(57)【要約】【課題】本発明の目的は、待望されるかさの小さいキノフタロン化合物の結晶化方法を提供するものである。【解決手段】一般式（１）で表されるキノフタロン化合物の結晶化方法において、炭化水素溶媒を溶媒として用い、系内に水と分散剤を含有させて炭化水素溶媒を留去することにより晶析することを特徴とする方法。2005298576.tif 000012〔式中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１乃至６の置換されてもよいアルキル基、−ＣＯＮＲ３Ｒ４、または−ＣＯＯＲ５（Ｒ３〜Ｒ５はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１乃至６の置換されてもよいアルキル基または置換されてもよいアリール基を表す）を表し、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に、水素原子、置換されてもよい炭素数１乃至６のアルキル基を表す。〕【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）
【化１】
2005298576.tif 000011
〔式中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１乃至６の置換されてもよいアルキル基、−ＣＯＮＲ３Ｒ４、または−ＣＯＯＲ５（Ｒ３〜Ｒ５はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１乃至６の置換されてもよいアルキル基または置換されてもよいアリール基を表す）を表し、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に、水素原子、置換されてもよい炭素数１乃至６のアルキル基を表す。〕
で表されるキノフタロン化合物の結晶化方法であって、炭化水素溶媒を溶媒として用い、系内に水と分散剤を含有させて炭化水素溶媒を留去することにより晶析することを特徴とするキノフタロン化合物の結晶化方法。
【請求項２】
分散剤がポリビニルアルコールであることを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
ＪＩＳ  Ｋ５１０１―１８に規定されるかさ試験において、得られるキノフタロン化合物の結晶のかさが３.３ｍｌ／ｇ以下である請求項１または２記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶材料や有機高分子材料の着色等に有用なキノフタロン化合物の結晶化方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
下記式（２）のキノフタロン化合物が液晶材料や有機高分子材料の着色等に有用であることが報告されている（特許文献１参照）。概公開公報には、これらキノフタロン化合物の製造方法として、ｏ−ジクロロベンゼン中で下記式（３）で表される化合物を塩化チオニルで処理した後、ジブチルアミンで処理し、反応液をメタノール中に投入して製造する方法が記載されている。
【０００３】
また、下記式（３）を炭化水素溶媒中でハロゲン化剤で処理した後に、アミン類で処理をし、炭化水素溶媒を留去して蒸留残分として下記式（２）を得る方法が紹介されている（特許文献２参照）。
【０００４】
【化１】
2005298576.tif 000002
【０００５】
【化２】
2005298576.tif 000003
【０００６】
しかしながら、これらの紹介された方法では、得られるキノフタロン化合物の結晶がかさ高いという問題があった。これにより、単位重量あたりの体積が増すために、例えばキノフタロン化合物を着色剤として液晶材料を製造する際に、仕込みを分割装入する必要が生じるなどの不都合が生じていた。また、かさ高いキノフタロン化合物結晶は静電気を生じ易く、有機溶剤への引火の危険性が増大するなどの不都合も生じていた。そのため、かさの小さなキノフタロン化合物の結晶化方法が望まれていた。
【特許文献１】特開平５―３９２６９号公報
【特許文献２】特開２００４−５１８７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、待望されるかさの小さいキノフタロン化合物の結晶化方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解明するために鋭意検討した結果、炭化水素溶媒を良溶媒に用い、系内に水と分散剤を含有させて炭化水素溶媒を留去してキノフタロン化合物を晶析化させると、得られるキノフタロン化合物の結晶かさが小さいことを見出し本発明を完成させるに至った。
【０００９】
すなわち、本発明はかさの小さい下記一般式（１）で表されるキノフタロン化合物の結晶化方法に関するものである。
【００１０】
より詳しくは、本発明は、
