(57)【要約】【課題】  露光時に反射光による影響を受けて、感光性レジスト膜に照射される光の露光強度にばらつきが生ずるのを解決する。【解決手段】  開示される露光装置１０は、所望の遮光パターン１が形成されたガラスのような透明材料からマスク２と、マスク２とギャップ３を介して対向するように配置されて、表面が感光性レジスト膜４で覆われたＩＴＯ等の被加工膜５が形成されたガラスのような透明基板６を支えるＡｌから成るステージ７と、マスク２を通じて紫外線のような露光光８を透明基板６に照射して、感光性レジスト膜４に遮光パターン１に応じた露光パターンを転写する露光用光源９とを備える構成において、吸着孔１１及び搬送機構孔等の開口部の周囲を形成するステージ７の内側には、透明基板６の裏面からの反射光１３を散乱あるいは分散させる手段としての傾斜面１２が形成されている。【選択図】図１
2005322846.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所望の遮光パターンが形成されたマスクと、該マスクと対向するように配置され表面が感光性レジスト膜で覆われた被加工膜を有する透明基板を支え、かつ部分的に開口部が形成された基板支持部材と、前記マスクを通じて露光光を前記透明基板に照射して、前記感光性レジスト膜に前記遮光パターンに応じた露光パターンを転写する露光用光源とを備えて成る露光装置であって、
前記開口部の周囲を形成する前記基板支持部材の内側に、前記露光用光源から前記透明基板に照射した露光光の前記透明基板の裏面からの反射光を散乱あるいは分散させる手段を有していることを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記反射光を散乱あるいは分散させる手段が、前記基板支持部材の内側に形成された傾斜面から構成されることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
前記基板支持部材の内側に形成される前記傾斜面に面取り加工を施すことを特徴とする請求項２記載の露光装置。
【請求項４】
前記反射光を散乱あるいは分散させる手段が、前記基板支持部材の内側に形成された粗表面部から構成されることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項５】
前記反射光を散乱あるいは分散させる手段を、前記マスクを通じて前記露光光を前記透明基板に照射する範囲内の前記基板支持部の内側に有していることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一に記載の露光装置。
【請求項６】
前記反射光を散乱あるいは分散させる手段が、１〜５ｍｍの幅で形成されることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一に記載の露光装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１に記載の露光装置を用いた平面型表示装置の製造方法であって、
前記透明基板の全面に前記被加工膜を成膜した後、該被加工膜の表面を覆うように前記感光性レジスト膜を塗布した前記透明基板を前記基板支持部材上に載置する段階と、
前記露光用光源から前記遮光パターンが形成された前記マスクを介して前記露光光を前記透明基板に照射して、前記感光性レジスト膜に前記遮光パターンに応じた露光パターンを転写する段階と、
前記感光性レジスト膜を現像処理した後、残った該感光性レジスト膜を耐食性マスクとして用いてエッチング処理を行って、前記被加工膜をパターニングする段階と、
を備えることを特徴とする平面型表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記被加工膜として透明導電膜を用い、該透明導電膜を所望の形状にパターニングして、前記透明基板上に対向する一対の透明電極を有するプラズマディスプレイパネルの前面基板を形成することを特徴とする請求項７記載の平面型表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記透明基板の前記感光性レジスト膜が塗布される面側に、黒色の反射抑制面を形成することを特徴とする請求項７又は８記載の平面型表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、露光装置及び該露光装置を用いた平面型表示装置の製造方法に係り、詳しくは、露光時の感光性レジスト膜に対する反射光による影響を防止するようにした露光装置及び該露光装置を用いた平面型表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えばＬＳＩ（大規模集積回路）で代表される半導体装置の製造で必要な微細加工の分野には、フォトリソグラフィのようなリソグラフィ技術が必須であり、このリソグラフィ技術を支えるものとして露光装置が用いられている。