(57)【要約】      （修正有）【課題】画面サイズが大型のＰＤＰを構成する高精細に配置されているセルに精度よく且つ安定して均一に精度よく形成された蛍光体層を有するＰＤＰの製造方法及びＰＤＰの提供。【解決手段】複数の隔壁間の凹部に蛍光体層を形成した背面板となる第１基板と、該隔壁側に重ね合わせて前面板となる第２基板と、該第１基板と、該第２基板との間に形成された空間に封入されたガス媒体とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、蛍光体層形成部2aとエアロゾル発生部2bとを有する蛍光体層形成装置2を用いて、少なくとも１本のノズル204を使用しキャリアガスにより、蛍光体粒子を前記隔壁間の溝に噴射し堆積させることで該蛍光体層を形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法。【選択図】図４
2005310523.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の隔壁間の溝に蛍光体層を形成した背面板となる第１基板と、該隔壁側に重ね合わせて前面板となる第２基板と、該第１基板と、該第２基板との間に形成された空間に封入されたガス媒体とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、蛍光体層形成部とエアロゾル発生部とを有する蛍光体層形成装置を用いて、少なくとも１本のノズルを使用しキャリアガスにより、蛍光体粒子を前記隔壁間の溝に噴射し堆積させることで該蛍光体層を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
前記蛍光体層形成装置がエアロゾル・デポジション法を用いた蛍光体層形成装置であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
前記蛍光体粒子の粒径が０．１〜２．０μｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
前記ノズルは、隔壁間の溝に対して蛍光体粒子の噴射角度を可変可能に蛍光体層形成装置に配設されていることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
前記キャリアガスの噴射時の流速が１００〜４００ｍ／ｓｅｃであることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
前記請求項１〜５の何れか１項に記載の製造方法を用いて作製されたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蛍光体層を備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法及びこの製造方法により製造されたプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰとも言う）に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＰＤＰは画面の大型化及び薄型化が可能なことから、陰極線管（ＣＲＴ）に代わり得るフラットパネルディスプレイとして注目されている。ＰＤＰは、電極を備えた２枚のガラス基板（前面板と背面板）と、基板間に設けられた隔壁によって形成される多数の微小放電空間（以下、セルと言う）とを有している。各セルを囲む隔壁の側面と底面（背面板）とには、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）等に発光する蛍光体層が設けられている。セルは、隔壁により所定形状に形成され、基板上に規則正しく配置されて、Ｘｅ、Ｎｅ等を主成分とする放電ガスが封入されている。このセルは、放電の拡がりを一定領域に抑えるものであり、電極間に電圧を印加して放電させると、放電ガスに起因する紫外線が発生し、これにより蛍光体が励起されて可視光を発光する。セルあるいはセルの一部を選択的に放電させることにより所望の情報をフルカラーで表示することができる。
【０００３】
従来、このようなセルの構造としては、隔壁を平面視においてストライプ状に形成したストライプ型のものが主流であったが、近年では例えば、特開２００１−２８３７３４号公報に記載されているように、基板上に隔壁を平面視において格子状に形成した格子型のものが提案されている。上述したストライプ型では、セルの両側にある隔壁側面と底面との合計３面にしか蛍光体層を設けることができなかったが、このように格子型とすることによって、セルを囲む４つの隔壁側面と底面との合計５面に蛍光体層を設けることができる。したがって、セルの内側に面する蛍光体層面積が増え、発光に関与する蛍光体量が増え、これによりＰＤＰの輝度が向上するようになっている。また、ハニカム構造を持つような複雑な形状のリブで囲まれる基板も用いられるようになっている。
【０００４】
蛍光体層は、隔壁の間に赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色用の蛍光体ペーストを選択的に充填した後、乾燥させてから焼成することで形成されており、上述した格子型やハニカム構造を持つ基板に対して、蛍光体を塗布するには、スクリーン板を、背面板に設けられた隔壁間の上面に配置した後に、スクリーン板を介してセル内に蛍光体ペーストを充填し、乾燥させてから焼成する、いわゆるスクリーン印刷法によって形成されている。即ち、蛍光体ペーストをスクリーン印刷で隔壁間に選択的に充填して乾燥させる工程を計３回繰り返し、その後で焼成するようにしている。
【０００５】
しかしながら、スクリーン印刷法は次のような問題点を有している。１）蛍光体層は、１色ごとにスクリーン印刷による塗布工程、乾燥工程を繰り返し、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色の蛍光体ペーストの充填を行っていた。この場合、１色目が未乾燥状態で２色目の重ね刷りはできないため、１色毎に乾燥させる必要がある。したがって、印刷機と乾燥機が３セット（色数分）必要で、設備が大きくて高価な上に、サイクルタイムが長くなり、効率が悪いという問題があった。２）ＰＤＰの画面サイズの大型化が進むにつれて、スクリーンマスクの伸縮・位置決め誤差などの要因でセルの配置パターンとマスクパターンとの位置ずれが生じ、セルに正確に蛍光体ペーストを塗布することが困難だという問題点があった。３）複雑な形状のセルに対応した、格子型やハニカム構造用の微細な構造を有するスクリーン印刷板を使用しなければならず、その作製が困難であった。また、スクリーン板は伸びたり縮んだりするために、背面板との位置合わせが難しく、蛍光体ペーストの充填を正確に行えないという問題点があった。
【０００６】
そこで、蛍光体ペーストを塗布方向と直角な方向に複数の吐出孔を有する塗布ヘッドを使用し、この塗布ヘッドを基板と対向させて相対的に移動させながら３色の蛍光体ペーストを同時にディスペンサを用いてリブ（本発明の隔壁に該当する）の間（本発明のセルに該当する）に効率よく充填する方式が知られている（例えば、特許文献１を参照。）。
