(57)【要約】【課題】安価に大量製造できる調光装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】調光装置１０は、相対向する第１の基材１１及び第２の基材１２と、第１の基材１１及び第２の基材１２の間に、第１のグリッド電極１３、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１４、電解質膜１４及び第２のグリッド電極１６とが積層されてなる。この調光装置は、簡易に製造できるので、従来のような高価なＩＴＯを用いることないので、安価に提供することができ、汎用の窓、調光ブラインド等に用いて好適である。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
相対向する第１の基材及び第２の基材と、
第１の基材及び第２の基材の間に、第１のグリッド電極、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜、電解質膜及び第２のグリッド電極とが積層されてなることを特徴とする調光装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記グリッド電極がカーボン又は金又は銀のいずれか一種又はこれらの混合物であることを特徴とする調光装置。
【請求項３】
請求項２において、
前記グリッド電極の目開きが５μｍ〜２０ｍｍの範囲のいずれかであることを特徴とする調光装置。
【請求項４】
請求項２において、
前記グリッド電極のグリッド幅が０．５μｍ〜２０μｍの範囲のいずれかであることを特徴とする調光装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一つにおいて、
前記第１の基材及び第２の基材の両方又はいずれか一方が可撓性を有することを特徴とする調光装置。
【請求項６】
第１の基材の表面に第１のグリッド電極を形成する工程と、
前記第１のグリッド電極の表面に電解質膜を形成する工程と、
第２の基材の表面に第２のグリッド電極を形成する工程と、
前記第２のグリッド電極の表面にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程と、
第１のグリッド電極及び電解質膜が積層されてなる第１の基材と、
第２のグリッド電極及びエレクトロクロミック材料が積層されてなる第２の基材とを、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜と電解質膜とが対向するように貼合わせる貼合わせ工程とからなることを特徴とする請求項１の調光装置の製造方法。
【請求項７】
請求項６において、
前記貼合わせ工程の後に、前記貼合わせた一体化物を押圧する押圧工程を含むことを特徴とする請求項１の調光装置の製造方法。
【請求項８】
第１の基材の表面に第１のグリッド電極を形成する工程と、
前記第１のグリッド電極の表面に電解質膜を形成する工程と、
前記電解質膜の表面にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程と、
第２の基材の表面に第２のグリッド電極を形成する工程と、
第１のグリッド電極及び電解質膜及びエレクトロクロミック（ＥＣ）膜が積層されてなる第１の基材と、
第２のグリッド電極が形成されてなる第２の基材とを、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜と第２のグリッド電極とが対向するように貼合わせる貼合わせ工程と、
前記貼合わせた一体化物を押圧する押圧工程とからなることを特徴とする請求項１の調光装置の製造方法。
【請求項９】
第１の基材の表面に第１のグリッド電極を形成する工程と、
前記第１のグリッド電極の表面に電解質膜を形成する工程と、
前記電解質膜の表面にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程と、
前記エレクトロクロミック（ＥＣ）膜の表面に第２のグリッド電極を形成する工程と、
第１のグリッド電極及び電解質膜及びエレクトロクロミック（ＥＣ）膜及び第２のグリッド電極が積層されてなる第１の基材と、第２の基材とを貼合わせ一体化する貼合わせ工程と、
前記一体化物を押圧する押圧工程とからなることを特徴とする請求項１の調光装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項６乃至９のいずれか一つにおいて、
前記第１のグリッド電極及び第２のグリッド電極を形成する工程が印刷法により行うことを特徴とする調光装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項６乃至９のいずれか一つにおいて、
前記電解質膜の表面にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程が電解重合法又はゾルゲル法のいずれかにより行うことを特徴とする調光装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項６又は７において、
前記第１の基材がフィルム、ガラス、樹脂シートのいずれかであり、調光装置を連続して製造することを特徴とする調光装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項８において、
