(57)【要約】【目的】回転式ガラス基板洗浄装置において、回転ブラシに自己清浄機能を持たせ、異物の付着による清浄能力の低下を防止すると共に、ブラシとの接触により洗浄液も清浄化し、高品質の洗浄作業を実現すること。【構成】ガラス基板２に接して回転する様に横架された円柱状のブラシ１と、このブラシ１に向かって洗浄液４を吹き付けられる様にブラシ１近傍に位置せしめられたシャワーノズル３とからなる回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置において、ブラシ１の表面に光触媒物質を形成せしめると共に、ブラシ１近傍に紫外線光源５を位置せしめ、ブラシ１に向かって紫外線を照射し得る様にした。【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板２に接して回転する様に横架された円柱状のブラシ１と、このブラシ１に向かって洗浄液４を吹き付けられる様にブラシ１近傍に位置せしめられたシャワーノズル３とからなる回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置において、ブラシ１の表面に光触媒物質を形成せしめると共に、ブラシ１近傍に紫外線光源５を位置せしめ、ブラシ１に向かって紫外線を照射し得る様にしたことを特徴とする回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置。
【請求項２】
光触媒物質が酸化チタンであることを特徴とする請求項１記載の回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置。
【請求項３】
紫外線光源５が蛍光灯であることを特徴とする請求項１記載の回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＬＴＰＳ−ＴＦＴを含むＦＰＤ製造工程などにおいて用いられる回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＦＰＤ用などのガラス基板製造工程においては、搬送された被洗浄物であるガラス基板に回転するブラシを押し付けながら、ブラシに向かって洗浄液を吹き付け、洗浄液の洗浄力及びブラシが回転しながら基板に接触するときに生ずる物理力によって基板上の異物を取り除くことにより、洗浄処理を行うことがある。
【０００３】
図１はこの様な洗浄処理を行う回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置の代表例の側面図であり、図中１は搬送されるガラス基板２の表裏面に接する様に横架された円柱状のブラシ、３は前記ブラシ１に向かって洗浄液４を吹き付けられる様にブラシ１近傍に設置されたシャワーノズルであり、シャワーノズル３から洗浄液４を吹き出しながらブラシ１を回転させると、洗浄液４がガラス基板２の表面に達すると共にその部分をブラシ１が摺動するので、洗浄液４の洗浄力及びブラシ１の摺接による物理力によって、ガラス基板２表面の異物は取り除かれることになる。なお、洗浄液４はフィルタリング及び新液の補充を逐次行いながら循環再利用される。
【特許文献１】特開２００１−１７１０７５
【非特許文献１】見当たらず。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
この様に、従来の回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置においては、洗浄液４の洗浄力及びブラシ１の回転摺接により生じる物理力によってガラス基板２上の異物の除去が行われるのであるが、その際ガラス基板２から分離された異物の一部はブラシ１に付着し、そのままブラシ１に残留し、その付着量は時間と共に増加し、ガラス基板２に再付着してしまうこともあった。つまり、ブラシ１が時間の経過と共に汚染されることは避けられず、この種回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置の洗浄能力は、ブラシ１のこの汚染現象によって序々に低下してしまうのが普通であった。又、洗浄液４の有機物除去能力は、洗浄液４中に含まれる洗剤の能力に頼っており、洗浄液４として非イオン水（ＤＩＷ）を用いる場合には、有機物除去能力は期待できなかった。
【０００５】
本発明者は上記回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置の問題点を解決せんとして研究を行った結果、光触媒の作用を利用することにより、ブラシ自体に自己清浄能力を持たせ、更にブラシと接触させることにより洗浄液も清浄化し、洗浄作業の継続によって洗浄能力を低下させることなく長期間にわたって所期の洗浄能力を維持し続けさせることが出来る回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置を開発することに成功し、本発明としてここに提案するものである。
【０００６】
なお、前記特許文献１（特開２００１−１７１０７５）には光触媒層が形成されたローラーが開示されているが、これは印刷装置においてローラーの親水性を向上させて均一な水膜を形成させる為のものであり、光触媒の作用を利用するものではあるが、本発明とは目的、構成、作用が全く異なるものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
