(57)【要約】【課題】  製版条件の変動による影響を受けることなく、ネガ型、ポジ型、直描型水なし平版印刷版のいずれをも安定して処理することができる製版用処理液を提供することを目的とする。【解決手段】  基板上に少なくとも、露光により隣接する層との接着力が変化する層とインキ反発層を備えた水なし平版印刷版の現像方法であって、アミノ基と水酸基とを有する化合物Ａと、重量平均分子量が１００〜１０００であるエチレングリコール誘導体Ｂと、特定の式（I）で表される極性溶剤Ｃとから主としてなり、極性溶剤Ｃを５０重量％以上含む製版用処理液で処理することを特徴とする水なし平版印刷版の現像方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に少なくとも、露光により隣接する層との接着力が変化する層とインキ反発層を備えた水なし平版印刷版の現像方法であって、アミノ基と水酸基とを有する化合物Ａと、重量平均分子量が１００〜１０００であるエチレングリコール誘導体Ｂと、下記一般式（I）で表される極性溶剤Ｃとから主としてなり、極性溶剤Ｃを５０重量％以上含む製版用処理液で処理することを特徴とする水なし平版印刷版の現像方法。
【化１】
2005338580.tif 000007
（ここでＲ：炭素数１〜１０のアルキル基もしくは水素。ｎ：１〜５の整数。）
【請求項２】
製版用処理液温度が３０〜６０℃であることを特徴とする請求項１に記載の水なし平版印刷版の現像方法。
【請求項３】
露光後の水なし平版印刷版を製版用処理液に１０〜１２０秒浸漬することを特徴とする請求項１または２に記載の水なし平版印刷版の現像方法。
【請求項４】
自動現像機を用いて現像することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の水なし平版印刷版の現像方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、湿し水を用いずに印刷が可能な水なし平版印刷版の現像方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
製版用フィルムを使用しないで、原稿から直接オフセット印刷版を作製する、いわゆる直描型製版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷版が得られる迅速性、多様なシステムから品質とコストに応じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、軽印刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、フレキソ印刷の分野にも進出し始めている。
【０００３】
一方、水なし平版印刷版は印刷時に水を必要としないことから、熟練度を必要としない簡易性等の特徴を有している。
【０００４】
これら直描型製版の利点と水なし平版印刷版の利点を併せ持ったのが、直描型水なし平版印刷版である。最近では、露光時にネガあるいはポジのフィルムを用いる従来の水なし平版印刷版に用いられる自動現像機および製版用前処理液にて現像処理が可能な直描型水なし平版印刷版が開発されている。また、製版用処理液についても、ネガ型水なし平版印刷版、ポジ型水なし平版印刷版、直描型水なし平版印刷版のいずれをも処理することができるものが開発されており、このような製版用処理液として、アミン化合物と極性溶剤とからなるものが開示されている（例えば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開２００３−１６７３５６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、このような製版用処理液は、ポジ型や直描型の水なし平版に対する製版条件の変動による影響を受け易いという課題を有していた。本発明は、製版条件の変動による影響を受けることなく、ネガ型、ポジ型、直描型水なし平版印刷版のいずれをも安定して処理することができる製版用処理液を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために本件発明は主として次の構成を有する。すなわち、基板上に少なくとも、露光により隣接する層との接着力が変化する層とインキ反発層を備えた水なし平版印刷版の現像方法であって、アミノ基と水酸基とを有する化合物Ａと、重量平均分子量が１００〜１０００であるエチレングリコール誘導体Ｂと、下記一般式（I）で表される極性溶剤Ｃとから主としてなり、極性溶剤Ｃを５０重量％以上含む製版用処理液で処理することを特徴とする水なし平版印刷版の現像方法である。