また、リソグラフィ技術は例えば各種電子機器の表示装置として従来から広く用いられているＣＲＴ(Cathode Ray Tube:陰極線管)にとって代わりつつある、プラズマ表示装置の主要部であるプラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel:以下、ＰＤＰとも称する）の製造分野にも適用されている。ＰＤＰはＣＲＴと比較して、ちらつきが少なく表示コントラスト比が大きいこと、平面型で大画面が可能であること、応答速度が速いこと等の多くの利点を有しているので、近年コンピュータのような情報処理機器の平面型表示装置として広く用いられている。
【０００３】
上述のプラズマ表示装置の主要部であるＰＤＰ１００は、図７にその構成を斜視図で示すように、前面基板１０１と、背面基板１０２とが対向するように配置されて、両基板１０１、１０２間に放電ガス空間１０３が形成される基本的な構成を有している。
ここで、前面基板１０１は、ソーダライムガラス等の透明材料から成る第１の絶縁基板１０４と、第１の絶縁基板１０４の内面に行方向（水平方向）Ｈに沿って平行に配置され放電ギャップ１０７を介して対向するように形成されて一対の行電極を構成する、それぞれＩＴＯ(Indium Tin Oxide)、酸化錫（ＳｎＯ2）等の透明電極１０５Ａ、１０６Ａ及びこれら透明電極１０５Ａ、１０６Ａの一部にそれぞれ抵抗を小さくするために形成されたＡｌ（アルミニウム）、Ｃｕ（銅）、Ａｇ（銀）等の金属材料から成るバス電極（トレース電極）１０５Ｂ、１０６Ｂから構成された走査電極１０５及び維持電極（共通電極）１０６と、走査電極１０５及び維持電極１０６を被覆する亜鉛含有フリットガラス、鉛含有フリットガラス等から成る透明な誘電体層１０８と、誘電体層１０８を放電から保護するＭｇＯ（酸化マグネシウム）等から成る保護膜１０９とを備えている。
【０００４】
一方、背面基板１０２は、ソーダライムガラス等の透明材料から成る第２の絶縁基板１１２と、第２の絶縁基板１１２の内面に行方向Ｈと直交する列方向（垂直方向）Ｖに沿って形成されてＡｌ、Ｃｕ、Ａｇ等から成るデータ電極（アドレス電極）１１３と、データ電極１１３を被覆する亜鉛含有フリットガラス、鉛含有フリットガラス等から成る白色の誘電体層１１４と、Ｈｅ（ヘリウム）、Ｎｅ（ネオン）、Ｘｅ（キセノン）等の放電用ガスが単独であるいは混合して充填され上記放電ガス空間１０３を確保するとともに、個々の放電セルを区切るために列方向Ｖに沿って形成されたアルミナを主成分とするガラス等から成る隔壁１１５と、隔壁１１５の底面及び壁面を覆う位置に形成され放電用ガスの放電により発生する紫外線を赤色光に変換する赤色蛍光体層、青色光に変換する青色蛍光体層、緑色光に変換する緑色蛍光体層に個々に塗り分けられる蛍光体層１１６とを備えている。走査電極１０５、維持電極１０６及びデータ電極１１３により３電極を構成し、複数の画素が行方向Ｈ及び列方向Ｖに沿ってマトリックス状に配置されることにより、ＰＤＰ１００が構成される。
【０００５】
図５は従来の露光装置の構成を概略的に示す断面図、図６は同露光装置の主要部の構成を拡大して示す断面図である。同露光装置１２０は、図５及び図６に示すように、所望の遮光パターン１２１が形成されたガラスのような透明材料からマスク１２２と、マスク１２２とギャップ１２３を介して対向するように配置されて、表面が感光性レジスト膜１２４で覆われたＩＴＯ膜のような被加工膜１２５が形成されたガラスのような透明基板１２６を支えるＡｌから成るステージ（基板支持部材）１２７と、マスク１２２を通じて紫外線のような露光光１２８を透明基板１２６に照射して、感光性レジスト膜１２４に遮光パターン１２１に応じた露光パターンを転写する露光用光源１２９とを備えている。ここで、ステージ１２７には、透明基板１２６を吸着固定するための吸着孔（開口部）１３０が形成されて、吸着孔１３０は吸着排気系１３１に接続されている。また、ステージ１２７には、透明基板１２６の取付け及び取外しを自動的に行うための搬送機構孔（開口部）１３２が形成され、搬送機構孔１３２には搬送機構１３３が取り付けられている。
【０００６】
次に、図６を参照して、同露光装置１２０を用いて上述したＰＤＰ１００の走査電極１０５及び維持電極１０６のそれぞれの透明電極１０５Ａ、１０６Ａを形成する方法について説明する。
