(57)【要約】【課題】  耐光性、耐酸化性ガス性ともに優れ、とりわけオゾン耐性が強く、褪色ムラの発生が少ないインクジェットプリントを得るためのインクジェットインク及びインクジェット記録方法を提供すること。【解決手段】  下記一般式（１）〜（１４）で表される少なくとも１種の染料及び樹脂成分を含有することを特徴とするインクジェットインク。    【化１】2005225944.tif 000093    【化２】2005225944.tif 000094【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）〜（１４）で表される少なくとも１種の染料及び樹脂成分を含有することを特徴とするインクジェットインク。
【化１】
2005225944.tif 000079
（式中、Ｒ11は分岐アルキル基、シクロアルキル基、ヘテロ環基またはアミノ基を表し、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は各々、水素原子または置換基を表し、ｎ１１は１〜３の整数、ｎ１２は１〜４の整数を表す。）
【化２】
2005225944.tif 000080
（式中、Ｒ21は複素環基を表し、Ｒ22、Ｒ23及びＲ24は各々、水素原子または置換基を表し、ｎ２１は１〜３の整数、ｎ２２は１〜４の整数を表す。）
【化３】
2005225944.tif 000081
（式中、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及びＲ35は各々、水素原子または置換基を表し、ｎ３１は１〜３の整数を表す。）
【化４】
2005225944.tif 000082
（式中、Ｒ41、Ｒ42及びＲ43は各々、水素原子または置換基を表し、ｎ４１は１〜３の整数を表し、Ｚは炭素原子と共に５〜７員環の複素環基を形成するに必要な非金属原子群を表す。）
【化５】
2005225944.tif 000083
（式中、Ｒ51，Ｒ52，及びＲ53は各々、水素原子または置換基を表し、ｎ５１は１〜３の整数を表し、ｎ５２は１〜４の整数を表す。）
【化６】
2005225944.tif 000084
（式中、Ｒ61，Ｒ62，Ｒ63，及びＲ64は各々、水素原子または置換基を表し、ｎ６１は１〜３の整数を表す。）
【化７】
2005225944.tif 000085
（式中、Ｒ71，Ｒ72，Ｒ73，及びＲ74は各々水素原子または置換基を表し、ｎ７１は１〜３の整数を表す。）
【化８】
2005225944.tif 000086
（式中、Ｒ81、Ｒ82、Ｒ83は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ｎ８１は１〜３の整数を表し、ｎ８２は１または２の整数を表す。）
【化９】
2005225944.tif 000087
（式中、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93、Ｒ94は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ｎ９１は１〜３の整数を表し、ｎ９２は１または２の整数を表す。）
【化１０】
2005225944.tif 000088
（式中、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ｎ１０１は１〜３の整数を表す。）
【化１１】
2005225944.tif 000089
（式中、Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ｎ１１１は１〜３の整数を表す。）
【化１２】
2005225944.tif 000090
（式中、Ｒ121、Ｒ122、Ｒ123、Ｒ124、Ｒ125は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ｎ１２１は１〜３の整数を表す。）
【化１３】
2005225944.tif 000091
（式中、Ｒ131、Ｒ132、Ｒ133、Ｒ134は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ｎ１３１は１〜３の整数を表し、ｎ１３２は１または２の整数を表す。）
【化１４】
2005225944.tif 000092
（式中、Ｒ141、Ｒ142、Ｒ143、Ｒ144は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ｎ１４１は１〜３の整数を表し、ｎ１４２は１〜４の整数を表す。）
【請求項２】
前記樹脂成分が樹脂微粒子であることを特徴とする請求項１に記載のインクジェットインク。
【請求項３】
請求項１または２に記載のインクジェットインクを用いて、空隙型インクジェット記録媒体に記録することを特徴とするインクジェット記録方法。
【請求項４】
前記空隙型インクジェット記録媒体の６０°鏡面光沢度が４０％以上であることを特徴とする請求項３に記載のインクジェット記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェットインク及びインクジェット記録方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、インクジェット技術の進歩は目覚ましく、プリンター技術、インク技術、専用記録媒体技術の向上と相まって写真画質と呼ばれるようになっている。画質向上に伴い、インクジェット画像の保存性が従来の銀塩写真と比較されるようになり、特に染料インクプリントにおいて耐光性や耐酸化性ガス性といった褪色性の弱さが指摘されている。
【０００３】
これまで褪色性改良への多くの検討がなされているが銀塩プリントとの比較において未だ不十分である。褪色性改良を目的に染料そのものの堅牢性を向上する多くの取り組みがなされているが未だ不十分なレベルである。なかでもマゼンタ染料の褪色性が相対的に弱いのが現状である。
【０００４】
これまで、主にＨ酸を利用したアゾ染料が広く使用されてきたが、耐光性、耐酸化性ガス性（オゾンガス耐性等）が非常に弱くプリントサンプルを壁に貼る等して鑑賞、保存することには堪えられないレベルであった。
【０００５】
特許文献１、特開平１１−２９７１４号、特開２０００−１０９４６４号、同２０００−１９１６６０号、同２０００−２５６５８７号、同２００１−７２８８４号、同２００１−１３９８３６号、同２００１−２８８０９１号、同２００２−３３２４１８号、同２００２−３３２４１９号、同２００３−５５５８９号、同２００３−１９２９３０号等に記載されているアントラピリドン染料のなかには耐光性及び耐オゾンガス性を向上させた染料もあるが、未だ満足いくレベルではない。
【０００６】
特許文献２、特開２００２−３０９１１６号、同２００２−３７１０７９号にはヘテロ環−ヘテロ環アゾ染料が開示されているが、これらも満足いくレベルではない。特に耐光性が弱い。
【０００７】
特許文献３、特開２００３−３３５９９０号、同２００３−３４２５０４号、同２００３−３３５９８９号には新規なピリドン系等の染料が開示されているが、耐光性及び耐オゾンガス性ともまだ満足いくレベルではない。
【０００８】
特許文献４、特開２００２−２８５０４９号、同２００３−５５５８６号にはインクにポリマーラテックスあるいは、樹脂微粒子を添加することでオゾン耐性を向上する技術が開示されている。しかし、プリントの光沢低下を招いたり、インク吸収速度が大きく低下したり、さらにオゾン褪色ムラが発生する等し不十分なレベルである。
【０００９】
