(57)【要約】【課題】  光学補償能に優れた光学補償シートを提供する。【手段】  液晶性化合物と、一般式（Ｉ）：（Ｒｆ−Ｘ）m−Ａｒ−（ＳＯ3Ｍ）2［式（Ｉ）中、Ｒｆは、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｘは単結合又は二価の連結基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｍが２以上の整数を表すとき、複数のＲｆは互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。Ａｒは芳香族炭化水素環又は芳香族ヘテロ環を表し、Ｍはプロトン、金属カチオン又は有機カチオンを表す］で表される化合物の少なくとも一種とを含有する光学異方性層を有する光学補償シートである。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶性化合物と、下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種とを含有する組成物。
一般式（Ｉ）
（Ｒｆ−Ｘ）m−Ａｒ−（ＳＯ3Ｍ）2
［式（Ｉ）中、Ｒｆは末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｘは単結合又は二価の連結基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｍが２以上の整数を表すとき、複数のＲｆは互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。Ａｒは芳香族炭化水素環又は芳香族ヘテロ環を表し、Ｍはプロトン、金属カチオン又は有機カチオンを表す。］
【請求項２】
前記一般式（Ｉ）中、ｍが２又は３であり、Ａｒがベンゼン環又はナフタレン環である請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
透明支持体上に、配向状態に固定された液晶性化合物と請求項１中の一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種とを含有する光学異方性層を有する光学補償シート。
【請求項４】
前記液晶性化合物が、ディスコティック液晶性化合物である請求項３に記載の光学補償シート。
【請求項５】
前記ディスコティック液晶性化合物が、トリフェニレン液晶である請求項４に記載の光学補償シート。
【請求項６】
前記一般式（Ｉ）中、ｍが２又は３であり、Ａｒがベンゼン環又はナフタレン環である請求項３〜５のいずれか１項に記載の光学補償シート。
【請求項７】
下記一般式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）で表される化合物。
【化１】
2005091961.tif 000023
［式（Ｉａ）中、Ｒｆ1は、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有する炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｘ1は単結合又は二価の連結基を表し、ｍ１は２又は３を表し、複数のＲｆ1は互いに同一でも異なっていてもよく、複数のＸ1は互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｍ1はプロトン、金属カチオン又は有機カチオンを表す。］
【化２】
2005091961.tif 000024
［式（Ｉｂ）中、Ｒｆ2は、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有する炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｘ2は単結合又は二価の連結基を表し、式中の２つのＲｆ2は互いに同一であっても異なっていてもよく、２つのＸ2は互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｍ2はプロトン、金属カチオン、又は有機カチオンを表す。］
【請求項８】
配向状態に固定された液晶性化合物と請求項１中の一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種とを含有する光学異方性層を有する液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶性化合物からなる光学異方性層を有する、光学補償機能に優れる光学補償シートに関する。さらに本発明は、光学補償シートを用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。また、本発明は、光学補償機能に優れた光学異方性層等を形成するのに有用な化合物及び組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
透明支持体との距離に伴って傾斜角が変化するように液晶性分子を配向（ハイブリッド配向）させた光学異方性層を有する光学補償シートは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードやＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）モードの液晶表示装置の視野角拡大に有用である。例えば、５〜５０度の傾斜角で配向させたトリフェニレン液晶からなる光学異方性層を有する光学補償シートが提案されている（例えば、特許文献１及び２参照）。また、トリフェニレン液晶の傾斜角を大きくする方法として、フッ素置換アルキル基と親水基（スルホン酸基が連結基を介してベンゼン環に結合した）を有する化合物を光学異方性層に添加する方法が提案されている（例えば、特許文献３参照）。しかし、本発明者がこれらの光学補償シートを実際に使用してみたところ、偏光板の斜め方向からの光漏れが認められ、視野角が充分に拡大しないものもあることが判明した。光学補償機能が不十分になる理由の一つとしてトリフェニレン液晶の傾斜角が精密に制御できていないことが挙げられる。
【特許文献１】米国特許第５，５８３，６７９号明細書
【特許文献２】米国特許第５，６４６，７０３号明細書
【特許文献３】特開２００１−３３０７２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
光学異方性層中の液晶性分子の傾斜角、特に空気界面側の傾斜角を増加させ、光学補償機能に優れた光学補償シートを提供することを課題とする。また、本発明は、ＴＮモード又はＯＣＢモード等の液晶表示装置の視野角改善に寄与する光学補償シート、および視野角が改善された液晶表示装置を提供することを課題とする。また、本発明は、液晶性分子の傾斜配向を促進し得る、特にディスコティック液晶性分子が空気界面側において大きな傾斜角でハイブリッド配向するのを促進し得る化合物を提供することを課題とする。また、本発明は、光学補償能を有し、視野角改善に寄与する光学補償シートを安定的に作製するのに有用な組成物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］  液晶性化合物と、下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種とを含有する組成物。
一般式（Ｉ）
（Ｒｆ−Ｘ）m−Ａｒ−（ＳＯ3Ｍ）2
［式（Ｉ）中、Ｒｆは、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｘは単結合又は二価の連結基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｍが２以上の整数を表すとき、複数のＲｆは互いに同一であっても異なっていてもよく、複数のＸは互いに同一であっても異なっていてもよい。Ａｒは芳香族炭化水素環又は芳香族ヘテロ環を表し、Ｍはプロトン、金属カチオン又は有機カチオンを表す。］
［２］  前記一般式（Ｉ）中、ｍが２又は３であり、Ａｒがベンゼン環又はナフタレン環である［１］に記載の組成物。
［３］  透明支持体上に、配向状態に固定された液晶性化合物と前記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種とを含有する光学異方性層を有する光学補償シート。
［４］  前記液晶性化合物が、ディスコティック液晶性化合物である［３］に記載の光学補償シート。
［５］  前記ディスコティック液晶性化合物が、トリフェニレン液晶である［４］に記載の光学補償シート。
［６］  前記一般式（Ｉ）中、ｍが２又は３であり、Ａｒがベンゼン環又はナフタレン環である［３］〜［５］のいずれかに記載の光学補償シート。
［７］  下記一般式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）で表される化合物。
【０００５】
【化１】
2005091961.tif 000002
【０００６】
［式（Ｉａ）中、Ｒｆ1は、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有する炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｘ1は単結合又は二価の連結基を表し、ｍ１は２又は３を表し、複数のＲｆ1は互いに同一でも異なっていてもよく、複数のＸ1は互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｍ1はプロトン、金属カチオン又は有機カチオンを表す。］
