(57)【要約】【課題】  本発明における課題は、アウトイオン、パーティクル、Ｓｎ、Ｓｉ、アウトガスが少ないことが定量的に示され、透明性を有しかつ金属箔並の高い防湿性を有するクリーンフィルムをよりなる包装袋を提供することを目的とする。また、前記包装袋を用いた電子部品包装体を提供することを目的とする。【課題手段】  クラス１０００以下のクリーンルームにおいてＬＰＣ（液中パーティクルカウンター）測定したとき、シーラント表面に付着している粒径１μｍ以上のパーティクル数が１個／ｃｍ２以下のクリーンフィルムよりなることを特徴とする包装袋や、前記クリーンフィルムのシーラントの少なくとも片側にガスバリア性フィルムを積層した多層構造を有するクリーンフィルムよりなることを特徴とする包装袋を提供するものである。また、前記包装袋を用いて電子部品を包装したことを特徴とする電子部品包装体を提供するものである。を提供するものである。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
クラス１０００以下のクリーンルームにおいてＬＰＣ（液中パーティクルカウンター）測定したとき、シーラント表面に付着している粒径１μｍ以上のパーティクル数が１個／ｃｍ２以下のクリーンフィルムよりなることを特徴とする包装袋。
【請求項２】
前記クリーンフィルムのシーラントがポリオレフィン系樹脂からなることを特徴とする、請求項１に記載の包装袋。
【請求項３】
前記クリーンフィルムのシーラントの少なくとも片側にガスバリア性フィルムを設け、さらにナイロンフィルム層を積層した多層構造を有するクリーンフィルムよりなることを特徴とする、請求項１または２のいずれかに記載の包装袋。
【請求項４】
請求項１から３に記載の包装袋を用いて電子部品を包装したことを特徴とする電子部品包装体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、塵・埃等の付着、ハロゲンイオンをはじめとする化学物質の付着を極端に嫌うシリコンウエハー、ＩＣ、ＬＳＩ等の半導体製品、コンピューター周辺装置の記憶装置であるＦＤＤ、光磁気ディスクドライブ、ＨＤＤ、ＭＦ（磁気抵抗効果式）ヘッド等、メモリ媒体であるＦＤ、ＨＤ等の電子部品等の包装分野に関するものである。さらに詳しくは、内容物に接触する可能性があるシーラントフィルム層からの溶出成分、揮発性成分、初塵等が定量的に少なく、かつ高い防湿性と内容物の認識が可能な透明性が必要とされる包装分野に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
シリコンウエハー、ＩＣ、ＬＳＩ等の半導体製品、コンピューター周辺装置の記憶装置であるＦＤＤ、光磁気ディスクドライブ、ＨＤＤ、ＭＲ（磁気抵抗効果式）ヘッド等、メモリ媒体ＦＤＤ、ＨＤ等の電子部品は極微小、極微量の汚染物で腐食、動作不良等の障害が起こる。
【０００３】
ＨＤＤを例に挙げると上記汚染物質は（１）腐食の原因となるイオン性物質、（２）ヘッド−ディスク間に侵入して記録再生面の損傷原因となる塵埃、（３）液滴飛散ないし表面移動により、ヘッド−ディスク間に進入して製品粘着原因となる不揮発性残渣、（４）凝縮、吸着、固体化などによりヘッドに付着して浮上性に影響を及ぼしたり、ヘッド−ディスク間に凝縮して粘着原因となる有機系アウトガス、に分けられる。アウトガスはＨＤＤの信頼性に大きく関与しており、アウトガス物質とされるものの中で、シロキサン化合物、トリブチルスズ化合物等はヘッド表面に固着し、ヘッド・クラッシュの原因となる。炭化水素、メタクリレート系モノマー、ＤＯＰ（ディオクチルフタレート）等の可塑剤や酸化防止剤であるフェノール系物質等はヘッドと媒体の吸着障害の原因となる。有機酸はヘッドのコア材やコイル部および磁気媒体の磁性膜腐食の原因となる。（１）のイオン性物質をアウトイオン、（２）の塵埃をパーティクルともいう。（１）〜（４）に加え、ディスク障害につながるために、Ｓｎ、Ｓｉは禁忌物質として知られている。
【０００４】
このような汚染物で製品が汚染されることをコンタミネーションというが、極微小、極微量の汚染物が故障原因となるため、通常のコンタミネーションと区別する意味で、マイクロコンタミネーションとも呼ばれている。
【０００５】
ＨＤＤのみならず、このような電子部品を梱包する包装袋については、内容物に悪影響を及ぼさないよう、汚染物を可能な限り少なくし、マイクロコンタミネーションを制御することが求められる。しかし、クリーン包材およびクリーン包装袋と呼ばれる包装材料は広く世の中に流布しているものの、包材のクリーン度評価方法の規定およびクリーン性を定量的に規定した包材はほとんどないのが現状である。
【０００６】
また、シリコーンウエハー、ＩＣ、ＬＳＩ等の半導体製品、コンピューター周辺装置の記憶装置であるＦＤＤ、光磁気ディスクドライブ、ＨＤＤ、ＭＲ（磁気抵抗効果式）ヘッド等、メモリ媒体であるＦＤ、ＨＤ等の電子部品に用いられる包装材料には高い防湿性が必要であり、アルミニウム等の金属からなる金属箔を用いらざるを得なかった。しかし、金属箔等を用いた包装材料の場合、内容物を確認することができず、使用後の廃棄の際も不燃物として処理しなければならないという問題がある。しかしながら、これらに代わるハイバリヤ性フィルム層が存在しない場合は、防湿性に劣り、内容物に影響を与えることが懸念される。
【特許文献１】特開２００３−１４７０９４
【特許文献２】特開２００３−１７７１２０
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、上記の課題を考慮してなされたもので、アウトイオン、パーティクル、Ｓｎ、Ｓｉ、アウトガスが少ないことが定量的に示され、透明性を有し、かつ金属箔並の高い防湿性を有するクリーンフィルムよりなる包装袋を提供するものである。また、前記包装袋を用いて電子部品を包装した包装体を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記目的を達成するためのもので、本発明の請求項１に記載の発明は、クラス１０００以下のクリーンルームにおいてＬＰＣ（液中パーティクルカウンター）測定したとき、シーラント表面に付着している粒径１μｍ以上のパーティクル数が１個／ｃｍ２以下のクリーンフィルムよりなることを特徴とする包装袋である。
【０００９】
請求項２に記載の発明は、前記クリーンフィルムのシーラントがポリオレフィン系樹脂からなることを特徴とする、請求項１に記載の包装袋である。
【００１０】
請求項３に記載の発明は、前記クリーンフィルムのシーラントの少なくとも片側にガスバリア性フィルムを設け、さらにナイロンフィルム層を積層した多層構造を有するクリーンフィルムよりなることを特徴とする、請求項１または２のいずれかに記載の包装袋である。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、請求項１から３に記載の包装袋を用いて電子部品を包装したことを特徴とする電子部品包装体である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の包装袋は、アウトイオン、溶出Ｓｎ、溶出Ｓｉ、パーティクル、アウトガスが少なく、最高水準のクリーン性を有し、さらに透明性を有し、かつ金属箔並の高い防湿性を有するものである。また、ＨＤやシリコンウエハーをはじめとする電子部品を包装することにより、上記性質を有する電子部品包装体とすることが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００１４】
図１は本発明のシーラント巻取１０の斜視図であり、図２（ａ）はキャスト法で製膜して巻き取ったシーラント１１のＡ−Ａ’面の側断面図であり、図２（ｂ）はインフレーション製膜機で樹脂をチューブ状に押し出し、押し出したチューブ状シーラント内にクリーンエアを吹き込み、チューブ状シーラントの両端を製造ラインで耳切りをせず、帯状で巻き取ったシーラント１２のＡ−Ａ’面の側断面図である。
