(57)【要約】【課題】            アセタール化反応を高分子量化（三次元架橋反応）に応用し、得られる硬化物の誘電率、誘電正接が低く、電気・電子用途等に好適に用いることができる硬化性樹脂組成物、及びその硬化物を提供すること。【解決手段】        多価ヒドロキシ化合物（Ａ）と多価ビニルエーテル化合物（Ｂ）を含有する硬化性樹脂組成物であり、前記多価ヒドロキシ化合物（Ａ）中のヒドロキシ基の５５モル％以上が芳香族性ヒドロキシ基であることを特徴とする硬化性樹脂組成物、及びこれを用いて得られる硬化物。【選択図】          なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
多価ヒドロキシ化合物（Ａ）と多価ビニルエーテル化合物（Ｂ）を含有する硬化性樹脂組成物であり、多価ヒドロキシ化合物（Ａ）中のヒドロキシ基の５５モル％以上が芳香族性ヒドロキシ基であることを特徴とする硬化性樹脂組成物。
【請求項２】
多価ヒドロキシ化合物（Ａ）が１分子中に２個を超えるヒドロキシ基を有する多価芳香族性ヒドロキシ化合物である請求項１記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項３】
多価ビニルエーテル化合物（Ｂ）がジビニルエーテル化合物である請求項１記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項４】
多価ヒドロキシ化合物（Ａ）中のヒドロキシ基と多価ビニルエーテル化合物（Ｂ）中のビニルエーテル基のモル比（ヒドロキシ基）／（ビニルエーテル基）が、４／１０〜１０／１０である請求項１〜３の何れか１項記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項５】
多価ヒドロキシ化合物（Ａ）のヒドロキシ当量が４０〜２５０g/eqであり、且つ多価ビニルエーテル化合物（Ｂ）のビニルエーテル当量が４０〜２５０g/eqである請求項４記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項６】
多価ヒドロキシ化合物（Ａ）が、フェノール類或いはナフトール類とアルデヒド類との重縮合物、フェノール類或いはナフトール類とジエン類との重付加物、及びフェノール類或いはナフトール類アラルキル樹脂からなる群から選ばれる１種以上の化合物である請求項５記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項７】
多価ビニルエーテル化合物（Ｂ）がポリアルキレンジビニルエーテル類、脂肪族環状骨格を有するジビニルエーテル類、及びビスフェノール骨格を有するジビニルエーテル類からなる群から選ばれる１種以上の化合物である請求項５記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項８】
プリント基板用樹脂組成物、電子部品の封止材用樹脂組成物、レジストインキ及び導電ペーストからなる群から選択される少なくとも１つの用途に調製される請求項１〜７の何れか１項記載の硬化性樹脂組成物。
【請求項９】
請求項１〜８の何れか１項記載の硬化性樹脂組成物を硬化させて得られることを特徴とする硬化物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、得られる硬化物の誘電率、誘電正接が低く、電気・電子用途等に好適に用いることができる硬化性樹脂組成物、及びその硬化物に関する。
【背景技術】
【０００２】
硬化性樹脂組成物には、エポキシ樹脂組成物、フェノール樹脂組成物、不飽和ポリエステル樹脂組成物、ウレタン樹脂組成物など多くの種類があり、なかでもエポキシ樹脂組成物は、得られる硬化物の優れた電気絶縁性、耐熱性、密着性等が高く評価され、プリント配線基板や半導体封止材などの高信頼性が要求される電子部品材料に広く使用されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
しかしながら、最近の電子機器の高機能化や小型化などの技術革新により、前記特許文献１記載のエポキシ樹脂組成物では、厳しい要求特性を満足できなくなっている。具体的には、高密度実装、高速処理デバイス、高周波デバイス等に対応できる低誘電率、低誘電正接の特性において満足できるレベルではなく、上記特性を有する新規な硬化性樹脂組成物が強く望まれている。
【０００４】
一方、ジビニルエーテルとジオールによる下記反応式（１）に基づくアセタール化反応を高分子量化に応用し、分子量が３０，０００〜２００，０００のゲルを得る例が提案されている（例えば、非特許文献１参照。）。
【０００５】
【化１】
2005105043.tif 000002
