(57)【要約】【課題】人間の目で視認されないように、ステッチ不良を最少に抑制する。【解決手段】アクティブ領域を含む基板上に、ネガティブ型の感光性物質からなる有機膜を形成した次に、アクティブ領域を互いに隣接した第１ショットと第２ショットとを含む複数のショットに分割して有機膜を露光し、有機膜を現像して、画素領域に対応し開口部０を有するブラックマトリックス２２０を形成する。この時、第１ショットと第２ショットの境界部分ａ及びｂが、ブラックマトリックス２２０の開口部０を横切ったり、ブラックマトリックス２２０の境界線内に位置するように設計する。【選択図】      図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクティブ領域を含む基板上に、ネガティブ型の感光性物質からなる有機膜を形成する段階、
前記アクティブ領域を互いに隣接した第１ショットと第２ショットとを含む複数のショットに分割して前記有機膜を露光する段階、
前記有機膜を現像し、画素領域に対応し開口部を有するブラックマトリックスを形成する段階を含み、
前記第１ショットと前記第２ショットの境界部分は、前記開口部を横切るように形成される、液晶表示装置用表示板の製造方法。
【請求項２】
前記第１ショットと前記第２ショットの境界部分に、前記第１ショット及び前記第２ショットが重なるステッチ領域を設け、前記ステッチ領域は少なくとも二つ以上の露光領域と遮光領域とに分割された領域を単位ステッチ領域として構成され、前記第１ショットから前記第２ショットへ向ける方向に沿って前記露光領域または前記遮光領域を次第に増加もしくは減少させる、請求項１に記載の液晶表示装置用表示板の製造方法。
【請求項３】
前記単位ステッチ領域は、一つ以上の画素領域、または一画素領域、または一画素領域を２つ以上に分割して形成される領域を単位としている、請求項２に記載の液晶表示装置用表示板の製造方法。
【請求項４】
前記単位ステッチ領域の境界線は、互いに隣接する前記ブラックマトリックスの開口部を横切る、請求項２に記載の液晶表示装置用表示板の製造方法。
【請求項５】
ゲート線、前記ゲート線と交差して画素領域を画定するデータ線、前記画素領域に形成されている画素電極、前記ゲート線と、前記データ線及び前記画素電極と連結されている薄膜トランジスタを有する薄膜トランジスタ表示板、
ネガティブ型の感光性有機物質からなり、前記画素領域に開口部を有するブラックマトリックスを備える対向表示板を含み、
前記ブラックマトリックスは、互いに隣接する第１ショットと第２ショットとを含む複数のショットに分割して露光する写真工程で形成され、前記第１ショットと前記第２ショットの境界には二重露光された部分を有し、前記二重露光された部分は、前記ゲート線または前記データ線と重なっている液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１ショットと前記第２ショットの境界部分に、前記第１ショット及び前記第２ショットが重なるステッチ領域を設け、前記ステッチ領域は少なくとも二つ以上の露光領域と遮光領域とに分割された領域を単位ステッチ領域として構成されており、前記二重露光された部分は、前記単位ステッチ領域の境界線に沿って形成される、請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記二重露光された部分は、前記ブラックマトリックスの境界内に位置し、前記ブラックマトリックスの境界に沿ってなされる、請求項６に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及びその表示板の製造方法に関し、さらに詳細には、基板を分割露光して製造するにあたって、ステッチによる画像表示むらの発生を最少化することができる、液晶表示装置及びその表示板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示装置において、マトリックス配列を有する各々の単位画素には、透明な導電物質からなり、表示動作を行う画素電極が形成されている。このような画素電極は、配線を通じて印加される信号によって駆動されるが、配線には、互いに交差しマトリックス配列の単位画素を画定するゲート線とデータ線とがあり、これら信号線は、薄膜トランジスタなどのスイッチング素子を通じて画素電極と連結されている。この時、スイッチング素子は、ゲート線からの走査信号によって画素電極に伝達されるデータ線からの画像信号の伝達を制御する。
