(57)【要約】【課題】  本発明はカラーフィルタ中に形成するカラーフィルタの非形成部を精度よく形成することができ、カラーフィルタ及び遮光膜上の表面の平坦度が向上し、剥離しにくいカラーフィルタを有する液晶表示装置を提供することである。【解決手段】  本発明の液晶表示装置は、液晶表示素子１と、バックライト２とを備えるとともに、前記液晶層を挟んで互いに対向する表示電極の交差領域を画素領域に光反射部３４と光透過部３４ａを設けるとともに、且つ各画素領域に相当するカラーフィルタを形成してなる液晶表示装置である。各画素領域の間に相当する領域に前記カラーフィルタ５２の膜厚と概略同一の膜厚の遮光膜５１を形成し、前記遮光膜５１に隣接するカラーフィルタの非形成部５３を形成した。【選択図】    図２
2005283853.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも表示電極、配向膜を有する一対の透明基板を、互いの表示電極が対向するようにして液晶層を介在させてなる液晶表示素子と、
該液晶表示素子の他方の透明基板に対向するように外部側に配置されるバックライトとを備えるとともに、前記液晶層を挟んで互いに対向する表示電極の交差領域を画素領域とするとともに、前記表示電極に光反射部と光透過部を設けるとともに、一方の基板の内面に各画素領域に相当するカラーフィルタを形成してなる液晶表示装置において、
前記一方基板には、各画素領域の間に相当する領域に前記カラーフィルタの膜厚と概略同一の膜厚を有する遮光膜を形成するとともに、前記遮光膜に隣接し且つ画素領域の光反射部に相当する領域にカラーフィルタの非形成部を有していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記一方基板に形成したカラーフィルタ及びカラーフィルタの非形成部上に透明絶縁膜を形成するとともに、前記絶縁膜の前記画素領域の光透過部に相当する領域に凹部を形成したことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は１つの画素領域に光反射部と光透過部を備えたカラー表示可能な液晶表示装置に関するものである。
【従来の技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置は小型もしくは中型の携帯情報端末やノートパソコンの他に、大型かつ高精細のモニターにまで使用されている。さらにバックライトを使用しない反射型液晶表示装置の技術も開発されており、薄型、軽量および低消費電力化に優れている。また、反射型液晶表示装置には、後方に配設した基板の内面に凹凸形状の光反射層を形成した散乱反射型があるが、バックライトを用いないことで、周囲の光を有効に利用している。さらに、光反射層に代えて、半透過膜を形成し、バックライトを設け、反射モードや透過モードに使い分ける半透過型液晶表示装置も開発されている。
【０００３】
この半透過型の液晶表示装置によれば、太陽光、蛍光灯などの外部照明によって反射モードで用いたり、あるいはバックライトを内部照明として透過モードで用いていた。この双方の機能を併せ持たせるために、半透過膜を使用している（特開平８−２９２４１３号および特開平７−３１８９２９号参照）。
【０００４】
また、半透過膜は、透過モードにおいては、光の透過率が低下してしまい、また、反射モードでは、光の反射率が低下してしまうことから、１つの画素領域に光透過用ホール（光透過部）を設けた反射膜（光透過部以外の領域が光反射部）により、光透過用ホールから光の一部を透過させ、反射膜にて光の一部を反射させることにより半透過型の液晶表示装置も提案されている（特開２０００-１９５６３号参照）。
【０００５】
