(57)【要約】【課題】本発明は、下方吸気方式の高周波加熱装置において、如何なる使用条件においても床面に結露水が滴下することを防止するものである。【解決手段】ドア下部に着脱可能な水受け部４７を設け、前記水受け部に長手方向の水の流速を軽減させる流速軽減手段を備えることにより、水の流れを抑制する効果が発生し、加熱室２から発生する結露水を処理する際の水受け部の揺れや傾きによる水の零れを防止することが可能となる。【選択図】図１７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部を有し被加熱物を加熱する加熱室と、前記加熱室の開口部を開閉する扉と、前記高周波加熱装置本体の前面下部に水蒸気が結露して前記扉に付着した水滴が床に滴下するのを防止する水滴受け部とを備え、前記水滴受け部には水滴を受ける凹形状の溝を設け、かつ前記高周波加熱装置本体より着脱可能な構成とし、前記水滴受け部には、長手方向に水の流速を軽減させる流速軽減手段を備えた高周波加熱装置。
【請求項２】
流速軽減手段は、水滴受け部の略中央部に配設したことを特徴とした請求項１記載の高周波加熱装置。
【請求項３】
水滴受け部の両端に水を廻り込ませる第２の水だめ空間を設け、ある一定の傾きが発生した場合に前記第２の水だめ空間に水が流れ込む構成とした請求項１または２に記載の高周波加熱装置。
【請求項４】
第２の水だめ空間は、加熱室の開口部両端より外側に設けたことを特徴とした請求項３に記載の高周波加熱装置。
【請求項５】
水滴受け部は、加熱室開口部から滴下する水滴を受け止める水受け空間と、直接加熱室から水滴が入らない水だめ空間とで構成し、水がある一定高さにならないと水が水だめ空間に流れ込まない壁を設けたことを特徴とした請求項１または２に記載の高周波加熱装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電子レンジ及びオーブン電子レンジにおいて、加熱調理時に被加熱物から生じる水蒸気の結露対策に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の高周波加熱装置は、被加熱物を収容する加熱室内に高周波を出力する高周波発生手段を備えた高周波加熱装置は、加熱室内の被加熱物に対して、短時間で効率のよい加熱ができるため、食材等の加熱調理機器である電子レンジとして急速に普及した。
【０００３】
しかし、高周波加熱による加熱だけでは、加熱調理の幅が限られるなどの不便があった。
【０００４】
そこで、加熱室内で発熱する電熱器を追加して、オーブン加熱を可能にした高周波加熱装置が提案され、近年では、更に、加熱室内に加熱蒸気を供給する蒸気供給機構を追加して、高温蒸気による加熱調理も可能にした蒸気発生機能付き高周波加熱装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００５】
しかしながら、従来装置はもちろんこの高周波加熱装置においても、加熱した後の庫内結露の発生があった。したがって使用者はスチーム加熱後、毎回庫内の結露を拭い取る作業を行っていた。そして結露を拭かないで扉を閉めたままにしておくといつまでも結露状態が続くので、次に扉を開いたときに庫内がベタベタに濡れたままなので何となく気持ちが悪いという苦情があった。また、扉についた水滴は、庫内側ガラス面等をつたい加熱室庫外に滴下する。
【０００６】
