(57)【要約】【課題】この発明は、液体に含まれた気泡を分離除去する脱気装置を提供することにある。【解決手段】液体に含まれた気体を除去する脱気装置において、容器７２と、この容器の上部から内部に上記液体を供給する供給分岐管２２ａと、上記容器の底部に設けられ容器内に供給された液体を流出させる供給分岐管２２ａと、上記容器内に設けられ上記供給部から供給されて上記供給分岐管２２ａから流出する液体に含まれる気泡を付着させて分離する気体分離部材７３と、この気体分離部材に付着して上記容器内を上昇する気泡をこの容器から排出させる排気管７４とを具備する。【選択図】    図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体に含まれた気体を除去する脱気装置において、
容器と、
この容器の上部から内部に上記液体を供給する供給部と、
上記容器の底部に設けられ容器内に供給された液体を流出させる流出部と、
上記容器内に設けられ上記供給部から供給されて上記流出部から流出する液体に含まれる気泡を付着させて分離する気体分離部材と、
この気体分離部材に付着して上記容器内を上昇する気泡をこの容器から排出させる排気部と、
を具備したことを特徴とする脱気装置。
【請求項２】
上記気体分離部材は網目状の部材であることを特徴とする請求項１記載の脱気装置。
【請求項３】
液体に含まれた気体を除去する脱気方法において、
容器内に液体を供給する工程と、
上記容器内に供給された液体を流出させる工程と、
上記容器内に供給された液体がこの容器から流出する前に、液体に含まれる気泡を容器内に残留させる工程と、
容器内に残留した気泡を成長させて浮上させこの容器内から排出させる工程と、
を具備したことを特徴とする脱気方法。
【請求項４】
基板上に所定量の液体を滴下供給する液体供給装置において、
上記液体を貯えた貯液部と、
上記液体を上記基板に滴下供給する滴下部と、
この滴下部と上記貯液部とを接続した供給配管と、
この供給配管に設けられ上記液体に含まれる気泡を除去して上記滴下部に供給する脱気装置とを備え、
上記脱気装置は請求項１に記載された構成であることを特徴とする液体供給装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は液体に含まれる気体を除去する脱気装置、脱気方法及びこの脱気装置を用いた液体供給装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、液晶表示装置や半導体装置の製造工程においては、ガラス基板や半導体ウエハなどの基板に回路パターンを形成するための成膜プロセスがある。この成膜プロセスでは、基板の板面にたとえば配向膜やレジストなどの機能性薄膜が形成される。
【０００３】
基板に機能性薄膜を形成する場合、この機能性薄膜を形成する溶液をノズルから噴射して基板の板面に塗付するインクジェット方式の塗布装置が用いられることがある。
【０００４】
この塗付装置は、基板を搬送する搬送テーブルを有しており、この搬送テーブルの上方には、上記ノズルが穿設された複数のヘッドが基板の搬送方向に対してほぼ直交する方向に沿って並設されている。各ヘッドには供給管を介して接続された溶液タンクから溶液が供給される。それによって、搬送される基板の上面には複数のノズルから溶液が所定間隔で噴射されるようになっている。
【０００５】
インクジェット方式の塗布装置を用いて基板に溶液を塗付する場合、供給管内やノズル内などに気泡が残留していると、ノズルから噴射される溶液の量が一定せず、基板に溶液を均一に塗布することができないということがある。
【０００６】
そこで、上記塗布装置を使用する前に、上記溶液タンク内を気体で加圧して上記供給管に溶液を高い圧力で供給し、上記ノズルから勢いよく噴出させる。それによって、上記供給管やノズル内に蓄積した気泡を、溶液とともに排出してから上記供給管及びヘッド内などに溶液を充満させるということが行われる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、溶液を溶液タンクから供給管を通して上記ヘッドのノズルに供給すると、溶液タンクからヘッドの間において、溶液の流路が屈曲することが避けられない。流路が屈曲すると、流路を流れる溶液が圧力変動するから、その圧力変動によって溶液に気泡が発生するということがある。溶液に気泡が発生すると、ノズルから噴射される溶液の量が一定にならないから、基板に溶液を均一に塗布することができなくなるということが生じる。
