(57)【要約】【課題】不活性樹脂用のスペースに対する不活性樹脂の充填不足を回避する。【解決手段】この発明のＦＰＤの製造方法は、放射線有感膜１とバイアス電圧印加電極２に覆い被せるようにケース５を絶縁基板３に密着固定し、形成されたスペースＳＰＡ内に不活性樹脂４を充填するので、従来のように空気の噛み込みよって発生する不活性樹脂の充填不足を回避することができる。また、ケース５の最下部の供給口６から供給された液状材料ＬＱが、最上部の排出口７から溢れ出る時にスペースＳＰＡ内の空気を外部に押し出すので、液状材料ＬＱをスペースＳＰＡ内に密状態に行き渡らせることができる、結果、スペースＳＰＡに対する不活性樹脂の充填不足が回避される。【選択図】    図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フラットパネル型放射線検出器用としての放射線有感膜の表面側および周端面側に不活性材料を充填するスペースを形成するように、不活性材料を供給する供給口と不活性材料を排出する排出口を設けたケースを放射線有感膜に覆い被せ、前記ケースの供給口からスペース内に不活性材料を供給充填することを特徴とするフラットパネル型放射線検出器の製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載のフラットパネル型放射線検出器の製造方法において、前記不活性材料は、液状またはゲル状の不活性材料であって、前記ケースの供給口からスペース内に供給した不活性材料を排出口から溢れ出るまで供給した後に、不活性材料を硬化させることを特徴とするフラットパネル型放射線検出器の製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載のフラットパネル型放射線検出器の製造方法において、前記ケースの供給口に連通接続して不活性材料を供給する流路と、排出口に連通接続して溢れ出る不活性材料を溜める液溜部のそれぞれに、前記スペースから溢れ出た余剰の不活性材料が溜まった状態で不活性材料を硬化させることを特徴とするフラットパネル型放射線検出器の製造方法。
【請求項４】
請求項１または３に記載のフラットパネル型放射線検出器の製造方法において、前記ケースの下側に供給口を配置するとともに、前記ケースの上側に排出口を配置した状態で不活性材料の供給を行なうことを特徴とするフラットパネル型放射線検出器の製造方法。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載のフラットパネル型放射線検出器の製造方法において、不活性材料が大気圧下において自重による落下で供給口から前記スペースに供給されることを特徴とするフラットパネル型放射線検出器の製造方法。
【請求項６】
請求項１から５のいずれかに記載のフラットパネル型放射線検出器の製造方法において、放射線有感膜は、入射放射線が電気信号に変換される直接変換タイプの放射線有感膜であって、放射線有感膜の表面にバイアス電圧印加電極が積層形成されていることを特徴とするフラットパネル型放射線検出器の製造方法。
【請求項７】
請求項１に記載のフラットパネル型放射線検出器用において、前記不活性材料は不活性ガスであって、前記スペースの内圧を外部より低圧にした後に、前記供給口から不活性ガスを供給して気密封止することを特徴とするフラットパネル型放射線検出器の製造方法。
【請求項８】
請求項７に記載のフラットパネル型放射線検出器の製造方法において、前記スペースを真空排気することによってスペース内を外部より低圧にすることを特徴とするフラットパネル型放射線検出器の製造方法。
【請求項９】
請求項７または８に記載のフラットパネル型放射線検出器の製造方法において、放射線有感膜は、入射放射線が電気信号に変換される直接変換タイプの放射線有感膜であって、放射線有感膜の表面にバイアス電圧印加電極が積層形成されていることを特徴とするフラットパネル型放射線検出器の製造方法。