(57)【要約】【課題】  棒電極の溶射膜を痛めることなく、棒電極を放電面に沿う方向に矯正して、棒電極の全長にわたってガスの流量を均一化する。【解決手段】  薄膜形成装置には、基材を挟むように支持電極に対向して放電空間を形成し、支持電極とともに放電空間内に高周波電界を発生させる棒電極と、棒電極に間隔を空けて隣接するように支持電極に対向する隣接部材とが設けられている。また、薄膜形成装置には、棒電極の汚れを防止するクリーニングフィルムを、棒電極の表面に密着させながら棒電極と隣接部材との間隔及び放電空間に進入させるように搬送するフィルム用搬送部が設けられている。フィルム用搬送部には、棒電極の変形方向の反対方向にクリーニングフィルムの張力が作用するように、クリーニングフィルムの搬送経路を調整する張力調整機構が備えられている。【選択図】図１
2005307290.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材を支持する支持電極と、
前記基材を挟むように前記支持電極に対向して放電空間を形成し、前記支持電極とともに前記放電空間内に高周波電界を発生させる棒電極と、
前記棒電極に間隔を空けて隣接するように前記支持電極に対向する隣接部材と、
薄膜形成ガスを含有するガスが高周波電界によって活性化されるように、前記隣接部材及び前記隣接部材により形成された間隔を介して前記放電空間に前記ガスを供給し、前記活性化されたガスで前記基材を晒すことで、前記基材上に薄膜を形成するためのガス供給部と、
前記棒電極の汚れを防止するクリーニングフィルムを、前記棒電極の表面に密着させながら前記間隔及び前記放電空間に進入させるように搬送するフィルム用搬送部とを備え、
前記フィルム用搬送部には、
前記棒電極の変形方向の反対方向に前記クリーニングフィルムの張力が作用するように、前記クリーニングフィルムの搬送経路を調整する張力調整機構が備えられていることを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項２】
請求項１記載の薄膜形成装置において、
前記フィルム用搬送部は、
前記クリーニングフィルムの元巻を保持する保持ローラと、
前記保持ローラから引き出された前記クリーニングフィルムを、前記棒電極の表面に密着させながら前記間隔及び前記放電空間に進入させるように巻き取る巻取ローラとを備え、
前記張力調整機構が、
前記棒電極の、前記間隔を形成する面とは反対側の面に前記クリーニングフィルムが接触するように、前記クリーニングフィルムの搬送経路を調整する調整ローラであることを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項３】
請求項２記載の薄膜形成装置において、
前記調整ローラが、前記棒電極の軸方向における変形量に対応して、前記支持電極に対して傾くことを特徴とする薄膜形成装置。
【請求項４】
基材を支持する支持電極と、
前記基材を挟むように前記支持電極に対向して放電空間を形成し、前記支持電極とともに前記放電空間内に高周波電界を発生させる棒電極と、
前記棒電極に間隔を空けて隣接するように前記支持電極に対向する隣接部材と、
薄膜形成ガスを含有するガスが高周波電界によって活性化されるように、前記隣接部材及び前記隣接部材により形成された間隔を介して前記放電空間に前記ガスを供給し、前記活性化されたガスで前記基材を晒すことで、前記基材上に薄膜を形成するためのガス供給部と、
前記棒電極の汚れを防止するクリーニングフィルムを、前記棒電極の表面に密着させながら前記間隔及び前記放電空間に進入させるように搬送するフィルム用搬送部とを備え、
前記棒電極の、前記放電空間を形成する面とは反対側の面には、前記棒電極の全長にわたって補強部材が前記棒電極に一体的に固定されており、
前記補強部材には、前記放電空間を形成する面に沿って前記補強部材を変形させる複数の調整部材が、前記棒電極の全長に対応するように設けられていることを特徴とする薄膜形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、薄膜形成装置に係り、特に、大気圧プラズマ放電処理を用いて薄膜を基材上に形成する薄膜形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
