(57)【要約】【課題】  搬送速度を低下させないで真空処理室でのキャリアの停止を適正に行うことができる真空処理装置の真空処理室におけるキャリアの位置決め装置を提供する。【解決手段】  真空処理室４Ａ〜４Ｃを有する真空処理装置１において、各真空処理室側には、キャリア６の駆動機構と、車輪載置用のレール１５と、制動力付与位置検出用のセンサと、このセンサの作動により作動される複数個の磁石とを備え、キャリア６側には、車輪１６と、制動用の磁石を配置し、キャリアが真空処理室の所定位置に到達したときは、キャリアの駆動機構の速度制御手段によりキャリアの駆動機構に制動力を付与すると共に、前記センサの検出出力に基づきキャリア側の磁石と前記真空処理室側の磁石との吸引力又は反発力によってもキャリアに対して制動力を付与するように構成した。【選択図】  図１
2005351359.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を真空処理する一つ又は複数個の真空処理室と、前記基板を載置して搬送するキャリアと、前記基板を載置したキャリアを大気側と真空処理室内との搬入及び排出するための搬入、排出する予備室とを供えた真空処理装置において、
各真空処理室側には、
駆動用モータと
この駆動用モータにより駆動されるピニオンギヤ等の駆動力伝達手段と
前記駆動用モータの制御手段と
から成るキャリアの駆動機構と、
キャリアの配置される車輪支持用のレールと、
キャリアの停止位置の前方所定位置に配置される１個または複数個の制動力付与位置検出用のセンサと、
これらのセンサの作動により作動される１個または複数個の磁石とを備え、
一方、キャリア側には、
車輪と、
前記キャリアの駆動機構からの駆動力を受け、キャリアを搬送するラック等のトルク伝達手段と、
制動用の磁石とを備え、
キャリアが前記キャリアの駆動機構よりの駆動力により真空処理室に搬送され、真空処理室内の所定位置に到達したときには、キャリアの駆動機構の速度制御手段によりキャリアの駆動機構に制動力を付与すると共に、
前記センサの検出出力に基づき真空処理室側に配置した前記磁石を作動状態にすることにより前記キャリア側の磁石と前記真空処理室側の磁石との吸引力若しくは反発力によってもキャリアに制動力を付与して、キャリアを、真空処理室の所定位置に停止させるようにしたことを特徴とする真空処理装置の真空処理室におけるキャリアの搬送位置決め装置。
【請求項２】
真空処理室側の車輪支持用のレールに代えて搬送経路に沿って複数の車輪を配置し、一方、キャリア側の車輪に代えてキャリアの車台部に車輪に嵌合するレールを配置するようにしたことを特徴とする請求項１に記載の真空処理装置の真空処理室におけるキャリアの搬送位置決め装置。
【請求項３】
上記トルク伝達機構は、ばねを介してキャリアの車台部に支承されていることを特徴とする請求項２に記載の真空処理装置の真空処理室におけるキャリアの搬送位置決め装置。
【請求項４】
真空処理室側に配置される磁石としては電磁石を、また、キャリア側に配置される磁石としては永久磁石を用いるようにしたことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の真空処理装置の真空処理室におけるキャリアの搬送位置決め装置。
【請求項５】
真空処理室側に、さらにキャリアを停止位置に強制的にロックするための機械的なロック機構を併せ備えるようにしたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の真空処理装置の真空処理室におけるキャリアの搬送位置決め装置。
【請求項６】
