(57)【要約】【課題】  優れた耐熱性、光学特性及び力学特性を有する樹脂組成物、及び該樹脂組成物を用いた透明導電フィルム基板、ＴＦＴ基板、液晶表示用基板、有機ＥＬ表示用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板、光ディスク基板、光導波路、光ファイバー、レンズ、タッチパネルなどの光学部品、光学フィルム、並びに前記光学フィルム基板を基板として用いたフラットパネルディスプレイの提供。【解決手段】  下記一般式（１）で表される化学構造をポリマーの主鎖に含有する。  【化１】2005225997.tif 000028  一般式（１）中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ5、Ｒ6はそれぞれ独立に置換基を表し、ｍ、ｎはそれぞれ０〜４の整数を表す。ｍ及び／又はｎが２以上である場合、Ｒ5及び／又はＲ6は同一であっても異なっていてもよく、さらにはこれらが互いに結合して５〜７員の環を形成していてもよい。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される化学構造をポリマーの主鎖に含有する樹脂組成物。
【化１】
2005225997.tif 000024
但し、一般式（１）で表わされる化学構造は、任意の水素原子を２個取り去り、その位置にポリマーの主鎖がそれぞれ結合され、一般式（１）中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ5、Ｒ6はそれぞれ独立に置換基を表す。ｍ、ｎはそれぞれ０〜４の整数を表し、ｍ及び／又はｎが２以上である場合、Ｒ5及びＲ6は同一であっても異なっていてもよく、Ｒ5どうし又はＲ6どうしが互いに結合して５〜７員環を形成していてもよい。
【請求項２】
下記一般式（２）で表される繰り返し単位を含有することを特徴とする樹脂組成物。
【化２】
2005225997.tif 000025
一般式（２）中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ5、Ｒ6はそれぞれ独立に置換基を表す。Ｌ1、Ｌ2は２価の連結基を表しｑ、ｒはそれぞれ０又は１であり、ｊ、ｋはそれぞれ０〜３の整数を表す。ｊ及び／又はｋが２以上である場合、Ｒ5及びＲ6は同一であっても異なっていてもよく、Ｒ5どうし又はＲ6どうしが互いに結合して５〜７員環を形成していてもよい。また、Ｌ1とＲ5及び／又はＬ2とＲ6は、互いに結合して５〜７員環を形成していてもよい。Ａは下記一般式（３）〜（９）で表される２価の基から選ばれる少なくとも１種である。
【化３】
2005225997.tif 000026
一般式（３）〜（９）中、Ｔは２価の有機基を表し、Ｙは４価の有機基を表す。Ｒ7はそれぞれ独立に水素原子、又は置換基を表わし、Ｒ7どうしで互いに環を形成していてもよい。また、一般式（２）で表される繰り返し単位は、互いに異なる複数種の組み合わせたものであってもよい。
【請求項３】
前記一般式（２）のＲ5、Ｒ6が、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の脂肪族基、炭素数６〜２０の芳香族基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及び炭素数１〜１０のアシルアミノ基からなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１又は２に記載の樹脂組成物。
【請求項４】
下記一般式（１０）で表される繰り返し単位をさらに有する請求項２に記載の樹脂組成物。
【化４】
2005225997.tif 000027
一般式（１０）中、Ａは前記一般式（３）〜（９）で表わされる２価の基から選ばれる少なくとも１種であり、Ｂは２価の有機基を表し、樹脂組成物中における前記一般式（１０）で表される繰り返し単位のモル百分率をsとした場合、０＜s＜１００モル％である。
【請求項５】
前記一般式（１）又は（２）のＲ1〜Ｒ4が水素原子である請求項１〜４のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
【請求項６】
前記一般式（２）のｑ及びｒが０である請求項２〜５のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
【請求項７】
ガラス転移点温度が２００℃以上である請求項１〜６のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
【請求項８】
前記樹脂が、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、及びポリアミドイミド樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項２〜７のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の樹脂組成物を含有してなる光学部品。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか一項に記載の樹脂組成物を含有してなる光学フィルム。
【請求項１１】
少なくとも片面にガスバリア層が積層されている請求項１０に記載の光学フィルム。
【請求項１２】
少なくとも片面に透明導電層がさらに積層されている請求項１０又は１１に記載の光学フィルム。
【請求項１３】
請求項１２に記載の光学フィルムを基板として用いたことを特徴とするフラットパネルディスプレイ。
【請求項１４】
表示デバイスが液晶ディスプレイ又は有機エレクトロルミネッセンスディスプレイである請求項１３に記載のフラットパネルディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特定の繰り返し単位を含有する樹脂組成物、及びそれを用いた光学部品、光学フィルム、フラットパネルディスプレイに関する。より詳しくは、本発明は、耐熱性、光学特性、力学特性等に優れた樹脂組成物、並びに該樹脂組成物を用いた透明導電フィルム基板、ＴＦＴ基板、液晶表示用基板、有機エレクトロルミネッセンス（以下「有機ＥＬ」という）表示用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板、光ディスク基板、光導波路、光ファイバー、レンズ、タッチパネルなどの光学部品、光学フィルム及びフラットパネルディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
無機ガラスは、透明性及び耐熱性に優れ、かつ光学異方性も小さいことから、透明材料として広く使用されている。しかし、無機ガラスは比重が大きく、かつ脆いため、成型されたガラス基板は重く、破損しやすい等の欠点を有していた。このような事情から、近年、無機ガラス材料に替わるプラスチック材料の開発が盛んに行われている。
【０００３】
こうした無機ガラスの代替を目的としたプラスチック材料として、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート等が知られている。これらのプラスチック材料は、軽量かつ力学特性に優れ、加工性にも優れるという特徴を有することから、種々の用途、例えばレンズやフィルムなどに使用されている。
【０００４】
一方、液晶表示素子等のフラットパネルディスプレイ分野においても、耐破損性の向上、軽量化、薄型化のニーズがあることから、基板をガラスからプラスチックに置き換えることが検討されている。特に、携帯電話、電子手帳、ラップトップ型パソコン等の携帯情報端末における移動型情報通信機器用表示装置としてのニーズが特に高い。
【０００５】
この目的に使用されるプラスチック基板としては耐熱性のある非晶ポリマー、例えば、変性ポリカーボネート（変性ＰＣ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、シクロオレフィンコポリマーに透明導電層、ガスバリア層を積層したものが知られている。これらは、電極基板として使用する場合、透明導電膜を形成した後に、液晶層を配向させるためのポリイミド膜を高温下で製膜する必要があるため、前記プラスチック基板として用いられるものである。しかし、このような耐熱性プラスチックを用いた場合であっても十分な耐熱性は得られていなかった。
【０００６】
さらに、従来のプラスチックフィルム基板は、光学特性面がガラス基板より劣る。すなわち、ガラスは本質的に光学等方的であるという特性を有するが、プラスチックは製膜条件と樹脂特有の光学弾性係数から、フィルム形状に成形された場合、分子配向に起因する複屈折を発生する。基板として用いられるプラスチックフィルムに複屈折があると、表示の着色・コントラストの低下等、ディスプレイの表示品位の著しい低下をもたらす。したがって、プラスチックフィルム基板は、光学的等方性が要求され、かつ耐熱性を満足しなければならない。
【０００７】
このような光学特性上の問題を解決する一つの方法として、スピロビインダンジオールのようなスピロ化合物を用いた低複屈折性ポリカーボネートが開発されている（例えば、特許文献１参照）。しかし、このポリカーボネートは低複屈折性ではあるが力学特性が著しく悪く、成型して得られるフィルムは脆く、実用面で問題があった。
【０００８】
さらに、上記スピロビインダンを用いて得られたプラスチック基板で問題とされていた力学特性を改善する方法として、エチレンオキシ連結基を導入したスピロビインダンによる共重合ポリカーボネート（例えば、特許文献２参照）や、特定のジオール成分と共重合した共重合ポリカーボネート（例えば、特許文献３参照）などが開発されている。しかし、力学特性は未だ不十分であり、光学特性の悪化や耐熱性が低下するなどの問題があった。
【０００９】
したがって、これまでに提案されてきたプラスチック材料の問題点を解決し、高い耐熱性を有し、かつ力学特性や光学特性を十分に満足するプラスチック材料の開発が強く望まれていた。
