(57)【要約】【課題】熱硬化性樹脂を含有する層を有する感光層が表面に設けられる基体を良好に再生する。【解決手段】熱硬化性樹脂が含まれる感光層の除去洗浄に際して、この感光層を有する感光体Ａに対して、該感光層に対する膨潤溶解性を有するＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤を洗浄液として供給しながら、ブレード部材３２を感光体Ａの外周面に圧接させた状態で感光体Ａとブレード部材３２とを相対的に移動させる。【選択図】    図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
熱硬化性樹脂を含有する層を有する感光層が表面に設けられて金属によって形成された円筒状の基体を収容可能な洗浄槽と、
前記洗浄槽に収容された前記基体に対して、加熱されたＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤からなる洗浄液が前記基体表面を流下するように、前記基体の上部より洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記基体表面に供給された洗浄液を濾過して前記洗浄液供給手段に供給する洗浄液濾過手段と、
Ｎメチルピロリドン耐性の材料によって形成されて直線状の当接部を有するブレード部材を備え、前記基体表面に対して前記当接部の長さ方向が前記基体の軸心方向に平行になるように圧接させるブレード接触機構と、
前記基体または前記ブレード部材の少なくとも一方を前記基体の軸心周りに回転させ、前記基体または前記ブレード部材の少なくとも一方を前記基体の軸心方向に沿って相対移動させるブレード移動手段と、
を具備する基体再生装置。
【請求項２】
前記ブレード接触機構は、前記ブレード部材と、前記ブレード部材を支持するブレードホルダとによって構成されている請求項１記載の基体再生装置。
【請求項３】
前記ブレードホルダは、前記ブレード部材の前記圧接部の長さ方向の両端部が前記基体表面に対して接離可能となるように前記ブレード部材を回動自在に保持する請求項２記載の基体再生装置。
【請求項４】
前記ブレード接触機構は、前記ブレード部材を前記基体に圧接させる方向に前記ブレードホルダを付勢する付勢部材を有する請求項２記載の基体再生装置。
【請求項５】
前記ブレードホルダは、それぞれが２個の前記ブレード部材を保持する請求項２記載の基体再生装置。
【請求項６】
前記各ブレード部材の前記当接部の厚さは、０．５〜１．５ｍｍに設定されている請求項１記載の基体再生装置。
【請求項７】
前記ブレード部材の前記当接部には、幅０．５〜１ｍｍ、深さ１．５〜３ｍｍの溝が、前記ブレード部材の長さ方向に沿って２〜４ｍｍの間隔で形成されている請求項１記載の基体再生装置。
【請求項８】
前記基体の軸心方向に沿って前記洗浄槽内に前記基体を挿入する基体挿入手段を具備し、
前記ブレード部材は、前記基体が挿入される側に面取り加工が施されている請求項１記載の基体再生装置。
【請求項９】
前記ブレードホルダは、少なくても３箇所に設けられており、前記基体の軸心を基準として放射状かつ等間隔に配置されている請求項２記載の基体再生装置。
【請求項１０】
前記ブレード接触機構は、前記基体表面に対して前記ブレード部材を２００〜５００ｇｆで圧接させるように前記ブレード部材を保持する請求項１記載の基体再生装置。
【請求項１１】
前記洗浄液供給手段による洗浄液の供給停止後に、前記基体に対して、Ｎメチルピロリドン溶剤からなる洗浄新液が前記基体表面を流下するように、この洗浄新液を前記感光体の上部より供給する洗浄新液供給手段を具備する請求項１記載の基体再生装置。
【請求項１２】
Ｎメチルピロリドン耐性の材料によって形成され、前記基体の内周面に接触可能な外径を有する円形外巻きブラシと、
前記円形外巻きブラシを前記基体の下端部から前記基体の内周面に挿入した状態で前記基体または前記円形外巻きブラシの少なくとも一方を回転させる回転手段と、
を具備する請求項１記載の基体再生装置。
【請求項１３】
前記円形外巻きブラシのブラシ線径は、０．２〜０．７ｍｍに設定されている請求項１２記載の基体再生装置。
【請求項１４】
前記基体を収容可能な第２の洗浄槽と、
前記基体を前記洗浄槽から前記第２の洗浄槽へ搬送する搬送手段と、
前記第２の洗浄槽に収容された前記基体に対して、Ｎメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤置換用の低沸点洗浄液が前記基体表面を流下するように、前記基体の上部より低沸点洗浄液を供給する低沸点洗浄液供給手段と、
前記基体表面に供給された低沸点洗浄液を濾過して前記低沸点洗浄液供給手段に供給する低沸点洗浄液濾過手段と、
Ｎメチルピロリドン耐性の材料によって形成され前記第２の洗浄槽内に設けられて前記基体表面に接触する円形内巻きブラシと、
前記基体または前記円形内巻きブラシの少なくとも一方を前記基体の軸心周りに回転させ、前記基体または前記円形内巻きブラシの少なくとも一方を前記基体の軸心方向に沿って相対移動させるブラシ移動手段と、
を具備する請求項１記載の基体再生装置。
【請求項１５】
前記円形内巻きブラシの内径は、前記感光体の外径よりも０．５〜２ｍｍ小さく設定されている請求項１４記載の基体再生装置。
【請求項１６】
前記円形内巻きブラシのブラシ線径は、０．１〜０．３ｍｍに設定されている請求項１４記載の基体再生装置。
【請求項１７】
前記低沸点洗浄液供給手段による低沸点洗浄液の供給停止後に、前記基体に対して、新たな低沸点洗浄液が前記基体表面を流下するように、この低沸点洗浄新液を前記基体の上部より供給する低沸点新液供給手段を具備する請求項１４記載の基体再生装置。
【請求項１８】
前記第２の洗浄槽に設けられてＮメチルピロリドン耐性の材料によって形成され、前記基体の内周面に接触可能な外径を有する第２の円形外巻きブラシと、
前記第２の円形外巻きブラシを前記基体の下端部から前記基体の内周面に挿入した状態で前記基体または前記第２の円形外巻きブラシの少なくとも一方を回転させる第２の回転手段と、
を具備する請求項１４記載の基体再生装置。
【請求項１９】
前記円形外巻きブラシのブラシ線径は、０．２〜０．７ｍｍに設定されている請求項１８記載の基体再生装置。
【請求項２０】
アルミニウムまたはアルミニウム合金によって形成されて請求項１ないし１９のいずれか記載の基体再生装置を用いて再生された基体と、
前記基体表面に順次設けられた下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を有する感光層と、
を具備する機能分離型有機感光体。
【請求項２１】
前記基体は、平均の表面粗さが０．４〜１．５μｍ、平均の山間隔が１０〜４０μｍに設定されている請求項２０記載の機能分離型有機感光体。
【請求項２２】
前記下引き層は熱硬化性樹脂と酸化チタンとを含有して表面粗さが０．１μｍ以下に設定され、前記電荷発生層は無金属フタロシアニンとアゾ顔料とを感光剤として含有する請求項２０記載の機能分離型有機感光体。
【請求項２３】
前記下引き層は熱硬化性樹脂と酸化チタンとを含有し、旋削加工された基体表面粗さがレベリングされて再現された０．１〜０．３μｍの範囲に設定されており、前記電荷発生層はオキシチタニウムフタロシアニンを感光剤として含有する請求項２０記載の機能分離型有機感光体。
【請求項２４】
前記下引き層は熱硬化性樹脂と酸化チタンとを含有し、旋削加工された基体表面粗さがレベリングされて再現された０．１〜０．３μｍの範囲であって、前記電荷発生層は無金属フタロシアニンとアゾ顔料とを感光剤として含有する請求項２０記載の機能分離型有機感光体。
【請求項２５】
熱硬化性樹脂を含有する層を有する感光層が表面に設けられて金属によって形成された円筒状の基体を収容可能な洗浄槽に収容された前記基体に対して、加熱されたＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤からなる洗浄液が前記基体表面を流下するように前記基体の上部より洗浄液を供給し、前記基体表面に供給された洗浄液を濾過して再度前記基体の上部より供給する洗浄液供給濾過ステップと、
Ｎメチルピロリドン耐性の材料によって形成されたブレード部材が有する直線状の当接部の長さ方向が前記基体の軸心方向に平行になるように前記基体表面に対して前記当接部を圧接させるブレード接触ステップと、
前記基体または前記ブレード部材の少なくとも一方を前記基体の軸心周りに回転させ、前記基体または前記ブレード部材の少なくとも一方を前記基体の軸心方向に沿って相対移動させるブレード移動ステップと、
を具備する基体再生方法。
【請求項２６】
前記ブレード接触ステップでは、前記基体表面に対して前記ブレード部材を２００〜５００ｇｆで圧接させる請求項２５記載の基体再生方法。
【請求項２７】
前記洗浄液供給手段による洗浄液の供給停止後に、前記基体に対して、Ｎメチルピロリドン溶剤からなる洗浄新液が前記基体表面を流下するように、この洗浄新液を前記感光体の上部より供給する洗浄新液供給ステップを具備する請求項２５記載の基体再生方法。
【請求項２８】
Ｎメチルピロリドン耐性の材料によって形成され、前記基体の内周面に接触可能な外径を有する円形外巻きブラシを前記基体の下端部から前記基体の内周面に挿入した状態で前記基体または前記円形外巻きブラシの少なくとも一方を回転させる回転ステップを具備する請求項２５記載の基体再生方法。
【請求項２９】
前記基体を収容可能な第２の洗浄槽に対して前記洗浄槽か中に収容された前記基体を搬送する搬送ステップと、
前記第２の洗浄槽に収容された前記基体に対して、Ｎメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤置換用の低沸点洗浄液が前記基体表面を流下するように前記基体の上部より低沸点洗浄液を供給し、前記基体表面に供給された低沸点洗浄液を濾過して前記基体の上部より供給する低沸点洗浄液供給濾過ステップと、
Ｎメチルピロリドン耐性の材料によって形成され前記第２の洗浄槽内に設けられて前記基体表面に接触する円形内巻きブラシまたは前記基体の少なくとも一方を前記基体の軸心周りに回転させ、前記基体または前記円形内巻きブラシの少なくとも一方を前記感光体の軸心方向に沿って相対移動させるブラシ移動ステップと、
を具備する請求項２５記載の基体再生方法。
【請求項３０】
前記低沸点洗浄液供給濾過ステップでの低沸点洗浄液の供給停止後に、前記基体に対して、新たな低沸点洗浄液が前記基体表面を流下するように、この低沸点洗浄新液を前記基体の上部より供給する低沸点新液供給ステップを具備する請求項２９記載の基体再生方法。
【請求項３１】
前記第２の洗浄槽に設けられてＮメチルピロリドン耐性の材料によって形成され、前記基体の内周面に接触可能な外径を有する第２の円形外巻きブラシを前記基体の下端部から前記基体の内周面に挿入した状態で前記基体または前記第２の円形外巻きブラシの少なくとも一方を回転させる第２の回転ステップを具備する請求項２９記載の基体再生方法。
【請求項３２】
各ステップにおける前記基体の姿勢は、前記基体表面に前記感光層を形成する際の天地方向と天地方向を等しくする請求項２５記載の基体再生方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基体再生装置、機能分離型有機感光体および基体再生方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、電子写真方式の画像形成装置に用いられて、円筒状の金属基体上に形成された感光層を備える感光体がある。このような感光体には、寿命に到達した感光体が有する感光層を剥離することで円筒状金属基体を再生し、再度感光体としての利用を可能としたものがある。円筒状金属基体の再生に際しては、例えば、有機系感光体の感光層を円筒状金属基体から除去洗浄する基体再生装置が用いられる。
【０００３】
基体再生装置を用いた円筒状金属基体の再生に関する技術として、従来より、導電性基体上に感光層が形成されている電子写真感光体を、溶存酸素量を規定したＮメチルピロリドン洗浄液に浸漬させ、超音波洗浄して感光層を剥離させる方法がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、導電性基体上に有機系機能材料膜を形成して製造される電子写真感光体の製造、検査工程で発生する成膜の不良品、仕損品または使用済みのものを水分含有率Ｘ重量％および浴温ｙ℃の式ｙ＞３Ｘ＋２５の関係を満たすＮメチルピロリドン浴中に浸漬および超音波処理、バブリングすることにより有機系機能材料膜を剥離、溶解除去した後、界面活性剤０．１％を含んだ水によりリンスを行い導電性基体を再生する技術がある（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
