(57)【要約】【課題】  ２次元Ｘ線検出器を用いたＸ線分析装置において透過法に基づいた測定を行うことができるようにする。【解決手段】  試料Ｓを水平に支持する試料台４と、試料ＳにＸ線を照射するＸ線照射装置７，８と、試料Ｓから出るＸ線Ｒ１，Ｒ２を検出する蓄積性蛍光体プレート９と、Ｘ線照射装置７，８を支持するＸ線源アーム６とを有するＸ線分析装置１である。Ｘ線源アーム６は、試料Ｓに対するＸ線Ｒ０の入射角度θｓが０°〜９０°の角度範囲内の少なくとも１点となる位置でＸ線照射装置７，８を支持する。蓄積性蛍光体プレート９は、試料ＳのＸ線入射点Ｐ０を通って水平に延び、かつ試料Ｓへの入射Ｘ線ビームに直交する円筒中心軸線Ｘ０を有し、その円筒中心軸線Ｘ０の回りの角度を試料Ｓに対するＸ線入射角度と同じ読取角度とするとき、円筒中心軸線Ｘ０を中心として１８０°〜３６０°の角度範囲の一部又は全部にわたって設けられる。【選択図】        図１
2005351780.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料を水平に支持する試料支持手段と、
前記試料にＸ線を照射するＸ線照射手段と、
前記試料から出るＸ線を検出する円筒形状の２次元Ｘ線検出手段と、
前記Ｘ線照射手段を支持するＸ線支持手段とを有し、
前記Ｘ線支持手段は、
前記試料に対するＸ線の入射角度が０°〜９０°（０°及び９０°の両方を含む）の角度範囲の少なくとも１点で前記Ｘ線照射手段を支持し、
前記２次元Ｘ線検出手段は、
前記試料のＸ線入射点を通って水平に延び、かつ前記試料への入射Ｘ線ビームに直交する円筒中心軸線を有し、前記円筒中心軸線の回りの角度を試料に対するＸ線入射角度と同じ読取角度とするとき、前記円筒中心軸線を中心として１８０°〜３６０°（１８０°及び３６０°の両方を含む）の角度範囲の一部又は全部にわたって設けられる
ことを特徴とするＸ線分析装置。
【請求項２】
請求項１記載のＸ線分析装置において、
前記２次元Ｘ線検出手段は、前記円筒中心軸線を中心として９０°〜１８０°（９０°及び１８０°の両方を含む）の角度範囲の一部又は全部にわたっても設けられることを特徴とするＸ線分析装置。
【請求項３】
請求項１又は請求項２記載のＸ線分析装置において、前記Ｘ線支持手段は、前記試料に対するＸ線の入射角度が１５°〜４０°（１５°及び４０°の両方を含む）の角度範囲内の少なくとも１点と、６０°〜９０°（６０°及び９０°の両方を含む）の角度範囲内の少なくとも１点との、合計で少なくとも２点の間で選択的に前記Ｘ線照射手段を支持することを特徴とするＸ線分析装置。
【請求項４】
請求項１から請求項３のいずれか１つに記載のＸ線分析装置において、前記円筒中心軸線を中心とする９０°〜１００°（９０°及び１００°の両方を含む）の角度範囲内には前記２次元Ｘ線検出手段を設けないことを特徴とするＸ線分析装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、２次元Ｘ線検出器を用いたＸ線分析装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、試料のまわりに円筒形状の２次元Ｘ線検出器を配設し、その試料にＸ線を照射したときにその試料から出る２次Ｘ線、例えば回折線、散乱線、蛍光Ｘ線等を上記の２次元Ｘ線検出器によって検出する構造のＸ線分析装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。また、Ｘ線分析装置において、試料を水平状態に置くと共に、Ｘ線源とＸ線検出器の両方を試料を中心として回転移動させる構造のＸ線分析装置も知られている（例えば、特許文献２参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−１４５８７１号公報（第５〜６頁、図１）
