(57)【要約】【課題】鋼帯の表面に溶融メッキを行う際に、上記鋼帯のエッジ近傍に溶融金属の薄い酸化膜が付着することを防止して、鋼帯の外観を常に安定して良好にすることを目的とする。【解決手段】溶融金属が収容されたメッキ浴２の上方からメッキ浴表面に向けて気体を吹き付けるようにするエアー吹き付け装置５を設けることにより、上記メッキ浴２内の浴表面に浮遊する酸化膜を切断するとともに、上記切断された酸化膜を鋼帯１から遠ざけるようにすることを可能にして、上記メッキ浴２から引き上げられる鋼帯１の表面に、上記浴表面に浮遊する酸化膜が付着することを防止するようにして、鋼帯１の外観不良が発生することを低減できるようにする。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融金属が収容されたメッキ浴に鋼帯を浸漬することにより上記鋼帯の表面に金属メッキを行う溶融メッキ装置であって、
上記鋼帯を上記メッキ浴から引き上げる際に、上記鋼帯の根元または根元近傍の浴面に気体を吹き付ける気体噴射手段を設けたことを特徴とする溶融メッキ装置。
【請求項２】
上記気体噴射手段は、上記鋼帯のエッジ位置から所定の距離における上記鋼帯表面の根元または根元近傍の浴面に向けて、所定の方向及び所定の衝突力で上記気体を噴射することを特徴とする請求項１に記載の溶融メッキ装置。
【請求項３】
上記気体噴射手段は、上記鋼帯のエッジ位置から略１００ｍｍ以内の範囲に向けて、上記鋼帯の中央部方向から上記気体を噴射することを特徴とする請求項１または２に記載の溶融メッキ装置。
【請求項４】
上記気体噴射手段は、上記メッキ浴の表面を基準として０〜６０ｄｅｇの範囲で、上記メッキ浴の上方から上記気体を噴射することを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の溶融メッキ装置。
【請求項５】
上記気体噴射手段は、５０〜２００００Ｎ／ｍ２の範囲の衝突力で上記気体を噴射することを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の溶融メッキ装置。
【請求項６】
上記気体噴射手段を上記鋼帯の幅方向に沿って移動させる移動手段と、
上記移動手段の動作を制御する移動制御手段とを有し、
上記移動制御手段は、上記鋼帯の板幅が変化することに伴うエッジ位置の変更に対応して上記移動手段を制御することを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の溶融メッキ装置。
【請求項７】
溶融金属が収容されたメッキ浴に鋼帯を浸漬することにより上記鋼帯の表面に金属メッキを行う溶融メッキ方法であって、
上記鋼帯を上記メッキ浴から引き上げる際に、上記鋼帯の根元または根元近傍の浴面に気体を吹き付ける気体噴射工程を有することを特徴とする溶融メッキ方法。
【請求項８】
上記気体噴射工程は、上記鋼帯のエッジ位置から所定の距離における上記鋼帯表面の根元または根元近傍の浴面に向けて、所定の方向及び所定の衝突力で上記気体を噴射することを特徴とする請求項７に記載の溶融メッキ方法。
【請求項９】
上記気体噴射工程は、上記鋼帯のエッジ位置から略１００ｍｍ以内の範囲に向けて、上記鋼帯の中央部方向から上記気体を噴射することを特徴とする請求項７または８に記載の溶融メッキ方法。
【請求項１０】
上記気体噴射工程は、上記メッキ浴の表面を基準として０〜６０ｄｅｇの範囲で、上記メッキ浴の上方から上記気体を噴射することを特徴とする請求項７〜９の何れか１項に記載の溶融メッキ方法。
【請求項１１】
上記気体噴射工程は、５０〜２００００Ｎ／ｍ２の範囲の衝突力で上記気体を噴射することを特徴とする請求項７〜１０の何れか１項に記載の溶融メッキ方法。
【請求項１２】
上記気体噴射工程を上記鋼帯の幅方向に沿って移動させる移動工程と、
上記移動工程の動作を制御する移動制御工程とを有し、
