(57)【要約】【課題】  陽極接合によって流路基板に接合されたガラス振動板に含まれるアルカリ金属の拡散による性能劣化を防ぐ。【解決手段】  圧力発生室２およびノズル開口３を有する流路基板１にガラス製の振動板６を陽極接合し、その上に下電極９ａ、圧電層８、上電極９ｂを順次積層することで、圧電素子７を直接形成する。ガラス製の振動板６に含まれるアルカリ金属が下電極９ａに拡散し、密着性を劣化させる等のトラブルを防ぐため、ガラス製の振動板６の表面に、振動板６の厚さの１／１０〜１／１００程度の膜厚の窒化シリコン膜からなる障壁層１０を成膜し、その上に下電極９ａ、圧電層８等を積層する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電駆動力によって圧力発生室内の液体を加圧しノズル開口から吐出する液体吐出ヘッドであって、前記ノズル開口および前記圧力発生室を有する流路基板と、前記流路基板に陽極接合されたガラス振動板と、前記ガラス振動板の表面を覆う障壁層と、前記障壁層上に積層された電極層および圧電層を有する圧電素子と、を備えたことを特徴とする液体吐出ヘッド。
【請求項２】
障壁層が窒化シリコン膜からなることを特徴とする請求項１記載の液体吐出ヘッド。
【請求項３】
障壁層の膜厚が、ガラス振動板の厚さの１／１０〜１／１００の範囲内であることを特徴とする請求項１または２記載の液体吐出ヘッド。
【請求項４】
圧電駆動力によって圧力発生室内の液体を加圧しノズル開口から吐出する液体吐出ヘッドの製造方法であって、
圧力発生室およびノズル開口を有する流路基板にガラス振動板を陽極接合する工程と、
陽極接合されたガラス振動板を研磨薄片化し、その表面に窒化シリコン膜からなる障壁層をプラズマＣＶＤによって成膜する工程と、
成膜された障壁層の上に圧電素子の電極層および圧電層を順次積層する工程と、を有することを特徴とする液体吐出ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プリンタなどに用いられる液体吐出ヘッド、特に圧電駆動力を用いて液体吐出を行う液体吐出ヘッドおよびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、高品位の印刷を行う記録装置としてインクジェットプリンタ等の液体吐出記録装置が普及している。このような液体吐出記録装置は、印刷用途のみならず捺染、工業用の薬液やパターン材料の塗布など極めて広い応用が期待されるものである。液体吐出記録装置に用いられる液体吐出ヘッドには、代表的なものとして圧電素子を用いた圧電式と、ヒータによる加熱を用いる熱式があり、いずれも高性能化の開発が進んでいる。
【０００３】
圧電式の液体吐出ヘッドとして優れた特性を有するものに、流路基板の圧力発生室に圧力を印加するための振動板として、陽極接合により流路基板に接合されたガラス振動板を用いたものがある（特許文献１参照）。これは図３に示すように、圧力発生室１０２、ノズル開口１０３、オリフィス１０４、液体供給室１０５等を形成したシリコンからなる流路基板１０１と、振動板の素材であるほう硅酸ガラス板とを陽極接合で接合一体化し、ほう硅酸ガラス板を所定の厚さまで薄くして振動板１０６を形成し、この振動板１０６の表面に圧電素子１０７の下電極である電極層１０９ａを形成し、圧電素子板１０８の接着を行い、圧電素子板１０８を所定の厚さまで薄くし、さらに上電極である電極層１０９ｂを形成し、不要部の除去加工を行って液体吐出ヘッドＥ0 を製造している。
【０００４】
この方法によれば、０．１ｍｍ以下の振動板を量産レベルで実現し、高性能、小型軽量で量産性に優れた液体吐出ヘッドを提供できる。また、陽極接合は液体吐出ヘッドのインク等液体に接する箇所に接着剤などの介在物なしに強固な直接接合を実現できるため、液体吐出ヘッドのインク等液体に対する安定性が高く好適である。
【０００５】
