(57)【要約】【課題】  不活性ガス循環手段の立ち上げ時間を短縮する。【解決手段】  露光装置本体の一部が収納され、外部環境と概略遮断された気密チャンバ１と、該気密チャンバ１内の気体を循環させる送風機３とを有し、さらに送風機３から供給される気体を気密チャンバ１に導入させる循環供給経路２１と気密チャンバ１内の気体を送風機３に戻す循環戻り経路２２とを有する不活性ガス循環手段を備え、気密チャンバ１や送風機３の接続部を含む前記循環供給経路と循環戻り経路の少なくとも一方の途中に、この経路を遮断可能な循環経路開閉バルブＣＶ１を設け、循環経路開閉バルブＣＶ１を挟んで循環経路上流側には排出経路Ｓ２が連通する不活性ガス排出口を設け、下流側には供給経路Ｓ３が連通する不活性ガス供給口を設けた。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光装置本体の一部が収納され、外部環境と概略遮断された気密チャンバと、該気密チャンバ内の気体を循環させる送気手段とを有し、さらに前記送気手段から供給される気体を前記気密チャンバに導入させる循環供給経路と前記気密チャンバ内の気体を前記送気手段に戻す循環戻り経路とを有する不活性ガス循環手段を備える露光装置において、前記循環供給経路と循環戻り経路の少なくとも一方の途中に、この経路を遮断可能な循環経路開閉バルブを設け、前記循環経路開閉バルブを挟んで循環経路上流及び下流のいずれか一方に不活性ガス供給口を設け、他方に不活性ガス排出口を設けたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
露光装置本体の一部が収納され、外部環境と概略遮断された気密チャンバと、該気密チャンバ内の気体を循環させる送気手段と、少なくとも前記気密チャンバ内の気体の温度を所定の値に制御する空調手段とを有し、さらに前記空調手段及び前記送気手段のいずれかから供給される気体を前記気密チャンバに導入させる循環供給経路と前記気密チャンバ内の気体を前記送気手段及び前記空調手段のいずれかに戻す循環戻り経路を有する不活性ガス循環手段を備える露光装置において、前記循環供給経路と循環戻り経路の少なくともいずれか一方の途中に、この経路を遮断可能な循環経路開閉バルブを設け、前記循環経路開閉バルブを挟んで循環経路上流及び下流のいずれか一方に不活性ガス供給口を設け、他方に不活性ガス排出口を設けたことを特徴とする露光装置。
【請求項３】
前記循環経路開閉バルブを挟んで循環経路下流側に不活性ガス供給口を設け、前記循環経路開閉バルブを挟んで循環経路上流側に不活性ガス排出口を設けたことを特徴とする請求項１または２に記載の露光装置。
【請求項４】
露光装置本体の一部が収納され、外部環境と概略遮断された気密チャンバと、該気密チャンバ内の気体を循環させる送気手段と、循環気流中の塵埃を除去する除塵フィルタとガス状不純物を除去するケミカルフィルタの少なくとも一方と、該フィルタを収納するフィルタボックスとを有し、さらに前記気密チャンバ、前記フィルタボックス、及び前記送気手段を連通させて気体を循環させる循環経路を有する不活性ガス循環手段を備える露光装置において、前記フィルタボックスの循環経路両端に接続される上流側の循環経路と下流側の循環経路のそれぞれの途中に、これら経路を遮断可能な循環経路開閉バルブを設け、前記循環経路開閉バルブを挟んで循環経路上流のフィルタボックス側及び下流のフィルタボックス側のいずれか一方に不活性ガス供給口を設け、他方に不活性ガス排出口を設けたことを特徴とする露光装置。
【請求項５】
前記循環経路開閉バルブはバタフライバルブ及びゲートバルブのいずれかであることを特徴とする請求項１、２または４のいずれかに記載の露光装置。
【請求項６】
前記フィルタボックス上流側の循環経路に設けた前記循環経路開閉バルブを挟んで前記フィルタボックス側に不活性ガス供給口を設け、前記フィルタボックス下流側の循環経路に設けた前記循環経路開閉バルブを挟んで前記フィルタボックス側に不活性ガス排出口を設けたことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項７】
前記気密チャンバの循環気体吹き出し口に整流部材を設けたことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項８】
前記フィルタボックスを真空に引くための真空ポンプを設けたことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項９】
前記フィルタボックス内に前記除塵フィルタやケミカルフィルタを加熱するフィルタ加熱手段を設けたことを特徴とする請求項４または８に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記不活性ガス供給口より不活性ガスを供給する経路の途中に不活性ガスを加熱する不活性ガス加熱手段を設けたことを特徴とする請求項４または８に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記ケミカルフィルタと前記除塵フィルタの双方を前記フィルタボックス内に収納し、前記除塵フィルタよりもケミカルフィルタの方が前記フィルタ加熱手段に対してより近くに配設されたことを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記ケミカルフィルタと前記除塵フィルタの双方を前記フィルタボックス内に収納し、前記除塵フィルタよりもケミカルフィルタの方が前記不活性ガス供給口に対してより近くに配設されたことを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１３】
前記ケミカルフィルタが無機系セラミックスを濾材に含んでなることを特徴とする請求項９〜１２のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１４】
温度制御手段と、前記フィルタボックス内の温度センサとを設け、前記温度センサにより検知された温度が所定の温度となるように、前記フィルタ加熱手段及び前記不活性ガス加熱手段のいずれかの加熱量を、前記温度制御手段により制御することを特徴とする請求項９または１０に記載の露光装置。
【請求項１５】
前記フィルタ加熱手段及び前記不活性ガス加熱手段のいずれかの設定温度が少なくとも６０℃以上であることを特徴とする請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１６】
前記除塵フィルタ及びケミカルフィルタは概略水平に配置し、前記除塵フィルタないしケミカルフィルタより下方に前記不活性ガス供給口を設け、前記除塵フィルタないしケミカルフィルタより上方に前記不活性ガス排出口を設けたことを特徴とする請求項９または１０に記載の露光装置。
【請求項１７】
前記フィルタボックスの表面にシート状のヒータを設け、前記フィルタボックスを所定の温度に加熱することを特徴とする請求項８〜１０のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１８】
前記フィルタボックスの表面を断熱材で覆うことを特徴とする請求項９、１０または１７のいずれかに記載の露光装置。
【請求項１９】
前記フィルタ加熱手段は赤外線ランプを利用してなることを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項２０】
前記フィルタボックスに凝縮した水を外部に排出するドレインラインを設けることを特徴とする請求項９，１０または１７のいずれかに記載の露光装置。
【請求項２１】
前記気密チャンバ、前記送気手段、前記空調手段、前記フィルタボックス、これらを連絡する循環経路の途中、及び前記不活性ガス排出口より不活性ガスを排出する経路、のうちの少なくともいずれか一個所に不純物濃度検知センサを設け、前記不純物濃度検知センサで検知された値に基づいて、前記循環経路開閉バルブを開放するステップを少なくとも有することを特徴とする請求項１、２または４のいずれかに記載の露光装置の環境制御方法。
【請求項２２】
前記フィルタボックス、それに連通する循環経路の途中、及び前記不活性ガス排出口より不活性ガスを排出する経路、のうちの少なくともいずれか一個所に不純物濃度検知センサを設け、前記不純物濃度検知センサで検知された値に基づいて、前記フィルタ加熱手段や前記不活性ガス加熱手段、及びシート状のヒーターの少なくともいずれかによる加熱を停止するステップを少なくとも有することを特徴とする請求項９、１０または１７のいずれかに記載の露光装置の環境制御方法。
【請求項２３】
前記気密チャンバ、前記送気手段、前記空調手段、前記フィルタボックス、これらを連絡する循環経路の途中、及び前記不活性ガス排出口より不活性ガスを排出する経路、のうちの少なくともいずれか一個所に不純物濃度検知センサを設け、前記不純物濃度検知センサで検知された値に基づいて、前記送気手段を停止し、さらに前記循環経路開閉バルブを閉止するステップを少なくとも有することを特徴とする請求項１、２または４のいずれかに記載の露光装置の環境制御方法。
【請求項２４】
