(57)【要約】      （修正有）【課題】より優れた活性を有し、高い分子量のオレフィン重合体を製造できる重合触媒を提供する。【解決手段】特定のホスフィン化合物式：2005225861.tif 000657で示される遷移金属錯体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で示されるホスフィン化合物。
2005225861.tif 000623
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ6，Ｒ7およびＲ8は、同一または相異なり、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または
炭素原子数１〜２０の炭化水素で二置換されたアミノ基を示し、
Ｒ5は、水素原子、フッ素原子、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基を表し、
Ｇ1は、水素原子、または水酸基の保護基を表し、
Ｇ2は、下記のＧ21〜Ｇ26のいずれかを表す。
2005225861.tif 000624
ここで、Ａ1は元素の周期律表の第１５族の元素を表し、Ａ2は、元素の周期律表の第１６族の元素を表し、ただしG21のA1は窒素原子を表し、
Ｒ9およびＲ14は、それぞれ、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表すか、または
R90−N−R91（ここで、R90およびR91は、同一または相異なり
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表すか、あるいは互いに結合して環構造を表す）で表される基を表し、
Ｒ12、Ｒ13、Ｒ19およびＲ20は、それぞれ独立に、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基または
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、あるいは
R12とR13、およびR19とR20は、それぞれ独立に、互いに結合して環構造を表し、
Ｒ10、Ｒ11、Ｒ15、Ｒ16、R21およびR22は、それぞれ独立に、水素原子、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基または
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、
Ｒ17およびＲ18は同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基または
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、
ｍは0または1の整数を表す。）
【請求項２】
Ａ1が窒素原子を表し、Ａ2が酸素原子を表す請求項１に記載のホスフィン化合物。
【請求項３】
Ｇ1が水素原子を表す請求項１または２に記載のホスフィン化合物。
【請求項４】
Ｇ2が、Ｇ21である請求項１、２または３に記載のホスフィン化合物。
【請求項５】
Ｇ2が、Ｇ22である請求項１、２または３に記載のホスフィン化合物。
【請求項６】
Ｇ2が、Ｇ23である請求項１、２または３に記載のホスフィン化合物。
【請求項７】
Ｇ2が、Ｇ24である請求項１、２または３に記載のホスフィン化合物。
【請求項８】
Ｇ2が、Ｇ25である請求項１、２または３に記載のホスフィン化合物。
【請求項９】
Ｇ2が、Ｇ26である請求項１、２または３に記載で示されるホスフィン化合物。
【請求項１０】
Ｇ1が、水酸基の保護基である請求項１または２に記載のホスフィン化合物。
【請求項１１】
G1が、フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基である請求項１０に記載のホスフィン化合物。
【請求項１２】
Ｇ1がメトキシメチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシメチル基、トリメチルシリルエトキシメチル基または１−エトキシエチル基である請求項１０に記載のホスフィン化合物。
【請求項１３】
Ｇ2が、Ｇ21である請求項１０に記載のホスフィン化合物。
【請求項１４】
Ｇ2が、Ｇ22である請求項１０に記載のホスフィン化合物もしくはそのブレンステッド酸塩。
【請求項１５】
Ｇ2が、Ｇ23である請求項１０に記載のホスフィン化合物もしくはそのブレンステッド酸塩。
【請求項１６】
Ｇ2が、Ｇ24である請求項１０に記載のホスフィン化合物。
【請求項１７】
Ｇ2が、Ｇ25である請求項１０に記載のホスフィン化合物。
【請求項１８】
Ｇ2が、Ｇ26である請求項１０に記載のホスフィン化合物もしくはそのブレンステッド酸塩。
【請求項１９】
R9、Ｒ10，Ｒ11，Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15，Ｒ16，Ｒ17，Ｒ18、Ｒ19およびＲ20がそれぞれ独立して、置換もしくは無置換の炭素原子数1〜10のアルキル基である請求項１または２に記載のホスフィン化合物。
【請求項２０】
式（21Ｃ）：
2005225861.tif 000625
（式中、G10は水素原子またはフェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基を表し、
Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ6，Ｒ7およびＲ8は、同一または相異なり、それぞれ独立に、
水素原子、ハロゲン原子、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または
炭素原子数１〜２０の炭化水素で二置換されたアミノ基を示し、
Ｒ5は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基または
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基を表し、
R21は、水素原子、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基または
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表す。）
で示されるホスフィンカルボニル化合物と、式（21F）：
Ｒ9ＮＨ2              （21F）
（式中、Ｒ9は、それぞれ独立して、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表すか、または
R90−N−R91（ここで、R90およびR91は、同一または相異なり
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表すか、あるいは互いに結合して環構造を表す）で表される基を表す。）
で示される有機化合物とを反応させることを特徴とする式(21B)：
2005225861.tif 000626
（式中、Ｒ1、Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、R9、R21、G10およびA1は前記のとおり。）
で示されるホスフィン化合物の製造方法。
【請求項２１】
G10が、フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基である請求項２０に記載の製造方法。
【請求項２２】
請求項２０に記載の式（２１B）で示されるホスフィン化合物に酸を反応させることを特徴とする式（２１A）：
2005225861.tif 000627
（式中、Ｒ1、Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、R9およびR21は請求項２０に記載のとおりであり、A1は窒素原子を表す。）
で示されるホスフィン化合物の製造方法。
【請求項２３】
酸が塩酸である請求項２２に記載の製造方法。
【請求項２４】
式（22B）：
2005225861.tif 000628
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12，Ｒ13およびＡ1は請求項１記載のとおりであり、
G11は、フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基を表す。）
で示されるホスフィン化合物を酸と反応させることを特徴とする式（２２A）：
2005225861.tif 000629
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ10、Ｒ11，Ｒ12、Ｒ13およびＡ1は前記のとおり。）
で示されるホスフィン化合物の製造方法。
【請求項２５】
酸が塩酸である請求項２４に記載の製造方法。
【請求項２６】
式（２２C）：
2005225861.tif 000630
（式中、Ａ1、Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ10、Ｒ11，Ｒ12、Ｒ13およびＡ1は、請求項２４に記載のとおりであり、Ｘ２は、ハロゲン原子を表す。）
で示されるホスフィンジハライドと式（２２D）：
2005225861.tif 000631
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4およびG11は、請求項２４に記載のとおりであり、
Dは、アルカリ金属もしくはＪ-Ｘ3、（ここで、Ｊはアルカリ土類金属を表し、Ｘ3はハロゲン原子を表す。））
で示される金属アリール化合物とを反応させることを特徴とする請求項２４に記載の式（２２Ｂ）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
【請求項２７】
式（25Ｃ）：
2005225861.tif 000632
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4およびＧ11は、請求項２４に記載のとおりであり、Ｘ2はハロゲン原子を表す。）
で示されるホスフィンハライド化合物と式（２２Ｅ）：
2005225861.tif 000633
（式中、Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ10、Ｒ11，Ｒ12、Ｒ13、Ａ1およびＤは請求項２４に記載のとおり。）
で示される化合物とを反応させることを特徴とする請求項２４に記載の式（２２B）で示される化合物の製造方法。
【請求項２８】
Ｒ5が水素原子である請求項２４に記載の式（２２B）で示される化合物。
【請求項２９】
式（２３Ｃ）：
2005225861.tif 000634
（式中、Ａ1、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ14およびR21は請求項１に記載のとおりであり、G11は、フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基を表す。）
で示されるホスフィン化合物と金属水素化物とを反応させることを特徴とする式（23Ｂ）：
2005225861.tif 000635
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ14、Ａ1、G11およびR2１は、前記のとおり。）
で示されるホスフィン化合物の製造方法。
【請求項３０】
請求項２９記載の式（２３B）で示されるホスフィン化合物を酸と反応させることを特徴とする式（２３A）：
2005225861.tif 000636
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ14、Ａ1およびR21は、前記のとおり。）
で示されるホスフィン化合物の製造方法。
【請求項３１】
式（２４Ｂ）：
2005225861.tif 000637
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ15、Ｒ16およびＡ2は、請求項１記載のとおりであり、G11は、フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基を表す。）
で示されるホスフィン化合物を酸と反応させることを特徴とする式（２４Ａ）：
2005225861.tif 000638
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ15、Ｒ16およびＡ2は、前記のとおり。）
で示されるホスフィン化合物の製造方法。
【請求項３２】
式（２４Ｃ）：
2005225861.tif 000639
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8およびＲ15は、請求項１に記載のとおりであり、G11は、フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基を表し、Ａ2は、元素の周期律表の第１６族の元素を表す。）
で示されるホスフィン化合物と金属水素化物または式（２４Ｄ）：
Ｒ16−Ｙ          （24Ｄ）
（式中、Ｒ16は、請求項１に記載のとおりであり、
Ｙは、アルカリ金属またはＪ-Ｘ3、（ここで、Ｊはアルカリ土類金属を表し、Ｘ3はハロゲン原子を表す。））
で示される金属アリール化合物とを反応させることを特徴とする式（２４Ｂ）：
2005225861.tif 000640
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ15、Ｒ16、Ａ2およびＧ11は前記のとおり。）
で示されるホスフィン化合物の製造方法。
【請求項３３】
G11は、フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基を表し、A2が酸素原子を表す請求項３２記載の製造方法。
【請求項３４】
式（２５Ｂ）：
2005225861.tif 000641
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ17、Ｒ18およびｍは、請求項１に記載のとおりであり、G11は、フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基を表す。）
で示されるホスフィン化合物と酸とを反応させることを特徴とする式（２５Ａ）：
2005225861.tif 000642
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ17、Ｒ18およびｍは、前記のとおり。）
で示されるホスフィン化合物の製造方法。
【請求項３５】
式（25Ｃ）：
2005225861.tif 000643
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4およびＧ11は、請求項３４に記載のとおりであり、Ｘ2はハロゲン原子を表す。）
で示されるホスフィンハライド化合物と式（２５Ｄ）：
2005225861.tif 000644
（式中、Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ17、Ｒ18およびｍは、請求項３４に記載のとおりであり、Dは、アルカリ金属もしくはＪ-Ｘ3、（ここで、Ｊはアルカリ土類金属を表し、Ｘ3はハロゲン原子を表す。））
で示される金属アリール化合物とを反応させることを特徴とする請求項３４に記載の式（２５B）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
【請求項３６】
式（２５Ｅ）：
2005225861.tif 000645
（式中、Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ17、Ｒ18およびｍは、請求項１に記載のとおりであり、Ｘ2はハロゲン原子を表す。）
で示されるハロホスフィン化合物と式（２５Ｆ）：
2005225861.tif 000646
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3およびＲ4は、請求項１に記載のとおりであり、G11は、フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基を表し、
Dは、アルカリ金属もしくはＪ-Ｘ3、（ここで、Ｊはアルカリ土類金属を表し、Ｘ3はハロゲン原子を表す。））
で示される金属アリール化合物とを反応させることを特徴とする請求項34に記載の式（２５B）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
【請求項３７】
式（２６Ｂ）：
2005225861.tif 000647
（式中、Ａ１、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ19およびＲ20は、請求項１に記載のとおりであり、G11は、フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基を表す。）
で示されるホスフィン化合物と酸とを反応させることを特徴とする式（26Ａ）：
2005225861.tif 000648
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ19、Ｒ20およびＡ1は、前記のとおり。）
で示されるホスフィン化合物の製造方法。
【請求項３８】
式（２６Ｃ）：
2005225861.tif 000649
（式中、Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ19、Ｒ20およびＡ1は、請求項３７に記載のとおりであり、
Ｘ2は、ハロゲン原子を表す。）
で示されるハロホスフィン化合物と式（26Ｄ）：
2005225861.tif 000650
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4およびＧ11は、請求項３７に記載のとおりであり、
Dは、アルカリ金属もしくはＪ-Ｘ3、（ここで、Ｊはアルカリ土類金属を表し、Ｘ3はハロゲン原子を表す。））
で示される金属アリール化合物とを反応させることを特徴とする請求請求項３７に記載の式（２６Ｂ）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
【請求項３９】
式（２６Ｅ）：
2005225861.tif 000651
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4およびＧ11は、請求項３８に記載のとおりであり、
Ｘ2はハロゲン原子を表す。）
で示されるアリールハロゲン化リン化合物と式（２６Ｆ）：
2005225861.tif 000652
（式中、Ａ1，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ19、Ｒ20およびＤは請求項３８に記載のとおり。）
で示される金属アリール化合物と反応させることを特徴とする請求項37に記載の式（２６Ｂ）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
【請求項４０】
式（2）： 
2005225861.tif 000653
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8およびG2は、請求項１記載のとおりであり、G10は水素原子またはフェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基を表す。）
で示されるホスフィン化合物を式（４）：
ＭＸ13ＬL1p        （４）
（式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の元素を表し、
Ｘ1は、水素原子、ハロゲン原子、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または
炭素原子数２〜２０の炭化水素で２置換されたアミノ基を示し、
Ｌは、金属Ｍの結合もしくは配位を均衡するＸ1と同様の原子もしくは基を表す対イオンまたは中性配位子を表し、L1は中性配位子を表し、ｐは０から２の整数を表す。）
で示される遷移金属化合物とを反応させることを特徴とする式（３）：
2005225861.tif 000654
（式中、Ｍは元素の周期律表の第１４族の元素を表し、
Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｘ1およびLは、前記のとおりであり、
ｑは０または１の整数を表し、
G20は、下記のG21からG26のいずれかを表す。
2005225861.tif 000655
ここで、Ａ1は元素の周期律表の第１５族の元素を表し、ただしG２３’のA1は元素の周期律表の第１５族の元素のアニオンを表し、Ａ2は、元素の周期律表の第１６族の元素のアニオンを表し、ただし、G21においてA1は窒素原子を表し、
Ｒ9およびＲ14は、それぞれ、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表すか、または
R90−N−R91（ここで、R90およびR91は、同一または相異なり
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表すか、あるいは互いに結合して環構造を表す。）で表される基を表し、
Ｒ12、Ｒ13、Ｒ19およびＲ20は、それぞれ独立に、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基または
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、あるいは
R12とR13、およびR19とR20は、それぞれ独立に、互いに結合して環構造を表し、
Ｒ10、Ｒ11、Ｒ15、Ｒ16、R21およびR22は、それぞれ独立に、水素原子、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基または
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、
Ｒ17およびＲ18は同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基または
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、
ｍは0または1の整数を表し、
ＭとＧ20とをつなぐ線は、ＭがＧ20を構成する元素の周期律表の第１５族または第16族の元素またはフッ素原子に配位もしくは結合していることを表す。）
で示される遷移金属錯体の製造方法。
【請求項４１】
塩基を用いて反応させる請求項４０に記載の製造方法。
【請求項４２】
G10が水素原子である請求項４１に記載の製造方法。
【請求項４３】
G10が、フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基である請求項４０に記載の式（３）で示される遷移金属錯体の製造方法。
【請求項４４】
G10が、メトキシメチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシメチル基、トリメチルシリルエトキシメチル基または１−エトキシエチル基である請求項４３に記載の製造方法。
【請求項４５】
Ｍが、チタン原子またはジルコニウム原子である請求項４０、４１、４２、４３または４４に記載の遷移金属錯体の製造方法。
【請求項４６】
Ａ1が窒素原子を表し、Ａ2が酸素原子を表す請求項４５に記載の遷移金属錯体の製造方法。
【請求項４７】
G2が、Ｇ21である請求項４６に記載の遷移金属錯体の製造方法。
【請求項４８】
Ｇ2が、Ｇ22である請求項４６に記載の遷移金属錯体の製造方法。
【請求項４９】
Ｇ2が、Ｇ23‘である請求項４６に記載の遷移金属錯体の製造方法。
【請求項５０】
Ｇ2が、Ｇ24‘である請求項４６に記載の遷移金属錯体の製造方法
【請求項５１】
Ｇ2が、Ｇ25である請求項４６に記載の遷移金属錯体の製造方法。
【請求項５２】
Ｇ2が、Ｇ26である請求項４６に記載の遷移金属錯体の製造方法。
【請求項５３】
式（３）：
2005225861.tif 000656
（式中、Ｍ、L、Ｘ1、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、ｑおよびＧ20は、請求項４０に記載のとおりである。）
で示される遷移金属錯体。
【請求項５４】
Ｇ20においてＡ1が窒素原子を表し、Ａ2が酸素原子を表す請求項５３に記載の遷移金属錯体。
【請求項５５】
Ｍが、チタン原子またはジルコニウム原子である請求項５４に記載の遷移金属錯体。
【請求項５６】
Ｇ20が、Ｇ21である請求項５４または５５に記載の遷移金属錯体。
【請求項５７】
Ｇ20が、Ｇ22である請求項５４または５５に記載の遷移金属錯体。
【請求項５８】
Ｇ20が、Ｇ23である請求項５４または５５に記載の遷移金属錯体。
【請求項５９】
Ｇ20が、Ｇ24である請求項５４または５５に記載の遷移金属錯体
【請求項６０】
Ｇ2が、Ｇ25である請求項５４または５５に記載の遷移金属錯体。
【請求項６１】
Ｇ20が、Ｇ26である請求項５４または５５に記載の遷移金属錯体。
【請求項６２】
請求項５３、５４または５５に記載の遷移金属錯体と下記化合物（Ａ）、さらに任意に化合物（Ｂ）を組み合わせてなるオレフィン重合用触媒。
化合物（Ａ）：  下記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、あるいはそれらの２種以上の混合物
（Ａ１）：  式 （Ｅ1）a Ａｌ（Ｚ）（３−a） で示される有機アルミニウム化合物、
（Ａ２）:  式  ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示される構造を有する環状のアルミノキサン、
（Ａ３）：  式  （Ｅ3） ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝c Ａｌ（Ｅ3）2 で示される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一または相異なり、炭素原子数１〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一または相異なり、水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１、２または３を、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表す。）
化合物（Ｂ）:  下記化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）のいずれか、あるいはそれらの２種以上の混合物
（Ｂ１）：  式  ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で表されるホウ素化合物、
（Ｂ２）：  式  Ｚ＋ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）− で表されるホウ素化合物、
（Ｂ３）：  式（Ｌ−Ｈ）＋ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）− で表されるホウ素化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は同一または相異なり、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基または炭素原子数１〜２０の炭化水素で２置換されたアミノ基を示す。）
【請求項６３】
請求項６２に記載のオレフィン重合用触媒の存在下にオレフィンを重合させることを特徴とするオレフィン重合体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は遷移金属錯体、配位子、オレフィン重合用触媒およびオレフィン重合体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、２個の水酸基とホスフィンを有する有機化合物と遷移金属との反応物（例えば、２，２’−（フェニルホスフィド）ビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）（テトラヒドロフラン）チタニウムジクロライドなど）をオレフィン重合体の製造方法に用いること（例えば、特許文献１参照。）が報告されている。
【特許文献１】特開平１０−２１８９２２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、より優れた活性を有し、高い分子量のオレフィン重合体を製造できる重合用触媒を開発することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明は、
式（１）で示されるホスフィン化合物。
2005225861.tif 000002
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ6，Ｒ7およびＲ8は、同一または相異なり、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または
炭素原子数１〜２０の炭化水素で二置換されたアミノ基を示し、
Ｒ5は、水素原子、フッ素原子、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基または、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基を表し、
Ｇ1は、水素原子、または水酸基の保護基を表し、
Ｇ2は、下記のＧ21〜Ｇ26のいずれかを表す。
2005225861.tif 000003
ここで、Ａ1は元素の周期律表の第１５族の元素を表し、Ａ2は、元素の周期律表の第１６族の元素を表し、ただしG21のA1は窒素原子を表し、
Ｒ9およびＲ14は、それぞれ独立に、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表すか、または
R90−N−R91（ここで、R90およびR91は、同一または相異なり
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表すか、あるいは互いに結合して環構造を表す）で表される基を表し、
Ｒ12、Ｒ13、Ｒ19およびＲ20は、それぞれ独立に、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基または
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、あるいは
R12とR13、およびR19とR20は、それぞれ独立に、互いに結合して環構造を表し、
Ｒ10、Ｒ11、Ｒ15、Ｒ16、R21およびR22は、それぞれ独立に、水素原子、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基または
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、
Ｒ17およびＲ18は同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基または
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、
ｍは0または1の整数を表す。）
２．  式（21Ｃ）：
2005225861.tif 000004
（式中、Ｇ1０は、水素原子、フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基を表し、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，R5、Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8およびR21は、前記のとおり。）で示されるホスフィンカルボニル化合物と、式（21F）：
Ｒ9ＮＨ2              （21F）
（式中、Ｒ9は、前記のとおり。）で示される有機化合物とを反応させることを特徴とする式(21B)：
2005225861.tif 000005
（式中、Ｒ1、Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、R9、R21およびG10は前記のとおりであり、A1は窒素原子を表す。）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
G10が、フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基である前記式（２１B）で示されるホスフィン化合物に酸を反応させることを特徴とする式（２１A）：
2005225861.tif 000006
（式中、Ｒ1、Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、R9およびR21前記のとおりであり、A1は窒素原子を表す。）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
式（22B）：
2005225861.tif 000007
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12，Ｒ13、およびＡ1は前記のとおりであり、G11が、フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基を表す。）で示されるホスフィン化合物を酸と反応させることを特徴とする式（２２A）：
2005225861.tif 000008
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ10、Ｒ11，Ｒ12、Ｒ13およびＡ1は前記のとおり。）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
式（２２C）：
2005225861.tif 000009
（式中、Ａ、Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ10、Ｒ11，Ｒ12、Ｒ13およびＡ1は、前記のとおりであり、Ｘ2は、ハロゲン原子を表す。）で示されるホスフィンジハライドと式（２２D）：
2005225861.tif 000010
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4およびG11は、前記のとおりであり、
Dは、アルカリ金属もしくはＪ-Ｘ3、（ここで、Ｊはアルカリ土類金属を表し、Ｘ3はハロゲン原子を表す。））で示される金属アリール化合物を反応させることを特徴とする前記式（２２Ｂ）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
式（25Ｃ）：
2005225861.tif 000011
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4およびＧ11は、前記のとおりであり、Ｘ2はハロゲン原子を表す。）で示されるホスフィンハライド化合物と式（２２Ｅ）：
2005225861.tif 000012
（式中、Ａ、Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ10、Ｒ11，Ｒ12、Ｒ13、Ａ1およびＤは前記のとおり。）で示される金属アリール化合物とを反応させることを特徴とする前記式（２２B）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
７．  式（２３Ｃ）：
2005225861.tif 000013
（式中、Ａ１、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ14、G11およびR22は前記のとおり。）で示されるホスフィン化合物を金属水素化物を反応させることを特徴とする式（23Ｂ）：
2005225861.tif 000014
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ14、Ａ1、G11およびR22は、前記のとおり。）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
式（２３B）で示されるホスフィン化合物を酸と反応させることを特徴とする式（２３A）：
2005225861.tif 000015
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ14、Ａ1およびR22は、前記のとおり。）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
９．  式（２４Ｂ）：
2005225861.tif 000016
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ15、Ｒ16、Ａ2およびＧ11は、前記のとおり。）で示されるホスフィン化合物を酸と反応させることを特徴とする式（２４Ａ）：
2005225861.tif 000017