【００１５】
前記シーラントは、共押し出し構成とすることも好ましく行われる。つまり、要求されるシーラントの厚みに応じて、２層以上の共押し出し構成とすることも可能である。例えば、シーラントの厚みとして９０μｍが要求される場合、加工方法によって単層で９０μｍの厚みが得られない場合がある。そのようなときには、４５μｍ、４５μｍの２層共押し出し構成としてもよいし、３０μｍ、３０μｍ、３０μｍの３層共押し出し構成としてもよい。共押し出し構成の場合に用いる樹脂は、必ずしも同じ樹脂ではなくてもよいが、十分な層間強度が得られるような樹脂を選択する必要がある。
【００１６】
通常、シーラントの厚みは１０〜２００μｍ程度であるが、シーラントが厚いと後述する総アウトガス量が増加するため、シーラントの総厚みは１２０μｍ以下が好ましい。
【００１７】
前記シーラント１１、１２に用いる樹脂としては、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、中密度ポリエチレン（ＭＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）、直鎖状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）などのポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリブテン、ポリメチルペンテンなどの単独重合体や、エチレン、プロピレン、ブテン、メチルペンテンなどのオレフィンから選ばれる２つ以上のモノマーの共重合体、例えばエチレン−プロピレン共重合体等が挙げられ、これら２つ以上の混合物を用いることも可能であり、また、ある種の官能基を導入したグラフトポリマー、例えば無水マレイン酸グラフトポリプロピレンのような樹脂、エチレン−α、β不飽和カルボン酸共重合体を主骨格とするエチレン系共重合体を用いることも可能であるが、クリーン性の面からはメルトインデックス（ＭＩ）＝０．１〜２０（ｇ／１０分・１９０℃）で、かつ酸化防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等の添加物を含まないＬＤＰＥが最適である。ＬＤＰＥのメルトインデックス（ＭＩ）が０．１〜２０（ｇ／１０分・１９０℃）が好ましいとするのは、メルトインデックス（ＭＩ）の低い樹脂を用いたほうが、低分子量成分が少ないため成形時の熱安定性に優れ、クリーン性が高い積層材料が得られるためである。
【００１８】
図３（ａ）は、シーラント１１の片面に接着剤層を介して蒸着フィルム層を積層した積層体の断面図であり、シーラント１１、接着剤層１３、蒸着フィルム層１５が順次積層されている。また図３（ｂ）は、シーラント１２の両面に接着剤層を介して蒸着フィルム層、ナイロン層を積層した積層体の断面図であり、シーラント１２、接着剤層１３、蒸着フィルム層１５、接着剤層１７、ナイロン層１８が順次積層されている。また図３（ｃ）は、シーラント１１の片面に接着剤層を介して蒸着フィルム層、ナイロン層を積層した積層体の断面図であり、シーラント１１、接着剤層１３、蒸着フィルム層１６、接着剤層１７、ナイロン層１８が順次積層されている。蒸着フィルム層、シーラント層以外に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ナイロン、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物フィルム（ＥＶＯＨフィルム）等からなるフィルム層が、突き刺し強度等の機械的強度を補うためなど目的に合わせて適宜選択される。
【００１９】
前記蒸着フィルム層１５、１６あるいはナイロン層１８の積層方法としては、接着剤層１３及び１７を介して公知のドライラミネート法、ノンソルベントラミネート法などで積層可能である。前記接着剤層１３、１７に用いる接着剤としては、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリエーテル系、及びそれらを主体とした混合物などが一般的に用いられるが、Ｓｎ化合物及びＳｉ化合物を含有せず、溶出成分の少ない接着剤が好ましく、かつ塗布量は必要最低限とすることが好ましい。接着性樹脂を用いることも可能である。また、何らかの表面改質によりダイレクトラミネーション、あるいはサンドラミネーションをすることも好ましく行われる。また、ラミネートする面の活性を上げるために、コロナ処理、火炎処理、プラズマ処理、オゾン処理等の表面処理をすることも可能である。
【００２０】
サンドラミネーションに用いるラミネーション用樹脂としては、エチレンアクリル酸共重合体、メタクリル酸共重合体、エチレンアクリレート共重合体、メタアクリレート共重合体、エチレン酢酸ビニル共重合体、変性マレイン酸共重合体などが用いられる。接着剤をアンカーコートしてもよいが、クリーン性の面からアンカーコートをせず、酸成分等の分解が少ないポリエチレンを用いるサンドラミネーションをする方法がより好ましい。
【００２１】
図３（ａ）、（ｂ）の蒸着フィルム層１５は、蒸着フィルム基材層１４上に、蒸着薄膜層（Ａ層）と、少なくとも水溶性高分子を含むコーティング剤よりなる被膜層（Ｂ層）とが順次積層された蒸着フィルムである。図３（ｃ）の蒸着フィルム層１６は、蒸着フィルム基材層１４上に蒸着薄膜層（Ａ層）と、少なくとも水溶性高分子を含むコーティング剤よりなる被膜層（Ｂ層）と、更に蒸着薄膜層（Ｃ層）と、少なくとも水溶性高分子を含むコーティング剤よりなる被膜層（Ｄ層）とが順次積層されている蒸着フィルムである。図３（ａ）、（ｂ）の蒸着フィルム層１５と比較して、図３（ｃ）の蒸着フィルム層１６ではより高いガスバリア性を付与することが可能である。どちらの蒸着フィルムを用いる場合も、ナイロンフィルム等の他のフィルム層を設ける場合には、蒸着薄膜層上に他のフィルム層を設けることが好ましい。
【００２２】
前記蒸着フィルム基材層１４はプラスチック材料であり、ＰＥＴフィルム、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ナイロンフィルム、ポリプロピレンフィルム（ＰＰフィルム）、ポリエチレンフィルム、ＥＶＯＨフィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、ポリイミドフィルムなどが選択され、延伸、未延伸のどちらを用いることも可能であるが、耐熱性の面から二軸延伸ＰＥＴフィルムが特に好ましく用いられる。薄膜層あるいは他のフィルムを接着させる面にコロナ処理、低温プラズマ処理等を施すことでより良好な接着強度が得られる。
【００２３】
前記蒸着フィルム基材層１４の厚さは特に制限を受けるものではないが、蒸着薄膜層（Ａ層およびＣ層）、被膜層（Ｂ層およびＤ層）を形成する場合の加工性を考慮すると、３〜２００μｍの範囲が好ましく、特に６〜３０μｍとすることがより好ましい。
【００２４】
また、量産性を考慮すると、連続的に前記各層を形成することができるように、長尺状の連続フィルムを用いることが好ましい。
【００２５】
前記蒸着薄膜層（Ａ層およびＣ層）の薄膜形成材料としては、アルミニウム、マグネシウム、ケイ素、錫、チタン、亜鉛、ジルコニウム、カルシウム、ニッケル等から選択される金属、またはこれら金属の酸化物、窒化物、フッ化物のうちのいずれか１種、あるいは２種以上の混合物が挙げられる。透明性を考慮する場合には、無機化合物を用いることが好ましく、特に酸化アルミニウム、酸化ケイ素は蒸着膜単体での水蒸気、酸素等のガスバリア性に優れ、さらに高い透明性を有するために内容物の認識が可能となる点でより好ましい。
【００２６】
また、蒸着薄膜層Ａ層およびＣ層に用いる薄膜形成材料は、それぞれ同じ材料でも異なる材料でも特に制限はなく、要求されるガスバリア性に応じてその組合せは特に限定されない。
【００２７】
