(57)【要約】【課題】  転写シートを室温保存した場合であっても変形、端部はみ出しなく、厚みの均一な誘電体層を形成することのできる無機粉体含有樹脂組成物を提供すること。また、該組成物からなる膜形成材料層、転写シート誘電体層、誘電体層形成基板の製造方法及び誘電体層形成基板を提供すること。【解決手段】  無機粉体とTgが２０℃〜１８５℃のセグメント成分からなるマクロモノマーを共重合してなるバインダ樹脂とを含有することを特徴とする。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機粉体と、マクロモノマーを共重合してなるバインダ樹脂とを含有することを特徴とする無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項２】
前記無機粉体１００重量部に対して、前記マクロモノマーを共重合してなるバインダ樹脂を５〜５０重量部含有する請求項１に記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項３】
前記マクロモノマーがＴｇ２０℃〜１８５℃のセグメント成分からなる請求項１又は２に記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項４】
前記無機粉体がガラス粉末である請求項１又は２に記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項５】
前記バインダ樹脂が（メタ）アクリル系樹脂である請求項１又は２に記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項６】
前記（メタ）アクリル系樹脂が、重量平均分子量１〜８０万、且つ、マクロモノマーを１〜５０重量部共重合してなる樹脂である請求項５に記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項７】
誘電体層の形成材料として用いられる請求項１〜６のいずれかに記載の無機粉体含有樹脂組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の無機粉体含有樹脂組成物をシート状にして形成してなる膜形成材料層。
【請求項９】
請求項８に記載の膜形成材料層が、支持フィルム上に積層されている転写シート。
【請求項１０】
請求項8に記載の膜形成材料層を焼結させてなる誘電体層。
【請求項１１】
請求項９記載の転写シートの膜形成材料層を基板に転写し、前記膜形成材料層を４００〜６５０℃で焼結させ、基板上に誘電体層を形成することを特徴とする誘電体層形成基板の製造方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の方法によって製造される誘電体層形成基板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの誘電体層の形成材料として好適に使用される無機粉体含有樹脂組成物、この組成物からなる膜形成材料層、転写シート、誘電体層、誘電体層形成基板の製造方法、及び誘電体層形成基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、薄型平板状の大型ディスプレイとしては、液晶ディスプレイと共にプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰという）が注目されている。ＰＤＰの一部分は、電極が固定されたガラス基板の表面上にガラス焼結体からなる誘電体層が形成された構造をしている。
【０００３】
この誘電体層の形成方法としては、ガラス粉末、アクリル酸エステル系樹脂及び溶剤を含有するペースト状組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を形成し、支持フィルム上に形成された膜形成材料層を、電極が固定されたガラス基板の表面に転写し、転写された膜形成材料層を焼成することにより、前記ガラス基板の表面に誘電体層を形成する方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、誘電体層形成用樹脂組成物としては、Ｃ1〜Ｃ12のメタアクリル酸エステル８０〜１００重量％と、これと共重合可能な他のモノマー０〜２０重量％を共重合させることにより得られ、重量平均分子量が２万から１００万であり、そのガラス転移点温度（Ｔｇ）が１５℃以下である樹脂１００重量部に対し、誘電性無機粉末１００〜５００重量部を加えたものが開示されている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００１−１８５０２４号公報