【特許文献１】特開昭６３−３１４２３５号公報（特許請求の範囲）
【特許文献２】特開平１１−２６３８３３号公報（特許請求の範囲、［０００５］）
【特許文献３】特開２０００−２８１８８８号公報（特許請求の範囲、［０００７］）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の従来のプラスチック材料の問題点を解消するためになされたものであり、本発明の第一の目的は、優れた耐熱性、光学特性及び力学特性等を有する樹脂組成物を提供することにある。
【００１１】
また、本発明の第二の目的は、前記樹脂組成物を用いた、透明導電フィルム基板、ＴＦＴ基板、液晶表示用基板、有機ＥＬ表示用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板、光ディスク基板、光導波路、光ファイバー、レンズ、タッチパネルなどの光学部品、光学フィルム、並びに前記光学フィルム基板を基板として用いたフラットパネルディスプレイを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、前記課題を解決するため、プラスチック材料を鋭意検討した結果、３，３，３'，３'位が水素原子であるスピロビインダン構造をポリマーの主鎖に含有してなる樹脂組成物によって上記の問題が解決でき、かつ得られた樹脂組成物が耐熱性、光学特性、力学物性等をすべて満足することを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１３】
すなわち、本発明の第一の目的は、以下の樹脂組成物により達成される。
（１）  下記一般式（１）で表される化合物をポリマーの主鎖に含有する樹脂組成物。
【００１４】
【化１】
2005225997.tif 000002
【００１５】
一般式（１）で表わされる化学構造は、任意の水素原子を２個取り去り、その位置にポリマーの主鎖がそれぞれ結合される。一般式（１）中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ5、Ｒ6はそれぞれ独立に置換基を表し、ｍ、ｎはそれぞれ０〜４の整数を表す。ｍ及び／又はｎが２以上である場合、Ｒ5及びＲ6は同一であっても異なっていてもよく、Ｒ5どうし又はＲ6どうしが互いに結合して５〜７員環を形成していてもよい。
（２）  下記一般式（２）で表される繰り返し単位を含有することを特徴とする樹脂組成物。
【００１６】
【化２】
2005225997.tif 000003
【００１７】
一般式（２）中、Ｒ1〜Ｒ4はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、Ｒ5、Ｒ6はそれぞれ独立に置換基を表す。Ｌ1、Ｌ2は２価の連結基を表しｑ、ｒはそれぞれ０又は１であり、ｊ、ｋはそれぞれ０〜３の整数を表す。ｊ及び／又はｋが２以上である場合、Ｒ5及びＲ6は同一であっても異なっていてもよく、Ｒ5どうし又はＲ6どうしが互いに結合して５〜７員環を形成していてもよい。また、Ｌ1とＲ5及び／又はＬ2とＲ6は、互いに結合して５〜７員環を形成していてもよい。Ａは下記一般式（３）〜（９）で表される２価の基から選ばれる少なくとも１種である。
【００１８】
【化３】
2005225997.tif 000004
【００１９】
一般式（３）〜（９）中、Ｔは２価の有機基を表し、Ｙは４価の有機基を表す。Ｒ7はそれぞれ独立に水素原子、又は置換基を表わし、Ｒ7どうしで互いに環を形成していてもよい。また、一般式（２）で表される繰り返し単位は、互いに異なる複数種の組み合わせたものであってもよい。
（３）  前記一般式（２）のＲ5、Ｒ6が、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の脂肪族基、炭素数６〜２０の芳香族基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及び炭素数１〜１０のアシルアミノ基からなる群から選ばれる少なくとも１種である（１）又は（２）に記載の樹脂組成物。
（４）  下記一般式（１０）で表される繰り返し単位をさらに有する請求項２に記載の樹脂組成物。
【００２０】
【化４】
2005225997.tif 000005
【００２１】
一般式（１０）中、Ａは前記一般式（３）〜（９）で表わされる２価の基から選ばれる少なくとも１種であり、Ｂは２価の有機基を表し、樹脂組成物中における前記一般式（１０）で表される繰り返し単位のモル百分率をｓとした場合、０＜s＜１００モル％である。
（５）  前記一般式（１）又は（２）のＲ1〜Ｒ4が水素原子である（１）〜（４）のいずれかに記載の樹脂組成物。
（６）  前記一般式（２）のｑ及びｒが０である（２）〜（５）のいずれかに記載の樹脂組成物。
（７）  ガラス転移点温度が２００℃以上である（１）〜（６）のいずれかに記載の樹脂組成物。
（８）  前記樹脂が、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、及びポリアミドイミド樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種である（１）〜（７）のいずれかに記載の樹脂組成物。
【００２２】
また、本発明の第二の目的は、以下の光学部品、光学フィルム及びフラットパネルディスプレイにより達成される。
（９）  （１）〜（８）のいずれかに記載の樹脂組成物を含有してなる光学部品。
（１０）  （１）〜（８）のいずれかに記載の樹脂組成物を含有してなる光学フィルム。
（１１）  少なくとも片面にガスバリア層が積層されている（１０）に記載の光学フィルム。
（１２）  少なくとも片面に透明導電層がさらに積層されている（１０）又は（１１）に記載の光学フィルム。
（１３）  （１２）に記載の光学フィルムを基板として用いたことを特徴とするフラットパネルディスプレイ。
（１４）  表示デバイスが液晶ディスプレイ又は有機エレクトロルミネッセンスディスプレイである請求項１３に記載のフラットパネルディスプレイ。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、耐熱性、光学特性、力学特性等に優れた樹脂組成物を提供できる。また、本発明の樹脂を用いれば、耐熱性、光学特性、力学特性を兼ね備えた透明導電フィルム基板、ＴＦＴ基板、液晶表示用基板、有機ＥＬ表示用基板、光導波路、光ファイバー、光ディスク基板、太陽電池用基板、レンズ、タッチパネルなどの光学部品、及びプラスチックフィルム基板、特に透明導電膜の製膜後に力学的な応力を加えた後や、配向膜、ガスバリア膜などを付与しても導電性が低下せず、力学的な特性に優れた表示素子用フィルム基板やフラットパネルディスプレイを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下に、本発明の樹脂組成物、光学部品、光学フィルム及びフラットパネルディスプレイについて説明する。
なお、本明細書において「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味として使用される。
【００２５】
［樹脂組成物］
本発明の樹脂組成物は、下記一般式（１）で表わされる化合物をポリマーの主鎖に含有している。
【００２６】
【化５】
2005225997.tif 000006
【００２７】
一般式（１）で表される化学構造は、任意の水素原子を２個取り去り、その位置にポリマーの主鎖がそれぞれ結合した状態でポリマー中に含有される。一般式（１）で表される化学構造において、ポリマーの主鎖に結合される位置は特に限定されないが、好ましくはそれぞれ異なった芳香族基に結合されることが好ましい。
【００２８】
一般式（１）中、Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。置換基は、好ましくはハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、アルキル基（好ましくは炭素数１〜３０のアルキル基であり、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基又は２−エチルヘキシル基など）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルキル基であり、例えば、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基など）、ビシクロアルキル基（好ましくは炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルキル基、すなわち炭素数５〜３０のビシクロアルカンから水素原子を一個取り去った一価の基であり、例えば、ビシクロ［１，２，２］ヘプタン−２−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクタン−３−イル基など）、
【００２９】
アルケニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基など）、シクロアルケニル基（好ましくは炭素数３〜３０の置換又は無置換のシクロアルケニル基、すなわち炭素数３〜３０のシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基であり、例えば、２−シクロペンテン−１−イル基、２−シクロヘキセン−１−イル基など）、ビシクロアルケニル基（置換又は無置換のビシクロアルケニル基であり、好ましくは炭素数５〜３０の置換又は無置換のビシクロアルケニル基、すなわち二重結合を一個持つビシクロアルケンの水素原子を一個取り去った一価の基であり、例えば、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−１−イル基、ビシクロ［２，２，２］オクト−２−エン−４−イル基など）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキニル基であり、例えば、エチニル基、プロパルギル基など）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基など）、ヘテロ環基（好ましくは５又は６員の置換又は無置換の、芳香族若しくは非芳香族のヘテロ環化合物から一個の水素原子を取り除いた一価の基であり、さらに好ましくは炭素数３〜３０の５員若しくは６員の芳香族のヘテロ環基であり、例えば、２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基など）、
