(57)【要約】【課題】主走査方向の光源間ビームピッチの状態を視覚的に把握できるようにし、機械精度に起因するバラツキを抑えることができるようにする。【解決手段】複数の光源およびカップリングレンズとの相対位置が調整・保持されたマルチビーム光源装置、前記カップリングレンズから射出された複数本の光束を偏向する偏向器、該偏向器からのビームを被走査面上に導く走査光学系、及び前記偏向器と前記走査光学系とマルチビーム光源装置の位置関係を保持するように前記各部を収納する筐体とを備えたマルチビーム走査装置において、被走査面上の主走査方向の光源間ビームピッチの状態を視覚的に観察可能な画像イメージとして出力することができるようにした。【選択図】図８
2005338575.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の光源およびカップリングレンズとの相対位置が保持されたマルチビーム光源装置と、
前記カップリングレンズから出射された複数本の光束を偏向する偏向器と、
この偏向器によって偏向されたビームを被走査面上に導く走査光学系と、
前記偏向器と前記走査光学系とマルチビーム光源装置の位置関係を保持した状態で前記各部を収納する筐体と、
を備えたマルチビーム走査装置において、
前記被走査面上を主走査方向に走査する光源間ビームピッチの状態を視覚的に観察可能な画像イメージを形成するように前記光源を点灯制御する制御手段を備えていることを特徴とするマルチビーム走査装置。
【請求項２】
前記複数の光源は、前記偏向器に向かう光束が所定の開き角を有するように配置されていることを特徴とする請求項１記載のマルチビーム走査装置。
【請求項３】
前記主走査方向の光源間ビームピッチの状態を視覚的に観察可能な画像イメージは、前記複数の光源を交互に主走査方向にある一定間隔で点灯することにより形成することを特徴とする請求項１記載のマルチビーム走査装置。
【請求項４】
前記主走査方向の光源間ビームピッチの状態を視覚的に観察可能な画像イメージは、副走査方向に隣接するビームを交互に主走査方向にある一定間隔で点灯することにより形成することを特徴とする請求項１記載のマルチビーム走査装置。
【請求項５】
前記複数の光源は半導体レーザであることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載のマルチビーム走査装置。
【請求項６】
前記複数の光源は同一発光点間隔を持つ半導体レーザアレイであることを特徴とする請求項請求項１ないし４のいずれか１項に記載のマルチビーム走査装置。
【請求項７】
前記主走査方向の光源間ビームピッチの状態を視覚的に観察可能な画像イメージは、前記複数の半導体レーザアレイ内のうち少なくとも１つの光源を半導体レーザアレイ毎に交互に主走査方向にある一定間隔で点灯することにより形成することを特徴とする請求項６記載のマルチビーム走査装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれか１項に記載のマルチビーム走査装置と、
前記視覚的に観察可能な画像イメージを形成するように点灯された光源によって被走査面上に書き込まれた画像を顕像化する手段と、
を備えていることを特徴とする画像形成装置。
【請求項９】
前記顕像化する手段が、感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段、クリ−ニング手段より選ばれる少なくとも１つの手段を一体に支持し、画像形成装置本体に着脱自在に装着されるプロセスカ−トリッジからなることを特徴とする請求項８記載の画像形成装置。
【請求項１０】
