(57)【要約】【課題】  マスクパターンに角部があっても、所望の形状にネガレジストを形成することができるフォトマスクを提供すること。【解決手段】  本発明にかかるフォトマスクは、光を透過する光透過部１２と、光を遮光する遮光部１１とを有し、光透過部１２の形状に対応したネガレジストパターンを形成するためのフォトマスクである。光透過部１２は、角部を有し、前記角部は、遮光部１１側へ突出する、突出部２１及び２２を有するものである。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を透過する光透過部と、光を遮光する遮光部とを有し、前記光透過部の形状に対応したネガレジストパターンを形成するためのフォトマスクであって、
前記光透過部は、角部を有し、
前記角部は、
前記遮光部側へ突出する、第１の突出部と第２の突出部とを有するフォトマスク。
【請求項２】
前記第１及び第２の突出部のそれぞれの頂角は、３０°以上１２０°以下の角度である請求項１に記載のフォトマスク。
【請求項３】
前記第１及び第２の突出部が挟む開き角は、６０°以上１２０°以下の角度である請求項１又は２に記載のフォトマスク。
【請求項４】
前記角部は、さらに前記第１及び第２以外の他の突出部を有する請求項１乃至３いずれかに記載のフォトマスク。
【請求項５】
前記他の突出部の頂角は、３０°以上１８０°未満の角度である請求項４に記載のフォトマスク。
【請求項６】
前記他の突出部は、前記第１及び第２の突出部よりも小さい形状である請求項４又は５に記載のフォトマスク。
【請求項７】
前記第１及び第２の突出部のそれぞれの頂角を規定する頂部は、曲線状である請求項１に記載のフォトマスク。
【請求項８】
前記第１及び第２の突出部が挟む開き角を規定する谷部は、曲線状である請求項１又は７に記載のフォトマスク。
【請求項９】
前記第１及び第２の突出部のそれぞれの辺は、曲線状であることを特徴とする請求項１に記載のフォトマスク。
【請求項１０】
基板上にネガレジストを形成する工程と、
請求項１乃至９いずれかに記載のフォトマスクを介して、前記ネガレジストを
露光する工程と、
前記ネガレジストを現像し、レジストパターンを形成する工程とを有する電子部品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスク、及びそれを用いた電子部品の製造方法に関し、特に、角部を有するフォトマスク、及びそれを用いた電子部品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、集積回路等の電子部品の微細化、高集積化が、目覚しい速さで進んでいる。集積回路は、例えば、フォトリソグラフィー法により基板上に素子等のパターンを形成し製造されている。
【０００３】
液晶表示装置のカラーフィルタもフォトリソグラフィー法により製造されている。図５は、カラーフィルタの製造方法の一例を示している。まず、図５（ａ）に示されるように、図示しないブラックマトリックスが形成されたガラス基板５１上に、例えば赤色に着色されたネガレジスト５２を塗布する。このネガレジスト５２は、光硬化性のレジストであり、顔料を、例えばアクリル・エポキシ系の紫外線硬化樹脂などに分散し、溶媒に溶かしたものである。次いで、図５（ｂ）に示されるように、フォトマスク５３を介してネガレジスト５２をプロキシミティ方式により露光する。ここでは、ネガレジスト５２とフォトマスク５３は、所定のプロキシミティギャップの隙間を開けて露光する。次いで、図５（ｃ）に示されるように、現像、ポストベークし、赤色の着色画素５４を形成する。さらに、同様にして、青色及び緑色の着色画素５４を形成し、カラーフィルタが製造される。
【０００４】
図６（ａ）は、図５の製造方法で用いられるフォトマスク６１０のマスクパターンの平面図、図６（ｂ）は、フォトマスク６１０を用いて製造されたカラーフィルタ６２０の平面図である。図６（ａ）に示されるように、フォトマスク６１０は、遮光部６１１と光透過部６１２から構成されている。光透過部６１２は、マスクパターンとなる部分であり、所望する着色画素の形状にネガレジストを硬化させるために光を透過する。光透過部６１２は、ここでは、４つの角部が直角の長方形状を有している。
【０００５】