大気圧プラズマ製膜方法は、対向する電極間に基材を配置させた状態で、薄膜形成ガスを供給し、両電極に電界を印加する。これにより、放電プラズマが発生し、基材を放電プラズマに晒すことで薄膜が形成される。大気圧プラズマ製膜方法を実現する薄膜形成装置として、例えば、特許文献１に記載される薄膜形成装置が挙げられる。この薄膜形成装置には、対向する一対の電極と、これらの電極に電界を印加する電源と、一対の電極の放電面に対して、それぞれ基材を密着するように搬送するフィルム用搬送装置と、電極間に薄膜形成ガスを供給する薄膜形成ガス供給部とが備わっている。そして、この薄膜形成装置は、電極間に薄膜形成ガスを供給してから、電界を印加することにより放電プラズマを発生させて、一対の電極に密着した基材に薄膜を形成するようになっている。
【０００３】
ここで、上記の薄膜形成装置のように、電極の放電面のみを基材で覆ったとしても、図５に示すように、放電プラズマが発生するプラズマ空間ｈが電極１０１，１０２の放電面１０１ａ，１０２ａからはみ出してしまうために、基材１０３，１０４が放電面１０１ａ，１０２ａに接触する以前、つまり支えのない状態でプラズマ空間ｈに進入してしまい、放電プラズマの熱影響を過剰かつ急激に受けてしまう。これにより基材１０３，１０４は収縮し、皺やツレが発生してしまい、不均一な製膜になってしまう。
【０００４】
この不均一な製膜を防止するため、本発明者らは一対の電極のうち、一方の電極の放電面に連続する放電面以外の表面に、予め基材を接触させてから放電面に密着させるとともに、他方の電極の放電面に連続する放電面以外の表面に、予めクリーニングフィルムを接触させてから放電面に密着させる薄膜形成装置を開発した。図６を参照に説明すると、この薄膜形成装置２００には、放電空間ｈ１を形成する一対の電極として、支持電極２０１と、支持電極２０１の下方で間隔を空けて対向する棒電極２０２とが設けられている。棒電極２０２は、互いに間隔を空けるように２本設置されている。この支持電極２０１と棒電極２０２とのそれぞれの表面のうち、互いに対向して放電空間ｈ１を形成する部分が放電面２０１ａ，２０２ａとなる。さらに、支持電極２０１及び棒電極２０２の放電面２０１ａ，２０２ａ以外の表面は、放電面２０１ａ，２０２ａに連続している。ここで、棒電極２０２は、誘電体からなる溶射膜２１０を棒状の金属母材２１１に被膜したものであるが、この溶射膜２１０は安定したプラズマ放電を確保するために少なくとも棒電極２０２の放電面２０２ａと放電面２０２ａに連続する２面とを形成するように被膜されている。この２面のうち、他方の棒電極２０２に対向して棒電極間隔を形成する面を間隔面２０２ｂとし、間隔面２０２ｂの反対側に位置する面を反対面２０２ｃとする。
【０００５】
また、薄膜形成装置２００には、２本の棒電極２０２の間隔に向けて薄膜形成ガスを噴出し、支持電極２０１及び棒電極２０２からなる放電空間ｈ１に供給するガス供給部２０３が設けられている。すなわち、棒電極間隔が薄膜形成ガスの流路となる。
そして、薄膜形成装置２００には、支持電極２０１の放電面２０１ａ以外の表面に接触させてから放電面２０１ａに密着させるように基材２０４を搬送する基材用搬送機構（図示省略）と、棒電極２０２に接触させて棒電極２０２に対する汚れを防止するクリーニングフィルム２０５を搬送するフィルム用搬送部２０６とが設けられている。
【０００６】
フィルム用搬送部２０６には、ガス供給部２０３の近傍でクリーニングフィルム２０５の元巻を保持する保持ローラ２０７と、保持ローラ２０７よりも外側でクリーニングフィルム２０５を巻き取る巻取ローラ２０８とが設けられている。この巻取ローラ２０８でクリーニングフィルム２０５が巻き取られることで、クリーニングフィルム２０５は棒電極２０２の放電面２０２ａ以外の表面に接触してから放電面２０２ａに密着することになる。
【０００７】
