(57)【要約】【課題】膜が剥がれることを防止できる光学補償シートの製造方法及び光学補償シートを提供する。【解決手段】光学補償シートは、ウエブ状のシート１０に鹸化処理を施し、鹸化処理が施された部分１２に配向膜層１４を形成し、さらに液晶層１６を形成することによって製造される。鹸化処理におけるアルカリ溶液の塗布幅Ｌ１は、配向膜層１４の塗布幅Ｌ２よりも大きく設定され、鹸化処理が施された部分１２内に配向膜層１４が塗布される。また、液晶層１６の塗布幅Ｌ３は、配向膜層１４の塗布幅Ｌ２よりも大きく設定され、配向膜層１４が液晶層１６によって覆われる。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺状の支持体を走行させながら該支持体の表面に配向膜層を塗布する配向膜層塗布工程と、該配向膜層の上に液晶層を塗布する液晶層塗布工程とを有する光学補償シートの製造方法において、
前記液晶層を前記配向膜層よりも広い幅で塗布することによって、前記配向膜層を前記液晶層で覆うことを特徴とする光学補償シートの製造方法。
【請求項２】
前記配向膜層塗布工程の前段に、前記支持体の表面に前記配向膜層の塗布幅よりも広い幅で鹸化処理を施す鹸化処理工程を有し、該鹸化処理工程で鹸化処理した範囲内に前記配向膜層を塗布することを特徴とする請求項１に記載の光学補償シートの製造方法。
【請求項３】
支持体の表面に配向膜層を有し、該配向膜層の上に液晶層を有する光学補償シートにおいて、前記配向膜層は前記液晶層によって覆われることを特徴とする光学補償シート。
【請求項４】
前記配向膜層は、該配向膜層よりも広い幅で前記支持体の表面に施した鹸化処理の範囲内に形成されていることを特徴とする請求項３に記載の光学補償シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学補償シートの製造方法および光学補償シートに係り、特に支持体の上に配向層が形成され、その上に液晶層が形成された光学補償シートの製造方法および光学補償シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、液晶セル、偏光素子および光学補償シート（位相差板）で構成されており、光学補償シートは、画像着色を解消したり、視野角を拡大したりするために用いられている。光学補償シートとしては、従来から延伸ポリマーフイルムが使用されていたが、近年では、延伸ポリマーフイルムに代えて、透明支持体上に液晶性分子から形成された光学異方性層を有する光学補償シートを使用することが提案されている。
【０００３】
このような光学補償シートは、長尺状の高分子シートを連続的に搬送しながら表面に配向膜層を塗布・乾燥させた後、配向膜層表面にラビング処理を施し、その上に液晶化合物有機溶媒溶液を塗布することによって製造される（特許文献１参照）。製造された光学補償シートは、メーカに出荷された後、鹸化処理されて偏光板加工される。この偏光板加工における鹸化処理では、例えば濃度５〜２０重量％の水酸化ナトリウム等の鹸化処理液を用いて、２５〜８０℃程度の鹸化処理温度で行われる（特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００３−３２９８３３号公報
【特許文献２】特開２００２−２６７８３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の光学補償シートは、偏光板加工における鹸化処理工程時に、膜が剥がれてしまうおそれがあった。
【０００５】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、膜が剥がれることを防止できる光学補償シートの製造方法及び光学補償シートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
請求項１に記載の発明は前記目的を達成するために、長尺状の支持体を走行させながら該支持体の表面に配向膜層を塗布する配向膜層塗布工程と、該配向膜層の上に液晶層を塗布する液晶層塗布工程とを有する光学補償シートの製造方法において、前記液晶層を前記配向膜層よりも広い幅で塗布することによって、前記配向膜層を前記液晶層で覆うことを特徴としている。
【０００７】
請求項１の発明によれば、配向膜層よりも化学的耐久性の高い液晶層で配向膜層を覆うので、液晶層形成後の鹸化処理時に膜が剥がれることを防止できる。
【０００８】
請求項２に記載の発明は請求項１の発明において、前記配向膜層塗布工程の前段に、前記支持体の表面に前記配向膜層の塗布幅よりも広い幅で鹸化処理を施す鹸化処理工程を有し、該鹸化処理工程で鹸化処理した範囲内に前記配向膜層を塗布することを特徴としている。
【０００９】
請求項２の発明によれば、鹸化処理された範囲内に配向膜層が塗布されるので、配向膜層の全面において、配向膜層と支持体との密着性が向上する。したがって、配向膜層の塗布後のラビング処理時に膜が剥がれることを防止できる。
【００１０】
請求項３に記載の発明は前記目的を達成するために、支持体の表面に配向膜層を有し、該配向膜層の上に液晶層を有する光学補償シートにおいて、前記配向膜層は前記液晶層によって覆われることを特徴としている。
【００１１】
請求項３の発明によれば、配向膜層よりも化学的耐久性の高い液晶層によって配向膜層が覆われているので、光学補償シートを鹸化処理した際に膜が剥がれることを防止できる。
【００１２】
請求項４に記載の発明は請求項３の発明において、前記配向膜層は、該配向膜層よりも広い幅で前記支持体の表面に施した鹸化処理の範囲内に形成されていることを特徴としている。
【００１３】
請求項４の発明によれば、鹸化処理の範囲内に配向膜層が形成されるので、配向膜層の全面において、配向膜層と支持体との密着性が向上する。したがって、配向膜層の塗布後のラビング処理時に膜剥がれが生じることを防止できる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明に係る光学補償シートの製造方法および光学補償シートによれば、液晶層の形成後の鹸化処理時に膜が剥がれることを防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下添付図面に従って本発明に係る光学補償シートの製造方法および光学補償シートの好ましい実施の形態について説明する。
【００１６】
図１は、本発明が適用された光学補償シートの製造方法の構成を示すブロック図である。
【００１７】
同図に示すように、光学補償シートは、鹸化処理工程、配向膜層形成工程、ラビング処理工程、液晶層形成工程を経て製造される。
【００１８】
鹸化処理工程では、まず、長尺状のシートにアルカリ溶液を塗布幅Ｌ１（図２参照）で塗布し、塗布後のシートを室温以上の温度で一定時間維持する。次いで、シートに希釈溶媒或いは酸性溶液を塗布することによってシート上での反応を停止させる。そして、シートからアルカリ溶液を洗い落とした後、シートを乾燥させる。こうして鹸化処理が施されたシートは、配向膜層形成工程に送られる。そして、鹸化処理された面に配向膜層を塗布幅Ｌ２（図２参照）で塗布し、この配向膜層を乾燥させる。これにより、シートの表面に配向膜層が形成される。
【００１９】
配向膜層が形成されたシートは、ラビング処理工程に送られる。ラビング処理工程では、配向膜層の表面をラビングロール等によってラビング処理する。
【００２０】
ラビング処理されたシートは、液晶層形成工程に送られる。液晶層形成工程では、液晶層を塗布幅Ｌ３（図２参照）で塗布し、この液晶層を乾燥させ、さらにＵＶ照射によって硬化させる。これにより、シートの上に配向膜層が形成され、さらにその上に液晶層が形成された光学補償シートが製造される。
【００２１】
図２は、上述した塗布幅Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３の関係を示す光学補償シートの断面図であり、光学補償シートを幅方向に切断した状態を模式的に示している。同図において、符号１０はシートであり、符号１２は鹸化処理された部分（すなわち、アルカリ溶液が塗布された部分）を示している。また、符号１４は配向膜層であり、符号１６は液晶層である。
【００２２】
同図に示すように、アルカリ溶液の塗布幅Ｌ１は、配向膜層の塗布幅Ｌ２よりも大きく形成されており、配向膜層は、アルカリ溶液の塗布範囲内に塗布されている。
【００２３】
また、液晶層の塗布幅Ｌ３は、配向膜層の塗布幅Ｌ２よりも大きく形成されており、配向膜層は、液晶層によって完全に覆われている。液晶層は、配向膜層に対して片側１ｍｍ以上広いことが好ましく、片側２ｍｍ以上広いことがより好ましい。
【００２４】
なお、アルカリ溶液の塗布幅Ｌ１と、液晶層の塗布幅Ｌ３との大小関係は特に限定されない。
【００２５】
次に上述した方法で製造された光学補償シートの作用について説明する。
【００２６】
製造された光学補償シートは、メーカに出荷され、ここで偏光板加工工程が施される。偏光板加工工程では、光学補償シートの裏面に鹸化処理を行う。その際、アルカリ溶液を光学補償シートの裏面にのみ塗布することが好ましいが、場合によっては、光学補償シート全体をアルカリ溶液中に浸漬する方法が採用される。このため、従来は、化学的耐久性の低い配向膜層がアルカリ溶液に反応し、膜剥がれが生じるおそれがあった。
【００２７】
これに対し、本実施の形態では、配向膜層よりも化学的耐久性の高い液晶層によって配向膜層が覆われている。したがって、光学補償シート全体を鹸化処理した場合であっても、配向膜がアルカリ溶液に触れることがないので、配向膜の膜剥がれを防止することができる。
【００２８】
