(57)【要約】【課題】光学ユニットの光学機器が有害ガスの影響を受けることなく、光源ユニットから発熱を効率よく放熱して、安定した露光処理を行うことができる露光装置を提供することを目的としている。【解決手段】少なくとも光源を含む光学機器を基板表面に搭載した光源ユニットが、基板と、ハウジングとを熱的に導通状態にして光源ユニットで発生する熱をハウジング側に放熱する放熱材料が基板の光学機器非搭載面とハウジングとの間に挟着した状態でハウジングに固定されている露光装置において、少なくとも光学機器部分の周囲雰囲気が光学機器に悪影響を及ぼすガスを微含有または非含有状態に保持されていることを特徴としている。【選択図】      図２
2005037861.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも光源を含む光学機器を基板表面に搭載した光源ユニットが、基板と、ハウジングとを熱的に導通状態にして光源ユニットで発生する熱をハウジング側に放熱する放熱材料が基板の光学機器非搭載面とハウジングとの間に挟着した状態でハウジングに固定されている露光装置において、
少なくとも光学機器部分の周囲雰囲気が光学機器に悪影響を及ぼすガスを微含有または非含有状態に保持されていることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
放熱材料から発生するガスの光学機器側へ漏洩を防止するシール材が、放熱材料の周囲に設けられている請求項１に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、写真現像処理等に使用される露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、写真フィルム（ネガフィルムやポジフィルム）の画像または、デジタルカメラで撮影してＩＣカード（メモリカード）に保存された画像データ等を印画紙等の感光材に画像形成するために使用される露光装置としてレーザ光走査装置が知られている（たとえば、特許文献１等参照）。
【０００３】
ところで、上記のような露光装置においては、光源から写真フィルムあるいは感光材に照射される光の軸がずれると、画像のにじみや色ずれを起こす恐れがある。
【０００４】
そこで、従来の露光装置においては、図４に示すように、アルミニウム等の熱伝動性の大きい材料で形成された基板１１０の表面にレーザ光源１２０から発生するレーザビーム１２１と、レーザ強度変調部材として機能する音響光学変調素子（Acousuto-Optic Modulator、以下「ＡＯＭ」と記す）１３０等の光学機器とをその光軸が正確に合った状態で搭載した光源ユニット１００を装置本体のハウジング２００に取り付けた光源ユニット１００を予め形成して置き、この光源ユニット１００をハウジング２００に取り付けるようにすることにより光軸のずれのない状態でレーザ光源１２０やＡＯＭ１３０をハウジング２００の所定位置に取り付けるようにするとともに、光源の発熱による基板１１０等の熱膨張によって光軸がずれたり、熱によって光学機器が破損したりしないように、基板１１０の光学機器非搭載面１１１と、ハウジング２００との間で、放熱材料３００を挟着し、基板１１０と、ハウジング２００とを熱的に導通状態にして光源ユニット１００で発生する熱をハウジング２００側に放熱し、基板１１０の温度上昇を防止し、熱膨張による光軸ずれ等を防止するようにしている。
【０００５】
ところで、上記放熱材料３００としては、シート状のもの（たとえば、特許文献２等参照）やグリス状のものがあるが、現在使用されている放熱材料の場合、シリコーン樹脂系成分が主成分として含まれているものがほとんどである。
しかし、このシリコーン樹脂系放熱材料の場合、低分子シロキサンやカーボンといったものを含むガスが、経時的に発生し、この発生したガスが基板１１０の光学機器側に漏洩し、レーザの光路を遮るとともに、低分子シロキサンが電気系統の接点不良を引き起し、カーボンが光学機器に付着してフレアの原因になったりする恐れがある。
【０００６】
【特許文献１】特開２００３−１８６７号公報
