(57)【要約】【課題】現像工程やエッチング工程等の不安定な工程を排除して、光照射のみで微細なパターンを形成し、再現性よく安定的に反射防止機能を有する光学素子を製造する。【解決手段】基板Ｗの表面にアゾベンゼン骨格を有する高分子層を形成し、高分子層の所定箇所に２以上の方向よりレーザ光ＬＲ及びＬＴを照射し、高分子層においてレーザ光ＬＲとＬＴとを干渉させるとともに、基板Ｗを回転させる露光を行い、高分子層の表面に複数の微細な錐体を形成する。【選択図】  図１
2005037419.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面にアゾベンゼン骨格を有する高分子層を形成し、
該高分子層の所定箇所に２以上の方向よりレーザ光を照射し、前記高分子層においてレーザ光を干渉させるとともに、前記基板を回転させる露光を行い、
前記高分子層の表面に複数の微細な錐体を形成することを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項２】
基板の表面にアゾベンゼン骨格を有する高分子層を形成し、
該高分子層の所定箇所にフォトマスクを介して光を照射する露光を行い、
前記高分子層の表面に複数の微細な錐体を形成することを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項３】
基板の表面にアゾベンゼン骨格を有する高分子層を形成し、
該高分子層の所定箇所に所定径以下に集束させたレーザ光を照射する露光を行い、
前記高分子層の表面に複数の微細な錐体を形成することを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項４】
前記錐体の高さを０．１〜２．０μｍとする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項５】
前記基板が円柱状体又は円筒状体である請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学素子の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学素子を使用して更に該光学素子を複製する光学素子の製造方法であって、
前記光学素子の表面に形成された複数の微細な錐体を使用して、該複数の微細な錐体を転写するためのスタンパを作製し、該スタンパを用いた成形加工により、樹脂材料の表面に前記複数の微細な錐体と略同一形状の複数の微細な錐体を形成することにより前記光学素子を複製することを特徴とする光学素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光学素子の製造方法に係り、特に、反射防止フイルム等の用途に好適に使用される光学素子の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、光学素子、光学機能性薄膜、及び各種の微細パターンの形成に関し、各種の製法が採用されていた。このうち、たとえば、表面に微細な円錐状パターンが配列された反射防止フイルムの製法は、光照射、現像、エッチング等の一連の処理を経るのが一般的であった（特許文献１〜４参照。）。
【０００３】
この製法の例を挙げると、Ｓｉ等の基板上に感光性フォトレジストを塗布し、レーザー干渉露光を繰り返して感光パターンを形成し、その後現像液を使用して現像することにより反射防止機能を有する微細な円錐状パターンが配列された基板とする例、基板上にＥＢ（電子線）感光レジストを塗布し、ＥＢを照射することにより反射防止機能を有する微細な円錐状パターンが配列された基板とする例、基板上に感光性フォトレジストを塗布し、レーザー光を照射することにより直接描画して反射防止機能を有する微細な円錐状パターンが配列された基板とする例、基板上にＸ線感光レジストを塗布し、Ｘ線マスクを介してＸ線を照射することにより反射防止機能を有する微細な円錐状パターンが配列された基板とする例等である。
【０００４】
また、リアクティブイオンエッチング等のドライエッチングや化学エッチングを用いて反射防止機能を有する微細な円錐状パターンが配列された基板とする例も見られる。
