(57)【要約】【課題】半透過反射型の電気光学装置において、反射型表示及び透過型表示それぞれの色表示特性調整を容易とすることが可能なカラーフィルタ基板、半透過反射基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置及び電子機器を提供する。【解決手段】カラーフィルタ基板２０´は、基板２１と、基板２１上に設けられた樹脂層２２と、樹脂層２２上に設けられた反射部２６ｂ及び透過部２６ａを有する反射層２３と、反射層２３上に設けられた着色層２５とを具備し、樹脂層２２の少なくとも一部の透過部２６ａに対応する領域は、この透過部２６ａに対応して設けられた着色層２５と同じ色に着色されている。【選択図】          図１
2005037622.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板上に設けられた樹脂層と、
前記樹脂層上に設けられた反射層と、
前記樹脂層上の少なくとも一部に前記反射層が設けられていない透過部と、
少なくとも前記反射層上に設けられた着色層と、
を具備するカラーフィルタ基板であって、
前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部が着色されていることを特徴とするカラーフィルタ基板。
【請求項２】
前記透過部上には前記着色層が設けられ、
前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部は、前記透過部に対応して設けられている前記着色層と同じ色相に着色されていることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項３】
前記樹脂層の前記透過部に対応する領域は、前記樹脂層と前記着色層とを合わせた色が、ＸＹＺ表色系において０．１５＜ｘ＜０．２６、０．１７＜ｙ＜０．２８、２５＜Ｙ＜７０の変数で表される青色になるように着色されていることを特徴とする請求項２に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項４】
前記透過部に対応する領域には着色層が設けられておらず、
前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部は、ＸＹＺ表色系においてｘ＜０．１７、ｙ＜０．２２、５＜Ｙ＜４０の変数で表される青色に着色されていることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項５】
前記着色層はＸＹＺ表色系において０．１５＜ｘ＜０．２６、０．１７＜ｙ＜０．２８、２５＜Ｙ＜７０の変数で表される青色に着色されていることを特徴とする請求項４に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項６】
前記着色層は複数色を有し、
前記樹脂層は前記複数色のうちの少なくとも１色と同じ色に着色され、前記樹脂層は、前記複数色のうちの他の色の着色層に対応して設けられた前記透過部に対応する開口部を有することを特徴とする請求項１から請求項５いずれか一項に記載のカラーフィルタ基板。
【請求項７】
前記複数色のうちの少なくとも１色に、青色が含まれることを特徴とする請求項６記載のカラーフィルタ基板。
【請求項８】
前記着色層は複数色を有し、
前記樹脂層の少なくとも前記透過部に対応する領域は、前記透過部に対応して設けられた各着色層とそれぞれ同じ色相に着色されていることを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタ基板。
【請求項９】
樹脂層と該樹脂層上に設けられた反射層と前記樹脂層上の少なくとも一部に前記反射層が設けられていない透過部とが配置された半透過反射基板と、少なくとも前記反射層と平面的に重なる着色層が配置されたカラーフィルタ基板とを具備する電気光学装置の半透過反射基板であって、
前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部は、前記透過部に対応して設けられた前記着色層と同じ色相に着色されていることを特徴とする半透過反射基板。
【請求項１０】
基板上に着色樹脂層を形成する工程と、
前記着色樹脂層上に、反射層が設けられた反射部と前記反射層が設けられていない透過部とからなる反射層を形成する工程と、
前記反射層上に前記着色樹脂層と同色の色相を有する着色層を形成する工程と
を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項１１】
樹脂層と、該樹脂層上に設けられた反射層と、前記樹脂層上の少なくとも一部に前記反射層が設けられていない透過部と、少なくとも前記反射層と平面的に重なる着色層とを具備する電気光学装置であって、
前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部は、前記透過部に対応して設けられた着色層と同じ色相に着色されていることを特徴とする電気光学装置。
【請求項１２】
請求項１から請求項８いずれか一項に記載のカラーフィルタ基板または請求項９記載の半透過反射基板を有することを特徴とする電気光学装置。
【請求項１３】
請求項１１または請求項１２記載の電気光学装置と、
前記該電気光学装置を制御する制御手段とを有することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は例えば電気光学装置としての半透過反射型液晶装置に組み込まれるカラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置及び電子機器に構成に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電気光学装置としての半透過反射型の液晶装置は、複数の画素を有する液晶パネルと、該液晶パネルに対して光を照射する照明手段を有する。液晶パネルにおいては、例えば樹脂層上に、外光を反射するための反射部と反射膜の開口などにより形成された透過部とを有する反射層が画素毎に設けられている。この液晶装置の場合において、照明手段を点灯したときには照明光が反射層の透過部を通して透過型表示が実現され、照明手段を消灯したときには外光が反射層の反射部によって反射されて反射型表示が実現される（例えば、特許文献１参照）。このような半透過反射型の液晶表示装置においてカラー表示を実現するためには、反射層の観察側（外光入射側）に着色層を配置する。
【０００３】
【特許文献１】
特開２００３−１２１８３０号公報（第３頁、図１１）
【発明が解決しようとする課題】
着色層を備えた半透過反射型の液晶装置においては、透過型表示では各画素の透過部を透過する照明光が着色層を１回だけ通過するのに対して、反射型表示では外光が往復で計２回着色層を通過することになる。このため、透過型表示と反射型表示とで色再現性が大きく異なってしまうという問題点がある。
【０００４】
本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、半透過反射型の電気光学装置において、透過型表示及び反射型表示の色度調整を容易とし、表示特性の良いカラーフィルタ基板、半透過反射基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置及び電子機器を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明のカラーフィルタ基板は、基板と、前記基板上に設けられた樹脂層と、前記樹脂層上に設けられた反射層と、前記樹脂層上の少なくとも一部に前記反射層が設けられていない透過部と、少なくとも前記反射層上に設けられた着色層と、を具備するカラーフィルタ基板であって、前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部が着色されていることを特徴とする。