陽極接合は、ガラスの加熱と電圧印加によって起きるガラス内のアルカリイオンの移動により発生する静電引力を利用した接合方法であり、このような接合の方法については特許文献２等に開示されている。
【０００６】
なお、上記従来例においてはいずれもこの陽極接合は「静電接合」と表記されているが、このような接合の方法は陽極接合と称されるのが一般的であるため（例えば非特許文献１）、本明細書中でも以下陽極接合と表記する。
【特許文献１】特開平９−０９４９６５号公報
【特許文献２】特開平６−３２６３３１号公報
【非特許文献１】「マイクロマシーニングとマイクロメカトロニスク」（株）培風館刊
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記従来例による液体吐出ヘッドには以下に示すような問題点があった。
【０００８】
シリコン製の流路基板とガラス振動板との陽極接合に必要な静電引力の発現に用いられるガラス振動板中のアルカリイオンを形成する物質としては、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ等のアルカリ金属が用いられるが、このようなアルカリ金属はガラス振動板内で移動しやすい可動物質であり、製造過程における加熱処理等によってガラス振動板内からガラス振動板に接合されている他の層との界面や層内にも容易に移動・拡散する。このため、製造後の液体吐出ヘッドにおいて、電極層表面へのアルカリ金属の拡散・析出が起こり、圧電層と電極層との層間密着性の低下が問題となる。
【０００９】
また、製造工程において、上記アルカリ金属は、フォトリソグラフィ技術で用いられる現像液などや、洗浄等に用いられる純度の高いイオン交換水に直接接触すると溶出する場合があり、この溶出したアルカリ金属が圧電素子の電極等表面へ再付着することにより、駆動電圧を印加する引き出し電極やケーブルと、圧電素子の電極との接続部において密着性を低下させる傾向があり、このため、界面剥離の問題が生じ、高性能な液体吐出ヘッドおよび記録装置として高い信頼性を得るのが困難であった。
【００１０】
本発明は上記従来の技術の有する問題点に鑑みてなされたものであり、陽極接合によるガラス振動板を用いた液体吐出ヘッドにおけるアルカリ金属の拡散・析出および溶出を防ぎ、インク等液体の吐出効率の信頼性等を大幅に向上できる液体吐出ヘッドおよびその製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記の目的を達成するため、本発明の液体吐出ヘッドは、圧電駆動力によって圧力発生室内の液体を加圧しノズル開口から吐出する液体吐出ヘッドであって、前記ノズル開口および前記圧力発生室を有する流路基板と、前記流路基板に陽極接合されたガラス振動板と、前記ガラス振動板の表面を覆う障壁層と、前記障壁層上に積層された電極層および圧電層を有する圧電素子と、を備えたことを特徴とする。
【００１２】
障壁層が窒化シリコン膜からなるとよい。
【００１３】
障壁層の膜厚が、ガラス振動板の厚さの１／１０〜１／１００の範囲内であるとよい。
【００１４】
本発明の液体吐出ヘッドの製造方法は、圧電駆動力によって圧力発生室内の液体を加圧しノズル開口から吐出する液体吐出ヘッドの製造方法であって、圧力発生室およびノズル開口を有する流路基板にガラス振動板を陽極接合する工程と、陽極接合されたガラス振動板を研磨薄片化し、その表面に窒化シリコン膜からなる障壁層をプラズマＣＶＤによって成膜する工程と、成膜された障壁層の上に圧電素子の電極層および圧電層を順次積層する工程と、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
陽極接合されたガラス振動板からのアルカリ金属の電極層表面への拡散・析出を防ぐための障壁層を設けることで、圧電素子の電極層の層間密着性が低下するおそれのない、高品質な液体吐出ヘッドを安定して製造できる。
【００１６】
また、製造工程における陽極接合されたガラス振動板からのアルカリ金属の溶出をなくし、溶出アルカリ金属の再付着による界面剥離の問題の発生を防止し、高い信頼性を有する液体吐出ヘッドを製造できる。
