(57)【要約】【課題】  光学素子の製作期間や納期を短く設定することも目的とする。【解決手段】  そのために、本発明では、鏡面駒作成時には設計値に加え離型量のシュミレーションや、類似の光学素子の参照データを基に実際に製作する形状データを作成し、この値に基づいて加工する構成をとる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学樹脂より光学素子を製造する方法であり、光学設計値による形状から安定した成形が行える条件を設定する成形条件決定工程、
前記光学素子の形状と成形条件により離型量を算出、予測する離型量シュミレーション工程、
前記シュミレーション結果に基づき鏡面駒を作製する鏡面駒作製工程、並びに前記鏡面駒を用いて成形を行う成形工程からなることを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の方法により光学素子を成形するイニシャル成形工程、
前記光学素子の光学特性を測定する光学性能測定工程、
前記光学特性測定工程において測定された光学性能から目標とする光学性能を得るために面形状の補正を行う再設計工程、
前記再設計工程で得られた補正値を元に鏡面駒に対し補正を加えて修正する鏡面駒補正工程、及び前記補正された鏡面駒で再度成形する本成形工程、からなることを特徴とする光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記離型量シュミレーション工程は、成形時の樹脂温度、射出圧力、成形型の温度分布の少なくともいずれかのパラメータを含んだシュミレーション計算によって得られる離型予測量を算出することを特徴とする請求項１記載の光学素子の製造方法。
【請求項４】
前記離型量シュミレーション工程は、類似した形状の光学素子の成形条件を基にシュミレーション計算を行って離型予測量を算出することを特徴とする請求項第１項記載の光学素子の製造方法。
【請求項５】
前記光学性能測定工程によって得られた測定値、またはその測定値による光学シュミレーションで得られた光学性能が、所望の値となるよう光学特性測定工程から鏡面駒補正工程を繰り返し行うことを特徴とする請求項２記載の光学素子の製造方法。
【請求項６】
前記光学性能測定工程は、成形された該光学素子の鏡面形状を含む形状測定、
及び該光学素子による光束の結像状態の測定からなることを特徴とする請求項２記載の光学素子の製造方法。
【請求項７】
前記光学特性測定工程は、その測定において規定の像面に対し、該光学素子による複数の主走査像高における光束の主走査方向のピント位置を求め、規定の像面に対する光軸方向のずれ量を求めることを特徴とする請求項２記載の光学素子の製造方法。
【請求項８】
前記光学特性測定工程は、その測定において規定の像面に対し、該光学素子による複数の主走査像高における光束の副走査方向のピント位置を求め、定められた規定像面に対する光軸方向のずれ量を求めることを特徴とする請求項２記載の光学素子の製造方法。
【請求項９】
前記ピント位置は、前記規定像面近傍の光軸方向前後の光束径を複数箇所測定し、得られた光束径分布より所定の光束径以下となる２ヶ所の位置を主走査、副走査それぞれで求め、前記２ヶ所の中間点を主走査、副走査それぞれのピント位置として求めることを特徴とする請求項７、８記載の光学素子の製造方法。
【請求項１０】
前記再設計工程においては、光学性能測定工程で得られた鏡面の形状誤差と、また該光学素子による光束の結像状態の測定結果から得られる光学性能とを合わせ、前記光学性能が所望の性能となるような前記形状誤差に対する形状補正値を算出することを特徴とする請求項２記載の光学素子の製造方法。
【請求項１１】
前記再設計工程においては、光学性能として像面湾曲、走査線湾曲、倍率誤差、ｆθ特性、光束径のいずれか１つ以上に対して補正が行われることを特徴とする請求項２記載の光学素子の製造方法。
【請求項１２】
請求項１乃至１１いずれか記載の製造方法を用いて製作されたことを特徴とする光走査装置用光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学樹脂により光学素子を成形する際の製造方法に関するものであり、主に複写機やプリンタなどに搭載される光走査装置に採用される走査光学系の光学素子に対し有効なものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、複写機やプリンタなどのレーザ走査系に採用されてきたガラス材料に代わり、光学樹脂を使用することが多くなった。
