(57)【要約】【課題】  鍵形の真空チャンバにおける放射光の照射面である放射光チャンネルの内端面に限定して所定の凹凸加工を容易に行い得る真空チャンバのブラスト処理装置を提供する。【解決手段】  荷電粒子を周回させるビームチャンネル１０１と、内端面１０２ａに放射光が照射される放射光チャンネル１０２との境界部分である形状変換ライン１０４に沿って走行ローラ２〜５を介して走行台車１を走行させ、この走行台車１に取り付けた噴射ノズル６の噴射口６ａから前記内端面１０２ａに向けて細粒を噴射する一方、走行台車１で支持するガイドローラ７、８を、走行ローラ２〜５の反対側でビームチャンネル１０１の内周面に当接させ、走行台車１を当ビームチャンネル１０１の軸方向に沿って走行させつつ細粒を噴射して前記内端面１０２ａのブラスト処理を行うようにした。【選択図】  図１
2005259451.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
荷電粒子の周回部分である横断面円形乃至楕円形の空間を有するビームチャンネルと、前記荷電粒子の周回に伴いその接線方向に放射される放射光の照射方向に伸びるよう前記ビームチャンネルの空間から連続させて形成した横断面矩形の空間を有する放射光チャンネルとを備えて全体の横断面形状を鍵形に形成した真空チャンバであって、前記放射光チャンネルの内端面をブラスト処理したことを特徴とする真空チャンバ。
【請求項２】
荷電粒子の周回部分である横断面円形乃至楕円形の空間を有するビームチャンネルと、前記荷電粒子の周回に伴いその接線方向に放射される放射光の照射方向に伸びるよう前記ビームチャンネルの空間から連続させて形成した横断面矩形の空間を有する放射光チャンネルとを備えて全体の横断面形状を鍵形に形成した真空チャンバのブラスト処理方法において、
噴射口を介して細粒を噴射する噴射ノズルの、前記ビームチャンネルの軸回りの回転を拘束しつつ、前記噴射口を、前記放射光の照射方向における前記放射光チャンネルの内端面に向けてこの放射光チャンネルの軸方向に沿って移動させつつ前記細粒を噴射させて前記内端面をブラスト処理することを特徴とする真空チャンバのブラスト処理方法。
【請求項３】
請求項２に記載する真空チャンバのブラスト処理方法において、
前記真空チャンバの一端に対し他端が高い位置にあるようこの真空チャンバを傾斜させて保持し、一端側から他端側に向けて前記噴射ノズルを移動しつつ前記内端面のブラスト処理を行うことを特徴とする真空チャンバのブラスト処理方法。
【請求項４】
請求項２に記載する真空チャンバのブラスト処理方法において、
前記噴射ノズルと一体的に吸収ノズルも移動し、噴射後の前記細粒を前記吸収ノズルで吸収・回収しながら前記ブラスト処理を行うことを特徴とする真空チャンバのブラスト処理方法。
【請求項５】
荷電粒子の周回部分である横断面円形乃至楕円形の空間を有するビームチャンネルと、前記荷電粒子の周回に伴いその接線方向に放射される放射光の照射方向に伸びるよう前記ビームチャンネルの空間から連続させて形成した横断面矩形の空間を有する放射光チャンネルとを備えて全体の横断面形状を鍵形に形成した真空チャンバのブラスト処理装置において、
前記ビームチャンネルと放射光チャンネルとの境界部分である形状変換ラインに沿って転動するとともに放射光チャンネル側に突出するフランジ部を有する走行ローラと、
この走行ローラを回転可能に支持することによりこの走行ローラの前記転動に伴い前記ビームチャンネル内をその軸方向に移動する走行台車と、
この走行台車に取り付けられて前記放射光チャンネルの放射光が照射される内端面に向けて細粒を噴射する噴射口を有する噴射ノズルと、
走行台車を挟んで走行ローラの反対側でビームチャンネルの内周面に当接するとともに、前記走行台車に回転可能に支持したガイドローラとを有することを特徴とする真空チャンバのブラスト処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載する真空チャンバのブラスト処理装置において、
前記走行ローラとガイドローラとの組を、前記噴射ノズルを挟んで前記走行台車の走行方向に沿う前後に配設したことを特徴とする真空チャンバのブラスト処理装置。
【請求項７】
請求項５に記載する真空チャンバのブラスト処理装置において、
前記噴射ノズルを、前記走行台車の前記移動方向にスライド可能に、この走行台車に取り付けたことを特徴とする真空チャンバのブラスト処理装置。
【請求項８】
