(57)【要約】【課題】  注入孔と注入孔近傍との間のセルギャップむらを抑制しつつも、ＵＶ硬化樹脂を十分に硬化させることによって、液晶注入孔の近傍における表示品質の劣化を抑制できる液晶表示装置を提供する。【解決手段】  液晶表示装置は、一対の透明基板と、一対の透明基板の間に形成され液晶層２７を透明基板間に封止する樹脂シール部１８と、樹脂シール部１８の液晶注入孔１９を閉止する、紫外線硬化樹脂から成る封孔部２８とを備える。封孔部２８と一方の透明基板との間に封孔部ダミー配線１７ａが形成され、封孔部ダミー配線１７ａは光を透過させる開口部を内部に有する。【選択図】    図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の透明基板と、該一対の透明基板の間に形成され液晶層を前記透明基板間に封止する樹脂シール部と、前記樹脂シール部の液晶注入孔を閉止する、紫外線硬化樹脂から成る封孔部とを備える液晶表示装置において、
前記封孔部と一方の透明基板との間に封孔部ダミー配線が形成され、該封孔部ダミー配線は光を透過させる開口部を内部に有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記樹脂シール部は、前記透明基板間のギャップを規定するスペーサを内部に含む、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記封孔部ダミー配線は、櫛形状に形成されており、液晶層の縁部に沿って延びる直線状部分と、該直線状部分から側方に延長する複数の櫛歯状部分とを備える、請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記封孔部ダミー配線は格子状に形成される、請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記封孔部ダミー配線は市松状に形成される、請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記樹脂シール部と前記一方の透明基板との間にシール部ダミー配線が形成され、該シール部ダミー配線は、前記封孔部ダミー配線と同層の導体層で形成される、請求項１〜５の何れか一に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記シール部ダミー配線及び封孔部ダミー配線は、前記一方の透明基板上に形成される共通電極線と接続される、請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記封孔部ダミー配線は、前記一方の透明基板上に形成されるＴＦＴのゲート配線と同層に形成される、請求項１〜７の何れか一に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記液晶層の厚みが1.5〜4.0μmの範囲である、請求項１〜８の何れか一に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記封孔部の内部には、前記樹脂シール部と同じ材質の緩衝シール部が形成され、該緩衝シール部は、前記封孔部ダミー配線上に形成される、請求項１〜９の何れか一に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置に関し、更に詳細には、液晶層を封入する液晶注入孔の近傍等における、液晶表示装置の表示品質の劣化を防止する技術にする。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、対向する一対のガラス基板の間に液晶層を有し、液晶層に印加される電圧によって透過光を制御して、画像の表示を行う。製造にあたって、一対のガラス基板は、周辺部に環状に設けられた樹脂シール部によって貼り合わされる。液晶は樹脂シール部に設けられた液晶注入孔よりガラス基板及び樹脂シール部で囲まれた空間に封入される。注入孔内には、ＵＶ硬化樹脂の紫外線硬化によって形成された封孔部が設けられ、注入孔を閉止する。
【０００３】