特許文献２では、Ｎメチルピロリドン液の浴温ｙ℃の式を、ｙ＞３Ｘ＋２５の他に、ｙ＞３Ｘ＋４０、ｙ＞６Ｘ−５の関係を満たすＮメチルピロリドン液に浸漬して導電性基体上に形成された有機系機能材料膜を剥離溶解除去するもの、ｙ＞６Ｘ＋２０を満たすＮメチルピロリドン液に浸漬して超音波処理を行い導電性基体上に形成された有機系機能材料膜を剥離溶解除去するもの、ｙ＞３Ｘ＋１０を満たすＮメチルピロリドン浴中にバブリングを行いつつ浸漬することにより導電性基体上に形成された有機系機能材料膜を剥離溶解除去する技術も開示されている。
【０００６】
また、導電性基体上にバインダー樹脂を主成分とする感光層を有する有機感光体をバインダー樹脂を溶解させる有機溶剤と水とを混合した剥離液に所定時間浸漬して感光層を膨潤させ、感光体表面をパイル長さ５〜５０ｍｍ、太さ２．５〜３０デニール、密度１０００〜２万本のブラシで摺擦する工程を含む有機感光体の基板再生方法がある（例えば、特許文献３参照）。
【０００７】
織布の表面に有機溶剤を供給し、電子感光体の周面の全部または一部に接触または圧接して導電性基体上に形成されている下引き層、感光層などの塗膜を除去するとともに、織布に付いたこの塗膜残さを有機溶剤に含有させ、ブラシをあてがい、塗膜残さを掻きとって織布を清浄にする操作を繰り返し行って電子写真感光体の塗膜除去をする技術がある（例えば、特許文献４参照）。
【０００８】
平均粒径５μｍ〜２ｍｍの砥粒を回転する感光体に噴射させて感光層を剥離洗浄するもので、事前に感光体を所定温度以下に冷却しておくことが併用された技術がある（例えば、特許文献５参照）。
【０００９】
【特許文献１】
特開２００１−１５４３７７公報
【特許文献２】
特開２０００−２７５８６７公報
【特許文献３】
特開平１０−３９５２０号公報
【特許文献４】
特開平０９−２１１８７５号公報
【特許文献５】
特開２０００−３４３４３１公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特許文献１に記載された技術では、Ｎメチルピロリドン液における溶存酸素量が過飽和状態か５〜８ｐｐｍ以上でないと超音波キャビテーション作用が強くでて基体表面が浸食されてしまう。この対策として、従来では、Ｎメチルピロリドン液に空気を吹き込むことによりＮメチルピロリドン液中における溶存酸素量を一定にして基体表面の浸食を抑えているが、空気を吹き込むことによりＮメチルピロリドンの気化を引き起こし易くなってしまう。この結果として、多くのＮメチルピロリドンがガスとして発生し、作業環境の汚染を招いてしまう。また、特許文献１に記載された技術では、導電性基体の表面粗さが粗かったり、下引き層に熱硬化性樹脂が使用されていたりすると、感光層の除去が困難になるという不具合が発生する。
【００１１】
特許文献２に記載された技術では、水分含有率が上昇すると剥離溶解効果が落ちて除去が困難となり、処理時間が長くなったり浴温を上昇させなければならなかったりする。また、Ｎメチルピロリドン浴中にバブリングを行いつつ浸漬する場合には、Ｎメチルピロリドンの気化を引き起こして多くのＮメチルピロリドンガスを発生させ易く、作業環境の汚染を起こし易いという問題点がある。超音波洗浄する場合には、水分含有率が上昇すると使用する超音波周波数によってキャビテーション作用が強く作用し、基体表面の浸食が発生し易い。さらに、使用したＮメチルピロリドン液のリサイクルに関しては、Ｎメチルピロリドン液を加熱蒸留する際に、該Ｎメチルピロリドン液中に水分が含有されると分留が発生し、蒸留後に再度水分含水率を調整しなければならず、作業性が悪いという問題がある。加えて、特許文献２に記載された技術においても、導電性基体の表面粗さが粗かったり、下引き層に熱硬化性樹脂が使用されていたりすると、感光層の除去が困難になるという不具合が発生する。
【００１２】
特許文献３に記載された技術では、洗浄液の汚染は少ないものの、感光体が膨潤脱落するまでの時間が多くかかってしまう。また、感光体を形成する材料によっては、塗布形成時の加熱乾燥条件が変わると膨潤時間が大きく左右されるため生産性が悪いものとなる。この対策として、膨潤のための浸漬槽を大きくしなければならないが、浸漬槽を大きくすることにより洗浄液を多量に使うことになるという問題点がある。
【００１３】
特許文献４に記載された技術で、塗膜残さの掻きとりによって有機溶剤の使用量を少なくできるものの、処理数が多くなると織布が汚れて感光体基体に微細な残さが再付着してしまい再度洗浄しなければならないという問題点が発生する。加えて、特許文献４に記載された技術においても、導電性基体の表面粗さが粗かったり、下引き層に熱硬化性樹脂が使用されていたりすると、感光層の除去が困難になるという不具合が発生する。
【００１４】
さらに、特許文献５に記載された技術によれば、感光層を除去することが可能であるが、基体表面の粗さが噴射砥粒によって変化してしまうため、基体粗さが規定された感光体基体には使用し難い方法である。また、噴射砥粒が基体表面に残留し、この基体を用いて再生した感光体を用いて形成した画像に黒ポチなどの画像欠陥が発生し易いという問題がある。加えて、特許文献５に記載された技術においても、導電性基体の表面粗さが粗かったり、下引き層に熱硬化性樹脂が使用されていたりすると、感光層の除去が困難になるという不具合が発生する。
【００１５】
ところで、画像形成用の円筒状感光体における感光層は、機能分離型が主流となっている。機能分離型の感光層とは、例えば、感光体の最表面層から順に電荷輸送層、電荷発生層および下引き層が形成されている層である。このような感光層における下引き層は、耐湿性の良い熱硬化性樹脂によって形成され、帯電性や残留電位とのバランスを保つために膜厚３〜５μｍで形成されている。また、このような感光層における下引き層では、光書き込みのレーザー光の散乱のために酸化チタン等の分散剤が添加多用される。
【００１６】
従来では、例えば、感光層における感光剤としてオキシチタニウムフタロシアニンを含有する感光剤を用いた場合、光書き込みレーザー光の反射による干渉縞発生防止のため、円筒状金属基体の表面に下引き層を形成し、旋削加工された円筒状金属基体の表面粗さがレベリングされるように調整してから感光体を形成するようにしたものがある。
【００１７】
しかしながら、このような方法では、円筒状金属基体の再生方法によっては円筒状金属基体の表面性が変化してしまい、再生前と同じ感光層を形成することができなくなるおそれがある。
【００１８】
本発明の目的は、熱硬化性樹脂を含有する層を有する感光層が表面に設けられる基体を良好に再生することである。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明の基体再生装置は、熱硬化性樹脂を含有する層を有する感光層が表面に設けられて金属によって形成された円筒状の基体を収容可能な洗浄槽と、前記洗浄槽に収容された前記基体に対して、加熱されたＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤からなる洗浄液が前記基体表面を流下するように、前記基体の上部より洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記基体表面に供給された洗浄液を濾過して前記洗浄液供給手段に供給する洗浄液濾過手段と、Ｎメチルピロリドン耐性の材料によって形成されて直線状の当接部を有するブレード部材を備え、前記基体表面に対して前記当接部の長さ方向が前記基体の軸心方向に平行になるように圧接させるブレード接触機構と、前記基体または前記ブレード部材の少なくとも一方を前記基体の軸心周りに回転させ、前記基体または前記ブレード部材の少なくとも一方を前記基体の軸心方向に沿って相対移動させるブレード移動手段と、を具備する。
【００２０】
したがって、熱硬化性樹脂を含有する層が含まれる感光層に対して膨潤溶解性のあるＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤を洗浄液として使用することで、熱硬化性樹脂が含まれる感光層を除去洗浄することができる。ここで、ブレード接触機構におけるブレード部材を感光体の外周面に圧接させた状態で基体とブレード部材とを相対的に移動させることにより、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を一層効率化することができる。このとき、ブラシ状の部材によって感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を行う場合には、ブラシの刷毛の隙間に入り込んだ感光層成分が原因となってブラシ状の部材と基体表面との間で滑りが生じ、感光層の剥離効率が低下することが懸念されるが、基体に対してブレード部材を圧接させることにより、基体表面との間での滑りによる感光層の剥離効率の低下を抑制することができる。また、洗浄液を加熱するとともに、加熱した洗浄液を基体の上部から基体表面に流下させるとともに基体表面に流下させた濾過循環させることで、洗浄液を多量に用いることなく感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を行うことができる。
【００２１】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の基体再生装置において、前記ブレード接触機構は、前記ブレード部材と、前記ブレード部材を支持するブレードホルダとによって構成されている。
【００２２】
したがって、単純な形状を有するブレード部材を安価に形成することができる。また、ブレード部材の形状を単純化することでブレード部材の交換作業に際しての作業の容易化を図ることができる。
【００２３】
請求項３記載の発明は、請求項２記載の基体再生装置において、前記ブレードホルダは、前記ブレード部材の前記圧接部の長さ方向の両端部が前記基体表面に対して接離可能となるように前記ブレード部材を回動自在に保持する。
【００２４】
したがって、ブレード部材の自由度を向上させることができる。これによって、各ブレード部材の洗浄力を効果的に発揮させ、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を効率よく行うことができる。
【００２５】
請求項４記載の発明は、請求項２記載の基体再生装置において、前記ブレード接触機構は、前記ブレード部材を前記基体に圧接させる方向に前記ブレードホルダを付勢する付勢部材を有する。
【００２６】
したがって、各ブレードを確実に基体表面に圧接させることができる。これによって、各ブレード部材の洗浄力を効果的に発揮させ、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を一層効率よく行うことができる。
【００２７】
請求項５記載の発明は、請求項２記載の基体再生装置において、前記ブレードホルダは、それぞれが２個の前記ブレード部材を保持する。
【００２８】
ここで、１個のブレードを用いて感光層と熱硬化性樹脂を含有する層とを効率良く除去洗浄するためには、ブレード部材を円筒状金属基体の軸心に対向するように配置しなくてはならない。しかしながら、基体の周囲に複数のブレード部材を配置する場合、実際には、複数のブレード部材によって作られる仮想中心と基体の実際の軸心とはずれが生じ易く、１個のブレードを用いて効率良く感光層と熱硬化性樹脂を含有する層を除去洗浄することは困難である。また、各ブレードホルダに３個以上のブレード部材を保持させる場合、実際には、全てのブレード部材を基体表面に圧接させることは困難であり、特定のブレード部材だけが片当たりしやすい。このため、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を安定して行うことが困難である。
【００２９】
したがって、各ブレードホルダがブレード部材を２個ずつ保持することにより、基体表面に対するブレード部材の接触可能幅を広くして、複数のブレード部材によって作られる仮想中心と基体の軸心とにずれが生じた場合にも、ブレード部材を片当たりさせることなく、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を安定して行うことができる。
【００３０】
請求項６記載の発明は、請求項１記載の基体再生装置において、前記各ブレード部材の前記当接部の厚さは、０．５〜１．５ｍｍに設定されている。
【００３１】
したがって、ブレード部材を基体表面に圧接させた場合にも、当接部の形状を維持し、良好な接触圧を維持することができる。これによって、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を安定して行うことができる。
【００３２】
請求項７記載の発明は、請求項１記載の基体再生装置において、前記ブレード部材の前記当接部には、幅０．５〜１ｍｍ、深さ１．５〜３ｍｍの溝が、前記ブレード部材の長さ方向に沿って２〜４ｍｍの間隔で形成されている。
