(57)【要約】【課題】本発明の目的は、従来のものよりも、反射率が低く、グレアや映り込みが少なく、視認性に優れ、さらに液晶表示装置に用いたとき、明暗表示でのコントラストに優れる光学積層フィルムを提供することにある。【解決手段】透明樹脂からなる基材フィルムの表面に、少なくともハードコート層及び低屈折率層を、この順に積層してなる光学積層フィルムであって、低屈折率層の屈折率が１．３５以下であり、波長５５０ｎｍにおける反射率が０．８％以下で、かつ波長４３０〜７００ｎｍにおける反射率が１．２％以下である光学積層フィルム。【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明樹脂を含んでなる基材フィルムの表面に、少なくともハードコート層及び低屈折率層を、この順に積層してなる光学積層フィルムであって、低屈折率層の屈折率が１．３５以下であり、波長５５０ｎｍにおける反射率が０．８％以下で、かつ波長４３０〜７００ｎｍにおける反射率が１．２％以下である光学積層フィルム。
【請求項２】
前記透明樹脂からなる基材フィルムのダイラインの深さ又は高さが０．１μｍ以下である請求項１記載の光学積層フィルム。
【請求項３】
前記低屈折率層がエアロゲルからなる層である請求項１又は２記載の光学積層フィルム。
【請求項４】
透明樹脂が、脂環式構造を有する重合体樹脂、セルロース樹脂、及びポリエステル樹脂からなる群から選ばれる樹脂である請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学積層フィルム。
【請求項５】
光学部材の反射防止性保護フィルムである請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学積層フィルム。
【請求項６】
偏光板保護フィルムである請求項５に記載の光学積層フィルム。
【請求項７】
請求項６に記載の偏光板保護フィルムの基材フィルムの低屈折率層が設けられている面の反対側の面に、偏光膜が積層されてなることを特徴とする反射防止機能付偏光板。
【請求項８】
請求項７に記載の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする光学製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学積層フィルムに関し、さらに詳しくは効率よく低反射率を実現できる単層膜を積層した光学積層フィルムに関する。さらには、この光学積層フィルムを用いた反射防止機能付偏光板、及びこれを用いた光学製品に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（以下、「ＬＣＤ」と記す）用の偏光フィルムには、映り込み防止のために、反射防止層を設ける加工処理が施されることがある。特に、野外などに用いられるＬＣＤにおける偏光フィルムでは、高性能の反射防止機能の付与が求められている。そこで、基材フィルムの表面に反射防止膜を多層膜として、又は単層膜として形成することが行われている。
多層膜の反射防止膜を基材フィルム表面に被覆する方法としては、透明基材フィルム上に相対的に高屈折率を有する膜と相対的に低屈折率を有する膜とをこの順に積層する方法や、前記積層方法で相対的に高屈折率と低屈折率を有する膜を多数積層して多層膜を得る方法（例えば、特許文献１を参照）がある。
基材フィルム表面に膜を被覆する方法としては、ゾルゲル法、真空蒸着法、スパッタリング法、化学気相析出（ＣＶＤ）法などが広く用いられている。
また、単層の反射防止膜を基材フィルム表面に被覆して基材フィルム表面の反射率を低減する方法としては、基材フィルム表面に、該基材の屈折率よりも屈折率の低い膜を作成する方法が知られている。
その中には、ガラス上にゾルゲル法で多成分の金属酸化物膜を形成し、次いで多成分の金属酸化物膜を加熱処理により分相させ、その後、分相した金属酸化物膜を弗化水素酸でエッチングして各相のエッチング速度の差を利用して多孔質化する方法が提案されている（例えば、非特許文献１を参照）。
【０００３】
さらに別の方法として、ガラス上にゾルゲル法により酸化マグネシウムと二酸化炭素との複合膜を形成させた後、高温でフッ素を含有するガス中にさらして酸素をフッ素と置換することにより複合膜の屈折率を小さくする方法が提案されている（例えば、非特許文献２を参照）。
【０００４】
膜を形成する方法について、ゾルゲル法、真空蒸着法、スパッタリング法、化学気相析出法などが挙げられるが、いずれも高温や真空を伴う工程が含まれ、とりわけ基材を高温にする工程がある場合には、樹脂基材では高温プロセスにおいて変形・変質が生じるおそれがあり、また膜の光学特性を変化させ、所望の反射防止膜を形成することが困難であった。また、真空成膜プロセスでは真空装置内で樹脂からガスが放出されるために膜の形成に必要な高真空が得られなくなって、所望の特性の反射防止膜を形成することが困難であった。
さらに、反射防止膜を２層以上の多層膜から構成する場合には、膜のコーティング回数が２回以上必要となるために製造コストを下げることが難しく、また多層膜の膜厚の制御において問題があった。
【０００５】
一方、反射防止膜を単層で構成する場合には、多層膜に比べて反射率の入射角依存性が小さく、また波長依存性が小さいために低反射の波長帯域が広いという利点を有する。そして、製造の低コスト化を促進することが容易であるという利点を有する。
しかしながら、上記の従来技術は、その製造工程の中に高温プロセスを含むため、樹脂基材に反射防止膜を形成する方法として適当でない。さらに、これらの方法では、一旦金属酸化膜を形成した後、加熱処理とエッチング処理を施したり、一旦金属酸化物膜を形成した後、ガスとの化学反応処理を施したりする必要があり、製造コストを下げることが難しい。
【０００６】
そこで、特許文献２には、アミノ基を有する有機珪素化合物を少なくとも含む１種以上の有機珪素化合物もしくはその加水分解物を含有する塗布液を樹脂基材の表面に塗布し、前記塗布液を乾燥することにより樹脂基材の表面に第一次被膜を形成し、前記第一次被膜の上に屈折率が１．４０以下であり、表面が凹凸形状である二酸化珪素膜を形成させたことを特徴とする低反射樹脂基材の製造方法が記載されている。該公報によれば、低温プロセスで、密着性良く樹脂基材の全面に同時に形成することができると記載されている。
しかしながら、該公報に記載されている低反射樹脂基材を特に液晶表示装置に使用すると、視認性（例えば、輝度）が悪くなったり、明暗表示のコントラストが悪くなったりすることがある。そこで更なる改善が求められている。
【０００７】
【特許文献１】特開平４−３５７１３４号公報
【特許文献２】特開２００２−３２８２０２号公報
【非特許文献１】Ｓ．Ｐ．Ｍｕｋｈｅｒｊｅｅら、Ｊ．Ｎｏｎ−Ｃｒｙｓｔ．Ｓｏｌｉｄｓ，Ｖｏｌ．４８，ｐ１７７（１９８２）
【非特許文献２】Ｊ．Ｈ．Ｓｉｍｍｏｎｓら、Ｊ．Ｎｏｎ−Ｃｒｙｓｔ．Ｓｏｌｉｄｓ，Ｖｏｌ．１７８，ｐ１６６（１９９４）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、本発明の目的は、従来のものよりも、反射率が低く、グレアや映り込みが少なく、耐擦傷性及び視認性に優れ、さらに液晶表示装置に用いたとき、明暗表示でのコントラストに優れる光学積層フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、従来よりも低屈折率を有する層を１層のみ、ハードコート層を積層した基材フィルムに積層することにより、上記目的を達成しうることを見出し、この知見に基づいてさらに研究を進め、本発明を完成するに至った。
【００１０】
かくして本発明によれば、
（１）透明樹脂を含んでなる基材フィルムの表面に、少なくともハードコート層及び低屈折率層を、この順に積層してなる光学積層フィルムであって、低屈折率層の屈折率が１．３５以下であり、波長５５０ｎｍにおける反射率が０．８％以下で、かつ波長４３０〜７００ｎｍにおける反射率が１．２％以下である光学積層フィルム、
（２）前記透明樹脂からなる基材フィルムのダイラインの深さ又は高さが０．１μｍ以下である前記（１）記載の光学積層フィルム、
（３）前記低屈折率層がエアロゲルからなる層である前記（１）又は（２）記載の光学積層フィルム、
（４）透明樹脂が、脂環式構造を有する重合体樹脂、セルロース樹脂、及びポリエステル樹脂からなる群から選ばれる樹脂である前記（１）〜（３）のいずれか１つに記載の光学積層フィルム、
（５）光学部材の反射防止性保護フィルムである前記（１）〜（４）のいずれか１つに記載の光学積層フィルム、
（６）偏光板保護フィルムである前記（５）に記載の光学積層フィルム、
（７）前記（６）に記載の偏光板保護フィルムの基材フィルムの低屈折率層が設けられている面の反対側の面に、偏光膜が積層されてなることを特徴とする反射防止機能付偏光板、
及び
（８）前記（７）に記載の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする光学製品がそれぞれ提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、反射率が低く、グレアや映り込みが少なく、耐擦傷性及び視認性に優れ、さらに液晶表示装置に用いたとき、明暗表示でのコントラストに優れる光学積層フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明の光学積層フィルムは、透明樹脂を含んでなる基材フィルムの表面に、少なくともハードコート層及び低屈折率層を、この順に積層してなる。
【００１３】