【特許文献２】特開平１１−３５７８０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来のペースト状組成物又は誘電体層形成用樹脂組成物を支持フィルム上に塗布した転写シートは、ロール状に巻きとって室温保存した場合変形するという問題があった。このような転写シートの変形は、転写シートの膜形成材料層を転写・焼結して形成される誘電体層の厚みのバラツキにつながり、結果的にＰＤＰにおける表示欠陥（輝度ムラ）などの原因になる。さらに、シート端部においてペースト状組成物又は誘電体層形成用樹脂組成物のはみ出しが起こり、ロールに付着するなどの問題があった。
【０００６】
本発明は、このような問題点に鑑みなされたものであり、転写シートを室温保存した場合であっても変形、端部はみ出しがなく、厚みの均一な誘電体層を形成することができる無機粉体含有樹脂組成物を提供することを目的とする。また、この無機粉体含有樹脂組成物からなる膜形成材料層、転写シート、誘電体層、誘電体層形成基板の製造方法、及び誘電体層形成基板を提供することを目的とする
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係る無機粉体含有樹脂組成物は、無機粉体と、マクロモノマーを共重合してなるバインダ樹脂とを含有することを特徴とする。
【０００８】
無機粉体含有樹脂組成物のバインダ樹脂として、マクロモノマーを共重合してなるバインダ樹脂を用いることにより、室温保存した場合の転写シートの変形を抑制でき、それにより厚みの均一な誘電体層を形成することができる。このような顕著な効果が発現する理由は明らかではないが、一般に転写シートとして、ガラス基板上に固定された電極に追従するための段差吸収性、転写性が要求されるため、バインダ樹脂としては可撓性のある樹脂が用いられる。そして、シー卜作製時には均一な厚みであるが、ロール状に巻き取って室温で保存すると、しだいに樹脂の流動、局所的な凝集が起こり、転写シートの変形、端部はみ出しが起こると考えられる。ところが、本発明では、マクロモノマーを共重合してなるバインダ樹脂を使用するため、バインダ樹脂が擬似的に架橋することにより、樹脂の流動、局所的な凝集を抑え、転写シートの変形、端部はみ出しを抑制することが可能となる。
【０００９】
また、本発明に係る無機粉体含有樹脂組成物は、前記無機粉体１００重量部に対して、前記マクロモノマーを共重合してなるバインダ樹脂を５〜５０重量部含有するものであることが好ましい。
【００１０】
バインダ樹脂が、５重量部未満の場合には、無機粉体含有樹脂組成物をシート形成することが困難になり、５０重量部を超える場合には、シート変形が起こりやすくなる傾向にある。
【００１１】
また、本発明に係る無機粉体含有樹脂組成物は、前記マクロモノマーがＴｇ２０℃〜１８５℃のセグメント成分からなるものであることが好ましい。
【００１２】
マクロモノマーのＴｇ（ガラス転移点温度）が２０℃〜１８５℃、好ましくは３０〜１８５℃、さらに好ましくは４０℃〜１８５℃のセグメント成分からなるものであるため、室温において保存する場合であっても、樹脂の流動や局所的な凝集を抑制でき、シートとした場合であっても変形や端部はみ出しを抑制できる。
【００１３】
また、本発明に係る無機粉体含有樹脂組成物は、前記無機粉体がガラス粉末であるものが好ましい。また、前記バインダ樹脂が（メタ）アクリル系樹脂で、前記（メタ）アクリル系樹脂が、重量平均分子量１〜８０万、且つ、マクロモノマーを１〜５０重量部共重合してなる樹脂であるものが好ましい。
【００１４】
共重合するマクロモノマーが１重量部未満の場合には、擬似的な架橋の効果が不十分なため転写シートの変形を十分に抑制することができず、５０重量部を超える場合には、効果が過剰となり、段差吸収性が低下する。
【００１５】
また、本発明に係る無機粉体含有樹脂組成物は、誘電体層の形成材料として用いられるものが好ましい。
【００１６】
