(57)【要約】【課題】  光の干渉による虹彩色が発生しにく、優れた意匠性を有し、成形品にも効率よく転写することができる虹彩色防止転写箔、及びその製造方法、並びに転写体を提供する。【解決手段】  基材１１／離型層１３（必要に応じて）／透明樹脂層１５／プライマ層１７（必要に応じて）／干渉光沢低減層１９／装飾層２１（必要に応じて）／暗色着色層２３／接着層２５（必要に応じて）から構成され、前記干渉光沢低減層１９と前記暗色着色層２３との界面が、相溶化して不明瞭化させるように暗色着色層２３を形成することを特徴とする。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の一方の面に、透明樹脂層、干渉光沢低減層、及び暗色着色層を有する転写箔において、前記干渉光沢低減層と前記暗色着色層との界面が、相溶して不明瞭化してなることを特徴とする虹彩色防止転写箔。
【請求項２】
上記干渉光沢低減層が、光拡散剤を含み光拡散性であることを特徴とする請求項１記載の虹彩色防止転写箔。
【請求項３】
上記基材と上記透明樹脂層との間に離型層、上記透明樹脂層と干渉光沢低減層との間にプライマ層、及び／又は上記暗色着色層の該基材とは反対側の面に接着層、を有することを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の虹彩色防止転写箔。
【請求項４】
上記干渉光沢低減層と暗色着色層との間に、パターン状の装飾層を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の虹彩色防止転写箔。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の虹彩色防止転写箔の製造方法において、（１）基材の一方の面に液状の透明樹脂層組成物を塗布し架橋硬化させて透明樹脂層を形成する工程と、（２）液状の干渉光沢低減層組成物を塗布し乾燥固化せしめ、必要に応じて更に部分的に架橋して干渉光沢低減層を形成する工程と、（３）該干渉光沢低減層の形成工程に引き続いて、液状の暗色着色層組成物を塗布し乾燥固化せしめ、必要に応じて更に架橋硬化する間に、干渉光沢低減層と暗色着色層との界面が、相溶化して不明瞭化させるように、暗色着色層を形成する工程と、を含んでなることを特徴とする虹彩色防止転写箔の製造方法。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載の虹彩色防止転写箔を用いて、透明樹脂層、干渉光沢低減層、及び暗色着色層を転写してなることを特徴とする虹彩色防止転写体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、虹彩色防止転写箔に関し、さらに詳しくは、意匠性の高い暗色着色層を用いても、虹彩色が発生しにく、意匠性が低下せず、成形品にも効率よく転写するための虹彩色防止転写箔、及びその製造方法、並びに転写体に関するものである。
【０００２】
本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「％」などは特に断わらない限り質量基準であり、「／」印は一体的に積層されていることを示す。
また、「バックライト」は「面光源装置」、「ＵＶ」は「紫外線」、「ＥＢ」は「電子線」、「ポリ（メタ）アクリレート」は「ポリアクリレートとポリメタアクリレートの総称」、及び「ＰＥＴ」は「ポリエチレンテレフタレート」の略語、機能的表現、通称、又は業界用語である。
【背景技術】
【０００３】
（技術の背景）パソコン、ワープロ、液晶テレビなどの液晶表示装置（ディスプレイ）は、液晶自体が発光しないので、面光源装置（バックライトともいう）で裏側から照明されている。該面光源装置は入射した光源からの光を、光出射面から出射させ、さらに、光を散乱、拡散、集光させ、照射面の輝度を均一にするために、反射板、導光板、レンズフィルム、光拡散フィルム、偏光フィフム、視野角調整フィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム、タッチパネル、表示窓部材などの多くの光学部材から構成されている。これらの光学部材は、光の干渉による虹彩色が発生しくく、光輝度の均一性が求められている。
表示窓部材は、液晶表示装置（液晶ディスプレイ）などに用いられている表示窓（ウィンドウ）で、電卓、ＣＤプレイヤー、パソコン、ビデオ、デジタルカメラ、ＴＶゲーム機、ＰＤＡ、携帯電話などの表示窓である。例えば、携帯電話の表示窓は、頻繁なモデルチェンジ、多品種、及び多種なデザインで、かつ、安価で短納期な多品種少量生産に対応できねばならない。しかも、該表示窓は高意匠性で見やすく、かつ、材料の無駄がなく、少ない工程で製造できることが要望されている。
高意匠性、及び表示部を際立たせるために、表示窓の周囲に黒などの暗色着色を用いた外枠や意匠デザインが設けられる。該暗色着色層は、表面を保護するハードコート性などのために別の層を有しており、この別層との界面で、光の干渉が発生し虹彩色が発生して、意匠性が低下する。この虹彩色の発生は、透明又は淡色着色層では目立ちにくいが、暗色着色層では非常に目立ち、意匠性が低下するというが問題点がある。
虹彩色防止転写箔は、成形品にも効率よく転写することができ、さらに、転写した光学部材である虹彩色防止転写体は虹彩色が発生しにく、優れた意匠性が求められている。
【０００４】
（先行技術）従来、此の種のハードコート層、及び着色層（から成る絵柄層）を転写する転写箔が知られている（例えば、特許文献１参照。）。しかしこれらの転写箔では、何れも、架橋硬化物の透明樹脂層であるハードコート層の上に、直接着色樹脂層を積層した構成となっている。斯かる構成の転写箔では、図４（Ａ）の如く、透明樹脂層１５は架橋硬化物の為、その上にインキを印刷しても再溶解することは無く、暗色着色層２３と透明樹脂層１５との界面は平坦且つ明瞭である。仍って（転写物表面に於いて）転写層を観察したときに、透明樹脂層１５表面での反射光ａ及び透明樹脂層１５と暗色着色層２３との界面での反射光ｂとがコヒーレントに干渉する。観察者と転写層面内の各点との位置関係によって両反射光ａ及びｂの位相差は決まり特定波長（色）の光が目に入る為、転写層面内に虹彩色が発生すると云う問題が有った。