【０００５】
【特許文献１】
特開２０００−２５８６０７号公報
【０００６】
【特許文献２】
特表２００１−５１７３１９号公報
【０００７】
【特許文献３】
特開２００２−３３３５０８号公報
【０００８】
【特許文献４】
特開２００２−２８７３７０号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の光学素子の製造方法では、各工程における条件管理が厳しい現像工程、エッチング工程を有することより、微細パターン形成の再現性が低いという問題があった。特に、アルカリ溶液を使用した現像工程やエッチング工程は工程が不安定となりやすく、生産性、歩留り等の点で改善が求められていた。
【００１０】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、基板上に複数の微細な錐体が形成されている光学素子の製造において、現像工程やエッチング工程等の不安定な工程を排除して、光照射のみで微細なパターンを形成し、再現性よく安定的に反射防止機能を有する光学素子を製造できる光学素子の製造方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本発明は、基板の表面にアゾベンゼン骨格を有する高分子層を形成し、該高分子層の所定箇所に２以上の方向よりレーザ光を照射し、前記高分子層においてレーザ光を干渉させるとともに、前記基板を回転させる露光を行い、前記高分子層の表面に複数の微細な錐体を形成することを特徴とする光学素子の製造方法を提供する。
【００１２】
本発明によれば、アゾベンゼン骨格を有する高分子層の所定箇所に２以上の方向よりレーザ光を照射し、レーザ光を干渉させるとともに、基板を回転させる露光を行い複数の微細な錐体を形成する。したがって、本発明の上記方法により、現像工程やエッチング工程等の不安定な工程を排除して、光照射のみで微細なパターンを形成し、再現性よく安定的に反射防止機能を有する光学素子を製造できるという利点が得られる。
【００１３】
ここで、「錐体」とは、平面状の閉じた曲線（又は折線）の周上を一周する点と、この平面外の一定点とを結ぶ直線によってつくられる曲面（又は幾つかの平面の一部）で囲まれた空間の一部分であり、円錐、角錐の類を指す。
【００１４】
また、本発明は、基板の表面にアゾベンゼン骨格を有する高分子層を形成し、該高分子層の所定箇所にフォトマスクを介して光を照射する露光を行い、前記高分子層の表面に複数の微細な錐体を形成することを特徴とする光学素子の製造方法を提供する。
【００１５】
本発明によれば、アゾベンゼン骨格を有する高分子層の所定箇所にフォトマスクを介して光を照射する露光を行い高分子層の表面に複数の微細な錐体を形成する。本発明の上記方法によっても、現像工程やエッチング工程等の不安定な工程を排除して、光照射のみで微細なパターンを形成し、再現性よく安定的に反射防止機能を有する光学素子を製造できるという利点が得られる。
【００１６】
また、本発明は、基板の表面にアゾベンゼン骨格を有する高分子層を形成し、該高分子層の所定箇所に所定径以下に集束させたレーザ光を照射する露光を行い、前記高分子層の表面に複数の微細な錐体を形成することを特徴とする光学素子の製造方法を提供する。
【００１７】
本発明によれば、アゾベンゼン骨格を有する高分子層の所定箇所に所定径以下に集束させたレーザ光を照射する露光を行い高分子層の表面に複数の微細な錐体を形成する。本発明の上記方法によっても、現像工程やエッチング工程等の不安定な工程を排除して、光照射のみで微細なパターンを形成し、再現性よく安定的に反射防止機能を有する光学素子を製造できるという利点が得られる。
【００１８】
なお、本発明において、「基板を回転させる」とあるが、必ずしも基板の物理的な回転を必要とするのみならず、照射側の装置等を回転させるのであってもよく、照射光と基板との相対的な回転が得られればよい。
【００１９】
本発明において、前記錐体の高さを０．１〜２．０μｍとすることが好ましい。錐体の高さをこのような範囲とすれば、反射防止機能を良好なものとでき、また、製造上からも便宜だからである。
