(57)【要約】【課題】  液晶ディスプレイの生産率を高め液晶ディスプレイモデルを多様化する。【解決手段】  液晶を被包した第１層光重合材料をバッファ層を具えた補助基板に塗布して光重合工程を行ない、重合後の第１層光重合材料層に導電層電極、配向層と突出物形成の工程を行なう。第２層光重合材料層を複数の電極パターン、配向層と突出物形成等の液晶ディスプレイに必要な工程を終えた基板に塗布し、マスクを使用して露光して光重合材料を硬化させてポリマーウォールを形成するか、モールド方式を利用し並びに線形紫外光照射を組合せて光重合材料を硬化させてポリマーウォールを形成し且つ配向効果を具備させる。続いて、ポリマーウォールが形成する凹孔内に、液晶と少量の光重合材料で形成した混合物を充填し、さらに補助基板と基板をアライメントさせ、マスク露光による重合工程を行ない、補助基板と基板を結合させ、最後に補助基板を剥離して単一基板液晶ディスプレイを完成する。【選択図】        図１９
2005043841.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶ディスプレイの製造方法において、第１板工程と、第２板工程と、第１板と第２板の組合せ工程を具え、
第１板工程で、バッファ層を具えた補助基板の上に光重合材料を塗布し並びに紫外光で露光して光重合材料を硬化させ、硬化した光重合材料の上に配向層を塗布し、
第２板工程でポリマーウォールを形成し、先ず電極パターンを具えた基板の表面に配向層を塗布した後に、その上に光重合材料を塗布し、マスクを利用して露光して光重合材料を硬化させて複数のポリマーウォールを形成し、更に該複数のポリマーウォールの間に形成された複数の凹孔中に、液晶と少量の光重合材料の混合物を注入し、以上で第２板を形成し、
第１板と第２板の組合せ工程で、第１板の補助基板と第２板の基板をアライメントさせてマスクを利用した露光による重合工程で補助基板と基板の間を完全に接合させ、並びに液晶と光重合材料を相分離させて、液晶材料をポリマーで被包させて、最後に補助基板を剥離し、
以上を特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、ポリマーウォールは光重合材料を電極パターンを具えた基板上に塗布し、モールディング方式を利用すると共に同時に線形紫外光照射を行ない、光重合材料を硬化させることで形成し、且つ配向の効果を具備させたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項３】
請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料が光硬化樹脂とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項４】
請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、補助基板或いは基板の材料が、ガラス、ウエハ、ポリテトラフルオロエチレン、或いはプラスチックとされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項５】
請求項２記載の液晶ディスプレイの製造方法において、電極パターンの材料が導電膜とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項６】
請求項５記載の液晶ディスプレイの製造方法において、導電膜がＩＴＯ或いはポリエチレンジオキキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ；ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ−ｄｉｏｘｉｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）で形成されたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項７】
請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、バッファ層の材料が、ポリエチレン類疎水性材料（ＰＥ／ＰＥＷａｘ）、長鎖脂肪族、シリコン、ポリテトラフルオロエチレンのいずれかとされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項８】
請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、第１板工程中、第１板中の補助基板上に電極パターンを形成するステップを具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項９】
請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、配向層は、配向材料にラビング、光配向（ｐｈｏｔｏａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、イオンビーム配向、或いは微細溝構造配向の方式を組み合わせることで形成することを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項１０】
請求項９記載の液晶ディスプレイの製造方法において、微細溝構造配向では、特殊設計の型パターンを使用してモールディング方式で完成し、ポリマーウォールと微細溝配向構造を同時に形成することを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項１１】
請求項９記載の液晶ディスプレイの製造方法において、配向材料が、ポリイミド、ポリアミック酸、或いは光配向材料とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項１２】
請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、第１板工程と第２板工程中に、補助基板或いは基板上に突出物を形成するステップを設け、これによりディスプレイに広視角の特性を具備させることを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項１３】
請求項１２記載の液晶ディスプレイの製造方法において、突出物を、特殊設計の型パターンを用いてモールディング工程中に完成し、これによりマルチドメインの広視角効果を達成することを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項１４】
請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料で形成したポリマーウォールがクローズマトリックスポリマーウォールであることを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項１５】
請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料で形成したポリマーウォールがノンクローズマトリックスポリマーウォールであることを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項１６】
請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料の混合物が、光重合材料と液晶材料で組成されたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項１７】
請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料の混合物に更にスペーサが添加されたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項１８】
液晶ディスプレイの製造方法において、第１板工程と、第２板工程と、第１板と第２板の組合せ工程を具え、
第１板工程で、バッファ層を具えた補助基板の上に光重合材料を塗布し並びに紫外光で露光して光重合材料を硬化させ、硬化した光重合材料の上に電極パターンを形成した後に、配向層を塗布し、
第２板工程でポリマーウォールを形成し、先ず電極パターンを具えた基板の表面に配向層を塗布した後に、その上に光重合材料を塗布し、マスクを利用して露光して光重合材料を硬化させて複数のポリマーウォールを形成し、更に該複数のポリマーウォールの間に形成された複数の凹孔中に、液晶と少量の光重合材料の混合物を注入し、以上で第２板を形成し、
第１板と第２板の組合せ工程で、第１板の補助基板と第２板の基板をアライメントさせてマスクを利用した露光による重合工程で補助基板と基板の間を完全に接合させ、並びに液晶と光重合材料を相分離させて、液晶材料をポリマーで被包させて、最後に第１板の補助基板と第２板の基板を剥離し、
以上を特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項１９】
請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料が光硬化樹脂とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項２０】
