(57)【要約】【課題】ペリクル膜の成膜基板からの剥離作業を容易にすると共に、ペリクル膜に発塵が付着して品質を低下させることを防止すること。【解決手段】短辺側の最大幅が１２０ｃｍ以上の大型ペリクル用成膜基板において、前記大型ペリクル用成膜基板の少なくとも一つの隅にはコーナーカットを設け、該コーナーカットの幅は２０ｃｍ以上１００ｃｍ以下であることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
短辺側の最大幅が１２０ｃｍ以上の大型ペリクル用成膜基板において、
前記大型ペリクル用成膜基板の少なくとも一つの隅にはコーナーカットを設け、該コーナーカットの幅は２０ｃｍ以上１００ｃｍ以下であることを特徴とする大型ペリクル用成膜基板。
【請求項２】
請求項１に記載の大型ペリクル用成膜基板において、
前記大型ペリクル用成膜基板は、該成膜基板の重心を中心として点対称な形状となるようにコーナーカットを施したことを特徴とする大型ペリクル用成膜基板。
【請求項３】
少なくとも一つの隅にペリクル膜の剥離を開始するための、幅が２０ｃｍ以上１００ｃｍ以下のコーナーカットを有する、短辺側の最大幅が１２０ｃｍ以上の大型ペリクル用成膜基板の表面に、ペリクル膜成形材料を塗布してペリクル膜を成形した後、該大型ペリクル用成膜基板と同じ外形の仮枠を前記ペリクル膜上に粘着固定し、更に該仮枠をコーナーカットのある部分から剥離して、ペリクル膜を製造することを特徴とする大型ペリクル膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＬＳＩ、超ＬＳＩ等の半導体素子または液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）表示用デバイスの製造において使用される一括露光機用のフォトマスクの防塵保護膜として使用されるペリクル膜を成膜するための、大型ペリクル用成膜基板及び大型ペリクル膜の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体や液晶ディスプレイの製造時において、レチクルやフォトマスク（以下、マスクという）上に形成されるＩＣのパターンをウェハー上に焼き付ける露光工程がある。露光工程では、微細パターンが描かれたマスクへ露光光を照射し、この露光光をレンズによりウェハー上に結像させて焼き付けを行っている。
【０００３】
ここで、マスク上に塵が付着すると、塵に当たった露光光がウェハー上で結像してしまい、パターン欠陥の原因となる。このため、露光工程においては、塵がマスクに付くことや塵に当たった露光光がウェハー上で結像することを防止する保護膜として、露光光を透過する材質から構成されるペリクル膜をマスク上に載置する。
【０００４】
従来の、ペリクル膜及びペリクル膜を製造方法として、例えば特許文献１、特許文献２、特許文献３、特許文献４、特許文献５、特許文献６、特許文献７等が知られている。
【０００５】
後述の特許文献１には、少なくとも１箇所の切断部と、この切断部に配置されたフィルターとを有する構成とすることで、フィルターがペリクル貼付用冶具等に接触することによるフィルターの損傷・摩耗等が生じることがなく、これによる異物が発生しないペリクル及びこのようなペリクルの製造方法が詳細に記載されている。
【０００６】
後述の特許文献２には、上下面の平坦度、平行度の高いペリクルを得るための製造方法が詳細に記載されている。
【０００７】
後述の特許文献３には、回転塗布方法を用いて表面が平滑なガラス、プラスチック等の基材上に水溶性のゾル−ゲル変換が可能な材料をゾル状態で塗布しゲル化させてなる分離膜上に、さらに回転塗布方法を用いてフォトマスク用保護膜材料を所望の膜厚となるように塗布した後、該分離膜材料のゲル化温度以上の温水中に浸漬することにより該分離膜のゾル−ゲル変換を促し、最上部のフォトマスク用保護膜を温水中に浮上させ、次いで所望の形状及び厚みを有するフレームにより該フォトマスク用保護膜を温水中からすくい上げ、加熱、乾燥することにより良好な被膜を形成することを特徴とする高精度パターン板用保護膜の製造方法が詳細に記載されている。