また、従来の光学補償シートの製造ラインでは、配向膜層を塗布・乾燥した際に、配向膜層の幅方向の端部においてシートとの密着性が弱くなり、ラビング処理した際に、配向膜層の端部がシートから剥離するおそれがあった。
【００２９】
これに対して、本実施の形態では、鹸化処理した範囲内に配向膜層が形成されているため、配向膜層の全面においてシートとの密着性が向上している。したがって、配向膜層の端部も確実にシートに密着しているため、ラビング処理を施しても、配向膜層がシートから剥離するおそれがない。これにより、ラビング処理時における膜剥がれを防止することができる。
【００３０】
なお、上述した実施の形態では、塗布幅Ｌ１と塗布幅Ｌ３の両方を塗布幅Ｌ２よりも大きくしたが、本発明は、塗布幅Ｌ３が塗布幅Ｌ２よりも大きければよい。したがって、例えば図３に示すように塗布幅Ｌ１が塗布幅Ｌ２以下であってもよい。この場合にも、塗布幅Ｌ３を塗布幅Ｌ２より大きくすることによって、後工程の鹸化処理で膜が剥がれることを防止できる。
【００３１】
また、上述した実施の形態において、配向膜層を確実に鹸化処理した範囲内に形成するために、そして、配向膜層を液晶層で確実に覆うために、原反自動位置合わせシステムやウエブ位置合わせシステムを採用することが好ましい。
【００３２】
原反自動位置合わせシステムは、シートの原反が装着された送出機からシートを送り出す段階で、原反の耳位置を合わせるシステムであり、このシステムで原反の耳位置を合わせることによって、後段の塗布部においてシート位置と塗布位置とを容易に合致させることができる。原反自動位置合わせシステムの具体的な構成としては、例えば、赤外線投光器、二次元イメージセンサ、及び画像処理手段から成り、赤外線投光機によって原反の耳部に向けて斜め上方向から赤外線を照射し、照射された原反の耳部を直上から二次元イメージセンサで画像を写し、この画像に基づいて原反の耳部の位置を検知する。そして、検知した原反の耳部の位置に基づいて、原反の左右移動速度を高低二段の速度切換を用いて制御する。これにより、原反の耳部の位置を所望する位置に制御することができ、後段の塗布部においてシートと塗布位置のずれが小さくなる。
【００３３】
一方、ウエブ位置合わせシステムは、各工程での連続走行中のシートの位置を合わせるシステムである。このシステムは、上述した鹸化処理工程、配向膜層形成工程、液晶層形成工程を連続して行う場合に特に有効であり、塗布後のシートの位置合わせを行うことによって塗布処理の位置精度を向上させることができる。ウエブ位置合わせシステムの具体的な構成としては、耳端位置合わせ制御装置（例えば（株）ニレコ製のＥＰＣ装置）を利用したり、シート巾の広いものに関してはセンター位置制御装置（例えば（株）ニレコ製のＣＰＣ装置）を利用したりするとよい。また、ウエブ位置合わせシステムは、シートの巻取工程に適用することができ、巻き取り時のシートの端部を合わせることができる。
【００３４】
以下に、上述したシートや各工程の具体的な実施例については説明する。
【００３５】
［ポリマーフイルム］
ポリマーフイルムは、光透過率が８０％以上であるポリマーフイルムを用いる事が好ましい。ポリマーフイルムとしては、外力により複屈折が発現しにくいものが好ましい。ポリマーは、エステル結合あるいはアミド結合のような加水分解できる結合（鹸化処理の対象となる結合）を含む。エステル結合が好ましく、エステル結合がポリマーの側鎖に存在していることがさらに好ましい。エステル結合が側鎖に存在しているポリマーとしては、セルロースエステルが代表的である。セルロースの低級脂肪酸エステルがより好ましく、セルロースアセテートがさらに好ましく、酢化度が５９．０〜６１．５％であるセルロースアセテートが最も好ましい。酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ＡＳＴＭ：Ｄ−８１７−９１（セルロースアセテート等の試験法）におけるアセチル化度の測定および計算に従う。
【００３６】
セルロースエステルの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０乃至１．７であることが好ましく、１．３乃至１．６５であることがさらに好ましく、１．４乃至１．６であることが最も好ましい。
【００３７】
ポリマーフイルムを光学補償シートに用いる場合、ポリマーフイルムは、高いレターデーション値を有することが好ましい。フイルムのＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値は、それぞれ、下記式（Ｉ）および（II）で定義される。
【００３８】
（Ｉ）Ｒｅ＝｜ｎｘ−ｎｙ｜×ｄ、
（II）Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ、
式（Ｉ）および（II）において、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率、ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率、ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率、ｄは、単位をｎｍとするフイルムの厚みである。ポリマーフイルムのＲｅレターデーション値は１乃至２００ｎｍであり、そして、Ｒthレターデーション値は７０乃至４００ｎｍであることが好ましい。具体的な値は、測定光の入射方向をフイルム膜面の鉛直方向に対して傾斜させた測定結果より外挿して求める。測定は、エリプソメーター（例えば、Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて実施できる。測定波長としては、６３２．８ｎｍ（Ｈｅ−Ｎｅレーザー）を採用する。
【００３９】
ポリマーフイルムのレターデーションを調整するためには延伸のような外力を与える方法が一般的であるが、光学異方性を調節するためのレターデーション上昇剤が場合により添加される。レターデーション上昇剤の分子量は、３００〜８００であることが好ましい。また、セルロースアシレートフイルムのレターデーションを調整するには、芳香族環を少なくとも二つ有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用することが好ましい。芳香族化合物は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０１〜２０質量部の範囲で使用することが好ましく、０．０５〜１５質量部の範囲で使用することがより好ましく、０．１〜１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。また、二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。
【００４０】
芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である１，３，５−トリアジン環が特に好ましい。芳香族化合物が有する芳香族環の数は、２〜２０であることが好ましく、２〜１２であることがより好ましく、２〜８であることがさらに好ましく、３〜６であることが最も好ましい。
【００４１】
２つの芳香族環の結合関係は、（ａ）縮合環を形成する場合、（ｂ）単結合で直結する場合、および（ｃ）連結基を介して結合する場合に分類できる（芳香族環のため、スピロ結合は形成できない）。結合関係は、（ａ）〜（ｃ）のいずれでもよい。
【００４２】
（ａ）の縮合環（２つ以上の芳香族環の縮合環）の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン環、アセナフチレン環、ナフタセン環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサリン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイン環、フェノキサジン環およびチアントレン環が含まれる。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環およびキノリン環が好ましい。
【００４３】
（ｂ）の単結合は、２つの芳香族環の炭素原子間の結合であることが好ましい。２以上の単結合で２つの芳香族環を結合して、２つの芳香族環の間に脂肪族環または非芳香族性複素環を形成してもよい。
【００４４】
（ｃ）の連結基も、２つの芳香族環の炭素原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｓ−、またはそれらの組み合わせであることが好ましい。組み合わせからなる連結基の例（ｃ１〜ｃ１５）を以下に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆になってもよい。（ｃｌ：−ＣＯ−Ｏ−、ｃ２：−ＣＯ−ＮＨ−、ｃ３：−アルキレン−Ｏ−、ｃ４：−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−、ｃ５：−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−、ｃ６：−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、ｃ７：−Ｏ−アルキレン−Ｏ−、ｃ８：−ＣＯ−アルケニレン−、ｃ９：−ＣＯ−アルケニレン−ＮＨ−、ｃｌ０：−ＣＯ−アルケニレン−Ｏ−、ｃｌｌ：−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレンー、ｃ１２：−Ｏ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−アルキレン−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−Ｏ−、ｃ１３：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン−ＣＯ−Ｏ−、ｃ１４：−ＮＨ−ＣＯ−アルケニレン−、ｃ１５：−Ｏ−ＣＯ−アルケニレン−）。
