(57)【要約】【課題】湿度依存性が大幅に改善された重合性平版印刷版を提供すること。【解決手段】親水性支持体上に、重合性感光層を有し、さらにその上に保護層を有する重合性平版印刷版であって、前記保護層が、例えばポリビニルアルコールとポリビニルカプロラクタムホモポリマー、ポリビニルアルコールとビニルカプロラクタムとを含有する共重合体、あるいはビニルアセテートとビニルカプロラクタムとを含有する共重合体を有する重合性平版印刷版。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、重合性感光層を有し、さらにその上に、少なくとも側鎖に下記一般式（Ｉ）の構造を有する化合物の単独重合体または共重合体を含有する保護層を有する重合性平版印刷版。
【化１】
2005043658.tif 000038
（式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子であり、ＲはＨ、１価の有機基またはハロゲン原子であり、ｎは２〜１０の数であり、ｎ’は０〜１２の数である。ただし、ｎ’はｎ＋２以下の数であり、ｎ’が２以上の場合はＲ基は互いに同じであっても異なっていてもよい。）
【請求項２】
支持体上に、重合性感光層を有し、さらにその上に、（Ａ）ポリビニルアルコールまたはビニルアルコールを主成分とした共重合体と、（Ｂ）少なくとも側鎖に下記一般式（Ｉ）の構造を有する化合物の単独重合体または共重合体とを含有し、前記成分（Ａ）と成分（Ｂ）の合計に対する成分（Ｂ）の割合が１〜３０質量％である保護層を有する重合性平版印刷版。
【化２】
2005043658.tif 000039
（式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子であり、ＲはＨ、１価の有機基またはハロゲン原子であり、ｎは２〜１０の数であり、ｎ’は０〜１２の数である。ただし、ｎ’はｎ＋２以下の数であり、ｎ’が２以上の場合はＲ基は互いに同じであっても異なっていてもよい。）
【請求項３】
支持体上に、重合性感光層を有し、さらにその上に、少なくとも（Ｂ１）ビニルアセテート（ビニル酢酸）および／またはビニルアルコールと、（Ｂ２）少なくとも側鎖に下記一般式（Ｉ）の構造を有する化合物との共重合体を含有する保護層を有する重合性平版印刷版。
【化３】
2005043658.tif 000040
（式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子であり、ＲはＨ、１価の有機基またはハロゲン原子であり、ｎは２〜１０の数であり、ｎ’は０〜１２の数である。ただし、ｎ’はｎ＋２以下の数であり、ｎ’が２以上の場合はＲ基は互いに同じであっても異なっていてもよい。）
【請求項４】
前記成分（Ｂ）が、ビニルカプロラクタムまたはその誘導体の単独重合体または共重合体である請求項２に記載の重合性平版印刷版。
【請求項５】
前記成分（Ｂ２）が、ビニルカプロラクタムまたはその誘導体である請求項３に記載の重合性平版印刷版。
【請求項６】
前記共重合体が、さらにアルカリでケン化してその一部をビニルアルコールにした共重合体である請求項３に記載の重合性平版印刷版。
【請求項７】
支持体上に、重合性感光層を有し、さらにその上に、温度２５℃湿度７５％における吸湿率が１５％以下の保護層を有する重合性平版印刷版。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、重合性平版印刷版に関するものであり、詳しくは、湿度依存性が大幅に改善された重合性平版印刷版に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、光重合組成物およびそれを用いたネガ型平版印刷版は広く知られており、種々の感光層がある。このような平版印刷版を作成するには、これらの平版印刷版上に透明のネガフィルム原稿（リスフィルム）をのせ、紫外線を用いて画像露光するのが一般的であり、そのため作業に非常に手間暇がかかっていた。近年、画像形成技術の発展に伴い、可視領域の光線に対し高い感光性を有するフォトポリマーが要請されている。それは、例えば非接触型の投影露光製版や可視光レーザー製版等に適合した感光材料であり、光重合系が最も高感度で有望である。このような現象の露光装置として、例えばレーザー等を使用し得るが、該可視光レーザーとしては、Ａｒレーザーの４８８、５１４．５ｎｍ光、半導体レーザーの第２高調波光（ＳＨＧ−ＬＤ、３５０〜６００ｎｍ）、ＳＨＧ−ＹＡＧレーザーの５３２ｎｍ光等が、有望視されている。そこで感光層にある種の高感度な光重合性感光層を用いることで、細かくビームを絞ったレーザー光をその版面上に走査させ、文字原稿、画像原稿等を直接版面上に形成させ、フィルム原稿を用いず直接製版が可能となる。例えば、下記特許文献１〜３等に記載の感光性組成物の使用により、フィルム原稿を用いず直接製版が可能である。
【０００３】
また、従来から感光層の上には、汚れやほこりから感光層を保護し、感光層中に通常使用される単量体成分が空気中の酸素と反応して不活性化されるのを防ぐため等に、水溶性樹脂等からなる保護層が設けられているのが一般的である。しかしながら、このような従来の印刷版は、１）高湿環境下で露光すると酸素透過性が高いため感度が低く、網点再現性が悪い、２）低湿度環境下で感材を取り扱うと、酸素透過性が低いためセーフライトでカブリが発生しやすい、３）高湿環境下に保管すると、合紙と接着し剥離できず露光セッターでトラブルとなる等の現象が見られる。
【特許文献１】特公昭６１−９６２１号公報
【特許文献２】特開昭６３−１７８１０５号公報
【特許文献３】特開平２−２４４０５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来、保護層としては、酸素遮断性の目的から、ポリビニルアルコールを主成分とする層を用いることが一般的であったが、ポリビニルアルコールの塗膜は、下記表Ａに示されるように湿度が高いとその含水率が上昇し、それに伴い酸素透過性も上昇することが判明した。
【０００５】
【表１】
2005043658.tif 000002
【０００６】
表Ａから明らかなように、湿度が２５％から５０％に上がっても酸素透過率は２倍になるだけであるが、湿度が５０％から７５％に上がると、酸素透過率は３００倍にもなる。つまり湿度が高くなるにつれて、ポリビニルアルコール系塗膜の含水率が飛躍的に上昇し、これにより酸素透過性も飛躍的に上昇するという湿度依存性が判明した。
そのため、従来高湿下でラジカル重合反応性が低下し、感度や網点再現性が低下するという問題があった。また、湿度が高いとポリビニルアルコール系塗膜の含水率が上昇し、塗布表面がべとつきやすくなる。そのため合紙と接着しやすくなり、露光セッターでのトラブルとなっていた。
そこで本発明の目的は、湿度依存性が大幅に改善された重合性平版印刷版を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究の結果、特定の成分からなる保護層を有する重合性平版印刷版により所期の目的を達成できることを見出し本発明に至った。
即ち本発明は以下の通りである。
（１）支持体上に、重合性感光層を有し、さらにその上に、少なくとも側鎖に下記一般式（Ｉ）の構造を有する化合物の単独重合体または共重合体を含有する保護層を有する重合性平版印刷版。
【０００８】
【化１】
2005043658.tif 000003
【０００９】
（式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子であり、ＲはＨ、１価の有機基またはハロゲン原子であり、ｎは２〜１０の数であり、ｎ’は０〜１２の数である。ただし、ｎ’はｎ＋２以下の数であり、ｎ’が２以上の場合はＲ基は互いに同じであっても異なっていてもよい。）
（２）支持体上に、重合性感光層を有し、さらにその上に、（Ａ）ポリビニルアルコールまたはビニルアルコールを主成分とした共重合体と、（Ｂ）少なくとも側鎖に下記一般式（Ｉ）の構造を有する化合物の単独重合体または共重合体とを含有し、前記成分（Ａ）と成分（Ｂ）の合計に対する成分（Ｂ）の割合が１〜３０質量％である保護層を有する重合性平版印刷版。
【００１０】
【化２】
2005043658.tif 000004
【００１１】
（式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子であり、ＲはＨ、１価の有機基またはハロゲン原子であり、ｎは２〜１０の数であり、ｎ’は０〜１２の数である。ただし、ｎ’はｎ＋２以下の数であり、ｎ’が２以上の場合はＲ基は互いに同じであっても異なっていてもよい。）
（３）支持体上に、重合性感光層を有し、さらにその上に、少なくとも（Ｂ１）ビニルアセテート（ビニル酢酸）および／またはビニルアルコールと、（Ｂ２）少なくとも側鎖に下記一般式（Ｉ）の構造を有する化合物との共重合体を含有する保護層を有する重合性平版印刷版。
【００１２】
【化３】
2005043658.tif 000005
【００１３】
（式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子であり、ＲはＨ、１価の有機基またはハロゲン原子であり、ｎは２〜１０の数であり、ｎ’は０〜１２の数である。ただし、ｎ’はｎ＋２以下の数であり、ｎ’が２以上の場合はＲ基は互いに同じであっても異なっていてもよい。）
（４）前記成分（Ｂ）が、ビニルカプロラクタムまたはその誘導体の単独重合体または共重合体である前記（２）に記載の重合性平版印刷版。
（５）前記成分（Ｂ２）が、ビニルカプロラクタムまたはその誘導体である前記（３）に記載の重合性平版印刷版。
（６）前記共重合体が、さらにアルカリでケン化してその一部をビニルアルコールにした共重合体である前記（３）に記載の重合性平版印刷版。
（７）支持体上に、重合性感光層を有し、さらにその上に、湿度７５％における吸湿率が１５％以下の保護層を有する重合性平版印刷版。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、湿度依存性が大幅に改善された重合性平版印刷版が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の重合性平版印刷版について詳細に説明する。
〔１．保護層〕
最初に、本発明の特徴である、重合性感光層の上に設けられる保護層について説明する。本発明において保護層は、汚れやほこりから感光層を保護するためのオーバーコート層、重合性感光層が酸素による重合禁止作用をうけるのを防止するための酸素遮断層等としての役割を果たすものである。
【００１６】
本発明の保護層は、少なくとも側鎖に下記一般式（Ｉ）の構造を有する化合物の単独重合体または共重合体を含有することを特徴としている。
【００１７】
【化４】
2005043658.tif 000006
【００１８】
（式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子であり、ＲはＨ、１価の有機基またはハロゲン原子であり、ｎは２〜１０の数であり、ｎ’は０〜１２の数である。ただし、ｎ’はｎ＋２以下の数であり、ｎ’が２以上の場合はＲ基は互いに同じであっても異なっていてもよい。）
【００１９】
一般式（Ｉ）において、Ｘは酸素原子（Ｏ）である方が、原材料入手の容易性の点で好ましい。また、ｎは２以上５以下の整数、ｎ’は０以上７以下の整数であることが原材料入手の容易性の点で好ましく、ｎは２以上３以下の整数、ｎ’は０以上５以下の整数であることが最も好ましい。
【００２０】
