(57)【要約】      （修正有）【課題】矩形等のパターンの角等を、高精細なパターン状に露光することが可能なフォトマスクを提供する。【解決手段】７０°〜１２０°の範囲内の角度の角部を有する露光パターンａを露光するための開口部を有するフォトマスク１であって、露光パターンの角部αに対応するフォトマスクの角部対応部が、角部の二等分線ｃに対して垂直な線分のパターン補正用線ｄを端辺として有する。【選択図】図１
2005173384.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
７０°〜１２０°の範囲内の角度の角部を有する露光パターンを露光するための開口部を有するフォトマスクであって、
前記露光パターンの前記角部に対応する前記フォトマスクの角部対応部が、前記角部の二等分線に対して垂直な線分のパターン補正用線を端辺として有することを特徴とするフォトマスク。
【請求項２】
前記パターン補正用線の中点は、前記露光パターンの前記角部の頂点に対応する点と５μｍ以下の範囲内の距離に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のフォトマスク。
【請求項３】
前記パターン補正用線の長さが、６μｍ〜１０μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のフォトマスク。
【請求項４】
凹部で構成されている前記角部対応部を有するフォトマスクであって、
前記角部対応部には、前記露光パターンの前記角部を構成する２辺に対応するフォトマスクの開口部の２辺を結ぶ、前記パターン補正用線と平行な斜辺線が形成され、前記斜辺線上には、前記パターン補正用線を端辺とし、前記斜辺線上に底辺を有する矩形状凹部が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のフォトマスク。
【請求項５】
前記斜辺線の長さを１としたときに、前記底辺の長さが、０．５〜１の範囲内となるように形成されていることを特徴とする請求項４に記載のフォトマスク。
【請求項６】
前記矩形状凹部の凹部側辺の長さは、前記パターン補正用線の長さを１としたときに０．５〜１．５の範囲内となるように形成されていることを特徴とする請求項４または請求項５に記載のフォトマスク。
【請求項７】
凸部で構成されている前記角部対応部を有するフォトマスクであって、
前記角部対応部には、前記露光パターンの前記角部を構成する２辺に対応するフォトマスクの開口部の２辺を結ぶ、前記パターン補正用線と平行な斜辺線が形成され、前記斜辺線上には、前記パターン補正用線を端辺とし、前記斜辺線上に底辺を有する矩形状凸部が形成されていることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項に記載のフォトマスク。
【請求項８】
前記斜辺線の長さを１としたときに、前記底辺の長さが、０．５〜１の範囲内となるように形成されていることを特徴とする請求項７に記載のフォトマスク。
【請求項９】
前記矩形状凸部の凸部側辺の長さは、前記パターン補正用線の長さを１としたときに０．５〜１．５の範囲内となるように形成されていることを特徴とする請求項７または請求項８に記載のフォトマスク。
【請求項１０】
請求項１から請求項９までのいずれかの請求項に記載のフォトマスクを用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１１】
矩形の着色部を有するカラーフィルタであって、前記矩形の角のＲが８μｍ以下であることを特徴とするカラーフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタの製造等に用いられる、高精細なパターン状に露光を行うことが可能なフォトマスクや、そのフォトマスクを用いたカラーフィルタの製造方法等に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、カラーフィルタの製造等に、基材上に塗布したフォトレジスト層にパターン露光を行い、露光後、フォトレジストを現像し、さらにエッチングを行うこと等によって、目的とするパターン状に着色部等を形成するフォトリソグラフィー法が用いられている。
【０００３】
