(57)【要約】【課題】弾性層の抵抗値をプライマー処理及び／又はコート前処理によって制限して変化させることによってコート層面に生じるローラの半導電性領域を安定なものとし、かつバラツキのないもとすることにより初期の印字濃度及び高温高湿環境でのカブリ、更には耐久後の印字濃度、カブリ、黒ベタムラ等に対して良好な現像をしうる半導電性ローラ及びその製造方法を提供するもの。【解決手段】弾性層を有し、該弾性層の外側にコート処理をしてなる半導電性ゴムローラの製造方法において、該コート処理後のローラの半導電領域を所定抵抗値に上昇させ、かつそのバラツキを低減するプライマーの処理を該コート処理の前に上記弾性層にすることを特徴とする。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
弾性層を有し、該弾性層の外側にコート処理をしてなる半導電性ゴムローラの製造方法において、該コート処理後のローラの半導電領域を所定抵抗値に上昇させ、かつそのバラツキを低減するプライマーの処理を該コート処理の前に上記弾性層に施すことを特徴とする半導電性ローラの製造方法。
【請求項２】
上記弾性層にプライマー処理及びコート処理をする前に、少なくとも紫外線照射処理、オゾン処理、電子線照射処理、コロナ処理、及びプラズマ処理から選択される１以上のコート前処理をすることを特徴とする請求項１記載の半導電性ローラの製造方法。
【請求項３】
上記コート処理には、表面の輝度値を制御する微粒子を添加して処理をすることを特徴とする請求項１又は２記載の半導電性ローラの製造方法。
【請求項４】
上記コート処理後のローラの半導電性領域の抵抗値をＳとし、上記弾性層の抵抗値をＢとすると、抵抗値変化率Ｓ／Ｂが１０〜１０００倍の範囲に制御してコート処理、コート前処理及びプライマー処理をすることを特徴とする請求項２又は３記載の半導電性ローラの製造方法。
【請求項５】
少なくとも弾性層と表面輝度値が制御されたコート層を有してなる半導電性ゴムローラであって、上記弾性層とコート層との間に、プライマー層、及び少なくとも紫外線照射処理、オゾン処理、電子線照射処理、コロナ処理、及びプラズマ処理から選択される１以上のコート前処理層が形成され、上記コート処理後のローラの半導電性領域の抵抗値をＳとし、上記弾性層の抵抗値をＢとすると、抵抗値変化率Ｓ／Ｂは１０〜１０００倍の範囲に制御してあることを特徴とする半導電性ローラ。
【請求項６】
上記コート層には表面輝度値を制御するシリカ剤粒子が添加されていることを特徴とする請求項５記載の半導電性ローラ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導電性ローラ及びその製造方法に関するものであり、特に、画像形成装置等の帯電性ローラ、現像ローラ、転写ローラ、クリーニングローラ等に使用される半導電性ローラ及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
電子写真方式のＯＡ機器等の画像形成装置としては、複写機、プリンタ、又はファクシミリ等があげられるが、このような装置の現像工程では、摩擦帯電したトナーを担持体に薄層状態で担持させ、感光ドラムの静電潜像を可視化させることにより現像を行う。これらの画像形成装置には、帯電ローラ、現像ローラ、転写ローラ、クリーニングローラ、及びその中間体ローラとして半導電性ローラが使用される。一般に、半導電性ローラは、金属などの導電性材料からなるスリーブ或いはシャフト等の導電性支持体の外周面に、導電剤等を配合したゴム等の弾性層を形成し、その弾性層の上に導電性を付与した表面層が設けられている。
【０００３】
例えば、中間転写体において、少なくともシリコーンゴム層、接着剤層（又は中間層或いはプライマー層）および導電性のフッ素ゴム層を外表面側からこの順に設けて、中間転写体自体の耐久性を高める提案がなされている（例えば、特許文献１を参照）。
また一般に、ローラのシャフト面に接着されるゴムシーティング材を絶縁性接着剤（プライマー層）を用いて接着・固定して半導電ローラを形成し、その際絶縁性接着剤の層厚を通常２０μｍ以下とし、この絶縁性接着層の抵抗率を所定の規格内に納まるように小さくすることができるようにして、導電性支持体と弾性層と間が剥がれないようにする提案もなされている（例えば、特許文献２を参照）。
【０００４】
