(57)【要約】【課題】高精度に安定して転写することを可能にした円周面の加工方法、現像ローラ及び感光ドラムの製造方法、並びにその製造方法によって得られる現像ローラ及び感光ドラムを提供する。  【解決手段】円柱状又は円筒状の芯材１０の外周面に金属ガラス膜１６が形成されたローラ１８の金属ガラス膜１６を加熱し、該金属ガラス膜１６を粘性流動状態にして凹凸を有したダイスに押圧しながらローラ１８を回転させ、金属ガラス膜１６にダイスの凹凸を転写する。金属ガラス膜１６は、例えば、液滴状態の金属ガラス１４を芯材１０の外周面に溶射して形成される。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
円柱状又は円筒状の芯材の外周面に金属ガラス膜が形成されたローラの前記金属ガラス膜を加熱し、前記金属ガラス膜を粘性流動状態にして凹凸を有したダイスに押圧しながら前記ローラを回転させ、前記金属ガラス膜に前記ダイスの凹凸を転写することを特徴とする円周面の加工方法。
【請求項２】
前記金属ガラス膜を前記芯材の外周面に形成する工程を備えたことを特徴とする請求項１記載の円周面の加工方法。
【請求項３】
液滴状態の金属ガラスを前記芯材の外周面に溶射して前記金属ガラス膜を形成することを特徴とする請求項２記載の円周面の加工方法。
【請求項４】
前記溶射を不活性ガス雰囲気中で行うことを特徴とする請求項３記載の円周面の加工方法。
【請求項５】
前記金属ガラスは、Ｚｒ基、Ｎｉ基、Ａｌ基、Ｐｄ基、Ｍｇ基、Ｆｅ基、Ｃｏ基又はＴｉ基の少なくとも１つを含んでなることを特徴とする請求項１〜４の何れかに記載の円周面の加工方法。
【請求項６】
前記芯材は少なくともその外周面が金属又はプラスチックから構成されていることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の円周面の加工方法。
【請求項７】
前記芯材及び前記ダイスの何れか一方又はその両方を加熱して前記金属ガラス膜を加熱することを特徴とする請求項１〜６の何れかに記載の円周面の加工方法。
【請求項８】
前記加熱は、赤外線、ヒータ及び炉の何れかによって行うことを特徴とする請求項７に記載の円周面の加工方法。
【請求項９】
前記ローラをプレート状の前記ダイスに押圧しながら回転させ、前記ローラの表面に前記ダイス表面の凹凸を転写することを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載の円周面の加工方法。
【請求項１０】
前記ローラを２つのプレート状の前記ダイスで挟み込んで押圧しながら前記ローラを回転させ、前記ローラの表面に前記ダイス表面の凹凸を転写することを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載の円周面の加工方法。
【請求項１１】
前記ローラを円柱状又は円筒状の前記ダイスに押圧しながら前記ローラと前記ダイスの双方を回転させ、前記ローラの表面に前記ダイス表面の凹凸を転写することを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載の円周面の加工方法。
【請求項１２】
前記ローラを２つの円柱状又は円筒状の前記ダイスで挟み込んで押圧しながら前記ローラと前記ダイスの双方を回転させ、前記ローラの表面に前記ダイス表面の凹凸を転写することを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載の円周面の加工方法。
【請求項１３】
前記ローラを円盤状の前記ダイスの側壁面に押圧しながら前記ローラと前記ダイスの双方を回転させ、前記ローラの表面に前記ダイス側壁面の凹凸を転写することを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載の円周面の加工方法。
【請求項１４】
前記ローラを２つの円盤状の前記ダイスの側壁面で挟み込んで押圧しながら前記ローラと前記ダイスの双方を回転させ、前記ローラの表面に前記ダイス側壁面の凹凸を転写することを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載の円周面の加工方法。
