(57)【要約】【課題】希土類−遷移金属非晶質合金を用いた磁気記録媒体のノイズを低減して、高密度の記録再生ができる磁気記録媒体とその製造方法および磁気記録装置を提供する。【解決手段】磁気記録媒体１は、基板２上に直接あるいは他の薄膜を介して形成される成長制御膜３と、成長制御膜上に形成される磁性膜４を少なくとも有し、磁性膜４は、基板法線方向に柱状に成長した非晶質粒子とその非晶質粒子の側面を取り囲む粒界領域で構成され、非晶質粒子は希土類金属と遷移金属とを主たる成分とした合金から構成される磁性材料であり、前記粒界領域は非磁性材料である。【選択図】図１
2005071453.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に直接あるいは他の薄膜を介して形成される成長制御膜と、前記成長制御膜上に形成される磁性膜を少なくとも有する磁気記録媒体であって、前記磁性膜は、基板法線方向に柱状に成長した非晶質粒子とその非晶質粒子の側面を取り囲む粒界領域で構成され、前記非晶質粒子は希土類金属と遷移金属とを主たる成分とした合金から構成される磁性材料であり、前記粒界領域は非磁性材料であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記遷移金属は鉄あるいはコバルトのうち一つ以上を含み、前記希土類金属は少なくともテルビウムあるいはディスプロシウムを含むことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
上記磁性膜は、基板法線方向に磁化容易軸を有することを特徴とする請求項１または２のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
基板上に直接あるいは他の薄膜を介して形成される成長制御膜と、前記成長制御膜上に形成される磁性膜を少なくとも有する磁気記録媒体の製造方法であって、基板上に直接あるいは他の薄膜を介して成長制御膜を形成する工程と、前記成長制御膜上に島状構造の非晶質磁性合金を形成する工程と、前記成長制御膜上および島状構造非晶質磁性合金上に、非晶質磁性合金および非磁性材料を同時に堆積する工程とを順次行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記成長制御膜を構成する材料と前記非晶質磁性合金、あるいは、前記非磁性材料と前記非晶質磁性合金とは、互いに非固溶あるいは固溶度の小さい材料であることを特徴とする請求項４記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
請求項１から３のいずれか一項に記載の磁気記録媒体と、前記磁気記録媒体に対し記録、再生を行う磁気ヘッドと、前記磁気ヘッドを前記磁気記録媒体に対して駆動するための駆動装置とを有する磁気記録装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高記録密度可能な磁気記録媒体とその製造方法およびそれを装着した磁気記録装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
情報化社会の発展において情報記憶装置は重要であり、そのひとつとして磁気記録装置がある。その中でも磁気ディスク装置は、従来のコンピュータ用途のみならず、ＡＶ機器用やモバイル機器用としても急速に普及し始めている。そのため、大容量化および小型化が必要とされており、これを実現するために更なる高記録密度化が要求されている。
【０００３】
磁気記録装置の高記録密度化を実現するために、磁気記録媒体としては磁性膜の磁化反転が生じる単位（磁気クラスター）をより小さくする必要がある。そのために、磁性膜を構成する粒子サイズを小さくし、かつ粒子間の磁気相互作用を低減する努力がなされてきた。しかし、高記録密度化が進むにつれ、粒子の微細化に伴う記録磁化の熱揺らぎの問題が深刻になる。更なる高記録密度を実現するためには、磁性膜の熱安定性確保が必須である。
【０００４】
