(57)【要約】【課題】  有機エレクトロルミネセンス素子に劣化が発生しない有機エレクトロルミネセンス表示パネルを提供する。【解決手段】  有機エレクトロルミネセンス表示パネルは、有機エレクトロルミネセンス素子と、該有機エレクトロルミネセンス素子を支持する樹脂基板と、を含む。該樹脂基板と該有機エレクトロルミネセンス素子との間に、２以上の無機バリア層と該無機バリア層間に各々設けられている１以上の高分子化合物層とを含むガスバリア層が形成されている。該高分子化合物層の該無機バリア層に覆われていない露出部にプラズマ処理が施されている。該露出部はガスバリア性を呈する被覆層若しくは封止層に覆われても良い。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１及び第２表示電極と前記第１及び第２表示電極間に挟持されて有機化合物からなる１以上の有機機能層とからなる有機エレクトロルミネセンス素子と、前記有機エレクトロルミネセンス素子を支持する樹脂基板と、を含む有機エレクトロルミネセンス表示パネルであって、
前記樹脂基板と前記有機エレクトロルミネセンス素子との間に、２以上の無機バリア層と前記無機バリア層間に各々設けられている１以上の高分子化合物層とを含むガスバリア層を有し、
前記高分子化合物層の前記無機バリア層に覆われていない露出部にプラズマ処理が施されている、ことを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示パネル。
【請求項２】
前記ガスバリア層は少なくとも前記露出部を覆う被覆層を含むことを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。
【請求項３】
前記被覆層は窒化酸化シリコンからなることを特徴とする請求項２記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。
【請求項４】
前記有機エレクトロルミネセンス素子を覆って前記ガスバリア層と共に前記有機エレクトロルミネセンスを封止する封止層を含み、
前記封止層は少なくとも前記露出部を覆うことを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。
【請求項５】
前記封止層は窒化酸化シリコン又は窒化シリコンからなることを特徴とする請求項４記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。
【請求項６】
前記高分子化合物層の端部が前記高分子化合物層と接する前記無機バリア層の周縁部よりも内側にあることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。
【請求項７】
前記無機バリア層は窒化酸化シリコン又は窒化シリコンからなることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。
【請求項８】
前記高分子化合物層は紫外線硬化性樹脂もしくは熱硬化性樹脂からなることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。
【請求項９】
前記ガスバリア層は前記樹脂基板を介して前記有機エレクトロルミネセンス素子と対向する位置にも設けられていることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。
【請求項１０】
有機エレクトロルミネセンス素子と、前記有機エレクトロルミネセンス素子を支持する樹脂基板と、を含む有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法であって、
前記樹脂基板上に無機バリア層と高分子化合物層とを交互に成膜して前記高分子化合物層が前記無機バリア層に挟持されるように積層体を形成し、前記高分子化合物層の前記無機バリア層に覆われていない前記露出部にプラズマ処理を施して、前記積層体をガスバリア層とするガスバリア層形成工程と、
前記ガスバリア層上に第１及び第２表示電極と前記第１及び第２表示電極間に挟持された有機化合物からなる１以上の有機機能層とからなる有機エレクトロルミネセンス素子を形成する有機エレクトロルミネセンス素子形成工程と、を含むことを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。
【請求項１１】
前記プラズマ処理は酸素プラズマ処理であることを特徴とする請求項１０記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。
【請求項１２】
前記酸素プラズマ処理は、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノンの何れかと酸素との混合ガス、又はハロゲンガスと酸素との混合ガスを用いる処理であることを特徴とする請求項１１記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。