【０００３】
光学樹脂による光学素子は金型を使用した射出成形により製造されるが、その光学樹脂の利点である面形状などの設定自由度が高い反面、製造誤差が発生しやすいという課題を抱えており、これまでもこの課題に対して様々な手法が発案されてきている。
【０００４】
例えば、特許文献１においては、成形時に起きる樹脂の収縮に対して有効なものであり、最初の成形で樹脂の収縮量をまず求め、その結果に対して補正量を算出し、最終的な金型形状を決定するものである。
【０００５】
また、成形によって得られる光学性能の確認に於いても特許文献２に記載されているように主走査、副走査それぞれの光束の集光位置を求め、更にその際、光束の副走査方向偏差の分布を求めるなど光軸方向の集光位置及び走査線の湾曲を考慮した測定を行い、より高性能な光学素子の製造方法が提示されている。
【０００６】
図５は従来の光学素子の製造方法についてのフローチャートである。
【０００７】
まず製作を行う光学素子の光学設計（ａ）を行う。
【０００８】
この設計値に基づいて鏡面駒の作成（ｂ）を行い、最初の光学素子のイニシャル成形（ｃ）を行う。
【０００９】
イニシャル成形により得られた光学素子を実際の使用時と同条件の光走査装置を作成し、これを用いて光学特性の測定を行う（ｄ）。
【００１０】
得られた測定値が設計値と比較して許容範囲であればそこで完結する（ｈ）が、設計値に対する許容範囲を超えていると判断された場合には光学設計の再設計（ｅ）を行う。
【００１１】
再設計では鏡面駒に対する修正量を算出することで行われ、この修正量により鏡面駒を修正（ｆ）し、本成形（ｇ）を行う。
【００１２】
そして再度光学特性の測定（ｄ）を行い、再度修正を行うか判断する。
【００１３】
このようにして最終的に満足する性能が得られれば完了となるが、多くの場合、１回では性能を満足することは無く、何回か繰り返して行われるのが通例である。
【特許文献１】特開平５−９６５７２号公報
【特許文献２】特開２００３−９４４４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
以上のように前記提案もそれぞれ有効な方法であるとはいえ、少なからず修正を繰り返すことを前提にしている。
【００１５】
この繰り返しを常にゼロにすることは困難ではあるが、修正回数が増すと、当然製造日程が延び、その光学素子を使用する装置の開発、製造に影響を及ぼすこととなり、また、その分のコストもかかるため、できる限り少ない回数で済ませたいということが望まれていた。
【００１６】
本提案に於いては成形時の仕上がりの精度を上げ、少しでも金型の修正回数を減らすために更に製造方法に工夫を加えたものであり、金型の修正回数を減らすことによるコスト削減、及び製造日程の短縮が可能であり、且つ走査光学系の走査線湾曲及び、その他像面湾曲などの原因となる形状誤差や屈折率分布に依存する要素をも考慮した、高精度な光学素子の製作が可能となる光学素子の製造方法の提供を目的としたものである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
前記問題点に対し請求項第１項記載の光学素子の製造方法は、
光学樹脂より光学素子を製造する方法であり、光学設計値による形状から安定した成形が行える条件を設定する成形条件決定工程、前記光学素子の形状と成形条件により離型量を算出、予測する離型量シュミレーション工程、前記シュミレーション結果に基づき鏡面駒を作製する鏡面駒作製工程、並びに前記鏡面駒を用いて成形を行う成形工程からなることを特徴としている。
【００１８】
請求項第２項記載の光学素子の製造方法は、
請求項１項記載の方法により光学素子を成形するイニシャル成形工程、前記光学素子の光学特性を測定する光学性能測定工程、前記光学特性測定工程において測定された光学性能から目標とする光学性能を得るために面形状の補正を行う再設計工程、前記再設計工程で得られた補正値を元に鏡面駒に対し補正を加えて修正する鏡面駒補正工程、及び前記補正された鏡面駒で再度成形する本成形工程、からなることを特徴としている。
