(57)【要約】【課題】撮像装置の光軸を正確かつ容易に調整することが可能な撮像装置の調整方法、この調整方法に用いる傾き検出治具、および傾き調整装置を提供する。【解決手段】  光学的に検出可能な第１基準マークを有した第１板、およびこの第１板と隙間を置いて平行に対向配置されているとともに、光学的に検出可能な第２基準マークを有した第２板と、を備えた検出治具４０を用意する。検出治具における第１および第２基準マーク間の位置関係を予め測定し、その測定値を基準データとして格納する。測定対象物が水平に載置される載置台１４上に検出治具を載置し、載置台の上方から撮像装置２０により検出治具を撮像する。撮像した画像に基づいて第１および第２基準マークの位置関係を検出して検出データとし、この検出データと基準データとが一致するように、撮像装置の光軸の傾きを調整する。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
測定対象物に対する撮像装置の光軸を調整する撮像装置の調整方法において、
光学的に検出可能な第１基準マークを有した第１板、およびこの第１板と隙間を置いて対向配置されているとともに、光学的に検出可能な第２基準マークを有した第２板と、を備えた検出治具を用意し、
上記第１板の平面基準で第１および第２基準マーク間の水平面での位置関係を予め測定し、その測定値を基準データとして格納し、
上記測定対象物が水平に載置される載置台上に、上記第１および第２板が水平な状態で上記検出治具を載置し、
上記載置台の上方から上記撮像装置により上記検出治具を撮像し、
上記撮像した画像に基づいて上記第１および第２基準マークの位置関係を検出して検出データとし、
上記検出された検出データと上記格納された基準データとが一致するように、上記撮像装置の光軸の傾きを調整することを特徴とする撮像装置の調整方法。
【請求項２】
上記検出治具の第１および第２基準マークは、それぞれピンホールにより形成され、
上記撮像装置により撮像された画像に基づいて、上記第１および第２基準マークの重心位置および重心位置間の位置関係を検出し、上記検出データとすることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置の調整方法。
【請求項３】
上記検出治具の第１板は、第１基準マークとして１つのピンホールを有し、上記第２板は、第２基準マークとして、上記第１基準マークからずれた位置にそれぞれ設けられた複数のピンホールを有し、
上記撮像装置により撮像された画像に基づいて、上記第１および第２基準マークの重心位置および重心位置間の位置関係を検出し、上記検出データとすることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置の調整方法。
【請求項４】
上記検出治具の上記第１および第２基準マークを３次元測定器により測定してその測定データを基準データとし、上記３次元測定器で測定した上記第１および第２基準マークの位置データを上記第１および第２板間の間隔に起因する画素長の校正データとして、上記基準データと、上記撮像装置により撮像された画像に基づいて得られた検出データとの相関をとることを特徴とする請求項１に記載の撮像装置の調整方法。
【請求項５】
請求項１に記載の撮像装置の調整方法に用いる検出治具において、
光学的に検出可能な１つの第１ピンホールが形成された第１板と、
上記第１板と隙間を置いて平行に対向配置されているとともに、光学的に検出可能な複数の第２ピンホールが形成された第２板と、を備え、
上記第２ピンホールは、上記第１ピンホールに対し、上記第１板の表面方向にずれて設けられ、
上記第１板は、それぞれ上記第２ピンホールと対向しているとともに第２ピンホールよりも大きな径を有した複数の第１観察孔を備え、上記第２板は、上記第１ピンホールと対向しているとともに第１ピンホールよりも大きな径を有した第２観察孔を備えていることを特徴とする検出治具。
【請求項６】
平坦な基準面および基準面に貫通形成された検出孔を有したベース基板と、上記基準面上に設けられ第１軸回りでの上記基準面の傾きを検出する第１水準器と、上記基準面上に設けられ上記第１軸と直交した第２軸回りでの上記基準面の傾きを検出する第２水準器と、上記基準面の水平度を調整する水平調整機構と、を備え、
