(57)【要約】【課題】  磁気ヘッドの低浮上量化が可能な磁気記録媒体の評価方法を提供する。【解決手段】  磁気ヘッドの記録・再生方向に沿った磁気記録媒体表面の高さ方向の形状曲線から、複数の異なる波長範囲の各々の最大高さを取得し、該各々の最大高さの合計値を求め、該合計値に基づいて磁気記録媒体を評価する。磁気ヘッドの浮上保証エリアで、また磁気ヘッドの記録・再生方向での波長が２．５ｍｍ以上である大うねり形状の最大高さＷｐ、同方向で波長が２．５ｍｍ以下１０μｍ以上である小うねり形状の最大高さＭＷｐ、同方向で波長が１０μｍ以下の粗さ形状の最大高さＲｐを測定し、Ｗｐ＋ＭＷｐ＋Ｒｐと必要とするグライドハイト値とを比較し、その比較結果に基づいて磁気記録媒体を評価する。さらに、磁気ヘッドの移動方向でのうねり形状の最大高さに基づいて磁気記録媒体を評価してもよい。【選択図】  図１
2005310376.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気ヘッドの記録・再生方向に沿った磁気記録媒体表面の高さ方向の形状曲線から、複数の異なる波長範囲の各々の最大高さを取得し、該各々の最大高さの合計値を求め、該合計値に基づいて磁気記録媒体を評価する磁気記録媒体の評価方法。
【請求項２】
前記磁気ヘッドの移動方向における磁気記録媒体表面の高さ方向の形状曲線から所定の波長範囲の最大高さを取得し、該最大高さに基づいて磁気記録媒体を評価することを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の評価方法。
【請求項３】
前記磁気ヘッドの浮上保証エリアにおいて、
前記磁気ヘッドの記録・再生方向での波長が２．５ｍｍ以上である大うねり形状の最大高さＷｐ、同方向で波長が２．５ｍｍ以下１０μｍ以上である小うねり形状の最大高さＭＷｐ、同方向で波長が１０μｍ以下の粗さ形状の最大高さＲｐをそれぞれ測定し、
Ｗｐ＋ＭＷｐ＋Ｒｐと必要とするグライドハイト値とを比較し、該比較結果に基づいて磁気記録媒体を評価することを特徴とする請求項１または２記載の磁気記録媒体の評価方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気記録・再生装置に用いる磁気記録媒体に関し、特に高記録密度化に対応して磁気ヘッドを低浮上量化できる磁気記録媒体の評価方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク等の磁気記録媒は、例えばアルミニウム合金の表面にニッケル−リンメッキを施してから研摩した媒体用基板を用いており、その表面にはテクスチャ加工により凹凸形状を形成している。このように磁気記録媒体の表面に凹凸形状を積極的に設けるのは、磁気ヘッドが磁気記録媒体に対して極めて低い浮上量を維持しながら磁気的情報を記録し、これを再生することができるようにするためである。磁気ヘッドが磁気記録媒体の表面に接触した際に吸着することがなく、また摩擦抵抗を低減することを意図して、上記のように凹凸形状の表面処理が磁気記録媒体上に施される。
【０００３】
しかしながら、 コンピュータ等に使用される磁気ディスク装置等の磁気記憶・再生装置の高密度化への要請は近年著しい。かかる要請に対しては、磁気ヘッドと磁気ディスクとの間の磁気スペーシングの低減、すなわち磁気ヘッドの浮上量を可能な限り低くする必要がある。そして、最近では１０ｎｍ以下のグライドハイト値、３０ｎｍ以下のヘッド浮上量が要求され始めている。
【０００４】
そのために、例えば特開平９−３２６１１５号公報には磁気記録媒体の表面に設けた凹凸形状が形成するうねり及び粗さについて検討することにより、上記ヘッド浮上量をより低減化する提案がなされている。
【０００５】
