(57)【要約】【課題】正確に位置決めを行うことができる液晶光学素子及びそのような液晶光学素子を製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】液晶光学素子（４）は、第１のガラス基板（４１）と、第２のガラス基板（４８）と、第１及び第２のガラス基板間に配置されたシール材（４５）と、第１のガラス基板、第２のガラス基板及びシール材によって構成されたセルに液晶（４４）を注入するための注入口（３０４）を形成するために、第１のガラス基板又は前記第２のガラス基板の一方を切落とすことによって形成された第１の張出部（５４）と、第１の張出部に形成されセルに注入された液晶を封止するための封止材（４９）と、ダイシング法によって形成された第１の基準側面（５０）と、ダイシング法によって形成された第１の基準側面と隣り合い且つ直交する第２の基準側面（５１）とを有することを特徴とする。【選択図】      図２
2005043568.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光路上に位置決めされる液晶光学素子の製造方法において、
注入口を形成したシール材を挟んで第１及び第２のガラス基板を貼り合わせたセルを形成する工程と、
前記注入口を形成した辺における、前記第１及び第２のガラス基板の一方をスクライブ法によって切落として、他方のガラス基板からなる張出部を形成する工程と、
前記セルに液晶を注入し、前記注入口を封止材によって封止する工程と、
前記封止工程後、前記第１及び第２のガラス基板の一方又は両方をダイシング法によって切落とすことによって前記液晶光学素子を前記光路上に位置決めするための第１の基準側面を形成する工程と、
前記封止工程後、前記第１及び第２のガラス基板の一方又は両方をダイシング法によって切落とすことによって前記第１の基準側面と隣り合い且つ直交し、前記液晶光学素子を前記光路上に位置決めするための第２の基準側面を形成する工程とを有し、
前記液晶光学素子の前記第１及び第２の基準側面以外の少なくとも１つの側面が、第１及び第２のガラス基板の一方又は両方をスクライブ法によって切落とすことによって形成されていることを特徴とする液晶光学素子の製造方法。
【請求項２】
前記注入口と同じ側面に前記液晶光学素子を駆動するための配線を取付ける工程をさらに有する請求項１に記載の前記液晶光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記注入口と反対の側面側で、前記第１及び第２のガラス基板の一方をスクライブ法によって切落とすことによって張出部を形成する工程と、
前記張出部に、前記液晶光学素子を駆動するための配線を取付ける工程とをさらに有する請求項１に記載の液晶光学素子の製造方法。
【請求項４】
光ビームの光路上に位置決めされる液晶光学素子の製造方法において、
第１のガラス基板上に、前記光ビームの収差を補正するための収差補正用の透明電極パターン、前記透明電極パターンへ電圧を供給するための引出電極及び基準位置を特定するためのマークを形成する工程と、
第１及び第２のガラス基板をシール材を挟んで貼り合わせ、前記第１及び第２のガラス基板と前記シール材によって構成されるセルを形成する工程と、
前記第１及び第２のガラス基板の一方をスクライブ法によって切落とすことによって前記セルへ液晶を注入するための注入口を形成する工程と、
前記セルに液晶を注入し、前記注入口を封止材によって封止する工程と、
前記封止工程後、前記マークを利用して、前記第１及び第２のガラス基板の一方又は両方をダイシング法によって切落とすことによって、前記液晶光学素子を前記光路上に位置決めするための第１の基準側面を形成する工程と、
前記封止工程後、前記マークを利用して、前記第１及び第２のガラス基板の一方又は両方をダイシング法によって切落とすことによって、前記第１の基準側面と隣り合い且つ直交し、前記液晶光学素子を前記光路上に位置決めするための第２の基準側面を形成する工程とを有することを特徴とする液晶光学素子の製造方法。
【請求項５】
前記注入口と同じ側面側で、前記引出電極に配線を取付ける工程をさらに有する請求項４に記載の前記液晶光学素子の製造方法。
【請求項６】
前記注入口と反対の側面側で、前記第１及び第２のガラス基板の一方をスクライブ法によって切落とすことによって前記引出電極を露出させる工程と、
前記引出電極に配線を取付ける工程とをさらに有する請求項４に記載の液晶光学素子の製造方法。
【請求項７】
光路上に位置決めされる液晶光学素子の製造方法において、
第１及び第２の大型ガラス基板間に注入口を形成したシール材で貼り合わせて、空セルを複数個有する大型セルを形成する工程と、
前記大型セルをスクライブ法で切断して、複数個の空セルを一列に設けた短冊状セルを形成する工程と、
前記短冊状セルに液晶を注入し、前記注入口を封止材によって封止して短冊状液晶セルを形成する工程と、
前記短冊状液晶セルを構成する長方形ガラス基板の長手方向の一方の辺に沿って前記第１及び第２のガラス基板の一方又は両方をダイシング法によって切落とすことによって、前記液晶光学素子を前記光路上に位置決めするための第１の基準側面を形成する工程と、
前記短冊状液晶セルに形成された複数個の液晶セルのセル間のガラスをダイシング法により切り離すことにより、第２の基準側面を形成する工程とを有することを特徴とする液晶光学素子の製造方法。
【請求項８】
光路上に位置決めされる液晶光学素子の製造方法において、
第１及び第２の大型ガラス基板間に注入口を形成したシール材で貼り合わせて、空セルを複数個有する大型セルを形成する工程と、
前記大型セルをスクライブ法で切断して、複数個の空セルを一列に設けた短冊状セルを形成する工程と、
前記短冊状セルに液晶を注入し、前記注入口を封止材によって封止して短冊状液晶セルを形成する工程と、
前記短冊状液晶セルに形成された複数個の液晶セルのセル間のガラスをダイシング法により切り離すことにより、前記液晶光学素子を前記光路上に位置決めするための第１の基準側面を形成する工程と、
前記第１の基準側面と直交する前記第１及び第２のガラス基板の一方又は両方をダイシング法により切り離すことにより、前記第１の基準側面と隣り合い且つ直交する第２の基準側面を形成する工程とを有することを特徴とする液晶光学素子の製造方法。