【００１９】
請求項第３項項記載の光学素子の製造方法は、
請求項第１項記載の光学素子の製造方法であり、
前記離型量シュミレーション工程は、成形時の樹脂温度、射出圧力、成形型の温度分布の少なくともいずれかのパラメータを含んだシュミレーション計算によって得られる離型予測量を算出することを特徴としている。
【００２０】
請求項第４項項記載の光学素子の製造方法は、
請求項第１項記載の光学素子の製造方法であり、
前記離型量シュミレーション工程は、類似した形状の光学素子の成形条件を基にシュミレーション計算を行って離型予測量を算出することを特徴としている。
【００２１】
請求項第５項項記載の光学素子の製造方法は、
請求項第２項記載の光学素子の製造方法であり、
前記光学性能測定工程によって得られた測定値、またはその測定値による光学シュミレーションで得られた光学性能が、所望の値となるよう光学特性測定工程から鏡面駒補正工程を繰り返し行うことを特徴としている。
【００２２】
請求項第６項項記載の光学素子の製造方法は、
請求項第２項記載の光学素子の製造方法であり、
前記光学性能測定工程は、成形された該光学素子の鏡面形状を含む形状測定、及び該光学素子による光束の結像状態の測定からなることを特徴としている。
【００２３】
請求項第７項項記載の光学素子の製造方法は、
請求項第２項記載の光学素子の製造方法であり、
前記光学特性測定工程は、その測定において規定の像面に対し、該光学素子による複数の主走査像高における光束の主走査方向のピント位置を求め、規定の像面に対する光軸方向のずれ量を求めることを特徴としている。
【００２４】
請求項第８項項記載の光学素子の製造方法は、
請求項第２項記載の光学素子の製造方法であり、
前記光学特性測定工程は、その測定において規定の像面に対し、該光学素子による複数の主走査像高における光束の副走査方向のピント位置を求め、定められた規定像面に対する光軸方向のずれ量を求めることを特徴としている。
【００２５】
請求項第９項項記載の光学素子の製造方法は、
請求項第７，８項記載の光学素子の製造方法であり、
前記ピント位置は、前記規定像面近傍の光軸方向前後の光束径を複数箇所測定し、得られた光束径分布より所定の光束径以下となる２ヶ所の位置を主走査、副走査それぞれで求め、前記２ヶ所の中間点を主走査、副走査それぞれのピント位置として求めることを特徴としている。
【００２６】
請求項第１０項項記載の光学素子の製造方法は、
請求項第２項記載の光学素子の製造方法であり、
前記再設計工程においては、光学性能測定工程で得られた鏡面の形状誤差と、また該光学素子による光束の結像状態の測定結果から得られる光学性能とを合わせ、前記光学性能が所望の性能となるような前記形状誤差に対する形状補正値を算出することを特徴としている。
【００２７】
請求項第１１項項記載の光学素子の製造方法は、
請求項第２項記載の光学素子の製造方法であり、
前記再設計工程においては、光学性能として像面湾曲、走査線湾曲、倍率誤差、ｆθ特性、光束径のいずれか１つ以上に対して補正が行われることを特徴としている。
【００２８】
請求項１２項記載の光学素子の光走査装置用光学素子は、
前記請求項第１乃至第１１項いずれか記載の製造方法を用いて製作されたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００２９】
以上述べてきたように、鏡面駒作成時には設計値に加え離型量のシュミレーションや、類似の光学素子の参照データを基に実際に製作する形状データを作成し、この値に基づいて加工することで仮製作する工程が省略されるため、製作期間や納期を短く設定することが可能となり、より迅速な開発、製造が可能となる。
【００３０】
また修正の繰り返し回数が低減されることからコスト低減にも効果があり、製作精度も不安定要素が低減されるためより高精度な光学素子を提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
（実施形態１）
以下に本提案の第１の実施形態について詳細に述べる。
【００３２】