そこで、従来のこの種の対策としては図８・図９に記載されているようなものが一般的であった。図８・図９は従来例の高周波加熱装置の斜視図と扉と水受け部の要部断面図である。図８に示すように、高周波加熱装置本体１の内部には加熱室２が、また、その前面には開閉可能な扉３が設けられている。図８に示すように、扉３は、金属製の構造体４、樹脂製の外装部５、加熱室内２を見るためのガラス製のスクリーン６から構成されている。一方、加熱室２を構成する前板７の下部には、本体の底面を構成する底板８が設けられている。そして、被加熱物から発生した水蒸気が、前記扉３を構成する金属製の構造体４に結露し下部へ滴下する際、構造体４の下部に設けられた凹部９の端面より結露水を滴下させて、前記樹脂製の外装部５に伝わらないようにしながら、前記底板８に設けられた水受け部１０により受けるようになっていた（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開昭５４−１１５４４８号公報
【特許文献２】実開平３−１１５３１８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、従来装置はもちろんこの高周波加熱装置においても、特にスチーム加熱した後の庫内結露量の発生はひどいものであり、扉についた水滴は、庫内側ガラス面等をつたい加熱室庫外に大量に滴下してしまう。
【０００８】
しかし、従来の構造では水受け部１０は本体を構成する底板８より構成しているため、取り外すことが出来ないので水受け部１０に溜まった被加熱物より発生する結露水を清掃する際、手が容易に届かなく使い勝手が悪いという課題があった。また水受け部１０の取り外しを可能にした場合でも、スチーム加熱などの庫内結露量の多いものは、水受け部１０の容量を大きくしなければならず、取り外し後、持ち運びをする際に水受け部１０の揺れや傾きにより水が水受け部から零れてしまうという課題があった。
【０００９】
本発明は、前期従来の課題を解決するもので、加熱調理時に水受け部１０に溜まった被加熱物より発生する結露水の床への滴下の防止を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記従来の課題を解決するため、本発明の高周波加熱装置は、開口部を有し被加熱物を加熱する加熱室と、前記加熱室の開口部を開閉する扉と、前記高周波加熱装置本体の前面下部に水蒸気が結露して前記扉に付着した水滴が床に滴下するのを防止する水滴受け部とを備え、前記水滴受け部には水滴を受ける凹形状の溝を設け、かつ前記高周波加熱装置本体より着脱可能な構成とし、前記水滴受け部には長手方向への流速軽減手段を備えたものである。
【００１１】
上記発明によれば、水滴受け部が高周波加熱装置本体より取り外しが可能となるため、水受け部に溜まった被加熱物より発生する結露水及び屑を容易に取り除くことができると同時に、水滴受け部の長手方向に水の流速を軽減できる手段を採用することにより、水受け部を取り外して持ち運ぶ場合に、水滴受け部から水が零れ落ちる問題を防止することができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の高周波加熱装置は、前記高周波加熱装置本体の前面下部に水蒸気が結露して前記扉に付着した水滴が床に滴下するのを防止する水滴受け部を配し、水滴受け部には水滴を受ける凹形状の溝を設け、かつ前記高周波加熱装置本体より着脱可能な構成とし、水滴受け部には長手方向に水の流速を軽減させる流速軽減手段を備えるため、床面に結露水が滴下するという品位を損なう課題を防止することが可能となり、水滴受け部を取り外せるため結露水及び屑を容易に取り除くことができ、また水滴受け部を着脱し、持ち運ぶ際の水滴受け部の揺れや傾きによる水の零れを防止することができるという効果を有している。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
第１の発明は、開口部を有し被加熱物を加熱する加熱室と、前記加熱室の開口部を開閉する扉と、前記高周波加熱装置本体の前面下部に水蒸気が結露して前記扉に付着した水滴が床に滴下するのを防止する水滴受け部を有する高周波加熱装置において、前記水滴受け部には水滴を受ける凹形状の溝を設け、かつ前記高周波加熱装置本体より着脱可能な構成とし、水滴受け部には長手方向に水の流速を軽減させる流速軽減手段を備えるため、水受け部に溜まった被加熱物より発生する結露水及び屑を容易に取り除くことができ、前記水滴受け部の揺れや傾きによる水の零れを防止することができる。
