(57)【要約】【課題】  記録特性に優れ、かつ比較的厚みのある光情報記録層を有するため、高記録密度かつ大容量の３次元光記録が可能となる光記録媒体の製造方法の提供。【解決手段】  厚さ１０〜２００μｍの透明支持体の上に、（１）光記録材料を含む塗布液を１５０μｍ以下の厚さに塗布した後、塗膜中の溶媒含有量が１０質量％以下になるまで乾燥して光記録材料層を形成する処理を、透明支持体の上に形成された複数の光記録材料層で構成される光情報記録層の合計の厚さが１５０μｍ以上になるまで２回以上繰り返して積層体を形成する工程と、（２）得られる積層体を所定の形状に成形する工程と、（３）成形された積層体を、透明支持体と基板の間に光情報記録層が介設されるように基板に貼り合せる工程と、を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
厚さ１０〜２００μｍの透明支持体の上に、（１）光記録材料を含む塗布液を１５０μｍ以下の厚さに塗布した後、塗膜中の溶媒含有量が１０質量％以下になるまで乾燥して光記録材料層を形成する処理を、透明支持体の上に形成された複数の光記録材料層で構成される光情報記録層の合計の厚さが１５０μｍ以上になるまで２回以上繰り返して積層体を形成する工程と、（２）得られる積層体を所定の形状に成形する工程と、（３）成形された積層体を、透明支持体と基板の間に光情報記録層が介設されるように基板に貼り合せる工程と、を含むことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項２】
前記光情報記録層は、熱圧着によって前記基板に貼り合わせられていることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記光情報記録層と前記基板とは、接着剤層を介して貼り合せられていることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記光情報記録層は、前記基板と接する光記録材料層が含有する接着成分によって前記基板に貼り合わせられていることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記基板と前記光情報記録層との界面に、反射層を設けることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の光記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記基板は、前記光情報記録層と接する面に、サーボ信号記録領域を設けることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体の製造方法に関し、特に、多層光メモリ、ホログラムメモリ等の３次元光記録に用いられる、比較的厚みのある光情報記録層を有する光記録媒体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
多層光メモリおよびホログラムメモリ等の光記録媒体において、情報の記録は媒体の面内方向だけでなく深さ方向にも行われる。すなわち、媒体に設けられた情報記録領域の表面と、情報記録領域の深さ方向（媒体の厚さ方向）とを利用して３次元的に信号を記録することによって、高密度かつ大容量の情報記録が可能となる。例えば、ホログラムでは、記録媒体の厚み方向を利用して、３次元的に干渉縞を書き込むことによって大容量の情報記録を可能とした多重記録方式のホログラム光記録媒体が開発されている。また、
分子が２つの光子を同時に吸収して励起される非共鳴同時吸収過程を利用して、深さ方向にも情報信号を記録することにより大容量の３次元情報記録が可能となる光記録媒体も知られている。
【０００３】
しかし、これらの光記録媒体の製造においては、均一でかつ比較的厚い光情報記録層を形成することが難しい。従来、円盤状の記録媒体に情報記録層を形成する方法として汎用されているスピンコート法によれば、１０μｍ未満の薄い層であれば均一に形成できる。しかし、スピンコート法では、１００μｍ以上の厚い情報記録層を均一に形成することは困難である。例えば、基板表面に光記録材料を厚く塗布するために、基板を低速で回転させると、基板上に形成される光記録材料からなる塗膜は、エッジ部分が厚くなってしまい、均一な厚さの情報記録層を形成することが困難となる。また、光記録材料を含む塗布液の粘度を調整する方法も考えられるが、媒体の特性への影響を考えると、難しい場合が多い。
