(57)【要約】【課題】基板平面における有効ＮＡの大きいプログラム可能パターニング手段を使用したリソグラフィ装置およびデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】リソグラフィ装置が、オブジェクト平面内で互いに離間された複数のパターニング・アレイ、例えば２つのパターニング・アレイ、４つのパターニング・アレイ等を有している。パターニング・アレイの結合オーバラップ・イメージが基板に投影される。互いに間を隔てたパターニング・アレイから生成される放射線からイメージが形成されるため、異なる角度からイメージが到達し、これはより大きい有効開口数ＮＡを有している。【選択図】図１
2005260232.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の放射線サブビームを生成する照明システムと、
個別制御可能要素の複数のパターニング・アレイであって、各パターニング・アレイが、それぞれのサブビームを、パターンを有するようにパターニングし、また前記パターニング・アレイは、オブジェクト平面内で互いに離間されているパターニング・アレイと、
基板を支持する基板テーブルと、
前記パターニングされたサブビームを投影する投影システムであって、それによって前記パターニングされたサブビームが重なり合って前記基板のターゲット部分に結合イメージを形成する投影システムと
を有するリソグラフィ装置。
【請求項２】
前記投影システムが、前記パターニング・アレイに対応する数の複数の視野レンズ系と、共通部分とを有し、
前記視野レンズ系が、前記共通部分のひとみ平面内にそれぞれのパターニング・アレイのイメージを形成する、請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項３】
前記投影システムが、約１／２から約１／５までの総合倍率を有する、請求項２に記載のリソグラフィ装置。
【請求項４】
前記照明システムが単一の放射線源を有し、該単一の放射線源から、前記複数のサブビームが得られる請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項５】
前記照明システムが、別個のサブビームの経路内に位相調整器をさらに有している請求項４に記載のリソグラフィ装置。
【請求項６】
前記照明システムが、前記サブビームをそれぞれのパターニング・アレイに導くライト・ガイドを有している請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項７】
前記照明システムが、１または複数のビーム誘導ミラーを含む光学系を有している請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項８】
第２のパターニング・アレイをさらに有する請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項９】
第２から第４のパターニング・アレイをさらに有する請求項１に記載のリソグラフィ装置。
【請求項１０】
照明システムを使用して複数の放射線サブビームを生成するステップと、
個別制御可能要素の複数のパターニング・アレイを使用して、前記複数のサブビームのそれぞれにパターンを与えるステップと、
前記パターニングされた放射線サブビームを前記基板に投影するステップであって、それによって前記パターニングされた放射線サブビームが重なり合って基板のターゲット部分に結合イメージを形成するステップと
を含むデバイス製造方法。
【請求項１１】
オブジェクト平面内で互いに離間されている個別制御可能要素の複数のパターニング・アレイのうちのそれぞれの個別のパターニング・アレイを使用して、照明源から生成される個別放射線ビームをパターニングするステップと、
基板のターゲット部分に結合イメージを形成するように、前記パターニングされた個別ビームを重ね合わせるステップであって、前記結合イメージがより大きい有効開口数を有するように、前記パターニングされた個別ビームが異なる角度から到達するステップと
