(57)【要約】【課題】  光源と被露光体との間の光路を十分に確保しつつ，光走査装置全体の占有空間を縮小する光走査装置を提供する。【解決手段】  光を生成し照射する光源２１と，上記光源から照射されたビームを被露光体の主走査方向に走査するため偏向するビーム偏向器３０と，上記光源と上記被露光体との間の光路上に配置され，所定の直線距離内において入射ビームの光学的な距離を確保する平板光学系２５，４０と，を含むことを特徴とする，光走査装置が提供される。かかる構成により上記課題を解決する。【選択図】    図４
2005173598.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を生成し照射する光源と；
前記光源から照射されたビームを被露光体の主走査方向に走査するため偏向するビーム偏向器と；
前記光源と前記被露光体との間の光路上に配置され，所定の直線距離内において入射ビームの光学的な距離を確保する平板光学系と；
を含むことを特徴とする，光走査装置。
【請求項２】
前記平板光学系は，
前記光源と前記ビーム偏向器との間および／または前記ビーム偏向器と前記被露光体との間の光路上に配置されることを特徴とする，請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記平板光学系は，
入射されたビームが入射経路と異なる角度に進められるように，入射ビームを少なくとも一回以上反射させる反射ミラーと；
前記反射ミラーから反射されたビームの経路上に配置され，入射ビームを前記反射ミラー側に再度反射させる少なくとも一つの平板光学要素と；
を含み，
ビームの伝達方向への出射ビームの幅は，前記平板光学系への入射ビームの幅と比較して相対的に長いことを特徴とする，請求項２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記平板光学要素は，
入射ビームを主走査方向および／または副走査方向に集束反射させることを特徴とする，請求項３に記載の光走査装置。
【請求項５】
前記ビーム偏向器によって偏向されたビームを主走査方向と副走査方向とに対して異なる倍率で補正して前記被露光体に結像させるｆ−θレンズをさらに備えることを特徴とする，請求項１〜４のうち何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項６】
前記ｆ−θレンズは，
主走査方向と副走査方向との曲率半径が異なる１枚の非球面レンズよりなることを特徴とする，請求項５に記載の光走査装置。
【請求項７】
前記平板光学系は，
前記ビーム偏向器と前記ｆ−θレンズとの間および／または前記ｆ−θレンズと前記被露光体との間の光路上に配置されることを特徴とする，請求項５に記載の光走査装置。
【請求項８】
主走査方向および／または副走査方向に対応する方向に対して入射ビームを集束させる少なくとも１枚のシリンドリカルレンズを前記光源と前記ビーム偏向器との間にさらに備えることを特徴とする，請求項１〜７のうち何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項９】
前記光源から照射された発散ビームが平行ビームまたは収斂するビームとなるように集束させるコリメーティングレンズを前記光源と前記ビーム偏向器との間にさらに備えることを特徴とする，請求項１〜８のうち何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１０】
前記光源は，前記ビーム偏向器で偏向走査されたビームがなす平面の上部または下部に位置することを特徴とする，請求項１〜９のうち何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１１】
光を生成し照射する光源と；
前記光源から照射されたビームを被露光体の主走査方向に走査するため偏向するビーム偏向器と；
前記光源と前記ビーム偏向器との間の光路上に配置され，所定の直線距離内において入射ビームの光学的な距離を確保する第１平板光学系と；
前記ビーム偏向器と前記被露光体との間の光路上に配置され，所定の直線距離内において入射ビームの光学的な距離を確保する第２平板光学系と；
を含むことを特徴とする，光走査装置。
【請求項１２】
主走査方向および／または副走査方向に対応する方向に対して入射ビームを集束させる少なくとも１枚のシリンドリカルレンズを前記光源と前記ビーム偏向器との間にさらに備えることを特徴とする，請求項１１に記載の光走査装置。
【請求項１３】
前記第１平板光学系は，
主走査方向および／または副走査方向に対応する方向に対して入射ビームを集束させうることを特徴とする，請求項１１に記載の光走査装置。
【請求項１４】
