(57)【要約】【課題】  薄膜で遮光性能が高く、かつ低コストで表示装置用遮光層を作製することができる銀受容層用組成物及び銀受容層転写材料、さらには、薄膜で遮光性能が高く、かつ低コストで作製しうる表示装置用遮光層の製造方法を提供する。【解決手段】  少なくとも１種の銀沈積核を含有し、該銀沈積核が硫化物であることを特徴とする表示装置用遮光層作製用銀受容層組成物を用いる。該組成物からなる銀受容層と、ハロゲン化銀を含有する感光層とを積層し、その後、フォトマスクを介して露光し、還元剤とハロゲン化銀を溶解しうる溶剤とを含有する現像液を適用することで、表示装置用遮光層を得ることができる。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
銀拡散転写法を用いた遮光層の形成に用いられる銀受容層形成組成物であって、少なくとも１種の銀沈積核を含有し、該銀沈積核が金属、金属酸化物、セレン化物、及び硫化物からなる群より選択されることを特徴とする銀受容層形成組成物。
【請求項２】
前記銀沈積核が硫化物であることを特徴とする請求項１に記載の銀受容層形成組成物。
【請求項３】
前記銀沈積核が、硫化パラジウム、硫化金、硫化イリジウム、硫化銅、硫化白金、硫化オスミウム及び硫化銀からなる群より選択される１種以上であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の銀受容層形成組成物。
【請求項４】
剥離性を有する支持体上に、銀沈澱核を含有する銀受容層及び銀化合物を含有する感光層のうち少なくとも１層を設けたことを特徴とするラミネート転写材料。
【請求項５】
剥離性を有する支持体上に、熱可塑性樹脂層を設け、該熱可塑性樹脂層上に、銀沈澱核を含有する銀受容層及び銀化合物を含有する感光層のうち少なくとも１層を設けたことを特徴とするラミネート転写材料。
【請求項６】
前記銀化合物が、ハロゲン化銀であることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載のラミネート転写材料。
【請求項７】
請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の銀受容層形成組成物からなる銀受容層と、該銀受容層に含まれる該銀沈積核に沈積した銀からなることを特徴とする表示装置用遮光層。
【請求項８】
光透過性基板の上に、着色層からなり、互いに異なる色を呈する２以上の画素群を有し、前記画素群を構成する各画素は互いに表示装置用遮光層により離画されているカラーフィルターであって、
該表示装置用遮光層が請求項７に記載の表示装置用遮光層であることを特徴とするカラーフィルター。
【請求項９】
少なくとも１つが光透過性である１対の基板の間に、カラーフィルター、液晶層および液晶駆動手段を備えた液晶表示素子であって、
前記カラーフィルターが、請求項８に記載のカラーフィルターであることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項１０】
少なくとも１つが光透過性である１対の基板の間に、カラーフィルター、液晶層および液晶駆動手段を少なくとも備えた液晶表示素子であって、
前記液晶駆動手段がアクティブ素子を有し、各アクティブ素子の間に請求項７に記載の表示装置用遮光層が形成されていることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項１１】
光透過性基板の上に、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の銀受容層形成組成物からなる銀受容層及びハロゲン化銀を含有する感光層を形成する工程、表示装置用遮光層用フォトマスクを介して前記感光層を露光して感光層パターンを形成する工程、及び、還元剤とハロゲン化銀を溶解しうる溶剤とを含有する現像液により銀を沈積させる工程と、を有する表示装置用遮光層の製造方法。
【請求項１２】
前記銀受容層及びハロゲン化銀を含有する感光層を形成する工程が、請求項４又は請求項５に記載のラミネート転写材料を用いて、光透過性基板上に銀受容層及びハロゲン化銀を含有する感光層を転写し、その後、該ラミネート転写材料の支持体を剥離することにより実施される請求項１１に記載の表示装置用遮光層の製造方法。
【請求項１３】
光透過性基板上に遮光層を有する表示装置用遮光層付き基板であって、
前記遮光層が、少なくとも１種の銀沈積核及び沈積してなる銀とを含有し、該銀沈積核が硫化物であることを特徴とする表示装置用遮光層付き基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、銀受容層形成組成物、ラミネート転写材料、それを用いて作成された表示装置用遮光層及びその製造方法、該表示装置用遮光層を備えるカラーフィルター、液晶表示素子並びに表示装置用遮光層付き基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラー液晶ディスプレー等に用いられるカラーフィルターは、透明基板上に着色画素層（Ｒ、Ｇ、Ｂ）が形成され、そして、Ｒ、Ｇ、Ｂ（赤、緑、青）の各着色画素の間隙には、表示コントラスト向上等の目的で、一般的にブラックマトリックスと称される表示装置用遮光層が形成されている。特に薄膜トランジスター（ＴＦＴ）を用いたアクティブマトリックス駆動方式の液晶表示素子においては、薄膜トランジスターの光による電流リークに伴う画質の低下を防ぐためにも、表示装置用遮光層には高い遮光性が要求される。
表示装置用遮光層の形成方法としては、例えば、クロム等の金属膜を遮光層とする場合には、金属薄膜を蒸着法やスパッタリング法により作製し、該金属薄膜の上にフォトレジストを塗布し、次いで表示装置用遮光層用パターンをもつフォトマスクを用いてフォトレジスト層を露光現像し、その後露出した金属薄膜をエッチングし、最後に金属薄膜上のレジスト層を剥離することにより形成する方法が知られている（例えば、非特許文献１参照）。
【０００３】
この方法は、金属薄膜を用いるため、得られた表示装置用遮光層は膜厚が小さくても高い遮光効果が得られる反面、製造時に、蒸着法やスパッタリング法などに代表される真空成膜工程や液体を用いたエッチング工程が必要となり、コストが高くなるとともに環境に対する負荷も無視できないという問題がある。また、金属膜であるため反射率が高く、強い外光の下では表示コントラストが低いという問題もある。これに対しては低反射クロム膜（金属クロムと酸化クロムの２層からなるもの等）を用いるという手段があるが、更にコストアップとなることは否めない。
【０００４】
また、表示装置用遮光層の他の形成方法として、遮光性顔料、例えばカーボンブラックを含有する感光性樹脂組成物を用いる方法も知られており、具体的には、例えば、透明基板にＲ、Ｇ、Ｂ画素を形成した後、この画素の上にカーボンブラック含有感光性樹脂組成物を塗布し、透明基板のＲ、Ｇ、Ｂ画素非形成面側から全面に露光する、セルフアライメント方式の表示装置用遮光層形成方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
この方法は、前記金属膜のエッチングによる方法に比較して製造コストは低くなるものの、十分な遮光性を得るためには膜厚が厚くなるという問題があり、その結果、表示装置用遮光層とＲ、Ｇ、Ｂ画素との重なり（段差）が生じ、カラーフィルターの平坦性が悪くなって液晶表示素子のセルギャップムラが発生し、色ムラ等の表示不良につながることが懸念される。
【特許文献１】特開昭６２−９３０１号公報
【非特許文献１】共立出版（株）発行「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ」第２１８〜２２０頁（１９９７年４月１０日）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は前記のごとき問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、薄膜で遮光性能が高く、かつ低コストで表示装置用遮光層を作製することができる銀受容層形成組成物及びそれを用いた転写材料を提供することにあり、また、前記組成物を用いて作製される表示装置用遮光層及びその製造方法、前記表示装置用遮光層が設けられたカラーフィルター及び液晶表示素子を提供し、さらに薄膜で遮光性能が高い表示装置用遮光層付き基板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題は、特定の銀沈積核を含有する銀受容層形成組成物、さらには、ハロゲン化銀などの銀化合物を利用した拡散転写写真法により、露光されたハロゲン化銀写真乳剤を含有する感光層と、銀沈積核を含有する銀受容層とを重ねあわせ、還元剤の存在下でハロゲン化銀を溶解しうる溶剤を含むアルカリ性現像処理液を塗り付けて処理することにより、銀受容層中の銀沈積核を発色させ、ポジの銀画像からなる遮光層を得る方法により達成された。
より詳細には、以下の表示装置用遮光層作製用銀受容層組成物及び感光性転写材料、表示装置用遮光層及びその製造方法、カラーフィルター、液晶表示素子並びに表示装置用遮光層基板を提供することにより解決される。
【０００７】
＜１＞  銀拡散転写法を用いた遮光層の形成に用いられる銀受容層形成組成物であって、少なくとも１種の銀沈積核を含有し、該銀沈積核が金属、金属酸化物、セレン化物、及び、硫化物からなる群より選択されることを特徴とする銀受容層形成組成物。