前記不純物濃度センサで検知された値が、予め設定された値以上の超過値であった場合に、前記超過値であった不純物濃度センサが検知していた空間を挟む上流及び下流の前記循環経路開閉バルブを閉止するステップを少なくとも有することを特徴とする請求項１、２または４のいずれかに記載の露光装置の環境制御方法。
【請求項２５】
前記不純物濃度センサは酸素濃度及び水分濃度のいずれかを検知するセンサであることを特徴とする請求項２１〜２４のいずれかに記載の露光装置の環境制御方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置及びその環境制御方法に関し、特にウエハやレチクルが配置される気密室内を所定の純度の不活性ガスで循環し、空調させる方法及びその装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ＬＳＩあるいは超ＬＳＩなどの極微細パターンから形成される半導体素子の製造工程において、マスクに描かれた回路パターンを感光剤が塗布された基板上に縮小投影して焼き付け形成する縮小型投影露光装置が使用されている。半導体素子の実装密度の向上に伴いパターンのより一層の微細化が要求され、レジストプロセスの発展と同時に露光装置の微細化への対応がなされてきた。
【０００３】
露光装置の解像力を向上させる手段としては、露光波長をより短波長に変えていく方法と、投影光学系の開口数（ＮＡ）を大きくしていく方法とがある。
【０００４】
露光波長については、３６５ｎｍのｉ線から最近では２４８ｎｍ付近の発振波長を有するＫｒＦエキシマレーザ、１９３ｎｍ付近の発振波長を有するＡｒＦエキシマレーザの開発が行なわれている。更に、１５７ｎｍ付近の発振波長を有するフッ素（Ｆ２）エキシマレーザの開発が行なわれている。
【０００５】
遠紫外線とりわけ１９３ｎｍ付近の波長を有するＡｒＦエキシマレーザや、１５７ｎｍ付近の発振波長を有するフッ素（Ｆ２）エキシマレーザにおいては、これら波長付近の帯域には酸素（Ｏ２）の吸収帯が複数存在することが知られている。このため、空間中の露光光の透過率劣化やオゾンの生成を抑える目的でレチクルやあるいはウエハを含めた露光光学系の光路においては、窒素等の不活性ガスによるパージ手段によって、光路中に存在する酸素濃度を数ｐｐｍオーダー以下の低レベルにおさえる方法がとられている。
【０００６】
このように、遠紫外線とりわけ１９３ｎｍ付近の波長を有するＡｒＦエキシマレーザや、１５７ｎｍ付近の波長を有するフッ素（Ｆ２）エキシマレーザ光を利用した露光装置においては、ＡｒＦエキシマレーザ光や、フッ素（Ｆ２）エキシマレーザ光が非常に物質に吸収されやすいため、光路内を数ｐｐｍオーダー以下でパージする必要がある。また水分に対しても同様のことが言え、やはり、ｐｐｍオーダー以下での除去が必要である。
【０００７】
このため露光装置内、とりわけ紫外光の光路となる部分に対しては不活性ガスでパージすることが行われている。また、露光装置内部と外部を連絡する部分には、ロードロック機構が設けられ、外部からレチクルやウエハを搬入する場合には、一旦外気と遮断し、ロードロック機構内の不純物を不活性ガスでパージした後、露光装置内部に搬入していた。
【０００８】
図１は従来の露光装置に適用されている空気による循環空調技術を、不活性ガス循環空調装置に利用した露光装置の一例である。
【０００９】
図１において、６はウエハ、７はウエハを載置し移動可能なウエハステージ、８はウエハステージ７を支持するための構造体、９は不図示のレチクル中に描かれたパターンをウエハ６上に投影転写するための投影光学系、１９はこの投影光学系を支持するための構造体である。また１はウエハステージ７や、投影光学系９の一部を外気から隔離するための気密チャンバであり、気密チャンバにはロードロック２が隣接して設けられており、さらにこのロードロック２とウエハステージ７の間にはウエハ搬送系２４が設けられている。外部よりロードロック２を経て気密チャンバ１内に搬入されたウエハは、ウエハ搬送系２４によりウエハステージ７上に載置され、露光作業が進められる。一方、気密チャンバ１の一端には除塵フィルタ１３を吹き出し口に設けたフィルタボックス２０が接続されており、フィルタボックス２０は循環供給経路２１を介して空調機４と接続されている。また気密チャンバにはリターン口Ｒが設けられており、このリターン口Ｒは循環戻り経路２２を介して空調機４と接続されている。気密チャンバ内の不活性ガスは、このリターン口Ｒより吸い込まれ、循環戻り経路２２を経て空調機４内に戻される。空調機４内には冷却装置１０や加熱装置１１が設けられており、例えば除塵フィルタ１３より吹き出された不活性ガスの温度を温度センサＴｓ１で検知し、この温度が常に所定の温度になるように冷却装置１０や加熱装置１１の能力を温度制御装置ＴＣで制御している。冷却装置１０や加熱装置１１を通過した不活性ガスは送風機３によって、循環供給経路２１を経てフィルタボックス２０に供給され、ケミカルフィルタ１２を通過することで有機物や無機物の不純物ガスが除去され、除塵フィルタ１３を通過することで塵埃が除去され、再度気密チャンバ１内に不活性ガスが吹き出される。
【００１０】
さらに循環戻り経路２２には不活性ガス供給経路Ｓ３が接続されており、不図示の不活性ガス供給装置により、これら循環経路中に常に純度の高い不活性ガスが供給されている。また循環供給経路２１には不活性ガス排出経路Ｓ２が接続され不純物モニタ１４ａが設置されており、これら循環経路中の不活性ガスの一部が常に外部に排出され監視されている。このように気密チャンバ１と空調機４を循環しつつ、純度の高い不活性ガスを常に供給することで、所定の酸素濃度や水分濃度を達成し、かつ一定温度の不活性ガス雰囲気を気密チャンバ１内に作っていた。
【００１１】
また、例えば特開平９−２１８５１９号公報では、レチクルステージが収納されるレチクル空間を不活性ガスでパージする方法に関して、不活性ガス供給源と供給経路の他にブロワ、熱交換器、除塵フィルタを循環経路中に設けた不活性ガス循環経路を構成し、レチクル空間内の不活性ガスと供給源から供給される不活性ガスを混合した上で、熱交換器及び除塵フィルタにてこの混合不活性ガスを再調質して再度レチクル空間内に供給し、供給源からの不活性ガス供給量を削減することが提案されている。
【特許文献１】特開平９−２１８５１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
上記の通り、紫外線とりわけＡｒＦエキシマレーザ光やフッ素（Ｆ２）エキシマレーザ光を利用した露光装置においては、ＡｒＦエキシマレーザ光や、フッ素（Ｆ２）エキシマレーザ光の波長における酸素及び水による吸収が大きいため、充分な透過率と安定性を得るためには酸素及び水分を十分に除去する必要がある。
【００１３】
しかし上記従来例では、気密チャンバ１や空調機４内の空間が大気で充たされている状態から、所定の不活性ガス雰囲気に到達するまでの時間、すなわち初期パージ時間が非常に長いという欠点がある。初期パージにおいては一般的には循環していない状態で、純度の高い不活性ガスを供給し、内部の大気あるいは大気と不活性ガスの混合気を排出して行う。
【００１４】
それは図１において明らかなように、不活性ガス供給経路Ｓ３から供給された不活性ガスが、周りの大気を追い出しつつ、不活性ガス排出経路Ｓ２に到達することに等しい。しかしこれには、気密チャンバ１を経由して不活性ガス排出経路Ｓ２に到達する経路と、空調機４を経由して不活性ガス排出経路Ｓ２に到達する経路の、２つの経路が存在する。この２つの経路の各々は、容積や不活性ガスの流れやすさが異なり、例えば空調機４の方がフィルタボックス２０を含む気密チャンバ１よりも容積が小さく、不活性ガスも流れ易い。この場合、不活性ガス供給経路Ｓ３から供給された不活性ガスは、空調機４側の経路に偏って流れ、不活性ガス排出経路Ｓ２より排出されるため、大気から不活性ガスへの置換は空調機４側が早く進む。これに対して気密チャンバ１側の大気は主に拡散現象によって空調機４側に広がり、逆に言えば空調機４側の不活性ガスは主に拡散現象によって気密チャンバ側に広がり、徐々に不活性ガスで置換される。このように不活性ガスで置換されていく二つの経路の内、一方の経路の置換は拡散現象によるものが支配的となるため、結果として全体の初期パージとして非常に長い時間を必要とし、装置の立ち上げ時間が長くなり生産性が劣化するという欠点があった。
【００１５】
また、大気中にさらされた物体表面には多くの水分子が付着している。特に樹脂においては、親水性のあるものや吸水特性を持つものが多く、金属表面に比べて水分が脱離し難く、また多くの水分を長期間に渡って放出する欠点がある。水分の脱離特性が比較的良好なフッ素樹脂においてさえ、金属と比べると一桁以上水分の脱離特性が劣ることが本発明の発明者によって確認された。
【００１６】