本発明者に於いて、此のような虹彩色を低減する手段を公知技術の名かから模索したところ、転写箔とは異分野ではあるが、以下の２つのものが見出された。即ち、液晶表示装置のバックライト用レンズシートの分野に於いて、干渉縞を発生させない組成物として、特定基を有する（メタ）アクリレートを含有し、硬化後の屈折率が１．５６〜１．６５であるものが知られている（例えば、特許文献２参照。）。
また、裏面被覆層を備えても光の干渉模様の発生を低減できるバックライト用の光学シートとしては、基材層と、表面側の光学的機能層と、裏面側の透明樹脂製の裏面被覆層とからなり、裏面被覆層の厚さを４．５μｍ以上６．４μｍ以下とするものが知られている（例えば、特許文献３参照。）。
しかしながら、特許文献２ではアクリル樹脂自身の組成に関するものであり、また、特許文献３では基材を挟んで両側層に関するものであり、いずれにも、層構成における層と層との間に発生する干渉縞に起因する虹彩色の防止についての記載も示唆もされていない。更には、転写箔への応用についての示唆も無く、転写箔の虹彩色発生防止に利用出來るものでは無かった。
【０００５】
【特許文献１】特公昭６４−１３２０号公報
【特許文献２】特開２００１−１１４８３１号公報
【特許文献３】特開２００３−４９１２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
そこで、本発明はこのような問題点を解消するため独自の視点から模索してなされたものである。その目的は、転写層として透明樹脂層と暗色着色層とを含んでなる転写箔に於いて、透明樹脂層と暗色着色層との界面での反射光の干渉に起因する虹彩色が発生しにく、優れた意匠性を有し、且つ成形品にも効率よく転写することができる虹彩色防止転写箔を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するために、請求項１の発明に係わる虹彩色防止転写箔は、基材の一方の面に、透明樹脂層、干渉光沢低減層、及び暗色着色層を有する転写箔において、前記干渉光沢低減層と前記暗色着色層との界面が、相溶して不明瞭化してなるように、したものである。
請求項２の発明に係わる虹彩色防止転写箔は、上記干渉光沢低減層が、光拡散剤を含み光拡散性であるように、したものである。
請求項３の発明に係わる虹彩色防止転写箔は、上記基材と上記透明樹脂層との間に離型層、上記透明樹脂層と干渉光沢低減層との間にプライマ層、及び／又は上記暗色着色層の該基材とは反対側の面に接着層、を有するように、したものである。
請求項４の発明に係わる虹彩色防止転写箔は、上記干渉光沢低減層と暗色着色層との間に、パターン状の装飾層を有するるように、したものである。
請求項５の発明に係わる虹彩色防止転写箔の製造方法は、請求項１〜４のいずれかに記載の虹彩色防止転写箔の製造方法において、（１）基材の一方の面に液状の透明樹脂層組成物を塗布し架橋硬化させて透明樹脂層を形成する工程と、（２）液状の干渉光沢低減層組成物を塗布し乾燥固化せしめ、必要に応じて更に部分的に架橋して干渉光沢低減層を形成する工程と、（３）該干渉光沢低減層の形成工程に引き続いて、液状の暗色着色層組成物を塗布し乾燥固化せしめ、必要に応じて更に架橋硬化する間に、干渉光沢低減層と暗色着色層との界面が、相溶化して不明瞭化させるように、暗色着色層を形成する工程と、を含んでなるように、したものである。
請求項６の発明に係わる虹彩色防止転写体は、請求項１〜４のいずれかに記載の虹彩色防止転写箔を用いて、透明樹脂層、干渉光沢低減層、及び暗色着色層を転写してなるように、したものである。
【発明の効果】
【０００８】
（発明のポイント）本発明者らは、鋭意、研究を進め、層構成における層と層との間の界面を不明瞭化することで、層間の界面に発生する干渉縞による虹彩色が防止できることを見出した。そこで、干渉光沢低減層と暗色着色層との界面が、相溶化して不明瞭化させるように、暗色着色層を形成することで、本発明に至った。
【０００９】
請求項１の本発明によれば、干渉光沢低減層と暗色着色層との界面で、虹彩色が発生しにく、優れた意匠性を有する虹彩色防止転写箔が提供される。
請求項２の本発明によれば、干渉光沢低減層と暗色着色層との界面で、虹彩色がより発生しにく、優れた意匠性を有する虹彩色防止転写箔が提供される。
請求項３の本発明によれば、基材と干渉光沢低減層との間に離型層を有すれば、転写時の剥離力が安定して、容易に転写することができ、また、透明樹脂層と干渉光沢低減層との間にプライマ層を有すれば、透明樹脂層と干渉光沢低減層とが密着がよいので、転写体から脱落しにくく、さらに、暗色着色層の該基材とは反対側の面に接着層を有すれば、被転写体へ接着層を設けなくても、成形品などの被転写体へ効率よく転写することができる虹彩色防止転写箔が提供される。
請求項４の本発明によれば、虹彩色が発生しにい暗色着色層に加えて、装飾層を有し意匠性の高い虹彩色防止転写箔が提供される。
請求項５の本発明によれば、既存の設備で、効率よく製造できるの請求項１〜請求項４の虹彩色防止転写箔の製造方法が提供される。
請求項６の本発明によれば、虹彩色が発生しにく、優れた意匠性を有する虹彩色防止転写体が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図１は、本発明の１実施例を示す虹彩色防止転写体の平面図である。
図２は、図１のＡＡ断面図である。
図３は、本発明の１実施例を示す虹彩色防止転写箔の断面図である。
図４は、虹彩色防止を説明する説明図である。
【００１１】
