(57)【要約】【課題】  面状ムラが低減され、面状均一性が高い機能性フイルムの製造方法、および、面状ムラが低減され、光学性能や物理性のバラツキが小さく、面状均一性が高い機能性フイルムを提供する。【解決手段】  膜形成有機媒体に対して、有機ゲル化剤と有機溶剤とをそれぞれ少なくとも一種含有させた塗布組成物を支持体上に塗布する工程を有する機能性フイルムの製造方法。また、この製造方法により製造された機能性フイルム。【選択図】        なし 【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機ゲル化剤と有機溶剤とをそれぞれ少なくとも一種含有させた組成物を支持体上に塗布する工程を有することを特徴とする機能性フイルムの製造方法。
【請求項２】
前記組成物を塗布した後に、支持体および／または形成された液膜を冷却する工程を有することを特徴とする請求項１に記載の機能性フイルムの製造方法。
【請求項３】
前記組成物の温度よりも低い温度の支持体上に、前記組成物を塗布することを特徴とする請求項１または２記載の機能性フイルムの製造方法。
【請求項４】
前記組成物が液晶性化合物を少なくとも一種含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の機能性フイルムの製造方法。
【請求項５】
前記有機ゲル化剤が下記一般式（１）で表される化合物および／または一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の機能性フイルムの製造方法。
【化１】
2005199186.tif 000013
（式中Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ独立に置換基を有していていも良い炭素原子数１〜３０のアルキル基、または炭素原子数６〜３０のアリール基を表す。）
【化２】
2005199186.tif 000014
（式中Ｒ４、Ｒ５はそれぞれ独立に炭素原子数５〜３０のアルキル基、または炭素原子数６〜３０のアリール基を表す。）
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の機能性フイルムの製造方法により製造されたことを特徴とする機能性フイルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能性フイルムの製造方法および機能性フイルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、各種コーティング法を用いた機能性フイルムの開発が進んでおり、特に数μｍ〜数１０ｎｍレベルの薄層塗布技術は、要求される塗布精度も薄膜化、基材の大型化、塗布の高速化などに伴い高くなってきている。特に光学フイルムの製造においては、膜厚の制御が光学性能を左右する非常に重要なポイントであり、精度を高く保ちつつ塗布速度の高速化を実現できる技術への要求は高くなってきている。
【０００３】
しかしながら、溶剤を用いたオールウェット塗布は生産性の観点からは非常に有利である反面、塗布直後の溶剤乾燥を一定に保つことが非常に困難で、面状ムラが生じやすい。ここで言う面状ムラとは溶剤乾燥速度差に起因する乾燥ムラや乾燥風で引き起こされる厚みムラである風ムラのことである。
また、オールウェット塗布においてより生産性を向上させるために塗布速度を高くすることは必須の技術である。だが単純に、塗布速度を高くすると相対的に乾燥風の風速も高くなり、また支持体の高速移動に伴う同伴風の影響も受け、風ムラは悪化することになる。こうして従来では光学性能、膜物性のバラツキを抑えた光学フイルムを得るためには、塗布速度をあまり高くすることはできなかった。
【０００４】
均一な膜を形成しつつ、風ムラを防止するためには塗布後にすみやかに塗布液の粘度を高めて流動性を低くすることが考えられる。一般的にポリマー等の増粘剤を添加することにより塗布液の粘度を上昇させることができることが知られているが、単に塗布液の粘度を高めることは、塗布性やレベリング性を悪化させる。
【０００５】
近年、有機媒体に添加するか添加後に加熱、放冷といった単純な操作でゲルを形成する有機ゲル化剤がいくつか見出されている（例えば、非特許文献１参照。）。特許文献１には有機ゲル化剤を含有させることにより粘度挙動を改良した塗布液を用いて磁気記録媒体、光情報媒体などの機能性塗膜を形成する方法が開示されている。しかし、より高い膜厚の均一性が要求される光学フイルムについては開示されておらず、面状均一性に優れた光学フイルムを製造するのは困難であった。また、特許文献２には重合性基を含む液晶化合物、光反応型キラル剤、ゲル化剤を含む組成物を塗布することにより作製したカラーフィルターが開示されているが、組成物がゲル化しないような高温で塗布するため、乾燥速度が著しく速くなるため塗布ムラを軽減するのは困難であった。
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−８８０４９号公報
【特許文献２】特開２００２−２４１７５６号公報
【非特許文献１】「表面」、３６巻、１９９８年、２９１〜３０３頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、乾燥ムラや風ムラが低減され、面状均一性が高い機能性フイルムの製造方法、および乾燥ムラや風ムラが低減され、面状均一性が高い機能性フイルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、有機ゲル化剤を用いることにより、組成物を均一に塗布でき、塗布時に生じる乾燥ムラや風ムラを低減できることを見出した。また、該ゲル化剤を用いることにより、高速塗布した場合にも、光学性能や物理性能のバラツキが小さく、面状均一性の高い機能性フイルムを得ることができることを発見した。
【０００９】
すなわち、本発明の目的は、下記機能性フイルムの製造方法、およびその方法により製造された機能性フイルムの発明により達成される。
（１）有機ゲル化剤と有機溶剤とをそれぞれ少なくとも一種含有させた組成物を支持体上に塗布する工程を有することを特徴とする機能性フイルムの製造方法。
（２）前記組成物を塗布した後に、支持体および／または形成された液膜を冷却する工程を有することを特徴とする（１）項に記載の機能性フイルムの製造方法。
（３）前記組成物の温度よりも低い温度の支持体上に、前記組成物を塗布することを特徴とする（１）または（２）項に記載の機能性フイルムの製造方法。
（４）前記組成物が液晶性化合物を少なくとも一種含むことを特徴とする（１）〜（３）のいずれか１項に記載の機能性フイルムの製造方法。