【０００７】
又、蛍光体ペーストを塗布する他の方法として、ディスペンサを用いて基板上のリブ（本発明のセルに該当する）の間に塗布する際、リブの頂点にに付着した各色の蛍光体ペーストの幅を測定し、各色の蛍光体ペーストの幅が所定の幅になるように基板と塗布部との相対位置を制御し塗布ムラをなくす方法が知られている（例えば、特許文献２を参照。）。
【０００８】
しかしながら、特許文献１、特許文献２に記載のディスペンサ方式では、つぎの様な問題点が挙げられる。
【０００９】
１）リブが高精細に配置されている場合、蛍光体ペーストの粘度が高いと均一に充填できない。
【００１０】
２）粘度が低いと蛍光体ペースト中の蛍光体が分離し、均一に吐出できなくなり又、リブの間の側壁と底部とで厚さを一定にすることが困難となり、精度よく且つ安定した品質で充填することが難しい。
【００１１】
３）精度よく、且つ安定した品質を得るために、例えば、ヘッド先端の吐出開始時の状態を一定に保つ、又、基板と塗布部との相対位置を一定に保つ様に制御する必要が有り、装置が大型化すると共に装置のコストが高くなる。又、ヘッド先端の吐出開始時の状態を一定に保つ必要があり、しかも人手にて毎回ヘッド先端を清掃する必要がある。さらに、塗布開始部分と終了部分は、品質が安定しないため、マスキング処理をする必要があり、維持管理が煩雑である。
【００１２】
この様な状況の下、近年、ＰＤＰの画面サイズの大型化が進むにつれて、スクリーンマスクの伸縮・位置決め誤差などの要因でリブの配置パターンとマスクパターンとの位置ずれが生じ、ディスペンサ方式ではリブの間に正確に蛍光体ペーストを塗布することが困難になってきた。一方、従来のスクリーン印刷では、各色毎に順にスクリーン印刷法によって基板上に塗布し、乾燥後に焼成処理を必要とするため時間が掛かり、生産効率を上げることが困難となっている。
【００１３】
この様な状況から、画面サイズが大型のＰＤＰを構成する高精細に配置されているセルに精度よく、且つ安定して均一に精度よく形成された蛍光体層を有するＰＤＰの製造方法及びＰＤＰの開発が望まれている。
【特許文献１】特開２００３−３１７６１８号公報
【特許文献２】特開２００３−３１７６１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上記状況に鑑みなされたものであり、その目的は、画面サイズが大型のＰＤＰを構成する高精細に配置されているセルに精度よく且つ安定して均一に精度よく形成された蛍光体層を有するＰＤＰの製造方法及びＰＤＰを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成された。
【００１６】
（請求項１）
複数の隔壁間の溝に蛍光体層を形成した背面板となる第１基板と、該隔壁側に重ね合わせて前面板となる第２基板と、該第１基板と、該第２基板との間に形成された空間に封入されたガス媒体とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、蛍光体層形成部とエアロゾル発生部とを有する蛍光体層形成装置を用いて、少なくとも１本のノズルを使用しキャリアガスにより、蛍光体粒子を前記隔壁間の溝に噴射し堆積させることで該蛍光体層を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【００１７】
（請求項２）
前記蛍光体層形成装置がエアロゾル・デポジション法を用いた蛍光体層形成装置であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【００１８】
（請求項３）
前記蛍光体粒子の粒径が０．１〜２．０μｍであることを特徴とする請求項１又は２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【００１９】
（請求項４）
前記ノズルは、隔壁間の溝に対して蛍光体粒子の噴射角度を可変可能に蛍光体層形成装置に配設されていることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【００２０】
（請求項５）
前記キャリアガスの噴射時の流速が１００〜４００ｍ／ｓｅｃであることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【００２１】
（請求項６）
前記請求項１〜５の何れか１項に記載の製造方法を用いて作製されたことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【発明の効果】
【００２２】
画面サイズが大型のＰＤＰを構成する高精細に配置されているセルに精度よく且つ安定して均一に精度よく形成された蛍光体層を有するＰＤＰの製造方法及びＰＤＰを提供することが出来、緻密な蛍光体層の形成が可能となったため、残光時間が短く、発光強度も高くなり、ＰＤＰの輝度が向上し、さらには動画等を滑らかに表示することが可能となり大型のＰＤＰの画面品質の向上が可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
本発明に係る実施の形態を図１〜図５を参照して説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２４】
図１はＰＤＰの概略分解斜視図である。
【００２５】
図中、１はＰＤＰを示す。ＰＤＰは前面板１ａ（第２基板）と、背面板１ｂ（第１基板）とを有している。前面板１ａ（第２基板）は、セルから発せられる可視光を透過し、基板上に各種の情報表示を行うもので、ＰＤＰ１の表示画面として機能する。前面板１ａ（第２基板）は透明放電電極１ａ１１とバス放電電極１ａ１２とから構成される複数の放電電極１ａ１を有し、これらの放電電極１ａ１の上を誘電体層１ａ２で覆い、更に誘電体層１ａ２の表面に保護層１ａ３を有している。
【００２６】
背面板１ｂ（第１基板）は、アドレス電極１ｂ１と、アドレス電極１ｂ１の上を覆う誘電体層１ｂ２と、誘電体層１ｂ２の上にアドレス電極１ｂ１の両側に位置するように複数の隔壁１ｂ３を有している。１ｂ４は、前面板１ａ（第２基板）と、背面板１ｂ（第１基板）と複数の隔壁１ｂ３とで囲まれたセルを示し、セル１ｂ４の内側に面する隔壁１ｂ３の側面１ｂ３１とセル１ｂ４の底面１ｂ３２に蛍光体層１ｃが設けられている。１ｂ５はセル１ｂ４を構成する隔壁１ｂ３間の溝を示す。
【００２７】
前面板１ａ（第２基板）に設けられる放電電極１ａ１は帯状に形成し、所定間隔をあけて互いに平行に、かつ、規則的に配置されている。これらの放電電極１ａ１は、前面板１ａ（第２基板）の端１ａ４から端１ａ５まで連続して設けられており（図３を参照）、各放電電極１ａ１はそれぞれパネル駆動回路（不図示）に接続し、所望の放電電極１ａ１に電圧を印加することが可能となっている。
【００２８】
