(57)【要約】【課題】２枚の位相差板を０．５μｍ以下の面平坦度を有し、その複数の位相差板をほぼ平行に貼り合わせることができる積層位相差板の製造方法を提供する。【解決手段】第１の液晶セルの間隙に高分子液晶層を配した第１の位相差板を形成した後に、第１の位相差板の一方の基板を兼用して第２の液晶セルを形成し、その第２の液晶セルに高分子液晶層を更に配することで３枚の基板間で２つの高分子液晶層が狭持された積層位相差板を製造する。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と第２の基板を間隙をもって貼り合わせて第１の液晶セルを形成する工程と、
前記第１の液晶セルの間隙に液晶モノマーを注入した後にその液晶モノマーを重合硬化させて高分子液晶層を有する第１の位相差板を形成する工程と、
第３の基板と、前記第１の位相差板を構成する前記高分子液晶層とは反対側の基板とを対向させて間隙をもって貼り合わせて第２の液晶セルを形成する工程と、前記第２の液晶セルの間隙に液晶モノマーを注入した後にその液晶モノマーを重合硬化させて高分子液晶層を有する第２の位相差板を形成する工程、とを有することを特徴とする積層位相差板の製造方法。
【請求項２】
前記第１の液晶セルを形成する工程と、前記第２の液晶セルを形成する工程の後に、前記第１の位相差板を形成する工程と、第２の位相差板を形成する工程を同一工程にて行うことを特徴とする請求項１に記載の積層位相差板の製造方法。
【請求項３】
第１の基板と第２の基板を間隙をもって貼り合わせて第１の液晶セルを形成する工程と、
前記第１の液晶セルの間隙に液晶モノマーを注入した後にその液晶モノマーを重合硬化させて高分子液晶層を有する第１の位相差板を形成する工程と、
前記第１の位相差板を構成する高分子液晶層とは反対側の基板表面に液晶モノマーを塗布する工程と、
前記液晶モノマーを重合硬化させて高分子液晶層を有する第２の位相差板を形成する工程、とを有することを特徴とする積層位相差板の製造方法。
【請求項４】
前記液晶セルを形成する工程は、前記第１の基板と前記第２の基板に注入口を有するシールを介して間隙をもって貼り合わせて形成する工程であることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の積層位相差板の製造方法。
【請求項５】
前記第２の液晶セルを形成する工程と、前記第２の位相差板を形成する工程を更に繰り返して、３層以上の位相差板を積層して形成することを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の積層位相差板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高分子液晶からなる複数枚の位相差板を積層し、その複数枚の位相差板を透明基板で狭持した積層位相差板の製造方法に関し、特に両位相差板の面平坦度および平行度が要求される、例えば光ピックアップ装置に適用可能な積層位相差板の製造方法に関する。
【従来の技術】
【０００２】
単色光に対して１／４波長の位相差を与える複屈折性部材と、単色光に対して１／２波長の位相差を与える複屈折性部材とを貼りあわせ、全体として１／４波長板として機能する積層位相差板や、単色光に対して１／２波長の位相差を与える２つの複屈折性部材を貼りあわせ、全体として１／２波長板として機能する積層位相差板が知られている。これら積層位相差板は、ある特定波長だけでなく、例えば主に可視光域全般の広い波長帯域にわたって１／４波長板または１／２波長板として機能するものである。
【０００３】
また、これら技術を応用して特定の２波長に対し、一方の波長に対しては前述した複屈折性部材に相当する位相差板に入射する直線偏光を４５°回転させる機能を有し、他方の波長に対してはその波長板に入射する直線偏光を円偏光に変える機能を有する積層位相差板として２波長位相差板が知られている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
