(57)【要約】【課題】  基板を処理液槽に浸漬して液処理する基板処理において、前記基板を確実に把持すると共に、液槽からの基板引き上げの際、把持部における液溜まりを抑制することができる把持具を備えた基板処理装置を提供する。【解決手段】  ガラス基板Ｂの端部を複数の把持具１８によって把持し、前記基板Ｂを処理液槽４に浸漬して液処理を行い、引き続き乾燥処理する基板処理装置１であって、前記把持具１８は、略円柱形状に形成されると共に、円周面に断面が逆三角形状の凹部１８ａが形成され、かつ前記凹部の底に円周に沿って溝部１８ｂが形成され、前記把持具１８の凹部１８ａにより基板Ｂを把持した状態で、前記基板Ｂを前記処理液槽４から引き上げた際、前記凹部１８ａにおける液体は前記溝部１８ｂを流れて下方に排出される。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の端部を複数の把持具によって把持し、前記基板を処理液槽に浸漬して液処理を行い、引き続き乾燥処理する基板処理装置であって、
前記把持具は略円柱形状に形成されると共に、その円周面に凹部が形成され、かつ前記凹部の底に円周に沿って溝部が形成され、
前記把持具の凹部により基板を把持した状態で、前記基板を前記処理液槽から引き上げた際、前記凹部における液体が前記溝部を流れて下方に排出されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記把持具の円周面に形成された凹部が、断面が略逆三角形状であることを特徴とする請求項１に記載された基板処理装置。
【請求項３】
前記把持具がポリエーテル・エーテル・ケトンにより形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載された基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の端部を複数の把持具によって把持し、前記基板を処理液槽に浸漬して液処理を行う基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶表示装置の製造工程において、透明電極基板、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｍｏｎｉｔｏｒ）製造用フォトマスク等のガラス基板（以下、総称して「ガラス基板」と呼ぶ）は、ガラス基板を把持具によって保持し、該ガラス基板を液体槽に浸漬することによって洗浄等を行い、これに引き続き乾燥処理を行っている。
この際、ガラス基板上の部位に液溜まりが生じないように、従来から前記ガラス基板を把持する把持具には、把持する部位周辺の液溜まりが少ない構造のものが要求されている。もし、ガラス基板上の部位に液溜まりが生じれば、当然のごとく乾燥処理に悪影響をもたらし、さらには、ガラス基板上のしみ（異物付着）等の原因となるからである。
【０００３】
このため、従来から、例えば図４に示す特許文献１に示されるようなプーリ（滑車）型の構造の把持具が多く用いられている。尚、図４（ａ）はガラス基板の保持治具の正面図、図４（ｂ）は図４（ａ）に示した把持具の断面図である。
図４（ａ）に示すように、この保持治具４０は、Ｌ字形状の保持フレーム４１と、保持フレーム４１に設けられた３つの把持具４２（Ｌ字型の長辺に２つ、短辺に１つ）とで構成されている。
【０００４】
そして、前記把持具４２の断面は、図４（ｂ）の断面図に示すように、プーリ（滑車）型の形状を有している。即ち、この把持具４２は円柱形状に形成され、その円周面には、断面が逆台形状となる凹部４２ａが形成されている。前記凹部４２ａはガラス基板Ｂの端部と係合するものであり、ガラス基板Ｂは、図４（ａ）に示すように、３つの把持具４２によって保持治具４０に保持される。
【０００５】
【特許文献１】特開昭６４−１９７２５号公報（第２３頁第６行乃至第２５頁第９行、第４図、第５図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、従来の保持治具４０の把持具４２は、図４（ｂ）に示すように、凹部４２ａの底部の幅がガラス基板Ｂの厚さと略等しい寸法である場合には、前記凹部４２ａの側壁とガラス基板Ｂの側面との間に微小な隙間ができ、ここに液溜まりが生じ、乾燥仕上がりの基板上にしみ等の汚れが付着する問題がある。
