(57)【要約】      （修正有）【課題】環境に配慮し、長期の繰返し使用においても帯電性の低下がなく安定した特性の電子写真感光体を提供することであり、また、小型でメンテナンス性に優れた画像形成装置を提供すること。【解決手段】  導電性支持体上に下引層、電荷発生層、電荷輸送層を順次積層してなる電子写真感光体において、該下引き層がポリアルキレングリコールの誘導体を、該電荷発生層が式（Ｉ）で示される電荷発生材料を含有し、且つ、該電荷輸送層は環状エーテル系溶媒に少なくともバインダー樹脂、電荷輸送材料、２種以上のハイドロキノン系酸化防止剤を溶解した塗工液を塗布して形成されるものであることを特徴とする電子写真感光体。2005091981.tif 000030（式中、Ａはフェノール性ＯＨ基を有するカプラー残基を表す。）【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に下引層、電荷発生層、電荷輸送層を順次積層してなる電子写真感光体において、該下引き層がポリアルキレングリコールの誘導体を、該電荷発生層が式（Ｉ）で示される電荷発生材料を含有し、且つ、該電荷輸送層は環状エーテル系溶媒に少なくともバインダー樹脂、電荷輸送材料、２種以上のハイドロキノン系酸化防止剤を溶解した塗工液を塗布して形成されるものであることを特徴とする電子写真感光体。
【化１】
2005091981.tif 000029
（式中、Ａはフェノール性ＯＨ基を有するカプラー残基を表す。）
【請求項２】
下引き層に含まれるポリアルキレングリコール又はその誘導体がポリオキシ脂肪酸エステルであることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
下引き層が酸化チタンと熱硬化性樹脂からなり、前記ポリオキシ脂肪酸エステルの含有量が熱硬化性樹脂に対して０．５〜２０ｗｔ％であることを特徴とする請求項２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
ハイドロキノン系酸化防止剤の含有量が電荷輸送材料に対して０．０５〜５ｗｔ％であることを特徴とする請求項１乃至３の何れかに記載の電子写真感光体。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れかに記載の電子写真感光体の周りに帯電手段、露光手段、反転現像方式の現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段を配設したことを特徴とする画像形成装置。
【請求項６】
感光体ドラム、帯電手段、現像手段、クリーニング手段が一体に支持しされ、装置本体に着脱自在にできるプロセスカートリッジであることを特徴とする請求項５に記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体及び、この感光体を用いた電子写真装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、電子写真感光体に関連する技術として、光導電層に特定のトリスアゾ顔料とハイドロキノン又はその誘導体とを含ませることにより、繰返し使用しても帯電性が低下することがない帯電安定性のすぐれた感光体とすること（例えば、特許文献１参照。）が提案されているが、この技術は、目的が帯電安定性の改良のみであり、電荷輸送層の塗工溶媒に関する記述がなく、実施例では塩化メチレンを使用しており、環境に配慮した環状エーテル系溶媒の使用については全く触れられていない。
また、導電性支持体上に少なくとも電荷発生物質と電荷輸送物質及び結着樹脂を含有する感光層を有する電子写真感光体において、前記感光層中にビフェニル誘導体及びハイドロキノン誘導体が含有されることにより塗膜中の残留応力が少なく、感光体のカールや感光層の剥離の発生が小さく、かつ静電的に高耐久性の電子写真感光体とすること（例えば、特許文献２参照。）が提案されているが、ベルト感光体を対象にした改良であり、また、高耐久性も過酷環境まで考慮しておらず、改良が不充分である。
また、導電性基体上に電荷発生層と電荷輸送層とから構成する光導電層を設けた積層型電子写真感光体において、電荷発生層または下引き層がポリアルキレングリコール及び又はその誘導体を含有し、電荷輸送層が酸化防止剤を含有することにより繰返し使用しても帯電性が低下せず、残留電位の上昇が小さく、帯電特性が安定している電子写真感光体とすること（例えば、特許文献３参照。）が提案されているが、高温高湿等の過酷環境での帯電安定性、露光後電位安定性まで考慮しておらず改良が不充分である。
また、導電性支持体上に少なくとも電荷発生物質及びホール搬送物質を同一又は別々の層に含有する感光層を設けた電子写真感光体において、少なくとも一方の層中にハイドロキノン又はその誘導体の一種と、フェノール系酸化防止剤を含有することにより繰り返し使用における帯電安定性に優れ、且つ環境依存性が少なく、更に長期間の保存においても感光体特性の劣化しない保存性の優れた電子写真感光体とすること（例えば、特許文献４参照。）が提案されているが、目的が帯電安定性、保存性の改良のみについての記載のみであり、電荷輸送層の塗工溶媒に関する記述がなく、環境に配慮した環状エーテル系溶媒の使用については全く触れられていない。
また、導電性支持体上に少なくとも電荷発生物質及びホール搬送物質を同一又は別々の層に含有する感光層を設けた電子写真感光体の製造方法において、ハイドロキノン又はその誘導体の一種を含有する電子写真感光体の製造時に、ハイドロキノン又はその誘導体の一種を含有する塗布液が、空気（酸素）と接触しないようにしたことにより繰り返し使用における帯電安定性に優れ、且つ環境依存性が少なく、更に長期間の保存においても感光体特性の劣化しない保存性の優れた電子写真感光体を提供すること（例えば、特許文献５参照。）が開示されているが、目的が帯電安定性、保存性の改良、及び塗工液の安定性について記載されているだけで、環境に配慮した環状エーテル系溶媒の使用については全く触れられていない。
【０００３】
【特許文献１】特開平１−１３４３６８号公報
【特許文献２】特開平６−１４８９１４号公報