【００３３】
したがって、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄によって円筒状金属基体から剥離した物質がブレード部材に蓄積することを抑制することができる。
【００３４】
請求項８記載の発明は、請求項１記載の基体再生装置において、前記基体の軸心方向に沿って前記洗浄槽内に前記基体を挿入する基体挿入手段を具備し、前記ブレード部材は、前記基体が挿入される側に面取り加工が施されている。
【００３５】
したがって、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄に際して、基体とブレード部材とが基体の軸心方向に沿って相対的に移動する際に、ブレード部材の端部が基体に干渉したり、基体とブレード部材とが衝突したりすることを回避し、基体とブレード部材との相対的な移動をスムーズに行うことができる。
【００３６】
請求項９記載の発明は、請求項２記載の基体再生装置において、前記ブレードホルダは、少なくても３箇所に設けられており、前記基体の軸心を基準として放射状かつ等間隔に配置されている。
【００３７】
したがって、ブレード部材の接触圧を基体表面全体に亘って均等に加えることができる。これによって、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を基体表面全体に亘って均等に行うことができる。また、基体表面に対するブレード部材の接触面積を広く確保することができる。これによって、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を効率よく行うことができる。
【００３８】
請求項１０記載の発明は、請求項１記載の基体再生装置において、前記ブレード接触機構は、前記基体表面に対して前記ブレード部材を２００〜５００ｇｆで圧接させるように前記ブレード部材を保持する。
【００３９】
したがって、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄に際しての基体表面の表面粗さの変化を抑制することができる。これによって、基体をより確実に再生することができる。
【００４０】
請求項１１記載の発明は、請求項１記載の基体再生装置において、前記洗浄液供給手段による洗浄液の供給停止後に、前記基体に対して、Ｎメチルピロリドン溶剤からなる洗浄新液が前記基体表面を流下するように、この洗浄新液を前記感光体の上部より供給する洗浄新液供給手段を具備する。
【００４１】
ここで、洗浄液供給手段が供給する洗浄液は洗浄液濾過手段によって濾過されているが、繰り返し濾過された洗浄液が供給された場合には一度除去洗浄した基体表面が却って汚染されてしまうことが懸念される。
【００４２】
したがって、洗浄液供給手段による洗浄液の供給停止後に、洗浄新液を供給することで基体表面の再汚染を抑制することができる。また、基体表面の再汚染によって以降の工程での汚染発生を抑制することができる。これによって、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を確実に行うことができる。
【００４３】
請求項１２記載の発明は、請求項１記載の基体再生装置において、Ｎメチルピロリドン耐性の材料によって形成され、前記基体の内周面に接触可能な外径を有する円形外巻きブラシと、前記円形外巻きブラシを前記基体の下端部から前記基体の内周面に挿入した状態で前記基体または前記円形外巻きブラシの少なくとも一方を回転させる回転手段と、を具備する。
【００４４】
ここで、円筒形状の基体を用いた感光体の形成に際して、基体の軸心方向を垂直方向として基体表面に感光層を形成する場合、感光層成分が基体の下端側において内周側に回り込むことがある。
【００４５】
したがって、基体の下端側において内周側に回り込んだ感光層成分を除去することができる。これによって、感光層成分が以降の工程に持ち越されることがなく、以降の工程における汚染を防止することができる。
【００４６】
請求項１３記載の発明は、請求項１２記載の基体再生装置において、前記円形外巻きブラシのブラシ線径は、０．２〜０．７ｍｍに設定されている。
【００４７】
したがって、実用上確実に基体の下端側において内周側に回り込んだ感光層成分を除去することができる。これによって、感光層成分が以降の工程に持ち越されることがなく、以降の工程における汚染をより確実に防止することができる。
【００４８】
請求項１４記載の発明は、請求項１記載の基体再生装置において、前記基体を収容可能な第２の洗浄槽と、前記基体を前記洗浄槽から前記第２の洗浄槽へ搬送する搬送手段と、前記第２の洗浄槽に収容された前記基体に対して、Ｎメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤置換用の低沸点洗浄液が前記基体表面を流下するように、前記基体の上部より低沸点洗浄液を供給する低沸点洗浄液供給手段と、前記基体表面に供給された低沸点洗浄液を濾過して前記低沸点洗浄液供給手段に供給する低沸点洗浄液濾過手段と、Ｎメチルピロリドン耐性の材料によって形成され前記第２の洗浄槽内に設けられて前記基体表面に接触する円形内巻きブラシと、前記基体または前記円形内巻きブラシの少なくとも一方を前記基体の軸心周りに回転させ、前記基体または前記円形内巻きブラシの少なくとも一方を前記基体の軸心方向に沿って相対移動させるブラシ移動手段と、を具備する。
【００４９】
したがって、Ｎメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤は高沸点であり蒸発し難いが、この混合溶剤による感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄後に低沸点洗浄液を基体表面に供給することにより、除去洗浄後の基体表面を迅速に乾燥させることができる。これによって、除去洗浄後の基体表面に塵等の異物が付着することを防止し、以降の工程における汚染を防止することができる。ここで、基体または円形内巻きブラシの少なくとも一方を基体の軸心周りに回転させ、基体または円形内巻きブラシの少なくとも一方を基体の軸心方向に沿って相対移動させることにより、除去洗浄後の基体表面をより迅速に乾燥させることができる。これによって、除去洗浄後の基体表面に塵等の異物が付着することをより効果的に防止することができる。
【００５０】
請求項１５記載の発明は、請求項１４記載の基体再生装置において、前記円形内巻きブラシの内径は、前記感光体の外径よりも０．５〜２ｍｍ小さく設定されている。
【００５１】
したがって、円形内巻きブラシを基体表面に確実に接触させることができる。これによって、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を確実に行うことができる。
【００５２】
請求項１６記載の発明は、請求項１４記載の基体再生装置において、前記円形内巻きブラシのブラシ線径は、０．１〜０．３ｍｍに設定されている。
【００５３】
したがって、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄に際しての基体表面の表面粗さの変化を抑制することができる。これによって、基体をより確実に再生することができる。
【００５４】
請求項１７記載の発明は、請求項１４記載の基体再生装置において、前記低沸点洗浄液供給手段による低沸点洗浄液の供給停止後に、前記基体に対して、新たな低沸点洗浄液が前記基体表面を流下するように、この低沸点洗浄新液を前記基体の上部より供給する低沸点新液供給手段を具備する。
【００５５】
したがって、前工程において若干でも基体が汚染されていると濾過した低沸点洗浄液を繰り返し利用することにより低沸点洗浄液の汚染が増加して、低沸点洗浄液を供給することによる基体表面の２次汚染が懸念されるが、低沸点洗浄新液を基体表面に供給することにより基体表面の再汚染を確実に抑制することができる。また、基体表面の再汚染によって以降の工程での汚染発生を抑制することができる。これによって、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を確実に行うことができる。
【００５６】
請求項１８記載の発明は、請求項１４記載の基体再生装置において、前記第２の洗浄槽に設けられてＮメチルピロリドン耐性の材料によって形成され、前記基体の内周面に接触可能な外径を有する第２の円形外巻きブラシと、前記第２の円形外巻きブラシを前記基体の下端部から前記基体の内周面に挿入した状態で前記基体または前記第２の円形外巻きブラシの少なくとも一方を回転させる第２の回転手段と、を具備する。
【００５７】
したがって、基体の下端側において内周側に回り込んだ感光層成分を確実に除去し、除去後の基体を迅速に乾燥させることができる。これによって、以降の工程における汚染をより確実に防止することができる。
【００５８】
請求項１９記載の発明は、請求項１８記載の基体再生装置において、前記円形外巻きブラシのブラシ線径は、０．２〜０．７ｍｍに設定されている。
【００５９】
したがって、実際上、基体の下端側において内周側に回り込んだ感光層成分を確実に除去することができる。
【００６０】
請求項２０記載の発明の機能分離型有機感光体は、アルミニウムまたはアルミニウム合金によって形成されて請求項１ないし１９のいずれか記載の基体再生装置を用いて再生された基体と、前記基体表面に順次設けられた下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を有する感光層と、を具備する。
【００６１】
したがって、請求項１ないし１９のいずれか記載の基体再生装置を用いて再生された基体を用いることで、新品の基体表面粗さと同等の表面粗さを有する基体に感光層が形成された機能分離型有機感光体を得ることができる。これによって、再生した基体を用いた場合にも、新品の基体を用いて形成された機能分離型有機感光体と同様の機能分離型有機感光体を得ることができる。
【００６２】
請求項２１記載の発明は、請求項２０記載の機能分離型有機感光体において、前記基体は、平均の表面粗さが０．４〜１．５μｍ、平均の山間隔が１０〜４０μｍに設定されている。
【００６３】
したがって、実際上、新品の基体表面粗さと同等の表面粗さを有する基体に感光層が形成された機能分離型有機感光体を得ることができる。これによって、再生した基体を用いた場合にも、新品の基体を用いて形成された機能分離型有機感光体と同様の機能分離型有機感光体を得ることができる。
【００６４】
請求項２２記載の発明は、請求項２０記載の機能分離型有機感光体において、前記下引き層は熱硬化性樹脂と酸化チタンとを含有して表面粗さが０．１μｍ以下に設定され、前記電荷発生層は無金属フタロシアニンとアゾ顔料とを感光剤として含有する。
【００６５】
したがって、実際に本発明の機能分離型有機感光体を用いて電子写真方式による画像形成を行った場合、干渉縞等の欠陥のない画像得ることができる。
【００６６】
請求項２３記載の発明は、請求項２０記載の機能分離型有機感光体において、前記下引き層は熱硬化性樹脂と酸化チタンとを含有し、旋削加工された基体表面粗さがレベリングされて再現された０．１〜０．３μｍの範囲に設定されており、前記電荷発生層はオキシチタニウムフタロシアニンを感光剤として含有する。
【００６７】
したがって、実際に本発明の機能分離型有機感光体を用いて電子写真方式による画像形成を行った場合、干渉縞等の欠陥のない画像得ることができる。
【００６８】
請求項２４記載の発明は、請求項２０記載の機能分離型有機感光体において、前記下引き層は熱硬化性樹脂と酸化チタンとを含有し、旋削加工された基体表面粗さがレベリングされて再現された０．１〜０．３μｍの範囲であって、前記電荷発生層は無金属フタロシアニンとアゾ顔料とを感光剤として含有する。
【００６９】
したがって、実際に本発明の機能分離型有機感光体を用いて電子写真方式による画像形成を行った場合の画像欠陥の発生を防止することができる。
【００７０】
請求項２５記載の発明の基体再生方法は、熱硬化性樹脂を含有する層を有する感光層が表面に設けられて金属によって形成された円筒状の基体を収容可能な洗浄槽に収容された前記基体に対して、加熱されたＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤からなる洗浄液が前記基体表面を流下するように前記基体の上部より洗浄液を供給し、前記基体表面に供給された洗浄液を濾過して再度前記基体の上部より供給する洗浄液供給濾過ステップと、Ｎメチルピロリドン耐性の材料によって形成されたブレード部材が有する直線状の当接部の長さ方向が前記基体の軸心方向に平行になるように前記基体表面に対して前記当接部を圧接させるブレード接触ステップと、前記基体または前記ブレード部材の少なくとも一方を前記基体の軸心周りに回転させ、前記基体または前記ブレード部材の少なくとも一方を前記基体の軸心方向に沿って相対移動させるブレード移動ステップと、を具備する。