荷電粒子の周回部分である横断面円形乃至楕円形の空間を有するビームチャンネルと、前記荷電粒子の周回に伴いその接線方向に放射される放射光の照射方向に伸びるよう前記ビームチャンネルの空間から連続させて形成した横断面矩形の空間を有する放射光チャンネルとを備えて全体の横断面形状を鍵形に形成した真空チャンバのブラスト処理装置において、
前記ビームチャンネルの軸方向に沿いこのビームチャンネル内に配設するガイドシャフトと、
このガイドシャフトの軸回りの回動を拘束されながらこのガイドシャフトを貫通してこのガイドシャフトに沿いその軸方向に移動する摺動部材と、
この摺動部材に取り付けられて前記放射光チャンネルの放射光が照射される内端面に向けて細粒を噴射する噴射口を有する噴射ノズルとを有することを特徴とする真空チャンバのブラスト処理装置。
【請求項９】
請求項８に記載する真空チャンバのブラスト処理装置において、
前記摺動部材の拘束は、前記ガイドシャフトの横断面形状の一部及び前記摺動部材の内周面の一部に直線部を形成するとともに、両直線部を相対向させて当接させることにより行うようにしたことを特徴とする真空チャンバのブラスト処理装置。
【請求項１０】
請求項８に記載する真空チャンバのブラスト処理装置において、
前記摺動部材の拘束は、前記ガイドシャフトの外周面と前記摺動部材の内周面との間に形成する凹部乃至凸部が相互に嵌まりあうことにより行うようにしたことを特徴とする真空チャンバのブラスト処理装置。
【請求項１１】
請求項８に記載する真空チャンバのブラスト処理装置において、
前記摺動部材の拘束は、前記ガイドシャフトを略平行に配設した複数本のシャフトで形成し、各シャフトを同時に摺動部材が貫通することで行うようにしたことを特徴とする真空チャンバのブラスト処理装置。
【請求項１２】
請求項５乃至請求項１１に記載する何れか一つの真空チャンバのブラスト処理装置において、
前記走行台車又は前記摺動部材と一体的に前記ビームチャンネル内をその軸方向に移動するとともに前記噴射ノズルが前記内端面に噴射した細粒を吸引して回収する回収ノズルを有することを特徴とする真空チャンバのブラスト処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は真空チャンバ、そのブラスト処理方法及びその処理装置に関し、特に荷電粒子を、磁場を用いて周回走行させる円形加速器の横断面形状が鍵形の真空チャンバ及びその内端面の処理に適用して有用なものである。
【背景技術】
【０００２】
荷電粒子加速器は、内部を高真空とした環状の真空チェンバ内で電子、陽子、イオン等の荷電粒子を磁場により周回走行させて光速近くまで加速することにより、当該荷電粒子に高エネルギーを付与する装置である。
【０００３】
このような荷電粒子加速器においては、光速に近い高エネルギーの荷電粒子が磁場中を通過しつつ軌道を曲げられるとき、軌道の接線方向に放射光を生じ、この放射光が真空チャンバの径方向外側の内壁面に衝突する。この結果、前記内壁面が加熱されて真空チャンバに多大な熱負荷が加わるばかりでなく、放射光の照射に伴なう光電効果により前記内壁面から光電子が放出され、周回する荷電粒子の障害となる等の問題があった。ちなみに、陽子等、正の電荷をもった荷電粒子を周回させる荷電粒子加速器においては、放出された光電子との衝突により周回ビームの粒子数が減少してしまう。この点からも、前記光電子の発生は可及的に低減する必要がある。
【０００４】
このため、例えば、図６に示すように、荷電粒子が周回する部分である断面円形のビームチャンネル１０１に隣接させて断面矩形の放射光チャンネル（ＳＲチャンネル）１０２を形成し、全体の横断面形状が鍵形となるようにした真空チャンバ１００が提案されている。この真空チャンバ１００は、前記放射光が照射されるその径方向外側（図６中、右側）の内端面１０２ａが、荷電粒子の周回軌道（ビームチャンネル１０１の軸心周辺）から遠ざかるように放射光チャンネル１０２を同方向に延長して形成したものである。
【０００５】
かくして荷電粒子の周回軌道から放射光チャンネル１０２の内端面１０２ａ迄の距離が長くなり、その分この内端面１０２ａから放出される光電子と周回軌道を回る荷電粒子（陽子等）との距離も遠くなる。この結果、前記距離の関数である光電子が持つエネルギーが小さくなり、その荷電粒子に対する影響も及びにくくなる。また、真空チャンバ１００の全壁長が長くなることにより単位長さ当たりの熱負荷も低減することができる。
【０００６】
なお、当該真空チャンバ１００においては、放射光が照射されて発熱部となる放射光チャンネル１０２の内端面１０２ａに隣接して冷却水を流通させる冷却チャンネル１０３が形成してある。
【０００７】