【０００６】
本発明のこのようなカラーフィルタ基板を用いた半透過反射型の電気光学装置においては、反射型表示における表示の着色は着色層を用いて行われ、透過型表示時における表示の着色は少なくとも樹脂層を用いて行なわれる。従って、透過部に対応する着色層の状態によって樹脂層の色度を自由に決定することができるので、反射型表示及び透過型表示における色度調整をほぼ別々に行うことができ、色表示特性の良いカラーフィルタ基板を得ることができる。
【０００７】
また、前記透過部上には前記着色層が設けられ、前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部は、前記透過部に対応して設けられている前記着色層と同じ色相に着色されていることを特徴とする。
【０００８】
このように、樹脂層の透過部に対応する領域を、これに対応して設けられる着色層と同じ色相にすることができる。
【０００９】
また、前記樹脂層の前記透過部に対応する領域は、前記樹脂層と前記着色層とを合わせた色が、ＸＹＺ表色系において０．１５＜ｘ＜０．２６、０．１７＜ｙ＜０．２８、２５＜Ｙ＜７０の変数で表される青色になるように着色されていることを特徴とする。
【００１０】
このような構成によれば、樹脂層と着色層とをあわせた色が、ＸＹＺ表色系において０．１５＜ｘ＜０．２６、０．１７＜ｙ＜０．２８、２５＜Ｙ＜７０の変数で表される青色に着色されることにより、電気光学装置に組み込んだ際に透過型表示時における色表示特性が優れた電気光学装置を得ることができる。透過型表示では着色層と樹脂層とにより色表示特性が決定される。従って、着色層を反射型表示に適した色度とし、透過型表示において着色層と樹脂層とを通過する光が所望の色表示特性となるように樹脂層の色度を決定すればよく、反射型表示と透過型表示それぞれにおける色表示特性をほぼ別々に調整することができる。これにより、色表示の設計範囲が広くなり、色表示特性が優れたカラーフィルタ基板を得ることができる。
【００１１】
また、前記透過部に対応する領域には着色層が設けられておらず、前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部は、ＸＹＺ表色系においてｘ＜０．１７、ｙ＜０．２２、５＜Ｙ＜４０の変数で表される青色に着色されていることを特徴とする。
【００１２】
このような構成によれば、樹脂層の透過部に対応する領域を、ＸＹＺ表色系においてｘ＜０．１７、ｙ＜０．２２、５＜Ｙ＜４０の変数で表される青色に着色することにより、電気光学装置に組み込んだ際に透過型表示における色表示特性に優れた電気光学装置を得ることができる。透過部に対応する領域に着色層を設けないことにより、反射型表示では着色層により色表示特性が決定し、透過型表示では樹脂層によって色表示特性が決定する。従って、反射型表示と透過型表示それぞれにおける色表示特性を全く別々に調整することができ、色表示の設計範囲が広くなり、所望の色表示特性のカラーフィルタ基板を得ることができる
また、前記着色層はＸＹＺ表色系において０．１５＜ｘ＜０．２６、０．１７＜ｙ＜０．２８、２５＜Ｙ＜７０の変数で表される青色に着色されていることを特徴とする。
【００１３】
このような構成によれば、着色層がＸＹＺ表色系において０．１５＜ｘ＜０．２６、０．１７＜ｙ＜０．２８、２５＜Ｙ＜７０の変数で表される青色に着色されることにより、反射型表示における色表示特性に優れたカラーフィルタ基板を得ることができる。
【００１４】
また、前記着色層は複数色を有し、前記樹脂層は前記複数色のうちの少なくとも１色と同じ色に着色され、前記樹脂層は、前記複数色のうちの他の色の着色層に対応して設けられた前記透過部に対応する開口部を有することを特徴とする。
【００１５】
このような構成によれば、樹脂層の色と異なる色に着色された着色層の透過部に対応して樹脂層に開口部を設けることにより、透過型表示においてその着色層における色表示特性は、樹脂層の色に影響されることなく、その着色層の色により決定される。例えば、着色層を赤色、緑色、青色の３色とし、樹脂層を青色とする場合、赤色及び緑色の着色層に対応する樹脂層の透過部に対応する領域に開口部を設ければよい。これにより、透過型表示において、赤色及び緑色は樹脂層の色に影響されることなく、着色層の色によりその色表示特性が決定される。この場合、樹脂層に開口を設けることにより、樹脂層を１色で形成できるので、樹脂層の製造工程を増やす必要がない。
【００１６】
また、前記複数色のうちの少なくとも１色に、青色が含まれることを特徴とする。
【００１７】
このような構成によれば、樹脂層を少なくとも青色に着色し、青色画素における透過型表示を少なくとも樹脂層を用いて行うことができ、色表示特性の良いカラーフィルタ基板を得ることができる。ここで、半透過反射型電気光学装置においては、透過型表示に用いる着色層と反射型表示に用いる着色層とを共通のものとする場合、青色の画素においては、赤色の画素及び緑色の画素と比較して、反射型表示における色度が黒っぽくなりやすく、透過型表示における色度と反射型表示における色度との差異を調整するのが非常に困難であった。従って、最も色度調整が困難な青色を、上述のような構成とすることにより、透過型表示を少なくとも樹脂層を用いて行うことができ、容易に色表示特性の調整を行うことができる。
【００１８】
また、前記着色層は複数色を有し、前記樹脂層の少なくとも前記透過部に対応する領域は、前記透過部に対応して設けられた各着色層とそれぞれ同じ色に着色されていることを特徴とする。
【００１９】
このような構成によれば、色表示の設計範囲が更に広くなり、色表示特性が優れたカラーフィルタ基板を得ることができる。すなわち、全ての色において透過型表示を少なくとも樹脂層を用いて行うので、反射型表示と透過型表示それぞれにおける色表示特性をほぼ別々に調整することができる。この際、透過部に対応する領域に着色層を設けない場合、反射型表示では着色層により色表示特性が決定し、透過型表示では樹脂層により色表示特性が決定される。また、透過部に対応する領域に着色層を設ける色場合、反射型表示では着色層により色表示特性が決定し、透過型表示では樹脂層と着色層により色表示特性が決定される。
【００２０】
本発明の半透過反射基板は、樹脂層と該樹脂層上に設けられた反射層と前記樹脂層上の少なくとも一部に前記反射層が設けられていない透過部とが配置された半透過反射基板と、少なくとも前記反射層と平面的に重なる着色層が配置されたカラーフィルタ基板とを具備する電気光学装置の半透過反射基板であって、前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部は、前記透過部に対応して設けられた前記着色層と同じ色相に着色されていることを特徴とする。
【００２１】
本発明のこのような半透過反射基板を用いた半透過反射型の電気光学装置においては、反射型表示時における表示の着色は着色層を用いて行われ、透過型表示時における表示の着色は少なくとも樹脂層を用いて行なわれる。従って、透過部に対応する領域の着色層の状態によって自由に樹脂層の色度を決定することができる。これにより、反射型表示及び透過型表示における色度調整をほぼ別々に行うことができ、色表示特性の良い電気光学装置を得ることができる。
【００２２】
