(57)【要約】【課題】  有機ＥＬ素子等の製造に使用される減圧処理装置では、当該処理装置を構成する部材自身に起因して発生する有機物による悪影響について考慮されていない。【解決手段】  減圧処理装置を構成するるつぼ、ガスケット等の各部材から有機物成分が放出され、当該放出された有機物成分によって素子が汚染されることを見出し、有機物成分の放出を軽減する処理を減圧処理装置の各部材に施す。例えば、るつぼは蒸着材料に対して触媒性の低い材料によって形成し、ガスケットは有機物の溶出低減処理を施したものを使用するか、有機物の少ない材料のものを使用する。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
減圧容器と、該減圧容器に結合する排気手段と、該減圧容器にガスケットを介して接続された被処理物導入扉とを含む減圧処理装置において、該ガスケットは有機物放出の少ない材料で構成されていることを特徴とする減圧処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の減圧処理装置において、前記ガスケットの構成材料は有機物を含むことを特徴とする減圧処理装置。
【請求項３】
請求項２に記載の減圧処理装置において、前記ガスケットの構成材料は８０℃以上の水に接触させる工程を経ていることを特徴とする減圧処理装置。
【請求項４】
請求項２または３に記載の減圧処理装置において、前記有機物の主成分はパーフロロエラストマーであることを特徴とする減圧処理装置。
【請求項５】
減圧容器と、該減圧容器に接続された排気手段と、該減圧容器に接続された被処理物導入扉と、該減圧容器の気密を保つ複数のガスケットとを含む減圧処理装置において、前記複数のガスケットのうち着脱頻度の少ない部位の気密を保つガスケットの構成材料は金属およびセラミックスの少なくとも一方であることを特徴とする減圧処理装置。
【請求項６】
請求項５に記載の減圧処理装置において、着脱頻度の多い部位の気密を保つガスケットの構成材料は有機物を含むことを特徴とする減圧処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載の減圧処理装置において、前記有機物を含むガスケットは８０℃以上の水に接触させる工程を経ていることを特徴とする減圧処理装置。
【請求項８】
請求項６または７に記載の減圧処理装置において、前記有機物の主成分はパーフロロエラストマーであることを特徴とする減圧処理装置。
【請求項９】
請求項１乃至８のどれか一つに記載の減圧処理装置において、前記排気手段はポンプを含み、該ポンプの上流もしくはポンプパージ部に少量の不活性ガスを流すことを特徴とする減圧処理装置。
【請求項１０】
請求項１乃至８のどれか一つに記載の減圧処理装置において、前記排気手段は１次ポンプと、該１次ポンプの排気側に接続された２次ポンプと、該１次ポンプおよび該２次ポンプの間に不活性ガスを導入するガス導入部とを含むことを特徴とする減圧処理装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のどれか一つに記載の減圧処理装置において、処理時の真空度が１００Ｔｏｒｒ以下であることを特徴とする減圧処理装置。
【請求項１２】
減圧容器と、該減圧容器に結合する排気手段と、該減圧容器にガスケットを介して接続された基板導入扉と、蒸着源容器とを含む蒸着装置において、該ガスケットは有機物放出の少ない材料で構成されていることを特徴とする蒸着装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載の蒸着装置において、前記ガスケットの構成材料は有機物を含むことを特徴とする蒸着装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の蒸着装置において、前記ガスケットの構成材料は８０℃以上の水に接触させる工程を経ていることを特徴とする蒸着装置。
【請求項１５】