【０００３】
このような液晶表示装置は、複数の信号線と画素電極、及びこれらを電気的に連結する薄膜トランジスタが配置されている薄膜トランジスタ表示板と、画素電極と対向する対向電極と画素に開口部を有するブラックマトリックスが形成されている対向表示板とを含む。
【０００４】
このような液晶表示装置の製造方法では、一般に、マスクの大きさより液晶表示装置（以下、ＬＣＤという）パネルのアクティブ領域が大きい場合、このアクティブ領域にパターンを形成するためにアクティブ領域を分割し、ステップアンドリピート工程を実施する分割露光が必要である。即ち、一つのアクティブ領域を二つ以上のショットで露光することが要求される。この場合、実際のショットでは、転移（shift）、回転（rotation）、捩じれ（distortion）などの歪曲が発生するため、ショット間のミスアライン（miss align）でステッチ不良が生じ、画像表示時に、互いに異なるショット間の輝度差や、ショット間の境界のむらとして現れる。
【０００５】
特に、対向表示板の製造時に、ネガティブ型の感光性を有し、黒色顔料を含む有機膜で形成し、これを分割露光で形成する場合、ショット間の境界でむらによるステッチ不良が発生する。これは、ミスアラインを勘案してショット間の境界を互いに隣接するショットで二重露光を施しているが、有機物質はネガティブ型の感光性を有するため、露光された部分が残され、二重露光を施したショット間の境界における有機膜の構造的（morphology）特徴が変化し、画像表示時にむらとして生じる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、人間の目で視認できないように、上記したようなステッチ不良を最少に抑制できる液晶表示装置及びその表示板の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的を達成するために本発明による実施例では、アクティブ領域を含む基板上に、ネガティブ型の感光性物質からなる有機膜を形成した次に、アクティブ領域を互いに隣接する第１ショットと第２ショットとを含む複数のショットで分割して有機膜を露光し、有機膜を現像して、画素領域に対応する開口部を有するブラックマトリックスを形成する。この時、第１ショットと第２ショットの境界部分が開口部を横切るように設計する。
【０００８】
ここで、第１ショットと第２ショットの境界部分に、第１ショット及び第２ショットが重なるステッチ領域を設け、ステッチ領域は、少なくとも二つ以上の露光領域と遮光領域に分割された領域を単位ステッチ領域として形成され、第１ショットから第２ショットへ向けて露光領域または遮光領域を順次増加または減少させる。
【０００９】
単位ステッチ領域は、一つ以上の画素領域、または一つの画素領域、または一つの画素領域を２つ以上に分割して単位として設定することが好ましい。単位ステッチ領域の境界線も、互いに隣接するブラックマトリックスの開口部を横切ることが好ましい。
【００１０】
本発明の一実施例による液晶表示装置は、ゲート線と、ゲート線と交差して画素領域を画定するデータ線、画素領域に形成されている画素電極、ゲート線、データ線、及び画素電極と連結されている薄膜トランジスタを有する薄膜トランジスタ表示板とネガティブ型の感光性有機物質からなり、画素領域に開口部を有しているブラックマトリックスを有する対向表示板を含む。この時、ブラックマトリックスは、互いに隣接する第１ショットと第２ショットを含む複数のショットに分割し露光する写真工程で形成されており、第１ショットと前記第２ショットの境界に二重露光された部分を含み、二重露光された部分はゲート線またはデータ線と重なっている。
【００１１】
第１ショットと第２ショットの境界部分に、第１ショット及び第２ショットが重なるステッチ領域を設け、ステッチ領域は、少なくとも二つ以上の露光領域と遮光領域とに分割された領域を単位ステッチ領域として構成され、二重露光された部分は、単位ステッチ領域の境界線に沿って形成されている。この時、二重露光された部分は、ブラックマトリックスの境界内に位置し、ブラックマトリックスの形状に沿って形成される。
