(57)【要約】【課題】例えば、マスク、フォトマスクブランクス等の基板を収納する基板収納ケースであって、収納した基板に塵埃等が付着することを有効に防止できる基板収納ケースを提供する。【解決手段】基板を収納する基板収納ケースであって、少なくとも、ケース本体及びケース蓋を有し、該ケース蓋およびケース本体は、収納する基板に面する内側部分が非導電性であり、外に面する外側部分が導電性である２重構造であることを特徴とする基板収納ケース。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を収納する基板収納ケースであって、少なくとも、ケース本体及びケース蓋を有し、該ケース蓋およびケース本体は、収納する基板に面する内側部分が非導電性であり、外に面する外側部分が導電性である２重構造であることを特徴とする基板収納ケース。
【請求項２】
前記導電性の外側部分は、表面比抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の基板収納ケース。
【請求項３】
前記非導電性の内側部分は、表面比抵抗が２０ＭΩ・ｃｍ以上であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の基板収納ケース。
【請求項４】
前記収納する基板が、マスク又はフォトマスクブランクスであることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の基板収納ケース。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体デバイスの製造で用いられる、マスク、フォトマスクブランクス等の基板を収納する基板収納ケースに関する。
【背景技術】
【０００２】
シリコンウェーハなどの半導体ウェーハ上に形成される集積回路（ＩＣ）は、近年、ますます高集積化が進み、大規模集積回路（ＬＳＩ）の実現に至っている。このため、ＬＳＩ製造におけるリソグラフィー工程では、露光に用いられるマスクのマスクパターンの微細化が進んでいる。ここで、フォトマスクブランクスは、石英ガラス体に、Ｃｒ、ＭｏＳｉ等の遮光膜、位相シフト膜をスパッタリングなどの方法により成膜した基板である。そして、このフォトマスクブランクスにスピン塗布法などによりレジスト材料を塗布してレジストを形成し、パターン露光、現像などの手段を経てマスクパターンを形成したものをマスクと称する。
【０００３】
このような露光用マスクのマスクパターンに塵埃等が付着していると、これが半導体ウェーハに投影されて欠陥となり、製造するＬＳＩの製品不良となるという問題がある。また、フォトマスクブランクス上に塵埃等が付着していると、マスク製造の際にフォトマスクブランクスに所望のマスクパターンが刻めなくなるという問題がある。そのため、このようなマスクを用いて露光を行うと、同様に、製造するＬＳＩの製品不良となる。
【０００４】
これら、マスク、フォトマスクブランクスなどの基板は、通常、基板収納ケースに収納して、保存、保管、搬送などを行う。しかし、この際、基板収納ケースのケース本体とケース蓋の隙間などからケース内に塵埃等が侵入することがある。そして、このことが、基板に塵埃等が付着する原因の一つとなっている。
【０００５】
そこで、ケース内に塵埃等が侵入するのを防ぐためにケースを隙間なく密封でき、かつケース本体及びケース蓋の取り外しが容易な基板収納ケースが提案されている（例えば、特許文献１参照。）。しかし、この基板収納ケースを用いた場合、ケースの密閉性が向上するので密封中は塵埃等の侵入が防げるが、開封の際、ケース内が一時負圧となるため塵埃等がケース内に侵入し、結局はケース内のマスクやフォトマスクブランクスなどの基板に塵埃等が付着するという問題が生じる。
【０００６】
また、ケース内に塵埃等が侵入しても、マスクやフォトマスクブランクスに付着しないようにケース内側部分に粘着性を持たせた基板収納ケースが提案されている。しかし、この基板収納ケースを用いた場合、ケース内に侵入し、浮遊している塵埃等が、全てケース内側部分に付着するわけではなく、マスクやフォトマスクブランクスにも付着することが多かったため、塵埃等の対策としては充分とは言えなかった。
【０００７】
【特許文献１】特開２００１−１５４３４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明はこのような問題に鑑みてなされたもので、例えば、マスク、フォトマスクブランクス等の基板を収納する基板収納ケースであって、収納した基板に塵埃等が付着することを有効に防止できる基板収納ケースを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、基板を収納する基板収納ケースであって、少なくとも、ケース本体及びケース蓋を有し、該ケース蓋およびケース本体は、収納する基板に面する内側部分が非導電性であり、外に面する外側部分が導電性である２重構造であることを特徴とする基板収納ケースを提供する（請求項１）。
