(57)【要約】【課題】炉室内部の清掃を簡略化するために、炉室搬送部が露出でき、ヒータ部は汚れ防止を施した構造を持つトンネル炉を実現する。【解決手段】炉室の入口から出口にかけて連続して被加熱物を搬送する手段を持ち、炉室内上下部のヒータ温度設定を変えることで炉室内に温度プロファイル条件を有するトンネル炉において、該炉室内の上部ヒータが少なくとも搬送方向に平行に開閉することができる機構があることを特徴とし、前記炉室内のヒータはガラス板で被うことでトンネル炉内を清浄環境にすることを実現した。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
炉室の入口から出口にかけて連続して被加熱物を搬送する手段を持ち、炉室内上下部のヒータ温度設定を変えることで炉室内に温度プロファイル条件を有するトンネル炉において、
該炉室内部の上部ヒータが少なくとも搬送方向に平行に開閉することができる機構があることを特徴とするトンネル炉。
【請求項２】
請求項１記載のトンネル炉において、炉室内の該ヒータはガラス板で被われていることを特徴とするトンネル炉。
【請求項３】
請求項１記載のトンネル炉は、炉内雰囲気温度を常時４００℃に保持することが可能であることを特徴とするトンネル炉。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、炉室内部の清掃を簡略化するために、炉室搬送部が露出でき、炉内部は汚れ防止を施した構造を持つトンネル炉に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば導電性接着剤を用いた圧電素子、圧電部品（振動子や発振器）の固定に高温度炉が用いられている。この温度炉は１ロットや一定量を一度に処理するバッチ方式で硬化する方法と、ロット管理や処理量に関係なく硬化処理を連続で処理する方法とを一般的に用いている。
【０００３】
前者の場合は、高温槽とよばれる槽内温度を一定の温度に設定した槽内に硬化処理する被加熱物を一定時間置くことで硬化作業をするもので、いわゆるバッチ処理と呼ばれた硬化作業を重点に考えた作業である。それに対して後者の場合は、２〜８メートルの長さの炉であって、炉の内部には複数ものヒータを配置し炉は一方向で被加熱物を搬送する機構を有しており前記のバッチ処理に対して連続のインライン処理の硬化作業を重点に考えた作業である。
【０００４】
そしてその一方で、圧電部品の特に水晶振動子は密閉封止する前の圧電素板の状態では、空気中に浮遊するゴミ、水分などの付着に対しては非常に敏感であることから、最近では製造工程全体を清浄環境（クリーンルーム）の中で処理する現状にある。現在使用されるトンネル炉は、トンネル炉内部にへパフィルタを使用し炉内部の環境をクリーンな状態に維持している。従って硬化炉の温度が３５０℃以上の硬化条件が必要な場合には、ヘパフィルタが３５０℃以上もの高温に耐えられないという現状にもある。
【特許文献１】特開平６−３２３７３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
解決しようとする問題点は、技術背景にも記載しているように、最近では清浄環境でのトンネル炉による硬化処理がなされていることで、硬化炉中の炉の状態も清浄であることが要求されています。一般的にはクリーンフィルタを通してＮ２をトンネル炉内に送り込んだ雰囲気で使用するため、今までのトンネル炉は炉内部の清掃を考慮した構造になっていないのが一般的である。
【０００６】
またこの場合は、炉内部全般での清掃と熱をかけるヒータ部周辺とが特に硬化時に発生するガスにより汚れが目立つことが多いのも現状である。トンネル炉全体が清浄環境に適合した構造であれば、清浄環境でトンネル炉を使用する事に対して非常に有利であることに加え、炉中内部がいつも清潔できれいであることから、このトンネル炉を使用して圧電部品を固着する接着剤の硬化処理を行った場合には、硬化処理する被加熱物に対しても清浄状態を継承することができることから、被加熱物自体のコンタミネーションの問題を解消することもできる。
【０００７】
上記のように、トンネル炉を用いて硬化処理を行う場合に、トンネル炉内部（搬送系）の清浄環境の維持を行うことに現在の課題がある。
【発明の効果】
【０００８】