【０００７】
【化２】
2005091961.tif 000003
【０００８】
［式（Ｉｂ）中、Ｒｆ2は、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有する炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｘ2は単結合又は二価の連結基を表し、式中の２つのＲｆ2は互いに同一であっても異なっていてもよく、２つのＸ2は互いに同一であっても異なっていてもよく、Ｍ2はプロトン、金属カチオン、又は有機カチオンを表す。］
【０００９】
［８］  前記光学異方性層の一方の界面の液晶性分子のチルト角θ１が３°＜θ１≦３０°を満足し、他方の界面のチルト角θ２が５０°≦θ２を満足する［３］〜［６］のいずれかの光学補償シート。
［９］  配向状態に固定された液晶性化合物と前記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種とを含有する光学異方性層を有する液晶表示装置。
［１０］  配向状態に固定された液晶性化合物と前記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種とを含有する光学異方性層、及び直線偏光膜を有する楕円偏光板。
［１１］  前記一般式（Ｉ）で表される化合物の存在下で、液晶性分子を配向させる工程を含む光学補償シートの作製方法。
【００１０】
なお、本発明において、「ハイブリッド配向」とは、液晶分子の長軸方向（例えば、ディスコティック液晶分子の場合はコアの円盤面）と光学異方性層の水平面（例えば、光学異方性層が配向膜を介して支持体上に形成されている態様では配向膜表面）とのなす角度（以下、「傾斜角」という）が、支持体からの距離にともない、すなわち光学異方性層の厚さ方向に、変化する配向をいい、光学異方性層が有する２つの界面（例えば、光学異方性層が配向膜上に形成された場合は、配向膜との間の界面と空気界面であるが、光学異方性層が一旦形成された後、転写などにより他の支持体上に配置された場合は、２つの界面は必ずしも配向膜界面と空気界面ではない）において、傾斜角が異なる配向状態にある液晶性分子によって実現される。光学異方性層を配向膜上に形成する場合は、光学異方性層／配向膜界面と、光学補償シートの最外面でもある光学異方性層／空気界面とで、傾斜角が異なる液晶性分子によって実現される。本明細書では、傾斜角の変化の態様には、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、及び増加及び減少を含む間欠的変化などいずれも含まれるものとする。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。本発明における「ハイブリッド配向」は、傾斜角が変化しない領域を含んでいても、全体として増加又は減少していることが好ましい。さらに、傾斜角は全体として増加していることが好ましく、特に連続的に変化することが好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、液晶性化合物と前記一般式（Ｉ）で表される化合物とを併用することによって、液晶性化合物の傾斜角を増加させることができるとともに、液晶性化合物の傾斜角を任意に調整することが可能になる。ＴＮモードの液晶セルを正確に光学的に補償するためには、従来の光学補償シートよりも、ディスコティック液晶の傾斜角を増加させることが好ましいが、本発明では、ディスコティック液晶の傾斜角を増加させることができるため、ＴＮモードの液晶セルに正確に対応した光学補償シートが得られる。このような光学補償シートを用いることで、偏光板の斜め方向からの光漏れが防止され、液晶表示装置の視野角を十分に（従来以上に）拡大することができる。さらに、本発明によれば、液晶表示装置の視野角拡大に寄与しうる楕円偏光板、及び視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができる。
【発明の実施の形態】
【００１２】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の光学補償シートは、配向状態に固定された液晶性化合物と下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なくとも一種とを含有する光学異方性層を有する。下記一般式（Ｉ）で表される化合物は、液晶性化合物を安定的に、傾斜角の大きなハイブリッド配向状態にする、特に空気界面側での傾斜角を大きくするのに寄与し、光学補償機能を格段に改良する。また、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を用いることによって、液晶層（光学異方性層）と支持体との濡れ性が改善される（ハジキが防止できる）などの効果も得られる。
【００１３】
一般式（Ｉ）
（Ｒｆ−Ｘ）m−Ａｒ−（ＳＯ3Ｍ）2
式（Ｉ）中、Ｒｆは、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｘは単結合又は二価の連結基を表し、ｍは１〜５の整数を表し、ｍが２以上の整数を表すとき、複数のＲｆは同一であっても異なっていてもよく、複数のＸは同一であっても異なっていてもよい。Ａｒは芳香族炭化水素環又は芳香族ヘテロ環を表し、Ｍはプロトン、金属カチオン又は有機カチオンを表す。
【００１４】
前記一般式（Ｉ）の化合物について詳細に説明する。
式（Ｉ）中、Ｒｆで表される末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基は置換もしくは無置換のアルキル基であり、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数４〜２０であり、さらに好ましくは炭素数４〜１６であり、特に好ましくは６〜１６である。前記末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。アルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましく、７０％以上を置換されているのが特に好ましい。残りの水素原子は、さらに後述の置換基群Ｄとして例示された基によって置換されていてもよい。
【００１５】
前述の置換基群Ｄとしては以下の基を挙げることができる。
アルキル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【００１６】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルオキシ基であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【００１７】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキルチオ基であり、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基群Ｄはさらに置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００１８】
Ｒｆは、フッ素原子以外では置換されていないのが好ましい。Ｒｆが置換されている場合、該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、又はアルキルチオ基が好ましい。
【００１９】
Ｒｆで表される末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基の例を以下に示す。
Ｒｆ１：（ｎ）Ｃ8Ｆ17−
Ｒｆ２：（ｎ）Ｃ6Ｆ13−
Ｒｆ３：（ｎ）Ｃ4Ｆ9−
Ｒｆ４：（ｎ）Ｃ8Ｆ17−（ＣＨ2）2−
Ｒｆ５：（ｎ）Ｃ6Ｆ13−（ＣＨ2）2−
Ｒｆ６：（ｎ）Ｃ4Ｆ9−（ＣＨ2）2−
Ｒｆ７：Ｈ−（ＣＦ2）8−
Ｒｆ８：Ｈ−（ＣＦ2）6−
Ｒｆ９：Ｈ−（ＣＦ2）4−
Ｒｆ１０：Ｈ−（ＣＦ2）8−（ＣＨ2）−
Ｒｆ１１：Ｈ−（ＣＦ2）6−（ＣＨ2）−
Ｒｆ１２：Ｈ−（ＣＦ2）4−（ＣＨ2）−
【００２０】
Ｘで表される二価の連結基はアルキレン基、アルケニレン基、−ＣＯ−、―ＮＲa−（Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。アルキレン基、及びアルケニレン基は、可能であれば前述の置換基群Ｄとして例示された基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基、アシルオキシ基）によって置換されていてもよい。
【００２１】
