(57)【要約】【目的】  本案は、高周波加熱により、高温高圧蒸気及び超高温蒸気を発生させ、これを汚れ面に放射して汚れ面を洗浄する。【構成】  高周波加熱により高温高圧蒸気（例１２０℃から１５０℃程度）を発生させ、更に、高周波加熱により高温高圧蒸気を再加熱し、高熱量の超高温蒸気（例２００℃から８００℃程度）を発生させ、これを汚れ面に噴射し汚れ面の洗浄を行う。高周波加熱により圧縮空気を加熱（例２００℃から８００℃程度）し高温圧縮空気を発生させ、これを汚れ面に噴射し汚れ面の洗浄を行う。又、高温蒸気に静電気を印加し、高温蒸気を汚れ面に集中噴射させ局部を均一に洗浄出来るようにした洗浄装置。溶剤を使用しないため使用済みの溶剤の処理もなく、装置も安価になった、洗浄処理後の水分は蒸発し油分や塵の固形分が残る。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高周波加熱により高温高圧蒸気を発生させ、これを汚れ面に噴射し汚れ面の油分及び薬品、塵の洗浄を行う洗浄装置。
【請求項２】
高周波加熱により高温高圧蒸気を再加熱し超高温蒸気を発生させ、これを汚れ面に噴射し汚れ面の油分や薬品、塵の洗浄を行う洗浄装置。
【請求項３】
高周波加熱により圧縮空気を高温加熱し、これを汚れ面に噴射し汚れ面の油分や薬品、塵の洗浄を行う洗浄装置。
【請求項４】
【請求項１】
【請求項２】
【請求項３】
の装置を組み合わせ、これを汚れ面に噴射し汚れ面の油分や薬品、塵の洗浄を行う洗浄装置。
【請求項５】
噴射部および汚れ面に直流電圧、又は、静電気を発生させ汚れ面に集中噴射し汚れ面の洗浄する、
【請求項１】
【請求項２】
【請求項３】
及び
【請求項４】
を特徴とする洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【特許の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】  従来、汚れ面の油分や塵の洗浄には、洗剤により直接汚れ面を洗い流す方法、又、溶剤による洗浄方法が行われていた。洗剤により直接汚れ面を洗い流す方法は、大量な水を使用する、この洗浄後の汚水の処理に処理設備が必要となる。溶剤による洗浄は、溶剤による人体への影響、及び、洗浄処理後の使用済みの溶剤の処理方法が必要で装置も高価となる。
【発明が解決しようとする課題】
【０００２】本案は、これらを改善させるもので上記の目的を達成するために、高周波加熱により発生させた、高温高圧蒸気及び超高温蒸気を汚れ面に噴射し汚れ面の油分や薬品、塵の洗浄を行う。
【０００３】  汚れ面や汚れの程度により、次の各方法で処理する。高周波加熱により高温高圧蒸気（例１２０℃から１５０℃程度）を発生させ、これを汚れ面に噴射し汚れ面の油分や薬品、塵の洗浄を行う。又、更に、高周波加熱により高温高圧蒸気を再加熱し、高熱量の超高温蒸気（例２００℃から８００℃程度）を発生させ、これを汚れ面に噴射し汚れ面の油分や薬品、塵の洗浄を行う。又、高周波加熱により圧縮空気を加熱（例２００℃から８００℃程度）し高温圧縮空気を発生させ、これを汚れ面に噴射し汚れ面の油分や薬品、塵の洗浄を行う。これらを組み合わせて汚れ面の油分や薬品、塵の洗浄を行う。又、高温蒸気に静電気を印加し、汚れ面に高温蒸気を集中噴射し、汚れ面を均一に洗浄出来るようにした洗浄装置。
【０００４】  以下、動作原理を各図により説明をする。
【０００５】  図１洗浄装置の原理図において
主な構成は、蒸気発生装置１、蒸気加熱装置８、圧縮空気加熱装置１５、放射ノズル１４、静電発生装置２５がある。
【０００６】  蒸気発生装置１は、高周波加熱装置２と高周波加熱コイル３で構成されている。高周波加熱装置２からの高周波電力４が高周波加熱コイル３に供給されると、供給水５は蒸気発生装置１内部で加熱され蒸気６となる、圧力検出器７の指示に従い高周波電力４を制御調整し一定の圧力の蒸気６（例０．２ＭＰａ）を発生させ、蒸気加熱装置８に供給する。