また、本発明に係る膜形成材料層は、無機粉体含有樹脂組成物をシート状にして形成してなるものである。また、本発明に係る転写シートは、膜形成材料層が、支持フィルム上に積層されているものである。また、本発明に係る誘電体層は、膜形成材料層を焼結させてなるものであり、また、誘電体層形成基板は、転写シートの膜形成材料層を基板に転写し、前記膜形成材料層を４００〜６５０℃で焼結させ、基板上に誘電体層を形成することを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明について詳細に説明する。本発明の無機粉体含有樹脂組成物は、無機粉体、バインダ樹脂を含有するものである。
【００１８】
無機粉体は、公知のものを特に制限なく用いることができ、具体的には、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化カルシウム、酸化ホウ素、酸化亜鉛、ガラス粉末などが挙げられる。無機粉体の平均粒子径は０．１〜１０μｍであることが好ましい。
【００１９】
本発明においては、無機粉体としてガラス粉末を用いることが好ましい。ガラス粉末としては公知のものを特に制限なく用いることができ、例えば、（１）酸化鉛、酸化ホウ素、酸化珪素（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）の混合物、（２）酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化珪素（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）の混合物、（３）酸化鉛、酸化ホウ素、酸化珪素、酸化アルミニウム（ＰｂＯ−ＺｎＯ−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）の混合物、（４）酸化鉛、酸化バリウム、酸化ホウ素、酸化珪素（ＰｂＯ−ＢａＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）の混合物を挙げることができる。焼結処理により誘電体層を形成することを考慮すると、軟化点が４００〜６５０℃であるガラス粉末が好ましい。
【００２０】
この無機粉体に混合するマクロモノマーを共重合してなるバインダ樹脂としては、重量平均分子量１〜８０万、且つ、マクロモノマーを１〜５０重量部含有してなる（メタ）アクリル系樹脂が好ましい。
【００２１】
ここで、（メタ）アクリル系樹脂とは、アクリル系モノマー及び／又はメタクリル系モノマーと、マクロモノマー含有モノマーとの共重合体、又はそれらの混合物をいうものである。
【００２２】
（メタ）アクリル系モノマーの具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、アミル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレートなどのアルキルメタアクリレートが挙げられる。
【００２３】
この（メタ）アクリル系樹脂は、重量平均分子量１〜８０万のポリマーであることが好ましい。また、重量平均分子量が１万未満の場合には、無機粉体含有樹脂組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を形成した転写シートの凝集力が乏しく強度が低くなり、その後の作業上好ましくない。一方、８０万を超える場合には、無機粉体含有樹脂組成物の粘度が高くなり、無機粉体の分散性が、悪くなるため好ましくない。
【００２４】
また、（メタ）アクリル系樹脂のガラス転移点温度（Ｔｇ）は３０℃以下であることが好ましい。Ｔｇが３０℃を超える場合には、転写シートとした際に可撓性のないシートとなり、凹凸追従性や転写性、ハンドリング性が悪化してしまうため好ましくない。なお、（メタ）アクリル系樹脂のガラス転移点温度は、用いる共重合体の組成比を適宜変えることにより前記範囲内に調整することができる。
【００２５】
（メタ）アクリル系樹脂は、マクロモノマーを１〜５０重量部含有することが好ましい。マクロモノマーが１重量部未満の場合には十分な転写シートの変形抑制効果が得られず、５０重量部を超える場合には、転写シートとした際に可撓性のないシートとなり、凹凸追従性や転写性、ハンドリング性が悪化してしまうため好ましくない。
【００２６】