【００１７】
このように信頼性が高く、インク等液体吐出の効率の高い液体吐出ヘッドを用いることで、極めて高性能な記録装置を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
【００１９】
図１に示すように、流路基板１は圧力発生室２およびこれに連通するノズル開口３を有し、圧力発生室２は、オリフィス４を介してインク等の液体を供給する液体供給室５に連通する。このようにノズル開口３に連通する圧力発生室２を有する流路基板１と、圧力発生室２に圧力を印加するための、ガラス振動板である振動板６および振動板６上に積層され振動板６を変位せしめる圧電素子７とを有する液体吐出ヘッドにおいて、圧電素子７は、圧電層８と、上下の電極層である下電極９ａおよび上電極９ｂからなる。振動板６は陽極接合により圧力発生室２を有する流路基板１に接合され、振動板６と圧電素子７の間に、ガラス製の振動板６中のアルカリ金属の拡散を防止する障壁層１０が形成されている。
【００２０】
障壁層１０は、窒化シリコン膜よりなり、この窒化シリコン膜の障壁層１０の作製は、プラズマＣＶＤ法等を用いて行われる。そして、障壁層１０の膜厚は振動板６の厚さの１／１０〜１／１００程度であり、振動板６の全面を被覆している。
【００２１】
上記の液体吐出ヘッドを複数配置し、圧電素子に駆動信号を印加するための引き出し電極、圧電素子を駆動する駆動電圧印加回路と、液体吐出ヘッドのノズル開口と被記録媒体とを所望の距離で対向させるための支持部材と、入力された情報に応じて液体吐出ヘッドのノズル開口と被記録媒体との相対位置を変化させるための機構等を有する記録装置を製作する。
【実施例１】
【００２２】
図１は実施例１による液体吐出ヘッドＥ1 を示すもので、流路基板１は、厚さ４００μｍ、面方位（１００）の両面研磨シリコン単結晶基板に、フォトリソグラフィ技術と異方性エッチング、およびダイシングソーによる切断加工により、圧力発生室２、ノズル開口３、オリフィス４、液体供給室５を形成したものである。
【００２３】
振動板６は、ガラス振動板を流路基板１に陽極接合したものであり、振動板材料として陽極接合用ガラスを用い、流路基板１の圧力発生室２に対応する面に接合し、厚さ５μｍまで研磨薄片化した。振動板材料に用いることのできるガラスは、陽極接合が可能であり、後工程の圧電素子の成膜・積層工程等における加熱温度よりも十分高い温度に軟化点を有するものから適宜選択される。本実施例では陽極接合用ガラスとして、ＨＯＹＡ社商標、ＳＤ２ガラスを用いた。他に好ましいものの例としては、結晶化ガラスである石塚硝子（株）製デビドロン「Ｈα−４３」などがあげられる。
【００２４】
このような振動板６上に、障壁層１０として、厚さ１５０ｎｍの窒化シリコン膜を設けた。本実施例で用いた窒化シリコン膜は、プラズマＣＶＤ法により、反応ガスとしてＳｉＨ4 ＋Ｎ2 （１：１０）を用い、ガス圧力を１Ｔｏｒｒ、プラズマの高周波出力を２００Ｗ、基体の温度を３５０℃、成膜時間を１分間として、１５０ｎｍの厚さに形成したものである。
【００２５】
窒化シリコン膜の障壁層１０は、シリコン製の流路基板１と振動板６との陽極接合に必要な静電引力の発現に用いられるアルカリイオンを形成する物質であるＮａなどのアルカリ金属に対して、きわめて高い拡散防止能力を有する。ただし、窒化シリコン膜は、熱膨張率が流路基板１に用いるシリコンや振動板６に用いる陽極接合用ガラスと比べて小さく、これに起因する応力による圧電素子の変形や破壊のおそれがある。このため、窒化シリコン膜の形成温度と液体吐出ヘッドの使用温度の温度差は小さい方が好ましく、従って成膜温度が低いほうが好ましいため、本実施例では低温成膜法であるプラズマＣＶＤ法を用いている。
【００２６】
また、同様の理由により窒化シリコン膜の厚さは振動板６中のアルカリ金属の拡散を防止する障壁層１０として十分機能する範囲で薄い方が好ましく、振動板６の厚さの１／１０ないし１／１００程度が好ましい。本実施例ではこの範囲内である１５０ｎｍとした。また、障壁層１０は、図１の（ａ）に示すように、振動板６の上面側の全面を被覆するように設けるのが望ましい。
