(57)【要約】【課題】  薄膜形成を行いながらも、放電空間を形成する一対の電極のうち、基材を支持しない電極の汚れ除去を可能とする。【解決手段】  薄膜形成装置には、基材を支持する支持電極と、支持電極に対向して放電空間を形成し、支持電極とともに放電空間内に高周波電界を発生させる棒電極とが備えられている。また、薄膜形成装置には、薄膜形成ガスを含有するガスが高周波電界によって活性化されるように、放電空間にガスを供給し、活性化されたガスで基材を晒すことで、基材上に薄膜を形成するため逃す供給部が備えられている。そして、薄膜形成装置には、支持電極の両側方に設置されて、棒電極の汚れを除去する一対の除去部と、棒電極が一対の除去部に対して相対的に移動するように、棒電極を軸方向に往復移動させる移動機構とが備えられている。移動機構は、一対の除去部と棒電極とが対向し続ける範囲で、棒電極を往復移動させる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材を支持する支持電極と、
前記基材を挟むように前記支持電極に対向して放電空間を形成し、前記支持電極とともに前記放電空間内に高周波電界を発生させる棒電極と、
薄膜形成ガスを含有するガスが高周波電界によって活性化されるように、前記放電空間に前記ガスを供給し、前記活性化されたガスで前記基材を晒すことで、前記基材上に薄膜を形成するためのガス供給部と、
前記支持電極の両側方に設置されて、前記棒電極の汚れを除去する一対の除去部と、
前記棒電極が前記一対の除去部に対して相対的に移動するように、前記棒電極を軸方向に往復移動させる移動機構とを備え、
前記移動機構は、前記一対の除去部と前記棒電極とが対向し続ける範囲で、前記棒電極を往復移動させることを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項２】
請求項１記載の薄膜形成装置において、
前記棒電極は、前記一対の除去部の間隔の２倍以上の長さを有していることを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項３】
請求項１又は２記載の薄膜形成装置において、
前記棒電極に電荷を印加する棒電極用電源を備え、
前記棒電極用電源と前記棒電極とが前記一対の除去部の間で、ブラシ接続による接触給電若しくは放電による非接触給電されていることを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の薄膜形成装置において、
前記一対の除去部のぞれぞれには、飛散した汚れを吸引する吸引部が設けられていることを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の薄膜形成装置において、
前記支持電極はロール電極であり、
前記ロール電極の両端部における前記基材と非接触な部分には、前記ロール電極の汚れを除去する一対のロール電極用除去部が設けられていることを特徴とする薄膜形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜形成装置に係り、特に、大気圧プラズマ放電処理を用いて薄膜を基材上に形成する薄膜形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＬＳＩ、半導体、表示デバイス、磁気記録デバイス、光電変換デバイス、太陽電池、ジョセフソンデバイス、光熱変換デバイス等の各種製品には、基材上に高性能性の薄膜を設けた材料が用いられている。薄膜を基材上に形成する手法には、塗布に代表される湿式製膜方法や、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等に代表される乾式製膜方法、あるいは大気圧プラズマ放電処理を利用した大気圧プラズマ製膜方法等が挙げられるが、近年では、高い生産性を維持しつつ高品質な薄膜を形成できる大気圧プラズマ製膜方法の使用が特に望まれている。
【０００３】