【０００８】
この発明は、液体に含まれる気体を簡単かつ確実に除去することができるようにした脱気装置、脱気方法及びその脱気装置を用いた液体供給装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
この発明は、液体に含まれた気体を除去する脱気装置において、
容器と、
この容器の上部から内部に上記液体を供給する供給部と、
上記容器の底部に設けられ容器内に供給された液体を流出させる流出部と、
上記容器内に設けられ上記供給部から供給されて上記流出部から流出する液体に含まれる気泡を付着させて分離する気体分離部材と、
この気体分離部材に付着して上記容器内を上昇する気泡をこの容器から排出させる排気部と、
を具備したことを特徴とする脱気装置にある。
【００１０】
上記気体分離部材は網目状の部材であることが好ましい。
【００１１】
この発明は、液体に含まれた気体を除去する脱気方法において、
容器内に液体を供給する工程と、
上記容器内に供給された液体を流出させる工程と、
上記容器内に供給された液体がこの容器から流出する前に、液体に含まれる気泡を容器内に残留させる工程と、
容器内に残留した気泡を成長させて浮上させこの容器内から排出させる工程と、
を具備したことを特徴とする脱気方法にある。
【００１２】
この発明は、基板上に所定量の液体を滴下供給する液体供給装置において、
上記液体を貯えた貯液部と、
上記液体を上記基板に滴下供給する滴下部と、
この滴下部と上記貯液部とを接続した供給配管と、
この供給配管に設けられ上記液体に含まれる気泡を除去して上記滴下部に供給する脱気装置とを備え、
上記脱気装置は、
容器と、
この容器の上部から内部に上記液体を供給する供給部と、
上記容器の底部に設けられ容器内に供給された液体を流出させる流出部と、
上記容器内に設けられ上記供給部から供給されて上記流出部から流出する液体に含まれる気泡を付着させて分離する気体分離部材と、
この気体分離部材に付着して上記容器内を上昇する気泡をこの容器から排出させる排気部と、
を具備したことを特徴とする液体供給装置にある。
【００１３】
この発明によれば、容器に液体を供給すると、液体は、この液体に含まれる気泡を容器内に残留して容器から流出するため、気体を含まない液体を供給することが可能となる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながらこの発明の一実施の形態を説明する。
【００１５】
図１と図２はこの発明の液体供給装置としての溶液の塗布装置を示し、この塗布装置はベース１を有する。ベース１の上面には所定間隔で離間した一対のレール２がベース１の長手方向に沿って敷設されている。上記レール２にはテーブル３が走行可能に設けられ、図示しない駆動源によって走行駆動されるようになっている。テーブル３の上面には多数の支持ピン４が設けられ、これら支持ピン４にはたとえば液晶表示装置に用いられるガラス製の基板Ｗが供給支持される。
【００１６】
上記テーブル３とともに駆動される基板Ｗの上方には、上記基板Ｗにたとえばポリイミド膜などの機能性薄膜を形成するための溶液をインクジェット方式で噴射塗布する滴下部としての複数のヘッド、この実施の形態では３つのヘッド７が基板Ｗの走行方向と交差する方向に沿って一列に配設されている。
【００１７】
上記ヘッド７は図３に示すようにヘッド本体８を備えている。ヘッド本体８は筒状に形成され、その下面開口は可撓板９によって閉塞されている。この可撓板９はノズルプレート１１によって覆われており、このノズルプレート１１と上記可撓板９との間に液室１２が形成されている。
【００１８】
上記ヘッド本体８の長手方向一端部には上記液室１２に連通する供液孔１３が形成されている。この供液孔１３から上記液室１２にはたとえば配向膜やレジストなどの機能性薄膜を形成する液体としての溶液が供給される。それによって、上記液室１２内は溶液で満たされるようになっている。
【００１９】
図４に示すように、上記ノズルプレート１１には、基板Ｗの搬送方向に直交する方向に沿って複数のノズル１４が千鳥状に穿設されている。上記可撓板９の上面には、図３に示すように上記各ノズル１４にそれぞれ対向して複数の圧電素子１５が設けられている。