ここで、均一な製膜を基材２０４上に形成するためには、棒電極２０２の全長にわたって棒電極間隔を一定にし、放電空間ｈ１に進入するガス量を均一化しなければならないが、棒電極２０２自体に変形が生じて棒電極間隔が不均一になってしまっていた。この棒電極の変形には要因としては、以下のものが挙げられる。
【０００８】
近年においては、広幅な基材２０４に対して薄膜形成が行われる場合も多々あるが、こうした場合には、例えば０．３ｍ以上、特に０．５ｍ以上の長尺な棒電極２０２が用いられることになる。しかしながら、棒電極２０２が長尺であると加工時に無視できないほどの反りが発生してしまう可能性が高い。
さらに、薄膜形成装置内部で棒電極２０２を支持する支持部材が変形していたとすると、棒電極２０２自体に反りがなかったとしても、支持部材に組み付けてしまえば棒電極２０２が変形してしまう。
そして、上記した薄膜形成装置２００のように、棒電極２０２にクリーニングフィルム２０５が密着して搬送させられていると、その張力によって棒電極２０２が変形してしまう。
【０００９】
これらの要因で棒電極２０２が変形した場合、上記したように棒電極間隔が不均一になってしまうために、棒電極間隔を均一にすべく棒電極２０２の変形を放電面２０２ａに沿う方向に矯正する矯正機構が考えられている。
【００１０】
例えば図７に示す矯正機構２２０には、棒電極２０２の反対面２０２ｃ側で、放電面２０２ａに沿って移動する押圧ローラ２２１が設けられている。この押圧ローラ２２１が移動して棒電極２０２の反対面２０２ｃを押圧することで、棒電極２０２の変形を放電面２０２ａに沿う方向に矯正するようになっている。
また、図８に示す矯正機構２３０には、複数のプッシュプルボルト２３１が、棒電極２０２の反対面２０２ｃ側で棒電極２０２の全長にわたって設けられている。このプッシュプルボルト２３１が押圧されることで、棒電極２０２の変形を放電面２０２ａに沿う方向に矯正するようになっている。
さらに、図９に示す矯正機構２４０には、棒電極２０２よりも剛性の大きい補強部材２４１が棒電極２０２の反対面２０２ｃ側に設けられている。この補強部材２４１と棒電極２０２とを締結させることで棒電極２０２の変形を放電面２０２に沿う方向に矯正するようになっている。
【特許文献１】特開２０００−２１２７５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、図７〜図９に例示した矯正機構２３０，２４０，２５０のいずれにおいても、棒電極２０２の変形を放電面２０２ａに沿う方向に矯正するために、棒電極２０２の溶射膜２１０に圧力をかけているが、このように溶射膜２１０に圧力がかかると溶射膜２１０を脱落させたり、溶射膜２１０に傷をつけたりしてしまうおそれがある。溶射膜２１０が均一でないと、プラズマ放電が不安定になり、結果として製膜の均一化の妨げになってしまう。
【００１２】
本発明の課題は、棒電極の溶射膜を痛めることなく、棒電極を放電面に沿う方向に矯正して、棒電極の全長にわたってガスの流量を均一化することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
請求項１記載の発明における薄膜形成装置は、
基材を支持する支持電極と、
前記基材を挟むように前記支持電極に対向して放電空間を形成し、前記支持電極とともに前記放電空間内に高周波電界を発生させる棒電極と、
前記棒電極に間隔を空けて隣接するように前記支持電極に対向する隣接部材と、
薄膜形成ガスを含有するガスが高周波電界によって活性化されるように、前記隣接部材及び前記隣接部材により形成された間隔を介して前記放電空間に前記ガスを供給し、前記活性化されたガスで前記基材を晒すことで、前記基材上に薄膜を形成するためのガス供給部と、
前記棒電極の汚れを防止するクリーニングフィルムを、前記棒電極の表面に密着させながら前記間隔及び前記放電空間に進入させるように搬送するフィルム用搬送部とを備え、
前記フィルム用搬送部には、
前記棒電極の変形方向の反対方向に前記クリーニングフィルムの張力が作用するように、前記クリーニングフィルムの搬送経路を調整する張力調整機構が備えられていることを特徴としている。
【００１４】