【０００４】
また、フレキシブルディスクの作成のように、比較的厚い支持体に記録材料を塗布した後、ディスク状に打ち抜いて媒体を作成する方法もある。しかし、この場合でも、塗布スピードを遅くしても支持体の上に記録材料を１００μｍ以上の厚さに塗布することは難しい。
【０００５】
そこで、比較的厚い情報記録層を有する光記録媒体を作成するために、特許文献１には、２枚の透明基板をスペーサを介して貼り合わせ、２つの透明基板の間に形成される空間に光記録材料として光硬化性または熱硬化性の樹脂を注入して硬化させて情報記録層を形成する方法が提案されている。しかし、この方法では、情報記録層の形成時に光硬化性または熱硬化性の樹脂を溶媒に溶解して注入した場合には、２枚の透明基板の間から溶媒を除去することが困難であるため事実上適用することができない。また、情報記録層の形成のために２つの透明基板の間の空間に注入される光硬化性または熱硬化性の樹脂材料の粘度が高い場合は、その樹脂材料の注入が困難であることが予想され、また２枚の透明基板の間隔を均一にすることも難しく、コストもかかることから、現実的ではない。
【０００６】
さらに、非特許文献１には、記録層と非記録層を交互に積層した記録媒体が提案されている。しかし、この記録媒体では、記録層と非記録層とが、共に１０μｍ以下と薄く、厚い記録層を得るためには、何層も積層をしなくてはならず、各層を均一な膜厚で何層も積層することは技術的に困難である、という問題がある。
【０００７】
また、特許文献２には、光感応性材料からなる光記録層を、光透過性材料からなる非記録層を介して２層以上積層した光記録媒体が提案されている。この光記録媒体は、基板上に光透過性材料をスピンコートして記録層を形成した後に、光透過性材料からなる支持体を熱圧着して非記録層を形成し、さらにその非記録層の上に、スピンコートによる記録層の形成、および熱圧着による非記録層の形成を順次行って製造される。しかし、記録層を形成した後に、支持体を熱圧着する工程を何度も繰返すため、コストがかかる。また、熱圧着工程において、各非記録層ごとに位置ずれを起こし、積層された記録層と非記録層のエッジがずれてしまい、エッジのずれがスピンコートによる記録層の形成に悪影響を与えるなどの問題がある。
【特許文献１】特開２００１−００５３６８号公報（請求項１、請求項２、図１）
【特許文献２】特開２０００−１０５５２９号公報（請求項１、段落［００３０］、図３）
【非特許文献１】川田善正、Optronics, No.11, 138-142,2001
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで、本発明は、記録特性に優れ、かつ比較的厚みのある光情報記録層を有するため、高記録密度かつ大容量の３次元光記録が可能となる光記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するため、本発明の光記録媒体の製造方法は、厚さ１０〜２００μｍの透明支持体の上に、（１）光記録材料を含む塗布液を１５０μｍ以下の厚さに塗布した後、塗膜中の溶媒含有量が１０質量％以下になるまで乾燥して光記録材料層を形成する処理を、透明支持体の上に形成された複数の光記録材料層で構成される光情報記録層の合計の厚さが１５０μｍ以上になるまで２回以上繰り返して積層体を形成する工程と、（２）得られる積層体を所定の形状に成形する工程と、（３）成形された積層体を、透明支持体と基板の間に光情報記録層が介設されるように基板に貼り合せる工程と、を含むことを特徴とする。
この光記録媒体の製造方法において、光情報記録層を構成する複数の光記録材料層は、同じ組成、材料で形成してもよいし、異なる組成、材料で形成してもよい。
【００１０】