上記移動制御工程は、上記鋼帯の板幅が変化することに伴うエッジ位置の変更に対応して上記移動工程を制御することを特徴とする請求項７〜１１の何れか１項に記載の溶融メッキ方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は鋼帯の溶融メッキ装置及び溶融メッキ方法に関し、特に、連続溶融メッキラインにおいて、メッキ浴から引き上げられた鋼帯表面に生じるメタル酸化膜に起因する鋼帯の外観不良を防止するために用いて好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】
鋼帯の溶融メッキを行うラインでは、溶融金属を収容したメッキ浴に鋼帯を浸入させて鋼帯表面に上記溶融金属を付着させ、メッキ浴中に配設したシンクロール等によって浸漬した鋼帯をメッキ浴から引き上げている。
【０００３】
上述のようにして鋼帯をメッキ浴に浸漬させることにより鋼帯表面には溶融金属が付着するが、鋼帯が引き上げられる際に、例えばガスワイピング等の付着量調整手段が鋼帯に対して気体を吹き付けることによって過剰な溶融金属分を除去して、溶融メッキの付着量が目標の付着量となるように調整するようにしている。この場合、溶融メッキの付着量が鋼帯幅で均一になるように調整する必要があり、従来より種々の技術が開示されている（例えば、特許文献１または特許文献２参照）。
【０００４】
ところで、メッキ浴内ではメッキ金属の酸化物や鉄との化合物を主成分とするドロスと称される異物が生成される。そして、メッキされた鋼帯の表面にこのドロスが付着してしまうと鋼帯の外観不良を生じさせる原因の一つとなる。このため、鋼帯をメッキ浴から引き上げる際に、複数のガス噴射ノズルから不活性ガスを上記鋼帯に噴射することによって、メッキ浴の表面に浮遊するトップドロスを引き上げ中の鋼帯付近の浴面から離反させるように誘導する技術が開示されている（例えば、特許文献３参照）。
【０００５】
また、メッキ浴の表層部は空気に触れることから、溶融金属の薄い酸化膜が発生してメッキ浴上に浮遊している。このため、メッキ浴から引き上げられる鋼帯に上記酸化膜がひげ状の糸筋となって随伴されたり、或いは引き上げられた後の鋼帯メタルの表層部（特に鋼帯の両端部）に上記酸化膜に起因する外観不良が発生したりすることがある。従来は、上記溶融金属の酸化膜をガスワイピング等の付着量調整手段や浮遊ドロス払拭ノズルの付随効果によって排除していたが、特にラインスピードを低下させた操業では外観不良が発生して問題となっている。
【０００６】
【特許文献１】
特開平３−２８７７５２号公報
【特許文献２】
特開平１０−２６５９３０号公報
【特許文献３】
特開平９−１４３６５３号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ガスワイピング等の付着量調整手段を設置した溶融メッキラインでは、気体流量や吹き付け方向が適切でない等により、上記酸化膜を良好に払拭できなかったり、或いは鋼帯の全幅に亘って均一に上記酸化膜を払拭できなかったりした場合には、残った酸化膜のために鋼帯の外観不良が生じてしまう不都合があった。
【０００８】
特に、鋼帯の両エッジ近傍では、表裏のガスワイピングから噴出する気体同士によって外乱を引き起こすことからワイピング力が低下してしまい、上記外観不良がより顕在化してしまうという問題があった。
【０００９】
すなわち、鋼帯の表裏両面における中央部分では、ガスワイピングから噴出した気体が鋼帯に沿って上方から下方に流れるため、気体の流れる方向にガス噴出流量に比例した払拭力が発生して、鋼帯の表裏両面における表面に付着した酸化膜を強力に払拭することが可能である。
【００１０】
これに対して、鋼帯のエッジ近傍では、気体同士が直接衝突するガスワイピング部分の気流の影響によって外乱が起こり、気体が下向きに流れ難くなる。このため、酸化膜を払拭する力が鋼帯の中央部よりも弱くなって、本来除去されるべき酸化膜が残ってしまうという問題があった。
【００１１】
また、ガスワイピングから噴出された気体が鋼帯に沿って下向きに流れれば、その気流は鋼帯表面を伝わってメッキ浴面に到達する。この場合、その気流によってメッキ浴表面に浮遊する酸化膜を鋼帯から遠ざけることができる。このため、鋼帯付近に浮遊する酸化膜が鋼帯に付着され難くなり、鋼帯の引き上げの際に随伴され難くすることができる。
【００１２】
