(57)【要約】【課題】  インナーリードが容易に変形せず、インナーカット加工とデプレス加工を行なう複数の加工装置を必要としない半導体装置用リードフレームの製造方法及びその製造金型を提供する。【解決手段】  リードフレームパターン２０を上ダイセット２に支持されたデプレスパンチ４およびインナーカットパンチ８の下方のデプレスダイ７およびインナーカットダイ９の上部の所定位置に載置する。上ダイセット２を下降し、ストリッパ３とダイプレート６でリードフレームパターン２０を弾性的に挟持して固定する。次に、上ダイセット２を下降してデプレスパンチ４によりリードフレームパターン２０を所定量加圧し、リードフレームパターン２０のデプレス加工を行なうと同時にインナーカットパンチ８によりインナーリードの先端連結部をカットする。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
連結部の両側に対称に配置された複数のリードフレームの前記連結部をパンチングによって除去する第１の工程と、
前記複数のリードフレームの所定の部位を半導体パッケージに適合する所定の形状に折曲する第２の工程とを備え、
前記第１および第２の工程とを同時に行なうことを特徴とする半導体装置用リードフレームの製造方法。
【請求項２】
前記複数のリードフレームは、テープ状リードフレームに連続状に配置された複数のリードフレームユニットの１つのリードフレームユニットを構成し、
前記第１および第２の工程は、前記１つのリードフレームユニットで行われることを特徴とする請求項１記載の半導体装置用リードフレームの製造方法。
【請求項３】
前記複数のリードフレームは、テープ状リードフレームに連続状に配置された複数のリードフレームユニットの１つのリードフレームユニットを構成し、
前記第１の工程は、前記１つのリードフレームユニットの前記１つのフレームユニットの前あるいは後のリードフレームユニットで行われることを特徴とする請求項１記載の半導体装置用リードフレームの製造方法。
【請求項４】
テープ状リードフレームを載置するダイプレートと、
ダイセットに支持され、前記テープ状リードフレームに形成された連結部の両側に配置された複数のリードフレームの前記連結部を打ち抜く打ち抜き用パンチと、
前記ダイセットに支持され、前記複数のリードフレームの所定の部位を半導体パッケージに適合する所定の形状に折曲する折曲用パンチと、
前記ダイセットのパンチング動作に基づく変位を弾性体を介して受けることによって前記テープ状リードフレームを前記ダイプレートとの間で弾性的に挟持し、前記打ち抜き用および折曲用のパンチを貫通孔を介して貫通させてパンチング動作を行わせるストリッパと、
前記打ち抜き用および折曲用の両パンチに対応する位置において、前記ダイプレートに共通的に支持され、前記ストリッパと前記ダイプレートによって挟持されている前記テープ状リードフレームをパンチングするとき、前記テープ状リードフレームに対して前記両パンチの反対側において前記両パンチのパンチング動作を受ける打ち抜き用ダイおよび折曲用のダイを備えたことを特徴とする半導体装置用リードフレームの製造金型。
【請求項５】
前記折曲用のパンチは、前記テープ状リードフレームの移動方向に沿って複数設けられていることを特徴とする請求項４記載の半導体装置用リードフレームの製造金型。
【請求項６】
第１のダイセットに対向するよう配置された第２のダイセットに支持され、テープ状リードフレームに形成された連結部の両側に配置された複数のリードフレームの前記連結部を打ち抜く打ち抜き用パンチと、
前記第１のダイセットに支持され、前記複数のリードフレームの所定の部位を半導体パッケージに適合する所定の形状に折曲する折曲用パンチと、
前記第１のダイセットのパンチング動作に基づく変位を弾性体を介して受けることによって前記テープ状リードフレームを前記ダイプレートとの間で弾性的に挟持し、前記打ち抜き用のパンチを貫通孔を介して貫通させてパンチング動作を行わせるストリッパと、
前記第１のダイセット上に配置され、前記テープ状リードフレームを載置し、前記第２のダイセットのパンチング動作に基づく変位を弾性体を介して受けることによって前記テープ状リードフレームを前記ストリッパとの間で弾性的に挟持するとともに、前記折曲用のパンチを貫通孔を介して貫通させてパンチング動作を行わせるダイプレートと、
前記打ち抜き用のパンチに対応する位置において、前記ダイプレートに支持され、前記ストリッパと前記ダイプレートによって挟持されている前記テープ状リードフレームをパンチングするとき、前記テープ状リードフレームに対して前記打ち抜き用のパンチの反対側において前記打ち抜き用のパンチのパンチング動作を受ける打ち抜き用ダイを備え、