１．一般式（１）で表されるキノフタロン化合物の結晶化方法において、炭化水素溶媒を溶媒として用い、系内に水と分散剤を含有させて炭化水素溶媒を留去することにより晶析することを特徴とする方法、
【００１１】
【化３】
2005298576.tif 000004
【００１２】
〔式中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１乃至６の置換されてもよいアルキル基、−ＣＯＮＲ３Ｒ４、または−ＣＯＯＲ５（Ｒ３〜Ｒ５はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１乃至６の置換されてもよいアルキル基または置換されてもよいアリール基を表す）を表し、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に、水素原子、置換されてもよい炭素数１乃至６のアルキル基を表す。〕
２．分散剤がポリビニルアルコールであることを特徴とする１．記載の方法、
３．ＪＩＳ  Ｋ５１０１−１８に規定されるかさ試験において、得られるキノフタロン化合物の結晶のかさが３．３ｍｌ／ｇ以下である１．または２．記載の方法、
に関する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば工業的に有利なかさの小さいキノフタロン化合物の結晶を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明を更に詳細に説明する。
本発明は、前記一般式（１）で表されるキノフタロン化合物の結晶化方法に関するものである。
【００１５】
【化４】
2005298576.tif 000005
【００１６】
〔式中、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１乃至６の置換されてもよいアルキル基、−ＣＯＮＲ３Ｒ４、または−ＣＯＯＲ５（Ｒ３〜Ｒ５はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１乃至６の置換されてもよいアルキル基または置換されてもよいアリール基を表す）を表し、Ｒ６、Ｒ７はそれぞれ独立に、水素原子、置換されてもよい炭素数１乃至６のアルキル基を表す。〕
【００１７】
一般式（１）において、Ｒ１〜Ｒ７に挙げられている各置換基について、以下具体的に説明する。
【００１８】
炭素数１乃至６の置換されてもよいアルキル基としては特に限定されるものではないが、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ｓｅｃ−ペンチル基、ネオペンチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、４−メチルペンチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル基、１−エチルブチル基、２−エチルブチル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、シクロヘキシル基、メチルシクロペンチル基等の直鎖状、分岐状または環状のアルキル基、
フルオロメチル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、フルオロエチル基、クロロエチル基、ブロモエチル基、トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、テトラクロロエチル基、ヘキサフルオロイソプロピル基等がのハロゲン原子が１個以上置換した直鎖状、分岐状のハロゲノアルキル基、
メトキシメチル基、エトキシメチル基、プロポキシメチル基、ブトキシメチル基、ペントキシメチル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、プロポキシエチル基、ブトキシエチル基、メトキシエトキシエチル基、メトキシプロピル基、エトキシプロピル基、プロポキシプロピル基、メトキシエトキシプロピル基等の直鎖、分岐のアルコキシアルキル基、
メチルチオメチル基、エチルチオメチル基、プロピルチオメチル基、ブチルチオメチル基、ペンチルチオメチル基、メチルチオエチル基、エチルチオエチル基、プロピルチオエチル基、ブチルチオエチル基、メトキシエチルチオエチル基、メチルチオプロピル基、エチルチオプロピル基、プロピルチオプロピル基、メトキシエチルチオプロピル基等の直鎖状、分岐状のアルキルチオアルキル基、