【特許文献２】特開平５−１８８０１６号公報（第２〜３頁、図２）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に開示されたＸ線分析装置では、（１）２次元Ｘ線検出器の円筒中心軸線が垂直方向に延びるように、その２次元Ｘ線検出器が設けられていた。そのため、試料に対する上方位置及び下方位置には、円筒形状の両端部が位置することになって、Ｘ線検出器が存在していなかった。また、（２）試料は傾斜して設けられていて、Ｘ線が入射する面が２次元Ｘ線検出器に対面するようになっていた。さらに、（３）試料はその裏面が試料支持装置によって支持されており、試料で回折すると共にその試料を透過する回折線は上記の試料支持手段に邪魔されて２次元Ｘ線検出器には到達できないようになっていた。以上の（１）〜（３）の理由から、特許文献１に開示されたＸ線分析装置では、２次元Ｘ線検出器を用いたＸ線分析装置によって透過法による分析を行うことができなかった。
【０００５】
特許文献２には、試料を水平に保持すること、及びＸ線源をその試料を中心として回転移動させることが開示されている。しかしながら、この場合のＸ線源の回転移動は、試料に対するＸ線の入射角度を連続的又は間欠的に変化させるためのものであり、試料で反射する回折線を発生させるか、あるいは、試料を透過する回折線を発生させるかのいずれかを選択的に実現させるための回転移動ではない。
【０００６】
本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、２次元Ｘ線検出器を用いたＸ線分析装置において透過法に基づいた測定を行うことができるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明に係るＸ線分析装置は、試料を水平に支持する試料支持手段と、前記試料にＸ線を照射するＸ線照射手段と、前記試料から出るＸ線を検出する円筒形状の２次元Ｘ線検出手段と、前記Ｘ線照射手段を支持するＸ線支持手段とを有する。前記Ｘ線支持手段は、前記試料に対するＸ線の入射角度が０°〜９０°（０°及び９０°の両方を含む）の角度範囲の少なくとも１点で前記Ｘ線照射手段を支持する。前記２次元Ｘ線検出手段は、前記試料のＸ線入射点を通って水平に延び、かつ前記試料への入射Ｘ線ビームに直交する円筒中心軸線を有し、前記円筒中心軸線の回りの角度を試料に対するＸ線入射角度と同じ読取角度とするとき、前記円筒中心軸線を中心として１８０°〜３６０°（１８０°及び３６０°の両方を含む）の角度範囲の一部又は全部にわたって設けられることを特徴とする。
【０００８】
上記構成において、「試料支持手段」は試料を透過したＸ線が２次元Ｘ線検出手段に到達できるように、試料を支持する。この要件は、例えば、試料で回折するＸ線が当該試料を透過してさらに進行する部分には試料支持手段が存在しないように当該試料支持手段の形状を形成することによって達成できる。このような形状は、例えば図２に示すように、回折線の進行経路にぶつかる部分の試料支持手段に空間部分Ａ０を設けることによって達成できる。また、試料支持手段のそれ自体をＸ線を透過可能な材料によって形成することによっても達成できる。
【０００９】
「Ｘ線照射手段」は、例えば、Ｘ線源とそれに付随するＸ線光学系とによって構成できる。ここで、Ｘ線源は、例えば、陰極例えばフィラメント及び対陰極例えばターゲットによって構成できる。また、Ｘ線光学系には、発散規制スリット、モノクロメータ、コリメータ、その他必要に応じて各種のＸ線光学要素を含ませることができる。
【００１０】
「２次元Ｘ線検出器手段」は、例えば、蓄積性蛍光体プレート、ＣＣＤ（Charge Coupled Device）検出器等を用いて構成できる。ここで蓄積性蛍光体とは、Ｘ線を受けた部分にエネルギを蓄積でき、その部分に輝尽励起光、例えばレーザ光が照射されると、そのエネルギを光として外部へ放出する物質である。また、ＣＣＤ検出器とは、Ｘ線を受光する面に複数のＣＣＤをマトリクス状、すなわち行列状に並べて成るＸ線検出器である。
【００１１】
「Ｘ線支持手段」は、Ｘ線照射手段の試料に対する角度位置を変化させることができ、さらに、その変化させた位置でＸ線照射手段とクランプ、すなわち固定保持できる構造であれば、任意の構造とすることができる。
【００１２】