また一般式（Ｉ）中、１価の有機基Ｒの具体例としては、炭素数１〜５０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ヘプタフルオロプロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、ドデシル等）、炭素数２〜５０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルケニル基（例えば、ビニル、１−メチルビニル、シクロヘキセン−１−イル等）、炭素数２〜５０のアルキニル基（例えば、エチニル、１−プロピニル等）、炭素数６〜５０のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、アントリル等）、炭素数１〜５０のアシルオキシ基（例えば、アセトキシ、テトラデカノイルオキシ、ベンゾイルオキシ等）、炭素数２〜５０のアルコキシカルボニルオキシ基（例えば、メトキシカルボニルオキシ基、２−メトキシエトキシカルボニルオキシ基等）、炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニルオキシ基（例えば、フェノキシカルボニルオキシ基等）、炭素数１〜５０のカルバモイルオキシ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ等）、炭素数１〜５０のカルボンアミド基（例えば、ホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、ベンツアミド等）、炭素数１〜５０のスルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、ドデカンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ｐ−トルエンスルホンアミド等）、炭素数１〜５０のカルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−メシルカルバモイル等）、炭素数０〜５０のスルファモイル基（例えば、Ｎ−ブチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−メトキシフェニル）スルファモイル等）、炭素数１〜５０のアルコキシ基（例えば、メトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オクチルオキシ、ｔ−オクチルオキシ、ドデシルオキシ、２−（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノキシ）エトキシ、ポリアルキレンオキシ等）、炭素数６〜５０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ、４−メトキシフェノキシ、ナフトキシ等）、炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル等）、炭素数２〜５０のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル等）、炭素数１〜５０のＮ−アシルスルファモイル基（例えば、Ｎ−テトラデカノイルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル等）、炭素数１〜５０のＮ−スルファモイルカルバモイル基（例えば、Ｎ−メタンスルホニルカルバモイル基等）、炭素数１〜５０のアルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、オクチルスルホニル、２−メトキシエチルスルホニル、２−ヘキシルデシルスルホニル等）、炭素数６〜５０のアリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、４−フェニルスルホニルフェニルスルホニル等）、炭素数２〜５０のアルコキシカルボニルアミノ基（例えば、エトキシカルボニルアミノ等）、炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキシカルボニルアミノ等）、炭素数０〜５０のアミノ基（例えば、アミノ、メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、アニリノ、モルホリノ等）、炭素数３〜５０のアンモニオ基（例えば、トリメチルアンモニオ基、ジメチルベンジルアンモニオ基等）、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカプト基、炭素数１〜５０のアルキルスルフィニル基（例えば、メタンスルフィニル、オクタンスルフィニル等）、炭素数６〜５０のアリールスルフィニル基（例えば、ベンゼンスルフィニル、４−クロロフェニルスルフィニル、ｐ−トルエンスルフィニル等）、炭素数１〜５０のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ等）、炭素数６〜５０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ナフチルチオ等）、炭素数１〜５０のウレイド基（例えば、３−メチルウレイド、３，３−ジメチルウレイド、１，３−ジフェニルウレイド等）、炭素数２〜５０のヘテロ環基（ヘテロ原子としては、例えば、窒素、酸素およびイオウ等を少なくとも１個以上含み、３ないし１２員環の単環、縮合環で、例えば、２−フリル、２−ピラニル、２−ピリジル、２−チエニル、２−イミダゾリル、モルホリノ、２−キノリル、２−ベンツイミダゾリル、２−ベンゾチアゾリル、２−ベンゾオキサゾリル等）、炭素数１〜５０のアシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル等）、炭素数０〜５０のスルファモイルアミノ基（例えば、Ｎ−ブチルスルファモイルアミノ、Ｎ−フェニルスルファモイルアミノ等）、炭素数３〜５０のシリル基（例えば、トリメチルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、トリフェニルシリル等）、アゾ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）が挙げられる。
【００２１】
また、ここで挙げられた一価の置換基の具体例が置換基を導入し得る構造であれば、更に置換基を有していてもよく、その置換基の例としては上記具体例として挙げた如き置換基が挙げられる。
また、１価の有機基同士は、互いに結合し、環を形成してもよい。形成される環の具体例としては、脂肪族環（例えば、シクロアルキル、シクロアルケン、シクロアルキン等）、芳香環（フェニル、ナフチル等）、シクロアルカノン、ラクトン、環状酸無水物、環状アセタール、環状エーテル、環状チオエーテル、環状スルホン酸、スピロ環、ヘテロ環が好ましく挙げられる。
また、このような環構造は、更に置換基を有していてもよく、その置換基の例としては上記具体例として挙げた如き置換基が挙げられる。
【００２２】
本発明においては、上記一般式（Ｉ）の構造を有する化合物の単独重合体または共重合体を含有する保護層を用いることにより、吸湿率７５％と高湿下でも酸素透過率を１５％以下にすることができ、且つ、湿度による酸素透過性の変化が減少する。よって、１）高湿環境下で露光すると酸素透過性が高いため感度が低く、網点再現性が悪い、および２）低湿度環境下で感材を取り扱うと、酸素透過性が低いためセーフライトでカブリが発生しやすい、というような従来見られた湿度依存性の問題点が低減される。
特に、ポリビニルカプロラクタム及びその誘導体は、単独膜の皮膜性、皮膜強度が強い。したがって、ポリビニルアルコールと共に添加して、高湿条件下においても、吸湿性が低いためべとつかず、合紙と接着しにくい。
【００２３】
以上、一般式（Ｉ）の構造を有する化合物について詳細に説明したが、本発明に係る特定ポリマーは、これらのモノマー１種を単独で用いてもよいし、必要に応じて２種以上を共重合した共重合体として用いてもよい。
【００２４】
ここで、一般式（Ｉ）の共重合成分としては、以下の基を有するモノマーが挙げられる。
（１）フェノール基（−Ａｒ−ＯＨ）
（２）スルホンアミド基（−ＳＯ2ＮＨ−Ｒ’）
（３）活性イミド基
（−ＳＯ2ＮＨＣＯＲ’、−ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｒ’、−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ’）
（４）カルボン酸基（−ＣＯＯＨ）
（５）スルホン酸基（−ＳＯ3Ｈ）
（６）リン酸基（−ＯＰＯ3Ｈ2）
上記（１）〜（６）中、Ａｒは置換基を有していてもよい２価のアリール連結基を表し、Ｒ’は、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
【００２５】
上記（１）のフェノール基を有するモノマーとしては、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、またはヒドロキシスチレン等が挙げられる。
【００２６】
上記（２）スルホンアミド基を有するモノマーとしては、上記構造のスルホンアミド基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロキシ基と、スルホンアミド基とを分子内に有する低分子化合物が好ましい。例えば、下記一般式（ｉ）〜（ｖ）で表される化合物が挙げられる。
【００２７】
【化５】
2005043658.tif 000007
【００２８】
上記一般式（ｉ）〜（ｖ）中、Ｘ1およびＸ2は、各々独立に、−Ｏ−または−ＮＲ7−を表す。Ｒ1およびＲ4は、各々独立に、水素原子または−ＣＨ3を表す。Ｒ2、Ｒ5、Ｒ9、Ｒ12、および、Ｒ16は、各々独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基またはアラルキレン基を表す。Ｒ3、Ｒ7、および、Ｒ13は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表す。また、Ｒ6およびＲ17は、各々独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。Ｒ8、Ｒ10およびＲ14は、各々独立に、水素原子または−ＣＨ3を表す。Ｒ11およびＲ15は、各々独立に、単結合または置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基またはアラルキレン基を表す。Ｙ1およびＹ2は、それぞれ独立に単結合、または−ＣＯ−を表す。
【００２９】
一般式（ｉ）〜（ｖ）で表される化合物のうち、本発明においては、特に、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【００３０】
上記（３）活性イミド基を有するモノマーとしては、前記構造式で表される活性イミド基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物を挙げることができる。中でも、下記構造式で表される活性イミド基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物が好ましい。
【００３１】
【化６】
2005043658.tif 000008
【００３２】
具体的には、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【００３３】
上記（４）カルボン酸基を有するモノマーとしては、例えば、カルボン酸基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物を挙げることができる。
【００３４】
上記（５）スルホン酸基を有するモノマーとしては、例えば、スルホン酸基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物を挙げることができる。
【００３５】
上記（６）リン酸基を有するモノマーとしては、例えば、リン酸基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物を挙げることができる。
【００３６】
さらに上記（１）〜（６）のモノマー以外にも、下記の各種モノマーを使用することもできる。
（７）２−ヒドロキシエチルアクリレートまたは２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、およびメタクリル酸エステル類。
（８）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸アミル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルアクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノアルキレート等のアクリレート。
