(57)【要約】【課題】  研磨液中の水垢に起因する研磨材凝集物の発生を抑制し、塗膜欠陥の原因となる凹み欠陥、ホーニング傷の発生を十分に抑制することが可能な湿式ホーニング方法を提供すること。【解決手段】  本発明の湿式ホーニング処理方法は、研磨材及び該研磨材を分散させる分散媒を含み且つ生菌数５０コロニー／ｃｍ3以下である研磨液１００を用意する工程と、電子写真感光体に用いられる導電性基材１を用意する工程と、研磨液１００を用いて基材１の表面を研磨する工程と、を有する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
研磨材及び該研磨材を分散させる分散媒を含み且つ生菌数５０コロニー／ｃｍ3以下である研磨液を用意する工程と、電子写真感光体に用いられる導電性基材を用意する工程と、前記研磨液を用いて前記基材の表面を研磨する工程と、を有することを特徴とする湿式ホーニング処理方法。
【請求項２】
前記分散媒として、除菌処理されたイオン交換水、超純水、及びｐＨ９以上の電気分解アルカリ性水から選ばれる少なくとも１種を用いることを特徴とする、請求項１に記載の湿式ホーニング処理方法。
【請求項３】
使用した前記研磨液を前記基材の表面の研磨に繰り返し使用することを特徴とする、請求項１又は２に記載の湿式ホーニング処理方法。
【請求項４】
感光層が形成されて電子写真感光体となるべき導電性基材であって、請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の湿式ホーニング処理方法により表面が研磨されたことを特徴とする電子写真感光体用基材。
【請求項５】
請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の湿式ホーニング処理方法により導電性基材の表面を研磨する工程と、表面が研磨された前記基材上に感光層を形成する工程と、を備えることを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜３のうちのいずれか一項に記載の湿式ホーニング処理方法により表面が研磨された導電性基材と、前記基材上に形成された感光層と、
を備えることを特徴とする電子写真感光体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体用基材の湿式ホーニング処理方法及びその方法により処理された基材、並びにその基材を用いた電子写真感光体及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式の画像形成においては、一般的に、導電性基材上に感光層を形成した電子写真感光体が使用される。このような電子写真感光体を、レーザービームをライン走査する方式の電子写真装置に適用した場合、得られる画像に干渉縞模様が現れることがある。
【０００３】
この種の干渉縞の発生は、感光層内で吸収されなかった透過光が、基材を含む感光層内でレーザービームの多重反射を起こし、感光層表面の入射光との間で干渉を生じることに起因するものと考えられている。そこで、干渉縞の発生を防止するための様々な方法が検討されており、その一環として、基材等の表面を粗面化して光散乱性を付与する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。また、基材の表面を粗面化する方法としては、研磨材を水に分散させた研磨液を用いた湿式ホーニング処理が知られている（例えば、特許文献２〜９参照）。
【特許文献１】特公平５−２６１９１号公報
【特許文献２】特開平２−８７１５４号公報
【特許文献３】特開平２−１９１９６３号公報
【特許文献４】特開平５−２１６２６１号公報
【特許文献５】特開平８−７６３８６号公報
【特許文献６】特開平９−２３６９３７号公報
【特許文献７】特開平１１−２３１５６０号公報
【特許文献８】特公平６−４１１０８号公報
【特許文献９】特開平８−７６３８６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記従来の湿式ホーニング処理方法であっても、電子写真感光体の基材を粗面化する方法として十分なものであるとは言い難い。例えば、湿式ホーニング処理に使用される研磨液は繰り返し使用されることがあるが、研磨液を長時間繰り返し使用した場合、得られる基材上に感光層を形成すると塗膜欠陥が発生しやすくなる。
【０００５】
そこで本発明者らは、先ず、上述の現象が起こる原因について検討した。その結果、従来の湿式ホーニング処理方法においては、研磨液の繰り返し使用に伴って、研磨液に含まれる水が腐敗して水垢が発生し、蓄積した水垢が複数個の研磨材を取り込んで粒径１００〜３００μｍ程度の大きさを有する糊状の凝集物を形成しやすいこと、並びに、かかる研磨材凝集物を含む研磨液を基材の被処理面に噴射すると、研磨材凝集物と基材表面との衝突により、大きさ１００〜数百μｍの凹み欠陥、ホーニング傷欠陥等が発生し、感光層形成時の塗膜欠陥の原因となることを見出した。
【０００６】
なお、研磨液から研磨材凝集物を除去すべく、フィルター等によるトラップを試みたが、この方法では、湿式ホーニング処理に有効な研磨材も同時にトラップされて研磨液中の研磨材濃度が変化してしまうため、研磨液に本来的に求められる特性が損なわれてしまった。また、水垢を発生する原因であるバクテリアの殺菌を目的として、研磨液に紫外線殺菌を施す方法を試みたが、懸濁した研磨液の内部まで紫外線を十分に到達させることができず、根本的な解決策とはならなかった。そのため、従来の湿式ホーニング処理方法により基材を粗面化する場合には、塗膜欠陥の発生を防止するために、定期的にホーニング工程を中断し、設備内の水垢や研磨材凝集物を除去する清掃をしなければならないのが実情であった。
【０００７】