【００３０】
シアノ基、ヒドロキシル基、ニトロ基、カルボキシル基、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基など）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールオキシ基であり、例えば、フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−tert−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基など）、シリルオキシ基（好ましくは炭素数３〜２０のシリルオキシ基であり、例えば、トリメチルシリルオキシ基、tert−ブチルジメチルシリルオキシ基など）、ヘテロ環オキシ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環オキシ基であり、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基などである。）、アシルオキシ基（好ましくはホルミルオキシ基、炭素数２〜３０の置換又は無置換のアルキルカルボニルオキシ基、炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールカルボニルオキシ基であり、例えば、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基など）、カルバモイルオキシ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイルオキシ基であり、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルアミノカルボニルオキシ基、Ｎ−ｎ−オクチルカルバモイルオキシ基など）、アルコキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルオキシ基であり、例えば、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、tert−ブトキシカルボニルオキシ基、ｎ−オクチルカルボニルオキシ基など）、アリールオキシカルボニルオキシ基（好ましくは炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルオキシ基であり、例えば、フェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−メトキシフェノキシカルボニルオキシ基、ｐ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェノキシカルボニルオキシ基など）、
【００３１】
アミノ基（好ましくはアミノ基、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルアミノ基、又は炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアニリノ基であり、例えば、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基など）、アシルアミノ基（好ましくはホルミルアミノ基、炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニルアミノ基、又は炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニルアミノ基であり、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基など）、アミノカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換又は無置換のアミノカルボニルアミノ基であり、例えば、カルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ基、モルホリノカルボニルアミノ基など）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、tert−ブトキシカルボニルアミノ基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ基、Ｎ−メチルーメトキシカルボニルアミノ基など）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェノキシカルボニルアミノ基、ｐ−クロロフェノキシカルボニルアミノ基、ｍ−ｎ−オクチルオキシフェノキシカルボニルアミノ基など）、スルファモイルアミノ基（好ましくは、炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイルアミノ基であり、例えば、スルファモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ基、Ｎ−ｎ−オクチルアミノスルホニルアミノ基など）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニルアミノ基、又は炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニルアミノ基であり、例えば、メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基など）、メルカプト基、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜３０の置換又は無置換のアルキルチオ基であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基など）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換又は無置換のアリールチオ基であり、例えば、フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基など）、ヘテロ環チオ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のヘテロ環チオ基であり、例えば、２−ベンゾチアゾリルチオ基、１−フェニルテトラゾール−５−イルチオ基など）、
【００３２】
スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜３０の置換又は無置換のスルファモイル基であり、例えばＮ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ'−フェニルカルバモイル）スルファモイル基など）、スルホ基、アルキル及びアリールスルフィニル基（好ましくは炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルスルフィニル基又は炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールスルフィニル基であり、例えばメチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基、ｐ−メチルフェニルスルフィニル基など）、
【００３３】
アルキル及びアリールスルホニル基（好ましくは炭素数１〜３０の置換若しくは無置換のアルキルスルホニル基又は炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールスルホニル基であり、例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニル基など）、アシル基（好ましくはホルミル基、炭素数２〜３０の置換若しくは無置換のアルキルカルボニル基、又は炭素数７〜３０の置換若しくは無置換のアリールカルボニル基であり、例えばアセチル基、ピバロイルベンゾイル基など）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜３０の置換又は無置換のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェノキシカルボニル基、ｏ−クロロフェノキシカルボニル基、ｍ−ニトロフェノキシカルボニル基、ｐ−tert−ブチルフェノキシカルボニル基など）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換アルコキシカルボニル基であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル基など）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜３０の置換又は無置換のカルバモイル基であり、例えば、カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基など）、アリール及びヘテロ環アゾ基（好ましくは炭素数６〜３０の置換若しくは無置換のアリールアゾ基又は炭素数３〜３０の置換若しくは無置換のヘテロ環アゾ基であり、例えば、フェニルアゾ基、ｐ−クロロフェニルアゾ基、５−エチルチオ−１，３，４−チアジアゾール−２−イルアゾ基など）、イミド基（好ましくはＮ−スクシンイミド基又はＮ−フタルイミド基）、ホスフィノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィノ基であり、例えば、ジメチルホスフィノ基、ジフェニルホスフィノ基、メチルフェノキシホスフィノ基など）、ホスフィニル基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニル基であり、例えば、ホスフィニル基、ジオクチルオキシホスフィニル基、ジエトキシホスフィニル基などである。）、ホスフィニルオキシ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルオキシ基であり、例えば、ジフェノキシホスフィニルオキシ基、ジオクチルオキシホスフィニルオキシ基など）、ホスフィニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜３０の置換又は無置換のホスフィニルアミノ基であり、例えば、ジメトキシホスフィニルアミノ基、ジメチルアミノホスフィニルアミノ基など）、シリル基（好ましくは炭素数３〜３０の置換又は無置換のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、フェニルジメチルシリル基など）を表わす。