蒸着薄膜層を形成する方法として種々存在するが、真空蒸着法やスパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマ気相成長法（ＣＶＤ）などの薄膜形成方法を用いることが可能である。特に真空蒸着法は生産効率の点から特に優れている。真空蒸着法の加熱手段としては、電子線加熱方式や抵抗加熱方式、誘導加熱方式のいずれかが好ましい。また、蒸着薄膜層と基材の密着性および蒸着薄膜層の緻密性を向上させるために、プラズマアシスト法やイオンビームアシスト法を用いて蒸着することも可能である。また、蒸着の際に、酸素ガス等を吹き込む反応蒸着を行ってもよい。
【００２８】
蒸着薄膜層の厚みは、用いられる蒸着材料の種類等により最低条件が異なるが、１〜３００ｎｍの範囲であることが望ましい。より好ましくは５〜１００ｎｍの範囲にあることが望ましい。蒸着薄膜層の厚みが１ｎｍ未満であると、基材の全面に製膜できないおそれがある。また、蒸着薄膜層の厚みが３００ｎｍを超える場合には薄膜にフレキシビリティを保持させることができず、外的要因により薄膜に亀裂を生じさせるおそれがあるために好ましくない。
【００２９】
次いで、少なくとも水溶性高分子を含むコーティング剤よりなる被膜層（Ｂ層およびＤ層）について説明する。本発明において、被膜層は少なくとも水溶性高分子を含む必要がある。このような水溶性高分子としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン、デンプン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等の水溶性を示すものであれば特に限定されることはない。これらの中で、ＰＶＡを用いた場合は特にガスバリア性に優れる。ここでのＰＶＡは、酢酸基が数十％残存している部分ケン化ＰＶＡから酢酸基が数％しか残存していない完全ケン化ＰＶＡまで、一般にポリ酢酸ビニルをケン化して得られるものであれば特に限定されるものではない。これを蒸着薄膜層上にコーティングした後、加熱乾燥することで被膜層が形成される。
【００３０】
更に、被膜層（Ｂ層およびＤ層）が、水溶性高分子と、（ａ）１種以上の金属アルコキシド、または／および、その加水分解物、または（ｂ）塩化錫、の少なくともいずれか１つを含む水溶液、あるいは水とアルコールとの混合溶液とを主剤とするコーティング剤からなる層であることが好ましい。例えば、水溶性高分子と塩化錫とを水系（水、あるいは水とアルコールとの混合）溶媒で溶解させた溶液、あるいはこれに金属アルコキシドを直接、あるいは予め加水分解するなどの処理を施したものを混合した溶液を調製する。ここで用いられる水溶性高分子は前述したものを使用することが可能である。
【００３１】
前記コーティング剤に使用される塩化錫は、塩化第一錫（ＳｎＣｌ２）、塩化第二錫（ＳｎＣｌ４）、あるいはそれらの混合物であってもよい。また、これらの塩化錫は無水物であっても、水和物であってもよい。
【００３２】
また、前記金属アルコキシドとは、一般式Ｍ（ＯＲ）ｎ（Ｍ：Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ等の金属、Ｒ：ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５等のアルキル基、ｎ：自然数）で表される化合物である。具体的にはテトラエトキシシラン［Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４］、トリイソポロポキシアルミニウム［Ａｌ（Ｏ−２’−Ｃ３Ｈ７）３］などが挙げられ、なかでもテトラエトキシシランは、加水分解後、水系の溶媒中において安定であるためより好ましい。
【００３３】
前記コーティング剤の塗布方法としては、グラビア印刷法、ディッピング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、スプレー法等の公知の手法を用いることができる。
【００３４】
被膜層（Ｂ層およびＤ層）の厚みは、乾燥後で１００〜５０００ｎｍが好ましく、特に厚みが均一であり、２００〜６００ｎｍの厚みであることがより好ましい。１００ｎｍ未満の場合には塗膜の厚みが均一にならないおそれがあり、また、５０００ｎｍを超える場合にはクラックを生じ易くなる。
【００３５】
本発明のクリーンフィルムについて、定量的に規定したアウトイオン量、溶出Ｓｎ量、溶出Ｓｉ量、フィルム表面のパーティクル（微粒子）数、アウトガスについて説明を加える。
【００３６】
アウトイオン量および溶出Ｓｎ量の抽出は同一条件で行う。抽出は、前記クリーンフィルムの内容物に接する面を２２±３℃の雰囲気下において、１ｃｍ２当たり０．３ｍｌの超純水で１０分間行う。
【００３７】
抽出液中のイオン濃度をイオンクロマトグラフ（ＩＣ）で測定した際の、塩素イオン、亜硝酸イオン、硝酸イオン、リン酸イオン、硫酸イオンの５種のアウトイオン量が各０．２０ｎｇ／ｃｍ２以下であり、さらに、ナトリウムイオン、カリウムイオン、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、塩素イオン、亜硝酸イオン、硝酸イオン、リン酸イオン、硫酸イオンの９種のアウトイオン量が各０．２０ｎｇ／ｃｍ２以下であることが、クリーンフィルムにおいて要求される。また、抽出液中のＳｎ濃度を結合誘導プラズマ質量分析計（ＩＣＰ−ＭＳ）で測定した結果、０．５ｐｇ／ｃｍ２以下であることが要求される。
【００３８】
溶出Ｓｉ量の抽出は、前記クリーンフィルムの内容物に接する面を２２±３℃の雰囲気下において、１ｃｍ２当たり０．１ｍｌの超純水で抽出を行う。抽出液中のＳｉ量を測定する方法としては原子吸光分光光度分析計（ＡＡＳ）、特にフレームレスＡＡＳが用いられる。クリーンフィルムにおいて、抽出液中のＳｉ濃度は、０．５ｎｇ／ｃｍ２以下であることが要求される。
【００３９】
フィルム表面のパーティクルの抽出は、前記クリーンフィルムの内容物に接する面を１ｃｍ２当たり０．１ｍｌの超純水で行う。抽出液中のパーティクル数の測定は、液中パーティクルカウンター（ＬＰＣ）を用いて測定を行う。その結果、粒径１μｍ以上のパーティクル数が１個／ｃｍ２以下、粒径０．３μｍ以上のパーティクル数が１２５個／ｃｍ２以下であることが、クリーンフィルムにおいて好ましい。
【００４０】
アウトガスは、前記クリーンフィルムを一定面積サンプリングし、パージアンドトラップ（Ｐ＆Ｔ）装置で８０℃、１０分間加熱した後、ガスクロマトグラフ−質量計（ＧＣ−ＭＳ）にて測定する。総アウトガス量がヘキサデカン換算で１５００ｎｇ／ｃｍ２未満であることが好ましい。また、環状シロキサン合計量がシロキサン六量体換算で２．５ｎｇ／ｃｍ２未満であることが好ましい。
【００４１】
前記クリーンフィルムのクリーン度を評価する際には、抽出作業や測定時にコンタミネーションが生じないように細心の注意を払う必要があり、パーティクルを高性能フィルター等で除去した高清浄環境のクリーンルーム内で作業を行うことが好ましい。米国規格において、粒径０．５μｍ以上のパーティクル数が１立方フィート中に１００個以下の清浄度をクラス１００、１００００個以下の清浄度をクラス１００００と呼ぶ。クリーンフィルムからのアウトイオン、溶出Ｓｎ量、溶出Ｓｉ量を評価する際には、クラス１００以下のクリーンルームであることが好ましい。また、抽出中に環境からイオンを取り込むことがないように、クリーンルーム環境のイオンが少ないことが重要であるため、ケミカルフィルターを有するクリーンルーム内で作業を行うことが好ましい。
クリーンフィルムからのアウトイオン、溶出Ｓｎ量、溶出Ｓｉ量を評価する際には、クラス１００以下のクリーンルームであることが好ましい。また、抽出中に環境からイオンを取り込むことがないように、クリーンルーム環境のイオンが少ないことが重要であるため、ケミカルフィルターを有するクリーンルーム内で作業を行うことが好ましい。また、抽出に用いる超純水は、比抵抗１８ｍΩ・ｃｍ以上で、イオンやＳｎ、Ｓｉレベルが低いことが望まれ、より好ましくは検出限界以下であることが望ましい。
【００４２】