【００１４】
第２の発明は、特に、第１の発明の高周波加熱装置において、水滴受け部の流速軽減手段を水滴受け部の略中央部に配設することにより、水滴受け部の傾き、揺れにより発生する水滴受け部長手方向の水の流速の増加を長手方向の中央で軽減し、水滴受け部の長手方向の傾き、揺れによる両端からの水の零れを防止することができる。
【００１５】
第３の発明は、特に、第１または第２の発明の高周波加熱装置において、水滴受け部の流速軽減手段を、水滴受け部の両端に水を廻り込ませる第２の水だめ空間を設けることにより、ある一定の傾きが発生した場合に前記第２の水だめ空間に水が流れ込み、水滴受け部両端での水の零れを防止することができる。
【００１６】
第４の発明は、特に、第３の発明の高周波加熱装置において、第２の水だめ空間を、加熱室の開口部両端より外側に設けることにより、前記扉に付着した結露水は開口部下側にある水滴受け部の水だめ空間にのみ溜まるため、水滴受け部の揺れ、傾きが発生した場合にのみ第２の水だめに流れ込み、水滴受け部両端での水の零れを大幅に防止することができる。
【００１７】
第５の発明は、特に、第１または第２の発明の高周波加熱装置において、水滴受け部を加熱室開口部から滴下する水滴を受け止める水受け空間と、直接加熱室から水滴が入らない水だめ空間とで構成し、水がある一定高さにならないと水が水だめ空間に流れ込まない壁を設けることにより、前記加熱室開口部から滴下する結露水は、ある一定水量まで前記水受け空間に貯水するため、長手方向の傾き、揺れが発生した場合でも前記壁を乗り越えて水だめ空間への貯水が可能なため、水滴受け部両端での水の零れを大幅に防止することができる。
【００１８】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照にしながら説明する。なお、この実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
【００１９】
図１３及び図１４は、本発明に係る蒸気発生機能付き高周波加熱装置の一実施の形態の外観図である。
【００２０】
この一実施の形態の蒸気発生機能付き高周波加熱装置１００は、食材の加熱調理に高周波加熱及び加熱蒸気による加熱が可能な電子レンジとして使用されるもので、食材等の被加熱物を収容する加熱室１０３内に高周波を出力する高周波発生手段（マグネトロン）１０５と、加熱室１０３内に加熱蒸気を供給する蒸気供給機構１０７とを備え、高周波と加熱蒸気との少なくともいずれかを加熱室１０３に供給して加熱室１０３内の被加熱物を加熱処理する。
【００２１】
加熱室１０３は、前面開放の箱形の本体ケース１１０内部に形成されており、本体ケース１１０の前面に、加熱室１０３の被加熱物取出口を開閉する透光窓１１３ａ付きの開閉扉１１３が設けられている。開閉扉１１３は、下端が本体ケース１１０の下縁にヒンジ結合されることで、上下方向に開閉可能となっており、上部に装備された取っ手１１３ｂを掴んで手前に引くことによって、図１４に示す開いた状態にすることができる。
【００２２】
加熱室１０３と本体ケース１１０との壁面間には所定の断熱空間が確保されており、必要に応じてその空間には断熱材が装填されている。
【００２３】
特に加熱室１０３の背後の空間は、加熱室１０３内の雰囲気を攪拌する循環ファン及びその駆動モータ（図示略）を収容した循環ファン室となっており、加熱室１０３の後面の壁が、加熱室１０３と循環ファン室とを画成する仕切壁となっている。
【００２４】
図示はしていないが、加熱室１０３の後面壁である仕切壁１１５には、加熱室１０３側から循環ファン室側への吸気を行う吸気用通風孔と、循環ファン室側から加熱室１０３側への送風を行う送風用通風口とが形成エリアを区別して設けられている。各通風孔は、多数のパンチ孔として形成されている。
