(57)【要約】【課題】良好な黒色を持ち、且つ、通常の銅エッチングプロセスで加工可能な表面処理銅箔、及び、そのような表面処理銅箔で製造されたＰＤＰ用導電性メッシュを提供する。【解決手段】光沢面に黒色化処理面を備える表面処理銅箔であって、光沢面上に硫酸コバルトメッキ層を設け、その上に防錆処理層を設けたことを特徴とする黒色化処理面を備える表面処理銅箔等を採用する。また、当該表面処理銅箔の製造は、銅箔の光沢面上に、硫酸コバルト（７水和物）を含む黒色コバルトメッキ液を用いて、２Ａ／ｄｍ２以上の電流密度で電解し、防錆処理層を形成し、水洗し、乾燥する手法等を採用する。【選択図】  図１
2005139544.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光沢面上に黒色化処理面を備える表面処理銅箔であって、
当該黒色化処理面は、銅箔層の片面に設けた重量厚さ２００ｍｇ／ｍ２〜４００ｍｇ／ｍ２の硫酸コバルトメッキ層であり、且つ、その黒色化処理面の断面高さが２００ｎｍ以下であることを特徴とする表面処理銅箔。
【請求項２】
前記黒色化処理面は、Ｌａｂ表色系におけるＬ値が２７以上である請求項１に記載の表面処理銅箔。
【請求項３】
前記黒色化処理面に防錆処理層を備えるものである請求項１又は請求項２に記載の表面処理銅箔。
【請求項４】
防錆処理層は、亜鉛若しくは亜鉛合金を用いたものである請求項３に記載の黒色化処理面を備える表面処理銅箔。
【請求項５】
防錆処理層は、亜鉛若しくは亜鉛合金を用いて形成した層と、クロメート処理層とからなる請求項３に記載の黒色化処理面を備える表面処理銅箔。
【請求項６】
前記黒色化処理面は、電解銅箔若しくは圧延銅箔の光沢面に当該黒色化処理面を形成したものであり、且つ、光沢度［Ｇｓ（６０°）］が３０以下である請求項１〜請求項５のいずれかに記載の表面処理銅箔。
【請求項７】
黒色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法であって、以下のａ）及びｂ）の工程を備えることを特徴とした黒色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法。
ａ）  銅箔の光沢面に、硫酸コバルト（７水和物）を８ｇ／ｌ〜１０ｇ／ｌ含み、ｐＨを４．０以上の範囲とした硫酸コバルトメッキ液の無攪拌浴を用いて、２Ａ／ｄｍ２以上の電流密度で電解して、黒色系の硫酸コバルトメッキ層を形成する。
ｂ）  その後、水洗し、乾燥する。
【請求項８】
黒色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法であって、以下のａ）及びｂ）の工程を備えることを特徴とした黒色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法。
ａ）  銅箔の光沢面に、硫酸コバルト（７水和物）を１０ｇ／ｌ〜４０ｇ／ｌ含み、ｐＨを４．０以上、液温３０℃以下とした硫酸コバルトメッキ液の攪拌浴を用い、４Ａ／ｄｍ２以下の電流密度で電解して、黒色系の硫酸コバルトメッキ層を形成する。
ｂ）  その後、水洗し、乾燥する。
【請求項９】
防錆処理層及び黒色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法であって、以下のａ）〜ｃ）の工程を備えることを特徴とした黒色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法。
ａ）  銅箔の光沢面に、硫酸コバルト（７水和物）を８ｇ／ｌ〜１０ｇ／ｌ含み、ｐＨを４．０以上の範囲とした硫酸コバルトメッキ液を無攪拌浴として用い、２Ａ／ｄｍ２以上の電流密度で電解して、黒色系の硫酸コバルトメッキ層を形成する。
ｂ）  黒色の硫酸コバルトメッキ層を形成した銅箔の両面若しくは片面に、防錆処理層を形成する。
ｃ）  その後、水洗し、乾燥する。
【請求項１０】
防錆処理層を備えた黒色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法であって、以下のａ）〜ｃ）の工程を備えることを特徴とした黒色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法。
ａ）  銅箔の光沢面に、硫酸コバルト（７水和物）を１０ｇ／ｌ〜４０ｇ／ｌ含み、ｐＨを４．０以上、液温３０℃以下とした硫酸コバルトメッキ液を攪拌浴として用い、４Ａ／ｄｍ２以下の電流密度で電解して、黒色系の硫酸コバルトメッキ層を形成する。
ｂ）  黒色の硫酸コバルトメッキ層を形成した銅箔の両面若しくは片面に、防錆処理層を形成する。
ｃ）  その後、水洗し、乾燥する。
【請求項１１】
請求項１〜請求項６のいずれかに記載の黒色化処理面を備える表面処理銅箔を用いて形成したプラズマディスプレイの前面パネル用の電磁波遮蔽導電性メッシュ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
黒色化処理面を備える表面処理銅箔及びその表面処理銅箔を用いたプラズマディスプレイの前面パネル用の電磁波遮蔽金属メッシュに関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネルのシールド用導電性メッシュは、進歩の過程において、金属化繊維織物から導電性メッシュへと変遷してきた。この導電性メッシュの製造には、いくつかの方法が確立されている。その一つは、表面処理銅箔をＰＥＴフィルムにラミネートして張り合わせ、フォトリソグラフエッチング法を用いて製造するものである。そして、もう一つは、表面処理銅箔を支持基材と共にフォトリソグラフエッチング法でエッチングして、その後、支持基材を剥がした表面処理銅箔単体の導電性メッシュである。
【０００３】
更に、近年の省電力化の要求から、プラズマ発生信号電圧を２００Ｖから５０Ｖレベルを目標として開発が行われており、当該電圧の低下に伴う輝度の減少を、導電性メッシュの回路幅を細線化し、導電性メッシュによる前面ガラスパネルの被覆率を減少させる試みがなされてきた。そのため、導電性メッシュの厚さを薄くして、エッチング加工を容易にすることが行われてきた。その一つが、ＰＥＴフィルム上にスパッタリング蒸着法により、電気メッキの種となるシード層を形成し、その後電解銅メッキ等で薄い銅層を形成し、フォトリソグラフエッチング法で、メッシュ線幅を微細化した導電性メッシュの製造が行われてきた。
【０００４】
これらのいずれの方法で導電性メッシュが製造されるにせよ、導電性メッシュ自体は前面パネルの中に組み込まれ、前面ガラスを通して表面から視認できるものであるため、その導電性メッシュに加工される表面処理銅箔の片面は、黒色に処理され透過光の輝度を引き立たせるようにする。従来から、この処理には多層プリント配線板の、内層回路の樹脂層との接着性向上のために行う酸化銅層を形成する黒化処理等が転用されてきた。
【０００５】
【非特許文献１】ＰＤＰ材料の技術動向  日立化成テクニカルレポート  第３３号（１９９９−７）
【特許文献１】特開平１１−１８６７８５号公報
【特許文献２】特開２０００−３１５８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述の黒化処理には、重大な問題があった。即ち、銅箔表面に銅の黒色酸化物を多く付けると、確かに黒色の強い良好な黒色化面が得られる。ところが、銅箔の表面に形成した銅の黒色酸化物は、付着量が多くなるほど、黒色化面から脱落しやすく、いわゆる粉落ち現象が起きやすいのである。
【０００７】
粉落ち現象が発生すると、脱落した黒色酸化物が無用な箇所に混入したり、前面パネルのガラスと一体化させるための透明化処理の時に、透明接着剤層に分散して透明度を劣化させる要因ともなり得るのである。
