(57)【要約】【課題】  各種表示装置において発生する画像の色純度を悪化させる不要発光を、優れた耐久性を有する色素を用いて除去することにより、表示装置における「発光色の色純度の改善」と「コントラストの改善」を実現した鮮明かつ美しい画像を有するディスプレイを提供することにある。【解決手段】  ４４０ｎｍ〜５１０ｎｍの間に選択的な吸収極大を有し、かつ、優れた耐久性を有するポルフィリン化合物を用いたディスプレイ用フィルタを提供し、該フィルタを各種ディスプレイに利用することにより、長期間に渡り性能が劣化することなく色調豊かなディスプレイを提供することが可能となる。【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも下記の式（１）で表され、
４４０ｎｍ〜５１０ｎｍの間に選択的な吸収極大を有し、
吸収極大波長における透過率が１０％〜８０％である色素（Ａ）を含むことを特徴とするディスプレイ用フィルタ。
【化１】
2005338661.tif 000007
[式（１）中、Ｘ１〜Ｘ８の少なくとも一つは、置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基、あるいはニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、スルホン酸基から選ばれる置換基であり、Ｘ１とＸ２、Ｘ３とＸ４、Ｘ５とＸ６、Ｘ７とＸ８は各々独立に連結基を介して、芳香族環を除く環を形成しても良い。Ｒは置換もしくは無置換のアリール基、アルキル基を表わし、Ｍは２個の水素、２価の金属、３価１置換金属、４価２置換金属、又は、オキシ金属から選ばれる含金属置換基である。] 
【請求項２】
色素（Ａ）が、式（１）においてＸ１〜Ｘ８の少なくとも一つが、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアシルアミノ基、シアノ基から選ばれる置換基であり、Ｒが置換もしくは無置換のアリール基であり、Ｍが２価金属、３価１置換金属、４価オキシ金属から選ばれる含金属置換基であるポルフィリン化合物を含有することを特徴とする請求項１記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項３】
色素（Ａ）が、式（１）においてＸ１〜Ｘ８の少なくとも一つが置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基から選ばれる置換基であり、Ｒが置換もしくは無置換のアリール基であり、Ｍが２価金属、３価１置換金属、４価オキシ金属から選ばれる含金属置換基であるポルフィリン化合物を含有することを特徴とする請求項１記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項４】
色素（Ａ）が、式（１）においてＸ１〜Ｘ８の少なくとも一つが置換もしくは無置換のアルキニル基であり、Ｒが置換もしくは無置換のフェニル基であり、Ｍが２価の金属もしくは４価オキシ金属であるポルフィリン化合物を含有することを特徴とする請求項１記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項５】
５３０ｎｍから６２０ｎｍの波長領域に選択的な吸収極大を有する色素（Ｂ）を含有することを特徴とする請求項１記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項６】
少なくとも、透明基体（Ｃ）／導電層（Ｄ）／機能性透明層（Ｅ）の順の積層構造を有することを特徴とする請求項１記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項７】
少なくとも、透明基体（Ｃ）／導電層（Ｄ）／機能性透明層（Ｅ）の順の積層構造を有し、かつ、調色層（Ｆ）を有することを特徴とする請求項１記載のディスプレイ用フィルタ。
【請求項８】
請求項１記載のディスプレイ用フィルタを具備したプラズマディスプレイ。
【請求項９】
請求項１記載のディスプレイ用フィルタを具備した液晶ディスプレイ。
【請求項１０】
請求項１記載のディスプレイ用フィルタを具備した有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置の色純度を向上させるディスプレイ用フィルタに関する。さらには、ディスプレイ用フィルタを配設した表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、社会が高度化するにしたがって、光エレクトロニクス関連部品、機器は日々著しく進歩している。中でも画像を表示するディスプレイは、従来のテレビジョン受像機に加えて、コンピューターモニター装置用などとしても目覚しく普及、発展して来ている。これら発展とともに、特にディスプレイの大型化、薄型化、高画質に対する市場要求は高まる一方である。
【０００３】
最近では、表示装置として利用する上でフルカラー表示は当然のことである。液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電解放射型ディスプレイ等の画像表示装置は、赤、緑、青のいわゆる「色の三原色」の組合せでカラー画像を表示することが可能である。
【０００４】
しかし、各画像表示装置ともその発光原理から、赤、緑、青の発光波長以外に不要発光といわれる色純度を低下させる余分な光の発光が含まれている。この不要発光により画像の鮮明さが失われてしまう。これに対し、不要波長部分の光を遮断し、赤、緑、青の三原色をそれぞれ出来るだけ単色で取り出すことが出来れば、画像の鮮明さ（色純度）を向上することが可能となる。
【０００５】
従来から、不要発光を遮断するために、様々な手法が検討されている。ＬＣＤにおいては、カラーフィルタの改良による色純度の向上などが行われ、その他の表示装置においても様々な検討が報告されている。これまで、色純度を改善する試みとして、特開昭５８−１５３９０４号公報（特許文献１）、特開昭５９−２２１９４３号公報（特許文献２）、特開昭６０−２２１０２号公報（特許文献３）、特開昭６０−６５０５０号公報（特許文献４）、特開平５−３１６３２９号公報（特許文献５）等に報告があるがその効果は十分であるとは言えず、加えて、上記の報告では主に赤の色純度を向上させる技術が開示されており、緑や青の色純度に関する記載は少ない。
【０００６】
また、一般的に明所下での表示装置は、外光によってコントラストの低下が生じる。従来、ＮＤフィルタを用いて外光の影響を極力低減し、コントラストを向上することが行われてきた。しかし、この方法では同時に表示装置から発せられる必要な発光もカットしてしまう為、輝度の低下を伴うことがある。もし外光を選択的に遮断しつつ、表示装置からの必要な光のみ透過させることが出来れば、理想的な光学フィルタを得ることが出来ると考えられる。
【０００７】
上記色純度及びコントラストを改善する方法としては、不要波長領域の光を吸収する色素を含むフィルタを用いる方法が両者を同時に改善することができ、これまでにも種々の検討がなされている。ただ、緑と赤の間の不要光を除去する色素はこれまでにも報告はあるが、青と緑の間に存在する不要光を効率的に色素によって除去するフィルタは、市場要求が非常に高いにも関わらず、実用化されていないのが現状である。この原因としては、従来の青−緑間の不要光を吸収できる色素は表示装置固有の温度、光、熱といった環境条件下で性能の劣化が著しく、耐久性に問題を有していた事による。その為、十分な耐久性を有した青−緑間の不要光を除去する技術の出現が期待されている。
