(57)【要約】【課題】  内部にエンボスある化粧板を得る。【解決手段】  次の（ａ）〜（ｅ）のステップに基づいて製造する。  （ａ）アミノ基を有するポリエステルアミド樹脂を転写基材に塗布して転写シートを得るステップ、  （ｂ）コア基材、アミノ−ホルムアルデヒド樹脂含浸紙、転写シート、賦型材を順次積層し、熱圧成形するステップ、  （ｃ）熱圧成形後、シートを剥がし、該アミノ基を有するポリエステルアミド樹脂層を転写基材より転写することにより、最上層とし、水平面に載置するステップ、  （ｄ）該アミノ基を有するポリエステルアミド樹脂層の上にエチレン性ニ重結合を有し、かつ水酸基および／またはカルボキシル基を有する樹脂を硬化させるステップ。【選択図】  図１
2005219421.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（ａ）〜（ｅ）のステップに基づいてなることを特徴とする内部エンボス化粧板。
（ａ）アミノ基を有するポリエステルアミド樹脂を転写基材に塗布して転写シートを得るステップ、
（ｂ）コア基材、アミノ−ホルムアルデヒド樹脂含浸紙、転写シート、賦型材を順次積層し、熱圧成形するステップ、
（ｃ）熱圧成形後、シートを剥がし、該アミノ基を有するポリエステルアミド樹脂層を転写基材より転写することにより、最上層とし、水平面に載置するステップ、
（ｄ）該アミノ基を有するポリエステルアミド樹脂層の上にエチレン性ニ重結合を有し、かつ水酸基および／またはカルボキシル基を有する樹脂を硬化させるステップ。
【請求項２】
該アミノ基を有するポリエステルアミド樹脂に微粉末シリカを配合すること特徴とする請求項１記載の内部エンボス化粧板。
【請求項３】
該アミノ基を有するポリエステルアミド樹脂の軟化点が９０℃以上であることを特徴とする請求項１又は２記載の内部エンボス化粧板。
【請求項４】
請求項１記載の（ｄ）のステップが、樹脂をフィルムにより延展し、硬化後に前記のフィルムを剥がすステップであることを特徴とする請求項１記載の内部エンボス化粧板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は内部エンボス化粧板に関する。
【背景技術】
【０００２】
これまでより、住宅内装用に用いられるメラミン樹脂化粧板、ジアリルフタレート樹脂化粧板などの熱硬化性樹脂化粧板が知られている。この化粧板の表面の仕上げには大きく２種類あり、表面が平滑なフラット仕上げ、表面に凹凸のあるエンボス仕上げがある。
フラット仕上げについては、更に、鏡面仕上げ、半光沢仕上げ、艶消し仕上げなどがあり、押し板と称せられる金属製プレートの表面の艶を適宜変え、熱硬化性樹脂化粧板を製造する際、熱硬化性樹脂化粧板の表面となる熱硬化性樹脂含浸紙に押し板を重ね合わせて熱圧成形することにより種々の艶に仕上げるものである。
エンボス仕上げについては、前記のフラットな金属製プレートに代え、金属製プレート、プラスチック板、金属箔などに凹凸を賦型したエンボス材を用いて、表面に凹凸を形成したものである。
【０００３】
【特許文献１】特開平５−２７７４３１
【特許文献２】特開平１−２３２０４１
【特許文献３】特開２００３−１１２９３
【特許文献４】特開平５−１０４６９５
【特許文献５】特開平５−２０８４６８
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、エンボス仕上げの化粧板では凹凸が最表面に現れるため、表面の平滑な意匠性の発現は困難であり、深み感にはかけるものであった。また、表面の凹凸のため、フラット仕上げよりも清掃に手間がかかっていた。
このような問題を解決する手段として、エンボス仕上げ化粧板の上に、ウレタン樹脂系、エポキシ樹脂系等のプライマー層を塗布し、プライマー層を形成した後にクリヤー塗装する方法、厚みのあるフィルムをラミネートする方法が挙げられるが、前者は研磨工程を必要とする為、均一な凹凸を形成することが困難であり、後者についても大きなエンボスを形成することが困難であった。
本発明はかかる状況に鑑み検討されたもので、エンボス仕上げの化粧板の表面にクリヤー樹脂層を形成し、最表面は平滑、鮮明で、深み感を有しながら、その内部にエンボスを形成した内部エンボス化粧板を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明はかかる状況に鑑み検討されたもので、以下のことを特徴とする発明である。
