず）と、前記有機発光材料インキを加熱・溶融させるレーザ照射装置２２とを有している。
駆動手段は、例えば、歯車機構等の駆動機構及びモータ等を含んで構成される。
【００２２】
レーザ照射装置２２は、ブランケット1４上に形成された有機発光材料インキによるパターン１６がガラス基板２０上の転写位置において、上記パターンに合わせて高速描画しながら照射して有機発光材料インキを加熱・溶融させる機能を有している。照射するレーザは、インキの転移性が向上する程度に溶融加熱できるレーザであれば良く、特に限定されないが、本発明の各実施形態ではＹＡＧレーザを使用した。
【００２３】
また、本実施形態では、レーザ光は、ガラス基板２０の上方から照射するように構成されている。但し、レーザ照射装置２２の設置位置は、レーザ光を、光学系等を介してガラス基板２０の上方から照射することができれば、何処でもよい。  
【００２４】
また、図示していないが、本実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置は、前記駆動手段を駆動制御し、かつ有機発光材料インキを加熱する加熱手段としてのレーザ照射装置２２の加熱タイミング、すなわちレーザ光の照射タイミングを制御する制御部を有している。この制御部は、本発明の制御手段に相当する。
【００２５】
また、レーザ照射装置２２は、例えば、平台２０の上方に設置されており、レーザ照射装置２２のレーザ光が出力される側には、図1上、オフセットロール１５の軸方向と平行な方向にレーザ光を走査するためのポリゴンミラーを含む光学系（図示せず）が設けられている。
【００２６】
有機発光材料インキとしては、高分子蛍光体であるポリフェニレンビニレン誘導体をトルエンに溶かした溶液を用いた。
被印刷体であるガラス基板２４としては、透明電極であるインジウム−錫酸化物（ＩＴＯ）膜が有機エレクトロルミネッセンス素子の画素に合わせてパターンニングして形成されているガラス基板の上に、正孔輸送層を全面にコーティングした基板を用いた。
また、正孔輸送材料は、ポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルフォン酸からなる高分子材料を用いた。
【００２７】
上記構成において、図示してない駆動手段により、インキロール１０、印刷版１２がマウントされた版胴１８、オフセットロール１５が回転駆動されると、まず、インキロール１０に図示してないインキ供給手段によりロール表面に有機発光材料インキが均一な膜厚で形成され、インキロール１０上の有機発光材料インキは、版胴１３にマウントされた印刷版１２上に形成されているパターンに転移する。さらに、印刷版１２上に転移した有機発光材料インキは、オフセットローラに被覆されたブランケット1４上にパターニングされた状態で転移する。
【００２８】
一方、被印刷体であるガラス基板２０は、図示してない搬送手段により平台１８上に転写位置まで搬送され、有機発光材料インキが転移したブランケット１４により有機発光層のパターンが転写される際、すなわち、有機発光材料インキによるパターン１６が転写されたブランケット１４から、ガラス基板２０へインキを転写する位置において、レーザ照射装置２２により、レーザ光がブランケット上に形成されたパターン１６に合わせて高速描画しながら照射され、この結果、有機発光材料インキを加熱・溶融され、この状態でガラス基板２０に接触するため、有機発光層のパターンがガラス基板２０に転写される。このようにして、バラス基板２０上に有機発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス素子の画素を形成した。
【００２９】
図２は、有機発光材料インキで形成されたパターン１６が転移したブランケット１４からガラス基板２０に転写される際に、有機発光材料インキがレーザ光の照射により、加熱・溶融され、ガラス基板２０上に有機発光層のパターンが転写される状態を示している。図２において、矢印Ａは、図１に示した実施形態において、レーザ光がガラス基板２０上の横方向から照射されることによりブランケット１４に転移した有機発光材料インキで形成されたパターン１６が加熱・溶融される状態を示している。
【００３０】
また、矢印Ｂは、レーザ光をガラス基板２０の下方から有機発光材料インキに照射する例を示している。この場合における、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置の構成を図３に示す。
図１に示した有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置と構成上、異なるのは、レーザ照射装置２２から出射されるレーザ光を平台２０上のガラス基板２４の下方からブランケット１４に転移した有機発光材料インキに対して照射するように構成した点であり、その他の構成は図１に示す製造装置と同様であるので重複する説明は省略する。
【００３１】
次に、本発明の第２実施形態に有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置の構成を図４に示す。本発明の第２実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置が第１実施形態に係る製造装置と構成上、異なるのは、版胴１３にマウントされる印刷版３０が ブランケット１４へベタで全面に有機発光材料インキ１１を転移させるためのベタ版（正確には細かい凹部が無数に設けられている。）であることと、印刷板３０から有機発光材料インキ１１が全面に均一に転写されたブランケット１４から、ガラス基板２０へインキを転写する位置において、レーザ照射装置２２により、レーザ光をガラス基板２０上に形成するパターンに合わせて高速描画しながら照射して有機発光材料インキを加熱・溶融させるようにした点であり、その他の構成は第１実施形態と同様であるので、重複する説明は省略する。図４において、３４は、ガラス基板２０に転写された有機発光材料インキにより形成されたパターンである。