従って、銀塩プリントと比べても遜色ない充分な耐光性及び耐酸化性ガス性を有し、光沢が高く、オゾン褪色ムラ発生の改善されたインクジェットプリント及びそれを実現するインク、記録方法が望まれている。
【特許文献１】特開平１０−３０６２２１号公報
【特許文献２】特開２００２−３０９１１５号公報
【特許文献３】特開２００３−３４２５００号公報
【特許文献４】特開２００２−２４０４１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、耐光性、耐酸化性ガス性ともに優れ、とりわけオゾン耐性が強く、褪色ムラの発生が少ないインクジェットプリントを得るためのインクジェットインク及びインクジェット記録方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。
【００１２】
（請求項１）
下記一般式（１）〜（１４）で表される少なくとも１種の染料及び樹脂成分を含有することを特徴とするインクジェットインク。
【００１３】
【化１】
2005225944.tif 000002
【００１４】
（式中、Ｒ11は分岐アルキル基、シクロアルキル基、ヘテロ環基またはアミノ基を表し、Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は各々、水素原子または置換基を表し、ｎ１１は１〜３の整数、ｎ１２は１〜４の整数を表す。）
【００１５】
【化２】
2005225944.tif 000003
【００１６】
（式中、Ｒ21は複素環基を表し、Ｒ22、Ｒ23及びＲ24は各々、水素原子または置換基を表し、ｎ２１は１〜３の整数、ｎ２２は１〜４の整数を表す。）
【００１７】
【化３】
2005225944.tif 000004
【００１８】
（式中、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及びＲ35は各々、水素原子または置換基を表し、ｎ３１は１〜３の整数を表す。）
【００１９】
【化４】
2005225944.tif 000005
【００２０】
（式中、Ｒ41、Ｒ42及びＲ43は各々、水素原子または置換基を表し、ｎ４１は１〜３の整数を表し、Ｚは炭素原子と共に５〜７員環の複素環基を形成するに必要な非金属原子群を表す。）
【００２１】
【化５】
2005225944.tif 000006
【００２２】
（式中、Ｒ51，Ｒ52，及びＲ53は各々、水素原子または置換基を表し、ｎ５１は１〜３の整数を表し、ｎ５２は１〜４の整数を表す。）
【００２３】
【化６】
2005225944.tif 000007
【００２４】
（式中、Ｒ61，Ｒ62，Ｒ63，及びＲ64は各々、水素原子または置換基を表し、ｎ６１は１〜３の整数を表す。）
【００２５】
【化７】
2005225944.tif 000008
【００２６】
（式中、Ｒ71，Ｒ72，Ｒ73，及びＲ74は各々水素原子または置換基を表し、ｎ７１は１〜３の整数を表す。）
【００２７】
【化８】
2005225944.tif 000009
【００２８】
（式中、Ｒ81、Ｒ82、Ｒ83は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ｎ８１は１〜３の整数を表し、ｎ８２は１または２の整数を表す。）
【００２９】
【化９】
2005225944.tif 000010
【００３０】
（式中、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93、Ｒ94は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ｎ９１は１〜３の整数を表し、ｎ９２は１または２の整数を表す。）
【００３１】
【化１０】
2005225944.tif 000011
【００３２】
（式中、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ｎ１０１は１〜３の整数を表す。）
【００３３】
【化１１】
2005225944.tif 000012
【００３４】
（式中、Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ｎ１１１は１〜３の整数を表す。）
【００３５】
【化１２】
2005225944.tif 000013
【００３６】
（式中、Ｒ121、Ｒ122、Ｒ123、Ｒ124、Ｒ125は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ｎ１２１は１〜３の整数を表す。）
【００３７】
【化１３】
2005225944.tif 000014
【００３８】
（式中、Ｒ131、Ｒ132、Ｒ133、Ｒ134は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ｎ１３１は１〜３の整数を表し、ｎ１３２は１または２の整数を表す。）
【００３９】
【化１４】
2005225944.tif 000015
【００４０】
（式中、Ｒ141、Ｒ142、Ｒ143、Ｒ144は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ｎ１４１は１〜３の整数を表し、ｎ１４２は１〜４の整数を表す。）
（請求項２）
前記樹脂成分が樹脂微粒子であることを特徴とする請求項１に記載のインクジェットインク。
【００４１】
（請求項３）
請求項１または２に記載のインクジェットインクを用いて、空隙型インクジェット記録媒体に記録することを特徴とするインクジェット記録方法。
【００４２】
（請求項４）
前記空隙型インクジェット記録媒体の６０°鏡面光沢度が４０％以上であることを特徴とする請求項３に記載のインクジェット記録方法。
【発明の効果】
【００４３】
本発明により、耐光性、耐酸化性ガス性ともに優れ、とりわけオゾン耐性が強く、褪色ムラの発生が少ないインクジェットプリントを得るためのインクジェットインク及びインクジェット記録方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４４】
本発明者は鋭意研究の結果、前記一般式（１）〜（１４）で表される少なくとも１種の染料及び樹脂成分を含有するインクジェットインクにより、耐光性、耐酸化性ガス性ともに優れ、とりわけオゾン耐性が強く、褪色ムラの発生が少ないインクジェットプリントを得るためのインクジェットインクが得られることを見出した。
【００４５】
以下本発明を詳細に説明する。
【００４６】
次に本発明のインクジェットインク（以下、単にインクともいう）について説明する。
本発明のインクは、一般式（１）〜（１４）で表される少なくとも１種の染料及び樹脂成分を含有するものである。
【００４７】
（一般式（１）〜（４）で表される染料）
まず、一般式（１）で表される化合物について説明する。
【００４８】
前記一般式（１）において、Ｒ11は分岐アルキル基（例えばイソプロピル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロプロピル基、シクロヘキシル基等）、ヘテロ環基（例えば２−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ピロール基等）、アミノ基（例えばブチルアミノ基、アニリノ基、モルホリノ基等）を表す。
【００４９】