【０００６】
前記アセタール化反応は付加反応であることからガス発生がなく、また、ラジカル反応ではないことにより大きな収縮や歪みを伴わないため、高い信頼性を要求する電子機器分野に適用できると考えられる。さらに、形成されるアセタール基は水酸基やエステル基と比較した場合に低極性であることから、誘電特性にも優れることが予想される。
【０００７】
前記非特許文献１には、このアセタール化反応を三次元架橋反応に応用する例として、原料にビスフェノールＡ（２官能）、トリメチロールプロパン（３官能）、ジエチレングリコールジビニルエーテル（２官能）を３：２：６のモル比で反応させる方法が提示されているが、生成物の物性に関する記載はなく、本発明者等の追試では、該生成物は粘稠な樹脂であり、前記用途には使用できないものであった。
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−３２３０９７号公報
【非特許文献１】J.Heller, D.W.H.Penhale, R.F.Helwing PREPARATION OF POLYACETALS BY THE REACTION OF DIVINYL ETHERS AND POLYOLS, "Journal of Polymer Science: Polymer Letters Edition",（米国）, 1980年, Vol.18, p.293-297
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記のような実状に鑑み、本発明の課題は、前記反応式（１）に基づくアセタール化反応を高分子量化（三次元架橋反応）に応用し、得られる硬化物の誘電率、誘電正接が低く、電気・電子用途等に好適に用いることができる硬化性樹脂組成物、及びその硬化物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者等は、上記課題を解決する為に鋭意検討したところ、多価ヒドロキシ化合物中のヒドロキシ基の５５モル％以上が芳香族性ヒドロキシ基である多価ヒドロキシ化合物と多価ビニルエーテル化合物を含有することを特徴とする硬化性樹脂組成物は、得られる硬化物の誘電率、誘電正接が低いことを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
即ち、本発明は多価ヒドロキシ化合物（Ａ）と多価ビニルエーテル化合物（Ｂ）を含有する硬化性樹脂組成物であり、前記多価ヒドロキシ化合物（Ａ）中のヒドロキシ基の５５モル％以上が芳香族性ヒドロキシ基であることを特徴とする硬化性樹脂組成物、及びこれを用いて得られる硬化物を提供するものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、実用レベルの成形性、硬化性を有し、硬化物の誘電率、誘電正接が低く、電気・電子用途等、例えば、プリント基板用樹脂組成物、電子部品用封止材用樹脂組成物、レジストインキ、導電ペースト等に好適に用いることができる硬化性樹脂組成物を提供できる。またこれを硬化させて得られる成形硬化物は耐熱性、密着性等においても上記用途における要求を満たし、高密度実装、高速処理デバイス、高周波デバイス等に対応できるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明で用いる多価ヒドロキシ化合物（Ａ）は、ヒドロキシ基の５５モル％以上が芳香族性のヒドロキシ基であることを必須とする。ヒドロキシ基の半数以上が脂肪族性、即ちアルコール性ヒドロキシ基の場合は、電気、電子用途等で求められる誘電特性（誘電率、誘電正接）を満たすものではなく、好ましくない。特に得られる硬化物の誘電特性に優れる点から、前記多価ヒドロキシ化合物（Ａ）中のヒドロキシ基の６０モル％以上が芳香族性のヒドロキシ基であることが好ましく、８０〜１００モル％が芳香族性のヒドロキシ基であることが最も好ましい。
【００１４】
前記多価ヒドロキシ化合物（Ａ）としては、上記条件を満たすことができることから、多価芳香族性ヒドロキシ化合物（ａ）を用いることが好ましい。