(57)【要約】【課題】  単一蒸着室でも膜厚調整を行うことができる蒸着用マスク及びそのマスクを用いた蒸着方法を提供すること。【解決手段】  蒸着材料収納容器（蒸着源）から発せられる蒸着材料を透光性基板１０に蒸着させ所定の蒸着パターンを形成するための複数の開口部１２ａと、各開口部１２ａを取り巻くように設けられ前記蒸着材料の透光性基板１０への蒸着を阻止するための遮蔽部１２ｂとを備える蒸着用マスク１２に関する。蒸着用マスク１２は、開口部１２ａである第１の開口部１２ａ１への前記蒸着材料の侵入量を減少させ、前記蒸着材料によって形成される第１の蒸着層４ａの膜厚を開口部１２ａである第２の開口部１２ａ２によって形成される第２の蒸着層４ｂの膜厚に比べ薄く形成するための膜厚調整部である遮蔽壁１７を備える。【選択図】  図４
2005298971.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
蒸着源から発せられる蒸着材料を被蒸着部材に蒸着させ所定の蒸着パターンを形成するための複数の開口部と、前記各開口部を取り巻くように設けられ前記蒸着材料の前記被蒸着部材への蒸着を阻止するための遮蔽部とを備える蒸着用マスクであって、
前記開口部である第１の開口部への前記蒸着材料の侵入量を減少させ、前記蒸着材料によって形成される第１の蒸着層の膜厚を前記開口部である第２の開口部に対応する第２の蒸着層の膜厚に比べ薄く形成するための膜厚調整部を備えてなることを特徴とする蒸着用マスク。
【請求項２】
前記膜厚調整部は、前記遮蔽部上の前記開口部の周囲の一部分に設けられてなることを特徴とする請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項３】
前記膜厚調整部は、前記開口部を部分的に覆うように前記遮蔽部に設けられてなることを特徴とする請求項１に記載の蒸着用マスク。
【請求項４】
蒸着源から発せられる蒸着材料を被蒸着部材に蒸着させ所定の蒸着パターンを形成するための複数の開口部と、前記各開口部を取り巻くように設けられ前記蒸着材料の前記被蒸着部材への蒸着を阻止するための遮蔽部とを備える蒸着用マスクを用いた蒸着方法であって、
前記開口部である第１の開口部への前記蒸着材料の侵入量を減少させ、前記蒸着材料によって形成される第１の蒸着層の膜厚を前記開口部である第２の開口部によって形成される第２の蒸着層の膜厚に比べ薄く形成するための膜厚調整部を前記蒸着用マスクに一体もしくは別体に備えるとともに、前記蒸着用マスクを蒸着室内に配設し、
前記蒸着室内において、前記蒸着源の真上に前記蒸着用マスクが位置しないように前記蒸着用マスクを前記蒸着源に対してオフセットさせて配設するとともに、
前記蒸着源を移動させながら、あるいは前記被蒸着部材とともに前記蒸着用マスクを回転させながら前記蒸着材料を前記被蒸着部材に蒸着させることを特徴とする蒸着用マスクを用いた蒸着方法。
【請求項５】
前記開口部を取り巻く前記遮蔽部に部分的に前記膜厚調整部が設けられてなることを特徴とする請求項４に記載の蒸着用マスクを用いた蒸着方法。
【請求項６】
前記開口部を部分的に覆うように前記膜厚調整部が設けられてなることを特徴とする請求項４に記載の蒸着用マスクを用いた蒸着方法。
【請求項７】