【請求項１５】
請求項１〜１４の何れかに記載の円周面の加工方法を用いて現像ローラの外周面を加工する工程を有することを特徴とする現像ローラの製造方法。
【請求項１６】
請求項１〜１４の何れかに記載の円周面の加工方法を用いて感光ドラムの外周面を加工する工程を有することを特徴とする感光ドラムの製造方法。
【請求項１７】
請求項１５記載の現像ローラの製造方法によって製造されたことを特徴とする現像ローラ。
【請求項１８】
請求項１６記載の感光ドラムの製造方法によって製造されたことを特徴とする感光ドラム。
【請求項１９】
円柱状又は円筒状の芯材と、
該芯材の外周面に形成され、表面に凹凸形状が形成された金属ガラス膜と、
を有することを特徴とする現像ローラ。
【請求項２０】
円柱状又は円筒状の芯材と、
該芯材の外周面に形成され、表面に凹凸形状が形成された金属ガラス膜と、
を有することを特徴とする感光ドラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複写機、プリンタ等に使用される感光ドラム、現像ローラ等の各種ローラの円周面の加工方法、現像ローラ及び感光ドラムの製造方法並びに現像ローラ及び感光ドラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
複写機又はプリンタは、感光ドラムの表面に静電潜像を形成するため、書き込み光として、レーザ光が使われている。感光ドラムの基体上には、導電層、下引き層、電荷発生層、電荷輸送層等が積層されており、可干渉性の単色光であるレーザ光を、感光ドラム表面に照射すると、各層の、また、基体と導電層との界面より反射してくる反射光のそれぞれが干渉を起こす可能性がある。この干渉現象は、形成される可視画像において、所謂、干渉縞模様となって現れ、画像不良の要因となる。特に、階調性の高い中間調の画像を形成する場合には、その影響が大きい。特に、使用される半導体レーザ光の波長領域が、長波長になるに連れ、感光層における、前記レーザ光の吸収が減少してくるので、上述の干渉現象が発生し易い傾向にある。この不都合を解消する方法として、基体外周面を微細な粗面に加工する方法が採られており、その方法として、例えば「ロール表面に、サンドブラスト処理で微細凹凸パターンを形成し、焼き入れした鍛造ロールを用いて、そのロール表面を、被転写体である金属円筒体あるいは金属円柱体に押圧・転動し、金属円周面に前記微細凹凸パターンを転写するようにしたものがある（特許文献１）。
【特許文献１】特開平１０−１０４９８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記の従来の加工方法によれば、鍛造により金属円周表面に数μｍレベルの凹凸加工を施しているが、その鍛造にはかなりの圧力を必要とし、その設備は必然的に大型化するという問題点があった。また、数μｍレベルの凹凸にもなると、鍛造ダイスと同形状に転写することは困難であり、所望の形状を精度良く転写するためには、ダイスの形状を工夫したり、加工条件を工夫する等の試行錯誤が必要であり、そのため、同じ形状を毎回安定して得るのが困難であった。更に、鍛造ダイスに焼き入れをしているが、被加工物も金属で硬いため、鍛造ダイスが摩耗し、寿命が短いという問題点があった。
【０００４】
本発明は、上記のような問題点を解決するためになされたものであり、高精度に安定して転写することを可能にした円周面の加工方法、現像ローラ及び感光ドラムの製造方法、並びにその製造方法によって得られる現像ローラ及び感光ドラムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明に係る円周面の加工方法は、円柱状又は円筒状の芯材の外周面に金属ガラス膜が形成されたローラの前記金属ガラス膜を加熱し、前記金属ガラス膜を粘性流動状態にして凹凸を有したダイスに押圧しながら前記ローラを回転させ、前記金属ガラス膜に前記ダイスの凹凸を転写するものである。