本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、基板上に着色樹脂層を形成する工程と、前記着色樹脂層上に、反射層が設けられた反射部と前記反射層が設けられていない透過部とからなる反射層を形成する工程と、前記反射層上に前記着色樹脂層と同色の色相を有する着色層を形成する工程とを有することを特徴とする。
【００２３】
本発明のこのような製造方法により製造されたカラーフィルタ基板を用いた半透過反射型の電気光学装置においては、反射型表示時における表示の着色は着色層を用いて行われ、透過型表示時における表示の着色は少なくとも樹脂層を用いて行なわれる。従って、透過部に対応する領域の着色層の状態によって自由に樹脂層の色度を決定することができる。これにより、反射型表示及び透過型表示における色度調整をほぼ別々に容易に行うことができ、色表示特性の良い電気光学装置を得ることができる。
【００２４】
また、前記着色層は複数色を有し、前記着色樹脂層は前記複数色のうちの１色と同じ色に着色され、前記着色樹脂層は前記複数色のうちの他の色の着色層に対応して設けられた前記透過部に対応する開口部を有することを特徴とする。
【００２５】
このような構成によれば、従来の透明な樹脂層を形成するカラーフィルタ基板の製造工程と比較して、製造工程数を増やすことなく、カラーフィルタ基板を製造することができる。すなわち、樹脂層の色と異なる色に着色された着色層の透過部に対応して樹脂層に開口部を設けることにより、透過型表示においてその着色層における色表示特性は樹脂層の色には影響されることがない。従って、開口部を設けることにより樹脂層を１色で形成することができるので、従来と比較して製造工程数を増やす必要がない。
【００２６】
本発明の電気光学装置は、樹脂層と、該樹脂層上に設けられた反射層と、前記樹脂層上の少なくとも一部に前記反射層が設けられていない透過部と、少なくとも前記反射層と平面的に重なる着色層とを具備する電気光学装置であって、前記樹脂層の前記透過部に対応する領域の少なくとも一部は、前記透過部に対応して設けられた着色層と同じ色相に着色されていることを特徴とする。
【００２７】
本発明のこのような構成の電気光学装置によれば、反射型表示時における表示の着色は着色層を用いて行なわれ、透過型表示時における表示の着色は少なくとも樹脂層を用いて行なわれる。従って、透過部に対応する領域の着色層の状態によって自由に樹脂層の色度を決定することができるので、反射型表示及び透過型表示における色度調整をほぼ別々に容易に行うことができ、色表示特性の良い電気光学装置を得ることができる。
【００２８】
本発明の他の電気光学装置は、上述に記載のカラーフィルタ基板または上述に記載の半透過反射基板を有することを特徴とする。
【００２９】
本発明のこのような構成によれば、色表示特性の良い電気光学装置を得ることができる。
【００３０】
本発明の電子機器は、上述に記載の電気光学装置と、該電気光学装置を制御する制御手段とを有することを特徴とする。
【００３１】
電子機器としては、携帯電話、携帯型情報端末、電子腕時計などが挙げられ、カラー表示に優れた画面が得られる。
【００３２】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照して本発明に係るカラーフィルタ基板、半透過反射基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置及び電子機器の実施例について説明する。本実施例では、電気光学装置として液晶装置を構成する場合を例にとり以下に説明する。
＜カラーフィルタ基板及びその製造方法、電気光学装置＞
（実施例１）
図１は、本発明に係るカラーフィルタ基板が組み込まれた実施例１の電気光学装置としての液晶装置の概略断面図である。図２はこの電気光学装置の一部を構成する対向基板上に形成されるＴＦＤ素子、走査線及び画素電極の概略斜視図である。図３（ａ）は図１に示す液晶装置の反射層と走査線との位置関係を示す概略部分平面図である。図３（ｂ）は図３（ａ）に対応する着色層の平面形状を説明するための平面図であり、本実施例に係るカラーフィルタ基板の一部を拡大した概略部分平面図である。図４は図３（ｂ）の線Ａ−Ａ´で切断した断面図である。
【００３３】
図１に示された液晶装置１００は、半透過反射方式のアクティブマトリクス型構造を有する。液晶装置１００は、液晶パネル６０と、これに隣接して設けられたバックライト４０を有する。液晶パネル６０は、対向基板１０と、カラーフィルタ電極基板２０と、これら２枚の基板を貼りあわすシール材５３と、２枚の基板１０及び２０間に挟持された液晶層５５と、２枚の基板１０及び２０を挟み込むように設けられた一対の偏光板５１及び５２を有する。
【００３４】
バックライト４０は、光源４３と、導光板４４と、拡散板４１と、反射板４２とを有する。導光板４４は、光源４３から発せられた光を液晶パネル６０の全面に導くものであり、拡散板４１は導光板４４に導かれた光を液晶パネル６０に対して一様に拡散させるものである。反射板４２は、導光板４４から液晶パネル６０とは反対側に出射される光を液晶パネル６０側へ反射させるものである。ここで光源４３は、常に点灯しているのではなく、外光がほとんどないような環境において使用される場合に、ユーザからの指示やセンサからの検出信号に応じて点灯し、これにより透過表示が行われるようになっている。
【００３５】
図１及び図２に示すように、対向基板１０は、ガラス基板１と、該ガラス基板１上に配置されたストライプ状の走査線３と、該走査線３に電気的に接続するＴＦＤ素子５と、該ＴＦＤ素子５を介して走査線３と電気的に接続する画素電極２と、これらを覆う配向膜４とを有する。ＴＦＤ素子５は非線形な電流−電圧特性を有する二端子型スイッチング素子である。各ＴＦＤ素子５は、走査線３から分岐した部分である第１金属膜５ａと、この第１金属膜５ａの表面に陽極酸化によって形成された絶縁体である酸化膜５ｂと、この酸化膜５ｂの上面に例えばクロムなどによって形成された第２金属膜５ｃとからなる。ＴＦＤ素子５の第２金属膜５ｃが画素電極２に接続された構成となっている。配向膜４は、ポリイミドなどの有機薄膜であり、ラビング処理が施されている。
【００３６】
一方、図１に示すように、カラーフィルタ電極基板２０は、図４に示すカラーフィルタ基板２０´の着色層２５上にオーバーコート層２７、対向電極２８、配向膜２９が順次積層されて構成される。対向電極２８は走査線３と直交するストライプ状に配置され、画素電極２と対向するように配置される。配向膜２９は、ポリイミドなどの有機薄膜であり、ラビング処理が施されている。
【００３７】
本実施例における液晶装置１００では、対向電極２８と画素電極２とその交差部に対応する液晶層５５により画素が構成され、各画素の液晶層５５を光学変化させることにより表示が行われる。また、液晶装置１００では、外光の光量が十分であるときは反射型表示が行われ、外光の光量が不十分であるときは光源からの光を用いる透過型表示が行われる。
【００３８】
次に、上述のカラーフィルタ基板２０´の構造について詳細に説明する。カラーフィルタ基板２０´では、赤、青、緑の３色の着色層が設けられている。図１及び図４に示すように、カラーフィルタ基板２０´では、ガラス基板２１上に、３色の着色層のうちの１色である青色と同じ色相に着色された青色樹脂層２２が配置され、該樹脂層２２上には開口２３ａを有する反射層２３が配置される。この青色樹脂層は後述する青色着色層２５Ｂと同じ色相に着色されている。更に、反射層２３上には、各画素を区画するように格子状の遮光層２４が設けられ、遮光層２４により区画された領域を埋めるように対向電極２８と直交したストライプ状に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色層２５が配置されている。液晶装置１００を基板に対して垂直の方向から観察したときに、着色層２５は反射層２３に平面的に重なるように配置される。