この方法において、前記（１）の工程を繰返して複数の光記録材料層を積層して、透明支持体と基板の間に合計厚さが１５０μｍ以上の光情報記録層を有する光記録媒体を製造することができる。
【００１１】
本発明において、「光記録媒体」とは、光によって情報信号を光情報記録層に記録し、その記録された情報信号を読出しすることができる記録媒体を言う。例えば、ホログラフィ、２光子吸収等の物理的、化学的機構によって光情報を記録し、かつその記録された情報を読み取ることが可能な記録媒体を言う。
【発明の効果】
【００１２】
また、本発明の製造方法によれば、比較的厚い光情報記録層を有する光記録媒体の作成が容易かつ、低コストで可能となる。また、光情報記録層の膜厚を均一にでき、さらに、層ごとにフィルムを熱圧着する従来の製造方法と比較して、層ごとのエッジのずれが少なく、優れた光記録特性を有するとともに、高記録密度かつ大容量の３次元光記録が可能な光記録媒体を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態について添付図面を参照して説明する。
図１は、本発明の光記録媒体の製造方法の実施形態によって得られる光記録媒体ＯＭの積層構造を示す模式断面図である。
図１に示す光記録媒体ＯＭは、基板１と、その基板１の上に積層された光情報記録層２と、保護層３とを有するものである。
【００１４】
基板１は、特に限定されず、天然または合成の有機合成樹脂からなるフィルムまたはシートで構成される。例えば、ガラス等の無機物、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アモルファスポリオレフィン等の有機合成樹脂等が挙げられる。これらの中で、本発明の光記録媒体をホログラムメモリおよび２光吸収メモリのいずれに適用する場合にも、複屈折の低い素材が好ましく、具体的には、ガラスおよびポリカーボネートが好ましい。
【００１５】
基板１は、光情報記録層２に接する表面４に、反射層を設けてもよく、反射層は、Ｃｒ、Ａｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｓｉ、Ｇｅ等の元素成分を単独もしくは他の元素を含んだ状態でスパッタしたものを用いて形成されることが好ましい。
【００１６】
また、基板１は、比較的厚みのあるものが好ましく、例えば、３００〜１５００μｍ程度の厚さであることが好ましい。
さらに、基板１の光情報記録層２と接する表面４に、トラッキング・サーボ、フォーカス・サーボ等のサーボ制御を行うための情報、また、情報記録領域のアドレスを識別する情報などを示す凸凹プリフォーマットパターンや、ピットからなるサーボ信号記録領域をあらかじめ形成しておいてもよい。これによって、ホログラムメモリにおいて、光情報記録層における参照光および情報光の干渉による干渉縞記録が正確に行われ、光情報を正確に記録することが可能となる。また、再生においても、参照光による光情報の再生を正確に行うことが可能となる。
【００１７】
光情報記録層２は、光記録材料からなる３層の光記録材料層２ａ，２ｂ，２ｃで構成される。
各光記録材料層２ａ，２ｂ，２ｃは、レーザビーム（参照光、情報光）が照射されたときにレーザビームの強度に応じて屈折率、誘電率、反射率、吸収率等の光学的特性が変化する光記録材料によって形成される。
【００１８】
光記録材料としては、２光子吸収によって、光記録を行う媒体の場合には、２光子または多光子吸収を行うことでそれ自身が何らかの化学的、物理的変化を起こす化合物のみから成るか、２光子または多光子吸収化合物と、その２光子または多光子吸収により何らかの化学的、物理的変化が誘起される第二の化合物とから成るか、２光子または多光子吸収化合物と、該化合物の２光子または多光子吸収に誘起されて化学的、物理的変化を起こす第二の化合物の他に、さらにこれらの記録の仕組みを調整する役割の、第三の化合物を含むものを用いることができる。この光記録材料としては、例えば、特開２００２−１７２８６４号公報等に記載されているものが挙げられる。
【００１９】
また、ホログラムによって、光記録を行なう媒体の場合には、記録材料内に形成される干渉縞の明暗に沿って素材の物性が変化するもの、例えば、屈折率差や透過率差などが生じるものを用いることができる。