【００３４】
上記置換基のうち、水素原子を有するものは、水素原子を取り去りさらに上記の基で置換されていてもよい。そのような官能基の例としては、アルキルカルボニルアミノスルホニル基、アリールカルボニルアミノスルホニル基、アルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基などが挙げられる。具体的には、メチルスルホニルアミノカルボニル基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノカルボニル基、アセチルアミノスルホニル基、ベンゾイルアミノスルホニル基などが挙げられる。
【００３５】
上記のＲ1〜Ｒ4の置換基のうち、好ましくは水素原子、アルキル基又はアリール基であり、特に好ましくは水素原子である。
【００３６】
一般式（１）において、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立に置換基を表し、好ましい例としては、Ｒ1〜Ｒ4で列記した置換基を挙げることができる。好ましくは、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、カルボキシル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、シアノ基、ニトロ基及びアシルアミノ基からなる群から選ばれる１種である。ｍ、ｎは、それぞれ独立に０〜４の整数であり、さらに好ましくは０又は１である。ｍ及び／又はｎが２〜４である場合、Ｒ5及びＲ6は同一であっても異なっていてもよく、さらにＲ5又はＲ6どうしが互いに結合して５〜７員環を形成していてもよい。
【００３７】
本発明の樹脂組成物中に含まれる上記一般式（１）で表わされる化学構造は、５〜１００モル％であることが適当であり、１０〜１００モル％であることが好ましく、２０〜１００モル％であることがさらに好ましい。
【００３８】
本発明の樹脂組成物は、下記一般式（２）で表される繰返し単位から構成される。
【００３９】
【化６】
2005225997.tif 000007
【００４０】
一般式（２）中、Ｒ1〜Ｒ6は、上記一般式（１）で列記したものと同一であることができる。Ｌ1、Ｌ2は２価の連結基を表し、連結基の例としては、例えばエーテル基、チオエーテル基、イミノ基、カルボニル基、カルボニルオキシ基、オキシカルボニル基、カルボニルイミノ基、イミノカルボニル基、スルホン基、炭素数４０以下の２価の飽和脂肪族炭化水素基、飽和脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、飽和複素環基、不飽和複素環基などが挙げられ、これらはＲ1〜Ｒ4で列記した置換基を有していてもよい。また、これら連結基が複数連結し、一つの連結基を形成していてもよい。Ｌ1、Ｌ2の連結する位置はインダン骨格の４〜７位のいずれに連結してもよいが、好ましくは５位または６位に連結することが好ましい。Ｒ5、Ｒ6は芳香環のいずれの位置に置換してもよく、好ましくはＬ1、Ｌ2のオルト位で置換されていることが好ましい。
【００４１】
一般式（２）において、ｑ、ｒはそれぞれ０又は１であり、好ましくはｑ＝ｒ＝０である。また、ｊ、ｋはそれぞれ０〜３の整数を表し、好ましくは０〜２の整数である。ｊ及びｋが２又は３である場合、Ｒ5及びＲ6は同一であっても異なっていてもよく、さらにはＲ5及びＲ6どうしが互いに結合して５〜７員環を形成していてもよい。また、Ｌ1とＲ5及び／又はＬ2とＲ6が互いに結合して５〜７員環を形成していてもよい。
【００４２】
一般式（２）のＡは、一般式（３）〜（９）で表される２価の基から選ばれる。一般式（４）〜（９）中、Ｔは２価の有機基を表し、Ｙは４価の有機基を表す。Ｔの例としては、好ましくは炭素数４０以下の２価の飽和脂肪族炭化水素基、飽和脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、飽和複素環基又は不飽和複素環基が挙げられ、これらは一般式（１）のＲ1〜Ｒ4で記載した置換基を有していてもよい。また、上記Ｌ1及びＬ2で記載した連結基が複数連結し、一つの２価有機基を形成していてもよい。Ｒ7は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、置換基の例としては、一般式（１）のＲ1〜Ｒ4で記載した置換基と同一のものが挙げられ、好ましくは水素原子、アルキル基又はアリール基である。またＹの例としては、好ましくは炭素数４０以下の４価の飽和脂肪族炭化水素基、飽和脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基、飽和複素環基又は不飽和複素環基が挙げられ、これらは一般式（１）のＲ1〜Ｒ4で記載した置換基を有していてもよい。ここで、これら４価の有機基における４個の結合部位は、２個ずつ２組に分けられ、各組の２個の結合部位が隣り合う炭素上に存在することが好ましい。
【００４３】
本発明の樹脂組成物中に含まれる上記一般式（２）で表わされる繰り返し単位のモル数は、５〜１００モル％であることが適当であり、１０〜１００モル％であることが好ましく、２０〜１００モル％であることがさらに好ましい。
【００４４】
本発明の樹脂組成物は、さらに下記一般式（１０）で表わされる繰り返し単位を有することができる。
【００４５】
【化７】
2005225997.tif 000008
【００４６】
一般式（１０）中、Ａは一般式（２）のものと同じ２価の基であり、Ｂは２価の有機基を表す。Ｂの好ましい例は、前述した一般式（４）〜（８）中の２価の有機基Ｔの例と同一のものを挙げることができる。
【００４７】
本発明の樹脂組成物中における一般式（１０）で表される繰り返し単位のモル百分率をsとした場合、０＜s＜１００モル％であり、好ましくは０＜s≦５０モル％であり、さらに好ましくは０＜s≦３０モル％であり、最も好ましくは０＜s≦１５モル％である。
【００４８】
また、一般式（１）〜（１０）で表される繰り返し単位は互いに異なる複数種の組み合わせでもよい。
【００４９】
以下に本発明の樹脂組成物の一般式（２）の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５０】
＜一般式（２）で表される繰り返し単位の例＞
以下に述べる例のうち、Ａは一般式（３）〜（９）で表される２価の基から任意に選ばれる。
【００５１】
【化８】
2005225997.tif 000009
2005225997.tif 000010
【００５２】
＜一般式（１０）で表される繰り返し単位の例＞
以下に記載する具体例のうち、Ａは一般式（３）〜（９）で表される２価の基から任意に選ばれる。
【００５３】
【化９】
2005225997.tif 000011
2005225997.tif 000012
【００５４】
本発明の樹脂組成物の例としては、前記した一般式（２）又は（１０）で表される繰り返し単位の例を組み合わせて形成される樹脂組成物が挙げられるが、ここでさらに好ましい樹脂の例を示す。
【００５５】
【化１０】
2005225997.tif 000013
2005225997.tif 000014
【００５６】
一般式（２）で表わされる繰り返し単位を含有する樹脂組成物を構成する樹脂の種類は、特に限定されないが、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステルカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、及びポリアミドイミド樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましく、特にポリアリレート、ポリアミド又はポリイミドであることがさらに好ましい。
【００５７】
本発明の樹脂組成物は、ガラス転移点温度（Ｔｇ）が２００℃以上であることが好ましく、２２０℃以上であることがより好ましく、２５０℃以上であることがさらに好ましい。
【００５８】
本発明の樹脂組成物の分子量は、重量平均分子量で１０,０００〜３００,０００（ポリスチレン換算）であることが好ましく、２０,０００〜２００,０００であることがさらに好ましく、３０,０００〜１５０,０００であることが最も好ましい。分子量１００００〜３００，０００程度であれば、プラスチックフィルム基板とした場合に十分な機械的強度が得られる。
【００５９】
本発明の樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で他の樹脂を混合することもできる。本発明の樹脂組成物で混合可能な樹脂材料は熱可塑性であっても硬化性樹脂であってもよい。
【００６０】
本発明の樹脂組成物は、金属の酸化物及び／又は金属の複合酸化物、並びにゾルゲル反応により得た金属酸化物を含有することもできる。
【００６１】