前記折曲用のパンチに対応する位置において、前記ストリッパに支持され、前記ストリッパと前記ダイプレートによって挟持されている前記テープ状リードフレームをパンチングするとき、前記テープ状リードフレームに対して前記折曲用のパンチの反対側において前記折曲用のパンチのパンチング動作を受ける折曲用のダイを備えたことを特徴とする半導体装置用リードフレームの製造金型。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置用リードフレームの製造方法及びその製造金型に関し、特に、インナーカット加工とデプレス加工を行なう複数の加工装置を必要としない半導体装置用リードフレームの製造方法及びその製造金型に関する。
【背景技術】
【０００２】
エポキシ系の成型樹脂を用いて射出された通常のプラスチックパッケージは、パッケージのサイズに比べて、搭載できるチップサイズに制約が多い。例えば、半導体チップはダイパッドの上面にボンディングされるが、この際、チップのボンディングパッドとリードフレームのリードを各々電気的に接続するためには、ダイパッドとリードの間隔は、少なくともリードの厚さだけ確保されていなければならない。従って、ダイパッドに実際搭載できるチップのサイズは、パッケージのサイズの約７０％に制限される。
【０００３】
上記の不都合を克服するため、ＬＯＣ（Ｌｅａｄ ｏｎ ｃｈｉｐ）パッケージ及びＣＯＬ（Ｃｈｉｐ ｏｎ Ｌｅａｄ）パッケージが提案されている（例えば特許文献１参照。）。特に、ＬＯＣパッケージは、大型チップを搭載することができ、チップに電源を供給するバスバー（ｂｕｓｂｅｒ）を設置することができるので、半導体素子の電気的特性の改善に効果的である。
【０００４】
また、ＬＯＣ技術を用いて半導体素子をパッケージングすると、チップのボンディングパッドが、ボンディングワイヤによりリードフレームのリードに電気的に接続される際に、ボンディングパッドの位置決めに関する制約を受けないので、チップ設計に有利である。すなわち、ＬＯＣ構造では、チップのボンディングパッドをチップの端部又は中心部に配置することができるので、半導体チップを自由に設計することができるという利点がある。また、ＬＯＣ構造は、ダイパッドを有しないため、ダイパッドと封止樹脂間の熱膨張係数の差異に起因する剥離を防止することができる。
【０００５】
図６は、従来のＬＯＣパッケージの一例を示す断面図である。従来のＬＯＣパッケージ１００は、半導体チップ３４と、半導体チップ３４の上面の対向する両端部に接着された両面接着性のポリイミドテープ３３と、両面接着性のポリイミドテープ３３の上面に接着されたリード３０と、半導体チップ３４の中心部に形成したボンディングパッド３６と、このボンディングパッド３６とリードを接続するボンディングワイヤ３１と、半導体チップ３４とリード３０とボンディングワイヤ３１を含む電気的接続部とを外部環境から守るためのエポキシ系の封止樹脂からなる封止部材３２とを備える。
【０００６】
リード３０は、半導体チップ３４の中心部のボンディングパッド３６に電気的に接続されるインナーリード３０ａと、外部装置に電気的に接続され、インナーリード３０ａと一体形成される複数のアウターリード３０ｂとから構成され、アウターリード３０ｂは、ＬＯＣパッケージ１００から外部に突出し、図示しない基板への実装に適合するように折曲される。
【０００７】
図７は、エッチングによるＬＯＣ用リードフレームの製造工程を示す。従来のＬＯＣ用リードフレームを製造するには、半導体チップの小型化に伴い、インナーリードのリード幅及びリード間隔が狭くなっていることから、エッチングでフレームを形成する際、インナーリードの先端を繋いだ状態でエッチングを行なう（Ｓ１０）。次に、インナーリードの先端を繋いだ状態でリード先端に銀めっきを行なう（Ｓ１１）。
【０００８】
次にリード先端のインナーカット加工を行なうことにより、リード先端の連結部を切離す（Ｓ１２）。次にＬＯＣ用テープの貼付け（Ｓ１３）、その後リードを所定の形状に成形するデプレス加工（Ｓ１４）を行ない所定の検査（Ｓ１５）の後、出荷する。また、リードフレームの形状によっては、テープ貼付けとデプレス加工を逆に行なう場合もある。リードフレームは、例えば、特許文献２に示すものが知られている。
【０００９】