Ａｒで表される芳香族炭化水素環は、好ましくは炭素数６〜３０であり、特に好ましくは炭素数６〜２０であり、ベンゼン環又はナフタレン環が最も好ましい。Ａｒで表される芳香族へテロ環は、好ましくは炭素数１〜３０であり、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環であり、フラン環、ピロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、イソオキサゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、１，３，５−トリアジン環、インドール環、インダゾール環、キノリン環、カルバゾール環が好ましい。Ａｒは芳香族炭化水素環であるのが好ましい。Ａｒで表される芳香族炭化水素環又は芳香族へテロ環は、ｍ個の置換基Ｒｆ−Ｘ−及び２個の−ＳＯ3Ｍ以外に置換基を有していてもよく、該置換基としては前述の置換基群Ｄとして例示した基を挙げることができる。置換基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、スルホニルアミノ基、アルキルチオ基であり、特に好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシルオキシ基である。
【００２２】
Ｍは、好ましくはプロトン（Ｈ+）、アルカリ金属イオン（例えばナトリウムイオン、カリウムイオン、リチウムイオン）、アルカリ土類金属イオン（例えばカルシウムイオン）、アンモニウムイオン（例えば、アンモニウムイオン、トリアルキルアンモニウムイオン、テトラアルキルアンモニムイオン、ピリジニウムイオン）であり、特に好ましくはプロトン又はアンモニウムイオンである。
【００２３】
ｍは好ましくは１〜３の整数であり、特に好ましくは２又は３である。
【００２４】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物の中でも、下記一般式（Ｉａ）又は（Ｉｂ）で表される化合物が好ましい。
【００２５】
【化３】
2005091961.tif 000004
【００２６】
式（Ｉａ）中、Ｒｆ1は、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有する炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｘ1は単結合又は二価の連結基を表し、ｍ１は２又は３を表し、複数のＲｆ1は同一であっても異なっていてもよく、複数のＸ1は同一であっても異なっていてもよく、Ｍ1はプロトン、金属カチオン又は有機カチオンを表す。
【００２７】
【化４】
2005091961.tif 000005
【００２８】
式（Ｉｂ）中、Ｒｆ2は、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有する炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｘ2は単結合又は二価の連結基を表し、Ｒｆ2は同一であっても異なっていてもよく、Ｘ2は同一であっても異なっていてもよく、Ｍ2はプロトン、金属カチオン又は有機カチオンを表す。
【００２９】
一般式（Ｉａ）中、Ｒｆ1は前記一般式（Ｉ）におけるＲｆと同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｘ1は前記一般式（Ｉ）におけるＸと同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｘ1は、特に好ましくは、アルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基である。Ｍ1は前記一般式（Ｉ）におけるＭと同義であり、その好ましい範囲も同一である。ｍ１は好ましくは２であり、その場合は、２つのＸ1−Ｒｆ1が、２つの−ＳＯ3Ｍ1に対してそれぞれｏ位であるのが好ましい。なお、式中のベンゼン環は、可能であれば、ｍ１個のＸ1−Ｒｆ1及び２つのＳＯ3Ｍ1の他に、例えば、前述の置換基群Ｄから選ばれるいずれかの置換基で置換されていてもよい。
【００３０】
一般式（Ｉｂ）中、Ｒｆ2は前記一般式（Ｉ）におけるＲｆと同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｘ2は前記一般式（Ｉ）におけるＸと同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｘ2は、特に好ましくは、アルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基である。Ｍ2は前記一般式（Ｉ）におけるＭと同義であり、その好ましい範囲も同一である。式中のナフタレン環は、可能であれば、２つのＸ2−Ｒｆ2及び２つのＳＯ3Ｍ2の他に、例えば、前述の置換基群Ｄから選ばれるいずれかの置換基で置換されていてもよい。
【００３１】
上記一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。
【００３２】
【化５】
2005091961.tif 000006
【００３３】
【化６】
2005091961.tif 000007
【００３４】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物は、一般的なヒドロキシ基のアルキル化反応及びスルホ化反応等を組み合わせることによって容易に合成することができる。
【００３５】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物の添加量としては、液晶性化合物の量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％が特に好ましく、０．１〜５質量％が最も好ましい。なお、前記一般式（Ｉ）で表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種類以上を併用してもよい。
【００３６】
本発明の光学補償シートは、液晶性化合物、前記一般式（Ｉ）で表される化合物及び、その他必要に応じて添加する各種化合物を含有する組成物を、配向膜上に塗布し、液晶性分子を配向させることにより光学異方性層を形成する工程を含む方法により作製できる。以下に本発明の光学補償シートの光学異方性層に用いられる材料のうち、前記で説明した一般式（Ｉ）で表される化合物以外の材料にいて詳細に説明する。
【００３７】
［液晶性化合物］
本発明において、光学異方性層に用いる液晶性化合物は、棒状液晶性化合物及びディスコティック液晶性化合物のいずれでもよく、また、高分子液晶及び低分子液晶のいずれでもよいが、好ましくはディスコティック液晶であり、より好ましくはトリフェニレン液晶である。さらに、本発明では、光学異方性層中において液晶性化合物は液晶性を維持する必要はなく、液晶性分子が所望の配向状態となりその状態に固定された後は、液晶性を示す必要はない。なお、本発明で用いられる液晶性化合物は、単独で用いてもよいし、二種類以上を併用してもよい。
【００３８】
［棒状液晶化合物］
好ましい棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体の液晶性化合物も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性化合物として用いることができる。言い換えると、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。棒状液晶性化合物については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章及び第１１章、及び液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載がある。棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。棒状液晶性化合物についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１号５０頁７行〜５７頁末行に記載されている。
【００３９】
［ディスコティック液晶性化合物］
本発明に好ましく用いられるディスコティック液晶性化合物の例としては、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルなどを挙げることができる。さらに、ディスコティック液晶性化合物としては、一般的にこれらを分子中心の母核とし、直鎖のアルキル基やアルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基等がその直鎖として放射線状に置換された構造のものも含まれ、これらもすべて液晶性を示す。
【００４０】
また、光学異方性層が最終的に形成された際に、液晶性化合物はもはや液晶性化合物である必要はない。例えば、低分子のディスコティック液晶性化合物が熱、光等で反応する基を有しており、結果的に熱、光等で反応により重合または架橋し、高分子量化して、液晶性を失ってもよい。ディスコティック液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載があり、本発明にも適用することができる。
【００４１】
ディスコティック液晶性化合物を重合により固定する方法の一例として、ディスコティック液晶性化合物として、ディスコティックコアに置換基として重合性基が結合した液晶性化合物を用い、ハイブリッド配向させた後、前記液晶性化合物を重合させて固定する方法がある。但し、ディスコティックコアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる傾向にある。そこで、ディスコティックコアと重合性基との間に、連結基を導入することが好ましい。重合性基を有する好ましいディスコティック液晶性化合物としては、下記式（II）で表わされる化合物が挙げられる。