【００４５】
芳香族環および連結基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル、カルボキシル、シアノ、アミノ、ニトロ、スル
ホ、カルバモイル、スルファモイル、ウレイド、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アルキルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンアミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド基および非芳香族性複素環基が含まれる。
【００４６】
アルキル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状アルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ましい。アルキル基は、さらに置換基（例、ヒドロキシ、カルボキシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基）を有していてもよい。アルキル基の（置換アルキル基を含む）例には、メチル、エチル、ｎ−ブチル、ｎ−へキシル、２−ヒドロキシエチル、４−カルボキシブチル、２−メトキシエチルおよび２−ジエチルアミノエチルが含まれる。
【００４７】
アルケニル基の炭素原子数は、２〜８であることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルケニル基の例には、ビニル、アリルおよび１−へキセニルが含まれる。アルキニル基の炭素原子数は、２〜８であることが好ましい。環状アルキケニル基よりも鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有していてもよい。アルキニル基の例には、エチニル、１−プチニルおよび１−へキシニルが含まれる。脂肪族アシル基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシル基の例には、アセチル、プロパノイルおよびブタノイルが含まれる。脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アシルオキシ基の例には、アセトキシが含まれる。アルコキシ基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置換基（例、アルコキシ基）を有していてもよい。アルコキシ基の（置換アルコキシ基を含む）例には、メトキシ、エトキシ、ブトキシおよびメトキシエトキシが含まれる。アルコキシカルボニル基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニル基の例には、メトキシカルボニルおよびエトキシカルボニルが含まれる。アルコキシカルボニルアミノ基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例には、メトキシカルボニルアミノおよびエトキシカルボニルアミノが含まれる。アルキルチオ基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルキルチオ基の例には、メチルチオ、エチルチオおよびオクテルチオが含まれる。アルキルスルホニル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。アルキルスルホニル基の例には、メタンスルホニルおよびエタンスルホニルが含まれる。脂肪族アミド基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族アミド基の例には、アセトアミドが含まれる。脂肪族スルホンアミド基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホンアミド、ブタンスルホンアミドおよびｎ−オクタンスルホンアミドが含まれる。脂肪族置換アミノ基の炭素原子数は、１〜１０であることが好ましい。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ、ジエチルアミノおよび２−カルボキシエチルアミノが含まれる。脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイルおよびジエチルカルバモイルが含まれる。脂肪族置換スルファモイル基の炭素原子数は、１〜８であることが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、メチルスルファモイルおよびジエチルスルファモイルが含まれる。脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、２〜１０であることが好ましい。脂肪族置換ウレイド基の例には、メチルウレイドが含まれる。非芳香族性複素環基の例には、ピペリジノおよびモルホリノが含まれる。
【００４８】
ポリマーフイルムは、ソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、ポリマー材料を有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフイルムを製造する。有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエーテル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエステルおよび炭素原子数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
【００４９】
炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが含まれる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが含まれる。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５〜７５モル％であることが好ましく、３０〜７０モル％であることがより好ましく、３５〜６５モル％であることがさらに好ましく、４０〜６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。さらに２種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
【００５０】
ポリマー溶液は一般的な方法で調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。ポリマーの量は、得られる溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整する。ポリマーの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。溶液は、常温（０〜４０℃）でポリマーと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、ポリマーと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０〜２００℃であり、さらに好ましくは８０〜１１０℃である。
【００５１】
各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケット構造の加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後、容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
【００５２】
溶液の調製は冷却溶解法によって行うこともできる。冷却溶解法は、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもポリマーを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でポリマーを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られる効果がある。冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にポリマーを撹拌しながら徐々に添加する。ポリマーの量は、この混合物中に１０〜４０質量％含まれるように調整することが好ましい。ポリマーの量は、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【００５３】
次に、混合物を−１００〜−１０℃、好ましくは−８０〜−１０℃、さらに好ましくは−５０〜−２０℃、最も好ましくは−５０〜−３０℃に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０〜−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、ポリマーと有機溶媒の混合物は固化する。冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度とは、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