【００７１】
したがって、熱硬化性樹脂を含有する層が含まれる感光層に対して膨潤溶解性のあるＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤を洗浄液として使用することで、熱硬化性樹脂が含まれる感光層を除去洗浄することができる。ここで、ブレード接触機構におけるブレード部材を感光体の外周面に圧接させた状態で感光体とブレード部材とを相対的に移動させることにより、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を一層効率化することができる。このとき、ブラシ状の部材によって感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を行う場合には、ブラシの刷毛の隙間に入り込んだ感光層成分が原因となってブラシ状の部材と基体表面との間で滑りが生じ、感光層の剥離効率が低下することが懸念されるが、基体に対してブレード部材を圧接させることにより、基体表面との間での滑りによる感光層の剥離効率の低下を抑制することができる。また、洗浄液を加熱するとともに、加熱した洗浄液を基体の上部から基体表面に流下させるとともに基体表面に流下させた濾過循環させることで、洗浄液を多量に用いることなく感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を行うことができる。
【００７２】
請求項２６記載の発明は、請求項２５記載の基体再生方法において、前記ブレード接触ステップでは、前記基体表面に対して前記ブレード部材を２００〜５００ｇｆで圧接させる。
【００７３】
したがって、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄に際しての基体表面の表面粗さの変化を抑制することができる。これによって、基体をより確実に再生することができる。
【００７４】
請求項２７記載の発明は、請求項２５記載の基体再生方法において、前記洗浄液供給手段による洗浄液の供給停止後に、前記基体に対して、Ｎメチルピロリドン溶剤からなる洗浄新液が前記基体表面を流下するように、この洗浄新液を前記感光体の上部より供給する洗浄新液供給ステップを具備する。
【００７５】
ここで、洗浄液供給手段が供給する洗浄液は洗浄液濾過手段によって濾過されているが、繰り返し濾過された洗浄液が供給された場合には一度除去洗浄した基体表面が却って汚染されてしまうことが懸念される。
【００７６】
したがって、洗浄液供給手段による洗浄液の供給停止後に、洗浄新液を供給することで基体表面の再汚染を抑制することができる。また、基体表面の再汚染によって以降の工程での汚染発生を抑制することができる。これによって、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を確実に行うことができる。
【００７７】
請求項２８記載の発明は、請求項２５記載の基体再生方法において、Ｎメチルピロリドン耐性の材料によって形成され、前記基体の内周面に接触可能な外径を有する円形外巻きブラシを前記基体の下端部から前記基体の内周面に挿入した状態で前記基体または前記円形外巻きブラシの少なくとも一方を回転させる回転ステップを具備する。
【００７８】
ここで、円筒形状の基体を用いた感光体の形成に際して、基体の軸心方向を垂直方向として基体表面に感光層を形成する場合、感光層成分が基体の下端側において内周側に回り込むことがある。
【００７９】
したがって、基体の下端側において内周側に回り込んだ感光層成分を除去することができる。これによって、感光層成分が以降の工程に持ち越されることがなく、以降の工程における汚染を防止することができる。
【００８０】
請求項２９記載の発明は、請求項２５記載の基体再生方法において、前記基体を収容可能な第２の洗浄槽に対して前記洗浄槽か中に収容された前記基体を搬送する搬送ステップと、前記第２の洗浄槽に収容された前記基体に対して、Ｎメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤置換用の低沸点洗浄液が前記基体表面を流下するように前記基体の上部より低沸点洗浄液を供給し、前記基体表面に供給された低沸点洗浄液を濾過して前記基体の上部より供給する低沸点洗浄液供給濾過ステップと、Ｎメチルピロリドン耐性の材料によって形成され前記第２の洗浄槽内に設けられて前記基体表面に接触する円形内巻きブラシまたは前記基体の少なくとも一方を前記基体の軸心周りに回転させ、前記基体または前記円形内巻きブラシの少なくとも一方を前記感光体の軸心方向に沿って相対移動させるブラシ移動ステップと、を具備する。
【００８１】
したがって、Ｎメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤は高沸点であり蒸発し難いが、この混合溶剤による感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄後に低沸点洗浄液を基体表面に供給することにより、除去洗浄後の基体表面を迅速に乾燥させることができる。これによって、除去洗浄後の基体表面に塵等の異物が付着することを防止し、以降の工程における汚染を防止することができる。ここで、基体または円形内巻きブラシの少なくとも一方を基体の軸心周りに回転させ、基体または円形内巻きブラシの少なくとも一方を基体の軸心方向に沿って相対移動させることにより、除去洗浄後の基体表面をより迅速に乾燥させることができる。これによって、除去洗浄後の基体表面に塵等の異物が付着することをより効果的に防止することができる。
【００８２】
請求項３０記載の発明は、請求項２９記載の基体再生方法において、前記低沸点洗浄液供給濾過ステップでの低沸点洗浄液の供給停止後に、前記基体に対して、新たな低沸点洗浄液が前記基体表面を流下するように、この低沸点洗浄新液を前記基体の上部より供給する低沸点新液供給ステップを具備する。
【００８３】
したがって、前工程において若干でも基体が汚染されていると濾過した低沸点洗浄液を繰り返し利用することにより低沸点洗浄液の汚染が増加して、低沸点洗浄液を供給することによる基体表面の２次汚染が懸念されるが、低沸点洗浄新液を基体表面に供給することにより基体表面の再汚染を確実に抑制することができる。また、基体表面の再汚染によって以降の工程での汚染発生を抑制することができる。これによって、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を確実に行うことができる。
【００８４】
請求項３１記載の発明は、請求項２９記載の基体再生方法において、前記第２の洗浄槽に設けられてＮメチルピロリドン耐性の材料によって形成され、前記基体の内周面に接触可能な外径を有する第２の円形外巻きブラシを前記基体の下端部から前記基体の内周面に挿入した状態で前記基体または前記第２の円形外巻きブラシの少なくとも一方を回転させる第２の回転ステップを具備する。
【００８５】
したがって、基体の下端側において内周側に回り込んだ感光層成分を確実に除去し、除去後の基体を迅速に乾燥させることができる。これによって、以降の工程における汚染をより確実に防止することができる。
【００８６】
請求項３２記載の発明は、請求項２５記載の基体再生方法において、各ステップにおける前記基体の姿勢は、前記基体表面に前記感光層を形成する際の天地方向と天地方向を等しくする。
【００８７】
したがって、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄に際して、特に、基体の下端側となる部分での感光層成分の残留を抑制することができる。
【００８８】
【発明の実施の形態】
本発明の一実施の形態について、図１ないし図１２を参照して説明する。本実施の形態は、基体再生装置として金属基体洗浄装置への適用例を示す。
【００８９】
図１は、本発明の一実施の形態の金属基体洗浄装置の構成を示す説明図である。図１に示すように、金属基体洗浄装置１は、機能分離型有機感光体としての有機系感光体Ａ（以降、感光体Ａ）が有する感光層（の全層）を除去洗浄する洗浄部２と、洗浄部２に洗浄液および低沸点洗浄液を供給するとともに洗浄部２から回収した使用後の洗浄液および低沸点洗浄液を濾過する液体供給部３と、を備えている。
【００９０】
洗浄液および低沸点洗浄液としては、Ｎメチルピロリドン溶剤、または、Ｎメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤からなる溶液を用いることが可能である。
【００９１】
ここで、本実施の形態では、図２に示すように、基体としての円筒状金属基体１００と、この円筒状金属基体１００の表面に積層された感光層１０１とを有する感光体Ａを洗浄の対象とする。本実施の形態の感光体Ａは、浸漬塗布によって円筒状金属基体１００表面に感光層１０１をしたものである。
【００９２】
本実施の形態の円筒状金属基体１００は、アルミニウムないしアルミニウム合金等の金属によって形成されている。
【００９３】
感光層１０１は、図２に示すように、円筒状金属基体１００の表面に設けられている。感光層１０１は、円筒状金属基体１００の表面から順に、下引き層１０２、電荷発生層１０３および電荷輸送層１０４を積層することにより構成されている。なお、円筒状金属基体１００は、新規のものに限るものではなく、後述する基体再生工程により再生したものであってもよい。
【００９４】
洗浄部２は、感光体Ａを保持する投入口４と、感光体Ａから感光層１０１を除去する洗浄槽としての第１洗浄槽５と、感光層１０１が除去された円筒状金属基体１００を洗浄する第２の洗浄槽としての第２洗浄槽６と、感光体Ａを投入口４から第１洗浄槽５を介して第２洗浄槽６へと搬送する搬送手段としての搬送機構７とから構成されている。
【００９５】
第１洗浄槽５には、第１洗浄槽５内にセットされた状態の感光体Ａ（表面に感光層が設けられた円筒状金属基体）の外周に設けられたブレード接触機構としての接触部材支持機構８、感光体Ａの下端部の内面に当接する円形外巻きブラシ９、感光体Ａの上端部から感光体Ａの表面に洗浄液を流下させる上部循環液供給駒１０、感光体Ａの上端部から感光体Ａの表面に洗浄新液を流下させる新液供給駒１１、および、接触部材支持機構８を感光体Ａの円周方向に回転させるとともに円形外巻きブラシ９を回転させる第１駆動機構１２が設けられている。洗浄新液としては、例えば、Ｎメチルピロリドン液を用いることが可能である。円形外巻きブラシ９は、Ｎメチルピロリドン耐性を有する材料によって形成されている。また、円形外巻きブラシ９の外径は、円筒状金属基体１００の内径よりも大きく設定されている。また、円形外巻きブラシ９のブラシ線径は０．２〜０．７ｍｍである。なお、その他の第１洗浄槽５の内部構成については後述する。
【００９６】
第２洗浄槽６には、第２洗浄槽６内にセットされた状態の感光層１０１が除去された感光体Ａ（すなわち、円筒状金属基体１００）の表面に当接する円形内巻きブラシ１３、円筒状金属基体１００の下端部の内面に当接する第２の円形外巻きブラシとしての円形外巻きブラシ１４が設けられている。円形内巻きブラシ１３および円形外巻きブラシ１４は、Ｎメチルピロリドン耐性を有する材料によって形成されている。
【００９７】
また、第２洗浄槽６には、円筒状金属基体１００の上端部から円筒状金属基体１００表面にＮメチルピロリドン液置換用の低沸点洗浄液（以下、単に低沸点洗浄液と称する）を流下させる供給駒１５、円筒状金属基体１００の上端部から感光体Ａ表面に新しい低沸点洗浄液（以降、低沸点洗浄新液）を流下させる新液供給駒１６、および、円形内巻きブラシ１３を感光体Ａの軸心回りに回転させるとともに円形外巻きブラシ１４を回転させる第２駆動機構１７とが設けられている。
【００９８】
液体供給部３には、上部循環液供給駒１０に供給する洗浄液を貯蔵する外部タンク１８、外部タンク１８から洗浄液を上部循環液供給駒１０に送り出す送液ポンプ１９、および、送液ポンプ１９から送り出される洗浄液を濾過するフィルタ２０が設けられている。本実施の形態のフィルタ２０の目は、５０〜１００μｍに設定されている。
【００９９】
外部タンク１８は、円筒状金属基体１００の再生に際して、洗浄液を加熱する機能を有している。上述した第１洗浄槽５には、外部タンク１８において加熱された洗浄液が供給される。
【０１００】
液体供給部３には、新液供給駒１１に供給する洗浄新液を貯蔵する新液タンク２１、新液タンク２１から洗浄新液を新液供給駒１１に送り出す送液ポンプ２２、および、送液ポンプ２２から送り出される洗浄新液を濾過するフィルタ２３が設けられている。本実施の形態のフィルタ２３の目は、５〜２０μｍに設定されている。
【０１０１】
