(57)【要約】【課題】煩雑な作行を要せずに導管を適合させることのできるリトグラフ装置の提供。【解決手段】第１の排気装置ＧＥ１、および真空室２０内の構成部材と連通する導管２２を備えた真空室２０を有するリトグラフ装置が提供される。この装置は、真空室２０内に導管遮蔽体２４を有する。導管遮蔽体２４は、導管２２の少なくとも一部に対して導管経路２５を形成し、真空室２０を導管経路２５から遮蔽する。装置は、少なくとも導管遮蔽体２４を通るガス流路３２と、真空室２０の壁２１を貫通する別体排気用貫通接続子３０との間に延在する排気遮蔽体２９を更に含む。排気遮蔽体２９は、導管経路２５から真空室２０の外部領域への排気経路２８を形成し、真空室２０を排気経路２８から遮蔽する。【選択図】図２
2005184017.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射投影ビーム（ＰＢ）を投与するための照射系（ＩＬ）と、
前記放射投影ビームの断面にパターンを付与する機能を有するパターン付与手段を支持するための支持構造と（ＭＴ）、
基板（Ｗ）を保持するための基板テーブル（ＷＴ）と、
前記放射投影ビーム（ＰＢ）用の真空ビーム経路を作るための第１の排気装置（ＧＥ１）を具備する真空室（２０）と、
パターン付与されたビームを前記基板の標的部分（Ｃ）の上に投影するための投影系（ＰＬ）と、
前記真空室（２０）内の構成部材と連通する導管（２２）と、
前記導管（２２）の少なくとも一部に対して導管経路（２５）を形成し、前記真空室（２０）を前記導管経路（２５）から遮蔽する、前記真空室（２０）内の導管遮蔽体（２４）とを有するリトグラフ装置において、
前記導管遮蔽体（２４）を貫通するガス流路（３２）と、
前記真空室（２０）の壁（２１）を貫通する別体排気用貫通接続子（３０）と、
少なくとも前記ガス流路（３２）と前記別体排気用貫通接続子（３０）の間に延在し、前記導管経路（２５）から前記真空室（２０）の外部領域への排気経路（２８）を形成し、前記真空室（２０）を前記排気経路（２８）から遮蔽する排気遮蔽体（２９）とを更に含むことを特徴とするリトグラフ装置。
【請求項２】
前記真空室（２０）の壁（２１）を貫通する導管用貫通接続子（２３）を更に含み、前記導管遮蔽体（２４）が、前記導管用貫通接続子（２３）に対して間隔を置いて配置されている請求項１に記載された記載されたリトグラフ装置。
【請求項３】
前記第１の排気装置（ＧＥ１）が、前記排気遮蔽体（２９）に連結されている請求項１または請求項２に記載された記載されたリトグラフ装置。
【請求項４】
前記排気遮蔽体（２９）に連結された第２の排気装置（ＧＥ２）を更に含む請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載された記載されたリトグラフ装置。
【請求項５】
前記真空室（２０）内の構成部材と連通する第２の導管（４２）と、
前記第２の導管（４２）の少なくとも一部のための第２の導管経路（４５）を形成し、かつ、前記真空室（２０）を前記第２の導管経路（４５）から遮蔽する、前記真空室（２０）内の第２の導管遮蔽体（４４）と、
前記第２の導管遮蔽体（４４）を貫通する第２のガス流路（５２）とを更に含み、
前記排気遮蔽体（２９）が、さらに、前記第２のガス流路（５２）と前記別体排気用貫通接続子（３０）の間に延在し、かつ、前記第２の導管経路（４５）から前記真空室（２０）の外部領域への第２の排気経路（４８）を形成し、かつ前記真空室（２０）を前記第２の排気経路（４８）から遮蔽している請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載された記載されたリトグラフ装置。
【請求項６】
前記導管遮蔽体（２４）が、分岐導管経路（２５’）を形成する分岐した導管遮蔽体（２４’）を更に含み、前記分岐した導管経路（２５’）から前記真空室（２０）を遮蔽している請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載された記載されたリトグラフ装置。
【請求項７】
基板（Ｗ）を用意する段階と、
照射系（ＩＬ）を用いて放射線投影ビーム（ＰＢ）を供給する段階と、
真空室（２０）に真空を適用する段階と、
導管（２２）と前記真空室（２０）内の構成部材との間に連通を行なう段階と、
前記真空室（２０）内の導管遮蔽体（２４）を用いて、前記導管（２２）の少なくとも一部に対する導管経路（２５）から前記真空室（２０）を遮蔽する段階と、
パターン付与手段（ＭＡ）を用いて前記投影ビーム（ＰＢ）の断面にパターンを付与する段階と、
パターン付与された放射線ビームを、前記基板（Ｗ）の標的部分（Ｃ）に投影する段階とを含むデバイス製造方法において、