ところで、このような半導電性ローラにおける中間層、即ち、プライマー層は、弾性層とコート層（又は外層）との接着性を高めることを主目的として形成されている。しかしながら、かかるプライマー層はそのコート層、即ち、ローラの半導電性領域の抵抗値にも深く関係していることが判ってきた。
従来、導電性支持体上の弾性層とコート層との導電的な関係についての技術も種々提案されてきている。例えば、潜像保持体表面に該現像剤を供給する金属製の現像ローラであって、該ローラ外周に体積抵抗率が１０６Ωｃｍ以下の弾性層を設けるとともに、その上に導電性微粒子を含まず、体積抵抗率が１０１０Ωｃｍ以上のコート層を設けた現像ローラ、及びこの現像ローラを装着した現像装置が提案されている（例えば、特許文献３を参照。）。そして、このようなローラは低硬度で良好な密着性を有すると共に、感光体等を汚染することなく、低摩擦で高品位の画像が得られるだけでなく、製造面においても性能のばらつきを生じないとしている。
【０００５】
【特許文献１】
特開平７−１７５３４５号公報。
【特許文献２】
特開平７−３２５４７６号公報。
【特許文献３】
特開２００２−０２３４８５号公報。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の半導電性ローラにあっては、そのローラとしての抵抗値をある同一水準に設定してもコート層（外層）の抵抗値及び弾性層の抵抗値の組合せによってはその印字特性が異なることがあり、それぞれを厳密に管理する必要がある。また、このような印字濃度の差はコート層面の輝度値等の相違も影響しており、コート層面の状態も同時に制御する必要があるため、その管理は非常に複雑なものとなる傾向がある。
また、従来の技術においては弾性層及びコート層の抵抗値を１０３〜１０７Ωの範囲とするために、導電剤の添加量及び分散状態を精密に制御する必要があった。
１０３〜１０４Ωの比較的低抵抗値領域でのその抵抗値は、その水準及びバラツキとも、比較的安定しているが、それよりも高い領域１０５〜１０９Ωの範囲では、抵抗値制御が困難となる。特に１０７Ωのような高抵抗領域の抵抗値を制御するには、導電剤の充填率を少なくすると同時に分散状態を均一に制御する必要がある。しかし、この領域ではパーコレーション現象により、導電剤の導通経路が不安定となること、抵抗値の水準変動が加わることにより、ローラ中でのバラツキが非常に大きくなる傾向がある。
【０００７】
従って、本発明は、弾性層の抵抗値等の導電性能をプライマー処理及び／又はコート前処理によって任意的に変化させて、コート層面に生じるローラの半導電性領域を所定の抵抗値に安定的に上昇させることができ、かつバラツキの少ないものなので、初期の印字濃度及び高温高湿環境でのカブリ、更には耐久後の印字濃度、カブリ、黒ベタムラ等に対して良好な現像状態を得ることのできる半導電性ローラ及びその製造方法を提供するものである。
また本発明は、ローラの半導電性領域における表面輝度値を適宜に設定して優れた画像を得るためにローラでのトナー搬送力を良好にしうる半導電性ローラ及びその製造方法を提供するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、弾性層にコート層、特に、表面が所定の輝度値に制御されたコート層を処理する前に、弾性層にプライマー処理、更には紫外線照射などのコート前処理を施すと、ローラの導電性領域を所定の抵抗値に上昇させ、安定でバラツキのないものとし、これらのローラが印字濃度、カブリ、黒ベタムラ等に対して有効に作用することを見出し、本発明に至ったものである。
即ち、本発明に係る半導電性ローラ及びその製造方法は、以下の構成或いは手段からなることを特徴とし、前記課題を解決するものである。
【０００９】
（１）  弾性層を有し、該弾性層の外側にコート処理をしてなる半導電性ゴムローラの製造方法において、該コート処理後のローラの半導電領域を所定抵抗値に上昇させ、そのバラツキを低減するプライマーの処理を該コート処理の前に上記弾性層に施すことを特徴とする半導電性ローラの製造方法。
【００１０】
（２）  上記弾性層にプライマー処理及びコート処理をする前に、少なくとも紫外線照射処理、オゾン処理、電子線照射処理、コロナ処理、及びプラズマ処理から選択される１以上のコート前処理をすることを特徴とする上記（１）記載の半導電性ローラの製造方法。
（３）  上記コート処理には表面の輝度値を制御する微粒子を添加して処理をすることを特徴とする上記（１）又は（２）記載の半導電性ローラの製造方法。
