(57)【要約】    【課題】  ガラスパネルにおける中空層の減圧状態を長期間にわたって維持することができるガラスパネルの製造方法及びその製造方法により製造されたガラスパネルを提供する。    【解決手段】  真空複層ガラス１００は、間に中空層１０を形成すべくスペーサ３を介して対向配置された一対の板ガラス１，２と、一対の板ガラス１，２の周縁部を接合する低融点ガラス４と、中空層１０内の気体を排気するための排気孔５とを備える。この真空複層ガラス１００は、中空層１０内の気体を排気孔５を介して真空排気しながら（真空排気ステップS３０４）、真空複層ガラス１００の各部材を約２００℃に加熱すると同時にＹＡＧレーザ発振器１６により１０Ｈｚで発振した波長３５５ｎｍの紫外線を強度５２００Ｗ／ｍ２、φ７ｍｍで真空複層ガラス１００の各部材に照射する（加熱・紫外線照射ステップＳ３０５）ことによって製造される。【選択図】      図３
2005139055.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
間に中空層を形成すべくスペーサを介して対向配置する一対の板ガラスと、前記一対の板ガラスを接合するシール材と、前記中空層を排気すべく設けられた排気孔と、前記中空層を密閉すべく前記排気孔を封止する封止部とを備えるガラスパネルの製造方法において、前記ガラスパネルに紫外線を照射する紫外線照射ステップと、前記排気孔から前記中空層の気体を真空排気する真空排気ステップとを備えることを特徴とするガラスパネルの製造方法。
【請求項２】
前記紫外線照射ステップは、真空排気ステップと同時に行われることを特徴とする請求項１記載のガラスパネルの製造方法。
【請求項３】
前記紫外線照射ステップと同時に前記ガラスパネルを加熱する加熱ステップをさらに備えることを特徴とする請求項１又は２記載のガラスパネルの製造方法。
【請求項４】
前記紫外線は強度が３０〜３５０００Ｗ／ｍ２であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のガラスパネルの製造方法。
【請求項５】
前記加熱ステップは目標温度を１００℃〜５００℃として加熱することを特徴とする請求項３又は４記載のガラスパネルの製造方法。
【請求項６】
前記紫外線照射ステップは前記板ガラスに紫外線を照射することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のガラスパネルの製造方法。
【請求項７】
前記紫外線照射ステップは前記スペーサに紫外線を照射することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のガラスパネルの製造方法。
【請求項８】
前記紫外線照射ステップは前記シール材に紫外線を照射することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のガラスパネルの製造方法。
【請求項９】
前記紫外線照射ステップは前記封止部に紫外線を照射することを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のガラスパネルの製造方法。
【請求項１０】
前記中空層におけるガスを吸着するゲッタを収納するゲッタ収納ステップをさらに備え、前記紫外線照射ステップは前記ゲッタに紫外線を照射することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載のガラスパネルの製造方法。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のガラスパネルの製造方法により製造されたことを特徴とするガラスパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラスパネルの製造方法及びその製造方法により製造されたガラスパネル、特に、紫外線照射を利用したガラスパネルの製造方法及びその製造方法により製造されたガラスパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ガラスパネルの製造に際しては、一対の板ガラスの周縁部にペースト状の低融点ガラスを塗布して低融点ガラスの融点以上に加熱し、低融点ガラスを溶融状態にした後、常温にまで冷却して固化させ、それによって、一対の板ガラスの周縁部を封止して接合する接合処理を実行していた。