図８は、テープ状リードフレーム１５におけるリードフレームパターンを示す。リードフレームパターン２０は、インナーリードパターン３７と、そのインナーリードパターン３７と連続して電気的に接続されるアウターリードパターン３８と、インナーリードパターン３７の先端を連結する連結部２２と、各アウターリードパターン３８と各インナーリードパターン３７を連結するダムバー３５とを備え、サイドレール２０ａ，２０ａ間に形成される。サイドレール２０ａには、位置決め用のパイロットホール２０ｂが形成されている。
【００１０】
図７のＬＯＣリードフレームの製造工程において、インナーカット工程（Ｓ１２）でインナーカット加工を行なうことにより、図８（ｂ）に示すように、リードフレームパターン２０が完成する。この後、必要な加工を行なうことで、リードフレームとして半導体装置に組み込むことができる。
【００１１】
図９は、従来のインナーカット加工に用いられてきたインナーカット加工装置の構成を示す。このインナーカット加工装置４０は、上型１Ａおよび下型１Ｂからなる。
【００１２】
上型１Ａは、上下方向に駆動可能な上ダイセット２と、上ダイセット２に固定されたインナーカットパンチ８と、インナーカットパンチ８をガイドし、スプリング１０により上ダイセット２に連結されるストリッパ３とを備える。
【００１３】
下型１Ｂは、下ダイセット５と、下ダイセット５上に載置され、インナーカットパンチ８に対応するインナーカットダイ９が固定されたダイプレート６とを備える。
【００１４】
ダイプレート６とストリッパ３の間にテープ状リードフレーム１５のリードフレームパターン２０がセットされる。
【００１５】
このインナーカット加工装置４０において、インナーカット加工を行なう場合、まず、リードフレームパターン２０の連結部２２をインナーカットパンチ８に対応する位置となるようにダイプレート６上に載置する。この状態で上ダイセット２を下降すると、ストリッパ３がリードフレームパターン２０をスプリング１０に抗して押圧してリードフレームパターン２０を押圧固定し、次いで、インナーカットパンチ８を下降させると、インナーカットパンチ８がインナーリードの先端の連結部２２を押圧して穴部９ａに嵌入され、連結部２２はカットされる。この後、上ダイセット２を初期の位置に上昇させる。カットされたインナーリードの連結部２２は、インナーカットダイ９の下方の図示しない排出口からから排出される。
【００１６】
また、半導体チップの小型、薄型化に伴いエポキシ系射止樹脂のパッケージング時に発生するパッケージ反りの対策として、デプレス加工を行なっている（例えば、特許文献３参照。）。
【００１７】
図１０は、従来のデプレス加工に用いられてきたデプレス加工装置の構成の一例を示す。このデプレス加工装置５０は、上型１Ａおよび下型１Ｂからなる。
【００１８】
上型１Ａは、上下方向に駆動可能な上ダイセット２と、上ダイセット２に固定されたデプレスパンチ４と、デプレスパンチ４をガイドし、スプリング１０により上ダイセット２に連結されるストリッパ３とを備える。
【００１９】
下型１Ｂは、下ダイセット５と、下ダイセット５上に載置され、デプレスパンチ４に対応するデプレスダイ７が固定されたダイプレート６とを備える。デプレスダイ７は、第１および第２のデプレスダイ７Ａ，７Ｂの２つの部分から構成される。
【００２０】
デプレスパンチ４とその下側に所定の間隔をもって配置されたデプレスダイ７の間にリードフレームパターン２０がセットされる。
【００２１】
このデプレス加工装置５０においてデプレス加工を行なう場合、まず、リードフレームパターン２０をデプレスパンチ４とデプレスダイ７の間の所定位置に載置する。この状態で上ダイセット２を下降すると、ストリッパ３がリードフレームパターン２０をスプリング１０に抗して押圧してリードフレームパターン２０を押圧固定し、次いで、デプレスパンチ４を下降させるとデプレスパンチ４がリードフレームの所定位置を押圧変形して所定の形状に加工する。この後、上ダイセット２を初期の位置に上昇させる。
【特許文献１】特開平１０−１２５８４５号公報（図６）
【特許文献２】特開平５−１６６９８６号公報（図１）
【特許文献３】特開平１０−２８４６６４号公報（図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２２】
しかし、従来のリードフレームの製造方法によると、インナーカット工程とデプレス工程の２工程からなり、各工程を行なう加工装置が２台必要になるという問題がある。
【００２３】
従って、本発明の目的は、インナーカット加工とデプレス加工を行なう複数の加工装置を必要としない半導体装置用リードフレームの製造方法及びその製造金型を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
本発明は、上記目的を達成するため、連結部の両側に対称に配置された複数のリードフレームの前記連結部をパンチングによって除去する第１の工程と、前記複数のリードフレームの所定の部位を所定の形状に折曲する第２の工程とを備え、前記第１および第２の工程とを同時に行なうことを特徴とする半導体装置用リードフレームの製造方法を提供する。
【００２５】
前記複数のリードフレームは、テープ状リードフレームに連続状に配置された複数のリードフレームユニットの１つのリードフレームユニットを構成し、前記第１および第２の工程は、前記１つのリードフレームユニットで行われることを行うことが好ましい。
【００２６】
前記複数のリードフレームは、テープ状リードフレームに連続状に配置された複数のリードフレームユニットの１つのリードフレームユニットを構成し、前記第１の工程は、前記１つのリードフレームユニットの前記１つのフレームユニットの前あるいは後のリードフレームユニットで行われることが好ましい。
【００２７】
本発明は、上記目的を達成するため、テープ状リードフレームを載置するダイプレートと、ダイセットに支持され、前記テープ状リードフレームに形成された連結部の両側に配置された複数のリードフレームの前記連結部を打ち抜く打ち抜き用パンチと、前記ダイセットに支持され、前記複数のリードフレームの所定の部位を半導体パッケージに適合する所定の形状に折曲する折曲用パンチと、前記ダイセットのパンチング動作に基づく変位を弾性体を介して受けることによって前記テープ状リードフレームを前記ダイプレートとの間で弾性的に挟持し、前記打ち抜き用および折曲用のパンチを貫通孔を介して貫通させてパンチング動作を行わせるストリッパと、前記打ち抜き用および折曲用の両パンチに対応する位置において、前記ダイプレートに共通的に支持され、前記ストリッパと前記ダイプレートによって挟持されている前記テープ状リードフレームをパンチングするとき、前記テープ状リードフレームに対して前記両パンチの反対側において前記両パンチのパンチング動作を受ける打ち抜き用ダイおよび折曲用のダイを備えたことを特徴とする半導体装置用リードフレームの製造金型を提供する。
【００２８】
前記折曲用のパンチは、前記テープ状リードフレームの移動方向に沿って複数設けられていることが好ましい。
【００２９】
本発明は、上記目的を達成するため、第１のダイセットに対向するよう配置された第２のダイセットに支持され、テープ状リードフレームに形成された連結部の両側に配置された複数のリードフレームの前記連結部を打ち抜く打ち抜き用パンチと、前記第１のダイセットに支持され、前記複数のリードフレームの所定の部位を半導体パッケージに適合する所定の形状に折曲する折曲用パンチと、前記第１のダイセットのパンチング動作に基づく変位を弾性体を介して受けることによって前記テープ状リードフレームを前記ダイプレートとの間で弾性的に挟持し、前記打ち抜き用のパンチを貫通孔を介して貫通させてパンチング動作を行わせるストリッパと、前記第１のダイセット上に配置され、前記テープ状リードフレームを載置し、前記第２のダイセットのパンチング動作に基づく変位を弾性体を介して受けることによって前記テープ状リードフレームを前記ストリッパとの間で弾性的に挟持するとともに、前記折曲用のパンチを貫通孔を介して貫通させてパンチング動作を行わせるダイプレートと、前記打ち抜き用のパンチに対応する位置において、前記ダイプレートに支持され、前記ストリッパと前記ダイプレートによって挟持されている前記テープ状リードフレームをパンチングするとき、前記テープ状リードフレームに対して前記打ち抜き用のパンチの反対側において前記打ち抜き用のパンチのパンチング動作を受ける打ち抜き用ダイを備え、前記折曲用のパンチに対応する位置において、前記ストリッパに支持され、前記ストリッパと前記ダイプレートによって挟持されている前記テープ状リードフレームをパンチングするとき、前記テープ状リードフレームに対して前記折曲用のパンチの反対側において前記折曲用のパンチのパンチング動作を受ける折曲用のダイを備えたことを特徴とする半導体装置用リードフレームの製造金型を提供する。
【発明の効果】
【００３０】
本発明の半導体装置用リードフレームの製造方法によれば、インナーカット加工とデプレス加工を同時に行なうため、インナーカット加工とデプレス加工を行なう複数の装置を必要としないので、装置を大型化することなく半導体装置用リードフレームを製造することができる。
【００３１】
