(57)【要約】【課題】コイルを含む装置において、熱膨張によって構成部材に加わる応力を緩和すること、及び／又は、コイルの高精度な位置決めを容易にする。【解決手段】コイル１０１（１０１ａ、１０１ｂ）と、コイル１０１に固定された受電部１０９（１０９ａ、１０９ｂ）と、コイル１０１の所定方向の熱膨張を許すようにコイル１０１を支持する支持体１０７と、支持体１０７に固定され給電部１１０（１１０ａ、１１０ｂ）とを備える。受電部１０９は、コイル１０１に電気的に接続された受電端子１１９（１１９ａ、１１９ｂ）を有し、給電部１１０は、給電端子１２０（１２０ａ、１２０ｂ）を有し、受電端子１１９は、給電端子１２０に対して摺動可能な状態で接触している。【選択図面】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
コイルと、
前記コイルに固定された受電部と、
前記コイルを支持する支持体と、
前記支持体に固定された給電部とを備え、
前記受電部は、前記コイルに電気的に接続された受電端子を有し、前記給電部は、給電端子を有し、前記受電端子は、前記給電端子に対して摺動可能な状態で接触していることを特徴とするコイルユニット。
【請求項２】
前記受電端子と前記給電端子とを圧接させるための弾性部材を備えることを特徴とする請求項１に記載のコイルユニット。
【請求項３】
前記支持体は、前記コイルの所定方向の熱膨張を許すように前記コイルを支持することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のコイルユニット。
【請求項４】
前記支持体は、前記コイルがその長手方向に熱膨張することを許すように前記コイルを支持することを特徴とする請求項３に記載のコイルユニット。
【請求項５】
前記支持体は、前記コイルがその長手方向に熱膨張することを許す一方で、前記コイルがその短手方向に移動することを規制するように前記コイルを支持することを特徴とする請求項３に記載のコイルユニット。
【請求項６】
前記コイル、前記受電部、前記給電部を複数組備え、前記複数のコイルは、それらの各長手方向が第１方向に沿うように配置されるとともに、前記第１方向に直交する第２方向に並べて配列されていることを特徴とする請求項５に記載のコイルユニット。
【請求項７】
前記コイルを冷却する冷却機構を更に備えることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれか１項に記載のコイルユニット。
【請求項８】
前記冷却機構は、前記コイルを取り囲む空間を密閉する密閉部材と、前記空間に冷媒を供給する流路とを含むことを特徴とする請求項７に記載のコイルユニット。
【請求項９】
前記支持体は、前記密閉部材の一部をなし、前記給電部は、前記支持体に形成された開口部に配置され、前記開口部と前記給電部との間がシールされていることを特徴とする請求項８に記載のコイルユニット。
【請求項１０】
第１要素と、
第２要素とを備え、
前記第１要素が請求項１乃至請求項９のいずれか１項に記載のコイルユニットを有し、前記第２要素は、前記第１要素の前記コイルユニットが発生する磁界との電磁的相互作用によって前記第１要素に対して相対的に移動する、
ことを特徴とする電磁アクチュエータ。
【請求項１１】
前記第１要素は固定子として構成され、前記第２要素は可動子として構成されていることを特徴とする請求項１０に記載の電磁アクチュエータ。
【請求項１２】
前記第２要素は、磁石を含むことを特徴とする請求項１０又は請求項１１に記載の電磁アクチュエータ。
【請求項１３】
基板ステージと、
原板ステージと、
前記原板ステージに保持された原板のパターンを前記基板ステージに保持された基板に投影する投影系とを備え、
前記基板ステージ及び前記原板ステージの少なくとも一方を請求項１０乃至請求項１２のいずれか１項に記載の電磁アクチュエータによって駆動することを特徴とする露光装置。
【請求項１４】
基板ステージと投影系とを有し、前記基板ステージに保持された基板に前記投影系を介して露光エネルギーを照射して潜像パターンを形成する露光装置であって、
前記基板ステージを請求項１１０至請求項１２のいずれか１項に記載の電磁アクチュエータによって駆動することを特徴とする露光装置。
【請求項１５】
デバイス製造方法であって、
基板上の感光剤に請求項１３又は請求項１４に記載の露光装置によって潜像パターンを形成する工程と、
前記潜像パターンを現像する工程と、