【０００７】
また、ガラス基板Ｂの厚さ寸法が、凹部４２ａの底部の幅よりも小さい（薄い）場合には、基板Ｂと把持具４２との係合が緩くなり、その結果、がたつきが生じ、確実に把持できない虞がある。
一方、ガラス基板Ｂの厚さ寸法が凹部４２ａの底部の幅よりも大きい（厚い）場合には、ガラス基板Ｂの端部と凹部４２ａの底部との間に隙間が生じる。この隙間が大きくなると、この隙間に液溜まりが生じる虞がある。
このように、図４（ｂ）に示す従来の把持具４２にあっては、様々な厚さ寸法のガラス基板に対して、液溜まりを抑制すると共に、がたつきなく確実に把持することができないという課題があった。
【０００８】
また、様々な厚さ寸法のガラス基板に対応する対応策として、図４（ｃ）に示すような、断面が逆三角形状の凹部４３ａが円周面に形成された把持具４３が考えられる。
この把持具４３を用いれば、凹部４３ａに収まる厚さ寸法のガラス基板であれば、がたつくことなく確実に基板を把持することができる。
しかしながら、厚さ寸法が小さい（薄い）ガラス基板を把持する場合、基板端部と凹部４３ａの底部との間に隙間が生じ、液体の表面張力により、この隙間に液溜まりが生じる虞がある。
このように、前記したいずれの把持具にあっても、ガラス基板の厚さ寸法によらず、液溜まりを抑制し、しかも基板を確実に把持するという要求を満足させるものではなかった。
【０００９】
本発明は、前記したような事情の下になされたものであり、基板を処理液槽に浸漬して液処理する基板処理において、前記基板を確実に把持すると共に、液槽からの基板引き上げの際、把持部における液溜まりを抑制することのできる把持具を備えた基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記した課題を解決するために、本発明に係る基板処理装置は、基板の端部を複数の把持具によって把持し、前記基板を処理液槽に浸漬して液処理を行い、引き続き乾燥処理する基板処理装置であって、前記把持具は略円柱形状に形成されると共に、その円周面に凹部が形成され、かつ前記凹部の底に円周に沿って溝部が形成され、前記把持具の凹部により基板を把持した状態で、前記基板を前記処理液槽から引き上げた際、前記凹部における液体が前記溝部を流れて下方に排出されることを特徴としている。
このように溝部を設けることによって、把持具周りにおける液溜まりを抑制することができる。
【００１１】
また、前記把持具の円周面に形成された凹部が、断面が略逆三角形状であることが好ましい。このように凹部の形状を形成することによって、基板の厚さ寸法に拘わらず、確実に基板を把持することができる。
【００１２】
また、前記把持具が、ポリエーテル・エーテル・ケトンにより形成されていることが望ましい。前記ポリエーテル・エーテル・ケトン（ＰＥＥＫ：登録商標）は、機械的特性に優れるため把持具に適し、また、適度な親水性を有するため、把持具周りの液体を自重により下方に流し易くすることができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、基板を処理液槽に浸漬して液処理を行い、引き続き乾燥処理する基板処理装置であって、前記基板を確実に把持すると共に、液槽からの基板引き上げの際、把持部における液溜まりを抑制することのできる把持具を備えた基板処理装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明にかかる実施の形態につき、図１乃至図３に基づいて説明する。
図１は、本発明に係る基板処理装置の正面図である。また、図２は、図１の基板処理装置が備える把持具の平面図であり、図３は、前記把持具の正面図である。
【００１５】
図１に示す基板処理装置１は、例えば、液晶表示素子に用いられる透明電極基板、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｍｏｎｉｔｏｒ）製造用フォトマスク等のガラス基板（以下、総称して「ガラス基板」と呼ぶ）Ｂを洗浄する装置である。この基板処理装置１は、被処理体であるガラス基板Ｂを保持する基板保持部２と、前記基板保持部２を昇降移動させる昇降装置３と、ガラス基板Ｂを浸漬する洗浄液（温水）Ｌを有する液槽４とで構成されている。