本発明の半導体装置用リードフレームの製造方法によれば、第１および第２の工程は、１つのリードフレームユニットにインナーカット加工とデプレス加工を行なうため、インナーカット加工とデプレス加工を行なう複数の装置を必要としないので、装置を大型化することなく半導体装置用リードフレームを製造することができる。
【００３２】
本発明の半導体装置用リードフレームの製造方法によれば、テープ状リードフレームに連続状に配置された複数のリードフレームユニットの１つのリードフレームユニットにインナーカット加工とデプレス加工を行なうため、インナーカット加工とデプレス加工を行なう複数の装置を必要としないので、装置を大型化することなく半導体装置用リードフレームを製造することができる
【００３３】
本発明の半導体装置用リードフレームの製造金型によれば、ダイプレートにより共通にデプレス用ダイおよびパンチング用ダイが支持されるため、インナーカット加工とデプレス加工を行なう複数の加工装置を必要とせずに半導体装置用リードフレームを製造することができる。
【００３４】
本発明の半導体装置用リードフレームの製造金型によれば、折曲用のデプレスパンチを複数設けたため、仕様に応じたリードフレームを製作することができる。
【００３５】
本発明の半導体装置用リードフレームの製造金型によれば、デプレスパンチまたはパンチング用パンチを第１のダイセットまたは第２のダイセットに支持させることができるため、仕様に応じたリードフレームを製作することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３６】
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置用リードフレームの製造に使用するリードフレーム製造装置を示す。このリードフレーム製造装置１は、上型１Ａおよび下型１Ｂからなる。
【００３７】
上型１Ａは、図示しない駆動手段により上下方向に駆動される上ダイセット２と、上ダイセット２に固定され、リードフレームパターン２０の連結部２２を打ち抜くインナーカットパンチ８およびリードフレームパターン２０のリードフレームに相当する部分を所定形状に加工するデプレスパンチ４と、インナーカットパンチ８およびデプレスパンチ４とを貫通穴３ａ，３ｂ内でそれぞれ摺動可能に支持するととともに、スプリング１０を介して上下方向に駆動されるストッパ３とを備える。
【００３８】
下型１Ｂは、下ダイセット５と下ダイセット５上に配置されたダイプレート６とを備える。ダイプレート６は、インナーカットパンチ８に対応する位置に配置されたインナーカットダイ９と、デプレスパンチ４に対応する位置に配置されたデプレスダイ７とを備える。デプレスダイ７は、組み立ての便宜等のため、第１〜第３のデプレスダイ７Ａ〜７Ｃにより構成される。
【００３９】
インナーカットダイ９は、インナーカットパンチが入る穴部９ａを有する。また、インナーカットダイ９の上面９ｂは、リードフレームパターン２０がデプレス加工されることにより折曲された長さに相当する高さだけダイプレート６の上面６ａから下がっている。
【００４０】
リードフレームとなるリードフレームパターン２０は、図８（ａ）に示すように複数のインナーリードフレームパターン３７を連結部２２により結合したもので、ストリッパ３とダイプレート６との間にセットされる。
【００４１】
図２は、このリードフレーム製造装置１によりリードフレームを作製する工程を示す。図１および図２を参照しながらリードフレームの製造方法について説明する。まず、１つの半導体装置に使用される複数のリードフレームを１つの区画の中に形成したリードフレームユニットが複数形成されたリードフレームパターン２０を作製する。所定の大きさの基材をエッチングで所定のリード幅及びリード間隔を有した複数のリードとなるパターンを作製する（Ｓ１）。このとき、リードは、インナーリードパターンと電気的に接続されるアウターリードパターンから構成される。インナーリードパターンの先端を連結部で繋いだ状態でエッチングを行なう。次に、インナーリードとなる部分の先端を繋いだ状態のままリード先端に銀めっきを行なう（Ｓ２）。
【００４２】
次に、リードフレーム製造装置１において、リードフレームパターン２０をデプレスパンチ４およびインナーカットパンチ８の下方のデプレスダイ７およびインナーカットダイ９の上部の所定位置に載置する。この状態で上ダイセット２を下降し、ストリッパ３とダイプレート６の間に圧をかけてリードフレームパターン２０を固定する。次に、上ダイセット２をさらに下降してデプレスパンチ４によりリードフレームパターン２０に所定圧をかけてリードフレームパターン２０のデプレス加工を行なうと同時にインナーカットパンチ８によりインナーリードの先端連結部をカットする（Ｓ３）。なお、同時とは、２つの動作がほとんど同時に行われる必要はなく、多少の時間差がある場合も含むものとする。