また、１つの画素領域に光透過部と、光反射部とを具備した半透過型の液晶表示装置において、画素領域ごとにカラーフィルタを形成して、カラー表示させる場合、液晶表示装置の表示面側から入射した外光を利用した反射モードでは、外光が入射された経路と、光反射部で反射された後の経路に、カラーフィルタが存在することにより、反射モードでは、光が合計２回もカラーフィルタを通過することになる。
【０００６】
これに対して、液晶表示素子の背後に配置したバックライトを利用した透過モードでは、光が１回しかカラーフィルタを通過しない。このため、表示モードによって光の色付き度合い（色純度）が相違してしまう。
【０００７】
また、反射率を高めるために光反射部に相当する領域にのみカラーフィルタの無い部分（非形成部）を形成して、反射率を上げるとともに、反射モードの色純度を下げ、透過モードでの色純度との差異を小さくする構成も提案されている。
【特許文献１】特開２０００-１９５６３号参照
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、１画素領域に対応する位置に形成した所定カラーフィルタに、反射率の向上や色純度の調整のために、所定形状のカラーフィルタの非形成部をするためには非常に精度の高い微細加工が必要となる。しかしも、厚みが１〜２μｍのカラーフィルタ中に、カラーフィルタの非形成部を精度高く形成することは非常に困難となる。
【０００９】
また、従来においては画素領域に対応して形成したカラーフィルタを取り囲むように、また、複数の画素領域がマトリック状に配列されて形成された表示領域を取り囲むように形成される遮光膜が、０．３μｍ以下の厚みの金属薄膜で形成されている。即ち、カラーフィルタ中に形成したカラーフィルタの非形成部及びこの遮光膜の存在により、カラーフィルタの表面を基準とした時、画素領域の表面には凹んだ箇所が多数存在することになる。即ち、カラーフィルタ上にオーバーコート層を形成しても、オーバーコート層の表面には、カラーフィルタの非形成部や遮光膜に相当して凹凸が発生してしまい、その結果、液晶層の厚みの不均一であるという問題があった。
【００１０】
また、カラーフィルタの形成において、厚みの薄い（０．３μｍ以下)遮光膜を形成し、その後、１〜２μｍのカラーフィルタを形成し、しかもこのカラーフィルタ中に非形成部を形成すると、カラーフィルタ自身が額縁状となり、幅狭い部分が発生したり、また細線状、縞状となり、カラーフィルタの密着性低下してしまい、剥がれやすくなるという問題があった。
【００１１】
本発明は上述の問題点に鑑みて案出されたものであり、その目的は、カラーフィルタ中に形成するカラーフィルタの非形成部を精度よく形成することができ、また、カラーフィルタ及び遮光膜上の表面の平坦度が向上するとともに、剥離しにくいカラーフィルタを有する液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の液晶表示装置は、少なくとも表示電極、配向膜を有する一対の透明基板を、互いの表示電極が対向するようにして液晶層を介在させてなる液晶表示素子と、該液晶表示素子の他方の透明基板に対向するように外部側に配置されるバックライトとを備えるとともに、前記液晶層を挟んで互いに対向する表示電極の交差領域を画素領域とするとともに、前記表示電極に光反射部と光透過部を設けるとともに、一方の基板の内面に各画素領域に相当するカラーフィルタを形成してなる液晶表示装置において、
前記一方基板には、各画素領域の間に相当する領域に前記カラーフィルタの膜厚と概略同一の膜厚を有する遮光膜を形成するとともに、前記遮光膜に隣接し且つ画素領域の光反射部に相当する領域にカラーフィルタの非形成部を有していることを特徴とする液晶表示装置である。
【００１３】
また、前記一方基板に形成したカラーフィルタ及びカラーフィルタの非形成部上に透明絶縁膜を形成するとともに、前記絶縁膜の前記画素領域の光透過部に相当する領域に凹部を形成したことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