本発明の樹脂組成物は、無機層状化合物を含有させることもできる。本発明の樹脂組成物に無機層状化合物を添加することにより、熱変形温度が２〜１００℃改善される。また、無機層状化合物を含有する樹脂組成物をプラスチックフィルム基板として使用した場合、ガスバリア性フィルムとしても期待できる。ここで使用される無機層状化合物は、特に限定されるものではないが、膨潤性及び／又は劈開性を有する粘土鉱物やハイドロタルサイト類化合物及びその類似化合物を好適に用いることができる。
【００６２】
本発明の樹脂組成物は、その他、必要により本発明の効果を損なわない範囲で、可塑剤、染顔料、酸化防止剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、無機微粒子、剥離促進剤、レベリング剤、及び潤滑剤などの各種添加剤（樹脂改質剤）を添加してもよい。また、本発明の樹脂組成物をプラスチックフィルム基板として用いる場合には、剥離フィルムや粘着材を付加することもできる。
【００６３】
次に、本発明の樹脂組成物の製造方法について説明する。
本発明の樹脂組成物を形成するために用いるモノマーは、例えば、以下の方法で合成することができる。
【００６４】
＜モノマーＭ−１０１の合成＞
モノマーＭ−１０１は、以下に示すルートに従って合成することができる。
【００６５】
【化１１】
2005225997.tif 000015
【００６６】
Ｔ−１０１の１３６．１５ｇとＴ−１０２の２９．０４ｇをエタノール１．５Ｌに溶解し、室温にて攪拌しながらナトリウムメトキシドのメタノール２８％溶液１０３ｍｌを１時間かけて滴下した。析出した結晶を濾別し、酢酸エチルで洗浄してＴ−１０３を得た（収量２３５．５ｇ、収率８０％）。
【００６７】
次いで、Ｔ−１０３の８０ｇをメタノール５５０ｍｌ、酢酸エチル５０ｍｌに溶解し、１０％パラジウム−炭素を２ｇ加え、オートクレーブ中にて水素の圧力５０ＭＰａ、室温にて一晩攪拌した。パラジウム−炭素を濾別し、濾液を濃縮、カラムにて単離精製することにより、Ｔ−１０４を得た（収量４９．５ｇ、収率６１％）
【００６８】
次いで、Ｔ−１０４の２９．８ｇをオキシ塩化リン８７．３ｍｌとトルエン２６２ｍｌに溶解させ、８０℃にて２時間攪拌した。反応液を氷水に投入し、酢酸エチルにて抽出後、濃縮してカラムにて単離精製し、Ｔ−１０５を得た（収量１５．４ｇ、収率５５％）
【００６９】
次いで、Ｔ−１０５の１５ｇを塩化メチレン５０ｍｌに分散させ、氷冷下にてＢＢｒ3１４ｍｌを滴下した。発熱が収まった後、室温にて６時間攪拌した。反応液を氷水に投入し、酢酸エチルにて抽出後、濃縮しカラムにて単離精製し、Ｍ−１０１を得た（収量１１．５ｇ、収率８５％）
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−d6）  1.95（ｍ、2Ｈ）、2.15（ｍ、2Ｈ）、2.81（ｄ、４Ｈ）、6.43（ｄ、２Ｈ）、6.64（ｍ、４Ｈ）、9.05（ｓ、２Ｈ）
【００７０】
＜モノマーＭ−１０２の合成＞
モノマーＭ−１０２は、以下に示すルートに従って合成することができる。
【００７１】
【化１２】
2005225997.tif 000016
【００７２】
Ｔ−１０６の１３６．１５ｇとＴ−１０２の２９．０４ｇをエタノール１．５Ｌに溶解し、室温にて攪拌しながらナトリウムメトキシドのメタノール２８％溶液１０３ｍｌを１時間かけて滴下した。反応液を希塩酸に投入し、酢酸エチルにて抽出後、濃縮し、カラムにて単離精製してＴ−１０７を得た（収量２１２、収率７２％）。以後、Ｍ−１０１の合成と同様の方法によりＭ−１０２を合成した。なお、Ｍ−１０２のＭＮＲの結果を以下に示す。
1H NMR (DMSO-d6) 1.95(m、2H)、2.15(m、2H)、2.81(d、4H)、6.48(d、2H)、6.61(m、4H)、9.05(s、2H)
【００７３】
＜モノマーＭ−１０３の合成＞
モノマーＭ−１０３は、以下に示すルートに従って合成することができる。
【００７４】
【化１３】
2005225997.tif 000017
【００７５】
５００ｍｌの３つ口フラスコにＭ−１０１の３０．３ｇをトルエンに分散させ、これにトリホスゲン３５．６ｇを加え、２５℃にてＮ，Ｎ−ジエチルアニリン５７．３ｍｌを４０分かけて滴下した。２時間後、有機層を水及び飽和食塩水で分液洗浄し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥させた。有機層を減圧濃縮し、ヘキサン／酢酸エチルで再結晶することによりモノマーＭ−１０３を得た（収量２９．４ｇ、収率６５％）。
【００７６】
［光学部品及び光学フィルム］
本発明の樹脂組成物は、耐熱性、光学特性、及び力学特性等に優れ、透明導電フィルム基板、ＴＦＴ基板、液晶表示用基板、有機ＥＬ素子表示用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板、光ディスク基板、光導波路、光ファイバー、レンズ、タッチパネルなどの各種の光学部品に好適に用いることができる。
【００７７】
また、本発明の樹脂組成物は、フィルム状又はシート状に成形して光学フィルムとして用いることができる。フィルム状又はシート状に成形する方法は、公知の方法を採用できるが、溶液流延法、押出成形法（溶融成型法）を用いることが好ましい。溶液流延法における流延及び乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、米国特許２３６７６０３号、米国特許２４９２０７８号、米国特許２４９２９７７号、米国特許２４９２９７８号、米国特許２６０７７０４号、米国特許２７３９０６９号、米国特許２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、英国特許７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、特公昭４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、特開昭６０−２０３４３０号、特開昭６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。樹脂溶液は、表面温度が３０℃以下のドラム又はバンド上に流延することが好ましく、特に−１０〜２０℃の金属支持体上で流延することが好ましい。
【００７８】
溶液流延法を用いて本発明の光学フィルムを製造する製造装置の例としては、特開２００２−１８９１２６号公報の段落[００６１]〜[００６８]に記載された製造装置、図１、図２などが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７９】
溶液流延法では、本発明の樹脂組成物を溶媒に溶解する。使用する溶媒は、本発明の樹脂組成物を溶解可能なものであれば特に制限はないが、特に２５℃で固形分濃度１０質量％以上を溶解できる溶媒を用いることが好ましい。また、使用する溶媒の沸点は２００℃以下のものが好ましく、１５０℃以下のものがさらに好ましい。沸点が２００℃以下であれば、溶媒を十分乾燥でき、光学フィルム中に溶媒が残存しないため好ましい。
【００８０】
このような溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ベンゼン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、１，２−ジクロロエタン、酢酸エチル、アセトン、クロロベンゼン、ジメチルホルムアミド、メタノール、エタノール等が挙げられるが、本発明ではこれらに限定されるものではない。
【００８１】
上記溶媒は２種以上を混合して用いてもよい。混合溶媒の例としては、塩化メチレンに炭素数１〜５のアルコールを１種乃至数種を混合した溶媒が挙げられる。この場合、アルコールの含有量は、溶媒全体に対し５〜２０質量％が好ましい。さらに、炭素数３〜１２のエーテル、ケトン及びエステルを適宣混合した溶媒が好ましい例として挙げられ、この場合、炭素数１〜５のアルコールを１種ないし数種混合してもよい。また、発明協会公開技報２００１−１７４５号、段落６に記載の有機溶媒の例なども好ましい例として挙げられる。
【００８２】
溶液流延に用いる溶液中における本発明の樹脂組成物の濃度は、５〜６０質量％であることが適当であり、１０〜４０質量％であること好ましく、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。樹脂組成物の濃度が５〜６０質量％であれば、適度な粘度が得られ、厚さの調節が容易であり、かつ良好な製膜性が得られる。
【００８３】
溶液流延する方法は特に限定されないが、例えば、バーコーター、Ｔダイ、バー付きＴダイ、ドクターブレード、ロールコート、ダイコート等を用いて平板又はロール上に流延することができる。
【００８４】
溶媒を乾燥する温度は、使用する溶媒の沸点によって異なるが、２段階に分けて乾燥することが好ましい。第一段階としては３０〜１００℃で溶媒の濃度が１０質量％以下、好ましくは５％以下になるまで乾燥し、次いで、第二段階として平板又はロールからフィルムを剥がし、６０℃〜樹脂組成物のＴｇの温度範囲で乾燥することが好ましい。
なお、平板又はロールからフィルムを剥がす場合、第一段階の乾燥終了直後に剥がしても、一旦冷却してから剥がしてもよい。
【００８５】
押出成型法の条件は、一般的な光学樹脂で用いられる条件と同様であり、溶融温度としては、通常１８０〜３５０℃、特に２００〜３００℃の範囲の温度が好ましく使用される。
【００８６】
本発明の光学フィルムは延伸されていてもよい。延伸によりフィルムの耐折強度など機械的強度が改善され、取扱性が向上する利点がある。特に延伸方向のオリエンテーションリリースストレス（ＡＳＴＭＤ１５０４、以下ＯＲＳと略記する）が０．３〜３ＧＰａであるものは機械的強度が改善され好ましい。ここにいう、ＯＲＳは延伸フィルム又は延伸シートに内在する、延伸により生じた内部応力である。
【００８７】