【００２０】
また、本発明において、前記基板が円柱状体又は円筒状体であることが好ましい。基板が円柱状体又は円筒状体であれば、後述するような、光学素子を使用して更に該光学素子を複製する際に、ロール加工が導入でき、生産性が大幅に向上し、コストダウン等の点でも多くの利点が得られるからである。
【００２１】
また、本発明は、上記の光学素子を使用して更に該光学素子を複製する光学素子の製造方法であって、前記光学素子の表面に形成された複数の微細な錐体を使用して、該複数の微細な錐体を転写するためのスタンパを作製し、該スタンパを用いた成形加工により、樹脂材料の表面に前記複数の微細な錐体と略同一形状の複数の微細な錐体を形成することにより前記光学素子を複製することを特徴とする光学素子の製造方法を提供する。
【００２２】
本発明によれば、すでに製造した光学素子を使用して更に該光学素子を複製する。すなわち、スタンパを作製し、このスタンパを用いた成形加工により、樹脂材料の表面に複数の微細な錐体と略同一形状の複数の微細な錐体を形成する。これにより、生産性が大幅に向上し、コストダウン等の点でも多くの利点が得られる。
【００２３】
なお、スタンパとは、一般的には基型（マザー）の表面形状を転写した平板状体を意味するが、ここでは、円柱状体又は円筒状体等のように、曲面を有するものをも含む広い意味で使用するものとする。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面に従って本発明に係る光学素子の製造方法の好ましい実施の形態について詳説する。図１に、本発明に係る光学素子の製造方法に使用される露光装置（第１の実施形態）の概要を示す。これは、請求項１に対応する。
【００２５】
図１の露光装置１０において、レーザ光源１２から出射されたレーザビームＬは、第１のミラー１４及び第２のミラー１６により反射され、第１のレンズ１８で光束が広げられた後、第２のレンズ２０で所定幅の平行光にコリメートされて、ハーフミラー２２に所定角度をもって入射する。
【００２６】
ハーフミラー２２に入射したレーザビームは、反射光ＬＲと透過光ＬＴに分岐され、反射光ＬＲは第３のミラー２４で反射され、透過光ＬＴは第４のミラー２６で反射され、いずれも試料Ｗの同一箇所に照射される。これにより、反射光ＬＲと透過光ＬＴとで光の干渉を生じ、規則的な光の照度分布を生じることとなる。
【００２７】
試料Ｗは、図示しない試料台に固定されており、この試料台はＸ方向（上下方向）、Ｙ方向（紙面に垂直方向）、及び、θ方向（Ｚ方向の軸３０を中心とした回転方向）とに移動（又は回転）可能となっている。
【００２８】
基板である試料Ｗの表面には、アゾベンゼン骨格を有する高分子層が形成されている。このアゾベンゼン骨格を有する高分子には、以下の化学式で示されるものが使用できる。
【００２９】
【化１】
2005037419.tif 000003
このようなアゾベンゼン骨格を有する高分子は、照射された光の強度分布に応じて表面が凹凸状に形成される特性を有している。したがって、本発明における必須の材料である。このようなアゾベンゼン骨格を有する高分子は、従来のフォトレジストで代表される感光性樹脂と異なり、現像処理等を必要としない。
【００３０】
試料Ｗの表面にアゾベンゼン骨格を有する高分子層を形成する方法としては、公知の各種方法、たとえば、ダイコート、ロールコート、ディップコート、スクリーン印刷等の各種塗布方法等が採用できる。
【００３１】
次に、図１の露光装置１０を使用した露光による微細な錐体の形成について説明する。図２は、図１の要部拡大断面図であり、試料Ｗの照射箇所近傍を示している。
【００３２】
図２（ａ）に示されるように、試料Ｗの照射箇所の表面において、反射光ＬＲと透過光ＬＴとで光の干渉を生じ、規則的な光の照度分布を生じることとなる。その結果、このままの状態で露光を続ければ、アゾベンゼン骨格を有する高分子層は図２（ｂ）に示されるように、断面がのこぎり状に形成される。すなわち、試料Ｗはレンチキュラーレンズのような断面形状となる。
【００３３】