上記第１および第２板は、上記検出孔を間に挟んで上記ベース基板の両面に取付けられていることを特徴とする請求項５に記載の検出治具。
【請求項７】
上記水平調整機構は、それぞれ上記ベース基板にねじ込まれているとともに、上記ベース基板から上記基準面と反対方向に延出した複数の調整ねじを備えていることを特徴とする請求項６に記載の検出治具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、撮像装置を備えた位置測定装置において、撮像装置の光軸の傾きを調整する調整方法、およびこの調整方法に用いる検出治具に関する。
【背景技術】
【０００２】
対象物の位置を測定する方法として、ＣＣＤカメラ等の撮像装置により、アライメントマークなど光学的特徴を有する対象物を撮影し、得られた撮影画像を画像処理装置などで解析することにより対象物の位置を測定する測定方法が知られている。この測定方法は、例えば、露光装置における基板の位置合わせ装置（例えば、特許文献１、特許文献２、特許文献３参照）や、スクリーン印刷装置における位置合わせ装置（例えば、特許文献４）に利用されている。また、この測定方法は、近年開発が盛んに行われている軽量、薄型の表示装置の製造におけて基板の位置合わせを行う装置、例えば、液晶ディスプレイの基板の位置合わせ装置（例えば、特許文献５参照）、あるいは、表示装置用の外容器の位置合わせ装置（例えば、特許文献６参照）などにも利用されている。
【０００３】
近年、上記のような表示装置は、技術開発の進展に伴い高精細化が進み、製造時の位置合わせ対しても、更なる高精度化が求められている。例えば、薄型の表示装置として、電界放出型の電子放出素子から放出された電子ビームにより蛍光体を発光させるフィールドエミッションディスプレイ（以下、ＦＥＤと称する)、表面伝導型電子放出素子の電子ビームにより蛍光体を発光させる表面伝導電子放出ディスプレイ（以下、ＳＥＤと称する)は、通常、所定の隙間を置いて対向配置された前面基板および背面基板を有し、前面基板の内面に形成された蛍光体スクリーンと、背面基板の内面に形成された電子放出源の位置とをマイクロメートル単位で正確に合わせることが求められている。
【０００４】
このような高精度な位置合わせが要求される場合、上記のような撮像装置を用いた測定方法により正確な測定を行うために、測定対象物に対して、撮像装置自体を高い精度で位置調整することが重要となる。特に、測定対象物に対する撮像装置の光軸の垂直度が重要となる。例えば、ＦＥＤやＳＥＤのように、測定対象物としての２枚の基板が所定の隙間をおいて対向配置されている場合、撮像装置の光軸が基板平面に垂直な軸に対し傾斜していると、アライメントマーク等の測定精度に、基板間の隙間の距離と軸傾斜角で一意的に現わされる誤差が発生する。そのため、光軸の調整は高精度で行う事が必要となる。この調整は光軸を直接目で見て確認することが難しく、撮像装置であるカメラとその内部の撮像素子との垂直度など調整が困難な要因を含んでいる。
【０００５】
撮像装置の光軸調整方法としては、（１）正確な光軸調整（傾斜）は行わず、アライメント調整時の測定データと、封着後に専用の測定器を用いて測定したアライメントのズレ量との相関により補正値を設ける方法、（２）アライメント測定済みの基準基板を用いて光軸を調整する方法、（３）プロッタ等で表裏面にマークを設けた治具を用いて光軸を調整する方法、（４）基準ブロックの表裏面に同軸のピンホールを設け、画像処理によりピンホール径を測定することで光軸を調整する方法等がある。
【特許文献１】特開２００２−３３３７２１号公報
【特許文献２】特開２００２−２８８６７８号公報
【特許文献３】特開２００２−５５４５８号公報
【特許文献４】特開２００２−２３４１３１号公報
【特許文献５】特開２００２−２５７５１４号公報
