(57)【要約】【課題】  触媒担持量に対する活性サイトを増大させて、高い触媒活性を発現することができる微細界面構造を有する触媒及びその製造方法を提供する。【解決手段】  本発明の微細界面構造を有する触媒は、触媒となる活性種を含む微細ドメインが複数種類形成され、前記微細ドメインは規則的に配列されるとともに、異なる種類の微細ドメインが隣接することによって形成される界面が、同一平面状に多数形成されている。また、その製造方法は、複数種類の触媒となる活性種についてそれぞれ吐出液を調製し、各吐出液をインクジェットノズルから吐出させて基材上にそれぞれ微細ドメインを描画し、多数個の微細ドメインを規則的に配列して、異なる種類の微細ドメインが隣接することによって形成される界面を、同一平面状に多数形成することを特徴とする。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
触媒となる活性種を含む微細ドメインが複数種類形成され、前記微細ドメインは規則的に配列されるとともに、異なる種類の微細ドメインが隣接することによって形成される界面が、同一平面状に多数形成されている微細界面構造を有する触媒。
【請求項２】
前記活性種は３種類以上であって、３種類以上の微細ドメインが隣接することによって形成される多相界面が、同一平面状に多数形成されている請求項１に記載の微細界面構造を有する触媒。
【請求項３】
前記微細ドメインの形状が矩形、棒状、線状、円形およびドーナツ形の少なくとも１以上であり、前記微細ドメインの配列が格子状、市松模様状、ストライプ状または同心円状である請求項１または２に記載の微細界面構造を有する触媒。
【請求項４】
前記微細ドメインひとつの大きさは、その一辺または幅が１ｎｍから１ｍｍである請求項１〜３のいずれかに記載の微細界面構造を有する触媒。
【請求項５】
前記活性種がＴｉ、Ｓｉ、Ｒｕ、Ｗ、Ｖ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｃｄ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ａｕ及びＡｇの単体元素、それらの酸化物並びにそれらの水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも１以上である請求項１〜４のいずれかに記載の微細界面構造を有する触媒。
【請求項６】
基板上に請求項１〜５のいずれかに記載の微細界面構造を有する触媒。
【請求項７】
複数種類の触媒となる活性種についてそれぞれ吐出液を調製し、各吐出液をインクジェットノズルから吐出させて基材上にそれぞれ微細ドメインを描画し、多数個の微細ドメインを規則的に配列して、異なる種類の微細ドメインが隣接することによって形成される界面を、同一平面状に多数形成する微細界面構造を有する触媒の製造方法。
【請求項８】
触媒となる活性種を表面に担持した基材上に、インクジェットノズルから前記活性種とは異なる活性種を含む吐出液を吐出させて微細ドメインを描画し、多数個の微細ドメインを規則的に配列して、異なる種類の微細ドメインが隣接することによって形成される界面を、同一平面状に多数形成する微細界面構造を有する触媒の製造方法。
【請求項９】
複数種類の微細ドメインを描画するために、複数のインクジェットヘッドを使用する請求項７または８に記載の微細界面構造を有する触媒の製造方法。
【請求項１０】
前記微細ドメインの形状が矩形、棒状、線状、円形およびドーナツ形の少なくとも１以上であり、前記微細ドメインの配列が格子状、市松模様状、ストライプ状または同心円状である請求項７〜９のいずれかに記載の微細界面構造を有する触媒の製造方法。
【請求項１１】
前記吐出液がＴｉ、Ｓｉ、Ｒｕ、Ｗ、Ｖ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｃｄ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｉｒ、Ｆｅ、ＡｕおよびＡｇの単体元素、それらの酸化物並びにそれらの水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも１以上のゾルまたはナノ粒子のペーストである請求項７〜１０のいずれかに記載の微細界面構造を有する触媒の製造方法。
【請求項１２】