（９）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート等のメタクリレート。
（１０）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミドまたはメタクリルアミド。
（１１）メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
（１２）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
（１３）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
（１４）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
（１５）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
（１６）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、ビニルイミダゾール、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
（１７）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。
（１８）ビニルアルコール、ビニルクロライド等。
これらの共重合成分は２種類以上用いてもよい。
【００３７】
上記のモノマーの中でも、極性基を有するモノマーが、水溶性点から最も好ましい。
【００３８】
このような、少なくとも側鎖に下記一般式（Ｉ）の構造を有する化合物の重合体または共重合体としては、ビニルカプロラクタム単独重合体または共重合体が好ましい。これらの重合体は、単独膜の皮膜性、皮膜強度が良好であるので、高湿条件下においても吸湿性が低く、べとつかず、接着しにくいという効果を奏する。
ビニルカプロラクタム共重合体としては、ビニルカプロラクタムを３０ｍｏｌ％以上含有する、ビニルカプロラクタムと他のモノマー成分との共重合体であるのがよい。他のモノマー成分としては、特に限定されないが、ビニルピロリドン、ビニルイミダゾール、ビニルアセテート、ビニルアルコール、ビニルメチルエーテル、エチレン、ビニルホスホン酸等が挙げられ、さらに後述の光重合性感光層における、付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物と同様のものが挙げられる。ビニルアセテートを共重合させた場合は、アルカリでケン化し、アルコール化させてもよい。
【００３９】
本発明に使用されるビニルカプロラクタム共重合体の具体例としては、例えば市販品としてはLuvitec  VPC55K65W（ビニルピロリドンとビニルカプロラクタムの１：１共重合体、BASF）、  Luvitec Vcap（ポリビニルカプロラクタムホモポリマー、BASF）等を挙げることができる。他にビニルカプロラクタムとビニルアセテートの共重合体、ビニルカプロラクタムとビニルアセテートとビニルピロリドンの共重合体、ビニルカプロラクタムとビニルイミダゾールの共重合体、ビニルカプロラクタムとビニルアルコールの共重合体、ビニルカプロラクタムとビニルメチルエーテルの共重合体、ビニルカプロラクタムとエチレンの共重合体、ビニルカプロラクタムとビニルホスホン酸の共重合体等を挙げることをできる。
更に、ビニルアセテート（ビニル酢酸）共重合体は、アルカリによりケン化し、ビニルアルコールとすることができる。
【００４０】
本発明において、下記一般式（Ｉ）の構造を有する化合物は、単独重合体の場合保護層全体に対し、１〜４０質量％含まれているのが好ましく、より好ましくは２〜３０質量％、更に好ましくは３〜２０質量％である。また、共重合体の場合一般式（Ｉ）の成分は全保護層に対し、１〜４０質量％含まれているのが好ましく、より好ましくは２〜３０質量％、更に好ましくは３〜２０質量％である。単独重合体および共重合体ともに上記範囲内であれば、湿度依存性や酸素遮断性が良好であるため好ましい。
【００４１】
また本発明における保護層は、（Ａ）ポリビニルアルコールまたはビニルアルコールを主成分とした共重合体と、（Ｂ）少なくとも側鎖に前記一般式（Ｉ）の構造を有する化合物の単独重合体または共重合体とを含有し、前記成分（Ａ）と成分（Ｂ）の合計に対する成分（Ｂ）の割合が１〜３０質量％である保護層であってもよい。
この態様において、成分（Ｂ）は、例えばビニルカプロラクタムを３０ｍｏｌ％以上含有し、更に好ましくは４０ｍｏｌ％以上、最も好ましくは５０ｍｏｌ％以上含有するのがよい。また、成分（Ａ）と成分（Ｂ）の合計に対する成分（Ｂ）の割合は前記のように１〜３０質量％、より好ましくは２〜２５質量％である。前記成分（Ａ）と成分（Ｂ）の合計に対する成分（Ｂ）の割合を１〜３０質量％にすることによって、湿度依存性および感度をさらに改善することができる。
【００４２】
成分（Ａ）のビニルアルコールとしては、ポリビニルアルコール、およびその部分エステル、エーテル、およびアセタール（これらを総称してポリビニルアルコール誘導体ともいう）、またはそれらに必要な水溶性を有しせしめるような実質的量の未置換ビニルアルコール単位を含有するビニルアルコール等が挙げられる。ポリビニルアルコールとしては、例えば７１〜１００％加水分解され、重合度が３００〜２４００の範囲のもの等が挙げられる。具体的には株式会社クラレ製ＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１１７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１２４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−ＨＣ、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２１７Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ−４０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等が挙げられる。
【００４３】
上記の（Ａ）ポリビニルアルコールまたはビニルアルコールを主成分とした共重合体としては、８８〜１００％加水分解されたポリビニルアセテートクロロアセテートまたはプロピオネート、ポリビニルホルマールおよびポリビニルアセタールおよびそれらの共重合体、ポリビニルアルコールを４級アンモニウム塩によりカチオン変性したもの、スルホン酸ソーダ等によりアニオン変性したもの等が挙げられる。
【００４４】
本発明の保護層は、後述される通り、感光層上に設けられるが、その設け方としては塗布が挙げられ、塗布する場合には、溶媒が用いられるのが一般的である。塗布する際用いる溶媒としては、純水が好ましいが、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類を純水と混合したもの等が挙げられる。そして塗布溶液中の固形分の濃度は１〜２０質量％が適当である。本発明の保護層には更に塗布性を向上させるための界面活性剤、皮膜の物性を改良するための水溶性の可塑剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
【００４５】
界面活性剤としては、表面張力を低下させるものであれば、ノニオン系、アニオン系、両性フッ素系など、どのようなものでもかまわない。
【００４６】
界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレンステアレート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオレエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノオレート等のモノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン界面活性剤；ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベンゼンスルホン酸塩類、ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ペンチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ヘキシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、オクチルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルナフタレンスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸塩類、ドデシルスルホン酸ソーダ等のアルキルスルホン酸塩類、ジラウリルスルホコハク酸ナトリウム等のスルホコハク酸エステル塩類等のアニオン界面活性剤；ラウリルベタイン、ステアリルベタイン等のアルキルベタイン類、アミノ酸類等の両性界面活性剤が使用可能であるが、特に好ましいのはアルキルナフタレンスルホン酸塩類等のアニオン界面活性剤、アルキルベタイン類、下記式（１）で示されるポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン界面活性剤である。
【００４７】
Ｒ1−Ｏ−（Ｒ2−Ｏ）n Ｈ       （１）
【００４８】
式（１）中、Ｒ1は置換基を有してもよい炭素数３〜１５のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数６〜１５の芳香族炭化水素基、または置換基を有してもよい炭素数４〜１５の複素芳香族環基（該置換基としては炭素数１〜２０のアルキル基、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｉ等のハロゲン原子、炭素数６〜１５の芳香族炭化水素基、炭素数７〜１７のアラルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数２〜２０のアルコキシ−カルボニル基、炭素数２〜１５のアシル基が挙げられる。）を示し、Ｒ2は置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基（該置換基としては、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５の芳香族炭化水素基が挙げられる）を示し、ｎは１から１００の整数を表す。また式（１）の（Ｒ2−Ｏ）nの部分は、上記範囲であれば、２種、または３種の基であってもよい。具体的にはエチレンオキシ基とプロピレンオキシ基、エチレンオキシ基とイソプロピルオキシ基、エチレンオキシ基とブチレンオキシ基、エチレンオキシ基とイソブチレン基等の組み合わせのランダムまたはブロック状に連なったものが挙げられる。
【００４９】
界面活性剤として更に具体的には、下記式（２）で示される化合物が好ましく使用できる。
ＣnＨ2n+1Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）mＨ    （２）
式（２）中、ｎは５から２５の整数を表し、ｍは３から４０の整数を表す
上記式（２）で示される構造を有する化合物の好ましい例としては、ＢＬ−９ＥＸ（ｎ＝１２、ｍ＝９）、ＭＹＬ−１０（ｎ＝１１、ｍ＝１０）、エマレックス７１０（ｎ＝１２、ｍ＝１０）、ＢＣ１５−ＴＸ（ｎ＝１６、ｍ＝１５）等の市販品を挙げることができる。また、界面活性剤の添加量は、全保護層に対し、好ましくは０．２〜８質量％、更に好ましくは０．５〜５質量％、最も好ましくは１〜３質量％である。
これら界面活性剤は単独、もしくは組み合わせて使用することができる。
【００５０】
水溶性の可塑剤としては例えば、プロピオンアミド、シクロヘキサンジオール、グリセリン、ソルビトール等が挙げられる。また、水溶性の（メタ）アクリル系ポリマー等を添加してもよい。その被覆量は乾燥後の重量で約０．１ｇ／ｍ2〜約１５ｇ／m2の範囲が適当である。より好ましくは１．０ｇ／m2〜約５．０ｇ／m2である。