を含む方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はリソグラフィ装置およびデバイス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ装置は、基板のターゲット部分に所望のパターンを適用する機械装置である。リソグラフィ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）、フラット・パネル・ディスプレイおよび微細構造を必要とする他のデバイスの製造に使用することができる。従来のリソグラフィ装置では、マスクあるいはレチクルとも呼ばれているパターニング手段（パターン付け手段）を使用してＩＣ（あるいは他のデバイス）の個々の層に対応する回路パターンが生成され、このパターンが、放射線感応材料（例えばレジスト、フォトレジスト等）の層を有する基板（例えばシリコン・ウェハ、ガラス板等）上のターゲット部分（例えば１つまたは複数のダイ部分からなるもの）にイメージ（すなわち結像）される。マスクの代わりに、このパターニング手段は動的であってもよく、また回路パターンを生成するように機能する、個別に制御可能な要素のアレイを含んでいてもよい。
【０００３】
通常、単一の基板は、連続的に露光される隣接ターゲット部分からなる回路網を含む。公知のリソグラフィ装置には、パターン全体をターゲット部分に一度に露光することによってターゲット部分の各々を照射するステッパと、パターンを投影ビームで所与の方向（「走査」方向）に走査し、同時に基板をこの方向に平行に、あるいは非平行に同期走査することによってターゲット部分の各々を照射するスキャナとがある。
【０００４】
従来のリソグラフィ装置に使用されるマスクは、その資本コストが極めて高いため、液晶ディスプレイ、微小ミラー・アレイ、回折格子光バルブなどのプログラムな可能デバイスにマスクを置換ように様々な提案がなされている。所望のパターンを基板に投影するために、プログラム可能デバイスにマスク・パターンがディジタル的にロードされ、プログラム可能デバイスによって投影ビームが空間的に変調される。これは、製造しようとする所与のパターンを、より小規模且つ経済的に製造することを可能にし、また複数回のパターン変更を動的あるいはリアルタイムに実施することを可能にし、それによって試作品製造サイクルを短縮する。空間光変調器、プログラム可能パターニング・デバイス、ダイナミック・パターン・ジェネレータ等とも呼ばれる適切なプログラム可能デバイスは、それらが放出するビームが極めて狭い、すなわちＮＡが小さいという欠点を有している。投影イメージの解像度を高くするためにはＮＡが大きいことが望ましい。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
したがって、基板平面における有効ＮＡの大きいプログラム可能パターニング手段を使用したリソグラフィ装置を提供するシステムおよび方法が必要とされている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一実施例によれば、複数の放射線サブビームを供給するための照明システムと、それぞれのサブビームにパターンを付与するように機能する、オブジェクト平面内で互いに間を隔てた個別制御可能要素の複数のパターニング・アレイと、基板を支持するための基板テーブルと、基板のターゲット部分に重ね合わせることによって結合イメージを形成するように、パターニングされたサブビームを投影する投影システムとを有するリソグラフィ装置が提供される。基板上の結合イメージは、オブジェクト平面内で互いに間を隔てた複数のパターニング・アレイからの放射線によって形成されるため、放射線は、単一のパターニング・アレイによってイメージが形成される場合よりも広い角度範囲で基板に到達する。したがってその有効ＮＡがより大きく、それにより解像度が改善される。
【０００７】