【特許文献６】特開平１０−５５７５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上述した（１）の調整方法では、補正値を決定するのに多大な時間を要し且つ管理が困難となる。上記（２）の調整方法では、アライメント測定済みの基準基板の取扱及び管理が困難となる。上記（３）の調整方法では、治具作成時の表裏反転の段取り替えで表裏面のマーク描画位置に誤差が発生する虞がある。更に、この描画位置誤差を補正するため、表裏面のマークの描画位置を３次元的に測定する事が困難となる。上記（４）の調整方法では、ピンホール加工時の位置誤差および真円度等の形状誤差に代表される加工誤差が、治具を用いた調整時の測定値結果に悪影響を及ぼす。従って、上述した従来の調整方法では、撮像装置の光軸を容易に調整することが困難となる。
【０００７】
この発明は上記の点に鑑みなされたもので、その目的は、撮像装置の光軸を正確かつ容易に調整することが可能な撮像装置の調整方法およびこの調整方法に用いる検出治具を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、この発明の形態に係る撮像装置の調整方法は、測定対象物に対する撮像装置の光軸を調整する撮像装置の調整方法において、光学的に検出可能な第１基準マークを有した第１板、およびこの第１板と隙間を置いて対向配置されているとともに、光学的に検出可能な第２基準マークを有した第２板と、を備えた検出治具を用意し、上記第１板の平面基準で第１及び第２基準マーク間の水平面での位置関係を予め測定し、その測定値を基準データとして格納し、上記測定対象物が水平に載置される載置台上に、上記第１および第２板が水平な状態で上記検出治具を載置し、上記載置台の上方から上記撮像装置により上記検出治具を撮像し、上記撮像した画像に基づいて上記第１および第２基準マークの位置関係を検出して検出データとし、上記検出された検出データと上記格納された基準データとが一致するように、上記撮像装置の光軸の傾きを調整することを特徴としている。
【０００９】
また、上述した撮像装置の調整方法に用いるこの発明の形態に係る検出治具は、光学的に検出可能な１つの第１ピンホールが形成された第１板と、上記第１板と隙間を置いて平行に対向配置されているとともに、光学的に検出可能な複数の第２ピンホールが形成された第２板と、を備え、  
上記第２ピンホールは、上記第１ピンホールに対し、上記第１板の表面方向にずれて設けられ、上記第１板は、それぞれ上記第２ピンホールと対向しているとともに第２ピンホールよりも大きな径を有した複数の第１観察孔を備え、上記第２板は、上記第１ピンホールと対向しているとともに第１ピンホールよりも大きな径を有した第２観察孔を備えていることを特徴としている。
【発明の効果】
【００１０】
この発明によれば、撮像装置の光軸を正確かつ容易に調整することが可能な撮像装置の調整方法およびこの調整方法に用いる検出治具を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下図面を参照しながら、この発明の実施の形態に係るＳＥＤのアライメント調整装置、この調整装置における撮像装置の光軸調整方法、および光軸調整に用いる傾き検出用の検出治具について詳細に説明する。
【００１２】
図１に示すように、ＳＥＤを構成する一対の基板間のアライメントを調整するアライメント調整装置１０は、測定対象物として、ＳＥＤの基板１１が水平に載置される載置台１４、載置台を水平面内で移動させる移動機構１６、ＳＥＤの他方の基板１２を水平に支持する支持機構１８を備えている。基板１１および１２には、アライメントマーク１１ａ、１２ａがそれぞれ設けられている。載置台１４は、基板１１を水平に支持できるように高い精度で調整されている。同様に、支持機構１８は、基板１２を水平に支持できるように高い精度で調整されている。移動機構１６は、例えば、Ｘ−Ｙステージ等により構成されている。
【００１３】
また、アライメント調整装置１０は、載置台１４および支持機構１８の上方に配置された撮像装置としてのカメラ２０、このカメラを支持しているとともにカメラの位置を調整可能なカメラ調整機構２２、載置台１４の下方に配置された照明装置２３、およびカメラによって撮像された画像を処理および格納する画像処理装置として機能する制御部２４を備えている。
【００１４】
カメラ調整機構２２は、ガイドレール３０に沿って水平方向に移動可能な可動台３２と、可動台３２に設けられた回動機構３４とを有している。回動機構３４は、水平面内において互いに直交して延びるＸ軸およびＹ軸の回りでそれぞれ回動自在にカメラ２０を支持している。また、回動機構３４は、Ｘ軸、Ｙ軸の回りでカメラを回動させ、載置台１４上に載置された基板１１に対するカメラ２０の位置調整およびカメラの光軸７を調整することができる。