【００３９】
図３（ａ）に示すように、反射層２３（図面、右上がり斜線で埋めた領域）には、各画素１００Ｐ（一点鎖線で囲まれた領域）毎に１つづつ透過部２６ｂとなる開口２３ａが配置される。画素１００Ｐは、反射層２３が設けられている反射部２６ｂと、反射層２３が設けられていない開口２３ａに対応する透過部２６ａとを有する。尚、画素１００Ｐは、実際に表示に寄与する領域である。
【００４０】
図１、図３（ｂ）及び図４に示すように、樹脂層２２の赤色着色層２５Ｒに対応した反射層２３の透過部２６ａに対応する領域、及び緑色着色層２５Ｇに対応した反射層２３の透過部２６ａに対応する領域には、第１開口部２２ａが設けられている。この第１開口部２２ａには樹脂層２２は存在せず、赤色着色層２５Ｒまたは緑色着色層２５Ｇが設けられている。一方、樹脂層２２の青色着色層２５Ｂに対応した反射層２３の透過部２６ａに対応する領域は、樹脂層２２が存在している状態となっている。更に、各着色層２５Ｒ，２５Ｇ、２５Ｂは、各画素１００Ｐの反射部２６ｂに対応する領域の一部に着色層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂが配置されていない、すなわち反射層２３が着色層２５により覆われていない無着色領域層２５Ｒａ、２５Ｇａ、２５Ｂａを有している。着色層２５の無着色領域層２５ａとなる開口部分には、透明なオーバーコート層２７が存在する状態となっている。本実施例においては、無着色領域層２５ａは、矩形状の画素１００Ｐを横切るほぼ矩形状の平面形状を有しているが、これに限定されるものではない。本実施例において、無着色領域層２５ａを設けているのは、反射型表示時における明るさ不足を補うためである。更に、ここでは、無着色領域層２５ａの平面面積を、２５Ｇａ、２５Ｒａ、２５Ｂａの順に小さくなるようにしている。これは、各色によって最適な色度が異なるためである。
【００４１】
図１に示すように、液晶装置１００では、反射型表示が行われる場合、液晶装置１００に向かって入ってきた自然光や室内照明などの一部の外光１５５は、対向基板１０、液晶層５５、着色層２５を通って、反射層２３の反射部２６ｂにて反射し、この反射光１５６が再び着色層２５、液晶層５５、対向基板１０を通って外部に出射される。すなわち表示に用いられる光は２回着色層を通過することとなる。また、反射型表示が行われる場合、液晶装置１００に向かって入ってきた自然光や室内照明などの他の外光は、対向基板１０、液晶層５５、無着色領域層２５ａを通って、反射層２３の反射部２６ｂにて反射し、この反射光が再び無着色層２５、液晶層５５、対向基板１０を通って外部に出射される。
【００４２】
一方、透過型表示が行われる場合、バックライト４０から出射された光１５４が液晶パネル６０を通って外部に出射され、表示に用いられる光は１回着色層を通過することとなる。
【００４３】
ここで、赤色着色層２５Ｒに対応する画素１００Ｐ及び緑色着色層２５Ｇに対応する画素１００Ｐにおいては、前述のように樹脂層２２の透過部２６ａに対応する領域は、樹脂層２２が存在しない第１開口部２２ａとなっている。従って、透過型表示においては、赤色の画素１００Ｐ及び緑色の画素１００Ｐでは、それぞれ着色層２５Ｒ、着色層２５Ｇにより表示色が決定される。これに対し、青色着色層２５Ｂに対応する画素１００Ｐにおいては、前述のように樹脂層２２の透過部２６ａに対応する領域には、青色に着色された樹脂層２２が存在している。従って、青色の画素１００Ｐでは、透過型表示における表示色は、青色樹脂層２２と着色層２５Ｂとによって決定され、反射型表示における表示色は、着色層２５Ｂによって決定される。
【００４４】
この青色の画素のように、透過型表示における色の表示を樹脂層２２と着色層２５を用いて行い、反射型表示における色の表示を着色層２５のみを用いて行うことにより、透過型表示及び反射型表示の色度の調整が容易となり、いずれの表示においても所望の色度を得ることができ、表示特性の良い液晶装置が得られる。すなわち、着色層２５の着色の色度を、反射型表示に適した、言い換えると２回着色層を通過した光が所望の色表示特性となるように先に決定する。その後、この着色層２５と樹脂層２２とを通過した光が透過型表示で所望の色表示特性となるように、樹脂層２２の着色の色度を決定する。これにより、透過型表示と反射型表示との色表示特性の調整をほぼ別々に行うことができ、調整が容易である。本実施例においては、青色着色層２５Ｂの色度は、青色樹脂層２２の色度よりも低くなっており、青色着色層２５Ｂと青色樹脂層２２とを合わせた色が、ＸＹＺ表色系において０．１５＜ｘ＜０．２６、０．１７＜ｙ＜０．２８、２５＜Ｙ＜７０の変数で表される青色になるように着色されている。色はＸＹＺ表色系において、（ｘ，ｙ，Ｙ）の３つの変数で次式にように表すことができる。
（式１）
ｘ＝Ｘ／（Ｘ＋Ｙ＋Ｚ）、ｙ＝Ｙ／（Ｘ＋Ｙ＋Ｚ）
このとき、上記ｘ，ｙは、色相と彩度を表す変数であり、Ｘ、Ｙ、Ｚは色刺激値である。
【００４５】
ここで、従来、半透過反射型液晶装置では、透過型表示に用いる着色層と反射型表示に用いる着色層とを共通のものとする場合、青色の画素においては、赤色の画素及び緑色の画素と比較して、反射型表示における色度が黒っぽくなりやすく、透過型表示における色度と反射型表示における色度との差異を調整するのが非常に困難であった。そこで、本実施例においては、色度調整が困難な青色の画素でのみ、透過型表示における色の表示を樹脂層２２と着色層２５を用いて行い、反射型表示における色の表示を着色層２５のみを用いて行う構造とした。
【００４６】
また、本実施例においては、樹脂層２２を基板全面において青色に着色したが、青色着色層２５Ｂの透過部に対応する領域のみを青色に着色すればよい。この場合、例えば、樹脂層の青色着色層の透過部に対応する領域のみを青色とし、他の領域に対応する樹脂層を透明にすることによって、緑色及び赤色の着色層の透過部に対応する領域の樹脂層に開口を設ける必要がない。このように、樹脂層の透過部に対応する領域全てを着色しなくとも良い。
【００４７】
次に上述のカラーフィルタ基板２０´の製造方法について図５を用いて説明する。
【００４８】
図５は、図４に示す部分断面図であるカラーフィルタ基板２０´に対応したカラーフィルタ基板２０´の製造工程図である。
【００４９】
まず、ガラス基板２１上に青色に着色された樹脂散乱膜材料をスピンコート法により例えば厚み１．５μｍに成膜し，樹脂散乱膜２２´を形成する（樹脂散乱膜形成工程）。樹脂散乱膜材料は、アクリル樹脂に青色顔料を分散させたネガレジストである。その後、フォトリソグラフィ技術を用い樹脂散乱膜２２´の表面に凹凸を形成するとともに、第１開口部２２ａを形成して、樹脂層２２を形成する（樹脂散乱膜の開口部形成工程）。第１開口部２２ａは、後工程で形成する赤色着色層及び緑色着色層に対応する透過部に対応している。
【００５０】
次に、樹脂層２２上にスパッタリングなどによってアルミニウムからなる反射膜２３´を形成する（反射膜形成工程）。その後、反射膜２３´をフォトリソグラフィ技術、エッチング技術を用いて部分的に除去し、透過部となる開口２３ａを有する反射層２３を形成する（反射膜の開口部形成工程）。
【００５１】
次に、樹脂層２２及び反射層２３を含むガラス基板２１上全面にスピンコート法により黒色樹脂膜を形成し、これをフォトリソグラフィ技術を用いて部分的に除去して、１．０μｍ遮光層２４を形成する（遮光層形成工程）。黒色樹脂膜は、アクリル樹脂に黒色顔料を分散させたネガレジストである。
【００５２】