大気圧プラズマ製膜方法は、対向する一対の電極間に基材を配置させた状態で、薄膜形成ガスを供給し両電極に電界を印加する。これにより、放電プラズマが発生し基材を放電プラズマに晒すことで薄膜が形成される。ここで、薄膜形成時においては、一対の電極のうち一方の電極は基材によって覆われているものの、他方の電極は放電プラズマに晒されているので、その表面が汚れやすくなっている。汚れが付着してしまえば電極間隔がばらついてしまい精密な薄膜形成が困難になる。このため基材に覆われない他方の電極を薄膜形成時の位置から退避させて、除去手段によりこの電極の汚れを除去する薄膜形成装置が開発されている（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−２６８５５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載される薄膜形成装置では、汚れ除去に際して他方の電極が薄膜形成時の位置から退避してしまうので、汚れ除去時に薄膜形成ができず、非効率であった。
【０００５】
本発明の課題は、薄膜形成を行いながらも、放電空間を形成する一対の電極のうち、基材を支持しない電極の汚れ除去を可能とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１記載の発明における薄膜形成装置は、
基材を支持する支持電極と、
前記基材を挟むように前記支持電極に対向して放電空間を形成し、前記支持電極とともに前記放電空間内に高周波電界を発生させる棒電極と、
薄膜形成ガスを含有するガスが高周波電界によって活性化されるように、前記放電空間に前記ガスを供給し、前記活性化されたガスで前記基材を晒すことで、前記基材上に薄膜を形成するためのガス供給部と、
前記支持電極の両側方に設置されて、前記棒電極の汚れを除去する一対の除去部と、
前記棒電極が前記一対の除去部に対して相対的に移動するように、前記棒電極を軸方向に往復移動させる移動機構とを備え、
前記移動機構は、前記一対の除去部と前記棒電極とが対向し続ける範囲で、前記棒電極を往復移動させることを特徴としている。
【０００７】
請求項１記載の発明によれば、支持電極の両側方に固定された一対の除去部に対して、棒電極が対向し続ける範囲で、移動機構が棒電極を往復移動させているので、汚れ除去時においても支持電極と棒電極とは常に対向して放電空間を形成し続けることになる。このように、汚れ除去時に放電空間が形成されていれば、汚れ除去時においても薄膜形成を行うことができる。
【０００８】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の薄膜形成装置において、
前記棒電極は、前記一対の除去部の間隔の２倍以上の長さを有していることを特徴としている。
【０００９】
ここで、棒電極の長さが一対の除去部の間隔の２倍未満であると、一対の除去部と棒電極とが対向し続ける範囲で棒電極が移動させられてしまえば、棒電極の中央部は除去部に対向せずに、汚れが除去されない。しかしながら、請求項２記載の発明のように、棒電極が一対の除去部の間隔の２倍以上の長さを有していれば、一対の除去部と棒電極とが対向し続ける範囲で棒電極が移動させられたとしても、棒電極の全長にわたって除去部を対向させることができる。したがって、棒電極の汚れを確実に除去することができる。
【００１０】
請求項３記載の発明は、請求項１又は２記載の薄膜形成装置において、
前記棒電極に電荷を印加する棒電極用電源を備え、
前記棒電極用電源と前記棒電極とが前記一対の除去部の間で、ブラシ接続による接触給電若しくは放電による非接触給電されていることを特徴としている。
【００１１】
請求項３記載の発明によれば、棒電極用電源と棒電極とが一対の除去部の間でブラシ接続による接触給電若しくは放電による非接触給電されているので、棒電極に対する電力供給を持続させたままで、棒電極を往復移動させることができる。したがって、汚れ除去時においても、薄膜形成を行うことができる。
【００１２】
請求項４記載の発明は、請求項１〜３のいずれか一項に記載の薄膜形成装置において、
前記一対の除去部のぞれぞれには、飛散した汚れを吸引する吸引部が設けられていることを特徴としている。
【００１３】
