(57)【要約】  【課題】  電子ビームの磁場作用における熱補償を提供する。  【解決手段】  電子ビームに作用するための装置、たとえば、電子ビームリソグラフィ装置におけるビーム偏向装置は、変化量を低減するために、好ましくは一定値で正味の熱放散を維持するために、磁場を手段として装置の付近で電子ビーム（ＥＢ）に作用する動作可能なビーム作用コイル（１３）と、ビーム作用コイル（１３）の動作による装置の熱放散の任意の変化を補償するような熱出力を生成するために動作可能な熱放散補償コイル（１４）（具体的には場の強度を変化させるか、または場の生成または除去を行うための種々の動作）と、を具備する。補償コイル（１４）は、たとえば、装置の熱放散の測定（１９）および測定された放散に基づいてコイル（１４）に対する電流供給（１６）の計算（１８）によって制御されることができる。【選択図】      図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子ビームに作用するための装置であって、磁場を手段として装置の付近で電子ビームに作用するように動作可能なビーム作用コイルと、変化量を少なくとも低減するために、前記ビーム作用コイルの動作による前記装置の熱放散における任意の変化を補償するような熱出力を供給するように動作可能な熱放散補償コイルと、を具備する装置。
【請求項２】
前記補償コイルが、それぞれ対向する方向に電流を導くために接続された２つの隣接する熱放射巻線を具備する請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記巻線が、実質的に同値である電流を導くために接続される請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記補償コイルが、前記ビーム作用コイルに直接隣接して配置される請求項１〜３のいずれか１項に記載のコイルアセンブリ。
【請求項５】
前記補償コイルの回転が、前記ビーム作用コイルの隣接する回転で形成される空隙に実質的に適合される請求項４に記載の装置。
【請求項６】
実質的に一定値で前記装置の正味の熱放散を維持する熱出力を供給するために、前記補償コイルの動作を制御するための制御手段を具備する請求項１〜５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
前記制御手段が、前記ビーム作用コイルの動作変数の関数として、前記補償コイルの前記熱出力を計算するために配置される請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記変数が前記ビーム作用コイルの動作供給電流であり、前記制御手段が前記ビーム作用コイルのための前記動作供給電流を決定し、前記ビーム作用コイルのための決定された電流の関数として前記補償コイルのための動作供給電流を決定するように配置される請求項７に記載の装置。
【請求項９】
前記制御手段が、前記装置の正味の熱放散を測定し、測定された放散に基づいて前記補償コイルの動作を制御するように配置される請求項６に記載の装置。
【請求項１０】
前記制御手段が前記コイルのそれぞれへの動作電流供給路に個別の抵抗器であって、前記抵抗器の抵抗が前記コイルの抵抗と実質的に同一の比にある抵抗器と、前記抵抗器の総熱放散を測定するための測定手段と、実質的に一定値で前記抵抗器の総熱放散を維持するために、前記補償コイルに供給される動作電流を変化させるための手段と、を具備する請求項６に記載の装置。
【請求項１１】
前記装置の正味の熱放散における変化を逆に変化させる熱出力を供給するために、前記補償コイルの動作を制御するための制御手段を具備する請求項１〜５のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１２】
前記制御手段が前記装置の正味の熱放散を示す電気信号を供給し、前記信号を反転し、反転された信号に基づいて熱出力を供給するために、前記補償コイルを制御するための手段を具備する請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記ビーム作用コイルが、異なる間隔で磁場を生成するために動作可能ある請求項１〜１２のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１４】
前記ビーム作用コイルが、磁場の強度を変化させるように制御可能である請求項１〜１３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１５】
