(57)【要約】【課題】  液晶ポリマーの光学特性（配向性）を維持したまま、液晶フィルムの表面硬度を向上させることができるブロック型液晶ポリマーを提供すること。また、上記ブロック型液晶ポリマーを含有する液晶ポリマー組成物を提供すること。また、上記ブロック型液晶ポリマーまたは液晶ポリマー組成物を製膜して得られる液晶フィルム及び傾斜配向膜を提供すること。さらには、それらを用いた光学フィルム及び画像表示装置を提供すること。【解決手段】  少なくとも液晶モノマー（ａ）単位、長鎖アルキル基を有する非液晶モノマー（ｂ）単位、及び架橋性モノマー（ｃ）単位からなり、かつ少なくとも前記架橋性モノマー（ｃ）単位からなるブロック構造単位を有することを特徴とするブロック型液晶ポリマー。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも液晶モノマー（ａ）単位、長鎖アルキル基を有する非液晶モノマー（ｂ）単位、及び架橋性モノマー（ｃ）単位からなり、かつ少なくとも前記架橋性モノマー（ｃ）単位からなるブロック構造単位を有することを特徴とするブロック型液晶ポリマー。
【請求項２】
ポリマー中の前記架橋性モノマー（ｃ）単位からなるブロック構造単位の割合が１０〜４０重量％である請求項１記載のブロック型液晶ポリマー。
【請求項３】
液晶モノマー（ａ）が、ネマチック液晶モノマー（ａ１）を含有する請求項１又は２記載のブロック型液晶ポリマー。
【請求項４】
ネマチック液晶モノマー（ａ１）が、一般式（ａ１）：
【化１】
2005139375.tif 000006
（式中、Ｒ1 は水素原子またはメチル基を、ｍは１〜６の整数を、Ｘ1 は−ＣＯ2 −基、−ＯＣＯ−基、−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を、Ｒ2 は炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、フルオロ基または炭素数１〜６のアルキル基を、ｐおよびｑは１または２を示す。）で表されるアクリル酸エステル誘導体である請求項３記載のブロック型液晶ポリマー。
【請求項５】
数平均分子量が２千〜１０万である請求項１〜４のいずれかに記載のブロック型液晶ポリマー。
【請求項６】
各モノマーをリビングラジカル重合して得られたものである請求項１〜５のいずれかに記載のブロック型液晶ポリマー。
【請求項７】
架橋性モノマー（ｃ）が、エポキシ基を有するモノマーである請求項１〜６のいずれかに記載のブロック型液晶ポリマー。
【請求項８】
架橋性モノマー（ｃ）が、水酸基を有するモノマーである請求項１〜６のいずれかに記載のブロック型液晶ポリマー。
【請求項９】
架橋性モノマー（ｃ）が、炭素数１〜１１のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートである請求項１〜６のいずれかに記載のブロック型液晶ポリマー。
【請求項１０】
請求項７又は８記載のブロック型液晶ポリマー、及び紫外線カチオン開始剤を含有する液晶ポリマー組成物。
【請求項１１】
請求項９記載のブロック型液晶ポリマー、及びラジカル発生剤を含有する液晶ポリマー組成物。
【請求項１２】
請求項１〜９のいずれかに記載のブロック型液晶ポリマー、又は請求項１０または１１記載の液晶ポリマー組成物を製膜して得られる液晶フィルム。
【請求項１３】
ブロック型液晶ポリマーが架橋構造を形成している請求項１２記載の液晶フィルム。
【請求項１４】
請求項１〜９のいずれかに記載のブロック型液晶ポリマー、又は請求項１０または１１記載の液晶ポリマー組成物を、水平方向に配向規制力を有する基材上で配向させ、製膜して得られる傾斜配向膜。
【請求項１５】
ブロック型液晶ポリマーが架橋構造を形成している請求項１４記載の傾斜配向膜。
【請求項１６】
請求項１２又は１３記載の液晶フィルム、または請求項１４又は１５記載の傾斜配向膜に、少なくとも１つの光学フィルムが積層されている光学フィルム。    
【請求項１７】
請求項１２又は１３記載の液晶フィルム、請求項１４又は１５記載の傾斜配向膜、または請求項１６記載の光学フィルムを用いた画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ブロック型液晶ポリマーおよび該ブロック型液晶ポリマーを含有する液晶ポリマー組成物に関する。本発明のブロック型液晶ポリマーは液晶フィルムや傾斜配向膜の形成材料として用いることができる。該液晶フィルムや傾斜配向膜は各種の光学フィルム用途に使用でき、たとえば、単独でまたは他の光学フィルムと組み合わせて、位相差板、視角補償フィルム、光学補償フィルムなどの光学フィルムとして使用できる。さらに本発明は、前記液晶フィルム、傾斜配向膜、光学フィルムを用いた液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置、ＰＤＰなどの画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイが大型化するにつれて広視野角への要求が高まっており、広視野角化のための種々の方法が提案されている。その１つに光学補償フィルムを用いる方法があり、それはすでに実用化されている。光学補償フィルムを得る方法としては、液晶を傾斜配向させる方法がある。傾斜配向させる方法としては、例えば、斜方蒸着、光配向などが挙げられる。また、液晶の配向を利用した方法も提案されている（特許文献１〜３）。しかし、液晶を配向させた膜は表面硬度が不十分となる問題がある。具体的には、特許文献３には液晶材料を配向膜上に配向させることにより傾斜配向フィルムを作製する方法が提案されているが、この液晶材料から得られる傾斜配向フィルムは硬度が低いために表面にキズが付きやすいという問題がある。
【特許文献１】特開平７−２０４３４号公報
【特許文献２】特開平８−５８３８号公報
【特許文献３】特開２００２−２１４４３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、液晶ポリマーの光学特性（配向性）を維持したまま、液晶フィルムの表面硬度を向上させることができるブロック型液晶ポリマーを提供することを目的とする。また本発明は、上記ブロック型液晶ポリマーを含有する液晶ポリマー組成物を提供することを目的とする。また、上記ブロック型液晶ポリマーまたは液晶ポリマー組成物を製膜して得られる液晶フィルム及び傾斜配向膜を提供することを目的とする。さらには、それらを用いた光学フィルム及び画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討した結果、以下に示すブロック型液晶ポリマーおよび液晶ポリマー組成物により上記目的を達成できることを見出し本発明を完成するに至った。すなわち本発明は、下記の通りである。
【０００５】
１．少なくとも液晶モノマー（ａ）単位、長鎖アルキル基を有する非液晶モノマー（ｂ）単位、及び架橋性モノマー（ｃ）単位からなり、かつ少なくとも前記架橋性モノマー（ｃ）単位からなるブロック構造単位を有することを特徴とするブロック型液晶ポリマー。      
【０００６】
２．ポリマー中の前記架橋性モノマー（ｃ）単位からなるブロック構造単位の割合が１０〜４０重量％である上記１記載のブロック型液晶ポリマー。
【０００７】
３．液晶モノマー（ａ）が、ネマチック液晶モノマー（ａ１）を含有する上記１又は２記載のブロック型液晶ポリマー。
【０００８】
４．ネマチック液晶モノマー（ａ１）が、一般式（ａ１）：
【０００９】
【化２】
2005139375.tif 000002
（式中、Ｒ1 は水素原子またはメチル基を、ｍは１〜６の整数を、Ｘ1 は−ＣＯ2 −基、−ＯＣＯ−基、−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を、Ｒ2 は炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、フルオロ基または炭素数１〜６のアルキル基を、ｐおよびｑは１または２を示す。）で表されるアクリル酸エステル誘導体である上記３記載のブロック型液晶ポリマー。
【００１０】
５．数平均分子量が２千〜１０万である上記１〜４のいずれかに記載のブロック型液晶ポリマー。
【００１１】
６．各モノマーをリビングラジカル重合して得られたものである上記１〜５のいずれかに記載のブロック型液晶ポリマー。
【００１２】
７．架橋性モノマー（ｃ）が、エポキシ基を有するモノマーである上記１〜６のいずれかに記載のブロック型液晶ポリマー。
【００１３】
８．架橋性モノマー（ｃ）が、水酸基を有するモノマーである上記１〜６のいずれかに記載のブロック型液晶ポリマー。
【００１４】
９．架橋性モノマー（ｃ）が、炭素数１〜１１のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートである上記１〜６のいずれかに記載のブロック型液晶ポリマー。
【００１５】
１０．上記７又は８記載のブロック型液晶ポリマー、及び紫外線カチオン開始剤を含有する液晶ポリマー組成物。
【００１６】
１１．上記９記載のブロック型液晶ポリマー、及びラジカル発生剤を含有する液晶ポリマー組成物。
【００１７】
１２．上記１〜９のいずれかに記載のブロック型液晶ポリマー、又は上記１０または１１記載の液晶ポリマー組成物を製膜して得られる液晶フィルム。
【００１８】
１３．ブロック型液晶ポリマーが架橋構造を形成している上記１２記載の液晶フィルム。
【００１９】
１４．上記１〜９のいずれかに記載のブロック型液晶ポリマー、又は上記１０または１１記載の液晶ポリマー組成物を、水平方向に配向規制力を有する基材上で配向させ、製膜して得られる傾斜配向膜。
【００２０】
１５．ブロック型液晶ポリマーが架橋構造を形成している上記１４記載の傾斜配向膜。      
【００２１】
１６．上記１２又は１３記載の液晶フィルム、または上記１４又は１５記載の傾斜配向膜に、少なくとも１つの光学フィルムが積層されている光学フィルム。
【００２２】
１７．上記１２又は１３記載の液晶フィルム、上記１４又は１５記載の傾斜配向膜、または上記１６記載の光学フィルムを用いた画像表示装置。
【発明の効果】
【００２３】
上記本発明のブロック型液晶ポリマーは、少なくとも液晶モノマー（ａ）、長鎖アルキル基を有する非液晶モノマー（ｂ）、及び架橋性モノマー（ｃ）を共重合してなる液晶ポリマーであり、かつ少なくとも前記架橋性モノマー（ｃ）単位がブロック構造単位を形成している。前記液晶モノマー（ａ）及び長鎖アルキル基を有する非液晶モノマー（ｂ）は液晶機能を有するユニットを形成し、前記架橋性モノマー（ｃ）は架橋機能を有するユニットを形成する。該ブロック型液晶ポリマー中に導入された架橋性モノマー（ｃ）単位は、ブロック構造単位を形成しており、かつ官能基同士の反応又はラジカル反応によりブロック型液晶ポリマーを効果的に架橋させることができるため、光学特性（配向性）を維持したまま、液晶フィルム等の表面硬度を向上させることができる。