このように、円柱状又は円筒状の芯材の外周面に形成された金属ガラス膜を、粘性流動状態にしてダイスに押圧しながらローラを回転させ、金属ガラス膜にダイスの凹凸を転写するようにしたので、高精度で安定した転写が可能となる。また、ダイスは或る程度の堅さがあれば十分であり、ダイスとして使用する金属の種類の選択範囲が広くなる。その結果、ダイスについても、その加工方法の種類が多くなり、ダイスの製作についての選択の幅が広がる。また、ローラとダイスの押圧力が通常の鍛造に比べて遙かに小さくなるので、ダイスの摩耗は軽減され、その分だけダイスの寿命が長くなり、省エネルギー化や製造装置の小型化も図られる。さらに、金属ガラスはアモルファス金属であるからナノレベルの転写も可能であり、ダイスの微細凹凸を正確に転写することが可能となる。
【０００６】
上記方法において、前記金属ガラス膜を前記芯材の外周面に形成する工程を備えてもよい。その場合、液滴状態の金属ガラスを前記芯材の外周面に溶射して前記金属ガラス膜を形成するのが好ましい。溶射によって金属ガラス膜を形成することで、その加工時間の短縮化が可能となる。
また、前記溶射を不活性ガス雰囲気中で行うことが好ましい。溶射を不活性ガス雰囲気中で行うようにしたので、金属ガラスの酸化を防ぐことができる。
【０００７】
なお、前記金属ガラスは、Ｚｒ基、Ｎｉ基、Ａｌ基、Ｐｄ基、Ｍｇ基、Ｆｅ基、Ｃｏ基又はＴｉ基の少なくとも１つを含んでなるものである。したがって、前記金属ガラスとして利用する素材は多種に亘っており、選択の幅が広く、例えば芯材の素材に応じて選択することができる。
【０００８】
また、前記芯材は少なくともその外周面が金属、セラミックス又はプラスチックから構成されているのが好ましい。芯材の素材は金属だけでなく、セラミックス又はプラスチックを用いることができる。プラスチックを用いる場合には芯材の軽量化が可能になる。
【０００９】
また、前記芯材及び前記ダイスの何れか一方又はその両方を加熱して前記金属ガラス膜を加熱してよい。すなわち、金属ガラス膜を粘度流動状態にするのには、芯材又はダイスの少なくとも一方を加熱して行うことができる。
なお、前記加熱は、赤外線、ヒータ及び炉の何れかにより行ってよい。
【００１０】
上記方法において、前記ローラをプレート状のダイスに押圧しながら回転させ、前記ローラの表面に前記ダイス表面の凹凸を転写してもよい。
また、前記ローラを２つのプレート状のダイスで挟み込んで押圧しながら前記ローラを回転させ、前記ローラの表面に前記ダイス表面の凹凸を転写してもよい。
また、前記ローラを円柱状又は円筒状のダイスに押圧しながら前記ローラと前記ダイスの双方を回転させ、前記ローラの表面に前記ダイス表面の凹凸を転写してもよい。
また、前記ローラを２つの円柱状又は円筒状のダイスで挟み込んで押圧しながら前記ローラと前記ダイスの双方を回転させ、前記ローラの表面に前記ダイス表面の凹凸を転写してもよい。
また、前記ローラを円盤状のダイスの側壁面に押圧しながら前記ローラと前記ダイスの双方を回転させ、前記ローラの表面に前記ダイス側壁面の凹凸を転写してもよい。
さらに、前記ローラを２つの円盤状のダイスの側壁面で挟み込んで押圧しながら前記ローラと前記ダイスの双方を回転させ、前記ローラの表面に前記ダイス側壁面の凹凸を転写してもよい。
【００１１】
本発明に係る現像ローラの製造方法は、上記の円周面の加工方法を用いて現像ローラの外周面を加工する工程を有する。これにより、現像ローラの外周面が適切に加工され、画像不良の要因が除去される。
本発明に係る感光ドラムの製造方法は、上記の円周面の加工方法を用いて感光ドラムの外周面を加工する工程を有する。これにより、感光ドラムの外周面が適切に加工され、画像不良の要因が除去される。
【００１２】
本発明に係る現像ローラは上記の現像ローラの製造方法により製造されたものである。  本発明に係る感光ドラムは上記の感光ドラムの製造方法により製造されたものである。  本発明に係る現像ローラは、円柱状又は円筒状の芯材と、該芯材の外周面に形成され、表面に凹凸形状が形成された金属ガラス膜とを有する。