【００５１】
〔２．感光層〕
次に、本発明の重合性平版印刷版を構成する、重合性感光層について説明する。重合性感光層は、下記ｉ）〜ｉｉｉ）成分を含有する重合性感光層組成物からなるのが好ましい。
ｉ）少なくとも一種の付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物
ｉｉ）光重合開始剤
ｉｉｉ）高分子バインダー
【００５２】
〔２−１．付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物〕
本発明における重合性感光層に含有される付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物は、光重合末端であるエチレン性不飽和二重結合基を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物の中から任意に選択することができる。例えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体およびオリゴマー、またはこれらの混合物ならびにこれらの共重合体等の化学的形態をもつものである。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等が挙げられる。
【００５３】
脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。
【００５４】
メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメチルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキシ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。
【００５５】
イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネート等がある。
【００５６】
クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート等がある。更に、前述のエステルモノマーの混合物もあげることができる。
【００５７】
また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等が挙げられる。その他の例としては、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載されている１分子中に２個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式（Ａ）で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加せしめた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
ＣＨ2＝Ｃ（Ｑ1）ＣＯＯＣＨ2ＣＨ（Ｑ2）ＯＨ  （Ａ）
（ただし、Ｑ1およびＱ2は、独立してＨあるいはＣＨ3を示す。）
【００５８】
また、特開昭５１−３７１９３号公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号の各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートを挙げることができる。更に日本接着協会誌Ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８頁（１９８４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも、使用することができる。
【００５９】
具体的には、ＮＫオリゴ Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−４Ｈ、Ｕ−６ＨＡ、Ｕ−１０８Ａ、Ｕ−１０８４Ａ、Ｕ−２００ＡＸ、Ｕ−１２２Ａ、Ｕ−３４０Ａ、Ｕ−３２４Ａ、ＵＡ−１００（以上、新中村化学工業製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＡＩ−６００、ＵＡ−１０１Ｔ、ＵＡ−１０１Ｉ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ（以上、共栄社油脂製）、アートレジン ＵＮ−９２００Ａ、ＵＮ−３３２０ＨＡ、ＵＮ−３３２０ＨＢ、ＵＮ−３３２０ＨＣ、ＳＨ−３８０Ｇ、ＳＨ−５００、ＳＨ−９８３２（以上、根上工業製）等を挙げることができる。
【００６０】
なお、これらエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の使用量は、重合感光層の全成分の５〜９０質量％、好ましくは１０〜８０質量％の範囲で使用される。
【００６１】
〔２−２．光重合開始剤〕
次いで、本発明における重合性感光層中に含有される光重合開始剤について説明する。本発明の重合性平版印刷版の重合性感光層中に含有される光重合開始剤としては、使用する光源の波長により、特許、文献等で公知である種々の光重合開始剤、あるいは２種以上の光重合開始剤の併用系（光重合開始系）を適宜選択して使用することができる。なお、本発明においては単独で用いる光重合開始剤、２種以上の光重合開始剤を併用した系を総括して単に光重合開始剤または光開始剤ともいう。例えば４００ｎｍ付近の光を光源として用いる場合、ベンジル、ベンゾイルエーテル、ミヒラーズケトン、アントラキノン、チオキサントン、アクリジン、フェナジン、ベンゾフェノン等が広く使用されている。
【００６２】
また、４００ｎｍ以上の可視光線、Ａｒレーザー、半導体レーザーの第２高調波、ＳＨＧ−ＹＡＧレーザーを光源とする場合にも、種々の光開始剤が提案されており、例えば、米国特許第２，８５０，４４５号明細書に記載の、ある種の光還元性染料、例えばローズベンガル、エオシン、エリスロシン等、あるいは、染料と光開始剤との組み合わせによる系、例えば、染料とアミンの複合開始系（特公昭４４−２０１８９号公報）、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤と染料との併用系（特公昭４５−３７３７７号公報）、ヘキサアリールビイミダゾールとｐ−ジアルキルアミノベンジリデンケトンの系（特公昭４７−２５２８号、特開昭５４−１５５２９２号各公報）、環状シス−α−ジカルボニル化合物と染料の系（特開昭４８−８４１８３号公報）、環状トリアジンとメロシアニン色素の系（特開昭５４−１５１０２４号公報）、３−ケトクマリンと活性剤の系（特開昭５２−１１２６８１号、特開昭５８−１５５０３号各公報）、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールの系（特開昭５９−１４０２０３号公報）、有機過酸化物と色素の系（特開昭５９−１５０４号、特開昭５９−１４０２０３号、特開昭５９−１８９３４０号、特開昭６２−１７４２０３号、特公昭６２−１６４１号各公報、米国特許第４，７６６，０５５号明細書）、染料と活性ハロゲン化合物の系（特開昭６３−１７８１０５号、特開昭６３−２５８９０３号、特開平２−６３０５４号各公報等）、染料とボレート化合物の系（特開昭６２−１４３０４４号、特開昭６２−１５０２４２号、特開昭６４−１３１４０号、特開昭６４−１３１４１号、特開昭６４−１３１４２号、特開昭６４−１３１４３号、特開昭６４−１３１４４号、特開昭６４−１７０４８号、特開平１−２２９００３号、特開平１−２９８３４８号、特開平１−１３８２０４号各公報等）、ローダニン環を有する色素とラジカル発生剤の系（特開平２−１７９６４３号、特開平２−２４４０５０号各公報）、チタノセンと３−ケトクマリン色素の系（特開昭６３−２２１１１０号公報）、チタノセンとキサンテン色素更にアミノ基あるいはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和化合物を組み合わせた系（特開平４−２２１９５８号、特開平４−２１９７５６号各公報）、チタノセンと特定のメロシアニン色素の系（特開平６−２９５０６１号公報）、チタノセンとベンゾピラン環を有する色素の系（特開平８−３３４８９７号公報）等を挙げることができる。
【００６３】
好ましい光開始剤は、色素として、シアニン系、メロシアニン系、キサンテン系、ケトクマリン系、ベンゾピラン系色素を用い、開始剤としてチタノセン化合物、トリアジン化合物を用いた組合せである。シアニン系色素として好ましくは下記の構造を有するものが挙げられるが、特に限定されない。
【００６４】
【化７】
2005043658.tif 000009
【００６５】
（式中、Ｚ1およびＺ2はベンゾイミダゾールまたはナフトイミダゾール環を形成するのに必要な非金属原子群を表わし、同一でも異なっていてもよい。Ｒ24、Ｒ25、Ｒ26およびＲ27はそれぞれ置換されていてもよいアルキル基を表わす。Ｘ-は対アニオンを表わし、ｎは０または１である。）
【００６６】
下記にシアニン系色素の具体例を示す。
【００６７】
【化８】
2005043658.tif 000010
【００６８】
メロシアニン系色素として好ましくは下記の構造を有するものが挙げられるが、特に限定されない。
【００６９】
【化９】
2005043658.tif 000011
【００７０】
（式中、Ｚ1、Ｚ2はそれぞれシアニン色素で通常用いられる５員環および／または６員環の含窒素複素環を形成するに必要な非金属原子群を表わす。Ｒ28、Ｒ29はそれぞれアルキル基を表わす。Ｑ1とＱ2は組み合わせることにより、４−チアゾリジノン環、５−チアゾリジノン環、４−イミダゾリジノン環、４−オキサゾリジノン環、５−オキサゾリジノン環、５−イミダゾリジノン環または４−ジチオラノン環を形成するに必要な原子群を表わす。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3、Ｌ4およびＬ5はそれぞれメチン基を表わす。ｍは１または２を表わす。ｉ、ｈはそれぞれ０または１を表わす。ｌは１または２を表わす。ｊ、ｋはそれぞれ０、１、２または３を表わす。Ｘ-は、対アニオンを表わす。）
【００７１】
【化１０】
2005043658.tif 000012
【００７２】
（式中Ｒ30およびＲ31は各々独立して水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アルコキシカルボニル基、アリール基、置換アリール基またはアラルキル基を表わす。Ａは酸素原子、イオウ原子、セレン原子、テルル原子、アルキルないしはアリール置換された窒素原子、またはジアルキル置換された炭素原子を表わす。Ｘは含窒素ヘテロ五員環を形成するのに必要な非金属原子群を表わす。Ｙは置換フェニル基、無置換ないしは置換された多核芳香環、または無置換ないしは置換されたヘテロ芳香環を表わす。Ｚは水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、置換アミノ基、アシル基、またはアルコキシカルボニル基を表わし、Ｙと互いに結合して環を形成していてもよい。）
【００７３】
以下にメロシアニン系色素の具体例を示す。
【００７４】
【化１１】
2005043658.tif 000013
【００７５】
【化１２】
2005043658.tif 000014
【００７６】
キサンテン系色素としては、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、エチルエオシン、アルコール可溶性エオシン、ピロニンＹ、ピロニンＢ等を挙げることができる。
【００７７】
ケトクマリン系色素として好ましくは下記の構造を有するものが挙げられるが、特に限定されない。
【００７８】
【化１３】
2005043658.tif 000015
【００７９】
（式中、Ｒ32、Ｒ33およびＲ34はそれぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表わし、Ｒ35およびＲ36はそれぞれアルキル基を表わすが、少なくとも一方が炭素数４〜１６個のアルキル基を表わし、Ｒ37は水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アシル基、シアノ基、カルボキシル基、もしくはそれのエステル誘導体またはアミド誘導体の基を表わし；Ｒ38は炭素原子の総数が３〜１７個の複素環残基−ＣＯ−Ｒ39を表わし、Ｒ33とＲ34、Ｒ35とＲ36は互いに結合して環を形成してもよい。ここでＲ39は下に示す基である。）
