(57)【要約】【課題】  反射層、有機色素からなる記録層を有する光記録媒体であっても、記録再生特性の一つであるジッターを低く保ったままで、反射率を２５％以下とすることができる。【解決手段】  基板上に、少なくとも、反射層、記録層をこの順に備えた光情報記録媒体であって、前記記録層が有機色素を含有してなり、前記反射層と前記記録層との間に界面層を備えてなることを特徴とする光情報記録媒体である。  前記反射層は、主成分としてＡｇを含有することが好ましい。また、前記界面層は、ＮとＡｌとを含有することが好ましい。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、少なくとも、反射層、記録層をこの順に備えた光情報記録媒体であって、
前記記録層が有機色素を含有してなり、
前記反射層と前記記録層との間に界面層を備えてなることを特徴とする光情報記録媒体。
【請求項２】
前記反射層が、主成分としてＡｇを含有することを特徴とする請求項１に記載の光情報記録媒体。
【請求項３】
前記界面層が、ＮとＡｌとを含有することを特徴とする請求項１または２に記載の光情報記録媒体。
【請求項４】
前記界面層におけるＮとＡｌとの原子比（Ｎ／Ａｌ）が、５／９５〜４０／６０であることを特徴とする請求項３に記載の光情報記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光情報記録媒体に関し、特に、レーザ光を用いて情報の記録及び再生を行うことができる追記型の光情報記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、レーザー光により情報の記録が可能な光情報記録媒体として、所謂ＣＤ−Ｒ／ＲＷ、ＤＶＤ−Ｒ／ＲＷ／ＲＡＭなどの媒体が知られている。中でもＣＤ−Ｒは、価格の面、使い勝手の良さなどから広く用いられている。ＣＤ−Ｒは基板上に有機色素をスピンコート法により薄膜を形成して記録層として設ける、という手法で作製されているが、この製法は、ＲＷ系の相変化媒体と比較した場合、層構成が単純である事、大掛かりな真空成膜装置が不要である事などから、安価に大量の光ディスクを製造できるというメリットがあり、ＤＶＤ−Ｒでも同様の製法が採用されている。
【０００３】
近年、放送のデジタル化が進み、またケーブルＴＶなどのネットワークの普及、ハイビジョンＴＶの普及などもあって、家庭で高画質の映像を楽しめる環境になってきた。このような環境において、高画質の画像を再生できる媒体、高画質の画像を保存できる媒体として長く使われてきたＶＨＳテープに変わってＤＶＤディスクが用いられるようになってきている。ＤＶＤディスクの種類としては再生専用のＲＯＭ以外に前述の追記型媒体であるＤＶＤ±Ｒ、書換え型のＤＶＤ±ＲＷ／ＲＡＭ等があるが、家庭における記録保存媒体としては、追記型のＤＶＤ±ＲがＶＨＳテープに変わって主流となりつつある。
【０００４】
最近は、デジタルハイビジョン放送の開始を間近に控え、より一層の画像データ量の増加が見こまれており、それに伴い、記録媒体にも、高容量、高データ転送速度が求められるようになってきた。デジタルハイビジョン放送を家庭で録画しようとした場合、前述のＤＶＤ±Ｒでは既に容量が不足すると言われており、次世代ＤＶＤの開発も行われている。一例としては、今年になってＢＳデジタルハイビジョン放送を２時間録画・再生できるというブルーレイディスクレコーダーが発売された。
【０００５】
このブルーレイディスクレコーダー用の記録媒体も同時に発売されたが、これは相変化型の記録層を有する媒体であった。前述の通り、相変化型の媒体の製造には大掛かりな真空成膜装置が必要であったり、層構成が複雑であったりする。その点を考慮して、前記ブルーレイディスクも含めた次世代ＤＶＤシステムでも、より安価に記録媒体を製造するため、有機色素を用いた追記型媒体の開発も進められている。有機色素をスピンコートで成膜する手法を採用した場合、ＣＤ−Ｒ、ＤＶＤ−Ｒの製造で用いられてきた製造設備を継続して使用できるというメリットもある。
【０００６】
ところで、有機色素を用いた光ディスクと相変化型の光ディスクとでは反射率が大きく異なり、有機色素を用いた光ディスクの反射率の方が高い。ＣＤ−ＲとＲＷ、ＤＶＤ±ＲとＲＷにおいても同様の違いがあり、従来は各々別の反射率の規格が採用されてきた。
【０００７】