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれかに記載のフラットパネル型放射線検出器の製造方法により作製したことを特徴とするフラットパネル型放射線検出器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フラットパネル型放射線検出器における放射線有感膜の表面および周端面に形成された不活性樹脂用スペースまたは不活性ガス用スペースである不活性材料用スペース（空間）に不活性樹脂や不活性ガスなどの不活性材料が充填されているフラットパネル型放射線検出器の製造方法およびフラットパネル型放射線検出器に係り、特に、不活性材料用スペースにおける不活性材料の充填不足を回避するための技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線撮影装置において、Ｘ線管から被検体にＸ線が照射されるのに伴って生じる被検体の透過Ｘ線像を検出するために用いられるフラットパネル型放射線検出器（以下、適宜「ＦＰＤ」という）がある。このＦＰＤは、図１０に示すように、ＦＰＤ用としての放射線検出機能を発揮する放射線有感膜５１がガラス製などの基板５２の上に形成されているとともに、放射線有感膜５１を覆い被せているケース５３の内面と放射線有感膜５１の表面および周端面の間に生じた不活性樹脂用スペースＳＰａに絶縁樹脂を主材とする不活性樹脂５４が充填されている。
【０００３】
また、放射線有感膜５１は入射したＸ線が電気信号に変換される直接変換タイプの放射線有感膜であって、放射線有感膜５１の表面にバイアス電圧印加電極５５が積層形成されており、不活性樹脂５４は放射線有感膜５１をバイアス電圧印加電極５５ごと被覆している。
【０００４】
なお、この発明における不活性樹脂や不活性ガスの不活性とは、放射線有感膜５１やバイアス電圧印加電極５５に対して化学的に不活性であり、また電気的にも不活性である（電気絶縁性を有する）ことを指す。
【０００５】
図１０のＦＰＤの不活性樹脂５４は次のようにして施されたものである。すなわち、図１１（ａ）に示すように、ケース５３の四周側面部分を構成するスペーサとしての枠材５３Ａだけを放射線有感膜５１を囲むようにして基板５２の上に接着する。
【０００６】
次に、図１１（ｂ）に示すように、枠材５３Ａで取り囲まれたスペースＳＰａに樹脂組成物を主剤とする不活性樹脂用の液状材料ＬＱを流し込んだ後に、ケース５３の上面部分を構成する蓋用の蓋材５３Ｂを、図１１（ｃ）に示すように被着して液状材料ＬＱを硬化させる。
【０００７】
そうすると、図１０に示すように、放射線有感膜５１の表面側および周端面側の間のスペースＳＰａに絶縁樹脂を主材とする不活性樹脂５４が充填された状態で完成する。
【０００８】
スペースＳＰａに充填されている不活性樹脂５４は放射線有感膜５１とバイアス電圧印加電極５５を覆うように施されているので、不活性樹脂５４は放射線有感膜５１の変質を防止することができるとともに、耐電圧を向上させることができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、従来のＦＰＤの場合、スペースＳＰａに対する不活性樹脂５４の充填不足が生じるという問題がある。
【００１０】
すなわち、不活性樹脂用の液状材料ＬＱを流し込んでから蓋材５３Ｂを倒して被着する際に噛み込んだ空気によって充填不足が起こる。つまり、噛み込んだ空気は不活性樹脂５４の中に気泡を生成し、気泡の分だけ充填不足になる。不活性樹脂５４の中の気泡はＸ線画像の中に写し出されて画質が低下する原因となるだけでなく、気泡のところでは樹脂厚みが薄くなるので、耐電圧が低下する原因にもなる。
【００１１】
また、不活性材として不活性樹脂の代わりに不活性ガスを充填する場合、蓋材５３Ｂに不活性ガスの供給口を予め開けておいて先に蓋材５３Ｂを被着してから不活性ガスを供給充填した後に供給口を封じる。
【００１２】
しかしながら、スペース内の空気を十分に不活性ガスと置換することは困難であって、不活性ガスの充填不足が起こる。この不活性ガスの充填不足も、放射線有感膜５１の変質や耐電圧の低下の原因となる。
【００１３】
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、不活性樹脂用スペースや不活性ガス用スペースである不活性材用スペースに対する不活性材としての不活性樹脂あるいは不活性ガスの充填不足を回避することができるフラットパネル型放射線検出器の製造方法を提供するとともに、不活性材料用スペースに不活性材料が不足なく充填されているフラットパネル型放射線検出器を提供することを主たる目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