ところで、基板同士の貼り合わせやＵＶ硬化樹脂の硬化、或いは液晶の注入の際に、注入孔に加わる圧力によって注入孔近傍の基板が歪み、注入孔と注入孔近傍との間にセルギャップむらが生じる。セルギャップむらは、注入孔近傍で、表示輝度や色合いの変化などを引き起こし、液晶表示装置の表示品質を低下させる。
【０００４】
注入孔近傍のセルギャップむらを解消するために、特許文献１では、注入孔内に樹脂シール部と同じ厚みを有する、柱状の緩衝シール部（シールダミー）を設けることを提案している。特許文献２では、単純マトリクス駆動型でＳＴＮ（Super Twisted Nematic）方式の液晶表示装置において、注入孔内に透明電極を延在させ、延在させた透明電極上に樹脂シール部と同じ厚みを有する緩衝シール部（柱状シール）を設けることを提案している。
【特許文献１】特開２０００−２０６５４６号公報（図１）
【特許文献２】特開平１０−７３８３０号公報（図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、アクティブマトリクス駆動型の液晶表示装置では、走査線又はデータ線などの配線が引き出される縁部と、その他の縁部との間で、配線の厚みに相当するセルギャップ差を有している。近年、液晶表示装置の表示動作の高速化に伴って、セルギャップが縮小されているが、液晶層の厚みが小さくなると、上記セルギャップ差によって表示輝度のむらなどが発生し、良好な表示品質を維持することが出来なくなる。各縁部の厚みを調整して良好な表示品質を得るために、本発明者は、配線が引き出されない縁部に、樹脂シール部と重なるように、配線と同じ材料から成る金属膜、即ちダミー配線を配設することを検討した。
【０００６】
ここで、アクティブマトリクス駆動型の液晶表示装置では、配線がＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明電極で構成される単純マトリクス駆動型の液晶表示装置とは異なり、配線が光透過性を有しない金属膜で構成される。このため注入孔において、緩衝シール部と同形状のダミー配線を緩衝シール部と重なるように設けると、ダミー配線が紫外線を遮り、ＵＶ硬化樹脂を硬化させるための紫外線が不足する問題があることが判った。この場合、特に注入孔の奥側に届く紫外線が不足し、注入孔の奥側で未硬化のＵＶ硬化樹脂が液晶層へ浸入することによって、液晶表示装置の表示品質が低下する。
【０００７】
これに対して、注入孔でダミー配線を形成しなければ、ＵＶ硬化樹脂の未硬化の問題は回避できるが、注入孔と注入孔近傍との間で、ダミー配線の厚みに相当するセルギャップむらが生じる。本発明者の研究によれば、液晶層の厚みが特に小さな液晶表示装置では、このセルギャップむらによって、注入孔近傍で表示輝度や色合いの変化などが引き起こされ、液晶表示装置の表示品質が低下する問題があることが判った。これは、液晶層の厚みが小さくなると、絶対値としては同じセルギャップむらであっても、液晶層の厚みに対する相対的なセルギャップむらが大きくなるためであると考えられる。注入孔近傍での表示品質の低下は、液晶層の厚みが例えば4μm以下で発生し、3.3μm以下で顕著になる。なお、通常のネマティック液晶を用いた液晶表示装置では、材料の選択及び動作電圧等の観点から、液晶層の下限は1.5μmである。
【０００８】
本発明は、上記に鑑み、注入孔と注入孔近傍との間のセルギャップむらを抑制しつつも、ＵＶ硬化樹脂を十分に硬化させることによって、液晶注入孔の近傍における表示品質の劣化を抑制できる液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明の液晶表示装置は、一対の透明基板と、該一対の透明基板の間に形成され液晶層を前記透明基板間に封止する樹脂シール部と、前記樹脂シール部の液晶注入孔を閉止する、紫外線硬化樹脂から成る封孔部とを備える液晶表示装置において、
前記封孔部と一方の透明基板との間に封孔部ダミー配線が形成され、該封孔部ダミー配線は光を透過させる開口部を内部に有することを特徴としている。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の液晶表示装置によれば、封孔部ダミー配線を設けたことにより、注入孔と注入孔近傍との間のセルギャップむらを抑制することが出来る。また、開口を有する封孔部ダミー配線によって、一方の透明基板を介して注入孔の奥側にも十分な紫外線を届かせることが出来る。従って、セルギャップむらを抑制しつつも、ＵＶ硬化樹脂を十分に硬化させることが出来るので、注入孔の近傍における表示品質の劣化を抑制することが出来る。