Ｒ11は置換基を有してもよく、これらの置換基としては特に制限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アニリノ、アシルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、アリールチオ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられるが、この他にハロゲン原子及びシクロアルケニル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルバモイルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイド、スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオウレイド、カルボキシ、ヒドロキシ、メルカプト、ニトロ、スルホ等の各基、ならびにスピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基等も挙げられる。
【００５０】
Ｒ11は、好ましくは分岐アルキル基、アミノ基であり、さらに好ましくは、分岐アルキル基であり、ｔ−ブチル基が殊に好ましい。
【００５１】
Ｒ12は水素原子もしくは置換基を表し、該置換基としては特に制限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられるが、シクロアルケニル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル等の各基も挙げられる。
【００５２】
Ｒ13及びＲ14は各々、水素原子または置換基を表す。該置換基としては特に制限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アニリノ、アシルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、アリールチオ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられるが、この他にハロゲン原子及びシクロアルケニル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルバモイルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイド、スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオウレイド、カルボキシ、ヒドロキシ、メルカプト、ニトロ、スルホ等の各基、ならびにスピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基等も挙げられる。
【００５３】
一般式（１）においてｎ１１は１〜３の整数、ｎ１２は１〜４の整数を表し、ｎ１１及びｎ１２が２以上の時、Ｒ13及びＲ14は同じであっても異なっていてもよい。
【００５４】
次に、一般式（２）で表される化合物について説明する。
【００５５】
前記一般式（２）において、Ｒ21は、複素環基を表し、例えば２−ピリジル基、４−ピリジル基、２−フリル基、２−チエニル基等を挙げることができる。
【００５６】
Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24は各々、水素原子または置換基を表し、Ｒ22の表す置換基の例としては、一般式（１）におけるＲ12と同様の置換基を挙げることができる。また、Ｒ23、Ｒ24の表す置換基の例としては、一般式（１）におけるＲ13、Ｒ14と同様の置換基を挙げることができる。
【００５７】
ｎ２１は１〜３の整数、ｎ２２は１〜４の整数を表し、ｎ２１及びｎ２２が２以上の時、Ｒ23及びＲ24は同じであっても異なっていてもよい。
【００５８】
次に、一般式（３）で表される化合物について説明する。
【００５９】
前記一般式（３）において、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34及びＲ35は各々、水素原子または置換基を表し、Ｒ32の表す置換基の例としては、一般式（１）におけるＲ12と同様の置換基を挙げることができる。また、Ｒ31、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35の表す置換基の例としては、一般式（１）におけるＲ13、Ｒ14と同様の置換基を挙げることができる。
【００６０】
ｎ３１は１〜３の整数を表し、ｎ３１が２以上の時、Ｒ33は同じであっても異なっていてもよい。また、Ｒ34とＲ35は互いに結合して環を形成してもよい。
【００６１】
次に、一般式（４）で表される化合物について説明する。
【００６２】
前記一般式（４）において、Ｒ41、Ｒ42及びＲ43は各々、水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、一般式（１）におけるＲ13、Ｒ14と同様の置換基を挙げることができる。
【００６３】
Ｚは、炭素原子と共に５〜７員環の複素環基を形成する非金属原子群を表し、該５〜７員環の複素環基はさらに置換基を有してもよい。
【００６４】
Ｚが炭素原子と共に形成する５〜７員環の複素環基としては、好ましくは５〜６員の含窒素複素環であり、特に好ましくは、ピリジン環である。
【００６５】
以下に、本発明の一般式（１）、（２）、（３）または（４）で表される化合物の具体的化合物例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【００６６】
なお、下記構造式中のＭは、ナトリウム塩、カリウム塩、１／２カルシウム塩、もしくは、アンモニウム塩等の、カチオンを表す。
【００６７】
【化１５】
2005225944.tif 000016
【００６８】
【化１６】
2005225944.tif 000017
【００６９】
【化１７】
2005225944.tif 000018
【００７０】
【化１８】
2005225944.tif 000019
【００７１】
【化１９】
2005225944.tif 000020
【００７２】
【化２０】
2005225944.tif 000021
【００７３】
【化２１】
2005225944.tif 000022
【００７４】
【化２２】
2005225944.tif 000023
【００７５】
【化２３】
2005225944.tif 000024
【００７６】
【化２４】
2005225944.tif 000025
【００７７】
【化２５】
2005225944.tif 000026
【００７８】
【化２６】
2005225944.tif 000027
【００７９】
【化２７】
2005225944.tif 000028
【００８０】
【化２８】
2005225944.tif 000029
【００８１】
【化２９】
2005225944.tif 000030
【００８２】
【化３０】
2005225944.tif 000031
【００８３】
【化３１】
2005225944.tif 000032
【００８４】
【化３２】
2005225944.tif 000033
【００８５】
【化３３】
2005225944.tif 000034
【００８６】
【化３４】
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【００８７】
【化３５】
2005225944.tif 000036
【００８８】
【化３６】
2005225944.tif 000037
【００８９】
【化３７】
2005225944.tif 000038
【００９０】
【化３８】
2005225944.tif 000039
【００９１】
【化３９】