【０００３】
そして、いったん常温にまで冷却した後、一対の板ガラスの中空層や低融点ガラスなどを再び所定温度に加熱する加熱処理を実行して、中空層の気体を真空排気する真空排気処理を実行していた（例えば、特許文献１）。
【０００４】
このようなガラスパネルを長期間にわたって使用していると、ガラスパネルを構成する板ガラス等の構成部材に吸着していた気体分子種（以下「ガス」という）が、外部エネルギにより励起されて脱離することになる。
【０００５】
このガスの脱離によってガラスパネルの中空層の減圧維持が阻害されるのを防止するためには、ガラスパネルの製造時においてできる限りガラスパネルを構成する構成部材に吸着しているガスを脱離させた状態で真空排気処理を実行することが好ましい。ここで、ガス脱離を誘起させるためには、加熱処理温度を高くしたり、加熱処理時間を長くすることが考えられる。
【特許文献１】国際公開第０３／０００６１３号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、加熱処理温度を高くすると、ガラスパネルの製造に大きなエネルギを要するばかりか、わずかな温度差による温度不均一によっても、板ガラスに歪みが生じたり割れを誘起する可能性があり、それに加えて、板ガラス周縁部を接合密閉している低融点ガラスの融点以上に高くすることができないという問題があった。
【０００７】
また、加熱処理時間を長くすると、ガラスパネルの製造効率が低下してコストアップを招くという問題があった。
【０００８】
さらに、上述したように、従来の加熱処理はいったん常温にまで冷却した後に加熱するので、特に加熱処理初期時（後述する図５におけるA）においては、ガラスパネル全体に熱が伝わらないためガスの脱離を効率的に誘起することができないという問題があった。
【０００９】
本発明の目的は、ガラスパネルにおける中空層の減圧状態を長期間にわたって維持することができるガラスパネルの製造方法及びその製造方法により製造されたガラスパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、請求項１記載のガラスパネルの製造方法は、間に中空層を形成すべくスペーサを介して対向配置する一対の板ガラスと、前記一対の板ガラスを接合するシール材と、前記中空層を排気すべく設けられた排気孔と、前記中空層を密閉すべく前記排気孔を封止する封止部とを備えるガラスパネルの製造方法において、前記ガラスパネルに紫外線を照射する紫外線照射ステップと、前記排気孔から前記中空層の気体を真空排気する真空排気ステップとを備えることを特徴とする。
【００１１】
請求項２記載のガラスパネルの製造方法は、請求項１記載のガラスパネルの製造方法において、前記紫外線照射ステップは、真空排気ステップと同時に行われることを特徴とする。
【００１２】
請求項３記載のガラスパネルの製造方法は、請求項１又は２記載のガラスパネルの製造方法において、前記紫外線照射ステップと同時に前記ガラスパネルを加熱する加熱ステップをさらに備えることを特徴とする。
【００１３】
請求項４記載のガラスパネルの製造方法は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載のガラスパネルの製造方法において、前記紫外線は強度が３０〜３５０００Ｗ／ｍ２であることを特徴とする。
【００１４】
請求項５記載のガラスパネルの製造方法は、請求項３又は４記載のガラスパネルの製造方法において、前記加熱ステップは目標温度を１００℃〜５００℃として加熱することを特徴とする。
【００１５】
請求項６記載のガラスパネルの製造方法は、請求項１乃至５のいずれか１項に記載のガラスパネルの製造方法において、前記紫外線照射ステップは前記板ガラスに紫外線を照射することを特徴とする。
【００１６】
請求項７記載のガラスパネルの製造方法は、請求項１乃至６のいずれか１項に記載のガラスパネルの製造方法において、前記紫外線照射ステップは前記スペーサに紫外線を照射することを特徴とする。
【００１７】
請求項８記載のガラスパネルの製造方法は、請求項１乃至７のいずれか１項に記載のガラスパネルの製造方法において、前記紫外線照射ステップは前記シール材に紫外線を照射することを特徴とする。