また、磁気ヘッドの低浮上化を促進するために、表面の凹凸を所定範囲まで低くする、いわゆるノン−テクスチャ（Ｎｏ−Ｔｅｘｔｕｒｅ）処理を施した磁気記録媒体についての提案もあるが、根本的に前述のヘッド吸着の問題が解消されていない。
【特許文献１】特開平９−３２６１１５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記特開平９−３２６１１５号公報に開示されている技術は、浮上量を１００ｎｍより低くするため円周方向（磁気ヘッドの記録・再生方向）のうねりや粗さのみについて検討を行っている。しかしながら、前述したように近年においては、磁気ヘッドの低浮上量化への要求はさらに低い３０ｎｍ以下となっており、円周方向の形状を規定するだけではこのように低い浮上量を実現することが困難となっている。
【０００７】
さらに、上記磁気ディスク装置では磁気ディスクの回転起動・停止時には磁気ヘッドの浮上面が磁気ディスクの表面と接触・摺動するコンタクトスタートストップ（ＣＳＳ）方式が広く採用されている。前述したように浮上量低減の観点からは前記テクスチャ加工による凹凸の高さをより低くすることが必要である。しかし、このように凹凸を小さくすると、磁気記録媒体の表面が平坦化してしまうので、特にＣＳＳ時における磁気ヘッドの吸着や高摩擦が問題となる。
【０００８】
したがって、本発明は磁気ヘッドの低浮上量化が可能な磁気記録媒体の評価方法を提供することをその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的は、請求項１に記載される如く、磁気ヘッドの記録・再生方向に沿った磁気記録媒体表面の高さ方向の形状曲線から、複数の異なる波長範囲の各々の最大高さを取得し、該各々の最大高さの合計値を求め、該合計値に基づいて磁気記録媒体を評価する磁気記録媒体の評価方法により達成できる。
【００１０】
上記磁気ヘッドの移動方向における磁気記録媒体表面の高さ方向の形状曲線から所定の波長範囲の最大高さを取得し、該最大高さに基づいて磁気記録媒体を評価してもよい。
【００１１】
そして、前記磁気ヘッドの浮上保証エリアで、前記磁気ヘッドの記録・再生方向での波長が２．５ｍｍ以上である大うねり形状の最大高さＷｐ、同方向で波長が２．５ｍｍ以下１０μｍ以上である小うねり形状の最大高さＭＷｐ、同方向で波長が１０μｍ以下の粗さ形状の最大高さＲｐを測定し、Ｗｐ＋ＭＷｐ＋Ｒｐと必要とするグライドハイト値とを比較し、該比較結果に基づいて磁気記録媒体を評価することにより、好ましい磁気記録媒体の評価を行うことができる。
【００１２】
本願発明者は、従来とは異なり基板表面全体について、うねり形状及び粗さ形状について検討を加え、磁気ヘッドの低浮上量化が可能な磁気記録媒体を評価する好適な方法を見出たものである。
【００１３】
よって、上記評価方法によれば、磁気記録装置として必要な（要求された）グライドハイト値を定め、Ｗｐ＋ＭＷｐ＋Ｒｐと比較することで好ましい磁気記録媒体であるかの評価を行うことができる。この評価方法を指標として、より低浮上量化を達成できる磁気記録媒体の作成に役立てることができる。
【００１４】
なお、前記磁気ヘッドの移動方向とは磁気ディスクのように円板状である場合には半径方向であり、磁気ヘッドの記録・再生方向とはこれと直角な円周方向となる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、所定の条件に従って低浮上量化が可能な磁気記録媒体を評価できる。よって、低浮上化を図る磁気記録媒体の作製に役立てることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、図面基づき本発明をより詳細に説明する。まず磁気記録媒体の評価方法を第１の発明として説明する。