液体供給部３には、供給駒１５に供給する低沸点洗浄液を貯蔵する外部タンク２４、外部タンク２４から低沸点洗浄液を供給駒１５に送り出す送液ポンプ２９、および、送液ポンプ２９から送り出される低沸点洗浄液を濾過するフィルタ２５が設けられている。本実施の形態のフィルタ２５の目は、１０〜５０μｍに設定されている。
【０１０２】
液体供給部３には、新液供給駒１６に供給する低沸点洗浄液の新液（以降、低沸点洗浄新液）を貯蔵する新液タンク２６、低沸点洗浄液を新液タンク２６から新液供給駒１６に送り出す送液ポンプ２７および送液ポンプ２７から送り出される置換用洗浄液を濾過するフィルタ２８が設けられている。本実施の形態のフィルタ２８の目は、５〜１０μｍに設定されている。
【０１０３】
洗浄部２と液体供給部３とは、外部タンク１８から第１洗浄槽５へ洗浄液または洗浄新液を供給する経路と第１洗浄槽５で使用された洗浄液または洗浄新液が外部タンク１８に戻る経路と、によって連通されている。また、洗浄部２と液体供給部３とは、外部タンク２４から第２洗浄槽６へ低沸点洗浄液または低沸点洗浄新液を供給する経路と、第２洗浄槽６で使用された低沸点洗浄液または低沸点洗浄新液が外部タンク２４に戻る経路と、によって連通されている。これにより、第１洗浄槽５と外部タンク１８との間で洗浄液を循環させ、第２洗浄槽６と外部タンク２４との間で低沸点洗浄液を循環させるように構成されている。
【０１０４】
次に、第１洗浄槽５の内部構成について図３を参照して説明する。図３は、第１洗浄槽５の内部構成を示す斜視図である。図３に示すように、第１洗浄槽５内には、互いに対向させて配置された一対のリング板３０、一対のリング板３０を連結する複数本のシャフト３１が設けられている。
【０１０５】
リング板３０の中央には、円形の開口部３０ａが設けられている。この開口部３０ａの径は感光体Ａの外径よりも大きく設定されている。各リング板３０は、感光体Ａの軸心回りに回転可能に設けられている。後述する円筒状金属基体１００の再生に際し、第１洗浄槽５内に搬送された感光体Ａは、搬送機構７によって搬送されてリング板３０の開口部３０Ａに遊嵌される。また、後述する円筒状金属基体１００の再生に際し、上部循環液供給駒１０に供給された洗浄液は、一対のリング板３０の開口部３０ａの内側縁部と感光体Ａとの隙間を通って流下する。
【０１０６】
リング板３０上には、図４に示すように、感光体Ａの軸心に対して放射状に配置された複数の接触部材支持機構８が設けられている。接触部材支持機構８は、感光体Ａの円周方向に沿って等間隔に配置されている。
【０１０７】
本実施の形態では、リング板３０上に６つの接触部材支持機構８を設け、リング板３０の中心と隣り合う接触部材支持機構８の位置とによって形成される角度を６０°とすることにより、各接触部材支持機構８によって保持されるブレード部材としての直線ブレード３２が等間隔に配置されるように設定されている。
【０１０８】
ここで、図５は接触部材支持機構８を示す斜視図、図６はその平面図である。接触部材支持機構８は、支持軸３３によって、支持軸３３を回動中心としてリング板３０上で回動可能に設けられている。支持軸３３には、連結部材３４が取り付けられている。連結部材３４には、感光体Ａの軸心方向に対して直交する方向を軸心方向とする回動軸３５が設けられている。この回動軸３５には、回動軸３５を回動中心として感光体Ａの表面に対して接離方向に回動可能な第２支持部材３６が設けられている。第２支持部材３６には、第２支持部材３６に設けられた回動軸３７を介して第２支持部材３６に対して回動可能な第１支持部材３８が取り付けられている。回動軸３７は、その軸心方向が、感光体Ａの軸心方向に対して平行に設けられている。
【０１０９】
第１支持部材３４には、ブレードホルダ３８が設けられている。ブレードホルダ３８は、連結部材３４、回動軸３５、支持軸３３、第１支持部材３８、第２支持部材３６および回動軸３７によって前後上下回転方向にフリーとされている。ブレードホルダ３８が、連結部材３４、回動軸３５、支持軸３３、第１支持部材３８、第２支持部材３６および回動軸３７によって前後上下回転方向にフリーとされているため、以下に説明する各直線ブレード３２の全当接部を感光体Ａ表面に均等に擦りつけることが可能になる。
【０１１０】
ブレードホルダ３８には、直線ブレード３２が、感光体Ａの軸心方向を長手方向としてそれぞれ２個ずつ保持されている。本実施の形態の直線ブレード３２は、感光体Ａの表面に当接されて、感光体Ａの外周面に沿って湾曲する曲面が軸方向に沿って直線状に連続する当接部３２ａを有している。これにより、直線ブレード３２の当接部３２ａ全体に亘って、感光体Ａに対して均一な圧力で当接するようになる。本実施の形態では、同様の直線ブレード３２が、感光体Ａの軸心方向に沿って複数（２つ）設けられている。
【０１１１】
ここで、各ブレードホルダ３８が保持する直線ブレード３２の個数は２つが望ましい。各ブレードホルダ３８が保持する直線ブレード３２の個数が１つでは、感光体Ａとの接触面積が小さく、接触状態も不安定になって除去効率が低下することが懸念される。一方で、各ブレードホルダ３８が保持する直線ブレード３２の個数が３つ以上では、製作費用が高くなるとともに感光体Ａとすべての直線ブレード３２とを接触させることが困難となり除去効果が期待できないためである。
【０１１２】
支持軸３３には、付勢部材としてのねじりコイルバネ４０が嵌合されている。ねじりコイルバネ４０の一端はリング板３０上に立設された規制軸４１に当接され、他端は連結部材３４に当接されている。直線ブレード３２は、ねじりコイルバネ４０の付勢力によって当接部３２ａを感光体Ａの表面に圧接させる方向へ付勢されている。このとき、第２支持部材３６が回動軸３５を回動中心として回動であるため、直線ブレード３２の当接部３２ａを長さ方向の全域に亘って均等な力で圧接させることができる。本実施の形態では、ねじりコイルバネ４０によって、直線ブレード３２が２００〜５００ｇｆ（本実施の形態では、４００ｇｆ）の力で感光体Ａに圧接されるように付勢している。なお、６箇所の当接部３２ａにおける圧力は、各位置において等圧とされている。
【０１１３】
これによって、後述する円筒状金属基体１００の再生に際して、感光体Ａの円筒状金属基体１００表面を傷つけることなく効果的に感光層１０１を除去することができる。
【０１１４】
本実施の形態の直線ブレード３２は、図７に示すように、当接部３２ａにおける厚さ（紙面表裏方向の寸法）が１．０ｍｍに設定された板状形状を有している。直線ブレード３２は、例えば、Ｎメチルピロリドン耐性を有するポリプロピレンまたはポリエチレン等によって形成することが可能である。図７に示すように、直線ブレード３２には、長さ方向（図７中紙面左右方向）に沿って、複数の溝３２ｂが形成されている。各溝の幅は０．５ｍｍ、深さは２ｍｍに設定されており、直線ブレードの長さ方向に沿って３ｍｍの間隔で設けられている。直線ブレード３２の長さ方向の一方側には、面取り加工部３２ｃが設けられている。
【０１１５】
後述する円筒状金属基体１００の再生に際しては、ブレードホルダ３８に保持された状態の直線ブレード３２に対して、直線ブレード３２の長さ方向の一方側から感光体Ａが挿入されるが、各ブレードホルダ３８は、面取り加工が施された部分が円筒状金属基体１００の再生に際して感光体Ａが挿入される側となるように直線ブレード３２を保持する。
【０１１６】
なお、本実施の形態ではリング板３０上に６つの接触部材支持機構８、すなわち、ブレードホルダ３８を設けたが、ブレードホルダ３８の数はこれに限るものではない。
【０１１７】
ブレードホルダ３８の配置数は３箇所以上であることが望ましい。ブレードホルダ３８の配置数が２箇所以下では、直線ブレード３２からの圧力を円筒状感光体１００の全周に亘って均等に受けるのが難しいためである。直線ブレード３２からの圧力が、円筒状金属基体１００の全周に亘って均等にならないと、感光層１０１を円筒状金属基体１００に亘って均等に洗浄することができないためである。
【０１１８】
ところで、感光体Ａと直線ブレード３２との接触面積は、できるだけ広い面積である方が、感光層１０１の除去洗浄能力がアップする。
【０１１９】
しかしながら、直線ブレード３２を多くすればその分コストアップになるため、無理なく、等間隔に配置して、感光体Ａが直線ブレード３２から均等な圧力を受けるには、直線ブレード３２すなわちブレードホルダ３８の数を５または６箇所とすることがよい。
【０１２０】
なお、本実施例では、図５に示すように、接触部材支持機構８を１段としたが、これに限るものではなく、感光体Ａの軸心方向に沿って２段以上の多段にしても本件と同等の洗浄効果が得られる。
【０１２１】
また、接触部材支持機構は、直線ブレードのみを保持するものに限らず、例えば、図８に示すように、直線ブラシ４２ａを保持する接触部材支持機構４２と、本実施の形態のように直線ブレード３２を支持する接触部材保持機構８とを感光体Ａの軸心周りに沿って交互に配置してもよい。なお、直線ブラシ４２ａおよび直線ブラシ４２ａ保持する接触部材支持機構４２に関しては、特許文献２に記載されている技術と同様であるため説明を省略する。
【０１２２】
次に、第２洗浄槽６内について説明する。図９は、第２洗浄槽６の内部構造を示す断面図である。図９に示すように、第２洗浄槽６に設けられた円形内巻きブラシ１３は、感光体Ａの外周面に接触するように設けられている。円形内巻きブラシ１３は、Ｎメチルピロリドン耐性を有する材料によって形成されている。円形内巻きブラシ１３は、感光体Ａの表面に自身の回転を伝達させて感光体Ａを洗浄する。円形内巻きブラシ１３は、リング４３上に設けられたフレーム４４に対して、回転駆動ピン４５を用いて支持されている。リング４３上には、感光体Ａ表面に対して接離する方向に沿って２〜３ｍｍの範囲内でフレーム４４が自在に動けるような間隙を確保するブラシガイド４６が設けられている。
【０１２３】
円形内巻きブラシ１３の内径は、感光体Ａの外径より小径に設定されている。また、円形内巻きブラシ１３の線径は、通常０．３ｍｍ程度に設定されている。円形内巻きブラシ１３に関しては、しごき量（円形内巻きブラシ１２の内径と感光体の外径との差）０．５〜２ｍｍ程度の小径が剥離性と耐久性において良く、効率良く感光層１０１を除去洗浄することができる。円形内巻きブラシ１３の内径および円形内巻きブラシ１３の線径を上述のように設定することにより、後述する円筒状金属基体１００の再生に際して、感光層１０１が除去されて円筒状金属基体１００表面が露出することにより感光体Ａの外径が変化した場合にも、円筒状金属基体１００の内周面に円形内巻きブラシ１３の外径を自在に合芯させることができる。これにより、感光体Ａ（円筒状金属基体１００）と円形内巻きブラシ１３とを常に離れずに摺動させることができる。
【０１２４】
なお、本実施の形態では、円形内巻きブラシ１３のブラシ線径０．３ｍｍ程度に設定したが、０．１〜０．３ｍｍ程度の範囲であれば、実用上適用可能である。
【０１２５】
円形外巻きブラシ１４は、その外径が円筒状金属基体１００の内径よりも大きくなるように形成されている。円形外巻きブラシ１４のブラシ線径は、０．２〜０．７ｍｍ程度の範囲であればよい。
【０１２６】
次に、円筒状金属基体１００の再生工程について説明する。円筒状金属基体１００の再生に際しては、まず、感光層１０１の除去対象となる感光体Ａを、搬送機構７によってクランプして、第１洗浄槽５上に搬送する。このとき、第１洗浄槽５内においては、上部循環液供給駒１０より洗浄液が上側から下側へ向けて供給されている。また、第１洗浄槽５の内部では、リング部材３０を回転させることにより接触部材支持機構８が回転されている。搬送機構７は、このような状態の第１洗浄槽５内に感光体Ａを下降させる。
【０１２７】
なお、感光体Ａは、投入口３、第１洗浄槽４および第２洗浄槽５において、軸心方向が上下方向となるように（縦型に）セットされ、搬送機構６によって上端部がクランプされて下端部側から第１洗浄槽４および第２洗浄槽５に挿入される。
【０１２８】
感光体Ａは、円筒状金属基体１００に感光層を浸漬塗布したものであるため、円筒状金属基体１００に対する感光層１０１の浸漬塗布に際しては、円筒状金属基体１００の下端とされた側から第１洗浄槽５および第２洗浄槽６に挿入されるものとする。ここに、基体挿入手段および基体挿入ステップが実現されている。
【０１２９】
ところで、円筒状金属基体１００表面に対する感光層１０１の形成に際して、円筒状金属基体１００の軸心方向を天地方向と平行にして感光層１０１を形成することにより感光層１０１を浸漬塗布した後の円筒状金属基体１００の下端側の内径に塗布液が付着してしまう。付着した塗布液は、感光層１０１を浸漬塗布した後に洗浄するものの、感光体Ａの製造工程では問題とならない程度に僅かに汚れている。
【０１３０】
円筒状金属基体１００の再生に際しては、円筒状金属基体１００の内周側の端部における汚れを検出することにより、感光層１０１の浸漬塗布に際しての上端／下端を判別することが可能である。なお、公知の技術であるため、円筒状金属基体１００の上端／下端の判別については説明を省略する。
【０１３１】