【００１８】
請求項９記載のガラスパネルの製造方法は、請求項１乃至８のいずれか１項に記載のガラスパネルの製造方法において、前記紫外線照射ステップは前記封止部に紫外線を照射することを特徴とする。
【００１９】
請求項１０記載のガラスパネルの製造方法は、請求項１乃至９のいずれか１項に記載のガラスパネルの製造方法において、前記中空層におけるガスを吸着するゲッタを収納するゲッタ収納ステップをさらに備え、前記紫外線照射ステップは前記ゲッタに紫外線を照射することを特徴とする。
【００２０】
請求項１１記載のガラスパネルは、請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のガラスパネルの製造方法により製造されたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
請求項１記載のガラスパネルの製造方法によれば、ガラスパネルに紫外線を照射して中空層の気体を真空排気するので、紫外線照射直後からガス脱離を誘起して真空排気することができ、もって真空排気後のガス脱離を抑制することができ、ひいてはガラスパネルにおける中空層の減圧状態を長期間にわたって維持することができる。
【００２２】
請求項２記載のガラスパネルの製造方法によれば、ガラスパネルに紫外線を照射すると同時に中空層の気体を真空排気するので、脱離したガスを効率的に真空排気することができる。
【００２３】
請求項３記載のガラスパネルの製造方法によれば、紫外線照射と同時にガラスパネルを加熱するので、ガス脱離を効率的に誘起することができる。
【００２４】
請求項４記載のガラスパネルの製造方法によれば、紫外線は強度が３０〜３５０００Ｗ／ｍ２であるので、紫外線照射直後からガス脱離を確実に誘起することができる。
【００２５】
請求項５記載のガラスパネルの製造方法によれば、目標温度を１００℃〜５００℃として加熱するので、ガス脱離をより効率的に誘起することができる。
【００２６】
請求項６記載のガラスパネルの製造方法によれば、板ガラスに紫外線を照射するので、板ガラスに吸着していたガスの脱離を確実に誘起することができる。
【００２７】
請求項７記載のガラスパネルの製造方法によれば、スペーサに紫外線を照射するので、スペーサに吸着していたガスの脱離を確実に誘起することができる。
【００２８】
請求項８記載のガラスパネルの製造方法によれば、シール材に紫外線を照射するので、シール材に吸着していたガスの脱離を確実に誘起することができる。
【００２９】
請求項９記載のガラスパネルの製造方法によれば、封止部に紫外線を照射するので、封止部に吸着していたガスの脱離を確実に誘起することができる。
【００３０】
請求項１０記載のガラスパネルの製造方法によれば、ゲッタに紫外線を照射するので、紫外線照射直後からゲッタに吸着していたガスの脱離を誘起することができ、もってゲッタを効率的に活性化することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を行った結果、間に中空層を形成すべくスペーサを介して対向配置する一対の板ガラスと、一対の板ガラスを接合するシール材と、中空層を排気すべく設けられた排気孔と、中空層を密閉すべく排気孔を封止する封止部とを備えるガラスパネルの製造方法において、ガラスパネルに紫外線を照射する紫外線照射ステップと、排気孔から中空層の気体を真空排気する真空排気ステップとを備えると、紫外線照射直後からガス脱離を誘起して真空排気することができ、もって真空排気後のガス脱離を抑制することができ、ひいてはガラスパネルにおける中空層の減圧状態を長期間にわたって維持することができることを見出した。
【００３２】
本発明は、上記研究の結果に基づいてなされたものである。
【００３３】
以下、本発明の実施の形態に係るガラスパネルの製造方法とその製造方法により製造されたガラスパネルを図面を参照しながら説明する。
【００３４】
図１は、本発明の実施の形態に係るガラスパネルとしての真空複層ガラス１００の一部切欠き斜視図である。
【００３５】