しかしながら、上述したように、鋼帯のエッジ近傍の気体は下向きに流れようとする力が弱められるために、エッジ近傍のメッキ浴表面に浮遊する酸化膜を鋼帯から十分に遠ざけることができない。
【００１３】
したがって、鋼帯のエッジ近傍ではひげ状の糸筋となってあらわれる酸化膜による外観不良が顕在化して問題となっていた。なお、鋼帯の通板速度（ラインスピード）が遅いほどガスワイピングに必要な気体量が少なくなることから、上述した酸化膜による外観不良の問題は、鋼帯の通板速度が遅い溶融メッキラインでは深刻な問題になっていた。
【００１４】
そこで、本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたもので、鋼帯の溶融メッキを行う際に、鋼帯エッジ近傍に溶融金属の薄い酸化膜が付着することを防止して、鋼帯の外観を常に安定して良好にすることを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明の溶融メッキ装置は、溶融金属が収容されたメッキ浴に鋼帯を浸漬することにより上記鋼帯の表面に金属メッキを行う溶融メッキ装置であって、上記鋼帯を上記メッキ浴から引き上げる際に、上記鋼帯の根元または根元近傍の浴面に気体を吹き付ける気体噴射手段を設けたことを特徴としている。
【００１６】
本発明の溶融メッキ方法は、溶融金属が収容されたメッキ浴に鋼帯を浸漬することにより上記鋼帯の表面に金属メッキを行う溶融メッキ方法であって、上記鋼帯を上記メッキ浴から引き上げる際に、上記鋼帯の根元または根元近傍の浴面に気体を吹き付ける気体噴射工程を有することを特徴としている。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の溶融メッキ装置及び溶融メッキ方法の実施の形態について図面を用いて説明する。
【００１８】
（第１の実施の形態）
＜溶融メッキ装置１０の全体構成＞
図１は、本発明の第１の実施の形態を示し、溶融メッキ装置１０の一例を示す概念図である。図１に示すように、溶融メッキ装置１０は、溶融金属を収容したメッキ浴２、鋼帯１をメッキ浴２から引き上げるシンクロール３、鋼帯１の表面に付着した溶融金属を所定の目付け量に調整するためのガスワイピング装置４、メッキ浴２の浴面にエアーを吹き付けて浴表面を揺動させるエアー吹き付け装置５等より構成されている。
【００１９】
図２は、ガスワイピング装置４及びエアー吹き付け装置５の部分を拡大した斜視図である。ガスワイピング装置４は、一方のガスワイピングノズル４ａ及び他方のガスワイピングノズル４ｂにより構成されていて、鋼帯１の表裏の両面からガスを吹き付けるようにしている。
【００２０】
エアー吹き付け装置５は、鋼帯１の表面側における左右の両エッジ位置から所定の距離（例えば、２０〜３０ｍｍ）だけ鋼帯１の中央側寄りに入った鋼帯１の根元の浴表面に向けて、エアーを吹き付けるようにしている。なお、エアー吹き付け装置５により気体噴射手段が構成されている。
【００２１】
上記図２に示すように、エアー吹き付け装置５は、鋼帯１の表面側に配設された第１及び第２のエアーノズル５ａ、５ｂと、上記鋼帯１の裏面側に配設された第３及び第４のエアーノズル（図示せず）とからなり、これらのエアーノズル５ａ、５ｂ・・とホース６とを連結させるようにしている。
【００２２】
そして、上記ホース６をバルブ７、エアー流量計８を介して工場エアー供給部９に接続して、工場エアー供給部９から供給されるエアーがエアー吹き付け装置５へと供給されるようにしている。
【００２３】
また、図２では、鋼帯１の片面（表面）側のみのエアーノズル５ａ、エアーノズル５ｂを配設した例を示したが、鋼帯１の表面側と同様に、鋼帯１の別の片面（裏面）側の左右両端側にも、同様なエアーノズル５ｃ、５ｄを配設して浴面の所定の位置が鋼帯１の表裏において揺動するようにエアーを吹き付けるようにしている。
【００２４】
なお、上記図１及び図２においては、ガスまたはエアーが噴出している気流の方向を矢印の向きで示している。また、ガスワイピング装置４及びエアー吹き付け装置５から噴出されるガスまたはエアー等の気体は、特に限定するものではなく、鋼帯１の種類や溶融メッキライン工程の特徴等にあわせて任意な気体を選択することが可能である。