（５）有機ゲル化剤が下記一般式（１）で表される化合物および／または一般式（２）で表される化合物であることを特徴とする（１）〜（４）のいずれか１項に記載の機能性フイルムの製造方法。
【００１０】
【化１】
2005199186.tif 000002
【００１１】
（式中Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に置換基を有していていも良い炭素原子数１〜３０のアルキル基、または炭素原子数６〜３０のアリール基を表す。）
【００１２】
【化２】
2005199186.tif 000003
【００１３】
（式中、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に炭素原子数５〜３０のアルキル基、または炭素原子数６〜３０のアリール基を表す。）
（６）前記（１）〜（５）のいずれか１項に記載の製造方法により製造されたことを特徴とする機能性フイルム。
（７）前記（１）〜（５）のいずれか１項に記載の製造方法により製造された機能性フイルムであることを特徴とする光学フイルム。
（８）前記（１）〜（５）のいずれか１項に記載の製造方法により製造された機能性フイルムであることを特徴とする反射防止フイルム。
【発明の効果】
【００１４】
有機ゲル化剤を添加した組成物を用いることにより、均一に塗布でき、塗布時に生じる乾燥ムラや風ムラを低減できる。また、該ゲル化剤を用いることにより、高速塗布した場合にも、光学性能や物理性能のバラツキが小さく、面状均一性の高い光学フイルムを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００１６】
（有機ゲル化剤）
有機溶剤に添加するか添加後に加熱、放冷といった単純な操作でゲルを形成する化合物をここでは有機ゲル化剤と呼ぶ。本発明に用いられる有機ゲル化剤としては、有機溶剤を含む塗布組成物をゲル化させることができる化合物であれば特に制限なく用いることができ、たとえば、有機溶剤をゲル化できることが知られている後述のごとき化合物を用いることができる。本発明で用いられる有機ゲル化剤は、用いる有機溶剤種やそれに溶解させる化合物との組み合わせを考慮して、少量の添加により塗布組成物を効率よくゲル化させることができ、また塗膜が形成された時に塗布組成物中に含まれる化合物の機能発現を妨げないものが適宜選択される。なお、「表面」３６巻６号の１ないし１３頁には、各種有機ゲル化剤および該ゲル化剤がゲル化させることのできる有機溶剤が詳細に説明されている。
【００１７】
例えば、有機ゲル化剤としては、公知文献（例えば、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，Ｉｎｄ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，４６，７７９（１９４３）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１１，５５４２（１９８９）、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１９９３，３９０、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．Ｅｎｇｌ．，３５，１９４９（１９９６）、Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．，１９９６，８８５、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１９９７，５４５）、高分子論文集（ＶＯＬ．５５，Ｎｏ．１０，５８５‐５８９（Ｏｃｔ．， １９９８））、表面（ＶＯＬ．３６，Ｎｏ．６，２９１‐３０３（１９９８））、繊維と工業（ＶＯＬ．５６，Ｎｏ．１１，３２９‐３３２（２０００））の各文献、および、特開平７−２４７４７３号、特開平７−２４７４７４号、特開平７−２４７４７５号、特開平７−３００５７８号、特開平１０−２６５７６１号、特開平７−２０８４４６号、特開２０００−３００３号、特開平５−２３０４３５号、および特開平５−３２０６１７号の各公報に、「ゲル化剤」または「オイルゲル化剤」として記載されている素材が適用できるが、これらに限定するものではない。
【００１８】
本発明に好ましく用いることができる、上記文献または特許公報に記載されている有機ゲル化剤は大まかに以下のように分類できる。炭素原子数が５〜１００の置換基を有する糖化合物、炭素原子数が５〜１００の脂肪酸化合物、炭素原子数が５〜１００の置換基を有するアミノ酸化合物、炭素原子数が５〜１００の置換基を有する環状ジペプチド化合物、炭素原子数が５〜１００の置換基を有するアミド化合物、炭素原子数が５〜１００の置換基を有するステロイド化合物、炭素原子数が６〜１００のフェノール化合物、炭素原子数が５〜１００の置換基を有するラクトン化合物、炭素原子数が５〜１００の置換基を有する尿素化合物、炭素原子数が６〜１００の芳香族基または炭素原子数が５〜１００の置換基を有するビオチン（ビタミンＨ）化合物、炭素原子数が５〜１００の置換基を有するアルドン酸化合物、炭素原子数が６〜１００の芳香族基または炭素原子数が５〜１００の脂肪族基が結合しているバルビツール酸化合物、炭素原子数が５〜１００の置換基を有する芳香族ヘテロ環化合物および炭素原子数が６〜１００の芳香族基または炭素原子数が５〜１００の置換基を有する脂環式化合物が好ましく用いられる。
【００１９】
上で述べた有機ゲル化剤の中では水素結合性の置換基として、例えば、アミノカルボニル基、アシルアミノ基、ウレイド基、水酸基、カルボキシル基、スルホンアミド基等を有するものが好ましく、アミノカルボニル基、アシルアミノ基、ウレイド基、水酸基を有するものがより好ましく、アミノカルボニル基、アシルアミノ基、ウレイド基を有するものが更に好ましい。これらの置換基は更に別の置換基を有していても良い。
【００２０】
さらに、本発明で用いる有機ゲル化剤としてはアミノ酸化合物、および炭素原子数が５〜１００の置換基を有する脂環式化合物が更に好ましく用いることができる。
【００２１】
本発明で好ましく用いることができるアミノ酸化合物の有機ゲル化剤としては、特にアミノ酸のアミノ基、カルボキシル基が全てアミド結合を有する置換基に変換されているものが好ましい。該アミド結合を有する置換基の例としては、アシルアミノ基、カルバモイル基、ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アミノカルボニルオキシ基などが挙げられ、これらのアミド結合を有する置換基は更に置換基を有していても良い。中でもアシルアミノ基、カルバモイル基、ウレイド基がより好ましく、アシルアミノ基、カルバモイル基が更に好ましい。また、アミノ酸化合物である有機ゲル化剤においては、分子中に少なくとも一つの炭素原子数４以上のアルキル基またはアルキレン基を有することが好ましく、炭素原子数６以上のアルキル基またはアルキレン基を有することがより好ましく、炭素原子数８以上のアルキル基またはアルキレン基を有することが更に好ましい。