【０００７】
【化１】
2005338580.tif 000002
【０００８】
（ここでＲ：炭素数１〜１０のアルキル基もしくは水素。ｎ：１〜５の整数。）
【発明の効果】
【０００９】
本発明の現像方法により、露光部がインキ着肉部となるネガ型水なし平版印刷版と露光部がインキ反発部となるポジ型水なし平版印刷版とレーザーを露光光源に備えた露光装置を使用する直描型水なし平版印刷版のいずれをも処理することが可能となる。更に現像条件の許容幅を広げ製版処理の安定性を増すことに成功した。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
まず、本発明で使用する水なし平版印刷版の原版について説明する。本発明で使用する水なし平版印刷版は、基板上に少なくとも露光により隣接する層との接着力が変化する層（以下、インキ着肉層）とインキ反発層を備える。インキ反発層がシリコーンゴムを主成分とする水なし平版印刷版原版が好ましく用いられる。
【００１１】
本発明において、直描型とは、露光時にネガあるいはポジのフィルムを用いずに、印刷版原版上に記録ヘッドから直接画像形成を行うことをいう。
【００１２】
次に、水なし平版印刷版原版の構成について説明する。
【００１３】
＜基板＞
本発明に用いられる基板は、通常の平版印刷機にセットできる撓み性と印刷時に加わる荷重に耐えるものであれば十分である。
【００１４】
例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、鋼などの金属板、およびクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウム、鉄などがメッキあるいは蒸着された金属板、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのようなプラスチックフイルムないしはシート、クロロプレンゴム、ＮＢＲのようなゴム弾性を有する支持体、あるいはかかるゴム弾性を有する支持体、もしくは紙、樹脂コート紙、アルミニウムなどの金属箔が張られた紙などが挙げられる。
【００１５】
これらのうち、好ましいのは金属板あるいはプラスチックフイルムであり、とりわけアルミニウムを主とした金属板が好ましい。このような金属板はそのまま用いるか、アルカリ水溶液あるいは酸性水溶液による脱脂処理などによりプレーン化して使用する。もしくは機械的方法、電解エッチング法などにより砂目形状を形成させても良い。機械的方法としては、例えばボール研磨法、ブラシ研磨法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法が挙げられる。電解エッチング法としては、リン酸、硫酸、塩酸、硝酸などを含む溶液を用いてエッチングする方法が挙げられる。上記の各種方法は、単独あるいは二種以上を組み合わせて用いることができ、また上記以外の表面処理方法を単独あるいは二種以上組み合わせて用いても良い。
【００１６】
場合によっては、プラスチックフィルム、例えばポリエステルフィルムなども好ましく用いられる。
【００１７】
＜プライマー層＞
本発明に用いる水なし平版印刷版原版は、基板とインキ着肉層との接着性向上を目的として、前記二層の間にプライマー層を有することが好ましい。
【００１８】
プライマー層としては、例えば特開昭６０−２２９０３号公報に提案されている種々の感光性ポリマーを露光して硬化したもの、特開平４−３２２１８１号公報に提案されているメタクリル系含リンモノマーを露光して硬化したもの、特開平２−７０４９号公報に提案されているメタクリル系エポキシ化合物を露光して硬化せしめたもの、特開昭６２−５０７６０号公報に提案されているエポキシ樹脂を熱硬化したもの、特開昭６３−１３３１５１号公報に提案されているゼラチンを硬膜したもの、特開平１−２８２２７０号公報に提案されているウレタン樹脂を用いたものなどを挙げることができる。この他にも、尿素樹脂類、フェノール樹脂類、メラミン樹脂類、ベンゾグアナミン樹脂類、フェノキシ樹脂類、ジアゾ樹脂類、セルロース及びその誘導体類、キチン、キトサン、ミルクカゼイン、シランカップリング剤、大豆蛋白質、アルブミンなどを硬膜したものも有効である。
【００１９】
＜インキ着肉層＞
インキ着肉層としては、画像形成時にネガあるいはポジのフィルムを用いる水なし平版印刷版原版の場合、特公昭５４−２６９２３号公報、特公昭５６−２３１５０号公報などに提案されている光重合性感光層、特公平３−５６６２２号公報、特開昭６１−１５３６５５号公報などに提案されている光二量化型感光層、特公昭６１−５４２２２号公報に提案されている１,２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸クロリドとフェノールホルムアルデヒドノボラック樹脂の部分エステル化物を多官能イソシアネートで架橋した感光層などが有効である。