以上のとおり、本発明の液晶表示装置によれば、一方基板に形成したカラーフィルタと遮光膜とが概略に同一厚みに設定されている。従って、その表面をみたときには、表面の凹凸がカラーフィルタの非形成部の部分だけであり、従来に比較して凹凸部分が極端に減少させることができる。
【００１５】
しかも、カラーフィルタの非形成部が、光反射部に相当する領域に形成されている。このため、反射モードによる光がカラーフィルタを２回通過する度合いを下げて、その光の色純度を、透過モードによる色純度に近似させることができる。
【００１６】
また、カラーフィルタの非形成部が遮光膜に隣接して形成されている。これにより、カラーフィルタに非形成部を形成すべく、露光・現像するにあたり、現像用レジストをカラーフィルタの膜厚と概略同一の遮光膜に跨がって安定して形成できるため、現像用レジストの形成を精度高く形成することができる。即ち、従来のように、カラーフィルタの中央領域に非形成部に形成する場合は、たとえば、現像用レジストの塗布時の滲みなどによる誤差が、非形成部の全周囲で発生してしまうが、本発明のように、カラーフィルタと厚みが概略同一の遮光膜に隣接するようにカラーフィルタの非形成部が形成すれば、現像用レジストの塗布時の滲みに起因する誤差が、遮光膜に隣接する辺では一切発生することがない。
【００１７】
その結果、カラーフィルタの非形成部の寸法を、反射モードにおける色純度の制御を考慮して非常に精度を高めて形成することができる。同時に、オーバーコート層をより平坦化して、表面の窪み量を極小化することができる。
【００１８】
また、カラーフィルタの端部にカラーフィルタの非形成部が形成されるため、同時に、カラーフィルタの剥がれがないものとなる。
【発明を実施するための最良な形態】
【００１９】
以下、本発明の液晶表示装置を図面に基づいて詳説する。
【００２０】
図１は、本発明の液晶表示装置の概略断面図を示すものである。図２は、本発明の液晶表示装置の１つ画素領域部分を拡大した断面図である。
【００２１】
本発明の液晶表示装置は、液晶表示素子１、ＬＥＤバックライト２及び両者を収容する筐体３とから主に構成されている。
【００２２】
液晶表示素子１は、他方の基板である下部側透明基板１１、一方の基板である上部側透明基板１２、両透明基板１１、１２との間には配される液晶層１３とからも主に構成されている。
【００２３】
また、下部透明基板１１の内面には、例えば、表示電極（画素電極）、配向膜などが形成されており、また、上部透明基板１２内面には、カラーフィルタ、表示電極、配向膜が形成されている。図１では下部透明基板１１の内面の構造物を単に符号１５で示し、また、上部透明基板１２の構造物を単に符号１６で示している。
【００２４】
この下部透明基板１１の内部構造物１５を構成する画素電極と上部透明基板１２の内部構造物１６を構成する表示電極は、互いに対向して、１つの画素領域を構成し、これら画素領域がマトックス状に配列された表示領域を構成している。
【００２５】
そして、たとえば下部透明基板１１の内部構造物１５には、表示電極（１画素に対応して個別に形成されている）を含んでおり、この画素領域に光透光部と光反射部とを有している。具体的には１画素領域内に所定大きさの透光孔が形成され、この孔部が光透光部となり、バックライトの光が、この光透光部を通過することになる。
【００２６】
また、下部透明基板１１の内部構造物１５には、各画素電極を駆動させるためのスイッチング手段、スイッチング手段を駆動させる配線を有している。
【００２７】
上部透明基板１２の内部構造物１６には、カラーフィルタ、遮光膜を有している。このカラーフィルタは各画素領域に対して赤、緑、青のいずれかであり、各画素領域に対応して形成されている。また、隣接しあう画素領域及び画素領域が配列されて構成される表示領域の周囲には遮光膜が形成されている。