【００２７】
このような障壁層１０上に順次、下電極９ａ、圧電層８、上電極９ｂを成膜・積層することで、圧電素子７を直接形成した。下電極９ａは、Ｔｉを２０ｎｍ、Ｐｔを１５０ｎｍ順にスパッタリング法で積層したものを用いた。圧電層８としては、厚さ３μｍのＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）の薄膜を用いた。本実施例で用いたＰＺＴ膜は、高周波スパッタ法により、基体を６００℃に加熱した状態で形成したものである。上電極９ｂは下電極９ａと同様の構成とした。この圧電素子７は、フォトリソグラフィ技術とエッチングにより加工され、振動板６上の、各圧力発生室２に対応する位置に設けられる。
【００２８】
本実施例の液体吐出ヘッドは、圧電素子に対して適当な駆動電圧を印加することで、良好なインク等液体の吐出動作を行った。また、繰り返し動作を行っても圧電素子の電極層の界面剥離等のトラブルの発生はみられなかった。
【００２９】
本実施例の液体吐出ヘッドに対し、ＳＩＭＳ（Secondary Ion Mass Spectroscopy ）法により、圧電素子から振動板までの深さ方向のアルカリ金属元素濃度分布の測定を行ったが、圧電素子側への拡散は観察されなかった。このように、障壁層として窒化シリコン膜を用いることで、十分なアルカリ金属の拡散阻止を行うことができた。
【００３０】
また、窒化シリコン膜よりなる障壁層を、前述のようにプラズマＣＶＤ法により形成することで、振動板に対して熱膨張率の異なる窒化シリコン膜を低温で形成し、熱膨張差に起因する応力による圧電素子の変形や破壊を防ぎ、歩留まりの高い液体吐出ヘッドを実現できた。
【００３１】
障壁層の厚さを、振動板の厚さの１／１０ないし１／１００の範囲内としたことで、振動板中のアルカリ金属の拡散を防止する障壁層として十分機能するとともに、熱膨張差に起因する応力による圧電素子の変形や破壊を防ぎ、歩留まりを向上させることができた。
【００３２】
本実施例の構成によれば、高温の作製過程を必要とするＰＺＴ薄膜であっても、障壁層を介して直接振動板上に設けることができる。すなわち高温の作製過程を必要とするＰＺＴ膜であっても、障壁層を介して直接振動板上に設けることができるため、従来例において圧電素子板の接合に用いられていた接着剤が不要となり、圧電素子板と振動板の間に介在する接着剤のダンピングによる圧電駆動力のロスの問題を解決し、効率的なインク等液体の吐出ができるようになった。
【００３３】
このようにして、安定性および信頼性が高く、インク等液体吐出の効率の高い液体吐出ヘッドを実現することができた。
【００３４】
上記の液体吐出ヘッドを複数配置し、さらに各圧電素子に駆動信号を印加するための引き出し電極を別途接続し、駆動電圧印加回路に接続し、液体吐出ヘッドのノズル開口と被記録媒体とを所望の距離で対向させるための支持部材と、入力された情報に応じて液体吐出ヘッドのノズル開口と被記録媒体との相対位置を変化させるための機構を有する記録装置を作製した。この記録装置は、高解像度・高速印字が可能で、従来例と比較して信頼性が高くインク等液体吐出の効率の高い記録装置であるのが分かった。
【実施例２】
【００３５】
図２は、実施例２による液体吐出ヘッドＥ2 の製造工程を示す。
【００３６】
まず、図２の（ａ）に示すように、面方位（１００）の両面研磨のシリコン単結晶の基板２１ａの両面に、ＬＰ−ＣＶＤ法により窒化シリコン膜を厚さ３００ｎｍ形成して第１、第２のマスク層２０ａ、２０ｂを形成した。
【００３７】