【請求項９】
光路上に位置決めされる液晶光学素子であって、
第１のガラス基板と、
第２のガラス基板と、
前記第１及び第２のガラス基板間に配置されたシール材と、
前記第１のガラス基板、前記第２のガラス基板及び前記シール材によって構成されたセルに液晶を注入するための注入口を形成するために、前記第１のガラス基板又は前記第２のガラス基板の一方を切落とすことによって形成された第１の張出部と、
前記第１の張出部に形成された、前記セルに注入された液晶を封止するための封止材と、
前記液晶光学素子を、前記光路中に位置決めするためにダイシング法によって形成された第１の基準側面と、
前記液晶光学素子を、前記光路中に位置決めするためにダイシング法によって形成され、前記第１の基準側面と隣り合い且つ直交する第２の基準側面と、
前記第１及び第２のガラス基板の一方又は両方をスクライブ法によって切落とすことによって形成された前記第１及び第２の基準側面以外の側面とを有することを特徴とする液晶光学素子。
【請求項１０】
前記第１の張出部に取付けられた前記液晶光学素子を駆動するための配線を更に有する請求項９に記載の液晶光学素子。
【請求項１１】
前記第１の張出部と反対側の側面側において、前記第１のガラス基板及び前記第２のガラス基板の一方を切落とすことによって形成された第２の張出部と、
前記第２の張出部に取付けられた前記液晶駆動素子を駆動するための配線を更に有する請求項９に記載の液晶光学素子。
【請求項１２】
光ビームの光路上に位置決めされる液晶光学素子であって、
第１のガラス基板と、
第２のガラス基板と、
前記第１又は第２のガラス基板上に形成された、前記光ビームの収差を補正するための収差補正用の透明電極パターンと、
前記第１又は第２のガラス基板上に形成された、前記透明電極パターンへ電圧を供給するための引出電極と、
前記第１及び第２のガラス基板間に配置されたシール材と、
前記第１のガラス基板、前記第２のガラス基板及び前記シール材によって構成されたセルに液晶を注入するための注入口を形成するために、前記第１のガラス基板又は前記第２のガラス基板の一方を切落とすことによって形成された第１の張出部と、
前記第１の張出部に形成された、前記セルに注入された液晶を封止するための封止材と、
前記液晶光学素子を、前記光ビームの光路中に位置決めするためにダイシング法によって形成された第１の基準側面と、
前記液晶光学素子を、前記光ビームの光路中に位置決めするためにダイシング法によって形成され、前記第１の基準側面と隣り合い且つ直交する第２の基準側面とを有することを特徴とする液晶光学素子。
【請求項１３】
前記第１の張出部に露出した前記引出電極に取付けられた配線を更に有する請求項１２に記載の液晶光学素子。
【請求項１４】
前記第１の張出部と反対側の側面において、前記引出電極を露出するために、前記第１のガラス基板又は前記第２のガラス基板の一部を切落とすことによって作成された第２の張出部と、
前記引出電極に取付けられた配線を更に有する請求項１２に記載の液晶光学素子。
【請求項１５】
液晶光学素子であって、
第１の透明電極を備える第１のガラス基板と、
第２の透明電極を備える第２のガラス基板と、
前記第１及び第２のガラス基板間に配置され、注入口を有するたシール材と、
前記第１及び第２のガラス基板の一方を突出させることによって形成された第１の張出部と、
前記第１の張出部と反対の側面側で、前記第１及び第２のガラス基板の一方を突出させることによって形成された第２の張出部と、
前記第１の張出部に設けられ、前記注入口を封止するための封止材と、
前記第２の張出部に設けられ、前記第１及び第２の透明電極を外部に引出すための引出電極とを有することを特徴とする液晶光学素子。
【請求項１６】
前記第１及び第２の張出部は、前記第１及び第２のガラス基板の一方を両側に突出させて形成されている請求項１５に記載の液晶光学素子。
【請求項１７】
前記第１の張出部は前記第１のガラス基板を前記第２のガラス基板に対して突出させて形成され、前記第２の張出部は前記第２のガラス基板を前記第１のガラス基板に対して突出させて形成されている請求項１５に記載の液晶光学素子。
【請求項１８】
前記液晶光学素子は、光ビームの光路上に位置決めされる液晶光学素子である請求項１５〜１７の何れか一項に記載の液晶光学素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶光学素子及びその製造方法に関するものであり、特に正確に位置決め可能な小型の液晶光学素子及びそのような液晶光学素子を大量且つ安価に製造することができる製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置の製造方法において、最初にガラス基板間にシール材及び封止材によって液晶を密閉した液晶セルを複数個同時に作成し、その後スクライブ法によって、各セルを分割して液晶表示装置用液晶セルを作成する方法が知られている（特許文献１参照）。
【０００３】
また、液晶表示装置の製造方法において、最初にガラス基板間にシール材によって構成された空セルを短冊状に複数個作成し、短冊状の構成を利用して液晶を空セル内に注入し、その後各セルをブレイクして液晶表示装置用液晶セルを作成する方法が知られている（特許文献２参照）。
【０００４】
さらに、液晶素子の製造方法において、最初にガラス基板間にシール材及び封止材によって液晶を密閉した液晶セルを複数個作成し、液晶素子の精密な位置合わせのために、４つ側面をダイヤモンドホイール等の切削手段で切断することによって、各セルを分割する方法が知られている（特許文献３参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開平６−３６３８号公報（第１頁、第１５〜４６行）
【特許文献２】
特開平１１−５２３９８号公報（第３頁、第１図）
【特許文献３】
特開平１０−４８５８５号公報（第５頁、第２６〜３８行）
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
特許文献１又は特許文献２に記載されるようなスクライブ法とは、最初に超硬やダイヤモンド等からなる硬質工具を用いてガラス基板の表面に切り込みを入れ、その後ブレイカー装置等を用いて破断力を与えることによってガラス基板を折り割りする方法である。短時間で分割できることから低コストでガラス基板を分割できるが、切断面の面精度が良くない（±５０μｍ程度）という不具合がある。