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ15、Ｒ16およびＡ2は、前記のとおり）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
１０．  式（２４Ｃ）：
2005225861.tif 000018
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ15、Ａ2およびＧ11は、前記のとおり。）で示されるホスフィン化合物を金属水素化物または式（２４Ｄ）：
Ｒ16−Ｙ          （24Ｄ）
（式中、Ｒ16およびＹは、アルカリ金属もしくはＪ−Ｘ3（ここで、Ｊはアルカリ土類金属を表し、Ｘ3はハロゲン原子を表す。）を表す。）で示される金属アリール化合物を反応させることを特徴とする式（２４Ｂ）：
2005225861.tif 000019
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ15、Ｒ16、Ａ2およびＧ11は前記のとおり）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
１１．  式（２５Ｂ）：
2005225861.tif 000020
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ17、Ｒ18、G11およびｍは、前記のとおり。）で示されるホスフィン化合物を酸と反応させることを特徴とする式（２５Ａ）：
2005225861.tif 000021
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ17、Ｒ18およびｍは、前記のとおり。）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
１２．式（25Ｃ）：
2005225861.tif 000022
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4およびＧ11は、前記のとおりであり、Ｘ2はハロゲン原子を表す。）で示されるホスフィンハライド化合物を式（２５Ｄ）：
2005225861.tif 000023
（式中、Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ17、Ｒ18、Dおよびｍは、前記のとおり。）で示される金属アリール化合物を反応させることを特徴とする前記式（２５B）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
１３．  式（２５Ｅ）：
2005225861.tif 000024
（式中、Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ17、Ｒ18およびｍは、前記のとおりであり、Ｘ2はハロゲン原子を表す。）で示されるハロホスフィン化合物を式（２５Ｆ）：
2005225861.tif 000025
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｇ11およびＤは、前記のとおり。）で示される金属アリール化合物を反応させることを特徴とする前記式（２５B）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
１４．式（２６Ｂ）：
2005225861.tif 000026
（式中、Ａ１、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ19、Ｒ20およびＧ11は、前記のとおり。）で示されるホスフィン化合物を酸と反応させることを特徴とする式（26Ａ）：
2005225861.tif 000027
（式中、Ａ１、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ19、Ｒ20およびＡ1は、前記のとおり。）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
１５．  式（２６Ｃ）：
2005225861.tif 000028
（式中、Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ19、Ｒ20およびＡ1は、前記のとおりであり、Ｘ2は、ハロゲン原子を表す。）で示されるハロホスフィン化合物を式（26Ｄ）：
2005225861.tif 000029
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4、ＤおよびＧ1（好ましくはG11）は、前記のとおり）で示される金属アリール化合物を反応させることを特徴とする前記式（２６Ｂ）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
１６．式（２６Ｅ）：
2005225861.tif 000030
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4およびＧ11は、前記のとおりであり、Ｘ2はハロゲン原子を表す。）で示されるアリールハロゲン化リン化合物を式（２６Ｆ）：
2005225861.tif 000031
（式中、Ａ1，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｒ19、Ｒ20およびＤは前記のとおり。）で示される金属アリール化合物と反応させることを特徴とする前記の式（２６Ｂ）で示されるホスフィン化合物の製造方法。
１７．式（2）： 
2005225861.tif 000032
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7およびＲ8は前記のとおりで、G10は水素原子またはフェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基を表す。）で示されるホスフィン化合物を式（４）：
ＭＸ13ＬL1p        （４）
（式中、Ｍは元素の周期律表の第４族の元素を表し、
Ｘ1は、水素原子、ハロゲン原子、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基または
炭素原子数２〜２０の炭化水素で２置換されたアミノ基を示し、
Ｌは、金属Ｍの結合もしくは配位を均衡するＸ1と同様の原子もしくは基を表す対イオンまたは中性配位子を表し、L1は中性配位子を表し、ｐは０から２の整数を表す。）で示される遷移金属化合物と反応させることを特徴とする式（３）：
2005225861.tif 000033
（式中、Ｍ、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、Ｘ1およびLは、前記のとおりであり、ｑは０または１の整数を表し、
G20は、下記のG21からG26のいずれかを表す。
2005225861.tif 000034
ここで、Ａ1は元素の周期律表の第１５族の元素を表し、ただしG23’のA1は元素の周期律表の第１５族の元素のアニオンを表し、Ａ2は、元素の周期律表の第１６族の元素のアニオンを表し、ただし、G21においてA1は窒素原子を表し、
Ｒ9およびＲ14は、それぞれ、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表すか、または
R90−N−R91（ここで、R90およびR91は、同一または相異なり
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表すか、あるいは互いに結合して環構造を表す。）で表される基を表し、
Ｒ12、Ｒ13、Ｒ19およびＲ20は、それぞれ独立に、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基または
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、あるいは
R12とR13、およびR19とR20は、それぞれ独立に、互いに結合して環構造を表し、
Ｒ10、Ｒ11、Ｒ15、Ｒ16、R21およびR22は、それぞれ独立に、水素原子、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基または
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、
Ｒ17およびＲ18は同一または相異なり、水素原子、ハロゲン原子、
置換もしくは無置換の炭素原子数１〜１０のアルキル基、
置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基または
置換もしくは無置換の炭素原子数６〜２０のアリール基を表し、
ｍは0または1の整数を表し、
ＭとＧ20とをつなぐ線は、ＭがＧ20を構成する元素の周期律表の第１５族または第16族の元素またはフッ素原子に配位もしくは結合していることを表す。）で示される遷移金属錯体の製造方法。
１８．式（5）：
2005225861.tif 000035
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3，Ｒ4，Ｒ5，Ｒ6，Ｒ7、Ｒ8、G11およびG2は前記のとおり。）で表されるホスフィン化合物と前項記載の式（４）で示される遷移金属化合物とを反応させることを特徴とする前記の式（３）で示される遷移金属錯体の製造方法。
１９．前記式（３）で示される遷移金属錯体。
２０．前記式（３）で示される遷移金属錯体と下記化合物（Ａ）、さらに任意に化合物（Ｂ）を組み合わせてなるオレフィン重合用触媒。
化合物（Ａ）：  下記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、あるいはそれらの２種以上の混合物
（Ａ１）：  式 （Ｅ1）a Ａｌ（Ｚ）（３−ａ） で示される有機アルミニウム化合物、
（Ａ２）:  式  ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝b で示される構造を有する環状のアルミノキサン、
（Ａ３）：  式  （Ｅ3） ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝ｃ Ａｌ（Ｅ3）2 で示される構造を有する線状のアルミノキサン
（式中、Ｅ1 〜Ｅ3 は同一または相異なり、炭素原子数１〜８の炭化水素基であり、Ｚは同一または相異なり、水素原子またはハロゲン原子を表し、ａは１、２または３を、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表す。）
化合物（Ｂ）:  下記化合物（Ｂ１）〜（Ｂ３）のいずれか、あるいはそれらの２種以上の混合物
（Ｂ１）：  式  ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で表されるホウ素化合物、
（Ｂ２）：  式  Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）− で表されるホウ素化合物、
（Ｂ３）：  式（Ｌ−Ｈ）+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）− で表されるホウ素化合物
（式中、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、Ｑ1 〜Ｑ4 は同一または相異なり、ハロゲン原子、炭素原子数１〜２０の炭化水素基、炭素原子数１〜２０のハロゲン化炭化水素基、炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されたシリル基、炭素原子数１〜２０のアルコキシ基または炭素原子数１〜２０の炭化水素で２置換されたアミノ基を示す。）
；および
２１．  前記のオレフィン重合用触媒を用いてオレフィンを重合させることを特徴とするオレフィン重合体の製造方法、を提供する。
【発明の効果】
【０００５】
本願発明の配位子を有する遷移金属錯体は、オレフィン用重合触媒の成分として有用であり、当該触媒は良好な重合活性を有し、高分子量のオレフィン重合体の製造に用いることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
以下、本発明について詳細に説明する。
式（１）で示されるホスフィン化合物の置換基について以下説明する。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ17またはＲ18で表されるハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７およびＲ8のハロゲン原子としては、塩素原子が好ましく、Ｒ17およびＲ18のハロゲン原子としてはフッ素原子が好ましい。
【０００７】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、R21、R22、R90またはR91で表される無置換のＣ１−Ｃ10のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基等が例示され、さらに、置換されたＣ１−Ｃ10のアルキル基としては、これらのＣ１−Ｃ10のアルキル基がハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基もしくは炭化水素で置換されたシリル基で置換されたＣ１−Ｃ10のアルキル基が例示され、その具体例としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、トリクロロメチル基、メトキシメチル基、フェノキシメチル基、ジメチルアミノメチル基、トリメチルシリルメチル基などが例示される。
置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基のうち、メチル基、エチル基、イソプロピル基、 ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基等が好ましく、メチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等がさらに好ましい。
【０００８】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20 、R21、R22、R90またはR91で表される無置換のＣ７−Ｃ20のアラルキル基としては、ベンジル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基、ジフェニルメチル基等が例示され、置換されたＣ７−Ｃ20のアラルキル基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基もしくは炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、置換もしくは無置換の炭素原子数７〜20のアラルキル基の具体例としては、例えば、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、
（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、（ｎ−ドデシルフェニル）メチル基、（フルオロフェニル）メチル基、（ジフルオロフェニル）メチル基、（ペンタフルオロフェニル）メチル基、（クロロフェニル）メチル基、（メトキシフェニル）メチル基、（フェノキシフェニル）メチル基、（ジメチルアミノフェニル）メチル基、（トリメチルシリルフェニル）メチル基などが例示される。置換もしくは無置換の炭素原子数７〜２０のアラルキル基は、ベンジル基が好ましい。
【０００９】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20、R21、R22、R90またはR91で表される無置換のＣ６−Ｃ20のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられ、置換されたＣ６−Ｃ20のアリール基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基もしくは炭化水素で置換されたシリル基等で置換されたものが例示され、その具体例としては、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、 ｎ−ペンチルフェニル基、 ネオペンチルフェニル基、 ｎ−ヘキシルフェニル基、 ｎ−オクチルフェニル基、 ｎ−デシルフェニル基、 ｎ−ドデシルフェニル基、 ｎ−テトラデシルフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基、４−ジメチルアミノフェニル基、４−トリメチルシリルフェニル基などが例示される。置換もしくは無置換のＣ６−Ｃ20のアリール基の好ましいものとしては、フェニル基が挙げられる。
R12とR13とが互いに結合して形成する環構造としては、Ｃ４−Ｃ６の環状アルキレン基（例えば、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基などが例示される。R19とR20とが互いに結合して形成する環構造あるいはR90とR91とが形成する環構造としても同様のものが例示される。さらに、R90とR91とが形成する環構造としては、１−ピロリル基等が例示される。
【００１０】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７またはＲ８で表される無置換のＣ１−Ｃ20の炭化水素で置換されたシリル基の炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基などの炭素原子数１〜１０のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントラセニル基などのＣ６−Ｃ20のアリール基等が挙げられる。かかるＣ１−Ｃ20の炭化水素で置換されたシリル基としては、例えば、メチルシリル基、エチルシリル基、フェニルシリル基などの１置換シリル基、ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基などの２置換シリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリ−イソプロピルシリル基、トリ−ｎ−ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリ−ｎ−ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などの３置換シリル基等が挙げられ、置換もしくは無置換のＣ１−２０の炭化水素で置換されたシリル基の好ましいものとしてはトリメチルシリル基、 ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル基、トリフェニルシリル基等が挙げられる。置換されたＣ１−Ｃ20の炭化水素で置換されたシリル基としては、これらの炭化水素で置換されたシリル基はいずれもがその炭化水素基がハロゲン原子、例えば、フッ素原子で置換されたものも例示される。
【００１１】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７またはＲ８で表される無置換のＣ１−Ｃ10のアルコキシル基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基が例示される。置換された７のアルコキシル基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換されたＣ１−Ｃ10のアルコキシル基が例示される。
置換されたアルコキシル基の具体例としては、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、フルオロエトキシ基、ジフルオロエトキシ基、トリフルオロエトキシ基、テトラフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロプロポキシ基、パーフルオロブチルオキシ基、パーフルオロペンチルオキシ基、パーフルオロヘキシルオキシ基、パーフルオロオクチルオキシ基、パーフルオロデシルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、メトキシメトキシ基、フェノキシメトキシ基、ジメチルアミノメトキシ基、トリメチルシリルメトキシ基などが例示される。置換もしくは無置換のＣ１−Ｃ10のアルコキシ基の好ましいものとしては、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等が挙げられる。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７またはＲ８で表される無置換のＣ７−Ｃ20のアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基、ジフェニルメトキシ基が例示され、
置換されたＣ７−Ｃ20のアラルキルオキシ基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、その具体例としては、（２−メチルフェニル）メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４−メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ペンチルフェニル）メトキシ基、（ネオペンチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ドデシルフェニル）メトキシ基、（フルオロフェニル）メチル基、（ジフルオロフェニル）メチル基、（ペンタフルオロフェニル）メチル基、（クロロフェニル）メチル基、（メトキシフェニル）メチル基、（フェノキシフェニル）メチル基、（ジメチルアミノフェニル）メチル基、（トリメチルシリルフェニル）メチル基などが例示される。置換もしくは無置換のＣ７−Ｃ20のアラルキルオキシ基の好ましいものとしてはベンジルオキシ基等が例示される。
【００１２】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７またはＲ８で表される置換もしくは無置換のＣ６−Ｃ20のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基が挙げられる。
置換されたＣ６−Ｃ20のアリールオキシ基としては、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基もしくは炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、その具体例としては、
２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、２−フルオロフェノキシ基、３−フルオロフェノキシ基、４−フルオロフェノキシ基、３，５−ジフルオロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、２−メトキシフェノキシ基、３−メトキシフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−フェノキシフェノキシ基、４−ジメチルアミノフェノキシ基、４−トリメチルシリルフェノキシ基などが例示される。置換もしくは無置換のＣ７−Ｃ20のアリールオキシ基の好ましいものとしては、フェノキシ基等が例示される。
【００１３】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ６、Ｒ７またはＲ８で表される無置換のＣ１−２０の炭化水素で２置換されたアミノ基としては、２つの炭化水素基で置換されたアミノ基であって、ここでの炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基などのＣ１−Ｃ10のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントラセニル基などのＣ６−Ｃ20のアリール基等が挙げられる。かかるＣ１−２０の炭化水素で置換されたアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、 ｔｅｒｔ −ブチルイソプロピルアミノ基、 ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基等が挙げられ、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等が挙げられる。
Ｇ1で示される保護基としては、フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基、置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基および置換もしくは無置換のＣ７−Ｃ20アラルキル基が例示される。
フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基としては、イソプロピル基、tert−ブチル基、sec-ブチル基等が例示される。
【００１４】
置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基としては、メトキシメチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシメチル基、トリメチルシリルエトキシメチル基または１−エトキシエチル基が例示される。
置換もしくは無置換のＣ７−Ｃ20のアラルキル基としては、前記したものと同様のものが例示される。好ましい保護基としてはG11で示される、前記のようなフェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基、置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基が挙げられ、さらに好ましくは、置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基であるメトキシメチル基、エトキシエチル基、メトキシエトキシメチル基、トリメチルシリルエトキシメチル基または１−エトキシエチル基が挙げられる。
Ｇ2のＧ21，Ｇ22、Ｇ23、Ｇ２３’およびＧ26において、Ａ1で表される周期律表第第１５族の元素は、好ましくは窒素原子であり、Ｇ24およびＧ２４’においてＡ2で表される元素の周期律表の第１６族の元素は、好ましくは酸素原子である。
【００１５】
式（１）においてＧ1が水素原子を表す化合物としては、式（２１Ａ）、（２２Ａ）、（２３A）,（２４Ａ）、（２５Ａ）および（２６A）の化合物が例示される。また、Ｇ1が水素以外の基であるＧ11を表す下記式（21Ｂ），（22Ｂ），（23Ｂ），（24Ｂ）、（２５Ｂ）および（２６B）の化合物が例示される。
式（２１Ａ）の化合物は、式（２１B）の化合物と式（２１F）で示される有機化合物を反応させることにより製造することができる。
式（２１Ａ）の化合物は、また、G11が、フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基である式（２１Ｂ）の化合物を酸と反応させることによって製造することができる。以下、G11が、フェノールの酸素原子と結合した２級もしくは３級炭素を有するアルキル基および置換もしくは無置換アルコキシ基で置換されたＣ1-2アルキル基から選ばれる水酸基の保護基である式（２１Ｂ）および式（２１Ａ）の化合物を例に挙げその製造方法について説明する。なお、式（２２Ａ）、（２３Ａ），（２４Ａ）もしくは（２５Ａ）の化合物もそれぞれ対応する式（２２Ｂ），（２３Ｂ）、（２４Ｂ）もしくは（２５Ｂ）の化合物を酸と反応させることにより、同様の方法で製造することができる。
この反応における酸としては、ブレンステッド酸（例えば無機酸）が例示され、詳しくは塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素などのハロゲン化水素、硫酸などが例示される。好ましくは塩化水素が挙げられる。式（22A）から（2５A）の化合物は酸での脱保護により、ホスフィン、アミン、イミンのブレンステッド酸塩（例えば、無機酸塩あるいはハロゲン化水素酸塩）として得られることもある。
上記反応で用いられる酸は、例えば、塩化水素の場合、塩化水素ガスを用いてもよいし、酸クロライドとアルコールから系中で塩化水素を発生させてもよい。
【００１６】
上記反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチルなどの極性溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（２１Ｂ）で示されるホスフィン化合物に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。
上記反応の温度は通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０〜１００℃程度の範囲である。
得られた反応混合物から通常の方法、例えば溶媒を留去するなどの手法により、式（２２Ａ）で示されるホスフィン化合物を取得することができる。
【００１７】
式（２１Ａ）で示されるホスフィン化合物の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
【００１８】
2005225861.tif 000036
【００１９】
2005225861.tif 000037
【００２０】
2005225861.tif 000038
【００２１】
2005225861.tif 000039
【００２２】
2005225861.tif 000040
【００２３】
2005225861.tif 000041
【００２４】
2005225861.tif 000042
【００２５】
2005225861.tif 000043
【００２６】
2005225861.tif 000044
【００２７】
2005225861.tif 000045
【００２８】
2005225861.tif 000046
【００２９】
2005225861.tif 000047
【００３０】
2005225861.tif 000048
【００３１】
式（２１B）で示されるホスフィン化合物の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
2005225861.tif 000049
【００３２】
2005225861.tif 000050
【００３３】
2005225861.tif 000051
【００３４】
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【００３５】
2005225861.tif 000053
【００３６】
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【００３７】
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【００３８】
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【００３９】
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【００４０】
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【００４１】
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【００４２】
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【００４３】
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【００４４】
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【００４５】
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【００４６】
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【００４７】
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【００４８】
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【００４９】
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【００５０】
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【００５１】
式（１）において、Ｇ2がＧ21の構造を有する式（２１Ａ）の化合物は、前記式（２１Ｃ）で示されるホスフィンカルボニル化合物と式（２１Ｆ）で示される有機化合物を反応させることによって製造することができる。
式（２１Ｃ）で示されるホスフィンカルボニル化合物、式（２１Ｆ）で示される有機化合物の反応モル比は特に限定されないが、１：０．１から１：１０の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：０．５から１：５の範囲である。
上記反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチルなどの極性溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのプロトン性溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（７）で示されるカルボニル化合物１重量部に対して通常１〜２００重量部、好ましくは３〜５０重量部の範囲である。
上記反応温度は通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０〜１００℃程度の範囲である。得られた反応混合物から通常の方法、例えば溶媒を留去するなどの手法により、式（２１Ｃ）（ただし、式中Ｇ1が水素原子を表す。）で示されるホスフィン化合物を取得することができる。上記式（21Ｃ）で示されるホスフィンカルボニル化合物の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
【００５２】
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【００５３】
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【００５４】
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【００５５】
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【００５６】
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【００５７】
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【００５８】
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【００５９】
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【００６０】
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【００６１】
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【００６２】
式（21Ｆ）で示される有機化合物の具体例は、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミン、ｔｅｒｔ−ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、アニリン、２−メチルアニリン、４−メチルアニリン、２，６−ジメチルアニリン、２，６−ジイソプロピルアニリン、ペンタフルオロアニリン、アミノピペリジン、アミノピロールなどが挙げられる。式（２１Ｃ）で示されるカルボニル化合物の具体例としては、さらに以下に示す化合物が挙げられる。
【００６３】
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【００６４】
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【００６５】
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【００６６】
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【００６７】
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【００６８】
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【００６９】
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【００７０】
