(57)【要約】【課題】  濾過循環式浴槽で、レジオネラ属菌を効果的に殺菌できる濾過循環式浴槽の殺菌方法を提供する。【解決手段】  浴槽１４内の湯を循環ポンプ２５を介して吸い込むと共に濾過器２７を通して濾過し、これを昇温して浴槽１４に循環する濾過循環式浴槽の殺菌方法において、上記循環ポンプ２５と濾過器の間の送湯管２６に塩素剤注入装置３０を設け、その塩素剤注入装置３０で、浴槽１４内の湯の残留塩素濃度が０．８ｍｇ／Ｌ、好ましくは０．６ｍｇ／Ｌ以下となるように注入し、これを１時間ごとに繰り返し注入して、湯中の残留塩素濃度を常時０．１ｍｇ／Ｌ以上となるようにしたものである。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
浴槽内の湯を循環ポンプを介して吸い込むと共に濾過器を通して濾過し、これを昇温して浴槽に循環する濾過循環式浴槽の殺菌方法において、上記循環ポンプと濾過器の間の配管に塩素剤注入装置を設け、その塩素剤注入装置で、浴槽内の湯の残留塩素濃度が０．８ｍｇ／Ｌ、好ましくは０．６ｍｇ／Ｌ以下となるように注入し、これを１時間ごとに繰り返し注入して、湯中の残留塩素濃度を常時０．１ｍｇ／Ｌ以上となるようにしたことを特徴とする濾過循環式浴槽の殺菌方法。
【請求項２】
循環ポンプが、浴槽内の湯を１時間当たり約２回半循環する性能に設定され、塩素注入時間は、その湯が浴槽に滞留する時間の約半分の時間をかけて注入するようにした請求項１記載の濾過循環式浴槽の殺菌方法。
【請求項３】
浴槽利用停止時に、過酸化水素を浴槽内などに投入し、その浴槽内の湯を循環して循環系統の配管や濾過器内に形成された生物膜を定期的に洗浄除去する請求項１又は２記載の濾過循環式浴槽の殺菌方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、濾過循環式浴槽内に発生するレジオネラ属菌を殺菌するための濾過循環式浴槽の殺菌方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
最近、リゾート地の温泉施設で、循環式浴槽を利用した利用者がレジオネラ菌に感染する事故が増加している。
【０００３】
レジオネラ属菌は、０．３〜０．９×２〜２０μｍの非抗酸性細菌で、通常は１本の鞭毛があり運動性があり、他の細菌や藻類の代謝産物を利用したり、アメーバ等の細菌捕食性原生動物に寄生して増殖すると言われている。これら生物が生息する生物膜（バイオフィルム）の内部にいるレジオネラ属菌は、外界から保護されていると考えられている。
【０００４】
レジオネラ症は、臨床症状からレジオネラ肺炎と、インフルエンザ様のポアンティック熱という２つの病型に大別される。レジオネラ肺炎は、７〜１０日の潜伏期の後に、発熱、全身倦怠、頭痛などで始まり、劇症型の場合は発病後１週間以内に死亡することもある。ポアンティック熱はインフルエンザに似た熱性疾患で、予後はよく、自然治癒するといわれている。
【０００５】
従来、一般的な循環式浴槽は、浴槽内の水や温泉をポンプで、ヘアキャッチャー（集毛器）を介して吸い込み、ポンプの手前で、髪の毛などを除去した後、これを濾過器（濾材は、天然砂、人工砂、繊維を使用したフィルタなど）に押し込み、濾過器を通過浸透させて汚れを取り除いた後、熱交換器を通して昇温して浴槽に戻すようにしている。
【０００６】
この循環式浴槽の滅菌システムでは、濾過器内の濾材は、定期的（１回／日）に、濾過器内に水を逆方向に流して逆洗浄を行って、濾材に詰まった汚れを除去し、浴槽水の消毒は、濾過器から浴槽に至る水に、或いは濾過器に入る前の水に塩素剤を投入して、残留塩素濃度０．２〜０．４ｍｇ／Ｌを１日に２時間以上保つようにしている。
【０００７】