請求項１記載の発明によれば、棒電極の変形方向の反対方向にクリーニングフィルムの張力が作用するように、張力調整機構がクリーニングフィルムの搬送経路を調整するので、クリーニングフィルムの張力によって棒電極の変形を矯正することができる。これにより、棒電極を放電面に沿う方向に矯正することができ、棒電極の全長にわたってガスの流量を均一化できる。
【００１５】
請求項２記載の発明は、請求項１記載の薄膜形成装置において、
前記フィルム用搬送部は、
前記クリーニングフィルムの元巻を保持する保持ローラと、
前記保持ローラから引き出された前記クリーニングフィルムを、前記棒電極の表面に密着させながら前記間隔及び前記放電空間に進入させるように巻き取る巻取ローラとを備え、
前記張力調整機構が、
前記棒電極の、前記間隔を形成する面とは反対側の面に前記クリーニングフィルムが接触するように、前記クリーニングフィルムの搬送経路を調整する調整ローラであることを特徴としている。
【００１６】
ここで、保持ローラや巻取ローラを移動させてクリーニングフィルムの搬送経路を調整することも可能であるが、保持ローラに保持されるクリーニングフィルムの元巻の直径や、巻取ローラに巻き取られるクリーニングフィルムの直径は搬送に伴って変化してしまうために、棒電極に作用する張力の調整が困難であった。しかしながら、請求項２記載の発明のように、調整ローラによってクリーニングフィルムの搬送経路を調整させる場合においては、調整ローラの直径は変化しないために、棒電極に作用する張力の調整を容易に行うことができる。
【００１７】
請求項３記載の発明は、請求項２記載の薄膜形成装置において、
前記調整ローラが、前記棒電極の軸方向における変形量に対応して、前記支持電極に対して傾くことを特徴としている。
【００１８】
棒電極は全長にわたって一様に変形するものではなく、中央からずれた位置の変形量が最大となる場合もある。このような場合、変形量が最大の位置に張力を作用させれば、効率よく棒電極の変形を矯正できる。つまり、請求項３記載の発明のように、調整ローラが、棒電極の軸方向における変形量に対応して支持電極に対して傾けば、棒電極の変形量が最大の位置に好適に張力を作用させることができる。
【００１９】
請求項４記載の発明は、
基材を支持する支持電極と、
前記基材を挟むように前記支持電極に対向して放電空間を形成し、前記支持電極とともに前記放電空間内に高周波電界を発生させる棒電極と、
前記棒電極に間隔を空けて隣接するように前記支持電極に対向する隣接部材と、
薄膜形成ガスを含有するガスが高周波電界によって活性化されるように、前記隣接部材及び前記隣接部材により形成された間隔を介して前記放電空間に前記ガスを供給し、前記活性化されたガスで前記基材を晒すことで、前記基材上に薄膜を形成するためのガス供給部と、
前記棒電極の汚れを防止するクリーニングフィルムを、前記棒電極の表面に密着させながら前記間隔及び前記放電空間に進入させるように搬送するフィルム用搬送部とを備え、
前記棒電極の、前記放電空間を形成する面とは反対側の面には、前記棒電極の全長にわたって補強部材が前記棒電極に一体的に固定されており、
前記補強部材には、前記放電空間を形成する面に沿って前記補強部材を変形させる複数の調整部材が、前記棒電極の全長に対応するように設けられていることを特徴としている。
【００２０】
請求項４記載の発明によれば、複数の調整部材によって、補強部材が放電空間を形成する面に沿って変形させられると、補強部材に一体的に固定された棒電極も連動して変形することになる。ここで、棒電極の放電空間を形成する面とは反対側の面には、溶射膜が被膜されていないために、上記したようにこの反対側の面に対して補強部材が固定されたとしても、棒電極の溶射膜を痛めることなく、棒電極を放電面に沿う方向に矯正して、棒電極の全長にわたってガスの流量を均一化することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明によれば、クリーニングフィルムの張力によって棒電極の変形を矯正することができる。これにより、棒電極を放電面に沿う方向に矯正することができ、棒電極の全長にわたってガスの流量を均一化できる。