【００３２】
本実施形態では、ブランケット１４上に転移されたインキに対して、ガラス基板２０への転写位置の直前でレーザ照射装置２２により、レーザ光を照射するが、このとき線幅１００μｍ、ピッチ１５０μｍのストライプ状の印刷画像を形成するようにパターンニングしてレーザ照射する方式で、レーザーアシストオフセット印刷を行い、ガラス基板２０上に有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層を含む画素を形成した。
【００３３】
図５は、有機発光材料インキで形成されたパターン１６が転移したブランケット１４からガラス基板２０に転写される際に、有機発光材料インキがレーザ光の照射により、加熱・溶融され、ガラス基板２０上に有機発光層のパターンが転写される状態を示している。図５において、矢印Ｃは、図４に示した実施形態において、レーザ光がガラス基板２０上の横方向から照射されることによりブランケット１４に転移した有機発光材料インキで形成されたパターン３４が加熱・溶融される状態を示している。
【００３４】
また、矢印Ｄは、レーザ光をガラス基板２０の下方から有機発光材料インキに照射する例を示している。この場合における、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置の構成は、レーザ照射装置２２の照射方向が異なるだけであり、墓の構成は図４に示した構成と同様であるので、重複する説明は省略する。
【００３５】
次に、本願発明の実施形態に対する比較例について説明する。
［比較例］
版は、線幅１００μｍ、ピッチ１５０μｍのストライプの印刷画像を形成するように、画線部、非画線部のパターンが形成された水なし平版を用い、当該印刷画像のパターンでブランケット上に転移されたインキをそのまま基板上に転写させる通常のオフセット印刷を行い、前記基板上に有機エレクトロルミネッセンス素子の画素を形成した。
【００３６】
上記各実施形態に係る製造装置及び方法と、比較例における印刷時の転移性を評価した結果、比較例ではゴムブランケットとガラス基板でインキの取合いが起こり、ガラス基板へのインキの転移はマダラ上に起こり、転移する部分としない部分が生じた。すなわち転移不良であった。
それに対して、第１実施形態及び第２実施形態では、ほぼ完全に転移し、きれいに画素パターンを形成した。
【００３７】
以上に説明したように、本発明の第１実施形態によれば、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、オフセット印刷法によりガラス基板上に形成するにあたって、オフセットロールに被覆されたブランケット上に塗布された有機発光材料インキをブランケットから前記ガラス基板に転写する際にレーザ照射装置によりレーザ光でブランケット上のインキパターンに合わせて高速描画させながら照射するようにしたので、ブランケットからガラス基板へのインキの転移性を良好に保つことができる。
【００３８】
本発明の第２実施形態によれば、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する少なくとも有機発光層を、オフセット印刷法によりガラス基板上に形成するにあたって、オフセットロールに被覆されたブランケット上に塗布された有機発光材料インキの前記ガラス基板への転写をレーザ照射装置によりレーザ光を照射してパターニングしながら行うようにしたので、インキの転移性が向上すると共に、パターン形成が、レーザ描画によるパターン精度のみ依存するため、パターニング精度の向上が図れる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の第１実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置の構成を示す図。
【図２】本発明の第１実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、有機発光材料インキが転移したブランケットからガラス基板に有機発光材料インキによるパターンが転写される状態を示す説明図。
【図３】本発明の第１実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置の他の構成例を示す図。
【図４】本発明の第２実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置の構成を示す図。
【図５】本発明の第２実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置において、有機発光材料インキが転移したブランケットからガラス基板に有機発光材料インキによるパターンが転写される状態を示す説明図。
【符号の説明】
【００４０】
１０…インキロール
１２…印刷版
１３…版胴
１４…ブランケット
１５…オフセットロール
１６…パターン
１８…平台
２０…ガラス基板
２２…レーザ照射装置
【図１】
2005310410.tif 000003
【図２】
2005310410.tif 000004
【図３】
2005310410.tif 000005
【図４】
2005310410.tif 000006
【図５】
2005310410.tif 000007