また、クリーンフィルムの内面に付着するパーティクル数を評価する際には、抽出に用いる超純水のパーティクルレベルが低いことが望まれる。少なくとも、超純水に含まれる粒径０．３μｍ以上のパーティクル数が２個／ｍｌ以下であること、さらに好ましくは０個／ｍｌであることが望まれる。また、環境中の浮遊パーティクルを取り込むことがないよう、クラス１０００以下のクリーンルーム内で作業を行うことが好ましい。
【００４３】
以下に、アウトイオン、溶出Ｓｎ量、溶出Ｓｉ量、アウトガス測定について、抽出から測定までの手順を示す。
【００４４】
第一に、梱包されたクリーンフィルムをコンタミネーション防ぐために測定直前に開封する。フィルムが袋状でない場合には、コンタミネーションを防ぐためにインパルスシールあるいはヒートシールを行い袋状にする。サンプル量が少ない等の理由から三方袋状にできないフィルムを評価する場合には、フィルムを一定面積サンプリングし、容器からの溶出が少ないポリプロピレン容器やテフロン（登録商標）容器等にフィルムを入れて、フィルム表面積当たり０．３ｍｌの超純水でフィルム両面から抽出を行ってもよい。製袋品については、クリーン度評価時のコンタミネーションを避けるために、一定面積をサンプリングすることなく、その状態のまま評価することが好ましい。
【００４５】
本発明のクリーンフィルムにおいては、袋サイズの異なるサンプルであっても、サンプル表面積当たりの超純水量を合わせることで、クリーン度測定結果の比較が可能である。
【００４６】
まず、包装袋中に、袋内表面積１ｃｍ２当たり０．３ｍｌの超純水を静かに入れ、開口部を三つ折りにしてクリップ止めする。シールする場合には、測定時開口部を開く際のコンタミネーションがないように注意を払う必要がある。袋内面全体に超純水が接していればよく、袋内表面積１ｃｍ２当たりに必要な超純水の量は測定の条件に応じて適宜変えることが可能である。
【００４７】
平袋の場合、包装袋中の超純水が袋の内面全部に行き渡るように、包装袋を横にして１回転当たり約６秒の速度でゆっくりと５回転させる。次に、包装袋の面を変えて、同様の作業を行った後、周囲からイオン取り込むことがない環境、好ましくはケミカルフィルター付きのドラフト内で、包装袋を片面につき５分、計１０分間放置する。
【００４８】
ガゼット袋の場合は、包装袋中の超純水が袋の内面全部に行き渡るように、包装袋を横にして１回転当たり約６秒の速度でゆっくりと５回転させる。次に、折り込み部分を下にして、包装袋中の超純水が袋の内面全部に行き渡るように、包装袋を横にして１回転当たり約６秒の速度でゆっくりと５回転させる。この作業を４面全てについて行う。その後、包装袋を周囲からイオン取り込むことがない環境、好ましくはケミカルフィルター付きのドラフト内で片面につき５分、計１０分間放置する。
【００４９】
国際ディスクドライブ協会（ＩＤＥＭＡ）ＳＴＡＮＤＡＲＤＳのＤｏｃｕｍｅｎｔ  Ｎｏ．Ｍ１３−９９  Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  ｏｆ  Ｅｘｔｒａｃｔａｂｌｅ／Ｌｅａｃｈａｂｌｅ  Ｃａｔｉｏｎ  Ｃｏｍｔａｍｉｎａｔｉｏｎ  Ｌｅｖｅｌｓ  ｏｎ  Ｄｒｉｖｅ  Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓ  ｂｙ  Ｉｏｎ  Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ、Ｍ２２−９９  Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  ｏｆ  Ｅｘｔｒａｃｔａｂｌｅ／Ｌｅａｃｈａｂｌｅ  Ａｎｉｏｎ  Ｃｏｍｔａｍｉｎａｔｉｏｎ  Ｌｅｖｅｌｓ  ｏｎ  Ｄｒｉｖｅ  Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓ  ｂｙ  Ｉｏｎ  Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙでは、常温抽出の場合、部品を容器に入れ、メカニカルシェイカーで１０分間振とうする規定になっているが、包装袋をシェイカーで振とうすることは困難であり、包装袋をカットして容器に入れて抽出するのでは包装袋内面のパーティクルだけでなく、外面のパーティクルも抽出してしまうため、本発明のクリーンフィルムにおいては上記のような抽出方法とした。
【００５０】
次に、ＩＣ測定あるいはＩＣＰ−ＭＳ測定を行う。溶出Ｓｎに関しては長時間放置するとＳｎが沈降するため、抽出後、すぐにＩＣＰ−ＭＳ測定を行う。包装袋にサンプリングチューブを入れるか、超純水を入れたときのアウトイオンが検出限界以下である容器に抽出液を移してもよい。後者の場合には、包装袋外面からの汚染を避けるため、注ぎ出しの抽出液を数ｍｌ捨ててから、容器に移す。溶出Ｓｎ量測定の場合には加熱抽出も好ましく行われ、クリーンルーム内のクリーンオーブンで８０℃、３０分加熱し、２２±３℃の室温で３０分放置してから、ＩＣＰ−ＭＳ測定を行う。
【００５１】
ＩＣ測定における対象イオンは、カチオンとしてはナトリウムイオン、カリウムイオン、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、アニオンとして塩素イオン、亜硝酸イオン、硝酸イオン、リン酸イオン、硫酸イオンである。ＩＣ装置、カラム等は前記ＩＤＥＭＡ  ＳＴＡＮＤＡＲＤＳのＤｏｃｕｍｅｎｔ  Ｎｏ．Ｍ１３−９９、Ｍ２２−９９に準拠する。ＩＣ装置としては、ＤＩＯＮＥＸ社のＤＸ−５００（サプレッサー方式）あるいは同等レベルの装置が好ましく、上記イオンを効率良く分離、検出するため、カチオンの分離カラムはＤＩＯＮＥＸ製のＣＳ１２Ａ（基材：エチレンビニルベンゼン−ジビニルベンゼン、交換基：カルボン酸／スルホン酸）、溶離液は２０ｍＭメタンスルホン酸、アニオンの分離カラムはＤＩＯＮＥＸ製のＡＳ４Ａ−ＳＣ（基材：エチレンビニルベンゼン−ジビニルベンゼン、交換基：４級アルカノールアミン）、溶離液は１．８ｍＭ  Ｎａ２ＣＯ３と１．７ｍＭ  ＮａＨＣＯ３の混合溶液が好ましく用いられる。
【００５２】
サンプル導入については、検出感度の面から、ループではなく濃縮装置（カラム）使用が好ましく、濃縮量は２〜１０ｍｌが適する。
【００５３】
サンプル測定前に、ブランク測定として抽出に用いた超純水中のイオン量を測定することが必ず行われる。検量線は、ブランク以外に３点を通る直線で、相関係数０．９９以上であることが好ましい。
【００５４】
ＩＣＰ−ＭＳ装置としては、通常、四重極型の質量分析計を用いて、Ｓｎの質量数１２０を指定して測定を行う。検量線は、超純水ブランク以外に２点以上を通る直線で、相関係数０．９９以上であることが好ましい。通常、分析では１０σを定量下限、３σを検出限界とするが、本発明のクリーンフィルムの分析においても３σを検出限界とすることが行われる。各イオンの検出限界は０．０５ｎｇ／ｃｍ２以下、Ｓｎの検出限界は０．５ｐｇ／ｃｍ２未満であることが好ましい。
【００５５】
前記測定で得られた数値から、包材１ｃｍ２当たりのアウトイオン量、溶出Ｓｎ量を計算する式を以下に示す。
【００５６】
包材１ｃｍ２当たりのアウトイオン量（ｎｇ／ｃｍ２）＝［包装袋のアウトイオン量（ｐｐｂ）−抽出に用いた超純水のイオン量（ｐｐｂ）×抽出液量（ｍｌ）］／超純水抽出した包装袋の表面積（ｃｍ２）
包材１ｃｍ２当たりのＳｎ量（ｐｇ／ｃｍ２）＝［包装袋の溶出Ｓｎ量（ｐｐｔ）×抽出液量（ｍｌ）］／超純水抽出した包装袋の表面積（ｃｍ２）
さらに、本発明のクリーンフィルムの溶出Ｓｉについて、抽出から測定までの手順を示す。
【００５７】
第一に、梱包されたクリーンフィルムをコンタミネーション防ぐために測定直前に開封する。フィルムが袋状でない場合には、コンタミネーションを防ぐためにインパルスシールあるいはヒートシールを行い袋状にする。まず、包装袋中に、袋内表面積１ｃｍ２当たり０．１ｍｌの超純水を静かに入れ、開口部を三つ折りにしてクリップ止めする。シールする場合には、測定時開口部を開く際のコンタミネーションがないように注意を払う必要がある。袋内面全体に超純水が接していればよく、袋内表面積１ｃｍ２当たりに必要な超純水の量は測定の条件に応じて適宜変えることが可能である。