前記蒸着用マスクは、第１，第２電極ラインをそれぞれ複数備え、前記各電極ラインを交差するように配設するとともに、前記各電極ライン間に少なくとも発光層を含む有機層を挟持してマトリクス状の発光部を前記被蒸着部材である透光性基板上に形成してなる有機ＥＬパネルの蒸着工程の内、陰極電極である低抵抗材料からなる一方の電極ライン及び前記一方の電極ラインを前記透光性基板の一辺に引き出すための配線部を形成する工程に用いられ、前記配線部の膜厚を前記一方の電極ラインの膜厚よりも厚く形成してなることを特徴とする請求項４に記載の蒸着用マスクを用いた蒸着方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、蒸着室内に配設され、蒸着材料の蒸発によって被蒸着部材に所定の蒸着パターンを形成するための蒸着用マスク及びこのマスクを用いた蒸着方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機ＥＬパネルとしては、ガラス材料からなる透光性基板上に、ＩＴＯ（indium tin oxide）等によって陽極となる透明電極と、正孔注入層，正孔輸送層，発光層及び電子輸送層からなる有機層と、陰極となるアルミニウム（Al）等の非透光性の背面電極とを順次積層して積層体である有機ＥＬ素子を形成し、この積層体を覆うガラス材料からなる封止部材を透光性基板上に配設してなるものが知られている。このような有機ＥＬパネルは、例えば特許文献１に開示されている。
【０００３】
かかる有機ＥＬパネルは、前記有機ＥＬ素子を構成する前記各層（正孔注入層，正孔輸送層，発光層，電子輸送層，背面電極）に対応する複数の蒸着室を有する蒸着装置に透明電極が形成された透光性基板（被蒸着部材）を投入し、前記各層を形成することで得られるものである。かかる蒸着装置における各蒸着室は、例えば真空ポンプによって高真空に保たれる。これらの蒸着室内の下側には、蒸着材料を収納するルツボ（蒸着源）と、このルツボを取り巻くように巻回される加熱コイルと、前記ルツボ及び前記加熱コイルを包囲するように配設される熱遮蔽部材とが配設され、前記加熱コイルに電流が供給されることで蒸着材料が蒸発し、この蒸発した前記蒸着材料が前記透光性基板に堆積するものであり、無電界型蒸着装置と称されている。一方、前記各蒸着室の上側には、被蒸着部材である透光性基板を有する基板ホルダーと、前記基板ホルダーの背後に配設され蒸着用マスクを有するマスクホルダーとが配設されている。前記マスクホルダーに備えられる蒸着用マスクは、金属材料からなり、透光性基板に所定の蒸着パターンを形成するための複数の開口部と、前記透光性基板への蒸着パターンの形成を阻止する遮蔽部とを有しており、蒸発した前記蒸着材料が前記蒸着用マスクに設けられる前記各開口部を通過することで前記透光性基板上に所定の蒸着パターンが形成されるようになっている。このような蒸着用マスクは、例えば特許文献２に開示されている。
【特許文献１】特開２００１−２６７０６６号公報
【特許文献２】特開２０００−１９２２２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
前述した無電界型蒸着装置は、第１の層上に第２の層を形成する場合、例えば前記透光性基板に形成される前記有機層上に前記背面電極を構成するためのアルミニウム等の電極材料を蒸着する場合、前記蒸着用マスクの前記開口部から所定量の蒸着材料が前記透光性基板方向に侵入し、前記有機層上に一定の膜厚にて前記蒸着材料が定着するように、前記透光性基板を回転させながら蒸着させるものである。しかしながら、電気導通性及び膜厚管理の信頼性等を考慮した場合に、前記蒸着材料を部分的に厚く、あるいは部分的に薄く蒸着させたいとする膜厚調整が単一の蒸着室では不可能であり、このような膜厚調整を行う場合にあっては、少なくとも２つ以上の蒸着室（少なくとも２工程）が必要となり、製造工程が複雑化してしまうといった問題点を有している。
