(57)【要約】【課題】    本発明は，電子材料，塗料，インキ用材料等として有用な光硬化性を有する感光性樹脂およびこのものを含有する被覆剤であって、基材たるポリエチレンテレフタレートフィルムに対する密着性に優れる光硬化塗膜を形成し得る被覆剤を提供することを目的とする。【解決手段】  下記一般式（１）で示される感光性樹脂。【化１】2005171009.tif 000010    【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示される感光性樹脂。
【化１】
2005171009.tif 000009
【請求項２】
請求項１記載の感光性樹脂を含有することを特徴とする被覆剤。
【請求項３】
一般式（１）で示される感光性樹脂以外の他の感光性成分、光重合開始剤、有機溶剤及び無機粒子からなる群より選ばれる少なくも１種を含有することを特徴とする請求項２記載の被覆剤。
【請求項４】
ポリエチレンテレフタレート被覆用であることを特徴とする請求項２又は３記載の被覆剤。
【請求項５】
請求項２又は３記載の被覆剤を、ポリエチレンテレフタレート上に塗布し、硬化塗膜を形成してなるポリエチレンテレフタレート積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光硬化性を有する感光性樹脂およびこのものを含有する被覆剤に関する。さらに本発明は，感光性樹脂を含有する被覆剤を，ポリエチレンテレフタレート上に塗布し、硬化塗膜を形成してなるポリエチレンテレフタレート積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
光硬化性を示す樹脂は，硬化に要する時間がきわめて短く，硬化の際に基材にあまり熱がかからない特徴を有しており，電子材料分野，塗料分野，インキ分野などに多岐にわたって使用されている。特に熱による損傷を受け易い基材に対して好適に用いられる。
【０００３】
一方，ポリエチレンテレフタレートフィルムは，安価で大量生産が可能であり，成型性が容易，軽量である，着色が容易，錆びない，耐衝撃性が高い，電気絶縁性を有する，耐水・耐薬品などの化学的抵抗性を有する，透明形成が容易である，などの特性から幅広く使用されているが，表面が傷つきやすいという欠点をもっている。
この傷付き易さは，ポリエチレンテレフタレートフィルム表面の傷のみならず，傷の部分にゴミが付着して製品の美観を損ねるという問題もある。
この傷つき易さを改良する目的で，ポリエチレンテレフタレートフィルム表面を塗工剤で被覆することが行われるが，熱硬化型の塗工剤を用いると硬化の際の加熱処理によりポリエチレンテレフタレートフィルムが熱変形するおそれがある。そこで，感光性を有する樹脂組成物を塗工し，光硬化反応によってポリエチレンテレフタレートフィルム表面を被覆して傷つきを防止している。
しかしながら，従来から感光性樹脂組成物は、一般に硬化時の硬化歪みが熱硬化型樹脂組成物に比して大きく、硬化塗膜の基材に対する密着性が劣る。特に、ポリエチレンテレフタレート基材に対する密着性が極めて悪い。そこで、硬化塗膜とポリエチレンテレフタレートフィルムとの密着性向上の為に，ポリエチレンテレフタレートフィルムにポリエステル樹脂やアクリル樹脂などを使用して予めプライマー加工を行ったり，ポリエチレンテレフタレートにポリエステル樹脂やアクリル樹脂などを練り込んだ樹脂組成物をフィルム化したりした、易接着性ポリエチレンテレフタレートフィルムが用いられることが多い。しかし、このような易接着性ポリエチレンテレフタレートフィルムは，価格が高いという欠点があった。
そこで、基材たるポリエチレンテレフタレートフィルムに、上記したような特別の易接着処理を施さなくとも、密着性の良い感光性樹脂組成物が求められている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は，電子材料，塗料，インキ用材料等として有用な光硬化性を有する感光性樹脂およびこのものを含有する被覆剤であって、基材たるポリエチレンテレフタレートフィルムに対する密着性に優れる光硬化塗膜を形成し得る被覆剤を提供することを目的とする。
さらに、本発明は、密着性に優れる光硬化塗膜とポリエチレンテレフタレートフィルムとの積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
すなわち，第１の発明は、下記一般式（１）で示される感光性樹脂である。
【化１】
2005171009.tif 000002
【０００６】
第２の発明は，前記一般式（１）の感光性樹脂を含有することを特徴とする被覆剤であり，第３の発明は，前記一般式（１）で示される感光性樹脂以外の他の感光性成分、光重合開始剤、有機溶剤及び無機粒子からなる群より選ばれる少なくも１種を含有することを特徴とする被覆剤である。
【０００７】
第４の発明は，前記被覆剤がポリエチレンテレフタレート被覆用であることを特徴とする被覆剤であり，第５の発明は，前記被覆剤を、ポリエチレンテレフタレート上に塗布し、硬化塗膜を形成してなるポリエチレンテレフタレート積層体に関する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明により、電子材料，塗料，印刷等の各種分野で使用されるポリエチレンテレフタレートに対して密着性に優れる硬化塗膜を形成し得る感光性被覆剤を提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
［一般式（１）で示される本発明の感光性樹脂］
一般式（１）で示される本発明の感光性樹脂は、例えば、下記一般式（４）にて示されるフェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂に、カルボキシル基と感光性不飽和二重結合とを有する化合物を反応させることによって、得ることができる。カルボキシル基とエポキシ樹脂中のグリシジル基とが反応し、グリシジル基が開裂し、水酸基とエステル結合とが生成する。
【００１０】
【化２】
2005171009.tif 000003
【００１１】
一般式（４）にて示されるフェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂は、種々の方法で得ることができる。
例えば、フェノール類／ナフトール類共縮合樹脂中のフェノール性水酸基をグリシジルエーテル化して、一般式（４）にて示されるフェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂を得ることができる。