前記導管遮蔽体（２４）を貫通するガス流路（３２）と、前記真空室（２０）の壁（２１）を貫通する別体排気用貫通接続子（３０）との間に、少なくとも、延在する排気遮蔽体（２９）を用いて、前記導管経路（２５）から前記真空室（２０）の外部領域に延びる排気経路（２８）から前記真空室（２０）を遮蔽する段階を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【請求項８】
請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載された記載されたリトグラフ装置用の導管遮蔽体（２４、２４’；４４）。
【請求項９】
請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載されたリトグラフ装置用の排気遮蔽体（２９）。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、動力、水、制御信号およびガス等のユーティリティ（有用手段）を、ケーブル、ホースまたはパイプを通じて真空室内の構成部材に提供するための導管と共に用いられる装置に係わり、具体的に云うと、本発明は、以下の構成を有するリトグラフ装置に対する斯かる装置の付加に関するものである。
ここで云うリトグラフ装置は、
放射投影ビームを投与するための照射系と、
投影ビームの断面にパターンを付与する機能を有するパターン付与手段を支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
投影ビーム用の真空ビーム経路を作るための第１の排気装置を具備する真空室と、
パターン付与されたビームを基板の標的部分の上に投影するための投影系と、
真空室内の構成部材と連通する導管と、
導管の少なくとも一部に対して導管経路を形成し、真空室を導管経路から遮蔽する、真空室内の導管遮蔽体とを有する。
【背景技術】
【０００２】
リトグラフ装置は、基板の標的部分上に所望パターンを投与する機械である。リトグラフ装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造に用いることができる。その場合、マスク等のパターン付与手段を用いてＩＣの個々の層に相当する回路パターンを作ることができ、このパターンが、放射線感受性材料層（レジスト層）を有する基板（例えば、シリコン・ウェーハ）上の標的部分（例えば、１つまたは複数のダイ部分を含む）に画像として投与される。一般に、順次露光される、互いに隣接する複数の標的部分から成るネットワークを、単一の基板が含む。周知のリトグラフ装置は、パターン全体を標的部分の上に１回で露光することによって各標的部分を照射する、いわゆるステッパと、投影ビームによって所与方向（走査方向）でパターンを走査し、それと同時にこの方向に対して平行または逆平行に、同期して基板を走査することによって各標的部分を照射する、いわゆるスキャナとを含む。
【０００３】
本明細書では、リトグラフ装置をＩＣの製造に用いることについて特に言及するだろうが、本明細書で説明するリトグラフ装置は、集積光学系、磁区メモリ用の誘導および検出パターン、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造のような、その他の用途にも適用されることを理解すべきである。かかる別の用途に関する文脈では、本明細書中の「ウェーハ」または「ダイ」という用語を使用する場合、それぞれ、「基板」または「標的部分」という一般的な用語と同義であると考えてよいことが、当業者には判るだろう。本明細書で言及する基板は、露光前または露光後に、例えば、トラック（典型的には、基板にレジスト層を塗布し、露光されたレジストを現像する手段）または計測手段または検査手段で処理されるだろう。適用可能であれば、本明細書の開示を斯かる手段や、その他の基板処理手段に適用可能である。また、例えば多層ＩＣを作成するために、基板を複数回処理することもできる。したがって、本明細書で使用する基板という用語は、処理された多段層を既に含む基板を指すこともできる。
【０００４】
本明細書で使用する「放射線」および「ビーム」という用語は、（例えば３６５、２４８、１９３、１５７または１２６ｎｍの波長を有する）紫外線（ＵＶ）放射、および（例えば５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する）超紫外線（ＥＵＶ）放射を含むあらゆる種類の電磁放射線、および、イオン・ビームや電子ビーム等の粒子ビームを包含する。
【０００５】
本明細書で使用する「パターン付与手段」という用語は、例えば、基板の標的部分にパターンを形成する等、投影ビームの断面にパターンを付与するために用いることのできる手段を指すものとして広く解釈すべきである。投影ビームに与えられるパターンは、基板の標的部分における所望パターンと正確には一致しない可能性のあることに留意すべきである。一般に、投影ビームに与えられるパターンは、集積回路など標的部分に形成されるデバイスの特定の機能層に対応する。