【００２２】
更に、本発明で用いる有機ゲル化剤としてはアミノ酸化合物、および炭素原子数が５〜１００の置換基を有する脂環式化合物が更に好ましい。それらは以下の一般式で表すことができる。
【００２３】
【化３】
2005199186.tif 000004
【００２４】
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ独立に置換基を有していていも良い炭素原子数１〜３０のアルキル基、または炭素原子数６〜３０のアリール基を表す。Ｒ１、Ｒ２およびＲ３が更に置換基を有している場合、水素結合性の置換基を有することが好ましい。好ましい置換基の例としては、アミノカルボニル基、アシルアミノ基、ウレイド基、水酸基、カルボキシル基、スルホンアミド基、などを有することが好ましい。
また、一般式（１）で表される化合物は、アミノ酸から誘導される化合物であることが好ましく、例えばＲ１が結合している炭素原子は光学活性であることが好ましい。
【００２５】
本発明で好ましく用いることができる炭素原子数が６〜１００の置換基を有する脂環式化合物としては、下記一般式（２）に表される構造を有する化合物が挙げられる。
【００２６】
【化４】
2005199186.tif 000005
【００２７】
この一般式（２）の構造において、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立に炭素原子数５〜３０のアルキル基、または炭素原子数６〜３０のアリール基を表す。Ｒ４およびＲ５は炭素原子数が５〜２０の直鎖または分岐のアルキル基であることがより好ましく、炭素原子数が７〜２０の直鎖または分岐アルキル基であることが更に好ましい。Ｒ４およびＲ５は置換基を有していても良い。
【００２８】
前記有機ゲル化剤が有していても良い置換基としては下記のものが挙げられる。水酸基、ハロゲン原子（例えばＣｌ，Ｂｒ，Ｆ、Ｉ）、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、スルホ基、炭素原子数１〜８の鎖状または環状のアルキル基（例えばメチル、エチル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｎ−ヘキシル、シクロプロピル、シクロヘキシル、２−ヒドロキシエチル、４−カルボキシブチル、２−メトキシエチル、２−ジエチルアミノエチル）、炭素原子数１〜８のアルケニル基（例えばビニル、アリル、２−ヘキセニル）、炭素原子数２〜８のアルキニル基（例えばエチニル、１−ブチニル、３−ヘキシニル）、炭素原子数７〜１２のアラルキル基（例えばベンジル、フェネチル）、炭素原子数６〜１０のアリール基（例えばフェニル、ナフチル、４−カルボキシフェニル、４−アセトアミドフェニル、３−メタンスルホンアミドフェニル、４−メトキシフェニル、３−カルボキシフェニル、３，５−ジカルボキシフェニル、４−メタンスルホンアミドフェニル、４−ブタンスルホンアミドフェニル）、炭素原子数１〜１０のアシル基（例えばアセチル、ベンゾイル、プロパノイル、ブタノイル）、炭素原子数２〜１０のアルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、炭素原子数７〜１２のアリーロキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル）、炭素原子数１〜１０のカルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイル）、炭素原子数１〜８のアルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシ、メトキシエトキシ）、炭素原子数６〜１２のアリーロキシ基（例えばフェノキシ、４−カルボキシフェノキシ、３−メチルフェノキシ、ナフトキシ）、炭素原子数２〜１２のアシルオキシ基（例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシ）、炭素原子数１〜１２のスルホニルオキシ基（例えばメチルスルホニルオキシ、フェニルスルホニルオキシ）、炭素原子数０〜１０のアミノ基（例えば無置換のアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、２−カルボキシエチルアミノ）、炭素原子数１〜１０のアシルアミノ基（例えばアセトアミド、ベンズアミド）、炭素原子数１〜８のスルホニルアミノ基（例えばメチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、ｎ−オクチルスルホニルアミノ）、炭素原子数１〜１０のウレイド基（例えばウレイド、メチルウレイド）、炭素原子数２〜１０のウレタン基（例えばメトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ）、炭素原子数１〜１２のアルキルチオ基（例えばメチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ）、炭素原子数６〜１２のアリールチオ基（例えばフェニルチオ、ナフチルチオ）、炭素原子数１〜８のアルキルスルホニル基（例えばメチルスルフォニル、ブチルスルホニル）、炭素原子数７〜１２のアリールスルホニル基（例えばフェニルスルホニル、２−ナフチルスルホニル）、炭素原子数０〜８のスルファモイル基（例えば無置換スルファモイル、メチルスルファモイルなど）、複素環基（例えば、４−ピリジル、ピペリジノ、２−フリル、フルフリル、２−チエニル、２−ピロリル、２−キノリルモルホリノ）等を挙げることができる。また、置換基として重合性の置換基を有していても良く、例えばアクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニルフェニル基などの不飽和エチレン結合を有する置換基やエポキシ環、オキセタン環のような環状エーテル結合を有する置換基が挙げられる。
【００２９】
以下に、好ましい有機ゲル化剤の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３０】
【化５】
2005199186.tif 000006
上記式中、Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基をそれぞれ示す。