【００４２】
一般式（II）
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
式中、Ｄはディスコティックコアを表し、Ｌは二価の連結基を表し、Ｐは重合性基を表し、ｎは２〜１２のいずれかの整数を表す。前記ディスコティック液晶性化合物の具体例としては、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の５８頁６行〜６５頁８行に記載されている。
【００４３】
本発明では、二種類以上のディスコティック液晶性分子を併用して用いてもよい。また、例えば、上記の重合性ディスコティック液晶性分子と非重合性ディスコティック液晶性分子とを併用することも可能である。非重合性ディスコティック液晶性分子は、前述した重合性ディスコティック液晶性分子の重合性基（Ｐ）を、水素原子またはアルキル基に変更した化合物であることが好ましい。すなわち、非重合性ディスコティック液晶性分子は、下記式（III）で表わされる化合物であることが好ましい。
【００４４】
一般式（III）
Ｄ（−Ｌ−Ｒ）n
式中、Ｄは円盤状コアを、Ｌは二価の連結基を、Ｒは水素原子またはアルキル基を表し、ｎは２〜１２の整数である。
【００４５】
［光学異方性層の添加剤］
本発明の光学異方性層には、前記のディスコティック液晶性化合物や前記一般式（Ｉ）で表される化合物の他に、任意の添加剤を併用することができる。添加剤の例としては、水平配向剤、ハジキ防止剤、配向膜のチルト角（光学異方性層／配向膜界面での液晶性分子の傾斜角）を制御するための添加剤、重合開始剤、配向温度を低下させる添加剤（可塑剤）、重合性モノマー等である。
【００４６】
［水平配向剤］
本発明では、光学異方性層にディスコティック液晶の水平配向を誘起する化合物（以下、「水平配向剤」と略記する）を含有することも好ましい。水平配向剤としてはディスコティック液晶の水平配向を誘起する化合物であれば特に制限はないが、前記一般式（Ｉ）と併用することによりディスコティック液晶の水平配向を誘起する化合物が好ましい。特に好ましくは、温度Ｔ1℃でディスコティック液晶を水平配向させた後、温度Ｔ2℃（但し、Ｔ1＜Ｔ2）でハイブリッド配向へ転移させ得る水平配向剤である。ディスコティック液晶を一旦水平配向させた後、ハイブリッド配向へ転移させることによって、シュリーレン欠陥などの欠陥の少ないハイブリッド配向の光学異方性層を迅速に製造することができ、生産性を向上できる。前記水平配向剤は、液晶性化合物の量に対して、０．０１〜２０質量％であるのが好ましく、０．０５〜１０質量％であるのがより好ましく、０．１〜５質量％であるのが更に好ましい。
【００４７】
本発明における水平配向剤としては、下記一般式（IV）にて表される含トリアジン環化合物が好適に用いられる。
【００４８】
【化７】
2005091961.tif 000008
【００４９】
式中、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記一般式（Ｉ）における置換基群Ｄとして例示した置換基と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、特に好ましくは置換もしくは無置換のアルキル基、アルコキシ基又はフェニル基であり、最も好ましくは炭素数６〜２０の無置換のアルキル基、炭素数１〜２０の無置換のアルコキシ基又は炭素数１〜２０の無置換又はフッ素原子が置換したアルコキシ基によって置換されたフェニル基である。また、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、可能な場合には、連結して二量体又は三量体を形成していてもよい。Ｌ2、Ｌ3及びＬ4は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＲb−（Ｒbは炭素原子数が１〜５のアルキル基又は水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表し、好ましくは、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＲ−、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。Ｌ2、Ｌ3及びＬ4は、特に好ましくはアルキレン基、フェニル基、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であり、最も好ましくはエチレン基、プロピレン基、−ＮＨ−、−Ｏ−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基である。
【００５０】
なお、前記水平配向剤は、ディスコティック液晶の配向状態を固定化するために置換基として重合性基を有するものも好ましい。本発明に使用可能な水平配向剤の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる水平配向剤はこれらに限定されるものではない。
【００５１】
【化８】
2005091961.tif 000009
【００５２】
【化９】
2005091961.tif 000010
【００５３】
［ハジキ防止剤］
ハジキ防止剤は、液晶性化合物を含有する組成物中に添加され、該組成物を対象物の表面に塗布する際にハジキが生じるのを軽減するのに寄与する。そのようなハジキ防止剤としては、一般に高分子化合物を好適に用いることができる。使用するポリマーとしては、液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性化合物の傾斜角変化や配向を著しく阻害しない限り、特に制限はない。ポリマーの例としては、特開平８−９５０３０号公報に記載があり、特に好ましい具体的ポリマー例としてはセルロースエステル類を挙げることができる。セルロースエステルの例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。液晶性化合物の配向を阻害しないように、ハジキ防止目的で使用されるポリマーの添加量は、液晶性化合物に対して一般に０．１〜１０質量％の範囲にあり、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。
【００５４】
［配向膜チルト角制御剤］
配向膜側の界面のチルト角を制御する添加剤として、分子内に極性基と非極性基の両方を有する化合物を添加することができる。極性基としては、Ｒ−ＯＨ、Ｒ−ＣＯＯＨ、Ｒ−Ｏ−Ｒ、Ｒ−ＮＨ2、Ｒ−ＮＨ−Ｒ、Ｒ−ＳＨ、Ｒ−Ｓ−Ｒ、Ｒ−ＣＯ−Ｒ、Ｒ−ＣＯＯ−Ｒ、Ｒ−ＣＯＮＨ−Ｒ、Ｒ−ＣＯＮＨＣＯ−Ｒ、Ｒ−ＳＯ3Ｈ、Ｒ−ＳＯ3−Ｒ、Ｒ−ＳＯ2ＮＨ−Ｒ、Ｒ−ＳＯ2ＮＨＳＯ2−Ｒ、Ｒ−Ｃ＝Ｎ−Ｒ、ＨＯ−Ｐ（−ＯＲ）2、（ＨＯ−）2Ｐ−ＯＲ、Ｐ（−ＯＲ）3、ＨＯ−ＰＯ（−ＯＲ）2、（ＨＯ−）2ＰＯ−ＯＲ、ＰＯ（−ＯＲ）3、Ｒ−ＮＯ2、Ｒ−ＣＮ、等が例として挙げられる。また、有機塩（例えば、アンモニウム塩、ピリジニウム塩、カルボン酸塩、スルホン酸塩、リン酸塩）でもかまわない。極性基で好ましい基は、Ｒ−ＯＨ、Ｒ−ＣＯＯＨ、Ｒ−Ｏ−Ｒ、Ｒ−ＮＨ2、Ｒ−ＳＯ3Ｈ、ＨＯ−ＰＯ（−Ｒ）2、（ＨＯ−）2ＰＯ−Ｒ、ＰＯ（−Ｒ）3もしくは有機塩である。
ここで、上記各Ｒとしては下記の非極性基が挙げられる。
【００５５】
非極性基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１から３０の直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルキル基）、アルケニル基（好ましくは炭素数１から３０の直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基）、アルキニル基（好ましくは炭素数１から３０の直鎖、分岐、環状の置換もしくは無置換のアルケニル基）、アリール基（好ましくは炭素数６から３０の置換もしくは無置換のアリール基）、シリル基（好ましくは、炭素数３から３０の置換もしくは無置換のシリル基）が例として挙げられる。この非極性基はさらに置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基（シクロアルキル基、ビシクロアルキル基を含む）、アルケニル基（シクロアルケニル基、ビシクロアルケニル基を含む）、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シリルオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ、アミノ基（アニリノ基を含む）、アシルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリールオキシカルボニルアミノ基、スルファモイルアミノ基、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、スルファモイル基、スルホ基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アリールアゾ基、ヘテロ環アゾ基、イミド基、ホスフィノ基、ホスフィニル基、ホスフィニルオキシ基、ホスフィニルアミノ基、シリル基等が例として挙げられる。
【００５６】