ここで、上記機能を有する２波長位相差板とこれを用いた光ピックアップ装置を例に挙げて説明する。
図５は、２波長用位相差板の機能と構成を説明するための図面である。図６は、積層位相差板を搭載した光ピックアップ装置の構成と作用を説明するための模式図である。
【０００５】
上述した特定の２波長とは、例えばＣＤで使う波長７９０ｎｍ（λ１）とＤＶＤで使う波長６６０ｎｍ（λ２）である。ここで用いている２波長位相差板１００は、先に説明した１／４波長板および１／２波長板として機能する積層位相差板と基本的に同じ構成であり、各位相差板のリタデーション値と２枚の位相差板の貼り合わせ角度が異なるだけである。これにより、ＣＤとＤＶＤに用いる両者の波長λ１およびλ２の直線偏光に対応する動作を与えることができる。
【０００６】
また、この２波長用位相差板の構成は、図５に示す様に、一方の面に複屈折性を有し、高分子液晶からなる有機薄膜（第１の位相差板）１０３，（第２の位相差板）１０７を備えた２枚のガラスまたはプラスチックからなる透明基板１０１，１０９を接着剤１０５を介して貼り合わせて一体としたものである。この一方の有機薄膜１０３は、リタデーション値が５９３ｎｍを中心値とする５３３〜６５２ｎｍの範囲にあり、他方の有機薄膜１０７は、リタデーション値が３９５ｎｍを中心値とする３５６〜４３４ｎｍの範囲となるものを用いている。さらに、一方の有機薄膜１０３と、他方の有機薄膜１０７の貼り合わせ角度を１９〜２９度として積層して２波長用位相差板１００を構成している。
【０００７】
この様に構成することで、図５ａに示す様に、λ１の直線偏光が２波長用位相差板１００に入射させ、その位相差板からの出射光の偏光方向を４５°回転させることができる。また、図５ｂに示す様に、λ２の光が２波長用位相差板１００に入射すると、その位相差板からの出射光を円偏光に変換させることができるのである。
【０００８】
ここで、この２波長用位相差板１００の製造方法について下記に示す。
まず、２枚の透明基板を用意し、それぞれの表面に配向膜を塗布し、その配向膜に所望の配向処理を施す。そして、複屈折性材料である液晶モノマーの溶液を配向膜上に塗布した後、光重合用の光源光をこの液晶モノマーに照射して重合硬化させて、透明基板上に高分子液晶層を有する第１の位相差板と第２の位相差板を得ることができる。さらに、アクリル系、エポキシ系、ウレタン系等の接着剤をスピンコート法、ロールコート法によりこの一方の位相差板の高分子液晶層の表面にできるだけ均一に塗り、両基板を一体に貼り合せて２波長用位相差板１００が完成する。
【０００９】
次に、この２波長用位相差板１００を用いた光ピックアップ装置２００の構成について図６を用いて詳細に説明する。
図６に示す光ピックアップ装置２００は、一方の半導体レーザー２０１ａからのＣＤ用の波長λ１の出射光が、ビームスプリッタ２０３ａにより反射し、コリメートレンズ２０５により平行光とされた光が２波長用位相差板１００により偏光方向が４５°回転され、対物レンズ２０７により光記録媒体である光ディスク２０９上に集光されるように構成したものである。そして、光ディスク２０９で反射した戻り光は、再度２波長用位相差板１００を通過して偏光方向が４５°回転されるので、往路の偏光方向と平行となり、コリメートレンズ２０５およびビームスプリッタ２０３ａ，ｂを通過して光検出器２１０へと導かれる。その、戻り光を光検出器２１０で受光することで、光ディスク２０９上の情報を電気信号に変換させることができる。
【００１０】
