(57)【要約】【課題】  磁気記録ディスク基盤等の精密研磨対象物表面を金属酸化物で汚染しない研磨用織物並びに研磨用テープを提供する。【解決手段】  磁気記録ディスク基盤表面の研磨に用いられ得る織物であって、酸化チタンを実質的に含まない合成繊維からなることを特徴とする研磨用織物を要旨とするものであり、また、その研磨用織物を用いてなる磁気記録ディスク基盤研磨用テープを要旨とするものである。研磨対象物表面に不純物をほとんど残留させないものであり、各種精密工業製品の表面研磨に好適に用いら、磁気記録基盤の表面研磨、特に磁気記録ガラスディスク基盤のテクスチャー加工時に使用される研磨用テープに好適に用いることができ、極めて精度の高い磁気記録ガラスディスク基盤の製造に貢献するものである。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録ディスク基盤表面の研磨に用いられ得る織物であって、酸化チタンを実質的に含まない合成繊維からなることを特徴とする研磨用織物。
【請求項２】
請求項1に記載の研磨用織物を用いてなる磁気記録ディスク基盤研磨用テープ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種精密工業製品の表面研磨に用いられる研磨用織物に関するものであり、特に、磁気記録ディスクの製造工程において、磁気記録ディスク基盤の表面を研磨するのに用いられ得る研磨用織物並びにそれを用いてなる研磨用テープに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
各種天然及び人造鉱物の微粒子を研磨用の砥粒として用いた表面研磨は、レンズ、反射鏡などの光学製品分野や記録用媒体などの電子・情報技術分野をはじめ、各種産業分野で広く行われている。特に近年、磁気記録ディスクはコンピューターの情報記録媒体としては最もポピュラーなものであり、昨今はコンピューター以外のハードウェア−、例えばテレビや映像の録画機にも採用されるようになり、静止画はもとより動画は従来の文章中心の情報に比べ情報量が多く、より大容量の記録が可能な磁気記録ディスクの必要性が高まり、開発が加速されている。
【０００３】
このような状況下で、大容量の磁気記録ディスクの製造に欠くことのできない性能として、磁気異方性に優れたテキスチャー痕の形成や高度の表面平滑性が必要とされ、磁気記録ディスク基盤の表面を研磨する研磨技術の精度向上が追究され、そのために使用される研磨テープについても改良が求められている。
【０００４】
一般に磁気記録ディスク基盤の研磨は、ポリッシング加工と呼ばれる前研磨とテクスチャー加工と呼ばれる後研磨がある。ポリッシング加工はいわゆる表面のうねりを改善し、かつ平滑にする工程である。また、テクスチャー加工は平坦にした表面に、同心円状に近いオングストローム単位の細かい溝（テキスチャー痕）を形成する工程であり、磁気異方性に優れたテキスチャー痕を作り、かつ均一な表面を形成し磁気ヘッドが磁気記録ディスクに接触させないようにすることが目標となる。
【０００５】
これらの加工のうち、テクスチャー加工においては、磁気記録ディスク基盤を回転させながら、1μm以下の合成ダイヤモンド微粒子を砥粒として含む砥粒液（以下スラリー）を、研磨用織物をテープ状にカットした研磨用テープと磁気記録ディスク基盤の間に流し込み、研磨テープ上に分散した上記微粒子で研磨する遊離砥粒法が一般的である。このとき、オングストローム単位のテキスチャー痕が磁気記録ディスク基盤上に付与されるが、いかに均一で細かいテキスチャー痕を付与することができるかによって、磁気記録ディスクの性能も左右される。
【０００６】
上記の遊離砥粒法において使用される研磨用テープとしては、フィルム上にレーヨンやポリエステル等の短繊維を植毛したものが使用されてきたが、さらに研磨精度を向上させるために、最近では合成繊維の極細糸で構成された織物からなるものが使用されるようになっている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平6-295432号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記のように研磨用織物としては合成繊維で構成された織物が使用されているところ、合成繊維には、通常、繊維の艶消しのために酸化チタンが艶消し剤として含まれている。しかし、研磨用織物として、酸化チタンが含有された繊維からなるものを使用すると、テクスチャー加工の際に、繊維中の金属酸化物が磁気記録ディスク基盤上に付着し、不純物として残留してしまう。特に、ガラスディスクにおいては、付着した酸化チタンの除去が難解であるため問題となる。