【００１２】
＜フェノール類／ナフトール類共縮合樹脂＞
フェノール類／ナフトール類共縮合樹脂は、種々の方法で得ることができる。
フェノール類とナフトール類とホルムアルデヒド発生源物質とを酸性触媒の存在下に反応させて下記一般式（３）で示されるフェノール類／ナフトール類共縮合樹脂を得ることができる。
【００１３】
【化３】
2005171009.tif 000004
【００１４】
一般式（３）で示されるフェノール類／ナフトール類共縮合樹脂を得る際に用いられるフェノール類としては、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２，６−ジメチルフェノール、２，４−ジメチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェノール、２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、ｐ−オクチルフェノール等の炭素数１〜１０のアルキル基を有する置換フェノール、臭素化フェノール等のハロゲン原子を有する置換フェノール、２−アリルフェノール等のアリル基を有する置換フェノール等が挙げられ、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾールが好ましい。これらフェノール類は、単独でまたは２種以上を混合して使用することも出来る。
【００１５】
一般式（３）で示されるフェノール類／ナフトール類共縮合樹脂を得る際に用いられるナフトール類としては、α−ナフトール、アルキル（メチル、エチル、プロピル、ブチル等の炭素数１〜１０のアルキル基）置換α−ナフトール、ハロゲン（塩素、臭素、ヨウ素等）置換α−ナフトール、アリル置換α−ナフトール等、
β−ナフトール、アルキル（メチル、エチル、プロピル、ブチル等の炭素数１〜１０のアルキル基）置換β−ナフトール、ハロゲン（塩素、臭素、ヨウ素等）置換β−ナフトール、アリル置換β−ナフトール等が挙げられ、αナフトール、β−ナフトールが好ましい。
【００１６】
一般式（３）で示されるフェノール類／ナフトール類共縮合樹脂を得る際に用いられるホルムアルデヒド発生源物質としては、塩基性条件下にホルムアルデヒドを発生する物質であり、パラホルムアルデヒド、トリオキサン、テトラオキサン等が挙げられる。
【００１７】
フェノール類とナフトール類とホルムアルデヒド発生源物質との反応は、フェノール類とナフトール類とを混合後、その混合物とホルムアルデヒド発生源物質とを酸性条件下に反応させればよい。
フェノール類とナフトール類との割合は、１０：９０〜９０：１０（モル％）であることが重要であり、３０：７０〜７０：３０であることが好ましく、４０：６０〜６０：４０であることが好ましい。ナフトール類が９０モル％を超えると共縮合樹脂を得る際にゲル化し易い。一方、ナフトール類が１０モル％未満だと、共縮合樹脂をグリシジルエーテル化し、次いで感光性不飽和二重結合を導入した感光性樹脂を用いても、ポリエチレンテレフタレートに対する密着性は確保できない。
【００１８】
ナフトール類由来のナフタレン骨格を有する場合に、ポリエチレンテレフタレートに対する密着性がなぜ向上するか、以下のよう考察している。エポキシ樹脂中のグリシジル基とカルボキシル基とを反応させると、２級の水酸基が生成する。ナフタレン骨格は平面構造を構成するので、硬化塗膜中に含まれる水酸基がポリエチレンテレフタレートフィルムとの界面に効率的に配向、偏在し、密着性向上に寄与するものと考察される。
【００１９】
フェノール類とナフトール類とアルデヒド発生源物質とを反応させる場合、特開２０００−５３７３９号公報に記載されるように、ナフトール類とアルデヒド発生源物質とを塩基性触媒の存在下に先に反応させ、ナフトールメチロール体を得、次いでナフトールメチロール体とフェノール類とを反応させることもできる。
【００２０】
ナフトール類とアルデヒド発生源物質との反応は、ナフトール類１モルに対して、通常ホルムアルデヒド発生源物質０．９〜１．３モル（ホルムアルデヒドとして）を塩基性条件下、５〜４０℃で、５分〜５時間行う。反応は通常塩基性触媒の存在下に行う。
用いうる塩基性触媒の具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられ、水酸化ナトリウムが好ましい。塩基性触媒の使用量はナフトール類１モルに対して通常０．０２〜１．５当量である。反応は、トルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン等の溶剤中で行うこともでき、この場合の溶剤の使用量は仕込んだ原料の総重量に対して通常３０〜３００重量％である。
反応終了後、塩酸、硫酸等の酸性物質を中和剤として用い、例えば中和剤を含む水溶液で分液抽出操作を反応混合物の洗浄液のｐＨが４〜７、好ましくは５〜７になるまで洗浄を繰り返し、更に必要により溶媒等を留去することにより、目的とする生成物を得ることができる。
【００２１】
こうして得られたナフトール類とホルムアルデヒド発生源物質との反応生成物であるナフトールメチロール体という）と、フェノール類を酸性触媒の存在下において縮合し、フェノール類／ナフトール類共縮合樹脂を得ることができる。ナフトールメチロール体１モルに対して、フェノール類は０．４〜１．１モルであることが好ましく、０．５〜１．０モルであることがより好ましい。
反応温度は通常５〜１８０℃、好ましくは３０〜１３０℃である。反応時間は通常１〜３０時間、好ましくは２〜２５時間である。尚、反応中生成する水を分留管等を用いて反応系外に除去することは、反応を速やかに行う上で好ましい。
【００２２】
共縮合樹脂を得る際の反応においては酸触媒を用いる。
酸触媒としては種々のものが使用できるが塩酸、硫酸、ｐ−トルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機あるいは無機酸、三弗化ホウ素、無水塩化アルミニウム、塩化亜鉛等のルイス酸が好ましく、特にｐ−トルエンスルホン酸、硫酸、塩酸が好ましい。
これら酸触媒の使用量は特に限定されるものではないが、ナフトールメチロール体を用いる場合には、ナフトールメチロール体１００重量部に対して０．０５〜５０重量部であることが好ましく、０．１〜２０重量部であることが好ましい。