【００２５】
＜鋼帯エッジ部の外観不良が発生するメカニズム＞
ここでは、鋼帯１の表面に酸化膜が付着するメカニズムを説明する。
鋼帯１に付着する酸化膜は、白色状のカス引きのようなひげとなってあらわれ、酸化膜が付着していない鋼帯１の通常部分と比較して平滑で光沢があるという特徴を有している。
【００２６】
また、上記酸化膜は、鋼帯１のエッジ近傍に主として形成されることが実験より明らかになっている。その理由は、上述したように、ガスワイピング装置４は鋼帯１に対して、その表裏の両面からガスを噴出するが、ガスワイピング装置４の幅は鋼帯１の幅よりも大きいため、鋼帯１の幅を超える部分ではガスワイピング装置４から噴射されるガス同士が直接に衝突することとなる。このため、鋼帯１の左右の両エッジ近傍には乱気流が生じる結果、鋼帯１に沿って下方向に流れようとするガスの流れが上記乱気流の影響を大きく受けてしまうことによるためであると考えられる。
【００２７】
なお、本実施の形態では、酸化膜が形成される鋼帯１のエッジ近傍とは、鋼帯１のエッジ位置より２０〜３０ｍｍ程度、鋼帯１の中央側に寄った位置とし、この範囲を以下、鋼帯のエッジ部分と称することとする。
【００２８】
図３に、ガスワイピング装置４から噴射されたガスが鋼帯１に衝突したときの衝突圧の大きさを表した特性図を示す。図３に示す特性図の横軸は鋼帯１のエッジ位置からの距離を示し、縦軸はガスワイピング装置４から噴出するガスの衝突圧の大きさを示している。
【００２９】
図３に示したように、鋼帯１のエッジ部分ではガス乱気流の影響により衝突圧が減少することが実測結果からも明らかになっている。したがって、鋼帯エッジ部分のワイピング力の低下が、鋼帯エッジ部分に酸化膜の付着が生じやすい要因の一つになっているといえる。
【００３０】
上述したようなワイピング力の低下等による要因によって付着する酸化膜は、鋼帯１のコイルサイズに依らず、鋼帯１の表裏サイドのエッジ部分にランダムに発生するが、以下の溶融メッキラインの状況では特に発生しやすい傾向がある。
【００３１】
（１）低ラインスピードの場合
通板速度（ラインスピード）が遅い低ラインスピードの場合、鋼帯がメッキ浴面から引き上げられて酸化膜がワイピングされるまでに要する時間が必然的に長くかかる。このため、溶融金属が空気と触れて酸化反応する時間も長くなり、酸化膜が鋼帯１の表面に形成されやすくなる。
【００３２】
一方、低ラインスピードの場合には、目付調整用のワイピングガスが鋼帯１を過剰に冷却してしまい、溶融メッキの品質等に影響を与えるため望ましくない。このため、高ラインスピードの溶融メッキの場合と比べて、溶融メッキの目付け調整のために鋼帯１に吹き付ける気体の流量を少なくする必要がある。この吹き付ける気体の流量を少なくした結果、酸化膜を払拭するガスワイピング装置４の力が弱くなって、酸化膜が鋼帯に残りやすくなってしまうことになる。
【００３３】
（２）メッキ浴立ち上がり部の板反りが大きい場合
上述したように、鋼帯エッジ部分ではガスワイピング装置４による酸化膜の払拭能力は低下している。これに加えて、鋼帯１が板反りしているような場合、この反りによって気体が鋼帯１の下方向に流れる速度が減速してしまい、酸化膜を払拭する力がより減じられ、酸化膜が鋼帯に残りやすくなってしまうことになる。
【００３４】
＜溶融メッキ装置１０の全体動作＞
ここでは、溶融メッキ装置１０の全体動作を説明する。
ワイピングノズル４による鋼帯エッジ部分のワイピング力の減少を補うため、本実施の形態の溶融メッキ装置１０では、鋼帯エッジ部分に近接する浴表面にエアー吹き付け装置５からエアーを吹き付けて、メッキ浴に浮遊する酸化膜を鋼帯１から遠ざけるように構成している。
【００３５】
本実施の形態におけるメッキ浴２の溶融金属は、例えば、Ｓｎ−Ｚｎメッキ浴またはＺｎ−Ａｌメッキ浴等である。
【００３６】
メッキ浴２に浸漬された鋼帯１は、シンクロール３によって走行方向を上方に変更され、メッキ浴２から引き上げられる。この鋼帯１の引き上げの際、メッキ浴２の浴表面には酸化膜が浮遊しているため、浮遊する酸化膜が鋼帯１の表面に付着しないように、エアー吹き付け装置５は浴面の酸化膜に向けてエアーを吹き付ける。