前記第１の基材及び第２の基材がフィルムであり、調光装置を連続して製造することを特徴とする調光装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項６乃至９のいずれか一つにおいて、
前記電解質膜の表面にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程が真空蒸着法・プラズマ重合法のいずれか一つの真空プロセスにより行なうことを特徴とする調光装置の製造方法。
【請求項１５】
請求項６乃至９のいずれか一つにおいて、
前記電解質膜の表面にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程がゾルゲル法により行なうことを特徴とする調光装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項６乃至９のいずれか一つにおいて、
前記電解質膜の表面にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程が、化学重合で得られたエレクトロクロミックな性質を有するポリマを可溶な溶媒に溶解させてキャスト成膜することにより行なうことを特徴とする調光装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電圧の印加により光の透過率を可逆的に変化させることが可能な調光機能を有する調光装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光の透過率を電気化学的に可逆的に変化させることができる調光機能を利用する試みが行われている。このような調光機能は、エレクトロクロミック効果を利用する方式が種々提案されている。このエレクトロミック効果とは、電流により可逆的に電気化学反応（酸化還元反応）を誘起し、その結果、光吸収スペクトルが変化することをいい、このような変化をする材料を一般にＥＣ材と称されている。このＥＣ材には、無機ＥＣ材と有機ＥＣ材とがあり、無機系ＥＣ材は色数が少ないことと濃度に限界があり、有機系ＥＣ材は無機系よりも色数が豊富であるが、液晶程の多彩さにかけるという問題がある。
【０００３】
前記エレクトロクロミー効果を利用する方式では、従来、ガラス基板上にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）透明電極／電極薄膜の２層構造を設けたものを用い、電解質液をこれらのガラス基板で挟み、端部を封止することが行われている。
この調光装置の一例を図１３に示す。図１３に示すように、従来の係る調光装置１は、相対向する第１の基材２及び第２の基材３と、第１の基材２及び第２の基材３の間に、ＩＴＯ４、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜５、電解質膜６及びＩＴＯ７とが積層されてなるものである。
そして、電圧を調整することで、色調変化を行っていた。
【０００４】
しかしながら、ＩＴＯはガラス基板上に真空蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等の真空技術を用いた薄膜形成法その他の製造により形成するので、真空処理等が必要となり、また変形等の点でガラス等の硬い基材への処理しかなされていなかった（特許文献１、非特許文献１）。
一方、硬い基材の代わりに、従来においても、可撓性を有するフィルム状として調光ブラインドについての提案がある（特許文献２）。
【０００５】
【特許文献１】特開６−９５１７０号公報
【特許文献２】特開６−１７５８２号公報
【非特許文献１】Ｓｍａｒｔ  Ｓｔｒａｕｃｔｕｒｅｓ  ａｎｄ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ  ２００２：Ｅｌｅｃｔｏｒｏａｃｔｉｖｅ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ａｃｔｕａｔｏｒｓ  ａｎｄ  Ｄｅｖｉｃｅｓ（ＥＡＰＡＤ）ＹｏｓｅｐｈＢａｒ−Ｃｏｈｅｎ，Ｅｄｉｔｏｒ，ＰｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓｏｆＳＰＩＥ  Ｖｏｌ．４６９５（２００２）４４２−４５０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献２の提案においては、フィルム状の調光ブラインドの開示はあるものの、従来と同様にＩＴＯを用い、スパッタ法で基板フィルム上に蒸着することがその実施例に開示されており、枚葉処理でしかフィルム状の調光ブラインドを得ることができない、という問題がある。このため、工業的にしかも安価に大量製造することはできないという問題がある。
【０００７】
また、ＥＣ材料は酸化還元により着色するので、着色のためにガスの発生が伴う結果、この発生したガスはＩＴＯの劣化を引き起こし、長期間の繰り返し（例えば１万回）により、黒っぽい着色を呈するという、問題がある。また、ＩＴＯにおいても電流が通り易い個所の色調が特に変化するので、色調も不均一となるという問題がある。