延伸は、公知の方法を用いることができ、例えば、本発明の樹脂組成物のＴｇより１０℃高い温度から５０℃高い温度の間で、ロール一軸延伸法、テンター一軸延伸法、同時二軸延伸法、逐次二軸延伸法、インフレーション法により延伸できる。延伸倍率は１．１〜３．５倍、好ましくは１．２〜２．５倍を用いることできる。
【００８８】
本発明の光学フィルムの厚みは特に限定されないが、３０〜７００μｍであること好ましく、４０〜２００μｍであることがより好ましく、５０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。また、いずれの場合もヘイズは３％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。また、本発明の光学フィルムの全光透過率は７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。
【００８９】
本発明の光学フィルム表面には用途に応じて他の層、又は他の部品との密着性を高める目的で、光学フィルム表面上にケン化、コロナ処理、火炎処理、グロー放電処理等の処理を行うことができる。さらに、フィルム表面にアンカー層を設けてもよい。
【００９０】
本発明の光学フィルムは、少なくとも片面に透明導電層を積層してもよい。透明導電層としては、公知の金属膜、金属酸化物膜等を適用できる。中でも、透明性、導電性、機械的特性に優れた金属酸化物膜を透明導電層とすることが好ましい。金属酸化物膜は、例えば、不純物としてスズ、テルル、カドミウム、モリブテン、タングステン、フッ素、亜鉛、ゲルマニウム等を添加した酸化インジウム、酸化カドミウム又は酸化スズの金属酸化物膜；不純物としてアルミニウムを添加した酸化亜鉛、酸化チタン等の金属酸化物膜が挙げられる。中でも酸化スズから主としてなり、酸化亜鉛を２〜１５重量％含有した酸化インジウムの薄膜が、透明性、導電性が優れており、好ましく用いられる。
【００９１】
これら透明導電層の成膜方法は、目的の薄膜を形成できる方法であれば、いかなる方法でもよい。例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等の気相中より材料を堆積させて膜形成する気相堆積法などが適しており、特許第３４００３２４号、特開２００２−３２２５６１号、特開２００２−３６１７７４号の各公報記載の方法で成膜することができる。中でも、特に優れた導電性・透明性が得られるという観点から、スパッタリング法が好ましい。
【００９２】
スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、又はプラズマＣＶＤ法の好ましい真空度は０．１３３ｍＰａ〜６．６５Ｐａ、好ましくは０．６６５ｍＰａ〜１．３３Ｐａである。透明導電層を形成する前に、プラズマ処理（逆スパッタ）、又はコロナ処理のように基材フィルムに表面処理を加えることが好ましい。また透明導電層を設けている間に５０〜２００℃に昇温してもよい。
【００９３】
このようにして得られた透明導電層の膜厚は、２０〜５００ｎｍであることが好ましく、５０〜３００ｎｍであることがさらに好ましい。
【００９４】
透明導電層の２５℃６０％ＲＨ(relative humidity)で測定した表面電気抵抗は、０．１〜２００Ω／□であることが好ましく、０．１〜１００Ω／□であることがより好ましく。０．５〜６０Ω／□であることがさらに好ましい。また、透明導電層の光透過性は、８０％以上であることが好ましく、８３％以上であることがより好ましく、８５％以上であることがさらに好ましい。
【００９５】
本発明の光学フィルムは、ガス透過性を抑制するために、少なくとも片面にガスバリア層を積層することもできる。好ましいガスバリア層としては、例えば、珪素、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、ジルコニウム、チタン、イットリウム及びタンタルからなる群から選ばれる１種又は２種以上の金属を主成分とする金属酸化物、珪素、アルミニウム、ホウ素の金属窒化物又はこれらの混合物で形成された膜を挙げることができる。この中でも、ガスバリア性、透明性、表面平滑性、屈曲性、膜応力、コスト等の点から珪素原子数に対する酸素原子数の割合が１．５〜２．０の珪素酸化物を主成分とする金属酸化物で形成された膜が良好である。これら無機化合物からなるガスバリア層は、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等の気相中より材料を堆積させて膜形成する気相堆積法により作製できる。中でも、特に優れたガスバリア性が得られるスパッタリング法が好ましい。また透明導電層を設けている間に５０〜２００℃に昇温してもよい。
【００９６】
上記ガスバリア層の厚みは、１０〜３００ｎｍであることが好ましく、３０〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。
【００９７】
上記ガスバリア層は、透明導電層と同じ側、反対側いずれに設けてもよい
【００９８】
本発明の光学フィルムのガスバリア性能は、４０℃９０％ＲＨで測定した水蒸気透過度が０．０１〜５g/m2・dayであることが好ましく、０．０３〜３g/m2・dayであることがより好ましく、０．０５〜２g/m2・dayであることがさらに好ましい。また、４０℃９０％ＲＨで測定した酸素透過度は、０．０１〜１ml/m2・day・atmであることが好ましく、０．０１〜０．７ml/m2・day・atmであることがより好ましく、０．０１〜０．５ml/m2・day・atmであることがさらに好ましい。ガスバリア性能が上記範囲内であれば、例えば有機ＥＬやＬＣＤに用いた場合、水蒸気及び酸素によるＥＬ素子の劣化を実質的になくすことができるため好ましい。
【００９９】
ガスバリア性能を向上させる目的で、ガスバリア層と隣接して欠陥補償層を形成することが好ましい。欠陥補償層としては、例えば、（１）米国特許第６１７１６６３号明細書、特開２００３−９４５７２号公報記載のようにゾルゲル法を用いて作製した無機酸化物層、（２）米国特許第６４１３６４５号明細書、第６４１６３６４５号明細書に記載の有機物層を用いることができる。これらの欠陥補償層は、真空下で蒸着後、紫外線又は電子線で硬化させる方法、または塗布した後、加熱、電子線、紫外線等で硬化させることにより作製することができる。欠陥補償層を塗布方式で作製する場合には、従来の種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることができる。
【０１００】
本発明の光学フィルムは、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）表示素子用基板として用いることができる。ＴＦＴアレイの作製方法は、例えば、特表平１０−５１２１０４号公報に記載された方法等を用いることができる。さらに、これらの基板はカラー表示のためのカラーフィルターを有していてもよい。カラーフィルターは、いかなる方法を用いて作製してもよいが、フォトリソグラフィー手法を用いて作製することが好ましい。
【０１０１】
［フラットパネルディスプレイ］
以上説明した本発明の樹脂組成物、及びそれを用いた光学フィルムは、画像表示装置に用いることができる。ここで、画像表示装置は特に限定されず、従来知られているものを挙げることができる。また、本発明の光学フィルムを基板として用いて表示品質に優れたフラットパネルディスプレイを作製できる。フラットパネルディスプレイとしては液晶、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）、蛍光表示管、発光ダイオードなどが挙げられ、これら以外にも従来ガラス基板が用いられてきたディスプレイ方式のガラス基板に代わる基板として用いることができる。さらに、本発明の樹脂組成物及び光学フィルムは、フラットパネルディスプレイ以外にも太陽電池、タッチパネルなどの用途にも応用が可能である。タッチパネルは、例えば、特開平５−１２７８２２号公報、特開２００２−４８９１３号公報等に記載のものに応用することができる。
【０１０２】
本発明の光学フィルムを基板として液晶表示用途などで使用する場合、光学的均一性を達成するため、本発明の樹脂組成物は非晶性ポリマーであることが好ましい。さらに、レタデーション（Ｒe）、及びその波長分散を制御する目的で、固有複屈折の符号が異なる樹脂組成物を組み合わせたり、波長分散の大きい（あるいは小さい）樹脂組成物を組み合わせたりすることができる。
【０１０３】
本発明の光学フィルムは、レターデーション（Ｒe）の制御し、ガス透過性や力学特性を改善する観点からは、異種樹脂組成物を組み合わせて積層等することが好ましい。異種樹脂組成物の好ましい組み合わせは特に制限はなく、前記したいずれの樹脂も使用可能である。
【０１０４】
本発明の光学フィルムを反射型液晶表示装置に用いる場合は、下から順に、下基板、反射電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、透明電極、上基板、λ／４板、及び偏光膜の構成を有することが好ましい。このうち本発明の光学フィルムは、透明電極及び／又は上基板として用いることができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を反射電極と下配向膜との間、又は上配向膜と透明電極との間に形成することが好ましい。
【０１０５】
本発明の光学フィルムを透過型液晶表示装置に用いる場合は、下から順に、バックライト、偏光板、λ／４板、下透明電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、上透明電極、上基板、λ／４板、及び偏光膜の構成を有することが好ましい。このうち本発明の光学フィルムは上透明電極及び／又は上基板として用いることができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を下透明電極と下配向膜との間、又は上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。
