(57)【要約】【課題】高信頼性の、良好な画質が得られる液晶パネル用防塵基板を提供する。【解決手段】弗化カルシウム（CaF2）からなる基板５１上に、反射防止膜５２が形成された液晶パネル用防塵基板５である。反射防止膜５２が形成される側の基板５１の主表面の表面粗さは、中心線平均粗さ（Ra）で、０ｎｍ超１．５ｎｍ以下とする。この反射防止膜５２は３層５２ａ，５２ｂ，５２ｃの積層膜からなり、それぞれスパッタリング法で成膜される。【選択図】図１
2005173179.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弗化カルシウム（CaF2）からなる基板上に、反射防止膜が形成されていることを特徴とする液晶パネル用防塵基板。
【請求項２】
反射防止膜が形成される側の前記基板主表面の表面粗さは、中心線平均粗さ（Ra）で、０ｎｍ超１．５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の液晶パネル用防塵基板。
【請求項３】
前記反射防止膜はスパッタリング法で成膜されてなることを特徴とする請求項１又は２記載の液晶パネル用防塵基板。
【請求項４】
複数の画素電極と、前記複数の画素電極を個々にスイッチング駆動する複数のスイッチング素子を有する駆動基板と、前記駆動基板より所定の間隙を介して対向配置された対向基板と、前記所定の間隙に保持された液晶とを有する液晶パネルに用いられる液晶パネル用対向基板であって、
前記対向基板は、透光性基板上に、少なくとも前記スイッチング素子に対応した領域、前記液晶パネルを駆動する駆動回路に対応した領域の何れか一方又は両方に遮光性膜が形成されており、前記遮光性膜が形成された側と反対側の透光性基板に、請求項１乃至３の何れかに記載の液晶パネル用防塵基板が接合されていることを特徴とする液晶パネル用対向基板。
【請求項５】
画素電極及びスイッチング素子が形成された駆動基板と、該駆動基板に対向配置された対向基板と、前記各基板の間隙に保持された液晶とを備えた液晶パネルを有し、画像の投影表示に用いられる透過型液晶表示装置であって、
前記駆動基板及び／又は前記対向基板の外面に請求項１乃至３の何れかに記載の液晶パネル用防塵基板が接合されていることを特徴とする透過型液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は投射型液晶プロジェクター等に組み込まれる液晶パネル用防塵基板及び液晶パネル用対向基板、並びに透過型液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
投射型液晶プロジェクターは、光源から出射された光を集光光学系によって集光しながら透過型液晶表示装置に導き、この光を液晶表示装置内の液晶層で変調することにより、所定の画像を光学系によってスクリーンに投射して表示を行うものである。上記透過型液晶表示装置の主要部分である液晶パネルは、画素電極とそれを駆動するためのスイッチング素子が形成された厚さ１ｍｍ程度の駆動基板と、対向電極が形成された厚さ１ｍｍ程度の対向基板とが、互いに電極同士が対向するように所定の間隙を介して対向配置され、この駆動基板と対向基板との間隙に液晶層を挟持した構造になっている。
この液晶パネルを構成する駆動基板或いは対向基板の外面に傷や異物等が付いて、これが投射画像に映し出されると、表示品質が低下するため、例えば厚さ１ｍｍ程度の透光性基板を上記駆動基板、対向基板の外面に防塵基板として配置し、駆動基板、対向基板の外面に傷や異物が直接付くのを防止することが一般に行われている。このような防塵基板を配置することにより、液晶パネル表面と光の集光位置である液晶との間の距離が防塵基板の厚み分だけ長くなるため、防塵基板の外面（つまり液晶パネル表面）に傷や異物が付いても、デフォーカス状態となり、スクリーン上ではぼやけるので視覚上目立たなくなる。
【０００３】
また、液晶パネルには、光源の光が集光された状態で入射するため、液晶パネルの温度が上昇して液晶パネルが誤動作を起こす場合がある。誤動作を起こすと液晶パネルの信頼性が損われる。上記防塵基板は、液晶パネルに蓄積される熱を放熱し、液晶パネルの温度上昇を抑制する作用も有している。
下記特許文献１には、透過型表示装置の防塵基板として、熱伝導率が１Ｗ／ｍ・Ｋ以上で厚みが１ｍｍ以上の放熱用ガラス板（例えば、石英ガラス）を用いることが記載されている。