【０００８】
さらに、ＩＴＯ処理はコストと設備が大掛かりとなるので、ＩＴＯが存在しない安価にしかも連続して製造可能な調光装置の出現が望まれている。
【０００９】
本発明は、前記問題に鑑み、安価に大量製造できる調光装置及びその製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上述した課題を解決するための本発明の第１の発明は、相対向する第１の基材及び第２の基材と、第１の基材及び第２の基材の間に、第１のグリッド電極、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜、電解質膜及び第２のグリッド電極とが積層されてなることを特徴とする調光装置にある。
【００１１】
第２の発明は、第１の発明において、前記グリッド電極がカーボン又は金のいずれかであることを特徴とする調光装置にある。
【００１２】
第３の発明は、第２の発明において、前記グリッド電極の目開きが５μｍ〜２０ｍｍの範囲であることを特徴とする調光装置にある。
【００１３】
第４の発明は、第２の発明において、前記グリッド電極のグリッド幅が０．５μｍ〜２０μｍの範囲であることを特徴とする調光装置にある。
【００１４】
第５の発明は、第１乃至４のいずれか一つの発明において、前記第１の基材及び第２の基材の両方又はいずれか一方が可撓性を有することを特徴とする調光装置にある。
【００１５】
第６の発明は、第１の基材の表面に第１のグリッド電極を形成する工程と、前記第１のグリッド電極の表面に電解質膜を形成する工程と、第２の基材の表面に第２のグリッド電極を形成する工程と、前記第２のグリッド電極の表面にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程と、第１のグリッド電極及び電解質膜が積層されてなる第１の基材と、第２のグリッド電極及びエレクトロクロミック材料が積層されてなる第２の基材とを、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜と電解質膜とが対向するように貼合わせる貼合わせ工程とからなることを特徴とする第１の発明の調光装置の製造方法にある。
【００１６】
第７の発明は、第６の発明において、前記貼合わせ工程の後に、前記貼合わせた一体化物を押圧する押圧工程を含むことを特徴とする第１の発明の調光装置の製造方法にある。
【００１７】
第８の発明は、第１の基材の表面に第１のグリッド電極を形成する工程と、前記第１のグリッド電極の表面に電解質膜を形成する工程と、前記電解質膜の表面にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程と、第２の基材の表面に第２のグリッド電極を形成する工程と、第１のグリッド電極及び電解質膜及びエレクトロクロミック（ＥＣ）膜が積層されてなる第１の基材と、第２のグリッド電極が形成されてなる第２の基材とを、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜と第２のグリッド電極とが対向するように貼合わせる貼合わせ工程と、前記貼合わせた一体化物を押圧する押圧工程とからなることを特徴とする第１の発明の調光装置の製造方法にある。
【００１８】
第９の発明は、第１の基材の表面に第１のグリッド電極を形成する工程と、前記第１のグリッド電極の表面に電解質膜を形成する工程と、前記電解質膜の表面にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程と、前記エレクトロクロミック（ＥＣ）膜の表面に第２のグリッド電極を形成する工程と、第１のグリッド電極及び電解質膜及びエレクトロクロミック（ＥＣ）膜及び第２のグリッド電極が積層されてなる第１の基材と、第２の基材とを貼合わせ一体化する貼合わせ工程と、前記一体化物を押圧する押圧工程とからなることを特徴とする第１の発明の調光装置の製造方法にある。
【００１９】
第１０の発明は、第６乃至９のいずれか一つの発明において、前記第１のグリッド電極及び第２のグリッド電極を形成する工程が印刷法により行うことを特徴とする調光装置の製造方法にある。
【００２０】
第１１の発明は、第６乃至９のいずれか一つの発明において、前記電解質膜の表面にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程が電解重合法又はゾルゲル法のいずれかにより行うことを特徴とする調光装置の製造方法にある。
【００２１】
第１２の発明は、第６又は７の発明において、前記第１の基材がフィルム、ガラス、樹脂シートのいずれかであり、調光装置を連続して製造することを特徴とする調光装置の製造方法にある。
【００２２】
第１３の発明は、第８の発明において、前記第１の基材及び第２の基材がフィルムであり、調光装置を連続して製造することを特徴とする調光装置の製造方法にある。
【００２３】
第１４の発明は、第６乃至９のいずれか一つの発明において、前記電解質膜の表面にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程が真空蒸着法・プラズマ重合法のいずれか一つの真空プロセスにより行なうことを特徴とする調光装置の製造方法にある。
【００２４】
