(57)【要約】【課題】  位相マスク法によるグレーティング作製方法において、反射による影響を低減し、且つ量産性に優れたグレーティング製造方法、及び製造装置を提供する。【解決手段】  位相マスク法によるグレーティング作製方法において、位相マスクに予め形成されている格子の格子ベクトルを法線とする平面内に投影された干渉光の入射方向と、位相マスク面に対する法線と、の成す角度が０度よりも大きく６０度よりも小さくすることで、位相マスクの裏面及び表面で生じていた反射光をメイン光から分離することができる。これによりメイン光のみからなる干渉光を用いてコア内にグレーティングを形成することができるので、反射光による影響を低減し、品質の高いグレーティングを作製することができる。また、反射防止膜が不用になるので量産性に優れたグレーティングの製造装置を提供することができる。【選択図】図１
2005242250.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外光に対し光感受性を有する添加物が添加されたコアと該コアを覆うクラッドとを少なくとも含む石英系材料を配置し、該石英系材料の配置方向と平行になるように板状の位相マスクを配置して、該位相マスクを介して紫外光域で単色発光する干渉光を照射し、前記コア内に周期的に変動する屈折率を形成するグレーティングの製造方法であって、
前記位相マスクに予め形成されている格子の格子ベクトルを法線とする平面内に投影された干渉光の入射方向と、位相マスク面に対する法線と、の成す角度が０度よりも大きく６０度よりも小さいことを特徴とするグレーティングの製造方法。
【請求項２】
前記位相マスクの厚さｔと、前記位相マスクに入射する干渉光の位相マスクの格子ベクトルに対して垂直方向の半値幅ｗと、該位相マスクの格子ベクトルを法線とする平面内に投影された干渉光の入射方向と位相マスク面に対する法線との成す角度θの関係が次式を満たし、
【数１】
2005242250.tif 000007
且つ６０度よりも小さいことを特徴とする請求項１記載のグレーティングの製造方法。
【請求項３】
前記干渉光の入射角度を保持しつつ、該干渉光を前記石英系材料のコア領域内に沿って移動させることを特徴とする請求項１又は２記載のグレーティングの製造方法。
【請求項４】
前記石英系材料は、光ファイバであることを特徴とする請求項１乃至３記載のグレーティングの製造方法。
【請求項５】
紫外光に対し光感受性を有する添加物が添加されたコアと該コアを覆うクラッドとを少なくとも含む石英系材料と、前記石英系材料の配置方向と平行に配置される板状の位相マスクと、前記位相マスクを介して前記石英系材料に干渉光を照射する光源とを少なくとも備えるグレーティングの製造装置であって、
前記位相マスクに予め形成されている格子の格子ベクトルを法線とする平面内に投影された干渉光の入射方向と、位相マスク面に対する法線と、の成す角度が０度よりも大きく６０度よりも小さくなるように前記光源を配置することを特徴とするグレーティングの製造装置。
【請求項６】
前記位相マスクの厚さｔと、前記位相マスクに入射する干渉光の位相マスクの格子ベクトルに対して垂直方向の半値幅ｗと、該位相マスクの格子ベクトルを法線とする平面内に投影された干渉光の入射方向と位相マスク面に対する法線との成す角度θの関係が次式を満たし、
【数２】
2005242250.tif 000008
且つ６０度よりも小さいことを特徴とする請求項５記載のグレーティングの製造装置。
【請求項７】
前記干渉光の入射角度を保持しつつ、該干渉光を前記石英系材料のコア領域内に沿って移動させる移動手段を有することを特徴とする請求項５又は６記載のグレーティングの製造装置。
【請求項８】
前記石英系材料は、光ファイバであることを特徴とする請求項５乃至７記載のグレーティングの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位相マスクを用いた露光により光部品内にグレーティングを形成するグレーティングの製造方法、及びその製造装置に関し、特に、位相マスクに入射する光の入射角度と露光に用いる光の幅の関係を規定することにより、グレーティングの特性を改善し且つその特性を安定的に形成することができるグレーティングの製造方法、及びその製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光部品内に周期的な変調構造として例えばグレーティングを形成する製造一例として、位相マスク法が広く知られている。この位相マスク法について、図１０を参照して簡単に説明する。
【０００３】