【００３７】
この場合、上記エアー吹き付け装置５からのエアー力によって浴面が揺動するために、浴面の薄い酸化膜の糸筋が分断されるとともに、上記エアー力は分断した酸化膜を鋼帯１のエッジ部分から遠ざけるため、浴中から引き上げられる鋼帯１に上記酸化膜が付着しないようになる。
【００３８】
上述したエアー吹き付け装置５による酸化膜の糸筋を分断することが十分でなかったために、鋼帯１に酸化膜が付着してしまった場合でも、ガスワイピング装置４から噴出される吹き付けガスが鋼帯１に付着した酸化膜を除去する。なお、上記ガスワイピング装置４から噴出されるガスは、鋼帯１の金属メッキの目付け量を目標の値にするために主に用いられている。
【００３９】
＜エアーの吹き付け量やノズル位置等の実施例＞
次に、図５を用いて鋼帯１に酸化膜が形成されることを防止するエアー吹き付け装置５のノズル先端位置とエアー量との関係を説明する。
【００４０】
上記ノズル位置とエアー量は相互に関係がある。すなわち、図５に示す鋼帯１とエアーノズル５ａ先端位置との距離Ｄｙが大きいほどエアー量を多くする必要がある。これに対して、上記距離Ｄｙが小さい場合には、エアーノズル５ａと鋼帯１とは接近しているので、エアー量は少なくて済む。
【００４１】
したがって、上記エアーノズル５ａの位置とエアー量とを一義的に設定することは一般的に困難であるが、実際の溶融メッキ装置を用いた実施例等に基づいて以下の設定値とした。なお、鋼帯１のエッジ部分からエアーノズル５ａ（５ｂ）の先端位置の距離Ｄｘは、上述したように本実施の形態では２０〜３０ｍｍに設定している。
【００４２】
エアー吹き付け装置５を配設する場合には、例えば、（イ）吹き付け位置（ノズル先端位置）、（ロ）ノズル角度、（ハ）エアー衝突力、（ニ）エッジムラの発生具合、（ホ）その他の不具合の発生状況等を考慮する事が重要である。
【００４３】
上記（イ）の吹き付け位置（ノズル先端位置）については、鋼帯１のエッジ位置からエアー吹き付け装置５のノズル先端位置までの距離Ｄｙが略１００ｍｍ程度に設定することが好ましい。なお、エアー吹き付け装置５の噴射方向は、メッキ浴２の浴面に向けるようにする。
【００４４】
また、上記（ロ）のノズル角度は、浴面から０〜６０［ｄｅｇ］の下向きに設定することが好ましく、上記（ハ）のエアーの衝突力は５０〜２００００［Ｎ／ｍ２］であることが好ましい。
【００４５】
なお、上記のエアー吹き付け装置５の設定において、エアーノズル５ａ、５ｂ・・の先端方向を浴面に対して０〜６０［ｄｅｇ］の下向きに設定しているが、先端方向を浴面に向ける、すなわち下向きにするのは浴面を揺動するためである。
【００４６】
また、浴面に対して垂直でなく、０〜６０［ｄｅｇ］という範囲で傾斜角をつけている。これは、真上（９０［ｄｅｇ］）から気体を吹き付けて浴面を揺動するようにさせれば確かに浴面はよく揺れるが、この場合では横方向の吹き付け力が働かないことになる。そこで、メッキ浴２の溶融金属が大きく飛び散ってしまわないようにすることを考慮して、エアーノズル５ａ、５ｂ・・の先端方向を浴面に対して真上からでなく傾斜させるようにしている。
【００４７】
なお、本実施の形態では、図５に示したように、鋼帯１の中央側からエッジ側にエアーが流れるようにエアーの方向を傾けるようにしたが、エッジ部分の浴表面を揺動するようにして酸化膜を切断させるという本発明におけるエアー吹き付け装置５の目的からみて、鋼帯１のエッジ側から中央側の方向にエアーを吹き付けるようにしてもよい。
【００４８】
この場合、鋼帯１の中央部分に切断された酸化膜が寄ってきて、鋼帯１の引き上げの際に上記分断された酸化膜が付着することもあり得るが、上述したように鋼帯１の中央付近ではガスワイピング装置４によるワイピング力が強いために中央部分に付着した酸化膜は除去される。
なお、鋼帯１とエアーノズル５ａ、５ｂ・・先端位置との距離Ｄｙを零、即ち鋼帯１に対して直接、エアーを吹き付けるようにしてもよい。
【００４９】