【特許文献１】特開昭５８−１５３９０４号公報
【特許文献２】特開昭５９−２２１９４３号公報
【特許文献３】特開昭６０−２２１０２号公報
【特許文献４】特開昭６０−６５０５０号公報
【特許文献５】特開平５−３１６３２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、本発明が解決しようとする課題は、各種表示装置において発生する不要発光、好ましくは青−緑間の不要発光を除去でき、かつ優れた耐久性を有するディスプレイ用フィルタを提供することである。また、「発光色の色純度」と「明所におけるコントラスト」に優れた表示装置を提供し、従来以上に鮮明かつ美しい画像を実現することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の課題を解決するために本発明者らは鋭意検討した。その結果、ディスプレイ用フィルタに特定のポルフィリン化合物を含有させることにより、青−緑間の不要発光を吸収して発光色の色純度を改善するとともに、耐久性にも優れたディスプレイ用フィルタが得られることを見出し、本発明を完成した。
すなわち、本発明は、
（１）少なくとも式（１）で表され、４４０ｎｍ〜５１０ｎｍの間に選択的な吸収極大を有し、吸収極大波長における透過率が１０％〜８０％である色素（Ａ）を含むことを特徴とするディスプレイ用フィルタであり、
【００１０】
【化２】
2005338661.tif 000002
【００１１】
（２）色素（Ａ）が、式（１）においてＸ１〜Ｘ８の少なくとも１つが、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基、置換もしくは無置換のアシルアミノ基、シアノ基から選ばれる置換基であり、Ｒが置換もしくは無置換のアリール基であり、Ｍが２価金属、３価１置換金属、４価オキシ金属から選ばれる含金属置換基であるポルフィリン化合物を含有することを特徴とする（１）に記載のディスプレイ用フィルタであり、
（３）色素（Ａ）が、式（１）においてＸ１〜Ｘ８の少なくとも１つが、置換もしくは無置換のアリール基、置換もしくは無置換のアルケニル基、置換もしくは無置換のアルキニル基から選ばれる置換基であり、Ｒが置換もしくは無置換のアリール基であり、Ｍが２価金属、３価１置換金属、４価オキシ金属から選ばれる含金属置換基であるポルフィリン化合物を含有することを特徴とする（１）に記載のディスプレイ用フィルタであり、
（４）色素（Ａ）が、式（１）においてＸ１〜Ｘ８の少なくとも１つが、置換もしくは無置換のアルキニル基であり、Ｒが置換もしくは無置換のフェニル基であり、Ｍが２価の金属もしくは４価のオキシ金属であるポルフィリン化合物を含有することを特徴とする（１）に記載のディスプレイ用フィルタであり、
（５）５３０ｎｍから６２０ｎｍｍの波長領域に選択的な吸収極大を有する色素（Ｂ）を含有することを特徴とする上記に記載のディスプレイ用フィルタであり、
（６）少なくとも、透明基体（Ｃ）／導電層（Ｄ）／機能性透明層（Ｅ）の順の積層構造を有することを特徴とする上記に記載のディスプレイ用フィルタであり、
（７）少なくとも、透明基体（Ｃ）／導電層（Ｄ）／機能性透明層（Ｅ）の順の積層構造を有し、かつ、調色層（Ｆ）を有することを特徴とする上記に記載のディスプレイ用フィルタであり、
（８）上記に記載のディスプレイ用フィルタを具備したプラズマディスプレイであり、
（９）上記に記載のディスプレイ用フィルタを具備した液晶ディスプレイであり、
（１０）上記に記載のディスプレイ用フィルタを具備した有機エレクトロルミネッセンスディスプレイ
である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、不要発光を削減することにより「発光色の色純度」及び「明所でのコントラスト」の改善が可能なディスプレイ用フィルタを作製することが可能である。特に、本発明のディスプレイ用フィルタは、従来困難であるとされてきた４４０ｎｍ〜５１０ｎｍに存在する青−緑間の不要光を選択的に除去できかつ耐久性にも優れると言う特徴を有しているため、耐久性が重要視される民生用の高性能ディスプレイ用フィルタとして特に好適であると考えられる。このため、本発明の工業的価値は大きい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明におけるディスプレイ用フィルタは、構成部材中に４４０ｎｍ〜５１０ｎｍの波長領域に吸収極大を有するポルフィリン化合物を少なくとも１種類以上含有する事を特徴とする。より好ましくは、５３０ｎｍ〜６２０ｎｍの波長領域に吸収極大を有する色素（Ｂ）をも含有することを特徴とするものである。
【００１４】
ここで言うところのポルフィリン化合物とは、一般式（１）で示すことができる。
【００１５】
【化３】
2005338661.tif 000003
［一般式（１）中、Ｘ１〜Ｘ８は、ハロゲン基、１つもしくはそれ以上の置換もしくは無置換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アミノ基、アシルアミノ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、スルホン酸基を表し、Ｘ１とＸ２、Ｘ３とＸ４、Ｘ５とＸ６、Ｘ７とＸ８は各々独立に連結基を介して、芳香族環を除く環を形成しても構わない。Ｒは、置換もしくは無置換のアリール基、アルキル基を表し、Ｍは、２個の水素原子、２価の金属原子、３価１置換金属原子、４価２置換金属原子、又は、オキシ金属原子を表す。］
【００１６】
本発明で用いる一般式（１）で表されるポルフィリン化合物の置換基は、特に限定されるものではないが、以下に具体的に例示する。
【００１７】
Ｘ１〜Ｘ８のハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
Ｘ１〜Ｘ８のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、２−メチルブチル基、１−メチルブチル基、ｎｅｏ−ペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、１−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、３−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１−エチルブチル基、１，２，２−トリメチルブチル基、１，１，２−トリメチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、２−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、２，４−ジメチルペンチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、２，５−ジメチルヘキシル基、２，５，５−トリメチルペンチル基、２，４−ジメチルヘキシル基、２，２，４−トリメチルペンチル基、ｎ−オクチル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、４−エチルオクチル基、４−エチル−４，５−ジメチルヘキシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、１，３，５，７−テトラエチルオクチル基、４−ブチルオクチル基、６，６−ジエチルオクチル基、ｎ−トリデシル基、６−メチル−４−ブチルオクチル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、３，５−ジメチルヘプチル基、２，６−ジメチルヘプチル基、２，４−ジメチルヘプチル基、２，２，５，５−テトラメチルヘキシル基、１−シクロペンチル−２，２−ジメチルプロピル基、１−シクロヘキシル−２，２−ジメチルプロピル基などの炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基；
