(57)【要約】【課題】  植物病害に対して、優れた防除効力を有する化合物を提供すること。【解決手段】  式（１）2005263639.tif 000054［式中、Ｒ1及びＲ2は各々水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基等を表し、Ｒ3は水素原子、シアノ基又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ4及びＲ5は各々Ｃ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ４アルケニル基又はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｘ1は酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｘ2はＣＨ又は窒素原子を表し、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を表す。］で示されるアミド化合物は植物病害に対して優れた防除効力を有する。【選択図】  なし  【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
2005263639.tif 000053
［式中、
Ｒ1及びＲ2は各々、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基若しくはＣ１−Ｃ４ハロアルキル基を表すか、
又はＲ1とＲ2とが一緒になってＣ３−Ｃ５ポリメチレン若しくはＣＲ6＝ＣＲ7−ＣＲ8＝ＣＲ9を表し、
Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はＣ１−Ｃ４ハロアルキル基を表し、
Ｒ3は水素原子、シアノ基又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
Ｒ4はＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ４アルケニル基又はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、
Ｒ5はＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ４アルケニル基又はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、
Ｘ1は酸素原子又は硫黄原子を表し、
Ｘ2はＣＨ又は窒素原子を表し、
Ｙは酸素原子又は硫黄原子を表す。］
で示されるアミド化合物。
【請求項２】
Ｒ3が水素原子である請求項１記載のアミド化合物。
【請求項３】
Ｒ3がシアノ基である請求項１記載のアミド化合物。
【請求項４】
Ｘ2がＣＨである請求項１〜３いずれか一項記載のアミド化合物。
【請求項５】
Ｘ2が窒素原子である請求項１〜３いずれか一項記載のアミド化合物。
【請求項６】
Ｘ1が硫黄原子である請求項１〜５いずれか一項記載のアミド化合物。
【請求項７】
Ｘ1が酸素原子である請求項１〜５いずれか一項記載のアミド化合物。
【請求項８】
Ｒ1が水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基であり、Ｒ2が水素原子である請求項１〜７いずれか一項記載のアミド化合物。
【請求項９】
Ｒ1とＲ2とが一緒になって、ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨである請求項１〜７いずれか一項記載のアミド化合物。
【請求項１０】
Ｙが酸素原子である請求項１に記載のアミド化合物。
【請求項１１】
Ｙが硫黄原子である請求項１に記載のアミド化合物。
【請求項１２】
Ｒ4がＣ１−Ｃ４アルキル基である請求項１０又は１１記載のアミド化合物。
【請求項１３】
Ｒ4がＣ１−Ｃ２アルキル基である請求項１０又は１１記載のアミド化合物。
【請求項１４】
Ｒ5がＣ３−Ｃ４アルキニル基である請求項１０〜１３いずれか一項記載のアミド化合物。
【請求項１５】
請求項１〜１４いずれか一項記載のアミド化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤。
【請求項１６】
請求項１〜１４いずれか一項記載のアミド化合物の有効量を植物又は植物を栽培する土壌に処理することを特徴とする植物病害の防除方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、５員複素環を有するアミド化合物とその用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
５員複素環を有するアミド化合物としては例えば、下記式（Ａ）
2005263639.tif 000002
で示される化合物（３−（４−メトキシフェニル）−Ｎ−チオフェン−２−イルメチル−プロピオンアミド、ＣＡＳ番号：５４５４４２−０８−８）が知られている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、優れた植物病害防除効力を有する化合物及び植物病害防除剤を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者は優れた植物病害防除効力を有する化合物を見出すべく鋭意検討をした結果、
下記式（１）で示される５員複素環を有するアミド化合物が優れた植物病害防除効力を有することを見出し、本発明を完成した。
【０００５】
すなわち、本発明は式（１）
2005263639.tif 000003
［式中、Ｒ1及びＲ2は各々、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル基若しくはＣ１−Ｃ４ハロアルキル基を表すか、又はＲ1とＲ2とが一緒になってＣ３−Ｃ５ポリメチレン若しくはＣＲ6＝ＣＲ7−ＣＲ8＝ＣＲ9を表し、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１−Ｃ４アルキル又はＣ１−Ｃ４ハロアルキル基を表し、Ｒ3は水素原子、シアノ基又はＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ4はＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ４アルケニル基又はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｒ5はＣ１−Ｃ４アルキル基、Ｃ３−Ｃ４アルケニル基又はＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、Ｘ1は酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｘ2はＣＨ又は窒素原子を表し、Ｙは酸素原子又は硫黄原子を表す。］で示されるアミド化合物（以下、本発明化合物と記す。）、本発明化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤、及び本発明化合物の有効量を植物又は土壌に処理することを特徴とする植物病害の防除方法を提供する。
【発明の効果】
【０００６】
本発明化合物は優れた植物病害防除効力を有することから、植物病害防除剤の有効成分として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9で示される
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、
Ｃ１−Ｃ４アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられ、
Ｃ１−Ｃ４ハロアルキル基としては、例えばフルオロメチル基、ジフルオロメチル基及びトリフルオロメチル基が挙げられる。
【０００８】
Ｒ1とＲ2とが一緒になったＣ３−Ｃ５ポリメチレンとしては、トリメチレン、テトラメチレン及びペンタメチレンが挙げられる。
【０００９】
Ｒ3で示されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基及びイソプロピル基が挙げられる。
【００１０】
Ｒ4及びＲ5で示される
Ｃ１−Ｃ４アルキル基としては、メチル基及びエチル基のＣ１−Ｃ２アルキル基；プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基並びにｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられ、
Ｃ３−Ｃ４アルケニル基としては、２−プロペニル基、１−メチル−２−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、２−ブテニル基及び３−ブテニル基が挙げられ、
Ｃ３−Ｃ４アルキニル基としては、２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基及び３−ブチニル基が挙げられる。
【００１１】
本発明化合物の態様としては、例えば以下の化合物が挙げられる。
式（１）において、R1が水素原子、ハロゲン原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基であるアミド化合物；
式（１）において、R1が水素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R1がハロゲン原子であるアミド化合物；
式（１）において、R1がC１−C４アルキル基であるアミド化合物；
式（１）において、R1が塩素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R1がメチル基であるアミド化合物；
【００１２】
式（１）において、R2が水素原子、ハロゲン原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基であるアミド化合物；
式（１）において、R2が水素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R2がハロゲン原子であるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCR6＝CR7−CR8＝CR9であるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであるアミド化合物；
式（１）において、R1及びR2が各々、水素原子、ハロゲン原子又はC１−C４アルキル基であるアミド化合物；
【００１３】
式（１）において、R3が水素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R3がシアノ基であるアミド化合物；
式（１）において、X1が硫黄原子であるアミド化合物；
式（１）において、X1が酸素原子であるアミド化合物；
式（１）において、X2がCHであるアミド化合物；
式（１）において、X2が窒素原子であるアミド化合物；
【００１４】
式（１）において、R3が水素原子であり、X2がCHであるアミド化合物；
式（１）において、R3がシアノ基であり、X2がCHであるアミド化合物；
式（１）において、R3が水素原子であり、X2が窒素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R3がシアノ基であり、X2が窒素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R3が水素原子であり、X1が硫黄原子であり、X2がCHであるアミド化合物；
式（１）において、R3がシアノ基であり、X1が硫黄原子であり、X2がCHであるアミド化合物；
式（１）において、R3が水素原子であり、X1が硫黄原子であり、X2が窒素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R3がシアノ基であり、X1が硫黄原子であり、X2が窒素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R3が水素原子であり、X1が酸素原子であり、X2がCHであるアミド化合物；
式（１）において、R3がシアノ基であり、X1が酸素原子であり、X2がCHであるアミド化合物；
式（１）において、R3が水素原子であり、X1が酸素原子であり、X2が窒素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R3がシアノ基であり、X1が酸素原子であり、X2が窒素原子であるアミド化合物；