請求項１３または１４に記載の蒸着装置において、前記有機物の主成分はパーフロロエラストマーであることを特徴とする蒸着装置。
【請求項１６】
減圧容器と、該減圧容器に接続された排気手段と、該減圧容器に接続された基板導入扉と、該減圧容器の気密を保つ複数のガスケットと、蒸着源容器とを含む蒸着装置において、前記複数のガスケットのうち着脱頻度の少ない部位の気密を保つガスケットの構成材料は金属およびセラミックスの少なくとも一方であることを特徴とする蒸着装置。
【請求項１７】
請求項１６に記載の蒸着装置において、着脱頻度の多い部位の気密を保つガスケットの構成材料は有機物を含むことを特徴とする蒸着装置。
【請求項１８】
請求項１７に記載の蒸着装置において、前記有機物を含むガスケットは８０℃以上の水に接触させる工程を経ていることを特徴とする蒸着装置。
【請求項１９】
請求項１７または１８に記載の蒸着装置において、前記有機物の主成分はパーフロロエラストマーであることを特徴とする蒸着装置。
【請求項２０】
請求項１２または１６に記載の蒸着装置において、前記蒸着源容器は触媒性の少ない材料で構成されていることを特徴とする蒸着装置。
【請求項２１】
請求項２０に記載の蒸着装置において、前記蒸着源容器内面はＳｉ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｌａ、Ｙ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｂから選ばれる元素の酸化物もしくは窒化物のいずれかを少なくとも含むことを特徴とする蒸着装置。
【請求項２２】
請求項１２または１６に記載の蒸着装置において、前記蒸着源容器は高熱伝導率材料で構成されていることを特徴とする蒸着装置。
【請求項２３】
請求項２２に記載の蒸着装置において、前記蒸着源容器を構成する前記高熱伝導率材料は、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉの窒化物もしくは金属材料のいずれかを少なくとも含むことを特徴とする蒸着装置。
【請求項２４】
請求項２３に記載の蒸着装置において、前記蒸着源容器の内面はＳｉ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｌａ、Ｙ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｂから選ばれる元素の酸化物もしくは窒化物のいずれかを少なくとも含むことを特徴とする蒸着装置。
【請求項２５】
請求項２０乃至２４のどれか一つに記載の蒸着装置において、前記蒸着源容器の内面は略平滑であることを特徴とする蒸着装置。
【請求項２６】
請求項１２乃至２５のどれか一つに記載の蒸着装置において、蒸着源容器に投入される蒸着材料は有機ＥＬ素子材料であることを特徴とする蒸着装置。
【請求項２７】
請求項１２乃至２６のどれか一つに記載の蒸着装置において、前記排気手段はポンプを含み、該ポンプの上流もしくはポンプパージ部に少量の不活性ガスを流すことを特徴とする蒸着装置。
【請求項２８】
請求項１２乃至２６のどれか一つに記載の蒸着装置において、前記排気手段は１次ポンプと、該１次ポンプの排気側に接続された２次ポンプと、該１次ポンプおよび該２次ポンプの間に不活性ガスを導入するガス導入部とを含むことを特徴とする蒸着装置。
【請求項２９】
請求項１２乃至２８のどれか一つに記載の蒸着装置において、処理時の真空度が１００Ｔｏｒｒ以下であることを特徴とする蒸着装置
【請求項３０】
請求項１２乃至２９のどれか一つに記載の蒸着装置を用いて成膜された有機層を有することを特徴とする有機ＥＬ素子。
【請求項３１】
請求項１２乃至２９のどれか一つに記載の蒸着装置を用いて成膜された有機層を有することを特徴とする有機ＥＬ表示装置。
【請求項３２】