この発明は、上記の第１の目的を達成するために、次のような構成をとる。
【００１５】
すなわち、請求項１に記載の発明に係るフラットパネル型放射線検出器の製造方法は、フラットパネル型放射線検出器用としての放射線有感膜の表面側および周端面側に不活性材料を充填するスペースを形成するように、不活性材料を供給する供給口と不活性材料を排出する排出口を設けたケースを放射線有感膜に覆い被せ、前記ケースの供給口からスペース内に不活性材料を供給充填することを特徴とするものである。
【００１６】
［作用・効果］請求項１の発明のＦＰＤの製造方法では、放射線有感膜の表面側および周端面側に不活性材料を充填するスペースを形成するように、不活性材料を供給する供給口と不活性材料を排出するための排出口を設けたケースを放射線有感膜に覆い被せる。この状態で供給口から不活性材料を供給して充填する。
【００１７】
すなわち、請求項１の発明のＦＰＤの製造方法の場合、不活性材料を供給する前に放射線有感膜にケースを覆い被せてしまうので、ケースを放射線有感膜に被せる際に充填不足を起こす空気を噛み込む心配がない。したがって、不活性材料用スペースに対する不活性材料の充填不足が回避される。
【００１８】
また、請求項２の発明は、請求項１に記載のフラットパネル型放射線検出器の製造方法において、前記不活性材料は、液状またはゲル状の不活性材料であって、前記ケースの供給口からスペース内に供給した不活性材料を排出口から溢れ出るまで供給した後に、不活性材料を硬化させることを特徴とするものである。
【００１９】
［作用・効果］請求項２の発明のＦＰＤの製造方法では、放射線有感膜の表面側および周端面側に液状またはゲル状の不活性材料を充填するためのスペースを形成するように、これら不活性材料を充填するための供給口と排出するための排出口を設けたケースを放射線有感膜に覆い被せる。この状態で供給口から不活性材料を供給し、排出口から不活性材料が溢れ出るまで供給する。その後、この不活性材料を硬化させることにより、不活性材料用のスペースに不活性材が充填されている。
【００２０】
すなわち、請求項２の発明のＦＰＤの製造方法の場合、不活性材料を供給する前に放射線有感膜にケースを覆い被せてしまうので、ケースを放射線有感膜に被せる際に充填不足を起こす空気を噛み込む心配がない。また、ケースの供給口から供給する液状またはゲル状の不活性材料が排出口から溢れ出まで不活性材料用のスペースに供給することで、排出口から溢れ出る不活性材料によってスペース内の空気が外部に排出され、スペース内に不活性材料が密状態となるように十分に行き渡る。したがって、不活性樹脂用スペースに対する不活性材料の充填不足が回避される。
【００２１】
また、請求項３の発明は、請求項２に記載のフラットパネル型放射線検出器の製造方法において、前記ケースの供給口に連通接続して不活性材料を供給する流路と、排出口に連通接続して溢れ出る不活性材料を溜める液溜部のそれぞれに、前記スペースから溢れ出た余剰の不活性材料が溜まった状態で不活性材料を硬化させることを特徴とするものである。
【００２２】
［作用・効果］請求項３の発明のＦＰＤの製造方法の場合、不活性材料用のスペースの内に供給された液状またはゲル状の不活性材料が硬化する際に収縮しても、材料の収縮に伴って供給流路に残っている余剰の不活性材料が新たに供給口からスペース内に供給されて補給されるとともに、液溜部に留まっている過剰の不活性材料が排出口からスペースの内へ引き戻されて補給される。したがって、不活性樹脂用の不活性材料が硬化する際の収縮によって発生する局所的な不活性材料の不足を回避することができる。
【００２３】
また、請求項４の発明は、請求項１または３に記載のフラットパネル型放射線検出器の製造方法において、前記ケースの下側に供給口を配置するとともに、前記ケースの上側に排出口を配置した状態で不活性材料の供給を行なうことを特徴とするものである。
【００２４】
［作用・効果］請求項４の発明のＦＰＤの製造方法の場合、不活性材料用スペース内では空気より重い液状またはゲル状不活性材料が下側から軽い空気を上へ押し上げながら上側へ徐々に充填されてゆくので、不活性材料用スペース内の空気が不活性材料によって確実に外部に排出される、結果、不活性材料の充填不足を精度よく回避することができる。