まず、前面基板１０１の第１の絶縁基板１０４となる透明基板１２６を用意して、全面にスパッタ法等によりＩＴＯ膜のような透明導電膜から成る被加工膜１２５を成膜した後、被加工膜１２５の表面を覆うようにスピンナーにより例えばポジタイプの感光性レジスト膜１２４を塗布する。次に、この透明基板１２６をステージ１２７上に載置して、吸着孔１３０を通じて吸着排気系１３１により真空吸引して固定する。
【０００７】
次に、露光用光源１２９から紫外線のような露光光１２８を透明基板１２６に照射して、感光性レジスト膜１２４に遮光パターン１２１に応じた露光パターンを転写する。感光性レジスト膜１２４としてポジタイプを用いた場合は、露光された部分が可溶となるので、この後現像処理を行うことにより、遮光パターン１２１の直下以外の感光性レジスト膜１２４の部分のみが残って耐食性マスクとして用いられる。
【０００８】
次に、残った感光性レジスト膜１２４の部分を耐食性マスクとして用いて、ドライエッチングあるいはウエットエッチングのようなエッチング処理を行うことにより、感光性レジスト膜１２４によりマスクされていない部分の被加工膜１２５を選択的に除去してパターニングすることで、図７に示したようなそれぞれの透明電極１０５Ａ、１０６Ａを形成する。続いて、各透明電極１０５Ａ、１０６Ａ上にスパッタ法等によりＡｌ等を成膜した後、上述と同様なフォトリソグラフィ工程を繰り返すことにより、所望の形状にパターニングしたそれぞれのバス電極１０５Ｂ、１０６Ｂを形成して、走査電極１０５及び維持電極１０６を形成する。
【０００９】
ところで、従来の露光装置１２０を用いて各透明電極１０５Ａ、１０６Ａを形成すると、露光時に透明基板１２６の裏面からの反射光による影響を受けて、感光性レジスト膜１２４に照射される光の露光強度にばらつきが生ずるという欠点が生ずる。すなわち、露光時に透明基板１２６に照射される光のうち、透明基板１２６を透過した後ステージ１２７の吸着孔１３０及び搬送機構孔１３２等の開口部をそのまま通過する光は問題ないが、透明基板１２６を透過した後ステージ１２７上に達した光は図６に示すようにステージ１２７の表面で反射して反射光１３４となり、この反射光１３４は透明基板１２６の裏面から再び透明基板１２６を透過して感光性レジスト膜１２４に達するようになる。
【００１０】
したがって、感光性レジスト膜１２４を露光する光の強度は、開口部とステージ１２７とでは異なるようになるので、露光強度にばらつきが生ずるようになる。例えば、図６において、露光時に透明基板１２６に照射される光のうち、ステージ１２７の吸着孔１３０及び搬送機構孔１３２等の開口部をそのまま通過した光により露光される感光性レジスト膜１２４の部分１２４Ａに対して、ステージ１２７の表面で反射して透明基板１２６の裏面から再び透明基板１２６を透過した光により露光される感光性レジスト膜１２４の部分１２４Ｂの露光強度は大きくなる。この結果、特にＰＤＰのような表示装置では形成されるそれぞれのバス電極１０５Ｂ、１０６Ｂの形状が異なるようになり、最終的に対向する走査電極１０５と維持電極１０６間に形成される放電ギャップ１０７の寸法にばらつきが避けられなくなる。これは、特にＰＤＰのような表示装置においては、表示のむらとして観察されることがあり、むらが軽微であっても表示領域の固定部分に生じているため表示装置として表示品位を損なうことになる。
【００１１】
上述したような露光装置において、マスクのパターンの感光基板上での結像性能を向上させるようにした構成のものが、例えば特許文献１に開示されている。同露光装置は、図８に示すように、照明系２０１から発光される照明光ＩＬの照射によってマスク２０２のパターンから発生する回折光のうち、所定次数の回折光を選択的に除去可能な透過率特性を有する角度フィルタ２０３を、マスク２０２と感光基板２０４との間に配置している。
【００１２】
また、大型サイズのガラス基板であってもその全面にわたって正しいギャップ量を保証するように構成した露光装置におけるギャップ制御方法が、例えば特許文献２に開示されている。同ギャップ制御方法は、図９に示すように、マスクチャック３０２及び基板チャック３０４の平面度を測定してそれぞれを平均化した擬似平面Ｚ1、Ｚ2を求め、基板チャック３０４の擬似平面Ｚ2をマスクチャック３０２の擬似平面Ｚ1の下方に平行でかつ所定のギャップｇをあけたところに設定する。そして、位置合わせ用の複数の光学系Ｆ、Ｒ、Ｃで実測したマスク３０１の下面とマスクチャック３０２の擬似平面Ｚ1との差及び複数の光学系Ｆ、Ｒ、Ｃの位置における基板チャック３０４の実平面とその擬似平面Ｚ2との差を求め、この求めた二つの差を複数の光学系の位置におけるオフセット値として所定のギャップ量に対し加減算して各光学系のフォーカス位置を設定する。そして、このフォーカス位置にガラス基板３０３の上面が位置するように基板チャック３０４を上昇させることにより、マスク３０１の下面とガラス基板３０３の上面との間に平均したギャップを設定することができる。符号３０５ａ、３０５ｂ、３０５ｃは、基板チャック３０４の傾きを調整するチルト機構を示している。