２つもしくは４つのパターニング・アレイが提供されることが好ましい。２つのアレイを使用することにより、二極型照明に匹敵する効果が提供される。二極型照明は、主として一方向に延びた線（例えばラスタ・アレイもしくはメモリ・チップ内の特定の層）を有するパターンに有用である。また、４つのアレイを使用することにより、四極型照明に匹敵する効果が提供される。この四極型照明は、２つの方向に延びた線もしくは点を備えたパターンに、より有利である。
【０００８】
投影システムは、その数がパターニング・アレイに対応した複数の視野レンズ系、および共通部分を有していることが好ましい。この視野レンズ系によって、それぞれの対応するパターニング・アレイのイメージが共通部分のひとみ平面内に形成される。投影システムには、約１／２から約１／４もしくは１／５までの総合倍率を持たせることができる。
【０００９】
また複数のサブビームは、単一の放射線源から得られることが好ましい。複数のサブビームを単一の放射線源から引き出すことにより、オーバラップしたイメージ同士が干渉し、それによって結像（イメージング）が改善される。この結像は、個々のサブビームの経路内に位相調整器を設けることによってさらに改善される。
【００１０】
本発明の好ましい一実施例では、照明システムが、それぞれの対応するパターニング・アレイにサブビームを導くためのライト・ガイド（例えば液体ライト・ガイド）を有している。この液体ライト・ガイドにより、小さい損失でパターニング・アレイに光を導くフレキシブルな手段が提供される。またビーム誘導ミラーを使用した固定光系列を使用することも可能である。
【００１１】
本発明の他の実施例によれば、基板を提供するステップと、照明システムを使用して複数の放射線サブビームを提供するステップと、前記サブビームのそれぞれにパターンを付与するように、個別制御可能要素の複数のパターニング・アレイを使用するステップと、パターニングされた放射線サブビームをオーバラップするように投影して基板のターゲット部分に結合イメージを形成するステップとを含むデバイス製造方法が提供される。
【００１２】
以下、本発明の他の実施例、特徴および利点、ならびに本発明の様々な実施例の構造および動作について、添付の図面を参照して詳細に説明する。
【００１３】
本明細書に組み込まれて本明細書の一部をなしている添付図面は、本発明を図解するものであり、以下の説明とともに本発明の原理をさらに説明し、且つ当業者による本発明の構築および使用を可能にする役割を果たしている。
【００１４】
以下、本発明について、添付の図面を参照して説明する。添付の図面において、同様の参照番号は、同一構成要素もしくは機能的に類似した構成要素を表している。
【実施例】
【００１５】
（概要および用語）
本明細書で使用する「個別制御可能な要素のアレイ」という用語は、入射する放射線ビームの断面をパターニングし、それによって所望のパターンを基板のターゲット部分に生成するように使用可能な任意の手段を意味するものとして広義に解釈されたい。この文脈では、「光バルブ」および「空間光変調器（ＳＬＭ）」という用語を使用することも可能である。このようなパターニング・デバイスの実施例については以下で議論される。
【００１６】
プログラム可能ミラー・アレイは、粘弾性制御層および反射表面を有するマトリックス・アドレス指定可能な表面を備えることができる。このような装置の基礎をなしている基本原理は、例えば反射表面のアドレス指定領域が入射光を回折光として反射し、一方、非アドレス指定領域が入射光を非回折光として反射することにある。適切な空間フィルタを使用することにより、非回折光を反射ビームからフィルタ除去し、基板に到達する回折光のみを残すことができるため、この方法により、マトリックス・アドレス指定可能表面のアドレス指定パターンに従ってビームがパターニングされる。
【００１７】
フィルタは、代替として、回折光をフィルタ除去し、基板に到達する非回折光を残すフィルタであってもよいことは理解されよう。回折光学微細電気機械システム（ＭＥＭＳ）デバイスのアレイを、対応する方法で使用することも可能である。回折光学ＭＥＭＳデバイスの各々は、互いに対して変形可能な複数の反射型リボンを備え、入射する光を回折光として反射する回折格子を形成することができる。
【００１８】
