(57)【要約】【課題】フラックス液の比重を所定値に容易に維持できるフラックス比重管理装置を備えた発泡式フラクサを提供する。【解決手段】フラックス液Ｆの液面の位置が所定の位置よりも低く、かつフラックス液Ｆの比重が所定値より大きい際には、希釈液Ｔをフラックス槽１８に供給してフラックス液Ｆの比重をコントローラ５８にて所定値に制御する。フラックス原液を供給してフラックス液の液面の位置を所定の位置とする場合と比較して、フラックス液Ｆの液面の位置を必要以上に高くすることなくフラックス液Ｆの比重を所定値に容易に維持できる。【選択図】        図１
2005000950.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フラックス原液を収容した原液タンクと、
フラックス原液を希釈する希釈液を収容した希釈液タンクと、
原液タンクおよび希釈液タンクからフラックス原液および希釈液がそれぞれ供給されてフラックス液として収容されるフラックス槽と、
フラックス槽のフラックス液の液面の位置を検知する液面検知手段と、
フラックス槽のフラックス液の比重を検知する比重検知手段と、
液面検知手段にて検知したフラックス液の液面の位置が所定の位置よりも低く、かつ比重検知手段にて検知したフラックス液の比重が所定値より大きい際に、希釈液タンクから希釈液をフラックス槽に供給させてフラックス液の比重を所定値に制御する制御手段と
を具備したことを特徴とするフラックス比重管理装置。
【請求項２】
制御手段は、フラックス槽のフラックス液の比重が所定値に達した状態で液面検知手段にて検知したフラックス液の液面の位置が所定の位置よりも低い際に、原液タンクからフラックス原液をフラックス槽に供給させてフラックス槽のフラックス液の液面の位置を所定の位置に制御する
ことを特徴とする請求項１記載のフラックス比重管理装置。
【請求項３】
請求項１または２記載のフラックス比重管理装置と、
フラックス比重管理装置のフラックス槽内のフラックス液を発泡させる発泡手段と、
発泡手段により発泡されたフラックス液を上方へ案内して上側で移動するワークに塗布するノズルと
を具備したことを特徴とするフラックス塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フラックス液の比重を検知する比重検知手段を有するフラックス比重管理装置およびこれを備えたフラックス塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、はんだ付けされるワークのはんだ付け面に塗布されるフラックス液の比重を管理するこの種のフラックス比重管理装置は、フラックス原液を収容した原液タンクと、フラックス原液を希釈する希釈液を収容した希釈液タンクとを備え、これら原液タンクおよび希釈液タンクは、フラックス原液を希釈液にて所定の比重値に希釈したフラックス液を収容するフラックス槽に接続されている。
【０００３】
また、原液タンクおよび希釈液タンクは、それぞれ電磁弁、および、空圧調整装置などを介して、空圧源に接続されている。この空圧源により原液タンク内のフラックス原液、および、希釈液タンク内の希釈液の液面を強制的に押し下げることで、原液タンクおよび希釈液タンクからフラックス槽にフラックス原液および希釈液をそれぞれ供給する。
【０００４】
さらに、フラックス槽内には、フラックス液の比重を検知する比重検知手段が設けられている。この比重検知手段は、検知したフラックス液の比重に応じて空圧源および空圧調整装置などを制御し、フラックス槽に供給するフラックス原液および希釈液の量を調整して、フラックス槽内のフラックス液の比重を所定値に制御する（例えば、特許文献１参照。）。
【０００５】
また、フラックス槽内には、一般的に、フラックス液の液面の位置を検知する液面検知手段が設けられている。この液面検知手段は、フラックス液の液面の下限位置に設けられた下限針、フラックス液の液面の上限位置に設けられた上限針、および、下限針と上限針との共通接地針を備えている。
【０００６】
そして、このフラックス比重管理装置では、ワークへのフラックス液の塗布によりフラックス液が消費、すなわち持ち出されることで、フラックス槽内のフラックス液の液面位置が下限針よりも低下すると、原液タンクからフラックス原液がフラックス槽に供給される。