このようなフォトリソグラフィー法においては、照射する光を平行光とし、フォトマスク等を通して光を照射するプロキシミティ方式が一般的である。この際、フォトマスクにゴミが付着したり、傷が生じることを防ぐため、フォトマスクと被露光体との間に、間隙を設けて露光が行われることが多い。しかしながら、このような間隙を設けた場合、フォトマスクを透過した光がフレネル回折等してしまい、露光されたパターンの端部においては、他の領域に比べて光の照射量が少なくなる。これにより、例えば目的とする矩形の角の部分が丸みをおびてしまったり、形状が変形してしまう場合があった。例えばカラーフィルタの着色部等をこの方法によって形成した場合には、図６に示すように、着色部１１（１１Ｒ、１１Ｂ、および１１Ｇ）のパターンの角の部分が丸みをおびてしまい、隣接する着色部１１間（ｚで表される部分）から光が抜けてしまうという光ぬけ欠陥を生じてしまう、等の問題があった。またさらに、近年高精細なディスプレイ等においては、カラーフィルタのブラックマトリクスや着色部等の形状に、より微細で複雑な形状が求められており、従来の方法では、このような複雑なパターンに対応することが困難であった。
【０００４】
そこで、矩形のパターンを露光する際に用いられるフォトマスクとして、矩形のパターンの各角に三角形の光透過部を設ける方法（特許文献１参照）等が開示されている。しかしながら、このようなフォトマスクを用いても、矩形のパターンの角の部分を正確に再現することはいまだに困難であり、また複雑なパターンの露光には対応するものではなかった。
【特許文献１】特開平２００３−６６５８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記のことから、矩形等のパターンの角等を、高精細なパターン状に露光することが可能なフォトマスクの提供が望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、７０°〜１２０°の範囲内の角度の角部を有する露光パターンを露光するための開口部を有するフォトマスクであって、
上記露光パターンの上記角部に対応する上記フォトマスクの角部対応部が、上記角部の二等分線に対して垂直な線分のパターン補正用線を端辺として有することを特徴とするフォトマスクを提供する。
【０００７】
本発明によれば、フォトマスクの角部対応部が、上記パターン補正用線を端辺として有する形状に形成されていることから、フォトマスクを介した露光の際、フォトマスクを通過した光が回折し、上記角部の形状に光を照射することが可能となるのである。また本発明によれば、各角部に上記パターン補正用線を端辺として有するような形状を有するフォトマスクとすることによって、矩形状の露光パターンだけでなく、様々な形状の露光パターンの角部も再現することが可能であることから、種々の用途に用いることが可能なフォトマスクとすることができる。
【０００８】
上記発明においては、上記パターン補正用線の中点は、上記露光パターンの上記角部の頂点に対応する点と５μｍ以下の範囲内の距離に配置されていることが好ましい。開口部の形状をこのようなものとすることにより、上記角部をより高精細に再現することが可能となるからである。
【０００９】
また、上記発明においては、上記パターン補正用線の長さが、６μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。上記パターン補正用線の長さを、このような範囲内とすることによって、上記角部を高精細に再現して露光することが可能となるからである。
【００１０】
上記発明においては、凹部で構成されている上記角部対応部を有するフォトマスクであって、上記角部対応部には、上記露光パターンの上記角部を構成する２辺に対応するフォトマスクの開口部の２辺を結ぶ、上記パターン補正用線と平行な斜辺線が形成され、上記斜辺線上には、上記パターン補正用線を端辺とし、上記斜辺線上に底辺を有する矩形状凹部が形成されているものとすることができる。上記のような矩形状凹部を設けることによって光が回折し、目的とする形状に光を照射することができるからである。
【００１１】
この際、上記斜辺線の長さを１としたときに、上記底辺の長さが、０．５〜１の範囲内となることが好ましい。これにより、上記角部の形状をより高精細に再現することができるからである。
【００１２】
また、上記矩形状凹部の凹部側辺の長さは、上記パターン補正用線の長さを１としたときに０．５〜１．５の範囲内となるように形成されていることが好ましい。これにより、上記角部の形状をさらに高精細に再現することができるからである。
【００１３】