マクロモノマーは、末端に例えば（メタ）アクリロイル基などの重合性不飽和基を含有するもので、シート強度を高め、室温保存時の変形を防ぐことを目的に共重合されるものである。したがって、共重合するマクロモノマーのセグメント成分には、２０℃〜１８５℃、好ましくは３０〜１８５℃、さらに好ましくは４０℃〜１８５℃のＴｇを持つ成分を有することが好ましい。Ｔｇが２０℃より低い成分を有するマクロモノマーでは、十分なシート強度向上の効果が得られない。また、マクロモノマーの数平均分子量は１千〜５万であることが好ましい。数平均分子量が１千以下である場合には、十分なシート強度向上効果が得られず、数平均分子量が５万以上である場合にはガラス粉体の分散性低下を招く。
【００２７】
高Ｔｇマクロモノマーを枝とするグラフトポリマーのバインダ（樹脂）にすることで、幹となるバインダ（樹脂）の基本機能である可撓性を生かしながら、枝部分の擬似的な架橋によりシート強度向上機能を発現させることができる。
【００２８】
マクロモノマーの具体例としては、メタクリロイル基を有し、セグメント主成分としてメチル（メタ）アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、スチレン、スチレン−アクリロニトリル共重合体などを持つものが挙げられる。また、マクロモノマーの末端部に水酸基などの極性基成分を含有しても良いし、上記セグメント成分を共重合しても良い。
【００２９】
また、（メタ）アクリル系樹脂には、活性水素基含有モノマーを共重合しても良い。活性水素基含有モノマーを共重合することにより、無機粉体の分散性を向上させることができる。
【００３０】
活性水素基含有モノマーの具体例としては、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレー卜、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレー卜、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、２−（メタ）アクリロイロキシエチルフタル酸、イミノール（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００３１】
活性水素基含有モノマーの含有量は、０．００１〜３０モル％であることが好ましい。
【００３２】
無機粉体樹脂組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を形成した転写シートを作製する場合には、支持フィルム上に均一に塗布できるように該組成物中に溶剤を加えることが好ましい。
【００３３】
溶剤としては、無機粉体との親和性が良く、且つ、バインダ樹脂との溶解性が良いものであれば特に限定されるものではない。例えば、テルピネオール、ジヒドロ−α−テルピネオール、ジヒドロ−α−テルピニルアセテート、ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、テレビン油、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノン、ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−3−エトキシプロピオネート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール１−イソブチレート、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール３−イソブチレートなどが挙げられる。これらは単独で用いても良く、任意の割合で２種類以上を併用しても良い。
【００３４】
溶剤の添加量は、無機粉体１００重量部に対して、１０〜１００重量部であることが好ましい。
【００３５】
また、本発明の無機粉体含有樹脂組成物には、可塑剤を添加しても良い。可塑剤を添加することにより、無機粉体含有樹脂組成物を支持フィルム上に塗布して膜形成材料層を形成した転写シートの可撓性や柔軟性、膜形成材料層の基板への転写性などを調整することができる。
【００３６】
可塑剤としては、公知のものを特に制限なく使用することができる。例えば、ジイソノニルアジペート、ジ−２−エチルヘキシルアジペート、ジブチルジグリコールアジペートなどのアジピン酸誘導体、ジ−２−エチルヘキシルアゼレートなどのアゼライン酸誘導体、ジ−２−エチルヘキシルセバケートなどのセバシン酸誘導体、トリ（２−エチルヘキシル）トリメリテート、トリイソノニルトリメリテート、トリイソデシルトリメリテートなどのトリメリット酸誘導体、テトラ−（２−エチルヘキシル）ピロメリテートなどのピロメリット酸誘導体、プロピレングリコールモノオレートなどのオレイン酸誘導体、ポリエチレングリコールやポリプロピレングリコールなどのグリコール系可塑剤などが挙げられる。