【特許文献３】特開平７−２３４５２９号公報
【特許文献４】特開２０００−８９４９０号公報
【特許文献５】特開２０００−７５５１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、上記従来技術に鑑みて、下引き層がポリアルキレングリコールの誘導体を、電荷発生層が上記式（Ｉ）で示される電荷発生材料を含有し、且つ、該電荷輸送層は環状エーテル系溶媒に少なくともバインダー樹脂、電荷輸送材料、２種以上のハイドロキノン系酸化防止剤を溶解した塗工液を塗布して形成されることにより環境に配慮し、長期の繰返し使用においても帯電性の低下がなく安定した特性の電子写真感光体を提供することであり、
また、下引き層に含まれるポリアルキレングリコール又はその誘導体がポリオキシ脂肪酸エステルであることにより繰り返し使用時の帯電電位、露光後電位を安定させることであり、
また、下引き層が酸化チタンと熱硬化性樹脂からなり、ポリオキシ脂肪酸エステルの含有量が熱硬化性樹脂に対して０．５〜２０ｗｔ％であることにより過酷環境下での繰り返し使用時の電位を安定させることであり、
また、ハイドロキノン系酸化防止剤の含有量が電荷輸送材料に対して０．０５〜５ｗｔ％であることにより、感光層が摩耗し高電界強度下になった場合でも粒状地汚れの発生を低減することであり、
また、電子写真感光体の周りに帯電手段、露光手段、反転現像方式の現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段を配設したことにより中間調、ライン画像の再現性、ベタ部濃度を満足する画像形成装置を提供することであり、
また、感光体ドラム、帯電手段、現像手段、クリーニング手段が一体に支持しされ装置本体に着脱自在にできるプロセスカートリッジであることにより、小型でメンテナンス性に優れた画像形成装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
すなわち、上記課題は、本発明の（１）「導電性支持体上に下引層、電荷発生層、電荷輸送層を順次積層してなる電子写真感光体において、該下引き層がポリアルキレングリコールの誘導体を、該電荷発生層が式（Ｉ）で示される電荷発生材料を含有し、且つ、該電荷輸送層は環状エーテル系溶媒に少なくともバインダー樹脂、電荷輸送材料、２種以上のハイドロキノン系酸化防止剤を溶解した塗工液を塗布して形成されるものであることを特徴とする電子写真感光体；
【０００６】
【化１】
2005091981.tif 000002
（式中、Ａはフェノール性ＯＨ基を有するカプラー残基を表す。）
」、（２）「下引き層に含まれるポリアルキレングリコール又はその誘導体がポリオキシ脂肪酸エステルであることを特徴とする前記第（１）項に記載の電子写真感光体」、（３）「下引き層が酸化チタンと熱硬化性樹脂からなり、前記ポリオキシ脂肪酸エステルの含有量が熱硬化性樹脂に対して０．５〜２０ｗｔ％であることを特徴とする前記第（２）項に記載の電子写真感光体」、（４）「ハイドロキノン系酸化防止剤の含有量が電荷輸送材料に対して０．０５〜５ｗｔ％であることを特徴とする前記第（１）項乃至第（３）項の何れかに記載の電子写真感光体」により達成される。
【０００７】
また、上記課題は、本発明の（５）「前記第（１）項乃至第（４）項の何れかに記載の電子写真感光体の周りに帯電手段、露光手段、反転現像方式の現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段を配設したことを特徴とする画像形成装置」、（６）「感光体ドラム、帯電手段、現像手段、クリーニング手段が一体に支持しされ、装置本体に着脱自在にできるプロセスカートリッジであることを特徴とする前記第（５）項に記載の画像形成装置」により達成される。
【発明の効果】
【０００８】
以下の詳細かつ具体的な説明から明らかなように、本発明により、下引き層がポリアルキレングリコールの誘導体を、電荷発生層が上記式（Ｉ）で示される電荷発生材料を含有し、且つ、該電荷輸送層は環状エーテル系溶媒に少なくともバインダー樹脂、電荷輸送材料、２種以上のハイドロキノン系酸化防止剤を溶解した塗工液を塗布して形成されることにより、環境に配慮し、長期の繰返し使用においても帯電性の低下がなく安定した特性の電子写真感光体が提供され、
また、下引き層に含まれるポリアルキレングリコール又はその誘導体がポリオキシ脂肪酸エステルであることにより繰り返し使用時の帯電電位、露光後電位が安定化し、
また、下引き層が酸化チタンと熱硬化性樹脂からなり、ポリオキシ脂肪酸エステルの含有量が熱硬化性樹脂に対して０．５〜２０ｗｔ％であることにより、過酷環境下での繰り返し使用時の電位が安定化し、
また、ハイドロキノン系酸化防止剤の含有量が電荷輸送材料に対して０．０５〜５ｗｔ％であることにより、感光層が摩耗し高電界強度下になった場合でも粒状地汚れの発生が低減し、
また、電子写真感光体の周りに帯電手段、露光手段、反転現像方式の現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段を配設したことにより中間調、ライン画像の再現性、ベタ部濃度を満足する画像形成装置が提供され、
また、感光体ドラム、帯電手段、現像手段、クリーニング手段が一体に支持しされ装置本体に着脱自在にできるプロセスカートリッジであることにより、小型でメンテナンス性に優れた画像形成装置が提供されるという優れた効果を奏するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、図面に沿って本発明を説明する。
図１に本発明の感光体における感光層の断面図を示す。
本発明の感光体における感光層は支持体（３１）上に下引き層（３２）、電荷発生層（３３）、電荷輸送層（３４）からなる３層構成からなる。また、必要に応じて電荷輸送層上に保護層を設けることもできる。
【００１０】
