(57)【要約】【課題】  位置決め装置において、高いサーボ帯域を実現するためには、低次の弾性モードをノッチフィルタを用いることなく低減させる必要がある。【解決手段】  移動体を位置決めする位置決め装置において、前記移動体のＸＹ方向の位置情報を計測する位置計測手段と、前記移動体をＺ方向へ駆動する少なくとも４個の駆動機構とを備え、前記位置計測手段の出力に基づいて、前記駆動機構のうち３個を選択して駆動する。【選択図】  図１
2005123255.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
移動体を位置決めする位置決め装置において、
前記移動体のＸＹ方向の位置情報を計測する位置計測手段と、
前記移動体をＺ方向へ駆動する少なくとも４個の駆動機構とを備え、
前記位置計測手段の出力に基づいて、前記駆動機構のうち３個を選択して駆動する制御部を有することを特徴とする位置決め装置。
【請求項２】
請求項１に記載の位置決め装置において、
前記位置計測手段がレーザ干渉計であることを特徴とする位置決め装置。
【請求項３】
請求項２に記載の位置決め装置において、
前記移動体に対する、前記レーザ干渉計のＸ計測軸とＹ計測軸の交点の位置によって、前記駆動機構のうち３個を選択して駆動することを特徴とする位置決め装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいづれか１つに記載の位置決め装置において、
前記位置計測手段の出力に基づいて、前記選択された３個の駆動機構を切り換えることを特徴とする位置決め装置。
【請求項５】
請求項２〜４のいづれか１つに記載の位置決め装置において、
前記移動体は矩形を有し、前記駆動機構は前記矩形の４隅に配置されていることを特徴とする位置決め装置。
【請求項６】
請求項５に記載の位置決め装置において、
前記矩形の直交する２辺に沿って第１と第２のミラーが配置されていることを特徴とする位置決め装置。
【請求項７】
請求項６に記載の位置決め装置において、
前記レーザー干渉計のＸ計測軸とＹ計測軸の交点が、
前記第１と第２のミラーを有する２辺と１つの対角線からなる三角形領域にある場合、前記移動体の前記第１と第２のミラーを有しない２辺と１つの対角線からなる三角形領域内にある３個の駆動機構を選択し、
前記交点が前記第１と第２のミラーを有しない２辺と１つの対角線からなる三角形領域にある場合、前記移動体の前記第１と第２のミラーを有する２辺と１つの対角線からなる三角形領域にある３個の駆動機構を選択して位置決めをすることを特徴とする位置決め装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいづれか１つに記載の位置決め装置において、
前記制御部が前記位置計測手段の出力から高次の弾性モードを励振させる周波数成分を低減させるフィルタを有することを特徴とする位置決め装置。
【請求項９】
請求項１〜８に記載の位置決め装置において、
前記位置決め装置は、６軸方向に位置決めを行うことを特徴とする位置決め装置。
【請求項１０】
請求項１〜９のいづれかに記載の位置決め装置を用いて、基板を位置決めすることを特徴とする露光装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の露光装置によって、デバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は移動体を位置決めする位置決め装置、好ましくは露光装置、工作機器、ＯＡ機器等に用いられる位置決め装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置や液晶表示用装置等のデバイスを製造する工程で利用される露光装置は、マスクやレチクル等の原版や半導体ウエハやガラス基板等の被露光基板（以下、これらを基板と総称する）を位置決めする位置決め装置を有する。
【０００３】