本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、研磨液中の水垢に起因する研磨材凝集物の発生を抑制し、塗膜欠陥の原因となる凹み欠陥、ホーニング傷の発生を十分に抑制することが可能な湿式ホーニング方法を提供することを目的とする。また、本発明は、その湿式ホーニング方法により得られる電子写真感光体用基材、並びに当該基材を用いた電子写真感光体及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明の湿式ホーニング処理方法は、研磨材及び該研磨材を分散させる分散媒を含み且つ生菌数５０コロニー／ｃｍ3以下である研磨液を用意する工程と、電子写真感光体に用いられる導電性基材を用意する工程と、研磨液を用いて基材の表面を研磨する工程と、を有することを特徴とする。
【０００９】
本発明の湿式ホーニング処理方法によれば、研磨材及び分散媒を含み且つ生菌数５０コロニー／ｃｍ3以下である研磨液を用いることで、研磨液中の水垢に起因する研磨材凝集物の発生が十分に抑制されるため、かかる研磨液を用いて基材の表面を研磨することにより塗膜欠陥の原因となる凹み欠陥、ホーニング傷の発生を十分に抑制しつつ基材表面を粗面化することができる。従って、本発明の湿式ホーニング処理方法により、干渉縞の防止に有効な電子写真感光体用基材を効率よく且つ確実に得ることができる。
【００１０】
本発明の湿式ホーニング処理方法においては、分散媒として、除菌処理されたイオン交換水、超純水、及びｐＨ９以上の電気分解アルカリ性水から選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましい。かかる分散媒の使用により、研磨液中の水垢に起因する研磨材凝集物の発生をより確実に抑制することができる。
【００１１】
また、本発明の湿式ホーニング処理方法においては、使用した研磨液を基材の表面の研磨に繰り返し使用することが好ましい。本発明にかかる研磨液は、上述の通り、水垢に起因する研磨材凝集物の発生を十分に抑制可能なものであり、その研磨特性は長期にわたって安定的に保持されるため、当該研磨液の繰り返し使用により湿式ホーニング処理の効率化及びコスト削減がより高水準で実現可能となる。
【００１２】
また、本発明の電子写真感光体用基材は、感光層が形成されて電子写真感光体となるべき導電性基材であって、上記本発明の湿式ホーニング処理方法により表面が研磨されたことを特徴とする。
【００１３】
このように、本発明の湿式ホーニング処理方法により基材の表面を研磨することによって、塗膜欠陥の原因となる凹み欠陥、ホーニング傷の発生を十分に抑制しつつ基材表面を粗面化することができ、干渉縞の防止に有効な電子写真感光体用基材が有効に実現可能となる。
【００１４】
また、本発明の電子写真感光体の製造方法は、上記本発明の湿式ホーニング処理方法により導電性基材の表面を研磨する工程と、表面が研磨された基材上に感光層を形成する工程と、を備えることを特徴とする。
【００１５】
また、本発明の電子写真感光体は、本発明の湿式ホーニング処理方法により表面が研磨された導電性基材と、当該基材上に形成された感光層と、を備えることを特徴とする。
【００１６】
このように、本発明の湿式ホーニング処理方法により基材の表面を研磨し、当該基材上に感光層を形成することによって、塗膜欠陥の原因となる凹み欠陥、ホーニング傷の発生を十分に抑制しつつ基材表面を粗面化することができ、干渉縞の防止に有効な電子写真感光体が有効に実現可能となる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、研磨液中の水垢に起因する研磨材凝集物の発生を抑制し、塗膜欠陥の原因となる凹み欠陥、ホーニング傷の発生を十分に抑制することが可能な湿式ホーニング方法が提供される。また、本発明によれば、塗膜欠陥の原因となる凹み欠陥、ホーニング傷の発生を十分に抑制しつつ基材表面が粗面化された電子写真感光体用基材、並びに当該基材を用いた電子写真感光体及びその製造方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、図面を参照して本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当する部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。
【００１９】
図１は本発明の湿式ホーニング処理方法に好適に使用される湿式ホーニング処理装置の一例を示す概略構成図である。図１に示した装置は、円筒状の電子写真感光体用基材１を収容する処理室２と、処理室２内に配置されたホーニングガン３とを備える。
【００２０】
処理室２の下部には研磨液１００が貯留されており、さらに処理室２の底部にはポンプ４が設けられた循環ラインＬ１が連結されている。また、ホーニングガン３には、循環ラインＬ１の他端が連結されると共に、圧縮空気５を供給するラインＬ２が連結されている。このホーニングガン３は処理室２内を任意に移動可能であり、例えば、基材１が回転軸に沿って上下に保持されている場合、当該回転軸に沿って移動させながら研磨液を噴射させることができる。
【００２１】
基材１の材質は、導電性を有していれば特に制限されず、例えば、アルミニウム、銅、ニッケル、鉄、亜鉛、チタン等の金属又はそれらの合金が挙げられる。また、プラスチック、紙等の支持体上に、アルミニウム、チタン等の金属またはそれらの合金を真空蒸着法により蒸着させて被膜を形成したものを使用してもよい。なお、図１に示した基材１は円筒状であるが、基材１の形状は特に制限されず、円筒状の他、ベルト状などであってもよい。
【００２２】
基材１の外周面には、予め鏡面切削加工などの加工処理が施されていてもよいが、かかる切削加工の後で脱脂洗浄工程、濯ぎ工程をこの順で行うことが好ましい。これにより、湿式ホーニング処理に使用される研磨液への不純物（切削屑、油分など）の混入を防止することができる。
【００２３】
研磨液１００は研磨材及び該研磨材を分散させる分散媒を含むものである。
【００２４】
研磨材としては、従来公知のものが使用可能であり、具体的には、酸化アルミニウム、炭化珪素、窒化珪素または窒化硼素等の無機化合物、ポリメチルメタクリレート、ポリ弗化ビニリデン、ポリウレタン系樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂等のポリマー微粉末等が挙げられる。