図１は本発明による光学樹脂による光学素子の製造方法の流れを示したものであり、まずはこの図に添って全体の流れを説明する。
【００３３】
まず製作する光学素子の光学設計（ａ）を行い、その設計値に基づいた光学面形状に対して、後述の離型量を補正するためのシュミレーション結果を加えて鏡面駒用のデータを作成する（ｂ）。
【００３４】
そしてこのデータに基づいた鏡面駒を作成し（ｃ）、イニシャル成形（ｄ）を行う。（以上  イニシャル成形工程）
次に、成形された光学素子の形状および光学特性を測定して設計値との比較（ｅ）を行い、形状および、光学特性が規定の公差内であれば完了（ｑ：ＥＮＤ）となるが、誤差を伴っていれば更に修正を行う。（以上  光学特性測定工程）
以下、ここでは主走査の修正の手順について説明する。
【００３５】
まず得られた面形状データから、光学素子の主走査の方向に沿った各位置での設計値からの差分を算出する。
【００３６】
主走査方向を適度な範囲（数ｍｍ）に分割して、前記データから各分割範囲における近似多項式を作成し、その二次微分によりそれぞれの部分曲率を算出（ｆ）、これをつないでグラフ化する。
【００３７】
そしてこのグラフの曲線を表す多項式を算出してモデル化する（ｇ）。
【００３８】
このように設計値からの差分が得られた時点でモデル式化しないのは、二次微分による部分曲率表記にすることで微細な変化を捉えることができ、より高精度な補正が可能となるためである。
【００３９】
そしてこの前記多項式を再度二次積分することで、面形状の差分を詳細に表す多項式が得ることができる。
【００４０】
これを設計値からの差分がなくなるように多項式のパラメータを設定すれば、補正を行った後の形状をあらわす多項式が得られ、仮補正形状が算出できる（ｈ）。
【００４１】
この得られた多項式によりシュミレーションされた像面と、元の設計値による像面とを比較し、例えば像面湾曲あるいは走査線湾曲などを算出して、所望の光学特性が得られるかを評価する（ｉ）。
【００４２】
この結果で所望の光学性能が得られると判断されれば、その結果に基づいて鏡面駒を修正し（ｏ）本成形（ｐ）を行うが、場合によっては所望の性能がほぼ得られてはいるが、一部分についてまだ修正の余地があると判断されることもある。
【００４３】
その場合は測定しておいた光学特性の測定結果と、これまでの補正結果により得られるはずの光学特性との差を求め、どれだけ実際のものと差があるかを算出する（ｊ）。
【００４４】
具体的には先述の像面湾曲や走査線湾曲等諸収差を比較し、特に部分的に異なっている部分を修正するため、像高ごとに諸収差への敏感度を算出し（ｋ）、これを元に部分的な補正を行う。
【００４５】
測定された光学性能に合致するようまず先述の敏感度から残差諸収差を除去するための部分曲率を算出し先述のように多項式化する（ｌ）。
【００４６】
そして求まった部分曲率を表す多項式と、（ｆ）〜（ｈ）で求めた多項式とを組み合わせ、これをひとつの多項式として表す近似多項式を作成しモデル化する（ｍ）。（以上  再設計工程）
こうして求めた多項式より現状に対する補正形状を算出し（ｎ）、この結果に基づいて鏡面駒の修正を行い（ｏ）、本成形（ｐ）を行う。（以上  鏡面駒補正工程及び本成形工程）
以上のようにして得られた補正形状により成形した光学素子を用いて光学性能を評価し、またこの工程における形状の測定を行って、更に補正が必要と判断されれば上記（ｅ）以下を再度行う。
【００４７】
このように本発明の光学素子の製造方法によれば、この繰り返し行う回数は最初に離形量を見込んで成形を始めているために、これまでの手法による繰り返し回数よりも少なくて済む効果がある。
【００４８】
［光学設計について］
前記光学設計における走査光学系の各パラメータは、光学シュミレーションによって複数の光学特性が許容範囲内に入るように最適化することにより決定される。
【００４９】
光学素子の素材に光学樹脂を用いる場合、多くは射出成型を用いることによる形状の自由度から非球面が用いられ、主走査、副走査に対してそれぞれ良好な結像性能が得られるよう最適な形状が取られる。
【００５０】
その形状は主走査、副走査が独立した形状でも良いし、主走査に関連付けられた副走査形状などでも良いということは言うまでもない。
【００５１】