【０００５】
本発明の前述した問題点に着目し、単一蒸着室でも膜厚調整を行うことができる蒸着用マスク及びそのマスクを用いた蒸着方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、前述した課題を解決するため、請求項１に記載の蒸着用マスクのように、蒸着源から発せられる蒸着材料を被蒸着部材に蒸着させ所定の蒸着パターンを形成するための複数の開口部と、前記各開口部を取り巻くように設けられ前記蒸着材料の前記被蒸着部材への蒸着を阻止するための遮蔽部とを備える蒸着用マスクであって、前記開口部である第１の開口部への前記蒸着材料の侵入量を減少させ、前記蒸着材料によって形成される第１の蒸着層の膜厚を前記開口部である第２の開口部に対応する第２の蒸着層の膜厚に比べ薄く形成するための膜厚調整部を備えてなるものである。
【０００７】
また、請求項２に記載の蒸着用マスクのように、請求項１に記載の蒸着用マスクにおいて、前記膜厚調整部は、前記遮蔽部上の前記開口部の周囲の一部分に設けられてなるものである。
【０００８】
また、請求項３に記載の蒸着用マスクのように、請求項１に記載の蒸着用マスクにおいて、前記膜厚調整部は、前記開口部を部分的に覆うように前記遮蔽部に設けられてなるのである。
【０００９】
また、請求項４に記載の蒸着マスクを用いた蒸着方法は、蒸着源から発せられる蒸着材料を被蒸着部材に蒸着させ所定の蒸着パターンを形成するための複数の開口部と、前記各開口部を取り巻くように設けられ前記蒸着材料の前記被蒸着部材への蒸着を阻止するための遮蔽部とを備える蒸着用マスクを用いた蒸着方法であって、前記開口部である第１の開口部への前記蒸着材料の侵入量を減少させ、前記蒸着材料によって形成される第１の蒸着層の膜厚を前記開口部である第２の開口部によって形成される第２の蒸着層の膜厚に比べ薄く形成するための膜厚調整部を前記蒸着用マスクに一体もしくは別体に備えるとともに、前記蒸着用マスクを蒸着室内に配設し、前記蒸着室内において、前記蒸着源の真上に前記蒸着用マスクが位置しないように前記蒸着用マスクを前記蒸着源に対してオフセットさせて配設するとともに、前記蒸着源を移動させながら、あるいは前記被蒸着部材とともに前記蒸着用マスクを回転させながら前記蒸着材料を前記被蒸着部材に蒸着させるものである。
【００１０】
また、請求項５に記載の蒸着用マスクを用いた蒸着方法は、請求項４に記載した蒸着用マスクを用いた蒸着方法において、前記開口部を取り巻く前記遮蔽部に部分的に前記膜厚調整部が設けられてなるものである。
【００１１】
また、請求項６に記載の蒸着用マスクを用いた蒸着方法は、請求項４に記載した蒸着用マスクを用いた蒸着方法において、前記開口部を部分的に覆うように前記膜厚調整部が設けられてなるものである。
【００１２】
また、請求項７に記載の蒸着用マスクを用いた蒸着方法は、請求項４に記載した蒸着用マスクを用いた蒸着方法において、前記蒸着用マスクは、第１，第２電極ラインをそれぞれ複数備え、前記各電極ラインを交差するように配設するとともに、前記各電極ライン間に少なくとも発光層を含む有機層を挟持してマトリクス状の発光部を前記被蒸着部材である透光性基板上に形成してなる有機ＥＬパネルの蒸着工程の内、陰極電極である低抵抗材料からなる一方の電極ライン及び前記一方の電極ラインを前記透光性基板の一辺に引き出すための配線部を形成する工程に用いられ、前記配線部の膜厚を前記一方の電極ラインの膜厚よりも厚く形成してなるものである。
【発明の効果】
【００１３】