また、下記特許文献２には、電気光学パネルの防塵基板の材料として、単結晶サファイヤを用いることが記載されている。
【特許文献１】特開平９−１１３９０６号公報
【特許文献２】特開２０００−２８４７００号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところが、最近の高信頼性の投射型液晶プロジェクターが要求されているなかで、従来防塵基板として使用されていた上記石英ガラスや単結晶サファイヤでは、かかる要求を満足するものが得られなかった。
すなわち、上記特許文献１に記載されている石英ガラスは、熱伝導率が１．４Ｗ／ｍ・Ｋ程度しかなく、近年の高輝度化（強力な光源使用）においては、放熱性は満足するものでなく、結果として液晶パネルの温度上昇による誤作動を招き、液晶の特性上表示機能を果たせなくなるという問題がある。
また、特許文献２に記載されている単結晶サファイヤは、熱伝導率が４２Ｗ／ｍ・Ｋと非常に良好で、高輝度化（強力な光源使用）においても、放熱性は良好で液晶パネルの誤作動は発生しないものの、材料自体が持つ複屈折の影響で、良好な画像が得られないという問題がある。
本発明は、上述の従来の問題点に鑑みてなされたものであり、高信頼性の、良好な画質が得られる液晶パネル用防塵基板及び液晶パネル用対向基板、並びに透過型液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上記課題を解決するため、以下の構成を有する。
（構成１）弗化カルシウム（CaF2）からなる基板上に、反射防止膜が形成されていることを特徴とする液晶パネル用防塵基板。
弗化カルシウム（CaF2）の熱伝導率は、１０．３Ｗ／ｍ・Ｋ程度と、石英ガラスに比べて非常に高く、高輝度化（強力な光源使用）においても十分放熱性が良好で、液晶パネルの温度上昇を十分抑制でき、液晶パネルの誤作動は発生しないので高信頼性の液晶パネル用防塵基板が得られる。
また、弗化カルシウム（CaF2）は、結晶でありながら光学的に等方性で、複屈折による影響がないので、液晶パネルを有する透過型液晶表示装置を使って投影される画質には全く影響がない。
【０００６】
（構成２）反射防止膜が形成される側の前記基板主表面の表面粗さは、中心線平均粗さ（Ra）で、０ｎｍ超１．５ｎｍ以下であることを特徴とする構成１記載の液晶パネル用防塵基板。
反射防止膜が形成される側の基板主表面の表面粗さを、中心線平均粗さ（Ra）で、０ｎｍ超１．５ｎｍ以下とすることにより、高透過率、低反射率の良好な光学特性が得られると共に、反射防止膜の付着性が良好になる。尚、この中心線平均粗さ（Ra）は、ＪＩＳＢ０６０１（１９９４）で定められたものであり、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）によりある測定エリア内で測定される値とする。
Raが１．５ｎｍ超の場合、入射光の散乱が大きくなり透過率が低下し、また、反射防止膜の干渉作用を妨げる結果となるので、反射防止効果が弱くなり低反射率が得られないというように光学特性が悪くなるので好ましくない。
【０００７】
（構成３）前記反射防止膜はスパッタリング法で成膜されてなることを特徴とする構成１又は２記載の液晶パネル用防塵基板。
近年の高画質化の要求により、液晶パネル用防塵基板に形成される反射防止膜の欠陥に対する要求も厳しくなってきている。従来、上記防塵基板に形成される反射防止膜は、真空蒸着法により形成されていたが、真空蒸着法特有のスプラッシュにより反射防止膜中にパーティクルやピンホールが発生し、画質に影響を与える。これに対し、反射防止膜をスパッタリング法で成膜することにより、上述のようなパーティクルやピンホールが低減でき、高画質が得られる。
（構成４）複数の画素電極と、前記複数の画素電極を個々にスイッチング駆動する複数のスイッチング素子を有する駆動基板と、前記駆動基板より所定の間隙を介して対向配置された対向基板と、前記所定の間隙に保持された液晶とを有する液晶パネルに用いられる液晶パネル用対向基板であって、前記対向基板は、透光性基板上に、少なくとも前記スイッチング素子に対応した領域、前記液晶パネルを駆動する駆動回路に対応した領域の何れか一方又は両方に遮光性膜が形成されており、前記遮光性膜が形成された側と反対側の透光性基板に、構成１乃至３の何れかに記載の液晶パネル用防塵基板が接合されていることを特徴とする液晶パネル用対向基板。