図１は本発明の１つの用途を示す、虹彩色防止転写体である携帯電話の表示窓１００である。該表示窓１００は、図１示すように、表示部材１０１の外周部に外枠部１０５が設けられ、その内側には液晶表示される表示窓部１０３である。外枠部１０５には意匠性のデザイン絵柄（本発明では装飾層２１という）が設けられることが多い。図２は表示窓１００の要部の断面図であり、表示部材１０１の外周部に外枠部１０５があり、該外枠部１０５は転写層３１から構成されている。該転写層３１は、本発明の虹彩色防止転写箔の構成の１部分であり、転写により、移行されたものである。
【００１２】
（基本の物）本発明の虹彩色防止転写箔は、図３の斷面図に示す如く、基材１１／離型層１３（必要に応じて）／透明樹脂層１５／プライマ層１７（必要に応じて）／干渉光沢低減層１９／装飾層２１（必要に応じて）／暗色着色層２３／接着層２５（必要に応じて）、から構成されている。転写によって、基材１１から、透明樹脂層１５／プライマ層１７（必要に応じて）／干渉光沢低減層１９／装飾層２１（必要に応じて）／暗色着色層２３／接着層２５（必要に応じて）から成る転写層３１部分のみが、被転写体である表示部材１０１へ移行して、外枠部１０５を構成する。必要に応じて設ける層構成の、すべてについて説明するが、必要に応じて設ける項目は必須ではなく、用途や機能に応じて設ければよい。
【００１３】
（基本の方法）（１）基材の一方の面に液状の透明樹脂層組成物を塗布し架橋硬化させて透明樹脂層を形成する工程と、（２）液状の干渉光沢低減層組成物を塗布し乾燥固化せしめ、必要に応じて更に部分的に架橋して干渉光沢低減層を形成する工程と、（３）該干渉光沢低減層の形成工程に引き続いて、液状の暗色着色層組成物を塗布し乾燥固化せしめ、必要に応じて更に架橋硬化せしめる間に、干渉光沢低減層と暗色着色層との界面が、相溶化して不明瞭化させるように、暗色着色層を形成する工程と、からなる。
【００１４】
方法の順に、材料も含めて詳細に説明する。
（第１工程）基材の一方の面に液状の透明樹脂層組成物を塗布し架橋硬化させて透明樹脂層を形成する工程。
【００１５】
（基材）基材１１の材料としては、使用条件や製造に耐える耐熱性、耐溶剤性、機械的強度などがあれば、種々の材料が適用でき、例えば、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリブチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト、テレフタル酸−イソフタル酸−エチレングリコール共重合体、テレフタル酸‐シクロヘキサンジメタノール‐エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン６などのポリアミド系樹脂、ポリプロピレン、ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、イミド系樹脂、ポリカ−ボネ−トなどの樹脂からなるシート、フィルム、板などが適用できる。
【００１６】
該樹脂からなる基材は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体（アロイでを含む）、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。該基材は、延伸フィルムでも、未延伸フィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。該基材の厚さは、通常、１２〜１０００μｍ程度が適用できるが、５０〜７００μｍが好適で、１００〜５００μｍが最適である。これ以下の厚さでは、機械的強度が不足して反りやたるみ、転写時や剥離時の破断などが発生し、これ以上では、転写適性が悪くなり、又過剰な性能となってコスト的にも無駄である。
【００１７】
通常、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル系樹脂フィルムが可撓性、耐熱性がよくコストも安いので好適に使用され、ポリエチレンテレフタレートが最適である。
【００１８】
該基材は、特に表面に離型層を塗布形成する場合は、離型層との接着性を強化する為に、塗布に先立って塗布面へ、コロナ放電処理、プラズマ処理、オゾン処理、フレーム処理、プライマー（アンカーコート、接着促進剤、易接着剤とも呼ばれる）塗布処理、予熱処理、除塵埃処理、蒸着処理、アルカリ処理、などの易接着処理を行ってもよい。該樹脂フィルムは、必要に応じて、紫外線吸収剤、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良い。
【００１９】
（離型層）基材１１の透明樹脂層１５を設ける面へ、必要に応じて離型層１３を設ける。離型層１３は、透明樹脂層１５と離型層１３の界面にて、剥離を起こさせ、該剥離力を安定化させる目的で設ける。また、離型層１３の１部が被転写体へ移行する場合もあるが、実質的に機能に影響はないので、本発明の範囲内である。
離型層１３の材料としては、離型性樹脂、離型剤を含んだ樹脂が適用できる。例えば、離型性樹脂としては、透明樹脂層の種類に対応して、これと離型性の有る樹脂を選択することになるが、一般的には、アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、メラミン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、弗素系樹脂、シリコーン、エポキシ樹脂、繊維素系樹脂、電離放射線硬化性樹脂などであり、これらを１種単独、或いは２種以上混合して用いる。電離放射線硬化性樹脂としては、電離放射線で架橋する官能基を有するモノマー・オリゴマーなどを含有させた樹脂である。例えば、電離放射線としては紫外線（ＵＶ）、電子線（ＥＢ）などが用いられる
離型剤を含んだ樹脂は、例えば、弗素系樹脂、シリコーン、又は各種のワックスなどの離型剤を、添加または共重合させたアクリル系樹脂、ビニル系樹脂、ポリエステル樹脂、繊維素系樹脂などである。
【００２０】
（離型層の形成）離型層１３の形成は、該樹脂を溶媒へ分散または溶解して、ロールート、リバースロールコート、グラビアコート、リバースグラビアコート、バーコート、ロッドコ−ト、キスコート、ナイフコート、ダイコート、コンマコート、フローコート、スプレーコートなど公知のコーティング方法で塗布し乾燥して、溶剤を除去して形成させる。要すれば、温度３０℃〜１２０℃で加熱乾燥、あるいはエージング、または電離放射線を照射して架橋させる。