【００１７】
図１から図５は第１の発明の概念を説明するため、円板状の磁気ディスクを例にその表面状態を拡大して示す図である。本第１の発明は低浮上量化に適した磁気記録媒体であるかを評価する方法であり、後述する条件を満たす磁気記録媒体は低浮上化に適した磁気記録媒体であると評価でき、これを磁気記録媒体の作成に役立てることができる。
【００１８】
図１は磁気ディスク１０の円周方向について、その表面状態を拡大して示す図である。磁気ディスク１０の表面は巨視的にみると平滑であるが、拡大すると図１に示すような、うねり形状１を有しており、このうねり形状１を成す曲線も微細な波形で示される粗さ形状５の集合として形成されている。
【００１９】
従来においては、図１に示す円周方向（磁気ヘッドでは一般に長手方向）でのうねり形状１と粗さ形状５を考慮して磁気ヘッドの低浮上量化の検討がなされていたことになる。
【００２０】
ところが、磁気ヘッドの浮上量が極めて低い３０ｎｍ以下となると、円周方向のみに関して表面形状を評価しても低浮上量化できるかの判断が困難となった。そこで、本発明者は磁気ディスクの表面全体について、さらに詳細な検討を行い、３０ｎｍ以下の浮上量を実現できる磁気ディスクの評価条件を見出したものである。
【００２１】
図２は、図１に示されるうねり形状１から、大きなうねり形状１１を抽出して示した図である。なお、図１及び図２並びに後述する図３及び図４について、縦軸でゼロとなる位置は各波形の振幅から導かれた平均位置を示す中心線である。本第１発明では、図２で示すように中心線からの大うねり形状の最大高さをＷｐとする。ここでの大うねりは、例えば波長が２．５ｍｍ以上であるような波形である。
【００２２】
図３は、図２に示した大うねり形状１１を拡大し、その一部を示した図である。図２で示される大うねり形状１１の波形は、実際には小さくうねりながら大うねり形状１１を形成している。この小うねり形状１２について、大うねり形状１１の場合と同様に最大高さをＭＷｐとする。ここでの小うねり形状１２は、例えば波長が１０μｍから２．５ｍｍであるような波形である。
【００２３】
図４は、さらに図３に示した小うねり形状１２を拡大し、その一部を示した図である。前記図２及び図３で示すのは大・小うねり形状の波形である。しかし、これらうねり波形をより微視的にみると、波長がさらに小さい１０μｍ以下であるような極微小な形状１３が存在しており、これらは一般に粗さと称されている。本第１の発明ではこの粗さについてその最大高さをＲｐとする。
【００２４】
上記のように、まず本第１の発明では円周方向の形状について、大うねり、小うねり及び粗さ、という３つの波形要素で表面形状を把握して、これを評価対象とするものである。
【００２５】
さらに、本第１の発明では磁気ディスクの半径方向のうねり形状についても考慮する。すなわち、半径方向のうねり形状について、最大高さＲＣｍａｘが所定値以下となるように表面形状を有しているかを評価する。
【００２６】
図５は磁気ディスクの半径方向について、その表面の状態を拡大して示す図である。ただし、一般に磁気ディスクの周縁部は面取り処理が施されるためにリング上の盛上り部２０が形成されている。よって、一般的にこの盛上り部２０における最大高さが、上記最大高さＲＣｍａｘに相当することになる。
【００２７】
図５では、磁気ディスクの直径を約９５ｍｍとして、半径方向位置で４５．０から４６．６ｍｍとなる端部、すなわち磁気ディスク周縁部近傍を拡大して示す。
【００２８】
ここで、磁気ディスクの浮上保証エリアについて説明する。浮上保証エリアは磁気ディスクに対して、磁気ヘッドの浮上が確保される領域である。磁気ディスクは、その中心側から同心円状に、回転駆動軸（スピンドル）に固定するためのクランプ領域、ＣＳＳ領域、データ領域、前述した周縁部を含んでいるが、本第１の発明の浮上保証エリアはＣＳＳ領域から周縁部の一部を含むエリアである。