また、光学素子は使用される装置の実際の配置のことを考え、光学性能を有する領域のほかに、例えば装置内での位置決めなどに用いられる基準領域をその外側などに設けており、その分を含めた外形寸法を必要とすることもある。
【００５２】
この場合、結像性能を必要としない領域まで外形寸法を考慮することはもちろんであるが、鏡面駒として使用される領域は結像に関する有効領域の他、曲面である前記有効領域と他の平面で構成される領域をなめらかに結ぶため、主走査外側に結像には関与しないが滑らかな鏡面として成形する部分を設けている。
【００５３】
つまり設計値として用意するデータとしてはこのデータも同時に用意し、光学性能に悪影響を及ぼす面の途中の段差や屈曲点を持たないように配慮している。
【００５４】
［鏡面駒作成について］
従来では前記設計値をそのまま用いてまず仮成形を行い、光学素子の収縮やズレを測定して、この結果をフィードバックする手法が取られていたが、この方法だとどうしても一度仮の成形が必要となり、その分補正回数が増えてしまう。
【００５５】
本発明に於いては図１にも示したようにこの仮の成形を行わず、予想される前記ズレ量を予め見込んだ離型量シュミレーション結果によりイニシャル成型を行うことで、これまでより少ない補正回数で作成することができる。
【００５６】
ここで光学設計からイニシャル成形までの工程を詳細に述べる。
【００５７】
図４は光学設計からイニシャル成形までの工程を詳細に示したフローチャートである。
【００５８】
光学設計（ａ）により与えられた光学素子の形状データから、後述する安定した成形が行える条件を設定する（ｂ−１）。
（以上  成形条件決定工程）
これは光学素子の形状と、その形状により左右される成形時の樹脂温度、射出圧力、成形型の温度分布等を予め予測した補正値を与えることで、成形品の仕上がり精度の向上と、より内部歪やヒケなどの欠陥がない安定したな品質で成形されるようにするもので、光学素子の形状変化のみならず、光学素子内部の屈折率分布をも考慮したものとなっている。
【００５９】
次にこれら設定条件を基に、前記光学設計値による光学素子の形状と、実際に射出成型した時に予測される形状の差分、すなわち離型量をシュミレーションにより求め、形状補正値として製作される鏡面駒の加工値に予め含ませておく（ｂ−２）。
（以上  離型量シュミレーション工程）
そしてこの鏡面駒加工値により鏡面駒を作製し（ｃ）、作製された鏡面駒を用いてイニシャル成形（ｄ）を行う。
（以上  鏡面駒作製工程及び成形工程）
このように本提案によるイニシャル成形用の面形状データは、実際に成形する時の条件を反映したデータとなるため、最初に成形される時点で誤差の少ない状態の光学素子を製作することができる。
【００６０】
［光学特性の測定について］
作成された光学素子を用いて実際に使用される同一条件の光走査装置を作成し、複数の像高で例えば像面湾曲と走査線曲がり、及び一定の光束径以下となる光軸方向の深度幅を測定し、各像高に対する主走査像面湾曲、副走査像面湾曲、走査線曲がりの各分布データを得る。
【００６１】
更に複数の成形品サンプルについて前述の測定を行い、各光学測定の偏りとバラツキを評価し、バラツキ成分のみで公差を逸脱してしまう場合は前出のイニシャル成形工程に戻って成形条件の最適化を行う。
【００６２】
バラツキが公差よりも小さい場合は、測定データから像高と各光学特性の関係をまとめ、図１のフローに基づき修正の要否を判断する。
【００６３】
［再設計について］
得られたデータから再設計が必要と判断された場合は、補正量を算出するための再設計を行うが、この時、再設計により良好になったと判断する際の材料として諸収差のどれを目標にするかは、光学素子が利用される光走査装置またはそれを使った画像形成装置の性格によって異なる。
【００６４】
例えば光学素子を利用する画像形成装置が、複数の光走査装置からの画像を重ねてカラー画像を形成するカラープリンタであれば、複数光束を重ねる際に重要になる色ずれを押えるべく走査線湾曲が重要視されるであろうし、高精細なモノクロ機であれば均一濃度とすべく像面湾曲や微小な光束径及び倍率の均一性が要求される。
【００６５】
このように必要に応じて像面湾曲、走査線湾曲、倍率誤差、ｆθ特性、光束径などの各諸収差を見極めて、これらが前記装置に求められる許容範囲となるべく各光学素子の再設計を行う。