前記光源から照射された発散ビームが平行ビームまたは収斂するビームとなるように集束させるコリメーティングレンズを前記光源と前記ビーム偏向器との間にさらに備えることを特徴とする，請求項１１〜１３のうち何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１５】
前記第１平板光学系は，
前記光源から照射された発散ビームが平行ビームまたは収斂するビームとなるように集束させうることを特徴とする，請求項１１〜１３のうち何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１６】
前記第２平板光学系は，
前記ビーム偏向器によって偏向されたビームを主走査方向と副走査方向とに対して異なる倍率で補正して前記被露光体に結像させることを特徴とする，請求項１１〜１５のうち何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１７】
前記ビーム偏向器によって偏向されたビームを主走査方向と副走査方向とに対して異なる倍率で補正して前記被露光体に結像させるｆ−θレンズをさらに備えることを特徴とする，請求項１１〜１５のうち何れか１項に記載の光走査装置。
【請求項１８】
前記ｆ−θレンズと前記被露光体との間の光路上に配置され，所定の直線距離内において入射ビームの光学的な距離を確保する第３平板光学系をさらに備えることを特徴とする，請求項１７に記載の光走査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，光源から照射されたビームを被露光体に走査する光走査装置に係り，さらに詳細には,光源と被露光体との間の光路（ｏｐｔｉｃａｌ  ｐａｔｈ  ｌｅｎｇｔｈ）を十分に確保しつつ，光走査装置全体の占有空間を縮小させうる光走査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に，光走査装置は，レーザプリンタ，デジタル複写機，ＦＡＸなどの機器に採用されるものであって，ビーム偏向器による主走査と，被露光体の回転による副走査とを通じて被露光体に対して潜像を形成する。
【０００３】
図１〜図３を参照すれば，従来の光走査装置は，ビームを生成照射する光源１と，この光源１から出射されたビームを偏向して被露光体１５を走査させるビーム偏向器７と，このビーム偏向器７で偏向されるビームに含まれるエラーを補正するｆ−θレンズ１１と，を含んで構成される。また，光源１とビーム偏向器７との間の光路には光源１から照射された発散ビームを集束させるコリメーティングレンズ３と，コリメーティングレンズ３から出射されたビームを整形するシリンドリカルレンズ５とがさらに備わっている。上記ｆ−θレンズ１１と被露光体１５との間には走査されたビームの方向を変える反射部材１３が配置されることもある。
【０００４】
上記ビーム偏向器７は，駆動源９と，この駆動源９によって回転される回転多面鏡８とを含む。したがって，上記光源１から照射されたビームは，上記回転多面鏡８の回転によってその反射される方向を変えられつつ走査方向が決定される。この回転多面鏡８が時計回り方向に回転すると，上記回転多面鏡８に入射されたビームは被露光体１５に対して矢印（⇒）で表したような方向に主走査される。
【０００５】
上記ｆ−θレンズ１１は，２枚のレンズ１１ａ，１１ｂより構成される。一つのレンズ１１ａは，ビーム偏向器７で偏向されたビームに含まれた非点収差（ａｓｔｉｇｍａｔｉｓｍ）を補正する。他のレンズ１１ｂは走査されるビームを集束し，走査線が等線および等角を維持するように補正する。
【０００６】
一方，上記のように構成された光走査装置は，光源１とビーム偏向器７との間に多数の光学要素が配置されるので，これらの間の光路（光路長）Ｄ１を十分に確保しなければならない。さらに，ビーム偏向器７で偏向されたビームが上記被露光体１５の主走査領域全体に入射される必要もあり，ビーム偏向器８と被露光体１５との間の光路（光路長）Ｄ２も十分に確保することが要求される。
【０００７】
上記要求条件を満足するためには，光走査ユニット自体の全体サイズを大きくする必要があり，印刷機器への適用に関しても空間的な配置が難しくなる。このようにして印刷機器の本体の体積を増加せざるを得ないという問題が生じる。
【０００８】
【特許文献１】特開平７−２５３５１４号公報
【特許文献２】米国特許第４９６０３１２号明細書
【特許文献３】特開平２−１８８７１４号公報
【特許文献４】特開昭６１−１５６２１７号公報
【特許文献５】米国特許第５０７４６４６号明細書
【特許文献６】韓国特許公開２００３−００３３４３号
【特許文献７】特開２０００−１８０７６２号公報
【特許文献８】特開平５−０１９１９３号公報