前記ビーム作用コイルが、磁場を手段として前記ビームを偏向させるために動作可能である請求項１〜１４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１６】
前記ビーム作用コイルが磁場を手段として前記ビームを集束させるために動作可能である請求項１〜１３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１７】
前記ビームの所与の経路の周囲に実質的に対照的に配置される偶数個のこのようなビーム作用コイルと、各ビーム作用コイルに関連するこのような個別の補償コイルと、を具備する請求項１〜１６のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１８】
電子ビームに作用するための方法であって、ビーム作用コイルによって生成される磁場によって、前記ビームに作用するステップと、変化量を少なくとも低減するために、磁場による前記コイルの熱放散における任意の変化を補償するために補助的な熱を供給するステップと、を含む方法。
【請求項１９】
補助的な熱を供給する前記ステップが、前記コイルから識別される２つの隣接する熱放射巻線を介して個別に対向する方向に電流を導くことを含む請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記巻線において導かれる電流が、実質的に同値である請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
実質的に一定値で前記コイルの正味の熱放散を維持するために補助的な熱を制御するステップを含む請求項１８〜２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
磁場の生成に関する変数に基づいて、補助的な熱を計算するステップを含む請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記変数が、磁場の生成で用いられる電流であり、計算する前記ステップが、その電流を決定し、決定された電流の関数として、補助的な熱の供給で用いられるさらなる電流を決定することを含む請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記コイルの正味の熱放散を測定するステップと、測定された放散に基づいて、補助的な熱の供給を制御するステップを含む請求項２１に記載の方法。
【請求項２５】
前記コイルの正味の熱放散における変化を逆に変化させるために、補助的な熱を制御するステップを含む請求項１８〜２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２６】
前記コイルの正味の熱放散を示す電気信号を供給し、前記信号を反転し、反転された信号に基づいて補助的な熱の供給を制御するステップを含む請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
個別の間隔で磁場を生成するステップを含む請求項１８〜２６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２８】
磁場の強度を変化させるステップを含む請求項１８〜２７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２９】
磁場を手段として前記ビームを偏向させるステップを含む請求項１８〜２８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項３０】
磁場を手段として前記ビームを集束させるステップを含む請求項１８〜２８のいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子ビームに作用するための装置および方法に関し、さらに詳細には、磁場を手段として作用するビームに関連して熱安定化に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁場を生成するための電気コイルは、とりわけ電子ビームリソグラフィ装置、電子顕微鏡または種々の目的のために電子ビームを生成し利用するその他の装置において電子ビーム経路に作用を及ぼすために、広く使用されている。そのため、たとえば、基板上に集積回路（ＩＣ）回路構成等のパターンを描画する目的で制御された偏向状態のビームを生成するリソグラフィ装置では複数の偏向コイルが使用される。集束コイルも同様に、基板上で所望の描画ビームスポットを生成するために、ビームを集束するために、リソグラフィ装置において使用される。このようなコイルの動作により、コイルワイヤにオーム熱が生じ、その結果、かなり大きな熱出力が生じ、コイルの膨張を生じることになる。磁場を生成し終端するため、および／または磁場の強度を変化させるためのコイルの種々の動作により、コイルの熱放散において一定の変動を生じ、その結果、コイル、特にコイルの巻線の寸法を変化させ、巻線が収容される巻型のほか、巻線によって生成される磁場に変動を生じる。磁場における変化は、基板上におけるビームのスポット配置の精度あるいはビーム偏向または集束における感度を低下させ、それにより、今度はたとえばビームにより描画されるパターンの許容差を大きくすることになる。