【００２９】
本発明者は、基板の半径方向では磁気ヘッド幅方向の外部形状相当長以上の波長を有するうねり形状により磁気ヘッドの浮上ロスが発生していると考察した。そして、浮上保証エリア内では上記ＲＣｍａｘが２０ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以下となるように表面形状を有する場合にこのロスを軽減できることを見出した。
【００３０】
また、さらに本発明者は基板の円周方向において、磁気ヘッドの浮上ロスに影響するような波形を検討した。これによると好ましい波形は、磁気ヘッド長手方向の外部形状相当長の約３倍程度とすることが好ましく、さらにその波長範囲は数１０ｎｍから数ｍｍとするのが好ましいことを確認した。例えば、磁気ヘッドの長手方向の外部形状が２ｍｍの場合には３倍の６ｍｍ程度となる。
【００３１】
そして、この波長範囲を３つの波形要素に分け、分析したのが前述した大うねり、小うねり及び粗さである。波長が２．５ｍｍ以上であり磁気ヘッドの長手方向長さの約３倍まであるものが大うねり形状であり、その波形の最大高さがＷｐである。波長が１０μｍから２．５ｍｍの範囲にある小うねり形状の波形の最大高さがＭＷｐである。さらに、波長５０ｎｍから１０μｍ好ましくは２０ｎｍ程度である粗さ形状の最大高さがＲｐである。
【００３２】
そして、これら最大高さの単純和、Ｗｐ＋ＭＷｐ＋Ｒｐが必要とする磁気ディスクのグライドハイト値に対応するので、この両者を比較する。具体的には、
Ｗｐ＋ＭＷｐ＋Ｒｐ  ≦  必要とするグライドハイト値
の式から、必要なグラハイト値を有する磁気記録媒体であるかを評価することができる。
【００３３】
さらに、ＣＳＳ方式の磁気記録媒体とする場合には、ＣＳＳ時における吸着防止、摩擦低減を図る観点から、粗さ形状については平均粗さＲａを０．２ｎｍ以上とすることが望ましい。
【００３４】
以上で説明した評価方法で低浮上化条件を満たす磁気記録媒体を製造するためには、基板研磨工程における研磨パッド、研磨材及び加工時間を適宜調整することにより、前記磁気ディスクの半径方向においてはＲＣｍａｘを２０ｎｍ以下とし、円周方向においては上記式から定められたＷｐ、ＭＷｐ、Ｒｐが実現されるように加工する。なお、表面粗さについては、磁気記録媒体を製造するにあたり準備した基板上に施すテクスチャ工程によっても制御することが可能である。
【００３５】
続いて、前述した第１の発明により低浮上量化に適すると評価された磁気ディスクの製造例を説明する。前記磁気記録媒体用基板を形成するための材料としては、非磁性の材料、例えばアルミニウム系合金、強化ガラスや結晶化ガラスを含むガラス系材料、樹脂或いは複合材料等、従来から基板用に使用されてきた材料を同様に用いることができる。
【００３６】
本例ではアルミニウムで基板を作成する場合について説明する。アルミニウム合金の圧延材を３．５インチの円板状に打抜いて基材円板を得る。この基材円板に加圧焼鈍しの処理を行ってから、内外径をＮＣ旋盤等により切削加工を行い寸法出しをする。さらに基材円板の両面を２０００番から６０００番程度の粗さの砥石のグラインダにより、大うねり形状での最大高さＷｐ、小うねり形状での最大高さＭＷｐが所望の値となるまで加工を行う。次いで、その両面にそれぞれ５μｍから１０μｍの厚さのＮｉ−Ｐメッキを施す。
【００３７】
次いで、Ｎｉ−Ｐメッキ層を両面研磨するポリッシング処理を行う。このポリッシング工程は、例えばＳＰＥＥＤ  ＦＡＭ社製の１１Ｂ型両面研磨機を用いて実施する。その際、酸化性イオンを含む研磨液、及び酸化アルミニウムを主成分とするもの或いはシリカ系材料を主成分とする研磨液を用いることができる。これらの内で、アルミナ系研磨剤を用いると、研磨速度を早く、且つ大うねり形状の最大高さＷｐ及び小うねり形状の最大高さＭＷｐを小さくできる。特に、六角板状アルミナ系研磨剤や假焼アルミナ系研磨剤を用いることが奨励される。また、両面研磨機に装着して使用する研摩パッドの硬度は、ＪＩＳ