磁性膜の熱安定性の指標として、Ｋｕ・Ｖ／ｋ・Ｔで示される値が用いられる。ここで、Ｋｕ：磁気異方性エネルギー、Ｖ：活性化体積、ｋ：ボルツマン定数、Ｔ：温度である。この値が大きいほど記録された磁化は熱安定性が高く、実用上の目安としては６０以上が必要とされている。この値を大きくするためには、ＫｕあるいはＶを大きくする。しかし、上述したように高記録密度を達成するために粒子サイズは微細化され、それに伴いＶは減少する。したがって、高記録密度と熱安定性との両立のために、磁気記録膜には高いＫｕが要求される。Ｋｕの高い材料として、従来用いられているＣｏ−Ｃｒ系に替わって、希土類金属と鉄族遷移金属とからなる非晶質合金が検討されている。しかし、この希土類−遷移金属非晶質合金は熱安定性には優れているが、磁化反転機構が磁壁移動型であり、磁壁が移動しやすいため、高精度に情報記録領域を決定することが困難である。また、膜面内の強い相互作用により、記録密度とともに増加する遷移性ノイズが発生するため、高密度化を妨げるという問題点がある。
【０００５】
上記問題点を解決する手段として、磁壁の移動を妨げるように、磁性膜中にピニングサイトして希土類金属酸化物あるいは希土類金属窒化物を分散させ、磁壁をピン止めしているものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
また、希土類−遷移金属非晶質合金からなる粒子を非磁性母材中に分散させることにより、磁壁をピン止めし、かつ磁性粒子間の磁気相互作用を低減しているものもある（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００２−７４６３６号公報
【特許文献２】特開２００２−２６９７１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、磁性膜中にピニングサイトを導入する方法では、高記録密度化とともに高密度にピニングサイトを導入する必要があり、その形成が困難になってくる。
【０００８】
また、非磁性母材中に希土類−遷移金属非晶質合金粒子を分散させる場合、粒子形状が球状に近くなると、粒子径に対する粒子体積が小さくなり、熱安定性の点で問題となる。
【０００９】
本発明の第１の目的は、熱安定性に優れ、かつ媒体ノイズを抑制し、高記録密度化を実現する磁気記録媒体を提供することにある。
【００１０】
本発明の第２の目的は、上記磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。
【００１１】
本発明の第３の目的は、高記録密度の可能な磁気記録装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の目的を達成する本発明の要旨は次の通りである。
【００１３】
本発明の磁気記録媒体は、基板上に直接あるいは他の薄膜を介して形成される成長制御膜と、前記成長制御膜上に形成される磁性膜を少なくとも有する磁気記録媒体であって、前記磁性膜は、基板法線方向に柱状に成長した非晶質粒子とその非晶質粒子の側面を取り囲む粒界領域で構成され、前記非晶質粒子は希土類金属と遷移金属とを主たる成分とした合金から構成される磁性材料であり、前記粒界領域は非磁性材料であることを特徴としている。
【００１４】
上記の構成では、本来粒界を持たず均一な連続膜である非晶質磁性膜に対して非磁性粒界を導入し、非晶質磁性粒子とその非晶質磁性粒子の側面を取り囲む非磁性粒界領域とからなる非連続な変調構造をもった磁性膜としている。非晶質磁性膜は磁壁移動型であり、磁壁の移動を阻害するものがないため磁壁の移動が容易に起こるが、非磁性粒界を導入することにより、粒界が磁壁のピニングサイトとして機能するため、磁壁の容易な移動を防止することができる。
【００１５】
非晶質磁性膜に周囲と磁化の向きが異なる微小な磁区を形成した場合、磁壁をピン止めするものが存在しなければ、磁区の位置（磁壁の位置）がどこにあってもエネルギー的には変わらない。この場合、磁区の位置は容易に移動してしまうので、磁区（情報記録領域）を所望の位置に形成することが困難になる。本発明では、非晶質磁性粒子間を分断する非磁性粒界がピニングサイトとして磁壁の移動を妨げるので、磁性膜に形成された磁区は揺らぐことなく、情報記録領域を所望の位置に形成することができる。
【００１６】
また、本発明の磁気記録媒体の磁性膜では、非晶質磁性粒子間を非磁性領域で分断しているため、非晶質磁性粒子間の磁気的相互作用が低減され、高記録密度化に必要な磁気クラスターサイズの低減が可能である。これにより、記録磁化の遷移領域に存在するジグザグパターン幅を小さくできるため、磁化遷移領域に発生する磁気記録媒体のノイズを低減できる。