【請求項１３】
前記プラズマ処理は平行平板型プラズマ装置によって実施されることを特徴とする請求項１０記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。
【請求項１４】
前記ガスバリア形成工程は、前記プラズマ処理後に前記露出部を被覆層で被覆する工程を含むことを特徴とする請求項１０記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。
【請求項１５】
前記被覆層は、プラズマＣＶＤ法若しくはスパッタ法によって成膜されることを特徴とする請求項１４記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。
【請求項１６】
有機エレクトロルミネセンス素子と、前記有機エレクトロルミネセンス素子を支持する樹脂基板と、を含む有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法であって、
前記樹脂基板上に無機バリア層と高分子化合物層とを交互に成膜して前記高分子化合物層が前記無機バリア層に挟持されるように積層体を形成する工程と、
前記積層体上に第１表示電極を形成する第１表示電極形成工程と前記第１表示電極に支持される有機機能層を形成する有機機能層工程と前記有機機能層を前記第１表示電極と共に挟持する第２表示電極を形成する第２表示電極形成工程とからなる有機エレクトロルミネセンス素子形成工程と、を含み、
第１表示電極形成工程は、前記高分子化合物層の前記無機バリア層に覆われていない前記露出部にプラズマ処理を施して前記積層体をガスバリア層とするプラズマ処理工程を含む、ことを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。
【請求項１７】
前記第１表示電極層形成工程は、導電性材料からなる薄膜を成膜する工程と、前記薄膜上に所定パターンのレジストを配してエッチングを行うエッチング工程と、エッチング後の前記レジストをプラズマアッシング処理により除去するレジスト除去工程と、を含み、
前記レジスト除去工程が前記プラズマ処理工程であることを特徴とする請求項１６記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。
【請求項１８】
前記第１表示電極形成工程は、前記第１表示電極にプラズマ処理を施してその表面を改質する表面改質工程を含み、
前記表面改質工程が前記プラズマ処理工程であることを特徴とする請求項１６記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。
【請求項１９】
前記無機バリア層はプラズマＣＶＤ法若しくはスパッタ法を用いて成膜されることを特徴とする請求項１０または１６記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。
【請求項２０】
前記高分子化合物層はスピンコート法を用いて成膜されることを特徴とする請求項１０または１６記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。
【請求項２１】
前記有機エレクトロルミネセンス素子を覆って前記ガスバリア層と共に前記有機エレクトロルミネセンスを封止する封止層を形成する工程を含み、
前記封止層は少なくとも前記露出部を覆うことを特徴とする請求項１０または１６記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。
【請求項２２】
前記封止層は、プラズマＣＶＤ法若しくはスパッタ法によって成膜されることを特徴とする請求項２１記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。
【請求項２３】
前記ガスバリア層形成工程は、樹脂基板の両面にそれぞれ前記ガスバリア層を形成する工程であり、
前記有機エレクトロルミネセンス素子形成工程は、前記ガスバリア層の何れか一方の上に有機エレクトロルミネセンス素子を形成する工程であることを特徴とする請求項１０記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。
【請求項２４】
前記積層体を形成する工程は、樹脂基板の両面にそれぞれ前記積層体を形成する工程であり、
