(57)【要約】【課題】  配向膜へのラビング処理に起因した不具合の発生を抑える。【解決手段】  第２基板２０のうち液晶と対向する面上に設けられたカラーフィルタ２３は、液晶４０の配向状態を規定する表面形状を有する。具体的には、カラーフィルタ２３は、頂上部が一方向に延在する配向制御突起２３１を複数有する。配向膜２５は、かかる表面形状を有するカラーフィルタ２３を覆うように、薄膜状に形成される。【選択図】        図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
相互に対向する一対の基板の間に挟持された液晶と、
前記一対の基板のうちの一方の基板において、前記液晶と対向する面側に設けられて特定の波長の光を透過させるカラーフィルタと、
前記カラーフィルタに設けられ、前記一方の基板と反対側に突起する形状であり、前記液晶の配向状態を規定する複数の配向制御突起と、
前記一方の基板に設けられた画素電極および共通電極とを具備することを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項２】
前記画素電極および前記共通電極は、前記配向制御突起上に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記画素電極および前記共通電極の幅は、前記配向制御突起の幅と同じ幅であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記画素電極および前記共通電極が設けられた前記カラーフィルタの表面が配向膜によって覆われていることを特徴とする請求項１乃至請求項３に記載の液晶表示パネル。
【請求項５】
複数の前記配向制御突起は、頂上部が一方向に延在する形状であることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか一項に記載の液晶表示パネル。
【請求項６】
隣接する前記配向制御突起同士の間隔は、前記画素電極又は前記共通電極の厚さと前記配向膜の厚さとの合計の２倍よりも大きいことを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の液晶表示パネル。
【請求項７】
前記配向制御突起の高さは、前記画素電極又は前記共通電極の厚さと前記配向膜の厚さとの合計よりも大きいことを特徴とする請求項４乃至請求項６のいずれか一項に記載の液晶表示パネル。
【請求項８】
前記配向制御突起は、前記液晶の分子の長軸方向が前記一の基板の基板面と略平行となるように前記液晶の配向状態を規定している
ことを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれか一項に記載の液晶表示パネル。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一項に記載の液晶表示パネルを備えることを特徴とする電子機器。
【請求項１０】
基板と、
前記基板に設けられ、特定の波長の光を透過させるカラーフィルタと、
前記カラーフィルタに設けられ、前記基板と反対側に突起する形状であり、前記液晶の配向状態を規定する複数の配向制御突起と、
前記基板に設けられた画素電極および共通電極とを具備することを特徴とするカラーフィルタ基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ基板およびその製造方法、ならびに当該カラーフィルタ基板を用いた液晶表示パネルおよび電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示パネルは、シール材を介して貼り合わされた一対の基板と、両基板の間に封止された液晶とを有する。また、電圧が印加されていないときの液晶の配向状態を規定するために、各基板のうち液晶に対向する面にポリイミドなどからなる配向膜を設け、この配向膜に対してラビング処理を施した構成が一般的である。このラビング処理は、ローラに巻きつけられたラビング布（バフ布）で配向膜の表面を一定方向に擦る処理である（例えば特許文献１および２参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−１５４１９８号公報（第４頁、第１図）
【特許文献２】特開２００１−１５４１９９号公報（第５頁、第６頁、第１図、第４図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、配向膜の表面をラビング布で擦るときに塵が発生し、これが表示領域に付着することによって、表示ムラなどの表示品位の低下が生じ得るといった問題があった。また、ラビング処理が施された配向膜の表面状態は、ラビング布の毛先が配向膜表面に当接する強さやラビング布の材質、あるいは配向膜をラビング布で擦る速さといった、ラビング処理に関わる多様な条件によって決定される。しかしながら、これらの条件は不確定な要素が多く、定量的に制御することが困難であるものが多い。このため、所期の品質を有する配向膜の作成が困難となり、ひいては液晶表示パネルの歩留まりを低下させる原因ともなっていた。さらに、ＴＦＤ（Thin Film Diode）素子やＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子といったスイッチング素子を有する液晶表示パネルにおいては、ラビング布で配向膜を擦ったときに生じる静電気によって、これらのスイッチング素子が破壊され得るという問題がある。このように、ラビング処理を原因として様々な問題が引き起こされるため、配向膜へのラビング処理によることなく液晶の配向状態を規定する技術が望まれているところである。
【０００５】
本発明は、以上説明した事情に鑑みてなされたものであり、配向膜へのラビング処理に起因した不具合の発生を抑えることができるカラーフィルタ基板およびその製造方法、ならびにこのカラーフィルタ基板を用いた液晶表示パネルおよび電子機器を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、本発明に係るカラーフィルタ基板は、基板と、前記基板に設けられ、特定の波長の光を透過させるカラーフィルタと、前記カラーフィルタに設けられ、前記基板と反対側に突起する形状であり、前記液晶の配向状態を規定する複数の配向制御突起と、前記基板に設けられた画素電極および共通電極とを具備することを特徴とする。
【０００７】
