(57)【要約】【課題】  設計データから描画データを作成する際に、分割後のパターン段差が不必要に小さくなったり大きすぎたりすることを防止でき、描画時間の短縮と共に描画精度の向上をはかる。【解決手段】  設計データ中の４５度の整数倍以外の任意角度の斜辺を持つパターン１１に対し、４５度の斜辺を持つ台形又は矩形のパターン１２にスリット分割して描画データを作成する描画データ作成方法であって、任意角度に応じてスリット分割方向及び分割図形の種類を規定すると共に、スリット分割後の隣接パターンの段差が所定の許容範囲以内になるように分割幅を決定する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
設計データ中の４５度の整数倍以外の任意角度の斜辺を持つパターンに対し、４５度の斜辺を持つ台形又は矩形のパターンにスリット分割して描画データを作成する描画データ作成方法であって、
前記任意角度に応じてスリット分割方向及び分割図形の種類を規定すると共に、前記任意角度毎にスリット分割後のパターンの粗さを表す数値を計算し、該数値が許容範囲内となるような分割幅を用いてスリット分割を行うことを特徴とする描画データ作成方法。
【請求項２】
前記スリット分割に際して、スリット分割後の隣接パターンの段差が所定の許容範囲内となるように分割幅を決定することを特徴とする請求項１記載の描画データ作成方法。
【請求項３】
設計データ中の４５度の整数倍以外の任意角度の斜辺を持つパターンに対し、４５度の斜辺を持つ台形又は矩形のパターンにスリット分割して描画データを作成する描画データ作成方法であって、
前記スリット分割に際して、実数で表現された分割幅でスリット分割を行い、分割位置の座標を実数で表し、分割終了後にアドレスユニットへの丸めを行うことを特徴とする描画データ作成方法。
【請求項４】
設計データ中の４５度の整数倍以外の任意角度の斜辺を持つパターンに対し、４５度の斜辺を持つ台形又は矩形のパターンにスリット分割して描画データを作成する描画データ作成方法であって、
前記設計データ中の任意角度の斜辺を持つパターンを複数に分割する際の領域分割処理で発生する分割座標のアドレスユニットへの丸め処理によって斜辺の角度が変化する場合に、領域分割処理前の斜辺の角度からスリット分割方向と分割図形の種類を決定し、該決定情報を領域分割処理後の各分割パターンに継承させ、該分割パターンに対して前記決定した分割方向及び分割図形種類によってスリット分割を行うことを特徴とする描画データ作成方法。
【請求項５】
設計データ中の４５度の整数倍以外の任意角度の斜辺を持つパターンに対し、４５度の斜辺を持つ台形又は矩形のパターンにスリット分割して描画データを作成する描画データ作成方法であって、
前記設計データ中の斜辺の角度が異なり相互に接続された複数のパターンに対し、各斜辺の角度の差が一定範囲内の場合に、各斜辺の平均角度からスリット分割方向及び分割図形の種類を決定し、前記接続された複数のパターンの全てを該決定した分割方向及び分割図形種類によってスリット分割することを特徴とする描画データ作成方法。
【請求項６】
設計データ中の４５度の整数倍以外の任意角度の斜辺を持つパターンに対し、４５度の斜辺を持つ台形又は矩形のパターンにスリット分割して描画データを作成する描画データ作成方法であって、
前記設計データ中の隣接する複数のパターンの斜辺の角度とスリット分割方向及び分割図形の種類を決定するための基準角度との差がある一定範囲内の場合、前記隣接する複数のパターンの全てを同じスリット分割方向及び分割図形種類でスリット分割することを特徴とする描画データ作成方法。
【請求項７】
設計データ中の４５度の整数倍以外の任意角度の斜辺を持つパターンに対し、４５度の斜辺を持つ台形又は矩形のパターンにスリット分割して描画データを作成する描画データ作成方法であって、