【００１５】
アライメント調整装置１０により基板１１および１２を互いに位置合わせする場合、図１に示すように、基板１１を載置台１４上に載置するとともに、基板１２を支持機構１８によって水平に支持し基板１１と対向配置する。この状態で、基板１１、１２にそれぞれ設けられたアライメントマーク１１ａ、１２ａをカメラ２０により撮影する。撮像画像を制御部２４の画像処理部によって画像処理し、２枚の基板１１、１２の位置情報を検出する。この位置情報に基づき、アライメントマーク１１ａ、１２ａが一致するように、一方の基板、例えば、基板１１を移動機構１６によって水平方向に移動させ、基板１１および１２間のアライメント調整をおこなう。
【００１６】
アライメント調整装置１０により基板のアライメントマークを正確に測定し、位置合わせを高精度で行う場合、アライメント対象の基板１１および１２の表面に対して、カメラ２０の光軸７を高い精度で垂直に調整する必要がある。  
そこで、本実施の形態によれば、アライメント調整に先立ち、以下の工程によりカメラ２０の光軸７を調整する。ます、図２に示すように、測定対象となる基板の代わりに、例えば、アルミニウム等の平板からなる測定板３８を載置台１４上に載置する。続いて、検出治具４０を測定板３８上に載置する。
【００１７】
図３および図４に示すように、検出治具４０は矩形板状のベース基板４２を備え、このベース基板４２の両面は平坦に形成され、一方の表面は基準面４４を形成している。基準面４４上には、ベース基板４２の長辺と平行に延びた第１水準器４６、およびベース基板の短辺と平行に延びた第２水準器４７が設けられている。第１水準器４６は、ベース基板４２の短辺と平行な軸、例えば、Ｙ軸回りの基準面４４の傾きを検出する。第２水準器４７は、ベース基板４２の長辺と平行な軸、例えば、Ｙ軸と直交するＸ軸回りの基準面４４の傾きを検出する。
【００１８】
ベース基板４２には、水平調整機構として、例えば３本の高さ調整ねじ４８が設けられている。これらの高さ調整ねじ４８はベース基板４２の３箇所に離間して配置されている。各高さ調整ねじ４８は、基準面４４側からベース基板４２にねじ込まれ、その下端はベース基板から下方に突出している。そして、高さ調整ねじ４８のねじ込み量を調整して、ベース基板４２からの高さ調整ねじの突出量を調整することにより、ベース基板の傾きを調整し、基準面４４を水平に合わせることができる。
【００１９】
ベース基板４２には例えば円形の検出孔４９が貫通形成され、この検出孔４９を挟んで、ベース基板の基準面４４および反対面に前面板５０および背面板５２がねじ止めされている。検出孔４９、前面板５０、および背面板５２は検出部５１を構成している。
【００２０】
図３ないし図７に示すように、前面板５０には、光学的に検出可能な基準マークとして１個のピンホール５４ａ、１個の方向確認孔５５、およびピンホール５４ａの周囲に位置した４個の観察孔５６が形成されている。各観察孔５６はピンホール５４ａに対して充分に大きな径に形成されている。前面板５０は、これらピンホール５４ａ、方向確認孔５５、および観察孔５６が検出孔４９と対向した状態で基準面４４上に固定されている。
【００２１】
背面板５２には、１個の観察孔６０、１個の方向確認孔６２、および観察孔６０の周囲に位置した４個のピンホール６４ａが形成されている。光学的に検出可能な基準マークとして設けられた各ピンホール６４ａは前面板５０のピンホール５４ａとほぼ等しい径に形成されている。観察孔６０は前面板５０側の観察孔５６とほぼ等しい径を有し、各ピンホール６４ａに対して充分に大きな径に形成されている。背面板５２は、観察孔６０、方向確認孔６２、および４個のピンホール６４ａが検出孔４９と対向した状態で基準面４４上に固定されている。
【００２２】
これにより、前面板５０および背面板５２は所定の隙間を置いて平行に対向している。背面板５２は、方向確認孔５５が前面板側の方向確認孔６２と互いに整列した状態で配置されている。また、背面板５２は、各観察孔６０が前面板５０のピンホール５４ａとほぼ同軸的に対向した状態で、更に、４個のピンホール６４ａが前面板の観察孔５６とそれぞれほぼ同軸的に対向した状態で、ベース基板４２の背面に固定されている。  