【００１１】
本発明の好適な実施態様では、前記樹脂シール部は、前記透明基板間のギャップを規定するスペーサを内部に含む。また、前記封孔部ダミー配線は、櫛形状に形成されており、液晶層の縁部に沿って延びる直線状部分と、該直線状部分から側方に延長する複数の櫛歯状部分とを備える。この場合、注入孔には、液晶の注入方向に沿った櫛歯状の溝が形成されるので、液晶の注入を淀みなくスムーズに行うことが出来る。また、櫛歯状部分が紫外線の入射方向に沿って形成されているので、注入孔の奥側に紫外線を効率的に届かせることが出来る。前記封孔部ダミー配線は、格子状、又は、市松状に形成されることも本発明の好ましい態様である。
【００１２】
また、前記樹脂シール部と前記一方の透明基板との間にシール部ダミー配線が形成され、該シール部ダミー配線は、前記封孔部ダミー配線と同層の導体層で形成されることも本発明の好ましい態様である。この場合、注入孔と注入孔近傍との間のセルギャップむらを抑制し、且つ液晶表示装置の各縁部のセルギャップを揃えることが出来る。
【００１３】
本発明の好適な実施態様では、前記シール部ダミー配線及び封孔部ダミー配線は、前記一方の透明基板上に形成される共通電極線と接続される。この場合、製造工程での封孔部ダミー配線内の放電を防いで、絶縁膜の損傷を抑制し、歩留まりを向上させることが出来る。また、動作時には、シール部ダミー配線のＤＣ電圧による表示むらなどが生じないので、液晶表示装置の信頼性を高めることが出来る。
【００１４】
本発明の好適な実施態様では、前記封孔部ダミー配線は、前記一方の透明基板上に形成されるＴＦＴのゲート配線と同層に形成される。この場合、製造工程を短縮することが出来る。
【００１５】
本発明は、前記液晶層の厚みが1.5〜4.0μmの範囲の液晶表示装置に適用すると特に好ましい。厚みが4.0μm以下になると、注入孔と注入孔近傍との間の配線の厚みに相当する、セルギャップむらに起因して、注入孔近傍で表示品質が低下する。また、材料の選択及び動作電圧等の観点から、通常のネマティック液晶を用いた液晶表示装置では、液晶層の下限は1.5μmである。
【００１６】
本発明の好適な実施態様では、前記封孔部の内部には、前記樹脂シール部と同じ材質の緩衝シール部が形成され、該緩衝シール部は、前記封孔部ダミー配線上に形成される。注入孔に加わる圧力によって、注入孔と注入孔近傍との間にセルギャップむらが生じることを抑制することが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下に、実施形態例を挙げ、添付図面を参照して、本発明の実施の形態を具体的且つ詳細に説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る、逆スタガー構造のＴＦＴを備えるアクティブマトリクス駆動型の液晶表示装置の構成を示す平面図である。同図は、表示面側を前面として示している。液晶表示装置１０は、裏面側に設けられたＴＦＴ基板１１と、表示面側に設けられ、ＴＦＴ基板１１よりも寸法が僅かに小さなＣＦ基板１２とを備える。液晶表示装置１０の表示面は、画像を表示する表示領域１３と、表示領域１３の周辺に位置する非表示領域１４とから構成される。
【００１８】
ＴＦＴ基板１１上には、非表示領域１４の一方の縁部から表示領域１３の向かってゲート配線１５が延びている。また、非表示領域１４の下縁部から表示領域１３に向かってドレイン配線１６が延びている。ゲート配線１５及びドレイン配線１６にそれぞれ隣接して共通配線３０，３１が設けられている。
【００１９】
ゲート配線１５及びドレイン配線１６はそれぞれ、ＴＦＴ基板１１上の表示領域１３にマトリクス状に設けられた、図示しない薄膜トランジスタに接続されている。ゲート配線１５及び共通配線３０は、ＴＦＴ基板１１の一方の縁部で、走査線ドライバにそれぞれ接続され、また、ドレイン配線１６及び共通配線３１は、ＴＦＴ基板１１の下縁部で、データ線ドライバにそれぞれ接続されている。ＴＦＴ基板１１上であって、非表示領域１４の上縁部及び他方の縁部には、注入孔１９の近傍を除いて、ダミー配線（シール部ダミー配線ミー配線）１７が設けられている。ダミー配線１７は共通配線３０，３１に接続されている。