請求項４記載の発明によれば、一対の除去部のそれぞれに吸引部が設けられているので、汚れ除去時に飛散した汚れは吸引部に吸引される。これにより、汚れ除去により装置内部が汚れることを防止できる。
【００１４】
請求項５記載の発明は、請求項１〜４のいずれか一項に記載の薄膜形成装置において、
前記支持電極はロール電極であり、
前記ロール電極の両端部における前記基材と非接触な部分には、前記ロール電極の汚れを除去する一対のロール電極用除去部が設けられていることを特徴としている。
【００１５】
請求項５記載の発明によれば、ロール電極用除去部が、ロール電極の両端部における基材と非接触な部分に設けられているので、ロール電極両端部に付着した汚れを除去することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、汚れ除去時においても支持電極と棒電極とは常に対向して放電空間を形成し続けているために、汚れ除去時であっても薄膜形成を行うことができる。
また、汚れ除去時に飛散した汚れは吸引部に吸引されるので、装置内部が汚れることを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、添付図面を参照しつつ本発明の実施の形態について説明する。図１は、薄膜形成装置１の概略構成を表す正面図である。
【００１８】
この薄膜形成装置１は、大気圧又は大気圧近傍の圧力下で、放電プラズマを発生させることによって基材上に薄膜を形成する薄膜形成装置である。薄膜形成装置１には、図１に示すように、放電プラズマを発生させるための回転自在なロール電極（支持電極）２が設けられている。このロール電極２の周面には、図示しない基材用搬送機構によって基材３が密着されて搬送されるようになっている。
【００１９】
ロール電極２の下方には、基材３上に薄膜を形成するための薄膜形成ユニット４が設けられている。図２は薄膜形成ユニット４の概略構成を表す側面図である。図２に示すように、薄膜形成ユニット４には、一対の棒電極４１が、ロール電極２上の基材３を挟んで、ロール電極２の周面に間隔ａを空けて対向するように配置されている。このロール電極２と棒電極４１との間隔ａが放電空間Ｈとなり、この放電空間Ｈを成す棒電極４１及びロール電極２の対向する面をそれぞれ放電面４１ａ，２１とする。
一対の棒電極４１の下端部には、棒電極４１に電荷を印加するための導電性のコネクタ部４２が棒電極４１の全長にわたって取り付けられている。このコネクタ部４２の下面には、軸方向（左右方向）に沿ってラック（図示省略）が形成されている。そして、コネクタ部４２の下方には、ラックに係合してコネクタ部４２及び棒電極４１を軸方向に往復移動させる歯車４３が設けられている。
【００２０】
また、一対の棒電極４１の間には間隔ｂが設けられていて、この間隔ｂに向けてガスを噴出するガス供給部４４が間隔ｂに対向するように配置されている。これにより、間隔ｂがガス供給部４４から供給されたガスを放電空間Ｈまで案内する流路となっている。この流路によって放電空間Ｈにガスが供給され、ロール電極２及び棒電極４１に電界が印加されると、放電プラズマが発生しガスが活性化されるために、ロール電極２の放電面３１に密着した基材３上に薄膜が形成されることになる。
【００２１】
図１に示すように、ロール電極２の両側方には、棒電極４１の汚れを除去する一対の除去部５が設置されている。この除去部５には、図２に示すように、一対の棒電極４１を個別又は同時に摺擦する一対の摺擦部材５１が設けられている。摺擦部材５１は、棒電極４１を摺擦することで棒電極４１表面の汚れを除去できるのであれば如何なるものでもよく、例えば砥石、研磨フィルム、布、ブラシなどが挙げられる。
摺擦部材５１の上方には、摺擦部材５１を棒電極４１に押しあてるためのバネ５２が設けられている。このバネ５２によって、摺動部材５１が棒電極４１の往復移動時に棒電極４１を摺擦することになる。そして、摺擦部材５１及びバネ５２は、下方が開口されたカバー５３によって覆われている。カバー５３には、前後方向に延出してカバー５３内部に連通する吸引口５４，５５が設けられており、この吸引口５４，５５に対して吸引ポンプ９（図３参照）が接続されている。つまり、吸引ポンプ９が駆動すると、摺擦部材５１によってカバー５３内部で飛散している汚れが吸引されるようになっている。これらのカバー５３、吸引口５４，５５、吸引ポンプ９が本発明に係る吸引部である。
