(57)【要約】【課題】現在使用されているものよりも高い帯域幅を有する、感度の高い圧力センサを提供する。【解決手段】ダイアフラムを包含し、ダイアフラムは剛性の外側部分と、ダイアフラムの第１の側と第２の側との間の圧力差に応じて変位する変位可能な内側部分とを有し、ダイアフラムに近接して配置されており、ダイアフラムの内側部分の変位をセンシングするセンサを包含し、センサと接続されており、ダイアフラムの変位から圧力差を求める監視制御システムを包含する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧力センサにおいて、
ダイアフラムを包含し、該ダイアフラムは剛性の外側部分と、前記ダイアフラムの第１の側と第２の側との間の圧力差に応じて変位する変位可能な内側部分とを有し、
前記ダイアフラムに近接して配置されており、前記ダイアフラムの内側部分の前記変位をセンシングするセンサを包含し、
前記センサと接続されており、前記ダイアフラムの変位から前記圧力差を求める監視制御システムを包含することを特徴とする、圧力センサ。
【請求項２】
前記ダイアフラムは０．１から０．５水柱インチの範囲の圧力変化を感知する、請求項１記載の圧力センサ。
【請求項３】
前記ダイアフラムの内側部分の第１の側に光学反射性コーティングを包含し、前記センサは前記光学反射性コーティングによって光学的に調整された光学的な送信器および光学的な受信器を包含する、請求項１記載の圧力センサ。
【請求項４】
前記センサは干渉計を包含する、請求項３記載の圧力センサ。
【請求項５】
前記センサは白色光干渉計を包含する、請求項３記載の圧力センサ。
【請求項６】
前記センサは、
光送信モジュールと、
前記光送信モジュールから送出された第１の光ビームを直接的に受信し、且つ前記光送信モジュールから送出され、前記ダイアフラムにおいて反射された第２の光ビームを受信する光センシングモジュールとを包含し、
前記監視制御システムは前記第１の光ビームおよび前記第２の光ビームから形成された干渉パターンから前記ダイアフラムの変位を求める、請求項３記載の圧力センサ。
【請求項７】
前記光送信モジュールは光源光を前記第１の光ビームおよび前記第２の光ビームに分割する回折装置と接続されている出力側を有する送信ファイバを包含し、前記ダイアフラムの変位は前記干渉パターンにおける光の強度を変調させ、前記監視制御システムは強度が変調された光から前記ダイアフラムの変位を求める、請求項６記載の圧力センサ。
【請求項８】
前記光送信モジュールは第１の送信ファイバおよび第２の送信ファイバを包含し、前記第１の送信ファイバは第１の波長で前記第１の光ビームを出力し、前記第２の送信ファイバは第２の波長で前記第２の光ビームを出力し、前記第２の波長は前記第１の波長に相対的に位相シフトされており、前記ダイアフラムの変位は前記干渉パターンに一定の速度の変化を生じさせ、前記監視制御システムは前記ダイアフラムの変位を前記一定の速度から復号するカウンタを包含する、請求項６記載の圧力センサ。
【請求項９】
前記ダイアフラムの内側部分は接地された金属表面を包含し、前記センサは前記接地された金属表面に隣接して位置決めされている容量性センシング装置を包含し、前記監視制御システムは前記容量性センシング装置における容量性の変化に基づき前記変位を求める、請求項１記載の圧力センサ。
【請求項１０】
リソグラフィのための近接センサにおいて、
測定プローブと接続されている測定脚と、
基準プローブと接続されている基準脚と、
前記測定脚と前記基準脚との間に接続されているブリッジ部分と、
前記ブリッジ部分内に配置されている圧力センサとを包含することを特徴とする、
近接センサ。
【請求項１１】
前記圧力センサは、
剛性の外側部分と前記測定脚と前記基準脚との間の圧力差に応じて変位する変位可能な内側部分とを有するダイアフラムと、
前記ダイアフラムの内側部分の変位をセンシングする、前記ダイアフラムに近接して配置されているセンサと、
前記センサと接続されており、前記ダイアフラムの変位を求め、該変位から前記圧力差を求める監視制御システムとを包含する、請求項１０記載の近接センサ。
【請求項１２】
リソグラフィのための近接センサにおいて、
測定プローブと接続されている測定脚を包含し、
基準圧力を包含し、