ベンジル基、ニトロベンジル基、シアノベンジル基、ヒドロキシベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、ジクロロベンジル基、メトキシベンジル基、エトキシベンジル基、トリフルオロメチルベンジル基、ナフチルメチル基、ニトロナフチルメチル基、シアノナフチルメチル基、ヒドロキシナフチルメチル基、メチルナフチルメチル基、トリフルオロメチルナフチルメチル基などの炭素数７〜２０のアラルキル基；
フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基、ペンタフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロピル基、ノナフルオロブチル基、パーフルオロデシル基などのハロゲン原子で置換した炭素数１から１０のハロゲノアルキル基が挙げられる。
【００１８】
Ｘ１〜Ｘ８のアルケニル基は、置換または無置換のエテニル基である。エテニルの２，２’位の置換基としては、前記のような炭素数１から２０のアルキル基；置換または無置換のフェニル基などの炭素数６〜２０のアリール基；ホルミル基などの置換または無置換のアシル基；置換または無置換のアミノカルボニル基；アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基；置換基をもつケイ素原子、即ちトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリブチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基などのシリル基が挙げられる。
【００１９】
Ｘ１〜Ｘ８のアルキニル基は、置換または無置換のエチニル基である。エチニルの２位の置換基としては、前記のような炭素数１から２０のアルキル基；置換または無置換のフェニル基などの炭素数６〜２０のアリール基；ホルミル基などの置換または無置換のアシル基；置換または無置換のアミノカルボニル基；アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基；置換基をもつケイ素原子、即ちトリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリブチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基などのシリル基が挙げられる。
【００２０】
Ｘ１〜Ｘ８のアリール基としては、フェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基、トリメチルフェニル基、ジクロロフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル基、ナフチル基、ニトロナフチル基、シアノナフチル基、ヒドロキシナフチル基、メチルナフチル基、トリフルオロメチルナフチル基などの炭素数６〜２０のアリール基が挙げられる。
【００２１】
Ｘ１〜Ｘ８のヘテロアリール基としては、ピロリル基、チエニル基、フラニル基、オキサゾイル基、イソオキサゾイル基、オキサジアゾイル基、イミダゾイル基、ベンゾオキサゾイル基、ベンゾチアゾイル基、ベンゾイミダゾイル基、ベンゾフラニル基、インドイル基などが挙げられる。
【００２２】
Ｘ１〜Ｘ８のアシル基としては前記に挙げたアルキル基、アリール基などをもつ炭素数１〜１５のアシル基であり、ホルミル基、アセチル基、エチルカルボニル基、ｎ−プロピルカルボニル基、ｉｓｏ−プロピルカルボニル基、ｎ−ブチルカルボニル基、ｉｓｏ−ブチルカルボニル基、ｓｅｃ−ブチルカルボニル基、ｔ−ブチルカルボニル基、ｎ−ペンチルカルボニル基、ｉｓｏ−ペンチルカルボニル基、ｎｅｏ−ペンチルカルボニル基、２−メチルブチルカルボニル基、フェナシル基、トリルカルボニル基、エチルフェナシル基、プロピルフェナシル基、ｔ−ブチルフェナシル基、ニトロベンジルカルボニル基、３−ブトキシ−２−ナフトイル基、シンナモイル基などが挙げられる。
【００２３】
Ｘ１〜Ｘ８のアルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基としては、前記に挙げたアルキル基、アリール基と同様な置換基をもつオキシカルボニル基であり、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉｓｏ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−ペントキシカルボニル基、ｉｓｏ−ペントキシカルボニル基、ｎｅｏ−ペントキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、３，５，５−トリメチルヘキシルオキシカルボニル基、デカリルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基などの炭素数２〜１１のアルコキシカルボニル基；フェノキシカルボニル基、２−メチルフェノキシカルボニル基、４−メチルフェノキシカルボニル基、４−ｔ−ブチルフェノキシカルボニル基、２−メトキシフェノキシカルボニル基、４−ｉｓｏ−プロピルフェノキシカルボニル基、ナフトキシカルボニル基などの炭素数７〜１１のアリールオキシカルボニル基が挙げられる。
【００２４】
Ｘ１〜Ｘ８のアルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基としては、前記に挙げたアルキル基、アリール基と同様な置換基をもつアミノカルボニル基であり、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、プロピルアミノカルボニル基、ブチルアミノカルボニル基、ペンチルアミノカルボニル基、ヘキシルアミノカルボニル基、ヘプチルアミノカルボニル基、オクチルアミノカルボニル基、ノニルアミノカルボニル基、３，５，５−トリメチルヘキシルカルボニル基、２−エチルヘキシルアミノカルボニル基などの炭素数２〜１０のモノアルキルアミノカルボニル基；ジメチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ジプロピルアミノカルボニル基、ジブチルアミノカルボニル基、ジペンチルアミノカルボニル基、ジヘキシルアミノカルボニル基、ジヘプチルアミノカルボニル基、ジオクチルアミノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基、モルホリノカルボニル基、４−メチルピペラジノカルボニル基、４−エチルピペラジノカルボニル基などの炭素数３〜２０のジアルキルアミノカルボニル基；フェニルアミノカルボニル基、ナフチルアミノカルボニル基などの炭素数６〜２０のモノアリールアミノカルボニル基；ジフェニルアミノカルボニル基、フェニルナフチルアミノカルボニル基などの炭素数１２〜４０のジアリールアミノカルボニル基が挙げられる。