【０００７】
また、特許文献３に記載されるようなダイシング加工法は、水を噴射しながらダイヤモンドホイール又はダイシングブレード等の切削手段でガラス基板を切断する加工法である。ダイシング加工法は、切断を精密に行うことができる（±２０μｍ程度の面精度）反面、加工に時間がかかることから、製品のコストアップに繋がり、また水を使用することから、製品の性質や状態によっては使用することができないという不具合がある。
【０００８】
レーザ光学系等に使用される小型の液晶光学素子は、光ビーム等の光線に対して正確に位置決めされる必要がある。そのために、液晶光学素子は、高精度な基準側面を有し、基準側面を用いて光路上に位置決めされる必要がある。高精度の基準側面を得るための方法として、前述したダイシング法があるが、加工に時間及びコストがかかるという問題がある。また、前述したスクライブ法では、短時間及び低コストで製造することができるが、面精度が良くないという問題がある。
【０００９】
そこで、本発明は、正確に位置決めを行うことができる液晶光学素子及びそのような液晶光学素子を製造方法を提供することを目的とする。
【００１０】
また、本発明は、安価に製造することができ且つ位置決めのための高精度な側面を有する液晶光学素子及びそのような液晶光学素子を製造方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明に係る液晶光学素子の製造方法は、注入口を形成したシール材を挟んで第１及び第２のガラス基板を貼り合わせたセルを形成する工程と、注入口を形成した辺における第１及び第２のガラス基板の一方をスクライブ法によって切落として他方のガラス基板からなる張出部を形成する工程と、セルに液晶を注入して注入口を封止材によって封止する工程と、第１及び第２のガラス基板の一方又は両方をダイシング法によって切落とすことによって液晶光学素子を光路上に位置決めするための第１の基準側面を形成する工程と、第１及び第２のガラス基板の一方又は両方をダイシング法によって切落とすことによって第１の基準側面と隣り合い且つ直交する第２の基準側面を形成する工程とを有することを特徴とする。ダイシング法によって、少なくとも隣り合い且つ互いに直交する２つの基準側面を設けることによって、正確に位置決めすることができる液晶光学素子を製造できる。
【００１２】
また、上記の目的を達成するために、本発明に係る液晶光学素子の製造方法は、第１のガラス基板上に、光ビームの収差を補正するための収差補正用の透明電極パターン、透明電極パターンへ電圧を供給するための引出電極及び基準位置を特定するためのマークを形成する工程と、第１及び第２のガラス基板をシール材を挟んで貼り合わせ、第１及び第２のガラス基板とシール材によって構成されるセルを形成する工程と、第１及び第２のガラス基板の一方をスクライブ法によって切落とすことによってセルへ液晶を注入するための注入口を形成する工程と、セルに液晶を注入して注入口を封止材によって封止する工程と、マークを利用して第１及び第２のガラス基板の一方又は両方をダイシング法によって切落とすことによって液晶光学素子を前記光路上に位置決めするための第１の基準側面を形成する工程と、マークを利用して第１及び第２のガラス基板の一方又は両方をダイシング法によって切落とすことによって第１の基準側面と隣り合い且つ直交する第２の基準側面を形成する工程とを有することを特徴とする。ダイシング法によって、少なくとも隣り合い且つ互いに直交する２つの基準側面を設けることによって、液晶光学素子の透明電極パターンと光ビームとを正確に位置決めすることができる液晶光学素子を製造できる。
【００１３】
また、上記の目的を達成するために、本発明に係る液晶光学素子の製造方法は、第１及び第２の大型ガラス基板間に注入口を形成したシール材で貼り合わせて空セルを複数個有する大型セルを形成する工程と、大型セルをスクライブ法で切断して複数個の空セルを一列に設けた短冊状セルを形成する工程と、短冊状セルに液晶を注入して注入口を封止材によって封止して短冊状液晶セルを形成する工程と、短冊状液晶セルを構成する長方形ガラス基板の長手方向の一方の辺に沿ってダイシング加工を行うことによって液晶光学素子を光路上に位置決めするための第１の基準側面を形成する工程と、短冊状液晶セルに形成された複数個の液晶セルのセル間のガラスをダイシング法により切り離すことによって、第２の基準側面を形成する工程とを有することを特徴とする。大型セルから短冊状セルを切り出し、さらに短冊状セルから液晶光学素子を切り出す過程で、ダイシング法によって、少なくとも隣り合い且つ互いに直行する２つの基準側面を設けることによって、正確に位置決めすることができる液晶光学素子を製造することができる。
【００１４】
また、上記の目的を達成するために、本発明に係る液晶光学素子の製造方法は、第１及び第２の大型ガラス基板間に注入口を形成したシール材で貼り合わせて空セルを複数個有する大型セルを形成する工程と、大型セルをスクライブ法で切断して複数個の空セルを一列に設けた短冊状セルを形成する工程と、短冊状セルに液晶を注入して注入口を封止材によって封止して短冊状液晶セルを形成する工程と、短冊状液晶セルに形成された複数個の液晶セルのセル間のガラスをダイシング法により切り離すことによって液晶光学素子を光路上に位置決めするための第１の基準側面を形成する工程と、第１の基準側面と直交する第１又は第２のガラス基板をダイシング法により切り離すことによって第１の基準側面と隣り合い且つ直交する第２の基準側面を形成する工程とを有することを特徴とする。大型セルから短冊状セルを切り出し、さらに短冊状セルから液晶光学素子を切り出す過程で、ダイシング法によって、少なくとも隣り合い且つ互いに直行する２つの基準側面を設けることによって、正確に位置決めすることができる液晶光学素子を製造することができる。
【００１５】