上記構成のＸ線分析装置によれば、試料に対するＸ線の入射角度を水平である０°から垂直である９０°までの間で変化できるようにしたので、試料で反射する回折線はもとより、試料を透過する回折線を発生させることができる。そして、２次元Ｘ線検出器は１８０°〜３６０°の角度範囲、すなわち試料の裏側に設けられるので、試料を透過する回折線をその２次元Ｘ線検出器によって受光できる。こうして、２次元Ｘ線検出器を用いたＸ線分析装置において透過法に基づいたＸ線分析を行うことが可能となる。
【００１３】
次に、本発明に係るＸ線分析装置において、前記２次元Ｘ線検出手段は前記円筒中心軸線を中心として９０°〜１８０°（９０°及び１８０°の両方を含む）の角度範囲の一部又は全部にわたっても設けられることが望ましい。このように、２次元Ｘ線検出手段を、１８０°〜３６０°の角度範囲に加えて、９０°〜１８０°の角度範囲内にも設けることにより、すなわち全体で９０°〜３６０°の角度範囲内に設けることにより、試料で透過した回折線に加えて、試料で反射する回折線をも検出できるようになる。これにより、実現可能なＸ線分析方法の種類を増やすことができる。
【００１４】
次に、本発明に係るＸ線分析装置において、前記Ｘ線支持手段は、前記試料に入射するＸ線の入射角度が１５°〜４０°（１５°及び４０°の両方を含む）、望ましくは２０°〜３０°（２０°及び３０°の両方を含む）、の角度範囲内の少なくとも１点と、６０°〜９０°（６０°及び９０°の両方を含む）の角度範囲内の少なくとも１点との、合計で少なくとも２点の間で選択的に前記Ｘ線照射手段を支持できることが望ましい。
【００１５】
この構成のＸ線分析装置によれば、Ｘ線入射角度を１５°〜４０°内の１点に設定することにより、反射法に基づいた測定を行うことができる。他方、Ｘ線入射角度を６０°〜９０°内の１点に設定することにより、透過法に基づいた測定を行うことができる。
【００１６】
次に、本発明に係るＸ線分析装置においては、前記円筒中心軸線を中心とする９０°〜１００°（９０°及び１００°の両方を含む）の角度範囲内には前記２次元Ｘ線検出手段を設けないことが望ましい。その理由を説明すれば次の通りである。一般に、透過法の測定を行おうとする場合には、Ｘ線が試料に対して法線方向から、すなわち９０°の角度方向から入射するときがある。このとき、仮に、試料に対して９０°の角度位置に２次元Ｘ線検出手段が存在すると、その２次元Ｘ線検出器が邪魔になって試料に十分なＸ線を供給できないおそれがある。このことに関し、上記のように、試料に対する９０°から１００°の角度範囲、すなわち９０°を始点として１０°の角度範囲の間に２次元Ｘ線検出手段を設けないようにしておけば、試料に対して９０°の角度方向から、Ｘ線検出手段に邪魔されることなく、十分な強度のＸ線を試料に供給できるようになる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明に係るＸ線分析装置によれば、試料に対するＸ線の入射角度を水平である０°から垂直である９０°の角度領域まで変化できるようにしたので、試料で反射する回折線に加えて試料を透過する回折線を発生させることができる。そして、２次元Ｘ線検出器は試料軸線を中心として１８０°〜３６０°の角度範囲、すなわち試料の裏側に設けられるので、試料を透過する回折線をその２次元Ｘ線検出手段によって受光できる。こうして、２次元Ｘ線検出手段を用いたＸ線分析装置において透過法に基づいたＸ線分析を行うことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明に係るＸ線分析装置をその一実施形態を例示して説明する。図１は、本発明に係るＸ線分析装置の一実施形態を示している。図２は、そのＸ線分析装置の所定位置に配置された試料の平面図を示している。図１において、Ｘ線分析装置１は、暗箱２の内部に格納された検出器支持枠３と、試料支持手段としての試料台４と、Ｘ線支持手段としてのＸ線源アーム６とを有する。測定対象である試料Ｓは、試料台４に載せられて水平状態に保持される。このように試料Ｓは水平に保持されるので、試料Ｓは固形である場合はもとより、液体であっても良いし、粉体であっても良い。
【００１９】
試料台４は、図２に示すように、その先端が矩形状に切り欠かれた形状になっている。換言すれば、試料台４は、２個の張出し部４ａと、それらに挟まれた空間部分Ａ０とを有する。試料Ｓは、少なくともその一部が空間部分Ａ０の上に位置するように、張出し部４ａ，４ａによって支持された状態で試料台４上に載せられる。
