(57)【要約】【課題】  透明性、帯電防止性能及び紫外線遮蔽性能を備えた上で、有機性ガスの発生を最小限に抑え、内部に収納された薄板表面の汚染を極力低減させる。【解決手段】  持続的な静電防止性能を有する透明なポリカーボネート樹脂からなる成形品であって、その表面抵抗値を１０13Ωｃｍ以下とした。３８０ｎｍより短波長の光線透過率は４．０％以下、５５０ｎｍより短波長の光線透過率が１．０％以下とした。ダイナミックヘッドスペース法により、８０℃で１時間加熱、冷却捕集式で成形品からの発生ガス量は１０．０ｐｐｍ以下となる。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
持続的な静電防止性能を有する透明なポリカーボネート樹脂からなる成形品であって、その表面抵抗値が１０13Ωｃｍ以下であり且つ３８０ｎｍより短波長の光線透過率が４．０％以下であることを特徴とする薄板搬送・保管容器。
【請求項２】
請求項１記載の薄板搬送・保管容器において、
５５０ｎｍより短波長の光線透過率が１．０％以下であることを特徴とする薄板搬送・保管容器。
【請求項３】
請求項２記載の薄板搬送・保管容器において、
ダイナミックヘッドスペース法により、８０℃で１時間加熱、冷却捕集式で成形品からの発生ガス量が１０．０ｐｐｍ以下であることを特徴とする薄板搬送・保管容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、半導体用ウエハ、半導体ウエハ、マスクガラス、レチクル等の薄板を搬送、保管する際の容器で、透明性、帯電防止性及び紫外線吸収能力を必要とする薄板搬送・保管容器に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハ等の薄板を搬送・保管する際に使用する容器に関しては、従来から薄板の大きさに応じたものが使用されてきた。例えば、８インチ以下のシリコンウエハに対しては、特許文献１に記載されているような容器（図１参照）が、３００ｍｍウエハに対しては、特許文献２に記載されているような容器（図２参照）が、ガラスマスクやレチクルには特許文献３に記載されているような枚葉式容器（図３参照）が実用に供されてきた。
【０００３】
ここで、図１の容器１は主に、蓋体２と、パッキン３と、ウエハ押え部材４と、カセット５と、ケース本体６とから構成されている。カセット５には半導体ウエハ７が複数枚収納される。この半導体ウエハ７を収納したカセット５はケース本体６内に収納され、蓋体２が取り付けられる。ケース本体６と蓋体２との間にはパッキン３が介在して、ケース本体６内が密封される。ウエハ押え部材４は、カセット５に収納された半導体ウエハ７を支持する。図２の容器１１は主に、容器本体１２と、蓋体１３とを備え、内部が密閉されている。容器本体１２には、搬送用フランジ部１４、ハンドル１５等が設けられている。図３の容器２１は主に、ボックス２２と、ボックス扉２３と、ポートプレート２４と、ポート組立体２５と、ポート扉２６とから構成され、内部を清浄な空間にして外部環境による汚染を受けないようにしている。
【０００４】
これらの容器の原料には軽量性、成形性等のバランスを考慮したものが使用されてきた。特に、容器本体と蓋体は、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリカーボネートが使用されてきた。
【０００５】
一方、ガラスマスクやレチクル用のポッドやケースの場合は、透明性、帯電防止性能及び紫外線遮蔽性能という３つの性能が同時に要求されることが多くなってきた。しかし、これまでの材料では、上記３つの性能を同時に満たすのは困難という状況が発生している。
【０００６】
ところで、容器の壁の透明性(無色、有色を問わない)は、内部の被収納物の有無の確認にどうしても必要である。帯電防止性能は、静電気で器壁に付着した微細塵埃粒子が容器の開閉に伴って容器内に侵入して被収納物の表面を汚染することを防止するために必要である。また、紫外線遮蔽性能は、内部の被収納物の変質等の紫外線による影響を防止するために必要である。このため、上記３つの性能が要求される。