続いて図２の（ｂ）に示すように、フォトリソグラフィ技術とＣＦ4 を含むガスによるドライエッチングにより加工して、第１のマスク層２０ａに第１のマスク開口２０ｃを、第２のマスク層２０ｂに第２のマスク開口２０ｄを形成した。なお、マスク開口２０ｃ、２０ｄの平面形状は、異方性エッチングにより所望の形状の圧力発生室２２、オリフィス２４、液体供給室２５、ノズル流路２３ａが得られるように決定した。また、これら圧力発生室２２、ノズル流路２３ａ、オリフィス２４、液体供給室２５は、基板２１ａ内に複数個並列に配列するようにした。
【００３８】
続いて図２の（ｃ）に示すように、まずＴＭＡＨ溶液を用いて、シリコン単結晶の基板２１ａを第１のマスク開口２０ｃより異方性エッチングして、圧力発生室２２、オリフィス２４等を形成した。また、同様にして第２のマスク開口２０ｄより異方性エッチングして、圧力発生室２２に連通する液体供給室２５を形成した。
【００３９】
続いて図２の（ｄ）に示すように、第１、第２のマスク層２０ａ、２０ｂをエッチング除去し、シリコン表面を露出させ、流路基板２１を作製した。
【００４０】
続いて図２の（ｅ）に示すように、流路基板２１に振動板材料２６ａを陽極接合した。振動板材料２６ａとしては、本実施例では約１００μｍ厚さのＨＯＹＡ社商標、ＳＤ２ガラスを用いた。振動板材料２６ａは、流路基板２１の圧力発生室２２に対応する面に接合し、圧力発生室２２、オリフィス２４よりなるエッチング溝を塞ぐようにした。本実施例の陽極接合工程は、流路基板２１と振動板材料２６ａの接合面を清浄化して重ね合せ、３５０℃に加熱し、振動板材料２６ａと流路基板２１の間に、流路基板２１側を陽極として２００Ｖの電圧を印可し、さらに押し付けた。
【００４１】
続いて図２の（ｆ）に示すように、流路基板２１に接合した振動板材料２６ａを研磨し、厚さ５μｍまで薄片化して振動板２６を形成した。薄片化加工はラッピングマシンと研磨剤を用いた研磨により行い、凹凸やうねりを除去して平坦化した。また、研磨の際、研磨剤粒子径を段階的に微小なものにしていき、最終的にコロイダルシリカを用いて研磨面を鏡面仕上げした。
【００４２】
続いて図２の（ｇ）に示すように、振動板２６上に障壁層３０を堆積した。障壁層３０としては、厚さ０．１μｍの窒化シリコン膜を用いた。この窒化シリコン膜は、プラズマＣＶＤ法により、反応ガスとしてＳｉＨ4 ＋Ｎ2 （１：１０）を用い、ガス圧力を１Ｔｏｒｒ、プラズマの高周波出力を２００Ｗ、基体の温度を３５０℃、成膜時間を１分間として、１５０ｎｍの厚さに形成した。
【００４３】
障壁層３０の形成は、少なくとも振動板２６のガラスの歪点以下の温度でなされることが好ましい。本実施例において振動板２６として用いたＨＯＹＡ社商標、ＳＤ２ガラスは、歪点が約６７０℃であり、本実施例ではこの歪点より十分低い温度で障壁層３０を形成した。
【００４４】
また、障壁層３０は、少なくとも振動板２６の上面側の全面を被覆するように設けられるもので、本実施例では振動板２６および流路基板２１の上面側全面を被覆するように成膜した。
【００４５】
続いて図２の（ｈ）に示すように、障壁層３０上に、下電極２９ａ、圧電層２８、上電極２９ｂを順次成膜・積層した。下電極２９ａは、Ｔｉを２０ｎｍ、Ｐｔを１５０ｎｍ順に基板裏面より水冷を行いながらスパッタリング法で積層したものを用いた。圧電層２８としては、厚さ３μｍのＰＺＴ（チタン酸ジルコン酸鉛）薄膜を、高周波スパッタ法により形成した。圧電層２８の成膜条件は、ターゲットとしてＰｂＯを１０％過剰添加したＰＺＴ焼結体、スパッタリングガスとしてＡｒに１０％のＯ2 を添加したものを用い、全圧２Ｐａ、基体の温度６００℃、高周波出力をターゲットに対して４Ｗ／ｃｍ2 印加した。上電極２９ｂは下電極２９ａと同様にして作製した。
【００４６】
本実施例では圧電層２８としてはＰＺＴ膜を用いたが、所望の圧電特性が得られるものであれば特に限定されない。そして、下電極２９ａ、圧電層２８、上電極２９ｂの形成は、少なくとも振動板２６のガラスの歪点以下の温度でなされることが好ましい。
【００４７】