【００２０】
試料台４は、例えばＸ線を透過可能な材料、例えば高分子材料等によって形成され、検出器支持枠３又はその他適宜の構造によって図１に示す位置に保持される。Ｘ線源アーム６は、試料ＳのＸ線入射点Ｐ０を通って図１の紙面垂直方向（すなわち、図２の左右方向）に延びる軸線Ｘ０（以下、この軸線を試料軸線という）を中心として回転移動可能に設けられ、さらに、任意の角度位置にクランプ、すなわち固定保持できるようになっている。本実施形態では、Ｘ線源アーム６に回転駆動装置１１が付設され、この回転駆動装置１１の働きにより、Ｘ線源アーム６が試料軸線Ｘ０を中心として人手を使わずに自動的に回転移動可能且つ任意の角度位置にクランプされるようになっている。なお、回転駆動装置１１を用いることなく、Ｘ線源アーム６を人手によって移動させて任意の角度位置でクランプすることもできる。
【００２１】
Ｘ線源アーム６には、Ｘ線管７及び入射光学系８が設置される。Ｘ線管７及び入射光学系８は、試料ＳへＸ線を照射するためのＸ線照射手段として機能する。Ｘ線管７は、例えばその内部に、通電によって発熱して電子を放出するフィラメント（図示せず）と、そのフィラメントに対向して設けられたターゲット（図示せず）とを有する。そのフィラメントにはＸ線発生回路１２から電流が供給される。また、Ｘ線発生回路１２は、フィラメントとターゲットとの間に高電圧、いわゆる管電圧を印加する。フィラメントは通電によって電子を放出し、その放出された電子は高速でターゲットの表面の所定領域に衝突する。このときの電子の衝突領域がＸ線焦点であり、このＸ線焦点からＸ線が発生する。本実施形態ではこのＸ線焦点を符号Ｆで示すことにする。このＸ線焦点ＦがＸ線を発生するＸ線源となる。
【００２２】
入射光学系８には、測定の目的に応じて種々の光学要素が設けられる。例えば、Ｘ線の発散を規制するための発散規制スリット（図示せず）が設けられる。また、Ｘ線を単色化した上でさらにそのビーム径を小さく絞りたい場合には、入射モノクロメータ付きコリメータが設けられる。また、試料Ｓの微小部分を調べる必要性からＸ線の強度を高くしたいという場合には、Ｘ線を狭い領域に集めるための放物線ミラーが設けられる。Ｘ線源Ｆで発生して入射光学系８を通過したＸ線は試料ＳのＸ線入射点Ｐ０へ入射する。このＸ線入射点Ｐ０は、図２に示すように、試料台４の空間部分Ａ０の領域内に入るように予め設定されている。こうすれば、試料Ｓを透過する回折線は、試料台４を通過することなく、空間部分Ａ０を通って進行する。
【００２３】
なお、試料Ｓの裏側に空間部分Ａ０を設けるのは、試料Ｓを透過する回折線が減衰することを防止するためである。従って、この回折線の減衰を防止することができるのであれば、試料台４の構造は任意に選択できる。例えば、試料台４の全体をＸ線を透過可能な材料によって形成するようにすれば、空間部分Ａ０を設けることなく、試料Ｓの裏側部分を試料台４によって受けることができる。
【００２４】
本実施形態では、Ｘ線源アーム６は試料軸線Ｘ０を中心として水平位置と垂直位置との間（水平位置及び垂直位置の両方を含む）で回転移動でき、さらに、その角度範囲内の任意の角度位置でクランプされるようになっている。そして、Ｘ線源アーム６が水平位置にあるとき、Ｘ線源Ｆから出て入射光学系８を通って試料Ｓへ入射するＸ線Ｒ０の入射角度θｓはθｓ＝０°であり、他方、Ｘ線源アーム６が垂直位置にあるとき、入射Ｘ線Ｒ０の入射角度θｓはθｓ＝９０°である。つまり、Ｘ線源アーム６は、試料Ｓに対するＸ線の入射角度が０°から９０°（０°及び９０°の両方を含む）の角度範囲の少なくとも１点でクランプできるようになっている。
【００２５】
次に、検出器支持枠３には円筒形状の検出器支持面３ａが設けられる。この検出器支持面３ａは図１の紙面垂直方向に延びており、その円筒形状の中心軸線、すなわち円筒中心軸線は上記の試料軸線Ｘ０に一致している。従って、これ以降、符号Ｘ０で示される軸線は、試料軸線又は円筒中心軸線のいずれかで呼ぶことにする。検出器支持面３ａの表面には２次元Ｘ線検出器、例えば蓄積性蛍光体プレート９が図示しない保持機構によって保持されている。検出器支持面３ａが円筒面であることにより、それに保持された蓄積性蛍光体プレート９も円筒形状となっている。そして、蓄積性蛍光体プレート９の中心軸線も試料軸線Ｘ０に一致している。なお、これ以降、円筒中心軸線Ｘ０と言ったときには、主に蓄積性蛍光体プレート９の中心軸線を言うものとする。