前記設計データ中の隣接する複数のパターンに対して斜辺の角度の分布をそれぞれ調べ、分布のピーク付近の角度範囲とスリット分割方向及び分割図形の種類を決定するための基準角度とが重なる場合、前記ピーク付近を避けるように前記基準角度をずらすことを特徴とする描画データ作成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、設計データから可変成形電子ビーム露光装置に許容される描画データを作成するための描画データ作成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
可変成形電子ビーム露光装置の描画データは、４５°又は９０°の角度の斜辺を持つ台形と矩形のパターン（以下、基本図形と呼ぶ）で構成される。一方、ＣＡＤ等で作成される設計データは、一般に４５°又は９０°に限定されず任意の角度の角を持つ多角形のパターンを含んでいる。このため、設計データから描画データへの変換過程の中で、任意の角度の角を持つ多角形を基本図形でスリット分割して近似する必要がある。この分割に際して従来は、角度に関係なく同じスリット幅で分割する手法が広く用いられてきた。
【０００３】
このようなスリット分割においては、任意角度パターンの角度によって分割後のパターンの段差が、ある角度では不必要に細かすぎて描画時間が長くなり（図１０（ａ））、ある角度では大きすぎるために描画の精度（線幅，線の滑らかさ）が損なわれる（図１０（ｂ））、という問題があった。
【０００４】
また、データ処理過程では、スリット分割を行う前に、入力データのパターンを処理単位の領域に分割したり、パターンを台形と矩形で表現するために多頂点図形を台形や矩形に分割したりするなどの処理を行っていた（例えば、特許文献１参照）。この処理に伴って次の(1)(2)のような問題を招いていた。
【０００５】
(1) 図１１（ａ）に示すような設計段階で１本だった任意角度パターンが領域分割や台形分割などで分割され、分割位置の座標のアドレスユニットへの丸め処理によって、図１１（ｂ）に示すように分割されたパターン毎に傾斜角度が変化する。そして、基準角度付近の任意角度パターンはスリット分割の方向が統一されないことによって、描画後の線幅が一定しなかった。
【０００６】
(2) 設計段階で同一角度だった複数の任意角度パターン同士で、スリット分割前にサイジング等の処理で座標のアドレスユニットへの丸めが発生し、傾斜角度が変化することによって、基準角度に近い角度の複数の斜線パターン同士でスリット分割の方向が統一されず、描画後の線幅の精度にばらつきがでてしまった。
【特許文献１】特開２００２−１５１３８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このように従来の描画データ作成方法においては、設計データから描画データへの変換の際に、スリット分割において分割後のパターンの段差が小さくなり過ぎて描画時間の増大を招いたり、パターンの段差が大きくなり過ぎて描画精度の低下を招く問題があった。また、データ処理過程において、基準角度付近の任意角度パターンでスリット分割の方向が統一されないために描画後の線幅が一定しない、基準角度に近い角度の複数の斜線パターン同士でスリット分割の方向が統一されず、描画後の線幅の精度にばらつきがでてしまう、等の問題があった。
【０００８】
本発明は、上記事情を考慮して成されたもので、その目的とするところは、設計データから描画データを作成する際に、分割後のパターン段差が不必要に小さくなったり大きすぎたりすることを防止でき、描画時間の短縮と共に描画精度の向上に寄与し得る描画データ作成方法を提供することにある。
【０００９】
また本発明は、データ処理過程において、基準角度付近の任意角度パターンや基準角度に近い角度の複数の斜線パターン同士でスリット分割の方向を統一させることができ、描画後の線幅の一定化及び線幅精度ばらつきの抑制に寄与し得る描画データ作成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために本発明は、次のような構成を採用している。
【００１１】