【００３１】
【化６】
2005199186.tif 000007
【００３２】
【化７】
2005199186.tif 000008
【００３３】
【化８】
2005199186.tif 000009
【００３４】
【化９】
2005199186.tif 000010
【００３５】
（塗布組成物）
前記有機ゲル化剤を含有する組成物は、該組成物を塗布する温度においてはゾル状態をとり、塗布に適した粘度を呈するのに対し、塗布直後、塗布層の温度が低下したときに塗布層を増粘および／またはゲル化させるものである。本発明においては、乾燥の途中で増粘および／またはゲル化することにより、乾燥過程で生じる表面張力などの不均一性に由来する組成物の流動を抑制して、膜厚ムラができないようにすることができる。
【００３６】
前記の有機ゲル化剤含有組成物は、塗布時には組成物がゾル状態であるような温度に保ち、液膜を形成することが好ましい。しかし、温度が高いと溶剤の蒸発が速く、濃度の変動や表面の皮ばりが起こりやすくなるので好ましくない。したがって、塗布時の組成物の温度は１０〜６０℃が好ましく、１５〜５０℃がより好ましく、２０〜４５℃が更に好ましい。
【００３７】
一方で、有機ゲル化剤含有組成物は、塗布後には速やかに増粘および／またはゲル化が起こるように温度が下がることが好ましい。塗布時の組成物の温度は後述するように室温より高い場合もあり、また組成物に含まれる有機溶剤の蒸発により温度が若干下がるので必ずしも冷却する必要はないが、支持体を冷却したロールを通して搬送したり、組成物を塗布して液膜を形成した後に支持体が搬送される区域の気温を下げたりすることにより、支持体および／または塗布された液膜を冷却することが好ましい。例えば支持体を冷却する場合には、支持体の温度が組成物の温度よりも５〜５０℃低いことが好ましく、８〜４０℃低いことがより好ましく、１０〜３０℃低いことが更に好ましい。支持体の温度としては、−３０〜３５℃になるように冷却することが好ましく、０〜２５℃になるように冷却することがより好ましく、１０〜２０℃になるように冷却することが更に好ましい。
【００３８】
ゲル化する温度は有機ゲル化剤の種類や含有量によって変化するので、有機ゲル化剤の含有量は、塗布組成物の組成や有機ゲル化剤の種類によって適宜調節し、好ましいゲル化の程度を示す量だけ含有することが好ましい。有機ゲル化剤の含有量としては、一般的に、組成物全体に対して０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０５〜５質量％がより好ましく、０．１〜３質量％が更に好ましい。
【００３９】
本発明の有機ゲル化剤を含む組成物は、有機溶剤を少なくとも一種含有するものである。有機溶剤としては、飽和炭化水素類（ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン、クロロベンゼンなど）、ケトン類（アセトン、２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノン、イソホロン、シクロヘキサノンなど）、アルコール類（メチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、２−メトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、セロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトール、カルビトールアセテートなど）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、アミド類（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリノンなど）、ハロゲン系溶剤（１，１，１−トリクロロエタン、クロロホルム、パーフルオロオクタンなど）、エーテル類（テトラヒドロフラン、ジオキサンなど）等が挙げられる。有機溶剤の含有量としては、組成物全体に対して２０〜９９．５質量％が好ましく、３０〜９９質量％がより好ましい。
【００４０】
本発明の有機ゲル化剤を含む塗布組成物は、前述の成分の他に、特に制限無く該有機ゲル化剤以外の成分を含有することができる。即ち、水、また、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、オレフィン樹脂、ビニル樹脂、フッ素樹脂等の各種樹脂類、有機・無機顔料、染料、カ−ボン等の着色剤、棒状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物等の液晶化合物、単官能或いは多官能の重合性化合物、シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化カルシウム、炭酸カルシウム等の無機粉末、高級脂肪酸、ポリ（フッ化ビニリデン）、ポリ（テトラフロロエチレン）、ポリエチレン、ポリメチルメタクリレート等の有機微粉末、感光剤、重合開始剤、耐光性向上剤、耐候性向上剤、酸化防止剤、耐熱安定剤、消泡剤、粘度調整剤、艶調整剤、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、炭化水素系界面活性剤等の各種添加剤等を、目的に応じて選択した各種成分を使用することが可能である。
【００４１】
本発明において、機能性フイルムの機能とは、反射防止、防眩、光の位相変換（例えば光学補償フイルムなど）、選択反射などをいう。機能性フイルムを作製するために、組成物中に機能を発現するための素材を添加して塗布を行う。該機能を発現するための素材としては、屈折率を調整するための無機微粒子（二酸化チタン、酸化ジルコニウムなど）分散物や有機物（含フッ素ポリマー、熱および／または光硬化性ポリマーなど）、液晶化合物等が挙げられる。本発明の一つの好ましい態様においては、前記塗布組成物に液晶性化合物を少なくとも一種含むものである。液晶化合物は、好ましくは光学的異方性を発現するための液晶化合物であり、例えば、棒状液晶化合物、ディスコティック液晶化合物、高分子液晶化合物が挙げられる。
【００４２】
それらの素材が分散した膜を形成するために、バインダーとしてポリマーや架橋性基を含有する化合物を添加し、塗布および乾燥後に光、熱、電子線などにより架橋反応を起こさせても良い。用途にもよるが、膜は強度が要求される場合が多く、一般にバインダーとして多官能モノマーや架橋性基を含むポリマーを用いることが多い。先に述べた機能を発現するための素材が架橋性基を有していてバインダーを兼ねていても良い。
【００４３】