【０００３】
現在の手法では、熱放散の変化によるコイルの寸法の変動は、低い熱膨張係数の材料から巻型および巻線の注封媒体を構成するなどの受動的な解決策によって最小に抑えられる。巻型および注封媒体は巻線の熱膨張を抑制する効果を有する。この対処法は、適度に有効であるが、感度の高い制御用途における磁場の生成に用いられるコイルでは、熱安定化のさらなる改善の余地が依然としてある。
【０００４】
なお、従来の技術としては、特許文献１や特許文献２に記載されたものがある。
【特許文献１】特開平６−２０４１２７号公報
【特許文献２】特開平６−８９８５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
したがって、本発明の主な目的は、磁場を手段として電子ビームに作用することを目的としたコイルを組込んだ装置の熱安定化の強化を図り、装置の感度の安定性を向上させることである。
【０００６】
本発明の他の目的および利点は、以下の説明から明白となるであろう。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１の態様によれば、電子ビームに作用するための装置であって、磁場を手段として装置の付近で電子ビームに作用する動作可能なビーム作用コイルと、変化量を少なくとも低減するために、ビーム作用コイルの動作による装置の熱放散の任意の変化を補償するような熱出力を生成するために動作可能な熱放散補償コイルと、を具備する装置を提供する。
【０００８】
本発明を具現する装置の場合には、補償コイルは、実質的には制御することが可能と考えられるさらなる熱源であり、その熱出力は全体として装置の熱放散における変化を平衡にし、任意の変化、特にビーム作用コイルの種々の動作によって生じる変化を低減または実質的に完全に排除するように作用することができる。その結果は実質的に一定または少なくともより不変であり、装置の熱放散は、装置およびその環境の熱安定性を向上させ、磁場によるビーム偏向であろうとまたはビーム集束であろうと、ビーム作用への誤差の挿入に対して影響を受けにくくなる。
【０００９】
好ましい実施形態において、補償コイルは、それぞれ対向する方向に電流を導くために接続された２つの隣接する熱放射巻線を具備し、この場合には、巻線は、実質的に同値の電流を導くために接続されることが好ましい。この構成は、ビーム作用コイルによって生成された場にさらなる磁場を導入することを避け、その結果、補償コイルにおける流れる電流によってビームに意図的でない影響を及ぼさないようにする。
【００１０】
好都合な構成では、補償コイルは、ビーム作用コイルに直接隣接して配置される。その場合には、補償コイルの回転は、ビーム作用コイルの隣接する回転で形成される空隙に大部分または完全に適合されることが有利である。この実現性は、たとえば、ビーム作用コイルの巻線用に用いられるワイヤの直径より相当小さい直径である補償コイルの巻線用のワイヤの使用によって提供される。ビーム作用コイルの巻線のより太いワイヤの隣接する回転により、隣接する回転の周縁面が互いから離隔される領域に略Ｖ字型の空間を形成し、補償コイルの巻線のより小さい直径のワイヤに潜在的に適合することができる空間を生じる。したがって、補償コイルを備えた装置は、標準的な補償のない装置に比べて、広い空間またはかなり広い空間を占めなくて済む。
【００１１】
補償効果を備えた補助的な熱出力を供給するための熱放散補償コイルの使用の著しい利点は、補償を最適化するための種々の態様で熱出力の制御する範囲である。したがって、好ましい一実施形態において、装置は、実質的に一定値で装置の正味の熱放散を維持する熱出力を供給するために、補償コイルの動作を制御するための制御手段を具備する。制御手段は、ビーム作用コイルの動作変数の関数として補償コイルの熱出力を計算するように配置されることができる。変数は、たとえば、ビーム作用コイルの動作供給電流であってもよく、その場合には、制御手段はビーム作用コイルのための動作供給電流を決定し、ビーム作用コイルのための決定された電流の関数として補償コイルのための動作供給電流を決定するように配置される。その結果、電子ビームがビーム作用コイルによって作用される程度に関係なく、コイルの正味の熱放散が一定のままであるように、２つのコイルを動作させるために必要な電流を計算することができる。