【特許文献１】特開２００１−２５９６５１号公報
【特許文献２】特開平１０−２３０２８１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、循環式浴槽の水への塩素剤の投入は、浴槽の利用後で、１週間に２回程度行って消毒している（特許文献１）が、配管や濾過器内に生物膜（バイオフィルム）内に入っているレジオネラ属菌まで殺菌することはできず、また常時利用中にレジオネラ属菌が、配管や濾過器内に定着して繁殖することが避けられない問題がある。
【０００９】
そこで、常時或いは間欠的に投入する（特許文献１）にしても、その塩素剤の投入量が多すぎると塩素臭がして利用者に不快感を与えやすく、また塩素剤が少なすぎてはレジオネラ属菌の発生を抑えることができない。特に、温泉施設においては、泉源に鉄分が多い温泉では、塩素濃度が濃すぎると（１ｍｇ／Ｌ以上）、温泉成分中の鉄分が酸化して浴槽が茶褐色になり、また酸化した鉄分が浴槽の底に沈殿し、黒い砂のようになってしまう。
【００１０】
そこで、本発明の目的は、上記課題を解決し、濾過循環式浴槽で、レジオネラ属菌を効果的に殺菌できる濾過循環式浴槽の殺菌方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために請求項１の発明は、浴槽内の湯を循環ポンプを介して吸い込むと共に濾過器を通して濾過し、これを昇温して浴槽に循環する濾過循環式浴槽の殺菌方法において、上記循環ポンプと濾過器の間の配管に塩素剤注入装置を設け、その塩素剤注入装置で、浴槽内の湯の残留塩素濃度が０．８ｍｇ／Ｌ、好ましくは０．６ｍｇ／Ｌ以下となるように注入し、これを１時間ごとに繰り返し注入して、湯中の残留塩素濃度を常時０．１ｍｇ／Ｌ以上となるようにした濾過循環式浴槽の殺菌方法である。
【００１２】
請求項２の発明は、循環ポンプが、浴槽内の湯を１時間当たり約２回半循環する性能に設定され、塩素注入時間は、その湯が浴槽に滞留する時間の約半分の時間をかけて注入するようにした請求項１記載の濾過循環式浴槽の殺菌方法である。
【００１３】
請求項３の発明は、浴槽利用停止時に、過酸化水素を浴槽内などに投入し、その浴槽内の湯を循環して循環系統の配管や濾過器内に形成された生物膜を定期的に洗浄除去する請求項１又は２記載の濾過循環式浴槽の殺菌方法である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、濾過循環式浴槽で、レジオネラ属菌を殺菌するにおいて、殺菌の際の塩素臭がなく利用者に不快感を与えることなく、しかも完全にレジオネラ属菌の発生を防止することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の好適な一実施形態を添付図面に基づいて詳述する。
【００１６】
先ず、図１により温泉設備での濾過循環式浴槽の一例を説明する。
【００１７】
図１において、１０は建家で、その建家１０内に大浴槽（内風呂）１１、建家１０外に露天風呂１２、１３が設けられ、これらは適宜連通されて全体に浴槽１４となっている。
【００１８】
また露天風呂１２、１３上は温泉や循環湯が投入される滝壺１５、滝壺１５から露天風呂１２に湯を流す滝１６が設けられる。
【００１９】
この浴槽１４への温泉の供給は、地下数１００ｍにある温泉層１７から温泉くみ上げ用コンプレッサ１８にて温泉をくみ上げて地上に設けた温泉槽１９に蓄える。
【００２０】
この温泉槽１９より揚泉ポンプ２０と揚泉管２１にて地上から所要高さに設置した高置温泉槽２２に移送され、その高置温泉槽２２から温泉供給管２３より滝壺１５に温泉が供給される。
【００２１】
