(57)【要約】【課題】  観察方向による輝度の反転を防止することが可能であり、さらには色むら等を誘発することがないようにする。【解決手段】  液晶表示パネル用のアレイ基板１０の配向面１８ａは、画素電極１７に対応する領域内において少なくとも二方向１Ａ,１Ｂに傾斜させ、又、液晶表示パネル用の対向基板２０の配向面２６ａは、画素電極２５に対応する領域内において少なくとも二方向２Ａ,２Ｂに傾斜させ、これにより、液晶分子のプレチルト方向φ１，φ２を少なくとも二方向に制御する。【選択図】  図１
2005283883.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マトリックス状に配される画素電極と、液晶分子を配向させる配向面を有する配向膜とを備える液晶表示パネル用のアレイ基板において、
前記配向面は、前記画素電極に対応する領域内において少なくとも二方向に傾斜していることを特徴とする液晶表示パネル用のアレイ基板。
【請求項２】
画素電極がマトリックス状に配されるアレイ基板に対向配置されて使用され、液晶を配向させる配向面を有する配向膜を備える液晶表示パネル用の対向基板において、
前記配向面は、前記画素電極に対応する領域内において少なくとも二方向に傾斜していることを特徴とする液晶表示パネル用の対向基板。
【請求項３】
絶縁性基板と配向膜との間に設けられる中間層の表面が前記画素電極に対応する領域において少なくとも二方向に傾斜しており、前記配向面は配向膜が中間層の表面に沿って形成されることにより少なくとも二方向に傾斜していることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル用のアレイ基板。
【請求項４】
絶縁性基板と配向膜との間に設けられる中間層の表面が前記画素電極に対応する領域において少なくとも二方向に傾斜しており、前記配向面は配向膜が中間層の表面に沿って形成されることにより少なくとも二方向に傾斜していることを特徴とする請求項２記載の液晶表示パネル用の対向基板。
【請求項５】
請求項１又は請求項３記載のアレイ基板と請求項２又は請求項４記載の対向基板とが各々の配向面を内側にして対向配置され、両配向面の間に液晶層を備えることを特徴とする液晶表示パネル。
【請求項６】
アレイ基板側の配向面と対向基板側の配向面との間隔が一定であることを特徴とする請求項５記載の液晶表示パネル。
【請求項７】
前記アレイ基板と前記対向基板の各配向面には前記少なくとも２方向の傾斜の繰り返しによって凹部又は凸部が形成され、当該凹部又は凸部は、アレイ基板又は対向基板のいずれか一方の基板にｎ個、他方の基板にｎ＋１個設けられていることを特徴とする請求項５記載の液晶表示パネル。
【請求項８】
前記傾斜の角度が液晶分子のプレチルト角より大であることを特徴とする請求項５記載の液晶表示パネル。
【請求項９】
前記アレイ基板と対向基板との間に挟持される液晶はＴＮモードであることを特徴とする請求項５記載の液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マトリックス状に配される画素電極と液晶を配向させる配向面とを備える液晶表示パネル用のアレイ基板、これと対向して使用される液晶表示パネル用の対向基板、及び、これらを備える液晶表示パネルに関するものであり、特に視角特性を改善するための技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置は、薄型、軽量、低駆動電圧、低消費電力といった特長を生かして広く用いられるようになってきている。特に、ＴＦＴ等の能動素子が画素毎に形成されているアクティブマトリクス方式の液晶表示装置は表示品質の点でＣＲＴに匹敵するものが得られるようになっている。現在、最も多く使用されている方式はＴＮ（ｔｗｉｓｔｅｄ ｎｅｍａｔｉｃ）モードのアクティブマトリックス液晶表示装置である。ＴＮモード液晶表示装置の製造技術は近年において格段の進歩を遂げ、正面でのコントラストや色再現性などはＣＲＴを凌駕するまでに至っている。