配向膜チルト角制御剤を加えることで配向膜のチルト角は変えることができるが、その時の変化量はラビング密度に関係がある。ラビング密度が高い配向膜とラビング密度の低い配向膜を比較すれば、ラビング密度の低い配向膜の方が、同じ添加量であっても、チルト角は変わりやすい。したがって、配向膜チルト制御剤の添加量は、配向膜のラビング密度及び所望のチルト角の大きさ等によって変わるが、ディスコティック液晶性分子に対して、０．０００１質量％〜３０質量％が好ましく、０．００１質量％〜２０質量％が好ましく、更に０．００５質量％〜１０質量％が最も好ましい。配向膜角チルト制御剤の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。
【００５７】
【化１０】
2005091961.tif 000011
【００５８】
【化１１】
2005091961.tif 000012
【００５９】
【化１２】
2005091961.tif 000013
【００６０】
［重合開始剤］
本発明では、液晶性分子をハイブリッド配向の状態で固定するのが好ましく、そのため重合反応により液晶性分子を固定することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、熱により支持体等が変形、変質するのを防ぐためにも、光重合反応が好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が挙げられる。光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００ｍＪ〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。
【００６１】
［重合性モノマー］
液晶性化合物とともに使用する重合性モノマーとしては、液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性化合物の傾斜角変化や配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。上記重合性モノマーの添加量は、液晶性化合物に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。また反応性官能基数が２以上のモノマーを用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。
【００６２】
［塗布溶剤］
液晶組成物の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライド及びケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
【００６３】
［塗布方式］
光学異方性層は、上記溶媒を用いて液晶組成物の塗布液を調製し、配向膜上に塗布し、液晶性分子を配向処理することで形成する。塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。また、塗布液における液晶性化合物の含有量は１〜５０質量％が好ましく、１０〜５０質量％がより好ましく、２０〜４０質量％がさらに好ましい。
【００６４】
［光学異方性層の特性］
光学異方性層の厚さは、０．１〜２０μｍであることが好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、１〜１０μｍであることが最も好ましい。
【００６５】
本発明の液晶組成物は配向膜上に塗布されるので、液晶性分子は配向膜との界面では配向膜のチルト角で配向し、空気との界面では空気界面のチルト角で配向することとなる。したがって、塗布後、液晶性分子の均一配向（モノドメイン配向）させることで、空気界面から配向膜界面に向けて、つまり光学異方性層の深さ方向にディスコティック液晶性分子の傾斜角（ディスコティック液晶性分子の円盤面の法線と透明支持体の配向膜を設ける面の法線とがなす角）が連続的に変化するハイブリッド配向を実現することができる。ハイブリッド配向させた光学補償シートにより、視野角を拡大させ、並びに視角変化に対するコントラスト低下、階調または黒白反転、及び色相変化等を防止することができる。
【００６６】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物の存在下では、ディスコティック液晶性分子を、空気界面側のチルト角５０°以上で配向させることができる。光学補償シートとして好ましい性能を発揮できる状態のハイブリッド配向を実現するために、配向膜のチルト角を３°〜３０°とするのが好ましい。この配向膜のチルト角は前記した方法（配向膜のラビング密度、配向膜チルト制御剤等）により制御することで、本発明の光学補償シートを適用する液晶表示装置の表示モードに応じて、好ましいハイブリッド配向状態を実現することができる。
【００６７】
［チルト角］
チルト角とは、液晶性分子の長軸方向と界面（配向膜界面と空気界面）の法線がなす角度を指し、本発明では、配向膜のチルト角は３°〜３０°、空気界面側のチルト角は２０〜８０°であるのが好ましい。チルト角は小さすぎると、ディスコティック液晶性分子のモノドメイン配向に要する時間が長くなるため大きい方が好ましいが、チルト角が大きくなりすぎると、光学補償シートとして好ましい光学性能が得られなくなるため逆に好ましくない。したがって、モノドメイン化時間の短縮と光学補償シートとしての好ましい光学性能の両立の観点から、好ましい配向膜のチルト角は５°〜３０°、更に好ましくは７°〜２０°、特に好ましいのは９°〜２０°である。また、好ましい空気界面側のチルト角は３０〜７５°、更に好ましくは３５〜７０°、特に好ましいのは４０〜７０°である。配向膜側のチルト角は、後述する配向膜のラビング密度を変える方法、あるいは前述の配向膜チルト角制御剤の添加などにより、数度〜数十度の範囲で制御可能である。なお、空気界面側と配向膜とのチルト角の差については、特に制限はないが、ＴＮモードやＯＣＢモードの液晶セルの光学補償に用いる場合は、その差が３０°以上であるのが好ましく、４０°以上であるのがより好ましい。
なお、上述した様に、光学異方性層が一旦形成された後、転写などにより２つの層間に配置されている場合等は、必ずしも光学異方性層の界面は配向膜界面と空気界面でなく、かかる態様では、光学異方性層が有する２つの界面のうち一方の界面側および他方の界面側それぞれにおける液晶性分子のチルト角が、上記配向膜側チルト角の範囲および上記空気界面側のチルト角の範囲であるのが好ましい。
【００６８】
［配向膜］
配向膜は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログルーブを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例、ω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチル）の累積のような手段で、設けることができる。さらに、電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により、配向機能が生じる配向膜も知られている。配向膜上に設けられる光学異方性層のディスコティック液晶性分子に所望の配向を付与できるのであれば、配向膜としてはどのような層でもよいが、本発明においては、配向膜のチルト角の制御し易さの点から、特にポリマーのラビング処理により形成する配向膜が特に好ましい。ラビング処理は、一般にはポリマー層の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができるが、特に本発明では上記のとおり液晶便覧（丸善（株））に記載されている方法により行うことが好ましい。配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０５〜１μｍであることがさらに好ましい。配向膜に用いられるポリマーは、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明の光学補償フィルム用の配向膜ではポリビニルアルコール及びその誘導体が好ましく用いられる。特に好ましくは、疎水性基が結合している変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。配向膜についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行の記載を参照することができる。
【００６９】
［配向膜のラビング密度］
配向膜のラビング密度を変える方法としては、液晶便覧（丸善（株））に記載されている方法を用いることができる。ラビング密度（Ｌ）は式（Ａ）で定量化されている。
式（Ａ）      Ｌ＝Ｎｌ｛１＋（２πｒｎ／６０ｖ）｝
式（Ａ）中、Ｎはラビング回数、ｌはラビングローラーの接触長、ｒはローラーの半径、ｎはローラーの回転数（ｒｐｍ）、ｖはステージ移動速度（秒速）である。ラビング密度を高くするためには、ラビング回数を増やす、ラビングローラーの接触長を長く、ローラーの半径を大きく、ローラーの回転数を大きく、ステージ移動速度を遅くすればよく、一方、ラビング密度を低くするためには、この逆にすればよい。ラビング密度と配向膜のチルト角との間には、ラビング密度を高くするとチルト角は小さくなり、ラビング密度を低くするとチルト角は大きくなる関係がある。
【００７０】