【００１０】
本発明の基板収納ケースでは、ケース本体及びケース蓋の外側部分が、導電性であるため、該外側部分では静電気の発生が防止され、周囲の塵埃等を吸引し難い。したがって、ケースの外側に付着したり、ケース内に侵入する塵埃等の量を減らすことができる。さらに、ケース蓋およびケース本体の内側部分が、非導電性であるため、該内側部分では静電気が発生し、ケース内で浮遊する塵埃等をケース本体及びケース蓋の内側に吸引し易い。このように、本発明の基板収納ケースでは、ケース内に侵入する塵埃等の量が非常に少ないし、塵埃等がケース内に侵入しても、ケース本体及びケース蓋の内側に付着するため、ほとんど基板に付着することがない。これらのことから、本発明の２重構造の基板収納ケースを用いることで、収納した基板に塵埃等が付着することを有効に防止することができ、基板を非常に清浄な状態に保つことができる。
【００１１】
この場合、前記導電性の外側部分は、表面比抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ以下であるのが好ましい（請求項２）。
【００１２】
このように、基板収納ケースの外側部分の表面比抵抗が、１０ＭΩ・ｃｍ以下であれば、静電気の発生をより確実に防ぐことができる。したがって、ケースの外側に付着したり、ケース内に侵入する塵埃等の量を、大幅に減らすことができる。
【００１３】
また、前記非導電性の内側部分は、表面比抵抗が２０ＭΩ・ｃｍ以上であるのが好ましい（請求項３）。
【００１４】
このように、基板収納ケースの内側部分の表面比抵抗が２０ＭΩ・ｃｍ以上であれば、静電気が非常に発生し易くなる。したがって、ケース内で浮遊する塵埃等をケース本体及びケース蓋の内側部分に充分に吸引することができる。
【００１５】
また、本発明の基板収納ケースでは、前記収納する基板が、マスク又はフォトマスクブランクスであるのが好ましい（請求項４）。
【００１６】
近年、マスクやフォトマスクブランクスに塵埃等が付着すると、これが半導体ウェーハに投影されて欠陥となり、製造する半導体デバイスの製品不良が生じることが大きな問題となっている。しかし、本発明の基板収納ケースを用いることで、ケースに収納中のマスクやフォトマスクブランクスに、塵埃等が付着するのを有効に防止することができる。
【発明の効果】
【００１７】
以上説明したように、本発明によれば、ケース蓋およびケース本体の内側部分が非導電性であり、外側部分が導電性である２重構造の基板収納ケースとしたことで、収納した基板に塵埃等が付着することを有効に防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の実施の形態を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
図１は、本発明の基板収納ケースを示す概略断面図である。この基板収納ケース１は、ケース本体２と、ケース蓋３と、基板押さえ部を具備するインナーケース５とで構成されている。さらに、基板収納ケース１のケース蓋３およびケース本体２は、２重構造を有している。すなわち、収納する基板４に面する内側部分（破線部）６が非導電性であり、外に面する外側部分（実線部）７が導電性である。
尚、この基板収納ケース１は、５枚の基板４を均等な間隔で収納できるようになっている。そして、基板４が、保存、保管、搬送等のために基板収納ケース１に収納されると、通常、基板収納ケース１は、外部環境の影響を受けないように、開閉部にテープを巻き付けることによって密封される。
【００１９】
本発明の基板収納ケース１のように、外側部分７が、導電性であると、外側部分７では静電気の発生を有効に防止できる。したがって、外側部分７は、周囲の塵埃等を吸引し難くなり、外側部分７の表面に付着したり、ケース蓋３とケース本体２の隙間から基板収納ケース１内に侵入する塵埃等の量を減らすことができる。さらに、ケース蓋３とケース本体２の内側部分６が、非導電性であるので、内側部分６では静電気の発生を促すことができる。したがって、基板収納ケース１内で浮遊する塵埃等をケース本体２及びケース蓋３の内側部分６に吸引し易くなる。このように、本発明の基板収納ケース１は、ケース１内に侵入する塵埃等の量を大幅に減らすことができるし、塵埃等がケース１内に侵入しても、ケース本体２及びケース蓋３の内側部分６に付着するため、ほとんど基板４に付着することがない。これらのことから、本発明の２重構造の基板収納ケースを用いることで、収納した基板に塵埃等が付着することを有効に防止することができ、基板を非常に清浄な状態に保つことができる。
【００２０】
このような内側部分６の非導電性材料としては、例えば、ＡＢＳ（アクリルニトリル−ブタジエン−スチレン）樹脂、ＰＰ（ポリプロピレン）、ＰＭＭＡ（ポリメタクリル酸メチル）、ＰＥ（ポリエチレン）などが挙げられる。また、外側部分７の導電性材料としては、例えば、ＡＢＳ樹脂、ＰＰ、ＰＭＭＡ、ＰＥなどにカーボン等の導電材を練り込ませた材料などが挙げられる。
【００２１】