【０００８】
一方で、黒化処理のように粉落ちがなく、良好な黒色面を形成することの出来る黒色化処理として、一般的な黒色ニッケルメッキ、硫化ニッケルメッキ、コバルトメッキ等が検討されてきたが、通常の銅のエッチングプロセスで黒色化処理面側からのエッチング加工ができないという問題が生じていた。
【０００９】
そこで、ニッケルメッキに関しての問題点は、本件発明者等が特願２００３−０４５６６９にて解決方法を開示してきた。ところが、依然としてコバルトメッキを用いた黒色化処理面を備える表面処理銅箔に関しての問題解決は図れていなかったのである。特に、現在市場に流通しているコバルトの黒色系メッキ被膜を備えた銅箔には、銅のエッチャントを用いてのコバルト層のエッチング加工が困難であるという問題が生じているのである。
【００１０】
そのため、市場では、良好な黒色を持つ黒色化処理層を備え且つ通常の銅エッチングプロセスで容易にエッチング加工可能なコバルトメッキ被膜を備える表面処理銅箔、及び、そのような表面処理銅箔で製造された導電性メッシュが望まれてきたのである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
そこで、本件発明者等は、鋭意研究の結果、以下に示すような表面処理銅箔を用いることで、黒色系のコバルトメッキ層を備える表面処理銅箔であっても、銅エッチャントで容易にエッチング加工可能で、高品質のプラズマディスプレイの前面パネル用の電磁波遮蔽導電性メッシュを得ることが可能であることに想到したのである。
【００１２】
＜黒色化処理面を備える表面処理銅箔＞    
本件発明に係る黒色化処理面を備える表面処理銅箔は、防錆処理層を備えない場合と、防錆処理層を備える場合とを含むものである。従って、防錆処理層は必須のものではないが、表面処理銅箔として長期保存性を確保するためには必要となるものである。以下、本件発明に係る表面処理銅箔に関して説明する。
【００１３】
第１表面処理銅箔：  本件発明に係る表面処理銅箔は、「光沢面上に黒色化処理面を備える表面処理銅箔であって、銅箔層の片面に重量厚さ２００ｍｇ／ｍ２〜４００ｍｇ／ｍ２の硫酸コバルトメッキ層を設け、且つ、その黒色化処理面の断面高さが２００ｎｍ以下であることを特徴とする表面処理銅箔（以下、「第１表面処理銅箔」と称する。）。」である。この表面処理銅箔１ａの断面層構成を模式的に示したのが図１である。
【００１４】
この図１には、電解銅箔７の光沢面に硫酸コバルトメッキ層４を形成し、反対面（電解銅箔の場合には粗面に該当）には微細銅粒３で粗化処理を施した状態の表面処理銅箔１ａを一例として模式的に記載している。しかしながら、このときに用いる銅箔の反対面は、粗化処理を行っても、粗化処理を行っていないものでも構わない。そこで図２には、反対面の粗化処理を省略した場合の表面処理銅箔１ｂを模式的に示している。微細銅粒３で構成する粗化処理層２は、基材等との接着性改善等を目的として形成されるものであり、必要に応じて設ければよいのである。この粗化処理層２を形成する場合の方法は、上述のように微細銅粒を付着形成する方法、微細な酸化銅を付着させる等の方法を採用することが可能であり、特に粗化処理方法に限定はない。なお、銅箔層７には、電解法で得られた電解銅箔、圧延法で得られた圧延銅箔が主に用いられるのである。
【００１５】
そして、この銅箔層７の滑らかな光沢面に硫酸コバルトメッキ層４を設けるのである。ここで言う硫酸コバルトメッキ層４とは、硫酸コバルト溶液を用いてメッキ法で形成した層を意味するものとして用いているのである。この硫酸コバルトメッキ層４は、後述する製造方法を採用し重量厚さ２００ｍｇ／ｍ２〜４００ｍｇ／ｍ２のものとすることで、銅エッチング液に対する溶解性に優れ、且つ、十分な黒色化が可能となるのである。従来のコバルト層を用いた黒色系メッキ被膜を備えた銅箔のコバルト層は、その重量厚さが１０００ｍｇ／ｍ２前後であり、非常に厚く、メッキ層の溶解性という品質において異なるものであった。その結果、厚さがあるが故に銅エッチング液による溶解速度が遅くなると共に、コバルトという元素自体が銅エッチング液に高濃度に蓄積してエッチング液の力価を低下させる要因となっていたのである。なお、本件発明における換算重量は、コバルト重量に換算しての値である。換算重量は、表面処理銅箔を酸溶液に溶解させ、プラズマ発光分光分析法等により単位面積あたりのコバルト量を求め、表面処理銅箔１ｍ２あたりの重量に換算したものである。
【００１６】
また、コバルトメッキ層が銅エッチング液に溶解しやすいものとなるか否かは、コバルトメッキを行う際のメッキ条件によっても大きく影響を受けることも分かってきた。即ち、後述する本件発明に係る表面処理銅箔の製造方法を採用したときに得られるコバルトメッキ被膜が最もエッチング特性に優れるものとなるのである。
【００１７】
本件発明に係る表面処理銅箔の持つ第２の特色は、その黒色化処理面の表面形状が極めて粗いものではなく、当該黒色化処理面の持つ断面高さが２００ｎｍ以下であることが大きな特徴である。即ち、極めて滑らかで光沢のある黒色化処理面ということができる。但し、誤解を招かないために明記しておくが、通常の製造工程の範囲内におけるバラツキが存在するのは当然であり、必ずしも全ての位置での断面高さが２００ｎｍ以下である必要はなく、製造工程のバラツキを反映した程度で２００ｎｍを超える断面高さが存在する場合があるのは当然である。本件発明に係る表面処理銅箔１の硫酸コバルトメッキ層４の断面高さを測定するために、ＦＩＢ分析装置を用いて断面観察したＦＩＢ観察像を図３に示す。この図３には、電解銅箔の光沢面に黒色化処理面を形成したものを示している。なお、このＦＩＢ観察像は、被観察面に対して６０°の角度を持った方向から観察したものである。
【００１８】
この図３から分かるように、黒色化処理面の断面は一定の凹凸が存在することが明らかであり、このような凹凸をモニターする場合、触針式の表面粗さ計を用いるのが一般的である。ところが、図３のスケールから分かるように、表面粗さ計では正確な粗さ測定が不可能なレベルの凹凸であると考えられる。そこで、本件発明では、表面粗さ計で測ったときのＲｍａｘに対応する値として、ＦＩＢ観察像の視野の中の山部と谷部との最大差を「断面高さ」としているのである。この図３の中に「ｄ」で示す箇所が、図３の断面高さとなり、約１００ｎｍと判断できるのである。しかも、図３において、硫酸コバルトメッキ層４は、極めて均一な厚さで銅箔表面の形状に沿って形成されており、下地の銅箔表面と完全に密着した状態を維持しており、硫酸コバルトメッキ層４が浮き上がる等の不具合箇所は見あたらず、粉落ちを予感させる箇所は見られないのである。
【００１９】
これに対し、従来の銅箔表面に形成した黒色化処理面を、上述したと同様に断面からＦＩＢ観察すると、図４及び図５に示すような結果となる。即ち、黒色化処理面を構成する形状が樹枝状に成長し、下地の銅箔からかなり突出した状態となっていることが分かるのである。従って、このときの断面高さ（ｄ）を測定すると図４の場合が約４８０ｎｍ、図５の場合が約２７０ｎｍとなり、かなり荒れた表面になっていることが理解できるのである。しかも、このような、樹枝形状を持つ黒色化処理面は、その樹枝状部が折れ易く損傷を受けやすい表面であると言え、しかも、折れた断片が脱落すれば粉落ちが発生するのも当然であり、黒色化処理表面を目視で見たとき色ムラを引き起こす原因となっていると考えられるのである。
【００２０】