図１０（ａ）は、位相マスク法を実施するための各種部品の配置構成を示す図であり、図１０（ｂ）は、図１０（ａ）の構成をＡ方向から見たときの図である。同図に示すようにこの構成は、光感受性を有する物質が予め添加されている石英系材料１０１と、この石英系材料１０１の長手方向と平行に配置される基板型のマスクであって一方の面に凹溝が所定間隔で刻まれている位相マスク１０２と、位相マスク１０２を介して石英系材料１０１に露光ビーム光１０３を照射する光源（図示せず）とで構成されている。このとき位相マスク１０２の凹溝面（即ち格子面１０２ａ）は石英系材料１０１側に配置されている。
【０００４】
このような構成において、光源から発せられる露光ビーム光１０３を位相マスク１０２に照射すると、露光ビーム光１０３は格子面１０２ａで光位相の変化により特定の角度へ回折する。回折した光のうち±１次回折光１０５の干渉により位相マスク１０２の近傍には周期的な強度分布（以下、干渉領域１０４という）が生じる。この干渉領域１０４内に石英系材料を配置しておくと内部にグレーティングが書き込まれる。
【０００５】
尚、この形成時、格子の形状を適切に設計することにより、０次光への回折を抑制し、±１次光への回折光の強度を大きくすることが可能となる。具体的には、０次光への回折を１〜３％以下、±１次光への回折を各３５％程度にすることができる。
【０００６】
この位相マスク法を用いた代表的な部品として、前述の特性を有する石英系材料１０１に屈折率変化の周期的な摂動を作り込んだ光部品がある。この石英系材料１０１は、周期的な摂動が加わると、特定の波長を反射したり放射したりする光フィルタとして利用することができる。特に石英系材料１０１として光ファイバを用いた場合、その石英系材料１０１は光ファイバグレーティングと呼ばれ、光通信やセンサの分野で広く使用される。
【０００７】
位相マスク法を用いて石英系材料１０１の屈折率を変化させるためには、露光ビーム光１０３の強度に従って屈折率を変化させる必要がある。光の照射により屈折率を変化させる特性を光感受性と呼ぶが、この光感受性は照射する光の波長や物質によって異なり、通常は照射光として波長２５０ｎｍ付近の紫外線レーザが用いられる。このように上述した製造方法を用いたグレーティングの製造方法が特許文献１乃至８に記載されている。
【特許文献１】特開２０００−８９０４５号公報
【特許文献２】特表２００１−５０２４４３号公報
【特許文献３】特開平７−１４０３１１号公報
【特許文献４】特開平９−２６５０１７号公報
【特許文献５】特開平１０−４８４５０号公報
【特許文献６】特開平１１−６９２３号公報
【特許文献７】特開平１１−６９２４号公報
【特許文献８】特開平１１−３４４６２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、この位相マスク１０２に光を入射すると、屈折率の違いにより位相マスク１０２の表面で光の反射が生じる。これは位相マスク１０２の材料である合成石英と、その周囲にある空気の屈折率が異なることが原因となり屈折率の差に応じた反射、つまりフレネル反射が生じるためである。
【０００９】
特に図１１に示すように、格子面１０２ａでの光の反射は透過光と同様に回折し、反射光の回折効率も±１次回折光が最大となる。格子面１０２ａで反射した±１次回折光は、位相マスク１０２の裏面（格子が形成されていない面）で再び反射し、±１次回折光と干渉してしまう。即ち、同図において±１次回折光αと反射光βが重なり合い干渉領域が生じる。このため±１次光の回折により形成される干渉パターンが乱れるという問題があった。
【００１０】
更に、この様な状態で位相マスク１０２の厚さが製造ロッド毎に変動すると、反射による回折光の位相が変化するため干渉条件が変化し、回折光強度も変動するという問題もある。位相マスクの厚さが変動するということは、通常、露光ビーム光として使用する波長が２４８ｎｍ、２４４ｎｍの光から均一な干渉縞が得られないという問題につながる。
【００１１】
そこでこのような問題を解決するために、図１２に示すように反射防止膜１１１を位相マスク１０２の裏面に設ける方法が提案されている。反射防止膜１１１とは、誘電体膜を基板上に成膜する方法で形成されるもので特定の波長の反射を抑制する特性を有する。通常は異なる屈折率を有する誘電体を多層に成膜することで作製する。この反射防止膜１１１の存在により、通常は４％程度ある基板裏面での反射を０．５％以下に低減することが可能となり、位相マスク回折面で反射した±１次光はマスク裏面で反射せずそのまま透過する。このため、図１１に見られたような反射光との干渉を抑制することができる。
【００１２】