【００１５】
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、R3が水素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、R3がシアノ基であるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、X1が硫黄原子であるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、X1が酸素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、X2がCHであるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、X2が窒素原子であるアミド化合物；
【００１６】
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、R3が水素原子であり、X2がCHであるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、R3がシアノ基であり、X2がCHであるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、R3が水素原子であり、X2が窒素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、R3がシアノ基であり、X2が窒素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、R3が水素原子であり、X1が硫黄原子であり、X2がCHであるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、R3がシアノ基であり、X1が硫黄原子であり、X2がCHであるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、R3が水素原子であり、X1が硫黄原子であり、X2が窒素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、R3がシアノ基であり、X1が硫黄原子であり、X2が窒素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、R3が水素原子であり、X1が酸素原子であり、X2がCHであるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、R3がシアノ基であり、X1が酸素原子であり、X2がCHであるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、R3が水素原子であり、X1が酸素原子であり、X2が窒素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R1とR2とが一緒になってCH＝CH−CH＝CHであり、R3がシアノ基であり、X1が酸素原子であり、X2が窒素原子であるアミド化合物；
【００１７】
式（１）において、Yが酸素原子であるアミド化合物；
式（１）において、Yが硫黄原子であるアミド化合物；
式（１）において、R4がC１−C４アルキル基であるアミド化合物；
式（１）において、R4がC１−C２アルキル基であるアミド化合物；
式（１）において、R5がC３−C４アルキニル基であるアミド化合物；
【００１８】
式（１）において、R4がC１−C４アルキル基であり、R5がC３−C４アルキニル基であるアミド化合物；
式（１）において、R4がC１−C２アルキル基であり、R5がC３−C４アルキニル基であるアミド化合物；
式（１）において、R4がC１−C４アルキル基であり、R5がC３−C４アルキニル基であり、Yが酸素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R4がC１−C２アルキル基であり、R5がC３−C４アルキニル基であり、Yが酸素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R4がC１−C４アルキル基であり、R5がC３−C４アルキニル基であり、Yが硫黄原子であるアミド化合物；
式（１）において、R4がC１−C２アルキル基であり、R5がC３−C４アルキニル基であり、Yが硫黄原子あるアミド化合物；
【００１９】
式（１）において、R4がC１−C４アルキル基であり、R5がC３−C４アルキニル基であり、X1が酸素原子であり、Yが酸素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R4がC１−C４アルキル基であり、R5がC３−C４アルキニル基であり、X1が酸素原子であり、Yが硫黄原子であるアミド化合物；
式（１）において、R4がC１−C４アルキル基であり、R5がC３−C４アルキニル基であり、X1が硫黄原子であり、Yが酸素原子であるアミド化合物；
式（１）において、R4がC１−C４アルキル基であり、R5がC３−C４アルキニル基であり、X1が硫黄原子であり、Yが硫黄原子であるアミド化合物；
【００２０】
次に、本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は例えば以下の（製造法Ａ）、（製造法Ｂ）又は（製造法Ｃ）にしたがって製造することができる。
【００２１】
（製造法Ａ）
本発明化合物のうちＹが酸素原子である式（１−１）で示される化合物は、式（２）で示される化合物または式（２）で示される化合物の塩（例えば塩酸塩、トリフルオロ酢酸塩が挙げられる。）と式（３）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
2005263639.tif 000004
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｘ1及びＸ2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下、通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（３）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（２）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、（ｉ）反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する、又は（ｉｉ）反応混合物に少量の水を加えてから減圧下濃縮し、得られた固体を濾集する等の後処理操作を行うことにより、式（１−１）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１−１）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２２】
（製造法Ｂ）
本発明化合物のうちＹが酸素原子である式（１−１）で示される化合物は、式（２）で示される化合物または式（２）で示される化合物の塩（例えば塩酸塩、トリフルオロ酢酸塩が挙げられる。）と式（４）で示される化合物とを、脱水縮合剤の存在下で反応させることにより製造することもできる。
2005263639.tif 000005
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｘ1及びＸ2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下、脱水縮合剤の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（以下、ＷＳＣと記す）、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（４）で示される化合物１モルに対して、式（２）で示される化合物が通常１〜３モルの割合であり、脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１４０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、（ｉ）反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する、又は（ｉｉ）反応混合物に少量の水を加えてから減圧下濃縮し、得られた固体を濾集する等の後処理操作を行うことにより、式（１−１）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１−１）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２３】
（製造法Ｃ）
本発明化合物のうちＹが硫黄原子である式（１−２）で示される化合物は、例えば式（１−１）で示される化合物と２，４−ビス（４−メトキシフェニル）−１，３−ジチア−２，４−ジホスフェタン−２，４−ジスルフィド（以下、ローソン試薬と記す）とを反応させることにより製造することができる。
2005263639.tif 000006
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｘ1及びＸ2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられるローソン試薬の量は、式（１−１）で示される化合物１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常５０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に水を注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１−２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１−２）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２４】
次に、本発明化合物の中間体の製造法について説明する。
【００２５】
式（３）で示される化合物および式（４）で示される化合物は、例えば下記のスキームに従って製造することができる。
2005263639.tif 000007
〔式中、Ｒ4及びＲ5は前記と同じ意味を表し、Ｒ10はメチル基、エチル基またはプロピル基を表し、Ｌ1は塩素原子又は臭素原子を表し、Ｌ2はハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基またはｐ−トルエンスルホニルオキシ基を表す。〕
【００２６】
工程（ＩＩ−１）
式（８）で示される化合物は、式（６）で示される化合物と式（７）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下、通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素物、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（６）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（７）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（８）で示される化合物を単離することができる。単離された式（８）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２７】
工程（ＩＩ−２）
式（１０）で示される化合物は、式（８）で示される化合物と式（９）で示される化合物を反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下、通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムターシャリーブトキシド等の金属アルコキシドが挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（８）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（９）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１０）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１０）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２８】