【００２０】
また、画像形成時にレーザーを露光光源に備えた露光装置を使用する直描型水なし平版印刷版原版の場合、インキ着肉層としては、特開平７−３１４９３４号公報、特開平９−１０４１８２号公報に提案されている金属薄膜、特開平６−１８６７５０号公報、特開平６−５５７２３号公報、特開平７−１６４７７３号公報に提案されている光熱変換物質としてカーボンブラック、バインダーとしてニトロセルロースを使用した感熱層、特開平１１−１５７２３６号公報、特開平１１−２２１９７７号公報で提案されている光熱変換物質、金属キレート化合物、水酸基含有化合物を含有する感熱層などが有効である。
【００２１】
＜インキ反発層＞
本発明に用いる水なし平版印刷版原版はインキ反発層として、シリコーンゴムを主成分とするシリコーンゴム層を有することが好ましい。
【００２２】
シリコーンゴムは大別して以下の２種に分類されるが、これらに限定されない。
【００２３】
（１）縮合反応によって得られるシリコーンゴム
縮合反応によってシリコーンゴムを形成する方法としては、下記一般式（II）で示される繰り返し単位を有する分子量数千〜数十万の線状有機ポリシロキサンを架橋剤により架橋する方法が一般的である。
【００２４】
【化２】
2005338580.tif 000003
【００２５】
（式中、ｎは２以上の整数、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜５０の置換あるいは非置換のアルキル基、炭素数２〜５０の置換あるいは非置換のアルケニル基、炭素数４〜５０の置換あるいは非置換のアリール基の群から選ばれる少なくとも一種であり、それぞれが同一でも異なっていても良い。Ｒ1、Ｒ2の全体の４０％以下がビニル、フェニル、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化フェニルであり、全体の６０％以上がメチル基であるものが好ましい。）
このような線状有機ポリシロキサンは有機過酸化物を添加して熱処理を施すことにより更に架橋したシリコーンゴムとすることもできる。
【００２６】
このような線状有機ポリシロキサンには、通常以下の一般式（III）に示されるような架橋剤を添加することにより架橋させる。
【００２７】
Ｒ3qＳｉＺ4-q                （III）
（式中、ｑは０〜２の整数であり、Ｒ3はアルキル基、アルケニル基、アリール基、またはこれらの組み合わされた基を示し、それらはハロゲン原子、アミノ基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキシ基、（メタ）アクリルオキシ基、チオール基などの官能基を置換基として有していてもよい。Ｚは水素原子、水酸基、アルコキシ基、アシルオキシ基、ケトオキシム基、アミド基、アミノオキシ基、アミノ基、グリシジル基、メタクリル基、アリル基、ビニル基などを有するアセトキシシラン、ケトオキシムシラン、アルコキシシラン、アミノシラン、アミドシランなどが挙げられるが、これらに限定されない。）
このような縮合型シリコーンゴムには、錫、亜鉛、鉛、カルシウム、マンガンなどの金属を含んだ化合物などを触媒として添加することは任意である。
【００２８】
（２）付加反応によって得られるシリコーンゴム
付加反応によってシリコーンゴムを形成する方法としては、分子中に２個以上のエチレン性不飽和結合を有するポリシロキサン化合物と多価ハイドロジェンポリシロキサン化合物とを反応させる方法が一般的である。分子中に２個以上のエチレン性不飽和結合を有するポリシロキサン化合物としては、α,ωージビニルポリジメチルシロキサン、両末端にメチル基を有する（メチルシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重合体などが挙げられる。多価ハイドロジェンポリシロキサン化合物としては、α,ωージメチルポリメチルハイドロジェンシロキサン、両末端にメチル基を有する（メチルポリメチルハイドロジェンシロキサン）（ジメチルシロキサン）共重合体などが挙げられる。
【００２９】
このような付加型シリコーンゴムには、白金単体、塩化白金、オレフィン配位白金などを触媒として添加する。
【００３０】