【発明の効果】
【００１２】
液晶表示装置用表示板の製造工程において、互いに隣接するショット間の境界線をブラックマトリックスの開口部を横切るように設定し、分割露光を実施した場合、ブラックマトリックスの境界線内に二重露光された部分が位置しても、信号線と二重露光された部分を重畳させることにより、むらによるステッチ不良を最少に抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
添付した図面を参考にして、本発明の実施例について本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施することができるように詳細に説明する。しかし、本発明は多様な形態で実現することができ、ここで説明する実施例に限定されるものではない。
【００１４】
図面は、各種層及び領域を明確に表現するために、厚さを拡大して示している。明細書全体を通じて類似した部分については同一な図面符号を付けている。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の“上に”あるとする時、これは他の部分の“すぐ上に”ある場合に限らず、その中間に更に他の部分がある場合も含む。逆に、ある部分が他の部分の“すぐ上に”あるとする時、これは中間に他の部分がない場合を意味する。
【００１５】
以下、本発明の実施例による液晶表示装置及びその表示板の製造方法について、図面を参照して詳細に説明する。
【００１６】
まず、本発明の実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法によって完成した対向表示板の構造について、具体的に説明する。
【００１７】
図１は、本発明の実施例による液晶表示装置用対向表示板の構造を示した平面図である。図２は、本発明の第１実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法におけるショット間の境界部分を示した平面図である。図３は、本発明の第２実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法において互いに隣接するショット間の境界部分であるステッチ領域を示した平面図である。図４は、本発明の実施例による液晶表示装置用対向表示板の製造方法におけるショット間の境界部分であるステッチ領域での単位ステッチ領域の平面図である。図５は、本発明の第１実施例及び第２実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法におけるショット間の境界線及び単位ステッチの平面図である。ここで、図５は、製造工程時に互いに異なるショットの境界が位置する部分も示している。
【００１８】
図１のように、本発明の実施例による液晶表示装置用対向表示板には、マトリックス状に配列されている画素領域を画定する開口部０を有するブラックマトリックス２２０が形成されている。この時、ブラックマトリックス２２０は、互いに隣接する画素領域の間から漏れる光を遮断し、液晶表示装置の表示特性を向上させる機能を有する。
【００１９】
このような本発明の液晶表示装置用対向表示板の製造方法では、黒色顔料を含むネガティブ型の感光性物質を絶縁基板上に塗布して、ブラックマトリックス用有機膜を形成し、遮光部と透過部を有するマスクを用いた写真工程で有機膜を露光及び現像してブラックマトリックス２２０を形成する。この時、有機膜のうち遮光部に対応する部分は、現象工程で除去されブラックマトリックス２２０の開口部０を形成し、透過部に対応する部分は、現象工程で残されブラックマトリックス２２０を形成している。
【００２０】
このような本発明の実施例による液晶表示装置用対向表示板の製造方法において、マスクの大きさよりも液晶表示装置用対向表示板のアクティブ領域、即ち、マトリックス状に配列されている画素領域の集合からなる領域が大きい場合に、アクティブ領域にブラックマトリックス２２０を形成するために、アクティブ領域を分割してステップアンドリピート工程を行う分割露光が必要である。これは、一つのアクティブ領域を二つ以上のショット（shot）に分割露光するものである。