また、他方の半導体レーザー２０１ｂからはＤＶＤ用の波長λ２が出射され、この光はビームスプリッタ２０３ｂにより反射し、コリメートレンズ２０５により平行光とされた直線偏光が２波長用位相差板１００により円偏光に変換され、対物レンズ２０７により光ディスク２０９に集光される。そして、光ディスク２０９で反射した円偏光の戻り光は、再度２波長用位相差板１００を通過して往路の偏光方向とは垂直な直線偏光になった後、コリメートレンズ２０５およびビームスプリッタ２０３ａ，ｂを通過して光検出器２１０へと導かれる。
上述した構成とすることで、ＣＤおよびＤＶＤの異なる波長に対しても同一の装置で情報を書き込みまたは読み込みが可能な光ピックアップ装置２００とすることができる。
【００１１】
【特許文献１】特開２００２−２５０８１５号公報（第３−４頁、図１−２）
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、従来の積層位相差板（２波長用位相差板１００）の製造方法では、２枚の透明基板に液晶モノマーを塗布してその液晶モノマーを重合硬化させて高分子液晶を得ている。しかしながら、この手段によると、透明基板上を開放させた状態で比較的粘度が高い（例えば２０〜３０ｃｐ程度）液晶モノマーを面精度良く塗布することはできないため、これにより形成される位相差板の面平坦度が数十μｍ程度となってしまう。
【００１３】
そして、一方の高分子液晶上に接着剤を塗布し、元々面平坦度が悪い２枚の位相差板を平行に貼り合わせることができたとしても、ここで得られる積層位相差板は目的の機能を有するものとはなり得ない。また例え面平坦度に優れた位相差板が製造できたとしても、従来の方法によると、各位相差板を平行に配置することは現実的には難しい。この様に各位相差板が平行に配置されないと、平行度がずれた方の位相差板の厚みが変わってしまうこととなり、この場合も目的の位相差を得られない形態となってしまう。
よって、上記２つの工程で２枚の位相差板を例えば、光ピックアップ装置に使用する際に要求される、狙い値から±０．５μｍ以下の面平坦度を有し、目的の位相に変換する２波長用位相差板１００とすることは、不可能であることがわかる。上記の不具合は、位相差板の外径サイズが小さい場合に特に大きな問題となる。
【００１４】
この従来の方法で形成された小型の２波長用位相差板１００を光ピックアップ装置２００に適用すると以下の不具合を生ずる。ここで用いられる２波長用位相差板の外径サイズを例えば５ｍｍ角程度のものを想定して以下に説明する。
従来の方法で２波長用位相差板１００を構成する２つの位相差板の面平坦度が悪く、しかも平行度がずれていると、例え光ピックアップ装置２００を構成する各部材の光軸が合っていたとしても、この２波長用位相差板１００から光ディスク２０９面側に出射されるビームが狙いの位相差とならないこととなる。この様な現象が起こると、光ディスク２０９面の読み取りや光ディスク２０９への書き込みエラーとなってしまう虞があり、装置の信頼性が低下してしまう。よって、従来の方法により形成された積層位相差板を光ピックアップ装置２００に搭載するには、面平坦度の誤差が相殺される程度の適度に大きな位相差板を用いなくてはならず、装置の小型化をする上で障害となっていた。
【００１５】
また、この積層位相差板は、接着層を介して位相差板を積層しているので、その２枚の位相差板を貼り合わせる時にかなりの確立で接着面へ気泡が混入してしまうという不具合もある。一度気泡が混入してしまうと、そこから脱気させることは困難であり、例え脱気処理が可能であっても余計な工程の付加となる。
【００１６】
この気泡が混入されたままの積層位相差板を光ピックアップ装置に使用すると、接着層を構成する接着剤の屈折率と、接着層に混入した気泡の屈折率とが異なるので、積層位相差板に入射したレーザー光はこの気泡により散乱してしまうこととなる。そうすると、光ディスクに書き込まれた情報を読み取る際の信号の低下を招いたり、その散乱光がノイズとなってしまうことがある。また、光ディスクに情報を書き込む際には書き込みエラーを起こしてしまうこととなる。