【００２５】
一方、分散媒としては、除菌処理されたイオン交換水、超純水、及びｐＨ９以上の電気分解アルカリ性水から選ばれる少なくとも１種を用いることが好ましい。
【００２６】
除菌処理されたイオン交換水は、イオン交換カートリッジの出口に目開き０．２μｍ以下の除菌フィルターを設置する簡易な方法により得ることができる。また、脱塩、ＲＯ膜・イオン交換カートリッジ、ＵＦ膜、除菌フィルターなどからなる純水製造装置を用いる方法により当該イオン交換水を得てもよい。かかるイオン交換水の比抵抗は、０．５〜１６ＭΩ・ｃｍが好ましい。
【００２７】
なお、井戸水は初期状態から生菌数が多く、また、井戸水や水道水は生菌増殖の養分となるミネラルイオン類を多量に含む。従って、これらを分散媒としてそのまま用いることは、経時による生菌数増加速度が大きく、水垢の発生量が顕著に増加してしまう。また、井戸水や水道水をイオンカートリッジに通すことでイオン交換水が得られるが、イオンカートリッジでは水中のイオン分を除去できても生菌を十分に除去することは困難であり、さらにはイオン交換カートリッジ内で生菌が繁殖することがある。従って、上述したように、イオン交換カートリッジの出口に除菌フィルターを設置して除菌処理をすることが好ましい。
【００２８】
超純水は、脱塩、ＲＯ膜、イオン交換カートリッジ、ポリッシャー、ＵＦ膜、除菌フィルターなどからなる超純水製造装置を用いる方法により得ることができる。超純水の場合、脱塩、ＲＯ膜・イオン交換カートリッジ、ポリッシャー、ＵＦ膜、除菌フィルターなどの使用により生菌及びイオンがほぼ完全に除去されるため、研磨液中の生菌の増殖を十分に抑制し、水垢の発生に起因する研磨材凝集物の発生を十分に抑制することができる。超純水の比抵抗は１６ＭΩ・ｃｍ以上が好ましい。
【００２９】
ｐＨ９以上の電気分解アルカリ性水は、ＮａＯＨやアンモニア等のアルカリは添加せずに、ナトリウムイオン、カリウムイオン、リン酸イオン、ケイ酸イオン、乳酸イオン、ピロリン酸イオン、フッ素イオン、塩素イオン等のイオンを主として含むものであり、上記イオン以外の構成成分は水である。電気分解アルカリ性水は、その原液をイオン交換水又は超純水で１倍〜数倍に希釈することにより調製可能である。原液中に含まれる水以外のイオンの合計量は、好ましくは０．４〜３．４ｗｔ％であり、好ましくは１．１〜３．４ｗｔ％である。なお、電気分解アルカリ性水の原液としては、例えば特開平１１−２１７５９８に開示された原液が使用可能である。また、電気分解アルカリ性水の原液として、市販品（例えば日本電子アクティブ社製ルミックＥＫＯ−１３ＡＬ）を使用してもよい。
【００３０】
このような電気分解アルカリ性水を分散媒として用いた場合、生菌はｐＨ９以上の環境下では生存し得ないため、研磨液中の生菌の増殖を十分に抑制し、水垢の発生に起因する研磨材凝集物の発生を十分に抑制することができる。
【００３１】
上記の研磨材及び分散媒を含む研磨液１００の生菌数は、５０コロニー／ｃｍ3以下であることが必要であり、１０コロニー／ｃｍ3以下であることが好ましい。研磨液１００中の生菌数は、例えば下記工程（ｉ）〜（ｖ）を順次行うことにより測定可能である。
（ｉ）水のサンプリング器具（例えば、アドバンテック製３７ｍｍモニターセット、テルモ製の使い捨てシリンジ）を用いて研磨液を所定量吸引し、３７ｍｍモニター内のメンブランフィルターでろ過する。
（ｉｉ）３７ｍｍモニターの流出口側（メンブレンフィルターの裏側）から、ｍ−ＴＧＥ培養液を１ｍｌ注入して蓋を閉める。一つの研磨液につき、ろ過サンプルを２個用意する。
（ｉｉｉ）３６±１℃に設定した培養器に３７ｍｍモニターを入れて、２４時間培養する。
（ｉｖ）３７ｍｍモニターのメンブレンフィルター上に成長した生菌数（コロニー数）を計測する。
（ｖ）メンブレンフィルター上の生菌数を、吸引した水の体積で除し、単位体積当たりの生菌数とする。２サンプルのうち小さい方のカウント数を、生菌数の代表値とする。
【００３２】
上記構成を有する処理装置を用いて湿式ホーニング処理を行う場合、先ず、処理室２内において、基材１をその外周面がホーニングガン３に対向するように保持し、その回転軸を中心として回転させる。次に、処理室２の下部に貯留した研磨液１００を、ポンプ４により循環ラインＬ１に引き出してホーニングガン３に送液し、ホーニングガン３から基材１の外周面に向けて圧縮空気５と共に吹き付ける。研磨液１００の吹き付けは、ホーニングガン３を基材１の回転軸に沿って移動させながら行われる。ホーニングガン３から基材１に吹き付けられた研磨液１００は、処理室２の下部に貯留された後、繰り返しホーニングガン３に送液される。
【００３３】
このように、本実施形態によれば、研磨材及び分散媒を含み且つ生菌数５０コロニー／ｃｍ3以下である研磨液１００を用いることで、研磨液１００中の水垢に起因する研磨材凝集物の発生が十分に抑制される。従って、研磨液１００を用いて基材１の外周面を研磨することにより塗膜欠陥の原因となる凹み欠陥、ホーニング傷の発生を十分に抑制しつつ基材１の外周面を粗面化することができ、干渉縞の防止に有効な電子写真感光体用基材を効率よく且つ確実に得ることができる。
【００３４】
また、研磨液１００の繰り返し使用によって、湿式ホーニング処理の効率化及びコスト削減がより高水準で実現可能となる。なお、研磨液１００は水垢に起因する研磨材凝集物の発生を十分に抑制可能なものであり、水垢に起因する研磨材凝集物の発生を十分に抑制可能なものであるため、その研磨特性は長期にわたって安定的に保持される。
【００３５】
次に、本発明の電子写真感光体について説明する。図２は本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。図２に示した電子写真感光体１０は本発明の電子写真感光体用基材である円筒状基材１を備えるもので、基材１上に下引き層１４、電荷発生層１５、電荷輸送層１６、保護層１７が順次積層された構造を有している。
【００３６】
以下、電子写真感光体１０の各要素について詳述する。
【００３７】