【００２５】
Ｘ１〜Ｘ８の置換もしくは未置換のアミノ基、アミノ基、Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−イソブチルアミノ基、Ｎ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ−シクロペンチルアミノ基、Ｎ−ｎ−ヘキシルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基、Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ−フェネチルアミノ基、Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ−（１−ナフチル）アミノ基、Ｎ−（２−ナフチル）アミノ基、Ｎ−（４−フェニルフェニル）アミノ基、Ｎ−（３−フェニルフェニル）アミノ基、Ｎ−（２−フェニルフェニル）アミノ基、Ｎ−（４−メチルフェニル）アミノ基、Ｎ−（２−メチルフェニル）アミノ基、Ｎ−（２−アントラニル）アミノ基、Ｎ−（９−アントラニル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ−イソプロピルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ−イソブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−ペンチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジシクロペンチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェネチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−プロピルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−イソプロピルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−ブチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロペンチルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−シクロヘキシルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ−メチル−Ｎ−フェネチルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−シクロヘキシルアミノ基、Ｎ−エチル−Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−シクロペンチルアミノ基、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−シクロヘキシルアミノ基、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｎ−シクロヘキシルアミノ基、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチル−Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ−シクロペンチル−Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（１−ナフチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（２−ナフチル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（４−フェニルフェニル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−（４−メチルフェニル）アミノ基、Ｎ，Ｎ−ジ（３−メチルフェニル）アミノ基、Ｎ−フェニル−Ｎ−（１−ナフチル）アミノ基、Ｎ−フェニル−Ｎ−（２−ナフチル）アミノ基、Ｎ−フェニル−Ｎ−（４−フェニルフェニル）アミノ基、Ｎ−フェニル−Ｎ−（４−メチルフェニル）アミノ基、Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−（４’−フェニルフェニル）アミノ基などの置換または未置換のアミノ基が挙げられる。
【００２６】
Ｘ１〜Ｘ８のアシルアミノ基としては、前記に挙げたアシル基と同様な置換基をもつアシルアミノ着であり、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基などが挙げられる。
Ｘ１とＸ２、Ｘ３とＸ４、Ｘ５とＸ６、Ｘ７とＸ８が連結基を介して環を形成する例としては、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＮＯ２）ＣＨ２−、Ｃ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（Ｃｌ）ＣＨ２ＣＨ２−等が挙げられる。
【００２７】
Ｒのアリール基、アルキル基としては、Ｘ１〜Ｘ８のアリール基、アルキル基の具体例として挙げた基が挙げられる。
【００２８】
また、Ｍで示される２価金属の例としては、Ｃｕ、Ｚｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｍｎ，Ｓｎ，Ｍｇ，Ｈｇ，Ｃｄ，Ｂａ，Ｔｉ，Ｂｅ，Ｃａ等が挙げられる。１置換の３価金属の例としては、Ａｌ−Ｆ，Ａｌ−Ｃｌ，Ａｌ−Ｂｒ，Ａｌ−Ｉ，Ｇａ−Ｆ，Ｇａ−Ｃｌ，Ｇａ−Ｂｒ，Ｇａ−Ｉ，Ｉｎ−Ｆ，ＩｎＣｌ，Ｉｎ−Ｂｒ，Ｉｎ−Ｉ，Ｔｌ−Ｆ，Ｔｌ−Ｃｌ，Ｔｌ−Ｂｒ，Ｔｌ−Ｉ，Ａｌ−Ｃ６Ｈ５，Ａｌ−Ｃ６Ｈ４（ＣＨ３），Ｉｎ−Ｃ６Ｈ５，Ｉｎ−Ｃ６Ｈ４（ＣＨ３），Ｍｎ（ＯＨ），Ｍｎ（ＯＣ６Ｈ５），Ｍｎ［ＯＳｉ（ＣＨ３）３］，Ｆｅ−Ｃｌ，Ｒｕ−Ｃｌ等が挙げられる。尚、本発明においては上記の様な金属を含む原子団も単に原子と記載することがある。２置換の４価金属の例としては、ＣｒＣｌ２，ＳｉＦ２，ＳｉＣｌ２，ＳｉＢｒ２，ＳｉＩ２，ＳｎＦ２，ＳｎＣｌ２，ＳｎＢｒ２，ＺｒＣｌ２，ＧｅＦ２，ＧｅＣｌ２，ＧｅＢｒ２，ＧｅＩ２，ＴｉＦ２，ＴｉＣｌ２，ＴｉＢｒ２，Ｓｉ（ＯＨ）２，Ｓｎ（ＯＨ）２，Ｇｅ（ＯＨ）２，Ｚｒ（ＯＨ）２，Ｍｎ（ＯＨ）２，ＴｉＡ２，ＣｒＡ２，ＳｉＡ２，ＳｎＡ２，ＧｅＡ２［Ａはアルキル基、フェニル基、ナフチル基及びその誘導体を表わす。］、Ｓｉ（ＯＡ’）２，Ｓｎ（ＯＡ’）２、Ｇｅ（ＯＡ’）２、Ｔｉ（ＯＡ’）２，Ｃｒ（ＯＡ’）２［Ａ’はアルキル基、フェニル基、ナフチル基、トリアルキルシリル基、ジアルキルアルコキシシリル基及びその誘導体を表わす。］、Ｓｉ（ＳＡ”）２、Ｓｎ（ＳＡ”）２，Ｇｅ（ＳＡ”）２［Ａ”はアルキル基、フェニル基、ナフチル基及びその誘導体を表わす。］等が挙げられる。オキシ金属の例としては、ＶＯ，ＭｎＯ，ＴｉＯ等が挙げられる。好ましくは、Ｐｄ，Ｃｕ，Ｒｕ，Ｐｔ，Ｎｉ，Ｃｏ，Ｒｈ，Ｚｎ，ＶＯ，ＴｉＯ，Ｓｉ（Ｙ）２，Ｇｅ（Ｙ）２（Ｙはハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、ヒドロキシ基、アルキル基、アリール基、アルキルチオ基、アリールチオ基、トリアルキルシリルオキシ基、トリアルキルスズオキシオ基又はトリアルキルゲルマニウムオキシ基を表わす）である。さらに好ましくは、Ｃｕ、ＶＯ、Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｃｏである。