【０００３】
図８は、アクティブ素子としてＴＦＴを用いた従来の液晶表示パネルの断面図である。アレイ基板１０は、ガラス基板等の絶縁性基板１１に、走査線であるゲート線１３、ゲート絶縁膜１４、半導体膜１５ａ、信号線であるソース線１２、及びドレイン電極１５ｂが順次積層され、絶縁性基板１１の表面に半導体膜１５ａやソース線電極１２ａやドレイン電極１５ｂ等からなるＴＦＴ素子１５と、ゲート線１３と、ソース線１２とがマトリックス状に形成されている。ＴＦＴ素子１５及びソース線１２の上には、これらを覆って平坦化するための絶縁層１６が形成され、絶縁層１６にはＴＦＴ素子１５と画素電極１７とを接続するためのコンタクトホール１９が形成されている。絶縁層１６の上には画素電極１７がマトリックス状に設けられ、その上に配向膜１８が形成されている。
【０００４】
対向基板２０は、ガラス基板等の絶縁性基板２１にブラックマトリックス２２、カラーフィルタ２３が形成されており、これらを覆うように絶縁層２４、共通電極２５、配向膜２６が順次積層されている。  
【０００５】
アレイ基板１０と対向基板２０は、配向膜１８，２６を内側にして対向配置され、図示しないスペーサにより両配向膜１８，２６の間に設けられる隙間に液晶を封入して液晶層３０を形成することによって、液晶表示パネルが構成される。
【０００６】
配向膜１８，２６の表面である配向面１８ａ，２６ａには、液晶層３０に含まれる液晶分子３１を配向させるためにラビング処理が施されている。ラビング処理は、特定の布を用いて配向面１８ａ，２６ａを一定方向に擦ることにより行われる。このラビング処理により、液晶分子３１は、長軸方向がラビング方向に平行となるように配列するとともに、配向面１８ａ，２６ａにほぼ水平に配向する。この際、細長い液晶分子３１は、配向面１８ａ，２６ａ上で配向方向に対し、微小な角度（通常プレチルト角といい、３〜７度程度の角）だけ傾く。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、液晶表示パネルは視野角が狭いという致命的な欠点がある。特にＴＮモードでは上下や左右の視野角が狭く、一方向ｘ１からの観察では暗状態の輝度が増加し画像が白っぽくなり、逆方向ｘ２からの観察では輝度が低下して全体的に暗い表示となり、かつ中間調においては画像の輝度反転現象が生じており、かかる観察方向による輝度の変化が液晶表示パネルの視野角特性を大きく低下させていた。この原因は、配向面１８ａ，２６ａにおいて配向方向（上下方向や左右方向等）に配向した液晶分子３１はプレチルト角θ１を有し、液晶分子の長軸方向であるプレチルト方向φが同じであるため、観察方向により液晶分子３１の見え方が異なり、視野角が非対称特性になることにある。
【０００８】
下記特許文献１には、アレイ基板の配向面に突起が設けられ、その突起を境とした左右領域のプレチルト方向が対称である液晶表示装置が開示されており、かかる構成とすることにより、観察方向による輝度の反転が防止されるとも考えられるが、突起付近の液晶分子のプレチルト角が乱れ、色むら等を誘発するという問題が生じる。
【特許文献１】特開２００３−７５８３９
【０００９】
そこで、本発明の目的は、観察方向による輝度の反転を防止することが可能であり、さらには色むら等を誘発することがない液晶表示パネル用のアレイ基板、アレイ基板に対向配置されて使用される液晶表示パネル用の対向基板、及び、これらを備える液晶表示パネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明の液晶表示パネル用のアレイ基板は、マトリックス状に配される画素電極と、液晶分子を配向させる配向面を有する配向膜とを備える液晶表示パネル用のアレイ基板において、前記配向面は、前記画素電極に対応する領域内において少なくとも二方向に傾斜していることを特徴とする。また、本発明の液晶表示パネル用の対向基板は、画素電極がマトリックス状に配されるアレイ基板に対向配置されて使用され、液晶を配向させる配向面を有する配向膜を備える液晶表示パネル用の対向基板において、前記配向面は、前記画素電極に対応する領域内において少なくとも二方向に傾斜していることを特徴とする。また、本発明の液晶表示パネルは、本発明のアレイ基板と本発明の対向基板とが各々の配向面を内側にして対向配置され、両配向面の間に液晶層を備えることを特徴とする。