【００２５】
本実施の形態の場合、図１４に示すように、高周波発生手段（マグネトロン）１０５は、加熱室１０３の下側の空間に配置されており、この高周波加熱装置５から発生した高周波を受ける位置にはスタラー羽根１１７が設けられている。そして、高周波発生手段１０５からの高周波を、回転するスタラー羽根１１７に照射することにより、該スタラー羽根１１７によって高周波を加熱室１０３内に撹拌しながら供給するようになっている。なお、高周波発生手段１０５やスタラー羽根１１７は、加熱室１０３の底部に限らず、加熱室１０３の上面や側面側に設けることもできる。
【００２６】
蒸気供給機構１０７は、図１５に示すように、装置本体に着脱可能に装備される１基の貯水タンク１２１と、加熱室１０３内に装備される２つの給水受け皿１２５と、これらの給水受け皿１２５を加熱して給水受け皿１２５上の水を蒸発させる加熱手段１２７と、貯水タンク１２１の水を加熱手段１２７による加熱域を経由して給水受け皿１２５に導く２系統の給水路１２９と、貯水タンク１２１と各給水路１２９との接続部に装備されて貯水タンク１２１の取り外し時に貯水タンク及び給水路内の水の漏れ出しを防止するタンク側の止水弁１３３及び給水路側の止水弁１４５と、給水路側の止水弁１４５よりも下流に配置されて給水路１２９から貯水タンク１２１への水の逆流を防止する逆止弁１４７とを備えて構成される。
【００２７】
上記した２系統よりなる給水路１２９の特長的構成は、後で詳述するが、各加熱手段１２７による加熱域から給水路先端の水吹出し口１２９ｅまでの距離が等距離に設定されていることにある。
【００２８】
なお、蒸気供給機構７は、図１６に示すように、１系統の給水路１２９から一つの給水受け皿１２５に水を供給して蒸気を発生させる構成とすることもできる。
【００２９】
本実施の形態において、貯水タンク１２１は、取り扱い性に優れる偏平な直方体状のカートリッジ式で、装置本体（本体ケース１１０）に対して着脱が容易にでき、しかも、加熱室１０３内の加熱によって熱的なダメージを受けにくいように、図１３にも示すように、本体ケース１１０の側面に組み付けられたタンク収納部１３５に差込装着される。つぎに、本発明の一実施例における冷却構造について図面を用いて説明する。
【００３０】
図３は、本発明の一実施例の高周波加熱装置の斜視図であり、図４・図５・図６は、図３における高周波加熱装置の断面ＡーＡ・断面ＢーＢ・断面ＣーＣある。また、図７は、同高周波加熱装置の底板を取り外した状態での底面図である。
【００３１】
図３において、加熱室２の前面には、被加熱物を出し入れするためのドア３７を設けている。なお、ドア３７の下部には操作部３８をドアと一体に形成している。加熱室２の上面と左右側面にはキャビネット３２を設けている。キャビネット３２は、壁などに近接して設置せれても壁の表面が過加熱されないように排気口は設けていない。次に、図４・図５・図６を用いて内部構成について説明する。図４において、上壁面１１には管状の管ヒーター１２が、底壁面１３には面状の面ヒーター１４を設けている。高周波発生手段の電源部であるインバータ電源１５と高周波加熱装置の動作を制御する制御基板１６は、逆Ｕ字型の箱形状の電気部品取付板１７と、取付板３９と電気部品取付板１７を切り起して設けられた１７ａ・１７ｂにより宙吊り状態で配置している。電気部品取付板１７は、加熱室後壁面１８より下方に延出したフランジ１９部と加熱室前壁面２０より下方に延出したフランジ２１部に加熱室底壁面１３部を外側から覆うように載置している。ターンテーブル２２を駆動させるモーター２３は、面ヒーター１４からの熱伝導を避けるために取付板２４を介して電気部品取付板１７に取り付けている。底板２５に設けられた吸気口２５ａ（図５に記載）から送風機（後述）により吸気され、そして送風される冷却風は、インバータ電源１５・制御基板１６・モーター２３を冷却後、加熱室後壁面１８の下部に設けられた排気口２６より排気される。