ところが、本発明においては、レーザ光（ＬＲとＬＴ）を干渉させるとともに、基板Ｗを回転させる露光を行う。その結果、試料Ｗの高分子層の表面に複数の微細な錐体が形成される。すなわち、レーザ光を干渉させる露光を行った後、基板Ｗを回転させ、再度露光を行う。これにより、基板Ｗ上に多数の微細な錐体を形成できる。この製法において、製品の要求仕様等により、基板Ｗの回転態様を選択することが可能であり、光学素子の製造方法としての自由度が大きい。
【００３４】
また、図１に示されるようなレーザ光（ＬＲ、ＬＴ）の入射角αを選択することにより、複数の微細な錐体の配列ピッチを可変とできる。すなわち、レーザ光（ＬＲとＬＴ）を干渉させることで形成される干渉縞の間隔ｄは、ｄ＝λ／（２ｓｉｎα）となる。ここで、λはレーザ光の波長である。
【００３５】
更に、アゾベンゼン骨格を有する高分子層の膜厚をコントロールすることにより、錐体の高さを可変とできる。以上の各点においても、基板Ｗの用途、製品の要求仕様等により、製造条件を選択することが可能であり、光学素子の製造方法としての自由度が大きい。
【００３６】
なお、レーザ光は、アゾベンゼン骨格を有する高分子の吸収波長に近い波長のものであることが求められる。
【００３７】
以上説明した、本発明に係る光学素子の製造方法の第１の実施形態によれば、現像工程やエッチング工程等の不安定な工程を排除して、光照射のみで微細なパターンを形成し、再現性よく安定的かつ安価に反射防止機能を有する光学素子等の各種光学素子を製造できるという効果が得られる。また、既述のように、光学素子等の製造方法としての自由度が大きいという効果も得られる。
【００３８】
このようにして製造された光学素子は、表面に錐体のパターンが規則的に配列されており、入射光に対する屈折率変化が空間的に連続的に変化することより、反射防止機能を有することとなる。
【００３９】
次に、本発明に係る光学素子の製造方法の好ましい他の実施形態（第２の実施形態）について詳説する。これは、請求項２に対応する。本実施形態においては、フォトマスクを介して光を照射する露光を行い、アゾベンゼン骨格を有する高分子層の表面に複数の微細な錐体を形成する方法を採用する。
【００４０】
ここで使用されるフォトマスクとしては、規則的な配列のホールアレイマスクが好ましい。特に、パターンの際の濃度（遮光の程度）が徐々に変化していく（いわゆるフェードアウトしていく）構成のマスクを使用することが、錐体を形成するのに好ましい。
【００４１】
また、規則的な配列のホールアレイマスクを使用せず、規則的な配列のストライプパターンのマスクを使用して露光を行う方法も採用できる。
【００４２】
アゾベンゼン骨格を有する高分子としては、第１の実施形態と同一のものが使用できる。また、試料Ｗの表面にアゾベンゼン骨格を有する高分子層を形成する方法についても第１の実施形態と同様である。
【００４３】
露光用の光源としては、レーザ光又は白色光が使用できる。但し、アゾベンゼン骨格を有する高分子の吸収波長に近い波長のものであることが求められる。
【００４４】
以上の条件下で露光を行うことにより、フォトマスクのパターンに対応した微細な錐体が試料Ｗの表面に形成される。
【００４５】
以上説明した、本発明に係る光学素子の製造方法の第２の実施形態によれば、現像工程やエッチング工程等の不安定な工程を排除して、光照射のみで微細なパターンを形成し、再現性よく安定的かつ安価に反射防止機能を有する光学素子等の各種光学素子を製造できるという効果が得られる。また、既述のように、高分子層の膜厚をコントロールすることにより、錐体の高さを可変とできるような、光学素子等の製造方法としての自由度が大きいという効果も得られる。
【００４６】
次に、本発明に係る光学素子の製造方法の好ましい他の実施形態（第３の実施形態）について詳説する。これは、請求項３に対応する。本実施形態においては、所定径以下に集束させたレーザ光を照射する露光を行い、アゾベンゼン骨格を有する高分子層の表面に複数の微細な錐体を形成する方法を採用する。すなわち、フォトマスクを使用しない直接描画方法を採用する。
【００４７】
このような直接描画方法は、フォトマスクを使用する露光方式と比べてスループットが劣るものの、描画パターンの自由度が高い、描画精度が良好であるという特徴が生かせる。