【００５８】
平袋の場合、包装袋中の超純水が袋の内面全部に行き渡るように、包装袋を横にして１回転当たり約６秒の速度でゆっくりと５回転させる。次に、包装袋の面を変えて、同様の作業を行った後、周囲からイオン取り込むことがない環境、好ましくはケミカルフィルター付きのドラフト内で、包装袋を片面につき５分、計１０分間放置する。
【００５９】
ガゼット袋の場合は、包装袋中の超純水が袋の内面全部に行き渡るように、包装袋を横にして１回転当たり約６秒の速度でゆっくりと５回転させる。次に、折り込み部分を下にして、包装袋中の超純水が袋の内面全部に行き渡るように、包装袋を横にして１回転当たり約６秒の速度でゆっくりと５回転させる。この作業を４面全てについて行う。その後、包装袋を周囲からイオン取り込むことがない環境、好ましくはケミカルフィルター付きのドラフト内で片面につき５分、計１０分間放置する。
【００６０】
次にＡＡＳ測定を行う。
【００６１】
溶出Ｓｉ量測定の場合には、加熱抽出も好ましく行われ、クリーンルーム内のクリーンオーブンで８０℃、３０分加熱し、２２±３℃の室温で３０分間放置してから、ＡＡＳ測定を行う。ＡＡＳ装置としては、通常、フレームレスタイプが用いられ、Ｓｉの測定波長は２５１．６ｎｍ、一般的な加熱条件プログラムで測定する。検量線は、ブランク以外に３点以上および原点を通る直線で、相関係数０．９９以上であることが好ましい。Ｓｉの定量下限（１０σ）は０．５ｎｇ／ｃｍ２未満であることが好ましい。
【００６２】
前記測定で得られた数値から、包材１ｃｍ２当たりの溶出Ｓｉ量を計算する式を以下に示す。
【００６３】
包材１ｃｍ２当たりの溶出Ｓｉ量（ｐｇ／ｃｍ２）＝［包装袋の溶出Ｓｉ量（ｐｐｂ）×抽出液量（ｍｌ）］／超純水抽出した包装袋の表面積（ｃｍ２）
次に、本発明のクリーンフィルムの内表面に付着したパーティクルについて、抽出から測定までの手順を示す。
【００６４】
本発明のクリーンフィルムにおけるパーティクルの評価手法としては、もっとも一般的である光散乱検出器を有するＬＰＣを用いる。該ＬＰＣは１μｍ未満のパーティクルも測定可能であるという特徴があるが、ハンドリングの際に発生する気泡とパーティクルを区別することができない。ＩＤＥＭＡ  ＳＴＡＮＤＡＲＤＳのＤｏｃｕｍｅｎｔ  Ｎｏ．Ｍ９−９８  ＰＡＲＴＩＣＵＬＡＴＥ  ＣＯＮＴＡＭＩＮＡＴＩＯＮ  ＴＥＳＴ  ＭＥＴＨＯＤＳ  ＦＯＲ  ＨＡＲＤ  ＤＩＳＫ  ＤＲＩＶＥ  ＣＯＭＰＯＮＥＮＴＳでは、ハードディスクドライブの部品のパーティクルを、超音波またはシェイカーで抽出すると規定されているが、超音波が包装袋材料に及ぼす影響が明らかになっていないため、包装袋材料自体を破壊してパーティクルを発生させる可能性があること、シェイカーによる振とうは包装袋からのパーティクル脱離を促進するどころか気泡を発生させるおそれがあることにより、本発明では気泡の発生を最低限に抑える抽出手順とした。
【００６５】
以下に、抽出からＬＰＣ測定までの手順を示す。
【００６６】
第一に、梱包されたクリーンフィルムあるいは包装袋をコンタミネーション防ぐために測定直前に開封する。フィルムが巻取りあるいは枚葉である場合には、コンタミネーションを防ぐためにインパルスシールあるいはヒートシールを行い、三方袋状にすることが好ましく行われる。
【００６７】
平袋の場合、図４に示すようなボックスに包装袋を入れ、包材１ｃｍ２当たり０．３ｍｌの超純水を気泡が発生しないように静かに入れ、開口部を三つ折りしてクリップ止めする。袋内面全体に超純水が接していればよく、袋内表面積１ｃｍ２当たりに必要な超純水の量は測定の条件に応じて適宜変えることが可能である。次に、包装袋をボックスごと横にして、１回転当たり約６秒の速度で、中に入れた超純水が包材内面を洗うように、ゆっくりと５回転させる。包材の面を変えて、同様の作業を行った後、環境からパーティクルを取り込まない環境下でボックスに入れた包装袋を立たせたまま、ＬＰＣ装置のサンプリング位置で１５分間静置する。
【００６８】
ガゼット袋の場合には、包材１ｃｍ２当たり０．３ｍｌの超純水を気泡が発生しないように静かに入れ、開口部を三つ折してクリップ止めする。包装袋を横にして、中の超純水を袋内面全体に行き渡るように、１回転当たり約６秒の速度でゆっくりと５回転させる。
【００６９】
次に折り込み部分を下にして、同様の作業を４面全てについて行った後、環境からパーティクルを取り込まない環境下でボックスに入れた包装袋を立たせたまま、ＬＰＣ装置のサンプリング位置で１５分間静置する。
【００７０】
次に、ＬＰＣ測定を行う。
【００７１】
包装袋にＬＰＣのサンプリングチューブを入れてサンプリングを行う。包装袋の抽出液を他の容器に移すことは、ハンドリングによる気泡が発生して精度の高い結果が得られなくなるので、好ましいとはいい難い。ＬＰＣへのサンプリング量は１０ｍｌが好ましく、サンプリングの１回目をＬＰＣ装置内のフラッシングとして、その後３回以上測定を行い、それらの平均値を取ることが好ましい。
【００７２】
超純水のみの測定（ブランク測定）は、１サンプル測定する毎に必ず行い、装置内にパーティクルが残留してないことを確認する。
【００７３】
測定対象のパーティクル径は１μｍ以上であり、ＩＰＣ装置に１μｍと２μｍの２チャンネルが存在する場合には、その合計をパーティクル数とする。
【００７４】
ＬＰＣ装置としては、リオン製やＰＭＳ社製等の装置が用いられ、リオン製ＬＰＣの標準的な装置組み合わせ例としては、センサーはＫＳ−５８、カウンターはＫＸ−４７、サンプラーはＫＺ−３０Ｗが挙げられる。サンプル吸引量は１０ｍｌ。サンプル吸引速度は１０ｍｌ／分が好ましい。
【００７５】
ＬＰＣ測定で得られた数値から、包装袋１ｃｍ２当たりのパーティクル量を計算する式を以下に示す。
【００７６】
包装袋１ｃｍ２当たりのパーティクル量（個／ｃｍ２）＝［（包装袋のパーティクル量（個／ｍｌ）−抽出に用いた超純水のパーティクル量（個／ｍｌ））×抽出液量（ｍｌ）］／超純水抽出した包装袋の表面積（ｃｍ２）
有機系アウトガス量を測定する方法としてはＰ＆Ｇ  ＧＣ−ＭＳが好ましく用いられる。総アウトガス量はＰ＆Ｇ  ＧＣ−ＭＳで測定したとき、トータルイオンクロマトグラム（ＴＩＣ）からベースライン上昇分を除いたピーク面積をマニュアル積分し、そのピーク面積合計値をヘキサデカン換算にして定量することが好ましい。ヘキサデカン検量線よりクリーンフィルム１ｃｍ２当たりに換算したとき、総アウトガス量が１５００ｎｇ／ｃｍ２であることが好ましい。
【００７７】
環状シロキサン量はＰ＆Ｇ  ＧＣ−ＭＳで測定したとき、ＴＩＣにおいて環状シロキサン三量体から環状シロキサン八量体までのピーク面積をマニュアル積分で計算しその合計値を求め、シロキサン六量体換算にして定量することが好ましい。炭化水素ピークが大きく、環状シロキサンピークの確認が困難である場合には、質量電荷比ｍ／ｚ＝２０７（環状シロキサン三量体）、２８１（環状シロキサン四量体、環状シロキサン七量体）、３４１（環状シロキサン五量体、環状シロキサン八量体）、３５５（環状シロキサン六量体）を指標として確認することが好ましい。シロキサン六量体より検量線を作成し、環状シロキサン合計値が２．５ｎｇ／ｃｍ２未満であることが好ましい。
【００７８】
サンプリングはクリーンフィルムをＰ＆Ｇ用のガラスチューブに収まる大きさに断裁することが好ましい。その際、重量を小数点以下４位ｍｇまで測定することが好ましい。サンプリングの際にはコンタミネーションを防ぐために注意を払う必要がある。まず、ＰＥ手袋またはＧＣ−ＭＳ用手袋を着用することが好ましい。次にカッティングマット上にサンプリングするクリーンフィルムと同構成のものを載せる。その上にサンプリングするフィルムを４つ折りにして載せる。枚葉の場合には３枚以上重ねる。さらに、専用ジグを用い、カッターでサンプリングすることが好ましい。ジグおよび下敷きフィルムと接触しているサンプルは廃棄し、内側のサンプルのみ清浄なピンセットで取り出すことが好ましい。上記の作業はクリーンルーム内で実施することが好ましい。