しかし、この反射防止膜１１１にも次のような問題があった。グレーティングを作製するために位相マスク１０２に入射する光は通常２４０ｎｍ付近の紫外光を利用するが、この紫外光が長時間または高強度で反射防止膜１１１に入射すると反射防止膜１１１の特性が変化してしまい反射抑制機能が低下する。そのため同じ位相マスクを用いてグレーティングを量産した場合、反射防止膜１１１の劣化によるグレーティング特性の低下が生じ、結果として品質の低い光部品が生産される恐れがあるという問題がある。また、反射防止膜１１１が劣化すると、十分に反射光を除去できず、鮮明度の高い干渉縞が得られないという問題もある。
【００１３】
これを防止するために、反射防止膜１１１が劣化する前に既存の反射防止膜１１１を取り除き、新たな反射防止膜を貼り付ける必要性があるが、これは量産の妨げとなる。
【００１４】
更に、位相マスク１０２は製造工程での使用により徐々に汚れが付着するため定期的に洗浄する必要がある。通常は酸やアルカリ等の溶液を用い化学洗浄を行うが、反射防止膜１１１はこの化学洗浄においても劣化してしまうため、洗浄を行う度に反射防止膜１１１を付け直す必要があった。
【００１５】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたもので、その目的は、位相マスク法によるグレーティング作製方法において、反射防止膜を用いない方法で反射による影響を低減し、且つ量産性に優れたグレーティングの製造方法、及びその製造装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
請求項１記載の本発明は、紫外光に対し光感受性を有する添加物が添加されたコアと該コアを覆うクラッドとを少なくとも含む石英系材料を配置し、該石英系材料の配置方向と平行になるように板状の位相マスクを配置して、該位相マスクを介して紫外光域で単色発光する干渉光を照射し、前記コア内に周期的に変動する屈折率を形成するグレーティングの製造方法であって、前記位相マスクに予め形成されている格子の格子ベクトルを法線とする平面内に投影された干渉光の入射方向と、位相マスク面に対する法線と、の成す角度が０度よりも大きく６０度よりも小さいことを要旨とする。
【００１７】
請求項２記載の本発明は、請求項１記載のグレーティングの作製方法において、前記位相マスクの厚さｔと、前記位相マスクに入射する干渉光の位相マスクの格子ベクトルに対して垂直方向の半値幅ｗと、該位相マスクの格子ベクトルを法線とする平面内に投影された干渉光の入射方向と位相マスク面に対する法線との成す角度θの関係が次式を満たし、
【数３】
2005242250.tif 000003
【００１８】
且つ６０度よりも小さいことを要旨とする。
【００１９】
請求項３記載の本発明は、請求項１又は２記載のグレーティングの作製方法において、    前記干渉光の入射角度を保持しつつ、該干渉光を前記石英系材料のコア領域内に沿って移動させることを要旨とする。
【００２０】
請求項４記載の本発明は、請求項１乃至３記載のグレーティングの作製方法において、石英系材料は、光ファイバであることを要旨とする。
【００２１】
請求項５記載の本発明は、紫外光に対し光感受性を有する添加物が添加されたコアと該コアを覆うクラッドとを少なくとも含む石英系材料と、前記石英系材料の配置方向と平行に配置される板状の位相マスクと、前記位相マスクを介して前記石英系材料に干渉光を照射する光源とを少なくとも備えるグレーティングの製造装置であって、前記位相マスクに予め形成されている格子の格子ベクトルを法線とする平面内に投影された干渉光の入射方向と、位相マスク面に対する法線と、の成す角度が０度よりも大きく６０度よりも小さくなるように前記光源を配置することを要旨とする。
【００２２】
請求項６記載の本発明は、請求項５記載のグレーティングの作製装置において、前記位相マスクの厚さｔと、前記位相マスクに入射する干渉光の位相マスクの格子ベクトルに対して垂直方向の半値幅ｗと、該位相マスクの格子ベクトルを法線とする平面内に投影された干渉光の入射方向と位相マスク面に対する法線との成す角度θの関係が次式を満たし、
【数４】
2005242250.tif 000004
【００２３】
且つ６０度よりも小さいことを要旨とする。
【００２４】
請求項７記載の本発明は、請求項５又は６記載のグレーティングの作製装置において、前記干渉光の入射角度を保持しつつ、該干渉光を前記石英系材料のコア領域内に沿って移動させる移動手段を有することを要旨とする。
【００２５】