他の代替実施例は、マトリックスに配列された極めて微小なミラーを使用したプログラム可能ミラー・アレイを備えることができる。これらの微小ミラーの各々は、適切な局部電界を印加することによって、あるいは圧電駆動手段を使用することによって、１つの軸線の周りに個々に傾斜させることができる。この場合も、入射する放射線ビームを反射する方向が、アドレス指定済みミラーと非アドレス指定ミラーとでそれぞれ異なるため、この方法により、マトリックス・アドレス指定可能ミラーのアドレス指定パターンに従って反射ビームがパターニングされる。必要なマトリックス・アドレス指定は、適切な電子手段を使用して実行される。
【００１９】
上で説明したいずれの状況においても、個別に制御可能な要素のアレイは、１または複数のプログラム可能ミラー・アレイを備えることができる。上で言及したミラー・アレイに関する詳細な情報については、例えば、いずれも参照によりその全体を本明細書に組み込む米国特許第５，２９６，８９１号明細書および米国特許第５，５２３，１９３号明細書、ならびに国際公開第ＷＯ９８／３８５９７号およびＷＯ９８／３３０９６号のパンフレットを参照されたい。
【００２０】
また、プログラム可能ＬＣＤアレイを使用することも可能である。参照によりその全体を本明細書に組み込む米国特許第５，２２９，８７２号明細書には、このような構造の実施例の１つが記載されている。
【００２１】
フィーチャの事前バイアス、光学近似補正フィーチャ、位相変化技術および多重露光技術を使用する場合、例えば個別制御可能要素のアレイ上に「表示される」パターンは、基板の層もしくは基板上に最終的に転写されるパターンとは実質的に異なっていてもよいことを理解されたい。同様に、基板上に最終的に生成されるパターンは、個別制御可能要素のアレイ上に任意の瞬間に形成されるパターンに対応している必要はない。これは例えば、基板の個々の部分に最終的に形成されるパターンが、所与の時間周期もしくは所与の露光回数で積み上げられ、その間に個別制御可能要素のアレイ上のパターンおよび／または基板の相対位置が変更される配置構造の場合である。
【００２２】
本明細書においては、リソグラフィ装置の、とりわけＩＣの製造における使用について言及しているが、本明細書において説明するリソグラフィ装置は、例えばＤＮＡチップ、ＭＥＭＳ、ＭＯＥＭＳ、集積光学系、磁気領域メモリのための誘導および検出パターン、フラット・パネル・ディスプレイ、薄膜磁気ヘッド等の製造などの他のアプリケーションを有していることを理解されたい。このような代替アプリケーションの文脈においては、本明細書における「ウェハ」あるいは「ダイ」という用語の使用はすべて、それぞれより一般的な「基板」あるいは「ターゲット部分」という用語の同義語とみなすことができることは、当業者には理解されよう。本明細書において言及されている基板は、例えばトラック（通常、基板にレジスト層を塗布し、また露光済みレジストを現像するツール）あるいは度量衡学ツールもしくは検査ツール中で、露光前もしくは露光後に処理することができる。適用可能である場合には、本明細書における開示は、このような基板処理ツールおよび他の基板処理ツールに適用することができる。また、基板は、例えば多層ＩＣを生成するように複数回に渡って処理することができるため、本明細書に使用されている基板という用語は、処理済みの複数の層が既に含まれている基板を指している場合もある。
【００２３】
本明細書で使用する「放射線」および「ビーム」という用語には、紫外（ＵＶ）放射線（例えば波長が３６５ｎｍ、２４８ｎｍ、１９３ｎｍ、１５７ｎｍもしくは１２６ｎｍの放射線）、極端紫外（ＥＵＶ）放射線（例えば波長の範囲が５〜２０ｎｍの放射線）、およびイオン・ビームあるいは電子ビームなどの粒子線を含むあらゆるタイプの電磁放射線が包含されている。
【００２４】
本明細書に使用する「投影システム」という用語には、例えば使用する露光放射線に適した、あるいは液浸液の使用もしくは真空の使用などの他の要因に適した屈折光学系、反射光学系およびカタディオプトリック光学系を始めとする様々なタイプの投影システムが包含されているものとして広義に解釈されたい。本明細書における「レンズ」という用語の使用はすべて、より一般的な「投影システム」という用語の同義語とみなすことができる。