【００２０】
ホログラム用の光記録材料の具体例として、ハロゲン化銀や重クロム酸ゼラチン、フォトリフラクティブ材料、フォトクロミック材料、フォトポリマ−材料などが挙げられる。これらの中でも、フォトポリマ−材料は、高回折効率が得られること、低ノイズであること、記録後に完全に定着をすれば保存安定性が良好であることから研究の主流となっている。このフォトポリマー材料は、通常、バインダ、モノマー、増感色素、重合開始剤などを含有する。バインダとモノマーは屈折率の異なるものを使用することが望ましい。光情報の記録時において、光記録媒体内に干渉縞が形成されると、干渉縞明部においては、増感色素が励起されて電子を放出する。放出された電子は、重合開始剤に移動してラジカルを発生させ、このラジカルがモノマーに移動して重合が開始される。モノマーによっては、酸発生剤で重合を起こすものもある。その結果、干渉縞明部ではモノマーリッチに、干渉縞暗部ではバインダリッチな構成になり、屈折率差が干渉縞として光記録媒体内に記録される。光情報の記録に使用されなかったモノマーは、記録後にレーザや白色光源を用いて、全面露光され、定着される。また、素材によっては、熱処理で定着される場合もある。
【００２１】
また、上記物質以外でも、干渉縞の明暗に沿って素材の物性が変化し、屈折率差や透過率差などが生じる物質であれば、ホログラム記録材料として用いることができる。例えば、色素の発色や消色に伴う屈折率変化を生じるものを用いることができる。また、これらの組み合わせ、例えば、光の照射によって発色または消色する色素とフォトポリマ−を含む組成物、フォトリフラクティブ材料とフォトポリマ−を含む組成物なども、ホログラム記録材料として用いることができる。
【００２２】
この光記録材料は、必要に応じて、結合剤、光重合開始剤、増感剤、光学的増白剤、紫外線吸収剤、熱安定剤等のこの種の光記録媒体の光情報記録層の形成に常用されるものを、必要に応じて含んでいてもよい。
【００２３】
また、光情報記録層２の合計の厚さは、１５０μｍ以上、好ましくは５００μｍ以上である。１５０μｍ未満であると、ホログラムメモリ、２光子吸収メモリ等の高記録密度および大記録容量の３次元光記録を行うことが困難となる。
また、光情報記録層２を構成する各光記録材料層２ａ，２ｂ，２ｃ・・の厚さは、光情報記録層の合計厚さが１５０μｍであれば、特に限定されず、同一でも異なってもよい。特に、大記録容量（５００ＧＢ以上）の光記録媒体である場合は、光記録材料層の合計厚さ（２ａ＋２ｂ＋２ｃ・・）を５００μ以上にすることが好ましい。
【００２４】
また、保護層３は、光情報記録層２の上部に積層され、後記のとおり、光情報記録層２の形成に際しては、形成する光記録材料層２ａ，２ｂ，２ｃの支持体の役割を有するとともに、保護層３の外側から入射する光を透過させて光情報記録層２に導く導光路としての役割を有するものである。この保護層３としては、複屈折の低いポリカーボネートやトリアセチルセルロースなどで形成されることが好ましい。
【００２５】
また、保護層３の厚さは１０〜２００μｍであり、２０〜１００μｍであることが好ましい。そして、保護層３の厚さの均一度は、光情報の記録／読み取りに用いる光の波長λに対して、厚さムラがλ／４以下であることが好ましく、さらに好ましくはλ／１０以下である。厚さムラがλ／４を超えると、入射光の位相がずれ、光記録媒体の記録特性の劣化を招くおそれがある。通常、厚さムラは、保護層３の表面３ｂの表面粗度Ｒａに現われる。
【００２６】
本発明の光記録媒体ＯＭにおいて、基板１と光情報記録層２とは、熱圧着による貼り合わせる、両層の間に介設した接着剤層を介して貼り合せる、あるいは光情報記録層２のうち、基板と接する光記録材料層２ａが接着成分を含有し、この接着成分によって基板１と貼り合わせる、のいずれの態様によってもよい。接着剤層または接着成分としては、例えば、酢酸ビニル、アクリル酸エステル、塩化ビニル、アクリル酸、ポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン等を主剤とする熱可塑性接着剤、あるいはフェノール系、尿素系の熱硬化型接着剤、エポキシ系、イソシアネート系の硬化剤硬化型接着剤などを用いることができる。