【０００７】  蒸気加熱装置８は、高周波加熱装置９と高周波加熱コイル１０で構成されている。蒸気発生装置１から供給された蒸気６（例０．２ＭＰａ）は、高周波加熱装置９からの高周波電力１１が高周波加熱コイル１０に供給されると、蒸気加熱装置８内部で高温に加熱され高熱量の超高温蒸気１２となる、温度検出器１３の指示に従い高周波電力１１を制御調整して、超高温蒸気１２（例０．２ＭＰａ、２００℃から８００℃程度）となり放射ノズル１４へ供給する。
【０００８】  圧縮空気加熱装置１５は、高周波加熱装置１６と高周波加熱コイル１７で構成されている。高周波加熱装置１６からの高周波電力１８が高周波加熱コイル１７に供給されると、コンプレッサー１９からの圧縮空気２０は圧縮空気加熱装置１５内部で加熱され高温圧縮空気２１となる、温度検出器２２の指示に従い高周波電力１８を制御調整し一定の高温圧縮空気２１（例０．２ＭＰａ、１００℃から８００℃程度）が発生し、放射ノズル１４へ供給する。
【０００９】  放射ノズル１４は、蒸気加熱装置８からの超高温蒸気１２（例０．２ＭＰａ、２００℃から８００℃程度）と圧縮空気加熱装置１５からの高温圧縮空気２１（例０．２ＭＰａ、１００℃から８００℃程度）を混合させ、混合超高温蒸気２３を汚れ面２４に放射して、汚れ面２４の油分や薬品、塵の洗浄をする。
【００１０】  静電発生装置２５は、汚れ面２４と放射ノズル１４に高圧電位２６を印加させ、混合超高温蒸気２３を汚れ面２４に集中放射して混合超高温蒸気２３の分散を防ぎ、局部を均一に洗浄することが可能となった。
【発明の効果】
【００１２】  洗浄と同時に高温による殺菌ができる。操作が簡単になり技術者が不用となる。排水処理設備及び使用済み溶剤処理設備が不用な為、設備費が低価格になった。洗浄用溶剤が不用になり、溶剤の揮発による空気汚染がない、保守経費も低価格となった。洗浄が均一に処理出来る。高周波加熱を利用するため、炭酸ガスの発生もなく、急速加熱が可能となり処理時間も短縮される。洗浄処理後は、超高温蒸気の水分は蒸発し、汚れ面の油分や薬品、塵が残るだけとなり、後処理も簡単になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】溶液浄化装置の原理図
【符号の説明】
１、  蒸気発生装置
２、  高周波加熱装置
３、  高周波加熱コイル
４、  高周波電力
５、  供給水
６、  蒸気
７、  圧力検出器
８、  蒸気加熱装置
９、  高周波加熱装置
１０、高周波加熱コイル
１１、高周波電力
１２、超高温蒸気
１３、温度検出器
１４、放射ノズル
１５、圧縮空気加熱装置
１６、高周波加熱装置
１７、高周波加熱コイル
１８、高周波電力
１９、コンプレッサー
２０、圧縮空気
２１、高温圧縮空気
２２、温度検出器
２３、混合超高温蒸気
２４、汚れ面
２５、静電発生装置
２６、高圧電位
【図１】
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【手続補正書】
【提出日】平成16年7月31日(2004.7.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高周波加熱により高温高圧蒸気を発生させ、これを塗装面に噴射し塗装の剥離を行う塗装剥離装置。
【請求項２】
高周波加熱により高温高圧蒸気を再加熱し超高温蒸気を発生させ、これを塗装面に噴射し塗装の剥離を行う塗装剥離装置。
【請求項３】
高周波加熱により圧縮空気を加熱し、これを塗装面に噴射し塗装の剥離を行う塗装剥離装置。
【請求項４】
請求項１、請求項２、請求項３の装置を組み合わせ、これを塗装面に噴射し塗装の剥離を行う塗装剥離装置。
【請求項５】
噴射部および塗装面に直流電圧、又は、静電気を発生させ塗装面に集中噴射し剥離を行う、請求項１、請求項２、請求項３、請求項４を特徴とする塗装剥離装置。