一方、露光装置を構成する種々のユニットには多種の樹脂材料が使用されている。特に配管材料やケーブルの被覆材料には実装密度や作業性の点で樹脂材料を使用せざるを得ない。従って結果的にこれら樹脂部材が収納されたレチクル空間やウエハ空間においては、高純度の不活性ガスでパージしたとしても、物体表面に付着した水分子が徐々に長期間に渡って脱離し続け、所定の水分濃度に到達させるのに数十時間以上もかかるため、装置の立ち上げ時間が長くなり生産性が劣化するという欠点があった。またさらには所定の水分濃度に到達させるために、供給源からより多くの高純度不活性ガスを供給しなければならず、装置のランニングコストが高くなるという欠点があった。
【００１７】
また、レチクル空間やウエハ空間に不活性ガス循環経路を構成する場合には、これら空間より上流側に除塵フィルタを設ける必要がある。この除塵フィルタは低い圧力損失で大流量の気体を処理できるよう、元々非常に大きな表面積をもつ繊維状の濾材をさらに折りたたんで筐体に収納する構造になっており、流体が接触する濾材の総表面積はとてつもなく大きい。しかも濾材にはガラスやフッ素樹脂が材料として使用されており、この表面に付着している水分もまた長期にわたって大量に脱離し続けるという欠点がある。またさらに必要に応じてこの除塵フィルタより上流にケミカルフィルタを設ける場合がある。ケミカルフィルタの濾材にはイオン交換樹脂、粒状活性炭あるいは繊維状活性炭、無機セラミックス等が使用されるが、いずれも前記除塵フィルタと同様にその表面積が大きく、濾材表面に付着した水分が長期にわたって大量に脱離し続けるという欠点がある。例えば活性炭は気温２５℃、相対湿度４０％〜８０％の雰囲気中においては重量比５％〜５０％程度の水分を吸着している。例えば乾燥重量１ｋｇの活性炭を含むケミカルフィルタには最大で５００ｃｃ程度の水分が吸着しており、このフィルタを相対湿度３％程度の乾燥雰囲気に置くと、吸着した水分の殆どが雰囲気中に蒸発することになる。もちろん他のケミカルフィルタや除塵フィルタにおいても、無視できない量の水分が吸着しており、同様のことが言える。これら除塵フィルタやケミカルフィルタを使用した結果、レチクル空間やウエハ空間においては、高純度の不活性ガスでパージしたとしても、濾材表面に付着した水分子が徐々に長期間に渡って脱離し続け、所定の水分濃度に到達させるのに数十時間以上もかかるため、装置の立ち上げ時間が長くなり生産性が劣化するという欠点があった。
【００１８】
またさらには、所定の水分濃度に到達させるために、供給源からより多くの高純度不活性ガスを供給しなければならず、装置のランニングコストが高くなるという欠点があった。また水分の他にも大気中やクリーンルーム中の不純物が、輸送時や装着時に、これらフィルタ類に付着し、表面に吸着した水分に溶け込んだり、あるいは不純物単体で、上記水分と同様の振る舞いをする欠点があった。
【００１９】
さらに、レチクル空間やウエハ空間内に収納された各種ユニットのメンテナンスや修理の際には、この空間を大気に開放しなければならない。この際、除塵フィルタやケミカルフィルタも一緒に外気に曝されてしまう。その結果これらフィルタ類の濾材表面に、外気の水分や不純物が再付着してしまい、メンテナンス終了後に再度不活性ガスでパージを再開したとしても、所定の水分や不純物濃度に到達させるのに長期の待ち時間あるいは大量の高純度不活性ガスが必要となり、装置の生産性劣化やランニングコストの高騰につながるという欠点があった。
【００２０】
またさらに、これら気密チャンバ内を不活性ガス雰囲気で循環し、露光装置を稼働させると、ウエハやレチクルは外部より頻繁にこれら気密チャンバ内に搬入させることになる。もちろんこの際、外部雰囲気が気密チャンバ内に漏れ込むことは、ロードロックを使用することで防いでいる。しかしウエハ表面やその表面に塗布されたレジスト表面、あるいはレチクルの表面には外部雰囲気中に存在していた水分や不純物が吸着しており、この吸着した水分や不純物が完全に平衡状態となるまで脱離する以前に、これらウエハやレチクルを気密チャンバ内に搬入するのが一般的であり、またそうしないと露光装置として必要な生産性を確保することができない。従って露光装置稼働中は搬入されるウエハやレチクルを介して、気密チャンバ内に水分や不純物が常に供給されていることになり、この水分や不純物の多くは循環経路を通ってケミカルフィルタや除塵フィルタの濾材表面に吸着しつつ、この吸着量の増加に伴って徐々に気密チャンバ内の水分や不純物の濃度が劣化してゆく。この水分や不純物の濃度劣化が、露光光雰囲気の透過率劣化や光学部材の曇りを引き起こす原因となり、ひいては露光装置の生産性を低下させてしまうという欠点があった。
【００２１】
そこで、不活性ガスを循環しつつ、より少量の高純度不活性ガス供給と、より短期間の立ち上げ時間でウエハ空間やレチクル空間の不活性ガス濃度を所定の純度に到達、維持させる方法の開発が望まれていた。
またさらに運転中に劣化した不活性ガス循環雰囲気の水分や不純物の濃度を短期間の修復期間で復帰させる方法の開発が望まれていた。
【００２２】
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたものであって、露光光として紫外光を用い、装置内を不活性ガスで置換し、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置に好ましく用いられる不活性ガス循環・空調装置を開発して提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
上記の目的を達成するために、本発明は、露光装置本体の一部が収納され、外部環境と概略遮断された気密チャンバと、該気密チャンバ内の気体を循環させる送気手段とを有し、さらに前記送気手段から供給される気体を前記気密チャンバに導入させる循環供給経路と前記気密チャンバ内の気体を前記送気手段に戻す循環戻り経路とを有する不活性ガス循環手段を備える露光装置において、前記循環供給経路と循環戻り経路の少なくとも一方の途中に、この経路を遮断可能な循環経路開閉バルブを設け、前記循環経路開閉バルブを挟んで循環経路上流及び下流のいずれか一方に不活性ガス供給口を設け、他方に不活性ガス排出口を設けたことを特徴とする。前記循環供給経路と循環戻り経路には、前記気密チャンバや前記送気手段の接続部が含まれてもよい。
【００２４】
また、本発明は、露光装置本体の一部が収納され、外部環境と概略遮断された気密チャンバと、該気密チャンバ内の気体を循環させる送気手段と、少なくとも前記気密チャンバ内の気体の温度を所定の値に制御する空調手段とを有し、さらに前記空調手段及び前記送気手段のいずれかから供給される気体を前記気密チャンバに導入させる循環供給経路と前記気密チャンバ内の気体を前記送気手段及び前記空調手段のいずれかに戻す循環戻り経路を有する不活性ガス循環手段を備える露光装置において、前記循環供給経路と循環戻り経路の少なくともいずれか一方の途中に、この経路を遮断可能な循環経路開閉バルブを設け、前記循環経路開閉バルブを挟んで循環経路上流及び下流のいずれか一方に不活性ガス供給口を設け、他方に不活性ガス排出口を設けたことを特徴とすることができる。前記循環供給経路と循環戻り経路には、前記気密チャンバや前記送気手段、及び前記空調手段の接続部が含まれていてもよい。上記いずれの場合も、前記循環経路開閉バルブを挟んで循環経路上流側に不活性ガス供給口を設け、前記循環経路開閉バルブを挟んで循環経路下流側に不活性ガス排出口を設けることが好ましい。
【００２５】
また、本発明は、露光装置本体の一部が収納され、外部環境と概略遮断された気密チャンバと、該気密チャンバ内の気体を循環させる送気手段と、循環気流中の塵埃を除去する除塵フィルタとガス状不純物を除去するケミカルフィルタの少なくとも一方と、それを収納するフィルタボックスとを有し、さらに前記気密チャンバ、前記フィルタボックス、及び前記送気手段を連通させて気体を循環させる循環経路を有する不活性ガス循環手段を備える露光装置において、前記フィルタボックスの循環経路両端に接続される上流側の循環経路と下流側の循環経路のそれぞれの途中に、これら経路を遮断可能な循環経路開閉バルブを設け、前記循環経路開閉バルブを挟んで循環経路上流のフィルタボックス側及び下流のフィルタボックス側のいずれか一方に不活性ガス供給口を設け、他方に不活性ガス排出口を設けたことを特徴としてもよい。前記フィルタボックスの循環経路両端に接続される上流側の循環経路と下流側の循環経路には、前記フィルタボックス接続部が含まれてもよい。
【００２６】
前記循環経路開閉バルブはバタフライバルブ及びゲートバルブのいずれであってもよい。また、前記フィルタボックス上流側の循環経路に設けた前記循環経路開閉バルブを挟んで前記フィルタボックス側に不活性ガス供給口を設け、前記フィルタボックス下流側の循環経路に設けた前記循環経路開閉バルブを挟んで前記フィルタボックス側に不活性ガス排出口を設けたことが好ましい。本発明では、前記気密チャンバの循環気体吹き出し口に整流部材を設けてもよく、前記フィルタボックスを真空に引くための真空ポンプを設けることもできる。
【００２７】