Ａ （ＪＩＳ Ｋ−６３０１）に準拠した６０から１００のものを用いることが奨励される。この範囲より小さい硬度では、基板の外周部が研磨され易くなる。そのために基板半径方向のうねり波形の波長が、磁気ヘッドの幅方向の外部形状相当寸法より大きくなるので好ましくない。研磨剤の大きさ、加工時間を数段階（例えば２〜３段階）の研磨工程を適宜選択することにより、上記大うねりでの最大高さＷｐ、小うねりでの最大高さＭＷｐ及び粗さでの最大高さＲｐを有する基板を形成することができる。
【００３８】
上記製造例では５つの基板Ａから基板Ｅを得た。図６はこれら基板Ａから基板Ｅに関するデータをまとめて示す。
【００３９】
上記基板Ａから基板Ｅに、以下に説明する方法でテクスチャ加工を施し、表面にＣｒ下地、ＣｒＣｏＰｔの磁性層及びカーボン系保護膜を順次成膜した。この後、保護膜上にフッ素系の潤滑剤を塗布して磁気ディスクとした。
【００４０】
上記テクスチャ加工は、回転する基板に加工用テープを押付け、研磨液を滴下しながら行った。その際、用いる研磨液は砥粒に多結晶ダイヤモンドを用い、その平均一次粒子径が０．１５μｍ又は０．３０μｍである２種類を用いて行った。その他の加工条件は、テープ送り速度３０ｍｍ／ｍｉｎ、ロール圧１ｋｇ、基板回転数４５０ｒｐｍ、オシレーションの振幅３ｍｍ、周波数７Ｈｚ、加工時間２５秒とした。
【００４１】
基板Ａ及び基板Ｂについては、研磨液の平均一次粒子径が０．１５μｍと０．３０μｍである場合の２条件でテクスチャ加工を実施した。基板Ｃ及び基板Ｅについては研磨液の平均一次粒子径が０．３０μｍである場合についてテクスチャ加工を実施した。
【００４２】
また、基板Ｄについては、平均一次粒子径が０．１５μｍでテクスチャ加工を実施する場合と、テクスチャ加工を施さない場合について比較を行った。
【００４３】
上記のようにテクスチャ条件の組合せで磁気記録媒体を形成し、各磁気記録媒体についてグライドハイト及び上記Ｗｐ、ＭＷｐ、Ｒｐ、Ｒａ及びＲＣｍａｘの値並びに摩擦特性を測定した。
【００４４】
ここで、磁気記録媒体の円周方向でのうねり形状の最大高さＷｐ、Ｍｗｐ及び半径方向でのうねり形状の最大高さＲＣｍａｘの測定は、光学式干渉形測定機を用いて行った。測定レンジが小さくなるＭｗｐ及びＲＣｍａｘの測定では、視野を２．５ｍｍ×１．８ｍｍとした。なお、ＲＣｍａｘの測定範囲は半径位置４５．０ｍｍから４６．６ｍｍとした。
【００４５】
また、粗さに関する測定装置にはＡＦＭを用い、測定範囲は１０μｍ×１０μｍとした。
【００４６】
また、グライドハイトの測定には、長手方向（磁気記録媒体では周方向）の長さが２．０ｍｍであり、予め浮上特性を確認済の磁気ヘッドを用いた。磁気ディスクと磁気ヘッドの接触をピエゾセンサで検出した。そして、その接触時の磁気ディスクの周速これから、グライドハイト値を算定した。グライドハイトの測定位置は、磁気ヘッドのセンター位置、半径位置Ｒ＝３０．０ｍｍ及び端部側の半径位置Ｒ＝４５．８ｍｍとした。
【００４７】
図７は、基板Ａ、基板Ｂ、基板Ｃ及び基板Ｅに関するデータをまとめて示す図である。図７からＷｐ＋ＭＷｐ＋Ｒｐが１０ｎｍ以下の場合（実施例１−１〜１−４）では、磁気ヘッドのセンター位置、Ｒ＝３０．００ｍｍにおけるグライドハイトは１０ｎｍ以下となることが確認できる。
【００４８】
また、ＲＣｍａｘが２０ｎｍ以上の場合にはＷｐ＋ＭＷｐ＋Ｒｐが１０ｎｍ以下でかつＲ＝３０ｍｍにおけるグライドハイトが１０ｎｍ以下であっても、端部側の位置、Ｒ＝４５．８ｍｍではグライドハイトが１０ｎｍを超えてしまうので表面形状が要求を満たせないことが確認できる（比較例１−１）。