即ち本発明は、設計データ中の４５度の整数倍以外の任意角度の斜辺を持つパターンに対し、４５度の斜辺を持つ台形又は矩形のパターンにスリット分割して描画データを作成する描画データ作成方法であって、前記任意角度に応じてスリット分割方向及び分割図形の種類を規定すると共に、前記任意角度毎にスリット分割後のパターンの粗さを表す数値を計算し、該数値が許容範囲内となるような分割幅を用いてスリット分割を行うことを特徴とする。
【００１２】
また本発明は、設計データ中の４５度の整数倍以外の任意角度の斜辺を持つパターンに対し、４５度の斜辺を持つ台形又は矩形のパターンにスリット分割して描画データを作成する描画データ作成方法であって、前記スリット分割に際して、実数で表現された分割幅でスリット分割を行い、分割位置の座標を実数で表し、分割終了後にアドレスユニットへの丸めを行うことを特徴とする。
【００１３】
また本発明は、設計データ中の４５度の整数倍以外の任意角度の斜辺を持つパターンに対し、４５度の斜辺を持つ台形又は矩形のパターンにスリット分割して描画データを作成する描画データ作成方法であって、前記設計データ中の任意角度の斜辺を持つパターンを複数に分割する際の領域分割処理で発生する分割座標のアドレスユニットへの丸め処理によって斜辺の角度が変化する場合に、領域分割処理前の斜辺の角度からスリット分割方向と分割図形の種類を決定し、該決定情報を領域分割処理後の各分割パターンに継承させ、該分割パターンに対して前記決定した分割方向及び分割図形種類によってスリット分割を行うことを特徴とする。
【００１４】
また本発明は、設計データ中の４５度の整数倍以外の任意角度の斜辺を持つパターンに対し、４５度の斜辺を持つ台形又は矩形のパターンにスリット分割して描画データを作成する描画データ作成方法であって、前記設計データ中の斜辺の角度が異なり相互に接続された複数のパターンに対し、各斜辺の角度の差が一定範囲内の場合に、各斜辺の平均角度からスリット分割方向及び分割図形の種類を決定し、前記接続された複数のパターンの全てを該決定した分割方向及び分割図形種類によってスリット分割することを特徴とする。
【００１５】
また本発明は、設計データ中の４５度の整数倍以外の任意角度の斜辺を持つパターンに対し、４５度の斜辺を持つ台形又は矩形のパターンにスリット分割して描画データを作成する描画データ作成方法であって、前記設計データ中の隣接する複数のパターンの斜辺の角度とスリット分割方向及び分割図形の種類を決定するための基準角度との差がある一定範囲内の場合、前記隣接する複数のパターンの全てを同じスリット分割方向及び分割図形種類でスリット分割することを特徴とする。
【００１６】
また本発明は、設計データ中の４５度の整数倍以外の任意角度の斜辺を持つパターンに対し、４５度の斜辺を持つ台形又は矩形のパターンにスリット分割して描画データを作成する描画データ作成方法であって、前記設計データ中の隣接する複数のパターンに対して斜辺の角度の分布をそれぞれ調べ、分布のピーク付近の角度範囲とスリット分割方向及び分割図形の種類を決定するための基準角度とが重なる場合、前記ピーク付近を避けるように前記基準角度をずらすことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、設計データから描画データを作成する際に、スリット分割後のパターンの粗さを表す数値が許容範囲以内となるような分割幅を用いてスリット分割を行う。例えば、スリット分割後の隣接パターンの段差が所定の許容範囲以内になるように分割幅を決定することにより、分割後のパターン段差が不必要に小さくなったり大きくなり過ぎるの防止できる。これにより、描画時間の短縮と共に描画精度の向上をはかることが可能となる。
【００１８】
また、実数で表現された分割幅でスリット分割を行い、分割位置の座標を実数で表し、分割終了後にアドレスユニットへの丸めを行うことにより、丸めの誤差がパターンの端に集積するのを防止できる。さらに、領域分割処理前の斜辺の角度からスリット分割方向と分割図形の種類を決めておき、該決定した分割方向及び分割図形種類によって領域分割処理後の各分割パターンのスリット分割を行うことにより、領域分割処理で発生する分割座標のアドレスユニットへの丸め処理によって分割処理後のパターンが異なるスリット分割方向又は異なる分割図形種類に分割される不都合を避けることが可能となる。