本発明の本発明の光学積層フィルムの基材フィルムに使用する透明樹脂としては、１ｍｍ厚で全光線透過率が８０％以上のものであれば特に制限されず、例えば、脂環式構造を有する重合体樹脂、ポリエチレンやポリプロピレンなどの鎖状オレフィン系重合体、ポリカーボネート系重合体、ポリエステル系重合体、ポリスルホン系重合体、ポリエーテルスルホン系重合体、ポリスチレン系重合体、ポリオレフィン系重合体、ポリビニルアルコール系重合体、酢酸セルロース系重合体、ポリ塩化ビニル系重合体、ポリメタクリレート系重合体、トリアセチルセルロースなどが挙げられる。これらの重合体は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。これらの中でも、透明性に優れ、複屈折が小さい点で、ジアセチルセルロース、プロピオニルセルロース、トリアセチルセルロース、ブチリルセルロース等のセルロース樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル樹脂；又は脂環式構造を有する重合体樹脂が好ましく、透明性、軽量性の観点から、トリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有する重合体樹脂が好ましく、寸法安定性、膜厚制御性の観点からポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有する重合体樹脂がさらに好ましい。
【００１４】
脂環式構造を有する重合体樹脂は、主鎖及び／又は側鎖に脂環式構造を有するものであり、機械強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂環式構造を含有するものが好ましい。 
【００１５】
重合体の脂環式構造としては、飽和脂環炭化水素（シクロアルカン）構造、不飽和脂環炭化水素（シクロアルケン）構造などが挙げられるが、機械強度、耐熱性などの観点から、シクロアルカン構造やシクロアルケン構造が好ましく、中でもシクロアルカン構造が最も好ましい。脂環式構造を構成する炭素原子数には、格別な制限はないが、通常４〜３０個、好ましくは５〜２０個、より好ましくは５〜１５個の範囲であるときに、機械強度、耐熱性、及びフィルムの成形性の特性が高度にバランスされ、好適である。本発明に使用される脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を含有してなる繰り返し単位の割合は、使用目的に応じて適宜選択すればよいが、好ましくは３０重量％以上、さらに好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは７０重量％以上、もっとも好ましくは９０重量％以上である。脂環式構造を有する重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合がこの範囲にあると基材フィルムの透明性および耐熱性の観点から好ましい。
【００１６】
脂環式構造を有する重合体樹脂は、具体的には、（１）ノルボルネン系重合体、（２）単環の環状オレフィン系重合体、（３）環状共役ジエン系重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン系重合体がより好ましい。
ノルボルネン系重合体としては、具体的にはノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、及びそれらの水素添加物、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーと共重合可能なその他のモノマーとの付加型共重合体などが挙げられる。これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環（共）重合体水素添加物が最も好ましい。
上記の脂環式構造を有する重合体樹脂は、例えば特開２００２−３２１３０２号公報などに開示されている公知の重合体から選ばれる。
【００１７】
本発明に使用する透明樹脂のガラス転移温度は、好ましくは８０℃以上、より好ましくは１００〜２５０℃である。ガラス転移温度がこのような範囲にある透明樹脂を含んでなる基材フィルムは、高温下での使用における変形や応力が生じることがなく耐久性に優れる。
【００１８】
本発明に使用する透明樹脂の分子量は、溶媒としてシクロヘキサン（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン）を用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」と略す。）で測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）で、通常１０，０００〜１００，０００、好ましくは２５，０００〜８０，０００、より好ましくは２５，０００〜５０，０００である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、フィルムの機械的強度及び成形加工性とが高度にバランスされ好適である。
【００１９】
本発明に用いる透明樹脂の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は特に制限されないが、通常１．０〜１０．０、好ましくは１．０〜４．０、より好ましくは１．２〜３．５の範囲である。
【００２０】
本発明の光学積層フィルムに使用する透明樹脂を含んでなる基材フィルムは、透明樹脂のみからなるものであるが、他の配合剤を含んでいてもよい。配合剤としては、格別限定はないが、無機微粒子；酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、近赤外線吸収剤等の安定剤；滑剤、可塑剤等の樹脂改質剤；染料や顔料等の着色剤；帯電防止剤等が挙げられる。これらの配合剤は、単独で、あるいは２種以上を組み合せて用いることができ、その配合量は本発明の目的を損なわない範囲で適宜選択され、透明樹脂１００重量部に対して、通常０〜５重量部、好ましくは０〜３重量部である。
【００２１】
基材フィルムの膜厚は、機械的強度などの観点から、好ましくは３０〜３００μｍ、より好ましくは４０〜２００μｍである。
また、基材フィルムの膜厚変動が、基材フィルム全幅にわたって膜厚変動が前記膜厚の３％以内であることが好ましい。基材フィルムの膜厚変動が前記範囲にあることにより、ハードコート層の密着性及びその上に積層する低屈折率層の表面平滑性を向上させることができる。
【００２２】
本発明において、前記基材フィルムのダイラインの深さ又は高さが０．１μｍ以下であることが好ましく、０．０５μｍ以下であることがさらに好ましく、０．０３μｍ以下であることが特に好ましい。基材フィルムのダイラインの深さ又は高さを前記範囲とすることにより、本発明の光学積層フィルムを偏光板保護フィルムとして使用すると、ダイラインが目立たず、視認性に優れる。
ダイラインは、非接触式の３次元表面形状・粗さ測定機を用いて測定することができる。
【００２３】
本発明において、基材フィルムの揮発性成分の含有量が０．１重量％以下であることが好ましく、０．０５重量％以下であることがさらに好ましい。揮発性成分の含有量が前記範囲であるものを使用すると、基材フィルムの寸法安定性が向上し、ハードコート層を積層する際の積層むらを小さくすることができる。加えて、フィルム全面にわたって均質な低屈折率層を形成させることができるので、フィルム全面にわたってむらのない反射防止効果が得ることができる。
揮発性成分は、基材フィルムに微量含まれる分子量２００以下の物質であり、例えば、残留単量体や溶媒などが挙げられる。揮発性成分の含有量は、透明樹脂に含まれる分子量２００以下の物質の合計として、基材フィルムをガスクロマトグラフィーにより分析することにより定量することができる。
【００２４】
本発明において、基材フィルムの飽和吸水率は、好ましくは０．０１重量％以下、より好ましくは０．００７重量％以下である。飽和吸水率が０．０１重量％を超えると、ハードコート層と基材フィルムとの密着性、及びハードコート層と低屈折率層との密着性が低くなり、長期間の使用において低屈折率層の剥離が生じやすくなり好ましくない。
基材フィルムの飽和吸水率は、ＡＳＴＭ  Ｄ５３０に従い、２３℃で１週間浸漬して増加重量を測定することにより求めることができる。
【００２５】
本発明に用いる基材フィルムとして、片面又は両面に表面改質処理を施したものを使用してもよい。表面改質処理を行うことにより、ハードコート層との密着性を向上させることができる。表面改質処理としては、エネルギー線照射処理や薬品処理などが挙げられる。
エネルギー線照射処理としては、コロナ放電処理、プラズマ処理、電子線照射処理、紫外線照射処理などが挙げられ、処理効率の点等から、コロナ放電処理、プラズマ処理が好ましく、コロナ放電処理が特に好ましい。
薬品処理としては、重クロム酸カリウム溶液、濃硫酸などの酸化剤水溶液中に、浸漬し、その後充分に水で洗浄すればよい。浸漬した状態で振盪すると効果的であるが、長期間処理すると表面が溶解したり、透明性が低下したりするといった問題があり、用いる薬品の反応性、濃度などに応じて、処理時間などを調整する必要がある。
【００２６】
本発明の光学積層フィルムに使用する基材フィルムを成形する方法としては、溶液流延法又は溶融押出成形法が挙げられる。中でも、基材フィルム中の揮発性成分の含有量や厚さムラを少なくできる点から、溶融押出成形法が好ましい。さらに溶融押出成形法としては、ダイスを用いる方法やインフレーション法などが挙げられるが、生産性や厚さ精度に優れる点でＴダイを用いる方法が好ましい。
基材フィルムを成形する方法として、Ｔダイを用いる方法を採用する場合、Ｔダイを有する押出機における透明樹脂の溶融温度は、透明樹脂のガラス転移温度よりも８０〜１８０℃高い温度にすることが好ましく、ガラス転移温度よりも１００〜１５０℃高い温度にすることがより好ましい。押出機における溶融温度が過度に低いと透明樹脂の流動性が不足するおそれがあり、逆に溶融温度が過度に高いと樹脂が劣化する可能性がある。
【００２７】
また、本発明に使用する基材フィルムのダイラインの深さ又は高さを０．１μｍ以下にするための手段としては、（１）ダイリップの先端部にクロム、ニッケル、チタンなどのメッキが施されたダイスを用いる；（２）ダイリップの内面にＰＶＤ（Ｐｈｉｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法などにより、ＴｉＮ、ＴｉＡｌＮ、ＴｉＣ、ＣｒＮ、ＤＬＣ（ダイアモンド状カーボン）などの被膜が形成されたダイスを用いる；（３）ダイリップの先端部にその他のセラミックスが溶射されたダイスを用いる；（４）ダイリップの先端部の表面を窒化処理したダイスを用いる方法；が挙げられる。
