(57)【要約】      （修正有）【課題】高感度で、現像ラチチュードが広く、且つ、経時による性能劣化を抑制した画像形成材料を提供する。【解決手段】支持体上に、水不溶性且つアルカリ可溶性の樹脂を含む複数の画像記録層を設け、複数の画像記録層のうち、最上層に、下記一般式（Ｉ）で表される赤外線吸収剤を有する画像形成材料。2005283680.tif 000027 【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、水不溶性且つアルカリ可溶性の樹脂を含む複数の画像記録層を設け、該複数の画像記録層のうち、最上層に、下記一般式（Ｉ）で表される赤外線
吸収剤を有することを特徴とする画像形成材料。
【化１】
2005283680.tif 000026
一般式（Ｉ）中、R1〜R4は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を
示す。R5及びR6は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。ｎ及びｍは各々独立に０〜４の整数を示す。R1とR2、又はR3とR4は各々結合して環を形成していてもよく、また、R1及び／又はR2とR5、或いはR3及び／又はR4とR6は各々結合して環を形成していてもよく、更にｎ又はｍが２以上の場合、複数存在するR5同士或いはR6同士が互いに結合して環を形成していてもよい。Ｚ1及びＺ2は各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を示す。Ｑはトリメチン基又はペンタメチン基を示し、それらは２価の有機基とともに形成した環構造を有するものであってもよい。Ｘ-はカウンターアニオンを示す。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が変化する画像記録層を有した画像形成材料に関し、詳細にはコンピュータ等のデジタル信号に基づいて赤外線レーザ光を走査することにより直接製版できる、所謂ダイレクト製版可能なポジ型の重層感材型平版印刷版原版等の画像形成材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年画像形成技術の発展に伴い、細くビームを絞ったレーザ光をその版面上に走査させ、文字原稿、画像原稿等を直接版面上に形成させ、フイルム原稿を用いず直接製版することが可能となった。
しかし、レーザ光照射により画像記録層中で光熱変換を起こすことによって、画像記録層のアルカリ可溶化を引き起こしポジ画像を形成する、所謂サーマルポジ型の平版印刷版原版においては、画像形成原理として、レーザ露光による画像記録層中のバインダーの分子間相互作用の微妙な変化を利用しているために、露光／未露光部分のアルカリ可溶化のオン／オフの程度の差が小さくなるという問題がある。
【０００３】
このため、実用に耐える明確な露光／未露光部分のアルカリ溶解性のディスクリミネーションを得る目的で、複数の記録層を積層し、その最上層に現像液に対する表面難溶性を付与して、未露光部の現像溶解性を抑えるという手段が用いられている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
しかしながら、このような平版印刷版原版では、様々な使用条件におけるディスクリミネーションに改良の余地があり、使用条件による現像安定性（現像ラチチュード）、特に経時による画像記録層の溶解性（経時安定性）の改良が望まれていた。
【０００５】
また、上記のような重層型構造の記録層ではなく、例えば、単層型構造の記録層に、記録層全体のアルカリ現像液に対する溶解性を低下させ得る赤外線吸収剤を用いる方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。これにより、例えば高濃度現像液を使用したような場合に発生していた過剰現像は改善できるが、一方で、露光部の現像性（感度）の向上が望まれており、また、上記の経時安定性についても未だ改良の余地がある。
【特許文献１】特開平１１−２１８９１４号公報
【特許文献２】特開２０００−２７５８２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、高感度で、現像ラチチュードが広く、且つ、経時による性能劣化を抑制した画像形成材料を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は鋭意研究の結果、重層型の画像記録層の最上層に特定の構造を有する赤外線吸収剤を添加することにより、上記課題目的が達成される条件を見出した。
つまり、具体的に本発明は、
支持体上に、水不溶性且つアルカリ可溶性の樹脂を含む複数の画像記録層を設け、該複数の画像記録層のうち、最上層に、下記一般式（Ｉ）で表される赤外線吸収剤を有するこ
とを特徴とする画像形成材料である。
【０００８】
【化１】
2005283680.tif 000002
【０００９】
一般式（Ｉ）中、R1〜R4は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を
示す。R5及びR6は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。ｎ及びｍは各々独立に０〜４の整数を示す。R1とR2、又はR3とR4は各々結合して環を形成していてもよく、また、R1及び／又はR2とR5、或いはR3及び／又はR4とR6は各々結合して環を形成していてもよく、更にｎ又はｍが２以上の場合、複数存在するR5同士或いはR6同士が互いに結合して環を形成していてもよい。Ｚ1及びＺ2は各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を示す。Ｑはトリメチン基又はペンタメチン基を示し、それらは２価の有機基とともに形成した環構造を有するものであってもよい。Ｘ-はカウンターアニオンを示す。
【００１０】
本発明の作用は明確にはなっていないが、上記一般式（Ｉ）の構造を有する赤外線吸収
剤を、複数の画像記録層のうち最上層に含有させることで、その両末端に存在するアミド構造に起因して、露光部においては溶解性が増加し高感度化が促され、また未露光部においては、現像液浸透抑制効果によりアルカリ現像液に対する溶解抑止作用が強まり、現像ラチチュードが広がる。更に、画像記録層の表面部分（最上層）の溶解抑止作用を特に強めることで、経時による現像ラチチュードの劣化を抑制しているものと推測される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、露光部は優れた現像液溶解性を発現し、未露光部は高濃度現像液の浸透抑制作用を発現し、且つ該浸透抑制作用の経時による劣化が抑制できる画像形成材料、即ち、高感度で、現像ラチチュードが広く、且つ、経時による性能劣化を抑制した画像形成材料を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の画像形成材料は、支持体上に、水不溶性且つアルカリ可溶性の樹脂を含む複数の画像記録層を設け、該複数の画像記録層のうち最上層（支持体から最も離れた層。以下、単に「最上層」という。）に、下記一般式（Ｉ）で表される赤外線吸収剤を有すること
を特徴とする。
【００１３】
【化２】
2005283680.tif 000003
【００１４】
一般式（Ｉ）中、R1〜R4は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を
示す。R5及びR6は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。ｎ及びｍは各々独立に０〜４の整数を示す。R1とR2、又はR3とR4は各々結合して環を形成していてもよく、また、R1及び／又はR2とR5、或いはR3及び／又はR4とR6は各々結合して環を形成していてもよく、更にｎ又はｍが２以上の場合、複数存在するR5同士或いはR6同士が互いに結合して環を形成していてもよい。Ｚ1及びＺ2は各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を示す。Ｑはトリメチン基又はペンタメチン基を示し、それらは２価の有機基とともに形成した環構造を有するものであってもよい。Ｘ-はカウンターアニオンを示す。
【００１５】
なお、上記画像記録層は、各々の構成成分が異なる複数の層からなる重層構造を有し、且つ、その最上層が、特定の赤外線吸収剤を含有するものであればその層構成に特に制限はなく、例えば、該最上層以外の下層部分（最上層より支持体側の層。以下、単に「下層」という。）は、１層であっても、それぞれの組成や機能が異なる２層以上の層で構成されていてもよい。ここでは、本発明において特に好ましい態様である、アルカリ可溶性樹脂を含む下層と、アルカリ可溶性樹脂及び特定の赤外線吸収剤を含む上層（この構成では最上層となる）と、の２層構造からなるポジ型の画像記録材料を例に挙げて詳細に述べる。
【００１６】
＜最上層＞
まず、本発明の重要な要件である赤外線吸収剤について説明する。
〔赤外線吸収剤〕
本発明の画像形成材料は、支持体上に設けた、水不溶性且つアルカリ可溶性の樹脂を含む複数の画像記録層のうち最上層に、下記一般式（Ｉ）で表される赤外線吸収剤を含有する。
赤外線吸収剤とは、７００ｎｍ以上、好ましくは７５０〜１２００ｎｍの赤外域に光吸収域を有し、この範囲の波長域の光により、光／熱変換能を発現する物質を指す。具体的には、上記波長域の光を吸収し熱を発生する下記一般式（Ｉ）の構造を有する染料を用い
ることができる。
【００１７】
【化３】
2005283680.tif 000004
【００１８】
一般式（Ｉ）中、R1〜R4は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を
示す。R5及びR6は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。ｎ及びｍは各々独立に０〜４の整数を示す。R1とR2、又はR3とR4は各々結合して環を形成していてもよく、また、R1及び／又はR2とR5、或いはR3及び／又はR4とR6は各々結合して環を形成していてもよく、更にｎ又はｍが２以上の場合、複数存在するR5同士或いはR6同士が互いに結合して環を形成していてもよい。Ｚ1及びＺ2は各々独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を示す。Ｑはトリメチン基又はペンタメチン基を示し、それらは２価の有機基とともに形成した環構造を有するものであってもよい。Ｘ-はカウンターアニオンを示す。
尚、Ｚ1及びＺ2の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基であることが好ましい。
【００１９】
まず、上記一般式（Ｉ）で表される赤外線吸収剤の置換基について説明する。なお、本
発明はこれらの具体例に制限されるものではない。
R1〜R4、R5及びR6、並びにＺ1及びＺ2におけるアルキル基としては、炭素数が１から２０までの直鎖状、分岐状、又は環状のアルキル基が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素数１から１２までの直鎖状、炭素数３から１２までの分岐状、並びに炭素数５から１０までの環状のアルキル基がより好ましい。
【００２０】
これらのアルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられる。好ましい例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃ１、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ’−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウレイド基、Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリ−ルウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、カルボキシル基、及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基（以下、「スルホナト基」という。）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基��−ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｒ、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ａｒ、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役塩基基、Ｎ−アリ−ルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2Ａｒ、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＲ）3、Ｒはアルキル基を表す。）、アリーロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＡｒ）3、Ａｒはアリール基を表す。）、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＨ）3）及びその共役塩基基、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以下、「ホスホナト基」という。）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｒ2、Ｒはアルキル基を表す。）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ａｒ2、Ａｒはアリール基を表す。）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ3（Ｒ）（Ａｒ）、Ｒはアルキル基、Ａｒはアリール基を表す。）、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（Ｒ）、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役塩基基（以下、「アルキルホスホナト基」という。）、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（Ａｒ）、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基（以下、「アリールホスホナト基」という。）、ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以下、「ホスホナトオキシ基」という。）、ジアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｒ2、Ｒはアルキル基を表す。）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ａｒ2、Ａｒはアリール基を表す。）、アルキルアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（Ｒ）（Ａｒ）、Ｒはアルキル基、Ａｒはアリール基を表す。）、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（Ｒ）、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（Ａｒ）、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、アリール基（例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基等が挙げられる。）、アルケニル基（例えば、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基等が挙げられる。）、アルキニル基（例えば、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基等が挙げられる。）、アシル基（Ｒ7ＣＯ−；Ｒ7としては、水素原子を挙げることができ、また、前記Ｒ1��Ｒ4、Ｒ5及びＲ6、並びにＺ1及びＺ2におけるアルキル基、前記アルキル基の置換基として挙げたアリール基、同アルケニル基、同アルキニル基等と同様のものを挙げることができる。）等が挙げられる。