【０００８】
後述の特許文献４には、溶液キャスト法によりニトロセルロース薄膜を平滑板状に形成せしめ、該薄膜にフレームを接着せしめた後、水中に浸して薄膜を剥離し、次いで乾燥することを特徴とするフォトマスク用防塵カバーの製造方法が記載されている。
【０００９】
後述の特許文献５には、ベースポリマー層に異種のポリマー薄膜を固着させ、該ポリマー薄膜に枠を接着した後、該薄膜を溶解せず、ベースポリマーを溶解する溶剤を用いて、ベースポリマー層を溶解、除去することを特徴とする枠に接着固定されたポリマー薄膜の製造方法が記載されている。
【００１０】
後述の特許文献６には、ペリクル膜を製造するに当たっては、ペリクル膜の成膜する基板の表面成膜面にクロム又はクロム合金をコーティングすることによって、基板の表面に極めて平滑な面を形成し、その平滑面に成膜したペリクルの薄膜を抵抗を少なくスムーズに剥離することができるようにし、ペリクル膜に延び、シワ、傷、破れ等が発生することを防止するようにした技術が記載されている。
【００１１】
後述の特許文献７には、特にペリクル膜の成膜用基板に、シリコン又はＳｉＣ−Ｓｉを使用し、体積抵抗率が１０５Ω・ｃｍ以上のような体積抵抗率の高いペリクル膜を成膜する際に用いる成膜用基板を、体積抵抗率が１０３Ω・ｃｍ以下のものとし、これによって基板上に成膜された膜を剥離する際に基板と膜との間で発生する静電気を低く抑えることができ、膜が基板に引きつけられる力を弱くし、したがって膜を剥離するときの膜のシワ、破れが発生することを防止するようにした技術である。
【００１２】
【特許文献１】特開２００１−５１６９
【特許文献２】特開２００３−１８６１８０
【特許文献３】特開昭５９−１８２７３０号公報
【特許文献４】特開昭６０−３５７３３号公報
【特許文献５】特開昭６０−３８１３０号公報
【特許文献６】特開平２−１３４６３４号公報
【特許文献７】特許第２９３８７０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
しかしながら、前述の特許文献１乃至特許文献７等の技術によって使用されるペリクル膜の成膜基板は、一般的にペリクル膜の面積が１，０００ｃｍ２以下のペリクル膜を製造することを目的としている。このため、そのペリクル膜の成膜基板は、短辺側の最大幅が１ｍ以下の寸法を有する小型のものでよい。しかし、液晶モニター、液晶ＴＶなどに使用されている液晶ディスプレイは大型化の傾向にあるため、これに伴ってペリクル膜も大型化が望まれている。
【００１４】
ペリクル膜を成膜基板から剥離するためには、図５（ｂ）に示すように、成膜基板51上に形成されたペリクル膜に対し、仮枠53といわれるペリクル膜の剥離用冶具を粘着剤54にて粘着固定した後、仮枠53を上方（矢印方向）に移動させてペリクル膜52を剥離する。
【００１５】
ここで、１，０００ｃｍ２以上の大型のペリクル膜を製造すると、図５（ａ）に示すように短辺側の最大幅が１ｍ以上と大きくなるため、作業員Ａが成膜基板51からペリクル膜52を剥離する際に両手を広げた格好になり、成膜基板51と作業員Ａとの距離Ｄ１が極めて小さくなる。
【００１６】
作業員Ａは両手を広げた状態で剥離作業をしなければならないため、剥離作業時の操作性が悪くなり、作業員Ａの剥離作業中にペリクル膜52が破損したり、しわの発生が起こったりするおそれがあった。また、作業員Ａが成膜基板51に接近することで、作業員Ａからの発塵がペリクル膜52に付着して、ペリクル膜52の品質を低下させるおそれがあった。
【００１７】
本発明の目的は、ペリクル膜の成膜基板からの剥離作業を容易にすると共に、ペリクル膜に発塵が付着して品質を低下させることを防止することである。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