蒸着源から発せられる蒸着材料によって被蒸着部材に所定の蒸着パターンを形成するための開口部と、前記蒸着材料の前記被蒸着部材への蒸着を阻止する遮蔽部と、を有する蒸着用マスク及びこの蒸着マスクを用いた蒸着方法に関し、単一蒸着室でも膜厚調整を行うことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、添付図面に基づいて本発明の実施形態を説明する。
【００１５】
図１及び図２において、蒸着装置Ａは、排気ポート１を介して図示しない真空ポンプで高真空に排気された蒸着室２を有している。この蒸着室２の下側にはルツボ等を有する蒸着源である蒸着材料収納容器（蒸着源）３が配設されている。蒸着材料収納容器３は、真上に後述する蒸着用マスクが位置しないように、前記蒸着用マスクに対して図中右側方向へオフセットさせた状態にて蒸着室２内に配設される。
【００１６】
蒸着材料収納容器３は、図２に示すように、有機ＥＬ素子における正孔注入層，正孔輸送層，発光層，電子輸送層，背面電極層等の何れかの層の蒸着材料４を収納するルツボ５と、このルツボ５を取り巻くように巻回されるコイル状からなる加熱部材６と、ルツボ５及び加熱部材６を包囲するように配設される熱遮蔽部材７とを有している。ルツボ５は円筒カップ型に形成され、被蒸着部材である透光性基板（後述する）側が開口する開口部５ａを備えている。また、熱遮蔽部材７はルツボ５と同じく略円筒カップ型に形成されルツボ５の開口部５ａに対応する開口部７ａを備えている。
【００１７】
また、ルツボ５には加熱調整を行うための制御手段８を備えている。この制御手段８は、後で詳述する検出手段９からの検出データを所定周期で入力すると共に、入力された検出データに基づき蒸着材料４の蒸発した粒子の浮遊量（蒸着状態）を所定の演算処理によって求め、この演算結果と予め設定される基準値とを比較し、この比較結果に基づいて加熱部材６に対して電流量調整等のフィードバック制御を行うものである。
【００１８】
検出手段９は、ルツボ５に収納される蒸着材料４の浮遊量を検出するための膜厚センサや濃度センサ等から構成されるもので、蒸着材料収納容器３と前記透光性基板との間の蒸着材料４の蒸着経路Ｊ１中に配設されるもので、蒸着経路Ｊ１中の蒸着材料４の蒸発した粒子の浮遊量に応じた検出データを制御手段８に出力するものである。
【００１９】
一方、蒸着室２の上側には、透明ガラス材からなる矩形状の被蒸着部材である透光性基板１０と、この透光性基板１０の背後（透光性基板１０の蒸着材料収納容器３側）に配設され、本発明の主要部であり、後で詳述する蒸着用マスクを有する蒸着用治具１１とが配設されている。
【００２０】
蒸着用治具１１は、透光性基板１０に所定の蒸着パターンを形成するための蒸着用マスク１２と、この蒸着用マスク１２の背後に配設され、蒸着用マスク１２を蒸着用治具１１に取り付けるための取付固定部１３とを備えている。
【００２１】
蒸着用治具１１は、蒸着経路Ｊ１において蒸着材料４を透光性基板１０に良好に蒸着するためのステッピングモータやサーボモータ等の駆動手段から構成される回転機構１４を備えている。この回転機構１４は、回転機構１４における出力軸に蒸着用治具１１の所定箇所が連結され、透光性基板１０の幅方向における中心位置を基準として、蒸着用治具１１が図示しないコントロール装置からの指令信号に基づいて回転するように構成されている。
【００２２】