前述のブルーレイディスクシステムでの互換性を考えた場合、あるいは、今後の新たな光ディスクシステムを考えた場合、有機色素を用いた光ディスクにおいても、反射率を相変化型の光ディスクと同等にできれば、システムの設計や規格の面から大きなメリットである。しかしながら、ＣＤ−ＲやＤＶＤ±Ｒ同様に、有機色素をスピンコート法で成膜した追記型の次世代ＤＶＤ媒体の反射率は、相変化型の媒体の反射率より高いものであった。
【０００８】
反射率を低減させる手法としては、記録層の片側または両側に誘電体層などを設ける手法が知られている（例えば、特許文献１〜３参照）。しかし、かかる手法は、書換型の相変化媒体に適用されるものであり、（１）記録層に蓄積される熱量の制御、（２）繰り返し書換安定性、（３）記録層を外部の水分などから保護する機能、なども必要とされた設計を考慮している。そのため、このような相変化媒体用の誘電体層を有機色素を用いた追記型媒体に適用しても、必ずしも反射率を十分に調整することはできない。
【０００９】
一方、追記型媒体については、記録層の少なくとも片側に誘電体を配置して反射率を調整することが提案されているが（例えば、特許文献４参照）、これは記録層に無機物を用い、しかも記録層を２層にすることも含めて反射率の調整をしており、有機色素を用いた媒体については、充分な検討がなされていない。
【００１０】
有機色素を記録層に用いた追記型媒体に層を追加することに関し、反射層を２層にすること（例えば、特許文献５参照）、記録層と反射層との間に中間層を設けること（例えば、特許文献６参照）が提案されているが、これらは反射率を高く保ち記録層と反射層との間の反応を抑制するためのもので、必ずしも反射率の低減に適用することはできない。
【００１１】
また、色素層と光透過層との間に機能層を入れることが提案されているが（例えば、特許文献７参照）、主たる目的は光透過層形成時の色素層の変質を防ぐ目的であり、この構成では反射率を調整することができない。
【００１２】
【特許文献１】国際公開第９７／３２３０４号パンフレット
【特許文献２】特開２００１−７６３９０
【特許文献３】特開２００２−１１７５７７
【特許文献４】特開２００３−１６８２４２
【特許文献５】特開平６−７６３６１
【特許文献６】特開平６−１９５７４６
【特許文献７】特開２００３−４５０８３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
以上から、本発明は下記目的を達成することを課題とする。すなわち、本発明は、反射層を有し、有機色素を記録層に用いた光情報記録媒体であっても、記録再生特性の一つであるジッターを低く保ったままで、反射率を２５％以下とすることができる光情報記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記課題を解決すべく鋭意検討の結果、本発明者は、下記本発明に想到し当該課題を解決できることを見出した。
すなわち、本発明は、基板上に、少なくとも、反射層、記録層をこの順に備えた光情報記録媒体であって、前記記録層が有機色素を含有してなり、前記反射層と前記記録層との間に界面層を備えてなることを特徴とする光情報記録媒体である。
前記反射層は、主成分としてＡｇを含有することが好ましい。前記界面層は、ＮとＡｌとを含有することが好ましい。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の光情報記録媒体は、有機色素からなる記録層を有し、反射率の高い反射層を有する光情報記録媒体であっても、ジッター等の記録再生特性を損なうことなく、反射率を２５％以下（相変化型の光情報記録媒体と同等の反射率）とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明の光情報記録媒体は、基板上に、少なくとも、反射層、記録層をこの順に備えており、記録層が有機色素を含有し、反射層と記録層との間に界面層を備えてなる。
【００１７】
反射層と記録層との間に界面層を設けることで、ＡｇやＡｇ合金等を含有する反射率の高い反射層を設けた場合でも、反射率を２５％以下とすることができる。すなわち、反射率が高い場合に、当該界面層を形成することで、ジッター等の特性を良好に維持しながら、反射率を２５％以下とすることができる。
【００１８】
界面層の材質としては、酸化物や窒化物等を使用することができるが、実用性を考慮すると窒化物であることが好ましく、特に、Ａｌを含有する窒化物（ＮおよびＡｌを含有する化合物）であることが好ましい。
界面層の厚さは、反射層の材質等にもよるが、１〜５０ｎｍとすることが好ましく、０．５〜１０ｎｍとすることがより好ましい。