【００２５】
また、請求項５の発明は、請求項１から４のいずれかに記載のフラットパネル型放射線検出器の製造方法において、不活性材料が大気圧下において自重による落下で供給口から前記スペースに供給されることを特徴とするものである。
【００２６】
［作用・効果］請求項５の発明のＦＰＤの製造方法の場合、液状またはゲル状の不活性材料が大気圧下において自重による落下で供給口から不活性材料用スペースに供給されるので、不活性材料用スペースに不活性材料を容易に充填することができる。
【００２７】
また、請求項６の発明は、請求項１から５のいずれかに記載のフラットパネル型放射線検出器の製造方法において、放射線有感膜は、入射放射線が電気信号に変換される直接変換タイプの放射線有感膜であって、放射線有感膜の表面にバイアス電圧印加電極が積層形成されていることを特徴とするものである。
【００２８】
［作用・効果］請求項６の発明のＦＰＤの製造方法の場合、製造されたＦＰＤでは直接変換タイプの放射線有感膜で入射放射線が電気信号に変換されるとともに、バイアス電圧印加電極の表面が不活性材料で覆われるので、不活性材料によって耐電圧も向上する。
【００２９】
また、請求項７の発明は、請求項１に記載のフラットパネル型放射線検出器用において、前記不活性材料は不活性ガスであって、前記スペースの内圧を外部より低圧にした後に、前記供給口から不活性ガスを供給して気密封止することを特徴とするものである。
【００３０】
［作用・効果］請求項７の発明のＦＰＤの製造方法では、放射線有感膜の表面側および周端面側に不活性ガスを充填するのスペースを形成するように、不活性ガスを供給するための供給口を設けたケースを放射線有感膜に覆い被せる。この状態でスペースの内圧を外部より低圧にしてからケースの供給口から不活性ガスを供給して気密封止することにより、不活性ガス用スペースに不活性ガスが充填されている。
【００３１】
すなわち、請求項７の発明のＦＰＤの製造方法の場合、不活性ガスを供給する前に放射線有感膜にケースを覆い被せ、スペースの内圧を外部より低圧にしてからケースの供給口から不活性ガスを供給するので、不活性ガスは圧力の高い供給口の外側から圧力の低い不活性ガス用スペースに速やかに供給される。したがって、不活性ガス用スペースに対する不活性ガスの充填不足を回避することができる。
【００３２】
また、請求項８の発明は、請求項７に記載のフラットパネル型放射線検出器の製造方法において、前記スペースを真空排気することによってスペース内を外部より低圧にすることを特徴とするものである。
【００３３】
［作用・効果］請求項８の発明のＦＰＤの製造方法の場合、不活性ガス用スペースを真空排気することにより、不活性ガス用スペース内と外部の圧力差を十分に大きくできるので、不活性ガスが不活性ガス用スペースへより速やかに充填される。
【００３４】
また、請求項９の発明は、請求項７または８に記載のフラットパネル型放射線検出器の製造方法において、放射線有感膜は、入射放射線が電気信号に変換される直接変換タイプの放射線有感膜であって、放射線有感膜の表面にバイアス電圧印加電極が積層形成されていることを特徴とするものである。
【００３５】
［作用・効果］請求項９の発明のＦＰＤの製造方法の場合、製造されたＦＰＤでは直接変換タイプの放射線有感膜で入射放射線が電気信号に変換されるとともに、バイアス電圧印加電極の表面が不活性ガスで覆われているので、不活性ガスによって耐電圧も向上する。
【００３６】
さらに、この発明は、上記の第２の目的を達成するために、次のような構成をとる。
【００３７】
すなわち、請求項１０の発明に係るフラットパネル型放射線検出器は、請求項１から９のいずれかに記載のフラットパネル型放射線検出器の製造方法により作製されてなることを特徴とするものである。
【００３８】
［作用・効果］請求項１０の発明のＦＰＤの場合、請求項１から９のいずれかに記載のフラットパネル型放射線検出器の製造方法により作製されたものであるので、フラットパネル型放射線検出器用としての放射線有感膜の表面側および周端面側の不活性材料用スペースに液状またはゲル状の不活性材料が不足なく充填されている。また、不活性ガスの供給・気密封止によるものであるので、フラットパネル型放射線検出器用としての放射線有感膜の表面側および周端面側の不活性ガス用スペースに不活性ガスが不足なく充填されている。