前記多価芳香族性ヒドロキシ化合物（ａ）としては、例えば、置換基を有していても良いピロガロール等のトリヒドロキシベンゼン類；ハイドロキノン、レゾルシン、カテコール、それらの置換基含有体等のジヒドロキシベンゼン類；１，６−ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジヒドロキシナフタレン、１，４−ジヒドロキシナフタレン、１，５−ジヒドロキシナフタレン、２，３−ジヒドロキシナフタレン、２，６−ジヒドロキシナフタレン、それらの置換基含有体等のジヒドロキシナフタレン類；ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン（ビスフェノールＦ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＣ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン（ビスフェノールＺ）、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン（ビスフェノールＡＰ）、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン（ビスフェノールＳ）、それらの置換基含有体等のビスフェノール類；ビス（２−ヒドロキシ−１−ナフチル）メタン、ビス（２−ヒドロキシ−１−ナフチル）プロパン等のビスナフトール類、フェノール／ホルムアルデヒド重縮合物、オルソクレゾール／ホルムアルデヒド重縮合物、１−ナフトール／ホルムアルデヒド重縮合物、２−ナフトール／ホルムアルデヒド重縮合物、フェノール／アセトアルデヒド重縮合物、オルソクレゾール／アセトアルデヒド重縮合物、１−ナフトール／アセトアルデヒド重縮合物、２−ナフトール／アセトアルデヒド重縮合物、フェノール／サリチルアルデヒド重縮合物、オルソクレゾール／サリチルアルデヒド重縮合物、１−ナフトール／サリチルアルデヒド重縮合物、２−ナフトール／サリチルアルデヒド重縮合物等、それらの置換基含有体等のフェノール類（ナフトール類）／アルデヒド類重縮合物類；フェノール／ジシクロペンタジエン重付加物、フェノール／テトラヒドロインデン重付加物、フェノール／４−ビニルシクロヘキセン重付加物、フェノール／５−ビニルノボルナ−２−エン重付加物、フェノール／α−ピネン重付加物、フェノール／β−ピネン重付加物、フェノール／リモネン重付加物、オルソクレゾール／ジシクロペンタジエン重付加物、オルソクレゾール／テトラヒドロインデン重付加物、オルソクレゾール／４−ビニルシクロヘキセン重付加物、オルソクレゾール／５−ビニルノボルナ−２−エン重付加物、オルソクレゾール／α−ピネン重付加物、１−ナフトール／ジシクロペンタジエン重付加物、１−ナフトール／４−ビニルシクロヘキセン重付加物、１−ナフトール／５−ビニルノルボルナジエン重付加物、１−ナフトール／α−ピネン重付加物、１−ナフトール／β−ピネン重付加物、１−ナフトール／リモネン重付加物、オルソクレゾール／β−ピネン重付加物、オルソクレゾール／リモネン重付加物等、それらの置換基含有体等のフェノール類（ナフトール類）／ジエン類重付加物類、フェノール／ｐ−キシレンジクロライド重縮合物、１−ナフトール／ｐ−キシレンジクロライド重縮合物、２−ナフトール／ｐ−キシレンジクロライド重縮合物、フェノール／ビスクロロメチルビフェニル重縮合物、オルトクレゾール／ビスクロロメチルビフェニル重縮合物、１−ナフトール／ビスクロロメチルビフェニル重縮合物、２−ナフトール／ビスクロロメチルビフェニル重縮合物、それらの置換基含有体等のフェノール類アラルキル樹脂類が挙げられる。前記置換基含有体の置換基としては、例えば、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アシル基、ハロゲン原子等が挙げられる。
【００１５】
これらの多価芳香族性ヒドロキシ化合物（ａ）は、単独でも、２種以上の混合物としても使用することが可能である。前記多価芳香族性ヒドロキシ化合物（ａ）の中でも、架橋密度を高め、硬化性、強度、耐熱性等の特性を向上できることから、１分子中に２個を超えるヒドロキシ基を含有する化合物を用いることが好ましく、硬化性、耐熱性、誘電特性等の特性バランス、経済性に優れることから、フェノール類或いはナフトール類とアルデヒド類との重縮合物、フェノール類或いはナフトール類とジエン類との重付加物、フェノール類或いはナフトール類アラルキル樹脂を用いることが好ましい。
【００１６】
また、本発明の特性を損なわない範囲において、その他のヒドロキシ化合物（Ｃ）を併用することができる。その他のヒドロキシ化合物（Ｃ）としては、置換基を有していても良いフェノール、クレゾール等の単官能芳香族性ヒドロキシ化合物、１分子中に２個のヒドロキシ基をもつジオール類、３個のヒドロキシ基をもつトリオール類、４個以上の水酸基をもつポリオール類等が挙げられる。