＜２＞  前記銀沈積核が硫化物であることを特徴とする前記＜１＞に記載の銀受容層形成組成物。
＜３＞  前記銀沈積核が、硫化パラジウム、硫化金、硫化イリジウム、硫化銅、硫化白金、硫化オスミウム及び硫化銀からなる群より選択される１種以上であることを特徴とする前記＜１＞又は＜２＞に記載の銀受容層形成組成物。
＜４＞  剥離性を有する支持体上に、銀沈澱核を含有する銀受容層及び銀化合物を含有する感光層のうち少なくとも１層を設けたことを特徴とするラミネート転写材料。
＜５＞  剥離性を有する支持体上に、熱可塑性樹脂層を設け、該熱可塑性樹脂層上に、銀沈澱核を含有する銀受容層及び銀化合物を含有する感光層のうち少なくとも１層を設けたことを特徴とするラミネート転写材料。
＜６＞  前記銀化合物が、ハロゲン化銀であることを特徴とする前記＜４＞又は＜５＞に記載のラミネート転写材料。
【０００８】
＜７＞  前記＜１＞乃至＜３＞のいずれか１に記載の銀受容層形成組成物からなる銀受容層と、該銀受容層に含まれる該銀沈積核に沈積した銀からなることを特徴とする表示装置用遮光層。
＜８＞  光透過性基板の上に、着色層からなり、互いに異なる色を呈する２以上の画素群を有し、前記画素群を構成する各画素は互いに表示装置用遮光層により離画されているカラーフィルターであって、該表示装置用遮光層が前記＜７＞に記載の表示装置用遮光層であることを特徴とするカラーフィルター。
＜９＞  少なくとも１つが光透過性である１対の基板の間に、カラーフィルター、液晶層および液晶駆動手段を備えた液晶表示素子であって、前記カラーフィルターが、前記＜８＞に記載のカラーフィルターであることを特徴とする液晶表示素子。
＜１０＞  少なくとも１つが光透過性である１対の基板の間に、カラーフィルター、液晶層および液晶駆動手段を少なくとも備えた液晶表示素子であって、前記液晶駆動手段がアクティブ素子を有し、各アクティブ素子の間に前記＜７＞に記載の表示装置用遮光層が形成されていることを特徴とする液晶表示素子。
＜１１＞  光透過性基板の上に、前記＜１＞乃至＜３＞のいずれか１に記載の銀受容層形成組成物からなる銀受容層及びハロゲン化銀を含有する感光層を形成する工程、表示装置用遮光層用フォトマスクを介して前記感光層を露光して感光層パターンを形成する工程、及び、還元剤とハロゲン化銀を溶解しうる溶剤とを含有する現像液により銀を沈積させる工程と、を有する表示装置用遮光層の製造方法。
【０００９】
＜１２＞  前記銀受容層及びハロゲン化銀を含有する感光層を形成する工程が、前記＜４＞又は＜５＞に記載のラミネート転写材料を用いて、光透過性基板上に銀受容層及びハロゲン化銀を含有する感光層を転写し、その後、該ラミネート転写材料の支持体を剥離することにより実施される前記＜１１＞に記載の表示装置用遮光層の製造方法。
＜１３＞  光透過性基板上に遮光層を有する表示装置用遮光層付き基板であって、前記遮光層が、少なくとも１種の銀沈積核及び沈積してなる銀とを含有し、該銀沈積核が硫化物であることを特徴とする表示装置用遮光層付き基板。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の銀受容層形成組成物によれば、薄膜で遮光性能が高く、かつ低コストで表示装置用遮光層を作製することができる。また、この銀受容層形成組成物を用いたラミネート転写材料を提供することができる。
前記本発明の銀受容層形成組成物により得られた本発明の表示装置用遮光層は、薄膜で遮光性能が高いという効果を奏し、本発明の表示装置用遮光層の製造方法によれば、このような表示装置用遮光層をく、低コストで、容易に作製しうる。
また、前記本発明の薄膜で遮光性能が高い表示装置用遮光層を設けることで、優れた特性のカラーフィルター及び液晶表示素子、さらには、薄膜で遮光性能が高い表示装置用遮光層付き基板を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。
［銀受容層形成組成物］
まず、本発明の銀受容層形成組成物（以下、適宜、銀受容層組成物と称する）について説明する。本発明の銀受容層組成物は、少なくとも１種の銀沈積核を含有し、該銀沈積核は金属、金属酸化物、セレン化物、もしくは硫化物からなる群より選択されるが、好ましくは硫化物である。また、この銀受容層形成組成物には、銀沈積核を安定に保持する目的でバインダーを含有することが好ましい。このような銀受容層形成組成物は、銀拡散転写法を用いた表示装置用遮光層作製に好適に用いられる。
本発明において前記銀拡散転写法とは、画像露光された感光性ハロゲン化銀乳剤層を含む感光要素を、ハロゲン化銀溶剤を含むアルカリ性処理要素（現像剤）を用いて現像して、該乳化剤の未露光ハロゲン化銀の少なくとも一部を転写性銀錯塩とし、該錯塩の少なくとも一部を銀沈積核含有銀受容層を含む受像要素に転写して、該受像要素に画像を形成させる方法をいう。
【００１２】
本発明に好適に用いられる銀沈積核は写真業界でよく知られているハロゲン化銀乳剤の調製法に準じて行なうことで得られる。原理的にはサルファイドイオン溶液と金属イオン溶液またはそれぞれの単独溶液をで反応させることにより硫化物からなる核を調製することができる。
銀沈積核は感光層パターンから現像剤を介して拡散してきた転写性銀錯塩を還元剤が還元して銀微粒子を形成する際、銀粒子の形成を助ける化合物である。本発明においては銀沈積核は硫化物であることが好ましく、そのような観点からは、本発明に適用しうる銀沈積核の具体例としては、亜鉛、マグネシウム、アルミニウムなどの金属の酸化物に加えて、鉄、鉛、アンチモン、ビスマス、セリウム、亜鉛、ニッケル、スズ、銅、クロム、コバルトなどの重金属の硫化物、金、銀（コロイド銀を含む）、白金、パラジウムなどの貴金属の硫化物、好ましくは、銅、及び前記貴金属硫化物などの硫化物が挙げられる。これらのうち、硫化パラジウム、硫化金、硫化イリジウム、硫化銅、硫化白金、硫化オスミウム、硫化銀などが好ましく、金、白金、パラジウムの硫化物が特に好ましい。
硫化物銀沈積核は粒子が小さくて、安定性が高く、さらに形成された粒子の水溶性が小さいため、表示装置用遮光層銀受容層として用いる際に、解像度の高いパターンを形成しうるという利点を有する。
【００１３】
銀沈積核を形成するためのサルファイドイオンになりうる化合物としては、例えば、硫化ナトリウム、硫化カリウム等の水溶性の硫化物が好ましいが、アセトン、ジアセトンアルコールあるいはメタノール等の有機溶媒あるいはこれらの有機溶媒と水の混合溶媒に可溶であり、且つ、金属イオンとの間で硫化物を形成しうるイオン含有化合物であってもよい。
前記サルファイドイオンと反応して硫化物銀沈積核を形成しうるイオンとしては、パラジウムイオン、金イオン、白金イオンなどが挙げられる。
パラジウムイオンになりうる化合物としては、例えば、塩化パラジウム酸のナトリウム塩やカリウム塩等の水溶性のパラジウム化合物が好ましいが、アセトン、ジアセトンアルコールあるいはメタノール等の有機溶媒あるいはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒に溶けるパラジウム化合物であってもよい。金イオンになりうる化合物としては例えば塩化金酸やその水溶性塩が好ましいがアセトン、ジアセトンアルコールあるいはメタノール等の有機溶媒あるいはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒に溶ける金化合物であってもよい。また、白金イオンになりうる化合物としては、例えば、塩化白金酸及びそのナトリウム塩やカリウム塩等の水溶性の白金化合物が好ましいが、上記有機溶媒あるいはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒に溶解しうる白金化合物であってもよい。
【００１４】
硫化パラジウムと硫化金など、複数種の金属を含有する混合核を調製するには、例えば、仕込み壺に予め後述するバインダー溶液とサルファイドイオン溶液とを入れておき、攪拌しながら、パラジウムと金など、混合核を形成するために用いられる複数の金属イオンの混合溶液を添加する方法、仕込み壺に予めバインダー溶液と複数の金属イオンの混合溶液を入れておき、攪拌しながらサルファイドイオン溶液を添加する方法、または仕込み壺に予めバインダー溶液だけを入れておき攪拌しながら複数の金属イオンの混合溶液およびサルファイドイオン溶液を同時に、または時間差をおいて添加する方法などの方法をとればよい。
このようにして得られた銀沈積核は、本発明の銀受容層組成物に１〜３０質量％含まれることが好ましく、３〜２０質量％の範囲であることがさらに好ましい。なお、この沈積核の定量は、蛍光Ｘ線測定装置、例えば、Ｒｉｇａｋｕ製、Ｘ−ＲＡＹ  ＳＰＥＣＴＲＯＭＥＴＥＲ  ３３７０などを用いて実施することが可能である。
【００１５】
本発明においては、本発明の効果を損なわない限りにおいて、これら硫化物である銀沈積核に加えて、公知の他の銀沈積核を併用することができる。
ここで併用可能な硫化物以外の銀沈積核としては、鉄、鉛、亜鉛、ニッケル、スズ、銅、クロム、コバルトなどの重金属や金、銀（コロイド銀を含む）、白金、パラジウムなどの貴金属を挙げることができる。また、貴金属のセレン化物、例えば、鉛、亜鉛、アンチモンなどのセレン化物なども好ましい銀沈積核である。
併用しうる他の銀沈積核の添加量は、硫化物銀沈積核に対して、２０質量％未満であることが好ましい。
【００１６】