【００３７】
可塑剤の添加量は、無機粉体１００重量部に対して、２０重量部以下であることが好ましい。可塑剤の添加量が２０重量部を超えると、得られるシートの強度が低下してしまうため好ましくない。
【００３８】
無機粉体含有樹脂組成物には、上記の成分の他、分散剤、シランカップリング剤、粘着付与剤、レベリング剤、安定剤、消泡剤などの各種添加剤が含有してもよい。
【００３９】
本発明の転写シートは、支持フィルムと、少なくともこの支持フィルム上に形成された膜形成材料層とにより構成されており、支持フィルム上に形成された膜形成材料層を基板表面に一括転写するために用いられるものである。
【００４０】
転写シートは、前記無機粉体含有組成物を支持フィルム上に塗布し、溶剤を乾燥除去して膜形成材料層を形成することにより作製される。
【００４１】
転写フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性及び耐溶剤性を有すると共に可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコータなどによってペースト状の無機粉体含有樹脂組成物を塗布することができ、膜形成材料層をロール状に巻き取った状態で保存し、供給することができる。
【００４２】
支持フィルムを形成する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフルオロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。
【００４３】
なお、支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましい。これにより、膜形成材料層を基板上に転写する工程において、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。
【００４４】
無機粉体含有樹脂組成物を支持フィルム上に塗布する方法としては、例えば、グラビア、キス、コンマなどのロールコータ、スロット、ファンテンなどのダイコーター、スクイズコーター、カーテンコーターなどの塗布方法を採用することができるが、支持フィルム上に均一な塗膜を形成できればいかなる方法でも良い。
【００４５】
膜形成材料層の厚さは、無機粉体の含有率、パネルの種類やサイズなどによっても異なるが、１０〜２００μｍであることが好ましく、さらに好ましくは３０〜１００μｍである。この厚さが１０μｍ未満である場合には、最終的に形成される誘電体層の膜厚が不十分となり、所望の誘電特性を確保することができない傾向にある。通常、この厚さが３０〜１００μｍであれば、大型のパネルに要求される誘電体層の膜厚を十分に確保することができる。また、膜厚は均一であるほど好ましく、膜厚公差は±５％以内であることが好ましい。
【００４６】
なお、転写シートは、膜形成材料層の表面に保護フィルムを設けても良い。保護フィルムの形成材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ホリプロピレンなどが挙げられる。保護フィルムでカバーされた転写シートは、ロール状に巻き取った状態で保存し、供給することができる。
【００４７】
また、前述の転写シートを用いる本発明の誘電体層形成基板の製造方法は、まず、転写シートの膜形成材料層を基板に転写する転写工程、及び転写された膜形成材料層を４００〜６５０℃で焼結させ、基板上に誘電体層を形成する焼結工程を含むことを特徴とする。
【００４８】
基板としては、セラミックスや金属などの基板が挙げられ、特にＰＤＰを作製する場合には、適切な電極が固定されたガラス基板が用いられる。
【００４９】
転写工程の一例を以下に示すが、基板表面に膜形成材料層が転写されて密着した状態にできれば、その方法は特に制限されるものではない。
【００５０】
適宜使用される転写シートの保護フィルムを剥離した後、電極が固定されたガラス基板の表面に、膜形成材料層表面を当接するように転写シートを重ね合わせ、この転写シートを加熱ロール式のラミネーターなどにより熱圧着した後、膜形成材料層から支持フィルムを剥離除去する。これにより、ガラス基板表面に膜形成材料層が転写されて密着した状態となる。