【００１７】
更に、本発明の磁気記録媒体の磁性膜を構成する非晶質磁性粒子は、基板法線方向に柱状に成長した粒子である。磁性粒子の形状が球状に近い場合、粒子径に対する粒子体積が小さい。本発明では、磁性粒子は柱状形状であるため、粒子径に対する粒子体積を大きくとることが可能であり、熱安定性の点で有利である。また、膜厚方向の磁化遷移を急峻にできる。
【００１８】
本発明の磁気記録媒体の磁性膜を構成する非晶質粒子は、希土類金属と遷移金属とを主たる成分とした合金から構成される磁性材料であり、前記希土類金属は少なくともテルビウムあるいはディスプロシウムを含み、前記遷移金属は鉄あるいはコバルトのうち一つ以上を含む。この構成の場合、高い磁気異方性エネルギーを得ることが可能であり、組成の調整によって磁気特性を制御することができる。
【００１９】
成長制御膜は、非磁性材料からなり、後に続く磁性膜の膜成長を制御するほか、基板と磁性膜との間に軟磁性膜を設ける、いわゆる二層媒体とする場合には、磁性膜と軟磁性膜との間の不要な磁気結合を抑制する機能もある。
【００２０】
本発明の磁気記録媒体における磁性膜は、基板法線方向に磁化容易軸を有する垂直磁気異方性を有することが望ましい。
【００２１】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基板上に直接あるいは他の薄膜を介して、後に続く磁性膜の成長を制御する成長制御膜を形成する工程と、前記成長制御膜上に島状構造の非晶質磁性合金を形成する工程と、前記成長制御膜上および島状構造非晶質磁性合金上に、非晶質磁性合金および非磁性材料を同時に堆積する工程とを順次行うことを特徴とする。ここで、前記非晶質磁性合金は希土類金属と遷移金属とを主たる成分とした合金から構成される磁性材料であり、前記遷移金属は鉄あるいはコバルトのうち一つ以上を含み、前記希土類金属は少なくともテルビウムあるいはディスプロシウムを含む。
【００２２】
上記のように、基板上に直接あるいは他の薄膜を介して、成長制御膜を形成し、前記成長制御膜上に島状構造の非晶質磁性合金を形成した後、非晶質磁性合金および非磁性材料を同時に堆積すると、非晶質磁性合金を構成する原子は島状構造の非晶質磁性合金上に優先的に成長し、非磁性材料は島状構造間の成長制御膜上に優先的に成長する。
【００２３】
特に、前記成長制御膜を構成する材料と前記非晶質磁性合金、あるいは、前記非磁性材料と前記非晶質磁性合金とは、互いに非固溶あるいは固溶度の小さい材料である場合、効果的な優先成長が行われる。
【００２４】
また、膜形成の際、基板を適当な温度に加熱すれば、上記の現象は促進される。
【００２５】
前記成長制御膜あるいは前記非磁性材料として、Ａｇ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｂａ、Ｃ、Ｂｉ、Ｐｂ、Ａｌ、Ｗ、Ｓｂ、Ｂ、Ｉｎ、Ｓｉ−Ｏ、Ａｌ−Ｏ、Ｍｇ−Ｏ、Ｔｂ−Ｏなどが利用でき、成長制御膜あるいは非磁性材料は同じ材料である場合と効果的である。
【００２６】
以上の構成による本発明の製造方法によると、成長制御膜上に形成される磁性膜は、基板法線方向に柱状に成長した非晶質磁性粒子とその非晶質磁性粒子の側面を取り囲む粒界領域で構成することができ、それゆえ、本発明の磁気記録媒体を実現する製造方法として好適である。
【００２７】
本発明の磁気記録装置は、本発明の磁気記録媒体を搭載し、磁気記録媒体に対し記録、再生を行う磁気ヘッドと、磁気ヘッドを磁気記録媒体に対して駆動するための駆動装置とを有することを特徴とする。
【００２８】
本発明の磁気記録装置に搭載する本発明の磁気記録媒体は、磁性膜の磁気的相互作用が低減されており、磁化遷移領域に存在するジグザグパターンの幅を小さくすることができるため、磁気記録媒体のノイズを低減することができ、そのため、高記録密度が可能な磁気記録装置を提供できる。
【００２９】
また、本発明の磁気記録装置に搭載する本発明の磁気記録媒体は、磁気異方性エネルギーが大きく熱安定性が高いので、使用環境が厳しいモバイル用途などにも適した磁気記録装置を提供できる。
【発明の効果】
【００３０】