以上に述べてきた本件発明に係る表面処理銅箔は、図３のＦＩＢ断面観察像から極めて滑らかな表面を持っていることが理解できる。ところが、光沢のある黒色化処理ではあるが、黒色化処理表面が受けた光を乱反射する程の光沢を有するわけではなく、電解銅箔及び圧延銅箔の光沢面に黒色化処理を施した場合でも、Ｌａｂ表色系におけるＬ値が２７以上となるのである。ここで、２７以上と記載しているように、上限は特に限定していないが、経験的に４１程度が上限となるようである。
【００２１】
黒色化処理面の光沢の度合いを表すには、Ｌａｂ表色系よりも光沢度を用いて表すことの方が好ましい。本件発明に係る黒色化処理面の光沢度は、電解銅箔若しくは圧延銅箔の光沢面に当該黒色化処理面を形成した結果、光沢度［Ｇｓ（６０°）］が３０以下であることが好ましいのである。光沢度が３０以上となると、所謂黒光りする状態となり金属光沢が目立つようになるのである。なお、ここでも、光沢度の下限値を定めていないが、経験的に１８程度である。
【００２２】
第２表面処理銅箔：  この表面処理銅箔は、上述の第１表面処理銅箔の表面に長期保存性を確保するための防錆処理層を形成したものである。図６の両面に防錆処理層５を備えた表面処理銅箔１ｃの断面層構成を模式的に例示した。そして、図７には、粗面側への粗化処理を省略した場合の表面処理銅箔１ｄを示している。銅箔としての防錆のみを目的とする限りにおいては、イミダゾール、ベンゾトリアゾール等の有機防錆、一般的に用いられている亜鉛又は真鍮等の亜鉛合金による無機防錆等を広く用いることが可能である。また、硫酸コバルトメッキ層を片面に形成した場合の防錆処理層は、少なくとも本件発明に係る表面処理銅箔の硫酸コバルトメッキ層を設けた反対面に設けるべきものであるが、両面に設けても差し支えないものである。
【００２３】
しかしながら、その両面に防錆処理層５を設けると、これらの防錆処理層は、粗化処理層２の微細銅粒３の脱落防止及び硫酸コバルト層４の保護層としての役割を果たすと同時に、表面処理銅箔としての外観を長期間に渡って維持する役割を果たすのである。この防錆処理層５には、亜鉛−ニッケル合金層若しくは亜鉛−コバルト層を設けることが特に好ましい。これらの防錆処理層５は、硫酸コバルトメッキ層４と組みあわせて用いることで、硫酸コバルトメッキ層４をエッチング溶解させる際の溶解プロモータとして機能しているように考えられる。即ち、硫酸コバルトメッキ層４が単独で存在する場合よりも、亜鉛−ニッケル合金層若しくは亜鉛−コバルト層を備える方が、硫酸コバルトメッキ層４の溶解が迅速に起こるのである。
【００２４】
更に、図８及び図９に防錆処理層５とクロメート処理層６とを両面に備えた表面処理銅箔１ｃの断面層構成を模式的に示した。図６と図８、図７と図９のそれぞれを対比することから分かるように、防錆処理層５を備える表面処理銅箔との違いは、クロメート処理層６を備える点のみであり、その他の構成は同様である。
【００２５】
このクロメート処理層６は、亜鉛−ニッケル合金又は亜鉛−コバルト合金等で構成した防錆処理層５を形成した後に、片面若しくは両面に形成するものである。そして、このクロメート処理層６が存在することで、表面処理銅箔の耐酸化性能を著しく向上させ、酸化変色などのコスメティックコロージョンを効果的に防止するのである。
【００２６】
＜黒色化処理面を備える表面処理銅箔の製造方法＞
（第１表面処理銅箔の製造方法）    上述した第１表面処理銅箔の製造方法は、以下のような工程を含む製造方法を採用することが望ましい。この製造方法は、攪拌浴を採用する場合と無攪拌浴を採用する場合とに、更に細分化する事が可能であり、「第１表面処理銅箔の製造方法Ａ」、「第１表面処理銅箔の製造方法Ｂ」とに分けて説明する。
【００２７】
第１表面処理銅箔の製造方法Ａ：    ここでは、無攪拌浴を用いる場合の黒色化処理方法を採用した製造方法に関して説明する。
【００２８】
本件発明に係る表面処理銅箔の製造方法で用いる銅箔は、上述したように硫酸コバルトメッキ層を形成する反対面に粗化処理を行っているか否かは問われないものである。ここで念のために記載しておくが、粗化処理を施す場合の条件に特段の限定はなく、例えば、この極微細銅粒を形成する場合には、一般に砒素を含んだ銅電解液が用いることが可能である。例えば、硫酸銅系溶液であって、銅濃度５〜１０ｇ／ｌ、硫酸濃度１００〜１２０ｇ／ｌ、塩素濃度２０〜３０ｐｐｍ、９−フェニルアクリジン５０〜３００ｍｇ／ｌ、液温３０〜４０℃、電流密度５〜２０Ａ／ｄｍ２の条件とする等である。
【００２９】
ａ）の工程では、上述した銅箔の光沢面上に、硫酸コバルトメッキ層を形成するのである。この硫酸コバルトメッキ層は、硫酸コバルト（７水和物）を８ｇ／ｌ〜１０ｇ／ｌ含み、ｐＨを４．０以上の範囲とした硫酸コバルトメッキ液を無攪拌浴として用い、２Ａ／ｄｍ２以上の電流密度で電解して、黒色系の硫酸コバルトメッキ層を形成するのである。即ち、溶液攪拌を行わない場合の硫酸コバルトメッキ条件である。ここで硫酸コバルトメッキ液中の硫酸コバルト（７水和物）が８ｇ／ｌ未満となると、形成される硫酸コバルトメッキ層の電着速度が遅くなり、しかも、硫酸ニッケル層の厚さが不均一となる傾向が強くなるのである。これに対し、硫酸コバルト（７水和物）が１０ｇ／ｌを超えると、形成される硫酸コバルトメッキ層の色調が良好な黒色化状態では無くなるのである。
【００３０】
また、このときの硫酸コバルトメッキ液の溶液ｐＨは４．５〜５．５の範囲を目標に調整するのが好ましいのである。この範囲において、歩留まり良く、良好な黒色のコバルトメッキ層を得ることが出来るのである。このｐＨ調整を行おうとして、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の他の電解質を添加することは好ましくない。コバルトメッキ層の黒色が金属色へと変質しやすくなるのである。
【００３１】
従って、溶液ｐＨは、溶液中の金属イオン濃度を一定に維持することによって、結果として４．０以上の範囲で安定化させるのである。このように溶液中のコバルトイオン濃度を安定化させるためには、溶解性のコバルト電極を用い電着したコバルトイオン分を溶解供給させるか、金属イオン濃度を連続的にモニターして水酸化コバルトを用いて適宜添加することで、コバルトイオン濃度を安定化する手法等を採用することが望ましい。
【００３２】
そして、電解を行うときの電流密度には、２Ａ／ｄｍ２以上の電流を用いるのである。上述の硫酸コバルトメッキ液は、過剰な電解電流を流して、ある程度微細な凹凸のあるメッキ面が形成されても、そこから粉落ち現象が起こることは少ない。従って、特に電流密度の上限を設ける必要はなく、技術常識に照らして工程における生産性を考慮して任意に定めれば良いのである。
【００３３】
ｂ）の工程では、以上の工程を経た銅箔を、水洗し、乾燥することで硫酸コバルトメッキ層を黒色化処理面とする表面処理銅箔を得るのである。ここでの水洗方法、乾燥方法に特段の限定はなく、通常考えられる方式を採用することが可能である。
【００３４】
第１表面処理銅箔の製造方法Ｂ：    ここでは、攪拌浴を用いた場合の黒色化処理方法を採用した製造方法に関して説明する。
【００３５】
本件発明に係る表面処理銅箔の製造方法でも、硫酸コバルトメッキ層を形成するのは銅箔の光沢面であるが、以下の条件を採用することで、無攪拌の硫酸コバルトメッキ浴により形成した硫酸コバルトメッキ層と同様に緻密な黒色化処理面となるのである。
【００３６】
