(57)【要約】【課題】  クリーンルームの空気質を上げることができ、高品質なクリーンルームを得る。【解決手段】  クリーンルームが設けられる建物の外装３を構築し、外装３で囲まれたクリーンルーム施工エリアである内部空間４にクリーンエア５を供給して内部空間４を陽圧にすることにより内部空間４と外気とを遮断してからこの内部空間４内でクリーンルームの施工を行うようにした。即ち、クリーンルーム施工エリアと外部との間の空気遮断を行ってからクリーンルームの施工を行うようにしたので、空気質の高い高品質なクリーンルームを得ることができる。【選択図】  図１
2005049025.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
クリーンルームが設けられる建物の外装を構築し、外装で囲まれたクリーンルーム施工エリアである内部空間にクリーンエアを供給して内部空間を陽圧にすることにより内部空間と外気とを遮断してからこの内部空間内でクリーンルームの施工を行うことを特徴とするクリーンルームの施工方法。
【請求項２】
建物の外装が構築される前にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材や建物の外装が構築された後にクリーンルーム施工エリアがクリーンエアで陽圧にされる前にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材は外気に触れないように養生された状態で搬送してクリーンルーム施工エリアに搬入するとともに養生された状態の資機材によるクリーンルームの施工を行うことを特徴とする請求項１に記載のクリーンルームの施工方法。
【請求項３】
建物の外装で囲まれたクリーンルーム施工エリアである内部空間にクリーンエアを供給して内部空間を陽圧にすることにより内部空間と外気とを遮断してからクリーンルーム施工エリアの出入口に前室を作成して、前室内にクリーンエアを供給して前室内を陽圧にし、外気に触れないように養生された状態の資機材を前室内に搬入し、前室内で資機材の養生を撤去してから当該資機材をクリーンルーム施工エリアに搬入して資機材によるクリーンルームの施工を行うことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のクリーンルームの施工方法。
【請求項４】
クリーンルーム施工エリアである内部空間に供給されるクリーンエアは空調機により外気をフィルタ処理やエアーワッシャー処理をして供給され、クリーンルームの区画が構築された後に上記空調機のクリーンエア供給管をクリーンルーム内に延長してクリーンルーム内に上記空調機を介したクリーンエアを供給したことを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のクリーンルームの施工方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、空気質の高い高品質なクリーンルームが得られるクリーンルームの施工方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
クリーンルームの施工に際しては、クリーンルームの空気質を、低コスト，短工期で最終レベルにするために、建物建設段階から粉塵・化学物質汚染等の防止対策を行なっている。即ち、施工中の毎日の掃除、週毎の掃除を徹底し、また、建物の躯体工事、鉄骨工事完了後は、入室者に対して上履き入室を義務付け、その後、施工が進む毎に、入室者に対して、クリーンスーツの着用、さらにはエアーシャワーを介しての入室を義務付ける等してクリーンルームのクリーン施工化を図っている。
しかし、従来のクリーンルームの施工においては、躯体工事、鉄骨工事完了後はクリーンルームの施工エリアの空間に粉塵が浮遊しつづけるので、短期のクリーン化施工が図れないという課題があった。そこで、建物の躯体工事、鉄骨工事完了後にクリーンルームの施工エリアの空間に水を噴霧することにより粉塵を効率的に除去してクリーン化施工を図るという発明が本出願人により特許出願されている（特願２００２−３２９４２６号）。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上述したクリーンルームの施工方法においては、クリーンルームの施工中においてクリーンルームの施工エリアと外部との間の空気遮断は行われていない。従って、例えば、排気ガス中に含まれるＮＯＸ，ＳＯＸ，アンモニア等、海岸近くでの建設の際のナトリウム、降雪地においての建設の際の融雪剤に含まれる塩化カルシウム等の大気汚染物質に晒された状態でクリーンルームの施工が行われていたので、クリーンルームの空気質を上げることができず、高品質なクリーンルームを得ることができなかった。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、クリーンルームが設けられる建物の外装を構築し、外装で囲まれたクリーンルーム施工エリアである内部空間にクリーンエアを供給して内部空間を陽圧にすることにより内部空間と外気とを遮断してからこの内部空間内でクリーンルームの施工を行う。
