(57)【要約】【課題】  基板の倒れ防止を工夫することにより、基板の汚染を防止しつつ、加工及び組み立てが容易にできる。【解決手段】  基板Ｗが基板保持装置１に渡された時点で、気体噴射部２９から基板Ｗの両面に向けて気体が噴射されるので、基板Ｗが気体のクッションのようなもので保持されることになる。したがって、気体噴射部２９に接触しない状態で保持されることになる。その結果、基板Ｗの倒れを非接触で防止することができる。よって、パーティクルが発生することを防止できるので、基板Ｗの汚染を防止することができる。また、従来例のようにガイド溝ではなく気体噴射部２９によって基板Ｗの倒れを規制するので、ガイド溝に起因する加工や組み立てにおける制約をなくすことができる。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の下縁を保持する保持部と、この保持部を挟む位置に倒れ防止部とを備え、基板を起立姿勢に保持する基板保持装置において、
前記倒れ防止部は、基板の表裏両面に向けて気体を噴射する気体噴射部を備えていることを特徴とする基板保持装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板保持装置において、
前記気体噴射部は、気体を噴射する複数個のノズルを備えていることを特徴とする基板保持装置。
【請求項３】
請求項２に記載の基板保持装置において、
前記複数個のノズルは、基板の外形に沿って配置され、かつ基板の外縁から基板の中心側に入り込んだ位置にわたって配置されていることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の基板保持装置において、
前記保持部は、基板の端縁に当接して基板を一定方向に回転させる回転ローラを備え、
前記回転ローラは、基板の端縁における所定位置にて回転が停止することを特徴とする基板保持装置。
【請求項５】
請求項４に記載の基板保持装置において、
前記保持部は、基板の端縁に向けて気体を噴射する端縁気体噴射部を備えていることを特徴とする基板保持装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板（以下、単に基板と称する）等の基板を保持する基板保持装置に係り、特に、基板の下縁を保持する保持部と、この保持部を挟む位置に設けられた倒れ防止部とを備えた基板保持装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、この種の装置として、基板の下縁に当接して基板を保持する保持部と、この保持部を挟む基板の側縁位置の二カ所に倒れ防止部とを備え、保持部で基板を起立姿勢に支えるとともに、二カ所の倒れ防止部により基板の倒れを防止する基板保持装置が挙げられる（例えば、特許文献１参照）。この装置では、保持部がローラを備え、倒れ防止部が基板の厚みよりも幅広のガイド溝を備えており、ローラの回転により基板が起立姿勢を崩しても、基板が倒れ防止部のガイド溝に案内されて基板の起立姿勢が保たれるようになっている。
【特許文献１】特開平１０−４１３３号公報（図１、図３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
【０００４】
すなわち、従来の装置は、倒れ防止部のガイド溝に基板の表裏両面や端縁が当接するので、この部分からパーティクルが発生し、基板が汚染されるという問題がある。また、倒れ防止部における溝の精度が基板の倒れ量に直結するので、加工及び組み立てにおける制約が多くなるという問題もある。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、基板の倒れ防止を工夫することにより、基板の汚染を防止しつつ、加工及び組み立てが容易にできる基板保持装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
【０００７】
すなわち、請求項1に記載の発明は、基板の下縁を保持する保持部と、この保持部を挟む位置に倒れ防止部とを備え、基板を起立姿勢に保持する基板保持装置において、前記倒れ防止部は、基板の表裏両面に向けて気体を噴射する気体噴射部を備えていることを特徴とするものである。
【０００８】