【００２１】
離型層１３の厚さは、通常は０．０１μｍ〜５．０μｍ程度、好ましくは０．５μｍ〜３．０μｍ程度である。該厚さは薄ければ薄い程良いが、０．１μｍ以上であればより良い成膜が得られて剥離力が安定する。
【００２２】
（透明樹脂層）基材１１表面又は離型層１３表面へ、透明樹脂層１５を設ける。透明樹脂層１５の材料としては、転写層最表面に於ける耐久性（耐擦傷性、耐汚染性等）が要求される為、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性樹脂の硬化層が適用でき、好ましくは、電離放射線硬化性樹脂である。
【００２３】
熱硬化性樹脂組成物としては、ポリウレタン、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂などの熱硬化性樹脂を例示できる。
ポリウレタンとしては、エチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン、α−メチルグルコシド、ソルビトール、ジペンタエリスリトールなどの多価アルコールと、ＥＯ、ＰＯ、１，２−、２，３−もしくは１，３−ブチレンオキサイド、スチレンオキサイド、炭素数６〜１８のα−オレフィンオキサイド、エピクロルヒドリンなどのアルキレンオキサイド（アルキレン基の炭素数２〜１８）を付加した、ポリオキシアルキレンポリオール、アクリルポリオール、ポリエステルポリオ−ル、ポリエーテルポリオールなどの多価アルコールと、１，３−および／または１，４−フェニレンジイソシアネート、２，４−および／または２，６−トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）のどの芳香族ポリイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート（ＨＤＩ）などの脂肪族ポリイソシアネート、イソホロンジイソシアネート（ＩＰＤＩ）、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジイソシアネート（水添ＭＤＩ）、シクロヘキシレンジイソシアネート、メチルシクロヘキシレンジイソシアネート（水添ＴＤＩ）などの脂環式ポリイソシアネート、などのポリイソシアネートとの硬化樹脂が例示できる。
【００２４】
電離放射線硬化性樹脂組成物としては、分子中に（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ等のラジカル重合性官能基、或いはエポキシ基等のカチオン重合性官能基を有するオリゴマー又はプレポリマー、及び反応性希釈剤を１種単独、或いは２種以上混合して用いる。必要に応じて更にこれらに、光重合開始剤や光増感剤などを添加して成る公知のものが適用できる（本明細書では、アクリロイル基とメタクリロイル基を（メタ）アクリロイル基と記載する）。
【００２５】
上記（メタ）アクリレートのオリゴマー又はプレポリマーとしては、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート（以下、本明細書ではアクリレートとメタアクリレートとを（メタ）アクリレートと記載する）であり、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、トリアジン（メタ）アクリレートシリコン（メタ）アクリレート等がある。
上記カチオン重合性官能基を有するオリゴマー又はプレポリマーとしては、ビスフェノール型エポキシ、ノボラック型エポキシ等のエポキシ樹脂、芳香族ビニルエーテル、脂肪族ビニルエーテル等がある。
上記反応性希釈剤としては、分子中に（メタ）アクリロイル基を有する単量体、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート等の単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例えば、トリプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等、或いはスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等がある。
上記光重合開始剤としては分子中にラジカル重合性官能基を有する組成物に対しては、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類等が、又分子中にカチオン重合性官能基を有する組成物に対しては、芳香族塩スルホニウム、芳香族ヨードニウム塩、芳香族ジアゾニウム塩、メタロセン化合物等などがあり、光増感剤としてはｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリｎ−ブチルホスフィンなどがあり、これらは、該組成物中に０．１〜１０質量％混合して使用する。
【００２６】
（電離放射線）電離放射線とは電磁波または荷電粒子線のうち、分子を重合、架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、電磁波が有する量子エネルギーで区分する場合もあるが、本明細書では、すべての紫外線（ＵＶ‐Ａ、ＵＶ‐Ｂ、ＵＶ‐Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線を包含するものと定義する。従って、電離放射線としては、紫外線（ＵＶ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、または電子線などが適用できるが、紫外線（ＵＶ）、電子線（ＥＢ）が好ましく、紫外線（ＵＶ）が設備や使用勝手からさらに好ましい。また、電離放射線で硬化する組成物は、紫外線硬化の場合の光重合開始剤及び／又は光重合促進剤を添加し、エネルギーの高い電子線硬化の場合は添加しないで良く、また、適正な触媒が存在すれば、熱エネルギーでも硬化できる。