本発明のトンネル炉により、トンネル炉の搬送部分とヒータ部分を常に清浄状態に維持できることから、清浄環境（クリーンルーム）での使用に適合させることは勿論のこと、トンネル炉内部が常に清浄状態であることから硬化する被加熱物に対しても品質面の維持と製造歩留まりの向上を実現することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
炉室の入口から出口にかけて連続して被加熱物を搬送する手段を持ち、炉室内上下部のヒータ温度設定を変えることで炉室内に温度プロファイル条件を有するトンネル炉において、該炉室内部の上部ヒータが少なくとも搬送方向に平行に開閉することができる機構があることを特徴とし、前記炉室内のヒータはガラス板で被うことでトンネル炉内を清浄環境にすることを実現した。
【実施例】
【００１０】
以下、添付図面に従ってこの発明の実施例を説明する。なお、各図において同一の符号は同様の対象を示すものとする。本実施例のトンネル炉１は予熱帯、焼成帯、冷却帯を連続して行うトンネル式の連続炉である。図１の概念図においてはトンネル炉１の内部、全長にわたり一定ピッチで設けられた被加熱物移送用のローラー４により搬送する構造を有するものである。
図１（ａ）は通常の硬化作業の状態で、上下部に配置するヒータ２からの熱を搬送部を通過する被加熱物に対し熱を加えることができる。そして、図１（ｂ）は上部（ヒータ）ユニットを開閉した状態を示している。上部ユニット５が開閉することでヒータ２部分を露出した状態を描画するものである。なお、図２は図１の矢印方向から見た概念図である。
【００１１】
図３はトンネル炉１の全長に渡り、搬送方向に平行の上下方向に開閉した様子を示す概念図である。炉室２内にはローラー４の上部にヒータ２が設けられ、ローラー４の上面を右方向に移送される被加熱物を上下から加熱することができる。そして、本発明の特徴であるヒータ２はガラス板３で被われている。要するにトンネル炉１内のヒータ２は全てガラスで被われた格好となっている。
【００１２】
ヒータ２をガラス板３で被う理由は、ヒータ２に付着する汚れと炉内の汚れ（例えば硬化時に揮発するガスなど）をガラス板３で保護することでヒータ２の直接の汚れを防止し、加えてヒータ２の清掃を簡略化するものである。従って、ヒータ２が幾重にも、複数に複雑に配置されていたとしても、ヒータ２を被う格好でガラス板３が配置されていることで、清掃自体はこのガラス板３の被加熱物側を、トンネル炉１内の上下部に配置するガラス板３の表面を拭き取るだけで簡単に清掃を済ませることができる。
【００１３】
上述のように本発明のトンネルは炉内温度が３５０℃以上であっても炉内部にヘパフィルタなどを備えなくてもクリーンな環境を実現できる構造から、炉内部温度が４００℃という高温であっても炉内部の清浄環境を保持するために、トンネル炉が図１に示すように開閉構造を有することで実現するものである。従来のトンネル炉では炉室搬送部分が開閉するものは無く、全く新しい発想のトンネル炉構造を持ったものである。
【００１４】
なお、炉室２内には例えば窒素ガスなどの還元性ガスを供給することで被加熱物の硬化時あるいは被加熱物の密閉封止時に作用する構造がなされていることは勿論であり、本実施例の搬送系は送りローラー４を使ったいるが、その他の搬送手段としてベルト送りやカム送り、搬送レール送りであっても構わない。
【００１５】
また、本実施例に記載するトンネル炉１のヒータ２に遠赤外線ヒータ２を用い、ガラス板３の材質には石英ガラスを用いることで輻射熱の効力を上げることで硬化効果を向上することができる。その他、ヒータ２をハロゲンランプ、ガラス板材質を耐熱ガラスを用いた各種組合せであっても同様の効果を奏することは言うまでも無い。なお、上述のトンネル炉は、炉内雰囲気温度を常時４００℃に保持することが可能である。
【産業上の利用可能性】
【００１６】
トンネル炉の炉内の清掃を簡略化することで、被加熱物品質の向上とトンネル炉の清浄環境が確保でき、日々の整備についても作業効率を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明のトンネル炉の概念図である。
【図２】本トンネル炉の炉内部が露出する様子を、図１の矢印方向から見たときの概念図である。
【図３】本発明のトンネル炉の内部を示す詳細図である。
【符号の説明】
【００１８】
１      トンネル炉
２      ヒータ
３      ガラス板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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