この種の粒子加速器に関する公知技術として次の特許文献１を挙げることができる。また、金属パイプ内面のブラスト加工方法及びそのブラストチップに関する公知技術として特許文献２を挙げることができる。
【０００８】
【特許文献１】特開平９−１４８１００号公報
【特許文献２】特開２００２−１４４２３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
図６に示す真空チャンバ１００を有する荷電粒子加速器において、光電子の放出は、１）真空チャンバ１００を構成する金属材料に固有の仕事関数と、２）入射する放射光の振動数とに依存するとともに、放出光電子数は、３）入射する放射光の強度（入射する光子の数）に依存する。これらのうち、１）は真空チャンバ１００の材質、２）は当該荷電粒子加速器の運転パラメータによるため、これらの性質を考慮して光電子の放出を抑制することは容易ではない。一方、３）の性質により光子が衝突する面積を減らすことによって放出される光電子の数が減ることが分かる。
【００１０】
ちなみに、機械加工により放射光照射面に凹凸を設けて陰影を付けることにより、光子の衝突面積が減ることによって放出光電子数が抑制されることが現在確認されている。
【００１１】
ただ、図６に示す構造の真空チャンバ１００の放射光チャンネル１０２は狭隘で偏平な空間となっているため、この真空チャンバ１００が短尺の場合はともかく、荷電粒子加速器に適用する実用的な真空チャンバ１００程度の長尺（例えば６ｍ程度）になると放射光の照射面である放射光チャンネル１０２の内端面１０２ａを機械加工するのは困難である。
【００１２】
一方、前記放射光チャンネル１０２の内端面１０２ａを除く当該真空チャンバ１００の内周面は可及的に平滑に形成する必要がある。すなわち、凹凸部は前記内端面１０２ａに限定する必要がある。
【００１３】
本発明は、上記従来技術に鑑み、上述の如き鍵形の真空チャンバにおける放射光の照射面である放射光チャンネルの内端面に限定してブラスト処理により所定の凹凸加工を施した真空チャンバ、そのブラスト処理方法及びその処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記目的を達成する本発明の構成は次の点を特徴とする。
【００１５】
１）  荷電粒子の周回部分である横断面円形乃至楕円形の空間を有するビームチャンネルと、前記荷電粒子の周回に伴いその接線方向に放射される放射光の照射方向に伸びるよう前記ビームチャンネルの空間から連続させて形成した横断面矩形の空間を有する放射光チャンネルとを備えて全体の横断面形状を鍵形に形成した真空チャンバであって、前記放射光チャンネルの内端面をブラスト処理したこと。
【００１６】
２）  荷電粒子の周回部分である横断面円形乃至楕円形の空間を有するビームチャンネルと、前記荷電粒子の周回に伴いその接線方向に放射される放射光の照射方向に伸びるよう前記ビームチャンネルの空間から連続させて形成した横断面矩形の空間を有する放射光チャンネルとを備えて全体の横断面形状を鍵形に形成した真空チャンバのブラスト処理方法において、
噴射口を介して細粒を噴射する噴射ノズルの、前記ビームチャンネルの軸回りの回転を拘束しつつ、前記噴射口を、前記放射光の照射方向における前記放射光チャンネルの内端面に向けてこの放射光チャンネルの軸方向に沿って移動させつつ前記細粒を噴射させて前記内端面をブラスト処理すること。
【００１７】
３）  上記２）に記載する真空チャンバのブラスト処理方法において、
前記真空チャンバの一端に対し他端が高い位置にあるようこの真空チャンバを傾斜させて保持し、一端側から他端側に向けて前記噴射ノズルを移動しつつ前記内端面のブラスト処理を行うこと。
【００１８】
４）  上記２）に記載する真空チャンバのブラスト処理方法において、
前記噴射ノズルと一体的に吸収ノズルも移動し、噴射後の前記細粒を前記吸収ノズルで吸収・回収しながら前記ブラスト処理を行うこと。
【００１９】
５）  荷電粒子の周回部分である横断面円形乃至楕円形の空間を有するビームチャンネルと、前記荷電粒子の周回に伴いその接線方向に放射される放射光の照射方向に伸びるよう前記ビームチャンネルの空間から連続させて形成した横断面矩形の空間を有する放射光チャンネルとを備えて全体の横断面形状を鍵形に形成した真空チャンバのブラスト処理装置において、
前記ビームチャンネルと放射光チャンネルとの境界部分である形状変換ラインに沿って転動するとともに放射光チャンネル側に突出するフランジ部を有する走行ローラと、
この走行ローラを回転可能に支持することによりこの走行ローラの前記転動に伴い前記ビームチャンネル内をその軸方向に移動する走行台車と、