請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、補助基板或いは基板の材料が、ガラス、ウエハ、ポリテトラフルオロエチレン、或いはプラスチックとされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項２１】
請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、電極パターンの材料が導電膜とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項２２】
請求項２１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、導電膜がＩＴＯ或いはポリエチレンジオキキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ；ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ−ｄｉｏｘｉｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）で形成されたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項２３】
請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、バッファ層の材料が、ポリエチレン類疎水性材料（ＰＥ／ＰＥＷａｘ）、長鎖脂肪族、シリコン、ポリテトラフルオロエチレンのいずれかとされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項２４】
請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、配向層は、配向材料にラビング、光配向（ｐｈｏｔｏａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、イオンビーム配向、或いは微細溝構造配向の方式を組み合わせることで形成することを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項２５】
請求項２４記載の液晶ディスプレイの製造方法において、微細溝構造配向では、特殊設計の型パターンを使用してモールディング方式で完成し、ポリマーウォールと微細溝配向構造を同時に形成することを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項２６】
請求項２４記載の液晶ディスプレイの製造方法において、配向材料が、ポリイミド、ポリアミック酸、或いは光配向材料とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項２７】
請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、第１板工程と第２板工程中に、補助基板或いは基板上に突出物を形成するステップを設け、これによりディスプレイに広視角の特性を具備させることを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項２８】
請求項２７記載の液晶ディスプレイの製造方法において、突出物を、特殊設計の型パターンを用いてモールディング工程中に完成し、これによりマルチドメインの広視角効果を達成することを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項２９】
請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料で形成したポリマーウォールがクローズマトリックスポリマーウォールであることを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項３０】
請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料で形成したポリマーウォールがノンクローズマトリックスポリマーウォールであることを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項３１】
請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料の混合物が、光重合材料と液晶材料で組成されたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項３２】
請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料の混合物に更にスペーサが添加されたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【請求項３３】
請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、ポリマーウォールは、光重合材料を電極パターンを具えた基板に塗布し、更にモールディング方式を利用すると共に同時に線形紫外光照射を行ない、光重合材料を硬化させることで形成し、且つ配向効果を具備するものとすることを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は一種の液晶ディスプレイの製造方法に係り、特に、ディスプレイの厚さと重量を減らすことができ、フレキシブルプラスチック基板に応用可能で生産率を高めることができ且つ多様なディスプレイモデルを製造できる液晶ディスプレイの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットディスプレイの応用はディスプレイの重量と体積を減らす目的を達成しており、携帯式製品への応用上、更なる軽量化、薄型化、耐衝撃及び低パワー損耗を技術発展の目標としている。更に軽く、薄く、耐衝撃性を具えたフラットディスプレイを実現するため、従来のガラス基板工程のフラットディスプレイ技術は、既に一部がプラスチック基板フラットディスプレイ技術の研究と開発に方向転換している。そのうち、フィリップス社による特許文献１は、新たなプラスチック基板ディスプレイ製造方法を提供している。その主要な内容は、光重合材料（ｐｏｌｙｍｅｒｉｃ  ｍａｔｅｒｉａｌ）を応用して液晶を基板上に被包する、というものであり、その製造方法は、図１から図５に示されるとおりであり、まず、図１に示されるように、基板１の上に光重合材料混合物２を塗布する。この光重合材料混合物２はＮＯＡ６５と液晶材料で組成されている。次に図２に示されるように、ナイフ３で光重合材料混合物２を平坦化する。さらに図３に示されるように、光重合材料混合物２の上方にマスク４を置き、紫外光５で露光工程を行ない、光重合材料混合物５の紫外光５照射を受けた部分を硬化重合させて、図４に示される複数のポリマーウォール（ｐｏｌｙｍｅｒ  ｗａｌｌ）支柱２０を形成させる。さらに図５に示されるように第２次露光工程を行ない、比較的弱い紫外光６で長時間露光を行ない、光重合材料混合物２の表面を重合させて薄い硬化層２１を形成させ、並びに液晶と光重合材料の位相分離工程を完成する。
【０００３】
フィリップス社によるこの特許に記載の製造方法は、液晶を被覆したポリマー構造を形成するために二回の露光を必要とし、且つ第２次露光に低エネルギー量で長時間の工程を必要とし、液晶材料に対して劣化をもたらす恐れがあり、その製造工程の応用範囲は小さく且つ生産率は低く、応用できるディスプレイモデルが比較的少ない。このほか、これによりポリマーウォールを形成する時には相分離の方式を採用するため、ポリマーの使用が増加し、この点がその後の液晶の品質に影響を与える。
【０００４】
【特許文献１】ＷＩＰＯ  公告第ＷＯ  ０２／４２８３２  Ａ２号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明はマスク露光現像或いはモールディングの方式でポリマーウォールを形成し、ポリマーの使用を有効に減らして液晶形成後の品質を高める。
【０００６】
本発明の主要な目的は、生産率を高めることができ且つ多様なディスプレイモデルを製造できる液晶ディスプレイの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１の発明は、液晶ディスプレイの製造方法において、第１板工程と、第２板工程と、第１板と第２板の組合せ工程を具え、
第１板工程で、バッファ層を具えた補助基板の上に光重合材料を塗布し並びに紫外光で露光して光重合材料を硬化させ、硬化した光重合材料の上に配向層を塗布し、
第２板工程でポリマーウォールを形成し、先ず電極パターンを具えた基板の表面に配向層を塗布した後に、その上に光重合材料を塗布し、マスクを利用して露光して光重合材料を硬化させて複数のポリマーウォールを形成し、更に該複数のポリマーウォールの間に形成された複数の凹孔中に、液晶と少量の光重合材料の混合物を注入し、以上で第２板を形成し、
第１板と第２板の組合せ工程で、第１板の補助基板と第２板の基板をアライメントさせてマスクを利用した露光による重合工程で補助基板と基板の間を完全に接合させ、並びに液晶と光重合材料を相分離させて、液晶材料をポリマーで被包させて、最後に補助基板を剥離し、