本発明に係る感光ドラムは、円柱状又は円筒状の芯材と、該芯材の外周面に形成され、表面に凹凸形状が形成された金属ガラス膜とを有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下に、本発明の実施形態に係るローラの表面（外周面あるいは円周面）の加工方法を説明する。
実施形態１
ここでは、プリンタに使用される現像ローラを製造する例について、（ａ）ローラとなる芯材の外周面に金属ガラス膜を生成する工程、（ｂ）ダイスを製造する工程、（ｃ）ダイスを加熱する工程、（ｄ）転写工程の各工程に分けてそれぞれ説明する。
【００１４】
（ａ）ローラとなる芯材の外周面に金属ガラス膜を生成する工程
図１、図２及び図３はローラとなる芯材の外周面に金属ガラス膜を生成する工程の説明図であり、図１は円柱状又は円筒状の芯材１０の斜視図、図２及び図３はノズル１２から芯材１０に液滴状態の金属ガラス１４を溶射している状態及びその拡大図である。
【００１５】
まず、現像ローラの基材となる円柱状又は円筒状の芯材１０を用意する。この基材１０は、例えばアルミニウムから構成されており、この場合その直径は１８mm程度の大きさである。室温程度の芯材１０を回転させつつ、ノズル１２を芯材１０の軸方向に移動させながら、ノズル１２から液滴状態の金属ガラス１４を芯材１０の外周面に吹き付けて、芯材１０の外周面に金属ガラス膜１６を形成する。ここでは、この液滴状態の金属ガラス１４の吹き付けを溶射と称する。この溶射により、吹き付けられた金属ガラス１４は急冷されてアモルファス状態で芯材ローラ１０の外周面に凝固付着することになる。このようにして、芯材１０の外周面に金属ガラス膜１６が形成されたローラ１８を製作する。なお、溶射による方法は問わないが、金属ガラス１４及び金属ガラス膜１６が酸化しないように、不活性ガス（Ｎ2、Ａｒ等）の雰囲気で行うのが好ましい。
金属ガラス膜１６の厚さは、金属ガラス膜１６に付与すべき凹凸の深さに応じて決定すればよいが、ここでは例えば５０μｍ程度の厚さとする。なお、金属ガラス１４が溶射されたローラ１８の外周面は、凹凸や細かい穴が空いていることが多いため、一旦研削又は研磨をして、真円度を出すとともに表面を平滑にした金属ガラス膜１６としておくのが好ましい。
なお、予め金属ガラス膜１６が成膜されたローラを使用する場合には、この（ａ）の工程は不要となる。
【００１６】
金属ガラスは既によく知られているように、Ｚｒ基、Ｎｉ基、Ａｌ基、Ｐｄ基、Ｍｇ基、Ｆｅ基、Ｃｏ基、Ｔｉ基等からなるアモルファス金属であって、金属でありながら酸化物ガラスのようにガラス転移点以上の温度で粘性流動状態となる性質を有する。本発明はこの性質を利用したものである。金属ガラスの具体的なものとしては、Ｚｒ55Ａｌ10Ｃｕ30Ｎｉ5 やＰｄ40Ｃｕ30Ｎｉ10Ｐ20 （数字は原子比）があり、その他にも、Ｐｄ−Ｎｉ−Ｆｅ−Ｐ、 Ｐｄ−Ｃｕ−Ｂ−Ｓｉ、Ａｌ−Ｃｓ−Ｎｉ、Ｎｉ−Ｚｒ−Ｔｉ−Ｓｎ−Ｓｉ等の合金がある。この例では、金属ガラス１４として、Ｚｒ55Ａｌ10Ｃｕ30Ｎｉ5 を用いている。
【００１７】
（ｂ）ダイスを製造する工程
図４、図５及び図６は転写に用いるダイスを製作する工程の説明図であり、図４はダイスを構成するための平板（例えばＳＵＳ３１６）の斜視図、図５及び図６は平板に加工を施している状態を示す説明図である。まず、ダイスの基材となる平板（プレート状基材）２０を用意する。この平板２０の表面全体に亘ってノズル２２から砥粒２４を噴射して平板２０の表面をサンドブラスト処理し、その表面に複数の微細な凹凸２６ａを形成してプレート状のダイス２６を製作する。図７はこのプレート状のダイス２６の表面付近の拡大断面図であり、上記のサンドブラスト処理で、例えば、平均面粗さＲｚ＝６．０〜６．５μｍの凹凸２６ａが付与されている。
なお、このような複数の微細凹凸を備えたダイスは予め製造しておくのが効率的である。従って、このダイスを製造する工程は、通常の場合、ローラ１８の金属ガラス膜１６に転写を行う工程中には含めない（これは他の実施形態の場合も同じである）。
【００１８】
（ｃ）ダイスを加熱する工程