浴槽１４の湯は、濾過循環還り管２４から循環ポンプ２５にて吸い込まれ、送湯管２６から密閉式の濾過器２７に供給され、その濾過器２７を通して濾過された後、供給管２８により滝壺１５に循環され、一部は供給管２８より分岐した分岐管２９により大浴槽１１に供給される。
【００２２】
この温泉設備での濾過循環式浴槽においては、温泉層１７から温泉槽１９にくみ上げられた温泉の温度が６０℃であり、高置温泉槽２２で５５℃となり、滝壺１５で循環水と混ぜられて４８℃となり、滝１６で冷やされて、露天風呂１２，１３，大浴槽１１が４２℃となるようにされる。また濾過器２７から供給管２８、分岐管２９を介して大浴槽１１と滝壺１５に供給される循環水は、供給管２８を通る間に熱交換器（図示せず）にて昇温するようにしてもよい。
【００２３】
本発明においては、循環ポンプ２５から濾過器２７に至る送湯管２６に塩素剤注入装置３０が設けられ、この塩素剤注入装置３０で、１時間おきに塩素剤を循環水中に注入して、常時、残留塩素濃度が０．８〜０．１ｍｇ／Ｌ、好ましくは０．６〜０．１ｍｇ／Ｌとなるようにすることで、レジオネラ属菌の発生を完全に防止できることを見い出したものである。
【００２４】
また、この塩素剤を注入するにおいて、浴槽１４内の湯は、通常濾過器２７の性能から１時間当たり２回半循環されるようになっており、浴槽１４内の湯の滞留時間は、約２４分となるため、注入時間をその半分の１２，１３分程度とすることで、注入直後に残留塩素濃度が高くても浴槽１４内の湯と混ざって残留塩素濃度を０．４ｍｇ／Ｌ以下に下げることができ、塩素臭の発生をより完全に防止できる。
【００２５】
これにより、塩素臭もなく、しかも最小の塩素量でレジオネラ属菌の発生を抑制することが、実験の結果で確認できた。
【００２６】
この塩素剤の注入と残留塩素濃度、レジオネラ属菌の発生の関係について以下に詳細に説明する。
【００２７】
先ず、図１で説明した浴槽は、男子浴槽と女子浴槽とがあり、両者の浴槽の面積と容積は以下の通りである。
【００２８】
男子浴槽      長さｍ    幅ｍ      面積ｍ2      深さｍ    容積ｍ3
大浴槽１１    ４．４    １．９    ８．３６     ０．５６  ４．６８
露天風呂１２  ４．４    ０．８８  ３．８７２   ０．５６  ２．１７
露天風呂１３   ２       １．８    ３．６       ０．６３  ２．２７
滝壺１５      ６．５    ０．９    ５．８５     ０．３    １．７６
足踏台等                                               −０．７８
合計                            ２１．６８             １０．０１
【００２９】
足踏台等は、浴槽に入るための浴槽内にある石段であり、浴槽の容積から減算される値となる。
【００３０】
女子浴槽      長さｍ    幅ｍ      面積ｍ2      深さｍ    容積ｍ3 
大浴槽１１    ３．６    １．８    ６．４８     ０．５６  ３．６３
露天風呂１２  ３．６    １．１    ２．２１     ０．５６  ２．２２
露天風呂１３    −        −      ２．４０     ０．６    １．４４
滝壺１５      １．９    １．９    １．８１     ０．４    ０．７２
足踏台等                                               −０．６
合計                            １４．６５               ７．４１
【００３１】
但し、露天風呂１３は、半径０．８７ｍの円形であり、面積と容積のみを示した、また滝壺１５は、三角形であり、長さと幅は、底辺と高さの値を示している。