2005225944.tif 000040
【００９２】
【化４０】
2005225944.tif 000041
【００９３】
以下に、本発明の一般式（１）で表される例示化合物１−４の合成例を示す。一般式（１）で表されるその他の化合物、一般式（２）、（３）または（４）で表される化合物も同様にして合成することができる。
【００９４】
例示化合物１−４は下記スキーム（１）に従って合成した。
【００９５】
【化４１】
2005225944.tif 000042
【００９６】
（中間体１ｃの合成）
３２．８ｇ（０．１ｍｏｌ）の（１ａ）、１９．０ｇ（０．１２ｍｏｌ）の（１ｂ）及び１．０６ｇ（０．０１ｍｏｌ）の炭酸ナトリウムをキシレン１５０ｍｌ中で約１４０℃に加熱し、生成するメタノール及び水を留去しながら１０時間反応させた。反応終了後、冷却し、析出した結晶を濾取し、冷却した８０％エタノール水で洗浄し、中間体（１ｃ）が３５．８ｇ（収率８２％）得られた。
【００９７】
（例示化合物１−４の合成）
１０質量％発煙硫酸６１ｇに氷冷下、２０℃以下にて８．７３ｇ（０．０２ｍｏｌ）の中間体１ｃを加え、約５０℃にて５時間スルホン化を行った。反応終了後、４００ｍｌの氷水に反応液を加え、さらに塩化ナトリウム３０ｇを加えて塩析を行い、濾過、乾燥することによって、例示化合物１−４のナトリウム塩が１０．９ｇ（収率８５％）得られた。
【００９８】
1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより、得られた化合物が目的の例示化合物１−４であることを確認した。
【００９９】
（一般式（５）〜（７）で表される染料）
次に、一般式（５）で表される化合物について説明する。
【０１００】
前記一般式（５）において、Ｒ51は水素原子もしくは置換基を表し、該置換基としては特に制限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられ、さらにシクロアルケニル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル等の各基も挙げられる。
【０１０１】
Ｒ52及びＲ53は水素原子または置換基を表す。該置換基としては特に制限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アニリノ、アシルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、アリールチオ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられ、さらにこの他にハロゲン原子及びシクロアルケニル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルバモイルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイド、スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオウレイド、カルボキシ、ヒドロキシ、メルカプト、ニトロ、スルホ等の各基、ならびにスピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基等も挙げられる。
【０１０２】
一般式（５）において、ｎ５１は１〜３の整数、ｎ５２は１〜４の整数を表す。ｎ５１及びｎ５２が２以上の時、Ｒ52及びＲ53はそれぞれ同じであっても異なっていてもよく、またｎ５１及びｎ５２が２以上のとき、２つのＲ51あるいはＲ52が互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１０３】
次に、一般式（６）で表される化合物について説明する。
【０１０４】
前記一般式（６）において、Ｒ61、Ｒ62、Ｒ63、Ｒ64は水素原子または置換基を表し、これらを表す置換基の例としては、一般式（５）におけるＲ52、Ｒ53と同様の置換基を挙げることができる。またＲ63とＲ64は互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１０５】
Ｒ63、Ｒ64において、好ましくはＲ63、Ｒ64が互いに結合して芳香環を形成しているのが好ましく、更に好ましくは、Ｒ63、Ｒ64が互いに結合して置換または無置換のベンゼン環を形成していることが好ましい。
【０１０６】
一般式（６）において、ｎ６１は１〜３の整数を表し、ｎ６１が２以上の時、Ｒ62は同じであっても異なっていてもよく、またｎ６１が２以上のとき、２つのＲ62が互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１０７】
次に、一般式（７）で表される化合物について説明する。
【０１０８】
前記一般式（７）において、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ73、Ｒ74は水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、一般式（５）におけるＲ52、Ｒ53と同様の置換基を挙げることができる。またＲ73とＲ74は互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１０９】
Ｒ73、Ｒ74において、好ましくはＲ73、Ｒ74が互いに結合して芳香環を形成しているのが好ましく、更に好ましくは、Ｒ73、Ｒ74が互いに結合して置換または無置換のベンゼン環を形成していることが好ましい。
【０１１０】
一般式（７）において、ｎ７１は１〜３の整数を表し、ｎ７１が２以上の時、Ｒ72は同じであっても異なっていてもよく、またｎ７１が２以上のとき、２つのＲ72が互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１１１】
以下に、本発明の一般式（５）、（６）または（７）で表される化合物の具体的化合物例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【０１１２】
なお、下記構造式中のＭは、ナトリウム塩、カリウム塩、１／２カルシュウム塩、もしくは、アンモニウム塩等の、カチオンを表す。
【０１１３】
【化４２】
2005225944.tif 000043
【０１１４】
【化４３】
2005225944.tif 000044
【０１１５】
【化４４】
2005225944.tif 000045
【０１１６】
【化４５】
2005225944.tif 000046
【０１１７】
【化４６】
2005225944.tif 000047
【０１１８】
【化４７】
2005225944.tif 000048
【０１１９】
【化４８】
2005225944.tif 000049
【０１２０】
【化４９】
2005225944.tif 000050
【０１２１】
【化５０】
2005225944.tif 000051
【０１２２】
【化５１】
2005225944.tif 000052
【０１２３】
以下に、本発明の一般式（５）で表される例示化合物５−１の合成例を示す。一般式（５）で表されるその他の化合物、一般式（６）または（７）で表される化合物も同様にして合成することができる。
【０１２４】
例示化合物５−１は下記スキーム（５）に従って合成した。
【０１２５】
【化５２】
2005225944.tif 000053
【０１２６】
（中間体５ｃの合成）