【００４９】
図８は、基板Ｄに関するデータをまとめて示す図である。比較例２ではＷｐ＋ＭＷｐ＋Ｒｐが１０ｎｍ以下で、グライドハイトは１０ｎｍ以下であるが、テクスチャ加工無しであるので表面粗さが足りず、初期摩擦係数が５以上となっている。よって、ＣＳＳ方式の磁気記録装置に用いると磁気ヘッドの吸着や過度な摩擦抵抗の問題を生じるおそれがある。
【００５０】
一方、実施例２ではテクスチャ加工を施して基板の平均粗さＲａが０．２０ｎｍ以上となるように作製されるので、初期摩擦係数は５よりもかなり低い２．０となり磁気ヘッドへの吸着や摩擦抵抗の問題が無いことが確認できる。
【００５１】
よって、前述した磁気記録媒体の評価方法を用いることで、低浮上量化できる磁気記録媒体を評価できる。
【００５２】
さらに、以下では第２の発明の実施例について説明する。本第２の発明は磁気ヘッドの低浮上化を図るために、基板の素材自体に工夫を加えたものである。すなわち、基板自体を成形する段階で基板表面にポーラスを多数形成することによりヘッドとの接触面積を小さくし、磁気ヘッドの低浮上量化を可能とした磁気記録媒体用基板である。
【００５３】
本第２の発明の磁気記録媒体用基板は、表面積の５％から５０％に、直径０．０５μｍから２．０μｍのポーラスを有する焼結体として形成される。この基板はその表面に多くのポーラスを有している。よって、この基板により磁気記録媒体を形成した場合には、磁気ヘッドの浮上量を低くしても接触面積が小さいので、吸着及び高摩擦抵抗により障害が発生することない。
【００５４】
以下図面に基づき本第２の発明に係る実施例について説明する。図９は磁気記録媒体用基板５０について多数のポーラスが形成される過程を示す図である。
【００５５】
従来においては、基板材料としてアルミ材或いは表面に金属材料を設けたガラス材等を用いることが一般的であったが、本第２発明では燒結可能な粉末体を用いる。この粉末体としてはアルミニウム粉を用いることができる。そして、例えばアルミニウム粉と焼き付き防止用の潤滑材としてのステアリン酸鉛とを混合してベース材料とする。このベース材料に、ポーラスを強制的に形成するための物質（ポーラス材）を添加する。
【００５６】
このポーラス材は、アルミニウム粉を焼結させて基板形状（通常は円板状）に成型する際に、焼結温度よりも低い温度で融解、蒸発或いは昇華等して、その場所に空洞（ポーラス）を形成するような物質であれば特に限定されるものではない。例えば、鉛、銅、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、錫、マンガン、珪素、ガラス及び塩化ビニル等の樹脂から成る群から適宜選択して用いることができる。
【００５７】
例えば、ポーラス材として鉛を用いる場合は直径０．１μｍから２．０μｍの鉛粉を基板表面積に対して５％から５０％の割合となるように、上記ベース材上に蒔いて（ブレンドして）焼結前の基板材料を準備する。
【００５８】
図９の上段の図は、アルミニウム粉５１をプレス装置で所定形状に圧縮したときに、その上部に鉛粉５５が点在している様子を模式的に示している。
【００５９】
図９下段の図は、６００℃弱でアルミ焼結を行った後の基板５０の様子を示している。ここで鉛の融点は約３３０℃である。よって、約６００℃近い温度により融解して、焼結したアルミニウム粉５１内に形成されるポーラス５２へ流れ込むように吸収され、鉛粉５５が存在していた所に新規なポーラス５６が形成される。
【００６０】