対向基板の遮光性膜が形成されている側と反対側の透光性基板に、上述の構成の液晶パネル用防塵基板が接合されることにより、高信頼性の対向基板が提供される。
【０００８】
（構成５）画素電極及びスイッチング素子が形成された駆動基板と、該駆動基板に対向配置された対向基板と、前記各基板の間隙に保持された液晶とを備えた液晶パネルを有し、画像の投影表示に用いられる透過型液晶表示装置であって、前記駆動基板及び／又は前記対向基板の外面に構成１乃至３の何れかに記載の液晶パネル用防塵基板が接合されていることを特徴とする透過型液晶表示装置。
透過型液晶表示装置における液晶パネルの駆動基板及び／又は対向基板の外面に上述の構成の液晶パネル用防塵基板が接合されることにより、高信頼性の、良好な画質が得られる透過型液晶表示装置が提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の弗化カルシウム（CaF2）からなる基板上に反射防止膜が形成された液晶パネル用防塵基板によれば、近年の高輝度化（強力な光源使用）においても、液晶パネルの温度上昇を十分抑制でき、液晶パネルの誤作動は発生しないので高信頼性が得られる。また、弗化カルシウム（CaF2）からなる基板は、複屈折による影響がないので、投射型液晶プロジェクターで投影される画像は良好な画質が得られる。
また、上記防塵基板における反射防止膜が形成される側の基板主表面の表面粗さを、中心線平均粗さ（Ra）で、０ｎｍ超１．５ｎｍ以下とすることにより、高透過率で、低反射率の良好な光学特性が得られると共に、反射防止膜の付着性が良好になる。
【００１０】
また、上記防塵基板の反射防止膜をスパッタリング法で成膜することにより、反射防止膜中のパーティクルやピンホールが低減でき、高画質が得られる。
また、対向基板の遮光性膜が形成されている側と反対側の透光性基板に、上述の構成の液晶パネル用防塵基板が接合されることにより、高信頼性の対向基板が得られる。
また、液晶パネルの駆動基板及び／又は対向基板の外面に上述の構成の液晶パネル用防塵基板が接合された液晶パネルを有する透過型液晶表示装置によれば、高信頼性で、良好な画質が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して詳しく説明する。
本発明の液晶パネル用防塵基板は、弗化カルシウム（CaF2）からなる基板上に、反射防止膜が形成された構造である。図１は、このような弗化カルシウム（CaF2）からなる基板５１上に、３層構造の反射防止膜５２が形成された液晶パネル用防塵基板５を示している。
後述する液晶パネルを構成する駆動基板或いは対向基板の外面に付いた傷や異物等が投射画像に映し出されると、表示品質が低下するため、上記駆動基板及び／又は対向基板の外面に上記防塵基板５を配置することにより、駆動基板及び／又は対向基板の外面に傷や異物が直接付くのを防止するとともに、液晶パネル表面（つまり防塵基板の外面）に傷や異物が付いても、それが投影されないようにデフォーカスし、スクリーン上ではぼやけて視覚上目立たなくすることができる。
【００１２】
また、液晶パネルに強力な光源の光が集光された状態で入射しても、上記弗化カルシウム（CaF2）基板からなる防塵基板５は、液晶パネルに蓄積される熱を効率よく放熱し、液晶パネルの温度上昇を抑制することができるため、結果として液晶パネルの誤動作が発生しないので高信頼性が得られる。さらに、上記弗化カルシウム（CaF2）基板は、光学的に等方性で複屈折の影響が無いため、投射型液晶プロジェクターで投影される画像にはぼやけや乱れ等がなく、良好な画質が得られる。
基板材料である弗化カルシウム（CaF2）は、天然螢石より容易に入手することができるが、それ以外に、人工的に弗化カルシウムを成長させ、基板材料とすることができる。
【００１３】
基板は、透過型液晶表示装置の液晶パネルに搭載したときに、所望のデフォーカス機能が得られるように所定の厚みに加工される。例えば、０．５〜２ｍｍ程度である。また、基板の大きさは、透過型液晶表示装置の液晶パネルの対向基板や駆動基板とほぼ同じ大きさに切断・加工される。また、基板は、該基板上に形成される反射防止膜の光学特性（透過率、反射率）を良好にし、かつ反射防止膜との付着性を向上させるために、反射防止膜が形成される側の主表面の表面粗さが、中心線平均粗さ（Ra）で０ｎｍ超１．５ｎｍ以下となるように研磨加工される。研磨方法は、特に限定されず、公知の研磨方法を任意に適用でき、片面研磨や両面研磨、枚葉式研磨や複数枚同時に研磨するバッチ式研磨により研磨することができる。