請求項８記載の本発明は、請求項５乃至７記載のグレーティングの作製装置において、前記石英系材料は、光ファイバであることを要旨とする。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、位相マスク法によるグレーティング作製方法において、位相マスクに予め形成されている格子の格子ベクトルを法線とする平面内に投影された干渉光の入射方向と、位相マスク面に対する法線と、の成す角度が０度よりも大きく６０度よりも小さくすることで、位相マスクの裏面及び表面で生じていた反射光をメイン光から分離することができる。これによりメイン光のみからなる干渉光を用いてコア内にグレーティングを形成することができるので、反射光による影響を低減し、品質の高いグレーティングを作製することができる。また、反射防止膜が不用になるので量産性に優れたグレーティングの製造装置を提供することができる。また、干渉光の入射角度を保持しつつ、干渉光と位相マスクを相対的に移動させることで、干渉光の幅よりも長いグレーティングを作製することができる。                           
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
本発明は、位相マスクの厚さと入射光のビーム幅及び干渉光の入射角度を適切に設定することにより、位相マスクの裏面での反射によるグレーティング作製時における不安定性を解決するグレーティング製造方法、及びその製造装置である。
【００２８】
以下、図面を参照して、本発明を実施するための最良の形態を説明する。
【００２９】
まず、グレーティングを作製するための基本的な構成は、一部を除きほぼ図１０（ａ）に示した通りである。また、位相マスク１０２に露光ビーム光１０３を入射した場合の側面図は、図１０（ｂ）に示した通りである。即ち、通常、露光ビーム光１０３は位相マスク１０２面に対し垂直に入射するため、図１０（ｂ）に示されているように、露光に用いる石英系材料１０１と位相マスク１０２と露光ビーム光１０３の関係は図１０（ｂ）に示す配置関係となる。
【００３０】
このような配置において、位相マスク１０２の両面で生じる多重反射により強度変化が生じるのは上記の問題点で述べた通りである。
【００３１】
ここで本発明者は、位相マスク１０２に対し、斜めに露光ビーム光１０３を入射させることにより多重反射による露光への影響を低減できることを見出した。その様子を図１３の斜め入射に示す。図１３は、露光ビーム光１０３を斜めから入射した場合の光路図である。同図に示すように、位相マスク１０２の表面・裏面で反射した光βは、露光の際に主として用いる、いわゆる反射していない光（メイン光α）の光路とずれている。
【００３２】
そのため位相マスク１０２の裏面・表面で反射する光βとメイン光αとの干渉による光の強度変調も小さくなり、結果として露光ビーム光１０３から反射光βを排除し、メイン光αのみを得ることができる。
【００３３】
従って、反射をしていない露光ビーム光１０３と位相マスク１０２の表面・裏面で一回ずつ反射した反射光が重ならない状態になるときの角度以上の入射角とすると、反射光による干渉の影響をなくすことができる。
【００３４】
ここで図１（ａ）を参照して、より具体的に説明する。同図に示すように、グレーティング装置の構成は、紫外光に対し光感受性を有する添加物が予め添加されたコアと、このコアを覆うクラッドとを少なくとも含む石英系材料１０１と、石英系材料１０１の配置方向と平行に配置される板状の位相マスク１０２と、コアの屈折率を変化させる干渉光を出射する光源であって位相マスク１０２を介して石英系材料１０１に入射するように配置される光源（図示せず）とを少なくとも備えている。
【００３５】
ここで本発明の特徴のひとつは、光源が発する露光ビーム光１０３が、位相マスク１０２に予め形成されている格子面１０２ａの格子ベクトルを法線とする平面内に投影された干渉光の入射方向と位相マスク面に対する法線との成す角度が０度よりも大きく６０度よりも小さい範囲内になるように設定する点にある。
【００３６】
ここで「位相マスクの格子ベクトル」とは、位相マスク１０２の表面に刻まれた複数本の凹溝が変化する方向を指している。従って「位相マスクの格子ベクトルを法線とする平面内」とは、この格子ベクトル方向と垂直に交わる２次元平面のことである。更に「位相マスクの格子ベクトルを法線とする平面内に投影された露光ビーム光の入射方向」とは、位相マスク１０２に対し斜めに入射する露光ビーム光１０３の入射方向のことであって、具体的には、上記２次元平面に投影される方向を指している。
【００３７】
つまり図１（ａ）で説明すると、Ｘ軸とＹ軸で表される二次元平面内の角度を指しており、ここでＸ軸を０度、Ｙ軸を９０度とした場合に、本発明において入射角度θは、この０度から６０度の範囲内であるとする。