前記測定脚と前記基準圧力との間に接続されているブリッジ部分を包含し、
前記ブリッジ部分内に配置されているダイアフラムを包含し、該ダイアフラムは剛性の外側部分と、前記測定脚と前記基準圧力との間の圧力差に応じて変位する変位可能な内側部分とを有し、
前記ダイアフラムに近接して配置されており、前記ダイアフラムの内側部分の変位をセンシングするセンサを包含し、
前記センサと接続されており、前記ダイアフラムの変位を求め、該変位から前記圧力差を求める監視制御システムを包含することを特徴とする、近接センサ。
【請求項１３】
リソグラフィトポグラフィマッピング装置において、
測定プローブと接続されている測定脚を包含し、
基準圧力を包含し、
前記測定脚と前記基準圧力との間に接続されているブリッジ部分を包含し、
前記ブリッジ部分内に配置されているダイアフラムを包含し、該ダイアフラムは剛性の外側部分と、前記測定脚と前記基準圧力との間の圧力差に応じて変位する変位可能な内側部分とを有し、
前記ダイアフラムに近接して配置されており、前記ダイアフラムの内側部分の変位をセンシングするセンサを包含し、
前記センサと接続されており、前記ダイアフラムの変位を求め、該変位から前記圧力差を求める監視制御システムを包含することを特徴とする、リソグラフィトポグラフィマッピング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、圧力センサ、近接センサおよびリソグラフィトポグラフィマッピング装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
慣例の低圧空気圧力計は、比較的長い応答時間を有するか、典型的には数十Ｈｚの範囲の比較的低い帯域幅を有するマスフローセンサを使用する。比較的低い帯域幅は、例えばリソグラフィスキャンの用途のような高速の動作には適していない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
したがって本発明の課題は、現在使用されているものよりも高い帯域幅を有する、感度の高い圧力センサ、ならびに近接センサおよびリソグラフィトポグラフィマッピング装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明に係る課題は、ダイアフラムを包含し、ダイアフラムは剛性の外側部分と、ダイアフラムの第１の側と第２の側との間の圧力差に応じて変位する変位可能な内側部分とを有し、ダイアフラムに近接して配置されており、ダイアフラムの内側部分の変位をセンシングするセンサを包含し、センサと接続されており、ダイアフラムの変位から圧力差を求める監視制御システムを包含する圧力センサによって解決される。
【０００５】
また本発明に係る課題は、測定プローブと接続されている測定脚と、基準プローブと接続されている基準脚と、測定脚と基準脚との間に接続されているブリッジ部分と、ブリッジ部分内に配置されている圧力センサとを包含する近接センサによって解決される。
【０００６】
また本発明に係る課題は、測定プローブと接続されている測定脚を包含し、基準圧力を包含し、測定脚と基準圧力との間に接続されているブリッジ部分を包含し、ブリッジ部分内に配置されているダイアフラムを包含し、ダイアフラムは剛性の外側部分と、測定脚と基準圧力との間の圧力差に応じて変位する変位可能な内側部分とを有し、ダイアフラムに近接して配置されており、ダイアフラムの内側部分の変位をセンシングするセンサを包含し、センサと接続されており、ダイアフラムの変位を求め、変位から圧力差を求める監視制御システムを包含する近接センサによって解決される。
【０００７】
また本発明に係る課題は、測定プローブと接続されている測定脚を包含し、基準圧力を包含し、測定脚と基準圧力との間に接続されているブリッジ部分を包含し、ブリッジ部分内に配置されているダイアフラムを包含し、ダイアフラムは剛性の外側部分と、測定脚と基準圧力との間の圧力差に応じて変位する変位可能な内側部分とを有し、ダイアフラムに近接して配置されており、ダイアフラムの内側部分の変位をセンシングするセンサを包含し、センサと接続されており、ダイアフラムの変位を求め、変位から圧力差を求める監視制御システムを包含するリソグラフィトポグラフィマッピング装置によって解決される。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明による圧力計は、実質的に剛性の外側部と、変位する内側部とを備えたダイアフラムを包含し、この内側部はダイアフラムの第１の側と第２の側との間の圧力差に応じて変位する。圧力計はさらに、ダイアフラムに近接して配置されており、ダイアフラムの内側部の変位をセンシングするセンサを包含する。圧力計はさらにセンサと（有線または無線で）接続されており、ダイアフラムの変位から圧力差を求める監視制御システムを包含する。