また、棒電極の放電空間を形成する面とは反対側の面には、溶射膜が被膜されていないために、この反対側の面に対して補強部材が固定されたとしても、棒電極の溶射膜を痛めることなく、棒電極を放電面に沿う方向に矯正して、棒電極の全長にわたってガスの流量を均一化することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
［第１の実施の形態］
以下、添付図面を参照しつつ本発明の実施の形態について説明する。図１は、薄膜形成装置１の概略構成を表すの正面図である。
【００２３】
この薄膜形成装置１は、大気圧又は大気圧近傍の圧力下で、放電プラズマを発生させることによって基材上に薄膜を形成する薄膜形成装置である。薄膜形成装置１には、図１に示すように、放電プラズマを発生させるための支持電極２が設けられている。この支持電極２の表面には、図示しない基材用搬送部によって基材３が密着されて搬送されるようになっている。
【００２４】
支持電極２の下方には、基材３上に薄膜を形成するための薄膜形成ユニット４が設けられている。薄膜形成ユニット４には、一対の棒電極４１が、支持電極２上の基材３を挟んで、支持電極２の表面に間隔ａを空けて対向するように配置されている。この支持電極２と棒電極４１との間隔ａが放電空間Ｈとなり、この放電空間Ｈを成す棒電極４１及び支持電極２の対向する面をそれぞれ放電面４１ａ，２１とする。また、一対の棒電極４１の間には間隔ｂが設けられている。
【００２５】
棒電極４１は、誘電体からなる溶射膜４２を棒状の金属母材４３に被膜したものであるが、この溶射膜４２は棒電極４１の放電面４１ａと、放電面４１ａに対して略垂直に連続する２面とを形成するように被膜されている。この２面のうち、他方の棒電極４１に対向して間隔ｂを形成する面を間隔面４１ｂとし、間隔面４１ｂの反対側に位置する面を反対面４１ｃとする。
そして、棒電極４１は、その両端部を支持部材２２（図２参照）によって下方から支持されている。この支持部材２２は、棒電極４１が変形して長さが変化したとしても、その変化を吸収できるように、棒電極４１の端部を支持した状態で軸方向（矢印Ｃ）に移動できるようになっている。
【００２６】
また、薄膜形成装置１には、間隔ｂに向けてガスを噴出するガス供給部４４が、間隔ｂに対向するように配置されている。これにより、間隔ｂがガス供給部４４から供給されたガスを放電空間Ｈまで案内する流路Ｂとなる。つまり、一対の棒電極４１のそれぞれが、本発明に係る本発明に係る隣接部材となっている。
この流路Ｂによって放電空間Ｈにガスが供給され、支持電極２及び棒電極４１に電界が印加されると、放電プラズマが発生しガスが活性化されるために、支持電極２の放電面２１に密着した基材３上に薄膜が形成されることになる。
【００２７】
また、薄膜形成ユニット４には、棒電極４１の汚れを防止するクリーニングフィルム６を棒電極４１に密着させながら連続的若しくは間欠的に搬送するフィルム用搬送部５が、各棒電極４１に対応するように設けられている。
【００２８】
図２はフィルム用搬送部５の概略構成を表す斜視図である。この図２に示すように、フィルム用搬送部５には、ガス供給部４４の近傍で、クリーニングフィルム６の元巻を回転自在に保持する保持ローラ５１が設けられている。また、ガス供給部４４に対して、保持ローラ５１よりも遠方には、クリーニングフィルム６を巻き取る巻取ローラ５２が設けられている。そして、ガス供給部４４と巻取ローラ５２との間には、クリーニングフィルム６の搬送経路を調整して、棒電極４１に対するクリーニングフィルム６の張力を調整する調整機構としての調整ローラ５３が設けられている。この調整ローラ５３は、クリーニングフィルム６の表面に接触しながら、棒電極４１の放電面４１ａに沿う方向に平行に移動するようになっている。
【００２９】
つまり、クリーニングフィルム６は、保持ローラ５１から引き出されると、棒電極４１の間隔面４１ｂに密着してから放電面４１ａに密着、放電空間Ｈを通過し、その後調整ローラ５３を介して巻取ローラ５２に巻き取られるようになっている。基材３に対して薄膜形成が行われているときにクリーニングフィルム６が放電空間Ｈを通過すると、その表面上には基材３と同様に薄膜が形成されることになる。