【００２０】
ＴＦＴ基板１１とＣＦ基板１２との間の非表示領域１４には、注入孔１９を除いて、環状に樹脂シール部１８が設けられている。樹脂シール部１８は、エポキシ樹脂から成り、1mm程度の幅を有する。ゲート配線１５及びドレイン配線１６が配設されない非表示領域１４の上縁部及び他方の縁部では、ダミー配線１７と重なるように設けられている。樹脂シール部１８から表示領域１３までの距離は10mm程度である。
【００２１】
図２に図１のａ−ａ’線に沿った断面を示す。ＴＦＴ基板１１は700μm程度の厚みを有する。ＴＦＴ基板１１上には、表示領域１３及び非表示領域１４の一部に、1.3μm程度の厚みを有するＴＦＴアレイ部２０が設けられている。ＴＦＴアレイ部２０には、画素電極、画素電極に接続され、画素電極を駆動するＴＦＴ素子、ＴＦＴ素子を駆動するゲート配線及びドレイン配線などが形成されている。表示領域１３のＴＦＴ基板１１上には、このように、ゲート配線１５とドレイン配線１６がマトリクス状に配置され、その交点に、ＴＦＴ素子と画素電極とが配置されている。このような表示領域１３のＴＦＴ基板１１上の構造を、ＴＦＴアレイ部２０と呼ぶ。
【００２２】
ダミー配線１７及びゲート配線１５（図示せず）は同一の工程で形成され、0.33μm程度の厚みを有する。ドレイン配線１６（図示せず）は0.21μｍ程度の厚みを有する。ゲート配線１５、ドレイン配線１６、及びダミー配線１７は、何れも例えばアルミニウムから成る。なお、ゲート配線１５及びドレイン配線１６の材料は、アルミニウムに限らず、金属であればよい。代表的には、アルミニウム、クロム、モリブデンなどの単体金属、若しくはこれらの合金、又は、これら金属膜の積層膜を用いることが出来る。
【００２３】
ＴＦＴ基板１１上、及び、ＴＦＴ基板１１上に設けられた、ＴＦＴアレイ部２０、ゲート配線１５、ドレイン配線１６、ダミー配線１７上には、絶縁膜２１が形成されている。絶縁膜２１は、窒化シリコンや酸化シリコン等の無機系材料から成り、0.3μm程度の厚みを有する。
【００２４】
ＣＦ基板１１は700μm程度の厚みを有する。ＣＦ基板１２上には、その表示領域１３に、2μm程度の厚みを有する色層２２が設けられている。色層２２は、赤色のＲ層、緑色のＧ層、及び青色のＢ層を含む。色層２２が設けられていない領域には、樹脂系の材料から成る遮光層（ブラックマスク層）２３が設けられている。遮光層２３は、1.3μm程度の厚みを有する。
【００２５】
樹脂シール部１８は、ＴＦＴ基板１１上に設けられた絶縁膜２１とＣＦ基板１２との間に設けられる。樹脂シール部１８は、その内部に直径が5μmのガラスから成る、円筒状のシール部スペーサ２４を含む。シール部スペーサ２４の円筒形の側面の一端が絶縁膜２１に、また、他の一端がＣＦ基板１２に接することにより、絶縁膜２１とＣＦ基板１２との間隔を一定に保持する。樹脂シール部１８は、絶縁膜２１が形成されたＴＦＴ基板１１上に、スクリーン印刷などを用いて形成することが出来る。
【００２６】
ＴＦＴ基板１１とＣＦ基板１２との間で樹脂シール部１８によって囲まれる液晶封入領域２５には、液晶２７が封入されている。液晶２７は、その内部に直径が3μmのポリマー（有機架橋重合体粒子）から成る、球状の液晶スペーサ２６を含む。液晶スペーサ２６とシール部スペーサ２４の間の直径の差2μmは、色層２２の膜厚に等しい。液晶スペーサ２６は、ＴＦＴ基板１１とＣＦ基板１２とを樹脂シール部１８によって貼り合わせる際に、液晶封入領域２５に予め散布されることにより、液晶封入領域２５に封入される。液晶スペーサ２６の下面が絶縁膜２１に、上面が色層２２に接することにより、絶縁膜２１と色層２２との間隔を一定に保持する。液晶スペーサ２６は、ポリマー以外にも、無機系粒子、又は、有機質無機質複合体粒子で構成することも出来る。
【００２７】