多官能モノマー中の重合性基としては、エチレン性不飽和基（（メタ）アクリル酸誘導体、ビニルエーテル誘導体、スチレン誘導体など）、環状エーテル基（エポキシ基、オキセタン基など）等が挙げられる。
【００４４】
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。
【００４５】
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
【００４６】
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類や芳香族スルホニウム類が挙げられる。アセトフェノン類の例には、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、１−ヒドロキシジメチルフェニルケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−４−メチルチオ−２−モルフォリノプロピオフェノンおよび２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノンが含まれる。ベンゾイン類の例には、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、２，４−ジクロロベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノンおよびｐ−クロロベンゾフェノンが含まれる。ホスフィンオキシド類の例には、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
最新ＵＶ硬化技術（ｐ．１５９，発行人；高薄一弘，発行所；（株）技術情報協会，１９９１年発行）にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、日本チバガイギー（株）製の商品名イルガキュア（６５１，１８４，９０７）等が好ましい例として挙げられる。
光重合開始剤は、多官能モノマー１００質量部に対して、０．１〜１５質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは１〜１０質量部の範囲である。
【００４７】
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、ミヒラーのケトンおよびチオキサントンを挙げることができる。
【００４８】
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として２−アゾ−ビス−イソブチロニトリル、２−アゾ−ビス−プロピオニトリル、２−アゾ−ビス−シクロヘキサンジニトリル等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム等を挙げることができる。
【００４９】
本発明では特に塗布組成物のポットライフの観点から、放射線の作用によりラジカルを発生する化合物が好ましい。
【００５０】
また、１分子中に複数のエポキシ基を有する化合物も好ましく使用される。このような硬化剤としては、１分子中に複数のグリシジル基または３，４−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物が良く知られており、本発明ではいずれも有用であるが、保存時の液安定性の観点から特にグリシジル基を有する硬化剤が好ましい。また屈折率の観点からは、特に脂肪族のものが好ましい。エポキシ硬化剤としては官能基密度が高く、かつ分子量が高すぎずある程度の運動性があり硬化効率が良いという観点からグリシジル基３〜１０個程度を有するものが特に好ましい。
【００５１】
上記１分子中に複数のエポキシ基を有する化合物としては、例えば市販のものでは、デナコールＥＸ３１４，同４１１，同４２１，同５２１，同６１１，同６１２等（以上ナガセ化成工業株式会社製、いずれも商品名）、セロキサイド、ＧＴ３０１，同４０１等（以上ダイセル工業株式会社製、いずれも商品名）等を挙げることができる。
【００５２】
本発明において上記１分子中に複数のエポキシ基を有する化合物を硬化剤として用いる時には、塗布組成物中に硬化触媒を配合することができる。該硬化触媒としては、トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等のプロトン酸、トリエチルベンジルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウム塩、ベンジルジメチルアミン、トリブチルアミン、トリス（ジメチルアミノ）メチルフェノール等の３級アミン、２−メチル−４−エチルイミダゾール、２−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物、トルエンスルホン酸シクロへキシルエステル、トルエンスルホン酸イソプロピルエステル等の加熱により分解してプロトン酸を発生する化合物、あるいは以下に記載する放射線の作用により酸触媒を発生する各種化合物を挙げることができるが本発明では特に皮膜形成用組成物のポットライフの観点から、放射線の作用により酸を発生する化合物が好ましい。
【００５３】
放射線の作用により酸を発生する化合物としては、例えば有機エレクトロニクス材料研究会（ぶんしん出版）編「イメージング用有機材料」ｐ１８７−１９８、特開平１０−２８２６４４号等に種々の例が記載されておりこれら公知の化合物を使用することができる。具体的には、ＲSO３−（Ｒはアルキル基、アリール基を表す）、ＡｓＦ６−、ＳｂＦ６−、ＰＦ６−、ＢＦ４−等をカウンターイオンとするジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等の各種オニウム塩、トリハロメチル基が置換したオキサジアゾール誘導体やＳ−トリアジン誘導体等の有機ハロゲン化物、有機酸のＯ−ニトロベンジルエステル、ベンゾインエステル、イミノエステル、ジスルホン化合物等が挙げられ、好ましくは、オニウム塩類、特に好ましくはスルホニウム塩、ヨードニウム塩類である。これらの放射線の作用により、酸を発生する化合物と併用して増感色素も好ましく用いることができる。
【００５４】
本発明に係る機能性層を形成するために用いる組成物に含まれる有機溶剤は、有機溶剤のみでも有機溶剤と水の混合溶剤でも良いが、水の含率は低いことが好ましく、０〜３０質量％が好ましく、０〜１０質量％が更に好ましい。