この走行台車に取り付けられて前記放射光チャンネルの放射光が照射される内端面に向けて細粒を噴射する噴射口を有する噴射ノズルと、
走行台車を挟んで走行ローラの反対側でビームチャンネルの内周面に当接するとともに、前記走行台車に回転可能に支持したガイドローラとを有すること。
【００２０】
６）  上記５）に記載する真空チャンバのブラスト処理装置において、
前記走行ローラとガイドローラとの組を、前記噴射ノズルを挟んで前記走行台車の走行方向に沿う前後に配設したこと。
【００２１】
７）  上記５）に記載する真空チャンバのブラスト処理装置において、
前記噴射ノズルを、前記走行台車の前記移動方向にスライド可能に、この走行台車に取り付けたこと。
【００２２】
８）  荷電粒子の周回部分である横断面円形乃至楕円形の空間を有するビームチャンネルと、前記荷電粒子の周回に伴いその接線方向に放射される放射光の照射方向に伸びるよう前記ビームチャンネルの空間から連続させて形成した横断面矩形の空間を有する放射光チャンネルとを備えて全体の横断面形状を鍵形に形成した真空チャンバのブラスト処理装置において、
前記ビームチャンネルの軸方向に沿いこのビームチャンネル内に配設するガイドシャフトと、
このガイドシャフトの軸回りの回動を拘束されながらこのガイドシャフトを貫通してこのガイドシャフトに沿いその軸方向に移動する摺動部材と、
この摺動部材に取り付けられて前記放射光チャンネルの放射光が照射される内端面に向けて細粒を噴射する噴射口を有する噴射ノズルとを有すること。
【００２３】
９）  上記８）に記載する真空チャンバのブラスト処理装置において、
前記摺動部材の拘束は、前記ガイドシャフトの横断面形状の一部及び前記摺動部材の内周面の一部に直線部を形成するとともに、両直線部を相対向させて当接させることにより行うようにしたこと。
【００２４】
１０）  上記８）に記載する真空チャンバのブラスト処理装置において、
前記摺動部材の拘束は、前記ガイドシャフトの外周面と前記摺動部材の内周面との間に形成する凹部乃至凸部が相互に嵌まりあうことにより行うようにしたこと。
【００２５】
１１）  上記８）に記載する真空チャンバのブラスト処理装置において、
前記摺動部材の拘束は、前記ガイドシャフトを略平行に配設した複数本のシャフトで形成し、各シャフトを同時に摺動部材が貫通することで行うようにしたこと。
【００２６】
１２）  上記５）乃至１１）に記載する何れか一つの真空チャンバのブラスト処理装置において、
前記走行台車又は前記摺動部材と一体的に前記ビームチャンネル内をその軸方向に移動するとともに前記噴射ノズルが前記内端面に噴射した細粒を吸引して回収する回収ノズルを有すること。
【発明の効果】
【００２７】
上記構成の本発明によれば、次の様な効果を得る。
【００２８】
請求項１に記載する発明は、
荷電粒子の周回部分である横断面円形乃至楕円形の空間を有するビームチャンネルと、前記荷電粒子の周回に伴いその接線方向に放射される放射光の照射方向に伸びるよう前記ビームチャンネルの空間から連続させて形成した横断面矩形の空間を有する放射光チャンネルとを備えて全体の横断面形状を鍵形に形成した真空チャンバであって、前記放射光チャンネルの内端面をブラスト処理したので、
放射光チャンネルの内端面に凹凸を形成して陰影を付けることができ、光子の衝突面積を減らし、放射光電子数が抑制される結果、放射光が照射されたとしても発生する光電子の数を可及的に低減することが可能な真空チャンバを提供することができる。
【００２９】
請求項２に記載する発明は、
噴射口を介して細粒を噴射する噴射ノズルの、前記ビームチャンネルの軸回りの回転を拘束しつつ、前記噴射口を、前記放射光の照射方向における前記放射光チャンネルの内端面に向けてこの放射光チャンネルの軸方向に沿って移動させつつ前記細粒を噴射させて前記内端面をブラスト処理するので、
前記内端面に限定したブラスト処理を容易に行うことができる。
ちなみに、配管内面のブラスト処理は一般に行われているが、内面全体に対して一様に施工されるものである。この場合、施工は噴射口若しくは配管に回転運動を与えて行われている。
これに対し当該真空チャンバでは内周面の凹凸を極力小さくする必要があるため、施工範囲を照射面に限定しなければならず、噴射口は照射面に対して一定の方向を向いている必要がある。すなわち、周方向の拘束が必要になるが、本発明によれば、かかる拘束状態を維持しつつ限定的なブラスト処理を良好に行うことができる。
この結果、放射光が照射されたとしても発生する光電子の数を可及的に低減することができる。
【００３０】
請求項３に記載する発明は、請求項２において、