工程（ＩＩ−３）
式（１１）で示される化合物は、水素化触媒の存在下、式（１０）で示される化合物と水素とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常水素雰囲気下、通常溶媒の存在下、酸触媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒としては、例えばパラジウム炭素、水酸化パラジウム、ラネーニッケル、酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒の量は、式（１０）で示される化合物１モルに対して通常０．００１〜０．５モルの割合である。
該反応は、通常１〜１００気圧の水素雰囲気下で行われる。
該反応は、さらに必要に応じて酸（塩酸等）を加えて行うこともできる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、濾液を有機溶媒抽出して、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１１）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１１）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００２９】
工程（ＩＩ−４）
式（１３）で示される化合物は、式（１１）で示される化合物と式（１２）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下、通常塩基の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物が挙げられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１１）で示される化合物１モルに対して塩基が通常１〜１０モルの割合、式（１２）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えてから濾過し、濾液を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１３）で示される化合物は、蒸留、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３０】
工程（ＩＩ−５）
式（４）で示される化合物は式（１３）で示される化合物を塩基の存在下で、水と反応させることにより製造することができる。
該反応は通常水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩基としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物が挙げられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（１３）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に酸性水（塩酸等）を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（４）で示される化合物を単離することができる。単離された式（４）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできるが、そのまま次の工程に用いることもできる。
【００３１】
工程（ＩＩ−６）
式（３）で示される化合物は、式（４）で示される化合物と塩素化剤とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる塩素化剤としては、例えば塩化チオニル、塩化オキサリル及びオキシ塩化リンが挙げられる。
反応に用いられる塩素化剤の量は、式（４）で示される化合物１モルに対して、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常３０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物をそのまま濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（３）で示される化合物は、通常精製することなく次の工程の反応に用いられるが、必要により蒸留等により精製することができる。
【００３２】
前述式（２）で示される化合物のうち、Ｒ1とＲ2とが一緒になってＣＲ6＝ＣＲ7−ＣＲ8＝ＣＲ9であり、Ｒ3が水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｘ2が窒素原子である式（２−１）で示される化合物は、例えば下記のスキームにしたがって製造することができる。
2005263639.tif 000008
〔式中、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＸ1は前記と同じ意味を表し、Ｒ3-1は水素原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、ＨＡは塩酸、硫酸又はトリフルオロ酢酸を表す。〕
【００３３】
前述式（１４）で示される化合物のうち、Ｘ1が硫黄原子である化合物は、例えばＣｈｅｍｉｃａｌ  ＆  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ  Ｂｕｌｌｅｔｉｎ，ｖｏｌ．４６，Ｎｏ．４，ｐｐ.６２３−６３０，１９９８に記載された化合物であるか又は該文献に記載された方法に準じて製造することができる化合物である。
【００３４】
工程（ＩＩＩ−１）
式（１６）で示される化合物は、式（１４）で示される化合物と式（１５）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下、脱水縮合剤の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、１、１’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１４）で示される化合物１モルに対して脱水縮合剤が通常１〜１０モルの割合、式（１５）で示される化合物が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて酸性水（希塩酸等）、塩基性水（炭酸水素ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１６）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１６）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３５】
工程（ＩＩＩ−２）
式（２−１）で示される化合物は、式（１６）で示される化合物を酸の存在下で、加水分解することにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸等の有機酸、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる酸としては、例えば塩酸、硫酸等の無機酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸が挙げられる。
反応に用いられる酸の量は、式（１６）で示される化合物１モルに対して通常０．１〜５０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物をそのまま濃縮する等の操作を行うことにより、式（２−１）で示される化合物またはその塩を単離することができる。単離された式（２−１）で示される化合物は再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３６】
前述式（２）で示される化合物のうち、Ｒ3が水素原子又はＣ１−Ｃ３アルキル基（メチル基等が挙げられる）である式（２−２）で示される化合物は、下記のスキームにしたがって製造することもできる。
2005263639.tif 000009
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3-1、Ｘ1及びＸ2は前記と同じ意味を表し、Ｒ13は水素原子又はＣ１〜Ｃ３アルキル基を表す。〕
【００３７】
工程（ＩＶ−１）
式（１８）で示される化合物は，式（１７）で示される化合物とヒドロキルアミン若しくはアルコキシアミン又はそれらの塩（例えば塩酸塩が挙げられる。）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコール類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられるヒドロキルアミン若しくはアルコキシアミン又はそれらの塩の量は、式（１７）で示される化合物１モルに対して、通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加してから有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより式（１８）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１８）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３８】
工程（ＩＶ−２−１）
式（２−２）で示される化合物は、例えば水素化触媒の存在下、式（１８）で示される化合物と水素とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常水素雰囲気下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒としては、例えばパラジウム炭素、水酸化パラジウム、ラネーニッケル、酸化白金等の遷移金属化合物が挙げられる。
反応に用いられる水素化触媒の量は、式（１８）で示される化合物１モルに対して通常０．００１〜０．５モルの割合である。
該反応は、通常１〜１００気圧の水素雰囲気下で行われる。
該反応は、さらに必要に応じて酸（塩酸等）を加えて行うこともできる。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、濾液を有機溶媒抽出して、得られた有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２−２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２−２）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００３９】
工程（ＩＶ−２−２）
式（２−２）で示される化合物は、例えば式（１８）で示される化合物と還元剤とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる還元剤としては、例えば水素化アルミニウムリチウム、水素化ホウ素ナトリウム等の金属水素化物が挙げられる。
反応に用いられる還元剤の量は、用いる還元剤の種類にもよるが、式（１８）で示される化合物１モルに対して通常０．５〜５モルの割合である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて塩基性水（水酸化ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２−２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２−２）で示される化合物は、例えば（ｉ）蒸留、クロマトグラフィー等の操作によりさらに精製することもできる。または、（ｉｉ）酸を加え濃縮する事により、式（２−２）で示される化合物の塩を単離することができる。単離された式（２−２）で示される化合物の塩は再結晶等の操作によりさらに精製することも出来る。
【００４０】
式（２−２）で示される化合物は、例えば下記のスキームにしたがって製造することもできる。
2005263639.tif 000010
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3-1、Ｘ1及びＸ2は前記と同じ意味を表し、Ｌ3は塩素原子又は臭素原子、メタンスルホニルオキシ基、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基またはｐ−トルエンスルホニルオキシ基を表す。〕
【００４１】
工程（Ｖ−１）