塗布組成物の溶剤組成としては、単独および混合のいずれでもよく、全溶剤中、沸点が１００℃以下の溶剤が５０〜１００質量％を占めることが好ましく、より好ましくは８０〜１００質量％、より好ましくは９０〜１００質量％、さらに好ましくは１００質量％である。沸点が１００℃以下の溶剤が５０質量％以下であると、乾燥速度が非常に遅くなり、塗布面状が悪化し、塗布膜厚にもムラが生じるため、反射率などの光学特性も悪化するおそれがある。本発明では、沸点が１００℃以下の溶剤を多く含む組成物を用いる事により、この問題を解決することができ、好ましい。
【００５５】
沸点が１００℃以下の溶剤としては、例えば、ヘキサン（沸点６８．７℃、以下「℃」を省略する）、ヘプタン（９８．４）、シクロヘキサン（８０．７）、ベンゼン（８０．１）などの炭化水素類、ジクロロメタン（３９．８）、クロロホルム（６１．２）、四塩化炭素（７６．８）、１，２−ジクロロエタン（８３．５）、トリクロロエチレン（８７．２）などのハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル（３４．６）、ジイソプロピルエーテル（６８．５）、ジプロピルエーテル（９０．５）、テトラヒドロフラン（６６）などのエーテル類、ギ酸エチル（５４．２）、酢酸メチル（５７．８）、酢酸エチル（７７．１）、酢酸イソプロピル（８９）などのエステル類、アセトン（５６．１）、２−ブタノン（＝メチルエチルケトン、７９．６）などのケトン類、メタノール（６４．５）、エタノール（７８．３）、２−プロパノール（８２．４）、１−プロパノール（９７．２）などのアルコール類、アセトニトリル（８１．６）、プロピオニトリル（９７．４）などのシアノ化合物類、二硫化炭素（４６．２）、などがある。このうちケトン類、エステル類が好ましく、特に好ましくはケトン類である。ケトン類の中では２−ブタノンが特に好ましい。
【００５６】
沸点が１００℃以上の溶剤としては、例えば、オクタン（１２５．７）、トルエン（１１０．６）、キシレン（１３８）、テトラクロロエチレン（１２１．２）、クロロベンゼン（１３１．７）、ジオキサン（１０１．３）、ジブチルエーテル（１４２．４）、酢酸イソブチル（１１８）、シクロヘキサノン（１５５．７）、４−メチル−２−ペンタノン（ＭＩＢＫ、１１５．９）、１−ブタノール（１１７．７）、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（１５３）、 Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（１６６）、ジメチルスルホキシド（１８９）、などがある。好ましくは、シクロヘキサノン、４−メチル−２−ペンタノンである。
【００５７】
以上のような有機ゲル化剤を含む組成物を塗布することにより製造する機能性フイルムについて以下に示す。
【００５８】
本発明の製造方法で製造する機能性フイルムの種類は特に限定されるものではなく、例えば透明ハードコート層、着色層、防眩層、反射防止層、光学補償層などを一つ或いはそれ以上有するフイルムが挙げられる。膜厚、面状の均一性が厳しく要求される防眩層、反射防止層、光学補償層などを有する光学フイルムを製造するに当たって本発明の製造方法は有用である。本発明の機能性フイルムを光学フイルムとして用いる場合について更に以下に説明する。
【００５９】
本発明の光学フイルムには、反射防止層を設けることもできる。反射防止層の構成としては、単層、多層等各種知られているが、多層のものとしては高屈折率層、低屈折率層を交互に積層した構造のものが一般的である。構成の例としては、透明基材側から高屈折率層／低屈折率層の２層の順から構成されたものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（透明基材或いはハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性などから、ハードコート層を有する基材上に、高屈折率層／中屈折率層／低屈折率層の順に塗布することが好ましい構成である。基材面に（中屈折層を設ける場合もある）高屈折率層、空気に向かって低屈折率層を順に積層し、高屈折率層及び低屈折率層の光学膜厚光の波長に対しある値に設定することにより光学干渉層を作り、反射防止積層体としたものが反射防止層としては特に好ましく、屈折率と膜厚は分光反射率の測定より計算して算出し得る。本発明の光学フイルムには、カール防止加工を施すこともできる。カール防止加工とは、これを施した面を内側にして丸まろうとする機能を付与するものであるが、この加工を施すことによって、透明樹脂フイルムの片面に何らかの表面加工をして、両面に異なる程度・種類の表面加工を施した際に、その面を内側にしてカールしようとするのを防止する働きをするものである。カール防止層は基材の防眩層又は反射防止層を有する側と反対側に設ける態様或いは、例えば透明樹脂フイルムの片面に易接着層を塗設する場合もあり、又逆面にカール防止加工を塗設するような態様が挙げられる。
【００６０】
本発明の光学フイルムには、透明ハードコート層を設けることができる。透明ハードコート層としては活性線硬化性樹脂或いは熱硬化樹脂が好ましく用いられる。活性線硬化性樹脂層とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応などを経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。活性線硬化性樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂などが代表的なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性線照射によって硬化する樹脂でもよい。紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、又は紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げることができる。紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができ、例えば特開昭５９−１５１１１０号公報に記載されている。
【００６１】
本発明の光学フイルムは液晶表示装置用の光学補償層を設けて光学補償フイルムとして用いることができる。光学補償層は配向膜を塗布、適宜配向処理した後に液晶化合物を塗布、配向させることにより製造することができる。光学補償フイルムは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。本発明の光学補償フイルムは、以下に示すような様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ‐Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ―ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。更に、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。