３１．４ｇ（０．１ｍｏｌ）の（５ａ）、１２．１ｇ（０．２ｍｏｌ）の（５ｂ）をフェノール１００ｍｌ中で約１４０℃に加熱し、６時間反応させた。反応終了後、冷却して析出した結晶を濾取し、結晶を冷却したエタノールで洗浄し、中間体（５ｃ）が２６．５ｇ（収率７８％）得られた。
【０１２７】
（例示化合物５−１の合成）
濃硫酸１２０ｇに氷冷下、６．８ｇ（０．０２ｍｏｌ）の中間体（５ｃ）を加え、１０℃以下で１時間スルホン化を行った。反応終了後、４００ｇの氷に反応液を加え、得られた結晶を濾過した。この結晶を少量の水酸化ナトリウムを加えた５％食塩水に加えて３０分攪拌し、結晶を濾取することにより、例示化合物５−１のナトリウム塩が７．８ｇ（収率７２％）得られた。
【０１２８】
1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにより、得られた化合物が目的の例示化合物５−１であることを確認した。
【０１２９】
（一般式（８）〜（１１）で表される染料）
次に、一般式（８）で表される化合物について説明する。
【０１３０】
前記一般式（８）において、Ｒ81、Ｒ82、Ｒ83は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。該置換基としては特に制限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アニリノ、アシルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、アリールチオ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられ、さらにこの他にハロゲン原子及びシクロアルケニル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルバモイルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイド、スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオウレイド、カルボキシ、ヒドロキシ、メルカプト、ニトロ、スルホ等の各基、ならびにスピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基等も挙げられる。
【０１３１】
一般式（８）においてｎ８１は１〜３の整数を表し、ｎ８２は１〜２の整数を表す。ｎ８１、ｎ８２が２以上の時、Ｒ82、Ｒ83は同じであっても異なっていてもよく、またｎ８１及びｎ８２が２以上のとき、２つのＲ82またはＲ83がそれぞれ互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１３２】
次に、一般式（９）で表される化合物について説明する。
【０１３３】
前記一般式（９）においてＲ91、Ｒ92、Ｒ93、Ｒ94は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、一般式（８）におけるＲ81、Ｒ82、Ｒ83と同様の置換基を挙げることができる。
【０１３４】
一般式（９）においてｎ９１は１〜３の整数を表し、ｎ９２は１〜２の整数を表す。ｎ９１、ｎ９２が２以上の時、Ｒ93、Ｒ94は同じであっても異なっていてもよく、またｎ９１及びｎ９２が２以上のとき、２つのＲ93またはＲ94がそれぞれ互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１３５】
次に、一般式（１０）で表される化合物について説明する。
【０１３６】
前記一般式（１０）において、Ｒ101は水素原子または置換基を表し、該置換基として特に制限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられ、さらにシクロアルケニル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル等の各基も挙げられる。
【０１３７】
Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、一般式（８）におけるＲ81、Ｒ82、Ｒ83と同様の置換基を挙げることができる。
【０１３８】
一般式（１０）においてｎ１０１は１〜３の整数を表す。ｎが２以上の時、Ｒ102は同じであっても異なっていてもよく、またｎ１０１が２以上のとき、２つのＲ102がそれぞれ互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１３９】
一般式（１０）において、好ましくはＲ103、Ｒ104が互いに結合して芳香環を形成しているのが好ましく、更に、Ｒ103、Ｒ104が互いに結合して置換または無置換のベンゼン環を形成していることが好ましい。
【０１４０】
次に、一般式（１１）で表される化合物について説明する。
【０１４１】
前記一般式（１１）において、Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、一般式（８）におけるＲ81、Ｒ82、Ｒ83と同様の置換基を挙げることができる。
【０１４２】
一般式（１１）においてｎ１１１は１〜３の整数を表す。ｎが２以上の時、Ｒ111は同じであっても異なっていてもよく、またｎ111が２以上のとき、２つのＲ112がそれぞれ互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１４３】
一般式（１１）において、好ましくはＲ112、Ｒ113が互いに結合して芳香環を形成しているのが好ましく、更に、Ｒ112、Ｒ113が互いに結合して置換または無置換のベンゼン環を形成していることが好ましい。
【０１４４】
以下に、本発明の一般式（８）、（９）、（１０）または（１１）で表される化合物の具体的化合物例を示すが、本発明はこれらに限定されない。なお、構造式中のＭは、ナトリウム塩、カリウム塩、１／２カルシュウム塩、もしくは、アンモニウム塩等の、カチオンを表す。
【０１４５】
【化５３】
2005225944.tif 000054
【０１４６】
【化５４】
2005225944.tif 000055
【０１４７】
【化５５】
2005225944.tif 000056
【０１４８】
【化５６】
2005225944.tif 000057
【０１４９】
【化５７】
2005225944.tif 000058
【０１５０】
【化５８】
2005225944.tif 000059
【０１５１】
【化５９】
2005225944.tif 000060
【０１５２】
【化６０】
2005225944.tif 000061
【０１５３】
以下に、本発明の一般式（１０）で表される例示化合物１０−１３の合成例を示す。一般式（１０）で表されるその他の化合物、一般式（８）、（９）または（１１）で表される化合物も同様にして合成することができる。
【０１５４】
例示化合物１０−１３はスキーム（１０）に従って合成した。
【０１５５】
【化６１】
2005225944.tif 000062
【０１５６】
（中間体１０ｂの合成）
３１．３ｇ（０．１ｍｏｌ）の（１０ａ）から、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ，１８９４〜１９０１（１９５４）記載の方法に従い（１０ｂ）を合成し、カラムクロマトグラフィーにより（１０ｂ）を２０．８ｇ（収率６４％）単離した。
【０１５７】
（例示化合物１０−１３の合成）
濃硫酸１２０ｇに氷冷下、６．４ｇ（０．０２ｍｏｌ）の中間体（１０ｂ）を加え、１０℃以下で１時間スルホン化を行った。反応終了後、４００ｇの氷に反応液を加え、得られた結晶を濾過した。この結晶を少量の水酸化ナトリウムを加えた５％食塩水に加えて３０分攪拌し、結晶を濾取することにより、例示化合物１０−１３のナトリウム塩が７．８ｇ（収率７４％）得られた。