【００３２】
図５は、同高周波加熱装置の前部の横断面図である。図５において、電気部品取付板１７の右側には、遠心式送風機であるシロッコファン２７と渦巻きケーシング２８と隈取り型モータ２９を、宙吊り状態に設置している。送風機の側方には、インバータ電源１５があり、送風機により冷却される。送風機とインバータ電源１５間には、効率よく冷却するため、整流ガイド３０を設けている。インバータ電源１５を通過した冷却風は、電気部品取付板１７の側壁に設けられた開口を経て、加熱室左側壁３１とキャビネット３２間を通り、本体裏板より排気する。また、加熱室右側壁３３とキャビネット３２間には断熱板３４が設置されており、送風機より発生する送風の一部が、加熱室右側壁３３と断熱板３４間を通り、加熱室右側壁に設けられた開口部（図示せず）より加熱室２内に送風する構成である。
【００３３】
図６は、同高周波加熱装置の中央部の横断面図である。図６において、高周波発生手段のマグネトロン３５は、加熱室右側面３３と当接しているマグネトロン取付板４０と導波管４１に取り付けられている。マグネトロン３５より照射された高周波は、導波管４１から加熱室２に導かれる。モーター２３の側方には、面ヒーター１４のリード線４２を固定する絶縁板４３が、電気部品取付板１７を切り起して設けられた取付部に取付られている。送風機による冷却風の流れは、図５と同様に、電気部品取付板１７の側壁に設けられた開口を経て、加熱室左側壁３１とキャビネット３２間を通り、本体裏板より排気される。
【００３４】
図７は、底板を取り外した状態での底面図であり、送風機による冷却風の流れを示している。図７において、本体の前方右側には送風機があり、その側方にはインバータ電源１５、後方にはマグネトロン３５と加熱室２へ送風するためのガイド３６が、また、中央部にはモーター２３、そして、本体の後方には制御基板１６が設置されている。送風機による冷却風は、整流ガイド３０に設けられた第１の整流部３０ａと第２の整流部３０ｂにより、インバータ電源１５とマグネトロン３５に分流し、各々冷却している。また、第２の整流部３０ｂにより分流された冷却風の一部は、制御基板１６とモーター２３を冷却する構成である。整流ガイド３０は、冷却性能を向上させるために、吸気と排気を分離させるための仕切り部３０ｃを設けている。
【００３５】
図１は、本発明の一実施例の高周波加熱装置の要部縦断面図である。図１において電気部品取付板１７の高周波加熱装置本体の前側には、遠心式送風機であるシロッコファン２７と渦巻きケーシング２８と隈取り型モータ２９を、宙吊り状態に設置している。前述した隈取り型モータ２９の下方には機械室を構成する底板２５があり、隈取り型モータ２９周辺に主たる吸気口２５ａを設けている。また、ドア３７の下方には底板の一部の形状を変えて第二の吸気口２５ｂを形成している。ドア３７の下部には水受け部４７が設けられている。水受け部４７は、底板２５に設けられたフランジ部２５ｃに沿うように設けられた溝部４７ａを挿入して高周波加熱装置本体に取付けられるように構成している。また、水受け部４７と底板２５に設けられたフランジ部２５ｃには、吸気ガイド部４７ｂ・４７ｃ及び開口部２５ｄが設けられており、前述した第二の吸気口２５ｂへ外気が導かれるよう構成されている。
【００３６】