第１５の発明は、第６乃至９のいずれか一つの発明において、前記電解質膜の表面にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程がゾルゲル法により行なうことを特徴とする調光装置の製造方法にある。
【００２５】
第１６の発明は、第６乃至９のいずれか一つの発明において、前記電解質膜の表面にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜を形成する工程が、化学重合で得られたエレクトロクロミックな性質を有するポリマを可溶な溶媒に溶解させてキャスト成膜することにより行なうことを特徴とする調光装置の製造方法にある。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、グリッド電極により電流を付与できるので、従来のようなＩＴＯを用いることなく、簡易な製造となり、安価に製造することができる。
【００２７】
また、印刷法でグラビアオフセット印刷法は、重ね塗り印刷が可能な方法であり、スクリーン印刷の様な滲みによる線の不均一が発生しにくい。また、反転印刷法は離型性のブランケット上にインキ薄膜を形成し、版を押し当てて型抜きし、ブランケット上に残ったパターンを転写する印刷方法である。この方法は、例えばカーボンナノ粉末や金などの導電体微粉末をベースとしてインク化した材料を用いることにより線幅を０．５μｍ程度のグリッド印刷が可能となるので、連続した製造も可能となり、大量生産に適している。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施の形態における構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、あるいは実質的に同一のものが含まれる。
【００２９】
［実施の形態１］
本発明による実施の形態１に係る調光装置について、図面を参照して説明する。
図１は、実施の形態１に係る調光装置の概略図である。
図１に示すように、本実施の形態に係る調光装置１０は、相対向する第１の基材１１及び第２の基材１２と、第１の基材１１及び第２の基材１２の間に、第１のグリッド電極１３、電解質膜１４、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５、及び第２のグリッド電極１６とが積層されてなるものである。
【００３０】
前記エレクトロクロミック（ＥＣ）膜としては、特に限定されるものではないが、有機エレクトロクロミック（ＥＣ）膜とすることが好ましい。
具体的にはポリピロール、ポリチオフェン、Ｓｉ導入ポリチオフェン、ポリ（４，４‘−ジ（２−チェニル）ビフェニル）、ポリイソチアナフテン、ポリアニリンを挙げることができる。ここで、ポリピロールはアニオンドープ量により、黄色から褐色そして青色に変化する。ポリチオフェンは中性で赤、酸化状態で青に変化する。Ｓｉ導入ポリチオフェンは、中性で黄色、酸化状態で緑に変化する。ポリ（４，４‘−ジ（２−チェニル）ビフェニル）は緑である。ポリイソチアナフテンは中性で淡色、酸化状態で濃色に変化する。ポリアニリンは淡黄色から青色そして紺色に変化する。
また、有機以外の無機エレクトロクロミック（ＥＣ）膜材料としては、例えばＷＯ3、ＭｏＯ3、ＶＯ2，Ｖ2Ｏ，Ｎｂ2Ｏ5、並びにＩｒ、Ｒｈ，Ｎｉ，Ｃｏｎｏ各水酸化物又は酸化物、ＳｉＯ、ＺｒＯ2，Ｔａ2Ｏ5，Ｃｒ2Ｏ3，ＬｉＦ，ＭｇＦ2，ＣａＦ2，ＬｉＡｌＦ4，Ｈ3ＰＯ4（ＷＯ3）12・２９Ｈ2Ｏ等のゲル電解質、水―硫酸、グリセリン−硫酸、プロピ連カーボネート−ＬｉＣｌＯ等の液体電解質を挙げることができる。
【００３１】
また、前記第１の基材１１及び第２の基材１２の厚さは可撓性を有する厚さであれば、特に限定されるものではないが、０．２〜１ｍｍとするのが好ましい。また、第１のグリッド電極１３と第２のグリッド電極１６の厚さは、１０μｍ以下とするのが好ましい。
また、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５と電解質膜１４とは従来と同様であればよく、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５は１μｍ以下、電解質膜１４は５μｍ以下とすればよい。
【００３２】
前記第１のグリッド電極１３と第２のグリッド電極１６の格子の目開きは５μｍ〜２０ｍｍの範囲とすればよく、より好ましくは５０μｍ〜５ｍｍ、更に好ましくは１０００μｍ〜０．５ｍｍとすればよい。
【００３３】
また、前記第１のグリッド電極１３と第２のグリッド電極１６のグリッド幅は０．５μｍ〜２０μｍの範囲とすればよい。この幅は印刷法による場合にはインキ幅と同様となる。好適には０．５〜５μｍ前後とすればよい。
【００３４】
また、第１のグリッド電極１３と第２のグリッド電極１６の材質はカーボン又は金又は銀のいずれか一種又はこれらの混合物とすればよい。
この結果、従来のようなＩＴＯと異なり、簡易な印刷法によりＥＣ材に通電することができるので、大量生産が可能となる。
【００３５】
また、印刷法もグラビアオフセット等の導電性材料を高精度に印刷できる手法を「適用することで、とすることで、寸法精度が高く、インク幅もばらつきがないものとなる。更に、反転印刷法とすることでグラビアオスセット以上に線幅を小さくする微細印刷が可能となり、電解質への均一な電流供給が可能となる。