キャリアとして、基板を垂直に直立載置して搬送するものを用いるようにしたことを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の真空処理装置の真空処理室におけるキャリアの搬送位置決め装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は大型基板を含む各種の基板の真空処理室でのスパッタリング等の固定処理のために、真空処理室内の所定位置に、基板を載置したキャリアを、的確に位置決めするための真空処理装置の真空処理室におけるキャリアの位置決め装置の改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、プラズマディスプレイや液晶ディスプレイに用いられる大型ガラス基板を加工するには、真空下において、所望の温度まで昇温させる加熱工程や、スパッタリング、或いは、エッチング等の加工手段で複数層成膜する種々の成膜工程が必要である。
以下、これらの真空下における複数層の成膜工程の他、この成膜工程に付随する加熱工程等の真空下における処理工程を総括的に真空処理と称し、また、真空槽にスパッタリング装置の他、加熱装置等の真空処理機構を具備し、基板を真空処理する一工程分の機能を有する真空室を真空処理室と総括的に称することにする。
【０００３】
従来の真空処理装置でガラス基板等の基板をキャリア等を用いて搬送するものとしては、ラックピニオン機構、コロ式駆動機構、チェーン駆動機構等が多く採用され、これらの駆動機構により基板を載置したキャリアを真空処理室内に搬送し、基板に対してスパッタリング等の所望の真空処理をしていた。
真空処理装置がいわゆるインライン式の場合には、複数の真空処理室が直列に連結されており、キャリアを各真空処理室に順次搬送して、各処理室で所定の真空処理を行うものである。
【０００４】
【特許文献１】特開平８−７４９６１号  図１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、従来のキャリアの駆動方式は、特許文献１に示すラックピニオン駆動機構のように接触伝達駆動方式のものであっため、次のような問題点があった。
即ち、キャリアを真空処理室に搬入するときに、ピニオンに離れた状態にあるラックが、非回転状態にある当該ピニオンに接近しこれと噛み合う際に、歯先の衝突がしばしば発生する。このような歯先の衝突が発生すると、ラックピニオン機構が破損し、キャリアの搬送不能にも至るばかりか、摩耗粉を発生するという問題があった。
そこで、特許文献１のものでは、球状部材をばねで支持してカムの凹部を押し付けて接触させことによりピニオン軸の停止角度を所定位置に設定し、かつ、ピニオンとラックの噛み合う前にピニオンガイドとラックガイドで位相合わせを行い、歯先の衝突を避けるような構成も提案されている。
一方、キャリアが搬送する基板が、例えば、１ｍ角から３ｍ角というような大型基板の場合には、キャリアの重量も３００ｋｇ／枚程度となるため、このような重量のキャリアを真空処理室での処理時に停止させるために駆動機構に制動力を付与した場合、ピニオンとラック間にきしみを生じ、歯先同士の衝突で摩耗粉が生じる。
ところで、このような摩耗粉の発生は真空環境で使用する装置では、極力避けねばならないため、搬送速度を当初から低速に設定して位置決めしていた。
しかし、このように搬送速度を低下させると、作業時間（タクト）が大となり、作業効率も低下するので、この解決が求められていた。
【０００６】
本発明は従来のものの課題を解決し、搬送速度を低下することなく真空処理室でのキャリアの停止を適切に行うことができるようにした真空処理装置の真空処理室におけるキャリアの位置決め装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の真空処理装置の真空処理室におけるキャリアの位置決め装置は、請求項１に記載のものでは、基板を真空処理する一つ又は複数個の真空処理室と、前記基板を載置して搬送するキャリアと、前記基板を載置したキャリアを大気側と真空処理室内との搬入及び排出するための搬入、排出する予備室とを供えた真空処理装置において、各真空処理室側には、駆動用モータとこの駆動用