【００４８】
アゾベンゼン骨格を有する高分子としては、第１の実施形態と同一のものが使用できる。また、試料Ｗの表面にアゾベンゼン骨格を有する高分子層を形成する方法についても第１の実施形態と同様である。
【００４９】
露光用の光源としては、レーザ光が好ましく使用できる。但し、アゾベンゼン骨格を有する高分子の吸収波長に近い波長のものであることが求められる。また、レーザ光を集束させる所定径としては、形成する錐体のサイズにより異なるが、たとえば、１００μｍ以下の径に集束させることが好ましく採用できる。
【００５０】
また、アゾベンゼン骨格を有する高分子の光感度、露光の際のビーム強度、ビーム径等を調整することによって、形成する錐体のサイズが調整可能である。
【００５１】
以上の条件下で直接描画方法による露光を行うことにより、微細な錐体が試料Ｗの表面に形成される。
【００５２】
以上説明した、本発明に係る光学素子の製造方法の第３の実施形態によれば、現像工程やエッチング工程等の不安定な工程を排除して、光照射のみで微細なパターンを形成し、再現性よく安定的かつ安価に反射防止機能を有する光学素子等の各種光学素子を製造できるという効果が得られる。また、既述のように、光学素子等の製造方法としての自由度が大きいという効果も得られる。
【００５３】
次に、本発明に係る光学素子の製造方法の好ましい他の実施形態（第４の実施形態）について詳説する。これは、請求項６に対応する。本実施形態は、アゾベンゼン骨格を有する高分子層の表面に複数の微細な錐体が形成された後に、この複数の微細な錐体パターンを使用して更に同様の光学素子を複製する光学素子の製造方法である。
【００５４】
すなわち、完成した光学素子（マザー）の表面に形成された複数の微細な錐体を使用して、この複数の微細な錐体を転写するためのスタンパを作製し、作製したスタンパを用いた成形加工により、樹脂材料の表面に複数の微細な錐体と略同一形状の複数の微細な錐体を形成することにより光学素子を複製する光学素子の製造方法である。
【００５５】
図３は、スタンパ４６の作製工程を説明する概念図である。同図（ａ）において、完成した光学素子である試料Ｗの断面形状が示される。先ず、同図（ｂ）に示されるように、この試料Ｗの表面の全面に導電層４０を形成する。この導電層４０は、次工程において無電解メッキを行う際にコンタクト層となる。したがって、所定の抵抗値が得られる範囲において、膜厚は最小限度とするのが形状転写精度の点より好ましい。導電層４０の材質としては、銅、銀等が採用でき、導電層４０の膜厚としては、たとえば０．１μｍが採用でき、導電層４０の形成方法としては、真空蒸着、スパッタリング、無電解メッキ等が採用できる。
【００５６】
次いで、図３（ｃ）に示されるように、この試料Ｗ表面の導電層４０上に無電解メッキによりニッケル層４２を形成する電鋳を行う。ニッケル層４２の厚さは、ハンドリングや次工程であるＮｉマザー４４の転写の際に変形しない程度であればよい。なお、ここで無電解メッキにより形成されたニッケル層４２は、完成した光学素子である試料Ｗの反転形状であり、反転マザーとなる。この反転マザー４２は、試料Ｗより剥離される。
【００５７】
次いで、図３（ｄ）に示されるように、この反転マザー４２上に無電解メッキによりニッケル層４４を形成する電鋳を行う。ニッケル層４４の厚さは、ハンドリングや次工程であるスタンパー４６の転写の際に変形しない程度であればよい。なお、ここで無電解メッキにより形成されたニッケル層４４は、完成した光学素子である試料Ｗと同一形状であり、Ｎｉマザーとなる。電鋳の終了後に、反転マザー４２とＮｉマザー４４とは剥離される。
【００５８】
次いで、図３（ｅ）に示されるように、このＮｉマザー４４上に無電解メッキによりニッケル層４６を形成する電鋳を行う。ニッケル層４６はスタンパーとして使用される。ニッケル層４６の厚さは、スタンパーとしての使用条件に耐え得る程度とすることが求められる。なお、ここで無電解メッキにより形成されたニッケル層４６は、完成した光学素子である試料Ｗの反転形状である。
【００５９】