前記制御手段は、前記光源を点灯制御し、前記光源間ビームピッチの状態を視覚的に観察可能な画像イメージを形成させるモードを有することを特徴とする請求項８または９記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マルチビーム走査装置、およびこのマルチビーム走査装置を用いた画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザプリンタ、デジタル複写機、ファクシミリ等の画像形成装置においては、最近、記録速度の高速化および記録密度の高密度化が要求されている。この場合、シングルビーム方式のビーム走査装置で高速化を実現しようとすると、高速回転可能な偏向器が必要となる。このような偏向器は高価であるばかりでなく、高速回転に伴なう風切り音等の騒音を低減させるための防音装置を必要とする等コストアップとなってしまう。そこで、昨今では、複数のレーザビームで感光体等の像担持体上を同時に走査するマルチビーム走査装置が採用されている。
【０００３】
マルチビーム走査装置においては目標とするビームピッチ（走査線間隔）を得ることが画像品質上必要である。特に最近では高画質を得るために高密度化し、１２００ｄｐｉ等の走査線密度が要求されている。このような高画質を得るための高密度化する技術として、複数の光源とカップリングレンズとを主走査方向及び副走査方向に垂直な軸を中心として回転させる技術が知られている。
【０００４】
また、高価なビーム合成光学系を不要とするために、特許文献１には、複数の光源を実質的に偏向回転面内に配備し各光源からのビームをコリメートしてそれぞれ平行ビームとなし、偏向器の偏向反射面へ向かって互いに近づきつつ入射させる構成が開示されている。
【０００５】
さらに、特許文献２には、複数の光源を使用した場合に、光源の波長差に起因して走査長さが変化することから、走査長さの整合性を良くした技術が開示されている。
【特許文献１】特開平８−３０４７２２号公報
【特許文献２】特開２０００−３３００４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来から、特許文献１に開示されているようにマルチビーム走査装置を使用する際、高価なビーム合成光学系を不要としたり、特許文献２に開示されているように光源の波長差に起因する走査長さの整合性を向上させる技術が知られているが、光学素子等の形状パラメータによる主走査位置にバラツキを生じることあり、このようなバラツキの発生は光学素子および光学系ハウジングの機械精度などに起因するもので、大なり小なりある程度の発生はいたしかたないと考えられてきた。
【０００７】
本発明はこのような従来技術の実情に鑑みてなされたもので、その目的は、記録速度の高速化および記録密度の高密度化を達成するとともに、高画質を形成する上で不可欠な高精度な主走査方向の光源間ビームピッチの状態を視覚的に把握できるようにし、機械精度に起因するバラツキも抑えることができるマルチビーム走査装置及び画像形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記目的を達成するため、第１の手段は、複数の光源およびカップリングレンズとの相対位置が保持されたマルチビーム光源装置と、前記カップリングレンズから出射された複数本の光束を偏向する偏向器と、この偏向器によって偏向されたビームを被走査面上に導く走査光学系と、前記偏向器と前記走査光学系とマルチビーム光源装置の位置関係を保持した状態で前記各部を収納する筐体とを備えたマルチビーム走査装置において、前記被走査面上を主走査方向に走査する光源間ビームピッチの状態を視覚的に観察可能な画像イメージを形成するように前記光源を点灯制御する制御手段を備えていることを特徴とする。
【０００９】
第２の手段は、第１の手段において、前記複数の光源は、前記偏向器に向かう光束が所定の開き角を有するように配置されていることを特徴とする。
【００１０】
第３の手段は、第１の手段において、前記主走査方向の光源間ビームピッチの状態を視覚的に観察可能な画像イメージは、前記複数の光源を交互に主走査方向にある一定間隔で点灯することにより形成することを特徴とする。
【００１１】
第４の手段は、第１の手段において、前記主走査方向の光源間ビームピッチの状態を視覚的に観察可能な画像イメージは、副走査方向に隣接するビームを交互に主走査方向にある一定間隔で点灯することにより形成することを特徴とする。
【００１２】
第５の手段は、第１ないし第４の手段において、前記複数の光源は半導体レーザであることを特徴とする。
【００１３】