【００３６】
前記電解質膜を形成する電解質液としては、例えばＬｉＣｌＯ4 、Ｎａ2 ＳＯ4 、ＬｉＮＯ3 等の無機塩類の１種または２種以上を、プロトン性溶媒、例えば水、アルコール等、非プロトン性有機溶媒、例えばエチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、テトラヒドロフラン、アセトン等の溶媒１種または２種以上に溶解させたものを使用するのが好ましい。電解質液の濃度は、好ましくは０．１〜１０モル／リットルとすればよい。
【００３７】
次に、本実施の形態にかかる調光装置の製造工程について説明する。
【００３８】
図２は調光装置の製造工程図である。
第１の調光装置の製造方法は、シート状の第１の基材１１の表面に第１のグリッド電極１３を形成する工程（Ｓ１０１）と、前記第１のグリッド電極１３の表面に電解質膜１４を形成する工程（Ｓ１０２）と、シート状の第２の基材１２の表面に第２のグリッド電極１６を形成する工程（Ｓ１０３）と、前記第２のグリッド電極１６の表面にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５を形成する工程（Ｓ１０４）と、第１のグリッド電極１３及び電解質膜１４が積層されてなる第１の基材１１と、第２のグリッド電極１６及びエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５が積層されてなる第２の基材１２と、を、電解質膜１４とエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５とが対向するように貼合わせる貼合わせ工程（Ｓ１０５）と、前記貼合わせた一体化物を押圧する押圧工程（Ｓ１０６）とからなるものである。
【００３９】
図３はその製造工程の模式図である。
図３に示すように、第１の基材１１は電解質を形成するので、ゲル電解質シート印刷としている。第２の基材１２はエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５を形成するのでＥＣシート印刷としている。
ここで、ゲル電解質シート印刷では、第１の基材１１に第１のグリッド電極１３を形成する。この形成はグラビアオフセット印刷としている。なお、別途グリッド電極１３にリード線３０を配設している。
【００４０】
次いで、ゲル状の電解質膜１４を形成する。この電解質膜１４の形成は、コーティング法、ディスペンサー法、グラビアオフセット印刷法、反転印刷法のいずれであってもよい。グラビアオフセット印刷の場合にはグリッド電極との重ね塗りが可能となり、反転印刷の場合は、より狭いインク幅となりグリッド電極の面の均一性が向上する。
次いで、電解質膜１４の周囲に接着用の接着部３１を形成する。
【００４１】
一方、第２の基材１２には第２のグリッド電極１６を形成し、グリッド電極１６の周囲に所定間隔を有して切断し、切断済みグリッド電極印刷シート２０としておく。
その後、第２のグリッド電極１６に電解重合法によりエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５を形成する。
【００４２】
その後、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５を形成したシートを貼合せ処理４０する。なお、この貼合わせの際には、所定の位置決めをおこなうようにしている。
そして、加圧ロール４１により加圧し、その後紫外線照射又は加熱処理することで接着部３１を接着硬化処理４２させる。切断処理４３して調光装置１０とする。
【００４３】
図４−１、図４−２にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５の形成の電解重合の概略を示す。
先ず、第２のグリッド電極１６を形成した第２の基材１２に対し、枠本体５１と電極つき抑え枠５２とで挟み込む。
この状態で電解槽５３内のエレクトロクロミック（ＥＣ）材料に浸漬させる。前記電解槽５３は図示しない攪拌及び加熱装置を備えている。またはＥＣ材料を別途供給するようにしてもよい。
この電解装置を用いて所定条件で電解重合させて、第２のグリッド電極１６の表面にＥＣ膜１５を形成する。
【００４４】
図５は貼合わせの状態の概略図である。図５に示すように、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５と電解質膜１４とを対向するようにして接着部３１により貼合わせる。
【００４５】
図６は押圧の状態図である。図６に示すように、加圧ロール４１により、加圧することで、余剰のゲル電解質及び空気を追い出すようにしている。
【００４６】
ここで、前記エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５の形成では、電解重合法の場合を説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。他のエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５の形成としては、例えば真空蒸着法、プラズマＣＶＤ法、プラズマ重合法、スパッタリング法等の真空プロセス、または、ゾルゲル法またはキャスト成膜法等を挙げることができる。以下その概略を説明する。