【特許文献９】米国特許第５７１５０２３号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は，従来の光走査装置が有する上記問題点に鑑みてなされたものであり，本発明の目的は，平板光学系を採用し，光源と被露光体との間の光路（光路長を十分に確保しつつ，光走査装置全体の占有空間を縮小することが可能な，新規かつ改良された光走査装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために，本発明のある観点によれば，光を生成し照射する光源と；上記光源から照射されたビームを被露光体の主走査方向に走査するため偏向するビーム偏向器と；上記光源と上記被露光体との間の光路上に配置され，所定の直線距離内において入射ビームの光学的な距離を確保する平板光学系と；を含むことを特徴とする，光走査装置が提供される。
【００１１】
上記平板光学系は，上記光源と上記ビーム偏向器との間および／または上記ビーム偏向器と上記被露光体との間の光路上に配置されるとしても良い。
【００１２】
上記平板光学系は，入射されたビームが入射経路と異なる角度に進められるように，入射ビームを少なくとも一回以上反射させる反射ミラーと；上記反射ミラーから反射されたビームの経路上に配置され，入射ビームを上記反射ミラー側に再度反射させる少なくとも一つの平板光学要素と；を含み，ビームの伝達方向への出射ビームの幅は，上記平板光学系への入射ビームの幅と比較して相対的に長いとしても良い。
【００１３】
上記平板光学要素は，入射ビームを主走査方向および／または副走査方向に集束反射させることもできる。
【００１４】
上記ビーム偏向器によって偏向されたビームを主走査方向と副走査方向とに対して異なる倍率で補正して上記被露光体に結像（集束：ｆｏｃｕｓ）させるｆ−θレンズをさらに備えるとしても良い。ここで，結像は，光走査装置から走査された光によって被露光体に像ができることをいう。
【００１５】
上記ｆ−θレンズは，主走査方向と副走査方向との曲率半径が異なる１枚の非球面（ａｓｐｈｅｒｉｃ）レンズよりなるとしても良い。
【００１６】
上記平板光学系は，上記ビーム偏向器と上記ｆ−θレンズとの間および／または上記ｆ−θレンズと上記被露光体との間の光路上に配置されるとしても良い。
【００１７】
主走査方向および／または副走査方向に対応する方向に対して入射ビームを集束させる少なくとも１枚のシリンドリカルレンズを上記光源と上記ビーム偏向器との間にさらに備えるとしても良い。
【００１８】
上記光源から照射された発散ビームが平行ビームまたは収斂するビームとなるように集束させるコリメーティングレンズを上記光源と上記ビーム偏向器との間にさらに備えるとしても良い。
【００１９】
上記光源は，上記ビーム偏向器で偏向走査されたビームがなす平面の上部または下部に位置することができる。
【００２０】
上記課題を解決するために，本発明の他の観点によれば，光を生成し照射する光源と；上記光源から照射されたビームを被露光体の主走査方向に走査するため偏向するビーム偏向器と；上記光源と上記ビーム偏向器との間の光路上に配置され，所定の直線距離内において入射ビームの光学的な距離を確保する第１平板光学系と；上記ビーム偏向器と上記被露光体との間の光路上に配置され，所定の直線距離内において入射ビームの光学的な距離を確保する第２平板光学系と；を含むことを特徴とする，光走査装置が提供される。
【００２１】
主走査方向および／または副走査方向に対応する方向に対して入射ビームを集束させる少なくとも１枚のシリンドリカルレンズを上記光源と上記ビーム偏向器との間にさらに備えるとしても良い。
【００２２】
上記第１平板光学系は，主走査方向および／または副走査方向に対応する方向に対して入射ビームを集束させることもできる。
【００２３】
上記光源から照射された発散ビームが平行ビームまたは収斂するビームとなるように集束させるコリメーティングレンズを上記光源と上記ビーム偏向器との間にさらに備えるとしても良い。
【００２４】
上記第１平板光学系は，上記光源から照射された発散ビームが平行ビームまたは収斂するビームとなるように集束させることができる。
【００２５】
上記第２平板光学系は，上記ビーム偏向器によって偏向されたビームを主走査方向と副走査方向とに対して異なる倍率で補正して上記被露光体に結像としても良い。
【００２６】
上記ビーム偏向器によって偏向されたビームを主走査方向と副走査方向とに対して異なる倍率で補正して上記被露光体に結像させるｆ−θレンズをさらに備えるとしても良い。
【００２７】
上記ｆ−θレンズと上記被露光体との間の光路上に配置され，所定の直線距離内において入射ビームの光学的な距離を確保する第３平板光学系をさらに備えるとしても良い。
【発明の効果】
【００２８】
以上説明したように本発明による光走査装置は，光路上に少なくとも一つの平板光学系を採用することによって，ビーム走査に必要な光路を確保しつつ，さらに光源とビーム偏向器との間の空間および／またはビーム偏向器とｆ−θレンズとの間の空間を縮小させうる。