また、上記発明においては、凸部で構成されている上記角部対応部を有するフォトマスクであって、上記角部対応部には、上記露光パターンの上記角部を構成する２辺に対応するフォトマスクの開口部の２辺を結ぶ、上記パターン補正用線と平行な斜辺線が形成され、上記斜辺線上には、上記パターン補正用線を端辺とし、上記斜辺線上に底辺を有する矩形状凸部が形成されているものとすることができる。上記のような矩形状凸部を設けることによって光が回折して、目的とする形状に光を照射することができるからである。
【００１４】
この際、上記斜辺線の長さを１としたときに、上記底辺の長さが、０．５〜１の範囲内となるように形成されていることが好ましい。これにより、目的とする角部の形状をより高精細に再現することが可能となるからである。
【００１５】
また、上記矩形状凸部の凸部側辺の長さは、上記パターン補正用線の長さを１としたときに０．５〜１．５の範囲内となるように形成されていることが好ましい。これにより、目的とする角部の形状をさらに高精細に再現することが可能となるからである。
【００１６】
また、本発明は、上述したいずれかのフォトマスクを用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供する。
【００１７】
本発明によれば、上述したフォトマスクを用いることにより、高精細な形状の着色部等を形成することができ、光ぬけ等のない、高品質なカラーフィルタを製造することができるのである。
【００１８】
また、本発明は、矩形の着色部を有するカラーフィルタであって、上記矩形の角のＲが８μｍ以下であることを特徴とするカラーフィルタを提供する。
【００１９】
本発明によれば、上記着色部の角のＲが上記値以下であることから、隣接する着色部間の隙間が小さく、光抜け等の少ない、高品質なカラーフィルタとすることができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、フォトマスクの角部対応部が、上記パターン補正用線を端辺として有する形状に形成されていることから、フォトマスクを介した露光の際、フォトマスクを通過した光が回折し、上記角部の形状に光を照射することが可能となる。また本発明によれば、各角部に上記パターン補正用線を端辺として有するようなフォトマスクとすることによって、矩形の形状の露光パターンだけでなく、様々な形状の露光パターンの角部も再現することが可能であることから、種々の用途に用いることが可能なフォトマスクとすることができる、という効果を奏するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
本発明は、カラーフィルタの製造等に用いられる、高精細な形状に露光を行うことが可能なフォトマスクや、そのフォトマスクを用いたカラーフィルタの製造方法、および高精細な形状に形成された着色部を有するカラーフィルタに関するものである。
以下、それぞれについてわけて説明する。
【００２２】
Ａ．フォトマスク
まず、本発明のフォトマスクについて説明する。本発明のフォトマスクは、所定の範囲内の角度の角部を有する露光パターンを露光するための開口部を有するフォトマスクであって、
上記露光パターンの上記角部に対応する上記フォトマスクの角部対応部が、上記角部の二等分線に対して垂直な線分のパターン補正用線を端辺として有するものである。
【００２３】
本発明のフォトマスクは、例えば図１（ａ）に示すような、角部αを有する露光パターンａの露光に用いられるものであり、図１（ｂ）に示すように、フォトマスク１が、露光パターンａにおける角部αの角の二等分線ｃに対して垂直な線分であるパターン補正用線ｄを、角部対応部に端辺として有するようなものである。上記露光パターンとは、フォトマスクにより露光することを目的とする領域をいい、上記角部とは、例えば矩形の露光パターン等を構成する各角をいうこととする。また、上記角部対応部とは、上記露光パターンの角部の形状に露光するために設けられる、フォトマスクにおける角部に対応する部分をいうこととする。
またさらに、上記パターン補正用線とは、フォトマスクの上記角部の角の二等分線に対して垂直な線分であるが、本発明でいう上記二等分線に垂直な線には、上記二等分線に対して７０°〜１１０°の範囲内となるように形成された線も含むものとする。
【００２４】