【００２７】
なお、前記の実施形態においては、３層の光記録材料層２ａ，２ｂ，２ｃで構成される光情報記録層２を有する光記録媒体ＯＭについて説明したが、光情報記録層は、図１に示す３層の光記録材料層２ａ，２ｂ，２ｃで構成されるものに限定されず、２層以上の複数の光記録材料層から構成される、１５０μｍ以上の所定の厚さを有するものであれば、特に限定されず、光記録媒体への光情報の記録方式に応じて、適宜、層数が決定される。
【００２８】
以下、本発明の光記録媒体の製造方法について、図１に示す３層の光記録材料層２ａ，２ｂ，２ｃからなる光情報記録層２を有する光記録媒体ＯＭを製造する方法を例にとり、図２（ａ）〜（ｄ）を参照して説明する。
【００２９】
まず、図２（ａ）に示すように、透明支持体４の上に、光記録材料を含む塗布液を１５０μｍ以下の厚さに塗布した後、塗膜中の溶媒含有量が１０質量％以下になるまで乾燥して光記録材料層２ｃを形成する。
次に、図２（ｂ）に示すように、光記録材料層２ｃの上に、光記録材料を含む塗布液を１５０μｍ以下の厚さに塗布した後、塗膜中の溶媒含有量が１０質量％以下になるまで乾燥して光記録材料層２ｂを形成する。
さらに、図２（ｃ）に示すように、光記録材料層２ｂの上に、光記録材料を含む塗布液を１５０μｍ以下の厚さに塗布した後、塗膜中の溶媒含有量が１０質量％以下になるまで乾燥して光記録材料層２ａを形成して、透明支持体４の上に、合計の厚さが１５０ｎｍ以上の光記録材料層２ａ，２ｂ，２ｃからなる光情報記録層２を有する積層体５を得る。
【００３０】
光記録材料を含む塗布液は、前記の光硬化性または熱硬化性の樹脂の構成単量体、ならびに必要に応じて配合される、結合剤、光重合開始剤、増感剤、光学的増白剤、紫外線吸収剤、熱安定剤等の各成分を混合し、溶剤を加えて撹拌することによって調製することができる。この塗布液の調製は、光記録材料の硬化を防止するため、赤色灯等の安全光の照明下で行うことが好ましい。
【００３１】
また、塗布液の粘度は、用いる塗布方法によって適宜調整されるが、通常、０．１〜５０Ｐｓ程度である。特に、ドクターナイフ等のコーターナイフを用いて塗布する場合には、１〜３０Ｐｓ程度の粘度であることが好ましい。
【００３２】
透明支持体４または光記録材料層２ｃ，２ｄへの塗布液の塗布方法は、ディップコート法、コータ、ロッド、コイルバー、ギーサー、ブレード器等を用いて行うことができる。特に、均一かつ厚い光記録材料層を得るためには、コイルバーまたはロッドを用いて塗布する方法が好ましい。
【００３３】
次に、透明支持体４、光情報記録層２（光記録材料層２ａ，２ｂ，２ｃ）を含む積層体５を、打ち抜き、切断等の方法によって所定の形状に成形する。積層体は、例えば、光記録媒体、ＩＤカード等のセキュリティ媒体などの用途にしたがってディスク状、カード状などの所定の形状に成形される。
【００３４】
最後に、図２（ｄ）に示すように、成形された積層体５を、透明支持体４と基板１の間に光情報記録層２が介設され、かつ光情報記録層２の光記録材料層２ａが、基板１と接するように、基板１に貼り合せる。
光情報記録層２と基板１を貼り付ける方法は、両者を熱圧着する、光情報記録層２の下に接着層を設けて基板１と貼り合わせをする、あるいは光情報記録層２のうち基板１と接する光記録材料層２ａに接着成分を予め添加しておき、この接着成分によって接着してもよい。
【００３５】
この図２（ａ）〜（ｄ）に工程を具体的に示す方法によって、比較的厚い光情報記録層を有する光記録媒体の作成が容易かつ、低コストで可能となり、また、光情報記録層の膜厚を均一にできる点で、有利である。
【００３６】
なお、前記の図２（ａ）〜（ｄ）に順を追って説明した方法は、図１に示す３層の光記録材料層２ａ，２ｂ，２ｃを製造する方法を示すものであり、４層以上の光記録材料層からなる光情報記録層を有する光記録媒体を製造する場合は、前記の図２（ａ）〜（ｃ）に示す工程を繰返し行うことによって、所要の層数または厚さを有する光情報記録層を形成することができる。