前記ジオール類としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、テトラエチレングリコール、１，４−ジヒドロキシシクロヘキサン、ネオペンチルグリコール、ネオペンチルグリコールのエチレンオキサイド付加物、ネオペンチルグリコールのプロピレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物、水添ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、水添ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物、キシレングリコール等が挙げられ、トリオール類としては、例えば、グリセリン、グリセリンのエチレンオキサイド付加物、グリセリンのプロピレンオキサイド付加物、トリメチロールプロパン、トリメチロールプロパンのエチレンオキサイド付加物、トリメチロールプロパンのプロピレンオキサイド付加物等が挙げられ、ポリオール類としては、ペンタエリスリトール、エポキシ樹脂から誘導されるポリオール等が挙げられ、後述する多価ビニルエーテル化合物（Ｂ）との反応性が良好であり、得られる硬化物の強度、耐熱性等に優れる点から、トリオール類、ポリオール類が好ましい。また、これらのその他のヒドロキシ化合物（Ｃ）としては、単独でも、２種以上の混合物としても使用可能である。
【００１７】
その他のヒドロキシ化合物（Ｃ）を併用する場合のその配合量としては、多価ヒドロキシ化合物（Ａ）としての平均官能基数が２個以上であり、かつ芳香族性のヒドロキシ基含有量が５５モル％以上であればよく、特に制限されるものではないが、前記多価芳香族性ヒドロキシ化合物（ａ）１００重量部に対して２０重量部以下であることが、得られる硬化物の誘電特性、強度等に優れる点から好ましい。
【００１８】
本発明で用いる多価ビニルエーテル化合物（Ｂ）としては、１分子中に２個以上のビニルエーテル基を含有する化合物であれば特にその構造が制限されるものではなく、ジビニルエーテル類や３個以上のビニルエーテル基をもつポリビニルエーテル類が使用できるが、反応性が良好である点から、ジビニルエーテル類を用いることが好ましい。
【００１９】
前記ジビニルエーテル類としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレンレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレンレングリコールジビニルエーテル、トリプロピレングリコールジビニルエーテル、テトラプロピレンレングリコールジビニルエーテル、ポリプロピレンレングリコールジビニルエーテル、ポリテトラメチレングリコールジビニルエーテル、グリセロールジビニルエーテル、トリグリセロールジビニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、１，３−ブチレングリコールジビニルエーテル、１，４−ブタンジジオールジビニルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジビニルエーテル、１，９−ノナンジオールジビニルエーテル、１，１０−デカンジオールジビニルエーテル、トリシクロデカンジオールジビニルエーテル、トリシクロデカンジメタノールジビニルエーテル、ペンタシクロペンタデカンジメタノールジビニルエーテル、ペンタシクロペンタデカンジオールジビニルエーテル、ネオペンチルグリコールジビニルエーテル、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジビニルエーテル、ビスフェノールＡジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジビニルエーテル、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡジビニルエーテル、ビスフェノールＦジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＦジビニルエーテル、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＦジビニルエーテル、スピログリコールジビニルエーテル等が挙げられ、トリビニルエーテル類としては、グリセリントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等が挙げられ、これらは単独でも、２種以上の混合物としても使用することができる。
【００２０】
前記多価ビニルエーテル化合物（Ｂ）の中でも、ポリアルキレンジビニルエーテル類を用いた場合は、硬化物の柔軟性や密着性、屈曲性が優れ、シクロヘキサン骨格やジシクロペンタン骨格などの脂肪族環状骨格を含有するジビニルエーテル類を用いた場合は、耐熱性と誘電特性、電気絶縁性に特に優れ、ビスフェノール骨格を含有したビニルエーテル類を用いた場合は、バランスがとれた特性をもつ硬化物を得ることができ、所望の特性に応じて、適宜選択することが好ましい。
【００２１】