【００３８】
このような構成において、厚さｔ、屈折率ｎを有する位相マスク１０２に入射角度θで入射した光は、屈折により進行方向が変わり入射位置から距離ｄだけ離れた点から出射する。ここで入射角度θとは、上述したように、位相マスクの格子ベクトルを法線とする平面内に投影された露光ビーム光の入射方向と位相マスク面に対する法線との成す角と定義する。また、このとき入射光（露光ビーム光ともいう）が位相マスク１０２の表面で反射するときの反射位置の間隔、すなわち距離ｄは式（１）で表すことができる。
【数５】
2005242250.tif 000005
【００３９】
また、位相マスク１０２の側面から見た露光ビーム光幅が、式（１）の値以下であれば図１（ｂ）に示したように、反射光はメインの光と重なることなく露光が可能となる。
【数６】
2005242250.tif 000006
【００４０】
つまり、式（２）を満たした場合には、露光ビーム光同士の重なりが無くなり、安定した露光特性が実現できる。
【００４１】
ただし、位相マスクへの入射角度が６０度以上になると位相マスク裏面での反射が急激に大きくなるため６０度以上の入射角度は望ましくない。その様子を図２に示す。
【００４２】
図２は、アルゴンイオンレーザの第二高調波（ＡｒＳＨＧレーザ）を合成石英基板に入射し、石英基板を回転させ入射角度を変化させた場合に透過するレーザパワーを測定したものである。
【００４３】
レーザの偏光方向は、石英基板の回転軸に対し垂直な方向とし、データは入射角度６０度のパワーで規格化してある。この結果によると、入射角度が６０度を超えると透過率は急激に悪くなる（つまり石英基板での反射が急激に大きくなる）ことが確認できた。
【００４４】
従って、入射角度を６０度以上とすると位相マスクを通過するレーザパワーの低下につながることから、入射角度θは６０度以下とすることが望ましい。
【００４５】
また、位相マスク１０２に所定の角度をつけて露光ビーム光を入射させる方法として、図３〜図６に示す方法などがある。ここで光学系の調整や、露光装置の設計を考えた場合、位相マスク、若しくは露光ビーム光のどちらかは定盤などの基準面に対して平行又は垂直になっている方が望ましい。
【００４６】
そうすることで他の治具との位置関係を正確に決めることができる。これらを考慮すると、位相マスク１０２に角度を付けて露光する方法の一つは、図３や図５に示すように、定盤１１３などの基準面に対し露光ビーム光１０３を平行又は垂直に維持した状態で位相マスク１０２の角度を変化させる方法である。
【００４７】
この方法の場合、位相マスク１０２を固定する治具に、ゴニオステージ若しくは回転ステージを付けることで様々な角度に対応できる利点がある。そのときにゴニオステージ若しくは回転ステージに角度を示す目盛りが付いていると所望の角度に簡単にあわせることができるため望ましい。
【００４８】
一方、図４又は図６のように、位相マスク１０２を定盤１１３などの基準面に対し垂直若しくは平行に維持したまま露光ビーム光１０３を斜めから入射する方法もある。
【００４９】
この方法の場合、位相マスク１０２を動かす必要がないという利点がある。つまり、グレーティング作製に於いては、位相マスク１０２の固定方法が非常に重要であるため、位相マスクを従来の露光方法と同じ方法で固定できる構造は有利となる。
【実施例１】
【００５０】
次に、図７、図８を参照して本発明に係る実施例１を説明する。
【００５１】
まず、位相マスク１０２で回折する光の強度が露光ビーム光の入射角度を変化させた際に、どのように変化するかを確認する実験を行った。
【００５２】
厚さ２．３ｍｍの合成石英からなる位相マスク１０２に、アルゴンイオンレーザの第二高調波（ＡｒＳＨＧ：波長２４４ｎｍ）を入射し、露光ビーム光１０３を位相マスク１０２の格子ベクトル方向に移動させながら、±１次回折光１０５の強度を測定した。位相マスク１０２の中心周期は１０７０ｎｍである。位相マスクへの露光ビーム光入射時のビーム径は、格子ベクトル方向に２．３ｍｍ、格子ベクトルと垂直方向に０．２５ｍｍである。
【００５３】
ただし、ここで言うビーム径とは露光ビーム光強度のそれぞれの軸での半値全幅のことを指す。位相マスク１０２への入射角度を０度から６．５度まで変化させた場合、それぞれの角度での１次回折光１０５の強度を、位相マスク１０２の格子ベクトル方向への位置による変化を測定した結果を図７に示す。
【００５４】
入射角度が０度の場合、位相マスクの表面、裏面での反射光による干渉により、位相マスクの長手方向に周期的な強度変化が生じていることが確認できる。入射角を増加させるに従い、その強度変調の振幅は小さくなることも確認できた。