図８は上記のダイス２６を加熱する工程の説明図であり、ダイス２６をヒータ２８に載置してダイス２６を例えば４６０℃〜４７０℃に加熱する。このダイス２６に対する加熱は、後述の図９における転写において、ダイス２６を介してローラ１８（特に金属ガラス膜１６）をガラス遷移温度（Ｔｇ）以上に加熱して金属ガラス膜１６を粘性流動体にするために行う。なお、ガラス遷移温度（Ｔｇ）は、金属ガラスの種類により相違するので、ダイス２６の加熱温度は、使用する金属ガラスに応じて決定する。
【００１９】
（ｄ）転写工程
図９は上記のように製作されたローラ１８にダイス２６の凹凸２６ａを転写する工程の説明図である。ダイス２６をヒータ２８により上記の温度範囲で加熱した状態で、ローラ１８を、図示のように、ダイス２６側に降下させて押しつける。この押し付け圧力は例えば１００ＭＰ程度である。このようにローラ１８を押しつけながらダイス２６上で回転させる。このときの回転させながら移動させるときの速度は例えば３０ｍｍ／ｍｉｎ程度である。そして、ローラ１８が１周した段階で押し付け圧力を開放するとともにダイス２６から離す。このようにして、ダイス２６表面の凹凸２６ａ（又は凹凸パターン）がローラ１８の金属ガラス膜１６に転写されて現像ローラ３０が製造される。
【００２０】
図１０は上記のようにして製造された現像ローラ３０の表面付近の拡大断面図である。現像ローラ３０の金属ガラス膜１６にはダイス２６の凹凸２６ａが転写されて凹凸３０ａ（又は凹凸パターン）が生成されている。この凹凸３０ａはＲｚが例えば６．０〜６．５μｍであり、ダイス２６の凹凸２０ａが精度良く転写される。なお、この転写の精度については後述の実施例において詳細に説明する。
【００２１】
以上のように実施形態１においては、金属ガラス膜１６が外周面に形成されたローラ１８を加熱されたプレート状のダイス２６に押圧し、ダイス２６を介して加熱されて粘性流動状態になっている金属ガラス膜１６にダイス２６の凹凸２６ａを転写するようにしているので、高精度で安定した転写が可能となる。また、ダイスは或る程度の堅さがあれば十分であり、ダイスとして使用する金属の種類の選択範囲が広くなる。その結果、ダイスについても、その加工方法の種類が多くなり、ダイスの製作についての選択の幅が広がる。また、ローラ１８とダイス２６との押圧力が通常の鍛造に比べて遙かに小さくなるので、ダイス２６の摩耗は軽減され、その分だけダイスの寿命が長くなる。また、押圧力が小さくて済むので、省エネルギー化や製造装置の小型化が図られる。さらに、金属ガラスはアモルファス金属であるからナノレベルの転写も可能であり、ダイス２６の微細凹凸を正確に転写することが可能である。
【００２２】
なお、図９では１つのプレート状のダイス２６を用いる例を示したが、２つのプレート状のダイス２６を用いて転写を行うこともできる。例えば図１１に示すように、ローラ１８を２つのプレート状のダイス２６で挟み込んで押圧しながら、ダイス２６を動かしてローラ１８を回転させ、ローラ１８表面の金属ガラス膜１６にダイス２６表面の凹凸を転写することができる。この場合は、ローラ１８を半回転させるだけで、ローラ１８の全周にダイスの凹凸の転写ができる。なお、ダイス２６は一方のダイスのみを動かしてもよく、また両方のダイスを動かしてもよい。
【００２３】
実施形態２
実施形態１では、プレート状のダイス２６を利用して、ローラ１８の金属ガラス膜１６に対する凹凸の転写を行ったが、円柱状又は円筒状のダイス２６Ａを利用しても、微細凹凸の転写は可能である。この円柱状又は円筒状のダイス２６Ａは図６の方法を利用して製作できる。すなわち、図１６に示すように、ＳＵＳ３１６等からなる円柱状又は円筒状の基材２０Ａの表面に、ノズル２２から砥粒２４を噴射して基材２０Ａの表面をサンドブラスト処理し、その表面に微細な凹凸を複数形成して、転写に用いる円柱状又は円筒状のダイス２６Ａが製作できる。なお、図１６（ａ）は正面図を、図１６（ｂ）は側面図をそれぞれ示している。