【００２４】
また、本発明のブロック型液晶ポリマーは、垂直配向成分として長鎖アルキル基を有する非液晶モノマー（ｂ）単位を含有するため、製膜することにより垂直配向膜を形成することができる。さらに、水平方向に配向規制力を有する基材上で該ブロック型液晶ポリマーを製膜すると、垂直方向と水平方向の規制力から傾斜配向して傾斜配向膜を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２５】
本発明のブロック型液晶ポリマーは、少なくとも液晶モノマー（ａ）、長鎖アルキル基を有する非液晶モノマー（ｂ）、及び架橋性モノマー（ｃ）を共重合してなる液晶ポリマーであり、かつ少なくとも前記架橋性モノマー（ｃ）単位からなるブロック構造単位を有している。架橋性モノマー（ｃ）単位の８０モル％以上がブロック構造単位を形成していることが好ましく、さらに好ましくは９０モル％以上である。架橋性モノマー（ｃ）単位の全てがブロック構造単位を形成していることが最も好ましい。架橋性モノマー（ｃ）を重合してブロック構造にすることにより、放射線を照射した時の架橋性が向上し、その結果液晶フィルム等の表面硬度が高くなる。また、２種以上の架橋性モノマー（ｃ）を併用する場合には、前記ブロック構造単位内でさらにそれぞれの架橋性モノマー（ｃ）単位からなるブロック構造を形成していてもよく、ランダム共重合されていてもよい。
【００２６】
液晶モノマー（ａ）と非液晶モノマー（ｂ）はランダム共重合されていてもよく、液晶モノマー（ａ）単位と非液晶モノマー（ｂ）単位とがそれぞれブロック構造単位を形成していてもよい。すなわち、本発明のブロック型液晶ポリマーは、少なくとも架橋性モノマー（ｃ）単位からなるブロック構造単位（架橋性ユニット）を有しており、それ以上のブロック構造単位を有するマルチブロック構造も可能である。架橋性モノマー（ｃ）単位だけでなく、液晶モノマー（ａ）単位と非液晶モノマー（ｂ）単位とをそれぞれブロック構造単位に形成した場合には、該液晶ポリマーを成膜し、配向するにより相分離構造を有する液晶フィルム等が得られる。このようなブロック型液晶ポリマーは、単位的に液晶を発現する材料として用いることができる。
【００２７】
前記架橋性モノマー（ｃ）としては、架橋性官能基を有するモノマーや炭素数１〜１１のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。架橋性官能基としては、水酸基、エポキシ基、カルボキシル基、酸無水物基、アミノ基、イソシアネート基、及びアジリジン基などがあげられる。これらのなかでも水酸基、エポキシ基を有するモノマーが好適である。このような架橋性モノマー（ｃ）は、１種単独で又は２種以上を併用してもよい。
【００２８】
水酸基を有するモノマーとしては、たとえば、式：ＣＨ2 ＝ＣＲ1 ＣＯＯＲ2 （式中、Ｒ1 は水素原子またはメチル基、Ｒ2 は水酸基を少なくとも１個有する炭素数２〜６のアルキル基である）で表されるヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートがあげられる。たとえば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチル（メタ）アクリレート、１０−ヒドロキシデシル（メタ）アクリレート、１２−ヒドロキシラウリル（メタ）アクリレート、及び（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル）メチルアクリレートなどがあげられる。また、前記以外の水酸基を有するモノマーとしては、たとえば、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、ビニルアルコール、アリルアルコール、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、及びジエチレングリコールモノビニルエーテルなどがあげられる。
【００２９】
また、エポキシ基を有するモノマーとしては、たとえば、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレートがあげられる。
【００３０】
また、カルボキシル基を有するモノマーとしては、（メタ）アクリル酸等があげられる。ただし、リビングラジカル重合法においては、カルボキシル基を有するモノマーを直接、ブロック単位として重合することはできない。これは、カルボキシル基が活性化剤である遷移金属を失活させてしまうためと思われる。リビングラジカル重合法においては、分子内にカルボキシル基の前駆基を有するモノマーを用いて、これのブロック重合体を生成した後、カルボキシル基に変換することにより、カルボキシル基を有するモノマー単位をブロック型液晶ポリマー中に導入することができる。
【００３１】
分子内にカルボキシル基の前駆基を有するモノマーとしては、リビングラジカル重合時には活性化剤である遷移金属を失活させることがなく、かつ重合後に酸触媒により分解して遊離のカルボキシル基を生じさせるような前駆基を有するものであればよい。このようなモノマーとしては、たとえば、ｔ−ブチル（メタ）アクルート、トリメチルシリル（メタ）アクリートなどがあげられる。
【００３２】
なお、前記前駆基をカルボキシル基に変換方法は、とくに限定されないが、通常は、ブロック型液晶ポリマーを、酸触媒の存在下に加熱処理する方法が好ましく用いられる。酸触媒としては、たとえば、スルホン酸型などのＨ+ 型イオン交換樹脂、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸などの有機酸、塩酸や硫酸などの無機酸などがあげられる。また、ブロック型液晶ポリマーに、光酸発生剤を加え、これに紫外線を照射してブレンステッド酸からなる酸触媒を発生させたのち、加熱処理する方法があげられる。なお、光酸発生剤としては、後述の反応助剤として用いられる紫外線カチオン開始剤等があげられる。
【００３３】
炭素数１〜１１のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、及びデシル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。このようなアルキル（メタ）アクリレートは、後述するラジカル発生剤から生じたラジカルにより側鎖のアルキル基から水素が引抜かれてポリマー中にラジカルを生じ、このラジカル活性種によりポリマーを架橋させることができる。側鎖アルキル基の炭素数が１２以上の場合には、架橋性に劣るため好ましくない。側鎖アルキル基の炭素数は９以下であることが好ましく、さらに好ましくは８以下である。一方、側鎖アルキル基の炭素数は４以上であることが好ましい。
【００３４】
ポリマー中における架橋性モノマー（ｃ）のブロック構造単位の割合は、１０〜４０重量％であることが好ましく、さらに好ましくは１０〜３０重量％である。モノマー（ｃ）のブロック構造単位の割合が１０重量％未満の場合には、架橋が十分に起こらないため液晶フィルムの表面硬度を高くすることが難しくなる傾向にある。一方、モノマー（ｃ）のブロック構造単位の割合が４０重量％を超えると、液晶ポリマーとしての光学特性に悪影響を与える傾向にある。なお、前記ブロック構造単位は架橋性モノマー（ｃ）単位のみで構成されていることが最も好ましいが、前記ブロック構造単位は、実質的に架橋性を妨げない範囲で架橋性を有しないモノマー単位を有していてもよい。それにより機械的特性などを変化させることができる。
【００３５】
前記架橋性を有しないモノマーとしては、例えば、スチレン、α−メチルスチレンなどのスチレン系モノマー、イソボルニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレートなどの脂環式（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルモルホリン、（メタ）アクリルアミド、アクリロニトリルなどの窒素含有（メタ）アクリレート、酢酸ビニルなどが挙げられる。ブロック構造単位内における架橋性を有しないモノマー単位の含有率は２０重量％以下が好ましく、さらに好ましくは１０重量％以下である。
【００３６】
非液晶モノマー（ｂ）は、垂直配向成分として作用する。非液晶モノマー（ｂ）の長鎖アルキル基の炭素数は１２以上であり、好ましくは１２〜２８である。炭素数が１２未満の場合には垂直配向性に劣るため好ましくない。また、非液晶モノマー（ｂ）単位を有する垂直配向性の液晶ポリマーを水平方向に配向規制力を有する基板上に塗布することにより、傾斜配向した傾斜配向膜（液晶フィルム）を得ることができる。
【００３７】
長鎖アルキル基を有する非液晶モノマー（ｂ）としては、例えば、炭素数１２〜２８のアルキル基を側鎖に有するアルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。かかる非液晶モノマー（ｂ）としては、例えば、オクタデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ミスチリル（メタ）アクリレート、パルミチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレートなどがあげられる。非液晶モノマー（ｂ）は、１種単独で又は２種以上を併用してもよい。液晶ポリマー中における非液晶モノマー（ｂ）単位の割合は特に制限されないが、１０〜４０重量％であることが好ましく、さらに好ましくは１５〜３０重量％である。非液晶モノマー（ｂ）単位の割合が１０重量％未満の場合には配向性に劣る傾向があり、一方４０重量％を超える場合には液晶ポリマーとしての光学特性に悪影響を与える傾向にある。また、垂直配向性が高くなりすぎて傾斜配向性を得難くなる傾向にある。
【００３８】
液晶モノマー（ａ）は、各種のものを使用でき、用途に応じて適宜に選択して用いることができる。ネマチック液晶モノマー、スメクチック液晶モノマー、コレステリック液晶モノマー等があげられる。液晶ポリマー中における液晶モノマー（ａ）単位の割合は特に制限されないが、４０〜８０重量％であることが好ましく、さらに好ましくは５０〜７０重量％である。液晶モノマー（ａ）単位の割合が４０重量％未満の場合には液晶性が乏しくなって配向性が低下し、傾斜配向が形成され難くなる。一方、８０重量％を超える場合には配向膜に従って水平方向に配向しやすくなり、傾斜配向が形成され難くなる。
【００３９】
