(57)【要約】      （修正有）【課題】従来型の光学活性ビナフトール金属錯体触媒では非効率であった直鎖アルデヒドとニトロメタンとの不斉ニトロアルドール反応において満足すべき化学収率ならびに光学収率を達成するための、光学活性ビナフトール金属錯体触媒と該触媒を調製するためのビナフトール誘導体を提供する。【解決手段】一般式（１ｒ）、一般式（１ｓ）またはその光学活性体、もしくはビナフトール希土類金属錯体。2005075770.tif 000027[式中、Ｒ1はＣ１〜６のアルキル基、Ｃ２〜６のアルケニル基、Ｃ７〜２０のアラルキル基、またはＣ１〜６のアルキル基の内部に１〜３のヘテロ原子を含む鎖状置換基を示し、Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜６のアルキル基、またはＣ１〜７のアルコキシ基を示す。]【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１ｒ）
【化１】
2005075770.tif 000019
［式中、Ｒ1はＣ１〜６のアルキル基、Ｃ２〜６のアルケニル基、Ｃ７〜２０のアラルキル基、またはＣ１〜６のアルキル基の内部に１〜３のヘテロ原子を含む鎖状置換基を示し、Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜６のアルキル基、またはＣ１〜７のアルコキシ基を示す。］
もしくは、一般式（１ｓ）
【化２】
2005075770.tif 000020
［式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を示す。］
で表わされる光学活性ビナフトール誘導体。
【請求項２】
一般式（２ｒ）
【化３】
2005075770.tif 000021
［式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を示す。］
もしくは、一般式（２ｓ）
【化４】
2005075770.tif 000022
［式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を示す。］
で表わされる光学活性ビナフトール誘導体。
【請求項３】
三塩化希土類金属化合物を分散させた溶媒中に、式１ｒ、式１ｓ、式２ｒ、または式２ｓのビナフトール誘導体ジリチウム塩を混合反応させ、続いてアルカリ金属化合物を加えて反応させて得られる光学活性ビナフトール希土類金属錯体触媒。
【請求項４】
請求項３記載の不斉合成用触媒の調製法において使用する式１ｒ、式１ｓ、式２ｒ、または式２ｓのビナフトール誘導体ジリチウム塩、三塩化希土類金属化合物、及びアルカリ金属化合物のモル比がビナフトール誘導体ジリチウム塩：三塩化希土類金属化合物：アルカリ金属化合物＝２．１〜３．０：１．０：０．１〜１．０の範囲である光学活性ビナフトール希土類金属錯体触媒の調製法。
【請求項５】
請求項４記載の方法にしたがって調製した触媒溶液に、反応終了後さらにアルカリ金属化合物を再度添加することを特徴とする光学活性ビナフトール希土類金属錯体系不斉誘起触媒の調製法。
【請求項６】
一般式（３ｒ）
【化５】
2005075770.tif 000023
［式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を示し、Ｌｎは希土類金属を、Ｍはアルカリ金属を示す。］
もしくは一般式（３ｓ）
【化６】
2005075770.tif 000024
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｌｎ及びＭは前記と同じ意味を示す。］
で表わされる、請求項３記載の光学活性ビナフトール希土類金属錯体触媒。
【請求項７】
一般式（４ｒ）
【化７】
2005075770.tif 000025
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｌｎ及びＭは前記と同じ意味を示す。］
もしくは一般式（４ｓ）
【化８】
2005075770.tif 000026
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｌｎ及びＭは前記と同じ意味を示す。］
で表わされる、請求項３記載の光学活性ビナフトール希土類金属錯体触媒。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なビナフトール誘導体、およびそれらから誘導した光学活性ビナフトール金属錯体触媒に関する。
【背景技術】
【０００２】
医薬、農薬の製造中間体や製品への光学活性化合物の需要が高まってきており、工業的に実用実施可能な光学活性化合物の入手方法が強く求められている。このため、光学活性化合物の入手方法として微生物や酵素法、分割法、化学合成法など様々な方法が考案されているが、化学合成法における触媒的不斉合成法は、少量の不斉源から大量の光学活性化合物が得られるため効率が高く、工業的に優れた方法と信じられている。その為、触媒的不斉合成法に関して数多くの研究がなされ、化学・光学収率ともに優れた方法が見出されており（非特許文献１参照）、とりわけ、光学活性ビナフトール金属錯体触媒は多種多様な不斉誘起反応に極めて有効な触媒である（特許文献１〜５参照）。
【０００３】
しかし、従来型の光学活性ビナフトール金属錯体触媒は、直鎖アルデヒドとニトロメタンとの不斉ニトロアルドール反応（Henry反応）おいて満足すべき光学収率が得られずしかも化学収率も中程度となるという、問題点を有していた（非特許文献２参照）。
【非特許文献１】R. Noyori, "Asymmetric Catalysis in Organic Synthesis",John Wiley & Sons, New York, 1994.