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【００７１】
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【００７２】
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【００７３】
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【００７４】
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【００７５】
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【００７６】
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【００７７】
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【００７８】
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【００７９】
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【００８０】
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【００８１】
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【００８２】
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【００８３】
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【００８４】
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【００８５】
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【００８６】
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【００８７】
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【００８８】
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【００８９】
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【００９０】
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【００９１】
2005225861.tif 000107
またかかる式（２１Ｃ）で示されるホスフィン化合物は、以下に示すルートにより合成できる。
【００９２】
2005225861.tif 000108
（スキーム中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ21およびＧ11は、前記と同じ意味を表し、Ｒ93は、置換もしくは無置換のアルキルまたはアラルキル基を表すかあるいは互いに結合して環状アルキレン基等を表す。）
【００９３】
式（１）においてＧ1がＧ22の構造を有する式（２２Ａ）の化合物においてA1=Pの化合物は、前記のように式（２２B）においてA1=Pの化合物をA1=Nの化合物と同様に脱保護することにより製造することができる。式（２２B）においてA1=Pの化合物は、式（２２E）においてA1=Pの化合物からA１＝Nの場合と同様に合成できる。式（２２E）において、A1=Pの化合物は、その前駆体となるホスフィン置換されたハロゲン化アリールは文献公知法（例えばJournal of Praktische Chemie(Leipzig), 330巻, 674頁, 1988年）、例えば、1-(α-クロロメチル)-2-ブロモベンゼンにモノ置換ホスフィンを塩基の存在下に反応させる方法により合成できる。
式（１）においてＧ1がＧ22の構造を有する式（２２Ａ）の化合物としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
【００９４】
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【００９５】
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【００９６】
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【００９７】
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【００９８】
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【００９９】
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【０１００】
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【０１０１】
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【０１０２】
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【０１０３】
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【０１０４】
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【０１０５】
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【０１０６】
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【０１０７】
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【０１０８】
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【０１０９】
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【０１１０】
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【０１１１】
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【０１１２】
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【０１１３】
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【０１１４】
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【０１１５】
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【０１１６】
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【０１１７】
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【０１１８】
2005225861.tif 000133
【０１１９】
2005225861.tif 000134
【０１２０】
式（２２Ｂ）で示されるホスフィン化合物もしくは式（１）においてG2がG22である化合物の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
2005225861.tif 000135
【０１２１】
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【０１２２】
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【０１２３】
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【０１２４】
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【０１２５】
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【０１２６】
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【０１２７】
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【０１２８】
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【０１２９】
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【０１３０】
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【０１３１】
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【０１３２】
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【０１３３】
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【０１３４】
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【０１３５】
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【０１３６】
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【０１３７】
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【０１３８】
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【０１３９】
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【０１４０】
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【０１４１】
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【０１４２】
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【０１４３】
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【０１４４】
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【０１４５】
2005225861.tif 000160
【０１４６】
式（２２Ｂ）で示されるホスフィン化合物は、式（２２Ｃ）で示されるホスフィンジハライドと式（２２Ｄ）で示される金属アリールとを反応させることにより製造することができる。
式（２２Ｂ）で示されるホスフィンジハライドと式（２２Ｃ）で示される金属アリールの反応モル比は、特に限定されないが、１：２から１：５の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：２から１：２．５の範囲である。
式（２２Ｃ）におけるＸ2のハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは塩素原子が挙げられる。
式（２２Ｄ）で示されるＤにおけるアルカリ金属、アルカリ土類金属の具体例としては、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、マグネシウム原子、カルシウム原子等が挙げられ、好ましくはリチウム原子、マグネシウム原子が挙げられる。
反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（２２Ｄ）で示される金属アリール１重量部に対して通常１〜２００重量部、好ましくは３〜５０重量部の範囲である。
本反応は通常、式（２２Ｄ）で示される金属アリールに式（２２Ｃ）で示されるホスフィンジハライドを加えることによって行うことができる。反応温度は、通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは、−８０℃〜１００℃の範囲である。
得られた反応混合物から通常の方法、例えば不溶物を濾過することで除去し、溶媒を留去するなどの方法により、式（２２Ｂ）で示されるホスフィン化合物を得ることができる。また必要に応じてシリカゲルカラムクロマトグラフィーなどの方法により精製される。
【０１４７】
式（２２Ｃ）で示されるホスフィンジハライドは、式：  Ｐ（Ｘ2）３
（Ｘ2はハロゲン原子を示す。）
で示される三ハロゲン化リンと金属アリール化合物との反応により製造される。
例えば、式（２２Ｅ）で示される金属アリール化合物と三ハロゲン化リンとを反応させることにより製造することができる。
式（２２Ｅ）で示される金属アリール化合物と三ハロゲン化リンの反応モル比は、特に限定されないが、１：１から１：５の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：１から１：２．５の範囲である。
反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（２２Ｅ）で示される金属アリール化合物に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。
本反応は通常、式（２２Ｅ）で示される金属アリール化合物に三ハロゲン化リンを加えることによって行うことができる。反応温度は、通常−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０℃〜１００℃の範囲である。
得られた反応混合物から通常の方法、例えば不溶物を濾過することで除去し、溶媒を留去するなどの方法により、式（２２Ｃ）で示されるホスフィンジハライドを得ることができる。また必要により蒸留などの方法により精製することができる。
【０１４８】
式（２２Ｄ）で示される金属アリールは、式（２２Ｆ）：
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（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＧ11はそれぞれ前記と同じ意味を表し、Ｘは、水素原子またはハロゲン原子を示す。）
で示される有機化合物と、例えば、Ｘが水素の場合は、リチウム化剤と、Ｘがハロゲン原子の場合はリチウム化剤もしくはマグネシウム金属等を反応させることにより製造することができる。式（２２Ｆ）で示される有機化合物とリチウム化剤、マグネシウム金属等の反応モル比は、特に限定されないが、１：１から１：５の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：１から１：２．５の範囲である。かかるリチウム化剤としては、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、フェニルリチウムなどが挙げられ、好ましくはｎ−ブチルリチウムが挙げられる。
反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（２２Ｆ）で示される有機化合物に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。
本反応は通常、式（２２Ｆ）で示される有機化合物に例えばリチウム化剤を加えることによって行うことができる。反応温度は、通常−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０℃〜１００℃の範囲である。
【０１４９】
式（２２Ｃ）で示されるホスフィンジハライドの具体例として、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
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【０１５０】
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【０１５１】
2005225861.tif 000164
【０１５２】
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【０１５３】
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などが挙げられ、塩素原子を臭素原子、ヨウ素原子に置換した化合物も挙げられる。
式（２２Ｄ）で示される金属アリールの具体例として、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
2005225861.tif 000167
【０１５４】
2005225861.tif 000168
【０１５５】
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【０１５６】
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【０１５７】
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【０１５８】
式（２２Ｅ）で示される金属アリール化合物の具体例として、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
2005225861.tif 000172
【０１５９】
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【０１６０】
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【０１６１】
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【０１６２】
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【０１６３】
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【０１６４】
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【０１６５】
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【０１６６】
式（２２E）で示される化合物の原料としては具体的には、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
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【０１６７】
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【０１６８】
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【０１６９】
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【０１７０】
式（２２A）の化合物においてA1＝Pの化合物は、式（23B）においてA1＝Pの化合物を、A1＝Nと同様に脱保護して合成できる。式（23B）においてA1＝Pの化合物は、式（22E）においてA1＝Pを出発原料として、合成できる。この反応においては、必要に応じ、カップリングの際のアルカリ金属試薬の料を適宜調整して過剰量用いてもよい。
式（22E）においてA1＝Pの化合物の前駆体となるホスフィン置換されたハロゲン化アリールは文献公知法（例えばZeitschrift fuer Anorganische und Allegemeine Chemie, 494巻, 55, 1982年）、例えば、1-(α-ブロモメチル)-2-ブロモベンゼンをアルカリ金属により活性化させ、これにクロロホスフィン化合物を反応させる方法により合成できる。以下、式（１）においてＧ1がＧ23の構造を有する式（23Ａ）の化合物のいくつかを例示する。
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【０１７１】
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【０１７２】
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【０１７３】
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【０１７４】
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【０１７５】
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【０１７６】
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【０１７７】
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【０１７８】
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【０１７９】
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【０１８０】
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【０１８１】
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【０１８２】
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【０１８３】
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【０１８４】
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【０１８５】
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【０１８６】
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【０１８７】
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【０１８８】
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【０１８９】
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【０１９０】
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【０１９１】
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【０１９２】
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【０１９３】
2005225861.tif 000207
式（２３Ａ）で示される化合物ハロゲン化水素酸塩の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
【０１９４】
2005225861.tif 000208
【０１９５】
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【０１９６】
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【０１９７】
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【０１９８】
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【０１９９】
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【０２００】
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【０２０１】
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【０２０２】
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【０２０３】
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【０２０４】
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【０２０５】
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【０２０６】
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【０２０７】
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【０２０８】
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【０２０９】
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【０２１０】
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【０２１１】
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【０２１２】
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【０２１３】
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【０２１４】
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【０２１５】
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【０２１６】
式（２３Ｂ）で示されるホスフィン化合物もしくは式（１）においてG2がG23である化合物の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
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【０２１７】
2005225861.tif 000231
【０２１８】
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【０２１９】
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【０２２０】
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【０２２１】
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【０２２２】
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【０２２３】
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【０２２４】
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【０２２５】
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【０２２６】
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【０２２７】
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【０２２８】
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【０２２９】
2005225861.tif 000243
【０２３０】
2005225861.tif 000244
【０２３１】
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【０２３２】
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【０２３３】
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【０２３４】
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【０２３５】
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【０２３６】
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【０２３７】
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【０２３８】
2005225861.tif 000252
【０２３９】
2005225861.tif 000253
【０２４０】
式（２３Ｂ）で示されるホスフィン化合物（ただしA1が窒素原子を表す。）は、式（２３Ｃ）で示される化合物を還元することにより製造することができる。かかる還元反応とは、水素化ホウ素ナトリウム、リチウムアルミニウムハイドライドなどの金属水素化物による還元、水素などによる還元などにより行うことができる。
前記式（２３Ｃ）で示される化合物と金属水素化物または水素との反応モル比は、特に限定されないが、１：０．１から１：１０の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：０．５から１：５の範囲である。
反応は通常、有機溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒などの非プロトン性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールなどのプロトン系溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（２３Ｃ）で示されるトリアリール化合物に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。
上記反応は例えば、前記式（２３Ｃ）で示される化合物に金属水素化物または水素を加えることによって行うことができる。反応温度は、通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは、−８０℃〜１００℃の範囲である。
得られた反応混合物から通常の方法、例えば溶媒を留去するなどの手法により、式（２３Ｂ）で示されるホスフィン化合物を取得することができる。また必要に応じて、シリカゲルクロマトグラフィーなどの方法により精製できる。
【０２４１】
前記式（２３Ｃ）で示される化合物としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
2005225861.tif 000254
【０２４２】
2005225861.tif 000255
【０２４３】
2005225861.tif 000256
【０２４４】
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【０２４５】
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【０２４６】
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【０２４７】
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【０２４８】
2005225861.tif 000261
【０２４９】
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【０２５０】
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【０２５１】
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【０２５２】
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【０２５３】
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【０２５４】
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【０２５５】
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【０２５６】
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【０２５７】
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【０２５８】
2005225861.tif 000271
式（１）においてＧ2がＧ24である式（２４Ａ）の化合物としては、下記のものが例示される。
2005225861.tif 000272
【０２５９】
2005225861.tif 000273
【０２６０】
2005225861.tif 000274
【０２６１】
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【０２６２】
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【０２６３】
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【０２６４】
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【０２６５】
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【０２６６】
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【０２６７】
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【０２６８】
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【０２６９】
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【０２７０】
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【０２７１】
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【０２７２】
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【０２７３】
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【０２７４】
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【０２７５】
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【０２７６】
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【０２７７】
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【０２７８】
2005225861.tif 000292
【０２７９】
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【０２８０】
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【０２８１】
2005225861.tif 000295
【０２８２】
2005225861.tif 000296
【０２８３】
2005225861.tif 000297
【０２８４】
式（２４Ｂ）で示されるホスフィン化合物もしくは式（１）においてG2がG24である化合物としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
2005225861.tif 000298