円筒状基材１は本発明の湿式ホーニング処理方法により表面が粗面化されたものである。円筒状基材１の構成は、湿式ホーニング処理方法の説明で述べた通りである。
【００３８】
本発明の電子写真感光体は、図２に示すように基材１上に下引き層１４を備えることが好ましい。基材１上に下引き層１４を設けると、下記（ｉ）〜（ｖｉ）に示す効果が得られる。
（ｉ）導電性支持体から感光層への不必要なキャリアの注入が防止されて画質が向上する；
（ｉｉ）電子写真感光体の光減衰曲線の環境依存性（温度、湿度等）が低減して安定した画質が得られる；
（ｉｉｉ）適度な電荷輸送能により、長期にわたって繰り返し使用する場合にも電荷が蓄積されず、感度変動の発生が抑制される；
（ｉｖ）帯電電圧に対する適度な耐圧性により、絶縁破壊に起因する画像欠陥の発生が防止される；
（ｖ）接着層として、感光層を支持体に一体的に保持することができる；
（ｖｉ）支持体の光反射が防止される。
【００３９】
下引き層１４の材料としては、有機金属化合物及びシランカップリング剤が挙げられ、結着樹脂を含んでいてもよい。有機金属化合物としては、ジルコニウムキレート化合物、ジルコニウムアルコキシド化合物、ジルコニウムカップリング剤等の有機ジルコニウム化合物、チタンキレート化合物、チタンアルコキシド化合物、チタネートカップリング剤等の有機チタン化合物、アルミニウムキレート化合物、アルミニウムカップリング剤等の有機アルミニウム化合物、アンチモンアルコキシド化合物、ゲルマニウムアルコキシド化合物、インジウムアルコキシド化合物、インジウムキレート化合物、マンガンアルコキシド化合物、マンガンキレート化合物、スズアルコキシド化合物、スズキレート化合物、アルミニウムシリコンアルコキシド化合物、アルミニウムチタンアルコキシド化合物、アルミニウムジルコニウムアルコキシド化合物等が挙げられるが、これらの中でも、有機ジルコニウム化合物、有機チタニル化合物、有機アルミニウム化合物は残留電位が低く良好な電子写真特性を示すため好ましく使用される。
【００４０】
シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス２−メトキシエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−２−アミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプロプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、β−３，４−エポキシシクロヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００４１】
結着樹脂としては、従来より下引き層に用いられるポリビニルアルコール、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレノキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ポリイミド、カゼイン、ゼラチン、ポリエチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリウレタン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸等を用いることもできる。上記の材料は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４２】
また、下引き層１４は、上記の材料中に電子輸送性顔料を混合、分散したものであってもよい。電子輸送性顔料としては、ペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料等の有機顔料；シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子等の電子吸引性の置換基を有するビスアゾ顔料；フタロシアニン顔料等の有機顔料；酸化亜鉛、酸化チタン等の無機顔料、等が挙げられる。これらの電子輸送性顔料の中でも、ペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料及び多環キノン顔料は高い電子移動性を有しているので好ましく使用される。これらの電子輸送性顔料の含有量は、下引き層１４中の固形分全量を基準として、好ましくは９５重量％以下であり、より好ましくは９０重量％以下である。下引き層１４中の電子輸送性顔料の含有量が前記上限値を超えると、下引き層１４の強度が低下して塗膜欠陥が生じやすくなる傾向にある。
【００４３】
下引き層１４は、上記材料を用いて下引き層形成用塗布液を調製し、その塗布液を用いて形成される。
【００４４】
なお、電子輸送性顔料を下引き層１４中に混合、分散させる方法としては、上記下引き層１４の材料を含む下引き層形成用塗布液に電子輸送性顔料を分散させる方法；電子輸送性顔料を分散させた溶液に上記下引き層１４の材料を添加し混合する方法；樹脂に電子輸送性顔料を分散させた液に上記下引き層１４の材料を添加し混合する方法；樹脂溶液に上記下引き層１４の材料を添加し混合した後電子輸送性顔料を分散させる方法；電子輸送性顔料に上記下引き層１４の材料を添加し混合した後樹脂溶液に分散させる方法、等が挙げられるが、混合／分散液においてゲル化や凝集等の発生を抑制することが重要である。
【００４５】
また、電子輸送性顔料を混合、分散する際には、ボールミル、ロールミル、サンドミル、アトライター、超音波等を用いることができる。この混合／分散工程は有機溶剤中で行われる。有機溶剤としては、有期金属化合物や樹脂を溶解し、また、電子輸送性顔料を混合、分散したときにゲル化や凝集を起こさないものであれば特に制限されない。具体的には、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン、又はこれらの２種以上の混合物が挙げられる。
【００４６】
このようにして調製された下引き層形成用塗布液を導電性支持体２上に塗布し、溶剤を蒸発させた後、乾燥させることによって下引き層１４を成膜することができる。下引き層形成用塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等が挙げられる。また、乾燥工程における温度は好ましくは８０〜１７０℃である。