前記フィルタボックス内に前記除塵フィルタやケミカルフィルタを加熱するフィルタ加熱手段を設けることが好ましい。前記不活性ガス供給口より不活性ガスを供給する経路の途中に不活性ガスを加熱する不活性ガス加熱装置を設けることが好ましい。前記ケミカルフィルタと前記除塵フィルタの双方を前記フィルタボックス内に収納し、前記塵除去フィルタよりもケミカルフィルタの方が前記フィルタ加熱手段に対してより近くに配設されることが好ましく、前記除塵フィルタよりもケミカルフィルタの方が前記不活性ガス供給口に対してより近くに配設されることがさらに好ましく、前記ケミカルフィルタが無機系セラミックスを濾材に含んでなることを特徴とすることができる。
【００２８】
また、本発明は、温度制御手段と、前記フィルタボックス内の温度センサとを設け、前記温度センサにより検知された温度が所定の温度となるように、前記フィルタ加熱手段及び前記不活性ガス加熱手段のいずれかの加熱量を、前記温度制御手段により制御することを特徴とすることができ、前記フィルタ加熱手段及び前記不活性ガス加熱手段の設定温度が少なくとも６０℃以上であることが好ましい。
【００２９】
また、本発明は、前記除塵フィルタ及びケミカルフィルタのすくなくとも一方は概略水平に配置し、前記除塵フィルタないしケミカルフィルタより下方に前記不活性ガス供給口を設け、前記除塵フィルタないしケミカルフィルタより上方に前記不活性ガス排出口を設けたことを特徴とすることができ、前記フィルタボックスの表面にシート状のヒータを設け、前記フィルタボックスを所定の温度に加熱することを特徴とすることもできる。前記フィルタボックスの表面は断熱材で覆うことが好ましい。前記フィルタ加熱手段は赤外線ランプを利用してなることが望ましく、前記フィルタボックスに凝縮した水を外部に排出するドレインラインを設けることが好ましい。
【００３０】
本発明による好ましい第一の不活性ガス循環手段を備える露光装置は、ウエハステージやレチクルステージ等、少なくとも露光装置本体の一部が収納された気密チャンバと、気密チャンバ内の不活性ガスを循環しながら少なくとも気密チャンバ内の不活性ガスを所定の温度に制御する空調手段を有し、この両者を循環供給経路及び循環戻り経路で連通させる。さらに前記循環供給経路あるいは循環戻り経路の少なくとも何れか一方に循環経路開閉バルブを設け、この循環経路開閉バルブを挟んで上流及び下流に少なくとも一対の不活性ガス供給経路と不活性ガス排出経路をこの循環経路に連通するように設け、さらに不活性ガス供給経路を経て気密チャンバや空調手段に不活性ガスを供給するための不活性ガス供給手段を備え、気密チャンバや空調手段に不活性ガスを供給することができる。不活性ガス供給経路と不活性ガス排出経路を設ける順番はどちらでも良いが、この循環経路開閉バルブを挟んで循環方向下流に不活性ガス供給経路を、上流に不活性ガス排出経路を設けた方が、不活性ガスが循環する際に供給した不活性ガスが循環経路をほぼ一巡する点で尚良い。
【００３１】
また前記循環供給経路と循環戻り経路の双方に循環経路開閉バルブを設け、この双方の循環経路開閉バルブの各々に対して、この循環経路開閉バルブを挟んで上流及び下流に少なくとも一対の不活性ガス供給経路と不活性ガス排出経路をこの循環経路に連通するように設け、この双方の循環経路開閉バルブを閉止することにより、気密チャンバと空調手段のそれぞれの空間を独立して不活性ガスで置換するようにしても良い。
【００３２】
本発明による好ましい第二の不活性ガス循環手段を備える露光装置は、ウエハステージやレチクルステージ等、少なくとも露光装置本体の一部が収納された気密チャンバと、気密チャンバ内の不活性ガスを循環しながら少なくとも気密チャンバ内の不活性ガスを所定の温度に制御する空調手段を有し、この両者を循環供給経路及び循環戻り経路で連通させる。さらに気密チャンバと空調手段を循環する不活性ガスの循環経路途中に、不活性ガス中に含まれる塵埃を除去する除塵フィルタ、あるいはこの不活性ガスに含まれる有機ガスや無機ガス等の不純物を除去するケミカルフィルタ、の少なくとも一方あるいは両方を配設させることができる。またさらに除塵フィルタあるいはケミカルフィルタの上流及び下流の双方にそれぞれ循環経路開閉バルブを設け、この循環経路開閉バルブを閉じることにより気密チャンバや空調手段を含む空間と前記フィルタ類を含む空間とをそれぞれ独立した空間に分離することができる。またさらに前記双方の循環経路開閉バルブを閉止することにより分離された気密チャンバや空調手段を含む空間に連通するよう、少なくとも一対の不活性ガス供給経路と不活性ガス排出経路を設け、さらに不活性ガス供給経路を経て気密チャンバや空調手段に不活性ガスを供給するための不活性ガス供給手段を備え、気密チャンバや空調手段に不活性ガスを供給することができる。
【００３３】
この第二の不活性ガス循環手段を備える露光装置においては、保守・点検・修理等の目的で蓋等を開けて気密チャンバや空調手段を開放する場合には循環経路開閉バルブを遮断し、フィルタ類側の空間を密閉状態に維持することができる。また再度気密チャンバと空調手段の運転を再開する場合には、その準備段階としてフィルタ類側の空間を密閉状態に維持したまま、気密チャンバや空調手段側の空間だけを不活性ガスでパージすることができる。
【００３４】
またさらに気密チャンバと空調手段を連通する循環経路の途中にも循環経路開閉バルブを設けても良く、こうすれば前記フィルタ類の上下流に設けた物も含めて、この循環開閉バルブを閉止することにより気密チャンバと空調手段、フィルタ類のそれぞれを含む３つの空間を個別に分離することができる。そしてさらに気密チャンバを含む空間と空調手段を含む空間のそれぞれに対して、少なくとも一対ずつの不活性ガス供給経路と不活性ガス排出経路を設け、不活性ガス供給手段からこの不活性ガス供給経路を経て気密チャンバと空調手段のそれぞれに不活性ガスを独立して供給することができ、このようにすれば循環経路開閉バルブを遮断することで他方の気密状態は保ったまま気密チャンバあるいは空調手段のいずれか一方を独立して大気に開放することができ、また運転再開の場合には、開放した空間だけを独立して不活性ガスでパージすることができる。
【００３５】
また、前記第二の不活性ガス循環手段を備える露光装置に加えて、前記循環経路開閉バルブを閉止することにより分離されたフィルタ類を含む空間に連通するよう、少なくとも一対の不活性ガス供給経路と不活性ガス排出経路をさらに設け、前記不活性ガス供給手段より不活性ガス供給経路を経てフィルタ類に不活性ガスを供給すれば尚良い。このようにすれば交換等のためにフィルタ類側を大気開放にする場合においても、気密チャンバや空調手段側は密閉状態に保つことができ、運転再開の場合にはフィルタ類側の空間だけを不活性ガスでパージすることができる。また前記不活性ガス供給経路と不活性ガス排出経路はフィルタ類を挟んでその前後の空間に接続させることが望ましい。
【００３６】
またフィルタ類を通り移動した気密チャンバ１の循環ガスの吹き出し口には整流部材を設け、より均一かつ層流状態で気密チャンバ１内に循環ガスが流れ込むようにすることが、ステージ等の位置決め精度を向上させる点で望ましい。
【００３７】
本発明による好ましい第三の不活性ガス循環手段を備える露光装置は、前記第二の不活性ガス循環手段を備える露光装置に対して、前記フィルタ類を含む空間（以降「フィルタ空間」）にフィルタ加熱手段を備えることを特徴とする。またフィルタ空間に不活性ガスを供給するための不活性ガス供給経路と、フィルタ空間内の不活性ガスを含む気体を外部に排出するための不活性ガス排出経路を設ける。不活性ガス供給経路を経て不活性ガスをこのフィルタ空間に供給しつつ、フィルタ空間に収納された除塵フィルタあるいはケミカルフィルタ、あるいはその双方をこれらフィルタの耐熱温度以下の範囲でフィルタ加熱手段により直接的あるいは不活性ガスを介して間接的に加熱し、またさらに加熱された不活性ガスを含む気体を外部に排出することを特徴とする。また前記フィルタ加熱手段の代わりとして、不活性ガス供給経路途中に不活性ガス加熱手段を備え、加熱した不活性ガスをフィルタ空間に供給することで前記フィルタを加熱しても良い。
【００３８】
またこれら加熱機能を設ける場合には、除塵フィルタやケミカルフィルタを水平に配置し、これらフィルタ類より下方から加熱して、不活性ガスの対流を利用することが、フィルタ空間やフィルタ自身の温度分布を均一にする点でより望ましい。すなわちフィルタ空間に加熱手段を設ける場合にはフィルタ類よりも下方にこの加熱手段を配置すると良く、また加熱した不活性ガスを供給する場合には、この不活性ガス供給口をフィルタ類よしも下方に配置すると尚良い。
【００３９】
また除塵フィルタやケミカルフィルタは耐熱温度が１１０℃以上のものを使用することが水分を枯らす時間を短縮できる点で望ましい。この耐熱温度の点では無機セラミックスあるいは活性炭を濾材に含むものが好適である。またガラスやフッ素樹脂を濾材とする除塵フィルタと比べ相対的にはケミカルフィルタの方がより多くの水分や不純物を吸着するため、これらケミカルフィルタを最もフィルタ加熱手段に近く配置し、以降に除塵フィルタを配置した方が、より早く水分や不純物を枯らす点で尚良い。もちろんケミカルフィルタからの発塵を除去できるよう、除塵フィルタはケミカルフィルタよりも循環経路上流側に配置した方が良い。
【００４０】