【００８０】
【化１４】
2005043658.tif 000016
【００８１】
以下にケトクマリン系色素の具体例を示す。
【００８２】
【化１５】
2005043658.tif 000017
【００８３】
ベンゾピラン系色素として好ましくは下記の構造を有するものが挙げられるが、特に限定されない。
【００８４】
【化１６】
2005043658.tif 000018
【００８５】
（式中、Ｒ3〜Ｒ6はお互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、水酸基、アルコキシ基またはアミノ基を表す。また、Ｒ3〜Ｒ6はそれらが各々結合できる炭素原子と共に非金属原子から成る環を形成していてもよい。Ｒ7は、水素原子、アルキル基、アリール基、ヘテロ芳香族基、シアノ基、アルコキシ基、カルボキシ基またはアルケニル基を表す。Ｒ5は、Ｒ7で表される基または−Ｚ−Ｒ7であり、Ｚはカルボニル基、スルホニル基、スルフィニル基またはアリーレンジカルボニル基を表す。またＲ7およびＲ8は共に非金属原子から成る環を形成してもよい。ＡはＯ、Ｓ、ＮＨまたは置換基を有する窒素原子を表す。Ｂは以下の基を表す。
【００８６】
【化１７】
2005043658.tif 000019
【００８７】
ここで、Ｇ1、Ｇ2は同一でも異なっていてもよく、水素原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基またはフルオロスルホニル基を表す。但しＧ1とＧ2は同時に水素原子となることはない。またＧ1およびＧ2は炭素原子と共に非金属原子から成る環を形成していてもよい。）
【００８８】
以下にベンゾピラン系色素の具体例を示す。
【００８９】
【化１８】
2005043658.tif 000020
【００９０】
光重合開始剤としてのトリアジン化合物としては、次式の化合物を挙げることができる。
【００９１】
【化１９】
2005043658.tif 000021
【００９２】
（式中、Ｈａｌはハロゲン原子を表わす。Ｙ2は−Ｃ（Ｈａｌ）3、−ＮＨ2、−ＮＨＲ21、−Ｎ(Ｒ21)2、−ＯＲ21を表わす。ここでＲ21はアルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基を表わす。またＲ20は−Ｃ（Ｈａｌ）3、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、置換アルケニル基を表わす。）で表わされる化合物。
【００９３】
以下にトリアジン化合物の具体例を示す。
【００９４】
【化２０】
2005043658.tif 000022
【００９５】
また、好ましい光重合開始剤としては、チタノセン化合物も挙げられる。チタノセン化合物としては、例えば、特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７号公報に記載されている公知の化合物を適宜に選択して用いることができる。
【００９６】
更に具体的には、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル（以下Ａ−１と記す）、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニ−１−イル（以下Ａ−２と記す）、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニ−１−イル、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル）チタニウム（以下Ａ−３と記す）等を挙げることができる。
【００９７】
本発明の重合性平版印刷版の光重合性感光層中のこれらの光重合開始剤の含有濃度は通常わずかなものである。また、不適当に多い場合には有効光線の遮断等好ましくない結果を生じる。本発明における光重合開始剤の量は、バインダー成分と付加重合性モノマー成分との合計に対して０．０１質量％から７０質量％の範囲で使用するのが好ましい。より好ましくは、１質量％から５０質量％で良好な結果を得る。
【００９８】
また、開始剤にはアミン化合物、チオール化合物等の助剤を加えてもよく、特に好ましいものは下記一般式で表されるアミン化合物およびアミノ酸類である。
【００９９】
【化２１】
2005043658.tif 000023
【０１００】
（式中、Ｒ8〜Ｒ18は、それぞれアルキル基を表わす。）
【０１０１】
【化２２】
2005043658.tif 000024
【０１０２】
（式中、Ｒ19〜Ｒ22は、それぞれアルキル基またはアルコキシ基を表し、Ｒ21とＲ22は環を形成してもよい。Ｒ23は複素環基またはアルキルチオ基を表す。）
【０１０３】
【化２３】
2005043658.tif 000025
【０１０４】
（式中、Ｒ28、Ｒ29は同一または異なり、置換基を有していてもよく不飽和結合を含んでいてもよい炭化水素基、あるいはヘテロ環基を表す。Ｒ26、Ｒ27は同一または異なり、水素原子、置換基を有していてもよく不飽和結合を含んでいてもよい炭化水素基、ヘテロ環基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカプト基、置換チオ基を表わす。また、Ｒ26、Ｒ27は互いに結合して環を形成し、−Ｏ−、−ＮＲ24−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−Ｓ−、および／または、−ＳＯ2−を環の連結主鎖に含んでいてもよい炭素数２から８のアルキレン基を表す。Ｒ24、Ｒ25は水素原子、置換基を有していてもよく不飽和結合を含んでいてもよい炭化水素基、或いは置換カルボニル基を表す。）
【０１０５】
また、ｐ−ジエチルアミノ安息香酸エチル等のジアルキル安息香酸エステル、４，４′−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン等のビスアミノベンゾフェノン、４，４′−ビス（ジエチルアミノ）ベンジル等のビスアミノベンジル、
【０１０６】
【化２４】
2005043658.tif 000026
【０１０７】
Ｎ−フェニルグリン、Ｎ−フェニルグリシンナトリウム塩が挙げられる。
【０１０８】
〔高分子バインダー〕
本発明の感光層には、高分子バインダーとして、分子内にカルボキシル基を含有するアルカリ可溶性ポリウレタン系バインダーを用いるのが好ましい。
該ポリウレタンバインダーは、特に限定されないが、
１．下記式（１')で表されるジイソシアネート化合物の少なくとも１種と式（１"）で表されるジオール化合物の少なくとも１種との反応生成物で表される構造単位を基本骨格とするポリウレタン樹脂、
２．前記構造単位を基本骨格とし、重合末端となるジイソシアネート化合物由来のイソシアネート基を付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有するモノアルコール化合物、付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有するモノアミン化合物で反応させたポリウレタン樹脂等が挙げられる。
【０１０９】
ＯＣＮ−Ｘ0−ＮＣＯ （１')
ＨＯ−Ｙ0−ＯＨ     （１"）
【０１１０】
（式中、Ｘ0、Ｙ0は２価の有機残基を表す。）
【０１１１】
前記１の好ましいポリウレタン樹脂は、カルボキシル基を０．４meq/g以上有するポリウレタン樹脂である。好適に使用されるポリウレタン樹脂は、下記式（１）で表されるジイソシアネート化合物と、式（２）、（３）、（４）のジオール化合物の少なくとも１種との反応生成物で表される構造単位および／または、テトラカルボン酸２無水物をジオール化合物で開環させた化合物から由来される構造単位を基本骨格とするポリウレタン樹脂である。
【０１１２】
【化２５】
2005043658.tif 000027
【０１１３】
式中、Ｌ8は置換基を有していてもよい２価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示す。必要に応じ、Ｌ8中はイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばエステル、ウレタン、アミド、ウレイド基を有していてもよい。
【０１１４】
Ｒ1は水素原子、置換基（例えば、シアノ、ニトロ、ハロゲン原子、（−Ｆ、−Ｃｌ、−Ｂｒ、−Ｉ）、−ＣＯＮＨ2、−ＣＯＯＲ113、−ＯＲ113、−ＮＨＣＯＮＨＲ113、−ＮＨＣＯＯＲ113、−ＮＨＣＯＲ113、−ＯＣＯＮＨＲ113（ここで、Ｒ113は炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数７〜１５のアラルキル基を示す。）などの各基が含まれる。）を有していてもよいアルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、アリーロキシ基を示し、好ましくは水素原子、炭素数１〜８個のアルキル、炭素数６〜１５個のアリール基を示す。Ｌ10、Ｌ11、Ｌ12はそれぞれ同一でも相違していてもよく、単結合、置換基（例えば、アルキル、アラルキル、アリール、アルコキシ、ハロゲノの各基が好ましい。）を有していてもよい２価の脂肪族または芳香族炭化水素基を示す。好ましくは炭素数１〜２０個のアルキレン基、炭素数６〜１５個のアリーレン基、さらに好ましくは炭素数１〜８個のアルキレン基を示す。また必要に応じ、Ｌ10、Ｌ11、Ｌ12中にイソシアネート基と反応しない他の官能基、例えばカルボニル、エステル、ウレタン、アミド、ウレイド、エーテル基を有していてもよい。なおＲ1、Ｌ10、Ｌ11、Ｌ12のうちの２または３個で環を形成してもよい。
【０１１５】
Ａｒは置換基を有していてもよい三価の芳香族炭化水素基を示し、好ましくは炭素数６〜１５個の芳香族基を示す。
【０１１６】
前記ポリウレタン樹脂の分子量は、好ましくは重量平均で１０００以上であり、さらに好ましくは５０００〜５０万の範囲である。
【０１１７】
上記式（１）で示されるジイソシアネート化合物と、式（２）、（３）、（４）のジオール化合物のそれぞれの具体例、および１．ポリウレタン樹脂の好ましい具体例等については、特開平１１−３５２６９１号公報（段落番号〔００２１〕〜〔０１４９〕）に記載のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１１８】
前記２のポリウレタン樹脂の好ましい具体例等については、特開２００１−１０９１３９号公報（段落番号〔００８５〕〜〔００８８〕）に記載のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１１９】
前記２のポリウレタン樹脂は、ポリエーテルジオール化合物、ポリエステルジオール化合物、またはポリカーボネートジオール化合物の少なくとも１種との反応生成物で表される構造を有するポリウレタン樹脂であることが好ましい。
【０１２０】
〔２−４．その他の成分〕
本発明の重合性平版印刷版の重合性感光層においては、以上の基本成分の他に、重合性感光層ための組成物の製造中あるいは保存中において付加重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物の不要な熱重合を阻止するために、少量の熱重合禁止剤を添加することが望ましい。適当な熱重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられる。熱重合禁止剤の添加量は、重合性感光層組成物の全成分の約０．０１質量％〜約５質量％が好ましい。また必要に応じて、酸素による重合阻害を防止するために、ベヘン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の過程で重合性感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、重合性感光層組成物の全成分の約０．５質量％〜約１０質量％が好ましい。
【０１２１】