【０００７】
帯電防止性能を器壁に付与する方法としては、帯電防止剤を器壁に塗布、スプレーする簡便法と、帯電防止性能を有するポリマーを原料に混練する方法がある。前者の塗布、スプレー法では、容器使用前に行う純水洗浄の工程により、帯電防止性能は急速に低下するとともに器壁の帯電防止性能にムラが生じる。帯電防止性能を有するポリマーを混練すると、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリカーボネートでは材料が透明性を失うため、本発明の属する技術分野での容器材料として不適当である。
【０００８】
これらを勘案して、透明性及び帯電防止性能を合わせ持つ材料として、例えば、クレハ化学製のバイヨンＲで代表されるＰＭＭＡ系樹脂がある。この樹脂に適当量の紫外線吸収剤と透明着色剤を添加し、光線透過率をを調整した材料が、ガラスマスクやレチクル用のポッドやケースの材科として賞用されてきた。
【特許文献１】特開平７−３０７３７９号公報
【特許文献２】特開２００３−１７４０８０号公報
【特許文献３】特許第２９６０５４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上述のように、クレハ化学製のバイヨンＲで代表される透明・帯電防止型のＰＭＭＡ系樹脂に紫外線吸収剤及び透明着色剤を添加した材料が実用に供され、その成形品が本発明の属する技術分野でポッドやケースの材料として賞用されている。しかし、このＰＭＭＡ系樹脂は、有機性の発生ガス量が極めて多いという本質的な問題を内包していた。
【００１０】
半導体生産技術の急速な向上に伴い描画線幅は急速に狭まり、生産工程で使用するガラスマスクやレチクル等にも高い精度が求められる。しかし、ガラスマスクやレチクル等の表面の微細汚染、特に微量有機物の付着により発生する薄膜状の汚染は、露光ムラ等を発生させる可能性がある。このように、ガラスマスクやレチクル等を搬送・収納する容器本体、蓋体を構成する樹脂材料からのアウトガス量が重大な問題となる。このため、透明・帯電防止型ＰＭＭＡ系樹脂に替わる新たな材料が求められている。
【００１１】
本発明は、上述の点に鑑みてなされたもので、透明性、帯電防止性能及び紫外線遮蔽性能という３つの性能を備えた上で、有機性ガスの発生が少なく、内部に収納された薄板表面の汚染を極力低減することができる薄板搬送・保管容器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するために本発明に係る薄板搬送・保管容器は、持続的な静電防止性能を有する透明なポリカーボネート樹脂からなる成形品であって、その表面抵抗値が１０13Ωｃｍ以下であり且つ３８０ｎｍより短波長の光線透過率が４．０％以下になるように必要に応じて紫外線吸収剤と透明着色剤の添加量を調整する。また、５５０ｎｍより短波長の光線透過率が１．０％以下になるように、紫外線吸収剤と透明着色剤の添加量を調整する。このとき、ダイナミックヘッドスペース法により、８０℃で１時間加熱、冷却捕集式での成形品からの発生ガス量は１０．０ｐｐｍ以下になる。
【００１３】
これにより、透明性、帯電防止性能及び紫外線遮蔽性能という３つの性能を備えた上で、有機性ガスの発生量を減少させることができる。これにより、容器内に収納された薄板表面に有機性ガスが薄膜状に付着する等の汚染を極力低減することができる。
【発明の効果】
【００１４】
以上詳述したように、本発明の薄板搬送・保管容器によれば、次のような効果を奏する。
【００１５】
近年の半導体生産技術の急速な向上及び精密化に伴って薄板搬送・保管容器に要求される透明性、帯電防止性能及び紫外線遮蔽性能を備えた上で、有機性ガスの発生を最小限に抑え、内部に収納された薄板表面の汚染を極力低減させることができるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の最良の実施形態を説明する。本発明の薄板収納容器は、半導体ウエハ、記憶ディスク、液晶ガラス基板、マスクガラス、レチクル等の薄板を収納して、搬送・保管等に供するための容器である。