【００５４】
さらに、これを０〜２００℃、好ましくは０〜１５０℃、さらに好ましくは０〜１２０℃、最も好ましくは０〜５０℃に加温すると、有機溶媒中にポリマーが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよいし、温浴中で加温してもよい。加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。加熱速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加温速度とは、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
【００５５】
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。なお、セルロースアセテート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保温する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。
【００５６】
調製したポリマー溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりポリマーフイルムを製膜する。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８〜３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に加工しておくことが好ましい。ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００〜１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。これにより、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。
【００５７】
ポリマーフイルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルの例には、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。さらにフタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。上述したうち、フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく、ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１〜２５質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましく、３〜１５質量％であることが最も好ましい。
【００５８】
ポリマーフイルムには、用途に応じた種々の添加剤（例えば、紫外線防止剤、微粒子、剥離剤、帯電防止剤、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）、赤外吸収剤を等）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。また、フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。これらの詳細は、上記の公技番号２００１−１７４５号技法の１７頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。これらの添加剤の使用量は、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されないが、ポリマーフィルム全組成物中、０．００１〜２０質量％の範囲で適宜用いられることが好ましい。特に、劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％であることが好ましく、０．０１〜０．２質量％であることがさらに好ましい。劣化防止剤の好ましい例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
【００５９】
ポリマーフイルムは、さらに延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、３乃至１００％であることが好ましい。ポリマーフイルムの厚さは、３０乃至２００μｍであることが好ましく、４０乃至１２０μｍであることがさらに好ましい。
【００６０】
［アルカリ鹸化処理］
ポリマーフイルムは、予め室温以上に加熱するエ程、ポリマーフイルムにアルカリ溶液を塗布する工程、ポリマーフイルムの温度を室温以上に維持するエ程、そして、アルカリ溶液をポリマーフイルムから洗い落とす工程によりアルカリ鹸化処理を実施する。
【００６１】
ポリマーフイルムを予め室温以上に加熱する工程では、熱風の衝突、加熱ロールによる接触伝熱、マイクロ波による誘導加熱、あるいは赤外線ヒーターによる輻射熱加熱が好ましく利用できる。特に加熱ロールによる接触伝熱は、熱伝達効率が高く小さな設置面積で行える点、搬送開始時のフイルム温度の立上りが速い点で好ましい。一般の２重ジャケットロールや電磁誘導ロール（トクデン社製）が利用できる。加熱後のフイルム温度は、２５乃至１５０℃（２５℃よりも高く、１５０℃よりも低い温度）であることが好ましく、２５乃至１００℃がさらに好ましく、４０乃至８０℃が最も好ましい。
【００６２】
ポリマーフイルムにアルカリ溶液を塗布する工程では、塗布量の変動をポリマーフイルムの幅方向および塗布時間に対して３０％未満に抑制することが好ましい。また、連続塗布方式を採用することも好ましい。塗布方式としては、ダイコーター（エクストルージョンコーター、スライドコーター）、ロールコーター（順転ロールコーター、逆転ロールコーター、グラビアコーター）やロッド（細い金属線を巻いたロッド）コーターが好ましく利用できる。アルカリ溶液の塗布量は、その後、水洗除去するため廃液処理を考慮して、極力抑制することが望ましい。少ない塗布量でも安定に操作できるロッドコーター、グラビアコーターおよびブレードコーターが特に好ましい。
【００６３】
アルカリ溶液は、水または有機溶剤と水との混合液にアルカリを溶解して調製できる。二種類以上の有機溶剤を混合して用いてもよい。有機溶剤は、ポリマーフイルムを溶解したり膨潤したりしないことが望ましい。また、アルカリ溶液の塗布が容易になるように、表面張力が適度に低い有機溶剤を選択することも望ましい。有機溶剤の例には、一価アルコール（例、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、フッ素化アルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル）、多価アルコール（例、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールジエチルエーテル）、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド）、アミン（例、パーフルオロトリブテルアミン、トリエチルアミン）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）およびエーテル（例、メチルセルソルブ）が含まれる。
【００６４】
表面張力を下げて塗布を容易にしたり、塗膜の安定性を上げてハジキ故障を防止する手段として、アニオン性、カチオン性、非イオン性あるいは両性の低分子界面活性剤または高分子界面活性剤をアルカリ溶液に添加してもよい。
【００６５】
アルカリは、無機塩基および有機塩基のいずれも使用できる。低い濃度で鹸化反応をおこすためには強塩基が好ましい。アルカリ金属の水酸化物（例、ＮａＯＨ、ＫＯＨ）、アルカリ土類金属の水酸化物（例、Ｍｇ（ＯＨ）2 、Ｃａ（ＯＨ）2 、Ｂａ（ＯＨ）2 ）および錯塩の遊離塩基（例、［Ｐｔ（ＮＨ3 ）3 ］（ＯＨ）4 が好ましく、アルカリ金属の水酸化物がさらに好ましく、ＮａＯＨおよびＫＯＨが最も好ましい。
【００６６】
アルカリ溶液の濃度は、使用するアルカリの種類、反応温度および反応時間に応じて決定する。短い時間で鹸化反応を完了するためには、高い濃度に溶液を調製することが好ましい。ただし、アルカリ濃度が高すぎるとアルカリ溶液の安定性が損なわれ、長時間塗布において析出する場合もある。アルカリ溶液の濃度は０．１乃至５規定（Ｎ）であることが好ましく、０．５乃至５規定であることがさらに好ましく、０．５乃至３規定であることが最も好ましい。
【００６７】
鹸化反応に必要なアルカリ塗布量は、ポリマーフイルムの単位面積当りの鹸化反応サイト数に配向膜との密着を発現させるために必要な鹸化深さを乗じた総鹸化サイト数（＝理論アルカリ塗布量）が目安となる。鹸化反応の進行にともなってアルカリが消費され反応速度が低下するため、実際には上述の理韓アルカリ塗布量の数倍を塗布することが好ましい。具体的には、理論アルカリ塗布量の２乃至２０倍であることが好ましく、２乃至５倍であることがさらに好ましい。
【００６８】