【０００９】
本発明は、光学的なセンシングデザインおよび容量的なセンシングデザインを含むがこれらに制限されるものではない種々の選択的なセンシングデザインを提供する。
【００１０】
リソグラフィの用途に使用されるナノメータ近接センサのような低圧の用途に関しては、センサの動作圧力範囲はおよそ０．１〜０．５水柱インチである。圧力センサの解像度は有利にはおよそ〜０．００１Ｐａであり、これはおよそ〜４×１０−５インチＨ２Ｏである。このことは数ナノメータを解像するゲージを許容する。１インチＨ２Ｏ＝２５４パスカルである。
【００１１】
ダイアフラムおよびセンサは比較的高い帯域幅を有し、したがってこのダイアフラムおよびセンサを比較的速い速度の用途において実施することができる。本発明を例えばリソグラフィ近接センシング装置およびリソグラフィトポグラフィマッピング装置において実施することができる。
【００１２】
本発明のさらなる特徴および利点は以下の説明に示されている。さらに別の特徴および利点は本明細書に示された説明に基づき当業者には明らかになるか、本発明の実践によって習得ことができる。本発明の利点は、ことに以下の明細書および請求項ならびに添付の図面に記載されている構造によって実現および達成される。
【００１３】
前述の概要および以下の詳細な説明のいずれも例示的且つ説明的なものであり、また請求項記載の本発明のさらなる説明をなすことを意図したものと解するべきである。
【００１４】
本発明を添付の図面を参照して説明する。ここで同じ参照番号は同一または機能的に類似する素子を表す。また参照番号の左側の文字は関連する素子が最初に登場した図面を示唆する。
【実施例】
【００１５】
Ｉ．序論
本発明は現在使用可能な帯域幅よりも高い帯域幅を有する低圧空気圧力計に関する。本発明を例えばリソグラフィ近接センシングおよびリソグラフィトポグラフィマッピングに使用することができるが、本発明はこれらの用途に制限されるものではない。
【００１６】
ＩＩ．高い帯域幅、低い圧力差センシング
図１は可撓性のプレートまたはダイアフラム１０２と、このダイアフラム１０２に近接して配置されているダイアフラム変位センサ１０４（以下では「センサ」１０４）と、このセンサ１０４と電気的に（有線または無線で）接続されている監視制御システム１０６とを包含する圧力センサ１００の側面図である。センサ１０４はダイアフラムに近接しているが、ダイアフラムと物理的に接触している必要はない。
【００１７】
ダイアフラム１０２およびセンサ１０４はボディ１０８内の第１の領域１１０と第２の領域１１２との間に位置決めされている。圧力センサ１００は第１の領域１１０と第２の領域１１２との間の圧力差を求める。
【００１８】
図２Ａはダイアフラム１０２の正面図である。ダイアフラム１０２はこのダイアフラム１０２をボディ１０８の内壁１１４（図１）に接続させるための実質的に剛性の外側部分２０２を包含する。図２Ｂは実質的に剛性の外側部分２０２の側面図を示す。実質的に剛性の外側部２０２は例えば金属、プラスチックまたは他の適切な実質的に剛性の材料またはこれらの組合せから成る。
【００１９】
図２Ａを再び参照すると、ダイアフラム１０２はさらに変位可能な内側部分２０４を包含し、この内側部分２０４は第１の領域１１０と第２の領域１１２（図１）との間の圧力差に応じて変位する。
【００２０】
内側部分２０４は半弾性（semi-elastic）の材料から構成されている可撓性のプレート、膜ベースの部分であり、この半弾性の材料は例えばマイラー（Ｒ）、カプトン（Ｒ）、ラバーおよび／またはこれらの組合せであるが、これらの材料に制限されるものではない。内側部分２０４は圧力の低い方に膨張する。内側部分２０４は例えば約０．１〜０．５水柱インチの範囲にある超低圧力差に応答するよう設計されているが、この範囲に制限されるものではない。択一的に内側部分２０４は別の圧力差範囲に応答するよう設計されている。
