(57)【要約】【課題】光の反射の問題がなく、視認性に優れた電磁波シールド性フィルムを提供する。【解決手段】基材フィルム１２上の銅箔１１にパターンエッチングにより開口１１Ａを形成した後、黒化処理を施した電磁波シールド性フィルム１０。この電磁波シールド性フィルム１０を備えるＰＤＰフィルタ。エッチング加工後に黒化処理が施されているため、エッチング加工断面も含め、その全表面が黒化処理面となることから、光の反射の問題がなく、視認性に優れる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明な基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に設けられた、パターンエッチングされた銅又は銅合金よりなる金属膜とを備えてなる電磁波シールド性フィルムにおいて、
該金属膜はパターンエッチングにより開口を形成した後、黒化処理を施したものであることを特徴とする電磁波シールド性フィルム。
【請求項２】
請求項１において、該金属膜は銅又は銅合金よりなる金属箔であり、透明接着剤により前記基材フィルムに貼り合わされていることを特徴とする電磁波シールド性フィルム。
【請求項３】
請求項１又は２において、該金属膜の表面の少なくとも一部が透明接着剤で被覆されていることを特徴とする電磁波シールド性フィルム。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項において、該黒化処理が次亜塩素酸による酸化処理であることを特徴とする電磁波シールド性フィルム。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項において、該電磁波シールド性フィルムは、概略矩形形状であり、その周縁部を除いた中央部がパターンエッチングされていることを特徴とする電磁波シールド性フィルム。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれか１項において、前記基材フィルムの他方の面に粘着剤層が形成されていることを特徴とする電磁波シールド性フィルム。
【請求項７】
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の電磁波シールド性フィルムと透明基板とを有し、該電磁波シールド性フィルムの前記一方の面が該透明基板の表面に透明接着剤により貼り合わされていることを特徴とするＰＤＰフィルタ。
【請求項８】
請求項７において、更に、近赤外線吸収フィルム、色調補正フィルム、反射防止フィルム、アンチグレアフィルム、衝撃吸収フィルム及び防汚フィルムよりなる群から選ばれる１種又は２種以上を備えることを特徴とするＰＤＰフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＰＤＰ（プラズマディスプレーパネル）の前面フィルタの導電層形成用フィルムとして好適な電磁波シールド性フィルムと、この電磁波シールド性フィルムを備えるＰＤＰフィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
ＰＤＰの漏洩電磁波を遮断するために、ガラス基板に導電層を形成して電磁波シールド機能を付与したＰＤＰフィルタが用いられており、電磁波シールド性を付与するための導電層としては、一般に、銅箔をパターンエッチングした銅メッシュが使われている。図４は、従来の銅メッシュの製造方法を示す断面図であり、片面に反射防止のための黒化処理を施した銅箔１１をＰＥＴフィルム１２等の透明フィルムに貼り合わせ（図４（ａ））、その後、パターンエッチングにより銅箔１１にメッシュ状に開口１１Ａを形成して銅メッシュが製造される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
従来の銅メッシュでは、黒化処理を施した銅箔をエッチング加工するため、銅箔１１のエッチング加工断面１１Ｂは銅光沢を呈し、従って、見る角度によっては光が反射する。このため、ＰＤＰフィルタに用いた場合には、ＰＤＰの視認性を阻害するという欠点がある。
【０００４】
本発明は、上記従来の問題点を解決し、光の反射の問題がなく、視認性に優れた電磁波シールド性フィルムと、この電磁波シールド性フィルムを用いたＰＤＰフィルタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の電磁波シールド性フィルムは、透明な基材フィルムと、該基材フィルムの一方の面に設けられた、パターンエッチングされた銅又は銅合金よりなる金属膜とを備えてなる電磁波シールド性フィルムにおいて、該金属膜はパターンエッチングにより開口を形成した後、黒化処理を施したものであることを特徴とする。
【０００６】
本発明の電磁波シールド性フィルムは、パターンエッチング後に黒化処理が施されているため、エッチング加工断面も含めその全表面が黒化処理面となることから、あらゆる角度において光の反射の問題がなく、視認性に優れる。
【０００７】
本発明において、基材フィルム上の金属膜は銅又は銅合金よりなる金属箔であることが好ましく、透明接着剤により基材フィルムに貼り合わされていることが好ましい。また、黒化処理は、次亜塩素酸による酸化処理であることが好ましい。
【０００８】
このような金属膜の表面は、その少なくとも一部が透明接着剤で被覆されていることが好ましく、これにより、パターンエッチングされ、接着面の少なくなった金属膜が、剥れることなく強固に接着される。また基材フィルムの他方の面には、この電磁波シールド性フィルムをＰＤＰ本体に貼着するための粘着剤層が形成されていることが好ましい。