液晶モノマー（ａ）としては、ネマチック液晶モノマー（ａ１）が好適に用いられる。ネマチック液晶モノマー（ａ１）は、重合性官能基として、アクリロイル基、メタクリロイル基を有し、これに環状単位等からなるメソゲン基を有するものがあげられる。メソゲン基となる前記環状単位としては、たとえば、ビフェニル系、フェニルベンゾエート系、フェニルシクロヘキサン系、アゾキシベンゼン系、アゾメチン系、アゾベンゼン系、フェニルピリミジン系、ジフェニルアセチレン系、ジフェニルベンゾエート系、ビシクロへキサン系、シクロヘキシルベンゼン系、ターフェニル系等があげられる。なお、これら環状単位の末端は、たとえば、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基等の置換基を有していてもよい。前記メソゲン基は屈曲性を付与するスペーサ部を介して結合していてもよい。スペーサ部としては、ポリメチレン鎖、ポリオキシメチレン鎖等があげられる。スペーサ部を形成する構造単位の繰り返し数は、メソゲン部の化学構造により適宜に決定されるがポリメチレン鎖の繰り返し単位は０〜２０、好ましくは２〜１２、ポリオキシメチレン鎖の繰り返し単位は０〜１０、好ましくは１〜３である。
【００４０】
ネマチック液晶モノマー（ａ１）としては、たとえば、一般式（ａ１）：
【００４１】
【化３】
2005139375.tif 000003
（式中、Ｒ1 は水素原子またはメチル基を、ｍは１〜６の整数を、Ｘ1 は−ＣＯ2 −基、−ＯＣＯ−基、−ＣＯ−、−ＣＨ＝ＣＨ−または−Ｃ≡Ｃ−を、Ｒ2 は炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、フルオロ基または炭素数１〜６のアルキル基を、ｐおよびｑは１または２を示す。）で表されるアクリル酸エステル誘導体があげられる。
【００４２】
一般式（ａ１）で表されるアクリル酸エステル誘導体において、ｐ＝１が好ましく、ｑ＝２が好ましく、Ｒ1 としては水素原子が好ましく、Ｒ2 としてはシアノ基が好ましく、Ｘ1 としては−ＣＯＯ−基が好ましい。一般式（ａ）で表されるアクリル酸エステル誘導体の具体例としては、たとえば、４−（４−シアノビフェニルオキシカルボニル）フェノキシエチルアクリレート、４−（４−シアノビフェニルオキシカルボニル）フェノキシプロピルアクリレート、４−（４−シアノビフェニルオキシカルボニル）フェノキシブチルアクリレート、４−（４−シアノビフェニルオキシカルボニル）フェノキシペンチルアクリレート、４−（４−シアノビフェニルオキシカルボニル）フェノキシヘキシルアクリレート等があげられる。これらは単独でまたは混合して用いることができる。
【００４３】
本発明のブロック型液晶ポリマーはリビングラジカル重合法によって作成することができる。リビングラジカル重合法は、特表平１０−５０９４７５号公報（特許第３０４０１７２号明細書）に示されているように、活性化剤として遷移金属とその配位子を使用し、これらの存在下、重合開始剤を用いて、重合反応を進行させる方法である。
【００４４】
ラジカル重合は工業的に最も広く利用されている重合法で、重合可能なモノマーの多様さ、反応系の取り扱いの容易さとそれに基づく製造コストの低廉化などが広く用いられる。ラジカル重合で分子量の制御された重合体を得るには開始剤の量の選択や重合熱の制御が困難であった。その問題を解消した重合法に、リビングラジカル重合法またはＡＴＲＰ法と呼ばれるものがある。
【００４５】
リビングラジカル重合法の参考文献として、例えば、Ｐａｔｔｅｎらによる報告、”Ｒａｄｉｃａｌ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ  Ｙｉｅｌｄｉｎｇ  Ｐｏｌｙｍｅｒｓ  ｗｉｔｈ  Ｍｗ／Ｍｎ  〜１．０５  ｂｙ  Ｈｏｍｏｇｅｎｅｏｕｓ  Ａｔｏｍ  Ｔｒａｎｓｆｅｒ  Ｒａｄｉｃａｌ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ’’Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｐｒｅｐｒｉｎｔｅｄ，ｐｐ５７５−６，Ｎｏ３７（Ｍａｒｃｈ  １９９６）；あるいは、Ｍａｔｙｊａｓｅｗｓｋｉ  らによる報告、”Ｃｏｎｔｏｒｏｌｌｅｄ／Ｌｉｖｉｎｇ  Ｒａｄｉｃａｌ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ．  Ｈａｌｏｇｅｎ  Ａｔｏｍ  Ｔｒａｎｓｆｅｒ  Ｒａｄｉｃａｌ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ  Ｐｒｏｍｏｔｅｄ  ｂｙ  ａ  Ｃｕ（Ｉ）／Ｃｕ（ＩＩ）  Ｒｅｄｏｘ  Ｐｒｏｃｅｓｓ’’，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ   l９９５，２８，７９０１−１０（Ｏｃｔｏｂｅｒ  １５，１９９５）；あるいは  同著ＰＣＴ／ＵＳ９６／０３３０２，Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ  Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ  Ｎｏ．ＷＯ９６／３０４２１（Ｏｃｔｏｂｅｒ３，１９９６）；あるいはＭ．Ｓａｗａｍｏｔｏらの報告，’’Ｒｕｔｈｕｎｉｕｍ−ｍｅｄｉａｔｅｄ  Ｌｉｖｉｎｇ  Ｒａｄｉｃａｌ  Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ  ｏｆ  Ｍｅｔｈｙｌ  Ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ  Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１９９６，２９，１０７０．などが知られている。
【００４６】
たとえば、液晶モノマー（ａ）をリビング重合したポリマー（ブロック体ａ）に、非液晶モノマー（ｂ）を加えて、ブロック体ａからなるポリマーの重合末端に非液晶モノマー（ｂ）を順々に付加させていくことにより、第２次ブロックであるブロック体ｂが導入されて、ａ−ｂ形態のジブロックポリマーＡＢを得ることができる。その後、ジブロックポリマーＡＢに架橋性モノマー（ｃ）を加えて、ジブロックポリマーＡＢの重合末端にモノマー（ｃ）を順々に付加させていくことにより、第３次ブロックであるブロック体ｃが導入されて、ａ−ｂ−ｃ形態のトリブロックポリマーＡＢＣを得ることができる。同様にして、ａ−ｃ−ｂ形態のトリブロックポリマーＡＣＢを得ることもできる。ブロック構造部分の順序は特に制限されず、各種構造のブロックポリマーを形成することができる。
【００４７】
また、各構成モノマーとして液晶モノマー（ａ）、非液晶モノマー（ｂ）、及びモノマー（ｃ）として複数種を用いた場合には、テトラブロックポリマー、ペンタブロックポリマー、ヘキサブロックポリマー等の高次ブロックポリマーとすることもできる。
【００４８】
リビング重合したポリマーに、途中から添加するモノマーは、重合されているポリマーの重合率が少なくとも８０重量％を超えたとき、さらには９０重量％を超えたときとするのが好ましい。重合率は、（残存モノマー／重合前の仕込みモノマー量）×１００（％）で定義され、加熱してモノマー成分を揮発除去したり、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーやガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィーにより測定することができる。
【００４９】
なお、重合されているポリマーブロックの重合率をあまり上げすぎると重合末端が失活して、分子量分布が広くなったり、重合が進行しなくなったりする。一方、重合されているポリマーブロックの重合率が低い時点で、他のブロックのモノマーを添加するとランダム共重合の構造単位が多くなる傾向にある。
【００５０】
前記リビングラジカル重合の際には、モノマー中の溶存酸素を取り除く必要がある。溶存酸素濃度を下げる方法としては、窒素やアルゴンなどの不活性ガスを吹き込みながら撹拌を行う方法、不活性ガスをモノマー中にバブリングする方法、減圧脱気する方法、加熱して脱気する方法などがある。これらの方法は併用してもよい。
【００５１】
重合開始剤としては、臭素もしくは塩素をα位に有するエステルまたはスチレンの誘導体が好適である。好ましくは２−ブロモ（もしくはクロロ）プロピオン酸誘導体もしくは塩化（もしくは臭化）１−フェニル誘導体があげられる。その中でも特に好ましくは２−ブロモ（もしくはクロロ）プロピオン酸メチル、２−ブロモ（もしくはクロロ）プロピオン酸エチル、２−ブロモ（もしくはクロロ）−２−プロピオン酸メチル、２−ブロモ（もしくはクロロ）−２−プロピオン酸エチル、塩化（もしくは臭化）１−フェニルエチル、２−ブロモイソ酪酸エチルから選ばれるハロゲン系化合物を用いることができる。水酸基を有する開始剤として、例えば、２−ブロモ−２−メチルプロピオン酸−２−ヒドロキシエチルなどを用いることもできる。水酸基を有する開始剤を用いることにより、液晶ポリマー中に、水酸基を導入することができる。２官能の開始剤も用いることができる。具体的にはエチレンビス（２−ブロモ−２−メチルプロピオネート）などがあげられる。
【００５２】
前記重合では得られるブロック共重合体の数平均分子量を意図的に制御する事が可能である。かかる重合法においては、開始剤のほかの触媒として遷移金属および配位子を用いる。
【００５３】
遷移金属としては、Ｃｕ，Ｒｕ，Ｆｅ，Ｒｈ，Ｖ，Ｎｉの金属種及びこれらの金属塩や金属錯体を用いることができる。また、配位子としては、とくに限定されるものではないが、例えば、ビピリジル誘導体、アミン誘導体、メルカプタン誘導体、トリフルオレート誘導体などを用いることができる。これらの中でも、Ｃｕ（Ｉ）と２，２′−ビピリジル錯体を用いることが、重合の安定性・速度から特に好ましい。
【００５４】
重合開始剤は、モノマー全体に対し、通常０．０５〜３０モル％、好ましくは０．１〜１０モル％、さらに好ましくは0 ．１〜５モル％の割合で用いられる。また、遷移金属の使用量は、ハロゲン化物などの形態として、上記重合開始剤１モル部に対して、通常０．０１〜３モル部、好ましくは０．１〜１モル部の割合で用いられる。さらに、その配位子は、上記遷移金属（ハロゲン化物などの形態）１モル部に対して、通常０．５〜５モル部、好ましくは１〜３モル部の割合で用いられる。重合開始剤と活性化剤とをこのような使用割合にすると、リビングラジカル重合の反応性、生成ポリマーの分子量などに好結果が得られる。
【００５５】