【００２１】
図２のように、本発明の第１実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法では、有機膜を形成し、マスクを用いた写真エッチング工程において分割露光を行う場合、互いに隣接する二つのショット、例えば、左側のAショット（白色部分で示す）と、右側のBショット（黒色部分で示す）に分割して露光する。
【００２２】
この時、写真エッチング工程において、マスクのミスアラインによってAショットとBショットとの間の境界で有機膜が露光されない場合には、有機膜が除去され画素領域の間から光が漏れる問題が発生する。これを防止するために、互いに隣接するAショットとBショットとの間の境界部分は、ミスアラインを勘案してAショットで露光させ、Bショットでも露光させる。
【００２３】
しかしながら、露光された部分が残りブラックマトリックス２２０をなすネガティブ型の感光性物質からなる有機膜のうち、二重露光された部分は、１回のみの露光部分と比べて、奇形的な特徴が異なり、画像表示時にむらとして現れる。
【００２４】
このような問題点を解決するために、本発明の第１実施例による対向表示板の製造方法では、AショットとBショットとの間の境界線a、bが、図５のように、画素領域を画定する開口部０を横切るようにマスクを整列し、AショットとBショットとに分割露光してブラックマトリックス２２０を形成する。この時、“a”はショット間の境界線が横方向に位置する場合であり、“b”はショット間の境界線が縦方向に位置する場合のものである。したがって、本発明の第１実施例による液晶表示装置用対向表示板の製造方法において、分割露光でブラックマトリックス２２０を形成する際に、AショットとBショット間の境界線a、bが、図５のように、開口部０を横切るように有機膜を分割露光することで、二重露光部分a´、b´を最少に抑えることができる。これにより、画像表示時のむらを最小に抑制し、表示特性を向上することができる。
【００２５】
一方、AショットとBショットの露光工程において、マスクのミスアラインによってショット間の境界に位置する開口部０が他の開口部０と異なる大きさに形成される場合には、ショット間の境界に位置する画素の開口率が異なり、AショットとBショット間の輝度差が生じ、境界部分が帯状に視認されるステッチ不良が生じ得る。
【００２６】
このような問題点を解決するために、図３に示したように、本発明の第２実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法では、露光工程を分割露光で行う場合、互いに隣接する左側のAショットと右側のBショット間に互いに重畳するステッチ領域を設けて露光する。
【００２７】
この時、図４のように、ステッチ領域のうち、Aショットで遮光もしくは露光される領域と、Bショットで遮光もしくは露光される領域は互いに重ならず、ステッチ領域を複数の単位ステッチ領域に分割して遮光領域と透過領域とを構成し、AショットとBショットで遮光領域と透過領域を択一的に構成する。ここで、ステッチ領域の分割は、複数の単位ステッチ領域、例えば、N×M個の単位ステッチ領域（単位ステッチ領域とはステッチ領域をN×M（N、Mは自然数）の区域に分ける時に基本となる一領域を示す；以下同様である）からなる。ここで、列方向に配列され、単位ステッチ領域に対し、Aショットでは右方向に向かうほど露光領域が減少して配置され、Bショットでは左方向に向かうほど遮光領域が次第に増加して配置されており、Aショット及びBショットで遮光領域と露光領域は択一的（一意的）である。
【００２８】
ここで、単位ステッチ領域は、一以上の画素、または一画素、または一画素を２つまたはそれ以上に分割してなされる小領域を一つの単位ステッチ領域として使用する。
【００２９】