このときのａ）の工程では、上述した銅箔の光沢面に、硫酸コバルト（７水和物）を１０ｇ／ｌ〜４０ｇ／ｌ含み、ｐＨを４．０以上、液温３０℃以下とした硫酸コバルトメッキ液を攪拌浴として用い、４Ａ／ｄｍ２以下の電流密度で電解して、黒色系の硫酸コバルトメッキ層を形成するのである。即ち、ここで第１表面処理銅箔の製造方法Ａと根本的に異なるのは、硫酸コバルトメッキを行う際の前記硫酸コバルトメッキ液を攪拌しつつ電解する点である。この硫酸コバルト濃度は、硫酸コバルト濃度が低いほど、良好な黒色化状態を作り出すことが可能という傾向にある。しかしながら、硫酸コバルトメッキ液中の硫酸コバルト（７水和物）が１０ｇ／ｌ未満となると、攪拌浴を採用して形成する硫酸コバルトメッキ層の電着速度が遅くなり、しかも、硫酸ニッケル層の厚さが不均一となる傾向が強くなり工業的生産性に欠ける結果となるのである。これに対し、硫酸コバルト（７水和物）が４０ｇ／ｌを超えると、形成される硫酸コバルトメッキ層が緻密な凹凸を形成しにくくなり、結果として良好な黒色化状態では無くなるのである。
【００３７】
また、このときの硫酸コバルトメッキ液の溶液ｐＨは、４．０以上であり、特に４．５〜５．５の範囲を目標に調整するのが好ましいのである。この範囲において、歩留まり良く、良好な黒色のコバルトメッキ層を安定的に得ることが出来るのである。このｐＨ調整には、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の他の電解質を添加することは好ましくない。コバルトメッキ層の黒色が金属色へと変質しやすくなるのは上述のとおりである。そして、溶液ｐＨは、溶液中の金属イオン濃度を一定に維持することによって、結果として４．０以上の範囲で安定化させるのも、上述したと同様である。
【００３８】
そして、このときの硫酸コバルトメッキ液は、その液温を３０℃以下として用いることが好ましいのである。このときの液温は、低いほど良好な黒色化処理面を得ることが出来る傾向にある。液温を３０℃以下に設定すれば、上記第１表面処理銅箔の製造方法Ａで、粗化処理のない銅箔表面に黒色化処理を施した以上に良好な黒色化処理面を得ることが可能となるのである。
【００３９】
そして、電解を行うときの電流密度には、４Ａ／ｄｍ２以下の電流を用いるのである。この範囲において、銅箔表面を粗化処理しなくても、有機材等との密着性に優れた良好な微細凹凸をもつ硫酸コバルトメッキ層が形成できるのである。通常、凹凸のある黒色系のメッキ表面を得ようとすると、過剰なヤケメッキ領域に入る電解電流を流す方法が採用される。しかしながら、ここでは電解に用いる電流密度が小さなものである程、安定的に良好な黒色化処理が可能となる傾向がある。従って、可能な限り小さな電流密度を採用すればよいのであるが、工業的な生産性を考慮すれば電流密度０．５Ａ／ｄｍ２を下限値と判断できるのである。一方、電流密度が４Ａ／ｄｍ２を超えると、上記第１表面処理銅箔の製造方法Ａで、粗化処理のない銅箔表面に黒色化処理を施したと同様のレベルの黒色化処理面となり、製造方法Ｂを採用する意味が没却することとなるのである。しかも、上述した電流密度の範囲で形成した黒色化処理面は、そこから粉落ち現象が起こることもないのである。
【００４０】
ｂ）の工程では、以上の工程を経た銅箔を、水洗し、乾燥することで硫酸コバルトメッキ層を黒色化処理面とする表面処理銅箔を得るのである。ここでの水洗方法、乾燥方法に特段の限定はなく、通常考えられる方式を採用することが可能である。
【００４１】
（第２表面処理銅箔の製造方法）
第２表面処理銅箔の場合には、上述の第１表面処理銅箔の製造方法と同様に、硫酸コバルトメッキ層を黒色化処理面とする表面処理銅箔を製造し、その後、防錆処理層の形成を行うのである。従って、製造フローは「ａ）銅箔の光沢面に黒色系の硫酸コバルトメッキ層を形成する。  ｂ）黒色の硫酸コバルトメッキ層を形成した銅箔の両面若しくは片面に防錆処理層を形成する。  ｃ）その後、水洗し、乾燥する。」となる。即ち、第１表面処理銅箔の製造方法（製造方法Ａ及び製造方法Ｂ）に防錆処理層の形成工程が増えたに過ぎないものである。
【００４２】
よって、ここでは防錆処理層の形成工程に関してのみ説明する。黒色の硫酸コバルトメッキ層の形成が終了した銅箔の両面若しくは片面に、防錆処理層を形成するのである。従来知られたイミダゾール、ベンゾトリアゾール等の有機防錆、一般的に用いられている亜鉛又は真鍮等の亜鉛合金による無機防錆等を用いる場合に関しては、特に説明を要するものでは無く常法に従えばよいと考え、ここでの詳細な説明は省略する。
【００４３】
以下、防錆処理層を亜鉛−ニッケル合金メッキ液又は亜鉛−コバルト合金メッキ液を用いてメッキ処理して形成する場合に関して述べることとする。最初に、亜鉛−ニッケル合金メッキに関して説明する。ここで用いる亜鉛−ニッケル合金メッキ液に特に限定はないが、一例を挙げれば、硫酸ニッケルを用いニッケル濃度が１〜２．５ｇ／ｌ、ピロリン酸亜鉛を用いて亜鉛濃度が０．１〜１ｇ／ｌ、ピロリン酸カリウム５０〜５００ｇ／ｌ、液温２０〜５０℃、ｐＨ８〜１１、電流密度０．３〜１０Ａ／ｄｍ２の条件等を採用するのである。
【００４４】
次に、亜鉛−コバルト合金メッキに関して説明する。ここで用いる亜鉛−コバルト合金メッキ液に特に限定はないが、一例を挙げれば、硫酸コバルトを用いコバルト濃度が１〜２．５ｇ／ｌ、ピロリン酸亜鉛を用いて亜鉛濃度が０．１〜１ｇ／ｌ、ピロリン酸カリウム５０〜５００ｇ／ｌ、液温２０〜５０℃、ｐＨ８〜１１、電流密度０．３〜１０Ａ／ｄｍ２の条件等を採用するのである。この亜鉛−コバルト合金メッキと後述するクロメ−ト処理とを組み合わせた防錆処理層は、特に優れた耐蝕性能を示すのである。
【００４５】
第２表面処理銅箔の場合には、銅箔の表面に亜鉛−ニッケル合金層又は亜鉛−コバルト合金層等を形成した後に、クロメート層を形成すれば、より優れた耐蝕性を得ることが可能となるのである。即ち、上述の防錆処理層の形成後に、クロメート処理工程を設ければよいのである。このクロメート処理工程では、クロメート溶液と当該銅箔表面とを接触させての置換処理でも、クロメート溶液中で電解してクロメート被膜を形成する電解クロメート処理のいずれの方法を採用しても構わないのである。また、ここで用いるクロメート溶液に関しても、常法で用いられる範囲のものを使用することが可能である。そして、その後、水洗し、乾燥することで黒色化処理面を備える表面処理銅箔を得るのである。
【００４６】
＜電磁波遮蔽導電性メッシュ＞    以上に述べてきた本件発明に係る黒色化処理面を備えた表面処理銅箔は、黒色化処理面からの粉落ちがなく、しかも、良好な黒色を持ちつつも、その黒色化処理層は通常の銅エッチングプロセスでエッチング除去が可能である。よって、プリント配線板を製造するプロセスを使用して、容易に任意の形状に加工することが可能である。これらのことを考えると、プラズマディスプレイパネルの前面パネルに組み込まれる電磁波遮蔽導電性メッシュの用途に最適なものと言えるのである。
【発明の効果】
【００４７】
本件発明に係る黒色化処理面を備えた表面処理銅箔は、硫酸コバルトメッキ層が非常に薄いものであるにも拘わらず、プラズマディスプレイパネルの前面パネルの電磁波遮蔽導電性メッシュ用途に耐えるだけの良好な黒色を呈している。そして、コバルト含有量が少ないため、エッチング特性が良好であり、しかも、通常の塩化鉄、硫酸−過酸化水素系の銅エッチング液の力価を下げることなく、溶液寿命を長期化させることが可能となるのである。
【００４８】
また、本件発明に係る表面処理銅箔の製造方法は、上記表面処理銅箔を歩留まり良く製造することが可能であり、上述した製造条件を採用して形成した硫酸コバルトメッキ層が最も効率よく、銅のエッチング液に溶解するのである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４９】
以下に、上述してきた黒色化処理面を備えた表面処理銅箔を製造し、銅エッチング液を用いて電磁波遮蔽導電性メッシュを製造した結果を示すこととする。
【実施例１】
【００５０】
本実施形態では、図１に示した第１表面処理銅箔１ａを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。