【特許文献１】特開平５−４７６２４号公報
【特許文献２】特開平５−１５９９９８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
ところで、特許文献１、２に記載されている従来の露光装置では、依然として露光時に透明基板の裏面からの反射光による影響を受けて、感光性レジスト膜に照射される光の露光強度にばらつきが生ずる、という欠点を解決することができない。
すなわち、特許文献１に記載されている従来の露光装置では、図８に示すように、所定次数の回折光を選択的に除去可能な透過率特性を有する角度フィルタ２０３を、マスク２０２と感光基板２０４との間に配置することにより、マスク２０２のパターンから発生する回折光のうち所定次数の回折光を選択的に除去して、マスクのパターンの感光基板上での結像性能を向上させることができるものの、露光時に生ずる反射光による影響については考慮されていないので、感光性レジスト膜に照射される光の露光強度にばらつきが生ずるという欠点は解決することができない。
【００１４】
また、特許文献２に記載されている従来の露光装置におけるギャップ制御方法では、図９を参照して前述したように、マスク３０１の下面とガラス基板３０３の上面との間に平均したギャップを設定して、大型サイズのガラス基板であってもその全面にわたって正しいギャップ量を保証することができるものの、特許文献１と同様に露光時に生ずる反射光による影響については考慮されていないので、特許文献２によっても感光性レジスト膜に照射される光の露光強度にばらつきが生ずるという欠点は解決することができない。
【００１５】
この発明は、上述の事情に鑑みてなされたもので、露光時に透明基板の裏面からの反射光による影響を防止して、感光性レジスト膜に照射される光の露光強度にばらつきが生ずる欠点を解決することができるようにした露光装置及び該露光装置を用いた平面型表示装置の製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記課題を解決するために、請求項１記載の発明は、所望の遮光パターンが形成されたマスクと、該マスクと対向するように配置され表面が感光性レジスト膜で覆われた被加工膜を有する透明基板を支え、かつ部分的に開口部が形成された基板支持部材と、上記マスクを通じて露光光を上記透明基板に照射して、上記感光性レジスト膜に上記遮光パターンに応じた露光パターンを転写する露光用光源とを備えて成る露光装置に係り、上記開口部の周囲を形成する上記基板支持部材の内側に、上記露光用光源から上記透明基板に照射した露光光の上記透明基板の裏面からの反射光を散乱あるいは分散させる手段を有していることを特徴としている。
【００１７】
また、請求項２記載の発明は、請求項１記載の露光装置に係り、上記反射光を散乱あるいは分散させる手段が、上記基板支持部材の内側に形成された傾斜面から構成されることを特徴としている。
【００１８】
また、請求項３記載の発明は、請求項２記載の露光装置に係り、上記基板支持部材の内側に形成される上記傾斜面に面取り加工を施すことを特徴としている。
【００１９】
また、請求項４記載の発明は、請求項１記載の露光装置に係り、上記反射光を散乱あるいは分散させる手段が、上記基板支持部材の内側に形成された粗表面部から構成されることを特徴としている。
【００２０】
また、請求項５記載の発明は、請求項１乃至４のいずれか一に記載の露光装置に係り、上記反射光を散乱あるいは分散させる手段を、上記マスクを通じて上記露光光を上記透明基板に照射する範囲内の上記基板支持部の内側に有していることを特徴としている。
【００２１】
また、請求項６記載の発明は、請求項１乃至５のいずれか一に記載の露光装置に係り、上記反射光を散乱あるいは分散させる手段が、１〜５ｍｍの幅で形成されることを特徴としている。
【００２２】
また、請求項７記載の発明は、請求項１乃至６のいずれか１に記載の露光装置を用いた平面型表示装置の製造方法に係り、上記透明基板の全面に上記被加工膜を成膜した後、該被加工膜の表面を覆うように上記感光性レジスト膜を塗布した上記透明基板を上記基板支持部材上に載置する段階と、上記露光用光源から上記遮光パターンが形成された上記マスクを介して上記露光光を上記透明基板に照射して、上記感光性レジスト膜に上記遮光パターンに応じた露光パターンを転写する段階と、上記感光性レジスト膜を現像処理した後、残った該感光性レジスト膜を耐食性マスクとして用いてエッチング処理を行って、上記被加工膜をパターニングする段階とを備えることを特徴としている。