【発明の効果】
【００３９】
本発明のＦＰＤの製造方法およびフラットパネル型放射線検出器によれば、不活性材料の供給前に放射線有感膜にケースを覆い被せてしまうので、ケースを放射線有感膜に被せる際に不活性材料の充填不足を起こす空気を噛み込む心配がない。例えば、液状またはゲル状の不活性材料がケースの供給口から供給されてケースの排出口から溢れ出てゆく時に不活性材料によって不活性材料用スペース内の空気が外部に排出されるので、不活性材料がスペース内に密状態となるように十分に行き渡る。
【００４０】
したがって、請求項１のフラットパネル型放射線検出器の製造方法によれば、不活性材料用スペースに対する不活性材の充填不足を回避することができる。
【００４１】
同様に、不活性ガスの供給口を設けたケースを放射線有感膜に覆い被せて放射線有感膜の表面側および周端面側に形成した不活性ガス用スペースの内部を外部より低圧にしてからケースの供給口から不活性ガスを供給するので、不活性ガスは圧力の高い供給口の外部から圧力の低い不活性ガス用スペースへ速やかに供給充填される。
【００４２】
したがって、不活性ガス用スペースに対する不活性材としての不活性ガスの充填不足を回避することができる。
【実施例１】
【００４３】
この発明のＦＰＤの製造方法およびＦＰＤの実施例について図面を参照しながら詳しく説明する。
【００４４】
図１は実施例１に係るＦＰＤの内部構造を示す断面図、図２は実施例１に係るＦＰＤの上面側外観の部分破断図である。
【００４５】
実施例１のＦＰＤは、図１および図２に示すように、入射放射線（例えばＸ線）が直に電気信号に変換される直接変換タイプのＦＰＤであって、ガラスなどの絶縁基板３の上に放射線有感膜１、バイアス電圧印加電極２の順番に積層形成されている。
【００４６】
放射線有感膜１としては、例えばアモルファスセレン（非晶質Ｓｅ）やＣｄＺｎＴｅ，ＣｄＴｅ，ＨｇＩ2 ，ＰｂＩ2 などの半導体膜が用いられる。放射線有感膜１の大きさは、例えば、縦：８０〜５５０ｍｍ，横：８０〜５５０ｍｍ、厚み：０．５〜３ｍｍの範囲のものが利用される。
【００４７】
バイアス電圧印加電極２としては、例えばアルミニウムなどの金属薄が用いられる
絶縁基板３には、図示しないが、信号読み出し用回路が形成されているとともに、放射線の入射に伴って放射線有感膜１に生成されるキャリアを収集する多数の個別電極が表面に画素電極として２次元状マトリックス配列（例えば縦１５３６×横１５３６の縦横マトリックス配列）されている。個別電極の形成面には、放射線有感膜１と共通電極であるバイアス電圧印加電極２が積層されている。
【００４８】
さらに、実施例１のＦＰＤでは、放射線有感膜１の表面側および周端面側の間に設けられた不活性樹脂用のスペースＳＰＡに不活性樹脂４が充填されている。具体的には、スペーサとして用いる枠材５Ａと上板５Ｂとから構成されたケース５を絶縁基板３に覆い被せて密着固定させ、放射線有感膜１およびバイアス電圧印加電極２の表面および側端面の間に不活性樹脂用のスペースＳＰＡを形成している。
【００４９】
ケース５は、その上板５Ａの対角に対向する角部に不活性樹脂４を充填するための供給口６と排出口７とが形成されている。この供給口６および排出口７とに接続用チューブ８，９を嵌入し、このスペースＳＰＡに絶縁樹脂を主材とする不活性樹脂４が充填される。
【００５０】
したがって、不活性樹脂４は放射線有感膜１とバイアス電圧印加電極２を覆うようにスペースＳＰＡに充填されているので、不活性樹脂４は放射線有感膜１の変質を防止するとともに、耐電圧を向上させる。
【００５１】
なお、放射線検出の際は、電気ケーブルＥＢでバイアス電圧印加電極２に高電圧を供給しておくと、放射線が入射するのにともなって個別電極から信号読み出し用回路経由で放射線検出信号が出力される。実施例１のＦＰＤが、例えば、Ｘ線透視撮影装置のＸ線検出用である場合、ＦＰＤから出力されるＸ線検出信号にしたがって放射線有感膜１に投影される透過Ｘ線像の２次元強度分布に対応するＸ線透視画像が作成できる。
【００５２】