この時にも、図５のように、単位ステッチ領域は、その境界線cが開口部０を通るように画定され、写真工程で有機膜を露光及び現像してブラックマトリックス２２０を形成する。したがって、本発明の第２実施例による液晶表示装置用対向表示板の製造方法においても、分割露光でブラックマトリックス２２０を形成する際に、単位ステッチ領域の境界線cが開口部０を横切るように有機膜を分割露光することによって、二重露光された部分c´を最少に抑えることができ、これにより、画像表示時に表示むらの発生を最小に抑制し、表示特性を向上させることができる。また、ステッチ領域を設定し、これを再び単位ステッチ領域に分割し、AショットとBショットで択一的に分割して、ミスアラインが生じても画素の開口率が急激に変化することを防止し、ステッチ不良の発生を防止することができる。
【００３０】
一方、本発明の第２実施例による液晶表示装置用対向表示板の製造方法とは異なって、AショットとBショット間の境界部分でステッチ領域の単位ステッチ領域を画素領域と設定し、単位ステッチ領域の境界線がブラックマトリックス２２０と重なるようにマスクを設計し、写真工程により対向表示板を完成することができる。この時には、単位ステッチ領域の境界線に対応して二重露光された部分がブラックマトリックス２２０の形状に沿って形成されるが、二重露光された部分を対向表示板と対向する薄膜トランジスタ表示板の信号線と重畳するように二つの表示板を整列して、液晶表示装置を完成する。これについて図面を参照して、具体的に説明する。
【００３１】
図６は、本発明の一実施例による液晶表示装置の構造を示した配置図である。図７は、図６に示す液晶表示装置のVII-VII´線に沿った断面図である。図６に、赤、緑、青のカラーフィルターを示す線は具体的に図示していない。
【００３２】
本発明の一実施例による液晶表示装置は、薄膜トランジスタ表示板１００と、これと対向する対向表示板２００と、これら１００、２００の間に形成されている液晶層（図示せず）とを含む。それぞれの表示板１００、２００内側には、液晶層の液晶分子を任意の方向に配向するための配向膜（図示せず）が各々形成されている。
【００３３】
本発明の実施例による液晶表示装置の薄膜トランジスタ表示板１００には、下部絶縁基板１１０上に、ゲート信号を伝達する複数のゲート線１２１が形成されている。ゲート線１２１は主に横方向にのびており、各ゲート線１２１の一部は、複数のゲート電極１２４を構成する。そして、各ゲート線の他の一部は、下方向に突出し複数の拡張部１２７を構成する。
【００３４】
ゲート線１２１は、物理的な性質が異なる二つの膜、即ち、ゲート信号の遅延や電圧降下を実質的に生じさせないような低い比抵抗（resistivity）の金属、例えば、アルミニウム（Al）やアルミニウム合金などのアルミニウム系列の金属からなる導電膜と、他の物質、特にIZO（indium zin coxide）またはITO（indium tin oxide）との物理的、化学的、電気的な接触特性の優れた物質、例えば、モリブデン（Mo）、モリブデン合金（例：モリブデン-タングステン（MoW）合金）、クロム（Cr）などからなる導電膜とを含むことができる。その例として、クロム/アルミニウム-ネオジム（Nd）合金を挙げられる。
【００３５】
ゲート線１２１の側面は各々傾斜されており、傾斜角は基板１１０の表面に対し約３０〜８０°である。
【００３６】
ゲート線１２１上には、窒化ケイ素（SiNx）などからなるゲート絶縁膜１４０が形成されている。
【００３７】
ゲート絶縁膜１４０上部には、水素化非晶質シリコン（非晶質シリコンをa-Siと称する）などからなる複数の線状半導体１５１が形成されている。線状半導体１５１は、主に縦方向にのびており、ここから複数の突出部１５４がゲート電極１２４に向けてのびている。また、線状半導体１５１は、ゲート線１２１とぶつかる地点の付近で幅が大きくなり、ゲート線１２１の広い面積を覆っている。
【００３８】
半導体１５１の上部には、シリサイドまたはn型不純物が高濃度にドーピングされているn+水素化非晶質シリコンなどの物質からなる複数の線状抵抗性接触部材１６１及び島状抵抗性接触部材１６５が形成されている。線状接触部材１６１は、複数の突出部１６３を有しており、この突出部１６３と島状接触部材１６５は対をなして、半導体１５１の突出部１５４上に位置する。
【００３９】
半導体１５１と抵抗性接触部材１６１、１６５の側面も傾斜しており、傾斜角は約３０〜８０°である。
【００４０】
抵抗性接触部材１６１、１６５及びゲート絶縁膜１４０上には、各々複数のデータ線１７１と、複数のドレイン電極１７５、及び複数の維持蓄電器用導電体１７７が形成されている。