式（２０）で示される化合物は，式（１９）で示される化合物とフタルイミドカリウムとを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられるフタルイミドカリウムの量は、式（１９）で示される化合物１モルに対して、通常１〜３モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加してから有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより式（２０）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２０）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４２】
工程（Ｖ−２）
式（２−２）で示される化合物は、式（２０）で示される化合物とヒドラジンとを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としてはメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられるヒドラジンとは、ヒドラジンそのものでもよく、また水和物でもよい。
反応に用いられるヒドラジンの量は、式（２０）で示される化合物１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濾過し、濾液に水を加えて有機溶媒抽出して、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２−２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２−２）で示される化合物は、蒸留、クロマトグラフィー等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４３】
式（２−２）で示される化合物は下記のスキームにしたがって製造することもできる。
2005263639.tif 000011
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3-1、Ｘ1、Ｘ2及びＬ1は前記と同じ意味を表す。〕
【００４４】
工程（ＶＩ−１）
式（２２）で示される化合物は，式（２１）で示される化合物とヘキサメチレンテトラミンとを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられるヘキサメチレンテトラミンの量は、式（２１）で示される化合物１モルに対して通常１〜３モルの割合である。
該反応の反応温度は通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物をそのまま濃縮し、ろ過する等の後処理操作を行うことにより、式（２２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２２）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４５】
工程（ＶＩ−１）
式（２−２）で示される化合物は、式（２２）で示される化合物と酸とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としてはメタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール類、水及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる酸としては、例えば塩酸、硫酸等の無機酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。
反応に用いられる酸の量は、式（２２）で示される化合物１モルに対して通常０．１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の操作を行うことにより、式（２−２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２−２）で示される化合物はクロマトグラフィー、再結晶等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４６】
前述式（２）で示される化合物のうち、Ｒ3が水素原子である式（２−３）で示される化合物は、例えば式（２３）で示される化合物と還元剤とを反応させることにより製造することができる。
2005263639.tif 000012
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ1及びＸ2は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えば１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類及びこれらの混合物が挙げられる。
反応に用いられる還元剤としては、例えば水素化アルミニウムリチウム、ジイソブチルアルミニウムヒドリド等の金属水素化物が挙げられる。
反応に用いられる還元剤の量は、用いる還元剤の種類にもよるが、式（２３）で示される化合物１モルに対して、通常０．５〜５モルの割合である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加して有機溶媒抽出し、有機層を必要に応じて塩基性水（水酸化ナトリウム水溶液等）で洗浄してから、乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２−３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２−３）で示される化合物は、蒸留、クロマトグラフィー等の操作によりさらに精製することもできる。
【００４７】
前述式（２）で示される化合物のうちＲ3がシアノ基である式（２−４）で示される化合物は、例えばＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，ｖｏｌ．２５，Ｎｏ．４１，ｐｐ.４５８３−４５８６，１９８４に記載された化合物であるか又は該文献に記載された方法に準じて製造することができる化合物である。
2005263639.tif 000013
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｘ1及びＸ2は前記と同じ意味を表す。〕
【００４８】
本発明化合物が防除効力を有する植物病害としては、例えば藻菌類による植物病害が挙げられ、具体的には例えば次の病害が挙げられる。
蔬菜類、ダイコンのべと病（Peronospora brassicae）、ホウレンソウのべと病（Peronospora spinaciae）、タバコのべと病（Peronospora tabacina）、ウリ類のべと病（Pseudoperonospora cubensis）、ブドウのべと病(Plasmopara viticola)、リンゴ、イチゴ、ヤクヨウニンジンの疫病（Phytophthora cactorum）、トマト、キュウリの灰色疫病（Phytophora capsici）、パイナップルの疫病（Phytophthora cinnamomi）、ジャガイモ、トマトの疫病（Phytophthora infestans）、タバコ、ソラマメ、ネギの疫病（Phytophthora nicotianae var. nicotianae）、ホウレンソウの立枯病（Pythium sp.）、キュウリ苗立枯病（Pythium aphanidermatum）、コムギ褐色雪腐病（Pythium sp.）、タバコ苗立枯病（Pythium debaryanum）、ダイズのPythium rot（Pythium aphanidermatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum）。
【００４９】
本発明の植物病害防除剤は本発明化合物そのものであってもよいが、通常は固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤と混合し、乳剤、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粉剤、粒剤等に製剤化されている。これらの製剤は本発明化合物を通常０．１〜９０重量％含有する。
【００５０】
製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば、カオリンクレー、アッタパルジャイトクレー、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物、トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物、尿素等の合成有機物、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からなる微粉末あるいは粒状物等が挙げられ、液体担体としては、例えば、キシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、２−プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植物油、脂肪族炭化水素類、エステル類、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル及び水が挙げられる。
【００５１】
界面活性剤としては、例えば、アルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホネートホルムアルデヒド重縮合物等の陰イオン界面活性剤及びポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤が挙げられる。
【００５２】
その他の製剤用補助剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、アラビアガム、アルギン酸及びその塩、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロ−ス）、ザンサンガム等の多糖類、アルミニウムマグネシウムシリケート、アルミナゾル等の無機物、防腐剤、着色剤、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ等の安定化剤が挙げられる。
【００５３】
本発明の植物病害防除剤は、例えば、植物体に茎葉処理することにより当該植物を植物病害から保護するために用いられ、また、土壌に処理することにより当該土壌に生育する植物を植物病害から保護するために用いられる。
【００５４】
本発明の植物病害防除剤を植物体に茎葉処理することにより用いる場合又は土壌に処理することにより用いる場合、その処理量は、防除対象植物である作物等の種類、防除対象病害の種類、防除対象病害の発生程度、製剤形態、処理時期、気象条件等によって変化させ得るが、１００００ｍ2あたり本発明化合物として通常１〜５０００ｇ、好ましくは５〜１０００ｇである。
【００５５】
乳剤、水和剤、フロアブル剤等は通常を水で希釈して散布することにより処理する。この場合、本発明化合物の濃度は通常０．０００１〜３重量％、好ましくは０．０００５〜１重量％の範囲である。粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま処理する。
【００５６】
また、本発明の植物病害防除剤は種子消毒等の処理方法で用いることもできる。種子消毒の方法としては、例えば、本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍとなるように調製した本発明の植物病害防除剤に植物の種子を浸漬する方法、植物の種子に本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍの本発明の植物病害防除剤を噴霧もしくは塗沫する方法及び植物の種子に粉剤に製剤化された本発明の植物病害防除剤を粉衣する方法があげられる。
【００５７】
本発明の植物病害防除方法は、通常本発明の植物病害防除剤の有効量を、病害の発生が予測される植物若しくはその植物が生育する土壌に処理する、及び／又は病害の発生が確認された植物若しくはその植物が生育する土壌に処理することにより行われる。
【００５８】
本発明の植物病害防除剤は通常、農園芸用植物病害防除剤、即ち畑地、水田、果樹園、茶園、牧草地、芝生地等の植物病害を防除するための植物病害防除剤として用いられる。
【００５９】