【００２０】
各圧電素子１５は上記ヘッド本体８内に設けられた駆動部１６によって駆動電圧が供給される。それによって、圧電素子１５は伸縮し、可撓板９を部分的に変形させるから、その圧電素子１５に対向位置するノズル１４から溶液が基板Ｗの上面に噴射塗付される。
【００２１】
図３に示すように、上記ヘッド本体８の長手方向他端部には上記液室１２に連通する回収孔１７が形成されている。上記給液孔１３から液室１２に供給された溶液は、上記回収孔１７から回収することができるようになっている。すなわち、上記ヘッド７は上記液室１２に供給された溶液をノズル１４から噴射させるだけでなく、上記液室１２を通じて上記回収孔１７から回収することが可能となっている。
【００２２】
図１に示すように、各ヘッド７の給液孔１３には溶液の供給管２１から分岐された供給分岐管２２が接続され、回収孔１７には回収管２３から分岐された回収分岐管２４が接続されている。上記供給分岐管２２には供給開閉弁２５と後述する構成の脱気装置７１とが順次設けられ、回収分岐管２４には回収開閉弁２６が設けられている。上記供給管２１と回収管２３との先端は連通弁２７を介して接続されている。さらに、回収管２３には回収分岐管２４よりも基端側の部分に主回収弁２８が設けられている。
【００２３】
上記供給管２１の基端は上記溶液Ｌが収容された貯液装置としての後述する構成の溶液タンク３１の底部に接続されている。上記回収管２３の基端は上記溶液タンク３１に供給する溶液Ｌを貯蔵した貯蔵タンク３２に接続されている。回収管２３の基端部からは供給弁３３を有する供給分岐管３４が分岐され、この供給分岐管３４は上記溶液タンク３１に接続されている。
【００２４】
上記溶液タンク３１の上部には大気開放管３５が接続されている。この大気開放管３５には第１の開閉制御弁３６が設けられている。第１の開閉制御弁３６が開放されれば、上記溶液タンク３１内が大気に連通する。なお、大気開放管３５は、この大気開放管３５から後述するように大気に放散される気体に含まれる気化溶媒を処理するための図示しない処理装置を介して大気に連通する。したがって、大気開放管３５を流れる気体は抵抗を受けることになる。
【００２５】
上記溶液タンク３１の上部には第２の開閉制御弁３７が設けられたガス供給管３８が接続されている。このガス供給管３８には、図示しないガス供給源から窒素などの不活性ガスが供給されるようになっている。
【００２６】
上記ガス供給管３８には、上記第２の開閉制御弁３７よりも上流側にフィルタ３９と第３の開閉制御弁４０とが順次接続されている。第３の開閉制御弁４０には流量絞り弁４１が並列に設けられている。この流量絞り弁４１と上記第３の開閉制御弁４０とでガス流量制御手段を構成している。
【００２７】
上記貯蔵タンク３２の上部には、上記溶液タンク３１と同様、第４の開閉制御弁４３を有する大気開放管４４が接続されている。さらに、第５の開閉制御弁４５を有するガス供給管４６が接続されている。このガス供給管４６にはフィルタ４７及び第６の開閉制御弁４８が順次接続されている。第６の開閉制御弁４８には流量絞り弁４９が並列に設けられている。
【００２８】
なお、上記供給開閉弁２５、回収開閉弁２６、主回収弁２８、供給弁３３、第１乃至第６の開閉制御弁３６，３７，４０，４３，４５，４８は図示しない制御装置によって開閉が制御されるようになっている。さらに、溶液タンク３１内の溶液Ｌの液面はレベルセンサ５０によって検出される。溶液Ｌの液面が所定以下になったことがレベルセンサ５０によって検出されると、その検出に基いて貯蔵タンク３２から溶液Ｌが補給される。つまり、貯蔵タンク３２内の溶液Ｌが第５の開閉制御弁４５を通じて供給される不活性ガスによって加圧されることで、上記溶液Ｌが上記溶液タンク３１に補給される。
【００２９】
図２に示すように、上記テーブル３の一端面には側面形状がＬ字状の取付部材５１が垂直な一辺を上記テーブル３の端面に固定して設けられている。この取付部材５１の水平な他辺には上下シリンダ５２が軸線を垂直にして設けられている。
【００３０】
上記上下シリンダ５２のロッドには弾性部材５３を介して載置板５４が取付けられている。この載置板５４の上面には各ヘッド７に対応する長さのブレード状のゴムなどの弾性材からなる３つの押え部材５５がそれぞれ保持部材５６に上下方向に変位可能に保持されている。各押え部材５５は上記保持部材５６に設けられたばね５７によって上昇方向に弾性的に付勢されている。