【００１９】
界面層としてＡｌを含有する窒化物を用いる場合、界面層におけるＮとＡｌとの原子比（Ｎ／Ａｌ）は、５／９５〜４０／６０であることが好ましい。かかる範囲とすることで、反射率を既述の範囲としながら、ジッターも良好なものとすることができる。Ｎ／Ａｌは、１０／９０〜３５／６５とすることがより好ましく、２０／８０〜３０／７０とすることがさらに好ましい。
【００２０】
界面層は、スパッタリング等の真空製膜法等により形成することができる。例えば、界面層としてＡｌを含有する窒化物を用いる場合、窒素ガスを用いた反応性スパッタリングにより形成することができる。このとき、窒素ガスの流量は、０．５〜５０ｓｃｃｍ（０．５〜５０ｃｍ3／ｍｉｎ）とすることが好ましい。
【００２１】
また、所定の原子比の窒化アルミニウムのターゲットを使用してスパッタリングにより形成することもできる。界面層におけるＮとＡｌとの原子比は、当該界面層を形成した後、ＥＳＣＡ（Ｘ線光電子分光法）で測定して求めることができる。
【００２２】
本発明の光情報記録媒体の代表的な構成としては、基板上に、反射層、界面層、記録層、接着層、透明シートもしくは光透過層が順次設けられてなる構成を挙げることができる。必要に応じて、下塗層やバリア層（誘電体層）等を形成してもよい。
以下、上記光情報記録媒体を具体例として、本発明の光情報記録媒体の基板やその他の層等について説明する。なお、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２３】
（基板）
基板材料の具体例としては、ガラス；ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ樹脂；アモルファスポリオレフィン；ポリエステル；アルミニウム等の金属；等を挙げることができ、所望によりこれらを併用してもよい。
上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および低価格等の点から、ポリカーボネート、アモルファスポリオレフィンが好ましく、ポリカーボネートが特に好ましい。また、基板の厚さ（記録層が形成される領域の平均の厚さ）は、１．１±０．３ｍｍの範囲とすることが好ましい。
【００２４】
基板には、トラッキング用の案内溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（基板の凸部をオングルーブといい、凹部をイングルーブという。ここで、「オングルーブ」を「グルーブ」ということがある。）が形成されている。より高い記録密度を達成するためにＣＤ−ＲやＤＶＤ−Ｒに比べて、より狭いトラックピッチのグルーブが形成された基板を用いることが好ましい。
【００２５】
グルーブのトラックピッチは、３００〜３６０ｎｍの範囲とすることが好ましい。より好ましくは、３１０〜３４０ｎｍの範囲とする。
また、グルーブの深さ（溝深さ）は、２０〜５０ｎｍの範囲とすることが好ましい。かかる範囲とすることで、トラッキングエラー信号が小さくなってトラッキングがかかりにくくなることを防ぎながら、成形が困難となることを防ぐことができる。より好ましくは、２５〜４０ｎｍである。
【００２６】
溝幅（オングルーブの半値幅）は、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。かかる範囲とすることで、トラッキングエラーが低下を防ぎながら、ジッターを低減させることができる。より好ましくは、７０〜１９０ｎｍの範囲とし、さらに好ましくは、９０〜１８０ｎｍとする。
【００２７】
なお、後述する反射層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、接着力の向上の目的で、下塗層を形成してあってもよい。
該下塗層の材料としては、例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マレイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルアミド、スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シランカップリング剤等の表面改質剤；を挙げることができる。
下塗層は、上記材料を適当な溶剤に溶解または分散して塗布液を調製した後、この塗布液をスピンコート、ディップコート、エクストルージョンコート等の塗布法により基板表面に塗布することにより形成することができる。下塗層の層厚は、一般に０．００５〜２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲である。