【０００６】
パターン付与手段は、透過式でも反射式でもよい。パターン付与手段には、例えば、マスク、プログラム可能な一連のミラーおよびプログラム可能なＬＣＤパネルが含まれる。マスクは、リトグラフ技術分野において周知であり、それにはバイナリ式、オルタネート（レベンソン）型位相シフト式およびハーフトーン型位相シフト式等のマスク種、および、各種のハイブリッド型のマスク種が含まれる。プログラム可能な一連のミラー（ミラー・アレイ）の一例は、マトリクス状に配列された小ミラーを用いたものであり、入射する放射線を異なる方向に反射するように、各ミラーを個別に傾斜させることができる。このようにして、反射ビームがパターン化される。パターン付与手段の各例では、支持構造が、例えば、フレームまたはテーブルであってよく、これらは、必要に応じて固定式または移動式にすることができ、また、パターン付与手段が、例えば投影系に対して、所望位置にあることを保証することができる。本明細書中の「レチクル」または「マスク」という用語の使用は、いずれも、「パターン付与手段」という一般的な用語と同義であると考えてよい。
【０００７】
本明細書で使用する用語「投影系」は、適宜、例えば使用すべき露光放射線、または、浸漬液の使用や真空の使用等のその他のファクターに適する各種投影系（屈折光学系、反射光学系および反射屈折光学系を含む）を包含するものとして広く解釈すべきである。本明細書中で使用される用語「レンズ」は、「投影系」という一般的な用語と同義であると考えてよい。
【０００８】
照射系も、各種光学構成部品（放射線投影ビームの方向づけ、整形または制御のための、屈折式、反射式および反射屈折式の光学構成部品を含む）を包含することができ、以下、かかる光学構成部品も一括して、または、単独で、「レンズ」と呼ぶことができる。
【０００９】
リトグラフ装置は、２つ（デュアル・ステージ）または３つ以上の基板テーブル（および／または２つ以上のマスク・テーブル）を有する種類のものでもよい。斯かる「マルチ・ステージ」機械では、追加のテーブルを並行して用いてもよく、或いはまた、１つまたは複数のテーブル上で準備段階を実行し、一方、１つまたは複数の別のテーブルを露光に用いてもよい。
【００１０】
リトグラフ装置は、投影系の最後の構成部品と基板の間の空間を満たすように、比較的高い屈折率を有する液体（例えば、水）に基板を浸す種類のものであってもよい。リトグラフ装置の別の空間（例えば、マスクと、投影系の第１構成部品との間）に、浸漬液を配置してもよい。投影系の開口数を高めるための浸漬技術は、当該技術分野において周知である。
【００１１】
リトグラフ装置では、基板に投与できる画像（features）のサイズは、投影放射線の波長によって制限される。デバイス密度が高く、したがって動作速度の速い集積回路を製造するためには、投与できる画像が小さいほどよい。現在のリトグラフ投影装置の大半は、水銀ランプまたはエキシマ・レーザで発生させた紫外光を用いているが、さらに短波長である約１３ｎｍの放射線の使用が提案されている。斯かる放射線は、極紫外線（ＥＵＶ）または軟Ｘ線と呼ばれ、可能な放射線源には、レーザ生成プラズマ源、放電プラズマ源、または電子蓄積リングによるシンクロトロン放射線が含まれる。
【００１２】
提案されているその他の放射線の種類としては、電子ビームおよびイオン・ビームが含まれる。この種のビームは、ビームの吸収および／または散乱を防ぐために、マスク、基板および光学部品を含むビーム経路を高真空に保つという必要条件をＥＵＶと共有している。さらに、ＥＵＶ放射線用の光学部品は、その表面に炭素層が堆積することによって汚染される可能性があり、そのため、一般に炭化水素の分圧を可及的に低く維持すべきであるという追加の必要条件が課される。
【００１３】
高真空中での動作は、真空中に置かなければならない光学部品に極めて厄介な条件を課す。真空室内部の構成部材には、汚染物質および全てのガス放出（すなわち、材料自体からのガス放出、および、その表面に吸着されたガスに起因するガス放出の両者）を最小限に抑えるか、または、除去する材料を使用すべきである。導管は、十分な可撓性を有するプラスチック材料で形成される可能がある。このような種類の材料は、前記汚染物質のガス放出が生じるため、真空室内の真空に対して有害であることが多い。真空用として好適なプラスチック（例えば、テフロン（登録商標））もあるが、真空中を通す必要のある多数のケーブルおよび線が、汚染物質のガス放出に対して大きな表面積を与える。さらに、導管の漏れという危険性により、前記材料の使用を非実用的にする。導管の使用を減らすことができれば、非常に望ましいであろう。しかしながら、基板、マスクおよび移動ステージの通常の構造は極めて複雑で、多数のセンサおよび駆動装置を用いており、これらの全てが、水およびガスを搬送するために、および、電気配線を保護するために、多数の導管を必要とする。