通常のフォトマスクにおいては、露光パターンと、フォトマスクの開口部とは、同一の形状を有しており、このフォトマスクを介して光を照射することにより露光が行われる。しかしながらこの方法においては、フォトマスクと被露光体との間に間隙を設けた場合、フォトマスクを通過した光が、フレネル回折等して、露光パターンの端部の光の照射量が少なくなる。また、上述したような角部を有する露光パターンにおいては、特に露光パターンの角部が光の回折の影響を受けやすくなり、角が丸まった形状で露光されることとなり、目的とする露光パターンの形状に像を形成することが困難である。
【００２５】
一方、本発明においては、フォトマスクが、上記パターン補正用線を端辺として有することから、露光の際フォトマスクを通過した光が回折し、合成された光が露光パターンを再現して像を形成する。したがって、目的とする露光パターンが複雑な形状であっても、フォトマスクの形状を、各角部対応部に上記パターン補正用線を端辺として有する形状とすることにより、目的とする露光パターンの形状に露光を行うことができるのである。
【００２６】
ここで、本発明のフォトマスクにより露光を目的とする露光パターンは、所定の角度の角部を有するものであれば、特にその形状等は限定されるものではなく、その露光パターンが形成される目的等によって、適宜選択されるものである。また、本発明のフォトマスクは、ネガ型のフォトレジスト等に用いられるものであっても、ポジ型のフォトレジスト等に用いられるものであってもよい。
【００２７】
本発明における上記露光パターンは、上記角部として７０°〜１２０°、好ましくは８０°〜１００°の角度を有するものである。ここで本発明における露光パターンは、例えば図２に示されるような凸状の角部（α、α´）を有するものであってもよく、また凹状の角部（α´´）を有するものであってもよい。なお、凹状の角部を有する場合には、上記角部の角度とは、凹状の内側となる部分の角度をいうこととする。
【００２８】
ここで、本発明のフォトマスクの形状は、上記角部対応部に、上記パターン補正用線を端辺として有するものであれば、特に限定されるものではないが、本発明においては、上述したパターン補正用線の中点が、目的とする露光パターンの角部の頂点に対応する点と５μｍ以下の範囲内、中でも２μｍ以下の範囲内、特に中点と一致するような位置に配置されていることが好ましい。フォトマスクの形状を、このような形状とすることによって、露光パターンａの角部を、高精細に再現することが可能となるからである。
【００２９】
また、本発明においては、上記パターン補正用線ｄの長さ（例えば図１（ｂ）のｓで示される長さ）は、露光パターンの形状や大きさ等によって、適宜選択されるものであるが、６μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、後述するように角部対応部の形状が凹部で形成される場合には、上記の中でも７μｍ〜１０μｍの範囲内、特に８μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。また後述するように角部対応部の形状が凸部で形成される場合には、上記の中でも６μｍ〜８μｍの範囲内、特に６μｍ〜７μｍの範囲内であることが好ましい。
このような範囲内の長さのパターン補正用線を端辺として有することにより、露光パターンを高精細に再現して露光することが可能となるからである。
【００３０】
ここで、目的とする露光パターンの上記角部が、例えば図３（ａ）に示すような凸状の角部αである場合には、フォトマスク１の角部対応部２の形状は、例えば図３（ｂ）に示すように凹部で構成されるものであることが好ましい。このようなフォトマスク１の角部対応部２の形状として具体的には、角部αを構成する２辺に対応する開口部の２辺ｇを結ぶ、パターン補正用線ｄと平行な斜辺線ｆが形成されており、この斜辺線ｆ上に、パターン補正用線ｄを端辺とし、斜辺線ｆ上に底辺ｈを有する矩形状の矩形状凹部ｉが形成されているような形状であることが好ましい。角部αに対応する角部対応部２の形状を、このような形状とすることによって、露光の際フォトマスクを通過した光が回折し、合成されて角部αの形状を高精細に再現することが可能となるからである。なお、上記斜辺線とパターン補正用線とは、平行となるものであるが、本発明におけるこの２線の平行とは、完全な平行な状態だけでなく、パターン補正用線に対して上記斜辺線が−１０°〜１０°の範囲内の角度を有する場合も含むものとする。また上記底辺とは、矩形状凹部においてパターン補正用線と対向する辺をいうこととし、斜辺線とは、パターン補正用線と平行であり、かつ上記角部を構成する２辺に対応する開口部の２辺との交点を端点とする線分をいうこととする。
【００３１】