【００５１】
本実施形態では、硫酸銅溶液を電解することにより得られた公称厚さ１５μｍの銅箔を用いた。そして、銅箔を、硫酸濃度１５０ｇ／ｌ、液温３０℃の希硫酸溶液を用いて、この溶液に３０秒間浸漬して、表面の清浄化を行った。
【００５２】
そして、公称厚さ１５μｍ電解銅箔の粗面に粗化処理を施した。このときの粗化処理は、この微細銅粒３を銅箔Ｂの片面に付着形成するものであり、硫酸銅系溶液であって、濃度が銅１０ｇ／ｌ、硫酸１００ｇ／ｌ、塩素２５ｐｐｍ、９−フェニルアクリジン１４０ｍｇ／ｌの溶液、液温３８℃、電流密度１５Ａ／ｄｍ２、電解時間２秒の電解条件を採用した。その粗化処理した銅箔表面を表したのが図１０である。
【００５３】
ａ）工程として、当該電解銅箔の光沢面上に、硫酸コバルトメッキ層４を形成した。硫酸コバルトメッキ層４の形成は、硫酸コバルト（７水和物）を１０ｇ／ｌ、ｐＨを５．０に調整し、液温３０℃とした硫酸コバルトメッキ液を無攪拌浴として用い、２Ａ／ｄｍ２の電流密度で８秒間電解することにより、黒色の硫酸コバルトメッキ層（換算厚さが３２０ｍｇ／ｍ２）として形成したのである。このとき溶液中のコバルトイオン濃度の調整は特に行っていない。短時間電解であるため金属イオン濃度の調整は不要と考えたためである。図１１に形成した硫酸コバルトメッキ層を示している。
【００５４】
ｂ）の工程として、十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を１５０℃とした乾燥炉内に４秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の黒色化処理面を備えた表面処理銅箔１ａを得た。なお、上述した各工程間には、原則、１５秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。
【００５５】
＜表面処理銅箔の物性＞
以上の工程を経て得られた黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をＦＩＢ装置で観察した結果、図３に示す断面が得られており、当該黒色化処理面の断面高さ（ｄ）が１００ｎｍであり、当該黒色化処理面のＬａｂ表色系におけるＬ値が３０、光沢度［Ｇｓ（６０°）］が１９であった。また、黒色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
【００５６】
＜プラズマディスプレイ用の電磁波遮蔽メッシュの製造＞
以上のようにして得られた表面処理銅箔の両面にエッチングレジストとなるドライフィルムを張り合わせた。そして、黒色化処理面側のドライフィルムにのみ、電磁波遮蔽導電性メッシュを試作するための試験用のマスクフィルムを重ねて、メッシュピッチ２００μｍ、メッシュ線幅１０μｍ、メッシュバイアス角度４５°であり、周囲にメッシュ電極部を備える導電性メッシュパターンを紫外線露光した。このとき、同時に反対面のエッチングレジスト層の全面にも、紫外線露光することにより、後の現像により除去できないものとした。その後、アルカリ溶液を用いて現像し、エッチングパターンを形成した。
【００５７】
そして、銅エッチング液である塩化鉄エッチング液を用いて、黒色化処理面側から銅エッチングして、その後、エッチングレジスト層を剥離することにより、電磁波遮蔽導電性メッシュを製造した。その結果、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。図１２には、エッチング性を評価するためのテストパターン（１３μｍ幅回路）のエッチング状態を示している。この図１２から分かるように、エッチング残りもなく、極めてエッチングファクターに優れた美麗な回路が得られている。
【実施例２】
【００５８】
本実施例は、図６に示すように、防錆処理層として亜鉛−ニッケル合金層を備えた第２表面処理銅箔１ｃを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。従って、硫酸コバルトメッキ層による黒色化処理層を形成するまでは、実施例１と共通するため、防錆処理条件に関してのみ説明する。なお、黒色の硫酸コバルトメッキ層の換算厚さは実施例１と同じく３２０ｍｇ／ｍ２である。
【００５９】
ここでは実施例１の片面に黒色の硫酸コバルトメッキ層の形成が終了した銅箔の両面に、亜鉛−ニッケル合金メッキ液を用いてメッキ処理して、両面に亜鉛−ニッケル合金層を形成したのである。亜鉛−ニッケル合金層は、硫酸ニッケルを用いニッケル濃度が２．０ｇ／ｌ、ピロリン酸亜鉛を用いて亜鉛濃度が０．５ｇ／ｌ、ピロリン酸カリウム２５０ｇ／ｌ、液温３５℃、ｐＨ１０、電流密度５Ａ／ｄｍ２の条件で５秒間電解して、両面に均一且つ平滑に電析させた。
【００６０】
そして、実施例１と同様に十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を１５０℃とした乾燥炉内に４秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の黒色化処理面を備えた表面処理銅箔１ｃを得た。なお、上述した各工程間には、原則、１５秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。
【００６１】
＜表面処理銅箔の物性＞
以上の工程を経て得られた黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をＦＩＢ装置で観察した結果、図３に示したと同様の断面が得られ、当該黒色化処理面の断面高さが１１５ｎｍであり、当該黒色化処理面のＬａｂ表色系におけるＬ値が２８、光沢度［Ｇｓ（６０°）］が２１であった。また、黒色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
【００６２】
＜プラズマディスプレイ用の電磁波遮蔽メッシュの製造＞
実施例１と同様に、得られた表面処理銅箔を用いて電磁波遮蔽導電性メッシュを試作した。その結果、防錆処理層が存在していてもエッチング操作に支障なく、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
【実施例３】
【００６３】
本実施例は、図８に示すように、防錆処理層として亜鉛−ニッケル合金層及びクロメート処理層を備えた第２表面処理銅箔１ｅを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。従って、硫酸コバルトメッキ層による黒色化処理層を形成するまでは、実施例１と共通するため、防錆処理条件に関してのみ説明する。なお、黒色の硫酸コバルトメッキ層の換算厚さは実施例１と同じく３２０ｍｇ／ｍ２である。
【００６４】
防錆処理層の形成は、実施例２と同様にして、亜鉛−ニッケル合金メッキ液を用いて、両面に亜鉛−ニッケル合金層を形成した後に、両面にクロメート処理を行ったのである。ここでは、電解クロメート処理を採用し、電解条件は、クロム酸５．０ｇ／ｌ、ｐＨ  １１．５、液温３５℃、電流密度８Ａ／ｄｍ２、電解時間５秒とした。
【００６５】
そして、クロメート層の形成が終了すると、十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を１５０℃とした乾燥炉内に４秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の黒色化処理面を備えた表面処理銅箔１ｅを得た。なお、上述した各工程間には、原則、１５秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。
【００６６】
＜表面処理銅箔の物性＞