以上を特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項２の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、ポリマーウォールは光重合材料を電極パターンを具えた基板上に塗布し、モールディング方式を利用すると共に同時に線形紫外光照射を行ない、光重合材料を硬化させることで形成し、且つ配向の効果を具備させたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項３の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料が光硬化樹脂とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項４の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、補助基板或いは基板の材料が、ガラス、ウエハ、ポリテトラフルオロエチレン、或いはプラスチックとされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項５の発明は、請求項２記載の液晶ディスプレイの製造方法において、電極パターンの材料が導電膜とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項６の発明は、請求項５記載の液晶ディスプレイの製造方法において、導電膜がＩＴＯ或いはポリエチレンジオキキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ；ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ−ｄｉｏｘｉｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）で形成されたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項７の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、バッファ層の材料が、ポリエチレン類疎水性材料（ＰＥ／ＰＥＷａｘ）、長鎖脂肪族、シリコン、ポリテトラフルオロエチレンのいずれかとされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項８の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、第１板工程中、第１板中の補助基板上に電極パターンを形成するステップを具えたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項９の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、配向層は、配向材料にラビング、光配向（ｐｈｏｔｏａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、イオンビーム配向、或いは微細溝構造配向の方式を組み合わせることで形成することを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項１０の発明は、請求項９記載の液晶ディスプレイの製造方法において、微細溝構造配向では、特殊設計の型パターンを使用してモールディング方式で完成し、ポリマーウォールと微細溝配向構造を同時に形成することを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項１１の発明は、請求項９記載の液晶ディスプレイの製造方法において、配向材料が、ポリイミド、ポリアミック酸、或いは光配向材料とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項１２の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、第１板工程と第２板工程中に、補助基板或いは基板上に突出物を形成するステップを設け、これによりディスプレイに広視角の特性を具備させることを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項１３の発明は、請求項１２記載の液晶ディスプレイの製造方法において、突出物を、特殊設計の型パターンを用いてモールディング工程中に完成し、これによりマルチドメインの広視角効果を達成することを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項１４の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料で形成したポリマーウォールがクローズマトリックスポリマーウォールであることを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項１５の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料で形成したポリマーウォールがノンクローズマトリックスポリマーウォールであることを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項１６の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料の混合物が、光重合材料と液晶材料で組成されたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項１７の発明は、請求項１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料の混合物に更にスペーサが添加されたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項１８の発明は、液晶ディスプレイの製造方法において、第１板工程と、第２板工程と、第１板と第２板の組合せ工程を具え、
第１板工程で、バッファ層を具えた補助基板の上に光重合材料を塗布し並びに紫外光で露光して光重合材料を硬化させ、硬化した光重合材料の上に電極パターンを形成した後に、配向層を塗布し、
第２板工程でポリマーウォールを形成し、先ず電極パターンを具えた基板の表面に配向層を塗布した後に、その上に光重合材料を塗布し、マスクを利用して露光して光重合材料を硬化させて複数のポリマーウォールを形成し、更に該複数のポリマーウォールの間に形成された複数の凹孔中に、液晶と少量の光重合材料の混合物を注入し、以上で第２板を形成し、
第１板と第２板の組合せ工程で、第１板の補助基板と第２板の基板をアライメントさせてマスクを利用した露光による重合工程で補助基板と基板の間を完全に接合させ、並びに液晶と光重合材料を相分離させて、液晶材料をポリマーで被包させて、最後に第１板の補助基板と第２板の基板を剥離し、
以上を特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項１９の発明は、請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料が光硬化樹脂とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項２０の発明は、請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、補助基板或いは基板の材料が、ガラス、ウエハ、ポリテトラフルオロエチレン、或いはプラスチックとされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項２１の発明は、請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、電極パターンの材料が導電膜とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項２２の発明は、請求項２１記載の液晶ディスプレイの製造方法において、導電膜がＩＴＯ或いはポリエチレンジオキキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ；ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ−ｄｉｏｘｉｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）で形成されたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項２３の発明は、請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、バッファ層の材料が、ポリエチレン類疎水性材料（ＰＥ／ＰＥＷａｘ）、長鎖脂肪族、シリコン、ポリテトラフルオロエチレンのいずれかとされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項２４の発明は、請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、配向層は、配向材料にラビング、光配向（ｐｈｏｔｏａｌｉｇｎｍｅｎｔ）、イオンビーム配向、或いは微細溝構造配向の方式を組み合わせることで形成することを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