(57)【要約】【課題】  排気ガス中の還元成分の一部を下流へと流出させる触媒を提供する。【解決手段】  主に排気ガス中の還元成分を酸化浄化する酸化触媒１を担持した排気浄化触媒において、単位体積当たりの酸化触媒の担持量を通常の量よりも少なくする。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
主に排気ガス中の還元成分を酸化浄化する酸化触媒を担持した排気浄化触媒において、単位体積当たりの前記酸化触媒の担持量を通常の量よりも少なくしたことを特徴とする排気浄化触媒。
【請求項２】
前記通常の量が前記酸化触媒の酸化能力をできるだけ高くすることを考慮したときに最適であると認定される量よりも少ないことを特徴とする請求項１に記載の排気浄化触媒。
【請求項３】
主に排気ガス中の窒素酸化物を還元浄化する還元触媒を担持し、排気ガスが流入する側の当該排気浄化触媒の端面から予め定められた距離に亘る当該排気浄化触媒の部分に前記酸化触媒がより多く担持されており、当該排気浄化触媒の残りの部分に前記還元触媒がより多く担持されていることを特徴とする請求項１に記載の排気浄化触媒。
【請求項４】
排気ガスが流入する側の当該排気浄化触媒の端面から前記予め定められた距離に亘る当該排気浄化触媒の部分に前記酸化触媒のほとんど全てが担持されており、当該排気浄化触媒の残りの部分に前記還元触媒のほとんど全てが担持されていることを特徴とする請求項３に記載の排気浄化触媒。
【請求項５】
当該排気浄化触媒に担持されている前記還元触媒の総量が該還元触媒の還元能力をできるだけ高くすることを考慮したときに最適であると認定される量であることを特徴とする請求項３または４に記載の排気浄化触媒。
【請求項６】
前記酸化触媒がパラジウム系またはパラジウム−ロジウム系であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１つに記載の排気浄化触媒。
【請求項７】
前記還元触媒が白金系または白金−ロジウム系であることを特徴とする請求項３〜６のいずれか１つに記載の排気浄化触媒。
【請求項８】
排気ガスを通す複数のセルを具備し、排気ガスが流入する側の当該排気浄化触媒の端面から前記予め定められた距離に亘る当該排気浄化触媒の部分における単位断面積当たりのセル数が通常のセル数よりも少ないことを特徴とする請求項３〜７のいずれか１つに記載の排気浄化触媒。
【請求項９】
前記通常のセル数が前記酸化触媒の酸化能力をできるだけ高くすることを考慮したときに最適であると認定されるセル数よりも少ないことを特徴とする請求項８に記載の排気浄化触媒。
【請求項１０】
排気ガスが流入する側の当該排気浄化触媒の端面から前記予め定められた距離に亘る部分において各セルを画成する壁の厚さが通常の厚さよりも厚いことを特徴とする請求項８または９に記載の排気浄化触媒。
【請求項１１】
前記通常の厚さが当該排気浄化触媒の圧力損失をできるだけ低くすることを考慮したときに最適であると認定される厚さであることを特徴とする請求項１０に記載の排気浄化触媒。
【請求項１２】
排気ガスが流入する側の当該排気浄化触媒の端面から前記予め定められた距離に亘って各セルを画成する壁の部分の厚さが該壁の残りの部分の厚さよりも厚いことを特徴とする請求項８または９に記載の排気浄化触媒。
【請求項１３】
排気ガスが流入する側の当該排気浄化触媒の端面から前記予め定められた距離に亘る当該排気浄化触媒の部分における単位断面積当たりのセル数が当該排気浄化触媒の残りの部分における単位断面積当たりのセル数よりも多いことを特徴とする請求項８〜１２のいずれか１つに記載の排気浄化触媒。
【請求項１４】
前記排気浄化触媒の残りの部分における単位断面積当たりのセル数が通常のセル数であることを特徴とする請求項８〜１３のいずれか１つに記載の排気浄化触媒。
【請求項１５】