【０００７】
この結果、フラックス槽内のフラックス液の比重が大きくなるので、希釈液タンクから希釈液をフラックス槽に供給して、フラックス槽内のフラックス液の比重を元の比重値に制御する。
【０００８】
また、フラックス槽内のフラックス液の液面位置が上限針に達すると、フラックス原液、あるいは希釈液の供給を停止する。
【０００９】
上述のようにして、フラックス液の液面位置を下限針と上限針との間に維持する。
【００１０】
【特許文献１】
実公昭６１−２９０４４号公報（第１−３頁、第１図）
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
ここで、フラックス塗布およびはんだ付け運転が長時間に亘って休止される場合、例えば週休２日などの休日を挟んだ際に、フラックス槽内のフラックス液中の希釈液が自然蒸発して揮散すると、フラックス液の比重が大きくなるとともに液面が下限針よりも低下する。
【００１２】
このため、上述のフラックス比重管理装置では、フラックス槽内のフラックス液の液面をまず下限針の位置に復帰させるように、原液タンクからフラックス原液をフラックス槽に供給する。すなわち、揮散した希釈液の分をフラックス原液で補充するため、下限針の位置まで液面位置を戻したフラックス槽内のフラックス液の比重が、例えば通常運転時の数倍程度にまで大きくなるおそれがある。
【００１３】
この結果、希釈液タンクから希釈液をフラックス槽内に供給しても、フラックス槽内のフラックス液の液面位置が上限針に触れるまでにフラックス液の比重を所定値までに下げることができず、一方で、フラックス液の液面が上限針に触れると、希釈液の供給が停止してしまい、フラックス液の液面が上限針の位置から低下するまで希釈液が供給待ちの状態となってしまう。
【００１４】
このため、フラックス液の比重を所定値に維持することが容易でないという問題点を有している。
【００１５】
本発明は、このような点に鑑みなされたもので、フラックス液の比重を所定値に容易に維持できるフラックス比重管理装置およびフラックス塗布装置を提供することを目的とするものである。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の発明は、フラックス原液を収容した原液タンクと、フラックス原液を希釈する希釈液を収容した希釈液タンクと、原液タンクおよび希釈液タンクからフラックス原液および希釈液がそれぞれ供給されてフラックス液として収容されるフラックス槽と、フラックス槽のフラックス液の液面の位置を検知する液面検知手段と、フラックス槽のフラックス液の比重を検知する比重検知手段と、液面検知手段にて検知したフラックス液の液面の位置が所定の位置よりも低く、かつ比重検知手段にて検知したフラックス液の比重が所定値より大きい際に、希釈液タンクから希釈液をフラックス槽に供給させてフラックス液の比重を所定値に制御する制御手段とを具備したフラックス比重管理装置であり、フラックス液の液面の位置が所定の位置よりも低く、かつフラックス液の比重が所定値より大きい際には、希釈液をフラックス槽に供給してフラックス液の比重を所定値に制御するため、例えばフラックス原液を供給してフラックス液の液面の位置を所定の位置とする場合と比較して、フラックス液の液面の位置を必要以上に高くすることなくフラックス液の比重を所定値に容易に維持できる。
【００１７】
請求項２記載の発明は、請求項１記載のフラックス比重管理装置において、制御手段は、フラックス槽のフラックス液の比重が所定値に達した状態で液面検知手段にて検知したフラックス液の液面の位置が所定の位置よりも低い際に、原液タンクからフラックス原液をフラックス槽に供給させてフラックス槽のフラックス液の液面の位置を所定の位置に制御するフラックス比重管理装置であり、フラックス槽のフラックス液の比重が所定値に達した状態でフラックス液の液面の位置が所定の位置よりも低い際には、フラックス原液を供給してフラックス液の液面の位置を所定の位置に制御するので、フラックス液の比重値を必要以上に大きくすることなくフラックス液の液面の位置を所定の位置に維持できる。
【００１８】