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、コイルユニット、電磁アクチュエータ、露光装置及びデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスや液晶表示デバイス等のデバイスの製造のためのリソグラフィ工程において、原版に形成されたパターンを投影光学系を介して基板上の感光剤に転写する露光装置が知られている。
【０００３】
このような露光装置や、高精度加工装置などで使用されるナノメートルオーダーの位置決め装置は、その高性能化が求められている。最近では、基板等の位置決め対象物をより高速に、機械的な案内面の精度等に影響されずに高精度に位置決めするとともに、機械的な摩擦を回避して長寿命化を図るために、位置決め対象物が載置されたテーブルを非接触で２次元方向に駆動する位置決め装置が開発されている。このような非接触駆動方式の位置決め装置の駆動源としては、平面モータが知られている。
【０００４】
図６は、特許文献１に記載されたステージ装置の説明図である。電機子コイル４４には、そのコーナー部分にモールド部材４９が取り付けられている。モールド部材４９には、コイル巻き線の両端部６４ａ、６４ｂにそれぞれ接続された端子ピン６５ａ、６５ｂが設けられている。更に、コイル支持部材１２には、端子ピン６５ａ、６５ｂのそれぞれを着脱自在に接続可能なソケット２２が設けられている。
【特許文献１】特開２００１−０３７２０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
以上のような構成において、ステージを移動させるためにコイルに電流を供給すると、コイルは発熱する。コイルの温度上昇によるコイル抵抗の増加やコイル線の破損を防ぐためには、コイルを冷却することが必要となる。しかし、コイルの温度上昇をゼロにすることは、実際の装置においては、チラーの最大流量の制約や冷媒の流路設計上の制約などにより困難である。したがって、コイルのある程度の温度上昇は避けられず、熱膨張が生じる。特に、長円形コイルでは、長手方向の熱膨張が大きく、ソケットやそれに挿入されている端子ピンに大きな応力が加わり、破損する可能性がある。
【０００６】
また、端子ピンをソケットに挿入する構成においては、コイルの位置が端子ピンとソケットとによって拘束されるために、支持部材に対するコイルの正確な位置決めが困難である。
【０００７】
本発明は、上記の課題認識に基づいてなされたものであり、例えば、コイルを含む装置において、熱膨張によって構成部材に加わる応力を緩和すること、及び／又は、コイルの高精度な位置決めを容易にすること、及び／又は、コイルに給電するための端子によってコイルの位置が拘束されることを回避することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明のコイルユニットは、コイルと、前記コイルに固定された受電部と、前記コイルを支持する支持体と、前記支持体に固定された給電部とを備え、前記受電部が、前記コイルに電気的に接続された受電端子を有し、前記給電部が、給電端子を有し、前記受電端子が、前記給電端子に対して摺動可能な状態で接触した構造を有する。
【０００９】
本発明の好適な実施形態によれば、前記受電端子と前記給電端子とを圧接させるための弾性部材を備えることが好ましい。
【００１０】
本発明の好適な実施形態によれば、前記弾性部材は、前記給電端子を前記受電端子に押し付けるように前記給電部に設けられてもいし、前記受電端子を前記給電端子に押し付けるように前記受電部に設けられてもよい。
【００１１】
本発明の好適な実施形態によれば、前記支持体は、前記コイルの所定方向、例えば前記コイルの長手方向に前記コイルが熱膨張することを許すように前記コイルを支持することが好ましい。
【００１２】
本発明の好適な実施形態によれば、前記支持体は、前記コイルがその長手方向に熱膨張することを許す一方で、前記コイルがその短手方向に移動することを規制するように前記コイルを支持することが好ましい。
【００１３】
本発明の好適な実施形態によれば、前記コイルユニットは、前記コイル、前記受電部、前記給電部を複数組備え、前記複数のコイルは、それらの各長手方向が第１方向に沿うように配置されるとともに、前記第１方向に直交する第２方向に並べて配列されていることが好ましい。
【００１４】
本発明の好適な実施形態によれば、前記コイルユニットは、前記コイルを冷却する冷却機構を更に備えることが好ましい。ここで、前記冷却機構は、例えば、前記コイルを取り囲む空間を密閉する密閉部材と、前記空間に冷媒を供給する流路とを含みうる。前記支持体は、前記密閉部材の一部をなし、前記給電部は、前記支持体に形成された開口部に配置され、前記開口部と前記給電部との間がシールされうる。