【特許文献１】特開平１１−２４０８６５号公報
【特許文献２】特開平１０−１２０６６８号公報
【特許文献３】特開平０９−２５５６３２号公報
【特許文献４】特開平０８−３２５２８１号公報
【特許文献５】特再公表98/024753号公報
【非特許文献２】Angew. Chem. Int. Ed. Engl., 36, 1243, 1997.
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、従来型の光学活性ビナフトール金属錯体触媒では非効率であった直鎖アルデヒドとニトロメタンとの不斉ニトロアルドール反応において満足すべき化学収率ならびに光学収率を達成するための、光学活性ビナフトール金属錯体触媒と該触媒を調製するために不可欠なビナフトール誘導体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、ビナフトール誘導体とこれらによって構成される光学活性ビナフトール金属錯体触媒について鋭意検討を重ねた結果、光学活性を有する置換基によって６−位を修飾した新規なビナフトール誘導体を用いた光学活性ビナフトール金属錯体触媒が、直鎖アルデヒドとニトロメタンとの不斉ニトロアルドール反応を高い光学収率、化学収率で進行させることを見出し、本発明を完成するに至った。即ち、本発明は、一般式（１ｒ）
【０００６】
【化１】
2005075770.tif 000002
［式中、Ｒ1はＣ１〜６のアルキル基、Ｃ２〜６のアルケニル基、Ｃ７〜２０のアラルキル基、または、Ｃ１〜６のアルキル基の内部に１〜３のヘテロ原子を含む鎖状置換基を示し、Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜６の直鎖、分岐、環状のアルキル基、Ｃ１〜７のアルコキシ基を示す。］
もしくは、一般式（１ｓ）
【０００７】
【化２】
2005075770.tif 000003
［式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を示す。］
もしくは、一般式（２ｒ）
【０００８】
【化３】
2005075770.tif 000004
［式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を示す。］
もしくは、一般式（２ｓ）
【０００９】
【化４】
2005075770.tif 000005
［式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を示す。］
で表わされる光学活性ビナフトール誘導体と三塩化希土類金属化合物とを分散させた溶媒中に、式１ｒ、１ｓ、２ｒまたは、２ｓのビナフトール誘導体ジリチウム塩を混合、反応させ、続いてアルカリ金属化合物を加えて反応させて得られる一般式３ｒ、３ｓ、４ｒ、または４ｓ
【００１０】
【化５】
2005075770.tif 000006
【００１１】
【化６】
2005075770.tif 000007
【００１２】
【化７】
2005075770.tif 000008
【００１３】
【化８】
2005075770.tif 000009
［式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同じ意味を示し、Ｌｎは希土類金属を、Ｍはアルカリ金属を示す。］
で表わされる光学活性ビナフトール希土類金属錯体触媒である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、新規なビナフトール誘導体と該誘導体から調製される光学活性ビナフトール金属錯体触媒が提供される。
本発明の光学活性ビナフトール金属錯体触媒によって、従来懸案であった直鎖アルデヒドとニトロメタンとの不斉ニトロアルドール反応において満足すべき化学・光学収率が得られる。したがって、本発明によって医薬・農薬の製造プロセスに重要なアミノアルコール前駆体の製造が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
次に、本発明を更に詳細に説明する。まず、Ｌｎ、Ｍ、Ｒ1、Ｒ2について説明する。
【００１６】
Ｌｎは希土類金属原子であり、ランタン（Ｌａ）、セリウム（Ｃｅ）、プラセオジム（Ｐｒ）、ネオジム（Ｎｄ）、プロメチウム（Ｐｍ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、カドリニウム（Ｇｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、ジスプロシウム（Ｄｙ）、ホルミウム（Ｈｏ）、エルビウム（Ｅｒ）、ツリウム（Ｔｍ）、イッテルビウム（Ｙ）及びルテチウム（Ｌｕ）が挙げられ、Ｌａ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｙが好ましく用いられ、とりわけＬａを好適に用いることができる。
【００１７】