【００３２】
この男子と女子の浴槽で、塩素滅菌していな場合には、男子の滝壺１５で、５０００ＣＦＵ／１００ｍＬ、女子の滝壺１５で３，０００ＣＦＵ／１００ｍＬであり、基準値１０ＣＦＵ／１００ｍＬ以下を、男子浴槽で５００倍、女子浴槽で３００倍であった。この検査値ＣＦＵ／１００ｍＬのＣＦＵは、Colony Forming Unit （集落形成単位）の略で、１ＣＦＵは、水１００ｍＬ中の培養前の元の細菌１個に相当する数である。
【００３３】
上記結果より、レジオネラ属菌が温泉浴槽設備のどこに生息しているかを調査した。
【００３４】
先ず、温泉槽１９と温泉高置槽２２にはレジオネラ属菌は検出されておらず、滝壺１５と分岐管２９の吐出口でレジオネラ属菌が検出された。そこで、男子の浴槽１４内に固形塩素剤１／２錠（１錠、塩素５５％，２０ｇ）を直接投入して３０分程度たった後、滝壺１５でのレジオネラ属菌を測定したところ、４３ＣＦＵ／１００ｍＬとなり、基準値１０ＣＦＵ／１００ｍＬより未だ高いものの、５０００ＣＦＵ／１００ｍＬから大幅に激減した。
【００３５】
このことから、レジオネラ属菌は、浴槽循環系統内に生息しており、塩素剤の投入により、循環系統に生息していたレジオネラ属菌が殺菌されていることが判る。しかし、基準値に対して未だ４倍程度高い値であり、この原因を追求した結果、濾過器２７や循環配管系統内部にバイオフィルム（生物膜）が形成され、バイオフィルム内にレジオネラ属菌が入り込み、塩素剤による滅菌でも死滅しないために、基準値を下回らないことが判明した。
【００３６】
そこで、バイオフィルム除去のために過酸化水素を１０ｋｇ／ｍ3 の割合で投入して約６時間、循環洗浄した後には、レジオネラ属菌は検出されなかった。
【００３７】
尚、この循環洗浄後、過酸化水素水排水時に過酸化水素の残量を測定し、それに合わせて中和剤（過マンガン酸カリウム）を入れて循環して中和した後排水する。その後、浴槽に湯張りをして入浴する前に過マンガン酸カリウム消費量を測定しておく。
【００３８】
次に塩素剤（次亜塩素酸ナトリウム１２％溶液を、水５：塩素１で希釈）の注入量とレジオネラ属菌生息状況について説明する。
【００３９】
試験例１
女子浴槽に、午前６：１０、７：３０、９：００に、塩素注入時間５分間、注入量１０ｃｃ／ｍｉｎで、１回の塩素総注入量５０ｃｃをそれぞれ注入した。この際、各注入終了から１０分後の滝壺１５、大浴槽１１、露天風呂１２の残留塩素濃度は、滝壺１５で、０．３ｍｇ／Ｌ、大浴槽１１で、０．２ｍｇ／Ｌ、露天風呂１２で、０．２ｍｇ／Ｌであった。
【００４０】
この後、午前１０：１５に滝壺１５から湯を採取してレジオネラ属菌の発生を検査したところ、１０００ＣＦＵ／１００ｍＬを検出した。
【００４１】
この原因は、１．５時間おきに塩素剤を注入し、その注入後の残留塩素濃度が０．２ｍｇ／Ｌと十分であるにもかかわらず、レジオネラ属菌を検出した理由について検討した結果、注入間隔が長く、その間に塩素が分解して殺菌能力が無くなるものと考えられる。
【００４２】
試験例２
そこで、水（２１℃）と温水（４２℃）の浮遊残留塩素濃度（分解量）を調査した。
【００４３】
２１℃の水と４２℃の温水の残留塩素濃度が０．６ｍｇ／Ｌとなるように塩素を注入し、１時間おきに残留塩素濃度を測定した。
【００４４】
水温２１℃の水では、１時間後に０．４ｍｇ／Ｌ、２時間後に０．３ｍｇ／Ｌ、３時間後に０．２ｍｇ／Ｌ、４時間後に０．１ｍｇ／Ｌ、５時間後に０．１ｍｇ／Ｌ、６時間後に、０．０５ｍｇ／Ｌと緩やかに残留塩素濃度が下がるのに対して、４２℃の温水は、残留塩素濃度０．６ｍｇ／Ｌが、１時間後には０．１ｍｇ／Ｌとなり、２時間後には、０．０５ｍｇ／Ｌと急激に残留塩素濃度が下がることが判った。
【００４５】