（４）  上記コート処理後のローラの半導電性領域の抵抗値をＳとし、上記弾性層の抵抗値をＢとすると、抵抗値変化率Ｓ／Ｂが１０〜１０００倍の範囲に制御してコート処理、コート前処理及びプライマー処理をすることを特徴とする上記（２）又は（３）記載の半導電性ローラの製造方法。
（５）  少なくとも弾性層と表面輝度値が制御されたコート層を有してなる半導電性ゴムローラであって、上記弾性層とコート層との間に、プライマー層、及び少なくとも紫外線照射処理、オゾン処理、電子線照射処理、コロナ処理、及びプラズマ処理から選択される１以上のコート前処理層が形成され、上記コート処理後のローラの半導電性領域の抵抗値をＳとし、上記弾性層の抵抗値をＢとすると、抵抗値変化率Ｓ／Ｂは１０〜１０００倍の範囲に制御してあることを特徴とする半導電性ローラ。
（６）  上記コート層には表面輝度値を制御するシリカ剤粒子が添加されていることを特徴とする請求項５記載の半導電性ローラ。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る半導電性ローラ及びその製造方法の好ましい実施の形態を詳述する。尚、本発明に係る半導電性ローラ及びその製造方法は以下の実施形態に限るものではない。
図１は本実施形態に係る半導電性ローラの概略断面図である。図２は、本実施形態に係る半導電性ローラの抵抗値を測定する装置の概略図である。図３は、本実施形態に係る半導電性ローラの表面輝度を測定する装置の概略図である。
【００１２】
図１に示すように本実施形態の半導電性ローラは、導電性軸体１の外周面に弾性層２が形成されてなる。即ち、半導電性ロールは導電性軸体１とかかるシャフト１の外周面に被覆形成される円筒形の弾性体層２を備え、更に、弾性層２のロール表面にコート層３が形成されるものである。そして、弾性層２にコート層３が形成される前に、弾性層２にプライマー処理及びコート前処理によってプライマー層４及びコート前処理層５が形成される。
尚、図１に示すように、必要により導電性軸体１と弾性層２との間にはその間の接着性を高めるための軸体プライマー層６を設けても良い。
【００１３】
上記導電性軸体１は良好な導電特性を有するものであるかぎり使用しうる。通常、鉄、アルミニウム、ＳＵＳ、真鍮などで構成した所謂、「芯金」である。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等の絶縁性芯体にメッキを施して導電化したもの、または熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などに導電性付与剤としてカーボンブラック、或いは金属粉体などを配合した導電性樹脂で形成されていてもよい。導電性軸体１はその一端を接地するかバイアス電圧を印加することにより、静電担持体（感光ドラム等）の電圧、トナーへの電荷の注入、潜像担持体からのトナーの搬送による静電潜像の現像などの機能を発揮する。
【００１４】
上記弾性層２を形成する弾性体は、その材質や硬度や強度に関して特に制限されるものではないが、一般にゴム材質に導電性材料等を添加した弾性体で構成される。ゴム材質としては、ニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム（エチレンプロピレンジエンゴムを含む。）、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、天然ゴム、アクリルゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、エピクロルヒドリンゴム、ウレタンゴムなどが挙げられ、これら一種又は二種以上の混合ゴム又は変性ゴムを用いることができる。また、シリコーン或いはシリコーン変性ゴムなどのような有機ケイ素化合物を用いることができる。
【００１５】
上記弾性層２は、抵抗値が１０３〜１０７Ωの範囲にあることが好ましく、このような弾性層２には、一般に導電性材料が含有される。導電性材料としては、導電性粉末やイオン導電性物質がある。導電性粉末は、ケッチェンブラックＥＣ，アセチレンブラック等の導電性カーボンの他に、ＳＡＦ、ＩＳＡＦ、ＨＡＦ、ＦＥＦ、ＧＰＦ、ＳＲＦ、ＦＴ、ＭＴ等のゴム用カーボン類、また酸化チタン、酸化亜鉛、ニッケル、銅、銀、ゲルマニウム等の金属、更には金属酸化物、ポリアニリン、ポリピロール、ポリアセチレン等の導電性ポリマー等を挙げることができる。イオン導電性物質としては、過塩素酸ナトリウム、過塩素酸リチウム、過塩素酸カルシウム、塩化リチウム等の無機イオン性導電物質等を挙げることができる。