【０００８】
本発明は、このような現状に鑑みて行われたもので、磁気記録ディスク基盤等の精密研磨対象物表面を金属酸化物で汚染しない研磨用織物並びに研磨用テープを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、上記目的を達成するために、磁気記録ディスク基盤表面の研磨に用いられ得る織物であって、酸化チタンを実質的に含まない合成繊維からなることを特徴とする研磨用織物を要旨とするものであり、また、その研磨用織物を用いてなる磁気記録ディスク基盤研磨用テープを要旨とするものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の研磨用織物は、研磨対象物表面に不純物をほとんど残留させないものであり、各種精密工業製品の表面研磨に好適に用いられる。したがって、磁気記録基盤の表面研磨、特に磁気記録ガラスディスク基盤のテクスチャー加工時に使用される研磨用テープに好適に用いることができ、極めて精度の高い磁気記録ガラスディスク基盤の製造に貢献するものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明について詳細に説明する。本発明の研磨用織物は、光学製品、宝飾製品、その他表面研磨を必要とする各種用途に使用できるものであるが、特に磁気記録ディスク基盤表面の研磨用として好適であるので、以下では主に磁気記録ディスク基盤表面の研磨用に焦点を当てて説明する。
【００１２】
本発明の研磨用織物は、酸化チタンを実質的に含まない合成繊維からなるものであり、かかる合成繊維は、酸化チタンを実質的に含まないポリマーを用いて形成される。
【００１３】
通常の合成繊維は、酸化チタンが添加されたポリマーを用いて形成されているため、酸化チタンが含有されている。そのように酸化チタンが添加される主な理由としては、一つには繊維のぎらつきを防ぎ、光遮蔽性を高めるためであり、もう一つには、ポリマーの流動性を高め、紡糸性を向上させるのためである。
【００１４】
本発明では、酸化チタンを実質的に含んでいない合成繊維により研磨用織物が構成されていることが重要である。ここで、酸化チタンを実質的に含んでいないとは、いかなる分析手法を用いても酸化チタンが一切検知されないことが理想ではあるが、含有量が０．０１質量％未満であれば実質的に含んでいないものとする。このようにする理由としては、酸化チタンを一切添加しないポリマーを用いて繊維を製造しても、紡糸工程においてごく少量の酸化チタンが混入してしまうことが工業的には避けられないのが現実であるため、本発明の目的を達成できる範囲として、含有量が０．０１質量％未満であれば可とするものである。すなわち、本発明の研磨用織物は、繊維形成性ポリマーに酸化チタンを添加することなく用いて紡糸された、酸化チタンを含まない合成繊維から構成されるものである。
【００１５】
なお、通常の合成繊維には、酸化チタン以外にも、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化アンチモン、酸化亜鉛等の金属酸化物が含まれることがあるが、これらの金属酸化物についても、本発明における合成繊維には実質的に含まれないことが好ましいのはいうまでもない。したがって、本発明の研磨用織物を構成する合成繊維としては、金属酸化物の合計含有量が０．０１％未満である合成繊維であることが好ましいのである。
【００１６】
本発明において、合成繊維を形成する繊維形成性ポリマーとしては、特に限定されるものではないが、例えばナイロン4、ナイロン6、ナイロン66、ナイロン6、10等のポリアミド系ポリマーや、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレート等のポリエステル系ポリマー、あるいはポリアミドとポリエステルのブレンド系（剥離割繊タイプ）などが挙げられる。また、溶出割繊タイプの場合には、例えば非溶出成分にポリエステル系ポリマーもしくはポリアミド系ポリマーを用い、溶出成分にアルカリ可溶性ポリマーや熱水可溶性ポリマーを用いる組み合わせなどが採用できる。ここでのアルカリ可溶性ポリマーとしてポリエチレンテレフタレートにポリエチレングリコールとスルホイソフタル酸を共重合したポリエステル等、熱水可溶性ポリマーとしてはポバール等が挙げられる。その断面図の一例を図１に示す。