前記重合法では、モノマー成分が重合温度下で液状であるものは溶剤を用いても、また無溶剤でも製造することが可能である。液晶モノマーは通常液状ではないため、溶剤に溶解して重合する。溶剤は液晶モノマーを溶解するものであればよい。溶剤としては、テトラヒドロフラン、アニソール、ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン．シクロペンタノンなどを用いることができる。通常、モノマー濃度が１０〜３０重量％程度で重合を行なう。
【００５６】
また、液晶モノマー（ａ）と非液晶モノマー（ｂ）とを共重合してランダム共重合体を形成した後に、モノマー（ｃ）を加えて、ランダム共重合体の重合末端に架橋性モノマー（ｃ）を順々に付加させていくことにより、一部にブロック構造部分を有する液晶ポリマーとすることもできる。また、架橋性モノマー（ｃ）を重合してブロック体ｃを形成した後に、液晶モノマー（ａ）と非液晶モノマー（ｂ）とを加えて、ブロック体ｃの重合末端に液晶モノマー（ａ）と非液晶モノマー（ｂ）とをランダム共重合させてもよい。通常のラジカル重合の場合、重合開始剤としてはＡＩＢＮ（アゾビスイソブチロニトリル）などのアゾ系開始剤、ＢＰＯ（ベンゾイルパーオキサイド）などの過酸化物系開始剤が挙げられる。重合開始剤の量は、モノマー１００重量部に対して通常０．１〜１０重量部程度である。重合温度は重合開始剤の種類によって異なるが、通常４０〜８０℃程度である。
【００５７】
ブロック型液晶ポリマーの数平均分子量は、２千〜１０万程度であるのが好ましい。好ましくは５千〜５万程度である。数平均分子量が高すぎると重合時間が長くかかるほか、溶剤に溶け難くなって取扱い難い。また配向し難くなる。数平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）によるポリスチレン換算の数値である。
【００５８】
重合温度は、重合速度、触媒の失活温度とモノマーの溶剤に対する溶解性から、６０〜１２０℃程度が好ましい。重合時間は、最終的な数平均分子量や重合温度にも依存するが、約３〜１００時間程度で重合を完了するのが好ましい。
【００５９】
本発明のブロック型液晶ポリマーは、架橋性モノマー（ｃ）の官能基に係わる反応助剤を含有する液晶ポリマー組成物として用いることができる。
【００６０】
架橋性モノマー（ｃ）の有する官能基同士を、当該官能基に係わる反応助剤の存在下において反応させることにより、ブロック型液晶ポリマーを架橋させることができる。たとえば、架橋性モノマー（ｃ）が、エポキシ基を有するモノマーや水酸基を有するモノマーの場合には、反応助剤として、紫外線カチオン開始剤が好適に用いられる。紫外線カチオン開始剤は、紫外線の照射下において、酸を発生し、エポキシ基、水酸基を反応させる。      
【００６１】
紫外線カチオン開始剤としては、ＡｒＮ2 + Ｑ- 、Ｙ3 Ｓ+ Ｑ- またはＹ2 Ｉ+ Ｑ- 〔式中、Ａｒはビス（ドデシルフェニル）基などのアリール基、Ｙはアルキル基または上記同様のアリール基、Ｑ- はＢＦ4 - 、ＰＦ6 - 、ＡｓＦ6 - 、ＳｂＦ6 - 、ＳｂＣｌ6 - 、ＨＳＯ4 - 、Ｃｌなどの非塩基性かつ求核性の陰イオンである〕で表されるジアゾニウム塩、スルホニウム塩またはヨードニウム塩などが好ましく用いられる。具体的には、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム・ヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム・ヘキサフルオロフオスフエート、ビス（ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム・トリフルオロメタンスルホフオネート、トリフェニルスルフオニウム・トリフルオロメタンスルフオネート、ビフェニルヨードニウム・トリフルオロメタンスルフオネート、フェニル−（３−ヒドロキシ−ぺンタデシルフェニル）ヨードニウム・ヘキサフルオロアンチモネートおよびこれら成分を含む化合物などがあげられる。また、上記の成分を含んでなる各種の混合物、たとえば、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム・ヘキサフルオロアンチモネートを４５重量％含む化学品である東芝シリコーン（株）製の「ＵＶ−９３８０Ｃ」なども使用できる。
【００６２】
これらの紫外線カチオン開始剤等の反応助剤は、ブロック型液晶ポリマー１００重量部に対して、０．０１〜２０重量部を含有していることが好ましい。好ましくは０．０５〜１０重量部、さらに好ましくは０．１〜５重量部である。反応助剤の配合量が０．０１重量部未満では、架橋が不十分になる。一方、２０重量部を超えると、架橋過多となるおそれがある。
【００６３】
また、紫外線カチオン開始剤等の反応助剤に加えて、架橋助剤として、多官能のエポキシ化合物を併用することもできる。エポキシ化合物としては、たとえば、エポキシ化３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸ビス（３−シクロヘキセニルメチル）修飾ε‐カプロラクトン等の３官能エポキシ化合物、エポキシ化ブタンテトラカルボン酸テトラキス−（３−シクロへキセニルメチル）修飾ε−カプロラクトン等の４官能エポキシ化合物等があげられる。これら架橋助剤は、ブロック型液晶ポリマー１００重量部に対して、１０重量部以下の割合で用いるのが好ましい。
【００６４】
また本発明のブロック型液晶ポリマーは、モノマー（ｃ）が有する官能基に対して反応性を有する官能基を少なくとも２個有する架橋剤を含有する液晶ポリマー組成物に用いることができる。
【００６５】
モノマー（ｃ）の有する官能基を架橋剤と反応させることにより、ブロック型液晶ポリマーを架橋させることができる。これら官能基の組み合わせは、反応性を有するものであれば特に制限はない。たとえば、モノマー（ｃ）の官能基が水酸基の場合には、架橋剤の官能基としてはイソシアネート基、カルボキシル基、エポキシ基等があげられる。また、モノマー（ｃ）の官能基がエポキシ基の場合には、架橋剤の官能基としてはカルボキシル基、水酸基、アミノ基等があげられる。また、モノマー（ｃ）の官能基がカルボキシル基の場合には、架橋剤の官能基としては水酸基、アミノ基、イソシアネート基、エポキシ基、アジリジン基等があげられる。これらの組み合わせのなかでも、モノマー（ｃ）の官能基が水酸基であり、架橋剤の官能基がイソシアネート基である場合が好ましい。
【００６６】
これらの架橋剤は、ブロック型液晶ポリマー１００重量部に対して、０．０１〜２０重量部を含有していることが好ましい。好ましくは０．０５〜１０重量部、さらに好ましくは０．１〜５重量部である。架橋剤の配合量が０．０１重量部未満では、架橋が不十分になる。一方、２０重量部を超えると、架橋過多となるおそれがある。
【００６７】
上記液晶ポリマー組成物には、多官能モノマーを併用することができる。多官能モノマーとしては、たとえば、トリプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジメチロールプロパンテトラアクリレートなどがあげられる。これら多官能モノマーの配合量は、ブロック型液晶ポリマー１００重量部あたり、通常、１０重量部以下とするのが好ましい。
【００６８】
また、架橋性モノマー（ｃ）として炭素数１〜１１のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートを用いた場合には、液晶ポリマー組成物にはラジカル発生剤を添加することが好ましい。ラジカル発生剤としては、多官能ラジカル発生剤が用いられる。多官能ラジカル発生剤としては、たとえば、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４′−メトキシ−１′−ナフチル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２，４−トリクロロメチルー（４′−メトキシフェニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４′−メトキシナフチル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（ピペロニル）−６−トリアジン、２，４−トリクロロメチル（４′−メトキシスチリル）−６−トリアジンなどのトリクロロメチル基含有トリアジン誘導体があげられる。また、オリゴ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパン］のようなオリゴマー型多官能ラジカル発生剤などがあげられる。
【００６９】
ラジカル発生剤の配合量は、ブロック型液晶ポリマー１００重量部あたり、通常、５重量部以下とするのが好ましい。より好ましくは０．１〜５重量部、さらに好ましくは０．４〜１重量部である。ラジカル発生剤の配合量が０．１重量部未満では、架橋性に乏しくなる。一方、５重量部を超えると、架橋過多となるおそれがある。
【００７０】
前記ラジカル発生剤とともに、架橋助剤としてベンゾフェノン誘導体（ベンゾフェノンやその誘導体）を混合することができる。この架橋助剤を混合すると、表面層をより迅速に架橋硬化でき、これにより表面層での酸素による架橋硬化反応の阻害現象が抑制され、厚さ方向に均一に架橋硬化させることができる。このようなベンゾフェノン誘導体の使用量は、ブロック型液晶ポリマー１００重量部あたり、３重量部以下、通常０．１〜３重量部、好適には０．５〜１重量部とするのがよい。
【００７１】
また、本発明のブロック型液晶ポリマー、液晶ポリマー組成物には、特性に影響を及ぼさない範囲で各種添加剤を配合することができる。
【００７２】
前記ブロック型液晶ポリマー又は液晶ポリマー組成物を基材上に塗工し、製膜することにより、垂直配向した液晶フィルムが得られる。また、前記ブロック型液晶ポリマー又は液晶ポリマー組成物を水平方向に配向規制力を有する基材上に塗布して配向させ、製膜することにより傾斜配向膜が得られる。
【００７３】
前記基材上への塗工方法は特に制限されず、溶融法、溶液法のいずれを採用してもよいが、溶液法が好適である。基材上への塗工は、バーコーター、スピナー、ロールコーターなどの適宜な塗工機にて行うことができるが、キャスト法が成膜面の品質の観点から好適である。
【００７４】
溶液塗工において、ブロック型液晶ポリマー等を溶解する溶媒としては、たとえば、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、フェノール、パラクロロフェノールなどのフェノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキベンゼンなどの芳香族炭化水素類、その他、アセトン、酢酸エチル、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレンブリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ピリジン、トリエチルアミン、テトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、ブチロニトリル、二硫化炭素、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン等が好ましい。溶液の濃度は、通常３〜５０重量％程度である。