項２５の発明は、請求項２４記載の液晶ディスプレイの製造方法において、微細溝構造配向では、特殊設計の型パターンを使用してモールディング方式で完成し、ポリマーウォールと微細溝配向構造を同時に形成することを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項２６の発明は、請求項２４記載の液晶ディスプレイの製造方法において、配向材料が、ポリイミド、ポリアミック酸、或いは光配向材料とされたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項２７の発明は、請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、第１板工程と第２板工程中に、補助基板或いは基板上に突出物を形成するステップを設け、これによりディスプレイに広視角の特性を具備させることを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項２８の発明は、請求項２７記載の液晶ディスプレイの製造方法において、突出物を、特殊設計の型パターンを用いてモールディング工程中に完成し、これによりマルチドメインの広視角効果を達成することを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項２９の発明は、請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料で形成したポリマーウォールがクローズマトリックスポリマーウォールであることを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項３０の発明は、請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料で形成したポリマーウォールがノンクローズマトリックスポリマーウォールであることを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項３１の発明は、請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料の混合物が、光重合材料と液晶材料で組成されたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項３２の発明は、請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、光重合材料の混合物に更にスペーサが添加されたことを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
請求項３３の発明は、請求項１８記載の液晶ディスプレイの製造方法において、ポリマーウォールは、光重合材料を電極パターンを具えた基板に塗布し、更にモールディング方式を利用すると共に同時に線形紫外光照射を行ない、光重合材料を硬化させることで形成し、且つ配向効果を具備するものとすることを特徴とする、液晶ディスプレイの製造方法としている。
【発明の効果】
【０００８】
本発明は一種の液晶ディスプレイの製造方法を提供し、それは、液晶ディスプレイの製造ステップに変化と改良を加え、液晶ディスプレイの製造を弾性的に変化させ、さらに無基板形式の液晶ディスプレイを製造できるようにしている。本発明の製造方法を応用することにより、液晶ディスプレイの生産率を高め且つ多様なディスプレイモデルを製造する目的を達成できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明は液晶ディスプレイの製造方法を提供し、それによると、液晶を被包した第１層光重合材料をバッファ層を具えた補助基板に塗布して光重合工程を行ない、重合後の第１層光重合材料層に導電層電極、配向層と突出物形成の工程を行なう。第２層光重合材料層を複数の電極パターン、配向層と突出物形成等の液晶ディスプレイに必要な工程を終えた基板に塗布し、マスクを使用して露光して光重合材料を硬化させてポリマーウォールを形成するか、モールド方式を利用し並びに線形紫外光照射を組合せて光重合材料を硬化させてポリマーウォールを形成し且つ配向効果を具備させる。続いて、ポリマーウォールが形成する凹孔内に、液晶と少量の光重合材料で形成した混合物を充填し、さらに補助基板と基板をアライメントさせ、マスク露光による重合工程を行ない、補助基板と基板を結合させ、最後に補助基板を剥離して単一基板液晶ディスプレイを完成する。この製造方法を変化させることにより、無基板液晶ディスプレイを製造することもできる。この製造方法を応用することにより、液晶ディスプレイの生産率を高めることができ且つ多様なディスプレイモデルを製造できる。
【実施例１】
【００１０】
図６から図１９は本発明の液晶ディスプレイの製造方法の第１実施例の製造工程表示図である。
図７から図９はそのうち第１板の製造ステップ表示図であり、まず、図７に示されるように、補助基板５０の上にバッファ層５１を形成する。次に図８のように、バッファ層５１の上に光重合材料層５２（例えばＮＯＡ６５、ＮＯＡ７２等の光重合材料）を塗布する。さらに図９のように、紫外光５を照射し露光工程を行ない、紫外光５により光重合材料層５２を硬化させてポリマー５２’を形成し、第１板５３０の工程を完成する。
図１０から図１５は第２板の製造フロー表示図である。まず図１０のように、基板５４の上に電極パターン５４０を形成し、図１１のように、基板５４と電極パターン５４０の上に配向層５５（ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  ｌａｙｅｒ）を塗布し、さらに図１２のように、配向層５５の上に光重合材料５６を塗布する。そして、図１３のように、マスク５７’を用いて紫外光５’による露光工程を行なう。この露光工程により、図１４に示されるように、光重合材料５６が硬化重合してポリマーウォール５６’（ｐｏｌｙｍｅｒ  ｗａｌｌ）を形成する。さらに、図１５のように、配向層５５とポリマーウォール５６’で囲まれてなる凹孔内に、滴下装置８０により液晶と少量の光重合材料の混合物５８を充填する。以上により第２板５６０の製作を完成する。
図１６から図１９は第１板５３０と第２板５６０の組合せステップのフロー表示図である。まず、図１６のように、第１板５３０を逆さにして第２板５６０の上方に置く。さらに、図１７のように、第１板５３０の上方にマスク５７を置き紫外光５”露光工程を行なう。この露光工程により、図１８のように、液晶と少量の光重合材料の混合物５８中の光重合材料が相分離を発生することにより、第１板５３０と第２板５６０の間に接合が形成されると共に、先の硬化重合により形成されたポリマーウォール５６’が第１板５３０と接合されたポリマーウォール５６’’を形成し、液晶と光重合物に相分離を完成させることにより、ポリマーが完全に液晶材料５９を被包する。最後に図１９のように、第１板５３０の補助基板５０とバッファ層５１を剥離し、こうして単一基板の液晶ディスプレイの第１実施例を完成する。
図６から図１９に示されるように、本発明の第１実施例はマスク露光現像の方式で光重合材料を硬化させてポリマーウォール５６”を形成し、これにより、ポリマーのドープを減らし、有効に液晶形成時の品質を高め、製品の歩留りを高めることができる。
【実施例２】
【００１１】
図２０から図３３は本発明の液晶ディスプレイの製造方法の第２実施例の製造工程表示図である。その製造工程は第１実施例とほぼ同じであるが、主要な差異は、モールディングに線形紫外光照射工程を組み合わせて、重合材料を硬化させてポリマーウォールを形成すると共に第２板に配向効果を具備させたことにある。これにより有効にポリマーのドープを減らすことができる。その製造工程は以下のステップを含む。
図２０から図２３は第１板５３０の製作フロー表示図である。図２０のように、補助基板５０の上にバッファ層５１を形成する。さらに図２１のように、バッファ層５１の上に光重合材料層５２（例えばＮＯＡ６５、ＮＯＡ７２等の光重合材料）を塗布する。その後、図２２のように、紫外光５を照射し露光工程を行ない、紫外光５により光重合材料層５２を硬化させてポリマー５２’を形成する。さらに図２３のように、ポリマー５２’の上に配向層５３を塗布し、以上で第１板５３０を完成する。
図２４から図２９は第２板５６０の製作フロー表示図であり、まず、図２４に示されるように、基板５４の上に電極パターン５４０を形成する。さらに図２５のように、電極パターン５４０の上に光重合材料５６を塗布する。続いて図２６のように、モールディングを利用し光重合材料５６にポリマーウォールの形状を形成する。さらに図２７のように、線形紫外光５”’で露光し、これにより図２８のように光重合材料５６を硬化させてポリマーウォール５６”’を形成すると共に配向効果を具備させる。さらに図２９のように、ポリマーウォール５６”’で囲まれてなる凹孔に、滴入装置８０で液晶と少量の光重合材料の混合物５８を充填し、以上により第２板５６０を完成する。