前記有機エレクトロルミネセンス素子形成工程は、前記積層体の何れか一方の上に有機エレクトロルミネセンス素子を形成する工程であることを特徴とする請求項１６記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネセンス表示パネルとその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネセンス表示パネル（以下有機ＥＬ表示パネルと称する）は、エレクトロルミネセンスを呈する有機化合物材料を含む有機機能層が陽極と陰極とによって挟持されている有機エレクトロルミネセンス素子（以下有機ＥＬ素子と称する）を含む。有機機能層は、エレクトロルミネセンスを呈する有機化合物材料からなる発光層の単一層、あるいは有機正孔輸送層、発光層および有機電子輸送層の３層構造、又は有機正孔輸送層及び発光層の２層構造、さらにこれらの適切な層間に電子或いは正孔の注入層やキャリアブロック層を挿入した積層体である。
【０００３】
該有機ＥＬ素子は基板に支持されている。基板としては、ガラス基板、樹脂基板が使用されている。樹脂基板のうち、プラスチックフィルムを基板として用いることが提案され、基板の可撓性を利用した屈曲自在な表示パネルが得られている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
有機ＥＬ素子は、大気に曝されると、水分、酸素等のガス、その他使用環境中のある種の分子の影響を受けて劣化する。特に、プラスチックフィルム基板を用いる有機ＥＬ表示パネルにおいては、特性劣化が顕著であり、輝度、色彩などの発光特性が低下する問題がある。
【０００５】
これを防止するために、水分及び酸素等の気体の通過を防止する特性、すなわちガスバリア性を呈する無機バリア膜を樹脂基板に設ける方法が提案されている。しかし、該無機バリア膜ではピンホールが発生するという問題がある。該ピンホールは、無機バリア膜が成膜される基材表面の凹凸、成膜前の異物付着によって生じる場合がある他、成膜時に発生することもあり、完全になくすことは困難である。かかるピンホールを介して気体が有機ＥＬ素子に到達できる故、樹脂基板に無機バリア膜が設けられていても、素子の劣化は完全に防止できなかった。
【０００６】
本発明が解決しようとする課題には、前述した問題が１例として挙げられる。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルは、第１及び第２表示電極と該第１及び第２表示電極間に挟持されて有機化合物からなる１以上の有機機能層とからなる有機エレクトロルミネセンス素子と、該有機エレクトロルミネセンス素子を支持する樹脂基板と、を含む有機エレクトロルミネセンス表示パネルであって、該樹脂基板と該有機エレクトロルミネセンス素子との間に、２以上の無機バリア層と該無機バリア層間に各々設けられている１以上の高分子化合物層とを含むガスバリア層を有し、該高分子化合物層の該無機バリア層に覆われていない露出部にプラズマ処理が施されている、ことを特徴とする。
【０００８】
請求項１０に記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法は、有機エレクトロルミネセンス素子と、該有機エレクトロルミネセンス素子を支持する樹脂基板と、を含む有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法であって、該樹脂基板上に無機バリア層と高分子化合物層とを交互に成膜して該高分子化合物層が該無機バリア層に挟持されるように積層体を形成し、該高分子化合物層の該無機バリア層に覆われていない該露出部にプラズマ処理を施して、該積層体をガスバリア層とするガスバリア層形成工程と、該ガスバリア層上に第１及び第２表示電極と該第１及び第２表示電極間に挟持された有機化合物からなる１以上の有機機能層とからなる有機エレクトロルミネセンス素子を形成する有機エレクトロルミネセンス素子形成工程と、を含むことを特徴とする。
【０００９】
請求項１６に記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法は、有機エレクトロルミネセンス素子と、該有機エレクトロルミネセンス素子を支持する樹脂基板と、を含む有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法であって、該樹脂基板上に無機バリア層と高分子化合物層とを交互に成膜して該高分子化合物層が該無機バリア層に挟持されるように積層体を形成する工程と、該積層体上に第１表示電極を形成する第１表示電極形成工程と該第１表示電極に支持される有機機能層を形成する有機機能層工程と該有機機能層を該第１表示電極と共に挟持する第２表示電極を形成する第２表示電極形成工程とからなる有機エレクトロルミネセンス素子形成工程と、を含み、第１表示電極形成工程は、該高分子化合物層の該無機バリア層に覆われていない該露出部にプラズマ処理を施して該積層体をガスバリア層とするプラズマ処理工程を含む、ことを特徴とする。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の有機ＥＬ表示パネルの実施例を、添付図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、同一の部分については同一の符号が付されている。また有機ＥＬ表示パネルには、表示パネルの動作に必要な駆動部及び配線などが含まれ得るものの、以下の説明では省略している。