【０１５８】
１Ｈ  ＮＭＲスペクトルにより、得られた化合物が目的の例示化合物１０−１３であることを確認した。
【０１５９】
（一般式（１２）〜（１４）で表される染料）
次に、一般式（１２）で表される化合物について説明する。
【０１６０】
前記一般式（１２）において、Ｒ121、Ｒ122、Ｒ123、Ｒ124、Ｒ125は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。該置換基としては特に制限はないが、代表的には、アルキル、アリール、アニリノ、アシルアミノ、スルホンアミド、アルキルチオ、アリールチオ、アルケニル、シクロアルキル等の各基が挙げられ、さらにこの他にハロゲン原子及びシクロアルケニル、アルキニル、複素環、スルホニル、スルフィニル、ホスホニル、アシル、カルバモイル、スルファモイル、シアノ、アルコキシ、アリールオキシ、複素環オキシ、シロキシ、アシルオキシ、スルホニルオキシ、カルバモイルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、イミド、ウレイド、スルファモイルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アリールオキシカルボニルアミノ、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、複素環チオ、チオウレイド、カルボキシ、ヒドロキシ、メルカプト、ニトロ、スルホ等の各基、ならびにスピロ化合物残基、有橋炭化水素化合物残基等も挙げられる。またＲ124とＲ125は互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１６１】
Ｒ124、Ｒ125において、好ましくはＲ124、Ｒ125が互いに結合して芳香環を形成しているのが好ましく、更に、Ｒ124、Ｒ125が互いに結合して置換または無置換のベンゼン環を形成していることが好ましい。
【０１６２】
一般式（１２）においてｎ１２１は１〜３の整数を表す。ｎ１２１が２以上の時、Ｒ123は同じであっても異なっていてもよく、またｎ１２１が２以上のとき、２つのＲ123が互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１６３】
次に、一般式（１３）で表される化合物について説明する。一般式（１３）においてＲ131、Ｒ132、Ｒ133、Ｒ134は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、一般式（１２）におけるＲ121〜Ｒ125と同様の置換基を挙げることができる。
【０１６４】
一般式（１３）においてｎ１３１は１〜３の整数を表し、ｎ１３２は１〜４の整数を表す。ｎ１３１、ｎ１３２が２以上の時、Ｒ133、Ｒ134は同じであっても異なっていてもよく、またｎ１３１及びｎ１３２が２以上のとき、２つのＲ133またはＲ134がそれぞれ互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１６５】
次に、一般式（１４）で表される化合物について説明する。
【０１６６】
前記一般式（１４）において、Ｒ141、Ｒ142、Ｒ143、Ｒ144は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、該置換基の例としては、一般式（１２）におけるＲ121〜Ｒ125と同様の置換基を挙げることができる。
【０１６７】
一般式（１４）においてｎ１４１は１〜３の整数を表し、ｎ１４２は１〜４の整数を表す。ｎ１４１、ｎ１４２が２以上の時、Ｒ143、Ｒ144は同じであっても異なっていてもよく、またｎ１４１及びｎ１４２が２以上のとき、２つのＲ143またはＲ144がそれぞれ互いに結合して環を形成していてもよい。
【０１６８】
以下に、本発明の一般式（１２）、（１３）または（１４）で表される化合物の具体的化合物例を示すが、本発明はこれらに限定されない。なお、構造式中のＭは、ナトリウム塩、カリウム塩、１／２カルシュウム塩、もしくは、アンモニウム塩等の、カチオンを表す。
【０１６９】
【化６２】
2005225944.tif 000063
【０１７０】
【化６３】
2005225944.tif 000064
【０１７１】
【化６４】
2005225944.tif 000065
【０１７２】
【化６５】
2005225944.tif 000066
【０１７３】
【化６６】
2005225944.tif 000067
【０１７４】
【化６７】
2005225944.tif 000068
【０１７５】
【化６８】
2005225944.tif 000069
【０１７６】
【化６９】
2005225944.tif 000070
【０１７７】
【化７０】
2005225944.tif 000071
【０１７８】
【化７１】
2005225944.tif 000072
【０１７９】
【化７２】
2005225944.tif 000073
【０１８０】
【化７３】
2005225944.tif 000074
【０１８１】
以下に、本発明の一般式（１２）で表される例示化合物１２−２の合成例を示す。一般式（１２）で表されるその他の化合物、一般式（１３）または（１４）で表される化合物も同様にして合成することができる。
【０１８２】
例示化合物１２−２はスキーム（１２）に従って合成した。
【０１８３】
【化７４】
2005225944.tif 000075
【０１８４】
（中間体１２ｂの合成）
２７．６ｇ（０．１ｍｏｌ）の（１２ａ）（ｏ−ニトロ安息香酸から、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，２，２６２〜２６６（２００１）記載の方法に従い合成、トータル収率４８％）を酢酸１５０ｍｌに溶解し、鉄２５．４ｇ（０．４６ｍｏｌ）を加えた後、７５℃で４時間反応した。反応終了後、濾過し、濾液をトルエン／水で抽出し、溶媒を留去することにより中間体（１２ｂ）を得た。
【０１８５】
（中間体１２ｃの合成）
上記反応で得られた（１２ｂ）、１５．７ｇ（０．１ｍｏｌ）のブロモベンゼン、２４．６ｇ（０．３ｍｏｌ）の酢酸ナトリウム及び３．４ｇの塩化第一銅をニトロベンゼン３００ｍｌ中で約２００℃に加熱し、１４時間反応させた。反応終了後、冷却し、析出した結晶を濾取し、結晶をニトロベンゼン、希塩酸、エタノールで洗浄することにより（１２ｃ）が２１．３ｇ（収率６６％）得られた。
【０１８６】
（例示化合物１２−２の合成）
濃硫酸１２０ｇに氷冷下、６．４ｇ（０．０２ｍｏｌ）の中間体（１２ｃ）を加え、１０℃以下で１時間スルホン化を行った。反応終了後、４００ｇの氷に反応液を加え、得られた結晶を濾過した。この結晶を少量の水酸化ナトリウムを加えた５％食塩水に加えて３０分攪拌し、結晶を濾取することにより、例示化合物１２−２のナトリウム塩が８．１ｇ（収率７８％）得られた。
【０１８７】
１Ｈ  ＮＭＲスペクトルにより、得られた化合物が目的の例示化合物１２−２であることを確認した。
【０１８８】
〔樹脂成分〕
樹脂成分は、プリント上で樹脂皮膜を形成するものであればよく、水溶性樹脂、樹脂微粒子が用いられる。褪色性改良及び画像光沢向上の観点から、一般式（１）〜（１４）で表される染料と樹脂成分とはインク中で分離していることが好ましい。特開２００３−３４２５００号、同２００３−３３５９９０号、同２００３−３４２５０４号、同２００３−３３５９８９号各公報記載のように、染料と油性ポリマーをともに微粒子分散したタイプは好ましくない。本発明の好ましい形態の一つは、