方向確認孔５５、６２は、後述するように、ピンホールの検出データと検出治具の基準データとを比較する際、検出治具４０の向きを確認し、誤りがないように設けられている。
【００２３】
上記のように構成された検出治具４０については、前面板５０および背面板５２をベース基板４２に固定した状態で、図示しない３次元測定器により、ピンホール５４ａ、６４ａの位置関係を位置データとして予め測定する。すなわち、前面板５０の平面を平面基準とし、加工誤差によって生じる傾斜角を有した背面板５２の平面上に形成されたピンホール６４ａの位置を、前面板５０を水平面とした平面に投影した位置とし計算し、ピンホール５４ａと６４ａの位置関係を平面内の位置データとして測定し、制御部２４に格納しておく。より詳細には、図７に示すように、前面板５０に形成された１個のピンホール５４ａの重心位置Ｃ１と、背面板５２に形成された例えば２個のピンホール６４ａの重心間の中間位置Ｃ２との位置関係を示す位置データとして、前面板５０の平面でのＸ軸方向に沿ったＣ１、Ｃ２間の距離Ｄ１、Ｙ軸方向に沿ったＣ１、Ｃ２間の距離Ｄ２、を測定しておく。そして、距離Ｄ１、Ｄ２の実測値を基準データとして制御部２４に格納する。
【００２４】
このように構成された検出治具４０を測定板３８上に載置した後、調整ねじ４８により基準面４４を水平に調整する。この際、３本の調整ねじ４８は検出治具の脚として機能し、検出治具を支持する。カメラ２０の光軸の傾きを調整する基準は、カメラで撮影するＳＥＤの背面基板１１および前面基板１２の基板表面となる。載置台１４に載置された背面基板１１および前面基板１２の基板表面は高い精度で水平となるため、カメラ２０の光軸調整時、検出治具４０の基準面４４も水平に調整する必要がある。ここで、背面基板１１の代わりに載置台１４上に載置されている測定板３８の表面は完全に水平でない虞もある。そこで、検出治具４０の第１および第２水準器４６、４７を見ながら調整ねじ４８を調整し、基準面４４が水平となるようにベース基板４２を調整する。
【００２５】
続いて、カメラ２０を検出治具４０の検出部５１の上方に位置決めするとともに、照明装置２３により検出治具４０を下から照明する。なお、測定板３８には、照明装置２３からの照明光を通す開口が形成されている。この状態で、カメラ２０によって検出部５１を上方から撮像し、その画像を制御部２４に送る。制御部２４は、送られてきた画像を処理し、前面板５０および背面板５２に設けられたピンホール５４ａ、６４ａの画像から、これらピンホールの重心位置、位置関係、距離Ｄ１、Ｄ２を計算する。制御部２４は、計算結果を検出データとして格納するとともに、予め３次元測定器により測定されたピンホールの基準データと比較する。比較の結果、これらの位置データが相違している場合、カメラ２０の光軸７の傾きに起因した誤差が生じていることが分かる。すなわち、光軸７が垂直軸に対して傾いていることが分かる。そして、位置データの相違量が少なくなるように、光軸７の調整を行い、再び撮影、画像処理、調整を繰り返す。光軸７の調整は、回動機構３４によってカメラ２０をＸ軸、Ｙ軸の回りで回動さることにより行う。
【００２６】
以上の工程により、カメラ２０の光軸７を容易に、かつ、高い精度で調整することが可能となる。カメラ２０の光軸７を測定対象物の表面に対して垂直に調整することにより、アライメント調整装置１０による基板１１および１２の位置合せを高い精度で行うことができる。これにより、表示性能に優れたＳＥＤを製造することが可能となる。
【００２７】
以上のように構成されたアライメント調整装置、光軸調整方法、および検出治具によれば、撮像装置としてのカメラ自身で撮像した画像に基づいてカメラの光軸調整を行う事で、撮像装置の外形または取付け部を基準として調整した場合に生じる、撮像素子と撮像装置ケーシング部の組み付け誤差の影響を無くす事ができる。
【００２８】
検出治具においては、測定の基準となるマークを円形状のピンホールとし、ピンホールの重心位置を画像処理により求めることで、その形状が歪んでいる場合でも、一意的にマークの示す位置を数値化でき、またその位置検出精度も向上させることができる。