また、上記の目的を達成するために、本発明に係る液晶光学素子は、第１のガラス基板と、第２のガラス基板と、第１及び第２のガラス基板間に配置されたシール材と、第１のガラス基板、第２のガラス基板及びシール材によって構成されたセルに液晶を注入するための注入口を形成するために、第１のガラス基板又は前記第２のガラス基板の一方を切落とすことによって形成された第１の張出部と、第１の張出部に形成されセルに注入された液晶を封止するための封止材と、ダイシング法によって形成された第１の基準側面と、ダイシング法によって形成された第１の基準側面と隣り合い且つ直交する第２の基準側面とを有することを特徴とする。液晶光学素子は、ダイシング法によって形成された、少なくとも隣り合い且つ互いに直交する２つの基準側面を有しており、正確に位置決めすることができる。
【００１６】
また、上記の目的を達成するために、本発明に係る液晶光学素子は、第１のガラス基板と、第２のガラス基板と、第１又は第２のガラス基板上に形成された光ビームの収差を補正するための収差補正用の透明電極パターンと、第１又は第２のガラス基板上に形成された透明電極パターンへ電圧を供給するための引出電極と、第１及び第２のガラス基板間に配置されたシール材と、第１のガラス基板、第２のガラス基板及びシール材によって構成されたセルに液晶を注入するための注入口を形成するために、第１のガラス基板又は第２のガラス基板の一方を切落とすことによって形成された第１の張出部と、第１の張出部に形成されたセルに注入された液晶を封止するための封止材と、光ビームの光路中に位置決めするためにダイシング法によって形成された第１の基準側面と、光ビームの光路中に位置決めするためにダイシング法によって形成された、第１の基準側面と隣り合い且つ直交する第２の基準側面とを有することを特徴とする。液晶光学素子は、ダイシング法によって形成された、少なくとも隣り合い且つ互いに直交する２つの基準側面を有しており、液晶光学素子の透明電極パターンと光ビームとを正確に位置決めすることができる。
【００１７】
また、上記の目的を達成するために、本発明に係る液晶光学素子は、第１の透明電極を備える第１のガラス基板と、第２の透明電極を備える第２のガラス基板と、第１及び第２のガラス基板間に配置され注入口を有するたシール材と、第１及び第２のガラス基板の一方を突出させることによって形成された第１の張出部と、第１の張出部と反対の側面側で第１及び第２のガラス基板の一方を突出させることによって形成された第２の張出部と、第１の張出部に設けられ注入口を封止するための封止材と、第２の張出部に設けられ第１及び第２の透明電極を外部に引出すための引出電極とを有することを特徴とする。２枚のガラス基板を互い違いに貼り合わせることによって両端に２つの張出部を形成し、張出部の一方に封止材を配置し、張出部の他方に引出電極を配置するように構成した。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照して、本発明の好ましい実施形態について説明する。
【００１９】
図１に、本発明に係る液晶光学素子が利用される光学装置１００の一例を示す。図１において、半導体レーザ光源１から出射された光ビームは、コリメータレンズ２によって、有効径１０を有するほぼ平行光に変換され、偏光ビームスプリッタ３を通過した後、液晶光学素子４に入射する。液晶光学素子４を通過した光ビームは、１／４波長板５を通過して、対物レンズ６により記録媒体９（ＤＶＤ等）に集光される。
【００２０】
また、記録媒体９から反射された光ビームは、再び対物レンズ６、１／４波長板５及び液晶光学素子４を経て、偏光ビームスプリッタ３により光路を変更されて、集光レンズ１３を介して受光器１４に集光される。光ビームは、記録媒体９により反射される際に、記録媒体９のトラック面上に記録されている情報によって振幅変調され、受光器１４により光強度信号として出力される。この光強度信号（再生信号）から記録情報が読み出される。
【００２１】
図１の例で光ビームの波長は、６５０ｎｍであり、±２０ｎｍの誤差が生じる可能性がある。また、「有効径」とは、光ビームに位置ずれや径の変化のないとした場合の、対物レンズ６で有効に利用される幾何光学設計上の液晶光学素子上での主光ビーム径を言う。対物レンズ６の開口率ＮＡは０．６５、有効径（φ）は３ｍｍに設定されている。
【００２２】
対物レンズ６には、トラッキング用のアクチュエータ７が取付けられており、図中の矢印Ａの方向に対物レンズ６を移動することによって、対物レンズによって集光される光ビームが、記録媒体９のトラックに正確に追従するように構成されている（例えば、光ビーム１１が光ビーム１２に補正される）。アクチュエータ７には、駆動のための配線８が取付けされている。
【００２３】
ここで液晶光学素子４は、記録媒体９の基板内に発生する波面収差を補正する機能を有している。液晶光学素子制御回路１５は、受光器１４からの光強度信号を利用して、記録媒体９の基板内に生じる波面収差（主としてコマ収差）を検出し、検出した波面収差を相殺するように、液晶光学素子４の透明電極パターンに配線１６を通じて電圧を印加する。このような制御によって、光強度信号の強度が適正になるように波面収差が補正される。
【００２４】
したがって、液晶光学素子４は、その波面収差補正用の透明電極パターンが、光学装置１００の有効径１０に対して正確に位置決めされるように配置される必要がある。
【００２５】
図２に、図１に示された液晶光学素子４を示す。図２（ａ）は液晶光学素子４の平面図を示す、図２（ｂ）は図２（ａ）におけるＡＡ´断面図である。図２において、レーザ光源１側の透明基板４１には、透明電極４２及び配向膜４３が形成されている。また、記録媒体９側の透明基板４８には、透明対向電極４７及び配向膜４６が形成されている。液晶４４は、２枚の透明基板４１及び４８、及びシール材４５との間に注入され、封止材４９によって封止されている。なお、特に、図２（ｂ）に示される各要素は、便宜上、誇張して図示されており、実際の厚さの比と異なる場合がある。
【００２６】
透明電極４２上には、波面収差補正用の透明電極パターン３０が形成されている。透明電極パターン３０は、基準電圧を印加するための領域３１、位相を進ませるための電圧を印加するための領域３２及び３４、位相を遅らせるための電圧を印加するための領域３３及び３５を有している。各領域には、引出電極３６及びフレキシブル配線１６を介して、波面収差を補正するための電圧が印加されるように構成されている。
【００２７】