露光装置用の位置決め装置（ステージ装置）として、たとえば特許文献１に示されるようなものがある。このステージ装置において、ウエハはウエハチャックを介してステージ天板上に保持され、ステージ天板を搭載したＸＹスライダがＸビーム、ＹビームによってＸ，Ｙ方向に移動する。ここで、Ｘビーム，Ｙビームはそれぞれリニアモータによって駆動される。
【０００４】
図５は上述のステージ装置におけるステージ天板１１１の裏面の概略図である。ＸＹスライダ２３１の運動は、電磁石を有する電磁継ぎ手１３１を介して、ステージ天板１１１に非接触で伝達される。ステージ天板１１１はＸＹスライダ２３１との間に、Ｘ方向に力を発生するリニアモータ１４１ａ、１４１ｂ、Ｙ方向に力を発生するリニアモータ１４２ａ、１４２ｂ、Ｚ方向に力を発生するリニアモータ１５１ａ〜１５１ｃを有する。これらのリニアモータによって、ステージ天板１１１はＸ，Ｙ，Ｚ方向と、θｘ（Ｘ軸まわりの回転），θｙ（Ｙ軸まわりの回転），θｚ（Ｚ軸まわりの回転）方向の６軸方向（６自由度）に駆動可能である。
【０００５】
ステージ天板１１１の上には、計測ミラー１２１ａ，１２１ｂが搭載され、レーザ干渉計３１１ａ〜３１１ｃ，３１２ａ，３１２ｂ，３１３によって、ステージ天板の６軸方向の位置が計測される。ステージ天板１１１には、計測された６軸方向の位置情報をもとに、６自由度の位置サーボ系が構成されている。すなわち、ステージ天板１１１の裏面に配置されたリニアモータ１４１ａ，１４１ｂ，１４２ａ，１４２ｂ，１５１ａ〜１５１ｃへの指令値は、レーザ干渉計３１１ａ〜３１１ｃ，３１２ａ，３１２ｂ，３１３により計測された６軸方向の位置情報をもとに補償器で演算されて制御される。ここで、Ｚ方向に駆動するリニアモータは過拘束を防止するために３つ設けられている。
【０００６】
また、ステージ装置で、ステージの剛性を上げるために、Ｚ方向に力を発生するリニアモータを４個配置した構成が、たとえば特許文献２に記載されている。特許文献２では、ステージの位置決めアクチュエータの駆動制御において、４つ以上のアクチュエータを駆動させて振動を防ぐモードと、それらのアクチュエータのうち３つを制御して変形を防ぐモードに切り換えることを記載している。
【特許文献１】特開２００３−０２２９６０号公報
【特許文献２】特登録２９０２２２５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
半導体露光装置用の位置決め装置（ステージ装置）においては露光する線幅の解像度が高いため、高い位置決め精度が要求される。また、半導体露光装置は生産設備であり生産性の観点からスループットが高いことも要求される。これらの要求を満たすためにはステージの位置サーボ系の応答性が高く、ステージが高速で移動できることが必要である。しかしながら、ステージの位置サーボ系のゲインを高く設定しようとしても、位置サーボ系の発振によりその上限は制約される。サーボ帯域を制限する要因は種々あるが、制御対象の弾性モードによる振動がその要因の一つである。
【０００８】
図３にウエハステージ天板１１１のモード解析結果を示す。ここでは１次〜４次までの弾性モードを示した。このように薄い板ではＺ方向の剛性が弱いため、曲げあるいは捩れのような弾性変形による振動が発生する。ステージ天板１１１のＹ軸回り（θｙ）の開ループ伝達特性を図４に示す。弾性モードの共振周波数に高いピークが現れていることが分かる。このような系で、例えばＹ軸回りの回転（θｙ）の位置サーボ系のゲインを高くしていくと、前記の弾性モードが共振周波数で励振されステージの位置決め精度を悪化させる。ある程度位置サーボ系のゲインが低い場合は、前記弾性モードによる振動が大きく現れるだけであるが、さらにゲインを高くすると、位置サーボ系は不安定になり発振状態になる。
【０００９】