図３（ｅ）に示されるように、本工程においては、１のＮｉマザー４４より複数のスタンパー４６を複製することができる。したがって、たとえば多段熱プレス加工により同時に多数枚の光学素子を製造する場合には便宜である。電鋳の終了後に、Ｎｉマザー４４とニッケル層（スタンパー）４６とは剥離される。
【００６０】
スタンパー４６を用いた成形加工により、樹脂材料の表面に完成した光学素子（マザー）の錐体と略同一形状の複数の微細な錐体を形成することにより光学素子を複製する製造方法としては、公知の各種成型法が採用できる。たとえば、射出成型、熱プレス成型、ＵＶ硬化樹脂に転写成型、ＥＢ硬化樹脂に転写成型、溶液流延乾燥硬化成型等が採用できる。この各種成型方法において、平板状のスタンパーのみならず、ロール状のスタンパーを使用したロール成形（たとえば、溶液流延乾燥硬化成型）をも適用できる。
【００６１】
以上、本発明に係る光学素子の製造方法の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００６２】
たとえば、図３に示されるように、完成した光学素子である試料Ｗの反転形状のものがスタンパー４６として採用されているが、完成した光学素子である試料Ｗと同一形状であるＮｉマザー４４をスタンパーとして使用することもできる。
この場合、成形加工により形成された樹脂材料の表面は試料Ｗの反転形状となる。このような樹脂材料であっても光学素子として有効に機能する場合もあるからである。
【００６３】
また、上記実施形態の例では、スタンパーを板状部材として説明したが、これをロール状部材とすることもできる。その際、ロール状スタンパーの製造方法としては、シート状のＮｉマザー４４を円柱状体に巻き付けて、これより反転型を電鋳により形成する構成、シート状のＮｉマザー４４を、微細な錐体の面を内周側に位置するようにして円筒状に変形させ、これより反転型を電鋳により形成する構成も採用できる。
【００６４】
また、たとえば、請求項５に記載のように、基板Ｗを円柱状体又は円筒状体として、この円柱状体の表面又は円筒状体の内周面に複数の微細な錐体を形成し、これをマザーとして電鋳によりロール状スタンパーを形成する構成も採用できる。
【００６５】
更に、基板Ｗを円柱状体又は円筒状体として、この円柱状体の表面又は円筒状体の内周面に複数の微細な錐体を形成し、この微細な錐体の表面に所定厚さの電鋳を施して所定硬度の表面とし、これをそのままロール状スタンパーとして使用する構成も採用できる。
【００６６】
【実施例】
図１に示される露光装置１０を使用して基板Ｗの露光を行い、基板Ｗの表面に複数の微細な錐体を形成した。基板Ｗとして、ソーダライムガラス（フロートガラス）で板厚５ｍｍのものを使用した。基板Ｗを洗浄、乾燥させた後、既述のアゾベンゼン骨格を有する高分子を、スピンコートにより基板Ｗの表面に１μｍの膜厚に塗布形成した。
【００６７】
レーザ光源１２として、波長が４８８ｎｍのアルゴンイオンレーザ装置を使用した。試料Ｗの照射箇所の表面において、反射光ＬＲと透過光ＬＴとで光の干渉を生じさせる露光を行った後、基板Ｗを９０度回転させ、同様の露光を行った。そして、これにより、照射箇所において、基板Ｗの表面に複数の微細な円錐が規則的な配列で形成された。
【００６８】
以上の露光を、照射箇所を逐次移動させながら、基板Ｗの略全表面に対して行い、基板Ｗの表面に複数の微細な円錐を規則的な配列で形成した。
【００６９】
これにより、底辺の一辺が０．４μｍで高さが０．４μｍの多数の円錐が基板Ｗの表面の略全面に規則的な配列で形成できた。
【００７０】
上記の基板Ｗを使用して、図３に示される工程によりシート状のスタンパー４６を作製した。このシート状のスタンパー４６を、微細な円錐が形成された面を外周面とする円筒状に曲げ、両端辺を溶接して円筒体とした。この円筒体を、この円筒体の内径より若干大きい外径のロールに焼き嵌めしてエンボスロールを作製した。
【００７１】
そして、このエンボスロールを使用して、連続して走行するシート状体の表面に微細な円錐形状を転写して光学素子を製造した。図４は、このエンボスロールによる光学素子製造装置５０の概念図である。同図において、レール状に巻回されたシート状体Ｓは、巻戻しロール５２より繰り出され、ロールコータ５４、エンボスロール５６、バックアップロール５８及びＵＶ照射装置６０で構成される成型部、等を経て巻取りロール６２により巻取られる。