モータにより駆動されるピニオンギヤ等の駆動力伝達手段と前記駆動用モータの制御手段とから成るキャリアの駆動機構と、キャリアの配置される車輪支持用のレールと、キャリアの停止位置の前方所定位置に配置される１個または複数個の制動力付与位置検出用のセンサと、これらのセンサの作動により作動される１個または複数個の磁石とを夫々備え、一方、キャリア側には、車輪と、前記キャリアの駆動機構からの駆動力を受け、キャリアを搬送するラック等のトルク伝達手段と、制動用の磁石とを備え、キャリアが前記キャリアの駆動機構よりの駆動力により真空処理室に搬送され、真空処理室内の所定位置に到達したときには、上記キャリアの駆動機構の速度制御手段によりキャリアの駆動機構に制動力を付与すると共に、前記センサの検出出力に基づき真空処理室側に配置した前記磁石を作動状態にすることにより前記キャリア側の磁石と前記真空処理室側の磁石との吸引力若しくは反発力によってもキャリアに制動力を付与して、キャリアを真空処理室の所定位置に停止させるように構成したことを特徴とする。
【０００８】
また、請求項２に記載のものでは、請求項１に記載のものにおいて、真空処理室側の車輪支持用のレールに代えて搬送経路に沿って複数の車輪を配置し、一方、キャリア側の車輪に代えてキャリアの車台部に車輪に嵌合するレールを配置するようにしたことを特徴とする。
【０００９】
また、請求項３に記載のものでは、請求項２に記載のものにおいて、上記トルク伝達機構は、ばねを介してキャリアの車台部に支承されていることを特徴とする。
【００１０】
また、請求項４に記載のものでは、請求項１乃至３のいずれかに記載のものにおいて、真空処理室側に配置される磁石としては電磁石を、また、キャリア側に配置される磁石としては永久磁石を用いるようにしたことを特徴とする。
【００１１】
また、請求項５に記載のものでは、請求項１乃至４のいずれかに記載のものにおいて、真空処理室側に、さらにキャリアを停止位置に強制的にロックするための機械的なロック機構を併せ備えるようにしたことを特徴とする。
【００１２】
さらに、請求項６に記載のものでは、請求項１乃至５のいずれかに記載のものにおいて、キャリアとして、基板を垂直に直立して載置して搬送するものを用いるようにしたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
まず、請求項１に記載のように構成すると、大型基板を載置した可成りの重量のキャリアも主として機械的な駆動機構から成るキャリアの駆動機構により円滑に真空処理室内を進むことができる。
また、キャリアが真空処理室内の所定位置に到達すると、速度制御手段からの減速指令でキャリアの駆動機構に制動力が付与されると共に、前記センサの検出出力に基づきキャリア側の磁石と前記真空処理室側の磁石との吸引力によってもキャリアに制動力が付与されるので、キャリアは両者の制動力を受けて真空処理室内の所定位置に迅速、的確に停止することができる。
この場合、キャリアの停止のために、従来のように、搬送速度を低下させなくてもよいので、真空処理装置における基板の搬送効率、従って作業効率を大幅に向上させることができる。
【００１４】
また、請求項２に記載のように、レールと車輪の関係は相対的なものであるので、真空処理室側には、レールに代えて搬送経路に沿って複数の車輪を配置し、一方、キャリア側に車輪に代えて、キャリアの車台部に車輪に嵌合するレールを配置するようにしても、キャリアの駆動力は駆動伝達手段であるピニオンギヤとトルク伝達手段であるラック間で伝達されてキャリアは駆動されるので、キャリアの位置決め動作は請求項１の場合と同等に行うことができる。
【００１５】
請求項３に記載のように、ラック等のトルク伝達機構を、ばねを介してキャリアの車台部に支承するように構成すると、キャリアの搬送中にばねによりラックの位置が上下動されるため、キャリア側のラックとレールの各所に配置されているピニオンギヤとの当初の噛み合いが適正に行われるように、円滑に調整することができる。