【００４７】
また、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜の成膜方式は、用いる材料と所望の膜厚均一性やセルサイズにより種々選択可能である。例えば，電解重合法では前述したように、エレクトロクロミック材料を電気化学的に薄膜成膜することが可能である。また、印加電圧、電流を適宜調整することによりポロシティー等の膜質をコントロールすることが可能であり、なお且つ通電電荷量の制御によりエレクトロクロミック（ＥＣ）膜の堆積量（膜厚）を制御することが可能である。
【００４８】
また、真空プロセスに比べて、エレクトロクロミック材料に熱的な負担が無いため、所定の化学構造のエレクトロクロミック（ＥＣ）膜が得られるが、その原理上、グリッド電極上に優先的に成膜し易いため、電解重合条件の精密な制御が必要となる。
【００４９】
また、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜の成膜には、真空蒸着やプラズマ重合法等の真空プロセスを用いることもできる。
【００５０】
図９に真空蒸着法にかかる装置の概略を示す。図９に示すように、高真空ポンプ６０を備えた真空チャンバ６１内に、加熱源６２を配設すると共に、その内部にエレクトロクロミック材料６３が設けられている。そして、高真空下において、処理前のグリッド電極を形成した処理前グリッド電極ロール６４から他方の処理後グリッド電極ロール６５にシートを送り出すようにしている。そして、エレクトロクロミック材料６３をグリッド電極１６に正対させておき、例えば抵抗加熱やランプ加熱等の加熱源６２によりエレクトロクロミック材料６３を加熱して気化させ、グリッド電極１６上にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５を成膜する。
【００５１】
図１０にプラズマ重合法にかかる装置の概略を示す。図１０に示すように、低真空ポンプ７０を有する真空チャンバ７１内に、電極７２が配設され、該電極７２内にエレクトロミック材料モノマー７３を供給するタンク７４が設けられている。そして、低真空下においた処理前グリッド電極ロール６４を繰り出し、プラズマ電源７５から電圧を電極７２に印加し、エレクトロクロミック材料モノマー７３の蒸気を低温プラズマ７７中に導入して原料モノマー７３をプラズマにより活性化させて重合すると共に、グリッド電極１６上にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５を成膜する。
【００５２】
図１１に連続した電解重合法にかかる装置の概略を示す。エレクトロミック材料の電解重合液８１を有する電解重合槽８２内に、処理前グリッド電極ロール６４からシートを繰り出すようにしている。そして、エレクトロミック材料の重合液８１を電解重合法によりグリッド電極１６上にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５を成膜する。
【００５３】
図９及び図１０に示す真空蒸着法とも、図１１に示した電解重合に比べて膜厚の均一性に優れるが、熱やプラズマの影響によりポリマの化学構造が部分的に変質する可能性がないように、温度条件やプラズマ条件（放電出力・真空度）を管理している。
【００５４】
図１２にキャスト成膜法にかかる装置の概略を示す。
図１２に示すように、処理前グリッド電極ロール６４からシートを繰り出し、エレクトロクロミック材料液９１を滴下し、成膜ブレード９２により、成膜する。その後、乾燥熱源９３，９３により乾燥処理し、グリッド電極１６上にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５を成膜する。
なお、このキャスト成膜法は、用いるエレクトロクロミック材料に可溶な溶媒を用いることが必要である。例えばポリアニリンはＮＭＰ（Ｎ−メチルピロリドン）に可溶である。
【００５５】
尚、連続式について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、枚葉式に適用するようにしてもよい。
【００５６】
［実施の形態２］
第２の調光装置の製造方法は、第１の基材１１の表面に第１のグリッド電極１３を形成する工程と、前記第１のグリッド電極１３の表面に電解質膜１４を形成する工程と、前記電解質膜１４の表面にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５を形成する工程と、第２の基材１２の表面に第２のグリッド電極１６を形成する工程と、第１のグリッド電極１３及び電解質膜１４及びエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５が積層されてなる第１の基材１１と、第２のグリッド電極１６が形成されてなる第２の基材１２とを、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５と第２のグリッド電極１６とが対向するように貼合わせる貼合わせ工程と、前記貼合わせた一体化物を押圧する押圧工程とからなるものである。
【００５７】