【００４７】
このようにして得られる下引き層１４の厚みは、好ましくは０．１〜２０μｍであり、より好ましくは０．２〜１０μｍである。
【００４８】
電荷発生層１５は、電荷発生材料、及び結着樹脂を含んで構成される。
【００４９】
電荷発生材料としては、多環キノン顔料、ぺリレン系顔料、アゾ系顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料、フタロシアニン顔料等の公知の有機系顔料が挙げられる。中でも、フタロシアニン顔料が好ましく、フタロシアニン顔料としては、無金属フタロシアニン顔料、チタニルフタロシアニン顔料、銅フタロシアニン顔料、クロロガリウムフタロシアニン顔料、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料、バナジルフタロシアニン顔料、クロロインジウムフタロシアニン顔料、ジクロロスズフタロシアニン顔料等が挙げられる。
【００５０】
結着樹脂としては、具体的には、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース系樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、変性塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂等が挙げられる。
【００５１】
また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマーを結着樹脂として用いることもできる。なお、電荷発生層１５の成膜後に他の層（電荷輸送層１６等）を更に積層する場合、電荷発生層１５の上に積層される層の塗布液の溶剤に溶解する樹脂は好ましくない。
【００５２】
電荷発生層１５における電荷発生材料と結着樹脂との配合比は、それぞれの種類に応じて適宜選択されるものであるが、重量比で４０：１〜１：４であることが好ましく、２０：１〜１：２であることがより好ましい。電荷発生材料の配合量が結着樹脂の配合量の４０倍（重量換算値）を超えると、電荷発生層１５の成膜に用いる電荷発生層形成用塗布液の安定性が不十分となる傾向にある。他方、電荷発生材料の配合量が結着樹脂の配合量の１／４倍（重量換算値）未満であると、電子写真感光体の感度が不十分となる傾向にある。
【００５３】
電荷発生層１５は、電荷発生材料と結着樹脂とを所定の溶剤に分散させて得られる電荷発生層形成用塗布液を所定の層（導電性支持体２、下引き層１４等）上に塗布し、乾燥させることによって好適に得ることができる。
【００５４】
ここで、電荷発生層１５の形成に用いる有機溶剤としては、具体的には、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられる。これらの有機溶剤は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５５】
また、これらの有機溶剤に電荷発生材料と結着樹脂とを分散させる方法としては、サンドミル、コロイドミル、アトライター、ボールミル、ダイノーミル、高圧ホモジナイザー、超音波分散機、コボールミル、ロールミル等が挙げられるが、この際、分散によって電荷発生材料の結晶型が変化しない条件で行うことが好ましい。
【００５６】
また、上記の電荷発生層形成用塗布液を塗布する方法としては、ブレードコーティング方、マイヤーバーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等が挙げられる。
【００５７】
このようにして得られる電荷発生層１５の膜厚は、好ましくは０．０１〜５μｍ、より好ましくは０．０３〜２μｍである。電荷発生層１５の膜厚が前記下限値未満であると成膜性が低下すると共に十分な機械的強度が得られにくくなる傾向にある。他方、電荷発生層１５の膜厚が前記上限値を超えると電気特性上十分な光減衰が得られにくくなる傾向にある。
【００５８】
電荷輸送層１６は、電荷輸送材料及び結着樹脂を含んで構成される。
【００５９】
電荷輸送材料としては、電荷を輸送する機能を有するものであれば特に制限されるものではないが、具体的には、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物；トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物、等が挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらの電荷輸送材料の中でも、トリフェニルアミン系化合物及びベンジジン系化合物は、高い電荷（正孔）輸送能と優れた安定性とを有しているので特に好ましい。
【００６０】
また、電荷輸送材料として、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する高分子電荷輸送材料を用いることができる。特に、特開平８−１７６２９３号公報や特開平８−２０８８２０号公報に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材料は高い電荷輸送性を有しており、特に好ましいものである。なお、電荷輸送材料として高分子電荷輸送材料を用いる場合には結着樹脂を用いずとも電荷輸送層１６の成膜が可能であるが、高分子電荷輸送材料と後述する結着樹脂との混合物を用いて成膜してもよい。
【００６１】
結着樹脂としては、具体的には、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリスルホン、ポリメタクリル酸エステル、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、ポリオレフィン等が挙げられる。これらの結着樹脂は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６２】
