(57)【要約】  【課題】中高圧用エッチング装置の給電ローラと、アルミニウム箔との非接触部分の低減を図ることで、スパークによるピンホール発生を防止する。  【解決手段】電解コンデンサ用箔給電型エッチング装置の給電ローラにおいて、  該ローラ表面に、幅３．０〜１０．０ｍｍの冷却排水溝を複数形成し、該冷却排水溝は、給電ローラの幅方向中央部の一点からアルミニウム箔の進行方向と逆方向に広がる山形に形成され、上記山形冷却排水溝の内側の角度が２０〜１４０°であることを特徴とする。  【選択図】図４
2005171343.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電解コンデンサ用箔給電型エッチング装置の給電ローラにおいて、
該ローラ表面に幅３．０〜１０．０ｍｍの冷却排水溝を複数形成することを特徴とする給電ローラ。
【請求項２】
請求項１記載の冷却排水溝が、給電ローラの幅方向中央部の一点からアルミニウム箔の進行方向と逆方向に広がる山形に形成されていることを特徴とする給電ローラ。
【請求項３】
請求項２記載の山形冷却排水溝の内側角度が２０〜１４０°であることを特徴とする給電ローラ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アルミニウム電解コンデンサ用箔給電型エッチング装置に使用される給電ローラに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
アルミニウム電解コンデンサの中高圧用エッチング箔は、アルミニウム箔を塩酸溶液中の一対の陰極電極板の間を通過させ、給電ロ−ラを介して直流電流を印加し、電解する方法で製造される。
その中高圧エッチング装置の給電ローラには、従来、Ｃｕを主体とする円筒状のローラまたはかご状の給電ローラを、アルミニウム箔またはエッチング箔（以下アルミニウム箔と総称する）に接触させて、給電を行っている（例えば特許文献１、非特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００１−２４４１５３号（第２−６頁、図２、図８）
【非特許文献１】永田伊佐也著「電解液陰極アルミニウム電解コンデンサ（アルミニウム乾式電解コンデンサ増補改訂版）」日本蓄電器工業株式会社出版、１９９７年２月２４日、第２版第１刷、ｐ．２５０〜２５２
【０００３】
近年、中高圧エッチング装置の大形化およびそれに伴う給電電流の増大に伴い、アルミニウム箔と給電ローラの接触部で発熱が生じるため、冷却水を給電ローラにかけて、発熱を抑え、アルミニウム箔の溶断防止を図っていた。
【０００４】
しかしながら、上記の方法では、アルミニウム箔と給電ローラの間に冷却水が入り、アルミニウム箔と給電ロールとの間に非接触の空間が生じ、スパークによるピンホールが発生するという問題があり、また、冷却性能が低下するという問題があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記の問題を解決するため、アルミニウム箔との接触面積の拡大や、接触圧力の増大により、アルミニウム箔の非接触部分の低減を図る手段が取られているが、スパークによるピンホール発生防止および冷却性能向上を図るには未だ不十分であり、更に、給電電流の大電流化に対応するために、中高圧エッチング装置の給電ローラについて、構造面から見直す必要があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は上記課題を解決するもので、アルミニウム電解コンデンサ用中高圧エッチング装置の給電ローラにおいて、
該ローラ表面に、幅３．０〜１０．０ｍｍの冷却排水溝を形成したことを特徴とする給電ローラである。
【０００７】
また、上記冷却排水溝が、給電ローラの幅方向中央部の一点からアルミニウム箔の進行方向と逆方向に広がる山形に形成され、該冷却排水溝に沿って複数の冷却排水溝を形成したことを特徴とする給電ローラである。
【０００８】
さらに、上記山形の冷却排水溝と、給電ローラ幅方向中央部のアルミニウム箔進行方向との角度が２０〜１４０°であることを特徴とする給電ローラである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、アルミニウム電解コンデンサ用箔給電型エッチング装置の給電ローラにおいて、
１）該ローラ表面に幅３．０〜１０．０ｍｍの複数の冷却排水溝を形成し、
２）給電ローラの幅方向中央部の一点からアルミニウム箔の進行方向と逆方向に広がる山形の冷却排水溝を形成した
ことにより、給電ローラをアルミニウム箔に接触させて給電を行う時、冷却水が給電ローラ表面に残存することがなく、アルミニウム箔と給電ローラとの間に生じる非接触の空間が低減されるので、スパークによるピンホール発生が抑えられ、冷却性能向上を図ることができるという効果があり、エッチング装置の大形化と、それに伴う給電電流の大電流化に対応することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明を実施例に基づき詳細に説明する。
【００１１】
図１は、箔給電型エッチング装置の一般的な構成であり、アルミニウム箔１ａ、および電解処理後のエッチング箔１ｂには、給電ローラ２、５を介して電流が給電され、陰電極３との間で電解が行われ、アルミニウム箔１ａ、１ｂが拡面処理（エッチング）される。
【００１２】
（従来例）
図２は、従来例による給電ローラの平面図とＡ−Ａ’線による部分断面図であり、Ｃｕを主成分とし、幅５４０ｍｍ、φ１８０ｍｍであり、表面に冷却排水溝は形成されていない。
【００１３】
［実施例１］