【００２１】
内側部分２０４は、グルー、一体成型、ヒートシール、化学結合などを含むが、これらに制限されるものではない種々のやり方のうちの１つまたは複数でもって、実質的に剛性の外側部分２０２と付着されている。
【００２２】
内側部分２０４は選択的に近接表面２０６を包含する。センサ１０４（図１）は近接表面２０６の運動を感知する。近接表面２０６は内側部分２０４またはコーティングまたはその含浸物でよい。コーティングおよび含浸物の例は以下の１つまたは複数の節に記載されている。
【００２３】
図２Ｃは、圧力差が存在する状態のように膨張して示されている内側部分２０４および近接表面２０６と実質的に剛性の部分２０２を包含するダイアフラムの側面図である。
【００２４】
図１および図２Ａの例においては、ボディ１０８は円柱状の形状を有し、したがって外側部分２０２は完全に円形の形状を有する。しかしながら本発明は図面に示した例示的な円形の形状に制限されるものではない。当業者であれば、卵形、楕円形および多角形を含むが、これらに制限されるものではない別の形状も使用できることが分かるであろう。
【００２５】
センサ１０４および近接表面２０６を１つまたは複数の種々のテクノロジを用いて実施することができる。センサ１０４および近接表面２０６の例は以下記載されている。しかしながら本発明はこれらの例示的な実施形態に制限されるものではない。この明細書における教示に基づき、当業者であればセンサ１０４および近接表面２０６を本発明の範囲内の別のテクノロジを用いても実施できることが分かるであろう。
【００２６】
圧力センサ１００は比較的高い帯域幅を有する装置である。使用される材料および回路に依存して、圧力センサは数千Ｈｚの帯域幅を有することができる。したがって本発明は、例えばリソグラフィ近接センシングのような比較的低速の用途にも、例えばリソグラフィトポグラフィマッピングのような比較的高速の用途にも有用である。
【００２７】
ＩＩＩ．近接センシングに基づく干渉計
図３は、センサ１０４および監視制御システム１０６は干渉計で実施されている圧力センサ１００の側面図である。干渉計は近接表面２０６を反射ターゲットとして使用する。近接表面２０６の撓みにおける変化はセンサ１０４によって受信される反射光パターンにおける変化に対応する。監視制御システム１０６におけるデコーダは近接表面２０６の相対的な撓みを求める。監視制御システム１０６は近接表面２０６の撓み寸法を第１の領域１１０と第２の領域１１２との間の圧力差に変換する。
【００２８】
干渉計は白色光干渉計を含むがこれに制限されるものではない、既製の干渉計でもって実施することができる。
【００２９】
ＩＶ．光学視射角近接センシング
図４は、センサ１０４および監視制御システム１０６が例えば全体を参照することにより本願明細書に取り入れられるT. Qui,「Fiber Optics Focus Sensors: Theoretical Model」MIT Report, 2000に教示されているような光学視射角センサで実施されている圧力センサ１００の側面図を示す。
【００３０】
動作時には第１の光路４０２および第２の光路４０４がそれぞれ送信ファイバ４０６と受信ファイバ４０８との間に形成される。第１の光路４０２は送信ファイバ４０６と受信ファイバ４０８との間にある。第２の光路４０４は送信ファイバ４０６から出発し、受信ファイバ４０８によって受信される前に、光学反射性コーティングを有する近接表面２０６において反射される。第１の光路４０２を介して送信ファイバ４０６から送出されて受信ファイバ４０８によって受信される第１の光ビームと、第２の光路４０４を介して送信ファイバ４０６から送出されて受信ファイバ４０８によって直接的に受信される第２の光ビームは空間回折像を形成する。パターンは近接表面２０６の相対的な位置の関数である。
【００３１】
近接表面２０６が図４において「ダイアフラム撓み」４１０として示されているように撓むと、受信ファイバ４０８は第２の光路４０４から強度が変調された光を受信する。監視制御システム１０６におけるデコーダは変調を復号し、近接表面２０６の相対的な撓みを求める。監視制御システム１０６は近接表面２０６の撓み寸法（すなわち「ダイアフラム撓み」４１０）を第１の領域１１０と第２の領域１１２との間の圧力差に変換する。