【０２８５】
2005225861.tif 000299
【０２８６】
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【０２８７】
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【０２８８】
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【０２８９】
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【０２９０】
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【０２９１】
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【０２９２】
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【０２９３】
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【０２９４】
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【０２９５】
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【０２９６】
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【０２９７】
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【０２９８】
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【０２９９】
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【０３００】
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【０３０１】
2005225861.tif 000315
【０３０２】
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【０３０３】
2005225861.tif 000317
【０３０４】
式（2４Ｂ）で示されるホスフィン化合物は、式（２４Ｃ）で示されるホスフィン化合物と金属水素化物または式（２４Ｄ）Ｒ16−Ｙ
（式中、Ｒ１6およびＹは前記のとおり。）で示される有機金属を反応させることにより製造することができる。
式（２４Ｃ）で示されるホスフィン化合物、金属水素化物または式（２４Ｄ）で示される有機金属の反応モル比は特に限定されないが、１：０．１から１：１０の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：０．５から１：５の範囲である。
上記反応における金属水素化物とは、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素亜鉛、シアノ水素化ホウ素ナトリウム、トリエチル水素化ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウムリチウム、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、トリ（ｔｅｒｔ−ブトキシ）水素化アルミニウムリチウムなどが挙げられる。
また、式（２４Ｄ）で示される有機金属とは例えばメチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムトリメチルシリルアセチリド、リチウムアセチリド、トリメチルシリルメチルリチウム、ビニルリチウム、フェニルリチウム、アリルリチウムなどの有機リチウム化合物といった有機アルカリ金属化合物；メチルブロモマグネシウム、エチルブロモマグネシウム、フェニルブロモマグネシウム、トリルブロモマグネシウム、ベンジルブロモマグネシウムなどの有機マグネシウムハライドといった有機アルカリ土類金属ハライドなどが挙げられる。
上記反応は通常、有機溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどの極性溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノールなどのプロトン性溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（２４Ｃ）で示されるホスフィン化合物に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。
上記反応の温度は通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０〜１００℃程度の範囲である。
反応後、得られた反応混合物から通常の方法、例えば溶媒を留去するなどの手法により、式（２４Ｂ）で示されるホスフィン化合物を取得することができる。また必要に応じてシリカゲルカラムクロマトグラフィーなどにより精製することもできる。
式（２４Ｃ）で示される化合物としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
【０３０５】
2005225861.tif 000318
【０３０６】
2005225861.tif 000319
【０３０７】
2005225861.tif 000320
【０３０８】
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【０３０９】
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【０３１０】
2005225861.tif 000323
【０３１１】
2005225861.tif 000324
【０３１２】
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【０３１３】
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【０３１４】
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【０３１５】
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【０３１６】
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【０３１７】
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【０３１８】
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【０３１９】
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【０３２０】
2005225861.tif 000333
【０３２１】
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【０３２２】
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【０３２３】
2005225861.tif 000336
【０３２４】
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【０３２５】
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【０３２６】
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【０３２７】
2005225861.tif 000340
【０３２８】
2005225861.tif 000341
【０３２９】
2005225861.tif 000342
【０３３０】
2005225861.tif 000343
【０３３１】
2005225861.tif 000344
【０３３２】
2005225861.tif 000345
【０３３３】
2005225861.tif 000346
【０３３４】
式（１）においてＧ2がＧ25の構造を有する化合物である式（2５Ａ）の化合物としては、下記の化合物が例示される。
【０３３５】
2005225861.tif 000347
【０３３６】
2005225861.tif 000348
【０３３７】
2005225861.tif 000349
【０３３８】
2005225861.tif 000350
【０３３９】
2005225861.tif 000351
【０３４０】
2005225861.tif 000352
【０３４１】
2005225861.tif 000353
【０３４２】
2005225861.tif 000354
【０３４３】
2005225861.tif 000355
【０３４４】
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【０３４５】
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【０３４６】
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【０３４７】
2005225861.tif 000359
【０３４８】
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【０３４９】
式（１）においてG2がG25である化合物および式（２５Ｂ）で示されるホスフィン化合物の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
2005225861.tif 000361
【０３５０】
2005225861.tif 000362
【０３５１】
2005225861.tif 000363
【０３５２】
2005225861.tif 000364
【０３５３】
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【０３５４】
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【０３５５】
2005225861.tif 000367
【０３５６】
2005225861.tif 000368
【０３５７】
2005225861.tif 000369
【０３５８】
2005225861.tif 000370
【０３５９】
2005225861.tif 000371
【０３６０】
2005225861.tif 000372
【０３６１】
2005225861.tif 000373
【０３６２】
2005225861.tif 000374
【０３６３】
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【０３６４】
2005225861.tif 000376
【０３６５】
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【０３６６】
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【０３６７】
2005225861.tif 000379
【０３６８】
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【０３６９】
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【０３７０】
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【０３７１】
上記式（25Ｂ）で示されるホスフィン化合物は、式（２５Ｃ）で示されるホスフィンハライドと式（２５Ｄ）で示される金属アリールとを反応させることにより製造することができる。式（２５Ｃ）で示されるホスフィンハライドと式（２５Ｄ）で示される金属アリールの反応モル比は特に限定されないが、１：０．１から１：１０の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：０．５から１：５の範囲である。
式（２５Ｃ）または（２５Ｄ）で示される化合物においてＸ2で表されるハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは塩素原子が挙げられる。
式（２５Ｄ）で示される金属アリールにおけるＤで表されるのアルカリ金属の具体例としては、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子が例示され、これらのうちリチウム原子が好ましい、Ｊで表されるアルカリ土類金属の具体例としては、マグネシウム原子、カルシウム原子等が挙げられ、マグネシウム原子が好ましい。
上記反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチルなどの極性溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのプロトン性溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（６）で示される金属アリールに対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。
上記反応温度は通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０〜１００℃の範囲である。
得られた反応混合物から通常の方法、例えば溶媒を留去するなどの手法により、式（３）で示されるホスフィン化合物を取得することができる。また必要に応じて再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの方法により精製することができる。
または、かかる式（２５Ｂ）で示されるホスフィン化合物は、式（25Ｅ）で示されるホスフィンジハライドと式（２５Ｆ）で示される金属アリール化合物とを反応させることにより製造することができる。
式（２５Ｅ）で示されるホスフィンジハライドと式（２５Ｆ）で示される金属アリール化合物の反応モル比は特に限定されないが、１：０．１から１：１０の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：１．５から１：５の範囲である。
式（２５Ｅ）または（２５Ｆ）で示される化合物において、Ｘ2で表されるハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは塩素原子が挙げられる。
上記反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸エチルなどの極性溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールなどのプロトン性溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（２５Ｆ）で示される金属アリール化合物に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。
上記反応温度は通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０〜１００℃の範囲である。
得られた反応混合物から通常の方法、例えば溶媒を留去するなどの手法により、式（２５Ｅ）で示されるホスフィン化合物を取得することができる。また必要に応じてカラムクロマトグラフィーなどの方法により精製することができる。
【０３７２】
上記式（２５Ｄ）で示される金属アリールは、式（２５Ｇ）：
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（式中、Ｒ5，Ｒ6、Ｒ7，Ｒ8，Ｒ17、Ｒ１８、Ｘおよびｍは前記のとおり。）で示される含フッ素化合物と例えば、リチウム化剤、マグネシウム金属等を反応させることにより製造することができる。
式（２５Ｇ）で示される含フッ素化合物とリチウム化剤、マグネシウム金属等の反応モル比は、特に限定されないが、１：０．１から１：５の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：０．５から１：２．５の範囲である。
かかるリチウム化剤としては、メチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、フェニルリチウムなどが挙げられ、好ましくはｎ−ブチルリチウムが挙げられる。
式（２５Ｇ）で示される含フッ素化合物においてＸがハロゲン原子である場合の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは塩素原子が挙げられる。
反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（２５Ｇ）で示される含フッ素化合物に対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。
本反応は例えば、式（２５Ｇ）で示される含フッ素化合物に例えば、リチウム化剤、マグネシウム金属等を加えることによって行うことができる。反応温度は、通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−１００℃〜１００℃の範囲である。
【０３７３】
上記式（２５Ｅ）で示されるホスフィンジハライドは、式
Ｐ（Ｘ2）３
（Ｘ2はハロゲン原子を示す。）
で示されるホスフィントリハライドと式（２５Ｄ）で示される金属アリールとの反応により製造される。ホスフィントリハライドと式（２５Ｄ）で示される金属アリールの反応モル比は、特に限定されないが、１：０．１から１：５の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：０．５から１：２の範囲である。
反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（２５Ｄ）で示される金属アリールに対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。
本反応は例えば、式（２５Ｄ）で示される金属アリールにホスフィントリハライドを加えることによって行うことができる。反応温度は、通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０℃〜１００℃の範囲である。
得られた反応混合物から通常の方法、例えば不溶物を濾過することで除去し、溶媒を留去するなどの方法により、式（２５Ｅ）で示されるホスフィンジハライドを得ることができる。また必要により蒸留などの方法により精製することができる。
式（25Ｆ）で示される金属アリールとしては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
【０３７４】
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【０３７５】
2005225861.tif 000385
【０３７６】
2005225861.tif 000386
【０３７７】
2005225861.tif 000387
【０３７８】
式（２５Ｅ）で示されるホスフィンジハライドとしては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
２−フルオロフェニルジクロロホスフィン、２，６−ジフルオロフェニルジクロロホスフィン、２，４，６−トリフルオロフェニルジクロロホスフィン、ペンタフルオロフルオロフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−６−メチルフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−４，６−ジメチルフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−４，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−５−フェニルフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−４−フェニルフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−６−フェニルフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−５−ベンジルフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−４−ベンジルフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−６−ベンジルフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−５−フェノキシフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−４−フェノキシフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−６−フェノキシフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−５−メトキシフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−４−メトキシフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−６−メトキシフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−５−トリメチルシリルフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−４−トリメチルシリルフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−６−トリメチルシリルフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−５−ジメチルアミノフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−４−ジメチルアミノフェニルジクロロホスフィン、２−フルオロ−６−ジメチルアミノフェニルジクロロホスフィン、
２−フルオロフェニルジブロモホスフィン、２，６−ジフルオロフェニルジブロモホスフィン、２，４，６−トリフルオロフェニルジブロモホスフィン、ペンタフルオロフルオロフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−６−メチルフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−４，６−ジメチルフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−４，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−５−フェニルフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−４−フェニルフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−６−フェニルフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−５−ベンジルフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−４−ベンジルフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−６−ベンジルフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−５−フェノキシフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−４−フェノキシフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−６−フェノキシフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−５−メトキシフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−４−メトキシフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−６−メトキシフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−５−トリメチルシリルフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−４−トリメチルシリルフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−６−トリメチルシリルフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−５−ジメチルアミノフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−４−ジメチルアミノフェニルジブロモホスフィン、２−フルオロ−６−ジメチルアミノフェニルジブロモホスフィン、
２−トリフルオロメチルフェニルジクロロホスフィン、２，６−ビストリフルオロメチルフェニルジクロロホスフィン、２，４，６−トリストリフルオロメチルフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−６−メチルフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−４，６−ジメチルフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−４，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−５−フェニルフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−４−フェニルフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−６−フェニルフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−５−ベンジルフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−４−ベンジルフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−６−ベンジルフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−５−フェノキシフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−４−フェノキシフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−６−フェノキシフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−５−メトキシフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−４−メトキシフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−６−メトキシフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−５−トリメチルシリルフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−４−トリメチルシリルフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−６−トリメチルシリルフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−５−ジメチルアミノフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−４−ジメチルアミノフェニルジクロロホスフィン、２−トリフルオロメチル−６−ジメチルアミノフェニルジクロロホスフィン、
２−トリフルオロメチルフェニルジブロモホスフィン、２，６−ビストリフルオロメチルジブロモホスフィン、２，４，６−トリストリフルオロメチルフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−６−メチルフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−４，６−ジメチルフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−４，６−ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）フェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジブロモホスフィン、２−フトリフルオロメチル−５−フェニルフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−４−フェニルフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−６−フェニルフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−５−ベンジルフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−４−ベンジルフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−６−ベンジルフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−５−フェノキシフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−４−フェノキシフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−６−フェノキシフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−５−メトキシフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−４−メトキシフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−６−メトキシフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−５−トリメチルシリルフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−４−トリメチルシリルフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−６−トリメチルシリルフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−５−ジメチルアミノフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−４−ジメチルアミノフェニルジブロモホスフィン、２−トリフルオロメチル−６−ジメチルアミノフェニルジブロモホスフィン。
【０３７９】
式（２５Ｇ）で示される含フッ素化合物としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
２−フルオロブロモベンゼン、２，６−ジフルオロブロモベンゼン、２，４−ジフルオロブロモベンゼン、２，３−ジフルオロブロモベンゼン、２，４，６−トリフルオロブロモベンゼン、２，４，５−トリフルオロブロモベンゼン、２，３，５，６−ペンタフルオロブロモベンゼン、テトラフルオロブロモベンゼン、２−フルオロ−５−メチルブロモベンゼン、２−フルオロ−４−メチルブロモベンゼン、２−フルオロ−４，６−ジメチルブロモベンゼン、２−フルオロ−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルブロモベンゼン、２−フルオロ−４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルブロモベンゼン、２−フルオロ−６−メチル−４−ｔｅｒｔ−ブチルブロモベンゼン、２−フルオロ−５−フェニルブロモベンゼン、２−フルオロ−４−フェニルブロモベンゼン、２−フルオロ−４，６−ジフェニルブロモベンゼン、２−フルオロ−５−ベンジルブロモベンゼン、２−フルオロ−４−ベンジルブロモベンゼン、２−フルオロ−４，６−ジベンジルブロモベンゼン、２−フルオロ−５−メトキシブロモベンゼン、２−フルオロ−４−メトキシブロモベンゼン、２−フルオロ−４，６−ジメトキシブロモベンゼン、２−フルオロ−５−アミノブロモベンゼン、２−フルオロ−４−アミノブロモベンゼン、２−フルオロ−４，６−ジアミノブロモベンゼン、２−フルオロ−５−（ジメチルアミノ）ブロモベンゼン、２−フルオロ−４−（ジメチルアミノ）ブロモベンゼン、２−フルオロ−４，６−ビス（ジメチルアミノ）ブロモベンゼン、２−フルオロ−５−（トリメチルシリル）ブロモベンゼン、２−フルオロ−４−（トリメチルシリル）ブロモベンゼン、２−フルオロ−４，６−ビス（トリメチルシリル）ブロモベンゼン、
２−トリフルオロメチルブロモベンゼン、２，６−ビス（トリフルオロメチル）ブロモベンゼン、２，４−ビス（トリフルオロメチル）ブロモベンゼン、２，３−ビス（トリフルオロメチル）ブロモベンゼン、２，４，６−トリス（トリフルオロメチル）ブロモベンゼン、２，４，５−トリス（トリフルオロメチル）ブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−５−メチルブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−４−メチルブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−４，６−ジメチルブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−６−メチル−４−ｔｅｒｔ−ブチルブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−５−フェニルブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−４−フェニルブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−４，６−ジフェニルブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−５−ベンジルブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−４−ベンジルブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−４，６−ジベンジルブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−５−メトキシブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−４−メトキシブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−４，６−ジメトキシブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−５−アミノブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−４−アミノブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−４，６−ジアミノブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−５−（ジメチルアミノ）ブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−４−（ジメチルアミノ）ブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−４，６−ビス（ジメチルアミノ）ブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−５−（トリメチルシリル）ブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−４−（トリメチルシリル）ブロモベンゼン、２−トリフルオロメチル−４，６−ビス（トリメチルシリル）ブロモベンゼン、