背面板１ｂ（第１基板）に設けらているアドレス電極１ｂ１も帯状に形成し、所定間隔毎に設けられている。アドレス電極１ｂ１は背面板１ｂ（第１基板）の中央部で分割し、それぞれをパネル駆動回路（不図示）に接続されており、このパネル駆動回路により、所望のアドレス電極１ｂ１に電圧を印加することが可能となっている。
【００２９】
放電電極１ａ１とアドレス電極１ｂ１とは、互いに直交しマトリックス状（不図示）となるように形成されており、この放電電極１ａ１とアドレス電極１ｂ１とが交差する点で選択的に放電させることにより所望の情報が表示可能となっている。
【００３０】
放電電極１ａ１とアドレス電極１ｂ１とは、銀、金、銅、クロム、ニッケル、白金等の金属ペーストをスクリーン印刷法で塗布し焼成することによって形成する。なお、この放電電極は、インキジェット方式やフォトリソグラフィー方式で形成することもできる。尚、放電電極１ａ１については、前面板１ａに設けるものであり、蛍光体からの発光を透過する必要があることから、ＩＴＯ、ＳｎＯ2、ＺｎＯ等の導電性金属酸化物からなる幅広の透明電極（透明放電電極１ａ１１）の上に幅細の銀又はＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒ電極（バス放電電極１ａ１２）を積層させた組み合わせ電極を用いることが好ましい。
【００３１】
尚、前面板１ａ（第２基板）及び背面板１ｂ（第１基板）は、例えば、ソーダライムガラス等から形成することが好ましい。
【００３２】
前面板１ａ（第２基板）に設けられている誘電体層１ａ２は、前面板１ａ（第２基板）の放電電極１ａ１が配された表面全体を覆うように設けられている。この誘電体層１ａ２は誘電物質からなり、鉛系、例えば、酸化鉛，酸化硼素，酸化硅素及び酸化アルミニウムと有機バインダー［α−ターピネオールに１０％のエチルセルローズを溶解したもの］の混合物を、スクリーン印刷法などで塗布した後、５００℃程度で３０分間焼成することによって膜厚約２０μｍに形成する方法も好ましく用いられる。
【００３３】
一般に、鉛系低融点ガラスから形成することが多い。この他に、ビスマス系低融点ガラス、あるいは鉛系低融点ガラスとビスマス系低融点ガラスの積層物等で誘電体層１ａ２を形成しても良い。
【００３４】
保護層１ａ３は誘電体層１ａ２の表面を全体的に覆うようにして設けられており、保護層１ａ３は、保護層は、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなるものであって、一般的にはスパッタリング法によって形成するが、ここではＣＶＤ法で１．０μｍの膜厚に形成する。ＣＶＤ法による酸化マグネシウム保護層の形成は、ＣＶＤの装置内に前面ガラス基板をセットし、これにソースとしてのマグネシウム化合物及び酸素を送り込んで反応させることによって行う。ここで用いるソースの具体例としては、アセチルアセトンマグネシウム［Ｍｇ（Ｃ5Ｈ7Ｏ2）2］、シクロペンタジエニルマグネシウム［Ｍｇ（Ｃ5Ｈ5）2］を挙げることができる。
【００３５】
背面板１ｂ（第１基板）に設けられている誘電体層１ｂ２は、背面板１ｂ（第１基板）のアドレス電極１ｂ１が配された表面全体を覆うように設けられている。この誘電体層１ｂ２についても、誘電体層１ａ２と同様に、鉛系低融点ガラスや、ビスマス系低融点ガラス、あるいは鉛系低融点ガラスとビスマス系低融点ガラスの積層物等から構成することができる。さらに、これらの誘電物質にＴｉＯ2粒子を混合し、可視光反射層としての働きも兼ねるようにすると好ましい。可視光反射層としても機能させると、蛍光体層１ｃからの背面板１ｂ側に発光しても、これを前面板１側に反射して、前面板１ａを透過する光を増やし、輝度を向上させることができる。
【００３６】
背面板１ｂ（第１基板）上に、放電電極と同様にスクリーン印刷法を用いて、アドレス電極１ｂ１を形成する。次に、ＴｉＯ2粒子が混合されたガラス材料をスクリーン印刷法を用いて塗布し焼成することによって誘電体層を形成する。次に、スクリーン印刷法でガラス材料を繰返し塗布した後、焼成することによって隔壁１ｂ３を形成する。そして、隔壁１ｂ３の間の溝に蛍光体層を形成する。この蛍光体層の形成方法については後で詳述する。
【００３７】
次に、このように作製した前面板１ａ（第２基板）を背面板１ｂ（第１基板）上に設けられた隔壁１ｂ３上に封着用シールガラスを用いて張り合わせる。これにより隔壁１ｂ３によって、前面板１ａ（第２基板）と背面板１ｂ（第１基板）との間の空間に所定形状に複数区画されたセル１ｂ４が形成される。
【００３８】
セル１ｂ４の内側に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかに発光する蛍光体層１ｃがＲ、Ｇ、Ｂの順に規則正しく設けられている。蛍光体層１ｃ４の形成方法は後述する。
【００３９】
次いで、セル１ｂ４内を高真空（例えば、０．１１ｍＰａ）に排気した後、希ガスを主体とする放電ガスを所定の圧力（例えば、６６〜１０７ｋＰａ）で封入することによって、ＰＤＰが製造されている。
【００４０】
放電ガスとしては、特にＮｅを主放電ガスとし、これに放電により紫外線を発生するＸｅを混合した混合ガスを用いると好ましい。特に、混合ガスにおけるＸｅの含有量を５体積％以上とすることが好ましい。
【００４１】
放電電極１ａ１は各セル１ｂ４を横切り、アドレス電極１ｂ１と放電電極１ａ１の交点が一つのセル１ｂ４内に多数構成され、セル１ｂ４内の一つ一つの交点が最小の発光単位となる。近接するＲ、Ｇ、Ｂの３つの発光単位で１画素となる。
【００４２】
本図に示すセル１ｂ４は、複数の隔壁１ｂ３がアドレス電極１ｂ１の両側に設けられ、複数の隔壁１ｂ３により平行な溝状に複数形成された、いわゆるストライプ型の場合を示している。本発明に係るＰＤＰのセル構造はこれに限定されるものではなく、例えば図２に示すような構造を有していてもかまわない。
【００４３】
図２は背面板（第１基板上）に設けたセルを構成する他の隔壁の構造を示す概略平面図である。図２の（ａ）は格子型のセルを構成する隔壁の構造を示す概略平面図である。図２の（ｂ）は他の格子型のセルを構成する隔壁の構造を示す概略平面図である。図２の（ｃ）はハニカム型のセルを構成する隔壁の構造を示す概略平面図である。尚、本図ではアドレス電極は省略してある。
【００４４】
図２の（ａ）に示される格子型のセルを構成する隔壁の構造では縦隔壁１ｄと横隔壁１ｄ１とを格子状に設けて略矩形状のセルを構成する空間１ｄ２を形成している。この場合、一つの空間１ｄ２の内側に、放電電極１ａ１（図１を参照）とアドレス電極１ｂ１（図１を参照）の交点が少なくとも一つ設けられる様に設計されている。
【００４５】
図２の（ｂ）に示される他の格子型のセルを構成する隔壁の構造では縦隔壁１ｅと横隔壁１ｅ１とを格子状に設けて、横隔壁１ｅ１の中程に抜け部を形成することによって空間１ｅ２を形成した格子型のものでもよい。この場合、一つのセルを構成する空間１ｅ２の内側に、放電電極１ａ１（図１を参照）とアドレス電極１ｂ１（図１を参照）の交点が少なくとも一つ設けられる様に設計されている。