【００１１】
図１に示す如く、有機ＥＬ表示パネル１ａは樹脂基板２を含む。樹脂基板２は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリカーボネート、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェノキシエーテル、ポリアリレート、フッ素樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレンナフタレート、ポリオレフィンなどが使用できる。樹脂基板２は、可撓性を有するフィルムとしても良い。
【００１２】
樹脂基板２上には、２つの無機バリア層３，５と、これらに挟持されている高分子化合物層４と、からなるガスバリア層６が形成されている。
【００１３】
無機バリア層３，５は、窒化物、酸化物及び窒化酸化物などの無機材料からなり、ガスバリア性を呈する。例えば、窒化シリコン、酸化シリコン若しくは窒化酸化シリコンが、無機バリア層の材料として使用できる。高分子化合物層４は、例えば紫外線（ＵＶ）硬化性樹脂、熱硬化性樹脂などからなる。また、高分子化合物層は、スピンコート法などの湿式成膜法によって成膜できる材料からなることが好ましい。なんとなれば、湿式成膜法によって得られる薄膜は、乾式成膜法によって得られる薄膜に比べてピンホール等の欠陥が発生しにくいからである。
【００１４】
高分子化合物層４の露出部、すなわち高分子化合物層４のうち無機バリア層３，５によって覆われていない部分は、プラズマ処理が施されている。プラズマ処理とは、高分子化合物層にプラズマを曝して表面処理を行うことである。かかる処理によって、高分子化合物層の露出部が改質されてガスバリア性を呈するようになる。換言すれば、高分子化合物層の露出部（例えば高分子化合物層の端面）からは、水分等の気体が侵入できない。
【００１５】
ガスバリア層６上には、第１表示電極７（例えば透明材料からなる陽極層）、エレクトロルミネセンス特性を呈する有機化合物を含有する発光層が少なくとも含まれている有機機能層８、第２表示電極９（例えば金属材料からなる陰極層）が順に成膜されて、有機ＥＬ素子１０が形成されている。ガスバリア層上には複数の有機ＥＬ素子が設けられても良い。例えば複数の有機ＥＬ素子が均一に分布するように設られて、マトリックス表示タイプの有機ＥＬ表示パネルが形成されても良い。
【００１６】
有機ＥＬ素子１０は背面からガスバリア性を有する封止層１１に覆われ、封止層１１はガスバリア層６と共に有機ＥＬ素子１０を封止している。封止層は、窒化物、酸化物及び窒化酸化物等の無機材料からなる。例えば、窒化シリコン、酸化シリコン若しくは窒化酸化シリコンが封止層の材料として使用できる。
【００１７】
有機ＥＬ素子と樹脂基板との間に、上記の如きガスバリア層を形成することによって、気体が樹脂基板から有機ＥＬ素子へ侵入することが防止できる。換言すれば、無機バリア層が欠陥を生じない高分子化合物層を挟持することによって、無機バリア層のピンホール等の欠陥を通って侵入してくる気体の経路を遮断することができる。また、高分子化合物層の露出部がプラズマ処理されていることから、当該部分が外部に露出していても気体が侵入できない。したがって、基板側から有機ＥＬ素子へと気体が侵入する経路を遮断することができる故、有機ＥＬ素子の劣化が発生しない。
【００１８】
また、有機ＥＬ表示パネルに対して外部から応力が加えられた場合、高分子化合物層が緩衝層として作用することから、無機バリア層の破損を防止することができる。故に、劣化が発生せずかつ信頼性が高い有機ＥＬ表示パネルを得ることができる。
【００１９】
なお、高分子化合物層の露出部をプラズマ処理することによりガスバリア層のガスバリア性が良好になるものの、該露出部を更に無機材料で覆うことによってガスバリア層のガスバリア性を確実に向上させることができる。例えば、ガスバリア層は、高分子化合物層の少なくとも露出部を覆うガスバリア性を呈する被覆層を含むこととしても良い。例えば、図２に示す如く、有機ＥＬ表示パネル１ｂは、高分子化合物層４とこれを挟持する２つの無機バリア層３，５とからなる積層体と、高分子化合物層４のプラズマ処理されている露出部を覆って該積層体に成膜されている被覆層１２と、からなるガスバリア層６を樹脂基板２上に有する。被覆層１２は、ガスバリア性を呈し、窒化物、酸化物及び窒化酸化物などの無機材料からなる。窒化シリコン、酸化シリコン若しくは窒化酸化シリコン等が被覆層として使用できる。その他の構成は、図１に示す如き有機ＥＬ表示パネル１ａと略同一である。
【００２０】