このようなダイスは、表面硬度が高く、樹脂との摩擦が小さいため、得られる基材フィルムに、焼けゴミなどが混入することを防止することができると共に、ダイラインを０．１μｍ以下にすることができる。
さらに表面精度の良いダイスを用いることにより、厚みむらを小さくすることが可能である。表面の微視的凹凸に関する表面粗さは、「平均高さＲａ」によって表すことができ、ダイス内面特にダイリップの先端部の平均高さＲａが好ましくは０．２μm以下、より好ましくはＲａが０．１μm以下である。
平均高さＲａとは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１−２００１によって定義される「算術平均高さＲａ」と同様のものであり、具体的には、測定曲線をカットオフ値０．８ｍｍで位相補償型高域フィルターを通して粗さ曲線を求め、この粗さ曲線からその平均線の方向に一定の基準長さを抜き取り、この抜き取り部分の平均線から粗さ曲線までの偏差の絶対値を合計し、平均することにより求められる。
【００２８】
基材フィルムのダイラインの深さ又は高さを０．１μｍ以下にするためのその他の手段としては、ダイリップに付着しているもの（例えば、ヤケやごみ）を取り除く、ダイリップの離型性をあげる、ダイリップのぬれ性を全面にわたり均一にする、樹脂粉を減らす、樹脂ペレットの溶存酸素量を少なくする、溶融押出し機内にポリマーフィルターを設置するなどの方法が挙げられる。
【００２９】
また、本発明の光学積層フィルムに使用する基材フィルムの揮発性成分の含有量を少なくするための手段としては、（１）透明樹脂自体の揮発性成分量を少なくする；（２）溶融押出成形法により基材フィルムを成形する；（３）フィルムを成形する前に用いる透明樹脂を予備乾燥する；などの手段が挙げられる。予備乾燥は、例えば原料をペレットなどの形態にして、熱風乾燥機などで行われる。乾燥温度は１００℃以上が好ましく、乾燥時間は２時間以上が好ましい。予備乾燥を行うことにより、基材フィルム中の揮発成分量を低減させる事ができ、さらに押し出す透明樹脂の発泡を防ぐことができる。
【００３０】
本発明の光学積層フィルムに使用するハードコート層を構成する材料としては、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４で示す鉛筆硬度試験（試験板はガラス板）で「２Ｈ」以上の硬度を示すことのできるものであれば、特に制限されない。
例えば、有機系シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系等の有機ハードコート材料；二酸化ケイ素等の無機系ハードコート材料；等が挙げられる。なかでも、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、ウレタンアクリレート系、多官能アクリレート系ハードコート材料の使用が好ましい。
本発明においては、使用するハードコート層の屈折率が、１．５以上であることが好ましく、１．５３以上であることがさらに好ましく、１．５５以上であることが特に好ましい。前記ハードコート層の屈折率が前記範囲であることにより、広帯域における反射防止性能に優れ、ハードコート層の上に積層する低屈折率層の設計が容易となり、耐擦傷性に優れる光学積層フィルムを得ることができる。
ハードコート層には、所望により、ハードコート層の屈折率の調整、曲げ弾性率の向上、体積収縮率の安定化、耐熱性、帯電防止性、防眩性などの向上を図る目的で、例えばシリカ、アルミナ、水和アルミナ等の各種フィラーを添加してもよい。さらに、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、レベリング剤、消泡剤等の各種添加剤を添加することもできる。
ハードコート層にフィラーを含有させる場合において、屈折率や帯電防止性を調整する場合には、各種フィラーの中でもハードコート層の屈折率や帯電防止性を容易に調整可能であるという点で、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウム、５酸化アンチモン、錫をドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンをドープした酸化錫（ＩＺＯ）、アルミニウムをドープした酸化亜鉛（ＡＺＯ）、フッ素をドープした酸化錫（ＦＴＯ）が好ましく、透明性を維持できるという点から５酸化アンチモン、ＩＴＯ、ＩＺＯ、ＡＴＯ、ＦＴＯがさらに好ましい。フィラーの大きさは、一次粒子径が１ｎｍ以上であり、且つ１００ｎｍ以下、好ましくは３０ｎｍ以下である。
ハードコート層にフィラーを含有させる場合において、防眩性を付与する場合には、各種フィラーの中でも、平均粒径が０．５〜１０μｍのものが好ましく、１〜７μｍのものがより好ましい。防眩性を付与するフィラーの具体例としては、ポリメチルメタクリレート樹脂、フッ素樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ナイロン樹脂、ポリスチレン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂の樹脂フィラー；または酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化錫、酸化ジルコニウム、ＩＴＯ、フッ化マグネシウム、酸化ケイ素等の無機フィラーが挙げられる。
【００３１】
ハードコート層の形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層形成用塗工液を公知の塗工方法により基材フィルム上に塗工して、加熱又は紫外線照射により、硬化させて形成する方法が挙げられる。
ハードコート層の厚さは、好ましくは０．５〜３０μｍ、より好ましくは３〜１５μｍである。ハードコート層の厚さが薄すぎると、その上に形成する各層の硬度を維持できなくなり、また逆に厚すぎると光学積層フィルム全体の柔軟性が低下し、硬化に時間がかかり生産効率の低下を招くおそれがある。
【００３２】
本発明の光学積層フィルムに使用する低屈折率層は、屈折率が１．３５以下の層を構成する材料であれば、特に制限されないが、屈折率の制御が容易である点及び耐水性に優れる点で、エアロゲルが好ましい。
エアロゲルは、マトリックス中に微小な気泡が分散した透明性多孔質体である。気泡の大きさは大部分が２００ｎｍ以下であり、気泡の含有量は通常１０体積％以上６０体積％以下、好ましくは２０体積％以上４０体積％以下である。
微小な気泡が分散したエアロゲルの具体例としては、シリカエアロゲル、中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体が挙げられる。
シリカエアロゲルは、米国特許第４４０２９２７号公報、米国特許第４４３２９５６号公報、米国特許第４６１０８６３号公報等に開示されているように、アルコキシシランの加水分解重合反応によって得られたシリカ骨格からなる湿潤状態のゲル状化合物を、アルコールあるいは二酸化炭素等の溶媒（分散媒）の存在下で、この溶媒の臨界点以上の超臨界状態で乾燥することによって製造することができる。超臨界乾燥は、例えばゲル状化合物を液化二酸化炭素中に浸漬し、ゲル状化合物が含む溶媒の全部又は一部をこの溶媒よりも臨界点が低い液化二酸化炭素に置換し、この後、二酸化炭素の単独系、あるいは二酸化炭素と溶媒との混合系の超臨界条件下で乾燥することによって、行うことができる。また、シリカエアロゲルは、米国特許第５１３７２７９号公報、米国特許５１２４３６４号公報等に開示されているように、ケイ酸ナトリウムを原料として、上記と同様にして製造しても良い。
【００３３】
ここで、特開平５−２７９０１１号公報、特開平７−１３８３７５号公報に開示されているように、上記のようにしてアルコキシシランの加水分解、重合反応によって得られたゲル状化合物を疎水化処理することによって、シリカエアロゲルに疎水性を付与することが好ましい。このように疎水性を付与した疎水性シリカエアロゲルは、湿気や水等が浸入し難くなり、シリカエアロゲルの屈折率や光透過性等の性能が劣化することを防ぐことができるものである。
【００３４】
この疎水化処理の工程は、ゲル状化合物を超臨界乾燥する前、あるいは超臨界乾燥中に行うことができる。疎水化処理は、ゲル状化合物の表面に存在するシラノール基の水酸基を疎水化処理剤の官能基と反応させ、疎水化処理剤の疎水基と置換させることによって疎水化するために行うものである。疎水化処理を行う手法としては、疎水化処理剤を溶媒に溶解させた疎水化処理液中にゲルを浸漬し、混合するなどしてゲル内に疎水化処理剤を浸透させた後、必要に応じて加熱して、疎水化反応を行わせる方法があげられる。
【００３５】
疎水化処理に用いる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、キシレン、トルエン、ベンゼン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサメチルジシロキサン等を挙げることができるが、疎水化処理剤が容易に溶解し、かつ、疎水化処理前のゲルが含有する溶媒と置換可能なものであればよく、これらに限定されるものではない。また後の工程で超臨界乾燥が行われる場合、超臨界乾燥の容易な媒体、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、液化二酸化炭素などと同一種類もしくはそれと置換可能なものが好ましい。また疎水化処理剤としては例えば、ヘキサメチルジシラザン、ヘキサメチルジシロキサン、トリメチルメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン等を挙げることができる。