試験例２の結果より、試験例１のように１．５時間おきに塩素を注入しても、１時間後にはその残留塩素濃度が下がり、このためレジオネラ属菌が繁殖することが判った。
【００４６】
この場合、塩素注入量を多くすれば、注入間隔は、１．５時間でも可能であるが、塩素濃度が０．８ｍｇ／Ｌ以上となると塩素臭が発生して好ましくないため、塩素濃度は最大でも０．８ｍｇ／Ｌ、好ましくは０．６ｍｇ／Ｌ以下に抑えることが好ましい。
【００４７】
従って、そのためには、塩素注入間隔は、１時間間隔で行うのが好ましいことが判明した。
【００４８】
次に実際の浴槽で、注入直後に、残留塩素濃度が０．８ｍｇ／Ｌ以下、好ましくは０．６ｍｇ／Ｌ以下となる注入条件を実験により求めてみた。
【００４９】
通常、循環ポンプ２５は、浴槽１４の湯を、１時間当たり２．５回循環することが、濾過器２７の濾過性能から最適とされており、浴槽１４内での湯の滞留時間は６０／２．５＝２４（分）となる。
【００５０】
次に、図１で、塩素剤注入装置３０から塩素剤（次亜塩素酸ナトリウム１２％溶液を水で５倍に希釈した液）を１時間おきに注入するに最適な量の調査結果を説明する。
【００５１】
先ず男子浴槽についての調査結果を説明する。
【００５２】
塩素注入時間は、浴槽の湯の平均滞留時間が２４分であり、高置温泉槽２２からの湯量が１０Ｌ／分であり、送湯管２６から濾過器２７内に残る量をも考慮すると、実質的に浴槽中の湯半分を塩素が注入された湯とするには、１３分と設定し、注入量を変えてその残留塩素濃度を調査した。
【００５３】
注入時刻  注入量  総注入量  測定時刻  滝壺    大浴槽   露天風呂
A. 10:10    11cc/min  143cc             mg/L     mg/L     mg/L
10:25    0.4      0.05     0.05
10:35    0.1      0.1      0.1
10:45    0.05     0.05     0.05
10:55    0.05     0.05     0.05
B. 11:10    13cc/min  169cc             mg/L     mg/L     mg/L
11:25    0.4      0.1      0.1
11:35    0.2      0.2      0.2
11:45    0.2      0.2      0.2
11:55    0.1      0.1      0.1
12:05    0.1      0.1      0.1
12:55    0.0      0.0      0.0
C. 13:10    14cc/min  182cc             mg/L     mg/L     mg/L
13:25    0.8      0.1      0.1
13:35    0.3      0.3      0.3
13:45    0.2      0.2      0.2
13:55    0.2      0.2      0.2
14:05    0.1      0.1      0.1
14:55    0.1
【００５４】
以上の結果から、Ａ．では、初期の残留塩素濃度が薄く、殺菌効果が十分でなく、また、１時間後に残留塩素濃度が０．０５ｍｇ／Ｌとなり、レジオネラ属菌が繁殖しやすくなる。またＢ．は、１時間後でも０．１ｍｇ／Ｌであり、比較的好ましいが、初期の残留塩素濃度が、最大で０．２〜０．４ｍｇ／Ｌであり、初期の殺菌効果が十分でなく、また１．５時間以上経過すると残留塩素が無くなりレジオネラ属菌の増殖抑制効果が無くなり好ましくない。これに対してＣ．の例（水１５０ｃｃ、次亜塩素酸ナトリウム１２％溶液３０ｃｃ、塩素３ｃｃ／水１ｍ3 ）では、初期の濃度が、滝壺で０．８ｍｇ／Ｌで、大浴槽と露天風呂で０．３ｍｇ／Ｌであり、１．５時間後でも０．１ｍｇ／Ｌであり、好ましい結果が得られ、レジオネラ属菌の測定でもレジオネラ属菌は検出されなかった。