図３に図１の注入孔１９の近傍を拡大して示す。また、図４、５に図３のｂ−ｂ’断面、及びｃ−ｃ’断面をそれぞれ示す。図示の樹脂シール部１８の幅ＣＷは0.7mmで、注入孔１９の長手方向の幅ＣＬは16mmである。注入孔１９と注入孔１９近傍には、ダミー配線１７から延在する封孔部ダミー配線１７ａが設けられている。封孔部ダミー配線１７ａは、櫛形状を有し、基板の縁部と平行に延びる直線部３２と、直線部３２から外側に突出する多数の櫛歯部（ストライプ）３３とから成る。櫛歯部３３は、図示の横方向の幅Ｗ1が700μm程度で、幅Ｗ2が10μmで、図示の寸法Ｌ1が50μmで、間隔Ｓ1が50μmである。図示の寸法Ｌ2は4mm程度である。注入孔１９の幅ＣＬは、15〜20mmとしてもよい。
【００２８】
注入孔１９には、上下方向に３個の円筒形の緩衝シール部１８ａが設けられている。同図中には１個のみ示した。３個の緩衝シール部１８ａの平面形状は何れも、上下方向の径が0.6mmで、左右方向の径が1.4mmの楕円形である。緩衝シール部１８ａは、樹脂シール部１８の一部を構成し、図４、５に示すように、直径が5μmの円筒状のシール部スペーサ２４を含んでいる。緩衝シール部１８ａは、封孔部ダミー配線１７ａと重なるように、且つ樹脂シール部１８よりもやや表示領域１３寄りに設けられている。緩衝シール部１８ａは、樹脂シール部１８を形成する工程で、スクリーン印刷などを用いて形成される。なお、緩衝シール部１８ａは３個に限らず、例えば１個乃至数個を設けることが出来る。大型の液晶表示装置では、注入孔１９の幅を広くする必要があり、複数個の緩衝シール部１８ａが必要になる。
【００２９】
ここで、櫛歯部３３の寸法Ｌ1が短すぎ、或いは間隔Ｓ1が長過ぎると、円筒状のシール部スペーサ２４を、櫛歯部３３上の絶縁膜２１とＣＦ基板１２との間に挟持することが出来ない。この場合、緩衝シール部１８ａの厚みが小さくなり、注入孔１９と注入孔１９近傍との間のセルギャップむらを抑制することが出来なくなる。本実施形態例では、寸法Ｌ1を50μmとし、且つ間隔Ｓ1を50μmとすることによって、シール部スペーサ２４を、櫛歯部３３上の絶縁膜２１とＣＦ基板１２との間に確実に挟持し、緩衝シール部１８ａを所定の厚みに保つことが出来る。
【００３０】
また、櫛歯部３３が基板の縁部に対して垂直に形成されることにより、図５に示したように絶縁膜２１の表面に液晶２７の注入方向に沿った溝３５が形成される。この溝３５によって、液晶２７の注入を淀みなくスムーズに行うことが出来る。直線部３２は、その両端で上下のダミー配線１７に接続されているので、封孔部ダミー配線１７ａは、共通電位に保持される。
【００３１】
注入孔１９は、ＵＶ硬化樹脂２８によって封止され、ＵＶ硬化樹脂２８は、液晶封入領域２５に封入された液晶２７封止のための封孔部として構成される。ＵＶ硬化樹脂２８は、液晶の封止効果を確実なものとするため、樹脂シール部１８及び緩衝シール部１８ａの表示領域１３側の縁部近傍まで注入されている。
【００３２】
図４において、紫外線が照射されると、ＵＶ硬化樹脂２８の表面部分から硬化が始まり、硬化されたＵＶ硬化樹脂２８によって紫外線が吸収されるため、注入孔１９内を進行する紫外線３７は、注入孔１９の奥側に位置するＵＶ硬化樹脂２８には届きにくい。特に、本実施形態例の液晶表示装置１０では、緩衝シール部１８ａの厚みが5μm程度しかないため、このような傾向が顕著である。
【００３３】
しかし、本液晶表示装置１０では、封孔部ダミー配線１７ａが開口を有するので、一部の紫外線３８は透明なＴＦＴ基板１１の内部を屈折して進行し、注入孔１９の下方から注入孔１９に入射する。ＣＦ基板１２上には遮光要素は存在しないので、他の一部の紫外線３９は透明なＣＦ基板１２の内部を屈折して進行し、注入孔１９の上方から注入孔１９に入射する。従って、注入孔１９の奥側に位置するＵＶ硬化樹脂２８にも十分な紫外線を照射させることが出来るので、注入孔１９内のＵＶ硬化樹脂２８を十分に硬化させることが出来る。
【００３４】
本実施形態例の液晶表示装置１０によれば、ダミー配線１７を設けたことにより、液晶表示装置１０の各縁部の厚みを調節し、良好な表示品質を保つことが出来る。また、注入孔１９に封孔部ダミー配線１７ａを設けたことにより、注入孔１９と注入孔１９近傍との間のセルギャップむらを抑制することが出来る。更に、開口を有する櫛形状の封孔部ダミー配線１７ａによって、ＴＦＴ基板１１を介して注入孔１９の奥側にも十分な紫外線を届かせることが出来る。従って、セルギャップむらを抑制しつつも、ＵＶ硬化樹脂２８を十分に硬化させることが出来るので、注入孔１９の近傍における表示品質の低下を抑制することが出来る。