【００２７】
電子線の場合には、コックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、あるいは直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器等の照射源を備えた装置を用いることができ、１００〜１０００ｋｅＶ、好ましくは１００〜３００ｋｅＶのエネルギーを持つ電子を照射する。照射線量としては、通常０．５〜３０Ｍｒａｄ程度が好ましい。
【００２８】
（紫外線（ＵＶ））紫外線照射装置としては、化学反応用ケミカルランプ、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、可視光ハロゲンランプなどが適用でき、紫外線の波長は２００〜４００ｎｍ程度である。ＵＶの照射線量としては、２００〜６００ｎｍの波長の積算エネルギーが０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ2となる程度とすることが好ましい。照射線の波長及び照射線量は、組成物の材質や量と、ＵＶランプの出力と、加工速度に応じて選択すれば良い。また、紫外線の照射雰囲気としては、空気中でもよいし、窒素やアルゴン等の不活性ガス雰囲気下でもよい。
【００２９】
（透明樹脂層の形成）透明樹脂層１５の形成方法は、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物を、グラビアコート法、ロールコート法など公知の塗布方法で塗布し、必要に応じて乾燥し、加熱硬化又は電離放射線照射により硬化せしめればよい。また、版胴表面へ、熱硬化性樹脂組成物又は電離放射線硬化性樹脂組成物を、スリットコート法、ダイコート法、ロールコート法などで塗布し、必要に応じて乾燥し、該塗膜上に基材１１を重ね合わせてＵＶを照射して硬化させた後に、版胴から）基材及び硬化塗膜を剥離する所謂ＤＰＳ（ドラムプリントシステム）法でもよい。
【００３０】
（プライマ層）透明樹脂層１５は、他の層との密着性に欠ける場合があるので、必要に応じてプライマ層１７を設けてもよい。該プライマ層１７によって、この面に形成する層との密着性が向上し十分に密着することで、転写後の転写体から転写層が脱落しにくくできる。
【００３１】
プライマ層１７としては、例えば、ポリウレタン、ポリエステル、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、エチレンと酢酸ビニル或いはアクリル酸などとの共重合体、エポキシ樹脂、塩素化ポリプロピレンなどが適用できる。好ましくは、イソシアネート、又はイソシアネートと多価アルコールとからなるポリウレタンである。
【００３２】
これらの樹脂を、適宜溶剤に溶解または分散して塗布液とし、これを透明樹脂層１５に公知のコーティング法で塗布し乾燥してプライマー層とする。また、樹脂にモノマー、オリゴマー、プレポリマーなどと、反応開始剤、硬化剤、架橋剤などを適宜組み合わせたり、あるいは、主剤と硬化剤とを組み合わせる場合には、塗布し乾燥して、乾燥または乾燥した後のエージング処理によって反応させて、形成しても良い。該プライマ層の厚さは、０．０５〜１０μｍ程度、好ましくは０．１〜５μｍである。
【００３３】
（第２工程）液状の干渉光沢低減層組成物を塗布し乾燥固化せしめ、必要に応じて部分的に架橋して干渉光沢低減層を形成する工程。
【００３４】
透明樹脂層１５の基材とは反対面上へ干渉光沢低減層１９を設けるが、該干渉光沢低減層１９は後述する暗色着色層２３接していればよいので、透明樹脂層１５と干渉光沢低減層１９との間には他の層を設けてもよい。該干渉光沢低減層１９としては、透明な、非架橋性樹脂、熱硬化性樹脂、２液硬化性樹脂、又は電離放射線硬化樹脂が適用できる。
何れの樹脂を使用する場合に於いても、干渉光沢低減層１９上に暗色着色層２３を形成した時点で、該干渉光沢低減層表面が、該暗色着色層中の溶剤（単量体等の反応性稀釈剤も含む）によって、少なくとも該干渉光沢低減層表面近傍が溶解するような状態になっていれば良い。そのためには、該非架橋性樹脂は該暗色着色層組成物中の溶媒へ溶解する溶剤可溶型のものを選定、適用できる。また、熱硬化性樹脂、２液硬化性樹脂、又は電離放射線硬化樹脂は、ある程度以上架橋、硬化してしまうと溶媒へ溶解しないが、溶媒へ溶解する指触乾燥状態（未架橋）、若しくは不完全に架橋した半硬化状態で、暗色着色層２３を形成することで、、両層の界面を相溶状態として、不明瞭化する目的に適用することができる。
【００３５】
該溶剤可溶型の透明樹脂の材料としては、種々の材料が適用でき、例えば、飽和ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等のポリエステル系樹脂、ダイマー酸−エチレンジアミン縮重合物等のポリアミド系樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体などのポリオレフィン系樹脂、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重合体などの含ハロゲン樹脂、ポリブチル（メタ）アクリレート、ポリメチル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート−ブチル（メタ）アクリレート−２ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン、スチレン及び／又はα−メチルスチレンと他の単量体（例えば、無水マレイン酸、フェニルマレイミド、メタクリル酸メチル等）との共重合体などのスチレン系樹脂、ニトロセルロース（硝化綿）、アセチルセルロース（酢酸セルロース）、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロース系樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリ酢酸ビニル、などの天然又は合成樹脂が適用できる。