【００１５】
本発明の電磁アクチュエータは、第１要素と、第２要素とを備え、前記第１要素が上記のコイルユニットを有し、前記第２要素は、前記第１要素の前記コイルユニットが発生する磁界との電磁的相互作用によって前記第１要素に対して相対的に移動する。
【００１６】
本発明の好適な実施形態によれば、前記第１要素は固定子として構成され、前記第２要素は可動子として構成されうる。
【００１７】
本発明の好適な実施形態によれば、前記第２要素は、磁石を含みうる。
【００１８】
本発明の露光装置は、基板ステージと、原板ステージと、前記原板ステージに保持された原板のパターンを前記基板ステージに保持された基板に投影する投影系とを備え、前記基板ステージ及び前記原板ステージの少なくとも一方が上記の電磁アクチュエータによって駆動される。
【００１９】
本発明の他の側面に係る露光装置は、基板ステージと投影系とを有し、前記基板ステージに保持された基板に前記投影系を介して露光エネルギーを照射して潜像パターンを形成する露光装置とし構成され、前記基板ステージが上記の電磁アクチュエータによって駆動される。
【００２０】
本発明のデバイス製造方法は、基板上の感光剤に上記のの露光装置によって潜像パターンを形成する工程と、前記潜像パターンを現像する工程とを含む。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、例えば、コイルを含む装置において、熱膨張によって構成部材に加わる応力を緩和すること、及び／又は、コイルの高精度な位置決めを容易にすること、及び／又は、コイルに給電するための端子によってコイルの位置が拘束されることを回避することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態を説明する。
【００２３】
［第１実施形態］
図１は、本発明の電磁アクチュエータの好適な実施形態としての平面モータの概略構成を示す図である。平面モータ１００は、可動子としてのステージ１１６と、固定子としての定盤１０７とを有する。ステージ１１６は、磁石ユニット１１７を有する。定盤１０７は、コイルユニットとして、又は、コイルユニットを含む構造体として、構成されている。
【００２４】
定盤１０７は、鉛直方向（Ｚ方向）に積層されたコイル群１０１ａ、１０１ｂを有する。ここで、コイル群１０１ａは、各々長手方向がＸ方向に沿ったコイルをＹ方向に平面状に並べて配列して構成され、コイル群１０１ｂは、各々長手方向がＹ方向に沿ったコイルをＸ方向に平面状に並べて配列して構成されている。なお、図１には、２層配置のコイル群が示されているが、３層以上で配置されたコイル群を採用することもできる。
【００２５】
コイル群１０１ａ、１０１ｂをそれぞれ構成するコイルは、例えば、略長円形或いは略長方形を有することができる。ここで、略長円形とは、長方形の対向する２辺にそれぞれ半円又は半楕円等の丸まった形状部分を付加した形状を含みうる。各層のコイル群１０１ａ、１０１ｂに流す電流を制御することによって、ローレンツ力（電磁的相互作用）によってステージ１１６を６軸制御することができる。
【００２６】
図２は、図１（ａ）に示す平面モータ１００をＹ軸方向に沿って切断した断面図である。ステージ１１６の磁石ユニット１１７を構成する磁石群の配列によって、例えば、第１層のコイル群１０１ａでＹ、ωＸ、Ｚ、ωＺ方向の駆動力を、第２層のコイル群１０１ｂでＸ、ωＹ、Ｚ、ωＺ方向の駆動力を発生し、ステージ１１６を６軸制御することができる。なお、コイル群の層数及び駆動力の割り振りは、適宜変更されうる。
【００２７】
コイル群１０１ａ、１０１ｂにそれぞれスペーサ１０４ａ、１０４ｂを接着等の方法で固定し、スペーサ１０４ａ、１０４ｂを固定子定盤１０７に並べられた第１のスタッド１０３に対して嵌め込むことで、コイル群１０１ａ、１０１ｂを２次元的に精度良く配列しながら積層することができる。また、最下層のコイル群１０１ｂと固定子定盤１０７との間にさらばね１０５を配置し、第２のスタッド１０２を締結部材（例えば、ボルト）１０６で固定することによって、コイル群１０１ａ、１０１ｂをＺ方向に関しても精度良く固定することができる。
【００２８】