［作用・効果］請求項1に記載の発明によれば、気体噴射部から気体を噴射することにより、基板の表裏両面に気体が噴射されるので、基板の倒れを非接触で防止することができる。したがって、パーティクルの発生を防止できるので、基板の汚染を防止することができる。また、ガイド溝ではなく気体噴射部によって基板の倒れを規制するので、ガイド溝に起因する加工や組み立てにおける制約をなくすことができる。
【０００９】
なお、倒れ防止部は、基板の面方向にて保持部を挟む位置に設けられ、好ましくは少なくとも二カ所に設けられる。
【００１０】
本発明において、気体噴射部は、気体を噴射する複数個のノズルを備えていることが好ましい（請求項２）。複数個のノズルによって確実に基板の倒れ防止を図ることができる。
【００１１】
また、本発明において、複数個のノズルは、基板の外形に沿って配置され、かつ基板の外縁から基板の中心側に入り込んだ位置にわたって配置されていることが好ましい（請求項３）。基板の外縁からやや中心側に入り込んだ位置にまで、基板の外形に沿って帯状に複数個のノズルを配置することで、広い面積で基板の倒れを図ることができるので、安定して基板の倒れ防止を図ることができる。
【００１２】
また、本発明において、前記保持部は、基板の端縁に当接して基板を一定方向に回転させる回転ローラを備え、前記回転ローラは、基板の端縁における所定位置にて回転が停止することが好ましい（請求項４）。回転ローラで基板が回転され、基板の端縁における所定位置、例えば、基板のノッチやオリエンテーションフラットにて回転が停止する。したがって、清浄度高く保ちつつ、基板の位置合わせを行うことができる。
【００１３】
また、本発明において、保持部は、基板の端縁に向けて気体を噴射する端縁気体噴射部を備えていることが好ましい（請求項５）。基板の端縁（側面）が保持部に接触する度合いを軽減することができるので、この部分におけるパーティクルの発生も低減することができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明に係る基板保持装置によれば、気体噴射部から気体を噴射することにより、基板の表裏両面に気体が噴射されるので、基板の倒れを非接触で防止できる。したがって、パーティクルの発生を防止できるので、基板の汚染を防止することができる。また、ガイド溝ではなく気体噴射部によって基板の倒れを規制するので、ガイド溝に起因する加工や組み立てにおける制約を解消できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面を参照して本発明の実施例を説明する。
【００１６】
図１は、実施例に係る基板保持装置を備えた基板整列装置の概略構成を示す図であり、図２は、図１におけるＡ−Ａ矢視断面図である。
【００１７】
この基板整列装置は、基板Ｗの周縁における一部位に形成されたノッチやオリエンテーションフラットを検出し、基板Ｗの周縁位置を一定方向に揃える機能を備えている。複数枚の基板Ｗは、基板整列装置が備えている基板保持装置１に対して全て起立姿勢で保持されている。
【００１８】
基板保持装置１は、基板Ｗの下縁を保持する保持部３と、この保持部３を挟む左右位置に倒れ防止部５とを備えている。これらのうち保持部３は、基板Ｗの下縁に当接して基板Ｗを保持する。一方、二つの倒れ防止部５は、紙面方向における基板Ｗの倒れを非接触で防止するとともに、基板Ｗの面方向（図１の左右方向）における倒れを当接して防止する。
【００１９】
二つの倒れ防止部５は、基板Ｗごとに図１の紙面方向に並設されているとともに、基板整列装置のベース７上に立設されている。このベース７内には、制御部９と、モータ１１と、配管１３と、流量調節弁１５とが備えられている。
【００２０】
モータ１１は、保持部３を構成している回転ローラ１７を、プーリ１９を介して一定方向に回転駆動する。その回転駆動は、制御部９によって制御される。配管１３は、この装置外に配置されたり、クリーンルームのユーティリティとして用意されたりしている気体供給源２１と、二つの倒れ防止部５とを連通接続している。この配管１３のうち、二つの倒れ防止部５に分岐した部分には、それぞれ流量調節弁１５が取り付けられている。二つの流量調節弁１５は、それぞれ二つの倒れ防止部５に供給される気体（例えば、窒素や空気など）の流量を制御部９の制御の下で調整する。