【００２５】
また、照明システムには、放射線の投影ビームを導き、整形し、あるいは制御するための屈折光学コンポーネント、反射光学コンポーネントおよびカタディオプトリック光学コンポーネントを始めとする様々なタイプの光学コンポーネントが包含されており、このようなコンポーネントについても、以下、集合的もしくは個々に「レンズ」と呼ぶ。
【００２６】
リソグラフィ装置は、場合によっては２つ（例えばデュアル・ステージ）またはそれ以上の基板テーブル（および／または複数のマスク・テーブル）を有するタイプの装置であってもよく、このような「マルチ・ステージ」機械装置の場合、追加のテーブルを並列して使用することができ、あるいは１または複数のテーブルを露光のために使用している間に、１または複数の他のテーブルに対して予備ステップを実行することもできる。
【００２７】
また、リソグラフィ装置は、基板が比較的屈折率の大きい液体中（例えば水中）に浸されており、それによって投影システムの最終要素と基板との間の空間が充填されるタイプの装置であってもよい。また、リソグラフィ装置内の他の空間、例えばマスクと投影システムの第１の要素との間を液浸液で満たすことも可能である。液浸技術は、当分野においては、投影システムの開口数を大きくすることでよく知られている。
【００２８】
またリソグラフィ装置には、流体と基板の照射部分との間の相互作用を可能にする（例えば基板に化学薬品を選択的に添加し、あるいは基板の表面構造を選択的に修正する）ように、流体処理セルを備えることができる。
【００２９】
（例示的システム）
図１は、本発明の一実施例によるリソグラフィ投影装置１００を略図で示したものである。リソグラフィ投影装置１００は、放射線源１０２、ビーム・スプリッタ１０４、照明システム１０６、個別制御可能要素の複数のパターニング・アレイ１０８−１、１０８−２、・・・、１０８−ｎ（ｎ＝１、２、・・・）、投影システム１１０および基板テーブル１１２を備えている。
【００３０】
照明システムＩＬ１０６（例えばイルミネータ）は、投影ビームを複数の放射線（例えばＵＶ放射線）サブビーム１１４−１ＰＢ１、１１４−２ＰＢ２の形で提供している。個別制御可能要素の複数のパターニング・アレイ１０８−ｎＰＰＭ１、ＰＰＭ２（例えばプログラム可能ミラー・アレイ）は、投影ビームにパターンを付与する。基板１１６Ｗ（例えばレジスト被覆ウェハ）を支持している基板テーブル１１２ＷＴ（例えばウェハ・テーブル）は、基板１１６を投影システム１１０に対して正確に位置決めする位置決め手段１１８ＰＷに接続されている。投影システム１１０（例えば１または複数のレンズ）は、個別制御可能要素のアレイ１０８ＰＰＭによって投影ビームに付与されたパターンを、基板１１６Ｗのターゲット部分１２０Ｃ（例えば１または複数のダイ）に結像する。投影システム１１０は、個別制御可能要素のアレイ１０８を一定の倍率（例えば約１／４、約１／５もしくは同様の倍率）で基板１１６上に結像している。
【００３１】
投影ビームのサブビーム１１４−１ＰＢ１、１１４−２ＰＢ２の数は、パターニング要素のアレイ１０８−１ＰＰＭ１、１０８−２ＰＰＭ２の数に対応しており、例えば２つもしくは４つである。単に考察を容易にするために、図には２つのサブビーム１１４および２つのパターニング・アレイ１０８しか示されていない。本発明の範囲には、いずれも使用することができる場合、これらの任意の数、およびあらゆる変形形態が意図されていることを理解されたい。
【００３２】
イルミネータ１０６ＩＬは、ビーム送達システム１２２ＢＤ（例えば空気、光学要素、導波路等）を介して放射線源１０２ＳＯから放射線ビームを受け取り、対応する放射線出口１２４−ｎ（ｎ＝１、２、・・・）、例えば１２４−１ＲＯ１から１２４−４ＲＯ４に、複数のサブビームを形成するビーム・スプリッタ１０４ＢＳを有している。
【００３３】