【０００９】
本発明の電磁波シールド性フィルムは、好ましくは、概略矩形形状であり、その周縁部を除いた中央部にのみパターンエッチングによる開口が形成されていることが好ましく、この場合において、周縁部の非エッチング加工部は、ＰＤＰフィルタの画面サイズ決定用の黒枠として機能するため、ＰＤＰフィルタの透明基板への黒枠形成のための印刷加工が不要となる。
【００１０】
本発明のＰＤＰフィルタは、このような本発明の電磁波シールド性フィルムと透明基板とを有し、該電磁波シールド性フィルムの金属膜側の面が該透明基板の表面に透明接着剤により貼り合わされていることを特徴とする。
【００１１】
このような本発明のＰＤＰフィルタは、必要に応じて更に、近赤外線吸収フィルム、色調補正フィルム、反射防止フィルム、アンチグレアフィルム、衝撃吸収フィルム及び防汚フィルムよりなる群から選ばれる１種又は２種以上を設けることができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、光の反射の問題がなく、視認性に優れた電磁波シールド性フィルム及びＰＤＰフィルタが提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に図面を参照して本発明の電磁波シールド性フィルム及びＰＤＰフィルタの実施の形態を詳細に説明する。
【００１４】
まず、図２，３を参照して本発明の電磁波シールド性フィルムの実施の形態を説明する。
【００１５】
図２（ａ）〜（ｃ）は実施の形態に係る電磁波シールド性フィルムの製造手順を示す断面図である。まず、銅箔１１をＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム１２等の基材フィルムに透明接着剤（図示せず）により接着し（図２（ａ））、常法に従ってパターンエッチングを行って開口１１Ａを形成する（図２（ｂ））。その後、銅箔１１に黒化処理を施す（図２（ｃ））。このようにエッチング加工後に黒化処理を施すことにより、開口１１のエッチング加工断面を含めた銅箔１１の全表出面が黒化処理面１３となり、光の反射は防止される。
【００１６】
このようにして製造される本発明の電磁波シールド性フィルム１０の基材フィルムとしては、ＰＥＴフィルム１２の他、ポリエステル、ポリブチレンテレフタレート、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル板、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテートフィルム、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタアクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等の樹脂フィルムを用いることができるが、好ましくはＰＥＴ、ＰＢＴ（ポリブチレンテレフタレート）、ＰＣ、ＰＭＭＡ、アクリルフィルムであり、その厚さは、得られる電磁波シールド性フィルムの厚さを過度に厚くすることなく、十分な耐久性と取り扱い性を得る上で、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。
【００１７】
また、金属箔としては、銅箔１１の他、Ｃｕ−Ｎｉ等の銅合金箔を用いることができ、その厚さは、通常１〜２００μｍ程度である。この金属箔は黒化処理が施されたものであっても良く、黒化処理が施されていないものであっても良い。
【００１８】
透明基材フィルムと金属箔とを接着する透明接着剤としては、本発明のＰＤＰフィルタに用いられる接着樹脂として後述するＥＶＡやＰＶＢ樹脂等を用いることができ、そのシート化及び接着の方法や条件についても同様の方法及び条件を採用することができる。また、エポキシ系、アクリル系、ウレタン系、ポリエステル系、ゴム系の透明接着剤を用いることもでき、特に、積層後のエッチング工程での耐エッチング性の点から、ウレタン系、エポキシ系が特に望ましい。この透明接着剤による接着層の厚さは、好ましくは１〜５０μｍである。この透明接着剤には、必要に応じて、導電性粒子が配合されていても良い。
【００１９】
金属箔をパターンエッチングする方法は、一般に用いられているどのような方法でも構わないが、レジストを用いるフォトエッチングが好ましい。この場合、金属箔上にフォトレジスト膜を圧着するか、フォトレジストをコーティングした後、所望のマスクを用いるなどしてパターン露光後、現像処理してレジストパターンを形成する。その後、レジストのない部分の金属箔を塩化第二鉄液等のエッチング液で除去すればよい。
【００２０】
このようにしてエッチング加工を行った後の銅箔等の金属膜の黒化処理は、高コントラスト化が図れる点から、次亜塩素酸による酸化処理であることが好ましい。
【００２１】
本発明の電磁波シールド性フィルムのエッチングパターンの形状には特に制限はないが、図３に示すような略格子形の開口率６０〜９５％程度のメッシュ形状であることが好ましい。なお、開口率とは、エッチング加工部の投影面積（格子部と非格子部との合計の面積）における開口部分（非格子部）の面積割合の百分率である。この開口率が６０％未満であると、電磁波シールド性は十分に得られるものの、透明性が不足する。逆に、開口率が９５％を超えると、透明性は十分であるが、電磁波シールド性が不足する。