【００２９】
本発明における一般式（１）で示される化合物の合成法としては、例えば、ｍｅｓｏ−テトラフェニルポルフィリンのピロール部の３，４−位をハロゲン化し、これとＸ１〜Ｘ８の構造をもつ有機金属化合物とのカップリング反応により容易に得ることができる。
【００３０】
本発明者らはさらに、一般式（１）のポルフィリン化合物の置換基が、例えば、Ｒがフェニル基で、Ｘ１〜Ｘ８がアルキルエチニル基、アルキルフェニルエチニル基、トリメチルシリルエチニル基から選ばれる置換基であると、製造が比較的容易であること、溶媒への溶解性が向上すること、錯体が安定であることおよび吸収特性に優れていることを見出した。特に溶媒への溶解性が高められることは、様々な材料に色素を含有させやすくなり、ディスプレイ用フィルタに適用する上で好ましい特性である。上記の化合物が溶媒へ高い溶解度を有することは、上記の置換基の導入により同化合物がより大きな３次元的な広がりを持つ構造となったためと考えられる。なお、色素（Ａ）は２種類以上を併用しても構わない。
【００３１】
また本発明のディスプレイ用フィルタは、後述するように多層構造の様な複数の部材から構成されることがあるが、色素（Ａ）は一つの部材だけに含有されている必要はなく、複数の部材に含有されていても良い。
【００３２】
本発明において好ましく使用する事が出来る波長５３０ｎｍ〜６２０ｎｍの間に吸収極大を有する色素（Ｂ）としては、該波長領域に所望の吸収を有する染料または顔料であれば特に限定されるものではない。また、染料及び顔料に限定されるものでもない。具体的に例示すると、アントラキノン系、フタロシアニン系、メチン系、アゾメチン系、オキサジン系、アゾ系、スチリル系、クマリン系、ポルフィリン系、ジベンゾフラノン系、ジケトピロロピロール系、ローダミン系、キサンテン系、ピロメテン系、スクアリリウム系、シアニン系、オキソノール系の化合物などが挙げられる。なお、色素（Ｂ）は２種類以上を併用しても構わない。また、色素（Ｂ）が複数の部材に含有されていても構わない。
【００３３】
また、所望する光学特性に応じて、光学特性を調整する上記色素（Ａ）、色素（Ｂ）以外の可視光領域に吸収を有する色素を併用しても構わない。
【００３４】
本発明のディスプレイ用フィルタは、上記の色素（Ａ）が含まれる事を特徴とする。また、本発明のディスプレイ用フィルタを構成する部材は、従来公知の物を制限無く用いることが出来る。例えば、透明基体（Ｃ）、導電層（Ｄ）、機能性透明層（Ｅ）が挙げられる。更には色素を含有する調色層（Ｆ）が含まれていても良い。更には、粘着材層、接着材層、衝撃緩和層、電極等を挙げることも出来る。上記の導電層としては、金属や金属酸化物などの透明薄膜や、金属メッシュ層などが挙げられる。また、機能性透明層としては、反射防止層、防眩層、防汚層、ハードコート層、アンチニュートンリング層等の公知の機能性透明層を例示することが出来る。１つの層が上記の２つ以上の機能を有しても勿論構わない。本発明のディスプレイ用フィルタは、色素（Ａ）が上記の層等の部材のいずれかに含まれていることが好ましい。上記の調色層（Ｆ）としては、前記の色素（Ａ）、色素（Ｂ）が含まれていることが好ましいが、これに制限されない。また、調色層（Ｆ）以外の上記の各層等の部材に色素（Ａ）を、好ましくは色素（Ｂ）も含有させた構成のディスプレイ用フィルターも勿論本発明に含まれる。
【００３５】
本発明のディスプレイ用フィルタの構成として、例えばプラズマディスプレイ用フィルタを例に取ると、その好ましい形態のとしては、
（ｉ）少なくとも透明基体（Ｃ）、導電層（Ｄ）、機能性透明層（Ｅ）を含有し、透明基体（Ｃ）、導電層（Ｄ）、機能性透明層（Ｅ）を構成する少なくとも１つ以上の部材に本発明の色素を含有する構成、
（ｉｉ）少なくとも透明基体（Ｃ）、導電層（Ｄ）、機能性透明層（Ｅ）以外に本発明の色素を含有した調色層（Ｆ）を有する構成
が挙げられる。なお、本発明におけるプラズマディスプレイ用フィルタは、上記（ｉ）及び（ｉｉ）に限定されるものではない。
【００３６】
本発明においては、上記色素（Ａ）がディスプレイ用フィルタを構成する部材の少なくともいずれか１つに含有されていることを特徴とする。色素を部材に担持させる方法としては、特に限定されるものではないが、具体的に例示すると（１）高分子成形体等の透明基体（Ｃ）へ含有させる、（２）透明基体（Ｃ）表面にハードコート層としてコーティングする、（３）粘着材に含有させる方法などが挙げられる。色素を含有させる方法としては、色素が均一に分布するのであれば公知のあらゆる技術を用いて構わない。
【００３７】
色素を高分子成形体に含有させる（１）方法を具体的に例示すると、色素と混ぜ合わせるベース樹脂の種類によって、加工温度、フィルム化条件が異なるが、通常は色素をベース樹脂の粉体あるいはペレットに添加し、樹脂の溶融温度を考慮しながら１５０℃〜３５０℃に加熱、溶融させ、好ましくは混練した後、成形してプラスチックシート、プラスチック粒子を作製する方法等が挙げられる。成形を容易にするなどの目的で可塑剤等の添加剤を加えても構わない。
【００３８】
その他の方法としては、キャスティングによる方法がある。キャスティング方法では、樹脂または、樹脂モノマーを有機系溶媒に溶解させた樹脂液に色素を添加・溶解させ、必要に応じて可塑剤や重合開始材、酸化防止剤等を加え、必要とする面状態を有する金型へ流し込み、溶剤揮発、乾燥、または、重合、溶剤揮発、乾燥させることにより高分子成形体を得ることができる。
【００３９】
色素の添加量は、色素の吸収係数、高分子成形体の厚み、目的とする透過特性によって異なるが、通常、ベース樹脂成形体の１ｐｐｍ質量パーセントから２０質量パーセントである。
【００４０】
色素を高分子成形体またはガラス表面にハードコート層としてコーティングする（２）方法を具体的に例示すると、色素をバインダー樹脂及び有機系溶媒に溶解させて塗料としたもの、または、未着色のアクリルエマルジョン塗料に色素を微粉砕（粒径５０ｎｍ〜５００ｎｍ）したものを分散させてアクリルエマルジョン系水性塗料としたものを、バーコーター、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコーター、ダイコーター、或いは、スプレー等の従来公知のコーティング方法により塗布・乾燥させる方法が挙げられる。色素の濃度としては、色素の吸収係数、コーティングの厚み、目的の光学特性により異なるが、バインダー樹脂に対して０．００１質量パーセントから３０質量パーセントである。なお、塗料中には酸化防止剤等を加えても構わない。また、コーティング面を保護するために保護層を設けても構わない。
【００４１】