【００２９】
したがって，本発明による光走査装置を印刷機器に採用する場合，その占有空間を縮小することができるので，設置自由度を高め，印刷機器を小型化することが可能となる。また，光源をビーム偏向器から走査されたビームがなす平面の上部または下部に配置させることによって，光走査装置の幅方向のサイズを減らすことも可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下に添付図面を参照しながら，本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお，本明細書および図面において，実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００３１】
図４および図５を参照すれば，本実施形態による光走査装置は，少なくとも一つのビームを走査する光源２１と，この光源２１から照射されたビームを走査のため偏向するビーム偏向器３０と，ｆ−θレンズ５１と，上記光源２１と上記被露光体６０との間に配置された平板光学系とを含んで構成される。上記ｆ−θレンズ５１は，上記ビーム偏向器３０で偏向されたビームを主走査方向と副走査方向とに対して異なる倍率で補正して被露光体６０に結像（集束：ｆｏｃｕｓ）させる。そして，上記平板光学系は，入射ビームの光学的な距離を確保しつつ，空間的な直線距離を縮小させる。ここで，上記ｆ−θレンズ５１と上記被露光体６０との間には走査ビームの経路を変換する反射部材５５がさらに備わるとしても良い。
【００３２】
上記光源２１は，被露光体６０の潜像が形成される部分に対してのみビームを照射しうるように，光変調しつつビームを照射する。これは，エッジ発光レーザダイオード，表面光レーザダイオード（ＶＣＳＥＬ：Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ｃａｖｉｔｙ Ｓｕｒｆａｃｅ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｌａｓｅｒ），発光素子（ＬＥＤ：Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｅｖｉｃｅ）より構成されうる。この光源２１の構成は，当業界で公知されているので，その詳細な説明は省略する。
【００３３】
また，光走査装置は，上記光源２１と上記ビーム偏向器３０との間の光路上にコリメーティングレンズ２３と少なくとも１枚のシリンドリカルレンズ２４とをさらに備えるとしても良い。上記コリメーティングレンズ２３は，上記光源２１から放出される発散ビームを平行ビームまたは収斂するビームに変換する。上記シリンドリカルレンズ２４は，入射ビームを走査方向と副走査方向とに別途に集束させて上記ビーム偏向器３０に結像させる。
【００３４】
ここで，副走査方向は被露光体６０の回転方向を表し，主走査方向は被露光体６０の軸方向，すなわち，ビーム偏向器３０を通じて走査されるビームの偏向方向を表す。
【００３５】
上記平板光学系は，上記光源２１と上記ビーム偏向器３０との間および／または上記ビーム偏向器３０と上記被露光体６０との間の光路上に配置される。
【００３６】
本実施形態においては，上記平板光学系として第１および第２平板光学系２５，４０を表す。ここで，上記第１平板光学系２５は，上記光源２１と上記ビーム偏向器３０との間に配置され，上記光源２１と上記ビーム偏向器３０との間の光路を確保すると共に，占有空間を縮小させる。すなわち，この第１平板光学系２５は，平板内において，光源２１から照射された方向と異なる方向に入射ビームが数回反射されてビーム偏向器３０側に進む。これによって，光源２１とビーム偏向器３０との間の物理的な空間を縮小させつつ，必要な全体光路の長さを確保できる。
【００３７】
上記第２平板光学系４０は，上記ビーム偏向器３０とｆ−θレンズ５１との間の光路上に配置され，上記ビーム偏向器３０とｆ−θレンズ５１との間の光路を確保しつつ，占有空間を縮小させる。したがって，上記第２平板光学系４０に偏向入射される走査ビームを観察すれば，図４に示されたように，第２平板光学系４０の入射面における走査ビームの先端と後端との間の幅Ｗ１は狭くても，第２平板光学系４０の出射面における走査ビームの先端と後端との間の幅Ｗ２は，上記ｆ−θレンズ５１の入射面の有効領域に対応するように広げることができる。
【００３８】