図３０から図３３は第１板５３０と第２板５６０の組合せフロー表示図である。まず、図３０のように、第１板５３０を逆さにして第２板５６０の上方に置く。続いて図３１のように、第１板５３０の上方にマスク５７を置き紫外光５”露光工程を行ない、これにより図３２のように、液晶と光重合材料の混合物５８に相分離を発生させて、光重合材料を硬化重合させ、並びに第１板５３０と第２板５６０を接合させ、図３１中のポリマーウォール５６”’に第１板５３０と接合したポリマーウォール５６””及び一部が基板５４と接合したポリマーウォール５６”’の二つの部分を形成すると共に、ポリマーに完全に液晶材料５９を被包させていることである。最後に図３３のように、第１板５３０の補助基板５０とバッファ層５１を剥離し、以上で単一基板を具えた液晶ディスプレイの第２実施例を完成する。この第２実施例を、第１実施例と較べると、その違いはポリマーウォール形成時に、第１実施例ではマスク露光現像方式を採用し、第２実施例ではモールディングの方式で達成していることであり、これにより工程のステップが弾性を有し、且つポリマーのドープを減らし、液晶品質を高めることができる。
【実施例３】
【００１２】
図３４から図４４は本発明の液晶ディスプレイの製造方法の第３実施例を示す。その製造工程は第１実施例とほぼ同じであるが、主要な違いは第１板上に別に電極を設け、第１板と第２板のいずれにも突出物を設け、且つ光重合材料混合物を少量の光重合材料、液晶とスペーサで組成し、これにより液晶ディスプレイの品質を高めることにある。その製造工程は以下のステップを具えている。まず、図３４から図３７は第１板５３０’の製作フローを示す。まず、図３４のように、補助基板５０の上にバッファ層５１を形成し、続いて図３５のように、バッファ層５１の上に光重合材料層５２（例えばＮＯＡ６５、ＮＯＡ７２等の光重合材料）を塗布する。その後、図３６のように、紫外光５”’を照射し露光工程を行ない、これにより光重合材料層５２を硬化させてポリマー５２’を形成する。さらに図３７のように、ポリマー５２’の上に電極５３１と突出物５３２を形成し、並びにその上に配向層５３を塗布し、以上で第１板５３０’の製作を完成する。
図３８から図４０は第２板５６０’の製作フロー表示図であり、まず、図３８に示されるように、基板５４の上に電極パターン５４０と突出物５３２’を形成する。さらに図３９のように、基板５４、電極パターン５４０及び突出物５３２’の上に配向層５５を塗布し、配向層５５の上に光重合材料５６を塗布する。本発明の第３実施例中、マスク露光現像の方式でポリマーウォールを形成する場合は、マスク露光現像工程により光重合材料５６を硬化させてポリマーウォール５６’を形成し、これは図３９に示されるとおりである。また本発明の第３実施例のポリマーウォールは第２実施例のモールディング方式を採用して形成することもでき、即ち、基板５４、電極パターン５４０と突出物５３２’の上に直接一層の光重合材料５６を塗布し、さらにモールディング方式に線形紫外光照射を組み合わせることにより、光重合材料５６を硬化させて必要なポリマーウォール（図示せず）を形成し、並びに配向効果を具備させることができる。図４０のように、配向層５５とポリマーウォール５６’で囲まれた凹孔（この凹孔はマスク露光現像により完成したものであるが、前述したように、モールディングにより形成することもできる）に、少量の光重合材料と液晶とスペーサで組成した混合物５８’を注入すると共に、スペーサ５６１を凹孔に設置する。以上のステップで第２板５６０’の製作を完成する。
図４１から図４４は第１板５３０’と第２板５６０’の組合せフロー表示図である。まず、図４１のように、第１板５３０’を逆さにして第２板５６０’の上方に置く。続いて図４２のように、第１板５３０’の上方にマスク５７を置き紫外光５”露光工程を行ない、これにより図４３のように、光重合材料の混合物５８’に相分離を発生させて、光重合材料を硬化重合させ、液晶材料５９を形成し、並びに第１板５３０’と第２板５６０’を接合させ、ポリマーに完全に液晶材料５９を被包させる。最後に図４４のように、第１板５３０’の補助基板５０とバッファ層５１を剥離し、以上で単一基板両面電極の液晶ディスプレイの製造工程を完成する。そのうち、スペーサ５６１の設置は液晶層の厚さ制御に有効であり、これにより視角の幅と液晶の反応速度を有効に調整でき、これが第１及び第２実施例との違いである。
【実施例４】
【００１３】
図４５から図５５は本発明の液晶ディスプレイの製造方法の第４実施例を示す。その製造工程は第３実施例とほぼ同じであるが、主要な差異は第２板の製造工程中にスペーサが設置されないが、同様に有効に液晶の厚さを制御する作用を達成できることである。そのうち、光重合材料混合物は、光重合材料と液晶で組成する。図４５及び図４８は第１板５３０’の製造工程を示す。まず、図４５のように、補助基板５０の上にバッファ層５１を形成し、続いて図４６のように、バッファ層５１の上に光重合材料層５２（例えばＮＯＡ６５、ＮＯＡ７２等の光重合材料）を塗布する。その後、図４７のように、紫外光５を照射し露光工程を行ない、これにより光重合材料層５２を硬化させてポリマー５２’を形成する。さらに図４８のように、ポリマー５２’の上に電極５３１と突出物５３２を形成し、並びにその上に配向層５３を塗布し、以上で第１板５３０’の製作を完成する。
図４９から図５１は第２板５６０’の製作フロー表示図であり、まず、図４９に示されるように、基板５４の上に電極パターン５４０と突出物５３２’を形成する。さらに図５０のように、基板５４、電極パターン５４０及び突出物５３２’の上に配向層５５を塗布し、配向層５５の上に光重合材料５６を塗布する。本発明の第４実施例中、マスク露光現像の方式でポリマーウォールを形成する場合は、マスク露光現像工程により光重合材料５６を硬化させてポリマーウォール５６’を形成し、これは図５０に示されるとおりである。また本発明の第４実施例のポリマーウォールは第２実施例のモールディング方式を採用して形成することもでき、即ち、基板５４、電極パターン５４０と突出物５３２’の上に直接一層の光重合材料５６を塗布し、さらにモールディング方式に線形紫外光照射を組み合わせることにより、光重合材料５６を硬化させて必要なポリマーウォール（図示せず）を形成し、並びに配向効果を具備させることができる。図５１のように、配向層５５とポリマーウォール５６’で囲まれた凹孔（この凹孔はマスク露光現像により完成したものであるが、前述したように、モールディングにより形成することもできる）に、少量の光重合材料と液晶で組成した混合物５８を注入し、以上のステップで第２板５６０”の製作を完成する。
図５２から図５５は第１板５３０’と第２板５６０”の組合せフロー表示図である。まず、図５２のように、第１板５３０’を逆さにして第２板５６０”の上方に置く。続いて図５３のように、第１板５３０’の上方にマスク５７を置き紫外光５”露光工程を行ない、これにより図５４のように、光重合材料の混合物５８に相分離を発生させて、光重合材料を硬化重合させ、液晶材料５９を形成し、並びに第１板５３０’と第２板５６０”を接合させ、ポリマーに完全に液晶材料５９を被包させる。最後に図５５のように、第１板５３０’の補助基板５０とバッファ層５１を剥離し、以上で単一基板両面電極の液晶ディスプレイの製造工程の第４実施例を完成する。そのうち、第３実施例との違いは、第４実施例の第２板５６０”にはスペーサが設置されず、即ち光重合材料混合物は光重合材料と液晶のみで組成されてスペーサを含有しないことである。実際の実施方式上、本発明の第４実施例のようにスペーサを設置しなくとも、同様に液晶の厚さを有効に制御できる。
【実施例５】
【００１４】
図５６から図７２は本発明の液晶ディスプレイの製造方法の第５実施例を示す。その製造工程の第３実施例との違いは、無基板の液晶ディスプレイの製造工程であることである。まず、図５６のように、第１補助基板６０の上にバッファ層６１を形成し、その上に光重合材料６２を塗布し且つ紫外光５で露光し、これにより図５７に示されるように、光重合材料６２を硬化させてポリマー６２’を形成する。さらに図５８のように、ポリマー６２’の上に電極６３１と突出物６３２を形成し、さらに図５９のように第１補助基板６０の上のポリマー６２’、電極６３１及び突出物５３２の表面上に配向層６３を塗布し、以上で第１板６３０の製作を完成する。
図６０は第５実施例の第２板６６０の製作に関する図であり、これに示されるように、第２補助基板７０の上に、バッファ層６１を形成し、且つ図６１のように、その上に光重合材料６２を塗布し、並びに紫外光５で露光し、これにより図６３のように、光重合材料６２を硬化させてポリマー６２’を形成する。さらに図６２のように、第２補助基板７０の上のポリマー６２’の表面上に電極６３１と突出物６３２を形成する。さらに、図６３のように、配向層６３を第２補助基板７０上のポリマー６２’、電極６３１及び突出物６３２の表面上に塗布し、さらにその上に光重合材料６６を塗布し、マスク露光工程により光重合材料６６を硬化させてポリマーウォール６６’を形成する。同様に、本発明の第５実施例はモールディング方式で形成することもでき、即ち、ポリマー６２’、電極６３１及び突出物６３２を具えた第２補助基板７０の表面に光重合材料６６を塗布し、さらにモールディング方式に線形紫外光照射を組み合わせることにより、光重合材料６６を硬化させて必要なポリマーウォール（図示せず）を形成し、並びに配向効果を具備させることができる。図６４のように、配向層６３とポリマーウォール６６’で囲まれた凹孔（この凹孔はマスク露光現像により完成したものであるが、前述したように、モールディングにより形成することもできる）に、少量の光重合材料と液晶で組成した混合物６８’を注入し、並びにスペーサ６６１を設置する。以上のステップで第２板６６０の製作を完成する。