Ｍはアルカリ金属であり、リチウム（Ｌｉ）、ナトリウム（Ｎａ）及びカリウム（Ｋ）等が挙げられ、この中でもＬｉとＮａが好ましい。
【００１８】
Ｒ1はＣ１〜６のアルキル基、Ｃ２〜６のアルケニル基、Ｃ７〜２０のアラルキル基、Ｃ１〜６のアルキル基の内部に１〜３のヘテロ原子を含む鎖状置換基である。
【００１９】
Ｃ１〜６のアルキル基として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｃ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｃ−ブチル、ｃ−プロピルメチル、ｎ−ペンチル、２−ペンチル、３−ペンチル、ｉ−ペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ｃ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、ｃ−ヘキシル基等の直鎖、分岐、環状のアルキル基を例示することができる。その中でも、メチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル基が好ましい。
【００２０】
Ｃ２〜６のアルケニル基として、エテニル、１−メチルエテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニル基等の直鎖、分岐、環状のアルケニル基を例示することができる。その中でも、２−プロペニル基が好ましい。
【００２１】
Ｃ７〜２０のアラルキル基としては、ベンジル、１−ナフチルメチル、２−ナフチルメチル、９−アントリルメチル（９−anthryl−ＣＨ2−）基が好ましい。
【００２２】
Ｃ１〜６のアルキル基の内部に１〜３のヘテロ原子を含む鎖状置換基としては、例えば、メトキシメチル、エトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエトキシメチル、メチルチオメチル、２−テトラヒドロピラニル基等が挙げられ、メトキシメチル、メトキシエトキシメチル基が好ましい。
【００２３】
Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１〜６のアルキル基、Ｃ１〜７のアルコキシ基を示し、この中でも水素原子が好適である。
【００２４】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素を挙げることができる。
【００２５】
Ｃ１〜６のアルキル基として、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｃ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ｃ−ブチル、ｃ−プロピルメチル、ｎ−ペンチル、２−ペンチル、３−ペンチル、ｉ−ペンチル、ネオペンチル、ｔ−ペンチル、ｃ−ペンチル、ｎ−ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、ｃ−ヘキシル基等の直鎖、分岐、環状のアルキル基を挙げることができる。
【００２６】
Ｃ１〜７のアルコキシ基としてメトキシ、エトキシ、ｎ−プロピルオキシ、ｉ−プロピルオキシ、アリルオキシ、ベンジルオキシ基等が挙げられる。
【００２７】
式１ｒ、１ｓ、２ｒ、または２ｓのビナフトール誘導体は、例えば次のように合成することができる。
【００２８】
【化９】
2005075770.tif 000010
【００２９】
第一工程：（Ｒ）−６−置換−６’−トリメチルシリルエチニルビナフトール（１ｒＡ）の合成
文献（Tetrahedron Lett., 50, 4467 (1975).）記載の方法に準じて合成できる。
【００３０】
（Ｒ）−６−置換−６’−ブロモビナフトール、トリメチルシリルアセチレン、および、パラジウム化合物を塩基性条件下で反応させることによって、表題化合物（１ｒＡ）が得られる。（Ｒ）−６−ブロモビナフトールとトリメチルシリルアセチレンとのモル比は１：０．５〜１：３、好ましくは１：０．８〜１：１．５である。
【００３１】
パラジウム化合物は一般に購入できる０価または２価パラジウム化合物が使用でき、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（１，２−（ジフェニルホスフィノ）エタン）パラジウム（０）、ジクロロ（トリフェニルホスフィン）パラジウム（II）等が適宜使用でき、銅化合物やリン化合物を同時に用いることも可能である。銅化合物としては一価のハロゲン化銅、酢酸銅などが使用でき、リン化合物はトリフェニルホスフィン、１，２−（ジフェニルホスフィノ）エタン等の一般に単座または２座の配位子として使用される３価のリン化合物であれば使用が可能である。
【００３２】
