(57)【要約】【課題】乾燥剤が設けられている、より薄型の有機ＥＬディスプレイパネル用のキャップ基板及び簡易な工程で製造コストを顕著に低減することができる有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。【解決手段】複数の塗布領域１２ａを有する第１平坦面１０ａ及び第１平坦面と対向する第２平坦面１０ｂを有する基板１０と、第１平坦面の複数の塗布領域上に、塗布される塗布乾燥剤１２とを具えている有機ＥＬディスプレイパネル用のキャップ基板。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の塗布領域を有する第１平坦面及び該第１平坦面と対向する第２平坦面を有する基板と、
前記第１平坦面の前記複数の塗布領域上に塗布される塗布乾燥剤とを具えている有機ＥＬディスプレイパネル用のキャップ基板。
【請求項２】
前記複数の塗布領域は、前記第１平坦面上に、マトリクス状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のキャップ基板。
【請求項３】
マトリクス状に設けられている複数の塗布領域を有する第１平坦面及び該第１平坦面と対向する第２平坦面を有する基板を準備する工程と、
液状乾燥剤を、インクジェット成膜法により、前記複数の塗布領域上に塗布して、塗布乾燥剤を形成する工程とを含む有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
前記基板を透明基板とし、前記液状乾燥剤を透明な液状乾燥剤として、トップエミッション型の有機ＥＬディスプレイパネルを製造する請求項３に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、キャップ基板及び当該キャップ基板を使用する有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の有機ＥＬディスプレイパネルは、１）デバイス基板を製造する前工程、並びに２）キャップ基板の形成工程及びデバイス基板とキャップ基板とを貼り合わせる貼り合わせ工程を含む後工程により製造される。前工程は、例えばパッシブパネルの製造工程の場合には、基板に対するｉ）アノード電極形成工程、ｉｉ）絶縁層形成工程、ｉｉｉ）カソードセパレータ形成工程、ｉｖ）有機層形成工程、及びｖ）カソード形成工程を主として含んでいる。
【０００３】
後工程は、例えば(1)キャップ基板の真空高温処理工程、(2)キャップ基板のＵＶクリーニング工程、(3)キャップ基板へのテープ状乾燥剤の貼り付け又は液状乾燥剤の塗布工程、(5)前工程で製造されたデバイス基板とキャップ基板との貼り合わせ工程を主として含んでいる。なお、以下の説明において、これら後工程のうち、(1)真空高温処理工程及び(2)ＵＶクリーニング工程を、単に前処理工程とも称する。
【０００４】
前工程のうち、特にカラーフィルタの製造工程において、ピエゾ素子を用いたいわゆるインクジェット成膜法が採用されている（例えば、非特許文献１参照。）。
【０００５】
ここで図２を参照して、従来のキャップ基板の構成及び従来のキャップ基板の製造工程につき簡単に説明する。
【０００６】
図２は従来技術の説明図であって、図２（Ａ）は、キャップ基板の概略的な平面図であり、図２（Ｂ）は、図２（Ａ）中のＩＩＩ−ＩＩＩ’一点破線に沿って切断した切断面を示す概略的な図である。なお、この明細書の製造工程の説明においては、１枚の基板に、複数のディスプレイパネルの表示領域に対応する領域がマトリクス状に存在している。すなわち、複数のディスプレイパネルを同時に形成するいわゆる多面取りの工程を例にとって説明する。
【０００７】
キャップ基板１００は、第１主表面１００ａと、この第１主表面１００ａと対向する第２主表面１００ｂとを有している。
【０００８】
第１主表面１００ａ側には、ディスプレイパネルの表示領域に対応する、複数の凹部（キャビティ）１１０が形成されている。この凹部１１０内の塗布領域１１０ａには、テープ状又は液状の乾燥剤１１２が設けられている。
【非特許文献１】表面科学  Ｖｏｌ．２４、Ｎｏ．２、ｐｐ．９０−９７、２００３
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上述した凹部１１０を形成する方法としては、例えばエッチング法、サンドブラスト法又はモールディング法が採用されている。しかしながら、これらの方法では、ディスプレイパネルの大型化に対応することが困難である。