すなわち、請求項１記載の発明は、下記（ａ）〜（ｅ）のステップに基づいてなることを特徴とする内部エンボス化粧板である。
（ａ）アミノ基を有するポリエステルアミド樹脂を転写基材に塗布して転写シートを得るステップ、
（ｂ）コア基材、アミノ−ホルムアルデヒド樹脂含浸紙、転写シート、賦型材を順次積層し、熱圧成形するステップ、
（ｃ）熱圧成形後、シートを剥がし、該アミノ基を有するポリエステルアミド樹脂層を転写基材より転写することにより、最上層とし、水平面に載置するステップ、
（ｄ）該アミノ基を有するポリエステルアミド樹脂層の上にエチレン性ニ重結合を有し、かつ水酸基および／またはカルボキシル基を有する樹脂を硬化させるステップ。
また、請求項２記載の発明は、該アミノ基を有するポリエステルアミド樹脂に微粉末シリカを配合すること特徴とする請求項１記載の内部エンボス化粧板である。
更に、請求項３記載の発明は、該アミノ基を有するポリエステルアミド樹脂の軟化点が９０℃以上であることを特徴とする請求項１又は２記載の内部エンボス化粧板である。
更にまた、請求項４記載の発明は、請求項１記載の（ｄ）のステップが、樹脂をフィルムにより延展し、硬化後に前記のフィルムを剥がすステップであることを特徴とする請求項１記載の内部エンボス化粧板である。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の内部エンボス化粧板は、表面に平滑かつ深み感を有しながら、その内部にエンボスを有する意匠を発現する。
以下、本発明について詳細に説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
（アミノ基を有するポリエステルアミド） 
アミノ基を有するポリエステルアミド樹脂は、ポリエーテルエステル成分とポリアミド成分をアミド又はエステル結合によりブロック共重合体としたものであり、ポリエーテルエステル骨格をソフトセグメントとし、共重合ポリアミド成分をハードセグメントとするものである。特に好ましいのは、軟化点が９０℃以上のもので、下限未満の場合は、熱圧成形の際の樹脂フローにより均一な転写層が形成できない。本発明ではポリエステルアミド樹脂中のポリアミド成分にアミノ基を有するものを用いている。アミノ基があることにより、表層樹脂と下層樹脂との密着が向上する。
【０００８】
（微粉末シリカ）
前記ポリエステルアミドには、微粉末シリカを配合することによりフィルム上に平滑な転写層が形成でき、しかもアミノ−ホルムアルデヒド樹脂との密着力も強固にすることができる。配合割合は１０〜５０重量部が好ましい。下限に満たないと密着性が劣りやすく、上限を超えると鮮映性が劣りやすくなる。微粉末シリカとして、ヒュームドシリカ、焼成シリカ、沈降シリカおよびこれらの表面を有機シリル基で処理したもの等が例示され、これらを単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。市販品としては、ＡＥＲＯＳＩＬ（登録商標  デグサ  アクチエンゲゼルシャフト）、Ｎｉｐｓｉｌ（登録商標  東ソー・シリカ株式会社）、キャボシル（キヤボツト  コ−パレイシヤン）、、サントセル（モンサントケミカル製）、ファインシール（登録商標  株式会社トクヤマ）などが挙げられる。
【０００９】
前記ポリエステルアミドを塗布する転写基材としては、紙、金属箔、フィルムなどが挙げられる。また、これらのフィルムと紙、金属箔とのラミネート品あるいは異種フィルムラミネート品を使用することができるが、平滑性の面からフィルムが好ましく、フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッソ樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ビニロンフィルム、アクリル樹脂フィルム等を挙げることができる。
【００１０】