支持体（３１）としては、体積抵抗１０１０Ω・ｃｍ以下のもの、アルミニウム、ニッケル、クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金、ステンレスなどの金属、酸化スズ、酸化インジウム、酸化ニッケル、酸化アルミニウムなどの金属酸化物を蒸着又はスパッタリングによりフィルム状もしくは円筒状のプラスチック（ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、フェノール樹脂、ポリプロピレン、ナイロン、ポリスチレン等）もしくは紙等に被覆したもの、あるいは、アルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステンレス等の板及びそれらをＤ．Ｉ．，Ｉ．Ｉ．，押出し、引き抜き等の工法で素管化後、切削、超仕上げ、研磨等で表面処理した管、あるいは上記金属を電気メッキなどの方法により、フィルム状もしくは円筒状にしたもの、又、導電性粉体をプラスチックに分散成型してなるフィルム状もしくは円筒状にしたもの等を用いることができる。この他、上記支持体上に、カーボンブラック、アセチレンブラック、またアルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉あるいはチタンブラック、導電性酸化スズ、ＩＴＯ等の金属酸化物等の導電性粉体を適当なバインダー樹脂に分散し、塗工したものも用いることができる。また、同時に用いられるバインダー樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルガルバゾール、ポリビニルトルエン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂等の熱可塑性または熱硬化性樹脂ないしは光硬化性樹脂が挙げられる。
このような導電性層は、これらの導電性粉体とバインダー樹脂を適当な溶剤、例えばテトラヒドロフラン、塩化メチレン、メチレンエチルケトン、トルエン等に分散塗布することにより設けることができる。
更に、適当な円筒状基体上に、ポリ塩化ビニル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニルデン、ポリエチレン、塩化ビム、テフロン（登録商標）等の素材に前記導電性粉体を含有させた熱収縮チューブによって導電性層を設けてなるものも、本発明の導電性基体として良好に用いることができる。
【００１１】
下引き層（３２）は、接着性を向上する、モアレなどを防止する、上層の塗工性を改良する、残留電位を低減するなどの目的で設けられる。下引き層は樹脂を主成分とし、必要に応じて酸化チタン、シリカ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム等で例示できる金属酸化物、あるいは金属硫化物、金属窒化物などの微粉末を単独もしくは二種類以上を適宜選択して加え、さらにポリアルキレングリコール誘導体を含有してなる。
【００１２】
本発明におけるポリアルキレングリコール誘導体の具体例としては、次のようなものが挙げられる。しかし、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
ポリアルキレングリコールのモノ又は、ジエステルは次の一般式（II）及び（III）で示される、
【００１３】
【化２】
2005091981.tif 000003
【００１４】
【化３】
2005091981.tif 000004
〔ｍ＝２〜４、ｎ＝１〜３０（平均付加モル数）、Ｒ1，Ｒ2は炭素数１〜３０のアルキル基またはアルケニル基、好ましくは１０〜２０のアルキル基またはアルケニル基を示す〕。
例えば、モノステアリン酸ポリエチレングリコール、モノオレイン酸ポリエチレングリコール、ジステアリン酸ポリエチレングリコール、ジラウリン酸ポリエチレングリコール、ジオレイン酸ポリエチレングリコールなどが挙げられる。また、ポリアルキレングリコールモノエーテルは下記（IV）式で示される。
【００１５】
【化４】
2005091981.tif 000005
（式中、ｍは２〜４、Ｒは炭素数１〜３０のアルキル基、好ましくは炭素数１０〜２０のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基置換フェニル基を、ｎは平均付加モル数を示し、１以上、好ましくは１〜１００の実数を表わす）。
例えば、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルなどが挙げられる。
【００１６】
この中でも（III）のようなポリアルキレングリコールのモノ又は、ジエステルが高温高湿、低温低湿下で特に好ましい。以上のようなポリアルキレングリコール誘導体は単独または数種類、組み合わせて使用できる。
ポリアルキレングリコール誘導体がポリオキシ脂肪酸エステルであることにより繰り返し使用時の帯電電位、露光後電位を安定化させることができる。特に、化学式（II）のポリアルキレングリコールジエステルは末端基の分子量がＨ原子に比べ大きく、高温高湿下にて安定で露光後電位の変動が少ない。
ポリオキシ脂肪酸エステルは、分子中の親水基分子量のｗｔ％×１／５で表わされるＨＬＢ（Hydrophine-Liphophile Balance）から計算される分子中の親水基数に応じて下引き層中への添加量が最適化される。ポリオキシ脂肪酸エステルの含有量は、下引き層樹脂の０．５〜２０ｗｔ％が好ましい。０．５ｗｔ％未満では、低温低湿下での帯電電位、露光後電位の安定性に効果が少なく、また２０ｗｔ％を越えると高温高湿下で露光後電位の安定性に影響を与えてしまう。
【００１７】
下引き層に用いる樹脂としては、その上の感光層が溶剤を用いて塗布することを考えると、一般の有機溶剤に対して耐溶解性の高い樹脂であることが望ましい。このような樹脂としては、ポリアミド、ポリエステル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等の熱可塑性樹脂があり、また熱硬化性樹脂、例えば、活性水素（−ＯＨ基、−ＮＨ２基、−ＮＨ基等の水素）を複数個含有する化合物とイソシアネート基を複数個含有する化合物及び／またはエポキシ基を複数個含有する化合物とを熱重合させた熱硬化性樹脂等も使用できる。