更に重合性感光層の着色を目的として、着色剤を添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシアニン系顔料（Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ１５：３、１５：４、１５：６等）、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタン等の顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイオレット、アゾ染料、アントラキノン系染料、シアニン系染料がある。着色剤の添加量は、重合性感光層組成物の全成分の約０．５質量％〜約５質量％が好ましい。加えて、硬化皮膜の物性を改良するために、無機充填剤やジオクチルフタレート、ジメチルフタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよい。これらの添加剤は、重合性感光層組成物の全成分の１０質量％以下が好ましい。また、重合性感光層組成物には、塗布面質を向上するために界面活性剤を添加することができる。
【０１２２】
本発明において、重合性感光層組成物は、後に詳述する所望により各種表面処理を施された支持体上に、塗工されることになるが、重合性感光層組成物を支持体上に塗工する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。ここで使用し得る溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメーチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等がある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用することができる。尚、塗布溶液中の固形分濃度は、１〜５０質量％が適当である。本発明の重合性平版印刷版において重合性感光層の被覆量は、塗布乾燥後の重量で約０．１ｇ／ｍ2〜約１０ｇ／ｍ2の範囲が適当であり、より好ましくは０．３〜５ｇ／ｍ2であり、更に好ましくは０．５〜３ｇ／ｍ2である。
【０１２３】
〔３．支持体〕
次に、本発明において使用される支持体について説明する。本発明で使用され得る支持体は、表面が親水性であれば如何なるものでも使用され得るが、寸度的に安定な板状物が好ましく、例えば、紙、プラスチック（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、また、例えばアルミニウム（アルミニウム合金も含む。）、亜鉛、銅等のような金属またはその合金（例えばケイ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルとの合金）の板、更に、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪酸酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等のようなプラスチックのフィルム、上記の如き金属または合金がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチックフィルム等が挙げられる。これらの支持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しかも安価であるので特に好ましい。更に、特公昭４８−１８３２７号に記載されているようなポリエチレンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体シートも好ましい。通常その厚さは０．０５ｍｍ〜１ｍｍ程度である。
【０１２４】
また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場合には、後述する砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは隔極酸化処理等の表面処理がなされていることが好ましい。
【０１２５】
〔３−１．砂目立て処理〕
砂目立て処理方法は、特開昭５６−２８８９３号公報に開示されているような機械的砂目立て、化学的エッチング、電解グレイン等がある。更に塩酸または硝酸電解液中で電気化学的に砂目立てする電気化学的砂目立て方法、およびアルミニウム表面を金属ワイヤーでひっかくワイヤーブラシグレイン法、研磨球と研磨剤でアルミニウム表面を砂目立てするボールグレイン法、ナイロンブラシと研磨剤で表面を砂目立てするブラシグレイン法のような機械的砂目立て法を用いることができ、上記砂目立て方法を単独あるいは組み合わせて用いることもできる。その中でも本発明において有用に使用される表面粗さを作る方法は、塩酸または硝酸電解液中で化学的に砂目たてする電気化学的方法であり、適する電流密度は１００Ｃ／ｄｍ2〜４００Ｃ／ｄｍ2の範囲である。さらに具体的には、０．１〜５０％の塩酸または硝酸を含む電解液中、温度２０〜１００℃、時間１秒〜３０分、電流密度１００Ｃ／ｄｍ2〜４００Ｃ／ｄｍ2の条件で電解を行うことが好ましい。
【０１２６】
このように砂目立て処理されたアルミニウム支持体は、酸またはアルカリにより化学的にエッチングされる。酸をエッチング剤として用いる場合は、微細構造を破壊するのに時間がかかり、工業的に本発明を適用するに際しては不利であるが、アルカリをエッチング剤として用いることにより改善できる。本発明において好適に用いられるアルカリ剤は、苛性ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、メタケイ酸ソーダ、リン酸ソーダ、水酸化カリウム、水酸化リチウム等が挙げられ、濃度と温度の好ましい範囲はそれぞれ１〜５０％、２０〜１００℃であり、アルミニウムの溶解量が５〜２０ｇ／ｍ3となるような条件が好ましい。エッチングの後、表面に残留する汚れ（スマット）を除去するために酸洗いが行われる。用いられる酸としては、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が挙げられる。特に電気化学的粗面化処理後のスマット除去処理方法としては、好ましくは特開昭５３−１２７３９号公報に記載されているような５０〜９０℃の温度の１５〜６５質量％の硫酸と接触させる方法、および、特公昭４８−２８１２３号公報に記載されているアルカリエッチングする方法が挙げられる。尚、本発明において好ましいアルミニウム支持体の表面粗さ（Ｒａ）は、０．３〜０．７μｍである。
【０１２７】
〔３−２．陽極酸化処理〕
以上のようにして処理されたアルミニウム支持体は、さらに陽極酸化処理が施される。陽極酸化処理は、当該技術分野において従来より行われている方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルフォン酸等あるいはこれらの二種以上を組み合わせて、水溶液または非水溶液中でアルミニウムに直流または交流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成することができる。陽極酸化処理の条件は、使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液の濃度が１〜８０％、液温５〜７０℃、電流密度０．５〜６０アンペア／ｄｍ2、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０〜１００秒の範囲が適当である。これらの陽極酸化処理のうちでも特に英国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている、硫酸中で高電流密度で陽極酸化する方法、および、米国特許第３，５１１，６６１号明細書に記載されているリン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。本発明においては、陽極酸化皮膜は１〜１０ｇ／ｍ2であることが好ましく、１ｇ／ｍ2未満であると版に傷が入りやすく、１０ｇ／ｍ2を超えると製造に多大な電力が必要となり、経済的に不利である。好ましくは、１．５〜７ｇ／ｍ2であり、更に好ましくは、２〜５ｇ／ｍ2である。
【０１２８】
更に、本発明においては、支持体は、砂目立て処理および陽極酸化後に、封孔処理を施されてもよい。かかる封孔処理は、熱水および無機塩または有機塩を含む熱水溶液への基板の浸漬並びに水蒸気浴などによって行われる。また本発明で使用される支持体には、アルカリ金属珪酸塩によるシリケート処理以外の処理、たとえば弗化ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理などの表面処理が施されてもよい。
【０１２９】
本発明においては、支持体（アルミニウムの場合には、上記の如く適宜表面処理を施されたアルミニウムが好ましい）上に、前記した重合性感光層組成物からなる重合性感光層を塗工し、次いで保護層を塗工することで、重合性平版印刷版が形成されるが、重合性感光層を塗工する前に必要に応じて有機または無機の下塗り層を設けてもよいし、特開平７−１５９９８３号公報に開示されているようなラジカルによって付加反応を起こし得る官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理を施してもよい。
【０１３０】
有機下塗層を形成する物質としては、水溶性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩（例えば硼酸亜鉛）もしくは、黄色染料、アミン塩等が挙げられる。更に具体的には、有機下塗層に用いられる有機化合物としては例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸等のアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸およびエチレンジホスホン酸等の有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸およびグリセロリン酸等の有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフィン酸等の有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニン等のアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩酸塩等のヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれるが、二種以上混合して用いてもよい。
【０１３１】
この有機下塗層は次のような方法で設けることができる。即ち、水またはメタノール、エタノール、メチルエチルケトン等の有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液を支持体上に塗布、乾燥して設ける方法と、水またはメタノール、エタノール、メチルエチルケトン等の有機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、支持体を浸漬して上記有機化合物を吸着させ、しかる後、水等によって洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の０．００５〜１０質量％の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布等いずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の濃度は０．０１〜２０質量％、好ましくは０．０５〜５質量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好ましくは２秒〜１分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウム等の塩基性物質や、塩酸、リン酸等の酸性物質によりｐＨを調節し、ｐＨ１〜１２の範囲で使用することもできる。また、光重合性平版印刷版の調子再現性改良のために、黄色染料を添加することもできる。有機下塗層の乾燥後の被覆量は、２〜２００mg／m2が適当であり、好ましくは５〜１００mg／m2である。上記の被覆量が２mg／m2より少ないと十分な耐刷性が得られない。また、２００mg／m2より大きくても同様である。