前記目的を達成するための本発明に係る第一の構成は、短辺側の最大幅が１２０ｃｍ以上の大型ペリクル用成膜基板において、前記大型ペリクル用成膜基板の少なくとも一つの隅には、ペリクル膜の剥離を開始するためのコーナーカットを設け、該コーナーカットの幅は２０ｃｍ以上１００ｃｍ以下であることを特徴とする。
【００１９】
大型ペリクル用成膜基板に、２０ｃｍ以上１００ｃｍ以下のコーナーカットを有する構成としたため、大型ペリクル膜を剥離するための仮枠に同様の大きさのコーナーカットを設けることによって、作業員が両手を大きく広げることなく剥離作業を行うことができる。
【００２０】
また、前記大型ペリクル用成膜基板は、該成膜基板の重心を中心として点対称な形状となるようにコーナーカットを施したことを特徴としてもよい。
【００２１】
また、大型ペリクル膜の製造方法において、少なくとも一つの隅にペリクル膜の剥離を開始するための、幅が２０ｃｍ以上１００ｃｍ以下のコーナーカットを有する、短辺側の最大幅が１２０ｃｍ以上の大型ペリクル用成膜基板の表面に、ペリクル膜成形材料を塗布してペリクル膜を成形した後、該大型ペリクル用成膜基板と同じ外形の仮枠を前記ペリクル膜上に粘着固定し、更に該仮枠をコーナーカットのある部分から剥離して、ペリクル膜を製造することを特徴としてもよい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、作業員が両手を大きく広げることなく剥離作業を行うことができる。これにより、仮枠と共にペリクル膜を剥離する際の操作性が向上すると共に、大型ペリクル膜への粉塵の付着による品質の低下を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
図を用いて本発明の大型ペリクル用成膜基板及び大型ペリクル膜の製造方法について説明する。図１は本発明の実施例１の大型ペリクル用成膜基板の平面図であり、図２は本発明の実施例２及び実施例３に係る大型ペリクル用成膜基板の説明図であり、図３は本発明の大型ペリクル用成膜基板の表面に大型ペリクル膜を成膜する状態を示す説明図であり、図４は本発明の大型ペリクル膜を剥離する工程の説明図である。
【００２４】
（大型ペリクル用成膜基板の構成）
本発明の大型ペリクル用成膜基板は、全て面積が１，０００ｃｍ２以上であり、この上に同面積の大型ペリクル膜を生成することができる。また、各成膜基板の短辺側の幅Ｗ１は、１２０ｃｍ以上に形成されている。これに伴い剥離を行うための仮枠の長さも１２０ｃｍ以上で構成されるため、仮枠の両端を持って剥離作業を行うとペリクル膜の破損等の問題が生ずるおそれがある。以下、実施例１乃至３の特徴を説明する。
【実施例１】
【００２５】
図１に本発明の実施例１の大型ペリクル用成膜基板（以下、単に成膜基板という）１を示す。基板材料としては、ガラス基板等を使用することができる。
【００２６】
図１において、成膜基板１の左下隅にはコーナーカットＣが施されている。尚、ここでコーナーカットＣの幅Ｗ２は、剥離作業がしやすいように、２０ｃｍ以上１００ｃｍ以下が好ましい。２０ｃｍ未満になると、作業員が両手で仮枠を成膜基板から剥離する際に仮枠を持ちにくくなるため好ましくなく、１００ｃｍより大きくなると、作業員が仮枠を成膜基板から剥離する際に両手を広げてペリクル膜に近接するため好ましくないからである。
【実施例２】
【００２７】
図２（ａ）に本発明の実施例２の成膜基板２を示す。前述した実施例においては、成膜基板１の１箇所の隅にコーナーカットＣを施したが、成膜基板の２箇所の隅にコーナーカットＣを施した成膜基板２とすることも可能である。
【実施例３】
【００２８】
図２（ｂ）に本発明の実施例３の成膜基板３を示す。本実施例のように、成膜基板の４隅にコーナーカットＣを施した成膜基板３とすることも可能である。
【００２９】
（大型ペリクル膜の製造方法）
前述した実施例１乃至３の成膜基板により、ペリクル膜を製造する方法について説明する。ここでは実施例１の成膜基板１を例示して説明する。
【００３０】