【００１１】
この発明によれば、画素電極に対応する領域内において配向面が少なくとも二方向に傾斜しているため、液晶分子は配向面の傾斜の高方側を高くして立ち上がり、この配向面の傾斜により液晶分子のプレチルト方向を少なくとも二方向に制御することができる。これにより、異なる観察方向からでも液晶分子の見え方を同じとすることができ、観察方向による輝度の反転が防止される。
【００１２】
本発明の液晶表示パネル用のアレイ基板は、絶縁性基板と配向膜との間に設けられる中間層の表面が前記画素電極に対応する領域において少なくとも二方向に傾斜しており、配向面は配向膜が中間層の表面に沿って形成されることにより少なくとも二方向に傾斜していることが好ましい。また、本発明の液晶表示パネル用の対向基板は、絶縁性基板と配向膜との間に設けられる中間層の表面が前記画素電極に対応する領域において少なくとも二方向に傾斜しており、配向面は配向膜が中間層の表面に沿って形成されることにより少なくとも二方向に傾斜していることが好ましい。
【００１３】
この発明によれば、中間層の表面の前記画素電極に対応する領域に少なくとも二方向の傾斜を設けることにより、その中間層の表面側に積層される配向膜が絶縁層の表面に沿った形状となり、配向膜の表面である配向面に少なくとも二方向の傾斜が形成されるため、簡単な製造工程で配向面の傾斜を形成することができる。
【００１４】
本発明の液晶表示パネルは、アレイ基板側の配向面と対向基板側の配向面との間隔が一定であることが好ましい。アレイ基板の配向面と対向基板の配向面の間には液晶が挟持され、両配向面の間隔（セルギャップ）が一定でない場合には色むらが生じる等の問題が発生する。本発明によれば、各配向面に少なくとも二方向の傾斜を形成しても両配向面の間隔が一定に保たれるため、色むら等を誘発することがない。具体的には、前記アレイ基板と対向基板の各配向面に前記少なくとも２方向の傾斜の繰り返しによって凹部又は凸部が形成され、当該凹部又は凸部は、アレイ基板又は対向基板のいずれか一方の基板にｎ個、他方の基板にｎ＋１個設けられている構造とすることが好ましい。少なくとも二方向の傾斜を形成することにより配向面の形状が複雑となっても、この傾斜によって形成される凹部又は凸部の個数を上記の関係とするだけで簡単に各基板の配向面の間隔を一定とすることができる。
【００１５】
本発明の液晶表示パネルは、前記配向面の傾斜の角度が液晶分子のプレチルト角より大であることが好ましい。配向面の傾斜の角度がプレチルト角よりも小さい場合は輝度反転防止の効果が小さいが、この発明によれば、プレチルト角よりも大であるため、輝度の反転を効果的に防止することができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、画素電極に対応する領域内において配向面が少なくとも二方向に傾斜しており、この傾斜により液晶分子のプレチルト方向を少なくとも二方向に制御することができるため、異なる観察方向からでも液晶分子の見え方を同じとすることができ、観察方向による輝度の反転が防止されて視野角特性が向上する。アレイ基板側の配向面と対向基板側の配向面との間隔（セルギャップ）を一定とすれば、配向面を傾斜させても色むら等の問題を誘発することがない。絶縁性基板と配向膜との間に形成される中間層の表面に傾斜を設け、その表面側に配向膜を積層すれば、配向膜が絶縁層の表面に沿った形状となり、簡単な製造工程で配向面の傾斜を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の一実施の形態を図面を参照しながら詳細に説明する。