なお、上記の除去部５は、図１に示すように、ロール電極２の上部両端にも設けられていて、基材３に覆われていない部分の汚れも除去するようになっている。つまり、ロール電極２の汚れを除去する一対の除去部５は、本発明に係るロール電極用除去部である。なお、この除去部５の配置個所は、ロール電極２の上部両端に限られるものでなく、ロール電極２の両端部における基材３と非接触な部分であれば如何なる場所であっても構わない。
【００２２】
図３は、薄膜形成装置１における主制御構成を表すブロック図である。この図３に示すように、薄膜形成装置１には、各駆動部を制御する制御装置７が設けられている。制御装置７には、ロール電極２を回転させるためのロール電極用駆動源７１、ロール電極２に電荷を印加するロール電極用電源７２、棒電極に電荷を印加する棒電極用電源７３、歯車４３を回転駆動させるための歯車用駆動源７４、記憶部７５、ガス供給部４４、吸引ポンプ９が電気的に接続されている。なお、制御装置７には、これら以外にも薄膜形成装置１の各駆動部などが接続されている。そして、制御装置７は、記憶部７５中に書き込まれている制御プログラムや制御データに従い各種機器を制御するようになっている。
ここで、棒電極用電源７３は、図１及び図２に示すようにコネクタ部４２にブラシ端子８を介して接続されている。ブラシ端子８は、一対の除去部５の間に配置され、かつコネクタ部４２に常に接触しているものの固定はされていないので、棒電極４１及びコネクタ部４２が往復移動したとしても、棒電極４１に対する電力供給を持続させるようになっている。
【００２３】
次に、ガス供給部４４から供給されるガスについて説明する。
このガスに、薄膜形成可能なプラズマ放電を起こすことのできる放電ガスと、薄膜の原料を含有する薄膜形成ガスとが混合されたものである。
放電ガスとしては、窒素、希ガス、空気、水素ガス、酸素などがあり、これらを単独で放電ガスとして用いても、混合して用いてもかまわない。本実施形態では、比較的安価な窒素を用いている。この場合、放電ガスの５０〜１００体積％が窒素であることが好ましく、さらに窒素に混合させるガスとして希ガスを使用し、放電ガスの５０％未満を含有させることが好ましい。
【００２４】
薄膜形成ガスに含まれる原料としては、例えば、有機金属化合物、ハロゲン金属化合物、金属水素化合物等が挙げられる。
有機金属化合物としては、以下の一般式（Ｉ）で示すものが好ましい。
一般式（Ｉ）  Ｒ１ｘＭＲ２ｙＲ３ｚ式中、Ｍは金属、Ｒ１はアルキル基、Ｒ２はアルコキシ基、Ｒ３はβ−ジケトン錯体基、β−ケトカルボン酸エステル錯体基、β−ケトカルボン酸錯体基及びケトオキシ基（ケトオキシ錯体基）から選ばれる基であり、金属Ｍの価数をｍとした場合、ｘ＋ｙ＋ｚ＝ｍであり、ｘ＝０〜ｍ、またはｘ＝０〜ｍ−１であり、ｙ＝０〜ｍ、ｚ＝０〜ｍで、いずれも０または正の整数である。Ｒ１のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。Ｒ２のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、３，３，３−トリフルオロプロポキシ基等が挙げられる。またアルキル基の水素原子をフッ素原子に置換したものでもよい。Ｒ３のβ−ジケトン錯体基、β−ケトカルボン酸エステル錯体基、β−ケトカルボン酸錯体基及びケトオキシ基（ケトオキシ錯体基）から選ばれる基としては、β−ジケトン錯体基として、例えば、２，４−ペンタンジオン（アセチルアセトンあるいはアセトアセトンともいう）、１，１，１，５，５，５−ヘキサメチル−２，４−ペンタンジオン、２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオン、１，１，１−トリフルオロ−２，４−ペンタンジオン等が挙げられ、β−ケトカルボン酸エステル錯体基として、例えば、アセト酢酸メチルエステル、アセト酢酸エチルエステル、アセト酢酸プロピルエステル、トリメチルアセト酢酸エチル、トリフルオロアセト酢酸メチル等が挙げられ、β−ケトカルボン酸として、例えば、アセト酢酸、トリメチルアセト酢酸等が挙げられ、またケトオキシとして、例えば、アセトオキシ基（またはアセトキシ基）、プロピオニルオキシ基、ブチリロキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等が挙げられる。これらの基の炭素原子数は、上記例有機金属化合物を含んで、１８以下が好ましい。また例示にもあるように直鎖または分岐のもの、また水素原子をフッ素原子に置換したものでもよい。