このカラーフィルタ基板によれば、カラーフィルタの表面形状が液晶の配向状態を規定するものとなっているため、液晶の配向状態を規定するためのラビング処理を配向膜に施す必要はない。したがって、配向膜へのラビング処理に起因した種々の不具合の発生、例えばラビング処理に伴って発生した塵の付着やスイッチング素子の静電破壊などが抑えられ、ひいてはカラーフィルタ基板の歩留まりを高く維持することができる。
【０００８】
具体的なカラーフィルタの表面形状としては、頂上部が一方向に延在する配向制御突起を複数有する形状とすることが考えられる。この構成を採ることにより、電圧が印加されていないときの液晶分子を、その長軸方向が上記一方向に沿うように配列（平行配向）させることができる。また、前記カラーフィルタの表面形状を、前記一の基板の基板面に対して傾斜した複数の面を有するとともに当該各面の交線において当該一の基板と反対側に突起する配向制御突起を有する形状としてもよい。この構成を採ることにより、電圧が印加されていないときの液晶分子を、その長軸方向が上記傾斜面と垂直方向に向くように配列（垂直配向）させることができる。カラーフィルタの表面形状を、前記一の基板とは反対側に突起する曲面を有する形状としても同様である。
【０００９】
また、上記課題を解決するために、本発明は、相互に対向する一対の基板の間に挟持された液晶と、前記一対の基板のうちの一方の基板において、前記液晶と対向する面側に設けられて特定の波長の光を透過させるカラーフィルタと、前記カラーフィルタに設けられ、前記一方の基板と反対側に突起する形状であり、前記液晶の配向状態を規定する複数の配向制御突起と、前記一方の基板に設けられた画素電極および共通電極とを具備することを特徴とする。
【００１０】
この液晶表示パネルにおいても、カラーフィルタの表面形状が液晶の配向状態を規定し得るものとなっているため、上記カラーフィルタ基板について説明したのと同様に、配向膜へのラビング処理に起因した種々の不具合の発生を抑えることができる。なお、液晶表示パネルにおいても、上記カラーフィルタ基板と同様に、前記カラーフィルタの表面を、頂上部が一方向に延在する配向制御突起を複数有する形状としてもよいし、前記一の基板の基板面に対して傾斜した複数の面を有するとともに当該各面の交線において当該一の基板と反対側に突起する配向制御突起を有する形状としてもよい。あるいは、カラーフィルタの表面を、前記一の基板とは反対側に突起する曲面を有する形状としてもよい。換言すると、カラーフィルタの表面形状を、前記液晶の分子の長軸方向が前記一の基板の基板面と略平行となるように、すなわち平行配向（ホモジニアス配向）するように選定してもよいし、前記液晶の分子の長軸方向が前記一の基板の基板面に対して傾斜するように、すなわち垂直配向（ホメオトロピック配向）するように選定してもよい。もっとも、液晶の配向状態はこれに限られるものではなく、他の配向としてもよいことはもちろんである。すなわち、カラーフィルタの表面形状は、上述した形状に限られるものではなく、液晶分子が所期の配向となるように適宜に選定されることが望ましい。
【００１１】
また、上記課題を解決するため、本発明に係る電子機器は、上述した液晶表示パネルを備えることを特徴としている。上述したように、本発明に係る液晶表示パネルによれば、カラーフィルタ基板の歩留まり低下を抑えることができるから、これを搭載した電子機器の製造コストも低く抑えることができる。このような電子機器としては、例えばパーソナルコンピュータや携帯電話機などが考えられる。
【００１２】
さらに、本発明は、液晶を挟持するための一対の基板のうちの一の基板と、特定の波長の光を透過させるカラーフィルタとを有するカラーフィルタ基板を製造する方法において、前記一の基板のうち前記液晶と対向すべき面上に樹脂層を形成する第１工程と、前記樹脂層を選択的に除去することにより、前記液晶の配向方向を規定する表面形状を有する前記カラーフィルタを形成する第２工程とを有することが好ましい。
【００１３】
この方法によれば、液晶の配向方向を規定する表面形状を有するカラーフィルタが形成されるため、配向膜へのラビング処理を行う必要はない。したがって、このラビング処理に起因した種々の不具合の発生を抑えることができる。さらに、カラーフィルタの形成と同時に、液晶の配向方向を規定するための形状が形成されるため、液晶の配向方向を規定するための部材をカラーフィルタと別個に形成した場合と比較して、製造工程の簡略化および製造コストの低減が図られる。
【００１４】
なお、前記第２工程においては、前記樹脂層表面における複数の線状の領域を、当該樹脂層の厚さ方向における一部分にわたって除去するようにしてもよいし、さらに、前記樹脂層の一部分を、当該樹脂層表面の位置に応じて連続的に変化する深さにわたって除去するようにしてもよい。もっとも、樹脂層のうち除去される部分はこれに限られるものではなく、液晶分子の所期の配向状態に応じて適宜に選定されることが望ましい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。かかる実施の形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するものではなく、本発明の範囲内で任意に変更可能である。なお、以下に示す各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材ごとに縮尺を異ならせてある。
【００１６】
＜Ａ：第１実施形態＞
まず、本発明をアクティブマトリクス方式の液晶表示パネルに適用した形態について説明する。なお、以下では、スイッチング素子として二端子型スイッチング素子であるＴＦＤ（Thin Film Diode）素子を用いた場合を例示する。また、以下に示す液晶表示パネルは、太陽光や室内照明光などの外光を反射させて表示を行なう反射型表示と、バックライトユニットからの照射光を用いて表示を行なう透過型表示の双方が可能な、いわゆる半透過反射型の液晶表示パネルである。
【００１７】
＜Ａ−１：液晶表示パネルの構成＞
図１は、本実施形態に係る液晶表示パネルの構成を示す断面図である。同図に示すように、この液晶表示パネル１は、相互に対向する第１基板１０と第２基板２０とがシール材３０を介して貼り合わされるとともに、両基板とシール材３０とによって囲まれた領域に液晶４０が封止された構成となっている。なお、以下では、図１に示すように、液晶４０からみて第１基板１０側を「観察側」と表記する。すなわち、当該液晶表示パネル１による表示を視認する観察者の側という意味である。これに対し、液晶４０からみて第２基板２０側を「背面側」と表記する。
【００１８】