【００１６】
請求項４に記載のように、給電機構を容易に設置可能な真空処理室側に配置される磁石としては電磁石を用い、また、駆動されるキャリアに対しては給電機構を配置しずらいので、キャリア側に配置される磁石としては永久磁石を用いるようにすると、真空処理室側ではセンサと連動して電磁石が励磁されて、キャリア側の永久磁石との間で的確に吸引作用若しくは反発作用が行われことによりキャリアに対して制動力が付与されるるので、発塵作用もなく、キャリアの位置決めを適正に行うことができる。
【００１７】
請求項５に記載のように、真空処理室側に、さらにキャリアを停止位置に強制的にロックするための機械的なロック機構を併せ備えるようにすると、大型基板搬送用のキャリアのように、キャリアの自重が大で慣性力が働く場合でも、ロック機構でキャリアをロックするので、真空処理室内でのキャリアの位置決めを確実に行うことができる。
【００１８】
請求項６に記載のように、キャリアとして、基板を垂直に直立載置して搬送するものを用いるようにすると、真空処理室内のスペースを横置きタイプのものに比べ、幅方向を短くできるので、真空処理装置全体の面積を小さくできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下図示する実施の形態に基づき本発明の真空処理装置の真空処理室におけるキャリアの搬送位置決め装置を、具体的に説明する。
図１は、真空処理装置の全体構成を概念的に示す側面図、図２はキャリアとキャリアの駆動機構を示す側面図、図３はキャリアとキャリアの駆動機構を示す正面図である。図４は、真空処理室側に配置される制動機構の配置を示す斜視図、図５は、図４に示す制動機構の構成例を示す簡略構成図である。図６は、キャリアの搬送速度を制動制御したときの関係機構の時間特性図である。
本実施の形態では、本発明の搬送位置決め装置を、例えばガラス基板等の大型基板に対して、複数層の成膜処理を施すために複数（図示のものでは３個）の真空処理室を搬送させる場合について説明するが、簡単のため、本発明のキャリアの位置決め動作の説明は、第１の真空処理室４Ａ内の所定位置にキャリアを停止させて、真空処理を行う場合についてのみ、説明する。
【００２０】
図１において、１は本発明の真空処理装置、２Ａ及び２Ｂは夫々搬入、排出する予備室（以下単に、予備室と略称する）、４Ａ〜４Ｃは第１〜第３の真空処理室である。５ａ、５ｄは大気側と真空処理装置１の入口側、出口側に設けられる仕切扉、５ｂは真空処理装置１の予備室２Ａと真空処理室４Ａとの間に設けられる仕切扉、５ｃは真空処理装置１の真空処理室４Ｃと予備室２Ｂとの間に設けられる仕切扉である。
Ｓ１は真空処理室４Ａ、４Ｂ間に設けられる仕切り弁、Ｓ２は真空処理室４Ｂ、４Ｃ間に設けられる仕切り弁である。
６はキャリヤで、基板７を直立載置した状態で、真空処理装置内を貫通して横方向に配置されるレール１５上に車輪１６により搬送、排出される。この搬送、排出の動作は後述する。なお、１３は駆動力伝達手段としてのピニオンギヤ、１４はトルク伝達手段としてのラックである。
【００２１】
次に、図２及び図３に示すキャリアの駆動機構とそのトルク伝達機構の関係を説明する。図２及び図３において、車輪１６はキャリア６の荷重をレール１５上に確実に支え円滑に搬送させるためのもので、図示のように所定間隔をおいて数個（図示のものでは４個）ずつキャリア６の両側に設けられる。
ラック１４は、キャリヤ６の車台部に対してばね２０を介して設けられる。なお、２１はラック１４のピボット軸である。このようにラック１４の右端側（進行方向先端部）が、図２に示すようにピボット軸２１を支点としてばね２０の作用で常に上方方向に引き上げられる力が働いているため、キャリア６が真空処理室内に搬入するときに、ピニオンギヤ１６の歯と急激に当たったり歯同士が強い力で乗り上げたりせず、両者が円滑に噛み合うようになっている。