複数の部材によって構成されている減圧処理装置において、前記複数の部材の少なくとも一つは有機物放出防止処理を受けていることを特徴とする減圧処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、減圧処理装置および蒸着装置に関し、特に、有機物等の汚染を低減した減圧処理装置および蒸着装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子など低分子量の化学物質を基板上に成膜する際には、簡便で比較的品質のよい薄膜を成膜する手法として減圧雰囲気における蒸着法が広く用いられている。蒸着装置は通常、減圧可能に構成されたステンレスやアルミニウム製の減圧容器に減圧ポンプが接続されて構成されている。
【０００３】
前述した減圧容器には被成膜対象となる基板を設置する基板ホルダーと、該基板を設置する際に開閉する被処理物導入扉が設けられている。また、減圧ポンプとしては、高い真空度を達成することが可能なターボ分子ポンプなどの分子流領域用ポンプ（以降１次ポンプと呼ぶ）と、該１次ポンプの排気側に接続され１次ポンプを補助するドライポンプや油回転ポンプ（以降２次ポンプと呼ぶ）とを組み合わせて使用することが一般的である。
【０００４】
前記被処理物導入扉と前記減圧容器との間の気密は、ゴム製のＯリングなどを前記扉と容器外壁との間に介在させることで保つことが一般的に行われており、前記ゴム製のＯリングとしては、デュポン社製のバイトンシリーズなどのフッ素ゴムＯリングが用いられることが一般的であり、その選定に対しては寸法や耐薬品性、耐プラズマ性などの機械的な特性に注意が払われている。
【０００５】
前記蒸着源容器はとくに限定されていないが、耐熱性の観点から、石英やグラファイト、グラッシーカーボン、ＢＮ、アルミナなどの材料が用いられている。
【０００６】
この種、蒸着装置として、特開２０００−１６０３２８（特許文献１）、特開平５−４４０２１（特許文献２）、及び、特開平８−３２１４４８（特許文献３）に記載されたものがある。
【０００７】
特許文献１は、化学物質の蒸着作業において、真空中で化学物質を加熱して蒸発または昇華させるために使用される蒸着源容器（ｋセル）を開示しており、特に、ｋセル内の蒸着材料の可視化を実現している。また、特許文献２は、真空蒸着における蒸着源容器（ｋセル）の構造を開示しており、特に、ｋセル内の被蒸着物の温度均一化を可能にしている。更に、特許文献３は、ポンプ排気側からの逆拡散により減圧処理装置内部に残留する不純物を低減させる減圧処理装置を開示している。
【特許文献１】特開２０００−１６０３２８号公報
【特許文献２】特開平５−４４０２１号公報
【特許文献３】特開平８−３２１４４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
前述した蒸着装置を含む減圧処理装置を使用した場合、装置内の気密を保つために重要なガスケットの構成材料からの放出ガスが多く、該放出ガス成分が減圧容器内の被処理物を汚染し、あるいは蒸着装置の場合には蒸着膜中に取り込まれて素子の特性を劣化する問題が生じることが判明した。
【０００９】
このことを図６を参照して具体的に説明する。図６には、減圧処理装置と、当該減圧処理装置内の有機物量を測定するための測定系が示されており、減圧処理装置は減圧容器１、減圧容器１に接続された1次ポンプ２、１次ポンプ２の排気側に接続された２次ポンプ３とを備え、減圧容器１には、有機物量を計測する大気圧イオン化質量分析器（ＡＰＩ−ＭＳ）４が取り付けられている。これらの各部材はガスケット５，６，７を介して接続され、接続部の気密が保たれる構造になっている。
【００１０】
ここで、１次ポンプ２としてはターボ分子ポンプ、２次ポンプ３としては半導体製造工程で一般的に使用されるドライポンプを用い、特許文献３に記載の方法により１次ポンプ２の排気側にＡｒガスを導入することで１次ポンプ排気側からの有機物成分、水分の逆拡散を抑制している。
【００１１】
ガスケット５，６，７として、半導体製造工程で一般的に使用されているデュポン社製のフッ素ゴムＯリング（バイトン）を用いた場合の測定結果が図７に示されている。