前記排気浄化触媒の残りの部分における単位断面積当たりのセル数が前記還元触媒の還元能力をできるだけ高くすることを考慮したときに最適であると認定されるセル数であることを特徴とする請求項１４に記載の排気浄化触媒。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれか１つに記載の排気浄化触媒を第１の排気浄化触媒として内燃機関の排気通路内に具備すると共に、排気ガス中の窒素酸化物を還元浄化する触媒を第２の排気浄化触媒として前記第１の排気浄化触媒よりも下流の排気通路内に具備することを特徴とする排気浄化装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、排気浄化触媒、および、それを具備する排気浄化装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、内燃機関から排出される排気ガス中に含まれている炭化水素（ＨＣ）、一酸化炭素（ＣＯ）、および、窒素酸化物（ＮＯｘ）を浄化するための三元触媒が開示されている。一般的に、三元触媒は、上述したＨＣとＣＯとＮＯｘとを同時にできるだけ高い浄化率でもって浄化することができるように構成されている。
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−１１３３６２号公報
【特許文献２】特表２０００−５０２６０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、排気浄化装置が、三元触媒と、ＨＣを還元成分としてＮＯｘを主に還元浄化する触媒（これはＮＯｘ触媒であっても、三元触媒であってもよいが、ここでは以下「ＮＯｘ触媒」という）とを具備する場合もある。こうした場合において、ＮＯｘ触媒が三元触媒の下流に配置されていると、上述したように、三元触媒はＨＣをできるだけ高い浄化率で浄化（酸化）するように構成されていることから、排気ガス中のＨＣは三元触媒にてほとんど浄化されてしまい、後段のＮＯｘ触媒にはＨＣがほとんど到達しないことになる。この場合には、ＮＯｘ触媒では、ＮＯｘを還元浄化することがほとんどできない。
【０００５】
このように、排気浄化装置の種類によっては、還元成分（上述した例では、ＨＣ）のほとんどを浄化してしまうのではなく、一部の還元成分を下流へと流出させるような触媒も必要である。
そこで、本発明の目的は、排気ガス中の還元成分の一部を下流へと流出させる触媒を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、１番目の発明では、主に排気ガス中の還元成分を酸化浄化する酸化触媒を担持した排気浄化触媒において、単位体積当たりの前記酸化触媒の担持量を通常の量よりも少なくする。
【０００７】
２番目の発明では、１番目の発明において、前記通常の量が前記酸化触媒の酸化能力をできるだけ高くすることを考慮したときに最適であると認定される量よりも少ない。
【０００８】
３番目の発明では、１番目の発明において、主に排気ガス中の窒素酸化物を還元浄化する還元触媒を担持し、排気ガスが流入する側の当該排気浄化触媒の端面から予め定められた距離に亘る当該排気浄化触媒の部分に前記酸化触媒がより多く担持されており、当該排気浄化触媒の残りの部分に前記還元触媒がより多く担持されている。
【０００９】
４番目の発明では、３番目の発明において、排気ガスが流入する側の当該排気浄化触媒の端面から前記予め定められた距離に亘る当該排気浄化触媒の部分に前記酸化触媒のほとんど全てが担持されており、当該排気浄化触媒の残りの部分に前記還元触媒のほとんど全てが担持されている。
【００１０】
５番目の発明では、３または４番目の発明において、当該排気浄化触媒に担持されている前記還元触媒の総量が該還元触媒の還元能力をできるだけ高くすることを考慮したときに最適であると認定される量である。
【００１１】
６番目の発明では、１〜５番目の発明のいずれか１つにおいて、前記酸化触媒がパラジウム系またはパラジウム−ロジウム系である。
【００１２】