本発明の磁気記録媒体によれば、磁性膜を磁気異方性の大きい希土類−遷移金属非晶質合金からなる柱状粒子とそれを取り囲む非磁性粒界とで構成した不連続な構造とすることにより、粒界によるピン止め効果で磁壁の移動を防止できるため、磁性膜中の所望の位置に微小な記録磁区を形成することができる。
【００３１】
また、磁性粒子間の磁気的相互作用が低減されおり、記録磁化の遷移領域に存在するジグザグパターン幅を小さくできるため、磁化遷移領域に発生する磁気記録媒体のノイズを低減できる。
【００３２】
この効果により、高密度での記録再生特性に優れた磁気記録媒体を実現できる。
【００３３】
また、希土類−遷移金属非晶質合金本来の高い磁気異方性を維持できるので、熱安定性に優れた磁気記録媒体を提供することができる。
【００３４】
本発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、基板法線方向に柱状に成長した非晶質粒子とその非晶質粒子の側面を取り囲む粒界領域で構成された磁性膜を形成できるので、本発明の磁気記録媒体を製造方法として好適である。
【００３５】
また、本発明の磁気記録装置は、本発明の磁気記録媒体を備えるので、磁気記録媒体に微小磁区を確実にかつ高精度に形成することが可能であり、かつ、熱的にも安定であるので、高記録密度を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
以下に、添付図面を参照にして、本発明に従う磁気記録媒体、その製造方法および磁気記録装置について実施形態を用いて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００３７】
（実施の形態１）
図１は、本発明の磁気記録媒体の構成の一例を示す概略断面図である。本発明の磁気記録媒体１は、基板２上に順次、成長制御膜３、磁性膜４および保護膜５を形成してなるものである。以下、磁気記録媒体１の製造方法について図２を用いて説明する。
【００３８】
まず、基板２として直径６５ｍｍのガラス基板を用いた。ここで用いた基板は一例であり、ＡｌやＡｌ合金基板、プラスチックあるいはこれらの複合材を用いることも可能であり、基板サイズも変えることができる。また、基板上にＮｉＰなどを形成した基板を用いてもよい。本発明の効果は用いる基板の材質やサイズに左右されない。
【００３９】
次に、基板２上に、あとに続く磁性膜の成長を制御する成長制御膜３として銀（Ａｇ）膜をＤＣマグネトロンスパッタ法により１０ｎｍの膜厚で形成した（図２（ａ））。ターゲットには１５０ｍｍ径のＡｇを用い、放電ガスにはアルゴン（Ａｒ）を用いた。成膜時のＡｒガス圧は０．２７Ｐａとし、投入ＤＣ電力は１ｋＷとした。また、基板の加熱、冷却は行わなかった。
【００４０】
次に、成長制御膜３上に、島状構造膜４ａとしてＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏ合金を、成長制御膜３の成膜後に大気開放することなく連続して形成した（図２（ｂ））。ターゲットに１５０ｍｍ径のＴｂ１５Ｆｅ７５Ｃｏ１０合金を用い、ＤＣマグネトロンスパッタ法により成膜を行った。放電ガスにはアルゴン（Ａｒ）を用い、成膜時のＡｒガス圧は１．３Ｐａとし、投入ＤＣ電力は０．２ｋＷとした。成膜時の基板温度が２００℃となるように基板をランプ加熱した。成膜に先立って成膜速度を求め、比例関係から０．５ｎｍの膜厚となる成膜時間で成膜を行った。島状構造膜４ａの平面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察した結果、連続膜ではなく、平均粒径５ｎｍの島状構造であり、島状構造間の平均空隙距離は４．５ｎｍであった。また、島状構造膜４ａの組成は、Ｔｂ１５Ｆｅ７６Ｃｏ９であった。
【００４１】
次に、成長制御膜３上および島状構造膜４ａ上に、島状構造膜４ａ成膜後に大気開放することなく連続して、磁性材料４ｂとしてＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏ合金を、非磁性材料４ｃとしてＡｇを同時に堆積した（図２（ｃ））。ターゲットとして、１５０ｍｍ径のＴｂ１５Ｆｅ７５Ｃｏ１０合金上に１０ｍｍ角のＡｇチップを設置したものを用い、ＤＣマグネトロンスパッタ法により２０ｎｍの膜厚で形成した。Ａｇチップの枚数は、Ａｇの体積分率が２０％となるように調節した。放電ガスにはアルゴン（Ａｒ）を用い、成膜時のＡｒガス圧は１．３Ｐａとし、投入ＤＣ電力は０．２ｋＷとした。成膜時の基板温度が２００℃となるように基板をランプ加熱した。