本発明の植物病害防除剤剤は他の植物病害防除剤剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤及び／又は肥料と共に用いることもできる。
【００６０】
かかる植物病害防除剤の有効成分としては、例えば、クロロタロニル、フルアジナム、ジクロフルアニド、ホセチル−Ａｌ、環状イミド誘導体（キャプタン、キャプタホール、フォルペット等）、ジチオカーバメート誘導体（マンネブ、マンコゼブ、チラム、ジラム、ジネブ、プロピネブ等）、無機もしくは有機の銅誘導体（塩基性硫酸銅、塩基性塩化銅、水酸化銅、オキシン銅等）、アシルアラニン誘導体（メタラキシル、フララキシル、オフレース、シプロフラン、ベナラキシル、オキサジキシル等）、ストロビルリン系化合物（クレソキシムメチル、アゾキシストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、ジモキシストロビン等）、アニリノピリミジン誘導体（シプロジニル、ピリメタニル、メパニピリム等）、フェニルピロール誘導体（フェンピクロニル、フルジオキソニル等）、イミド誘導体（プロシミドン、イプロジオン、ビンクロゾリン等）、ベンズイミダゾール誘導体（カルベンダジム、ベノミル、チアベンダゾール、チオファネートメチル等）、アミン誘導体（フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロピジン、スピロキサミン等）、アゾール誘導体（プロピコナゾール、トリアジメノール、プロクロラズ、ペンコナゾール、テブコナゾール、フルシラゾール、ジニコナゾール、ブロムコナゾール、エポキシコナゾール、ジフェノコナゾール、シプロコナゾール、メトコナゾール、トリフルミゾール、テトラコナゾール、マイクロブタニル、フェンブコナゾール、ヘキサコナゾール、フルキンコナゾール、トリティコナゾール、ビテルタノール、イマザリル、フルトリアホール等）、シモキサニル、ジメトモルフ、ファモキサドン、フェナミドン、イプロヴァリカルブ、ベンチアバリカルブイソプロピル、シアゾファミド、ゾキサミド、エタボキサム、フルオピコリド、ボスカリド、フェンヘキサミド、キノキシフェン、ジエトフェンカルブ、ペンチオピラド及びアシベンゾラールＳメチルが挙げられる。
【００６１】
本発明化合物の具体例としては、以下の化合物が挙げられる。
式（i）〜（xｖi）で示されるアミド化合物
2005263639.tif 000014
但し、式（i）〜（xvi）において、Ｘ1、Ｘ2、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の組み合わせを（表１）〜（表１２）に示す。
【００６２】
【表１】
2005263639.tif 000015
【００６３】
【表２】
2005263639.tif 000016
【００６４】
【表３】
2005263639.tif 000017
【００６５】
【表４】
2005263639.tif 000018
【００６６】
【表５】
2005263639.tif 000019
【００６７】
【表６】
2005263639.tif 000020
【００６８】
【表７】
2005263639.tif 000021
【００６９】
【表８】
2005263639.tif 000022
【００７０】
【表９】
2005263639.tif 000023
【００７１】
【表１０】
2005263639.tif 000024
【００７２】
【表１１】
2005263639.tif 000025
【００７３】
【表１２】
2005263639.tif 000026
【実施例】
【００７４】
以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明は、これらの例のみに限定されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例を示す。
【００７５】
製造例１
チオフェン−２−メチルアミン３４０ｍｇ、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸７０４ｍｇ、ＷＳＣ６３４ｍｇ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１０ｍｌの混合物を室温で４時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をｎ−ヘキサンで洗浄して、Ｎ−｛（チオフェン−２−イル）メチル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオンアミド（以下、本発明化合物１と記す。）７００ｍｇを得た。
本発明化合物１
2005263639.tif 000027
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．２１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ，１．２Ｈｚ）、６．８８〜６．９５（３Ｈ，ｍ）、６．７０〜６．７５（２Ｈ，ｍ）、５．６６（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、４．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．５８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、２．９３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．４１〜２．５１（３Ｈ，ｍ）
【００７６】
製造例２
（５−メチル−チオフェン−２−イル）メチルアミン塩酸塩４９１ｍｇ、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸７０３ｍｇ、ＷＳＣ６３３ｍｇ及びピリジン５ｍｌの混合物を室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をｎ−ヘキサンで洗浄して、Ｎ−｛（５−メチル−チオフェン−２−イル）メチル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオンアミド（以下、本発明化合物２と記す。）６７７ｍｇを得た。
本発明化合物２
2005263639.tif 000028
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、６．７０〜６．７６（２Ｈ，ｍ）、６．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．３Ｈｚ）、６．５４〜６．５８（１Ｈ，ｍ）、５．６２（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、４．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．４８（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）、３．８３（３Ｈ，ｓ）、２．９１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．４２〜２．５０（６Ｈ，ｍ）
【００７７】
製造例３
Ｎ−｛（５−メチル−チオフェン−２−イル）メチル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオンアミド４００ｍｇ、ローソン試薬４１０ｍｇ及びテトロヒドロフラン１０ｍｌを混合し、６５℃で３時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラム精製に付して、Ｎ−｛（５−メチル−チオフェン−２−イル）メチル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝チオプロピオンアミド（以下、本発明化合物３と記す。）３４６ｍｇを得た。
本発明化合物３
2005263639.tif 000029
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．１０（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．６８〜６．７６（３Ｈ，ｍ）、６．５６〜６．６０（１Ｈ，ｍ）、４．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．８Hｚ）、４．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、３．０６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、２．９０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、２．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、２．４４（３Ｈ，ｓ）
【００７８】
製造例４
（５−クロロ−チオフェン−２−イル）メチルアミン塩酸塩５５２ｍｇ、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸７０２ｍｇ、ＷＳＣ６３３ｍｇ及びピリジン１０ｍｌの混合物を室温で２時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をｎ−ヘキサンで洗浄して、Ｎ−｛（５−クロロ−チオフェン−２−イル）メチル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオンアミド（以下、本発明化合物４と記す。）８２０ｍｇを得た。
本発明化合物４
2005263639.tif 000030
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．６４〜６．７８（４Ｈ，ｍ）、５．７０（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、４．７３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．４５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）、３．８３（３Ｈ，ｓ）、２．９３（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、２．４４〜２．５２（３Ｈ，ｍ）
【００７９】
製造例５
Ｎ−｛（５−クロロ−チオフェン−２−イル）メチル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝−プロピオンアミド５０３ｍｇ、ローソン試薬４０４ｍｇ及びテトロヒドロフラン１０ｍｌを混合し、６５℃で３時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラム精製に付して、Ｎ−｛（５−クロロ−チオフェン−２−イル）メチル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝チオプロピオンアミド（以下、本発明化合物５と記す。）４６０ｍｇを得た。
本発明化合物５
2005263639.tif 000031
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．１８（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．６６〜６．７５（４Ｈ，ｍ）、４．８１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、４．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），３．８１（３Ｈ，ｓ）、３．０６（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、２．９１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、２．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）
【００８０】
製造例６