【００２３】
また、請求項８記載の発明は、請求項７記載の平面型表示装置の製造方法に係り、上記被加工膜として透明導電膜を用い、該透明導電膜を所望の形状にパターニングして、上記透明基板上に対向する一対の透明電極を有するプラズマディスプレイパネルの前面基板を形成することを特徴としている。
【００２４】
また、請求項９記載の発明は、請求項７又は８記載の平面型表示装置の製造方法に係り、上記透明基板の上記感光性レジスト膜が塗布される面側に、黒色の反射抑制面を形成することを特徴としている。
【発明の効果】
【００２５】
この発明の露光装置及び該露光装置を用いた平面型表示装置の製造方法によれば、吸着孔及び搬送機構孔等の開口部の周囲を形成するステージの内側に、露光用光源から透明基板に照射した露光光の透明基板の裏面からの反射光を散乱あるいは分散させる手段を形成した露光装置を用いるようにしたので、露光時に露光用光源からステージの表面の一部である内側に達した光は、上記手段により散乱あるいは分散されるため、ステージの表面で反射して透明基板の裏面から再び透明基板を透過する反射光は抑制されるようになる。したがって、露光時に反射光による影響を受けて、感光性レジスト膜に照射される光の露光強度にばらつきが生ずるのを解決することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
この発明の露光装置は、所望の遮光パターン１が形成されたマスク２と、マスク２と対向するように配置され表面が感光性レジスト膜４で覆われた被加工膜５を有する透明基板６を支え、かつ部分的に吸着孔１１のような開口部が形成された基板支持部材７と、マスク２を通じて露光光８を透明基板６に照射して、感光性レジスト膜４に遮光パターン１に応じた露光パターンを転写する露光用光源９とを備えて成る構成において、開口部の周囲を形成する基板支持部材７の内側に、露光用光源９から透明基板６に照射した露光光８の透明基板６の裏面からの反射光１３を散乱あるいは分散させる傾斜面１２のような手段を有している。
【実施例１】
【００２７】
図１は、この発明の実施例１である露光装置の構成を概略的に示す断面図、図２は同露光装置を用いたＰＤＰの製造方法を工程順に示すブロック図、図３は同露光装置による効果を従来例と比較するための、パターン間距離（横軸）と輝度比（縦軸）との関係を示す図である。
この例の露光装置１０は、図１に示すように、所望の遮光パターン１が形成されたガラスのような透明材料からマスク２と、マスク２とギャップ３を介して対向するように配置されて、表面が感光性レジスト膜４で覆われたＩＴＯ等の被加工膜５が形成されたガラスのような透明基板６を支えるＡｌから成るステージ（基板支持部材）７と、マスク２を通じて紫外線のような露光光８を透明基板６に照射して、感光性レジスト膜４に遮光パターン１に応じた露光パターンを転写する露光用光源９とを備えている。ここで、ステージ７には、従来例と略同様に、透明基板６を吸着固定するために吸着排気系（図示せず）に接続される吸着孔１１が形成されるとともに、透明基板６の取付け及び取外しを自動的に行うために搬送機構（図示せず）が取り付けられる搬送機構孔（図示せず）等の開口部が形成されている。
【００２８】
ここで、吸着孔１１及び搬送機構孔等の開口部の周囲を形成するステージ７の内側には、露光用光源９から透明基板６に照射した露光光８の透明基板６の裏面からの反射光を散乱あるいは分散させる手段としての傾斜面１２が形成されている。この傾斜面１２は、面取り加工されていることが望ましい。面取り加工する場合は、通常の機械研磨装置を用いて例えば１．０ｍｍφのエンドミルにより、０．３〜０．５ｍｍの削り込みを行って、目視で断差等の筋状のパターンが確認されないように仕上げる。
【００２９】
このように、開口部の周囲を形成するステージ７の内側に傾斜面１２を形成することにより、露光時に露光用光源９からステージ７の表面の一部である内側に達した光は、傾斜面１２の存在により散乱あるいは分散されるため、ステージ７の表面で反射して透明基板６の裏面から再び透明基板６を透過する反射光１３は抑制されるようになる。この結果、露光時に透明基板６の裏面からの反射光１３による影響を防止することができ、感光性レジスト膜４に照射される光の露光強度にばらつきが生ずる欠点を解決することができるようになる。傾斜面１２が形成される幅寸法Ｗは、１〜５ｍｍに設定することが望ましい。