【００４６】
図２の（ａ）及び図２の（ｂ）に示される縦隔壁及び横隔壁の幅は４０〜２４０μｍ、ピッチは５０〜３００μｍ、ピッチは３００〜１０００μｍ、縦隔壁と横隔壁との高さは５０〜３００μｍが好ましく、より好ましくは８０〜１７０μｍである。
【００４７】
図２の（ｃ）に示されるハニカム型のセルを構成する隔壁の構造では、複数の隔壁１ｆによりセルを構成する空間１ｆ１がほぼ６角形状になるように形成されている。空間１ｆ１の内側には放電電極１ａ１とアドレス電極１ｂ２の交点が少なくとも一つ設けられる様に設計されている。空間１ｆ１を形成する隔壁の１辺は１００〜５００μｍが好ましく、隔壁の高さは８０〜１２０μｍが好ましい。
【００４８】
図３は図１のＡ−Ａ′に沿った拡大概略断面図である。
【００４９】
図中の符号は図１と同義である。放電電極１ａ１は、前面板１ａ（第２基板）の端１ａ４から端１ａ５まで連続して設けられている。前面板１ａ（第２基板）と、背面板１ｂ（第１基板）と複数の隔壁１ｂ３とで囲まれたセル１ｂ４の内側に面する隔壁１ｂ３の側面１ｂ３１とセル１ｂ４の底面１ｂ３２に蛍光体層１ｃが設けられている。
前面板１ａ（第２基板）の厚さとしては、２〜７ｍｍが好ましく、より好ましくは２〜５ｍｍである。背面板１ｂ（第１基板）の厚さとしては、２〜７ｍｍが好ましく、より好ましくは２〜５ｍｍである。
【００５０】
隔壁の高さは、５０〜３００μｍが好ましく、より好ましくは８０〜１７０μｍである。隔壁のピッチは５０〜３００μｍが好ましい。隔壁の高さが５０μｍ未満の場合は、放電時のイオン衝撃により発光状態が影響される場合がある。隔壁の高さが３００μｍを越えた場合は、隔壁形成時に蛇行が発生しやすくなることから蛍光体塗布が難しくなり、画像表示特性も低下する場合がある。隔壁のピッチが５０μｍ未満の場合は、放電空間が小さくなり、また、蛍光体の塗布面積が小さくなることから、輝度が低下する場合がある。隔壁のピッチが３００μｍを越えた場合は、放電のための空間が確保できないことや蛍光体の塗布面積が小さくなることによって、輝度を向上することが困難になる場合がある。
【００５１】
隔壁間の底部（セル内の底部）の蛍光体層１ｃの厚さとしては、１０〜３０μｍが好ましく、各色によって好ましい厚さが異なるが大体２０μｍぐらいが好ましい。厚さが１０μｍ未満の場合は、透過率が大きくなり、紫外線により励起され発光した可視光が前面側に取り出されるだけでなく、背面側に透過してしまう場合がある。厚さが３０μｍを越えた場合は、コストが掛かり、厚さを維持することが大変になると共にセルを構成した際、セル内の放電空間が狭くなり、蛍光体の発光輝度が低下してしまう場合がある。
隔壁間の側壁（セル内の側面）の蛍光体層１ｃの厚さは、隔壁間の底部（セル内の底部）の蛍光体層１ｃの厚さと同じであることが好ましい。
【００５２】
蛍光体層の厚さは、例えば、電子顕微鏡（日立製作所（株）製Ｓ−９００）を用いて、隔壁間の底部又は側面から蛍光体層の上面までの距離を任意の６点で測定した値の平均値を指す。
【００５３】
次にセル１ｂ４の内側に蛍光体層１ｃを形成する方法につき図４で説明する。
【００５４】
図４はセル内に蛍光体層を形成する蛍光体層形成装置の模式図である。
図中、２は蛍光体層形成装置を示す。蛍光体層形成装置２は、蛍光体層形成部２ａと、エアロゾル発生部２ｂとを有している。蛍光体層形成部２ａはセルを形成する複数の隔壁を有する基板２０１を保持するホルダー２０２と、ホルダー２０２をＸＹＺθで３次元に作動させるＸＹＺθステージ２０３と、基板２０１に蛍光体原料を噴出させる細い開口を備えたノズル２０４とを有する蛍光体層形成室２０５と、蛍光体層形成室２０５を減圧にする真空ポンプ２０６とを有している。ホルダー２０２の裏面にはペルチェ素子による温度制御機構（不図示）が設置され、基板２０１を最適な温度に保つことが可能となっている。基板２０１はＸＹＺθステージ２０３により揺動されており、所望の形状、面積に蛍光体層の形成を可能としている。
【００５５】
エアロゾル発生部２ｂは、蛍光体微粒子原料を内蔵するエアロゾル発生器２０７と、エアロゾル発生器内で蛍光体微粒子原料とキャリアガスとを攪拌・混合しエアロゾルを発生させるキャリアガス用の高圧ガスボンベ２０８と、高圧ガスボンベ２０８とエアロゾル発生器２０７とを繋ぐガス搬送管２０９と、エアロゾル発生器２０７で発生したエアロゾルをノズル２０４に搬送するノズル２０４に繋がったエアロゾル搬送管２１０とを有している。ノズル２０４の噴出口は基板２０１と対向する向きに蛍光体層形成室２０５に配設されている。配設するノズルの数は必要に応じて１本から複数本が可能である。ノズルの配設に付いては図５で説明する。本図に示す蛍光体層形成装置は「応用物理」誌６８巻１号４４ページ、特開２００３−２１５２５６号公報等に開示されているエアロゾル・デポジション成膜装置と言われる装置である。
【００５６】
本発明に係る蛍光体微粒子原料の大きさ（平均粒径）は、好ましくは０．０１〜２μｍ、より好ましくは０．０５〜０．７μｍであり、更に好ましくは０．１〜０．３μｍである。蛍光体微粒子原料の大きさ（平均粒径）が０．１μｍの場合は、本発明に係る蛍光体層形成装置では成膜が出来ない場合がある。蛍光体微粒子原料の大きさ（平均粒径）が２．０μｍを越えた場合は、発光に寄与する粒子の表面積が減少するので蛍光体層を形成したときにその輝度が低下する場合がある。
【００５７】
ここで、蛍光体微粒子原料の大きさ（平均粒径）は、電子顕微鏡（例えば、日立製作所（株）製、Ｓ−９００等）を用いて、エアロゾル発生器中で捕集した蛍光体粒子３００個の平均粒径を測定した平均値をいう。また、ここで言う粒径とは、蛍光体粒子が立方体あるいは八面体の所謂正常晶の場合には、蛍光体粒子の稜の長さを言う。正常晶でない場合、例えば蛍光体粒子が球状、棒状あるいは平板状粒子の場合には、蛍光体粒子の体積と同等な球を考えた時の直径を言う。
【００５８】
また、蛍光体粒子は、粒径分布の変動係数が１００％以下であることが好ましく、５０％以下であることがさらに好ましく、３０％以下であることが最も好ましい。ここで、粒径分布の変動係数とは、下記式によって定義される値である。
【００５９】
粒径分布の変動係数（％）
＝粒子サイズの標準偏差／粒子サイズの平均値）×１００
本発明に係る蛍光体層形成装置（エアロゾル・デポジション成膜装置）の場合、規定の粒径の蛍光体粒子をエアロゾル化できるのであれば、焼成処理を行わなくても安定した性能を有する蛍光体層が形成されるが、必要に応じて焼成処理を行ってもかまわない。
【００６０】
エアロゾル発生器２０７で発生したエアロゾルをエアロゾル搬送管２１０を介してノズル２０４から噴出するときのキャリアガスの噴射時の流速は５０〜４５０ｍ／ｓｅｃが好ましい。流速が５０ｍ／ｓｅｃ未満の場合は、圧粉体が構造物中へ混在することにより、緻密な蛍光体層の形成が困難となり、正常な輝度が得られなくなる場合がある。流速が４５０ｍ／ｓｅｃを越えた場合は、エッチング効果が目立つようになり、構造物形成効率が低下する場合がある。尚、流速の測定は特開２００２−１９４５６０号公報に記載の方法に準じて行った。