第１のスタッド１０３に対して並べられたコイル群１０１ａ、１０１ｂには、コイル駆動電流を受ける受電部１０９ａ、１０９ｂがそれぞれ固定されている（１０９ｂのみ図示）。固定子定盤１０７には、受電部１０９ａ、１０９ｂにそれぞれコイル駆動電流を供給する給電部１１０ａ、１１０ｂ（１０１ｂ）が固定されている。図２では、作図上の便宜のために、受電部１０９ｂ及び給電部１１０ｂを含む１対の電流伝達部のみが示されている。受電部１０９ａ、１０９ｂは、導電性の受電端子１１９ａ、１１９ｂをそれぞれ有し（１１９ｂのみ図示）、給電部１１０ａ、１１０ｂは、導電性の給電端子１２０ａ、１２０ｂをそれぞれ有する（１２０ｂのみ図示）。受電端子１１９ａは、コイル群１０１ａの該当するコイルの該当する端子（引き出し部）に電気的に接続され、受電端子１１９ｂは、コイル群１０１ｂの該当するコイルの該当する端子（引き出し部）に電気的に接続される。各コイルには、典型的には、２つの端子が設けられている。
【００２９】
受電端子１１９ａ、１１９ｂと給電端子１２０ａ、１２０ｂとが接触することにより、コイル群１０１ａ、１０１ｂに電流を流すための電流経路が形成される。受電部１０９（１０９ａ、１０９ｂ）又は給電部１１０（１１０ａ、１１０ｂ）の少なくとも一方は、受電端子１１９（１１９ａ、１１９ｂ）と給電端子１２０（１２０ａ、１２０ｂ）とを圧接させるための弾性部材を備えている。図１に示す構成例では、給電部１１０（１１０ａ、１１０ｂ）が、給電端子１２０（１２０ａ、１２０ｂ）を受電端子１１９（１１９ａ、１１９ｂ）に押し付けるためのバネ１１５（１１５ａ、１１５ｂ）を備えている（１１５ｂのみ図示）。このような構成に代えて又はこのような構成に加えて、受電部１０９（１０９ａ、１０９ｂ）にバネを設けてもよい。また、弾性部材は、コイルバネ、板バネ等のバネに限られず、他の部材（例えば、ゴム等の伸縮性部材）で構成されてもよい。
【００３０】
バネ等の弾性部材で受電端子１１９と給電端子１２０とを圧接させる構成によれば、コイル群１０１、受電部１０９（又は受電端子１１９）及び給電部１１０（又は給電端子１２０）の寸法精度や取り付け精度（例えば、Ｘ、Ｙ、Ｚ方向の公差）の悪さを吸収し、受電端子１１９と給電端子１２０との間の安定的な導通（電気的接触）を可能にすることができる。
【００３１】
受電端子１１９は、給電端子１２０に対して摺動可能である。これにより、コイル群１０１ａ、１０１ｂが駆動電流によって発熱した場合においても、コイル群１０１ａ、１０１ｂの熱膨張分を給電端子１２０に対する受電端子１１９の摺動（移動）によって吸収することができ、端子やコイルに加わる応力を軽減しつつコイルに安定的に電流を供給することができる。
【００３２】
例えば、半導体露光装置のウエハステージの可動域を１０００ミリメートルとし、コイル（長手方向の長さ１０００ミリメートル）が２５℃温度上昇すると、コイルは、約０．４ミリメートルだけ長手方向に膨張する。この膨張力は、数百キログラム重程度にも及び、従来の勘合タイプのコネクタを用いた構成では、コネクタに非常に大きな負荷が掛かって破損し、コイルに通電できなくなる可能性がある。この熱膨張分を受電端子及び給電端子の間の摺動によって吸収することにより、信頼性が大きく向上する。なお、受電端子及び給電端子の間の摺動動作については、受電端子及び給電端子の間に作用する押圧力や、両端子の接触面形状や面精度を調整することによって、十分な安定性を得ることができる。
【００３３】
以上の構成によって、コイル群１０１ａ、１０１ｂが熱膨張した場合においても、安定してコイル群１０１ａ、１０１ｂに給電することが可能になる。しかし、コイルの発熱が過大になると、コイルの融着層や絶縁層が溶けてコイルが破損してしまう恐れがある。融着層や絶縁層の溶融温度は、材質に依存するが、典型的には約１００℃程度であり、コイルがこの温度を超えると、融着層が溶けることによるコイル形状変化や、絶縁層が溶けることによるショート等の問題が発生する。
【００３４】
また、コイルの温度が過大となると、熱伝導等によって他の構成部材にも温度上昇が生じる。例えば、固定子定盤１０７や固定子上蓋１０８が熱膨張してステージ（可動子）１１６が移動する面（固定子上蓋１０８の上面）を歪めてしまうといった問題も発生する。
【００３５】
そこで、平面モータ１００は、コイル群１０１ａ、１０１ｂの各コイルを冷却する冷却機構を備えている。コイルの冷却方式としては、例えば、固定子定盤１０７と固定子上蓋１０８とによって、コイル群１０１ａ、１０１ｂが配置された空間を密閉する冷却用ジャケットを構成し、その中に冷媒を循環させる方式が好ましい。
【００３６】
給電部１１０（１１０ａ、１１０ｂ）は、固定子定盤１０７の開口部とその中に配置された給電部１１０との間からジャケット中の冷媒が漏れ出すことを防止するためにシール部１１２を有する。シール部１１２は、給電部１１０と固定子定盤１０７の開口部との間にＯリングを含みうる。給電部１１０の本体と給電端子１２０との間のシールは、例えば、ガラス封着や接着剤、Ｏリング等によって行うことができる。