図１において、本発明の実施の形態に係るガラスパネルとしての真空複層ガラス１００は、間に中空層１０を形成すべくスペーサ３を介して対向配置された一対の板ガラス１，２と、一対の板ガラス１，２の周縁部を接合する接合用シール材としての一対の板ガラス１，２よりも融点が低く、かつ、気体透過度の低い低融点ガラス４と、中空層１０内の気体を排気するための排気孔５と、中空層１０内の気体に接触するように設置されたゲッタ７と、中空層１０を画成する面１ａ，２ａのうちの面１ａに被覆された低放射率膜（Ｌｏｗ−Ｅ膜）１７とを備える。
【００３６】
一対の板ガラス１，２には、その厚みが２〜１０ｍｍ程度の透明なフロートガラスが使用され、一対の板ガラス１，２間の中空層１０が１．３３Ｐａ以下に減圧されている。
【００３７】
また、スペーサ３は、形状として円柱状が好ましく、一対の板ガラス１，２に作用する大気圧に耐え得るように、圧縮強度が４．９×１０８Ｐａ（５×１０３ｋｇｆ/ｃｍ２）以上の材料、例えば、ステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）やインコンネル７１８などにより形成されている。
【００３８】
そして、スペーサ３の形状が円柱状の場合であれば、直径が０．３〜１．０ｍｍ程度、高さが０．１５〜１．０ｍｍ程度であり、各スペーサ３の間の間隔は、２０ｍｍ程度に設定されている。
【００３９】
図２は、図１における排気孔５の周辺断面図である。
【００４０】
図２において、一方の板ガラス１には、断面が円形の排気孔５が穿設されている。この排気孔５は、円柱形状のゲッタ７を収納するためのゲッタ収納空間６を兼用するように構成され、そのゲッタ収納空間６にゲッタ７が収納され、排気孔５の開口に透明な板ガラスからなる蓋体（封止部）８が位置され、その蓋体８が、封止用シール材、具体的には、接合シール材を構成する低融点ガラス４よりも融点が高くて、蓋体８や板ガラス１よりも融点の低い結晶性の低融点ガラス（封止部）９によって板ガラス１に接着固定されて、排気孔５の開口が密閉状態で封止されている。
【００４１】
次に、この真空複層ガラス１００を製造方法の工程について説明する。
【００４２】
一対の板ガラス１，２のうち、排気孔５の穿設されていない方の板ガラス２をほぼ水平に支持して、その周縁部の上面にペースト状の低融点ガラス４を塗布し、かつ、多数のスペーサ３を所定の間隔で配設して、その上方から他方の板ガラス１を低放射率膜１７が被覆された面１ａが下面となるように載置する（図３における配置ステップＳ３０１）。
【００４３】
そして、一対の板ガラス１，２をほぼ水平にして図外の加熱炉内に収納し、焼成により低融点ガラス４を溶融させ、その溶融状態にある低融点ガラス４によって一対の板ガラス１，２の周縁部を接合して中空層１０を密閉する接合処理を実行する（図３における接合ステップＳ３０２）。
【００４４】
その後、図２に示すように、ゲッタ収納空間６を兼用する板ガラス１の排気孔５にゲッタ７を挿入して収納するのであり（図３におけるゲッタ収納ステップＳ３０３）、ゲッタ収納空間６の内径が、ゲッタ７の外径よりも若干大きいので、ゲッタ収納空間６とゲッタ７との間に隙間ができ、その隙間を介して、ゲッタ７が中空層１０内の気体と接触することになる。
【００４５】
ゲッタ７は、ゲッタ収納空間６に収納した後、ドーナツ状の結晶性低融点ガラス９を配置し、その上に透明な板ガラスからなる蓋体８を載置して、さらに、図４に示すように、その上方から吸引封止装置２０を被せる。
【００４６】
吸引封止装置２０は、上面が透明な石英ガラス１１で閉鎖された円筒状の吸引カップ１２を備え、その吸引カップ１２には、吸引カップ１２の内部空間に連通するフレキシブルパイプ１３と、板ガラス１上面との間を密閉するOリング１４が設けられ、吸引カップ１２の外側上面には、ランプなどからなる加熱源１５及び真空複層ガラス１００の全面に亘って紫外線照射することができるＹＡＧレーザ発振器１６が配設されている。
【００４７】
フレキシブルパイプ１３に接続したロータリーポンプやターボ分子による吸引で吸引カップ１２内を減圧し、中空層１０内の気体を排気孔５を介して中空層１０内が１．３３Ｐａ以下となるように真空排気ながら（図３における真空排気ステップＳ３０４）、吸引封止装置２０を板ガラス１に被せた状態で、真空複層ガラス１００の各部材（板ガラス１，２、スペーサ３、低融点ガラス４、ゲッタ７、蓋体８、低融点ガラス９等）が約２００℃となるように、炉等の加熱装置（不図示）や加熱源１５等により加熱すると同時にＹＡＧレーザ発振器１６により１０Ｈｚで発振した波長３５５ｎｍの紫外線を強度５２００Ｗ／ｍ２、φ７ｍｍで真空複層ガラス１００の各部材に照射する（図３における加熱・紫外線照射ステップＳ３０５）。さらに、加熱源１５により低融点ガラス９を局部的に加熱して溶融させて、その後冷却することにより、蓋体８を板ガラス１に接着して密封する（図３における密封ステップＳ３０６）。