【００２１】
上記置換基中において、Ｒで表されるアルキル基の具体例としては、前記Ｒ1〜Ｒ4、Ｒ5及びＲ6、並びにＺ1及びＺ2におけるアルキル基と同様のものが挙げられ、またＡｒで表されるアリール基の具体例としては、前記アルキル基の置換基として挙げたアリール基と同様のものが挙げられる。
【００２２】
これら置換基のうち、更に好ましいものとしては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃ１、−Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、アルキルホスホナト基、モノアリールホスホノ基、アリールホスホナト基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基、アリール基、アルケニル基、アシル基等を挙げることができる。
【００２３】
一方、置換アルキル基において、置換基と組み合わせて置換アルキル基を構成するアルキレン基としては、前述の炭素数１から２０までのアルキル基上の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素数１から１２までの直鎖状、炭素数３から１２までの分岐状並びに炭素数５から１０までの環状のアルキレン基を挙げることができる。該置換基とアルキレン基を組み合わせることにより得られる置換アルキル基の好ましい具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、メトキシカルボニルメチル基、メトキシカルボニルブチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルガルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）ガルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）ガルバモイルメチル基、スルホプロピル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファイルオクチル基、ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナトブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナトヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基等を挙げることができる。
【００２４】
R1〜R4、Ｚ1及びＺ2におけるアリール基としては、ベンゼン環、２個から３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、該ベンゼン環若しくは縮合環と５員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基を挙げることができ、これらの中でも、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
【００２５】
置換アリール基としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては前記のアルキル基、置換アルキル基、置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。このような、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、ガルバモイルフェニル基、Ｎ−メチルガルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）ガルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メチルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル基、トリルホスホナトフェニル基、アリルフェニル基、１−プロペニルメチルフェニル基、２−ブテニルフェニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基等を挙げることができる。
【００２６】
R5及びR6における置換オキシ基としては、酸素原子に結合する基が水素を除く一価の非金属原子団であるものを用いることができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基が挙げられる。
これらにおけるアルキル基、並びにアリール基としては、前記Ｒ1〜Ｒ4、Ｒ5及びＲ6、並びにＺ1及びＺ2におけるアルキル基、同置換アルキル基、前記R1〜R4、Ｚ1及びＺ2におけるアリール基、並びに同置換アリール基として例示したものが挙げられる。また、アシルオキシ基におけるアシル基（R8ＣＯ−）としては、R8が、上記のアルキル基、置換アルキル基、アリール基、並びに置換アリール基として例示したものが挙げられる。
これらの置換オキシ基の中では、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリールスルホキシ基がより好ましく、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナフチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基等が挙げられる。
【００２７】
また、R5及びR6におけるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等を挙げることができる。
R1とR2、又はR3とR4は各々結合して環を形成してもよく、また、R1又はR2とR5が、またR3又はR4とR6が結合して環を形成してもよく、更に、R1及びR2が各々別のR5と結合して、或いはR3及びR4が各々別のR6と結合して環を形成してもよい。また、ｎ又はｍが２以上の場合、R5同士或いはR6同士は互いに結合して環を形成してもよい。また、ｎ、ｍは各々独立に０〜４の整数を示す。また、Ｚ1又はＺ2の少なくとも一方は、水素原子又はアルキル基であることが好ましい。
【００２８】
Ｑにおけるトリメチン基、ペンタメチン基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられる。好ましい例としては、まず置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、アルケニル基及びアルキニル基が挙げられる。上記アルキル基及びアリール基の具体例としては、前記Ｒ1〜Ｒ4、Ｒ5及びＲ6、並びにＺ1及びＺ2におけるアルキル基、前記R1〜R4、Ｚ1及びＺ2におけるアリール基として挙げた例が好ましく挙げられる。また、前記アルケニル基としては、例えばビニル基、フェニルビニル基、ジアルキルアミノフェニルビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基等が挙げられ、また前記アルキニル基としては、例えばエチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基、フェニルエチニル基等が挙げられる。
更にＱの置換基の好ましい例として、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃ１、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ’−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウレイド基、Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリ−ルウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、カルボキシル基、及びその共役塩基基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）及びその共役塩基（以下、「スルホナト基」という。）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｒ、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモイル基（−ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ａｒ、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役塩基基、Ｎ−アリ−ルスルホニルカルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ2Ａｒ、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基、アルコキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＲ）3、Ｒはアルキル基を表す。）、アリーロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＡｒ）3、Ａｒはアリール基を表す。）、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＨ）3）及びその共役塩基基、ホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以下、「ホスホナト基」という。）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｒ2、Ｒはアルキル基を表す。）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ａｒ2、Ａｒはアリール基を表す。）、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ3（Ｒ）（Ａｒ）、Ｒはアルキル基、Ａｒはアリール基を表す。）、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（Ｒ）、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役塩基基（以下、「アルキルホスホナト基」という。）、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ3Ｈ（Ａｒ）、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基（以下、「アリールホスホナト基」という。）、ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ2）及びその共役塩基基（以下、「ホスホナトオキシ基」という。）、ジアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｒ2、Ｒはアルキル基を表す。）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ａｒ2、Ａｒはアリール基を表す。）、アルキルアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3（Ｒ）（Ａｒ）、Ｒはアルキル基、Ａｒはアリール基を表す。）、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（Ｒ）、Ｒはアルキル基を表す。）及びその共役塩基基、モノアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ3Ｈ（Ａｒ）、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基、シアノ基、ニトロ基、アシル基（Ｒ10ＣＯ−；Ｒ10としては、水素原子を挙げることができ、また、前記Ｒ1〜Ｒ4、Ｒ5及びＲ6、並びにＺ1及びＺ2におけるアルキル基、前記アルキル基の置換基として挙げたアリール基、同アルケニル基、同アルキニル基等と同様のものを挙げることができる。）等が挙げられる。
【００２９】
上記置換基中において、Ｒで表されるアルキル基の具体例としては、前記Ｒ1〜Ｒ4、Ｒ5及びＲ6、並びにＺ1及びＺ2におけるアルキル基と同様のものが挙げられ、またＡｒで表されるアリール基の具体例としては、前記アルキル基の置換基として挙げたアリール基と同様のものが挙げられる。
【００３０】
これら置換基のうち、更に好ましいものとしては、アルキル基、アリール基、アルケニル基、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃ１、−Ｉ）、アルコキシ基、ヒドロキシル基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスホノ基、ホスホナト基、ジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、アルキルホスホナト基、モノアリールホスホノ基、アリールホスホナト基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基、アシル基等を挙げることができる。
【００３１】
また、Ｑは、メチン鎖に導入された置換基である２価の有機基、例えばアルキレン基、アルケニレン基等とともに環を形成してもよく、形成される環としては、原子数（水素原子を除く）が４〜７の環が挙げられる。形成した環は置換基を有していてもよく、該置換基としては前記Ｑにおける置換基と同様のものが挙げられる。
【００３２】
前記一般式（Ｉ）において、Ｘ-はカウンターアニオンを表す。なお、分子内で電荷が
中和されている場合にはカウンターアニオンは存在しない。