【００２８】
また、下部透明基板１１の外面および上部透明基板１２の外面には、図では省略しているが、偏光板、位相差フィルム、必要に応じて拡散フィルタが配置されている。
【００２９】
また、下部側透明基板１１には、さらに表示電極、スイッチング手段に接続し、表示駆動させるため回路またはこの回路に接続する配線が形成され、表示電極やスイッチング手段に所定信号、所定電圧を供給されるようになっている。
【００３０】
なお、上部透明基板１２の表示電極と下部透明基板１１と所定配線との間の接続は、シール部１４に含有させた導電性フィラーを介して接続しても構わない。
【００３１】
下部透明基板１１や上部透明基板１２は、ガラス、透光性プラスチックなどが例示できる。また、内部構造物１５、１６をする表示電極、画素電極は、たとえば透明導電材料であるＩＴＯや酸化錫などで形成され、また、反射部を構成すると反射金属膜はアルミニウムやチタンなどで構成されている。また、配向膜はラビング処理したポリイミド樹脂からなる。
【００３２】
このような下部透明基板１１や上部透明基板１２は、シール部１４を介して貼り合わせ圧着し、そのシール部１４の一部の開口よりネマチック液晶などからなる液晶を注入し、しかる後に、その注入口を封止して、液晶層１３が形成される。この貼り合わせに際し、両透明基板１１、１２に配列した双方の表示電極を両者が直交するようになし、表示電極の交差部分が各画素領域を構成する。
【００３３】
このようにして液晶表示素子１が構成されている。この液晶表示素子１の下部基板１１の外部側（背後）には、バックライト２が配置されている。なお、具体的には、バックライト２は、導光板２１に供給される光源２２とからなっており、導光板２１の一方の主面（光が出射される面）が、液晶表示素子１の表示領域に対向するように配置されている。
【００３４】
バックライト２を構成する導光板２１は、透明樹脂基板からなり、その樹脂成分中に光散乱部材を含有させても構わない。導光板２１の他方の主面には、光が拡散・反射される反射部材が形成されている。この反射部材は、導光板２１中を伝搬する光を一方主面側に放射させるためのものであり、他方主面に直接、拡散・反射させるための溝を形成したり、さらに、他主面に拡散・反射機能を有する塗膜を形成したり、さらに、他方主面に反射金属基板２３を貼附して構わない。
【００３５】
この導光板２１の端面部分には、光源（冷陰極管や発光ダイオード）が配置されている。図１では、たとえば光源が、導光板１の端面と対向するように配置されている。
【００３６】
次に、図２を用いて、液晶表示素子の画素領域部分の要部を説明する。
【００３７】
図２において、他方側基板、たとえば下部透明基板１１の内部構造１５は、ゲート配線３１、補助容量配線３２、画素電極である透明電極３３、反射膜３４、薄膜トランジスタ３５、ソース電極３６、ドレイン電極３７、絶縁膜３８を含んでいる。また、一方側基板、たとえば上部透明基板１２、透明電極５５、オーバーコート層５４である。
【００３８】
下部透明基板１１、複数のゲート配線３１と複数のソース電極３６に接続する配線が交差（直交）するように配置され、これらの配線に囲まれた部分に形成された透明電極３３が画素領域となる。これらの配線３１、３６の交差部には前記スイッチング手段である薄膜トランジスタ３５が設けられている。
【００３９】
薄膜トランジスタ３５は、従来周知のごとく、ゲート配線３１の上部に、ゲート絶縁膜３８、半導体層３９、ｎ＋−Ｓi層４０、ソース電極３６、ドレイン電極３７、保護膜４１で構成される。
【００４０】
