(57)【要約】【課題】  過酸化水素ガス等の除染用ガスを凝縮させて凝縮液層を形成する際にあって、時間経過と共に除染効果が低下しない除染方法、及び除染装置を提供することを目的とする。【解決手段】  過酸化水素ガスを発生させて、チャンバー２内に投入し、投入した過酸化水素ガスをチャンバー２内で凝縮させて、チャンバー２の内壁、またはチャンバー２内にある除染対象物３の表面に凝縮液層を薄膜状に形成する。そして、温度調節装置１０がチャンバー２の室温を上昇させて、一旦形成された凝縮液層を一部蒸発させる。そしてさらに、蒸発させた後、温度調節手段１０が室温を下げて、過酸化水素ガスを凝縮させて凝縮液層を再形成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水より沸点の高い除染用ガスが溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生させ、該除染用ガスを密閉室内に投入し、投入した除染用ガスを当該密閉室内で凝縮させて、密閉室の内壁、または密閉室内にある除染対象物の表面に凝縮液層を薄膜状に形成することにより、密閉室または除染対象物を除染する除染方法において、
一旦形成された凝縮液層を一部、または全部蒸発させる蒸発工程と、
蒸発工程の後、再度除染用ガスを凝縮させて凝縮液層を再形成する再凝縮工程とを備えたことを特徴とする除染方法。
【請求項２】
蒸発工程が、密閉室の室温を上げることにより凝縮液層を蒸発させるものであると共に、再凝縮工程が、密閉室の室温を下げることにより除染用ガスを凝縮させて、凝縮液層を再形成するものであることを特徴とする請求項１記載の除染方法。
【請求項３】
蒸発工程が、密閉室の内圧を下げることにより凝縮液層を蒸発させるものであると共に、再凝縮工程が、密閉室の内圧を上げることにより除染用ガスを凝縮させて、凝縮液層を再形成するものであることを特徴とする請求項１記載の除染方法。
【請求項４】
蒸発工程が、密閉室で飽和しない不飽和ガスを密閉室内に供給することにより凝縮液層を蒸発させるものであると共に、再凝縮工程が、不飽和ガスの供給を停止し、かつ除染用ガスを再投入して除染用ガスを凝縮させて、凝縮液層を再形成するものであることを特徴とする請求項１記載の除染方法。
【請求項５】
除染用ガスが、過酸化水素ガスであることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載の除染方法。
【請求項６】
再凝縮工程を、複数回実行することを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載の除染方法。
【請求項７】
除染対象となる密閉室と、
水より沸点の高い除染用ガスが溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生させ、該除染用ガスを密閉室内に投入するガス発生装置と、
密閉室に投入された除染用ガスを室温を下げることにより飽和させ、除染用ガスを当該密閉室内で凝縮させて、密閉室の内壁、または密閉室内にある除染対象物の表面に凝縮液層を薄膜状に形成する温度調節手段とを備えた除染装置において、
温度調節手段が、一旦形成された凝縮液層を密閉室の室温を所定温度まで上げることにより一部、または全部蒸発させ、蒸発させた後、密閉室の室温を所定温度まで下げることにより再度除染用ガスを凝縮させて凝縮液層を再形成する自動制御内容を備えたことを特徴とする除染装置。
【請求項８】
温度調節手段が、凝縮液層を蒸発させた後、凝縮液層を再形成する制御内容を、複数回実行する自動制御内容を備えたことを特徴とする請求項７記載の除染装置。
【請求項９】
除染対象となる密閉室と、
水より沸点の高い除染用ガスが溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生させ、該除染用ガスを密閉室内に投入するガス発生装置と、
密閉室に投入された除染用ガスを密閉室の内圧を上げることにより飽和させ、除染用ガスを当該密閉室内で凝縮させて、密閉室の内壁、または密閉室内にある除染対象物の表面に凝縮液層を薄膜状に形成する内圧調節手段とを備えた除染装置において、