【００１９】
また、斜辺の角度が異なり相互に接続された複数のパターンに対し、斜辺の角度の差が一定範囲内の場合に、各斜辺の平均角度からスリット分割方向及び分割図形の種類を決定し、該決定した分割方向及び分割図形種類によって前記接続された複数のパターンの全てをスリット分割することにより、接続されたパターンに関してスリット分割の方向を統一させることができ、描画後の線幅の一定化をはかることが可能となる。
【００２０】
また、隣接する複数のパターンの斜辺角度と基準角度の差がある一定範囲内の場合、隣接するパターンを同じスリット分割方向及び分割図形種類でスリット分割することにより、基準角度に近い角度の複数の斜辺を有するパターン同士でスリット分割の方向を統一させることができ、描画後の線幅精度ばらつきの抑制をはかることが可能となる。さらに、設計データ中の隣接する複数のパターンに対し、斜辺の角度の分布を調べ、分布のピーク付近の角度範囲と基準角度が重なる場合、ピーク付近を避けるように基準角度をずらすことにより、基準角度付近の任意角度パターンでスリット分割の方向を統一させることができ、描画後の線幅の一定化をはかることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の詳細を図示の実施形態によって説明する。
【００２２】
（第１の実施形態）
図１〜図３は、本発明の第１の実施形態に係わる描画データ作成方法を説明するための図である。
【００２３】
ＣＡＤで作成された設計データを可変成形電子ビーム描画装置に許容される描画データに変換するために、設計データ中の任意の角度の斜辺を持つ多角形の斜線部分を、描画データへの変換処理に先立ちスリット分割する。これらの斜辺の角度に対して、図１（ａ）〜（ｄ）に示すように、０°，θ1 ，θ2 ，θ3 ，９０°と５つの基準角度で区切られた区分に分類し、それぞれに対応したスリット分割の方向と形状を選択する。図１（ａ）は０＜θ＜θ1 の場合、図１（ｂ）はθ1 ＜θ＜θ2 の場合、図１（ｃ）はθ2 ＜θ＜θ3 の場合、図１（ｄ）はθ3 ＜θ＜９０°の場合を示している。但し、θ1 ＝tan-1(２)／２，θ2 ＝４５°，θ3 ＝９０°−tan-1(２)／２である。また、図中の１１は斜辺を有するパターン（設計データ）、１２はスリット分割パターンを示している。
【００２４】
図１において、（ａ）はスリット分割方向がＸ方向（紙面左右方向）で、分割図形の種類は矩形である。（ｂ）はスリット分割方向がＹ方向（紙面上下方向）で、分割図形の種類は台形である。（ｃ）はスリット分割方向がＸ方向で、分割図形の種類は台形である。（ｄ）はスリット分割方向がＹ方向で、分割図形の種類は矩形である。
【００２５】
なお、本提案では、台形と矩形を用いて分割を行う方法を示したが、矩形のみを利用してスリット分割を行っても良い（θ1 ＝θ2 ＝θ3 ＝４５°に相当）。
【００２６】
ここで、変換実行前に与えられた許容される段差をεとすると、図１（ａ）〜（ｄ）に対応する図２（ａ）〜（ｄ）に示すそれぞれの分割方向と形状に応じて求められる段差σがこのεを超えない最大の値Ｓを求める。このＳを基に入力パターンを等分割する実数で表した分割幅を求め、スリット分割を行い、座標をアドレスユニット（ＡＵ）単位に丸める。この場合、図２（ａ）ではσ＝Ｓtanθ、（ｂ）ではσ＝Ｓ（cotθ-1）、（ｃ）ではσ＝Ｓ（tanθ-1）、（ｄ）ではσ＝Ｓcotθとなる。
【００２７】
具体例を図３に示す。図３（ａ）に示す入力パターンでは、斜辺の角度θa は図１（ｂ）の分類に当てはまるとすると、台形を使用したＹ方向の分割が選択される。図２（ｂ）で示される段差σ＝Ｓ｛cot（θa）-1｝が事前に与えられた許容段差εを超えない最大の実数Ｓを求める。
【００２８】