ゲート配線３１はＣｒ、Ｔａ、Ａl、Ａl合金（ＡlＴａ、ＡlＮｄ）等の金属薄膜で形成される。絶縁膜３８はＴａ２Ｏ３やＳｉＮＸやＳｉＯ２等で形成される。半導体膜３９はＳｉで形成される。ソース電極３６とドレイン電極３７は、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ａl、Ａl合金（ＡlＴａ、ＡlＮｄ）等の金属膜で形成され、また光透過孔３４ａを有する反射膜３４をＡl、Ａl合金（ＡlＴａ、ＡlＮｄ）、Ａｇ、Ａｇ合金等の金属膜で形成され、またＩＴＯからなる透明電極３３と接続される。
【００４１】
画素領域を規定する画素電極は、透明電極（たとえば、ＩＴＯなどからなる）である透明電極３３であり、さらに、前記金属層（たとえば、Ａl、Ａl合金（ＡlＴａ、ＡlＮｄ）、Ａｇ、Ａｇ合金等からなる）である反射膜３４との組合せからなる。反射膜３４の被着領域に対応して反射モードの表示に寄与する光反射部（便宜上符号３４を付与する）となる。反射膜３４のない領域である光透過孔３４ａが光透過部（便宜上符号３４ａを付与する）となり、透過モードの表示に寄与する。
【００４２】
実際には、赤のカラーフィルタに対応する画素領域に形成された透過孔３４ａの大きさ、緑のカラーフィルタに対応する画素領域に形成された透過孔３４ａの大きさ、青のカラーフィルタに対応する画素領域に形成された透過孔３４ａの大きさを、それぞれ画素領域全体の３０％としてもよい。また、赤のカラーフィルタに対応する画素領域に形成された透過孔３４ａの大きさ、緑のカラーフィルタに対応する画素領域に形成された透過孔３４ａの大きさ、青のカラーフィルタに対応する画素領域に形成された透過孔３４ａの大きさを、例えば画素領域全体に対して、３５％、２５％、３５％として、反射モードにおけるホワイトバランスを黄色よりにするとともに、透過モードのホワイトバランスを青よりにしてもよい。
【００４３】
上部透明基板１２の内部構造部１６は、遮光膜５１、カラーフィルタ５２、オーバーコート層５４、透明電極５５から構成されている。
【００４４】
具体的には、遮光膜５１は、１．０μｍの膜厚で透明レジストに樹脂カーボンを分散して形成されている。また、カラーフィルタ５２は、１．０μｍの膜厚で所定の顔料分散した樹脂レジストで形成されている。そして、この遮光膜５１は、実質的に１画素領域を取り囲むように形成されている。即ち、望ましくは画素領域の全周囲を取り囲むことが望ましいが、画素領域での光のもれが発生しない程度に画素領域の周囲に画素領域間に形成してもよい。
【００４５】
また、上部透明基板１２に画素領域の周囲に形成された遮光膜５１で囲まれた領域には、カラーフィルタ５２とカラーフィルタの非形成部５３とが形成されている。
【００４６】
このカラーフィルタの非形成部５３は、この遮光膜５１に隣接し、且つ画素領域の光反射部３４に相当する領域に形成されている。
【００４７】
たとえば、カラーフィルタの非形成部５３は、１つの画素領域内に、その画素領域の全体の１０％の面積で形成されている。また、たとえば各色のカラーフィルタが形成される画素領域ごとに、そのカラーフィルタの非形成部５３の面積を変化させてもよい。たとえば、赤色のカラーフィルタが形成される画素領域においては、カラーフィルタの非形成部５３をその画素領域に対して８％に設定して、緑色のカラーフィルタが形成される画素領域においては２４％、青色のカラーフィルタが形成される画素領域においては８％とし、反射モードでの表示においてホワイトバランスを青色よりにしてもよい。
【００４８】
具体的な製造方法としては、上部透明基板１２の内面に、樹脂カーボン（黒色）を分散した透明レジストを塗布するとともに、最終的に遮光膜５１となる部分を選択露光を行ない、硬化せしめ、露光されない部分を現像処理する。青色のカラーフィルタ、赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタとなる顔料を分散した透明レジストを塗布し、選択露光で硬化するとともに、露光されていない部分他のカラーフィルタが形成される画素領域及びカラーフィルタの非形成部を順次形成する。このとき、遮光膜５１、カラーフィルタ５２となる樹脂レジストを概略同一の厚みで形成する。