第１基板１０および第２基板２０は、ガラスや石英、プラスチックなどの光透過性を有する板状部材である。第１基板１０および第２基板２０の外側（液晶４０とは反対側）には、入射光を偏光させるための偏光板１０１および２０１と、干渉色を補償するための位相差板１０２および２０２とがそれぞれ貼着されている。なお、実際には、液晶表示パネル１の背面側にバックライトユニット（照明装置）が配設されるが、図示は省略されている。
【００１９】
図２は、液晶表示パネル１の要部を拡大して示す斜視図である。図２におけるI−I線からみた断面図が図１に相当する。なお、図２においては、図面が煩雑になるのを防ぐため、図１に示す偏光板１０１および２０１や位相差板１０２および２０２などの図示が適宜省略されている。図１および図２に示すように、第１基板１０の内側表面には、マトリクス状に配列する複数の画素電極１１と、各画素電極１１の間隙部分において一方向（図２に示すＹ方向）に延在する複数の走査線１２とが形成されている。各画素電極１１は、例えばＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの透明導電材料により形成された略矩形状の電極である。
【００２０】
図２に示すように、各画素電極１１と、当該画素電極１１に隣接する走査線１２とは、ＴＦＤ素子１３を介して接続されている。各ＴＦＤ素子１３は、非線形な電流−電圧特性を有する二端子型スイッチング素子である。図１に示すように、画素電極１１、走査線１２およびＴＦＤ素子１３が形成された第１基板１０の表面は、配向膜１４（図２においては図示略）によって覆われている。この配向膜１４は、ポリイミドなどの有機薄膜であり、電圧が印加されていないときの液晶４０の配向状態を規定するためのラビング処理が施されている。
【００２１】
一方、第２基板２０の内側（液晶４０側）表面には、図１に示すように、反射層２１、遮光層２２、カラーフィルタ２３（２３Ｒ、２３Ｇ、２３Ｂ）、データ線２４および配向膜２５が、第２基板２０側からみてこの順に設けられている。図２に示すように、複数のデータ線２４の各々は、ＩＴＯなどの透明導電材料によって形成された帯状の電極であり、カラーフィルタ２３および遮光層２２の面上に形成されている。さらに、各データ線２４は、上述した走査線１２と交差する方向（図２に示すＸ方向）に延在し、第１基板１０上に列をなす複数の画素電極１１と対向するようになっている。かかる構成のもと、第１基板１０と第２基板２０とによって挟持された液晶４０は、画素電極１１とこれに対向するデータ線２４との間に電圧が印加されることによってその配向方向が変化する。すなわち、図２に示すように、各画素電極１１と各データ線２４とが対向する領域はマトリクス状に配列し、その各々がサブ画素７として機能するのである。換言すると、サブ画素７は、液晶の配向方向が電圧の印加に応じて変化する領域の最小単位であるということができる。
【００２２】
図１に示すように、データ線２４が形成されたカラーフィルタ２３および遮光層２２の表面は配向膜２５によって覆われている。この配向膜２５は、ポリイミドなどからなる有機薄膜である点で上述した配向膜１４と共通するが、ラビング処理が施されていない点で配向膜１４とは異なっている。
【００２３】
反射層２１は、例えばアルミニウムや銀といった単体金属、またはこれらの金属を主成分とする合金などによって形成され、光反射性を有する薄膜である。観察側から液晶表示パネル１に入射した光（例えば室内照明光や太陽光など）は反射層２１の表面において反射する。この反射層２１が観察側に出射して観察者に視認される結果、反射型表示がなされるのである。なお、第２基板２０の内側表面は粗面化されており（図示略）、反射層２１の表面にはこの粗面を反映した散乱構造が形成されている。
【００２４】
さらに、図１および図２に示すように、反射層２１のうち各サブ画素７の中央部近傍には透光部２１１が設けられている。透光部２１１は、液晶表示パネル１に対して背面側から入射した光を観察側に通過させるために開口した部分である。すなわち、バックライトユニットによる照射光は、反射層２１の透光部２１１を通って観察側に出射する。この光が観察者によって視認される結果、透過型表示が実現されるのである。
【００２５】
遮光層２２は、マトリクス状に配列する各サブ画素７の間隙部分（つまり、画素電極１１とデータ線２４とが対向する領域以外の領域）と重なるように格子状に形成され、各サブ画素７同士の隙間を遮光する役割を担っている。この遮光層２２は、カーボンブラックや顔料といった黒色着色材を含む樹脂材料、またはクロム（Ｃｒ）などの金属などによって形成される。
【００２６】
カラーフィルタ２３は、各サブ画素７に対応して形成された樹脂層であり、染料や顔料によって赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）のうちのいずれかに着色されている。すなわち、各色のカラーフィルタ２３は、その色に対応する波長の光を選択的に透過させる。そして、赤色、緑色および青色の３色のカラーフィルタ２３にそれぞれ対応する３つのサブ画素７Ｒ、７Ｇおよび７Ｂによって、表示の最小単位であるひとつの画素（ドット）が構成される。なお、本実施形態においては、図２に示すように、走査線１２の延在方向に列をなす複数のサブ画素７にわたって同一色のカラーフィルタ２３が配列された構成（いわゆるストライプ配列）を採用した場合を例示する。
【００２７】
次に、図３は、第２基板２０上の各要素を拡大して示す断面図であり、図４は、カラーフィルタ２３の構成を示す斜視図である。図４におけるIII−III線からみた断面図が図３に相当する。なお、これらの図においては、赤色、緑色および青色の３色に対応した３つのサブ画素７からなるひとつの画素に関わる要素が図示されている。
【００２８】
図３に示すように、各色のカラーフィルタ２３の表面には突起（以下、「配向制御突起」と表記する）２３１が形成されている。この配向制御突起２３１は、図４に示すように、カラーフィルタ２３表面の他の部分からみて突起した頂上部２３３がＹ方向に延在する形状となっている。換言すると、カラーフィルタ２３表面のうち配向制御突起２３１以外の部分には、当該配向制御突起２３１の頂上部２３３よりも高さが低い溝部２３２が一方向に延在しているということもできる。溝部２３２の底からみた配向制御突起２３１の頂上部２３３の高さは１μｍ程度であり、各配向制御突起２３１の間隔（すなわち溝部２３２の幅）は２０μｍ程度である。
【００２９】