以上の工程を経て得られた黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をＦＩＢ装置で観察した結果、図３に示したと同様の断面が得られ、当該黒色化処理面の断面高さが１２１ｎｍであり、当該黒色化処理面のＬａｂ表色系におけるＬ値が２７、光沢度［Ｇｓ（６０°）］が２３であった。また、黒色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
【００６７】
＜プラズマディスプレイ用の電磁波遮蔽メッシュの製造＞
実施例１と同様に、得られた表面処理銅箔を用いて電磁波遮蔽導電性メッシュを試作した。その結果、防錆処理層が存在していてもエッチング操作に支障なく、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
【実施例４】
【００６８】
本実施例は、図６に示すように、防錆処理層として亜鉛−コバルト合金層を備えた第２表面処理銅箔１ｃを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。従って、硫酸コバルトメッキ層による黒色化処理層を形成するまでは、実施例１と共通するため、防錆処理条件に関してのみ説明する。なお、黒色の硫酸コバルトメッキ層の換算厚さは実施例１と同じく３２０ｍｇ／ｍ２である。
【００６９】
ここでは実施例１の光沢面に黒色の硫酸コバルトメッキ層の形成が終了した銅箔の両面に、亜鉛−コバルト合金メッキ液を用いてメッキ処理して、両面に亜鉛−コバルト合金層を形成したのである。亜鉛−コバルト合金層は、硫酸コバルトを用いコバルト濃度が２．０ｇ／ｌ、ピロリン酸亜鉛を用いて亜鉛濃度が０．５ｇ／ｌ、ピロリン酸カリウム２５０ｇ／ｌ、液温３５℃、ｐＨ１０、電流密度５Ａ／ｄｍ２の条件で５秒間電解して、両面に均一且つ平滑に電析させた。
【００７０】
そして、実施例１と同様に十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を１５０℃とした乾燥炉内に４秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の黒色化処理面を備えた表面処理銅箔１ｃを得た。なお、上述した各工程間には、原則、１５秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。
【００７１】
＜表面処理銅箔の物性＞
以上の工程を経て得られた黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をＦＩＢ装置で観察した結果、図３に示したと同様の断面が得られ、当該黒色化処理面の断面高さが１２８ｎｍであり、当該黒色化処理面のＬａｂ表色系におけるＬ値が２８、光沢度［Ｇｓ（６０°）］が２０であった。また、黒色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
【００７２】
＜プラズマディスプレイ用の電磁波遮蔽メッシュの製造＞
実施例１と同様に、得られた表面処理銅箔を用いて電磁波遮蔽導電性メッシュを試作した。その結果、防錆処理層が存在していてもエッチング操作に支障なく、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
【実施例５】
【００７３】
本実施例は、図８に示すように、防錆処理層として亜鉛−コバルト合金層及びクロメート処理層を備えた第２表面処理銅箔１ｅを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。従って、硫酸コバルトメッキ層による黒色化処理層を形成するまでは、実施例１と共通するため、防錆処理条件に関してのみ説明する。なお、黒色の硫酸コバルトメッキ層の換算厚さは実施例１と同じく３２０ｍｇ／ｍ２である。
【００７４】
防錆処理層の形成は、実施例４と同様にして、亜鉛−コバルト合金メッキ液を用いて、両面に亜鉛−コバルト合金層を形成した後に、両面にクロメート処理を行ったのである。ここでは、電解クロメート処理を採用し、電解条件は、クロム酸５．０ｇ／ｌ、ｐＨ  １１．５、液温３５℃、電流密度８Ａ／ｄｍ２、電解時間５秒とした。
【００７５】
そして、クロメート層の形成が終了すると、十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を１５０℃とした乾燥炉内に４秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の黒色化処理面を備えた表面処理銅箔１ｅを得た。なお、上述した各工程間には、原則、１５秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。
【００７６】
＜表面処理銅箔の物性＞
以上の工程を経て得られた黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をＦＩＢ装置で観察した結果、図３に示したと同様の断面が得られ、当該黒色化処理面の断面高さが１２０ｎｍであり、当該黒色化処理面のＬａｂ表色系におけるＬ値が２９、光沢度［Ｇｓ（６０°）］が２２であった。また、黒色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
【００７７】
＜プラズマディスプレイ用の電磁波遮蔽メッシュの製造＞
実施例１と同様に、得られた表面処理銅箔を用いて電磁波遮蔽導電性メッシュを試作した。その結果、防錆処理層が存在していてもエッチング操作に支障なく、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
【実施例６】
【００７８】
本実施例は、実施例１と異なり電解銅箔の粗面に粗化処理を施さずに、以下実施例１と同様にして、電解銅箔の光沢面側に硫酸コバルトメッキ層による黒色化処理層を形成し、図２に示す第２表面処理銅箔１ｂを製造し、実施例１と同様の評価を行った。従って、工程の説明は実施例１と重複する物となるため、ここでの記載は省略する。なお、黒色の硫酸コバルトメッキ層は、換算厚さが３１０ｍｇ／ｍ２であった。図１３にここで得られた表面処理銅箔の黒色化面（硫酸コバルトメッキ層）を示している。
【００７９】
＜表面処理銅箔の物性＞
以上の工程を経て得られた黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をＦＩＢ装置で観察した結果、図３に示したと同様の断面が得られ、当該黒色化処理面の断面高さが１１６ｎｍであり、当該黒色化処理面のＬａｂ表色系におけるＬ値が２７、光沢度［Ｇｓ（６０°）］が２３であった。また、黒色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
【００８０】
＜プラズマディスプレイ用の電磁波遮蔽メッシュの製造＞
実施例１と同様に、得られた表面処理銅箔を用いて電磁波遮蔽導電性メッシュを試作した。その結果、エッチング操作に支障なく、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
【実施例７】
【００８１】
本実施形態では、実施例６と同様に電解銅箔の粗面に粗化処理を施さずに、上述の粗化処理を行わない銅箔を用いて黒色化処理を行い、図２に示した第１表面処理銅箔１ｂを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。
【００８２】
本実施形態では、硫酸銅溶液を電解することにより得られた公称厚さ１５μｍの銅箔を用いた。そして、銅箔を、硫酸濃度１５０ｇ／ｌ、液温３０℃の希硫酸溶液を用いて、この溶液に３０秒浸漬して、表面の清浄化を行った。
【００８３】