導電性粉末は、上記抵抗値を示す範囲で適宜添加することができると同時に２種類以上を混合して用いることもできる。
【００１６】
このような弾性層２の形成方法としては、通常、樹脂及び他の添加剤などを溶媒に溶解又は分散させて塗工液を調製し、この塗工液を浸漬法、ロールコーター法，ドクターブレード法，スプレー法などにより、金属製のローラ外周に塗布し、乾燥硬化させて形成する。その厚さは、適宜選択することができる。
【００１７】
本実施態様にあっては、上記弾性層にプライマー処理及びコート処理をする前に、少なくとも紫外線照射処理、オゾン処理、電子線照射処理、コロナ処理、及びプラズマ処理から選択される１以上のコート前処理がされる。図１おいては、そのコート前処理層５の厚みは、説明のため強調されて記載されており、実質的には弾性層２の処理面である。このような前処理及び前処理層５は、弾性層２とプライマー層４との密着性を改善すると同時に弾性層２の表面に安定した高抵抗層を形成しうる。
【００１８】
上記プライマー処理によるプライマー層は弾性層からの電気的な影響を少なくしてローラ自体の抵抗値を半導電性領域において安定かつバラツキのないもとする限り、特にその材質、厚みを制限するものではないが、プライマー層４の厚みが０．１〜１０μｍの範囲になるようにプライマー処理することが望ましい。このような範囲であれば、ローラの半導電性領域を安定なものとすることができる。
また、プライマー処理の材質としては、特に制限するものではないが、コート層と弾性層との密着性を向上させる観点から、シラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤から選択することが望ましい。
【００１９】
本発明における上記コート処理の材質としては、特に制限するものではないが圧接部が存在するため永久変形のないものが好ましく、イソシアネート基から誘導される熱硬化型ウレタン系樹脂が好ましい。イソシアネート基と種々の活性水素化合物と反応しウレタン結合、ウレア結合、アミド結合等を生成するものである。化学架橋点としてはアロハナート基、ビウレット基、アシルウレタン基等が挙げられる。また、これらのは他の成分との変性若しくはブレンド物でも良い。更に、コート層には上述のように導電性材料を適宜配合すると良い。
【００２０】
また本発明においては、ローラ面の輝度値を制御する観点から微粒子を添加して処理をすることが望ましい。このような輝度値を制御する微粒子としては、無機微粒子及び有機微粒子を挙げることができる。無機微粒子としては、湿式シリカ、煙霧質シリカ、硫酸バリウム、酸化チタン、酸化亜鉛、グラファイト、球状カーボン微粒子等を挙げることができる。有機微粒子としては、ウレタン樹脂微粒子、アクリル樹脂微粒子、シリコーンゴム微粒子、シリコーン樹脂微粒子等を挙げることができる。中でも、シリカ粒子が好ましく、例えば、煙霧質シリカ等を挙げることができる。
【００２１】
コート層表面の輝度値は、後述する表面輝度の測定値において３０〜２２０の範囲に制御することが望ましい。表面輝度値が３０未満の場合には、黒ベタ印字サンプルの画像濃度が必要以上に高くなり、中間トーンの印字サンプルなどでは濃度ムラを発生し易く、ドット再現性が低下する。一方、表面輝度値が２２０を超えると、黒ベタ印字サンプルにおける画像濃度が低下し、印字媒体である紙が透けて、良好な画像を得ることができない。また、中間トーンの印字サンプルなどではドット再現性が低下すると共に、トナーの損傷が激しくなり、フィルミングが発生し易くなる。
【００２２】
本発明において、上記コート処理後のローラの半導電性領域の抵抗値をＳとし、上述した弾性層の抵抗値をＢとすると、抵抗値変化率Ｓ／Ｂが１０〜１０００倍の範囲、特に５０〜５００倍の範囲に制御してコート処理、コート前処理及びプライマー処理がなされていることが好ましい。
このような倍率に設定できれば、半導電性ローラとしては好ましい抵抗値を示し、印字濃度、カブリ、及び黒ベタの点で優れた性能を発揮する。また、このような安定な半導電性領域を維持するためには、コート処理におけるコート層の厚みは１〜１００μｍの範囲、特に５〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。