図６（ｂ）に示されるように、フォトマスク６１０を用いて製造されたカラーフィルタ６２０は、例えば、赤色、青色、緑色の着色画素６２２と、その上下にブラックマトリックス６２３を備えている。また、着色画素６２２の上端及び下端は、ブラックマトリックス６２３と重なって形成されており、この重なった部分（オーバーラップ）は、例えば５μｍである。着色画素６２２は、フォトマスク６１０を介し露光されて形成されているが、４つの角部が直角ではなく、角部の先端が斜めに削られたコーナーカット形状となっている。例えば、コーナーカットの部分が１０μｍの大きさとすると、着色画素６２２とブラックマトリックス６２３のオーバーラップが５μｍのため、図に示されるように、着色画素６２２とブラックマトリックス６２３の間に隙間が生じてしまう。このため、カラーフィルタ６２０の背面から照射された光が、着色画素６２２を通過せずに、漏れてしまう部分が生じ、品質が低下するという問題があった。
【０００６】
図７は、カラーフィルタの製造方法の他の例を示している。図５と比べて、ガラス基板７１とネガレジスト７３の間に反射膜７２が形成されている以外は図５と同様である。ガラス基板７１上に、例えば、アルミニウムや銀で反射膜７２を形成し、さらに、例えば赤色に着色されたネガレジスト７３を塗布する（図７（ａ））。次いで、フォトマスク７４を介して露光（図７（ｂ））し、現像、ポストベークし、赤色の着色画素７５を形成する（図７（ｃ））。さらに、同様にして、青色及び緑色の着色画素７５を形成し、カラーフィルタが製造される。
【０００７】
図８（ａ）は、図７の製造方法で用いられるフォトマスク８１０のマスクパターンの平面図、図８（ｂ）は、フォトマスク８１０を用いて製造されたカラーフィルタ８２０の平面図である。図８（ａ）に示されるように、フォトマスク８１０は、遮光部８１１と光透過部８１２から構成されている。光透過部８１２は、ここでは、それぞれの角部が直角のコの字形状を有している。
【０００８】
図８（ｂ）に示されるように、フォトマスク８１０を用いて製造されたカラーフィルタ８２０は、例えば、赤色、青色、緑色の着色画素８２２を備えている。着色画素８２２は、フォトマスク８１０を介し露光されて形成されており、開口部８２３、反射部８２４及び透過部８２５を有している。開口部８２３は、図７（ｃ）で、ガラス基板７１上に反射膜７２のみが形成されている部分、反射部８２４は、図７（ｃ）で、ガラス基板７１上に反射膜７２及び着色画素７５が形成されている部分、透過部８２５は、図７（ｃ）で、ガラス基板７１上に着色画素７５のみが形成されている部分である。ここで、開口部８２３の２つの角部が、コーナーカット形状となっている。このため、開口部８２３を通過する光や、反射部８２４で反射する光が、所望のものとは異なるため、図６と同様に、品質を確保できないという問題があった。
【０００９】
図６や図８で示したように、フォトマスクのマスクパターンの角部が直角形状であっても、得られる着色画素の角部がコーナーカットされてしまうのは、光の干渉によるものである。完全平行光による露光では、このような光の回折や干渉の影響を抑えるために、位相シフトさせる補助パターンを設ける方法が知られているが、プロキシミティ方式の露光では、Ｃｒ膜の遮光／透過のみで、光の位相を制御する方法は知られていない。
【００１０】
尚、フォトマスクのマスクパターンの角部を三角形状とする方法が知られている（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−６６５８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
このように、従来のフォトマスクでは、マスクパターンに角部がある場合、所望の形状にネガレジストを形成できないという問題点があった。
【００１２】
本発明は、このような問題点を解決するためになされたもので、マスクパターンに角部があっても、所望の形状にネガレジストを形成することができるフォトマスクを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明にかかるフォトマスクは、光を透過する光透過部と、光を遮光する遮光部とを有し、前記光透過部の形状に対応したネガレジストパターンを形成するためのフォトマスクであって、前記光透過部は、角部を有し、前記角部は、前記遮光部側へ突出する、第１の突出部と第２の突出部とを有するものである。これにより、マスクパターンに角部があっても、所望の形状にネガレジストを形成することができる。
【００１４】
上述のフォトマスクにおいて、前記第１及び第２の突出部のそれぞれの頂角は、３０°以上１２０°以下の角度であってもよい。これにより、ネガレジストの感度や露光の条件に応じて、より正確に、所望の形状にネガレジストを形成することができる。