【００４８】
加熱・紫外線照射ステップＳ３０５において、真空複層ガラス１００に紫外線を照射すると同時に真空複層ガラス１００を加熱するのは、後述する図５の結果に基づくものである。
【００４９】
図５は、紫外線照射及び加熱の処理時間とガス脱離量挙動との関係を示すグラフである。
【００５０】
図５における紫外線照射処理サンプルの結果は、ＳｎＯ２膜付ソーダライムガラスで密閉容器を作製し、内部圧力を１×１０−１Ｐａ以下で真空排気しながら２００℃又は４００℃で加熱した測定用元試料から２０ｍｍ×４０ｍｍに単板ガラスを切出し、速やかに超高真空排気装置内に設置した後、超高真空排気装置内圧力が４×１０−７Ｐａ程度の圧力下でＹＡＧレーザにより１０Ｈｚで発振した波長３５５ｎｍの紫外線を強度５２００Ｗ／ｍ２、φ７ｍｍでガラスの非膜面より試料に照射し、ＳｎＯ２膜面側で四重極質量分析計を用い脱離するガスの質量数を測定することにより得られた。
【００５１】
また、図５における加熱処理サンプルの結果は、上述した測定用元試料から２０ｍｍ×４０ｍｍに単板ガラスを切出し、速やかに超高真空排気装置内に設置した後、超高真空排気装置内圧力が４×１０−７Ｐａ程度の圧力下で試料を約２００℃に加熱し、ＳｎＯ２膜面側で四重極質量分析計を用い脱離するガスの質量数を測定することにより得られた。
【００５２】
図５において、加熱処理サンプルについては、炭素系ガス（例えば、一酸化炭素や二酸化炭素）、水系ガス共に処理時間の経過に従い脱離量が増加して一定となるという挙動を示すのに対して、紫外線照射処理サンプルについては、炭素系ガス、水系ガス共に紫外線照射開始時から高い脱離量を示し、紫外線照射開始後、炭素系ガスは脱離量が減少し、水系ガスは脱離量が微増して微減するという挙動を示す。
【００５３】
上述したガス脱離量挙動から、加熱処理を施すと同時に紫外線照射処理を施すと、加熱処理初期時Ａでは炭素系ガス及び水系ガス共に紫外線照射処理により脱離量を高く維持することができ、加熱処理初期時Ａが経過した後は、炭素系ガスについては加熱処理により脱離量を高く維持することができ、水系ガスについては加熱処理及び紫外線照射処理の両方により脱離量を高く維持することができると考えられる。
【００５４】
そこで、本発明者は、測定用元試料から２０ｍｍ×４０ｍｍに単板ガラスを切出し、速やかに超高真空排気装置内に設置した後、装置内圧力が４×１０−７Ｐａ程度の圧力下で、目標温度を１００〜６００℃として加熱する（加熱しない場合も含む）と同時に、ＹＡＧレーザにより１０Ｈｚで発振した波長３５５ｎｍの紫外線を強度３０〜４００００Ｗ／ｍ２で照射する（照射しない場合も含む）加熱・紫外線照射処理を３０分間施したサンプルについて、ガス脱離の有無、ガラス劣化の有無を観察した結果を表１に示す。
【００５５】
さらに、本発明者は、上記単板ガラスに代えてゲッタに上記と同様の処理を施した場合について、ガス脱離の有無を観察した結果を表２に示す。
【００５６】
ここで、ガス脱離観察における◎は処理時間全体に亘ってガス脱離を十分に観察することができることを、○は処理時間全体に亘ってガス脱離を僅かに観察することができることを、△は処理初期時にガス脱離を観察することができないことを、×は処理時間全体に亘ってガス脱離を観察することができないことを示す。また、ガラス劣化観察における◎はガラス劣化が全く見られないことを、○はガラス劣化がほとんど見られないことを、×はガラス劣化が見られることを示す。さらに、総合評価における◎、○、△、及び×は、ガラスサンプルの品質（表１）及びゲッタの活性化（表２）の程度を示している。
【００５７】
【表１】
2005139055.tif 000003
【００５８】
【表２】
2005139055.tif 000004
【００５９】
表１に示す結果より、単板ガラスに紫外線照射処理を施すと、単板ガラスに吸着したガスの脱離を誘起することができることが分かった。
【００６０】