【００２３】
共縮合反応は、無溶剤下で、あるいは溶剤の存在下で行うことができる。
溶剤を使用する場合の具体例としてはトルエン、キシレン、メチルイソブチルケトン、水などが挙げられ、これらは単独で用いてもよく、２種以上用いてもよい。溶剤の使用量は仕込んだ原料の総重量に対して通常５０〜３００重量％、好ましくは１００〜２５０重量％である。
【００２４】
反応終了後、一般的なフェノール樹脂を得る場合と同様に、反応混合物の水洗浄液のｐＨ値が３〜７、好ましくは５〜７になるまで水洗処理を繰り返す。水洗処理は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムなどのアルカリ土類金属水酸化物、アンモニア、リン酸二水素ナトリウムさらにはジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、アニリン、フェニレンジアミンなどの有機アミンなど様々な塩基性物質等を中和剤として用いて行ってもよい。また水洗処理の場合は常法に従って行えばよい。例えば反応混合物中に上記中和剤を溶解した水を加え分液抽出操作を繰り返す。
得られるフェノール類／ナフトール類共縮合樹脂の縮合度は、１．５〜２０程度であることが重要であり、２〜１０であることが好ましい。
縮合度が小さすぎると、硬化後の塗膜が脆くなり、一方、２０を超える縮合度の大きな共縮合樹脂は、ゲル化し易く得ること自体が困難である。
【００２５】
＜フェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂＞
一般式（４）にて示されるフェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂は、上記したように種々の方法で得たフェノール類／ナフトール類共縮合樹脂をグリシジルエーテル化したものである。例えば、フェノール類／ナフトール類共縮合樹脂中のフェノール性水酸基に、エピハロヒドリンを反応させることによって、フェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂が得られる。
この反応に使用されるエピハロヒドリンとしては、エピクロルヒドリン、エピブロムヒドリン、エピヨードヒドリン等があるが、工業的に入手し易く安価なエピクロルヒドリンが好ましい。この反応は従来公知の方法に準じて行うことが出来る。
【００２６】
例えば、フェノール／ナフトール共縮合樹脂とエピクロルヒドリンの混合物に水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の固体を添加し、または添加しながら２０〜１２０℃で０．５〜１０時間反応させる。この際アルカリ金属水酸化物は水溶液を使用してもよく、その場合は該アルカリ金属水酸化物を連続的に添加すると共に反応混合物中から減圧下、または常圧下、連続的に水及びエピクロルヒドリンを留出せしめ更に分液し水は除去しエピクロルヒドリンは反応混合中に連続的に戻す方法でもよい。
【００２７】
上記の方法において、エピクロルヒドリンの使用量は、フェノール／ナフトール共縮合樹脂中のフェノール性水酸基１当量に対して通常０．５〜２０モル、好ましくは０．７〜１０モルである。アルカリ金属水酸化物の使用量は本発明のナフトール樹脂中の水酸基１当量に対し通常０．５〜１．５モル、好ましくは０．７〜１．２モルである。ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等の非プロトン溶媒を添加することにより下記に定義する加水分解性ハロゲン量の低いエポキシ樹脂が得られ、このエポキシ樹脂は電子材料封止用途に適する。非プロトン性極性溶媒の使用量はエピクロルヒドリンの重量に対し５〜２００％、好ましくは１０〜１００％である。上記の溶媒以外にもメタノール、エタノールとのアルコール類を添加することによっても反応が進み易くなる。また、トルエン、キシレン等も使用することができる。ここで加水分解性ハロゲン量とは、例えば該エポキシ樹脂をジオキサンに入れ、数十分還流しながらＫＯＨ／エタノール溶液で滴定することにより測定することができる。
【００２８】
また、フェノール／ナフトール共縮合樹脂と過剰のエピハロヒドリンの混合物にテトラメチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジルアンモニウムクロライドなどの第四級アンモニウム塩を触媒として使用し、５０〜１５０℃で１〜１０時間反応させ、得られる本発明のナフトール樹脂のハロヒドリンエーテルに水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の固体または水溶液を加え、再び２０〜１２０℃で１〜１０時間反応させてハロヒドリンエーテルを閉環させて本発明のエポキシ樹脂を得ることもできる。この場合の第四級アンモニウム塩の使用量は本発明のナフトール樹脂の水酸基１当量に対して通常０．００１〜０．２モル、好ましくは０．０５〜０．１モルである。
【００２９】
通常これらの反応生成物は水洗後、または水洗無しに加熱減圧下、過剰のエピハロヒドリンを除去した後、再びトルエン、メチルイソブチルケトン等の溶媒に溶解し、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物の水溶液を加えて再び反応を行う。この場合アルカリ金属水酸化物の使用量は、フェノール／ナフトール共縮合樹脂のフェノール性水酸基１当量に対して通常０．０１〜０．２モル、好ましくは０．０５〜０．１モルである。反応温度は通常５０〜１２０℃、反応時間は通常０．５〜２時間である。
【００３０】
反応終了後、副生した塩をろ過、水洗などにより除去し、更に加熱減圧下、トルエン、メチルイソブチルケトン等の溶媒を留去することにより加水分解性ハロゲン量の少ない本発明のエポキシ樹脂を得ることができる。
【００３１】
一般式（４）にて示されるフェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂は、市販品としても入手することができ、例えば日本化薬（株）製のＮＣ−７０００Ｌ、ＮＣ−７０００Ｈ等が挙げられる。
【００３２】
＜一般式（１）にて示される感光性樹脂＞
「発明を実施するための最良の形態」の項の冒頭にも記載したように、一般式（１）にて示される本発明の感光性樹脂は、フェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂中のグリシジル基を、カルボキシル基と感光性不飽和二重結合とを有する化合物と反応させることによって、得ることができる。