次に、上記実施例のＦＰＤの製造プロセスを図３のＦＰＤの製造プロセスを示すフローチャートに沿って説明する。
【００５３】
〔ステップＳ１〕  図４（ａ）に示すように、信号読み出し用回路（図示省略）や個別電極が形成された絶縁基板３の表面に直接変換タイプのＦＰＤ用の放射線有感膜１とバイアス電圧印加電極２を順に積層形成する。
【００５４】
〔ステップＳ２〕  図４（ｂ）に示すように、枠材５Ａと上板５Ｂとから構成されたケース５を準備する。ケース５には、不活性樹脂用の液状材料の供給口６および排出口７が対角に対向する角部に形成されているとともに、供給口６と排出口７にはそれぞれ接続用チューブ８，９が嵌入される。
【００５５】
〔ステップＳ３〕  図４（ｃ）に示すように、絶縁基板３にケース５を覆い被せて密閉固定し、絶縁基板３上に積層形成された放射線有感膜１およびバイアス電圧印加電極２の表面や側端面の間に不活性樹脂用のスペースＳＰＡを形成する。スペースＳＰＡは供給口６と排出口７だけで外に通じている状態となる。形成されるスペースＳＰＡの間隙は、０．５〜５．０ｍｍ程度の範囲とされる。
【００５６】
なお、バイアス電圧印加電極２へ高電圧を供給する電気ケーブルＥＢは、例えば、絶縁基板３とケース５の隙間を通したり、枠材５Ａに気密に取り付けられた電気コネクタで中継したりして外へ引き出す。
【００５７】
〔ステップＳ４〕  図５に示すように、供給口６の接続用チューブ８には、液状材料供給装置１０の供給チューブ（供給流路）１１を接続する。排出口７の接続用チューブ９には、排出口７から溢れ出る過剰の液状材料を溜めておくための貯留チューブ（排液溜め）１２を接続する。また、図６に示すように、ケース５の供給口６が最下部に位置し、排出口が最上部に位置する傾斜姿勢となるように、ケースを傾斜台ＢＳの上に載置する。傾斜台ＢＳの傾斜角度θとしては、例えば、１０〜３０°の範囲となるようにする。
【００５８】
なお、液状材料供給装置１０は、供給チューブ１１の上方に支持された液状材料タンク１３を備え、液状材料タンク１３の下端に供給チューブ１１の上端が接続されている。バルブ１４を開くと液状材料タンク１３の中の不活性樹脂用の液状材料が供給チューブ１１を経由して供給口６からスペースＳＰＡに供給されるようになっている。液状材料タンク１３に投入する不活性樹脂用の液状材料として、例えば、必要に応じてフィラーなどを添加配合したエポキシ系樹脂組成物を予め真空脱泡したものなどが用いられる。
【００５９】
〔ステップＳ５〕  液状材料の供給の開始にともなって、液状材料供給装置１０のバルブ１４を開く。図７（ａ）に示すように、供給口６からスペースＳＰＡに供給された液状材料ＬＱはスペースＳＰＡの底から上方に向けて徐々に溜まってゆく。液状材料ＬＱが溜まってゆくのにともなって、スペースＳＰＡの空気は液状材料ＬＱで押し上げられて排出口７から排出されてゆく。
【００６０】
〔ステップＳ６〕  スペースＳＰＡ内が液状材料ＬＱで満たされた後も、液状材料の供給は続き、図７（ｂ）に示すように、排出口７から液状材料ＬＱが溢れ出て貯留チューブ１２に溜まってゆく。そして、供給チューブ１１の中の液状材料と貯留チューブ１２の中の液状材料の高さが同一となった時点で液状材料ＬＱの供給充填が完了する。
【００６１】
したがって、液状材料タンク１３には、スペースＳＰＡの容積よりも多い液量の液状材料ＬＱが液状材料供給前に投入されている。
【００６２】
〔ステップＳ７〕  スペースＳＰＡの液状材料ＬＱを硬化させる。なお、このとき、絶縁基板３は、ケース５ごと傾斜台ＢＳから降ろして水平状態にして液状材料ＬＱを硬化させてもよい。
【００６３】
スペースＳＰＡに充填された液状材料ＬＱの硬化が完了した段階で、接続用チューブ８，９の根元で供給チューブ１１と貯留チューブ１２を切り離せば、実施例１のＦＰＤが完成する。
【００６４】
したがって、完成したＦＰＤの対角対向する角部には、供給口６および排出口７に液状材料ＬＱを充填して上板５Ａと面一に加工した跡が残っている。なお、この加工面を上板５Ａと同一視して分かりづらくするように塗装するなどの加工を施してもよい。
【００６５】