加えて、単板ガラスに紫外線照射処理と同時に加熱処理を施すと、単板ガラスに吸着したガスの脱離を処理時間全体に亘って誘起することができることが分かった。
【００６１】
さらに、単板ガラスを目標温度を５００℃として加熱すると、歪みや割れ等のガラス劣化が発生する場合があり、６００℃として加熱すると、歪みや割れ等のガラス劣化が確実に発生することが分かった。さらには、紫外線の強度が３０Ｗ／ｍ２より小さいと、ガス脱離をほとんど誘起することができず、紫外線の強度が３５０００Ｗ／ｍ２より大きい、例えば、４００００Ｗ／ｍ２であると、ガス脱離を十分に誘起することができるものの、失透等のガラス劣化が発生してしまうことが分かった。
【００６２】
また、紫外線の強度が１３０００Ｗ／ｍ２以下であると、ＳｎＯ２膜の劣化は見られなかった。
【００６３】
また、表２に示す結果より、ゲッタに紫外線照射処理を施すと、ゲッタに吸着したガスの脱離を誘起することができ、もってゲッタを活性化することができることが分かった。
【００６４】
加えて、ゲッタに紫外線照射処理と同時に加熱処理を施すと、ゲッタに吸着したガスの脱離を処理時間全体に亘って誘起することができ、もってゲッタを効率的に活性化することができることが分かった。
【００６５】
以上より、強度が３０Ｗ／ｍ２以上の紫外線を照射する紫外線照射処理を施すと、ガス脱離を誘起することができることが分かった。さらに、強度が３０〜３５０００Ｗ／ｍ２の紫外線を照射する紫外線照射処理を施すと同時に、目標温度を１００℃〜５００℃、好ましくは１００〜４００℃として加熱する加熱処理を施すと、板ガラス１，２等が劣化するのを防止することができると共に、ガス脱離を効率的に誘起することができる、即ち、ガス脱離のための処理時間を短縮できることが分かった。
【００６６】
本実施の形態によれば、中空層１０を真空排気しながら真空複層ガラス１００の各部材を加熱すると同時に紫外線を真空複層ガラス１００の各部材に照射するので、紫外線照射直後からガス脱離を効率的に誘起して中空層１０を真空排気することができ、もって真空排気後のガス脱離を抑制することができ、ひいては真空複層ガラス１００における中空層１０の減圧状態を長期間にわたって維持することができる。
【００６７】
本実施の形態によれば、ゲッタ７に紫外線を照射するので、紫外線照射直後からゲッタ７に吸着していたガスの脱離を誘起することができ、もってゲッタ７を効率的に活性化することができる。
【００６８】
本実施の形態では、中空層１０内を真空排気しながら（真空排気ステップＳ３０４）、真空複層ガラス１００の各部材を加熱すると同時に紫外線を真空複層ガラス１００の各部材に照射している（加熱・紫外線照射ステップＳ３０５）が、加熱・紫外線照射処理（加熱・紫外線照射ステップＳ３０５）を真空排気処理（真空排気ステップＳ３０４）と同時行うことに限定されるものではなく、例えば、板ガラス１，２をスペーサ３を介して対向配置する（配置ステップＳ３０１）前に、加熱・紫外線照射処理（加熱・紫外線照射ステップＳ３０５）を行ってもよい。
【００６９】
本実施の形態では、真空複層ガラス１００の各部材を加熱すると同時に紫外線を真空複層ガラス１００の各部材に照射しているが、これに限定されるものではなく、真空複層ガラス１００の各部材を加熱しないで紫外線を真空複層ガラス１００の各部材に照射するだけであってもよい。
【００７０】
本実施の形態では、接合用シール材としての低融点ガラス４を溶融して冷却した（接合ステップＳ３０２）後に、真空排気処理（真空排気ステップＳ３０４）を行っているが、これに限定されるものではなく、例えば、低融点ガラス４の溶融時に真空排気処理を行ってもよい。
【００７１】
本実施の形態では、ＹＡＧレーザ発振器１６を用いて紫外線を照射しているが、これに限定されるものではなく、例えば、ＣＯ２レーザ発振器を用いて紫外線を照射してもよい。
【００７２】
本実施の形態では、真空複層ガラス１００の各部材（板ガラス１，２、スペーサ３、低融点ガラス４、ゲッタ７、蓋体８、低融点ガラス９）に照射しているが、これに限定されるものではなく、真空複層ガラス１００の各部材のいずれかに照射すればよい。
【００７３】