アルカリ溶液の温度は、反応温度（＝ポリマーフイルムの温度）に等しいことが望ましい。使用する有機溶媒の種類によっては、反応温度がアルカリ溶液の沸点を越える場合もある。安定な塗布を行うためには、アルカリ溶液の沸点よりも低い温度であることが好ましく、沸点（℃）の９０％よりも低い温度であることがさらに好ましく、沸点（℃）の８０％よりも低い温度であることがさらに好ましい。アルカリ溶液を塗布した後、鹸化反応が終了するまで、ポリマーフイルムの温度を室温以上に保つ。本明細書において、室温は２５℃を意味する。
【００６９】
加熱手段は、ポリマーフイルムの片面がアルカリ溶液により濡れている状態であることを考慮して選択する。塗布の反対面への熱風の衝突、加熱ロールによる接触伝熱、マイクロ波による誘導加熱、あるいは、赤外線ヒーターによる輻射熱加熱が好ましく利用できる。赤外線ヒーターは、非接触、かつ空気の涜れを伴わずに加熱できるため、アルカリ溶液塗布面への影響を最小にできるため好ましい。赤外線ヒーターは、電気式、ガス式、オイル式あるいはスチーム式の遠赤外セラミックヒーターが利用できる。市販の赤外線ヒーター（例えば（株）ノリタケカンパニーリミテド製）を用いてもよい。熱媒体が、オイルまたはスチームを用いるオイル式またはスチーム式の赤外線ヒーターは、有機溶剤が共存する雰囲気における防爆の観点で好ましい。ポリマーフイルムの温度は、アルカリ溶液塗布前に加熱した温度と同じでも異なっていてもよい。また、鹸化反応中に温度を連続的、または段階的に変更してもよい。フイルム温度は、２５℃以上１５０℃未満、好ましくは２５℃以上１００℃未満、更に好ましくは４０℃以上８０℃未満である。フイルム温度の検出には、一般に市販されている非接触の赤外線温度計が利用でき、上記温度範囲に制御するために、加熱手段に対してフィードバック制御を行ってもよい。
【００７０】
ポリマーフイルムを搬送しながら鹸化処理を実施することが好ましい。ポリマーフイルムの搬送速度は、上記アルカリ溶液の組成と塗布方式の組み合わせによって決定する。一般に、１０乃至５００ｍ／分が好ましく、２０乃至３００ｍ／分がさらに好ましい。搬送速度に応じて、安定な塗布操作が行えるように、アルカリ溶液の物性（比重、粘度、表面張力）、塗布方式および塗布操作条件を決定する。
【００７１】
アルカリ溶液とポリマーフイルムとの鹸化反応を停止するには、３つの方法がある。一つは、塗布されたアルカリ溶液を希釈してアルカリ濃度を下げ、反応速度を低下させる方法であり、ニつ目は、アルカリ溶液が塗布されたポリマーフイルムの温度を下げ、反応速度を低下させる方法であり、三つ目は、酸性の液によって中和する方法である。
【００７２】
塗布されたアルカリ溶液を希釈するためには、希釈溶媒を塗布する方法、希釈溶媒を吹き付ける方法、あるいは、希釈溶媒の入った容器にポリマーフイルムごと浸漬する方法が採用できる。希釈溶媒を塗布する方法と吹き付ける方法がポリマーフイルムを連続搬送しながら実施する上で好ましい方法である。希釈溶媒を塗布する方法は、必要最小限の希釈溶媒量を用いて実施できるために最も好ましい。
【００７３】
希釈溶媒の塗布は、既にアルカリ溶液が塗布されたポリマーフイルム上に希釈溶媒を再度適用できる連続塗布可能な方式であることが望ましい。塗布は、ダイコーター（エクストルージョンコーター、スライドコーター）、ロールコーター（順転ロールコーター、逆転ロールコーター、グラビアコーター）あるいはロッド（細い金属線を巻いたロッドを用いる）コーターが好ましい。アルカリ溶液と希釈溶媒とを速やかに混合してアルカリ濃度を低下させるためには、希釈溶媒が塗布される微小領域（塗布ビードと呼ぶこともある）において、流れが層流であるダイコーターよりも、流れが一様とならないロールコーターやロッドコーターが好ましい。
【００７４】
希釈溶媒は、アルカリ濃度を低下させることが目的であるため、アルカリ溶液中のアルカリ溶質を溶解する溶媒でなければならない。よって、水または有機溶剤と水との混合液を用いる。二種類以上の有機溶剤を混合して用いてもよい。有機溶剤は、ポリマーフイルムを溶解したり膨潤したりしないことが望ましい。また、表面張力が適度に低い有機溶剤を選択することも望ましい。有機溶剤の例には、一価アルコール（例、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、フッ素化アルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル）、多価アルコール（例、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールジエチルエーテル）、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド）、アミン（例、パーフルオロトリブチルアミトン、トリエチルアミン）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）およびエーテル（例、メチルセルソルブ）が含まれる。
【００７５】
希釈溶媒の塗布量は、アルカリ溶液の濃度に応じて決定する。塗布ビードにおける流れが層流であるダイコーターの場合、塗布量は、元のアルカリ濃度を１．５乃至１０倍に希釈することが好ましく、２乃至５倍に希釈することがさらに好ましい。ロールコーターやロッドコーターの場合は、塗布ビード内の流動が一様でないため、アルカリ溶液と希釈溶媒との混合が発生し、この混合した液が再塗布される。したがって、この場合は希釈溶媒の塗布量によって希釈率を特定することができないため、希釈溶媒塗布後のアルカリ濃度を測定する必要がある。ロールコーターやロッドコータ一においても、塗布量は、元のアルカリ濃度を１．５乃至１０倍に希釈することが好ましく、２乃至５倍に希釈することがさらに好ましい。
【００７６】
アルカリによる鹸化反応を迅速に停止するため、酸を用いることもできる。少ない量で中和するため、強酸を用いることが好ましい。さらに、水洗の容易さを考慮すると、アルカリと中和反応後に生成する塩が水に対する溶解度が高い酸を選択することが好ましく、塩酸、硝酸、リン酸およびクロム酸が特に好ましい。塗布されたアルカリ溶液を酸で中和するためには、酸溶液を塗布する方法、酸溶液を吹き付ける方法、あるいは酸溶液の入った容器にポリマーフイルムごと浸漬する方法が採用できる。酸溶液を塗布する方法と吹き付ける方法がポリマーフイルムを連続搬送しながら実施する上で好ましい。酸溶液を塗布する方法は、必要最小限の酸溶液を用いて実施できるために最も好ましい。
【００７７】
酸溶液の塗布は、既にアルカリ溶液が塗布されたポリマーフイルム上に酸溶液を再度適用できる連続塗布可能な方式であることが望ましい。塗布は、ダイコーター（エクストルージョンコーター、スライドコーター）、ロールコーター（順転ロールコーター、逆転ロールコーター、グラビアコーター）あるいはロッド（細い金属線を巻いたロッドを用いる）コーターが好ましい。アルカリ溶液と酸溶液とを速やかに混合してアルカリを中和させるためには、酸溶液が塗布される微小領域（塗布ビードと呼ぶこともある）において、流れが層流であるダイコーターよりも、流れが一様とならないロールコーターやロッドコーターが好ましい。
【００７８】
酸溶液の塗布量は、アルカリの種類とアルカリ溶液の濃度に応じて決定する。塗布ビードにおける流れが層流であるダイコーターの場合、酸の塗布量は、元のアルカリ塗布量の０．１乃至５倍であることが好ましく、０．５乃至２倍であることがさらに好ましい。ロールコーターやロッドコーターの場合は、塗布ビード内の流動が一様でないため、アルカリ溶液と酸溶液との混合が発生し、混合した液が再塗布される。したがって、この場合は酸溶液の塗布量によって中和率を特定することができないため、酸溶液塗布後のアルカリ濃度を測定する必要がある。ロールコーターやロッドコーターにおいては、酸溶液塗布後のｐＨが４乃至９になるように酸溶液の塗布量を決定することが好ましく、６乃至８になるように決定することがさらに好ましい。
【００７９】
ポリマーフイルムの温度を降下させて、鹸化反応を停止することもできる。反応を促進させるために室温以上に保たれた状態から、充分に温度低下させることによって実質的に鹸化反応を停止させる。ポリマーフイルムの温度を低下させる手段は、ポリマーフイルムの片面が濡れていることを考慮して決定する。塗布の反対面への冷風の衝突、あるいは、冷却ロールによる接触伝熱が好ましく採用できる。冷却後のフイルム温度は、５乃至６０℃であることが好ましく、１０乃至５０℃であることがさらに好ましく、１５乃至３０℃であることが最も好ましい。フイルム温度は、非接触式の赤外線温度計で測定することが好ましい。測定した温度から、冷却手段に対してフィードバック制御を行い、冷却温度を調節することもできる。
【００８０】
水洗工程は、アルカリ溶液を除去するために実施する。すなわち、アルカリ溶液が残っていると、鹸化反応が進行するばかりでなく、後に塗布する配向膜ならびに液晶性分子層の塗膜形成や液晶分子の配向に影響を及ぼすので、これを防止するために行われる。水洗は、水を塗布する方法、水を吹き付ける方法、あるいは、水の入った容器にポリマーフイルムごと浸漬する方法で実施できる。水を塗布する方法と吹き付ける方法が、ポリマーフイルムを連続搬送しながら実施するために好ましい。水を吹き付ける方法では、噴流によってポリマーフイルム上の水洗水とアルカリ性塗布液との乱流混合が得られるために、特に好ましい。
【００８１】
水吹きつけ方法は、塗布ヘッド（例、ファウンテンコーター、フロッグマウスコーター）を用いる方法、あるいは、空気の加湿や塗装、タンクの自動洗浄に利用されるスプレーノズルを用いる方法で実施できる。円錐状あるいは扇状のスプレーノズルをポリマーフイルムの幅方向に配列して、全幅に水流が衝突するように配置することができる。市販のスプレーノズル（例えば、（株）いけうち製、スプレーイングシステムズ社製）を用いてもよい。水の吹き付け速度は、大きいほうが高い乱流混合が得られる。ただし、速度が大きいと、連続搬送するポリマーフイルムの搬送安定性を損なう場合もある。吹き付けの衝突速度は、５０乃至１０００ｃｍ／秒が好ましく、１００乃至７００ｃｍ／秒がさらに好ましく、１００乃至５００ｃｍ／秒が最も好ましい。