本発明の目的は、上記課題を解決し、位相差板の面平坦度を向上させ、複数の位相差板をほぼ平行となるように貼り合わせることができる積層位相差板の製造方法を提供することである。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記課題を解決するために次の手段を用いた。
第１の手段は、第１の基板と第２の基板を間隙をもって貼り合わせて第１の液晶セルを形成する工程と、第１の液晶セルの間隙に液晶モノマーを注入した後にその液晶モノマーを重合硬化させて高分子液晶層を有する第１の位相差板を形成する工程と、第３の基板と、第１の位相差板を構成する高分子液晶層とは反対側の基板とを対向させて間隙をもって貼り合わせて第２の液晶セルを形成する工程と、第２の液晶セルの間隙に液晶モノマーを注入した後にその液晶モノマーを重合硬化させて高分子液晶層を有する第２の位相差板を形成する工程とを有する積層位相差板の製造方法である。
【００１８】
また、第２の手段は、第１の液晶セルを形成する工程と、第２の液晶セルを形成する工程の後に、第１の位相差板を形成する工程と、第２の位相差板を形成する工程を同一工程にて行う積層位相差板の製造方法である。
【００１９】
さらに、第３の手段は、第１の基板と第２の基板を間隙をもって貼り合わせて第１の液晶セルを形成する工程と、第１の液晶セルの間隙に液晶モノマーを注入した後にその液晶モノマーを重合硬化させて高分子液晶層を有する第１の位相差板を形成する工程と、第１の位相差板を構成する高分子液晶層とは反対側の基板表面に液晶モノマーを塗布する工程と、液晶モノマーを重合硬化させて高分子液晶層を有する第２の位相差板を形成する工程とを有する積層位相差板の製造方法である。
【００２０】
またさらに、第４の手段は、液晶セルを形成する工程は、第１の基板と第２の基板に注入口を有するシールを介して間隙をもって貼り合わせて形成する工程である積層位相差板の製造方法であり、第５の手段は、第２の液晶セルを形成する工程と、第２の位相差板を形成する工程を更に繰り返して、３層以上の位相差板を積層して形成する積層位相差板の製造方法である。
【００２１】
【発明の実施の形態】
本発明は、高分子液晶を用いて形成される位相差板を積層配置した積層位相差板の製造方法に関する発明である。その発明について以下に詳細に説明する。なお、下記の説明は、個々の液晶セルを構成する両基板に配する配向膜の配向方向を同一方向として記述しているが、それに限らず対向する配向膜の配向方向を異なる方向に設定して、リタデーション値を制御しても構わない。また、下記の記述は、単個の積層位相差板の製造方法について記載したものであるが、本発明の製造工程においては、複数個の積層位相差板を同時に形成できる技術であることに留意されたい。
【００２２】
本発明の積層位相差板の製造方法は、まず２枚のガラス基板の対向するそれぞれの片面に配向膜を塗布した後、各膜に同一方向の配向処理を施す。この配向方向を第１の配向方向と称する。そしてスペーサにより２枚のガラス基板の間隙を決定し、シールを介して第１の液晶セルを形成する。その後この第１の液晶セル内に液晶モノマーの材料を注入してセル内で基板面と平行に液晶分子の配向方向が揃った液晶層を形成する。さらに、例えば光重合用の光を照射して液晶モノマーを硬化させることにより液晶分子の配向方向が固定され２枚のガラス基板内に狭持された高分子液晶層を有する第１の位相差板が完成する。
【００２３】
以上の工程を経て第１の位相差板を形成すれば、大型の位相差板はもとより小型の位相差板であっても位相差板の面平坦度に関し非常に精度良く作成することができる。
【００２４】