【００７９】
Ｐ＆Ｔ  ＧＣ−ＭＳ測定の際に、使用するガラスチューブからコンタミネーションを生じないように、清浄なガラスチューブを使うことが好ましい。清浄化の方法としては、アセトンを入れたビーカー内にガラスチューブを入れ、超音波洗浄を３０分以上行う。次に、ガラスチューブを電気炉で５００℃、３時間加熱する。さらに、ガラスチューブに石英ウールを詰め、電気炉で３５０℃、２４時間加熱した後、ガラスチューブ両端にサンプルチューブキャップをする。さらに、アルミホイルでガラスチューブを１本ずつ包むことが好ましい。
【００８０】
総アウトガス量について以下に記述する。総アウトガス量はヘキサデカン換算であるから、ヘキサデカン標準液を調整し、検量線を作成する必要がある。まず、ヘキサデカン５０ｎｇ／μｌ程度のメタノール溶液を調整する。この際、ヘキサデカンの正確な重量を測定することが必要である。
【００８１】
ヘキサデカン標準液は例えばＴＥＮＡＸ  ＴＡ１００ｍｇを充填したガラスチューブ（ＴＥＮＡＸチューブとする）を用いて、Ｐ＆Ｇ  ＧＣ−ＭＳ測定をすることが好ましく行われる。充填剤としては他にＴＥＮＡＸ  ＧＲ、Ｃａｒｂｏｔｒａｐ等が使用可能である。コンディショニングを行ったＴＥＮＡＸチューブにヘキサデカン標準液をゼロデッドポリュームシリンジを用いて１μｌ取り、ＴＥＮＡＸチューブのＧＣ−ＭＳ測定時にＧＣ注入口に近い端からＴＥＮＡＸ中に打ち込み、Ｈｅガスによるパージを流量３０ｍｌ／分以上で３分間以上行うことが好ましい。次に、Ｐ＆Ｔ装置にセットし、ＧＣ−ＭＳ測定を行う。検量線は横軸にヘキサデカン重量、縦軸にピーク面積を取って作成する。精度向上のために、多点検量線を作成することが好ましい。
【００８２】
ヘキサデカン検量線より得られた総アウトガス量はクリーンフィルム１ｃｍ２当たりの量に換算する。
【００８３】
クリーンフィルム１ｃｍ２当たりのアウトガス量（ｎｇ／ｃｍ２）＝測定したサンプルのアウトガス量（ｎｇ）／サンプルの面積（ｃｍ２）
Ｐ＆Ｔ  ＧＣ−ＭＳ測定におけるコンタミネーション把握のため、サンプル測定の前にはガラスチューブのみのブランク測定を行うことが好ましく、ＴＥＮＡＸチューブの時も標準液を打ち込む前にブランク測定を行うことが好ましい。ブランクの測定値が環状シロキサンで０．５ｎｇ／ｃｍ２未満であることが好ましい。
【００８４】
実験室環境からのコンタミネーションがある場合には、サンプル、あるいは標準液測定の前にプレ測定を行うことが好ましい。プレ測定は以下の手順で行う。Ｐ＆Ｔ  ＧＣ−ＭＳで一度プレ測定をした後、Ｐ＆Ｔ装置内を大気開放せずに同一チューブで本測定を行う。プレ測定の場合、Ｐ＆Ｔの加熱脱着温度条件はサンプル、標準液で３０℃、１０分間のように設定可能な最低温度でよい。
【００８５】
Ｐ＆Ｔの加熱脱着温度条件はサンプル本測定の場合は８０℃、１０分間、標準液の場合には２５０℃、１０分間であることが好ましい。コールドトラップ温度は−１３５℃以下であることが好ましい。また、サンプルのアウトガスをＴＥＮＡＸ等の充填剤やポリジメチルシロキサンをコーティングしたガラスキューブに吸着させた後に、Ｐ＆Ｔ  ＧＣ−ＭＳ内で脱着させてもよい。
【００８６】
ＧＣ−ＭＳの温度条件はサンプル測定の場合は、初期温度４０℃、５分間保持、昇温速度５℃／分、最低温度３００℃、５分間保持とすることが好ましい。また、標準的なＧＣ−ＭＳ測定条件としては、イオン化法は電子衝撃（ＥＩ）法、イオン化電圧は７０ｅＶ、イオン源温度は２３０℃、四重極温度は１５０℃、マスレンジは４５〜５５０であり、ＳＣＡＮ測定が好ましく、データ取り込みを細かく行うことがより好ましい。カラムは５％Ｐｈｅｎｙｌ、９５％Ｐｏｌｙ  Ｄｉｍｅｔｈｙｌ  Ｓｉｌｏｘａｎｅ、長さ３０ｍ×直径０．２５ｍｍｉｄ×液相の厚み０．２５μｍのカラムが好ましく用いられる。
【００８７】
以下に本発明の実施例を示すが、本発明の技術的範囲はこれらの実施例に限られるものではない。
【実施例１】
【００８８】
蒸着フィルム基材として、厚み１２μｍの二軸延伸ＰＥＴフィルムの片面に、電子線加熱方式による真空蒸着装置により、金属アルミニウムを蒸発させ、そこに酸素ガスを導入し、厚さ１５ｎｍの酸化アルミニウムを蒸着して蒸着薄膜層（Ａ層）を形成した。次いで、下記組成からなるコーティング剤をグラビアコート法により塗布し、その後１２０℃、１分間乾燥させ、厚さ３００ｎｍの被膜層（Ｂ層）を形成した。
【００８９】
被膜層（Ｂ層）を形成するコーティング剤の組成は、下記に示す（イ）液と（ロ）液を配合比（ｗｔ％）で６５／３５に混合したものである。
（イ）液：テトラエトキシシラン１０．４ｇに塩酸（０．１Ｎ）８９．６ｇを加え、３０分間攪拌し、加水分解させた固形分３ｗｔ％（ＳｉＯ２換算）の加水分解溶液
（ロ）液：ポリビニルアルコールの３ｗｔ％水／イソプロピルアルコール溶液（水：イソプロピルアルコール＝９０：１０（重量比））
無添加ＬＤＰＥ樹脂（ＭＩ＝２．０）を原料とし、キャスト法によりフィルム（厚み８０μｍ）を得ると同時に、被膜層Ｂ層の上に、ドライラミネーション加工によりポリエステルウレタン系接着剤（Ｓｎ、シランカップリング剤フリー）を介して上記ＬＤＰＥフィルムをラミネートし、図３（ａ）に示す積層フィルムを得た。
【００９０】
その後、天地５２．５ｃｍ×左右２６．５ｃｍ×折り込み寸法２５／２ｃｍのガゼット袋に貼り合わせ、実施例１の包装袋を得た。なお、押出成形および製袋加工は、クラス１００００以下のクリーン環境下で行った。
【実施例２】
【００９１】
蒸着フィルム基材として、厚み１２μｍの二軸延伸ＰＥＴフィルムの片面に、電子線加熱方式による真空蒸着装置により、金属アルミニウムを蒸発させ、そこに酸素ガスを導入し、厚さ１５ｎｍの酸化アルミニウムを蒸着して蒸着薄膜層（Ａ層）を形成した。次いで、下記組成からなるコーティング剤をグラビアコート法により塗布し、その後１２０℃、１分間乾燥させ、厚さ３００ｎｍの被膜層（Ｂ層）を形成した。
【００９２】
被膜層（Ｂ層）を形成するコーティング剤の組成は、下記に示す（ハ）液と（ニ）液を配合比（ｗｔ％）で６５／３５に混合したものである。
（ハ）液：テトラエトキシシラン１０．４ｇに塩酸（０．１Ｎ）８９．６ｇを加え、３０分間攪拌し、加水分解させた固形分３ｗｔ％（ＳｉＯ２換算）の加水分解溶液
（ニ）液：ポリビニルアルコールの３ｗｔ％水／イソプロピルアルコール溶液（水：イソプロピルアルコール＝９０：１０（重量比））
被膜層Ｂ層上に、ドライラミネーション加工によりポリエステルウレタン系接着剤（Ｓｎ、シランカップリング剤フリー）を介してナイロンフィルム（厚さ２５ｎｍ）をラミネートし、多層フィルムを得た。
【００９３】
インフレーション法により、無添加ＬＤＰＥ樹脂（ＭＩ＝０．８）からなる厚さ８０μｍのチューブ状フィルムを得た。得られたチューブ状のフィルムをライン上で折り込み、耳切りをせず、内面層が密着した帯状のシーラントを得た。該シーラントの外表面に、多層フィルムのＰＥＴフィルム面をポリエステルウレタン系接着剤（Ｓｎ、シランカップリング剤フリー）を介して、ドライラミネーション加工により貼り、図３（ｂ）に示す積層フィルムを得た。
【００９４】
その後、天地５２．５ｃｍ×左右２６．５ｃｍ×折り込み寸法２５／２ｃｍのガゼット袋に貼り合わせ、実施例２の包装袋を得た。なお、押出成形および製袋加工はクラス１００００以下のクリーン環境下で行った。
【実施例３】
【００９５】