尚、上記プライマー処理、及びコート処理は上述したようにスプレー法、浸漬法などを必要に応じて採用すれば良い。
【００２３】
このような方法によって製造される本実施形態の半導電性ローラによれば、コート層における電気的性質が安定し、半導電性領域におけるムラもないので、初期の印字濃度に優れ、初期の高温高湿環境下におけるカブリが見られず、さらには耐久試験実施後の印字濃度も優れ、高温高湿環境でのカブリ及び黒ベタムラも見られないものである。
【００２４】
【実施例】
以下、本発明に係る半導電性ローラ及びその製造方法について各実施例を順次説明する。尚、実施例はシリコーン及びウレタンを具体的に挙げているが、本発明の主旨に叶うものであれば、いかなる樹脂及び／又はエラストマーを用いても良い。
（実施例１）
＜基材ロール＞
導電性軸体として、ＳＵＳ２２に無電解ニッケルメッキした直径１２ｍｍ、長さ２５０ｍｍのシャフトを用い、これにシリコーン系プライマーＮｏ１６（信越化学工業社製、商品名）を塗布し、ギアオーブン中で温度１５０℃、１０分間焼き付け処理を施した。
【００２５】
一方、半導電性弾性層用の組成物として、シリコーン生ゴム・ＫＥ−７８ＶＢＳ（信越化学工業社製、商品名）１００質量部にカーボンブラック・サーマルブラック（旭カーボン社製  商品名）１０質量部、煙霧質シリカ系充填材としてアエロジル２００（日本アエロジェル社製、商品名）２５質量部、有機過酸化物系加硫剤・Ｃ−８（信越化学工業社製、商品名）２質量部を添加してミキシングロールで混ぜ、円筒形キャビティーからなる圧縮成型金型にて、温度１７５℃、１０分間、前記軸体外周上へ加硫接着成型した。その後、ギアオーブンで温度２００℃、７時間、二次加硫を行い、円筒研削盤で研磨し、直径２０ｍｍ、抵抗値１×１０４（Ω）、硬度４０Ｈｓの半導電性ロールを得た。
【００２６】
更に、半導電性ローラの表面にコート前処理として、低圧水銀灯により紫外線・オゾン処理を施した。その後、コート前処理層の上にアミノシラン系カップリング剤  ＫＢＭ６０３（信越化学工業社製  商品名）を塗布してプライマー層を形成した。
【００２７】
続いて上記ロールの表面にウレタン系塗料・タケラックＥ−５５３（三井武田ケミカル株式会社製  商品名、不揮発分５０％）塗料の１００質量部に充填剤として煙霧質シリカ系充填材としてアエロジル２００（日本アエロジェル社製、商品名）の１５質量部及び導電性付与剤として、カーボンブラック・アサヒサーマル（旭カーボン株式会社製、商品名）の１０質量部を添加し、ポットミルで８時間攪拌・分散した後、ポリイソシアネート系架橋剤・タケラックＤ１４０Ｎ（三井武田ケミカル株式会社製  商品名）の２０質量部を添加し、スプレーコーティングした後、１５０℃×３０ｍｉｎ加熱硬化し実施例１のサンプルとした。
【００２８】
（実施例２）
コート前処理をコロナ処理とする以外、実施例１と同様な方法で実施例２のサンプルを製造した。
【００２９】
（実施例３）
コート前処理をプラズマ処理とする以外、実施例１と同様な方法で実施例３のサンプルを製造した。
【００３０】
（実施例４）
プライマー層をアミノシラン系に代えてアルミニウム系カップリング剤プレアクトＡＬ−Ｍ（味の素株式会社製、商品名）とした以外、実施例１と同様な方法で実施例４のサンプルを製造した。
【００３１】
（実施例５）
プライマー層をアミノシラン系に代えてチタネート系カップリング剤プレアクトＫＲ−４４（味の素株式会社製、商品名）とした以外、実施例１と同様な方法で実施例５のサンプルを製造した。
【００３２】
（比較例１）
コート前処理及びプライマー処理を施さない以外は、実施例１と同様な方法で比較例１のサンプルを製造した。
【００３３】
（比較例２）
プライマー処理を施さない以外は、実施例１と同様な方法で比較例２のサンプルを製造した。
【００３４】
以上の各実施例及び比較例サンプルについて、以下の測定及び評価を実施し、その結果を表１に示した。
＜弾性層及びコート処理後のローラの半導電性領域の抵抗値の測定＞
図２に示すように、各サンプルローラ１１の両端のシャフト端部分１１ａ、１１ｂに５００ｇの荷重を掛けて、弾性層又はローラ面に当接する平板電極（金メッキ基板）１２を押圧付勢する。そして、シャフトと平板電極１２に１００Ｖの電圧１３を印可して、シャフトと弾性層表面間、又はローラ面間の抵抗値の測定評価をした。