上記の如く、プラズマ処理が施された高分子化合物層の露出部を更に被覆層で覆うことによって、高分子化合物層のガスバリア性が向上する。故に、信頼性が高い有機ＥＬ表示パネルを得ることができる。
【００２１】
なお、高分子化合物層の端部が、該高分子化合物層を挟持している無機バリア層の周縁部より内側にあることとしても良い。例えば、図３に示す如く、高分子化合物層４は高分子化合物層４と接する無機バリア層３，５よりも小なる大きさに形成され、高分子化合物層４の端部が無機バリア層３，５の周縁部の内側にあることとしても良い。すなわち、無機バリア層３，５の層間に高分子化合物層４によって溝部が形成されても良い。かかる溝部を埋めるように被覆層１２が成膜されても良い。その他の構造は、図２に記載の実施例と略同一である。上記の如き構成によれば、高分子化合物層の側部を大なる厚さの被覆層で覆うことができることから、高分子化合物層の側部からのガスの侵入を防止できる故、ガスバリア層のガスバリア性を向上させることができる。
【００２２】
変形例として、高分子化合物層の少なくとも露出部が有機ＥＬ素子を封止する封止層によって覆われても良い。例えば、図４に示す如く、樹脂基板２に設けられたガスバリア層６上に有機ＥＬ素子１０が形成され、有機ＥＬ素子１０が封止層１１に覆われて封止されている。高分子化合物層４の露出部である側面は、封止層１１によって覆われている。封止層１１は、窒化物、酸化物及び窒化酸化物などの無機材料からなり、ガスバリア性を呈する。例えば、窒化シリコン、酸化シリコン若しくは窒化酸化シリコンが封止層の材料として使用できる。上記の如く、封止層によって高分子化合物層の側面を覆うことで、ガスバリア層のガスバリア性が向上する。
【００２３】
なお、ガスバリア層は樹脂基板を介して有機ＥＬ素子と対向する位置に更に設けられても良い。例えば図５に示す如く、有機ＥＬ表示パネル１ｅは、樹脂基板２を挟持するように２つのガスバリア層６ａ，６ｂが形成されても良い。ガスバリア層６ａ，６ｂの何れにおいても、高分子化合物層４の露出部はプラズマ処理が施されている。他の構成は、図１に示す如き実施例と略同一である。
【００２４】
上記実施例においてガスバリア層は２層の無機バリア層と１層の高分子化合物層とからなっているものの、これに限定されず、ガスバリア層に複数の高分子化合物層が含まれても良い。すなわち、複数の高分子化合物層がそれぞれ無機バリア層によって挟持されるように、無機バリア層と高分子化合物層とが交互に成膜されて、ガスバリア層が形成されても良い。例えば、図６に示す如く、有機ＥＬ表示パネル１ｆは、３つの無機バリア層３、５、１４と、無機バリア層３、５、１４の間に各々設けられている２つの高分子化合物層４、１３とを含むガスバリア層６を含むこととしても良い。その他の構成は、図１に示す如き実施例と略同一である。
【００２５】
上記の如き有機ＥＬ表示パネルの製造方法を説明する。図７に示す如く、ポリカーボネート等の樹脂材料からなる樹脂基板２上に真空蒸着、スパッタ法などの成膜方法を用いて無機バリア層３を成膜する（図７（ａ））。無機バリア層３上に、スピンコート法などの湿式成膜法を用いて高分子化合物層４を成膜する（図７（ｂ））。
【００２６】
高分子化合物層４上に無機バリア層５をスパッタ法などの成膜方法によって再度成膜し、無機バリア層３，５によって挟持されている高分子化合物層４を含む積層体を形成する。かかる積層体を形成した後、該積層体にプラズマ処理を施して、該積層体をガスバリア層６とする（図７（ｃ））。プラズマ処理は、例えば平行平板型プラズマ装置において実施される酸素プラズマ処理である。酸素プラズマ処理は、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノンの何れかと酸素との混合ガス、又はハロゲンガスを含む酸素との混合ガスを用いて行われる。かかる処理を施すことによって、高分子化合物層４の露出部、すなわち無機バリア層に覆われていない高分子化合物層４の側面がプラズマ処理されて、該露出部分がガスバリア性を呈するようになる。
【００２７】
プラズマ処理後、第１表示電極７の形成を行う（図７（ｄ））。例えば、第１表示電極がインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）からなる場合、ＩＴＯ膜をベタ一面に成膜した後、該ＩＴＯ膜にパターンを形成して第１表示電極が形成される。当該パターン形成工程は、例えば該ＩＴＯ膜上に所定パターンのフォトレジストを配した後に該フォトレジストをマスクとしてエッチングを行い、該フォトレジストを除去する工程である。フォトレジストの除去は、例えば酸素プラズマによるプラズマアッシングによって実施されても良い。
【００２８】
なお、第１表示電極のパターンが形成された後に、第１表示電極表面を改質するためのプラズマ処理が行われても良い。例えば、第１表示電極がＩＴＯからなる場合、かかるプラズマ処理を施すことによって、この後に第１表示電極上に形成される有機機能層への正孔注入効率が向上する。