ガラス基板２に接して回転する様に横架された円柱状のブラシ１と、このブラシ１に向かって洗浄液４を吹き付けられる様にブラシ１近傍に位置せしめられたシャワーノズル３とからなる回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置において、ブラシ１の表面に光触媒物質を形成せしめると共に、ブラシ１近傍に紫外線光源５を位置せしめ、ブラシ１に向かって紫外線を照射し得る様にすることにより上記課題を解決した。
【発明の効果】
【０００８】
光触媒の作用により、ブラシは自己清浄能力を持つことになり、常に清浄な状態を保ち、洗浄能力の低下がなくなり、その寿命も伸びる。又、自己清浄能力を持つブラシと接触することにより、洗浄液も清浄化され、洗浄能力が向上し、その劣化が防止されるだけではなく、有機物除去能力を持つに至る。従って、洗浄液として非イオン水（ＤＩＷ）を用いるときでも、有機物を除去することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
ブラシ表面に光触媒物質を形成せしめると共に、ブラシ近傍に紫外線光源を位置せしめ、前記光触媒物質に紫外線を照射する様にした点に本発明の本質的特徴が存在する。
【実施例１】
【００１０】
図２はこの発明に係る回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置の一実施例の側面図であり、図中１は搬送されるガラス基板２の表裏面に接する様に横架された一対の円柱状のブラシ、３は前記ブラシ１に向かって洗浄液４を吹き付けられる様に、ブラシ１近傍に設置されたシャワーノズルであり、これら構成は従来の回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置と基本的に同じである。
【００１１】
一方、本実施例においては、ブラシ１の表面には酸化チタンなどの光触媒物質が形成されていると共に、ブラシ１の近傍には蛍光灯などの紫外線光源５が位置せしめられ、前記光触媒物質に向かって紫外線を照射できる様になっている。なお、ブラシ１表面への光触媒物質の形成は、ブラシ１の原料素材中に光触媒物質粉末を練り込んだり、ブラシ１の表面に光触媒物質をコーティングするなど、従来から知られている適宜手段によって行うことが出来る。
【００１２】
この実施例は上記の通りの構成を有するものであり、従来の回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置と同様、シャワーノズル３から洗浄液４を吹き出しながらブラシ１を回転させると、洗浄液４はブラシ１を介してガラス基板２の表面に達し、洗浄液４の洗浄力及びブラシ１の摺接による物理力により、ガラス基板２表面に付着している異物は取り除かれる。このとき、ブラシ１には光触媒物質が形成されており、これに向かって紫外線光源５から紫外線が照射されているので、光触媒の作用によってブラシ１自体の清浄化が行われる。又、このブラシ１との接触によって洗浄液４も清浄化され、ブラシ１及び洗浄液４が共に清浄化された状態でガラス基板２表面の異物の除去を行うことになる。なお、光触媒の作用によりブラシ１の親水性も向上し、ブラシ１により多量の洗浄液４が付着する様になり、これにより洗浄作業はより一層効率的に行われる。又、光触媒の作用により洗浄液４には有機物除去能力も付与されるので、洗浄液４として非イオン水（ＤＩＷ）を用いる場合にも、有機物を除去することが可能となる。
【００１３】
この様に、この発明に係る回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置においては、光触媒の作用によってブラシへ自己清浄能力が付与されるので、時間の経過に伴うブラシ及び洗浄液の機能低下及び劣化が起こりにくく、長期間にわたって高い品質を保持しながらガラス基板表面の洗浄作業を行うことが出来る。
【産業上の利用可能性】
【００１４】
この発明は上述の通り、光触媒の作用を利用して効率よくガラス基板表面の洗浄作業を行うものであり、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＬＴＤ−ＴＦＴを含む各種ＦＰＤ製造工程において極めて高い利用可能性を有するものである。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】従来の回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置の代表例の側面図。
【図２】この発明に係る回転ブラシ式ガラス基板洗浄装置の一実施例の側面図。
【符号の説明】
【００１６】
１    ブラシ
２    ガラス基板
３    シャワーノズル
４    洗浄液
５    紫外線光源
【図１】
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【図２】
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