またさらに、ケミカルフィルタの中では最も耐熱温度が高い、無機セラミックスを濾材に含むケミカルフィルタを使用する方がより早く水分や不純物を枯らす点で尚良い。またさらに複数種の濾材からなるケミカルフィルタを重ねて用いる場合には、無機セラミックスを濾材に含むケミカルフィルタ、あるいはその濾材自身を最もフィルタ加熱手段に近くに配置するようにケミカルフィルタを構成することがより早く水分や不純物を枯らす点で尚良い。
【００４１】
本発明による好ましい第四の不活性ガス循環手段を備える露光装置は、前記第二の不活性ガス循環空調手段を備える露光装置に対して、前記フィルタ空間に連通する真空排気経路を設け、この真空排気経路の他端に真空発生手段を配設して、フィルタ空間内の除塵フィルタやケミカルフィルタが収納される環境を真空状態にすることを特徴とする。またさらに前記第二の不活性ガス循環空調手段を備える露光装置と同様に、フィルタ空間に不活性ガスを供給するための不活性ガス供給経路と、フィルタ空間内の不活性ガスを含む気体を外部に排出するための不活性ガス排出経路を設け、フィルタ空間を不活性ガスでパージすることと真空状態にすることを交互に行う、回分パージが行えるようにすれば尚良い。またさらに真空中や不活性ガスパージ中に前記フィルタ類を直接加熱する、フィルタ加熱手段か或いは加熱した不活性ガスによりフィルタ類を間接的に加熱する、不活性ガス加熱手段をさらに備えても良い。またこのフィルタ加熱手段には真空中での加熱効率が高い、赤外線ランプを利用して好適である。
【００４２】
また前記第三及び第四の不活性ガス循環手段を備える露光装置においてフィルタ類を加熱する場合には、フィルタ空間を形成する筐体表面に断熱材あるいはシート状のヒーターの何れか一方あるいは両方を配設し、フィルタ加熱手段あるいは不活性ガス加熱手段によりフィルタを加熱する際に、例えばこのシート状のヒーターを同時に稼働させ、筐体表面を加熱しても良い。
【００４３】
またさらに前記第三及び第四の不活性ガス循環手段を備える露光装置においては、フィルタ空間に凝縮して滴下する水分をフィルタ空間外に導くドレインラインを設け、さらにこのドレインラインの途中にタンクを設け、該タンクの出入り口に開閉バルブを設けるようにすれば、凝縮した水分がフィルタ空間の中で再蒸発し、不活性ガスの不純物濃度が劣化することを防止できる点でより好ましい。
【００４４】
また前記第一〜第四の不活性ガス循環手段を備える露光装置ではフィルタ類を含む空間を独立したフィルタ空間として備えたが、このフィルタ空間を空調手段内に内包させても良く、こうすれば対象としていた三つの空間を気密チャンバと空調手段の二つの空間に絞ることがでる。
【００４５】
また前記第一〜第四の不活性ガス循環手段を備える露光装置は、気密チャンバの循環不活性ガス吹き出し口に整流板を備えることが望ましい。また不活性ガス供給手段あるいは不活性ガス供給経路の少なくとも何れか一方には、不活性ガスの流れを適時遮断できる開閉弁と不活性ガスの供給手段を調節する不活性ガス流量調整手段を設けることが望ましい。またさらに不活性ガス排出経路には不活性ガスの流れを適時遮断できる開閉弁を設けることが望ましく、またこの不活性ガス排出経路と連通する空間の圧力を調整できるように、不活性ガス排出経路の途中には絞り弁を設けることが望ましい。
【００４６】
また前記第一〜第四の不活性ガス循環手段を備える露光装置は、気密チャンバや空調手段、フィルタ空間等、循環経路開閉バルブのそれぞれが遮断することで閉鎖される各々の空間内の少なくとも一カ所以上に、不純物濃度センサを設けても良い。またあるいは閉鎖される各々の空間に連通させた不活性ガス排出経路の少なくとも一カ所以上の途中に不純物濃度センサを配設しても良い。
【００４７】
この不純物濃度センサは、これら空間を不活性ガスでパージしている際や、不活性ガスを循環させている際に、これら空間内の酸素濃度や水分濃度またあるいは有機ガス類の濃度や無機ガス類の濃度を検出することができる。
【００４８】
また特にフィルタ空間においては少なくとも水分センサを設けることが望ましい。この水分センサで検知された水分濃度を元に、フィルタ空間に供給する不活性ガスの流量や供給時間を決定でき、またあらかじめ設定した水分濃度に到達するまで不活性ガスの供給を続けることが可能となる。
【００４９】
さらに前記第三及び第四の不活性ガス循環手段を備える露光装置においても、同様にフィルタ空間内の水分濃度を検出するように水分センサを設け、この水分濃度値を断続的あるいは連続的に監視することで、フィルタ類を加熱する温度や時間、あるいはフィルタ空間を真空状態に保つ時間や真空圧力、またあるいは真空排気と不活性ガスの供給を繰り返す回数を決定することができる。
【００５０】
本発明に係る露光装置の環境制御方法は、前記気密チャンバ、前記送気手段、前記空調手段、前記フィルタボックス、これらを連絡する循環経路の途中、及び前記不活性ガス排出口より不活性ガスを排出する経路、のうちの少なくともいずれか一個所に不純物濃度検知センサを設け、前記不純物濃度検知センサで検知された値に基づいて、前記循環経路開閉バルブを開放するステップを少なくとも有することを特徴とする。
【００５１】
また、本発明に係る露光装置の環境制御方法は、前記フィルタボックス、それに連通する循環経路の途中、及び前記不活性ガス排出口より不活性ガスを排出する経路、のうちの少なくともいずれか一個所に不純物濃度検知センサを設け、前記不純物濃度検知センサで検知された値に基づいて、前記フィルタ加熱手段や前記不活性ガス加熱手段、及びシート状のヒーターの少なくともいずれかによる加熱を停止するステップを少なくとも有することを特徴とすることができる。
【００５２】
また、本発明に係る露光装置の環境制御方法は、前記気密チャンバ、前記送気手段、前記空調手段、前記フィルタボックス、これらを連絡する循環経路の途中、及び前記不活性ガス排出口より不活性ガスを排出する経路、の少なくともいずれか一個所に不純物濃度検知センサを設け、前記不純物濃度検知センサで検知された値に基づいて、前記送気手段を停止し、さらに前記循環経路開閉バルブを閉止するステップを少なくとも有することを特徴としてもよい。
【００５３】
また、本発明に係る露光装置の環境制御方法は、前記不純物濃度センサで検知された値が、予め設定された値以上の超過値であった場合に、前記超過値であった不純物濃度センサが検知していた空間を挟む上流及び下流の前記循環経路開閉バルブを閉止するステップを少なくとも有することを特徴とすることができる。前記不純物濃度センサは、例えば酸素濃度及び水分濃度のいずれかを検知するセンサである。
【００５４】
また、本発明の不活性ガス循環方法は、次の各ステップを含むことができる。（１）露光装置が稼働し、循環している不活性ガスの不純物濃度あるいは水分濃度を検知し、この検知した値が予め設定した閾値を越えた場合に、循環用送気手段の運転を停止するステップ、（２）気密チャンバや空調手段、フィルタ空間を連通する、循環供給経路及び循環戻り経路をそれぞれの循環経路開閉バルブを閉じて遮断するステップ、（３）気密チャンバや空調手段、フィルタ空間の少なくともいずれかに、不活性ガス供給経路より不活性ガスを供給し、不活性ガス排出経路より不活性ガスを供給した空間内の気体が排出されるステップ、（４）フィルタ空間への不活性ガス供給を遮断し、フィルタ空間を真空状態とするステップ、（５）フィルタ空間内に配設されたケミカルフィルタや除塵フィルタを、加熱するステップ、（６）フィルタ空間内の不純物濃度あるいは水分濃度を検知し、この検知した値があらかじめ設定した閾値以下になった場合にフィルタ類の加熱あるいは真空状態に保つのを停止するステップ、（７）気密チャンバや空調手段、フィルタ空間を連通する、循環供給経路及び循環戻り経路をそれぞれの循環経路開閉バルブを開けて開通するステップ、（８）循環用送気手段を起動させて気密チャンバ内に不活性ガスを循環させるステップ、（９）不活性ガス循環手段に供給する不活性ガス供給流量が予め設定された範囲内となるよう、気密チャンバ、空調手段、フィルタ空間に連通されたそれぞれの不活性ガス供給経路の一部を必要に応じて遮断し、また開通している不活性ガス供給経路より供給する不活性ガス供給流量を調節するステップ、（１０）気密チャンバ内あるいは空調手段内、またあるいはフィルタ空間内の圧力があらかじめ設定された範囲内となるよう、気密チャンバ、空調手段、フィルタ空間に連通されたそれぞれの不活性ガス排出経路の一部を必要に応じて遮断し、また開通している不活性ガス排出経路に設けられた絞り弁の開度を調整するステップである。
【発明の効果】
【００５５】
本発明によれば、フッ素エキシマレーザなどの紫外光を光源とする投影露光装置において、少量の不活性ガスの供給と、短期間での立ち上げで高純度の不活性ガス雰囲気を作ることが可能になり、高い生産性と安いランニングコストを実現することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５６】
本発明の不活性ガス循環手段を備える露光装置は、実施例によって制限されず、露光光として紫外光を用い、装置内を不活性ガスで置換し、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置であれば公知のものに適用される。
【００５７】