次に、樹脂層２２、反射層２３及び遮光層２４を含むガラス基板２１上全面にスピンコート法により赤色樹脂膜を形成し、これをフォトリソグラフィ技術を用いて部分的に除去して、無着色領域層２５ａＲを有する１．０μｍの赤色着色層２５Ｒを形成する。同様に緑色着色層２５Ｇ、青色着色層２５Ｂも形成する（着色層形成工程）。緑色着色層２５Ｇ、青色着色層２５Ｂにはいずれも無着色領域層２５ａとなる開口が設けられている。ここで、赤色樹脂膜、緑色樹脂膜、青色樹脂膜は、いずれもアクリル樹脂に、赤色顔料または緑色顔料または青色顔料を分散させたネガレジストである。以上の工程により、カラーフィルタ基板２０´が製造される。
【００５３】
ここで、従来のカラーフィルタ基板の樹脂層は透明で、赤、緑、青の全ての着色層に対応する樹脂層の透過部に対応した領域に開口が設けられていた。これに対し、本実施例においては、樹脂層２２を青色の単色で形成し、樹脂層２２の赤色及び緑色の画素の透過部２６ａに対応する領域に第１開口部２２ａを設ける構造としているので、従来のカラーフィルタ基板の製造工程と比較して工程数を増やすことなく、本実施例のカラーフィルタ基板を形成することができる。
【００５４】
（実施例２）
以下、実施例２について説明するが、実施例１と比較してカラーフィルタ基板の構造のみが異なり、他の構造については実施例１と同様であるので、実施例１と同様の構造については説明を省略する。
【００５５】
図６は、本発明に係るカラーフィルタ基板が組み込まれた実施例２の電気光学装置としての液晶装置の概略断面図である。図７は着色層の平面形状を示すものであり、本実施例に係るカラーフィルタ基板の一部を拡大した概略部分平面図である。図８は図７（ｂ）の線Ｂ−Ｂ´で切断した断面図である。
【００５６】
図６に示された液晶装置２００は、半透過反射方式のアクティブマトリクス型構造を有する。液晶装置２００は、液晶パネル２６０と、これに隣接して設けられたバックライト４０を有する。液晶パネル２６０は、対向基板１０と、カラーフィルタ電極基板２２０と、これら２枚の基板を貼りあわすシール材５３と、２枚の基板１０及び２２０間に挟持された液晶層５５と、２枚の基板１０及び２２０を挟み込むように設けられた一対の偏光板５１及び５２を有する。カラーフィルタ電極基板２２０は、図８に示すカラーフィルタ基板２２０´の着色層２２５上にオーバーコート層２７、対向電極２８、配向膜２９が順次積層されて構成される。
【００５７】
図６及び図８に示すように、カラーフィルタ基板２２０´は、ガラス基板２２１上に青色に着色された青色樹脂層２２２が配置され、樹脂層２２２上には透過部となる開口２２３ａを有する反射層２２３が配置される。更に、反射層２２３上には、各画素を区画するように格子状の遮光層２２４が設けられ、遮光層２２４により区画された領域を埋めるようにストライプ状に、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色層２２５が配置されている。液晶装置２００を基板に対して垂直の方向から観察したときに、着色層２２５は反射層２２３に平面的に重なるように配置される。
【００５８】
図７に示すように、本実施例においても、実施例１の図３（ａ）に示す反射層２３と同様に、反射層２２３は、各画素２００Ｐ毎に１つづつ透過部２２６ｂとなる開口２２３ａを有する。画素２００Ｐは、反射層２２３が存在する反射部２２６ｂと、反射層２２３が存在しない開口２２３ａに相当する透過部２２６ａを有する。図６及び図８に示すように、樹脂層２２２のうち、赤色着色層２２５Ｒに対応した透過部２２６ａに対応する領域、及び緑色着色層２２５Ｇに対応した透過部２２６ａに対応する領域には、第１開口部２２２ａが設けられている。この第１開口部２２２ａには樹脂層２２２は存在せず、赤色着色層２２５Ｒまたは緑色着色層２２５Ｇが設けられている。一方、樹脂層２２２のうち、青色着色層２２５Ｂに対応した反射層２２３の透過部２２６ａに対応する領域は、樹脂層２２２が存在している状態となっている。更に、各着色層２２５Ｒ，２２５Ｇ、２２５Ｂは、各画素２００Ｐの反射部２２６ｂに対応する領域に着色層２２５Ｒ，２２５Ｇ，２２５Ｂが配置されていない、すなわち反射層２２３が着色層２２５により覆われていない無着色領域層２２５Ｒａ、２２５Ｇａ、２２５Ｂａを有している。更に、着色層２２５Ｂは、各画素２００Ｐの透過部２２６ａに対応する領域に着色層２２５Ｂが配置されない第２開口部２２５Ｂｂを有している。
【００５９】
図６に示すように、液晶装置２００では、反射型表示が行われる場合、液晶装置２００に向かって入ってきた自然光や室内照明などの外光２５５は、対向基板１０、液晶層５５、着色層２２５を通って、反射層２２３の反射部２２６ｂにて反射し、この反射光２５６が再び着色層２２５、液晶層５５、対向基板１０を通って外部に出射される。すなわち表示に用いられる光は２回着色層を通過することとなる。また、反射型表示が行われる場合、液晶装置２００に向かって入ってきた自然光や室内照明などの外光は、対向基板１０、液晶層５５、無着色領域層２２５ａを通って、反射層２２３の反射部２２６ｂにて反射し、この反射光が再び無着色領域層２２５、液晶層５５、対向基板１０を通って外部に出射される。
【００６０】
一方、透過型表示が行われる場合、バックライト４０から出射された光２５４が液晶パネル２６０を通って外部に出射され、表示に用いられる光は１回着色層を通過することとなる。
【００６１】
ここで、赤色着色層２２５Ｒに対応する画素２００Ｐ及び緑色着色層２２５Ｇに対応する画素２００Ｐにおいては、前述のように樹脂層２２２の透過部２２６ａに対応する領域は、樹脂層２２２が存在しない第１開口部２２２ａとなっている。従って、透過型表示においては、赤色の画素２００Ｐ及び緑色の画素２００Ｐでは、それぞれ着色層２２５Ｒ、着色層２２５Ｇにより表示色が決定される。これに対し、青色の画素２００Ｐでは、透過型表示における表示色は、青色樹脂層２２２Ｂのみによって決定され、反射型表示における表示色は、着色層２２５Ｂのみによって決定される。
【００６２】
この青色の画素のように、透過型表示における色の表示を樹脂層２２２を用いて行い、反射型表示における色の表示を着色層２２５のみを用いて行うことにより、透過型表示及び反射型表示の色度の調整が更に容易となり、いずれの表示においても所望の色度を得ることができ、表示特性の良い液晶装置が得られる。すなわち、着色層２２５の着色の色度を、反射型表示に適した色表示特性となるように調整し、散乱樹脂層２２２の着色の色度を、透過型表示に適した、言い換えると２回着色層を通過した光が所望の色表示特性なるように調整すればよい。これにより、透過型表示と反射型表示との色表示特性の調整を別々に行うことができ、調整が容易である。本実施例においては、青色着色層２２５Ｂの色度は、青色樹脂層２２２の色度よりも低い。例えば樹脂層２２２Ｂは、ＸＹＺ表色系においてｘ＜０．１７、ｙ＜０．２２、５＜Ｙ＜４０の変数で表される青色に着色され、着色層２２５ＢはＸＹＺ表色系において０．１５＜ｘ＜０．２６、０．１７＜ｙ＜０．２８、２５＜Ｙ＜７０の変数で表される青色に着色されている。
【００６３】
次に上述のカラーフィルタ基板２２０´の製造方法について図９を用いて説明する。
【００６４】
図９は、図８に示す部分断面図であるカラーフィルタ基板２２０´に対応したカラーフィルタ基板２２０´の製造工程図である。本実施例のカラーフィルタ基板の製造方法は、実施例１のカラーフィルタ基板の製造方法と比較して、青色着色層２２５Ｂ形成時のパターニング形状及び樹脂層の色度が異なり、実施例１と同様の箇所は説明を簡略化する。
【００６５】
まず、ガラス基板２２１上に樹脂散乱膜２２２´を形成する（樹脂散乱膜形成工程）。その後、フォトリソグラフィ技術を用い樹脂散乱膜２２２´の表面に凹凸を形成するとともに、第１開口部２２２ａを形成して、樹脂層２２２を形成する（樹脂散乱膜の開口部形成工程）。