【００１８】
（第１の実施の形態）
図１は、本実施の形態のＴＮ型液晶表示パネルＰ１の断面図である。液晶表示パネルＰ１は、アレイ基板１０と対向基板２０とが対向配置され、図示しないスペーサにより両基板１０，２０間に隙間が設けられており、その隙間に液晶が封入されて液晶層３０が形成されている。
【００１９】
図２は、アレイ基板１０の平面図である。アレイ基板１０は、ガラス等の絶縁性基板１１と、絶縁性基板１１上において互いにほぼ平行に及び等間隔に配列したソース線１２と、それらソース線１２にほぼ直交して配列したゲート線１３と、ソース線１２とゲート線１３との間に介在してこれらを電気的に絶縁するゲート絶縁膜１４と、ソース線１２とゲート線１３との交点近傍に配置されたスイッチング素子としてのＴＦＴ素子(Thin Film Transistor)１５と、ＴＦＴ素子１５やソース線１２を覆って平坦化するための絶縁層１６と、ソース線１２とゲート線１３に囲まれる領域において絶縁層１６の表面にマトリックス状に形成される画素電極１７と、画素電極１７を被覆して形成される配向膜１８を備える。ＴＦＴ素子１５は、ソース電極１２ａや半導体膜１５ａやドレイン電極１５ｂやゲート電極等が積層されて形成される薄膜トランジスタである。
【００２０】
配向膜１８は、ゲート線１３に平行な方向Ｘで表面１８ａがラビングされており、このラビングされた表面１８ａが配向面１８ａとなって液晶分子３１をラビング方向Ｘに配向させている。すなわち、ラビング方向Ｘが液晶分子３１の配向方向Ｘとなる。配向面１８ａは、画素電極１７に対応する領域内において２方向に傾斜している。詳しくは、配向面１８ａは、画素電極１７に対応する領域内において、この領域をほぼ二分割するソース線１２に平行なラインＬ３を境に、一方向に傾斜する傾斜面１Ａと他方向に傾斜する傾斜面１Ｂとが形成されており、配向方向Ｘの断面において、傾斜面１Ａ，１Ｂから成る断面Ｖ字形状の凹部Ｃが形成されている。各傾斜面１Ａ，１Ｂの傾斜角θ２はほぼ同一であり、約１３°である。なお、ソース配線１２上を通るラインＬ１とドレイン電極１５ｂを通るラインＬ２の間の領域では、配向面８ａはほぼ水平であり、ＴＦＴ素子１５と画素電極１７との接続を図るために絶縁層１６に設けられたコンタクトホール１９や、隣接する画素電極１７との間に設けられる隙間により凹凸が形成されている。
【００２１】
ここで、配向面１８ａの傾斜は、傾斜角θ２がプレチルト角θ１よりも大であることが好ましい。本実施の形態のようにＴＮモードの場合は、プレチルト角θ１が５°〜８°付近であることから、傾斜角θ２はプレチルト角θ１の最大値８°よりも大であることが好ましく、さらには１０°以上であることが好ましい。また、傾斜角θ２が大き過ぎると、ラビング処理の際に凹部Ｃがラビング布により充分に擦られず、配向不良の発生が懸念される。このため、視野角補償と配向性確保を両立する上限として傾斜角θ２は３０°以下であることが好ましい。
【００２２】
この配向面１８ａの傾斜は、配向膜１８と絶縁性基板１１との間に設けられる中間層である絶縁層１６の表面に傾斜を設ける設計変更を行うだけで形成することができる。すなわち、絶縁層１６の表面は、配向面１８ａと同様のパターンで２方向に傾斜しており、凹部Ｃと同形状である二つの傾斜面から成る断面Ｖ字形状の凹部が形成されている。従来と同様にこの絶縁層１６の表面に画素電極９及び配向膜１８を順次積層することで、画素電極９と配向膜１８は絶縁層１６の表面に沿った状態となり、配向面１８ａの傾斜が簡単に形成される。
【００２３】