【００１４】
リトグラフ装置の真空室内部における、導管によるガス放出に関する前記周知の問題を回避する手段は、欧州特許公報第１２１１５６２号によって知ることができる。この従来技術を示す文献書からは、投影ビーム用の真空ビーム経路を生成するための第１の排気装置を具備する真空室を含むリトグラフ装置について知ることができる。この公知装置は、導管を収容する空間から真空室を遮蔽するための導管遮蔽体、および、前記空間に真空を形成するための第２の排気装置を更に有する。導管遮蔽体は、その内部に収容される導管と共に真空室の壁を貫通して延在している。かくして、導管のガス放出による汚染物質の大部分を、これら汚染物質が真空室の高真空部分に到達する前に前記空間から排出することができる。このようにして、リトグラフ装置の真空室内部にある導管のガス放出に関する問題が回避される。
【００１５】
欧州特許第１２１１５６２号から知ることのできる装置の欠点は、導管の数、種類および経路の適合化が極めて煩雑なことである。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１６】
本発明の目的は、煩雑な作業を必要とせずに導管を適合させることのできるリトグラフ装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明の第１の観点によれば、以下のリトグラフ装置が提供される。
放射投影ビームを投与するための照射系と、
放射投影ビームの断面にパターンを付与する機能を有するパターン付与手段を支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
放射投影ビーム用の真空ビーム経路を作るための第１の排気装置を具備する真空室と、
パターン付与されたビームを基板の標的部分の上に投影するための投影系と、真空室内の構成部材と連通する導管と、
導管の少なくとも一部に対して導管経路を形成し、真空室を導管経路から遮蔽する、真空室内の導管遮蔽体と
を有するリトグラフ装置において、
導管遮蔽体を貫通するガス流路と、
真空室の壁を貫通する別体排気用貫通接続子と、
少なくともガス流路と別体排気用貫通接続子の間に延在し、導管経路から真空室の外部領域への排気経路を形成し、真空室を排気経路から遮蔽する排気遮蔽体とを更に含むことを特徴とするリトグラフ装置。
【００１８】
斯かるリトグラフ装置では、導管の数、種類および経路を適合させなければならない場合でも、排気遮蔽体および別体排気用貫通接続子について適合させる必要がないため、煩雑な作業なしに導管を適合させることができる。例えば、異なる種類の導管を追加し、また、取り除くために、通常リトグラフ装置の真空室の壁の異なる位置で既に利用可能な、特別な導管用貫通接続子を用いるだけでよい。
【００１９】
本発明の一実施形態によれば、真空室の壁を貫通する導管用貫通接続子をさらに有し、導管用貫通接続子に対して間隔を置いて導管遮蔽体が配置されたリトグラフ装置が提供される。すなわち、導管用貫通接続子と導管遮蔽体の間に空間が存在する。本発明による本実施形態の利点は、例えばオペレータその他による作業などの場合に、真空導管用貫通接続子のアクセス可能性がさらに改善されることである。特に、導管遮蔽体と導管用貫通接続子の間の空間により、真空室内部から導管用貫通接続子にアクセスすることができ、作業者のアクセス可能性が向上する。
【００２０】
本発明の別の実施形態によれば、第１の排気装置が排気遮蔽体に連結されたリトグラフ装置が提供される。それによって、第１の排気装置は、真空室内に真空ビーム経路を作るだけでなく、導管経路に真空を適用することもできる。本発明による本実施形態の利点は、導管経路に真空を適用するために追加の排気装置を設ける必要のないことである。
【００２１】
本発明のその他の実施形態によれば、排気遮蔽体に連結された第２の排気装置を更に含むリトグラフ装置が提供される。その場合、第２の排気装置は、導管経路に真空を適用することができる。本発明による本実施形態の利点は、第２の排気装置を独立して制御できるため、導管経路の真空を独立して制御できることである。
【００２２】
本発明のさらに別の実施形態によれば、以下のリトグラフ装置が提供される。
真空室内の構成部材と連通する第２の導管と、
第２の導管の少なくとも一部のための第２の導管経路を形成し、かつ、真空室を第２の導管経路から遮蔽する、真空室内の第２の導管遮蔽体と、第２の導管遮蔽体を貫通する第２のガス流路とを更に含み、