（Ｒ）−６−ブロモビナフトールとパラジウム化合物とのモル比は１：０．００５〜１：０．３、好ましくは１：０．０１〜１：０．１であり、パラジウム化合物と銅化合物とのモル比は１：０．０５〜１：２、好ましくは１：０．１〜１：１、パラジウム化合物とリン化合物とのモル比は１：０．５〜１：５、好ましくは１：１〜１：２である。反応は、トリエチルアミンピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、ジアザジシクロロウンデセン（ＤＢＵ）等の有機塩基存在下に行なわれる。塩基は溶媒として用いることも他の溶媒に希釈して用いることも可能である。
【００３３】
（Ｒ）−６−ブロモビナフトールと有機塩基の量比（ｇ／ｍｌ）は１：０．１から１：１００、好ましくは１：５〜１：５０である。希釈する場合、溶媒はこの反応を阻害しなければ特に制限は無い。かかる溶媒としてはペンタン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等のエーテル系、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン等の塩素系、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系、メタノール、エタノール等のアルコール系、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）等の極性溶媒が挙げられる。
【００３４】
第二工程：（Ｒ）−６−置換−６’−エチニルビナフトール（１ｒＢ）の合成
１ｒＡを塩基で処理することにより１ｒＢに誘導出来る。塩基としてはアルカリ金属水酸化物またはアルカリ土類金属水酸化物が使用でき、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。塩基の使用モル数は１ｒＡの等倍〜２０倍、好ましくは３倍〜１０倍である。
【００３５】
使用する溶媒はエチルエーテル、イソプロピルエーテル、ＴＨＦ等のエーテル系、メタノール、エタノール等のアルコール系溶媒が挙げられ、１ｒＡと溶媒の量比（ｇ／ｍｌ）は１〜１００、好ましくは３〜３０である。反応温度は−１０℃〜溶媒の沸点の間で、好ましくはは０℃〜５０℃ある。
【００３６】
第三工程：（Ｒ，Ｒ）−６−置換−６’−（２，２’−ビス置換オキシ［１，１’］ビナフタレンイル−６−イルエチニル）［１，１’］ビナフタレンイル−２，２’−ジオール（１ｒ）の合成
（Ｒ）−６−置換−６’−ブロモ−２，２’−ジ置換オキシ−１，１’−ビナフタレン、１ｒＢ、および、パラジウム化合物を塩基性条件下で反応させることによって１ｒが得られる。（Ｒ）−６−置換−６’−ブロモ−２，２’−ジ置換オキシ−１，１’−ビナフタレンと１ｒＢとのモル比は１：０．５〜１：３、好ましくは１：０．８〜１：１．５である。反応は第一工程と同様に行なうことが出来る。
【００３７】
式２ｒで表わされるビナフトール誘導体の合成例を以下に示す。
【００３８】
【化１０】
2005075770.tif 000011
【００３９】
第四工程：（Ｒ）−６−置換−２，２’−ビス置換オキシ−１，１’−ビナフチル−６’−ボラン酸（２ｒＡ）の合成
（Ｒ）−６−置換−６’−ブロモ−２，２’−ジ置換オキシ−１，１’−ビナフタレンに塩基を加えた後、トリアルキルボレートを加える。その後、一般に行われる酸処理により２ｒＡが得られる。
【００４０】
塩基にはメチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウムなどのアルキルリチウム類が好適に使用できる。トリアルキルボレートは特に制限無く使用できるが、入手し易さからトリメチルボレート、トリエチルボレート等が好ましい。モル比（（Ｒ）−６−置換−６’−ブロモ−２，２’−ジ置換オキシ−１，１’−ビナフタレン）：（塩基）：（トリアルキルボレート）は、（１）：（１〜３）：（１〜２０）の範囲で行なわれ、好ましくは、（１）：（１．０５〜２．０）：（１．５〜５．０）である。
【００４１】
使用される溶媒はこの反応を阻害しなければ特に制限は無いが、ペンタン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ＴＨＦ等のエーテル系、ＤＭＦ、ＮＭＰ等の極性溶媒、これらの混合溶媒が挙げられる。
【００４２】
反応温度は−１００℃〜溶媒の沸点である。
【００４３】
第五工程：２ｒの合成
文献（J. Org. Chem., 49, 5237 (1984).）記載の方法に準じて合成できる。
【００４４】
２ｒＡ、（Ｒ）−６−置換−６’−ブロモ−１，１’−ビナフトール、および、パラジウム化合物を塩基で処理して２ｒを得る。パラジウム化合物としては一般に入手できる０価パラジウムが用いられ、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）、ビス（１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン）パラジウム等が好適に用いられる。モル比（２ｒＡ）：（（Ｒ）−６−置換−６’−ブロモ−１，１’−ビナフトール）：（パラジウム化合物）は、（１）：（０．５〜２．０）：（０．００１〜１．０）の範囲で行なわれ、好ましくは、（１）：（０．７５〜１．２５）：（０．０１〜０．５）である。