【０１３２】
また、無機下塗り層に用いられる物質としては、酢酸コバルト、酢酸ニッケル、フッ化チタン酸カリウム等の無機塩等が挙げられ、この無機下塗り層の設け方は、上記した有機下塗り層と同様である。
【０１３３】
かくして得られた重合性平版印刷版は、Ａｒレーザー（４８８、５１４．５ｎｍ）、半導体レーザー（３５０〜１１００ｎｍ、特に、４０５ｎｍ、６３０ｎｍ、６５０ｎｍ、６８０ｎｍ、７８５ｎｍ、８３０ｎｍ、８６０ｎｍ）、ＹＡＧレーザー（１０６４ｎｍ、５３２ｎｍ（第二高周波）、３５５ｎｍ（第三高周波）、２６６ｎｍ（第四高周波））等により直接露光された後、現像処理される。尚、画像露光後、現像までの間に、光重合性感光層の硬化率を高める目的で５０℃〜１５０℃の温度で１秒〜５分の時間の加熱プロセスを設けてもよい。
【０１３４】
かかる現像処理に使用される現像液としては、従来より知られているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、第二リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウム等の無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等の有機アルカリ剤を併用してもよい。これらのアルカリ剤は単独もしくは２種以上を組み合わせて用いられる。
【０１３５】
また更に現像液に、以下に記すその他の界面活性剤を加えてもよい。その他の界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、ポリオキシエチレンステアレート等のポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジステアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセスキオレエート、ソルビタントリオレエート等のソルビタンアルキルエステル類、グリセロールモノステアレート、グリセロールモノオレート等のモノグリセリドアルキルエステル類等のノニオン界面活性剤；ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベンゼンスルホン酸塩類、ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ペンチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ヘキシルナフタレンスルホン酸ナトリウム、オクチルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のアルキルナフタレンスルホン酸塩類、ラウリル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸塩類、ドデシルスルホン酸ソーダ等のアルキルスルホン酸塩類、ジラウリルスルホコハク酸ナトリウム等のスルホコハク酸エステル塩類等のアニオン界面活性剤；ラウリルベタイン、ステアリルベタイン等のアルキルベタイン類、アミノ酸類等の両性界面活性剤が使用可能であるが、特に好ましいのはアルキルナフタレンスルホン酸塩類等のアニオン界面活性剤、アルキルベタイン類、下記式（１）で示されるポリオキシアルキレンエーテル基を有するノニオン界面活性剤である。
【０１３６】
Ｒ1−Ｏ−（Ｒ2−Ｏ）n Ｈ       （１）
【０１３７】
式（１）中、Ｒ1は置換基を有してもよい炭素数３〜１５のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数６〜１５の芳香族炭化水素基、または置換基を有してもよい炭素数４〜１５の複素芳香族環基（該置換基としては炭素数１〜２０のアルキル基、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｉ等のハロゲン原子、炭素数６〜１５の芳香族炭化水素基、炭素数７〜１７のアラルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数２〜２０のアルコキシ−カルボニル基、炭素数２〜１５のアシル基が挙げられる。）を示し、Ｒ2は置換基を有してもよい炭素数１〜１０のアルキレン基（該置換基としては、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数６〜１５の芳香族炭化水素基が挙げられる）を示し、ｎは１から１００の整数を表す。また式（１）の（Ｒ2−Ｏ）nの部分は、上記範囲であれば、２種、または３種の基であってもよい。具体的にはエチレンオキシ基とプロピレンオキシ基、エチレンオキシ基とイソプロピルオキシ基、エチレンオキシ基とブチレンオキシ基、エチレンオキシ基とイソブチレン基等の組み合わせのランダムまたはブロック状に連なったものが挙げられる。
【０１３８】
これら界面活性剤は単独、もしくは組み合わせて使用することができる。また、これら界面活性剤の現像液中における含有量は有効成分換算で０．１〜２０質量％が好ましい。
【０１３９】
本発明において、前記現像液には上記の成分の他に、必要に応じて以下の様な成分を併用することができる。例えば安息香酸、フタル酸、p−エチル安息香酸、p−ｎ−プロピル安息香酸、p−イソプロピル安息香酸、p−n−ブチル安息香酸、p−t−ブチル安息香酸、p−２−ヒドロキシエチル安息香酸、デカン酸、サリチル酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸等の有機カルボン酸；イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコール等の有機溶剤；この他、キレート剤、還元剤、染料、顔料、硬水軟化剤、防腐剤、消泡剤等が挙げられる。
【０１４０】
本発明の重合性平版印刷版の前記現像液による現像は、常法に従って、０〜６０℃、好ましくは１５〜４０℃程度の温度で、例えば、露光処理した重合性平版印刷版を現像液に浸漬してブラシで擦る等により行う。更には自動現像機を用いて現像処理を行ってもよく、その場合には、処理量に応じて現像液が疲労してくるので、補充液または新鮮な現像液を用いて処理能力を回復させてもよい。尚、本発明においては、重合性感光層の上に保護層が設けられているが、前記した現像液を用いて、保護層の除去と感光層の未露光部の除去を同時に行ってもよいし、または、水、温水で保護層を先に除外し、その後未露光部の感光層を現像液で除去してもよい。これらの水または温水には、例えば特開平１０−１０７５４号公報に記載の防腐剤、特開平８−２７８６３６号公報に記載の有機溶剤等を含有させることができる。
【０１４１】
このようにして現像処理された重合性平版印刷版は、特開昭５４−８００２号、同５５−１１５０４５号、同５９−５８４３１号等の各公報に記載されているように、水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体等を含む不感脂化液で後処理される。本発明の重合性平版印刷版の後処理にはこれらの処理を種々組み合わせて用いることができる。上記のような処理により得られた印刷版は、特開２０００−８９４７８号公報に記載の方法による後露光処理やバーニング等の加熱処理により、耐刷性を向上させることができる。次いで、以上のような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機に掛けられ、多数枚の印刷に用いられる。
【実施例１】
【０１４２】
以下、実施例をもって本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、％および各比は、特記しない限り質量基準である。
【０１４３】
〔重合性感光性平版印刷版の作成〕
厚さ０．３０ｍｍの材質１Ｓのアルミニウム板を８号ナイロンブラシと８００メッシュのパミストンの水懸濁液を用い、その表面を砂目立てした後、よく水で洗浄した。１０％水酸化ナトリウムに７０℃で６０秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗後、２０％ＨＮＯ3で中和洗浄、水洗した。これをＶA＝１２．７Ｖの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で３００クーロン／ｄｍ2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ０．４５μｍ（Ｒａ表示）であった。ひきつづいて３０％のＨ2ＳＯ4水溶液中に浸漬し、５５℃で２分間デスマットした後、３３℃、２０％Ｈ2ＳＯ4水溶液中で、砂目立てした面に陰極を配置して、電流密度５Ａ／ｄｍ2において５０秒間陽極酸化したところ厚さが２．７ｇ／ｍ2であった。
【０１４４】
このように処理されたアルミニウム板上に、下記の手順で下塗り層（１）または（２）を設けた。
【０１４５】
（下塗り用液状組成物１）
下記化合物                                            ０．１９質量部
【０１４６】
【化２６】
2005043658.tif 000028
【０１４７】
メタノール                                        ５５０質量部
水                                                  ３５質量部
【０１４８】
この塗布液を、上記の処理されたアルミニウム板上に、２ｍｇ／ｍ2となるように４番バーで塗布し、１００℃で１０秒間乾燥させた。
このようにして得られた下塗り層（１）上に、下記組成の重合性感光層組成物１を乾燥塗布重量が１．４ｇ／ｍ2となるように塗布し、９５℃で５０秒間乾燥させ、感光層を形成した。
【０１４９】
（下塗り用液状組成物２）
下記ゾル液を下塗り用液状組成物２とした。
ゾル液は、下記の手順によりＳＧ法の液状組成物（ゾル液）を調製した。ビーカーに下記組成物を秤量し、２５℃で２０分間攪拌した。
Ｓｉ(ＯＣ2Ｈ5)4 ３８ｇ、 ３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン １３ｇ、 ８５％リン酸水溶液 １２ｇ、 イオン交換水 １５ｇ、 メタノール １００ｇ。
上記組成の溶液を三口フラスコに移し、還流冷却器を取り付けた三口フラスコを室温のオイルバスに浸した。三口フラスコの内容物をマグネティックスターラーで攪拌しながら、３０分間で５０℃まで上昇させた。浴温を５０℃に保ったまま、更に１時間反応させ液組成物（ゾル液）を得た。
このゾル液を、上記の処理されたアルミニウム板上に、メタノール／エチレングリコール＝２０／１（重量比）で０．５重量％になるように希釈してホイラー塗布し、１００℃で１分乾燥させた。その時の塗布量は４mg／m2であった。
このようにして得られた下塗り層（２）上に、下記組成の重合性感光層組成物１を乾燥塗布重量が１．４ｇ／ｍ2となるように塗布し、９５℃で５０秒間乾燥させ、感光層を形成した。
【０１５０】
（重合性感光層組成物１）
・ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ（テトラメチロールメタンテトラアクリレート、新中村化学（株））
１．７質量部
・バインダー（下記構造、分子量１３万）                  １．９質量部
【０１５１】
【化２７】
2005043658.tif 000029
【０１５２】
・増感剤（下記Ｃ１）                                    ０．１５質量部
・重合開始剤（下記Ｄ１）                                ０．１３質量部
・増感助剤（下記Ｅ１）                                  ０．５３質量部
・着色剤  下記３種の分散物                              １．７質量部
ε−フタロシアニン  １５％（下記Ｆ１）／下記化合物１０％（分子量１０万）／プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート  ７５％