前記多価ヒドロキシ化合物（Ａ）と前記多価ビニルエーテル化合物（Ｂ）との配合比率としては、理論的には、多価ヒドロキシ化合物（Ａ）中のヒドロキシ基と多価ビニルエーテル化合物（Ｂ）のビニルエーテル基の比率が１／１（モル比率）である場合に、最も架橋密度が高くなるはずであるが、副反応（例えば、多価ヒドロキシ化合物にフェノール核を有する化合物を用いた場合、ビニルエーテル基による空位となっているフェノール核への核付加反応、及びビニルエーテル基のホモ重合反応など）によるビニルエーテル基の消費、及び、得られる硬化物の所望特性を考慮して、ヒドロキシ基／ビニルエーテル基（モル比率）が４／１０〜１０／１０の範囲で適宜調整することが好ましい。
【００２２】
前記多価ヒドロキシ化合物（Ａ）のヒドロキシ当量、及び前記多価ビニルエーテル化合物（Ｂ）のビニルエーテル当量としては、特に制限されるものではないが、ヒドロキシ当量が４０〜２５０g/eqであり、且つビニルエーテル当量が４０〜２５０g/eqであるものを組み合わせて用いることが、得られる硬化物の特性バランスに優れる点で好ましい。特にヒドロキシ当量が４０〜１３０g/eqの多価ヒドロキシ化合物（Ａ）と、ビニルエーテル当量が７０〜２５０g/eqの脂肪族環状骨格を含有する多価ビニルエーテル化合物（Ｂ）の組み合わせによって得られる硬化物は、耐熱性と誘電特性が際だって優れるものとなる。
【００２３】
本発明の硬化性樹脂組成物においては、本発明の特性を損なわない範囲において、その他の樹脂類（Ｄ）を併用して使用することができる。併用する場合のその使用量としては、目的とする硬化物の物性、併用する樹脂の種類等に応じて適宜選択されるものであるが、前記多価ヒドロキシ化合物（Ａ）と前記多価ビニルエーテル化合物（Ｂ）との合計１００重量部に対して、その他の樹脂類（Ｄ）が５０重量部以下であることが好ましい。
【００２４】
前記その他の樹脂類（Ｄ）としては、特に制限されるものではないが、例えば、エポキシ樹脂、アクリレート樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ビスマレイミド樹脂、シアネートエステル樹脂等の反応性樹脂、エラストマー機能をもつ熱可塑性樹脂等が挙げられ、特に硬化性や密着性付与を目的として本発明の硬化性樹脂組成物と同様な付加反応型であるエポキシ樹脂を併用することが好ましい。
【００２５】
前記エポキシ樹脂としては、特に制限されるものではなく、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール付加反応型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニル変性ノボラック型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ブロム化フェノールノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられ、これらのエポキシ樹脂は単独で用いてもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
【００２６】
また前記エポキシ樹脂を硬化させる為に種々の硬化剤を更に併用することもできる。併用できる硬化剤としては、特に限定されるのもではなく、アミン系化合物、酸無水物系化合物、アミド系化合物、フェノ−ル系化合物等が挙げられる。
【００２７】
前記硬化剤としては、例えば、ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、ジシアンジアミド、リノレン酸の２量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、トリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂等を始めとする多価フェノール化合物、及びこれらの変性物、イミダゾ−ル、ＢＦ3−アミン錯体、グアニジン誘導体などが挙げられ、これらの硬化剤は単独で用いてもよく、２種以上を混合してもよい。これらの中でも得られる硬化物の誘電特性、耐熱性に優れる点から、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、トリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂を用いることが好ましい。
【００２８】
前記硬化剤の使用量としては、使用するエポキシ樹脂を硬化させることができる範囲であれば特に制限されるものではないが、エポキシ基１当量に対して、硬化剤中の活性水素基が０．７〜１．５当量になる量が好ましい。
【００２９】