【００４１】
データ線１７１は、主に縦方向にのびてゲート線１２１と交差し、データ電圧を伝達する。各データ線１７１からドレイン電極１７５に向けてのびた複数の枝がソース電極１７３を構成する。一対のソース電極１７３とドレイン電極１７５は互いに分離されており、ゲート電極１２４に対して互いに反対側に位置する。ゲート電極１２４、ソース電極１７３、及びドレイン電極１７５は、半導体１５１の突出部１５４と共に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）をなしており、薄膜トランジスタのチャネルは、ソース電極１７３とドレイン電極１７５間の突出部１５４に形成される。
【００４２】
維持蓄電器用導電体１７７は、ゲート線１２１の拡張部１２７と重なっている。
【００４３】
データ線１７１、ドレイン電極１７５、及び維持蓄電器用導電体１７７は、モリブデン（Mo）やモリブデン合金を含むが、二重膜もしくは三重膜の構造の場合には、アルミニウム系列の導電膜を含むことができる。二重膜の構造の場合、アルミニウム系列の導電膜は、モリブデン系列の導電膜の下部に位置するのが好ましく、三重膜の構造の場合には、中間層に位置するのが好ましい。
【００４４】
データ線１７１、ドレイン電極１７５、及び維持蓄電器用導電体１７７もゲート線１２１と同様に、その側面が約３０〜８０°各々傾斜している。
【００４５】
抵抗性接触部材１６１、１６５は、その下部の半導体１５１と、その上部のデータ線１７１、及びドレイン電極１７５の間のみに存在し、接触抵抗を低くする役割をする。線状半導体１５１は、ソース電極１７３とドレイン電極１７５との間を始めとして、データ線１７１及びドレイン電極１７５で遮られず露出された部分を有しており、ほとんどのところで、線状半導体１５１の幅がデータ線１７１の幅よりも小さいが、前述したように、ゲート線１２１と接する部分で幅が大きくなり、ゲート線１２１とデータ線１７１間の絶縁を強化する。
【００４６】
データ線１７１、ドレイン電極１７５、及び維持蓄電器用導電体１７７と、露出された半導体１５１部分の上には、平坦化特性の優れて感光性のある有機物質、またはプラズマ化学気相蒸着（ＰＥＣＶＤ）で形成される、a-Si:C:O、a-Si:O:Fなどの低誘電率絶縁物質などからなる保護膜１８０が形成されている。
【００４７】
データ線１７１とドレイン電極１７５との間の半導体１５１が露出された部分に保護膜１８０の有機物質が接することを防止するために、保護膜１８０の有機膜の下部に窒化ケイ素や酸化ケイ素からなる絶縁膜を追加してもよい。
【００４８】
保護膜１８０には、ドレイン電極１７５、維持蓄電器用導電体１７７を各々露出する複数の接触孔１８５、１８７が形成されている。
【００４９】
保護膜１８０上には、IZOまたはITOからなる複数の画素電極１９０が形成されている。
【００５０】
画素電極１９０は、接触孔１８５、１８７を通じてドレイン電極１７５及び維持蓄電器用導電体１７７と各々物理的・電気的に連結され、ドレイン電極１７５からデータ電圧の印加を受け、導電体１７７にデータ電圧を伝達する。
【００５１】
データ電圧が印加された画素電極１９０は、共通電圧の印加を受ける対向表示板２００の共通電極２７０と共に電場を生成することによって、液晶層の液晶分子を再配列させる。
【００５２】
また、前記のように、画素電極１９０と共通電極２７０は、蓄電器（以下、液晶蓄電器という）をなし、薄膜トランジスタのターンオフ後にも印加された電圧を維持するが、電圧維持能力を強化するために液晶蓄電器と並列に連結された他の蓄電器（これを維持蓄電器という）を設けており、維持蓄電器は、画素電極１９０及びこれと隣接するゲート線１２１（これを前段ゲート線という）の重畳などで作られ、維持蓄電器の静電容量、即ち、保持容量を増やすために、ゲート線１２１が拡張された拡張部１２７を形成して重畳面積を大きくし、その一方で、画素電極１９０と連結され拡張部１２７と重なる維持蓄電器用導電体１７７を保護膜１８０の下に設けて、二つの間の距離を短くする。一方、ゲート線１２１と同一の層で、画素電極と重畳して維持蓄電器を構成する維持電極を追加することもできる。
【００５３】
さらに、画素電極１９０は、隣接するゲート線１２１及びデータ線１７１と重なって開口率を向上させているが、重ならないこともある。