請求項３記載の発明は、請求項１または２記載のフラックス比重管理装置と、フラックス比重管理装置のフラックス槽内のフラックス液を発泡させる発泡手段と、発泡手段により発泡されたフラックス液を上方へ案内して上側で移動するワークに塗布するノズルとを具備したフラックス塗布装置であり、発泡手段で発泡させてノズルにてワークに塗布されるフラックス液の比重をフラックス比重管理装置にて所定値に維持することで、はんだ付けに適した比重のフラックス液をワークに対して塗布できる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を図１乃至図３に示された実施の形態を参照しながら詳細に説明する。
【００２０】
図１において、１は自動はんだ付け工程に使用されるフラックス塗布装置としての発泡式フラックス塗布装置、すなわち発泡式フラクサであり、この発泡式フラクサ１は、自動のフラックス比重管理装置２（以下、比重管理装置２という）と、この比重管理装置２に設けられた発泡手段３と、この発泡手段３の上部に設けられたノズル４とを備えている。
【００２１】
比重管理装置２は、フラックス原液Ｓが収容された密閉型の原液タンク１１、フラックス原液Ｓを希釈する希釈液Ｔが収容された密閉型の希釈液タンク１２、これら原液タンク１１および希釈液タンク１２の上部から導出された接続管１３，１４がそれぞれ接続されたフラックス送液機構１５、および、原液タンク１１および希釈液タンク１２の下部から導出された供給管１６，１７がそれぞれ接続されたフラックス槽１８を有している。
【００２２】
フラックス送液機構１５は、接続管１３，１４が切換弁２１，２２を介してそれぞれ接続された空圧調整部２３と、この空圧調整部２３が接続される空圧源２４とを備えている。
【００２３】
切換弁２１，２２は、例えば単コイル形ばね復帰式の３ポート２位置切換弁であり、通電状態で空圧調整部２３と原液タンク１１、あるいは希釈液タンク１２とを連通させ、非通電状態で原液タンク１１および希釈液タンク１２を大気に連通させてこれら原液タンク１１および希釈液タンク１２の密封圧を解消する。
【００２４】
空圧調整部２３は、例えば共通の空圧メータ、エアフィルタおよび空圧調整弁などを有し、空圧源２４からの空圧を調整して接続管１３，１４に供給する。
【００２５】
そして、フラックス送液機構１５は、空圧源２４から供給された空圧を空圧調整部２３にて調整し、かつ切換弁２１，２２の開閉により、原液タンク１１内のフラックス原液Ｓおよび希釈液タンク１２内の希釈液Ｔを、それぞれ供給管１６，１７を介してフラックス槽１８に供給したり、供給を停止させたりする。
【００２６】
供給管１６，１７は、先端部がそれぞれフラックス槽１８に接続されている。そして、これら供給管１６，１７には、原液タンク１１および希釈液タンク１２のそれぞれとフラックス槽１８との間に、可変絞り弁２５，２６が設けられている。これら可変絞り弁２５，２６は、原液タンク１１および希釈液タンク１２からフラックス槽１８に供給されるフラックス原液Ｓおよび希釈液Ｔの量を調整する。
【００２７】
フラックス槽１８は、図２に示されるように、直方体状の箱体である槽本体３１を備えている。フラックス槽１８内であるこの槽本体３１には、フラックス液Ｆが収容されている。このフラックス液Ｆは、予め設定された所定の比重値に調合済みの溶液と、供給管１６，１７を介して供給されたフラックス原液Ｓおよび希釈液Ｔとで構成されている。
【００２８】
また、槽本体３１の上面部３２には、矩形状の開口部３３が開口形成されている。この開口部３３は、図示されないワークのはんだ付け面である下面に対向して開口し、ワーク進行方向Ｗに対して幅方向に長手状に形成されている。さらに、この開口部３３からは、ノズル４の上端部がワークの下面に対向して槽本体３１から外部に若干突出している。
【００２９】
さらに、槽本体３１の上面部３２の開口部３３の側方には、検出部３４が設けられている。また、上面部３２の検出部３４に対して開口部３３と反対側の側方には、供給管１６，１７の先端部が接続され、槽本体３１内に導入されている。またさらに、上面部３２の検出部３４の近傍には、発泡手段３に接続される空気供給管３５が槽本体３１内に導入されている。そして、槽本体３１の側面部３６には、槽本体３１内に収容されたフラックス液Ｆの液面を作業者が目視確認可能な監視窓３７が設けられている。
【００３０】
一方、発泡手段３は、図示されない空気供給装置、この空気供給装置から供給される空気の量などを調整する空気調整器、および、この空気調整器を介して空気供給装置に接続された素焼き筒４１を備えている。