なお、液晶性分子を配向させて、重合等によりその状態を固定すれば、配向膜がなくてもその配向状態を維持することができる。従って、前記光学異方性層を配向膜（例えば仮支持体上に形成された配向膜）上に形成した後、透明支持体上に光学異方性層のみを転写することによって、本発明の光学補償シートを作製することもできる。即ち、本発明には、配向膜を含まない光学補償シートの態様も含まれる。
【００７１】
［支持体］
本発明に使用可能な支持体は、透明であるのが好ましく、具体的には光透過率が８０％以上であることが好ましい。光学的等方性のポリマーフィルムが好ましい。ポリマーの具体例として、セルロースアシレート類（例、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、ノルボルネン系ポリマー、ポリ（メタ）アクリレートエステル類のフィルムなどを挙げることができ、多くの市販のポリマーを好適に用いることが可能である。このうち、光学性能の観点からセルロースエステル類が好ましく、セルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。脂肪酸の炭素原子数は、２（セルロースアセテート）、３（セルロースプロピオネート）または４（セルロースブチレート）であることが好ましい。セルローストリアセテートが特に好ましい。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いてもよい。また、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであってもＷＯ００／２６７０５号明細書に記載の分子を修飾することで該発現性を低下させたものを用いることもできる。
【００７２】
ポリマーフィルムとしては、酢化度が５５．０〜６２．５％であるセルロースアセテートを使用することが好ましい。特に酢化度が５７．０〜６２．０％であることが好ましい。酢化度、及びその範囲、並びにセルロースアセテートの化学構造は、特開２００２−１９６１４６号公報の段落番号［００２１］の記載を適用できる。
【００７３】
透明支持体として用いるセルロースアシレートフィルムのＲｅレターデーション値、及び複屈折率の範囲は、特開２００２−１３９６２１号公報の段落番号［００１８］〜［００１９］の記載を適用できる。
【００７４】
透明支持体として用いるポリマーフィルム、特にセルロースアシレートフィルムのレターデーションを調整するために、少なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物をレターデーション上昇剤として使用することが好ましい。芳香族化合物の好ましい範囲、及び使用量は、特開２００２−１３９６２１号公報の段落番号［００２１］〜［００２３］の記載を適用できる。このようなレターデーション上昇剤についてはＷＯ０１／８８５７４Ａ１、ＷＯ００／２６１９Ａ１、特開２０００−１１１９１４号公報、同２０００−２７５４３４号公報、特願２００２−７０００９号明細書等に記載されている。
【００７５】
セルロースアシレートフィルムは、調製されたセルロースアシレート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりを製造することが好ましい。ドープには、前記のレターデーション上昇剤を添加することが好ましい。調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて、ドープの２層以上流延によるフィルム化もできる。フィルムの形成は、特開２００２−１３９６２１号公報の段落番号［００３８］〜［００４０］の記載が本発明に適用できる。
【００７６】
セルロースアシレートフィルムは、さらに延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、３〜１００％の範囲にあることが好ましい。本発明のセルロースアシレートフィルムを延伸する場合には、テンター延伸が好ましく使用され、遅相軸を高精度に制御するために、左右のテンタークリップ速度、離脱タイミング等の差をできる限り小さくすることが好ましい。
【００７７】
セルロースアシレートフィルムには、機械的物性を改良するため、又は乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、特開２００２−１３９６２１号公報の段落番号［００４３］の態様、及び好ましい範囲が本発明に適用できる。
【００７８】
セルロースアシレートフィルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）や紫外線防止剤を添加してもよい。劣化防止剤については、特開２００２−１３９６２１号公報の段落番号［００４４］の記載が本発明に適用できる。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を挙げることができる。紫外線防止剤については、特開平７−１１０５６号公報に記載がある。
【００７９】
セルロースアシレートフィルムは、表面処理、及び固体の表面エネルギーについては、特開２００２−１９６１４６号公報の段落番号［００５１］〜［００５２］の記述が本発明に適用できる。
【００８０】
セルロースアシレートフィルムの厚さは、使用目的によって異なるが、通常５〜５００μｍの範囲であり、さらに２０〜２５０μｍの範囲が好ましく、特に３０〜１８０μｍの範囲が最も好ましい。なお、光学用途としては３０〜１１０μｍの範囲が特に好ましい。セルロースアシレートフィルムを非塩素系溶媒を用いて製造することについて、発明協会公開技報２００１−１７４５号に詳しく記載されており、そこに記載されたセルロースアシレートフィルムも本発明に好ましく用いることができる。
【００８１】
［光学補償シートの用途］
本発明の光学補償シートは、偏光膜と組合せて楕円偏光板の用途に供することができる。さらに、透過型液晶表示装置に、偏光膜と組合せて適用することにより、視野角の拡大に寄与する。以下に、本発明の光学補償シートを利用した楕円偏光板および液晶表示装置について説明する。
【００８２】
［楕円偏光板］
本発明の光学補償シートと直線偏光膜を積層することによって楕円偏光板を作製することができる。本発明の光学補償シートを利用することにより、液晶表示装置の視野角を拡大しうる楕円偏光板を提供することができる。直線偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の偏光軸は、フィルムの延伸方向に垂直な方向に相当する。
【００８３】
直線偏光膜は前記光学補償シートの光学異方性層側に積層するのが好ましい。前記偏光膜の光学補償シートを積層した側と反対側の面に透明保護膜を形成することが好ましい。透明保護膜は、光透過率が８０％以上であるのが好ましい。透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフィルム、好ましくはトリアセチルセルロースフィルムが用いられる。セルロースエステルフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明保護膜の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、５０〜２００μｍであることがさらに好ましい。
【００８４】
［液晶表示装置］
本発明の光学補償シートを利用により、視野角が拡大された液晶表示装置を提供することができる。ＴＮモードの液晶セル用光学補償シートは、特開平６−２１４１１６号公報、米国特許５５８３６７９号、同５６４６７０３号、ドイツ特許公報３９１１６２０Ａ１号の各明細書に記載がある。また、ＩＰＳモードまたはＦＬＣモードの液晶セル用光学補償シートは、特開平１０−５４９８２号公報に記載がある。さらに、ＯＣＢモードまたはＨＡＮモードの液晶セル用光学補償シートは、米国特許５８０５２５３号明細書及び国際公開ＷＯ９６／３７８０４号公報に記載がある。さらにまた、ＳＴＮモードの液晶セル用光学補償シートは、特開平９−２６５７２号公報に記載がある。そして、ＶＡモードの液晶セル用光学補償シートは、特許番号第２８６６３７２号公報に記載がある。
【００８５】
本発明において、前記記載の公報を参考にして各種のモードの液晶セル用光学補償シートを作製することができる。本発明の光学補償シートは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モードなど、種々のモードで駆動される液晶セルと組合せて液晶表示装置に適用できる。本発明の光学補償シートは、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）モード又はＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）モードの液晶表示装置において特に効果がある。
【実施例】
【００８６】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、操作などは本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に制限されるものではない。
【００８７】
［実施例１］
（光学補償シートの作製）
厚さ１００μｍ、サイズ２７０ｍｍ×１００ｍｍのトリアセチルセルロースフィルム（フジタック、富士写真フイルム（株）製）を透明支持体として用いた。透明支持体上にアルキル変性ポリビニルアルコールの４質量％水溶液（ＭＰ−２０３、クラレ（株）製）を０．５μｍの厚さに塗布、乾燥し、その表面をラビング処理して、配向膜を形成した。配向膜の上に以下の組成の塗布液をバーコーターを用いて塗布した。