ポリエステルアミド樹脂をフィルムへの塗布する方法については特に制限はなく、溶融押出しコーティングあるいは溶剤に溶解し、公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法などを用いることができる。塗布後は乾燥処理され、塗布量は０．３〜２０ｇ／ｍ２が好ましい。塗布量が下限に満たないと、表層樹脂と下層樹脂の密着性が悪くなり、上限を超えると、化粧表面に塗装品のような濡れ色感、鮮映性が発現しない。
【００１１】
ポリエステルアミドが塗布されたフィルムは、アミノーホルムアルデヒド樹脂含浸紙、コア基材とともに熱圧成形される。成形条件は通常のメラミン化粧板を製造するときと同様に行えばよい。コア基材としては、実施例においてはフェノール樹脂含浸紙を用いているが、合板、パーティクルボード、ＭＤＦなどの木質系基材、無機系の不燃基材を用いてもよい。熱圧成形後は基材フィルムを除去すると表面にポリエステルアミド層が形成される。
アミノーホルムアルデヒド樹脂としてはアミノ化合物、例えばメラミン、尿素、ベンゾグアナミン、アセトグアナミンなどとホルムアルデヒドを反応させた初期縮合物のほか、エチルアルコール、ブチルアルコールなどの低級アルコールによるエーテル化、パラトルエンスルホンアミドなどの可塑化を促す反応性変性剤で変性されたものが適用でき、中でも密着性に優れるメラミンーホルムアルデヒド樹脂が好ましい。
【００１２】
ポリエステルアミド層の上に塗布されるエチレン性ニ重結合をする樹脂としては、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、不飽和ポリエステルなどが挙げられ、単独、これらのブレンド、スチレン、ＭＭＡ等のモノマーで希釈して用いられる。この中でも特に樹脂中に水酸基を有するエポキシ（メタ）アクリレートが密着性の点で好ましい。ラジカル重合開始剤として、有機過酸化物、硬化促進剤等が配合されて、塗布厚み２０〜２００μｍの範囲で塗布される。
単に塗布するだけでもよいが、塗布後にフィルムで被覆し、樹脂が硬化後にフィルムを剥がすと平滑に優れる鮮映性化粧板が得られる。フィルムは前述のフィルムの中から適宜選択すればよい。
【００１３】
エポキシ（メタ）アクリレート［アクリレート及びメタクリレートを「（メタ）アクリレートと表す］はエポキシ樹脂と不飽和一塩基酸とを反応して得られ、エポキシ樹脂としては、ビスフェノールＡ系エポキシ樹脂、ハロゲン化ビスフェノールＡ系エポキシ樹脂、ビスフェノールＡとエチレンオキサイドあるいはプロピレンオキサイドなどのアルキレンオキサイドとの付加物のジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦ系エポキシ樹脂、ノボラック系エポキシ樹脂、クレゾールノボラック系エポキシ樹脂などが挙げられる。
【００１４】
また、一塩基酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、モノメチルマレート、モノプロピルマレート、ソルビン酸あるいはモノ（２−エチルヘキシル）マレートなどが挙げられ、不飽和一塩基酸と併用される多塩基酸としては、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、１，１２−ドデカン二酸の他ダイマー酸などが挙げられる。ニ塩基酸無水物として無水マレイン酸、無水フタル酸などが挙げられる。三塩基酸無水物として無水トリメリット酸を使用した変性品も使用可能である。
【００１５】
エポキシ（メタ）アクリレートは、通常粘度調整の為、重合性の不飽和モノマーを含有しており、この重合性不飽和モノマーは、重合して硬化物の骨格を構成するものであり、例えば、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチレン、ビニルトルエン等の芳香族モノマー類、アクリロニトリル等のモノマーが挙げられる。
これらのモノマーに加え、必要に応じてジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、エチレングリコールジメタクリレート等の架橋構造形成に寄与するモノマー、或いは不飽和ポリエステル樹脂などの共重合可能な樹脂を併せて使用することができる。
【００１６】
（ウレタン（メタ）アクリレート）
ウレタン（メタ）アクリレートはジイソシアネート化合物、ポリオール化合物、ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート等を、混合して反応させることによって得ることができる。