【００６６】
次に、樹脂層２２２上にアルミニウムからなる反射膜２２３´を形成する（反射膜形成工程）。その後、反射膜２２３´を部分的に除去し、透過部となる開口２２３ａを有する反射層２２３を形成する（反射膜の開口部形成工程）。
【００６７】
次に、遮光層２２４を形成する（遮光層形成工程）。次に、赤色着色層２２５Ｒ、緑色着色層２２５Ｇ、青色着色層２２５Ｂを形成する（着色層形成工程）。赤色着色層２２５Ｒ及び緑色着色層２２５Ｇには、それぞれ無着色領域層２２５ａとなる開口が設けられている。青色着色層２２５Ｂには、無着色領域層２２５Ｂａ及び透過部２２６ａに対応した第２開口部２２５Ｂｂが設けられている。以上の工程により、カラーフィルタ基板２２０´が製造される。
【００６８】
（実施例３）
以下、実施例３について説明するが、実施例１と比較してカラーフィルタ基板の構造のみが異なり、他の構造については実施例１と同様であるので、実施例１と同様の構造については説明を省略する。
【００６９】
上述の実施例においては、樹脂層は青色の単色で形成していたが、２色以上で着色してもよい。以下に３色に着色された樹脂層を有するカラーフィルタ基板について説明する。
【００７０】
図１０は、本発明に係るカラーフィルタ基板が組み込まれた実施例３の電気光学装置としての液晶装置の概略断面図である。図１１はカラーフィルタ基板の部分断面図である。
【００７１】
図１０に示された液晶装置３００は、半透過反射方式のアクティブマトリクス型構造を有する。液晶装置３００は、液晶パネル３６０と、これに隣接して設けられたバックライト４０を有する。液晶パネル３６０は、対向基板１０と、カラーフィルタ電極基板３２０と、これら２枚の基板を貼りあわすシール材５３と、２枚の基板１０及び２０間に挟持された液晶層５５と、２枚の基板１０及び２０は挟み込むように設けられた一対の偏光板５１及び５２を有する。カラーフィルタ電極基板２２０は、図８に示すカラーフィルタ基板３２０´の着色層３２５上にオーバーコート層２７、対向電極２８、配向膜２９が順次積層されて構成される。
【００７２】
図１０及び図１１に示すように、カラーフィルタ基板３２０´は、ガラス基板３２１上にストライプ状に赤色、緑色、青色に着色された樹脂層３２２が配置され、樹脂層３２２上には透過部３２６ａとなる開口３２３ａを有する反射層３２３が配置される。更に、反射層３２３上には、各画素を区画するように格子状の遮光層３２４が設けられ、遮光層３２４により区画された領域を埋めるようにＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色層３２５が配置されている。液晶装置３００を基板に対して垂直の方向から観察したときに、着色層３２５は反射層３２３に平面的に重なるように配置される。
【００７３】
赤色樹脂層３２２Ｒは赤色着色層３２５Ｒに対応してストライプ状に配置され、緑色樹脂層３２２Ｇは緑色着色層３２５Ｒに対応してストライプ状に配置され、青色樹脂層３２２Ｂは青色着色層３２５Ｂに対応してストライプ状に配置される。すなわち、赤色着色層３２５Ｒに対応する樹脂層３２２の少なくとも透過部３２６ａに対応する領域が赤色に着色され、緑色着色層３２５Ｇに対応する樹脂層３２２の少なくとも透過部３２６ａに対応する領域が緑色に着色され、青色着色層３２５Ｂに対応する樹脂層３２２の少なくとも透過部３２６ａに対応する領域が青色に着色されている。
【００７４】
液晶装置３００では、いずれの色の画素においても、反射型表示が行われる場合、液晶装置３００に向かって入ってきた自然光や室内照明などの一部の外光３５５は、対向基板１０、液晶層５５、着色層３２５を通って、反射層３２３の反射部３２６ｂにて反射し、この反射光３５６が再び着色層３２５、液晶層５５、対向基板１０を通って外部に出射される。すなわち表示に用いられる光は２回着色層を通過することとなる。また、反射型表示が行われる場合、液晶装置３００に向かって入ってきた自然光や室内照明などの他の外光は、対向基板１０、液晶層５５、各画素毎に設けられた無着色領域層（図示せず）を通って、反射層３２３の反射部３２６ｂにて反射し、この反射光が再び無着色領域層、液晶層５５、対向基板１０を通って外部に出射される。
【００７５】
一方、透過型表示が行われる場合、バックライト４０から出射された光３５４が反射層３２３の透過部３２６ａを通って外部に出射され、表示に用いられる光は１回着色層を通過することとなる。
【００７６】
従って、本実施例においては、実施例１のように青色の画素だけでなく、赤色の画素及び緑色の画素においても、反射型表示における表示色は樹脂層３２２によって決定され、透過型表示における表示色は、樹脂層３２２と着色層３２５によって決定される。このように、少なくとも表示に関与する表示領域における全ての画素において、透過型表示における色の表示を樹脂層２２２と着色層３２５を用いて行い、反射型表示における色の表示を着色層３２５のみを用いて行うことにより、透過型表示及び反射型表示それぞれの色度の調整が容易となり、いずれの色表示においても所望の色度を得ることができ、赤、緑、緑色の色バランスの良い表示特性に優れた液晶装置が得られる。すなわち、着色層３２５の着色の色度を、反射型表示に適した、具体的には２回着色層を通過した光が所望の色となるように先に決定する。その後、この着色層３２５と樹脂層３２２とを通過した光が透過型表示で所望の色度となるように、樹脂層３２２の着色の色度を決定する。これにより、透過型表示と反射型表示との色表示特性の整をほぼ別々に行うことができ、色表示特性の調整が容易である。
【００７７】
本実施例においては、青色着色層３２５Ｂの色度は、青色樹脂層３２２Ｂの色度よりも低くなっており、青色着色層３２５Ｂと青色樹脂層３２２Ｂとを合わせた色が、ＸＹＺ表色系において０．１５＜ｘ＜０．２６、０．１７＜ｙ＜０．２８、２５＜Ｙ＜７０の変数で表される青色になるように着色されている。赤色着色層３２５Ｒと赤色樹脂層３２２Ｂとを合わせた色が、ＸＹＺ表色系において０．３５＜ｘ＜０．５０、ｙの値は任意の値、３０＜Ｙ＜７０の変数で表される赤色になるように着色されている。緑色着色層３２５Ｇと緑色樹脂層３２２Ｇとを合わせた色が、ＸＹＺ表色系においてｘは任意の値、０．３０＜ｙ＜０．４５、７０＜Ｙ＜７５７０の変数で表される緑色になるように着色されている。
【００７８】
尚、本実施例においては、透過部に対応する領域の着色層は存在しているが、実施例２の青色着色層のように、透過部に対応する領域の着色層に第２開口部を設けてもよい。この場合、透過型表示は樹脂層、反射型表示は着色層によって、それぞれ色表示特性が決定される。この際、青色着色層は、ＸＹＺ表色系において０．１５＜ｘ＜０．２６、０．１７＜ｙ＜０．２８、２５＜Ｙ＜７０の変数で表される青色に着色され、樹脂層はＸＹＺ表色系においてｘ＜０．１７、ｙ＜０．２２、５＜Ｙ＜４０の変数で表される青色に着色される。赤色着色層は、ＸＹＺ表色系において０．３５＜ｘ＜０．５０、ｙの値は任意の値、３０＜Ｙ＜７０の変数で表される赤色に着色され、樹脂層はＸＹＺ表色系においてｘ＞０．４５、ｙの値は任意の値、１５＜Ｙ＜６０の変数で表される赤色に着色される。緑色着色層は、ＸＹＺ表色系においてｘは任意の値、０．３０＜ｙ＜０．４５、７０＜Ｙ＜９５の変数で表される緑色に着色され、樹脂層はＸＹＺ表色系においてｘは任意の値、ｙ＞０．４、３０＜Ｙ＜９０の変数で表される緑色に着色される。
【００７９】
次に上述のカラーフィルタ基板３２０´の製造方法について図１２を用いて説明する。
【００８０】