シリコーンゴム層の膜厚としては、通常０．５〜５０μｍ、好ましくは０．５〜２０μｍ、より好ましくは０．５〜１０μｍである。０．５μｍ以上であれば、耐刷性やインキ反発性の点で問題を生じることがなく、５０μｍ以下であれば、経済的にも有利である。
【００３１】
以上説明したように構成された水なし平版印刷版原版の表面のシリコーンゴム層を保護するなどの目的で、シリコーンゴム層の表面にプレーンなまたは凹凸処理した薄い保護フィルムをラミネートしたり、特開平５−３２３５８８号公報に記載の現像溶媒に溶解するポリマー塗膜を形成することも可能である。また、保護層中には感光層を曝光（露光光源以外の光で、本来非照射部分に光が照射されることを意味する）から保護する目的で、光褪色性物質を含有することもできる。
【００３２】
＜製造方法＞
次に本発明に用いる水なし平版印刷版原版の製造方法を説明する。基板上にリバースロールコーター、エアーナイフコーター、メーヤバーコーターなどの通常のコーターあるいはホエラーのような回転塗布装置を用い、各層を形成する組成物を塗布する。必要に応じてプライマー層組成物塗液を塗布して１００〜３００℃で数分間熱硬化した後、インキ着肉層組成物塗液を塗布し、５０〜１８０℃で数分間熱硬化する。その上にシリコーンゴム層組成物塗液を塗布し、５０〜２００℃の温度で数分間処理してゴムを硬化させる。その後、必要に応じて保護フィルムをラミネートするか、あるいは保護層を形成する。
【００３３】
次に水なし平版印刷版原版の製版方法について説明する。製版とは、平版印刷版原版を活性光線で像様照射する露光工程（画像形成工程）から、露光済みの平版印刷版を現像し印刷版のパターン形成を行う現像工程までを含めた工程のことを言う。なお、現像工程では、現像の前後にそれぞれ前処理、後処理を行うことも行なわれ、その場合、それぞれ前処理工程、狭義の現像工程、後処理工程に細分化される。
【００３４】
＜露光工程＞
露光時にネガあるいはポジのフィルムを用いる従来の水なし平版印刷版原版の場合、通常保護フイルム上から画像露光を行い、その後保護フイルムを除去した後、現像することによって印刷版上に画像を形成することができる。さらに、ネガフィルムを用いる製版工程の場合には、画像露光の前に水なし平版印刷版原版を活性光線で全面露光した後、通常の画像露光を行い、塩基性処理液で処理してから現像を行う方法が一般的に良く用いられ、好ましい。
【００３５】
本発明において画像露光に用いられる活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、カーボンアーク灯等がある。
【００３６】
一方、直描型水なし平版印刷版の場合、保護フィルムを剥離してから、あるいは保護フィルム上からレーザー光で画像状に露光する。ここで用いられるレーザー光源としては、発光波長領域が３００ｎｍ〜１５００ｎｍの範囲にあるものが用いられるが、これらの中でも近赤外領域付近に発光波長領域が存在する半導体レーザーやＹＡＧレーザー、さらには４００〜４２０付近の紫外域半導体レーザー（バイオレットレーザー）などが好ましく用いられる。特に好ましくは、明室での版材の取扱い性などの観点から、７８０ｎｍ、８３０ｎｍ、１０６４ｎｍおよびその近辺の波長のレーザー光が用いられる。
【００３７】
＜現像工程＞
露光後現像を行うが、本発明における製版用処理液を用いることにより、露光部がインキ着肉部となるネガ型水なし平版印刷版、露光部がインキ反発部となるポジ型水なし平版印刷版およびレーザーを露光光源に備えた露光装置を使用する直描型水なし平版印刷版のいずれをも、製版条件によらず安定して処理することが可能となった。本発明はこの製版工程における現像方法を開示するものである。
【００３８】
＜現像手段＞
現像手段としては、手による現像でも公知の現像装置による現像でもよいが、好ましくは前処理工程部と現像工程部、および後処理工程部がこの順に設けられている自動現像装置を用いるのがよい。自動現像装置の具体例としては、東レ（株）製の“ＴＷＬ−１１６０”、“ＴＷＬ−６５０”などの現像装置、あるいは特開平４−２２６５号公報や特開平５−２２７２号公報、特開平５−６０００号公報などに開示されている自動現像装置を挙げることができる。また、これらの自動現像装置を適当に組み合わせて使用することもできる。
【００３９】
＜製版用処理液＞
本発明に用いられる水なし平版製版用処理液は、水なし平版印刷用原版を露光後、現像に先立って前処理する場合に使用されるが、そのまま現像液として用いることもできる。また現像後に処理（後処理）する場合に使用することも可能である。
【００４０】
本発明に用いられる水なし平版製版用処理液は、アミノ基と水酸基とを有する化合物Ａと、重量平均分子量が１００〜１０００であるエチレングリコール誘導体Ｂと、下記一般式（I）で表される極性溶剤Ｃとを含有する。
