(57)【要約】【課題】フォトマスク及びペリクル並びにペリクル付きフォトマスクを製造したり、半導体集積回路及び液晶表示素子等の製造工程のフォトリソ工程で使用するにあたり、個々のマスクデータを随時書き込み、読み取りが可能なタグを設けたフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスクを提供することを目的とする。【解決手段】透明基板１１の側面の所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグ３２が設けられたフォトマスク１０上に、ペリクルフレーム２１の側面の所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグ３３を設けたペリクル２０を粘着剤２３で固定したＲＦタグにより識別されるペリクル付きフォトマスク３０である。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上にマスクパターンが形成されてなるフォトマスクにおいて、前記フォトマスクの所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグを設けたことを特徴とするＲＦタグにより識別されるフォトマスク。
【請求項２】
ペリクルフレームにペリクル膜が形成されたペリクルにおいて、前記ペリクルの所定位置にペリクル及びマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグを設けたことを特徴とするＲＦタグにより識別されるペリクル。
【請求項３】
前記フォトマスクに前記ペリクルが搭載されてなるペリクル付きフォトマスクにおいて、前記フォトマスク及び前記ペリクル並びに前記ペリクル付きフォトマスクの所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグを設けたことを特徴とするＲＦタグにより識別されるペリクル付きフォトマスク。
【請求項４】
前記フォトマスク、前記ペリクル及び前記ペリクル付きフォトマスクを収納する収納ケースであって、前記収納ケースの所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグを設けたことを特徴とするＲＦタグにより識別される収納ケース。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体集積回路及び液晶表示素子等の製造工程のフォトリソ工程で使用されるフォトマスク及びペリクル付きフォトマスクに関し、特に、ＲＦタグにより識別されるフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスク及び収納ケースに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、半導体集積回路及び液晶表示素子等をフォトリソグラフィ工程で製造する場合にフォトマスクに形成されたパターンを、フォトレジスト等の感光剤を塗布した基板上に投影光学系にて露光する投影露光方式が使用されている。近年、パターン形状の微細化に伴い、使用される露光光は短波長化される傾向にあり、これまで主流だった水銀ランプに代わって、ＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）やＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）を用いた露光装置が実用化されており、半導体集積回路及び液晶表示素子等の製造工程では、かなりの数のフォトマスク及びペリクル付きフォトマスクが使用されている。ここでいうフォトマスクとはレチクルを含む総称として用いている。
【０００３】
このようなフォトマスクは石英等のガラス基板上にクロム及び酸化クロム等からなる遮光薄膜で回路パターン等を形成したもので、塵埃等の異物がフォトマスク表面に付着するのを防止するためにペリクルを装着したペリクル付きフォトマスクが使用されている。ペリクル付きフォトマスクは投影露光方式で主に使用され、フォトマスク上にペリクル膜が形成されたペリクルフレームを搭載したもので、仮にペリクル膜上にゴミが付着しても、投影光学系の焦点はフォトマスク表面のマスクパターンに合わせてあるので、ペリクル膜上のゴミは、ゴミパターンとして被露光面に結像されず、欠陥パターンとして形成されることはない。
【０００４】
これらフォトマスク及びペリクル付きフォトマスクを管理するために、マスクメーカー及び半導体メーカーではそれぞれのマスクの品番、マスク内容等多岐にわたるマスクデータをフォトマスクの所定位置にバーコードシンボルとして表示したり、ペリクル付きフォトマスクの場合はペリクルフレームの側面に品番等を刻印したり、またはＩＤラベルをペリクル側面に表示したりしている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００５】