５−クロロ−２−チオフェンカルボキシアルデヒド０．７４ｇ、トリメチルシリルシアニド０．７１ｍｌ及びヨウ化亜鉛５３ｍｇを混合し、室温で１５分間撹拌した後、ここに１０％アンモニアメタノール溶液８ｍｌを加え、４０℃で２時間攪拌した。室温まで放冷した混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣に３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸０．７ｇ及びピリジン５ｍｌを加え、ここにＷＳＣ０．７ｇを加え、室温で４時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、水、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラム精製に付し、Ｎ−｛（５−クロロチオフェン−２−イル）−シアノメチル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオンアミド（以下、本発明化合物６と記す。）０．４３ｇを得た。
本発明化合物６
2005263639.tif 000032
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：６．９３〜６．９９（２Ｈ，ｍ）、６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ）、６．６９〜６．７４（２Ｈ，ｍ）、６．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ）、６．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）、４．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、３．８４（３Ｈ，ｓ）、２．９４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、２．４８〜２．６０（３Ｈ，ｍ）
【００８１】
製造例７
（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イル）メチルアミン塩酸塩１．４４ｇ、トリエチルアミン１．８２ｇ及びテトラヒドロフラン２５mlを混合し、０℃で攪拌した。次いで、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物１．８２ｇ、テトラヒドロフラン３ｍｌの混合液を加えて、０℃で３０分間、次いで室温で１時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、減圧下濃縮して、残渣を酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラム精製に付して、Ｎ−｛（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イル）メチル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオンアミド（以下、本発明化合物７と記す。）１．２８ｇを得た。
本発明化合物７
2005263639.tif 000033
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．６５〜７．８０（２Ｈ，ｍ）、７．２５〜７．３５（２Ｈ，ｍ）、７．０７（１Ｈ，ｓ）、６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）、６．７０〜６．７７（２Ｈ，ｍ）、５．７３（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、４．６９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．６５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、２．９５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、２．５１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、２．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）
【００８２】
製造例８
Ｎ−（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イル−メチル）−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオンアミド５６９ｍｇ、ローソン試薬４３５ｍｇ及びテトロヒドロフラン１５ｍｌを混合し、６５℃で３．５時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラム精製に付して、Ｎ−｛（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イル）メチル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝チオプロピオンアミド（以下、本発明化合物８と記す。）４４０ｍｇを得た。
本発明化合物８
2005263639.tif 000034
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．７０〜７．８０（２Ｈ，ｍ）、７．２８〜７．３８（２Ｈ，ｍ）、７．１５（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．１１（１Ｈ，ｓ）、６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、６．７２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、６．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ，１．９Ｈｚ）、５．００（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．１Ｈｚ）、４．６６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．７９（３Ｈ，ｓ）、３．０８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、２．９５（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、２．４５（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）
【００８３】
製造例９
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物０．３０ｇ、ベンゾチアゾール−２−イルメチルアミントリフルオロ酢酸塩０．３３ｇ、トリエチルアミン０．２５ｍｌ及びテトラヒドロフラン２０ｍｌを混合し、室温で３０分間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄して、Ｎ−｛（ベンゾチアゾール−２−イル）メチル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオンアミド（以下、本発明化合物９と記す。）０．３７ｇを得た。
本発明化合物９
2005263639.tif 000035
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、７．４６〜７．４９（１Ｈ，ｍ）、７．３７〜７．４０（１Ｈ，ｍ）、６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．７１〜６．７７（２Ｈ，ｍ）、６．２８（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、４．８３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）、４．７０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、２．９８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．５９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）
【００８４】
製造例１０
｛１−（６−フルオロ−ベンゾチアゾール−２−イル）メチルアミン｝カルバミン酸t−ブチルエステル０．５８ｇ、トリフルオロ酢酸０．５ｍｌ、酢酸１０ｍｌおよび水５ｍｌを混合して６０℃で３時間攪拌した。反応混合液を室温まで冷却してから減圧下濃縮した。得られた残渣、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸０．４８ｇ、ＷＳＣ０．３９ｇ、ピリジン１ｍｌ及びジメチルホルミアミド１０ｍｌを混合し、室温で４時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムで精製して、Ｎ−｛（６−フルオロ−ベンゾチアゾール−２−イル）メチル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオンアミド（以下、本発明化合物１０と記す。）０．１９ｇを得た。
本発明化合物１０
2005263639.tif 000036
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ、４．９Ｈｚ）、７．５４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ、２．４Ｈｚ）、７．５４（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ、８．８Ｈｚ）、６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．７４〜６．７７（２Ｈ，ｍ）、６．２４（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、４．８０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）、４．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．８３（３Ｈ，ｓ）、２．９８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．５９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．４８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）
【００８５】
製造例１１
（ベンゾフラン−２−イル）メチルアミン１４７ｍｇ、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸２３４ｍｇ、ＷＳＣ１９１ｍｇ及びピリジン５ｍｌの混合物を８０度で３時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラム精製に付し、Ｎ−｛（ベンゾフラン−２−イル）メチル｝−３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオンアミド（以下、本発明化合物１１と記す。）１００ｍｇを得た。
本発明化合物１１
2005263639.tif 000037
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．５０（１Ｈ，ｍ）、７．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．２６〜７．１５（２Ｈ，ｍ）、６．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、６．７３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ）、６．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．４Ｈｚ、８．０Ｈｚ）、６．４７（１Ｈ，ｓ）、５．９７（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、４．６７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）、４．５３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．６Ｈｚ）、３．７８（３Ｈ，ｓ）、２．９２（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．５０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）、２．４６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．２Ｈｚ）