対向基板２０は、ガラス等の絶縁性基板２１と、絶縁性基板２１上においてＴＦＴ素子１５やソース配線１２やゲート配線１３に対応する位置に形成される光漏れ防止等のためのブラックマトリックス２２と、画素電極１７に対応する位置に配されるカラーフィルタ２３と、これらを覆うように形成される絶縁層２４と、絶縁層２４の表面に順次積層されるＩＴＯ等の共通電極２５と配向膜２６とを備える。
【００２４】
配向膜２６は、アレイ基板１０と同一の方向Ｘで表面２６ａがラビング処理されており、このラビング処理された表面（配向面）２６ａにより液晶分子をラビング方向Ｘに配向させている。配向面２６ａは、アレイ基板１０の画素電極１７に対応する領域内において２方向に傾斜している。すなわち、配向面２６ａは、画素電極１７に対応する領域内において、この領域をほぼ二分割するラインＬ３を境に、一方向に傾斜する傾斜面２Ａと他方向に傾斜する傾斜面２Ｂとが形成されており、配向方向Ｘの断面において、傾斜面２Ａ，２Ｂから成る断面逆Ｖ字形状の凸部Ｄが形成されている。各傾斜面２Ａ，２Ｂの傾斜角θ２はほぼ同一であり、約１３°である。なお、ラインＬ１とラインＬ２の間は、配向面２６ａがほぼ水平である。傾斜角θ２の好ましい範囲は上記アレイ基板１０と同様である。
【００２５】
この配向面２６ａの傾斜は、配向膜２６と絶縁性基板２１との間に設けられる中間層である絶縁層２４の表面に傾斜を設ける設計変更を行うだけで形成することができる。すなわち、絶縁層２４の表面は、配向面２６ａと同様のパターンで２方向に傾斜しており、凸部Ｄと同一の二つの傾斜面から成る断面逆Ｖ字形状の凸部が形成されている。従来と同様に絶縁層２４の表面に共通電極２５及び配向膜２６を絶縁層２４を順次積層すれば、共通電極２５及び配向膜２６は絶縁層２４の表面に沿った状態となり、配向面２６ａの傾斜が簡単に形成される。
【００２６】
本実施の形態の液晶表示パネルＰ１は、上記アレイ基板１０と上記対向基板２０とが配向面１８ａ，２６ａを内側にして、アレイ基板１０の凹部Ｃと対向基板２０の凸部Ｄが対向するように位置合わせされて配置されている。これにより、配向面１８ａと配向面２６ａとの間隔（セルギャップ）は一定となっている。セルギャップが一定でない場合には色むらが生じる等の問題が発生するが、本発明によれば各配向面１８ａ，２６ａを２方向に傾斜させてもセルギャップが一定に保たれるため、色むら等の問題を誘発することもない。
【００２７】
両配向面１８ａ，２６ａの間に挟持される液晶層３０に含まれる液晶分子３１の動作モードは、正の誘電率異方性を持ち液晶をねじれ配向させたＴＮモードである。液晶分子３１は、各配向面１８ａ，２６ａに対して５〜７°のプレチルト角θ１を有し、各配向面１８ａ，２６ａに設けられた２方向の傾斜により液晶分子３１は各傾斜面１Ａ，１Ｂ，２Ａ，２Ｂの高方側に向かって立ち上がり、プレチルト方向が異なる２方向φ１，φ２に制御されている。詳しくは、傾斜面１Ａ，２Ａに挟まれる液晶分子３１のプレチルト方向φ１と、傾斜面１Ｂ，２Ｂに挟まれる液晶分子３１のプレチルト方向φ２は、ラインＬ３の位置に相当する凹部Ｃの谷線又は凸部Ｄの稜線を中心に線対称の関係にある。このため、配向方向Ｘの下流側ｘ１から見たプレチルト方向φ１の液晶分子３１の形状と、上流側ｘ２から観察したプレチルト方向φ２の液晶分子３１の形状とがほぼ同一となり、また、下流側ｘ１から観察したプレチルト方向φ２の液晶分子３１の形状と、上流側から見たプレチルト方向φ１の液晶分子３１の形状とがほぼ同一となり、異なる観察方向ｘ１，ｘ２から見たときの輝度の反転を防止することができる。
【００２８】
（第２の実施の形態）
上記実施の形態では、各配向面１８ａ，２６ａが画素電極１７に対応する領域をラインＬ３で二分割するように２方向に傾斜し、二つの傾斜面により凹部Ｃ又は凸部Ｄが形成される場合を例に説明したが、画素電極１７に対応する領域を三以上に分割するように傾斜し、三つ以上の傾斜面により複数の凹部又は凸部が形成されるようにしても良い。図４は、本実施の形態の液晶表示パネルＰ２の模式図である。なお、下記以外の点については、上記実施の形態と同様である。
【００２９】