【００３０】
露光装置を用いて透明基板上にＩＴＯ等の電極パターンを形成する場合、図３に示すように、パターン間距離（横軸）と輝度比（縦軸）との関係において、露光時に透明基板の裏面から透過される反射光の光量の差により電極パターンの形状に僅かな差が生じ、この結果として表示される輝度に差が生ずるようになる。図３において、特性Ａは、従来の露光装置１２０を用いて電極パターンを形成した例を示し、パターン間距離が略０．３ｍｍ以内で略１％の輝度差が生ずることを示している。一方、特性Ｂは、この例の露光装置１０を用いて電極パターンを形成した例を示し、パターン間距離が略１．０ｍｍ以内で略１％の輝度差が生ずることを示している。
【００３１】
すなわち、この例の露光装置１０を用いて電極パターンを形成することにより、従来例と同じ輝度差を生じさせるのに、パターン間距離を従来例の３倍以上にとれることを示し、輝度差の変化を緩和できるため表示上で輝度差を確認できない（気がつかない）ように改善できることを示している。これは、露光時に透明基板６の裏面からの反射光１３による影響を防止して、感光性レジスト膜４に照射される光の露光強度にばらつきが生ずる欠点を解決できることを意味している。このような効果は、上述したように傾斜面１２の幅寸法Ｗを、１〜５ｍｍに設定することにより可能となる。
【００３２】
この例の露光装置１０により、上述したように輝度差の変化を緩和することができるのは、吸着孔１１及び搬送機構孔等の開口部の周囲を形成するステージ７の内側に傾斜面１２を形成したことで、開口部の端部で反射光強度が急に変化するのを抑制できることによる。
【００３３】
次に、図１、図２及び図７を参照して、この例の露光装置１０を用いたＰＤＰの製造方法を工程順に説明する。
まず、工程ａにおいて第１の絶縁基板１０４としての前面ガラス基板を用意する。次に工程ｂにおいて、図１に示したこの例の露光装置１０を用いて、フォトリソグラフィ法によりＰＤＰ１００の走査電極１０５及び維持電極１０６のそれぞれの透明電極１０５Ａ、１０６Ａを形成する。
【００３４】
まず、前面基板１０１の第１の絶縁基板１０４となる透明基板６を用意して、全面にスパッタ法等によりＩＴＯ等の導電膜から成る被加工膜５を成膜した後、被加工膜５の表面を覆うようにスピンナーにより例えばポジタイプの感光性レジスト膜４を塗布する。次に、この透明基板６をステージ７上に載置して、吸着孔１１を通じて吸着排気系（図示せず）により真空吸引して固定する。
【００３５】
次に、露光用光源９から遮光パターン１が形成されたマスク２を介して紫外線のような露光光８を透明基板６に照射して、感光性レジスト膜４に遮光パターン１に応じた露光パターンを転写する。感光性レジスト膜４としてポジタイプを用いた場合は、露光された部分が可溶となるので、この後現像処理を行うことにより、遮光パターン１の直下以外の感光性レジスト膜４の部分のみが残って耐食性マスクとして用いられる。
【００３６】
次に、残った感光性レジスト膜４の部分を耐食性マスクとして用いて、ドライエッチングあるいはウエットエッチングのようなエッチング処理を行うことにより、感光性レジスト膜４によりマスクされていない部分の被加工膜５を選択的に除去してパターニングすることで、図７に示したようなそれぞれの透明電極１０５Ａ、１０６Ａを形成する。
【００３７】
次に、工程ｃにおいて、上述と同様なフォトリソグラフィ工程を繰り返えして、各透明電極１０５Ａ、１０６Ａ上にスパッタ法等によりＡｌ等を成膜した後所望の形状にパターニングして、各バス電極１０５Ｂ、１０６Ｂを形成して走査電極１０５及び維持電極１０６を完成させる。次に工程ｄにおいて走査電極１０５及び維持電極１０６を覆うようにスクリーン印刷法等によりＰｂＯ等の透明な誘電体層１０８を形成し、次に工程ｅにおいて蒸着法等によりＭｇＯ膜から成る誘電体の保護層１０９を形成して前面基板１０１を完成させる。
【００３８】
一方、工程ｆにおいて第２の絶縁基板１１２としての背面ガラス基板を用意し、次に工程ｇにおいて基１１２の内面にスパッタ法等によりＡｌ等を成膜した後、フォトリソグラフィ法により所望の形状にパターニングしてデータ電極１１３を形成し、次に工程ｈにおいてデータ電極１１３を覆うようにスクリーン印刷法等により白色の誘電体層１１４を形成する。次に工程ｉにおいて誘電体層１１４上にスクリーン印刷法等により隔壁１１５を形成する。次に工程ｊにおいて蛍光体層１１６を形成する。
【００３９】