【００７５】
配向基材としては、従来知られているものを採用できる。たとえば、基板上にポリイミドやポリビニルアルコール等からなる薄膜を形成して、それをレーヨン布等でラビング処理したラビング膜、シンナメートやアゾベンゼンなど光架橋基を有するポリマーあるいはポリイミドに偏光紫外線を照射した光配向膜、延伸フィルムなどが用いられる。延伸フィルムとしては、延伸ポリエチレンテレフタレート等の配向性を有する基材をそのまま配向基材として用いることができる。その他、磁場、電場配向、ずり応力操作により配向させることもできる。
【００７６】
なお、前記基板としては、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ノルボルネン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリアリレート、ポリカーボネート、ポリスルホンやポリエーテルスルホン等のプラスチックからなるフィルム、ガラス板、石英シートが用いられる。
【００７７】
前記配向は、液晶ポリマーの液晶転移温度以上で行う。配向温度、時間は液晶ポリマーの種類に応じて適宜に決定される。
【００７８】
前記液晶ポリマー等の溶液は、配向による液晶状態を維持しながら乾燥成膜する。乾燥温度としては、溶媒の沸点以上の温度であればよい。乾燥成膜は前記配向工程とともに、行うことができる。乾燥成膜を前記配向工程とともに行う場合には、溶媒および液晶ポリマーの種類に応じて温度を設定する。液晶ポリマー組成物の場合には、配向後に架橋処理を施し製膜する。架橋処理は、液晶ポリマー組成物の種類に応じて、熱処理、紫外線照射、電子線照射等により行うことができる。架橋処理は、またこれらの架橋処理は組み合わせることができる。
【００７９】
配向温度は、液晶ポリマーと基材の種類により異なるため一概には言えないが、通常６０〜３００℃、好ましくは７０〜２００℃の範囲において行う。また配向処理時間は、温度および液晶ポリマーや基材の種類によって異なるため一概には言えないが、通常１０秒〜２時間、好ましくは２０秒〜３０分の範囲で選択される。
【００８０】
配向処理後、冷却操作を行う。冷却操作は、熱処理後に、配向基材上で製膜されたものを熱処理操作における加熱雰囲気中から、室温中に出すことによって行うことができる。また空冷、水冷などの強制冷却を行ってもよい。前記液晶ポリマーや液晶ポリマー組成物により形成された液晶層や傾斜配向層は、液晶ポリマーのガラス転移温度以下に冷却することにより配向が固定化される。
【００８１】
次いで、液晶層や傾斜配向層に対して放射線を照射し、液晶ポリマーを架橋硬化することにより固定化して、表面硬度の高い液晶フィルムや傾斜配向膜を得る。放射線照射は、たとえば、紫外線照射により行う。また放射線としては、電子線を用いることもできる。放射線照射時には、加熱して放射性照射することで架橋を促進することもできる。
【００８２】
紫外線照射条件は、十分に反応を促進するために、不活性気体雰囲気中とすることが好ましい。通常、約０．１〜１０Ｊ／ｃｍ2 の照度を有する高圧水銀紫外ランプが代表的に用いられる。メタハライドＵＶランプや白熱管などの別種ランプを使用することもできる。なお、紫外線照射時の液晶層等の表面温度が液晶温度範囲内になるように、コールドミラー、水冷その他の冷却処理あるいはライン速度を速くするなどして適宜に調整する。
【００８３】
このようにして、液晶フィルムや傾斜配向膜が得られる。液晶フィルムの厚みは特に制限されないが、２００μｍ以下とするのが好ましい。傾斜配向膜の厚みは特に制限されないが、通常１〜１００μｍ程度、好ましくは１〜１０μｍである。
【００８４】
液晶フィルムや傾斜配向膜は、基材から剥離することなく用いられる他、基材から剥離して用いてもよい。液晶フィルムや傾斜配向膜は、それ単独で、位相差板、視角補償フィルム、光学補償フィルムとして、また他の光学フィルムと組み合わせて使用できる。
【００８５】
光学フィルムとしては偏光板があげられる。偏光板は偏光子の片面または両面には透明保護フィルムを有するものが一般に用いられる。
【００８６】
偏光子は、特に制限されず、各種のものを使用できる。偏光子としては、たとえば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等があげられる。これらのなかでもポリビニルアルコール系フィルムとヨウ素などの二色性物質からなる偏光子が好適である。これら偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、５〜８０μｍ程度である。
【００８７】
ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸した偏光子は、たとえば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じてホウ酸や硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいてもよいヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗してもよい。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することでポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるほかに、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることで染色のムラなどの不均一を防止する効果もある。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸してもよいし、また延伸してからヨウ素で染色してもよい。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。
【００８８】
前記偏光子の片面または両面に設けられる透明保護フィルムを形成する材料としては、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性、等方性などに優れるものが好ましい。例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ジアセチルセルロースやトリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマーなどがあげられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系ないしはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、または前記ポリマーのブレンド物なども前記透明保護フィルムを形成するポリマーの例としてあげられる。透明保護フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型、紫外線硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。
【００８９】
また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルム、たとえば、（Ａ）側鎖に置換および／または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、（Ｂ）側鎖に置換および／非置換フェニルならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物があげられる。具体例としてはイソブチレンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体とアクリロニトリル・スチレン共重合体とを含有する樹脂組成物のフィルムがあげられる。フィルムは樹脂組成物の混合押出品などからなるフィルムを用いることができる。
【００９０】
保護フィルムの厚さは、適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性、薄層性などの点より１〜５００μｍ程度である。特に１〜３００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましい。
【００９１】
また、保護フィルムは、できるだけ色付きがないことが好ましい。したがって、Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］・ｄ（ただし、ｎｘ、ｎｙはフィルム平面内の主屈折率、ｎｚはフィルム厚方向の屈折率、ｄはフィルム厚みである）で表されるフィルム厚み方向の位相差値が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍである保護フィルムが好ましく用いられる。かかる厚み方向の位相差値（Ｒｔｈ）が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍのものを使用することにより、保護フィルムに起因する偏光板の着色（光学的な着色）をほぼ解消することができる。厚み方向位相差値（Ｒｔｈ）は、さらに好ましくは−８０ｎｍ〜＋６０ｎｍ、特に−７０ｎｍ〜＋４５ｎｍが好ましい。
【００９２】
保護フィルムとしては、偏光特性や耐久性などの点より、トリアセチルセルロース等のセルロース系ポリマーが好ましい。特にトリアセチルセルロースフィルムが好適である。なお、偏光子の両側に保護フィルムを設ける場合、その表裏で同じポリマー材料からなる保護フィルムを用いてもよく、異なるポリマー材料等からなる保護フィルムを用いてもよい。前記偏光子と保護フィルムとは通常、水系粘着剤等を介して密着している。水系接着剤としては、イソシアネート系接着剤、ポリビニルアルコール系接着剤、ゼラチン系接着剤、ビニル系ラテックス系、水系ポリウレタン、水系ポリエステル等を例示できる。
【００９３】
前記透明保護フィルムの偏光子を接着させない面には、ハードコート層や反射防止処理、スティッキング防止や、拡散ないしアンチグレアを目的とした処理を施したものであってもよい。
【００９４】
ハードコート処理は偏光板表面の傷付き防止などを目的に施されるものであり、例えばアクリル系、シリコーン系などの適宜な紫外線硬化型樹脂による硬度や滑り特性等に優れる硬化皮膜を透明保護フィルムの表面に付加する方式などにて形成することができる。反射防止処理は偏光板表面での外光の反射防止を目的に施されるものであり、従来に準じた反射防止膜などの形成により達成することができる。また、スティッキング防止処理は隣接層との密着防止を目的に施される。