排気遮蔽体が、さらに、第２のガス流路と別体排気用貫通接続子の間に延在し、かつ、第２の導管経路から真空室の外部領域への第２の排気経路を形成し、かつ真空室を第２の排気経路から遮蔽しているリトグラフ装置。
【００２３】
本発明による本実施形態の利点は、第２の導管遮蔽体のために追加の排気遮蔽体、および、真空室の壁を貫通する追加の別体排気用貫通接続子を設ける必要のないことである。別の利点は、第１の排気経路と第２の排気経路が一部重複することから得られる相互作用の故に、導管経路と第２の導管経路の両方に真空を適用するために要する総排気容量が、排気遮蔽体を追加する場合よりも少ないことである。
【００２４】
本発明によるその他の実施形態によれば、導管遮蔽体が、分岐導管経路を形成する分岐した導管遮蔽体を更に含み、分岐した導管経路から真空室を遮蔽しているリトグラフ装置が提供される。本発明のこの実施例の利点は、１つまた複数の導管により、真空室内の異なる位置にユーティリティを提供できることである。
【００２５】
本発明の別の観点によれば、
基板を用意する段階と、
照射系を用いて放射線投影ビームを供給する段階と、
真空室に真空を適用する段階と、導管と真空室内の構成部材との間に連通を行なう段階と、
真空室内の導管遮蔽体を用いて、導管の少なくとも一部に対する導管経路から真空室を遮蔽する段階と、
パターン付与手段を用いて前記投影ビームの断面にパターンを付与する段階と、パターン付与された放射線ビームを、基板の標的部分に投影する段階とを含むデバイス製造方法において、導管遮蔽体を貫通するガス流路と、真空室の壁を貫通する別体排気用貫通接続子との間に、少なくとも、延在する排気遮蔽体を用いて、導管経路から真空室の外部領域に延びる排気経路から真空室を遮蔽する段階
を含むことを特徴とするデバイス製造方法。
【００２６】
以下、添付の模式図を見ながら、単なる例示としての本発明の実施例について説明する。図中、同じ符号は同じ部材を示す。
【実施例】
【００２７】
まず、図１を見ると、本発明の一具体例によるリトグラフ装置が模式的に示されている。
このリトグラフ装置は、
放射線投影ビーム（例えば、ＵＶまたはＥＵＶ放射）ＰＢを供給するための照射系（照明器）ＩＬと、
パターン付与手段（例えば、マスク）ＭＡを支持するための第１の支持構造（例えば、マスク・テーブル）ＭＴであって、部材ＰＬに対してパターン付与手段を正確に位置決めするための第１の位置決め手段ＰＭに接続された第１の支持構造ＭＴと、
基板（例えば、レジストが塗布されたウェーハ）Ｗを保持するための基板テーブル（例えば、ウェーハ・テーブル）ＷＴであって、部材ＰＬに対して基板を正確に位置決めするための第２の位置決め手段ＰＷに接続された基板テーブルＷＴと、
パターン付与手段ＭＡによって投影ビームＰＢに与えられたパターンを、基板Ｗの（例えば、１つまたは複数のダイを含む）標的部分Ｃの上に結像させるための投影系（例えば、反射投影レンズ）ＰＬとを有す。
【００２８】
本明細書で図示する装置は、（例えば、反射性マスク、または先に言及したタイプのプログラム可能な一連のミラーを使用した）反射タイプのものである。或いは、（例えば、透過性マスクを使用した）透過タイプのものであってもよい。
【００２９】
照明器ＩＬは放射線源ＳＯから放射線ビームを受け取る。例えば放射線源がプラズマ放電源である場合、放射線源とリトグラフ装置は、別体構成部材であってよい。その場合、放射線源がリトグラフ装置の一部を形成するとは考えられず、放射線ビームは一般に、例えば適切な集光ミラーおよび／またはスペクトル純度フィルタ（ｓｐｅｃｔｒａｌ  ｐｕｒｉｔｙ  ｆｉｌｔｅｒ）を有する放射線収集装置を用いて、放射線源ＳＯから照明器ＩＬへ伝えられる。他の場合、例えば放射線源が水銀ランプである場合には、放射線源を装置の一部とすることができる。放射線源ＳＯおよび照明器ＩＬを放射線系と呼ぶことがある。
【００３０】
照明器ＩＬは、ビームの角強度分布を調整するための調整手段を有していてもよい。一般に、照明器の瞳面内における強度分布のうち、少なくとも外側および／または内側の半径方向範囲（通常、それぞれ外側σ、内側σと呼ばれる）を調整することができる。照明器は、投影ビームＰＢと呼ばれ、その断面内に所望の均一性および強度分布を有する調節された放射線ビームを提供する。
【００３１】