【０１０６】
液晶セルは特に限定されないが、ＴＮ(Twisted Nematic)、ＩＰＳ(In-P1ane Switching)、ＦＬＣ(Ferroelectric Liquid Crysta1)、ＡＦＬＣ(Anti-ferroelectric Liquid Crystal)、ＯＣＢ(Optica1ly Compensatory Bend)、ＳＴＮ(Supper Twisted Nematic)、ＶＡ(Vertically Aligned)、及びＨＡＮ(Hybrid Aligned Nematic)のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明の光学フィルムは、表示モードの液晶表示装置に用いることも有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置に用いても有効である。
【０１０７】
液晶セル及び液晶表示装置は、特開平２−１７６６２５号公報、特公平７−６９５３６号公報、ＭＶＡ(SID97,Digest of tech. Papers(予稿集)28(1997)845)、SID99, Digest of tech. Papers(予稿集)30(1999)206）、特開平１１−２５８６０５号公報、ＳＵＲＶＡＩＶＡＬ(月刊ディスプレイ、第６巻、第３号(1999)14)、ＰＶＡ(Asia Display 98,Proc.of the-18th-Inter. Display res. Conf.(予稿集)(1998)383)、Para-A(LCD/PDP International 99)、ＤＤＶＡ(SID98, Digest of tech. Papers(予稿集)29(1998)838)、ＥＯＣ(SID98, Digest of tech. Papers(予稿集)29(1998)319)、ＰＳＨＡ(SID98, Digest of tech. Papers(予稿集)29(1998)1081)、ＲＦＦＭＨ(Asia Display 98, Proc. of the-18th-Inter. Display res. Conf. (予稿集)(1998)375)、ＨＭＤ(SID98, Digest of tech. Papers (予稿集)29(1998)702)、特開平１０−１２３４７８号公報、国際公開Ｗ０９８／４８３２０号公報、特許第３０２２４７７号公報、及び国際公開ＷＯ００／６５３８４号公報等に記載されている。
【０１０８】
本発明の光学フィルムは、有機ＥＬ表示用途に使用できる。有機ＥＬ表示素子としての具体的な層構成としては、陽極／発光層／透明陰極、陽極／発光層／電子輸送層／透明陰極、陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／透明陰極、陽極／正孔輸送層／発光層／透明陰極、陽極／発光層／電子輸送層／電子注入層／透明陰極、陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／透明陰極等が挙げられる。
【０１０９】
本発明の光学フィルムが使用できる有機ＥＬ素子は、前記陽極と前記陰極との間に直流（必要に応じて交流成分を含んでもよい）電圧（通常２〜４０Ｖ）、又は直流電流を印加することにより、発光を得ることができる。これら発光素子の駆動については、例えば、特開平２−１４８６８７号、同６−３０１３５５号、同５−２９０８０号、同７−１３４５５８号、同８−２３４６８５号、同８−２４１０４７号等の各公報、米国特許５８２８４２９号、同６０２３３０８号の各明細書、日本特許第２７８４６１５号公報、等に記載の方法を利用することができる。
【実施例】
【０１１０】
以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１１１】
１．特性値の測定方法
（１）重量平均分子量
東ソー（株）製のＨＬＣ−８１２０ＧＰＣを用いて、テトラヒドロフランを溶媒とするポリスチレン換算ＧＰＣ測定によりポリスチレンの分子量標準品と比較して重量平均分子量を求めた。
（２）ガラス転移温度（Ｔｇ）
セイコー（株）製、ＤＳＣ６２００を用いて、ＤＳＣ法（窒素中、昇温温度１０℃／分）によりＴｇを測定した。
（３）フィルム基板の厚さ
アンリツ（株）製、Ｋ４０２Ｂを用いて、ダイヤル式厚さゲージによりフィルム基板の厚さを測定した。
（４）レタデーション（Ｒe）
フィルム面内方向、波長６３２．８ｎｍにおける値を自動複屈折計（王子計測機器（株）製、KOBRA-21ADH）を用いて測定し、以下の式よりレタデーションを算出した。
レタデーション＝｜ｎＭＤ−ｎＴＤ｜×ｄ
ｎＭＤ：フィルム幅方向の屈折率、ｎＴＤ：フィルム長手方向の屈折率、ｄ：厚み
（５）フィルム基板の透過率
波長５５０ｎｍにおける透過率を分光光度計（島津製作所(株)製、分光光度計UV-3100PC）を用いてフィルム基板の透過率を測定した。
（６）フィルム基板の力学特性
フィルムサンプル（１．０ｃｍ×５．０ｃｍ片）を作製し、引張速度３ｍｍ／分の条件下、テンシロン（東洋ボールドウィン（株）製、テンシロン RTM-25）を用いて弾性率、引張破壊応力、及び引張破壊伸度を測定した。測定は３サンプル行い、その平均値を求めることにより評価した（サンプルは２５℃、ＲＨ６０％で一晩放置後使用。チャック間距離３ｃｍ）。
（７）フィルム基板の表面抵抗
２５℃６０％ＲＨに３時間以上調湿後、KEITHLEY製の８００９、RESISTIVITY TEST FIXTUREとKEITHLEY製の６５１７Ａ型とを用いて初期抵抗値（Ｒ0）を測定した。
【０１１２】
（実施例１）  樹脂組成物（Ｐ−１）の製造
以下に示す方法によりポリカーボネート樹脂組成物（Ｐ−１）を得た。
【０１１３】
【化１４】
2005225997.tif 000018
【０１１４】
Ｍ−１０１の１８．２９ｇ、tert−ブチルフェノール５２．７ｍｇを塩化メチレン２２５ｍｌに溶解させた溶液に、ハイドロサルファイトナトリウム０．２ｇと水酸化ナトリウム１７．８ｇを溶解させた２００ｍｌの水を加え激しく攪拌した。次いで、トリホスゲン６．９２ｇの２５ｍｌ塩化メチレン溶液を３０分かけて添加した。添加後、さらに１時間反応を行った後、トリエチルアミン０．２ｍｌを添加した。さらに４時間反応させた後、分液操作により有機層を分離した。さらに希塩酸３００ｍｌで２回洗浄し、塩化メチレンを減圧留去した。残渣に塩化メチレン８０ｍｌを加えて溶解し、ごみ取り濾過を行った後、メタノール４００ｍｌ中にゆっくりと投入した。析出した樹脂を濾取し、メタノールで洗浄し、乾燥した後、１３．７ｇの樹脂組成物（Ｐ−１）の白色固体を得た。得られた樹脂組成物は重量平均分子量９２０００、Ｔｇは２１２℃であった。
【０１１５】
（実施例２）  樹脂組成物（Ｐ−５）の製造
実施例１と同様の方法によりポリカーボネート樹脂組成物Ｐ−５を得た。得られた樹脂組成物（Ｐ−５）の重量平均分子量は８５０００であり、Ｔｇは２１５℃であった。
【０１１６】
（実施例３）  樹脂組成物（Ｐ−２）の製造
以下に示す方法によりポリエステル樹脂（Ｐ−２）を得た。
【０１１７】
【化１５】
2005225997.tif 000019
【０１１８】
Ｍ−１０１の５．８５ｇを塩化メチレン４０ｍｌ中で懸濁させた溶液にハイドロサルファイトナトリウム０．０６ｇと、テトラブチルアンモニウムブロミド０．５６ｇを溶解した７５ｍｌの水を加え、激しく撹拌した。次いで、室温下で２モル／ＬのＮａＯＨ水溶液２１ｍｌ、アジピン酸クロリド（Ｍ−１０４）３．６６ｇの２０ｍｌ塩化メチレン溶液を同時に１時間かけて添加した。添加後、さらに６時間反応を行った後、分液操作により有機層を分離した。さらに希塩酸３００ｍｌで２回洗浄し、塩化メチレンを減圧留去した。残渣に塩化メチレンを２０ｍｌ加えて溶解し、ごみ取り濾過を行った後、２００ｍｌのメタノール中にゆっくりと投入した。析出した樹脂組成物を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥して６．８８ｇの白色固体の樹脂（Ｐ−２）を得た。得られた樹脂組成物（Ｐ−２）の重量平均分子量は４６０００であり、Ｔｇは１４２℃であった。
【０１１９】
（実施例４）  樹脂組成物（Ｐ−７）の製造
以下に示す方法によりポリアリレート樹脂（Ｐ−７）を得た。
【０１２０】
【化１６】
2005225997.tif 000020
【０１２１】
Ｍ−１０１の５．８５ｇを塩化メチレン４０ｍｌ中に懸濁させた溶液にハイドロサルファイトナトリウム０．０６ｇと、テトラブチルアンモニウムブロミド０．５６ｇを溶解した７５ｍｌの水を加え、激しく撹拌した。次いで、室温下で２モル／ＬのＮａＯＨ水溶液２１ｍｌ、テレフタル酸クロリド（Ｍ−１０５）４．７１ｇの２０ｍｌ塩化メチレン溶液を同時に１時間かけて添加した。添加後、さらに６時間反応を行った後、分液操作により有機層を分離した。さらに希塩酸３００ｍｌで２回洗浄した後、塩化メチレンを減圧留去した。残渣に塩化メチレン２０ｍｌを加えて溶解し、ごみ取り濾過を行った後、２００ｍｌのメタノール中にゆっくりと投入した。析出した樹脂組成物を濾取し、メタノールで洗浄してから乾燥し、７．２３ｇの白色固体の樹脂組成物（Ｐ−７）を得た。得られた樹脂組成物Ｐ−７）の重量平均分子量は５２０００であり、Ｔｇは２８１℃であった。
【０１２２】
（実施例５）樹脂組成物（Ｐ−８）の製造
実施例４と同様の方法でポリアリレート樹脂組成物（Ｐ−８）を得た。得られた樹脂組成物（Ｐ−８）の重量平均分子量は５５０００であり、Ｔｇは２８２℃であった。
【０１２３】
（実施例６）樹脂組成物（Ｐ−１２）の製造
以下に示す方法によりポリウレタン樹脂（Ｐ−１２）を得た。
【０１２４】
【化１７】
2005225997.tif 000021
【０１２５】