【００９５】
またアンチグレア処理は偏光板の表面で外光が反射して偏光板透過光の視認を阻害することの防止等を目的に施されるものであり、例えばサンドブラスト方式やエンボス加工方式による粗面化方式や透明微粒子の配合方式などの適宜な方式にて透明保護フィルムの表面に微細凹凸構造を付与することにより形成することができる。前記表面微細凹凸構造の形成に含有させる微粒子としては、例えば平均粒子径が０．５〜５０μｍのシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等からなる導電性のこともある無機系微粒子、架橋又は未架橋のポリマー等からなる有機系微粒子などの透明微粒子が用いられる。表面微細凹凸構造を形成する場合、微粒子の使用量は、表面微細凹凸構造を形成する透明樹脂１００重量部に対して一般的に２〜５０重量部程度であり、５〜２５重量部が好ましい。アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角などを拡大するための拡散層（視角拡大機能など）を兼ねるものであってもよい。
【００９６】
なお、前記反射防止層、スティッキング防止層、拡散層やアンチグレア層等は、透明保護フィルムそのものに設けることができるほか、別途光学層として透明保護フィルムとは別体のものとして設けることもできる。
【００９７】
また他の光学フィルムとしては、例えば反射板や半透過板、位相差板（１／2 や１／４等の波長板を含む）、視角補償フィルム、輝度向上フィルムなどの液晶表示装置等の形成に用いられることのある光学層となるものがあげられる。これらは前記偏光板等に、実用に際して積層して、１層または２層以上用いることができる。
【００９８】
特に、偏光板に更に反射板または半透過反射板が積層されてなる反射型偏光板または半透過型偏光板、偏光板に更に位相差板が積層されてなる楕円偏光板または円偏光板、偏光板に更に視角補償フィルムが積層されてなる広視野角偏光板、あるいは偏光板に更に輝度向上フィルムが積層されてなる偏光板が好ましい。
【００９９】
反射型偏光板は、偏光板に反射層を設けたもので、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置などを形成するためのものであり、バックライト等の光源の内蔵を省略できて液晶表示装置の薄型化を図りやすいなどの利点を有する。反射型偏光板の形成は、必要に応じ透明保護層等を介して偏光板の片面に金属等からなる反射層を付設する方式などの適宜な方式にて行うことができる。
【０１００】
反射型偏光板の具体例としては、必要に応じマット処理した透明保護フィルムの片面に、アルミニウム等の反射性金属からなる箔や蒸着膜を付設して反射層を形成したものなどがあげられる。また前記透明保護フィルムに微粒子を含有させて表面微細凹凸構造とし、その上に微細凹凸構造の反射層を有するものなどもあげられる。前記した微細凹凸構造の反射層は、入射光を乱反射により拡散させて指向性やギラギラした見栄えを防止し、明暗のムラを抑制しうる利点などを有する。また微粒子含有の透明保護フィルムは、入射光及びその反射光がそれを透過する際に拡散されて明暗ムラをより抑制しうる利点なども有している。透明保護フィルムの表面微細凹凸構造を反映させた微細凹凸構造の反射層の形成は、例えば真空蒸着方式、イオンプレーティング方式、スパッタリング方式等の蒸着方式やメッキ方式などの適宜な方式で金属を透明保護層の表面に直接付設する方法などにより行うことができる。
【０１０１】
反射板は前記の偏光板の透明保護フィルムに直接付与する方式に代えて、その透明フィルムに準じた適宜なフィルムに反射層を設けてなる反射シートなどとして用いることもできる。なお反射層は、通常、金属からなるので、その反射面が透明保護フィルムや偏光板等で被覆された状態の使用形態が、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続の点や、保護層の別途付設の回避の点などより好ましい。
【０１０２】
なお、半透過型偏光板は、上記において反射層で光を反射し、かつ透過するハーフミラー等の半透過型の反射層とすることにより得ることができる。半透過型偏光板は、通常液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置などを比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側（表示側）からの入射光を反射させて画像を表示し、比較的暗い雰囲気においては、半透過型偏光板のバックサイドに内蔵されているバックライト等の内蔵光源を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置などを形成できる。すなわち、半透過型偏光板は、明るい雰囲気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節約でき、比較的暗い雰囲気下においても内蔵光源を用いて使用できるタイプの液晶表示装置などの形成に有用である。
【０１０３】
偏光板に更に位相差板が積層されてなる楕円偏光板または円偏光板について説明する。直線偏光を楕円偏光または円偏光に変えたり、楕円偏光または円偏光を直線偏光に変えたり、あるいは直線偏光の偏光方向を変える場合に、位相差板などが用いられる。特に、直線偏光を円偏光に変えたり、円偏光を直線偏光に変える位相差板としては、いわゆる１／４波長板（λ／４板とも言う）が用いられる。１／２波長板（λ／２板とも言う）は、通常、直線偏光の偏光方向を変える場合に用いられる。
【０１０４】
楕円偏光板はスーパーツイストネマチック（ＳＴＮ）型液晶表示装置の液晶層の複屈折により生じた着色（青又は黄）を補償（防止）して、前記着色のない白黒表示する場合などに有効に用いられる。更に、三次元の屈折率を制御したものは、液晶表示装置の画面を斜め方向から見た際に生じる着色も補償（防止）することができて好ましい。円偏光板は、例えば画像がカラー表示になる反射型液晶表示装置の画像の色調を整える場合などに有効に用いられ、また、反射防止の機能も有する。
【０１０５】
位相差板としては、高分子素材を一軸または二軸延伸処理してなる複屈折性フィルム、液晶ポリマーの配向フィルム（液晶フィルム）、液晶ポリマーの配向層をフィルムにて支持したものなどがあげられる。位相差板の厚さも特に制限されないが、２０〜１５０μｍ程度が一般的である。
【０１０６】
高分子素材としては、たとえば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリメチルビニルエーテル、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリアリルスルホン、ポリビニルアルコール、ポリアミド、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、セルロース系重合体、ノルボルネン系樹脂、またはこれらの二元系、三元系各種共重合体、グラフト共重合体、ブレンド物などがあげられる。これら高分子素材は延伸等により配向物（延伸フィルム）となる。
【０１０７】
液晶性ポリマーとしては、たとえば、液晶配向性を付与する共役性の直線状原子団（メソゲン）がポリマーの主鎖や側鎖に導入された主鎖型や側鎖型の各種のものなどがあげられる。主鎖型の液晶性ポリマーの具体例としては、屈曲性を付与するスペーサ部でメソゲン基を結合した構造の、例えばネマチック配向性のポリエステル系液晶性ポリマー、ディスコティックポリマーやコレステリックポリマーなどがあげられる。側鎖型の液晶性ポリマーの具体例としては、ポリシロキサン、ポリアクリレート、ポリメタクリレート又はポリマロネートを主鎖骨格とし、側鎖として共役性の原子団からなるスペーサ部を介してネマチック配向付与性のパラ置換環状化合物単位からなるメソゲン部を有するものなどがあげられる。これら液晶性ポリマーは、たとえば、ガラス板上に形成したポリイミドやポリビニルアルコール等の薄膜の表面をラビング処理したもの、酸化珪素を斜方蒸着したものなどの配向処理面上に液晶性ポリマーの溶液を展開して熱処理することにより行われる。      
【０１０８】
位相差板は、例えば各種波長板や液晶層の複屈折による着色や視角等の補償を目的としたものなどの使用目的に応じた適宜な位相差を有するものであってよく、２種以上の位相差板を積層して位相差等の光学特性を制御したものなどであってもよい。
【０１０９】
また上記の楕円偏光板や反射型楕円偏光板は、偏光板又は反射型偏光板と位相差板を適宜な組合せで積層したものである。かかる楕円偏光板等は、（反射型）偏光板と位相差板の組合せとなるようにそれらを液晶表示装置の製造過程で順次別個に積層することによっても形成しうる。前記の如く予め楕円偏光板等の光学フィルムは、品質の安定性や積層作業性等に優れて液晶表示装置などの製造効率を向上させうる利点がある。
【０１１０】
視角補償フィルムは、液晶表示装置の画面を、画面に垂直でなくやや斜めの方向から見た場合でも、画像が比較的鮮明にみえるように視野角を広げるためのフィルムである。このような視角補償位相差板としては、例えば位相差板、液晶ポリマー等の配向フィルムや透明基材上に液晶ポリマー等の配向層を支持したものなどからなる。通常の位相差板は、その面方向に一軸に延伸された複屈折を有するポリマーフィルムが用いられるのに対し、視角補償フィルムとして用いられる位相差板には、面方向に二軸に延伸された複屈折を有するポリマーフィルムとか、面方向に一軸に延伸され厚さ方向にも延伸された厚さ方向の屈折率を制御した複屈折を有するポリマーや傾斜配向フィルムのような二方向延伸フィルムなどが用いられる。傾斜配向フィルムとしては、例えばポリマーフィルムに熱収縮フィルムを接着して加熱によるその収縮力の作用下にポリマーフィルムを延伸処理又は／及び収縮処理したものや、液晶ポリマーを斜め配向させたものなどが挙げられる。位相差板の素材原料ポリマーは、先の位相差板で説明したポリマーと同様のものが用いられ、液晶セルによる位相差に基づく視認角の変化による着色等の防止や良視認の視野角の拡大などを目的とした適宜なものを用いうる。
【０１１１】
また良視認の広い視野角を達成する点などより、液晶ポリマーの配向層、特にディスコティック液晶ポリマーの傾斜配向層からなる光学的異方性層をトリアセチルセルロースフィルムにて支持した光学補償位相差板が好ましく用いうる。
【０１１２】