２−フルオロクロロベンゼン、２，６−ジフルオロクロロベンゼン、２，４−ジフルオロクロロベンゼン、２，３−ジフルオロクロロベンゼン、２，４，６−トリフルオロクロロベンゼン、２，４，５−トリフルオロクロロベンゼン、２，３，５，６−ペンタフルオロクロロベンゼン、テトラフルオロクロロベンゼン、２−フルオロ−５−メチルクロロベンゼン、２−フルオロ−４−メチルクロロベンゼン、２−フルオロ−４，６−ジメチルクロロベンゼン、２−フルオロ−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルクロロベンゼン、２−フルオロ−４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルクロロベンゼン、２−フルオロ−６−メチル−４−ｔｅｒｔ−ブチルクロロベンゼン、２−フルオロ−５−フェニルクロロベンゼン、２−フルオロ−４−フェニルクロロベンゼン、２−フルオロ−４，６−ジフェニルクロロベンゼン、２−フルオロ−５−ベンジルクロロベンゼン、２−フルオロ−４−ベンジルクロロベンゼン、２−フルオロ−４，６−ジベンジルクロロベンゼン、２−フルオロ−５−メトキシクロロベンゼン、２−フルオロ−４−メトキシクロロベンゼン、２−フルオロ−４，６−ジメトキシクロロベンゼン、２−フルオロ−５−アミノクロロベンゼン、２−フルオロ−４−アミノクロロベンゼン、２−フルオロ−４，６−ジアミノクロロベンゼン、２−フルオロ−５−（ジメチルアミノ）クロロベンゼン、２−フルオロ−４−（ジメチルアミノ）クロロベンゼン、２−フルオロ−４，６−ビス（ジメチルアミノ）クロロベンゼン、２−フルオロ−５−（トリメチルシリル）クロロベンゼン、２−フルオロ−４−（トリメチルシリル）クロロベンゼン、２−フルオロ−４，６−ビス（トリメチルシリル）クロロベンゼン、
２−トリフルオロメチルクロロベンゼン、２，６−ビス（トリフルオロメチル）クロロベンゼン、２，４−ビス（トリフルオロメチル）クロロベンゼン、２，３−ビス（トリフルオロメチル）クロロベンゼン、２，４，６−トリス（トリフルオロメチル）クロロベンゼン、２，４，５−トリス（トリフルオロメチル）クロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−５−メチルクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−４−メチルクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−４，６−ジメチルクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−４−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−６−メチル−４−ｔｅｒｔ−ブチルクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−５−フェニルクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−４−フェニルクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−４，６−ジフェニルクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−５−ベンジルクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−４−ベンジルクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−４，６−ジベンジルクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−５−メトキシクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−４−メトキシクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−４，６−ジメトキシクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−５−アミノクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−４−アミノクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−４，６−ジアミノクロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−５−（ジメチルアミノ）クロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−４−（ジメチルアミノ）クロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−４，６−ビス（ジメチルアミノ）クロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−５−（トリメチルシリル）クロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−４−（トリメチルシリル）クロロベンゼン、２−トリフルオロメチル−４，６−ビス（トリメチルシリル）クロロベンゼン。
【０３８０】
式（１）においてＧ2がＧ26である式（２６Ａ）の化合物としては、下記の化合物が例示される。
2005225861.tif 000388
【０３８１】
2005225861.tif 000389
【０３８２】
2005225861.tif 000390
【０３８３】
2005225861.tif 000391
【０３８４】
2005225861.tif 000392
【０３８５】
2005225861.tif 000393
【０３８６】
2005225861.tif 000394
【０３８７】
2005225861.tif 000395
【０３８８】
2005225861.tif 000396
【０３８９】
2005225861.tif 000397
【０３９０】
2005225861.tif 000398
【０３９１】
2005225861.tif 000399
【０３９２】
2005225861.tif 000400
【０３９３】
2005225861.tif 000401
【０３９４】
式（１）においてG2がG26である化合物もしくは式（２６Ｂ）で示されるホスフィン化合物の具体例としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
2005225861.tif 000402
【０３９５】
2005225861.tif 000403
【０３９６】
2005225861.tif 000404
【０３９７】
2005225861.tif 000405
【０３９８】
2005225861.tif 000406
【０３９９】
2005225861.tif 000407
【０４００】
2005225861.tif 000408
【０４０１】
2005225861.tif 000409
【０４０２】
2005225861.tif 000410
【０４０３】
2005225861.tif 000411
【０４０４】
2005225861.tif 000412
【０４０５】
2005225861.tif 000413
【０４０６】
2005225861.tif 000414
【０４０７】
2005225861.tif 000415
【０４０８】
2005225861.tif 000416
【０４０９】
2005225861.tif 000417
【０４１０】
2005225861.tif 000418
【０４１１】
2005225861.tif 000419
【０４１２】
2005225861.tif 000420
【０４１３】
2005225861.tif 000421
【０４１４】
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【０４１５】
2005225861.tif 000423
【０４１６】
2005225861.tif 000424
【０４１７】
2005225861.tif 000425
【０４１８】
2005225861.tif 000426
【０４１９】
2005225861.tif 000427
【０４２０】
2005225861.tif 000428
【０４２１】
式（２６Ｂ）で示されるホスフィン化合物は、式（２６Ｃ）で示されるホスフィンジハライドと式（２６Ｄ）で示される金属アリールとを反応させることにより製造することができる。
式（２６Ｃ）で示されるホスフィンジハライドと式（２６Ｄ）で示される金属アリールの反応モル比は、特に限定されないが、１：０．５から１：５の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：１から１：２．５の範囲である。
式（２６Ｃ）または（２６Ｄ）において、Ｘ2のハロゲン原子の具体例としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは塩素原子が挙げられる。
式（２６Ｄ）において、Ｄのアルカリ金属およびアルカリ土類金属の具体例としては、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、マグネシウム原子、カルシウム原子等が挙げられ、好ましくはリチウム原子、マグネシウム原子が挙げられる。
反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（２６Ｄ）で示される金属アリール１重量部に対して通常１〜２００重量部、好ましくは３〜５０重量部の範囲である。
本反応は例えば、式（２６Ｄ）で示される金属アリールに式（２６Ｃ）で示されるホスフィンジハライドを加えることによって行うことができる。反応温度は、通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは、−８０℃〜１００℃の範囲である。
得られた反応混合物から通常の方法、例えば不溶物を濾過することで除去し、溶媒を留去するなどの方法により、式（２６Ｂ）で示されるホスフィン化合物を得ることができる。また必要に応じてシリカゲルカラムクロマトグラフィーなどの方法により精製される。
または式（２６Ｂ）で示されるホスフィン化合物は、式（２６Ｅ）で示されるホスフィンハライドと式（２６Ｆ）で示されるアリール化合物とを反応させることにより製造することができる。
式（２６Ｅ）で示されるホスフィンハライドと式（２６Ｆ）で示されるアリール化合物の反応モル比は、特に限定されないが、１：０．１から１：５の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：０．５から１：２の範囲である。
式（２６Ｅ）または（２６Ｆ）において、Ｘ2のハロゲン原子の具体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくは塩素原子が挙げられる。
式（２６Ｆ）において、Ｄのアルカリ金属およびアルカリ土類金属の具体例としては、リチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子、マグネシウム原子、カルシウム原子等が挙げられ、好ましくはリチウム原子、マグネシウム原子が挙げられる。
反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（８）で示される金属アリールに対して通常１〜２００重量倍、好ましくは３〜５０重量倍の範囲である。
本反応は例えば、式（２６Ｆ）で示されるアリール化合物に式（２６Ｅ）で示されるホスフィンハライドを加えることによって行うことができる。反応温度は、通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは、−８０℃〜１００℃の範囲である。
得られた反応混合物から通常の方法、例えば不溶物を濾過することで除去し、溶媒を留去するなどの方法により、式（２６Ｂ）で示されるホスフィン化合物を得ることができる。また必要に応じてシリカゲルカラムクロマトグラフィーなどの方法により精製される。
式（26Ｃ）で示されるホスフィンジハライドの具体例として、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
【０４２２】
2005225861.tif 000429
【０４２３】
2005225861.tif 000430
【０４２４】
2005225861.tif 000431
【０４２５】
2005225861.tif 000432
【０４２６】
2005225861.tif 000433
などが挙げられ、上記式において、塩素原子を臭素原子、ヨウ素原子に置換した化合物も挙げられる。
【０４２７】
式（２６Ｄ）で示される金属アリールの具体例として、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
2005225861.tif 000434
【０４２８】
2005225861.tif 000435
【０４２９】
2005225861.tif 000436
【０４３０】
2005225861.tif 000437
【０４３１】
2005225861.tif 000438
【０４３２】
2005225861.tif 000439
【０４３３】
式（２６Ｅ）で示されるホスフィンハライドの具体例として、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
2005225861.tif 000440
【０４３４】
2005225861.tif 000441
【０４３５】
2005225861.tif 000442
【０４３６】
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【０４３７】
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【０４３８】
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【０４３９】
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【０４４０】
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【０４４１】
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【０４４２】
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【０４４３】
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【０４４４】
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【０４４５】
式（２６Ｆ）で示されるアリール化合物の具体例として、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
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【０４４６】
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【０４４７】
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【０４４８】
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【０４４９】
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【０４５０】
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【０４５１】
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【０４５２】
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【０４５３】
本発明の式（２）の配位子を式（４）で示される遷移金属化合物と反応させて得られる遷移金属錯体について以下説明する。
式（４）の遷移金属において、Ｍで表される周期律表の第４族の元素としては、チタニウム、ジルコニウム、ハフニウム等が例示され、チタンニウムおよびジルコニウムが、好ましい。
式（４）において、Ｘ1で表されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示され、塩素原子が好ましい。
Ｘ１における置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基が例示され、さらにこれらがハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換された置換基が例示され、その具体例としては、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基、トリクロロメチル基、メトキシメチル基、フェノキシメチル基、ジメチルアミノメチル基、トリメチルシリルメチル基などが例示される。置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基のうち、メチル基、エチル基、イソプロピル基、 ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基等が好ましいものとして例示され、さらに好ましくはメチル基が挙げられる。
Ｘ１における置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基としては、ベンジル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチル基、ジフェニルメチル基等が例示され、これらはさらに、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、その具体例としては、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メチル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、（ｎ−ドデシルフェニル）メチル基、（フルオロフェニル）メチル基、（ジフルオロフェニル）メチル基、（ペンタフルオロフェニル）メチル基、（クロロフェニル）メチル基、（メトキシフェニル）メチル基、（フェノキシフェニル）メチル基、（ジメチルアミノフェニル）メチル基、（トリメチルシリルフェニル）メチル基などが例示される。好ましい置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキル基としてはベンジル基が例示される。
Ｘ１における置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等が挙げられる。
これらはさらに、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、その具体例としては、２−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キシリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キシリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブチルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、 ｎ−ペンチルフェニル基、 ネオペンチルフェニル基、 ｎ−ヘキシルフェニル基、 ｎ−オクチルフェニル基、 ｎ−デシルフェニル基、 ｎ−ドデシルフェニル基、 ｎ−テトラデシルフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、３，５−ジフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、４−フェノキシフェニル基、４−ジメチルアミノフェニル基、４−トリメチルシリルフェニル基などが例示される。好ましい置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基としては、フェニル基が例示される。
Ｘ１における炭素原子数１〜１０のアルコキシル基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、n−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基が例示される。これらはさらに置換されていてもよく、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示される。
置換されたアルコキシル基の具体例としては、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、フルオロエトキシ基、ジフルオロエトキシ基、トリフルオロエトキシ基、テトラフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、パーフルオロプロポキシ基、パーフルオロブチルオキシ基、パーフルオロペンチルオキシ基、パーフルオロヘキシルオキシ基、パーフルオロオクチルオキシ基、パーフルオロデシルオキシ基、トリクロロメチルオキシ基、メトキシメトキシ基、フェノキシメトキシ基、ジメチルアミノメトキシ基、トリメチルシリルメトキシ基などが例示される。好ましい置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルコキシル基としては、メトキシ基が例示される。
Ｘ１における置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基としては、ベンジルオキシ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基、ジフェニルメトキシ基が例示され、これらはさらに置換されていてもよく、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、その具体例としては、（２−メチルフェニル）メトキシ基、（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４−メチルフェニル）メトキシ基、（２，３−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，６−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メトキシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メトキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ペンチルフェニル）メトキシ基、（ネオペンチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−ドデシルフェニル）メトキシ基、（フルオロフェニル）メチル基、（ジフルオロフェニル）メチル基、（ペンタフルオロフェニル）メチル基、（クロロフェニル）メチル基、（メトキシフェニル）メチル基、（フェノキシフェニル）メチル基、（ジメチルアミノフェニル）メチル基、（トリメチルシリルフェニル）メチル基などが例示される。好ましい置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアラルキルオキシ基としてはベンジルオキシ基が例示される。
Ｘ１における置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基としては、フェノキシ基、ナフトキシ基、アントラセノキシ基が挙げられる。これらはさらに置換されていてもよく、例えば、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、炭化水素で置換されたアミノ基、炭化水素で置換されたシリル基で置換されたものが例示され、その具体例としては、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチルフェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチルフェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−トリメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テトラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノキシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシルフェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシルフェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基２−フルオロフェノキシ基、３−フルオロフェノキシ基、４−フルオロフェノキシ基、３，５−ジフルオロフェノキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基、４−クロロフェノキシ基、２−メトキシフェノキシ基、３−メトキシフェノキシ基、４−メトキシフェノキシ基、４−フェノキシフェノキシ基、４−ジメチルアミノフェノキシ基、４−トリメチルシリルフェノキシ基などが例示される。好ましい置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアリールオキシ基としては、フェノキシ基が例示される。
Ｘ１における置換されていてもよい炭素原子数１〜２０の炭化水素で置換されていてもよいアミノ基において、ここでの炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基、アミル基 、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基などの炭素原子数１〜１０のアルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチル基、アントラセニル基などの炭素原子数６〜２０のアリール基等が挙げられる。かかる炭素数１〜２０の炭化水素で置換されたアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、 ｔｅｒｔ −ブチルイソプロピルアミノ基、 ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、ジフェニルアミノ基等が挙げられ、好ましくはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基が挙げられる。
ＬまたはL1で示される中性配位子とは、エーテル、スルフィド、アミン、ホスフィン、オレフィンなどの中性官能基を有する分子を示し、分子内に複数箇所の配位官能基を有していてもよい。
具体的な中性配位子としては、例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、メチル  ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、フラン、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン、ジメトキシエタン、ジメチルスルフィド、ジエチルスルフィド、メチル  ｔｅｒｔ−ブチルスルフィド、チオフェン、テトラヒドロチオフェン、エチレンジチオール  ジメチルスルフィド、エチレンジチオール  ジエチルスルフィド、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリフェニルアミン、トリシクロヘキシルアミン、ピリジン、２，２’−ビピリジン、テトラメチルエチレンジアミン、テトラエチルエチレンジアミン、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）メタン、ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、ビス（ジフェニルホスフィノ）ビナフチル、エチレン、プロピレン、ブテン、ブタジエン、オクテン、オクタジエン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン、ノルボルネン、ノルボルナジエン等が挙げられる。
式（４）で示される遷移金属化合物としては、例えばテトラベンジルチタン、テトラネオペンチルチタン、四塩化チタン、テトライソプロポキシチタン、ジイソプロポキシチタニウム  ジクロライド、テトラキス（ジメチルアミノ）チタン、テトラキス（ジエチルアミノ）チタン、ビス（ジメチルアミノ）チタニウム  ジクロライド、ビス（ジエチルアミノ）チタニウム  ジクロライド、テトラキス（トリフルオロアセトキシ）チタニウム、ビス（トリフルオロアセトキシ）チタニウム  ジクロライド、三塩化チタン−３テトラヒドロフラン錯体、四塩化チタン−２テトラヒドロフラン錯体、
テトラベンジルジルコニウム、テトラネオペンチルジルコニウム、四塩化ジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、ジイソプロポキシジルコニウム  ジクロライド、テトラキス（ジメチルアミノ）ジルコニウム、テトラキス（ジエチルアミノ）ジルコニウム、ビス（ジメチルアミノ）ジルコニウム  ジクロライド、ビス（ジエチルアミノ）ジルコニウム  ジクロライド、テトラキス（トリフルオロアセトキシ）ジルコニウム、ビス（トリフルオロアセトキシ）ジルコニウム  ジクロライド、三塩化ジルコニウム−３テトラヒドロフラン錯体、四塩化ジルコニウム−２テトラヒドロフラン錯体、
テトラベンジルハフニウム、テトラネオペンチルハフニウム、四塩化ハフニウム、テトライソプロポキシハフニウム、ジイソプロポキシハフニウム  ジクロライド、テトラキス（ジメチルアミノ）ハフニウム、テトラキス（ジエチルアミノ）ハフニウム、ビス（ジメチルアミノ）ハフニウム  ジクロライド、ビス（ジエチルアミノ）ハフニウム  ジクロライド、テトラキス（トリフルオロアセトキシ）ハフニウム、ビス（トリフルオロアセトキシ）ハフニウム  ジクロライド、三塩化ハフニウム−３テトラヒドロフラン錯体、四塩化ハフニウム−２テトラヒドロフラン錯体などが挙げられる。
【０４５４】
遷移金属錯体は、ホスフィン化合物（２）と式（４）で示される遷移金属化合物を反応させることにより製造することができる。
式（２）で示されるホスフィン化合物と式（４）で示される遷移金属化合物の使用量は、特に限定されないが、１：０．１から１：１０の範囲が好ましく、さらに好ましくは１：０．５から１：２の範囲である。
反応に際しては、必要により塩基が用いられる。かかる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウムといった金属水素化合物、メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔｅｒｔ−ブチルリチウム、リチウムトリメチルシリルアセチリド、リチウムアセチリド、トリメチルシリルメチルリチウム、ビニルリチウム、フェニルリチウム、アリルリチウムなどの有機リチウム化合物といった有機アルカリ金属化合物などが挙げられ、その使用量は式（２）で示されるホスフィン化合物１モルに対して通常０．５〜５モルの範囲である。
上記反応は通常、反応に対して不活性な溶媒中で行われる。かかる溶媒としては、例えばベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ヘキサメチルホスホリックアミド、ジメチルホルムアミドなどのアミド系溶媒、アセトニトリル、プロピオニトリル、アセトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどの極性溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどのハロゲン系溶媒といった非プロトン性溶媒などが挙げられる。かかる溶媒はそれぞれ単独もしくは２種以上を混合して用いられ、その使用量は式（２）で示されるホスフィン化合物１重量部に対して通常１〜２００重量部、好ましくは３〜５０重量部の範囲である。
上記反応は通常、溶媒に式（２）で示されるホスフィン化合物に必要に応じて塩基を加えたのち式（４）で示される遷移金属化合物を加えることによって行うことができる。反応温度は通常、−１００℃以上溶媒の沸点以下、好ましくは−８０〜１００℃程度の範囲である。
得られた反応混合物から通常の方法、例えば生成した沈殿を濾別後、濾液を濃縮して固形物を析出させるなどの手法により、遷移金属錯体を取得することができる。
得られた反応混合物から通常の方法、例えば生成した沈殿を濾別後、濾液を濃縮して固形物を析出させるなどの手法により、遷移金属錯体を取得することができる。
かくして得られる遷移金属錯体としては、典型的には、式（３）で示される遷移金属錯体が示される。
さらに式（３）において、Ｇ2の各式に対応する部分構造を有する下記の化合物が例示される。
式（３）で示される遷移金属錯体としては、例えば、以下に示す化合物が挙げられる。
【０４５５】
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【０４５６】
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【０４５７】
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【０４５８】
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【０４６１】
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【０４６２】
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【０４６３】
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【０４６４】
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【０４６５】
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【０４６９】
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【０４７０】
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【０４７４】
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【０４８９】
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【０５００】
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【０５０１】
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【０５８３】
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【０５８４】
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さらに、上記化合物において、チタン原子をジルコニウム原子またはハフニウム原子に変換した化合物などが挙げられる。
かくして製造される遷移金属錯体は、化合物（Ａ）、あるいはさらに化合物（Ｂ）を、重合時に任意の順序で仕込み使用することができるが、またそれらの任意の化合物の組合せを予め接触させて得られた反応物を用いることもできる。
本発明において用いられる化合物（Ａ）としては、公知の有機アルミニウム化合物が使用できる。好ましくは、化合物（Ａ）としては、公知の有機アルミニウム化合物が使用でき、好ましくは、前記化合物（Ａ１）〜（Ａ３）のいずれか、あるいはそれらの２種以上の混合物が挙げられる。
式  Ｅ1 a ＡｌＺ3-a で示される有機アルミニウム化合物（Ａ１）の具体例としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；ジメチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウムクロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライド；メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジクロライド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウムハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライド、ジヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキルアルミニウムハイドライド等を例示することができる。好ましくは、トリアルキルアルミニウムであり、より好ましくは、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムが挙げられる。