活性水素を複数個含有する化合物としては、例えばポリビニルブチラール、フェノキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリエステル、ヒドロキシエチルメタアクリレート基等の活性水素を含有するアクリル系樹脂等が挙げられる。イソシアネート基を複数個含有する化合物としては、例えばトリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート等とこれらのプレポリマー等が挙げられ、エポキシ基を複数有する化合物としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂等が挙げられる。
【００１８】
また、オイルフリーアルキド樹脂とアミノ樹脂例えばブチル化メラミン樹脂等を熱重合させた熱硬化性樹脂、さらにまた不飽和結合を有するポリウレタン、不飽和ポリエステル等の不飽和結合を有する樹脂と、チオキサントン系化合物、メチルベンジルフォルメート等の光重合開始剤との組合せ等の光硬化性樹脂も結着剤樹脂として使用できる。これらの樹脂は単独または２種類以上混合して用いられる。また、これらの樹脂は適当な溶剤に溶解して用いられる。金属酸化粉末を用いるときは、溶剤と結着剤樹脂と共に常法により、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター等により分散して用いることができる。導電性基体上への下引き層の形成は、ロールコート法、浸漬塗工法、スプレーコート法、ノズルコート法、ブレード塗工法等により成膜される。塗布後は乾燥や加熱、光等の硬化処理により乾燥あるいは硬化される。下引き層の膜厚さは０．１〜３０μｍ、好ましくは０．２〜１０μｍとするのが適当である。
【００１９】
また、下引き層に金属酸化物を加えるときは結着剤樹脂に対して容量比で０．５／１〜３／１の範囲が好ましい。特に下引き層が酸化チタンと熱硬化性樹脂からなり、前記ポリオキシ脂肪酸エステルの含有量が熱硬化性樹脂に対して０．５〜２０ｗｔ％であることにより過酷環境下での繰り返し使用時の電位安定が優れる。
【００２０】
電荷発生層（３３）は、電荷発生物質（Ｉ）を主成分とする層で、必要に応じてバインダー樹脂を用いることもある。表１には、その具体例を示す。これら電荷発生物質（Ｉ）は、特開昭５７−１９５７６７号公報に記載された合成法に準じた合成法により合成することができる。
【００２１】
【表１−１】
2005091981.tif 000006
【００２２】
【表１−２】
2005091981.tif 000007
【００２３】
【表１−３】
2005091981.tif 000008
【００２４】
【表１−４】
2005091981.tif 000009
【００２５】
【表１−５】
2005091981.tif 000010
【００２６】
【表１−６】
2005091981.tif 000011
【００２７】
【表１−７】
2005091981.tif 000012
【００２８】
【表１−８】
2005091981.tif 000013
【００２９】
【表１−９】
2005091981.tif 000014
【００３０】
【表１−１０】
2005091981.tif 000015
【００３１】
また、電荷発生物質（Ｉ）に加えてカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有するアゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系または多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメチン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾ−ル系顔料などを１種以上含有しても良い。
【００３２】
電荷発生層に必要に応じて用いられるバインダー樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミドなどが用いられる。これらのバインダー樹脂は、単独または２種以上の混合物として用いることができる。
また、必要に応じて電荷輸送物質を添加してもよい。また、電荷発生層のバインダー樹脂として上述のバインダー樹脂の他に、高分子電荷輸送物質が良好に用いられる。
【００３３】
電荷発生層を形成する方法には、真空薄膜作製法と溶液分散系からのキャスティング法とが大きく挙げられる。
前者の方法には、真空蒸着法、グロー放電重合法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＣＶＤ法等が用いられ、上述した無機系材料、有機系材料が良好に形成できる。
また、後述のキャスティング法によって電荷発生層（３５）を設けるには、上述した無機系もしくは有機系電荷発生物質を必要ならばバインダー樹脂と共にテトラヒドロフラン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロロエタン、ブタノン等の溶媒を用いてボールミル、アトライター、サンドミル等により分散し、分散液を適度に希釈して塗布することにより、形成できる。塗布は、浸漬塗工法やスプレーコート、ビードコート法などを用いて行なうことができる。
以上のようにして設けられる電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５μｍ程度が適当であり、好ましくは０．０５〜２μｍである。
【００３４】
電荷輸送層（３４）は帯電電荷を保持させ、かつ露光により電荷発生層（３３）で発生分離した電荷を移動させて保持していた帯電電荷と結合させることを目的とする層である。また、電荷輸送層（３４）は帯電電荷を保持させる目的達成のために電気抵抗が高いことが要求され、また、保持していた帯電電荷で高い表面電位を得る目的を達成するためには、誘電率が小さくかつ電荷移動性が良いことが要求される。
これらの要件を満足させるための電荷輸送層は、電荷輸送物質、バインダー樹脂、２種類以上のハイドロキノン系酸化防止剤をテトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジオキサン、ジオキソラン、トルエン、ジメトキシメタンなどの環状エーテル系溶剤に溶解した塗工液を塗布して形成される。必要により電荷輸送物質及びバインダー樹脂以外に、可塑剤、酸化防止剤、レベリング剤等を適量添加することもできる。環境面からはジクロロメタン、クロロホルム、モノクロロベンゼン、トリクロロエタン、トリクロロメタンなどの塩素系溶媒が敬遠されている。