【００３５】
なお、実験によれば、本実施形態例の液晶表示装置１０の構成において、櫛歯部３３のピッチ、即ちＬ1＋Ｓ1を10〜1000μmの範囲に、且つ寸法Ｌ1と間隔Ｓ1との比率を８：２〜３：７の範囲にそれぞれ設定することにより、注入孔１９の奥側に位置するＵＶ硬化樹脂２８に均等で十分な紫外線を照射させ、且つ緩衝シール部１８ａを所定の厚みに保つことが出来ることが判った。
【００３６】
なお、色層２２は厚いほど色味が濃くなり、例えばＲ層であればより赤みを帯びる。従って、色層２２を厚くすることによって、色再現性、即ち色再現範囲を広くすることが出来る。本実施形態例の色層２２の膜厚2μmは、現在市場に出ているＬＣＤの中で最も厚いもので、ＥＢＵ（European Broadcasting Union）規格の色再現性を実現することが出来る。しかし、色層２２の厚みが大きいことによって、液晶層の厚みがその分小さくなるので、注入孔１９近傍のセルギャップむらが表示品質に影響し易くなるものと考えられる。従って、液晶表示装置１０では、本発明の効果が特に大きくなる。なお、通常のノートＰＣ、ＰＣモニタ等に使用されるＬＣＤのカラーフィルタの色層の厚みは、約1.2〜1.7μmである。
【００３７】
本実施形態例では、また、封孔部ダミー配線１７ａが、ダミー配線１７を介して共通電位に保持されていることにより、製造工程の放電による絶縁膜の損傷を抑制し、歩留まりを向上させることが出来る。また、動作時に、封孔部ダミー配線に大きなＤＣ電圧が生じると、顕著な表示むらなどが発生し、液晶表示装置の信頼性を低下させる。しかし、本実施形態例の封孔部ダミー配線１７ａが保持される共通電位は、液晶表示装置１０内の空間的・時間的な平均電位に近いので、表示むらの発生などを抑制して、液晶表示装置１０の信頼性を高めることが出来る。なお、封孔部ダミー配線１７ａは、共通電極に保持されることが最も望ましいが、ドレイン配線１３やゲート配線１４に接続しても良く、従来に比べて十分に放電を抑制することが出来る。
【００３８】
本実施形態例では、非表示領域１４の側縁部に注入孔１９が設けられているが、ゲート配線１５やドレイン配線１６が形成されていない非表示領域１４の他の縁部に設けても良い。また、ＴＦＴアレイ部２０上に絶縁膜２１を設けた例を示したが、ＴＦＴ基板１１上の層構成の如何に拘わらず適用できる。例えば、絶縁膜上にＴＦＴアレイ部が設けられる液晶表示装置や、絶縁膜上に0.8〜2.0μm程度の厚みを有する有機絶縁膜及びＴＦＴアレイ部が設けられる液晶表示装置にも、同様に適用することが出来る。更に、色層２２及び遮光層２３を覆ってＣＦ基板１２上の全面に塗布された、膜厚が1μm程度の有機絶縁膜を設ける構成としてもよい。
【００３９】
直線部３２を櫛歯部３３の内側に接して設けたが、直線部３２を設ける位置は上記に限らず、櫛歯部３３の中間位置、又は、外側に接して設けても構わない。また、ダミー配線１７が樹脂シール部１８に完全に重なるように設けられているが、必ずしも完全に重なるように設ける必要はない。シール部スペーサ２４が、ダミー配線１７上の絶縁膜２１とＣＦ基板１２との間に挟持されればよい。
【００４０】
上記実施形態例では、遮光層２３を樹脂系の材料で構成した例を示したが、下記変形例１に示すように、金属系の材料で構成することも出来る。図６に、実施形態例の変形例１に係る液晶表示装置の、図４に相当する断面を示す。本変形例の液晶表示装置３４では、遮光層２３は膜厚が0.14μmのクロムから成り、樹脂シール部１８及び緩衝シール部１８ａの外側まで設けられている。樹脂シール部１８及び緩衝シール部１８ａは、絶縁膜２１と遮光層２３との間に設けられる。
【００４１】
本変形例によれば、遮光層２３によってＣＦ基板１２側からの紫外線の入射が妨げられるが、開口を有する封孔部ダミー配線１７ａによって、ＴＦＴ基板１１からの紫外線の入射を確保することで、ＵＶ硬化樹脂２８を十分に硬化させることが出来る。なお、本変形例では、ＣＦ基板１２側からの紫外線の入射が妨げられるので、ＴＦＴ基板１１側からの紫外線の入射を増やすために、封孔部ダミー配線１７ａの間隔Ｓ1を実施形態例よりも広めに設定することが望ましい。遮光層２３には、クロム以外にも酸化クロムや金属膜の多層膜などを用いることも出来る。