【００１７】
合成繊維の単糸繊度も特に限定されるものではないが、ディスクに接する研磨面を構成する糸の単糸繊度としては、0.001〜1.0デシテックスが好ましい。単糸繊度が0.001デシテックス未満では、磁気記録ディスク基盤研磨時の摩擦耐久性に劣り、発塵などの問題発生する傾向にあるので好ましくない。一方、1.0デシテックスを超えると、磁気記録ディスク基盤研磨用テープとして用いたときのクッション性が損なわれ、スクラッチの原因となる傾向にある。
【００１８】
また、使用する研磨砥粒に合わせて合成繊維の単糸繊度や繊維形状を適宜選択することにより、研磨砥粒がテープ表面上で程よく保持されつつ、テープ中に入り込まないような状態をコントロールすることができる。本発明者らの知見によれば、0.1μm程度の粒径を持つ研磨砥粒を使用する場合、溶出もしくは剥離割繊タイプで、その断面形状が楔形や三角形などといった鋭角な頂点を有している0.01〜0.9デシテックスの極細繊維を用いることが好ましく、研磨砥流の粒径に見合った大きさの極細繊維がその鋭角な頂点により、研磨面で研磨砥粒を保持する状態が具現される。
【００１９】
合成繊維から織物を構成する際、用いる経糸及び緯糸の全繊度としては、特に限定されるものではないが、製織性、織物としての加工性、磁気記録ディスク基盤研磨時のテープ形状の安定性などを考慮すれば、20〜200デシテックスが好ましい。なお、糸の形態としては、捲縮糸でも、非捲縮糸のいずれであってもよい。
【００２０】
織物の組織としては、特に限定されるものではないが、朱子織の5枚サテン、8枚サテンや12枚サテンが好ましく、上記した研磨面を構成するのに好ましい極細繊維等からなる糸を経糸もしくは緯糸のいずれに使用したかに応じて、それら組織の表裏を使い分ければよい。また、経糸、緯糸両方に極細繊維等からなる糸を用いた場合、平織り2重織やヘリンボンなどが好ましく採用される。
【００２１】
本発明の研磨用織物の厚みとしては特に限定されるものではなく、用途や使用条件により適宜設定すればよい。本発明の研磨用織物を磁気記録ディスク基盤研磨用テープに用いる場合においても、研磨加工条件、つまり加工機械の特性、ディスクの厚さや研磨時のディスクと研磨用テープの押し付け圧などに応じて適時決定すればよいが、研磨用テープに用いる場合の織物の厚みとしては、0.1〜0.7mmであることが作業性の面から好ましい。0.1mm未満では織物自体の引っ張り強力が不足する傾向にあり、一方0.7mmを超えるとテープ表面の研磨に十分なスラリーを確保するために、スラリー塗布量を増加させねばならず、コストアップにつながるので好ましくない。特に好ましい厚みとしては、0.12〜0.25mmである。
【００２２】
本発明の研磨用テープは、上記したような本発明の研磨用織物を用いてなるものであり、  本発明の研磨用織物を所望のテープ状にカットして得ることができる。
【００２３】
本発明の研磨織物は、酸化チタンを実質的に含まない合成繊維からなるものであるため、磁気記録ディスク基盤製造のテクスチャー加工に使用した際、研磨対象物であるガラスやアルミのディスク表面上に酸化チタンが不純物として付着することが防止される。したがって、本発明の研磨用織物を用いて研磨用テープとすれば、従来の研磨用テープよりも精度の高いテクスチャー加工を行うことができる。
【実施例】
【００２４】
次に、本発明を実施例により説明する。尚、実施例中におけるディスク基盤研磨試験については以下の方法で行った。
（ディスク基盤研磨試験）
研磨用織物を巾40mmに裁断（織物の緯糸方向を巾方向とする）した物を研磨用テープとして用いて、図2に示すように磁気記録ディスク基盤研磨機により、外径95mm、穴径25mm、厚さ1mmの磁気記録ガラスディスク基盤5枚の両面を研磨した。このときの研磨液としては、研磨砥粒としての平均粒径0.15μmのダイヤモンド微粒子を0.4質量％含むスラリーを研磨テープと磁気記録ガラスディスク基盤との間に3ミリリットル／分で注入して用いた。また、研磨条件としては、磁気記録ガラスディスク基盤の回転速度を400rpm、研磨テープの移動を磁気記録ガラスディスク基盤の回転方向と逆方向に10cm／分として、1枚あたり20秒間研磨した。研磨後のガラスディスク基盤表面を電子プローブマイクロアナライザー（日本電子株式会社製、JXA-8100）を用いて評価測定し、不純物の同定を行った。プリズムとしてPETを用い測定し、L値88.03mmのチタンを示すピークを確認することで、酸化チタンの有無を判断した。