さらに硬化促進剤を適宜使用することもでき、その硬化促進剤としては、例えば、リン系化合物、第３級アミン、イミダゾール、有機酸金属塩、ルイス酸、アミン錯塩、等が挙げられ、これらは単独のみならず２種以上の併用も可能であるが、本発明の硬化性樹脂組成物の硬化反応を阻害しないような種類や添加量を適宜調整することが好ましい。
【００３０】
また本発明の硬化性樹脂組成物には必要に応じて、無機充填剤、難燃付与剤、顔料、シランカップリング剤、離型剤等の種々の配合剤を添加することができる。
【００３１】
前記無機質充填材としては、例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、窒化珪素、水酸化アルミ等が挙げられる。無機充填材の配合量を特に大きくする場合は溶融シリカを用いるのが一般的である。溶融シリカは破砕状、球状のいずれでも使用可能であるが、溶融シリカの配合量を高め且つ成形材料の溶融粘度の上昇を抑制するためには、球状のものを主に用いる方が好ましい。更に球状シリカの配合量を高めるためには、球状シリカの粒度分布を適当に調整することが好ましい。その充填率は適用用途や所望特性によって、望ましい範囲が異なるが、例えば半導体封止材用途に使用する場合は、線膨張係数や難燃性を鑑みれば高い方が好ましく、組成物全体量に対して６５重量％以上が好ましく、特に好ましくは８５重量％以上である。また導電ペーストや導電フィルムなどの用途に使用する場合は、銀粉や銅粉等の導電性充填剤を用いることができる。
【００３２】
前記難燃付与剤としては、例えば、デカブロモジフェニルエーテル、テトラブロモビスフェノールＡなどのハロゲン化合物、赤リンや各種燐酸エステル化合物などの燐原子含有化合物、メラミン或いはその誘導体などの窒素原子含有化合物、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硼酸亜鉛、硼酸カルシウムなどの無機系難燃化合物等が挙げられる。
【００３３】
本発明の硬化性樹脂組成物の使用用途としては、特に制限されるものではなく、例えば、プリント基板用、電子部品の封止材用、レジストインキ、導電ペースト、樹脂注型材料、接着剤、絶縁塗料等のコーティング材料等が挙げられ、これらの中でも、得られる硬化物の誘電特性に優れる点から、プリント基板用樹脂組成物、電子部品の封止材用樹脂組成物、レジストインキ、導電ペーストに好適に用いることができる。
【００３４】
前記プリント基板用としては、特にプリプレグ用、銅張り積層板用、ビルドアッププリント基板の層間絶縁材料用に好適に用いることができる。
【００３５】
本発明の硬化性樹脂組成物をプリント基板用プリプレグ用樹脂組成物とするには、該硬化性樹脂組成物の粘度によっては無溶媒で用いることもできるが、有機溶剤を用いてワニス化することでプリプレグ用樹脂組成物とすることが好ましい。前記有機溶剤としては、アルコール性水酸基を含有しないメチルエチルケトン、アセトン、ジメチルホルムアミド等の沸点が１６０℃以下の極性溶剤を用いることが好ましく、単独でも２種以上の混合溶剤としても使用することができる。アルコール性水酸基を含有する溶剤は、条件によってはビニルエーテル類と反応してしまうため好ましくない。得られた該ワニスを、紙、ガラス布、ガラス不織布、アラミド紙、アラミド布、ガラスマット、ガラスロービング布などの各種補強基材に含浸し、用いた溶剤種に応じた加熱温度、好ましくは５０〜１７０℃で加熱することによって、硬化物であるプリプレグを得ることができる。この時用いる樹脂組成物と補強基材の重量割合としては、特に限定されないが、通常、プリプレグ中の樹脂分が２０〜６０重量％となるように調整することが好ましい。
【００３６】
本発明の硬化性樹脂組成物から銅張り積層板用樹脂組成物を得るには、上記プリプレグ用樹脂組成物とする方法と同じであり、得られたプリプレグを、例えば特開平７−４１５４３号公報に記載されているように積層し、適宜銅箔を重ねて、１〜１０ＭＰａの加圧下に１７０〜２５０℃で１０分〜３時間、加熱圧着させることにより、銅張り積層板を得ることができる。
【００３７】
本発明の硬化性樹脂組成物からビルドアップ基板用層間絶縁材料を得る方法としては特に限定されないが、例えば特公平４−６１１６号公報、特開平７−３０４９３１号公報、特開平８−６４９６０号公報、特開平９−７１７６２号公報、特開平９−２９８３６９号公報などに記載の各種方法を採用できる。より具体的には、ゴム、フィラーなどを適宜配合した当該硬化性樹脂組成物を、回路を形成した配線基板にスプレーコーティング法、カーテンコーティング法等を用いて塗布した後、硬化させる。その後、必要に応じて所定のスルーホール部等の穴あけを行った後、粗化剤により処理し、その表面を湯洗することによって、凹凸を形成させ、銅などの金属をめっき処理する。前記めっき方法としては、無電解めっき、電解めっき処理が好ましく、また前記粗化剤としては酸化剤、アルカリ、有機溶剤等が挙げられる。このような操作を所望に応じて順次繰り返し、樹脂絶縁層及び所定の回路パターンの導体層を交互にビルドアップして形成することにより、ビルドアップ基盤を得ることができる。但し、スルーホール部の穴あけは、最外層の樹脂絶縁層の形成後に行う。また、銅箔上で当該樹脂組成物を半硬化させた樹脂付き銅箔を、回路を形成した配線基板上に、１７０〜２５０℃で加熱圧着することで、粗化面を形成、メッキ処理の工程を省き、ビルドアップ基板を作製することも可能である。