真空チャンバの一端に対し他端が高い位置にあるようこの真空チャンバを傾斜させて保持し、一端側から他端側に向けて前記噴射ノズルを移動しつつブラスト処理を行うようにしたので、
内端面に衝突した細粒が重力により自動的に排出され、その分当該ブラスト処理の作業性が向上する。
【００３１】
請求項４に記載する発明は、請求項２において、
噴射ノズルと一体的に吸収ノズルも移動し、噴射後の前記細粒を前記吸収ノズルで吸収・回収しながら前記ブラスト処理を行うようにしたので、
内端面に衝突した細粒を同時に回収することができ、その分当該ブラスト処理の作業性が向上する。
【００３２】
請求項５に記載する発明は、
ビームチャンネルと放射光チャンネルとの境界部分である形状変換ラインに沿って転動するとともに放射光チャンネル側に突出するフランジ部を有する走行ローラと、この走行ローラを回転可能に支持することによりこの走行ローラの前記転動に伴い前記ビームチャンネル内をその軸方向に移動する走行台車と、この走行台車に取り付けられて前記放射光チャンネルの放射光が照射される内端面に向けて細粒を噴射する噴射口を有する噴射ノズルと、走行台車を挟んで走行ローラの反対側でビームチャンネルの内周面に当接するとともに、前記走行台車に回転可能に支持したガイドローラとを有するので、
前記内端面に限定したブラスト処理を容易に行うことができる。この結果、当該真空チャンバの前記内端面以外の内周面の平滑度を損なうことなく、前記内端面に放射光が照射されたとしても発生する光電子の数を可及的に低減することができる。
【００３３】
請求項６に記載する発明は、請求項５において、
走行ローラとガイドローラとの組を、前記噴射ノズルを挟んで前記走行台車の走行方向に沿う前後に配設したので、
当該真空チャンバのブラスト処理の終了に際してこの真空チャンバの端部から一方の走行ローラとガイドローラとが外部に出たような状態でも残りの走行ローラとガイドローラとで噴射ノズルの所定姿勢を維持できる。
この結果、真空チャンバの端部も含め全体に亘る良好な所定のブラスト処理を行うことができる。
【００３４】
請求項７に記載する発明は、請求項５において、
噴射ノズルを、走行台車の移動方向にスライド可能に、この走行台車に取り付けたので、
当該真空チャンバのブラスト処理の終了に際して走行台車を端部に位置させた状態で噴射ノズルの所定姿勢を維持しつつ走行台車に対して噴射ノズルのみを移動することにより真空チャンバの端部のブラスト処理を良好に行うことができる。
この結果、真空チャンバの端部も含め全体に亘る良好な所定のブラスト処理を行うことができる。
【００３５】
請求項８に記載する発明は、
ビームチャンネルの軸方向に沿いこのビームチャンネル内に配設するガイドシャフトと、このガイドシャフトの軸回りの回動を拘束されながらこのガイドシャフトを貫通してこのガイドシャフトに沿いその軸方向に移動する摺動部材と、この摺動部材に取り付けられて前記放射光チャンネルの放射光が照射される内端面に向けて細粒を噴射する噴射口を有する噴射ノズルとを有するので、
前記内端面に限定したブラスト処理を容易に行うことができる。この結果、当該真空チャンバの前記内端面以外の内周面の平滑度を損なうことなく、前記内端面に放射光が照射されたとしても発生する光電子の数を可及的に低減することができる。
この際、請求項５に記載する発明のように、噴射ノズルの移動のために走行ローラを用いる方式ではないので、内端面に衝突した細粒が走行ローラと真空チャンバの内周面との間に挟まり、この内周面を傷つけるという不都合も除去し得る。
【００３６】
請求項９に記載する発明は、請求項８において、
摺動部材の拘束は、ガイドシャフトの横断面形状の一部及び前記摺動部材の内周面の一部に直線部を形成するとともに、両直線部を相対向させて当接させることにより行うようにしたので、
直線部同士を当接させることで、最も簡易にガイドシャフトの軸回りの噴射ノズルの回動を具体的に規制し得る。
【００３７】
請求項１０に記載する発明は、請求項８において、
摺動部材の拘束は、ガイドシャフトの外周面と前記摺動部材の内周面との間に形成する凹部乃至凸部が相互に嵌まり合うことにより行うようにしたので、
凹凸部の嵌合により、ガイドシャフトの軸回りの噴射ノズルの回動が確実に規制される。
【００３８】
請求項１１に記載する発明は、請求項８において、
摺動部材の拘束は、ガイドシャフトを平行に配設した複数本のシャフトで形成し、各シャフトを同時に摺動部材が貫通することで行うようにしたので、
複数本（例えば２本）のシャフトで、ガイドシャフトの軸回りの噴射ノズルの回動を確実に具体的手段で規制し得る。
【００３９】