また、建物の外装が構築される前にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材や建物の外装が構築された後にクリーンルーム施工エリアがクリーンエアで陽圧にされる前にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材は外気に触れないように養生された状態で搬送してクリーンルーム施工エリアに搬入するとともに養生された状態の資機材によるクリーンルームの施工を行う。
また、建物の外装で囲まれたクリーンルーム施工エリアである内部空間にクリーンエアを供給して内部空間を陽圧にすることにより内部空間と外気とを遮断してからクリーンルーム施工エリアの出入口に前室を作成して、前室内にクリーンエアを供給して前室内を陽圧にし、外気に触れないように養生された状態の資機材を前室内に搬入し、前室内で資機材の養生を撤去してから当該資機材をクリーンルーム施工エリアに搬入して資機材によるクリーンルームの施工を行う。
また、クリーンルーム施工エリアである内部空間に供給されるクリーンエアは空調機により外気をフィルタ処理やエアーワッシャー処理をして供給され、クリーンルームの区画が構築された後に上記空調機のクリーンエア供給管をクリーンルーム内に延長してクリーンルーム内に上記空調機を介したクリーンエアを供給した。
【発明の効果】
【０００５】
クリーンルーム施工エリアと外部との間の空気遮断を行ってからクリーンルームの施工を行うようにしたので、空気質の高い高品質なクリーンルームを得ることができる。
また、クリーンルーム施工エリアと外部との間の空気遮断を行う前にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材については、養生を徹底し、また、外装で囲まれたクリーンルーム施工エリアと外気とを遮断した後にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材についても養生を徹底するとともに前室で養生を撤去してクリーンルーム施工エリアに搬入するので、空気質の高い高品質なクリーンルームを得ることができる。
また、空調機を介したクリーンエアを最終的にクリーンルーム内に供給したので、空調機をそのままクリーンルーム完成後の運転用の空調機として利用できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
まず図２に基いて半導体製造施設のクリーンルームを例にしてクリーンルームの概要を説明する。クリーンルームは例えば３つのエリアに区切られた構造となっている。即ち、半導体製造や検査などに必要な精密機器が設置されるプロセスエリア１０と、床下エリア２０と、天井エリア３０とを備える。プロセスエリア１０の床は有孔床（グレーチング）１１となっており、プロセスエリア１０の天井は天井板１２により形成されている。天井エリア３０には、空調機３１と空気洗浄フィルタ３２が設けられている。プロセスエリア１０の横には空気循環エリア１０Ａが設けられ、これにより、空気が空気洗浄フィルタ３２で浄化されて、矢示のように各エリア１０，２０，１０Ａ，３０を循環する構造となっている。また、出入口４０と外部との間にはエアーシャワー、純水清掃設備等が装備された前室が設けられており、クリーンルームへの入室者は前室で空気洗浄を行った後にクリーンルーム内に入る。前室は、クリーンルーム側のドア４０ａと外部側のドアとの二重ドアにより密閉空間となる。尚、４１は空気循環空間１０Ａとプロセスエリア１０との間の出入口、４１ａはこの出入口４１のドア、４２は鉄骨柱、４２ａは有孔床（グレーチング）１１の鉄骨根太、４３，４４は耐火被覆梁、４５は二重窓、４６は廊下、４７は配線を収納する配線ピットである。
【０００７】
次にクリーンルームの施工方法を図１（ａ）〜（ｄ）に基いて順を追って説明する。
まずクリーンルームが設けられる建物の下部躯体工事、上部躯体工事等を行う。即ち、図外の型枠及び鉄筋を設置してコンクリートを打設して下部躯体１を構築し、鉄骨建方工事、屋上コンクリート打設工事、耐火被覆梁の取付け工事等により上部躯体２を構築する。その後、建物の外装工事を行う。即ち、外装パネル、建具、ガラス等を取付け、防水工事を行って外装３が構築される（以上、図１（ａ）参照）。建物の外装３が構築されたら、図１（ｂ）に示すように建物の外装３で囲まれたクリーンルーム施工エリアである内部空間４内にクリーンエア５を供給して内部空間４を陽圧にすることにより内部空間４と外気とを遮断する。即ち、ブロワ６ａ及び空気フィルタ６ｂを備えた空調機６により外気７をフィルタ処理して成るクリーンエア５をクリーンエア供給管６ｃを介してクリーンルーム施工エリアに供給する。