次に、第１の位相差板を構成する一方のガラス基板の配向膜の反対側の面と、別のガラス基板の片面にそれぞれ配向膜を塗布したのち、各膜に先に示した第１の配向方向と所定角度（例えば２４度）交差させて配向処理を施す。この配向方向を第２の配向方向と称する。そしてスペーサとシールにより２枚のガラス基板を所定の間隙をもって貼り合わせて第２の液晶セルを形成する。その後この第２の液晶セル内に液晶モノマーの材料をこの液晶セルの間隙に注入してセル内で基板面と平行に液晶分子の配向方向が揃った液晶層を形成する。そしてこの液晶モノマーを重合硬化させることにより、液晶分子の配向方向が固定され、第１の位相差板を構成する一方のガラス基板と別のガラス基板間に狭持された高分子液晶層を有する第２の位相差板が完成する。上記手順により第１，第２の位相差板を所定角度（例えば２４°）交差させて重ねた、積層位相差板を容易に製作することができる。
【００２５】
ここで説明した第２の位相差板は、第１の位相差板とほぼ同じ工程で製造できるので、第１の位相差板と同様に面平坦度と平行度に関し、非常に精度良く製造することができる。つまり、本発明の製造方法は、周知の液晶セルの製造方法を利用して２枚のガラス基板の間又はシール内に散布したスペーサのギャップ制御により位相差板の面平坦度と平行度の制御を行っているので、従来の製造方法により形成された積層位相差板に比べて格段に位相差板自体の面平坦度と、これら位相差板間の平行度を向上させることができる。
【００２６】
また、本発明の積層位相差板を構成する各位相差板のリタデーション値の制御は、用いる液晶モノマー材料の硬化後のΔｎと、液晶セルを構成する２枚の基板間のギャップ（ｄ）により容易に制御することができる。
【００２７】
液晶セルのギャップによりリタデーション値を制御する場合、このギャップの精度は、基板に均一にスペーサーを散布、又はシール内に均一に分散させることと、シールを塗布した後の両基板を加圧するとともに加熱硬化する工程により決まる。よって、これら工程における製造条件を十分検討して目的のギャップを精度良く作成することが、面平坦度に優れた位相差板とし、複数枚の位相差板の平行度に優れた積層位相差板を作成する上で重要となる。
また、硬化後に異なるΔｎとなる液晶モノマー材料を第１、第２の位相差板にそれぞれ用い、異なるリタデーション値を有する位相差板が積層された積層位相差板とすることも容易にできる。
【００２８】
この様に、本発明の積層位相差板の製造方法によれば、各第１、第２の位相差板の面平坦度を±０．１μｍ以内に抑えることができ、しかもその２枚の位相差板を積層したとしてもその面平坦度を±０．２μｍ以内に抑えた積層位相差板を得ることができる。また、この積層位相差板は、目的のリタデーション値を正確に得ることができるので、その積層位相差板を装置に組み込んだ際の信頼性を従来のものよりも格段に向上させることができる。特に小型であり、面平坦度と平行度が優れた積層位相差板が要求される、光ピックアップ装置等に最も好ましい形態である。
【００２９】
以上の積層位相差板の製造方法として、第１、第２の位相差板からなる２枚の位相差板を順に積層形成する方法について説明したが、この２枚の位相差板を順に積層形成した後に、第２の位相差板の製造工程を更に繰り返し行うことで、３枚、４枚と複数枚の位相差板を積層した積層位相差板とすることも可能である。
【００３０】
また、２枚の位相差板を所定角度交差させて重ねるにあたって、本発明の積層位相差板の製造工程によれば、接着剤を使用せずに積層位相差板を作成することができるので、従来の積層位相差板の様に気泡による散乱光の影響を受けることはない、品質の安定した積層位相差板を製作することができる。
【００３１】
さらに、前述した方法では、第１の液晶セルを形成する工程、第１の位相差板を形成する工程、第２の液晶セルを形成する工程、第２の位相差板を形成する工程を順に行った例を示したが、第１、第２の液晶セルを形成した後に、２つのセルに同時に液晶を注入し、さらにその液晶を重合硬化させても構わない。
この工程によれば、第１の液晶セルは空セルの状態で第２の液晶セルを形成することとなるので、位相差板の面平坦度が若干悪くなる可能性があるが、工程の簡素化できるという利点を有する。
【００３２】