一実施例では、例えば放射線源１０２にエキシマ・レーザを使用する場合、放射線源１０２とリソグラフィ装置１００とを個別の構成要素にすることができる。この実施例の場合、放射線源１０２は、リソグラフィ装置１００の一部を形成しているとは見なされず、放射線ビームは、例えば適切な誘導ミラーおよび／またはビーム・エキスパンダを備えることができるビーム送達システム１２２ＢＤを使用して、放射線源１０２ＳＯからイルミネータ１０６ＩＬへ引き渡される。
【００３４】
他の実施例では、例えば放射線源１０２に水銀灯を使用する場合、放射線源１０２は、リソグラフィ装置１００の一体部品にすることができる。放射線源１０２およびイルミネータ１０６ＩＬは、ビーム送達システム１２２ＢＤと共に（必要に応じて）放射線システム１２６と呼ぶことができる。
【００３５】
例示的アプリケーションでは、適切な放射線源およびビーム・スプリッタＢＳが、参照によりその全体を本明細書に組み込むＭｉｎｎａｅｒｔ等の米国特許第６，６１８，１１８号明細書に記載された光学露光装置の（ビーム分割手段までおよびビーム分割手段を含む）放射線源部分である。
【００３６】
イルミネータ１０６は、対応するサブビームの放射線を捕え、且つ捕えたサブビームを、例えば微小ミラー・アレイもしくは回折光バルブ・アレイであるパターニング・アレイ１０８−１ＰＰＭ１、１０８−２ＰＰＭ２のいずれかに導くためのビーム・パイプ１２８−ｎ（ｎ＝１、２、・・・）、例えば１２８−１ＰＢ１および１２８−２ＰＢ２を、サブビーム毎にさらに有している。出口レンズ１３０−ｎ（ｎ＝１、２、・・・）、例えば１３０−１ＥＬ１、１３０−２ＥＬ２は、パターニング・アレイ１０８−１ＰＰＭ１、１０８−２ＰＰＭ２に導かれるビームを平行化している。ガラス、光ファイバ、適切に角度が付けられたミラー、液体ライト・ガイド等が、様々な実施例のビーム・パイプ１２８に使用されている。例えば上で参照した米国特許第６，６１８，１１８号明細書に、例示的ビーム・パイプが記載されている。
【００３７】
イルミネータＩＬ１０６は、ビームの角度強度分布を調整するための調整システム（図示せず）をさらに有していてもよい。一実施例では、イルミネータのひとみ平面内の強度分布の少なくとも外部および内部ラジアル範囲（一般に、それぞれσアウターおよびσインナーと呼ばれる）は調整が可能である。
【００３８】
イルミネータ１０６ＩＬは、インテグレータおよびコンデンサなどの他の様々なコンポーネントを備えることができることを理解されたい。イルミネータ１０６は、投影サブビーム１１４−１ＰＢ１、１１４−２ＰＢ２と呼んでいる、所望の一様な強度分布をその断面に有する調整済み放射線ビームを提供することができる。
【００３９】
サブビーム１１４−１ＰＢ１、１１４−２ＰＢ２の各々は、次に、対応するパターニング・アレイ１０８−１ＰＰＭ１、１０８−２ＰＰＭ２と相互作用する。個別制御可能要素のアレイ１０８ＰＰＭで反射したビーム１１４ＰＢは、投影システム１１０に導かれる。投影システム１１０は、２つの部分を有しており、１つは共通部分である。投影システム１１０は、ビーム１１４ＰＢを視野レンズ１３２−ｎ（ｎ＝１、２、・・・）（例えば第１の部分）、例えば１３２−１ＦＬ１、１３２−２ＦＬ２（このうちの一方が、各パターニング・アレイのために提供される）によって基板１１６Ｗのターゲット部分１２０Ｃに集束させている。単純なレンズであっても、あるいはより複雑な光学系レンズであってもよい視野レンズ１３２は、対応するパターニング・アレイ１０８のイメージを投影レンズ１３３ＰＬのひとみ平面に投影する（例えば第２の部分もしくは共通部分）。一実施例では、投影レンズ１３３ＰＬは、ひとみ平面から前方へ向けて、従来の投影レンズの半分に本質的に相当する。
【００４０】
この実施例では、パターニング・アレイ１０８は同じパターンを有するようにプログラムされており、またひとみ平面内のそれらイメージがオーバラップするように配列され、それによって基板１１６に結合イメージが投影されている。パターニング・アレイ１０８−１ＰＰＭ１、１０８−２ＰＰＭ２の位置が異なっているため、ひとみ平面内の放射線は、異なるパターニング・アレイ１０８から異なる方向で到達する。
【００４１】