【００１２】
図７はＡＰＩ−ＭＳ４により測定された減圧容器１内におけるガス成分の質量分析の結果であり、横軸に質量数、縦軸に相対イオン強度（すなわち検出された分子の数）を示す。図７からも明らかなように、分子量４０から２４０の間にピークが観測され、低分子の有機物が放出されていることがわかる。
【００１３】
このような放出有機物成分が有機ＥＬ層などにとりこまれると、輝度低下や素子寿命の低下などの問題を引き起こしてしまう。
【００１４】
また、蒸着源容器の内面が触媒性を有していたり、微細な孔（ボイド）があったり、表面が荒れていたりするために、蒸着材料が分解しやすく、蒸着膜中に分解物が取り込まれることで素子の特性が劣化するという問題が生じることも本発明者等は認識した。
【００１５】
他方、特許文献１は、蒸着るつぼに関して透明性を確保することによりるつぼ内部の状態を可視化することを提案しているが、蒸着るつぼ内の蒸着材料の品質については考慮していない。また、蒸着装置の構成について、ガスケットからの放出ガスによる減圧容器内の汚染と云う観点では何ら記述が無く、この技術では高品質な蒸着成膜を行うことはできない。
【００１６】
また、特許文献２においては、るつぼ外側に断熱材を配置することでるつぼ内の蒸着材料の温度を均一化し、蒸着膜の品質を確保している。しかしながら、るつぼ表面と蒸着材料との間の触媒性については何ら言及が無く、上述の触媒性による蒸着材料の分解の問題を解決していない。さらに、特許文献１と同様に蒸着装置の構成について言及されておらず、ガスケットからの放出ガスによる減圧容器内の汚染の観点では何ら記述が無く、この技術でも高品質な蒸着成膜を行うことはできない。
【００１７】
更に、特許文献３は、減圧処理装置の排気ポンプの構成について記述しているが、該装置におけるガスケットからの放出ガスの問題については何ら言及されていない。このため、蒸着装置など減圧度の高い状態で処理を行う場合、蒸着膜中にガスケットからの放出ガスが取り込まれてしまう問題は解決できない。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、減圧処理装置または蒸着装置において、有機物放出の少ないガスケットを用いることを特徴とし、有機物放出の少ないガスケットとして、着脱頻度の少ない部位については、金属製またはセラミックス製のガスケットを用いることを特徴とし、着脱頻度の多い部位については、有機物を含むガスケットを用いることを特徴とする。有機物を含むガスケットについては、８０℃以上の水、好ましくは沸騰水（ともに純水、特に超純水が好ましい）に接触する工程を経たガスケットもしくは主成分が特殊フッ素ゴム、パーフロロエラストマーであるガスケットを用いることを特徴とする。
【００１９】
更に、本発明の蒸着装置は、蒸着源容器が触媒性の低い材料で構成されていること、あるいは、蒸着源容器は熱伝導率の高い材料で構成して着源容器内表面が触媒性の低い材料で構成されていることを特徴とする。また、本発明の蒸着源容器内面は略平滑であることを特徴とする。
【００２０】
更に、本発明の蒸着装置は、蒸着材料が有機ＥＬ材料であることを特徴とする。さらに本発明の真空処理装置および蒸着装置は、処理時の真空度が１００Ｔｏｒｒ以下であることを特徴とする。
【００２１】
さらに本発明の有機ＥＬ素子は、上述の特徴を有する蒸着装置で成膜された有機膜を有することを特徴とする。
【００２２】
更に、本発明の有機ＥＬ表示装置は、上述の特徴を有する蒸着装置で成膜された有機膜を有することを特徴とする。
【００２３】