第６の手段は、第１ないし第４の手段において、前記複数の光源は同一発光点間隔を持つ半導体レーザアレイであることを特徴とする。
【００１４】
第７の手段は、第６の手段において、前記主走査方向の光源間ビームピッチの状態を視覚的に観察可能な画像イメージは、前記複数の半導体レーザアレイ内のうち少なくとも１つの光源を半導体レーザアレイ毎に交互に主走査方向にある一定間隔で点灯することにより形成することを特徴とする。
【００１５】
第８の手段は、第１ないし第７の手段に係るマルチビーム走査装置と、前記視覚的に観察可能な画像イメージを形成するように点灯された光源によって被走査面上に書き込まれた画像を顕像化する手段とから画像形成装置を構成したことを特徴とする。
【００１６】
第９の手段は、第８の手段において、前記顕像化する手段が、感光体と、帯電手段、現像手段、転写手段、クリ−ニング手段より選ばれる少なくとも１つの手段を一体に支持し、画像形成装置本体に着脱自在に装着されるプロセスカ−トリッジからなることを特徴とする。
【００１７】
第１０の手段は、第８または第９の手段において、前記制御手段が、前記光源を点灯制御し、前記光源間ビームピッチの状態を視覚的に観察可能な画像イメージを形成させるモードを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、主走査方向の光源間ビームピッチの状態を視覚的に観察可能な画像イメージとして出力することが可能なので、画像形成装置の製造工程で調整者が、また市場にて保守エンジニアが容易に主走査方向の光源間ビームピッチの状態を把握するできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を参照し、本発明の実施形態について説明する。
【００２０】
図１は、本発明の実施形態に係る画像形成装置としてのプリンタの概略構成図である。同図において、プリンタ１０１は、着脱可能に装着されるプロセスカートリッジ１０２、光学系（マルチビーム走査装置）１０１ａ、給紙コロ１０１ｂ、記録紙１０３を収納する給紙カセット１０１ｃ、転写ローラ１０１ｄ、定着ローラ（定着部）１０１ｅ等の画像形成要素から構成される。プロセスカートリッジ１０２は、帯電ローラ１０２ａ、現像手段及びトナー収納部１０２ｂ、クリーニング手段及び廃トナー回収部１０２ｃ、感光体１０２ｄ等で構成されている。光学系１０１ａは、ポリゴンモーター、ポリゴンミラー、Ｆθレンズ、レーザダイオード、ミラー等で構成される。これらの各部及び各要素は公知なので、詳細な説明は省略する。
【００２１】
このような構成のプリンタ１０１では、給紙カセット１０１ｃに収納された記録紙１０３は、給紙コロ１０１ｂにより、感光体１０２ｂへ搬送される。感光体１０２ｂは、図示時計方向に回転駆動され、その際、帯電ローラ１０２ａによって帯電され、光学系１０１ａからレーザー光が照射されて感光体１０２ｄ上に静電潜像が形成される。この静電潜像は、現像手段及びトナー収納部１０２ｂを通る際に、トナーによって可視像化される。可視像は転写ローラ１０１ｄにより、感光体１０２ｂの外周に接するように搬送された記録紙１０３に転写され、トナー像が転写された記録紙１０３は定着ローラ１０１ｅに搬送され、記録紙１０３上の可視像は定着され、プリンタの１０１の外部に排出される。
【００２２】
図２はプリンタ本体に着装される前記プロセスカートリッジ１０２の斜視図である。このプロセスカートリッジ１０２は、帯電ローラ１０２ａ、現像手段及びトナー収納部１０２ｂ、クリーニング手段及び廃トナー回収部１０２ｃ、感光体１０２ｂを一体（ＡＩＯ−All IN ONE）にしたものである。また、このプロセスカートリッジ１０２にはメモリタブ１２２が実装されている。メモリタブ１０２には不揮発性メモリが搭載されており、このメモリには、各感光体ユニット（プロセスカートリッジユニット）の制御に必要な情報、カートリッジＩＤ、製造年月日、使用開始年月日、リサイクル回数、コピー枚数、現在の年月日等が記憶されている。なお、メモリタブ１２２の変わりに、ＩＣチップを搭載したプリント基板または非接触型ＩＣチップを搭載したプリント基板を実装しても良い。
【００２３】