ここで、送風装置の吸気の経路について説明する。通常は送風装置（シロッコファン２７）による吸気は、主に主たる吸気口２５ａより吸気されるとともに、第二の吸気口２５ｂからも吸気される。いま高周波加熱装置本体を設置する床面４５に、柔軟な例えばビニールシート４６のようなものが敷かれた場合には、送風装置（シロッコファン２７）の吸引力によりビニールシート４６は主たる吸気口２５ａを塞いでしまう。さらに送風装置の吸引力によりビニールシート４６は底板２５に吸い付けられるが、吸気ガイド部４７ｃと底板２５の段差部２５ｅにて構成される逆Ｕ字型部によりビニールシート４６を床面４５に向ける力（Ｆ）が加わるため、これから先は底板２５に吸い付けられることはなく、確実に第二の吸気口２５ｂより低温の空気を吸気することができる。第二の吸気口２５ｂ部周辺をこのように構成することにより、確実に低温の空気を取り込むことができるので、冷却が不十分になる事態を防止することができ、インバータ電源１５やマグネトロン３５・制御基板１６・モーター２３など、これらの部品の寿命や性能に悪影響を及ぼすことを未然に防ぐことができる。
【００３７】
次に、加熱室２内で被加熱物を加熱した際に発生する水蒸気がドア３７に結露した水の動きについて図面を用いて説明する。
【００３８】
前述した図１において、ドア３７の加熱室２側には、被加熱物の加熱状況を確認するためのガラス製のスクリーン４８があり、そしてその下部にはスクリーン４８の保持と高周波加熱源であるマグネトロン３５から照射された電波をシールする電波減衰部を備えた金属製の保持部４９が設けられている。保持部４９とドア３７の外郭を構成する外枠部５０の間には、樹脂製の内枠部５１が設けられている。加熱室２内の被加熱物が加熱されることにより発生する水蒸気は加熱室２内の壁面に結露するとともにドア３７の内側であるスクリーン４８にも結露する。このスクリーン４８に結露した結露水が成長し滴下する経路は、まず加熱室２を構成する加熱室前壁面２０とドア３７を構成する内枠部５１に伝わった後、そのまま加熱室前壁面２０を伝わり滴下する分と、内枠部５１に設けられた突起部５１ａにより内枠部５１から離れて垂直に滴下する分に別れる。加熱室前壁面２０に伝わった結露水は水受け部４７の吸気ガイド部４７ｂに伝わり、そして水滴を受ける凹形状の溝部４７ｃに溜まる。一方、突起部４７ａにより内枠部５１から離れて垂直に滴下する分は直接前述した水滴を受ける凹形状の溝部４７ｃに溜まる。前述した吸気ガイド部４７ｂは、加熱室前壁面２０の垂直面よりも奥側にすることで、またドア３７を構成する内枠部５１には突起部５１ａに設けることにより垂直に滴下させ確実に結露水を水受け部４７で受ける構成となっている。また使用者が水受け部４７に溜まった結露水や被加熱物から生じる屑を清掃する際に、水受け部４７を取り外すときに水受け部４７が傾いて結露水がこぼれないように、水受け部４７に設けた溝部４７ａを、底板２５に設けたフランジ部２５ｃに挿入することにより水受け部４７の動きが規制され水平方向のみ取り外せる構成となっている。
【００３９】
図２（ａ）・図２（ｂ）は、水受け部４７と底板２５要部を表側及び裏側から見たときの斜視図である。底板２５には前述した第二の吸気口２５ｂとフランジ部２５ｃ及び開口部２５ｄが設けられている。一方、水受け部４７には前述した溝部４７ａと吸気ガイド部４７ｂ及び吸気ガイド部４７ｃが設けられている。また、底板２５には高周波加熱装置本体を安定して設置するための支柱５２（足ゴム）が設けられ、一方の水受け部４７にはツメ部５３が設けられており、支柱５２にツメ部５３を勘合させて水受け部４７を高周波加熱装置本体に装着する構成となっているため、装着・取り外しが容易で、ツメ勘合のため勘合力をツメの肉厚及び支柱の径を操作することで最適な勘合にすることができるという効果がある。
【００４０】