【００３８】
前記電子部品の封止材用としては、半導体チップの封止材用、アンダーフィル用、半導体の層間絶縁膜用に好適に用いることができる。
【００３９】
本発明の硬化性樹脂組成物を半導体封止材料用に調整するためには、前記多価ヒドロキシ化合物（Ａ）と前記多価ビニルエーテル化合物（Ｂ）、必要に応じて、その他のヒドロキシ化合物（Ｃ）、その他の樹脂類（Ｄ）、触媒、カップリング剤、離型剤などの添加剤や無機充填材などを予備混合した後、押出機、ニ−ダ、ロ−ル等を用いて均一になるまで充分に混合する手法が挙げられる。溶融混合型（無溶媒）組成物の場合は、該組成物を注型、或いはトランスファ−成形機、射出成形機などを用いて成形し、さらに５０〜２００℃で２〜１０時間に加熱することにより硬化物を得ることができ、半導体パッケージ成形はこれに該当する。
【００４０】
またテープ状封止剤として使用する場合には、前述の手法によって得られた樹脂組成物を加熱して半硬化シートを作製し、封止剤テープとした後、この封止剤テープを半導体チップ上に置き、１００〜１５０℃に加熱して軟化させ成形し、１７０〜２５０℃で完全に硬化させる方法を挙げることができる。
【００４１】
更にポッティング型液状封止剤として使用する場合には、前述の手法によって得られた樹脂組成物を半導体チップや電子部品上に塗布し、直接、硬化させればよい。
【００４２】
本発明の硬化性樹脂組成物をアンダーフィル樹脂として使用する方法についても特に限定されないが、特開平９−２６６２２１号公報や「エレクトロニクス分野のプラスチック」（工業調査会発行、１９９９年、２７〜３４頁）に記載されるような方法を採用できる。より具体的には、フリップチップ実装時に電極のついた半導体素子と半田のついたプリント配線基板との空隙に、本発明の硬化性樹脂組成物を毛細管現象を利用してキャピラリーフロー法によって注入し硬化させる方法、予め基板ないし半導体素子上に本発明の硬化性樹脂組成物を半硬化させてから、加熱して半導体素子と基板を密着させ、完全硬化させるコンプレッションフロー法等が挙げられる。この場合、本発明の硬化性樹脂組成物は、有機溶剤を含有しない液状の硬化性樹脂組成物の形態で使用するのが好ましい。特にキャピラリーフロー法を用いる場合には低粘度である必要があり、５０００ｍＰａ・ｓ以下の粘度であることが好ましい。当該樹脂組成物がこれを超える粘度であれば、室温〜１００℃以下に加温して注入することもできる。
【００４３】
本発明の硬化性樹脂組成物を半導体の層間絶縁材料として使用する場合は、例えば特開平６−８５０９１号公報の記載の方法が採用できる。層間絶縁膜に用いる場合は半導体に直接接することになるため、高温環境下において線膨張率の差によるクラックが生じないよう、絶縁材の線膨張率を半導体の線膨張率に近づけることが要求される。また、半導体の微細化、多層化、高密度化による信号遅延の問題に対応するため、絶縁材の低容量化技術が求められており、絶縁材を低誘電化することによってこの問題を解決することができる。当該樹脂組成物は、これらの要求を満たす特性を有するため好ましい。
【００４４】
本発明の硬化性樹脂組成物をレジストインキとして使用する場合には、例えば特開平５−１８６５６７号公報に記載の方法に準じて、レジストインキ用組成物とした後、スクリーン印刷方式にてプリント基板上に塗布した後、レジストインキ硬化物とする方法が挙げられる。
【００４５】
本発明の硬化性樹脂組成物を導電ペーストとして使用する場合には、例えば、特開平３−４６７０７号公報に記載の微細導電性粒子を該樹脂組成物中に分散させ異方性導電膜用組成物とする方法、特開昭６２−４０１８３号公報、特開昭６２−７６２１５号公報、特開昭６２−１７６１３９号公報などに開示されているような室温で液状である回路接続用ペースト樹脂組成物や異方性導電接着剤とする方法が挙げられる。
【００４６】
本発明の硬化物は、前述の本発明の硬化性樹脂組成物を成形硬化させて得られるものであり、積層物、注型物、接着剤、塗膜、フィルム等として使用できる。その硬化方法としては特に制限されるものではなく、例えば、前記多価ヒドロキシ化合物（Ａ）と前記多価ビニルエーテル（Ｂ）、必要に応じて配合されるその他のヒドロキシ化合物（Ｃ）、その他の樹脂類（Ｄ）、各種配合剤等を均一に混合した後、８０〜２００℃で加熱硬化する方法、硬化速度の向上等の目的で反応触媒を使用する方法等を挙げることができる。