請求項１２に記載する発明は、請求項５乃至１１の何れか一つにおいて、
走行台車又は前記摺動部材と一体的にビームチャンネル内をその軸方向に移動するとともに噴射ノズルが内端面に噴射した細粒を吸引して回収する回収ノズルを有するので、
内端面に衝突した細粒を回収ノズルで同時に回収することがてき、その分当該ブラスト処理の作業性が向上する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４０】
＜第１の実施の形態＞
図１は本発明の第１の実施の形態に係る真空チャンバのブラスト処理装置を示す図で、（ａ）がその縦断面図、（ｂ）がそのＡ-Ａ線断面図である。これらの図において、真空チャンバ自体は、図６に示すものと同一である。すなわち、鍵形の真空チャンバ１００である。そこで、図６と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する（ただし、図１において冷却チャンネル１０３は省略している。）。
【００４１】
図１（ａ）及び（ｂ）に示すように、走行台車１は、その下部に回動可能に支持する走行ローラ２、３、４、５を介してビームチャンネル１０１内をその軸方向に走行する。ここで、走行ローラ２〜５は、ビームチャンネル１０１と放射光チャンネル１０２との境界部分である形状変換ライン１０４に沿って転動するとともに、放射光チャンネル１０２側に突出するフランジ部２ａ、３ａ、４ａ、５ａを有している。このフランジ部２ａ〜５ａにより走行台車１が、ビームチャンネル１０１の軸回りに回転するのを拘束している。
【００４２】
噴射ノズル６は、走行台車１に取り付けられて放射光チャンネル１０２の放射光が照射される内端面１０２ａに向けて細粒を噴射する噴射口６ａを有する。ここで、細粒としては粒径が１ｍｍ程度のアルミナが好適である。かかる細粒を圧縮空気で搬送して噴射口から内端面１０２ａに向けて噴射し、この内端面１０２ａに衝突させることにより、この内端面１０２ａに凹凸を形成する。すなわち、ブラスト処理を行う。
【００４３】
ガイドローラ７、８は、走行台車１を挟んで走行ローラ（２，３）、（４，５）の反対側でビームチャンネル１０１の内周面に当接するとともに、走行台車１に回転可能に支持してある。このガイドローラ７、８は、走行台車１の軸方向移動をガイドするとともに、噴射ノズル６を介して細粒を噴射した時の反力による走行台車１の浮き上がりを防止して走行台車１の良好な走行と、これに伴う良好なブラスト処理を保証する。
【００４４】
本形態では、走行ローラ２、３とガイドローラ７との組、走行ローラ４、５とガイドローラ８との組というように、噴射ノズル６の噴射口６ａを挟んで、走行台車１の走行方向に沿う前後２箇所にこれらの組を配設している。
【００４５】
かかる本形態において、内端面１０２ａブラスト処理する場合には、走行台車１をビームチャンネル１０１の軸方向に沿って移動させつつ、噴射口６ａを介して細粒を噴射すれば良い。この結果、細粒は前記内端面１０２ａに衝突して所定のブラスト処理を行う。
【００４６】
このとき、走行台車１のビームチャンネル１０１の軸回りの回動は走行ローラ２〜５のフランジ部２ａ〜５ａで拘束される。この結果、前記ブラスト処理は内端面１０２ａに限定したものとなる。
【００４７】
さらに本形態では、２組の走行ローラ（２，３）、（４，５）及びガイドローラ６、７を有しているので、当該真空チャンバ１００のブラスト処理の終了に際してこの真空チャンバ１００の端部から一方の走行ローラ４、５とガイドローラ８とが外部に出たような状態でも残りの走行ローラ２、３とガイドローラ７とで噴射ノズル６の所定姿勢を維持できる。この結果、真空チャンバ１００の端部も含め全体に亘る良好な所定のブラスト処理を行うことができる。
【００４８】
ただ、真空チャンバ１００の端部のブラスト処理の際の上述の如き効果は期待できないが、１組の走行ローラ（２，３）及びガイドローラ６を有している場合も本願発明の思想には含まれる。
【００４９】
＜第２の実施の形態＞
図２は本発明の第２の実施の形態に係る真空チャンバのブラスト処理装置を示す図で、（ａ）がその縦断面図、（ｂ）がそのＢ−Ｂ線矢視図、（ｃ）が（ｂ）の一部を抽出してその変形例を示す正面図である。なお、同図中、図１と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。
【００５０】
図２（ａ）及び（ｂ）に示すように、本形態に係るブラスト処理装置は、走行台車１１、走行ローラ１２，１３、フランジ部1２ａ、１３ａ、噴射ノズル１６、噴射口１６ａ、ガイドローラ１７が、図１に示す、走行台車１、走行ローラ２，３、フランジ部２ａ、３ａ、噴射ノズル６、噴射口６ａ、ガイドローラ７にそれぞれ機能的に対応している。すなわち、全く同一の機能を有する。