カウンターアニオンとしては、例えば、式ＭＹl-（ＭはＢ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ａｌ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｄ、Ｍｏ、Ｗ、Ｚｒから選択される原子であり、好ましくはＢ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂである。Ｙはハロゲン原子を表し、ｌは１〜６の整数である。）、或いは、式ＭＹl-1（ＯＨ）-（式中、Ｍ、Ｙ及びｌは上記と同様である。）で表されるものの他、Ｂｒ-、Ｃｌ-、Ｉ-、ＮＯ3-等を挙げることができる。式ＭＹl-で表される好ましいカウンターアニオンとしては、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＡｓＦ6-、ＳｂＦ6-等を挙げることができる。これらのうち特に好ましいものは、ＳｂＦ6-である。また、式ＭＹl-1（ＯＨ）-で表される好ましいカウンターアニオンとしては、ＳｂＦ5（ＯＨ）-等を挙げることができる。
【００３３】
更にその他のカウンターアニオンとしては、
１）過塩素酸塩イオン、
２）トリフルオロメチル亜硫酸イオン、
３）メタンスルホン酸イオン、
４）エタンスルホン酸イオン、
５）１−プロパンスルホン酸イオン、
６）２−プロパンスルホン酸イオン、
７）ｎ−ブタンスルホン酸イオン、
８）アリルスルホン酸イオン、
９）１０−カンファースルホン酸イオン、
１０）トリフルオロメタンスルホン酸イオン、
１１）ペンタフルオロエタンスルホン酸イオン、
１２）ベンゼンスルホン酸イオン、
１３）ｐ−トルエンスルホン酸イオン、
１４）３−メトキシベンゼンスルホン酸イオン、
１５）４−メトキシベンゼンスルホン酸イオン、
１６）４−ヒドロキシベンゼンスルホン酸イオン、
１７）４−クロロベンゼンスルホン酸イオン、
１８）３−ニトロベンゼンスルホン酸イオン、
１９）４−ニトロベンゼンスルホン酸イオン、
２０）４−アセチルベンゼンスルホン酸イオン、
２１）ペンタフルオロベンゼンスルホン酸イオン、
２２）４−ドデシルベンゼンスルホン酸イオン、
２３）メシチレンスルホン酸イオン、
２４）２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホン酸イオン、
２５）２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸イオン、
２６）イソフタル酸ジメチル−５−スルホン酸イオン、
２７）ジフェニルアミン−４−スルホン酸イオン、
２８）１−ナフタレンスルホン酸イオン、
２９）２−ナフタレンスルホン酸イオン、
３０）２−ナフトール−６−スルホン酸イオン、
３１）２−ナフトール−７−スルホン酸イオン、
３２）アントラキノン−１−スルホン酸イオン、
３３）アントラキノン−２−スルホン酸イオン、
３４）９，１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホン酸イオン、
３５）９，１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホン酸イオン、
３６）キノリン−８−スルホン酸イオン、
３７）８−ヒドロキシキノリン−５−スルホン酸イオン、
３８）８−アニリノ−ナフタレン−１−スルホン酸イオン
等が挙げられる。
【００３４】
次に、前記一般式（Ｉ）で示される赤外線吸収剤の製造方法について説明する。前記一
般式（Ｉ）で示される赤外線吸収剤はJustus  Liebigs  Ann．Chem．６２３巻、１９５９
年、２０４〜２１６頁、Ukr．Khim．Zh.２２巻、１９５６年、３４７〜３４８頁、Chem．Heterocycl．Compd．１８巻、１９８２年、３３４〜３３６頁、J．Heterocycl．Chem．２５巻、１９８８年、１３２１〜１３２５頁、特開昭６０−２３１７６６号公報等に記載されている公知の代表的な合成法で合成することができる。以下に合成例を挙げる。
【００３５】
合成例１（ＩＲ−５の合成）
（１）４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンズアルデヒド５０．８ｇ及びシクロペンタノン１２．１ｇを２００ｍｌのエタノールに溶解させた後、１０％の水酸化ナトリウム水溶液３１ｇを加え、４０℃〜５０℃で攪拌下に８時間反応させ、析出した結晶を濾別し、８０ｍｌのエタノール及び２００ｍｌの水で洗浄し乾燥して、２，５−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンジリデン）シクロペンタノンの橙色結晶を５２．５ｇ得た。
（２）２，５−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンジリデン）シクロペンタノン１２．１ｇを１００ｇのテトラヒドロフルフリルアルコール及び１５０ｇのテトラヒドロフランの混合溶媒に溶解させ、１．１ｇの水素化ホウ素ナトリウムを加え、３０℃〜４５℃で８時間反応させた後、５．５ｇの４８％テトラフルオロホウ酸と酢酸３０ｇの混合液を室温で注ぎ込み、析出した暗緑色結晶を濾取し、水洗し乾燥して、赤外線吸収剤ＩＲ−５を５．５ｇ得た。
【００３６】
合成例２（ＩＲ−１８の合成）
（１）２−（Ｎ−エチルアニリノ）エタノール５１．８ｇ及びトリエチルアミン３１．７ｇを３００ｍｌのアセトンに溶解させた後、氷水で反応液を冷却しながらアセチルクロリド２５ｇをゆっくり加え、室温で攪拌下に６時間反応させ、２００ｍｌの水を注ぎ込んだ。酢酸エチルで有機層を抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥した後、溶媒を減圧留去して、２−（Ｎ−エチルアニリノ）エチルアセテート６４．９ｇを得た。
（２）ジメチルホルムアミド２６．６ｇに、氷冷下塩化ホスホリル５５．８ｇを加えた後、２−（Ｎ−エチルアニリノ）エチルアセテート６３．０ｇとジメチルホルムアミド４０ｍｌの溶液を室温でゆっくり加え、室温で攪拌下に６時間反応させ、酢酸ナトリウム１５０ｇの水溶液に氷冷下に注ぎ込んだ。有機層を酢酸エチルで抽出し、溶媒を減圧留去した後に、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、２−（エチル（４−ホルミルフェニル）アミノ）エチルアセテート６０．２ｇを得た。
（３）４−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンズアルデヒド５１．０ｇ、シクロペンタノン７２．７ｇ、８５％水酸化カリウムペレット１９．０ｇ及び水４５０ｍｌの混合物を２５時間加熱還流させた後、過剰のシクロペンタノンを常法により留去し、析出した結晶を濾別し、エタノールで再結晶しその後乾燥して、２−（４−（ジエチルアミノ）ベンジリデン）シクロペンタノンの橙色結晶を４５．５ｇ得た。
（４）２−（エチル（４−ホルミルフェニル）アミノ）エチルアセテート４０．５ｇ及び２−（４−（ジエチルアミノ）ベンジリデン）シクロペンタノン４１．８ｇを１２０ｍｌのエタノールに溶解させた後、１０％の水酸化ナトリウム水溶液１９ｇを加え、４０℃〜５０℃で攪拌下に６時間反応させ、析出した結晶を濾別し、５０ｍｌのエタノール及び１５０ｍｌの水で洗浄し乾燥して、２−（４−（ジエチルアミノ）ベンジリデン）−５−（４−（エチル（２−ヒドロキシエチル）アミノ）ベンジリデン）シクロペンタノンの橙色結晶を３８．５ｇ得た。
（５）２−（４−（ジエチルアミノ）ベンジリデン）−５−（４−（エチル（２−ヒドロキシエチル）アミノ）ベンジリデン）シクロペンタノン１０．５ｇを、１００ｇのテトラヒドロフルフリルアルコール及び１５０ｇのテトラヒドロフランの混合溶媒に溶解させ、１．１ｇの水素化ホウ素ナトリウムを加え、３０℃〜４５℃で８時間反応させた後、４．２ｇの６０％過塩素酸と酢酸３ｇの混合液を室温で注ぎ込み、析出した暗緑色結晶を濾取し、水洗し乾燥して、赤外線吸収剤ＩＲ−１８を４．３ｇ得た。
【００３７】
合成例３（ＩＲ−３０の合成）
（１）４−（ジメチルアミノ）ベンゾフェノンフェノン４９．６ｇをテトラヒドロフラン１２０ｍｌに溶解させ、臭化メチルマグネシウムの１Ｎテトラヒドロフラン溶液２５０ｍｌに氷冷しながら加え、反応溶液を１時間加熱還流させた後、塩化アンモニウム水溶液を加え、常法により処理をしてアルコール中間体を得た。引き続き、得られたアルコール中間体を無水酢酸２００ｍｌに溶解させ、２時間還流させた後に、溶媒を減圧留去してジメチル（４−（１−フェニルビニル）フェニル）アミン３９ｇを得た。
（２）ジメチル（４−（１−フェニルビニル）フェニル）アミン２８ｇと、４−ジメチルアミノけい皮アルデヒド２２ｇを、無水酢酸２００ｍｌに溶解させ、３時間還流させた後に、反応液を室温まで冷却して、７０％過塩素酸１１ｍｌと酢酸６００ｍｌの混合物をゆっくり加え、再び１０分間還流させた。反応液を冷却し、水６００ｍｌを加え析出物を濾別し、水洗した後にエタノールと水との混合溶媒で再結晶し、赤外線吸収剤ＩＲ−３０を１２ｇ得た。
【００３８】
合成例４（ＩＲ−４６の合成）
（１）４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンズアルデヒド４２．８ｇ及びシクロヘキサノン１４．１ｇを２００ｍｌのエタノールに溶解させた後に、１０％の水酸化ナトリウム水溶液３１ｇを加え、４０℃〜５０℃で攪拌下に７時間反応させ、析出した結晶を濾別し、８０ｍｌのエタノール及び２００ｍｌの水で洗浄し乾燥して、２，６−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジリデン）シクロヘキサノンの橙色結晶を４７．２ｇ得た。
（２）２，６−ビス（４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンジリデン）シクロヘキサノン９．０ｇを１００ｇのテトラヒドロフルフリルアルコール及び１５０ｇのテトラヒドロフランの混合溶媒に溶解させ、１．１ｇの水素化ホウ素ナトリウムを加え、３０℃〜４５℃で８時間反応させた後、ｐ−トルエンスルホン酸−水和物４．８ｇ、酢酸３０ｇ及び水３５ｍｌの混合液を室温で注ぎ込み、析出した暗緑色の結晶を濾取し、水洗し乾燥して。赤外線吸収剤ＩＲ−４６を４．３ｇ得た。
【００３９】
以下に、上記一般式（Ｉ）で示される赤外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明の赤外
線吸収剤はこれらの具体例に限定されるものではない。
【００４０】
【化４】
2005283680.tif 000005
【００４１】
【化５】
2005283680.tif 000006
【００４２】
【化６】
2005283680.tif 000007
【００４３】
【化７】
2005283680.tif 000008
【００４４】
【化８】
2005283680.tif 000009
【００４５】
【化９】
2005283680.tif 000010
【００４６】
【化１０】
2005283680.tif 000011
【００４７】
【化１１】
2005283680.tif 000012
【００４８】
【化１２】
2005283680.tif 000013
【００４９】
【化１３】
2005283680.tif 000014
【００５０】
【化１４】
2005283680.tif 000015
【００５１】
これらの赤外線吸収剤は、最上層の全固形分に対して０．０１〜５０質量％、好ましくは０．１〜２０質量％、より好ましくは０．５〜１５質量％の割合で添加することができる。添加量が０．０１質量％より少ないとこの画像記録層において画像を形成することができず、５０質量％を超えて添加すると、非画像部に汚れを生じる虞がある。
本発明においては、このような赤外線吸収剤を使用したことにより、現像液溶解性に優れ、また、最上層への添加量を少なくしても良好な画像形成性を発現する。
【００５２】
本発明における最上層には、この赤外線吸収剤に加えて、画像形成性を向上させる目的で他の赤外線吸収性を有する顔料或いは染料を添加することができる。顔料としては、市販の顔料、及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料等、公知の顔料が利用できる。
【００５３】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、ポリマー結合色素等が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
【００５４】
これら顔料は表面処理を施して用いてもよく、表面処理の方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【００５５】
顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲にあることが更に好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μｍ未満のときは分散物の画像記録層塗布液中での安定性の点で好ましくなく、また、１０μｍを越えると画像記録層の均一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。
【００５６】
染料としては、市販の染料、「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）に記載されている染料等、公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料等が挙げられる。本発明において、赤外光若しくは近赤外光を発光するレーザによって画像形成する場合、これらの顔料、若しくは染料のうち赤外光、若しくは近赤外光を吸収するものが特に好ましい。
【００５７】
このような赤外光、若しくは近赤外光を吸収する顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられる。また、赤外光、若しくは近赤外光を吸収する染料としては例えば特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７号等公報に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等公報に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等公報に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等公報に記載されているスクワリリウム色素、英国特許４３４，８７５号明細書記載のシアニン染料、米国特許５，３８０，６３５号明細書に記載のジヒドロペリミジンスクアリリウム染料等を挙げることができる。
【００５８】