アレイ基板１０の配向面１８ａは、画素電極１７に対応する領域内において、Ｌ１からＬ２の間の水平領域を除く領域を七分割するラインＬ２からラインＬ７を境に、一方向に傾斜する傾斜面１Ａと他方向に傾斜する傾斜面１Ｂとが交互に繰り返し形成されている。ラビング方向Ｘの断面においては、傾斜面１Ａ，１Ｂから成る断面Ｖ字形状の凹部１Ｃが三つ、断面逆Ｖ字形状の凸部１Ｄが二つ形成されている。
【００３０】
対向基板２０の配向面２６ａは、画素電極１７に対応する領域内において、Ｌ１からＬ２の間の水平領域を除く領域を七分割するラインＬ２からラインＬ７を境に、一方向に傾斜する傾斜面２Ａと他方向に傾斜する傾斜面２Ｂとが交互に繰り返し形成されている。ラビング方向Ｘの断面においては、傾斜面２Ａ，２Ｂから成るＶ字形状の凹部２Ｃが二つ、逆Ｖ字形状の凸部２Ｄが三つ形成されている。
【００３１】
本実施の形態では、画素電極１７に対向する領域内において凹部１Ｃ，２Ｃや凸部１Ｄ，２Ｄが複数形成されており上記実施の形態と比較して複雑な形状となっているが、凹部１Ｃ，２Ｃの個数の関係を、アレイ基板１０側がｎ＋１個（３個）、対向基板２０側がｎ個（２個）の関係とし、また、凸部１Ｄ，２Ｄの個数の関係を、アレイ基板１０側がｎ個（２個）、対向基板２０側がｎ＋１個（３個）の関係とすれば、セルギャップを一定に保つことができる。
【００３２】
なお、上記各実施の形態の液晶表示パネルＰ１，Ｐ２は、配向面１８ａ，２６ａが２方向に傾斜した場合を例に説明したが、３方向以上に傾斜したものでも良い。また、液晶分子３１の動作モードは、正の誘電率異方性を持ち液晶分子を一様に配向させたホモジニアスモードでも良く、又、負の誘電率異方性を持ち液晶分子を垂直配向させたＶＡモードでも良い。
【００３３】
また、上記各実施の形態の液晶表示パネルＰ１，Ｐ２は、各配向面１８ａ，２６ａに形成される傾斜面が曲面となっていても良い。図５は、第２の実施の形態における液晶表示パネルＰ２の傾斜面を曲面とした場合の断面図である。各配向面１８ａ，２６ａは、画素電極１７に対応する領域において断面波上の傾斜面となっている。
【００３４】
（製造方法）
以下に、本実施の形態の液晶表示パネルの製造方法を上記第１の実施の形態の液晶表示パネルＰ１を例に説明する。
【００３５】
図６は、アレイ基板１０の製造方法を説明する説明図である。（１）絶縁性基板１１にゲート配線１３、ゲート絶縁膜１４、ソース配線１２、ＴＦＴ素子１５をマトリックス状に形成し、その上に絶縁層１６を形成する。絶縁層１６は、例えばＰＶＡ系又はアクリル系の感光性樹脂等のような透明な樹脂材料からなり、フォトリソグラフィ法等により各ソース線１２に沿って縞状にパターンニングすることにより形成される。隣り合う絶縁層１６の間には所定の間隔を設ける。（２）その後に絶縁層１６を溶融させる。溶融した絶縁層１６は縁側（図中左右側）が除々に低くなるように広がり、隣り合う絶縁層１６と接合する。その結果、絶縁層の表面には、ラビング方向Ｘの断面において連続した凹凸が形成され、画素電極１７に対応する領域において２方向に傾斜し、二つの傾斜面から成る断面Ｖ字形状の凹部が形成される。なお、絶縁層１６を形成する際には必要な箇所にコンタクトホール１９を形成する。（３）このように表面形状が成形された絶縁層１６の上に画素電極１７と配向膜１８を順次積層する。画素電極１７と配向膜１８は絶縁層１６の表面形状に沿って形成され、配向面１８ａに傾斜が形成される。（４）配向膜１８の配向面１８ａを方向Ｘにラビングする。
【００３６】