また、蒸着室２内の蒸着材料収納容器３と蒸着用治具１１との間には、蒸着経路Ｊ１を遮断する開閉機構１５が備えれられている。この開閉機構１５は前記コントロール装置からの指令信号に基づいてシャッター１５ａの開閉を行うもので、蒸着装置Ａは、シャッター１５ａのオープン時に蒸着可能となるものである。以上の各部によって蒸着装置Ａが構成されている。
【００２３】
図３は、蒸着用マスク１２の概略図であり、蒸着用マスク１２は、透光性基板１０に蒸着材料を蒸着させるための開口部１２ａと、前記蒸着材料の透光性基板１０への付着を阻止する遮蔽部１２ｂとを備え、ＳＵＳ４３０やＳＵＳ３０４等の金属材料からなるベース板から構成される。蒸着用マスク１２の背後には、蒸着用マスク１２の反りや歪みを抑制するための梁部１６が配設されている。蒸着用マスク１２は、ホルダー部材である梁部１６に突設された位置決めピン１６ａによって梁部１６との位置が決定されるとともに、ビス等の固定部材１６ｂによって梁部１６に固定されている。蒸着用マスク１２は、梁部１６の所定位置を取付部材１３に精度良く取り付けることで、蒸着材料収納容器３に対する配設位置が決定する。
【００２４】
図４（ａ），（ｂ）は、蒸着用マスク１２の第１の実施形態を示すものである。蒸着用マスク１２は、蒸着材料４を透光性基板１０に蒸着させ所定の蒸着パターンを形成するための複数の開口部１２ａと、各開口部１２ａを取り巻くように設けられ蒸着材料４の透光性基板１０への蒸着を阻止するための遮蔽部１２ｂとが基部となるベース板に備えられる。また、蒸着用マスク１２は、開口部１２である第１の開口部１２ａ１への蒸着材料４の侵入量を減少させ、蒸着材料４によって形成される第１の蒸着層４ａの膜厚を、開口部である第２の開口部１２ａ２によって形成される第２の蒸着層４ｂの膜厚に比べ薄く形成するための膜厚調整部である遮蔽壁１７を備えてなる。尚、図中において、透光性基板１０上に第１，第２の蒸着層４ａ，４ｂが形成される例を示しているが、有機ＥＬ素子であれば、透光性基板１０に形成される透明電極上に正孔注入層，正孔輸送層，発光層，電子輸送層及び背面電極の各層からなる第１，第２の蒸着層４ａ，４ｂが形成されることになる。
【００２５】
遮蔽壁１７は、遮蔽部１２ｂ上の第１の開口部１２ａ１の周囲の一部分に、即ち図中において、矩形状の第１の開口部１２ａ１の左辺から所定間隔隔て状態で、かつ左辺のみに対応するように設けられるものである。尚、遮蔽壁１７は、蒸着用マスク１２と同等な材料（熱膨張係数が類似するものが望ましい）が用いられ、エレクトロフォーミング法やエッチング法によって形成するもの、あるいは専用部品となる遮蔽壁１７を溶接あるいはねじ止めによって組み付けされて構成するものであっても良い。
【００２６】
遮光壁１７は、所定の高さＨを有しており、この高さＨは、下記の式（１）で設定される。
Ｈ＞（Ｗ１＋Ｗ２）・ｔａｎ−１Ｘ・・・・（１）
但し、幅Ｗ１は、第１の開口部１２ａ１の開口幅、幅Ｗ２は、遮蔽壁１７から第１の開口部１２ａ間での幅、角度Ｘは、透光性基板（基体面）１０の法線ａに対して第１の開口部１２ａ１から蒸着材料収納容器３が取る最大角度である。
【００２７】
かかる蒸着用マスク１２を用いた蒸着方法は、膜厚調整部となる遮蔽壁１７を遮蔽部１２ｂの第１の開口部１２ａ１の周囲の一部分に備えた蒸着用マスク１２を用意し、蒸着用マスク１２を蒸着室２内に配設し、蒸着室２内において、蒸着源である蒸着材料収納容器３の真上に蒸着用マスク１２が位置しないように蒸着用マスク１２を蒸着材料収納容器３に対してオフセット（図中においては左側）させて配設するとともに、透光性基板１０とともに蒸着用マスク１２を所定速度にて回転させて蒸着材料４を透光性基板１０に蒸着させるものである。従って、遮蔽壁１７が存在する位置に形成される第１の開口部１２ａ１への蒸着材料４の侵入量が減少することから、蒸着材料４によって形成される第１の蒸着層４ａの膜厚を遮蔽壁１７が存在しない位置に形成される第２の開口部１２ａ２によって形成される第２の蒸着層４ｂの膜厚に比べ薄く形成することが可能となる。