偏光板と輝度向上フィルムを貼り合わせた偏光板は、通常液晶セルの裏側サイドに設けられて使用される。輝度向上フィルムは、液晶表示装置などのバックライトや裏側からの反射などにより自然光が入射すると所定偏光軸の直線偏光または所定方向の円偏光を反射し、他の光は透過する特性を示すもので、輝度向上フィルムを偏光板と積層した偏光板は、バックライト等の光源からの光を入射させて所定偏光状態の透過光を得ると共に、前記所定偏光状態以外の光は透過せずに反射される。この輝度向上フィルム面で反射した光を更にその後ろ側に設けられた反射層等を介し反転させて輝度向上フィルムに再入射させ、その一部又は全部を所定偏光状態の光として透過させて輝度向上フィルムを透過する光の増量を図ると共に、偏光子に吸収させにくい偏光を供給して液晶表示画像表示等に利用しうる光量の増大を図ることにより輝度を向上させうるものである。すなわち、輝度向上フィルムを使用せずに、バックライトなどで液晶セルの裏側から偏光子を通して光を入射した場合には、偏光子の偏光軸に一致していない偏光方向を有する光は、ほとんど偏光子に吸収されてしまい、偏光子を透過してこない。すなわち、用いた偏光子の特性によっても異なるが、およそ５０％の光が偏光子に吸収されてしまい、その分、液晶画像表示等に利用しうる光量が減少し、画像が暗くなる。輝度向上フィルムは、偏光子に吸収されるような偏光方向を有する光を偏光子に入射させずに輝度向上フィルムで一旦反射させ、更にその後ろ側に設けられた反射層等を介して反転させて輝度向上フィルムに再入射させることを繰り返し、この両者間で反射、反転している光の偏光方向が偏光子を通過し得るような偏光方向になった偏光のみを、輝度向上フィルムは透過させて偏光子に供給するので、バックライトなどの光を効率的に液晶表示装置の画像の表示に使用でき、画面を明るくすることができる。
【０１１３】
輝度向上フィルムと上記反射層等の間に拡散板を設けることもできる。輝度向上フィルムによって反射した偏光状態の光は上記反射層等に向かうが、設置された拡散板は通過する光を均一に拡散すると同時に偏光状態を解消し、非偏光状態となる。すなわち、拡散板は偏光を元の自然光状態にもどす。この非偏光状態、すなわち自然光状態の光が反射層等に向かい、反射層等を介して反射し、再び拡散板を通過して輝度向上フィルムに再入射することを繰り返す。このように輝度向上フィルムと上記反射層等の間に、偏光を元の自然光状態にもどす拡散板を設けることにより表示画面の明るさを維持しつつ、同時に表示画面の明るさのむらを少なくし、均一で明るい画面を提供することができる。かかる拡散板を設けることにより、初回の入射光は反射の繰り返し回数が程よく増加し、拡散板の拡散機能と相俟って均一の明るい表示画面を提供することができたものと考えられる。
【０１１４】
前記の輝度向上フィルムとしては、例えば誘電体の多層薄膜や屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体の如き、所定偏光軸の直線偏光を透過して他の光は反射する特性を示すもの、コレステリック液晶ポリマーの配向フィルムやその配向液晶層をフィルム基材上に支持したものの如き、左回り又は右回りのいずれか一方の円偏光を反射して他の光は透過する特性を示すものなどの適宜なものを用いうる。
【０１１５】
従って、前記した所定偏光軸の直線偏光を透過させるタイプの輝度向上フィルムでは、その透過光をそのまま偏光板に偏光軸を揃えて入射させることにより、偏光板による吸収ロスを抑制しつつ効率よく透過させることができる。一方、コレステリック液晶層の如く円偏光を投下するタイプの輝度向上フィルムでは、そのまま偏光子に入射させることもできるが、吸収ロスを抑制する点よりその円偏光を位相差板を介し直線偏光化して偏光板に入射させることが好ましい。なお、その位相差板として１／４波長板を用いることにより、円偏光を直線偏光に変換することができる。
【０１１６】
可視光域等の広い波長範囲で１／４波長板として機能する位相差板は、例えば波長５５０ｎｍの淡色光に対して１／４波長板として機能する位相差層と他の位相差特性を示す位相差層、例えば１／２波長板として機能する位相差層とを重畳する方式などにより得ることができる。従って、偏光板と輝度向上フィルムの間に配置する位相差板は、１層又は２層以上の位相差層からなるものであってよい。
【０１１７】
なお、コレステリック液晶層についても、反射波長が相違するものの組み合わせにして２層又は３層以上重畳した配置構造とすることにより、可視光領域等の広い波長範囲で円偏光を反射するものを得ることができ、それに基づいて広い波長範囲の透過円偏光を得ることができる。
【０１１８】
また、偏光板は、上記の偏光分離型偏光板の如く、偏光板と２層又は３層以上の光学層とを積層したものからなっていてもよい。従って、上記の反射型偏光板や半透過型偏光板と位相差板を組み合わせた反射型楕円偏光板や半透過型楕円偏光板などであってもよい。      
【０１１９】
偏光板に前記光学層を積層した光学フィルムは、液晶表示装置等の製造過程で順次別個に積層する方式にても形成することができるが、予め積層して光学フィルムとしたのものは、品質の安定性や組立作業等に優れていて液晶表示装置などの製造工程を向上させうる利点がある。積層には粘着層等の適宜な接着手段を用いうる。前記の偏光板と他の光学層の接着に際し、それらの光学軸は目的とする位相差特性などに応じて適宜な配置角度とすることができる。
【０１２０】
なお、本発明の光学フィルムや粘着剤層などの各層には、例えばサリチル酸エステル系化合物やべンゾフェノール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物やシアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で処理する方式などの方式により紫外線吸収能をもたせたものなどであってもよい。
【０１２１】
本発明の光学フィルムは液晶表示装置等の各種画像表示装置の形成などに好ましく用いることができる。液晶表示装置の形成は、従来に準じて行いうる。すなわち液晶表示装置は一般に、液晶セルと光学フィルム、及び必要に応じての照明システム等の構成部品を適宜に組立てて駆動回路を組込むことなどにより形成されるが、本発明においては本発明による光学フィルムを用いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じうる。液晶セルについても、例えばＴＮ型やＳＴＮ型、π型などの任意なタイプのものを用いうる。
【０１２２】
液晶セルの片側又は両側に粘着型光学フィルムを配置した液晶表示装置や、照明システムにバックライトあるいは反射板を用いたものなどの適宜な液晶表示装置を形成することができる。その場合、本発明による光学フィルムは液晶セルの片側又は両側に設置することができる。両側に光学フィルムを設ける場合、それらは同じものであってもよいし、異なるものであってもよい。さらに、液晶表示装置の形成に際しては、例えば拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護板、プリズムアレイ、レンズアレイシート、光拡散板、バックライトなどの適宜な部品を適宜な位置に１層又は２層以上配置することができる。
【０１２３】
次いで有機エレクトロルミネセンス装置（有機ＥＬ表示装置）について説明する。一般に、有機ＥＬ表示装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層して発光体（有機エレクトロルミネセンス発光体）を形成している。ここで、有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あるいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入層、発光層、および電子注入層の積層体等、種々の組み合わせをもった構成が知られている。
【０１２４】
有機ＥＬ表示装置は、透明電極と金属電極とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物資を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。
【０１２５】
有機ＥＬ表示装置においては、有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明でなくてはならず、通常酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉなどの金属電極を用いている。
【０１２６】
このような構成の有機ＥＬ表示装置において、有機発光層は、厚さ１０ｎｍ程度ときわめて薄い膜で形成されている。このため、有機発光層も透明電極と同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認したとき、有機ＥＬ表示装置の表示面が鏡面のように見える。
【０１２７】
電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス発光体を含む有機ＥＬ表示装置において、透明電極の表面側に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光板との間に位相差板を設けることができる。
【０１２８】
位相差板および偏光板は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相差板を１／4 波長板で構成し、かつ偏光板と位相差板との偏光方向のなす角をπ／4 に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【０１２９】
すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射する外部光は、偏光板により直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は位相差板により一般に楕円偏光となるが、とくに位相差板が１／4 波長板でしかも偏光板と位相差板との偏光方向のなす角がπ／4 のときには円偏光となる。
【０１３０】
この円偏光は、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相差板に再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【実施例】
【０１３１】
以下に、本発明の実施例等を記載して、より具体的に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、液晶ポリマーの数平均分子量は以下の方法で測定した。
（数平均分子量の測定）
作製した液晶ポリマーをＴＨＦに０．１ｗｔ％で溶解させて、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）を用いてポリスチレン換算により数平均分子量を測定した。詳しい測定条件は以下の通りである。