【００４２】
以上、島状構造膜４ａ、磁性材料４ｂおよび非磁性材料４ｃから磁性膜４を構成した。
【００４３】
次に、磁性膜４上に保護膜５としてカーボン（Ｃ）膜をＤＣマグネトロンスパッタ法により８ｎｍの膜厚で形成した（図２（ｄ））。ターゲットには１５０ｍｍ径のカーボンを用い、放電ガスにはアルゴン（Ａｒ）を用いた。成膜時のＡｒガス圧は０．２７Ｐａとし、投入ＤＣ電力は１．５ｋＷとした。また、基板の加熱、冷却は行わなかった。以上の方法で、本実施の形態１における磁気記録媒体を作製した。
【００４４】
この他、比較例としてガラス基板上に、Ｔｂ１５Ｆｅ７５Ｃｏ１０合金ターゲットを用いたＤＣマグネトロンスパッタ法により２０ｎｍの膜厚でＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏ合金磁性膜を形成した後、カーボン保護膜を形成して磁気記録媒体を作製した。
【００４５】
こうして得られた磁気記録媒体の磁気特性を評価するために、振動試料型磁力計（ＶＳＭ）を用いて測定を行った。本実施の形態１における磁気記録媒体では、保磁力（Ｈｃ）は３２０ｋＡ／ｍ、飽和磁化（Ｍｓ）は２４０ｋＡ／ｍ、基板面に対して垂直な方向の垂直磁気異方性エネルギー（Ｋｕ⊥）は４×１０５Ｊ／ｍ３、Ｍ−Ｈループの保磁力（Ｈｃ）における傾きαは２であった。一方、比較例の磁気記録媒体では、保磁力（Ｈｃ）は２４０ｋＡ／ｍ、飽和磁化（Ｍｓ）は３００ｋＡ／ｍ、基板面に対して垂直な方向の垂直磁気異方性エネルギー（Ｋｕ⊥）は５×１０５Ｊ／ｍ３、Ｍ−Ｈループの保磁力（Ｈｃ）における傾きαは５０であった。なお、Ｍ−Ｈループの保磁力（Ｈｃ）における傾きαは、４π（ｄＭ／ｄＨ）Ｈｃで定義される値であり、磁性粒子間の磁気的相互作用の指標と用いられ、相互作用がない場合は１となる（日本応用磁気学会誌、Ｖｏｌ．２４，Ｎｏ．５，２０００、Ｐ１０２８）。
【００４６】
比較例の磁気記録媒体と比較して、本実施の形態１における磁気記録媒体では保磁力（Ｈｃ）が増加し、傾きαが大きく減少した。これは、本実施の形態１では、磁性粒子間を非磁性材料で分断したことにより、磁性粒子間の磁気的相互作用が低減しているためである。
【００４７】
次に、保磁力（Ｈｃ）の印加磁界角度依存性を評価した。図３に結果とともに、磁化反転機構が磁化回転型および磁壁移動型の場合の理論曲線を示す。本実施の形態１では磁化回転型に近く、比較例では磁壁移動型に近い挙動を示した。これは、本実施の形態１では、磁性粒子間の非磁性粒界が磁壁のピニングサイトとなり、磁壁の移動を抑制しているためである。
【００４８】
次に、本実施の形態１における磁気記録媒体の磁性膜の平面構造を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）により観察を行った。磁性膜は粒子部とそれを取り囲む粒界部からなり、粒子部の平均粒径は８．８ｎｍであり、粒界部の平均幅は１ｎｍであった。ここで、粒子部分と粒界部分の組成をＦＥ−ＴＥＭ（フィールドエミッション型ＴＥＭ）のＥＤＸ（エネルギー分散型特性Ｘ線分析装置）で測定した。粒子部分はビーム径を約５ｎｍに、粒界部分はビーム径を約０．５ｎｍに絞って測定した。粒子部分は主としてＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏ合金からなり、粒界部の主成分はＡｇであった。また、電子線回折測定によると、粒子部および粒界部ともに非晶質であった。
【００４９】
次に、本実施の形態１における磁気記録媒体の磁性膜の断面構造をＴＥＭにより観察したところ、粒子部は成長制御膜表面から基板法線方向に向かって成長した柱状形状であった。
【００５０】
以上より、本実施の形態１における磁気記録媒体の磁性膜は、基板法線方向に柱状に成長した非晶質粒子とその非晶質粒子の側面を取り囲む粒界領域で構成され、非晶質粒子は希土類金属と遷移金属とを主たる成分とした合金から構成され、粒界領域は非磁性材料であることがわかった。
【００５１】
また、本実施の形態１における磁気記録媒体の熱安定性を評価したところ、Ｋｕ・Ｖ／ｋ・Ｔ＝１２０であった。このことは、磁気記録媒体の磁性膜が熱的安定性に優れていることを示している。
【００５２】