図３は光学系としてのマルチビーム走査装置１０１ａと感光体ドラム８（１０２ｄ）との関係を示す概略構成図である。本実施形態においては８ビーム走査を行なうものを例に取っており、光源部には、それぞれが４つの発光点を有する２つの半導体レーザアレイ１ａ，１ｂが用いられている。マルチビーム走査装置１０１ａはこれら半導体レーザアレイ１ａ，１ｂと、それぞれが４つの光源を１つにカップリングするカップリングレンズ２ａ，２ｂと、ビームのスポット形状を決めるための開孔が形成されたアパーチャ部材３と、ビームを副走査方向に集束するシリンダレンズ４と、周面に複数の偏向反射面５ａが形成された偏向器（ポリゴンミラー）５と、ｆθレンズなどで構成された走査光学レンズ系６と、走査光学レンズ系６で所定の変換が行われたビームを感光体ドラム８側に反射するミラー７等から構成されている。カップリングレンズ２ａ，２ｂは複数の光源からの発散ビームをカップリング、すなわち以後の光学系に適したビーム形態、例えば平行ビームや弱い発散ビーム、弱い収束ビーム等するものである。カップリングレンズと光源との対応関係は１対１の対応関係でもよいし、１個のカップリングレンズが複数の光源からのビームをカップリングするようにすることもできる。
【００２４】
そして、半導体レーザアレイ１ａ，１ｂから発光した各々のレーザビームは、カップリングレンズ２ａ，２ｂにより、４つの光源に対して１つのカップリングレンズに対応してそれぞれカップリングされる。カップリングされた各ビームは、アパーチャ部材３を通過してビーム規制された後、各ビームに共通したシリンダレンズ４により副走査方向に集束される。偏向器５の偏向反射面５ａの近傍に主走査方向に長い線像として結像された後、偏向器５の偏向反射面５ａにより反射される。各々のレーザビームに対応する複数の線像は互いに副走査方向に分離している。
【００２５】
偏向器５の偏向反射面５ａにより反射される各光束は、偏向器５の等速回転に伴い、各々等角速度的に偏向し、走査光学レンズ系６（図ではｆθレンズ等のレンズ系で構成されているが、これ以外凹面鏡等で構成することもできる）により、ミラー７を介して像担持体である感光体ドラム８上に副走査方向に互いに分離した光スポットとして集光され、感光体ドラム８上を略等速度的に走査する。なお、ここでは２つの半導体レーザアレイの例を示しているが、光源である半導体レーザアレイとカップリングレンズの対を増やして、より多いビーム数の構成とすることも容易に可能である。
【００２６】
カップリングレンズ２ａ，２ｂによりカップリングされた各光束の主光線は図示のように主走査方向において偏向反射面５ａ側に向かって次第に近接し、偏向反射面５ａの近傍で主走査方向において互いに交わる。カップリングされた各光束が、副走査方向から見て交差部側から光源側に向かってなす角θを光束間の「開き角」と呼ぶ。このように、偏向器５に向かう光束が開き角θを有するように光源装置を構成することにより、従来のような偏向合成素子を用いる必要はなくなる。
【００２７】
次に、このマルチビーム光源装置１００とその付近の構成を、図５及び図６を参照して説明する。図５はマルチビーム走査装置の光源付近の構成を示す分解斜視図、図６は光源とカップリングレンズとの関係を示す断面図である。
【００２８】
半導体レーザアレイ１ａ，１ｂは、それぞれ端子側を押え部材１４で、発光部側をホルダ１３で挟むようにし、かつ、押え部材１４に形成された３つの穴１４ａからホルダ１３に形成された３つの穴１３ａにそれぞれネジ１５を通すことによって固定される。そしてそのホルダ１３はレンズホルダ１２にそれぞれ３本のネジ１６にて取り付けられる。一方、カップリングレンズ２ａ，２ｂは、それぞれその側面を板バネ１０で押さえるようにレンズホルダ１２に位置させ、バネ１０の上下端部をネジ１１によりレンズホルダ１２に固定している。
【００２９】