【００２６】
蓄積性蛍光体プレート９は完全な円筒形状ではなく、その一部が図１の紙面垂直方向に沿って切り欠かれている。具体的には、時計の文字盤の９時の方向（すなわち、４５分の方向、すなわち図１の水平線Ｌ０のうちの試料軸線Ｘ０の左側方向）を基準の０°として円筒中心軸線Ｘ０の周りの角度を考えるとき、蓄積性蛍光体プレート９は、０°から１００°の角度範囲は切り欠かれており、１００°から３６０°の角度範囲（１００°及び３６０°の両方を含む）にわたって設けられている。
【００２７】
換言すれば、蓄積性蛍光体プレート９は、試料のＸ線入射点Ｐ０を通って水平に延びると共に試料Ｓへの入射Ｘ線ビームに直交する円筒中心軸線Ｘ０の回りの角度を試料Ｓに対するＸ線入射角度θｓと同じ読取角度とするとき、円筒中心軸線Ｘ０を中心として１８０°から３６０°の角度範囲にわたって設けられている。
【００２８】
試料Ｓへ入射するＸ線Ｒ０は、蓄積性蛍光体プレート９が切り欠かれている角度範囲である０°から１００°の角度範囲内で入射角度を変化させることができる。蓄積性蛍光体プレート９の可動範囲の上端側の端点の角度位置を１００°として、垂直である９０°に対して１０°の角度的な余裕を設定してあるのは、試料Ｓへ入射するＸ線の入射角度θｓがθｓ＝９０°となることを確実に実現するためである。すなわち、Ｘ線入射角度をθｓ＝９０°に設定しようとするときに、Ｘ線源アーム６、Ｘ線管７、入射光学系８等を含むＸ線発生系が蓄積性蛍光体プレート９によって邪魔されることなく、所定位置に設置されるようにするためである。
【００２９】
以下、上記構成より成るＸ線分析装置についてその動作を説明する。なお、本実施形態では、蓄積性蛍光体プレート９を円筒中心軸線Ｘ０を中心として１００°から３６０°にわたる広い角度範囲に設けたので、反射法に基づいた定性分析及び透過法に基づいた定性分析の両方を行うことができるようになっている。以下、これらを個別に説明する。
【００３０】
（反射法定性）
反射法に基づいた定性分析を行う際には、試料Ｓを試料台４上に水平状態に置き、Ｘ線源アーム６の角度位置を回転駆動装置１１によって調節することにより、入射Ｘ線Ｒ０の試料Ｓに対する入射角度θｓをθｓ＝１５°〜４０°の角度範囲内、望ましくはθｓ＝２０°〜３０°の角度範囲内の希望する任意の角度位置にホールドする。
【００３１】
この状態で、Ｘ線源ＦからＸ線を発生させ、そのＸ線を試料ＳのＸ線入射点Ｐ０に入射させる。このとき、入射Ｘ線と試料Ｓとの間で周知の回折条件が満足されると、試料Ｓから回折線、すなわち２次Ｘ線が発生する。このときの回折線は、入射Ｘ線の角度θｓがθｓ＝１５°〜４０°であることから、符号Ｒ１で示すように反射状態の回折線として現れる。そして、その回折線Ｒ１は、蓄積性蛍光体プレート９のうちの１００°から１８０°の角度範囲内にある部分、すなわち蓄積性蛍光体プレート９のうち試料Ｓよりも上方にある部分によって受光される。蓄積性蛍光体プレート９はＸ線を受光すると、その受光部分にＸ線の強度に応じた強度のエネルギ潜像を蓄積する。
【００３２】
（透過法定性）
透過法に基づいた定性分析を行う際には、試料Ｓを試料台４上に水平状態に置き、Ｘ線源アーム６の角度位置を回転駆動装置１１によって調節することにより、入射Ｘ線Ｒ０の試料Ｓに対する入射角度θｓをθｓ＝６０°〜９０°の角度範囲内の希望する任意の角度位置にホールドする。
【００３３】
この状態で、Ｘ線源ＦからＸ線を発生させ、そのＸ線を試料ＳのＸ線入射点Ｐ０に入射させる。このとき、入射Ｘ線と試料Ｓとの間で周知の回折条件が満足されると、試料Ｓから回折線Ｒ２が発生する。このときの回折線は、入射Ｘ線の角度θｓがθｓ＝６０°〜９０°であることから、透過状態の回折線Ｒ２、すなわち試料Ｓを透過する状態のＸ線として現れる。そして、その回折線Ｒ２は、蓄積性蛍光体プレート９のうち１８０°から３６０°の角度範囲内にある部分、すなわち蓄積性蛍光体プレート９のうち試料Ｓの裏側にある部分によって受光される。蓄積性蛍光体プレート９はその受光部分にＸ線の強度に応じた強度のエネルギ潜像を蓄積する。