【００４５】
溶媒はこの反応を阻害しなければ特に制限は無いが、ペンタン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ＴＨＦ等のエーテル系、ジクロロメタン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン等の塩素系、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系、メタノール、エタノール等のアルコール系、ＤＭＦ、ＮＭＰ等の極性溶媒、およびこれらの混合溶媒が挙げられる。溶媒（ｍｌ）は２ｒＡ（ｇ）の等倍〜１００倍（ｍｌ／ｇ）の範囲で適宜使用することができる。
【００４６】
塩基としては無機塩基、有機塩基のいずれでもよいが、無機塩基の水溶液で行なう方法が適当である。無機塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ金属の炭酸塩、アルカリ土類金属の炭酸塩であり、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムが好適である。モル比（２ｒＡ）：（塩基）は、（１）：（１〜１００）の範囲で行なわれ、好ましくは、（１）：（２〜３０）である。塩基水溶液の濃度は０．１〜１０Ｍである。
【００４７】
式１ｓ、２ｓで表わされるビナフトール誘導体も出発原料にＳ−体を用いることで同様に合成される。
【００４８】
本発明の光学活性ビナフトール希土類金属錯体触媒の調製は、例えば、特開平６−１５４６１８，特開平６−２５６２７０，特開平６−３０６０２６，ＷＯ９５／０１３２３、J. Am. Chem. Soc., 114, 4418-4420, 1992., Tetrahedron Lett., 34(5), 851-854, 1993., Tetrahedron Lett., 34(5), 855-858, 1993., Tetrahedron Lett., 34(16), 2657-2660, 1993., J. Am. Chem. Soc., 115, 10372, 1993., J. Org. Chem., 60, 7388-7389, 1995.等に記載された方法に基づいて行なわれるが、以下に２工程に分けて簡単に記す。
【００４９】
第６工程：一般式１ｒ、１ｓ、２ｒ、または、２ｓで表わされるビナフトール誘導体のジリチウム塩の合成
十分に乾燥させた一般式１ｒ、１ｓ、２ｒ、または２ｓのビナフトール誘導体を有機溶媒に溶解し、リチウム化合物を加え、一般式１ｒ、１ｓ、２ｒ、または、２ｓのビナフトール誘導体ジリチウム塩溶液（溶液Ａ）を調製する。
【００５０】
リチウム化合物としては、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、フェニルリチウム等の炭化水素系リチウム試薬、水酸化リチウムが挙げられる。これらのリチウム化合物は一般式１ｒ、１ｓ、２ｒ、または２ｓのビナフトール誘導体に対して２〜３倍モル使用する。
【００５１】
有機溶媒としては、ジリチウム塩生成を阻害しない溶媒であれば制限無く使用でき、ジエチルエーテル、ＴＨＦ、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム、１，１，１−トリクロロエタン及びモノクロロベンゼン等のハロゲン系溶媒、ベンゼン、トルエン、ｎ−ヘキサン及びｎ−ヘプタン等の炭化水素系溶媒、酢酸エチル、酢酸メチル等の脂肪酸エステル類、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ＤＭＦ等の極性溶媒が挙げられる。これらの溶媒は単独もしくは２種類以上混合して使用してもかまわない。一般的にはＴＨＦを使用することが好ましい。溶媒の使用量（ｍｌ）はビナフトール誘導体（ｇ）に対して等倍〜１００倍（ｍｌ／ｇ）が好ましい。
【００５２】
リチウム化合物に前記の炭化水素系リチウム試薬を用いた場合、調製温度は−７６℃〜溶媒の沸点まで、好ましくは−３０℃〜室温である。
調製時間は０．５時間〜２４時間、好ましくは１時間〜６時間である。
【００５３】
また、リチウム化合物に水酸化リチウムを使用する場合には、炭化水素系溶媒を用い共沸脱水条件に付すことによって一般式１ｒ、１ｓ、２ｒ、または、２ｓのビナフトール誘導体のジリチウム塩溶液の有機溶媒溶液を調製することもできる。
【００５４】
第七工程：第六工程で合成したビナフトール誘導体のジリチウム塩の光学活性ビナフトール希土類金属錯体触媒への誘導工程
希土類金属化合物を第六工程で使用した溶媒に分散させる。この分散溶液に溶液Ａとアルカリ金属化合物を添加して反応させることにより、一般式３ｒ、３ｓ、４ｒ、または４ｓで表わされる光学活性ビナフトール希土類金属錯体触媒溶液が調製できる。
【００５５】