図７は、対向基板２０の製造方法を説明する説明図である。（１）絶縁性基板２１にブラックマトリックス２２とカラーフィルタ２３をマトリックス状に形成し、その上に絶縁層２４を形成する。絶縁層２４は、例えばＰＶＡ系又はアクリル系の感光性樹脂等の透明な樹脂材料からなり、フォトリソグラフィ法等によりカラーフィルタ２３の列に沿って縞状にパターンニングすることにより形成する。隣り合う絶縁層２４の間には所定の間隔を設ける。（２）その後に絶縁層２４を溶融させる。溶融した絶縁層２４は縁側（図中左右側）が除々に低くなるように広がり、隣り合う絶縁層２４が接合する。その結果、絶縁層２４の表面には、ラビング方向Ｘの断面において連続した凹凸が形成され、画素電極１７に対応する領域において表面が２方向に傾斜する。（３）このように表面が成形された絶縁層２４の上に共通電極２５と配向膜２６を順次積層する。配向膜２６は絶縁層２４に沿った形状となり、配向面２６ａには画素電極１７に対応する領域において２方向に傾斜した傾斜面２Ａ，２Ｂから成る凸部Ｄが形成される。（４）配向面２６ａを所定方向Ｘにラビングする。
【００３７】
上記方法で形成されたアレイ基板１０と対向基板２０とを、配向面１８ａ，２４ａを内側にして、凹部Ｃに凸部Ｄが対向するように位置合わせした後に貼り付け、両配向面１６ａ，２４ａの間に設けられた隙間に液晶を封入する。各配向面１８ａ，２４ａの傾斜は、従来の工程に各絶縁層１６，２４を溶融させる工程を追加するだけで形成できるため簡単である。
【００３８】
なお、各絶縁層１６，２４の表面形状の加工方法は上記方法に限らず、例えば、絶縁層１６，２４の表面形状を反転させた金型等で絶縁層１６，２４を型押しした後に硬化させるプレス加工等でも良い。
【００３９】
以上、本発明を適用した液晶表示パネル用のアレイ基板、対向基板、及び、液晶表示パネルの実施形態について説明したが、本発明がこの実施形態に限定されるものでないことは言うまでもない。例えば、本実施形態では、スイッチング素子として薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）により液晶層を駆動する構成としたが、ＴＦＤ（Thin Film Diode）による駆動としてもよいし、単純マトリクス方式の駆動とすることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明の第１の実施の形態の液晶表示パネルの断面図である。
【図２】上記実施の形態の液晶表示パネルに使用されるアレイ基板の平面図である。
【図３】上記実施の形態の液晶表示パネルに使用される対向基板の平面図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態の液晶表示パネルの概略断面図である。
【図５】本発明の液晶表示パネルの他の例を示す概略断面図である。
【図６】第１の実施の形態液晶表示パネルに使用されるアレイ基板の製造工程を説明する説明図である。
【図７】第１の実施の形態の液晶表示パネルに使用される対向基板の製造工程を説明する説明図である。
【図８】従来の液晶表示パネルの断面図である。
【符号の説明】
【００４１】
Ｐ，Ｐ１，Ｐ２  液晶表示パネル
１０  アレイ基板
１１  絶縁性基板
１２  ソース線
１２ａ  ソース電極
１３    ゲート線
１４    ゲート絶縁膜
１５    ＴＦＴ素子
１５ａ  半導体膜
１５ｂ  ドレイン電極
１６    絶縁層（中間層）
１７    画素電極
１８    配向膜
１８ａ  配向膜の表面（配向面）
１９    コンタクトホール
２０    対向基板
２１    絶縁性基板
２２    ブラックマトリックス
２３    カラーフィルタ
２４    絶縁層
２５    共通電極
２６    配向膜
２６ａ  配向膜の表面（配向面）
３０    液晶層
３１    液晶分子
１Ａ，１Ｂ，２Ａ，２Ｂ  傾斜面
Ｃ,１Ｃ，２Ｃ  凹部
Ｄ,１Ｄ，２Ｄ  凸部
θ１    プレチルト角
θ２    傾斜面の傾斜角
φ１，φ２  プレチルト方向
Ｘ          ラビング方向、配向方向
ｘ１，ｘ２  観察方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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