公知の技術であるため説明を省略するが、感光体Ａの製造に際し、感光層１０１を浸漬塗布によって形成する場合、円筒状金属基体１００の上端はクランプのために閉塞されている。このとき、円筒状金属基体１００の下端内径部には、ガス抜きバルブによって塗布液を下端から１０ｍｍ程度入れるようにし、内部から塗布液と空気の混ざったガスの圧力が上がっても下端から泡となって出ないようにしている。これによって、感光層１００に欠陥が発生するのを防いでいる。
【０１３２】
円筒状金属基体１００の再生に戻るが、第１洗浄槽５内に感光体Ａが挿入されると、加熱された洗浄液を感光体Ａに対して３〜５Ｌ／毎分で供給する。ここに、洗浄液供給手段および洗浄液供給ステップが実現されている。これにより、直線ブレード３２と感光体Ａ表面との間に供給された洗浄液によって感光層１０１を膨潤させ、熱硬化性樹脂が含まれる感光層１０１を除去洗浄することができる。
【０１３３】
ところで、感光層１０１の一部が熱硬化性樹脂を含有する層で構成された有機系感光体では、感光層１００は容易に溶解除去できるものの熱硬化性樹脂を含有する層は膨潤時間がかかり除去洗浄が困難である。
【０１３４】
本実施の形態では、Ｎメチルピロリドン溶剤、または、Ｎメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤からなる溶液を洗浄液として、接触部材７の耐久性が良い範囲の温度内で加熱して供給することにより膨潤時間を短縮することができる。これにより、感光層１０１に熱硬化性樹脂が含有されている場合にも、該感光層１０１の除去洗浄の効率化を図ることができる。
【０１３５】
ここで、Ｎメチルピロリドン液を７０℃を超えて加熱すると、Ｎメチルピロリドン液が多く気化して、作業環境を汚染したり、直線ブレード３２の耐久性や直線ブレード３２による洗浄機能を低下させてしまったりする。
【０１３６】
本実施の形態では、洗浄液の温度が４０〜７０℃の範囲となるように加熱する。これによって、洗浄液を多量に気化させることなく、また、直線ブレード３２の耐久性や直線ブレード３２による洗浄機能を低下させてしまったりすることなく、直線ブレード３２が有する感光層１０１の洗浄機能を適正に維持することができる。
【０１３７】
本実施の形態では、リング部材３０、すなわち、直線ブレード３２を４０〜１００ｒｐｍで回転させる。ここに、ブレード移動手段およびブレード移動ステップが実現されている。これによって、感光層１０１と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を一層効率化することができる。
【０１３８】
感光体Ａに対して供給された洗浄液は、外部タンク１８に回収され、フィルタ２０によって濾過されて、再度、送液ポンプ１９によって第１洗浄槽５に供給する。これにより、洗浄液を循環しながら、感光層１００の除去作業を行うことができる。ここに、洗浄液濾過手段および洗浄液濾過ステップが実現されている。
【０１３９】
本実施の形態では、ブレードホルダ３８を、回動軸３５回り、支持軸３３回りおよび回動軸３７回りに回動自在とし、ねじりコイルばね４０により個々の直線ブレード３２の当接部３２ａを円筒状金属基体１００表面に圧接させ、感光体Ａと直線ブレード３２とを感光体Ａの中心軸方向に相対移動させる。これによって、直線ブレード３２を感光体Ａに自在に接触させて擦り洗浄され、直線ブレード３２の個々に対して洗浄力を働かせることができる。これにより、感光層１０１を効率良く除去洗浄することができる。
【０１４０】
また、ねじりコイルばね４０により、個々の直線ブレード３２を常に感光体Ａの軸心方向に付勢することができるので、感光層１０１面や感光層１０１が除去されて円筒状金属基体１００表面が露出することで円筒状金属基体１００の外径が変化した場合にも、直線ブレード３２を常に感光体Ａ表面に対して摺動させることができる。
【０１４１】
さらに、感光体Ａの軸方向に複数のブレードホルダ３８（直線ブレード３２）を並べて配置することにより、個々の直線ブレード３２に対して洗浄力を働かせることができ、感光層１００の全層を短時間に効率良く除去洗浄することができる。
【０１４２】
なお、感光体Ａの軸心方向における直線ブレード３２の接触長さ数が、感光体Ａの軸心方向の全長に至らない場合には、感光体Ａとリング部材３０とを相対的に上昇／下降させる。これにより、直線ブレード３２を感光体Ａ表面全体に亘って接触させながら、繰り返し擦らせて、感光層１０１の膨潤除去洗浄を感光層１０１全体に亘って行うことができる。
【０１４３】
さらに、円筒状金属基体１００の再生に際しては、感光層１０１の除去洗浄とともに、円筒状金属基体１００の下端部から上方に５〜１５ｍｍの範囲で、円形外巻きブラシ９を回転させる。ここに、回転手段および回転ステップが実現されている。内面の下端部から５〜１５ｍｍの範囲で感光体Ａの円筒状金属基体１００下端部の内径部分を洗浄することにより、次工程の洗浄液の汚染防止と塗工ラインでの塗液汚染とを防止することができる。これによって、後段の感光層１０１の形成に際して、感光層１０１の塗膜品質不良の増加を抑制することができる。
【０１４４】
上述したように、第１洗浄槽５において感光層１０１を除去して洗浄した後は、循環するＮメチルピロリドン液の供給を停止させ、新液タンク２１から洗浄新液を新液供給駒１１より感光体Ａに対して供給する。このとき、感光体Ａに対して供給した洗浄新液は、フィルタ２１によって濾過される。濾過した洗浄新液は、送液ポンプ２２によって、再び第１洗浄槽５に送液されて、上部循環液供給駒１０の上部の新液供給駒１１から感光体Ａに供給される。ここに、洗浄新液供給手段および洗浄新液供給ステップが実現されている。これにより仕上洗浄が行われる。
【０１４５】
このように、清浄なＮメチルピロリドン液に切り替えて仕上洗浄することで、円筒状金属基体１００の表面の汚染、および、次工程の洗浄液の汚染を防止することができる。
【０１４６】
第１洗浄槽５において感光層１０１が除去された後の円筒状金属基体１００は、搬送機構７によって第２洗浄槽６上に搬送される。そして、供給駒１５から円筒状金属基体１００の外周面と円形内巻きブラシ１３との間に低沸点洗浄液を流下させ、円形内巻きブラシ１３内で円筒状金属基体１００を下降させることにより、洗浄新液の付着した円筒状金属基体１００表面を置換洗浄する。ここに、ブラシ移動手段およびブラシ移動ステップが実現される。
【０１４７】
このとき、第２洗浄槽６では、円形内巻きブラシ１３を４０〜１００ｒｐｍで回転させ、加熱された置換用洗浄液を供給駒１５より３〜５Ｌ／毎分で供給する。ここに、低沸点洗浄液供給手段として機能が実現されている。また、第２洗浄槽６から外部タンク３４に回収した液をフィルタ２４で濾過し、再度、送液ポンプ２５によって第２洗浄槽５に供給する。ここに、低沸点洗浄液濾過手段および低沸点洗浄液濾過ステップが実現される。これにより、置換用洗浄液を循環させながら、円筒状金属基体１００を置換洗浄することができる。
【０１４８】
第２洗浄槽６において、円筒状金属基体１００に付着した洗浄新液を置換洗浄した後は、循環する低沸点洗浄液の供給を停止させ、新液タンク２６が保持する低沸点洗浄新液を、フィルタ２８で濾過しながら新液供給駒１６を介して、送液ポンプ２８によって第２洗浄槽５に供給する。ここに、低沸点洗浄新液供給手段および低沸点洗浄新液供給ステップが実現される。これにより、円筒状金属基体１００の仕上洗浄が行われる。
【０１４９】
このように、清浄な低沸点洗浄新液に切り替えて洗浄することにより、円筒状金属基体１００の表面の汚染と次工程の洗浄液の汚染をより確実に防止することができる。
【０１５０】
また、このとき、円形外巻きブラシ１４を回転させながら、円筒状金属基体１００の下端から上方に５〜１５ｍｍの範囲で円形外巻きブラシ１４を上下動させる。ここに、第２の回転手段および第２の回転ステップが実現される。円筒状金属基体１００の内周面も置換洗浄する。
【０１５１】
このように、円筒状金属基体１００の下端部内径を円形外巻きブラシ１４によって置換洗浄することにより、次工程の洗浄液の汚染防止と、以降の感光層１００の塗工ラインにおける塗液の汚染を防止することができる。これによって、感光体Ａの塗膜品質の安定化をより確実に図ることができる。
【０１５２】
このようにして再生した円筒状金属基体１００は、新規の円筒状金属基体と比較した場合に、必要とされる表面粗さの０．８〜１．５μｍのひとつひとつの山から谷の微細な面に０．１μｍ程度の擦れ傷がある。この点を検出することにより、新規の円筒状金属基体であるか再生された円筒状金属基体であるかを判断することができる。
【０１５３】
ところで、本実施の形態の直線ブレード３２は、溝３２ｂを有しているが、溝が無く、厚さ１．０ｍｍの直線ブレードを材質ポリプロピレンによって形成し、この直線ブレード３２を使用し、洗浄液を６５℃に加熱して、上述と同様の感光層１０１の除去を行ったところ、開始から５回目までは良好に感光層１０１を除去することができたが、６回目以降は、感光層１０１から除去された成分が直線ブレード３２に蓄積してしまい、感光層１０１を除去出来ない部位が徐々に増加した。そして、１０回目では、感光層１０１の全体の半分が除去できなくなった。
【０１５４】
これに対し、本実施の形態のように、長さ方向に沿って複数の溝が形成された直線ブレード３２を用いることにより、開始から５回目を過ぎても感光層１０１除去状態は良好で、一日の連続稼働でも感光層除去状態に変化がなかった。
【０１５５】
なお、溝３２ｂの幅が０．５ｍｍ以下である場合には、溝３２ｂの幅が狭すぎて、感光層１０１から除去された成分が直線ブレード３２に蓄積してしまう。
【０１５６】
また、溝３２ｂの幅が１ｍｍ以上である場合、直線ブレード３２と感光体Ａとの接触面積が少なくなって除去効率が低下する。
【０１５７】
さらに、溝３２ｂの深さが１．５ｍｍ以下である場合、溝３２ｂが浅すぎて感光層１０１から除去された成分が直線ブレード３２に蓄積してしまう。
【０１５８】
加えて、溝３２ｂの深さが３ｍｍ以上である場合、直線ブレード３２と感光体Ａとの当接部３２ａの強度が弱くなって、直線ブレード３２が曲がってしまう。溝３２ｂの間隔が２ｍｍ以下である場合にも同様に、直線ブレード３２と感光体Ａとの当接部３２ｂの強度が弱くなって直線ブレード３２が曲がってしまう。さらには、溝３２ｂの深さが４ｍｍ以上である場合、溝３２ｂの面積が少なすぎて感光層１０１から除去された成分が直線ブレード３２に蓄積してしまう。
【０１５９】
このように、本実施の形態においては、熱硬化性樹脂を含有する下引き層が感光層に含まれている感光体Ａでは、電荷発生層１０３および電荷輸送層１０４が溶解しても下引き層１０２が容易に溶解せず、感光層１０１および下引き層に対して膨潤溶解性のあるＮメチルピロリドンを洗浄液として使用し、感光体上部より加熱されたＮメチルピロリドン液を感光体周面に流下させながら供給して濾過循環させながら、感光体Ａの外周面に直線ブレード３２を圧接させて回転移動させて洗浄することにより、感光層１０１を除去洗浄することができる。
【０１６０】
本実施の形態によれば、新規の円筒状金属基体とほとんど変わらない円筒状金属基体１００表面を再生することができるために、新規の円筒状金属基体に対する感光層１０１形成と同じ条件で、再生した円筒状金属基体１００に対する感光層１０１形成を行うことができる。
【０１６１】
なお、上述した実施の形態においては、４０〜７０℃に加熱したＮメチルピロリドン液を洗浄液として使用したが、４０〜７０℃に加熱したＮメチルピロリドン液またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合液を洗浄液として適用しても良い。
【０１６２】
次に、再生した円筒状金属基体１００を使用した感光体Ａについて説明する。上述したように、感光体Ａは、円筒状金属基体１００の表面に設けられた下引き層１０２を備えている。円筒状金属基体１００は、アルミニウムまたはアルミニウム合金によって形成されている。また、下引き層１０２は、０．４μｍ以下の酸化チタン微粒子を含む熱硬化性樹脂を結着剤としている。このような感光体Ａにおいては、下引き層１０２によって、光書き込み用レーザービームＬの余剰光を散乱させて画像形成時の不具合となる干渉縞の形成を抑制させている。
【０１６３】
感光体Ａを用いた静電写真方式の画像形成に関しては公知の技術であるため説明を省略するが、画像形成に際しての干渉縞の発生を抑制するためには、円筒状金属基体１００の表面粗さに加えて、電荷発生層１０３に含まれる感光剤が有する反射率が重要な要素の一つとなる。
【０１６４】
例えば、チタニルフタロシアニンを感光剤とする場合、円筒状金属基体１００の表面粗さを０．８〜１．５μｍ程度に形成し、電荷輸送層１０４の膜厚がλ／２ｎとλ／４ｎの山谷形状がレーザービームの照射幅内で明確にできないようにしなければならない。
【０１６５】