希土類金属化合物としては、希土類金属の塩化物、過塩素酸化物が使用できる。ランタン（Ｌａ）の場合には、塩化ランタン（III）の無水物〜七水和物や過塩素酸ランタン（III）の無水物や水和物が好ましい。
【００５６】
一般式１ｒ、１ｓ、２ｒ、または、２ｓのビナフトール誘導体：希土類金属化合物のモル比は１．０：１．０〜５．０、好ましくは１．０：２．１〜３．０である。
アルカリ金属化合物としては、リチウム、ナトリウム、カリウムのそれぞれ水酸化物、炭酸水素塩、炭酸塩、水素化物、メチリド、ｎ−ブチリド、ｔ−ブチリド、フェニリド、メトキシド、エトキシド、ｔ−ブトキシド等が使用でき、ナトリウムｔ−ブトキシドが好ましい。
【００５７】
一般式１ｒ、１ｓ、２ｒ、または、２ｓのビナフトール誘導体：アルカリ金属化合物のモル比は１．０：０．０５〜２．０、好ましくは０．１：０．１〜１．０である。
【００５８】
反応溶媒には前記の溶媒が適宜使用できる。反応温度は−３０℃〜１５０℃、好ましくは−５℃〜溶媒の沸点である。
【００５９】
反応時間は５時間〜１００時間、好ましくは２４時間〜８０時間である。
【００６０】
以下に実施例と参考例を示し、本発明をより詳細に説明するが、以下の実施例は本発明を限定するものではない。
【実施例１】
【００６１】
（Ｒ）−６−トリメチルシリルエチニル−１，１’−ビナフト−２−オール（１ｒＡ１）の合成
【００６２】
【化１１】
2005075770.tif 000012
【００６３】
（Ｒ）−６−ブロモ−１，１’−ビナフト−２−オール（２．６１ｇ，７．１４ｍｍｏｌ）のトリエチルアミン（６３ｍＬ）懸濁溶液にトリメチルシリルアセチレン（１．２１ｍＬ，８．５７ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（３３５ｍｇ，０．２９ｍｍｏｌ）、及び、よう化銅（Ｉ）（２７ｍｇ，０．１４ｍｍｏｌ）を加
えた。これを７０℃、４時間撹拌した後、減圧下、溶媒を留去した。残渣に酢酸エチルを加え、不溶物をセライト濾過にて除去した。ろ液に１Ｎ  ＨＣｌを加え、酢酸エチルで３回抽出した。抽出した有機層を飽和食塩水で洗いＮａ2ＳＯ4で乾燥した。濾過後、有機溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより表題化合物（１ｒＡ１）を収率８１％で得た。
【００６４】
1H-NMR (CDCl3): δ0.26 (s, 9H), 5.03 (br-s, 1H), 5.12 (br-s, 1H), 7.04-7.12 (m, 2H), 7.26-7.41 (m, 5H), 7.88-7.93 (m, 2H), 7.98 (d, J=9.18 Hz, 1H), 8.04 (s, 1H).  13C-NMR (CDCl3): δ0.14(x 3), 94.36, 105.12, 110.29, 111.09, 117.71, 118.39, 118.61, 124.00, 124.05, 124.16, 127.49, 128.35, 128.82, 129.36, 130.12, 131.18, 131.51, 132.34, 132.94, 133.20, 152.60, 153.37.  MS (FAB): 382 (M+).
【００６５】
（Ｒ）−６−エチニル−１，１’−ビナフト−２−オール（１ｒＢ１）の合成
【化１２】
2005075770.tif 000013
１ｒＡ１（１．２２ｇ，３．１９ｍｍｏｌ）のメタノール溶液（１１ｍＬ）に１．４３Ｎ  ＫＯＨ水溶液（１１ｍＬ）を加え、室温で４時間撹拌した。その後、溶媒を減圧下留去した。残渣に１Ｎ  ＨＣｌを加え、酢酸エチルで３回抽出した。抽出した有機層を飽和食塩水で洗いＮａ2ＳＯ4で乾燥した。減圧下、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより表題化合物（１ｒＢ１）を収率８５％で得た。
【００６６】
1H-NMR (CDCl3): δ3.11 (s, 1H), 5.02 (br-s, 1H), 5.15 (br-s, 1H), 7.08-7
.13 (m, 2H), 7.30 (dd, J=1.35, 6.75 Hz, 1H), 7.34 (dd, J=1.62, 2.97 Hz, 1H), 7.39 (dd, J=1.35, 8.10 Hz, 1H), 7.40 (dd, J=6.48, 8.91 Hz, 2H), 7.89-7.91 (m, 1H), 7.94 (d, J=9.18 Hz, 1H), 7.99 (d, J=8.64 Hz, 1H), 8.04 (d, J=1.35 Hz 1H).  13C-NMR (CDCl3): δ77.25, 83.78, 110.38, 11.32, 117.37, 117.69, 118.48, 123.93 (x 2), 124.30, 1
27.39, 128.26, 128.65, 129.22, 123.00, 130.96, 131.32, 132.50, 133.15, 133.20, 152.51, 153.41.  MS (FAB): 310 (M+).