内圧調節手段が、一旦形成された凝縮液層を密閉室の内圧を所定圧まで下げることにより一部、または全部蒸発させ、蒸発させた後、密閉室の内圧を所定圧まで上げることにより再度除染用ガスを凝縮させて凝縮液層を再形成する自動制御内容を備えたことを特徴とする除染装置。
【請求項１０】
内圧調節手段が、凝縮液層を蒸発させた後、凝縮液層を再形成する制御内容を、複数回実行する自動制御内容を備えたことを特徴とする請求項９記載の除染装置。
【請求項１１】
除染対象となる密閉室と、
水より沸点の高い除染用ガスが溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生させ、該除染用ガスを密閉室内に投入するガス発生装置を備え、
ガス発生装置が密閉室に除染用ガスを投入して飽和させることにより、除染用ガスを当該密閉室内で凝縮させて、密閉室の内壁、または密閉室内にある除染対象物の表面に凝縮液層を薄膜状に形成する除染装置において、
密閉室で飽和しない不飽和ガスを密閉室内に供給することにより、一旦形成された凝縮液層を一部、または全部蒸発させる不飽和ガス供給手段を備えたことを特徴とする除染装置。
【請求項１２】
除染用ガスが、過酸化水素ガスであることを特徴とする請求項７乃至請求項１１のいずれかに記載の除染装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、チャンバー等の密閉室、または密閉室内にある除染対象物を除染する方法、及び除染する装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
チャンバー等の密閉室、または密閉室内にある除染対象物を除染する方法としては、ガス発生装置により過酸化水素ガスを発生させ、この過酸化水素ガスを密閉室内に投入する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。さらに詳述すると、かかる方法は、投入した過酸化水素ガスを密閉室内で飽和させて凝縮させ、密閉室の内壁等に薄膜状に凝縮液層を形成することにより除染効果を得るものである。ここで、過酸化水素ガスを密閉室で凝縮させる具体的手段としては、密閉室の室温を下げる構成が一般的であり、所定の凝縮液層が形成された後は、過酸化水素ガスの供給を通常停止している。また、この凝縮液層の過酸化水素濃度が高いほど、除染効果が高いことも良く知られている。
【０００３】
【特許文献１】特公昭６１−４５４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、除染用ガスとしての過酸化水素ガスは、貯蔵タンクに予め水溶液として貯蔵されており、この水溶液を蒸発させることにより生成される。ここで、過酸化水素は水より沸点が高いため、密閉室の室温を下げて室内で凝縮液層を形成する際にあっては、過酸化水素ガスが先に凝縮を開始して液層を形成し、遅れて水蒸気が液化する。すなわち、凝縮過程の初期段階では、高い過酸化水素濃度の凝縮液層が形成されるものの、時間が経過して水蒸気が凝縮し始めると、全体として凝縮液層の過酸化水素濃度が低下することとなる。このことは、時間が経過するにつれて除染効果が低くなってしまうことを意味する。例えば、３５％の過酸化水素水を蒸発させた場合、凝縮の初期には５８％の濃度の凝縮液層が形成されるが、その後濃度が３５％近くまで低下することが、理論的にも確認できる。
【０００５】
そこで本発明は、過酸化水素ガス等の除染用ガスを凝縮させて凝縮液層を形成する際にあって、時間経過と共に除染効果が低下しない除染方法、及び除染装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、水より沸点の高い除染用ガスが溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生させ、該除染用ガスを密閉室内に投入し、投入した除染用ガスを当該密閉室内で凝縮させて、密閉室の内壁、または密閉室内にある除染対象物の表面に凝縮液層を薄膜状に形成することにより、密閉室または除染対象物を除染する除染方法において、一旦形成された凝縮液層を一部、または全部蒸発させる蒸発工程と、蒸発工程の後、再度除染用ガスを凝縮させて凝縮液層を再形成する再凝縮工程とを備えたことを特徴とする除染方法である（請求項１）。