【００４１】
【化３】
2005338580.tif 000004
【００４２】
本発明におけるアミノ基と水酸基とを有する化合物Ａは、極性溶剤との相溶性がよく、かつ、低温時に塩基処理効果の大きいものである。
【００４３】
本発明におけるアミノ基と水酸基とを有する化合物Ａとしては、具体的には２−アミノ−１−ブタノール、４−アミノ−１−ブタノール、２−（２−アミノエトキシ）エタノール、２−（２−アミノエチルアミノ）エタノール、１−アミノ−１−シクロペンタンエタノール、２−アミノ−１−ヘキサノール、６−アミノ−１−ヘキサノール、２−アミノ−３−メチルベンジルアルコール、２−アミノ−５−メチルベンジルアルコール、２−アミノ−３−メチル−１−ブタノール、（アミノメチル）シクロプロパン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール、２−アミノ−１−ペンタノール、５−アミノ−１−ペンタノールなどが挙げられる。
【００４４】
製版用処理液中に配合される化合物Ａの量は、塩基処理効果の発現性と画像再現性の点で０．１〜４５重量％が効果的であり、０．５〜３５重量％がより好ましい。
【００４５】
本発明に用いられるエチレングリコール誘導体Ｂは、重量平均分子量が１００〜１０００の範囲にあるものである。また、アルコール類、フェノール類、あるいはカルボン酸類などとエチレンオキサイドの付加反応によって得られるものである。
【００４６】
例えば、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコールあるいは１価アルコール（例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、２−エチルヘキサノール、トリデカノール等）などのエチレンオキサイド付加反応物、多価アルコール（例えばグリセリン、トリメチロールプロパン等）のエチレンオキサイド付加反応物、脂肪酸のエチレンオキサイド付加反応物、アルキルフェノールのエチレンオキサイド付加反応物、フェノールのエチレンオキサイド付加反応物など。
【００４７】
上記のうちでも重量平均分子量１００〜６００のポリエチレングリコ−ル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテル、エチレングリコールモノラウリルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノラウリルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリコールモノー２−エチルヘキシルエーテルおよびトリエチレングリコールモノラウリルエーテル、アルコールのエチレンオキサイド４モル付加物で重量平均分子量が２００〜７００のもの、アルキルフェノールのエチレンオキサイド付加反応物で重量平均分子量が２００〜７００のものが特に有用である。
【００４８】
エチレングリコール誘導体Ｂは、製版用処理液中に１〜４５重量％添加するのが非画線部シリコーン剥れと画像再現性の点で好ましく、５〜４０重量％がより好ましい。
【００４９】
また、本発明の処理液においては、エチレングリコール誘導体Ｂと併せて下記一般式（I）で表される極性溶剤Ｃを用いる。
【００５０】
【化４】
2005338580.tif 000005
【００５１】
（ここでＲ：炭素数１〜１０のアルキル基もしくは水素。ｎ：１〜５の整数。）極性溶剤Ｃの具体例としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルなどが用いられる。上記一般式（I）で表される極性溶剤Ｃは、非画線部シリコーン剥れと画像再現性の点から、製版用処理液中５０重量％以上を構成する。さらに、５０〜９０重量％であることが好ましい。
【００５２】
前処理液または後処理液として用いる場合、製版用処理液中に、ぬれ性向上およびアミン成分の溶解性向上のため界面活性剤を添加することもできる。また現像液として用いる場合は、検版性向上のため、例えば“ネプチュンブルーベース６２７”（ＢＡＳＦ社製）、“アイゼンビクトリアブルーＢＨ”、“アイゼンマリーンＲＮＸ”（保土谷化学（株）製）などの染料などを処理液中に加えることもできる。その場合の染料の添加量は０．０５〜０．８重量％が好ましい。
【００５３】
また、アミノ基と水酸基とを有する化合物Ａとエチレングリコール誘導体Ｂと一般式（I）で表される極性溶剤Ｃの混合比率はＡ：Ｂ：Ｃ＝９：１９：７２に近いほど好ましい。
【００５４】