【００２９】
第１表示電極形成後、図８に示す如く、エレクトロルミネセンス特性を呈する有機化合物を含有する発光層を含む有機機能層８が形成される（図８（ａ））。有機機能層の形成は、一般的に有機機能層の材料が低分子有機化合物である場合には蒸着法等の乾式成膜法が用いられ、有機機能層の材料が高分子有機化合物である場合にはスピンコート法等の湿式式成膜法が用いられる。
【００３０】
有機機能層８が形成された後、第２表示電極９を形成する（図８（ｂ））。第２表示電極が、アルミニウム（Ａｌ）などの金属材料からなる場合、蒸着法など成膜方法を用いて形成することができる。第２表示電極９が設けられて有機ＥＬ素子１０が得られる。
【００３１】
有機ＥＬ素子１０を背面から覆って有機ＥＬ素子をガスバリア層６と共に封止する封止層１１を形成する（図８（ｃ））。封止層１１を形成する工程において、スパッタ法、プラズマＣＶＤ法などの成膜方法が使用され得る。上記の如き工程を経て、図１に示す有機ＥＬ表示パネル１ａと同様の表示パネルが得られる。
【００３２】
変形例として、プラズマ処理工程後に、高分子化合物層の露出部を覆う被覆層を形成する工程が含まれても良い。被覆層は、プラズマＣＶＤ法、スパッタ法などの等方的な成膜方法によって形成されることが好ましい。等方的な成膜方法とは、蒸着分子が等方的に付着することによって薄膜が成膜できる方法であり、かかる方法によって段差部分を均等な厚さの被膜で被覆することができる。
【００３３】
なお、蒸着法を用いた場合は蒸着分子が異方的に流れる故、段差部分を均等に被覆することができない。しかしながら、蒸着法を用いた場合であっても、蒸着分子の流れに対して基板を自転若しくは公転させたり揺動させること等によって、段差部分に蒸着分子を等方的に付着せしめることができる。
【００３４】
かかる被覆層を形成する工程を含むことを除いて、その他の工程は、上記した実施例と略同一としても良い。その結果、図２に示す如きガスバリア性が大なる有機ＥＬ表示パネル１ｂが得られる。
【００３５】
変形例として、高分子化合物層に対するプラズマ処理を過剰に行うこととして、高分子化合物層がプラズマによってエッチング（アッシング）されても良い。すなわち、無機バリア層がマスクとなって、高分子化合物層の端部が除去され、該無機バリア層の周縁部よりも内側に高分子化合物層の端部が存するようにしても良い。なお、かかる高分子化合物層の端面が被覆層で覆われるように、プラズマＣＶＤ法、スパッタ法等の等方的な成膜方法によって被覆層が形成されても良い。その他の工程は、上述の工程と略同一としても良い。これによって、図３に示す如き有機ＥＬ表示パネル１ｃが得られる。
【００３６】
変形例として、封止層を形成する工程において、封止層が高分子化合物層の露出部を覆うように形成されても良い。封止層は、プラズマＣＶＤ法、スパッタ法などの等方的な成膜方法によって形成されることが好ましい。封止層を形成する工程を除いて、その他の工程は、図７及び図８を参照して説明した実施例と略同一である。その結果、図４に示す如きガスバリア性が大なるガスバリア層６を有する有機ＥＬ表示パネル１ｄが得られる。
【００３７】
なお、ガスバリア層形成工程は樹脂基板の両面にそれぞれガスバリア層を形成する工程であり、有機エレクトロルミネセンス素子形成工程はガスバリア層の何れか一方に有機エレクトロルミネセンス素子を形成する工程であることとしても良い。かかる構成によって、図５に示す如き有機ＥＬ表示パネル１ｅを得ることができる。
【００３８】
なお、変形例として、第１表示電極形成工程中にレジストをプラズマアッシングによって除去する場合若しくは第１表示電極パターン形成後に第１表示電極改質のためのプラズマ処理を行う場合、第１表示電極形成前に行うプラズマ処理を省略し、該プラズマアッシング工程若しくは第１表示電極改質プラズマ処理において高分子化合物層のプラズマ処理を実施することとしても良い。
【００３９】
詳細には、基板上に無機バリア層と高分子化合物層とを交互に積層して該高分子化合物層が該無機バリア層に挟持されるように積層体が形成された後、該積層体上に第１表示電極を形成する。上記の如く、第１表示電極パターン形成に使用したレジストをプラズマアッシングによって除去する工程若しくは第１表示電極パターン形成後に第１表示電極改質のためのプラズマ処理を施す工程において、高分子化合物層の露出部もプラズマ処理して、該積層体をガスバリア層とする。かかるプラズマ処理工程後は、上記の如き工程と略同一である。
【００４０】
なお、変形例として、ガスバリア層形成工程は、無機バリア層と高分子化合物層とを交互に成膜して、２以上の無機バリア層と該無機バリア層間に各々設けられている１以上の高分子化合物層とを含むガスバリア層を形成する工程としても良い。例えば、ガスバリア層形成工程は、無機バリア層と高分子化合物層とを順に成膜する工程を２回繰返し、さらに最後に成膜された高分子化合物層上に無機バリア層を成膜する工程としても良い。その他の工程は、上記実施例と略同一としても良い。その結果、図６に示す如く、３つの無機バリア層３，５，１４と該無機バリア層間の各々に挿入されている２つの高分子化合物層４，１３とを有するガスバリア層６を含む有機ＥＬ表示パネル１ｆが、得られる。