【００４７】
前記反応触媒としては、通常ヒドロキシ基とビニルエーテル基との反応に用いられる触媒であれば特に限定されるものではないが、酸触媒であることが好ましい。前記酸触媒としては、例えば、硫酸、塩酸、硝酸、リン酸等の無機酸、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、キシレンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、シュウ酸、ギ酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸、塩化アルミニウム、塩化鉄、塩化スズ、塩化ガリウム、塩化チタン、臭化アルミニウム、臭化ガリウム、三弗化ホウ素エーテル錯体、三弗化ホウ素フェノール錯体等のルイス酸等が挙げられ、芳香環に対するビニル基の核付加反応等の副反応の抑制、或いは副反応による機能性付与等の目的で、触媒の種類や添加量、及び硬化条件を適宜選択できるものであるが、使用量としては、組成物全重量に対して１０ｐｐｍ〜５重量％の範囲で用いることが好ましく、硬化条件としては、８０〜２００℃で３０分〜２０時間加熱する方法が好ましい。また、前述の各種用途に応じて調製された硬化性樹脂組成物は、適応する用途に応じた硬化方法を適宜採用することが好ましい。
【実施例】
【００４８】
以下に本発明を実施例、比較例により具体的に説明するが、本発明の範囲はこれに限定されるものではない。また、以下において「部」「％」は特に断わりのない限り重量基準である。
【００４９】
実施例１〜６
表１に記載した配合に従って、各種多価ヒドロキシ化合物と各種多価ビニルエーテル化合物を加熱（８０〜１２０℃）混合し、更に表１記載の触媒を添加し均一に混合し、硬化性樹脂組成物（実施例１〜６）を得た。その組成物を直径５ｃｍの円形金型に注ぎ、オーブン内で８０℃×２時間＋１００℃×２時間＋１５０℃×２時間の硬化条件で硬化させて、直径５ｃｍ×厚み２．０ｍｍの円形硬化物試験片を得た。その試験片を用いて、誘電特性の評価指標として誘電率及び誘電正接を測定し、表２にその結果を記す。
【００５０】
誘電特性の測定法
誘電特性評価器アジレントテクノロジー製４２９１Ｂを用いて、１００ＭＨｚ〜１ＧＨｚの周波数における誘電率と誘電正接を測定した。
【００５１】
比較例１
非特許文献１記載の手法に従って、ビスフェノールＡ、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコールジメチルエーテルを表１記載の配合比に従って均一に混合し硬化性樹脂組成物を得て、比較例１とした。実施例と同様にして反応を行ったが、得られた生成物は粘稠な液体であり、硬化物が得られなかった。
【００５２】
比較例２
エポキシ樹脂として、ＥＰＩＣＬＯＮ  Ｎ−６６５−ＥＸＰ（大日本インキ化学工業株式会社製  クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、エポキシ当量  ２０５ｇ／ｅｑ）を用いて、表１記載の配合に従って硬化性樹脂組成物を得、比較例２とした。実施例と同様にして硬化物を得た後、誘電特性を評価し、表２にその結果を記す。
【００５３】
【表１】
2005105043.tif 000003
【００５４】
表１の脚注
TD-2131：Phenolite TD-2131（大日本インキ化学工業株式会社製フェノールノボラック樹脂  軟化点８０℃  ＧＰＣより算出した平均官能基数３．５）
TMP：トリメチロールプロパン
PE：ペンタエリスリトール
DEDVE：ジエチレングリコールジビニルエーテル
TEDVE：トリエチレングリコールジビニルエーテル
CHDVE：シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル
TCA：トリクロロ酢酸
TPP：トリフェニルホスフィン
EPICLON N-665-EXP：クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（大日本インキ化学工業株式会社製）
【００５５】
【表２】
2005105043.tif 000004
【００５６】
本発明の硬化性樹脂組成物である実施例１〜６で得られた硬化物は、エポキシ樹脂組成物である比較例２で得られた硬化物と比較し、誘電率、誘電正接が共に低く、電気電子用途等に好適に用いることができることを確認した。また、非特許文献１に記載された多価ヒドロキシ化合物中の芳香族性ヒドロキシ基が５０モル％である比較例１では、硬化物を得ることができなかった。