７番目の発明では、３〜６番目の発明のいずれか１つにおいて、前記還元触媒が白金系または白金−ロジウム系である。
【００１３】
８番目の発明では、３〜７番目の発明のいずれか１つにおいて、排気ガスを通す複数のセルを具備し、排気ガスが流入する側の当該排気浄化触媒の端面から前記予め定められた距離に亘る当該排気浄化触媒の部分における単位断面積当たりのセル数が通常のセル数よりも少ない。
【００１４】
９番目の発明では、８番目の発明において、前記通常のセル数が前記酸化触媒の酸化能力をできるだけ高くすることを考慮したときに最適であると認定されるセル数よりも少ない。
【００１５】
１０番目の発明では、８または９番目の発明において、排気ガスが流入する側の当該排気浄化触媒の端面から前記予め定められた距離に亘る部分において各セルを画成する壁の厚さが通常の厚さよりも厚い。
【００１６】
１１番目の発明では、１０番目の発明において、前記通常の厚さが当該排気浄化触媒の圧力損失をできるだけ低くすることを考慮したときに最適であると認定される厚さである。
【００１７】
１２番目の発明では、８または９番目の発明において、排気ガスが流入する側の当該排気浄化触媒の端面から前記予め定められた距離に亘って各セルを画成する壁の部分の厚さが該壁の残りの部分の厚さよりも厚い。
【００１８】
１３番目の発明では、８〜１２番目の発明のいずれか１つにおいて、排気ガスが流入する側の当該排気浄化触媒の端面から前記予め定められた距離に亘る当該排気浄化触媒の部分における単位断面積当たりのセル数が当該排気浄化触媒の残りの部分における単位断面積当たりのセル数よりも多い。
【００１９】
１４番目の発明では、８〜１３番目の発明のいずれか１つにおいて、前記排気浄化触媒の残りの部分における単位断面積当たりのセル数が通常のセル数である。
【００２０】
１５番目の発明では、１４番目の発明において、前記排気浄化触媒の残りの部分における単位断面積当たりのセル数が前記還元触媒の還元能力をできるだけ高くすることを考慮したときに最適であると認定されるセル数である。
【００２１】
１６番目の発明では、１〜１５番目の発明のいずれか１つの排気浄化触媒を第１の排気浄化触媒として内燃機関の排気通路内に具備すると共に、排気ガス中の窒素酸化物を還元浄化する触媒を第２の排気浄化触媒として前記第１の排気浄化触媒よりも下流の排気通路内に具備する。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、排気ガス中の少なくとも一部の還元成分を排気浄化触媒からその下流へ流出させる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。図１（Ａ）は、第１実施形態の排気浄化触媒の端面図であり、図１（Ｂ）は、図１（Ａ）のＢ−Ｂ線に沿った断面図である。以下で説明する排気浄化触媒は、例えば、火花点火式の内燃機関の燃焼室から排出される排気ガス中の炭化水素（ＨＣ）、一酸化炭素（ＣＯ）、および、窒素酸化物（ＮＯｘ）を浄化する三元触媒である。したがって、以下では、第１実施形態の排気浄化触媒を三元触媒と称して、これを説明する説明する。
【００２４】
図示した三元触媒１は、排気ガスを通すための互いに平行に延びる複数のセル２を具備する。各セル２は、４つの隔壁３によって画成されている。また、各セル２の断面形状（詳細には、セル２の延在方向（図１（Ｂ）に符号Ｅで示した方向）に対して垂直なセル２の断面形状）は、正方形である。また、図示した例では、全てのセル２の流路断面積（詳細には、セル２の延在方向Ｅに対して垂直なセル２の断面積）は、互いに等しい。また、全ての隔壁３の厚み（詳細には、セル２の延在方向Ｅに対して垂直な方向における隔壁３の厚み）も、互いに等しい。
【００２５】