【０００７】
ここで、本発明にかかる除染方法に用いられる除染用ガスは、水より沸点が高いため、凝縮過程の初期段階では、高い溶質濃度（全水溶液量に対する溶解した除染用ガスの重量，体積，モル数の割合）の凝縮液層が形成される。そしてその後、前述のように、この溶質濃度は低下し始めるが、本発明にあっては、一旦形成された凝縮液層を蒸発させる蒸発工程を実行することを特徴としており、かかる工程を実行することにより、溶質濃度の低下を阻止することが可能となる。これは、凝縮液層を蒸発させると、凝縮液層に含まれる水が先に気化し、これに対し除染用ガスの凝縮液が凝縮液層に残留し、全体として凝縮液層の溶質濃度が高くなることによるものである。ここで、一旦形成された凝縮液層を全部蒸発させれば、濃度低下を完全に断つことが可能となり、一部のみ蒸発させれば、高濃度の凝縮液層が一部残留することとなる。そしてさらに、本発明は、この蒸発工程実行後、凝縮液層を再形成する再凝縮工程を実行することを特徴としている。かかる構成とすることにより、改めて除染用ガスが凝縮することとなるため、再度、除染効果の高い高濃度の凝縮液層を形成することが可能となる。したがって、このように蒸発工程と再凝縮工程とを実行することにより、凝縮液層の溶質濃度が低下することを防止することできると共に、高い溶質濃度の凝縮液層を形成することができる。なお、上述の除染とは、化学Ｔ期除染、無菌、殺菌、滅菌等が含まれる。
【０００８】
また、かかる構成にあって、蒸発工程が、密閉室の室温を上げることにより凝縮液層を蒸発させるものであると共に、再凝縮工程が、密閉室の室温を下げることにより除染用ガスを凝縮させて、凝縮液層を再形成するものである構成が提案される（請求項２）。
【０００９】
かかる構成は、室内を温度調節し得る既存設備を利用できるという点で好適である。
【００１０】
また、蒸発工程が、密閉室の内圧を下げることにより凝縮液層を蒸発させるものであると共に、再凝縮工程が、密閉室の内圧を上げることにより除染用ガスを凝縮させて、凝縮液層を再形成するものである構成が提案される（請求項３）。
【００１１】
かかる構成は、室内の内圧を調節し得る既存設備を利用できるという点で好適である。
【００１２】
また、蒸発工程が、密閉室で飽和しない不飽和ガスを密閉室内に供給することにより凝縮液層を蒸発させるものであると共に、再凝縮工程が、不飽和ガスの供給を停止し、かつ除染用ガスを再投入して除染用ガスを凝縮させて、凝縮液層を再形成するものである構成が提案される（請求項４）。
【００１３】
かかる構成にあっては、密閉室の温度や内圧を変化させることなく凝縮液層を蒸発・再形成することができる。
【００１４】
なお、これまでに述べた構成にあって、除染用ガスが、過酸化水素ガスである構成が例示される（請求項５）。
【００１５】
このように過酸化水素ガスが好適に用いられる理由としては、過酸化水素ガスが、１０-6から１０-12に至るまでの除染のバリデーションへの対応を可能とする強力な除染能力を備え、かつ安価で入手し易いことが挙げられる。また、この過酸化水素ガスは、最終的に酸素と水とに分解されるため、環境に対して影響が少ない点も理由の一つとして挙げられる。
【００１６】
また、再凝縮工程を、複数回実行する構成が提案される（請求項６）。
【００１７】
かかる構成とすることにより、溶質濃度が高い凝縮液層を複数回形成することができ、除染効果の高い高濃度の凝縮液層を密閉室の内壁等に保持できる時間が長くなる。
【００１８】
また、本発明は、除染対象となる密閉室と、水より沸点の高い除染用ガスが溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生させ、該除染用ガスを密閉室内に投入するガス発生装置と、密閉室に投入された除染用ガスを室温を下げることにより飽和させ、除染用ガスを当該密閉室内で凝縮させて、密閉室の内壁、または密閉室内にある除染対象物の表面に凝縮液層を薄膜状に形成する温度調節手段とを備えた除染装置において、温度調節手段が、一旦形成された凝縮液層を密閉室の室温を所定温度まで上げることにより一部、または全部蒸発させ、蒸発させた後、密閉室の室温を所定温度まで下げることにより再度除染用ガスを凝縮させて凝縮液層を再形成する自動制御内容を備えたことを特徴とする除染装置である（請求項７）。