電荷輸送層１６は、電荷輸送材料及び結着樹脂を所定の溶剤に分散させて得られる電荷輸送層形成用塗布液を、所定の層（導電性支持体２、下引き層１４、電荷発生層１５等）上に塗布し、乾燥させることによって得ることができる。ここで、電荷輸送層形成用塗布液中の電荷輸送材料と結着樹脂との配合比（重量比）は、５：１〜１：５であることが好ましく、３：１〜１：３であることがより好ましい。電荷輸送材料の配合量が、結着樹脂の配合量の５倍（重量換算値）を超えると、電荷輸送層１６の機械的強度が低下する傾向にある。他方、電荷輸送材料の配合量が結着樹脂の配合量の１／５倍（重量換算値）未満であると、光感度が低下する傾向にある。
【００６３】
また、電荷輸送層形成用塗布液に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類、等有機溶剤の１種を単独で又は２種以上を混合して用いることができる。
【００６４】
さらに、電荷輸送層形成用塗布液の塗布方法としては、ブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等が挙げられる。
【００６５】
このようにして得られる電荷輸送層１６の厚みは、好ましくは５〜５０μｍ、より好ましくは１０〜４０μｍである。
【００６６】
本発明にかかる電子写真感光体においては、図２に示すように、保護層１７を設けることが好ましい。電子写真感光体が保護層１７を備えている場合には、熱、電気、化学物質等に対する安定性と機械的強度との双方がより高められるとともに、水、放電生成物、トナー等による汚染防止効果がより向上する傾向にある。また、保護層１７は電子写真感光体に安定性や機械的強度を付与したり汚染物質の表面への付着を防止したりする機能に加えて、電荷輸送層１６としての機能をも有するので、この保護層１７をそのまま積層型感光体の電荷輸送層１６として用いることもできる。
【００６７】
保護層１７の材料としては、上記下引き層１４の説明において例示された有機金属化合物、シランカップリング剤、結着樹脂等、更に上記電荷輸送層１６の説明において例示された電荷輸送材料が挙げられる。
【００６８】
保護層１７は、上記の材料を所定の溶剤に分散させて得られる保護層形成用塗布液を、所定の層（電荷発生層１５、電荷輸送層１６等）上に塗布し、乾燥させることによって得ることができる。
【００６９】
ここで、保護層形成用塗布液に用いる溶剤及び塗布方法としては、それぞれ上記電荷輸送層１６の説明において例示された溶剤及び塗布方法が挙げられる。
【００７０】
このようにして得られる保護層１７の膜厚は、電子写真感光体の感光特性を損なわない限りにおいて特に制限されないが、例えば、電荷輸送層１６上に保護層１７を設ける場合、０．５〜２０μｍであることが好ましく、１〜１０μｍであることがより好ましい。
【００７１】
なお、本発明の電子写真感光体は上記実施形態に限定されるものではない。例えば、感光層１３は下引き層１４又は保護層１７を有していなくてもよい。
【００７２】
また、機能分離型感光層１３の代わりに、前述の電荷発生材料、電荷輸送材料、及び結着樹脂を含んで構成される単層型感光層を設けてもよい。単層型感光層中における電荷発生材料と電荷輸送材料との配合比は、重量比で１：１０〜１０：１であることが好ましく、５：１〜１：２０であることがより好ましく、また、電荷発生材料と結着樹脂との配合比は、重量比で５：１〜１：２０であることが好ましい。また、単層型感光層の成膜工程においては、電荷発生層や電荷輸送層と同様にして感光層形成用塗布液を調製し、その塗布液を塗布し、乾燥させることによって単層型感光層を形成することができる。このようにして得られる単層型感光層１８の膜厚は、５〜５０μｍであることが好ましく、１０〜４０μｍであることがより好ましい。
【００７３】
上記本発明の電子写真感光体は、例えば、以下に説明する電子写真装置に使用される。
【００７４】
図３は、本発明の電子写真感光体が適用可能な電子写真装置の一例を示す概略構成図である。図３においては、本発明の電子写真感光体２０７が支持体によって保持されており、電子写真感光体２０７は所定の回転速度で回転可能となっている。
【００７５】
そして、電子写真感光体２０７の回転方向に沿って、帯電装置２０８、露光装置２１０、現像装置２１１、転写装置２１２、クリーニング装置２１３がこの順で配置されている。また、当該装置は像定着装置２１５を備えており、被転写媒体５００は転写装置２１２を経て像定着装置２１５へと搬送される。なお、感光体２０７の回転過程において、電源２０９から電圧の供給を受けた帯電装置２０８により、電子写真感光体２０７はその周面に正又は負の所定電位の均一帯電を受ける。
【００７６】
電子写真感光体２０７は、露光装置２１０により露光を受け、その外周面に露光像に対応した静電潜像が形成される。その後、現像装置２１１にて現像剤によりトナー像が形成され、転写装置２１２にてトナー像が被転写体５００に転写される。トナー像が転写された後の被転写体５００は像定着装置２１５にて像定着を受けて複写物としてプリントアウトされる。転写工程後の電子写真感光体２０７はクリーニング装置２１３にてその周面に残存したトナーの除去を受け、清浄面化されて繰り返し像形成に使用される。
【００７７】
帯電装置２０８としては、例えばローラー状、ブラシ状、フィルム状又はピン電極状の導電性又は半導電性の帯電部材を用いた接触型帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等の非接触型帯電器等が挙げられる。
【００７８】
上記接触型帯電器としてローラー状帯電部材を備えるものを用いる場合、ローラー状帯電部材を電子写真感光体１０に接触させることによって、駆動手段を設けることなくローラー状帯電部材を電子写真感光体と同じ周速度で回転させることができる。また、ローラー状帯電部材に所定の駆動手段を取り付け、電子写真感光体１０の周速度と異なる周速度で回転させても良い。
【００７９】