【００２２】
また、本発明の電磁波シールド性フィルム１０は、図３に示す如く、概略矩形形状であり、銅箔１１の周縁部を除いた中央部にのみパターンエッチングによる開口１１Ａが形成されていることが好ましく、この場合において、周縁部の非エッチング加工部１４の黒化処理面をＰＤＰフィルタの画面サイズ決定用の黒枠として機能させることができる。このため、この電磁波シールド性フィルム１０を用いてＰＤＰフィルタを作製する場合、ＰＤＰフィルタの透明基板への黒枠形成のための印刷加工が不要となり、製造工程数を低減することができ、好ましい。
【００２３】
なお、この非エッチング加工部１４の幅Ｗは、電磁波シールド性フィルム１０の大きさによっても異なるが、通常０．５〜５ｃｍ程度とされる。
【００２４】
本発明の電磁波シールド性フィルム１０において、銅箔１１の表面は、その少なくとも一部が透明接着剤で被覆されていることが好ましい。特に、エッチング加工により開口を形成した領域は、その少なくとも９０％以上が透明接着剤により被覆されていることが好ましく、これにより、透明性の向上が図れる。また、基材フィルムの銅箔等の金属膜を設けた側とは反対側の面には、この電磁波シールド性フィルムをＰＤＰ本体に貼着するための粘着剤層が形成されていることが好ましい。
【００２５】
なお、上記透明接着剤としては、本発明の電磁波シールド性フィルムに用いられる接着樹脂として後述するＥＶＡやＰＶＢ樹脂等を用いることができる。また、粘着剤としては、アクリル系、ＳＢＳ、ＳＥＢＳ等の熱可塑性エラストマー系など透明粘着剤（感圧接着剤）が好適に使用される。
【００２６】
次に図１を参照して本発明のＰＤＰフィルタについて説明する。図１は本発明のＰＤＰフィルタの実施の形態を示す断面図である。
【００２７】
このＰＤＰフィルタ２０は、ガラス基板１等の透明基板の一方の面に本発明の電磁波シールド性フィルム１０が透明接着剤により接着され、他方の面に、それぞれ接着層２Ａ，２Ｂを介して近赤外線吸収フィルム３及び反射防止フィルム４が積層して接着されている。この電磁波シールド性フィルム１０は、図２に示す如く、ＰＥＴフィルム１２上の銅箔１１をパターンエッチングした後黒化処理してなるものであり、その銅箔１１側の面に透明接着剤よりなる接着層１５が形成され、反対側面に粘着剤層１６が形成されている。ガラス基板１の一方の面にこのような電磁波シールド性フィルム１０をその接着層１５で接着したＰＤＰフィルタ２０は、ＰＤＰ本体３０に、電磁波シールド性フィルム１０の粘着剤層１６で取り付けられている。
【００２８】
このＰＤＰフィルタ２０であれば、ガラス基板１に接着された電磁波シールド性フィルム１０の銅箔１１のエッチング断面も黒化処理が施されたものであるため、どのような角度から見ても反射が防止され、視認性に優れる。
【００２９】
図１に示すＰＤＰフィルタ２０は、ＰＤＰ本体３０に取り付けた際にガラス基板１の後面側となる面に電磁波シールド性フィルム１０が設けられ、前面側に近赤外線吸収フィルム３及び反射防止フィルム４が設けられているが、本発明のＰＤＰフィルタの構成は何ら図１に示すものに限定されず、例えば、電磁波シールド性フィルム１０はガラス基板１の前面側に形成されていても良い。また、近赤外線吸収フィルム２はガラス基板１の後面側に設けられていても良い。更に、本発明のＰＤＰフィルタは、アンチグレアフィルム、色調補正フィルム、衝撃吸収フィルム、防汚フィルム、その他の機能性フィルムを有していても良い。
【００３０】
特に、反射効果を低減させるためにアンチグレアフィルムは有効である。このフィルムは、表面に微細な凹凸を形成することで外光を多方向に散乱させるものであるが、自立型のプラズマディスプレーフィルタのように、背面側に空間があるものには向かなかった。これに対して、フィルタをＰＤＤの前面に直接貼る場合には極めて良好な反射効果が得られる。
【００３１】
なお、これらのフィルムを接着する接着層２Ａ，２Ｂ，１５の接着樹脂としては、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体が挙げられる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂等も用いることができるが、性能面で最もバランスがとれ、使い易いのはエチレン−酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）である。また、耐衝撃性、耐貫通性、接着性、透明性等の点から自動車用合せガラスで用いられているＰＶＢ樹脂も好適である。
【００３２】
ＰＶＢ樹脂は、ポリビニルアセタール単位が７０〜９５重量％、ポリ酢酸ビニル単位が１〜１５重量％で、平均重合度が２００〜３０００、好ましくは３００〜２５００であるものが好ましく、ＰＶＢ樹脂は可塑剤を含む樹脂組成物として使用される。
【００３３】
ＰＶＢ樹脂組成物の可塑剤としては、一塩基酸エステル、多塩基酸エステル等の有機系可塑剤や燐酸系可塑剤が挙げられる。
【００３４】
一塩基酸エステルとしては、酪酸、イソ酪酸、カプロン酸、２−エチル酪酸、ヘプタン酸、ｎ−オクチル酸、２−エチルヘキシル酸、ペラルゴン酸（ｎ−ノニル酸）、デシル酸等の有機酸とトリエチレングリコールとの反応によって得られるエステルが好ましく、より好ましくは、トリエチレン−ジ−２−エチルブチレート、トリエチレングリコール−ジ−２−エチルヘキソエート、トリエチレングリコール−ジ−カプロネート、トリエチレングリコール−ジ−ｎ−オクトエート等である。なお、上記有機酸とテトラエチレングリコール又はトリプロピレングリコールとのエステルも使用可能である。