【０１５３】
【化２８】
2005043658.tif 000030
【０１５４】
・フッ素系ノニオン界面活性剤    メガファックＦ１７６    ０．０６質量部
（大日本インキ化学工業（株）製）
・重合禁止剤    下記に示される、クペロンＡＬ（和光純薬）１０％の可塑剤ＴＣＰ９０％による分散物                                      ０．０６質量部
【０１５５】
【化２９】
2005043658.tif 000031
【０１５６】
・溶媒  メチルエチルケトン                              ２０．０質量部
・溶媒  プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
２０．０質量部
【０１５７】
【化３０】
2005043658.tif 000032
【０１５８】
（重合性感光層組成物２）
（重合性感光層組成物１）の増感色素Ｃ１の代わりに下記Ｄｙｅ１を使用し、４０５ｎｍ紫ＬＤレーザー用に変更した以外は、（重合性感光層組成物１）と同じ配合にて重合性感光層組成物２を作製した。
【０１５９】
【化３１】
2005043658.tif 000033
【０１６０】
（重合性感光層組成物３）
（重合性感光層組成物１）の増感色素Ｃ１の代わりに下記Ｄｙｅ２を使用し、重合開始剤Ｄ１の代わりに下記Ｓ１に変更した以外は、（重合性感光層組成物１）と同じ配合にて重合性感光層組成物３を作製した。
【０１６１】
【化３２】
2005043658.tif 000034
【０１６２】
（重合性感光層組成物４）
（重合性感光層組成物１）のバインダーを下記ポリウレタン樹脂Ｂ１に、モノマーを下記Ａ−１に変更した以外は、（重合性感光層組成物１）と同じ配合にて重合性感光層組成物４を作製した。
（Ｂ１）
下記ジイソシアネートとジオールの縮重合物であるポリウレタン樹脂（Ｍｗ  ７万）
・４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（ＭＤＩ）
・ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＭＤＩ）
・ポリプロピレングリコール、重量平均分子量１０００（ＰＰＧ１０００）
・２，２−ビス（ヒドロキシメチル）プロピオニックアシッド（ＤＭＰＡ）
・テトラエチレングリコール（ＴＥＧ）
（共重合モル比  ＭＤＩ／ＨＭＤＩ／ＰＰＧ１０００／ＤＭＰＡ／ＴＥＧ＝４０／１０／１１／２６／１３）
【０１６３】
【化３３】
2005043658.tif 000035
【０１６４】
この感光層上に下記の素材からなる水溶液を、保護層として乾燥塗布重量が２．５ｇ／ｍ2となるように塗布し、１２０℃で１分３０秒乾燥させ、重合性平版印刷版を得た。
【０１６５】
（保護層組成物Ａ）
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、クラレ(株)製（ケン化度９８モル％、重合度５００）
６．０質量部
・ＥＭＡＬＥＸ７１０(日本エマルジョン(株)製、界面活性剤)
０．１質量部
・Luvitec Vcap（ポリビニルカプロラクタムホモポリマー、BASF）
０．５質量部
・水                                               １００．０質量部
【０１６６】
（保護層組成物Ｂ）
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、クラレ(株)製（ケン化度９８モル％、重合度５００）
６．０質量部
・ＥＭＡＬＥＸ７１０(日本エマルジョン(株)製、界面活性剤) 
０．１質量部
・水                                               １００．０質量部
【０１６７】
（保護層組成物Ｃ）
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、クラレ(株)製（ケン化度９８モル％、重合度５００）
６．０質量部
・ＥＭＡＬＥＸ７１０(日本エマルジョン(株)製、界面活性剤) 
０．１質量部
・Luvitec Vcap（ポリビニルカプロラクタムホモポリマー、BASF）
２．０質量部
・水                                               １００．０質量部
【０１６８】
（保護層組成物Ｄ）
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、クラレ(株)製（ケン化度９８モル％、重合度５００）
６．０質量部
・ＥＭＡＬＥＸ７１０(日本エマルジョン(株)製、界面活性剤)
０．１質量部
・Luvitec Vcap（ポリビニルカプロラクタムホモポリマー、BASF）
０．１質量部
・水                                               １００．０質量部
【０１６９】
（保護層組成物Ｅ）
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、クラレ(株)製（ケン化度９８モル％、重合度５００）
６．０質量部
・ＥＭＡＬＥＸ７１０(日本エマルジョン(株)製、界面活性剤)
０．１質量部
・Luvitec  VPC55K65W（ビニルピロリドンとビニルカプロラクタムの１：１共重合体、BASF）
０．５質量部
・水                                               １００．０質量部
【０１７０】
（保護層組成物Ｆ）
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、クラレ(株)製（ケン化度９８モル％、重合度５００）
６．０質量部
・ＥＭＡＬＥＸ７１０(日本エマルジョン(株)製、界面活性剤)
０．１質量部
・ビニルカプロラクタムとビニルアセテートの１：１共重合体（Ｍｗ＝５万）
０．５質量部
・水                                               １００．０質量部
【０１７１】
（保護層組成物Ｇ）
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、クラレ(株)製（ケン化度９８モル％、重合度５００）
６．０質量部
・ＥＭＡＬＥＸ７１０(日本エマルジョン(株)製、界面活性剤)
０．１質量部
・ポリビニルピロリドン  Ｋ３０                         ０．５質量部
・水                                               １００．０質量部
【０１７２】
（保護層組成物Ｈ）
・ビニルアセテートとビニルカプロラクタム  ９：１共重合体（ケン化度９８モル％、重合度５００）
６．０質量部
・ＥＭＡＬＥＸ７１０(日本エマルジョン(株)製、界面活性剤)
０．１質量部
・水                                              １００．０質量部
【０１７３】
（保護層組成物Ｉ）
・ビニルアセテートとビニルカプロラクタムとビニルピロリドン  ９：０．５：０．５共重合体（ケン化度９８モル％、重合度５００）
６．０質量部
・ＥＭＡＬＥＸ７１０(日本エマルジョン(株)製、界面活性剤)
０．１質量部
・水                                              １００．０質量部
【０１７４】
（保護層組成物Ｊ）
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−１０５、クラレ(株)製（ケン化度９８モル％、重合度５００）
６．０質量部
・ビニルアセテートとビニルカプロラクタムとビニルピロリドン  １：１：１共重合体（ケン化度９８モル％、重合度５００）
１．０質量部
・ＥＭＡＬＥＸ７１０(日本エマルジョン(株)製、界面活性剤)
０．１質量部
・水                                              １００．０質量部
【０１７５】
（実施例１〜１２および比較例１〜４）
下記表１に示す各層の組み合わせにおいて平版印刷版を得、評価を行った。
製版条件
［版サイズ］８０×１０３ｃｍ。
［露光環境］温度と湿度を一定に保つことが可能な恒温恒湿室にセッターと自動現像機を入れ、温度２５℃、湿度２５、５０、７５％の３条件で評価した。
［評価画像］２５４０ｄｐｉ、１７５線／インチ、１〜９９％の１％刻みの網点画像。
［露光条件１］ＦＤ−ＹＡＧレーザー（５３２ｎｍ）を搭載した富士写真フイルム(株)製Luxel Plate Setter  Ｐ−９６００  ＣＴＰを用い、０．２ｍＪ／ｃｍ2で露光。
［露光条件２］半導体レーザー４０５ｍｍを搭載した富士写真フイルム製Ｌｕｘｅｌ  Ｖ９６００ＣＴＰを用い、９０μＪ／ｃｍ2で露光。
［露光条件３］８３０ｎｍ赤外半導体レーザーを搭載した富士写真フイルム(株)製Ｌｕｘｅｌ  Ｔ−９０００  ＣＴＰを用い、１００ｍＪ／ｃｍ2で露光。
［現像条件１］富士写真フイルム(株)製自動現像機ＬＰ８５０ＰＩＩを用い、プレヒート部に於いて版面温度が版裏面中央部で１００℃になるように後加熱し、プレ水洗槽に於いて約２３℃の水で保護層を水洗除去した。その後、現像槽に於いて富士写真フイルム(株)製シリケート非含有現像液ＤＶ−２：水＝１：４（２８℃でのｐＨ１１．９５）を用い、２８℃で１９秒間現像した。その後、水洗槽に於いて水洗し、ガム槽に於いて富士写真フイルム(株)製フィニッシングガムＦＰ−２Ｗ：水＝１：１で標準処理を行い、加熱部に於いて５０℃の温風で乾燥した。
［現像条件２］現像条件１のプレヒート部のヒーター電源を切り、加熱しないこと以外は、現像条件１と同じである。
［現像条件３］現像条件１の現像液の代わりに、富士写真フイルム（株）製シリケート含有現像液ＬＰ−ＤＺ（原液使用、水での希釈不要、２５℃でのｐＨ１２．３０）を使用し、２５℃で２１秒間現像した。
【０１７６】
（重合性平版印刷版の評価）
〔小点再現性〕
Centurfax社製Ccdotにて網点面積を測定した。
〔セーフライト適性〕
恒温恒湿室で電灯を消した暗室状態で各温湿度条件に感材を予め２４時間さらし、下記条件の蛍光灯下に光重合性平版印刷版を一定時間さらし、製版する。その後、下記条件にさらさずに製版した感材と５０％部の網点面積をCcdotで比較評価し、２％以上網点が増加するまでの時間を求めた。
［条件１］  富士写真フイルム（株）製  赤フィルターＳＬＦ  No.6（約６００ｎｍ以下をカット）を下記白色蛍光灯に巻き、１０Ｌｕｘ。
［条件２］  Encapsulite International（株）製  フィルターＧ１０（約５００ｎｍ以下をカット）を下記白色蛍光灯に巻き、６０Ｌｕｘ。
［条件３］  三菱電機  白色蛍光灯ネオルミスーパー  ＦＬＲ４０Ｓ−Ｗ  ４００Ｌｕｘ  フィルターなし。
〔セッター合紙除去性〕
セッターに３０枚感材をセットし、各湿度条件下で２４時間待機させたのち、製版を行った。その際、合紙が感材に貼り付いて、うまく除去できない場合は×、問題なく３０枚製版できたものは○と評価した。
上記評価結果を表１に示す。
【０１７７】
【表１】
2005043658.tif 000036
【実施例２】
【０１７８】
（吸湿率の測定）
実施例１で作成した支持体（６０ｃｍ×６０ｃｍ）上に、実施例１で作成した各保護層組成物をホイラー塗布した後、オーブンに入れ１２０℃で１分３０秒間乾燥した。その板の中心部から、２０ｃｍ×２０ｃｍの板を４枚切断し、そのうちの１枚をオーブンに入れ再度１２０℃で１０分間乾燥した。乾燥後、１０秒以内に精密電子天秤で質量を測定した。その測定質量をＸｇとする。
上記再乾燥した板を水洗し、酸素遮断層を除去した後、オーブンに入れ１２０℃で１０分間乾燥した。乾燥後、約１時間後に精密電子天秤で質量を測定した。その測定質量をＹｇとする。
上記切断した４枚の板のうち、残りの板３枚を２５℃の恒温恒湿室に入れ、ｓ５％、５０％、７５％の各湿度に２時間放置した。恒温恒湿室内に入れた精密電子天秤で、各湿度の状態で質量を測定した。その測定質量をＺｇとする。
吸湿率は下記計算式によって求めた。
吸湿率（％）  ＝  （Ｚ−Ｘ）／（Ｘ−Ｙ）×１００
結果を表２に示す。
【０１７９】
【表２】
2005043658.tif 000037