【００６７】
（Ｒ，Ｒ）−６−（２，２’−ビス−メトキシメトキシ−［１，１’］ビナフタレンイル−６−イルエチニル）［１，１’］ビナフタレンイル−２，２’−ジオール（１ｒ）の合成
【化１３】
2005075770.tif 000014
【００６８】
（Ｒ）−６−ブロモ−１，１’−ビナフト−２−オール（１．９９ｇ，４．０ｍｍｏｌ）のベンゼン（５５ｍＬ）溶液に１ｒＢ１（１．２４ｇ，４．０ｍｍｏｌ）とテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（３７０ｍｇ，０．３２ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン（１．３９ｍＬ，１０ｍｍｏｌ）、及び、よう化銅（Ｉ）（１９１ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）を加えた。これを６０℃、２４時間撹拌した後、減圧下、溶媒を留去した。残渣に酢酸エチルを加え、不溶物をセライト濾過にて除去した。ろ液に１Ｎ  ＨＣｌを加え、酢酸エチルで３回抽出した。抽出した有機層を飽和食塩水で洗いＮａ2ＳＯ4で乾燥した。減圧下、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより表題化合物（１ｒ）を収率３９％で得た。
【００６９】
1H-NMR (CDCl3): δ3.14(s, 6H), 4.97 (dd, J=2.70, 6.75 Hz, 2H), 5.08 (d, J=3.51 Hz, 1H), 5.10 (d, J=3.24 Hz, 1H), 5.09 (br-s, 1H), 5.19 (br-s, 1H), 7.09-7.16 (m, 4H), 7.22 (dd, J=1.08, 6.75 Hz, 1H), 7.26-7.42 (m, 7H), 7.56 (d, J=5.4 Hz, 1H), 7.59 (d, J=5.13 Hz, 1H), 7.86-7.98 (m, 6H), 8.10 (s, 2H).  13C-NMR (CDCl3): δ55.88 (x 2), 89.52, 90.05, 94.90, 95.02, 110.48, 111.32, 116.99, 117.59, 117.75, 118.42, 11.57, 118.77, 120.60, 121.21, 123.96, 124.00, 124.31, 124.34、125.26, 125.59, 126.28, 127.40, 127.80, 128.30, 128.71, 128.95, 129.18, 129.30 (x 2), 129.44, 129.71, 129.89, 131.05, 131.38 (x 2), 131.66, 132.83, 133.25, 133.36, 133.76, 152.44, 152.62, 153.22, 153.29.  MS (FAB) m/z 682 (M+).  [α]D26 ‐61.6 (c 1.36, CHCl3).
【実施例２】
【００７０】
（Ｒ）−２，２’−ビス（メトキシメチルオキシ）−１，１’−ビナフチル−６−ブロミックアシッド（２ｒＡ１）の合成
【化１４】
2005075770.tif 000015
（Ｒ）−２，２’−ビス（メトキシメチルオキシ）−１，１’−ビナフチル−６−ブロミド（３．３ｇ，７．３ｍｍｏｌ）のＴＨＦ溶液（３７ｍＬ）に−７８℃下、ゆっくりとＢｕＬｉ（３．２ｍＬ，２．６Ｍ  ｉｎ  ｈｅｘａｎｅ，８．３ｍｍｏｌ）を加えた。−７８℃で３０分攪拌後、茶色に呈した反応溶液にＢ（ＯＭｅ）3（２．３ｍＬ，２１ｍｍｏｌ）をシリンジで加えた。反応液を室温まで昇温し、１２時間攪拌した。その後、０℃で１Ｎ  ＨＣｌを加え反応を停止した。酢酸エチルで３回抽出し、有機層を飽和食塩水で洗いＮａ2ＳＯ4で乾燥した。濾過後溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより表題化合物（２ｒＡ１）を収率６０％で得た。
【００７１】
IR (neat) 3422, 1232, 1144, 1007 cm-1.  1H-NMR (CDCl3):δ 3.13 (s, 3H), 3.18 (s, 3H), 4.98-5.16 (m, 4H), 7.15-7.28 (m, 4H), 7.32-7.38 (m, 1H), 7.59 (d, J=9.2 Hz, 1H), 7.64 (d, J=9.2 Hz, 1H), 7.89 (d, J=8.1 Hz, 1H), 7.97(d, J=9.2 Hz, 1H), 8.00 (d, J=8.9 Hz, 1H), 8.13 (d, J=8.9 Hz, 1H), 8.82 (s, -B(OH)2).  13C-NMR (CDCl3): δ 55.9, 94.9, 95.2, 116.9, 117.2, 121.0, 124.0, 124.8, 125.3, 125.4, 126.3, 127.8, 129.1, 129.4, 129.8, 130.6, 131.0, 133.9, 136.5, 137.8, 152.5, 154.0.  MS (ESI-HRMS) calcd for C26H27BO6 [M+Na]+ : 469.1798, Found: 469.1798 [M (as the boronic acid dimethylester)+Na+]; The dimethylester was formed when MeOH was used as eluent.  [a]25D +66.1 (c 0.29, CHCl3).