図３は、本発明の実施例による給電ローラの平面図とＡ−Ａ’線による部分断面図であり、仕様は従来例と同様であるが、給電ローラの幅方向の中央部から１５０ｍｍ間隔で、幅３ｍｍ、深さ５ｍｍの冷却排水溝が設けられている（冷却排水溝の内側角度：０°）。
［実施例２、３］
上記実施例１と同様の仕様であるが、冷却排水溝の幅を各々、１０ｍｍ（実施例２）、３０ｍｍ（実施例３）とした。
【００１４】
［実施例４］
図４は、本発明の他の実施例による給電ローラの平面図とＡ−Ａ’線による部分断面図であり、仕様は従来例と同様であるが、給電ローラ幅方向の中央部の一点からアルミニウム箔の進行方向と逆方向に広がる複数の山形の冷却排水溝が設けられている（冷却排水溝の内側角度：１２０°）。
なお、上記冷却排水溝は、幅３ｍｍ、深さ５ｍｍとした。
［実施例５、６］
上記実施例２と同様の仕様であるが、冷却排水溝の幅を各々、１０ｍｍ（実施例５）、３０ｍｍ（実施例６）とした。
【００１５】
［実施例７］
図５は、本発明の他の実施例による給電ローラの平面図とＡ−Ａ’線による部分断面図であり、仕様は従来例と同様であるが、給電ローラ幅方向の中央部の一点からアルミニウム箔の進行方向と逆方向に広がる山形の冷却排水溝が設けられ（冷却排水溝の内側角度：６０°）、該排水溝に沿って複数の冷却排水溝が設けられている。
なお、上記冷却排水溝は、幅３ｍｍ、深さ５ｍｍとした。
［実施例８、９］
上記実施例３と同様の仕様であるが、冷却排水溝の幅を各々、１０ｍｍ（実施例８）、３０ｍｍ（実施例９）とした。
【００１６】
［実施例１０〜１３］
仕様は従来例と同様で、給電ローラ幅方向の中央部の一点からアルミニウム箔の進行方向と逆方向に広がる山形の冷却排水溝の内側角度が１６０°、１４０°、４０°、２０°となるように形成し、該排水溝に沿って複数の冷却排水溝が設けたもの（実施例１０〜１３）も作製した。
なお、上記冷却排水溝は、幅１０ｍｍ、深さ５ｍｍとした。
【００１７】
上記実施例１〜１３、および従来例の給電ローラを使用し、エッチング条件は公知の条件とし、第１エッチング槽４で、８０℃、５．０ｗｔ％塩酸と２０．０ｗｔ％硫酸との混合液により、０．２Ａ／ｃｍ２で、２０クーロン／ｃｍ２の電解を行った（給電ローラ２の電流は４，０００Ａとした）。
第２エッチング槽６では、８０℃、５．０ｗｔ％の硝酸溶液に浸漬してケミカルエッチングを行った。ケミカルエッチングは、浸漬時間を調整し、溶解量が５．０ｍｇ／ｃｍ２となるように調整した。
【００１８】
アルミニウム原箔は、市販の１１０μｍ厚、５００ｍｍ幅のものを使用し、化成用の試料は、エッチングの有効幅を４８０ｍｍとして、等間隔に５点打ち抜いたものを使用した。
化成は、ＥＩＡＪ ＲＣ―２３６４（１９９２）に従って行い、２５０Ｖで化成し、幅方向５点の平均容量で比較した。
また、ピンホールの検数はエッチング箔の裏面より光を当て、透過した状態をモニタ管理し、１ｍｍ以上のピンホール数を測定した。エッチング箔の測定長さは１０００ｍとした。
上記の方法により、ピンホール数、静電容量を測定した結果を表１に示す。
【００１９】
【表１】
2005171343.tif 000003
【００２０】
表１より明らかなように、給電ローラ幅方向中央部とアルミニウム箔進行方向との角度が０°である実施例１〜３は、ピンホール数が１７〜２３個で、冷却排水溝を設けない従来例と比較して、効果が小さいことが分かる。
しかし、山形冷却排水溝の内側角度が１２０°である実施例４、５および上記の角度が６０°である実施例７、８は、ピンホール発生数が皆無であり、効果が大きいことが分かる。
ここで、山形冷却排水溝の内側角度は２０〜１４０°の範囲が適当である。上記の角度が１６０°では、冷却水が冷却排水溝から十分に排出されず、給電ローラとアルミニウム箔との間に冷却水が入り、非接触空間が生じるため、ピンホール発生数が１８個となるという問題がある（実施例１０）。また、０°では、アルミニウム箔の幅方向での冷却が十分できないため、上記したようにピンホール発生数が１７〜２３個となるという問題がある。
【００２１】
また、冷却排水溝の幅を３０．０ｍｍとした実施例３、６、９では、従来例と比較して平均容量が低下した。これは、アルミニウム箔と給電ロールの非接触面積が増加し、給電ローラでの化学的、熱的ストレスの影響により、アルミニウム箔の表層が変質し、エッチングの進行に悪影響を与えているものと考えられる。
さらに、冷却排水溝の幅を２．０ｍｍとした実施例１４では、ピンホールの発生数が従来例と比較して差がなく、アルミニウム箔と給電ロールの非接触面積の低減効果がないことが分かる。
よって、冷却排水溝の幅は３．０〜１０．０ｍｍの範囲が適当である。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】エッチング機の概略を示す図である。
【図２】従来例による給電ローラの平面図と部分断面図である。
【図３】本発明の実施例による給電ローラの平面図と部分断面図である。
【図４】本発明の他の実施例による給電ローラの平面図と部分断面図である。
【図５】本発明の他の実施例による給電ローラの平面図と部分断面図である。
【符号の説明】
【００２３】
１    アルミニウム原箔
２    給電ローラ（アルミニウム原箔用）
３    陰電極
４    第１エッチング槽
５    給電ローラ（エッチング箔用）
６    第２エッチング槽
７    乾燥炉
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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