本発明によれば、前述したように、ガスケット材料として有機物放出が少ない材料が用いられているため、ガスケットから放出された有機物が減圧容器内を汚染したり蒸着膜中に取り込まれて蒸着膜の品質を劣化したりする問題を抑制できる。有機ＥＬ層の蒸着に本発明を用いれば、有機ＥＬ層に取り込まれる放出有機物成分が減少するため、有機ＥＬ素子の輝度の向上や発光寿命の向上が達成できる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の減圧処理装置および蒸着装置によれば、ガスケット材料として有機物放出が少ない材料が用いられているため、ガスケットから放出された有機物が減圧処理装置内を汚染したり蒸着膜中に取り込まれたりして、処理対象物の品質が劣化する問題を抑制できる。有機ＥＬ層の蒸着に本発明を用いれば、有機ＥＬ層に取り込まれる放出有機物成分が減少するため、有機ＥＬ素子の輝度の向上や発光寿命の向上が達成できる。
【００２５】
さらに、本発明の蒸着装置によれば、蒸着源容器または容器内表面に触媒性の低い材料を用いるため、蒸着材料とくに有機ＥＬ材料などの有機材料の分解を抑制することができ、有機ＥＬ素子または表示装置の有機膜中に含有される不純物量を低減することができるため、素子の発光輝度や、発光寿命を向上させることができる。さらに本発明の蒸着装置によれば、蒸着源容器の内表面は略平坦な表面であるため、蒸着材料と蒸着源容器が接する表面積を小さくすることができ、これによって、蒸着材料の分解量を減少することができるため、有機ＥＬ素子または表示装置の有機膜中に含有される不純物量を低減することができるため、素子の発光輝度や発光寿命を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
本発明の有機物放出が少ない材料は、有機物含有量が極めて小さい金属またはセラッミクスの少なくとも一方や、放出有機物量が少ない有機材料を指し、対象材料でできた表面積１ｃｍ２をもつガスケットを大気圧Ａｒ中で１００℃に昇温した際に、ＡＰＩ−ＭＳで測定した相対イオン強度が分子量１００以上において０．１％を超えるものが存在しない状態を指し、より好適には０．０１％を超えるものが存在しない状態を指す。このような有機物材料としては、８０℃以上の水、好ましくは沸騰水（ともに純水、特に超純水が好ましい）に接触する工程を経た有機物材料や、パーフロロエラストマーなどが好適に例示されるが、有機物放出の少ない材料であればこれに限定されない。８０℃以上の水、好ましくは沸騰水（ともに純水、特に超純水が好ましい）に接触させ洗浄を行うことで、ガスケット内部に含まれる不要な有機物が溶出し、放出有機物量を低減することができる。また、パーフロロエラストマーなど、添加物や分解物の含有が少ない材料を用いてもよい。図３はパーフロロエラストマーからの放出ガスを測定したものであり、放出有機物成分が少ないことがわかる。
【００２７】
本発明で云う着脱頻度の少ない部位とは、装置運用時に、１週間以上、好ましくは１ヶ月以上、より好ましくは１年以上着脱を行わない部位を指し、着脱頻度の多い部位とはそれ以外の部位である。例えば、真空処理装置においては、被処理物を装置に導入してから１週間未満で取り出す場合に開閉する被処理物導入扉などは着脱頻度の多い部位であり、年に１度もしくは数年に１度取り外しメンテナンスを行う処理室とポンプの間に存在するガスケットなどは着脱頻度の少ない部位である。着脱頻度の少ない部位は、有機物放出のより少ない金属ガスケットまたはセラミックガスケットを用いることが好ましい。金属ガスケットまたはセラミックガスケットは１度の着脱ごとに交換することが好ましいため、装置の維持管理に膨大な費用が生じることから、着脱頻度の多い部位は有機物放出の少ない材料で構成された有機物ガスケットを用いることが好ましい。
【００２８】