【００７２】
化合物２ｒの合成
【化１５】
2005075770.tif 000016
２ｒＡ１（３００ｍｇ，０．７２ｍｍｏｌ）と（Ｒ）−６−ブロモ−２，２’−ジヒドロキシ−１，１’−ビナフタレン（２６２ｍｇ，０．７２ｍｍｏｌ）、Ｐｄ（ＰＰｈ3）4（８２．９ｍｇ，０．０７２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（１４ｍＬ）−１Ｍａｑ  Ｋ2ＣＯ3（７．２ｍＬ）混合溶液を１２時間加熱還流した。その後、０℃で１Ｎ  ＨＣｌを加え反応を停止した。酢酸エチルで３回抽出し、飽和食塩水で洗いＮａ2ＳＯ4で乾燥した。濾過後、有機溶媒を減圧下留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製することにより表題化合物２ｒを定量的に得た。
【００７３】
IR (neat) 3389, 1240, 1148, 1015 cm-1.  1H-NMR (CDCl3): d 3.13 (s, 3H), 3.15 (s, 3H), 4.97 (dd, J=6.8, 3.8Hz, 2H), 5.07 (d, J=6.8Hz, 2H), 5.19 (br-s, 1H), 5.21 (br-s, 1H), 7.16-7.38 (m, 10H), 7.53-7.65 (m, 4H), 7.87 (d, J=8.1 Hz, 2H), 7.95 (d, J=9.2 Hz, 2H), 7.99 (d, J=9.2 Hz, 2H), 8.13 (s, 2H).  13C-NMR (CDCl3): d 55.8, 55.9, 95.1, 95.2, 110.8, 110.9, 117.2, 117.6, 117.7, 118.1, 121.1, 123.9, 124.0, 124.1, 124.8, 125.4, 125.7, 125.9, 126.1, 126.2, 127.0, 127.4, 127.8, 128.3, 129.3, 129.4, 129.6, 129.6, 129.8, 130.0, 131.3, 131.5, 132.4, 133.1, 133.3, 133.9, 136.1, 136.5, 152.5, 152.6.  MS (FAB-HRMS) calcd for C44H34O6 [M+] : 658.2355, Found: 658.2355.  [a]25D -31.3 (c 0.670, CHCl3).
【実施例３】
【００７４】
化合物３ｒの合成
【００７５】
【化１６】
2005075770.tif 000017
１ｒ（０．３０ｍｍｏｌ）を５０℃で５時間減圧乾燥した。乾燥した１ｒのＴＨＦ溶液（０．７９ｍＬ）を調製し、０．１ＮのＬａ（Ｏ−ｉ−Ｐｒ）3ＴＨＦ溶液（１．０ｍＬ，０．１０ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。３０分室温で撹拌した後、２．６４Ｎのｎ−ＢｕＬｉ  ｈｅｘａｎｅ溶液（１１４μＬ，０．３ｍｍｏｌ）を０℃で滴加した。１２時間室温で撹拌した後、１Ｍ  Ｈ2Ｏ−ＴＨＦ溶液（７９０μＬ，０．１０ｍｍｏｌ）を加えることで０．０５Ｎの表題化合物３ｒ  ＴＨＦ溶液を得た。
【００７６】
13C-NMR (CDCl3): δ 55.00, 88.11, 91.22, 94.83, 113.99, 116.80, 117.39, 119
.55, 120.53, 121.06, 123.67, 125.29, 125.46, 126.00, 127.49, 127.77, 128.16, 128.50, 128.85, 129.14, 129.64, 129.98, 130.74, 131.33, 133.26, 134.10, 135.06, 135.42, 152.98, 153.56.
[α]D26 -6150 (c 1.22 x 10-3, THF).
【実施例４】
【００７７】
化合物４ｒの合成
【化１７】
2005075770.tif 000018
２ｒ（０．３０ｍｍｏｌ）を５０℃で５時間減圧乾燥した。乾燥した２ｒのＴＨＦ溶液（０．７９ｍＬ）に０．１ＮのＬａ（Ｏ−ｉ−Ｐｒ）3ＴＨＦ溶液（１．０ｍＬ，０．１０ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。３０分室温で撹拌した後、２．６４Ｎのｎ−ＢｕＬｉ  ｈｅｘａｎｅ溶液（１１４μＬ，０．３ｍｍｏｌ）を０℃で滴加した。１２時間室温で撹拌した後、１Ｍ  Ｈ2Ｏ−ＴＨＦ溶液（７９０μＬ，０．１０ｍｍｏｌ）を加えることで０．０５Ｎの表題化合物４ｒ  ＴＨＦ溶液を得た。
【００７８】
13C-NMR (CDCl3): δ 55.06, 55.14, 94.88, 94.97, 116.92, 117.14, 118.88, 119
.19, 120.87, 121.12, 123.16, 123.59, 123.89, 124.46, 125.06, 125.25, 125.45, 125.56, 125.65, 125.84, 126.15, 126.74, 126.90, 127.27, 127.68, 128.11, 128.94, 129.17, 129.97, 130.50, 131.27, 132.74, 134.18, 135.01, 135.71, 137.37, 152.59, 152.93, 162.51, 163.26.
[α]D26 -88.1 (c 1.07, THF).