図３に示すように、データ線２４および配向膜２５は、かかる配向制御突起２３１が設けられたカラーフィルタ２３の表面に薄膜状に形成されている。このため、配向膜２５の表面には、配向制御突起２３１を反映した突起（または溝部２３２を反映した窪み）が形成される。この結果、当該配向膜２５に近接する液晶４０の分子は、その長軸方向が、配向膜２５表面に延在する突起および窪みに沿った状態に配列することとなる。つまり、電圧が印加されていないときの液晶４０の配向は、その長軸方向が配向制御突起２３１の延在方向に沿ったホモジニアス配向、すなわち当該長軸方向が第２基板２０の基板面と平行となる配向（平行配向）に規定されることとなる。
【００３０】
このように、本実施形態においては、カラーフィルタ２３が液晶の配向状態を規定し得る表面形状を有するため、配向膜２５に対してラビング処理を施す必要はない。したがって、塵の付着や静電気の発生といった、配向膜２５へのラビング処理に起因した種々の不具合を有効に抑えることができる。
【００３１】
ところで、液晶分子４１の配向方向を規定する作用（以下「配向制御作用」という）は、液晶４０が配向膜２５に接触する面積が広いほど大きくなる。したがって、カラーフィルタ２３表面における配向制御突起２３１の寸法や隣接する配向制御突起２３１同士の間隔（溝部２３２の幅）は以下のように選定されることが望ましい。
【００３２】
まず、図５に示す配向制御突起２３１の幅Ｗは小さいことが望ましい。具体的には、配向制御突起２３１の幅が１０μｍ程度よりも小さければ、表示画像について十分なコントラストを実現するための適度な配向制御作用が得られる。一方、配向制御突起２３１の幅を１μｍよりも小さくすることは製造技術上の理由から困難であるのが現状である。したがって、配向制御突起２３１の幅Ｗは１μｍ以上１０μｍ以下であることが望ましい。
【００３３】
次に、図５に示す配向制御突起２３１の高さＨは大きいことが望ましい。しかしながら、配向制御突起２３１の高さＨをセルギャップ（液晶４０からなる層の厚さ）よりも大きくすることはできない。一般的にセルギャップの厚さは３μｍないし５μｍ程度であるから、高さＨは３μｍ程度よりも小さいことが望ましい。ただし、配向制御突起２３１の高さＨをあまりに小さくすると、カラーフィルタ２３上に設けられるデータ線２４および配向膜２５によって溝部２３２と頂上部２３３との段差（高さＨ）が平坦化され、配向制御作用が得られない場合が生じ得る。したがって、高さＨは、データ線２４の厚さと配向膜２５の厚さとの合計値よりも大きいことが望ましい。一般に、データ線２４の厚さは０．１μｍ程度であり、配向膜２５の厚さは０．０５μｍ程度である。したがって、高さＨを、これらの厚さの合計値（０．１５μｍ）よりも十分に大きい１μｍ程度とすれば、十分な配向制御作用が得られる。このように、配向制御突起２３１の高さＨは１μｍ以上３μｍ以下であることが望ましい。
【００３４】
また、隣接する配向制御突起２３１同士の間隔Ｄ（図５参照）は小さいことが望ましい。具体的には、間隔Ｄが７０μｍ程度よりも小さければ、表示画像について十分なコントラストを実現するための適度の配向制御作用が得られる。一方、間隔Ｄをあまりに小さくすると、データ線２４および配向膜２５が溝部２３２と頂上部２３３との段差に入り込まずに配向膜２５の表面が平坦化され、所期の配向制御作用が得られない場合が生じ得る。これを回避するために、間隔Ｄは、データ線２４の厚さと配向膜２５の厚さとの合計値の２倍よりも大きいことが望ましい。例えば、上述したようにデータ線２４の厚さと配向膜２５の厚さとの合計値が０．１５μｍ程度である場合には、間隔Ｄを３μｍ程度よりも大きくすれば十分な配向制御作用が得られる。このように、隣接する配向制御突起２３１同士の間隔Ｄは３μｍ以上７０μｍ以下であることが望ましい。
【００３５】
＜Ａ−２：液晶表示パネルの製造方法＞
次に、図６および図７を参照して、本実施形態に係る液晶表示パネル１の製造方法について説明する。ただし、第１基板１０上の各要素については公知の各種技術を用いて製造することができるためその説明を省略し、以下では、主に第２基板２０上の各要素の製造方法について説明する。
【００３６】
まず、第２基板２０のうち第１基板１０と対向すべき面の全面を覆うように、光反射性を有する金属の薄膜をスパッタリング法などを用いて形成する。この後、フォトリソグラフィおよびエッチング技術を用いて当該薄膜をパターニングすることにより、図６に工程ａとして示すように、各サブ画素に対応して透光部２１１が設けられた反射層２１を形成する。なお、反射層２１の表面に散乱構造を形成するために、反射層２１の形成に先立って第２基板２０の表面を粗面化することが望ましい。あるいは、反射層２１の形成に先立って第２基板２０の表面を覆う樹脂層を形成し、この樹脂層の表面を粗面化してもよい。
【００３７】
次いで、反射層２１が形成された第２基板２０を覆うように、クロム（Ｃｒ）からなる薄膜をスパッタリング法などを用いて形成する。この後、フォトリソグラフィおよびエッチング技術を用いて当該薄膜をパターニングすることにより、図６に工程ｂとして示すように、各サブ画素７の間隙に重なる格子状の遮光層２２を形成する。なお、ここではクロムによって遮光層２２を形成したが、カーボンブラックなどによって黒色に着色された樹脂材料を用いて遮光層２２を形成してもよい。また、後の工程により形成される３色分のカラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇおよび２３Ｂを、各サブ画素７の間隙部分に積層することによって遮光層２２を形成してもよい。
【００３８】
続いて、以下に詳述するように、第２基板２０の面上に赤色、緑色および青色の３色のカラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇおよび２３Ｂを順次形成する。なお、ここでは、赤色のカラーフィルタ２３Ｒ、緑色のカラーフィルタ２３Ｇ、青色のカラーフィルタ２３Ｂの順に形成するものとするが、各色のカラーフィルタ２３の形成順序をこれに限定する趣旨ではない。
【００３９】
まず、図６に工程ｃとして示すように、第２基板２０の全面を覆うように樹脂層６１を形成する。この樹脂層６１は、顔料によって赤色に着色されたアクリル系やエポキシ系などの樹脂材料によって、２μｍ程度の厚さに形成される。なお、ここでは、露光に伴う光反応で硬化するネガ型の樹脂材料によって樹脂層６１を形成するものとする。次いで、図６に工程ｄとして示すように、マスク６２を介して樹脂層６１に紫外線を照射する。同図に示すように、マスク６２には、樹脂層６１のうち赤色のカラーフィルタ２３Ｒが形成されるべき領域（すなわちサブ画素７Ｒに対応する領域）と重なるように、紫外線を透過させる透光部６２１が形成されており、その他の部分、すなわち緑色および青色のカラーフィルタ２３Ｇおよび２３Ｂが形成されるべき領域と遮光層２２とに向かう紫外線は遮られるようになっている。さらに、赤色のカラーフィルタ２３Ｒが形成されるべき領域への露光量は、樹脂層６１のうち厚さ方向の一部（１μｍ程度）のみが光反応によって硬化するように、すなわち厚さ方向の全部にわたって硬化しないように調整されている。図６においては、樹脂層６１のうち当該露光工程によって硬化した部分にハッチングが施されている。