【００５１】
一方、上記走行台車１１には、その走行方向に伸びるスライド溝１１ａが設けてあり、この溝１１ａにスライド部材１４が嵌め込まれている。スライド部材１４はスライド溝１１ａ内を前記走行方向に移動するようになっている。噴射ノズル１６はスライド部材１４に保持してある。また、噴射ノズル１６にはブラスト処理用の細粒が圧縮空気とともにホース１５を介して供給されるが、走行台車１１の移動も、このホース１５を引っ張ることにより行う。ストッパ１８はその端面が建物等の固定部（図示せず。）に当接して、それ以上の走行台車１１の移動（図２（ａ）中、右方向への移動）を規制するためのものである。
【００５２】
なお、放射光チャンネル１０２の幅が狭い場合には、図２（ｃ）に示すように、走行ローラ１２、１３の外側から走行台車１１に支持するようにすれば良い。
【００５３】
かかる本形態においても、基本的には前記第１の実施の形態と同態様で内端面１０２ａのブラスト処理が行われるが、当該ブラスト処理の終了に際し、ストッパ１８で走行台車１１の位置を真空チャンバ１００の端部に規制した状態で、ホース１５を強く引くとスライド部材１４がスライド溝１１ａに沿ってスライドする。すなわち、スライド溝１１ａの図中左端から右端迄移動する。このことにより、スライド部分に対応する内端面１０２ａも良好にブラスト処理を行うことができ、真空チャンバ１００の端部も含め全体に亘る良好な所定のブラスト処理を行うことができる。
【００５４】
＜第３の実施の形態＞
図３は本発明の第３の実施の形態に係る真空チャンバのブラスト処理装置を示す縦断面図である。同図中、図１と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。
【００５５】
図３に示すように、本形態に係るブラスト処理装置は、ビームチャンネル１０１の軸方向に沿いこのビームチャンネル１０１内に配設するガイドシャフト２１と、このガイドシャフト２１の軸回りの回動を拘束されながらこのガイドシャフト２１を貫通してこのガイドシャフト２１に沿いその軸方向に移動する摺動部材２２、２３と、この摺動部材２２、２３に取り付けられて内端面１０２ａに向けて細粒を噴射する噴射口２６ａを有する噴射ノズル２６とを有する。噴射ノズル２６にはホース２７を介して圧縮空気とともにブラスト処理用の細粒が供給される。また、ガイドシャフト２１は当該真空チャンバ１００の外部でその両端部を支持部材（図示せず。）に支持してある。かくして、ホース２７を引っ張ることにより摺動部材２２、２３を介して噴射ノズル２１をビームチャンネル１０１の軸方向に沿って移動することができる。
【００５６】
かかる実施の形態においても、噴射ノズル２６を移動させつつその噴射口２６ａから細粒を噴射することにより内端面１０２ａをブラスト処理する。このとき、噴射ノズル２６の移動は、真空チャンバ１００の内周面と接触することなく行うことができるので、この移動に起因して真空チャンバ１００の内周面を損傷することはない。
【００５７】
ここで、本実施の形態に関し、摺動部材２２、２３の軸回りの回転を拘束する構造に関する実施例を図４に基づき説明しておく。同図は、噴射ノズル部分のガイドシャフト及び摺動部材の横断面図である。
【実施例１】
【００５８】
図４（ａ）に示すように、ガイドシャフト２１はその横断面形状の一部に直線部を有している。一方、摺動部材２２、２３の内周面も直線部を有しており、この直線部がガイドシャフト２１の直線部と相対向して当接するようになっている。この結果、摺動部材２２、２３の拘束は、ガイドシャフト２１の横断面形状の一部（２辺）及び摺動部材２１における、直線部を相対向させて当接させることにより行なうことができる。
【００５９】
本実施例１によれば、直線部同士を当接させることで、最も簡易にガイドシャフトの軸回りの噴射ノズル２６の回動を規制し得る。
【実施例２】
【００６０】
図４（ｂ）に示すように、ガイドシャフト４１の外周面の相対向する２箇所には凹部４１ａが形成してある。一方、摺動部材４２、４３の内周面の相対向する２箇所には、前記凹部４１ａに嵌まり込む凸部４２ａ、４３ａが形成してある。この結果、摺動部材４２、４３の拘束は、ガイドシャフト凹部４１ａと摺動部材４２、４３の凸４２ａ、４３ａが相互に嵌まり合うことにより行う。
【００６１】
本実施例２によれば、凹部４１ａと凸部４２ａ、４３ａの嵌合により、ガイドシャフト４１の軸回りの噴射ノズル２６の回動が確実に規制される。
【実施例３】