【００１０】
また、例えば凹部１１０内に乾燥剤１１２を塗布する方法としては、一般にディスペンサによる注入法が採用されている。しかしながら、この方法では、複数の凹部１１０内に形成される乾燥剤の膜毎に均一な膜厚とすることが困難である。また、キャップ基板として、フラットな（平板）基板が適用される場合もある。この場合には、スピンコート法が適用される。このスピンコート法においては、表面１００ａの全面に乾燥剤を塗布した後、不所望の領域に塗布された乾燥剤を除去する工程が必要となる。
【００１１】
従って、ディスプレイパネルの大型化に対応可能とするために凹部を形成することなく、しかも簡易な工程で均一な膜厚として乾燥剤を基板の所望の領域に塗布することができる技術が嘱望されている。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
この発明は、上記課題に鑑みてなされたものである。この課題を解決するにあたり、この発明の有機ＥＬディスプレイパネルに適用して好適なキャップ基板は、下記のような構成上の特徴を有している。
【００１３】
すなわち、複数の塗布領域を有する第１平坦面及び該第１平坦面と対向する第２平坦面を有する基板と、第１平坦面の複数の塗布領域上に、塗布乾燥剤とを具えている。
【００１４】
好ましくは、塗布乾燥剤は、インクジェット成膜法により塗布するのがよい。
【００１５】
このとき、複数の塗布領域は、第１平坦面上に、マトリクス状に形成するのがよい。
【００１６】
また、この発明の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法は、主として以下の工程を含んでいる。
【００１７】
すなわち、マトリクス状に設けられている複数の塗布領域を有する第１平坦面及び該第１平坦面と対向する第２平坦面を有する基板を準備する工程。
【００１８】
液状乾燥剤を、インクジェット成膜法により、複数の塗布領域上に塗布して、塗布乾燥剤を形成する工程。
【００１９】
この発明の製造方法は、特にトップエミッション型の有機ＥＬディスプレイパネルの製造に適用して好適である。
【発明の効果】
【００２０】
この発明の有機ＥＬディスプレイパネル用のキャップ基板の構成によれば、基板の平坦面に複数の乾燥剤塗布領域が形成されていて、それぞれの乾燥剤塗布領域の膜厚は、均一な膜厚とすることができるので、光の透過性をそれぞれの領域で均一なものとすることができる。
【００２１】
従って、キャップ基板側から発光させるいわゆるトップエミッション型の有機ＥＬディスプレイパネルに、好適に適用することができる。
【００２２】
さらに、キャビティを形成する必要がないので、ディスプレイパネル全体をより薄型にすることができる。
【００２３】
また、この発明の有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法によれば、従来必須であった、キャビティの形成工程、マスク工程又は乾燥剤の除去工程を行うことなく、極めて簡易な工程でディスプレイパネルを製造することができる。従って、ディスプレイパネルの製造コストを顕著に低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、図面を参照して、この発明の実施の形態につき説明する。なお、図面には、この発明が理解できる程度に各構成成分の形状、大きさ及び配置関係が概略的に示されているに過ぎず、これによりこの発明が特に限定されるものではない。また、以下の説明において、特定の材料、条件及び数値条件等を用いることがあるが、これらは好適例の１つに過ぎず、従って、何らこれらに限定されない。また、以下の説明に用いる各図において同様の構成成分については、同一の符号を付して示し、その重複する説明を省略する場合もあることを理解されたい。
【００２５】
この発明のキャップ基板の構成例及び有機ＥＬディスプレイパネルの製造工程についてについて、図１を参照して説明する。
【００２６】
図１は、この発明のキャップ基板の構成例及び有機ＥＬディスプレイパネルの製造工程の説明図であって、図１（Ａ）は、キャップ基板の概略的な平面図と当該平面図中のＩ−Ｉ’一点破線に沿って切断した切断面を示す概略的な図の組み合わせであり、図１（Ｂ）は、図１（Ａ）につづく平面図と切断面を示す概略的な図の組み合わせである。