隔壁３は、コージェライト等の多孔質材料からなる。また、三元触媒１の左半分の部分（図１（Ｂ）において符号Ｘで示した三元触媒１の左半分の部分であって、以下同様に称する）Ｘの隔壁３には、主に、パラジウム（Ｐｄ）とロジウム（Ｒｈ）とが担持されている。一方、三元触媒１の右半分の部分（図１（Ｂ）において符号Ｙで示した三元触媒１の右半分の部分であって、以下同様に称する）Ｙの隔壁３には、主に、白金（Ｐｔ）とロジウム（Ｒｈ）とが担持されている。これらＰｄ、Ｒｄ、および、Ｐｔが触媒として機能することによって、三元触媒１に流入した排気ガス中のＨＣ、ＣＯ、および、ＮＯｘが浄化される。
【００２６】
ところで、三元触媒に担持されるＰｄ、Ｒｈ、および、Ｐｔの量は、通常、三元触媒に流入する排気ガスの空燃比（これは、燃焼室に供給された燃料量に対する燃焼室に吸入された空気量の比に相当する）が理論空燃比であるときに、三元触媒に流入する排気ガス中のＨＣとＣＯとＮＯｘとを同時に高い浄化率でもって浄化することができるように決定される。こうした通常の三元触媒のＨＣ浄化率とＣＯ浄化率とＮＯｘ浄化率とは、図２（Ａ）に示したようになる。
【００２７】
図２（Ａ）から判るように（横軸が排気ガスの空燃比であり、縦軸が浄化率である）、ＨＣ浄化率は、排気ガスの空燃比が理論空燃比よりもリーンであるときには、略１００％であるが、排気ガスの空燃比が理論空燃比を越えてリッチとなるほど、徐々に低下する。また、ＣＯ浄化率も、排気ガスの空燃比が理論空燃比よりもリーンであるときには、略１００％であるが、排気ガスの空燃比が理論空燃比を越えてリッチとなるほど、徐々に低下する。一方、ＮＯｘ浄化率は、排気ガスの空燃比が理論空燃比よりもリッチであるときには、略１００％であるが、排気ガスの空燃比が理論空燃比を越えてリーンとなるほど、徐々に低下する。
【００２８】
このように、通常の三元触媒では、三元触媒に流入する排気ガスの空燃比が理論空燃比であるとき（あるいは、理論空燃比近傍にあるとき）に、ＨＣ浄化率、ＣＯ浄化率、および、ＮＯｘ浄化率の全てが略１００％となるように、三元触媒に担持させるＰｄ、Ｐｔ、および、Ｒｄの量を決めている。すなわち、通常の三元触媒では、そこに担持させるＰｄ、Ｐｔ、および、Ｒｄの量は、その酸化能力をできるだけ高くすることと、その還元能力をできるだけ高くすることとを考慮したときに、最適であると認定される量とされているのである。
【００２９】
これに対し、第１実施形態では、図２（Ｂ）に示されているように、三元触媒１に流入する排気ガスの空燃比が理論空燃比であるときに、ＮＯｘ浄化率は略１００％であるが、ＨＣ浄化率およびＣＯ浄化率は１００％よりもずっと低く（例えば、９０％程度）なるように、三元触媒１に担持させるＰｄ、Ｒｈ、および、Ｐｔの量が決められている。別の云い方をすれば、第１実施形態では、三元触媒１に流入する排気ガスの空燃比が理論空燃比であるときに、ＮＯｘ浄化率は通常の三元触媒のものと同程度であるが、ＨＣ浄化率およびＣＯ浄化率は通常の三元触媒のものよりもずっと低くなるように、三元触媒１に担持させるＰｄ、Ｒｈ、および、Ｐｔの量が決められている。
【００３０】
詳細には、Ｐｄは、ＮＯｘを還元する作用に比べて、ＨＣおよびＣＯを酸化する作用が強く、一方、Ｐｔは、ＨＣおよびＣＯを酸化する作用に比べて、ＮＯｘを還元する作用が強いことに着目し、第１実施形態では、三元触媒１に担持させるＰｔおよびＲｈの量は、通常の三元触媒のものと同程度とするが、三元触媒１に担持させるＰｄの量は、通常の三元触媒のものよりも少なくする。すなわち、第１実施形態では、三元触媒１に担持させるＰｄ、Ｒｈ、および、Ｐｔの量は、その酸化能力をできるだけ高くすることと、その還元能力をできるだけ高くすることとを考慮したときに、最適であると認定される量よりも少なくされているのである。
【００３１】
三元触媒１に担持させるＰｄ、Ｒｄ、および、Ｐｔの量をこのような量にすることで、三元触媒１に流入する排気ガスの空燃比が理論空燃比であるときのＮＯｘ浄化率を通常の三元触媒のものと同程度とし、ＨＣ浄化率およびＣＯ浄化率を通常の三元触媒のものよりもずっと低くすることができる。
【００３２】