【００４９】
たとえば、最初に形成する青色のカラーフィルタを例にすれば、青色顔料を分散したレジストを、既に形成されている遮光膜５１を含む表示領域に全域に塗布し、その後、青色カラーフィルタを形成すべき部分のみを露光して硬化するとともに、露光されない部分を現像処理する。この現像により既に形成された遮光膜５１が露出され、同時に、赤色カラーフィルタを形成すべき画素領域及び緑色カラーフィルタを形成すべき画素領域のレジスト及び塗布した青色のレジストの一部で遮光膜５１に隣接するようにカラーフィルタの非形成部５１の領域が除去される。このようにして赤色カラーフィルタ、緑色フィルタが順次形成する。
【００５０】
このように形成された遮光膜５１、カラーフィルタ５２及びカラーフィルタの非形成部５３を含めて、その表面には、３．５μｍの膜厚で透明なオーバーコート層５４を形成する。
【００５１】
さらに、その表面には、０．１２μｍの膜厚のＩＴＯ等からなる表示電極５５を形成する。
【００５２】
尚、下部側透明基板１１、上部側透明基板１２の内面で、液晶層１３に接するように、０．０５μｍの膜厚の配向膜（図示せず）が形成されている。
【００５３】
このようにして下部透明基板１１と上部透明基板１２とをシール部１４を介して貼り合わせ、双方の基板１１、１２間に液晶１３を注入して、液晶表示素子１が得られる。
【００５４】
ここで、液晶層を注入して形成される液晶層１３のΔｎｄ（液晶のΔｎとセルギャップｄとの積）を０.２３８μm（Δｎ=０．０７、セルギャップ=３．４μm）としている。なお、液晶分子のねじれ角は７０°である。
【００５５】
図３は所定画素領域に対応する部分に形成したカラーフィルタの平面図及び断面図である。尚、図５は比較例の平面図及び断面図である。
【００５６】
図３に示す本発明のカラーフィルタ５２の周囲に形成された遮光膜５１は、カラーフィルタ５２と実質的に同一の膜厚を有しており、カラーフィルタの非形成部５３は遮光膜５１に隣接して形成されている。尚、図３（ａ）中の矩形部Ａは、下部側透明基板１１側で規定された光透過部３４ａの領域を示し、この矩形部Ａの周囲（カラーフィルタの非形成部５３を含む）が光反射部３４である。
【００５７】
これに対して、図５に示す比較例ではＣｒ、Ｃｒ合金等の遮光膜６１で形成されており、その膜厚がカラーフィルタ６２に比較して非常に薄く形成されている。そして、カラーフィルタの非形成部６３が、画素領域の中央部に形成されている。特に、画素領域の中央部分に形成されるカラーフィルタの非形成部６３の大きさは、カラーフィルタ６２を形成する時の現像用レジストの解像度、露光装置の解像度に影響を受けるため、小さくするには限界があった。また、カラーフィルタの非形成部６３が２５μｍ×２５μｍの場合には、オーバーコート層６４により平坦化した表面に発生する凹部Ｘの窪み量は０．２０μｍと大きかった。また、カラーフィルタ６２の中央部分に非形成部が存在しているため、カラーフィルタ６２の幅狭な部分が発生してしまい、その結果、カラーフィルタ自身が剥がれやすいという問題があり、不良の原因となっていた。
【００５８】
これに対して、本発明のカラーフィルタ５２では、遮光膜５１と、カラーフィルタ５２とを概略同じ膜厚で形成し、カラーフィルタの非形成部５３の形成部分が遮光膜５１に隣接して形成されている。即ち、カラーフィルタの非形成部５３を画素領域の端に形成している。このため、カラーフィルタの非形成部５３において、遮光膜５１に跨がって現像用レジストを形成でききるため、解像度の影響を受けない。その結果、１０μｍ以下に小さくして形成することが可能となる。同時に、オーバーコート層５４を形成しても、その平坦化が高まり、表面の凹部Ｘの窪み量は０．０７μｍ以下と小さくすることが可能となる。