【００４０】
次に、図７に工程ｅとして示すように、上記マスク６２とは別のマスク６３を介して樹脂層６１に紫外線を照射する。同図に示すように、このマスク６３には、赤色のカラーフィルタ２３Ｒが形成されるべき領域のうち、上述した配向制御突起２３１が形成されるべき領域と重なるように透光部６３１が形成されている。換言すれば、赤色のカラーフィルタ２３Ｒが形成されるべき領域のうち配向制御突起２３１以外の領域と、緑色および青色のカラーフィルタ２３Ｇおよび２３Ｂが形成されるべき領域と、遮光層２２が形成された領域とに対して、紫外線は照射されない。この露光工程においては、図７にハッチングを施して示すように、光反応によって硬化する部分が樹脂層６１の表面まで達するように、露光量が調整されている。
【００４１】
続いて樹脂層６１を現像し、露光によって硬化した部分を残して樹脂層６１を除去する。この現像工程により、図７に工程ｆとして示すように、樹脂層６１のうち赤色のサブ画素７Ｒ以外の部分が除去されるとともに、赤色のサブ画素７Ｒに対応する部分のうち表面における複数の線状の部分（溝部２３２に相当する部分）が、当該樹脂層６１の厚さ方向における一部分にわたって除去される。この結果、頂上部が一方向に延在する複数の配向制御突起２３１を表面に有する赤色のカラーフィルタ２３Ｒが得られる。
【００４２】
この後、図６の工程ｃおよび工程ｄ、ならびに図７の工程ｅおよび工程ｆに示した赤色のカラーフィルタ２３Ｒの形成と同様の手順で、緑色および青色のカラーフィルタ２３Ｇおよび２３Ｂを順次形成する。すなわち、第１に、各色に対応する樹脂層を第２基板２０の全面にわたって形成し、第２に、当該色のカラーフィルタ２３が形成されるべき領域を一部の厚さにわたって硬化させ、第３に、その領域のうち配向制御突起２３１が形成されるべき領域を硬化させ、第４に、当該樹脂層を現像する。この一連の工程を繰り返すことによって、図７に工程ｇとして示すように、赤色、緑色および青色の３色のカラーフィルタ２３Ｒ、２３Ｇおよび２３Ｂが得られる。
【００４３】
なお、ここではネガ型の樹脂材料を用いてカラーフィルタ２３を形成するものとしたが、露光に伴う光反応によって軟化するポジ型の樹脂材料を用いてもよい。この場合には、上述したマスク６２の透光部６２１とそれ以外の部分とを反転させたマスクを用いて図６の工程ｄに示した露光を行なうとともに、マスク６３の透光部６３１とそれ以外の部分とを反転させたマスクを用いて図７の工程ｅに示した露光を行なうようにすればよい。
【００４４】
次いで、カラーフィルタ２３および遮光層２２を覆うようにＩＴＯからなる薄膜を形成し、これをパターニングすることによってデータ線２４を形成した後、これらのデータ線２４を覆うように配向膜２５を形成する（図３参照）。上述したように、この配向膜２５に対してラビング処理は施されない。
【００４５】
以上が第２基板２０上の各要素の製造方法である。以後、この方法により得られた第２基板２０と、画素電極１１、走査線１２、ＴＦＤ素子１３および配向膜１４が形成された第１基板１０とを、電極形成面を対向させた状態でシール材３０を介して貼り合わせる。そして、両基板とシール材３０とによって囲まれた領域に液晶４０を封止し、位相差板１０２および２０２と偏光板１０１および２０１とを貼着することによって、図１に示した液晶表示パネル１が得られる。
【００４６】
このように、本実施形態に係る製造方法によれば、第２基板２０上の配向膜２５に対してラビング処理を施す必要がないから、ラビング処理を原因とする歩留まりの低下や、ラビング処理に伴って発生した塵の付着、あるいは静電気の発生によるＴＦＤ素子１３の破壊といった、配向膜２５へのラビング処理に起因した種々の不具合を防止することができる。
【００４７】
ところで、ラビング処理を要することなく配向膜２５の表面形状を液晶４０の配向状態を規定し得るものとするために、以下の方法を採ることも考えられる。すなわち、カラーフィルタ２３および遮光層２２の上に、これらとは別個の樹脂材料などによって突起を形成し、この突起を覆うように配向膜２５を形成するのである。しかしながら、この突起を形成するためには、樹脂材料によって樹脂層を形成する工程と、この樹脂層を選択的に除去して突起を形成する工程とを要する。
【００４８】
これに対し、本実施形態に係る製造方法によれば、液晶４０の配向状態を規定するための配向制御突起２３１がカラーフィルタ２３の形成と同時に形成される。このため、配向制御突起２３１をカラーフィルタ２３とは別個に形成した場合と比較して、製造工程を簡易化することができ、ひいては製造コストを低く抑えることもできるという利点がある。
【００４９】
＜Ｂ：第２実施形態＞
＜Ｂ−１：液晶表示パネルの構成＞
次に、本発明の第２実施形態に係る液晶表示パネルについて説明する。本実施形態に係る液晶表示パネルは、カラーフィルタの形状を除いて、図１に示した第１実施形態に係る液晶表示パネル１と同様の構成である。このため、以下では、本実施形態に係る液晶表示パネルのうちカラーフィルタの形状についてのみ説明し、その他の構成要素については説明を省略する。また、以下に示す図面においては、本実施形態に係る液晶表示パネルのうち第１実施形態に示した液晶表示パネルと共通する要素について同一の符号が付されている。
【００５０】
図８は、本実施形態に係る液晶表示パネルにおける第２基板２０上の各要素を拡大して示す断面図であり、上記第１実施形態における図３に対応する図である。また、図９は、ひとつの画素に対応するカラーフィルタの構成を示す斜視図であり、上記第１実施形態における図４に対応する図である。図８は、図９におけるV III−VIII線からみた断面図に相当する。
【００５１】
図８および図９に示すように、本実施形態におけるカラーフィルタ２６（２６Ｒ、２６Ｇおよび２６Ｂ）の各々は、頂上部がＹ方向に延在する配向制御突起２６１を有する。すなわち、配向制御突起２６１は、第２基板２０の基板面に対して傾斜した２つの面２６２および２６３を有する。この面２６２と２６３とはＹ方向に延在する交線２６４を有し、配向制御突起２６１はこの交線２６４において観察側に突起するようになっている。カラーフィルタ２６の断面に着目して換言すれば、図８に示すように略五角形である当該断面のうちひとつの頂点が、観察側に突出した形状であるということができる。