Ｎ−メチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル基、Ｎ−エチルアミノメチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノメチル基、Ｎ−プロピルアミノメチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノメチル基、Ｎ−メチルアミノエチル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル基、Ｎ−エチルアミノエチル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル基、Ｎ−プロピルアミノエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルアミノエチル基、Ｎ−メチルアミノプロピル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル基、Ｎ−エチルアミノプロピル基、Ｎ−プロピルアミノプロピル基等のアルキルアミノアルキル基又はジアルキルアミノアルキル基、    
ヒドロキシエチル基等のヒドロキシアルキル基、メチルカルボニルオキシエチル基等のアルキルカルボニルオキシアルキル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、プロポキシカルボニルメチル基、ブトキシカルボニルメチル基等のアルコキシカルボニルアルキル基が挙げられる。
【００１９】
また、一般式（１）において、置換されていてもよいアリール基としては特に限定さ
れるものではないが、例えば、フェニル基、ナフチル基、アンスラニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２，５−ジメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基、３，５−ジメチルフェニル基、３，６−ジメチルフェニル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチルフェニル基、２，４，５−トリメチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、３，４，５−トリメチルフェニル基、２−エチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、ヘキシルフェニル基、シクロヘキシルフェニル基、オクチルフェニル基、２−メチル−１−ナフチル基、３−メチル−１−ナフチル基、４−メチル−１−ナフチル基、５−メチル−１−ナフチル基、６−メチル−１−ナフチル基、７−メチル−１−ナフチル基、８−メチル−１−ナフチル基、１−メチル−２−ナフチル基、３−メチル−２−ナフチル基、４−メチル−２−ナフチル基、５−メチル−２−ナフチル基、６−メチル−２−ナフチル基、７−メチル−２−ナフチル基、８−メチル−２−ナフチル基、２−エチル−１−ナフチル基等の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が置換したアリール基、
３−メトキシフェニル基、４−メトキシフェニル基、２，３−ジメトキシフェニル基、２，４−ジメトキシフェニル基、２，５−ジメトキシフェニル基、２，６−ジメトキシフェニル基、３，４−ジメトキシフェニル基、３，５−ジメトキシフェニル基、３，６−ジメトキシフェニル基、２，３，４−トリメトキシフェニル基、２，３，５−トリメトキシフェニル基、２，３，６−トリメトキシフェニル基、２，４，５−トリメトキシフェニル基、２，４，６−トリメトキシフェニル基、３，４，５−トリメトキシフェニル基、２−エトキシフェニル基、プロポキシフェニル基、ブトキシフェニル基、ヘキシルオキシフェニル基、シクロヘキシルオキシフェニル基、オクチルオキシフェニル基、２−メトキシ−１−ナフチル基、３−メトキシ−１−ナフチル基、４−メトキシ−１−ナフチル基、５−メトキシ−１−ナフチル基、６−メトキシ−１−ナフチル基、７−メトキシ−１−ナフチル基、８−メトキシ−１−ナフチル基、１−メトキシ−２−ナフチル基、３−メトキシ−２−ナフチル基、４−メトキシ−２−ナフチル基、５−メトキシ−２−ナフチル基、６−メトキシ−２−ナフチル基、７−メトキシ−２−ナフチル基、８−メトキシ−２−ナフチル基、２−エトキシ−１−ナフチル基等の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基が置換したアリール基、
クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、トリクロロフェニル基、ブロモフェニル基、ジブロモフェニル基、ヨードフェニル基、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基等のハロゲン原子が置換したアリール基、トリフルオロメチルフェニル基等のハロゲン化アルキル基が置換したアリール基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノフェニル基、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチルアミノフェニル基、Ｎ−トリル−Ｎ−エチルアミノフェニル基、Ｎ−クロロフェニル−Ｎ−シクロヘキシルアミノフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル基等のＮ−モノ置換アミノ置換アリール基、Ｎ，Ｎ−ジ置換アミノアリール基が挙げられ、他にメチルチオフェニル基、エチルチオフェニル基、メチルチオナフチル基、フェニルチオフェニル基等のアルキルチオアリール基、アリールチオアリール基等が挙げられる。
