(57)【要約】【課題】  フィルタの破損による異物除去機能の劣化を抑制する。【解決手段】  レジスト液Ｒを濾過するレジストフィルタ５が濾過装置４に設けられ、レジストフィルタ５の材料として自己修復機能を持つ高分子を用いるとともに、自己修復機能を持つ高分子を修復させる修復剤を混入する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
自己修復機能を持つ高分子材料が用いられているフィルタを備えることを特徴とする濾過装置。
【請求項２】
前記高分子材料を修復させる修復剤が前記フィルタに混入されていることを特徴とする請求項１記載の濾過装置。
【請求項３】
気体を排出するノズルと、
前記気体を前記ノズルに送り出す送出部と、
前記ノズルの前段に設けられ、自己修復機能を持つ高分子材料が用いられているフィルタとを備えることを特徴とする気体清浄装置。
【請求項４】
自己修復機能を持つ高分子材料が用いられているフィルタを用いて液体または気体を濾過することを特徴とする濾過方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は濾過装置、気体清浄装置および濾過方法に関し、特に、フォトリソグラフィープロセスなどで用いられるフィルタに適用して好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造プロセスなどで行われるフォトリソグラフィー工程では、半導体ウェハ上に塗付されるレジスト、反射防止膜、現像液などの各種薬液に混入した異物や気泡などを除去するため、フィルタが一般的に用いられている。
ここで、フィルタの材料としては、耐薬品性や強度などの観点からポリエチレンやポリプロピレンなどの高分子材料が用いられている。そして、このような高分子材料を用いることにより、メンブレンフィルタやデプスフィルタなどの様々の種類のフィルタが作製されている。
【０００３】
また、例えば、特許文献１には、空隙構造および繊維直径を限定することにより、粒径１００μｍ以上の粒子を通過させないようにしてフィルタの高寿命化を図る方法が開示されている。
【特許文献１】特開平７−２４２３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来のフィルタは、ポリエチレンやポリプロピレンなどの高分子材料で構成されているため、フィルタに薬液を通過させる際の加圧処理や薬液に含まれる異物などにより、フィルタを構成している高分子材料の劣化や破損などを引き起こすという問題があった。
また、フィルタが破損すると、異物を除去できなくなるだけでなく、フィルタ膜自体が異物の発生原因となるため、定期的なメンテナンスや交換が必要になるという問題があった。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、フィルタの破損による異物除去機能の劣化を抑制することが可能な濾過装置、気体清浄装置および濾過方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述した課題を解決するために、本発明の一態様に係る濾過装置によれば、自己修復機能を持つ高分子材料が用いられているフィルタを備えることを特徴とする。
これにより、フィルタに用いられている材料が切断された場合においても、フィルタの切断部分を材料自体に修復させることができる。このため、フィルタの破損による異物除去機能の劣化を抑制することが可能となるとともに、フィルタ自体が異物の発生原因となることを防止することが可能となり、交換頻度を減少させることができる。
【０００７】
また、本発明の一態様に係る濾過装置によれば、前記高分子材料を修復させる修復剤が前記フィルタに混入されていることを特徴とする。
これにより、フィルタの切断部分を材料自体に修復させるために、修復剤を外部から供給する必要がなくなり、フィルタの破損による異物除去機能の劣化を未然に防止することが可能となる。
【０００８】
また、本発明の一態様に係る気体清浄装置によれば、気体を排出するノズルと、前記気体を前記ノズルに送り出す送出部と、前記ノズルの前段に設けられ、自己修復機能を持つ高分子材料が用いられているフィルタとを備えることを特徴とする。
これにより、気体のフィルタリングを行う場合においても、フィルタの切断部分を材料自体に修復させることができ、フィルタの破損による異物除去機能の劣化を抑制することが可能となる。
【０００９】
また、本発明の一態様に係る濾過方法によれば、自己修復機能を持つ高分子材料が用いられているフィルタを用いて液体または気体を濾過することを特徴とする。
これにより、フィルタの切断部分を材料自体に修復させることができ、フィルタの破損による異物除去機能の劣化を抑制することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態に係る濾過装置および濾過方法について図面を参照しながら説明する。
図１は、本発明の第１実施形態に係るレジスト塗布方法を示す断面図である。