さらに、干渉縞の発生を抑制するためには、円筒状金属基体１００の表面粗さによる山のピッチがレーザービームの照射幅内に３〜５個入るようにし、円筒状金属基体１００表面の平均反射率を減少させる必要がある。
【０１６６】
このため、本実施の形態の下引き層１０２の膜厚は、円筒状金属基体１００の表面粗さがレベリングされて再現されるように３〜５μｍで形成されている。
【０１６７】
なお、上述した感光層１０１の除去洗浄による円筒状金属基体１００の再利用に際して、熱硬化性樹脂を含む感光層１０１の膨潤除去洗浄を容易にするためには、下引き層１０２の膜厚を５μｍ以下とすることがより効果的である。
【０１６８】
例えば、オイルフリーアルキドとブチル化メラミン樹脂溶液との重量比が、１．５／１〜４／１というように、架橋剤となるメラミン樹脂溶液の量を減少させて架橋硬化反応を抑制するか、または、オイルフリーアルキド単体にして洗浄用溶剤のＮメチルピロリドンあるいはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤によって膨潤し易いようにし、感光層１０１塗膜の焼成温度を１２０〜１４０℃に設定し、焼成時間を１０〜２０分に設定することにより、円筒状金属基体１００の再生に際して採算性のある範囲で除去洗浄することができる。
【０１６９】
ところで、特に図示しないが、このような感光体Ａを搭載する電子写真方式の画像形成装置では、感光体Ａの表面に付着したトナーを除去するトナー除去ブレード等が接触されている場合がある。このような場合、感光体Ａの表面（本実施の形態では、電荷輸送層１０４）は、トナー除去ブレード等の接触によって摩耗し易くなっている。このため、感光層１０１には、電荷輸送層１０４の保護用として、電荷輸送層を形成する樹脂に酸化ケイ素微粉末を分散した耐傷性被覆層が形成されているものがある。
【０１７０】
本実施の形態によれば、上述したように、塗膜焼成温度を１２０〜１４０℃に設定し、焼成時間を１０〜２０分に設定することで感光層１０１を形成することにより、上述したような円筒状金属基体１００の再生に際し、採算性のある範囲で感光層１０１を除去洗浄することができる。
【０１７１】
ここで、図１０は、上述したような感光体Ａを搭載する電子写真方式の画像形成装置において、レーザービームを用いた光書き込みによる画像形成に際しての画像欠陥の一つとして、干渉縞状模様が発現するプロセスを説明するための説明図である。上述したような、円筒状金属基体１００の軸心方向を上下方向とする浸漬塗布に際しては、上側に位置付けられる感光層１０１の一端側が重力によって下方に垂れ易くなっている。このため、浸漬塗布に際しての感光層１０１の幅ｌ２を、最終目的とする幅ｌ１よりも広く取らなければ、等傾角干渉状の段差模様６０が、画像形成に有効となる範囲内に形成されてしまう（図１０（ａ）参照）。等傾角干渉状の段差模様６０部分では、形成した画像にムラが生じてしまう。
【０１７２】
また、画像形成に有効となる範囲では、電荷輸送層１０４の膜厚が２０〜３０μｍと厚いことや塗布乾燥時の乾燥ムラ等によって、縞状の膜厚差が発生しやすい。レーザービームＬの干渉にあずかる範囲において、このような膜厚ムラが生じた場合には、リング状の等厚干渉縞模様６１が画像に発生し易くなる（図１０（ａ）参照）。
【０１７３】
これに対し、本実施の形態の感光体Ａにおいては、複写紙幅ｌ１に対し、感光層１０１を形成する幅ｌ２を１０〜２０ｍｍ広く取ることで、段差模様６０部分を画像形成に有効となる範囲外である膜厚不均一部６２に発生させることで（図１０（ｂ）参照）、画像形成に有効となる範囲における段差模様６０の発生を排除するようにしている。
【０１７４】
また、円筒状金属基体１００の表面に円筒状金属基体１００の表面粗さ以外のうねりが生じている場合や、電荷輸送層１０４の膜厚が２０〜３０μｍと比較的厚い場合では、電荷発生層１０３の表面からの反射光によってレーザービームＬが電荷輸送層１０４の裏面で再度反射する干渉が発生し易くなり、レーザー波長の１／２λ程度のムラを生じ易い。
【０１７５】
特に、電荷発生層１０３の膜厚が１／４λｎ程度で、レーザービームＬの入射角が垂直に近い場合に、電荷輸送層１０４の軸方向膜厚のムラと円周方向膜厚のムラの重なり合いによって合成された膜厚のλ／２ｎ・（ｍ）とλ／４・（２ｍ＋１）の山谷形状ができると、書き込みビーム１ドットＰごとに電荷発生層１０３表面での反射と電荷輸送層１０４の裏面での再反射により定在波が干渉して明暗ができ、そのドットが連なって帯電電位の等高曲線が描かれ、リング状の等厚干渉縞模様１１４ができるものと考えられる（図１０（ｂ）参照）。
【０１７６】
本実施の形態では、感光体Ａの製造に際し、電荷発生層１０３の表面粗さＲｚが０．１〜０．３μｍ程度となるように調整することで上述した不具合を防止するようにしている。具体的には、例えば、円筒状金属基体１００上に機械加工で凹凸を付けた後に、この円筒状金属基体１００の表面にレーザービーム散乱のための酸化チタン微粒子の入った下引き層１０２と電荷発生層１０３と電荷輸送層１０４とを順次形成する。
【０１７７】
ここで、図１１は、円筒状金属基体１００の外径表面の粗さと電荷発生層１０３の表面粗さとの関係を示す説明図である。図１１中符号７０は円筒状金属基体１００の表面の理想形状を示し、７１は実際の円筒状金属基体１００の表面状態を示している。旋削加工された円筒状金属基体１００の表面粗さ（十点平均表面粗さＲｚ）は０．４〜１．５μｍに設定されており、平均山間隔Ｓｍは、１０〜４０μｍに設定されている。図１１中符号７２は円筒状金属基体１００表面に形成された電荷発生層１０３の表面の理想形状を示し、７３は実際の電荷発生層１０３の表面状態を示している。
【０１７８】
図１１によれば、熱硬化性樹脂と酸化チタンを含有する下引き層１０２の表面に、感光剤がオキシチタニウムフタロシアニン０．１μｍ程度の薄膜の電荷発生層１０３を形成した場合、旋削加工された円筒状金属基体１００の表面粗さ１１５が、下引き層１０２によってレベリングされて再現され、その上に形成された電荷発生層１０３の表面粗さがＲｚ０．１〜０．３μｍとなっていることが判る（図１１（ｂ）参照）。
【０１７９】
ここで、電荷発生層１０３の感光剤にオキシチタニウムフタロシアニンを使用すると、その分子構造が板状で金属光沢を持っているため、画像形成時の印加電圧下でのレーザー光書き込み光吸収時にもその表面の光反射が強く、光書き込みレーザー光量との関係でこの反射光が電荷輸送層膜内で干渉し縞状の複写画像発現につながり易くなる。
【０１８０】
しかし、レベリングされて再現された電荷発生層１０３の表面粗さ１４をＲｚ０．１〜０．３μｍ、Ｓｍ１０〜４０μｍとしておけば、電荷発生層１０３の上に形成される電荷輸送層１０４の膜厚が２０〜３０μｍであって、λ／２ｎ・（ｍ）とλ／４・（２ｍ＋１）の差ができても、レーザービーム１ドットＰの径が４０〜１００μｍの範囲においては反射率を緩和することが可能となり、光書き込みされた画像上における明確な干渉縞の発生がを緩和することができる。
【０１８１】
ここで、図１２は、表面粗さが０．４μｍ以下に設定された円筒状金属基体１００の表面に、下引き層１０２、電荷発生層１０３および電荷輸送層１０４を順次形成した感光体Ａにおける各層の形状を示す模式図である。図１２中符号７４は円筒状金属基体１００の表面状態を示し、符号７５は電荷発生層１０３の表面状態を示し、符号７６は電荷輸送層１０４の表面状態を示している。図１２に示すように、円筒状金属基体１００の表面の粗さを０．４μｍ以下とし、その表面に下引き層１０２、電荷発生層１０３、電荷輸送層１０４を順次形成した感光体Ａにおいては、円筒状金属基体１００の表面粗さが０．４μｍ以下であれば下引き層１０２の表面上に円筒状金属基体１００表面の粗さが発現しない。このため、光書き込み用のレーザービームの反射の少ない感光剤を用いて電荷発生層１０３を形成する必要がある。
【０１８２】
例えば、無金属フタロシアニンとアゾ顔料を含有する感光体Ａであれば、光書き込みされた画像上に明確な干渉縞状の複写画像が形成されなくなる。
【０１８３】
また、表面粗さが十点平均粗さＲｚ０．４〜１．５μｍ、平均山間隔Ｓｍ１０〜４０μｍである円筒状金属基体１００であっても、電荷発生層１０３の感光剤に無金属フタロシアニンとアゾ顔料を含有する機能分離型有機感光体であれば、光書き込みされた画像上に干渉縞状の画像が形成され難くなる。
【０１８４】
【発明の効果】
請求項１記載の発明の基体再生装置によれば、熱硬化性樹脂を含有する層が含まれる感光層に対して膨潤溶解性のあるＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤を洗浄液として使用することで、熱硬化性樹脂が含まれる感光層を除去洗浄することができ、ブレード接触機構におけるブレード部材を感光体の外周面に圧接させた状態で基体とブレード部材とを相対的に移動させることにより、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を一層効率化することができる。このとき、ブラシ状の部材によって感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を行う場合には、ブラシの刷毛の隙間に入り込んだ感光層成分が原因となってブラシ状の部材と基体表面との間で滑りが生じ、感光層の剥離効率が低下することが懸念されるが、基体に対してブレード部材を圧接させることにより、基体表面との間での滑りによる感光層の剥離効率の低下を抑制することができる。また、洗浄液を加熱するとともに、加熱した洗浄液を基体の上部から基体表面に流下させるとともに基体表面に流下させた濾過循環させることで、洗浄液を多量に用いることなく感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を行うことができる。
【０１８５】
請求項２記載の発明によれば、請求項１記載の基体再生装置において、単純な形状を有するブレード部材を安価に形成することができ、また、ブレード部材の形状を単純化することでブレード部材の交換作業に際しての作業の容易化を図ることができる。
【０１８６】
請求項３記載の発明によれば、請求項２記載の基体再生装置において、ブレード部材の自由度を向上させることができるので、各ブレード部材の洗浄力を効果的に発揮させ、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を効率よく行うことができる。
【０１８７】
請求項４記載の発明によれば、請求項２記載の基体再生装置において、各ブレードを確実に基体表面に圧接させることができるので、各ブレード部材の洗浄力を効果的に発揮させ、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を一層効率よく行うことができる。
【０１８８】
請求項５記載の発明によれば、請求項２記載の基体再生装置において、各ブレードホルダがブレード部材を２個ずつ保持することにより、基体表面に対するブレード部材の接触可能幅を広くして、複数のブレード部材によって作られる仮想中心と基体の軸心とにずれが生じた場合にも、ブレード部材を片当たりさせることなく、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を安定して行うことができる。
【０１８９】
請求項６記載の発明によれば、請求項１記載の基体再生装置において、ブレード部材を基体表面に圧接させた場合にも、当接部の形状を維持し、良好な接触圧を維持することができるので、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を安定して行うことができる。
【０１９０】
請求項７記載の発明によれば、請求項１記載の基体再生装置において、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄によって円筒状金属基体から剥離した物質がブレード部材に蓄積することを抑制することができる。
【０１９１】
請求項８記載の発明によれば、請求項１記載の基体再生装置において、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄に際して、基体とブレード部材とが基体の軸心方向に沿って相対的に移動する際に、ブレード部材の端部が基体に干渉したり、基体とブレード部材とが衝突したりすることを回避し、基体とブレード部材との相対的な移動をスムーズに行うことができる。
【０１９２】
請求項９記載の発明によれば、請求項２記載の基体再生装置において、ブレード部材の接触圧を基体表面全体に亘って均等に加えることができるので、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を基体表面全体に亘って均等に行うことができる。また、基体表面に対するブレード部材の接触面積を広く確保することができるので、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を効率よく行うことができる。