【００５２】
図８に示すように、データ線２４および配向膜２５は、かかる配向制御突起２６１が設けられたカラーフィルタ２６の表面上に薄膜状に形成されている。このため、配向膜２５の表面には、配向制御突起２６１を反映した突起が形成される。この結果、図８に破線で示すように、当該配向膜２５に近接する液晶４０の分子４１は、その長軸方向を配向制御突起２６１の傾斜面２６２および２６３と垂直な方向に向けて起立した状態で配列することとなる。つまり、電圧が印加されていないときの液晶４０の配向は、ホメオトロピック配向、すなわち当該長軸方向が第２基板２０の基板面に対して傾いた配向（垂直配向）に規定されるのである。
【００５３】
本実施形態においても、上記第１実施形態と同様に、カラーフィルタ２６が液晶４０の配向状態を規定し得る表面形状を有するため、配向膜２５にラビング処理を施す必要はない。このため、配向膜２５へのラビング処理に起因した種々の不具合を防ぐことができる。
【００５４】
＜Ｂ−２：カラーフィルタ２６の製造方法＞
次に、本実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法を説明する。ただし、本実施形態に係る液晶表示パネルの製造方法は、カラーフィルタ２６を製造する工程を除いて上記第１実施形態に係る液晶表示パネルと同様であるため、ここではカラーフィルタ２６の製造方法のみについて説明し、その他の製造方法については説明を省略する。
【００５５】
まず、図６の工程ａおよび工程ｂにより、反射層２１および遮光層２２を第２基板２０上に形成した後、図１０に工程ａとして示すように、赤色に着色された樹脂層６１を、第２基板２０の全面を覆うように形成する。次いで、図１０に工程ｂとして示すように、マスク６２を介して樹脂層６１に紫外線を照射する。上記第１実施形態に示したように、このマスク６２には、樹脂層６１のうち赤色のカラーフィルタ２６Ｒが形成されるべき領域と重なるように透光部６２１が形成されており、その他の部分に向かう紫外線は遮られるようになっている。さらに、赤色のカラーフィルタ２６Ｒが形成されるべき領域への露光量は、樹脂層６１のうち厚さ方向の一部（１μｍ程度）のみが光反応によって硬化するように調整されている。なお、図１０においては、樹脂層６１のうち当該露光工程によって硬化する部分にハッチングが施されている。
【００５６】
次に、図１０に工程ｃとして示すように、上記マスク６２とは別のマスク６４を介して樹脂層６１に紫外線を照射する。同図に示すように、このマスク６４には、樹脂層６１のうち赤色のカラーフィルタ２６Ｒが形成されるべき領域に、紫外線を透過させる透光部６４１が設けられている。ただし、この透光部６４１の光学濃度は、赤色のカラーフィルタ２６Ｒが形成されるべき領域のうち配向制御突起２６１の頂上部と重なる位置において最小となり、この位置からカラーフィルタ２６の縁辺に向かって離れるにつれて連続的に低くなるように設定されている。したがって、樹脂層６１のうち赤色のカラーフィルタ２６Ｒが形成されるべき領域に対する紫外線の露光量は、配向制御突起２６１の頂上部に相当する位置において最大となり、この位置から離れるにつれて連続的に低くなる。かかる露光の結果、図１０の工程ｃにおいてハッチングを施して示すように、樹脂層６１のうち配向制御突起２６１に対応する三角形状の部分が硬化する。
【００５７】
続いて樹脂層６１を現像し、露光によって硬化した部分を残して当該樹脂層６１を除去する。この現像工程により、図１１に工程ｄとして示すように、樹脂層６１のうち赤色のサブ画素７Ｒ以外の部分が除去されるとともに、赤色のサブ画素７Ｒに対応する部分が、当該樹脂層６１表面の位置に応じて連続的に変化する深さにわたって除去される。この結果、断面形状が略三角形の配向制御突起２６１を有する赤色のカラーフィルタ２６Ｒが得られる。
【００５８】
以後、図１０の工程ａないし工程ｂおよび図１１の工程ｄに示したのと同様の手順により、緑色および青色のカラーフィルタ２６Ｇおよび２６Ｂを順次形成する。この結果、図１１に工程ｅとして示すように、赤色、緑色および青色の３色について、各々が配向制御突起２６１を有するカラーフィルタ２６Ｒ、２６Ｇおよび２６Ｂが得られる。続いて、上記第１実施形態に示したのと同様の手順により、カラーフィルタ２６および遮光層２２の面上にデータ線２４および配向膜２５を形成する。
【００５９】
このように、本実施形態によれば、第２基板２０上の配向膜２５に対してラビング処理を施す必要がないから、上記第１実施形態と同様に、配向膜２６へのラビング処理に起因した種々の不具合を防止することができる。さらに、液晶４０の配向を制御するための突起をカラーフィルタ２６とは別個に形成した場合と比較して、製造工程の簡易化、および製造コストの低減を図ることができる。
【００６０】
＜Ｃ：変形例＞
以上この発明の一実施形態について説明したが、上記実施形態はあくまでも例示であり、上記実施形態に対しては、本発明の趣旨から逸脱しない範囲で様々な変形を加えることができる。変形例としては、例えば以下のようなものが考えられる。
【００６１】
＜Ｃ−１：変形例１＞
上記各実施形態においては、背面側に位置する第２基板２０上にカラーフィルタおよび遮光層が設けられた構成を例示したが、観察側に位置する第１基板１０上にカラーフィルタおよび遮光層を設けた構成としてもよい。図１２は、本変形例に係る液晶表示パネルの構成を示す断面図である。
【００６２】
同図に示すように、この液晶表示パネル１’においては、観察側に位置する第１基板１０の面上に遮光層１６およびカラーフィルタ１７が設けられている。このカラーフィルタ１７は、電圧が印加されていないときの液晶４０の配向状態を規定するための配向制御突起を有する。すなわち、カラーフィルタ１７は、図３および４に示したカラーフィルタ２３、または図８および図９に示したカラーフィルタ２６と同様の形状となっている。さらに、このカラーフィルタ１７および遮光層１６の面上に、画素電極１１、走査線１２、ＴＦＤ素子１３および配向膜１４が設けられている。この配向膜１４の表面には、カラーフィルタ１７表面の配向制御突起を反映した突起および窪みが形成される。この突起および窪みによって液晶４０の配向状態が規定されるため、配向膜１４に対してラビング処理を施す必要はない。
【００６３】
一方、第２基板２０の内側表面に設けられた反射層２１は、樹脂材料などからなる絶縁層２７によって覆われている。データ線２４および配向膜２５は絶縁層２７の面上に設けられる。この配向膜２５には、液晶４０の配向状態を規定するためにラビング処理が施されている。
【００６４】