前記吐出液がＴｉ、Ｓｉ、Ｒｕ、Ｗ、Ｖ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｃｄ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｉｒ、Ｆｅ、ＡｕおよびＡｇの塩からなる群から選ばれる少なくとも１以上の水溶液である請求項７〜１０に記載の微細界面構造を有する触媒の製造方法。
【請求項１３】
前記微細ドメインの描画は、１種類の微細ドメインを描画した後、乾燥させてから他の種類の微細ドメインを描画するという手順で行い、全種類の微細ドメインを描画した後、微細ドメインが描画された基板を焼成する請求項７〜１２に記載の微細界面構造を有する触媒の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細界面構造を有する触媒及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、触媒を表面担持する方法として、ゾル／ゲル法や含浸法等が知られている。例えば、チタンアルコキシドにアルミニウムアルコキシドを添加したゾルを担体上に塗布し、これを乾燥させて得られたゲル膜を焼成して光触媒を調製する方法がある（例えば、特許文献１等）。
【０００３】
２成分系以上の触媒において、その触媒活性を発現するサイトは、その成分が接触したサイト、すなわち２成分の界面であると考えられる。しかし、従来の触媒調製方法では、触媒成分からなる微細ドメインを意図して規則的に配列することが困難であるので、活性サイト（界面）を意図的に規則的に配列し多数作り出すことは困難である。よって、従来の触媒調製方法では、触媒担持量に対して活性サイトが少ないことから触媒活性が相対的に低いという問題や、調製した触媒の触媒活性にばらつきが生じやすいという問題がある。ここでドメインとは、触媒となる活性種で形成される領域を示す。
【０００４】
また、触媒を積層構造とすることによって、触媒活性の向上を図る例もある。しかし、例えば、図６に示すように、基板６１上にＡ層６２、Ｂ層６３、Ｃ層６４を順次積層した触媒では、活性サイト（図中の○印）である３成分の界面が最外層に露出している可能性は少ない。よって、積層構造としても触媒担持量に対する活性サイトは依然として少ない。
【０００５】
また、導電性物質の表面上に、チタン、コバルト、ニッケルなどの金属微粒子又はその酸化物粒子を含む液体を塗布し、乾燥、焼結して触媒担持させ、これを陽極電極として用いることで廃水処理を行う方法がある（例えば、特許文献２等）。このような方法も触媒担持量に対する活性サイトが上記と同様に少なく触媒活性が相対的に低いため、排水処理の性能が十分でないという問題がある。
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−２５９４３３号公報
【特許文献２】特開２００１−２８６８６６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで本発明は、上記の問題点に鑑み、触媒担持量に対する活性サイトを増大させて、高い触媒活性を発現することができる微細界面構造を有する触媒及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するために、本発明に係る微細界面構造を有する触媒は、触媒となる活性種を含む微細ドメインが複数種類形成され、前記微細ドメインは規則的に配列されるとともに、異なる種類の微細ドメインが隣接することによって形成される界面が、同一平面状に多数形成されていることを特徴とする。
【０００９】
このように、本発明に係る触媒は、複数種類の活性種がそれぞれ多数個の微細ドメインとして規則的に配列されているので、界面を同一平面状に多数形成することができる。したがって、触媒の表面上に活性サイトが多数形成されるので、触媒担持量に対して活性サイトが増大し、高い触媒活性を得ることができる。
【００１０】
前記活性種は３種類以上であって、３種類以上の微細ドメインが隣接することによって形成される多相界面が、同一平面状に多数形成されていることが好ましい。
【００１１】
このように活性種を３種類以上用いる場合、図６に示すような従来の積層構造では、３成分の界面が最外層に露出する可能性が低く、触媒担持量に対して活性サイトが少ないという問題があった。しかし、本発明のように、活性種を微細ドメインとし、これを規則的に配列させることで、活性種が３種類以上であっても、微細ドメインが隣接することによって形成される界面、すなわち活性サイトが、最外層である同一平面上に多数形成されるので、触媒活性を向上させることができる。