ＧＰＣ装置：東ソー製、ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ
カラム：東ソー製、（ＧＭＨHR−Ｈ）＋（ＧＭＨHR−Ｈ）＋（Ｇ２０００ＨHR）
流量：０．８ｍｌ／ｍｉｎ
濃度：０．１ｗｔ％
注入量：１００μｌ
カラム温度：４０℃
溶離液：ＴＨＦ
実施例１
メカニカルスターラー、窒素導入管、冷却管、及びラバーセプタムを備えた４つ口フラスコに２−エチルヘキシルアクリレート（１０ｇ）、２，２′−ビピリジン（２．３４ｇ）、及びジメチルアセトアミド（２３．３ｇ）を加え、系内に２時間窒素を流し置換した。これに窒素気流下、臭化銅（０．７２ｇ）、２−ブロモ−イソ酪酸エチル（０．９８ｇ）を加え、８０℃で２時間重合反応した。そして、重合率が８０％以上になったのを確認した。その後、オクタデシルアクリレート（１０ｇ）及び下記一般式（ａ１−１）のネマチック液晶モノマー（３０ｇ）をジメチルアセトアミド（９３．３ｇ）に加熱溶解して窒素置換した溶液を添加し、８０℃で４０時間重合反応した。
【０１３２】
【化４】
2005139375.tif 000004
その後、反応物をメタノール中に加えて再沈、洗浄を行って精製したブロック型液晶ポリマーを得た。得られたブロック型液晶ポリマーの数平均分子量は９８００であった。
【０１３３】
得られたブロック型液晶ポリマー（１００重量部）、及び多官能ラジカル発生剤として２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン（２重量部）をシクロペンタノン９００重量部に溶解して液晶ポリマー組成物を得た。
【０１３４】
ガラス板にポリビニルアルコール（ＰＶＡ）５％水溶液を塗布して１７０℃で乾燥し、ＰＶＡ表面をレーヨン布で一定方向にラビング処理してＰＶＡラビング膜を得た。該ＰＶＡラビング膜上に、前記液晶ポリマー組成物を乾燥後の厚さが１μｍになるようにスピンコーターで塗布し、９０℃で２分間加熱乾燥して膜を配向させた。その後、１１０℃で加熱しながら５Ｊ／ｃｍ2 の紫外線を照射して架橋を行い傾斜配向した液晶フィルム（傾斜配向膜）を得た。
【０１３５】
実施例２
メカニカルスターラー、窒素導入管、冷却管、及びラバーセプタムを備えた４つ口フラスコにブチルメタクリレート（１０ｇ）、２，２′−ビピリジン（２．３４ｇ）、及びジメチルアセトアミド（２３．３ｇ）を加え、系内に２時間窒素を流し置換した。これに窒素気流下、臭化銅（０．７２ｇ）、２−ブロモ−イソ酪酸エチル（０．９８ｇ）を加え、８０℃で２時間重合反応した。そして、重合率が８０％以上になったのを確認した。その後、オクタデシルアクリレート（１０ｇ）をジメチルアセトアミド（２３．３ｇ）に加熱溶解して窒素置換した溶液を添加し、８０℃で４時間重合反応した。そして、重合率が８０％以上になったのを確認した後、前記一般式（ａ１−１）のネマチック液晶モノマー（３０ｇ）をジメチルアセトアミド（７０ｇ）に加熱溶解して窒素置換した溶液を添加し、８０℃で４０時間重合反応した。その後、反応物をメタノール中に加えて再沈、洗浄を行って精製したブロック型液晶ポリマーを得た。得られたブロック型液晶ポリマーの数平均分子量は９９００であった。その後、実施例１と同様の方法で液晶ポリマー組成物を調製し、液晶フィルムを作製した。
【０１３６】
実施例３
メカニカルスターラー、窒素導入管、冷却管、及びラバーセプタムを備えた４つ口フラスコにオクタデシルアクリレート（１０ｇ）、前記一般式（ａ１−１）のネマチック液晶モノマー（３０ｇ）、２，２′−ビピリジン（２．３４ｇ）、及びジメチルアセトアミド（９３．３ｇ）を加え、系内に２時間窒素を流し置換した。これに窒素気流下、臭化銅（０．７２ｇ）、及びエチレンビス（２−ブロモ−２−メチルプロピオネート）（１．８ｇ）を加え、８０℃で２４時間重合反応した。そして、重合率が８０％以上になったのを確認した後、ブチルアクリレート（１０ｇ）を添加し、８０℃で５時間重合反応した。その後、反応物をメタノール中に加えて再沈、洗浄を行って精製したブロック型液晶ポリマーを得た。得られたブロック型液晶ポリマーの数平均分子量は９８００であった。その後、実施例１と同様の方法で液晶ポリマー組成物を調製し、液晶フィルムを作製した。
【０１３７】
実施例４
メカニカルスターラー、窒素導入管、冷却管、及びラバーセプタムを備えた４つ口フラスコに３，４−エポキシシクロヘキシルメチルアクリレート（１０ｇ）、２，２′−ビピリジン（２．３４ｇ）、及びジメチルアセトアミド（２３．３ｇ）を加え、系内に２時間窒素を流し置換した。これに窒素気流下、臭化銅（０．７２ｇ）、２−ブロモ−イソ酪酸エチル（０．９８ｇ）を加え、８０℃で２時間重合反応した。そして、重合率が８０％以上になったのを確認した。その後、オクタデシルアクリレート（１０ｇ）及び前記一般式（ａ１−１）のネマチック液晶モノマー（３０ｇ）をジメチルアセトアミド（９３．３ｇ）に加熱溶解して窒素置換した溶液を添加し、８０℃で４０時間重合反応した。その後、反応物をメタノール中に加えて再沈、洗浄を行って精製したブロック型液晶ポリマーを得た。得られたブロック型液晶ポリマーの数平均分子量は９７００であった。
【０１３８】
得られたブロック型液晶ポリマー（１００重量部）及び紫外線カチオン開始剤として旭電化製のＵＶ９３８０Ｃ（３重量部）をシクロペンタノン９００重量部に溶解して液晶ポリマー組成物を得た。
【０１３９】
ＰＶＡラビング膜上に、前記液晶ポリマー組成物を乾燥後の厚さが１μｍになるようにスピンコーターで塗布し、９０℃で２分間加熱乾燥して膜を配向させた。その後、１１０℃で加熱しながら５Ｊ／ｃｍ2 の紫外線を照射して架橋を行い傾斜配向した液晶フィルムを得た。
【０１４０】
実施例５
メカニカルスターラー、窒素導入管、冷却管、及びラバーセプタムを備えた４つ口フラスコに６−ヒドロキシヘキシルアクリレート（１０ｇ）、２，２′−ビピリジン（２．３４ｇ）、及びジメチルアセトアミド（２３．３ｇ）を加え、系内に２時間窒素を流し置換した。これに窒素気流下、臭化銅（０．７２ｇ）、２−ブロモ−イソ酪酸エチル（０．９８ｇ）を加え、８０℃で２時間重合反応した。そして、重合率が８０％以上になったのを確認した。その後、オクタデシルアクリレート（１０ｇ）及び前記一般式（ａ１−１）のネマチック液晶モノマー（３０ｇ）をジメチルアセトアミド（９３．３ｇ）に加熱溶解して窒素置換した溶液を添加し、８０℃で４０時間重合反応した。その後、反応物をメタノール中に加えて再沈、洗浄を行って精製したブロック型液晶ポリマーを得た。得られたブロック型液晶ポリマーの数平均分子量は９８００であった。
【０１４１】
得られたブロック型液晶ポリマー（１００重量部）及び紫外線カチオン開始剤として旭電化製のＵＶ９３８０Ｃ（３重量部）をシクロペンタノン９００重量部に溶解して液晶ポリマー組成物を得た。
【０１４２】
ＰＶＡラビング膜上に、前記液晶ポリマー組成物を乾燥後の厚さが１μｍになるようにスピンコーターで塗布し、９０℃で２分間加熱乾燥して膜を配向させた。その後、１１０℃で加熱しながら５Ｊ／ｃｍ2 の紫外線を照射して架橋を行い傾斜配向した液晶フィルムを得た。
【０１４３】
比較例１
メカニカルスターラー、窒素導入管、冷却管、及びラバーセプタムを備えた４つ口フラスコにオクタデシルメタクリレート（１２．５ｇ）、前記一般式（ａ１−１）のネマチック液晶モノマー（３７．５ｇ）、２，２′−ビピリジン（２．９３ｇ）、及びジメチルアセトアミド（１６７ｇ）を加えて加熱溶解し、系内に２時間窒素を流し置換した。これに窒素気流下、臭化銅（０．７２ｇ）及び２−ブロモ−イソ酪酸エチル（１．２２ｇ）を加え、８０℃で４０時間重合反応した。その後、反応物をメタノール中に加えて再沈、洗浄を行って精製した液晶ポリマーを得た。得られた液晶ポリマーの数平均分子量は７９００であった。その後、実施例１と同様の方法で液晶ポリマー組成物を調製し、液晶フィルムを作製した。
【０１４４】
比較例２
メカニカルスターラー、窒素導入管、冷却管、及びラバーセプタムを備えた４つ口フラスコにオクタデシルメタクリレート（１２．５ｇ）、２，２′−ビピリジン（２．３４ｇ）、及びジメチルアセトアミド（２３．３ｇ）を加え、系内に２時間窒素を流し置換した。これに窒素気流下、臭化銅（０．９ｇ）、２−ブロモ−イソ酪酸エチル（１．２２ｇ）を加え、８０℃で２時間重合反応した。そして、重合率が８０％以上になったのを確認した後、前記一般式（ａ１−１）のネマチック液晶モノマー（３７．５ｇ）をジメチルアセトアミド（８７．５ｇ）に加熱溶解して窒素置換した溶液を添加し、８０℃で４０時間重合反応した。その後、反応物をメタノール中に加えて再沈、洗浄を行って精製したブロック型液晶ポリマーを得た。得られたブロック型液晶ポリマーの数平均分子量は７８００であった。その後、実施例１と同様の方法で液晶ポリマー組成物を調製し、液晶フィルムを作製した。
【０１４５】
比較例３
メカニカルスターラー、窒素導入管、冷却管、及びラバーセプタムを備えた４つ口フラスコにオクタデシルメタクリレート（１０ｇ）、前記一般式（ａ１−１）のネマチック液晶モノマー（３０ｇ）、２−エチルヘキシルアクリレート（１０ｇ）、２，２′−ビピリジン（２．３４ｇ）、及びジメチルアセトアミド（１６７ｇ）を加えて加熱溶解し、系内に２時間窒素を流し置換した。これに窒素気流下、臭化銅（０．７２ｇ）及び２−ブロモ−イソ酪酸エチル（０．９８ｇ）を加え、８０℃で４０時間重合反応した。その後、反応物をメタノール中に加えて再沈、洗浄を行って精製した液晶ポリマーを得た。得られた液晶ポリマーの数平均分子量は９９００であった。その後、実施例１と同様の方法で液晶ポリマー組成物を調製し、液晶フィルムを作製した。
【０１４６】
〔評価方法〕
得られた液晶フィルムについて下記評価を行った。結果を表１に示す。
（膜強度）
液晶フィルムの表面を１０ｇ／ｃｍ2 の荷重をかけた布（ベンコット）で３往復こすり、表面に傷跡がつくかどうか目視により確認し、下記の条件で評価した。
○：傷跡がほとんどない。
×：傷跡が多くついている。
（傾斜配向性）
２つの偏光板をクロスニコル状態に配置し、その２つの偏光板の間に、ラビングの方向と一方の偏光板の吸収軸とが４５°になるように液晶フィルムを挟み、正面の位相差を観察した。さらに、液晶フィルムをラビング方向と垂直な方向を軸として左右に傾けて位相差を観察した。左右いずれかに傾けた際の位相差が正面位相差より大きいものを傾斜配向していると判断した。
【０１４７】
【表１】
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表１に示すように、架橋性モノマー（ｃ）単位からなるブロック構造単位を有する液晶ポリマーを液晶フィルム材料として用いることにより、傾斜配向性を維持したまま液晶フィルムの表面硬度を高くすることができる。