【００３３】
カルボキシル基と感光性不飽和二重結合とを共に有する化合物としては、アクリル酸、ないしメタクリル酸が挙げられ、両者を併用することもできる。
これらカルボキシル基と感光性不飽和二重結合とを共に有する化合物は、グリシジル基とカルボキシル基とが、グリシジル基：カルボキシル基＝１００：３０〜１００となるように反応させることが好ましい。即ち、一般式（１）にて示される感光性樹脂は、Ｄ1、Ｄ2として示されるような種々の基を有する化合物が複数種混ざり合った状態にあるが、Ｄ1、Ｄ2の１００個のうち、少なくとも３０個以上は感光性の官能基を有するものであることが重要である。感光性の官能基が少ないと、ポリエチレンテレフタレートに対する密着性が低下すると共に、低硬度となる。つまり、一般式（１）にて示される感光性樹脂には、下記一般式（２）で示される感光性樹脂が主成分として含まれることが好ましい。
【００３４】
【化４】
2005171009.tif 000005
【００３５】
＜触媒＞
フェノール／ナフトール共縮合型エポキシ樹脂中のグリシジル基と、カルボキシル基とを反応させる場合には、アミン類等の触媒を添加して行なっても良い。使用される触媒としては、公知の触媒を使用することができる。触媒は、以下の化合物が挙げられる。触媒の好ましい具体例を以下に示すが、本発明は、これらに何ら限定されるものではない。
【００３６】
（１）３級アミン類及び／又はその塩類トリエチルアミン、トリブチルアミン、ベンジルジメチルアミン、2,4,6-トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、Ｎ−メチルピペラジン等
（２）イミダゾール類及び／又はその塩類２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、2,4−ジシアノ−６−[２−メチルイミダゾリル−（１）]−エチル−Ｓ−トリアジン等
【００３７】
（３）ジアザビシクロ化合物類
1,5−ジアザビシクロ［5.4.0］−７−ウンデカン、1,5−ジアザビシクロ［4.3.0］−５−ノネン、1,4−ジアビシクロ［2.2.2］オクタン等
（４）ホスフィン類
トリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（ジメトキシフェニル）ホスフィン、トリス（ヒドロキシプロピル）ホスフィン、トリス（シアノエチル）ホスフィン等
（５）ホスホニウム塩類
テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリブチルホスホニウムテトラフェニルボレート、メチルトリシアノエチルホスホニウムテトラフェニルボレート等
【００３８】
本発明で用いられるエポキシ樹脂と触媒の配合割合は、エポキシ樹脂１００重量部に対し、触媒が０.０１〜１０重量部であることが好ましい。触媒が０.０１重量部未満であると反応が遅くなり、１０重量部を越えると硬化物の耐水性が低下するため好ましくない。
【００３９】
グリシジル基とカルボキシル基とを反応させるときには、用いるエポキシ樹脂の軟化温度が反応温度範囲よりも低い場合には無溶剤にて行うことができる。また、用いるエポキシ樹脂の軟化温度に関わらず適当な溶剤を用いて行うこともできる。この時用いる溶剤としては、グリシジル基、水酸基、カルボキシル基と反応しないものであれば特に制限なく用いることができる。例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、アセトン、ベンゼン等の公知の溶剤を使用できる。
【００４０】
［被覆剤］
上記の感光性樹脂を用いて感光性被覆剤を得ることできる。
本発明の被覆剤には、上記感光性樹脂以外の他の感光性成分（以下、その他の感光性成分という）、光重合開始剤、有機溶剤及び無機粒子からなる群より選ばれる少なくも１種を含有することができる。
【００４１】
＜その他の感光性成分＞
本発明の被覆剤に用いられるその他の感光性成分としては、感光性不飽和二重結合を有する化合物を例示することができる。
感光性不飽和二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリル系化合物、脂肪酸ビニル化合物、アルキルビニルエーテル化合物、α−オレフィン化合物、ビニル化合物、エチニル化合物などが挙げられる。これら感光性不飽和二重結合を有する化合物は、水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミド基、シラノール基などの官能基をさらに有してもいてもよい。
【００４２】
（メタ）アクリル系化合物としては、アルキル系（メタ）アクリレート、アルキレングリコール系（メタ）アクリレート、カルボキシル基と不飽和二重結合とを有する化合物、水酸基を有する（メタ）アクリル系化合物、窒素含有（メタ）アクリル系化合物等がある。
【００４３】
更に具体的に例示すると、アルキル系（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ノナデシル（メタ）アクリレート、イコシル（メタ）アクリレート、ヘンイコシル（メタ）アクリレート、ドコシル（メタ）アクリレート等の炭素数1〜２２のアルキル（メタ）アクリレートがあり、極性の調節を目的とする場合には好ましくは炭素数2〜10、さらに好ましくは炭素数2〜8のアルキル基を有するアルキル基含有アクリレートまたは対応するメタクリレートが挙げられる。レベリング性の調節等を目的とする場合には炭素数６以上が好ましい。
【００４４】
また、アルキレングリコール系(メタ)アクリレートとしては、例えば、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）等、末端に水酸基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタアクリレート等、
メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の末端にアルコキシ基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタアクリレート等、
フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレートなど末端にフェノキシまたはアリールオキシ基を有するポリオキシアルキレン系アクリレートまたは対応するメタアクリレートがある。
【００４５】
さらに、カルボキシル基及び不飽和二重結合含有化合物としては、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、または、これらのアルキルもしくはアルケニルモノエステル、フタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、イソフタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、テレフタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、コハク酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、けい皮酸等を例示することが出来る。
【００４６】
水酸基含（メタ）アクリル系化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、４-ヒドロキシビニルベンゼンなどが挙がられる。
【００４７】
窒素含有（メタ）アクリル系化合物としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロポキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ペントキシメチル−（メタ）アクリルアミドなどのモノアルキロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メチロール）アクリルアミド、Ｎ−メチロール−Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−メトキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−プロポキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（プロポキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（プロポキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ブトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（メトキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ペントキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−Ｎ−（ペントキシメチル）メタアクリルアミドなどのジアルキロール（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド系不飽和化合物、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレートメチルエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン等のジアルキルアミノ基を有する不飽和化合物および対イオンとしてＣｌ-，Ｂｒ-，Ｉ-等のハロゲンイオンまたはＱＳＯ３-（Ｑ：炭素数1〜12アルキル基）を有するジアルキルアミノ基含有不飽和化合物の4級アンモニウム塩を例示できる。
【００４８】
更にその他の不飽和化合物としては、パーフルオロメチルメチル（メタ）アクリレート、パーフルオロエチルメチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロブチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロイソノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロデシルエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロプロピルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルアミル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルウンデシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基を有するパーフルオロアルキルアルキル（メタ）アクリレート類；パーフルオロブチルエチレン、パーフルオロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、パーフルオロデシルエチレン等のパーフルオロアルキル、アルキレン類等のパーフルオロアルキル基含有ビニルモノマー、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス（βメトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、γ-（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシリル基含有ビニル化合物及びその誘導体、グリシジルアクリレート、３、４-エポキシシクロヘキシルアクリレートなどのグリシジル基含有アクリレートなどを挙げることができ、これらの群から複数用いることができる。
【００４９】
脂肪酸ビニル化合物としては、酢酸ビニル、酪酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ヘキサン酸ビニル、カプリル酸ビニル、ラウリル酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等が挙げられる。
アルキルビニルエーテル化合物としては、ブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等が挙げられる。
α−オレフィン化合物としては、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン等が挙げられる。