以上説明したように、本実施の形態による溶融メッキ装置１０によれば、メッキ浴２から引き上げられる鋼帯１のエッジ部分近傍の浴表面をエアーの力で揺動することによって、浴表面の酸化膜を切断するとともに、鋼帯１から上記酸化膜を遠ざけることが可能になるので、鋼帯１の引き上げに随伴して浴表面の酸化膜が付着しないようにすることができる。
【００５０】
なお、エアー吹き付け装置５から噴出する気体は特に限定するものではないが、本実施の形態では入手容易なエアーを用いて構成した。これに対して、上記特許文献３等にあるように、吹き付けガスの種類として不活性ガスを用いるように構成する場合もある。
【００５１】
吹き付けガスに上記不活性ガスを用いるようにした場合、エアー（ガス）ノズル５ａ、５ｂ・・の周囲を密閉する機構が設けられることが多い。これは、浴面あるいは鋼帯表面を不活性ガスでシールして、酸化膜の発生自体を抑制する効果を期待するものである。
【００５２】
しかしながら、十分なシール性を確保するには、設備費がかかる事、不活性ガスはエアーを用いる場合に比べてランニングコストが高くなってしまうという問題もある。また、上記密閉機構の設置によりエアー（ガス）ノズル５ａ、５ｂ・・の保守等を含む作業効率が悪化する。
【００５３】
上述したように、本実施の形態ではエアー吹き付け装置５からの吹き付けガスに入手容易なエアーを用いており、上記密閉機構を設置することも不要である。このため、安価で作業効率の優れた溶融メッキ装置を提供することができる。
【００５４】
（第２の実施の形態）
第１の実施の形態では、メッキ浴面を揺動するためにエアー吹き付け装置５が狙う吹き付け位置は、鋼帯１の両エッジ部分から幅方向に２０〜３０ｍｍ程度、鋼帯１の中央側に寄った位置であり、この位置に合わせてエアーノズルの先端位置を位置決めしていた。これは鋼帯１に生じる酸化膜の位置が、通常エッジ部分から２０〜３０ｍｍ程度であるという理由からであったが、エアーノズルの先端位置はこの位置に限られない。
【００５５】
例えば、鋼帯１にあらわれる酸化膜の位置が両エッジ部分から２０ｍｍ以下であったり、３０ｍｍ以上であったりすれば、上記酸化膜の位置にあわせてエアー吹き付け位置（エアーノズルの先端位置）を調整する必要がある。そこで、本実施の形態の溶融メッキ装置は、酸化膜が形成される位置や鋼帯１の板幅にあわせて、エアー吹き付け位置（エアーノズル先端位置）を調整することが可能なように構成した。
【００５６】
本実施の形態の溶融メッキ装置２０は、上述した第１の実施の形態の溶融メッキ装置１０に加えて、エアーノズルを板幅に追従することができるノズル移動機構を設けている。なお、本実施の形態の溶融メッキ装置２０と第１の実施の形態の溶融メッキ装置１０とで同じ構成部については、各構成部の符号をそのまま引用して詳細な説明を省略することとする。
【００５７】
＜溶融メッキ装置２０の構成＞
図６は、本実施の形態の溶融メッキ装置２０において、特に、ノズル移動制御機構を説明するための一例を示す概略構成図である。図６では、上記図１または図２で示したメッキ浴２、周回ローラ３、ガスワイピング装置４、バルブ７、エアー流量計８及び工場エアー供給部９を省略している。
【００５８】
図６（ａ）は、溶融メッキ装置２０の上面図であり、図６（ｂ）は溶融メッキ装置２０の正面図である。図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、鋼帯１の表裏両面のエッジ部分に向けてエアー吹き付け装置５のエアーノズル５ａ、５ｂ・・の先端からエアーが吹き付けられるように構成されている。
【００５９】
図６に示すように、エアー吹き付け装置５（エアーノズル５ａ、５ｂ・・）はナット１３に固定されて、ナット１３はモータ１２を駆動源として台形ネジ１１の回転に伴い所定の位置に移動する。また、エアー吹き付け装置５はホース６に連結されており、工場エアー供給部９からエアーの供給を受ける。
なお、台形ネジ１１、モータ１２、及びナット１３等により移動手段が構成され、モータ１２の回転を制御するモータ制御部（図示せず）等により、移動制御手段が構成されている。
【００６０】
なお、本実施の形態ではナット１３を移動させるために台形ネジ１１を用いて構成したがこれに限られず、例えば、精密な位置決めを要するのであればボールネジ等により構成してもよい。