【００１５】
上述のフォトマスクにおいて、前記第１及び第２の突出部が挟む開き角は、６０°以上１２０°以下の角度であってもよい。これにより、ネガレジストの感度や露光の条件に応じて、より正確に、所望の形状にネガレジストを形成することができる。
【００１６】
上述のフォトマスクにおいて、前記角部は、さらに前記第１及び第２以外の他の突出部を有していてもよい。これにより、ネガレジストの感度や露光の条件に応じて、より正確に、所望の形状にネガレジストを形成することができる。
【００１７】
上述のフォトマスクにおいて、前記他の突出部の頂角は、３０°以上１８０°未満の角度であってもよい。これにより、ネガレジストの感度や露光の条件に応じて、より正確に、所望の形状にネガレジストを形成することができる。
【００１８】
上述のフォトマスクにおいて、前記他の突出部は、前記第１及び第２の突出部よりも小さい形状であってもよい。これにより、より細かくマスクパターンを補正し、所望の形状にネガレジストを形成することができる。
【００１９】
上述のフォトマスクにおいて、前記第１及び第２の突出部のそれぞれの頂角を規定する頂部は、曲線状であってもよい。これにより、ネガレジストの感度や露光の条件に応じて、より正確に、所望の形状にネガレジストを形成することができる。
【００２０】
上述のフォトマスクにおいて、前記第１及び第２の突出部が挟む開き角を規定する谷部は、曲線状であってもよい。これにより、ネガレジストの感度や露光の条件に応じて、より正確に、所望の形状にネガレジストを形成することができる。
【００２１】
上述のフォトマスクにおいて、前記第１及び第２の突出部のそれぞれの辺は、曲線状であってもよい。これにより、ネガレジストの感度や露光の条件に応じて、より正確に、所望の形状にネガレジストを形成することができる。
【００２２】
本発明にかかる電子部品の製造方法は、基板上にネガレジストを形成する工程と、上述のフォトマスクを介して、前記ネガレジストを露光する工程と、前記ネガレジストを現像し、レジストパターンを形成する工程とを有するものである。これにより、マスクパターンに角部があっても、所望の形状にネガレジストを形成し、品質の良い電子部品を製造することができる。
【発明の効果】
【００２３】
本発明によれば、マスクパターンに角部があっても、所望の形状にネガレジストを形成することができるフォトマスクを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
発明の実施の形態１．
まず、図１及び図２を用いて、本発明の実施の形態１にかかるフォトマスク１０のマスクパターンの角部について説明する。図１及び図２は、フォトマスク１０のマスクパターンの角部を示す平面図であり、長方形状やコの字形状等のマスクパターンにおいて、この角部の形状が用いられる。このフォトマスク１０を介して、基板上に設けられたネガレジストをプロキシミティ方式により露光し、現像すると、所望の形状のネガレジストを得ることができる。
【００２５】
図１及び図２に示されるように、フォトマスク１０は、光を遮光する遮光部１１、光を透過する光透過部１２から構成されている。光透過部１２は、辺１３と辺１４を延長した線が交差する角部に、突出部２１及び２２を有する複合突出部２０を設けている。例えば、フォトマスク１０は、石英ガラス等の基板上に、光透過部１２が所望のマスクパターンとなるように、Ｃｒ膜等の遮光部１１が形成されている。以下、複合突出部２０の形状について説明する。尚、この角部は、例えば、直角であるが、これに限らず、鋭角、鈍角であってもよい。また、本明細書において、角部とは、隣接する辺がつくる多角形の内部の角である内角が１８０°未満の部分をいう。内角が１８０°を超える部分は、角部には含まれない。
【００２６】