図１２は、円柱状のダイス２６Ａを１つ利用してローラ１８の表面に形成された金属ガラス膜１６に凹凸の転写を行う場合の説明図であり、図１２（ａ）が正面図、図１２（ｂ）が側面図である。ここでは、ローラ１８を例えば１００ＭＰ程度の圧力で加熱状態のダイス２６Ａに押圧しながらローラ１８とダイス２６Ａの双方を回転させ、流動状態となったローラ１８表面の金属ガラス膜１６にダイス２６Ａ表面の凹凸を転写している。
図１３は、円柱状のダイス２６Ａを２つ利用してローラ１８の表面に形成された金属ガラス膜１６に凹凸の転写を行う場合の説明図であり、図１３（ａ）が正面図、図１３（ｂ）が側面図である。ここでは、ローラ１８を２つのダイス２６Ａで挟み込んで、例えば１００ＭＰ程度の圧力で押圧しながら、ローラ１８とダイス２６Ａの双方を回転させ、流動状態となったローラ１８表面の金属ガラス膜１６にダイス２６Ａ表面の凹凸を転写している。
このように、円柱状又は円筒状のダイス２６Ａを１つ又は２つ利用しても、ローラ１８表面の金属ガラス膜１６に微細な凹凸を複数転写することができ、実施形態１とほぼ同様の効果が得られる。
【００２４】
実施形態３
ここでは、プレート状のダイス２６、あるいは円柱状又は円筒状のダイス２６Ａに変えて、円盤状のダイス２６Ｂを利用して、ローラ１８表面の金属ガラス膜１６に転写を行う方法を説明する。この円盤状のダイス２６Ｂも図６の方法を利用して製作できる。すなわち、図１７に示すように、ＳＵＳ３１６等からなる円盤状の基材２０Ｂの側壁面に、ノズル２２から砥粒２４を噴射して基材２０Ｂの側壁面をサンドブラスト処理し、その面に微細な凹凸を複数形成することで、転写に用いる円盤状のダイス２６Ｂが製作できる。なお、図１７（ａ）は正面図を、図１７（ｂ）は側面図をそれぞれ示している。
図１４は、円盤状のダイス２６Ｂを１つ利用してローラ１８の表面に形成された金属ガラス膜１６に凹凸の転写を行う場合の説明図であり、図１４（ａ）が正面図、図１４（ｂ）が側面図である。ここでは、例えば１００ＭＰ程度の圧力でローラ１８と加熱状態のダイス２６Ｂの側壁面とを押圧しながらローラ１８とダイス２６Ｂの双方を回転させ、流動状態となったローラ１８表面の金属ガラス膜１６にダイス２６Ｂの側壁面の凹凸を転写している。
図１５は、円盤状のダイス２６Ｂを２つ利用してローラ１８の表面に形成された金属ガラス膜１６に凹凸の転写を行う場合の説明図であり、図１５（ａ）が正面図、図１５（ｂ）が側面図である。ここでは、ローラ１８を２つのダイス２６Ａで挟み込んで、例えば１００ＭＰ程度の圧力で押圧しながら、ローラ１８とダイス２６Ａの双方を回転させ、流動状態となったローラ１８表面の金属ガラス膜１６にダイス２６Ｂの側壁面の凹凸を転写している。
なお、図１４，１５において、ローラ１８の外周全面に転写を行う場合には、ローラ１８又は円盤状のダイス２６Ｂの何れか一方を、あるいはそれらの双方を矢印で示す方向に移動させる。
このように、円盤状のダイス２６Ｂを１つ又は２つ利用しても、ローラ１８表面の金属ガラス膜１６に微細な凹凸を複数転写することができ、実施形態１とほぼ同様の効果が得られる。
【００２５】
なお、上述の各実施形態においては、ローラ１８の芯材１０にアルミニウムを用いた例について説明したが、他の金属であってもよく、また、セラミックスやプラスチックを用いてもよい。プラスチックを用いた場合には軽量化が図られ、作動電力が削減できる。なお、プラスチックの場合には、金属ガラス膜１６との密着性を高めるために、その外周面にメッキ処理を施すようにしてもよい。
【００２６】
また、金属ガラス膜１６を粘性流動状態にするために、ヒータ２８によって加熱されたダイス２６，２６Ａ，２６Ｂにより金属ガラス膜１６を加熱する例を説明したが、この金属ガラス膜１６への加熱は、例えば赤外線や炉を利用してローラ１８及びダイス２６，２６Ａ，２６Ｂの両方を加熱して行ってもよい。さらに、ローラ１８だけをヒータ等により加熱して金属ガラス膜１６を粘性流動状態にしてもよい。
【００２７】
また、各ダイスの材料としては、スチールの他、例えばＳＫＤ、ＳＫＨ、超硬材、石英硝子、非晶質カーボン、フォトセラム、水晶等を用いることができる。さらに、ダイスにはあまり強度が必要がないので、例えば単結晶シリコンを使用することもできる。単結晶シリコンでダイスを作成した場合には、エッチングできれいなパターンを作ることができる。例えば、等間隔で大きさの揃ったＶ溝や、ピラミッド等の各種のパターンを作ることができる。それらのパターンを備えたダイスによって、金属ガラス膜１６にはきれいな等間隔の大きさが揃ったパターンを精度良く転写することができる。