このような発振を防ぐためには、弾性モードを励振する周波数成分を取り除くノッチフィルタを補償器の位置サーボ系に追加する方法があるが、ノッチフィルタは位置サーボ系の位相を遅らせるので、多用すると逆に位置サーボ系を不安定にしてしまう。特にサーボ帯域に近い、低次の弾性モードに対してノッチフィルタを用いると、位置サーボ系の位相を大幅に遅らせてしまう。従って、位置サーボ系の応答性をよりよくするためには、制御対象の低次の弾性モードをノッチフィルタを用いることなく低減させる必要がある。
【００１０】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、その目的は速応性を大幅に下げることなく、低次の弾性モードを低減させることである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上述の目的のために本発明では、移動体（制御対象）を位置決めする位置決め装置において、前記移動体のＸＹ方向の位置情報を計測する位置計測手段と、前記移動体をＺ方向へ駆動する少なくとも４個の駆動機構とを備え、前記位置計測手段の出力に基づいて、前記駆動機構のうち３個を選択して駆動する制御部を有することを特徴としている。
【００１２】
また、前記位置計測手段がレーザ干渉計であることが好ましく、さらには前記移動体に対する、前記レーザ干渉計のＸ計測軸とＹ計測軸の交点の位置によって、前記駆動機構のうち３個を選択して駆動することが好ましい。ここで、Ｘ計測軸とＹ計測軸の交点とは、たとえばＸ計測軸（またはＹ計測軸）が２本あって平均をとっている場合には、２つの中点としてよく、実際にレーザー軸がある必要はない。
【００１３】
また、前記位置計測手段の出力に基づいて、前記選択された３個の駆動機構を切り換えることが好ましい。
【００１４】
また、前記レーザー干渉計のＸ計測軸とＹ計測軸の交点が、前記第１と第２のミラーを有する２辺と１つの対角線からなる三角形領域にある場合に、前記移動体の前記第１と第２のミラーを有しない２辺と１つの対角線からなる三角形領域内にある３個の駆動機構を選択し、前記交点が前記第１と第２のミラーを有しない２辺と１つの対角線からなる三角形領域にある場合に、前記移動体の前記第１と第２のミラーを有する２辺と１つの対角線からなる三角形領域内にある３個の駆動機構を選択して位置決めをすることが好ましい。
【００１５】
また、前記制御部が前記位置計測手段の出力から高次の弾性モードを励振させる周波数成分を低減させるフィルタを有することが好ましい。
【００１６】
また、前記位置決め装置は、６軸方向に位置決めを行うことが好ましい。
【００１７】
また、露光装置が前記位置決め装置によって基板を位置決めすることが好ましい。
【００１８】
また、前記露光装置によって、デバイスが製造されることが好ましい。
【００１９】
ここで、「弾性モード」とは、曲げあるいは捩れのような弾性変形による振動のことをいい、図３のようなモードで表すことができ、図４のようなピーク値となって表れるものである。以後、「低次」と「高次」については図３、図４に表れる成分をいい、そのうち「低次」とは１次および／または２次のものをいい、「高次」とは３次および／または４次についてをいうものとする。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、移動体を位置決めする位置決め装置において、速応性を大幅に下げることなく、低次の弾性モードを低減させることができる。
【００２１】
請求項４に記載の発明によれば、移動体が移動したときにそのつど弾性モードを効果的に取り除くことができる。
【００２２】
請求項８に記載の発明によれば、位置決め応答性の劣化の影響が少ない高次の弾性モードを励振させる周波数成分をフィルタで取り除くことにより、速応性を大幅に下げずに低次から高次まで弾性モードを低減することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
（実施例１）