次に、有機物ガスケットから放出された放出有機物成分の基板への吸着量を測定した結果を図４を用いて説明する。図４は有機物ガスケットを有する減圧処理装置内に６インチガラス基板を置き、有機物ガスケットから放出された有機物成分の６インチガラス基板上の総吸着量をガスクロマト質量分析法により測定した結果を示している。曲線８はパーフロロエラストマー製のガスケットを用いた場合を示し、曲線９は一般的に使用されているフッ素ゴム製のガスケットを８０℃の純水で洗浄して用いた場合を示している。更に、曲線１０は一般的に使用されているフッ素ゴム製のガスケットを室温の純水で洗浄して用いた場合を示している。これらを比較しても明らかなとおり、パーフロロエラストマー製ガスケットの場合（曲線８）と、煮沸洗浄を行ったガスケットの場合（曲線９）とがいずれも、一般的に使用されているフッ素ゴム製のガスケットの場合（曲線１０）に比べ十分低い有機物吸着量となった。特に、１００Ｔｏｒｒ以下の圧力では蒸気圧の低下に伴い有機物の放出量が増加することから、本発明は１００Ｔｏｒｒ以下の圧力で処理を行う減圧処理装置および蒸着装置に好適であることが分る。
【００２９】
次に、本発明の蒸着装置に用いる蒸着源容器について図５を用いて説明する。図５は本発明の蒸着装置に用いる蒸着源容器５０の構造の一例を示す断面図である。蒸着源容器５０を構成する材料は充填する蒸着材料に対して触媒性の低い材料であり、具体的にはＳｉ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｌａ、Ｙ、Ｔａ、Ｔｉから選ばれる元素の酸化物もしくは窒化物が化学的に安定であり好適である。例えば、Ａｌ２Ｏ３、Ｃｒ２Ｏ３、ＡｌＮ、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、ＭｇＯなどが好ましい。特に蒸着材料が接触する部位の触媒性が低ければよく、タングステンなど、熱伝導率が１Ｗ／ｍＫ以上の高熱伝導率材料で形成した蒸着源容器の内表面に上述の触媒性の低い材料を形成してもよい。形成に際しては、プラズマ溶射法による形成や、スパッタ法によって例えばＡｌなどをスパッタし、その後、酸化または窒化を行ってもよい。高熱伝導率材料で蒸着容器を形成した場合、容器外部に設けられるヒーターからの熱を蒸着材料に効率良く伝達できるため、蒸着膜の均一性を維持し、かつエネルギー効率を高められる点で好適である。本発明の蒸着装置に用いる蒸着源容器の構造は上述の有底円筒形状に限定されることはなく、蒸着材料を積載して加熱することができればよい。このような形状としては、ボート状や皿状形状を例としてあげることができる。
【００３０】
さらに本発明の蒸着装置に用いる蒸着源容器５０の内表面は略平滑な表面であることが好ましい。本発明でいう略平滑な表面とは、蒸着材料に対して平滑に見える表面であり、中心線平均粗さが１００ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましく、１ｎｍ以下がさらに好ましい。このようにすることで蒸着材料分子が蒸着源容器と接触する実行表面積が小さくなるため、蒸着源容器と蒸着材料の境界面における蒸着材料の分解を抑制することができる。
【００３１】
本発明の蒸着装置によれば、蒸着源容器または容器内表面に触媒性の低い材料を用いるため、蒸着材料とくに有機ＥＬ材料などの有機材料の分解を抑制することができ、有機ＥＬ素子または表示装置の有機膜中に含有される不純物量を低減することができるため、素子の発光輝度や、発光寿命を向上させることができる。さらに本発明の蒸着装置によれば、蒸着源容器の内表面は略平坦な表面であるため、蒸着材料と蒸着源容器が接する表面積を小さくすることができ、これによって、蒸着材料の分解量を減少することができるため、有機ＥＬ素子または表示装置の有機膜中に含有される不純物量を低減することができるため、素子の発光輝度や発光寿命を向上させることができる。
【実施例１】
【００３２】
本発明の実施例１における減圧処理装置について図１を用いて説明する。図１は本実施例１の減圧処理装置の一例を示す断面図であり、減圧容器１１と、減圧容器１１に接続された排気用１次ポンプ１２と、１次ポンプの排気側に接続された排気用２次ポンプ１３と、１次ポンプ１２と２次ポンプ１３の間に存在するガス導入機構１７と、減圧容器１１に接続され処理対象物の出し入れをする際に開閉する処理対象物導入扉１４と、処理対象物導入扉１４と減圧容器１１および減圧容器１１と１次ポンプ１２の間に介在し各接続部位の機密を保持する第１のガスケット１５および第２のガスケット１６とによって構成されている。