【００２５】
実施例1
酸化チタン等の金属酸化物の添加されていないポリエチレンテレフタレートを難溶性ポリマーに用い、ポリエチレンテレフタレート（PET）を主体とし、ポリエチレングリコール（分子量：6000）を14質量%、スルホイソフタル酸をPETの全酸成分に対して2.5mol%共重合した共重合ポリエステルを易溶性ポリマーに用い、両者を図1に示すように放射状に交互に配列した溶解割繊型の２０分割割繊糸の仮撚加工糸（１７５デシテックス／９６フィラメント）を製造して、これを織物の緯糸とした。また、酸化チタン等の金属酸化物の添加されていないポリエチレンテレフタレートから製造した原糸（５６デシテックス／１８フィラメント）を織物の経糸とした。これらの緯糸と経糸とを用いて、８枚サテンの組織で織物を製織し、次いで精練した後、苛性ソーダ２０g／L水溶液、浴比１:３０、温度９８℃の条件でのアルカリ減量による割繊処理を施し、仕上げセットを行うことにより、本発明の研磨用織物を得た。
【００２６】
実施例２
酸化チタン等の金属酸化物の添加されていないポリエチレンテレフタレートから製造した仮撚加工糸（１２０デシテックス／１４４フィラメント）を織物の経糸とした。また、酸化チタン等の金属酸化物の添加されていないポリエチレンテレフタレートから製造した原糸（５６デシテックス／１８フィラメント）を織物の経糸とした。これらの緯糸と経糸とを用いて、８枚サテンの組織で織物を製織し、次いで精練、仕上げセットを行うことにより、本発明の研磨用織物を得た。
【００２７】
比較例１
緯糸を構成する繊維を製造するための難溶性ポリマーであるポリエチレンテレフタレート及び、経糸を構成する繊維を製造するためのポリエチレンテレフタレートに、それぞれ酸化チタン0.02質量％を添加したこと以外は、実施例1と同様にして、比較用の織物を得た。
【００２８】
比較例2
緯糸を構成する繊維を製造するためのポリエチレンテレフタレート及び、経糸を構成する繊維を製造するためのポリエチレンテレフタレートに、それぞれ酸化チタン0.02質量％を添加したこと以外は、実施例2と同様にして、比較用の織物を得た。
【００２９】
以上のようにして得た実施例及び比較例の織物の構成等を下記表1に示す。
【００３０】
【表１】
2005344233.tif 000002
【００３１】
次に、実施例及び比較例で得られた織物を用いて、上記したようにディスク基盤研磨試験を行った。このとき、織物は全て8枚サテンであるが、緯糸が多く浮き出ている面を研磨面として使用した。試験後のガラスディスク基盤表面を分析した結果を下記表2に示す。
【００３２】
【表２】
2005344233.tif 000003
【００３３】
上記の結果から明らかなように、実施例１,２で得られた本発明の織物は、磁気記録ディスク研磨用として優れた性能を有し、酸化チタンを実質的に含まない合成繊維からなるものであるため、これを用いて研磨したガラスディスク基盤表面上には、不純物である酸化チタンの存在は確認されなかった。これに対して、比較例１,２で得られた織物は、酸化チタンを含む合成繊維からなるものであるため、研磨後のガラスディスク基盤表面上に酸化チタンが検出された。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の研磨用織物を研磨テープとして使用できる磁気記録ディスク研磨機の研磨機構を示すモデル図である。
【図２】本発明に使用できる２０分割割繊糸の断面を示す断面図である。
【符号の説明】
【００３５】
１  難溶性ポリマー
２  易溶性ポリマー
３  磁気記録ディスク基盤
４  研磨用テープ
５  ダイヤモンドスラリー
６  ディスク押さえ回転棒
７  押さえゴムロール
８  ダイヤモンドスラリー供給装置
【図１】
2005344233.tif 000004
【図２】
2005344233.tif 000005