また、本発明の露光装置に用いる露光光としての紫外光は特定の波長のものに制限されないが、従来技術で述べたように、遠紫外線とりわけ１９３ｎｍ付近の波長を有するＡｒＦエキシマレーザや、１５７ｎｍ付近の波長を有するフッ素（Ｆ２）エキシマレーザ光に対して有効である。以下、図面を用いて本発明の実施例を説明する。
【実施例１】
【００５８】
図２及び図３は、本発明の実施例１に係る露光装置の不活性ガス循環手段としてのガス循環空調装置の概略図である。前記従来例を示した図１と同一の構成要素については同じ番号を振って、それらの重複説明を省略し、また投影光学系９、構造体１９、ウエハ搬送系２４、温度センサＴｓ1、温度制御装置ＴＣは不図示として省略した。またウエハ側を収納する気密チャンバ１を例にとって以下実施例を説明するが、もちろんレチクル側においても同様の例が考えられることは言うまでもない。気密チャンバ１は、外部環境と概略遮断され、実質的に気密である。
【００５９】
図１に示した前記従来例に対し、図２における本実施例は循環供給経路２１中にこの経路を遮断できる循環経路開閉バルブＣＶ１を設け、さらに循環経路開閉バルブＣＶ１の上流に不活性ガス排気経路Ｓ２を、下流に不活性ガス供給経路Ｓ３を設けたところが異なる。
【００６０】
露光装置が稼働中は、少なくともこの不活性ガス循環空調装置も稼働しており、すなわち循環経路開閉バルブＣＶ１は開放状態であり、不図示の不活性ガス供給手段より不活性ガス供給経路Ｓ３を経て高純度の不活性ガスが循環経路に供給されつつ、また不活性ガス排出経路Ｓ２より気密チャンバ１内の不活性ガスが排出されつつ、所定の酸素・水分濃度以下となった不活性ガスが、気密チャンバ１と空調機４間を循環している。もちろん図２及び図３において、循環供給経路２１中に設けた上記循環経路開閉バルブＣＶ１及び不活性ガス排気経路Ｓ２、不活性ガス供給経路Ｓ３を循環戻り経路２２側に設けても良い。
【００６１】
保守、点検、修理等の理由で気密チャンバ１や空調機４内が大気で充たされた状態から、再度不活性ガスで循環する場合には、循環前の準備作業として以下の初期パージ作業を行う。まず循環経路開閉バルブＣＶ１を閉止した状態で、高純度の不活性ガスを供給経路Ｓ３を経て循環経路に供給する。供給された不活性ガスは気密チャンバ１に向かうと共に、気密チャンバ１や空調機４内にたまっていた大気は、循環経路の他端に設けられた排気経路Ｓ２より、ところてん式の様に順序よくかつ速やかに外部に押し出される。このとき循環経路開閉バルブＣＶ１の出来るだけ直近に不活性ガス供給経路Ｓ３及び不活性ガス排気経路Ｓ２が配置されていることが、不活性ガスの流れに対してデットスペースが無くなる点で望ましい。排気経路Ｓ２より排出されるガスが大気から大気混じりの不活性ガスとなり、さらに不純物モニタ１４ａにより検知された酸素濃度あるいは水分濃度が所定の値に到達した時点で循環経路開閉バルブＣＶ１を開放し、高純度の不活性ガスの供給及び排出は行ったままで、空調機４や送気手段としての送風機３を稼働させて不活性ガスを循環させる。Ｓ３より供給される高純度の不活性ガスの流量が多いほど、上記初期パージに必要な時間は短くできる。従って、初期パージ時の不活性ガス供給量は時間短縮のために比較的大きな流量とし、不活性ガス循環時には所定の純度を維持するに必要な最小限の流量にこの不活性ガスの供給量を抑える機能を不図示の不活性ガス供給装置に設けることが、装置の生産性の向上とランニングコスト低減と言う観点でより望ましい。
【００６２】
また図３に示すように、図２に対し、さらに循環経路開閉バルブＣＶ３を循環戻り経路２２中に設け、その両端に供給経路Ｓ５と排気経路Ｓ６を設けても良い。この循環経路開閉バルブＣＶ１とＣＶ３を遮断することにより、気密チャンバ１と空調機４のそれぞれの空間を分離することができ、保守点検等のために不活性ガスの循環を停止した上で例えば気密チャンバ１を大気開放にしても、空調機４は気密状態を保つことができ、従って空調機４内部の不活性ガスの純度を劣化させないで済む。もちろん空調機４側の空間の気密性が完全でない場合には、不活性ガス供給経路Ｓ５と排気経路Ｓ２を使用して不活性ガスを置換し続けることで、所定の純度に維持し続けることが可能である。またこのとき不活性ガス供給経路Ｓ５を介して供給する不活性ガスの流量は、不純物モニタ１４ａにより検知される水分濃度あるいは酸素濃度が予め設定された所定の濃度以下となるように決定することができる。またさらに不図示の不活性ガス流量制御装置を設け、不純物モニタ１４ａにより検知された水分濃度あるいは酸素濃度に基づく信号をこの不活性ガス流量制御装置に出力し、この水分濃度あるいは酸素濃度が常に所定の濃度かそれ以下となるように流量制御装置によって、供給する不活性ガスの流量をフィードバック制御しても良く、これにより、最適なより少量の流量で空調機４の空間の不活性ガスの純度を維持することができ、ランニングコストを低減できる利点がある。
【００６３】
また元の循環状態に戻すにはまず、大気に解放した気密チャンバ１側の空間を所定の不純物濃度となるまで不活性ガスで初期パージを行う。すなわち循環経路開閉バルブＣＶ１及びＣＶ３の双方が閉止され、前述の如く空調機４側の空間は不活性ガスの純度が維持された状態で、不活性ガス供給経路Ｓ３を経て不活性ガスを気密チャンバ１側の空間に供給し、不活性ガス排出経路Ｓ６を介してこの空間の気体を排出する。これによりまず気密チャンバ１内の空間は、空調機４側の空間に対し独立して不活性ガスに置換することができる。次に不純物モニタ１４ａによって検知された不純物濃度が所定の濃度に維持されつつ、さらに不純物モニタ１４ｃによって検知された不純物濃度が所定の濃度に到達した時点で、気密チャンバ１と空調機４を一つの経路で連通させ、連通させた双方の空間を不活性ガスで置換させる。例えば循環経路開閉バルブＣＶ３を開け、気密チャンバ１と空調機４の空間を循環戻り経路２２によって連通させ、さらに不活性ガス供給経路Ｓ５からの不活性ガスの供給を停止し、排出経路Ｓ６を閉鎖する。このとき循環経路開閉バルブＣＶ１は閉止しており、不活性ガス供給経路Ｓ３から不活性ガスを供給し、排出経路Ｓ２から排出することで気密チャンバ１と空調機４の双方の空間を不活性ガスにより置換し続けることができる。さらに不純物モニタ１４ａにより検知された不純物濃度が所定の濃度に到達した時点で、循環経路開閉バルブＣＶ１を開け、不活性ガスの供給及び排出は行ったままで、空調機４や送風機３を稼働させて不活性ガスを循環させる。もちろん実施例１で述べたように、初期パージ時と循環時で、供給する不活性ガスの流量を変えた方が、ランニングコスト上好ましい。また上記手順では循環経路開閉バルブの開放と不活性ガスの置換を段階的に行いつつ、循環運転に移行させたが、分離した気密チャンバ１と空調機４の空間のそれぞれの不純物濃度が所定の濃度に到達した時点で、一度にＣＶ１及びＣＶ３双方の循環経路開閉バルブを開けて、循環運転を開始しても良い。
【００６４】
本実施例では気密チャンバ１側を大気解放にした場合を述べたが、空調機４側を大気解放にした場合でも同様のことが可能であり、空間を限定するものではない。またＣＶ３の代わりにＣＶ１を開けて気密チャンバ１と空調機４の空間を連通させ、不活性ガス供給経路Ｓ３からの供給と排出経路Ｓ２からの排気を停止し、不活性ガス供給経路Ｓ５と排出経路Ｓ６を利用して不活性ガスの置換を行っても良い。
【００６５】
またさらに保守、点検、修理等の理由で気密チャンバ１と空調機４の双方を大気解放した状態から再度不活性ガスで循環する場合には、循環前の準備作業として、循環経路開閉バルブＣＶ１とＣＶ３の双方を閉止した状態で不活性ガス供給経路Ｓ６と排気経路Ｓ３、及び供給経路Ｓ５と排気経路Ｓ２のそれぞれの経路を使用して、気密チャンバ１と空調機４のそれぞれの空間を独立して並行に初期パージ作業を行うことができる。これにより、一組の不活性ガス供給経路と排気経路に対する初期パージの対象空間の容積を小さくすることができるため、より初期パージに必要な時間を短くできる利点がある。さらに不純物モニタ１４ａ及び１４ｃにより検知される双方の空間の不純物濃度が予め設定されたそれぞれの不純物目標濃度に到達した時点で、前述と同様、気密チャンバ１と空調機４を一つの経路で連通させ、連通させた双方の空間を不活性ガスで置換させることが可能である。
【実施例２】
【００６６】
図４は、本発明の実施例２に係る露光装置の不活性ガス循環手段としてのガス循環空調装置の概略図である。図３に示した前記実施例１に対して本実施例は、気密チャンバ１側の空間に設けていた除塵フィルタ１３やケミカルフィルタ１２等のフィルタ類を別の筐体であるフィルタボックス５に納め、このフィルタボックス５内の空間を独立して不活性ガスで置換できるようにした点が基本的に異なる。さらに図３に対して循環経路開閉バルブＣＶ２を空調機４とフィルタボックス５を繋ぐ循環中継経路２３の途中に設け、さらにこのＣＶ２の上流に不活性ガス排気経路Ｓ４を、下流に不活性ガス供給経路Ｓ１を設けたところが異なる。図４において循環経路開閉バルブＣＶ１及びＣＶ２を閉止することにより、フィルタボックス５内の空間を気密状態に維持することが可能であり、さらに不図示の不活性ガス供給装置より不活性ガス供給経路Ｓ１を経て循環中継経路２３に不活性ガスを供給し、不活性ガス排出経路Ｓ２よりフィルタボックス５内の空間の気体を排出することにより、フィルタボックス５内の空間を不活性ガスで置換することが可能となる。このようにフィルタ類が置かれる空間を密閉可能とし、さらに独立して不活性ガスで置換可能とすることで、最も水分を吸着し易いフィルタ類の水分の枯らし作業を他の空間とは独立して行うことが可能となる。従って露光装置を設置し、立ち上げる行程においては、たとえ露光装置の設置・立ち上げ作業が完了していない状態であっても、数十時間に及ぶこれらフィルタ類の水分の枯らし作業を他の設置・立ち上げ作業と並行して予め進めることが可能となり、総作業時間の短縮が期待できる。