【００５５】
また注入時間は、湯の平均滞留時間の約半分とすることで、注入完了後に浴槽の約半分が塩素剤が注入された湯となり、この湯と残りの湯とが混ざるために、注入時の塩素濃度が高くても全体に塩素濃度が薄められる結果、塩素臭を発生して利用者に不快感を与えることがない。この注入時間は、短時間で行うと、塩素臭がし、長時間であると、初期の塩素濃度が低いために殺菌効果が薄くなり好ましくなく、要は注入完了後に最大残留塩素濃度が０．８ｍｇ／Ｌを超えないように、また１時間後に０．１ｍｇ／Ｌの残留塩素濃度を維持できるものであればよい。
【００５６】
次に女子浴槽についての調査結果を説明する。
【００５７】
この女子浴槽での塩素剤注入装置３０は、男子浴槽の塩素剤注入装置３０とその性能が同じで、最低注入量が９ｃｃ／ｍｉｎとするとポンプの吐出量が少なすぎてキャビテーションを起こすため、塩素注入量を１０ｃｃ／ｍｉｎから行い、注入時間と注入量を調整して行った。
【００５８】
注入時刻  注入時間  注入量  総注入量  測定時刻  滝壺   大浴槽  露天風呂
A. 10:05   10分    11cc/min  110cc              mg/L    mg/L    mg/L
10:20     1.0     0.6     0.5
10:30     0.8     0.8     0.6
10:40     0.6     0.8     0.5
10:50     0.5     0.5     0.4
11:00     0.4     0.4     0.4
11:10     0.4     0.4     0.4
11:20     0.4     0.4     0.4
11:30     0.4     0.4     0.4
11:40     0.4     0.4     0.4
11:50     0.3     0.3     0.3
12:00     0.3     0.3     0.3
12:50     0.2     0.2     0.2
B. 13:05    9分    10cc/min   90cc              mg/L    mg/L    mg/L
13:20     0.4     0.3     0.3
13:30     0.3     0.3     0.3
13:40     0.2     0.2     0.2
13:50     0.2     0.2     0.2
14:00     0.1     0.1     0.1
【００５９】
女子浴槽の場合、Ａ．では、残留塩素濃度が高く、Ｂ．がベストであった。
【００６０】
この女子浴槽の塩素剤のベストの注入量（９０ｃｃ、水７５ｃｃ、１２％次亜塩素酸ナトリウム液１５ｃｃ、塩素２ｃｃ／水１ｍ3 ）は、男子の塩素３ｃｃ／水１ｍ3 と比べる塩素注入量比率は、６６．６％（＝２／３）である。この差は、温泉補給流量と関係する。
【００６１】
すなわち、男子の温泉補給流量は、１０Ｌ／ｍｉｎ（６００Ｌ／ｈ）、女子の温泉補給流量は、７Ｌ／ｍｉｎ（４２０Ｌ／ｈ）であり、男子の温泉補給流量と比較すると女子の温泉補給流量の比率が７０％であり、塩素注入量比率６６．６％であるため、希釈割合から見れば一致し、残留塩素濃度を０．６〜０．１ｍｇ／Ｌに維持できるものと考えられる。
【００６２】
この塩素剤注入量と残留塩素濃度は、湯温や水質でも変わり、さらに風呂の面積や滝１６の形状により、塩素の分解量が変わるために、その循環式浴槽に応じた最適な塩素剤注入量を設定する。