【００３６】
シリカエアロゲルの屈折率は、シリカエアロゲルの原料配合比によって自由に変化させることができる。
低屈折率層がシリカアエロゲルである場合の、形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層の上に前記ゲル状化合物を公知の塗工方法により塗工して、前記の超臨界乾燥を行って形成する方法が挙げられる。また、超臨界乾燥前又は超臨界乾燥中に疎水化処理を行ってもよい。超臨界乾燥は、例えば前記ゲル状化合物を液化二酸化炭素中に浸漬し、該ゲル状化合物を含む溶媒の全部又は一部をこの溶媒よりも臨界点が低い液化二酸化炭素に置換し、この後、二酸化炭素の単独系、あるいは二酸化炭素と溶媒との混合系の超臨界条件下で乾燥を行うことによって行うことができる。
【００３７】
中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体としては、特開２００１−２３３６１１号公報、特開２００３−１４９６４２号公報に開示されているような、微粒子の内部に空隙を持つ中空微粒子をバインダー樹脂に分散させた多孔質体が挙げられる。
バインダー樹脂としては中空微粒子の分散性、多孔質体の透明性、多孔質体の強度等の条件に適合する樹脂等から選択して用いることができ、例えば従来から用いられているポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フッ素樹脂、シリコン樹脂、ブチラール樹脂、フェノール樹脂、酢酸ビニル樹脂、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂、エマルジョン樹脂、水溶性樹脂、親水性樹脂、これら樹脂の混合物、さらにはこれら樹脂の共重合体や変性体などの塗料用樹脂、またはアルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物・およびその加水分解物等が挙げられる。
これらの中でも微粒子の分散性、多孔質体の強度からアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂、アルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物・およびその加水分解物が好ましい。
本発明において、低屈折率層として中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体を用いる場合には、低屈折率層の反射特性や防汚性を向上させることから、上記樹脂にフッ素樹脂を混合してもよい。
フッ素樹脂は結晶による光の散乱が実質的にない非晶性の含フッ素重合体であれば何ら限定されないが、中でもテトラフルオロエチレン／ビニリデンフルオライド／ヘキサフルオロプロピレン＝３７〜４８重量％／１５〜３５重量％／２６〜４４重量％の３元共重合体などの非晶性のフルオロオレフィン系共重合体、含フッ素脂肪族環構造を有する重合体が機械的特性に優れるため好ましい。
【００３８】
前記アルコキシシラン等の加水分解性有機珪素化合物およびその加水分解物は、下記（ａ）〜（ｃ）からなる群から選ばれる１種以上の化合物から形成されたものであって、分子中に、-（Ｏ-Ｓｉ）ｍ-Ｏ-（式中、ｍは自然数を表す。）結合を有するものである。
（ａ）式（１）：ＳｉＸ４で表される化合物。
（ｂ）前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の部分加水分解生成物。
（ｃ）前記式（１）で表される化合物の少なくとも１種の完全加水分解生成物。
【００３９】
前記（ａ）の式（１）で表される化合物において、Ｘは、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子；置換基を有していてもよい一価の炭化水素基；酸素原子；酢酸根、硝酸根などの有機酸根；アセチルアセトナートなどのβ-ジケトナート基；硝酸根、硫酸根などの無機酸根；メトキシ基、エトキシ基、ｎ-プロポキシ基、ｎ-ブトキシ基などのアルコキシ基；または水酸基を表す。
これらの中でも、前記式（１）で表される化合物としては、式（２）：ＲａＳｉＹ４-ａ〔式中、Ｒは置換基を有していてもよい一価の炭化水素基を表し、ａは０〜２の整数を表し、ａが２のとき、Ｒは同一であっても相異なっていてもよい。Ｙは加水分解性基を表し、Ｙは同一であっても相異なっていてもよい。〕で表されるケイ素化合物が好ましい。
【００４０】
置換基を有していてもよい一価の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、へプチル基、オクチル基などのアルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基；フェニル基、４-メチルフェニル基、１-ナフチル基、２-ナフチル基などの置換基を有していてもよいアリール基；ビニル基、アリル基などのアルケニル基；ベンジル基、フェネチル基、３-フェニルプロピル基などのアラルキル基；クロロメチル基、γ−クロロプロピル基などのハロアルキル基；３，３，３-トリフルオロプロピル基、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピル基、ヘプタデカフルオロデシル基、トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロオクチル基などのパーフルオロアルキル基；γ-メタクリロキシプロピル基などのアルケニルカルボニルオキシアルキル基；γ-グリシドキシプロピル基、３，４-エポキシシクロヘキシルエチル基などのエポキシ基を有するアルキル基；γ−メルカプトプロピル基などのメルカプト基を有するアルキル基；３-アミノプロピル基などのアミノ基を有するアルキル基；などを例示することができる。これらの中でも、合成の容易性、入手容易性、低反射特性から、炭素数１〜４のアルキル基、パーフルオロアルキル基、フェニル基が好ましい。
【００４１】
前記式（２）においてＹは加水分解性基を表す。ここで、加水分解性基は、所望により酸または塩基触媒の存在下に加水分解して、-（Ｏ-Ｓｉ）ｍ-Ｏ-結合を生じせしめる基をいう。
加水分解性基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基などのアルコキシ基；アセトキシ基、プロピオニルオキシ基などのアシルオキシ基；オキシム基（-Ｏ-Ｎ＝Ｃ-Ｒ'（Ｒ''））、エノキシ基（-Ｏ-Ｃ（Ｒ'）＝Ｃ（Ｒ''）Ｒ'''）、アミノ基、アミノキシ基（-Ｏ-Ｎ（Ｒ'）Ｒ''）、アミド基（-Ｎ（Ｒ’）-Ｃ（＝Ｏ）-Ｒ''）等が挙げられる。これらの基において、Ｒ'、Ｒ''、Ｒ'''は、それぞれ独立して水素原子又は一価の炭化水素基を表す。これらの中でも、Ｙとしては、入手容易性などからアルコキシ基が好ましい。
【００４２】
前記式（２）で表されるケイ素化合物としては、式（２）中、ａが０〜２の整数であるケイ素化合物が好ましい。その具体例としては、アルコキシシラン類、アセトキシシラン類、オキシムシラン類、エノキシシラン類、アミノシラン類、アミノキシシラン類、アミドシラン類等が挙げられる。これらの中でも、入手の容易さからアルコキシシラン類がより好ましい。
【００４３】
前記式（２）中、ａが０であるテトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を例示でき、ａが１であるオルガノトリアルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、３，３，３-トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等を例示できる。また、ａが２であるジオルガノジアルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン等を例示できる。
【００４４】
前記式（１）で表される化合物の分子量は特に制限されないが、４０〜３００であるのが好ましく、１００〜２００であるのがより好ましい。
【００４５】
前記（ｂ）の式（１）で表される化合物の少なくとも１種の部分加水分解生成物（以下、「化合物（３）」という。）、および（ｃ）の式（１）で表される化合物の少なくとも１種の完全加水分解生成物（以下、「化合物（４）」という。）は、前記式（１）で表される化合物の１種またはそれ以上を、全部又は部分的に加水分解、縮合させることによって得ることができる。
【００４６】
化合物（３）および化合物（４）は、例えば、Ｓｉ（Ｏｒ）４（ｒは１価の炭化水素基を表す。）で表される金属テトラアルコキシドを、モル比［Ｈ２Ｏ］／［Ｏｒ］が１．０以上、例えば１．０〜５．０、好ましくは１．０〜３．０となる量の水の存在下、加水分解して得ることができる。加水分解は、５〜１００℃の温度で、２〜１００時間、全容を撹拌することにより行うことができる。
【００４７】
前記式（１）で表される化合物を加水分解する場合、必要に応じて触媒を使用してよい。使用する触媒としては、特に限定されるものではないが、得られる部分加水分解物及び／あるいは加水分解物が２次元架橋構造になりやすく、その縮合化合物が多孔質化しやすい点、および加水分解に要する時間を短縮する点から、酸触媒が好ましい。
用いる酸触媒としては、特に限定されないが、例えば、酢酸、クロロ酢酸、クエン酸、安息香酸、ジメチルマロン酸、蟻酸、プロピオン酸、グルタール酸、グリコール酸、マレイン酸、マロン酸、トルエンスルホン酸、シュウ酸等の有機酸；塩酸、硝酸、ハロゲン化シラン等の無機酸；酸性コロイダルシリカ、酸化チタニアゾル等の酸性ゾル状フィラー；を挙げることができる。これらの酸触媒は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。
また、前記酸触媒の代わりに、水酸化ナトリウム、水酸化カルシウム等のアルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の水酸化物の水溶液、アンモニア水、アミン類の水溶液等の塩基触媒を用いてもよい。