【００２８】
また、金属ガラス膜１６を形成するための金属ガラスには、上記のＺｒ55Ａｌ10Ｃｕ30Ｎｉ5 だけでなく、他のＺｒ基、あるいはＮｉ基、Ａｌ基、Ｐｄ基、Ｍｇ基、Ｆｅ基、Ｃｏ基、Ｔｉ基等を少なくとも１つ含んでなるアモルファス金属を用いることができる。
【００２９】
また、上述の各実施形態においては、金属ガラス膜１６を形成するために金属ガラス１４を溶射する例について説明したが、蒸着やスパッタを用いて金属ガラス膜１６を生成するようにしてもよい。
また、上述の各実施形態においては、現像ローラを製造する例について説明したが、感光ドラムも現像ローラと同様な構成からなるので、現像ローラと同様にして製造できる。  さらに、上記製造方法はレーザプリンタのアニロックスローラの製造にも応用できる。
【実施例】
【００３０】
図１８（ａ）（ｂ）は本発明の実施形態１による実施例の説明図である。図１８（ａ）に示されるように、プレート状のダイス２６の材料としてシリコンを使用し、Ｖ溝の幅＝８．１８μｍ、Ｐ（ピッチ）＝１０μｍの型（凹凸）を形成したものを用意する。そして、図１８（ｂ）に示されるように、ローラ１８をダイス２６に押し付ける。この例では、ローラ１８の金属ガラス膜１６として金属ガラスＺｒ55Ａｌ10Ｃｕ30Ｎｉ5 を用い、加熱温度＝４５０℃、圧力＝６０ＭＰａとした。ここで、ダイス２６の溝の深さをｈ１とし、ローラ１８の金属ガラス膜１６に転写された凸部の高さをｈ２とし、高さ比＝ｈ２／ｈ１とするものとする。この高さ比（ｈ２／ｈ１）が高いことは転写率が高いことを意味する。
図１９は加工時間と上記の高さ比（ｈ２／ｈ１）との関係を示した特性図であり、この図から、加工時間が５分程度で１００％に近い転写率となっていることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】円柱状又は円筒状の芯材の斜視図。
【図２】ノズルから芯材に液滴状態の金属ガラスを溶射している状態の図。
【図３】ノズルから芯材に液滴状態の金属ガラスを溶射している状態の拡大図。
【図４】ダイスを構成する平板の斜視図。
【図５】プレート状ダイスの表面に凹凸加工を施している状態を示す平面図。
【図６】プレート状ダイスの表面に凹凸加工を施している状態を示す正面図。
【図７】ダイスの表面付近の拡大断面図。
【図８】ダイスを加熱する工程の説明図。
【図９】１つのプレート状ダイスを利用してローラに転写を行う場合の説明図。
【図１０】現像ローラの表面付近の拡大断面図。
【図１１】２つのプレート状ダイスを利用してローラに転写を行う説明図。
【図１２】１つの円柱状ダイスを利用してローラに転写を行う場合の説明図。
【図１３】２つの円柱状ダイスを利用してローラに転写を行う場合の説明図。
【図１４】１つの円盤状ダイスを利用してローラに転写を行う場合の説明図。
【図１５】２つの円盤状ダイスを利用してローラに転写を行う場合の説明図。
【図１６】円柱状ダイスの表面に凹凸加工を施している状態を示す説明図。
【図１７】円盤状ダイスの側壁面に凹凸加工を施している状態を示す説明図。
【図１８】本発明の実施例の説明図。
【図１９】本発明の実施例の結果を示した特性図。
【符号の説明】
【００３２】
１０  芯材、１２  ノズル、１４  金属ガラス、１６  金属ガラス膜、１８  ローラ、２０  平板、２０Ａ  円柱状又は円筒状の基材、２０Ｂ  円盤状の基材、２２  ノズル、２４  砥粒、２６  プレート状のダイス、２６ａ  凹凸、２６Ａ  円柱状又は円筒状のダイス、２６Ｂ  円盤状のダイス、２８  ヒータ、３０  現像ローラ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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