【００３６】
指触乾燥状態若しくは半硬化状態で溶剤可溶型の、透明な、熱硬化樹脂又は電離放射線硬化樹脂樹脂としては、熱硬化性樹脂、２液硬化性樹脂、又は電離放射線硬化性樹脂の脂組成物を架橋、硬化させた層が適用できる。熱硬化性樹脂、２液硬化性樹脂、又は電離放射線硬化性樹脂組成物としては、透明樹脂層１５で説明したものと同様なものが適用できる。
【００３７】
これらの干渉光沢低減層１９の組成物には、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体（アロイでを含む）でもよい。さらに必要に応じて、充填剤、可塑剤、帯電防止剤などの添加剤を加えても良く、好ましくは、光拡散剤を添加する。該光拡散剤を含有することで、干渉光沢低減層１９内に入射した光が拡散されて、干渉光沢低減層と暗色着色層との界面で、虹彩色がより発生しにくくできる。
【００３８】
該光拡散剤としては、有機微粒子及び／又は無機微粒子などのフィラーが適用できる。
無機微粒子としては、例えば、炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、クレー、カオリン、タルク、シリカ、ガラス、珪藻土、雲母粉、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、硫酸アルミニウム、硫酸カルシウム、塩基性炭酸マグネシウム、二硫化モリブデンなどが適用できる。
有機微粒子としては、ガラス転移温度が１２０℃以上の熱可塑性樹脂が好ましく、例えば、ＷＡＸ、ポリエチレン、フッ素系樹脂、アクリル系樹脂、メタアクリル系樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂、ポリスチレン、スチレン及び／又はα−メチルスチレンと他の単量体（例えば、無水マレイン酸、フェニルマレイミド、メタクリル酸メチル、ブタジエン、アクリロニトリル等）との共重合体（例えば、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＭＢＳ樹脂、耐熱ＡＢＳ樹脂等）などの微粒子が適用できる。
【００３９】
また、フィラーの粒子径は、平均粒子径で０．００１〜３０μｍ程度、好ましくは０．０１〜２０μｍ程度の範囲である。この範囲未満では光拡散性が悪く、これを超えると分散性が悪い。さらに、フィラーの含有量としては、干渉光沢低減層１９の透明樹脂１００質量部に対して０．０１〜１００質量部程度、好ましくは０．１〜２０質量部範囲である。この範囲未満では光拡散性が悪く、これを超えると分散性が悪い。微粒子の形状としては、特に限定されるものではなく、球状、直方体等の多面体状、板状、燐片状、針状など、また中空体であってもよい。
【００４０】
干渉光沢低減層１９の形成方法としては、上記の樹脂組成物を、そのまま又は溶媒へ溶解して、グラビアコート法、ロールコート法などの公知の塗布方法で、塗布し、乾燥又は半硬化させる。干渉光沢低減層１９の厚さとしては、０．１〜２０μｍ程度、好ましくは０．５〜１０μｍである。この範囲未満では再溶解性が悪く、不明瞭化が不十分で、虹彩色の防止が十分ではなく、これを超えても既に十分な効果がでており、コスト的に不利である。
【００４１】
（装飾層）干渉光沢低減層１９と暗色着色層２３との界面には、必要に応じて装飾層２１を設けてもよい。該装飾層２１は、意匠や製品の取扱い説明のための所謂絵柄の印刷である。該印刷は、暗色着色層を完全には隠蔽し無いようにパターン状に形成された任意な絵柄で、公知の印刷方法で、設けることができる。
【００４２】
（第３工程）該干渉光沢低減層の形成工程に引き続いて、液状の暗色着色層組成物を塗布し乾燥する間に、干渉光沢低減層と暗色着色層との界面が、相溶化して不明瞭化させるように、暗色着色層を形成する工程。
【００４３】
（暗色着色層）干渉光沢低減層１９の基材とは反対面へ、又は装飾層２１が設けられている場合には、該装飾層２１の基材とは反対面へ暗色着色層２３を設ける。該暗色着色層２３は、バインダ、暗色の顔料又は染料、及び必要に応じて各種添加剤を、溶媒に溶解又は分散した組成物を、塗布し乾燥させたもので、全面でも、パターン（絵柄）状の塗布でもよい。該バインダとしては、前述の干渉光沢低減層１９と同様な、非架橋性樹脂、熱硬化性樹脂、２液硬化性樹脂、又は電離放射線硬化樹脂が適用できる。好ましくは、暗色着色層２３の組成物の溶媒が、干渉光沢低減層１９を再溶解しやすいものであり、さらに好ましくは、干渉光沢低減層１９と暗色着色層２３とが同系統の樹脂を用いることである。又、暗色着色層の色調としては、黒、濃灰色等の無彩色の他、深緑色、臙脂色、褐色、紺色、濃紫色等の低明度の有彩色であってもよい。暗色の顔料又は染料としては、カーボンブラック（墨）、鉄黒、弁柄、朱、黄鉛、チタンイエロー、群青、コバルトブルー等の無機顔料、アニリンブラック、キナクリドンレッド、ポリアゾレッド、イソインドリノンイエロー、ベンジジンイエロー、フタロシアニンブルー、インダスレンブルー等の有機顔料（乃至染料）等が用いられる。
【００４４】
（相溶化）即ち、暗色着色層２３組成物（インキ）が、干渉光沢低減層１９面へ、塗布（印刷）され接触した時に、暗色着色層２３組成物（インキ）中の溶媒が、速やかに、界面の干渉光沢低減層１９を再溶解及び／又は相溶化して、界面を溶出させ、該界面の平坦性を崩し、不明瞭化させることである。その後に、乾燥、又は必要に応じて、熱若しくは電離放射線で硬化さればよく、半硬化状態の干渉光沢低減層１９を用いた場合には、此の段階で干渉光沢低減層１９も一緒に完全硬化させればよい。
【００４５】