なお、液槽４は、図示しない搬送手段によって、処理液が異なる別の液槽と入れ換え可能に構成されている。即ち、洗浄液Ｌでガラス基板Ｂを洗浄した後の純水洗浄用の純水を溜めた液槽、および純水洗浄後の乾燥促進用の温水（約６０℃〜８０℃）を溜めた液槽と入れ換え可能に構成されている。
【００１６】
前記基板保持部２はＵ字型のフレーム１１と、このフレーム１１の上部両端に亘り架設されたレール１２と、このレール１２に沿って摺動可能に懸垂された２つの側部把持手段１３とで構成されている。
前記側部把持手段１３は、図示しない動作制御部からの制御によりレール１２に沿って摺動する摺動部１４と、摺動部１４の下方に伸びた懸垂軸１５と、懸垂軸１５の下端に設けられたアタッチメント１６とを具備している。
また、前記アタッチメント１６は、２つの把持具１８をフォーク部材１７を介して回転自在に保持している。なお、前記２つの側部把持手段１３は相対向して配置され、夫々の側部把持手段１３に設けられた把持具１８も相対向して設置されている。
【００１７】
また、前記フォーク部材１７はアタッチメント１６に一端が保持されると共に、水平方向に適度なクッション性を有している。これにより、アタッチメント１６の方向への荷重に対して衝撃を緩和するため、ガラス基板Ｂを保持具１８により保持する際の、ガラス基板Ｂの端部の損傷が防止される。
【００１８】
また、前記フレーム１１の下部には、上方に向けて３つの把持具１８が前記フォーク部材（図示せず）を介して設けられている。
また、前記昇降装置３は、液槽４の両脇に夫々設置された２本の支柱２１と、基板保持部２を昇降移動させる駆動軸２０とで構成されている。即ち、フレーム１１側にラックが形成され、駆動軸２０側にピニオンが形成され、前記駆動軸２０が回転することにより、フレーム１１が上下動（昇降移動）可能に形成されている。
図１においては、ガラス基板Ｂが洗浄液Ｌに浸漬する前の状態を示しているが、浸漬し洗浄を行った後、ガラス基板を引き上げ、この位置でエアーシャワーによる乾燥を行ってもよく、また前記保持具１８でガラス基板Ｂを保持したまま、図示しない別位置において乾燥処理を行ってもよい。
【００１９】
続いて、図２および図３を用いて、前記把持部１８について詳細に説明する。
この把持具１８は、図示するように、略円柱形状に形成されている。そして、その円周面には、断面が逆三角形状の凹部１８ａが形成されている。即ち、把持具１８はいわゆるプーリ型に形成されている。
更に、前記凹部１８ａの底には、円周に沿って溝部１８ｂが形成されている。この溝部１８ｂの幅および深さは、少なくとも処理液を、その自重によって下方に排出することができる寸法に形成されている。また、軸線方向には、前記フォーク部材１７に取り付けるための軸穴１８ｃが形成されている。
【００２０】
また、前記凹部１８ａには、側面１８ｄ、１８ｅが勾配をもって形成され、それらの交差角度はガラス基板Ｂの面取り角に合わせ、１２０度に形成されている。
このため把持具１８によってガラス基板Ｂが把持される際には、図示するように、ガラス基板Ｂの端部（上下エッジ部Ｂ１）が前記側面１８ｄ、１８ｅに接触する。このように、ガラス基板Ｂと把持具１８との接触面積が少なくなることで、処理液が基板全体に行き渡るように構成されている。
【００２１】
また、この把持具１８は、適度な親水性、耐熱性、機械的強度に優れた材質により形成され、特にポリエーテル・エーテル・ケトン（ＰＥＥＫ：登録商標）により形成されることが望ましい。
【００２２】
以上のように構成された基板処理装置１を用いてガラス基板Ｂの洗浄処理および乾燥処理を行う際には、次のように行なわれる。
先ず、搬送手段（図示せず）によりガラス基板Ｂが基板保持部２に搬送され、前記搬送手段に保持された状態のまま、フレーム１１に設けられた３つの把持具１８上に載置される。そして、直立したガラス基板Ｂの左右方向から夫々、側部把持手段１３によりガラス基板Ｂが挟み込まれ、ガラス基板Ｂの左右端部および下端部が各把持具１８によって把持された状態となる。この状態で、図示しない前記搬送手段はガラス基板Ｂと完全に引き離される。