上記フォトマスクにおける矩形状凹部は、上記パターン補正用線を端辺とし、斜辺線上に底辺を有するような矩形状であれば、その大きさ等は、目的とする角部の大きさ等により、適宜選択されるものである。本発明においては、上記矩形状凹部の底辺の長さと上記斜辺線の長さとが一致するような矩形状であってもよいが、上記斜辺線の長さを１としたときに、底辺の長さが０．５〜１の範囲内、中でも０．５〜０．７５の範囲内であることが好ましい。これにより、上記角部をより高精細に再現することができるからである。
【００３２】
また、上記矩形状凹部の凹部側辺（図３（ｂ）においてｅで表される）の長さ（図３（ｂ）においてｔで示される長さ）が、パターン補正用線ｄの長さ（図３（ｂ）においてｓで示される長さ）を１とした場合に、０．５〜１．５の範囲内、中でも１．０〜１．５の範囲内であることが好ましく、特に矩形状凹部の形状が正方形となることが好ましい。このような矩形状凹部を形成することによって、より高精細に角部αを再現することが可能となるからである。
【００３３】
一方、目的とする露光パターンの上記角部が例えば図４（ａ）に示すように、凹状の角部αである場合には、フォトマスク１の角部対応部２の形状は、例えば図４（ｂ）に示されるように、凸部で構成されることが好ましい。このようなフォトマスク１の角部対応部２の形状として具体的には、角部αを構成する２辺に対応する開口部の２辺ｇを結ぶ、パターン補正用線ｄと平行な斜辺線ｆが形成されており、この斜辺線ｆ上に、パターン補正用線ｄを端辺とし、斜辺線ｆ上に底辺ｈを有する矩形状の矩形状凸部ｊが形成されているような形状であることが好ましい。角部対応部をこのような形状を有するものとすることによって光が回折して、目的とするパターン状にのみ光を照射することができ、角部αをより高精細に再現することが可能となるからである。なお、パターン補正用線、底辺、および斜辺線については、上記矩形状凹部が形成される場合で説明したものと同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００３４】
上記フォトマスクにおける矩形状凸部は、上記パターン補正用線を端辺とし、斜辺線上に底辺を有するような矩形状であれば、その大きさ等は、目的とする角部の大きさ等により、適宜選択されるものである。本発明においては、上記斜辺線の長さと矩形状凸部の底辺の長さとが一致するようなものであってもよく、上記斜辺線の長さを１としたときに、底辺の長さが０．５〜１の範囲内、特に上記斜辺線の長さと一致することが好ましい。これにより、上記角部をより高精細に再現することができるからである。
【００３５】
また、上記矩形状凸部の凸部側辺（図４（ｂ）においてｅで表される）の長さ（図４（ｂ）においてｔで示される長さ）が、パターン補正用線ｄの長さ（図４（ｂ）においてｓで示される長さ）を１とした場合に、０．５〜１．５の範囲内、中でも０．５〜１．０の範囲内であることが好ましい。このような矩形状凸部を形成することによって、より高精細に角部αを再現することが可能となるからである。
【００３６】
本発明においては、上記矩形状凸部や矩形状凹部を有するような角部対応部を組み合わせることにより、露光パターンが複雑な形状を有する場合であっても、目的とする形状に露光を行うことができるのである。
【００３７】
ここで、上述したようなフォトマスクは、露光パターンの各角部に対応した角部対応部を有するものであれば、その種類等は特に限定されるものではなく、通常フォトマスクに用いられているガラスやプラスチック等の基板上に、有機樹脂やクロム等の薄膜等を形成することにより、遮光部を形成したもの等とすることができる。このようなフォトマスクの材料や、製造方法等については、一般的にフォトマスクに用いられている材料や製造方法等を用いることができるので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００３８】
なお、本発明のフォトマスクは、上述したような角部を有する露光パターンを露光するために用いられるものであれば、その用途等は特に限定されるものではなく、例えばカラーフィルタの着色部等の形成や、有機ＥＬディスプレイの発光画素部の形成等に用いることができるが、本発明においては、特に後述するカラーフィルタの着色部等の形成に用いられるものであることが好ましい。上記のフォトマスクを用いてカラーフィルタを形成することにより、着色部の光抜け等のない、高品質なカラーフィルタとすることができるからである。
【００３９】