また、染料として米国特許第５，１５６，９３８号明細書記載の近赤外線吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号明細書記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号公報（米国特許第４，３２７，１６９号明細書）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号等公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号公報記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号明細書に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号等公報に開示されているピリリウム化合物、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ  III−１７８、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ  III−１３０、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ  III−１２５、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ  IV−６２Ａ等は特に好ましく用いられる。また、染料として特に好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外線吸収染料を挙げることができる。
【００５９】
これらの顔料若しくは染料は、感度と画像記録層の均一性、耐久性の観点から、最上層全固形分に対し０．０１〜５０質量％が好ましく、０．１〜１０質量％がより好ましく、染料の場合特に０．５〜１０質量％が好ましい。また、顔料の場合特に３．１〜１０質量％が好ましい。
【００６０】
なお、一般式（Ｉ）で表される赤外線吸収剤と、上記他の赤外線吸収剤を併用する場合には、全赤外線吸収剤中における一般式（Ｉ）で表される赤外線吸収剤の使用量は１〜９９質量％であることが好ましく、５〜９５質量％であることがより好ましく、１０〜９０質量％であることが特に好ましい。
【００６１】
〔アルカリ可溶性樹脂〕
本発明の画像形成材料における最上層には、前記赤外線吸収剤の他、水不溶性且つアルカリ可溶性の樹脂（以下、単に「アルカリ可溶性樹脂」という。）が含有される。
上記アルカリ可溶性樹脂としては、樹脂中の主鎖及び／又は側鎖に酸性基を含有した樹脂を用いることができる。
ここで、上記酸性基としては、下記（１）〜（６）に挙げる酸性基が、耐現像性、アルカリ水溶液に対する溶解性の点で好ましい。
【００６２】
（１）フェノール基（−Ａｒ−ＯＨ）
（２）スルホンアミド基（−ＳＯ2ＮＨ−Ｒ）
（３）置換スルホンアミド系酸基（以下、「活性イミド基」という。）
（−ＳＯ2ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ2ＮＨＳＯ2Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ2Ｒ）
（４）カルボン酸基（−ＣＯ2Ｈ）
（５）スルホン酸基（−ＳＯ3Ｈ）
（６）リン酸基（−ＯＰＯ3Ｈ2）
【００６３】
上記（１）〜（６）中、Ａｒは置換基を有していてもよい２価のアリール連結基を表し、Ｒは水素原子、又は置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
【００６４】
上記（１）〜（６）より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂の中でも、（１）フェノール基、（２）スルホンアミド基及び（３）活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、（１）フェノール基又は（２）スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確保する点から最も好ましい。
【００６５】
上記（１）〜（６）より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、以下のものを挙げることができる。
（１）フェノール基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、フェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体、ｍ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、ｐ−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール（ｍ−、ｐ−、又はｍ−／ｐ−混合のいずれでもよい）とホルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂、及びピロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができる。
【００６６】
更に、フェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合体を挙げることもできる。
フェノール基を側鎖に有する化合物としては、フェノール基を側鎖に有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。
【００６７】
（２）スルホンアミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、スルホンアミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内に各々１以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基と、アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分子化合物が好ましく、例えば、下記一般式（ｉ）〜（ｖ）で表される化合物が挙げられる。
【００６８】
【化１５】
2005283680.tif 000016
【００６９】
〔一般式（ｉ）〜（ｖ）中、Ｘ11及びＸ12は、各々独立に−Ｏ−又は−ＮR17を表す。R11及びR14は、各々独立に水素原子又は−ＣＨ3を表す。R12、R15、R19、R22及びR26は、各々独立に置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。R13、R17及びR23は、各々独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、R16及びR27は、各々独立に置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアラルキル基を表す。R18、R20及びR24は、各々独立に水素原子又は−ＣＨ3を表す。R21及びR25は、各々独立に単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Ｙ11及びＹ12は、各々独立に単結合又は−ＣＯ−を表す。〕
【００７０】
一般式（ｉ）〜（ｖ）で表される化合物のうち、本発明におけるアルカリ可溶性樹脂に用いられる化合物としては、特に、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【００７１】
（３）活性イミド基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、活性イミド基を有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。上記のような化合物としては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和基と、を分子内に各々１以上有する化合物を挙げることができる。
【００７２】
【化１６】
2005283680.tif 000017
【００７３】
具体的には、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【００７４】
（４）カルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内に各々１以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。
（５）スルホン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内に各々１以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。
（６）リン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内に各々１以上有する化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成される重合体を挙げることができる。
【００７５】
本発明に係るアルカリ可溶性樹脂としては、前記（１）〜（６）より選ばれる酸性基を有するモノマーのうち２種類以上を重合させた高分子化合物であることが好ましい。
【００７６】
また更に、前記（１）〜（６）より選ばれる酸性基を有するモノマーのうち１種或いは２種類以上の重合性モノマーの他に、他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化合物であることが好ましい。この場合の共重合比としては、アルカリ可溶性を付与するモノマーを１０モル％以上含むことが好ましく、２０モル％以上含むものがより好ましい。アルカリ可溶性を付与するモノマーの共重合成分が１０モル％より少ないと、アルカリ可溶性が不十分となりやすく、現像ラチチュードが低下する傾向にある。
ここで、使用可能な他の重合性モノマーとしては、下記（ｍ１）〜（ｍ１２）に挙げる化合物を例示することができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７７】
（ｍ１）２−ヒドロキシエチルアクリレート又は２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
（ｍ２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
（ｍ３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキルメタクリレート。
（ｍ４）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
（ｍ５）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
（ｍ６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
（ｍ７）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
（ｍ８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
（ｍ９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
（ｍ１０）Ｎ−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
（ｍ１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。
（ｍ１２）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。
【００７８】
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂としては、前記の（１）フェノール基、（２）スルホンアミド基、又は（３）活性イミド基を有する重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体が好ましく、特にｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミド等の、スルホンアミド基を有する重合性モノマーの単独重合体或いは共重合体のものが好ましい。
また、アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量は２，０００以上、数平均分子量は５００以上のものが好ましい。更に好ましくは、重量平均分子量が５，０００〜３００，０００で、数平均分子量が８００〜２５０，０００であり、分散度（重量平均分子量／数平均分子量）が１．１〜１０のものが好ましい。
また、本発明においてアルカリ可溶性樹脂がフェノールホルムアルデヒド樹脂、クレゾールアルデヒド樹脂等の樹脂である場合には、重量平均分子量が５００〜２０，０００であり、数平均分子量が２００〜１０，０００のものが好ましい。
【００７９】
これらアルカリ可溶性樹脂は、各々１種類或いは２種類以上を組合せて使用してもよい。アルカリ可溶性樹脂の添加量は、感度、画像記録層の耐久性の観点から、最上層の全固形分中３０〜９９質量％が好ましく、４０〜９５質量％がより好ましく、５０〜９０質量％が特に好ましい。
【００８０】
〔溶解抑止剤〕
本発明に係る最上層には、現像液に対する溶解性を調節するために、オニウム塩、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物、多官能アミン化合物等の、アルカリ可溶性樹脂の現像液への溶解阻止機能を向上させる、所謂溶解抑止剤を添加することが好ましい。中でも、熱分解性であって、分解していない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させるという性質から、オニウム塩、ｏ−キノンジアジド化合物、スルホン酸アルキルエステル等の溶解抑止剤が好ましい。
【００８１】