投影ビームＰＢは、マスク・テーブルＭＴ上に保持されているマスクＭＡに入射する。マスクＭＡに反射された投影ビームＰＢは、ビームを基板Ｗの標的部分Ｃの上に収束させるレンズＰＬを通過する。第２の位置決め手段ＰＷおよび位置センサＩＦ２（例えば、干渉測定装置）を用いて、基板テーブルＷＴを、例えば異なる標的部分ＣをビームＰＢの経路内に位置決めするように、正確に移動させることができる。同様に、第１の位置決め手段ＰＭおよび位置センサＩＦ１を用いて、例えばマスク・ライブラリから機械的に取り出した後、または走査中に、マスクＭＡをビームＰＢの経路に対して正確に位置決めすることができる。一般に、対象物テーブルＭＴおよびＷＴの移動は、位置決め手段ＰＭおよびＰＷの一部を形成する長ストローク・モジュール（粗い位置決め）および短ストローク・モジュール（細かい位置決め）を用いて実現される。しかし（スキャナではなく）ステッパの場合には、マスク・テーブルＭＴを短ストローク・アクチュエータに接続するだけでもよいし、または固定してもよい。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスク位置合わせマークＭ１、Ｍ２、および基板位置合わせマークＰ１、Ｐ２を用いて位置を調整することができる。
【００３２】
図示装置は、以下の好適モードで使用することができる。
（１）ステップ・モードでは、投影ビームに与えられたパターン全体を１回で標的部分Ｃの上に投影する（すなわち、ただ１回の静止露光の）間、マスク・テーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴを本質的に静止した状態に保つ。次いで、異なる標的部分Ｃを露光することができるように、基板テーブルＷＴをＸおよび／またはＹ方向に移動させる。ステップ・モードでは、露光フィールドの最大サイズによって１回の静止露光で結像される標的部分Ｃのサイズが制限される。
（２）走査モードでは、投影ビームに与えられたパターンを標的部分Ｃの上に投影する（すなわち、ただ１回の動的露光の）間、マスク・テーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴを同期して走査する。マスク・テーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、投影系ＰＬの拡大（縮小）率、および像の反転特性によって決まる。走査モードでは、露光フィールドの最大サイズによって１回の動的露光における標的部分の（非走査方向の）幅が制限され、走査移動の長さによって標的部分の（走査方向の）高さが決定される。
（３）他のモードでは、投影ビームに与えられたパターンを標的部分Ｃの上に投影する間、プログラム可能なパターン付与手段を保持しながらマスク・テーブルＭＴを本質的に静止した状態に保ち、基板テーブルＷＴの移動または走査を行う。このモードでは、一般にパルス式の放射線源が使用され、基板テーブルＷＴが移動するたびに、または走査中の連続する放射線パルスの合間に、プログラム可能なパターン付与手段が必要に応じて更新される。この動作モードは、先に言及したタイプのプログラム可能な一連のミラーなど、プログラム可能なパターン付与手段を利用するマスクレス・リトグラフに簡単に適用することができる。
【００３３】
前記使用モードの組合せおよび／または変形形態、或いは全く異なる使用モードを採用することもできる。
【００３４】
本発明によるリトグラフ投影装置の各系は、壁２１で閉ざされた真空室２０内に設けられる。真空室２０内の真空は、第１の排気装置ＧＥ１、例えばポンプを用いて生じさせることができる。
【００３５】
位置合わせセンサ、様々な真空シールを有する空気軸受、位置決めモータおよびアクチュエータなど、動力、制御信号、ガスなどのユーティリティを必要とし、測定信号や他の制御信号などのユーティリティを供給する多くの装置は、第１の支持構造ＭＴまたは基板テーブルＷＴと関連付けられる。これらのユーティリティは、例えばホース、パイプ、電気ケーブルなどの導管によって供給される。
【００３６】
真空環境では、プラスチックやエラストマーのような材料は、絶えずガス放出を発生させ、ねじ継手のような構造体の中空部分は、主に水および炭化水素のガスの放出により、ガスの負荷が増す傾向にある。
【００３７】
真空の歪みを低減化するために、第１の支持構造ＭＴまたは基板テーブルＷＴにユーティリティを提供する導管を、導管遮蔽体によって真空室２０の他の要素から遮蔽する。これは真空室２０内に曝される炭化水素量を減らして、真空の要求条件を満たすことを支援し、また導管によって放出されたガスが遮蔽された空間内に留まり、主要部の真空に影響を及ぼさないため、冷却剤ラインが破断した場合の危険を低減化することにも役立つ。
【００３８】
次に図２を参照する。先に言及したように、リトグラフ装置は壁２１を有する真空室２０を備えている。真空室２０は、投影ビーム用の真空ビーム経路を生成するための第１の排気装置ＧＥ１を備えている。このリトグラフ装置は、真空室２０内部の構成部材に連通する導管２２をさらに有する。導管２２は、例えば電力、水、制御信号、ガスなどのユーティリティを構成部材に提供することができる。真空室２０内部の導管遮蔽体２４は、導管２２の少なくとも一部に対して導管経路２５を形成し、真空室２０をその導管経路２５から遮蔽している。
【００３９】