このために、干渉光沢低減層１９の形成工程に引き続いて、暗色着色層２３組成物を塗布し乾燥する、所謂当業者がインライン（オンラインともいう）印刷と呼ぶ、該機内の複数の印刷ユニットを用いて連続して印刷する印刷方法が好ましい。形成された干渉光沢低減層１９が落ち付く（固定される）までに、次の暗色着色層２３組成物を塗布すると、より界面を再溶解及び／又は相溶化しやすく、不明瞭化させやすい。なお、工程管理を十分にして、干渉光沢低減層１９の形成（印刷）と、暗色着色層２３の形成（印刷）と、別の印刷機で、時間をあけずに直ちに行ってもよい。
【００４６】
（形成方法）暗色着色層２３の形成方法としては、干渉光沢低減層１９の形成方法と同様でよく、好ましくは、暗色着色層２３と干渉光沢低減層１９の形成方法を同じ方法で、インラインで行うことである。暗色着色層２３の厚さとしては、０．５〜３０μｍ程度、好ましくは１．０〜２０μｍである。この範囲未満では暗色の着色が低く、隠蔽性及び意匠効果が低下し、これを超えても既に十分な効果がでており、コスト的に不利である。
【００４７】
（虹彩色防止）このように、暗色着色層２３を形成することで、干渉光沢低減層１９と暗色着色層２３との界面は、互いに再溶解及び／又は相溶化して、界面を溶出させ、平坦性を崩し不明瞭化させることができる。該界面の不明瞭化によって虹彩色防止が可能となる。其の原理（作用機構）を説明する。そもそも従来技術（透明樹脂層／案飾着色層の積層構成）に於いて虹彩色発生の原理は以下の通りであった。即ち、図４（Ａ）に示すように、左斜め上より入射した入射光は、透明樹脂層１５表面での反射光ａ、及び透明樹脂層１５と暗色着色層２３との界面での反射光ｂとに分かれ、両反射光ａ、ｂが出射時に、光路差長分の位相差を以って再度重なることによって、干渉して虹彩色が発生して意匠性が低下するものであった。特に、暗色着色層２３は顔料等の着色剤を含み、透明樹脂層１５との屈折率差は大きい、且つ暗色の背景によって、発生した虹彩色が目立ち易い。従って、該両層間に起因する干渉を低減せしめることが必須となる。
【００４８】
一方、本発明では、図４（Ｂ）に示すように、干渉光沢低減層１９と暗色着色層２３との界面は、互いに相溶化し乱雑化して、不明瞭化する。該不明瞭化界面に、同じく左斜め上より入射した入射光は、乱雑化した界面で反射するが、その反射光ｃはインコヒーレント化され、干渉しくく虹彩色が発生しにくく、意匠性に影響しない。さらに、図４（Ｃ）に示すように、干渉光沢低減層１９へ光拡散剤（説明のため、模式的に示したもので、１部の光拡散剤のみを記載してある）を含有させた場合には、該光拡散剤の表面で乱反射して、より干渉しくく虹彩色の発生が少なく、意匠性に影響しない。
尚、透明樹脂層１５と干渉光沢低減層１９との界面に於ける反射光（図示略）も、反射光ａと干渉する分が皆無では無い。但し、透明樹脂層１５と干渉光沢低減層１９とは共に透明な樹脂であり、通常これらに使用される範囲の樹脂（前記）の組合わせの範囲では、透明樹脂層１５と干渉光沢低減層１９との屈折率差は、透明樹脂層１５と着色樹脂層２３との屈折率差よりも格段に小さい。よって、透明樹脂層１５と着色樹脂層２３との界面に起因する干渉を除去すれば、観察される虹彩色の大部分は除去出來、本発明の目的は達せられる。
【００４９】
また、干渉光沢低減層１９と暗色着色層２３との間に装飾層２１を設けた場合でも、該装飾層２１組成物（インキ）が、干渉光沢低減層１９を再溶解及び／又は相溶化するような組成物を用いることで、同様な虹彩色の発生が少ない効果が得られる。
【００５０】
（接着層）暗色着色層２３の基材１１の反対面へ、必要に応じて接着層２５を設ける。該接着層２５を設けることで、被転写体へ接着層を設けなくても、任意の被転写体に転写することができる。また、勿論、接着層２５を有しない、〔基材１１／離型層１３（必要に応じて）／透明樹脂層１５／プライマ層１７（必要に応じて）／干渉光沢低減層１９／装飾層２１（必要に応じて）／暗色着色層２３〕、からなる構成も、本発明の１つである。この場合でも、接着層を被転写体側へ設けることで、或いは被転写体と暗色着色層とを互いに接着性を有するものの組合わせに限定することによって、被転写材側に転写することができる。
【００５１】
（接着層）接着層２５について説明する。該接着層２５は、本発明の帯電虹彩色防止転写箔１に構成されている、〔透明樹脂層１５／プライマ層１７（必要に応じて）／干渉光沢低減層１９／装飾層２１（必要に応じて）／暗色着色層２３〕の積層構成を、被転写材側に貼り付けるために用いられるもので、常温で粘着力を持つもの、加熱などの処理によって粘着又は接着力を発現するもの、のいずれでもよく、本明細書では、これらを合わせて接着層と総称する。
【００５２】
接着層２５の材料としては、接着性及び／又は粘着性を持てばよく、所謂接着剤、粘着剤、ホットメルトと呼ばれるものも含み、特に規定されるものではない。例えば、アクリル系、エポキシ系、酢酸ビニル系、塩化ビニル系、イソシアネート系、シリコーン系、スチレンーブタジエン系、塩化ビニルー酢酸ビニル系、エチレンー酢酸ビニル系、ポリエステル系、塩化ゴム系、塩素化ポリプロピレン系、ウレタン系などの樹脂を単独で使用、またはこれらの混合物を主成分とする水分散エマルジョンや有機溶剤溶液、水溶液、加熱熔融物などが挙げられる。
【００５３】
（接着層の形成）接着層２５の形成方法としては、上記の樹脂を水や有機溶剤で希釈或いは分散、或いは加熱熔融させた塗布用液体を、通常、グラビア印刷、オフセット印刷、若しくはスクリーン印刷などの印刷方法、又は、ロールコート、バーコート、コンマコート、スプレイコート、若しくは押出しコートなどのコート法で、塗布しその後乾燥又は冷却して、必要に応じて、熱硬化性樹脂、放射線（紫外線、電子線等）硬化性樹脂などの硬化性塗膜には加熱、放射線照射等の硬化処理をして形成されればよい。
【００５４】
（転写法）転写法としては、当業者が所謂ホットスタンプ法と呼ぶ方法、ロール転写法などの公知の方法でよく、特に限定されるものではない。
【００５５】
（被転写体）ＴＶ、パソコン、携帯電話などの電子電気製品、日用品、自動車用品、窓硝子等の建築部材などの種々のものでよく、特に限定されるものではない。光の干渉による虹彩色が発生しくく、また光輝度の均一性が求められる液晶表示装置（ディスプレイ）の面光源装置（バックライトともいう）の窓材（窓の周縁部）、筐体等がより好適である。