次に工程ｋにおいてスクリーン印刷法等によりシールフリット（図７には図示していない）を形成して背面基板１０２を完成させる。次に工程ｌにおいて、前面基板１０１と背面基板１０２とを１００μｍ程度のギャップを隔てて対向した状態で重ね合わせ接着する。次に工程ｍにおいて、両基板１０１、１０２の周辺部をシールフリット（封着材）により機密封止する。次に工程ｎにおいて、両基板１０１、１０２間の空間を排気して放電用ガスの封入を行う。背面基板１０２を構成している第２の絶縁基板１１２には適当な個所に通気孔が形成されており、この基板１１２の外側表面には、図７では省略しているが、通気孔に位置合わせした状態で、通気管が密封状態の下で取り付けられている。背面基板１０２に取り付けられている端部とは反対側の通気管の端部は、当初の状態においては開口されており、この端部を介して通気管が排気・ガス充填装置に接続される。
【００４０】
まず、排気・ガス充填装置によって、放電ガス空間が真空に排気された後、放電ガス空間に放電用ガスが充填される。放電用ガスの充填が終了した後、通気管は過熱によりチップオンされ、開口端部が閉塞される。このようにして、放電ガス空間には放電ガスが充填され、ＰＤＰ１００を完成させる。
【００４１】
上述したように、この例の露光装置１０を用いたＰＤＰの製造方法によれば、吸着孔１１及び搬送機構孔等の開口部の周囲を形成するステージ７の内側に、露光用光源９から透明基板６に照射した露光光８の透明基板６の裏面からの反射光１３を散乱あるいは分散させる手段としての傾斜面１２を形成した露光装置１０を用いるようにしたので、露光時に露光用光源９からステージ７の表面の一部である内側に達した光１３は、傾斜面１２の存在により散乱あるいは分散されるため、ステージ７の表面で反射して透明基板６の裏面から再び透明基板６を透過する反射光は抑制されるようになる。
【００４２】
したがって、感光性レジスト膜４を露光する光の強度は、開口部とステージ７とでは略等しくなるので、ほとんど露光強度にばらつきが生じなくなる。例えば、図１において、露光時に透明基板６に照射される光のうち、ステージ７の吸着孔１１及び搬送機構孔等の開口部をそのまま通過した光により露光される感光性レジスト膜４の部分４Ａの露光強度と、ステージ７の表面の透明基板６を透過した光により露光される感光性レジスト膜４の部分４Ｂの露光強度はほとんど等しくなるので、ほとんど露光強度にばらつきが生じなくなる。この結果、特にＰＤＰのような表示装置では形成されるそれぞれのバス電極１０５Ｂ、１０６Ｂの形状がほとんど同じになり、最終的に対向する走査電極１０５と維持電極１０６間に形成される放電ギャップの寸法にばらつきが生じなくなる。これは、特にＰＤＰのように表示のむらが問題となる表示装置において、表示のむらが観察されなくなるので、表示装置として表示品位を向上させることができるようになる。
【００４３】
このように、この例の露光装置１０によれば、所望の遮光パターン１が形成されたガラスのような透明材料からマスク２と、マスク２とギャップ３を介して対向するように配置されて、表面が感光性レジスト膜４で覆われたＩＴＯ等の被加工膜５が形成されたガラスのような透明基板６を支えるＡｌから成るステージ７と、マスク２を通じて紫外線のような露光光８を透明基板６に照射して、感光性レジスト膜４に遮光パターン１に応じた露光パターンを転写する露光用光源９とを備える構成において、吸着孔１１及び搬送機構孔等の開口部の周囲を形成するステージ７の内側には、露光用光源９から透明基板６に照射した露光光８の透明基板６の裏面からの反射光を散乱あるいは分散させる手段としての傾斜面１２が形成されているので、露光時に露光用光源９からステージ７の表面の一部である内側に達した光１３は、傾斜面１２の存在により散乱あるいは分散されて、ステージ７の表面で反射して透明基板６の裏面から再び透明基板６を透過する反射光は抑制されるようになる。
また、この例の露光装置１０を用いたＰＤＰ１００の製造方法によれば、感光性レジスト膜４を露光する光の強度は部分的に異なることがないので、最終的に対向する走査電極１０５と維持電極１０６間に形成される放電ギャップの寸法にばらつきが生じなくなる。
したがって、露光時に反射光による影響を受けて、感光性レジスト膜に照射される光の露光強度にばらつきが生ずるのを解決することができる。
【実施例２】
【００４４】
図４は、この発明の実施例２である露光装置の構成を概略的に示す断面図である。この実施例２の露光装置の構成が、上述の実施例１のそれと大きく異なるところは、開口部の周囲を形成するステージ７の内側に粗表面部を形成するようにした点である。