【００２８】
（反射層）
反射層には、レーザ光に対する反射率が高い光反射性物質が用いられる。当該反射率は、７０％以上であることが好ましい。
反射率の高い光反射性物質としては、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属および半金属あるいはステンレス鋼を挙げることができる。これらの光反射性物質は単独で用いてもよいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金として用いてもよい。これらのうちで好ましいものは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよびステンレス鋼である。特に好ましくは、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌあるいはこれらの合金であり、最も好ましくは、ＡｇまたはＡｇを主成分とする合金（Ａｇ：５０質量％以上）である。
【００２９】
反射層は、例えば、上記光反射性物質を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングすることにより基板上に形成することができる。反射層の層厚は、一般的には１０〜３００ｎｍの範囲とし、５０〜２００ｎｍの範囲とすることが好ましい。
【００３０】
（界面層）
界面層の詳細については既述の通りであり、上記反射層上に形成される。
【００３１】
（記録層）
記録層は、界面層上に形成され、波長５００ｎｍ以下のレーザ光により情報の記録が可能な層で、有機色素を含有する色素型であることが好ましい。
前記有機色素の具体例としては、シアニン色素、オキソノール色素、金属錯体系色素、アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられる。
【００３２】
また、有機色素としては、特開平４−７４６９０号公報、特開平８−１２７１７４号公報、同１１−５３７５８号公報、同１１−３３４２０４号公報、同１１−３３４２０５号公報、同１１−３３４２０６号公報、同１１−３３４２０７号公報、特開２０００−４３４２３号公報、同２０００−１０８５１３号公報、および同２０００−１５８８１８号公報等に記載されている色素が好適に用いられる。
さらに、トリアゾール化合物、トリアジン化合物、シアニン化合物、メロシアニン化合物、アミノブタジエン化合物、フタロシアニン化合物、桂皮酸化合物、ビオロゲン化合物、アゾ化合物、オキソノールベンゾオキサゾール化合物、ベンゾトリアゾール化合物等の有機化合物も、記録層素材として好適に用いられる。これらの化合物の中では、シアニン化合物、アミノブタジエン化合物、ベンゾトリアゾール化合物、フタロシアニン化合物が特に好ましい。
【００３３】
記録層は、有機色素である記録物質を、結合剤等と共に適当な溶剤に溶解して塗布液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に形成された反射層上に塗布して塗膜を形成した後、乾燥することにより形成される。塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１５質量％の範囲であり、好ましくは０．１〜１０質量％の範囲、より好ましくは０．５〜５質量％の範囲、最も好ましくは０．５〜３質量％の範囲である。
【００３４】
塗布液の溶剤としては、酢酸ブチル、乳酸エチル、セロソルブアセテート等のエステル；メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン等のケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタン、クロロホルム等の塩素化炭化水素；ジメチルホルムアミド等のアミド；メチルシクロヘキサン等の炭化水素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン等のエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノールジアセトンアルコール等のアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール等のフッ素系溶剤；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類；等を挙げることができる。