このように構成された三元触媒１は、それが排気通路内に配置され且つその下流側の排気通路内にＨＣやＣＯを還元剤としてＮＯｘを還元浄化する触媒が配置されている場合に、特に有用である。すなわち、排気通路内に第１実施形態の三元触媒１が配置され、その下流側の排気通路内に通常の三元触媒が配置されている場合を例にとって第１実施形態の三元触媒１の有用性について説明すると、通常、三元触媒では、ＮＯｘを還元浄化するためには該ＮＯｘを還元するための還元剤としてＨＣやＣＯが必要である。すなわち、通常、三元触媒では、排気ガス中のＨＣやＣＯを還元剤としてＮＯｘを還元浄化すると共にＨＣやＣＯを酸化浄化しているのである。
【００３３】
ここで、第１実施形態の三元触媒１では、ＨＣ浄化率およびＣＯ浄化率が通常の三元触媒のものよりも小さくされているので、三元触媒１に流入した排気ガス中のＨＣおよびＣＯの少なくとも一部が酸化浄化されずに、三元触媒１から下流へと流出することになる。したがって、下流側にある通常の三元触媒に、ＨＣやＣＯが供給されることになり、下流側の通常の三元触媒におけるＮＯｘ浄化率が高く維持されることになる。
【００３４】
また、第１実施形態の三元触媒１は、それが排気通路内に配置されたときに図１（Ｂ）において左側からそこに排気ガスが流入するように、排気通路内に配置される。この場合、排気ガスが流入する側の半分の部分（図１（Ｂ）の部分Ｘ）にＰｄおよびＲｈが担持されており、残りの半分の部分（図１（Ｂ）の部分Ｙ）にＰｔおよびＲｈが担持されていることになる。このように排気ガスが流入する側にまとまってＰｄが担持されており且つその下流側にＰｔがまとまって担持されていることは、Ｐｔの活性を促進するという点で好ましい。
【００３５】
すなわち、通常、三元触媒は、ＨＣの酸化反応熱によっても加熱される。すなわち、ＨＣの酸化反応が生じると、その酸化反応から生じる熱の分だけ、三元触媒の暖機性は向上することになる。したがって、三元触媒のＰｄの担持量を通常よりも少なくすると、その分だけ、ＨＣの酸化反応熱は、トータルでは、少なくなってしまう。しかしながら、第１実施形態では、排気ガスが流入する側にまとまってＰｄが担持されており且つその下流側にＰｔがまとまって担持されているので、ＰｄによるＨＣの酸化反応から生じた熱は、全て、下流側のＰｔに提供されることになる。したがって、第１実施形態では、三元触媒１のＰｄの担持量が通常よりも少ないが、Ｐｔは十分に活性されることになる。もちろん、この場合でも、図１（Ｂ）において右半分の部分Ｙに担持されているＲｈも十分に活性されることになる。
【００３６】
こうしたことから、第１実施形態において、図１（Ｂ）において左半分の部分Ｘに担持させるＰｄの量（あるいは、Ｐｄの量およびＲｈの量）は、通常の三元触媒のものよりも少ないが、図１（Ｂ）において右半分の部分Ｙに担持されているＰｔおよびＲｈを活性させるのに十分な程度の量であるとも言える。
【００３７】
なお、第１実施形態では、三元触媒１の単位断面積（詳細には、セル２の延在方向Ｅに対して垂直な三元触媒１の単位断面積）当たりのセル２の数は、当該三元触媒１を排気通路内に配置したときの当該三元触媒１に起因する圧力損失（これは、できるだけ低いほうが好ましく、以下これを「排気浄化触媒の圧損」という）と、当該三元触媒１の浄化率（これは、当該三元触媒１のＨＣ浄化率、ＣＯ浄化率、および、ＮＯｘ浄化率を総合して評価した場合の浄化率であって、これは、できるだけ高いほうが好ましい）と、を考慮して決められる。
【００３８】
すなわち、隔壁の厚みが同じ場合、三元触媒の単位断面積当たりのセル数が少なくなるほど、当該三元触媒の圧損は小さくなるが、排気ガスが接触可能な隔壁の表面積が小さくなって当該三元触媒の浄化率は低くなってしまう。そこで、第１実施形態では、三元触媒１の圧損ができるだけ低くなり且つ三元触媒１の浄化率ができるだけ高くなるように、三元触媒１の単位断面積当たりのセル数が決められるのである。
【００３９】