色素を粘着材に含有させる（３）方法を具体的に例示する。なお、本発明においては、接着材、接着剤、粘着剤、粘着材を区別することなく粘着材と記載する。粘着材としては、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルエーテル樹脂、飽和無定形ポリエステル、メラミン樹脂等のシート状、または液状の粘着材が挙げられる。これら粘着材に色素を添加して色素入り粘着材とする。色素の添加量としては、色素の吸収係数、粘着材の厚み、本来の光学特性により異なるが、通常、ベース粘着材の１ｐｐｍから３０質量パーセントである。
【００４２】
粘着材の形成方法は、直接基板に粘着材を塗布して形成する、または、離型フィルムで挟んだ粘着材の片方の離型フィルムを剥離して、基板に張り合わせる方法が挙げられるが、本発明においては後者を好適に使用している。粘着材の塗布方法としては、一般的にバーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ロールコート法などにより塗布されるが、これらに限定されるものではない。本発明においては、バーコート法を好適に使用している。粘着材の厚みは、特に制限はないが、０.５μｍから５０μｍ、好ましくは、１μｍから３０μｍである。
【００４３】
色素を含有する粘着材は、フィルムとフィルム、フィルムとガラスなど各種の貼合わせにも用いることができ、色素を含有させる方法としては好ましい形態の１つである。
【００４４】
ディスプレイ用フィルタは、ディスプレイパネルの表面温度が高かったり、さらに使用環境の温度が高い場合があったりするので、ディスプレイ用フィルタ自体の温度が上昇することがある。そのため、色素をディスプレイ用フィルタに含有させる場合、色素は、例えば８０℃で分解等によって顕著に劣化しない耐熱性を有していることが好適である。望ましい色素の耐熱性を具体的に例示すると、８０℃の環境下における色素の極大吸収波長における吸収維持率が、２５０時間保持した後で８０％以上、好ましくは５００時間以上で８０％以上、さらに好ましくは１０００時間以上で８０％以上である。ここで言うところの吸収維持率とは、色素を含有した部材、例えば色素を含有した粘着剤等の、吸収が全くない波長における透過率をＴ０とし、極大吸収波長における透過率Ｔｍａｘ，０のＴ０からの深さＴ０−Ｔｍａｘ，０を基準として、各環境下に所定時間置いた後の粘着剤の極大吸収波長における透過率Ｔｍａｘ，１のＴ０からの深さ変化率
（Ｔ０−Ｔｍａｘ，１）／（Ｔ０−Ｔｍａｘ，０）
を意味する。この吸収維持率の値が大きいほど色素の性能が維持されている、すなわち、耐久性があるとみなすことができる。また、耐熱性に加えて、色素によっては耐光性に乏しいものもあり、ディスプレイ自体の発光や外光の紫外線、可視光線による劣化が問題になることがある。この場合、色素を含有する層よりも紫外線や可視光線が入射する側に紫外線吸収剤を含む部材や紫外線を透過させない部材（層）を併用する方法、当該色素の劣化を引き起こす波長の可視光線を吸収する色素を含む部材や上記の可視光線を透過させない部材を併用することによって、色素の劣化を低減する等の公知の選択的な光線遮蔽技術を用いることで克服することが出来る。もちろん、紫外線や当該可視光線による劣化がない色素を用いることが出来れば、上記の技術を併用する必要はない。
【００４５】
本発明の色素が有する望ましい耐光性としては、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの可視領域の光を５０ｍＷ／ｃｍ２の強度で照射した場合における色素の極大吸収波長における吸収維持率が、２５０時間照射した後で８０％以上、好ましくは５００時間以上で８０％以上、さらに好ましくは１０００時間以上で８０％以上である。熱や光に加えて、湿度やこれらの複合した環境においても同様である。色素が劣化すると、ディスプレイ用フィルタ自体の透過特性が変化し、色調が変化することがある。また、近赤外線カット能等が変化することもある。
【００４６】
さらに色素に求められる特性としては、媒体や塗膜中に分散させる為に、溶媒への溶解性や分散性も重要となる。
【００４７】
本発明における色素（Ａ）及び必要に応じて用いられる色素（Ｂ）は、従来の４４０ｎｍ〜５１０ｎｍや５３０ｎｍ〜６２０ｎｍに極大吸収を有する色素と比較して、上記耐熱性及び耐光性といった耐環境性に非常に優れており、長時間に渡り性能が劣化することなくディスプレイの表示を改善することが可能である。また、溶解性や分散性についても各色素の構造を用途に合わせて制御することにより十分な溶解性や分散性を付与する事も出来る。
【００４８】
本発明における上記色素を含有したディスプレイ用フィルタにより、公知のあらゆるディスプレイの色純度を向上させることが可能である。特に、プラズマディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイに好適に用いることができる。その適用方法としては、公知のあらゆる方法を採用することができる。以下、上記のディスプレイ用フィルタに用いることが出来る各部材について簡単に述べる。
【００４９】
透明基体（Ｃ）としては、主にフィルム状及び板状であり、透明性に優れ、用途に応じた十分な機械的強度を有するものが好ましい。ここで言うところの透明性に優れるとは、使用される状態での厚さにおいて、視感平均透過率が４０％以上であることを意味する（測定法：ＪＩＳ  Ｒ３１０６）。例えば高分子フィルムや高分子板、ガラス板である。本発明においては、上記のような公知の透明基体を制限なく用いることが出来る。
【００５０】
上記の導電層（Ｄ）としては、少なくとも電磁波シールド機能を有していることが好ましい。これは、プラズマディスプレイパネル等の表示装置は、その構造や動作原理上、漏洩電磁波や、近赤外線を発生することがあり、これらの遮蔽が必要な場合がある為である。通常、電磁波を遮蔽するためには、ディスプレイ表面を導電性の高い導電物で覆うことが多い。これは上記導電物が電磁波を吸収し、これを電荷として逃がすと言う電磁波シールド能を発現するというメカニズムによる。ディスプレイ用フィルタにこの原理を適用するためには、導電層（Ｄ）は可視光線に対して透明であることが好ましい。このため導電層（Ｄ）として具体的には、単層の金属薄膜、酸化物半導体膜、多層薄膜の透明導電性薄膜、導電性メッシュ、合成繊維に金属被覆したもの、金属繊維のメッシュやそれに更に金属被覆したもの等が好ましい例として挙げられる。プラズマディスプレイ等の各種表示装置用途で電磁波遮蔽に必要な導電層（Ｄ）の導電性は、要求される電磁波規格やプラズマディスプレイからの放射強度にもよるが、面抵抗が１０Ω／□以下である事が好ましく、より好ましくは３Ω／□である。民生用途等で要求される厳しい電磁波規格の場合は、１Ω／□以下であることが好ましく、より好ましくは０．１Ω／□以下である。また、プラズマディスプレイから発せられる近赤外線を遮蔽するためには、８００〜１０００ｎｍの近赤外線波長領域におけるディスプレイ用フィルタの透過率を２０％以下にすることが好ましい。
【００５１】
本発明では導電層（Ｄ）として、金属薄膜と透明高屈折率薄膜を積層した多層の透明導電性薄膜層（ａ）、または、導電性メッシュ層（ｂ）を好適に使用できる。多層の透明導電性薄膜層（ａ）は、導電性メッシュ層よりも低コストで、金属薄膜を構成する金属の自由電子による近赤外線を反射する特性により、電磁波シールド機能と同時に近赤外線遮断機能を併せ持つという特徴がある。一方、導電性メッシュ層（ｂ）は、光学特性を著しく低下させずにより高い導電性を持たせることができる為、高い電磁波シールド機能が要求される場合、例えば上記の民生用途などで要求される厳しい電磁波規格に合致させるために好適である。