またさらに、第１の液晶セルに液晶を充填した後に、その液晶を重合硬化させて第１の位相差板を形成する手段と、従来の技術で説明した技術を応用し、第１の位相差板上に液晶モノマーを塗布し、その液晶モノマーを重合硬化させて第２の位相差板を形成する手段とを組合せても構わない。
この方法によると、第２の位相差板を構成するガラス基板を一枚少なくすることができるので、その分だけ積層位相差板を薄くすることができる。また、先に示した方法よりも更なる工程の簡素化が可能となる。しかしながら、本方法は、従来の技術で説明したように、第２の位相差板となる比較的粘度が高い液晶モノマーを塗布して形成することとなるので、若干の厚みムラが発生する虞がある。よって、本方法は、比較的大きな（例えば１０ｃｍ角程度）積層位相差板を製造しようとした場合であり、従来の方法により形成したものよりも少しでも面平坦度および平行度を良くしたい場合に有効な方法となり得る。
【００３３】
（第１の実施例）
ここで説明する積層位相差板の製造方法を、従来の技術で説明した２波長用位相差板と同じ構成を例に挙げ、図１、図２に基づいて説明する。図１は、本発明の積層位相差板を構成する第１の位相差板の製造方法を示す工程断面図であり、図２は、図１の工程の続きとなる第２の位相差板の製造方法を示す工程断面図である。本実施例では、第１、第２の位相差板に同一の液晶材料を用い、液晶セルの基板間のギャップを変えることにより、異なるリタデーション値を有するようにした積層位相差板の製造方法について主に説明をする。
【００３４】
まず、第１の位相差板の製造方法について説明する。
一対のガラス基板３０１のそれぞれの片面にポリイミド配向膜３０２を塗布し、その後、ラビング処理により同一方向になるように配向処理を施す。このときの配向方向を第１の配向方向とする（図１ａ参照）。
【００３５】
そして、スペーサ３０３を混ぜた熱硬化型樹脂からなるシール３０４を一方のガラス基板３０１にスクリーン印刷法により塗布する（図１ｂ参照）。
【００３６】
さらに、２枚のガラス基板をスペーサ３０３により６μｍの間隙となるように重ね合わせて、加圧焼成してこの間隙に保った状態でシール３０４を硬化させて目的のギャップ間隔を有する第１の液晶セルを製作する（図１ｃ参照）。
【００３７】
次に第１の液晶セルの２枚のガラス基板３０１の６μｍの間隙に重合硬化させた後のΔｎが０．１となる液晶モノマーをシール３０４により同時に形成した図示しない注入口から注入した後に、その注入口を図示しない封孔剤にて封止して、第１の液晶セル内でガラス基板３０１と平行に液晶分子の配向方向が揃った液晶層を形成する。そして、２００ｍＪ／ｃｍ２以上の紫外線を照射して、液晶モノマーを重合硬化させて高分子液晶層３０５ａを得る（図１ｄ参照）。
【００３８】
以上の工程を経て一対のガラス基板３０１内に高分子液晶層３０５ａを狭持し、液晶層の面平坦度を±０．１μ以下でリタデーション値６００の第１の位相差板３０６を製造できる。
【００３９】
ここで、後段で説明する第２の位相差板を形成する前に、第１の位相差板３０６のガラス基板３０１表面を洗浄処理することが好ましい。それは、第１の位相差板３０６の組み立て工程でガラス基板３０１の配向膜の形成していない方の表面が汚れた状態のまま次工程に進むと、第２の位相差板を構成する高分子液晶層内にその汚れが混入されてしまう虞があるからである。
この洗浄処理においては、第１の位相差板３０６を構成する２枚のガラス基板３０１の間隙に配した高分子液晶層３０５ａは、封孔剤により封止されているので、洗浄液がガラス基板３０１のシール３０４で囲まれた間隙に進入する虞がなく、洗浄するに際し特段の問題は発生しない。
【００４０】
次に、第２の位相差板の製造方法について説明する。