透明電極パターン３０の各領域３１〜３５に各電圧を印加すると、対向透明電極４７との間に電位差を生じ、その間の液晶４４の配向性が電位差に応じて変化する。したがって、その部分を通過する光ビームは、電位差に応じて位相を進められたり、遅らされたりすることとなる。記録媒体９の基板内に発生する収差を打ち消すように透明電極パターン３０を作成することによって、液晶光学素子４を通過する光ビームの収差を補正することが可能となる。
【００２８】
また、液晶光学素子４は、その四方に４つの側面（５０、５１、５２及び５３）を有しており、側面５０及び５１はダイシング加工法によって切断された基準側面であって、±２０μｍ程度の面精度を持っている。また、側面５２及び５３はスクライブ法によって切断された側面であり、±５０μｍ程度の面精度を有している。
【００２９】
さらに、液晶光学素子４は、基準側面５０及び５１を基準にして、光学装置１００内の所定の位置に３箇所でＵＶ接着材６０によって位置決め及び固定されている。また、液晶光学素子４は、対向する側面５０及び５２側に、それぞれ第１の張出部５４及び第２の張出部５５を有している。
【００３０】
後述するように、有効径１０に対する波面収差補正用の透明電極パターン３０と基準側面５０及び５１との位置関係が予め精度良く決定されているため、液晶光学素子４を位置決めすれば、透明電極パターン３０を有効径１０に対して精度良く位置決めすることが可能となる。
【００３１】
なお、図２（ａ）に示す、波面収差補正用の透明電極パターン３０は、一例であって、本発明は球面収差補正用の透明電極パターンや非点較差補正用の透明電極パターン等、各種のパターンに応用することができる。
【００３２】
以下に図２に示した液晶光学素子４の製造方法の一例について、図３〜５を用いて説明する。
【００３３】
図３は、液晶光学素子４を形成する第１の工程を示している。ガラス基板Ａ３００上には、予め透明電極４２、配向膜４３及びシール材４５が複数セット形成されている。また、同様にガラス基板Ｂ３１０上にも、予め透明対向電極４７及び配向膜４６が形成されている。ガラス基板Ａ３００及びガラス基板Ｂ３１０を適切な接着剤を用いて貼り合わせることによって、ガラス基板Ａ３００、ガラス基板Ｂ３１０及びシール材４５で構成される空セルを複数個有する大型セルを作成することができる。
【００３４】
図中３０１、３０２及び３０３は、基準側面の位置を決定するためのマークであって、波面収差補正用の透明電極パターン３０及びそのための引出電極３６をフォトリソグラフィー法等を用いて形成する際に、同時に形成する。マーク３０１〜３０３は、フォトリソグラフィー法によって形成された場合には、数μｍオーダの精度で位置決めすることができる。また、シール材４５の上部開口部は、後に液晶を注入するための注入口３０４となる。
【００３５】
図４（ａ）には、図３の工程にしたがって形成された大型セルの平面図及び断面図が記載されており、スクライブ法によって、短冊状の複数の空セルを切り出す工程を示している。図４（ａ）に示すように、４０１〜４０５の切断予定線に沿って、硬質工具（図示せず）により、ガラス基板３００及び３１０両方にそれぞれ切り込み４１１、４１２、４２１、４２２、４３１、４３２、４４１、４４２、４５１及び４５２を入れ、ブレイカー装置等を用いて破断力を与えて短冊状にガラス基板を折割りする。前述したように、スクライブ法によって、ガラス基板を短冊状に折割りすることから、切断面図の面精度はそれほど高いものではないが、短時間で且つ安価に行うことができる。
【００３６】
図４（ｂ）は、図４（ａ）で切り出された短冊状片の平面図及び断面図が記載されており、スクライブ法によって、液晶を注入口３０４を露出させるためにガラス基板Ａ３００の上部のみを切落として（ハーフ・スクライブ）、第１の張出部５４を形成する工程を示している。図４（ｂ）に示すように、４０６の切断予定線に沿って、硬質工具（図示せず）により、ガラス基板３００のみに切り込み４６１を入れ、ブレイカー装置等を用いてガラス基板Ａ３００の上部を切落とす。
【００３７】
図４（ｃ）は、図４（ｂ）でガラス基板Ａ３００の上部を切落とした短冊状片の平面図及び断面図が記載されており、スクライブ法によって、透明電極パターン３０の引出電極３６を露出させるために、ガラス基板Ａ３００の下部を切落として（ハーフ・スクライブ）、第２の張出部５５を形成する工程を示している。図４（ｃ）に示すように、４０７の切断予定線に沿って硬質工具（図示せず）により、ガラス基板３００のみに切り込み４６１を入れ、ブレイカー装置等を用いてガラス基板Ａ３００の下部を切落とす。
【００３８】
図５（ａ）は、図４（ｃ）でガラス基板Ａ３００の下部を切落とした短冊状片の平面図及び断面図が記載されており、各空セルの注入口３０４から、液晶を注入する工程を示している。
【００３９】
図５（ｂ）は、図５（ａ）で各空セルの液晶を注入した後、注入口３０４を封止材４９で封止した状態を示している。
【００４０】
図５（ｃ）は、第１の基準側面５０を作成するために、ダイシング法によって、切断予定線５０１に沿ってガラス基板Ｂ３１０の上部を切落とす工程を示している。切断予定線５０１は、前述したマーク３０１及び３０３に合わせて設定され、ダイシング法によって切断されるので、切断後の基準側面５０は高い面精度を有し、波面収差補正用の透明電極パターン３０と正確な位置関係を維持している。
【００４１】
ここで、図５（ｃ）の工程前に、各空セルには液晶４４が注入され、封止材４９で封止されていることから、ダイシング法で水を使用してもこのセル内の液晶には何ら影響しない。しかしながら、液晶が注入される前にダイシング法を使用すると、ダイシング法で使用する水がセル内に侵入してしまう。一度セル内に侵入した水は、そこから除去するのが困難であるため、それが次工程に悪影響を及ぼすこととなる。
【００４２】
図５（ｄ）は、図５（ｃ）の工程によって基準側面５０が作成された短冊状片の平面図及び断面図を示しており、短冊状片から液晶光学素子４を切り出す工程を示している。図５（ｄ）に示すように、切断予定線５０２、５０３、５０４及び５０５に沿って、ダイシング法によって、ガラス基板Ａ３００及びガラス基板Ｂ３１０が切断されて、各素子の第２の基準側面５１となる。切断予定線５０２、５０３、５０４及び５０５は、前述したマーク３０１及び３０２に合わせて設定され、ダイシング法によって切断されるので、切断後の基準側面５１は高い面精度を有し、波面収差補正用の透明電極パターン３０と正確な位置関係を維持している。また、第１の基準側面５０と第２の基準側面５１は、互いに直交するように、予めマーク３０１〜３０３によって定められている。