【００６２】
本発明の光学補償フイルムを、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートとして用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くから良く知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、および特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３やＪｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。本発明の光学補償フイルムを、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（△ｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（△ｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。
【００６３】
本発明の光学補償フイルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シートのＲｅレターデーション値を０〜１５０ｎｍとし、Ｒｔｈレターデーション値を７０〜４００ｎｍとすることが好ましい。Ｒｅレターデーション値は、２０〜７０ｎｍであることが更に好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に二枚の光学的異方性ポリマーフイルムを使用する場合、フイルムのＲｔｈレターデーション値は７０〜２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学的異方性ポリマーフイルムを使用する場合、フイルムのＲｔｈレターデーション値は１５０〜４００ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。本発明の光学補償フイルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質および光学的異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．ｖｏｌ．３８（１９９９）ｐ．２８３７）に記載がある。
【００６４】
本発明のフイルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ‐Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の光学補償シートとしても有利に用いられる。これらの表示モードは古くから良く知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、国際公開第９８／４８３２０号、特許第３０２２４７７号の各公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、ＷＯ００／６５３８４号公報に記載がある。本発明のフイルムは、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ  Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Ｋｕｍｅ  ｅｔ  ａｌ．，  ＳＩＤ９８  Ｄｉｇｅｓｔ  １０８９  （１９９８））に記載がある。
【００６５】
上記光学補償フイルムにさらに反射防止層、防眩性層、λ／４層、λ／２層として機能を付与してもよい。
【００６６】
本発明において、支持体としては、プラスチックフイルムを用いることが好ましい。プラスチックフイルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル（例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士写真フイルム社製  商品名ＴＡＣ‐ＴＤ８０Ｕ，ＴＤ８０ＵＦなど）、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製）、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製）などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
【００６７】
トリアセチルセルロースは、単層または複数の層からなる。単層のトリアセチルセルロースは、特開平７−１１０５５号公報等で開示されているドラム流延、あるいはバンド流延等により作成され、後者の複数の層からなるトリアセチルセルロースは、特開昭６１−９４７２５号公報、特公昭６２−４３８４６号公報等で開示されている、いわゆる共流延法により作成される。すなわち、原料フレークをハロゲン化炭化水素類（ジクロロメタン等、アルコール類（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル類（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル類（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等の溶剤にて溶解し、これに必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等の各種の添加剤を加えた溶液（ドープと称する）を、水平式のエンドレスの金属ベルトまたは回転するドラムからなる支持体の上に、ドープ供給手段（ダイと称する）により流延する際、単層ならば単一のドープを単層流延し、複数の層ならば高濃度のセルロースエステルドープの両側に低濃度ドープを共流延し、支持体上である程度乾燥して剛性が付与されたフイルムを支持体から剥離し、次いで各種の搬送手段により乾燥部を通過させて溶剤を除去することからなる方法である。
【００６８】
本発明の機能性フイルムは、以下の方法で各層を支持体上に塗設し製造することができるが、この方法に制限されない。