第１の位相差板３０６の配向膜が形成された面とは反対側のガラス基板３０１表面と、別のガラス基板３０７の一方のぞれぞれの面に、ポリイミド配向膜３０２を塗布し、ラビング処理により両基板の配向方向を同一方向（第２の配向方法）に配向処理を施す。ここにおいて第１の配向方向と第２の配向方向は２４°で交差させている（図２ｅ参照）。
この様に、本発明では、第１の位相差板３０６を構成する一方のガラス基板３０１を第２の位相差板を構成するガラス基板と兼用する構成としているので、別体の位相差板を所定の角度に貼り合わせた従来の積層位相差板に比べて、配向方向の交差角度を精度よく制御することができる。
【００４１】
そののち、第１の位相差板３０６を構成する一方のガラス基板３０１に形成した配向膜上に、４μｍ径のスペーサ３０３が混入された熱硬化型樹脂からなるシール３０４をスクリーン印刷法により塗布する（図２ｆ参照）。
【００４２】
続けてポリイミド配向膜３０２を有し、第２の配向方向に配向処理したガラス基板３０７と（図２ｅ右図参照）、第１の位相差板３０６を４μｍの間隙をもって重ね合わせる（図２ｇ参照）。
【００４３】
その後、重合硬化後のΔｎが０．１となる液晶モノマー（第１の位相差板を形成する工程で用いた液晶モノマーと同じ材料）をさらに注入後、紫外線を照射して、液晶モノマーを重合硬化させて高分子液晶層３０５ｂを得て、リタデーション値４００の第２の位相差板３０８が完成する。以上に記した第２の位相差板３０８の製造工程を経て、一対のガラス基板３０１，３０７間に高分子液晶層３０６ｂを有し、その液晶層３０６ｂの面平坦度が±０．１μｍ以下に制御され、リタデーション値が４００の位相差板とすることができるとともに、第１の位相差板３０６と第２の位相差板３０８をほぼ平行に配置することができる。
この様に、リタデーション値６００の第１の位相差板３０６と、リタデーション値４００の第２の位相差板３０８を、第１と第２の配向方向を２４°で交差させ、両位相差板の面平坦度の誤差を合わせて±０．２μｍ以下の２波長用の積層位相差板３００を製造することができる（図２ｈ参照）。
【００４４】
なお、上記第１の実施例では、紫外線硬化型型の液晶モノマーを使用した例を示したが、他の硬化型の液晶モノマーにより高分子液晶層３０５を形成することももちろん可能であるし、異なるリタデーション値を得るために異なる液晶材料を用いて位相差板を形成しても構わない。
【００４５】
（第２の実施例）
次に本発明による、第２の実施例について図３に基づいて説明する。図３は、本発明の積層位相差板の別の製造方法を示す工程断面図である。この第２の実施例は、先に説明した第１の実施例と同様に、面平坦度が±０．１μｍ以下の第１の位相差板３０６を製造した後に行う、第２の位相差板の製造方法のみを変更した変形例を示すものである。
【００４６】
まず、第１の実施例で説明したと同様に、リタデーション値が６００である第１の位相差板３０６を作成する。その後、第１の位相差板３０６の配向膜が形成された面とは反対側のガラス基板３０１の一方の面にポリイミド配向膜３０２を塗布し、ラビング処理により第２の配向方向に配向処理を施す。ここにおいて第１の配向方向と第２の配向方向は２４°で交差させている（図３ｉ参照）。
【００４７】
その後、液晶モノマーの材料を配向膜３０２上に４μｍの厚さで、できるだけ均一にスクリーン印刷法、スピンコート法、ロールコート法等で塗布する。ここで液晶モノマーは紫外線を照射して重合硬化した後のΔｎが０．１となるものを用いた。
その後、紫外線を液晶モノマーに照射することで重合硬化させて、第１の位相差板３０６の上にリタデーション値４００の高分子液晶層３０５ｂを有する第２の位相差板５０１を得ることができる。以上の工程を経てリタデーション値６００の第１の位相差板３０６と、リタデーション値４００の第２の位相差板５０１のそれぞれの配向方向を２４°で交差させた２波長用の積層位相差板５００を製造することができる（図２ｈ参照）。
【００４８】
（第３の実施例）