なお、ピニオンギヤ１３は、キャリア６のラック１４との噛み合わせ位置も考慮して、後述する図４に示すように、レール１５に対してキャリア６の搬送経路に対して所定間隔を隔てて複数個配置されるものとする。
【００２２】
車輪１６の駆動力は、動力伝達機構であるベルト２２を通じてサーボモータ等の駆動用モータ２３の駆動力がピニオンギャ１３に伝達され、ピニオンギヤ１３からラック１４に伝達されて、車輪１６がレール１５上を駆動し、キャリア６を駆動するようになっている。
なお、真空処理室内の発塵の発生を防止するために、ベルト２２及び駆動用モータ２３等は真空処理室４Ａの室外の大気側環境８に配置され、その駆動軸はシール（図示せず）を介して真空処理室内のピニオンギャ１３に動力を伝達している。
【００２３】
図４及び図５は、本発明の制動装置の構成を示すもので、真空処理室側には、キャリアの停止位置の前方所定位置に、例えば３個の制動力付与位置検出用のセンサ１７ａ〜１７ｃと、これらのセンサ１７ａ〜１７ｃの作動により作動されるセンサと同数個の電磁石１８ａ〜１８ｃとを夫々備えた制動機構１２を配置し、一方、キャリア６側には、制動用の磁石としての永久磁石式車上子１１とを配置して構成される。
【００２４】
図６はキャリア移動時のキャリア６の起動から停止までの、キャリヤの位置決め動作を行う構成要素の動作を示すタイミングチャートで、縦軸は以下に述べる波形信号Ａ〜Ｉを、また、横軸は時間軸ｔをとって示している。
同図中、波形Ａは駆動用モータ２３の標準的な回転速度特性を、また、波形Ｂは本発明の制動動作で修正される駆動モータ２３の実際の回転速度特性を示す。
また、波形Ｃ、Ｄ及びＥは夫々センサ１７ａ，１７ｂ及び１７ｃの検出出力を、また、Ｆ、Ｇ及びＨは電磁石１８ａ、１８ｂ及び１８ｃの励磁電圧を示す。
さらに、波形Ｉは図示しない機械的ロック機構の動作期間を示す。
【００２５】
次に、図１のほか、図２〜図６も参照して、本発明装置の動作について説明する。  まず、図１において、真空処理を行うための基板７を載置したキャリア６は、一連工程の始端である仕切扉５ａを開けて上述のように駆動用モータ２３の駆動力がピニオンギヤ１３からラック１４に伝達されて車輪１６を駆動して、キャリア６はレール１５上を搬送され、予備室２Ａに搬入される。
この場合、真空と大気圧の境である仕切扉５ｂは密閉されている。キャリア６が真空処理室２Ａに搬入された後、仕切扉５ａを閉鎖し、図示しない排気ポンプを働かして真空処理室２Ａは作業環境である真空にされる。
必要な真空度が得られると、ほぼ等圧に事前に保たれている隣の第１の真空処理室４Ａとの境の仕切扉５ｂを開き、図では省略されているが各室に１個以上設置されているピニオンギャ１３の動力による回転（図では右回転）によりキャリア６下部のラック１４に推力が作用し、図示のようにキャリア６を第１の真空処理室４Ａに搬入させる。
【００２６】
図６において、時点ｔ1で、モータ２３の速度制御手段（図示せず）から、キャリア６に対して移動指令が与えられと、モータ２３は当初は図６の波形Ａに示す曲線に沿って制御されるから、モータ２３は時点ｔ2で恒速に達し、時点ｔ3からは、次に、詳述する制動指令により波形Ａから波形Ｂの速度時間特性に切り替わって制御され、惰行または制動による減速に入り、時点ｔ7で停止するものである。
【００２７】
次に、この区間ｔ3〜ｔ7の制動領域の動作について、以下詳細に説明する。
図１に示す真空処理装置１において、キャリア６が第１の真空処理室４Ａ内に進入搬送されていき、図４に示す車上子１１の先端が、まず、キャリア６の停止位置直前に配置された制動機構１２内の制動力付与位置検出用センサ１７ａ（図５参照）の対向位置に時点ｔ3に到達すると、図６の波形Ｃに示すセンサ１７ａの検出出力に基づき波形Ｆに示すように電磁石１８ａが励磁されて、キャリア６側の永久磁石式車上子１１の対向位置に永久磁石式車上子１１磁極とは異極となる上下方向にＳ、Ｎ極の磁石の機能を発揮させるようにしておけば、これらの各磁石間の吸引力によってキャリア６は、制動力を受けて時点ｔ3からは波形Ｂに示すように制動をうけて減衰していく。