また、光記録媒体は、前記の光情報記録層、および保護層、また、接着層以外に、必要に応じて、他の層を含んでいてもよい。例えば、反射層、誘電体層、サーボ情報記録層等を含んでいてもよい。
【実施例】
【００３７】
次に、本発明の実施例および比較例について説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００３８】
（実施例１）
＜塗布液Ａの調整＞
表１に示すバインダ、モノマー、重合禁止剤（モノマー中に含有されている）、増感色素および重合開始剤を、赤色灯下で秤量して褐色ナス型フラスコに入れるとともに、さらに溶剤としてジクロロメタンを入れ、スターラを用いて３時間攪拌し、下記表１に示す処方の光記録材料を含む塗布液Ａを得た。この塗布液Ａの粘度は、２１[Ｐｓ]であった。
【００３９】
【表１】
2005283617.tif 000003
【００４０】
注）
ＣＡＢ５３１−１：セルロースアセテートブチレート（イーストマンケミカル社製）
ＰＯＥＡ：アクリル酸２−フェノキシエチル(ＣａｓＮｏ.４８１４５−０４−６)
ＭＥＨＱ：４−メトキシフェノール(ＣａｓＮｏ.１５０−７６−５)
ＤＥＡＷ：シクロペンタノン−２,５−ビス[[４−(ジエチルアミノ)フェニル]メチレン]（CasNo.38394-53-5）
ＭＢＯ：２−メルカプトベンズオキサゾール(ＣａｓＮｏ.２３８２−９６−９)
ｏ−Ｃｌ−ＨＡＢＩ：２，２−ビス[ｏ−クロロフェニル]−４，４，５，５−テトラフェニル−１，１−ビイミダゾール(ＣａｓＮｏ.１７０７−６８−２)
【００４１】
透明支持体（ポリカーボネート、厚さ８０μｍ）の上に、３００μｍのクリアランス（ギャップ長）のコータを用いて塗布液Ａを塗布して厚さ４９μｍの光記録材料層を形成した。引き続いて、塗布液の塗布および乾燥を行う工程を２回繰返して、支持体の上に３層の光記録材料層からなる合計厚さが１４７μｍの光情報記録層を形成して光記録用積層体を得た。次に、この光記録用積層体を、直径１２ｃｍの円盤状に打ち抜き、光情報記録体を得た。次に、この光情報記録体を、直径１２ｃｍのガラス板（厚さ：１ｍｍ）に貼り合わせて光記録媒体を製造した。このとき、モノマーが液体であるため、積層体は粘着層を用いることなく、ガラス基板に貼り付けが可能であった。
【００４２】
（実施例２）
＜塗布液Ｂの調整＞
バインダ、酸で消色する色素、酸発生剤、および増感色素を赤色灯下で秤量して褐色ナス型フラスコに入れるとともに、さらに溶剤を入れ、スターラを用いて３時間攪拌し、下記表２に示す処方の光記録材料を含む塗布液Ｂを得た。
【表２】
2005283617.tif 000004
【００４３】
ＰＭＭＡ：ポリメチルメタクリレート（Aldrich社製、Ｍｗ：９９６０００）
色素Ａ：下記式（ａ）で表わされる第４級アンモニウム塩
酸発生剤Ａ：ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロりん酸
(ＣａｓＮｏ.５８１０９−４０−３)
色素Ｂ：下記式（ｂ）で表わされるＲｕ錯体化合物
【化１】
2005283617.tif 000005
【００４４】
透明支持体（ポリカーボネート、厚さ３０μｍ）の上に、３００μｍのクリアランス（ギャップ長）のコータを用いて塗布液Ｂを塗布して、厚さ４９μｍの光記録材料層を形成した。引き続いて、塗布液の塗布および乾燥を行う工程を２回繰返して、支持体の上に３層の光記録材料層からなる合計厚さが１４７μｍの光情報記録層を形成して光記録用積層体を得た。次に、この光記録用積層体を、直径１２ｃｍの円盤状に打ち抜き、光情報記録体を得た。次に、この光情報記録体を、直径１２ｃｍのガラス板（厚さ：１ｍｍ）に貼り合わせて光記録媒体を製造した。
【００４５】
この塗布液Ｂによって形成された光記録材料層においては、干渉縞明部において、レーザにより増感色素Ａが励起され、励起された色素から電子が放出される。放出された電子は酸発生剤に移動して、酸発生剤より酸が発生する。この酸により、増感色素とは異なる色素Ｂ（酸により消色する色素）が消色し、屈折率が変化する。このように、干渉縞明部の色素を消色することにより、屈折率変調を起こし、ホログラムが記録される。