上記溶剤は使用する記録物質の溶解性を考慮して単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。塗布液中にはさらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、可塑剤、潤滑剤等各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。
【００３５】
結合剤を使用する場合に、結合剤の例としては、ゼラチン、セルロース誘導体、デキストラン、ロジン、ゴム等の天然有機高分子物質；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物等の合成有機高分子；を挙げることができる。記録層の材料として結合剤を併用する場合に、結合剤の使用量は、一般に記録物質に対して０．０１倍量〜５０倍量（質量比）の範囲にあり、好ましくは０．１倍量〜５倍量（質量比）の範囲にある。このようにして調製される塗布液中の記録物質の濃度は、一般に０．０１〜１０質量％の範囲にあり、好ましくは０．１〜５質量％の範囲にある。
【００３６】
塗布方法としては、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スクリーン印刷法等を挙げることができる。記録層は単層でも重層でもよい。また、記録層の層厚は、一般に２０〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは３０〜３００ｎｍの範囲にあり、より好ましくは５０〜１００ｎｍの範囲にある。
【００３７】
記録層には、該記録層の耐光性を向上させるために、種々の褪色防止剤を含有させることができる。
褪色防止剤としては、一般的に一重項酸素クエンチャーが用いられる。一重項酸素クエンチャーとしては、既に公知の特許明細書等の刊行物に記載のものを利用することができる。
その具体例としては、特開昭５８−１７５６９３号公報、同５９−８１１９４号公報、同６０−１８３８７号公報、同６０−１９５８６号公報、同６０−１９５８７号公報、同６０−３５０５４号公報、同６０−３６１９０号公報、同６０−３６１９１号公報、同６０−４４５５４号公報、同６０−４４５５５号公報、同６０−４４３８９号公報、同６０−４４３９０号公報、同６０−５４８９２号公報、同６０−４７０６９号公報、同６３−２０９９９５号公報、特開平４−２５４９２号公報、特公平１−３８６８０号公報、および同６−２６０２８号公報等の各公報、ドイツ特許３５０３９９号明細書、そして日本化学会誌１９９２年１０月号第１１４１頁等に記載のものを挙げることができる。
【００３８】
前記一重項酸素クエンチャー等の褪色防止剤の使用量は、色素の量に対して、通常０．１〜５０質量％の範囲であり、好ましくは、０．５〜４５質量％の範囲、さらに好ましくは、３〜４０質量％の範囲、特に好ましくは５〜２５質量％の範囲である。
【００３９】
上記記録層と後述する透明シートとの間には、バリア層を形成してもよい。かかる層を形成することで、水分や有機成分が記録層へ拡散することを防ぐことができる。
バリア層を構成する材料としては、レーザ光を透過する材料であれば、特に制限はないが、誘電体であることが好ましく、より具体的には、ＺｎＳ、ＺｎＯ、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3、ＺｎＯ−Ａｌ2Ｏ3、ＴｉＯ2、ＳｉＯ2、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、ＧｅＯ2、Ｓｉ3Ｎ4、Ｇｅ3Ｎ4、ＭｇＦ2、等の無機酸化物、窒化物、硫化物が挙げられ、ＺｎＯ−Ｇａ2Ｏ3、ＺｎＯ−Ａｌ2Ｏ3、ＺｎＳ−ＳｉＯ2、またはＳｉＯ2が好ましい。バリア層は、スパッタリング、イオンプレーティング等により形成すること可能で、その厚さは、１〜１００ｎｍとすることが好ましい。
【００４０】
（透明シート、光透過層）
透明シートは、光情報記録媒体内部を汚染や傷、衝撃などから防ぐため、あるいは水分の浸入などを防ぐなどのために形成される。材料としては、透明な材質であれば特に限定されないが、好ましくはポリカーボネート、三酢酸セルロース等であり、より好ましくは、２３℃５０％ＲＨでの吸湿率が５％以下の材料である。