従来のペリクル付きフォトマスクの一例を図５に示す。ペリクル付きフォトマスク５０はマスクパターンが形成されたフォトマスク上にペリクル膜６２が形成されたペリクルフレーム６１を粘着剤部６３を介して貼り合わせてあり、フォトマスク５１のパターン領域５２外の所定位置に遮光膜等をパターニング処理してバーコードシンボル７１を、粘着剤部の所定位置にＩＤラベル７２を、もしくはペリクルフレーム（金属製）６１の側面に品番等の刻印７３を設けてある。このバーコードシンボル７１、ＩＤラベル７２、刻印７３には、マスク名称、図番等のマスクデータが表示されており、目視、バーコードリーダー等でマスクデータを読みとり、工程管理、検査管理、出荷の際のマスク管理を行っている。
【０００６】
しかしながら、従来のバーコードシンボル７１、ＩＤラベル７２、刻印７３等のマスクデータを読みとる場合、目視の場合は、読み取り間違いを起こし易く、誤った品番のフォトマスク、もしくはペリクル付きフォトマスクを使ってしまうことがる。また、バーコードリーダー等でマスクデータを読みとる場合は、バーコードリーダのある場所しか読みとれず、表示場所が制限される。
また、これらバーコードシンボル、ＩＤラベル、刻印等が形成されたフォトマスク、もし
くはペリクル付きフォトマスクは、マスクケース等に入った状態では、マスクデータを読みとることができないため、マスク出荷の際に、ケースの中のフォトマスク、もしくはペリクル付きフォトマスクを確認したい場合は、再度バーコードシンボル、ＩＤラベル、刻印等を読み込んで確認する必要がある。
さらにまた、製造工程、マスク検査工程中で新たにマスクデータの追加、変更が生じた場合、現状のシステムでは、新たに再度バーコードシンボル、ＩＤラベル等を作製して、貼り直すか、別の追加データとして台帳等に記載、保存しておき、必用なときにマスク名称等で参照することが行われている。
【特許文献１】特開平１１−２３７７２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記問題点に鑑みなされたもので、フォトマスク及びペリクル並びにペリクル付きフォトマスクを製造したり、半導体集積回路及び液晶表示素子等の製造工程のフォトリソ工程で使用するにあたり、個々のマスクデータを随時書き込み、読み取りが可能なタグを設けたフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に於いて上記課題を達成するために、まず請求項１においては、透明基板上にマスクパターンが形成されてなるフォトマスクにおいて、前記フォトマスクの所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグを設けたことを特徴とするＲＦタグにより識別されるフォトマスクとしたものである。
【０００９】
また、請求項２においては、ペリクルフレームにペリクル膜が形成されたペリクルにおいて、前記ペリクルの所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグを設けたことを特徴とするＲＦタグにより識別されるペリクルとしたものである。
【００１０】
また、請求項３においては、前記フォトマスクに前記ペリクルが搭載されてなるペリクル付きフォトマスクにおいて、前記フォトマスク及び前記ペリクル並びに前記ペリクル付きフォトマスクの所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグを設けたことを特徴とするＲＦタグにより識別されるペリクル付きフォトマスクとしたものである。
【００１１】
さらにまた、請求項４においては、前記フォトマスク、前記ペリクル及び前記ペリクル付きフォトマスクを収納する収納ケースであって、前記収納ケースの所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグを設けたことを特徴とするＲＦタグにより識別される収納ケースとしたものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明のＲＦタグにより識別されるフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスク、収納ケースを用いることにより、フォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスクの現品識別を確実に行うことができ、フォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスクの誤使用がなくなる。