また、本発明のフォトマスクは、フォトマスクと被露光部との間に間隙を設けて用いられるものであり、その間隙は目的とする露光パターンの大きさ等によっても異なるものであるが、通常５０μｍ〜３００μｍの範囲内、好ましくは１００μｍ〜２００μｍの範囲内とされることが好ましい。これにより、露光の際、照射された光がフォトマスクを通過した後、回折して目的とする形状に光を照射することが可能となるからである。
【００４０】
Ｂ．カラーフィルタの製造方法
次に、本発明のカラーフィルタの製造方法について説明する。本発明のカラーフィルタの製造方法は、上述したフォトマスクを用いることを特徴とするものである。
本発明によれば、上記フォトマスクを用いてカラーフィルタの部材を形成することによって、各部材の形状を高精細なものとすることができ、高品質なカラーフィルタとすることができるのである。
【００４１】
ここで、本発明のカラーフィルタの製造方法においては、上記フォトマスクを用いてカラーフィルタの部材を形成する工程を有するものであれば、フォトマスクを用いて形成される部材の種類等は特に限定されるものではないが、本発明においては特に上記フォトマスクを用いて着色部を形成する工程を有するものであることが好ましい。これにより、例えば矩形状の着色部等も高精細に形成することができ、着色部の光ぬけ等の少ない、高品質なカラーフィルタとすることができるからである。また、複雑な形状の着色部も形成可能となる。
【００４２】
上記フォトマスクを用いて、着色部を形成する方法としては、例えば基板上に感光性を有する着色部形成用樹脂等を塗布後、所定の間隙をあけて上述したフォトマスクを配置して光を照射した後、現像液により現像すること等によって行うことができる。この際、着色部形成用樹脂とフォトマスクとの間隙としては、目的とする露光パターンの大きさ等によっても異なるものであるが、通常５０μｍ〜３００μｍの範囲内、好ましくは１００μｍ〜２００μｍの範囲内とされることが好ましい。このような範囲内の間隙をあけて上記フォトマスクを用いることによって、露光の際に照射された光が回折して、目的とする着色部の形状に像を形成することが可能となるからである。
【００４３】
なお、本発明のカラーフィルタの製造方法において、上記フォトマスクを用いて形成される部材としては、上記着色部だけではなく、例えば遮光部や保護層等であってもよい。また、本発明においては、上記フォトマスクを用いて部材を形成する工程以外に、必要に応じて他の工程を有していてもよい。このような工程や、本発明のカラーフィルタに用いられる各部材の材料等については、一般的なカラーフィルタに用いられる材料や製造方法等と同様であるので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００４４】
Ｃ．カラーフィルタ
次に、本発明のカラーフィルタについて説明する。本発明のカラーフィルタは、矩形の着色部を有するカラーフィルタであって、上記矩形の角のＲが所定の値以下であるものである。
【００４５】
本発明のカラーフィルタは、例えば図５に示すような矩形の着色部（１１Ｒ、１１Ｇ、および１１Ｇ）を有するカラーフィルタであって、各着色部の角のＲが所定の範囲以下となるものである。一般的に、カラーフィルタの矩形の着色部をフォトリソグラフィー法等によって形成した場合、光の回折等の影響から、矩形の着色部の角が丸みをおびた形状等となり、隣接する着色部間からの光抜け等が問題となる。
【００４６】
本発明のカラーフィルタにおいては、このような矩形の着色部の角のＲが所定の範囲以下であることから、より矩形に近い形状とすることができ、着色部と着色部との間の光抜け等の少ない、高品質なカラーフィルタとすることができるのである。ここで、矩形の着色部の角のＲの値として具体的には８μｍ以下、中でも６μｍ以下、特に４μｍ以下であることが好ましい。ここで、上記Ｒとは、矩形の角を構成する曲線を弧とした場合における半径をいうものである。
【００４７】
また、上記着色部は、上記のような形状を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば色の配置が、マトリックス状や千鳥格子状であってもよく、またストライプ状等であってもよい。また、例えば濃赤色、淡赤色、濃緑色、淡緑色、濃青色、淡青色等を有する反透過型カラーフィルタ用の着色部等とすることもできる。
【００４８】