【００３７】
また、固定子定盤１０７と固定子上蓋１０８との間のシールは、例えばＯリング（不図示）によって行うことができ、固定子定盤１０７と締結部材１０６との間のシールは、シールワッシャー１１１等で行うことができる。このようにして、ジャケット内を完全に密閉空間にして、冷媒を安全に循環させることができる。冷媒は、固定子定盤１０７に設けられた冷媒流路を通して循環される。
【００３８】
図３は、図１の一部を拡大した図である。受電部１０９は、コイル群１０１（１０１ａ、１０１ｂ）の各コイルの２つの端子（引き出し部）の近傍に配置されうる。コイルの端子は、典型的には、コイルの内側と外側に配置される。コイルの端子と受電部１０９の受電端子１１９とは、例えば半田付け等で接合されうる。コイルの外側の端子をコイルの長手方向の端部に配置することにより、隣り合うコイル間での端子の干渉を防止し、高密度でコイルを配列することができる。
【００３９】
更に、上層コイル群１０１の各端子と下層コイル群１０１ｂとの干渉することを防止するために、上層コイル群１０１ａの端部（端子を設ける部分）を下層コイル群１０１ｂが配列される領域の外側に延ばすことにより、受電端子１１９（１１９ａ、１１９ｂ）を配置する領域を確保することができる。上層コイル群１０１ａの配列領域のうち下層コイル群１０１ｂが存在しない領域（上層コイル群１０１ａの端部）には、図３に例示的に示すように下層コイル１０１ｂの厚みを補填するダミースペーサ１１３を備えることによって、上層コイル群１０１ａの位置精度を確保することができる。また、ダミースペーサ１１３の幅方向の大きさを、下層コイル１０１ｂのコイル幅と同等にしてもよい。これにより、全コイル領域に渡って冷媒流路が均一化され、冷却効率が向上する。更に、受電部１０９ａ、１００ｂをコイル群１０１ａ、１０１ｂに接着剤等で固定することによって、バネ１１５から受ける押圧力や冷媒の流れに対して十分に剛性を持たせることができる。
【００４０】
スペーサ１０４ａは、スタッド１０３が通される穴として、コイル群１０１ａの各コイルの長手方向に沿って長い長穴を有することが好ましい。このような構成によれば、コイル群１０１ａの各コイルに対して、熱膨張時に長手方向（熱膨張の絶対量が大きい方向）、すなわちＸ方向に移動する自由度が与えられる。なお、コイル群１０１ａの各コイルの短手方向（Ｙ方向）における熱膨張に関しては、その全体量が小さいので、一般的には無視可能である。
【００４１】
同様の思想により、スペーサ１０４ｂは、スタッド１０３が通される穴として、コイル群１０１ｂの各コイルの長手方向に沿って長い長穴を有することが好ましい。このような構成によれば、コイル群１０１ｂの各コイルに対して、熱膨張時に長手方向（熱膨張の絶対量が大きい方向）、すなわちＹ方向に移動する自由度が与えられる。なお、コイル群１０１ｂの各コイルの短手方向（Ｘ方向）における熱膨張に関しては、その全体量が小さいので、一般的には無視可能である。
【００４２】
コイル群コイル１０１ａ、１０１ｂが発生する駆動力の方向（上層コイル１０１ａの場合はＹ方向、下層コイル１０１ｂの場合はＸ方向、すなわち、それらの各短手方向）については、スタッド１０３とスペーサ１０４ａ、１０４ｂとを嵌め合いにすることで、ステージ（可動子）１１６を制御するコイル推力特性を一定に保つことができる。
【００４３】
以上のように、コイル群１０１ａ、１０１ｂは、スタッド１０３及びスペーサ１０４ａ、１０４ｂ等を介して、それぞれの長手方向への熱膨張を許すように固定子定盤（支持体）１０７によって支持されている。ここで、コイル群１０１ａ、１０１ｂは、それぞれの短手方向に関しては、コイル推力特性を一定に保つ観点において、スタッド１０３及びスペーサ１０４ａ、１０４ｂによって位置が規制されることが好ましい。
【００４４】
給電端子１２０は、コイルに電流を供給するドライバユニットに対して導線１１４を介して接続されている。導電１１４は、例えば、給電端子１２０の下端等に半田付けされてもよいし、バネ等の弾性部材を使って給電端子１２０に圧接されてもよいし、勘合タイプのコネクタを介して給電端子１２０に接続されてもよい。
【００４５】
［第２実施形態］
図４は、第１実施形態として例示的に示された本発明の電磁アクチュエータをステージ装置の構成部品として採用した本発明の第２実施形態としての露光装置の構成を概略的に示す図である。
【００４６】