【００８６】
製造例１２
チオフェン−２−メチルアミン１１３ｍｇ、３−（３，４−ジメトキシフェニル）プロピオン酸２１０ｍｇ、ＷＳＣ１９１ｍｇ及びピリジン３ｍｌの混合物を室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をｎ−ヘキサンで洗浄して、Ｎ−｛（チオフェン−２−イル）メチル｝−３−（３，４−ジメトキシフェニル）プロピオンアミド（以下、本発明化合物１と記す。）１８０ｍｇを得た。
本発明化合物１２
2005263639.tif 000038
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．１Ｈｚ）、６．９１〜６．８７（２Ｈ，ｍ）、６．７４〜６．７１（３Ｈ，ｍ）、５．８６（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、４．５５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ）、３．８３（３Ｈ，ｓ）、３．８１（３Ｈ，ｓ）、２．９１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、２．４７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）
【００８７】
次に中間体の製造につき参考例として記す。
参考例１
４−ベンジルオキシ−３−メトキシベンズアルデヒド１００ｇ、ジエチルホスホノ酢酸エチルエステル１２０ｇ、炭酸カリウム５７０ｇ及び水５７０ｍｌを混合し、還流下で２０時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで放冷してから水を加えて酢酸エチルで２回抽出した。有機層を水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をエタノールから再結晶して３−｛３−メトキシ−４−（ベンジルオキシ）フェニル｝アクリル酸エチルエステル５８．６ｇを得た。
３−｛３−メトキシ−４−（ベンジルオキシ）フェニル｝アクリル酸エチルエステル
2005263639.tif 000039
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．６０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、７．２９〜７．４４（５Ｈ，ｍ）、７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、７．０２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ、１．９Ｈｚ）、６．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、６．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ）、５．１８（２Ｈ，ｓ）、４．２５（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）、３．９１（３Ｈ，ｓ）、１．３３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ）
【００８８】
参考例２
３−｛３−メトキシ−４−（ベンジルオキシ）フェニル｝アクリル酸エチルエステル３３ｇ、５％パラジウム炭素０．３ｇ、３６％塩酸約０．０５ｇおよびエタノール２００ｍｌを混合し、水素雰囲気下で攪拌した。水素ガスの吸収が停止した後、濾過し、濾液を減圧下濃縮した。残渣に、酢酸エチルと水とを加え分液した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、活性炭約５ｇおよび苛性白土約５ｇを加えて濾過し、減圧下濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄して、３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）プロピオン酸エチルエステル２３ｇを得た。
３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）プロピオン酸エチルエステル
2005263639.tif 000040
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：６．８２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）、６．６７〜６．７０（２Ｈ，ｍ）、５．４７（１Ｈ，ｓ）、４．１９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、３．８７（３Ｈ，ｓ）、２．８８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、２．５８（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）
【００８９】
参考例３
３−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）プロピオン酸エチル２３．８ｇ、臭化プロパルギル１１．４ｍｌ、炭酸カリウム２０．５ｇ及びアセトニトリル２５０ｍｌを混合し、８０℃で２時間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで冷却し、酢酸エチルを加えて濾過した。濾液を減圧下濃縮し、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸エチルエステル２８．９ｇを得た。
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸エチルエステル
2005263639.tif 000041
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．７Ｈｚ）、６．７２〜６．７５（２Ｈ，ｍ）、４．７３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、４．１３（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、３．８６（３Ｈ，ｓ）、２．９０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、２．６０（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、２．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、１．２４（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ）
【００９０】
参考例４
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸エチルエステル２８．９ｇ、水酸化リチウム４．０ｇ、テトラヒドロフラン３００ｍｌ及び水１００ｍｌを混合し、６５℃で３時間攪拌した。その後、反応混合物に水を加えて減圧下濃縮した。残渣に５％塩酸を加え、クロロホルムで３回抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄して、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸２２．７ｇを得た。
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸
2005263639.tif 000042
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）、６．７３〜６．７５（２Ｈ，ｍ）、４．７３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．８５（３Ｈ，ｓ）、２．９１（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、２．６７（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝８Ｈｚ）、２．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）
【００９１】
参考例５
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸１２．７ｇ、塩化チオニル４．３ｍｌ、トルエン１００ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド約０．０５ｇを混合し、８０℃で３０分間攪拌した。その後、反応混合物を室温まで放冷してから減圧下濃縮し、３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物１４．６ｇを得た。
３−｛３−メトキシ−４−（２−プロピニルオキシ）フェニル｝プロピオン酸塩化物
2005263639.tif 000043
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）、６．７２〜６．７４（２Ｈ，ｍ）、４．７３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）、３．８７（３Ｈ，ｓ）、３．１９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、２．９９（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、２．４９（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ）
【００９２】
参考例６
５−メチル−２−チオフェンカルボキシアルデヒド５．０５ｇ、メトキシアミン塩酸塩５．０３ｇ、ピリジン９．４９ｇ及びメタノール４０ｍｌを混合して、室温で３時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をｎ−ヘキサンで洗浄して、５−メチル−２−チオフェンカルボキシアルデヒド−Ｏ−メチル−オキシム異性体の混合物５．７３ｇを得た。
５−メチル−２−チオフェンカルボキシアルデヒド−Ｏ−メチル−オキシム異性体
2005263639.tif 000044
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．１１（０．４Ｈ，ｓ）、７．５１（０．６Ｈ，ｓ）、７．１４（０．６Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．６Ｈｚ）、６．９５（０．４Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．４Hｚ）、６．７０〜６．７６（０．６Ｈ，ｍ）、６．６５〜６．７０（０．４Ｈ，ｍ）、４．０４（１．８Ｈ，ｓ）、３．９１（１．２Ｈ，ｓ）、２．５０（１．８Ｈ，ｓ）、２．４７（１．２Ｈ，ｓ）
【００９３】
参考例７
水素化ホウ素ナトリウム１．８９ｇ及びテトラヒドロフラン３０ｍｌを混合し、０℃まで冷却し、トリフルオロ酢酸５．７０ｇを滴下した。次いで参考製造例６で得た５−メチル−２−チオフェンカルボキシアルデヒド−Ｏ−メチル−オキシム異性体１．５５ｇ及びテトラヒドロフラン４ｍｌの混合液を滴下し、０℃で２時間攪拌した後、２時間穏やかに加熱還流した。その後、反応混合物を冷却し、水をゆっくりと滴下し、クロロホルムで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をアセトニトリルで溶解し、濃塩酸を加えて減圧下濃縮して、（５−メチル−チオフェン−２−イル）メチルアミン塩酸塩１．３９ｇを得た。
（５−メチル−チオフェン−２−イル）メチルアミン塩酸塩
2005263639.tif 000045