まず、各層を形成するための成分を含有した組成物（塗布液）が調製される。次に、ハードコート層を形成するための塗布液を、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書参照）により支持体上に塗布し、加熱・乾燥するが、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法およびエクストルージョンコート法が好ましく、ワイヤーバーコート法およびエクストルージョンコート法がさらに好ましい。その後、光照射あるいは加熱して、機能性層を形成するためのモノマーを重合して硬化する。これにより機能性層が形成される。ここで、必要であれば他の機能性層この上に同様な方法で塗布してもよい。
【実施例】
【００６９】
本発明を実施例に基づきさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７０】
実施例１：ゲル化温度の確認
下記組成の塗布液を調製した。ゲル化剤は室温で、あるいは蒸気浴で加熱して溶解させた。塗布液１０１においてゲル化剤Ｇ−３の代わりにゲル化剤Ｇ−４、Ｇ−１８およびＧ−２４をそれぞれ同じ量だけ添加した以外は全くこれと同様塗布液１０２、１０３および１０４を、ゲル化剤を添加しないこと以外は全く同様にして塗布液１０５をそれぞれ作製した。
【００７１】
（塗布液１０１）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）  ３０部
クリスタルバイオレット                                  ３部
４−メチル−２−ペンタノン（ＭＩＢＫ）            ６６．５部
ゲル化剤（Ｇ−３）                                  ０．５部
【００７２】
塗布液１０１〜１０５を加熱溶解してから内径約９ｍｍの試験管に入れて２５℃の恒温槽につけたところ、塗布液１０１〜１０４はゲル化したが、塗布液１０５は１時間たってもゲル化は起こらなかった。
【００７３】
実施例２：塗布時にゲル化することの確認
塗布液１０１〜１０５を３５℃に保温し、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）ベース上に♯３６の塗布バーを用いて塗布する。塗布直後から１０秒おきに塗布した面を金属のへらで擦り、その時にレベリングされて擦った後が消える場合をＡ、擦った後が残るが一部周りから液が流れ込んでくる状態をＢ、擦った後が完全に残る状態をＣとし、どの段階でゲル化しているかを評価し、得られた結果を表１に示す。
【００７４】
【表１】
2005199186.tif 000011
【００７５】
表１中Ｂ或いはＣは乾燥が進んで粘度が高くなった状態、ゲル化剤の作用で増粘および／またはゲル化した状態のいずれかを表すが、塗布液１０５との比較から明らかなように、ゲル化剤を添加した塗布液１０１〜１０４はゲル化剤の含まれていない塗布液１０５に比べてＢやＣの状態になる間での時間が短く、乾燥途中で増粘および／またはゲル化することがわかる。表中「冷却」とあるのは支持体を１５℃に予め冷却しておいてその上に塗布した結果を表しており、冷却することにより更に速やかに増粘および／またはゲル化することがわかる。得られる塗布膜の面状も良好である。
【００７６】
実施例３：機能性フイルムの作製
○光学異方性フイルムの作製
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フイルム上に、下記の組成の配向膜塗布液を＃１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ２の塗布量で塗布し、６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥する。その後ラビング処理を実施する。
【００７７】
（配向膜塗布液組成）
下記の変性ポリビニルアルコール                        １０質量部
水                                                  ３７１質量部
メタノール                                          １１９質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤）                        ０．５質量部
【００７８】
【化１０】
2005199186.tif 000012
【００７９】
得られた支持体を室温にしたまま下記塗布液２０１を塗布すると、乾燥途中でゲル化が起こる。乾燥後１３０℃の状態で２分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物（特開平７−３０６３１７号公報記載の例示化合物（ＴＰ―５３））を配向させる。次に１００℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて１分間ＵＶ照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させ、その後室温まで放冷することにより、ムラが少ない光学異方性フイルムが得られる。
【００８０】
（塗布液２０１）
特開平７−３０６３１７号公報記載の
例示化合物（ＴＰ―５３）                          ４１．０１部
Ｖ♯３６０（大阪有機化学（株）製）                  ４．０６部
ＣＡＢ５３１−１（イーストマンケミカル社製）        ０．９０部
イルガキュア―９０７（チバガイギー社製）            １．３５部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）            ０．４５部
４−メチル−２−ペンタノン（ＭＩＢＫ）                  ７０部
ゲル化剤（Ｇ−３）                                  ０．２５部
【００８１】
ラビング処理した支持体を１８℃に冷却してから塗布液２０１を塗布した以外は全く同様にして光学異方性フイルムを作製したところ、ムラがさらに少ない光学異方性フイルムが得られる。
【００８２】
また、前記配向膜を塗布後にラビングした支持体上に室温で塗布液２０１を塗布し、塗布後直ちに１８℃に保った空間に移して乾燥させた以外は全く同様にして光学異方性フイルムを作製することにより、ムラがより少ない光学異方性フイルムが得られる。
【００８３】
ゲル化剤をＧ−３から同量のＧ−４、Ｇ−１８、またはＧ−２４に置き換えた以外はこれと全く同様にして塗布液を作製して塗布したところ、これと同じ結果が得られる。
なお、ゲル化剤を添加しない以外は全くこれと同様にして塗布液を作製して塗布したところ、乾燥工程においてゲル化は起こらず、得られた塗布膜の面状は、ゲル化剤を添加した時と比較してムラが多く発生している。