【００２１】
回転ローラ１７は、基板Ｗごとに設けられ、プーリ１９に連結された回転軸２３に緩挿されている。そして、一定以上の負荷が加わると、回転軸２３による駆動に係わらず空転して回転が停止する。ここでいう一定以上の負荷は、基板Ｗのノッチやオリエンテーションフラットが回転ローラ１７の外周面に係止された状態で生じる。
【００２２】
ベース７に立設された二つの延出部材２５の間には、基板Ｗを保持するための間隔を形成するスペーサ２７が配設されている。このスペーサ２７の厚みは、基板Ｗの厚みよりも若干厚く形成されている。延出部材２５の上部であって、基板Ｗが載置される側には、気体噴射部２９が取り付けられている。
【００２３】
気体噴射部２９は、板状の噴射部本体３１に、上記の延出部材２５が取り付けられる切り欠き部３３が形成されてなる。噴射部本体３１は、その一方面側（スペーサ２７側）に、合計１０個のノズル３５を備えている。これらのノズル３５は、基板Ｗの外形に沿って配置されて、かつ基板Ｗの外縁から内側に入り込んだ位置にわたって設けられている。このように、ノズル３５を配設していることにより、広い面積で基板Ｗの倒れを図ることができるので、安定して基板Ｗの倒れ防止を図ることができる。
【００２４】
各ノズル３５は、基板Ｗ側から見て円形状に開口したノズル本体３７と、その中心部に連通した連通穴３９とを備えている。各連通穴３９は、切り欠き部３３に向かって噴射部本体３１に横方向に穿たれた供給通路４１を備え、延出部材２５に形成されている中継通路４３を介して配管１３に連通接続されている。したがって、配管１３を通して気体供給源２１から供給された気体は、各ノズル３５から噴出されるようになっている。
【００２５】
上記のように構成されている基板整列装置の動作について以下に説明する。
【００２６】
まず、複数枚の基板Ｗが図示しない搬送装置によって搬送され、基板整列装置の基板保持装置１に渡される。複数枚の基板Ｗが基板保持装置１に載置されるとともに、制御部９は所定流量で気体を配管１３に流通させ始める。すると、図２におけるＢ−Ｂ矢視図である図３に示すように、気体噴射部２９から気体が基板Ｗの両面に向けて噴射される。このような状態にてモータ１１を駆動し、回転ローラ１７を所定方向（例えば、図１のように時計方向）に回転させる。すると、基板Ｗが回転するが、基板Ｗに形成されているノッチまたはオリエンテーションフラットが回転ローラ１７の部分に位置すると、回転ローラ１７に負荷がかかり、回転ローラ１７が回転軸２３に対して空転するので、基板Ｗの回転が停止して基板Ｗの位置決めが完了する。このような処理が全ての基板Ｗに対して行われて、全ての基板Ｗの回転が停止すると整列処理が完了する。
【００２７】
上記のように、全ての基板Ｗが基板保持装置１に渡された時点で、気体噴射部２９から基板Ｗの両面に向けて気体が噴射されるので、基板Ｗが気体のクッションのようなもので保持されることになる。したがって、基板Ｗの両面が、図３に示すように二つの気体噴射部２９のいずれにも接触しない状態で保持されることになる。その結果、基板Ｗの倒れを非接触で防止することができる。よって、基板Ｗを整列させるために回転させても、基板Ｗの表裏面が倒れ防止部５に接触することがなく、パーティクルが発生することを防止できるので、基板Ｗの汚染を防止することができる。また、従来例のようにガイド溝ではなく気体噴射部２９によって基板Ｗの倒れを規制するので、ガイド溝に起因する加工や組み立てにおける制約をなくすことができる。
【００２８】
なお、上述した保持部３の回転ローラ１７を図４に示すように構成するのが好ましい。図４は、回転ローラの縦断面図である。
【００２９】
保持部３Ａの回転ローラ１７Ａは、基板Ｗの下縁にも気体を噴出させる構成を採用している。
【００３０】
すなわち、回転ローラ１７Ａは、その全周にわたって形成された凹溝４５と、この凹溝４５に連通した噴出口４７を備え、噴出口４７に連通した連絡通路４９が横方向に形成されている。この連絡通路４９は、図示しない流量調整弁を介して気体供給源２１に連通接続されている。また、流量調整弁は、制御部９によって気体の流量が調整可能になっている。その気体流量は、基板Ｗが回転ローラ１７Ａの凹溝４５に軽く接触して、回転ローラ１７Ａの回転に伴って基板Ｗが回転する程度に調整されている。
【００３１】