【００５１】
転写条件としては、例えば、ラミネーターの表面温度２５〜１００℃、ロール線圧０．５〜１５ｋｇ／ｃｍ、移動速度０．１〜５ｍ／分であるが、これら条件に限定されるものではない。また、ガラス基板は予熱されていても良く、予熱温度は５０〜１００℃程度である。
【００５２】
膜形成材料層の焼結工程の一例を以下に示すが、膜形成材料層を４００〜６５０℃で焼結させ、基板上に誘電体層を形成できれば、その方法は特に制限されるものではない。
【００５３】
次いで、腹形成材料層が形成されたガラス基板を、４００〜６５０℃の高温雰囲気下に配置することにより、膜形成材料層中の有機物質（バインダ樹脂、残存溶剤、各種の添加剤などが、分解除去され、無機粉体（ガラス粉末）が溶融して焼結する。これによりガラス基板上には、無機焼結体（ガラス焼結体）からなる誘電体層が形成され、誘電体層形成基板が製造される。
【００５４】
誘電体層の厚さは、使用する膜形成材料層の厚さによって異なるが、１５〜５０μｍ程度である。
【００５５】
本発明の誘電体層形成基板は、誘電体層に微細ボイドやクラックがなく、光透過率などの光学特性に優れている。
【実施例】
【００５６】
以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５７】
（転写シートの強度測定）
引張試験を行い、弾性率（Ｎ／ｍｍ2）及び最大点荷重（Ｎ）を測定した。引張試験は、３０ｍｍ×３０ｍｍ（断面積：１．５ｍｍ2、長さ３０ｍｍ）の転写シートを棒状にまるめてサンプルとした。試験には、引張試験機（島津製作所、ＡＧ−２０ｋＮＧ）を用い、チャック間を１ｃｍ、剥離速度５ｍｍ／ｍｉｎの条件下で測定した。弾性率及び最大点荷重の値が高いほど、転写シートの室温保存時の変形は小さい。
【００５８】
（誘電体層の光透過率測定）
得られた無機焼結体の光透過率（％）を測定した。光透過率の測定は、分光光度計（島津製作所、ＭＰＳ２０００）を用いて、５５０ｎｍの波長光における吸収量を測定し、予め測定しておいたバックグラウンドであるガラス基板の吸収量をキャンセルして、無機焼結体のみの光透過率を算出した。
【００５９】
（端部はみ出しの評価）
転写シート（１００ｍｍ幅）を、巻き取り張力９０Ｎで巻芯（φ７６．５ｍｍ、厚さ８ｍｍ、ＡＢＳ製）に５０ｍ巻き取り、温度２３℃、湿度５０％の環境下、宙吊り状態で１ヶ月間保管後の端部はみ出しを評価した。
【００６０】
（実施例１）
（ＭＭＡマクロモノマー含有（メタ）アクリル系樹脂の調整）
撹絆羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器、滴下ロートを備えた四つロフラスコにブチルメタクリレート（ＢＭＡ）、ラウリルメタクリレート（ＬＭＡ）、セグメント主成分にＴｇが１０５℃であるメチルメタクリレート（ＭＭＡ）を有するマクロモノマー（東亜合成：ＡＡ−６（数平均分子量Ｍｎ＝６０００）（重合部比：ＢＭＡ／ＬＭＡ／ＡＡ−６＝６７．９／２９．１／３））、重合開始剤、酢酸エチルを仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を７０℃付近に保って約８時間重合反応を行い、固形分５０重量%のＭＭＡマクロモノマー含有メタクリル系樹脂（Ａ）溶液を調製した。
【００６１】
（無機粉体含有樹脂組成物の調製）
無機粉体としてガラス粉体１００重量部、前記メタクリル系樹脂（Ａ）１６重量部、可塑剤としてトリメリット酸トリオクチル１６重量部、溶剤としてα−テルピネオールを４０重量部配合し、分散機を用いて混合分散して、ペースト状の無機粉体含有樹脂組成物を調整した。
【００６２】
（転写シートの作製）
ポリエチレンテレフタレ一ト（ＰＥＴ）フィルムに剥離剤処理を施した支持フィルムに、前記調整した無機粉体含有樹脂組成物をロールコータを用いて塗布し、塗膜を１５０℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去して膜形成材料層（厚さ６０μｍ）を形成した。その後、膜形成材料層上に保護フィルム（ＰＥＴ）をカバーし、ロール状に巻き取って転写シートを作製した。
【００６３】
（誘電体層形成ガラス基板の作製）