【００４６】
（比較例１）
厚さ８０μｍのポリエチレンテレフタレート製透明支持体を用い、各光記録材料層の厚さを４８μｍとし、塗布液の塗布後に乾燥を行なわなかった以外は、実施例２と同様にして、光記録材料層の合計の厚さが１４４μｍの光記録媒体を製造した。しかし、残留溶剤量が１５質量％と大きかった。また、得られた光記録媒体からは、回折光は、観測できなかった。これは、酸発生剤から発生した酸が、残留溶剤により移動し、干渉縞の暗部でも色素が消色してしまったためと推定される。
【００４７】
（比較例２）
透明支持体（ポリカーボネート、厚さ８０μｍ）に、１ｍｍのクリアランスのブレードで塗布液Ａを１回で塗布して、厚さ１４７μｍの光記録材料層を有する積層体を得た。このとき、乾燥時に気泡が発生した。この積層体を直径１２ｃｍの円盤状に打ち抜き、直径１２ｃｍのガラス板（厚さ：１ｍｍ）に貼り合わせて光記録媒体を製造した。この光記録媒体からは、回折光は、観測できなかった。
【００４８】
＜評価＞
実施例１〜２、および比較例１〜２で得られた光記録媒体の回折効率、厚み、気泡の数、および残留溶剤量は、下記の方法に従って測定した。結果を表３に示す。
【００４９】
回折効率の測定
図３に示すとおり、ＹＡＧレーザ源３１から、対物レンズ３２、レンズ３３、ビームスプリッタ３４およびミラー３５を介して、サンプル３６の表面Ａに照射される波長５３２ｎｍのＹＡＧレーザ光Ｌ１を用いて、サンプル３６の表面に、入射角度１５度でスポット径８ｍｍφ、記録エネルギ２０００[ｍＪ／ｃｍ2]で飽和露光を行った。このとき、Ｈｅ−Ｎｅレーザ源３８からミラー３９およびミラー４０を介して、波長６３３ｎｍのＨｅ−Ｎｅレーザ光Ｌ２を、サンプル３６の裏面Ｂに入射角度１８度で照射して、露光量に対する回折効率の変化を観測した。このとき、回折効率は、サンプル３６の表面Ａの側に設けられたパワーメータ４１によって測定されるＨｅ−Ｎｅレーザの回折光の光量と、サンプル３６の裏面に入射するＨｅ−Ｎｅレーザの入射光量（Ｈｅ−Ｎｅレーザ源３８からの出射光量）とから下記の式によって求めた。
回折効率（％）＝回折光の光量／入射光量×１００
【００５０】
厚み
ＳＯＮＹ社製ＤＩＧＩＴＡＬ  ＭＩＣＲＯＭＥＴＥＲを用いて、光情報記録層の合計の厚みを測定した。
【００５１】
気泡の数
光記録媒体を支持体の側から目視で観察し、１０ｃｍ2当りの気泡の数を測定した。
【００５２】
貼り合わせの状態
目視で観察を行ない、下記の基準で評価した。
○  貼り合わせ後の表面が平滑である。
×  貼り合わせ時にスジやシワが発生し、表面が平滑でない。
【００５３】
残留溶剤量
貼り合わせ直前の光記録用積層体から一部をサンプリングし、得られたサンプルについて、ＴＧ−ＤＳＣ（示差走査熱量天秤）を用いて、昇温速度３℃／ｍｉｎで昇温して、室温から２５０℃まで昇温するまでの間の重量減少量を測定した。溶剤として用いたジクロロメタンの沸点が４０．２℃、アセトニトリルの沸点が８２℃であることから、８２℃でのサンプルの重量減少量を用いて、残留溶剤量を下記式に基づいて算出した。
残留溶剤量（質量％）＝（サンプル重量減少量／サンプルのもとの質量）×１００
【００５４】
【表３】
2005283617.tif 000006
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の実施形態に係る光記録媒体の構造を示す模式断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｄ）は、本発明の光記録媒体の製造方法を順を追って説明する図である。
【図３】回折効率の測定方法を説明する模式図である。
【符号の説明】
【００５６】
１      基板
２      光情報記録層
２ａ，２ｂ，２ｃ    光記録材料層
３      保護層
３ａ    透明支持体（保護層）
ＯＭ    光記録媒体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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