図６を参照すれば，上記第２平板光学系４０は，入射ビームを入射された経路と異なる角度で進める反射ミラー４１と，該反射ミラー４１で反射されたビームを上記反射ミラー４１の他の位置に再反射させる平板光学要素４２，４３とを含んで構成される。また，この第２平板光学系４０は，入射された走査ビームを屈折透過させて上記反射ミラー４１に向かわせる入射面４０ａと，出射される走査ビームを屈折透過させる出射面４０ｂとを有する。上記平板光学要素４２，４３は，進行光路を確保するためのものであって，本実施形態では入射ビームを単純反射させる反射ミラーより構成される。
【００３９】
一方，図７〜図９に示されたような構造の第１および第２平板光学系２５’，２５”，４０’に適用される場合，上記平板光学要素４２，４３は，レンズ機能，すなわち，コリメーティングレンズ，シリンドリカルレンズおよび／またはｆ−θレンズの役割を行う。この時，偏光光学要素４２，４３は，リソグラフィとエッチング技術とを通じて具現される。上記の具現技術は公知のものであるので，その詳細な説明は省略する。
【００４０】
一方，上記第１平板光学系２５の構成は，図６に示したような第２平板光学系４０の構成と比較してもその幅において差があるのみであり，反射ミラーと平板光学要素とを備える点において実質的に相違しないので，ここでその詳細な説明は省略する。
【００４１】
図４を参照すれば，上記ビーム偏向器３０は，上記光源２１から照射され，上記コリメーティングレンズ２３，シリンドリカルレンズ２４および第１平板光学系２５を経由して入射されたビームを被露光体６０の主走査方向（⇒）に走査させるため偏向する。
【００４２】
このビーム偏向器３０は，駆動源３３と，この駆動源３３によって時計回り方向または逆時計回り方向に回転駆動される回転多面鏡３１とを含んで構成される。この回転多面鏡３１は，その側壁に複数の反射面３１ａが形成されている。したがって，上記回転多面鏡３１の回転時に入射ビームに対する上記反射面の角度が変わり，これにより，入射ビームを主走査方向に走査することができる。上記ビーム偏向器３０は，図示されたような回転多面鏡構造に限定されず，入射ビームを回折偏向させるホログラムディスク構造を適用することも可能である。
【００４３】
上記ｆ−θレンズ５１は，上記ビーム偏向器３０によって偏向されたビームを主走査方向と副走査方向とに対して異なる倍率で補正し，上記被露光体６０に結像させる。このｆ−θレンズ５１は，主走査方向と副走査方向との曲率半径が異なる１枚の非球面レンズよりなる。このｆ−θレンズ４１は，プラスチック材質よりなるとしても良い。
【００４４】
上記被露光体６０は，ビームによって露光された部分と露光されていない部分との差（例えば，電位差）を表す媒体である。この被露光体６０の例としては，感光ドラムおよび感光ベルトなどがある。図４は，上記被露光体６０として感光ドラムを示した図面である。
【００４５】
上記のように，光路上に第１平板光学系および／または第２平板光学系を採用することによって，ビーム走査に必要な光路（光路長）を確保しつつ，光源２１とビーム偏向器３０との間の空間および／またはビーム偏向器３０とｆ−θレンズ５１との間の空間を縮小させることができる。したがって，本実施形態による光走査装置を印刷機器に採用する場合，その占有空間が縮小することができるので，設置自由度を高め，印刷機器の小型化に寄与しうる。
【００４６】
図７を参照すれば，本発明の第２実施形態による光走査装置は，光源２１，ビーム偏向器３０，ｆ−θレンズ５１，および上記光源２１と上記被露光体６０との間に配置されて入射ビームの光学的な距離を確保しつつ，空間的な縮小をもたらす第１〜第３平板光学系２５’，４０，４５を含んで構成される。また，上記光源２１と上記ビーム偏向器３０との間の光路上にはコリメーティングレンズ２３がさらに設けられている。
【００４７】
本実施形態による光走査装置は，図４〜図６を参照して説明した第１の実施形態による光走査装置と比較すると，第１平板光学系２５’がシリンドリカルレンズ２４（図４参照）の機能を行う点と，ｆ−θレンズ５１と被露光体６０との間の光路上に第３平板光学系４５を備えた点が相違する。かかる相違点以外は，実質上同じであるので，その詳細な説明は省略する。
【００４８】
第１平板光学系２５’は，その構成をなす平板光学要素のうち少なくとも何れか一つがシリンドリカルレンズの役割を行うように形成されている。この場合，シリンドリカルレンズの役割を行う平板光学要素は，入射ビームを走査方向と副走査方向とを独立して集束させ，上記ビーム偏向器３０に結像させる。
【００４９】
上記第３平板光学系４５は，上記ｆ−θレンズ５１と反射部材５５との間に設けられ，かかる間の光路を確保しつつ，空間を縮小させる役割を行う。この第３平板光学系４５の構成は，上記第２平板光学系４０と比較すると，その幅において差があるのみで，反射ミラーと平板光学要素とを備える点において実質的に等しいので，その詳細な説明は省略する。
【００５０】