製版用処理液中には極性溶剤に対して４０重量％以下の脂肪族炭化水素類（ヘキサン、ヘプタン、ガソリン、灯油、“アイソパー”Ｈなど）または水を添加してもよい。
【００５５】
＜製版用処理液による処理条件＞
このような製版用処理液により、インキ着肉部（画像部）となる所を溶解あるいは膨潤させるが、安定して溶解あるいは膨潤させるために、前処理中は処理液の温度を一定に保つことが好ましい。適当な処理液温度は、前処理の時間にも依存するが、３０℃〜６０℃が好ましく、３５℃〜５０℃が好ましい。処理液温度が３０℃以上の場合、露光部のインキ反発層と接着力が変化した個所の溶解あるいは膨潤が十分であり、インキ反発層とインキ着肉層との間の接着力を十分に低下あるいは向上させることができる。気温の高い夏場でも３０℃以上に保持するのが容易であるという利点もある。処理液の温度が６０℃以下であるとと、処理液の効果が高くすぎることなく、露光により接着力が変化する層が基板から剥離するなどの問題が生じることがなくなる。また、処理液中の水の揮発が無視できるため、組成の安定性を保つ観点からも好ましい。
【００５６】
＜前処理工程＞
前処理は、通常、製版用処理液を浸漬させることによって行う。製版用処理液中の浸漬時間によって、インキ着肉部（画像部）となる所を溶解あるいは膨潤させる程度が変化するため、浸漬時間も一定に保持したほうが安定して現像が行える。処理液中の浸漬時間は１０〜１２０秒が好ましく、１５〜９０秒がより好ましい。浸漬時間が１０秒以上の場合、浸漬時間の管理が容易であり、安定した現像が行いやすい。浸漬時間が１２０秒以下であることが、作業性の面から好ましい。特に前処理工程、現像工程および後処理工程を一体的連続的に行う自動現像機を用いる場合、前処理工程における浸漬時間を長くすることは、自動的に現像工程および後処理工程に要する時間も長くなってしまう。
【００５７】
＜狭義の現像工程＞
本発明における狭義の現像工程とは、上記の製版用処理液もしくは水の存在下、版表面をブラシや木綿パッドで擦ることにより画像を形成することである。ポジティブワーキングにより画像形成された場合、未露光部のインキ反発層が除去されて下層の露光により隣接する層との接着力が変化する層（インキ着肉層）が露出しインキ着肉部（画像部）が形成される。また、ネガティブワーキングにより画像形成された場合、露光部のインキ反発層が除去されてインキ着肉層が露出しインキ着肉部（画像部）が形成される。排液処理の点からは、現像液として水を使用することが好ましい。温水や水蒸気を版面に噴射することによって現像を行ってもよい。現像性を上げるために、水に上記の製版用処理液を少量加えたものを現像液として用いてもよい。現像液の温度は任意でよいが、１０℃〜５０℃が好ましい。
【００５８】
＜後処理工程＞
狭義の現像工程の後、必要に応じて、現像の確認を容易にするため画像部を染色液で染色する後処理工程を設けてもよい。
【００５９】
染色液に用いられる染料としては、塩基性染料、酸性染料、直接染料、分散染料、および反応性染料などの中から単独で、あるいは２種以上のものを混合して用いることができる。なかでも、水溶性の塩基性染料および酸性染料が好ましく用いられる。
【００６０】
塩基性染料としては、“クリスタルバイオレット”、“エチルバイオレット”、“ビクトリアピュアブルー”、“ビクトリアブルー”、“メチルバイオレット”、“DIABACIS MAGENTA”（三菱化学（株）製）、“AIZEN BASIC CIANINE 6GH”（保土ヶ谷化学工業（株）製）、“PRIMOCYANINE BX CONC.”（住友化学（株）製）、“ASTRAZON BLUE G”（FARBENFARRIKEN BAYER 製）、“DIACRYL SUPRA BRILLIANT 2B”（三菱化学（株）製）、“AIZEN DIAMOD GREEN GH”（保土ヶ谷化学工業（株）製）などが用いられる。
【００６１】
酸性染料としては、“ACID VIORET 5B”（保土ヶ谷化学工業（株）製）、“KITON BLUE A”（CIBA製）、“PATENT BLUE AF”（BASF製）、“RAKUTO BRILLIANT BLUE FCF”（洛東化学工業（株）製）、“BRILLIANT ACID BLUE R”（GEIGY製）、“KAYANOL CYANINE 6B”（日本化薬（株）製）、“SUPRANOL CYANINE G”（FARBENFARRIKEN BAYER 製）、“ORIENT SOLUBLE BLUEOBB”（オリエント化学工業（株）製）、“ACID BRILLIANT BLUE 5G”（中外製薬（株）製）、“ACID GREEN GBH”（高岡化学工業（株）製）、“ACID BRILLIANT MILLING GREEN B”（保土ヶ谷化学工業（株）製）などが用いられる。