蒸着フィルム基材として、厚み１２μｍの二軸延伸ＰＥＴフィルムの片面に、電子線加熱方式による真空蒸着装置により、金属アルミニウムを蒸発させ、そこに酸素ガスを導入し、厚さ１５ｎｍの酸化アルミニウムを蒸着して蒸着薄膜層（Ａ層）を形成した。次いで、下記組成からなるコーティング剤をグラビアコート法により塗布し、その後１２０℃、１分間乾燥させ、厚さ４００ｎｍの被膜層（Ｂ層）を形成した。更に、被膜層Ｂ層上に電子線加熱方式による真空蒸着装置により、金属アルミニウムを蒸発させ、そこに酸素ガスを導入し、厚さ１５ｎｍの酸化アルミニウムを蒸着して蒸着薄膜層（Ｃ層）を形成した。更に、蒸着薄膜層Ｃ層上に下記組成からなるコーティング剤をグラビアコート法により塗布し、その後１２０℃、１分間乾燥させ、厚さ３５０ｎｍの被膜層（Ｄ層）を形成した。
【００９６】
被膜層Ｂ層および被膜層Ｄ層を形成するコーティング剤の組成は、下記に示す（ホ）液と（ヘ）液を配合比（ｗｔ％）で６５／３５に混合したものである。
（ホ）液：テトラエトキシシラン１０．４ｇに塩酸（０．１Ｎ）８９．６ｇを加え、３０分間攪拌し、加水分解させた固形分３ｗｔ％（ＳｉＯ２換算）の加水分解溶液
（ヘ）液：ポリビニルアルコールの３ｗｔ％水／イソプロピルアルコール溶液（水：イソプロピルアルコール＝９０：１０（重量比））
無添加ＬＤＰＥ樹脂（ＭＩ＝２．０）を原料とし、キャスト法によりフィルム（厚み８０μｍ）を得ると同時に、被膜層Ｄ層の上に、ドライラミネーション加工によりポリエステルウレタン系接着剤（Ｓｎ、シランカップリング剤フリー）を介してナイロンフィルム（厚さ２５ｎｍ）をラミネートし、ＰＥＴ基材上にポリエステルウレタン系接着剤（Ｓｎ、シランカップリング剤フリー）を介して上記ＬＤＰＥフィルムをラミネートし、図３（ｃ）に示す積層フィルムを得た。
【００９７】
その後、天地５２．５ｃｍ×左右２６．５ｃｍ×折り込み寸法２５／２ｃｍのガゼット袋に貼り合わせ、実施例１の包装袋を得た。なお、押出成形および製袋加工は、クラス１００００以下のクリーン環境下で行った。
【００９８】
その後、天地９３．５ｃｍ×左右４４．０ｃｍ×折り込み寸法４１／２ｃｍのガゼット袋に貼り合わせ、実施例３の包装袋を得た。なお、押出成形および製袋加工はクラス１００００以下のクリーン環境下で行った。
【実施例４】
【００９９】
蒸着フィルム基材として、厚み１２μｍの二軸延伸ＰＥＴフィルムの片面に、電子線加熱方式による真空蒸着装置により、金属アルミニウムを蒸発させ、そこに酸素ガスを導入し、厚さ１５ｎｍの酸化アルミニウムを蒸着して蒸着薄膜層（Ａ層）を形成した。次いで、下記組成からなるコーティング剤をグラビアコート法により塗布し、その後１２０℃、１分間乾燥させ、厚さ４００ｎｍの被膜層（Ｂ層）を形成した。更に、被膜層Ｂ層上に電子線加熱方式による真空蒸着装置により、金属アルミニウムを蒸発させ、そこに酸素ガスを導入し、厚さ１５ｎｍの酸化アルミニウムを蒸着して蒸着薄膜層（Ｃ層）を形成した。更に、蒸着薄膜層Ｃ層上に下記組成からなるコーティング剤をグラビアコート法により塗布し、その後１２０℃、１分間乾燥させ、厚さ３５０ｎｍの被膜層（Ｄ層）を形成した。
【０１００】
被膜層Ｂ層および被膜層Ｄ層を形成するコーティング剤の組成は、下記に示す（ト）液と（チ）液を配合比（ｗｔ％）で６５／３５に混合したものである。
（ト）液：テトラエトキシシラン１０．４ｇに塩酸（０．１Ｎ）８９．６ｇを加え、３０分間攪拌し、加水分解させた固形分３ｗｔ％（ＳｉＯ２換算）の加水分解溶液
（チ）液：ポリビニルアルコールの３ｗｔ％水／イソプロピルアルコール溶液（水：イソプロピルアルコール＝９０：１０（重量比））
ＰＥＴフィルム（厚み１２μｍ）にサンドラミネーション加工により、該被膜層Ｄ層上に貼り合せた。サンドラミネーション時の樹脂として低密度ポリエチレン（ＭＩ＝８）を使用し、樹脂温度３１５℃で厚み１０μｍで押し出し、ＰＥＴフィルムの接着面にダイ下に設けたノズルからオゾンを含む空気を吹き付けることによりオゾン処理し、ラミネーションを行った。
【０１０１】
続いて、無添加ＬＤＰＥ樹脂（ＭＩ＝２．０）を原料とし、キャスト法によりフィルム（厚み８０μｍ）を得ると同時に、被膜層Ｄ層の上にポリエステルウレタン系接着剤（Ｓｎ、シランカップリング剤フリー）を介して上記ＬＤＰＥフィルムをラミネートし、積層フィルムを得た。その後、天地４１ｃｍ×左右４２ｃｍの三方シールの袋に貼り合わせ、実施例４の包装袋を得た。なお、押出成形および製袋加工は、クラス１００００以下のクリーン環境下で行った。
【実施例５】
【０１０２】
蒸着フィルム基材として、厚み１２μｍの二軸延伸ＰＥＴフィルムの片面に、電子線加熱方式による真空蒸着装置により、金属アルミニウムを蒸発させ、そこに酸素ガスを導入し、厚さ１５ｎｍの酸化アルミニウムを蒸着して蒸着薄膜層（Ａ層）を形成した。次いで、下記組成からなるコーティング剤をグラビアコート法により塗布し、その後１２０℃、１分間乾燥させ、厚さ４００ｎｍの被膜層（Ｂ層）を形成した。更に、被膜層Ｂ層上に電子線加熱方式による真空蒸着装置により、金属アルミニウムを蒸発させ、そこに酸素ガスを導入し、厚さ８ｎｍの酸化アルミニウムを蒸着して蒸着薄膜層（Ｃ層）を形成した。
【０１０３】
蒸着薄膜層Ｃ層上に、ドライラミネーション加工によりポリエステルウレタン系接着剤（Ｓｎ、シランカップリング剤フリー）を介して、ナイロンフィルム（厚さ２５ｎｍ）をラミネートし、多層フィルムを得た。
【０１０４】
インフレーション法により、無添加ＬＤＰＥ樹脂（ＭＩ＝０．８）からなる厚さ９０μｍのチューブ状フィルムを得た。得られたチューブ状フィルムをライン上で折り込み、耳切りをせず、内面層が密着した帯状のシーラントを得た。該シーラントの外表面に、多層フィルムのナイロンフィルム面をドライラミネーション加工により貼り合わせた。その後、天地４１ｃｍ×左右４２ｃｍの三方シールの袋に貼り合わせ、実施例４の包装袋を得た。なお、ドライラミネーション加工および製袋加工は、クラス１００００以下のクリーン環境下で行った。
＜比較例１＞
無添加ＬＤＰＥ樹脂（ＭＩ＝２．０）を原料とし、キャスト法によりフィルム（厚み８０μｍ）を得た後、ドライラミネーション加工を用いて、得られた積層体にナイロンフィルム（２５μｍ）、接着剤層、該ＬＤＰＥフィルム層の順に積層した。その後、天地４１ｃｍ×左右４２ｃｍの三方シールの袋に貼り合わせ、比較例１の包装袋を得た。なお、押出成形および製袋加工は、一般環境下で行った。
＜比較例２＞
インフレーション法により、外面からナイロンフィルム（２５μｍ）、接着剤層、シングルサイト系ＬＬＤＰＥ樹脂（ＭＩ＝２．５）（８０μｍ）の順に積層されてなるチューブ状フィルムを得た。得られたチューブ状のフィルムをライン上で折り込み、耳切りをせず、内面層が密着した帯状のシーラントを得た。その後、天地４１ｃｍ×左右４２ｃｍの三方シールの袋に貼り合わせ、比較例２の包装袋を得た。なお、押出成形および製袋加工は、クラス１００００以下のクリーン環境下で行った。
＜比較例３＞
市販品であるシリコンウエハー用ガゼットバッグを比較例３とした。比較例３は、外面からＯＮｙ層（厚み１５μｍ、Ｎｙ：ナイロン）、接着剤層、Ａｌ箔層（厚み１２μｍ）、接着剤層、ＬＤＰＥシーラント層（厚み６０μｍ）がこの順に順次積層してなり、サイズは天地９１ｃｍ×左右４２ｃｍ×折り込み寸法３９／２ｃｍである。
＜比較例４＞
市販品であるシリコンウエハー用ガゼットバッグを比較例４とした。比較例４は、外面から酸化ケイ素蒸着ＰＥＴ層（厚み１２μｍ）、接着剤層、ＯＮｙ層（厚み１５μｍ）、接着剤層、ＬＤＰＥシーラント層（厚み６０μｍ）がこの順に順次積層してなり、サイズは天地６０ｃｍ×左右２８ｃｍ×折り込み寸法２６／２ｃｍである。
【０１０５】
実施例１〜５、および比較例１〜４の包装袋について、クラス１００以下のクリーンルームにおいて、、包材のシーラント面（内容物側の面）を包材１ｃｍ２当たり０．３ｍｌの超純水で１０分間（片面につき５分間）、ケミカルフィルター付きドラフト内で抽出し、抽出液中の塩素イオン、亜硝酸イオン、臭素イオン、硝酸イオン、リン酸イオン、硫酸イオンのイオン濃度をＩＣ測定した。その結果を表１に示す。
【０１０６】
また、ＩＣ同様の抽出法で、抽出液中のＳｎ濃度をＩＣＰ−ＭＳ測定した。Ｓｎの質量数１２０を指定し、検量線はブランク、および０．１、０．５、１．０ｐｐｂを通る直線とし、検出限界（３σ）以下をＮ．Ｄ．とした。