【００４３】
この後、上ダイセット２を初期の位置に上昇し、リードフレームパターン２０を１ピッチ図１の右方に移動し、同様な作業を繰り返す。また、成形等の処理が必要であれば、他の装置で必要な処理を行なう。次にＬＯＣ用テープの貼付けを行ない（Ｓ４）、検査して良品を出荷する（Ｓ５）。なお、インナーカットパンチ８により連結部２０を打ち抜かれるリードフレームパターン２０は、デプレスパンチ４によりインナーリードに所定の形状を施されるリードフレームパターン２０とは異なるものである。すなわち異なるリードフレームユニットにおいてパンチングが行われる。
【００４４】
このリードフレーム製造装置１によれば、インナーカット加工を行なうパンチとデプレス加工を行なうパンチを共通的に支持し、インナーカット加工を行なうパンチに対応するダイとデプレス加工行うパンチに対応するダイを共通的に支持したため、半導体製造装置を小型化することができるとともに、工程を簡素化できる。また、インナーカット加工が行なわれるリードフレームユニットであるリードフレームパターンと、デプレス加工が行なわれるリードフレームパターンが異なるため、インナーリードをデプレス加工する場合、リードシフト（リードの隙間の規定値に対するずれ）が発生する問題があるが、インナーリード先端を連結した状態でデプレス加工し、その後インナーカットすることにより、リードシフトを低減することができる。
【００４５】
図３は、本発明の第２の実施の形態に係る半導体装置用リードフレームの製造に使用するリードフレーム製造装置を示す。このリードフレーム製造装置１は、上型１Ａおよび下型１Ｂからなる。
【００４６】
上型１Ａは、図示しない駆動手段により上下方向に駆動される上ダイセット２と、上ダイセット２に固定され、リードフレームパターンの連結部を打ち抜くインナーカットパンチ８と、インナーカットパンチ８を囲むように配置され、スプリング１１を介して上ダイセットに取り付けられるデプレスパンチ４Ａ，４Ｂと、スプリング１０を介して上ダイセットに取り付けられ、デプレスパンチ４Ａ，４Ｂを摺動可能に支持するストリッパ３とを備える。
【００４７】
下型１Ｂは、下ダイセット５と、下ダイセット５上に配置されたダイプレート６とを備える。ダイプレート６は、インナーカットパンチ８に対応する位置に配置されたインナーカットダイ９と、デプレスパンチ４に対応する位置に配置されたデプレスダイ７とを備える。デプレスダイ７は、インナーカットダイ９を囲むように配置されている。インナーカットダイ９は、インナーカットパンチが入る穴部９ａを有する。
【００４８】
リードフレームとなるリードフレームパターン２０は、図８（ａ）に示すように複数のインナーリードフレームパターン３７を連結部２２により結合したもので、ストリッパ３とダイプレート６との間にセットされる。
【００４９】
このリードフレーム製造装置１によりリードフレームを作製する工程を示す。まず、第１の実施の形態のようにして作製したリードフレームパターン２０を準備する。
【００５０】
次に、このリードフレーム製造装置１において、１つのリードフレームユニットであるリードフレームパターン２０をデプレスパンチ４およびインナーカットパンチ８の下方のデプレスダイ７およびインナーカットダイ９の上部の所定位置に載置する。この状態で上ダイセット２を下降し、ストリッパ３とダイプレート６の間に圧をかけてリードフレームパターン２０を固定する。次に、上ダイセット２をさらに下降してデプレスパンチ４によりリードフレームパターン２０に所定圧をかけて１つのリードフレームパターン２０の一対のインナーパターン３７にデプレス加工を行なうと同時にインナーカットパンチ８によりインナーリードの先端連結部をカットする。
【００５１】
この後、上ダイセット２を初期の位置に上昇し、リードフレームパターン２０を１ピッチ図１の右方に移動し、同様な作業を繰り返す。なお、パンチングは、１つのリードフレームユニットであるリードフレームパターン２０について行われる。
【００５２】
このリードフレーム製造装置１によれば、インナーカット加工を行なうパンチとデプレス加工を行なうパンチを共通的に支持し、インナーカット加工を行なうパンチに対応するダイとデプレス加工行うパンチに対応するダイを共通的に支持したため、半導体製造装置を小型化することができるとともに、工程を簡素化できる。また、インナーカット加工が行なわれるリードフレームパターンと、デプレス加工が行なわれるリードフレームパターンが同じであるため、少量の生産に適合する。