このように，光路上に第１〜第３平板光学系を採用する場合は，第１の実施形態による構成に比べて空間をさらに縮小させることが可能になり，光走査装置の全体体積を減らせる。また，第１平板光学系がシリンドリカルレンズの機能を共に行うことによって，構成を単純化しうるという利点もある。
【００５１】
図８を参照すれば，本発明の第３実施形態による光走査装置は，図７を参照して説明した第２の実施形態による光走査装置と比較すると，第１平板光学系２５”がコリメーティングレンズ（図７の２３）およびシリンドリカルレンズ（図４の２４）の機能を行う点で相違する。その他の構成は，実質的に等しいので，その詳細な説明は省略する。
【００５２】
この場合，第１平板光学系２５”は，その構成をなす平板光学要素はコリメーティングレンズとシリンドリカルレンズとの役割を行うように形成されている。この平板光学要素は，平板上にリソグラフィおよびエッチング技術を利用して所定の回転パターンを形成してレンズの性能を表す。この平板光学要素の形成技術自体は公知のものであるので，その詳細な説明は省略する。
【００５３】
図９を参照すれば，本発明の第４の実施形態による光走査装置は，図８を参照して説明した第３の実施形態による光走査装置と比較すると，第２平板光学系４０’が図８に示された第２平板光学系４０，ｆ−θレンズ５１および第３平板光学系４５の機能を行う点で相違する。その他の構成は，実質的に等しいので，その詳細な説明は省略する。
【００５４】
上記第２平板光学系４０’は，その構成をなす平板光学要素のうち少なくとも何れか一つがｆ−θレンズの役割を行うように形成されている。この場合，ｆ−θレンズの役割を行う平板光学要素は，上記ビーム偏向器３０によって偏向されたビームを主走査方向と副走査方向とに対して異なる倍率で補正して上記被露光体６０に結像させる。
【００５５】
図１０を参照すれば，本発明の第５の実施形態による光走査装置は，図４〜図６を参照して説明した本発明の第１の実施形態による光走査装置と比較すると，光源２１とビーム偏向器３０との間の光路配置を変更した点において相違する。その他の構成は実質的に等しいので，その詳細な説明は省略する。
【００５６】
すなわち，上記光源２１，コリメーティングレンズ２３，シリンドリカルレンズ２４，第１平板光学系２５は，上記ビーム偏向器３０で偏向走査されたビームがなす平面の上部に位置する。一方，その配置位置において，上部に限定されず，その下部に位置することもある。
【００５７】
本実施形態による光走査装置は，このように光学的な配置を変更することによって，その幅方向のサイズを減らすことができる。
【００５８】
以上，添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが，本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された範疇内において，各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本発明による光走査装置は，レーザプリンタ，デジタル複写機，ＦＡＸなどの機器に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】従来の光走査装置の光学的配置を示す概略的な斜視図である。
【図２】図１の平面図である。
【図３】図１の光路を示す概略的な平図面である。
【図４】第１の実施形態による光走査装置の光学的配置を示す概略的な斜視図である。
【図５】図４の光路を示す概略的な平図面である。
【図６】図４の平板光学系を示す図面である。
【図７】第２の実施形態による光走査装置を示す概略的な平面図である。
【図８】第３の実施形態による光走査装置の光路を示す概略的な平図面である。
【図９】第４の実施形態による光走査装置の光路を示す概略的な平図面である。
【図１０】第５の実施形態による光走査装置の光学的配置を示す概略的な斜視図である。
【符号の説明】
【００６１】
２１    光源
２３    コリメーティングレンズ
２４    シリンドリカルレンズ
２５    第１平板光学系
３０    ビーム偏向器
３１    回転多面鏡
３１ａ  反射面
３３    駆動源
４０    第２平板光学系
５１    ｆ−θレンズ
５５    反射部材
６０    被露光体
Ｗ１    幅
【図１】
2005173598.tif 000003
【図２】
2005173598.tif 000004
【図３】
2005173598.tif 000005
【図４】
2005173598.tif 000006
【図５】
2005173598.tif 000007
【図６】
2005173598.tif 000008
【図７】
2005173598.tif 000009
【図８】
2005173598.tif 000010
【図９】
2005173598.tif 000011
【図１０】
2005173598.tif 000012