また、ＲＦタグを用いているため、ある程度離れた距離からでもマスクデータの読み取り、書き込みができるため、基本マスクデータに対して、製造工程中、マスク検査、出荷の段階で新たに発生したマスクデータの追加、変更を容易に行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態につき説明する。
請求項１に係る本発明のＲＦタグにより識別されるフォトマスクは、図１に示すように、石英等の透明基板１１上にマスクパターンが形成されたフォトマスクのパターン領域１２外の所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグ３１、もしくは透明基板１１の側面の所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグ３２を設けたＲＦタグにより識別されるフォトマスク１０である。
ここで、ＲＦタグとは、外部からの電波通信により各種データの書き込み、読み取りを非接触で行うことができるデータキャリアシステムを内蔵したタグのことである。
このように、ＲＦタグ３１、もしくはＲＦタグ３２をフォトマスクの所定位置に設けることにより、マスクデータの書き込み、読み取りが随時にでき、フォトマスクの製造工程、半導体集積回路及び液晶表示素子等の製造工程のフォトリソ工程でのフォトマスクの識別、確認が容易にできる。また、フォトマスクの製造工程では、現品識別をするだけでなく、機器・工程の設定条件、作業日時、担当者、検査結果等もＲＦタグ３１、もしくはＲＦタグ３２に随時書き込んでおけば、工程管理のツールとしての利用展開も考えられる。
【００１４】
請求項２に係る本発明のＲＦタグにより識別されるペリクルは、図２に示すように、ペリクルフレーム２１の上部にペリクル膜２２が、ペリクルフレーム２１の下部に粘着剤２３及びライナー２４が形成されたペリクルフレーム２１の側面の所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグ３３を設けたＲＦタグにより識別されるペリクル２０である。このように、ＲＦタグ３３をペリクル側面の所定位置に設けることにより、マスクデータの書き込み、読み取りが随時にでき、ペリクル製造工程でのペリクルの識別、確認が容易にできる。また、ペリクルの製造工程で、現品識別をするだけでなく、機器・工程の設定条件、作業日時、担当者、検査結果等もＲＦタグ３３に随時書き込んでおけば、工程管理のツールとしての利用展開も考えられる。
【００１５】
請求項３に係る本発明のＲＦタグにより識別されるペリクル付きフォトマスクは、図３に示すように、透明基板１１の側面の所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグ３１、もしくはＲＦタグ３２が設けられたフォトマスク１０上に、ペリクルフレーム２１の側面の所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグ３３を設けたペリクル２０を粘着剤２３で固定したＲＦタグにより識別されるペリクル付きフォトマスク３０である。このように、ＲＦタグ３１、ＲＦタグ３２及びＲＦタグ３３をフォトマスク及びペリクルに設けることにより、マスクデータの書き込み、読み取りが随時にでき、ペリクル付きフォトマスク製造工程でのフォトマスク、ペリクルの識別、確認が容易にでき、誤ったフォトマスクとペリクルの組み合わせ事故がなくなる。このように、異なった種類のフォトマスクとペリクルを組み合わせてペリクル付きフォトマスクを作製する場合にはこのＲＦタグによる認識、管理作業が威力を発揮する。また、半導体集積回路及び液晶表示素子等の製造工程のフォトリソ工程でのペリクル付きフォトマスクの識別、確認が容易にできる。また、ペリクル付きフォトマスクの製造工程では、現品識別をするだけでなく、機器・工程の設定条件、作業日時、担当者、検査結果等もＲＦタグ３１、ＲＦタグ３２及びＲＦタグ３３に随時書き込んでおけば、工程管理のツールとしての利用展開も考えられる。
【００１６】
請求項４に係る本発明のＲＦタグにより識別される収納ケースは、図４に示すように、プラスチック成型等により作製された収納ケース４１の所定位置にマスクデータの随時書き込み、読み取りが可能なＲＦタグ３４を設けたＲＦタグにより識別される収納ケース４０である。このように、収納ケース４１にＲＦタグ３４を設けることにより、収納ケースに収納されているフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスクの内容が確認できると同時に、上記ＲＦタグが設けられたフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスクが収納されている場合は、ケースの蓋をとらないでも、収納ケース４０のＲＦタグ３４のマスクデータ情報と収納されている個々のフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフ
ォトマスクのマスクデータ情報が一致するかどうかの確認作業ができる。ここでは、フォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスクが所定枚数収納される収納ケースの事例について説明したが、個々のフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスクを収納する収納ケースに付いても適用されるのは言うまでもない。
【００１７】
上記のＲＦタグ３１、３２、３３及び３４は、クリーンルームで使用されるため、発塵性には配慮し、例えば発塵性の少ない材料（ポリエチレンテレフタレート、シリコーン樹脂、ポリテトラフルオロエチレン樹脂等）でＩＣ及びアンテナからなる内部部品をモールドしたパッケージで構成されており、粘着剤、もしくは接着剤でそれぞれのフォトマスク、ペリクル、ペリクル付きフォトマスク及び収納ケースの所定位置に固定される。
【実施例１】
【００１８】
まず、石英ガラスからなる透明基板１１上にスパッター成膜により      ｎｍ厚のクロム膜及び      ｎｍ厚の酸化クロム膜からなる低反射ブランクスを作成した。さらに、低反射ブランクスに電子線レジストを塗布し、電子線描画、現像等の一連のパターニング処理を行ってレジストパターンを形成し、レジストパターンをマスクにして酸化クロム膜及びクロム膜をエッチングしてマスクパターンを形成し、フォトマスクを作製した。
さらに、透明基板１１の側面にＩＣ及びアンテナからなる部品をポリエチレンテレフタレート樹脂でパッケージしたＲＦタグ３２を粘着剤で固定し、本発明のＲＦタグにより識別されるフォトマスク１０を作製した（図１参照）。
【実施例２】
【００１９】
まず、アルマイト処理されたアルミニウム合金で作製されたペリクルフレーム２１の上部に２．１μｍ厚のニトロセロースフィルムシートを貼り付けてペリクル膜２２を形成した。さらに、ペリクルフレーム２１の下部にフッ素樹脂からなる粘着材２３及びポリエチレンテレフタレートのシートに離型剤を塗布したライナー２４を形成したペリクルを作製した。次に、ペリクルフレーム２１の側面にＩＣ及びアンテナからなる部品をポリエチレンテレフタレート樹脂でパッケージしたＲＦタグ３３を粘着剤で固定し、本発明のＲＦタグにより識別されるペリクル２０を作製した（図２参照）。
【実施例３】
【００２０】
実施例２で作製したＲＦタグにより識別されるペリクル２０のライナー２４を剥離して、実施例１で作製したＲＦタグにより識別されるフォトマスク１０上の所定位置に貼り合わせ、ＲＦタグにより識別されるレチクル２０を固定し、本発明のＲＦタグにより識別されるペリクル付きフォトマスク３０を作製した（図３参照）。
【実施例４】
【００２１】
まず、アクリル系の樹脂（ＢＡＹＯＮ（バイヨン）：呉羽化学工業（株））をインジェクション成型にて作製した収納ケース４１の側面にＩＣ及びアンテナからなる部品をポリエチレンテレフタレート樹脂でパッケージしたＲＦタグ３４を粘着剤で固定し、本発明のＲＦタグにより識別される収納ケース４０を作製した（図４参照）。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明のＲＦタグにより識別されるフォトマスクの一実施例を示す模式斜視図である。
【図２】本発明のＲＦタグにより識別されるペリクルの一実施例を示す模式斜視図である。
【図３】本発明のＲＦタグにより識別されるペリクル付フォトマスクの一実施例を示す模式斜視図である。
【図４】本発明のＲＦタグにより識別される収納ケースの一実施例を示す模式斜視図である。
【図５】従来のペリクル付フォトマスクの一例を示す模式斜視図である。
【符号の説明】
【００２３】
１０……ＲＦタグにより識別されるフォトマスク
１１……透明基板
１２……パターン領域
２０……ＲＦタグにより識別されるペリクル
２１……ペリクルフレーム
２２……ペリクル膜
２３……粘着材
２４……ライナー
３０……ＲＦタグにより識別されるペリクル付きフォトマスク
３１、３２，３３，３４……ＲＦタグ
４０……ＲＦタグにより識別される収納ケース
４１……収納ケース
５０……ペリクル付きフォトマスク
５１……フォトマスク
５２……パターン領域
６１……ペリクルフレーム
６２……ペリクル膜
６３……粘着材部
７１……バーコードシンボル
７２……ＩＤラベル
７３……刻印
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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