【００６１】
キャリアガスとしては、窒素ガスが好ましい。Ｈｅ等の希ガス類は、粒子衝突時に放電がおきやすく、蛍光体層へ欠陥が導入される場合があり好ましくない。
【００６２】
ノズル２０４からキャリアガスとともに噴出された蛍光体微粒子は複数の隔壁を所定ピッチで並列に形成した基板に蛍光体微粒子が高速で衝突し、粒子はその運動エネルギーにより変形、破砕を起こして、一部は基板に食い込みアンカー層を形成し、一部は粒子同士が接合し、これを繰り返して基板上に緻密質の蛍光体層の形成が可能となっている。
【００６３】
セルを構成する隔壁間への蛍光体層形成時の蛍光体層形成室２０５の減圧度は０．１〜１０００Ｐａが好ましい。減圧度が０．１Ｐａ未満の場合は、得られる効果に差が見られず、ポンプの負荷が大きくなると同時に、設定した減圧度に達するまでに時間が掛かり生産性が低下する場合がある。減圧度が１０００Ｐａを越えた場合は、粒子の表面の新生面が接の別の微粒子の表面あるいは新生面に接触するまで、面を活性のまま保持することが困難となる場合がある。
【００６４】
蛍光体層形成室の減圧は、蛍光体層形成室として真空チャンバーなどの容器を用い、これに真空ポンプを接続して真空チャンバー内の空気を系外へ排気することにより行い、減圧度は真空チャンバーの壁面付近に設置した真空計により測定された値とする。
【００６５】
このようにして得られる蛍光体層は基板と蛍光体層が強固に接着しており、室温で形成されるために、蛍光体層の残留応力も少ない。形成後の表面はＲａ＝０．１８μｍ程度の表面粗さを保有しているが、この表面は研磨しても良いし、後工程でのセル電極との電気的接合を考慮すればこのまま用いることも好適である。
【００６６】
図５は図４のＳで示される部分の拡大概略図である。図５の（ａ）はノズルが１本の場合の拡大概略図である。図５の（ｂ）は図５の（ａ）に示されるノズルの両側に２本のノズルを配設した場合の拡大概略図である。
図中、２０１ａは背面板（第１基板）を示し、２０１ｂは背面板２０１ａ上に設けられた誘電体層を示し、２０１ｃは隔壁を示す。２０１ｄは隔壁２０１ｃにより仕切られ形成されたセルを構成する溝を示し、２０１ｄ１は溝２０１ｄの底部を示す。ノズルはセルを構成する隔壁間の溝の底部から側壁に対して蛍光体粒子を高速衝突させて蛍光体層を形成することが可能に噴射角度が可変可能に蛍光体形成室に配設することが好ましい。
【００６７】
図５の（ａ）に示される様にノズル２０４が１本の場合、ノズル２０４がセルを構成する隔壁間の溝の底部から側壁に対して蛍光体粒子を高速衝突させて蛍光体層を形成する様に噴射角度が変えられる様に蛍光体形成室に配設されている場合を示している。又、噴射角度を変えた時、ノズルの噴射口とセルを構成する隔壁間の溝の底部から側壁までの距離が異なってくるため、これらの距離を一定に保つため噴射角度に対応して距離も一定に保つようにノズルを移動するように移動手段を設け制御することが好ましい。
【００６８】
図５の（ｂ）に示される様にノズル２０４ａの両側に１本ずつノズル２０４ｂとノズル２０４ｃとを配設した場合も、各ノズル２０４ａ〜２０４ｃが独立で噴射角度と噴射角度を変えた時、ノズルの噴射口とセルを構成する隔壁間の溝の底部から側壁までの距離が異なってくるため、これらの距離を一定に保つため噴射角度に対応して距離も一定に保つようにノズルを移動するように移動手段を設け制御することが好ましい。図５の（ｂ）に示される様にノズルが３本の場合は、１本に比べ噴射角度の変更の範囲を狭くすることが可能になるためより安定した安定した緻密な蛍光体層の形成が可能となる。
【００６９】
図５に示す様に、セルを構成する隔壁間の溝の底部から側壁に対して蛍光体粒子を高速衝突させて蛍光体層を形成する様に噴射角度が可変可能にすること及び図４に示すＸＹＺθステージ２０３との組み合わせで、図２に示す様な複雑なセルを構成する隔壁間の溝の底部から側壁までに更に安定した緻密な蛍光体層の形成が可能となった。
【００７０】
図４、図５に示す方法により図１に示す背面板上の隔壁の間に形成し蛍光体層を用いてＰＤＰを作製することにより次の効果が得られた。
【００７１】
１）緻密な蛍光体層の形成が可能となったため、残光時間が短く、発光強度も高くなり、ＰＤＰの輝度が向上し、さらには動画等を滑らかに表示することが可能となり大型のＰＤＰの画面品質の向上が可能となった。
【００７２】
２）蛍光体層を形成した後の焼成処理が不要になり生産効率の向上が可能となった。
【００７３】
本発明に係る蛍光体はその組成に特に制限は無く、例えば特開昭５０−６４１０号、同６１−６５２２６号、同６４−２２９８７号、同６４−６０６７１号、特開平１−１６８９１１号等に記載されている公知の種々の組成を適用することが可能である。具体的には、Ｙ2Ｏ3、Ｚｎ2ＳｉＯ4等に代表される金属酸化物、Ｃａ5（ＰＯ4）3Ｃｌ等に代表されるリン酸塩、ＺｎＳ、ＳｒＳ、ＣａＳ等に代表される硫化物、Ｓｉ、ＳｉＯ2等を含むケイ素化合物等を蛍光体結晶母体とし、これら母体にＣｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ等の希土類金属イオンやＡｇ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｓｂ、Ｚｎ等の金属イオン又は金属元素を賦活剤または共賦活剤として組み合わせたものが好ましい。
【００７４】
結晶母体の好ましい化合物としては、例えば、ＺｎＳ、ＳｒＳ、ＧａＳ、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ、ＳｒＧａ2Ｓ4、ＹＯ3、Ｙ2Ｏ2Ｓ、Ｙ2Ｏ3、Ｙ2ＳｉＯ3、ＳｎＯ2、Ｙ3Ａｌ5Ｏ12、Ｚｎ2ＳｉＯ4、Ｓｒ4Ａｌ14Ｏ25、ＣｅＭｇＡｌ10Ｏ19、ＢａＡｌ12Ｏ19、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23、Ｂａ2Ｍｇ2Ａｌ12Ｏ22、Ｂａ2Ｍｇ4Ａｌ8Ｏ18、Ｂａ3Ｍｇ5Ａｌ18Ｏ35、（Ｂａ、Ｓｒ、Ｍｇ）Ｏ・ａＡｌ2Ｏ3、（Ｂａ、Ｓｒ）（Ｍｇ、Ｍｎ）Ａｌ10Ｏ17、（Ｂａ、Ｓｒ、Ｃａ）（Ｍｇ、Ｚｎ、Ｍｎ）Ａｌ10Ｏ17、Ｓｒ2Ｐ2Ｏ7、（Ｌａ、Ｃｅ）ＰＯ4、Ｃａ10（ＰＯ4）6（Ｆ、Ｃｌ）2、（Ｓｒ、Ｃａ、Ｂａ、Ｍｇ）10（ＰＯ4）6Ｃｌ2、ＧｄＭｇＢ5Ｏ10、（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ3等が挙げられる。
【００７５】
結晶母体元素及び賦活剤または共賦活剤元素を含む化合物は、特に元素の組成に制限はなく、同族の元素と一部置き換えたものでもよく、紫外領域の励起光を吸収して可視光を発するものであればどのような組み合わせでもよい。特に、無機酸化物蛍光体、または無機ハロゲン化物蛍光体を使用することが好ましい。
【００７６】
以下に本発明に係わる蛍光体の具体的な化合物例を示すが、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。