【００４３】
また、図５（ｄ）に示す様に、切断予定線５１２、５１３、５１４及び５１５に沿って、スクライブ法によって、硬質工具（図示せず）により、ガラス基板Ａ３００及びガラス基板Ｂ３１０の両方に、切り込み５２１、５２２、５３１、５３２、５４１、５４２、５５１及び５５２を入れ、ブレイカー装置等を用いてガラス基板Ａ３００及びガラス基板Ｂ３１０を切り割りする。
【００４４】
その後、引出電極３６に配線１６を接続して、ダイシング法によって作成した２つの基準側面５０及び５１を有した液晶光学素子４を完成する。液晶光学素子４は、隣り合い且つ互いに直交した２つの基準側面５０及び５１を有しているので、光ビームの光路上に正確に位置決めされることができる。また、基準側面以外の他の側面はスクライブ法によって切断されているので、４つの側面を全てダイシング法等で切断するのに比べて、短時間で且つ安価に液晶光学素子を製造することができる。さらに、基準側面以外の側面は液晶光学素子の光路上への位置決めに寄与しないことから、液晶光学素子の位置決めに問題は生じない。
【００４５】
なお、上記の説明では、当初４×４個の空セルを有する大型セルを作成し（図３参照）、その後４個の空セルを含む短冊状片を利用して液晶光学素子４を作成したが、各工程の空セルの個数は任意であって、上記の記載に限定されるものではない。また、上記の説明では、全ての空セルの近傍にマーク３０１〜３０３を配置したが、予め決められた間隔で正確にガラス基板を切断できる装置を用いれば、全ての空セルの近傍にマークを配置する必要は無い。さらに、図５（ｃ）と図５（ｄ）の工程は、順番を逆にしても良い。
【００４６】
図６に、上述した図３〜図５に示す液晶光学素子の製造方法の２つの変形例を示す。
【００４７】
図６（ａ）の例は、シール材４５による空セルを図４及び図５の例と比べて、さらに近接して配置した例を示している。したがって、図６（ａ）に示すように、切断予定線６０１、６０２、６０３、６０４及び６０５を、ダイシング法によって切断するだけで、液晶光学素子４を切り出すことができる。
【００４８】
この場合、シール材を近接して配置したので、短冊状片から液晶光学素子４を切り出す際には、図５（ｄ）に示すスクライブ法による切断（５１２〜５１５）の必要はない。即ち、図５（ｄ）に示す手順と比べて、スクライブ法による工程を減らすことができ、且つ各液晶光学素子の３側面をダイシング法によって形成された基準側面とすることができる。
【００４９】
図６（ｂ）の例では、シール材６００によって各空セル同士を近接させて形成し、シール材６００の上からダイシング法によって切断することによって、短冊状片から切り割している。したがって、図６（ｂ）に示すように、切断予定線６１１、６１２、６１３、６１４及び６１５を、シール材６００の上に設定し、ダイシング法によって切断するだけで、液晶光学素子４を切り出すことができるように構成している。
【００５０】
この場合、図５（ｄ）に示すようなスクライブ法による切断が必要ないので、工程を減らすことができ、且つ各液晶光学素子の３側面をダイシング法によって形成された基準側面とすることができる。
【００５１】
図７に、本発明に係る他の液晶光学素子１４０を示す。ここで、図７（ａ）は液晶光学素子１４０の平面図であり、図７（ｂ）は液晶光学素子の図７（ａ）におけるＡＡ´断面図である。なお、図７において、図２と同じ構成には同じ番号を付している。
【００５２】
図２に示す液晶光学素子４と図７に示す液晶光学素子１４０との違いは、位置決めのための基準となる側面の位置関係である。図７に示す液晶光学素子１４０は、４つの側面７０、７１、７２及び７３を有しているが、その内隣り合い且つ互いに直交する側面７１及び７２が、ダイシング加工法によって切断された基準側面であり、±２０μｍ程度の面精度を有している。また、側面７０及び７３はスクライブ法によって切断された側面であり、±５０μｍ程度の面精度を有している。
【００５３】
さらに、液晶光学素子１４０は、基準側面７１及び７２を基準にして、光学装置１００内の所定の位置に３箇所でＵＶ接着材６１によって位置決め及び固定されている。また、液晶光学素子１４０は、対向する側面７０及び７２側に、それぞれ第１の張出部７４及び第２の張出部７５を有している。
【００５４】
有効径１０に対する波面収差補正用の透明電極パターン３０と基準側面７１及び７２との位置関係が予め精度良く決定されているため、液晶光学素子１４０を位置決めすれば、透明電極パターン３０を有効径１０に対して精度良く位置決めすることが可能となる。
【００５５】
以下、図７に示した本発明に係る他の液晶光学素子１４０の製造方法について図８を用いて説明する。液晶光学素子１４０の製造方法の最初の工程は、マークの位置以外は、図３、図４（ａ）、図４（ｂ）、図４（ｃ）、図５（ａ）及び図５（ｂ）と同じであるので省略する。マーク８０１、８０２及び８０３は、図８（ａ）に示すように配置されている。
【００５６】
図８（ａ）は、第１の基準側面７２を作成するために、ダイシング法によって、切断予定線８０４に沿ってガラス基板Ｂ３１０の下部を切落とす工程を示している。切断予定線８０４は、前述したマーク８０２及び８０３に合わせて設定され、ダイシング法によって切断されるので、切断後の基準側面７２は高い面精度を有し、波面収差補正用の透明電極パターン３０と正確な位置関係を維持している。なお、図８（ａ）に示す短冊状片の図中上部は、液晶光学素子１４０完成時には、側面７０となる。
【００５７】
図８（ｂ）は、図８（ａ）の工程によって基準側面７２が作成された短冊状片の平面図及び断面図を示しており、短冊状片から液晶光学素子１４０を切り出す工程を示している。図８（ｂ）に示すように、切断予定線８０５、８０６、８０７及び８０８に沿って、ダイシング法によって、ガラス基板Ａ３００及びガラス基板Ｂ３１０が切断されて、各素子の第２の基準側面７１となる。切断予定線８０５、８０６、８０７及び８０８は、前述したマーク８０１及び８０２に合わせて設定され、ダイシング法によって切断されるので、切断後の基準側面７１は高い面精度を有し、波面収差補正用の透明電極パターン３０と正確な位置関係を維持している。