ビニル化合物としては、酢酸アリル、アリルアルコール、アリルベンゼン、シアン化アリル等のアリル化合物、シアン化ビニル、ビニルシクロヘキサン、ビニルメチルケトン、スチレン、α-メチルスチレン、2-メチルスチレン、クロロスチレン、などが挙げられる。
エチニル化合物としては、アセチレン、エチニルベンゼン、エチニルトルエン、１−エチニル−１−シクロヘキサノール等が挙げられる。これらは単独もしくは２種類以上を併用して使用することもできる。
【００５０】
＜光重合開始剤＞
光重合開始剤は、紫外線により硬化させる場合に添加される。なお、電子線により硬化させる場合には開始剤は特に必要ではない。
光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルフォスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物等が使用できる。
【００５１】
具体的にモノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、4-メチル-ベンゾフェノン、2,4,6-トリメチルベンゾフェノン、メチル-o-ベンゾイルベンゾエート、4-フェニルベンゾフェノン、4-(4-メチルフェニルチオ)フェニル-エネタノン、3,3'-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン、4-(1,3-アクリロイル-1,4,7,10,13-ペンタオキソトリデシル)ベンゾフェノン、3,3'4,4'-テトラ(t-ブチルペルオキシカルボニル)ベンゾフェノン、4-ベンゾイル-N,N,N-トリメチルベンゼンメタアンモニウムクロリド、2-ヒドロキシ-3-(4-ベンゾイル-フェノキシ)-N,N,N-トリメチル-1-プロパンアミン塩酸塩、4-ベンゾイル-N,N-ジメチル-N-[2-(1-オキソ-2-プロペニルオキシエチル)メタアンモニウム臭酸塩、2-/4-iso-プロピルチオキサントン、2,4-ジエチルチオキサントン、2,4-ジクロロチオキサントン、1-クロロ-4-プロポキシチオキサントン、2-ヒドロキシ-3-(3,4-ジメチル-9-オキソ-9Hチオキサントン-2-イロキシ)-N,N,N-トリメチル-1-プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン-3-メチルナフト(1,2-d)チアゾリン等が挙げられる。
ジカルボニル化合物としては、1,7,7-トリメチル-ビシクロ[2.1.1]ヘプタン-2,3-ジオン、ベンザイル、2-エチルアントラキノン、9,10-フェナントレンキノン、メチル-α-オキソベンゼンアセテート、4-フェニルベンザイル等が挙げられる。
【００５２】
アセトフェノン化合物としては、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-(4-イソプロピルフェニル)2-ヒドロキシ-ジ-2-メチル-1-フェニルプロパン-1-オン、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニルケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-スチリルプロパン-1-オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2,2-ジエトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モルホリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-(4-モルホリノ-フェニル)ブタン-1-オン、1-フェニル-1,2-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルボニル)オキシム、3,6-ビス(2-メチル-2-モルホリノ-プロパノニル)-9-ブチルカルバゾール等が挙げられる。
【００５３】
ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル等が挙げられる。
アシルフォスフィンオキシド化合物としては、2,4,6-トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、4-n-プロピルフェニル-ジ(2,6-ジクロロベンゾイル)ホスフィンオキシド等が挙げられる。
アミノカルボニル化合物としては、メチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、エチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2-nブトキシエチル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、イソアミル-4-(ジメチルアミノ)ベンゾエート、2-(ジメチルアミノ)エチルベンゾエート、4,4'-ビス-4-ジメチルアミノベンゾフェノン、4,4'-ビス-4-ジエチルアミノベンゾフェノン、2,5'-ビス-(4-ジエチルアミノベンザル)シクロペンタノン等が挙げられる。
【００５４】
これらは上記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力があればどのようなものでも構わない。これらは単独使用または併用することができ、使用量に制限はないが、被硬化物の乾燥重量の合計１００重量部に対して１〜２０重量部の範囲で添加されるのが好ましい。また、増感剤として公知の有機アミンを加えることもできる。
尚、本発明の被覆剤には、ラジカル重合用の上記光重合開始剤の他に、さらにカチオン重合用の光重合開始剤も併用することができる。
【００５５】
＜有機溶剤＞
有機溶剤を含まない感光性樹脂組成物としても、有機溶剤を含む感光性樹脂組成物も、いずれも本発明の被覆剤として用いることができる。
有機溶剤を含む場合には、各種基材に塗布し、前記有機溶剤を揮発させた後に硬化に必要な紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照射すればよい。
本発明の被覆剤に用いられる有機溶剤としては、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルプロピレングリコールアセテート等が挙げられる。
【００５６】
＜無機粒子＞
本発明の被覆剤は、種々の目的のためにさまざまな無機粒子を含むことができる。