【００３０】
次に、ガス供給部４４から供給されるガスについて説明する。
このガスに、薄膜形成可能なプラズマ放電を起こすことのできる放電ガスと、薄膜の原料を含有する薄膜形成ガスとが混合されたものである。
放電ガスとしては、窒素、希ガス、空気、水素ガス、酸素などがあり、これらを単独で放電ガスとして用いても、混合して用いてもかまわない。本実施形態では、比較的安価な窒素を用いている。この場合、放電ガスの５０〜１００体積％が窒素であることが好ましく、さらに窒素に混合させるガスとして希ガスを使用し、放電ガスの５０％未満を含有させることが好ましい。
【００３１】
薄膜形成ガスに含まれる原料としては、例えば、有機金属化合物、ハロゲン金属化合物、金属水素化合物等が挙げられる。
有機金属化合物としては、以下の一般式（Ｉ）で示すものが好ましい。
一般式（Ｉ）  Ｒ１ｘＭＲ２ｙＲ３ｚ式中、Ｍは金属、Ｒ１はアルキル基、Ｒ２はアルコキシ基、Ｒ３はβ−ジケトン錯体基、β−ケトカルボン酸エステル錯体基、β−ケトカルボン酸錯体基及びケトオキシ基（ケトオキシ錯体基）から選ばれる基であり、金属Ｍの価数をｍとした場合、ｘ＋ｙ＋ｚ＝ｍであり、ｘ＝０〜ｍ、またはｘ＝０〜ｍ−１であり、ｙ＝０〜ｍ、ｚ＝０〜ｍで、いずれも０または正の整数である。Ｒ１のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。Ｒ２のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、３，３，３−トリフルオロプロポキシ基等が挙げられる。またアルキル基の水素原子をフッ素原子に置換したものでもよい。Ｒ３のβ−ジケトン錯体基、β−ケトカルボン酸エステル錯体基、β−ケトカルボン酸錯体基及びケトオキシ基（ケトオキシ錯体基）から選ばれる基としては、β−ジケトン錯体基として、例えば、２，４−ペンタンジオン（アセチルアセトンあるいはアセトアセトンともいう）、１，１，１，５，５，５−ヘキサメチル−２，４−ペンタンジオン、２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオン、１，１，１−トリフルオロ−２，４−ペンタンジオン等が挙げられ、β−ケトカルボン酸エステル錯体基として、例えば、アセト酢酸メチルエステル、アセト酢酸エチルエステル、アセト酢酸プロピルエステル、トリメチルアセト酢酸エチル、トリフルオロアセト酢酸メチル等が挙げられ、β−ケトカルボン酸として、例えば、アセト酢酸、トリメチルアセト酢酸等が挙げられ、またケトオキシとして、例えば、アセトオキシ基（またはアセトキシ基）、プロピオニルオキシ基、ブチリロキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等が挙げられる。これらの基の炭素原子数は、上記例有機金属化合物を含んで、１８以下が好ましい。また例示にもあるように直鎖または分岐のもの、また水素原子をフッ素原子に置換したものでもよい。
【００３２】
本発明において取り扱いの問題から、爆発の危険性の少ない有機金属化合物が好ましく、分子内に少なくとも１つ以上の酸素を有する有機金属化合物が好ましい。このようなものとしてＲ２のアルコキシ基を少なくとも１つを含有する有機金属化合物、またＲ３のβ−ジケトン錯体基、β−ケトカルボン酸エステル錯体基、β−ケトカルボン酸錯体基及びケトオキシ基（ケトオキシ錯体基）から選ばれる基を少なくとも一つ有する有機金属化合物が好ましい。
【００３３】
また、薄膜形成ガスに使用する有機金属化合物、ハロゲン金属化合物、金属水素化合物の金属として、例えば、Ｌｉ、Ｂｅ、Ｂ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｉｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｌａ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ等が挙げられる。
【００３４】