【００２８】
次に、図５（ａ），（ｂ）を用いて蒸着用マスク１２の第２の実施形態を説明するが、前述の第１の実施形態と同様もしくは相当個所には同一符号を付してその詳細な説明は省く。
【００２９】
第２の実施形態における蒸着用マスク１２は、前述した第１の実施形態における蒸着用マスク１２の変形例であり、第２の実施形態における蒸着用マスク１２は、第１の開口部１２ａ１の周囲の一部分、即ち矩形状の第１の開口部１２ａの３辺に対応する位置に遮蔽壁１８が形成されるとともに、それぞれの辺に対応する遮蔽壁１８が連続的に設けられことなく隙間部Ｓを有するように断続的に形成される。また、第１の開口部１２ａの左右の辺に対応する位置に形成される遮蔽壁１８は、それぞれの高さＨ１，Ｈ２が異なるように形成されている。尚、遮蔽壁１８の高さＨ１（Ｈ）は、前記式（１）により同等に設定される。
【００３０】
次に、図６（ａ），（ｂ）を用いて蒸着用マスク１２の第３の実施形態を説明するが、前述の第１，第２の実施形態と同様もしくは相当個所には同一符号を付してその詳細な説明は省く。
【００３１】
第３の実施形態における蒸着用マスク１２が、前述した第１，第２の実施形態における蒸着用マスク１２に比べ異なる点は、遮蔽壁１９が第１の開口部１２ａ１を部分的に覆うように設けられている点である。遮蔽壁１９は、第１の開口部１２ａ１の幅方向に対して幅狭となる第１，第２の不透明部１９ａ１，１９ａ２を構成している。尚、遮蔽壁１９は、遮蔽用マスク１２と同等な材料（熱膨張係数が類似するものが望ましい）が用いられ、エレクトロフォーミング法やエッチング法によって形成するもの、あるいは専用部品を溶接あるいはねじ止めによって組み付けされて構成するものであっても良い。
【００３２】
遮蔽壁１９は、第１の開口部１２ａ１を部分的に覆うため、第１の開口部１２ａ１の長手方向に第１，第２の不透明部１９ａ１，１９ａ２が掛け渡されることで構成される。第１，第２の不透明部１９ａ１，１９ａ２の幅Ｗ３は、下記の式（２）により設定される。
Ｗ３＜ｄ１・ｔａｎＹ・・・（２）
但し、ｄ１は、各不透明部１９ａ１，１９ａ２の上面から透光性基板１０までの距離、角度Ｙは、透光性基板（基体面）１０の法線ａに対して各不透明部１９ａ１，１９ａ２間の第１の開口部１２ａ１から蒸着材料収納容器３が取る最大角度である。尚、各不透明部１９ａ１，１９ａ２の幅Ｗ３及び厚さは同等なものであるとする。
【００３３】
次に、図７（ａ），（ｂ）を用いて蒸着用マスク１２の第４の実施形態を説明するが、前述の第１〜第３の実施形態と同様もしくは相当個所には同一符号を付してその詳細な説明は省く。
【００３４】
第４の実施形態における蒸着用マスク１２は、第３の実施形態における蒸着用マスク１２の変形例であり、第１の開口部１２ａ１に備えられる遮蔽壁２０は、第１の開口部１２ａ１を部分的に覆うようにメッシュ状を成している。遮蔽壁２０は、縦方向に複数配設される縦方向不透明部２０ａ１と、横方向に複数配設される横方向不透明部２０ａ２とを備え、各不透明部２０ａ１，２０ａ２がそれぞれ第１の開口部１２ａ１に掛け渡されることで構成される。また遮蔽壁２０は、各不透明部２０ａ１，２０ａ２が第１の開口部１２ａ１の周囲の遮蔽部１２ｂにおいて、所定の高さＨ３を備えた側壁２０ｂを有するように、断面形状が略コの字状をなしている。