２種類以上のハイドロキノン系酸化防止剤は、電子写真感光体の長期繰返し使用において帯電性の低下がなく安定した特性の電子写真感光体を提供すること、及び環境面からテトラヒドロフラン等構造的に不安定な環状エーテル系溶剤の安定化に有効である。
【００３５】
本発明に用いることができるハイドロキノン誘導体のハイドロキノン系化合物としては、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、２，３−ジメチルハイドロキノン、２，５−ジメチルハイドロキノン、２，３−ジメチルハイドロキノン、２，６ジメチルハイドロキノン、トリメチルハイドロキノン、テトラメチルハイドロキノン、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルハイドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルハイドロキノン、２，５−ジアミルハイドロキノン、１，４−ジオールナフタレン、オクチルハイドロキノン、ドデシルハイドロキノン、クロロハイドロキノン、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−オクチルハイドロキノン、２，６−ジ−ｎ−ドデシルハイドロキノン、２−ｎ−ドデシルハイドロキノン、２−ｎ−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−ｔｅｒｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−オクタデシル）−５−メチルハイドロキノン、１，４−ジオールナフタレン、９，１０−ジオールアントラセンなどが挙げられる。
【００３６】
また、電子写真感光体乾燥時又は保存時において昇華等することなく安定に感光層中に保持されるという点で下記一般式（Ｖ）に示すハイドロキノン誘導体を用いることができる。
【００３７】
【化５】
2005091981.tif 000016
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアリール基、置換または無置換のシクロアルキル基、置換または無置換のアルコキシ基、置換または無置換のアリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アシル基、アルキルアシルアミノ基、アリールアシルアミノ基、アルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基、アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基、アルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルアシルオキシ基、アリールアシルオキシ基、シリル基又は複素環基を表わす。
但し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４のうち少なくとも１つは炭素原子数の総和が４以上の基である。）
【００３８】
一般式［Ｖ］で表わされる化合物の具体例としては表２に示すものが挙げられるが本発明はこれに限定されるものではない。
これらハイドロキノン誘導体（Ｖ）は、特開昭５４−５２０４１号公報に記載された合成法に準じた合成法により合成することができる。
【００３９】
【表２−１】
2005091981.tif 000017
【００４０】
【表２−２】
2005091981.tif 000018
【００４１】
【表２−３】
2005091981.tif 000019
【００４２】
【表２−４】
2005091981.tif 000020
【００４３】
【表２−５】
2005091981.tif 000021
【００４４】
【表２−６】
2005091981.tif 000022
【００４５】
【表２−７】
2005091981.tif 000023
【００４６】
【表２−８】
2005091981.tif 000024
【００４７】
ハイドロキノン系酸化防止剤の含有量が電荷輸送材料に対して０．０５〜５ｗｔ％であることにより感光層が摩耗し高電界強度下になった場合でも粒状地汚れを低減することが可能となる。
【００４８】
電荷輸送物質としては、正孔輸送物質と電子輸送物質とがある。
電子輸送物質としては、たとえばクロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサントン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，８−トリニトロ−４Ｈ−インデノ〔１，２−ｂ〕チオフェン−４オン、１，３，７−トリニトロジベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイドなどの電子受容性物質が挙げられる。
これらの電子輸送物質は、単独または２種以上の混合物として用いることができる。また、ハイドロキノン系以外の次のような酸化防止剤を併用しても良い。
【００４９】
モノフェノール系化合物
２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、3-t-ブチル-4-ヒドロキシニソールなど。 
ビスフェノール系化合物
２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）など。 
高分子フェノール系化合物
１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、ビス［３，３’−ビス（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、トコフェノール類など。 
パラフェニレンジアミン類
Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−フェニル−Ｎ−ｓｅｃ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−イソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−ｔーブチル−ｐ−フェニレンジアミンなど。 
有機硫黄化合物類
ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジテトラデシル−３，３’−チオジプロピオネートなど。 
有機燐化合物類
トリフェニルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホスフィン、トリ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリクレジルホスフィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキシ）ホスフィンなど。
【００５０】
正孔輸送物質としては、以下に表わされる電子供与性物質が挙げられ、良好に用いられる。
たとえば、オキサゾ−ル誘導体、オキサジアゾ−ル誘導体、イミダゾ−ル誘導体、トリフェニルアミン誘導体、９−（ｐ−ジエチルアミノスチリルアントラセン）、１，１−ビス−（４−ジベンジルアミノフェニル）プロパン、スチリルアントラセン、スチリルピラゾリン、フェニルヒドラゾン類、α−フェニルスチルベン誘導体、チアゾ−ル誘導体、トリアゾ−ル誘導体、フェナジン誘導体、アクリジン誘導体、ベンゾフラン誘導体、ベンズイミダゾ−ル誘導体、チオフェン誘導体などが挙げられる。これらの正孔輸送物質は、単独または２種以上の混合物として用いることが出来る。
【００５１】
また、高分子電荷輸送層物質は、以下のような構造を有するものである。
（ａ）カルバゾ−ル環を有する重合体
例えば、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾ−ル、特開昭５０−８２０５６号公報、特開昭５４−９６３２号公報、特開昭５４−１１７３７号公報、特開平４−１７５３３７号公報、特開平４−１８３７１９号公報、特開平６−２３４８４１号公報に記載の化合物等が例示される。
（ｂ）ヒドラゾン構造を有する重合体
例えば、特開昭５７−７８４０２号公報、特開昭６１−２０９５３号公報、特開昭６１−２９６３５８号公報、特開平１−１３４４５６号公報、特開平１−１７９１６４号公報、特開平３−１８０８５１号公報、特開平３−１８０８５２号公報、特開平３−５０５５５号公報、特開平５−３１０９０４号公報、特開平６−２３４８４０号公報に記載の化合物等が例示される。
（ｃ）ポリシリレン重合体
例えば、特開昭６３−２８５５５２号公報、特開平１−８８４６１、特開平４−２６４１３０、特開平４−２６４１３１、特開平４−２６４１３２、特開平４−２６４１３３、特開平４−２８９８６７に記載の化合物等が例示される。
（ｄ）トリアリールアミン構造を有する重合体
例えば、Ｎ，Ｎ−ビス（４−メチルフェニル）−４−アミノポリスチレン、特開平１−１３４４５７号公報、特開平２−２８２２６４号公報、特開平２−３０４４５６号公報、特開平４−１３３０６５号公報、特開平４−１３３０６６号公報、特開平５−４０３５０号公報、特開平５−２０２１３５号公報に記載の化合物等が例示される。
（ｅ）その他の重合体
例えば、ニトロピレンのホルムアルデヒド縮重合体、特開昭５１−７３８８８号公報、特開昭５６−１５０７４９号公報、特開平６−２３４８３６号公報、特開平６−２３４８３７号公報に記載の化合物等が例示される。
本発明に使用される電子供与性基を有する重合体は、上記重合体だけでなく、公知単量体の共重合体や、ブロック重合体、グラフト重合体、スタ−ポリマ−や、また、例えば特開平３−１０９４０６号公報に開示されているような電子供与性基を有する架橋重合体等を用いることも可能である。
【００５２】
また、本発明に用いられる高分子電荷輸送物質として更に有用なトリアリールアミン構造を有するポリカーボネート、ポリウレタン、ポリエステル、ポリエーテルとしては以下に記載の化合物が例示される。
例えば、特開昭６４−１７２８号公報、特開昭６４−１３０６１号公報、特開昭６４−１９０４９号公報、特開平４−１１６２７号公報、特開平４−２２５０１４号公報、特開平４−２３０７６７号公報、特開平４−３２０４２０号公報、特開平５−２３２７２７号公報、特開平７−５６３７４号公報、特開平９−１２７７１３号公報、特開平９−２２２７４０号公報、特開平９−２６５１９７号公報、特開平９−２１１８７７号公報、特開平９−３０４９５６号公報等がある。
【００５３】
また、電荷輸送層に併用できるバインダー樹脂としては、ポリカーボネート（ビスフェノールＡタイプ、ビスフェノールＺタイプ）、ポリエステル、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ポリスチレン、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニリデン、アルキッド樹脂、シリコン樹脂、ポリビニルカルバゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリアクリレート、ポリアクリルアミド、フェノキシ樹脂などが用いられる。これらのバインダーは、単独または２種以上の混合物として用いることが出来る。
電荷輸送層の膜厚は、５〜１００μｍ程度が適当である。
【００５４】
可塑剤としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ビスベンジルベンゼン誘導体などの可塑剤として使用されているものがそのまま使用でき、その使用量は結着樹脂１００重量部に対して０〜３０重量部程度が適当である。
【００５５】
電荷輸送層中にレベリング剤を添加してもかまわない。
レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイル、メチルフェニルシリコーンオイル等のシリコーンオイル類や、測鎖にパーフルオロアルキル基を有するポリマーあるいはオリゴマーが使用され、その使用量は、バインダー樹脂１００重量部に対して、０〜１重量部が適当である。