また、ケース本体２とケース蓋３の導電性の外側部分７は、表面比抵抗が１０ＭΩ・ｃｍ以下であるのが好ましい。このように、外側部分７の表面比抵抗を、１０ＭΩ・ｃｍ以下とすることで、周囲から塵埃等を吸引する静電気の発生を充分に抑制することができる。
【００２２】
また、ケース本体２とケース蓋３の非導電性の内側部分は、表面比抵抗が２０ＭΩ・ｃｍ以上であるのが好ましい。このように、内側部分６の表面比抵抗を２０ＭΩ・ｃｍ以上とすることで、ケース内の塵埃等を吸引できる静電気をより発生し易くすることができる。
【００２３】
本発明において、導電性の外側部分と非導電性の内側部分とを２重構造とするのは、導電性材料と非導電性材料とを積層したいわゆる複合材料を用いても良いし、導電性の外側部材と非導電性の内側部材とを別個独立に形成して重ね合わせることによって２重構造としても良い。
【００２４】
また、本発明の基板収納ケースは、マスク、フォトマスクブランクスなどの基板を収納するのに最適である。近年、マスクやフォトマスクブランクスに塵埃等が付着すると、これが半導体ウェーハに投影されて欠陥となり、製造する半導体デバイスの製品不良が生じることが大きな問題となっている。しかし、本発明の基板収納ケースを用いることで、ケースに収納中のマスクやフォトマスクブランクスに、塵埃等が付着するのを有効に防止することができる。
【実施例】
【００２５】
以下、実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（実施例１）
図１に示すような２重構造の基板収納ケースを準備した。この基板収納ケース１は、ケース蓋３およびケース本体２の外側部分７を、カーボン粉を練りこませて導電性をもたせたＡＢＳ樹脂（８ＭΩ・ｃｍ）とし、内側部分６を非導電性のＡＢＳ樹脂(２０ＭΩ・ｃｍ以上)とした。そして、この基板収納ケースにフォトマスクブランクス（１５２ｍｍ（６インチ）×１５２ｍｍ（６インチ）×６．３５ｍｍ（０．２５インチ）ｔ）を５枚入れ、蓋をした後、外気が混入しないように密封した。さらに、密封した基板収納ケースをナイロン製の袋に入れて、クッション材と共にダンボール箱に入れた。そして、その後、これを７００ｋｍ陸送した。
この陸送前後で、フォトマスクブランクスに付着している塵埃等の量を日立デコ社製欠陥測定装置（ＧＭ−１０００）で欠陥数として測定した。そして、陸送前後の欠陥増加数を求めた。尚、測定したフォトマスクブランクスは全部で３５枚であり、測定した領域は１４２ｍｍ□内である。その結果を図２に示す。
【００２６】
（比較例１）
ケース蓋およびケース本体の全体を、カーボン粉を練りこませ導電性をもたせたＡＢＳ樹脂（８ＭΩ・ｃｍ）とした基板収納ケースを用いたことを除いて、実施例１と同様に、基板収納ケースにフォトマスクブランクスを収納し、陸送した。そして、陸送前後の欠陥増加数を求めた。その結果を図２に示す。
【００２７】
（比較例２）
ケース蓋およびケース本体の全体を、非導電性のＡＢＳ樹脂（２０ＭΩ・ｃｍ以上）とした基板収納ケースを用いたことを除いて、実施例１と同様に、基板収納ケースにフォトマスクブランクスを収納し、陸送した。そして、陸送前後の欠陥増加数を求めた。その結果を図２に示す。
【００２８】
図２から判るように、本発明の２重構造の基板収納ケースを用いた場合、陸送中にフォトマスクブランクスに付着する塵埃等の量が極めて少ない。一方、比較例２のように、基板収納ケースのケース本体とケース蓋が、非導電性材料のみからなる場合、陸送中にフォトマスクブランクスに付着する塵埃等の量が極めて多いことが判る。これは、陸送中にケースが静電気を発生して周囲の塵埃等を大量に引き寄せ、これがケース内に侵入してフォトマスクブランクスに付着したためであると考えられる。また、比較例１のように、基板収納ケースのケース本体及びケース蓋が導電性材料のみからなる場合、陸送中にフォトマスクブランクスに付着する塵埃等の量が、比較例２と比較して、若干減っているが、まだ多いことが判る。これは、陸送中にケースが静電気を発生するのを抑制することができるため、引き寄せられてケース内に侵入する塵埃等の量を少なくできるものの、ケース内に侵入した塵埃等が、ケースではなくフォトマスクブランクスに多く付着してしまったためであると考えられる。
【００２９】
尚、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の基板収納ケースの一態様を示す概略断面図である。
【図２】陸送前後のフォトマスクブランクスの欠陥増加数を比較したグラフである（実施例１、比較例１，２）。
【符号の説明】
【００３１】
１…基板収納ケース、  ２…ケース本体、  ３…ケース蓋、  ４…基板、
５…インナーケース、  ６…内側部分、  ７…外側部分。
【図１】
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【図２】
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