【００８２】
水洗に使用する水の量は、下記に定義される理論希釈率を上回る量である。
【００８３】
理論希釈倍率＝水洗水の塗布量［ｃｃ／ｍ2 ］÷アルカリ性塗布液の塗布量［ｃｃ／ｍ2 ］
すなわち、水洗に使用される水の全てがアルカリ性塗布液の希釈混合に寄与したという仮定の理論希釈率を定義する。実際には、完全混合は起こらないので、理論希釈率を上回る水洗水量を使用することとなる。用いたアルカリ性塗布液のアルカリ濃度や副次添加物、溶媒の種類にもよるが、少なくとも１００〜１０００倍、好ましくは５００〜１万倍、さらに好ましくは１０００〜十万倍の希釈が得られる水洗水を使用する。
【００８４】
水洗で一定量の水を用いる場合、一度に全量適用するよりも数回に分割して適用する回分式洗浄方法が好ましい。すなわち、水の量を幾つかに分けて、ポリマーフイルムの搬送方向にタンデムに設置した複数の水洗手段に供給する。一つの水洗手段と次の水洗手段との間には適当な時間（距離）を設けて、拡散によるアルカリ性塗布液の希釈を進行させる。さらに好ましくは、搬送されるポリマーフイルムに傾斜を設けるなどして、フイルム上の水がフイルム面に沿って流れる様にすれば、拡散に加えて、流動による混合希釈が得られる。最も好ましい方法としては、水洗手段と水洗手段の間にポリマーフイルム上の水腹を除去する水切り手段を設けることで、更に水洗希釈効率を高められる。具体的な水切り手段としては、ブレードコータ一に用いられるブレード、エアナイフコータ一に用いられるエアナイフ、ロッドコータ一に用いられるロッド、ロールコータ一に用いられるロールが挙げられる。なお、タンデムに配置された水洗手段の数は、多いほうが有利である。ただし、設置スペースならびに設備コストの観点から、通常は２〜１０段、好ましくは２〜５段が使用される。
【００８５】
水切り手段後の水膜厚みは、薄い方が好ましいが、用いる水切り手段の種類によって最低水膜厚みが制限される。ブレード、ロッド、ロールなど、物理的に固体をポリマーフイルムに接触させる方法においては、例え固体がゴムなどの硬度の低い弾性体であったとしても、フイルム表面にキズを付けたり、弾性体が磨り減ったりするので有限の水膜を潤滑流体として残す必要がある。通常は、数μｍ以上、好ましくは１０μｍ以上の水膜を潤滑流体として残存させる。極限まで水膜厚みを減少させられる水切り手段としては、エアナイフが好ましい。充分な風量と風圧を設定することにより、水膜厚みをゼロに近づけることが出来る。ただし、エアの吹出し量が大きすぎると、ばたつきや寄りなど、ポリマーフイルムの搬送安定性に影響を及ぼすことがあるので、好ましい範囲が存在する。ポリマーフイルム上の元の水膜厚み、フイルムの搬送速度にもよるが、通常は１０〜５００ｍ／秒、好ましくは２０〜３００ｍ／秒、より好ましくは３０〜２００ｍ／秒の風速を使用する。また、均一に水膜除去を行うためには、ポリマーフイルムの幅方向の風速分布を、通常は１０％以内、好ましくは５％以内になる様、エアナイフの吹出し口やエアナイフへの給気方法を調整する。搬送するポリマーフイルム表面とエアナイフ吹出し口の間隙は、狭い方が水切り能が増すが、ポリマーフイルムと接触して傷付ける可能性が高くなるため、適当な範囲がある。通常は、１０μｍ〜１０ｃｍ、好ましくは１００μｍ〜５ｃｍ、さらに好ましくは５００μｍ〜１ｃｍの間隙をもって、エアナイフを設置する。さらに、エアナイフと対向する様に、ポリマーフイルムの水洗面と反対側にバックアップロールを設置することで、間隙の設定が安定するとともに、フイルムのバタツキやシワ、変形などの影響を緩和することができるために好ましい。
【００８６】
水洗水には、純水を用いることが好ましい。本発明に用いられる純水とは、比電気抵抗が少なくとも１ＭΩ以上であり、特にナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウムなどの金属イオンは１ｐｐｍ未満、クロル、硝酸などのアニオンは０．１ｐｐｍ未満を指す。純水は、逆浸透膜、イオン交換樹脂、蒸留などの単体、あるいは組み合わせによって、容易に得ることができる。
【００８７】
洗浄水の温度は、高い方が洗浄能力が上がる。しかし、搬送されるポリマーフイルム上に水を吹き付ける方法においては、空気と接触する水の面積が大きく、高温ほど蒸発が著しくなるため、周囲の湿度が増し、結露する危険性が高くなる。このため、洗浄水の温度は、通常は５〜９０℃、好ましくは２５℃〜８０℃、さらに好ましくは２５℃〜６０℃の範囲で設定する。
【００８８】
アルカリ性塗布液の成分、または鹸化反応の生成物が水に容易に溶けない場合、水洗工程の前または後に水に不溶な成分を除去するための溶剤洗浄工程を付加しても良い。溶剤洗浄工程は、上に述べた水洗方法、水切り手段を利用することができる。有機溶剤の例には、一価アルコール（例、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、フッ素化アルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル）、多価アルコール（例、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールジエチルエーテル）、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド）、アミン（例、パーフルオロトリブチルアミン、トリエチルアミン）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）およびエーテル（例、メチルセルソルブ）が含まれる。
【００８９】
水洗工程の次に乾燥工程を実施することもできる。通常は、エアナイフなどの水切り手段で十分に水膜を除去できるため、乾燥工程は必要ないが、ポリマーフイルムをロール状に巻き取る前に、好ましい含水率に調整するために加熱乾燥してもよい。逆に、設定された湿度を有する風で調湿することもできる。
【００９０】
［光学補償シート］
鹸化処理したポリマーフイルムは、光学補償シートの透明支持体として好ましく用いられる。光学補償シートは、アルカリ溶液を塗布することにより鹸化したポリマーフイルム、配向膜形成用樹脂層、および液晶性分子の配向を固定化した光学異方性層が、この順に積層された層構成を有する。
【００９１】
配向膜の形成においては、ポリマーフイルムを加熱する工程、ポリマーフイルムの配向膜側の表面にアルカリ溶液を塗布する工程、アルカリ溶液塗布面の温度を維持する工程、反応を停止する工程、アルカリ溶液を洗浄してフイルムの表面から除去する工程に次いで、配向膜を塗布して乾燥する工程を付加することもできる。さらに、配向膜を塗布、乾燥後に配向膜表面をラビング処理し、液晶性分子層を塗布、乾燥して、最終的な光学補償シートまで完成することもできる。
【００９２】
ポリマーフイルムの鹸化処理のみならず、配向膜、液晶性分子層を一貫して形成することにより、高い生産性が得られる。さらに、その利点として、鹸化処理〜配向膜塗布までの時間経過がない、活性化した鹸化面の劣化が少ない、鹸化処理の水洗工程が湿式の除塵と兼ねられる、複数回の送り出しや巻取りに伴うロール末端部のロスが発生しないことが挙げられる。
【００９３】
光学補償シートは、鹸化処理したポリマーフイルムからなる透明支持体、その上に設けられた配向膜および配向膜上に形成された円盤状構造単位を有する光学異方層からなる。配向膜は架橋されたポリマーからなるラビング処理された膜であることが好ましい。
【００９４】
光学異方層に用いられる円盤状構造単位を有する化合物としては、低分子量の円盤状液晶性化合物（モノマー）または重合性円盤状液晶性化合物の重合により得られるポリマーを用いることができる。円盤状化合物（ディスコティック化合物）は、一般に、ディスコティック液晶相（即ち、ディスコティックネマチック相）を有する化合物とディスコティック液晶相を持たない化合物に大別することができる。円盤状化合物は、一般に負の複屈折を有する。光学異方層は、ディスコティック化合物の負の複屈折性を利用したものである。
【００９５】
［配向膜］
光学異方層の配向膜は、架橋されたポリマーからなる膜をラビング処理して形成することが好ましい。配向膜は、架橋された２種のポリマーからなることがさらに好ましい。２種のポリマーの一方は、それ自体架橋可能なポリマーまたは架橋剤により架橋されるポリマーである。配向膜は、官能基を有するポリマーあるいはポリマーに官能基を導入したものを、光、熟あるいはｐＨ変化により、ポリマー間で反応させて形成するか、あるいは、反応活性の高い化合物である架橋剤を用いてポリマー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、ポリマー間を架橋することにより形成することができる。
【００９６】
ポリマーの架橋は、ポリマーまたはポリマーと架橋剤の混合物を含む塗布液を透明支持体上に塗布した後、加熱することにより実施できる。配向膜を透明支持体上に塗設した後から、光学補償シートを得るまでのいずれかの段階で架橋させる処理を行なってもよい。配向膜上に形成される円盤状構造を有する化合物（光学異方層）の配向を考慮すると、円盤状構造を有する化合物を配向させた後に最終の架橋を行なうことも好ましい。すなわち、透明支持体上にポリマーおよびポリマーを架橋することができる架橋剤を含む塗布液を塗布した場合、加熱乾燥した後、ラビング処理を行なって配向膜を形成し、次いでこの配向膜上に円盤状構造単位を有する化合物を含む塗布液を塗布し、ディスコティックネマチック相形成温度以上に加熱した後、冷却して光学異方層を形成する。