【００３５】
各不透明部２０ａ１，２０ａ２の幅Ｗ４は、下記の式（３）により設定される。
Ｗ４＜ｄ２・ｔａｎＺ・・・（３）
但し、ｄ２は、側壁２０ｂの高さＨ３を含むとともに各不透明部２０ａ１，２０ａ２の上面から透光性基板１０までの距離、角度Ｚは、透光性基板（基体面）１０の法線ａに対して各不透明部２０ａ１，２０ａ２間の第１の開口部１２ａ１から蒸着材料収納容器３が取る最大角度である。尚、各不透明部２０ａ１，２０ａ２の幅Ｗ４及び厚さは同等なものであるとする。
【００３６】
かかる蒸着用マスク１２は、蒸着材料収納容器３から発せられる蒸着材料４を透光性基板１０に蒸着させ所定の蒸着パターンを形成するための複数の開口部１２ａと、各開口部１２ａを取り巻くように設けられ蒸着材料４の透光性基板４への蒸着を阻止するための遮蔽部１２ｂとを備え、第１の開口部１２ａ１への蒸着材料４の侵入量を減少させ、蒸着材料４によって形成される第１の蒸着層４ａ１の膜厚を第２の開口部１２ａ２によって形成される第２の蒸着層４ｂの膜厚に比べ薄く形成するための膜厚調整部となる遮蔽壁１７，１８，１９，２０を備えてなるものである。
【００３７】
また、その蒸着用マスク１２を用いた蒸着方法としては、遮蔽壁１７，１８，１９，２０を有する蒸着用マスク１２を蒸着室２内に配設し、蒸着室２内において、蒸着源である蒸着材料収納容器３の真上に蒸着用マスク１２が位置しないように蒸着用マスク１２を蒸着材料収納容器３に対してオフセットさせて配設するとともに、透光性基板１０とともに蒸着用マスク１２を回転させて蒸着材料４を透光性基板１０に蒸着させるものである。
【００３８】
従って、遮蔽壁１７，１８，１９，２０によって第１の開口部１２ａ１への蒸着材料４の侵入量が調整されるため、無電界型蒸着装置による単一蒸着室によって膜厚調整が可能となる。
【００３９】
前述した各遮光壁１７，１８，１９，２０を有する蒸着用マスク１２は、有機ＥＬパネルにおける低抵抗材料から構成される陰極電極を形成する際に有効なものとなる。具体例を図８及び図９に示す。
【００４０】
図８及び図９は、マトリクス状の発光部を備える有機ＥＬパネル３０を示すものである。かかる有機ＥＬパネル３０は、透光性基板１０上に、ＩＴＯやＩＺＯ等の透光性電極材料からなり陽極電極となる第１電極ライン３１が複数列形成され、これら第１電極ライン３１間にポリイミド系等の絶縁材料からなる絶縁層３２が形成されている。そして第１電極ライン３１及び絶縁層３２上に、正孔注入層，正孔輸送層，発光層，電子輸送層及び電子注入層からなる有機層３３が形成され、有機層３３上に、アルミ（Al）やアルミリチウム（Al:Li），マグネシウム銀（Mg:Ag）等の低抵抗金属材料からなり陰極電極となる第２電極ライン（一方の電極ライン）３４が第１の電極ライン３１と直交（交差）する状態で形成されている。また、第２電極ライン３４は、ポリイミド系等の絶縁材料からなる隔壁（リブ）３５によって、単一の金属電極３６が分断されることによって得られている。
【００４１】
第１，第２電極ライン３１，３４は、透光性基板１０の一辺にそれそれ引き出すための配線部３１ａ，３４ａを有しており、各配線部３１ａ，３４ａの終端は、フレキシブル回路基板等の他の接続部材と電気的に接続される端子部３１ｂ，３４ｂを備えている。有機ＥＬパネル３０は、各端子部３１ｂ，３４ｂが外部に露出するようにガラス材料からなる封止部材３７によって各端子部３１ｂ，３４ｂを除く他の部分を気密的に封止している。
【００４２】