壁２１を貫通する導管用貫通接続子２３が存在しており、導管２２はこの貫通接続子を介して壁２１を貫通して延びている。貫通接続子２３は、真空気密性の貫通接続子であることが好ましい。この導管用貫通接続子２３を、導管２２と他の導管（図示せず）で同時に共有可能であることに留意されたい。また、導管経路２５を導管２２と他の導管で同時に共有することもできる。さらに、例えば導管２２が壁２１を貫通して延びていないときには、壁２１を貫通する導管用貫通接続子２３はなくてもよいことに留意されたい。これは、導管２２が真空室内の構成部材と真空室２０外部の対象物の間を連通させるのではなく、真空室２０内部の異なる構成部材同士の間を連通させるように働く場合に可能である。
【００４０】
装置は、導管遮蔽体２４を通るガス流路３２、および壁２１を貫通する別体排気用貫通接続子３０をさらに有する。この別体排気用貫通接続子３０は、導管用貫通接続子２３から分離されており、導管用貫通接続子２３が存在してもしなくても、導管２２が壁２１を貫通する別体排気用貫通接続子３０を介して延びることはない。排気遮蔽体２９は、少なくともガス流路３２と別体排気用貫通接続子３０の間に延在している。排気遮蔽体２９は、導管経路２５から真空室２０外部の領域への排気経路２８を形成し、真空室２０をその排気経路２８から遮蔽している。
【００４１】
図２の実施例では、導管遮蔽体２４は管の形をしている。主要部の真空に影響を及ぼさないために、導管遮蔽体２４は清浄でガス放出を発生させない表面を有することが好ましい。管２４の一端２４１は、導管２２が導管用貫通接続子２３を介して管２４のこの末端２４１を通って延びるように、壁２１に固く接続されている。管２４は他方の末端２４２で、真空室２０内で自由な状態で終っている。管２４を貫通する貫通接続子３１を除き、管２４のもう一方の末端２４２は閉じている。この貫通接続子３１を介して、導管２２および任意選択の他の導管を導管経路２５から真空室２０へ導入し、そこで導管２２を、例えば基板テーブルＷＴまたはその他のものなど、リトグラフ装置の構成部材（図２には示さず）に接続することができる。
【００４２】
図２の実施例では、排気遮蔽体２９は、導管経路２５に真空を適用する第２の排気装置ＧＥ２に接続されている。たとえそれを通って導管２２が導管経路２５から真空室２０内に通じている貫通接続子３１が、真空密閉性の貫通接続子ではなくても、ガス流路３２を通る排気の流れは、貫通接続子３１を通るガス漏れの流れより有力であることができるため、真空室２０に対する導管２２のガス放出の負荷を限定的なものにとどめることができる。第２の排気装置ＧＥ２を適切に制御することにより、ガス流路３２を通る排気の流れの強さをさらに高めることができる。真空気密性ではない貫通接続子３１の利点は、そうした貫通接続子３１によって導管２２を自由に移動させ得ることである。
【００４３】
次に図３を見ると、本発明によるリトグラフ装置の真空系の第２の実施例の一例が概略的に示してある。この実施例では、第１の排気装置ＧＥ１は排気遮蔽体２９に連結されている。このようにすると、第１の排気装置ＧＥ１は、真空室２０内に真空ビーム経路を生成するだけでなく、導管経路２５に真空を適用することもできるようになる。
【００４４】
次に図４を見ると、本発明によるリトグラフ装置の真空系の第３の実施例の一例が概略的に示してある。この実施例では、導管遮蔽体２４は、側壁２１内の導管用貫通接続子２３から間隔をあけて配置されている。これは、図２および３の実施例と異なり、導管経路２５は壁２１と機械的に接触しておらず、管２４と壁２１の間にスペースが存在することを意味している。この実施例では、管２４は末端２４１で、真空室２０内において自由に終端している。管２４を貫通する第２の貫通接続子３３を除き、管２４の末端２４１は閉じている。第２の貫通接続子３３は、管２４のもう一方の末端２４２を貫通する貫通接続子３１と類似したタイプのものである。この第２の貫通接続子３３を介して、導管２２および任意選択の他の導管を真空室２０から管２４へ導入する。
【００４５】
次に図５を見ると、本発明によるリトグラフ装置の真空系の第４の実施例の一例が概略的に示されている。図５の実施例では、第２の排気装置ＧＥ２は、真空室２０内部のガス流路３２、またはそれに近い位置で排気遮蔽体２９に連結されている。それによって第２の排気装置ＧＥ２が導管経路２５の近くに位置するようになるため、導管経路２５からガスを排気する効率がさらに改善される。この実施例で用いる第２の排気装置ＧＥ２の適切な例は、例えば真空環境で動作可能なクライオポンプ（ｃｒｙｏｐｕｍｐ）である。
【００４６】
図４の第３実施例も、図５の第４実施例も、図３の第２実施例で記載したように、第１の排気装置ＧＥ１を任意選択で排気遮蔽体２９に連結してもよいことに留意すべきである。
【００４７】