【００７７】
青色発光蛍光体化合物としては、例えばＳｒ2Ｐ2Ｏ7：Ｓｎ4+、Ｓｒ4Ａｌ14Ｏ25：Ｅｕ2+、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+、ＳｒＧａ2Ｓ4：Ｃｅ3+、ＣａＧａ2Ｓ4：Ｃｅ3+、（Ｂａ、Ｓｒ）（Ｍｇ、Ｍｎ）Ａｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+、（Ｓｒ、Ｃａ、Ｂａ、Ｍｇ）10（ＰＯ4）6Ｃｌ2：Ｅｕ2+、ＺｎＳ：Ａｇ、ＣａＷＯ4、Ｙ2ＳｉＯ5：Ｃｅ、ＺｎＳ：Ａｇ、Ｇａ、Ｃｌ、Ｃａ2Ｂ5Ｏ9Ｃｌ：Ｅｕ2+、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ2+、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+、Ｔｂ3+、Ｓｍ2+、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｓｍ2+、Ｂａ2Ｍｇ2Ａｌ12Ｏ22：Ｅｕ2+、Ｂａ2Ｍｇ4Ａｌ8Ｏ18：Ｅｕ2+、Ｂａ3Ｍｇ5Ａｌ18Ｏ35：Ｅｕ2+、（Ｂａ、Ｓｒ、Ｃａ）（Ｍｇ、Ｚｎ、Ｍｎ）Ａｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+等が挙げられる。
【００７８】
緑色発光蛍光体化合物としては、例えば（Ｂａ、Ｍｇ）Ａｌ16Ｏ27：Ｅｕ2+、Ｍｎ2+、Ｓｒ4Ａｌ14Ｏ25：Ｅｕ2+、（Ｓｒ、Ｂａ）Ａｌ2Ｓｉ2Ｏ8：Ｅｕ2+、（Ｂａ、Ｍｇ）2ＳｉＯ4：Ｅｕ2+、Ｙ2ＳｉＯ5：Ｃｅ3+、Ｔｂ3+、Ｓｒ2Ｐ2Ｏ7−Ｓｒ2Ｂ2Ｏ5：Ｅｕ2+、（Ｂａ、Ｃａ、Ｍｇ）5（ＰＯ4）3Ｃｌ：Ｅｕ2+、Ｓｒ2Ｓｉ3Ｏ8−２ＳｒＣｌ2：Ｅｕ2+、Ｚｒ2ＳｉＯ4、ＭｇＡｌ11Ｏ19：Ｃｅ3+、Ｔｂ3+、Ｂａ2ＳｉＯ4：Ｅｕ2+、ＺｎＳ：Ｃｕ、Ａｌ、（Ｚｎ、Ｃｄ）Ｓ：Ｃｕ、Ａｌ、ＺｎＳ：Ｃｕ、Ａｕ、Ａｌ、Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ、ＺｎＳ：Ａｇ、Ｃｕ、（Ｚｎ、Ｃｄ）Ｓ：Ｃｕ、ＺｎＳ：Ｃｕ、Ｇｄ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ、Ｌａ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ、Ｙ2ＳｉＯ5：Ｃｅ、Ｔｂ、Ｚｎ2ＧｅＯ4：Ｍｎ、ＣｅＭｇＡｌ11Ｏ19：Ｔｂ、ＳｒＧａ2Ｓ4：Ｅｕ2+、ＺｎＳ：Ｃｕ、Ｃｏ、ＭｇＯ・ｎＢ2Ｏ3：Ｃｅ、Ｔｂ、ＬａＯＢｒ：Ｔｂ、Ｔｍ、Ｌａ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ、ＳｒＧａ2Ｓ4：Ｅｕ2+、Ｔｂ3+，Ｓｍ2+等が挙げられる。
【００７９】
赤色発光蛍光体化合物としては、例えばＹ2Ｏ2Ｓ：Ｅｕ3+、（Ｂａ、Ｍｇ）2ＳｉＯ4：Ｅｕ3+、Ｃａ2Ｙ8（ＳｉＯ4）6Ｏ2：Ｅｕ3+、ＬｉＹ9（ＳｉＯ4）6Ｏ2：Ｅｕ3+、（Ｂａ、Ｍｇ）Ａｌ16Ｏ27：Ｅｕ3+、（Ｂａ、Ｃａ、Ｍｇ）5（ＰＯ4）3Ｃｌ：Ｅｕ3+、ＹＶＯ4：Ｅｕ3+、ＹＶＯ4：Ｅｕ3+、Ｂｉ3+、ＣａＳ：Ｅｕ3+、Ｙ2Ｏ3：Ｅｕ3+、３．５ＭｇＯ、０．５ＭｇＦ2ＧｅＯ2：Ｍｎ、ＹＡｌＯ3：Ｅｕ3+、ＹＢＯ3：Ｅｕ3+、（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ3+等が挙げられる。
【００８０】
これらの蛍光体は、特開２００４−６３２４６号公報に記載の固相合成法、液相合成法等、種々の製法で製造されたものを適用することができるが、液相合成法によって製造されたものが好ましく、平均粒径が２〜１０μｍ程度となっている。固相合成法とは、蛍光体母体を構成する元素を含む化合物とＥｕ、Ｍｎなどの付活剤元素を含む化合物を所定量混合し、所定の温度で焼成して固相間反応により蛍光体を得る方法である。液相合成法とは、蛍光体の原料となる元素を含む化合物を液相中で反応させる方法で、具体的には上記の蛍光体前駆体の母核を構成する元素を含む溶液と賦活剤元素を含む溶液を共に混合して蛍光体前駆体を合成する方法であり、反応晶析法、共沈法、ゾルゲル法など液相中での反応方法を称して表している。本発明に係わる蛍光体はこれらの方法を適宜選択して製造することが可能である。なお、蛍光体前駆体とは製造される蛍光体の中間体化合物であり、上記したように乾燥、焼成等の処理により蛍光体となる化合物である。
【００８１】
本発明に係わる蛍光体微粒子とするには、作製した蛍光体をボールを用いて分散する振動ミルや撹拌槽型ミル（ボールミル、ビースミル、サンドミル等）の他に、ボールを用いることなく分散する流通管型ミル、ジェットミル、ナノマイザ等で粉砕して作製することが可能である。振動ミルや撹拌槽型ミルの分散媒体（メディア）としては、ジルコニアやアルミナのボールを用い、特に直径０．２〜２ｍｍのジルコニア（ＺｒＯ2）ボールを用いるのが好ましい。これは、蛍光体粉末へのダメージを抑えると共に、不純物の混入（コンタミ）を抑えるためである。ジェットミルを用いる場合、１０〜１００Ｐａの圧力範囲で分散を行うのが好ましい。
【００８２】
以下、実施例を挙げて本発明の具体的な効果を示すが、本発明の態様はこれに限定される物ではない。
【実施例】
【００８３】
実施例１
〈蛍光体粒子の作製〉
液相法により緑色発光蛍光体、赤色発光蛍光体、青色発光蛍光体粒子を以下の方法により作製した。
【００８４】
（緑色発光蛍光体（Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ）粒子の作製）
純水３００ｍｌにゼラチン（平均分子量２０、０００）をその濃度が５質量％となるように溶解しＡ液とした。次に、硝酸亜鉛６水和物４１．９５ｇと硝酸マンガン６水和物２．１５ｇと硝酸マグネシウム６水和物０．３８ｇを純水１２６．８２ｇに溶解してＢ液とした。また、メタケイ酸ナトリウム（Ｎａ2ＳＯ3）9．１５ｇを純水１４９．０２ｇに溶解してＣ液とした。次に、反応容器にＡ液を入れ撹拌しながら、ローラーポンプを使ってＢ液とＣ液を１０ｍｌ／ｍｉｎの添加速度でＡ液中にダブルジェットで同時添加した。この時、Ａ液中のｐＨが１０になるようにアンモニア水を適宜添加した。Ｂ液、Ｃ液の添加終了後、吸引濾過により固液分離を行いながら、純水を用いて十分に洗浄を行った。次いで、１００℃、１２時間乾燥を行い、乾燥済み前駆体を得た。得られた前駆体を窒素１００％の雰囲気中で１２００℃、３時間焼成して平均粒径０．３μｍの緑色発光蛍光体を得た。
【００８５】
（赤色発光蛍光体〔（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ3+〕粒子の作製）