かかる有機ＥＬパネル３０において、第２電極ライン３４及び第２電極ライン３４を透光性基板１０の一辺に引き出すための配線部３４ａを形成する工程（陰極電極形成工程）に前述した蒸着用マスク１２を用いた蒸着方法を適応することによって、配線部３４ａの膜厚ａを第２電極ライン３４の膜厚ｂよりも厚く形成することが可能となる。従って、この蒸着マスク１２を用いた蒸着方法によると、単一蒸着室によって膜厚調整が可能となり、例えば第２の陰極ライン３４の膜厚ｂを１００ｎｍ〜３００ｎｍとした場合に、配線部３４ａの膜厚ａを３００ｎｍ〜５００ｎｍとする膜厚調整が可能となる。有機ＥＬパネル３０は、第２電極ライン３４の配線部３４ａの引き回し長さが第１の電極ライン３１に比べ長くなり、有機ＥＬパネル３０の発光特性に悪影響を及ぼす発熱あるいは電圧降下の原因に繋がるが、低抵抗材料から形成される配線部３４ａの膜厚ａを第２電極ライン３４の膜厚ｂに比べ厚く形成することで、前述した問題点を解消することができる。
【００４３】
尚、本発明の実施形態では、蒸着用マスク１２を蒸着室２内において回転させるものであったが、本発明にあっては、蒸着源である蒸着材料収納容器３をその配設位置が変化するように回転（移動）させる蒸着方法であっても良い。
【００４４】
また、本発明の実施形態では、蒸着用マスク１２に遮蔽壁１７，１８，１９，２０を一体的に設けるものであったが、本発明にあっては、膜厚調整部となる遮蔽壁を備えるホルダー部材を蒸着室２内に配設される取付固定部１３に備え、蒸着用マスク１２の開口部１２ａへの蒸着材料４の侵入量を調整するものであっても良い。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の実施形態の蒸着装置を示す図である。
【図２】同上実施形態の蒸着材料収納容器を示す図である。
【図３】同上実施形態の蒸着用マスクを示す概略図である。
【図４】本発明の蒸着用マスクの第１の実施形態を示す図である。
【図５】本発明の蒸着用マスクの第２の実施形態を示す図である。
【図６】本発明の蒸着用マスクの第３の実施形態を示す図である。
【図７】本発明の蒸着用マスクの第４の実施形態を示す図である。
【図８】本発明の実施形態の有機ＥＬパネルを示す平面図である。
【図９】同上実施形態の有機ＥＬパネルを示す要部断面図である。
【符号の説明】
【００４６】
Ａ  蒸着装置
２  蒸着室
３  蒸着材料収納容器
４  蒸着材料
４ａ，４ｂ  第１，第２の蒸着層
１０  透光性基板（被蒸着部材）
１２  蒸着用マスク
１２ａ  開口部
１２ａ１，１２ａ２  第１，第２の開口部
１２ｂ  遮蔽部
１７，１８，１９，２０  遮蔽壁（膜厚調整部）
１９ａ１，１９ａ２  第１，第２の不透明部
２０ａ１，２０ａ２  縦方向，横方向不透明部
３０  有機ＥＬパネル
３１  第１電極ライン
３３  有機層
３４  第２電極ライン
３４ａ  配線部
【図１】
2005298971.tif 000003
【図２】
2005298971.tif 000004
【図３】
2005298971.tif 000005
【図４】
2005298971.tif 000006
【図５】
2005298971.tif 000007
【図６】
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【図７】
2005298971.tif 000009
【図８】
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【図９】
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