【００４８】
前記化合物（３）および化合物（４）の分子量は特に制限されないが、通常、その重量平均分子量が２００〜５０００の範囲である。
【００４９】
中空微粒子は無機化合物の微粒子であれば、特に制限されないが、外殻の内部に空洞が形成された無機中空微粒子が好ましく、シリカ系中空微粒子の使用が特に好ましい。
無機化合物としては、無機酸化物が一般的である。無機酸化物としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、Ｃｅ２Ｏ３、Ｐ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３、ＭｏＯ３、ＺｎＯ２、ＷＯ３等の１種又は２種以上を挙げることができる。２種以上の無機酸化物として、ＴｉＯ２-Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２-ＺｒＯ２、Ｉｎ２Ｏ３-ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３-ＳｎＯ２を例示することができる。これらは１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００５０】
無機中空微粒子としては、（Ａ）無機酸化物単一層、（Ｂ）種類の異なる無機酸化物からなる複合酸化物の単一層、及び（Ｃ）上記（Ａ）と（Ｂ）との二重層を包含するものを用いることができる。
【００５１】
外殻は細孔を有する多孔質なものであってもよく、あるいは細孔が閉塞されて空洞が外殻の外側に対して密封されているものであってもよい。外殻は、内側の第１無機酸化物被覆層及び外側の第２無機酸化物被覆層からなる複数の無機酸化物被覆層であることが好ましい。外側に第２無機酸化物被覆層を設けることにより、外殻の細孔を閉塞させて外殻を緻密化したり、さらには、内部の空洞を密封した無機中空微粒子を得ることができる。特に第２無機酸化物被覆層の形成に含フッ素有機珪素化合物を用いる場合は、フッ素原子を含む被覆層が形成されるために、得られる粒子はより低屈折率となるとともに、有機溶媒への分散性もよく、さらに低屈折率層の防汚性付与にも効果があり好ましい。このような含フッ素有機珪素化合物としては、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリクロロシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン等をあげることが出来る。
【００５２】
外殻の厚みは１〜５０ｎｍ、特に５〜２０ｎｍの範囲であるのが好ましい。外殻の厚みが１ｎｍ未満であると、無機中空微粒子が所定の粒子形状を保持していない場合がある。逆に、外殻の厚みが５０ｎｍを超えると、無機中空微粒子中の空洞が小さく、その結果、空洞の割合が減少して屈折率の低下が不十分であるおそれがある。更に、外殻の厚みは、無機中空微粒子の平均粒子径の１／５０〜１／５の範囲にあることが好ましい。
【００５３】
上述のように第１無機酸化物被覆層および第２無機酸化物被覆層を外殻として設ける場合、これらの層の厚みの合計が、上記１〜５０ｎｍの範囲となるようにすればよく、特に、緻密化された外殻には、第２無機酸化物被覆層の厚みは２０〜４０ｎｍの範囲が好適である。
また、空洞には無機中空微粒子を調製するときに使用した溶媒及び／又は乾燥時に浸入する気体が存在してもよいし、後述する空洞を形成するための前駆体物質が空洞に残存していてもよい。
前駆体物質は、外殻によって包囲された核粒子から核粒子の構成成分の一部を除去した後に残存する多孔質物質である。核粒子には、種類の異なる無機酸化物からなる多孔質の複合酸化物粒子を用いる。前駆体物質は、外殻に付着してわずかに残存していることもあるし、空洞内の大部分を占めることもある。
なお、この多孔質物質の細孔内にも上記溶媒あるいは気体が存在してもよい。このときの核粒子の構成成分の除去量が多くなると空洞の容積が増大し、屈折率の低い無機中空微粒子が得られ、この無機中空微粒子を配合して得られる透明被膜は低屈折率で反射防止性能に優れる。
【００５４】
無機中空微粒子の平均粒子径は特に制限されないが、５〜２０００ｎｍが好ましく、２０〜１００ｎｍがより好ましい。５ｎｍよりも小さいと、中空によって低屈折率になる効果が小さく、逆に２０００ｎｍよりも大きいと、透明性が極端に悪くなり、拡散反射による寄与が大きくなってしまう。ここで、平均粒子径は、透過型電子顕微鏡観察による数平均粒子径である。
【００５５】
上述のような無機中空微粒子の製造方法は、例えば、特開２００１-２３３６１１号公報に詳細に記載されており、本発明に使用できる無機中空微粒子は、そこに記載された方法に基づいて製造することができ、また一般に市販されている無機中空微粒子を用いることもできる。
【００５６】
無機微粒子の配合量は、特に制限されないが、低屈折率層全体に対して、１０〜３０重量％であるのが好ましい。無機微粒子の配合量がこの範囲であるときに、低屈折率性と耐擦傷性を兼ね備えた光学積層フィルムを得ることができる。
【００５７】
前記無機微粒子は、分散液の形で用いることもできる。分散液に用いる有機溶媒の種類は、特に限定されるものではないが、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ｎ-ブタノール、イソブタノール等の低級脂肪族アルコール類；エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等のエチレングリコール誘導体；ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のジエチレングリコール誘導体；ジアセトンアルコール；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素；ｎ-ヘキサン、ｎ-ヘプタン等の脂肪族炭化水素；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；などが挙げられる。これらの有機溶媒は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００５８】
低屈折率層が中空粒子がマトリックス中に分散された多孔質体である場合の、形成方法は特に制限されず、例えば、ハードコート層の上に少なくとも微粒子の内部に空隙を持つ中空微粒子をバインダー樹脂を含有してなる塗布液を公知の塗工方法により塗工し、必要に応じ乾燥・加熱処理を施す方法が挙げられる。必要に応じて行われる加熱の温度は、通常５０〜２００℃、好ましくは８０〜１５０℃である。
【００５９】
本発明において、低屈折率層の屈折率は、１．３５以下、好ましくは１．３４〜１．２５、さらに好ましくは１．３４〜１．３０である。低屈折率層の屈折率を上記範囲とすることにより、反射防止性能と耐擦傷性のバランスに優れた光学積層フィルムを得ることができる。
本発明において、低屈折率層の厚さは、１０〜１０００ｎｍ、好ましくは３０〜５００ｎｍである。
【００６０】
本発明の光学積層フィルムの層構成の一例を図１に示す。図１に示す光学積層フィルム５０は、図中下側から、基材フィルム層１１、ハードコート層２１、及び低屈折率層３１からなっている。
【００６１】
本発明の光学積層フィルムにおいては、基材フィルムとハードコート層との間にその他の層を介在させることができる。その他の層としては、プライマー層（図示を省略）が挙げられる。
【００６２】
プライマー層は、基材フィルムとハードコート層との接着性の付与及び向上を目的として形成される。プライマー層を構成する材料としては、ポリエステルウレタン系樹脂、ポリエーテルウレタン系樹脂、ポリイソシアネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、主鎖に炭化水素骨格及び／又はポリブタジエン骨格を有する樹脂、ポリアミド樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ゴム、環化ゴム又はこれらの重合体に極性基を導入した変性物が挙げられる。
なかでも、主鎖に炭化水素骨格及び／又はポリブタジエン骨格を有する樹脂の変性物及び環化ゴムの変性物が好ましい。
【００６３】
主鎖に炭化水素骨格及び／又はポリブタジエン骨格を有する樹脂としては、ポリブタジエン骨格もしくはその少なくとも一部を水素添加した骨格を有する樹脂、具体的には、ポリブタジエン樹脂、水添ポリブタジエン樹脂、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ共重合体）及びその水素添加物（ＳＥＢＳ共重合体）などが挙げられる。中でも、スチレン・ブタジエン・スチレンブロック共重合体の水素添加物の変性物が好ましい。
【００６４】
導入する極性基としては、カルボン酸又はその誘導体が好ましく、具体的には、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマール酸等の不飽和カルボン酸；塩化マレイル、マレイミド、無水マレイン酸、無水シトラコン酸等の不飽和カルボン酸のハロゲン化物、アミド、イミド、無水物、エステル等の誘導体；等による変性物が挙げられ、密着性に優れることから、不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物による変性物が好ましく、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸がより好ましく、マレイン酸、無水マレイン酸が特に好ましい。これらの不飽和カルボン酸等を、２種以上を混合して用い、変性してもよい。
【００６５】
プライマー層の形成方法は特に制限されず、例えば、プライマー層形成用塗工液を公知の塗工方法により基材フィルム上に塗工して形成する方法が挙げられる。
プライマー層の厚みは特に制限されないが、通常０．０１〜５μｍ、好ましくは０．１〜２μｍである。
【００６６】