このＳをＡＵ単位に丸めた値をＳwid とし、これをスリット分割幅として下端から分割を行うと、図３（ｅ）のように上端に幅Ｓedg ＜Ｓwid の細いスリット図形が発生してしまう場合がある。
【００２９】
本実施形態ではこれを避けるため、図３（ａ）に示す入力パターンの分割方向の長さをＬとすると、スリット分割幅として実数Ｓref ＝Ｌ／［Ｌ／Ｓ］を用いる。ここで、［Ｘ］はＸ以上の最小の整数とする。
【００３０】
図３（ｂ）に示すように、下端からＳref で分割を入れ（波線）、ｙ座標をＡＵ単位に丸める（実線）。次の分割線は図３（ｃ）に示すように、前回の分割の丸め前の分割線（（ｂ）の波線）から長さＳref のところに分割を入れ、その後、ｙ座標をＡＵ単位後に丸める。以降、図３（ｄ）に示すように、同様の操作を繰り返し、上端まで分割を実施する。
【００３１】
このように本実施形態によれば、設計データの任意の角度θa の斜辺を持つ多角形の斜線部分に対し、最適なスリット分割を行って描画データを作成することができる。そしてこの場合、分割パターンの段差σを許容段差εを超えない最大の値Ｓに設定することにより、分割後のパターン段差が不必要に小さくなったり大きすぎたりすることを防止でき、描画時間の短縮と共に描画精度の向上をはかることができる。また、実数で表現された分割幅でスリット分割を行い、分割位置の座標を実数で表し、分割終了後にアドレスユニットへの丸めを行うことにより、丸めの誤差がパターンの端に集積するのを防止できる利点もある。
【００３２】
なお、本実施形態では、段差をスリット分割による近似の粗さを示す指標としたが、段差以外の指標を用いても良い。例えば、図２に示す斜辺から外側にはみ出しているスリット分割後の矩形又は台形の頂点と斜辺の距離δを近似の粗さの指標とすることも可能である。また、本実施形態では、任意角パターンを含む設計データから基本図形のみの描画データへの変換処理に際して上記のスリット分割を行ったが、任意角パターンを含む描画データを入力とする電子ビーム描画装置においてショット分割回路でこれを実行することも可能である。
【００３３】
（第２の実施形態）
本発明の第２の実施形態として、スケーリング処理を伴う場合を例にして説明する。
【００３４】
図５（ａ）に示すような同じ角度の斜辺を持つ２つのパターンを含む入力データが、１．５倍スケーリングによって図５（ｂ）に示すように大きくなった場合を考える。この場合、図５（ｃ）に示すように、スケーリング後のパターン角部の座標がＡＵ単位とずれ、図５（ｄ）に示すように、パターン角部の座標はＡＵ単位に丸められ、斜線の角度が変化する。入力データの２つのパターンの斜線の角度を共にθｃ0とし、スケーリング後の右側のパターンの斜線の角度をθc1とする。それぞれの角度θc0，θc1が、一方は基準角度θ1 より小さく、もう一方がθ1 より大きくなった場合に、それぞれの角度に応じてスリット分割方向を決めると、図６（ｂ）に示すように中央の線の左右で分割方向が切り替わることになる。
【００３５】
本実施形態ではこれを避けるために、スケーリングなどによって発生するＡＵの丸めが実施される前に入力データ中の任意角パターンに斜辺の角度によって決まる分割方向と形状の分類の情報を保持させる。図５（ａ）の入力パターンの角度θc0は０度以上でθ1 以下なので、図２（ｂ）の分類となる。この情報を入力パターンに保持させ、スケーリング後の任意角パターンのスリット分割処理では、この情報を基に分割方向を決定し、スリット分割を行う。これによって、図６（ａ）に示すように、分割点の前後に拘わらず分割方向を同じにすることができる。
【００３６】
（第３の実施形態）
本発明の第３の実施形態として、領域分割処理を伴う場合を例にして説明する。
【００３７】
図４（ａ）に示すような入力パターンが、データ処理の過程で領域分割処理によって図４（ｂ）のように分割される場合を考える。この場合、図４（ｃ）に示すように、斜辺上の分割点の座標はＡＵ単位に丸められ、斜辺の角度が分割前と変わり、分割点の左右で斜辺の角度が一致しなくなる。このときのそれぞれの角度θb1，θb2が、一方は基準角度θ1 より小さく、もう一方がθ1 より大きくなった場合に、それぞれの角度に応じてスリット分割方向を決めると、図４（ｅ）に示すように分割点の前後で分割方向が切り替わることになる。