図６は、半導体レーザアレイとカップリングレンズとの位置関係を示すとともに、レンズホルダ１２の断面を示しており、図中左右方向が主走査方向に、紙面の表裏を貫く方向は副走査方向に対応する。ここでＡａ、Ａｂはそれぞれの光源の光軸であり、Ｂａ、Ｂｂは光軸方向を示しており、カップリングレンズ１０はＢａ、Ｂｂの光軸方向に調整移動可能となっていて、光源とのカップリング調整（ピント調整）を行なう。調整後、板バネ１０とネジ１１により固定される。一方、光源の光軸調整は半導体レーザアレイ１ａ，１ｂが固定されたホルダ１３を図中それぞれＣａ、ＣｂとＤａ、Ｄｂ方向にレンズホルダ１２の平面上を移動させて行なう。ここで、Ｃａ、Ｃｂは主走査方向に、Ｄａ、Ｄｂは副走査方向にそれぞれ対応している。光軸調整後、ホルダ１３はレンズホルダ１２の穴１２ｃから挿入されたネジ１６によりレンズホルダ１２に固定され、マルチビーム光源装置１００のサブアッセンブリが完成する。
【００３０】
引き続き、マルチビーム光源装置１００のビームピッチの調整について説明する。
【００３１】
像担持体である感光体ドラム８上の８つのビーム配置を図４に示す。ここで、紙面の左右方向は主走査方向で左から右へ、上下方向は副走査方向で下から上に走査している。Ｂ１、Ｂ３、Ｂ５、Ｂ７は４つの発光点を有する１つの半導体レーザアレイによるビーム（斜線丸）を示し、Ｂ２、Ｂ４、Ｂ６、Ｂ８はもう１つの同じく４つの発光点を有する半導体レーザアレイによるビーム（白丸）を示しており、副走査方向のビーム配列はＢ１、Ｂ２、Ｂ３・・・Ｂ８の順に互い違いになっている。主走査方向の配列はＢ１、Ｂ３、Ｂ５、Ｂ７の奇数番号のビームが先行する配列になっている。
【００３２】
ここでＢ１、Ｂ３、Ｂ５、Ｂ７と、Ｂ２、Ｂ４、Ｂ６、Ｂ８は感光体ドラム８上で主走査方向に距離ａ隔てられて配置されているが、これは光源装置１００において開き角を有しているためである。半導体レーザアレイの発光点間隔は半導体プロセスにより精度よく形成されているので、感光体ドラム８上の副走査ビーム間隔Ｐ１、Ｐ２は光学系の横倍率で決定される。本実施形態では、ビーム間隔Ｐ１、Ｐ２は同じで、Ｐ１、Ｐ２の１／２が所望の記録密度間隔Ｐとなっている。Ｐ１、Ｐ２は４２．３μｍで６００ｄｐｉの密度のビーム間隔に、Ｐはその倍密度１２００ｄｐｉに対応し、２１．２μｍである。
【００３３】
マルチビーム光源装置１００の記録密度間隔Ｐ（ビームピッチ）の具体的な調整方法を図５を参照して説明する。  
光軸・カップリング調整が完了したサブアッセンブリとブラケット１７は、レンズホルダ１２に設けられた円筒状の突起１２ａをブラケット１７に設けられた穴１７ａに嵌合させて穴１７ａを中心としてレンズホルダ１２の回転が可能となっている。カップリングレンズ２ａ，２ｂを通過したレーザビームは、ブラケット１７の穴１７ｂを通ってアパーチャ３（図３）に向かう。レンズホルダ１２とブラケット１７は後述のビームピッチ調整後に、ブラケット１７の４つの穴１７ｇからレンズホルダ１２の４つの穴１２ｄにぞれぞれネジ１８を挿通して締結することにより固定される。
【００３４】
図５のレンズホルダ１２とブラケット１７との回転中心は、図４ではＥ点に対応する。上記のように穴１７ａを中心としてレンズホルダ１２を回転させると、感光体ドラム８上の８つのビームはそのＥ点を中心としてレンズホルダ１２と連動して回転する。このとき微少な回転調整を行なうことより、奇数番号のビーム（斜線丸）Ｂ１、Ｂ３、Ｂ５、Ｂ７と偶数番号のビーム（白丸）Ｂ２、Ｂ４、Ｂ６、Ｂ８の相対位置が変化して記録密度間隔Ｐ（ビームピッチ）を調整することができる。
【００３５】
ブラケット１７には、副走査対応方向の位置決め基準として基準面１７ｃが２面と、主走査、光軸対応方向の位置決め基準として位置決め穴１７ｄ、主走査方向の長穴１７ｅがそれぞれ設けられている。これはマルチビーム走査装置１０１ａとしてマルチビーム光源装置１００を筐体１０２に取り付ける時、または工場調整時に調整治具に取り付ける時の副走査、主走査、光軸対応方向のそれぞれの基準となる。符号１７ｆは取付穴で、図示しないネジが挿通され、マルチビーム光源装置１００を筐体１０２に取り付け、固定する。筐体１０２は、偏向器５や走査光学レンズ系６、マルチビーム光源装置１００との位置関係が保持されており、アルミダイカスト等の金属製や合成樹脂等の成型品、または金属・樹脂との複合材料から作られている。ビームピッチの工場での調整は、調整治具（図示しない）に位置決めされた後、マルチビーム走査装置１０１ａと同じ構成の走査光学系、偏向器を用いて、感光体ドラム８面上に相当する位置にＣＣＤカメラ等を配置して、ビームピッチを測定する。