【００５４】
一方、薄膜トランジスタ表示板１００と対向する対向表示板２００には、ガラスなどの透明な絶縁物質からなる上部絶縁基板２１０、その下面に形成され、マトリックス状の画素領域に開口部を有し、ネガティブ型の感光性有機物質からなるブラックマトリックス２２０、ブラックマトリックス２２０で画定される画素に形成されて順次に配置されている赤、緑、青のカラーフィルター２３０、カラーフィルター２３０を覆っているオーバーコート膜２５０、及びITOまたはIZOなどの透明な導電物質からなる共通電極２７０を含む。
【００５５】
このような本発明の実施例による液晶表示装置の対向表示板において、ブラックマトリックス２２０は、前記したように、分割露光を利用した写真工程で形成される。この時、本発明の第２実施例による製造工程と同様に、互いに隣接するショット間にステッチ領域を設け、単位ステッチ領域は画素領域を上下または左右の１/２に設定して分割露光を行う。そうすれば、単位ステッチ領域の境界線に対応して二重露光された部分２２０´は、図６及び図７のように、ブラックマトリックス２２０の境界線内に位置して形成される。
【００５６】
以上のような構造の本発明の実施例による液晶表示装置は、薄膜トランジスタ表示板１００と、これと対向する対向表示板２００を整列して結合し、その間に液晶を注入し液晶層を形成して完成する。この時、単位ステッチ領域の境界線に対応してブラックマトリックス２２０の境界内に位置する二重露光された部分２２０´は、ゲート線１２１及びデータ線１７１で遮られるように重なって整列され、画像表示時にむらが発生することを防止することができる。
【００５７】
一方、本発明の実施例では、赤、緑、青のカラーフィルター２３０が対向表示板２００に形成されているが、本発明の他の実施例では、赤、緑、青のカラーフィルター２３０は、薄膜トランジスタ表示板に配置することもできる。このような実施例では、赤、緑、青のカラーフィルター２３０は、保護膜１８０の上部または下部に位置するのが好ましい。
【００５８】
以上で、本発明の好ましい実施例を参照して説明したが、該当技術分野の熟練した当業者は、特許請求の範囲に記載された本発明の技術思想及び範囲から逸脱しない範囲内で本発明を多様に修正及び変更させることができることが明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の実施例による液晶表示装置用対向表示板の平面図である。
【図２】本発明の第１実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法で、ショット間の境界部分を示した平面図である。
【図３】本発明の第２実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法で、互いに隣接したショット間の境界部分であるステッチ領域を示した平面図である。
【図４】本発明の実施例による液晶表示装置用対向表示板の製造方法で、ショット間の境界部分であるステッチ領域における単位ステッチ領域を示した平面図である。
【図５】本発明の第１実施例及び第２実施例による液晶表示装置用表示板の製造方法で、ショット間の境界線及び単位ステッチ領域を示した平面図である。
【図６】本発明の一実施例による液晶表示装置の配置図である。
【図７】図６の液晶表示装置のVII-VII´線による断面図である。
【符号の説明】
【００６０】
１００、２００  表示板
１２１  ゲート線
１２４  ゲート電極
１２７  拡張部
１４０  ゲート絶縁膜
１５１  半導体
１５４  突出部
１６１、１６５  抵抗性接触部材
１７１  データ線
１７５  ドレイン電極
１７７  維持蓄電器用導電体
１８０  保護膜
１８５、１８７  接触孔
１９０  画素電極
２２０  ブラックマトリックス
２７０  共通電極
２３０  カラーフィルター
２５０  オーバーコート膜
３００  液晶層
【図１】
2005043898.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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