本発明の表示装置用遮光層作製用銀受容層組成物には、銀沈積核を安定に保持し、銀受容層を形成するのに有用なバインダーを含有することが好ましい。本発明の銀受容層組成物に用いうるバインダーとしては、セルロースジアセテート、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステルが好ましいが、ゼラチン、ポリビニールアルコール等の親水性ポリマーであってもよい。
【００１７】
本発明の銀受容層組成物に含まれるバインダーの量には特に制限はなく、目的に応じて適宜選択しうるが、一般的には、固形分換算で７０〜９９質量％の範囲であることが好ましく、８０〜９７質量％の範囲であることがさらに好ましい。
【００１８】
本発明の銀受容層組成物には、前記成分の他、膜性向上など、目的に応じて、種々の添加剤を使用することができる。添加剤としては、例えば、界面活性剤、増粘剤、紫外線吸収剤、色調剤などが挙げられる。
【００１９】
銀沈積核のバインダーとして前記セルロースエステルが用いられる場合、水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウムの如きアルカリの水溶液、該アルカリの水／アルコール混合溶液あるいは該アルカリのアルコール溶液でセルロースエステルを加水分解して全部または一部分を親水性の再生セルロースにしておくとアルカリ現像液や銀イオン錯体が受像シート中への浸透、拡散が容易になるので好ましい。
【００２０】
再生セルロースバインダー中に銀沈澱核を含有する銀受容層には、米国特許３，７５６，８２５号、西独特許１，９０３，７４１号、フランス特許２，０９０，４７６号、特開昭６３−２４７７５５号、エイ・ロット（A.Rott) 、イー・ウェイド（E.Weyde)、"フォトグラフィック・シルバー・ディフュージョン・トランスファー・プロセシーズ（Photographic Silver Diffusion Transfer Processes) 、フォーカル・プレス・ロンドン１９７２（Focal Press,London,1972)の第３・２・４・４章の６１〜６５頁に記載されている如き色調剤を添加することができる。
【００２１】
［ラミネート転写材料］
次に、本発明の表示装置用遮光層の作製に好適な、前記銀受容層形成組成物を用いたラミネート転写材料について説明する。本発明のラミネート転写材料は、剥離性を有する支持体上に、熱可塑性樹脂層を設け、該熱可塑性樹脂層上に、銀沈澱核を含有する銀受容層及び銀化合物を含有する感光層のうち少なくとも１層を設けたことを特徴とする。
【００２２】
本発明の転写材料においては、支持体上に、少なくともハロゲン化銀に代表される銀化合物を含有する感光層及び銀沈澱核含有銀受容層を設けたものであれば、これらが当初から支持体上に積層状態で設けられたものであってもよく、また、感光層及び銀受容層をそれぞれ別々の支持体上に一方の層のみ設け、二種一組の転写材料として、使用時に感光層と銀受容層とを積層して用いる態様であってもよい。
いずれの転写材料の場合であっても、ガラス基板等永久支持体上に転写する場合、銀受容層上に感光層が積層される状態、即ち、露光面側に感光層が存在するように設けるのが好ましい。
【００２３】
本発明の転写材料は、支持体の片側に順次、ハロゲン化銀などの銀化合物を含有する感光層、銀沈積核を含有する銀受容層を塗設し、支持体のもう片方の側にはバック層が塗設されていてもよい。さらにアルカリ中和層と中和タイミング層の間に画像安定化のための層を設けてもよく、転写後に銀沈積核を含有する銀受容層の上に位置するように保護層を塗設してもよい。
銀沈積核のバインダーとしては、セルロースエステルが用いられる場合、水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウムの如きアルカリの水溶液、該アルカリの水／アルコール混合溶液あるいは該アルカリのアルコール溶液でセルロースエステルを加水分解して全部または一部分を親水性の再生セルロースにしておくとアルカリ現像液や銀イオン錯体が受像シート中への浸透、拡散が容易になるので好ましい。
【００２４】
銀塩拡散転写法により形成された銀画像の保存性を改良するために。銀沈積核含有銀受容層と支持体との間にハライドイオンを捕獲するための層を塗設してもよく、また例えば特開昭５９−２３１５３７号に記載されている如き画像保存性改良剤を銀受容層中に含有させてもよい。
【００２５】
銀塩拡散転写法写真の銀画像の保存性を改良するために、例えば、特開昭５９−２３１５３７号に記載されている如き画像保存性改良剤を銀受容層中に含有させてもよい。
また、銀沈積核含有銀受容層の上には表面の光沢や平滑性をよくしたり、銀沈積核層が傷つくのを防止したりするために剥離層あるいは保護層を塗設してもよい。
【００２６】
本発明で用いられる感光層は、支持体上に一種またはそれ以上のハロゲン化銀（乳剤）を含む感光層を示し、ハロゲン化銀の発色を利用して画像形成する技術分野において感光要素として知られている構成をいずれも適用できる。なかでも、ハロゲン化銀は高感度の沃臭化銀（ヨード含量１〜１０モル％）が特に好ましい。これらは適当な保護コロイド物質、例えばゼラチン、カゼイン、アルブミン、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド等に分散され乳剤として用いられることが好ましい。このような用途に適当な乳剤は、ピー、グラフキデ（P.Glafkides)著シミ・エ・フィジィーク・フォトグラフィーク(Chimie et Physique Photographique、Paul Montel 社刊、１９６７年）、ジー・エフ・ダフィン (G.F.Duffin)著、フォトグラフィック・エマルジョン・ケミストリー（Photographic Emulsion Chemistry,The Focal Press 社刊行、１９６６年）、ヴィ・エル・ゼリクマン等（V.L.Zelikman et al.)のメーキング・アンド・コーティング・フォトグラフィック・エマルジョン（Making andCoating Photographic Emulsion, The Focal Press社刊、１９６４年）等に記載された方法で調製することができる。
【００２７】
感光層に好ましく用いられる前記ハロゲン化銀乳剤は必要に応じて化学増感、分光増感、強色増感を行なうことができる。
また、カブリ防止剤、硬膜剤、現像促進剤、界面活性剤、帯電防止剤、などを添加することもできる。また感光層の上に保護層を設け、物理的損傷から感光層を保護し、さらに保護層にはマット剤粒子を分散させて表面のスベリ性を改良し、またブロッキングを防止することもできる。
感光層の塗布量は目的に応じて適宜選択されるが、一般的には、乾燥後の銀換算した塗布量で１〜１０ｇ／ｍ2であることが好ましい。
【００２８】
感光層の上部に、直接、又は、後述する任意の層を介して、前記本発明の銀受容層組成物からなる銀受容層を設けることで、本発明の転写材料を得ることができる。あるいは、先に述べたように、支持体上に前記感光層のみを設けた転写材料と、以下に述べる銀受容層のみを設けた転写材料とを作製し、一組の転写材料とすることも可能である。
前記本発明の表示装置用遮光層作製用銀受容層組成物を、適切な溶剤に溶解し、感光層の上部に塗布・乾燥することで銀受容層を形成することができる。
【００２９】
銀受容層組成物の塗布に用いうる溶剤の例としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ブタノール，ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン、ε−カプロラクタム、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルアミド、水等を挙げることができる。これらは単独で、または、目的応じて、二種以上の混合物として使用することができる。
【００３０】
塗布方法には特に制限はなく、公知の方法、例えば、スピナー（スピン方式、スリットアンドスピン方式）、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー（ＦＡＳ方式等）等の塗布機を用いて塗布・乾燥させることにより形成することができる。後述するアルカリ可溶性熱可塑性樹脂層や中間層を設ける場合にも、同様にして層を形成することができる。
銀受容層の塗布量は目的に応じて適宜選択されるが、一般的には、乾燥後の塗布量で０．２〜２．０μｍ／ｍ2であることが好ましい。
【００３１】
本発明の転写材料において、感光層及び／又は銀受容層が設けられる支持体は、仮支持体として、画像形成時、あるいは画像形成後、剥離して取り除かれることが一般的であるが、このような支持体としては、ポリエステル、ポリスチレン等の公知の支持体を用いることができる。なかでも２軸延伸したポリエチレンテレフタレートが、剥離性、コスト、耐熱性、寸法安定性の観点から好ましい。支持体の厚みは、ラミネーション工程時の加熱に対する形状安定性、寸法安定性及びにコストの観点から、１５〜２００μｍ程度が好ましく、３０〜１５０μｍ程度であることがより好ましい。
また仮支持体には必要に応じて特開平１１−１４９００８に記載されている如き導電性層を設けてもよい。
【００３２】
本発明の転写材料においては、銀沈積核を含有する銀受容層やハロゲン化銀含有感光層に加えて、表面の光沢や平滑性の向上、あるいは、銀沈積核含有銀受容層の傷つき防止を目的として、剥離層あるいは保護層を塗設してもよい。以下、任意に設けることができる他の層について説明する。