図６５に示されるように、第１板６３０を逆さにして第２板６６０の上方においてアライメントさせた後、露光準備を行なう。図６６に示されるように、マスク６７を利用し露光工程を行ない、これにより図６７のように、光重合材料の混合物５８’に相分離を発生させて、光重合材料を硬化重合させ、液晶材料６９を形成し、並びに第１板６３０と第２板６６０を接合させ、ポリマーに完全に液晶材料６９を被包させる。最後に図６８のように、第１板６３０の第１補助基板６０とバッファ層６１、及び第２板６６０の第２補助基板７０とバッファ層６１を剥離し、以上で無基板両面電極及びスペーサで液晶層の厚さを制御した液晶ディスプレイの製造工程の実施例を完成する。この第５実施例により製造した液晶ディスプレイは、無基板の実施状態とされ、この実施例は液晶ディスプレイに極めて広く応用され、これは無基板とされたことで、液晶装置が物品、例えば衣類、新聞、自動車のウインドシールドガラス、壁、本、或いはファイルに粘着可能とされ、随意に接合可能な液晶ディスプレイを形成できることによる。
【実施例６】
【００１５】
図６９から図８１は本発明の製造方法の第６実施例を示す。この第６実施例も無基板液晶ディスプレイの製造方法であり、図５の実施例と類似するが、主要な違いは第６実施例では光重合材料混合物が光重合材料と液晶で組成され、スペーサを含有しないことである。
まず、図６９のように、第１補助基板６０の上にバッファ層６１を形成し、その上に光重合材料６２を塗布し且つ紫外光５で露光し、これにより図７０に示されるように、光重合材料６２を硬化させてポリマー６２’を形成する。さらに図７１のように、ポリマー６２’を具えた第１補助基板６０の表面に、電極６３１と突出物６３２を形成し、さらに図７２のようにポリマー６２’、電極６３１及び突出物５３２を具えた第１補助基板６０の表面上に配向層６３を塗布し、以上で第１板６３０の製作を完成する。
図７３は第６実施例の第２板６６０’の製作に関する図であり、これに示されるように、第２補助基板７０の上に、バッファ層６１を形成し、その上に光重合材料６２を塗布し、並びに紫外光５で露光し、これにより図７４のように、光重合材料６２を硬化させてポリマー６２’を形成する。さらに図７５のように、ポリマー６２を具えた第２補助基板７０の表面上に電極６３１と突出物６３２を形成する。さらに、図７６のように、配向層６３をポリマー６２’、電極６３１及び突出物６３２を具えた第２補助基板７０上の表面上に塗布し、さらにその上に光重合材料６６を塗布し、マスク露光工程により光重合材料６６を硬化させてポリマーウォール６６’を形成する。同様に、本発明の第６実施例はモールディング方式で形成することもでき、即ち、ポリマー６２’、電極６３１及び突出物６３２を具えた第２補助基板７０の表面に光重合材料６６を塗布し、さらにモールディング方式に線形紫外光照射を組み合わせることにより、光重合材料６６を硬化させて必要なポリマーウォール（図示せず）を形成し、並びに配向効果を具備させることができる。図７７のように、配向層６３とポリマーウォール６６’で囲まれた凹孔（この凹孔はマスク露光現像により完成したものであるが、前述したように、モールディングにより形成することもできる）に、少量の光重合材料と液晶で組成した混合物６８を注入する。以上のステップで第２板６６０’の製作を完成する。そのうち、スペーサは設置されない。
図７８に示されるように、第１板６３０を逆さにして第２板６６０’の上方においてアライメントさせた後、露光準備を行なう。図７９に示されるように、マスク６７を利用し露光工程を行ない、これにより図８０のように、光重合材料の混合物６８に相分離を発生させて、光重合材料を硬化重合させ、液晶材料６９を形成し、並びに第１板６３０と第２板６６０’を接合させ、ポリマーに完全に液晶材料６９を被包させる。最後に図８１のように、第１板６３０の第１補助基板６０とバッファ層６１、及び第２板６６０’の第２補助基板７０とバッファ層６１を剥離し、以上で無基板両面電極及び無スペーサで無基板の液晶ディスプレイの製造工程の実施例を完成する。この第６実施例により製造した液晶ディスプレイは、無基板の実施状態とされ、この実施例は液晶ディスプレイに極めて広く応用され、これは無基板とされたことで、液晶装置が物品、例えば衣類、新聞、自動車のウインドシールドガラス、壁、本、或いはファイルに粘着可能とされ、随意に接合可能な液晶ディスプレイを形成できることによる。
【００１６】
以上の第１から第６実施例中、光重合材料で形成するポリマーウォールは、クローズマトリックスポリマーウォール（ｃｌｏｓｅｄ  ｍａｔｒｉｘ  ｐｏｌｉｍｅｒ  ｗａｌｌ）或いはノンクローズマトリックスポリマーウォール（ｎｏｎ−ｃｌｏｓｅｄ  ｍａｔｒｉｘ  ｐｏｌｉｍｅｒ  ｗａｌｌ）の形式とされうる。このほか、第１板の補助基板或いは第２板の基板はガラス、ウエハ、ポリテトラフルオロエチレン、或いはプラスチックで形成されうる。第１板の或いは第２板の電極パターン材料は導電膜とされ、この導電膜はＩＴＯ或いはポリエチレンジオキキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ；ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ−ｄｉｏｘｉｔｈｉｏｐｈｅｎｅ）で形成されうる。第１板と第２板中のバッファ層は、ポリエチレン類疎水性材料（ＰＥ／ＰＥＷａｘ）、長鎖脂肪族、シリコン、ポリテトラフルオロエチレンとされうる。第１板と第２板の配向層工程は、配向材料にラビングを組み合わせるか、或いは光配向材料、イオンビーム配向、或いは微細溝構造配向等の組合せ方式により完成する。そのうち、微細溝構造配向製作は、特殊設計の型パターンによりモールディング工程中に完成し、これによりポリマーウォールと細微溝配向構造が同時に形成される。そのうち配向層工程中の配向材料は、ポリイミド、ポリアミック酸、或いは光配向材料とされうる。
【００１７】
また、第３から第６実施例中の突出物は、有機材料とされ、視角の範囲を増す。そのうち第３から第６実施例中の突出物は、特殊設計の型パターンを用いてモールディング工程中に完成し、これによりマルチドメインの広視角効果を達成し、液晶ディスプレイの視覚品質を向上する。
【００１８】
このほか、第１から第６実施例中に用いられる液晶材料は、ネマティック型、コレステロール型、反強誘電性等の液晶材料とされうる。液晶材料の添加物は、染料（ｄｙｅ）、カイラル分子とモノマーとされうる。表示モデルは上述の液晶材料と液晶材料添加物で構成された透過式、反射式及び半透過式の液晶ディスプレイとされる。操作モデルには共平面電極（ｉｎ  ｐｌａｎｅ  ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）と非共平面電極操作がある。全ての実施例の製造ステップに連続式のロールトゥーロール（ｒｏｌｌ  ｔｏ  ｒｏｌｌ）工程を採用して液晶ディスプレイの製造を完成できる。画素領域内に設計された電極数或いは突出物は単数或いは複数とされる。
【００１９】
以上は本発明の液晶ディスプレイの製造方法の詳細な説明であり、上述の製造工程を利用して特許文献１の技術の単一基板液晶ディスプレイ製造工程中の、必要とする低エネルギーで長時間かかる第２次露光が液晶材料を劣化させる問題を解決でき、及び、製造工程の応用範囲が小さく且つ生産率が低く、応用できる液晶モデルが少ない問題を解決できる。即ち、本発明は製造工程の生産率を高め表示モデル種類を増す機能を達成し、且つ液晶分子を容易に被包でき且つ液晶層の厚さを均一に制御できる。
【００２０】
総合すると、以上に本発明の液晶ディスプレイの製造方法が目的及び機能上、いずれも実施性と進歩性、及び産業上の利用価値を有することが示された。且つ本発明は現在市場で見られず、特許の要件を具備している。なお、以上の実施例は本発明の実施範囲を限定するものではなく、本発明に基づきなしうる細部の修飾或いは改変は、いずれも本発明の請求範囲に属するものとする。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】周知の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法表示図である。
【図２】周知の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法表示図である。
【図３】周知の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法表示図である。
【図４】周知の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法表示図である。
【図５】周知の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法表示図である。
【図６】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第１実施例の製造工程表示図である。
【図７】本発明の単一基板の液晶ディスプレイに製造方法の第１実施例の製造工程表示図である。
【図８】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第１実施例の製造工程表示図である。
【図９】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第１実施例の製造工程表示図である。