【００６２】
これら染料の染色液中の含有量は、０．０１重量％〜１０重量％が好ましく、０．１重量％〜５重量％がより好ましい。
【００６３】
染色液の溶媒としては、水、アルコール類、グリコール類、グリコールモノアルキルエーテル類、グリコールジアルキルエーテル類が用いられ、これらの溶媒は単独あるいは２種以上混合して用いられる。グリコール類、グリコールモノアルキルエーテル類、グリコールジアルキルエーテル類は処理液としての効果を有するので、仮に現像工程でインキ着肉部となる箇所のシリコーンゴム層が現像できずに付着していても、後処理工程で現像させることもできる。
【００６４】
本発明の処理液には、その他の染色助剤、有機酸、無機酸、消泡剤、可塑剤、界面活性剤を任意に添加してもよい。
【００６５】
染色液の温度は任意でよいが、１０℃〜５０℃が好ましい。また、現像液中に上記染料を添加しておいて、現像と同時に画像部の染色化を行うこともできる。
【００６６】
＜水洗工程＞
版面に処理液や染色液が浸透したままになっていると、経時により非画線部のシリコーンが剥離しやすくなる場合、また画線部のインキ着肉層が剥離しやすくなる場合があるため、処理液や染色液を版面から完全に洗い落とす水洗工程を設けてもよい。水洗水の温度は任意でよいが、１０℃〜５０℃が好ましい。
【実施例】
【００６７】
以下実施例によって本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６８】
[実施例１]
＜露光工程＞
以下の３種の水なし平版を、以下の通りの方法で露光した。
【００６９】
東レ“直描型水なし平版ＣＧ５”をイメージセッター“ＴＤＬ−４４００”（東レ（株）製）に巻き付け固定後、画像を出力し（２４００dpi、１７５L/inch、１５０mJ/cm2）、版から保護フィルムを剥離した。
【００７０】
東レ“ポジ型水なし平版ＤＧ１”に１７５線／インチの網点画像を持つポジフィルムと光学濃度差０．１５であるグレースケール（Ｇ／Ｓ）をメタルハイドランプ（岩崎電気（株）製“アイドルフィン２０００”）にて９０秒間密着露光後、版から保護フィルムを剥離した。
【００７１】
東レ“ネガ型水なし平版Ｅ”に１７５線／インチの網点画像を持つポジフィルムと光学濃度差０．１５であるグレースケール（Ｇ／Ｓ）をメタルハイドランプ（岩崎電気（株）製“アイドルフィン２０００”）にて６０秒間密着露光後、版から保護フィルムを剥離した。
【００７２】
＜現像工程＞
まず、下に示す組成からなる＜製版用処理液１＞を調合した。次に、水なし平版印刷版用自動現像機“ＴＷＬ−１１６０Ｆ”（東レ（株）製）を用いて、上記各々の水なし平版の現像処理を行った。“ＴＷＬ−１１６０Ｆ”は第１〜４槽を有し、通常第１槽には前処理液、第２槽には現像液、第３槽には染色液（後処理液）、第４槽には洗浄液を入れる。本実施例では、第１槽には下記の＜製版用処理液１＞を、第２槽には水を、第３槽には“ＰＡ−ＦII”（東レ（株）製、水なし平版用現像後処理液）を、第４槽には水を入れた。
【００７３】
＜製版用処理液１＞の組成
（１）ジエチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテル：１９重量部
（２）ポリプロピレングリコール＃２００                    ：７２重量部
（３）２−（２−アミノエチルアミノ）エタノール            ：  ９重量部
（４）水                                                  ：  １重量部
第１槽においては、印刷版面上に＜製版用処理液１＞がかけられ、これによりインキ着肉部（画像部）となる所が溶解あるいは膨潤する。製版用処理液の温度は４５℃、浸漬時間は４５秒とした。
【００７４】
印刷版が第１槽から第２槽に自動搬送される過程で、印刷版面上の処理液はロールにより除去される。第２槽においては、印刷版は版面に水がかけられた状態で、印刷版の搬送方向と同回転方向に回転しているブラシで擦られ、第３槽においては印刷版は版面に“ＰＡ−ＦII”（東レ（株）製、水なし平版用後処理液）がかけられた状態で印刷版の搬送方向と逆回転方向に回転しているブラシで擦られ、第４槽においては印刷版は版面に水がかけられた状態で版送方向と同回転方向に回転しているブラシで擦られる。第２槽における水の温度は２５℃であった。
【００７５】
この結果、インキ着肉部（画像部）となる箇所のシリコーンゴム層が除去された直描型水なし平版印刷版、ポジ型水なし平版印刷版、ネガ型水なし平版印刷版が得られた。