【０１９３】
請求項１０記載の発明によれば、請求項１記載の基体再生装置において、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄に際しての基体表面の表面粗さの変化を抑制することができるので、基体をより確実に再生することができる。
【０１９４】
請求項１１記載の発明によれば、請求項１記載の基体再生装置において、洗浄液供給手段による洗浄液の供給停止後に、洗浄新液を供給することで基体表面の再汚染を抑制することができ、また、基体表面の再汚染によって以降の工程での汚染発生を抑制することができるので、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を確実に行うことができる。
【０１９５】
請求項１２記載の発明によれば、請求項１記載の基体再生装置において、基体の下端側において内周側に回り込んだ感光層成分を除去することができるので、感光層成分が以降の工程に持ち越されることがなく、以降の工程における汚染を防止することができる。
【０１９６】
請求項１３記載の発明によれば、請求項１２記載の基体再生装置において、実用上確実に基体の下端側において内周側に回り込んだ感光層成分を除去することができ、感光層成分が以降の工程に持ち越されることを防止して、以降の工程における汚染をより確実に防止することができる。
【０１９７】
請求項１４記載の発明によれば、請求項１記載の基体再生装置において、Ｎメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤は高沸点であり蒸発し難いが、この混合溶剤による感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄後に低沸点洗浄液を基体表面に供給することにより、除去洗浄後の基体表面を迅速に乾燥させることができるので、除去洗浄後の基体表面に塵等の異物が付着することを防止し、以降の工程における汚染を防止することができる。ここで、基体または円形内巻きブラシの少なくとも一方を基体の軸心周りに回転させ、基体または円形内巻きブラシの少なくとも一方を基体の軸心方向に沿って相対移動させることにより、除去洗浄後の基体表面をより迅速に乾燥させることができるので、除去洗浄後の基体表面に塵等の異物が付着することをより効果的に防止することができる。
【０１９８】
請求項１５記載の発明によれば、請求項１４記載の基体再生装置において、円形内巻きブラシを基体表面に確実に接触させることができるので、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を確実に行うことができる。
【０１９９】
請求項１６記載の発明によれば、請求項１４記載の基体再生装置において、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄に際しての基体表面の表面粗さの変化を抑制することができるので、基体をより確実に再生することができる。
【０２００】
請求項１７記載の発明によれば、請求項１４記載の基体再生装置において、前工程において若干でも基体が汚染されていると濾過した低沸点洗浄液を繰り返し利用することにより低沸点洗浄液の汚染が増加して、低沸点洗浄液を供給することによる基体表面の２次汚染が懸念されるが、低沸点洗浄新液を基体表面に供給することにより基体表面の再汚染を確実に抑制することができ、また、基体表面の再汚染によって以降の工程での汚染発生を抑制することができるので、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を確実に行うことができる。
【０２０１】
請求項１８記載の発明によれば、請求項１４記載の基体再生装置において、基体の下端側において内周側に回り込んだ感光層成分を確実に除去し、除去後の基体を迅速に乾燥させることができるので、以降の工程における汚染をより確実に防止することができる。
【０２０２】
請求項１９記載の発明によれば、請求項１８記載の基体再生装置において、実際上、基体の下端側において内周側に回り込んだ感光層成分を確実に除去することができる。
【０２０３】
請求項２０記載の発明の機能分離型有機感光体によれば、請求項１ないし１９のいずれか記載の基体再生装置を用いて再生された基体を用いることで、新品の基体表面粗さと同等の表面粗さを有する基体に感光層が形成された機能分離型有機感光体を得ることができるので、再生した基体を用いた場合にも、新品の基体を用いて形成された機能分離型有機感光体と同様の機能分離型有機感光体を得ることができる。
【０２０４】
請求項２１記載の発明によれば、請求項２０記載の機能分離型有機感光体において、実際上、新品の基体表面粗さと同等の表面粗さを有する基体に感光層が形成された機能分離型有機感光体を得ることができるので、再生した基体を用いた場合にも、新品の基体を用いて形成された機能分離型有機感光体と同様の機能分離型有機感光体を得ることができる。
【０２０５】
請求項２２記載の発明によれば、請求項２０記載の機能分離型有機感光体において、実際に本発明の機能分離型有機感光体を用いて電子写真方式による画像形成を行った場合、干渉縞等の欠陥のない画像得ることができる。
【０２０６】
請求項２３記載の発明によれば、請求項２０記載の機能分離型有機感光体において、実際に本発明の機能分離型有機感光体を用いて電子写真方式による画像形成を行った場合、干渉縞等の欠陥のない画像得ることができる。
【０２０７】
請求項２４記載の発明によれば、請求項２０記載の機能分離型有機感光体において、実際に本発明の機能分離型有機感光体を用いて電子写真方式による画像形成を行った場合の画像欠陥の発生を防止することができる。
【０２０８】
請求項２５記載の発明の基体再生方法によれば、熱硬化性樹脂を含有する層が含まれる感光層に対して膨潤溶解性のあるＮメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤を洗浄液として使用することで、熱硬化性樹脂が含まれる感光層を除去洗浄することができる。ここで、ブレード接触機構におけるブレード部材を感光体の外周面に圧接させた状態で感光体とブレード部材とを相対的に移動させることにより、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を一層効率化することができる。このとき、ブラシ状の部材によって感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を行う場合には、ブラシの刷毛の隙間に入り込んだ感光層成分が原因となってブラシ状の部材と基体表面との間で滑りが生じ、感光層の剥離効率が低下することが懸念されるが、基体に対してブレード部材を圧接させることにより、基体表面との間での滑りによる感光層の剥離効率の低下を抑制することができる。また、洗浄液を加熱するとともに、加熱した洗浄液を基体の上部から基体表面に流下させるとともに基体表面に流下させた濾過循環させることで、洗浄液を多量に用いることなく感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を行うことができる。
【０２０９】
請求項２６記載の発明によれば、請求項２５記載の基体再生方法において、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄に際しての基体表面の表面粗さの変化を抑制することができるので、基体をより確実に再生することができる。
【０２１０】
請求項２７記載の発明によれば、請求項２５記載の基体再生方法において、洗浄液供給手段による洗浄液の供給停止後に、洗浄新液を供給することで基体表面の再汚染を抑制することができ、また、基体表面の再汚染によって以降の工程での汚染発生を抑制することができるので、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を確実に行うことができる。
【０２１１】
請求項２８記載の発明によれば、請求項２５記載の基体再生方法において、基体の下端側において内周側に回り込んだ感光層成分を除去することができるので、感光層成分が以降の工程に持ち越されることがなく、以降の工程における汚染を防止することができる。
【０２１２】
請求項２９記載の発明によれば、請求項２５記載の基体再生方法において、Ｎメチルピロリドン溶剤またはＮメチルピロリドンと２−ブトキシエタノールの混合溶剤は高沸点であり蒸発し難いが、この混合溶剤による感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄後に低沸点洗浄液を基体表面に供給することにより、除去洗浄後の基体表面を迅速に乾燥させることができるので、除去洗浄後の基体表面に塵等の異物が付着することを防止し、以降の工程における汚染を防止することができる。ここで、基体または円形内巻きブラシの少なくとも一方を基体の軸心周りに回転させ、基体または円形内巻きブラシの少なくとも一方を基体の軸心方向に沿って相対移動させることにより、除去洗浄後の基体表面をより迅速に乾燥させることができるので、除去洗浄後の基体表面に塵等の異物が付着することをより効果的に防止することができる。
【０２１３】
請求項３０記載の発明によれば、請求項２９記載の基体再生方法において、前工程において若干でも基体が汚染されていると濾過した低沸点洗浄液を繰り返し利用することにより低沸点洗浄液の汚染が増加して、低沸点洗浄液を供給することによる基体表面の２次汚染が懸念されるが、低沸点洗浄新液を基体表面に供給することにより基体表面の再汚染を確実に抑制することができ、また、基体表面の再汚染によって以降の工程での汚染発生を抑制することができるので、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄を確実に行うことができる。
【０２１４】
請求項３１記載の発明によれば、請求項２９記載の基体再生方法において、基体の下端側において内周側に回り込んだ感光層成分を確実に除去し、除去後の基体を迅速に乾燥させることができるので、以降の工程における汚染をより確実に防止することができる。
【０２１５】
請求項３２記載の発明によれば、請求項２５記載の基体再生方法において、感光層と熱硬化性樹脂を含有する層の除去洗浄に際して、特に、基体の下端側となる部分での感光層成分の残留を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態の金属基体洗浄装置の構成を示す説明図である。
【図２】感光体を示す説明図である。
【図３】第１洗浄槽の内部構成を示す斜視図である。
【図４】接触部材支持機構の配置について説明する平面図である。
【図５】接触部材支持機構を示す斜視図である。
【図６】その平面図である。
【図７】直線ブレードを示す側面図である。
【図８】別の接触部材支持機構を示す平面図である。
【図９】第２洗浄槽の内部構造を示す断面図である。
【図１０】感光体を搭載する電子写真方式の画像形成装置において、レーザービームを用いた光書き込みによる画像形成に際しての画像欠陥の一つとして、干渉縞状模様が発現するプロセスを説明するための説明図である。
【図１１】円筒状金属基体の外径表面の粗さと電荷発生層の表面粗さとの関係を示す説明図である。
【図１２】熱硬化性樹脂と酸化チタンを含有する下引き層と、その表面に形成された電荷発生層の表面粗さと、電荷輸送層の表面粗さとの関係を示す説明図である。
【符号の説明】
１      基体再生装置
５      洗浄槽
６      第２の洗浄槽
７      搬送手段
８      ブレード接触機構
９      円形外巻きブラシ
１３      円形内巻きブラシ
１４      第２の円形外巻きブラシ
３２      ブレード部材
３２ａ    当接部
３２ｂ    溝
３８      ブレードホルダ
４０      付勢部材
１００      基体
１０１      感光層
１０２      下引き層
１０３      電荷発生層
１０４      電荷輸送層
Ａ      機能分離型有機感光体
【図１】
2005043591.tif 000003
【図２】
2005043591.tif 000004
【図３】
2005043591.tif 000005
【図４】
2005043591.tif 000006
【図５】
2005043591.tif 000007
【図６】
2005043591.tif 000008
【図７】
2005043591.tif 000009
【図８】
2005043591.tif 000010
【図９】
2005043591.tif 000011
【図１０】
2005043591.tif 000012
【図１１】
2005043591.tif 000013
【図１２】
2005043591.tif 000014