次に、本実施形態の薄膜形成装置１の作用について説明する。
先ず、薄膜形成装置１の組立時には、棒電極４１が、加工時の反りや、クリーニングフィルム６による張力、支持部材２２の変形などによって変形している場合もあるため、作業者は流路Ｂの間隔が棒電極４１の全長にわたって均一か否かを検査する。この検査によって流路Ｂの不均一が認識されると、作業者は、棒電極４１の変形方向の反対方向にクリーニングフィルム６の張力が作用するように調整ローラ５３を移動させて、クリーニングフィルム６の搬送経路を調整する。
【００３５】
具体的に説明すると、例えば、クリーニングフィルム６を棒電極４１の反対面４１ｃに接触させないように、調整ローラ５３がクリーニングフィルム６の搬送経路を調整している場合（図２の点線部Ｐ）には、クリーニングフィルム６が棒電極４１の間隔面４１ｂに接触しているために、クリーニングフィルム６による張力が間隔面４１ｂを押すように作用する。このようにクリーニングフィルム６の張力が作用すれば、棒電極４１が流路Ｂに向けて凸となる変形を矯正することができる。
【００３６】
一方、クリーニングフィルム６を棒電極４１の反対面４１ｃに接触させるように、調整ローラ５３がクリーニングフィルム６の搬送経路を調整している場合（図２の実線部）には、クリーニングフィルム６が棒電極４１の反対面４１ｃに接触しているために、クリーニングフィルム６による張力が反対面４１ｃを押すように作用する（矢印Ｔ）。なお、この場合においては、クリーニングフィルム６は棒電極４１の間隔面４１ｂにも接触しているために、間隔面４１ｂに作用する力よりも反対面４１ｃに作用する力の方が大きくなるように、調整ローラ５３の位置を決定する必要がある。
このようにクリーニングフィルム６の張力が反対面４１ｃを押すように作用すれば、棒電極４１が流路Ｂの反対側に向けて凸となる変形を矯正することができる。
【００３７】
棒電極４１の矯正が完了すれば、流路Ｂの間隔を棒電極４１の全長にわたって均一にすることができ、均一な製膜を行うことができる。
【００３８】
以上のように、本実施形態の薄膜形成装置１によれば、棒電極４１の変形方向の反対方向にクリーニングフィルム６の張力が作用するように、調整ローラ５３がクリーニングフィルム６の搬送経路を調整するので、クリーニングフィルム６の張力によって棒電極４１の変形を矯正することができる。これにより、棒電極４１を放電面４１ａに沿う方向に矯正することができ、棒電極４１の全長にわたってガスの流量を均一化できる。
【００３９】
なお、本発明は上記実施形態に限らず適宜変更可能であるのは勿論である。
例えば、本実施形態では、棒電極４１の放電面４１ａに沿う方向に調整ローラ５３を移動させることで、クリーニングフィルム６の搬送経路を調整しているが、少なくとも棒電極４１の反対面４１ｃにクリーニングフィルム６を接触させる搬送経路が形成できるのであれば、調整ローラ５３の移動方向はこれに限られるものではない。
そして、本実施形態では、調整ローラ５３を移動させることによってクリーニングフィルム６の搬送経路を調整しているが、調整ローラ５３を省略して、保持ローラ５１若しくは巻取ローラ５２を移動自在にすれば、保持ローラ５１や巻取ローラ５２を移動させることでも搬送経路を調整できる。なお、保持ローラ５１に保持されるクリーニングフィルム６の元巻の直径や、巻取ローラ５２に巻き取られるクリーニングフィルム６の直径は搬送に伴って変化してしまい、棒電極４１に作用する張力の調整が困難である。このことから、直径の変化しない調整ローラ５３で搬送経路を調整することが好ましい。
【００４０】
本実施形態では、平行に移動する調整ローラ５３を例示したが、支持電極２に対して傾くように移動する調整ローラであっても構わない。棒電極４１は全長にわたって一様に変形するものではなく、中央からずれた位置の変形量が最大となる場合もある。このような場合、変形量が最大の位置に張力を作用させれば、効率よく棒電極４１の変形を矯正できる。つまり、上記したように支持電極２に対して傾くように移動する調整ローラを用いれば、棒電極４１の軸方向における変形量に対応させて棒電極４１を傾かせることができ、棒電極４１の変形量が最大の位置に好適に張力を作用させることができる。