また、隔壁３の厚みは、三元触媒１を排気通路内に配置したときの当該三元触媒１の圧損と、当該三元触媒１の暖機性（これは、当該三元触媒１が加熱されたときのその温度上昇のしやすさであり、例えば、暖機性が高いと、内燃機関の始動後に三元触媒１に排気ガスが流入し始めてから三元触媒１の温度が該三元触媒１の活性温度に到達するまでにかかる時間が短いことになるので、暖機性は高いほうが好ましい）と、当該三元触媒１の熱容量（これは、当該三元触媒１の温度の下降しづらさであり、例えば、熱容量が大きいと、いったん活性温度に達した三元触媒１の温度が該三元触媒１の活性温度以下になりづらいことになるので、熱容量は大きいほうが好ましい）と、を考慮して決められる。
【００４０】
すなわち、三元触媒の単位断面積当たりのセル数が同じ場合、隔壁３の厚みが薄くなるほど、当該三元触媒の圧損は小さくなり、そして、当該三元触媒の暖機性は高くなるが、当該三元触媒の熱容量は小さくなってしまう。そこで、第１実施形態では、三元触媒１の圧損ができるだけ低くなり且つ三元触媒１の暖機性ができるだけ高くなり且つ三元触媒１の熱容量が大きくなるように、隔壁３の厚みが決められるのである。
【００４１】
次に、第２実施形態の三元触媒について説明する。第２実施形態の三元触媒１が、図３（Ａ）および図３（Ｂ）に示されている。第２実施形態では、図３（Ｂ）において左半分の部分（すなわち、ＰｄおよびＲｈが担持されている部分）Ｘにおける三元触媒１の単位断面積当たりのセル数が、第１実施形態のものよりも少なくなっている。ここで、第２実施形態では、図３（Ｂ）において左半分の部分Ｘの各隔壁３の厚みは、第１実施形態のものと同じであるので、図３（Ｂ）において左半分の部分Ｘにおける各セル２の断面積は、第１実施形態のものよりも広くなっている。
【００４２】
ここで、詳細には、図３（Ｂ）において左半分の部分Ｘにおける単位断面積当たりのセル数は、図３（Ｂ）において左半分の部分ＸにおけるＨＣ浄化率（言い換えれば、三元触媒１から流出させたいＨＣの量）、ＣＯ浄化率（言い換えれば、三元触媒１から流出させたいＣＯの量）、および、ＮＯｘ浄化率、ならびに、図３（Ｂ）において右半分の部分に担持されているＰｔおよびＲｈを活性させるために必要な図３（Ｂ）において左半分の部分における酸化反応熱の量、ならびに、三元触媒１の圧損などを考慮して決められる。
【００４３】
一方、図３（Ｂ）において右半分の部分（すなわち、ＰｔおよびＲｈが担持されている部分）Ｙにおける三元触媒１の単位断面積当たりのセル数は、第１実施形態のものと同じである。また、図３（Ｂ）において右半分の部分Ｙにおける各隔壁３の厚みも、第１実施形態のものと同じであるので、図３（Ｂ）において右半分の部分Ｙにおける各セル２の断面積は、第１実施形態のものと同じである。
【００４４】
なお、第２実施形態では、図３（Ｂ）において右半分の部分Ｙにおける三元触媒１の単位断面積当たりのセル数が第１実施形態のものと同じであるが、これを第１実施形態のものよりも多くしてもよい。
【００４５】
また、第２実施形態に関して以上で説明していない事項は、第１実施形態のものと同様であるので説明は省略する。
【００４６】
次に、第３実施形態の三元触媒について説明する。第３実施形態の三元触媒１が、図４（Ａ）および図４（Ｂ）に示されている。第３実施形態では、図４（Ｂ）において左半分の部分（すなわち、ＰｄおよびＲｈが担持されている部分）Ｘにおける三元触媒１の単位断面積当たりのセル数が、第１実施形態のものよりも少なくなっている。また、第３実施形態では、図４（Ｂ）において左半分の部分Ｘの各隔壁３の厚みは、第１実施形態のものよりも厚くなっている。また、第３実施形態では、図４（Ｂ）において左半分の部分Ｘにおける各セル２の断面積は、第１実施形態のものよりも広くなっている。
【００４７】
ここで、詳細には、図４（Ｂ）において左半分の部分Ｘにおける単位断面積当たりのセル数および各壁の厚みは、図４（Ｂ）において左半分の部分ＸにおけるＨＣ浄化率、ＣＯ浄化率、および、ＮＯｘ浄化率、ならびに、図４（Ｂ）において右半分の部分Ｙに担持されているＰｔおよびＲｈを活性させるために必要な図４（Ｂ）において左半分の部分Ｘにおける酸化反応熱の量、ならびに、三元触媒１の圧損などを考慮して決められる。