このように、観察側に位置する第１基板１０にカラーフィルタ１７および遮光層１６を設けた構成によっても、上記第１および第２実施形態と同様の効果が得られる。すなわち、本発明に係るカラーフィルタ基板は、液晶表示パネルにおいて観察側または背面側のいずれに配置されるかを問わず、カラーフィルタが設けられた基板を意味する。
【００６５】
＜Ｃ−２：変形例２＞
上記第１実施形態においては、カラーフィルタ２３の表面にストライプ状の配向制御突起２３１を設けて液晶をホモジニアス配向させた構成を例示し、第２実施形態においては、カラーフィルタ２６の表面に断面視三角形状の配向制御突起２６１を設けて液晶分子を垂直配向させた構成を例示したが、カラーフィルタの表面形状（つまり配向制御突起の形状）、および液晶の配向状態はこれに限られるものではない。すなわち、液晶の配向状態がこれ以外のものであってもよいことはもちろんであり、所期の配向状態に応じてカラーフィルタの表面形状が選定されることが望ましい。例えば、第２実施形態と同様に液晶４０を垂直配向させるために、カラーフィルタ２６を図１３から図１５に示す形状とすることが考えられる。なお、図１３から図１５においては、ひとつのサブ画素７に対応するカラーフィルタ２６のみが示されている。図１３に示すカラーフィルタ２６は、第２基板２０の板面に対して傾斜する４つの平面からなる略四角錐状の配向制御突起２６１ａを有する。また、図１４に示すカラーフィルタ２６は、第２基板２０の板面に対して傾斜する４つの平面からなり、このうち２つの平面が直線にて交差する配向制御突起２６１ｂを有する。図１３および図１４に破線で示すように、これらのカラーフィルタ２６によれば配向制御突起２６１ａまたは２６１ｂを構成する４つの平面の各々に対して液晶分子４１を略垂直に配向させることができる。一方、図１５に示すように、第２基板２０とは反対側に突起する曲面を有する配向制御突起２６１ｃを採用してもよい。
【００６６】
また、図１６に示すように、カラーフィルタ２６’のうち幅方向の一部に配向制御突起２６１ｄを設けた構成としてもよい。図１６に示すカラーフィルタ２６は、傾斜面２６２および２６３を有する上記第１実施形態と同様の配向制御突起２６１に加えて、第２基板２０の板面と平行な平面部２６５を有する。この構成のもとでも、液晶分子４１が配向制御突起２６１ｄの傾斜面２６２および２６３と垂直な方向に配向する。
【００６７】
また、上記各実施形態および変形例においては第１基板１０上の配向膜１４にラビング処理を施す構成としたが、図１７に示すように、カラーフィルタ２６の配向制御突起２６１ｄ（２６１、２６１ａから２６１ｃであってもよい）と同様の配向制御突起１７を第１基板１０上に設けてもよい。すなわち、この配向制御突起１７は、上記第１または第２実施形態に示したのと同様の製造プロセスによって、例えばアクリル系やエポキシ系などの樹脂材料によって形成される。この構成によれば、第１基板１０近傍の液晶分子４１は配向制御突起１７によって配向方向が規定されるから、配向膜１４へのラビング処理を不要とすることができる。
【００６８】
さらに、第１基板１０上に配向制御突起１７を設けた構成のもとでは、図１７に示したように、この配向制御突起１７の頂上と第２基板２０上の配向制御突起２６１ｄの頂上とが、板面と垂直な方向からみて重なり合わない構成としてもよい。すなわち、第１基板１０上の配向制御突起１７をカラーフィルタ２６の平面部２６５と対向させる一方、第２基板２０上の配向制御突起２６１ｄを、第１基板１０のうち配向制御突起１７が設けられていない領域に対向させるのである。
【００６９】
ところで、上記第２実施形態や図１３ないし図１６に示したように第２基板２０に対して傾斜する面を有する配向制御突起２６１（２６１ａ、２６１ｂおよび２６１ｃを含む）を有する構成のもとでは、この配向制御突起２６１の高さが以下のように選定されることが望ましい。ここで、図１８は、図１７に示した配向制御突起２６１の高さＨと液晶表示パネルの透過率との関係を示すグラフである。なお、図１８においては、それぞれ値の異なる３種類の電圧を液晶４０に印加したときの透過率特性が示されている。同図から明らかなように、液晶表示パネルの透過率は配向制御突起２６１の高さＨが大きくなるほど増加する。したがって、第２基板２０に対する傾斜面を有する配向制御突起２６１を有する構成においては、この配向制御突起２６１の高さＨを高くすることが望ましい。ただし、この高さＨはセルギャップよりも小さくする必要がある。
【００７０】
また、図１７に示した構成を採用する場合、第１基板１０上の配向制御突起１７と第２基板２０上の配向制御突起２６１との間隔Ｄは以下のように選定されることが望ましい。ここで、図１９は、間隔Ｄと液晶表示パネルの透過率との関係を示すグラフである。同図においても図１８と同様に、液晶４０に対して３種類の電圧が印加されたときの特性が示されている。同図に示すように、間隔Ｄが約３０μｍ以下であるときには間隔Ｄの増加に伴なって透過率も上昇する。一方、間隔Ｄが約３０μｍを越えると、透過率は間隔Ｄによらずほぼ一定となる。したがって、透過率と液晶配向作用とをともに高い水準に維持するためには、間隔Ｄは２０μｍから４０μｍ程度であることが望ましく、３０μｍ程度とすることがさらに好ましいといえる。
【００７１】
＜Ｃ−３：変形例３＞
一方、第１基板１０上の配向膜１４のラビング方向は、第２基板２０上の配向制御突起２３１（または２６１）の延在方向との関係で液晶４０が所期の配向方向となるように適宜に選択されることが望ましい。例えば、配向膜１４には、配向制御突起２３１または２６１の延在方向と略平行方向にラビング処理が施されていてもよいし、あるいは配向制御突起２３１または２６１の延在方向と一定の角度をなす方向にラビング処理が施されていてもよい。また、第２実施形態に示したように液晶４０（液晶分子４１）を垂直配向させる場合には、配向膜１４に対するラビング処理は不要である。
【００７２】
＜Ｃ−４：変形例４＞
上記各実施形態および各変形例においては、透光部２１１が形成された反射層２１を用いて反射型表示および透過型表示を行なう半透過反射型の液晶表示パネルを例示したが、透光部２１１を持たない反射層を用いて反射型表示のみを行なう反射型の液晶表示パネルや、反射層２１を備えず、透過型表示のみを行なう透過型の液晶表示パネルにも本発明を適用できる。また、上記各実施形態および各変形例においては、同一色のカラーフィルタが一列をなすストライプ配列を採用した場合を例示したが、カラーフィルタの配列の態様としては、この他にモザイク配列やデルタ配列を採用することもできる。さらに、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子に代表される三端子型スイッチング素子を用いた液晶表示パネルや、スイッチング素子を持たないパッシブマトリクス方式の液晶表示パネルにも本発明を適用できる。このように、カラーフィルタが形成されたカラーフィルタ基板、およびこのカラーフィルタ基板を用いた液晶表示パネルであれば、その他の構成要素に係る態様の如何を問わず本発明を適用可能である。