【０１０７】
次に、包材のシーラント面（内容物側の面）を包材１ｃｍ２当たり０．１ｍｌの超純水で１０分間（片面につき５分間）抽出し、抽出液中のＳｉ濃度をＡＡＳ測定した。Ｓｉの波長は２５１．６ｎｍを指定し、検量線は１０、２０、５０、１００ｐｐｂ標準液で作成し、原点を通らない直線とし、定量下限（１０σ）以下をＮ．Ｄ．とした。溶出Ｓｎ、Ｓｉの結果を表２に示す。
【０１０８】
次に、クラス１０００以下のクリーンルームにおいて、包装袋をボックスに入れ、シーラント面（内容物側の面）を包材１ｃｍ２当たり０．３ｍｌの超純水で１５分間抽出し、抽出液中の１μｍ以上のパーティクル数をＬＰＣ測定した。その結果を表３に示す。
【０１０９】
次に、実施例１〜６および比較例１〜４の包装袋についてＰ＆Ｇ  ＧＣ−ＭＳ測定用のガラスチューブに収まるよう一定の大きさに裁断し、重量を小数点以下４位ｍｇまで測定した。ガラスチューブは清浄化したものを用いた。最初にガラスチューブのみのブランク測定を行った。ＧＣ−ＭＳ測定条件としては、イオン化法はＥＩ、イオン化電圧は７０ｅＶ、イオン源温度は２３０℃、四重極温度は１５０℃、マスレンジは４５〜５５０であり、ＳＣＡＮ測定で行った。使用カラムは５％Ｐｈｅｎｙｌ、９５％Ｐｏｌｙ  Ｄｉｍｅｔｈｙｌ  Ｓｉｏｘａｎｅ、長さ３０ｍ×直径０．２５ｍｍｉｄ×液相厚み０．２５μｍのものを用いた。ＧＣ−ＭＳ温度条件は初期温度４０℃、５分間保持、昇温速度５℃／分、最高温度３００℃、５分間保持とした。Ｐ＆Ｔ加熱脱着温度条件は８０℃、１０分、コールドトラップ温度は−１５０℃とした。ブランクの測定値が環状シロキサンにおいて０．５ｎｇ／ｃｍ２未満であることを確認した後、同一チューブにサンプルを入れ、サンプル測定を行った。ＧＣ−ＭＳ測定条件は上記のブランク測定と同様にした。
【０１１０】
総アウトガスに関しては、得られたＴＩＣのベースライン上昇分を除いた部分のピーク面積をマニュアル積分し、ピーク面積合計値を求めた。環状シロキサンに関しては、ＴＩＣ上において、環状シロキサン三量体〜環状シロキサン八量体までのピーク面積をマニュアル積分で計算してその合計値を求めた。
【０１１１】
次に検量線作成のため、標準物質を測定した。総アウトガスに関してはヘキサデカン５０ｎｇ／μｌのメタノール溶液、環状シロキサンに関してはシロキサン六量体５０ｎｇ／μｌのメタノール溶液を調整した。まず、コンディショニングを行ったＴＥＮＡＸチューブのブランク測定を行った。Ｐ＆Ｔの加熱脱着温度条件は２５０℃、１０分、コールドトラップ温度は−１５０℃とした。ＧＣ−ＭＳ測定測定条件は上記の測定と同様とした。各標準液をゼロデッドポリュームシリンジに１μｌ取り、ブランク測定をした同一ＴＥＮＡＸチューブのＧＣ注入口に近い側からＴＥＮＡＸ中に打ち込み、Ｈｅガスで３０ｍｌ／分、３分間パージした後、Ｐ＆Ｔ装置に取り付けＧＣ−ＭＳ測定を行った。Ｐ＆Ｔの加熱脱着温度条件は２５０℃、１０分、コールドトラップ温度は−１５０℃とした。ＧＣ−ＭＳ測定条件は上記のブランク測定と同様とした。
【０１１２】
検量線は横軸にヘキサデカン重量またはシロキサン六量体重量、縦軸にピーク面積を取って作成した。ヘキサデカン検量線を用いて、総アウトガスのピーク面積合計値から総アウトガス量（ｎｇ）を求め、シロキサン六量体検量線を用いてサンプルより測定した環状シロキサンのピーク面積合計値から環状シロキサン量（ｎｇ）を算出し、包材１ｃｍ２当たりに換算して環状シロキサン量（ｎｇ／ｃｍ２）を求めた。その結果を表２に併せて示す。
【０１１３】
【表１】
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【０１１４】
【表２】
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【０１１５】
【表３】
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表１〜３の結果より、実施例１〜５の包装袋は、袋の内面から溶出されたアウトイオン量は検出限界以下であり、かつ、袋の内面から溶出したＳｎ、Ｓｉも検出限界以下であり、また袋の内表面に付着している粒径１μｍ以上のパーティクル数も全て１個／ｃｍ２以下であり、さらに総アウトガス量は１５００ｎｇ／ｃｍ２未満、環状シロキサン量は２．５ｎｇ／ｃｍ２未満であり、非常にクリーン性が高いことが判明した。特にパーティクル数については、従来技術と比較して大幅に減少させることが可能となった。
【０１１６】
一方、比較例１、２、３の包装袋は袋の内面から溶出された個々のアウトイオン量および袋の内表面に付着しているパーティクル数が非常に多いことが分かった。比較例１および２は、総アウトガス量も１５００ｎｇ／ｃｍ２を超える結果となった。比較例４は接着剤由来と推定される溶出Ｓｎ、Ｓｉ量が多く、環状シロキサン量も多いという結果となった。また、アウトガス分析において、比較例２、３、４の包装袋からはシーラントに添加されている酸化防止剤であるブチルヒドロキシトルエンが検出された。
【０１１７】
実施例１〜５、比較例１〜４の包装袋について、水蒸気透過率を測定した。その結果を表４に示す。水蒸気透過率はモコン法を用いて測定し、測定条件は４０℃−９０％Ｒ．Ｈ．である。
【０１１８】
【表４】
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実施例３および４の包装袋は、比較例３のアルミ箔を用いた構成と同程度の水蒸気透過率であり、水蒸気バリア性に大変優れることが明らかとなった。実施例１、２、５の包装袋も比較例３には至らないが、水蒸気バリア性に優れることが分かった。一方、比較例１および２はバリア層がないために水蒸気透過率が高く、比較例３は酸化ケイ素蒸着フィルムが使用されているものの、被覆層がないために水蒸気透過率が高いことが確認された。
【０１１９】
実施例１〜５において、シーラント面に添加剤無添加のＬＤＰＥ樹脂を用い、かつ加工時の環境をクリーンにすることにより、もしくはインフレーション成形を採用することにより、コンタミネーションを防ぐことが可能であり、アウトイオン、溶出Ｓｎ、溶出Ｓｉ、パーティクル、アウトガスが少ない、つまりクリーン性が非常に高い包装袋が得られる。また、蒸着フィルムを用いることにより、高い水蒸気バリア性が付与される。
【０１２０】
また、シリコンウエハー、ＩＣ、ＬＳＩ等の半導体製品、コンピューター周辺装置の記憶装置であるＦＤＤ、光磁気ディスクドライブ、ＨＤＤ、ＭＲヘッド等、極微小、極微量の汚染物をも嫌う電子部品を、クリーンな環境下にて本発明の包装袋で包装することにより、電子部品包装体として与えることも可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１２１】
【図１】シーラントの巻取の一例を示す斜視図である。
【図２】（ａ）はシーラントのＡ−Ａ’面の側断面図の一例である。
【０１２２】
（ｂ）はチューブ状シーラントを使用した積層体の側断面図の一例である。
【図３】（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は本発明における積層体の側断面図の一例である。
【図４】多層クリーンフィルムからなる三方シール袋とＬＰＣ用ボックスの一例を示す図である。
【符号の説明】
【０１２３】
１０    シーラントフィルムの巻取り
１１、１２    シーラント
１３    接着剤層
１４    蒸着フィルム基材層
１５、１６    蒸着フィルム（ガスバリア層）
１７    接着剤層
１８    ナイロンフィルム層
１９    多層クリーンフィルム三方シール袋
２０    ＬＰＣ用ボックス
Ａ    蒸着薄膜層
Ｂ    被膜層
Ｃ    蒸着薄膜層
Ｄ    被膜層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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