【００６２】
図４（ｃ）に示すように、本実施例のガイドシャフトは、平行に配設した２本のシャフト５１ａ、５１ｂからなり、摺動部材５２、５３は両シャフト５１ａ、５１ｂを同時に貫通して噴射ノズル２６を支持している。この結果、摺動部材５２、５３の拘束は、各シャフト５１ａ、５１ｂを同時に摺動部材５２、５３が貫通することで行う。
【００６３】
本実施例３によれば、２本のシャフト５１ａ、５１ｂで、その軸回りの噴射ノズル２６の回動を確実に規制し得る。
【００６４】
＜第４の実施の形態＞
図５は本発明の第４の実施の形態に係る真空チャンバのブラスト処理装置を示す縦断面図である。本実施例に係るブラスト処理装置は、図３に示すブラスト処理装置に細粒の回収装置を追加したものである。そこで、図５中、図３と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略する。
【００６５】
図５に示すように、回収ノズル６６は、負圧の作用により吸引口６６ａを介して内端面１０２ａ上に溜まっている細粒を吸引・回収するもので、摺動部材２２、２３と同様に摺動部材６２、６３がガイドシャフト２１を貫通してこのガイドシャフト２１に支持してある。かくして、噴射ノズル２６と一体的にその軸方向に移動可能に構成してある。
【００６６】
本形態によれば、内端面１０２ａに衝突した細粒を回収ノズル６６でブラスト処理と同時に回収することができる。したがって、その分当該ブラスト処理の作業性が向上する。また、ブラスト処理後の細粒で真空チャンバ１００を傷付ける可能性も可及的に小さくすることができる。
【００６７】
なお、上記実施の形態では、図３に示す実施の形態と回収ノズル６６を組み合わせたが、これに限るものではない。図１乃至図２に示す実施の形態と組み合わせることもできる。この場合には、走行台車１、１１で回収ノズル６６を支持する構造とすれば良い。
【００６８】
また、回収ノズル６６を有しない場合、真空チャンバ１００の一端に対し他端が高い位置にあるよう、この真空チャンバ１００を傾斜させて保持し、一端側から他端側に向けて前記噴射ノズル６、１６、２６を移動しつつブラスト処理を行うようにしても良い。この場合、内端面１０２ａに衝突した細粒が重力により自動的に排出されるので、上記第４の実施の形態と同様の効果を得る。
【産業上の利用可能性】
【００６９】
本発明は荷電粒子を周回させながら加速する荷電粒子加速器の産業分野で利用可能性を有するものである。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る真空チャンバのブラスト処理装置を示す図で、（ａ）がその縦断面図、（ｂ）がそのＡ-Ａ線断面図である。
【図２】本発明の第２の実施の形態に係る真空チャンバのブラスト処理装置を示す図で、（ａ）がその縦断面図、（ｂ）がそのＢ−Ｂ線矢視図、（ｃ）が（ｂ）の一部を抽出してその変形例を示す正面図である。
【図３】本発明の第３の実施の形態に係る真空チャンバのブラスト処理装置を示す縦断面図である。
【図４】図３の噴射ノズルの拘束構造に関する各実施例を抽出して示す横断面図である。
【図５】本発明の第４の実施の形態に係る真空チャンバのブラスト処理装置を示す縦断面図である。
【図６】本発明によりブラスト処理を行う真空チャンバを示す斜視図である。
【符号の説明】
【００７１】
１、１１        走行台車
２〜５、１２、１３        走行ローラ
２ａ〜５ａ、１２ａ、１３ａ        フランジ部
６、１６、２６        噴射ノズル
6ａ、１６ａ、２６ａ        噴射口
７、８、１７        ガイドローラ
１１ａ        スライド溝
１４        スライド部材
１５、２７        ホース
１８        ストッパ
２１、３１、４１、５１        ガイドシャフト
２２、２３、３２、３３、４２、４３、５２、５３        摺動部材
４１ａ        凹部
４２ａ、４３ａ        凸部
６６        回収ノズル
１００        真空チャンバ
１０１        ビームチャンネル
１０２        放射光チャンネル
１０２ａ      内端面
１０４        形状変換ライン
【図１】
2005259451.tif 000003
【図２】
2005259451.tif 000004
【図３】
2005259451.tif 000005
【図４】
2005259451.tif 000006
【図５】
2005259451.tif 000007
【図６】
2005259451.tif 000008