【００２５】
本発明において取り扱いの問題から、爆発の危険性の少ない有機金属化合物が好ましく、分子内に少なくとも１つ以上の酸素を有する有機金属化合物が好ましい。このようなものとしてＲ２のアルコキシ基を少なくとも１つを含有する有機金属化合物、またＲ３のβ−ジケトン錯体基、β−ケトカルボン酸エステル錯体基、β−ケトカルボン酸錯体基及びケトオキシ基（ケトオキシ錯体基）から選ばれる基を少なくとも一つ有する有機金属化合物が好ましい。
【００２６】
また、薄膜形成ガスに使用する有機金属化合物、ハロゲン金属化合物、金属水素化合物の金属として、例えば、Ｌｉ、Ｂｅ、Ｂ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｉｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｌａ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ等が挙げられる。
【００２７】
次に、本実施形態の薄膜形成装置１の作用について説明する。
先ず、薄膜形成の開始に伴って、制御装置７は、ガス供給部４４からガスを噴出させて、放電空間Ｈにガスを供給する。放電空間Ｈにガスが供給されると、制御装置７は、図示しない基材用搬送機構及びロール電極用駆動源７１を制御して、ロール電極２を回転させながら基材３を搬送させる。
基材３の搬送が開始されると、制御装置７は、ロール電極用電源７２及び棒電極用電源７３をＯＮにする。これにより、ロール電極２と棒電極４１とには高周波電界が印加されて、放電空間Ｈ内ではガスが反応し放電プラズマが発生する。この放電空間Ｈ内を基材３が通過するために、基材３の表面上には薄膜が形成されることになる。
【００２８】
このように、薄膜形成が行われると、棒電極４１の表面にも薄膜の原料が付着して棒電極４１自体が汚れてしまう。この汚れを除去するために、制御装置７は、所定のタイミングで棒電極４１及びコネクタ部４２が往復移動するように、歯車用駆動源７４を制御して歯車４３を回転駆動させる。この往復移動によって、棒電極４１は一対の除去部５に対して相対的に移動することになる。往復移動時には、除去部５の摺擦部材５１が棒電極４１を摺擦するために、棒電極４１に付着した汚れは除去されることになる。ここで、汚れ除去時に薄膜形成を行うためには、汚れ除去時にあっても放電空間Ｈを維持していなければならない。したがって、制御装置７は、一対の除去部５と棒電極４１とが対向し続ける範囲で棒電極４１を移動させることで放電空間Ｈを維持している。つまり、本実施形態では、制御装置７、歯車用駆動源７４、歯車４３、コネクタ部４２が、本発明に係る移動機構である。
【００２９】
そして、棒電極４１の長さＬが一対の除去部５の間隔Ｉの２倍未満であると、一対の除去部５と棒電極４１とが対向し続ける範囲で棒電極４１を移動したとしても、棒電極４１の中央部は除去部５に対向せずに、汚れが除去されない。このため、一対の除去部５の間隔Ｉの２倍以上に棒電極４１の長さＬを設定していれば、一対の除去部５と棒電極４１とが対向し続ける範囲で棒電極４１が移動させられたとしても、棒電極４１の全長にわたって除去部５を対向させることができ、棒電極４１の汚れを確実に除去することができる。
【００３０】
以上のように、本実施形態の薄膜形成装置１によれば、ロール電極２の両側方に固定された一対の除去部５に対して、棒電極４１が対向し続ける範囲で、制御装置７が棒電極４１を往復移動させているので、汚れ除去時においてもロール電極２と棒電極４１とは常に対向して放電空間Ｈを形成し続けることになる。このように、汚れ除去時に放電空間Ｈが形成されていれば、汚れ除去時においても薄膜形成を行うことができる。