図６はウエハステージの概略図であり、図１は実施例１における制御対象（移動体）としてのステージ天板１１１の裏側の概略図である。図６において、ウエハ１１３はウエハチャック（不図示）を介してステージ天板１１１に搭載される。ステージ天板１１１はＸＹスライダ２３１上に搭載され、このことについては後述する。ＸＹスライダ２３１には、Ｘ方向にＹビーム２２１が、Ｙ方向にはＸビーム２１１が貫通しており、それぞれのビームはたとえば静圧軸受（不図示）によってＸＹスライダ２３１と非接触に支持されている。
【００２４】
ＸＹスライダ２３１の底面にはエアパッドが設けられており、静圧軸受によってウエハ定盤２０１に対して移動可能に支持されている。同様にＸビーム２１１，Ｙビーム２２１もウエハ定盤２０１との間にエアパッド２１４，２２４を有しており，ウエハ定盤２０１上で移動可能に支持されている。Ｘビーム２１１の両端部にはリニアモータ可動子２１２（一端だけ図示）が、Ｙビーム２２１の両端部にはリニアモータ可動子２２２（一端だけ図示）が設けられており、それぞれリニアモータ固定子２１３，２２３との間でＸ方向，Ｙ方向に駆動力を発生する。このような機構により、Ｘビーム２１１がＸ方向に駆動することでＸＹスライダ２３１にＸ方向の力が伝達されて、Ｙビーム２２１がＹ方向に駆動することでＸＹスライダ２３１にＹ方向の力が伝達され、ＸＹスライダ２３１はＸＹ方向に駆動する。
【００２５】
ステージ天板１１１上には、Ｘ方向と直行する１辺に計測ミラー１２１ａが取り付けられており、Ｙ方向と直行する１辺には計測ミラー１２１ｂが取り付けられている。ここで、計測ミラー１２１ａはＸ方向に垂直な面と、Ｚ方向に垂直な面を有し、計測ミラー１２１ｂはＹ方向に垂直な面と、Ｚ方向に垂直な面を有する。レーザ干渉計３１１ａ〜３１１ｃが基準面としての鏡筒定盤３０１に取り付けられており、計測ミラー１２１ａに計測光を照射してステージ天板１１１のＸ方向の変位（Ｘ）、Ｙ軸回りの回転角（θｙ）、Ｚ軸回りの回転角（θｚ）を計測する。レーザ干渉計３１２ａ，３１２ｂは基準面である鏡筒定盤３０１に取り付けられており、計測ミラー１２１ｂに計測光を照射してステージ天板１１１のＹ方向の変位（Ｙ）、Ｘ軸回りの回転角（θｘ）を計測する。レーザ干渉計３１３は、計測ミラー１２１ａに計測光を照射して、ステージ天板１１１のＺ方向の変位（Ｚ）を計測する。このような機構により、ステージ天板１１１の６軸方向（６自由度）の位置情報が計測される。
【００２６】
図１において、ステージ天板１１１の４隅にはＺ軸方向への駆動手段として、リニアモータ１５１ａ〜１５１ｄを備える。ここで、リニアモータを４個設けたのはステージ天板１１１の剛性を向上させるためである。リニアモータ１５１ａ〜１５１ｄは、ステージ天板１１１のＺ方向（Ｚ）、及びＸ、Ｙ軸回り（θｘ，θｙ）の位置決めを行う。駆動手段１５１ａ〜１５１ｄが発生する力は、レーザ干渉計３１１ａ〜３１１ｃ，３１２ａ，３１２ｂ，３１３の計測値を用いて、制御部としての補償器１１０により演算される。ここでは補償器として、ＰＩＤ制御器を用いる。
【００２７】
ステージ天板１１１を剛体と見なした場合、ステージ天板１１１のＺ軸方向の変位（Ｚ）、及びＸ、Ｙ軸回りの回転（θｘ、θｙ）は、３個のＺ方向のリニアモータによって制御することができる。Ｚ方向のリニアモータが４個以上ある場合は過拘束となるので、使用するＺ方向のリニアモータを３個選択する必要がある。ここで、３個のリニアモータを選択する条件として、ステージ天板に対する、レーザ干渉計３１１，３１２の計測位置を用いる。以下、使用する３個のリニアモータを選択する条件を説明する。図２において、レーザ干渉計３１１ａ〜３１１ｃのいずれかとレーザ干渉計３１２ａもしくは３１２ｂからの計測光を延長して交わった点を計測位置９とする。ここで、Ｘ計測軸とＹ計測軸の交点とは、たとえばＸ計測軸（またはＹ計測軸）が平均をとっている場合には、２つの中点としてよく、実際にレーザー軸がある必要はない。領域１０は、ステージ天板１１１の計測ミラー１２１ａ，１２１ｂを取り付けた２辺と、その２辺が交わる頂点により決定される三角形で示される領域である。