【００１２】
別の解決策において、制御手段は、装置の正味の熱放散を測定し、測定された放散に基づいて補償コイルの動作を制御するように配置されることができる。さらに別の解決策において、制御手段は、コイルのそれぞれへの動作電流供給路において個別の抵抗器であって、その抵抗がコイルの抵抗と実質的に同一比である抵抗器と、抵抗器の総熱放散を測定するための測定手段と、実質的に一定値で抵抗器の総熱放散を維持するために、補償コイルに供給される動作電流を変化させるための手段と、を具備することができる。
【００１３】
また、装置には、装置の正味の熱放散における変化に対して逆に変化する熱出力を供給するために、補償コイルの動作を制御するための制御手段を具備することも可能である。その場合には、たとえば、制御手段は、装置の正味の熱放散を示す電気信号を供給するための手段と、信号を反転するための手段と、反転された信号に応じて熱出力を供給するために補償コイルをするための手段と、を具備してもよい。したがって、ビーム作用コイルの種々の動作から生じる装置の正味の熱放散における任意の変化に対して正反対の等しい反応によって、熱補償を行うことができる。
【００１４】
種々の動作に関して、ビーム作用コイルは、たとえば、異なる間隔で磁場を生成するように動作可能であってもよく、および／または磁場の強度、ビーム作用コイルの付勢／消勢および／またはそのコイルへの電流供給のレベルにおける変動を変化させるように制御可能であってもよい。既に述べたように、磁場を手段としてビームを偏向させるため、またはビームを集束させるために、このビーム作用コイルを用いることができる。
【００１５】
好ましい構成において、装置は、ビームの所与の経路の周囲に対称的に配置される偶数個のこのようなビーム作用コイルと、各ビーム作用コイルに関連する個別の補償コイルと、を具備する。一般的に、ビームを偏向するための装置の場合には、２組の正反対のコイルが存在し、各組のコイルが互いに対して直角である２つの平面のうちの個別の１つに対して実質的に対称的に配置される。
【００１６】
本発明の第２の態様によれば、電子ビームに作用するための方法であって、ビーム作用コイルによって生成される磁場によってビームに作用するステップと、変化量を少なくとも低減するために、磁場によるコイルの熱放散における任意の変化を補償するために、補助的な熱を生成するステップと、を含む方法が提供される。
【００１７】
本方法の好ましい一実施例において、補助的な熱を生成するステップは、コイルとは異なる２つの隣接する熱放射巻線を介して個別に対抗する方向に電流を導くことを含み、この場合にはこれらの巻線において導かれる電流は、実質的に同値であることが好ましい。
【００１８】
本発明の第１の態様に類似の態様において、方法は、実質的に一定値で磁場を生成するコイルの正味の熱放散を維持するために、補助的な熱を制御するステップを含むことができ、この場合には、たとえば、磁場の生成に関する変数に基づいて、補助的な熱を計算することができる。この変数は、磁場を生成する際に使用するための電流であることが好ましく、計算するステップは、電流を決定し、決定された電流の関数として、補助的な熱を生成する際に使用するためのさらなる電流を決定することを含むことが好ましい。補助的な熱の計算の代替方法として、方法は、コイルの正味の熱放散を測定し、測定された放散に基づいて補助的な熱の生成を制御するステップを含むことができる。
【００１９】
別の提案された制御手順の場合には、方法は、コイルの正味の熱放散における変化に対して逆に変化させるために、補助的な熱を制御するステップを含む。これは、コイルの正味の熱放散を示す電気信号を供給し、信号を反転し、反転された信号に基づいて、補助的な熱を制御することによって好都合なことに実現されることができる。
【００２０】
ここで、本方法の実施例およびコイルの実施形態について、添付図面を参照してさらに詳細に説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