なお、「透明」とは、記録光および再生光の光に対して、該光を透過する（透過率：９０％以上）ほどに透明であることを意味する。
【００４１】
透明シートは、例えば以下のようにして設けることができる。光硬化性樹脂を適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後、この塗布液を所定温度で記録層上（バリア層等が形成されている場合はその上）に塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜上に、例えば、プラスチックの押出加工で得られた三酢酸セルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）をラミネートし、ラミネートしたＴＡＣフィルムの上から光を照射して塗布膜を硬化させて形成される。前記ＴＡＣフィルムとしては、紫外線吸収剤を含むものが好ましい。透明シートの厚さは、０．０１〜０．２ｍｍの範囲であり、好ましくは０．０３〜０．１ｍｍの範囲、より好ましくは０．０５〜０．０９５ｍｍの範囲である。
なお、透明シートとして、ポリカーボネートシート等を使用することもできる。
また、透明シートの代わりに、紫外線硬化樹脂等からなる光透過層を形成してもよい。
【００４２】
粘度制御のため、塗布温度は２３〜５０℃の範囲が好ましく、２４〜４０℃の範囲がより好ましく、２５〜３７℃の範囲がさらに好ましい。
ディスクの反りを防止するため、塗布膜への紫外線の照射はパルス型の光照射器（好ましくは、ＵＶ照射器）を用いて行うのが好ましい。パルス間隔はｍｓｅｃ以下が好ましく、μｓｅｃ以下がより好ましい。１パルスの照射光量は特に制限されないが、３ｋＷ／ｃｍ2以下が好ましく、２ｋＷ／ｃｍ2以下がより好ましい。
また、照射回数は特に制限されないが、２０回以下が好ましく、１０回以下がより好ましい。
なお、透明シートの貼り合わせ面に粘着剤が付与されている場合は、上記接着剤は必要ない。
【００４３】
次に、本発明の光情報記録媒体への情報の記録方法および記録した情報の再生方法について説明する。
光情報記録媒体への情報の記録は、例えば、次のように行われる。
まず、光情報記録媒体を定線速度にて回転させながら、透明シート側（基板の反対側）から記録用の３５０〜５００ｎｍ（好ましくは、４００〜４４０ｎｍ）のレーザ光を照射する。このレーザ光の照射により、記録層がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あるいは化学的変化（例えば、ピットの生成）が生じてその光学的特性が変化する。この光学的特性の変化により、情報が記録される。
【００４４】
３５０〜５００ｎｍの発振波長を有するレーザ光源としては、例えば、３９０〜４１５ｎｍの範囲の発振波長を有する青紫色半導体レーザ、中心発振波長約４３０ｎｍの青紫色ＳＨＧレーザ等を挙げることができる。
また、記録密度を高めるために、ピックアップに使用される対物レンズの開口率（ＮＡ）は０．７以上が好ましく、０．８０以上がより好ましい。
【００４５】
一方、記録された情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度で回転させながら、情報の記録に使用したレーザと同一波長もしくはそれ以下の波長のレーザ光を透明シート側から照射して、その反射光を検出することにより行うことができる。
【実施例】
【００４６】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されることはない。
【００４７】
（実施例１）
帝人化成（株）社製のポリカーボネート樹脂（パンライトＡＤ５５０３）を用いて射出成形により厚さ１．１ｍｍの基板を成形した。基板の溝トラックピッチは３２０ｎｍ、オングルーブ部の半値幅は１６０ｎｍ、溝深さは３５ｎｍであった。
【００４８】
この基板上にＡｇ：９８．１質量部、Ｐｄ：０．９質量部、Ｃｕ：１．０質量部からなるターゲット（ＡＰＣ）を用いて、真空成膜法により反射層を１００ｎｍの厚みで成膜した。投入電力は２ｋＷ、Ａｒ流量は５ｓｃｃｍであった。
【００４９】
この反射層の上に、Ａｌターゲットを用いて、窒素ガス５ｓｃｃｍとアルゴンガス５ｓｃｃｍの混合ガスを用いて、投入電力２ｋＷで真空成膜法により界面層（厚さ：数ｎｍ）を形成した。
【００５０】