【００３１】
素焼き筒４１は、フラックス槽１８の槽本体３１の開口部３３の下方の底部に、この開口部３３の長手方向に軸方向を沿わせた状態で収容され、フラックス液Ｆ中に全体が浸漬されている。また、素焼き筒４１の周面には、多数の微細な通気孔４２が形成されている。この通気孔４２からは、空気供給管３５を介して空気供給装置から供給された空気がフラックス液Ｆ内に気泡となって拡散し、フラックス液Ｆを発泡させる。
【００３２】
ノズル４は、略矩形筒状に形成され、素焼き筒４１の上方に設けられている。また、このノズル４は、下端部に対してテーパ状に縮径された矩形状の噴出口４３を上端部に有している。この噴出口４３は、開口部３３からフラックス槽１８の外部に若干突出してワークの下面に対向している。
【００３３】
さらに、このノズル４は、図３に示されるように、発泡手段３の素焼き筒４１の通気孔４２からフラックス液Ｆ内に拡散した気泡を集めて上方に案内し、噴出口４３から噴出させることで、上側で移動するワークの下面にフラックス液Ｆを塗布する。
【００３４】
そして、検出部３４は、図１および図２に示されるように、略円筒状の検出部本体５１を備えている。この検出部本体５１は、フラックス槽１８の槽本体３１の上面部３２に複数の脚部５２にて固定されている。
【００３５】
また、検出部本体５１には、フラックス槽１８内のフラックス液Ｆの液面位置を検知する液面検知手段としての検出針部５３が設けられている。この検出針部５３は、フラックス液Ｆの液面の上限位置を設定すなわち司る上限針５４、フラックス液Ｆの液面の下限位置を設定すなわち司る下限針５５、および、これら上限針５４と下限針５５との共通接地針５６を備えている。
【００３６】
上限針５４は、下端部が槽本体３１の底部からフラックス液Ｆの液面の所定の上限位置となるように槽本体３１内に挿入されている。
【００３７】
下限針５５は、下端部が槽本体３１の底部からフラックス液Ｆの液面の所定の下限位置となるように槽本体３１内に挿入されている。すなわち、下限針５５の下端部は、上限針５４の下端部よりも下方に位置している。
【００３８】
共通接地針５６は、下端部が下限針５５の下端部よりも下方に位置するように槽本体３１内に挿入されている。
【００３９】
これら上限針５４、下限針５５および共通接地針５６は、検出部本体５１の円盤状の鍔部５７に挿通されて固定され、後述する制御手段としてのコントローラ５８に接続されている。
【００４０】
また、検出部本体５１内には、フラックス槽１８内のフラックス液Ｆの比重を検知する比重検知手段としての比重検出機構６１が収容されている。この比重検出機構６１は、フラックス槽１８の槽本体３１内のフラックス液Ｆ中に挿入された重錘６２を備えている。そして、比重検出機構６１は、フラックス液Ｆの比重の変化によりこの重錘６２に作用する浮力の変化を変位に変換して、この変位量を電気的に検知することにより、フラックス液Ｆの比重の変化を検知する。さらに、比重検出機構６１は、コントローラ５８に接続されている。
【００４１】
そして、コントローラ５８は、例えば図示されないコンピュータ、および、このコンピュータ上のプログラムなどにより制御される所定の電子回路などを備えている。このコントローラ５８は、検出針部５３にて検知したフラックス液Ｆの液面の位置、あるいは比重検出機構６１にて検知したフラックス液Ｆの比重に応じて、フラックス送液機構１５の切換弁２１，２２を個別に制御し、フラックス液Ｆの液面位置を、上限針５４の下端部と下限針５５の下端部との間で設定される所定の幅を有する所定の位置に制御するとともに、フラックス液Ｆの比重を、所定の幅を有する所定値に制御する。
【００４２】
次に、上記図１乃至図３に示された実施の形態の作用を、図４も参照しながら詳細に説明する。
【００４３】
空気供給管３５を介して空気供給装置から素焼き筒４１に空気が供給されることにより、この空気が素焼き筒４１の通気孔４２からフラックス槽１８内のフラックス液Ｆ内に気泡となって拡散し、フラックス液Ｆが発泡する。
【００４４】
この発泡したフラックス液Ｆは、ノズル４により集められ、上方に案内されて噴出口４３から上方に噴出し、上側で移動するワークの下面に塗布される。
【００４５】