ローラー状帯電部材の芯材としては、鉄、銅、真鍮、ステンレス、アルミニウム、ニッケル等の導電性を有する材料や、導電性粒子等を分散した樹脂成形品等を用いることができる。また、ローラー状帯電部材の弾性層の材料としては、ＥＰＤＭ、ポリブタジエン、天然ゴム、ポリイソブチレン、ＳＢＲ、ＣＲ、ＮＢＲ、シリコンゴム、ウレタンゴム、エピクロルヒドリンゴム、ＳＢＳ、熱可塑性エラストマー、ノルボーネンゴム、フロロシリコーンゴム、エチレンオキシドゴム等のゴム材に、カーボンブラック、亜鉛、アルミニウム、銅、鉄、ニッケル、クロム、チタニウム等の金属、ＺｎＯ−Ａｌ2Ｏ3、ＳｎＯ2−Ｓｂ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2、ＺｎＯ−ＴｉＯ2、ＭｇＯ−Ａｌ2Ｏ3、ＦｅＯ−ＴｉＯ2、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、Ｓｂ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の金属酸化物、等の導電性粒子あるいは半導電性粒子を分散した材料が好ましく用いられる。
【００８０】
さらに、ローラー状帯電部材の抵抗層及び保護層の材料としては、上記の導電性粒子あるいは半導電性粒子をアクリル樹脂、セルロース樹脂、ポリアミド樹脂、メトキシメチル化ナイロン、エトキシメチル化ナイロン、ポリウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリビニル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリチオフェン樹脂、ＰＦＡ、ＦＥＰ、ＰＥＴ等のポリオレフィン樹脂、スチレンブタジエン樹脂に分散し、その抵抗を制御したものが好ましく用いられる。
【００８１】
なお、抵抗層及び保護層の抵抗率は、好ましくは１０3〜１０14Ωｃｍ、より好ましくは１０6〜１０12Ωｃｍ、さらに好ましくは１０7〜１０12Ωｃｍである。また、抵抗層及び保護層の膜厚はそれぞれ好ましくは０．０１〜１０００μｍ、より好ましくは０．１〜５００μｍ、さらに好ましくは０．５〜１００μｍである。さらに、抵抗層及び保護層には、必要に応じてヒンダードフェノール、ヒンダードアミン等の酸化防止剤、クレー、カオリン等の充填剤や、シリコーンオイル等の潤滑剤を添加することができる。これらの層を形成する手段としてはブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、スプレーコーティング法、浸漬コーティング法、ビードコーティング法、エアーナイフコーティング法、カーテンコーティング法等を用いることができる。
【００８２】
上記の接触型帯電器を用いて電子写真感光体を帯電させる場合、ローラー状帯電部材に電圧が印加されるが、印加電圧は直流電圧又は直流電圧に交流電圧を重畳したものが好ましい。電圧の範囲としては、直流電圧は要求される感光体帯電電位に応じて正又は負の５０〜２０００Ｖであることが好ましく、１００〜１５００Ｖであることがより好ましい。他方、直流電圧に交流電圧を重畳する場合は、ピーク間電圧が４００〜１８００Ｖであることが好ましく、８００〜１６００Ｖであることがより好ましく、１２００〜１６００Ｖであることがさらに好ましい。また、重畳する交流電圧の周波数は好ましくは５０〜２００００Ｈｚ、より好ましくは１００〜５０００Ｈｚである。
【００８３】
また、露光装置２１０としては、電子写真感光体２０７表面に、半導体レーザー、ＬＥＤ（ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｏｄｅ）、液晶シャッター等の光源を所望の像様に露光できる光学系装置等；現像装置２１１としては、一成分系、二成分系等の正規又は反転現像剤を用いた従来より公知の現像装置等；転写装置２１２としては、ベルト、ローラー、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等、が挙げられる。
【００８４】
なお、図３には示していないが、電子写真装置２００は中間転写手段を備えるものであってもよい。中間転写手段としては、導電性支持体上にゴム、エラストマー、樹脂等を含む弾性層と少なくとも１層の被服層とが積層された構造を有するもの、あるいは弾性を有する導電性樹脂層単層のものを使用することができる。その材料としては、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリエチレン系樹脂、フッ素樹脂等の樹脂に対して、導電性のカーボン粒子や金属粉等を分散混合させたもの等が挙げられる。また、中間転写手段の形状としては、ローラー状、ベルト状等が挙げられる。
【実施例１】
【００８５】
以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
【００８６】
［実施例１］
以下の手順に従って被処理体である基材を用意した。先ず、１ｍｍ厚ｘ８４ｍｍφｘ３４０ｍｍＬのアルミニウムパイプを用意し、このパイプにダイヤモンドバイトを用いた鏡面旋盤により鏡面切削加工を行い、表面粗さがＲａ＝０．０２μｍ、Ｒｍａｘ＝０．２μｍである平滑面に仕上げた。なお、ここでいうＲａ及びＲｍａｘはそれぞれＪＩＳ  Ｂ０６０１に規定される中心線平均粗さ及び最大平均粗さを意味する。
【００８７】
次に、切削後の基材に対して、脱脂洗浄工程、濯ぎ工程の順で処理を行った。脱脂洗浄工程においては、非イオン性界面活性剤１０〜２０％を含む洗浄液が収容されており超音波振動子を備える第１槽と、非イオン性界面活性剤１〜２％を含む洗浄液が収容されており超音波振動子を備える第２槽と、を有する２槽式の脱脂洗浄装置を用い、超音波を印加しながら各洗浄液に基材を順次浸漬した。洗浄液の溶媒は比抵抗０．５ＭΩ・ｃｍのイオン交換水である。また、水切り工程は、温水引上げ法で行った。水切り工程で使用した水は、比抵抗０．５ＭΩ・ｃｍのイオン交換水である。
【００８８】