【００５６】
電荷輸送層上に保護層を設けても良い。
保護層は、結着樹脂中に金属、又は金属酸化物の微粒子を分散した層である。結着樹脂としては可視、赤外光に対して透明で電気絶縁性、機械的強度、接着性に優れた物が望ましい。保護層の結着樹脂としてはＡＢＳ樹脂、ＡＣＳ樹脂、オレフィン−ビニルモノマー共重合体、塩素化ポリエーテル、アリル樹脂、フェノール樹脂、ポリアセタール、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリアクリレート、ポリアリルスルホン、ポリブチレン、ポリブチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、アクリル樹脂、ポリメチルベンテン、ポリプロピレン、ポリフェニレンオキシド、ポリスルホン、ポリスチレン、ＡＳ樹脂、ブタジエン−スチレン共重合体、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。金属酸化物としては酸化チタン、酸化錫、チタン酸カリウム、TiO、TiN、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アンチモン等が挙げられる。保護層にはその他、耐摩耗性を向上する目的でポリテトラフルオロエチレンのような弗素樹脂、シリコーン樹脂、及びこれらの樹脂に等の無機材料を分散したもの等を添加することができる。保護層の形成法としては通常の塗布法が採用される。なお保護層の厚さは０．１〜１０μｍ程度が適当である。
【００５７】
図２は、本発明の電子写真装置の模式断面図である。
図中（１１）は本発明に用いる感光体ドラムである。まず接触帯電装置（１２）により、感光体ドラム（１１）は、帯電する。感光体ドラムが帯電された後、レーザー光によるイメージ露光（１３）を受け、露光された部分で、電荷が発生し、感光体ドラム表面に静電潜像が形成される。感光体ドラム表面に静電潜像を形成した後、現像手段（１４）を介して現像剤と接触し、トナー像を形成する。感光体ドラム表面に形成されたトナー像は、転写手段（１６）により紙などの転写部材（１５）へ転写され、定着手段（１９）を通過してハードコピーとなる。感光体ドラム（１１）上の残留トナーはクリーニングブレードからなるクリーニング手段（１７）により除去され、残留電荷は除電手段（１８）で除かれて、次の電子写真サイクルに移る。
【００５８】
本発明の画像形成装置は、帯電手段、現像手段、クリーニング手段等が、一体構成となっているプロセスカートリッジを構成している。プロセスカートリッジにすることにより画像形成装置の小型化、取り付け、取り外しなどが簡便となる。
【実施例】
【００５９】
以下に実施例を示す。「部」は重量部を意味する。
〔実施例１〕（感光体ドラムの製造例）
下記組成の混合物をボールミルポットに取りφ１０ｍｍアルミナボールを使用し７２時間ボールミリングした。
酸化チタン（ＣＲー６０：石原産業製）                              ５０部
アルキッド樹脂（ベッコライトＭ６４０１−５０  大日本インキ化学工業製
；固形分５０ｗｔ％）                              １５部
メラミン樹脂（スーパーベッカミンＬ−１２１−６０大日本インキ化学工業製
；固形分６０ｗｔ％）                              ８．３部
メチルエチルケトン（関東化学製）                              ３１．７部
このミリング液にシクロヘキサノン（関東化学製）１０５部、ジステアリン酸ポリエチレングリコール（イオネットＤＳ４００；三洋化成製、ＨＬＢ＝８．３７）を０．５６部加え、さらに２時間ボールミリングして下引き層用塗布液を作製した。この塗布液をφ３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、厚さ０．７５ｍｍのアルミドラム（ＪＩＳ Ａ３００３）上に浸漬塗布し、１３５℃で２５分間乾燥して、膜厚４．５μｍの下引き層を形成した。
続いてＮｏ．４２（リコー製）の電荷発生物質３部、ポリビニルブチーラール樹脂１部（エスレックＢＬＳ；積水化学製）、シクロヘキサノン（関東化学製）８０部からなる混合物をボールミルポットに取りφ１０ｍｍのＹＴＺボールを使用し、７２時間ボールミリングした後、さらにシクロヘキサノン７８．４部とメチルエチルケトン２３７．６部を加え２０時間ボールミリングして電荷発生層塗布液を調整した。この塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、１３０℃で２０分間乾燥し、厚さ０．１μｍの電荷発生層を形成した。
次に、下記組成の電荷輸送層塗工液を調整し、この塗布液を電荷発生層上に浸漬塗布し、１２５℃で１５分間乾燥し、厚さ３１μｍの電荷輸送層を形成した。
電荷輸送物質（化学式（VII））（リコー製）                          ７部
【００６０】
【化６】
2005091981.tif 000025
ポリカーボネート樹脂（ＴＳ−２０５０、帝人化成製）               １０部
シリコーンオイル（ＫＦ−５０、信越化学製）                 ０．００２部
テトラヒドロフラン（関東化学製）                             ７７．４部
ハイドロキノン誘導体(Ｉ−２、リコー製)                     ０．０１４部
ハイドロキノン誘導体(Ｉ−２７６、リコー製)                 ０．０２１部
【００６１】
〔実施例２〕
実施例１において下引き層のジステアリン酸ポリエチレングリコール  イオネットＤＳ４００をイオネットＤＳ３００；三洋化成製(ＨＬＢ＝７．３)０．６３部、ハイドロキノン誘導体を２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルハイドロキノン０．０２１部、Ｉ−２６９  ０．０２８部に変えた以外は実施例１と全く同様にして電子写真感光体を作成した。