図１７は前記水受け部４７と加熱室２を表側から見たときの斜視図である。水受け部４７には長手方向の水の流速を中央で減速させるための中央壁４７ｅを設けられ、水受け部両端には水の流れを水受け部両端で減速させる水だめ空間４７ｄが設けられている。図１８は前記中央壁４７ｅの形状を示す水受け部４７の断面図である。中央壁４７ｅはその壁の一部にスリット部を設けることにより、水の流速を減速させると同時に、中央壁４７ｅを境にした左右２ヶ所の水受け部４７のどちらか片側にのみ溜まることによる貯水量の減少を防ぐ効果がある。また加熱室２より発生する結露水を受け止める水受け部４７の前記溝部47ａと前記水だめ空間４７ｄを分断するための分断壁４７ｆが加熱室２の開口部より外側に設置されている。加熱室２より発生する結露水は加熱室開口部より溝部４７ａに流れ込むが、水だめ空間４７ｄにはある一定水量にならなければ流れ込まない構造になっている。これらにより高周波加熱装置本体より取り外しが可能な水受け部４７において、多量の水が貯水された場合においても、持ち運び時の揺れや傾きに対して、水の流速は水受け部４７の中央壁４７ｅによって軽減され、またそれは両端の分断壁４７ｆにおいても同様の減速効果が得られ、かつ水だめ空間４７ｄという水の逃げ道を設置することにより、水受け部４７を持ち運ぶ際の両端からの水の零れを防止することができるという効果がある。
【００４１】
図１８は前記中央壁４７ｅの形状を示す水受け部４７の断面図である。中央壁４７ｅはその壁の一部にスリット部を設けることにより、水の流速を減速させると同時に、中央壁４７ｅを境にした左右２ヶ所の水受け部４７のどちらか片側にのみ溜まることによる貯水量の減少を防ぐ効果がある。
【００４２】
このように、水受け部４７において、水の流速を軽減させる構造を設けることにより結露水の床面への滴下、水受けの両端からの滴下という課題を解決する高周波加熱装置を提供することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
以上のように、本発明にかかる高周波加熱装置は、高周波加熱装置本体より取り外し可能な水受け部において、水の零れを配慮した構造により取り扱いが容易となるので、水の後処理が必要な構造を持つ分野等の用途にも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明に係る蒸気発生機能付き高周波加熱装置の一実施の形態の要部縦断面図
【図２】（ａ）本発明の他の一実施例における要部の表側斜視図（ｂ）本発明の他の一実施例における要部の裏側斜視図
【図３】本発明に係る蒸気発生機能付き高周波加熱装置の一実施の形態の斜視図
【図４】同高周波加熱装置の縦断面図（断面Ａ−Ａ）
【図５】同高周波加熱装置の横断面図（断面Ｂ−Ｂ）
【図６】同高周波加熱装置の横断面図（断面Ｃ−Ｃ）
【図７】同高周波加熱装置の底面図
【図８】従来例の高周波加熱装置の斜視図
【図９】従来例の高周波加熱装置の要部縦断面図
【図１０】従来例の高周波加熱装置の縦断面図
【図１１】同高周波加熱装置の前部横断面図
【図１２】同高周波加熱装置の底面図
【図１３】本発明に係る蒸気発生機能付き高周波加熱装置の一実施の形態の外観斜視図
【図１４】図１３に示した蒸気発生機能付き高周波加熱装置の加熱室の開閉扉を開いた状態で、加熱室内を前面から見た時の概略構成図
【図１５】図１３に示した蒸気発生機能付き高周波加熱装置における蒸気供給機構の概略構成図
【図１６】給水受け皿が一つの場合の蒸気供給機構の概略構成図
【図１７】本発明の一実施例における同高周波加熱装置の表側斜視図
【図１８】本発明の一実施例における要部の縦断面図
【符号の説明】
【００４５】
２  加熱室
２５  底板
２５ａ  主たる吸気口
２５ｂ  第二の吸気口
２５ｃ  フランジ部
２５ｄ  開口部
２５ｅ  段差部
４７  水受け部
４７ａ  溝部
４７ｂ  吸気ガイド
４７ｃ  吸気ガイド
４７ｄ  水だめ空間
４７ｅ  中央壁
４７ｆ  分断壁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2005127622.tif 000007
【図６】
2005127622.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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