【００６７】
さらに気密チャンバ１内や空調機４内を保守点検作業等のために大気に解放する場合に於いても、フィルタボックス５内は不活性ガス雰囲気を維持することが可能となり、従ってこれら保守探検作業後の露光装置の再立ち上げの際にも、その都度水分の枯らし作業をする必要がなくなり、再立ち上げ時間を短縮させることが可能であり、従って装置の生産性を向上させることができる利点がある。
【００６８】
またさらに図４において、例えば気密チャンバ１を保守点検作業等のために大気解放する場合には循環経路開閉バルブＣＶ１及びＣＶ３を閉止することで空調機４やフィルタボックス５を含む空間は気密状態に保つことが可能であり、このとき循環経路開閉バルブＣＶ２は特に閉止する必要はない。もちろん空調機４とフィルタボックス５の空間のうち一方の空間の気密性のみが不完全な場合にはＣＶ２を閉じた上で、不完全な空間のみを不活性ガスで置換し続けると良い。さらにこの空調機４とフィルタボックス５の双方の空間の気密性が不完全な場合には、ＣＶ２を閉止しない状態で不活性ガス供給経路Ｓ５及び排出経路Ｓ２を使用することで、双方の空間に対して効率よく不活性ガスを置換し続けることが可能であり、このとき不活性ガス供給経路Ｓ１及び排出経路Ｓ４は使用する必要がない。もちろん空調機４あるいはフィルタボックス５を大気解放する場合の、他の二つの空間についても同様である。このように本実施例では隣り合う二つの空間を実質的に一つの空間として、少なくとも一組の不活性ガス供給経路と排出経路を使用して不活性ガスで置換することが可能であるため、たとえ隣り合う二つの空間の気密性が不完全であっても、不活性ガスの消費量を少なくできる利点がある。
【００６９】
また通常の循環運転中は例えば不活性ガス供給経路Ｓ３から不活性ガスが供給され、排出経路Ｓ２から不活性ガスが排出され、不純物モニタ１４ａによってこの循環経路中の不純物濃度が検知されている。このとき不活性ガス排出経路Ｓ４、Ｓ６から少量の不活性ガスを排出させて不純物モニタ１４ｂ及び１４ｃに送り込み、各々の点での不純物濃度を検知することも可能である。これにより気密チャンバ１、空調機４、フィルタボックス５の各々の空間の下流側における循環運転中での不純物濃度をそれぞれ検知することができ、故障など不測の事態により不純物濃度が劣化した場合、各々の不純物濃度を比較することで、原因のある空間を判別することができる。またさらにこの不純物濃度が所定の値を超えた際に、原因のある空間を挟んで設けられた循環経路開閉バルブを閉止し、少なくとも問題のない空間を密閉状態にして不純物による汚染から守ることができ、原因を排除した後の復帰時間を短縮することができる利点がある。このとき、この問題のない空間に対して不活性ガスを置換し続ければ、より安定して不純物濃度を低く抑えることができる。
【００７０】
また図４においては、気密チャンバ１の循環ガス吹き出し口に除塵フィルタ１３の代わりとして整流部材１８を設けている。この整流部材１８を通過することで循環ガスは風速ムラの少ない、より層流化された気流として気密チャンバ１内に流れ込み、特にステージの位置計測用に設けられた測距干渉計光路の揺らぎの増長を抑えることができる。この整流部材１８には金属やセラミックス材でなる多孔板や多孔質材、あるいはメッシュ材などが適用できる。
【実施例３】
【００７１】
図５は、本発明の実施例３に係る露光装置の不活性ガス循環手段としてのガス循環空調装置の概略図である。図４に示した前記実施例２に対して本実施例は、フィルタボックス５内にフィルタ類を加熱するためのフィルタ加熱手段としての加熱装置１５や、フィルタボックス内の温度を検知するための温度センサＴs２、さらに温度センサＴs２により検知された温度が所定の温度となるように加熱装置１５の出力を制御するための温度制御装置１６を設け、フィルタ類を加熱して吸着した水分を外部空間に追い出す、水分枯らし機能を追加した点が異なる。またさらに図５に示すように、フィルタボックス５内に連通するドレインラインＳ７を設け、このドレインラインＳ７の途中にドレインタンク２５を設け、このドレインタンク２５の両端には開閉バルブＶ１,Ｖ２を設け、フィルタボックス５内部に凝縮した水分が溜まる場合には、この水分を外部に逃がすようにすると良い。
【００７２】
以下、本実施例によるフィルタ類の水分枯らし方法について説明する。
まず送風機３や空調機４の運転を停止した状態で、循環経路開閉バルブＣＶ１及びＣＶ２を閉止する。ＣＶ１及びＣＶ２を閉止する直前から直後の間に不活性ガス供給経路Ｓ１より不活性ガスを供給し、排出経路Ｓ２よりフィルタボックス５内の気体を外部に排出することによって、フィルタボックス５内を不活性ガスで置換し続ける。さらにドレインタンク２５より上流の開閉バルブＶ１を開け、下流の開閉バルブＶ２は閉じたままにしておく。次に加熱装置１５を動かし、温度センサＴｓ２で計測したフィルタボックス５内の雰囲気温度に基づき、ケミカルフィルタ１２や除塵フィルタ１３が予め設定された温度となるように、温度制御装置１６により、加熱装置１５の出力をＰＩＤ制御等のアルゴリズムを用いてフィードバック制御する。
【００７３】
吸着した水分を脱離させるフィルタ類の加熱温度としては、高ければ高いほど枯らし時間を短縮できる点で良いが、現実的な目安としては水分子間の吸着活性化エネルギーに相当する１１０℃〜１３０℃前後まで加熱するのが理想的である。この場合、加熱するフィルタの耐熱温度がこれ以上である必要があり、除塵フィルタ１３ではガラス繊維やＰＴＦＥ繊維を濾材に用いたものがこれに適用でき、ケミカルフィルタ１２では活性炭や無機系材料を濾材に用いたものが適用できる。最も耐熱温度の高いケミカルフィルタ１２は無機セラミックスを濾材に用いたもので、市販品としては乾燥雰囲気でも極性分子を吸着可能な高砂熱学工業（株）のセラミックハニカムフィルタ「ＴＩＯＳ−ＤＡ」がある。ただし除塵フィルタやケミカルフィルタに使用されるガスケットや、濾材をフィルタ枠に接着固定するためのシール材等には耐熱性に劣るＥＰＤＭやウレタン等の樹脂材料が使用されていることが多く、耐熱温度や常用最大温度が６０℃〜８０℃であることが一般的である。従ってフィルタを構成するガスケットやシール材は少なくとも濾材と同等の耐熱性が必要であり、具体的にはシリコーンやフッ素を含むゴムや樹脂を素材とするものを用いると良い。もちろんケミカルフィルタにおいては濾材とフィルタ枠間の気密性はさほど重要視されないため、シール材やガスケットを使用しなくても、ほぼ同じ効果が得られる場合が多い。また、耐熱温度の低い一般的なフィルタを用いる場合には少なくとも６０℃以上に加熱することが、枯らし時間を短縮する点で好ましい。
【００７４】
このようにフィルタ類を加熱しながらフィルタボックス５内を不活性ガスで置換することにより、フィルタ類に吸着していた水分のより多くが脱離して不活性ガス中に蒸発し、この水分を含んだ不活性ガスは不活性ガス排気経路Ｓ２を経て外部に排気される。フィルタボックス５内の雰囲気の水分濃度は、加熱初期においては殆ど飽和状態となっており、さらに加熱と不活性ガスによる置換を続けることにより急速に水分濃度を低下させることができる。この後に不活性ガスの置換を続けたままで、加熱装置１５を停止してフィルタ類やその雰囲気の温度を常温に戻すことにより、フィルタから脱離していた水分の量が減少し、さらに急激に周囲空間の水分濃度が低下する。また凝縮水がドレインタンク２５に溜まる場合には、フィルタ類や雰囲気の温度が常温に戻った時点で、ドレインタンク２５より上流の開閉バルブＶ１を閉じ、さらに下流の開閉バルブＶ２を開けることで外部にこの凝縮水を排出すればよい。これらの作業を行うことにより、フィルタボックス５内の水分濃度を数時間という短期間で数百〜数ｐｐｍレベルまで低下させることができる。
【００７５】
図５ではドレインラインＳ７と排気ラインＳ２を、それぞれ独立して設けたが、例えば図５に示すＳ２は不純物モニタ１４ａ用のラインとして少量のガスが流れるようにし、Ｓ７をドレイン兼用の排気ラインとして設け、凝縮水は排気ラインの途中に設けた不図示のドレインパンで受けて外部に排出するようにしても良い。
【００７６】