【００６６】
［鏡面駒の修正について］
鏡面駒への補正は、各面への補正値に基づいて必要な鏡面駒のみを修正する。
【００６７】
実際には再設計時の光学性能面の変化量を元の設計形状に加えたものを新しい設計形状として、これを基に鏡面駒を作成する。
【００６８】
基本的には各面それぞれに必要な補正量を求めてそれぞれの面に対し補正を行うが、補正を加えた後の評価で、あとわずかでは有るが複数面に及んで補正する箇所がある場合、これをその面数よりも少ない面の補正で同じ補正効果が得られないかの検討を行う。
【００６９】
可能であれば実際に補正する面数を減少することができるため、より短期間の製作が可能となる。
【００７０】
［本成形について］
修正された鏡面駒を用いて、イニシャル成形と同じ条件で本成形を行い、光学素子を作成する。
【００７１】
前述の本成形で作成された成形品を用いて前述の光学特性の測定を行った結果、これが一定の条件を満たさない場合、これが公差を満たすようになるまで再設計から本成形までを繰り返し行う。
【００７２】
光学特性の測定、形状修正、鏡面駒の修正を繰り返し行う場合のフローは図１に示した通りである。
【００７３】
［光学測定詳細］
次に光学特性の測定手法を図２を用いて具体的に示す。
【００７４】
図２は光学特性測定工程で光学特性を測定する際に使用する測定工具の配置図である。
【００７５】
前述のイニシャル成形工程で作成した光学素子１０ａ、１０ｂを、実際に使用する光走査装置１０に組み込む。
【００７６】
なお光走査装置１０は、同じ設定で配置される治工具を使用することでも良い。
【００７７】
この場合、実際に組み込む光走査装置と同一性能が求められるため、光学素子が置かれる座面等は精度良く構成されていなければならない。
【００７８】
測定工具は光走査装置の像面近傍には主走査方向へ可動なｙステージ１２を、ｙ軸ステージ上にはスポット測定装置１６を配置し、そのスポット測定装置１６上に副走査方向へ可動なｚ軸ステージ１３を、そのｚ軸ステージ上には対物レンズ及びＣＣＤカメラからなるカメラ１５を搭載した光軸方向へ可動なｘ軸ステージ１４を配置していて、それぞれのステージは図示しないコンピュータにより発せられるパルス制御により移動を行う。
【００７９】
なおここでは光軸方向をｘ方向、主走査方向をｙ方向、副走査方向をｚ方向としている。
【００８０】
測定の手順としては、まず光走査装置の設計上の像面位置（ピント位置）に配置した図示しない十字の描かれた目標板を配置し、これをカメラ１５で観察する。
【００８１】
目標板の十字の中心は、光軸上の主走査、副走査の交わる位置を表しており、これが全ての位置の基準となる。
【００８２】
この目標板は、配置上の都合により光軸上でなくとも光走査装置の光軸に対する任意の像高に設定しても良い。
【００８３】
前記基準出しが完了したらスポット測定装置１６を測定主走査像高に移動させ、光走査装置の光源を点灯してカメラ１５に光束が入るようにポリゴンモータの反射角度を調節して主走査、副走査方向それぞれの光束径を測定し、同時にその光束中心位置も取得する。
【００８４】
このとき前記ｚ軸ステージも、光束がカメラ１５の略中心に入射するよう適宜動かして高さを合せておく。
【００８５】
次にｘ軸ステージを前後に移動させながら、像面前後の数箇所で光束径および位置を取得し、ｘ軸ステージの位置と各光束径を記録する。
【００８６】
これを複数の主走査像高で繰り返し行うことにより、各像高でのｘ軸ステージの移動量と各光束径の分布を得る。
【００８７】
ここで、ピントズレ（光軸方向の設計像面からのズレ）の測定について図３を用いて説明する。
【００８８】
図３はある像高において、光軸方向に前述のカメラ１５を移動させながら光束径を測定した時に各ｘ方向（光軸方向の位置）と光束径をプロットしたグラフ（ｖ）を示している。
【００８９】
光束径ｄｅｆグラフ（ｖ）から、光束径の許容上限値ｓ以下となる範囲を算出する。
【００９０】
これは各測定像高において、光束径の最小値となる位置の前後に前側像面端部ａと後側像面端部ｂの２ヶ所存在することとなり、その光軸方向の範囲を算出するものである。
【００９１】