本発明において用いられるオニウム塩としては、例えばＳ．Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓｃｉ．Ｅｎｇ．，１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．Ｂａｌ  ｅｔ  ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３（１９８０）、特開平５−１５８２３０号、同１１−１４３０６４号等公報に記載のジアゾニウム塩；米国特許第４，０６９，０５５号、同第４，０６９，０５６号等明細書、特開平３−１４０１４０号、特開２００２−２２９１８６号等公報に記載のアンモニウム塩；Ｄ．Ｃ．Ｎｅｃｋｅｒ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１７，２４６８（１９８４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ  ｅｔ  ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ  ＡＳＩＡ，ｐ４７８Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）、米国特許第４，０６９，０５５号、同第４，０６９，０５６号等明細書に記載のホスホニウム塩；Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｃｈｅｍ．＆Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ，Ｎｏｖ．２８，ｐ３１（１９８８）、欧州特許第１０４，１４３号、米国特許第５，０４１，３５８号、同第４，４９１，６２８号等明細書、特開平２−１５０８４８号、特開平２−２９６５１４号等公報に記載のヨードニウム塩；Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｊ．１７，７３（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４３，３０５５（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗａｔｔ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，２２，１７８９（１９８４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｂｕｌｌ．，１４，２７９（１９８５）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１４（５），１１４１（１９８１）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，２８７７（１９７９）、欧州特許第３７０，６９３号、同２３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同３，９０２，１１４号、同５，０４１，３５８号、同４，４９１，６２８号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５８１号等明細書に記載のスルホニウム塩；Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｒｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ  ｅｔ  ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載のセレノニウム塩；Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ  ｅｔ  ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ  ＡＳＩＡ，ｐ４７８Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記載のアルソニウム塩等が挙げられる。
【００８２】
これらのオニウム塩の中でも、溶解阻止能や熱分解性の観点から、ジアゾニウム塩及び４級アンモニウム塩が特に好ましい。特に、ジアゾニウム塩としては、特開平５−１５８２３０号公報に記載の一般式（Ｉ）で示されるジアゾニウム塩や特開平１１−１４３０６４号公報に記載の一般式（１）で示されるジアゾニウム塩が好ましく、可視光領域の吸収波長が小さい特開平１１−１４３０６４号公報に記載の一般式（１）で示されるジアゾニウム塩が最も好ましい。また４級アンモニウム塩としては、特開２００２−２２９１８６号公報に記載の（１）〜（１０）に示される４級アンモニウム塩が好ましい。
【００８３】
オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸、５−ニトロ−ｏ−トルエンスルホン酸、５−スルホサリチル酸、２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸、２，４，６−トリメチルベンゼンスルホン酸、２−ニトロベンゼンスルホン酸、３−クロロベンゼンスルホン酸、３−ブロモベンゼンスルホン酸、２−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、１−ナフトール−５−スルホン酸、２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることができる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレンスルホン酸や２，５−ジメチルベンゼンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適である。
【００８４】
本発明に用いられるｏ−キノンジアジド化合物は、少なくとも１個のｏ−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物を用いることができる。つまり、ｏ−キノンジアジドは熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、ｏ−キノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化することの両方の効果により画像記録層の溶解性を助ける。本発明に用いられるｏ−キノンジアジド化合物としては、例えば、Ｊ．コーサー著「ライト−センシティブ・システムズ」（Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ．Ｉｎｃ．）第３３９〜３５２頁に記載の化合物が使用できるが、特に種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物或いは芳香族アミノ化合物と反応させたｏ−キノンジアジドのスルホン酸エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特公昭４３−２８４０３号公報に記載されているようなベンゾキノン（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステル、米国特許第３，０４６，１２０号及び同第３，１８８，２１０号明細書に記載されているベンゾキノン−（１，２）−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン−（１，２）−ジアジド−５−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適に使用される。
【００８５】
更にナフトキノン−（１，２）−ジアジド−４−スルホン酸クロライドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂又はクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステル、ナフトキノン−（１，２）−ジアジド−４−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有用なｏ−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば特開昭４７−５３０３号、特開昭４８−６３８０２号、特開昭４８−６３８０３号、特開昭４８−９６５７５号、特開昭４９−３８７０１号、特開昭４８−１３３５４号、特公昭４１−１１２２２号、特公昭４５−９６１０号、特公昭４９−１７４８１号等公報、米国特許第２，７９７，２１３号、同第３，４５４，４００号、同第３，５４４，３２３号、同第３，５７３，９１７号、同第３，６７４，４９５号、同第３，７８５，８２５号、英国特許第１，２２７，６０２号、同第１，２５１，３４５号、同第１，２６７，００５号、同第１，３２９，８８８号、同第１，３３０，９３２号、独国特許第８５４，８９０号等明細書に記載されているものを挙げることができる。
【００８６】
分解性溶解抑止剤として、オニウム塩及び／又はｏ−キノンジアジド化合物を添加する場合、その添加量は最上層の全固形分に対し、好ましくは１〜１０質量％、更に好ましくは１〜５質量％、特に好ましくは１〜２質量％の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、数種の混合物として使用してもよい。
【００８７】
また、オニウム塩及びｏ−キノンジアジド化合物以外の、上記した他の分解性溶解抑止剤を添加する場合、その添加量は最上層の全固形分に対し、好ましくは０．１〜５質量％、更に好ましくは０．１〜２質量％、特に好ましくは０．１〜１．５質量％である。なお、本発明において溶解抑止剤は結着剤と、同一層へ含有させることが好ましい。
【００８８】
また、分解性を有さない溶解抑止剤を添加してもよく、好ましい溶解抑止剤としては、特開平１０−２６８５１２号公報に記載されているスルホン酸エステル、燐酸エステル、芳香族カルボン酸エステル、芳香族ジスルホン、カルボン酸無水物、芳香族ケトン、芳香族アルデヒド、芳香族アミン、芳香族エーテル等、同じく特開平１１−１９０９０３号公報に記載されているラクトン骨格、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミド骨格、ジアリールメチルイミノ骨格を有し着色剤を兼ねた酸発色性色素、同じく特開２０００−１０５４５４号公報に記載されている非イオン性界面活性剤等を挙げることができる。
【００８９】
上記分解性を有さない溶解抑止剤を添加する場合には、その添加量は最上層の全固形分に対し、好ましくは０．１〜４０質量％、更に好ましくは０．２〜３０質量％、特に好ましくは０．５〜２０質量％である。
なお、前記分解性溶解抑止剤と分解性を有さない溶解抑止剤を併用する場合には、全溶解抑止剤中における分解性溶解抑止剤の使用量は、１〜９９質量％であることが好ましく、５〜９５質量％であることがより好ましく、１０〜９０質量％であることが特に好ましい。
【００９０】
〔その他の添加剤〕
また、本発明における最上層に使用される添加剤としては、感度を向上させる目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類を挙げることができる。また、後述する界面活性剤、画像着色剤、及び可塑剤等を添加することができる。
【００９１】
環状酸無水物としては米国特許第４，１１５，１２８号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、３，６−エンドオキシ−４−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。
フェノール類としては、ビスフェノールＡ、ｐ−ニトロフェノール、ｐ−エトキシフェノール、２，４，４’−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４，４’，４’’−トリヒドロキシトリフェニルメタン、４，４’，３’’，４’’−テトラヒドロキシ−３，５，３’，５’−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられる。
有機酸類としては、特開昭６０−８８９４２号公報、特開平２−９６７５５号公報などに記載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類、及びカルボン酸類などが挙げられる。
上記の環状酸無水物、フェノール類、及び有機酸類の添加量は、最上層全固形分に対し、０．０５〜２０質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜１５質量％、特に好ましくは０．１〜１０質量％である。
【００９２】
また、これら以外にも、エポキシ化合物、ビニルエーテル類、更には特開平８−２７６５５８号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合物及び本発明者らが先に提案した特開平１１−１６０８６０号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋性化合物等を目的に応じて適宜添加することができる。
【００９３】
また、本発明における最上層には、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公報に記載されているような両性界面活性剤、ＥＰ９５０５１７公報に記載されているようなシロキサン系化合物、特開平１１−２８８０９３号公報に記載されているようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することができる。
【００９４】
非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられる。
両面活性剤の具体例としては、アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名「アモーゲンＫ」：第一工業(株)製）等が挙げられる。
上記非イオン界面活性剤及び／又は両性界面活性剤の添加量は、最上層全固形分に対し、０．０５〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０．１〜５質量％である。
【００９５】
シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサンとポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好ましく、具体例として、(株)チッソ社製、ＤＢＥ−２２４，ＤＢＥ−６２１，ＤＢＥ−７１２，ＤＢＰ−７３２，ＤＢＰ−５３４、独Ｔｅｇｏ社製、Ｔｅｇｏ  Ｇｌｉｄｅ１００等のポリアルキレンオキシド変性シリコーンを挙げることができる。
【００９６】
また、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
焼き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化合物（光酸放出剤）と塩を形成し得る有機染料の組合せを代表として挙げることができる。具体的には、特開昭５０−３６２０９号、同５３−８１２８号等公報に記載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭５３−３６２２３号、同５４−７４７２８号、同６０−３６２６号、同６１−１４３７４８号、同６１−１５１６４４号及び同６３−５８４４０号等公報に記載されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せを挙げることができる。係るトリハロメチル化合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。
【００９７】
画像着色剤としては、前述の塩形成性有機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業(株)製）、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１５）などを挙げることができる。また、特開昭６２−２９３２４７号公報に記載されている染料は特に好ましい。これらの染料は、最上層全固形分に対し、０．０１〜１０質量％、好ましくは０．１〜３質量％の割合で最上層中に添加することができる。
【００９８】
更に、本発明の画像形成材料の最上層には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
【００９９】
＜下層＞
次に、本発明の画像形成材料の下層について説明する。
本発明に係る下層は、アルカリ可溶性樹脂を必須成分とすれば、その他に含まれる成分に特に制限はない。即ち、必要に応じて、前述の最上層において挙げたものと同様の、赤外線吸収剤や、その他の成分を含んでいてもよい。