【００９７】
配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。ポリマーの例には、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メテロールアクリルアミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフイン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロース、ポリエチレン、ポリプロピレンおよびポリカーボネートが含まれる。シランカップリング剤をポリマーとして用いることができる。水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メテロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。重合度が異なるポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールを２種類併用することが特に好ましい。
【００９８】
ポリビニルアルコールの鹸化度は、７０乃至１００％が好ましく、８０乃至１００％がさらに好ましく、８５乃至９５％が最も好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００乃至３０００であることが好ましい。変性ポリビニルアルコールの変性基は、共重合変性、連鎖移動変性またはブロック重合変性により導入できる。共重合変性基の例には、ＣＯＯＮａ、Ｓｉ（ＯＸ）3 、Ｎ（ＣＨ3 ）3 ・Ｃｌ、Ｃ9 Ｈ19ＣＯＯ、ＳＯ3 ＮａおよびＣ12Ｈ25が含まれる（Ｘは、プロトンまたはカチオンである）。連鎖移動変性基の例には、ＣＯＯＮａ、ＳＨおよびＣ12Ｈ25が含まれる。ブロック重合変性基の例には、ＣＯＯＨ、ＣＯＮＨ2 、ＣＯＯＲおよびＣ6 Ｈ5 が含まれる（Ｒは、アルキル基である）。
【００９９】
鹸化度が８５乃至９５％である未変性ポリビニルアルコールまたはアルキルチオ変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
【０１００】
変性ポリビニルアルコールは、下記式（１）で表される化合物とポリビニルアルコー
ルとの反応生成物であることが好ましい。
【０１０１】
【化１】
2005283670.tif 000003
式（１）において、Ｒ1 は、無置換アルキル基、アクリロリル置換アルキル基、メタクリロイル置換アルキル基またはエポキシ置換アルキル基であり、Ｗは、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基であり、Ｘは、活性エステル、酸無水物または酸ハロゲン化物を形成するために必要な原子群であり、Ｐは、０または１であり、そして、ｎは、０〜４の整数である。
【０１０２】
変性ポリビニルアルコールは、下記式（２）で表される化合物とポリビニルアルコールとの反応生成物であることがさらに好ましい。
【０１０３】
【化２】
2005283670.tif 000004
式（２）において、Ｘ1 は、活性エステル、酸無水物または酸ハロゲン化物を形成するために必要な原子群であり、そして、ｍは、２〜２４の整数である。
【０１０４】
式（１）または式（２）で表される化合物と反応させるポリビニルアルコールは、変性ポリビニルアルコール（共重合変性、連鎖移動変性、ブロック重合変性）であってもよい。ポリビニルアルコールの合成方法、可視吸収スペクトル測定および変性基の導入率の決定方法は、特開平８−３３８９１３号公報に記載がある。
【０１０５】
ポリマー（好ましくは水溶性ポリマー、さらに好ましくはポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコール）の架橋剤の例には、アルデヒド（例、ホルムアルデヒド、グリオキザール、グルタルアルデヒド）、Ｎ−メチロール化合物（例、ジメチロール尿素、メテロールジメチルヒダントイン）、ジオキサン誘導体（例、２，３−ジヒドロキシジオキサン）、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物（例、カルベニウム、２−ナフタレンスルホナート、１，１−ビスピロリジノ−１−クロロピリジニウム、１−モルホリノカルボニル−３−（スルホナトアミノメチル））、活性ビニル化合物（例、１、３、５−トリアクロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビス（ビニルスルホン）メタン、Ｎ，Ｎ’−メチレンビス−［β−（ビニルスルホニル）プロピオンアミド］）、活性ハロゲン化合物（例、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシーＳ−トリアジン）、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
【０１０６】
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して０．１乃至２０質量％が好ましく、０．５乃至１５質量％がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。配向膜中に１．０質量％を超える量で架橋剤が残存していると、充分な耐久性が得られない。そのような配向膜を液晶表示装置に使用すると、長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合にレチキュレーションが発生することがある。
【０１０７】
配向膜は、基本的に、配向膜形成材料である上記ポリマー、架橋剤を含む透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥（架橋させ）し、ラビング処理することにより形成することができる。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なって良い。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成材料として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒（例、メタノール）と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水：メタノールが０：１００〜９９：１が好ましく、０：１００〜９１：９であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方層の層表面の欠陥が著しく減少する。
【０１０８】
配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は０．１乃至１０μｍが好ましい。加熱乾燥は、２０℃〜１１０℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには６０℃〜１００℃が好ましく、特に８０℃〜１００℃が好ましい。乾燥時間は１分〜３６時間で行なうことができるが、好ましくは１分〜３０分である。ｐＨも、使用する架橋剤に最適な値に設定することが好ましく、グルタルアルデヒドを使用した場合は、ｐＨ４．５〜５．５で、特に５が好ましい。
【０１０９】
配向膜は、透明支持体上又は上記下塗層上に設けられる。配向膜は、上記のようにポリマー層を架橋したのち、表面をラビング処理することにより得ることができる。配向膜は、その上に設けられる液晶性ディスコティック化合物の配向方向を規定するために設けられる。
【０１１０】
前記ラビング処理は、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されている処理方法を適用することができる。即ち、配向膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維などを用いて一定方向に擦ることにより、配向を得る方法を用いることができる。一般的には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布などを用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。
【０１１１】
［光学異方層］
光学補償シートの光学異方層は、配向膜上に形成される。光学異方層は、円盤状構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する層であることが好ましい。光学異方層は、低分子量の液晶性円盤状化合物（モノマー）の層または重合性の液晶性円盤状化合物の重合（硬化）により得られるポリマーの層である。円盤状（ディスコティック）化合物には、ベンゼン誘導体、トルキセン誘導体、シクロヘキサン誘導体、およびアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。ディスコティック（円盤状）化合物は、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基がその直鎖として放射線状に置換された構造である。円盤状化合物には、液晶性を示すディスコティック液晶が含まれる。円盤状化合物から形成した光学異方層には、熱や光で反応する基を有する低分子ディスコティック液晶を反応させて重合または架橋することにより、高分子量化して液晶性を失ったものも含まれる。