【００５８】
また、図８（ｂ）に示す様に、切断予定線８１５、８１６、８１７及び８１８に沿って、スクライブ法によって、硬質工具（図示せず）により、ガラス基板Ａ３００及びガラス基板Ｂ３１０の両方に、切り込み８２５、８３５、８２６、８３６、８２７、８３７、８２８及び８３８を入れ、ブレイカー装置等を用いてガラス基板Ａ３００及びガラス基板Ｂ３１０を切り割りする。
【００５９】
その後、引出電極３６に配線１６を接続して、ダイシング法によって作成した隣り合い且つ互いに直交する２つの基準側面７１及び７２を有した、液晶光学素子１４０が完成する。
【００６０】
図９に、本発明に係る更に他の液晶光学素子２４０を示す。ここで、図９（ａ）は液晶光学素子２４０の平面図であり、図９（ｂ）は液晶光学素子の図９（ａ）におけるＡＡ´断面図である。なお、図９において、図２と同じ構成には同じ番号を付している。
【００６１】
図２に示す液晶光学素子４と図９に示す液晶光学素子２４０との違いは、位置決めのための基準となる側面と、封止材４９及び配線１６との位置関係である。図９に示す液晶光学素子２４０は、４つの側面８０、８１、８２及び８３を有しているが、その内隣り合い且つ互いに直交する面８０及び８１が、ダイシング加工法によって切断された基準側面であり、±２０μｍ程度の面精度を有している。また、側面８２及び８３はスクライブ法によって切断された側面であり、±５０μｍ程度の面精度を有している。また、封止材４９及び配線１６は、側面８２側に設けられた張出部８４に設けられている。
【００６２】
さらに、液晶光学素子２４０は、基準側面８０及び８１を基準にして、光学装置１００内の所定の位置に３箇所でＵＶ接着材６２によって位置決め及び固定されている。有効径１０に対する波面収差補正用の透明電極パターン３０と基準側面８０及び８１との位置関係が予め精度良く決定されているため、液晶光学素子２４０を位置決めすれば、透明電極パターン３０を有効径１０に対して精度良く位置決めすることが可能となる。
【００６３】
以下、図９に示した本発明に係る他の液晶光学素子２４０の製造方法について図１０を用いて説明する。液晶光学素子２４０の製造方法の最初の工程は、マークの位置以外は、図３、図４（ａ）及び図４（ｂ）と同じであるので省略する。マーク１００１、１００２及び１００３は、図１０（ａ）のように配置されている。
【００６４】
図１０（ａ）は、図４（ｂ）でガラス基板Ａ３００の上部を切落とした短冊状片の平面図及び断面図が記載されており、各空セルの注入口３０４から、液晶４４を注入する工程を示している。液晶光学素子４と異なり、ガラス基板Ａ３００の下部の切取りは行わない。ガラス基板Ａ３００の上部を切落とされたガラス基板Ｂ３１０の部分が、図９の張出部８４となる。
【００６５】
図１０（ｂ）は、図１０（ａ）で各空セルに液晶を注入した後、注入口３０４を封止材４９で封止した状態が記載されており、第１の基準側面８０を作成するために、ダイシング法によって、切断予定線１００４に沿って第１のガラス基板Ａ３００及びガラス基板Ｂ３１０の下部を切落とす工程を示している。切断予定線１００４は、前述したマーク１００２及び１００３に合わせて設定され、ダイシング法によって切断されるので、切断後の基準側面８０は、波面収差補正用の透明電極パターン３０と正確な位置関係を維持している。なお、図１０（ａ）に示す短冊状片の図中上部は、液晶光学素子２４０完成時には、面８２となる。
【００６６】
図１０（ｃ）は、図１０（ｂ）の工程によって基準側面８０が作成された短冊状片の平面図及び断面図を示しており、短冊状片から液晶光学素子２４０を切り出す工程を示している。図１０（ｃ）に示すように、切断予定線１００５、１００６、１００７及び１００８に沿って、ダイシング法によって、ガラス基板Ａ３００及びガラス基板Ｂ３１０が切断されて、各素子の第２の基準側面８１となる。切断予定線１００５、１００６、１００７及び１００８は、前述したマーク１００１及び１００２に合わせて設定され、ダイシング法によって切断されるので、切断後の基準側面８１は高い面精度を有し、波面収差補正用の透明電極パターン３０と正確な位置関係を維持している。
【００６７】
また、図１０（ｃ）に示す様に、切断予定線１０１５、１０１６、１０１７及び１０１８に沿って、スクライブ法によって、硬質工具（図示せず）により、ガラス基板Ａ３００及びガラス基板Ｂ３１０の両方に、切り込み１０２５、１０３５、１０２６、１０３６、１０２７、１０３７、１０２８及び１０３８を入れ、ブレイカー装置等を用いてガラス基板Ａ３００及びガラス基板Ｂ３１０を切り割りする。
【００６８】
その後、引出電極３６に配線１６を接続して、ダイシング法によって作成した直交する２つの基準側面８０及び８１を有した、液晶光学素子２４０を完成する。液晶光学素子２４０では、張出部８４上に、封止材４９、引出電極３８及び配線１６が配置されることとなる。
【００６９】
図１１に、本発明に係る更に他の液晶光学素子３４０を示す。ここで、図１１（ａ）は液晶光学素子３４０の平面図であり、図１１（ｂ）は液晶光学素子３４０の図１１（ａ）におけるＡＡ´断面図である。なお、図１１において、図２と同じ構成には同じ番号を付している。
【００７０】
図２に示す液晶光学素子４と図１１に示す液晶光学素子３４０との違いは、第１のガラス基板４１と第２のガラス基板４８との位置関係である。図２に示す液晶光学素子４では、第２のガラス基板４８の上下端をスクライブ法によって切落として、第１及び第２の張出部５４及び５５を形成し、液晶の注入口３０４及び引出電極３６を露出させた。図１１に示す液晶光学素子３４０では、第１のガラス基板４１の上部をスクライブ法によって切落とすことによって、第１の張出部９４を形成して注入口３０４を露出させ、第２のガラス基板４８の下部をスクライブ法によって切落とすことによって、第２の張出部９５を形成して引出電極３６を露出させている。即ち、第１のガラス基板４１と第２のガラス基板４８を互い違いに張り合わせたように液晶光学素子３４０を製造した。
【００７１】
さらに、液晶光学素子３４０は、基準側面９１及び９２を基準にして、光学装置１００内の所定の位置に３箇所のＵＶ接着材６３によって位置決め及び固定されている。有効径１０に対する波面収差補正用の透明電極パターン３０と基準側面９１及び９２との位置関係が予め精度良く決定されているため、液晶光学素子２４０を位置決めすれば、透明電極パターン３０を有効径１０に対して精度良く位置決めすることが可能となる。