もちろん、最小値が前述の規格値よりも大きければ必要な性能が得られていないこととなる。
【００９２】
このように得られた２ヶ所の位置から中間点（ｃ）を算出し、これをその像高のピント位置とする。
【００９３】
ここで光束径が最小となる位置を選ばないのは、以下に示すように実際に装置で使用される場合、これら規定値以下となる範囲の中心にピントを設定したほうがエラーも少なく良好な性能を得やすいことによる。
【００９４】
たとえば、各ｘ方向位置と光束径で表される分布を取ると、その光束径が最小となる位置の前後での分布の様子が前後対称とならないことがある。
【００９５】
このような状態で例えば光走査装置が画像形成装置等の本体に組み込まれる場合、光走査装置から射出された光束の集光点、つまり光束径が最小となる位置が理想的な像面に結像していても、画像を形成するドラム等の画像形成媒体との組立誤差により、光束の集光位置が画像形成媒体上の被走査面の前後になってしまうことがあり、被走査面の前後で片側は問題なく性能が得られるが、反対側ではすぐに性能が悪化する（光束径が大きくなる）可能性が高くなり、組立上の精度を厳しくする必要が出てくる。
【００９６】
これを最小値でなく、規定値以下の中間点に像面を設定することにより、前後どちらも等しく許容範囲を設定することができるため、性能が安定しやすい。
【００９７】
また光束径を測定する場合、主走査方向と副走査方向の光束径をそれぞれ測定するが、これまでよく使用されるような主走査方向及び副走査方向における径の最大値、という定義で光束径を測定すると、例えば副走査方向の結像状態があまりよくない（光束径が大きめの）場合、主走査方向の光束径測定値はその影響を受け、光束径が正しく測定されないことがある。
【００９８】
このような現象が起きると主走査、副走査が互いに影響して正しい結像位置が測定されず、前後にずれた位置を結像位置として認識されてしまう恐れがあり、これは型の補正に対しても支障となる。
【００９９】
そこで本提案の光学特性測定工程においては、ＬＳＦ（Ｌｉｎｅ  Ｓｐｌｉｔ  Ｆｕｎｃｔｉｏｎ）として測定することとしている。
【０１００】
ＬＳＦは主走査、副走査が独立したそれぞれのライン上での測定となるため、互いの影響を排除でき、高精度に光束の集光位置を測定することができる。
【０１０１】
（実施形態２）
以下に第２の実施形態として用いた製造方法を述べる。
【０１０２】
前述の離型量のシュミレーションにおいては、予測される各パラメータを用意したが、本実施形態においては、成形時の条件が近い他の光学素子の成形条件を基にシュミレーションを行うものである。
【０１０３】
例えばこれまでに製作した光走査装置をそのまま縮小したような構成で新たに製作しようとする時、使用される光学素子もそのまま縮小したような比例形状となる。
【０１０４】
この時、鏡面駒を作製する際にはそれまでの光学素子の成形条件をもとに、形状を縮小した場合の離型量を予測してシュミレーションを行う。
【０１０５】
すなわち本実施形態においては、形状や精度などの類似した他の光学素子の成型条件を基に、製作する光学素子のパラメータを設定して光学設計値に対して盛り込み、離型量シュミレーションを行うことで鏡面駒の加工値を算出し成形を行うのである。
【０１０６】
なお、必要に応じて実施形態１の離形量シュミレーションに使用したパラメータと、本実施形態の類似光学素子の成形条件からシュミレーション計算を行う手法をミックスして鏡面駒加工値を作成してもよい。
【図面の簡単な説明】
【０１０７】
【図１】本提案の実施形態１による光学素子の製造方法を示すフローチャートである。
【図２】光学特性測定工程の測定に使用する測定工具の配置図である。
【図３】光束径の分布によりピント位置を算出する概念を示した図である。
【図４】本提案の光学設計から鏡面駒作製及びイニシャル成形に至る工程を示したフローチャートである。
【図５】従来の光学素子の製作工程を示したフローチャートである。
【符号の説明】
【０１０８】
１０  光走査装置
１０ａ、１０ｂ  光学素子
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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