上記反射防止膜は、スパッタリング法、真空蒸着法等により成膜することができる。反射防止膜のパーティクルやピンホールの少ない高品質の液晶パネル用防塵基板を得るためにはスパッタリング法により形成するのが好ましい。
【００１４】
反射防止膜は、一般には複数の屈折率の異なる材料を積層させて、光の干渉効果による反射防止機能を付与したものである。反射防止膜の各層の材料、及び膜厚は、液晶パネルで求められる光学特性（可視領域における反射率（膜面反射率）が０．５％以下）を満足するように、光学的な設計により適宜選択される。例えば、図１に示すような反射防止膜５２が３層構造の場合、基板５１側から、屈折率が１．６〜１．８、幾何学的膜厚が６０〜９０ｎｍの中屈折率層５２ａ、屈折率が２．１〜２．８、幾何学的膜厚が９０〜１４０ｎｍの高屈折率層５２ｂ、屈折率が１．４〜１．４６、幾何学的膜厚が８０〜１００ｎｍの低屈折率層５２ｃの組合せとすることができる。具体的な材料は、中屈折率層としては、珪素、錫、酸素を含む材料（ＳｉｘＳｎｙＯｚ）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）などが挙げられ、高屈折率層としては、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化ハフニウム（ＨｆＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）などが挙げられ、低屈折率層としては、二酸化珪素（ＳｉＯ２）、弗化マグネシウム（ＭｇＦ２）などが挙げられる。なお、反射防止膜はこのような３層構造に限られず、４層、５層、又は６層以上としても良い。
【００１５】
図２は、このような防塵基板を備えた透過型液晶表示装置を構成する液晶パネルの断面図である。
図２に示す液晶パネル１は、液晶層２と、該液晶層２を挟んで互いに対向して配置された、該液晶層２を保持・駆動するための駆動基板４及び対向基板３とを有しており、従来公知の液晶パネルと同様の構造である。
【００１６】
ここで、駆動基板４は、石英ガラス等からなる透光性基板４１と、該透光性基板４１上に設けられた画素電極４２と該画素電極４２に接続されたスイッチング素子４３とを有している。スイッチング素子４３としては、例えばポリシリコンＴＦＴが用いられる。また、対向基板３は、石英ガラスや低膨張無アルカリガラス等からなる透光性基板３１と、この透光性基板３１上の前記画素電極４２と対向する位置に設けられた対向電極３２とを備えている。又、前記駆動基板４に形成されたスイッチング素子４３としてのＴＦＴのチャネル形成用の領域に投射光が入射すると、この領域において光電変換効果により光電流が発生しＴＦＴのトランジスタ特性を劣化させる場合があるので、必要に応じて、前記駆動基板４に形成されたスイッチング素子４３に投射光が入射するのを防止するための遮光性膜３３が、上記透光性基板３１上の前記スイッチング素子４３と対向する位置にマトリックス状に設けられる。そして、このような液晶パネル１の駆動基板４及び／又は対向基板３の外面に、上述の防塵基板５が接着剤等で接合されている。図２の液晶パネル１は、駆動基板４と対向基板３の双方の外面にそれぞれ防塵基板５を配置した場合を示している。
【００１７】
なお、上記遮光性膜３３としては、Ａｌ，Ａｇ等の高反射率を有する金属薄膜や、基板３１側から順に配置されるＡｌなどの金属からなる高反射膜と黒色樹脂やＣｒ酸化物からなる低反射膜との積層膜、或いは、これら高反射膜と低反射膜との間に両反射膜を構成する材料が混在する領域を設けた積層膜などが用いられる。
液晶層２は、これらの駆動基板４と対向基板３の間に配向膜を介して保持され、画素電極４２と対向電極３２との間に印加される電圧により駆動される。
透過型液晶表示装置は、このような液晶パネル１と、該液晶パネル１の駆動基板４に接続される外部接続用のフレキシブルコネクタ（配線基板）（図示せず）とを有している。
【００１８】