【００７２】
シート状体Ｓとしては、ＰＥＴフイルムが使用された。ロールコータ５４は、シート状体ＳにＵＶ樹脂を塗布するために設けられている。成型部においては、エンボスロール５６が中央に、バックアップロール５８が両側に相対して配され、シート状体Ｓを所定の圧力によりサンドイッチしながら、微細な円錐形状を転写して送り出す。ＵＶ照射装置６０にはＵＶ光源が設けられており、転写直後の微細な円錐形状のＵＶ樹脂を硬化させる。
【００７３】
なお、エンボスロールによる光学素子製造装置５０の適宜の箇所には、シート状体Ｓの走行を助ける補助ローラ６４、６４が設けられている。また、図示は省略したが、必要に応じて走行中のシート状体Ｓに張力を与えるテンション調整ローラ等を設けることもできる。
【００７４】
また、図５に概念図で示されるような、エンボスロールによる光学素子製造装置５０の構成も採用できる。
【００７５】
このエンボスロールによる光学素子製造装置５０で製造された光学素子の表面形状を触針式の表面形状測定装置で測定した結果、底辺の一辺が０．４μｍで高さが０．４μｍの多数の円錐の形状が略転写できていることを確認した。
【００７６】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、アゾベンゼン骨格を有する高分子層の所定箇所に２以上の方向よりレーザ光を照射し、レーザ光を干渉させるとともに、基板を回転させる露光を行い複数の微細な錐体を形成する。したがって、本発明の上記方法により、現像工程やエッチング工程等の不安定な工程を排除して、光照射のみで微細なパターンを形成し、再現性よく安定的に反射防止機能を有する光学素子を製造できるという利点が得られる。
【００７７】
また、本発明によれば、アゾベンゼン骨格を有する高分子層の所定箇所にフォトマスクを介して光を照射する露光を行い高分子層の表面に複数の微細な錐体を形成する。本発明の上記方法によっても、現像工程やエッチング工程等の不安定な工程を排除して、光照射のみで微細なパターンを形成し、再現性よく安定的に反射防止機能を有する光学素子を製造できるという利点が得られる。
【００７８】
また、本発明によれば、アゾベンゼン骨格を有する高分子層の所定箇所に所定径以下に集束させたレーザ光を照射する露光を行い高分子層の表面に複数の微細な錐体を形成する。本発明の上記方法によっても、現像工程やエッチング工程等の不安定な工程を排除して、光照射のみで微細なパターンを形成し、再現性よく安定的に反射防止機能を有する光学素子を製造できるという利点が得られる。
【００７９】
また、本発明によれば、すでに製造した光学素子を使用して更に該光学素子を複製する。すなわち、スタンパを作製し、このスタンパを用いた成形加工により、樹脂材料の表面に複数の微細な錐体と略同一形状の複数の微細な錐体を形成する。これにより、生産性が大幅に向上し、コストダウン等の点でも多くの利点が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る光学素子の製造方法に使用される露光装置の概念図
【図２】図１の要部拡大断面図
【図３】スタンパの作製工程を説明する概念図
【図４】エンボスロールによる光学素子製造装置の概念図
【図５】エンボスロールによる光学素子製造装置の他の例の概念図
【符号の説明】
１０…露光装置、１２…レーザ光源、１４…第１のミラー、１６…第２のミラー、１８…第１のレンズ、２０…第２のレンズ、２２…ハーフミラー、２４…第３のミラー、２６…第４のミラー、４０…導電層、４２…ニッケル層（反転マザー）、４４…ニッケル層（Ｎｉマザー）、４６…ニッケル層（スタンパー）、ＬＲ…反射光、ＬＴ…透過光、Ｗ…試料（基板）
【図１】
2005037419.tif 000004
【図２】
2005037419.tif 000005
【図３】
2005037419.tif 000006
【図４】
2005037419.tif 000007
【図５】
2005037419.tif 000008