【００３８】
本実施形態ではこれを避けるために、領域分割などによって発生するＡＵの丸めが実施される前に入力データ中の任意角パターンに斜辺の角度によって決まる分割方向と形状の分類の情報を保持させる。図４（ａ）の入力パターンの角度θb0は０度以上でθ1 以下とすると、図２（ａ）の分類となる。この情報をパターンに保持させ、分割後には分割後のそれぞれのパターンにその情報を継承させる。その後の任意角パターンのスリット分割処理では、この情報を基に分割方向を決定し、スリット分割を行う。これにより、図４（ｄ）に示すように、分割点の前後に拘わらず分割方向が同じとなる。
【００３９】
なお、本実施形態は領域分割に限らず、設計段階で１本だった任意角度パターンが台形分割などで分割される場合にも同様に適用できる。即ち、領域分割などで発生する分割位置の座標のアドレスユニットへの丸め処理によって斜辺の角度が変化する場合に適用することができる。
【００４０】
（第４の実施形態）
本発明の第４の実施形態として、途中で折れ曲がった線の場合を例にして説明する。
【００４１】
図７（ａ）に示すように、入力パターンは折れ曲がったものとする。屈曲点で分割した場合の３つの分割パターンの内、左側のパターンの斜線の角度をθd1，中央のパターンの斜線の角度をθd2，右側のパターンの斜線の角度をθd3とする。ここで、角度θd1，θd3が基準角度θ1 より大きく、θd2がθ1 より小さくなった場合、図７（ｃ）に示すように、屈曲点の前後で分割方向が切り替わることになる。
【００４２】
本実施形態ではこれを避けるため、連続したパターンに対し代表パターンを決め、そのパターンの角度との差がある一定誤差範囲内のパターンを１つのグループとする。グループ内で平均の角度を求め、それによって決まる分割方向と形状でグループ内全てのパターンをスリット分割する。
【００４３】
図７（ａ）では、θd1の斜辺を持つパターンを代表パターンとし、θd2，θd3とθd1とのそれぞれの差が許容範囲内であったとすると、３つのパターンは一つのグループとすることができる。θd2，θd3，θd1の平均の角度θd4を求める。θ1 ＜θd4＜θ2 とすると、図２（ｂ）の分類となる。この分類の分割方向と形状で３つのパターンをスリット分割する。これによって、図７（ｂ）のように屈曲点の前後に拘わらず分割方向を同じにすることができる。
【００４４】
（第５の実施形態）
本発明の第５の実施形態として、θ1 付近の角度を有する複数のパターンの場合を例にして説明する。
【００４５】
図８（ａ）に示すように、θ1 に比較的近い角度θe1，θe2，θe3，θe4の角度を持つ４つのパターンが隣接して存在するものとする。ここで、θ2 ＞θe1＞θe2＞θ1 ＞θe3＞θe4＞０とする。この場合、図８（ｃ）に示すように、パターンによって分割方向が切り替わることになる。
【００４６】
本実施形態ではこれを避けるために、隣接する複数の斜線パターンの斜線角度θe1，θe2，θe3，θe4と基準角度θ1 の差がある一定範囲内の場合、隣接する全ての斜線パターンを同じスリット分割方向及び分割図形種類でスリット分割する。例えば、前記図２（ｂ）に示す分割方向及び図形種類にする。これにより、図８（ｂ）に示すように、全てのパターンで分割方向が同じとなる。
【００４７】
（第６の実施形態）
本発明の第６の実施形態として、θ1 付近の角度を有する複数のパターンの場合を例にして説明する。
【００４８】
図８（ａ）に示すように、θ1 に近い角度θe1，θe2，θe3，θe4の角度を持つ４つのパターンが隣接して存在するものとする。ここで、説明を簡単にするために、
θe1＝θe2，θe3＝θe4，｜θe1−θe3｜≒０，０＜θe3＜θ1 ＜θe1＜θ2 
とする。この場合、図８（ｃ）に示すように、パターンによって分割方向が切り替わることになる。
【００４９】