領域１１は、ステージ天板１１１の計測ミラー１２１ａ，１２１ｂを取り付けていない２辺と、その２辺が交わる頂点により決定される三角形で示される領域である。計測位置９が領域１０の内部にある場合は、Ｚ方向のリニアモータ１５１ａ〜１５１ｄのうち、ミラー１２１ａ、１２１ｂを取り付けた２辺が交わる頂点に最も近いリニアモータ１５１ｃを除いた３個のリニアモータ１５１ａ、１５１ｂ、１５１ｄを用いて、ステージ天板１１１のＺ方向の変位（Ｚ）、及びＸ、Ｙ軸回りの回転（θｘ、θｙ）を制御する。計測点９が領域１１の内部にある場合は、Ｚ軸方向のリニアモータ１５１ａ〜１５１ｄのうち、計測ミラー１２１ａ、１２１ｂを取り付けていない２辺が交わる頂点に最も近いリニアモータ１５１ａを除いた３個のリニアモータ１５１ｂ〜１５１ｄを使用して、ステージ天板１１１のＺ軸方向の変位（Ｚ）、及びＸ、Ｙ軸回りの回転（θｘ、θｙ）を制御する。図１２に概略のフローを示す。
【００２８】
ステージ天板１１１のＸ方向（Ｘ）、及びＺ軸回り（θｚ）の位置決めは、Ｘ方向のリニアモータ１４１ａ，１４１ｂを用いて行う。リニアモータ１４１ａ，１４１ｂへの指令値は、レーザ干渉計３１１ａ〜３１１ｃの計測値をもとにして制御部としての補償器１１０で演算される。同様に、ステージ天板１１１のＹ方向（Ｙ）の位置決めは、レーザ干渉計３１２ａ，３１２ｂの計測値をもとにして補償器１１０で演算される。
【００２９】
図７（ａ）は、ステージ天板１１１のＹ軸回りの開ループ伝達特性であり、図７（ｂ）は、ステージ天板１１１のＹ軸回りの閉ループ伝達特性である。図７（ａ）、（ｂ）において、点線はステージ天板１１１にＺ方向のリニアモータを３個配置した従来技術の伝達特性であり、破線は従来技術で励振される弾性モードをノッチフィルタで低減した場合の伝達特性であり、実線は実施例１を適用した場合の伝達特性である。ここで、実施例１では低次の弾性モードを励振させる周波数成分にノッチフィルタ等を使用していないことに注意すべきである。図７（ａ）の破線では、ノッチフィルタによって１次と４次の弾性モードを低減しており、ステージ天板１１１のサーボ帯域は３９０［Ｈｚ］であり、図７（ａ）の実線（実施例１）では、２次、４次の弾性モードが低減されており、サーボ帯域は４７０［Ｈｚ］である。実線では、低次の弾性モードにノッチフィルタ等を用いていないため、破線に比べてサーボ帯域が高く、このことは速応性がよいことを示している。ここで、『サーボ帯域』は閉ループ周波数特性上で定義された速応性の尺度でなく、交さ周波数（開ループゲイン特性が０［ｄＢ］のゲインを切る周波数）により決定する。
【００３０】
実施例１の閉ループ伝達特性（図７（ｂ）実線）では、低次の弾性モードがノッチフィルタを用いることなく低減されていることが分かる。すなわち、実施例１では、低次の弾性モードが励振されず、低次の弾性モードを励振させる周波数成分にノッチフィルタを用いる必要がないので、位相を遅らせない分、サーボ御帯域を向上させることができる。
【００３１】
ただし、実施例１では、高次の弾性モードを低減するために高次の弾性モードを励振させる周波数成分を取り除くためにノッチフィルタを用いている。ノッチフィルタを用いる代わりにローパスフィルタを用いても同様の効果が得られる。高次の弾性モードでは、ノッチフィルタを用いても位相の遅れの影響が少ないため問題ないものとしている。
【００３２】
（実施例２）
実施例１では、高次の弾性モードを低減するためにノッチフィルタもしくはローパスフィルタを用いたが、弾性振動低減機構を用いて高次の弾性モードを低減することもできる。次に、ステージ天板１１１の裏面に配置された弾性振動低減機構について説明する。
【００３３】