【００８８】
───────────────────────────────────
光学異方性層塗布液
───────────────────────────────────
一般式（Ｉ）例示化合物Ｎｏ．Ｉ−３                        ０．４質量部
下記のディスコティック液晶性化合物（１）                  １００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                ９．９質量部
光重合開始剤
（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）    ３．３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）          １．１質量部
メチルエチルケトン                                        ３００質量部
───────────────────────────────────
【００８９】
【化１３】
2005091961.tif 000014
【００９０】
次に、上記塗布層を光学異方性層の膜面温度１２０℃で約１２０秒間加熱熟成した後、約２０秒間で８０℃まで冷却した。次いで、同温度を保持したまま０．４Ｊの紫外線を照射して光学異方性層の配向状態を固定した。形成した光学異方性層の厚さは１．９μｍであった。以上の如く光学異方性層を形成し光学補償シートを作製した。
【００９１】
（光学補償シートの評価）
光学補償シートの光学異方性層における配向膜近傍の傾斜角及び空気界面近傍の傾斜角は、エリプソメーター（ＡＰＥ−１００、島津製作所(株)製）を用いて観察角度を変えてレターデーションを測定し、屈折率楕円体モデルと仮想し、Ｄｅｓｉｇｎｉｎｇ  Ｃｏｎｃｅｐｔｓ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ｄｉｓｃｏｔｉｃ  Ｎｅｇａｔｉｖｅ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｉｏｎ  Ｆｉｌｍｓ  ＳＩＤ９８  ＤＩＧＥＳＴ  に記載されている手法で算出した。測定波長は６３２．８ｎｍであり、結果を第１表に示す。
【００９２】
［実施例２〜８、比較例１、２］
実施例１で用いた例示化合物（Ｉ−３）を第１表の如く変更した以外は、実施例１と同様にして光学補償シートを作製し、同様に傾斜角を算出した。結果を第１表に示す。
【００９３】
【表１】
2005091961.tif 000015
【００９４】
【化１４】
2005091961.tif 000016
【００９５】
上記第１表における実施例１〜８と比較例１及び２の結果から判るように、本発明に係る前記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する光学異方性層は、液晶性化合物の傾斜角、特に空気界面側の傾斜角が大きいハイブリッド配向を実現している。
【００９６】
次に、液晶表示装置としての応用例を示す。
［実施例９］
図１に示す構成の液晶表示装置を作製した。即ち、観察方向（上）から上側偏光板１、上側光学異方性層３、液晶セル（上基板５、液晶層７、下基板９）、下側光学異方性層１０、下側偏光板１２を積層し、さらに下側偏光板の下側には冷陰極蛍光灯を用いたバックライト（不図示）を配置した。上側偏光板吸収軸２、上側光学異方性層配向制御方向４及び上基板配向制御方向６と、下基板配向制御方向９、下側光学異方性層配向制御方向１１及び下側偏光板吸収軸１３とが、互いに直交するように積層した。
【００９７】
以下に、用いた部材それぞれの作製方法を説明する。
＜ＴＮモード液晶セルの作製＞
一対の無アルカリガラス基板上にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）をスパッタリング法により約４００Ａの厚さで蒸着し透明電極とする。表示面に相当する領域にポリイミドを主成分とした樹脂を約５００Ａの厚さで塗布した後、２００℃のＮ２雰囲気中で焼成し、所定の方向へラビング処理を行って配向膜とする。次にエポキシ樹脂を主成分とするシール材に直径約５．５μｍのマイクロロッドを混入させたものをディスペンサー装置を用いて所定の位置に印刷した後、直径約５μｍのギャップ材を入れて液晶材料を滴下注入法で前記基板間に注入、これを焼成封止した。液晶は正の誘電率異方層を持つ液晶材料を選択した。液晶材料のΔｎは、セルギャップ（ｄ）５μｍでΔｎｄが約４００ｎｍとなるように選んだ（Δｎは液晶材料の屈折率異方性）。また、液晶セルのツイスト角は９０°になるようラビング方向を選択してあり、後で上下偏光板と貼り合わせる際に、液晶セルの上下基板ラビング方向は、支持体遅相軸（流延方向と平行方向）と平行になるようにした。液晶表示装置の液晶セルに電圧を印加し、白表示２Ｖ、黒表示５Ｖにおける白表示と黒表示との透過率をコントラスト比として、上下左右でコントラスト比１０、かつ階調反転のない領域を視野角として測定した。結果を第２表に示す。
【００９８】
＜セルロースアセテートフィルムの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
セルロースアセテート溶液組成
酢化度６０．７〜６１．１％のセルロースアセテート      １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤）                    ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤）            ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                        ３３６質量部
メタノール（第２溶媒）                                  ２９質量部
１−ブタノール（第３溶媒）                              １１質量部
【００９９】
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤１６質量部、メチレンクロライド９２質量部およびメタノール８質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション上昇剤溶液２５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、６．０質量部であった。
【０１００】
【化１５】
2005091961.tif 000017
【０１０１】
得られたドープを、バンド延伸機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、７０℃の温風で１分乾燥し、バンドからフィルムを１４０℃の乾燥風で１０分乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアセテートフィルム（厚さ：８０μｍ）を作製した。作製したセルロースアセテートフィルム（透明支持体、透明保護膜）について、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いて、波長５４６ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲｔｈレターデーション値を測定した。Ｒｅは８ｎｍ、Ｒｔｈは７８ｎｍであった。作製したセルロースアセテートフィルムを２．０ｍｏｌ／ｌの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、希硫酸で中和し、純水で水洗し、その後乾燥させた。このセルロースアセテートフィルムの表面エネルギーを接触法により求めたところ、６３ｍＮ／ｍであった。こうして、透明保護膜用セルロースアセテートフィルムを作製した。
【０１０２】
＜光学異方性層用の配向膜の作製＞
このセルロースアセテートフィルム上に、下記の組成の塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍＬ／ｍ2塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。次に、形成した膜に、セルロースアセテートフィルムの面内遅相軸（流延方向と平行方向）に対して０°の方向にラビング処理を実施した。
配向膜塗布液組成
下記の変性ポリビニルアルコール                    ２０質量部
水                                              ３６０質量部
メタノール                                      １２０質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                    １．０質量部
【０１０３】
【化１６】
2005091961.tif 000018
【０１０４】
＜光学異方性層の作製＞