式  ｛−Ａｌ（Ｅ2 ）−Ｏ−｝ｂ で示される構造を有する環状のアルミノキサン（Ａ２）または、式  Ｅ3 ｛−Ａｌ（Ｅ3 ）−Ｏ−｝ｃ Ａｌ（Ｅ3）2 で示される構造を有する線状のアルミノキサン（Ａ３）における、Ｅ2 、Ｅ3 の具体例としては、メチル基、エチル基、ノルマルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基等のアルキル基を例示することができる。ｂは２以上の整数であり、ｃは１以上の整数である。好ましくは、Ｅ2またはＥ3 はメチル基、イソブチル基であり、ｂは２〜４０、ｃは１〜４０である。これらの具体例としてはメチルアルミノキサン（ＭＡＯ）、修飾メチルアルミノキサン（ＭＭＡＯ）、ブチルアルミノキサン（ＢＡＯ）などが挙げられる。
上記のアルミノキサンは各種の方法で造られる。その方法については特に制限はなく、公知の方法に準じて造ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有機溶剤（ベンゼン、脂肪族炭化水素など）に溶かした溶液を水と接触させて造る。また、トリアルキルアルミニウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を結晶水を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接触させて造る方法が例示できる。
式  ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 で表されるホウ素化合物（Ｂ１）において、Ｑ1 〜Ｑ3 は、好ましくは、ハロゲン原子、炭素数１〜２０個の炭化水素基、炭素数１〜２０個のハロゲン化炭化水素基である。
（Ｂ１）の具体例としては、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボラン、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボラン等が挙げられるが、好ましくは、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボランが挙げられる。
式Ｚ+ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）− で表されるホウ素化合物（Ｂ２）において、Ｑ1 〜Ｑ4 は上記の（Ｂ１）におけるＱ1 〜Ｑ3 と同様のものが挙げられる。
式  Ｚ＋ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）− で表される化合物の具体例としては、無機のカチオンであるＺ＋ には、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロセニウムカチオン、銀陽イオンなどが、有機のカチオンであるＺ+ には、トリフェニルメチルカチオンなどが挙げられる。（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）− には、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボレート、テトラキス（２，２，４ートリフルオロフェニル）ボレート、フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げられる。
これらの具体的な組み合わせとしては、フェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１，１’−ジメチルフェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどを挙げることができるが、好ましくは、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが挙げられる。
また、式（Ｌ−Ｈ）＋ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）− で表されるホウ素化合物（Ｂ３）においては、Ｑ1 〜Ｑ4 は上記の（Ｂ１）におけるＱ1 〜Ｑ3 と同様のものが挙げられる。
式（Ｌ−Ｈ）＋ （ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）− で表される化合物の具体例としては、ブレンステッド酸である（Ｌ−Ｈ）＋ には、トリアルキル置換アンモニウム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキルアンモニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙げられ、（ＢＱ1 Ｑ2 Ｑ3 Ｑ4 ）− には、前記と同様のものが挙げられる。
これらの具体的な組み合わせとしては、トリエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソプロピルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ジメチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートなどを挙げることができるが、好ましくは、トリ（ノルマルブチル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
各触媒成分の使用量は、化合物（Ａ）／遷移金属錯体（１）のモル比が０．１〜１００００で、好ましくは５〜２０００、化合物（Ｂ）／遷移金属錯体（１）のモル比が０．０１〜１００で、好ましくは０．５〜１０の範囲にあるように、各成分を用いることが望ましい。
各触媒成分を溶液状態で使う場合の濃度については、遷移金属錯体（１）が、０．０００１〜５ミリモル／リットルで、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットル、化合物（Ａ）が、Ａｌ原子換算で、０．０１〜５００ミリモル／リットルで、好ましくは、０．１〜１００ミリモル／リットル、化合物（Ｂ）は、０．０００１〜５ミリモル／リットルで、好ましくは、０．００１〜１ミリモル／リットルの範囲にあるように、各成分を用いることが望ましい。
本発明において、重合に使用するモノマーは、炭素原子数２〜２０個からなるオレフィン、ジオレフィン等のいずれをも用いることができ、同時に２種類以上のモノマーを用いることもできる。かかるモノマーを以下に例示するが、本発明は下記化合物に限定されるものではない。かかるオレフィンの具体例としては、エチレン、プロピレン、ブテン−１、ペンテン−１、ヘキセン−１、ヘプテン−１、オクテン−１、ノネン−１、デセン−１、５−メチル−２−ペンテン−１、ビニルシクロヘキセン等が例示される。ジオレフィン化合物としては、炭化水素化合物の共役ジエン、非共役ジエンが挙げられ、かかる化合物の具体例としては、非共役ジエン化合物の具体例として、１，５−ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，４−ペンタジエン、１，７−オクタジエン、１，８−ノナジエン、１，９−デカジエン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、７−メチル−１，６−オクタジエン、５−エチリデン−２−ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、５−ビニル−２−ノルボルネン、５−メチル−２−ノルボルネン、ノルボルナジエン、５−メチレン−２−ノルボルネン、１，５−シクロオクタジエン、５，８−エンドメチレンヘキサヒドロナフタレン等が例示され、共役ジエン化合物の具体例としては、１，３−ブタジエン、イソプレン、１，３−ヘキサジエン、１，３−オクタジエン、１，３−シクロオクタジエン、１，３−シクロヘキサジエン等を例示することができる。
【０５８５】
共重合体を構成するモノマーの具体例としては、エチレンとプロピレン、エチレンとブテン−１、エチレンとヘキセン−１、プロピレンとブテン−１等、およびそれらにさらに５−エチリデン−２−ノルボルネンを使用する組み合わせ等が例示されるが、本発明は、上記化合物に限定されるものではない。
本発明では、モノマーとして芳香族ビニル化合物も用いることができる。芳香族ビニル化合物の具体例としては、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ，ｐ−ジメチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｏ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン等が挙げられる。
重合方法も、特に限定されるものではないが、例えば、ブタン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素、又はメチレンジクロライド等のハロゲン化炭化水素を溶媒として用いる溶媒重合、又はスラリー重合、ガス状のモノマー中での気相重合等が可能であり、また、連続重合、回分式重合のどちらでも可能である。
重合温度は、−５０℃〜２００℃の範囲をとり得るが、特に、−２０℃〜１００℃程度の範囲が好ましく、重合圧力は、常圧〜６ＭＰａ（６０ｋｇ／ｃｍ２  Ｇ）が好ましい。重合時間は、一般的に、目的とするポリマーの種類、反応装置により適宜選定されるが、１分間〜２０時間の範囲をとることができる。また、本発明は共重合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添加することもできる。
【実施例】
【０５８６】
以下、実施例を挙げて、本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。また、実施例におけるポリマーの性質は、下記の方法により測定した。
[分子量および分子量分布]
ＲａｐｉｄＧＰＣ（Ｓｙｍｙｘ社製）を用いて以下の条件により測定した。
送液装置  ：（ＬＣポンプ）Ｇｉｌｓｏｎ社製  
Ｍｏｄｅｌ３０５(ポンプヘッド２５.ＳＣ)  
カラム    ：ＰｏｌｙｍｅｒＬａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ (ＰＬ)社製  
ＰＬｇｅｌ  Ｍｉｘｅｄ−Ｂ  １０μｍ
7.5mmφ×300mm
移動相    ：o-ジクロロベンゼン
溶解溶媒  ：1,2,4-トリクロロベンゼン
流量      ：２ｍｌ／分
カラム温度：１６０℃
検量線    ：ＰＬ社標準品  ポリスチレン(ＰＳ)  ８試料
（標準ＰＳ分子量）5,000、10,050、28,500、65,500
185,400、483,000、1,013,000、3,390,000
[融点]
ＳＡＭＭＳ（Ｓｅｎｓｏｒ  Ａｒｒａｙ  Ｍｏｄｕｌａｒ  Ｓｙｓｔｅｍ）（Ｓｙｍｙｘ社製）を用いて以下の条件により測定した。
測定モード    ：熱容量スペクトロスコピーによる融解温度測定
雰囲気ガス    ：真空条件(3.0×10―４Torr以下)
温度プログラム：（スタート）室温
（昇温速度）約５０℃／分
（ホールド）２００℃（０分）
[Ｍｅ分岐]
ＩＲ（Ｂｒｕｋｅｒ社製ＥＱＵＩＮＯＸ５５）を用いて以下の条件により測定した。
測定モード：反射透過法（鏡面にフィルム作成）
ブランク  ：鏡面（Air）
測定条件  ：(分解能)２ｃｍ―１、(積算回数)１２８回、
(波長)４００〜４０００ｃｍ―１
［実施例Ａ１］        化合物Ａ１の合成
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１-メトキシメトキシ−２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルベンゼン（２．０８ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２３．５ｍＬ）に−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液（７．０５ｍL）を滴下し、室温まで昇温し１時間攪拌した。反応混合液を三塩化リン（０．６９g、５．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２３．５mL）に−７８℃にて滴下し、室温に昇温し５時間攪拌した。不溶物を濾別した濾液を減圧留去することにより化合物Ａ１を定量的に得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤ２Ｃｌ２) δ１．３８（１８Ｈ）、２．２５（６Ｈ）、３．６０（６Ｈ）、５．０６−５．２６（４Ｈ）、７．０７−７．２７（４Ｈ）
３１Ｐ  ＮＭＲ(ＣＤ２Ｃｌ２)  ７９．１５
【０５８７】
［実施Ａ２］    化合物Ａ２の合成
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２−（ｏ−ブロモフェニル）−１，３−ジオキソラン（１１．１５ｇ、５０．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１８０．６ｍＬ）に、−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液（３５．３ｍL）を滴下し、室温まで昇温し２時間攪拌した。反応混合液を−７８℃に冷却し、化合物Ａ１（２４．０５g、５０．０mmol）のテトラヒドロフラン溶液（７７．４mL）を滴下し、室温まで昇温し１０時間攪拌した。脱イオン水（２００．０ｍＬ）とトルエン（２００．０ｍＬ）を加え反応を停止し、有機層を飽和食塩水（１００ｍＬ）で洗浄した後、溶媒を留去し、淡黄色油状として粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=３０/１→４/１）により精製を行い、白色固体として化合物Ａ２を９．５２ｇ（収率３２．０％）得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ１．３７（１８Ｈ）、２．１０（６Ｈ）、３．４５（６Ｈ）、３．９３−４．１４（４Ｈ）、５．１１−５．１３（４Ｈ）、５．２０（１Ｈ）、６．３４（２Ｈ）、６．４４（２Ｈ）、６．９２−７．６６（４Ｈ            ）
【０５８８】
［実施例Ａ３］    化合物Ａ３の合成
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２−（ｏ−ブロモフェニル）−１，３−ジオキサン（６．８７ｇ、３０．０ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（１４５．０ｍＬ）に、−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液（２１．２ｍL）を滴下し、室温まで昇温し２時間攪拌した。反応混合液を−７８℃に冷却し、三塩化リン（８．２４g、６０．０mmol）のジエチルエーテル溶液（１１６．０mL）を添加し、室温まで昇温し１０時間攪拌した。不溶物を濾別した濾液を減圧留去することにより［化合物Ａ３］を得た。
３１Ｐ  ＮＭＲ(ＣＤ２Ｃｌ２)  δ１６０．８
【０５８９】
［実施例Ａ４］      化合物Ａ２の合成
２−ｔｅｒｔ−ブチル−１−メトキシメトキシ−４−メチルベンゼン（１０．０ｇ、４８．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１５８ｍＬ）に、−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液（３３．８ｍL）を滴下し、室温まで昇温し２時間攪拌した。反応混合液を−７８℃に冷却し、化合物Ａ３（６．０３g、２４．０mmol）のテトラヒドロフラン溶液（６７．５mL）を滴下し、室温まで昇温し１０時間攪拌した。後処理は実施例Ａ２と同様に行い［化合物Ａ２］を得た。
【０５９０】
［実施例Ａ５］    化合物Ａ４の合成
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化合物Ａ２（１．４９ｇ、２．５０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン/水＝１０/１溶液（４６．３ｍＬ）に室温で９８％硫酸（１．３２ｇ）を加え室温で３時間攪拌した。脱イオン水（７０．０ｍＬ）とトルエン（５０．０ｍＬ）を加え反応を停止し、有機層を飽和食塩水（７０ｍＬ）で洗浄した後、溶媒を留去し淡黄色油状として［化合物Ａ４］を定量的に得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ１．４０（１８Ｈ）、２．１０（６Ｈ）、３．５０（６Ｈ）、５．２６（４Ｈ）、６．２７（２Ｈ）、６．９７−７．９８（６Ｈ）、１０．６（１Ｈ）
【０５９１】
［実施例Ａ6］        化合物Ａ5の合成
2005225861.tif 000594
［化合物Ａ４］（２．７５ｇ、５．００ｍｍｏｌ）の酢酸エチル/メタノール=１/１溶液（１１０．０ｍＬ）に室温でアセチルクロライド（１．９６ｇ、２５．０ｍｍｏｌ）を加え室温で１５時間攪拌した。溶媒を減圧留去することにより、黄色油状として粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=２０/１→４/１→０/１）により精製を行い、黄色固体として［化合物Ａ５］を０．６４ｇ（収率６４．０％）得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ１．３４（１８Ｈ）、２．０９（６Ｈ）、６．３３（２Ｈ）、６．５１（２Ｈ）、７．０７−７．８７（６Ｈ）、１０．１（１Ｈ）
３１Ｐ  ＮＭＲ(Ｃ６Ｄ６)  δ−５２．８
【０５９２】
［実施例Ａ７］      化合物Ａ６の合成
2005225861.tif 000595
［化合物Ａ４］（１．３８ｇ、２．５０ｍｍｏｌ）のエタノール溶液（６２．４ｍＬ）に室温でｔｅｒｔ−ブチルアミン（０．９１g、１２．５ｍｍｏｌ）を加え、４０℃まで昇温し４．５時間攪拌した。溶媒を留去することにより［化合物Ａ６］を定量的に得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ１．１５（９Ｈ）、１．４０（１８Ｈ）、２．１２（６Ｈ）、３．５０（６Ｈ）、５．１０−５．１９（４Ｈ）、６．４７（２Ｈ）、６．９０−７．９５（６Ｈ）、８．９０（１Ｈ）
１３Ｃ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ２１．１、２９．５、３０．８、３６．１、５７．２、５７．６、９９．５、１２６．４−１４２．８、１５４．５、１５６．３
【０５９３】
［実施例Ａ8］      化合物Ａ７の合成
2005225861.tif 000596
［化合物Ａ６］の酢酸エチル/メタノール=１/１溶液に室温でアセチルクロライドを加え攪拌し、溶媒を減圧留去することにより［化合物Ａ７］を得ることができる。
【０５９４】
［実施例Ａ９］    化合物Ａ８の合成
2005225861.tif 000597
ｔｅｒｔ−ブチルアミンの代わりに、アミノピペリジンを用いること以外は、実施例Ａ７と同様に反応を行い、［化合物Ａ８］を定量的に得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ１．３８−３．０３（１０Ｈ）、１．４０（１８Ｈ）、２．１２（６Ｈ）、３．４８（６Ｈ）、５．０８−５．１８（４Ｈ）、６．５０（２Ｈ）、６．８９−７．９２（６Ｈ）、８．１１（１Ｈ）
【０５９５】
［実施例Ａ１０］      化合物Ａ９の合成
2005225861.tif 000598
ｔｅｒｔ−ブチルアミンの代わりに、アミノピロールを用いること以外は、実施例Ａ７と同様に反応を行い、［化合物Ａ９］を定量的に得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ１．４０（１８Ｈ）、２．１３（６Ｈ）、３．５１（６Ｈ）、５．０９−５．２４（４Ｈ）、６．４８（２Ｈ）、７．０１−８．１２（１０Ｈ）、９．１５（１Ｈ）
【０５９６】
［実施例Ａ１１］      化合物Ａ１０の合成
2005225861.tif 000599
［化合物Ａ５］（０．１２ｇ、０．２５ｍｍｏｌ）のエタノール溶液（４４．０ｍＬ）に０℃でアミノピペリジン（０．０３g、０．２５ｍｍｏｌ）を加え３時間攪拌した。溶媒を留去することにより［化合物Ａ１０］を定量的に得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ１．３９（１８Ｈ）、１．４５−２．９６（１０Ｈ）、２．１６（６Ｈ）、６．６８（２Ｈ）、６．９３−７．８３（７Ｈ）
【０５９７】
［実施例Ａ１２］      化合物Ａ１１の合成
2005225861.tif 000600
アミノピペリジンの代わりに、アミノピロールを用いること以外は、実施例Ａ１１と同様に反応を行い、［化合物Ａ１１］を定量的に得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ１．４１（１８Ｈ）、２．１６（６Ｈ）、６．１５（２Ｈ）、６．６７（２Ｈ）、６．９６−７．４９（１０Ｈ）、８．６８（１Ｈ）
【０５９８】
［実施例Ａ１３］      化合物Ａ１０の合成
［化合物Ａ８］の酢酸エチル/メタノール=１/１溶液に室温でアセチルクロライドを加え攪拌し、溶媒を減圧留去することにより［化合物Ａ１０］を得ることができる。
【０５９９】
［実施例Ａ１４］      化合物Ａ１１の合成
［化合物Ａ９］の酢酸エチル/メタノール=１/１溶液に室温でアセチルクロライドを加え攪拌し、溶媒を減圧留去することにより［化合物Ａ１１］を得ることができる。
【０６００】
［実施例Ａ１５］      錯体Ａ１２の合成
2005225861.tif 000601
［化合物Ａ６］（０．２０ｇ、０．３３ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２．３１ｍＬ）に、−７８℃で四塩化チタン（０．０８ｇ、０．４０ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（２．３１ｍＬ）を滴下し、室温に昇温後１０時間攪拌した。不溶物を濾別した濾液を減圧留去することで、赤色固体として［錯体Ａ１２］を２０４．７ｍｇ（９７．５％）得た。
３１Ｐ  ＮＭＲ(Ｃ６Ｄ６)  δ２２．８
ＥＩ−ＭＳ  ６３５（Ｍ＋１）
【０６０１】
［実施例Ａ１６］        錯体Ａ１３の合成
2005225861.tif 000602
［化合物Ａ６］を用いる代わりに［化合物Ａ８］を用いること以外は、実施例Ａ１５と同様に反応を行い、［錯体Ａ１３］を２８９．３ｍｇ（８７．７％）得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤ２Ｃｌ２) δ１．２７−２．００（１０Ｈ）、１．３８（１８Ｈ）、２．３４（６Ｈ）、６．８６（２Ｈ）、７．０６（２Ｈ）、７．４８−８．１５（４Ｈ）、１０．２３（１Ｈ）
３１Ｐ  ＮＭＲ(Ｃ６Ｄ６)  δ７．１６
ＥＩ−ＭＳ  ６２６（Ｍ−Ｃｌ）
【０６０２】
［実施例Ａ１７］    錯体A１４の合成
2005225861.tif 000603
［化合物Ａ１１］（０．２６ｇ、０．５０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（４．４５ｍＬ）に、−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５７Ｍヘキサン溶液（０．６４ｍL）を滴下し、室温まで昇温し１時間攪拌した。反応混合液に−７８℃にて四塩化チタニウム−２テトラヒドロフラン錯体（０．１７ｇ、０．５０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（４．４５ｍＬ）を２時間かけて滴下した。室温まで昇温し１０時間攪拌し溶媒を減圧留去後、トルエン（１０．０ｍＬ）を加え、不溶物を濾別した濾液を減圧留去することにより、［錯体Ａ１４］を赤色固体として１８３．９ｍｇ（５７．５％）得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(Ｃ６Ｄ６) δ１．２５（９Ｈ）、１．４７（９Ｈ）、１．６９（３Ｈ）、１．７９（３Ｈ）、６．２９（２Ｈ）、６．９５−８．４２（１０Ｈ）、９．０７（１Ｈ）
３１Ｐ  ＮＭＲ(Ｃ６Ｄ６)  δ９．６０
ＥＳＩ−ＭＳ（測定溶媒：ＣＨ３ＣＮ）  ６１７（Ｍ＋ＣＨ３ＣＮ−ピロール）
【０６０３】
重合反応例
［実施例Ａ18］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０ｍＬを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、［錯体Ａ１２］（０．１０μｍｏｌ）を加え、２０分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、６．４×１０６ｇ製造した。
【０６０４】
［実施例Ａ19］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ１８と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、１．１×１０６ｇ製造した。
【０６０５】
［実施例Ａ20］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ１８と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、３．４×１０６ｇ製造した。
【０６０６】
［実施例Ａ21］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ１８と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、４．４×１０６ｇ製造した。
【０６０７】
［実施例Ａ22］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（６０μL）を仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、錯体１２（０．１０μmol）を加え重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１．２６×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=４．４、融点（Ｔｍ）＝１２６．７℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、４．８×１０６ｇ製造した。
【０６０８】
［実施例Ａ23］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ２２と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、７．００×１０５ｇ製造した。
【０６０９】
［実施例Ａ24］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ２２と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１．９７×１０６、融点（Ｔｍ）＝１２４．７℃、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり２であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．６×１０６ｇ製造した。
【０６１０】
［実施例Ａ25］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ２２と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝２．６４×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=１．４、融点（Ｔｍ）＝１２１．４℃、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり１であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、３．６×１０６ｇ製造した。
【０６１１】
［実施例Ａ26］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（５０μL）を仕込み、７０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、［錯体Ａ１２］（０．１０μmol）を加え重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１．４２×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=４．１、融点（Ｔｍ）＝１２６．０℃、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり７であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．３×１０６ｇ製造した。
【０６１２】
［実施例Ａ27］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ２６と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝２．２９×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=２．２、融点（Ｔｍ）＝１２８．２℃、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり２であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．６×１０６ｇ製造した。
【０６１３】
［実施例Ａ28］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ２６と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１．２６×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=１．５、融点（Ｔｍ）＝１２９．８℃、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり８であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．５×１０６ｇ製造した。
【０６１４】
［実施例Ａ29］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（４０μL）を仕込み、１３０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１０μmol）、［錯体Ａ１２］（０．１０μmol）を加え重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．３×１０６ｇ製造した。
【０６１５】
［実施例Ａ30］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．０３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ２９と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、８．００×１０５ｇ製造した。
【０６１６】
［実施例Ａ31］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ２９と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、８．０×１０５ｇ製造した。
【０６１７】
［実施例Ａ32］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０ｍＬを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、［錯体Ａ１３］（０．１０μｍｏｌ）を加え、２０分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、２．７×１０６ｇ製造した。
【０６１８】
［実施例Ａ33］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ３２と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、３．０×１０５ｇ製造した。
【０６１９】
［実施例Ａ34］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ３２と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、２．３×１０６ｇ製造した。
【０６２０】
［実施例Ａ35］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ３２と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、２．６×１０６ｇ製造した。
【０６２１】
［実施例Ａ36］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（６０μL）を仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、［錯体Ａ１３］（０．１０μmol）を加え重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝２．５０×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=２５．６、融点（Ｔｍ）＝１０２．０℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．２×１０６ｇ製造した。
【０６２２】
［実施例Ａ37］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ３６と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、３．００×１０５ｇ製造した。
【０６２３】
［実施例Ａ38］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ３６と同様に重合を行った。重合の結果、融点（Ｔｍ）＝１０６．３℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．７×１０６ｇ製造した。
【０６２４】
［実施例Ａ39］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ３６と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝２．８９×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=８．４、融点（Ｔｍ）＝１０７．１℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．９×１０６ｇ製造した。
【０６２５】
［実施例Ａ40］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０ｍＬを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、［錯体Ａ１４］（０．１０μｍｏｌ）を加え、２０分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、４．５×１０６ｇ製造した。
【０６２６】
［実施例Ａ41］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ４０と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、４．０×１０５ｇ製造した。
【０６２７】
［実施例Ａ42］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ４０と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、５．０×１０６ｇ製造した。
【０６２８】
［実施例Ａ43］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ４０と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、６．２×１０６ｇ製造した。
【０６２９】