【００５２】
金属薄膜と透明高屈折率薄膜を積層した多層の透明導電性薄膜層（ａ）としては、透明基体（Ｃ）の一方の主面上に、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化チタンなどの誘電体を主とした高屈折率層（ｃ）及び銀を主とした金属薄膜層（ｄ）が、（ｃ）／（ｄ）の順の積層単位を１〜６回繰り返して積層された構成が好ましい。さらには全ての金属薄膜層（ｄ）が高屈折率層（ｃ）で挟まれる様に積層された構成がより好ましい。高屈折率層（ｃ）と金属薄膜層（ｄ）との積層数は、多いほど導電性−透明性のバランスは好ましくなるが、コスト、品質安定性を考慮すると好ましくは１１層以下、より好ましくは９層以下、特に好ましくは、７層以下である。また、透明導電性薄膜層の耐環境性を向上させるために、透明導電性薄膜層の表面に有機物または無機物の保護層を設けても構わない。さらに、金属薄膜層の耐環境性や高屈折率層と金属薄膜層の密着性等を向上させるために、高屈折率層と金属薄膜層の間に機能層を有しても構わない。
【００５３】
上記の高屈折率層（ｃ）や金属薄膜層（ｄ）を構成する具体的な化合物としては、公知の化合物を制限無く用いることが出来る。例えば特許３００４２２２号公報等に記載されたものを好適に用いることが出来る。高屈折率層（ｃ）としてより具体的には、酸化インジウム、インジウム-スズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化チタン等の金属酸化物を好ましい例として挙げることが出来る。また、金属薄膜層（ｄ）としては、銀や、銀と他の金属との合金を好ましい例として挙げることが出来る。またこれらの薄膜層の形成方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等の真空成膜法の他、公知のあらゆる方法を採用することが出来る。中でも真空成膜法、特にはスパッタリング法が好ましく利用できる。
【００５４】
導電性メッシュ層（ｂ）としては、繊維に金属を蒸着した繊維メッシュ、フォトリソグラフィーの技術を用いてパターンを形成し、エッチングによりメッシュを得るエッチングメッシュなどを使用することができる。より具体的には、銅を主として用いる金属のメッシュを好適に用いることができる。メッシュの形状としては、格子状及びハニカム上でも良く、特に限定されるものではない。このメッシュにより、高い電磁波シールド機能を有することができる。導電層（Ｄ）として導電性メッシュ層（ｂ）を用いる場合は、近赤外線を吸収したり、近赤外線を反射する層を併用して、近赤外線遮断機能を付与することが好ましい。特には近赤外線を吸収し、可視光線は殆ど吸収しないもしくは全く吸収しない色素を含む層を用いることが好ましい。勿論、前記の透明導電性薄膜層を利用することも可能である。
【００５５】
機能性透明層（Ｅ）が有する機能としては、具体的にハードコート性、反射防止性、防眩性、静電気防止性、防汚性、ガスバリア性、近赤外線カット性、紫外線カット性、色調調色機能、メッシュ平坦化処理機能などの公知の性能、機能のうち少なくとも１つ以上の機能を有していることが挙げられるが、付与する機能はこれに限定されるものではない。特に紫外線カット能を有する層は人側に配置することが好ましい。上記の機能性透明層（Ｅ）は、反射防止性などの上記機能を有していれば膜、フィルム、粘着層、及びその複合体等の任意の形態をとることが出来る。機能性透明層（Ｅ）の形成方法としては、特に限定されるものではなく、公知のあらゆる技術を用いて形成する事が出来る。また、機能性透明層（Ｅ）は、２層以上形成してもよく、複数の機能を一つの層が有していても良い。
【００５６】
これらの部材としてより詳しくは、例えば特許３００４２２２号公報等に記載されたものを好適に用いることが出来る。またこれらの層の積層方法は、公知の方法を制限無く用いることが出来、より具体的には、特許３００４２２２号公報や特開２００２−４０２３３号公報等に記載された方法を採用することが出来る。
【００５７】
上記のごとく得られたディスプレイ用フィルタを具備したプラズマディスプレイは、長期間に渡り性能が劣化することなく光源から放出される不要な発光を除去できるため、発光色の色純度、特に青の色純度が向上したディスプレイとなる。その上、本発明のディスプレイ用フィルタは、外光による不要な光をも除去することが可能なので、明所におけるコントラストも向上したディスプレイとなる。
【００５８】
本発明のディスプレイ用フィルタを用いた液晶ディスプレイや有機エレクトロルミネッセンスディスプレイは、好ましくは当該ディスプレイ用フィルタを光源と視認部との間に配置することを特徴とする。以下、液晶ディスプレイを例にとって説明するが、有機エレクトロルミネッセンスディスプレイにおいても同様の方法を採用することも可能である。
【００５９】
上記液晶パネルに具備するディスプレイ用フィルタを実施するための好ましい形態の１つとしては、少なくとも透明基体（Ｃ）、機能性透明層（Ｅ）、必要に応じて調色層（Ｆ）を有しており、構成層や構成部材の少なくとも１つ以上に本発明の色素が含有されていることを特徴とする。
【００６０】
上記の液晶パネルに具備するディスプレイ用フィルタの透明基体（Ｃ）、機能性透明層（Ｅ）としては、上記プラズマディスプレイ用フィルタの説明で記載したものと同様の材料を使用することが出来る。また、上記の層の積層方法は、従来公知の方法を制限無く採用することが出来る。好ましい上記の材料や方法としては、例えば特開２００２−４０２３３号公報等に記載された材料、方法を採用することが出来る。
【００６１】
本発明のディスプレイ用フィルタを用いた液晶ディスプレイは（Ｉ）粘着層を介して液晶ディスプレイの構成部材に貼りあわせて使用する、（ＩＩ）液晶ディスプレイの光源から視認部までの間に挿入して使用する構成を好適な例として挙げることが出来る。なお、本発明における液晶パネルに具備するディスプレイ用フィルタはこれに限定されるものではない。
【００６２】
上記のごとく得られたディスプレイ用フィルタを具備した液晶ディスプレイまたは有機エレクトロルミネッセンスディスプレイは、前述のプラズマディスプレイと同様、長期間に渡り性能が劣化することなく光源から放出される不要な発光を除去でき、発光色の色純度、特に青の色純度が向上したディスプレイとなり、かつ、明所におけるコントラストが向上したディスプレイとなる。また、本発明におけるディスプレイ用フィルタは、２種類以上のフィルタを組み合わせて用いてもよい。また、同種のフィルタを複数枚用いても構わない。
【００６３】
本発明のディスプレイ用フィルタは、上記の他にもＣＲＴディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、無機エレクトロルミネッセンスディスプレイの様な公知のディスプレイと組み合わせて使用することも勿論可能である。また、本発明のディスプレイ用フィルタを具備したそれらのディスプレイも、長期間に渡り不要発光を除去でき、かつ、コントラストにも優れ、特に青色の色純度の高いディスプレイとして、美しい画像を提供することが出来る。
【００６４】
本発明を実施例により具体的に説明する。なお、本発明は、以下の実施例によって限定を受けるものではない。