【００３４】
（蓄積性蛍光体プレートに対するＸ線読み取り）
以上のようにして、蓄積性蛍光体プレート９に対して試料Ｓからの回折線を露光させる処理が終了すると、その蓄積性蛍光体プレート９は検出器支持枠３から取り外されて、図示しないＸ線読み取り装置まで持ち運ばれ、さらに所定の読み取り位置にセットされる。Ｘ線読み取り装置は、一般に、蓄積性蛍光体プレート９の表面を輝尽励起光、例えばレーザ光によって走査する。この励起光が蓄積性蛍光体プレート９のうちのエネルギ潜像を保持している個所に到来すると、励起光を受けたエネルギ潜像が光となって外部へ放出される。この放出された光を光電検出器によって受光して電気信号に変換することにより、エネルギ潜像の強度、従ってその潜像の形成に寄与した回折線の強度、を知ることができる。また、輝尽励起光の走査位置に基づいてエネルギ潜像の位置、従って回折線の回折角度を知ることができる。これらの結果、どの回折角度の所にどのくらいの強度の回折線が発生したかを測定でき、この結果から、試料Ｓの定性分析を行うことができる。
【００３５】
以上の説明から理解できるように、本実施形態のＸ線分析装置によれば、試料Ｓを中心として１８０°から３６０°の角度範囲、すなわち試料Ｓの下方領域に蓄積性蛍光体プレート９を設けたので、２次元Ｘ線検出器である蓄積性蛍光体プレート９を用いたＸ線分析測定において透過法に基づいた測定を行うことができる。また、本実施形態では、試料Ｓを中心として１００°から１８０°の角度範囲、すなわち試料Ｓの上方領域にも蓄積性蛍光体プレート９を設けたので、反射法に基づいた測定を行うこともできる。
【００３６】
（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
例えば、図１の実施形態では、２次元Ｘ線検出手段である蓄積性蛍光体プレート９を円筒中心軸線Ｘ０を中心とする１００°から３６０°の角度範囲の全部にわたって設けた。しかしながら、これに代えて、９０°から３６０°の角度範囲の全部にわたって蓄積性蛍光体プレート９を設けることもできる。なお、９０°から１００°の角度範囲に蓄積性蛍光体プレート９を設けないようにするのは、主に、試料Ｓに対して法線方向からＸ線を入射させる際に、Ｘ線源アーム６等といった光学要素が蓄積性蛍光体フィルム９にぶつかることを防ぐためである。
【００３７】
次に、上記実施形態では、円筒中心軸線Ｘ０を中心として１００°から３６０°の全範囲にわたって蓄積性蛍光体プレート９を設けた。しかしながら、これに代えて、１８０°から３６０°の角度範囲内の全部又は一部に蓄積性蛍光体プレート９を配設するようにしても良い。こうすれば、試料Ｓで反射する回折線は蓄積性蛍光体プレート９によって検出できないが、試料Ｓを透過する回折線は確実に検出できる。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
本発明に係るＸ線分析装置は、蓄積性蛍光体プレート等といった２次元Ｘ線検出器を用いてＸ線分析を行う際に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明に係るＸ線分析装置の一実施形態を示す断面図である。
【図２】図１のＸ線分析装置に装着された試料とそれを支持する試料台とを示す平面図である。
【符号の説明】
【００４０】
１．Ｘ線分析装置、  ２．暗箱、  ３．検出器支持枠、  ３ａ．検出器支持面、
４．試料台（試料支持手段）、４ａ．張出し部  ６．Ｘ線源アーム（Ｘ線支持手段）、
７．Ｘ線管（Ｘ線照射手段）、  ８．入射光学系（Ｘ線照射手段）、
９．蓄積性蛍光体プレート（２次元Ｘ線検出手段）、  Ｆ．Ｘ線焦点（Ｘ線源）、
Ｌ０．水平線、  Ｐ０．Ｘ線入射点、  Ｒ０．入射Ｘ線、  Ｒ１，Ｒ２．回折線、
Ｓ．試料、  Ｘ０．円筒中心軸線
【図１】
2005351780.tif 000003
【図２】
2005351780.tif 000004