［実施例Ａ44］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（６０μL）を仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、［錯体Ａ１４］（０．１０μmol）を加え重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１．９４×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=２．４、融点（Ｔｍ）＝１２３．０℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．３×１０６ｇ製造した。
【０６３０】
［実施例Ａ45］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ４４と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．００×１０５ｇ製造した。
【０６３１】
［実施例Ａ46］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ４４と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝４．５０×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=１．３、融点（Ｔｍ）＝１１９．８℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、４．２×１０６ｇ製造した。
【０６３２】
［実施例Ａ47］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ａ４４と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝４．３３×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=１．４、融点（Ｔｍ）＝１２７．１℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、４．３×１０６ｇ製造した。
【０６３３】
［実施例Ｂ1］      化合物[Ｂ１]の合成
2005225861.tif 000604
Ｎ,Ｎ−ジメチルベンジルアミン（２．７０ｇ、２０．０ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（５７．０ｍＬ）に０℃でｎ―ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液（１４．１ｍL）を滴下し、室温まで昇温し２４時間攪拌した。−７８℃に冷却し、三塩化リン（５．４９g、４０．０mmol）のエーテル溶液（７７．０mL）を加え、室温まで昇温し２時間攪拌した。不溶物を濾別した濾液を減圧留去することにより化合物［Ｂ１］を定量的に得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤ２Ｃｌ２) δ２．４６（６Ｈ）、４．０２（２Ｈ）、７．２９−８．５３（４Ｈ）
３１Ｐ  ＮＭＲ(ＣＤ２Ｃｌ２)  １１５．６
【０６３４】
［実施例Ｂ2］        化合物［Ｂ２］の合成
2005225861.tif 000605
２−ｔｅｒｔ−ブチル−1−メトキシメトキシ−４−メチルベンゼン（８．３３ｇ、４０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１３１．４ｍＬ）に、−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液（２８．２ｍL）を滴下し、室温まで昇温し１時間攪拌した。反応混合液を−７８℃に冷却し、化合物［Ｂ１］（４．７２g、２０．０mmol）のテトラヒドロフラン溶液（５６．３mL）を滴下し、室温まで昇温し１０時間攪拌した。脱イオン水（１００．０ｍＬ）とトルエン（１００ｍＬ）を加え反応を停止し、有機層を飽和食塩水（１００ｍＬ）で洗浄した後、溶媒を留去し、淡黄色油状の目的生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=１０/１）により精製を行い、白色固体として化合物［Ｂ２］を４．３５ｇ（収率３７．５％）得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ１．４０（１８Ｈ）、２．０９（６Ｈ）、２．１０（６Ｈ）、３．５０（６Ｈ）、３．５５（２Ｈ）、５．１６−５．１９（４Ｈ）、６．３５（２Ｈ）、６．８６−７．４７（６Ｈ）
ＭＳ  ５３６（Ｍ＋１）
【０６３５】
［実施例B3］        化合物［Ｂ２］の合成
Ｎ,Ｎ−ジメチルベンジルアミンのエーテル溶液に０℃でｎ―ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液を滴下し、室温まで昇温し２４時間攪拌する。−７８℃に冷却し、化合物A１のエーテル溶液を加え、室温まで昇温し１０時間攪拌する。不溶物を濾別した濾液を減圧留去することにより化合物［Ｂ２］を得ることができる。
【０６３６】
［実施例Ｂ4］        化合物［Ｂ３］の合成
2005225861.tif 000606
化合物［Ｂ２］（０．９５ｇ、１．６４ｍｍｏｌ）の酢酸エチル/メタノール=１/１溶液（５７．０ｍＬ）に室温でアセチルクロライド（０．７９ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）を加え室温で１５時間攪拌した。溶媒を減圧留去することにより、白色固体として化合物Ｂ３を４０３．５ｍｇ（４９．８％）で得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ１．４１（１８Ｈ）、２．２５（６Ｈ）、３．０１（６Ｈ）、４．６３（２Ｈ）、６．３１（２Ｈ）、７．０６−８．８１（６Ｈ）
３１Ｐ  ＮＭＲ(Ｃ６Ｄ６)  δ−２６．９
【０６３７】
［実施例Ｂ5］      錯体［Ｂ４］の合成
2005225861.tif 000607
化合物［Ｂ２］（０．５８ｇ、１．００ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（６．７０ｍＬ）に、−７８℃で四塩化チタン（０．４０ｇ、２．１０ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（６．７０ｍＬ）を滴下し、室温にて１０時間攪拌した。溶媒を留去しペンタン（２ｍＬ）で洗浄することで、赤茶色固体として錯体Ｂ４を定量的に得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(Ｃ６Ｄ６) δ１．５９（１８Ｈ）、２．０５（６Ｈ）、２．４１（６Ｈ）、３．７７（２Ｈ）、６．８４（２Ｈ）、６．９９−７．８９（６Ｈ）
３１Ｐ  ＮＭＲ(Ｃ６Ｄ６)  δ２８．３
ＥＩ−ＭＳ  ６０７（Ｍ−１）
【０６３８】
［実施例Ｂ6］        錯体［Ｂ５］の合成
2005225861.tif 000608
化合物［Ｂ３］（０．４２ｇ、０．８０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（７．１４ｍＬ）に、−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液（１．５３ｍL）を滴下し、室温まで昇温し１時間攪拌した。反応混合液を−７８℃にて四塩化ジルコニウム−２テトラヒドロフラン錯体（０．３０ｇ、０．８０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（７．１４ｍＬ）に滴下した。室温で１０時間攪拌し溶媒を減圧留去後、トルエン（１０．０ｍＬ）を加え、不溶物を濾別した濾液を減圧留去することにより、錯体［Ｂ５］を白色固体として２７０ｍｇ（５０％）得た。
ＥＩ−ＭＳ  ６４９（Ｍ−１）
【０６３９】
重合反応例
［実施例Ｂ7］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０ｍＬを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、メチルアルミノキサン（１００μmol）、錯体［Ｂ４］（０．１０μｍｏｌ）を加え、５分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、３．６２×１０７ｇ製造した。
【０６４０】
［実施例Ｂ8］
メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｂ６と同様に２０分間重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、６．００×１０５ｇ製造した。
【０６４１】
［実施例Ｂ9］
メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｂ６と同様に１８分間重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、６．９０×１０６ｇ製造した。
【０６４２】
［実施例Ｂ10］
メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｂ６と同様に１４分間重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、８．８０×１０６ｇ製造した。
【０６４３】
［実施例Ｂ11］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（６０μL）を仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、メチルアルミノキサン（１００μmol）、錯体［Ｂ４］（０．１０μmol）を加え、９分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝２．９７×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=８．６、融点（Ｔｍ）＝１３０．７℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．０１×１０７ｇ製造した。
【０６４４】
［実施例Ｂ12］
メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｂ１０と同様に２０分間重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、５．００×１０５ｇ製造した。
【０６４５】
［実施例Ｂ13］
メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｂ１０と同様に２０分間重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１．９７×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=１．６、融点（Ｔｍ）＝１１７．９℃あるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、５．５０×１０６ｇ製造した。
【０６４６】
［実施例Ｂ14］
メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｂ１０と同様に１４分間重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝７．６１×１０５、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=１．６、融点（Ｔｍ）＝１１３．１℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．０４×１０７ｇ製造した。
【０６４７】
［実施例Ｂ15］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０ｍＬを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、メチルアルミノキサン（１００μmol）、錯体［Ｂ５］（０．１０μｍｏｌ）を加え、２０分間重合した。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、４．９０×１０６ｇ製造した。
【０６４８】
［実施例Ｂ16］
メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｂ１４と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、３．００×１０５ｇ製造した。
【０６４９】
［実施例Ｂ17］
メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｂ１４と同様に２０分間重合を行った。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、５．５０×１０６ｇ製造した。
【０６５０】
［実施例Ｂ18］
メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｂ１４と同様に１７分間重合を行った。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、７．３０×１０６ｇ製造した。
【０６５１】
［実施例Ｂ19］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（６０μL）を仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、メチルアルミノキサン（１００μmol）、錯体［Ｂ５］（０．１０μmol）を加え、２０分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝２．４０×１０５、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=３１．２、融点（Ｔｍ）＝１３０．６℃であるポリマーをジルコニウム１mol当たり、1時間当たり、４．６０×１０６ｇ製造した。
【０６５２】
［実施例Ｂ20］
メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｂ１８と同様に２０分間重合を行った。重合の結果、ポリマーをジルコニウム１mol当たり、1時間当たり、４．００×１０５ｇ製造した。
【０６５３】
［実施例Ｂ21］
メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｂ１８と同様に２０分間重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝４．００×１０３、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=１．４、融点（Ｔｍ）＝１２７．６℃、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり１３であるポリマーをジルコニウム１mol当たり、1時間当たり、５．１０×１０６ｇ製造した。
【０６５４】
［実施例Ｂ22］
メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｂ１８と同様に１１分間重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝４．５０×１０３、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=１．５、融点（Ｔｍ）＝１２９．３℃、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり２０であるポリマーをジルコニウム１mol当たり、1時間当たり、１．０３×１０７ｇ製造した。
【０６５５】
［実施例Ｃ１］      化合物[Ｃ１]の合成
2005225861.tif 000609
化合物［A6］（０．４５ｇ、０．７５ｍｍｏｌ）のエタノール溶液（５．７６ｍＬ）に室温にて水素化ホウ素ナトリウム（０．０３g、０．８３ｍｍｏｌ）を加え２時間攪拌した。反応混合溶液に脱イオン水（１０．０ｍＬ）とトルエン（１０．０ｍＬ）を加え反応を停止し、有機層を飽和食塩水（１０．０ｍＬ）で洗浄した後、溶媒を留去し、白色固体として化合物［Ｃ１］を定量的に得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ０．９８（９Ｈ）、１．３２（１８Ｈ）、２．０３（６Ｈ）、３．３８（６Ｈ）、３．３（２Ｈ）、５．０５（４Ｈ）、６．３５（２Ｈ）、６．７８（２Ｈ）、７．０１−７．２０（４Ｈ）、７．３７（１Ｈ）
【０６５６】
［実施例Ｃ２］        化合物［Ｃ２］の合成
2005225861.tif 000610
化合物［Ｃ５］（０．４９ｇ、０．８１ｍｍｏｌ）の酢酸エチル/メタノール=１/１溶液（２０．０ｍＬ）に室温でアセチルクロライド（０．３２ｇ、４．０３ｍｍｏｌ）を加え室温で１５時間攪拌した。溶媒を減圧留去することにより、白色固体として化合物［Ｃ２］を３４５．０ｍｇ（７６．７％）得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ１．２１（９Ｈ）、１．４０（１８Ｈ）、２．１３（６Ｈ）、３．８７（２Ｈ）、６．３８（２Ｈ）、７．０１−７．３７（５Ｈ）、７．７１（１Ｈ）、９．２６（２Ｈ）
【０６５７】
［実施例Ｃ３］    化合物［Ｃ３］の合成
2005225861.tif 000611
化合物［Ｃ６］のテトラヒドロフラン溶液に水酸化ナトリウムを加え攪拌する。脱イオン水により反応を停止し、有機層を取り出し溶媒を留去することで化合物［Ｃ３］が得られる。
【０６５８】
［実施例Ｃ４］      錯体［Ｃ４］の合成
2005225861.tif 000612
６０％水素化ナトリウム（０．１５ｇ、３．７２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２．３３ｍＬ）に、−７８℃で化合物［Ｃ６］（０．３５ｇ、０．６２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（３．１１ｍＬ）を滴下し、室温まで昇温し１時間攪拌した。反応混合液を−７８℃にて四塩化チタニウム−２テトラヒドロフラン錯体（０．２１ｇ、０．６２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（２．３３ｍＬ）に滴下した。室温まで昇温し１０時間攪拌し溶媒を減圧留去後、トルエン（５．０ｍＬ）を加え、不溶物を濾別した濾液を減圧留去することにより、錯体［Ｃ４］を赤色固体として２５８．５ｍｇ（６１．５％）得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(Ｃ６Ｄ６) δ０．８８（９Ｈ）、１．３４（１８Ｈ）、１．６８（６Ｈ）、３．８０（２Ｈ）、６．６０−７．８８（８Ｈ）
ＥＩ−ＭＳ  ６００（Ｍ＋）
【０６５９】
重合反応例
［実施例Ｃ５］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０ｍＬを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、錯体［Ｃ４］（０．１０μｍｏｌ）を加え、２０分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、３．４×１０６ｇ製造した。
【０６６０】
［実施例Ｃ６］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ５と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、１．３×１０６ｇ製造した。
【０６６１】
［実施例Ｃ７］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ５と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、３．１×１０６ｇ製造した。
【０６６２】
［実施例Ｃ８］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ５と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、５．０×１０６ｇ製造した。
【０６６３】
［実施例Ｃ９］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（６０μL）を仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、錯体［Ｃ４］（０．１０μmol）を加え２０分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１．３９×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=８．１、融点（Ｔｍ）＝１２２．６℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、３．０×１０６ｇ製造した。
【０６６４】
［実施例Ｃ１０］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ９と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１．８４×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=１９．０、融点（Ｔｍ）＝１２４．５℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．１×１０６ｇ製造した。
【０６６５】
［実施例Ｃ１１］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ９と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１．９４×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=４８．７、融点（Ｔｍ）＝１２２．９℃、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり３であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．６×１０６ｇ製造した。
【０６６６】
［実施例Ｃ１２］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ９と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝３．２２×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=２４１．０、融点（Ｔｍ）＝１２０．６℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、４．５×１０６ｇ製造した。
【０６６７】
［実施例Ｃ１３］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（５０μL）を仕込み、７０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、錯体Ｃ４（０．１０μmol）を加え２０分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１．５１×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=３．４、融点（Ｔｍ）＝１１８．０℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．３×１０６ｇ製造した。
【０６６８】
［実施例Ｃ１４］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ１３と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、３．０×１０５ｇ製造した。
【０６６９】
［実施例Ｃ１５］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ１３と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１．５７×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=４．３、融点（Ｔｍ）＝１２１．０℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．３×１０６ｇ製造した。
【０６７０】
［実施例Ｃ１６］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ１３と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝８．０×１０５、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=２．２、融点（Ｔｍ）＝１２０．４℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．０×１０６ｇ製造した。
【０６７１】
［実施例Ｃ１７］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（４０μL）を仕込み、１３０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１０μmol）、錯体Ｃ４（０．１０μmol）を加え重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、９．０×１０５ｇ製造した。
【０６７２】
［実施例Ｃ１８］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．０３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ１７と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．０×１０５ｇ製造した。
【０６７３】
［実施例Ｃ１９］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．０３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ１７と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．２０×１０６ｇ製造した。
【０６７４】
［実施例Ｃ２０］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ１７と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、７．０×１０５ｇ製造した。
【０６７５】
［実施例Ｃ２１］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（５０μL）を仕込み、７０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ＭＭＡＯ（１００μmol）、錯体Ｃ４（０．１０μｍｏｌ）を加え２０分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１．５×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=３．４、融点（Ｔｍ）＝１１８．０℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．３×１０６ｇ製造した。
【０６７６】
［実施例Ｃ２２］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ２１と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、３．０×１０５ｇ製造した。
【０６７７】
［実施例Ｃ２３］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ２１と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１．６×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=４．３、融点（Ｔｍ）＝１２１．０℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．３×１０６ｇ製造した。
【０６７８】
［実施例Ｃ２４］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ２１と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝８．０×１０５、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=２．２、融点（Ｔｍ）＝１２０．４℃であるポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、２．０×１０６ｇ製造した。
【０６７９】
［実施例Ｃ２５］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（４０μL）を仕込み、１３０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１０μmol）、錯体Ｃ４（０．１０μmol）を加え５分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、９．０×１０５ｇ製造した。
【０６８０】
［実施例Ｃ２６］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ２５と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、２．０×１０５ｇ製造した。
【０６８１】
［実施例Ｃ２７］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ２５と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタン１mol当たり、1時間当たり、１．２×１０６ｇ製造した。
【０６８２】
［実施例Ｃ２８］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｃ２５と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタン１mol当たり、1時間当たり、７．０×１０５ｇ製造した。
【０６８３】
［実施例Ｄ１］        化合物Ｄ１の合成
2005225861.tif 000613
化合物Ａ４（２．７５ｇ、５．０ｍｍｏｌ）のエタノール溶液（３５０ｍＬ）に水素化ホウ素ナトリウム（０．９５ｇ、２５．０ｍｍｏｌ）を室温で添加し３時間攪拌した。脱イオン水（１００．０ｍＬ）とトルエン（１００．０ｍＬ）を加え反応を停止し、有機層を飽和食塩水（７０ｍＬ）で洗浄した後、硫酸ナトリウムにて乾燥後溶媒を留去し、淡黄色油状として粗生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン/酢酸エチル=１０/１→４/１）により精製を行い、白色固体の化合物Ｄ１を２．００ｇ（収率７４．１％）得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ１．３９（１８Ｈ）、２．１２（６Ｈ）、３．４７（６Ｈ）、４．８０（２Ｈ）、５．１６−５．２１（４Ｈ）、６．３５（２Ｈ）、６．９０（１Ｈ）、７．１４−７．６１（５Ｈ）
【０６８４】
［実施例Ｄ２］      化合物Ｄ２の合成
2005225861.tif 000614
化合物Ｄ１（１．５ｇ、２．７１ｍｍｏｌ）の酢酸エチル/メタノール=１/１溶液（６０．０ｍＬ）に室温でアセチルクロライド（０．６４ｇ、８．１４ｍｍｏｌ）を加え室温で１５時間攪拌した。溶媒を減圧留去することにより、白色固体として化合物Ｄ２を１．０６ｇ（８４．５％）で得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(Ｃ６Ｄ６) δ１．４６（１８Ｈ）、１．８２（６Ｈ）、５．０７（２Ｈ）、６．１７−７．３２（８Ｈ）、９．３８（２H）
ＭＳスペクトル（ＥＩ）  ４６４（Ｍ＋）
【０６８５】
［実施例Ｄ３］      遷移金属錯体の合成
化合物Ｄ２（０．４６ｇ、１．００ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（７．８５ｍＬ）に、−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５７Ｍヘキサン溶液（１．９１ｍL）を滴下し、室温まで昇温し１時間攪拌した。反応混合液を−７８℃にて四塩化チタニウム−２テトラヒドロフラン錯体（０．３３ｇ、１．００ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（７．８５ｍＬ）に滴下した。室温まで昇温し１０時間攪拌し溶媒を減圧留去後、トルエン（１０．０ｍＬ）を加え、不溶物を濾別した濾液を減圧留去することにより、遷移金属錯体を赤色固体として３３０ｍｇ得た。
３１Ｐ  ＮＭＲ(Ｃ６Ｄ６)  δ−１．１８
ＭＳスペクトル（ＥＩ）  ９７１
【０６８６】
重合反応例
［実施例Ｄ４］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０ｍＬを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、実施例Ｄ３で得られた遷移金属錯体（０．１０μｍｏｌ）を加え２０分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、６．８×１０６ｇ製造した。
【０６８７】
［実施例Ｄ５
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｄ４と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、１．０×１０５ｇ製造した。
【０６８８】
［実施例Ｄ６］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｄ４と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、３．０×１０６ｇ製造した。
【０６８９】
［実施例Ｄ７］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｄ４と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、３．２×１０６ｇ製造した。
【０６９０】
［実施例Ｄ８］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（６０μL）を仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、実施例Ｄ３で得られた遷移金属錯体（０．１０μmol）を加え２０分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝３．１×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=２．６、融点（Ｔｍ）＝１０４．７℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、５．７×１０６ｇ製造した。
【０６９１】
［実施例Ｄ９］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｄ８と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．０×１０５ｇ製造した。
【０６９２】
［実施例Ｄ１０］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｄ８と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝５．３×１０５、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=１０．１、融点（Ｔｍ）＝１３５．５℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．６×１０６ｇ製造した。
【０６９３】
［実施例Ｄ１１］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｄ８と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１．７×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=２２．８、融点（Ｔｍ）＝１１８．０℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．７×１０６ｇ製造した。