【００２８】
以下、同様に、キャリア６の永久磁石式車上子１１がセンサ１７ｂの対向位置に時点ｔ4で到達すると、センサ１７ｂが波形Ｄに示す検出出力を出すので、この検出出力に基づき電磁石１８ｂが励磁されて波形Ｇに示す励磁電圧で励磁されて電磁石となり、永久磁石式車上子１１を吸引し、さらに、キャリア６のが永久磁石式車上子１１がセンサ１７ｃの対向位置に時点5で到達すると、センサ１７ｃが波形Ｅに示す検出出力を出すので、この検出出力に基づき電磁石１８ｃが励磁されて波形Ｈに示す励磁電圧で励磁されて電磁石となり、永久磁石式車上子１１を吸引し、キャリアはこれら電磁制動力を受けて急激に減速されていく。
【００２９】
一方、この間、前述のように駆動用モータ２３に対しても、速度制御手段からの図４の区間ｔ3〜ｔ8では波形Ａの減衰特性で示すように駆動用モータの回転速度を低下させる制動力が付与されるように設定されているので、キャリア６は、この波形Ａに示す減衰特性の制動力に加えて、前記各電磁石１８ａ〜１８ｃと永久磁石式車上子１１間の吸引力による制動力の両者が加算されることになり、駆動用モータの回転速度は、波形Ａの速度特性が修正されて波形Ｂに示すように急速に低下していき、時点ｔ7において停止し、キャリア６を真空処理室４Ａ内の所定位置に位置決めされる。
即ち、本発明の制動が行われる結果、このような制動が行われなかった従来の停止時点ｔ8よりも可成り前の時点ｔ7において、発塵作用もなく、キャリヤ６を、円滑、的確に停止させことができる。
【００３０】
なお、図示しないが、補助的な機構として、キャリア６側に、機械的ロック機構を設けると、キャリアの重量が大の場合でも、位置決め位置を、次のように行うことができる。
次に、この動作を図６の波形図Ｉで補足説明する。
図６において、波形Ｉは、キャリア６側に、機械的ロック機構を設けた場合に、同機構が動作している区間を示す波形で、最後の制動用電磁石１８ｃの励磁が終了する時点ｔ6から所定区間（図示のものでは時点ｔ6→ｔ9の区間）、機械的ロック機構によりキャリア６をロックするようにすれば、キャリア６は慣性で惰行しようとした場合でも、このロック動作でロックされ、位置決め位置を逸脱することが完全に防止される。
【００３１】
上記の実施の形態は、本願発明の一実施の形態を示すもので、本発明はこれに限定されるものではない。たとえば、上記の実施の形態では、第１の真空処理室のみでのキャリアの位置決め動作を代表的に説明したが、第２、３の真空処理室でのキャリアの位置決めにも同様に行うことができる。また、図示しないが、真空環境で行う加熱室での熱処理の場合のキャリアの位置決めにも、当然適用可能である。
【００３２】
さらに、本実施形態の真空処理装置では、図１に示すように第３の真空処理室４Ｃでの処理を終えた基板を載置したキャリアは、予備室２Ｂを経て仕切扉５ｄから右方側へ排出される構成のものであるが、真空処理装置内にキャリアを搬送する搬送経路を往路、復路の２経路を設け、真空処理装置１の右方端は閉鎖すると共に、右方端に往路から復路へとキャリアを移送する移載機構を設けて、復路を経て左方端の復路出口側から真空処理済みの基板を載置したキャリアを排出するようにした構造の往路、復路を備えた真空処理装置に対しても、本発明が適用できることは勿論である。
【００３３】
また、上記の実施の形態では、簡単のため、図６に示すように、キャリア６の速度制御手段から出される図６の波形Ａで示すモータの減衰特性（制動信号）の始端をセンサ１７ａの検出信号と同じ時点ｔ3で付与する場合で説明したが、これに限定されず、この時点ｔ3を基準にして若干ずれた時点で始まるようにしてもよい。
【００３４】