【００６２】
〔実施例３〕
実施例２において下引き層のジステアリン酸ポリエチレングリコール  イオネットＤＳ３００をイオネットＤＳ４０００；三洋化成製(ＨＬＢ＝１７)０．０６３部に変えた以外は実施例２と全く同様にして下引き層を形成した。
続いてＮｏ．４２（リコー製）の電荷発生物質２．４部、化学式（VI）の電荷発生物質０．６部、ポリビニルブチーラール樹脂１部（エスレックＢＬＳ；積水化学製）、シクロヘキサノン（関東化学製）８０部からなる混合物をボールミルポットに取りφ１０ｍｍのＹＴＺボールを使用し１２０時間ボールミリングした後、さらにシクロヘキサノン７８．４部とメチルエチルケトン２３７．６部を加え２０時間ボールミリングして電荷発生層塗布液を調整した。この塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、１３０℃で２０分間乾燥し、厚さ０．１μｍの電荷発生層を形成した。さらに実施例２のハイドロキノン誘導体をＩ−２  ０．０２部、Ｉ−２７０  ０．０２８部に変えた以外は実施例２と全く同様にして電子写真感光体を作成した。
【００６３】
【化７】
2005091981.tif 000026
【００６４】
〔実施例４〕
実施例３において下引き層のジステアリン酸ポリエチレングリコール  イオネットＤＳ４０００をジオレイン酸ポリエチレングリコール（イオネットＤＯ１０００；三洋化成製、ＨＬＢ＝１２．９）０．１部に変えた以外は実施例３と全く同様にして下引き層を形成した。
続いて、Ｎｏ．４２（リコー製）の電荷発生物質１．５部、上記化学式（VI）の電荷発生物質１．５部、ポリビニルブチーラール樹脂１部（エスレックＢＬＳ；積水化学製）、シクロヘキサノン（関東化学製）８０部からなる混合物をボールミルポットに取りφ１０ｍｍのＹＴＺボールを使用し１２０時間ボールミリングした後、さらにシクロヘキサノン７８．４部とメチルエチルケトン２３７．６部を加え２０時間ボールミリングして電荷発生層塗布液を調整した。この塗布液を下引き層上に浸漬塗布し、１３０℃で２０分間乾燥し、厚さ０．１μｍの電荷発生層を形成した。さらに実施例３のハイドロキノン誘導体をＩ−３  ０．００４２部、Ｉ−２７６  ０．００３５部に変えた以外は実施例３と全く同様にして電子写真感光体を作成した。
【００６５】
〔実施例５〕
実施例２において下引き層のジステアリン酸ポリエチレングリコール  イオネットＤＳ３００をモノオレイン酸ポリエチレングリコール（イオネットＭＯ４００；三洋化成製、ＨＬＢ＝１１．８）０．１部、電荷輸送層のポリカーボネート樹脂（ＴＳ−２０５０、帝人化成製）をビスフェノールＡタイプのポリカーボネート樹脂（Ｃ−１４００；帝人化成製）に変えた以外は実施例１と全く同様にして電子写真感光体を作成した。
【００６６】
〔実施例６〕
実施例３において下引き層のジステアリン酸ポリエチレングリコール イオネットＤＳ４０００をモノテアリン酸ポリエチレングリコール（イオネットＭＳ４００；三洋化成製ＨＬＢ＝１１．９）０．１３８部に変えた以外は実施例１と全く同様にして電子写真感光体を作成した。
【００６７】
〔実施例７〕
実施例６において下引き層のモノテアリン酸ポリエチレングリコール  イオネットＭＳ４００をジステアリン酸ポリエチレングリコール  イオネットＤＳ３００  １．０２部に変えた以外は実施例６と全く同様にして電子写真感光体を作成した。
【００６８】
〔比較例１〕
実施例１において下引き層のジステアリン酸ポリエチレングリコール  イオネットＤＳ４００を除いた以外は実施例１と全く同様にして電子写真感光体を作成した。
【００６９】
〔比較例２〕
実施例１において電荷輸送層のハイドロキノン誘導体を除いた以外は実施例１と全く同様にして電子写真感光体を作成した。
【００７０】
〔比較例３〕
実施例１において電荷輸送層のハイドロキノン誘導体の添加量をＩ−２、Ｉ−２７６をそれぞれ０．２１部とした以外は実施例１と全く同様にして電子写真感光体を作成した。
【００７１】
〔比較例４〕
実施例１において電荷輸送層のハイドロキノン誘導体の添加量をＩ−２、Ｉ−２７６をそれぞれ０．０００１４部とした以外は実施例１と全く同様にして電子写真感光体を作成した。
【００７２】
〔比較例５〕
実施例１において下引き層のジステアリン酸ポリエチレングリコール  イオネットＤＳ４００と電荷輸送層のハイドロキノン誘導体を除いた以外は実施例１と全く同様にして電子写真感光体を作成した。
【００７３】
このようにして作成した電子写真感光体を反転現像方式のデジタル複写機（当社製イマジオ２５０）に取り付け、３０℃９０％の環境で３万枚のプリントを行ない、初期、３万枚プリント後の画像品質を評価した。
また、イマジオ２５０の現像ローラをはずして電位計のプローブを取り付けたユニットで初期、３万枚プリント後の帯電電位、露光後電位を測定した。これらの結果を表３に示す。
なお、黒ポチの評価はカラーイメージプロセッサーＳＰＩＣＣＡ（日本アビオニクス社製）を用いて黒ポチの大きさと個数を測定し、φ０．０５ｍｍ以上の黒ポチの１ｃｍ２当たりの個数により判定した。黒ポチ評価の判定基準を表４に示す。なお、判定における◎、○、△は実用上特に問題のないことを、×の場合は実用に適さないことを意味する。また、１ドットライン画像から細線の再現性を評価した。
【００７４】
【表３】
2005091981.tif 000027
【００７５】
【表４】
2005091981.tif 000028
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】本発明の感光層の断面図を示した図である。
【図２】本発明の電子写真装置の模式断面図である。
【符号の説明】
【００７７】
１１  感光体
１２  帯電ローラ
１３  書きこみ光
１４  現像ユニット
１５  転写紙
１６  転写ローラ
１７  クリーニングユニット
１８  除電ランプ
１９  定着ローラ
３１  導電性基体
３２  中間層
３３  電荷発生層
３４  電荷輸送層
【図１】
2005091981.tif 000031
【図２】
2005091981.tif 000032