図８にステージ天板１１１の裏面を示す。ステージ天板１１１の裏面には、ステージ天板１１１の外郭線で構成される多角形（図８の場合は長方形）の隣り合わない二つの頂点を結ぶ線分に略平行な方向（以下「対角方向」という。）に発生する弾性振動を計測する計測器１００７ａ〜１００７ｄが配置されている。前記弾性振動は位置成分、速度成分、加速度成分を含みうる。また、ステージ天板１１１の裏面には、計測器１００７ａ〜１００７ｄの出力に基づいてステージ天板１１１の弾性振動を低減するようにステージ天板１１１の所定箇所に力を加える駆動器１００８ａ〜１００８ｄと、この駆動器１００８ａ〜１００８ｄを制御する補償器１００９ａ〜１００９ｄを有する。具体的には、ステージ天板１１１上の対角方向に力を加える駆動器１００８ａ〜１００８ｄが、それぞれ計測器１００７ａ〜１００７ｄに近接して若しくは重ねて配置されている。計測器１００７ａ〜１００７ｄ及び／又は駆動器１００８ａ〜１００８ｄとしては、例えば、圧電素子等が用いられる。補償器１００９ａ〜１００９ｄは、それぞれ計測器１００７ａ〜１００７ｄで計測された計測情報に基づいて、前記弾性振動を低減するように駆動器１００８ａ〜１００８ｄがステージ天板１１１の所定箇所に加える力を制御する。補償器１００９ａ〜１００９ｄとしては、例えば、ＰＩＤ補償器、ゲイン補償器などが用いられる。
【００３４】
ステージ天板１１１には、更に、ステージ天板１１１の外郭線で構成される長方形の直線部分の各々に略平行な方向（以下「辺方向」という。）に発生する弾性振動を計測する計測器１０１０ａ〜１０１０ｄがそれぞれ配置されうる。この場合、ステージ天板１１１上の各辺（直線部分）の辺方向に力を加える駆動器１０１１ａ〜１０１１ｄがそれぞれ計測器１０１０ａ〜１０１０ｄに近接して若しくは重ねて配置される。補償器１０１２ａ〜１０１２ｄは、それぞれ計測器１０１０ａ〜１０１０ｄで計測された計測情報に基づいて、前記弾性振動を低減させるように駆動器１０１１ａ〜１０１１ｄが加える力を制御する。補償器１０１２ａ〜１０１２ｄとしては、例えば、ＰＩＤ補償器、ゲイン補償器などが用いられうる。
【００３５】
このような弾性振動低減機構は、ノッチフィルタを用いた場合と比べて、外乱（フレキや配線、配管を伝わってきた床振動など）により、ステージ天板の弾性モードが励振された場合にも、弾性モードを減衰することができるといった効果がある。
【００３６】
なお、本実施例では、弾性振動低減機構は、対角方向及び辺方向の双方の弾性振動を抑制するように構成されたが（図８を参照）、本発明はこれに限定されない。例えば、弾性振動低減機構は、対角方向及び辺方向のいずれか一方の弾性振動を抑制するように構成されても良いし、それ以外の構成でも良い。
【００３７】
図９の実線は、計測器１０１０ａ〜１０１０ｄ、駆動器１０１１ａ〜１０１１ｄ、及び補償器１０１２ａ〜１０１２ｄを用いて、辺方向に発生する弾性振動を低減した場合のステージ天板１１１のＹ軸回りの開ループ伝達特性である。図９の点線は辺方向に発生する弾性振動を制御しなかった場合の開ループ伝達特性である。弾性振動低減機構を用いることによって、３次の弾性振動が低減されていることが分かる。
【００３８】
（実施例３）
図１１は、上記と同様の位置決め装置を半導体デバイス製造装置（露光装置）に用いた例を示す。
【００３９】
この露光装置は、半導体集積回路等の半導体デバイスや、マイクロマシン、薄膜磁気ヘッド等の微細なパターンが形成されたデバイスの製造に利用され、原版であるレチクルを介して基板としての半導体ウエハＷ上に照明系ユニット５０１からの露光エネルギーとしての露光光（この用語は、可視光、紫外光、ＥＵＶ光、Ｘ線、電子線、荷電粒子線等の総称である）を投影系としての投影レンズ５０３（この用語は、屈折レンズ、反射レンズ、反射屈折レンズシステム、荷電粒子レンズ等の総称である）を介して照射することによって、ウエハステージ５０４に搭載された基板上に所望のパターンを形成している。また、このような露光装置は、露光光が短波長光となるにしたがって、真空雰囲気での露光が必要となってきている。
【００４０】