なお、本第２の発明は圧粉成形材特有のポーラス形成性を利用するものである。このポーラス性は焼結に用いる粉体粒子の大きさ、焼結温度によってポーラス径とその密度が変わる。よって、アルミニウム粉５１を焼結した焼結体は、本来、独自のポーラスを有する多孔質材である。この多数のポーラスに融解した鉛が流れ込むようにすることで、鉛粉が存在していた所に空洞を強制的に形成して新規なポーラス５６とするものである。アルミニウム粉５１内に形成されるポーラス５２でも接触面積を少なくするという機能はあるが、ポーラスの径、密度を制御する観点からポーラス材を添加することで強制的にポーラスを形成している。  本実施例では鉛粉を焼結温度で融解し、アルミニウム粉体５１側に吸収されることでポーラスを形成するものであるがポーラス形成の形態はこれに限るものではない。すなわち、ポーラス材が焼結処理において、元の場所から無くなることによりポーラスが形成できればよい。ポーラス材がアルミニウムの焼結処理によって蒸発或いは昇華することでポーラスが形成される形態でもよい。ポーラス材の大きさと添加量により、焼結体表面に形成するポーラスの状態を調整することができる。
【００６１】
上記のように形成される磁気記録媒体用基板はそのままでも使用可能であるが、一般に焼結材の性能を高めるために実施される処理として、基板の再圧縮や、この再処理後の再焼結処理を行ってもよい。
【００６２】
さらに、基板表面の平滑性を出すためにポリッシング処理を行ってもよい。このポリッシング処理により、図９下段に示すように平均粗さＲａが０．１ｎｍ程度のノンテクスチャ状態としてもよい。この平滑性は従来の一般的な磁気記録媒体の表面が、平均粗さＲａが０．４ｎｍから０．６ｎｍであり、最大粗さが６ｎｍから７ｎｍもあったことと比較すると極めて平坦化（平滑化）していることが分かる。
【００６３】
しかし、本実施例の基板は、その表面に多くのポーラス５６を有しているので、この基板に基づき磁気記録媒体を形成すると磁気ヘッドの吸着等の問題は生じない。よって、磁気ヘッドの低グライドハイト化が可能となり、ひいては磁気ヘッドの低浮上化を図った磁気記録媒体とすることができる。
【００６４】
図１０は、本第２の発明により形成される磁気記録媒体基板の特徴をより明確にするために示した図である。図１０（Ａ）はバンプ突起を有する従来の基板表面を模式的に示す図である。図１０（Ｂ）は本第２の発明による基板表面を模式的に示す図である。
【００６５】
図１０（Ａ）において、基板表面のフラット面６０から粗さに対応した矩形波が複数立ちあがっているが、その高さは一定ではない。特に、バンプ突起６２領域の高さは最大高さとなり、この最大高さ６３により実質的にグライドハイト値が定まることになる。このようなバンプ突起は磁気ヘッドの吸着防止等のために設けられているので低グライドハイト化を図ることが困難である点は前述した通りである。
【００６６】
なお、図１０中において一点鎖線６５で示すのは粗さ平均としての中心線である。
【００６７】
一方、図１０（Ｂ）において示す本第２の発明による基板の場合は、基板表面の最上端がフラット面７０となる。粗さに対応した矩形波は複数残存するが、フラット面７０の下となるので磁気ヘッドの浮上高さを規制するものではない。あえて、図１０（Ａ）と対応してグライドハイト値を定めるならば、中心線７５とフラット面７０との間の距離７３で示される。
【００６８】
図１１は、上記基板を用いて形成した磁気記録媒体に関し、ポーラスの密度と摩擦抵抗の関係について示す図である。同図から明らかなように、基板表面でポーラスが５％から５０％、好ましくは１０％から４０％、より好ましくは２０％から３０％を占めるように形成することでより低摩擦化を図れることが分かる。なお、このようなポーラス密度を測定する際には、例えば光学顕微鏡レベルで１００μｍ×１００μｍの領域を定めてポーラス数をカウントすればよい。
【００６９】