上記の配向膜上に、実施例１にて用いた一般式（Ｉ）例示化合物Ｎｏ．Ｉ−３  ０．４ｇ、前記ディスコティック液晶性化合物（１）９１．０ｇ、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）９．０ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）３．０ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．０ｇを、４１４ｇのメチルエチルケトンに溶解した塗布液を、＃３．６のワイヤーバーで６．２ｃｃ／ｍ2塗布した。これを１３０℃の恒温ゾーンで２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物（１）を配向させた。次に、６０℃の雰囲気下で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、１分間ＵＶ照射しディスコティック液晶性化合物（１）を重合させた。その後、室温まで放冷して光学異方性層を得た。なお、円盤状液晶性化合物の弾性常数比（ｋ３３／ｋ１１）は、０．５〜３．５の間で選択した。
【０１０５】
＜偏光膜の作製＞
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作製した光学補償シートを支持体面で偏光膜の片側に貼り付けた。また、厚さ８０μｍのセルローストリアセテートフィルム（ＴＤ８０Ｕ、富士写真フィルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。偏光膜の透過軸と光学補償シートの支持体の遅相軸（流延方向と平行方向）とは直交になるように配置した。このようにして偏光板を作製した。
【０１０６】
［実施例１０〜１２、比較例３］
実施例９で用いた例示化合物（Ｉ−３）を第２表の如く変更した以外は、実施例９と同様にして液晶表示装置を作製し、同様に評価した。結果を第２表に示す。
【０１０７】
【表２】
2005091961.tif 000019
【０１０８】
上記第２表に示した実施例９〜１２と比較例３の結果から判るように、本発明に係る前記一般式（Ｉ）で表される化合物を含有する光学異方性層を有する光学補償シートは、液晶表示装置の視野角の拡大に大きく寄与する。これは、実施例の光学補償シートでは、光学異方性層において、液晶性化合物の傾斜角が増加しているためと考えられる。
【０１０９】
次に、本発明の化合物の合成例を示す。
［化合物Ｎｏ．（Ｉ−１０）の合成］
化合物Ｎｏ．（Ｉ−１０）は、以下に記載するスキームで合成することができる。
【０１１０】
【化１７】
2005091961.tif 000020
【０１１１】
化合物Ｎｏ．（Ｉ−１０ｂ）の合成  ：  化合物Ｎｏ．（Ｉ−１０ａ）（１．４ｇ、３．４ミリモル）、レゾルシノール（０．１８ｇ、１．６ミリモル）及び炭酸カリウム（０．９ｇ、６．４ミリモル）をジメチルアセトアミド（１０ｍＬ）に懸濁させた後、１２０℃で３時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え飽和食塩水で抽出した後、溶媒留去し、メタノールで再結晶することによって白色結晶として目的物１．１ｇを得た。これは理論収量の９０％に相当する。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．１（ｄｄ，１Ｈ），６．４−６．５（ｍ，３Ｈ），３．９（ｔ，４Ｈ），２．８（ｔ，４Ｈ），２．６（ｍ，４Ｈ），２．３−２．５（ｍ，４Ｈ），２．０（ｍ，４Ｈ）
【０１１２】
化合物Ｎｏ．（Ｉ−１０）の合成  ：  化合物Ｎｏ．（Ｉ−１０ｂ）（０．３ｇ、０．４ミリモル）を塩化メチレン（１０ｍＬ）に溶解させた後、氷冷下、クロロスルホン酸（７０μＬ、１．０ミリモル）を滴下し、０℃で１０分間攪拌した。反応液にヘキサン（１０ｍＬ）を加えた後、白色沈殿物を濾取し、ヘキサンで洗浄することによって目的物０．３６ｇを得た。これは理論収量の９８％に相当する。
1Ｈ−ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ−ｄ6）：δ８．２（ｓ，１Ｈ），６．９（ｓ，１Ｈ），４．３（ｔ，４Ｈ），２．７（ｔ，４Ｈ），２．６（ｍ，４Ｈ），２．３−２．５（ｍ，４Ｈ），２．０（ｍ，４Ｈ）
【０１１３】
［化合物Ｎｏ．（Ｉ−１７）の合成］
化合物Ｎｏ．（Ｉ−１７）は、以下に記載するスキームで合成することができる。
【０１１４】
【化１８】
2005091961.tif 000021
【０１１５】
化合物Ｎｏ．（Ｉ−１７ａ）の合成  ：２，２‘−（１，３−フェニレンジオキシ）ジエタノール（１９．８ｇ、０．１モル）及びトリエチルアミン（３３．５ｍＬ、０．２４モル）をジメチルアセトアミド（２００ｍＬ）に溶解させた後、０℃で塩化メタンスルフォニル（２５．２ｇ、０．２２モル）を滴下し、室温で１時間攪拌した。反応液を水（１０００ｍＬ）に注ぎ、得られた白色結晶を濾別することによって目的物３５．１ｇを得た。これは理論収量の９９％に相当する。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．２（ｄｄ，１Ｈ），６．５−６．６（ｍ，３Ｈ），４．５（ｍ，４Ｈ），４．２（ｍ，４Ｈ），３．２（ｓ，６Ｈ）
【０１１６】
化合物Ｎｏ．（Ｉ−１７ｂ）の合成  ：  化合物Ｎｏ．（Ｉ−１７ａ）（３．５ｇ、０．０１０モル）、２−（パーフルオロヘキシル）エタノール（８．０ｇ、０．０２２モル）及びテトラブチルアンモニウム硫酸水素塩（０．３ｇ、１ミリモル）をトルエン（２０ｍＬ）に懸濁させた後、５０％水酸化ナトリウム水溶液（１０ｍＬ）を加え、９０℃で１時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え１規定塩酸（３００ｍＬ）で抽出した後、溶媒留去し、メタノールで再結晶することによって白色粉末として目的物２．７ｇを得た。これは理論収量の３０％に相当する。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．２（ｄｄ，１Ｈ），６．５−６．６（ｍ，３Ｈ），４．１（ｔ，４Ｈ），３．７−３．９（ｍ，８Ｈ），２．３−２．６（ｍ，４Ｈ）
【０１１７】
化合物Ｎｏ．（Ｉ−１７）の合成  ：  化合物Ｎｏ．（Ｉ−１７ｂ）（１．４ｇ、１．６ミリモル）を塩化メチレン（１０ｍＬ）に溶解させた後、氷冷下、クロロスルホン酸（０．２５ｍＬ、３．８ミリモル）を滴下し、０℃で１０分間攪拌した。反応液にヘキサン（１０ｍＬ）を加えた後、白色沈殿物を濾取し、ヘキサンで洗浄することによって目的物１．４ｇを得た。これは理論収量の８２％に相当する。
1Ｈ−ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ−ｄ6）：δ８．３（ｓ，１Ｈ），７．１（ｓ，１Ｈ），４．５（ｔ，４Ｈ），３．９（ｍ，８Ｈ），２．４−２．６（ｍ，４Ｈ）
【０１１８】
［化合物Ｎｏ．（Ｉ−３８）の合成］
化合物Ｎｏ．（Ｉ−３８）は、以下に記載するスキームで合成することができる。
【０１１９】
【化１９】
2005091961.tif 000022
【０１２０】
化合物Ｎｏ．（Ｉ−３８ｂ）の合成  ：  化合物Ｎｏ．（Ｉ−３８ａ）（５．０ｇ、０．０１１モル）、２，７−ジヒドロキシナフタレン（０．８ｇ、５．０ミリモル）及び炭酸カリウム（２．２ｇ、０．０１６モル）をジメチルアセトアミド（２０ｍＬ）に懸濁させた後、１４５℃で６時間攪拌した。反応液に酢酸エチル（１００ｍＬ）を加え飽和食塩水で抽出した後、溶媒留去し、メタノールで再結晶することによって白色結晶として目的物１．７ｇを得た。これは理論収量の３８％に相当する。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）：δ７．７（ｄ，２Ｈ），７．０（ｓ，２Ｈ），６．９（ｄ，２Ｈ），４．０（ｔ，４Ｈ），２．７（ｍ，４Ｈ），２．６（ｔ，４Ｈ），２．３−２．５（ｍ，４Ｈ），１．８（ｍ，４Ｈ），１．６（ｍ，４Ｈ），１．５（ｍ，８Ｈ）
【０１２１】
化合物Ｎｏ．（Ｉ−３８）の合成  ：  化合物Ｎｏ．（Ｉ−３８ｂ）（０．９ｇ、１．０ミリモル）を塩化メチレン（１０ｍＬ）に溶解させた後、氷冷下、クロロスルホン酸（０．６７ｍＬ、０．０１０モル）を滴下し、０℃で１０分間攪拌した。反応液にヘキサン（１０ｍＬ）を加えた後、白色沈殿物を濾取し、ヘキサンで洗浄することによって目的物０．８４ｇを得た。これは理論収量の８０％に相当する。
1Ｈ−ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ−ｄ6）：δ８．４（ｓ，２Ｈ），７．３（ｓ，２Ｈ），４．２（ｔ，４Ｈ），２．７（ｔ，４Ｈ），２．６（ｍ，４Ｈ），２．３−２．５（ｍ，４Ｈ），１．９（ｍ，４Ｈ），１．６（ｍ，８Ｈ），１．５（ｍ，４Ｈ）
【図面の簡単な説明】
【０１２２】
【図１】実施例で作製した液晶表示装置の構成を示す概略模式図である。
【符号の説明】
【０１２３】
１    上側偏光板
２    上側偏光板吸収軸
３    上側光学異方性層
４    上側光学異方性層配向制御方向
５    液晶セル用上電極基板
６    上基板配向制御方向
７    液晶層
８    液晶セル下電極基板
９    下基板配向制御方向
１０  下側光学異方性層
１１  下側光学異方性層配向制御方向
１２  下側偏光板
１３  下側偏光板吸収軸
【図１】
2005091961.tif 000025