【００２０】
本発明において一般式（１）で表されるキノフタロン化合物は、特に限定されるものではないが、例えば特開平５−３９２６９号公報に記載の方法に準じて誘導化することができる。
【００２１】
例えば、下記一般式（４）で表される３−ヒドロキシ−２−メチル−４−シンコニン酸誘導体と下記式（５）で表される無水フタル酸誘導体とを、ニトロベンゼン、スルホラン、ジクロロベンゼン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−イミダゾリジノンなどの高沸点溶媒中、１５０〜２３０℃で１〜２０時間反応させることにより、下記一般式（６）で表される化合物を得ることができる。
【００２２】
続いて一般式（６）で表される化合物をハロゲン化剤で処理した後に、下記一般式（７）で表される化合物で処理することにより一般式（１）の化合物に誘導化することができる。
【００２３】
【化５】
2005298576.tif 000006
【００２４】
【化６】
2005298576.tif 000007
【００２５】
【化７】
2005298576.tif 000008
【００２６】
【化８】
2005298576.tif 000009
【００２７】
（上記式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６及びＲ７は、前記一般式（１）のＲ１、Ｒ２、Ｒ６及びＲ７と同じ意味を表す。）
【００２８】
本発明に用いるハロゲン化剤としては、一般式（６）で表される化合物に存在するカルボキシル基と反応して酸ハロゲン化物に変換することができるものであれば特に限定されないが、例えば、塩化チオニル、ホスゲン、オキサリルクロライド、塩化ホスホリル、五塩化リン、三塩化リンが挙げられる。これらの中でも塩化チオニル、ホスゲンは反応後の除去が容易である点で好ましい。
【００２９】
本発明に用いる炭化水素溶媒としては、特に限定されるものではないが、例えば、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、１，２，３−トリメチルベンゼン、１，２，４−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリメチルベンゼン、エチルベンゼン、ｏ−ジエチルベンゼン、ｍ−ジエチルベンゼン、ｐ−ジエチルベンゼン、キュメン、ｏ−ジイソプロピルベンゼン、ｍ−ジイソプロピルベンゼン、ｐ−ジイソプロピルベンゼン、ナフタレン等の芳香族炭化水素、シクロペンタン、シクロヘキサン、炭素数５〜１８の直鎖状または分岐状の脂肪族飽和炭化水素が挙げられる。
【００３０】
炭素数５〜１８の直鎖状あるいは分岐状の脂肪族飽和炭化水素としては、例えば、ｎ−ペンタン、ｉｓｏ−ペンタン、ｎｅｏ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、２−メチルペンタン、３−メチルペンタン、２，３−ジメチルブタン、ｎ−ヘプタン、２−メチルヘキサン、３−メチルヘキサン、２，３−ジメチルペンタン、２，４−ジメチルペンタン、３−エチルペンタン、ｎ−オクタン、２−メチルヘプタン、３−メチルヘプタン、４−メチルヘプタン、２，３−ジメチルヘキサン、２，４−ジメチルヘキサン、２，５−ジメチルヘキサン、３，４−ジメチルヘキサン、２−エチルヘキサン、３−エチルヘキサン、３−エチル−２−メチルペンタン、２，３，４−トリメチルペンタン、２，２，４−トリメチルペンタン、２，２，３−トリメチルペンタン、ｎ−ノナン、２−メチルオクタン、３−メチルオクタン、３−エチルヘプタン、４−エチルヘプタン、２，３−ジメチルヘプタン、２，４−ジメチルヘプタン、２，５−ジメチルヘプタン、２，６−ジメチルヘプタン、２，３，４−トリメチルヘキサン、２，３，５−トリメチルヘキサン、３−エチル−２−メチルヘキサン、３−エチル−３−メチルヘキサン、３−エチル−４−メチルヘキサン、３−エチル−５−メチルヘキサン、ｎ−デカン、２−メチルノナン、３−メチルノナン、４−メチルノナン、５−メチルノナン、３−エチルオクタン、４−エチルオクタン、５−エチルオクタン、２，３−ジメチルオクタン、２，４−ジメチルオクタン、２，５−ジメチルオクタン、２，６−ジメチルオクタン、２，７−ジメチルオクタン、２，２−ジメチルオクタン、３，３−ジメチルオクタン、３，４−ジメチルオクタン、３，５−ジメチルオクタン、４，４−ジメチルオクタン、４，５−ジメチルオクタン、５，５−ジメチルオクタン、２，３，４−トリメチルヘプタン、２，３，５−トリメチルヘプタン、２，３，６−トリメチルヘプタン、２，２，３−トリメチルヘプタン、２，２，４−トリメチルヘプタン、２，２，５−トリメチルヘプタン、２，２，６−トリメチルヘプタン、３，３，４−トリメチルヘプタン、３，３，５−トリメチルヘプタン、３，３，６−トリメチルヘプタン、２，４，５−トリメチルヘプタン、２，４，６−トリメチルヘプタン、２，５，６−トリメチルヘプタン、３−エチル−３−メチルヘプタン、３−エチル−４−メチルヘプタン、３−エチル−５−メチルヘプタン、３−エチル−６−メチルヘプタン、４−エチル−４−メチルヘプタン、４−エチル−５−メチルヘプタン、３−ｎ−プロピルヘプタン、３−ｉｓｏ−プロピルヘプタン、ウンデカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカン、ヘプタデカン、オクタデカン等が挙げられる。
【００３１】
これらのなかで、トルエン、キシレン、キュメン、ベンゼン、シクロヘキサン、炭素数５〜１０の直鎖状あるいは分岐状の脂肪族飽和炭化水素が好ましく、特に好ましくはトルエンである。これらは単独で用いることができるが、２種以上を混合して用いることもできる。
【００３２】
本発明における結晶化方法は、キノフタロン化合物、炭化水素溶媒、水、分散剤の４つの要素を含有する系内から炭化水素溶媒を留去することにより晶析することを特徴とする。これらの内のどの要素も一括で装入しても良いし、留去しながら連続的に装入しても良いし、分割装入しても良い。
【００３３】
本発明において、分散剤は少量添加することにより、炭化水素溶媒を留去する際にキノフタロン化合物の結晶のタール化を防ぐ効果がある。分散剤は水、炭化水素溶媒、キノフタロン化合物の結晶の分散性を変化させることにより結晶の融着を防ぐ効果があると考えられる。
【００３４】
本発明の分散剤としては、その種類については特に限定されないが、陽イオン性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤、両イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤が挙げられる。
【００３５】
陽イオン性界面活性剤の例としてラウリルアミンアセテート、ステアリルアミンアセテート等のアルキルアミン類、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、アルキルベンジルジメチルアンモニウムクロライド等の第四級アンモニウム塩、ポリオキシエチレンアルキルアミン等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００３６】
陰イオン性界面活性剤の例としてオレイン酸ナトリウム石鹸等の脂肪酸塩、ラウリル硫酸ナトリウム等の高級アルコール硫酸エステル塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベンゼンスルホン酸塩が挙げられるが、これらに限定されない。
【００３７】
両イオン性界面活性剤の例としてラウリルベタイン、ステアリルベタイン等のアルキルベタインが挙げられるが、これらに限定されない。
【００３８】
非イオン性界面活性剤の例としてポリオキシエチレンラウリルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェノールエーテル等のポリオキシエチレンアルキルフェノールエーテル、ソルビタンモノラウレート等のソルビタン脂肪酸エステル、グリセリルモノステアレート等の脂肪酸モノグリセライド、ポリビニルアルコールが挙げられるが、これらに限定されない。
【００３９】
この中で好ましいのは非イオン性界面活性剤であり、特に好ましいものとしてポリビニルアルコールが挙げられる。ポリビニルアルコールは少量の添加でかさの低いキノフタロン化合物の結晶が得られる点で有利である。
【００４０】
ポリビニルアルコールは種種の分子量のものや、種種の鹸化度のものがあるが、ポリビニルアルコールとしては特に限定されない。
【００４１】
分散剤の使用量はキノフタロン化合物に対し０．００１重量部乃至０．１重量部使用する。好ましくは０．００５重量部乃至０．０５重量部である。
【００４２】
炭化水素溶媒は減圧して留去しても良いし、常圧で留去しても良い。
【００４３】
晶析によって結晶化したキノフタロン化合物は特に限定はされないが、濾過をすることにより取り出すことができる。
【００４４】