【００３６】
一方、マルチビーム光源装置１００のレンズホルダ１２の一端部には調整アーム１２ｂが、レンズホルダ１２の長手方向に突出するように設けられている。この調整アーム１２ｂは調整治具と連結され、副走査対応方向に微少移動できるようになっている。調整アーム１２ｂは回転中心と離れているので、副走査対応方向の微少移動がテコ作用して、微少回転が可能になる。このように微少回転させて所望のビームピッチが得られた時点で、前述の４本のネジ１８で締結固定する。その後、制御基板１９に設けられた２つの穴１９ａにネジ２０をそれぞれ挿通して締結固定することにより、制御基板１９にレンズホルダ１２が支持されたブラケット１７が取り付けられ、ハンダ等により半導体レーザアレイ１ａ，１ｂは制御基板１９に電気的に接続されて、マルチビーム光源装置１００が完成する。
【００３７】
このように調整治具を用いて調整することにより、マルチビーム光源装置１００として光軸・カップリングのみでなく、ビームピッチを一定の基準バラツキ範囲で調整することができ、１ユニットとして完成されたものとなり、市場での保守部品としての品質を均一に保つことができる。
【００３８】
しかし、マルチビーム走査装置１０１ａの工場組立時、光学ハウジングなどの筐体（図示しない）にマルチビーム光源装置１００、走査光学系、偏向器５等を組み合わせた場合、主走査方向の光源間ビームピッチにズレが生じる場合がある。その発生要因としては、半導体レーザアレイ１ａ，１ｂの波長差による色収差によるバラツキ、シリンダレンズ４、偏向器５、走査光学系６などの光学素子の形状パラメータ、または筐体の前述の光学素子の取付基準面の加工精度バラツキ等である。またマルチビーム光源装置１００、筐体ともにバラツキを持っているので最終的にそれらを組み合わせた状態でしか、主走査方向の光源間ビームピッチのズレは把握することはできない。
【００３９】
またこのズレは１００μｍ以下のズレのため、そのズレそのものを視覚的に観察可能とすることは容易ではない。そこで、本実施形態に係るプリンタでは、副走査方向のビームピッチの状態を視覚的に観察するための画像イメージとして出力するモードを備え、このモードに設定することにより前記ズレを視覚的に観察できるようにした。
【００４０】
図７は本実施例に係るプリンタの制御回路の概略を示すブロック図である。同図において、光学系１０１ａ、マルチビーム走査装置１０１ａ、プロセスカートリッジ１０２、定着部１０１ｅ、給紙部１０１ｂ，１０１ｃの制御をシステム制御部７１が司り、また、操作表示部７２、画像メモリ７３、画像処理部７４及び不揮発メモリ７５がそれぞれシステム制御部７１に接続されている。システム制御部７１は、操作表示部７２からの指示入力によりユーザが所望する制御を実行し、図示しないスキャナ部あるいはＰＣから転送されてきた取った画像データを一旦画像メモリ７３に格納した上で、所定のあるいはユーザが所望する画像処理を画像処理部７４で行ってマルチビーム走査部１０１ａに出力し、プロセスカートリッジ１０２で作像し、給紙カセット１０１ｃ及び給紙ローラ１０１ｂを含む給紙部から給紙された転写紙に転写し、定着して排紙ローラから排紙する。これらの制御プログラムは不揮発メモリ７５に格納され、システム制御部７１はこの制御プログラムに従って所定の制御を実行する。
【００４１】
このシステムでは、ビームのズレの状態を視覚的に観察するための画像イメージとして出力するモードが設定され、操作表示部７２からこのモードを選択すると、図８に示すようなパターンが出力される。図中搬送方向とは、このイメージが印字される転写紙の搬送方向を、また前記走査光学装置の副走査方向を表わしている。
【００４２】
図８は８ビームの場合であり、ここでは、それぞれのビームを副走査方向に０ｃｈ、１ｃｈ、２ｃｈ・・・７ｃｈと表記する。パターン１は１２００ｄｐｉの記録密度で０ｃｈ、１ｃｈの違う光源の２つのビームを用いて印字している。図で示すように０ｃｈだけで主走査方向に６００ドット分印字する。次の主走査方向６００ドット分は１ｃｈだけで印字している。主走査方向にこのパターンを繰り返している。またこれをひとつのブロックとして副走査方向に６００ドット間隔で同じブロックを印字していく。