ジイソシアネート化合物としては、公知のものを用いることができ、例えば、１，２−ジイソシアナトエタン、１，２−ジイソシアナトプロパン、１，３−ジイソシアナトプロパン、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン、メチルシクロヘキサン２，４−ジイソシアネート、メチルシクロヘキサン２，６−ジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，３−ビス（イソシアナトエチル）シクロヘキサン、３−イソシアナトメチル−３，５，５−トリメチルシクロヘキシルイソシアネート、１，３−ビス（イソシアナトメチル）ベンゼン、１，３−ビス（イソシアナト−１−メチルエチル）ベンゼンおよびこれらの付加物であるオリゴマー等をあげることができる。
ポリオール化合物の具体例としては、アルキルジオール、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール等を挙げることができる。
アルキルジオールとしては、例えば、エチレングリコール、１，３−プロパンジオール、プロピレングリコール、２，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、２−エチルブタン−１，４−ジオール、１，５−ペンタジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，９−デカンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、４，８−ジヒドロキシトリシクロ〔５．２．１．０2、6 〕デカン、４，８−ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ〔５．２．１．０2、6 〕デカン、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）プロパン、２，２−ジエチルプロパン−１，３−ジオール、２，２−ジメチルプロパン−１，３−ジオール、３−メチルペンタン−１，４−ジオール、２，２−ジエチルブタン−１，３−ジオール、４，５−ノナンジオール、および２−ブテン−１，４−ジオール等が挙げられる。
【００１７】
ポリエーテルジオールとしては、通常公知の方法によりアルデヒド、アルキレンオキサイド、またはグリコールの重合により合成されるものを用いることができ、例えば、ホルムアルデヒド、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、テトラメチレンオキサイド、エピクロルヒドリンなどを適当な条件でアルキルジオールに付加重合させて得られるポリエーテルジオールを挙げることができる。
【００１８】
ポリエステルジオールとしては、飽和または不飽和のジカルボン酸および／またはそれらの酸無水物と過剰のアルキルジオールとを反応して得られるエステル化反応生成物、およびアルキルジオールにヒドロキシカルボン酸および／またはその内部エステルであるラクトン及び／又は分子間エステルであるラクチドを重合して得られるエステル化反応生成物を用いることができる。
【００１９】
（不飽和ポリエステル樹脂）
不飽和ポリエステル樹脂は不飽和ポリエステルと重合性モノマーなどからなり、は、不飽和二塩基酸及び／又はその酸無水物と必要に応じて用いられるその他の飽和酸及び／又はその酸無水物とを含む酸成分と、多価アルコールとを窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰囲気下で１６０〜２３０℃程度、好ましくは２１０〜２３０℃で常法に従い脱水縮合反応させればよい。
【００２０】
不飽和二塩基酸及びその酸無水物としては、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、無水マレイン酸などが挙げられ、単独で用いても２種以上を併用しても良い。不飽和二塩基酸及びその酸無水物は、酸成分中５０〜１００ｍｏｌ％使用されることが好ましく、特に６０〜１００ｍｏｌ％使用されることが好ましい。