【００７３】
また、ＩＰＳ（In Plane Switching）方式の液晶表示パネルにも本発明を適用できる。図２０は、この種の液晶表示パネルに本発明を適用した場合の部分的な構成を示す斜視図である。同図に示すように、カラーフィルタ２３は、液晶分子４１をホモジニアス配向させるための表面形状を有する。具体的には、カラーフィルタ２３の表面には、ひとつの方向に延在する複数の配向制御突起２３１が設けられている。このカラーフィルタ２３の面上には、図２０にハッチングを施して示すように、画素電極２８１および共通電極２８２が設けられている。画素電極２８１および共通電極２８２は、配向制御突起２３１の延在方向と垂直な方向に延在する略線状の電極である。これらの電極が設けられたカラーフィルタ２３の表面は配向膜２５によって覆われている。一方、第２基板２０に対向する第１基板（図示略）の面上には、配向膜は設けられているものの電極は設けられていない。この構成のもと、画素電極２８１と共通電極２８２との間に電圧が印加されていないときには、図２０に破線で示すように、液晶分子４１の長軸は配向制御突起２３１の延在方向と略垂直な方向に向く。一方、画素電極２８１と共通電極２８２との間に電圧が印加されて両電極間に横方向（水平方向）の電界が発生すると、液晶分子４１は、第２基板２０の板面と平行な面内において電界方向に沿って回転する。この構成のもとでも上記各実施形態と同様の効果が得られる。
【００７４】
＜Ｄ：電子機器＞
次に、本発明に係る液晶表示パネルを用いた電子機器について説明する。
【００７５】
＜Ｄ−１：モバイル型コンピュータ＞
まず、本発明に係る液晶表示パネルを、可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）の表示部に適用した例について説明する。図２１は、このパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ９１は、キーボード９１１を備えた本体部９１２と、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部９１３とを備えている。
【００７６】
＜Ｄ−２：携帯電話機＞
続いて、本発明に係る液晶表示パネルを、携帯電話機の表示部に適用した例について説明する。図２２は、この携帯電話機の構成を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機９２は、複数の操作ボタン９２１のほか、受話口９２２、送話口９２３とともに、本発明に係る液晶表示パネルを適用した表示部９２４を備える。
【００７７】
なお、本発明に係る液晶表示パネルを適用可能な電子機器としては、図２１に示したパーソナルコンピュータや図２２に示した携帯電話機のほかにも、液晶テレビや、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、ディジタルスチルカメラなどが挙げられる。
【００７８】
以上説明したように、本発明によれば、配向膜へのラビング処理に起因した不具合の発生を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００７９】
【図１】本発明の第1実施形態に係る液晶表示パネルの構成を示す断面図である。
【図２】同液晶表示パネルの要部構成を示す斜視図である。
【図３】同液晶表示パネルのカラーフィルタを拡大して示す断面図である。
【図４】同液晶表示パネルのカラーフィルタの構成を示す斜視図である。
【図５】同液晶表示パネルのカラーフィルタをさらに拡大して示す断面図である。
【図６】同液晶表示パネルの製造方法を示す断面図である。
【図７】同液晶表示パネルの製造方法を示す断面図である。
【図８】本発明の第２実施形態に係る液晶表示パネルのカラーフィルタを拡大して示す図である。
【図９】同液晶表示パネルのカラーフィルタの構成を示す斜視図である。
【図１０】同液晶表示パネルの製造方法を示す断面図である。
【図１１】同液晶表示パネルの製造方法を示す断面図である。
【図１２】本発明の変形例に係る液晶表示パネルの構成を示す断面図である。
【図１３】本発明の変形例に係るカラーフィルタの構成を示す三面図である。
【図１４】本発明の変形例に係るカラーフィルタの構成を示す三面図である。
【図１５】本発明の変形例に係るカラーフィルタの構成を示す三面図である。
【図１６】本発明の変形例に係るカラーフィルタの構成を示す斜視図である。
【図１７】本発明の変形例に係る液晶表示パネルの構成を示す断面図である。
【図１８】同変形例に係る配向制御突起の高さと透過率との関係を示すグラフである。
【図１９】同変形例に係る配向制御突起の間隔と透過率との関係を示すグラフである。
【図２０】本発明の変形例に係る液晶表示パネルの構成を示す斜視図である。
【図２１】本発明に係る液晶表示パネルを適用した電子機器の一例たるパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。
【図２２】本発明に係る液晶表示パネルを適用した電子機器の一例たる携帯電話機の構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００８０】
１……液晶表示パネル
１０……第１基板
１１……画素電極
１２……走査線
１３……ＴＦＤ素子
１４，２５……配向膜
２０……第２基板（一の基板）
２１……反射層
２１１……透光部
２２……遮光層
２３（２３Ｒ，２３Ｇ，２３Ｂ），２６（２６Ｒ，２６Ｇ，２６Ｂ），１７（１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂ
）……カラーフィルタ
２３１，２６１，２６１ａ，２６１ｂ，２６１ｃ，２６１ｄ、１７……配向制御突起
２４……データ線
２７……絶縁層
３０……シール材
４０……液晶
４１……液晶分子
１０１，２０１……偏光板
１０２，２０２……位相差板
９１……パーソナルコンピュータ（電子機器）
９２……携帯電話機（電子機器）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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