本発明の光学積層フィルムにおいては、低屈折率層を保護し、かつ、防汚性能を高めるために、低屈折率層の上に防汚層（図示を省略）をさらに有してもよい。
防汚層を構成する材料としては、低屈折率層の機能が阻害されず、防汚層としての要求性能が満たされる限り特に制限はない。通常、疎水基を有する化合物を好ましく使用できる。具体的な例としてはパーフルオロアルキルシラン化合物、パーフルオロポリエーテルシラン化合物、フッ素含有シリコーン化合物を使用することができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、例えば、蒸着、スパッタリング等の物理的気相成長法、ＣＶＤ等の化学的気相成長法、湿式コーティング法等を用いることができる。防汚層の厚みは特に制限はないが、通常２０ｎｍ以下が好ましく、１〜１０ｎｍであるのがより好ましい。
【００６７】
本発明の光学積層フィルムは、波長５５０ｎｍにおける反射率が０．８％以下でかつ波長４３０〜７００ｎｍにおける反射率が１．２％以下であり、好ましくは、波長５５０ｎｍにおける反射率が０．７％以下でかつ波長４３０〜７００ｎｍにおける反射率が１．１％以下であり、さらに好ましくは、波長５５０ｎｍにおける反射率が０．７％以下でかつ波長４３０〜７００ｎｍにおける反射率が１．０％以下である。反射率が上記範囲であることにより、反射光による表面のギラツキがないので、表示内容の視認性に優れる。さらに反射率が広帯域にわたり小さいので、反射光が着色することなく、表示内容の色調を正確に再現することができる。ここで、波長４３０〜７００ｎｍにおける反射率は、波長４３０ｎｍ〜７００ｎｍにおける反射率の内、最大値を波長４３０〜７００ｎｍにおける反射率とする。
【００６８】
本発明の光学積層フィルムは、光学特性に優れ、反射率が低いことから、光学部材の反射防止性保護フィルムとしての用途が好ましい。
反射防止性保護フィルムは、一般に液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、ＥＬ素子、陰極管表示装置などの画像表示装置やタッチパネル等の光学装置において、外光の反射によるコントラストの低下や像の映り込みを防止するために用いられている。これらの反射防止性保護フィルムは、通常各光学装置における視認側最上層に形成されている光学部材の反射防止性保護フィルムとして設けられることが多い。
【００６９】
本発明の光学積層フィルムは、前記光学部材として、特に液晶表示装置における偏光板の保護フィルムに適用することが好ましい。
【００７０】
本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の光学積層フィルムの基材フィルムの低屈折率層が設けられている面の反対側の面に、偏光膜が積層されてなる。
【００７１】
本発明で使用できる偏光膜は、偏光子としての機能を有するものであれば、特に限定はされない。例えば、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系やポリエン系の偏光膜が挙げられる。
本発明においては、用いる偏光膜として、偏光度が９９．９％以上のものが好ましく、９９．９５％以上であることがさらに好ましい。偏光膜の偏光度が前記範囲であることにより、反射によるコントラストの低下がなく、液晶表示を黒表示にしたときの再現性に優れる。偏光度は、２枚の偏光膜を偏光軸が平行になるように重ね合わせた場合の透過率（Ｈ０）と、直交に重ね合わせた場合の透過率（Ｈ９０）それぞれを、ＪＩＳ  Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により、分光光度計を用いて測定し、これらを用いて以下の式から求めることができる。なお、前記Ｈ０及びＨ９０は、視感度補正したＹ値である。
偏光度（％）＝［（Ｈ０−Ｈ９０）／（Ｈ０＋Ｈ９０）］１／２×１００
偏光膜の製造方法は特に限定されない。ＰＶＡ系の偏光膜を製造する方法としては、ＰＶＡ系フィルムにヨウ素イオンを吸着させた後に一軸に延伸する方法、ＰＶＡ系フィルムを一軸に延伸した後にヨウ素イオンを吸着させる方法、ＰＶＡ系フィルムへのヨウ素イオン吸着と一軸延伸とを同時に行う方法、ＰＶＡ系フィルムを二色性染料で染色した後に一軸に延伸する方法、ＰＶＡ系フィルムを一軸に延伸した後に二色性染料で吸着する方法、ＰＶＡ系フィルムへの二色性染料での染色と一軸延伸とを同時に行う方法が挙げられる。また、ポリエン系の偏光膜を製造する方法としては、ＰＶＡ系フィルムを一軸に延伸した後に脱水触媒存在下で加熱・脱水する方法、ポリ塩化ビニル系フィルムを一軸に延伸した後に脱塩酸触媒存在下で加熱・脱水する方法等の公知の方法が挙げられる。
【００７２】
本発明の反射防止機能付偏光板は、本発明の光学積層フィルムの基材フィルムの低屈折率層が設けられている面の反対側の面に、偏光膜を積層することにより製造することができる。
基材フィルムと偏光膜との積層は、接着剤や粘着剤等の適宜な接着手段を用いて貼り合わせることができる。接着剤又は粘着剤としては、例えば、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、ゴム系等が挙げられる。これらの中でも、耐熱性や透明性等の観点から、アクリル系のものが好ましい。
【００７３】
本発明の反射防止機能付偏光板の層構成断面図を図２に示す。図２に示す反射防止機能付偏光板８１は、本発明の光学積層フィルムの基材フィルム１１の低屈折率層３１が設けられていない面側に、接着剤又は粘着剤層６１を介して、偏光膜７１及び保護フィルム４１が積層された構造を有している。
【００７４】
本発明の反射防止機能付偏光板においては、図２に示すように偏光膜の基材フィルムが積層されていない方の面に、接着剤又は粘着剤層を介して、別の保護フィルム（図２の番号４１を参照）が積層されていてもよい。保護フィルムとしては、光学異方性が低い材料からなるものが好ましい。光学異方性が低い材料としては、特に制限されず、例えばトリアセチルセルロースなどのセルロースエステルや脂環式構造を有する重合体樹脂などが挙げられるが、透明性、低複屈折性、寸法安定性などに優れる点から脂環式構造を有する重合体樹脂が好ましい。脂環式構造を有する重合体樹脂としては、本発明の基材フィルムの部分で記載したものと同様のものが挙げられる。本発明においては、使用する保護フィルムは、等方性でもよく、複屈折性を有していてもよい。前記保護フィルムが、複屈折性を有している場合は、液晶表示装置の形成に際して積層する位相差板をこの保護フィルムが兼ねることができ、部材の薄型化が可能になる。接着剤又は粘着剤としては、偏光板保護フィルムと偏光膜との積層に用いる接着剤又は粘着剤と同様のものが挙げられる。本発明の反射防止機能付偏光板の厚みは、特に制限されないが、通常６０μｍ〜２ｍｍの範囲である。
【００７５】
本発明の光学製品は、本発明の反射防止機能付偏光板を備えることを特徴とする。本発明の光学製品の好ましい具体例としては、液晶表示装置に用いる液晶表示素子、タッチパネル等が挙げられる。
【００７６】
本発明の反射防止機能付偏光板を備える光学製品の一例として、本発明の反射防止機能付偏光板を備える液晶表示素子の層構成例を図３に示す。図３に示す液晶表示素子は、下から順に、下側偏光板９１、位相差板９２、液晶セル９３、及び本発明の反射防止機能付偏光板８１からなる。反射防止機能付偏光板８１は、液晶セル９３上に、接着剤又は粘着剤（図示を省略）を介して、偏光板面と貼り合わせて形成されている。液晶セル９３は、例えば図４に示すように、透明電極９４を備えた電極基板９５の２枚をそれぞれ透明電極９４が対向する状態で所定の間隔をあけて配置するとともに、その間隙に液晶９６を封入することにより作製される。図４中、９７はシールである。
【００７７】
液晶９６の液晶モードは特に限定されない。液晶モードとしては、例えば、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型、ＭＶＡ（Ｍｕｌｔｉｐｌｅ  Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  Ｂｅｎｄ）型、などが挙げられる。
また、図３に示す液晶表示素子は、印加電圧が低い時に明表示、高い時に暗表示であるノーマリーホワイトモードでも、印加電圧が低い時に暗表示、高い時に明表示であるノーマリーブラックモードでも用いることができる。
この液晶表示素子を用いて液晶表示装置を形成するには、他の部材、例えば、輝度向上フィルム、プリズムアレイシート、レンズアレイシート、導光板、光拡散板、バックライト等の適宜な部品を適宜な位置に１層又は２層以上配置すればよい。また、これらの配置方法は従来の液晶表示装置の配置方法で行えばよい。
【００７８】
本発明の光学製品は、広帯域にわたって低反射率を達成できる反射防止機能付偏光板を備える。従って、特に液晶表示装置に用いた場合に、視認性に優れ（グレアや映り込みがない）、さらに明暗表示のコントラストに優れる。
【実施例】
【００７９】
本発明を、実施例を示しながら、さらに詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお部及び％は特に断りのない限り重量基準である。
本実施例における評価は、以下の方法によって行う。
（１）基材フィルムの膜厚（基準膜厚、膜厚変動値）
フィルムを長さ方向に１００ｍｍ毎に切り出し、その切り出したフィルムについて、接触式ウェブ厚さ計（明産社製、ＲＣ−１０１）を用いて、フィルムの幅方向に０．４８ｍｍ毎に測定し、その測定値の算術平均値を基準膜厚Ｔ（μｍ）とする。膜厚変動は、前記測定した膜厚の内最大値をＴＭＡＸ（μｍ）、最小値をＴＭＩＮ（μｍ）として以下の式から算出する。
膜厚変動（％）＝（ＴＭＡＸ−ＴＭＩＮ）／Ｔ×１００
（２）基材フィルムのダイラインの深さ又は高さ
非接触３次元表面形状・粗さ測定機（ザイゴ社製）を用いて、横５．６ｍｍ×縦４．４ｍｍの視野で、縦を４８０分割、横を６４０分割して６４０×４８０升目で観察する。
（３）基材フィルムの揮発性成分の含有量