必要に応じて用いられるその他の飽和酸及び／又はその酸無水物としては、無水フタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロフタル酸、アジピン酸、セバチン酸などの飽和二塩基酸などが挙げられ、これらは単独で用いても２種以上を併用してもよい。飽和酸の配合量は、酸成分中０〜５０ｍｏｌ％、好ましくは０〜４０ｍｏｌ％の範囲とされる。
【００２１】
多価アルコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３―ブタンジオール、１，４―ブタンジオール、２，３―ブタンジオール、１，５―ペンタジオール、１，６―ヘキサンジオール、トリエチレングリコール、ネオペンチルグリコールなどの二価アルコール、グリセリン、トリメチロールプロパンなどの三価アルコール、ペンタエリスリトールなどの四価アルコールなどが挙げられる。これらは単独で用いても２種以上を併用しても良い。配合量は全酸成分１００に対して１００〜１１０ｍｏｌの範囲が良い。
【００２２】
（重合性モノマー）
重合性モノマーとしては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン、パラメチルスチレンなどの芳香族重合性モノマー類、（メタ）アクリル系モノマー、例えば、メチル（メタ）アクリレート[（メタ）アクリレートはメタクリレート及びアクリレートを示す。以下同じ。]、エチル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ターシャリーブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル類、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシ（メタ）アクリレートなどの水酸基含有重合性モノマー類などが挙げられる。
【００２３】
その他、ジメチルマレエート、ジメチルフマレート、ジブチルマレエート、ジブチルフマレート、ジメチルイタコネート、ジブチルイタコネートなどの不飽和二塩基酸塩のジアルキルエステル類、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロキシエチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルメタクリレート、Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジニルメタクリレートなどの窒素含有重合性モノマー類、酢酸ビニルの如き酢酸エステル、（メタ）アクリロニトリルの如き重合性シアノ化合物なども例示される。
【００２４】
（硬化剤）
ラジカル重合開始剤として用いる有機過酸化物としては、メチルエチルケトンパ−オキサイド、アセチルアセトンパーオキサイド、アセト酢酸エステルパーオキサイドなどのケトンパーオキサイド類、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、ジイソピルベンゼンパーオキサイドなどハイドロパーオキサイド類、アセチルパーオキサイド、イソブチルパーオキサイド、ラウロイルパ−オキサイド、ベンゾイルパ−オキサイドなどのジアシルパーオキサイド類、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイドなどのジアルキルパーオキサイド類、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエートなどのアルキルパーエステル類、ジイソプロピルなパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネートなどのパーオキシジカーボネート類、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレートなどのパーオキシエステル類などの有機過酸化物や、２，２−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２−アゾビスイソブチロニトリル、１、１−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）などのアゾ化合物などが挙げられ、これらは単独、あるいは２種以上の併用が可能である。好ましくは有機過酸化物で硬化促進剤と併用し分解温度が低いものが硬化性の面で都合が良く、具体的には、メチルエチルケトンパ−オキサイド、アセト酢酸エステルパ−オキサイド、アセチルアセトンパーオキサイドを用いるのが好ましい。