また、上記実施の形態では、制動力付与位置検出用センサとして、３個のセンサ１７ａ〜１７ｃを配置した場合を示したが、３個に限定されず、１個のセンサであっても良い。但し、図示のように複数個のセンサを設けた方が、キャリア６の制動力付与位置を精度良く検知でき、かつ、適正な制動力を付与できるので、望ましい。
【００３５】
また、上記の実施の形態では、キャリヤ側の制動用磁石として、図５の左方に示すような上下方向にＮ極、Ｓ極の極性を帯びた１個の永久磁石を備えた永久磁石式車上子１１を配置し、一方、真空処理室側に配置する磁石としては、夫々上下方向に逆極性のＳ極、Ｎ極に励磁される３個の電磁石１８ａ〜１８ｃを用い、キャリヤ側と真空処理室側に配置した各磁石の相互の吸引力によりキャリヤ側に制動力が付与される場合で説明した。
しかし、キャリヤ側と真空処理室側に配置した各磁石の極性を同極性とし、それら磁石の反発力による速度緩和作用に基づく制動力を利用してもよい。
【００３６】
さらに、これらの両作用を利用する実施の形態として、次の各場合が考えられる。 まず、キャリヤ側の制動用磁石を横方向に配置し、左側をＮ極性に、右側をＳ極性に磁化した永久磁石を備えた永久磁石式車上子を用い、一方、真空処理室側に配置される３個の電磁石も横方向に配置して、左側をＳ極性に、右側をＮ極性に励磁されるようにした電磁石とすることが考えられる。
この場合は、永久磁石式車上子はキャリヤの進行に伴い、真空処理室側に配置される３個の電磁石に対して順次対向する位置に到達するが、各磁石が横方向に配置されているため、その対向位置では、まず、同極性のＳ極、Ｓ極、次に、逆極性のＮ極、Ｓ極の繰り返しで対向するので、キャリヤには、各磁石の反発力と吸引力による２段階の制動力が付与されることになる。
このような２段階の制動力を付与する他の実施の形態として、次の構成も考えられる。
即ち、キャリヤ側及び真空処理室側に配置する磁石を、本願の実施の形態と同様に、磁石を縦方向に配置して用い、さらに、これらの両者に配置する磁石を複数個用い、これらの磁石が相互に対向位置にきたときに、同極性となる位置を経て、逆極性になる位置に到達するように、各磁石を配置するように構成すればよい。
【００３７】
さらに、キャリアの駆動機構としては、ピニオンギヤとラックの組み合わせの場合で説明したが、これに限定されず、コロ駆動機構又は、チェーン駆動機構を用いても良い。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
本願発明は、液晶ディスプレイ用のスパッタ装置、大型基板向けスパッタ装置、プラズマディスプレー用のスパッタ装置などの各種スパッタ装置を含む真空処理装置に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】真空処理装置の全体構成を概念的に示す側面図である。
【図２】キャリアとキャリアの駆動機構を示す側面図である。
【図３】キャリアとキャリアの駆動機構を示す正面図である。
【図４】真空処理室側に配置される制動機構の配置を示す斜視図である。
【図５】図４に示す制動機構の構成例を示す簡略構成図である。
【図６】キャリアの搬送速度を制動制御したときの関係機構の時間特性図である。
【符号の説明】
【００４０】
１：真空処理装置
４Ａ〜４Ｃ：真空処理室
６：キャリア
７：基板
１１：永久磁石式車上子（制動用の磁石）
１２：真空処理室側の制動機構
１３：ピニオンギヤ（駆動力伝達手段）
１４：ラック（トルク伝達手段）
１５：レール
１６：車輪
１７ａ〜１７ｃ：制動力付与位置検出用センサ
１８ａ〜１８ｃ：制動用電磁石
２０：ばね
２３：駆動用モータ
【図１】
2005351359.tif 000003
【図２】
2005351359.tif 000004
【図３】
2005351359.tif 000005
【図４】
2005351359.tif 000006
【図５】
2005351359.tif 000007
【図６】
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