【特許文献２】特開２００３−２３３９０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みて、光学ユニットの光学機器が有害ガスの影響を受けることなく、光源ユニットから発熱を効率よく放熱して、安定した露光処理を行うことができる露光装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明にかかる露光装置は、少なくとも光源を含む光学機器を基板表面に搭載した光源ユニットが、基板と、ハウジングとを熱的に導通状態にして光源ユニットで発生する熱をハウジング側に放熱する放熱材料が基板の光学機器非搭載面とハウジングとの間に挟着した状態でハウジングに固定されている露光装置において、少なくとも光学機器部分の周囲雰囲気が光学機器に悪影響を及ぼすガスを微含有または非含有状態に保持されていることを特徴としている。
【０００９】
なお、本発明において、ガスを微含有とは、ガスが発生しても光学機器への悪影響を及ぼさない程度の濃度をいい、具体的には、光学機器の周囲が５０μｇ／ｍ3以下のガス濃度となるようにすることが好ましい。
また、本発明の状態を達成するには、特に限定されないが。たとえば、経時的にガスの発生が予想される放熱材料、接着剤、シール材等に有害ガスの発生しないものを用いる方法や、放熱材料から発生するガスの光学機器側へ漏洩を防止するシール材を、放熱材料の周囲に設ける方法、放熱シートを組み込む前に、シートの性能を損なわない程度に放熱材料を加熱し、脱ガスを促進させて、ガスの発生を微量または、全くない状態にする方法等が挙げられる。
【００１０】
本発明において、シール材としては、光学機器に有害なガスを発生しなければ特に限定されないが、たとえば、ＥＰＤＭ（エチレン−プロピレン−ジエン共重合体）等に合成ゴムや合成樹脂発泡体が挙げられ、Ｏリング状になっていることが好ましい。また、シール材としてコーキング剤を用いる場合には、クリーンルーム仕様で、低分子シロキサンの含有量が１０ｐｐｍ以下のものが好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明にかかる露光装置は、以上のように少なくとも光学機器部分の周囲雰囲気が光学機器に悪影響を及ぼすガスの微含有または非含有状態に保持されているので、光学機器が有害ガスの影響を受けることない。したがって、光源ユニットから発熱を効率よく放熱して、安定した露光処理を行うことができる。
また、放熱材料から発生するガスの光学機器側へ漏洩を防止するシール材を、放熱材料の周囲に設ける方法、放熱シートを組み込む前に、シートの性能を損なわない程度に放熱材料を加熱し、脱ガスを促進させて、ガスの発生を微量または、全くない状態にすれば、既存の放熱材料を前処理することなくそのまま用いることができ、容易かつ安価に製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に、本発明を、その実施の形態をあらわす図面を参照しつつ詳しく説明する。
図１および図２は、本発明にかかる露光装置の１つの実施の形態をあらわしている。
【００１３】
図１に示すように、このレーザ光走査装置１は、ハウジング２の内部が、仕切り２１を介して光源ユニット３が収納される光源ユニット収納部２２と光源ユニット３以外の光学機器が収納される走査機器収納部２３とに仕切られている。
なお、図１においては、ハウジング２の上部を省略して図示しているが、ハウジング２内には外光が入ることなく、また、ハウジング２から外部にレーザビームが漏れないように暗室に構成され、また、塵が入り込まないように密閉されているとともに、光学機器に悪影響を及ぼす低分子シロキサンやカーボンなどのガス濃度が５０μｇ／ｍ3以下になっている。
【００１４】
光源ユニット３は、図１および図２に示すように、アルミニウム製の基板３１とを有し、この基板３１の表面に、赤色レーザ光源３２Ｒ、緑色レーザ光源３２Ｇおよび青色レーザ光源３２Ｂの３つの光源が搭載されているとともに、各レーザ光源３２Ｒ（３２Ｇ，３２Ｂ）から発射されるレーザビーム３０とその光軸に一致するように、コリメータレンズ３３およびＡＯＭ３４が搭載されている。