【００７２】
以下、図１１に示した本発明に係る他の液晶光学素子３４０の製造方法について図１２を用いて説明する。液晶光学素子３４０の製造方法の最初の工程は、マークの位置以外は、図３、図４（ａ）及び図４（ｂ）と同じであるので省略する。マーク１２０１、１２０２及び１２０３は、図１２（ａ）に示すように配置されている。
【００７３】
図１２（ａ）は、図４（ｂ）でガラス基板Ａ３００の上部を切落とした短冊状片の平面図及び断面図が記載されており、スクライブ法によって、透明電極パターン３０の引出電極３６を露出させるために、ガラス基板Ｂ３１０の下部を切落とすことによって第２の張出部９５を形成する工程を示している。図１２（ａ）に示すように、１２０４の切断予定線に沿って硬質工具（図示せず）により、ガラス基板Ｂ３１０のみに切り込み１２０５を入れ、ブレイカー装置等を用いてガラス基板Ｂ３１０の一部を切落とす。
【００７４】
図１２（ｂ）は、図１２（ａ）でガラス基板Ｂ３１０の下部を切落とした短冊状片の平面図及び断面図が記載されており、各空セルの注入口３０４から、液晶を注入する工程を示している。
【００７５】
図１２（ｃ）は、図１２（ｂ）で各空セルに液晶を注入した後、注入口３０４を封止材４９で封止した状態を示している。
【００７６】
図１２（ｄ）は、第１の基準側面９２を作成するために、ダイシング法によって、切断予定線１２０６に沿ってガラス基板Ａ３００の下部を切落とす工程を示している。切断予定線１２０６は、前述したマーク１２０２及び１２０３に合わせて設定されて、ダイシング法によって切断されるので、切断後の基準側面９２は高い面精度を有し、波面収差補正用の透明電極パターン３０と正確な位置関係を維持している。なお、図１２（ｄ）に示す短冊状片の図中上部は、液晶光学素子３４０完成時には、側面９０となる。
【００７７】
図１２（ｅ）は、図１２（ｄ）の工程によって基準側面９２が作成された短冊状片の平面図及び断面図を示しており、短冊状片から液晶光学素子３４０を切り出す工程を示している。図１２（ｅ）に示すように、切断予定線１２０７、１２０８、１２０９及び１２１０に沿って、ダイシング法によって、ガラス基板Ａ３０１及びガラス基板Ｂ３１０が切断されて、各素子の第２の基準側面９１となる。切断予定線１２０７、１２０８、１２０９及び１２１０は、前述したマーク１２０１及び１２０２に合わせて設定され、ダイシング法によって切断されるので、切断後の基準側面９１は高い面精度を有し、波面収差補正用の透明電極パターン３０と正確な位置関係を維持している。
【００７８】
また、図１２（ｅ）に示す様に、切断予定線１２１７、１２１８、１２１９及び１２１０に沿って、スクライブ法によって、硬質工具（図示せず）により、ガラス基板Ａ３００及びガラス基板Ｂ３１０の両方に、切り込み１２２７、１２３７、１２２８、１２３８、１２２９、１２３９、１２３０及び１２４０入れ、ブレイカー装置等を用いてガラス基板Ａ３００及びガラス基板Ｂ３１０を切り割りする。
【００７９】
その後、引出電極３６に配線１６を接続して、ダイシング法によって作成した直交する２つの基準側面９１及び９２を有した、液晶光学素子３４０を完成する。２枚のガラス基板を互い違いに貼り合わせるように構成することで、両端に２つの張出部を形成し、張出部の一方に封止材を配置し、張出部の他方に引出電極を配置するように構成したので、小型で機能的な液晶光学素子を達成することができた。
【００８０】
【発明の効果】
以上４種類の液晶光学素子４、１４０、２４０及び３４０、並びにそれらの製造方法について説明したが、いずれの液晶光学素子も、少なくとも隣り合い且つ互いに直交する２つの基準側面がダイシング法によって高精度に形成され、他の面はスクライブ法によって形成されるように構成されている。したがって、低コストで製造できる上に、精度良く、光学装置１００中の所定の位置に位置決めすることが可能となった。
【００８１】
また、両側に張出部を設けた液晶光学素子では、一方の張出部に封止材を配置し、他方の張出部に引出電極を配置するように構成できるので、特に小型（５ｍｍ角程度以下）の液晶光学素子の組み込み性及び取扱い性を大きく向上させることができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係わる液晶光学素子が利用される光学装置の一例を示す概念図である。
【図２】（ａ）は本発明に係わる液晶光学素子の平面図を示し、（ｂ）は（ａ）に示す液晶光学装置の断面図を示す図である。
【図３】図２に示す液晶光学素子の製造工程の一部を示す図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は図２に示す液晶光学素子の製造工程の一部を示す図である。
【図５】（ａ）〜（ｄ）は図２に示す液晶光学素子の製造工程の一部を示す図である。
【図６】（ａ）及び（ｂ）は図２に示す液晶光学素子の他の２つの製造工程を示す図である。
【図７】（ａ）は本発明に係わる他の液晶光学素子の平面図を示し、（ｂ）は（ａ）に示す液晶光学装置の断面図を示す図である。
【図８】（ａ）及び（ｂ）は、図７に示す液晶光学素子の製造工程を示す図である。
【図９】（ａ）は本発明に係わる更に他の液晶光学素子の平面図を示し、（ｂ）は（ａ）に示す液晶光学装置の断面図を示す図である。
【図１０】（ａ）〜（ｃ）は、図９に示す液晶光学素子の製造工程を示す図である。
【図１１】（ａ）は本発明に係わる更に他の液晶光学素子の平面図を示し、（ｂ）は（ａ）に示す液晶光学装置の断面図を示す図である。
【図１２】（ａ）〜（ｅ）は、図１１に示す液晶光学素子の製造工程を示す図である。
【符号の説明】
４、１４０、２４０、３４０…液晶光学素子
１０…有効径
１６…配線
３０…波面収差補正用の透明電極パターン
３６…引出電極
４１…第１のガラス基板
４２…透明電極
４４…液晶
４５…シール材
４８…第２のガラス基板
４９…封止材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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