ここで、対向基板３側から液晶パネル１へ入射した光は、前記画素電極４２及び対向電極３２により制御される液晶層２の配向によって、各画素ごとに透過率が制御され、所定の変調された画像を形成する。
なお、入射光を有効に画素領域に入射させるため、対向基板３の光入射側の面に、マイクロレンズアレイが形成された基板を用いてもよい。この場合、マイクロレンズアレイが形成された対向基板と防塵基板とは、接着剤等で接合される。
なお、駆動基板のスイッチング素子を駆動する配線への光の入射を防止するため、防塵基板の外周部に所定の幅の遮光膜を設けることができる。
【００１９】
以上のような液晶パネル構造を有する透過型液晶表示装置は、例えば投射型液晶プロジェクターに搭載され、光源からの光を受けて所定の画像を形成するためのライトバルブとして用いられる。
図３は、透過型液晶表示装置を搭載する一般的な投射型液晶プロジェクターの概略構成を示す模式図である。
【００２０】
図３に示す投射型液晶プロジェクター６は、光源６１、ダイクロイックミラー６３，６５、反射ミラー６４，６６，６７、透過型液晶表示装置１１，１２，１３、ダイクロイックプリズム６８、投影レンズユニット６９等を有して構成されている。光源６１の後方には回転楕円体型の反射鏡６２を備え、光源６１としては、例えばメタルハライドランプ、キセノンランプ等が用いられる。光源６１の光は、２枚のダイクロイックミラー６３，６５によって、光の三原色Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）に対応して３つの光束に分離される。こうして分離された３つの光束は、反射ミラー６４，６６，６７を介して、ダイクロイックプリズム６８の周囲に設置された３個の透過型液晶表示装置１１，１２，１３にそれぞれ入射する。これら透過型液晶表示装置１１，１２，１３は、上述の液晶パネル１構造を有し、図示しない制御手段によって所望のＲ，Ｇ，Ｂの画像情報に応じて制御される。
【００２１】
上記透過型液晶表示装置１１，１２，１３によってそれぞれ変調されたＲ，Ｇ，Ｂの画像成分は、ダイクロイックプリズム６８にて合成され、投影レンズユニット６９により拡大投影され、前方のスクリーン７上に画像が映し出される。投射型液晶プロジェクターに本発明の防塵基板５を搭載することにより、液晶パネルの誤動作が無く、投射された画像のぼやけや乱れのない良好な画質の画像が得られる。
【００２２】
また、図３に示す投射型液晶プロジェクターでは、三原色Ｒ，Ｇ，Ｂの光に対応して３個の透過型液晶表示装置を備えているが、カラーフィルターを備えた１個の透過型液晶表示装置を有する構造のものもよく知られている。
なお、本発明の液晶パネル用防塵基板は、反射型プロジェクター等に使用される反射型の液晶パネルにも使用することができる。
以下、本発明の実施の形態について、実施例を用いて更に詳細に説明する。
【００２３】
（実施例）
天然螢石（CaF2）（屈折率１．４４）の材料を基板状に加工した後、中心線平均粗さ（Ｒａ）で０．４ｎｍ（原子間力顕微鏡にて測定エリア５μｍ×５μｍで測定）に精密研磨された弗化カルシウム基板（以後、CaF2基板と称す）を準備した。このCaF2基板上に、基板側から順に珪素−錫酸化物からなるＳｉｘＳｎｙＯｚ膜（屈折率：１．７）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５）膜（屈折率：２．３５）、二酸化珪素（ＳｉＯ２）膜（屈折率：１．４６）をスパッタリング法により形成して反射防止膜付きCaF2基板を作製した。尚、各層は、Ｓｉ−Ｓｎ（Ｓｉ：５０ａｔ％、Ｓｎ：５０ａｔ％）ターゲット、Ｎｂ２Ｏ５−ｘターゲット、Ｓｉ−ＳｉＣターゲットを使用し、アルゴンガスと酸素ガスとの混合ガスによる反応性スパッタリングにより形成し、各層の膜厚は、ＳｉｘＳｎｙＯｚ膜は７７ｎｍ、Ｎｂ２Ｏ５膜は１１１ｎｍ、ＳｉＯ２膜は８９ｎｍとした。
この得られた反射防止膜付きCaF2基板の可視領域（４３０ｎｍ〜６５０ｎｍ）における膜面反射率を測定したところ、０．４％以下と光学的特性は良好であり、反射防止膜中に大きさが５μｍ以上の欠陥（パーティクルやピンホール）は発見されなかった。
【００２４】
この反射防止膜付きCaF2基板を、投射型液晶プロジェクターに組み込む透過型液晶表示装置の液晶パネルに使用するため、所望の大きさに切断、洗浄処理して液晶パネル用防塵基板を作製した。切断時や洗浄処理時の反射防止膜の膜剥れはなかった。