（１）前記一般式（１）〜（１４）で表される少なくとも１種の水溶性染料及び水溶性樹脂成分を含有するインクである。
さらに、好ましい形態は、
（２）前記一般式（１）〜（１４）で表される少なくとも１種の水溶性染料及び樹脂微粒子を含有するインクである。水溶性樹脂よりも樹脂微粒子の方が、光沢性、インク吸収性及びインク射出性の観点で好ましい。
【０１８９】
（水溶性樹脂）
水溶性樹脂としては、ポリエチレングリコール、ポリビニルアルコール、ゼラチン、ポリエチレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリウレタン、デキストラン、デキストリン、カラーギーナン（κ、ι、λ等）、寒天、プルラン、水溶性ポリビニルブチラール、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース等が挙げられる。
【０１９０】
（樹脂微粒子）
樹脂微粒子はポリマー微粒子あるいはラテックスとも呼ばれており、樹脂微粒子は、各種樹脂の水分散体の形態で用いることができる。具体的には、アクリル系、スチレン−アクリル系、アクリロニトリル−アクリル系、酢酸ビニル系、酢酸ビニル−アクリル系、酢酸ビニル−塩化ビニル系、ポリウレタン系、シリコン−アクリル系、アクリルシリコン系、ポリエステル系、エポキシ系の各樹脂を挙げることができる。
【０１９１】
通常、これらの樹脂微粒子は、乳化重合法によって得られる。そこで用いられる界面活性剤、重合開始剤等については、常法で用いられるものを用いればよい。樹脂微粒子の合成法に関しては、例えば、米国特許第２，８５２，３６８号、同２，８５３，４５７号、同３，４１１，９１１号、同３，４１１，９１２号、同４，１９７，１２７号、ベルギー特許第６８８，８８２号、同６９１，３６０号、同７１２，８２３号、特公昭４５−５３３１号、特開昭６０−１８５４０号、同５１−１３０２１７号、同５８−１３７８３１号、同５５−５０２４０号等に詳しく記載されている。
【０１９２】
本発明に用いられる樹脂微粒子は、平均粒径が１０〜２００ｎｍであることが好ましく、より好ましくは１０〜１５０ｎｍ、更に好ましくは１０〜１００ｎｍである。樹脂微粒子の平均粒径が１０ｎｍ以上であれば、樹脂微粒子が空隙型記録媒体の空隙層内部に浸透せず、空隙層表面に存在するため、光沢性の面で好ましい。また、樹脂微粒子の平均粒径が２００ｎｍ以下であれば、樹脂微粒子がある程度小さいため、空隙層表面でのレベリング性の観点で有利となり、光沢性の面で好ましい。樹脂微粒子の平均粒径は、光散乱方式やレーザードップラー方式を用いた市販の粒径測定装置、例えば、ゼータサイザー１０００（マルバーン社製）等を用いて、簡便に求めることができる。
【０１９３】
本発明のインクでは、樹脂微粒子の記録インク中での含有量が、０．２〜１０質量％であることが好ましく、さらに好ましくは０．５〜５質量％である。樹脂微粒子の添加量が０．２質量％以上であれば、褪色性に対しより十分な効果を発揮することができ、１０質量％以下であれば、インク吐出性がより安定となり、更に保存中でのインク粘度の上昇を抑制することができより好ましい。
【０１９４】
本発に係る樹脂微粒子においては、最低造膜温度（ＭＦＴ）が、−６０〜６０℃であることが好ましい。本発明においては、樹脂微粒子の最低造膜温度をコントロールするために造膜助剤を添加してもよい。造膜助剤は、可塑剤ともよばれ樹脂ラテックスの最低造膜温度を低下させる有機化合物（通常有機溶媒）であり、例えば「合成ラテックスの化学（室井宗一著、高分子刊行会発行（１９７０））」に記載されている。
【０１９５】
本発明のインクには、有機溶媒を含有することができる。有機溶媒は、特に制限はないが、水溶性の有機溶媒が好ましく、具体的にはアルコール類、多価アルコール類、多価アルコールエーテル類、アミン類、アミド類、複素環類挙げることができ、その具体的化合物としては、例えば、特開２００３−２３１８３２号公報に例示した水溶性有機溶剤を挙げることができる。
【０１９６】
本発明のインクにおいて、各種の界面活性剤を用いることができる。本発明で用いることのできる界面活性剤として、特に制限はないが、例えば、ジアルキルスルホコハク酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、脂肪酸塩類等のアニオン性界面活性剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリルエーテル類、アセチレングリコール類、ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレンブロックコポリマー類等のノニオン性界面活性剤、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類等のカチオン性界面活性剤が挙げられる。特にアニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤を好ましく用いることができる。
【０１９７】
本発明のインクでは、上記説明した以外に、必要に応じて、出射安定性、プリントヘッドやインクカートリッジ適合性、保存安定性、画像保存性、その他の諸性能向上の目的に応じて、公知の各種添加剤、例えば、粘度調整剤、比抵抗調整剤、皮膜形成剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、退色防止剤、防ばい剤、防錆剤等を適宜選択して用いることができ、例えば、流動パラフィン、ジオクチルフタレート、トリクレジルホスフェート、シリコンオイル等の油滴微粒子、特開昭５７−７４１９３号、同５７−８７９８８号及び同６２−２６１４７６号に記載の紫外線吸収剤、特開昭５７−７４１９２号、同５７−８７９８９号、同６０−７２７８５号、同６１−１４６５９１号、特開平１−９５０９１号及び同３−１３３７６号等に記載されている退色防止剤、特開昭５９−４２９９３号、同５９−５２６８９号、同６２−２８００６９号、同６１−２４２８７１号及び特開平４−２１９２６６号等に記載されている蛍光増白剤等を挙げることができる。
【０１９８】
本発明のインクは、安定吐出するためと、高光沢発現、オゾン耐性を高めるためには、インクの表面張力は４０ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２０〜４０ｍＮ／ｍであることがより好ましい。同様の理由でインク粘度は、１．５〜１０ｍＰａ・ｓが好ましく、３．０〜８ｍＰａ・ｓがより好ましい。
【０１９９】
（記録媒体）
次に本発明のインクを用いて記録するのに好ましいインクジェット記録媒体（以下単に、記録媒体ともいう）について説明する。
【０２００】
本発明のインクジェット記録方法で用いることのできる記録媒体は、普通紙、コート紙、専用光沢紙等種々の用紙を用いることができるが、好ましい記録媒体は、レジンコート紙、フィルム等の耐水性支持体上にフィラー、バインダーを主成分とした空隙型インク吸収層を設けた空隙型記録媒体で、特に高光沢なものを用いるとより一層本発明の効果が発現され好ましい。
【０２０１】
本発明の記録媒体の６０°光沢は４０％以上であることが好ましい。６０°光沢が高いと、見た目の光沢感に優れるのはもとより、驚くべきことにオゾンガス耐性に優れているためである。特に、インク量の少ない部分でのオゾンガス耐性に優れる。また、オゾンガスによる褪色ムラも発生が少なくさらに有利である。上記効果をより高めるには、６０°光沢は５０％以上であることが好ましく、６０％以上が更に好ましい。