感光性被覆剤は、一般に熱硬化性被覆剤に比して硬化歪みが大きく、基材に対する密着性を確保することが難しい。本発明の被覆剤は、無機粒子を含まなくても基材に対する密着性に優れるものではあるが、硬化塗膜の硬度を高め、硬化塗膜表面の傷付きを防止する観点から無機粒子を含有することが好ましい。
また、導電性の求められる用途に用いられる場合には、導電性付与の観点から導電性を有する無機粒子を含有することもできる。
【００５７】
本発明の被覆剤に用いられる無機粒子としては、珪素酸化物，マグネシウム酸化物，珪素酸化物とマグネシウム酸化物の共酸化物，カルシウム酸化物，バリウム酸化物，硼素酸化物，アルミニウム酸化物，インジウム酸化物，ゲルマニウム酸化物，錫酸化物，亜鉛酸化物，チタン酸化物，ジルコウム酸化物，セシウム酸化物、インジウム錫酸化物、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化アルミニウムが挙げられる。
これらの無機粒子は、本発明の被覆剤の用いられる用途に応じて、適宜単独で、あるいは、適宜複数を併用することができる。
尚、本発明の被覆剤を紫外線で硬化する場合、被覆剤が不透明になると無機粒子は硬化性の観点から好ましくないので、着色はしても透明性に優れる無機粒子が好ましく、無色のものがより好ましい。
【００５８】
本発明の被覆剤には、この他、本発明の被覆剤の目的、即ちポリエチエレンテレフタレートに対する密着性を損なわない範囲で任意成分として、さらに染料、酸化防止剤、重合禁止剤、レベリング剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、電磁波シールド剤等を適宜添加することができる。
【００５９】
本発明の被覆剤は、公知のラジエーション硬化方法により硬化させ硬化物とすることができ、活性エネルギー線としては、電子線、紫外線、４００〜５００ｎｍの可視光を使用することができる。
照射する電子線の線源には熱電子放射銃、電界放射銃等が使用できる。また、紫外線および４００〜５００ｎｍの可視光の線源（光源）には、例えば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。具体的には、点光源であること、輝度の安定性から、超高圧水銀ランプ、キセノン水銀ランプが用いられることが多い。照射する活性エネルギー線量は、５〜２０００ｍＪの範囲で適時設定できるが、工程上管理しやすい５０〜１０００ｍＪの範囲であることが好ましい。
また、これら紫外線または電子線と、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱の併用も可能である。
【００６０】
本発明の被覆剤は、基材に塗工後、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化を行っても良いし、塗工に続いてラジエーション硬化させた後に自然または強制乾燥しても構わないが、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化した方が好ましい。電子線で硬化させる場合は、水による硬化阻害又は有機溶剤の残留による塗膜の強度低下を防ぐため、自然または強制乾燥後にラジエーション硬化を行うのが好ましい。ラジエーション硬化のタイミングは塗工と同時でも構わないし、塗工後でも構わない。
本発明の被覆剤は、ポリエチレンテレフタレート基材に塗布することが好適であるが、ポリエチレンテレフタレート以外の各種基材に適用することも可能である。
【００６１】
［ポリエチレンテレフタレート積層体］
本発明のポリエチレンテレフタレート積層体は、上記の被覆剤をポリエチレンテレフタレート上に塗布し、これを硬化し、硬化塗膜をポリエチレンテレフタレート上に形成してなるものである。
本発明のポリエチレンテレフタレート積層体におけるポリエチレンテレフタレート基材としては、全く何も表面処理を施さないポリエチレンテレフタレートはもちろん、表面をコロナ処理してなるポリエチレンテレフタレートを用いることもできる。基材たるポリエチレンテレフタレートは、フィルム状（シート状ともいう）であることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚みは、用途によっても様々であるが、約１２〜２５０μｍ程度であることが好ましい。
また、硬化塗膜の厚みも用途によっても様々であるが、約０．１〜１０μｍ程度であることが好ましい。
【実施例】
【００６２】
以下に製造例、実施例をもって本発明を詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００６３】
合成例１（樹脂A)
撹拌機、還流冷却管、空気導入管、温度計を備えた４口フラスコに、NC−７０００L（エポキシ当量２２８，軟化点約８９（℃）、１５０℃における粘度：０．７３（Ｐａ・ｓ）、日本化薬株式会社製）１５２ｇ、上記ＮＣ−７０００Ｌ中のグリシジル基１００モル％に対して、カルボキシル基として１００モル％のアクリル酸４８ｇ、４−メトキシフェノール０．１ｇ、シクロヘキサノン２００ｇ，ジメチルベンジルアミン２ｇを仕込んだ。空気を吹き込みながら，８５℃まで昇温して溶解し，次いで１１０℃で８時間撹拌して反応をおこなった。この反応溶液は褐色透明であり，酸価は８．３（mgKOH／g）であった。この樹脂を，樹脂Aとする。
【００６４】
合成例２（樹脂B）
NC−７０００Lの代わりに，NC−７０００H（エポキシ当量２３２，軟化点約９６（℃）、１５０℃における粘度：１．５３（Ｐａ・ｓ）、日本化薬株式会社製）を用いた以外は，実施例１と同様の操作を行った。この反応溶液は褐色透明であり，酸価は７．９（mgKOH／g）であった。この樹脂を樹脂Bとする。
【００６５】
合成例３（樹脂C）
ＮＣ−７０００Ｌ中のグリシジル基１００モル％に対して、カルボキシル基として７５モル％のアクリル酸３６ｇを用いた以外は，実施例１と同様の操作を行った。この反応溶液は褐色透明であり，酸価は３．５（mgKOH／g）であった。この樹脂を樹脂Cとする。
【００６６】
合成例４（樹脂D）
ＮＣ−７０００Ｌ中のグリシジル基１００モル％に対して、カルボキシル基として５０モル％のアクリル酸２４ｇを用いた以外は，実施例１と同様の操作を行った。この反応溶液は褐色透明であり，酸価は３．３（mgKOH／g）であった。この樹脂を樹脂Dとする。
【００６７】
比較合成例１（樹脂X）