【００７６】
こうして得られた印刷版を枚葉オフセット印刷機“スプリント２５”（小森コーポレーション（株）製）に取り付け、水なし平版用インキ“ドライオカラーＮＳＩ”藍（大日本インキ（株）製）を使用して上質紙（６２．５ｋｇ／菊）に印刷し、印刷物としての画像再現性（ハイライト部：１〜４％網点、マイクロライン）を評価したところ、表１に示すように良好な画像再現性を示した。
【００７７】
[実施例２]
自動現像機の第１槽に＜製版用処理液１＞を使用し、製版用処理液の温度を４３℃、浸漬時間を３０秒とした他は実施例１と同様の方法にて製版・印刷をして画像再現性の評価を行った。結果は表１に示す。ポジ型水なし平版、直描型水なし平版は良好な画像再現性を示し、ネガ型水なし平版はほぼ再現することが可能であった。
【００７８】
[実施例３]
自動現像機の第１槽に＜製版用処理液１＞を使用し、製版用処理液の温度を４０℃、浸漬時間を４５秒とした他は実施例１と同様の方法にて製版・印刷をして画像再現性の評価を行った。結果は表１に示す。ポジ型水なし平版、直描型水なし平版は良好な画像再現性を示し、ネガ型水なし平版はほぼ再現することが可能であった。
【００７９】
[比較例１]
アミノ基と水酸基とを有する化合物Ａおよび重量平均分子量が１００〜１０００のエチレングリコール誘導体Ｂを含まない＜製版用処理液２＞を調合した。自動現像機の第１槽に＜製版用処理液２＞を使用し、製版用処理液の温度を４０℃、浸漬時間を１２０秒とした他は実施例１と同様の方法にて製版・印刷をして画像再現性の評価を行った。結果は表１に示す。ポジ型水なし平版、直描型水なし平版、ネガ型水なし平版のいずれにおいても良好な画像再現性は得られなかった。
【００８０】
＜製版用処理液２＞
（１）ポリオキシプロピレングリコールモノブチルエーテル＃１２００：７５重量部
（２）３−メチル−１，３−ブタンジオール                        ：２５重量部
[比較例２]
アミノ基と水酸基とを有する化合物Ａを含まない＜製版用処理液３＞を調合した。自動現像機の第１槽に製版用処理液３を使用し、製版用処理液の温度を３５℃、浸漬時間を３５秒とした他は実施例１と同様の方法にて製版・印刷をして画像再現性の評価を行った。結果は表１に示す。ポジ型水なし平版はほぼ再現できたが、直描型水なし平版やネガ型水なし平版は画像再現性が劣る結果となった。
【００８１】
＜製版用処理液３＞
（１）ジエチレングリコールモノ（２−エチルヘキシル）エーテル    ：７０重量部
（２）ポリオキシプロピレングリコールモノブチルエーテル＃１２００：１５重量部
（３）１，３−ブタンジオール                                    ：１５重量部
[比較例３]
重量平均分子量が１００〜１０００のエチレングリコール誘導体Ｂを含まない  ＜製版用処理液４＞を調合した。自動現像機の第１槽に＜製版用処理液４＞を使用し、製版用処理液の温度を４３℃、浸漬時間を３０秒とした他は実施例１と同様の方法にて製版・印刷をして画像再現性の評価を行った。結果は表１に示す。直描型水なし平版はほぼ再現できたが、ポジ型水なし平版やネガ型水なし平版は画像再現性が劣る結果となった。
【００８２】
＜製版用処理液４＞
（１）ジエチレングリコール                ：８０重量部
（２）ポリプロピレングリコール＃２００    ：３０重量部
（３）Ｎ−エチルエタノールアミン          ：２０重量部
（４）水                                  ：１０重量部
[比較例４]
自動現像機の第１槽に製版用処理液４を使用し、製版用処理液の温度を４５℃、浸漬時間を４５秒とした他は実施例１と同様の方法にて製版・印刷をして画像再現性の評価を行った。結果は表１に示す。ポジ型水なし平版、直描型水なし平版、ネガ型水なし平版のいずれにおいても良好な画像再現性を示した。
【００８３】
[比較例５]
自動現像機の第１槽に製版用処理液４を使用し、製版用処理液の温度を４０℃、浸漬時間を４５秒とした他は実施例１と同様の方法にて製版・印刷をして画像再現性の評価を行った。結果は表１に示す。ポジ型水なし平版、直描型水なし平版はほほ再現できたが、ネガ型水なし平版は画像再現性が劣る結果となった。
【００８４】
【表１】
2005338580.tif 000006
【００８５】
本発明の製版用処理液１を用いた実施例１〜３と、製版用処理液４を用いた比較例３〜５の結果を比較すると、本発明の現像方法により、現像条件の許容幅が広がり製版処理の安定性が増していることがわかった。