【００１９】
このように、温度調節手段が、溶質濃度が低下していく凝縮液層を室温上昇させて蒸発させるようにすると、凝縮液層の溶質濃度低下を阻止することができる。これと共に、その後再び、室温を下げて凝縮液層を形成するようにすることにより、除染効果の高い高濃度の凝縮液層を再度形成することが可能となる。
【００２０】
さらに、かかる構成にあって、温度調節手段が、凝縮液層を蒸発させた後、凝縮液層を再形成する制御内容を、複数回実行する自動制御内容を備えた構成が提案される（請求項８）。
【００２１】
かかる構成とすることにより、溶質濃度が高い凝縮液層が複数回形成されることとなり、除染効果の高い凝縮液層を密閉室の内壁等に時間的に長く保持できる除染装置とすることができる。
【００２２】
また、本発明は、除染対象となる密閉室と、水より沸点の高い除染用ガスが溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生させ、該除染用ガスを密閉室内に投入するガス発生装置と、密閉室に投入された除染用ガスを密閉室の内圧を上げることにより飽和させ、除染用ガスを当該密閉室内で凝縮させて、密閉室の内壁、または密閉室内にある除染対象物の表面に凝縮液層を薄膜状に形成する内圧調節手段とを備えた除染装置において、内圧調節手段が、一旦形成された凝縮液層を密閉室の内圧を所定圧まで下げることにより一部、または全部蒸発させ、蒸発させた後、密閉室の内圧を所定圧まで上げることにより再度除染用ガスを凝縮させて凝縮液層を再形成する自動制御内容を備えたことを特徴とする除染装置である（請求項９）。
【００２３】
このように、内圧調節手段が、溶質濃度が低下していく凝縮液層を密閉室の内圧を下げて蒸発させるようにすると、凝縮液層の溶質濃度低下を阻止することができる。これと共に、その後再び、内圧を上げて凝縮液層を形成するようにすることにより、除染効果の高い高濃度の凝縮液層を再度形成することが可能となる。
【００２４】
さらに、かかる構成にあって、内圧調節手段が、凝縮液層を蒸発させた後、凝縮液層を再形成する制御内容を、複数回実行する自動制御内容を備えた構成が提案される（請求項１０）。
【００２５】
かかる構成とすることにより、溶質濃度が高い凝縮液層が複数回形成されることとなり、除染効果の高い凝縮液層を密閉室の内壁等に時間的に長く保持できる除染装置とすることができる。
【００２６】
また、本発明は、除染対象となる密閉室と、水より沸点の高い除染用ガスが溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生させ、該除染用ガスを密閉室内に投入するガス発生装置を備え、ガス発生装置が密閉室に除染用ガスを投入して飽和させることにより、除染用ガスを当該密閉室内で凝縮させて、密閉室の内壁、または密閉室内にある除染対象物の表面に凝縮液層を薄膜状に形成する除染装置において、密閉室で飽和しない不飽和ガスを密閉室内に供給することにより、一旦形成された凝縮液層を一部、または全部蒸発させる不飽和ガス供給手段を備えたことを特徴とする除染装置である（請求項１１）。
【００２７】
かかる構成とすることにより、密閉室の温度や内圧を変化させることなく凝縮液層を蒸発・再形成することができる。
【００２８】
なお、これまでに述べた、本発明にかかる除染装置に用いる除染用ガスとしては、過酸化水素ガスが好適である（請求項１２）。好適である理由は上述の通りである。
【発明の効果】
【００２９】
本発明は、一旦形成された凝縮液層を一部、または全部蒸発させる蒸発工程と、蒸発工程の後、再度除染用ガスを凝縮させて凝縮液層を再形成する再凝縮工程とを備えた除染方法としたため（請求項１）、凝縮液層の溶質濃度が著しく低下することを防止できる効果を奏すると共に、除染効果の高い高濃度の凝縮液層を形成し得る優れた利点もある。これにより、除染時間を短縮できる効果がある。
【００３０】