したがって、本発明のこの実施例によれば、光は、パターニング・アレイ１０８からのビームが必然的に極めて狭いという事実にもかかわらず、より広い角度範囲から基板１１６に到達する。したがって基板１１６における結合投影ビーム１３４ＰＢＣは、微細な結像に不可欠である大きいＮＡを効果的に有している。
【００４２】
一実施例では、位相調整を照明システム１０６に設けることができ、あるいはパターニング・アレイ１０８の後ろに設けることができ、それによって結像のための結合ビーム１３４中のうちの異なるサブビーム１１４同士の間の干渉を最適化している。
【００４３】
一実施例では、個々のパターニング・アレイ１０８上のパターンを調整することによって結像が改善される。パターニング・アレイ１０８および／または視野レンズ１３２は位置決めデバイス（図示せず）を備えていてもよく、それによってパターニング・アレイ１０８および／または視野レンズ１３２の位置を調整すること、したがってオーバラップしたイメージの位置を調整すること（例えばアライメント修正のために）ができる。
【００４４】
より広いイメージ視野を必要とする場合、一実施例では、ＰＰＭ１０８をオーバラップ結合イメージに結像するための複数のマルチ光エンジンであって、それぞれが１組のＰＰＭ１０８および投影システム１１０を備えたマルチ光エンジンが提供されてもよく、それによって基板１１６上に追加イメージを平行に並べて投影することができる。
【００４５】
基板テーブル１１２ＷＴは、位置決め手段１１８ＰＷおよび任意選択の干渉測定手段１３６ＩＦを使用して正確に移動させることができる（例えば異なるターゲット部分１２０Ｃをビーム１１４ＰＢの光路内へ配置するために）。個別制御可能要素のアレイ１０８のための位置決め手段が使用される場合、その位置決め手段を使用して、ビーム１１４ＰＢの光路に対する個別制御可能要素のアレイ１０８ＰＰＭの位置を正確に修正することができる（例えば走査中に）。
【００４６】
基板テーブル１１２ＷＴの移動は、長ストローク・モジュール（粗位置決め）（図示せず）および短ストローク・モジュール（精密位置決め）（図示せず）を使用して実現することができる。同様のシステムを使用して個別制御可能要素のアレイ１０８を位置決めすることも可能である。
【００４７】
別法として、あるいは追加として、必要な相対移動を提供するように投影ビーム１１４を移動可能にし、オブジェクト・テーブル（図示せず）および／または個別制御可能要素のアレイ１０８の位置を固定してもよいことが理解されよう。
【００４８】
とりわけフラット・パネル・ディスプレイの製造に適用することができる他の代替として、基板テーブル１１２および投影システム１１０の位置を固定し、基板１１６を基板テーブル１１２に対して移動させるように配置することも可能である。例えば基板１１６の両端間を実質的に一定の速度で走査するためのシステム（図示せず）を基板テーブル１１２に設けることができる。
【００４９】
（例示的環境）
本発明の様々な実施例においては、リソグラフィ投影装置１００は、以下で説明するステップ・モード、走査モード、パルス・モードおよび連続走査モードの４つの好ましいモードで使用することができる。
【００５０】
ステップ・モードでは、個別制御可能要素のアレイ１０８によってパターン全体が投影ビーム１３４に付与され、この投影ビーム１３４が、単一静止露光の間にターゲット部分１２０Ｃに投影される。次に、基板テーブル１１６ＷＴがＸおよび／またはＹ方向にシフトされ、異なるターゲット部分１２０Ｃが露光される。単一静止露光で結像されるターゲット部分１２０Ｃのサイズは、露光視野の最大サイズによって制限される。
【００５１】
走査モード（スキャン・モード）では、個別制御可能要素のアレイ１０８を速度Ｖで所与の方向（「走査方向」、例えばＹ方向）に移動させることができ、したがって投影ビーム１１４ＰＢが個別制御可能要素のアレイ１０８全体にわたって走査するようになっている。同時に、基板テーブル１１２ＷＴが速度Ｖ＝Ｍｖで同じ方向もしくは反対方向へ移動される。Ｍは投影システム１１０の倍率である。単一動的露光におけるターゲット部分１２０の幅（非走査方向の幅）は、露光視野の最大サイズによって制限され、またターゲット部分１２０の高さ（走査方向の長さ）は、走査運動の長さによって左右される。