【００５９】
また、カラーフィルタ５２で比較例のように幅狭部分が発生することがないため、カラーフィルタ５２の被着強度が向上し、剥がれが問題を有効に解消できる。
【００６０】
以上のように、本発明ではカラーフィルタの非形成部５３を画素領域に対応して形成したカラーフィルタ５２の端で、遮光膜と隣接する位置に形成されている。尚、このカラーフィルタの非形成部５３は、画素領域のうち光反射部３４の領域に相当する箇所に形成されている。
【００６１】
そして、カラーフィルタの非形成部５３は、遮光膜５１に隣接されており、カラーフィルタの非形成部５３を形成する現像用レジストをカラーフィルタと概略同一の厚みの遮光膜５１に跨がって形成されるための、その現像処理の解像度が大幅に向上する。仮に、膜厚の薄い遮光膜６１に隣接させてカラーフィルタの非形成部６３を形成する場合には、現像用レジストは、段差部分に形成されることになり、当然、段差やレジストの塗布滲みなどを考慮すれば、解像度の高いカラーフィルタの非形成部を形成することができない。
【００６２】
このように、遮光膜５１をカラーフィルタ５２と概略同一の厚みとして、カラーフィルタの非形成部５３を遮光膜５１に隣接して形成するため、そのカラーフィルタの非形成部５３を精度高く形成でき、これにより、反射モードにおける色純度の制御が確実に行えるものとなる。
【００６３】
図４は他の実施例では、上部透明基板１２上に形成されたオーバーコート層５４中の光透過部３４ａに相当する領域にオーバーコートの非形成部５６を設け、実質的に光反射部３４に相当する領域のみにオーバーコート層５４を形成している。これは、光透過部３４ａを通過して、液晶層１３を透過するバックライト２の光の透過率を向上させるものである。これにより、光反射部３４に相当する液晶層のΔｎｄ（液晶のΔｎとセルギャップｄとの積）を０.１３８μm（Δｎ=０．０６、セルギャップ=２．３μm）とし、光透過部３４ａの液晶層のΔｎｄ（液晶のΔｎとセルギャップｄとの積）を０.２７６μm（Δｎ=０．０６、セルギャップ=４．６μm）としている。なお、液晶表示装置の液晶分子のねじれ角は０°である。
【００６４】
上述の実施例では、カラーフィルタ、遮光膜及びカラーフィルタの非形成部が上部透明基板に形成されているが、逆に下部透明基板に形成しても構わない。
【００６５】
また、各画素領域には、各画素領域を規定する画素電極を有して、各画素電極にスイッチング手段を具備したアクティブ型液晶表示素子を例としているが、各画素領域にスイッチング手段を具備せず、該画素領域として上部透明基板に形成したストライプの表示電極と、下部透明基板に形成したストライプ状表示電極の交差部分で形成した液晶表示素子であっても構わない。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の液晶表示装置の概略断面図である。
【図２】本発明の液晶表示素子の１画素領域の構造を示す断面図である。
【図３】本発明の液晶表示素子の１画素領域のカラーフィルタ部分を示し、（ａ）はその平面図、（ｂ）はその断面図である。
【図４】本発明の他の実施例の液晶表示素子の１画素領域の構造を示す断面図である。
【図５】比較例の液晶表示素子の１画素領域のカラーフィルタ部分を示し、（ａ）はその平面図、（ｂ）はその断面図である。
【符号の説明】
【００６７】
１・・・・・液晶表示素子
２・・・・・バックライト
２１・・・・導光板
２２・・・・光源
５１・・・・遮光膜
５２・・・・カラーフィルタ
５３・・・・カラーフィルタの非形成部
【図１】
2005283853.tif 000003
【図２】
2005283853.tif 000004
【図３】
2005283853.tif 000005
【図４】
2005283853.tif 000006
【図５】
2005283853.tif 000007