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．３８（３Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．０２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．４Ｈｚ）、６．７３〜６．７５（１Ｈ，ｍ）、４．１２（２Ｈ，ｓ）、２．４３（３Ｈ，ｓ）
【００９４】
参考例８
５−クロロ−２−チオフェンカルボキシアルデヒド３．６７ｇ、メトキシアミン塩酸塩３．１５ｇ、ピリジン５．９４ｇ及びメタノール３０ｍｌを混合して、室温で４時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮した。残渣に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮して、５−クロロ−２−チオフェンカルボキシアルデヒド−Ｏ−メチル−オキシム異性体の混合物４．００ｇを得た。
５−クロロ−２−チオフェンカルボキシアルデヒド−Ｏ−メチル−オキシム異性体の混合物
2005263639.tif 000046
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．０５（０．３Ｈ，ｓ）、７．５０（０．７Ｈ，ｓ）、７．０５〜７．１０（０．７Ｈ，ｍ）、６．８５〜６．９５（１．０Ｈ，ｍ）、６．８３（０．３Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．９Ｈｚ）、４．０６（２．１Ｈ，ｓ）、３．９２（０．９Ｈ，ｓ）
【００９５】
参考例９
水素化ホウ素ナトリウム２．１５ｇ及びテトラヒドロフラン３０ｍｌを混合し、該混合液を０℃まで冷却し、トリフルオロ酢酸６．４９ｇを滴下した。次いで参考製造例８で得た５−クロロ−２−チオフェンカルボキシアルデヒド−Ｏ−メチル−オキシム異性体２．０ｇ及びテトラヒドロフラン３ｍｌの混合液を滴下し、０℃で２時間攪拌した後、２時間穏やかに加熱還流した。その後、反応混合物を冷却し、水をゆっくりと滴下し、クロロホルムで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をアセトニトリルで溶解し、濃塩酸を加えて減圧下濃縮して、（５−クロロ−チオフェン−２−イル）メチルアミン塩酸塩２．２２ｇを得た。
（５−クロロ−チオフェン−２−イル）メチルアミン塩酸塩
2005263639.tif 000047
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．５１（３Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．８Ｈｚ）、７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．８）、４．１６（２Ｈ，ｓ）
【００９６】
参考例１０
ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−カルボアルデヒドオキシム２．１３ｇ、１０％パラジウム炭素０．４ｇ、３６％塩酸約２．７ｍｌ、エタノール６５ｍｌを水素雰囲気下で攪拌した。水素ガスの吸収が停止した後、反応混合物を濾過し、濾液を減圧下濃縮して、（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イル）メチルアミン塩酸塩１．４４ｇを得た。
（ベンゾ［ｂ］チオフェン−２−イル）メチルアミン塩酸塩
2005263639.tif 000048
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．６１（３Ｈ，ｂｒ．ｓ）、７．９５〜８．００（１Ｈ，ｍ）、７．８２〜７．８８（１Ｈ，ｍ）、７．５４（１Ｈ，ｓ）、７．３３〜７．４５（２Ｈ，ｍ）、４．３０〜４．３７（２Ｈ，ｍ）
【００９７】
参考例１１
Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）グリシン５．０ｇ、１、１’−カルボニルビス−１Ｈ−イミダゾール４．９ｇおよびテトラヒドロフラン１００ｍｌを０℃で混合して０℃で１５分間混合した。混合物に２−アミノチオフェノール３．６ｇを混合し室温で３０分間、ついで還流下で４時間攪拌した。反応混合物を０℃に冷却してから５％塩酸を加え、ＰＨを２以下とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を５％塩酸、水、２％水酸化ナトリウム水溶液、水、５％塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄して、減圧下濃縮し、得られた残渣を濾別した。得られた固体をメチルｔ−ブチルエーテルおよびヘキサンで洗浄して、｛１−（ベンゾチアゾール−２−イル）メチルアミン｝カルバミン酸t−ブチルエステル３．５７ｇを得た。
｛１−（ベンゾチアゾール−２−イル）メチルアミン｝カルバミン酸t−ブチルエステル
2005263639.tif 000049
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ）、７．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ）、７．４５〜７．４９（１Ｈ，ｍ）、７．３６〜７．４０（１Ｈ，ｍ）、５．３８（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、４．７４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ）、１．４９（９Ｈ，ｓ）
【００９８】
参考例１２
｛１−（ベンゾチアゾール−２−イル）メチルアミン｝カルバミン酸t−ブチルエステル１．５ｇ、トリフルオロ酢酸１．３ｍｌ、酢酸９ｍｌおよび水３ｍｌを混合して６０℃で２時間、ついで７０℃で１時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却してから減圧下濃縮し、得られた固体をトルエンおよびヘキサンで洗浄して、ベンゾチアゾール−２−イルメチルアミントリフルオロ酢酸塩１．４ｇを得た。
ベンゾチアゾール−２−イルメチルアミントリフルオロ酢酸塩
2005263639.tif 000050
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：８．６２（３Ｈ，ｂｒ．ｓ）、８．１８〜８．１９（１Ｈ，ｍ）、８．０４〜８．０６（１Ｈ，ｍ）、７．５６〜７．６０（１Ｈ，ｍ）、７．４９〜７．５３（１Ｈ，ｍ）、４．６３（２Ｈ，ｓ）
【００９９】
参考例１３
Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）グリシン３．３ｇおよび２−アミノ−５−フルオロ−チオフェノール２．７ｇを用いて参考例１１と同様の方法にて、｛１−（６−フルオロ−ベンゾチアゾール−２−イル）メチルアミン｝カルバミン酸t−ブチルエステル１．５ｇを得た。
｛１−（６−フルオロ−ベンゾチアゾール−２−イル）メチルアミン｝カルバミン酸t−ブチルエステル
2005263639.tif 000051
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ、４．２Ｈｚ）、７．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ、２．４Ｈｚ）、７．１９（１Ｈ，ｄｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ、８．９Ｈｚ）、５．３７（１Ｈ，ｂｒ．ｓ）、４．７１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ）、１．４９（９Ｈ，ｓ）
【０１００】
参考例１４
２−ブロモメチルベンゾフラン３．０ｇ、ヘキサメチレンテトラミン３．６ｇ及びクロロホルム２０ｍｌを混合し、８０℃で５時間撹拌した。反応混合液を減圧下濃縮し、得られた固体に濃塩酸５ｍｌ、エタノール５ｍｌ及び水５ｍｌを加え、室温で一晩撹拌した。得られた反応混合物を減圧下濃縮し、得られた残渣に水酸化ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄して、（ベンゾフラン−２−イル）メチルアミン１．０ｇを得た。
（ベンゾフラン−２−イル）メチルアミン
2005263639.tif 000052
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７．４２〜７．３８（２Ｈ，ｍ）、７．２８〜７．１６（２Ｈ，ｍ）、６．４８（１Ｈ，ｓ）、３．９４（２Ｈ，ｓ）、１．２５（２Ｈ、ｂｒ.ｓ）
【０１０１】
次に製剤例を示す。部は重量部を表す。
製剤例１
本発明化合物１〜１２の各々５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸マグネシウム２部及び合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合することにより、各々の水和剤を得る。
【０１０２】
製剤例２
本発明化合物１〜１２の各々２０部とソルビタントリオレエ−ト１．５部とを、ポリビニルアルコ−ル２部を含む水溶液２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケ−ト０．１部を含む水溶液４０部を加え、さらにプロピレングリコ−ル１０部を加えて攪拌混合し各々のフロアブル製剤を得る。
【０１０３】
製剤例３
本発明化合物１〜１２の各々２部、カオリンクレー８８部及びタルク１０部をよく粉砕混合することにより、各々の粉剤を得る。
【０１０４】
製剤例４
本発明化合物１〜１２の各々５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部及びキシレン７５部をよく混合することにより、各々の乳剤を得る。
【０１０５】
製剤例５
本発明化合物１〜１２の各々２部、合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部及びカオリンクレ−６５部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、各々の粒剤を得る。
【０１０６】
製剤例６
本発明化合物１〜１２の各々１０部、ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部及び水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、各々の製剤を得る。
【０１０７】
次に、本発明化合物が植物病害の防除に有用であることを試験例で示す。
なお防除効果は、調査時の供試植物上の病斑の面積を目視観察し、無処理区の病斑の面積と本発明化合物処理区の病斑の面積を比較することにより評価した。
【０１０８】
試験例１
プラスチックポットに砂壌土を詰め、トマト（品種:ポンテローザ）を播種し、温室内で２０日間生育させた。本発明化合物１、２、４〜１０及び１１の各々を製剤例６に準じて製剤とした後、水で所定濃度（５００ｐｐｍ）に希釈し、希釈液をトマト葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、トマト疫病の遊走子嚢懸濁液（懸濁液１ｍｌあたり約１００００個の遊走子嚢を含有する）を噴霧接種（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。接種後、２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、ついで昼間２４℃、夜間２０℃の温室で４日間栽培した。その後、防除効果を調査した。
その結果、本発明化合物１、２、４〜１０及び１１を供試した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。
【０１０９】
試験例２
プラスチックポットに砂壌土を詰め、ブドウ（品種：ベリーＡ）を播種し、温室内で４０日間生育させた。本発明化合物２〜１０及び１１の各々を製剤例６に準じて製剤とした後、水で所定濃度（２００ｐｐｍ）に希釈し、希釈液をブドウ葉面に充分付着するように茎葉散布した。散布後、葉面上の該希釈液が乾く程度に風乾し、ブドウべと病の遊走子嚢懸濁液（懸濁液１ｍｌあたり約１００００個の遊走子嚢を含有する）を噴霧接種（植物１個体あたり約２ｍｌの割合）した。接種後、２３℃、相対湿度９０％以上の条件下で１日間栽培し、ついで昼間２４℃、夜間２０℃の温室に移して６日間栽培した。その後、防除効果を調査した。
その結果、本発明化合物２〜１０及び１１を供試した植物上の病斑面積は、無処理区の病斑面積の１０％以下であった。