【００５２】
パルス・モードでは、個別制御可能要素のアレイ１０８が基本的に静止状態に維持され、放射線源１０２のパルス放射線源を使用してパターン全体が基板１１６のターゲット部分１２０Ｃに投影される。投影ビーム１１４ＰＢを使用して基板Ｗ１１６の両端間のラインを走査することができるように、基本的に一定の速度で基板テーブル１１２ＷＴが移動する。個別制御可能要素のアレイ１０８上のパターンは、必要に応じて放射線システム１０２のパルスとパルスの間に更新され、パルスは、連続するターゲット部分１２０Ｃが基板１１６上の必要な位置で露光されるようにタイミングを設定されている。したがって結合投影ビーム１３４は、細長い基板１１６の完全なパターンを露光するように基板Ｗ１１６の両端間を走査することができる。このプロセスは、基板１１６全体がライン毎に露光されるまで繰り返される。
【００５３】
連続走査モードは、基本的にパルス・モードと同じであるが、実質的に一定の放射線源を放射線源１０２として使用することができ、結合投影ビーム１３４が基板１１６の両端間を走査し、基板１１６を露光すると、個別制御可能要素のアレイ１０８上のパターンが更新される点で異なっている。
【００５４】
上で説明した使用モードの組み合わせおよび／またはその変形形態もしくは全く異なる使用モードを使用することも可能である。
【００５５】
図に示すように、リソグラフィ投影装置１００は反射型の装置である（つまり個別制御可能要素の反射型アレイ１０８を有している）が、一般的には例えば透過型（つまり個別制御可能要素の透過型アレイ、例えばＬＣＤパターン・ジェネレータを備えた）装置であってもよい。
【００５６】
個別制御可能要素のアレイ１０８の位置は、投影システムＰＬ１１０に対して固定することができるが、固定する代わりに、位置決めデバイス（図示せず）に個別制御可能要素のアレイ１０８を接続し、投影システム１１０に対して個別制御可能要素のアレイ１０８を正確に位置決めすることも可能である。
【００５７】
本明細書において、本発明によるリソグラフィ装置１００は、基板上のレジストを露光するための装置として説明されているが、本発明がこの用途に限定されないこと、また本発明によるリソグラフィ装置を使用して、レジストレス・リソグラフィに使用するためのパターニング投影ビームを投影することができることは理解されよう。
【００５８】
（結論）
以上、本発明の様々な実施例について説明したが、以上の説明が単なる実施例に過ぎず、本発明を何ら制限するものではないことを理解されたい。上で説明した実施例に、本発明の精神および範囲を逸脱することなく様々な形態変更および細部変更を加えることができることは、関連する分野の技術者には明らかであろう。したがって本発明の広がりおよび範囲は、上で説明した例示的実施例に何ら制限されず、唯一、特許請求の範囲の各請求項およびそれらの等価物によってのみ定義されるものとする。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を示す図である。
【符号の説明】
【００６０】
１００  リソグラフィ投影装置
１０２  放射線源（ＳＯ）
１０４  ビーム・スプリッタ（ＢＳ）
１０６  照明システム（ＩＬ）
１０８−１、１０８−２  個別制御可能要素の複数のパターニング・アレイ（ＰＰＭ）
１１０  投影システム
１１２  基板テーブル（ＷＴ）
１１４−１、１１４−２  放射線サブビーム（ＰＢ）
１１６  基板（Ｗ）
１１８  位置決め手段（ＰＷ）
１２０  ターゲット部分（Ｃ）
１２２  ビーム送達システム（ＢＤ）
１２４−１〜１２４−４  放射線出口（ＲＯ）
１２６  放射線システム
１２８−１、１２８−２  ビーム・パイプ（ＢＰ）
１３０−１、１３０−２  出口レンズ（ＥＬ）
１３２−１、１３２−２  視野レンズ（ＦＬ）
１３３  投影レンズ（ＰＬ）
１３４  結合投影ビーム（ＰＢＣ）
１３６  干渉測定手段（ＩＦ）
【図１】
2005260232.tif 000003