下層に用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、前述の最上層において挙げたものと同様のものを用いることができるが、層間の境界を明瞭にするために、下層に用いるアルカリ可溶性樹脂は、上層に用いるアルカリ可溶性樹脂とは異なるものを主成分とすることが好ましい。下層に好適に用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）（メタ）アクリルアミドと（メタ）アクリル酸アルキルエステルとアクリロニトリルとの共重合体、４−マレイミドベンゼンスルホンアミドとスチレンとの共重合体、（メタ）アクリル酸とＮ−フェニルマレイミドと（メタ）アクリルアミドとの共重合体等の高極性なユニットを有するアルカリ可溶性樹脂等が好ましく用いられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１００】
また、特に制限されるわけではないが、本発明においては、下層は最上層よりもアルカリ溶解性の高い層であることが好ましい。この特性を有することにより、露光部は優れた現像溶解性を発現し、例えば、活性の低下した現像液などを用いた場合でも、残膜などが発生することなく速やかに溶解する。一方、未露光部においては、最上層の浸透抑制作用により、下層が現像液と接触することがないため過剰現像の虞もない。よって、より高感度な画像形成材料を得ることができ、また、ディスクリミネーションに優れた画像を形成することができる。
上記の通り、下層には前記最上層に含有される組成物を同様に用いることができるが、溶解性の高い下層を得る目的から、一般式（Ｉ）で表される赤外線吸収剤、他の赤外線吸収剤、溶解抑止剤の好ましい含有量の範囲は、最上層の好ましい含有量の範囲と異なる。
つまり、一般式（Ｉ）で表される赤外線吸収剤、及び他の赤外線吸収剤の含有量は、下層の全固形分中、０．０１〜３０質量％が好ましく、０．１〜２０質量％がより好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。また、溶解抑止作用を発現する溶解抑止剤の含有量は、下層の全固形分中、０．１〜３０質量％が好ましく、０．２〜２０質量％がより好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。
なお、上記赤外線吸収剤及び溶解抑止剤の好ましい例、並びに、他の組成物の好ましい例と好ましい添加量は、前記最上層の場合と同様である。
【０１０１】
＜画像記録層の形成＞
本発明に係る画像記録層は、下層、最上層のそれぞれの成分を溶媒に溶かし、適当な支持体上に塗布することにより形成することができる。また、目的に応じて、後述する下塗層、保護層、バックコート層なども同様にして形成することができる。
ここで使用する溶媒としては、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン等を挙げることができるがこれに限定されるものではない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用される。
溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度は、１〜５０質量％であることが好ましい。
また塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層の塗布量（固形分）は、用途によって異なるが、一般に、下層の乾燥後の塗布量が、０．１〜５．０ｇ／ｍ2が好ましく、０．２〜３．０ｇ／ｍ2がより好ましい。また、最上層の乾燥後の塗布量としては、０．０１〜５．０ｇ／ｍ2が好ましく、０．０３〜３．０ｇ／ｍ2がより好ましく、０．０５〜２．０ｍｇ／ｍ2が最も好ましい。
【０１０２】
画像記録層用塗布液を塗布する方法としては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、画像記録層の皮膜特性は低下する。
【０１０３】
２つの層を分離して形成する方法としては、例えば、下層に含まれる成分と、最上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法、又は、最上層を塗布した後、急速に溶剤を乾燥、除去させる方法等が挙げられる。
以下、これらの方法について述べるが、２つの層を分離して塗布する方法はこれらに限定されるものではない。
【０１０４】
下層に含まれる成分と最上層に含まれる成分との溶剤溶解性の差を利用する方法としては、最上層用塗布液を塗布する際に、下層に含まれる成分のいずれもが不溶な溶剤系を用いるものである。これにより、二層塗布を行っても、各層を明確に分離して塗膜にすることが可能になる。例えば、下層成分として、最上層成分であるアルカリ可溶性樹脂を溶解するメチルエチルケトンや１−メトキシ−２−プロパノール等の溶剤に不溶な成分を選択し、該下層成分を溶解する溶剤系を用いて下層を塗布・乾燥し、その後、アルカリ可溶性樹脂を主体とする上層成分をメチルエチルケトンや１−メトキシ−２−プロパノール等で溶解し、塗布・乾燥することにより２層化が可能になる。
【０１０５】
次に、２層目（最上層）を塗布後に、極めて速く溶剤を乾燥させる方法としては、ウェブの走行方向に対してほぼ直角に設置したスリットノズルより高圧エアーを吹きつける方法や、蒸気等の加熱媒体を内部に供給されたロール（加熱ロール）よりウェブの下面から伝導熱として熱エネルギーを与える方法、或いはそれらの方法の組み合わせを挙げることができる。
【０１０６】
また本発明に係る画像記録層には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば特開昭６２−１７０９５０号公報に記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。好ましい添加量は、最上層、下層それぞれの全固形分中０．０１〜１質量％、さらに好ましくは０．０５〜０．５質量％である。
【０１０７】
＜支持体＞
本発明の画像形成材料に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、必要な強度、可撓性などの物性を満たすものであれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフイルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上記のごとき金属がラミネート、若しくは蒸着された紙、又はプラスチックフイルム等が挙げられる。
本発明に適用し得る支持体としては、ポリエステルフイルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミニウムがラミネート若しくは蒸着されたプラスチックフイルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は一般的に１０質量％以下である。本発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでもよい。
このように本発明に適用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．２ｍｍ〜０．３ｍｍである。
【０１０８】
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号公報に開示されているように両者を組合せた方法も利用することができる。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸或いはそれらの混酸が用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決められる。
【０１０９】
陽極酸化の処理条件は、用いる電解質により種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電解質の濃度が１〜８０質量％の溶液、液温は５〜７０℃、電流密度５〜６０Ａ／ｄｍ2、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜の量は１．０ｇ／ｍ2より少ないと耐刷性が不十分であったり、印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印刷時に傷の部分にインキが付着する所謂「傷汚れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アルミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発明に使用される親水化処理としては、米国特許第２，７１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、同第３，２８０，７３４号及び同第３，９０２，７３４号等明細書に開示されているようなアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸ナトリウム水溶液）法がある。この方法においては、支持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電解処理される。他に特公昭３６−２２０６３号公報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６１号、同第４，６８９，２７２号等明細書に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。
【０１１０】
＜下塗層＞
本発明の画像形成材料は、支持体上に先述したような画像記録層を設けたものであるが、必要に応じて支持体と下層との間に下塗層を設けることができる。この下塗層を設けることで、支持体と画像記録層との間の下塗層が断熱層として機能し、赤外線レーザの露光により発生した熱が支持体に拡散せず、効率よく使用されることから、高感度化が図れるという利点を有する。また、本発明に係る画像記録層は、この下塗層を設ける際にも、露光面或いはその近傍に位置するため、赤外線レーザに対する感度は良好に維持される。
なお、未露光部においては、アルカリ現像液に対して非浸透性を有する画像記録層自体が下塗層の保護層として機能するために、現像安定性が良好になるとともにディスクリミネーションに優れた画像が形成され、且つ、経時的な安定性も確保されるものと考えられ、露光部においては、溶解抑止作用が解除された画像記録層の成分が速やかに現像液に溶解、分散し、更には、支持体に隣接して存在するこの下塗層自体がアルカリ可溶性樹脂からなるものであるため、現像液に対する溶解性が良好で、例えば、活性の低下した現像液などを用いた場合でも、残膜などが発生することなく速やかに溶解し、現像性の向上にも寄与し、この下塗層は有用であると考えられる。
【０１１１】
下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシン、β−アラニンなどのアミノ酸類、トリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれ、これらを１種若しくは２種以上混合して用いることができる。
【０１１２】
更に下記式で示される構造単位を有する有機高分子化合物群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含む下塗層も好ましい。
【０１１３】
【化１７】
2005283680.tif 000018
【０１１４】
R31は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、R32及びR33は各々独立に、水素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、−ＯR34、−ＣＯＯR35、−ＣＯＮＨR36、−ＣＯR37若しくは−ＣＮを表すか、又はR32及びR33が結合して環を形成してもよく、R34〜R37は各々独立にアルキル基又はアリール基を表し、Ｖは水素原子、金属原子、ＮR38R39R40R41を表し、R38〜R41は各々独立に、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基若しくは置換アリール基を表すか、又はR38及びR39が結合して環を形成してもよく、ｋは１〜３の整数を表す。
なお、上記置換基の具体例としては、R1〜R4、R5及びR6、並びにＺ1及びＺ2におけるアルキル基等、各々前述の例と同様のものを挙げることができる。
【０１１５】
また、本発明における好適な下塗層成分として、特開２０００−２４１９６２号公報に記載の酸基を有する構成成分とオニウム基を有する構成成分とを有する高分子化合物を挙げることができる。具体的には、酸基を有するモノマーとオニウム基を有するモノマーの共重合体が挙げられる。酸基として好ましいのは酸解離指数（ｐＫａ）が７以上の酸基であり、より好ましくは−ＣＯＯＨ、−ＳＯ3Ｈ、−ＯＳＯ3Ｈ、−ＰＯ3Ｈ2、−ＯＰＯ3Ｈ2、−ＣＯＮＨＳＯ2−、又は−ＳＯ2ＮＨＳＯ2−であり、特に好ましくは−ＣＯＯＨである。酸基を有するモノマーの具体例としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、イソクロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、上記酸基を有するスチレンなどが挙げられる。オニウム塩として好ましいのは、周期表Ｖ族或いは第ＶＩ族の原子からなるオニウム基であり、より好ましくは窒素原子、リン原子或いは硫黄原子から成るオニウム塩であり、特に好ましくは窒素原子から成るオニウム塩である。オニウム塩を有するモノマーの具体例としては、側鎖にアンモニウム基を有するメタクリレート、メタクリルアミド、第４級アンモニウム基などのオニウム基を含む置換基などのオニウム基を含む置換基を有するスチレン等が挙げられる。
更に、特開２０００−１０８５３８号公報、特願２００２−２５７４８４号公報、特願２００３−７８６９９号公報等に記載されているような化合物についても、必要に応じて用いることができる。
【０１１６】
これらの下塗層は次のような方法で設けることができる。即ち、メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤、若しくは水、又はそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液を調製し、アルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、概溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の０．００５〜１０質量％の濃度の溶液を種々の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は０．０１〜２０質量％、好ましくは０．０５〜５質量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好ましくは２秒〜１分である。これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨ１〜１２の範囲に調整することもできる。また、画像形成材料の調子再現性改良のために黄色染料を添加することもできる。下塗層の被覆量は、２〜２００ｍｇ／ｍ2が適当であり、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ2である。上記の被覆量が２ｍｇ／ｍ2よりも少ないと十分な耐刷性能が得られない。また、２００ｍｇ／ｍ2より多くても同様である。
【０１１７】
＜画像形成＞