基材フィルム２００ｍｇを、表面に吸着していた水分や有機物を完全に除去した内径４ｍｍのガラスチューブの試料容器に入れる。次に、その容器を温度１００℃で６０分間加熱し、容器から出てきた気体を連続的に捕集する。そして、捕集した気体を熱脱着ガスクロマトグラフィー質量分析計（ＴＤＳ-ＧＣ-ＭＳ）で分析し、その中で分子量２００以下の成分の合計量を残留揮発性成分として測定する。
（４）基材フィルムの飽和吸水率
ＡＳＴＭ  Ｄ５３０に従い、２３℃で１週間浸漬して増加重量を測定することにより求める。
（５）ハードコート層及び低屈折率層の屈折率
高速分光エリプソメーター（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製、Ｍ−２０００Ｕ）を用いて、測定波長２４５〜１０００ｎｍ、入射角５５°、６０°及び６５°で測定し、その測定値を元に算出した値を屈折率とする。
（６）偏光膜の偏光度
２枚の偏光膜を偏光軸が平行になるように重ね合わせた場合の透過率（Ｈ０）と、直交に重ね合わせた場合の透過率（Ｈ９０）を、ＪＩＳ  Ｚ８７０１の２度視野（Ｃ光源）により、分光光度計を用いて測定し、以下の式から偏光度を求める。なお、前記Ｈ０及びＨ９０は、視感度補正したＹ値である。
偏光度（％）＝［（Ｈ０−Ｈ９０）／（Ｈ０＋Ｈ９０）］１／２×１００
（６）反射率
分光光度計（日本分光社製：「紫外可視近赤外分光光度計  V−５７０」）を用い、入射角５°にて反射スペクトルを測定し、波長４３０〜７００ｎｍにおける反射率を求め、波長５５０ｎｍにおける反射率と、波長４３０〜７００ｎｍにおける反射率の最大値を波長４３０〜７００ｎｍにおける反射率とする。
【００８０】
（７）視認性
得られた反射防止機能付偏光板を適当な大きさ（１０インチ四方）に切り出し、低屈折率層を形成させたほうの面を上面にして、図３に示すように液晶表示素子に組み込んで液晶表示素子を作製する。次いで、市販のライトボックス（商品名：ライトビュア-７０００ＰＲＯ、ハクバ写真産業社製）の上に、前記液晶表示素子をのせて簡易液晶パネルを作製し、液晶表示素子の表示を黒にして、正面よりパネルを目視にて観察し、以下の３段階で評価を行う。
○：グレア（視野内で過度に輝度が高い点や面が見えることによっておきる不快感や見にくさのことで、光源から直接又は間接に受けるギラギラしたまぶしさなどのことをいう）や映りこみがまったくない。
△：グレアや映りこみが少し見られる。
×：グレアや映りこみが画面全面で見られる。
なお、図３に示す液晶表示素子は、液晶セル９３の片面に反射防止機能付偏光板８１、他面に位相差板９２を介して下側偏光板９１を積層することにより構成される。液晶セル９３は、透明電極９４を備えた電極基板９５の透明電極９４面に配向膜を形成した後、その透明電極９４を備えた電極基板９５を２枚それぞれの透明電極９４が対向する状態で所定の間隔をあけて配置すると共に、その間隙に液晶９６を封入することにより作製される。９７はシールである。この液晶表示素子は、プラスチックの額縁に固定することによって保持される。
反射防止機能付偏光板８１は、偏光膜７１に接着剤又は粘着剤からなる層６１を介して、偏光膜の上側に光学積層フィルム５０が積層されている。
【００８１】
（８）コントラスト
前記（７）で作成した簡易液晶表示パネルを暗室に設置し、暗表示の時と明表示の時の正面から５°の位置における輝度を色彩輝度計（トプコン社製、色彩輝度計ＢＭ−７）を用いて測定する。そして、明表示の輝度と暗表示の輝度の比（＝明表示の輝度／暗表示の輝度）を計算し、これをコントラストとする。コントラストが大きいほど、視認性に優れる。
【００８２】
（９）傷つき性
偏光板のハードコート層及び低屈折率が積層されている方の面にスチールウール♯００００をあて、スチールウールに荷重０．０５ＭＰａをかけた状態で１０往復させ、１０往復させたあとの偏光板の表面状態を目視で観察する。傷のまったくないものを○、弱い傷がわずかに見られるものを△、明らかに傷が認められるものを×とする。
【００８３】
（製造例１）基材フィルム１Ａの製造
ノルボルネン系重合体（製品名「ＺＥＯＮＯＲ  １４２０Ｒ」、日本ゼオン社製；ガラス転移温度１３６℃、飽和吸水率０．０１重量％未満）のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥機を用いて１１０℃で、４時間乾燥した。そしてこのペレットを、リーフディスク形状のポリマーフィルター（濾過精度３０μｍ）を設置したダイリップの先端部にクロムめっきを施した平均表面高さＲａ＝０．０５μｍのリップ幅６５０ｍｍのコートハンガータイプのＴダイを有する短軸押出機を用いて、２６０℃で溶融押出して６００ｍｍ幅の基材フィルムを得た。得られた基材フィルムの揮発性成分の含有量は０．０１重量％以下、飽和吸水率は０．０１重量％以下であった。また、この基材フィルム１Ａの基準膜厚は４０μｍ、膜厚変動は２．３％、ダイラインの深さは０．０２８μｍであった。
【００８４】
（製造例２）ハードコート剤１の調製
５酸化アンチモンの変性アルコールゾル（固形分濃度３０％、触媒化成社製）１００重量部に、紫外線硬化型ウレタンアクリレート（商品名：紫光ＵＶ７０００Ｂ、日本合成化学社製）１０重量部、光重合開始剤（商品名：イルガキュアー１８４、チバガイギー社製）０．４重量部を混合し、紫外線硬化型のハードコート剤１を得た。
【００８５】
（製造例３）ハードコート剤２の調製
アクリル系紫外線硬化型組成物（日本化薬社製、商品名「ＫＡＹＡＮＯＶＡＦＯＰ-５０００」）３０部をホモジナイザーで混合して紫外線硬化性樹脂組成物からなるハードコート剤２を得た。
【００８６】
（製造例４）高屈折率層用組成物の調製
ポリメチルメタクリレート（三菱レーヨン社製、アクリペットＶＨ）３２部、メチルエチルケトン４９００部をポリメチルメタクリレートを溶解するまでよく混合した後、ＴｉＯ２微粒子（シーアイ化成製、ＮａｎｏＴｅｋ  ＴｉＯ２（ルチル）、トルエンスラリー１５％）６８部を加え、ディスパーでよく混合し高屈折率層用組成物を得た。
【００８７】
（製造例５）低屈折率層用塗布液１の調製
還流冷却器、攪拌機を備えた反応器にメチルメタクリレート９０部、ｎ−ブチルアクリレート４０部、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン２０部、キシレン１３０部を加え混合した後、攪拌しながら８０℃に加温し、この混合物にアゾビスイソバレロニトリル４部をキシレン１０部に溶解したものを３０分間かけて滴下し、さらに８０℃で５時間反応させて固形分濃度５０％のシリル基含有ビニル樹脂溶液を得た。このシリル基含有ビニル系樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるポリスチレン換算数平均分子量は１２０００であり、ポリマー１分子あたり平均６個のシリル基を含有していることが推定された。
次に還流冷却器を備えた反応器、メチルトリメトキシシラン１００部、ジメチルジメトキシシラン１０部、上記シリル基含有ビニル樹脂溶液５０部、アルミニウムトリス（エチル）アセトアセテート１０部、イソプロピルアルコール３０部を加え混合した後、イオン交換水３０部を加え、６０℃で４時間反応させた後、室温まで冷却し、アセチルアセトン７部を添加し低屈折率層用塗布液１を得た。
【００８８】
（製造例６）低屈折率層用塗布液２の調製
テトラエトキシシラン２０８部にメタノール３５６部を加え、さらに水１８部および、０．０１Ｎの塩酸１８部を混合し、これをディスパーを用いてよく混合した。この混合液を２５℃恒温漕中で２時間攪拌して、重量平均分子量を８５０に調整することにより、４官能シリコーンレジンを得た。次にこの４官能シリコーンレジンに、中空シリカ微粒子成分として中空シリカイソプロパノール（ＩＰＡ）分散ゾル（固形分２０質量％、平均１次粒子径約３５ｎｍ、外殻厚み約８ｎｍ、触媒化成工業製）を用い、中空シリカ微粒子／４官能シリコーンレジン（縮合化合物換算）が固形分基準で質量比が８５／２５となるように添加し、その後、全固形分が１０質量％になるようにメタノールで希釈して、低屈折率層用塗布液２を得た。
【００８９】
（製造例７）低屈折率層用塗布液３の調製
テトラメトキシシランのオリゴマー（商品名：メチルシリケート５１１、コルコート社製）とメタノールを、重量比で４７：７５となるように混合してＡ液を調製した。次いで、水、アンモニア水（アンモニア２８重量％）、メタノールを重量比で６０：１．２：９７．２で混合してＢ液を調製した。そして、Ａ液とＢ液を１６：１７の重量比で混合して低屈折率層用塗布液３を得た。
【００９０】
（製造例８）偏光膜の調製
厚さ４５μｍのＰＶＡフィルム（重合度２４００、ケン化度９９．９％）を純粋中で膨潤させてから、ヨウ素１重量％とヨウ化カリウム３重量％の混合水溶液に浸漬し、前記ＰＶＡフィルムを染色した。次いで、このフィルムを４．５重量％ホウ酸水溶液に浸漬し、長手方向に５．３倍延伸し、続いて５重量％ホウ砂水溶液に浸漬し、長手方向における総延伸倍率が５．５倍となるように延伸した。延伸後、フィルム表面の水分を取り除き、５０℃で乾燥して偏光膜を調製した。この偏光膜の厚さは１８μｍ、偏光度は９９．９５％であった。
【００９１】
（実施例１）
製造例１で得られた基材フィルム１Ａの両面に、高周波発振機（コロナジェネレーターＨＶ０５−２、Ｔａｍｔｅｃ社製）を用いて、出力電圧１００％、出力２５０Ｗで、直径１．２ｍｍのワイヤー電極で、電極長２４０ｍｍ、ワーク電極間１．５ｍｍの条件で３秒間コロナ放電処理を行い、表面張力が０．０７２Ｎ／ｍになるように表面改質した基材フィルム１Ｂを得た。
基材フィルム１Ｂの片面に、製造例２で得られたハードコート剤１を硬化後のハードコート層の膜厚が５μｍになるように、ダイコーターを用いて連続的に塗布した。次いで、これを８０℃で５分間乾燥させた後、紫外線照射（積算光量３００ｍＪ／ｃｍ２）を行うことにより、ハードコート剤を硬化させ、ハードコート層積層フィルム１Ｃを得た。硬化後のハードコート層の膜厚は５μｍ、屈折率は１．６２、表面粗さは０．２μｍであった。
【００９２】