ＡＯＭ３４は、図示していないが、各レーザ光源３２Ｒ（３２Ｇ，３２Ｂ）から発射されたレーザビーム３０が内部の音響光学媒質を通過し、ＡＯＭドライバ（図示せず）から各ＡＯＭ３４に画像のＲ・Ｇ・Ｂの濃度に応じた信号（Ｒ・Ｇ・Ｂ毎の出力）が入力されると、ＡＯＭ３４の音響光学媒質にＡＯＭドライバの出力に応じた超音波光学効果が作用して回折が生じ、ＡＯＭ３４に入射されたレーザビームが画像の濃度に応じた強度となり、ＡＯＭ３４から回折光（変調光）として射出され、感光材Ｐに至り、画像を形成するようになっている。
【００１５】
基板３１は、図２に示すように、光学機器非搭載面３１ａの周縁部がハウジング２の光源ユニット収納部２２に設けられた枠状をした基板受け部２４によって受けられ、図示していないビスによってハウジング２に固定されているとともに、基板受け部２４の内側に配置されたシリコーン樹脂系成分からなる放熱シート９が光学機器非搭載面３１ａとハウジング２との間で挟着されている。
また、光学機器非搭載面３１ａとハウジング２との間には、シール材としてのＥＰＤＭ製のＯリング４が放熱シート９を周りから囲むように設けられ、放熱シート９が光学機器非搭載面３１ａとハウジング２とＯリング４とによって密閉状態になっている。
【００１６】
仕切り２１には、３つの開口２１ａが穿設されていて、各レーザ光源３２Ｒ（３２Ｇ，３２Ｂ）から照射され、ＡＯＭ３４を通ったレーザビーム３０が対応する開口２１ａを通って走査機器収納部２３に入り込むようになっている。
走査機器収納部２３は、ミラー５１、球面レンズ５２、シリンドリカルレンズ５３、ポリゴンミラー５４、ｆθレンズ５５、シリンドリカルレンズ５６、ミラー５７、ミラー５８が、この順で、開口２１ａを介して走査機器収納部２３内に入り込んだレーザビーム３０が通るように設けられている。
【００１７】
つぎに、上記の構成のレーザ光走査装置１の動作について説明する。
すなわち、フィルム（ネガ、ポジ）からラインＣＣＤスキャナで読み取られた画像データ、デジタルカメラで撮影された画像データ、パソコンで作成された画像データ等の画像に応じて各レーザ光源３２Ｒ（３２Ｇ，３２Ｂ）からレーザビーム３０が射出され、射出されたレーザビーム３０が各レーザ光源３２Ｒ（３２Ｇ，３２Ｂ）に対応して設けられたコリメータレンズ３３を介してＡＯＭ３４に入射する。
【００１８】
そして、ＡＯＭドライバから画像のＲ・Ｇ・Ｂ濃度に応じた信号がＡＯＭ３４に入力され、ＡＯＭ３４に入射したレーザビーム３０は、画像の濃度に応じた強度となり、回折光（変調光）として射出される。ＡＯＭ３４から射出されたレーザビーム３０は、開口２１ａを通りミラー５１によって反射してポリゴンミラー５４に入射する。
ポリゴンミラー５４に入射したレーザビーム３０は、図１に示す矢印の向きに一定速度で回転するポリゴンミラー５４によって反射され、主走査方向に走査され、ｆθレンズ５５、シリンドリカルレンズ５６、ミラー５７、ミラー５８を介して感光材Ｐに照射される。
【００１９】
一方、感光材Ｐは、主走査方向と略直交する方向である矢印Ｃの向きに図略の搬送部により搬送される。そして、これによって、感光材Ｐ上に画像が形成される。このように、ポリゴンミラー５４の回転によるレーザビームの走査は、２次元の画像を形成するための主走査としての機能を有し、感光材Ｐの搬送は副走査としての機能を有している。
【００２０】
このレーザ光走査装置１は、以上のように、光源ユニット３の基板３１の光学機器非搭載面３１ａと、ハウジング２との間に放熱シート９が挟着されているので、光源で発生する熱が、基板３１および放熱シート９を介してハウジング２にうまく放熱され、基板３１の温度上昇を防止し、基板３１上の光学機器の破損や熱膨張による光軸ずれ等を防止できる。
しかも、放熱シート９の周囲を囲むようにＯリング４が設けられ、放熱シート９が基板３１、ハウジング２、Ｏリング４によって密閉状態になっているので、放熱シート９から発生する低分子シロキサンやカーボンなどが、光学機器側に漏洩することがない。したがって、放熱材料から発生する有害ガスの影響を受けることなく、光源ユニットから発熱を効率よく放熱して、安定した露光処理を行うことができる。
【００２１】
なお、上記レーザ光走査装置１は、たとえば、図３に示すような感光材料処理装置に組み込むことができる。
【００２２】
すなわち、図３に示すように、この感光材料処理装置Ａは、感光材収納部６と、レーザ光走査装置１と、現像部７と、乾燥部８とを備えている。