【００４８】
一方、図４（Ｂ）において右半分の部分（すなわち、ＰｔおよびＲｈが担持されている部分）Ｙにおける三元触媒１の単位断面積当たりのセル数は、第１実施形態のものと同じである。また、図４（Ｂ）において右半分の部分Ｙにおける各隔壁３の厚みも、第１実施形態のものと同じであるので、図４（Ｂ）において右半分の部分Ｙにおける各セル２の断面積は、第１実施形態のものと同じである。
【００４９】
なお、第３実施形態では、図４（Ｂ）において右半分の部分Ｙにおける三元触媒１の単位断面積当たりのセル数が第１実施形態のものと同じであるが、これを第１実施形態のものよりも多くしてもよい。
【００５０】
また、第３実施形態に関して以上で説明していない事項は、第１実施形態のものと同様であるので説明は省略する。
【００５１】
最後に、上述した実施形態の三元触媒１を備えた排気浄化装置を搭載した内燃機関の例について説明する。この例は、図５に示されている。図１に示されている内燃機関は、筒内噴射式火花点火機関である。
【００５２】
図５において、１０は機関本体、１１はシリンダブロック、１２はシリンダヘッド、１３は燃焼室、１４はピストン、１５は吸気弁、１６は吸気ポート、１７は排気弁、１８は排気ポート、１９は点火栓、２０は燃料噴射弁、２１はキャビティを夫々示している。
【００５３】
吸気ポート１６は、吸気枝管２２を介してサージタンク２３に連結されている。サージタンク２３は、吸気ダクト２４およびエアフロメータ２５を介してエアクリーナ（図示せず）に連結される。吸気ダクト２４内には、ステップモータ２６によって駆動されるスロットル弁２７が配置されている。一方、排気ポート１８は、排気マニホルド２８に連結される。排気マニホルド２８は、上述した本発明の三元触媒１を内蔵したケーシング２９に連結される。ここで、三元触媒１は、燃焼室１３から排出された排気ガスが流入する側に、ＰｄおよびＲｈが担持されている部分（例えば、図１（Ｂ）において左半分の部分Ｘ）が位置するようにケーシング２９内に配置されている。
【００５４】
さらに、ケーシング２９は、排気管３０を介して通常の三元触媒３１を内蔵したケーシング３２に連結される。排気マニホルド２８とサージタンク３２とは、再循環排気ガス（以下「ＥＧＲガス」という）導管を３３介して互いに連結され、このＥＧＲガス導管３３内には、ＥＧＲガス制御弁３４が配置される。
【００５５】
図５に示した排気浄化装置によれば、上流側の本発明の三元触媒１からは少なくともＨＣが流出し、このＨＣが下流側の通常の三元触媒３１に流入するので、下流側の通常の三元触媒３１におけるＮＯｘ浄化率が高いものに維持されることになる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】（Ａ）は第１実施形態の三元触媒の端面図であり、（Ｂ）は（Ａ）のＢ−Ｂ線に沿った三元触媒の断面図である。
【図２】（Ａ）は通常の三元触媒におけるＨＣ、ＣＯ、および、ＮＯｘの浄化率を示す図であり、（Ｂ）第１実施形態の三元触媒におけるＨＣ、ＣＯ、および、ＮＯｘの浄化率を示す図である。
【図３】（Ａ）は第２実施形態の三元触媒の端面図であり、（Ｂ）は（Ａ）のＢ−Ｂ線に沿った三元触媒の断面図である。
【図４】（Ａ）は第３実施形態の三元触媒の端面図であり、（Ｂ）は（Ａ）のＢ−Ｂ線に沿った三元触媒の断面図である。
【図５】本発明の三元触媒を備えた排気浄化装置を搭載した内燃機関を示す図である。
【符号の説明】
【００５７】
１…三元触媒
２…セル
３…隔壁
１０…機関本体
２８…排気マニホルド
２９…ケーシング
３０…排気管
３１…通常の三元触媒
３２…ケーシング
【図１】
2005152724.tif 000003
【図２】
2005152724.tif 000004
【図３】
2005152724.tif 000005
【図４】
2005152724.tif 000006
【図５】
2005152724.tif 000007