このようにして電子写真感光体用基材を用意した後、図１に示す処理装置を用いて湿式ホーニング処理を行った。先ず、個数平均粒径３５μｍの酸化アルミニウム製の研磨材（商品名：アルナビーズＣＢＡ−３５Ｓ、昭和タイタニウム製）を、比抵抗１ＭΩ・ｃｍのイオン交換水に分散し、研磨材濃度が２７重量％、生菌数が５０コロニー／ｃｍ3の研磨液１００を用意した。この研磨液１００を処理室２内に貯留し、ポンプ６により１０Ｌ／ｍｉｎの流量で湿式ホーニングガン３に送液し、所定圧（０．１〜０．２ＭＰａ）の圧縮空気５で基材１の外周面に噴射させた。このとき、基材１を１００ｒｐｍで回転させると共に、ホーニングガン３を５００ｍｍ／ｍｉｎで基材１の軸方向に沿って移動させた。かかる湿式ホーニング処理により、基材の外周面を所望の表面粗さ（Ｒａ：０．２μｍ、Ｒｍａｘ：２μｍ）に仕上げた。
【００８９】
湿式ホーニング処理後の基材を、スプレー洗浄槽に移し、基材外面に付着する多量の研磨材を、上記の電解アルカリ性水を用いて洗い流した。次に、基材１を、電解アルカリ性水を用いた超音波洗浄槽、イオン交換水を用いた超音波濯ぎ槽、及び温イオン交換水による水切り槽で洗浄し、最後に熱風乾燥機で乾燥した。ここで、超音波濯ぎ槽、及び水切り槽で用いたイオン交換水は、比抵抗１６  ＭΩ・ｃｍのものである。
【００９０】
以上の処理が施された基材上に、有機ジルコニウム化合物（商品名：オルガチックスＺＣ５４０、松本製薬（株）製）１００重量部、シランカップリング剤（商品名：Ａ１１００、日本ユニカー（株）製）１０重量部、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−Ｓ、積水化学（株）製）１０重量部及びｎ−ブチルアルコール１３０重量部を混合し、得られた塗布液を浸漬塗布法により塗布し、１４０℃で１５分間加熱して、１．０μｍの下引き層を形成した。
【００９１】
次に、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：ＢＭ−１、積水化学（株）製）の２％シクロヘキサノン溶液に、ヒドロキシガリウムフタロシアノン顔料（特開平５−２６３００７号公報に記載のもの）を、顔料と樹脂との比を２：１に混合し、次いでサンドミルにより３時間分散処理を行った。得られた分散液をさらに酢酸ｎ−ブチルで希釈して下引き層上に浸漬塗布し、０．１５μｍの電荷発生層を形成した。
【００９２】
次に、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（ｍ−トリル）ベンジジン４重量部及びポリカーボネートＺ樹脂６重量部を、モノクロロベンゼン３６重量部に溶解させた溶液を電荷発生層上に浸漬塗布し、１１５℃で４０分間乾燥して、２４μｍ厚の電荷輸送層を形成して電子写真感光体を得た。
【００９３】
［実施例２］
分散媒として比抵抗１７ＭΩ・ｃｍの超純水を用いたこと以外は実施例１と同様にして、生菌数０．１コロニー／ｃｍ3の研磨液を調製した。次に、この研磨液を湿式ホーニング処理に使用したこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
【００９４】
［実施例３］
先ず、比抵抗５ＭΩ・ｃｍの除菌フィルターに通したイオン交換水を用意し、このイオン交換水を用いて電気分解アルカリ性水の原液（商品名：ルミックＥＫＯ−１３ＡＬ、日本電子アクティブ製）をｐＨ９に希釈して分散媒を得た。得られた分散媒に、研磨材として個数平均粒径３５μｍの炭化珪素を分散させて生菌数０．１コロニー／ｃｍ3の研磨液を調製した。次に、この研磨液を湿式ホーニング処理に使用したこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
【００９５】
［比較例１］
分散媒として井戸水を用いたこと以外は実施例１と同様にして、生菌数２００コロニー／ｃｍ3の研磨液を調製した。次に、この研磨液を湿式ホーニング処理に使用したこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
【００９６】
［比較例２］
分散媒として除菌フィルターに通さない比抵抗０．２ＭΩ・ｃｍのイオン交換水を用いたこと以外は実施例１と同様にして、生菌数１００コロニー／ｃｍ3の研磨材分散液を調製した。次に、この研磨液を湿式ホーニング処理に使用したこと以外は実施例１と同様にして、電子写真感光体を作製した。
【００９７】
実施例１〜３及び比較例１、２のそれぞれにおいて、６ヶ月間、所定本数の電子写真感光体を生産した。生産開始直後の１０００本及び生産終了直前の１０００本の感光体に関して、ＣＣＤカメラ、画像処理装置、及び観察顕微鏡で構成される表面欠陥検出装置を用いて、水垢と研磨材の凝集物に起因する、大きさ１００μｍ以上のホーニング傷欠陥の有無を観察した。
【００９８】
観察結果に基づき、検査本数１０００本当りのホーニング傷欠陥の発生率を求めたところ、実施例１ではホーニング傷欠陥発生率が０．２％、実施例２及び実施例３では０％であったのに対し、比較例１では２％、比較例２では１％であった。
【産業上の利用可能性】
【００９９】
以上説明した通り、本発明の湿式ホーニング処理方法は、研磨液中の水垢に起因する研磨材凝集物の発生を抑制し、塗膜欠陥の原因となる凹み欠陥、ホーニング傷の発生を十分に抑制する上で非常に有用である。また、その湿式ホーニング方法により得られる電子写真感光体用基材、並びに当該基材を用いた電子写真感光体及びその製造方法は、電子写真プロセスにおける干渉縞の発生を防止し、良好な画像品質を得る上で非常に有用である。
【図面の簡単な説明】
【０１００】
【図１】本発明の湿式ホーニング処理方法に好適に使用される処理装置の一例を示す概略構成図である。
【図２】本発明の電子写真感光体の好適な一実施形態を示す模式断面図である。
【図３】本発明の電子写真感光体を備える電子写真装置の一例を示す概略構成図である。
【符号の説明】
【０１０１】
１…電子写真感光体用基材、２…処理室、３…ホーニングノズル、４…ポンプ、５…圧縮空気、１０、２０７…電子写真感光体、１３…感光層、１４…下引き層、１５…電荷発生層、１６…電荷輸送層、１７…保護層。
【図１】
2005037710.tif 000003
【図２】
2005037710.tif 000004
【図３】
2005037710.tif 000005