【００４３】
主走査方向での印字に注目すると副走査方向に隣接した２つのビームが、交互に印字されることとなる。主走査方向光源間ビームピッチが一定であれば、０ｃｈと１ｃｈのつなぎ目はスムーズにスキマや重なりが生じることがなく均一なパターンが形成される。もし、主走査方向光源間ビームピッチにズレが生じていると、スキマや重なりとなるので、パターンのつなぎ目で濃度差が生じ、視覚的に観察可能となる。また、波長差がある場合は、主走査方向の走査長さが光源ごとに違ってくるため、像高（主走査位置）によりパターン間の隙間や重なり度合いが変化する。視覚的には像高によりつなぎ目の濃度差が変化する。一方、光学素子形状パラメータなどに起因するものは、一定量のバラツキとなり像高による変化がほとんどない濃度差となって現れる。したがって、この画像の状態を見れば、マルチビーム光源装置１００におけるズレの原因が分かる。
【００４４】
この実施形態では、隣接する０ｃｈと１ｃｈで形成したが、別に隣接するｃｈである必要はない。しかし、隣接ビーム同士の方がビーム光軸がより近く、収差等の影響を受けにくいのでより望ましい。また同時に複数ビームにて印字してもかまわない。
【００４５】
また主走査方向６００ドット、副走査方向６００ドットとしてパターンを形成したが、記録密度の違いや光学系構成やプリンタの構成により、観察しやすいパターン間隔でイメージを形成すればよい。
【００４６】
以上のように本実施形態によれば、記録速度の高速化および記録密度の高密度化を達成するとともに、高画質を形成する上で不可欠な高精度な主走査方向の光源間ビームピッチの状態を視覚的に観察可能な画像イメージとして出力することが可能なので、プリンタの製造工程で調整者が、また市場にて保守エンジニアが容易に主走査方向の光源間ビームピッチの状態を把握するできる。
【００４７】
また、上記で説明したパターン印字は、通常モードと区別し、保守エンジニアや工場調整者が調整用に使用する特殊なモード内に設定すると良い。これにより、モードを選択することによりプリンタの製造工程で調整者が、また市場にて保守エンジニアが容易に把握できる。
【００４８】
また、本実施形態では、画像形成装置としてプリンタを例示しているが、複写機、ファクシミリなどの画像形成装置全般にこの発明が適用できることはいうまでもない。
【００４９】
なお、本実施形態では、モードを設定する制御回路は図８に示すようにプリンタ側に設けられているが、同様の機能をマルチビーム走査装置１００の制御基板１９側にＣＰＵに持たせるように構成することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の実施形態に係るプリンタの概略構成図である。
【図２】図１のプリンタ本体に装着されるプロセスカートリッジの斜視図である。
【図３】図１のプリンタに設けられるマルチビーム走査装置と感光体ドラムとの関係を示す概略構成図である。
【図４】感光体ドラム上の８つのビーム配置の状態を示す説明図である。
【図５】マルチビーム走査装置の光源付近の構成を示す分解斜視図である。
【図６】光源とカップリングレンズとの関係を示す断面図である。
【図７】本発明の実施例に係るプリンタの制御回路の概略を示すブロック図である。
【図８】被走査面上の主走査方向の光源間ビームピッチの状態を視覚的に観察可能とする画像イメージの説明図である。
【符号の説明】
【００５１】
１ａ，１ｂ  半導体レーザアレイ
２ａ，２ｂ  カップリングレンズ
３  アパーチャ部材
４  シリンダレンズ
５  偏向器
６  走査光学レンズ系
７  ミラー
１９  制御基板
７１  システム制御部
１００  マルチビーム光源装置
１０１ａ  マルチビーム走査装置
１０２  プロセスカートリッジ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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