【００２７】
まず、キャップ基板１０を準備する。このキャップ基板１０は、従来公知のキャップ基板として使用されるガラス板、金属板、又はフレキシブルな板状体を適用することができるが、この発明のキャップ基板１０は、トップエミッション型の有機ＥＬディスプレイパネルに適用することが想定されているので、好ましくは光透過性の透明基板を選択するのがよい。特に好ましくは透明なガラス基板とするのがよい。
【００２８】
図１（Ａ）に示すように、このキャップ基板１０は、第１平坦面１０ａ及びこの第１平坦面１０ａと対向する第２平坦面１０ｂを有している。
【００２９】
また、第１平坦面１０ａには、複数の塗布領域１２ａが予め設定される。複数の塗布領域１２ａは、好ましくは、マトリクス状に配列されている。
【００３０】
次に、キャップ基板１０に対して、上述した従来公知の前処理を行う。この前処理工程により、特に第１平坦面１０ａをクリーニングする。前処理工程については、この発明の要旨ではないので、その詳細な説明は省略する。
【００３１】
次いで、液状乾燥剤を、複数の塗布領域上に塗布する。この塗布工程は、インクジェット成膜法により行われる。
【００３２】
この液状乾燥剤としては、例えば、ＳＩＤ  ０３  ＤＩＧＥＳＴ  ｐ８６０−ｐ８６３に開示されている透明な液状乾燥剤が適用して好適である。
【００３３】
このような透明な液状乾燥剤を、光透過性のキャップ基板と組み合わせれば、トップエミッション型の有機ＥＬディスプレイパネルを形成することができる。
【００３４】
次いで、インクジェット成膜法により、液状乾燥剤を塗布する。このとき、適用される液状乾燥剤に応じて、例えば加熱、乾燥等の任意好適な処理を適宜行う。
【００３５】
インクジェット成膜法には、好ましくは、例えばピエゾ素子（圧電素子）を用いた従来公知のプリントヘッドを適用することができる。
【００３６】
以上のように、塗布領域１２ａ上に、塗布乾燥剤１２を形成する。例えば、塗布領域１２ａがマトリクス状に設定されている場合には、塗布乾燥剤１２も第１平坦面１０ａ上に、マトリクス状に形成されることとなる。このように、一枚の基板上に複数の塗布乾燥剤１２を、単一の工程で設けることができる。
【００３７】
次いで、製造されたキャップ基板１０を、別途製造されたデバイス基板と貼り合わせる。この貼り合わせ工程及びそれ以後の工程については、この発明の要旨ではないのでその詳細な説明は省略する。
【００３８】
以上のようにして、この発明の有機ＥＬディスプレイパネルが製造される。
【００３９】
このように、インクジェット成膜法により、乾燥剤を塗布すれば、平坦面に、しかもマスク等を使用することなく単一の工程で、かつ任意好適な所定のパターンで、乾燥剤を塗布することができる。それぞれの塗布乾燥剤の膜厚は、均一な膜厚とすることができるので、光の透過性をそれぞれの領域で均一なものとすることができる。
【００４０】
さらに、キャビティを形成する必要がないので、ディスプレイパネル全体をより薄型にすることができる。
【００４１】
また、従来必須であった、キャビティの形成工程、マスク工程又は乾燥剤の除去工程を行うことなく、極めて簡易な工程でディスプレイパネルを製造することができる。従って、ディスプレイパネルの製造コストを大幅に低減することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４２】
この発明のキャップ基板及び有機ＥＬディスプレイパネルの製造方法は、有機ＥＬディスプレイパネルに適用して好適であり、ディスプレイパネルの製造コストを顕著に低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】この発明のキャップ基板の構成例及び有機ＥＬディスプレイパネルの製造工程の説明図である。
【図２】従来技術の説明図である。
【符号の説明】
【００４４】
１０、１００：キャップ基板（基板）
１０ａ：第１平坦面
１０ｂ：第２平坦面
１２、１１２：塗布乾燥剤
１２ａ、１１０ａ：塗布領域
１００ａ：第１主表面
１００ｂ：第２主表面
１１０：凹部（キャビティ）
【図１】
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【図２】
2005142108.tif 000004