次に本発明による、２波長用の積層位相差板３００を光ピックアップ装置１に用いた例について図４に基づいて説明する。図４は、本発明の積層位相差板を光ピックアップ装置に適用した場合の作用を説明するための概念図である。
【００４９】
図４に示す光ピックアップ装置１は、従来の技術で説明した図６に示した装置２００における積層位相差板を除き、他の部材に関しては同一であり、しかも光ピックアップ装置として機能する各部材の作用も同じであるので、ここでの詳細な説明は割愛する。
実施例１または実施例２で示した方法で製造され、面平坦度及び平行度に優れた積層位相差板（２波長用位相差板）３００または５００は、例えば、５ｍｍ角程度の小型サイズの位相差板であり、従来の技術で説明した、図５に示した７９０ｎｍ（λ１）の波長の直線偏光を４５°回転させる機能を有し、６６０ｎｍ（λ２）の波長の直線偏光を円偏光に変換する機能を有する。
【００５０】
この小型の積層位相差板３００または５００を、この光ピックアップ装置１に適用することで、積層位相差板３００または５００を５ｍｍ角程度に小型化しても、その位相差板を通過するビームが設計通りの位相差を正確に与えることができる。それは、この積層位相差板を構成する２枚の位相差板の面平坦度を合わせても±０．２μｍ以下、つまり光ピックアップ装置で要求される±０．５μｍ以下の平坦度に収まっていることからも容易に理解できよう。
この様に、本発明の製造方法により形成された積層位相差板３００または５００を光ピックアップ装置１に適用すれば、その位相差板の性能を低下させることなく、装置全体の小型化をすることができるのである。
【００５１】
【発明の効果】
以上の説明で明らかなように、本発明によれば、複数枚の位相差板を接着層を用いて接着する工程を無くして、積層位相差板を製造することができる。
また、複数枚の位相差板の平行度も容易に制御することができるので、複数枚（例えばｎ枚）の位相差板を±０．１μｍ×ｎ以下の面平坦度とし、それぞれの位相差板をほぼ平行となるように貼り合わせた積層位相差板を製造することができる。
【００５２】
この様にして製造された積層位相差板は、光ピックアップ装置のような±０．５μｍ以内の面平坦度が要求され、各位相差板がほぼ平行であり、しかも小型の位相差板のが要求される技術分野において、最も適した製造方法であると云える。
【００５３】
また、本発明の積層位相差板は、上記の光ピックアップ装置のみならず、平行度および面平坦度が要求される他の技術分野にも適用できる技術であることは云うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例における積層位相差板の製造方法を示す工程断面図である。
【図２】本発明の第１の実施例における図１に示した積層位相差板の製造方法の続きを示す工程断面図である。
【図３】本発明の第２の実施例における積層位相差板の製造方法を示す工程断面図である。
【図４】本発明により形成した積層位相差板を光ピックアップ装置に適用した場合の作用を説明するための模式図である。
【図５】従来の技術における積層位相差板の作用を説明するための概略図である。
【図６】従来の技術により形成した積層位相差板を光ピックアップ装置に適用した場合の構成と、作用を説明するための模式図である。
【符号の説明】
１  光ピックアップ装置
２０１  半導体レーザー
２０３  ビームスプリッタ
２０５  コリメートレンズ
２０７  対物レンズ
２０９  光ディスク
２１０  光検出器
３０１  ガラス基板
３０２  ポリイミド配向膜
３０３  スペーサ
３０４  シール
３０５  高分子液晶層
３０６  第１の位相差板
３０８  第２の位相差板
３００  積層位相差板
５０１  第２の位相差板
５００  積層位相差板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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