ＮＣ−７０００Ｌ中のグリシジル基１００モル％に対して、カルボキシル基として２５モル％のアクリル酸１２ｇを用いた以外は，実施例１と同様の操作を行った。この反応溶液は褐色透明であり，酸価は１．０（mgKOH／g）であった。この樹脂を樹脂Xとする。
【００６８】
比較合成例２（樹脂Y）
撹拌機、還流冷却管、空気導入管、温度計を備えた４口フラスコに下記構造を有するナフタレン骨格のジグリシジルエーテル「HP−４０３２D」（大日本インキ化学工業株式会社製）６６．４ｇ、上記「HP−４０３２D」中のグリシジル基１００モル％に対して、カルボキシル基として１００モル％のアクリル酸３３．６ｇ、４−メトキシフェノール０．０５ｇ、トルエン２００ｇ，ジメチルベンジルアミン１ｇを仕込んだ。空気を吹き込みながら，８５℃まで昇温して溶解し，次いで１１０℃で６時間撹拌して反応をおこなった。この反応溶液は褐色透明であり，酸価は９．７（mgKOH／g），固形分４５％であった。この樹脂を樹脂Yとする。
【００６９】
【化５】
2005171009.tif 000006
【００７０】
比較合成例３（樹脂Z）
HP−４０３２Dの代わりに下記構造を有するジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂「EPICLON  EXA−７２００HH」（エポキシ当量約２８０、平均官能基数：１分子あたり３．３個、大日本インキ化学工業株式会社製）７９．５ｇを用い、上記「EPICLON  EXA−７２００HH」中のグリシジル基１００モル％に対して、カルボキシル基として１００モル％のアクリル酸２０．５ｇを用いた以外は，実施例１と同様の操作を行った。この反応溶液は褐色透明であり，酸価は９．３（mgKOH／g）であった。この樹脂を樹脂Zとする。
【００７１】
【化６】
2005171009.tif 000007
【００７２】
＜ポリエチレンテレフタレートフィルム＞
実施例，比較例ともに２５マイクロメーター厚の東洋紡（株）製E５１００（片面コロナ処理）を使用し，コロナ処理面に塗工した。
【００７３】
＜実施例１，実施例２および比較例２，比較例３＞
合成例１、２及び比較合成例２、３の各樹脂溶液中の樹脂固形分１００部に対して、ラジカル重合用の光開始剤であるイルカギュア（チバガイギー社製）９０７を２重量部，及びイルカギュア（チバガイギー社製）１８４を２重量部加えた。
この被覆剤を，乾燥後の塗膜厚が４〜５μｍになるように上記ポリエチレンテレフタレートフィルムのコロナ処理面に、バーコーダーで塗工した。６０℃で２分間乾燥して溶剤を除去し、メタルハライドランプで積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射することでポリエチレンテレフタレート積層体を作製した。室温で１日経過したポリエチレンテレフタレート積層体について、後述する密着性等の評価をおこなった。
【００７４】
＜実施例３，実施例４，および比較例２＞
合成例３、４及び比較合成例１の各樹脂溶液中の樹脂固形分１００部に対して、ラジカル重合用の光開始剤であるイルカギュア（チバガイギー社製）９０７を１．５重量部及びイルカギュア（チバガイギー社製）１８４を１．５重量部，カチオン重合用のサイラキュアUVI6990（ユニオンカーバイド社製，固形分５０％の炭酸プロピレン溶液）を３重量部加えた。
この被覆剤を，乾燥後の塗膜厚が４〜５μｍになるように上記ポリエチレンテレフタレートフィルムのコロナ処理面に、バーコーダーで塗工した。６０℃で２分間乾燥して溶剤を除去し、メタルハライドランプで積算光量５００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射することでポリエチレンテレフタレート積層体を作製した。６０℃で１時間エージングし，室温に冷却したポリエチレンテレフタレート積層体について、後述する密着性等の評価をおこなった。
【００７５】
＜実施例５，比較例４＞
合成例１及び比較合成例２の各樹脂溶液中の樹脂固形分２５部に対して、無機粒子（石原産業（株）製、酸価スズ系透明導電剤SNS−１０T）７５部，ラジカル重合用の光開始剤であるイルカギュア（チバガイギー社製）９０７を２重量部及びイルカギュア（チバガイギー社製）１８４を２重量部加えた。
この被覆剤を，乾燥後の塗膜厚が４〜５μｍになるように記ポリエチレンテレフタレートフィルムのコロナ処理面に、バーコーダーで塗工した。６０℃で２分間乾燥して溶剤を除去し、メタルハライドランプで積算光量３００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射することでポリエチレンテレフタレート積層体を作製した。室温で１日経過したポリエチレンテレフタレート積層体について，後述する密着性等の評価をおこなった。
【００７６】
＜密着性＞
塗膜面にカッターナイフで１ｍｍ間隔の線を縦横各１１本引き，計１００個の升目を作った。その上にセロハンテープを密着させ，素早くテープを１８０度方向に強制剥離し，残存する升目の数により以下の通り評価した。
剥がれた升目が０〜５のものを５点
剥がれた升目が６〜２０のものを４点
剥がれた升目が２１〜４０のものを３点
剥がれた升目が４１〜７０のものを２点
剥がれた升目が７１〜９９のものを１点
剥がれた升目が１００のものを０点
【００７７】
＜鉛筆硬度＞
JIS K 5400 8.4.2に従って試験した。
鉛筆硬度が
Ｈ以上のものを○
Ｈより低いものを×
として評価した。
【００７８】
＜ヘイズ＞
積層体を濁度計３００Ａ （日本電色工業株式会社製）を用いて測定した。
ヘイズが、
１．０より低いものを○
１．０以上のものを×
として評価した。
【００７９】
【表１】
2005171009.tif 000008
【００８０】
表１の結果より，本発明の感光性樹脂は，鉛筆硬度が高くポリエチレンテレフタレートに対する密着性に優れていることが判る。
これに対し、ナフタレン骨格を有してはいても、感光性不飽和二重結合が少ない比較例１は、硬度はもちろん、ポリエチレンテレフタレートに対する密着性も劣る。
また、ナフタレン骨格は有するがフェノール骨格を有しない比較例２は、硬度が劣るばかりでなく、ポリエチレンテレフタレートに対する密着性が著しく劣る。比較例４は、無機粒子を被覆剤中に添加したので、硬度は向上できたが、ポリエチレンテレフタレートに対する密着性は悪化した。
さらにフェノール骨格は有してはいても、ナフタレン骨格を有してはいない比較例３は、ポリエチレンテレフタレートに対して全く密着しない。