また、蒸発工程が、密閉室の室温を上げることにより凝縮液層を蒸発させるものであると共に、再凝縮工程が、密閉室の室温を下げることにより除染用ガスを凝縮させて、凝縮液層を再形成するものである構成とした場合には（請求項２）、室内を温度調節し得る既存設備を利用でき、コストを抑えることができる効果がある。
【００３１】
また、蒸発工程が、密閉室の内圧を下げることにより凝縮液層を蒸発させるものであると共に、再凝縮工程が、密閉室の内圧を上げることにより除染用ガスを凝縮させて、凝縮液層を再形成するものである構成とした場合は（請求項３）、室内の内圧を調節し得る既存設備を利用でき、コストを抑えることができる効果がある。
【００３２】
また、蒸発工程が、密閉室で飽和しない不飽和ガスを密閉室内に供給することにより凝縮液層を蒸発させるものであると共に、再凝縮工程が、不飽和ガスの供給を停止し、かつ除染用ガスを再投入して除染用ガスを凝縮させて、凝縮液層を再形成するものである構成とした場合は（請求項４）、密閉室の温度や内圧を変化させることなく凝縮液層を蒸発・再形成することができるため、除染時間が長くなることを防止することができる。
【００３３】
なお、除染用ガスとして、過酸化水素ガスを用いた場合は（請求項５）、強力な除染が実現できると共に、安価に入手することが可能となる。また、環境に対して影響が少ない利点もある。
【００３４】
また、再凝縮工程を、複数回実行する構成とした場合は（請求項６）、溶質濃度が高く、除染効果の高い凝縮液層を複数回形成することができ、高濃度の凝縮液層が密閉室の内壁等に長時間保持されるから、時間経過と共に除染効果が低下しない優れた効果がある。また、除染時間を大幅に短縮し得る効果がある。
【００３５】
また、本発明は、温度調節手段が、一旦形成された凝縮液層を室温を上げることにより蒸発させ、蒸発させた後、室温を下げることにより凝縮液層を再形成する自動制御内容を備えた構成としたため（請求項７）、凝縮液層の溶質濃度の低下を阻止することができると共に、除染効果の高い高濃度の凝縮液層を再度形成し得る利点がある。また、かかる制御内容を自動制御する構成としたため、密閉室等の除染管理が簡便なものとなる。
【００３６】
さらに、温度調節手段が、凝縮液層を蒸発させた後、凝縮液層を再形成する制御内容を、複数回実行する自動制御内容を備えた構成とした場合は（請求項８）、溶質濃度が高く、除染効果の高い凝縮液層が複数回形成することが可能となり、高濃度の凝縮液層が長時間保持されるから、時間経過と共に除染効果が低下しない効果がある。
【００３７】
また、本発明は、内圧調節手段が、一旦形成された凝縮液層を室温を上げることにより蒸発させ、蒸発させた後、室温を下げることにより凝縮液層を再形成する自動制御内容を備えた構成としたため（請求項９）、凝縮液層の溶質濃度の低下を阻止することができると共に、除染効果の高い高濃度の凝縮液層を再度形成し得る利点がある。また、かかる制御内容を自動制御する構成としたため、密閉室等の除染管理が簡便なものとなる。
【００３８】
さらに、内圧調節手段が、凝縮液層を蒸発させた後、凝縮液層を再形成する制御内容を、複数回実行する自動制御内容を備えた構成とした場合は（請求項１０）、溶質濃度が高く、除染効果の高い凝縮液層が複数回形成することが可能となり、高濃度の凝縮液層が長時間保持されるから、時間経過と共に除染効果が低下しない効果がある。
【００３９】
また、本発明は、密閉室で飽和しない不飽和ガスを密閉室内に供給することにより、一旦形成された凝縮液層を一部、または全部蒸発させる不飽和ガス供給手段を備えた構成としたため（請求項１１）、密閉室の温度や内圧を変化させることなく凝縮液層を蒸発・再形成することができるため、除染時間が長くなることを防止することができる。
【００４０】
なお、これまでに述べた、本発明にかかる除染装置に用いる除染用ガスとして、過酸化水素ガスを用いた場合は（請求項１２）、強力な除染が実現できると共に、安価に入手できる利点がある。また、環境に対して影響が少ない利点もある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