【００１２】
前記微細ドメインの形状は矩形、棒状、線状、円形およびドーナツ形の少なくとも１以上が好ましく、前記微細ドメインの配列は格子状、市松模様状、ストライプ状または同心円状であることが好ましい。前記微細ドメインひとつの大きさは、その一辺または幅が１ｎｍから１ｍｍであることが好ましい。
【００１３】
微細ドメインひとつの大きさが１ｎｍ未満の場合、ドメインが小さ過ぎて均一混合系に近くなるため、界面としての機能が発現しにくくなる。一方、１ｍｍを越えると、形成される界面の数が減少して高い触媒活性を得ることができない。すなわち、微細ドメインひとつの大きさを１ｎｍから１ｍｍとすることで、優れた触媒活性を得ることができる。
【００１４】
前記活性種はＴｉ、Ｓｉ、Ｒｕ、Ｗ、Ｖ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｃｄ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｉｒ、Ｆｅ、Ａｕ及びＡｇの単体元素、それらの酸化物並びにそれらの水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも１以上であることが好ましい。また、本発明に係る触媒は、基板上に上記の微細界面構造を有するものが好ましい。
【００１５】
また、本発明は、別の側面として、微細界面構造を有する触媒の製造方法であり、複数種類の触媒となる活性種についてそれぞれ吐出液を調製し、各吐出液をインクジェットノズルから吐出させて基材上にそれぞれ微細ドメインを描画し、多数個の微細ドメインを規則的に配列して、異なる種類の微細ドメインが隣接することによって形成される界面を、同一平面状に多数形成することを特徴とする。
【００１６】
また、本発明に係る微細界面構造を有する触媒の製造方法は、別の態様として、触媒となる活性種を表面に担持した基材上に、インクジェットノズルから前記活性種とは異なる活性種を含む吐出液を吐出させて微細ドメインを描画し、多数個の微細ドメインを規則的に配列して、異なる種類の微細ドメインが隣接することによって形成される界面を、同一平面状に多数形成することを特徴とする。
【００１７】
このように、本発明に係る触媒の製造方法は、インクジェット方式を用いることによって、活性種の微細ドメインを意図的に規則正しく配列することが可能となり、微細界面構造を有する触媒を容易に製造することができる。また、インクジェットノズルによる描画は、既存のインクジェット機器を利用することができるので、設備費を低く抑えることができ、安価に微細界面構造を有する触媒を製造することができる。さらに、インクジェット方式では、非接触で微細ドメインを書き込めるため基材の種類に制約が少ないとともに、触媒材料の利用効率が高く、触媒材料の歩留りを向上させることができる。
【００１８】
本発明に係る微細界面構造を有する触媒の製造方法は、複数種類の微細ドメインを描画するために、複数のインクジェットヘッドを使用することが好ましい。前記微細ドメインの形状は、矩形、棒状、線状、円形およびドーナツ形の少なくとも１以上にすることが好ましく、前記微細ドメインの配列は、格子状、市松模様状、ストライプ状または同心円状にすることが好ましい。前記吐出液は、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｒｕ、Ｗ、Ｖ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｃｄ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｉｒ、Ｆｅ、ＡｕおよびＡｇの単体元素、それらの酸化物並びにそれらの水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも１以上のゾルまたはナノ粒子のペーストにすることが好ましい。また、前記吐出液は、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｒｕ、Ｗ、Ｖ、Ｐｔ、Ｎｉ、Ｃｄ、Ｃｏ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｐｄ、Ｍｏ、Ｉｒ、Ｆｅ、ＡｕおよびＡｇの塩からなる群から選ばれる少なくとも１以上の水溶液にすることも好ましい。微細ドメインの描画は、１種類の微細ドメインを描画した後、乾燥させてから他の種類の微細ドメインを描画するという手順で行うことが好ましく、全種類の微細ドメインを描画した後、微細ドメインが描画された基板を焼成することが好ましい。