装置の初期立ち上げ時や保守点検作業後などの再立ち上げ時で、フィルタボックス５内を大気解放の状態から再度循環運転を行う場合には、この循環運転を行う準備作業としての、フィルタボックス５内を不活性ガスで置換させる初期パージ作業として、これらフィルタ類の水分枯らし作業を行う。この水分枯らし作業を行うことで、再度循環運転を行った際には、循環運転初期より所定の水分濃度以下に維持することが可能となる。これによりフィルタ類によって発生する高濃度の水分を含む不活性ガスが、露光装置を収納した気密チャンバ１内に流れ込むことを防止することができ、よって露光装置表面（特に投影光学系両端の光学素子表面）への水分の付着を防止することができ、また付着した水分の再放出を防止することができ、従って露光装置をより純度の高い、より安定した純度の不活性ガス中に置くことが可能となるため、不活性ガス中を透過する露光光の透過率が変化しにくく、また光学素子表面が曇り難いという利点がある。
【実施例４】
【００７７】
図６は、本発明の実施例４に係る露光装置の不活性ガス循環手段としてのガス循環空調装置の概略図である。図５に示した実施例３では、加熱装置１５を使い、フィルタ類を加熱することで水分を枯らしたのに対して、本実施例ではフィルタボックス５内を真空ポンプ１７を使って真空にすることで水分を枯らす点が異なる。
【００７８】
以下、本実施例によるフィルタ類の水分枯らし方法について説明する。
まず送風機３や空調機４の運転を停止した状態で、循環経路開閉バルブＣＶ１及びＣＶ２を閉止する。ＣＶ１及びＣＶ２を閉止する直前から直後の間に不活性ガス供給経路Ｓ１より不活性ガスを供給し、排出経路Ｓ２よりフィルタボックス内の気体を外部に排出することによって、フィルタボックス５内を不活性ガスで置換する。次に不活性ガス供給経路Ｓ１及び排出経路Ｓ２の開閉バルブを閉止した上で、真空ポンプ１７を作動させ、フィルタボックス５内を真空引きする。さらにこの真空引きラインＳＶの開閉バルブを閉止させ、真空状態となったフィルタボックス５内に再度不活性ガス供給経路Ｓ２より不活性ガスを供給する。不活性ガスの供給によりフィルタボックス内の圧力が真空状態より大気圧に戻ったところで、供給経路Ｓ２の開閉バルブを閉止し、さらに真空引きラインの開閉バルブを開けて再度フィルタボックス５内を真空引きする。この真空引きと不活性ガスの供給を繰り返すことを回分パージと呼ぶが、この回分パージを行うことにより、フィルタ類の水分枯らし作業を短期間で効率良く行うことができる。
【００７９】
またさらに前記回分パージを行う際に、不活性ガス供給経路Ｓ１の上流に不図示の不活性ガス加熱装置を設け、加熱した不活性ガスを供給して間接的にフィルタ類を加熱するか、また或いはフィルタボックス５内に不図示の加熱ヒーターを設けてフィルタ類を直接加熱すれば、このフィルタ類の水分枯らし作業をさらに短期間の内に効率よく行うことができる。
【００８０】
またこの図６のように循環経路開閉バルブＣＶ１,ＣＶ２を閉止することでフィルタボックス５を独立して気密に保つことが可能となり、従ってフィルタボックス５とその両端の循環経路の一部のみを真空圧に耐えうる剛構造のチャンバとすれば良く、気密チャンバ１や空調機４は従来の露光装置と同様、大気圧付近に耐えうる比較的剛性の弱い構造とすることができ、比較的安価に製造できる利点がある。
【００８１】
またさらに前記実施例３あるいは実施例４でフィルタ類を加熱する場合には、フィルタボックス５の筐体表面にさらに不図示のシート状の加熱装置か断熱材のいずれか一方、ないし両方を設け、シート状の加熱装置を設けた場合は、前記フィルタ類の加熱装置と同時に稼働させる。これらによりフィルタ類の加熱効率を向上させることができ、またさらにフィルタボックス５内の温度分布をより均一にすることができるため、水分枯らし作業の時間短縮と省エネルギ化ができ、ひいては露光装置の生産性の向上とランニングコストの抑制ができる利点がある。
【００８２】
また前記実施例１〜４において、各々の循環開閉バルブを閉止してできる密閉空間のそれぞれに連通して圧力センサＰＳ１,ＰＳ２,ＰＳ３を設け、各空間の絶対圧力或いは大気との差圧を計測することとし、各々の空間を不活性ガスでパージする際に、筐体や装置の破壊等の被害の恐れのある異常な圧力とならないように、予め設定した圧力を越えた場合に、不活性ガスの供給を停止したり、不活性ガス排出経路を開けたりする機能を設ければ、未然に事故を防ぐことができる利点がある。もちろん循環中においても同様の利点があることは自明である。
【００８３】
また前記実施例２〜４においては、空調機４とフィルタボックス５をそれぞれ個別に配置しているが、この空調機４とフィルタボックス５を一つの筐体として、空調機４内にフィルタ類１２，１３を収納するようにしても良い。またこの場合でかつ、フィルタ類１２，１３を加熱する加熱装置１５を設ける場合には、循環気体の加熱・温度制御用の加熱装置１１と、フィルタ類を加熱する該加熱装置１５とを一つの加熱装置で共用すれば、空調機４を小型化できる利点がある。さらにこの場合、温度センサＴｓ１、Ｔｓ２を切り替えて一つの温度制御装置で各々の温度を制御するようにすれば装置の小型化とコストダウンができる利点がある。
【００８４】
また前記実施例１〜４において使用される不活性ガスは、空気、窒素、ヘリウム、アルゴンやこれらの混合ガスのいずれでも良いが、照明光学系や投影光学系を置換するために、その鏡筒内に導入した不活性ガスの排気を、再利用すれば、不活性ガスに掛かる材料費を削減でき、装置のランニングコストの削減に貢献できる利点がある。
【００８５】
また前記実施例２〜４において、フィルタ類の水分枯らしを行う際に、フィルタボックス５に導入する不活性ガスとして、最初は所定の純度より劣る不活性ガスを使用し、後に循環時に使用する適切な純度の不活性ガスに切り替えるようにすれば、高純度な不活性ガス程、価格が高いことより、これら不活性ガスにかかる材料費の削減が期待できる。またさらに最初に導入する純度の劣る不活性ガスの代わりに乾燥空気を利用し、後に循環時に使用する適切な純度の不活性ガスに切り替えて置換し直せば、さらにこれら不活性ガスにかかる材料費の削減が可能となる利点がある。
（デバイス生産方法の実施例）
【００８６】
次に上記説明した露光装置を利用したデバイスの生産方法の実施例を説明する。
図７は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１（回路設計）ではデバイスのパターン設計を行なう。ステップ２（マスク製作）では設計したパターンを形成したマスクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコンやガラス等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップ７）される。
図８は上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステップ１６（露光）では上記説明したデバイス製造装置の１つである露光装置によってマスクの回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
本実施例の生産方法を用いれば、従来は製造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】従来の不活性ガス循環空調装置を利用した投影露光装置の概略構成図である。
【図２】本発明の実施例１に係る露光装置の不活性ガス循環手段としてのガス循環空調装置の概略構成図である。
【図３】本発明の実施例１に係る露光装置の不活性ガス循環手段としてのガス循環空調装置の他の概略構成図である。
【図４】本発明の実施例２に係る露光装置の不活性ガス循環手段としてのガス循環空調装置の概略構成図である。
【図５】本発明の実施例３に係る露光装置の不活性ガス循環手段としてのガス循環空調装置の概略構成図である。
【図６】本発明の実施例４に係る露光装置の不活性ガス循環手段としてのガス循環空調装置の概略構成図である。
【図７】微小デバイスの製造の流れを示す図である。
【図８】図７におけるウエハプロセスの詳細な流れを示す図である。
【符号の説明】
【００８８】
１：気密チャンバ、２：ロードロック、３：送風機（送気手段）、４：空調機（空調手段）、５：フィルタボックス、６：ウエハ、７：ウエハステージ、８：ウエハステージ支持構造体、９：投影光学系、１０：冷却装置、１１：加熱装置（不活性ガス加熱手段）、１２：ケミカルフィルタ、１３：除塵フィルタ、１４ａ,１４ｂ,１４ｃ：不純物モニタ、１５：加熱装置（フィルタ加熱手段）、１６：温度制御装置、１７：真空ポンプ、１８：整流部材、１９：投影光学系支持構造体、２０：フィルタボックス、２１：循環供給経路、２２：循環戻り経路、２３：循環中継経路、２４：ウエハ搬送系、２５：ドレインタンク、ＣＶ１,ＣＶ２,ＣＶ３：循環経路開閉バルブ、ＰＳ１,ＰＳ２,ＰＳ３：圧力センサ、Ｒ：リターン口、Ｓ１,Ｓ３,Ｓ５：不活性ガス供給経路、Ｓ２,Ｓ４,Ｓ６：不活性ガス排出経路、Ｓ７：ドレインライン、ＳＶ：真空引きライン、ＴＣ：温度制御装置、Ｔｓ１,Ｔｓ２：温度センサ、Ｖ１,Ｖ２：開閉バルブ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2005142185.tif 000009
【図８】
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