【実施例】
【００６５】
実施例１
酢酸エチル／トルエン（５０：５０質量パーセント）溶剤に（式１）においてＲがフェニル基で、Ｘ１〜Ｘ８がアルキルフェニルエチニル基であるポルフィリン化合物、及び、テトラアザポルフィリンの銅錯体を分散・溶解させ、乾燥したときの色素濃度がそれぞれ１０００（ｗｔ）ｐｐｍ、２５０（ｗｔ）ｐｐｍになるようにアクリル系粘着剤用の色素入り希釈剤を作製した。アクリル系粘着剤／色素入り希釈剤（８０：２０質量パーセント）を混合し、バーコーター法によりポリエチレンテレフタレートフィルムとシリコーン離型層からなる離型フィルムの離型層上に連続的に塗工し、乾燥させた後、別の離型フィルムを塗工面に貼り合わせ、異なる剥離力を有した離型フィルムを両面に有する膜厚２５μｍの色素入り粘着シートを作製した。
作製した粘着シートの片方の離型フィルムを剥離し、透明アクリル樹脂［三菱レイヨン（株）製、厚さ２ｍｍ］に貼り合わせ、さらにもう片方の離型フィルムを剥離して、紫外線カットフィルム［（株）帝人製、膜厚７５μｍ］を貼り合わせたディスプレイ用フィルタを作製した。
【００６６】
上記のディスプレイ用フィルタを、分光光度計［日立製作所製、Ｕ−３４００］により３００ｎｍ〜８００ｎｍの透過率を測定した。さらに、８０℃の恒温槽［ｙａｍａｔｏ製、ＤＮ−６１］、６０℃・９０％ＲＨの恒温恒湿槽［ＥＴＡＣ製、ＦＸ２２００］及び５０ｍＷ／ｃｍ２のソーラーシミュレータ［ウシオ製］を用いてディスプレイ用フィルタの高温、高温高湿、擬似太陽光照射の耐環境性試験を実施した。作製したディスプレイ用フィルタを各環境条件下に５００時間保持し、５００時間後のディスプレイ用フィルタの透過率を測定し、極大吸収波長における吸収維持率を算出した。算出した吸収維持率を表１に示した。
【００６７】
【表１】
2005338661.tif 000004
【００６８】
その結果、使用した色素の極大吸収波長は４９５ｎｍ（上記ポルフィリン化合物）および、５８５ｎｍ（上記のテトラアザポルフィリンの銅錯体）
であった。表１より、実施例１におけるディスプレイ用フィルタの４９５ｎｍにおける透過率は、５３％であった。また、実施例１で使用した色素は、全ての環境加速試験において、１０００時間経過した後も吸収維持率は全て９８％以上であり、非常に優れた耐環境性を有しており、長期間にわたり性能が劣化することなく用いることが可能である。
【００６９】
実施例２
実施例１と同様の色素入り粘着シートの片方の離型フィルムを剥離し、厚さ３ｍｍの熱処理ガラスに貼り合わせた。もう片方の離型フィルムを剥離して、厚さ８５μｍのトリアセチルセルロースフィルム、ハードコート層、静電気防止処理及び防汚処理付き反射防止層からなる反射防止フィルムを貼り合わせてディスプレイ用フィルタを作製した。
【００７０】
作製した液晶ディスプレイ用フィルタを市販の液晶ディスプレイ［シャープ（株）製、ＬＣ−１５Ｂ１−Ｓ］の前面に配設して本発明のディスプレイ用フィルタを配設した液晶ディスプレイとした。
【００７１】
上記のディスプレイ用フィルタを配設した液晶ディスプレイの画面中央における分光輝度測定を実施した。分光輝度測定には、分光輝度計［ＭＩＮＯＬＴＡ  ＣＳ−１０００］を使用し、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の発光スペクトルを測定し、ＸＹＺ表色系−（ｘ，ｙ）色度座標を求めた。得られたＲ、Ｇ、Ｂの色度座標からなる三角形の面積を算出した。この三角形の面積が大きいほど、色再現範囲が大きいとみなすことができる。ディスプレイ用フィルタを配設しなかった場合（液晶ディスプレイのみ）の三角形の面積を１００として、ディスプレイ用フィルタ設置した場合の三角形の面積を表２に示した。
【００７２】
【表２】
2005338661.tif 000005
【００７３】
その結果、本発明のディスプレイ用フィルタを配設することにより、色再現性を６％以上向上させることが可能であることが分かった。
【００７４】
上記の結果は、本発明のディスプレイ用フィルタにより表示装置における不要光を吸収したことによりもたらされたと考えることが出来る。このため、表示装置の色純度及びコントラストも改善されると考えられる。従って、表示装置として鮮明かつ美しい画像を長期間に渡って提供することが期待される。
【００７５】
実施例３
透明基体としてポリエチレンテレフタレートフィルム［厚さ：７５μｍ、以下ＰＥＴと記す。］を使用し、透明基体の一方の主面上に、直流マグネトロンスパッタリング法を使用して、インジウムとスズと酸化物からなる高屈折率層（ｃ）、銀からなる金属薄膜層（ｄ）をＰＥＴ／ｃ［４０ｎｍ］／ｄ［１５ｎｍ］／ｃ［８０ｎｍ］／ｄ［２０ｎｍ］／ｃ［８０ｎｍ］／ｄ［１５ｎｍ］／ｃ［４０ｎｍ］
となる順に積層して透明導電性薄膜（ａ）を形成した。インジウムとスズの酸化物からなる高屈折率層（ｃ）の形成には、ターゲットとして酸化インジウム・酸化スズの焼結体［Ｉｎ２Ｏ３：ＳｎＯ２＝９０：１０（重量比）］、スパッタリングガスとしてアルゴン・酸素混合ガス［全圧：２６６ｍＰａ、酸素分圧：５ｍＰａ］を使用した。また、銀からなる金属薄膜層（ｄ）の形成には、ターゲットとして銀を使用し、スパッタリングガスとしてアルゴンガス［全圧：２６６ｍＰａ］を使用した。以上により、導電層を形成した。上記により形成した導電層上に、ポリエチレンフィルム［厚さ：５０μｍ］の高分子支持体上に粘着層［厚さ：３μｍ］を有する保護フィルムを貼り合わせた。貼り合わせ時の面圧は、０．３ＭＰａであった。
次に、厚さ３ｍｍの熱処理ガラスである透明支持体の一方の主面上に、保護フィルムを貼り合わせた透明基体及び導電層からなるフィルムを、透明基体が透明支持体側になるように、実施例１で作製した粘着シートを介して貼り合わせた。貼り合わせ時の面圧は、０．３ＭＰａであった。
さらに、導電層に貼り合わせた保護フィルムを剥離して、反射防止フィルム［厚さ：１００μｍ］を粘着材を用いて貼り合わせた。貼り合わせ時の面圧は、０．３ＭＰａであった。
上記の如く作製したプラズマディスプレイ用フィルタをプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）の前面に配設してプラズマディスプレイとした。
【００７６】
実施例３で作製したプラズマディスプレイ用フィルタの光学特性（視感平均透過率、８５０ｎｍの透過率、９５０ｎｍの透過率）を分光光度計［日立製作所製、Ｕ−３４００］により３００ｎｍ〜１０００ｎｍの透過率を測定した（測定法：ＪＩＳ  Ｒ３１０６）。各測定値を表３に示す。
【００７７】
【表３】
2005338661.tif 000006
【００７８】
本発明のＰＤＰ用フィルタは、優れた耐久性を有するだけでなくＰＤＰ用ディスプレイ用フィルタとして十分な可視光線透明性を有しており、かつ、十分な近赤外線遮蔽能を有しているフィルタであった。また、該プラズマディスプレイ用フィルタを具備したプラズマディスプレイは、フィルタ無しの場合に比して鮮明で美しい画像が得られることを目視で確認した。
【産業上の利用可能性】
【００７９】
本発明は、公知のあらゆるディスプレイに用いることができ、青緑間の不要な発光を選択的に吸収し、かつ耐久性にも優れた色素を含有することにより、長期間に渡り性能が劣化することなくディスプレイの色純度を向上し、同時に明所におけるコントラストが向上した鮮明な画像を表示できるディスプレイを提供することができる。