図１（ａ）に示される複合突出部２０は、光透過部１２側から遮光部１１側へ突出する突出部２１及び２２を有している。突出部２１と突出部２２の挟む開き角θ１は、６０°〜１２０°であることが好ましく、ここでは９０°である。開き角θ１は、突出部２１と突出部２２の対向する辺の頂点、あるいは対向する辺を延長した線の交わる頂点における、遮光部１１側の角度である。突出部２１と突出部２２の対向する辺が曲線の場合には、頂点を結ぶ直線からなる角度を開き角θ１とする。また、突出部２１の頂角θ２及び突出部２２の頂角θ３は、ここでは同じ角度であり、３０°〜１２０°であることが好ましい。頂角θ２もしくは頂角θ３は、突出部２１もしくは突出部２２の２辺の頂点、あるいは２辺を延長した線の交わる頂点における、光透過部１２側の角度である。突出部２１もしくは突出部２２の２辺が曲線の場合には、頂点を結ぶ直線からなる角度を頂角θ２もしくは頂角θ３とする。なお、この頂角θ２とθ３は、異なる角度であってもよい。また、突出部２１及び２２の各辺の大きさは、１〜１０μｍであることが好ましい。開き角θ１の頂点は、辺１３及び辺１４の延長線に対して、ここでは、光透過部１２側に位置しているが、辺１３及び辺１４の延長線上でもよいし、遮光部１１側に位置していてもよい。図１（ｂ）は、開き角θ１を１２０°、図１（ｃ）は、開き角θ１を６０°とした場合の複合突出部２０を示している。
【００２７】
図１（ｄ）の複合突出部２０は、突出部２１及び２２の対向する辺と反対側の辺を曲線としている。このように、突出部２１及び２２の各辺を、直線に限らず曲線としてもよく、さらに、突出部２１及び２２の各頂部を曲線状としてもよい。また、開き角θ１を形成する谷部を曲線状としてもよい。開き角θ１、頂角θ２、頂角θ３の角度や形状、突出部２１及び２２の辺の長さや形状等は、感光するネガレジストの感度や露光の環境等に合わせたものとすることが好ましい。
【００２８】
図２では、図１の複合突出部２０にさらにその他の突出部を設けた例である。複合突出部２０は、２つの突出部に限らず、３つ以上の突出部を有していてもよい。図２（ａ）の複合突出部２０は、突出部２１及び２２の対向する辺と反対側の辺側に、それぞれ突出部２１ａ及び２２ａを設けている。図２（ｂ）の複合突出部２０は、突出部２１及び２２の両方の辺側に、それぞれ突出部２１ａ、２１ｂ、２２ａ、２２ｂを設けている。突出部２１ａ、２１ｂ、２２ａ、２２ｂは、突出部２１及び２２と同様の大きさでもよいし、突出部２１及び２２よりも小さい形状でもよい。突出部２１及び２２よりも小さい形状として、マスクパターンのより細かな補正を行ってもよい。また、突出部２１ａ、２１ｂ、２２ａ、２２ｂの頂角は、３０°以上１８０°未満であることが好ましい。この頂角は、頂角θ２及びθ３と同様に、各突出部の２辺の頂点における、光透過部１２側の角度である。
【００２９】
図２（ｃ）の複合突出部２０は、突出部２１及び２２の対向する辺と反対側の辺側に、それぞれ突出部２１ａ及び２２ａを設け、さらに、各頂部、谷部を曲線状にしたものである。このように、突出部２１及び２２、突出部２１ａ及び２２ａの全ての頂部や谷部を曲線状としてもよいし、一部の頂部あるいは谷部を曲線状としてもよい。
【００３０】
このような複合突出部２０を角部とするフォトマスク１０を介して、ネガレジストを露光することにより、従来の角部と比べて、光の回折や干渉の影響を抑え、角部を略直角に形成することができる。特に、従来、光の位相制御ができなかったプロキシミティ方式の露光において、効果がある。
【００３１】
発明の実施の形態２．
次に、図３を用いて、本発明の実施の形態２にかかるフォトマスク１０のマスクパターン及びカラーフィルタ３０について説明する。図３（ａ）は本発明の実施の形態２にかかるフォトマスク１０のマスクパターンの平面図、図３（ｂ）はフォトマスク１０を用いて製造されたカラーフィルタ３０の平面図である。
【００３２】
図５の製造方法において、フォトマスク１０を用いることにより、カラーフィルタ３０を製造することができる。ガラス基板５１上に、例えば、赤色に着色されたネガレジスト５２を塗布し（図５（ａ））、フォトマスク５３を介してプロキシミティ方式により露光する（図５（ｂ））。ここで、図５のフォトマスク５３に、図３のフォトマスク１０を用いる。次いで、現像、ポストベークし、赤色の着色画素５４を形成する（図５（ｃ））。さらに、同様にして、青色及び緑色の着色画素５４を形成し、カラーフィルタ３０が製造される。
【００３３】
図３（ａ）に示されるように、フォトマスク１０は、遮光部１１と光透過部１２から構成されている。光透過部１２は、長方形状の４つの角部を図１あるいは図２に示した複合突出部２０としている。また、全ての角部ではなく、一部の角部のみを複合突出部２０としてもよい。
【００３４】
図３（ｂ）に示されるように、フォトマスク１０を用いて製造されたカラーフィルタ３０は、例えば、赤色、青色、緑色の着色画素３１と、その上下にブラックマトリックス３２を備えている。また、着色画素３１の上端及び下端とブラックマトリックス３２は、オーバーラップして、隙間なく形成されている。
【００３５】