ここで図面を参照すると、図１には、電子ビームに作用するための装置１０、たとえば集積回路または面に他の所望のパターンを描画するために、基板面の操作可能なパターン描画装置において電子ビームを偏向させるための装置の一部１１を示している。このよう用途のための装置は一般に、ビーム経路の両側に配置される組になった正反対のコイルからなり、それぞれが磁場を生成するために動作可能であり、場の強度が一方の側で増大し、他方の側で減少するように、各組の対向するコイルが逆の意味で制御され、より強い場の方向においてビームの偏向を生じる。各組のコイルが２つの互いに直交する平面の個別の１つに対して対象であるように配置される２組のコイルを設けることにより、４つのコイルの適切な制御によって、任意の所望の放射方向においてその標準的な経路からビームを偏向させることが可能である。
【００２２】
この種のビーム偏向装置１０は従来は、図１に示したように、低い熱膨張係数を有する電気絶縁材料の円筒本体の形をとったコイル巻型１１を具備する。巻型１１の円筒本体は、装置１０が取り付けられる電子カラムの一番上にある電子銃によって放射される電子ビームＥＢの通路のための軸孔１２を画定する。コイル巻型１１は、前段落で述べたように配置および動作されるビーム偏向コイル１３（図１には１つのみ示される）を保持する。磁場を生成するために供給された電流によるコイルの動作により、装置によって放散されることになる大量の余熱も生じる。巻型１１の構成材料の選択および低い熱膨張係数を有するコイル１３のための埋込み量にもかかわらず、コイル巻線の巻型およびワイヤは、コイルのオンオフの切替と磁場の強度を変化させる種々の態様におけるコイルの制御の両方から生じる熱膨張および収縮による寸法における一定の変化を被る。このような寸法の変化は場の寸法の変化を誘発し、それによってビーム偏向の感度およびビームによるパターン描画の精度を損なう。
【００２３】
装置の熱放散を一定値に調整することによって、このような寸法の変化を妨害および好ましくは実質的に完全に排除するために、ビーム作用コイル１３のオン／オフの切替および種々の動作によって引き起こされる変化を補償するようにさらなる熱出力が供給される。このために、装置１０は、各ビーム偏向コイル１３に関連する個別の熱放散補償コイル１４をさらに具備し、補償コイル１４（図１には１つのみ示される）が装置の一定の熱放散によって生じる補助的な熱出力を供給するように動作される。
【００２４】
図１に示したように、各補償コイル１４は、各偏向コイル１３の巻線に用いられるワイヤの直径より著しく小さい直径のワイヤの巻線からなっていてもよい。その結果、コイル１４の巻線は、コイル１３の巻線の隣接する回転の間の空隙、特にコイル１３の巻線の円形断面のワイヤの周縁面が互いから離隔される領域に形成される間隙に適合されることができる。したがって、補償コイル１４の形成は、巻かれて埋め込まれる偏向コイル１３を含めて、巻型１１の体積の増加によって実現される必要はない。図１はまた、偏向コイル１３の電流に対する補償コイル１４の電流の方向における好ましい配向を示しており、斜線の断面は、見ている人に向かって流れ、何も書いていない断面は見ている人から離れるように流れる。
【００２５】
補償コイル１４によって誘発される磁場による偏向コイル１３の磁場に対する望ましくない寄与は、図１に示したようなバイファイラコイルによって排除されることができると考えられる。この実施形態では、補償コイルは、２つの平行に延在し、近くに隣接する巻線１４ａ、１４ｂを具備し、それぞれが２つの対向する方向の個別の１つに電流を導いている。これは、補償コイルの巻線１４ａ、１４ｂによる磁場の生成を概ね回避し、偏向コイル１３の隣接して配置される正味の磁場に何も追加されないようになっている。
【００２６】
補償が正味の熱放散の一定値の維持または放散における変化に対する逆反応に直接基づいているかに応じて、装置１０の熱放散における変化を補償する補助的な熱出力を供給するための補償コイル１４の適切な制御は、多数の異なる手順によって提供されることができる。
【００２７】
３つのこのような手順のための制御回路が、図３、４および５に概略的に示されており、それぞれが、一例として、ビーム偏向コイル１３の１つおよび熱放散補償コイル１４の関連する１つを保持するコイル巻型１１を示している。コイル１３を動作させるための動作電流は第１の電流供給源１５から供給され、コイル１４を動作させるための電流は第２の電流供給源１６から供給される。第１の源１５から供給される電流のレベルは、第１の計算ステージ１７によって決定される。第１の計算ステージ１７は、コイルによって生成される磁場を手段として瞬時に必要な程度の電子ビームの偏向を生成するために、偏向コイル１３への動作電流の値を計算する。偏向の程度は０から所定の最大角の間で変化することができ、電流供給値は対応して０から所定の最大値の間で変化することができる。第２の源１６からの電流供給のレベルは、第２の計算ステージ１８によって決定される。第２の計算ステージ１８は、コイル１３の熱出力における変動および装置の正味の熱放散における変動を補償する補助的な熱出力を供給するために、補償コイル１４への動作電流の値を計算する。