また、必ずしもモータ１２及び台形ネジ１１等によってナット１３を駆動しなくてもよく、例えば、移動ステージ等にエアー吹き付け装置５を固定して上記移動ステージを手動により移動させることでエアー吹き付け装置５の位置決めを行うようにしてもよい。
【００６１】
＜溶融メッキ装置２０の全体動作＞
ここでは、溶融メッキ装置２０の全体動作を説明する。
本実施の形態の溶融メッキ装置２０では、溶融メッキラインに搬入される鋼帯の板幅を測定して、その板幅に合わせたエアーノズルの位置を設定し、上記設定した位置にエアーノズル５ａ、５ｂ・・の先端位置が位置決めされるようにノズル移動機構が駆動するように構成している。
【００６２】
具体的には例えば、板幅が１０００ｍｍの場合、板幅の中央を幅方向の原点とすれば±５００ｍｍが鋼帯１のエッジ位置になるが、上述したようにエッジ部分は２０〜３０ｍｍと設定しているので、±４７０〜±４８０ｍｍ範囲にエアー吹き付け装置５のノズル先端が位置決めされるようにする。エアー吹き付け装置５のノズル先端が上記±４７０〜±４８０ｍｍ範囲になるように、図６に示したモータ１２が駆動することによって台形ネジ１１が回転して、ナット１３に固定されたエアー吹き付け装置５が移動する。
【００６３】
本実施の形態によれば、溶融ラインに搬入される鋼帯１の板幅を測定するように構成しているため、上記鋼帯１の板幅が可変になっても、エアーノズル５ａ〜５ｄの先端位置を鋼帯１のエッジ位置から所定の幅だけ離れた位置及び所定のノズル方向に確実に設定することが可能となる。このため、鋼帯のエッジ部分の浴表面に浮遊する酸化膜の糸筋を切断することができるとともに、浴表面に浮遊する酸化膜が鋼帯１の表面に付着することを防止することができる。
【００６４】
【発明の効果】
上述したように、本発明によれば、溶融金属が収容されたメッキ浴に浸漬された鋼帯に対して、メッキ浴の上方から気体を噴出するように構成したので、上記メッキ浴の表面に浮遊する酸化膜が鋼帯に付着しないようにすることができるとともに、メッキ浴面に浮遊する酸化膜を切断することができる。また、切断された酸化膜を鋼帯から遠ざけるようにすることが可能となり、鋼帯の表面に酸化膜が付着することを良好に防止することができる。
【００６５】
このため、上記酸化膜の付着による鋼帯エッジ近傍の外観不良の発生が生じることを低減することができ、上記酸化膜が付着したことによる鋼帯エッジ部分をトリミングする工程を簡略化することができて、鋼帯の製造工数及び製造コストを大幅に低減することができる。
【００６６】
また、本発明の他の特徴によれば、メッキ浴の表面に浮遊する酸化膜を除去する気体噴出手段は、鋼帯エッジ位置近傍のメッキ浴表面がピンポイントで揺動されるように気体を噴射するように構成しているため、上記気体噴出手段そのものを小型化することができるとともに、気体を噴出するために要するエネルギーを格段に省力化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の溶融メッキ装置の第１の実施の形態を示し、主要部の構成を示す概念図である。
【図２】本発明の実施の形態である溶融メッキ装置におけるガスワイピング装置及びエアーノズル部分を拡大した斜視図である。
【図３】ガスワイピング装置から噴射したガスが鋼帯に衝突したときの衝突圧の大きさを表した特性図である。
【図４】エアーノズルのノズル先端位置とエアー量との関係を説明するための図である。
【図５】第２の実施の形態による溶融メッキ装置において、ノズル移動機構を説明するための概略構成図である。
【符号の説明】
１  鋼帯
２  メッキ浴２
３  シンクロール
４  ガスワイピング装置
５  エアー吹き付け装置
６  ホース
７  バルブ
８  エアー流量計
９  工場エアー供給部
１０  溶融メッキ装置
１１  台形ネジ
１２  モータ
１３  ナット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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