下記化学式で表される有機色素をＴＦＰ（２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール）に溶解して、有機色素の濃度が２．５ｇ／１００ｍｌの溶液を調製した。この溶液に、超音波を２時間照射して有機色素をさらに溶解させた後、２３℃５０％の環境に０．５時間以上静置し、０．２μｍのフィルターで濾過した。濾過後の溶液を用いて、スピンコート法で界面層上に厚さ１４０ｎｍの記録層を形成した。
【００５１】
【化１】
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【００５２】
記録層形成後、８０℃のクリーンオーブン中で１ｈ加熱処理した。加熱処理後、真空成膜法によりＺｎＯ：７質量部、Ｇａ2Ｏ3：３質量部からなるターゲットを用いて、５ｎｍの厚みのバリア層を形成した。粘着剤が塗布された厚み８０μｍのポリカーボネートフィルムをバリア層上に貼り合わせて、光情報記録媒体を作製した。なお、貼り合わせた後の粘着剤からなる粘着層の厚さは２０μｍであった。
【００５３】
（実施例２）
界面層を形成する際の窒素流量を６．５ｓｃｃｍとした以外は実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製した。
【００５４】
（実施例３）
Ａｇ：９８質量部、Ａｕ：１質量部、Ｇｅ：１質量部からなるターゲットを用いて反射層を形成した以外は実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製した。
【００５５】
（比較例１）
界面層を形成しなかった以外は実施例１と同様にして、光情報記録媒体を作製した。
【００５６】
（比較例２）
反射層を構成する材料に、Ａｕを用いた以外は比較例１と同様にして、光情報記録媒体を作製した。
【００５７】
（比較例３）
反射層を構成する材料に、Ａｌを用いた以外は比較例１と同様にして、光情報記録媒体を作製した。
【００５８】
（比較例４）
反射層を構成する材料に、Ｇｅを用いた以外は比較例１と同様にして、光情報記録媒体を作製した。
【００５９】
（比較例５）
界面層を、記録層を挟んで反射層の反対側に設けた以外は、実施例１と同様にして光情報記録媒体を作製した。
具体的には、実施例１と同様にして、基板上に反射層および記録層をこの順に形成した後、８０℃のクリーンオーブン中で１ｈ加熱処理した。
この記録層の上に、Ａｌターゲットを用いて、窒素ガス５ｓｃｃｍとアルゴンガス５ｓｃｃｍの混合ガスを用いて、投入電力２ｋＷで真空成膜法により界面層を形成した。
その後は実施例１と同様にしてポリカーボネートフィルムを貼り合わせて、光情報記録媒体を作製した。
【００６０】
実施例１〜３および比較例１〜５で作製した光情報記録媒体について、ジッターおよび反射率測定を行なった。具体的には、それぞれの光情報記録媒体を波長：４０３ｎｍ、ＮＡ＝０．８５のレーザー光学系を搭載したＤＤＵ−１０００（パルステック工業社製）にセットして、未記録時の反射率を測定し、５．５ｍＷのパワーで１−７変調されたランダム信号（２Ｔ〜８Ｔ）を記録、再生してジッターを評価した。このとき、線速は５．２８ｍ／ｓで、記録時のレーザーの発光パターンを最適化して行った。ジッターはコンベンショナルイコライザーを使用して測定した。
また、界面層を形成している実施例１〜３および比較例５の光情報記録媒体では、界面層を形成した直後に当該界面層を構成するＮとＡｌとの原子比を、ＥＳＣＡによりＮ１ＳおよびＡｌ２Ｓのピーク強度から測定した。具体的な測定条件を以下に示す。測定結果を下記表１に示す。なお、下記表１中、ジッターの欄の「○」はジッターが１０％以下であり、「×」は１０％を超えていることを示す。また、反射率の欄の「○」は反射率が２５％以下の場合を示し、「×」は２５％を超えていることを示す。
【００６１】
（１）ＥＳＣＡ：島津製作所  ＡＸＩＳ−ＵＬＴＲＡ、
（２）Ｘ線：ｍｏｎｏ−Ａｌ、１２Ｋｗ、１０ｍＡ、
Ｓｌｉｔ＝４５．５、ｉｒｉｓ＝０．５、ＰａｓｓＥｎｅｒｇｙ＝４０ｅＶ、
（３）Ｎ１Ｓピーク：４１０ｅＶ〜３８５ｅＶ、積算８回、
（４）Ａｌ２Ｓピーク：１３６ｅＶ〜１０４ｅＶ  積算８回、ケミカルシフト分も含めて全体をカウント。
各ピークをスムージング処理してノイズを除去後、ピーク面積からａｔｍ％を計算した。
【００６２】
【表１】
2005071492.tif 000003
【００６３】
比較例１〜５の光情報記録媒体では、いずれも、良好なジッターを維持しながら、反射率を規格内にすることはできなかった。これに対し、基板上に、反射層、界面層、記録層をこの順に有する実施例１〜３の光情報記録媒体では、ジッターを低く保ったままで、反射率を２５％以下とすることができた。