このように回転ローラ１７Ａを構成することにより、保持部３Ａと基板Ｗの周縁との当接及び回転による発塵を抑制することができ、より基板Ｗの汚染を防止することができる。
【００３２】
また、上述した倒れ防止部５は、図５のように構成してもよい。なお、図５は、倒れ防止部の一部を拡大した断面図である。
【００３３】
この倒れ防止部５は、スペーサ２７Ａの構成が相違している。
【００３４】
すなわち、スペーサ２７Ａは、二つの気体噴射部２９の間に向けて、換言すると、基板Ｗの外周縁（側面）に向けて気体を噴射するノズル５１（端縁気体噴射部）をさらに備えている。このノズル５１は、スペーサ２７Ａの側面に連通した開口５３と、この開口５３に連通するとともに、図示しない流量調整弁を介して気体供給源２１に連通した連絡通路５５とを備えている。
【００３５】
このように基板Ｗの周縁にも気体を供給することにより、基板Ｗの両側面がスペーサ２７Ａに接触することを防止できる。したがって、この部分からの発塵を防止でき、より基板Ｗの汚染を防止することができる。
【００３６】
上述した実施例は、基板整列装置に基板保持装置１を採用したものであるが、図６に示すように基板保持装置１Ａだけに本発明を適用してもよい。
【００３７】
すなわち、この基板保持装置１Ａは、基板Ｗを回転させて整列させる機能を備えず、単に基板Ｗを起立姿勢に保持するだけの機能を有する。具体的には、上述した実施例におけるモータ１１と、回転ローラ１７と、プーリ１９と、回転軸２３を備えていない。また、保持部３に代えて保持部３Ｂを備えている。この保持部３Ｂは、基板Ｗの端縁を案内する案内面５７と、基板Ｗの下縁が当接して基板Ｗを保持する当接面５９とを備えている。
【００３８】
このように基板Ｗの下縁を当接して保持する基板保持装置１Ａであっても本発明を適用することができる。
【００３９】
本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。
【００４０】
（１）本発明に係る基板保持装置は、円形状の基板Ｗに限定されるものではなく、矩形上のものであっても保持可能である。
【００４１】
（２）複数枚の基板Ｗを保持する基板保持装置だけでなく、一枚の基板を保持する装置であってもよい。
【００４２】
（３）倒れ防止部５に形成されているノズル３５の数は、上記実施例のように１０個に限定されるものではなく、それ以下またはそれ以上の個数を配設してもよい。また、ノズル３５は、基板Ｗの外形に沿わない配置を採用してもよい。
【００４３】
（４）上記実施例のように倒れ防止部５を二カ所に設けるのではなく、例えば、３カ所または４カ所以上にわたって配設してもよい。
【００４４】
（５）図７に示す基板搬送装置に対して本発明を適用することもできる。
【００４５】
この基板搬送装置は、移動可能に構成され、基板Ｗを両側から挟み込んで保持する機能を有する。この場合には、基板Ｗの下縁二カ所を保持部３Ｃで当接支持し、基板Ｗの両側二カ所を倒れ防止部５Ａによって面方向を非接触で保持する。このような構成により、基板Ｗの汚染を防止しつつ搬送が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】実施例に係る基板保持装置を備えた基板整列装置の概略構成を示す図である。
【図２】図１におけるＡ−Ａ矢視断面図である。
【図３】図２におけるＢ−Ｂ矢視図である。
【図４】回転ローラの縦断面図である。
【図５】倒れ防止部の一部を拡大した断面図である。
【図６】基板保持装置の概略構成図である。
【図７】基板搬送装置の概略構成図である。
【符号の説明】
【００４７】
Ｗ  …  基板
１  …  基板保持装置
３  …  保持部
５  …  倒れ防止部
７  …  ベース
１３  …  配管
１５  …  流量調整弁
１７  …  回転ローラ
１９  …  プーリ
２３  …  回転軸
２５  …  延出部材
２７  …  スペーサ
２９  …  気体噴射部
３１  …  噴射部本体
３５  …  ノズル
３７  …  ノズル本体
４３  …  中継通路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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