ウエハステージ５０４に搭載したチャック上に基板であるウエハ（対象物）を保持し、照明系ユニット５０１によって、レチクルステージ５０２に搭載された原版であるレチクルのパターンをウエハ上の各領域にステップアンドリピートもしくはステップアンドスキャンで転写する。ここで実施形態１のステージ装置はこれらのウエハステージ５０４もしくはレチクルステージ５０２として用いられる。
【００４１】
（実施例４）
次に、この露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図１２は半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ２（マスク作製）では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。
【００４２】
一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ５によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、ステップ７でこれを出荷する。
【００４３】
上記ステップ４のウエハプロセスは以下のステップを有する。ウエハの表面を酸化させる酸化ステップ、ウエハ表面に絶縁膜を成膜するＣＶＤステップ、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する電極形成ステップ、ウエハにイオンを打ち込むイオン打ち込みステップ、ウエハに感光剤を塗布するレジスト処理ステップ、上記の露光装置によって回路パターンをレジスト処理ステップ後のウエハに転写する露光ステップ、露光ステップで露光したウエハを現像する現像ステップ、現像ステップで現像したレジスト像以外の部分を削り取るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト剥離ステップ。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】ステージ天板の裏面を示す図である。
【図２】計測位置を示す図である。
【図３】ステージ天板の弾性モードを示す図である。
【図４】従来のステージ天板の伝達特性を示す図である。
【図５】従来のステージ天板の裏面を示す図である。
【図６】ウエハステージの概略図である。
【図７】ステージ天板の伝達特性を示す図である。
【図８】ステージ天板の裏面を示す図である。
【図９】ステージ天板の裏面を示す図である。
【図１０】切換フローの概略を示す図である。
【図１１】実施例３に係る露光装置を表す図
【図１２】実施例４に係る半導体製造プロセスを表す図
【符号の説明】
【００４５】
９  計測位置
１１０  補償器
１１１  ステージ天板
１１３  ウエハ
１２１ａ，１２１ｂ  計測ミラー
１３１  電磁継ぎ手
１４１ａ，１４１ｂ  リニアモータ
１４２ａ，１４２ｂ  リニアモータ
１５１ａ〜１５１ｄ  リニアモータ
１６１ａ〜１６１ｃ  自重補償磁石
２０１  ウエハ定盤
２０２  エアダンパ
２１１  Ｘブリッジ
２１２  リニアモータ
２１３  カウンタマス
２１４  エアパッド
２２１  Ｙブリッジ
２２２  リニアモータ
２２３  カウンタマス
２２４  エアパッド
２３１  ＸＹスライダ
３０１  鏡筒定盤
３１１ａ〜３１１ｃ  レーザ干渉計
３１２ａ，３１２ｂ  レーザ干渉計
３１３  レーザ干渉計
５０１  照明系ユニット
５０２  レチクルステージ
５０３  縮小投影レンズ
５０４  ウエハステージ
５０５  露光装置本体
１００７ａ〜１００７ｄ  計測器
１００８ａ〜１００８ｄ  駆動器
１００９ａ〜１００９ｄ  補償器
１０１０ａ〜１０１０ｄ  計測器
１０１１ａ〜１０１１ｄ  駆動器
１０１２ａ〜１０１２ｄ  補償器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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