【００４２】
上記実施形態例では、櫛形状を有する封孔部ダミー配線１７ａの例を示したが、下記変形例２、３に示す形状を採用することも出来る。図７（ａ）に、実施形態例の変形例２に係る液晶表示装置の封孔部ダミー配線の形状を示す。変形例２の液晶表示装置では、同図に示すように、封孔部ダミー配線１７ａは、縦方向に等間隔に配列したストライプと、横方向に等間隔に配列したストライプとが交差した格子形状を有している。図示の寸法Ｌ3は30μmで、間隔Ｓ3は70μmであるが、Ｌ3＋Ｓ3を10〜1000μmの範囲に、且つ寸法Ｌ3と間隔Ｓ3との比率を８：２〜３：７の範囲にそれぞれ設定することができる。
【００４３】
図７（ｂ）に、実施形態例の変形例３に係る液晶表示装置の封孔部ダミー配線の形状を示す。変形例３の液晶表示装置では、同図に示すように、封孔部ダミー配線１７ａは、正方形状の方形部３６が市松状に配置された形状を有している。隣接する方形部３６同士は方形部３６の角部で導通され、共通電位に保持される。方形部３６の一辺の寸法Ｌ4は、60μm、間隔Ｓ4は40μmであるが、Ｌ4＋Ｓ4を10〜1000μmの範囲に、且つ寸法Ｌ4と間隔Ｓ4との比率を８：２〜５：５の範囲にそれぞれ設定することができる。
【００４４】
封孔部ダミー配線１７ａの形状は、上記実施形態例及び変形例２、３の例に限定されず、メッシュ状や、基板の縁部と平行に延びる複数のストライプから成る形状などを採用することも出来る。
【００４５】
以上、本発明をその好適な実施形態例に基づいて説明したが、本発明に係る液晶表示装置は、上記実施形態例の構成にのみ限定されるものではなく、上記実施形態例の構成から種々の修正及び変更を施した液晶表示装置も、本発明の範囲に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【００４６】
本発明に係る液晶表示装置は、ネマティック液晶を用いた、ＩＰＳ（In-Plane Switching）方式、ＴＮ（Twisted Nematic）方式、ＶＡ（Vertically Aligned）方式の液晶表示装置の何れにも好適に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】実施形態例に係る液晶表示装置の構成を示す平面図である。
【図２】図１のａ−ａ’線に沿った断面を示す断面図である。
【図３】図１の注入孔の近傍を拡大して示す平面図である。
【図４】図３のｂ−ｂ’線に沿った断面を示す断面図である。
【図５】図３のｃ−ｃ’線に沿った断面を示す断面図である。
【図６】変形例１に係る液晶表示装置の図４に対応する断面を示す断面図である。
【図７】図７（ａ）、（ｂ）はそれぞれ、変形例２、３に係る液晶表示装置の封孔部ダミー配線の構成を示す平面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１０，３４：液晶表示装置
１１：ＴＦＴ基板（薄膜トランジスタ基板）
１２：ＣＦ基板（カラーフィルタ基板）
１３：表示領域
１４：非表示領域
１５：ゲート配線
１６：ドレイン配線
１７：ダミー配線（シール部ダミー配線）
１７ａ：封孔部ダミー配線
１８：シール部
１８ａ：緩衝シール部
１９：注入孔
２０：ＴＦＴアレイ部
２１：絶縁膜
２２：色層
２３：遮光層（ブラックマスク層）
２４：シール部スペーサ
２５：液晶封入領域
２６：液晶層スペーサ
２７：液晶（液晶層）
２８：ＵＶ硬化樹脂（封孔部）
２９：紫外線の照射方向
３０、３１：共通配線
３２：直線部
３３：櫛歯部（ストライプ）
３５：溝
３６：方形部
３７：ＵＶ硬化樹脂内を進行する紫外線
３８：ＴＦＴ基板内を屈折して進行する紫外線
３９：ＣＦ基板内を屈折して進行する紫外線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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