【００３１】
上記載置板５４には上記押え部材５５と並列にブレード状のゴムなどの弾性材によって形成されたワイピング部材５８設けられている。このワイピング部材５８は上記押え部材５５よりも背が高く形成されている。
【００３２】
上記載置板５４は回収槽６１の内底部に設けられている。この回収槽６１の一側にはガイド板６２が設けられ、このガイド板６２にはガイド部材６３が設けられている。このガイド部材６３は上記テーブル３の端面に上下方向に沿って設けられたガイドレール６４にガイドされて上下動可能となっている。
【００３３】
それによって、上記上下シリンダ５２が駆動されれば、上記載置板５４が駆動されるとともに、ガイド板６２がガイドレール６４に沿って上下動するから、載置板５４が前後左右方向に振れるのが規制されて上下動する。
【００３４】
上記回収槽６１には図１に示す回収タンク６５が接続されている。この回収タンク６５は、上記ヘッド７のノズル１４の気泡抜きを行なう際、ノズル１４から回収槽６１に噴射される溶液を回収する。
【００３５】
上記載置板５４を上昇させ、押え部材５５によって各ヘッド７のノズル１４を閉塞すれば、溶液タンク３１内の溶液Ｌを各ヘッド７の給液孔１３から液室１２及び回収孔１７を通して循環させることができる。それによって、供給管２１、ヘッド７及び回収管２３の気泡抜きを行うことができる。
【００３６】
ノズル１４を開放して溶液タンク３１内の溶液Ｌが回収管２３に戻らない状態で溶液Ｌを各ヘッド７に供給すれば、溶液Ｌはノズル１４から噴射するから、ノズル１４の気泡抜きを行うことができる。
【００３７】
基板Ｗに溶液Ｌを塗布する際、ワイピング部材５８をヘッド７のノズル１４が開口したノズル面に接触する高さに設定しておけば、基板Ｗがヘッド７の下方を往復動する際にノズル面に付着残留する溶液Ｌを拭き取ることができる。
【００３８】
上記脱気装置７１は上記供給管２１から分岐された、上記供給分岐管２２の、上記供給開閉弁２５とヘッド本体８との間の部分（この部分を介装部分２２ａとする）に介装されている。すなわち、この脱気装置７１は図５に示すように円筒状の容器７２を有する。この容器７２の周壁の上部には、上記供給分岐管２２の上記介装部分の上流部２２ａに接続される、供給部としての第１の接続部７１ａが形成されている。それによって、容器７２内には上記溶液タンク３１からの溶液Ｌが供給される。
【００３９】
上記容器７２の底部には上記供給分岐管２２の介装部分の下流部２２ｂが接続される、流出部としての第２の接続部７１ｂが形成されている。それによって、容器７２内に供給された溶液Ｌは底部から上記ヘッド本体８の給液孔１３に供給される。
【００４０】
上記容器７２の内底部には気体分離部材７３が設けられている。この気体分離部材７３は、気泡が付着し易い材料、すなわち溶液Ｌとの接触角が１０°より大きい材料、たとえば溶液Ｌがポリイミドの場合は、フッ素系やナイロン系などの合成樹脂によって網目状に形成されている。それによって、上記容器７２内に供給された溶液Ｌが気液分離部材７３の網目を通って底部に接続された供給分岐管２２の介装部分の下流部２２ｂからヘッド本体８へ流出するとき、溶液に含まれた気泡ｂが上記気液分離部材７３に付着して容器７２内に残留する。
【００４１】
気液分離部材７３に付着残留した小さな気泡ｂは寄り集まって大きな気泡Ｂに成長し、浮力が増大すると容器７２内を浮上する。容器７２の上部にはこの発明の排気部となる排気管７４の一端が接続される、排気部としての第３の接続部７１ｃが形成されている。この排気管７４の他端は上記回収管２３に回収分岐管２４を介して接続されている。それによって、容器７２内を浮上した気泡Ｂは上記排気管７４から回収管２３を通って貯蔵タンク３２に流入し、この貯蔵タンク３２に接続された大気開放管４４から大気中に放散される。
【００４２】
上記容器７２の直径をＤ、容器７２内へ供給される溶液Ｌの流量をＱ、容器７２内を浮上する気泡の直径をａ、溶液Ｌの粘度をζ、気泡密度をρ１  、溶液密度をρ２  、重力加速度をｇとすると、
2005058842.tif 000003
式
の関係を満足するよう、Ｄを設定することで、容器７２内で成長した気泡Ｂを、容器７２に流入する溶液Ｌの速度に抗して浮上させることができる。