（熱可塑性樹脂層）
また、支持体と感光層、又は支持体と後述する中間層との間に、アルカリ可溶性熱可塑性樹脂層を設けることが好ましい。
アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層は、下地表面の凹凸（既に形成されている画像などによる凹凸等も含む）を吸収することができるようにクッション材としての役割を担うものであるため、当該凹凸に応じて変形しうる性質を有していることが好ましい。
【００３３】
アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層に含まれる樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体とのケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、及び（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等との（メタ）アクリル酸エステル共重合体等のケン化物、等より選ばれる少なくとも１種であることが好ましいが、さらに「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）による有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものを使用することもできる。また、これらの熱可塑性樹脂の内、軟化点が８０℃以下のものが好ましい。なお、本明細書においては、アクリル酸及びメタクリル酸の双方あるいはいずれかを指す場合、「（メタ）アクリル酸」と称することがあり、その誘導体の場合も同様である。
【００３４】
熱可塑性樹脂層の成分としては、前記した樹脂であって、重量平均分子量５万〜５０万（Ｔｇ＝０〜１４０℃）の物性を有するものを選択して用いることが好ましく、重量平均分子量６万〜２０万（Ｔｇ＝３０〜１１０℃）の範囲で選択して使用することがさらに好ましい。
用いうる樹脂の具体例としては、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５５−３８９６１号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭６１−１３４７５６号、特公昭５９一４４６１５号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５４−９９４１８号、特開昭５４−１３７０８５号、特開昭５７−２０７３２号、特開昭５８−９３０４６号、特開昭５９−９７１３５号、特開昭６０−１５９７４３号、ＯＬＳ３５０４２５４号、特開昭６０−２４７６３８号、特開昭６０−２０８７４８号、特開昭６０−２１４３５４号、特開昭６０−２３０１３５号、特開昭６０−２５８５３９号、特開昭６１−１６９８２９号、特開昭６１−２１３２１３号、特開昭６３−１４７１５９号、特開昭６３−２１３８３７号、特開昭６３−２６６４４８号、特開昭６４−５５５５１号、特開昭６４一５５５５０号、特開平２−１９１９５５号、特開平２−１９９４０３号、特開平２−１９９４０４号、特開平２−２０８６０２号の各公報明細書に記載されているアルカリ水溶液に可溶な樹脂を挙げることができる。特に好ましいのは、特開昭６３−１４７１５９号明細書に記載されたメタクリル酸／２一エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メチルメタクリレート共重合体である。
【００３５】
また、熱可塑性樹脂層の成分としては、前記した樹脂であって、重量平均分子量３千〜３万（Ｔｇ＝３０〜１７０℃）の物性を有するものを選択して用いることが好ましく、重量平均分子量４千〜２万（Ｔｇ＝６０〜１４０℃）の範囲で選択して使用することがさらに好ましい。
好ましい具体例は、上記の特許明細書に記載されているものの中から選ぶことができるが、特に好ましくは、特公昭５５−３８９６１号、特開平５−２４１３４０号明細書の各公報に記載のスチレン／（メタ）アクリル酸共重合体が挙げられる。
【００３６】
また、これら熱可塑性樹脂層を構成する有機高分子組成物中には、支持体との接着力を調節するために、各種可塑剤、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤あるいは界面活性剤、離型剤等を加えることが可能である。
好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エポキシ樹脂とポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとの付加反応生成物、有機ジイソシアナートとポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとの付加反応生成物、有機ジイソシアナートとポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートとの付加反応生成物、ビスフェノールＡとポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとの縮合反応生成物等を挙げることができる。
アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層中の可塑剤の量は、該熱可塑性樹脂に対して、２００質量％以下が一般的で、好ましくは２０〜１００質量％である。
アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層の厚みは６μｍ以上が好ましい。熱可塑性樹脂の厚みが６６μｍ以上であれば、下地表面の凹凸を完全に吸収することができる。また、上限については、現像性、製造適性から約１００μｍ以下が一般的であり、好ましくは約５０μｍ以下である。
【００３７】
本発明において、熱可塑性樹脂層の溶媒としてはこの層を構成する樹脂を溶解するものであれば特に制限なく使用でき、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
【００３８】
（中間層）
本発明の感光性転写材料においては、支持体と銀受容層との間に中間層を設けてもよい。この中間層は転写後は、銀受容層の保護層として機能することになる。
中間層を構成する樹脂としては、アルカリ可溶であれば特に制限はない。樹脂の例としてポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリルアミド系樹脂、ポリエチレンオキサイド系樹脂、ゼラチン、ビニルエーテル系樹脂、ポリアミド樹脂、及びこれらの共重合体を挙げることができる。また、ポリエステルのように通常はアルカリ可溶性でない樹脂にカルボキシル基やスルホン酸基を持つモノマーを共重合した樹脂も用いることができる。
【００３９】
中間層には必要に応じて界面活性剤などの添加剤を添加してもよい。
中間層の厚みは、酸素遮断性と現像時における中間層の除去性のバランスという観点からは、時間０．１〜５μｍが好ましく、０．５〜３μｍの範囲がより好ましい。
中間層の塗布溶媒としては上記の樹脂が溶解すれば、特にその他の制限はないが、水が好ましい。水に前述の水混和性有機溶剤を混合した混合溶媒も好ましい。好ましい具体例としては次のようなものがある。水、水／メタノール＝９０／１０、水／メタノール＝７０／３０、水／メタノール＝５５／４５、水／エタノール＝７０／３０、水／１−プロパノール＝７０／３０、水／アセトン＝９０／１０、水／メチルエチルケトン＝９５／５（ここで、混合比は質量比を表す。）
【００４０】
（加工方法）
上記のようにして得られた本発明の転写材料は、所望のサイズに裁断されて用いられるが、そのときの加工方法、即ち、加工時の裁断方法には特に制限はなく、公知の方法が適用できる。
【００４１】
本発明の表示装置用遮光層作製用感光性転写材料は、前記のごとくハロゲン化銀を含有する感光層と銀沈澱核含有銀受容層とを有し、露光、現像により、前記銀沈澱核含有銀受容層組成物に由来する感光性遮光層を形成しうるため、薄膜でかつ光学濃度が高い遮光層を備えた表示装置用遮光層を作製することができる。
【００４２】
［表示装置用遮光層及びその作製方法］
本発明の表示装置用遮光層は、光透過性基板上に、前記感光層と銀受容層とを積層した状態で、露光、現像することで作製される遮光層を有する。即ち、パターン露光により、感光層中で露光領域に存在するハロゲン化銀が失活し、未露光領域のみが発色しうる状態となる。次に、還元剤とハロゲン化銀用溶剤とを有する現像剤を適用することにより、感光層中に存在する活性ハロゲン化銀が溶剤に溶解して銀受容層に浸透して銀受容層において、未露光領域のみが発色して露光パターンに従ったポジ型の遮光層が形成される。この遮光層領域を表示装置用遮光層として用いることができる。
【００４３】
本発明の表示装置用遮光層は、光透過性基板の上に、ハロゲン化銀含有感光層及び前記本発明の銀受容層形成組成物からなる銀受容層を塗布にて形成し、表示装置用遮光層用フォトマスクを介して前記感光層を露光して感光層パターンを形成し、その後、還元剤とハロゲン化銀用溶剤とを含有する現像液を適用して、パターン状に遮光層を形成することにより製造される。
また、前記ハロゲン化銀含有感光層と銀沈積核含有銀受容層とは、本発明の表示装置用遮光層作製用ラミネート転写材料を、光透過性基板上に貼り合わせ、その後、剥離性を有する仮支持体（転写材料の支持体）を除去することにより、同様に銀受容層と感光層とが形成されたものであってもよい。