この得られた液晶パネル用防塵基板を使用し、前述の図２の構成からなる液晶パネルを作製した。すなわち、石英基板上にCr膜からなるパターン状の遮光膜とＩＴＯ（インジウムと錫の合金酸化物）膜からなる対向電極が形成された対向基板と、石英基板上に複数の画素電極とスイッチング素子が形成された駆動基板を用意し、配向膜を形成後、これらの基板間に液晶が保持されるように組み立て、上記防塵基板を対向基板及び駆動基板の外面に接着剤で接合して、液晶パネルを得た。
【００２５】
次いで、この得られた液晶パネルを組み込んだ透過型液晶表示装置を作製し、更にこの透過型液晶表示装置を前述の図３に示すような構成からなる投射型液晶プロジェクターに組み込んだ。光源にメタルハライドランプを用いて投射テストを行ったところ、CaF2基板の放熱性が良好で液晶パネルの誤作動もなく、正常に投射型液晶プロジェクターを作動させることができた。また、スクリーンに投射された画像もぼけや画像の乱れもなく良好であった。
【００２６】
（比較例１）
上述の実施例において、基板材料を石英ガラス（屈折率１．４６）としたこと以外は、実施例と同様にして液晶パネル用防塵基板を作製した。得られた液晶パネル用防塵基板の可視領域（４３０ｎｍ〜６５０ｎｍ）における膜面反射率は、０．４％以下で実施例と変わりなく、また、反射防止膜中に大きさが５μｍ以上の欠陥（パーティクルやピンホール）も発見されなかった。
この得られた液晶パネル用防塵基板を使用し、実施例と同様に、液晶パネルを作製し、この液晶パネルを組み込んだ投射型液晶プロジェクターを用いて投射テストを行ったところ、放熱効果が十分でなく、液晶パネルの過熱が原因と考えられる誤動作が発生した。
【００２７】
（比較例２）
上述の実施例において、基板材料を単結晶サファイア（屈折率１．７６）とし、反射防止膜における各層を基板側から順に以下の構成（膜材料、屈折率、膜厚）としたこと以外は、実施例と同様にして液晶パネル用防塵基板を作製した。
中屈折率層：材料（ＳｉｘＳｎｙＯｚ）、屈折率（１．８５）、膜厚（７０ｎｍ）
高屈折率層：材料（Ｎｂ２Ｏ５）、屈折率（２．３５）、膜厚（１１０ｎｍ）
低屈折率層：材料（ＳｉＯ２）、屈折率（１．４６）、膜厚（９０ｎｍ）
【００２８】
この得られた液晶パネル用防塵基板の可視領域（４３０ｎｍ〜６５０ｎｍ）における膜面反射率を測定したところ、０．５％以下と光学的特性は良好であり、反射防止膜中に大きさが５μｍ以上の欠陥（パーティクルやピンホール）は発見されなかった。
この得られた液晶パネル用防塵基板を使用し、実施例と同様に、液晶パネルを作製し、この液晶パネルを組み込んだ投射型液晶プロジェクターを用いて投射テストを行ったところ、単結晶サファイヤ基板の放熱性が良好で液晶パネルの誤作動もなく、正常に投射型液晶プロジェクターを作動させることができたが、単結晶サファイヤの複屈折が原因と考えられる投射された画像のぼけや画像の乱れが確認された。
【００２９】
以上の実施例、比較例の結果からわかるように、本発明のCaF2基板上に反射防止膜を形成してなる液晶パネル用防塵基板によれば、強力な光源を使用しても、液晶パネルの誤動作がなく、高信頼性が得られ、しかもこの防塵基板を組み込んだ投射型液晶プロジェクターにより投射された画像は、良好な画質が得られる。
尚、以上の実施の形態では、液晶パネル用防塵基板を透過型液晶表示装置に適用した例しか示さなかったが、反射型液晶表示装置にも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の液晶パネル用防塵基板の一実施の形態を示す断面図である。
【図２】本発明の透過型液晶表示装置を構成する液晶パネルの断面図である。
【図３】本発明の透過型液晶表示装置を組み込んだ投射型液晶プロジェクターの概略構成を示す模式図である。
【符号の説明】
【００３１】
１  液晶パネル
２  液晶
３  対向基板
３１  透光性基板
３２  対向電極
３３  遮光性膜
４  駆動基板
４１  透光性基板
４２  画素電極
４３  スイッチング素子
５  防塵基板
５１  CaF2基板
５２  反射防止膜
６  投射型液晶プロジェクター
７  スクリーン
【図１】
2005173179.tif 000003
【図２】
2005173179.tif 000004
【図３】
2005173179.tif 000005