【００２５】
（硬化促進剤）
本発明において、硬化剤と併用して硬化を促進させる目的で配合される必須の硬化促進剤としてコバルト石鹸が採択されるが、ここでいうコバルト石鹸はコバルトの脂肪酸塩を示し、脂肪酸としては、炭素数６ないし３０の主鎖を有する天然あるいは合成の飽和もしくは不飽和脂肪酸あるいはこれらの混合物であり、コバルト石鹸としては、ナフテン酸コバルト、ネオデカン酸コバルト、オクチル酸コバルトなどを挙げることができる。
【００２６】
（コバルト石鹸以外の金属石鹸）
また、コバルト石鹸以外の金属石鹸と併用してもよい。コバルト石鹸以外の金属石鹸は、コバルト石鹸と同様金属の脂肪酸塩であり、好ましいものとして、カリウム石鹸、カルシウム石鹸、銅石鹸、亜鉛石鹸などが挙げられる。
カリウム石鹸としてはオクチル酸カリウムなどが挙げられ、カルシウム石鹸としては、ネオデカン酸カルシウム、ナフテン酸カルシウム、オクチル酸カルシウムなどが挙げられる。銅石鹸としては、ナフテン酸銅が挙げられ、亜鉛石鹸としては、ネオデカン酸亜鉛、ナフテン酸亜鉛、オクチル酸亜鉛などが挙げられる。
【００２７】
（その他の硬化促進剤）
その他、金属石鹸以外の硬化促進剤として、有機系硬化促進剤、例えば、Ｎ−ピロジノアセトアセトアミド、トリエチレンジアミン、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルアニリン、トルイジン類などを用いても良い。
【００２８】
（重合禁止剤）
樹脂液中には、貯蔵中硬化剤の作用を停止する目的で、ｐ−ターシャリブチルカテコール、ｐ−ベンゾキノン、ナフチキノン、フェナンスキラノン、２，５−ジフェニル−ｐ−ベンゾキノン、パラキシロキノン、パラトルキノン、２，６−ジクロロキノン、２，５−ジアセトキシ−ｐ−ベンゾキノン、２，５−ジアシロキシ−ｐ−ベンゾキノンなどのキノン類、ハイドロキノン、ｔ−ブチルカテコール、２，５−ジ―ｔ−ブチルハイドロキノン、モノ−ｔ−ブチルハイドロキノンなどのハイドロキノン類、アセトアミジンアセテート、アセトアミジンサルフェートなどのアミジン類、ジ−ｔ−ブチル・パラクレゾール、ハイドロキノンモノメチルエーテルなどのフェノール類、フェニルヒドラジン塩酸塩、ヒドラジン塩酸塩などのヒドラジン塩類、トリメチルベンジルアンモニウムクロライド、ラウリルピリジニウムクロライド、セチルトリメチルアンモニウムクロライド、フェニルトリメチルアンモニウムクロライドなどの第四級アンモニウム塩類、キノンジオキシム、シクロヘキサノンオキシムなどのオキシム類、フェノチアジンなどの硫黄化合物などが挙げられ、樹脂液の保存性、硬化時間などを考慮して適宜選択して用いることができる。これらは単独、あるいは２種以上の併用が可能である。
【００２９】
（賦型材の説明）
賦型材の凹凸は２５〜１８０μｍとなるようなものが望ましい。賦型材の凹凸が下限に満たないと、内部に凹凸を有す意匠感が発現せず、上限を超えると凹凸が表面まで現れ平滑な表面を得られない。
【実施例】
【００３０】
実施例１
アミノ基を有するポリエステルアミド樹脂（軟化点１６０℃）をポリプロピレンフィルムに２ｇ／ｍ２塗布して、転写シートを得た。
フェノール樹脂含浸紙を４枚、木目柄が印刷された８０ｇ／ｍ２のチタン紙にメラミンーホルムアルデヒド樹脂を固形分換算で１００ｇ／ｍ２となるように含浸乾燥したメラミン樹脂含浸化粧紙を１枚、転写シート（ａ）、賦型材（凹凸部８０μｍ）を順次積層し、温度１４０℃、圧力６０ｋｇ／ｃｍ２、時間９０分で成形することにより、アミノ基を有するポリエステルアミド樹脂をメラミン樹脂側に転写し、基材フィルムを除去して、表面の凹部と凸部の差が８０μｍである化粧板を得た。
次いで、アミノ基を有するポリエステルアミド樹脂上に下記組成物（ａ）を乗せ塗布し、厚み５０μｍのポリプロピレンフィルムで被覆し、ローラーで延展脱気し、１５０μｍの厚みで樹脂を硬化させた後、フィルムを除去して、実施例１の内部エンボス化粧板を得た。