また、塗布法と転写法の双方を組み合わせて銀受容層と感光層とを形成してもよい。
【００４４】
（露光）
露光は常法により行われる。通常は、表示装置用遮光層用フォトマスクを介して露光する。露光光源としては、レーザー光源、白色光、キセノンランプなど色温度５４００Ｋの波長を含むものが挙げられ、なかでも、レーザー光源、白色光、キセノンランプが好ましい。また、露光エネルギーは、感光層中の成分や目的に応じて適宜選択されるが、地肌の光学濃度（ＯＤ）が０．１未満の範囲となるよう調整されることが好ましい。
【００４５】
（現像）
本発明の転写材料を用いて遮光パターンを形成するためには、現像処理が必要である。ここで用いられる処理要素としては、種々の処理組成物が用いられるが、現像主薬（還元剤）と、ハロゲン化銀を溶かすことができる溶剤（以下、適宜、ハロゲン化銀用溶剤と称する）と、還元剤の可溶化剤として機能するアルカリ剤とが含まれてものが好ましい。
ハロゲン化銀を発色させうる還元剤は、当該分野で現像主薬としてすられるものであれば特に制限はないが、好ましい還元剤としては、少なくとも二つのヒドロキシルおよび／またはアミノ基がベンゼン核のオクトまたはパラ位に置換されているベンゼン誘導体、例えば、ハイドロキノン、アミドール、メトール、グリシン、ｐ−アミノフェノール；ピロガロール；ヒドロキシルアミン類等が挙げられる。特に、第一級および第二級脂肪族および芳香族Ｎ−置換またはβ−ヒドロキシルアミン類が好適であり、これらは水性アルカリに可溶性であり、例えば、ヒドロキシルアミン、Ｎ−メチルヒドロキシルアミン、Ｎ−エチルヒドロキシルアミンおよび米国特許２，８５７，２７６号に記載されているものおよび同３，２９３，０３４号に記載されている如きＮ−アルコキシアルキル置換ヒドロキシルアミン類が包含される。特開昭４９−８８５２１号に記載されているテトラヒドロフルフリル基をもつヒドロキシルアミン誘導体も用いられる。また西独公開特許（ＯＬＳ）２，００９，０５４号、同２，００９，０５５および同２，００９，０７８号に記載されているアミノレダクトン類や、米国特許４，１２８，４２５号に記載されている複素環アミノレダクトンも用いられる。さらに米国特許３，６１５，４４０号に記載されているテトラアルキルレダクチン酸も用いることができる。
【００４６】
また、補助現像剤として、フェニドン化合物、ｐ−アミノフェノール化合物およびアスコルビン酸を、上記現像剤に併用することができる。
現像剤に適当に用いうるハロゲン化銀用溶剤には、通常の定着剤、例えばナトリウムチオサルフェート、ナトリウムチオシアネート、アンモニウムチオサルフェートが包含され、その他にも、上述の米国特許２，５４３，１８１号に記載されている溶剤、さらには、環式イミドと窒素塩基の組み合わされたもの、例えば、バルビツレート等、または、ウラシルとアンモニアまたはアミンとが組み合わされたもの、米国特許２，８５７，２７４号に記載されているような組合せが包含される。
【００４７】
現像は、露光後に前記現像液を感光層及び銀受容層の積層体に適用することで行われる。適用方法としては、塗布法あるいは浸漬法が挙げられ、一般的には塗布法が用いられる。
現像は、現像液を塗布した後、所定時間、例えば、１０秒間〜５分間放置し、その後、水洗などにより現像液を除去し、乾燥することで実施される。
【００４８】
こうして作成される本発明の表示装置用遮光層を構成する遮光層の膜厚は０．２〜１．０μｍ程度、好ましくは０．６μｍ以下である。本発明の表示装置用遮光層における遮光層は隠蔽力の高い銀沈積核を沈積させたものであるため、前記のごとき薄膜でも十分な光学濃度を有する。
本発明の表示装置用遮光層の製造方法は、煩瑣な工程を行うことを必要とせず、低コストである。
【００４９】
［カラーフィルター］
本発明のカラーフィルターは、光透過性基板の上に、着色層からなり、互いに異なる色を呈する２以上の画素群を有し、前記画素群を構成する各画素は互いに表示装置用遮光層により離画されている構成を有し、該表示装置用遮光層は、本発明の前記銀受容層形成組成物又は本発明のラミネート転写材料を用いて作製された本発明の表示装置用遮光層である。
画素群は２つでも、３つでも４つ以上でもよい。例えば３つの場合は赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の３つの色相が用いられる。赤、緑、青の３種の画素群を配置する場合は、モザイク型、トライアングル型等の配置が好ましく、４種以上の画素群を配置する場合ではどのような配置であってもよい。
【００５０】
カラーフィルターに用いる光透過性基板としては、表面に酸化珪素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス板、ノンアルカリガラス板、石英ガラス板等の公知のガラス板あるいはプラスチックフィルム等が用いられる。
カラーフィルターを作製するには、光透過性の基板に常法により２以上の画素群を形成した後、前記のようにして表示装置用遮光層を形成しても、或いは最初に表示装置用遮光層を形成し、その後２以上の画素群を形成してもよい。
本発明のカラーフィルターは前記のごとき表示装置用遮光層を備えているため、表示コントラストが高く、また、平坦性に優れている。
【００５１】
［液晶表示素子］
本発明の液晶表示素子の１つは、少なくとも１つが光透過性の１対の基板の間にカラーフィルター、液晶層および液晶駆動手段（単純マトリックス駆動方式及びアクティブマトリックス駆動方式を含む）を少なくとも備えたもので、前記カラーフィルターとして、前記のごとき複数の画素群を有し、前記画素群を構成する各画素が、互いに本発明の表示装置用遮光層により離画されているカラーフィルターを用いるものである。
前記カラーフィルターは平坦性が高いため、このカラーフィルターを備える液晶表示素子は、カラーフィルターと基板との間にセルギャップムラが発生せず、色ムラ等の表示不良が発生することがない。
また、このような液晶表示素子の、別の態様のものとしては、少なくとも１つが光透過性の１対の基板の間に、カラーフィルター、液晶層および液晶駆動手段を少なくとも備え、前記液晶駆動手段がアクティブ素子（例えばＴＦＴ）を有し、かつ各アクティブ素子の間に本発明の銀受容層組成物又はラミネート転写材料を用いて作製される表示装置用遮光層が形成されているものが挙げられる。
【００５２】
［表示装置用遮光層付き基板］
本発明の表示装置用遮光層付き基板は、光透過性基板の上に設けられた遮光層を有し、前記遮光層が、前記本発明の表示装置用遮光層からなり、平均粒径が互いに１０ｎｍ以上異なる銀微粒子を分散させた層であることを特徴とする。銀微粒子は、特許第３３１８３５３号明細書に開示の粒径０．０１〜０．０５μｍ（１０〜５０ｎｍ）の場合、一般には黄色から赤色の着色が発生し表示装置用遮光層に適する黒色が得られないが、本発明の表示装置用遮光層では、その製法に起因して、即ち、シャープな粒度分布を有する銀沈積核を用いているため、一般に使用される不均一な粒径を持つ銀沈積核を用いた場合に生ずる如き銀粒子の巨大な凝集物が発生することなく、表示装置用遮光層に適した粒径範囲において、互いに適度に粒径の異なる銀粒子が形成され、結果として、平均粒径が互いに１０ｎｍ以上異なる銀微粒子同士が併用されることにより遮光層として十分な黒色が得られる。
【００５３】
また、本発明の表示装置用遮光層付き基板は、カラーフィルターの作製のために用いることができる。
この表示装置用遮光層基板における遮光層の膜厚は０．２〜２．０μｍが好ましく、特に０．２〜０．９μｍが好ましい。本発明の表示装置用遮光層基板における遮光層は銀微粒子を分散させたものであるため、前記のごとき薄膜でも十分な光学濃度を有する。
【実施例】
【００５４】
以下に具体的に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、以下、［  ］内の数値は固形分換算の塗布量をｇ／ｍ2で示すものである。
（実施例１）
１．銀受容層の作製
ガラス基板上に、下記銀沈積核（Ａ）に、さらに酢酸セルロースおよび写真用添加剤を加えて下記塗布量になるように銀受容層を設けた。
酢酸セルロース（酢化度５５％）［２．０］、
硫化パラジウム［７．５×１０-4］、
１−（４−ヘキシルカルバモイルフェニル）−２，３−ジヒドロイミダゾール−２−チオン［１．０×１０-2］
【００５５】
銀沈積核（Ａ）の調製
酢酸セルロース（酢化度５５％）４０ｇを７２０ｍｌのアセトンに溶解した液をいれた壺に、５５０ｒｐｍで攪拌しながら０．０１７５Ｍの硫化ナトリウム水溶液を１６ｍｌとアセトン２４ｍｌの混合液を毎秒１ｍｌの速度で添加した後、２分間そのまま攪拌を続け、次に０．０７０Ｍの四塩化パラジウム・二ナトリウム水溶液を４ｍｌとメタノール３６ｍｌの混合液を毎秒１ｍｌの速度で添加した。その後、５分間そのまま攪拌を続けた。これらの操作は２５℃で行なった。
計算上は酢酸セルロース１ｇ当たり７×１０-3ミリモルの硫化パラジウムが生成することになる。
次に、水酸化ナトリウム１０．７ｇとグリセリン２４ｇとメタノール２８０ｍｌを混合した液で銀沈積核層表面から酢酸セルロースをケン化した後、水洗し、８０℃で乾燥した。
【００５６】
２．感光層の作製
銀受容層の上に下記塗布量になるように塗布、乾燥して感光層を設け、銀受容層と感光層とを有する感光材料を作製した。
感光層
平均粒径１．１μｍの沃臭化銀乳剤（ＡｇＩ含量６．０モル％  均一型構造）［銀換算２．０］、