前記転写シートの保護フィルムを剥離後、転写シートの膜形成材料層表面をパネル用ガラス基板の表面（バス電極の固定面）に当接するように重ね合わせ、加熱ロール式ラミネータを用いて熱圧着した。圧着条件は、加熱ロールの表面温度８０℃、ロール線圧１ｋｇ／ｃｍ、ロール移動速度１ｍ／分であった。熱圧着処理後、膜形成材料層から支持フィルムを剥離除去すると、ガラス基板表面に膜形成材料層が転写されて密着した状態になっていた。そして、膜形成材料層が転写されたガラス基板を焼成炉内に配置し、炉内の温度を室温から６００℃まで、１０℃／分の昇温速度で昇温し、６００℃の温度雰囲気下で６０分間維持することにより、ガラス基板表面にガラス焼結体からなる誘電体層を形成し、誘電体層形成ガラス基板を作製した。
【００６４】
（実施例２）
（ＩＢＭＡマクロモノマー含有（メタ）アクリル系樹脂の調整）
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器、滴下ロートを備えた四つ口フラスコにブチルメタクリレート（ＢＭＡ）、ラウリルメタクリレート（ＬＭＡ）、セグメント主成分にＴｇが４８℃であるイソブチルメタクリレート（ＩＢＭＡ）を有するマクロモノマー（東亜合成：ＡＷ−６Ｓ（数平均分子量Ｍｎ＝６０００）（重合部比：ＢＭＡ／ＬＭＡ／ＡＷ−６Ｓ=６７．９／２９．１／３）、重合開始剤、酢酸エチルを仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を７０℃に保って約８時間重合反応を行い、固形分５０重量％のＩＢＭＡマクロモノマー含有メタクリル系樹脂（Ｂ）溶液を調製した。
【００６５】
（無機粉体含有樹脂組成物の調製）
メタクリル系樹脂（Ｂ）を用いた以外は実施例１と同様の方法により無機粉体含有樹脂組成物を調製した。
【００６６】
（転写シートの作製）及び（誘電体層形成ガラス基板の作製）
実施例１と同様の方法により転写シート及び誘電体層形成ガラス基板を作製した。
【００６７】
（実施例３）
（ＩＢＭAマクロモノマー含有（メタ）アクリル系樹脂の調製）
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器、滴下ロートを備えた四つ口フラスコにブチルメタクリレート（ＢＭＡ）、ラウリルメタクリレート(ＬＭＡ)、セグメント主成分にＴｇが４８℃であるイソブチルメタクリレート（ＩＢＭＡ）を有するマクロモノマー（東亜合成：ＡＷ−６Ｓ（数平均分子量Ｍｎ＝６０００）（重合部比：ＢＭＡ／ＬＭＡ／ＡＷ−６Ｓ=６７．９／２９．５／１．５）、重合開始剤、酢酸エチルを仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を７０℃に保って約８時間重合反応を行い、固形分５０重量％のＩＢＭＡマクロモノマー含有メタクリル系樹脂（Ｃ）溶液を調製した。
【００６８】
（無機粉体含有樹脂組成物の調整）
メタクリル系樹脂（Ｃ）を用いた以外は実施例１と同様の方法により無機粉体含有樹脂組成物を調製した。
【００６９】
（転写シートの作製）及び（誘電体層形成ガラス基板の作製）
実施例１と同様の方法により転写シート及び誘電体層形成ガラス基板を作製した。
【００７０】
（比較例１）
（マクロモノマー非含有（メタ）アクリル系樹脂の調製）
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器、滴下ロートを備えた四つ口フラスコにブチルメタクリレート（ＢＭＡ）、ラウリルメタクリレート（重合部比：ＢＭＡ／ＬＭＡ=７０／３０）、重合開始剤、酢酸エチルを仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入し、フラスコ内の液温を７０℃に保って約８時間重合反応を行い、固形分５０重量％のマクロモノマー非含有メタクリル系樹脂（Ｄ）溶液を調製した。
【００７１】
（無機粉体含有樹脂組成物の調整）
メタクリル系樹脂（Ｄ）を用いた以外は実施例１と同様の方法により無機粉体含有樹脂組成物を調製した。
【００７２】
（転写シートの作製）及び（誘電体層形成ガラス基板の作製）
実施例１と同様の方法により転写シート及び誘電体層形成ガラス基板を作製した。
【００７３】
【表１】
2005225914.tif 000002
【００７４】
表１の結果から明らかなように、バインタ樹脂として特定の（メタ）アクリル系樹脂を用い、さらに高Ｔｇマクロモノマーの共重合により擬似的に架橋した場合（実施例１〜３）には、マクロモノマーを共重合しなかった場合（比較例１）に比べて弾性率及び最大点荷重が高く、転写シートの室温保存時の端部はみ出しは良好であった。そのため誘電体層の巻厚均一性もより優れていた。