図１において、ボトル１には、レジスト液Ｒを貯留することができる。そして、ボトル１は配管２を介して濾過装置４の入口側に接続されている。ここで、配管２には、ボトル１に貯留されているレジスト液Ｒを濾過装置４に送出するポンプ３が設けられている。また、濾過装置４の出口側には、配管６を介してコータユニット７に接続され、コータユニット７には、レジスト液Ｒを吐出させるノズル８が設けられている。また、ノズル８下には、ウェハＷを吸着保持するスピンチャック９が設けられ、スピンチャック９上にはウェハＷが配置されている。
【００１１】
ここで、濾過装置４には、濾過装置４に送られたレジスト液Ｒを濾過するレジストフィルタ５が設けられている。そして、レジストフィルタ５の材料として自己修復機能を持つ高分子を用いることができる。また、レジストフィルタ５には、自己修復機能を持つ高分子を修復させる修復剤を混入することができる。なお、自己修復機能を持つ高分子としては、例えば、ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエーテルケトン（ＰＫＥ）などを用いることができる。また、ポリフェニレンエーテルの修復剤としてはＣｕアミン、ポリカーボネートの修復剤としてはＮａ2ＣＯ3、ポリエーテルケトンの修復剤としてはＫ2ＣＯ3を用いることができる。
【００１２】
そして、ウェハＷ上にレジスト液Ｒを塗付する場合、ポンプ３を起動することにより、ボトル１に貯留されているレジスト液Ｒを濾過装置４に送出する。そして、濾過装置４に送出されたレジスト液Ｒは、レジストフィルタ５にて濾過され、コータユニット７に送られる。そして、レジスト液Ｒがコータユニット７に送られると、レジスト液Ｒがノズル８を介してウェハＷ上に吐出され、ウェハＷにレジスト液Ｒが塗付される。ここで、レジストフィルタ５の材料として自己修復機能を持つ高分子を用いることで、レジスト液Ｒを濾過する際にレジストフィルタ５が破損した場合においても、レジストフィルタ５の破損部分を材料自体に修復させることができる。
【００１３】
図２は、本発明の一実施形態に係る高分子材料の自己修復機能を示す模式図である。
図２において、自己修復機能を持つ高分子１１は結合部１２を介して互いに絡み合っている。そして、レジストフィルタ５にレジスト液Ｒを通過させる際の加圧処理やレジスト液Ｒに含まれる異物などにより、レジストフィルタ５の劣化や破損が生じた場合、結合部１２が切断されることにより、高分子１１に切断箇所１３が発生する。
【００１４】
そして、高分子１１に切断箇所１３が発生すると、レジストフィルタ５に混入された修復剤が切断箇所１３に作用することにより、レジストフィルタ５の切断部分を材料自体に修復させることができる。このため、レジストフィルタ５の破損による異物除去機能の劣化を抑制することが可能となるとともに、レジストフィルタ５自体が異物の発生原因となることを防止することが可能となり、交換頻度を減少させることができる。特に、エキシマレジストフィルタは高額であるため、交換頻度を減少させることにより、コストダウンを図ることができる。
【００１５】
なお、上述した第１実施形態では、自己修復機能を持つ高分子材料にてレジストフィルタ５を構成する方法について説明したが、レジストフィルタ５以外にも、例えば、反射防止膜や現像液などの各種薬液の濾過に用いられるフィルタ材料として、自己修復機能を持つ高分子を使用するようにしてもよい。
図３は、本発明の第２実施形態に係るエアガンの概略構成を示す側面図である。
【００１６】
図３において、エアガン２１には、空気を吹き出すノズル２２が設けられるとともに、ノズル２２の前段には、空気に含まれる異物を除去するフィルタ２３が設けられている。そして、フィルタ２３の材料として自己修復機能を持つ高分子を用いることができる。また、フィルタ２３には、自己修復機能を持つ高分子を修復させる修復剤を混入することができる。なお、エアガン２１は、レチクルなどの異物除去やウェハ表面の乾燥などに用いることができる。
【００１７】
これにより、気体の濾過を行う場合においても、フィルタ２３の切断部分を材料自体に修復させることができ、フィルタ２３の破損による異物除去機能の劣化を抑制することが可能となる。
なお、上述した第２実施形態では、自己修復機能を持つ高分子材料が用いられているフィルタ２３をエアガン２１に設ける方法について説明したが、エアガン２１以外にも、例えば、自己修復機能を持つ高分子材料が用いられているフィルタをＮ2ガンなどに設けるようにしてもよい。また、自己修復機能を持つ高分子材料が用いられているフィルタをクリーンルームや空調機などに設置するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の第１実施形態に係るレジスト塗布方法を示す断面図。
【図２】本発明の一実施形態に係る高分子材料の自己修復機能を示す模式図。
【図３】本発明の第２実施形態に係るエアガンの概略構成を示す側面図。
【符号の説明】
【００１９】
１  ボトル、２、６  配管、３  ポンプ、４  濾過装置、５  レジストフィルタ、７  コータユニット、８  ノズル、９  スピンチャック、Ｗ  ウェハ、Ｒ  レジスト、１１  高分子  １２  結合部、１３  切断箇所、２１  エアガン、２２  ノズル、２３  フィルタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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