感光材収納部６はレーザ光走査装置１の、例えば下部に設けられており、ロール状に巻回された感光材Ｐを感光させないように内蔵した感光材マガジン６１が交換可能に収納されている。ロール状に巻回された新品の感光材Ｐの一例では、その長さが約１８０ｍであり、感光材マガジン６１を含めた重量が１４Ｋｇにもなる。そのため、扉６２を開いた内側には、感光材マガジン６１を載置して感光材収納部６の内部に収納するための引き出し可能な支持レール（図略）等が設けられている。そして、感光材Ｐは、感光材マガジン６１が感光材収納部６に装填されると、感光材マガジン６１から繰り出され、カッタ（図略）により所定の寸法に切断された後、レーザ光走査装置１に搬送されるようになっている。
【００２３】
レーザ光走査装置１は、フィルム（ネガ、ポジ）からラインＣＣＤスキャナで読み取られた画像データ、デジタルカメラで撮影された画像データ、パソコンで作成された画像データ等の画像を、感光材（印画紙）Ｐに露光させるようになっている。
【００２４】
現像部７は、レーザ光走査装置１で露光された感光材Ｐを現像、漂白定着及び安定化処理するようになっている。
乾燥部８は、現像部７で現像および安定処理された感光材を乾燥するようになっている。
【００２５】
本発明にかかる露光装置は、上記の実施の形態に限定されない。たとえば、上記の実施の形態では、光源がレーザ光源であったが、ＬＥＤなどでも構わない。
上記の実施の形態では、１つの基板上に３つのレーザ光源と各レーザ光源に対応するコリメータレンズおよびＡＯＭが搭載されていたが、各レーザ光源とそのレーザ光源に対応するコリメータレンズおよびＡＯＭ毎に異なる基板に搭載しても構わない。
【００２６】
また、上記の実施の形態では、ＡＯＭによりレーザビームの強度変調を行うようになっているが、ＡＯＭに代えて電気光学変調素子（ＥＯＭ）、磁気光学変調素子（ＭＯＭ）を適用してレーザビームの強度変調を行うことも可能である
上記の実施の形態では、３色のレーザ光源を備えているが、単色のレーザ光源のみを備えたものでも構わない。
【００２７】
上記の実施の形態では、基板の周縁部がハウジングに設けられた枠状をした基板受け部に受けられるようになっていたが、放熱材料の挟着空間を確保できるとともに、シール材のシール性を確保できれば、基板受け部は間欠的に設けるようにしても構わない。また、基板の光学機器非搭載面から突起を突設させ、この突起によってハウジングとの間に放熱材料の挟着空間を確保するようにしても構わない。
【００２８】
上記の実施の形態では、基板受け部の内側にＯリングが配置されているが、基板受け部の基板当接面にシール材を設けるようにしても構わない。
上記の実施の形態では、シール材としてＯリングを使用したが、ガスの漏洩が防止できる接着剤やシリコーンなどのコーティング材で放熱シートを密閉しても良い。但し、この場合も光学機器に有害なガス(低分子シロキサンやカーボンといったものを含むガス)の発生が少ない又は発生しない接着剤や、コーティング材を使用する必要がある。
【００２９】
また、上記の実施の形態では、放熱シートとしてシリコーン樹脂成分からなるい放熱シートを使用しているが、放熱シートを露出装置に挟着する前に脱ガスを促進する処理をした後、挟着すれば、放熱シートから経時的に発生する有毒なガスの発生も少なくなりより効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明にかかる露光装置の１つの実施の形態をあらわす斜視図である。
【図２】図１の露光装置の断面図である。
【図３】図１の露光装置が組み込まれた感光材料処理装置の１例をあらわす斜視図である。
【図４】従来の露光装置の断面図である。
【符号の説明】
【００３１】
１  レーザ光走査装置（露光装置）
２  ハウジング
３  光源ユニット
３１  基板
３１ａ  光学機器非搭載面
３２Ｒ  赤色レーザ光源
３２Ｇ  緑色レーザ光源
３２Ｂ  青色レーザ光源
４  Ｏリング
９  放熱シート（放熱材料）
【図１】
2005037861.tif 000003
【図２】
2005037861.tif 000004
【図３】
2005037861.tif 000005
【図４】
2005037861.tif 000006