この方法では、第２の基材１３に第２のグリッド電極１６のみを形成しておくことでいいので、第１の基材側への第１のグリッド電極１３、電解質膜１４、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５の製造を一貫して行うことができる。
【００５８】
図７はその製造工程の模式図である。
図７に示すように、第１の方法において、電解質膜１４を形成した後に、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５を形成する。
このＥＣ形成は電解質膜と同様に、コーティング法、ディスペンサー法、グラビアオフセット印刷法、反転印刷法のいずれであってもよい。グラビアオフセット印刷の場合にはグリッド電極との重ね塗りが可能となる。
次いで、電解質膜１４の周囲に接着用の接着部３１を形成する。
【００５９】
その後、エレクトロクロミック材料１５を形成した第１の基材１１と、第２のグリッド電極１６を形成した第２の基材１２からなるせ格子印刷済みシートロール２１とを貼合せ処理４０する。
格子印刷済みシートロール２１は、第２の基材１２に第２のグリッド電極１６を形成しておいたものを予め別途形成しておき、ロールに巻きとっておいたものである。
そして、加圧ロール４１により加圧し、その後紫外線照射又は加熱処理することで接着部３１を接着硬化処理４２させる。切断処理４３して調光装置１０とする。
【００６０】
［実施の形態３］
第３の調光装置の製造方法は、第１の基材１１の表面に第１のグリッド電極１３を形成する工程と、前記第１のグリッド電極１３の表面に電解質膜１４を形成する工程と、前記電解質膜１４の表面にエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５を形成する工程と、前記エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５の表面に第２のグリッド電極１６を形成する工程と、第１のグリッド電極１３及び電解質膜１４及びエレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５及び第２のグリッド電極１６が積層されてなる第１の基材１１と、第２の基材１２とを貼合わせ一体化する貼合わせ工程と、前記一体化物を押圧する押圧工程とからなるものである。
【００６１】
図８はその製造工程の模式図である。
図８に示すように、第２の方法において、エレクトロクロミック（ＥＣ）膜１５を形成した後に第２のグリッド電極１６も形成する。
そして、第２のグリッド電極１６を覆うように第２の基材１２を貼り合せ処理４０する。
そして、加圧ロールにより加圧することで、粗大空気の巻き込み防止と各層の密着性が向上する。また、シートを使わない硬質板の場合も、密着性が良くなり性能が向上する。
その後紫外線照射又は加熱処理することで接着部３１を接着硬化処理４２させる。切断処理４３して調光装置１０とする。
【００６２】
この方法では、第２の基材１３にはなにも形成することがないので、シート状の基材を用い、途中で切断作業を行うことがなく、一連の工程を完全に連続して行うことができる。
【００６３】
得られた調光装置は、各種移動体や建築物の窓、窓の内側に設けるブラインド等の調光が必要な個所に設けることができる。
【産業上の利用可能性】
【００６４】
以上のように、本発明にかかる調光装置は、簡易に製造できるので、安価に提供することができ、汎用の窓、調光ブラインド等に用いて適している。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】実施の形態１にかかる調光装置の概略図である。
【図２】実施の形態１にかかる調光装置の工程図である。
【図３】実施の形態１にかかる第１の調光装置の製造工程の工程概略図である。
【図４−１】実施の形態１にかかる電解重合の概略図である。
【図４−２】実施の形態１にかかる電解重合の概略図である。
【図５】実施の形態１にかかる調光装置の貼合わせ工程の概略図である。
【図６】実施の形態１にかかる調光装置の押圧工程の概略図である。
【図７】実施の形態２にかかる調光装置の製造工程の工程概略図である。
【図８】実施の形態３にかかる調光装置の製造工程の工程概略図である。
【図９】真空蒸着法にかかる装置の概略図である。
【図１０】プラズマ蒸着法にかかる装置の概略図である。
【図１１】電解重合法にかかる装置の概略図である。
【図１２】キャスト成膜法にかかる装置の概略図である。
【図１３】従来技術にかかる調光装置の製造工程の工程概略図である。
【符号の説明】
【００６６】
１０  調光装置
１１  第１の基材
１２  第２の基材
１３  第１のグリッド電極
１４  電解質膜
１５  エレクトロクロミック（ＥＣ）膜
１６  第２のグリッド電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４−１】
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【図４−２】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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