このように、角部を複合突出部２０とするフォトマスク１０を用いて着色画素３１を形成することにより、着色画素３１の角部が略直角とすることができる。したがって、着色画素３１とブラックマトリックス３２は、隙間を生じることなく、光漏れを防止することができ、品質の向上を図ることができる。
【００３６】
発明の実施の形態３．
次に、図４を用いて、本発明の実施の形態３にかかるフォトマスク１０のマスクパターン及びカラーフィルタ４０について説明する。図４（ａ）は本発明の実施の形態３にかかるフォトマスク１０のマスクパターンの平面図、図４（ｂ）はフォトマスク１０を用いて製造されたカラーフィルタ４０の平面図である。
【００３７】
図７の製造方法において、フォトマスク１０を用いることにより、カラーフィルタ４０を製造することができる。反射膜７２が形成されたガラス基板７１上に、例えば、赤色に着色されたネガレジスト７３を塗布し（図７（ａ））、フォトマスク７４を介してプロキシミティ方式により露光する（図７（ｂ））。ここで、図７のフォトマスク７４に、図４のフォトマスク１０を用いる。次いで、現像、ポストベークし、赤色の着色画素７５を形成する（図７（ｃ））。さらに、同様にして、青色及び緑色の着色画素７５を形成し、カラーフィルタ４０が製造される。
【００３８】
図４（ａ）に示されるように、フォトマスク１０は、遮光部１１と光透過部１２から構成されている。光透過部１２は、コの字形状の角部のうち２つの角部を図１あるいは図２に示した複合突出部２０としている。また、その他の角部を複合突出部２０としてもよいし、１つの角部のみを複合突出部２０としてもよい。
【００３９】
図４（ｂ）に示されるように、フォトマスク１０を用いて製造されたカラーフィルタ４０は、例えば、赤色、青色、緑色の着色画素４１を備えている。着色画素４１は、開口部４２、反射部４３及び透過部４４を有している。開口部４２は、図７（ｃ）で、ガラス基板７１上に反射膜７２のみが形成されている部分、反射部４３は、図７（ｃ）で、ガラス基板７１上に反射膜７２及び着色画素７５が形成されている部分、透過部４４は、図７（ｃ）で、ガラス基板７１上に着色画素７５のみが形成されている部分である。
【００４０】
このように、角部を複合突出部２０とするフォトマスク１０を用いて着色画素４１を形成することにより、着色画素４１の角部、ここでは開口部４２の２つの角部を略直角とすることができる。このため、着色画素４１を所望の形状とすることができ、品質の向上を図ることができる。
【００４１】
尚、上述の例では、フォトマスクのマスクパターンを、長方形状やコの字形状としたが、角部を有していれば、これに限らず、任意の形状でもよい。
【００４２】
上述の例では、フォトマスクを用いてカラーフィルタ用のネガレジストを形成したが、これに限らず、その他の電子部品のネガレジストを形成してもよい。
【実施例１】
【００４３】
次に、図９乃至図１２を用いて、露光シミュレーションした実施例１乃至４について説明する。図９及び図１０は、従来のフォトマスクを用い、図１１及び図１２は、本発明にかかるフォトマスクを用いて、着色画素となるネガレジストを露光した場合のシミュレーションした例を示している。また、図９乃至図１２では、図４及び図８で示したコの字形状のマスクパターンを想定し、特に、図４で開口部４２を形成するために複合突出部２０とした角部について、シミュレーションを行った。図９乃至図１２のフォトマスクにおいて、形成される開口部４２の幅である開口幅ｗは、全て２０μｍとした。さらに、図９乃至図１２の露光の条件は、露光機コリメーションアングルを２〜３°、プロキシミティギャップを１５０μｍ、露光量を４００ｍＪ／ｃｍ２、着色画素となるネガレジストを最大吸収波長が３６５ｎｍ近傍にあるものとした。
【００４４】
まず、実施例１について説明する。図９（ａ）は、実施例１で用いた従来のフォトマスクのマスクパターンの角部を示す平面図、図９（ｂ）は、このフォトマスクを用いてシミュレーションし、得られた着色画素を示す斜視図である。
【００４５】
実施例１では、図９（ａ）に示されるように、マスクパターンの角部が、図８と同様に直角形状のものを用いてシミュレーションを行った。この結果得られた着色画素は、図９（ｂ）に示されるように、角部が１０μｍの大きさで斜めにコーナーカットされた形状となった。
【実施例２】
【００４６】
図１０（ａ）は、実施例２で用いた従来のフォトマスクのマスクパターンの角部を示す平面図、図１０（ｂ）は、その角部を拡大し大きさを示した平面図、図１０（ｃ）は、このフォトマスクを用いてシミュレーションし、得られた着色画素を示す斜視図である。