特に、電卓、ＣＤプレイヤー、パソコン、ビデオ、デジタルカメラ、ＴＶゲーム機、ＰＤＡ、携帯電話など液晶表示装置（液晶ディスプレイ）などの表示窓部材である。該表示窓は、黒などの暗色着色を用いた外枠とすることできて、光の干渉が発生しにくく虹彩色の発生が少ない高意匠性とすることができる。被転写体の転写する表面材料としては種々のものがあるが、接着層の材料を適宜選択することで、対応できる。
【００５６】
（虹彩色防止転写体）虹彩色防止転写箔を用いて、転写層が転写された虹彩色防止転写体は、黒などの暗色着色を用いた外枠とすることできて、光の干渉による虹彩色の発生が少ないので、高意匠性である。また、例えば、携帯電話の表示窓であれば、頻繁なモデルチェンジ、多品種、及び多種なデザインで、かつ、安価で短納期な多品種少量生産に対応でき、しかも、材料の無駄がなく、既存の設備で少ない工程で製造すことができる。
【００５７】
以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。
【実施例１】
【００５８】
厚さ３８μの透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの一方の面に、離型層としてメラミン樹脂が塗工されている支持体シート（基材）を用意した。次いで、該離型層表面に、スリットリバースコート法にてウレタンアクリレート系プレポリマーから成る紫外線硬化性樹脂を厚さ５μｍ塗工して保護層とした。該保護層に水銀燈からの紫外線を照射して、未反応のアクリレート（アクリロイル）基が残る程度に架橋硬化せしめた。続いて該保護層上に、２液硬化型ウレタン樹脂(アクリルポリオール系樹脂１００質量部に硬化剤としてヘキサメチレンジイソシアネートから成るポリイソシアネート系樹脂を１０質量部添加)のインキをアンカー層として厚み２μｍ積層した。塗工方法はスリットリバースコート法を用いた。
続いてグラビア印刷にて、虹彩防止層と絵柄層及びヒートシール層を連続して印刷する。先ず、虹彩防止層としてはアクリルポリオール系樹脂１００質量部に硬化剤としてヘキサメチレンジイソシアネートから成るポリイソシアネート系樹脂を１０質量部添加してなる２液硬化型ウレタン樹脂のバインダーを用い、トルエンとメチルエチルケトンを１対１質量比混合した溶剤で稀釈した上で、厚さ１μｍで全面ベタ印刷し、溶剤を乾燥、固化せしめて形成した。
次いで、該虹彩防止層を印刷直後の、指触乾燥しているが未硬化状態に於いて、絵柄層形成した。絵柄層用インキは虹彩防止層用インキと同じ樹脂系のバインダーに着色剤としてカーボンブラックを添加した黒色のものを用いて、トルエンとメチルエチルケトンを１
対１質量比混合した溶剤で稀釈した上で、厚さ２μｍの全面ベタ印刷を実施した。
次いで、該絵柄層上にヒートシール層を厚さ２μｍで全面ベタ印刷し、溶剤を乾燥、固化せしめて形成した。ヒートシール用インキはアクリル系樹脂のものを使用した。斯くして実施例１の虹彩防止層転写箔を得た。
【実施例２】
【００５９】
支持体シート（基材）として、厚さ３８μの透明な２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの一方の表面に、コロナ放電処理を施し、該コロナ放電処理面に離型層としてメラミン樹脂が塗工されているものを用いる以外は、実施例１と同様にして、虹彩防止層転写箔を得た。
【実施例３】
【００６０】
干渉光沢低減層（虹彩防止層）として、アクリルポリオール系樹脂１００質量部に硬化剤としてヘキサメチレンジイソシアネートから成るポリイソシアネート系樹脂を１０質量部添加してなる２液硬化型ウレタン樹脂のバインダーに平均粒径２μｍシリカを固形分比１．０％添加したものを用い、トルエンとメチルエチルケトンを１対１質量比混合した溶剤で稀釈したものを用いる以外は、実施例１と同様にして、虹彩防止層転写箔を得た。
【実施例４】
【００６１】
実施例１の虹彩防止層転写箔を用いて、厚さ１ｍｍのアクリル板(日東樹脂工業（株）クラレックス）にロール転写（ロール温度：２２０℃、転写速度：２．０ｍ／ｍｉｎ）して、虹彩防止転写体を得た。
【実施例５】
【００６２】
実施例２の虹彩防止層転写箔を用いる以外は、実施例３と同様にして、虹彩防止転写体を得た。
【００６３】
（比較例１）実施例に基づいた層構成に於いて虹彩防止層を除き、其他は同様に形成した。斯くして比較例の転写シートを得た。
【００６４】
（比較例２）
比較例１の虹彩防止層転写箔を用いる以外は、実施例３と同様にして、虹彩防止転写体を得た。
【００６５】
（評価）実施例、及び比較例の両転写シートを、厚さ１ｍｍのアクリル板(日東樹脂工業（株）クラレックス）にロール転写（ロール温度：２２０℃、転写速度：２．０ｍ／ｍｉｎ）した。それを３波長螢光燈下（東芝ライテック（株）製ＦＬ４ＥＸ−Ｎ−Ｈ型）で）目視にて観察したところ、実施例１〜５（虹彩防止層あり）のいずれにも、虹彩の発生が認めず、また、比較例１〜２（虹彩防止層なし）のいずれにも、顔料インキによる絵柄層部に虹彩（干渉縞）の発生が認められた。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の１実施例を示す虹彩色防止転写体の平面図である。
【図２】図１のＡＡ断面図である。
【図３】本発明の１実施例を示す虹彩色防止転写箔の断面図である。
【図４】虹彩色防止を説明する説明図である。
【符号の説明】
【００６７】
１：虹彩色防止転写箔
１１：基材
１３：離型層
１５：透明樹脂層
１７：プライマ層
１９：干渉光沢低減層
２１：装飾層
２３：暗色着色層
２５：接着層
３１：転写層
１００：表示窓
１０１：表示窓部材
１０３：表示窓部
１０５：外枠部
１０７：意匠デザイン部
【図１】
2005144836.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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