【図１０】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第１実施例の製造工程表示図である。
【図１１】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第１実施例の製造工程表示図である。
【図１２】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第１実施例の製造工程表示図である。
【図１３】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第１実施例の製造工程表示図である。
【図１４】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第１実施例の製造工程表示図である。
【図１５】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第１実施例の製造工程表示図である。
【図１６】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第１実施例の製造工程表示図である。
【図１７】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第１実施例の製造工程表示図である。
【図１８】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第１実施例の製造工程表示図である。
【図１９】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第１実施例の製造工程表示図である。
【図２０】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第２実施例の製造工程表示図である。
【図２１】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第２実施例の製造工程表示図である。
【図２２】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第２実施例の製造工程表示図である。
【図２３】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第２実施例の製造工程表示図である。
【図２４】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第２実施例の製造工程表示図である。
【図２５】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第２実施例の製造工程表示図である。
【図２６】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第２実施例の製造工程表示図である。
【図２７】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第２実施例の製造工程表示図である。
【図２８】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第２実施例の製造工程表示図である。
【図２９】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第２実施例の製造工程表示図である。
【図３０】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第２実施例の製造工程表示図である。
【図３１】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第２実施例の製造工程表示図である。
【図３２】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第２実施例の製造工程表示図である。
【図３３】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第２実施例の製造工程表示図である。
【図３４】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第３実施例の製造工程表示図である。
【図３５】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第３実施例の製造工程表示図である。
【図３６】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第３実施例の製造工程表示図である。
【図３７】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第３実施例の製造工程表示図である。
【図３８】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第３実施例の製造工程表示図である。
【図３９】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第３実施例の製造工程表示図である。
【図４０】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第３実施例の製造工程表示図である。
【図４１】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第３実施例の製造工程表示図である。
【図４２】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第３実施例の製造工程表示図である。
【図４３】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第３実施例の製造工程表示図である。
【図４４】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第３実施例の製造工程表示図である。
【図４５】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第４実施例の製造工程表示図である。
【図４６】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第４実施例の製造工程表示図である。
【図４７】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第４実施例の製造工程表示図である。
【図４８】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第４実施例の製造工程表示図である。
【図４９】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第４実施例の製造工程表示図である。
【図５０】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第４実施例の製造工程表示図である。
【図５１】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第４実施例の製造工程表示図である。
【図５２】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第４実施例の製造工程表示図である。
【図５３】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第４実施例の製造工程表示図である。
【図５４】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第４実施例の製造工程表示図である。
【図５５】本発明の単一基板の液晶ディスプレイの製造方法の第４実施例の製造工程表示図である。
【図５６】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第５実施例の製造工程表示図である。
【図５７】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第５実施例の製造工程表示図である。
【図５８】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第５実施例の製造工程表示図である。
【図５９】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第５実施例の製造工程表示図である。
【図６０】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第５実施例の製造工程表示図である。
【図６１】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第５実施例の製造工程表示図である。
【図６２】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第５実施例の製造工程表示図である。
【図６３】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第５実施例の製造工程表示図である。
【図６４】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第５実施例の製造工程表示図である。