【発明の効果】
【００１９】
このように、本発明によれば、触媒担持量に対する活性サイトを増大させることより、高い触媒活性を発現する微細界面構造を有する触媒及びその製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の実施の形態について説明する。本発明に係る微細界面構造を有する触媒の製造方法は、先ず、複数種類の触媒となる活性種についてそれぞれ吐出液を調製する。活性種としては、触媒として使用できるものであれば特に限定されないが、その触媒性能から、チタン（Ｔｉ）、ケイ素（Ｓｉ）、ルテニウム（Ｒｕ）、タングステン（Ｗ）、バナジウム（Ｖ）、白金（Ｐｔ）、ニッケル（Ｎｉ）、カドミウム（Ｃｄ）、コバルト（Ｃｏ）、スズ（Ｓｎ）、亜鉛（Ｚｎ）、パラジウム（Ｐｄ）、モリブデン（Ｍｏ）、イリジウム（Ｉｒ）、鉄（Ｆｅ）、金（Ａｕ）及び銀（Ａｇ）の単体元素、それらの酸化物並びにそれらの水酸化物からなる群から選ばれる少なくとも１以上が好ましい。そして、活性種を２種類以上用いることで、単一の触媒では得られない高い活性を有する触媒層を形成することができる。特に、活性種を３種類以上用いることで、より高い活性を有する多相界面を形成することができる。
【００２１】
吐出液としては、上記の単体元素、それらの酸化物またはそれらの水酸化物のゾルまたはナノ粒子のペーストが好ましい。または、上記の単体元素の炭酸塩、硝酸塩などの塩の水溶液が好ましい。インクジェットノズルへの詰まりを防止するために、ゾルまたはペースト中の微粒子はできるだけ分散粒子径が小さいほうが好ましい。また、同様に詰まりを防止するために、吐出液には液の蒸発速度を調整するための添加剤、液滴の形状を安定化させる添加剤など、通常のインクジェットの吐出液に含まれるものと同様の添加剤を加えても良い。これらの添加剤の内、特に触媒中に残存して触媒活性を低下させる疑いのあるものは、比較的低温で焼成することで触媒中から分解除去されるものを選定することが望ましい。
【００２２】
次に、各吐出液をインクジェットノズルから吐出させて基材上にそれぞれ微細ドメインを描画する。インクジェットは書き込み位置を精度よく決めることが可能であり、異なる種類の微細ドメインを隣接させて描画することができる。インクジェットのヘッド方式としては、バブルジェット（登録商標）方式、ピエゾ方式、その他があり、基本的にはいずれを用いても良いが、液が加熱されることが適切でない場合は、バブルジェット（登録商標）方式は避けた方が好ましい。さらに、より微細なドメインの方が単位面積あたりの界面を多く形成できることから、ヘッドから吐出する活性種を含む吐出液の液滴は小さいほうが好ましい。また、複数のインクジェットヘッドを用いることで、複数種類の微細ドメインの書き込みを容易に行うことができる。例えば、微細ドメインの種類と同じ数のインクジェットヘッドを用いることが好ましい。
【００２３】
微細ドメインの形状には特に制約はないが、平面上に規則的に配列しやすく、界面を多数形成しやすい幾何学形状が好ましい。この意味から微細ドメインの形状は、正方形や長方形などの矩形や、棒状、線状、円形、ドーナツ形などが好ましい。また、微細ドメインの配列は、格子状、市松模様状、ストライプ状、同心円状などが好ましい。図１は、３種類の活性種を矩形の微細ドメイン形状でストライプ状に配列させた一例である。なお、２種類の活性種で市松模様状に配列することもできる。図２は、３種類の活性種を線状の微細ドメイン形状で格子状に配列させた一例である。図２に示すように、描画した微細ドメインの上に異なる活性種の微細ドメインをさらに描画してもよい。これにより、一旦は線状に描画した微細ドメインを、矩形の微細ドメインにすることができる。また、図３は、２種類の活性種を円形およびドーナツ形の微細ドメイン形状で同心円状に配列させた一例である。
【００２４】