本発明のキノフタロン化合物結晶のかさ測定方法は、ＪＩＳ  １９７８年版  Ｋ５１０１−１８に規定される方法を用いる。具体的には、かさ測定器の受器（容量３０ｍｌ）にキノフタロン化合物の結晶を分散落下させて受ける。山盛りになったキノフタロン化合物の山盛り部分を直線のへらを使用して削り取った後、内容物の質量をはかり、次式から試料のかさＥ（ｍｌ/ｇ）を算出する。
【００４５】
Ｅ＝３０／Ｆ    ここにＦ：受器内の試料の重量（ｇ）
本発明の製造方法を用いることで上記かさ測定において３.３ｍｌ/ｇ以下のキノフタロン化合物の結晶を得ることができる。
【００４６】
以下に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。実施例で使用する部は重量部とする。
【００４７】
［合成例１］
＜化合物（３）の合成＞
スルホラン２８５部にトリメリット酸無水物２１.１部を加え、１８５℃に加熱し、さらに３−ヒドロキシ−２−メチル−６−イソプロピルキノリン−４−カルボン酸２４.６部を加えて、２００℃で１時間反応させた。反応マスを水中に投入して結晶化後に濾過をした。目的物の前駆体である式（３）の化合物３７.２部を得た。
【００４８】
［比較例１］
＜化合物（２）の合成と結晶化＞
ｏ−ジクロロベンゼン２５部に合成例１で得た化合物（３）を５部加え、１００℃に昇温した。そこへ塩化チオニル３．６部を滴下し、２．５時間保温後、減圧下で過剰の塩化チオニルを留去した。同温度でジブチルアミン６部を滴下後、２時間保温した。反応液は室温まで冷却した後にメタノール５０部中に投入して結晶化させた。濾過をして化合物（２）６部を得た。得られた化合物（２）の結晶のかさを測定したところ、５.１ｍｌ/ｇであった。
【００４９】
［比較例２］
＜化合物（２）の結晶化＞
比較例１で得た化合物（２）５部を１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン１５部に２５℃で溶解した。溶解液を同温度でメタノール３０部中に投入して結晶化させた。濾過をして化合物（２）３部を得た。得られた化合物（２）結晶のかさを測定したところ、５.２ｍｌ/ｇであった。
【００５０】
［比較例３］
＜化合物（２）の合成と結晶化＞
トルエン２５部に合成例１で得た化合物（３）を５部加え、１００℃に昇温した。そこへ塩化チオニル３．６部を滴下し、２．５時間保温後、減圧下で過剰の塩化チオニルを留去した。同温度でジブチルアミン６部を滴下して２時間保温した後にトルエンを全量留去した蒸留残分を粉砕して取り出し、化合物（２）を結晶として６.２部得た。得られた化合物（２）の結晶のかさを測定したところ、４.２ｍｌ/ｇであった。
【実施例１】
【００５１】
＜化合物（２）の合成と晶析＞
トルエン２５部に合成例１で得た化合物（３）を５部加え、１００℃に昇温した。そこへ塩化チオニル３．６部を滴下し、２．５時間保温後、減圧下で過剰の塩化チオニルを留去した。同温度でジブチルアミン６部を滴下して２時間保温した後に２５℃に冷却した。水２５部にクラレ株式会社製  ＰＶＡ−２１７  ０.１部を溶解し、９８℃に昇温した。そこへ反応液を２時間かけて滴下した。留出したトルエンと水の共沸混合物は分液して水のみを系内にもどした。滴下後２時間保温して完全にトルエンを留去して結晶化させた。濾過をして化合物（２）６.１部を得た。得られた化合物（２）の結晶のかさを測定したところ、２.４ｍｌ/ｇであった。
【実施例２】
【００５２】
＜化合物（８）の合成と結晶化＞
トルエン２５部に合成例１で得た化合物（３）を５部加え、１００℃に昇温した。そこへ塩化チオニル３.６部を滴下し、３時間保温後、減圧下で過剰の塩化チオニルを留去した。同温度でジイソプロピルアミン４.７部を滴下して２時間保温した後に２５℃に冷却した。水２５部にクラレ株式会社製  ＰＶＡ−２１７  ０.２部を溶解し、９８度に昇温した。そこへ反応液を２時間かけて滴下した。留出したトルエンと水の共沸混合物は分液して水のみを系内にもどした。滴下後２時間保温して完全にトルエンを留去して結晶化させた。濾過をして下記式（８）の化合物５.８部を得た。得られた化合物（８）の結晶のかさを測定したところ、２.６ｍｌ/ｇであった。
【００５３】
【化９】
2005298576.tif 000010
【００５４】
［比較例４］
＜化合物（８）の合成と結晶化＞
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２５部に合成例１で得た化合物（３）を５部加え、１００℃に昇温した。そこへ塩化チオニル３．６部を滴下し、２．５時間保温後、減圧下で過剰の塩化チオニルを留去した。同温度でジイソプロピルアミン４.６部を滴下後、２時間保温した。反応液は室温まで冷却した後に水５０部中に投入して結晶化させた。濾過をして化合物（８）６部を得た。得られた化合物（８）の結晶のかさを測定したところ、５.３ｍｌ/ｇであった。
【産業上の利用可能性】
【００５５】
本発明に結晶化させたキノフタロン化合物は結晶かさが小さく、使用する際に取り扱い易く、工業的に有利である。