すなわち、この例の露光装置２０は、図４に示すように、吸着孔１１及び搬送機構孔等の開口部の周囲を形成するステージ７の内側には、露光用光源９から透明基板６に照射した露光光８の透明基板６の裏面からの反射光を散乱あるいは分散させる手段としての粗表面部１４が形成されている。この粗表面部１４は、アルミナあるいはステンレス粉体を用いたサンドブラスト法により、梨地状に形成して、目視で断差等の筋状のパターンが確認されないように仕上げる。
【００４５】
このように、開口部の周囲を形成するステージ７の内側に粗表面部１４を形成することにより、露光時に露光用光源９からステージ７の表面の一部である内側に達した光１３は、粗表面部１４の存在により散乱あるいは分散されるため、ステージ７の表面で反射して透明基板６の裏面から再び透明基板６を透過する反射光１３は抑制されるようになる。この結果、露光時に透明基板６の裏面からの反射光１３による影響を防止することができ、感光性レジスト膜４に照射される光の露光強度にばらつきが生ずる欠点を解決することができるようになる。また、このような面取り加工部分を粗表面に仕上げることで、反射方向をランダムにすることにより反射光１３を散乱させることができるので、より反射光強度を分散させることができる。以上のように輝度差の変化を、同じ輝度差であっても、輝度差をある程度のパターン間距離をもって徐々に変化させることができ、輝度差を確認できないようにすることができた。粗表面部１４が形成される幅寸法Ｗは、１〜５ｍｍに設定することが望ましい。
これ以外は、上述した実施例１と略同様である。それゆえ、図４において、図１の構成部分と対応する各部には、同一の番号を付してその説明を省略する。
【００４６】
このように、この例の構成によっても、実施例１において述べたのを略同様な効果を得ることができる。
【００４７】
以上、この発明の実施例を図面により詳述してきたが、具体的な構成はこの実施例に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があってもこの発明に含まれる。例えば、各実施例ではマスクと感光性レジスト膜との間はギャップを介して露光するプロキシミティ露光の例で説明したが、これに限らずマスクと感光性レジスト膜との間を密着して露光する密着露光にも適用できる。また、感光性レジスト膜は露光された部分が可溶性となるポジタイプの例で説明したが、これに限らず露光されない部分が可溶性となるネガタイプのものを用いてもよい。また、各実施例においては、ステージにより支えられる透明基板の感光性レジスト膜が塗布される面側に黒アルマイト処理等を行って、反射抑制面を形成しておくことにより、透明基板の裏面からの反射光の抑制をより効果的に行うことができるようになる。また、各実施例では平面型表示装置としてはＰＤＰを主要部とするプラズマ表示装置に適用した例で説明したが、プラズマ表示装置に限らずに一対の基板間に表示部を形成する液晶表示装置のような他の平面型表示装置にも適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】この発明の実施例１である露光装置の構成を概略的に示す断面図である。
【図２】同露光装置を用いたＰＤＰの製造方法を工程順に示すブロック図である。
【図３】同露光装置による効果を従来例と比較して示すための、パターン間距離（横軸）と輝度比（縦軸）との関係を示す図である。
【図４】この発明の実施例２である露光装置の構成を概略的に示す断面図である。
【図５】従来の露光装置の構成を概略的に示す断面図である。
【図６】同露光装置の主要部の構成を拡大して示す断面図である。
【図７】ＰＤＰの構成を概略的に示す斜視図である。
【図８】従来の露光装置の構成を示す模式図である。
【図９】従来の露光装置におけるギャップ制御方法を示す断面図である。
【符号の説明】
【００４９】
１      遮光パターン
２      マスク
３      ギャップ
４      感光性レジスト膜
５      被加工膜
６      透明基板
７      ステージ（基板支持部材）
８      露光光
９      露光用光源
１０、２０      露光装置
１１      吸着孔（開口部）
１２      傾斜面
１３      反射光
１４      粗表面部
【図１】
2005322846.tif 000003
【図２】
2005322846.tif 000004
【図３】
2005322846.tif 000005
【図４】
2005322846.tif 000006
【図５】
2005322846.tif 000007
【図６】
2005322846.tif 000008
【図７】
2005322846.tif 000009
【図８】
2005322846.tif 000010
【図９】
2005322846.tif 000011