【００３２】
図４の例においては、送信ファイバ４０６は光源からの光を第１の光ビームと第２の光ビームに分割する光学系、例えば回折装置を包含する。この回折装置は送信ファイバ４０６の出力側と接続されている。択一的に、音響的に位相シフトされた波長を用いる２つの送信ファイバが使用される。すなわち、第１の送信ファイバは第１の波長で第１の光ビームを送出し、第２の送信ファイバは第２の波長で第２の光ビームを送出する。受信ファイバ４０８における合成干渉パターンは常にシフトまたは移動する。近接表面２０６が静止している場合には、干渉パターンは一定の速度で移動する。近接表面２０６が移動すると、相応にシフトされた干渉パターンの速度が変化する。監視制御システム１０６におけるカウンタは一定の速度、すなわちダイアフラムの相対的な撓みをパターン変化に基づき復号する。監視制御システム１０６は近接表面２０６の撓み尺度を第１の領域１１０と第２の領域１１２との間の圧力差に変換する。
【００３３】
Ｖ．容量性近接センシング
図５は、センサ１０４が容量性センサ５０２を包含し、また近接表面２０６が接地されたプレート５０４を包含する圧力センサ１００の側面図を示す。接地されたプレート５０４は少なくとも部分的に、金属のような導電性材料から形成されている。容量性センサ５０２は接地されたプレート５０４からおよそ３００〜５００ｍｍの任意の個所に配置されている。空気のような気体は容量性センサ５０２と接地されたプレート５０４との間で誘電体のような役割を果たす。キャパシタンスは接地されたプレート５０４の容量性センサ５０２からの距離の関数である。ダイヤフラム１０２の撓みの変化によってキャパシタンスが変化する。監視制御システム１０６は例えば容量的な変化に対応する発振または変調を生じさせるタンク回路のような回路を包含する。発振または変調は接地されたプレート５０４に関する相対的な撓み寸法に変換される。監視制御システム１０６は接地されたプレート５０４の撓み寸法を第１の領域１１０と第２の領域１１２との間の圧力差に変換する。
【００３４】
圧力センサと共に使用されている容量性センサは本発明者には知られていないが、これらの容量性センサは公知の商用的に入手可能なものである。
【００３５】
ＶＩ．空気圧力計（エアゲージ）としての圧力計
圧力センサ１００は選択的に、空気流によって惹起される圧力変化を測定する空気圧力計として実施することができる。そのような空気圧力計は例えばリソグラフィのための近接センサおよびリソグラフィのためのトポグラフィマッピングにおいて有用であるが、これらに制限されるものではない。
【００３６】
図６は第１の脚６０２および第２の脚６０４を包含する空気系６００の正面図である。圧力センサ１００はボディ１０８内に位置決めされており、このボディ１０８は第１の脚６０２と第２の脚６０４との間のブリッジを形成する。ブリッジ１０８はＴ接続（T-Connection）によって第１の脚６０２および第２の脚６０４と接続されている。
【００３７】
図６の例においてＴ接続は実質的に直角のＴ接続である。しかしながら本発明は直角のＴ接続に制限されるものではない。本明細書に基づいて当業者であれば別の角度の接続を使用できることが分かるであろう。
【００３８】
第１の脚６０２および第２の脚６０４を通過する空気流が矢印で表されている。空気流によって領域１１０および１１２における圧力が低下する。第１の脚６０２内の空気流が第２の脚６０４内の空気流と異なる場合には、第１の領域１１０と第２の領域１１２との間に生じる圧力差によってダイアフラム１０２は圧力が低い方の領域にむかって撓む。初期較正に基づいて、監視制御システム１０６は第１の脚６０２と第２の脚６０４との間の空気流における相対的な差を求める。空気流における相対的な差を、例えば以下説明するようなリソグラフィ近接センシングに使用することができる。
【００３９】
ＶＩＩ．リソグラフィ近接センシング