【０６９４】
［実施例Ｄ１２］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（５０μL）を仕込み、７０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、実施例Ｄ３で得られた遷移金属錯体（０．１０μmol）を加え２０分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝２．１×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=５．１、融点（Ｔｍ）＝１１５．５℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、４．４×１０６ｇ製造した。
【０６９５】
［実施例Ｄ１３］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｄ１２と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝６．９×１０５、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=１９．７、融点（Ｔｍ）＝１１８．８℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、９．０×１０５ｇ製造した。
【０６９６】
［実施例Ｄ１４］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｄ１２と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、８．０×１０５ｇ製造した。
【０６９７】
［実施例Ｄ１５］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（４０μL）を仕込み、１３０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１０μmol）、実施例Ｄ３で得られた遷移金属錯体（０．１０μmol）を加え５分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、６．０×１０５ｇ製造した。
【０６９８】
［実施例Ｄ１６］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．０３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｄ１５と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、３．０×１０５ｇ製造した。
【０６９９】
［実施例Ｄ１７］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｄ１５と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、６．０×１０５ｇ製造した。
【０７００】
［実施例Ｅ１］      化合物Ｅ１の合成
2005225861.tif 000615
ペンタフルオロブロモベンゼン（７．４１ｇ、３０．０ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（１１６．８ｍＬ）に、−７８℃でｎ−ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液（２１．２ｍL）を滴下し１時間攪拌した。反応混合溶液に化合物Ａ１（１４．４３ｇ、３０．０ｍｍｏｌ）のジエチルエーテル溶液（５０．０ｍＬ）を滴下し室温まで昇温し５時間攪拌した。脱イオン水（１００ｍＬ）とトルエン（１００ｍＬ）を加え反応を停止し、有機層を飽和食塩水（１００ｍＬ）で洗浄した後、溶媒を留去し白色固体として［化合物Ｅ１］を１７．９ｇ（収率９８．０％）得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ１．４０（１８Ｈ）、２．１８（６Ｈ）、３．５０（６Ｈ）、５．１８−５．２８（４Ｈ）、６．５３（２Ｈ）、７．１９（２Ｈ）
３１Ｐ  ＮＭＲ(Ｃ６Ｄ６)  δ−３０．７
【０７０１】
［実施例Ｅ２］    化合物Ｅ１の合成
２−ｔｅｒｔ−ブチル−１−メトキシメトキシ−４−メチルベンゼンのジエチルエーテル溶液に、−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液を滴下し１時間攪拌する。反応混合溶液にペンタフルオロフェニルジクロロホスフィンのジエチルエーテル溶液を滴下し室温まで昇温し攪拌する。実施例Ｅ１と同様に後処理を行い化合物Ｅ１を得ることができる。
【０７０２】
［実施例Ｅ３］      化合物Ｅ２の合成
2005225861.tif 000616
［化合物Ｅ１］（４．１４ｇ、６．７６ｍｍｏｌ）の酢酸エチル/メタノール=１/１溶液（１６５．０ｍＬ）に室温でアセチルクロライド（２．６５ｇ、３３．８ｍｍｏｌ）を加え室温で１５時間攪拌した。溶媒を減圧留去することにより、白色固体として［化合物Ｅ２］を2.55ｇ（７２．０％）で得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ１．４０（１８Ｈ）、２．２１（６Ｈ）、６．８１（２Ｈ）、７．１７（２Ｈ）
３１Ｐ  ＮＭＲ(Ｃ６Ｄ６)  δ−５９．６
１９Ｆ  ＮＭＲ(Ｃ６Ｄ６)  δ−１６１．５、−１５１．３、−１３０．７
【０７０３】
［実施例Ｅ４］        錯体Ｅ３の合成
2005225861.tif 000617
［化合物Ｅ１］（０．３１ｇ、０．５０ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３．５４ｍＬ）に、−７８℃で四塩化チタン（０．１１ｇ、０．６０ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（３．５４ｍＬ）を滴下し、室温に昇温後１０時間攪拌した。不溶物を濾別した濾液を減圧留去することで、赤色固体として［錯体Ｅ３］を２０８．７ｍｇ（６５．２％）得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(Ｃ６Ｄ６) δ１．３５−１．４４（１８Ｈ）、１．８４−２．０１（６Ｈ）、６．８９−７．０１（４Ｈ）
３１Ｐ  ＮＭＲ(Ｃ６Ｄ６)  δ０．３６
１９Ｆ  ＮＭＲ(Ｃ６Ｄ６)  δ−１６１．０、−１４９．１、−１２３．１
ＥＩ−ＭＳ  ６４０（Ｍ―１）
【０７０４】
［実施例Ｅ５］      錯体Ｅ４の合成
2005225861.tif 000618
［化合物Ｅ２］（０．４２ｇ、０．８０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（４．７３ｍＬ）に、−７８℃でｎ−ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液（１．０３ｍL）を滴下し、室温まで昇温し１時間攪拌した。反応混合液を−７８℃にて四塩化ジルコニウム−２テトラヒドロフラン錯体（０．３０ｇ、０．８０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン溶液（１０．０ｍＬ）に滴下した。室温まで昇温し１０時間攪拌し溶媒を減圧留去後、トルエン（５．０ｍＬ）を加え、不溶物を濾別した濾液を減圧留去することにより、［錯体Ｅ４］を白色固体として２４９．５ｍｇ（４５．４％）得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤ２Ｃｌ２) δ１．３１（１８Ｈ）、２．２１（６Ｈ）、６．９３（２Ｈ）、７．０９（２Ｈ）
３１Ｐ  ＮＭＲ(ＣＤ２Ｃｌ２)  δ−１９．５
１９Ｆ  ＮＭＲ(ＣＤ２Ｃｌ２)  δ−１６１．６、−１５１．４、−１２４．１
ＥＩ−ＭＳ  ６８４（Ｍ＋）
【０７０５】
重合反応例
［実施例Ｅ６］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０ｍＬを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、［錯体Ｅ３］（０．１０μｍｏｌ）を加え、３分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、５．９９×１０７ｇ製造した。
【０７０６】
［実施例Ｅ７］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ６と同様に２０分間重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、１．３×１０６ｇ製造した。
【０７０７】
［実施例Ｅ８］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ６と同様に５分間重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、３．４３×１０７ｇ製造した。
【０７０８】
［実施例Ｅ９］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ６と同様に３．５分間重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、４．９０×１０７ｇ製造した。
【０７０９】
［実施例Ｅ10］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（６０μL）を仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、［錯体Ｅ３］（０．１０μmol）を加え３．６分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝７．３×１０４、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=２．７、融点（Ｔｍ）＝１１８．２℃、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり７であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、４．５２×１０７ｇ製造した。
【０７１０】
［実施例Ｅ11］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ１０と同様に２０分間重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝２．５×１０４、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=２．１、融点（Ｔｍ）＝１１７．６℃、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり４であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．７０×１０６ｇ製造した。
【０７１１】
［実施例Ｅ12］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ１０と同様に５分間重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝３．２１×１０４、融点（Ｔｍ）＝１１６．６℃、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり１８であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、３．４１×１０７ｇ製造した。
【０７１２】
［実施例Ｅ13］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ１０と同様に３分間重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝３．６０×１０４、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=１．８、融点（Ｔｍ）＝１１７．２℃、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり１６であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、６．０２×１０７ｇ製造した。
【０７１３】
［実施例Ｅ14］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（５０μL）を仕込み、７０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、錯体Ｅ３（０．１０μmol）を加え１３分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝５．６×１０４、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=２．３、融点（Ｔｍ）＝１２７．０℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、５．５×１０６ｇ製造した。
【０７１４】
［実施例Ｅ15］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ１４と同様に２０分間重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝２．８×１０５、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=３．４、融点（Ｔｍ）＝１３２．０℃、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり１であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．００×１０６ｇ製造した。
【０７１５】
［実施例Ｅ16］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ１４と同様に６分間重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝４．９×１０４、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=２．３、融点（Ｔｍ）＝１２９．０℃、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり６であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．６２×１０７ｇ製造した。
【０７１６】
［実施例Ｅ17］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ１４と同様に６分間重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝３．６０×１０４、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=１．８、融点（Ｔｍ）＝１２８．０℃、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり８であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．１５×１０７ｇ製造した。
【０７１７】
［実施例Ｅ18］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（４０μL）を仕込み、１３０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１０μmol）、錯体Ｅ３（０．１０μmol）を加え５分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、８．０×１０５ｇ製造した。
【０７１８】
［実施例Ｅ19］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．０３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ１８と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．００×１０５ｇ製造した。
【０７１９】
［実施例Ｅ20］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．０３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ１８と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、８．００×１０５ｇ製造した。
【０７２０】
［実施例Ｅ21］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ１８と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．０×１０５ｇ製造した。
【０７２１】
［実施例Ｅ22］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０ｍＬを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、錯体Ｅ４（０．１０μｍｏｌ）を加え、２０分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、２．６×１０６ｇ製造した。
【０７２２】
［実施例Ｅ23］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ２２と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、５．０×１０５ｇ製造した。
【０７２３】
［実施例Ｅ24］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ２２と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、１時間当たり、７．６×１０６ｇ製造した。
【０７２４】
［実施例Ｅ25］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ２２と同様に１０分間重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、１．８５×１０６ｇ製造した。
【０７２５】
［実施例Ｅ26］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（６０μL）を仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、錯体Ｅ４（０．１０μmol）を加え重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝３．２０×１０５、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=４６．５であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．９×１０６ｇ製造した。
【０７２６】
［実施例Ｅ27］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ２６と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、３．００×１０５ｇ製造した。
【０７２７】
［実施例Ｅ28］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ２６と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝８．０×１０３、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=１．６、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり４２であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、８．６×１０６ｇ製造した。
【０７２８】
［実施例Ｅ29］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｅ２６と同様に８分間重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝８．６×１０３、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=１．６、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり４０であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．５１×１０７ｇ製造した。
【０７２９】
［実施例Ｆ1］        化合物[Ｆ１]の合成
2005225861.tif 000619
２−Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ−１−ブロモベンゼン（１０．０ｇ、５０．０ｍｍｏｌ）のエーテル溶液（７７．３ｍＬ）に−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５７Ｍヘキサン溶液（３３．４ｍL）を滴下し、室温まで昇温し１時間攪拌した。−７８℃に冷却し、化合物［Ａ１］（２４．１g、５０．０mmol）のエーテル溶液（５１．０mL）を加え、室温まで昇温し３時間攪拌した。脱イオン水（１００．０ｍＬ）とトルエン（１００ｍＬ）を加え反応を停止し、有機層を飽和食塩水（１００ｍＬ）で洗浄した後、溶媒を留去し、淡黄色油状の目的生成物を得た。シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製を行い、白色固体として化合物［Ｆ１］を１３．２７ｇ（収率４６．９％）得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ１．４１（１８Ｈ）、２．１０（６Ｈ）、２．５４（６Ｈ）、３．５２（６Ｈ）、５．２５−５．３４（４Ｈ）、６．２９（２Ｈ）、６．８１−７．３０（６Ｈ）
【０７３０】
［実施例Ｆ２］      化合物［Ｆ２］の合成
2005225861.tif 000620
化合物［Ｆ１］（８．４９ｇ、１５．０ｍｍｏｌ）の酢酸エチル/メタノール=１/１溶液（３４０ｍＬ）に室温でアセチルクロライド（５．８９ｇ、７５．０ｍｍｏｌ）を加え室温で１５時間攪拌した。溶媒を減圧留去することにより、白色固体として化合物［Ｆ２］を定量的に得た。
１Ｈ  ＮＭＲ(ＣＤＣｌ３) δ１．３８（１８Ｈ）、２．１０（６Ｈ）、３．１１（６Ｈ）、６．４６（２Ｈ）、７．１９−７．６６（６Ｈ）
３１Ｐ  ＮＭＲ(ＣＤ２Ｃｌ２)  δ−５２．２
【０７３１】
［実施例Ｆ３］      化合物［Ｆ３］の合成
2005225861.tif 000621
２−Ｎ,Ｎ−ジメチルアミノ−１−ブロモベンゼンのテトラヒドロフラン溶液に−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５７Ｍヘキサン溶液を滴下し、室温まで昇温し１時間攪拌する。反応混合液を三塩化リンのテトラヒドロフラン溶液に−７８℃にて滴下し、室温に昇温し５時間攪拌する。不溶物を濾別した濾液を減圧留去することにより化合物［Ｆ３］を得ることができる。
【０７３２】
［実施例Ｆ４］    化合物［Ｆ１］の合成
１-メトキシメトキシ−２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルベンゼンのテトラヒドロフラン溶液に−７８℃でｎ―ブチルリチウム１．５６Ｍヘキサン溶液を滴下し、室温まで昇温し１時間攪拌する。−７８℃で反応混合液に化合物［Ｆ３］のテトラヒドロフラン溶液を滴下し室温まで昇温後１０時間攪拌する。実施例Ｆ１と同様に後処理をすることで、化合物［Ｆ１］を得ることができる。
【０７３３】
［実施例Ｆ５］      錯体［Ｆ４］の合成
2005225861.tif 000622
化合物［Ｆ１］（０．７３ｇ、１．２９ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（８．４４ｍＬ）に、−７８℃で四塩化チタン（０．２９ｇ、１．５５ｍｍｏｌ）のトルエン溶液（８．４４ｍＬ）を滴下し、室温に昇温し１０時間攪拌した。不溶物を濾別した濾液を減圧留去することにより、赤茶色固体として錯体［Ｆ４］を２７０ｍｇ（収率３５．１％）で得た。
３１Ｐ  ＮＭＲ（ＣＤ２Ｃｌ２）  δ２６．０
ＥＩ−ＭＳ  ５６０（Ｍ−Ｃｌ）
【０７３４】
重合反応例
［実施例Ｆ6］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０ｍＬを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、錯体［Ｆ４］（０．１０μｍｏｌ）を加え、８．５分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、１．６０×１０７ｇ製造した。
【０７３５】
［実施例Ｆ7］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｆ６と同様に２０分間重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、２．００×１０５ｇ製造した。
【０７３６】
［実施例Ｆ8］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｆ６と同様に２０分間重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、３．０×１０６ｇ製造した。
【０７３７】
［実施例Ｆ9］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｆ６と同様に２０分間重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、３．０×１０６ｇ製造した。
【０７３８】
［実施例Ｆ10］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（６０μL）を仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１００μmol）、錯体［Ｆ４］（０．１０μmol）を加え、７分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１．２０×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=９９．１、Ｍｅ分岐が１０００炭素あたり６であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．６３×１０７ｇ製造した。
【０７３９】
［実施例Ｆ11］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｆ１０と同様に２０分間重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、２．００×１０５ｇ製造した。
【０７４０】
［実施例Ｆ12］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｆ１０と同様に２０分間重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１．６９×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=１４．０であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．９０×１０６ｇ製造した。
【０７４１】
［実施例Ｆ13］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｆ１０と同様に２０分間重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝２．１８×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=８．０であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．９０×１０６ｇ製造した。
【０７４２】
［実施例Ｆ14］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（５０μL）を仕込み、７０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ＭＭＡＯ（１００μmol）、錯体［Ｆ４］（０．１０μｍｏｌ）を加え２０分間重合した。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝８．１×１０５、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=５．９、融点（Ｔｍ）＝１１６．９℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．７×１０６ｇ製造した。
【０７４３】
［実施例Ｆ15］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｆ１４と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝９．３×１０５、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=８．９、融点（Ｔｍ）＝１２０．６℃であるポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．４×１０６ｇ製造した。
【０７４４】
［実施例Ｆ16］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｆ１４と同様に重合を行った。重合の結果、分子量（Ｍｗ）＝１．０×１０６、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）=５．６、融点（Ｔｍ）＝１１９．３℃であるポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、１．４×１０６ｇ製造した。
【０７４５】
［実施例Ｆ17］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（４０μL）を仕込み、１３０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、ＭＭＡＯ（１０μmol）、錯体［Ｆ４］（０．１０μmol）を加え５分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、１．１×１０６ｇ製造した。
【０７４６】
［実施例Ｆ１８］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｆ１７と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタン１mol当たり、1時間当たり、６．０×１０５ｇ製造した。
【０７４７】
［実施例Ｆ１９］
ＭＭＡＯの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は実施例Ｆ１７と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタン１mol当たり、1時間当たり、７．０×１０５ｇ製造した。
【０７４８】
［参考例１］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０ｍＬを仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、メチルアルミノキサン（１００μmol）、２，２’−（フェニルホスフィン）ビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）（テトラヒドロフラン）チタニウムジクロライド（０．１０μｍｏｌ）を加え、３０分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、１．００×１０６ｇ製造した。
【０７４９】
［参考例２］
メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ペンタフルオロフェニルボラン（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は参考例１と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、３．００×１０５ｇ製造した。
【０７５０】
［参考例３］
メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は参考例１と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、１．２０×１０６ｇ製造した。
【０７５１】
［参考例４］
メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は参考例１と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１ｍｏｌ当たり、1時間当たり、１．３０×１０６ｇ製造した。
【０７５２】
［参考例５］
オートクレーブに窒素下で、トルエン５．０mL、1−ヘキセン（５０μL）を仕込み、４０℃で安定させた後、エチレンを０．６０ＭＰａまで加圧し安定させた。ここに、メチルアルミノキサン（１００μmol）、２，２’−（フェニルホスフィン）ビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）（テトラヒドロフラン）チタニウムジクロライド（０．１０μmol）を加え、３０分間重合した。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、５．００×１０５ｇ製造した。
【０７５３】
［参考例６］
メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は参考例５と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、６．００×１０５ｇ製造した。
【０７５４】
［参考例７］
メチルアルミノキサンの代わりに、トリイソブチルアルミニウムのヘキサン溶液（４０μL、１．０Ｍ、関東化学）、トリフェニルメチルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート（０．３０μｍｏｌ）を用いた以外は参考例５と同様に重合を行った。重合の結果、ポリマーをチタニウム１mol当たり、1時間当たり、７．００×１０５ｇ製造した。
【産業上の利用可能性】
【０７５５】
本願発明の配位子を有する遷移金属錯体は、オレフィン用重合触媒の成分として有用であり、当該触媒は良好な重合活性を有し、高分子量のオレフィン重合体の製造に用いることができる。
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月6日(2004.12.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４３４】
2005225861.tif 000658
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４３６】
2005225861.tif 000659
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４３８】
2005225861.tif 000660
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４４０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４４０】
2005225861.tif 000661
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４４２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４４２】
2005225861.tif 000662
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０４４４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０４４４】
2005225861.tif 000663