続いて図２の（ｉ）に示すように、上電極２９ｂ、圧電層２８、下電極２９ａを順にフォトリソグラフィ技術とエッチングにより加工して、圧電素子２７を作製した。圧電素子２７は、振動板２６上の各圧力発生室２２に対応する位置に設けている。上電極２９ｂ、下電極２９ａのエッチングは、フォトレジストをマスクとしたＡｒガスを用いたドライエッチングにより行った。また圧電層２８のエッチングは、フォトレジストをマスクとし、フッ酸水溶液と硝酸水溶液を適宜混合したエッチング液によるウエットエッチングにより行った。
【００４８】
なお、本工程中における、フォトレジストの現像あるいはウエットエッチング等薬液を用いる工程は、すべて液体供給室２５を塞ぎ、圧力発生室２２、ノズル流路２３ａ、オリフィス２４、および振動板２６の液体流路内側に露出している面に薬液が接触しないようにしている。本実施例では、図２の（ｇ）に示した工程において、障壁層３０が振動板２６および流路基板２１の上面側全面を被覆するように成膜したことにより、液体供給室２５のみを塞ぐだけで振動板２６がフォトリソグラフィ技術で用いられる現像液などや洗浄等に用いられる純度の高いイオン交換水などに直接接触することがなくなり、振動板２６からのアルカリ金属の溶出と電極層表面へ再付着することによる密着性低下の問題を回避している。
【００４９】
続いて図２の（ｊ）に示すように、ノズル流路２３ａの中間部位で振動板２６、障壁層３０、および流路基板２１を切断し、ノズル開口３を開口させた。切断加工にはダイシングソーを用いた。本工程では、切断用のブレードとして厚さ０．２ｍｍのレジンボンドの＃１５００番ダイヤモンドブレードを用い、切断速度０．５ｍｍ／ｓｅｃでフルカットした。
【００５０】
以上工程よりなる製造方法によって、液体吐出ヘッドＥ2 を作製した。
【００５１】
本実施例の液体吐出ヘッドは、圧電素子に対して適当な駆動電圧を印加することで、良好なインク吐出動作を行った。また、繰り返し動作を行っても電極層の界面剥離の問題の発生はみられなかった。
【００５２】
本実施例の液体吐出ヘッドに対し、ＳＩＭＳ（Secondary Ion Mass Spectroscopy ）法により、圧電素子から振動板までの深さ方向のアルカリ金属元素濃度分布の測定を行ったが、圧電素子側への拡散は観察されなかった。このように、障壁層として窒化シリコン膜を用いることで、十分なアルカリ金属元素の拡散阻止を行うことができた。
【００５３】
また、上記ＳＩＭＳでの測定においては、電極層などの表面側へのアルカリ金属元素の付着も観察されなかった。すなわち製造工程における上記アルカリ金属の溶出や圧電素子の電極層表面へ再付着もなく、駆動電圧を印加するケーブルと、圧電素子の電極との接続において密着性を低下させる問題なしに、高い信頼性を有する液体吐出ヘッドを作製できた。
【００５４】
また、本実施例の窒化シリコンよりなる障壁層を、プラズマＣＶＤ法により形成することで、振動板に対して熱膨張率の異なる窒化シリコン膜を低温で形成し、熱膨張差に起因する応力による素子の変形や破壊がなく、歩留まりの高い液体吐出ヘッドを実現できた。その他の点は実施例１と同様であった。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】実施例１による液体吐出ヘッドを示すもので、（ａ）はその模式斜視図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ線に沿ってとった断面図である。
【図２】実施例２による液体吐出ヘッドの製造工程を示す図である。
【図３】一従来例による液体吐出ヘッドを示す模式断面図である。
【符号の説明】
【００５６】
１、２１    流路基板
２、２２    圧力発生室
３、２３    ノズル開口
４、２４    オリフィス
５、２５    液体供給室
６、２６    振動板
７、２７    圧電素子
８、２８    圧電層
９ａ、２９ａ    下電極
９ｂ、２９ｂ    上電極
１０、３０    障壁層
【図１】
2005144773.tif 000003
【図２】
2005144773.tif 000004
【図３】
2005144773.tif 000005