【００４１】
［第２の実施の形態］
第１の実施の形態では、棒電極４１を矯正するためにクリーニングフィルム６の搬送経路を調整する構成を例示して説明したが、この第２の実施の形態では、クリーニングフィルム６の搬送経路を一定とした状態で棒電極４１を矯正する構成について説明する。なお、以下の説明において第１の実施の形態と同一部分においては同一符号を付してその説明を省略する。
【００４２】
第２の実施の形態の薄膜形成装置１Ａには、棒電極４１と同等以上の剛性を有する補強部材９が、棒電極４１の放電面４１ａの反対側の面４１ｄに一体的に固定されている。図４は、補強部材９を表す下面図である。この図４に示すように、補強部材９の、流路Ｂの反対側に位置する面９ｃには、本発明の調整部材としての複数のプッシュプルボルト９１が、棒電極４１の全長に対応するように渡しプレート９２を介して埋め込まれている。このプッシュプルボルト９１は、放電面４１ａに沿う方向に補強部材９を変形させるようになっている。また、渡しプレート９２には、棒電極４１より剛性の大きい材質のものが用いられている。
流路Ｂの間隔検査の際に検出された棒電極４１の変形量に応じて、プッシュプルボルト９１のフランジ９３を回転させれば、補強部材９はプッシュプルボルト９１に押し引きされて変形する。ここで、棒電極４１と補強部材９とは一体的に固定されているので、補強部材９の変形に連動して棒電極４１も放電面４１ａに沿う方向に変形することになり、結果として検査時にあった変形が矯正され、流路Ｂの間隔を均一にすることができる。
【００４３】
以上のように、この第２の実施の形態の薄膜形成装置１Ａによれば、棒電極４１の放電面４１ａとは反対側の面４１ｄには、溶射膜４２が被膜されていないために、上記したようにこの反対側の面４１ｄに対して補強部材９が固定されたとしても、棒電極４１の溶射膜４２を痛めることなく、棒電極４１を放電面４１ａに沿う方向に矯正して、棒電極４１の全長にわたってガスの流量を均一化することができる。
【００４４】
なお、本発明は第１及び第２の実施の形態に限らず適宜変更可能であるのは勿論である。
例えば、上記実施形態では、互いに間隔を空けて対向する棒電極４１によって、ガスの流路Ｂが形成される構成を例示したが、ガスの流路を形成する一対の部材のうち、少なくとも一方が棒電極であれば他方の部材は棒電極でなくとも構わない。他方の部材としては、棒電極と同等以上の剛性を有するものが好ましい。
また、上記実施形態では、手動によって棒電極４１の変形を矯正した場合を例示したが自動で矯正してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】第１の実施の形態に係る薄膜形成装置の概略構成を表す正面図である。
【図２】図１の薄膜形成装置に備わるフィルム用搬送部の概略構成を表す斜視図である。
【図３】第２の実施の形態に係る薄膜形成装置の概略構成を表す斜視図である。
【図４】図３の薄膜形成装置に備わる補強部材を表す下面図である。
【図５】従来の薄膜形成装置の放電空間を表す説明図である。
【図６】従来の薄膜形成装置の概略構成を表す正面図である。
【図７】従来の薄膜形成装置に備わる矯正機構の具体例を表す斜視図である。
【図８】従来の薄膜形成装置に備わる矯正機構の具体例を表す斜視図である。
【図９】従来の薄膜形成装置に備わる矯正機構の具体例を表す斜視図である。
【符号の説明】
【００４６】
１，１Ａ      薄膜形成装置
２      支持電極
３      基材
５      フィルム用搬送部
６      クリーニングフィルム
９      補強部材
４１      棒電極（隣接部材）
４４      ガス供給部
５１      保持ローラ
５２      巻取ローラ
５３      調整ローラ（張力調整機構）
９１      プッシュプルボルト（調整部材）
Ｈ      放電空間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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