そして、当該銅箔の光沢面に、ａ）工程として、硫酸コバルトメッキ層を形成した。硫酸コバルトメッキ層の形成は、硫酸コバルト（７水和物）を２０ｇ／ｌ、ｐＨを５．５に調整し、液温２７℃とした硫酸コバルトメッキ液を攪拌浴として用い、１Ａ／ｄｍ２の電流密度で１５秒間電解することにより、黒色の硫酸コバルトメッキ層（換算厚さが３３４ｍｇ／ｍ２）として形成したのである。このとき溶液中のコバルトイオン濃度の調整は特に行っていない。短時間電解であるため金属イオン濃度の調整は不要と考えたためである。図１４に形成した硫酸コバルトメッキ層を示している。
【００８４】
ｂ）の工程として、十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を１５０℃とした乾燥炉内に４秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の黒色化処理面を備えた表面処理銅箔１を得た。なお、上述した各工程間には、原則、１５秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。
【００８５】
＜表面処理銅箔の物性＞
以上の工程を経て得られた黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をＦＩＢ装置で観察した結果、図３に示したと同様の断面が得られ、当該黒色化処理面の断面高さが１３１ｎｍであり、当該黒色化処理面のＬａｂ表色系におけるＬ値が３１、光沢度［Ｇｓ（６０°）］が２４であった。また、黒色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
【００８６】
＜プラズマディスプレイ用の電磁波遮蔽メッシュの製造＞
実施例１と同様に、得られた表面処理銅箔を用いて電磁波遮蔽導電性メッシュを試作した。その結果、エッチング操作に支障なく、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
【実施例８】
【００８７】
本実施形態では、実施例６と同様に電解銅箔の粗面に粗化処理を施さずに、上述の粗化処理を行わない銅箔を用いて黒色化処理を行い、図２に示した第１表面処理銅箔１ｂを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。
【００８８】
本実施形態では、硫酸銅溶液を電解することにより得られた公称厚さ１５μｍの銅箔を用いた。そして、銅箔を、硫酸濃度１５０ｇ／ｌ、液温３０℃の希硫酸溶液を用いて、この溶液に３０秒浸漬して、表面の清浄化を行った。
【００８９】
そして、当該銅箔の光沢面に、ａ）工程として、硫酸コバルトメッキ層を形成した。硫酸コバルトメッキ層の形成は、硫酸コバルト（７水和物）を２０ｇ／ｌ、ｐＨを５．５に調整し、液温２７℃とした硫酸コバルトメッキ液を攪拌浴として用い、２Ａ／ｄｍ２の電流密度で７秒間電解することにより、黒色の硫酸コバルトメッキ層（換算厚さが３４０ｍｇ／ｍ２）として形成したのである。このとき溶液中のコバルトイオン濃度の調整は特に行っていない。短時間電解であるため金属イオン濃度の調整は不要と考えたためである。形成した硫酸コバルトメッキ層の形態は図１４に示すと同様に観察される。
【００９０】
ｂ）の工程として、十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を１５０℃とした乾燥炉内に４秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の黒色化処理面を備えた表面処理銅箔１ｂを得た。なお、上述した各工程間には、原則、１５秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。
【００９１】
＜表面処理銅箔の物性＞
以上の工程を経て得られた黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をＦＩＢ装置で観察した結果、図３に示したと同様の断面が得られ、当該黒色化処理面の断面高さが１２４ｎｍであり、当該黒色化処理面のＬａｂ表色系におけるＬ値が３３、光沢度［Ｇｓ（６０°）］が２０であった。また、黒色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
【００９２】
＜プラズマディスプレイ用の電磁波遮蔽メッシュの製造＞
実施例１と同様に、得られた表面処理銅箔を用いて電磁波遮蔽導電性メッシュを試作した。その結果、エッチング操作に支障なく、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
【実施例９】
【００９３】
本実施形態では、実施例６と同様に電解銅箔の粗面に粗化処理を施さずに、光沢面に黒色化処理を行い、図２に示した第１表面処理銅箔１ｂを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。
【００９４】
本実施形態では、硫酸銅溶液を電解することにより得られた公称厚さ１５μｍの銅箔を用いた。そして、銅箔を、硫酸濃度１５０ｇ／ｌ、液温３０℃の希硫酸溶液を用いて、この溶液に３０秒浸漬して、表面の清浄化を行った。
【００９５】
そして、当該銅箔の光沢面に、ａ）工程として、硫酸コバルトメッキ層を形成した。硫酸コバルトメッキ層の形成は、硫酸コバルト（７水和物）を４０ｇ／ｌ、ｐＨを５．５に調整し、液温２７℃とした硫酸コバルトメッキ液を攪拌浴として用い、１Ａ／ｄｍ２の電流密度で１５秒間電解することにより、黒色の硫酸コバルトメッキ層（換算厚さが３３８ｍｇ／ｍ２）として形成したのである。このとき溶液中のコバルトイオン濃度の調整は特に行っていない。短時間電解であるため金属イオン濃度の調整は不要と考えたためである。形成した硫酸コバルトメッキ層の形態は図１１に示すと同様に観察される。
【００９６】
ｂ）の工程として、十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を１５０℃とした乾燥炉内に４秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の黒色化処理面を備えた表面処理銅箔１ｂを得た。なお、上述した各工程間には、原則、１５秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。
【００９７】
＜表面処理銅箔の物性＞
以上の工程を経て得られた黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をＦＩＢ装置で観察した結果、図３に示したと同様の断面が得られ、当該黒色化処理面の断面高さが１３４ｎｍであり、当該黒色化処理面のＬａｂ表色系におけるＬ値が３４、光沢度［Ｇｓ（６０°）］が２１であった。また、黒色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
【００９８】
＜プラズマディスプレイ用の電磁波遮蔽メッシュの製造＞
実施例１と同様に、得られた表面処理銅箔を用いて電磁波遮蔽導電性メッシュを試作した。その結果、エッチング操作に支障なく、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
【実施例１０】
【００９９】
本実施例は、図７に示したような、防錆処理層として亜鉛−コバルト合金層を備えた第２表面処理銅箔１ｄを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。従って、硫酸コバルトメッキ層による黒色化処理層を形成するまでは、実施例７と共通するため、防錆処理条件に関してのみ説明する。なお、黒色の硫酸コバルトメッキ層の換算厚さは実施例７と同じく３３４ｍｇ／ｍ２である。