図４に示す露光装置５００は、例えば、半導体デバイス、液晶表示デバイス、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の、微細なパターンを含むデバイスの製造に利用される。露光装置５００は、レチクル等の原版を介してウエハ等の基板に照明系ユニット５０１から露光エネルギー（例えば、可視光、紫外光、ＥＵＶ光、Ｘ線、電子線、荷電粒子線等）を投影系（例えば、屈折レンズ、反射レンズ、反射屈折レンズシステム、荷電粒子レンズ等）を介して照射することによって、ウエハステージ等の基板ステージ５０４に搭載された基板上の感光剤に潜像パターンを形成する。ここで、電子線等の荷電粒子線を利用する方式においては、原板が不要な場合もある。
【００４７】
基板ステージ５０４に搭載されたチャック上に基板（対象物）を保持し、照明系ユニット５０１によって、原板ステージ５０２に搭載された原版のパターンを基板上の各領域にステップアンドリピート又はステップアンドスキャン等の各種方式で転写する。第１実施形態の電磁アクチュエータは、基板ステージ５０４及び原板ステージ５０２の少なくも一方の部品として好適である。
【００４８】
［第３実施形態］
次に、本発明の第３の実施形態として、第２実施形態として例示的に説明された露光装置を適用したデバイス製造方法の一例として、半導体デバイスの製造方法について説明する。図５は、半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ２（マスク作製）では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。
【００４９】
一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ５によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、ステップ７でこれを出荷する。
【００５０】
上記ステップ４のウエハプロセスは以下のステップを有する。ウエハの表面を酸化させる酸化ステップ、ウエハ表面に絶縁膜を成膜するＣＶＤステップ、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する電極形成ステップ、ウエハにイオンを打ち込むイオン打ち込みステップ、ウエハに感光剤を塗布するレジスト処理ステップ、上記の露光装置によって回路パターンをウエハ上の感光剤に転写して潜像パターンを形成する露光ステップ、露光ステップでウエハ上の感光剤に形成された潜像パターンを現像する現像ステップ、現像ステップで現像したレジスト像以外の部分を削り取るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト剥離ステップ。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の電磁アクチュエータの好適な実施形態としての平面モータの概略構成を示す図である。
【図２】図１に示す平面モータ１００をＹ軸方向に沿って切断した断面図である。
【図３】図１の一部を拡大した図である。
【図４】第１実施形態として例示的に示された本発明の電磁アクチュエータをステージ装置の構成部品として採用した本発明の第２実施形態としての露光装置の構成を概略的に示す図である。
【図５】半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。
【図６】特許文献１に記載されたステージ装置の説明図である。
【符号の説明】
【００５２】
１０１、１０１ａ、１０１ｂ  コイル群
１０２  スタッド
１０３  スタッド
１０４  スペーサ
１０５  さらばね
１０６  締結部材（ボルト）
１０７  固定子定盤
１０８  上蓋
１０９、１０９ａ、１０９ｂ  受電部
１１０、１１０ａ、１１０ｂ  給電部
１１１  シールワッシャー
１１２  シール部（Ｏリング）
１１３  ダミースペーサ
１１４  導線
１１５  弾性部材（バネ）
１１６  ステージ（平面モータ可動子）
１１７  磁石
１１９、１１９ａ、１１９ｂ  受電端子
１２０、１２０ａ、１２０ｂ  給電端子
５００  露光装置
５０１  照明系ユニット
５０２  原板ステージ
５０３  投影レンズ
５０４  基板ステージ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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