本発明のカラーフィルタにおいて、上記のような形状を有する着色部を形成する方法としては、着色部の矩形の角のＲを上記値以下とすることが可能であれば、その方法は特に限定されるものではないが、特に「Ａ．フォトマスク」の項で説明したようなフォトマスクを用いて、着色部が形成されたものであることが好ましい。上述したようなフォトマスクを用いて着色部が形成されたものとすることによって、複雑な工程等が必要なく、従来より用いられている方法によって、容易に上記着色部を形成することが可能となるからである。
【００４９】
なお、本発明のカラーフィルタにおいては、上記形状の着色部を有するものであれば特に限定されるものではなく、遮光部や保護層等、必要に応じて様々な部材等を有するものであってもよい。このようなカラーフィルタの製造方法や、各部材の材料等については、一般的なカラーフィルタに用いられているものを用いることが可能であるので、ここでの詳しい説明は省略する。
【００５０】
このような本発明のカラーフィルタを液晶表示装置等に用いた場合、カラーフィルタにおける着色部の光ぬけ等のない高品質な液晶表示装置とすることができる。
【００５１】
本発明は上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【００５２】
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。
【００５３】
液晶用ガラス基板状に、黒色顔料を分散した紫外線硬化型感光性樹脂を全面に塗布した後、プリベイクし、ブラックマトリックスパターン形成用フォトマスクを介して、紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ２照射した。次に、専用現像液にてシャワー現像し、２３０℃でポストベイクして、ブラックマトリックスを形成した。
次に、その基板上に濃赤色着色部を形成するための赤色顔料を分散した紫外線硬化型樹脂を全面に塗布し、プリベイク後、濃赤色着色部形成用フォトマスクを介して、紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ２照射した。この際、目的とする濃赤色着色部の形状は、矩形であり、上記濃赤色着色部形成用フォトマスクは、図１（ｂ）に示すような形状を有するものを用いた。ここで、濃赤色パターン形成用フォトマスクの、上記矩形の露光パターンの角部に対応するフォトマスクの各角部対応部には、各角部の角の２等分線と垂直に交わるパターン補正用線を端辺とする正方形の矩形状凹部が形成されており、このパターン補正用線の長さおよび側辺の長さ（例えば図３（ｂ）のｓおよびｔで表される長さ）は９μｍであるものを用いた。また、この際の紫外線硬化型樹脂とフォトマスクとの間隙は、１５０μｍとした。その後、専用現像液にてシャワー現像し、２３０℃でポストベイクして、濃赤色着色部を形成した。同様に、濃緑色、濃青色、淡赤色、淡緑色、および淡青色を順次形成し、各着色部とした。
【００５４】
その後、上記着色部状に、ＩＴＯ透明電極をスパッタリング成膜して、反射半透過型液晶カラーディスプレ用カラーフィルタとした。この反射反透過型液晶カラーディスプレ用カラーフィルタには、隙間がなく、高精細にパターニングされて生産性よく形成することができた。
【００５５】
続いて、この反射半透過型液晶カラーディスプレイ用カラーフィルタを用いて、薄膜トランジスタを形成した基板と貼り合わせた後、液晶注入して、液晶パネルを作製した。その後、駆動回路を接続し、反射半透過型液晶ディスプレイモジュールとした。
この反射半透過型液晶ディスプレイモジュールは、駆動させた際、色欠け等がなく、高精細で高品質なものであった。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明のフォトマスクを説明する説明図である。
【図２】本発明のフォトマスクにより露光される露光パターンの一例を示す平面図である。
【図３】本発明のフォトマスクを説明する説明図である。
【図４】本発明のフォトマスクを説明する説明図である。
【図５】本発明のカラーフィルタの一例を説明する説明図である。
【図６】従来のカラーフィルタの光抜けを説明する説明図である。
【符号の説明】
【００５７】
１…フォトマスク
２…角部対応部
ａ…露光パターン
ｂ…開口部
ｃ…角部αの角の二等分線
ｄ…パターン補正用線
α…角部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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