４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン［０．０１］、
下記増感色素Ａ［３．２×１０-4］、
下記増感色素Ｂ［３．２×１０-4］、
下記増感色素Ｃ［１．２×１０-4］、
ゼラチン［３．９］
【００５７】
【化１】
2005283668.tif 000002
【００５８】
３．現像液の調製
現像液として、下記組成のものを調製した。
・４０％水酸化カリウム水溶液                              ３２３ｍｌ
・酸化亜鉛                                              ９．７５ｇ
・Ｎ，Ｎ−ビス−メトキシエチルヒドロキシアミン          ７５ｇ
・トリエタノールアミン水溶液（水６．２部に対して
トリエタノールアミン４．５部）                    １７．１４ｇ
・テトラヒドロピリミジンチオン                            ０．４ｇ
・２，４−ジメルカプトピリミジン                          ０．３５ｇ
・ウラシル                                              ８０ｇ
・水                                                １１９３ｇ
【００５９】
４．表示装置用遮光層の作製
前記のようにして得られた感光材料に、感光層側から、色温度５４００Ｋの光源をもつ感光計を用いて得られるポジ画像に白色部ができるように、表示装置用遮光層用フォトマスクを介して露光した後、上記現像液を感光層上に０．０４ｍｍの厚さで塗布して２５℃の雰囲気で拡散転写現像を開始し、３０秒静置し、その後、ジェット水洗により感光層を除去して、銀受容層の露光領域のみが黒色に発色したポジ画像が形成された。このようにして発色部分を遮光層とする表示装置用遮光層を得た。
【００６０】
〔表示装置用遮光層の評価〕
１．膜厚測定
膜厚は次の方法で測定した。形成された表示装置用遮光層の厚みと、銀受容層及び感光層塗布前の支持体の厚みを、触針式表面粗さ計Ｐ−１（ＴＥＮＫＯＰ社製）を用いて測定し、両者の差をとることで、銀受容層の厚みを測定した。
【００６１】
２．光学濃度の測定
膜の光学濃度は以下の方法で測定した。ガラス基板上に塗設された微粒子含有層に超高圧水銀灯を用いて塗布面側から５００ｍＪ／ｃｍ2の露光を行い、次いでこの光学濃度をマクベス濃度計（マクベス社製ＴＤ−９０４）を用いて測定する（ＯＤ）。別途ガラス基板の光学濃度（ＯＤ0）を同様の方法で測定し、両者の差、即ち、ＯＤからＯＤ0を差し引いた値を膜の光学濃度とする。
【００６２】
３．青、赤、緑色画素の形成と画素の気泡の評価
表示装置用遮光層を形成したガラス基板の上に公開特許公報２００２−３４１１２７号明細書の実施例−１に記載の試料Ｒ１、Ｇ１、Ｂ１を用いて各色の画素を形成した。画素形成の方法についてもこの特許記載の方法を用いた。
表示装置用遮光層の凹凸の上に各色の画素を形成するので、ガラス基板と各色画素の間に気泡が入る場合がある。この気泡発生程度を下記の方法で測定した。
このガラス基板の３色の画素各１００個ずつ、合計３００個の画素について光学顕微鏡を用いて目視で気泡の数を数えた。数が少ないほど良好であると評価する。
【００６３】
４．銀受容層の地肌の色相
銀受容層の地肌の色相を目視で評価した。なお、以下の評価において実用上許容されるのはＡ〜Ｃレベルのものである。
完全に無彩色とみなせるもの                      Ａ
ごく僅かに色相のずれがあるもの                  Ｂ
色相のずれが少々あるが、実用上許容されるもの    Ｃ
実用使用で障害になる程度に色相のずれがあるもの  Ｄ
完全な色相のずれがあるもの                      Ｅ
以上の評価結果を表１に示す。
【００６４】
５．加熱による表示装置用遮光層の色相変化
表示装置用遮光層を形成したガラス基板を２２０℃で２時間熱処理する前後の表示装置用遮光層色相の変化を目視で評価した。なお、以下の評価において実用上許容されるのはＡ〜Ｃレベルのものである。
全く変化が見られないもの                        Ａ
ごく僅かに金属光沢があるもの                    Ｂ
僅かな金属光沢があるが、実用上許容されるもの    Ｃ
実用使用で障害になる程度に金属光沢があるもの    Ｄ
完全な金属光沢があるもの                        Ｅ
以上の評価結果を表１に示す。
【００６５】
（実施例２〜７）
実施例１において銀沈積核（Ａ）の形成に用いた０．０７０Ｍの四塩化パラジウム・二ナトリウム水溶液に代えて、同濃度の塩化金酸水溶液（実施例２）、塩化第二イリジウム水溶液（実施例３）、塩化第二銅水溶液（実施例４）、塩化白金酸水溶液（実施例５）、二塩化オスミウム水溶液（実施例６）及び硝酸銀水溶液（実施例７）をそれぞれ用いた以外は実施例１と同様にして表示装置用遮光層を形成し、同様の評価を行なった。結果を表１に併記する。
【００６６】
（実施例８）
実施例１において硫化ナトリウム水溶液及び四塩化パラジウム・二ナトリウム水溶液を用いる代わりに、酢酸セルロース１ｇあたり７×１０-3ミリモルの銀粒子が含有されるように、平均粒径２０ｎｍの銀粒子アセトン溶液（固形分濃度３５質量％）を添加した以外は実施例１と同様にして表示装置用遮光層を形成し、同様の評価を行なった。結果を表１に併記する。
【００６７】
（実施例９〜１５）
１．銀受容層の作製
ガラス基板上に、実施例１〜７において用いたのと同様の銀沈積核（Ａ）を用いて銀受容層を設け、引き続き鹸化した。
２．感光層用転写材料の作製
２軸延伸した７５μｍ厚みのポリエチレンテレフタレート支持体に、スライドコーターを用いて厚みが１５μｍになるように下記組成の熱可塑性樹脂層塗布液を塗布して１００℃で５分間乾燥して熱可塑性樹脂層を形成した。次いで、この上に下記中間層塗布液を乾燥膜厚が１．５μｍになるように塗布して１００℃で５分間乾燥して中間層を形成した。さらに、この中間層上に実施例１と同様の感光層を設けて、感光性転写材料を得た。
【００６８】
〔熱可塑性樹脂層塗布液〕
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝５４／１２／５／２９の共重合体    （数平均分子量８００００）                                  ５８部
・スチレン／アクリル酸＝７０／３０の共重合体
（数平均分子量７０００）                                    １３６部
・多官能アクリレート
（ＢＰＥ−５００、新中村化学（株）製）                      ９０部
・フッ素系界面活性剤
（Ｆ１７６ＰＦ、大日本インキ化学工業（株）製）                １部
・メチルエチルケトン                                        ５４１部
・１−メトキシ−２−プロパノール                              ６３部
・メチルアルコール                                          １１１部
【００６９】
〔中間層塗布液〕
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ２０５、クラレ（株）製）    ３．０質量部
・ポリビニルピロリドン
（ＧＡＦコーポレーション（株）製  ＰＶＰ−Ｋ３０）          １．３質量部
・蒸留水                                                ５０．７質量部
・メチルアルコール                                      ４５．０質量部
【００７０】
ガラス基板上に形成された銀受容層と、前記のようにして得られた感光性転写材料の感光層が接触するようにガラス基板と転写材料を重ね合わせ、ラミネーター（大阪ラミネーター（株）製ＶＰ−ＩＩ）を用いて両者を貼り合わせた。ラミネーション条件は圧力０．８Ｋｇ／ｃｍ2、温度１３０℃である。その後、転写材料のポリエチレンテレフタレート支持体を剥離した。
現像処理液ＴＰＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）にて、３０℃４０秒間処理した後水洗し、エアーナイフで水を切った。この現像処理液による処理により感光層上の中間層、熱可塑性樹脂層が除去され、ガラス基板上に、銀受容層と感光層との積層体が形成された。
【００７１】
３．表示装置用遮光層の作製
前記ガラス基板上に形成された銀受容層と感光層との積層体を、さらに、実施例１におけるのと同様に露光し、その後、実施例１で用いたのと同様の現像液を用いて現像処理を行なった。この処理により、未露光部が遮光層であるポジ型の表示装置用遮光層を得た。
得られた表示装置用遮光層を実施例１と同様に評価した。結果を表１に示す。
【００７２】
（実施例１６）
実施例９において硫化ナトリウム水溶液及び四塩化パラジウム・二ナトリウム水溶液を用いる代わりに、酢酸セルロース１ｇあたり７×１０-3ミリモルの銀粒子が含有されるように、平均粒径２０ｎｍの銀粒子アセトン溶液（固形分濃度３５質量％）を添加した以外は実施例９と同様にして表示装置用遮光層を形成し、同様の評価を行なった。結果を表１に併記する。