【００２８】
図３の特定の回路の場合には、第２のステージ１８は、第１のステージ１７によって計算される電流供給値に対応し、第１のステージ１７によって計算される電流供給値に基づいて、コイル１４のための電流供給値を計算する。コイル巻型１１およびコイル１３、１４を含む装置の熱放散における変化は、装置の正味の熱放散を実質的に一定に保つために、補償コイル１４により必要な補助的な熱量が既知であり、第２のステージ１８によってコイル１４のための電流供給値の計算に基づいて、利用されることができるように、経験的に確立されることができる。電子ビームの偏向に一般に必要な高速には、偏向コイル１３によって生成される磁場の高速調整および補償コイル１４の熱出力の高速調整が必要である。電流供給値の計算は、偏向装置を組込んだ装置の制御コンピュータによって行うことができることが好都合であり、その場合には、計算ステージ１７、１８をコンピュータのソフトウェアとして組込むことができる。
【００２９】
図４に示された制御回路の場合には、測定装置１９は、コイル巻型１１およびコイル１３、１４を組込んだ装置の正味の熱放散を測定するために存在する。測定された正味の熱放散を示す測定信号は、測定装置１９によって第２の計算ステージ１８に適用される。第２の計算ステージ１８は、入力測定信号の値に基づいて、補償コイル１４のための動作電流供給値を計算する。この場合には、ステージ１８に適用される前に測定信号を反転して増幅することができ、ステージは、装置の正味の熱放散における任意の変化の逆に基づいて、動作電流供給値を計算する。
【００３０】
最後に、図５に示された制御回路において、２つの電流源１５、１６は、コイル１３、１４への供給経路において抵抗器２０、２１にそれぞれ直列接続される。抵抗器２０、２１は、コイル１３、１４の巻線の抵抗と互いに対して同一の比の抵抗を有する。抵抗器２０、２１に関連して、抵抗器の正味の熱放散を測定し、抵抗器の測定された熱放散を示す測定信号を第２の計算ステージ１８に適用するための測定装置２２がある。次に、ステージ１８は、入力測定信号値の関数として、補償コイル１４のための動作電流供給値を計算し、具体的にこの放散が実質的に一定のままであるような態様において、動作供給電流が抵抗器の正味の熱放散における変化を補償する結果となる。抵抗器の抵抗はコイル巻線の抵抗と同一の比であるために、補償コイル１４の熱出力は実質的に一定値で巻型１１およびコイル１３を含む装置の正味の熱放散を維持することが分かる。
【００３１】
ビーム作用装置の実施形態およびビームに作用する方法の実施例はビーム偏向に関して述べてきたが、本発明は、集束またはビームが電気的に生成された磁場に応答する任意の他の態様という意味でビームに作用するために等しく適用可能である。コイルの熱放散における変化を補償するために補助的な熱出力を形成することは、変化を排除するためであろうと、または変化を著しく低減するためであろうと、動作における装置の安定性に寄与し、装置の熱的不安定性に起因するたとえば、パターン描画の許容差などの誤差を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】装置のコイルの１つの可能な関係を示す本発明を具現する偏向装置の一部の概略断面立面図である。
【図２】多重巻線コイルおよび単一巻線コイルの場合におけるこのような装置のコイルの相対的な配置を示す図である。
【図３】装置のコイルの制御における基本要素を示す本発明を具現する偏向装置の概略回路図である。
【図４】装置のコイルの制御における基本要素を示す本発明を具現する偏向装置の概略回路図である。
【図５】装置のコイルの制御における基本要素を示す本発明を具現する偏向装置の概略回路図である。
【符号の説明】
【００３３】
１０  ビーム偏向装置
１１  コイル巻型
１２  軸孔
１３  ビーム偏向コイル
１４  熱放散補償コイル
１４ａ  巻線
１４ｂ  巻線
１５  第１の電流供給源
１６  第２の電流供給源
１７  第１の計算ステージ
１８  第２の計算ステージ
１９  測定装置
２０  抵抗器
２１  抵抗器
２２  測定装置
ＥＢ  電子ビーム
【図１】
2005079092.tif 000003
【図２】
2005079092.tif 000004
【図３】
2005079092.tif 000005
【図４】
2005079092.tif 000006
【図５】
2005079092.tif 000007