微細ドメインひとつの大きさは、矩形の場合はその一辺が、棒状、線状、ドーナツ形の場合はその幅が１ｎｍから１ｍｍの範囲であることが好ましく、１０ｎｍから１００μｍの範囲がより好ましい。この微細ドメインひとつの大きさは、インクジェットの噴射液性状、ノズル形状等によって決まる。微細ドメインひとつの大きさが１ｎｍ未満の場合、ドメインが小さ過ぎて均一混合系に近くなるため界面としての機能が発現しにくくなる一方、描画コストが増加し効率的でない。また、１ｍｍを越えると、形成される界面の数が減少して高い触媒活性を得ることができない。
【００２５】
また、基材としては、活性種を担持できるものであれば特に限定されないが、例えば、ガラス基板、Ｔｉなどの金属基板などが好ましい。インクジェット方式では非接触で微細ドメインを書き込めるため、多種の基材が使用できる。
【００２６】
このように、異なる種類の微細ドメインを隣接させることによって、活性サイトである活性種間の界面が形成される。そして、多数個の微細ドメインを基板上に規則的に配列させることで、この界面が同一平面状に多数形成されることとなる。したがって、触媒担持量に対する活性サイトを増大させることができる。
【００２７】
他の実施の形態として、基板となる面上に予め活性種の少なくとも１成分を従来の触媒調製方法などにより担持しておくこともできる。そして、その上にインクジェット方式により異なる活性種の微細ドメインを描画することで、基板面上に予め担持した活性種も、インクジェット方式により描画した微細ドメインと同様に、微細ドメインを形成することができる。これにより、全ての活性種をインクジェット方式で描画した場合と同様に、同一平面状に多数の界面が形成されるので、触媒担持量に対する活性サイトを増大させることができる。
【００２８】
なお、インクジェットで１種類の微細ドメインを書き込んだ後、必要に応じて室温あるいは加熱雰囲気で乾燥を行ってよい。これにより、異なる種類の微細ドメイン間でこれに含まれる活性種が混合するのを避けることができる。また、全ての微細ドメインを書き込んだ後、必要に応じて焼成処理を行ってよい。これにより、触媒の固定や触媒の活性を向上させることができる。
【００２９】
このように微細ドメインが描画された基板は、このままプレート状で使用する他に、円筒形状や波状などに湾曲するように加工したり、複数のプレートを組み立ててハニカム形状などに加工したりして使用することもできる。また、平面状の基板に微細ドメインを描画する他、ペレット状や球状などの平面でない基板に微細ドメインを直接描画することもできる。
【００３０】
本発明の触媒は、気体でも液体でもどの反応系においても使用することができる。対象となる反応は、特に限定されないが、廃水処理に使用することが好ましい。例えば、基板に導電性物質を使用することで、触媒を担持した電極を製造することができる。そして、この電極を陽極に使用して、陰極との間に電圧を印加し、電極間に廃水を流すことで、廃水中の有害物質が酸化還元作用により分解されるので、廃水の浄化処理を行うことができる。また、基板にガラス板を使用することで、光触媒を製造することができる。そして、この光触媒を使用して排水の浄化処理を行うことができる。上記電極および光触媒は、同一平面状に活性サイトが多数形成されているため、高い処理能力を発揮することができる。
【実施例１】
【００３１】
（微細界面構造を有する触媒の調製）
以下の手順にて、ＴｉＯ2上にＰｔとＲｕＯ2が格子状（図２）に配列された微細構造を有する触媒（実施例１）を調製した。
（１）金属Ｔｉ基板（１０ｃｍ×１０ｃｍ、厚み１ｍｍ）上に光触媒ゾル（株式会社光触媒研究所製、ＰＳＡ−１５）を塗布し、電気炉にて５００℃で２時間熱処理し、Ｔｉ基板表面にアナターゼ型酸化チタンのＴｉＯ2層を形成した。
（２）Ｐｔペーストをインクジェットヘッドにより前記ＴｉＯ2層表面に吐出し、横方向に幅５０μｍのＰｔペーストの細線を５０μｍ間隔で担持した。
（３）前記（２）項で担持したＰｔペーストが常温で乾燥したことを確認した後、前記インクジェットヘッドとは別のインクジェットヘッドを用いてＲｕＯ2ペーストを吐出し、Ｐｔペーストで書き込んだ細線と直交する様に幅５０μｍのＲｕＯ2ペーストの細線を５０μｍ間隔で担持した。
（４）ＲｕＯ2ペーストが常温で乾燥した後、前記触媒を担持した基板を５００℃で１時間焼成することで、基板表面に図３に示すような格子型にＴｉＯ2、Ｐｔ、ＲｕＯ2の各微細触媒ドメインを配したＴｉＯ2／Ｐｔ／ＲｕＯ2の三相の界面を有する触媒層を調製した。