また、噴出口４３から噴出しワークに塗布されなかったフラックス液Ｆは、ノズル４の外側面を伝ってフラックス槽１８内に戻される。
【００４６】
ここで、図４（ａ）に示されるように、フラックス槽１８内で、上限針レベルと下限針レベルとの間に位置したフラックス液Ｆは、ワークへのフラックス液Ｆの塗布により消費すなわち持ち出され（図中Ａ）、総量が減少することで液面位置が低下する。
【００４７】
このとき、フラックス液Ｆの持ち出しにより希釈液Ｔが自然蒸発して揮散することで、比重検出機構６１で検知したフラックス液Ｆの比重が所定値よりも大きくなると、コントローラ５８がフラックス送液機構１５を制御して、希釈液タンク１２から希釈液Ｔをフラックス槽１８に供給する（図中Ｂ）ことで、フラックス液Ｆの比重を所定値に維持する。
【００４８】
すなわち、コントローラ５８が切換弁２２を通電状態にすることで、空圧調整部２３にて調整された空圧源２４からの空圧が接続管１４を介して希釈液タンク１２に供給され、希釈液タンク１２の液面を強制的に押し下げ、希釈液Ｔが可変絞り弁２６にて供給量を調整されつつ供給管１７を介してフラックス槽１８に供給される。
【００４９】
そして、比重検出機構６１により検知したフラックス液Ｆの比重が所定値に達すると、コントローラ５８が切換弁２２を非通電状態にすることで、希釈液タンク１２からのフラックス槽１８への希釈液Ｔの供給が停止される。
【００５０】
同様に、フラックス液Ｆの持ち出しと希釈液Ｔの供給とが繰り返されて、検出針部５３で検知したフラックス液Ｆの液面が、フラックス液Ｆの比重が所定値に維持された状態で下限針レベルよりも下側になると、コントローラ５８がフラックス送液機構１５を制御して、原液タンク１１からフラックス原液Ｓを、希釈液タンク１２から希釈液Ｔを、それぞれフラックス槽１８に供給する（図中Ｃ）。
【００５１】
すなわち、コントローラ５８が切換弁２１を通電状態にすることで、空圧調整部２３にて調整された空圧源２４からの空圧が接続管１３を介して原液タンク１１に供給され、原液タンク１１の液面を強制的に押し下げ、フラックス液Ｆの液面位置が下限針レベルを超えるまでフラックス原液Ｓが可変絞り弁２５にて供給量を調整されつつ供給管１６を介してフラックス槽１８に供給される。
【００５２】
そして、検出針部５３で検知したフラックス液Ｆの液面位置が所定の位置に達すると、コントローラ５８が切換弁２１を非通電状態にすることで、原液タンク１１からのフラックス槽１８へのフラックス原液Ｓの供給が停止された後、図中Ｂと同様の作用で希釈液タンク１２から希釈液Ｔがフラックス槽１８に供給され、比重検出機構６１により検知したフラックス液Ｆの比重が所定値に達すると、比重検出機構６１が切換弁２２を閉じることで、希釈液タンク１２からのフラックス槽１８への希釈液Ｔの供給が停止される。
【００５３】
上記Ａ乃至Ｃを繰り返すことで、運転時には、フラックス槽１８のフラックス液Ｆが下限針レベルを中心として比重管理される。
【００５４】
また、発泡式フラクサ１の運転開始時には、運転停止から運転開始までの間に希釈液Ｔが揮散していることで、フラックス液Ｆの液面位置が低下しているとともに、比重が所定値よりも大きくなっている。特に、フラックス塗布およびはんだ付け運転が長時間に亘って休止される場合、例えば週休２日などの休日を挟んだ際には、図４（ｂ）に示されるように、フラックス液Ｆの液面位置が下限針レベルよりも下側に位置していることがある。
【００５５】
この場合には、図４（ｂ）に示されるように、コントローラ５８が図４（ａ）と同様にフラックス送液機構１５を制御して、希釈液タンク１２から希釈液Ｔをフラックス槽１８に供給する（図中Ｂ）ことで、揮散した分の希釈液Ｔを供給してフラックス液Ｆの比重を所定値に維持するとともに、フラックス液Ｆの液面位置を所定の位置に制御する。
【００５６】
この後、図４（ａ）と同様に、コントローラ５８が、フラックス液Ｆの比重および液面位置を制御する。
【００５７】
以下に、上記図１乃至図３に示された実施の形態の効果を列記する。
【００５８】
上記一実施の形態では、検出針部５３で検知したフラックス液Ｆの液面の位置が所定の位置よりも低く、かつ比重検出機構６１で検知したフラックス液Ｆの比重が所定値より大きい際には、希釈液Ｔをフラックス槽１８に供給してフラックス液Ｆの比重をコントローラ５８が所定値に制御する。すなわち、フラックス液Ｆの比重の維持をフラックス液Ｆの液面位置の維持よりも優先する。