組成物（ａ）
エポキシメタクリレート（スチレンモノマー２０％含有）  １００    重量部
５５％メチルエチルケトンパーオキサイド                １．５    重量部
８％オクチル酸コバルト                              ０．１５    重量部
【００３１】
実施例２
実施例１において、アミノ基を有するポリエステルアミド１００重量部に対して微粉末シリカを２０重量部配合した組成物を用いた以外は同様に実施して、実施例２の内部エンボス化粧板を得た。
【００３２】
比較例１（ポリエステルアミドの塗布量が下限未満の場合）
実施例１において、アミノ基を有するポリエステルアミドの塗布量を０．２ｇ／ｍ２とした以外は同様に実施した。
【００３３】
比較例２（ポリエステルアミドの塗布量が上限を超える場合）
実施例１において、アミノ基を有するポリエステルアミドの塗布量を２５ｇ／ｍ２とした以外は同様に実施した。
【００３４】
比較例３（表層樹脂の塗布厚みが下限未満の場合）
実施例１において、組成物（ａ）の塗布厚みを１０μｍとした以外は同様に実施した。
【００３５】
比較例４（表層樹脂の塗布厚みが上限を超える場合）
実施例１において、組成物（ａ）の塗布厚みを３００μｍとした以外は同様に実施した。
【００３６】
比較例５（ポリエステルアミドの軟化点が下限未満の場合）
実施例１において、軟化点が８０℃のアミノ基を有するポリエステルアミドを用いた以外は同様に実施した。
【００３７】
比較例６
実施例１において転写シートを用いなかった以外は同様に実施した。
【００３８】
比較例７
実施例１で用いた同様のフェノール樹脂含浸紙を４枚、木目柄が印刷された８０ｇ／ｍ２のチタン紙にメラミンーホルムアルデヒド樹脂を固形分換算で１００ｇ／ｍ２となるように含浸乾燥したメラミン樹脂含浸化粧紙を１枚、賦型板順次積層し、温度１４０℃、圧力６０ｋｇ／ｃｍ２、時間９０分で成形し、メラミン化粧板を得た。
【００３９】
比較例８（賦型材の凹凸が下限未満の場合）
実施例１において賦型材の凹凸を２０μｍとした以外は同様に実施した。
【００４０】
比較例９（賦型材の凹凸が上限を越える場合の場合）
実施例１において賦型材の凹凸を１６０μｍとした以外は同様に実施した。
【００４１】
評価結果を表１に示す。
【表１】
2005219421.tif 000003
【００４２】
評価方法は以下の通りとした。
内部エンボス：図４に示すように壁面に実施例の内部エンボス化粧板、比較例の化粧板を４５〜６０度の角度で立てかけ、３０ｃｍ離れた場所より、化粧板表面を覗き込み目視にて確認し、表面を触り平滑性の確認を行った。
○；目視にてエンボスが確認でき、表面にその凹凸が確認されない。△；目視にてエンボスが僅かに見え、表面にその凹凸が確認されない。×；エンボスが確認されない。または、表面に凹凸が確認できる。
色ムラ：鮮映性化粧板、比較例の化粧板を１０ｃｍ角に細分化し１ユニットとし、各ユニット同士の色合いを目視にて確認した。
○；目視にて確認できる色ムラ無し。×；目視にて確認できる色ムラ有る。
ポリエエステルアミドとの密着性：碁盤目テープ剥離（ＪＩＳ５４００  碁盤目試験準拠）で評価した。
◎；９５／１００以上残る。○；８５／１００〜９４／１００残る。×；８４／１００以下。
表層樹脂との密着性：碁盤目テープ剥離試験（ＪＩＳ５４００  碁盤目試験準拠）で評価した。
◎；９５／１００以上残る。○；８０／１００〜９４／１００残る。△；７９／１００以下。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】積層前の状態を示す構成断面図。
【図２】積層後の状態を示す構成断面図。
【図３】本発明の内部エンボス化粧板の構成断面図。
【図４】試験方法を示す斜視図。
【符号の説明】
【００４４】
１  賦型材
２  転写シート
３  樹脂含浸化粧紙
５  樹脂含浸コア紙
７  エンボス
８  樹脂被覆層
９  内部エンボス化粧板
１０  試験片
【図１】
2005219421.tif 000004
【図２】
2005219421.tif 000005
【図３】
2005219421.tif 000006
【図４】
2005219421.tif 000007