図７は例えばリソグラフィに使用される近接センサ７００の正面図を示す。リソグラフィ近接センサは例えば全体を参照することにより本願明細書に取り入れられる、2002,12,19に出願されたU.S. 10/322,768、タイトル「High-Resolution Gas Gauge Proximity Sensor」に記載されている。また空気圧力計センサも、全体を参照することにより本願明細書に取り入れられる1990.9.4に発行されたBaradaによるU.S. 4,953,388、タイトル「Air Gauge Sensor」に記載されている。
【００４０】
図７において近接センサ７００は第１の脚６０２および第２の脚６０４を包含する。第１の脚６０２は測定プローブ７０２と接続されている。第２の脚６０４は基準プローブ７０８と接続されている。第１の脚６０２は測定脚であり、第２の脚６０４は基準脚である。測定プローブ７０２はウェハまたは他の作業表面７０４に隣接しており、これらの間には測定ギャップ７０６が設けられてる。基準プローブ７０８は基準表面７１０に隣接しており、これらの間には基準ギャップ７１２が設けられている。
【００４１】
第１の脚６０２における空気流と第２の脚６０４における空気流は最初平衡が保たれており、したがって第１の領域１１０と第２の領域１１２との間に空気圧差は存在しない。測定ギャップ７０６が基準ギャップ７１２に相対的に変化すると、第１の脚６０２における空気流は第２の脚６０２における空気流に相対的に変化し、第２の領域１１２に相対的に第１の領域１１０における相応の圧力変化が生じる。圧力変化は上記の節において述べたようにして圧力センサ１００によって求められる。
【００４２】
択一的に基準脚６０４および基準プローブ７０８は基準圧力に置換される。例えば図８は基準脚６０４が基準圧力８０２に置換されている近接センサ８００を示す。基準圧力８０２は周囲圧力または制御された圧力でよい。
【００４３】
ＶＩＩＩ．結論
本発明を特定の機能およびこれらの性能の関係を表す機能的な構成要素を用いて説明した。これらの機能的な構成要素の範囲は本明細書では便宜性のために任意に規定されている。特定の機能およびこの関係が適切に実行されるのであれば、代替的な範囲を規定することができる。したがってそのようなあらゆる代替的な範囲は請求項に記載されている本発明の範囲および精神内にある。当業者であればこれらの機能的な構成要素が離散的なコンポーネント、アプリケーション固有の集積回路、プロセスの実行に適しているソフトウェアなど、またこれらの組合せによって実施できることを認識するであろう。
【００４４】
本発明の種々の実施形態を上記において説明したが、それらの実施形態は単に例示的に表されたものであり、本発明を制限するものではないと理解すべきである。したがって本発明の幅および範囲は上述のいずれの例示的な実施形態によっても制限されるべきではなく、請求項およびこれと等価のものとの関連においてのみ定義されるべきである。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】ダイアフラム１０２およびセンサ１０４を包含する圧力センサ１００の側面図。
【図２Ａ】ダイアフラム１０２の正面図。
【図２Ｂ】ダイアフラム１０２の実質的に剛性の外側部分２０２。
【図２Ｃ】圧力差が存在する状態のように膨張して示されている内側部分２０４および近接表面２０６と実質的に剛性の外側部２０２を包含するダイアフラム１０２の側面図。
【図３】センサ１０４および監視制御システム１０６が白色光干渉計で実施されている圧力センサ１００の側面図。
【図４】センサ１０４および監視制御システム１０６が光学視射角センサで実施されている圧力センサの側面図。
【図５】センサ１０４は容量性センサ５０２を包含し、近接表面２０２は接地されたプレート５０４を包含する圧力センサ１００の側面図。
【図６】第１の脚６０２および第２の脚６０４を包含し、圧力センサ１００はこれらの脚間のブリッジに位置決めされているエアシステム６００の側面図。
【図７】例えばリソグラフィに使用される近接センサ７００として実施されている圧力センサ１００の側面図。
【図８】近接センサ８００として実施されている圧力センサ１００の側面図。
【図１】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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