図１２は、図１１に示す部分断面図であるカラーフィルタ基板３２０´に対応したカラーフィルタ基板３２０´の製造工程図である。本実施例のカラーフィルタ基板の製造方法は、実施例１のカラーフィルタ基板の製造方法と比較して、３色の樹脂層を形成する点、樹脂層に第１開口部を設けない点、樹脂層及び着色層の色度の点で異なり、実施例１と同様の箇所は説明を簡略化する。
【００８１】
まず、ガラス基板３２１上に赤色樹脂散乱膜材料をスピンコート法により成膜し，赤色樹脂散乱膜を形成する。その後、フォトリソグラフィ技術を用い赤色樹脂散乱膜の表面に凹凸を形成するとともにパターニングをして赤色樹脂層３２２Ｒを形成する。同様に、緑色樹脂層３２２Ｇ及び青色樹脂層３２２Ｂも順次形成する（樹脂層形成工程）。各色の樹脂散乱膜材料は、アクリル樹脂に各色顔料を分散させたネガレジストである。
【００８２】
次に、樹脂層３２２上にアルミニウムからなる反射膜３２３´を形成する（反射膜形成工程）。その後、反射膜３２３´を部分的に除去し、透過部となる開口３２３ａを有する反射層３２３を形成する（反射膜の開口部形成工程）。
【００８３】
次に、遮光層３２４を形成する（遮光層形成工程）。次に、赤色着色層３２５Ｒ、緑色着色層３２５Ｇ、青色着色層３２５Ｂを形成する（着色層形成工程）。以上の工程により、カラーフィルタ基板３２０´が製造される。
【００８４】
＜半透過反射基板及びそれを用いた電気光学装置＞
上述の第１〜実施例３においては、ＴＦＤ素子を用いた液晶装置を例にあげて説明したが、ＴＦＤ素子以外の２端子素子を用いた液晶装置や単純マトリクス型の液晶装置やＴＦＴ素子を用いた液晶装置に適用することが可能である。以下に、実施例４としてＴＦＴ素子を用いた液晶装置について説明する。
【００８５】
（実施例４）
図１３は、本実施例に係る電気光学装置としての液晶装置の一部を構成する半透過反射基板の拡大概略平面図であり、各種素子の位置関係を示すものである。図１４は、本実施例に係る液晶装置の概略断面図であり、図１３の線Ｄ−Ｄ´に沿った断面図を含む図である。図１５は図１３の線Ｃ−Ｃ´の切断面に相当する。
【００８６】
上述の第１〜実施例３においては、着色層と、樹脂層及び反射層とが同一の基板上に形成されているが、本実施例においては、着色層と、樹脂層及び反射層とが異なる基板上に配置されている点で大きく異なる。以下、実施例１と同様の構成には同一の符号を付し，説明を省略する。
【００８７】
図１４に示された液晶装置４００は、半透過反射方式のＴＦＴ素子を用いたアクティブマトリクス型構造を有する。液晶装置４００は、液晶パネル４６０と、これに隣接して設けられたバックライト４０を有する。液晶パネル４６０は、半透過反射基板４１０と、カラーフィルタ電極基板４２０と、これら２枚の基板を貼りあわすシール材５３と、２枚の基板４１０及び４２０間に挟持された液晶層４５５と、２枚の基板４１０及び４２０は挟み込むように設けられた一対の偏光板４５１及び４５２を有する。
【００８８】
図１３及び図１４に示すように、液晶装置４００では、画素電極４１６を制御するためのＴＦＴ４３０がマトリクス状に複数形成されており、画像信号が供給されるデータ線４１３がＴＦＴ４３０のソースに電気的に接続されている。また、ＴＦＴ４３０のゲートに走査線４３１が電気的に接続されており、所定のタイミングで、走査線４３１にパルス的に走査信号を印加するように構成されている。画素電極４１６は、ＴＦＴ４３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ４３０を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線４１３から供給される画像信号を所定のタイミングで書き込む。画素電極４１６を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号は、対向電極４２８との間で一定期間保持される。ここで、保持された画像信号がリークするのを防ぐために、画素電極４１６と対向電極４２８との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量４３５を付加する。
【００８９】
図１３において、半透過反射基板４１０上には、マトリクス状の画素電極４１６（その輪郭４１６ａが図中点線で示されている）が設けられており、画素電極４１６の縦横の境界に各々沿ってデータ線４１３、走査線４３１及び容量線４３２が設けられている。データ線４１３は、コンタクトホール４３６を介してポリシリコン膜などからなる半導体層４３４ａのうちソース領域に電気的に接続されている。画素電極４１６は、コンタクトホール４３７を介して半導体層４３４ａのうちドレイン領域に電気的接続されている。容量線４３２は、絶縁膜を介して半導体層４３４ａのうちのドレイン領域から延設された第１蓄積容量用電極に対向配置しており、蓄積容量４３５を構成する。また、半導体層４３４ａのうち図中右上がり斜線で示したチャネル領域４３４ａ´に対向するように走査線４３１が配置されており、走査線４３１はゲート電極として機能する。このように、走査線４３１とデータ線４１３との交差する箇所には夫々、チャネル領域４３４ａ´に走査線４３１がゲート電極として対向配置されたＴＦＴ４３０が設けられている。
【００９０】
図１４に示すように、カラーフィルタ基板４２０は、ガラス基板４２１上に、格子状の遮光層４２３、遮光層４２３により区画された領域を埋める赤色着色層４２５Ｒ，緑色着色層４２１５Ｇ及び青色着色層４２５Ｂ、オーバーコート層４２７、対向電極４２８、配向膜４２９が順次積層されて構成される。対向電極４２８はほぼ基板全面にベタ膜で形成されている。配向膜４２９は、ポリイミドなどの有機薄膜であり、ラビング処理が施されている。液晶装置４００を基板に対して垂直の方向から観察したときに、着色層４２５は反射層４１５に平面的に重なるように配置される。
【００９１】
図１３〜図１５に示すように、半透過反射基板４１０では、ガラス基板４０１上にＴＦＴ４３０のための下地層としての第１絶縁膜４１１が配置され、第１絶縁膜４１１上には半導体層４３１が配置されている。半導体層４３１上には第２絶縁膜４３３が配置され、第２絶縁膜４３３及び第１絶縁膜４１１上には走査線４３１及び容量線４３２が配置されている。更に、走査線４３１及び容量線４３２上には第３絶縁膜４１２が配置され、第３絶縁膜上にはＡｌなどからなるデータ線４１３が配置されている。データ線４１３は、第２絶縁膜４３３及び第３絶縁膜４１２に設けられコンタクトホール４３６を介して半導体層４３４のソース領域に接続されている。
【００９２】
データ線４１３上には第４絶縁膜４１４が配置され、第４絶縁膜４１４上には青色に着色された樹脂層４２２、Ａｌからなる反射層４１５が順次配置されている。反射層４１５及び樹脂層４２２は画素毎にそれぞれ島状に形成され、各画素において反射層４１５が形成されない領域が光透過領域となって透過部４２６ｂとして機能し、反射層４１５が形成されている領域が反射部４２６ａとして機能する。本実施例においては、赤色着色層４２５Ｒ及び緑色着色層４２５Ｇに対応する画素においては、樹脂層４２２と反射層４１５とは同じ平面形状で面一に形成されている。一方、青色着色層４２５Ｂに対応する画素においては、樹脂層４２２は画素電極４１６と同じ平面形状で形成され、反射層４１５は樹脂層４２２よりも小さい平面形状を有している。
【００９３】
反射層４１５上には第５絶縁膜４１９が配置され、第５絶縁膜４１９上にはＩＴＯからなる画素電極４１６が配置されている。画素電極４１６は、第２絶縁膜４３３、第３絶縁膜４１２、第４絶縁膜４１４及び第５絶縁膜４１９に形成されたコンタクトホール４３７を介して半導体層４３４のドレイン領域と電気的に接続されている。画素電極４１６はその平面形状が反射層４１５よりも大きくなるよう形成され、その一部が容量線４３２と平面的に重なるように形成される。画素電極４１６上には、第６絶縁膜４１７、配向膜４１８が順次配置されている。