次に図６を見ると、本発明によるリトグラフ装置の真空系の第５の実施例の一例が概略的に示してある。示したリトグラフ装置は、真空室２０内の構成部材と連通する第２の導管４２、および真空室２０内部の第２の導管遮蔽体４４をさらに有する。第２の導管遮蔽体４４は、第２の導管４２の少なくとも一部に対して第２の導管経路４５を形成し、真空室２０をその第２の導管経路４５から遮蔽している。第２の導管遮蔽体４４を通り、第２のガス流路５２が存在している。排気遮蔽体２９は、さらに第２のガス流路５２と別体排気用貫通接続子３０の間を延び、さらに第２の導管経路４５から真空室外部の領域への第２の排気経路４８を形成し、さらに真空室２０をその第２の排気経路４８から遮蔽している。
【００４８】
図６の実施例では、排気遮蔽体は、２つの導管経路に対して排気経路を形成している。しかしさらに、排気遮蔽体が同様の形で３つ以上の導管経路に対して排気経路を形成することも可能である。
【００４９】
次に図７を見ると、本発明によるリトグラフ装置の真空系の第６の実施例の一例が概略的に示してある。この実施例では、導管遮蔽体２４は、分岐した導管経路２５’を形成し、真空室２０をその分岐した導管経路２５’から遮蔽する分岐した導管遮蔽体２４’をさらに有する。分岐した導管遮蔽体２４’は管の形をしており、管２４’の自由な末端２４３には貫通接続子３４が存在し、この貫通接続子３４は、管２４の貫通接続子３１および３３に類似している。分岐した導管遮蔽体２４’は導管２２’を含み、この導管２２’は、例えば導管２２の分岐とすることができるが、他の導管とすることもできる。最後に言及したケースでは、導管２２’が、例えば真空室２０の外部から、貫通接続子２３、３３および３４を続けて通り、真空室２０内の第２の構成部材に通じるようにすることができる。他の実施例のように、導管２２’が、真空室２０内の第１の構成部材から、貫通接続子３１および３４を続けて通り、真空室２０内の第２の構成部材に通じるようにすることもできる。
【００５０】
図７の実施例では、導管遮蔽体は、分岐した導管経路を形成し、真空室をその分岐した導管経路から遮蔽する、分岐した導管遮蔽体を１つ有する。しかしさらに、導管遮蔽体が同様の形で２つ以上の分岐した導管遮蔽体を有し、こうした分岐した導管遮蔽体が次の分岐導管遮蔽体を有することも可能である。
【００５１】
以上、本発明の具体例について説明したが、本発明は記載したものとは別の方法で実施することが可能であることが理解されよう。例えば、前記実施例で記載し、異なる図によって示した異なる装置を、多くの様々な方法で互いに組み合わせることが可能である。例えば、排気遮蔽体が２つ（または３つ以上）の導管経路に対して排気経路を形成し、各導管経路が任意選択で異なる（次の）分岐を有する、図６、図７に示した実施例を組み合せることが可能である。本発明によってこうした組合せが可能になることにより、リトグラフ装置における導管の数、タイプおよび経路の適合性の改善にさらに寄与する。上記説明は本発明を限定するものではない。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】本発明の一実施例によるリトグラフ装置を示す。
【図２】本発明によるリトグラフ装置における真空系の第１実施例の一例を概略的に示す。
【図３】本発明によるリトグラフ装置における真空系の第２実施例の一例を概略的に示す。
【図４】本発明によるリトグラフ装置における真空系の第３実施例の一例を概略的に示す。
【図５】本発明によるリトグラフ装置における真空系の第４実施例の一例を概略的に示す。
【図６】本発明によるリトグラフ装置における真空系の第５実施例の一例を概略的に示す。
【図７】本発明によるリトグラフ装置における真空系の第６実施例の一例を概略的に示す。
【符号の説明】
【００５３】
Ｃ  標的部分
ＧＥ１、ＧＥ２  排気装置
ＩＦ１、ＩＦ２  位置センサ
ＩＬ  照明器
ＭＡ  パターン付与手段、マスク
ＭＴ  支持構造、マスク・テーブル、対象物テーブル
Ｍ１、Ｍ２  マスク位置合わせマーク
ＰＢ  投影ビーム
ＰＬ  投影系、レンズ
ＰＭ、ＰＷ  位置決め手段
Ｐ１、Ｐ２  基板位置合わせマーク
ＳＯ  放射線源
Ｗ  基板
ＷＴ  基板テーブル、対象物テーブル
２０  真空室
２１  壁
２２、２２’、４２  導管
２４１、２４２、２４３  末端
２３  導管用貫通接続子
２４、２４’、４４  導管遮蔽体
２５、２５’、４５  導管経路
２８、４８  排気経路
２９  排気遮蔽体
３０  別体排気用貫通接続子
３１、３３、３４  貫通接続子
３２、５２  ガス流路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【外国語明細書】
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