まず、成膜基板１上に大型ペリクル膜４を形成する。大型ペリクル膜４を形成する際には、図３（ａ）に示すような成膜基板１の表面に対して、ニトロセルロース等の膜成形材料を塗布する。すると、図３（ｂ）及び（ｃ）に示すように、成膜基板１上に大型ペリクル膜４が形成される。尚、ニトロセルロース以外の膜成形材料として、その他にポリビニルプロビオナール、ポリビニルブチラール、酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、バリレン、ポリメチルメタクリレート、セルロースエステル、フッ素系ポリマー等を、それぞれ使用することができる。
【００３１】
成膜基板１上に大型ペリクル膜４を形成する方法としては、スピンコート法が好ましい。スピンコート法は、成膜基板１の表面にニトロセルロース等の膜成形材料を溶液吐出ノズルより滴下すると共に、成膜基板１をスピンコータ等を用いて回転軸を中心に回転させながら、成膜基板１の表面に大型ペリクル膜４を成膜する方法である。
【００３２】
このように大型ペリクル膜４を成膜する場合、成膜基板１は重心を軸として高速回転されるため、成膜基板１を回転させる際に重心が回転軸からずれていると、回転中にブレが生じることがあり、膜成形材料が均一に拡がらない。このため、成膜基板にコーナーカットＣを２箇所又は４箇所に設ける場合には、図２に示すように、対向する隅に設けることが好ましい。このように成膜基板の対向する隅にコーナーカットＣを設けることにより、成膜基板が点対称に構成されるため、重心の位置を把握しやすいという利点がある。
【００３３】
次に、成膜基板１上から、形成された大型ペリクル膜４を剥離する。大型ペリクル膜４を剥離する際には、前作業として、図４（ａ）に示すように、大型ペリクル膜４の上に成膜基板１と同形状の仮枠５を、粘着材６を介して粘着固定する。続いて、図４（ｂ）に示すように、作業員ＡはコーナーカットＣのある部分から剥離作業を開始する。剥離作業は、作業員Ａの手前側から仮枠５を徐々に上昇させることにより行い、この結果、大型ペリクル膜４を成膜基板１から剥離させることができる。
【００３４】
ここで前述のように、コーナーカットの幅Ｗ２は２０ｃｍ以上１００ｃｍ以下に構成されている。このため、作業員ＡがコーナーカットＣの両端部を保持する場合でも、両手を大きく広げることなく剥離作業をすることができる。
【００３５】
このように構成すると、作業員Ａが仮枠５をハンドリングした時に均一に力を入れることができるため、スムーズに剥離作業を行うことができる。この結果、剥離作業中に大型ペリクル膜４が破損したり、しわの発生が起こったりすることを防止することができる。
【００３６】
また、作業員Ａと成膜基板１との距離Ｄ２を大きくとることができ、作業員Ａからの発塵が大型ペリクル膜４に付着しにくくなるため、塵埃の付着による大型ペリクル膜４の品質低下を防止することができる。
【産業上の利用可能性】
【００３７】
本発明は、作業員がペリクル膜を剥離することを前提とした成膜基板に利用することができる
。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明の実施例１の大型ペリクル用成膜基板の平面図。
【図２】本発明の実施例２及び実施例３に係る大型ペリクル用成膜基板の説明図。
【図３】本発明の大型ペリクル用成膜基板の表面に大型ペリクル膜を成膜する状態を示す説明図。
【図４】本発明の大型ペリクル膜を剥離する工程の説明図。
【図５】従来のペリクル用成膜基板及びペリクル膜の説明図。
【符号の説明】
【００３９】
Ａ …作業員、Ｃ …コーナーカット、Ｄ２ …距離、
Ｗ１ …短辺側の幅、Ｗ２ …コーナーカットの幅、
１ …成膜基板、２ …成膜基板、３ …成膜基板、４ …大型ペリクル膜、
５ …仮枠、６ …粘着材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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