本実施形態ではこれを避けるために、図１２のフローチャートに示すようなしきい値（基準角度θ1 ，θ2 ，θ3 ）の最適化を行う。しきい値に初期値を代入する部分と入力データの各パターンの斜辺の角度を求める部分とデータ全体でのパターンの斜辺の角度の分布を求める部分とこの分布からピークを求め、しきい値がピークにかかるかどうかを判定する部分としきい値がピークにかかる場合に最適値を求め、しきい値に代入する部分を有するプログラムを用いて自動的にしきい値の最適値を行う。
【００５０】
例えば、図８（ａ）に示すようなパターンが一面に配置されているようなある入力データがあるとする。まず、しきい値に初期値を代入する。それぞれ、θ1 ＝tan-1(２)/２，θ2 ＝４５°，θ3 ＝９０°−tan-1(２)/２とする。次に、入力データ中のそれぞれのパターンの斜辺の角度を求め、図９に示すような分布を求める。図９では分布のピークがθ１にかかっているのでこのピークから外れ、最もθ1 の初期値に近い値θ1’を求め、θ1 をθ1’にずらす。ここで、しきい値の初期値からのずらしの許容範囲をαとし、θ1 の初期値とθ1’との差がα以上であるときはθ1 は初期値のままとする。
【００５１】
図８の場合に、θ1’＜θe3，tan-1(２)/２-θ1’≦αとなるようなθ1’が最適値として求められたとすると、θ1 ＝θ1’＜θe3＜θe1＜θ2 ＝４５°となり、全てのパターンが前記図２（ｂ）の分類となる。従って、図８（ｂ）に示すように、全てのパターンで分割方向が同じとなる。
【００５２】
なお、本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施することができる。前述した各実施形態は必ずしも単独で行う必要はなく、複数の実施形態を組み合わせて行うようにしても良い。例えば、第２〜第６の実施形態において、第１の実施形態と同様にスリット分割後の隣接パターンの段差が許容範囲内となるように分割幅を設定することにより、第１の実施形態と同様に描画時間の短縮と共に描画精度の向上をはかることが可能となる。
【００５３】
また実施形態では、設計データから電子ビーム描画データを作成する場合を例に取り説明したが、イオンビーム描画用のデータ作成に適用することも可能である。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】第１の実施形態に係わる描画データ作成方法を説明するためのもので、斜辺の角度と分割方向及び分割図形種との関係を示す図。
【図２】第１の実施形態に係わる描画データ作成方法を説明するためのもので、許容される段差の定義付けを示す図。
【図３】第１の実施形態に係わる描画データ作成方法を説明するためのもので、具体的分割方法を示す図。
【図４】第３の実施形態として、領域分割処理を伴う場合の描画データ作成方法を示す図。
【図５】第２の実施形態として、スケーリング処理を伴う場合の描画データ作成方法を示す図。
【図６】第２実施形態によるスリット分割と従来法によるスリット分割の例を示す図。
【図７】第４の実施形態として、途中で折れ曲がった線に対する描画データ作成方法を示す図。
【図８】第５及び第６の実施形態として、基準角度θ1 付近の角度を有する複数のパターンに対する描画データ作成方法を示す図。
【図９】第６実施形態を説明するためのもので、チップ内でのパターンの角度分布を示す図。
【図１０】従来の問題点を説明するためのもので、斜辺の角度により分割後のパターン段差が変わることを示す図。
【図１１】従来の問題点を説明するためのもので、分割後のパターンの斜辺角度が変化することを示す図。
【図１２】第６の実施形態を説明するためのもので、しきい値の最適化を行うためのフローチャート。
【符号の説明】
【００５５】
１１…斜辺を有するパターン（設計データ）
１２…スリット分割パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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