以上のように、実施例１に係るＦＰＤの製造方法の場合、絶縁基板３の上に形成した放射線有感膜１およびバイアス電圧印加電極２の表面と側面に間隙を設けるようにケース５を絶縁基板３上に覆い被せて密着された後に、形成されたスペースＳＰＡに不活性樹脂４を充填することにより不活性樹脂用の液状材料ＬＱの充填不足を起こす空気の噛み込みを回避することができる。
【００６６】
また、ケース５の供給口６を最下部に、排出口７を最上部に位置するように傾斜姿勢にした状態で液状材料ＬＱを供給口６から供給してゆき、排出口７から液状材料ＬＱが溢れ出てゆくよにすることで、スペースＳＰＡの中の空気を外に押し出すことができる。すなわち、スペースＳＰＡの内に不活性樹脂用の液状材料ＬＱを密状態に行き渡らせることができ、不活性樹脂用スペースＳＰＡに対する不活性樹脂４の充填不足を回避できる。
【００６７】
さらに、実施例１に係るＦＰＤの製造方法の場合、スペースＳＰＡ内に供給充填された液状材料ＬＱが硬化する際に収縮しても、材料の収縮に伴って供給チューブ１１に残っている余剰の液状材料が新たに供給口６からスペースＳＰＡ内に供給されて補給されるととも、貯留チューブ１２に留まっている過剰の液状材料が排出口７からスペースＳＰＡ内へ引き戻されて補給されるので、液状材料ＬＱが硬化する際の収縮によって局所的な樹脂不足が生じるのを回避することができる。同時に、スペースＳＰＡ内では空気より重い不活性樹脂用の液状材料が下の方から軽い空気を上へ押し上げながら上の方へ行き渡ってゆくので、スペースＳＰＡ内の空気が不活性樹脂用の液状材料ＬＱによって確実に外部へ押し出される。
【実施例２】
【００６８】
実施例２では、不活性樹脂用のスペースＳＰＡに不活性ガスを充填したＦＰＤの製造方法について説明する。なお、本実施例の場合、ＦＰＤ用としての放射線有感膜１の表面側および周端面側の不活性ガス用のスペースＳＰＢに不活性樹脂４が充填される代わりに不活性ガスが充填されている他は、実施例１と同様であるので、同じ部分には同じ符号を付すに留め、異なる部分について具体的に説明する。
【００６９】
図８は実施例２に係るＦＰＤの内部構造を示す断面図である。
【００７０】
実施例２のＦＰＤおいて、放射線有感膜１の表面側および周端面側の間に設けられたスペースＳＰＢに不活性ガスＧＳが充填されている。具体的には、スペーサとして用いる枠材１５Ａと上板１５Ｂとから構成されたケース１５を絶縁基板３に覆い被せて密着固定させ、放射線有感膜１およびバイアス電圧印加電極２の表面および側端面の間に不活性樹脂用のスペースＳＰＢを形成している。
【００７１】
ケース１５は、その上板１５Ａの角部に貫通孔が形成されており、この貫通孔が不活性ガスの供給口１６となっている。使用する不活性ガスＧＳとしては、ヘリウムガス（Ｈｅ）やチッソガス（Ｎ2 ）などが用いられる。実施例２のＦＰＤの場合も、不活性ガスＧＳが放射線有感膜１の変質を防止するとともに、耐電圧を向上させる。
【００７２】
実施例２のＦＰＤを製造する場合は、図９（ａ）に示すように、絶縁基板３に覆い被せて密着固定したケース１５の供給口１６に不活性ガスが貯蔵されているガスボンベ１７を開閉バルブ１８を介して供給口１６に接続する。また、真空排気ポンプ１９を開閉バルブ２０を介して供給口１６に接続する。なお、真空度（ガス圧力）を測るガス圧力計２１を接続している。そして、開閉バルブ１８を閉じた状態で開閉バルブ２０だけを開いて真空排気ポンプ１９を作動させ、スペースＳＰＢ内を排気しながらガス圧力計２１でスペースＳＰＢの真空度を測る。
【００７３】
そして、スペースＳＰＢ内が適当な真空度に到達した時点で、図９（ｂ）に示すように、開閉バルブ２０を閉じて開閉バルブ１８だけを開いてガスボンベ１７の不活性ガスＧＳを供給口１６からスペースＳＰＢへ送り込む。真空排気により差圧により低圧になっているスペースＳＰＢ内には、供給口１６から不活性ガスが速やかに流入する。不活性ガスの供給充填が済んだ後、供給口１６を気密封止すると、実施例２のＦＰＤが完成する。
【００７４】
以上のように、実施例２に係るＦＰＤの製造方法の場合、不活性ガスの供給口１６を設けたケース１５によって形成された不活性ガス用のスペースＳＰＢ内を脱気して略真空状態の低圧にしてからケース１５の供給口１６から不活性ガスを供給するので、不活性ガスは圧力の高い方の供給口１６の外側から圧力の低いスペースＳＰＢに速やかに供給充填される。よって、実施例２のＦＰＤの製造方法によれば、スペースＳＰＢに対する不活性ガスＧＳの充填不足を回避することができる。