Ｍ−１０６の４．３０ｇを塩化メチレン１００ｍｌに溶解させ、次いでテトラブチルアンモニウムブロミド０．６９ｇを溶解した１８０ｍｌの水を加えて、激しく撹拌した。次いで、室温下で２モル／ＬのＮａＯＨ水溶液５２．５ｍｌ、Ｍ−１０２（１８．８６ｇ）の５６ｍｌ塩化メチレン溶液を同時に１時間かけて添加した。添加後、さらに６時間反応を行った後、分液操作により有機層を分離した。さらに希塩酸５００ｍｌで２回洗浄し、塩化メチレンを減圧留去した。残渣に塩化メチレンを加え溶解し、ごみ取り濾過を行った後、メタノールにゆっくりと投入した。析出した樹脂を濾取し、メタノールで洗浄後、乾燥して１４．８ｇの白色固体の樹脂組成物（Ｐ−１２）を得た。得られた樹脂組成物（Ｐ−１２）の重量平均分子量は４６０００であり、Ｔｇは２６０℃であった。
【０１２６】
（実施例７）樹脂組成物（Ｐ−１９）の製造
樹脂組成物Ｐ−１９は、特開平１１−２６３８３３号公報の実施例に記載された方法と同様の方法により合成した。得られた樹脂組成物（Ｐ−１９）の重量平均分子量は７００００であり、Ｔｇは１５０℃であった。
【０１２７】
（実施例８）  本発明の光学フィルムの作製
実施例１〜７で製造した樹脂組成物を塩化メチレンに溶解し、濃度１５〜２５質量％溶液を調整した。この溶液を５μｍのフィルターを通してろ過した後、ドクターブレードを用いてガラス基板上に流延した。流延後、温度８０℃で２時間、１００℃で４時間加熱乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、フィルムＦ−１０１〜Ｆ−１０７を作製した。
【０１２８】
（比較例１）
実施例７と同様の方法により、市販のポリカーボネート（帝人化成製『パンライトＬ１２２５Ｚ』）を用いて比較用フィルムＦ−１０８を作製した。
【０１２９】
（比較例２〜５）
下記の構造を有する特開昭６３−３１４２３５号公報に記載のスピロビインダンポリカーボネート（ＩＮＤ−１）、特開平１１−２６３８３３号公報に記載のスピロビインダンポリカーボネート共重合体（ＩＮＤ−２）、特開２０００−２８１８８８号公報に記載のスピロビインダンポリカーボネート共重合体（ＩＮＤ−３）、米国特許第３８５６５２６号明細書記載のスピロビインダンポリアリレート（ＩＮＤ−４）をそれぞれ用いてフィルムＦ−１０９〜Ｆ−１１２を作製した。
【０１３０】
【化１８】
2005225997.tif 000022
【０１３１】
本発明のフィルムの光学物性及び力学物性の評価
実施例１〜７及び比較例１〜５で得られたフィルムの膜厚、ガラス転移温度、面内方向レタデーション値（Ｒe）、力学物性（引張弾性率、引張破壊伸度）の測定結果を表１に示す。
【０１３２】
【表１】
2005225997.tif 000023
【０１３３】
表１より、本発明の樹脂組成物で形成されたフィルムは、レタデーション値が小さく、光学特性に優れていることが分かる。この点は、一般的な樹脂であるパンライト（Ｆ−１０８）にはない優れた性質である。また耐熱性の指標であるガラス転移点もパンライト（Ｆ−１０８）と比べると大きく向上したことが分かる。
一方、本発明の樹脂組成物で形成されたフィルムは、引張弾性率が１７００〜２０００ＭＰａであり、フィルムとしての力学物性は十分なレベルであった。これに対し、樹脂組成物ＩＮＤ−１（Ｆ−１０９）、ＩＮＤ−２（Ｆ−１１０）及びＩＮＤ−４（Ｆ−１１２）は、いずれもＲｅ値が小さいが、フィルム作製中（乾燥中）にひび割れを生じるか、又はテンシロンによる力学物性測定が不可能であるほど脆いものであった。
これより本発明のフィルムは、耐熱性及び力学特性に優れていることが分かる。
【０１３４】
（実施例９）  本発明の表示素子用基板の作製及び評価
＜ガスバリア層＞
表１に示したフィルムＦ−１０１〜Ｆ−１１２の両面にＤＣマグネトロンスパッタリング法により、Ｓｉ０2をターゲットとし５００Ｐａの真空下で、Ａｒ雰囲気下、出力５ｋＷでスパッタリングした。得られたガスバリア層の膜厚はいずれも６０ｎｍであった。
＜透明導電層＞
得られたフィルム基板を１００℃に加熱しながら、ＩＴＯ（Ｉｎ2Ｏ3 ９５質量％、Ｓｎ０2 ５質量％）をターゲットとしＤＣマグネトロンスパッタリング法により、０．６６５Ｐａの真空下で、Ａｒ雰囲気下、出力５ｋＷで１４０ｎｍの厚みのＩＴＯ膜からなる透明導電層を片面に設けた。
【０１３５】
＜評価＞
このようにして得られた表示素子用基板について、前述の方法で表面抵抗を測定した。次いで、屈曲試験後の表面抵抗を以下の方法により測定した。
サンプルのＩＴＯ層を外側にして両端を貼り合せ円柱状にした後、１２ｍｍΦの搬送ローラー２本を両ローラー間に約１Ｎの張力をかけてフィルムとローラー部が完全に接触し、かつフィルムが滑らぬよう注意しながら３０ｃｍ／ｍｉｎでフィルムを回転搬送させた。試料は２５℃６０％の環境で８時間調湿したものを用い、同条件の実験室にて試験を行った。上記操作の後、屈曲試験前後における抵抗変化率の評価を行った。
屈曲試験後の抵抗変化率は、屈曲試験後の抵抗の抵抗値（Ｒ1）と屈曲試験前の抵抗値（Ｒ0）の差の絶対値を（Ｒ0）で割り、百分率で示したものを屈曲試験後の抵抗変化率（％）とした。
【０１３６】
本発明のフィルム基板Ｆ−１０１〜Ｆ−１０７と比較用フィルム基板Ｆ−１０８は、いずれも外観に主だった変化は見受けられず、かつ屈曲試験前後における抵抗変化率も小さく優れていた。これに対し、比較用フィルム基板Ｆ−１０９、Ｆ−１１１、Ｆ−１１２は脆く、サンプルを作製するには至っておらず、比較用フィルム基板Ｆ−１１０においても外観に主だった変化は見受けられないものの、屈曲試験前後における抵抗変化率が大きいことが判明した。
以上のことから、本発明の表示素子用基板は、応力による抵抗値の変化を受けにくく、クラックなどを生じにくい優れた力学特性を有すると共に、バリア層との密着に優れていることが分かる。
【０１３７】
（実施例１０）本発明のフラットパネルディスプレイの作製及び評価
＜円偏光膜の作製＞
本発明のフィルム基板Ｆ−１０１〜Ｆ−１０７及び比較例フィルムＦ−１０８、Ｆ−１１０、Ｆ−１１１の透明導電層の反対側に、特開２０００−８２６７０５号公報、特開２００２−１３１５４９号公報に記載のλ／４板を積層し、さらにその上に特開２００２−８６５５５４号公報に記載の偏光板を積層し円偏光板を形成した。なお、偏光膜の透過軸とλ／４板の遅相軸との角度は４５°となるように配置した。
【０１３８】
＜ＴＮ型液晶表示装置の作製＞
本発明のフィルム基板及び比較例のフィルム基板、並びに微細な凹凸が形成されたアルミニウム反射電極を設けたガラス基板の透明導電層（ＩＴＯ）側に、それぞれポリイミド配向膜（ＳＥ-７９９２、日産化学（株）製）を形成し、２００℃で３０分熱処理した。本発明のフィルム基板を用いたものは、抵抗値の増加、ガス透過性の増加は全く見られなかった。これに対し、比較例のフィルム基板を用いたものはいずれも抵抗値及びガス透過性が２倍以上に増大した。
さらに、ラビング処理を行った後、１．７μｍのスペーサーを介して、二枚の基板（ガラス基板とプラスチック基板）を配向膜が向かい合うように重ねた。二つの配向膜のラビング方向は、１１０゜の角度で交差するように、基板の向きを調節した。基板の間隙に、液晶（ＭＬＣ-６２５２、メルク社製）を注入し、液晶層を形成した。このようにして、ツイスト角が７０゜、Δｎｄの値が２６９ｎｍのＴＮ型液晶セルを作製した。
さらに、フィルム基板のＩＴＯと反対面に上記λ／４板、偏光板を積層し反射型液晶表示装置を作製した。
本発明のフィルム基板を用いたものは良好な画像が得られた。一方、比較例を用いたものは、ガスバリア性の低下に起因する黒点故障（画層部に細かな黒い点となり画像が表示されない）や、導電層の割れに起因する色ずれが発生した。
【０１３９】
＜ＳＴＮ型液晶表示装置の作製＞
本発明のフィルム基板Ｆ−１０１〜Ｆ−１０７及び比較例フィルムＦ−１０８、Ｆ−１１０、Ｆ−１１１、並びにＩＴＯ層を積層したガラス基板の透明導電（ＩＴＯ）層側に、それぞれポリイミド配向膜（ＳＥ−７９９２、日産化学（株）製）を形成した。２００℃で３０分熱処理したが、本発明のフィルム基板を用いたものは、抵抗値の増加及びガス透過性の増加は全く見られなかった。一方、比較例のフィルム基板をもちいたものは、抵抗値およびガス透過性が２倍以上に増大した。６．０μｍのスペーサーを介して二枚の基板を配向膜が向かい合うように重ねた。二つの配向膜のラビング方向は、６０゜の角度で交差するように、基板の向きを調節した。基板の隙間に、液晶（ＺＬＩ-２９７７、メルク社製）を注入し、液晶層を形成した。このようにしてツイスト角が２４０゜、Δｎｄの値が７９１ｎｍのＳＴＮ型液晶セルを作製した。
この液晶セルのガラス基板側に上記λ／４板、偏光板を積層し、その下に導光板、光源を置いた。プラスチックフィルム基板側に上記λ／４板、偏光板を積層し、透過型液晶表示装置を得た。
本発明のフィルム基板を用いたものは良好な画像が得られた。一方、比較例のフィルム基板を用いたものは、ガスバリア性の低下に起因する黒点故障（画層部に細かな黒い点となり画像が表示されない）や、導電層の割れに起因する色ずれが発生した。
なお、これらの発生率は液晶表示基板に組上げ全面白表示にしたときの、これらの発生領域の面積を目視で確認し、全表示面積に対する比率で示したものである。
【０１４０】
＜有機ＥＬ素子の作製＞
本発明のフィルム基板を特開２０００−２６７０９７号公報に従い、観察者側から順に保護タック（最表面に反射防止機能層付き）／上記円偏光板（本発明のプラスチック基板のＩＴＯ層を有機ＥＬ側にする）／有機EL素子／反射電極の構成とした。
本発明のフィルム基板を用いたものは良好な性能を示した。
【０１４１】
＜ＴＦＴアレイの作製＞
本発明のフィルム基板を用いて、特表平１０−５１２１０４号公報に記載の方法に従ってＴＦＴアレイを作製した。製造の過程でレジストの除去溶剤としてのジメチルスルホキシド及びフォトリソグラフィーの現像液に曝されても曇り等の変化は見られなかった。
【産業上の利用可能性】
【０１４２】
本発明の樹脂組成物は、耐熱性、光学特性、力学特性等に優れているため、透明導電フィルム基板、ＴＦＴ基板、液晶表示用基板、有機ＥＬ表示用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板、光ディスク基板などの光学フィルム、光導波路、光ファイバー、レンズ、タッチパネルなどの光学部品及びフラットパネルディスプレイなどに利用できる。