また、棒電極用電源７３及び棒電極４１が一対の除去部５の間で、コネクタ部４２、ブラシ端子８によってブラシ接続されているので、接触給電であっても棒電極４１を移動させることができる。これにより、棒電極４１に対する電力供給を持続させたままで、棒電極４１を往復移動させることができる。したがって、汚れ除去時においても、薄膜形成を行うことができる。
また、一対の除去部５のそれぞれに吸引部が設けられているので、汚れ除去時に飛散した汚れは吸引部に吸引される。これにより、汚れ除去により装置内部が汚れることを防止できる。
【００３１】
なお、本発明は第１及び第２の実施の形態に限らず適宜変更可能であるのは勿論である。
例えば、本実施形態では、一対の除去部５が棒電極４１を摺擦することで、棒電極４１の汚れを除去する方式を例示して説明したが、棒電極４１の汚れを除去できればこの方式に限られるものではない。前述の方式以外にも例えばエッチングや洗浄剤などによって棒電極４１の汚れを除去する方式が挙げられる。
また、本実施形態では、コネクタ部４２に形成されたラックと、当該ラックに係合する歯車４３とによって、棒電極４１を往復移動させるラックピニオン方式を適用したが、棒電極４１を往復移動させるのであれば如何なる方式であってもよく、これ以外にも例えばシリンダ方式が挙げられる。
【００３２】
また、本実施形態では、一対の吸引口５４，５５が前後方向に延出するようにカバー５３に設けられる構成を例示したが、吸引口の延出方向や個数はこれに限られるものではない。以下、吸引口の延出方向の具体例について説明するが、本実施形態と同一部分においては同一符号を付してその説明を省略する。図４及び図５はカバー５３に対して上方に向けて延出した吸引口５６を表す図であり、図４は側面図、図５は正面図である。また、図６はカバー５３に対して右方向に向けて延出した吸引口５７を表す側面図である。これらの吸引口５６，５７に吸引ポンプを連結して吸引ポンプ９を駆動させれば、カバー５３内部に飛散している汚れを吸引口５６，５７から吸引することができる。
【００３３】
また、本実施形態では、基材３を支持する支持電極としてロール電極２を例示しているが、これに限られるものではなく、棒状電極などであっても構わない。
そして、本実施形態では、棒電極４１を往復移動させながらも電力の供給を可能とするためにブラシ接続による接触給電を用いているが、放電による非接触給電によって棒電極用電源７３及び棒電極４１が電気的に接続される構成であっても、棒電極４１を往復移動させながら電力を供給することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本実施形態に係る薄膜形成装置の概略構成を表す正面図である。
【図２】図１の薄膜形成装置を表す側面図である。
【図３】図１の薄膜形成装置の主制御構成を表すブロック図である。
【図４】図１の薄膜形成装置に備わる吸引口の延出方向の具体例を表す側面図である。
【図５】図４の吸引口の延出方向の具体例を表す正面図である。
【図６】図１の薄膜形成装置に備わる吸引口の延出方向の具体例を表す側面図である。
【符号の説明】
【００３５】
１      薄膜形成装置
２      ロール電極
３      基材
５      除去部
７      制御装置（移動機構）
９      吸引ポンプ（吸引部）
４１      棒電極
４２      コネクタ部
４３      歯車（移動機構）
４４      ガス供給部
５３      カバー（吸引部）
５４，５５    吸引口（吸引部）
７３      棒電極用電源（移動機構）
７４      歯車用駆動源（移動機構）
【図１】
2005307289.tif 000003
【図２】
2005307289.tif 000004
【図３】
2005307289.tif 000005
【図４】
2005307289.tif 000006
【図５】
2005307289.tif 000007
【図６】
2005307289.tif 000008