【００４１】
第１及び第２表示電極と該第１及び第２表示電極間に挟持されて有機化合物からなる１以上の有機機能層とからなる有機エレクトロルミネセンス素子と、該有機エレクトロルミネセンス素子を支持する樹脂基板と、を含む有機エレクトロルミネセンス表示パネルであって、該樹脂基板と該有機エレクトロルミネセンス素子との間に、２以上の無機バリア層と該無機バリア層間に各々設けられている１以上の高分子化合物層とを含むガスバリア層を有し、該高分子化合物層の該無機バリア層に覆われていない露出部にプラズマ処理が施されている、ことを特徴とする本発明の有機エレクトロルミネセンス表示パネルによれば、高分子化合物層の露出部をプラズマ処理することによって該露出部分からの気体の侵入を防止できる故、有機ＥＬ表示パネルのガスバリア特性を向上させることができる。
【００４２】
有機エレクトロルミネセンス素子と、該有機エレクトロルミネセンス素子を支持する樹脂基板と、を含む有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法であって、該樹脂基板上に無機バリア層と高分子化合物層とを交互に成膜して該高分子化合物層が該無機バリア層に挟持されるように積層体を形成し、該高分子化合物層の該無機バリア層に覆われていない該露出部にプラズマ処理を施して、該積層体をガスバリア層とするガスバリア層形成工程と、該ガスバリア層上に第１及び第２表示電極と該第１及び第２表示電極間に挟持された有機化合物からなる１以上の有機機能層とからなる有機エレクトロルミネセンス素子を形成する有機エレクトロルミネセンス素子形成工程と、を含むことを特徴とする本発明による有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法によれば、高分子化合物層を形成した後にプラズマ処理を施すことでガスバリア性を呈する高分子化合物層が得られることから、信頼性が大であるガスバリア層を容易に形成することができる故、ガスバリア性が良好な有機ＥＬ表示パネルを得ることができる。
【００４３】
有機エレクトロルミネセンス素子と、該有機エレクトロルミネセンス素子を支持する樹脂基板と、を含む有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法であって、該樹脂基板上に無機バリア層と高分子化合物層とを交互に成膜して該高分子化合物層が該無機バリア層に挟持されるように積層体を形成する工程と、該積層体上に第１表示電極を形成する第１表示電極形成工程と該第１表示電極に支持される有機機能層を形成する有機機能層工程と該有機機能層を該第１表示電極と共に挟持する第２表示電極を形成する第２表示電極形成工程とからなる有機エレクトロルミネセンス素子形成工程と、を含み、第１表示電極形成工程は、該高分子化合物層の該無機バリア層に覆われていない該露出部にプラズマ処理を施して該積層体をガスバリア層とするプラズマ処理工程を含む、ことを特徴とする本発明による有機エレクトロルミネセンス表示パネルの製造方法によれば、第１表示電極形成工程中のプラズマ処理と同時に高分子化合物層に対するプラズマ処理が行われる故、ガスバリア性が良好な有機ＥＬ表示パネルの作製工程数を削減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４４】
【図１】本発明による有機ＥＬ表示パネルの断面図である。
【図２】本発明による有機ＥＬ表示パネルの変形例の断面図である。
【図３】本発明による有機ＥＬ表示パネルの変形例の断面図である。
【図４】本発明による有機ＥＬ表示パネルの変形例の断面図である。
【図５】本発明による有機ＥＬ表示パネルの変形例の断面図である。
【図６】本発明による有機ＥＬ表示パネルの変形例の断面図である。
【図７】本発明による有機ＥＬ表示パネルの製造プロセスを順に示す断面図である。
【図８】図７に示す如き本発明による有機ＥＬ表示パネルの製造プロセスの続きを示す断面図である。
【符号の説明】
【００４５】
１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ，１ｅ、１ｆ  有機ＥＬ表示パネル
２  樹脂基板
３，５  無機バリア層
４  高分子化合物層
６  ガスバリア層
７  第１表示電極
８  有機機能層
９  第２表示電極
１０  有機ＥＬ素子
１１  封止層
１２  被覆層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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