【００７３】
（実施例１７〜２３）
１．銀受容層用転写材料の作製
２軸延伸した７５μｍ厚みのポリエチレンテレフタレート支持体上に、スライドコーターを用いて厚みが１５μｍになるように上記熱可塑性樹脂層塗布液を塗布して１００℃で５分間乾燥し、熱可塑性樹脂層を形成した。この上に上記中間層塗布液を乾燥膜厚が１．５μｍになるように塗布して１００℃で５分間乾燥し、中間層を形成した。中間層上に、実施例１〜７と同様にして銀受容層を塗布、乾燥して設け、鹸化、水洗及び乾燥を行なって銀受容層用転写材料を得た。
【００７４】
次に、銀受容層用転写材料とガラス基板を、銀受容層とガラス面とが接するようにして重ね合わせ、ラミネーター（大阪ラミネーター（株）製ＶＰ−ＩＩ）を用いて両者を貼り合わせた。ラミネーション条件は圧力０．８Ｋｇ／ｃｍ2、温度１３０℃である。
その後ポリエチレンテレフタレート支持体を剥離した。
現像処理液ＴＰＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）にて３０℃で４０秒間処理後、水洗、乾燥を行なって、銀受容層上の中間層、熱可塑性樹脂層を除去した。
このようにして、転写により形成した銀受容層上に、実施例１と同様にして感光層を塗布法によって形成し、ガラス基板上に銀受容層と感光層との積層体を形成した。
【００７５】
得られた積層体に、さらに、実施例１におけるのと同様に露光し、その後、実施例１で用いたのと同様の現像液を用いて現像処理を行なった。この処理により、未露光部が遮光層であるポジ型の表示装置用遮光層を得た。
得られた表示装置用遮光層を実施例１と同様に評価した。結果を表１に示す。
【００７６】
（実施例２４）
実施例１７において硫化ナトリウム水溶液及び四塩化パラジウム・二ナトリウム水溶液を用いる代わりに、酢酸セルロース１ｇあたり７×１０-3ミリモルの銀粒子が含有されるように、平均粒径２０ｎｍの銀粒子アセトン溶液（固形分濃度３５質量％）を添加した以外は実施例１７と同様にして表示装置用遮光層を形成し、同様の評価を行なった。結果を表１に併記する。
【００７７】
【表１】
2005283668.tif 000003
【００７８】
（実施例２５〜３１）
実施例９〜１５で用いたのと同じ感光層用転写材料と、実施例１７〜２２において用いたのと同じの銀受容層用転写材料を用いて、表示装置用遮光層を作製した。
まず、ガラス基板と銀受容層用転写材料とを、銀受容層とガラス面は重なるようにして合わせ、ラミネーター（大阪ラミネーター（株）製ＶＰ−ＩＩ）を用いて両者を貼り合わせた。ラミネーション条件は圧力０．８Ｋｇ／ｃｍ2、温度１３０℃である。
その後ポリエチレンテレフタレート支持体を剥離した。現像処理液ＴＰＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）で３０℃、４０秒間現像処理した後水洗し、エアーナイフで水を切った。このようにして銀受容層上の中間層などを除去した。
銀受容層を転写したガラス基板と感光層用転写材料とを、銀受容層と感光層が密着するように重ね合わせ、上記ラミネーターを用いて両者を貼り合わせた。ラミネーション条件は圧力０．８Ｋｇ／ｃｍ2、温度１３０℃である。
その後ポリエチレンテレフタレート支持体を剥離した。次に、同様に現像処理液ＴＰＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）で３０℃、４０秒間処理した後水洗し、エアーナイフで水を切って、中間層などを除去した。
【００７９】
得られた積層体に、さらに、実施例１におけるのと同様に露光し、その後、実施例１で用いたのと同様の現像液を用いて現像処理を行なった。この処理により、未露光部が遮光層であるポジ型の表示装置用遮光層を得た。
得られた表示装置用遮光層を実施例１と同様に評価した。結果を表２に示す。
【００８０】
（実施例３２）
実施例２５において硫化ナトリウム水溶液及び四塩化パラジウム・二ナトリウム水溶液を用いる代わりに、酢酸セルロース１ｇあたり７×１０-3ミリモルの銀粒子が含有されるように、平均粒径２０ｎｍの銀粒子アセトン溶液（固形分濃度３５質量％）を添加した以外は実施例２５と同様にして表示装置用遮光層を形成し、同様の評価を行なった。結果を表２に併記する。
【００８１】
（実施例３３〜４０）
１．乳剤層・銀受容層重層転写材料の作製
実施例７〜１５と同様の感光層重層転写材料を作製し、感光層上に引き続き、実施例１〜７と同様にして銀受容層を設け、同様に鹸化、水洗及び乾燥を行なって、支持体上に感光層と銀受容層との積層体を形成し、重層転写材料を得た。
この重層転写材料とガラス基板とを、ガラス面と銀受容層が密着するように重ね合わせ、前記と同様のラミネーターを用いて両者を貼り合わせた。ラミネーション条件は圧力０．８ｋｇ／ｃｍ2、温度１３０℃である。
その後ポリエチレンテレフタレート支持体を剥離した。次に同様に現像処理液ＴＰＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）にて３０℃、４０秒間処理した後水洗し、エアーナイフで水を切って、中間層などを除去した。
以降実施例１同様露光及び現像処理を行なった。
【００８２】
得られた積層体に、さらに、実施例１におけるのと同様に露光し、その後、実施例１で用いたのと同様の現像液を用いて現像処理を行なった。この処理により、未露光部が遮光層であるポジ型の表示装置用遮光層を得た。
得られた表示装置用遮光層を実施例１と同様に評価した。結果を表２に示す。
【００８３】
（実施例４０）
実施例３３において硫化ナトリウム水溶液及び四塩化パラジウム・二ナトリウム水溶液を用いる代わりに、酢酸セルロース１ｇあたり７×１０-3ミリモルの銀粒子が含有されるように、平均粒径２０ｎｍの銀粒子アセトン溶液（固形分濃度３５質量％）を添加した以外は実施例３３と同様にして表示装置用遮光層を形成し、同様の評価を行なった。結果を表２に併記する。
【００８４】
【表２】
2005283668.tif 000004
【００８５】
（比較例１）
１．銀微粒子の作製
（Ａ液の調製）
脱灰ゼラチン５０ｇに、蒸留水１９５０ｇを添加し、そして得られた混合物を約４０℃まで加熱してゼラチンを溶解した。これに５％ＮａＯＨ水溶液でｐＨ９．２に調製し、４０℃に保温した。
（Ｂ液の調製）
脱灰ゼラチン１５０ｇに、蒸留水１３５０ｇを添加し、そして得られた混合物を約４０℃まで加熱してゼラチンを溶解した。同様に５％ＮａＯＨ水溶液でｐＨ９．２に調製した。酢酸カルシウム１６．０ｇと蒸留水３２０ｍｌに溶解した硝酸銀１６０ｇを攪拌して溶解し、蒸留水を添加して、最終容積を２０００ｍｌに調整し、４０℃に保温した。
（Ｃ液の調製）
亜硫酸ナトリウム（無水）１１０ｇを蒸留水７００ｍｌに溶解し、これにハイドロキノン８０ｇをメタノール７０ｍｌと水８０ｍｌに溶解したものを混合し、さらに蒸留水を添加して、最終容積を２０００ｍｌに調整し、４０℃に保温した。
【００８６】
Ａ液を急速に攪拌しながらＢ液とＣ液を同時に１０秒かけて添加した。１０分後、無水硫酸ナトリウム１６００ｇを濃塩酸７０ｍｌと蒸留水８０００ｍｌで溶解した溶液を添加して、８０分攪拌させた後、沈降させ、冷却した。上澄みを除去した後、Ｂｒ塩溶液を添加しても沈殿ができなくなるまで、直ちに蒸留水でリンスした。水切り後、４０℃で再溶解した。次いで、生成物（再溶解した溶液）をゲル化温度近くまで冷却し、そして小さな穴を通過させて冷却した水の中へ入れ、それにより非常に微細なヌードルを形成した。
亜硫酸ナトリウム（無水）２０ｇ、ＮａＯＨ  ０．６ｇを蒸留水２０００ｍｌに溶解したもので洗浄し、さらに氷酢酸２０ｇを蒸留水２０００ｍｌに溶解したもので洗浄した。得られた黒色スラリー粒子を、ナイロンメッシュバック中でスラリーを介して水道水を通過させ、約３０分間洗浄水がバックを通過するようにして洗浄し、すべての塩を洗い流した。
ゲルスラリーに分散させた洗浄した黒色銀を、溶融した場合に１．５質量％の濃度の銀を有する黒色銀分散体を得るように、生成物の水分を調整した。
【００８７】
（銀微粒子の作製）
上記の如くして得られた銀分散スラリー５０００ｇに、分散剤（ラピゾールＢ−９０、日本油脂（株）製）２５ｇとパパイン５質量％水溶液１０００ｇを添加し３７℃で２４時間保存した。この液を２０００ｒｐｍで５分間遠心分離し、銀微粒子を沈降させた。上澄みを捨てた後、蒸留水で洗浄して酵素で分解されたゼラチン分解物を除却した。次いで、銀微粒子沈降物をメチルアルコールで洗浄してから乾燥させた。約８５ｇの銀微粒子の凝集物が得られた。この凝集物７３．５ｇとソルスパース２００００（アビシア（株）製  分散剤）１．０５ｇメチルエチルケトン１６．４ｇを混合した。これをビーズ分散機（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ）を用いて平均粒径３０ｎｍの銀微粒子分散液Ａ−１を得た。
【００８８】
２．感光層用塗布液の調整
上記のようにして得られた銀微粒子分散液Ａ−１に下記の添加剤を添加して感光性層用塗布液とした。
〔感光性層用塗布液〕
・銀微粒子分散液Ａ−１                                  ４０．０ｇ
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート      ４０．０ｇ
・メチルエチルケトン                                    ３７．６ｇ