本発明の画像形成材料は熱により画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光などが用いられるが、波長７００〜１２００ｎｍの赤外線を放射する半導体レーザ、ＹＡＧレーザ等の固体高出力赤外線レーザによる露光が好適である。
【０１１８】
レーザの出力は１００ｍＷ以上が好ましく、露光時間を短縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いることが好ましい。また、１画素あたりの露光時間は２０μ秒以内であることが好ましく、記録材料に照射されるエネルギーは１０〜５００ｍＪ／ｃｍ2であることが好ましい。
【０１１９】
＜現像液及び現像処理＞
本発明に適用することのできる現像液は、ｐＨが９．０〜１４．０の範囲、好ましくは１２．０〜１３．５の範囲にある現像液である。現像液（以下、補充液も含めて現像液と呼ぶ）には、従来より知られているアルカリ水溶液が使用でき、例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、第３リン酸ナトリウム、第３リン酸カリウム、第３リン酸アンモニウム、第２リン酸ナトリウム、第２リン酸カリウム、第２リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ほう酸ナトリウム、ほう酸カリウム、ほう酸アンモニウム、水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、水酸化カリウム及び水酸化リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤が挙げられる。これらのアルカリ水溶液は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１２０】
上記のアルカリ水溶液のうち、特に効果が発揮される現像液としては、塩基としてケイ酸アルカリを含有した、又は塩基にケイ素化合物を混ぜてケイ酸アルカリとしたものを含有した、所謂「シリケート現像液」と呼ばれるｐＨ１２以上のアルカリ水溶液と、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖（緩衝作用を有する有機化合物）と塩基とを含有した所謂「ノンシリケート現像液」とが挙げられる。
【０１２１】
前者においては、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分である酸化ケイ素ＳｉＯ2とアルカリ金属酸化物Ｍ2Ｏの比率（一般に〔ＳｉＯ2〕／〔Ｍ2Ｏ〕のモル比で表す）と濃度によって現像性の調節が可能であり、例えば、特開昭５４−６２００４号公報に開示されているような、ＳｉＯ2／Ｎａ2Ｏのモル比が１．０〜１．５（即ち〔ＳｉＯ2〕／〔Ｎａ2Ｏ〕が１．０〜１．５）であって、ＳｉＯ2の含有量が１〜４質量％のケイ酸ナトリウムの水溶液や、特公昭５７−７４２７号公報に記載されているような、〔ＳｉＯ2〕／〔Ｍ〕が０．５〜０．７５（即ち〔ＳｉＯ2〕／〔Ｍ2Ｏ〕が０．５〜０．７５）であって、ＳｉＯ2の濃度が１〜４質量％であり、かつ該現像液がその中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準にして少なくとも２０％のカリウムを含有している、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液が好適に用いられる。
【０１２２】
また、後者の「ノンシリケート現像液」は、画像記録層の表面を劣化させることがなく、且つ画像記録層の着肉性を良好な状態に維持することができるため、本発明に係る現像には一層好ましい。本発明のような画像形成材料は、一般には現像ラチチュードが狭く、現像液ｐＨによる画線幅等の変化が大きいが、ノンシリケート現像液にはｐＨの変動を抑える緩衝性を有する非還元糖が含まれているため、シリケートを含む現像処理液を用いた場合に比べて有利である。更に、非還元糖は、シリケートに比べて液活性度を制御するための電導度センサーやｐＨセンサー等を汚染し難いため、この点でも、ノンシリケート現像液は有利である。また、ディスクリミネーション向上効果が顕著であるが、これは、本発明において重要な現像液との接触（浸透）がマイルドとなり、露光部及び未露光部の差が出やすくなっているためと推定される。
【０１２３】
前記非還元糖とは、遊離のアルデヒド基やケトン基を持たず、還元性を示さない糖類であり、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体、及び糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類され、何れも本発明において好適に用いることができる。なお、本発明においては、特開平８−３０５０３９号公報に記載された非還元糖を好適に使用することができる。
【０１２４】
前記トレハロース型少糖類としては、例えば、サッカロース、トレハロース等が挙げられる。前記配糖体としては、例えば、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体等が挙げられる。前記糖アルコールとしては、例えば、Ｄ，Ｌ−アラビット、リビット、キシリット、Ｄ，Ｌ−ソルビット、Ｄ，Ｌ−マンニット、Ｄ，Ｌ−イジット、Ｄ，Ｌ−タリット、ズリシット、アロズルシット等が挙げられる。更に、二糖類のマルトースに水素添加したマルチトール、オリゴ糖の水素添加で得られる還元体（還元水あめ）等が好適に挙げられる。これらの非還元糖の中でも、トレハロース型少糖類、糖アルコールが好ましく、その中でも、Ｄ−ソルビット、サッカロース、還元水あめ等が適度なｐＨ領域に緩衝作用があり、低価格である点で好ましい。
【０１２５】
これらの非還元糖は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。前記非還元糖の前記ノンシリケート現像液中における含有量としては、０．１〜３０質量％が好ましく、１〜２０質量％がより好ましい。前記含有量が、０．１質量％未満であると十分な緩衝作用が得られなくなる傾向があり、３０質量％を越えると高濃縮化し難く、また原価も高くなる傾向がある。
【０１２６】
また、前記非還元糖と組み合わせて用いられる塩基としては、従来より公知のアルカリ剤、例えば、無機アルカリ剤、有機アルカリ剤等が挙げられる。無機アルカリ剤としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、硼酸ナトリウム、硼酸カリウム、硼酸アンモニウム等が挙げられる。
【０１２７】
有機アルカリ剤としては、例えば、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピリジン等が挙げられる。
【０１２８】
前記塩基は、一種単独で使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。これらの塩基の中でも、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。また、本発明においては、前記ノンシリケート現像液として、非還元糖と塩基との併用に代えて、非還元糖のアルカリ金属塩を主成分としたものを用いることもできる。
【０１２９】
また、前記ノンシリケート現像液に、前記非還元糖以外の弱酸と強塩基とからなるアルカリ性緩衝液を併用することができる。前記弱酸としては、解離定数（ｐＫa）が１０．０〜１３．２のものが好ましく、例えば、Pergmon  Press  社発行のIonization  Constants  of  Organic  Acidsin  Aqueous  Solution  等に記載されているものから選択できる。
【０１３０】
具体的には、２，２，３，３−テトラフルオロプロパノ−ル−１、トリフルオロエタノール、トリクロロエタノール等のアルコール類；ピリジン−２−アルデヒド、ピリジン−４−アルデヒド等のアルデヒド類；サリチル酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、カテコール、没食子酸、スルホサリチル酸、３，４−ジヒドロキシスルホン酸、３，４−ジヒドロキシ安息香酸、ハイドロキノン、ピロガロール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、レゾルソノール等のフェノール性水酸基を有する化合物；アセトキシム、２−ヒドロキシベンズアルデヒドオキシム、ジメチルグリオキシム、エタンジアミドジオキシム、アセトフェノンオキシム等のオキシム類；アデノシン、イノシン、グアニン、シトシン、ヒポキサンチン、キサンチン等の核酸関連物質；その他に、ジエチルアミノメチルホスホン酸、ベンズイミダゾール、バルビツル酸等が好適に挙げられる。
【０１３１】
前記現像液には、現像性の促進や抑制、現像カスの分散又は、印刷版画像部の親インキ性を高める目的で、必要に応じて、種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。前記界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が好ましい。更に、前記現像液には、必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤等を加えることができる。
【０１３２】
更に自動現像機を用いて現像する場合には、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液（補充液）を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の現像液を交換する事なく、多量の画像形成材料を処理できることが知られている。本発明においてもこの補充方式が好ましく適用される。現像液には現像性の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶剤を添加できる。
好ましい界面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤が挙げられる。更に現像液には必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもできる。
【０１３３】
上記現像液を用いて現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理される。本発明の画像形成材料の後処理としては、これらの処理を種々組合せて用いることができる。
【０１３４】
近年、製版・印刷業界では製版作業の合理化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られている。このような自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理することができる。また、実質的に未使用の処理液で処理する所謂使い捨て処理方式も適用できる。
【０１３５】
本発明の画像形成材料においては、画像露光し、現像し、水洗及び／又はリンス及び／又はガム引きして得られた印刷版に不必要な画像部（例えば原画フイルムのフイルムエッジ跡など）がある場合には、その不必要な画像部の消去が行なわれる。このような消去は、例えば特公平２−１３２９３号公報に記載されているような消去液を不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平５９−１７４８４２号公報に記載されているようなオプティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射したのち現像する方法も利用できる。
【０１３６】
以上のようにして得られた印刷版は所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供することができるが、より一層の高耐刷力印刷版としたい場合には、所望によりバーニング処理が施される。
印刷版をバーニングする場合には、バーニング前に特公昭６１−２５１８号、同５５−２８０６２号、特開昭６２−３１８５９号、同６１−１５９６５５号等公報に記載されているような整面液で処理することが好ましい。
その方法としては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによる塗布などが適用される。また、塗布した後でスキージ、或いは、スキージローラーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結果を与える。
【０１３７】
整面液の塗布量は一般に０．０３〜０．８ｇ／ｍ2（乾燥質量）が適当である。整面液が塗布された印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニングプロセッサー（例えば富士写真フイルム(株)より販売されているバーニングプロセッサー：「ＢＰ−１３００」）などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、１８０〜３００℃の範囲で１〜２０分の範囲が好ましい。
【０１３８】
バーニング処理された印刷版は、必要に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなどの所謂不感脂化処理を省略することができる。この様な処理によって得られた印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【実施例】
【０１３９】
以下、本発明を実施例に従って説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
−実施例１〜８、比較例１−
〔支持体の作製〕
厚さ０．３ｍｍのＪＩＳ−Ａ−１０５０アルミニウム板を用いて、下記に示す工程を経て処理することで支持体を作製した。
【０１４０】
（ａ）機械的粗面化処理
比重１．１２の研磨剤（ケイ砂）と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的な粗面化を行った。研磨剤の平均粒径は８μｍ、最大粒径は５０μｍであった。ナイロンブラシの材質は６・１０ナイロン、毛長５０ｍｍ、毛の直径は０．３ｍｍであった。ナイロンブラシはφ３００ｍｍのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは３本使用した。ブラシ下部の２本の支持ローラ（φ２００ｍｍ）の距離は３００ｍｍであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して７ｋＷプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は２００ｒｐｍであった。
【０１４１】
（ｂ）アルカリエッチング処理
上記で得られたアルミニウム板に温度７０℃のＮａＯＨ水溶液（濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％）をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板を６ｇ／ｍ2溶解した。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０１４２】
（ｃ）デスマット処理