【００３２】
得られた触媒は、アナターゼ型酸化チタンＴｉＯ2層の膜厚が１００ｎｍで、Ｐｔペーストで形成したＰｔ細線の厚さが１００ｎｍで、ＲｕＯ2ペーストで形成したＲｕＯ2細線の厚さが１００ｎｍであった。したがって、Ｔｉ基板１ｍ2当たりの担持量は、ＴｉＯ2が０．１ｃｍ3で、Ｐｔが０．０５ｃｍ3で、ＲｕＯ2が０．０５ｃｍ3であった。また、３種の活性種が隣接することにより形成される界面、すなわち活性サイトの数は、１０ｃｍ×１０ｃｍのＴｉ基板上に理論的には約４００万個形成されていることとなる。
【００３３】
（三相の界面を有する触媒を担持した電極の性能評価）
次に、上記調製した触媒（実施例１）を陽極電極として使用して、廃水処理試験を行った。表１にその試験の条件を示す。
【００３４】
【表１】
2005066463.tif 000002
【００３５】
また、比較例として、金属Ｔｉ基板上に、実施例１と同じ担持量となるようにＴｉＯ2、ＲｕＯ2、Ｐｔの混合物を焼結させて触媒（比較例）を調製した。なお、比較例のＴｉ基板上には上記３種の活性種が均一に混合した膜が形成されており、この膜の厚さは２００ｎｍであった。この触媒を陽極電極として使用したことを除き、上記表１と同様の条件で廃水処理試験を行った。
【００３６】
実施例１及び比較例の各ＴＯＣ経時変化を図４に示す。ここでＴＯＣとはTotal Organic Carbonの略で溶液中の有機物濃度を示す。図４に示すように、インクジェット方式により製造した電極を使用した実施例１では、２０分経過後にＴＯＣ濃度が当初濃度の約２０％まで減少し、また３０分経過後に約１０％まで減少し、優れた処理能力を有していた。一方、Ｔｉ板上にＴｉＯ2、ＲｕＯ2、Ｐｔの混合物を焼結させた電極を使用した比較例では、２０分経過後に当初濃度の約６０％、３０分経過後でも約４０％までしか減少しなかった。この結果から、インクジェット方式で製造することにより、均一混合系である比較例よりもＴＯＣ濃度の減少速度が速くなり、触媒活性が向上することが確認できた。よって、比較例である均一混合系の触媒の活性サイト数は、実施例１の触媒で形成された約４００万個／１００ｃｍ2より少ないことが推測できる。
【実施例２】
【００３７】
（光触媒の調製及びその性能評価）
金属Ｔｉ基板に代えてガラス基板を用いたこと、および格子状に代えて一辺５０μｍの正方形の微細ドメインをストライプ状（図１）に配列したことを除き、実施例１と同様にインクジェット方式を用いて、ＴｉＯ2／Ｐｔ／ＲｕＯ2の三相の界面を有する光触媒（実施例２）を製造した。そして、この光触媒を使用して廃水処理試験を行った。表２にその試験の条件を示す。
【００３８】
【表２】
2005066463.tif 000003
【００３９】
インクジェット方式により製造した光触媒を用いて廃水処理試験を実施した結果、３０分経過後にＴＯＣ濃度が当初濃度の約３０％まで減少したことが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【００４０】
本発明に係る微細界面構造を有する触媒は、従来の製法の触媒に比べ、触媒担持量に対する活性サイトが増大されており、高い触媒活性を発現することができるので、例えば、光触媒や電極の形態にして廃水処理に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】本発明に係る触媒の一触媒配置例（ストライプ状）を示す模式図である。
【図２】本発明に係る触媒の一触媒配置例（格子状）を示す模式図である。
【図３】本発明に係る触媒の一触媒配置例（同心円状）を示す模式図である。
【図４】実施例１の触媒を電極として用いた排水処理試験の結果を示すグラフである。
【図５】実施例２の光触媒を用いた排水処理試験の結果を示すグラフである。
【図６】（ａ）は従来の触媒の積層構造を示す模式図であり、（ｂ）はその一部の拡大した模式図である。
【符号の説明】
【００４２】
６１  基板
６２  Ａ層
６３  Ｂ層
６４  Ｃ層
【図１】
2005066463.tif 000004
【図２】
2005066463.tif 000005
【図３】
2005066463.tif 000006
【図４】
2005066463.tif 000007
【図５】
2005066463.tif 000008
【図６】
2005066463.tif 000009