前記ハードコート層積層フィルム１Ｃの上に低屈折率層を構成する材料として製造例６で得られた低屈折率層用塗布液２をワイヤーバーコーターにより塗工し、空気中で１２０℃、５分間熱処理を行うことにより、厚さ１００ｎｍの低屈折率層が形成された光学積層フィルム１Ｄを得た。この低屈折率層の屈折率は１．３４であった。
【００９３】
得られた光学積層フィルム１Ｄのハードコート剤及び低屈折率層が設けられている面の反対側の面に、製造例８で得られた偏光膜及び保護フィルムとして製造例１で得られた基材フィルム１Ａを、それぞれアクリル系接着剤（住友スリーエム社製、「ＤＰ−８００５クリア」）を介して、この順で貼り合わせることにより反射防止機能付偏光板１Ｅを得た。この偏光板１Ｅを用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００９４】
（実施例２）
実施例１で得られたハードコート層積層フィルム１Ｃをスピンコーターの回転室に入れ、このフィルム１Ｃの上に製造例７で得られた低屈折率層用塗布液３を混合を開始して１分経過した後で、回転数７００ｒｐｍの条件でスピンコーティングを１０秒間行って、ゲル状の薄膜を形成させた。なお、スピンコーターの回転室は予めメタノール雰囲気になるようにしておいた。
次に、このゲル状の薄膜を、５分間、水と２８％アンモニア水とメタノールを質量比で１６２：４：６４０で混合した組成の養生溶液中に浸漬し、室温で１昼夜養生した。さらにこのように養生したゲル状の薄膜をヘキサメチルジシラザンの１０％イソプロパノール溶液中に浸漬し、疎水化処理を行った。
次に、このように疎水化処理をしたゲル状の薄膜をイソプロパノール中へ浸漬して洗浄した後、高圧容器中に入れ、高圧容器内を液化炭酸ガスで満たし、８０℃、１６ＭＰａ、２時間の条件で超臨界乾燥を行うことにより、積層フィルム１Ｃの上に膜厚１００ｎｍのシリカエアロゲル薄膜（低屈折率層）が形成された光学積層フィルム２Ｄを得た。このシリカエアロゲル薄膜（低屈折率層）の屈折率は１．３４であった。
光学積層フィルムとして、光学積層フィルム１Ｄのかわりに光学積層フィルム２Ｄを用いた他は、実施例１と同様にして偏光膜及び基材フィルム１Ａを貼り合せることにより反射防止機能付偏光板２Ｅを得た。そして、この偏光板２Ｅを用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００９５】
（実施例３）
ハードコート剤としてハードコート剤１のかわりに製造例３で得られたハードコート剤２を用いた他は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成させることにより、光学積層フィルム３Ｄを得た。このときのハードコート層の膜厚は５μm、屈折率は１．５３、表面粗さは０．２μmであった。
次いで、光学積層フィルムとして、光学積層フィルム１Ｄのかわりに光学積層フィルム３Ｄを用いた他は、実施例１と同様にして偏光膜及び基材フィルム１Ａを貼り合せることにより反射防止機能付偏光板３Ｅを得た。この偏光板３Ｅを用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００９６】
（実施例４）
ハードコート剤としてハードコート剤１のかわりに製造例３で得られたハードコート剤２を用いた他は、実施例１と同様にしてハードコート層を形成させることによりハードコート層積層フィルム４Ｃを得た。ハードコート層の膜厚は５μm、屈折率は１．５３、表面粗さは０．２μmであった。
次いで、このハードコート層積層フィルム４Ｃの上に、低屈折率層用塗布液として製造例７で得られた低屈折率層用塗布液３を用いた他は、実施例２と同様にして低屈折率層を形成させることにより光学積層フィルム４Ｄを得た。この低屈折率層の屈折率は１．３４であった。
次いで、光学積層フィルムとして光学積層フィルム１Ｄのかわりに光学積層フィルム４Ｄを用いた他は、実施例１と同様にして偏光膜及び基材フィルム１Ａを貼り合せることにより反射防止機能付偏光板４Ｅを得た。この偏光板４Ｅを用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００９７】
（実施例５）
基材フィルムとして、基材フィルム１Ａのかわりにポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡社製、商品名「コスモシャイン  Ａ４３００」、厚さ５０μm、飽和吸水率０．３重量％、以下「基材フィルム２Ａ」と記す。）を用いた他は、実施例１と同様にしてハードコート層及び低屈折率層を形成させることにより、光学積層フィルム５Ｄを得た。
次いで、光学積層フィルムとして光学積層フィルム１Ｄのかわりに光学積層フィルム５Ｄを用いた他は、実施例１と同様にして偏光膜及び基材フィルム１Ａを貼り合せることにより反射防止機能付偏光板５Ｅを得た。この偏光板５Ｅを用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００９８】
（実施例６）
基材フィルムとして、基材フィルム１Ａのかわりに、トリアセチルセルロースフィルムを用いた偏光板（ポラテクノ社製、商品名「スーパーハイコントラスト偏光板  ＳＫＮ−１８２４３Ｔ」、偏光度９９．９９３％、以下「基材フィルム３Ａ」と記す）を用いた他は、実施例１と同様にして、ハードコート層及び低屈折率層を形成させることにより、光学積層フィルム６Ｄを得た。この光学積層フィルム６Ｄは偏光膜及び保護フィルムが積層されているので、これをそのまま反射防止機能付偏光板として用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表１に示す。
【００９９】
（比較例１）
表面改質した基材フィルム１Ｂの片面に、ハードコート剤としてハードコート剤１のかわりに製造例３で得られたハードコート剤２を用いた他は実施例１と同様の操作でハードコート層を形成させることによりハードコート層積層フィルム７Ｃを得た。ハードコート層の膜厚は５μｍ、屈折率は１．５３、表面粗さは０．２μｍであった。
このハードコート層積層フィルム７Ｃをスピンコーターの回転室に入れ、このフィルム７Ｃの上に製造例７で得られた低屈折率層用塗布液３を混合開始後１分を経過した後で、回転数７００ｒｐｍの条件でスピンコーティングを１０秒間行って、ゲル状の薄膜を形成させた。なお、スピンコーターの回転室は予めメタノール雰囲気になるようにしておいた。
次に、このゲル状の薄膜を形成させた積層フィルム７Ｃをギヤオーブン中で、１２０℃で１０分間熱処理を行うことにより、光学積層フィルム７Ｄを得た。光学積層フィルム７Ｄの低屈折率層の屈折率は１．３９であった。
次いで、光学積層フィルムとして光学積層フィルム１Ｄのかわりに光学積層フィルム７Ｄを用いた他は、実施例１と同様にして実施例１と同様にして偏光膜及び基材フィルム１Ａを貼り合せることにより反射防止機能付偏光板７Ｅを得た。この偏光板７Ｅを用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表１に示す。
【０１００】
（比較例２）
表面改質した基材フィルム１Ｂの片面に、ハードコート剤としてハードコート剤１のかわりに製造例３で得られたハードコート剤２を用いた他は実施例１と同様にしてハードコート層を形成させることによりハードコート層積層フィルム８Ｃを得た。ハードコート層の膜厚は５μm、屈折率は１．５３、表面粗さは０．２μmであった。
このハードコート積層フィルム８Ｃの上に、製造例４で得られた高屈折率組成物を厚さが１２７ｎｍとなるように、ダイコーターを用いて塗工し、８０℃で乾燥した。この高屈折率層の屈折率は１．７０であった。この高屈折率層の上に低屈折率層用塗布液として製造例５で得られた低屈折率層用塗布液１を用いた他は、実施例１と同様にして低屈折率層を形成させることにより光学積層フィルム８Ｄを得た。低屈折率層の屈折率は１．３３であった。
次いで、光学積層フィルムとして光学積層フィルム１Ｄのかわりに光学積層フィルム８Ｄを用いた他は、実施例１と同様にして偏光膜及び基材フィルム１Ａを貼り合せることにより反射防止機能付偏光板８Ｅを得た。この偏光板８Ｅを用いて光学性能の評価を行った。評価結果を表１に示す。
【０１０１】
【表１】
2005037927.tif 000002
【０１０２】
表１の結果から以下のことがわかる。本発明によれば、透明樹脂を含んでなる基材フィルムの表面に、少なくともハードコート層及び低屈折率層を、この順に積層してなる光学積層フィルムであって、低屈折率層の屈折率が１．３５以下であり、波長５５０ｎｍにおける反射率が０．８％以下で、かつ波長４３０〜７００ｎｍにおける反射率が１．２％以下である光学積層フィルムは、反射防止性及び傷つき性に優れ、液晶表示装置に用いたとき、視認性に優れ、さらに明暗表示のコントラストに優れる。
一方、低屈折率層として屈折率が１．３５を超えるものを用いたもの（比較例１）や、低屈折率層の屈折率は１．３５以下であるが反射率が本発明の範囲から外れているもの（比較例２）は、傷つき性や視認性に劣るだけでなく、明暗表示のコントラストが悪い。
【図面の簡単な説明】
【０１０３】
【図１】本発明の光学積層フィルムの層構成断面図である。
【図２】本発明の反射防止機能付偏光板の層構成断面図である。
【図３】本発明の反射防止機能付偏光板を備える液晶表示の一例の層構成断面図である。
【図４】図３に示す液晶セルの層構成断面図である。
【符号の説明】
【０１０４】
１１：基材フィルム、２１：ハードコート層、３１：低屈折率層、４１：保護フィルム、５０：光学積層フィルム、６１：接着剤又は粘着剤層、７１：偏光膜、８１：反射防止機能付偏光板、９１：下側偏光板、９２：位相差板、９３：液晶セル、９４：透明電極、９５：電極基板、９６：液晶、９７：シール
【図１】
2005037927.tif 000003
【図２】
2005037927.tif 000004
【図３】
2005037927.tif 000005
【図４】
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