保護コロイドの存在下で反応晶析法により赤色発光蛍光体前駆体を形成した。まず、純水３００ｍｌにゼラチン（平均分子量約１万５千）をその濃度が５質量％となるように溶解しＡ液とした。また、硝酸イットリウム６水和物２８．９９ｇと、硝酸ガドリニウム１５．７７ｇと、硝酸ユウロピウム６水和物２．６０ｇを純水に溶解して１５０ｍｌに調整してＢ液とした。さらに、ホウ酸７．２０ｇを純水に溶解して１５０ｍｌに調整してＣ液とした。次に、反応容器にＡ液を入れ温度を６０℃に保ち、攪拌翼を用いて攪拌を行った。その状態で同じく６０℃に保ったＢ液、Ｃ液をＡ液の入った反応容器下部ノズルより６０ｍｌ／ｍｉｎの速度で等速添加を行った。添加後１０分間熟成を行い、赤色発光前駆体を得た。その後赤色発光前駆体を濾過、乾燥（１０５℃、１６時間）し、乾燥赤色発光蛍光体前駆体を得た。さらに乾燥赤色発光蛍光体前駆体を１２００℃酸化条件下で２時間焼成して、平均粒径０．４５μｍの赤色発光蛍光体を得た。
【００８６】
（青色発光蛍光体（ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+）粒子の作製）
純水３００ｍｌにゼラチン（平均分子量約１万５千）をその濃度が５質量％となるように溶解しＡ液とした。
【００８７】
また、硝酸バリウム４．７０ｇと、硝酸ユウロピウム６水和物０．８９ｇと、硝酸マグネシウム６水和物５．１３ｇを純水２９５．２２ｍｌに溶解しＢ液とした。
さらに、硝酸アルミニウム９水和物７５．０３ｇを純水２６８．７４ｍｌに溶解し、Ｃ液とした。
次に、反応容器にＡ液を入れ温度を６０℃に保ち、攪拌翼を用いて攪拌を行った。その状態で同じく６０℃に保ったＢ液、Ｃ液をＡ液の入った反応容器下部ノズルより６０ｍｌ／ｍｉｎの速度で等速添加を行った。添加後１０分間熟成を行い、青色発光前駆体を得た。その後青色発光前駆体を濾過、乾燥（１０５℃、１６時間）し、乾燥青色発光蛍光体前駆体を得た。さらに乾燥青色発光蛍光体前駆体を１２００℃酸化条件下で２時間焼成して、平均粒径０．５２μｍの青色発光蛍光体を得た。
【００８８】
〈前面板の作製〉
図１に示す透明電極を有する前面板をいかに示す方法で作製した。前面板となるガラス基板上に、透明電極を配置する。次に、Ｃｒ−Ｃｕ−Ｃｒをスパッタリングし、フォトエッチングを行うことによりバス電極を透明電極上に形成し、表示電極とする。そして、ガラス基板上に、表示電極を覆うように低融点ガラスを印刷し、これを５００〜６００℃で焼成することにより厚さ１３μｍの誘電体層を形成する。さらに誘電体層の上に、ＭｇＯを電子ビーム蒸着して厚さ１μｍの保護膜を形成し前面板を作製した。尚、ガラス基板としては、厚さ２．７ｍｍのソーダライムガラスを使用した。透明電極としては、銀ペーストをスクリーン印刷法で塗布し焼成することによって形成した。
【００８９】
〈アドレス電極と隔壁とを有する背面板の作製〉
図１に示すストライプ型の隔壁とアドレス電極とを有する背面板を以下に示す方法で作製した。背面板となるガラス基板上に、Ａｇ厚膜を印刷し、これを焼成することにより、アドレス電極を形成した。そして、ガラス基板上に、アドレス電極を覆うように低融点ガラスを印刷し、これを５００〜６００℃で焼成することにより厚さ１３μｍの誘電体層を形成する。そして、ガラス基板上で、且つ、アドレス電極の両側方に、低融点ガラスをピッチ０．２ｍｍで印刷し、焼成することにより高さ１００μｍの隔壁を形成した。
（蛍光体層の形成）
作製した背面板上の各隔壁の間に図４に示す蛍光体層形成装置により、作製した緑色発光蛍光体（Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ）粒子、赤色発光蛍光体〔（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ3+〕粒子、青色発光蛍光体（ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+）粒子を使用して以下に示す方法でセルを構成する隔壁間の１本溝の内部に各色発色蛍光体層を形成した。
【００９０】
１）緑色発光蛍光体層の形成
作製した緑色発光蛍光体（平均粒径０．３μｍ）粒子をエアロゾル発生器に充填し、キャリアガスとして流速２００ｍ／ｓｅｃのＮ2ガスを用い、蛍光体層形成室の真空度は１００Ｐａ、背面板の温度を２０℃としてセルを構成する隔壁間の溝の底部及び側壁に吹き付け、厚さ２０μｍの緑色発光蛍光体層を形成した。このとき緑色蛍光体粉体が噴出するノズルは、図５の（ａ）に示す様に１本のノズルを使用し、隔壁間の溝の底部からノズルの先端までの距離が０．５ｃｍで、ノズルの軸芯を隔壁間の溝の底部から側壁の全面を含む面に緑色発光蛍光体粒子を噴射可能にするため角度可変に配設した。
【００９１】
２）赤色発光蛍光体層の形成
作製した赤色発光蛍光体（平均粒径０．４５μｍ）を用い、緑色発光蛍光体層の作製と同じ方法により、緑色発光蛍光体層の隣のセルを構成する隔壁間の溝の底部に赤色発光蛍光体層を形成した。
【００９２】
３）青色発光蛍光体層の形成
作製した青色発光蛍光体（平均粒径０．５２μｍ）を用い、緑色発光蛍光体層の作製と同じ方法により、赤色発光蛍光体層の隣のセルを構成する隔壁間の溝の底部に青色発光蛍光体層を形成した。
【００９３】
（ＰＤＰの作製１）
作製した前面板と作製した各色発光蛍光体層を形成した背面板とを、それぞれの電極が対向するように位置合わせを行い重ね合わせた後、加熱してパネル内部を封着する。次に、パネル内部を１×１０-4Ｐａまで減圧排気する。この後、周辺をシールガラスにより封止し、前面板と背面板との間に、放電により紫外線を発生するキセノン（Ｘｅ）と主放電ガスのネオン（Ｎｅ）とを混合（Ｎｅが９５質量％、Ｘｅが５質量％の混合ガス）したガスを約７０ｋＰａになるまで封入して気密密閉した後、エージングを行いＰＤＰを作製し試料１−１とした。
【００９４】
（ＰＤＰの作製２）
ＰＤＰ１−１を作製時に作製した背面板の各隔壁間の溝に、各色発色蛍光体層を形成するときに図５の（ｂ）に示す様に配設した３本のノズルを使用した他は、全てＰＤＰ１−１を作製するときと同じ条件で前面板と背面板とを作製し、ＰＤＰ１−１と同じ条件で前面板と背面板とを重ね合わせＰＤＰを作製し試料１−２とした。各ノズルの先端から、隔壁間の溝の底部までの距離を０．５ｃｍとした。又、３本の各ノズルは、ノズルの軸芯を隔壁間の溝の底部から側壁の全面を含む面に緑色発光蛍光体粒子を噴射可能にするため角度可変に配設した。
【００９５】
（ＰＤＰの作製３）
ＰＤＰの作製２と同じ条件で背面板の各隔壁間の溝に、各色発色蛍光体層を形成した後、５００℃、１時間の条件で焼成処理を行った他は全て同じ条件でＰＤＰを作製し試料１−３とした。尚、本発明に係るエアロゾル・デポジション法では特に焼成処理は必要としないが参考として作製した。
【００９６】
（ＰＤＰの作製４）
比較試料として以下に示す方法によりＰＤＰを作製し試料１−４とした。
【００９７】
〈蛍光体粒ペーストの作製〉
緑色発光蛍光体ペースト、赤色発光蛍光体ペースト、青色発光蛍光体ペーストを以下に示す方法で作製した。
【００９８】
１）緑色発光蛍光体ペーストの作製
作製した緑色発光蛍光体粒子を緑色発光蛍光体の固形分濃度が４０質量％となるようにして、エチルセルロース、ポリオキシレンアルキルエーテル、ターピネオール及びペンタジオールの１：１混合液と共に混合し、緑色発光蛍光体ペーストを作製した。