【００６３】
これには、図１には示すように、濾過循環還り管２４に残留塩素濃度計Ｔを設置し、その塩素濃度計Ｔで、循環ポンプ２５に吸い込まれる残留塩素濃度を検出し、残留塩素濃度が、常時０．１ｍｇ／Ｌ以上となるように、すなわち、注入後は、最大０．８ｍｇ／Ｌ、好ましくは０．６ｍｇ／Ｌ以下で、塩素剤注入装置３０を停止し、１時間後に０．１ｍｇ／Ｌまで下がったならば、塩素剤注入装置３０を運転して塩素剤を注入することで、浴槽１４内を常時、残留塩素濃度０．１ｍｇ／Ｌ以上に維持できる。
【００６４】
また、塩素濃度計Ｔがなくても、浴槽１４の容積は一定であるため、始めに最適な塩素剤の注入量を求めれば、以後は、その最適な塩素剤注入量で、塩素剤を注入すればよい。
【００６５】
図２は、通常の循環式浴槽における殺菌方法を示したものである。
【００６６】
図において、３４は浴槽であり、濾過循環還り管３５より、集毛器３６を通して髪の毛を除去し、循環ポンプ３７から送湯管３８を介して濾過器３９に供給し、濾過器３９で、湯中の固形物を除去した後、揚湯管４０にて浴槽３４に戻し、その揚湯管４０に熱交換器４１を設けて所要の温度に湯を昇温して循環するようにしたものである。
【００６７】
この循環式浴槽においても、塩素剤注入装置３０は、循環ポンプ３７と濾過器３９間の送湯管３８に注入するように設置する。
【００６８】
この循環式浴槽においても、１時間おきに、かつ浴槽３４内の湯の滞留時間の約半分の時間をかけて、塩素剤を注入し、湯中の残留塩素濃度が、常時０．８〜０．１ｍｇ／Ｌ、好ましくは０．６〜０．１ｍｇ／Ｌとなるように塩素剤を注入することで、レジオネラ属菌の発生を防止できる。
【００６９】
図３は、塩素剤注入装置３０の詳細を示したものある。
【００７０】
塩素剤注入装置３０は、次亜塩素酸ナトリウム１２％溶液（希釈液）を貯留する薬液タンク４２とその薬液タンク４２の塩素剤を吸入吐出する薬液ポンプ４３と、その薬液ポンプ４３からの塩素剤を、送湯管２６，３８内に注入するための注入管４４とから構成される。
【００７１】
この薬液ポンプ４３は、薬液ポンプ運転制御装置４５により、吐出量、駆動間隔、駆動時間が制御できるようになっており、タイマー４６により、運転間隔と運転時間を設定調節できるようになっており、また電源ブレーカ４７と運転／停止リレー４８や薬液ポンプ運転制御装置４５を遠隔操作及び濾過装置２７と連動するための接続端子４９を備えている。
【００７２】
この薬液ポンプ運転制御装置４５により、図１の例で説明したように、男子浴槽であれば、１時間おきに、注入量１４ｃｃ／ｍｉｎで、注入時間１３分を設定して自動運転することが可能となる。
【００７３】
また、塩素剤の殺菌中、濾過器２７、３９や配管内にはバイオフィルムが徐々に形成されるため、年に１回或いは半年に１回はバイオフィルム除去のために上述した過酸化水素による循環洗浄を行う。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明の一実施の形態を示す図である。
【図２】本発明の他の実施の形態を示す図である。
【図３】本発明における塩素剤注入装置の詳細を示す図である。
【符号の説明】
【００７５】
１１  大浴槽
１２，１３  露天風呂
１４  浴槽
２５  循環ポンプ
２６  送湯管
２７  濾過器
３０  塩素剤注入装置
【図１】
2005152861.tif 000003
【図２】
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【図３】
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