【００５３】
図４は、本発明の第３の実施の形態に係る半導体装置用リードフレームの製造に使用するリードフレーム製造装置を示す。このリードフレーム製造装置１は、上型１Ａおよび下型１Ｂからなる。
【００５４】
上型１Ａは、図示しない駆動手段により上下方向に駆動される上ダイセット２と、上ダイセット２に固定され、リードフレームパターンの連結部を打ち抜くインナーカットパンチ８と、インナーカットパンチ８を摺動可能に支持するとともに、第１および第２のデプレスパンチ４Ａ，４Ｂに対応する第１および第２のデプレスダイ７Ａ，７Ｂを連結部から遠ざかる位置に配置し、スプリング１０を介して上ダイセット２に取り付けられたストリッパ３と、上ダイセット２の下降を制限するストッパ１１とを備える。
【００５５】
下型１Ｂは、図示しない駆動手段により上下方向に駆動される下ダイセット５と、スプリング１２を介して下ダイセット５に取り付けられ、上下動可能なダイプレート６とを備える。ダイプレート６は、下ダイセット５に固定され、リードフレームパターン２０にデプレス加工を施す第１および第２のデプレスパンチ４Ａ，４Ｂと、インナーカットパンチ８に対応する位置に配置されたインナーカットダイ９とを備え、第１および第２のデプレスパンチ４Ａ，４Ｂを摺動可能に支持する。インナーカットダイ９は、インナーカットパンチが入る穴部９ａを有する。
【００５６】
リードフレームとなるリードフレームパターン２０は、図８（ａ）に示すように複数のインナーリードフレームパターン３７を連結部２２により結合したもので、ストリッパ３とダイプレート６との間にセットされる。
【００５７】
このリードフレーム製造装置１によりリードフレームを作製する工程を示す。まず、第１の実施の形態のようにして作製したリードフレームパターン２０を準備する。
【００５８】
次に、このリードフレーム製造装置１において、リードフレームパターン２０をデプレスパンチ４およびインナーカットパンチ８の下方のデプレスダイ７およびインナーカットダイ９の上部の所定位置に載置する。この状態で下ダイセット５を上昇させ、ダイプレート６とストリッパ３の間にリードフレームパターン２０を固定する。次に第１および第２のデプレスパンチ４Ａ、４Ｂを上昇させ、リードフレームパターン２０に所定圧をかけてリードフレームパターン２０のデプレス加工を行なう。次に、上ダイセット２を下降してインナーカットパンチ８によりインナーリードの先端の連結部をカットする。
【００５９】
この後、上ダイセット２を初期の位置に上昇し、リードフレームパターン２０を１ピッチ図１の右方に移動し、同様な作業を繰り返す。パンチングは、１つのリードフレームユニットであるリードフレームパターン２０について行われる。
【００６０】
このリードフレーム製造装置１によれば、インナーカット加工を行なうパンチとデプレス加工を行なうパンチに対応するダイを共通的に支持し、インナーカット加工を行なうパンチに対応するダイとデプレス加工を行うパンチを共通的に支持したため、半導体製造装置を小型化することができるとともに、工程を簡素化できる。また、デプレス加工が行なわれるリードフレームパターンの部位がリードフレームパターンの連結部から遠ざかる位置にデプレス加工を行なうようにしたため、デプレス加工を行なう位置を変えることができる。
【００６１】
図５は、本発明の第４の実施の形態に係る半導体装置用リードフレームの製造に使用するリードフレーム製造装置１を示す。このリードフレーム製造装置１は、上型１Ａおよび下型１Ｂからなる。
【００６２】
上型１Ａは、図示しない駆動手段により上下方向に駆動される上ダイセット２と、上ダイセット２に固定され、インナーカットパンチ８と、インナーカットパンチ８から所定距離離れて固定されて取り付けられる第１および第２のデプレスパンチ４Ａ，４Ｂと、スプリング１０を介して上ダイセットに取り付けられ、インナーカットパンチ８およびデプレスパンチ４Ａ，４Ｂを摺動可能に支持するストリッパ３とを備える。
【００６３】
下型１Ｂは、下ダイセット５と、下ダイセット５上に配置されたダイプレート６とを備える。ダイプレート６は、インナーカットパンチ８に対応する位置に配置されたインナーカットダイ９と、第１および第２のデプレスパンチ４Ａ，４Ｂに対応する位置に配置された第１および第２のデプレスダイ７Ａ、７Ｂとを備える。第１および第２のデプレスダイ７Ａ、７Ｂは、リードフレームパターン２０の連結部から遠い位置のインナーリードパターンについてデプレス加工を行なうように配置されている。インナーカットダイ９は、インナーカットパンチが入る穴部９ａを有する。
【００６４】