【００４３】
なお、容器７２は気泡が付着し難い材料、すなわち溶液Ｌとの接触角が１０°より小さい材料、たとえば溶液Ｌがポリイミドの場合はガラスなどによって形成されるが、それ以外にステンレスなどの金属やセラミックなど、比較的気泡が付着し難い材料で形成してもよい。上記気体分離部材７４は全体を合成樹脂によって網目状に形成されているが、ステンレスなどの金属製のメッシュに合成樹脂をコーティングして形成してもよく、要は少なくとも表面を気泡が付着し易い材料、すなわち溶液Ｌとの接触角が１０°より大きい材料によって形成すればよい。溶液がポリイミド以外の場合でも、溶液との接触角が１０°より大きい材料で形成すればよい。
【００４４】
上記溶液タンク３１は、図６に示すようにタンク本体８１を備えている。このタンク本体８１はガラスなどの気泡が付着し難い材料或いは金属やセラミックなどの気泡が比較的付着しにくい材料、すなわち溶液Ｌとの接触角が１０°より小さい材料によって円筒状に形成されているとともに、下端には次第に小径となる逆円錐状の漏斗部８２及びこの漏斗部８２に連続する小径円筒部８３が連設されている。なお、タンク本体８１を形成する材料は限定されるものでない。
【００４５】
上記タンク本体８１内には、内部を分離室８４とした分離容器８５が収容され、図示しない保持部材によって保持されている。この分離容器８５は、気泡が付着し難いガラス、或いは比較的気泡が付着し難い金属やセラミックなどの材料によって上端面及び先端面が開放した逆円錐状に形成されている。この分離容器８５の下端部は、上記タンク本体８１の小径円筒部８３内に隙間のある状態で挿入されている。この分離容器８５の先端部は側方に向かって屈曲されていて、開口した先端面８５ａは上記小径円筒部８３の内周面に近接している。
【００４６】
上記供給分岐管３４の先端は、上記タンク本体８１の周壁を気密に貫通し、上記分離容器８５の周壁の上部の内周面に対して接線方向に沿って接続されている。上記溶液供給管２１の基端は、上記タンク本体８１の小径円筒部８３の先端に接続されている。
【００４７】
上記供給分岐管３４から分離容器８５内に接線方向に沿って供給される溶液Ｌは、分離容器８５の内周面を図６に矢印で示すように旋回しながら落下する。溶液Ｌが分離容器８５の内周面に沿って旋回すると、溶液Ｌに遠心力が作用する。そのため、溶液Ｌに気泡ｂが含まれていると、気泡ｂと溶液Ｌとの密度差によって溶液Ｌから気泡ｂが分離して旋回中心に集まり、タンク本体８１内を浮上する。タンク本体８１の上面に接続された大気開放管３５を開放すれば、タンク本体８１内を浮上した気泡ｂは、大気開放管３５から大気に放散させることができる。
【００４８】
分離容器８５内を旋回しながら落下する溶液Ｌは、その先端面８５ａから流出してタンク本体８１内に溜まる。タンク本体８１内の溶液Ｌの液面は、その液面とヘッド７のノズル面とがなす水頭ｈが一定になるよう、レベルセンサ５０によって制御される。
【００４９】
溶液Ｌが分離容器８５の先端面８５ａから流出する際、溶液Ｌはタンク本体８１の小径円筒部８３の内周面に衝突する。そのため、分離容器８５を落下する溶液Ｌに気泡ｂが残留していたとしても、衝突時に気泡ｂをタンク本体８１の内壁に沿わせて溶液Ｌから気泡ｂが分離し、タンク本体８１内を浮上して排出される。
【００５０】
上記構成の塗布装置において、基板Ｗに溶液Ｌを噴射塗布する場合、基板Ｗがテーブル３によってヘッド７の下方に搬送されてきたならば、駆動部１６によって圧電素子１５に通電し、ヘッド７の液室１２に供給された溶液Ｌをノズル１４から基板Ｗに噴射する。それによって、基板Ｗに溶液Ｌを噴射塗布することができる。
【００５１】
基板Ｗに噴射塗布される溶液Ｌは、供給分岐管２２に設けられた脱気装置７１を通ってヘッド７の給液孔１３に供給される。つまり、脱気装置７１から給液孔１３に流れる溶液Ｌは、脱気装置７１の容器７２内に設けられた網目状の気液分離部材７３を通過する。
【００５２】
溶液Ｌが気液分離部材７３を通過すると、溶液Ｌに含まれた気泡ｂが上記気液分離部材７３に付着して分離されるため、ヘッド７の液室１２には気泡ｂが除去された溶液Ｌが供給される。そのため、ヘッド７の各ノズル１４からはそれぞれ所定量の溶液Ｌを精密に噴射させることができるから、溶液Ｌを基板Ｗに均一に塗布することが可能となる。