・フッ素系界面活性剤                                      ０．２ｇ
（大日本インキ製、Ｆ１７６ＰＦ（２０％））
・ヒドロキノンモノメチルエーテル                          ０．００１ｇ
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（銀粒子の体積分率が０．１２６になるよう添加）
・ビス［４−［Ｎ−［４−（４、６−ビストリクロロメチル
−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル］カルバモイル］
フェニル］セバケート                                  ０．１ｇ
【００８９】
３．保護層塗布液の調製
前記中間層塗布液に同じ。
４．感光材料の作製
ガラス基板にスピンコーターを用いて前記感光性層用塗布液を、光学濃度が４．０になるように塗布して１００℃で５分間乾燥した。次いで、この上にスピンコーターを用いて前記保護層塗布液を乾燥膜厚が１．５μｍになるように塗布して１００℃で５分間乾燥した。
５．表示装置用遮光層の作製
表示装置用遮光層用マスクを介し、超高圧水銀灯を用いて塗布面側から免上のエネルギーが７０ｍＪ／ｃｍ2となる条件で露光を行った。次いで、以下の条件で現像処理を行って表示装置用遮光層を得た。
（１）現像処理液ＴＣＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３３℃で２０秒間現像処理した。
（２）現像処理液ＴＳＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３３℃で２０秒間現像処理した。
表示装置用遮光層を形成したガラス基板を２２０℃で２時間熱処理する前後の表示装置用遮光層色相の変化を目視で評価した。その結果、完全な金属光沢を示し、Ｅランクで実用不可であった。
【００９０】
〔表示装置用遮光層の評価〕
実施例１におけるのと同様にして表示装置用遮光層を評価した。結果を表２に併記する。特に、熱処理前後の表示装置用遮光層色相の変化の結果は、前記の評価基準によれば、完全な金属光沢を示すＥランクとなり、実用不可であった。
また、膜厚測定の結果は、０．１１μｍであった。
【００９１】
（比較例２）
１．感光転写材料の作製
２軸延伸した７５μｍ厚みのポリエチレンテレフタレート支持体にスライドコーターを用いて厚みが１５μｍになるように前記実施例２３において用いたのと同様の熱可塑性樹脂層塗布液を塗布して１００℃で５分間乾燥した。次いで、この上に中間層塗布液を乾燥膜厚が１．５μｍになるように塗布して１００℃で５分間乾燥した。さらに比較例１で用いたのと同様の感光性層用塗布液を塗布乾燥して、感光転写材料を作製した。
【００９２】
２．表示装置用遮光層の作製
この感光転写材料とガラス基板を感光性層とガラス面とが密着するように重ね合わせ、上記実施例２２において用いたのと同様のラミネーターを用いて両者を貼り合わせた。ラミネーション条件は圧力０．８ｋｇ／ｃｍ2、温度１３０℃である。
その後ポリエチレンテレフタレート支持体を剥離した。表示装置用遮光層用マスクを介し、超高圧水銀灯を用いて塗布面側から面上のエネルギーが７０ｍＪ／ｃｍ2となる条件で露光を行った。次いで、以下の条件で現像処理を行った後水洗し、エアーナイフで水を切って表示装置用遮光層を得た。
（１）現像処理液ＴＰＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３０℃で４０秒間現像処理した。
（２）現像処理液ＴＣＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３３℃で２０秒間現像処理した。
（３）現像処理液ＴＳＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３３℃で２０秒間現像処理した。
【００９３】
〔表示装置用遮光層の評価〕
実施例１におけるのと同様にして表示装置用遮光層を評価した。結果を表２に併記する。特に、熱処理前後の表示装置用遮光層色相の変化の結果は、前記の評価基準によれば、完全な金属光沢を示すＥランクとなり、実用不可であった。
また、膜厚測定の結果は、０．１１μｍであった。
（比較例３）
１．レジスト塗布液の調製
ガラス基板上に下記黒色レジスト塗布液を光学ＯＤが４．０になるように塗布し、１００℃で５分乾燥した。この上に中間層塗布液を乾燥膜厚が１．５μｍになるように塗布して１００℃で５分間乾燥した。
黒色レジスト塗布液：
・ＣＦＰ−ＦＦ−７７５Ｂ（Ｃ．Ｉ．ＰＢ１５：６分散液
富士フイルムオーリン（株）製）                  ４．５０部
・ＣＦＰ−ＦＦ−２９３Ｙ（Ｃ．Ｉ．ＰＹ１３９分散液
富士フイルムオーリン（株）製）                  ３．３７部
・ＣＦＰ−ＦＦ−８０２Ｖ（Ｃ．Ｉ．ＰＶ２３分散液
富士フイルムオーリン（株）製）                  ４．１６部
・ＣＦＰ−ＦＦ−９４９Ｋ（カーボンブラック分散液
富士フイルムオーリン（株）製）                １１．９  部
・ＭＭＰＧ−ＡＣ（プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート）              １８．９部
・メチルエチルケトン                            ５２．０部
・ヒドロキノンモノメチルエーテル                ０．００２２部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート      ４．８５部
・ビス〔４−〔Ｎ−〔４−（４，６−ビストリクロロメチル
−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル〕
カルバモイル〕フェニル〕セバケート          ０．２３８部
・下記の共重合体
（メチルイソブチルケトン３０質量％溶液）    ０．０６５部
【００９４】
【化２】
2005283668.tif 000005
【００９５】
２．表示装置用遮光層の作製
前記黒色レジスト用塗布液を塗布した感光材料を、表示装置用遮光層用マスクを介し、超高圧水銀灯を用いて塗布面側から面上のエネルギーが７０ｍＪ／ｃｍ2となる条件で露光を行った。次いで、以下の条件で現像処理を行った後水洗し、エアーナイフで水を切って表示装置用遮光層を得た。
（１）現像処理液ＴＣＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３３℃で２０秒間現像処理した。
（２）現像処理液ＴＳＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３３℃で２０秒間現像処理した。
【００９６】
〔表示装置用遮光層の評価〕
実施例１におけるのと同様にして表示装置用遮光層を評価した。結果を表２に併記する。膜厚測定の結果は、２．３５μｍであった。このように厚い遮光層であったため、「青、赤、緑色画素の形成と画素の気泡の評価」においては、目視で確認しうる気泡の数を数えたところ、５０個以上であり、カラーフィルターとしては実用不可であった。
【００９７】
（比較例４）
１．感光転写材料の作製
２軸延伸した７５μｍ厚みのポリエチレンテレフタレート支持体にスライドコーターを用いて厚みが１５μｍになるように前記実施例において用いたのと同様の熱可塑性樹脂層塗布液を塗布して１００℃で５分間乾燥した。次いで、この上に中間層塗布液を乾燥膜厚が１．５μｍになるように塗布して１００℃で５分間乾燥した。さらに比較例３で用いたのと同様の黒色レジスト用塗布液を光学濃度（ＯＤ）が４．０になるように塗布乾燥して、感光転写材料を作製した。
【００９８】
２．表示装置用遮光層の作成
この感光転写材料とガラス基板を感光性層とガラス面とが密着するように重ね合わせ、上記実施例２２において用いたのと同様のラミネーターを用いて両者を貼り合わせた。ラミネーション条件は圧力０．８ｋｇ／ｃｍ2、温度１３０℃である。
その後ポリエチレンテレフタレート支持体を剥離した。表示装置用遮光層用マスクを介し、超高圧水銀灯を用いて塗布面側から面上のエネルギーが７０ｍＪ／ｃｍ2となる条件で露光を行った。次いで、以下の条件で現像処理を行った後水洗し、エアーナイフで水を切って表示装置用遮光層を得た。
【００９９】
（１）現像処理液ＴＣＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３３℃で２（２）現像処理液ＴＳＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３３℃で２０秒間現像処理した。
【０１００】
〔表示装置用遮光層の評価〕
実施例１におけるのと同様にして表示装置用遮光層を評価した。結果を表２に併記する。膜厚測定の結果は、２．３５μｍであった。このように厚い遮光層であったため、「青、赤、緑色画素の形成と画素の気泡の評価」においては、目視で確認しうる気泡の数を数えたところ、５０個以上であり、カラーフィルターとしては実用不可であった。
【０１０１】
（比較例５〜９）
実施例１、９、１７、２５及び３３において硫化ナトリウム水溶液及び四塩化パラジウム・二ナトリウム水溶液を用いない以外はそれぞれの実施例と同様にして表示装置用遮光層を形成したが、銀が沈積せず、画像が形成できなかった。