さらに、本実施の形態１における磁気記録媒体の表面に潤滑膜を塗布した後、磁気記録再生装置へ組み込み、記録再生特性を評価した。
【００５３】
図４は、本実施の形態１における磁気記録装置の概略構造を示す斜視図である。磁気記録媒体１と、磁気記録媒体１に対し記録・再生を行う磁気ヘッド６と、磁気ヘッド６を磁気記録媒体１に対して駆動するための駆動装置７とを備えた磁気記憶装置１００である。
【００５４】
磁気ヘッド６は、記録用磁気ヘッド及び再生用磁気ヘッドが一体化され、構成されている。記録用磁気ヘッドとして、２．１Ｔの高飽和磁束密度を有する軟磁性膜を用いた単磁極型磁気ヘッドを用いた。また、記録信号は、巨大磁気抵抗効果を有するＧＭＲ磁気ヘッドにより再生した。再生ギャップ長は０．０８μｍであった。
【００５５】
磁気ヘッド面と磁性膜との距離を１６ｎｍに保ち、磁気記録媒体に１００Ｇｂ／ｉｎ２に相当する信号（７００ｋＦＣＩ）を記録した場合、本実施の形態１における磁気記録媒体ではＳＮ比２５ｄＢが得られた。一方、比較例の磁気記録媒体ではＳＮ比は２２ｄＢであった。また、比較例の磁気記録媒体と比較して、本実施の形態１における磁気記録媒体ではノイズが全周波数領域で約５ｄＢ低かった。これは、磁性膜中に非磁性材料を導入したことにより、膜の磁化が減少し出力が低下しているが、磁壁のピニング効果および粒子間の磁気的相互作用の低減によるノイズの減少が大きいため、Ｓ／Ｎ比が良好となっている。このように、本発明の磁気記録媒体を用いることにより、ノイズを低減する効果が得られ、高記録密度の実現が可能となる。
【００５６】
次に、記録したデータの熱安定性の評価を行った。具体的には、線記録密度１００ｋＦＣＩでデータを記録し、再生出力の時間変化を室温で評価した。データ記録直後から１０００秒後の再生出力の減衰量は、本実施の形態１および比較例とも０．３ｄＢであり、実用上問題ないレベルであった。また、本実施の形態１では、非磁性材料を磁性膜の中に導入したため、膜全体としてのＫｕ⊥が比較例のそれと比べて低くなったが、本実施の形態１における磁性膜は磁性粒子と非磁性粒界からなっており、磁性粒子の磁気異方性は非磁性材料を添加しない比較例と同等であるため、同等の熱安定性を示す。
【００５７】
以上より、本発明の磁気記録媒体を用いることにより、高記録密度化と熱安定性の確保の両立が容易となる。
【００５８】
なお、上記実施の形態１において、基板と磁性膜との間に軟磁性膜を設けた構成や、更に、基板と軟磁性膜との間に、軟磁性膜の磁壁を反強磁性結合などにより固着する薄膜を設けた構成においても効果は変わらない。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本発明にかかる磁気記録媒体は、磁性膜を磁気異方性の大きい希土類−遷移金属非晶質合金からなる柱状粒子とそれを取り囲む非磁性粒界とで構成した不連続な構造とすることにより、粒界によるピン止め効果で磁壁の移動を防止できるため、磁性膜中の所望の位置に微小な記録磁区を形成することができる。また、磁性粒子間の磁気的相互作用が低減されおり、記録磁化の遷移領域に存在するジグザグパターン幅を小さくできるため、磁化遷移領域に発生する磁気記録媒体のノイズを低減できる。
【００６０】
この効果により、高密度での記録再生特性に優れた磁気記録装置等として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の磁気記録媒体の構成の一例を示す概略断面図
【図２】本発明の磁気記録媒体の製造方法の一例を示す工程図
【図３】本発明の実施の形態における磁気記録媒体の保磁力の印加磁界角度依存性を示す図
【図４】本発明の磁気記録装置の構成の一例を示す概略斜視図
【符号の説明】
【００６２】
１    磁気記録媒体
２    基板
３    成長制御膜
４    磁性膜
４ａ    島状構造膜
４ｂ    磁性材料
４ｃ    非磁性材料
５    保護膜
６    磁気ヘッド
７    駆動装置
１００    磁気記録装置
【図１】
2005071453.tif 000003
【図２】
2005071453.tif 000004
【図３】
2005071453.tif 000005
【図４】
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