【図６５】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第５実施例の製造工程表示図である。
【図６６】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第５実施例の製造工程表示図である。
【図６７】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第５実施例の製造工程表示図である。
【図６８】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第５実施例の製造工程表示図である。
【図６９】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第６実施例の製造工程表示図である。
【図７０】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第６実施例の製造工程表示図である。
【図７１】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第６実施例の製造工程表示図である。
【図７２】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第６実施例の製造工程表示図である。
【図７３】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第６実施例の製造工程表示図である。
【図７４】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第６実施例の製造工程表示図である。
【図７５】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第６実施例の製造工程表示図である。
【図７６】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第６実施例の製造工程表示図である。
【図７７】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第６実施例の製造工程表示図である。
【図７８】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第６実施例の製造工程表示図である。
【図７９】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第６実施例の製造工程表示図である。
【図８０】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第６実施例の製造工程表示図である。
【図８１】本発明の無基板の液晶ディスプレイに応用される製造方法の第６実施例の製造工程表示図である。
【符号の説明】
【００２２】
１  基板
２  光重合材料混合物
３  ナイフ
４  マスク
５、５’、５”  紫外光
５”’  線形紫外光
２０  ポリマーウォール支柱
６  弱い紫外光
２１  薄い硬化層
５０  補助基板
５１  バッファ層
５２  光重合材料層
５２’  ポリマー
５３、５５  配向層
５３０、５３０’  第１板
５３１  電極
５３２、５３２’  突出物
５４  基板
５４０  電極パターン
５６  光重合材料
５６’  ポリマーウォール
５６”  第１板と接合したポリマーウォール
５６”’  ポリマーウォール
５６””  第１板と接合したポリマーウォール
５６０、５６０’、５６０”  第２板
５６１  スペーサ
５７、５７’  マスク
５８、５８’  混合物
５９  液晶材料
６０  第１補助基板
７０  第２補助基板
６１  バッファ層
６２  光重合材料
６２’  ポリマー
６３  配向層
６３０  第１板
６３１  電極
６３２  突出物
６６  混合物
６６’  ポリマーウォール
６６”  第１板と接合したポリマーウォール
６６”’  ポリマーウォール
６６０、６６０’  第２板
６６１  スペーサ
６７  マスク
６８、６８’  混合物
６９  液晶材料
８０  滴入装置
９０  モールディング装置
【図１】
2005043841.tif 000003
【図２】
2005043841.tif 000004
【図３】
2005043841.tif 000005
【図４】
2005043841.tif 000006
【図５】
2005043841.tif 000007
【図６】
2005043841.tif 000008
【図７】
2005043841.tif 000009
【図８】
2005043841.tif 000010
【図９】
2005043841.tif 000011
【図１０】
2005043841.tif 000012
【図１１】
2005043841.tif 000013
【図１２】
2005043841.tif 000014
【図１３】
2005043841.tif 000015
【図１４】
2005043841.tif 000016
【図１５】
2005043841.tif 000017
【図１６】
2005043841.tif 000018
【図１７】
2005043841.tif 000019
【図１８】
2005043841.tif 000020
【図１９】
2005043841.tif 000021
【図２０】
2005043841.tif 000022
【図２１】
2005043841.tif 000023
【図２２】
2005043841.tif 000024
【図２３】
2005043841.tif 000025
【図２４】
2005043841.tif 000026
【図２５】
2005043841.tif 000027
【図２６】
2005043841.tif 000028
【図２７】
2005043841.tif 000029
【図２８】
2005043841.tif 000030
【図２９】
2005043841.tif 000031
【図３０】
2005043841.tif 000032
【図３１】
2005043841.tif 000033
【図３２】
2005043841.tif 000034
【図３３】
2005043841.tif 000035
【図３４】
2005043841.tif 000036
【図３５】
2005043841.tif 000037
【図３６】
2005043841.tif 000038
【図３７】
2005043841.tif 000039
【図３８】
2005043841.tif 000040
【図３９】
2005043841.tif 000041
【図４０】
2005043841.tif 000042
【図４１】
2005043841.tif 000043
【図４２】
2005043841.tif 000044
【図４３】
2005043841.tif 000045
【図４４】
2005043841.tif 000046
【図４５】
2005043841.tif 000047
【図４６】
2005043841.tif 000048
【図４７】
2005043841.tif 000049
【図４８】
2005043841.tif 000050
【図４９】
2005043841.tif 000051
【図５０】
2005043841.tif 000052
【図５１】
2005043841.tif 000053
【図５２】
2005043841.tif 000054
【図５３】
2005043841.tif 000055
【図５４】
2005043841.tif 000056
【図５５】
2005043841.tif 000057
【図５６】
2005043841.tif 000058
【図５７】
2005043841.tif 000059
【図５８】
2005043841.tif 000060
【図５９】
2005043841.tif 000061
【図６０】
2005043841.tif 000062
【図６１】
2005043841.tif 000063
【図６２】
2005043841.tif 000064
【図６３】
2005043841.tif 000065
【図６４】
2005043841.tif 000066
【図６５】
2005043841.tif 000067
【図６６】
2005043841.tif 000068
【図６７】
2005043841.tif 000069
【図６８】
2005043841.tif 000070
【図６９】
2005043841.tif 000071
【図７０】
2005043841.tif 000072
【図７１】
2005043841.tif 000073
【図７２】
2005043841.tif 000074
【図７３】
2005043841.tif 000075
【図７４】
2005043841.tif 000076
【図７５】
2005043841.tif 000077
【図７６】
2005043841.tif 000078
【図７７】
2005043841.tif 000079
【図７８】
2005043841.tif 000080
【図７９】
2005043841.tif 000081
【図８０】
2005043841.tif 000082
【図８１】
2005043841.tif 000083