【００３５】
＜ローラ表面の輝度値の測定方法＞
図３に示すようにサンプルローラ１１のローラ表面の輝度値は、表面輝度測定装置２１により測定される。表面輝度測定装置２１は、対物レンズ２２（株式会社ニコン製、商品名ＣＦ  ＩＣ  ＢＤ  Ｐｌａｎ２０Ｘ）、ＣＣＤカメラ２３（株式会社ソニー製  商品名ＸＣ−００３）、照明ランプ２４（フィリップス社製７７２４１）２４からなる顕微鏡本体２５（株式会社ニコン製  商品名ＥＰ−Ｕ）を備え、この顕微鏡本体２５の下部に、サンプルローラ１１がセットされ、照明ランプ２４に供給される電圧を電圧調製器２６でＤＣ１０Ｖに調整してローラ１１を垂直照明方式にて照明する。ＣＣＤカメラ２３は画像処理ソフトウェア（王子計測機器株式会社  商品名ＤＡ−６０００）がインストールされたコンピュータ２７に接続され、撮影した画像をコンピュータ２７に取り込んでその撮影画像を画像処理ソフトウェアで解析し、表面輝度値を測定する。測定に際してはサンプルローラ１１の一本に付き、３箇所の表面輝度値を測定してその平均値を測定値とした。
【００３６】
＜印字濃度の測定＞
各サンプルを初期及び耐久性試験（１％デェーティー、１００００枚印字）後に電子写真式プリンターに組み込み、黒ベタ・網点・５％デューティー・白地印字などを繰り返し、黒ベタ印字部のマクベス濃度を、マクベス濃度計にて測定した。
初期、耐久後の濃度ともに、１．３未満のものは不合格（×）とした。
【００３７】
＜高温高湿環境下のカブリ測定＞
各サンプルを、現像器に組み込んだ状態で、高温高湿環境（ＨＨ環境：温度３０℃、相対湿度８０％ＲＨ、４８時間放置）下で、初期及び耐久試験後に電子写真式プリンターに組み込み、黒ベタ・網点・５％デューティー・白地印字などを繰り返し、５％デューティーの白地部分のマクベス濃度を、マクベス濃度計にて測定した。
初期、耐久後の濃度ともに０．０１５を超えるものについては不合格（×）とした。
【００３８】
＜黒ベタムラの測定＞
各サンプルを、初期及び耐久性試験後に電子写真式プリンターに組み込み、黒ベタ・網点・５％デューティー・白地印字などを繰り返し、、黒ベタ印字部の維持濃度ムラの有無を目視判定した。
黒ベタムラは初期、耐久後ともに、黒ベタ濃度にムラが見られたものについては不合格（×）とした。
【００３９】
【表１】
2005049456.tif 000003
【００４０】
以上の結果から、実施例１〜５に見られるように、コート前処理及びプライマー処理したものは、画像形成上、安定した抵抗値を示し、優れた現像ローラとなることが判る。一方、比較例１及び２に示すようにプライマー処理されないものは、優れた画像形成が出来ないことが判る。
【００４１】
【発明の効果】
以上、説明したように本発明に係る半導電性ローラの製造方法によれば、コート処理後のローラの半導電領域を所定の抵抗値に上昇させ、そのバラツキを低減するプライマーの処理を該コート処理の前に上記弾性層に施すことにより、弾性層の抵抗値をプライマー処理及び／又はコート前処理によって制限して変化させることができる。このため、半導電性ローラはコート層面に生じるローラの半導電性領域を安定なものとし、かつバラツキのないもとすることにより初期の印字濃度及び高温高湿環境でのカブリ、更には耐久後の印字濃度、カブリ、黒ベタムラ等に対して良好な現像をしうる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は本実施形態に係る半導電性ローラの概略断面図である。
【図２】図２は、本実施形態に係る半導電性ローラの抵抗値を測定する装置の概略図である。
【図３】図３は、本実施形態に係る半導電性ローラの表面輝度を測定する装置の概略図である。
【符号の説明】
１      導電性支持体
２      弾性層
３      コート層
４      プライマー層
５      コート前処理層
６      軸体プライマー層
１１    サンプルローラ
１１ａ、１１ｂ    シャフト端部
１２    平板電極
１３    電圧計
２１    表面輝度測定装置
２２    対物レンズ
２３    ＣＣＤカメラ
２４    照明ランプ
２５    顕微鏡本体
２６    電圧調製器
２７    コンピュータ
【図１】
2005049456.tif 000004
【図２】
2005049456.tif 000005
【図３】
2005049456.tif 000006