【００４７】
実施例２では、図１０（ａ）（ｂ）に示されるように、マスクパターンの角部に、遮光部１１側へ三角形状に突出する突出部を１つ設けたものを用いてシミュレーションを行った。この結果得られた着色画素は、図１０（ｃ）に示されるように、角部が実施例１と同様に、コーナーカットされた形状となった。
【実施例３】
【００４８】
図１１（ａ）は、実施例３で用いた本発明にかかるフォトマスクのマスクパターンの角部を示す平面図、図１１（ｂ）は、その角部を拡大し大きさを示した平面図、図１１（ｃ）は、このフォトマスクを用いてシミュレーションし、得られた着色画素を示す斜視図である。
【００４９】
実施例３では、図１１（ａ）（ｂ）に示されるように、マスクパターンの角部に、図４と同様、複合突出部２０を設けたものを用いてシミュレーションを行った。この複合突出部２０は、図１１（ｂ）に示されるように、開き角θ１の頂点を、辺１３及び辺１４の延長線に対して、光透過部１２側に設けている。この結果得られた着色画素は、図１１（ｃ）に示されるように、角部が斜めにコーナーカットされずに、略直角形状となった。
【実施例４】
【００５０】
図１２（ａ）は、実施例４で用いた本発明にかかるフォトマスクのマスクパターンの角部を示す平面図、図１２（ｂ）は、その角部を拡大し大きさを示した平面図、図１２（ｃ）は、このフォトマスクを用いてシミュレーションし、得られた着色画素を示す斜視図である。
【００５１】
実施例４では、図１２（ａ）（ｂ）に示されるように、マスクパターンの角部に、図４と同様、複合突出部２０を設けたものを用いてシミュレーションを行った。この複合突出部２０は、図１２（ｂ）に示されるように、開き角θ１の頂点を、辺１３及び辺１４の延長線上に設けている。この結果得られた着色画素は、図１２（ｃ）に示されるように、角部がコーナーカットされずに、略直角形状となった。
【００５２】
実施例１及び２のように、フォトマスクのマスクパターンの角部を、直角形状あるいは１つの突出部を設けた場合、形成されるネガレジストの角部がコーナーカット形状となった。また、図示しないが、マスクパターンの角部に光透過部１２側へ突出する突出部を１つ設けた場合には、コーナーカット形状を改善することはできないが、コーナーカット形状の部分に凸部が生じた。そして、実施例３及び４のように、マスクパターンの角部を、遮光部１１側と光透過部１２側の両方へ突出する形状となる複合突出部２０とすることによって、形成されるネガレジストの角部を所望どおり略直角形状を得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の実施の形態にかかるフォトマスクの平面図である。
【図２】本発明の実施の形態にかかるフォトマスクの平面図である。
【図３】本発明の実施の形態にかかるフォトマスク及びカラーフィルタの平面図である。
【図４】本発明の実施の形態にかかるフォトマスク及びカラーフィルタの平面図である。
【図５】カラーフィルタの製造方法を示す図である。
【図６】従来のフォトマスク及びカラーフィルタの平面図である。
【図７】カラーフィルタの製造方法を示す図である。
【図８】従来のフォトマスク及びカラーフィルタの平面図である。
【図９】実施例にかかるフォトマスクの平面図及び着色画素の斜視図である。
【図１０】実施例にかかるフォトマスクの平面図及び着色画素の斜視図である。
【図１１】実施例にかかるフォトマスクの平面図及び着色画素の斜視図である。
【図１２】実施例にかかるフォトマスクの平面図及び着色画素の斜視図である。
【符号の説明】
【００５４】
１０  フォトマスク
１１  遮光部
１２  光透過部
１３、１４  辺
２０  複合突出部
２１、２２  突出部
２１ａ、２２ａ  突出部
【図１】
2005173059.tif 000003
【図２】
2005173059.tif 000004
【図３】
2005173059.tif 000005
【図４】
2005173059.tif 000006
【図５】
2005173059.tif 000007
【図６】
2005173059.tif 000008
【図７】
2005173059.tif 000009
【図８】
2005173059.tif 000010
【図９】
2005173059.tif 000011
【図１０】
2005173059.tif 000012
【図１１】
2005173059.tif 000013
【図１２】
2005173059.tif 000014