以下に、チャンバー２、及びチャンバー２内にある除染対象物３を除染する除染装置１について、添付図面に従って説明する。なお、本実施形態例にあっては、除染用ガスとして過酸化水素ガスを用いている。
【００４２】
図１に示されるように、本発明にかかる除染装置１は、密閉空間を形成するチャンバー２と、過酸化水素ガスを発生させるガス発生装置４とを備えている。そして、ガス発生装置４から過酸化水素ガスがチャンバー２に投入される。
【００４３】
また、チャンバー２内には、チャンバー２内の室温を検知する温度センサー９と、チャンバー２内の室温を調節する温度調節装置１０とが備えられている。さらに、チャンバー２の内壁、または除染対象物３の表面に形成された後述の凝縮液層の有無を検知する凝縮センサー１１も備えられている。かかる凝縮センサー１１には、公知のものが用いられる。なお、温度センサー９、温度調節装置１０、及び凝縮センサー１１は、中央制御装置ＣＰＵに電気的に接続されている。
【００４４】
これに対し、ガス発生装置４は、蒸発装置５、液体タンク６、及び送風機７を具備しており、この液体タンク６には、過酸化水素ガスが溶解した過酸化水素水が入っている。そして、この過酸化水素水が、重力下で、蒸発装置５の加熱面（図示省略）に滴下されて過酸化水素水が蒸発され、過酸化水素ガスが発生する。そして、この過酸化水素ガスが送風機７によりチャンバー２内に送り込まれる。なお、この蒸発装置５は、フラッシュ蒸発（いわゆる急速蒸発法）によりガスを発生させる構成である。
【００４５】
また、チャンバー２とガス発生装置４とを連通する回路Ｘには、循環用送風機８が配設され、これにより過酸化水素ガスが回路Ｘを常時循環している。
【００４６】
なお、温度センサー９、温度調節装置１０、後述の制御内容を具備する前記中央制御装置ＣＰＵにより、本発明にかかる温度調節手段が構成される。また、チャンバー２により、本発明にかかる密閉室が構成される。
【００４７】
次に、かかる除染装置１を用いた除染方法について説明する。
まず、上述のように、ガス発生装置４により過酸化水素ガスを発生させ、過酸化水素ガスをチャンバー２内に投入する。そして、過酸化水素ガスをチャンバー２内で飽和状態として凝縮させて、チャンバー２の内壁、または除染対象物３の表面に凝縮液層を薄膜状に形成する。ここで、過酸化水素ガスを凝縮させるには、温度調節装置１０により室温を下げて飽和状態とする。このような方法により、チャンバー２、または除染対象物３が除染される。
【００４８】
次に、本発明の要部について説明する。
本発明にかかる除染方法は、さらに、一旦形成された凝縮液層を一部蒸発させる蒸発工程を実行することを特徴としている。すなわち、凝縮センサー１１が、凝縮液層の存在を検知し、中央制御装置ＣＰＵがこの検知信号を受信すると、所定時間経過後、温度調節装置１０に室温を上昇させる信号を送信する。そして、温度調節装置１０は、かかる信号に基づいて、室温を所定温度まで上げて、一旦形成された凝縮液層を一部蒸発させる。このとき、過酸化水素の沸点は１５０℃であって、水の沸点よりも高いため、凝縮液層の水が先に気化する。したがって、過酸化水素濃度が高い凝縮液層がチャンバー２の内壁等に残留することとなる。
【００４９】
さらに本発明は、この蒸発工程の後、再度過酸化水素ガスを凝縮させて、凝縮液層を再形成する再凝縮工程を実行することを特徴としている。すなわち、温度調節装置１０が所定温度まで上げて蒸発工程を実行した後、中央制御装置ＣＰＵは、所定時間経過後、温度調節装置１０に室温を下げる信号を送信する。そして、温度調節装置１０は、かかる信号に基づいて、室温を所定温度まで下げて、凝縮液層を再形成する。これにより、高い過酸化水素濃度の凝縮液層が再形成されることとなる。なお、この再凝縮工程を複数回実行することにより、高濃度の凝縮液層が全体として長時間保持されることとなるため、除染効果が著しく向上する。また、温度調節装置１０、中央制御装置ＣＰＵ等により上述した温度調節を自動制御する構成とすることにより、チャンバー２や除染対象物３の除染管理が簡便なものとなる。
【００５０】
そして、蒸発工程と、蒸発工程の後実行する再凝縮工程とを、除染効果の高い所定時間サイクルで繰返し実行する。
【００５１】