【００２３】
次いで、昇降装置３により、ガラス基板Ｂを保持した基板保持部２が液槽４の中に降下移動される。そして液槽４の洗浄液Ｌにガラス基板Ｂが浸漬され、洗浄処理される。
所定時間経過後、昇降装置３により基板保持部２は液槽４の中から引き上げられる。その後、液槽４が取り替えられ、基板保持部２が昇降移動することにより、ガラス基板Ｂに対する純水洗浄および温水への浸漬処理が順次行なわれる。
なお、ガラス基板Ｂを温水の液槽から引き上げた際、ガラス基板Ｂの表面に付着した水分の多くは、水分の自重により、下方に切り捨てられると共に、下方に落ちない極微量の水分は、温水によって温度上昇したガラス基板Ｂの熱により蒸発する。このようにして、ガラス基板Ｂの洗浄処理および乾燥処理が行なわれる。
【００２４】
前記した洗浄処理における、把持具１８の液溜まりの抑制について更に説明する。
図２に示すように、ガラス基板Ｂと把持具１８との間に、間隙１８ｆが形成されている。凹部１８ａは逆三角形状であるため、ガラス基板Ｂの厚さ寸法が小さくなるほど、前記間隙１８ｆは小さくなり、液体の表面張力によって液溜まりが生じる。したがって、図４（ｃ）に示したように溝部１９ｂが形成されていない従来の把持具の場合には、ガラス基板にしみ等が生じる。
しかしながら、この把持具１８は、前記したように凹部１８ａの底に溝部１８ｂが形成され、また適度な親水性を有する材質（ポリエーテル・エーテル・ケトン）で形成されているため、この溝部１８ｂから間隙１８ｆの液残りが、その自重により下方に排出される。即ち、前記した把持具１８の構造および材質により、前記溝部１８ｂから処理液を排出することができる。なお、この把持具１８は逆三角形状の凹部１８ａを有しているため、ガラス基板Ｂの厚さ寸法に係わらず確実にガラス基板Ｂを把持できる。
【００２５】
以上のように本実施の形態にあっては、ガラス基板Ｂの端部を複数の把持具１８によって把持し、前記基板Ｂを処理液槽４に浸漬して引き上げる基板処理装置１において、前記把持具１８は、略円柱形状に形成されると共に、前記把持具１８の円周面に、逆三角形状に形成された凹部１８ａと、前記凹部１８ａの底に円周に沿って形成された溝部１８ｂとを有する構成とした。
また、前記把持具１８は、ＰＥＥＫ（登録商標）等の適度に親水性に優れた材質で形成され、前記溝部１８ｂの幅および深さは、少なくとも処理液を、その自重によって下方に排出することができる寸法に形成されている。
このため、ガラス基板Ｂの厚さ寸法に係わらず確実にガラス基板Ｂを把持できると共に、前記溝部１８ｂから処理液を排出することができる。
【００２６】
なお、前記した本実施の形態においては、本発明に係る基板処理装置を基板洗浄処理装置に適用したが、これに限定されず、基板に対する液体を用いた処理装置に適用することができる。また、前記した形態においては、被処理基板として透明電極基板（ガラス基板）を例としたが、これに限定されず、非透明の基板、または半導体ウエハであってもよい。
【産業上の利用可能性】
【００２７】
本発明は、液晶表示素子に用いる透明電極基板等、広く基板を液処理する基板処理装置に適用でき、半導体製造業界等において好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置の正面図である。
【図２】図２は、図１の基板処理装置が備える把持具の平面図である。
【図３】図３は、図１の基板処理装置が備える把持具の正面図である。
【図４】図４は、従来の把持具の断面図および前記把持具が用いられた基板保持治具の正面図である。
【符号の説明】
【００２９】
１      基板処理装置
２      基板保持部
３      昇降装置
４      液槽
１８      把持具
１８ａ    凹部
１８ｂ    溝部
Ｂ      ガラス基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
2005225577.tif 000005
【図４】
2005225577.tif 000006