【００５３】
気液分離部材７３に付着した気泡ｂは、寄り集まって大きな気泡Ｂに成長する。気泡Ｂが成長すると浮力が増大するから、その気泡Ｂは容器７２の溶液Ｌ内を浮上し、回収分岐管２４を通って排出される。そのため、溶液Ｌから分離された気泡Ｂが再び溶液Ｌに入り込むのを防止できる。
【００５４】
溶液タンク３１内の溶液Ｌをノズル１４から噴射することで、溶液タンク３１内の溶液Ｌのレベルが低下すると、この溶液タンク３１には貯蔵タンク３２の溶液Ｌが補給される。つまり、貯蔵タンク３２の第４の開閉制御弁４３を閉じて第６の開閉制御弁４８を開放し、不活性ガスによって貯蔵タンク３２内を加圧する。それによって、貯蔵タンク３２内の溶液Ｌが加圧されるから、溶液Ｌは供給分岐管３４を通じて溶液タンク３１に供給される。このとき、溶液タンク３１の第１の開閉制御弁３６を開放しておく。
【００５５】
貯蔵タンク３２から溶液タンク３１に流入する溶液Ｌは、タンク本体８１内の分離容器８５内に、接線方向にから流入する。分離容器８５内に接線方向から流入した溶液Ｌは、その内周面に沿って旋回しながら分離容器８５内を下降する。それによって、旋回する溶液Ｌに遠心力が作用するから、その遠心力によって溶液Ｌに含まれる、溶液Ｌよりも密度の小さな気泡ｂが旋回中心に集まり、溶液Ｌから分離する。つまり、溶液Ｌから気泡ｂが除去される。
【００５６】
気泡ｂが除去された溶液Ｌは、分離容器８５の先端面８５ａから流出し、タンク本体８１内に貯留される。溶液Ｌが分離容器８５の先端面８５ａから流出するとき、溶液Ｌはタンク本体８１の小径円筒部８３の内周面に衝突する。そのため、溶液Ｌに気泡ｂが残留していても、衝突時に気泡ｂをタンク本体８１の内壁に沿わせてその気泡ｂを溶液Ｌから分離除去することができる。そして、溶液タンク３１への溶液Ｌの供給は、レベルセンサ５０によって溶液Ｌの液面とヘッド７のノズル面との水頭ｈがほぼ同等になるまで行なわれる。
【００５７】
このように、溶液タンク３１に供給される溶液Ｌから気泡ｂが除去されるとともに、この溶液タンク３１からヘッド７に供給される溶液Ｌからも気泡ｂが除去される。
【００５８】
そのため、ヘッド７のノズル１４から基板Ｗに噴射塗布される溶液Ｌに気泡ｂが含まれることがほとんどないから、各ノズル１４から溶液Ｌを均一に噴射して基板Ｗに高精度で塗布することが可能となる。
【００５９】
上記一実施の形態では基板にポリイミド膜を形成するための塗布装置にこの発明の脱気装置を適用した場合について説明したが、基板に液晶を滴下供給したり、レジスト、エッチング液或いは現像液などを滴下供給する場合などであっても、それら溶液の供給管路にこの発明の脱気装置を設けることで、気泡を含まない溶液を供給することが可能となる。つまり、脱気を必要とする液体を供給する装置であれば、この発明の脱気装置を使用することができる。
【００６０】
【発明の効果】
以上のようにこの発明は、液体が容器に供給されてから排出される間に、この液体に含まれる気泡を容器内に残留させ、容器内に残留した気泡を浮上させて排出するようにした。
【００６１】
そのため、液体に含まれる気体を、比較的簡単な構成で確実に除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施の形態に係る溶液の塗布装置の概略的構成を示す側面図。
【図２】溶液の供給管路を省略した塗布装置の正面図。
【図３】ノズルヘッドの断面図。
【図４】ノズルヘッドの下面図。
【図５】脱気装置の断面図。
【図６】溶液タンクの断面図。
【符号の説明】
７…ヘッド、１４…ノズル、２１…溶液供給管、２２…供給分岐管、２２ａ…介装部分（供給部、流出部）、２４…回収分岐管（排気部）、７１…脱気装置、７２…容器、７３…気液分離部材。
【図１】
2005058842.tif 000004
【図２】
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【図３】
2005058842.tif 000006
【図４】
2005058842.tif 000007
【図５】
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【図６】
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