【００９４】
本実施例における液晶装置４００では、画素電極４１６と対向電極４２８との交差部に対応する液晶層４５５に電界を順次印加し、各画素の液晶層４５５を光学変化させることにより表示が行われる。
【００９５】
図１３及び図１４に示すように、反射層４１５は各画素４００Ｐ毎に島状に配置される。言い換えると、各画素４００Ｐ毎に額縁状の透過部４２６ａとなる開口４１５ａが位置するように反射層４１５が配置される。すなわち、画素４００Ｐは、反射層４１５が存在する反射部４２６ｂと、反射層４１５が存在しない透過部４２６ａを有する。樹脂層４２２のうち赤色着色層４２５Ｒに対応した透過部４２６ａに対応する領域、及び緑色着色層４２５Ｇに対応した透過部４２６ａに対応する領域には、樹脂層４２２が存在しない第１開口部４２２ａが設けられている。一方、樹脂層４２２の青色着色層４２５Ｂに対応した反射層４１５の透過部４２６ａに対応する領域は、樹脂層４２２が存在している状態となっている。
【００９６】
図１４に示すように、液晶装置４００では、反射型表示が行われる場合、液晶装置４００に向かって入ってきた自然光や室内照明などの外光４５５は、カラーフィルタ基板４２０、液晶層４５５を通って、反射層４１５の反射部４２６ｂにて反射し、この反射光４５６が再び液晶層４５５、カラーフィルタ基板４１０を通って外部に出射される。すなわち表示に用いられる光は２回着色層を通過することとなる。一方、透過型表示が行われる場合、バックライト４０から出射された光４５４が液晶パネル４６０を通って外部に出射され、表示に用いられる光は１回着色層を通過することとなる。
【００９７】
ここで、赤色着色層４２５Ｒに対応する画素４００Ｐ及び緑色着色層４２５Ｇに対応する画素４００Ｐにおいては、前述のように樹脂層４２２の透過部４２６ａに対応する領域は、樹脂層４２２が存在していない。従って、透過型表示及び反射型表示において、赤色の画素４００Ｐ及び緑色の画素４００Ｐでは、それぞれ着色層４２５Ｒ、着色層４２５Ｇにより表示色が決定される。これに対し、青色の画素４００Ｐでは、透過型表示における表示色は、青色樹脂層４２２と着色層４２５Ｂとによって決定され、反射型表示における表示色は、着色層４２５Ｂによって決定される。
【００９８】
この青色の画素のように、透過型表示における色の表示を樹脂層４２２と着色層４２５を用いて行い、反射型表示における色の表示を着色層４２５のみを用いて行うことにより、透過型表示及び反射型表示の色表示特性の調整が容易となり、いずれの表示においても所望の色度を得ることができ、表示特性の良い液晶装置が得られる。
【００９９】
＜電子機器＞
図１６を参照して、本発明に係る電子機器の実施例について説明する。この実施例では、上記液晶装置の液晶パネル６０（２６０、３６０、４６０）を電子機器の表示手段として用いる場合の実施例について説明する。図１６は、本実施例の電子機器７００における液晶パネル６０（２６０、３６０、４６０）に対する制御手段としての制御系（表示制御系）の全体構成を示す概略構成図である。ここに示す電子機器は、表示情報出力源２９１と、表示情報処理回路２９２と、電源回路２９３と、タイミングジェネレータ２９４とを含む表示制御回路２９０を有する。
【０１００】
また、上記と同様の液晶パネル６０（２６０、３６０、４６０）には、表示領域Ａを駆動する駆動回路２６１を有する。
【０１０１】
表示情報出力源２９１は、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）やＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるストレージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェネレータ２９４によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマットの画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路２９２に供給するように構成されている。
【０１０２】
表示情報処理回路２９２は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力した表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２６１へ供給する。駆動回路２６１は、走査線駆動回路、データ線駆動回路及び検査回路を含む。また、電源回路２９３は、上述の各構成要素にそれぞれ所定の電圧を供給する。
【０１０３】
具体的な電子機器としては携帯電話機やパーソナルコンピュータなどがあげられる。
【０１０４】
尚、本発明の電気光学装置及び電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、上記各実施例に示す電気光学装置はいずれも液晶パネルを有する液晶表示装置であるが、この液晶パネルの代わりに、無機エレクトロルミネッセンス装置、有機エレクトロルミネッセンス装置、プラズマディスプレイ装置、ＦＥＤ（フィールドエミッションディスプレイ）およびＳＥＤ（Ｓｕｒｆａｃｅ−Ｃｏｎｄｕｃｔｉｏｎ  Ｅｌｅｃｔｒｏｎ−Ｅｍｉｔｔｅｒ  Ｄｉｓｐｌａｙ）等の装置などの各種電気光学パネルを有するものも用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１の液晶装置の全体構成を示す概略断面図である。
【図２】ＴＦＤ素子付近の構造を示す概略斜視図である。
【図３】図１の液晶装置の遮光層及び着色層の平面形状を示す概略平面図である。
【図４】図１の液晶装置を構成するカラーフィルタ基板の概略断面図である。
【図５】図４のカラーフィルタ基板の製造工程図である。
【図６】実施例２の液晶装置の全体構成を示す概略断面図である。
【図７】図６の液晶装置の遮光層及び着色層の平面形状を示す概略平面図である。
【図８】図６の液晶装置を構成するカラーフィルタ基板の概略断面図である。
【図９】図８のカラーフィルタ基板の製造工程図である。
【図１０】実施例３の液晶装置の全体構成を示す概略断面図である。
【図１１】図１０の液晶装置を構成するカラーフィルタ基板の概略断面図である。
【図１２】図１１のカラーフィルタ基板の製造工程図である。
【図１３】実施例４の半透過反射基板の部分平面図である。
【図１４】図１３に示す半透過反射基板を有する液晶装置の概略断面図である。
【図１５】図１３の線Ｃ−Ｃ´で切断した半透過反射基板の概略断面図である。
【図１６】本発明に係る電子機器の構成を示す構成ブロック図である。
【符号の説明】
２０´，２２０´，３２０´・・・カラーフィルタ基板、２２，２２２，３２２Ｂ、４２２・・・青色樹脂層、２１，２２１，３２１，４２１・・・基板、２２ａ、２２２ａ、４２２ａ・・・第１開口部、２３、２２３，３２３，４１５・・・反射層、２５Ｒ，２２５Ｒ，３２５Ｒ，４２５Ｒ・・・赤色着色層、２５Ｇ，２２５Ｇ，３２５Ｇ，４２５Ｇ・・・緑色着色層、２５Ｂ，２２５Ｂ，３２５Ｂ，４２５Ｂ・・青色着色層、２６ａ、２２６ａ、３２６ａ、４２６ａ・・・透過部、２６ｂ、２２６ｂ、３２６ｂ、４２６ｂ・・・反射部、１００，２００，３００，４００・・・液晶装置、２２５ｂ・・・第２開口部、２９０・・・表示制御回路、３２２Ｒ・・・赤色樹脂層、３２２Ｇ・・・緑色樹脂層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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