温度３０℃の硝酸濃度１質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
【０１４３】
（ｄ）電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸１０．５ｇ／リットル水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／リットル）、温度５０℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間ＴＰが０．８ｍｓｅｃ、ＤＵＴＹ比１：１、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助陽極にはフェライトを用いた。使用した電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で３０Ａ／ｄｍ2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で２２０Ｃ／ｄｍ2であった。補助陽極には電源から流れる電流の５％を分流させた。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０１４４】
（ｅ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％でスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．２０ｇ／ｍ2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０１４５】
（ｆ）デスマット処理
温度３０℃の硫酸濃度１５質量％水溶液（アルミニウムイオンを４．５質量％含む）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
【０１４６】
（ｇ）電気化学的粗面化処理
６０Ｈｚの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸７．５ｇ／リットル水溶液（アルミニウムイオンを５ｇ／リットル含む）、温度３５℃であった。交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で２５Ａ／ｄｍ2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で５０Ｃ／ｄｍ2であった。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０１４７】
（ｈ）アルカリエッチング処理
アルミニウム板をカセイソーダ濃度２６質量％、アルミニウムイオン濃度６．５質量％でスプレーによるエッチング処理を３２℃で行い、アルミニウム板を０．１０ｇ／ｍ2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０１４８】
（ｉ）デスマット処理
温度６０℃の硫酸濃度２５質量％水溶液（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
【０１４９】
（ｊ）陽極酸化処理
電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも硫酸濃度１７０ｇ／リットル（アルミニウムイオンを０．５質量％含む。）、温度は４３℃であった。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
電流密度はともに約３０Ａ／ｄｍ2であった。最終的な酸化皮膜量は２．７ｇ／ｍ2であった。
【０１５０】
・支持体Ａ
上記（ａ）〜（ｊ）の各工程を順に行い（ｅ）工程におけるエッチング量は3.４ｇ／ｍ2となるようにして支持体Ａを作製した。
【０１５１】
・支持体Ｂ
上記工程のうち（ｇ）（ｈ）（ｉ）の工程を省略した以外は各工程を順に行い支持体Ｂを作製した。
【０１５２】
・支持体Ｃ
上記工程のうち（ａ）及び（ｇ）（ｈ）（ｉ）の工程を省略した以外は各工程を順に行い支持体Ｃを作製した。
【０１５３】
・支持体Ｄ
上記工程のうち（ａ）及び（ｄ）（ｅ）（ｆ）の工程を省略した以外は各工程を順に行い、（ｇ）工程における電気量の総和が４５０Ｃ／ｄｍ2となるようにして支持体Ｄを作製した。
上記によって得られた支持体Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄには、引き続き下記の親水処理、下塗り処理を行った。
【０１５４】
（ｋ）アルカリ金属ケイ酸塩処理
陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度３０℃の３号ケイ酸ソーダの１質量％水溶液の処理層中へ、１０秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩処理（シリケート処理）を行った。その後、井水を用いたスプレーによる水洗を行った。その際のシリケート付着量は３．６ｍｇ／ｍ2であった。
【０１５５】
〔下塗層の形成〕
上記のようにして得られたアルカリ金属ケイ酸塩処理後のアルミニウム支持体上に、下記組成の下塗層用塗布液を塗布し、８０℃で１５秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は１５ｍｇ／ｍ2であった。
【０１５６】
（下塗層用塗布液）
・下記高分子化合物（Ｉ或いはII）                              ０．３ｇ
・メタノール                                                  １００ｇ
・水                                                              １ｇ
【０１５７】
【化１８】
2005283680.tif 000019
【０１５８】
〔画像記録層の形成〕
次に、上記で得られた下塗層付き支持体に、下記組成の下層用塗布液Ａを、ワイヤーバーで塗布したのち、１４０℃の乾燥オーブンで５０秒間乾燥して塗布量を０．８５ｇ／ｍ2とした。
更に、得られた下層付き支持体に、下記組成の最上層用塗布液Ｂをワイヤーバーで塗布した。塗布後１４０℃６０秒間の乾燥を行い、総塗布量を１．１ｇ／ｍ2として実施例１〜８、及び比較例１の画像形成材料を得た。
なお、用いた支持体、下塗層に用いた高分子化合物、最上層に用いた赤外線吸収剤については表１に示す。
【０１５９】
（下層用塗布液Ａ）
・Ｎ−（４−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド／
アクリロニトリル／メタクリル酸メチル
（モル比３６：３４：３０、重量平均分子量５０，０００）    ２．１３ｇ
・シアニン染料Ｘ（下記構造）                                ０．１３４ｇ
・ビス−ｐ−ヒドロキシフェニルスルホン                      ０．１２６ｇ
・テトラヒドロ無水フタル酸                                    ０．１９ｇ
・ｐ−トルエンスルホン酸                                    ０．００８ｇ
・２−メトキシ−４−（N−フェニルアミノ）
ベンゼンジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート      ０．０３２ｇ
・エチルバイオレット６−ナフタレンスルホン酸                ０．０７８ｇ
・フッ素系界面活性剤
（メガファックＦ−７８０、大日本インキ化学工業(株)製）  ０．０２３ｇ
・γ−ブチロラクトン                                        １３．１６ｇ
・メチルエチルケトン                                        ２５．３９ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール                            １２．９５ｇ
【０１６０】
（最上層用塗布液Ｂ）
・ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールノボラック樹脂
（モル比６０：４０、重量平均分子量５，０００）          ０．３４１ｇ
・シアニン染料Ａ〜Ｈ、又はＸのいずれか（下記構造）        ０．０１９ｇ
・下記構造ポリマー／ＭＥＫ３０％溶液（下記構造）              ０．１４ｇ
・４級アンモニウム塩（下記構造）                            ０．００４ｇ
・フッ素系界面活性剤
（メガファックＦ−７８０、大日本インキ化学工業(株)製）      ０．００４ｇ
・フッ素系界面活性剤
（メガファックＦ−７８１、大日本インキ化学工業(株)製）  ０．００１ｇ
・メチルエチルケトン                                        ２．６３ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール                            ５．２７ｇ
【０１６１】
【化１９】
2005283680.tif 000020
【０１６２】
【化２０】
2005283680.tif 000021
【０１６３】
【化２１】
2005283680.tif 000022
【０１６４】
【化２２】
2005283680.tif 000023
【０１６５】
【化２３】
2005283680.tif 000024
【０１６６】
−比較例２−
実施例１〜８、比較例１と同様の方法で得られた下塗層付き支持体に、下記組成の画像記録層用塗布液Ｃをワイヤーバーで塗布したのち、１４０℃の乾燥オーブンで１００秒間乾燥して塗布量を１．８０ｇ／ｍ2とした比較例２の画像形成材料を得た。
【０１６７】
（画像記録層用塗布液Ｃ）
・Ｎ−（４−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド／アクリロニトリル／メタクリル酸メチル
（モル比３６：３４：３０、重量平均分子量５０，０００）              ０．７５ｇ
・ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールノボラック樹脂
（モル比６０：４０、重量平均分子量５，０００）                      ０．２５ｇ
・テトラヒドロ無水フタル酸                                          ０．０３ｇ
・シアニン染料Ａ（上記構造）                                      ０．０１７ｇ
・ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対イオンを
１−ナフタレンスルホン酸アニオンにした染料                        ０．０１５ｇ
・フッ素系界面活性剤
（メガファックＦ−１７７、大日本インキ化学工業(株)製）              ０．０５ｇ
・γ−ブチロラクトン                                                    １０ｇ
・メチルエチルケトン                                                    １０ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール                                          １ｇ
【０１６８】
〔画像形成材料の評価〕
次に、実施例１〜８、及び、比較例１、２の画像形成材料の性能評価を行った。なお、評価試験は画像形成材料作製後２５℃で１４日間保存したものについて行い、現像ラチチュードの評価に関しては、更に同温度で３ヶ月間保存したものについても行った。
【０１６９】
（現像ラチチュードの評価）
得られた実施例１〜８、及び、比較例１、２の画像形成材料をＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ８００にて、ビーム強度１０．０Ｗ、ドラム回転速度２５０ｒｐｍの条件でテストパターンの画像状に描き込み（露光）を行った。
次に、富士写真フイルム(株)製現像液ＤＴ−２Ｒの水希釈（１：９）にて、電導度が３７ｍＳ／ｃｍになるまで炭酸ガスを吹き込んだ液及び富士写真フイルム(株)製フィニッシャーＦG−１の水希釈（１：１）液を仕込んだ富士写真フイルム(株)製ＰＳプロセッサーＬＰ−９４０ＨIIを用い、液温を３０度に保って現像時間１２秒で現像した。その後、現像液にＤＴ−２Ｒの水希釈（１：９）液を適量加え、電導度を３９ｍＳ／ｃｍに調整し、先ほどと同じくテストパターンを画像状に描き込んだ画像形成材料を現像した。更に電導度を２ｍＳ／ｃｍずつ上げ、画像の現像による膜減りが顕著に観察されるまでこの作業を続けた。
これら現像後の画像形成材料において、各電導度で現像したものを、現像不良の非画像部残膜に起因する汚れや着色がないかを５０倍のルーペで確認し、良好に現像が行えた現像液の電導度を決定した。次に、実質上耐刷に影響を及ぼさない程度に現像膜減りが維持される限界の電導度、具体的には、ＧＲＥＴＡＧ反射濃度計Ｄ１９６（ＧｒｅｔａｇＭａｃｂｅｔｈ社製）を用いて測定した、現像前のベタ部の画像濃度に対する、現像後のベタ部の画像濃度の低下が０．１０以内に収まる、限界の電導度を決定した。
良好に現像が行えた現像液の電導度と、実質上耐刷に影響を及ぼさない程度に現像膜減りが維持される限界の電導度との幅を現像ラチチュードとした。この数値が大きいほど現像ラチチュードが広いことを表す。結果を表１に記す。
【０１７０】
（感度の評価）
実施例１〜８、及び、比較例１、２の画像形成材料をＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ８００にて、ドラム回転速度２５０ｒｐｍとし、ビーム強度を５Ｗから１５Ｗまで段階的に変えて、テストパターンを画像状に書き込みを行った。その後、富士写真フイルム(株)製現像液ＤＴ−２の水希釈液（１：８）により電導度が４５ｍＳ／ｃｍとなった液をし込んだ、富士写真フイルム(株)製ＰＳプロセッサーＬＰ９４０ＨIIを用いて、液温３０℃に保ち現像時間１２秒で現像した。この現像液で非画像部が現像できる最小ビーム強度（Ｗ）を測定し、感度とした。この数値が小さいほど高感度であることを示す。結果を表１に記す。
【０１７１】
【表１】
2005283680.tif 000025
【０１７２】
以上、実施例１〜８によれば、重層型の画像記録層を有する画像形成材料において、最上層に赤外線吸収剤として一般式（Ｉ）の構造を有する化合物を用いた場合、高感度で、
現像ラチチュードが広く、且つ、経時による性能劣化を抑制した画像形成材料を得られることが分かる。
一方、重層型の画像記録層を有する画像形成材料であっても、最上層に一般式（Ｉ）の構造を有しない赤外線吸収剤のみを用いた比較例１においては、経時による性能劣化が見られ、また、一般式（Ｉ）の構造を有する化合物を用いていても、単層型の画像記録層を有する画像形成材料である比較例２においては、現像ラチチュード、経時による性能劣化共に、本発明の画像形成材料に比べて劣っていることが分かる。