【００１７】
ポリカーボネート樹脂に、その本来の透明性を維持しつつ、持続的な帯電防止性能を付与する試みは広く行われ、各種の商品が各メーカーから上市されている。これらのコンパウンド樹脂の共通の問題点として、成形品でのゲート部分での白化や層状剥離が指摘されている。各社の銘柄にて、１０ｃｍ×１０ｃｍの角板を成形し、ゲート部分の白化の少ない成形板について、ダイナミックヘッドスペース法にて８０℃で１時間の加熱条件下のアウトガス量を測定し、最も少ない銘柄を以下の実施例の原材料とした。測定結果を下の表に示す。
【表１】
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［実施例］
選定した帝人化成製のパンライトＲＥＳ−１０００Ｂを使用し、この樹脂ペレットに紫外線吸収剤と透明着色剤を添加、混練し、押出して成形用ペレットを作成した。紫外線吸収剤と透明着色剤は、５５０ｎｍより短波長での光線透過率が１．０％以下になる様に量を調整した。具体的には、紫外線吸収剤を２００ｐｐｍ、透明着色剤を１２０ｐｐｍの割合で添加した。
【００１８】
このペレットを使用して、図４に示すような枚葉式容器を成形した。なお、図４の容器は主に、底板３１と、側壁３２と、上蓋３３と、支持部材３４とから構成されている。内部は密閉され、支持部材３４上にレチクル３５が収納される。
【００１９】
この成形品から、光線透過率測定用とアウトガス測定用の切片を切出し、それぞれのテータを測定した。この結果、５５０ｎｍより短波長での光線透過率は０．８％であった。また、アウトガス測定量は８０℃×１時間の加熱条件下で、冷却捕集方式で実施した所、４．６ｐｐｍであった。
【００２０】
また、表面抵抗値は８．８×1O12Ωであった。
【００２１】
これにより、透明性、帯電防止性能及び紫外線遮蔽性能を要求される値に保った状態で、アウトガスの発生量を、問題にならない程度にまで減少させることができた。
【００２２】
［比較例］
選定した三菱エンジニアリングプラスチックス製のノバレックスＲ７０２５Ｅ−ＴＸを使用し、この樹脂ペレットに紫外線吸収剤と透明着色剤を添加、混練し、押出して成形用ペレットを作成した。紫外線吸収剤と透明着色剤は、上記実施例と同様に、５５０ｎｍより短波長での光線透過率が１．０％以下になる様に量を調整した。
【００２３】
このペレットを使用して、図４に示すような枚棄式容器を成形した。
【００２４】
この成形品から、光線透過率測定用とアウトガス測定用の切片を切出し、それぞれのデータを測定した。５５０ｎｍより短波長での光像透過率は、０．９％であった。また、アウトガス測定量は８０％×１時間の加熱条件下で、冷却捕集方式で実施した所、１１．３ｐｐｍであった。
【００２５】
また、表面抵抗値は７０６×１０12Ωｃｍであった。
【００２６】
この場合、アウトガス測定量が１１．３ｐｐｍとなり、汚染が問題になる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】８インチ以下のシリコンウエハ用容器の例を示す分解斜視図である。
【図２】３００ｍｍシリコンウエハ用容器の例を示す斜視図である。
【図３】ガラスマスクやレチクル用の枚葉式容器の例を示す分解斜視図である。
【図４】ガラスマスクやレチクル用の枚葉式容器の例を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００２８】
１：容器、２：蓋体、３：パッキン、４：ウエハ押え部材、５：カセット、６：ケース本体、７：半導体ウエハ、１１：容器、１２：容器本体、１３：蓋体、１４：搬送用フランジ部、１５：ハンドル、２１：容器、２２：ボックス、２３：ボックス扉、２４：ポートプレート、２５：ポート組立体、２６：ポート扉、３１：底板、３２：側壁、３３：上蓋、３４：支持部材、３５：レチクル。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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