【００７５】
また、実施例２で作製されたＦＰＤにおいては、不活性ガス用スペースＳＰＢに不活性ガスＧＳが不足なく充填されている。
【００７６】
さらに、実施例２に係るＦＰＤの製造方法の場合、不活性ガス用スペースＳＰＢを真空排気することにより、スペースＳＰＢ内と供給口１６の外側の圧力差を十分に大きくできるので、不活性ガスＧＳが不活性ガス用スペースＳＰＢへより速やかに供給充填される。
【００７７】
この発明は、上記の実施例に限られるものではなく、以下のように変形実施することも可能である。
【００７８】
（１）上記各実施例においては、絶縁基板３へのケース５，１５の取り付けは、枠材５Ａ，１５Ａと上板５Ｂ，１５Ｂとから構成されていたが、絶縁基板３へのケース５，１５の取り付けは、枠材５Ａ，１５Ａを先に絶縁基板３へ取り付けておいて、枠材５Ａ，１５Ａの上板に５Ｂ，１５Ｂを後から取り付ける構成でもよい。
【００７９】
（２）上記各実施例の場合、ケース５，１５がス枠材５Ａ，１５Ａと上板５Ｂ，１５Ｂの二つの部材を組み付けた構成であったが、ケース５，１５は枠材と上板とが完全に一体係形成された単一の部材となっている構成であってもよい。
【００８０】
（３）上記各実施例では、放射線有感膜１が直接変換タイプであったが、放射線有感膜は間接変換タイプであってもよい。間接変換タイプの放射線有感膜が用いられる場合、放射線有感膜は入射放射線を光に変換するだけなので、放射線有感膜の変換光を電気信号に変換する光電変換膜を放射線有感膜の下側に設けるとともに、バイアス電圧印加電極を省いた構成とされる。
【００８１】
（４）上記実施例２では、ケース１５の供給口１６で真空排気と不活性ガスの両方を行なう構成であったが、ケース１５に不活性ガスの供給口１６以外に、真空排気をおこなう排気口も別に設け，真空排気と不活性ガスを別々に行なう構成であってもよい。
【００８２】
（５）上記各実施例の場合、ＦＰＤが検出する放射線としてＸ線を例示したが、この発明は、Ｘ線以外の放射線を検出対象とするＦＰＤにも適用することができる。
【００８３】
（６）上記実施例１では、供給口６および排出口７を上板５Ａに設けていたが、枠材５Ｂに設けてもよい。この場合、枠材５Ｂの対角対向する角部にそれぞれを設けることが好ましい。このように構成することにより、上記実施例１と同様の効果を奏する。また、実施例２の場合においても、枠材１５Ｂに供給口１６を設けてもよい。
【００８４】
（７）上記各実施例の場合、ケース５に充填する不活性材料として液状材料ＬＱを供給充填していたが、液状以外にゲル状の材料を用いてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】実施例１に係るＦＰＤを示す断面図である。
【図２】実施例１に係るＦＰＤを示す平面図である。
【図３】実施例１に係るＦＰＤの製造プロセスを示すフローチャートである。
【図４】実施例１に係るＦＰＤの製造工程を示す説明図である。
【図５】実施例１に係るＦＰＤの製造工程における液状材料供給装置の接続状況を示す斜視図である。
【図６】実施例１に係るＦＰＤの製造工程を示す断面図である。
【図７】実施例１に係るＦＰＤの製造工程を示す断面図である。
【図８】実施例２に係るＦＰＤを示す断面図である。
【図９】実施例２に係るＦＰＤの製造工程を示す説明図である。
【図１０】従来のＦＰＤを示す断面図である。
【図１１】従来のＦＰＤの製造工程を示す説明図である。
【符号の説明】
【００８６】
１        …  放射線有感膜
２        …  バイアス電圧印加電極
４        …  不活性樹脂
５，１５  …  ケース
６，１６  …  供給口
７        …  排出口
１１      …  供給チューブ（供給流路）
１２      …  貯留チューブ（排液溜め）
ＧＳ      …  不活性ガス
ＬＱ      …  不活性樹脂用の液状材料
ＳＰＡ    …  不活性樹脂用のスペース
ＳＰＢ    …  不活性ガス用のスペース
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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