リードフレームとなるリードフレームパターン２０は、図８（ａ）に示すように複数のインナーリードフレームパターン３７を連結部２２により結合したもので、ストリッパ３とダイプレート６との間にセットされる。
【００６５】
このリードフレーム製造装置１によりリードフレームを作製する工程を示す。まず、第１の実施の形態のようにして作製したリードフレームパターン２０を準備する。
【００６６】
次に、このリードフレーム製造装置１において、リードフレームパターン２０をデプレスパンチ４およびインナーカットパンチ８の下方のデプレスダイ７およびインナーカットダイ９の上部の所定位置に載置する。この状態で上ダイセット２を下降し、ストリッパ３とダイプレート６の間に圧をかけてリードフレームパターン２０を固定する。次に、上ダイセット２をさらに下降して第１および第２のデプレスパンチ４Ａ，４Ｂによりリードフレームパターン２０に所定圧をかけてリードフレームパターン２０のデプレス加工を行なうと同時にインナーカットパンチ８によりインナーリードの先端の連結部をカットする。
【００６７】
この後、上ダイセット２を初期の位置に上昇し、リードフレームパターン２０を１ピッチ図１の右方に移動し、同様な作業を繰り返す。パンチングは、１つのリードフレームユニットであるリードフレームパターン２０について行われる。
【００６８】
このリードフレーム製造装置１によれば、インナーカット加工を行なうパンチとデプレス加工を行なうパンチを共通的に支持し、インナーカット加工を行なうパンチに対応するダイとデプレス加工を行うパンチに対応するダイを共通的に支持したため、半導体製造装置を小型化することができるとともに、工程を簡素化できる。また、インナーカット加工が行なわれるリードフレームパターンと、デプレス加工が行なわれるリードフレームパターンが同じであるため、少量の生産に適合する。また、デプレス加工が行なわれるリードフレームパターンの部位がリードフレームパターンの連結部から遠ざかる位置でデプレス加工を行なうようにしたため、リードフレームに求められる形状に応じたデプレス加工を行なう位置を変えることができる。
【００６９】
なお、リードフレーム製造装置において、リードフレームパターンの異なるパターンについてデプレス加工を行なった後にインナーカット加工を行なってもよいし、インナーカット加工を行なった後に、デプレス加工を行なってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る半導体装置用リードフレームの製造に使用するリードフレーム製造装置を示す断面図である。
【図２】リードフレーム製造装置によりリードフレームを作製する工程を示すフローチャートである。
【図３】本発明の第２の実施の形態に係る半導体装置用リードフレームの製造に使用するリードフレーム製造装置を示す断面図である。
【図４】本発明の第３の実施の形態に係る半導体装置用リードフレームの製造に使用するリードフレーム製造装置を示す断面図である。
【図５】本発明の第４の実施の形態に係る半導体装置用リードフレームの製造に使用するリードフレーム製造装置を示す断面図である。
【図６】従来のＬＯＣパッケージの一例を示す断面図である。
【図７】従来のＬＯＣ用リードフレームの製造工程を示すフローチャートである。
【図８】リードフレームパターンを示す平面図であり、（ａ）は加工前の状態を示す図であり、（ｂ）は加工後の状態を示す図である。
【図９】従来のインナーカット加工に用いられてきたインナーカット加工装置の構成を示す断面図である。
【図１０】従来のデプレス加工に用いられてきたデプレス加工装置の構成の一例を示す断面図である。
【符号の説明】
【００７１】
１  リードフレーム製造装置
２  デプレスダイ
２  上ダイセット
３  ストリッパ
４  デプレスパンチ
４Ａ，４Ｂ  デプレスパンチ
５  下ダイセット
６  ダイプレート
７，７Ａ，７Ｂ  デプレスダイ
８  インナーカットパンチ
９  インナーカットダイ
９ａ  穴部
１０  スプリング
１１  ストッパ
２０，２０Ａ  リードフレームパターン
３０  リード
３１  ボンディングワイヤ
３２  封止樹脂
３３  両面接着性ポリイミドテープ
３４  半導体チップ
３６  ボンディングパッド
３７  インナーリード
３８  アウターリード
４０  インナーカット加工装置
５０  デプレス加工装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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