本実施の形態では、一方の板ガラス１の穿設の排気孔５が、ゲッタ７を収納するゲッタ収納空間６を完全に兼用する構成を示したが、排気孔５に対向する他方の板ガラス２に凹入部を設け、その凹入部が、ゲッタ収納空間６の一部を構成するようにして実施することもでき、また、ゲッタ７は、蒸発型、非蒸発型のいずれであってもよく、さらには、ゲッタ７を設けなくてもよい。
【００７４】
本実施の形態では、封止部として蓋体８が用いられているが、これに限定されるものではなく、図６に示すようなガラス管６０であってもよい。
【００７５】
本実施の形態では、接合用シール材として低融点ガラス４を使用しているが、これに限定されるものではなく、例えば、接合用シール材としてインジウム、鉛、錫または亜鉛等を主成分とする金属はんだ等を使用してもよい。
【００７６】
本実施の形態では、板ガラス１，２としてフロートガラスを用いているが、これに限定されるものではなく、ガラスパネルの用途や目的に応じて、例えば、型板ガラス、表面処理により光拡散機能を備えたすりガラス、網入りガラス、線入板ガラス、強化ガラス、倍強化ガラス、低反射ガラス、高透過板ガラス、セラミック印刷ガラス、熱線や紫外線吸収機能を備えた特殊ガラス、又は、それらの組み合わせなど、種々のガラスを適宜選択して実施することができる。また、ガラスの組成についても、ソーダ珪酸ガラス、ソーダ石灰ガラス、ホウ珪酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、各種結晶化ガラスなどを使用することができ、その板ガラス１，２の厚みについても、適宜選択自由である。
【００７７】
本実施の形態では、スペーサ３としてステンレス鋼やインコンネルを用いているが、これに限定されるものではなく、例えば、鉄、銅、アルミニウム、タングステン、ニッケル、クロム、チタンなどの金属の他、炭素鋼、クロム鋼、ニッケル鋼、ニッケルクロム鋼、マンガン鋼、クロムマンガン鋼、クロムモリブデン鋼、珪素鋼、真鍮、ハンダ、ジュラルミンなどの合金、又は、セラミックスやガラスなど、要するに、外力により変形し難いものであれば、使用可能であり、その形状も、円柱状に限らず、角柱状や球状などの各種形状に構成することができる。
【００７８】
本実施の形態では、面１ａのみに低放射率膜１７が被覆されているが、これに限定されるものではなく、面２ａのみに被覆されてもよく、また、面１ａ，２ａ共に被覆されてもよく、さらには低放射率膜１７が面１ａ，２ａのいずれにも被覆されていなくてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００７９】
本実施の形態では、ガラスパネルの一例として真空複層ガラス１００を示したが、一対の板ガラス１，２の中空層１０に気体を封入したプラズマディスプレイパネルなどの製造にも適用することができ、その場合には、真空排気処理を実行した後、中空層１０に所定の気体を封入することとなる。
【００８０】
また、ガラスパネルの用途についても、建築物や乗り物（自動車、鉄道車両、船舶）用の窓ガラス、あるいは、プラズマディスプレイなどの機器要素をはじめとして、冷蔵庫や保温装置などのような各種装置の扉や壁部など、種々の用途に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】本発明の実施の形態に係るガラスパネルとしての真空複層ガラス１００の一部切欠き斜視図である。
【図２】図１における排気孔５の周辺断面図である。
【図３】図１の真空複層ガラス１００の製造方法を示すフローチャートである。
【図４】図１の真空複層ガラス１００の真空排気時における周辺断面図である。
【図５】紫外線照射及び加熱の処理時間とガス脱離量挙動との関係を示すグラフである。
【図６】図１の真空複層ガラス１００の変形例の一部切欠き斜視図である。
【符号の説明】
【００８２】
１  板ガラス
２  板ガラス
３  スペーサ
４  低融点ガラス
５  排気孔
６  ゲッタ収納空間
７  ゲッタ
８  蓋体
９  低融点ガラス
１０  中空層
１５  加熱源
１６  ＹＡＧレーザ発振器
１００  真空複層ガラス
【図１】
2005139055.tif 000005
【図２】
2005139055.tif 000006
【図３】
2005139055.tif 000007
【図４】
2005139055.tif 000008
【図５】
2005139055.tif 000009
【図６】
2005139055.tif 000010