【００５９】
このため、例えば連休などの休日にて揮散したフラックス液Ｆの希釈液Ｔ分に相当する量の希釈液Ｔがフラックス槽１８に供給されるので、フラックス液の液面位置の維持を優先する場合、すなわちフラックス原液を供給してフラックス液の液面の位置を所定の位置とする場合と比較して、フラックス液Ｆの液面の位置を必要以上に高くして溢れすなわちオーバーフローなどをすることなくフラックス液Ｆの比重を所定値に容易に維持できる。
【００６０】
この結果、フラックス原液Ｓの過剰供給を防止でき、はんだ付けに適した比重に維持されたフラックス液Ｆを発泡手段３で発泡させてノズル４にてワークに対して常に塗布できるので、例えばワークの下面でのいわゆるはんだブリッジ、はんだつらら、あるいははんだの不濡れなどのはんだ付け不良を、確実に防止できる。
【００６１】
また、発泡式フラクサ１は、ワークの下面に対するフラックス液Ｆの塗布量が比較的多いため、ワークに対するフラックス上がりが良く、例えば鉛フリーはんだを使用した際でも、良好なはんだ濡れを得ることができる。
【００６２】
さらに、フラックス槽１８のフラックス液Ｆの比重が所定値に達した状態でフラックス液Ｆの液面の位置が下限針レベルよりも低い際には、フラックス原液Ｓを供給してフラックス液Ｆの液面の位置を所定の位置に復帰させるように制御するので、フラックス液Ｆの比重値を必要以上に大きくすることなくフラックス液Ｆの液面の位置を所定の位置に維持できる。
【００６３】
なお、上記一実施の形態において、フラックス送液機構１５の構成は、上記構成に限定されるものではない。
【００６４】
また、比重管理装置２は、他の様々なフラックス塗布装置に適用可能である。
【００６５】
さらに、液面検知手段、あるいは比重検知手段としては、上記構成以外のものを使用することも可能である。
【００６６】
【発明の効果】
請求項１記載の発明によれば、フラックス液の液面の位置が所定の位置よりも低く、かつフラックス液の比重が所定値より大きい際には、希釈液をフラックス槽に供給してフラックス液の比重を所定値に制御するため、例えばフラックス原液を供給してフラックス液の液面の位置を所定の位置とする場合と比較して、フラックス液の液面の位置を必要以上に高くすることなくフラックス液の比重を所定値に容易に維持できる。
【００６７】
請求項２記載の発明によれば、フラックス槽のフラックス液の比重が所定値に達した状態でフラックス液の液面の位置が所定の位置よりも低い際には、フラックス原液を供給してフラックス液の液面の位置を所定の位置に制御するので、フラックス液の比重値を必要以上に大きくすることなくフラックス液の液面の位置を所定の位置に維持できる。
【００６８】
請求項３記載の発明によれば、発泡手段で発泡させてノズルにてワークに塗布されるフラックス液の比重をフラックス比重管理装置にて所定値に維持することで、はんだ付けに適した比重のフラックス液をワークに対して塗布できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るフラックス比重管理装置を備えたフラックス塗布装置の一実施の形態を示す説明図である。
【図２】同上フラックス塗布装置の一部を示す斜視図である。
【図３】同上フラックス塗布装置の一部を示す縦断面図である。
【図４】同上フラックス比重管理装置のフラックス液の液面位置を示す説明図である。
（ａ）  同上フラックス比重管理装置の通常運転時のフラックス液の液面位置を示す説明図
（ｂ）  同上フラックス比重管理装置の運転開始時のフラックス液の液面位置を示す説明図
【符号の説明】
１    フラックス塗布装置としての発泡式フラクサ
２    フラックス比重管理装置
３    発泡手段
４    ノズル
１１    原液タンク
１２    希釈液タンク
１８    フラックス槽
５３    液面検知手段としての検出針部
５８    制御手段としてのコントローラ
６１    比重検知手段としての比重検出機構
Ｆ    フラックス液
Ｓ    フラックス原液
Ｔ    希釈液
【図１】
2005000950.tif 000003
【図２】
2005000950.tif 000004
【図３】
2005000950.tif 000005
【図４】
2005000950.tif 000006