上記フィルタ処理に代えて、図示しないエアーワッシャーでの処理にてクリーンエア５を供給してもよい。尚、建物の外装３が構築される前、及び、外装３が構築された後にクリーンルーム施工エリアがクリーンエア５で陽圧にされる前にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材８Ａは、外気に触れないように養生８ａされた状態で資機材８Ａの製造場所から搬送してきてクリーンルーム施工エリアに搬入するとともに、養生された状態で資機材８Ａによるクリーンルームの施工を行う（図１（ａ）参照）。この資機材８Ａは、例えば、内部の準躯体工事に用いるＡＬＣ板、成形セメント板等の下地構成部材、及び、クリーンルームの鉄骨柱４２、鉄骨根太４２ａ等である。図１（ｂ）に示すように外装３で囲まれたクリーンルーム施工エリアである内部空間４内に空調機６によりクリーンエア５を供給して内部空間４を陽圧にすることにより内部空間と外気とを遮断した後に、上記資機材８Ａの養生８ａを撤去する。次に、図１（ｃ）に示すようにクリーンルーム施工エリアの出入口に前室９を作成して、前室９内に上記と同様に図外の空調機でクリーンエアを投入し、前室９内を陽圧にする。養生８ｂを施した状態で搬送してきた資機材８Ｂを前室９内に搬入し、前室９内で養生８ｂを撤去してから当該資機材８Ｂをクリーンルーム施工エリアに搬入してこの資機材８Ｂによりクリーンルームの施工を行う。前室９は建物の外装３の外側に設けてもよい。この資機材８Ｂは、例えば、軽量下地鉄骨、有孔床１１や天井板１２の材料、壁ボード、天井ボード、クロス、建具等の内装材及び空気洗浄フィルタ３２等である。図１（ｄ）に示すようにクリーンルームの壁及び天井施工によりクリーンルームの空間を閉塞してクリーンルーム１００の区画１０１が構築されたなら、上記空調機６のクリーンエア供給管６ｃに供給管６ｄを継ぎ足してクリーンエア供給管を延長することによりクリーンエア供給管をクリーンルーム１００内まで延長させ、クリーンルーム１００内に空調機６を介したクリーンエア５を供給してクリーンルーム１００の空調除塵運転を行い、クリーンルーム完成後のクリーンルーム空調として利用する。尚、伸縮自在のクリーンエア供給管６ｃを用いてもよい。
【０００８】
このように、クリーンルーム施工エリアと外部との間の空気遮断を行ってからクリーンルームの施工を行うようにしたので、早い段階からクリーンな環境下でクリーンルームの施工を行うことができ、空気質の高い高品質なクリーンルーム１００を得ることができる。従来の施工方法では、クリーンルームの施工中においてクリーンルーム施工エリアと外部との間の空気遮断は行われていなかったので、例えばクリーンルームにおいて製造する半導体製品に大気汚染物質が付着しやすく半導体製造，研究を阻害する原因となる等の課題があったが、本発明によれば、空気質の高い高品質なクリーンルーム１００を得ることができるので、このような課題を解消できる。
また、外装３が構築される前にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材８Ａ、外装が構築された後にクリーンルーム施工エリアがクリーンエア５で陽圧にされる前にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材８Ａについては、養生８ａを徹底することにより、高品質なクリーンルームを得ることができる。尚、現実的に養生の不可能な部分、例えば、ボルトやジョイント部等については、純水による清掃を実施する。
また、外装３で囲まれたクリーンルーム施工エリアと外気とを遮断した後にクリーンルーム施工エリアに搬入する資機材８Ｂについても養生を徹底し、さらに、前室９を介してクリーンエア管理下に置かれた後に養生８ｂを撤去してクリーンルーム施工エリアに搬入するので、高品質なクリーンルームを得ることができる。
また、空調機６によるクリーンエア５を最終的にクリーンルーム１００内に供給しているので、空調機６をそのままクリーンルーム完成後の運転用の空調機として利用でき、空調機の導入コストを削減できる。
【産業上の利用可能性】
【０００９】
空気質が要求される半導体製造設備、手術室等のクリーンルームの施工に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明のクリーンルームの施工方法の一実施の形態を示す図である。
【図２】本発明のクリーンルームの施工方法により構築されるクリーンルームの構成例を示す図である。
【符号の説明】
【００１１】
３  クリーンルームが設けられる建物の外装、４  内部空間、
５  クリーンエア、６  空調機、７  外気、８Ａ，８Ｂ  資機材、９  前室、
１００  クリーンルーム、１０１  クリーンルームの区画。
【図１】
2005049025.tif 000003
【図２】
2005049025.tif 000004