【００５５】
その様子を図８に示す。図８は、横軸を入射角度、縦軸を図７で示した１次回折光の強度変調成分としてプロットしたものである。ただし、振幅の大きさは、入射角度０度の場合の値で規格化してある。また、図８中の直線は、入射角度を変化させた場合、位相マスクの表面、裏面で１回ずつ反射した入射光と、反射をしていない入射光との重なり度合いを計算で求めたものである。位相マスクに入射する光の入射角度を適切に設定することにより、位相マスクの表面、裏面での多重反射による強度変化を抑制できることを確認した。
【実施例２】
【００５６】
次に、図９（ａ）〜（ｃ）を参照して本発明に係る実施例２を説明する。
【００５７】
実施例１の結果をもとに、実際にファイバグレーティングを作製した結果を示す。図９（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ入射角度を０度、３．９度、６．５度と変化させて作製したファイバグレーティングの透過特性を測定した結果である。
【００５８】
入射角度以外の条件はすべて実施例１と同じであり、５５度、１０［ＭＰａ］の高圧水素雰囲気中に５日間放置し光感受性を高めたシングルモードファイバに、実施例１で使用したものと同じ位相マスク（基板厚さ２．３ｍｍ、中心周期１０７０ｎｍ、チャープ率０．１４ｎｍ／ｃｍ）を用い、５０ｍｍのグレーティングを作製した結果である。
【００５９】
入射角度が０度の場合、実施例１で見られた回折強度の周期的な変動が透過スペクトルにも影響を与えていることが確認できる。また、入射角度を６．５度とすることで、透過スペクトルに周期的な変動は見られず、露光ビーム光の入射角度を適切に調整することにより、作製したグレーティング特性を改善できることを確認した。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の実施の形態に係るグレーティング製造装置の構成を示す概略図である。
【図２】入射角度に対する透過率を測定した実験結果を示すグラフである。
【図３】本発明の実施の形態に係るグレーティング製造装置の一構成例を示す概略図である。
【図４】本発明の実施の形態に係るグレーティング製造装置の他の構成例を示す概略図である。
【図５】本発明の実施の形態に係るグレーティング製造装置の更に他の構成例を示す概略図である。
【図６】本発明の実施の形態に係るグレーティング製造装置の他の構成例を示す概略図である。
【図７】入射角度に対する１次回折光１０５の強度を、位相マスク１０２の格子ベクトル方向への位置による変化を測定した結果を示すグラフである。
【図８】入射角度に対する１次回折光の強度変調成分を示したグラフである。
【図９】入射角度を変化させた場合のファイバグレーティングの透過特性を測定した結果を示すグラフである。
【図１０】従来のグレーティングの製造装置の構成を示す概略図である。
【図１１】従来のグレーティングの製造装置において位相マスクで多重反射が生じた場合の光路を模式化した図である。
【図１２】従来のグレーティングの製造装置において位相マスクの一方の面に反射防止膜を設けた場合の反射光の光路を模式化した図である。
【図１３】露光ビーム光を位相マスク面に対して斜めに入射させた場合の干渉光の光路を模式化した図である。
【符号の説明】
【００６１】
１０１…光部品
１０２…位相マスク
１０２ａ…凹溝面
１０３…光（露光ビーム光）
１０４…干渉領域
１０５…±１次回折光
１１１…反射防止膜
１１３…定盤
【図１】
2005242250.tif 000009
【図２】
2005242250.tif 000010
【図３】
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【図４】
2005242250.tif 000012
【図５】
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【図６】
2005242250.tif 000014
【図７】
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【図８】
2005242250.tif 000016
【図９】
2005242250.tif 000017
【図１０】
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【図１１】
2005242250.tif 000019
【図１２】
2005242250.tif 000020
【図１３】
2005242250.tif 000021