【０２０２】
記録媒体の光沢とオゾンガス耐性、褪色ムラの関係についてはまだ、不明な点は多いが、記録媒体の光沢に反映される記録媒体の表面状態によるインク中の樹脂成分の拡散、成膜性に影響していると推定している。記録媒体の６０°光沢は、記録媒体、特に表層のフィラー選択、バインダー選択、フィラー／バインダー比率により調整できる。
【０２０３】
（インクジェット記録方法）
本発明のインクジェット記録方法で用いるプリンターは、市販されているプリンターのように、記録媒体収納部、搬送部、インクカートリッジ、インクジェットプリントヘッドを有するものである。更に必要に応じて、ロール状の記録媒体収納部、切断部、プリント仕分け装置、プリント収納部を備えたプリンタであると、インクジェット写真を商用利用する場合に有用である。
【０２０４】
記録ヘッドとしては、ピエゾ方式、サーマル方式、コンティニュアス方式のいずれでもよいが、インク吐出での安定性の観点からピエゾ方式が好ましい。
【０２０５】
本発明のインクジェット記録方法において、記録インク中に含まれているポリマー微粒子の成膜を促進する目的で、記録前、記録時に記録媒体を加熱したり、記録後にプリントを加熱、もしくは加圧の少なくとも１工程を施すことができる。
【実施例】
【０２０６】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、特に断りない限り、実施例中の「％」は「質量％」を表す。
【０２０７】
実施例１
（インク１〜１５の調製）
以下の組成でインク１〜１５を調製した。インク１〜１５はそれぞれ濃色インク、淡色インクのセットで調製した。
【０２０８】
ジエチレングリコール                                                  １０％
グリセリン                                                            １０％
トリエチレングリコールモノブチルエーテル                              １０％
サーフィノール４６５（Ａｉｒ  Ｐｒｏｄｕｃｔｓ社製）                ０．５％
染料（種類は表１参照）
純水  総量１００％に仕上げる
なお、染料の添加量は、淡色インクではインクとしての可視部最大吸収波長での吸光度が３００となる量、濃色インクでは吸光度が９００となる量を添加した。吸光度はインクを純水で希釈し、そのときの希釈倍率と希釈後の吸光度の積で求めた。
【０２０９】
比較染料１を下記に示す。
【０２１０】
【化７５】
2005225944.tif 000076
【０２１１】
（インク１６〜３０の調製）
インク１〜１５に水溶性樹脂の１種であるポリエチレングリコール（数平均分子量＝６０００）を固形分で１．６％添加し、それぞれインク１６〜３０を調製した。
【０２１２】
（インク３１〜４５の調製）
インク１〜１５に樹脂微粒子の１種であるスーパーフレックス３００（ウレタンラテックス、第一工業製薬社製）を固形分で１％添加し、それぞれインク３１〜４５を調製した。
【０２１３】
〔記録媒体の作製〕
（記録媒体１）
厚さ約２２０μｍのレジンコート原紙上に、以下の成分を以下の付き量になるように塗布して記録媒体１を作製した。なお、適量の活性剤とホウ酸を添加して用いた。
【０２１４】
Ａ−３００（気相法シリカ、一次平均粒径７ｎｍ、日本エアロジル工業（株）製）
２２．０ｇ／ｍ2
ＰＶＡ２３５（ポリビニルアルコール、クラレ社製）              ３．９ｇ／ｍ2
カチオン性ポリマーＰ−１                                      ２．３ｇ／ｍ2
【０２１５】
【化７６】
2005225944.tif 000077
【０２１６】
（記録媒体２）
記録媒体１の上に、下記成分からなる表層を付与した。
【０２１７】
Ａ３００                                                      １．０ｇ／ｍ2
ＰＶＡ２３５                                                  ０．２ｇ／ｍ2
カチオン性ポリマーＰ−１                                      ０．１ｇ／ｍ2
（記録媒体３）
記録媒体１の上に、下記成分からなる表層を付与した。
【０２１８】
Ａ３００                                                      １．０ｇ／ｍ2
ＰＶＡ２３５                                                ０．２５ｇ／ｍ2
カチオン性ポリマーＰ−１                                      ０．１ｇ／ｍ2
（記録媒体４）
記録媒体１の上に、下記成分からなる表層を付与した。
【０２１９】
Ａ３００                                                      １．０ｇ／ｍ2
ＰＶＡ２３５                                                ０．３３ｇ／ｍ2
カチオン性ポリマーＰ−１                                      ０．１ｇ／ｍ2
（記録媒体５）
記録媒体１の上に、下記成分からなる表層を付与した。
【０２２０】
コロイダルシリカ（平均粒子径０．６μｍ）                      １．２ｇ／ｍ2
ＰＶＡ２３５                                                ０．２５ｇ／ｍ2
カチオン性ポリマーＰ−１                                    ０．０６ｇ／ｍ2
作製した記録媒体の６０°光沢を測定し表１に示す。
【０２２１】
〔インクの評価〕
上記作製したインクセット（濃色、淡色）をＰＭ−７４０ＤＵ（セイコーエプソン社製）のインクカートリッジの濃色マゼンタ、淡色マゼンタとして充填し、上記記録媒体に画像形成し純色の１０段ウエッジを作成した。得られた記録プリントを２４時間自然乾燥した後、以下の評価を行った。
【０２２２】
（耐光性）
上記マゼンタウエッジをキセノンウエザーメータ（スガ試験機械社製）にて７００００ｌｘの照度で２４０時間照射した。ウエッジの３、５、７段の部分の照射前後の反射濃度を測定し、濃度残存率を測定し、平均値を求めた。
【０２２３】
（耐酸性ガス性）
オゾンガス試験機（スガ試験機械社製、オゾンウエザーメーターＯＭＳ−Ｈ）にて、オゾン濃度１０ｐｐｍで３０時間暴露した。ウエッジの３、５、７段の部分の暴露前後の反射濃度を測定し、濃度残存率を測定し、平均値を求めた。
【０２２４】
（オゾン褪色ムラ）
上記オゾンガス試験機による評価ウエッジでのオゾン褪色ムラを下記基準で評価した。
【０２２５】
６：全段数で褪色ムラはみられない
５：３段以下で極わずかにムラあるが目立たない
４：３段以下でムラが見られるが、濃度も低くあまり目立たない
３：４−５段でも極わずかにムラあるが目立たない
２：４−５段でもムラが見られる
１：７−６段でもムラが見られる
評価の結果を表１に示す。
【０２２６】
【表１】
2005225944.tif 000078
【０２２７】
表１より明らかなように、本発明のインクは比較のインクに比べ、耐光性、耐酸性ガス性、オゾン褪色ムラの何れにおいても優れていることが分かる。