【００２９】
検出治具において、対向配置された前面板および背面板の少なくとも一方の板に複数個のピンホールが形成され、他方の板には、これらのピンホールと重ならない位置に少なくとも１つの他のピンホールが形成されている。各々の板のピンホールに対向する位置には、ピンホールの像がカメラで撮像できる様に十分大きな観察孔が形成されている。これにより、例えば前面板に形成された１個のピンホールに対応する像の重心位置Ｃ１と、後面板に形成された２つのピンホールに対応する像の重心間距離の中間位置Ｃ２とを比較する事で、個々のピンホールの位置誤差、形状誤差による像のケラレの影響を無くす事ができる。
【００３０】
なお、片側のピンホールの重心位置Ｃ１と、反対側のピンホールの重心間距離の中間位置Ｃ２とが一致するように調整することで、画素長は複数個のピンホール側に合わせることができる。また、重心間距離の中間位置Ｃ２を所定の位置、すなわち片側のピンホールの重心位置Ｃ１に合わせる事で、前面板と背面板との間隔に起因する画素長差の影響を軽減する事ができる。このとき、加工誤差により、片側のピンホールの重心位置Ｃ１と、反対側のピンホールの重心間距離の中間位置Ｃ２とにズレが発生し、このズレ量は画素長誤差の影響を受けるが、そのズレ量が小さいため測定精度への影響は極めて小さく管理することができる。
【００３１】
また、撮像装置で撮影された画像の画素長を、測定器で測定した検出治具のピンホール間ピッチのデータにより校正する事で、検出治具の基準データと撮像装置を用いた画像処理による検出データとの相関を取り、定量的に光軸の傾斜状態を把握する事ができ、且つ、画像処理を用いた測定系の管理も可能となる。
【００３２】
検出治具の前面板および後面板に記す基準マークの位置は、描画装置の描画精度／段取り替え精度、または加工精度の影響で誤差が発生する。このズレ量が誤差範囲に収まらない場合、そのズレ量を予め認識し、検出治具の基準データとしてフィードバックする必要がある。フォトプロッタや印刷技術で基準マークを描画した場合、その位置を３次元的に測定するには、誤差要因が多く含まれ、精度の高い測定が困難となる。本実施形態によれば、検出治具の基準マークを機械的に加工されたピンホールとする事で、それぞれの孔位置を測定器を用いて測定し、３次元データで測定する事が可能になる。光軸調整時は、このデータ付き治具を用い、ズレ量に合う様に調整する事で治具の誤差を軽減する事が可能となる。
【００３３】
なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。
【００３４】
例えば、上述した実施の形態では、調整対象としてＳＥＤを構成する基板のアライメント調整装置を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限らず、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイパネルのアライメント調整装置、あるいは露光装置等の他の装置における光軸調整にも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】この発明の実施形態に係るアライメント調整装置を示す側面図。
【図２】上記アライメント調整装置に載置台上に検出治具を載置した状態を示す側面図。
【図３】上記検出治具の平面図。
【図４】上記検出治具を一部破断して示す側面図。
【図５】上記検出治具の前面板および背面板を示す平面図。
【図６】上記検出治具の検出部を示す断面図。
【図７】上記検出部の平面図。
【符号の説明】
【００３６】
１０…アライメント調整装置、  １１…前面基板、  １２…背面基板、
１４…載置台、  １６…移動機構、  １８…支持機構、
２０…カメラ、  ２４…制御部、  ３４…回動機構、  ４０…検出治具、
４４…基準面、  ４６…第１水準器、  ４７…第２水準器、
５０…前面板、  ５１…検出部、  ５２…背面板、
５４ａ、６４ａ…ピンホール、  ５６、６０…観察孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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