上記のようにポーラスを形成する領域は、勿論基板の全面でもよいが、特にＣＳＳ方式の磁気記録媒体とするときにはＣＳＳ領域にポーラスが形成されるように基板を焼結して形成してもよい。すなわち、ＣＳＳ予定領域に上記形成物質を所定量蒔いて焼結処理を行ってもよい。
【００７０】
本第２発明の基板についても定法に従って、例えばスパッタリング装置を用いてこの基板に磁性層及び保護層を成膜することで磁気ディスク等の磁気記録媒体を製造することができる。その際、必要により基板上Ｎｉ−Ｐメッキ処理、テクスチャ処理を施してから磁性層を形成してもよい。
【００７１】
以上、詳述した第２の発明に基づいて作製した磁気記録媒体用基板を用いて形成した磁気ディスクを磁気記録・再生装置に搭載した場合例について簡単に説明する。
【００７２】
図１２は磁気ディスク装置１００内の磁気ヘッド１２０と回転中の磁気ディスク１１０と関係を示す図であり、該磁気ディスク１１０の層構成と磁気ヘッド１２０の浮上量Ｆの様子が分かるように要部を拡大し模式的に示している。磁気ディスク１１０は上記第２の発明に従って作製した基板１１１上に、下地膜１１３、磁性膜１１５が下から順に積層された基本構成を有しており、その上にアモルファスカーボン系の保護膜１１７、この保護膜１１７上に形成されるフッ素系の潤滑膜１１９から成っている。なお、図１２においては前述した基板１１１表面の詳細な形状については図示を省略している。
【００７３】
上記磁気ディスク装置１００では、磁気ディスク１１０の回転起動・停止時に磁気ヘッド１２０が磁気ディスク１１０の表面と接触・摺動するＣＳＳ領域が設けられている。
【００７４】
上記磁気ディスク装置１００は従来と比較して磁気記録媒体１２０の低グライドハイト化、低浮上量化を図ることができ、しかもＣＳＳ領域等での吸着の問題も生じない。
【００７５】
以上本発明の好ましい実施例について詳述したが、本発明は係る特定の実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】第１の発明の概念を説明するため、磁気ディスクの円周方向について、その表面状態を拡大して示す図である。
【図２】図１に示されるうねり形状から、大きなうねり形状を抽出して示した図である。
【図３】図２に示した大うねり形状を拡大し、その一部を示した図である。
【図４】図３に示した小うねり形状を拡大し、その一部を示した図である。
【図５】図１で示した磁気ディスクの半径方向について、その表面の状態を拡大して示す図である。
【図６】製造例の基板Ａから基板Ｅに関するデータをまとめて示す図である。
【図７】基板Ａ、基板Ｂ、基板Ｃ及び基板Ｅに関するデータをまとめて示す図である。
【図８】基板Ｄに関するデータをまとめて示す図である。
【図９】第２の発明の磁気記録媒体用基板について多数のポーラスが形成される過程を示す図である。
【図１０】第２の発明により形成される磁気記録媒体基板の特徴をより明確にするために示した図である。
【図１１】第２の発明の基板を用いて形成した磁気記録媒体に関し、ポーラスの密度と摩擦抵抗の関係について示す図である。
【図１２】磁気ディスク装置内の磁気ヘッドと回転中の磁気ディスクと関係例を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【００７７】
１      うねり形状
５      粗さ形状
１１    大きなうねり形状
１２    小うねり形状
１３    極微小な波形形状（粗さ）
２０    盛上り部
５０    第２の発明の磁気記録媒体用基板
５１    アルミニウム粉
【図１】
2005310376.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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