【００３５】
多塩基酸エステル系可塑剤としては、例えば、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸等の有機酸と炭素数４〜８の直鎖状又は分岐状アルコールとのエステルが好ましく、より好ましくは、ジブチルセバケート、ジオクチルアゼレート、ジブチルカルビトールアジペート等が挙げられる。
【００３６】
燐酸系可塑剤としては、トリブトキシエチルフォスフェート、イソデシルフェニルフォスフェート、トリイソプロピルフォスフェート等が挙げられる。
【００３７】
ＰＶＢ樹脂組成物において、可塑剤の量が少ないと製膜性が低下し、多いと耐熱時の耐久性等が損なわれるため、ポリビニルブチラール樹脂１００重量部に対して可塑剤を５〜５０重量部、好ましくは１０〜４０重量部とする。
【００３８】
ＰＶＢ樹脂組成物には、更に劣化防止のために、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の添加剤が添加されていても良い。
【００３９】
図１のＰＤＰフィルタ２０は、ガラス基板１の一方の面に接着層１５が形成された電磁波シールド製フィルム１０を配置し、他方の面に接着用フィルムを各フィルム間に介在させ、減圧、加温下に脱気して予備圧着した後、加熱又は光照射により接着層を硬化させて一体化することにより容易に製造することができる。
【００４０】
なお、接着層２Ａ，２Ｂ，１５の厚さは、通常の場合０．０５〜１．０ｍｍ程度とされる。従って、接着用フィルムは、このような厚さの接着層が得られるように、０．０５〜１．０ｍｍ厚さに成形される。
【００４１】
以下に、エチレン系共重合体としてＥＶＡを用いた場合を例示して本発明に係る接着層についてより詳細に説明する。
【００４２】
ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと耐候性及び透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生ずる。
【００４３】
架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイドなどが挙げられる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５重量部以下、好ましくは０．５〜５．０重量部の割合で使用される。
【００４４】
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。
【００４５】
なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。
【００４６】
より具体的には、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して０．１〜２重量部、好ましくは０．５〜５重量部用いられる。
【００４７】
ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００重量部に対して５重量部以下、好ましくは０．１〜３．０重量部使用される。
【００４８】
この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。
【００４９】
また、この場合、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【００５０】
これらのシランカップリング剤は通常ＥＶＡ１００重量部に対して０．００１〜１０重量部、好ましくは０．００１〜５重量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。
【００５１】
なお、本発明に係るＥＶＡ接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【００５２】
また、接着性改良の手段として、シート化されたＥＶＡ接着フィルム面へのコロナ放電処理、低温プラズマ処理、電子線照射、紫外光照射などの手段も有効である。
【００５３】
本発明に係るＥＶＡ接着用フィルムは、ＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。成膜に際してはブロッキング防止、ガラス基板との圧着時の脱気を容易にするためエンボスが付与される。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明のＰＤＰフィルタの実施の形態を示す断面図である。
【図２】本発明の電磁波シールド性フィルムの製造手順の一例を示す断面図である。
【図３】本発明の電磁波シールド性フィルムの実施の形態を示す平面図である。
【図４】従来の銅メッシュの製造手順を示す断面図である。
【符号の説明】
【００５５】
１  ガラス基板
２Ａ，２Ｂ，１５  接着層
１６  粘着剤層
１０  電磁波シールド性フィルム
１１  銅箔
１２  ＰＥＴフィルム
１３  黒化処理面
１４  非エッチング加工部
２０  ＰＤＰフィルタ
３０  ＰＤＰ本体
【図１】
2005079172.tif 000003
【図２】
2005079172.tif 000004
【図３】
2005079172.tif 000005
【図４】
2005079172.tif 000006