【０１００】
ここでは実施例７の片面に黒色の硫酸コバルトメッキ層の形成が終了した銅箔の両面に、実施例４と同様の条件で、両面に亜鉛−コバルト合金層を形成したのである。そして、実施例１と同様に十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を１５０℃とした乾燥炉内に４秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の黒色化処理面を備えた表面処理銅箔１ｄを得た。なお、上述した各工程間には、原則、１５秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。
【０１０１】
＜表面処理銅箔の物性＞
以上の工程を経て得られた黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をＦＩＢ装置で観察した結果、図３に示したと同様の断面が得られ、当該黒色化処理面の断面高さが１２８ｎｍであり、当該黒色化処理面のＬａｂ表色系におけるＬ値が２８、光沢度［Ｇｓ（６０°）］が３０であった。また、黒色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
【０１０２】
＜プラズマディスプレイ用の電磁波遮蔽メッシュの製造＞
実施例１と同様に、得られた表面処理銅箔を用いて電磁波遮蔽導電性メッシュを試作した。その結果、エッチング操作に支障なく、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
【実施例１１】
【０１０３】
本実施例は、図９にしめすような、防錆処理層として亜鉛−コバルト合金層及びクロメート処理層を備えた第２表面処理銅箔１ｆを製造し、電磁波遮蔽導電性メッシュ形状をエッチング法で試験的に製造しエッチング性能を確認した。従って、硫酸コバルトメッキ層による黒色化処理層を形成するまでは、実施例７と共通するため、防錆処理条件に関してのみ説明する。なお、黒色の硫酸コバルトメッキ層の換算厚さは実施例７と同じく３３４ｍｇ／ｍ２である。
【０１０４】
防錆処理層の形成は、実施例４と同様にして、亜鉛−コバルト合金メッキ液を用いて、両面に亜鉛−コバルト合金層を形成した後に、両面に実施例５と同様のクロメート処理を行ったのである。
【０１０５】
そして、クロメート層の形成が終了すると、十分に純水をシャワーリングして洗浄し、電熱器より雰囲気温度を１５０℃とした乾燥炉内に４秒間滞留させ、水分をとばし、非常に良好な色調の黒色化処理面を備えた表面処理銅箔１ｆを得た。なお、上述した各工程間には、原則、１５秒間の純水による水洗工程を設け、前処理工程の溶液の持ち込みを防止している。
【０１０６】
＜表面処理銅箔の物性＞
以上の工程を経て得られた黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面をＦＩＢ装置で観察した結果、図３に示したと同様の断面が得られ、当該黒色化処理面の断面高さが１１５ｎｍであり、当該黒色化処理面のＬａｂ表色系におけるＬ値が２９、光沢度［Ｇｓ（６０°）］が２２であった。また、黒色化処理面に粘着性テープを貼り、引き剥がすことによるテープテストでの粉落ちも確認できなかった。
【０１０７】
＜プラズマディスプレイ用の電磁波遮蔽メッシュの製造＞
実施例１と同様に、得られた表面処理銅箔を用いて電磁波遮蔽導電性メッシュを試作した。その結果、防錆処理層が存在していてもエッチング操作に支障なく、エッチング残りもなく、非常に良好なエッチングが行われた。
【産業上の利用可能性】
【０１０８】
本件発明に係る黒色化処理面を備えた表面処理銅箔は、黒色化処理面からの粉落ちが無く、しかも、通常の銅エッチング液を用いてのエッチング加工が可能であり、プラズマディスプレイパネルの前面パネルの電磁波遮蔽導電性メッシュに用いることで、高品質のブラックマスクの形成が可能となる。また、黒色化処理面を備えた表面処理銅箔としての供給が出来れば、前面パネルの製造プロセスでの黒色化処理工程の省略が可能となる。更に、この黒色化処理面を備えた表面処理銅箔は、上述した製造方法を採用することで、従来の銅箔の表面処理プロセスを応用することが可能であり新たな製造設備を必要としない。従って、高品質の製品を歩留まり良く製造できるため、生産コストの低減が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０１０９】
【図１】黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面層構成を模式的に示した図。
【図２】黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面層構成を模式的に示した図。
【図３】黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面層構成のＦＩＢ観察像。
【図４】黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面層構成のＦＩＢ観察像。
【図５】黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面層構成のＦＩＢ観察像。
【図６】黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面層構成を模式的に示した図。
【図７】黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面層構成を模式的に示した図。
【図８】黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面層構成を模式的に示した図。
【図９】黒色化処理面を備える表面処理銅箔の断面層構成を模式的に示した図。
【図１０】粗化処理した銅箔表面の走査型電子顕微鏡像。
【図１１】硫酸コバルトメッキ層を観察した走査型電子顕微鏡像。
【図１２】エッチングテストパターンの走査型電子顕微鏡像。
【図１３】粗化処理を行うことなく、硫酸コバルトメッキ層を形成した銅箔表面の走査型電子顕微鏡像。
【図１４】粗化処理を行うことなく、硫酸コバルトメッキ層を形成した銅箔表面の走査型電子顕微鏡像。
【符号の説明】
【０１１０】
１ａ，１ｂ，１ｃ    表面処理銅箔
１ｄ，１ｅ，１ｆ
２              粗化処理層
３              微細銅粒
４              硫酸コバルトメッキ層
５              防錆処理層（亜鉛−ニッケル合金層又は亜鉛−コバルト合金層）
６              クロメート処理層
７              銅箔層
【図１】
2005139544.tif 000003
【図２】
2005139544.tif 000004
【図６】
2005139544.tif 000005
【図７】
2005139544.tif 000006
【図８】
2005139544.tif 000007
【図９】
2005139544.tif 000008
【図３】
2005139544.tif 000009
【図４】
2005139544.tif 000010
【図５】
2005139544.tif 000011
【図１０】
2005139544.tif 000012
【図１１】
2005139544.tif 000013
【図１２】
2005139544.tif 000014
【図１３】
2005139544.tif 000015
【図１４】
2005139544.tif 000016