【００９９】
２）赤色発光蛍光体ペーストの作製
作製した赤色発光蛍光体粒子を赤色発光蛍光体の固形分濃度が４０質量％となるようにして、エチルセルロース、ポリオキシレンアルキルエーテル、ターピネオール及びペンタジオールの１：１混合液と共に混合し、赤色発光蛍光体ペーストを作製した。
【０１００】
３）青色発光蛍光体ペーストの作製
作製した青色発光蛍光体粒子を青色発光蛍光体の固形分濃度が４０質量％となるようにして、エチルセルロース、ポリオキシレンアルキルエーテル、ターピネオール及びペンタジオールの１：１混合液と共に混合し、青色発光蛍光体ペーストを作製した。
【０１０１】
〈前面板の作製〉
前面板となるガラス基板上に、透明電極を配置する。次に、Ｃｒ−Ｃｕ−Ｃｒをスパッタリングし、フォトエッチングを行うことによりバス電極を透明電極上に形成し、表示電極とする。そして、ガラス基板上に、表示電極を覆うように低融点ガラスを印刷し、これを５００〜６００℃で焼成することにより厚さ１３μｍの誘電体層を形成する。さらに誘電体層の上に、ＭｇＯを電子ビーム蒸着して厚さ１μｍの保護膜を形成し前面板を作製した。尚、ガラス基板としては、厚さ２．７ｍｍのソーダライムガラスを使用した。透明電極としては、銀ペーストをスクリーン印刷法で塗布し焼成することによって形成した。
【０１０２】
〈アドレス電極と隔壁とを有する背面板の作製〉
図１に示すストライプ型の隔壁とアドレス電極とを有する背面板を以下に示す方法で作製した。背面板となるガラス基板上に、Ａｇ厚膜を印刷し、これを焼成することにより、アドレス電極を形成した。そして、ガラス基板上に、アドレス電極を覆うように低融点ガラスを印刷し、これを５００〜６００℃で焼成することにより厚さ１３μｍの誘電体層を形成する。そして、ガラス基板上で、且つ、アドレス電極の両側方に、低融点ガラスをピッチ０．２ｍｍで印刷し、焼成することにより高さ１００μｍの隔壁を形成した。
（蛍光体層の形成）
作製した背面板上の各隔壁の間の溝の底部と側面に、ディスペンサを用いた装置を使用し、作製した緑色発光蛍光体（Ｚｎ2ＳｉＯ4：Ｍｎ）、赤色発光蛍光体〔（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ3：Ｅｕ3+〕、青色発光蛍光体（ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+）を使用して以下に示す方法でセルを構成する隔壁間の溝の内部に各色発色蛍光体層を形成した。作製した緑色発光蛍光体ペースト、赤色発光蛍光体ペースト、青色発光蛍光体ペーストを使用して以下に示す方法でセルを構成する隔壁間の１本溝の内部に各色発色蛍光体層を形成した。
【０１０３】
１）緑色発光蛍光体層の形成
作製した緑色発光蛍光体ペーストを各隔壁の間の溝の底部と側面に塗布し、１２００℃、３時間乾燥し、緑色発光蛍光体層を形成した。
【０１０４】
２）赤色発光蛍光体層の形成
緑色発光蛍光体ペーストの代わりに作製した赤色発光蛍光体ペーストを使用した他は全て同じ条件で、緑色発光蛍光体層の隣のセルを構成する隔壁間の溝の底部と側面に塗布し、１２００℃、３時間乾燥し、赤色発光蛍光体層を形成した。
【０１０５】
３）青色発光蛍光体層の形成
緑色発光蛍光体ペーストの代わりに作製した青色発光蛍光体ペーストを使用した他は全て同じ条件で、赤色発光蛍光体層の隣のセルを構成する隔壁間の溝の底部と側面に塗布し、１２００℃、３時間乾燥し、青色発光蛍光体層を形成した。
（ＰＤＰの作製４）
作製した前面板と作製した各色発光蛍光体層を形成した背面板とを、それぞれの電極が対向するように位置合わせを行い重ね合わせた後、ＰＤＰの作製１と同じ方法で周辺をシールガラスにより封止し、ＰＤＰの作製１と同じ方法でキセノン（Ｘｅ）と主放電ガスのネオン（Ｎｅ）とを混合したガスを封入して気密密閉した後、エージングを行いＰＤＰを作製した。
【０１０６】
（評価）
作製した各試料１−１〜１−４につき、発光強度、残光時間を以下に示す評価方法に従って評価しその結果を表１に示す。
【０１０７】
発光強度の評価
各試料１−１〜１−４を絶縁破壊しにくい条件である放電維持電圧１５０Ｖ程度、周波数３０ＫＨｚ程度で放電させ、蛍光体を発光させた。次に、得られた発光を検出器（ＭＣＰＤ−３０００（大塚電子株式会社製））を用いてその強度を測定した。そして、発光のピーク強度を、比較試料１−４の発光強度を１００とした相対値で求めた。
【０１０８】
残光時間の評価
各試料１−１〜１−４を絶縁破壊しにくい条件である放電維持電圧１５０Ｖ程度、周波数３０ＫＨｚ程度で放電させ、蛍光体を発光させ、放電維持電圧を遮断した後の発光強度が
遮断直前の発光強度の１／１０になるまでの時間を蛍光寿命測定器を用いて測定した。比較試料１−４の残光時間を１００とした相対値で求めた。
【０１０９】
【表１】
2005310523.tif 000003
【０１１０】
尚、試料Ｎｏ．１−４は、塗布時にセルを構成する隔壁間の底部に蛍光体ペーストが溜まり、不均一な厚さになった。また、ＰＤＰを作製したとき、セルの放電空間も試料Ｎｏ．１−２に比べて減少した。また、蛍光体層の密度も粗であった。
【０１１１】
本発明の試料Ｎｏ．１−１〜１−３は、比較試料Ｎｏ．１−４よりも、相対発光強度が高くなることを確認した。
【０１１２】
さらに、試料Ｎｏ．１−２、１−３は比較試料Ｎｏ．１−４に対して、相対発光強度を約２割も向上することができた。これはペースト塗布に比べて緻密で薄い膜ができたことによるものである。また、セルを広く取ることができるため、発光強度のより高い蛍光体層を持つＰＤＰを作製することができる。本発明の試料Ｎｏ．１−１〜１−３は、比較試料Ｎｏ．１−４１よりも、相対残光時間が短くなることが確認され本発明の有効性が確認された。
【図面の簡単な説明】
【０１１３】
【図１】ＰＤＰの概略分解斜視図である。
【図２】背面板に設けた他のセル構造を示す概略平面図である。
【図３】図１のＡ−Ａ′に沿った拡大概略断面図である。
【図４】セル内に蛍光体層を形成する蛍光体層形成装置の模式図である。
【図５】図４のＳで示される部分の拡大概略図である。
【符号の説明】
【０１１４】
１  ＰＤＰ
１ａ  前面板
１ａ１１  透明放電電極
１ａ１２  バス放電電極
１ａ２、１ｂ２  誘電体層
１ａ３  保護層
１ｂ  背面板
１ｂ１  アドレス電極
１ｂ３  隔壁
１ｂ４  セル
１ｃ  蛍光体層
１ｄ  縦隔壁
１ｄ１  横隔壁
２  蛍光体層形成装置
２ａ  蛍光体層形成部
２ｂ  エアロゾル発生部
２０２  ホルダー
２０３  ＸＹＺθステージ
２０４、２０４ａ〜２０４ｃ  ノズル
２０５  蛍光体層形成室
２０７  アロゾル発生器
２０８  高圧ガスボンベ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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