【０１１２】
光学異方層は、ディスコティック構造単位を有する化合物からなる負の複屈折を有する層であって、そしてディスコティック構造単位の面が、透明支持体面に対して傾き、且つ該ディスコティック構造単位の面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向に変化していることが好ましい。
【０１１３】
ディスコティック構造単位の面の角度（傾斜角）は、一般に、光学異方層の深さ方向でかつ光学異方層の配向膜底面からの距離の増加と共に増加または減少している。上記傾斜角は、距離の増加と共に増加することが好ましい。更に、傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、および増加および減少を含む間欠的変化等を挙げることができる。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。傾斜角は、変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していることが好ましい。さらに、傾斜角は全体として増加していることが好ましく、特に連続的に変化することが好ましい。
【０１１４】
上記光学異方層は、一般にディスコティック化合物および他の化合物を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱し、その後配向状態（ディスコティックネマチック相）を維持して冷却することにより得られる。あるいは、上記光学異方層は、ディスコティック化合物および他の化合物（更に、例えば重合性モノマー、光重合開始剤）を溶剤に溶解した溶液を配向膜上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱したのち重合させ（ＵＶ光の照射等により）、さらに冷却することにより得られる。本発明に用いるディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度としては、７０〜３００℃が好ましく、特に７０〜１７０℃が好ましい。
【０１１５】
支持体側のディスコティック単位の傾斜角は、一般にディスコティック化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）のディスコティック単位の傾斜角は、一般にディスコティック化合物あるいはディスコティック化合物と共に使用する他の化合物（例、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマーおよびポリマー）を選択することにより調整することができる。更に、傾斜角の変化の程度も上記選択により調整することができる。
【０１１６】
可塑剤、界面活性剤および重合性モノマーとしては、ディスコティック化合物と適度の相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しない限り、どのような化合物も使用することができる。これらの中で、重合性モノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基を有する化合物）が好ましい。上記化合物は、ディスコティック化合物に対して一般に１〜５０質量％、好ましくは５〜３０質量％の量にて使用される。
【０１１７】
ポリマーとしては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物に傾斜角の変化を与えられる限り、どのようなポリマーも使用することができる。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロースおよびセルロースアセテートプチレートを挙げることができる。上記ポリマーは、液晶性ディスコティック化合物の配向を阻害しないように、ディスコティック化合物に対して一般に０．１〜１０質量％、好ましくは０．ｌ〜８質量％、特に好ましくは０．１〜５質量％の量にて使用される。
【０１１８】
［偏光板］
偏光板は、ポリマーフイルム上に配向膜および液晶性分子の配向を固定化した光学異方性層を設けた光学補償シート、偏光膜、透明保護膜がこの順に積層された層構成を有する。透明保護膜には、通常のセルロースアセテートフイルムを用いてもよい。偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、２色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は一般にポリビニルアルコール系フイルムを用いて製造する。ポリマーフイルムの遅相軸と偏光膜の透過軸の関係は、適用される液晶表示装置の種類により異なる。ＴＮ、ＭＶＡまたはＯＣＢの場合は、実質的に平行になるように配置する。反射型液晶表示装置の場合は、実質的に４５度となるように配置することが好ましい。
【０１１９】
［液晶表示装置］
光学補償シートまたは偏光板は、液晶表示装置に有利に用いられる。ＴＮ、ＭＶＡ、およびＯＣＢモードの液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された２枚の偏光板からなる。液晶セルは、２枚の電極基板の間に液晶を担持している。光学補償シートは、液晶セルと一方の偏光板との間に、１枚配置するか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に２枚配置する。
【０１２０】
ＯＣＢモードの液晶表示装置の場合、光学補償シートは、ポリマーフイルム上に円盤状化合物、もしくは棒状液晶化合物を含む光学異方性層を有していても良い。光学異方性層は、円盤状化合物（もしくは棒状液晶化合物）を配向させ、その配向状態を固定することにより形成する。円盤状化合物は、一般に大きな複屈折率を有する。また、円盤状化合物には、多様な配向形態がある。従って、円盤状化合物を用いることで、従来の延伸複屈折フイルムでは得ることができない光学的性質を有する光学補償シートを製造することができる。
【０１２１】
偏光板では、液晶セルと偏光膜との間に配置される透明保護膜として、前記のポリマーフイルムを用いることができる。一方の偏光板の（液晶セルと偏光膜との間の）透明保護膜のみ上記のポリマーフイルムを用いるか、あるいは双方の偏光板の（液晶セルと偏光膜との間の）２枚の透明保護膜に、上記のポリマーフイルムを用いる。液晶セルはＯＣＢモード、またはＴＮモードであることが好ましい。ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置である。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速い利点がある。一方、ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに６０〜１２０°にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
【実施例】
【０１２２】
幅寸法Ｌ０が５４０ｍｍの支持体に対して、鹸化処理工程、配向膜層形成工程、ラビング処理工程、液晶層形成工程を順に施して光学補償シートを製造した。その際、配向膜層の塗布幅Ｌ２を５０６ｍｍで固定する一方で、鹸化処理での塗布幅Ｌ１と液晶層の塗布幅Ｌ３を変えて光学補償シートを製造した。具体的には、実施例１として、塗布幅Ｌ１（５２０ｍｍ）と塗布幅Ｌ３（５１０ｍｍ）の両方が塗布幅Ｌ２より大きくなるように設定した。また、実施例２として、塗布幅Ｌ３（５１０ｍｍ）が塗布幅Ｌ２よりも大きく、塗布幅Ｌ１（４９０ｍｍ）が塗布幅Ｌ２よりも小さくなるように設定した。さらに、比較例１として、塗布幅Ｌ１（５２０ｍｍ）が塗布幅Ｌ２よりも大きく、塗布幅Ｌ３（５００ｍｍ）が塗布幅Ｌ２よりも小さくなるように設定した。また、比較例２として、塗布幅Ｌ１（４９０ｍｍ）と塗布幅Ｌ３（５００ｍｍ）の両方が塗布幅Ｌ２よりも小さくなるように設定した。こうして製造した光学補償シートの膜剥がれを調べた。結果を表１に示す。
【０１２３】
【表１】
2005283670.tif 000005
表１から分かるように、塗布幅Ｌ３が塗布幅Ｌ２よりも小さい比較例１および２では、偏光板加工での鹸化処理時に膜剥がれが発生したのに対し、塗布幅Ｌ３が塗布幅Ｌ２よりも大きい実施例１および２では、偏光板加工での鹸化処理時における膜剥がれを防止することができた。すなわち、実施例１および２では、膜剥がれが生じない光学補償シートを製造することができた。
【０１２４】
また、表１から分かるように、塗布幅Ｌ３のみが塗布幅Ｌ２よりも大きい実施例２では、ラビング処理時の膜剥がれが発生したのに対して、塗布幅Ｌ１と塗布幅Ｌ３の両方が塗布幅Ｌ２よりも大きい実施例１では、ラビング処理時の膜剥がれの発生も確実に防止できた。したがって、実施例１は、実施例２よりも光学補償シートの製造工程における得率を向上させることができた。
【図面の簡単な説明】
【０１２５】
【図１】本発明が適用された光学補償シートの製造方法の構成を示すブロック図
【図２】塗布幅Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３の関係を示す光学補償シートの断面図
【図３】図２と異なる光学補償シートを示す断面図
【符号の説明】
【０１２６】
１０…シート、１２…鹸化処理部分、１４…配向膜層、１６…液晶層
【図１】
2005283670.tif 000006
【図２】
2005283670.tif 000007
【図３】
2005283670.tif 000008