なお、再凝縮工程にあって、凝縮センサー１１が凝縮液層の層厚を検知し得る構成である場合は、凝縮センサー１１が蒸発工程に基づいて凝縮液層の一部が蒸発したことを検知した場合に、中央制御装置ＣＰＵが、所定時間経過後、温度調節装置１０に室温を下げる信号を送信し、再凝縮工程を実行する構成としても良い。
【００５２】
次に、他の実施形態例を説明する。
本発明にかかる、蒸発工程、及び再凝縮工程を実行する手段としては、チャンバー２の内圧を調節する構成により実現しても良い。具体的な構成としては、図２に示されるように、チャンバー２に、チャンバー２の内圧を検知できる内圧センサー１２と、内圧調節装置１３と、凝縮センサー１１とが備えられている。
【００５３】
かかる構成にあっては、過酸化水素ガスをチャンバー２内に投入し、チャンバー２内が飽和したことを、チャンバー２の湿度、又は湿度変化等により確認した後、内圧を上げて（＋１０〜１０００Ｐａ）過酸化水素ガスを凝縮させる。その後、中央制御装置ＣＰＵが内圧調節装置１３に内圧を所定圧まで下げる内容の信号を送信する。そして、かかる信号を受信した内圧調節装置１３が、圧を開放して内圧を所定圧まで下げることにより一旦形成された凝縮液層を一部蒸発させる。これにより、凝縮液層の濃度低下を阻止することができる。一方、凝縮液層を一部蒸発させた後、内圧を所定圧まで上げて凝縮液層を再形成する。これにより、高濃度の凝縮液層をチャンバー２の内壁や、除染対象物３の表面により長い時間保持することが可能となる。ここで、内圧センサー１２、内圧調節装置１３、中央制御装置ＣＰＵにより、本発明にかかる内圧制御手段が構成される。なお、内圧調節手段が、凝縮液層を蒸発させた後、凝縮液層を再形成する制御内容を、複数回実行する自動制御内容を備えた構成としても良い。
【００５４】
また、蒸発工程、及び再凝縮工程を実行する手段としては、チャンバー２内で飽和しない不飽和ガスをチャンバー２内に供給する不飽和ガス供給装置を備えた構成としても良い。かかる構成にあって、凝縮液層が一旦形成されると、次に、不飽和ガスをチャンバー２内に供給する。すると、凝縮液層が一部、または全部蒸発する。これにより蒸発工程が実行されることとなる。一方、蒸発工程実行後、不飽和ガスの供給を停止し、過酸化水素ガスを再投入する。そして、過酸化水素ガスがチャンバー２内で飽和状態となると、過酸化水素ガスが凝縮を開始し、凝縮液層が再形成される。これにより再凝縮工程が実行されることとなる。
【００５５】
かかる構成は、過酸化水素ガスを蒸発・再形成するために、チャンバー２内の温度や内圧を変更する必要がないため、蒸発工程と再凝縮工程を繰り返すサイクルを迅速に実行することが可能となる。なお、不飽和ガス供給装置により、本発明にかかる不飽和ガス供給手段が構成される。
【００５６】
なお、これまでに述べた除染方法にあっては、除染が終了した場合、チャンバー２内から過酸化水素ガスを抜き取ることとなる。ここで、本実施形態例は、加圧による凝縮方式であるため、公知の減圧方式に比べ、無菌性の維持に絶対的に有為である。また、上記除染装置１は、上記した構成以外にも、様々な構成が付加されていても良い。
【００５７】
また、これまでに述べた構成は、凝縮液層の有無を凝縮センサー１１により検知する構成であるが、凝縮液層の有無をチャンバー２に配設された湿度センサーにより検知する構成とすることもできる。
【００５８】
また、本発明にあっては、蒸発工程で、凝縮液層を全部蒸発させる構成としても良い。かかる構成とすることにより、凝縮液層の濃度低下を完全に阻止することが可能となる。
【００５９】
また、除染用ガスとしては、ホルムアルデヒド、エチレンオキサイド、過酢酸水溶液、オゾン水等の除染剤をガス化したものが例示される。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】除染装置１の概略図である。
【図２】内圧調節装置１３を備えた除染装置１の概略図である。
【符号の説明】
【００６１】
１  除染装置
２  チャンバー
３  除染対象物
４  ガス発生装置
９  温度センサー
１０  温度調節装置
１２  内圧センサー
１３  内圧調節装置
【図１】
2005058495.tif 000003
【図２】
2005058495.tif 000004