【００３３】
１次ポンプ１２はターボ分子ポンプとし、２次ポンプ１３はスクリュードライポンプとした。ガス導入機構１７から１００ｓｃｃｍのＡｒを通じ、スクリュードライポンプ１３からの不純物の逆拡散を抑制できる構成とした。第２のガスケット１６はＣｕ製のガスケットを用い、第1のガスケット１５はパーフロロエラストマー製のガスケットを用いた。
【００３４】
着脱頻度の高い処理対象物導入扉部１４の第１のガスケット１５を有機物放出の少ないパーフロロエラストマー製としたため、減圧容器１１内における不純物量を抑制することができ、被処理基板（図示せず）への不純物吸着を抑制できた。
【実施例２】
【００３５】
本発明の実施例２における蒸着装置について図２を用いて説明する。図２は本実施例２の蒸着装置の一例を示す断面図であり、蒸着処理を行う処理室２１と、処理室２１との間仕切りを行い、また、処理室２１の気密を保つゲート弁２４を介して処理室２１に接続され基板２５の出し入れを行う基板導入室３１と、基板導入室３１に接続された基板導入扉３４と、処理室２１において基板２５を保持する基板ホルダー２６と、処理室２１および基板導入室３１のそれぞれにポンプゲート弁２８および３８を介して接続された１次ポンプ２２および３２と、１次ポンプ２２および３２の排気側に接続された２次ポンプ２３および３３と、１次ポンプ２２，３２と２次ポンプ２３，３３との間に位置し、２次ポンプ２３，３３からの不純物の逆拡散を抑制するポンプパージガス導入機構２７および３７と、処理室２１にガスを導入する処理室ガス導入機構２９と、蒸着源容器４２を格納する蒸着源室４１と、蒸着源（図示せず）を積載する蒸着源容器４２と、蒸着源容器４２を加熱するヒーター４３と、蒸着源室４１と処理室２１の間に存在し、不要な時期の蒸着を遮断するシャッター機構４４と、各部位の接続部に存在し外部との気密を保つガスケット５２，５３，５４，５５，５６，５７，５８，５９，６０とからなる。このうち、本実施例における蒸着装置では、基板導入扉３４と基板導入室３１間および蒸着源室４１とシャッター機構４４間に存在するガスケット５２および５６はパーフロロエラストマー製とし、それ以外のガスケット５３，５４，５５，５７，５８，５９，６０はＣｕ製とした。
【００３６】
このようにすることによって、有機物を含むガスケットを必要最小限とすることができ、かつ、有機物を含むガスケットも有機物放出が格段に小さい材料を用いているため、基板２５上に成膜される有機物薄膜中にガスケットから放出された不純物が取り込まれるのを抑制することができる。また、蒸着源容器４２はＡｌ２Ｏ３製とし、研磨処理により内面を略平坦な状態としたため、触媒性がほとんど無く、蒸着源容器４２内部での蒸着材料の熱分解を抑制することができた。
【００３７】
本蒸着装置を用いて、有機ＥＬ層を形成し有機ＥＬ素子特性を計測した結果、同じ電流における輝度が、従来の一般的なフッ素ゴム製ガスケットおよび一般的な蒸着源容器を用いた場合に比べ、３０％向上し、輝度半減寿命が２倍の１００００時間となった。ガスケットからの有機物放出を抑制し、蒸着源容器における蒸着材料の分解を抑制したため、不純物が有機ＥＬ層に取り込まれることが抑制されるため、輝度および寿命を向上させることができた。
【産業上の利用可能性】
【００３８】
本発明に係る蒸着装置は、装置内部における有機物の発生を低減できる構成を備えているため、有機物による汚染を防止する必要のある表示装置、特に、有機ＥＬ素子を製造するのに適している。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の実施例１に係る蒸着装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の実施例２に係る蒸着装置の概略構成を示す図である。
【図３】本発明に係るガスケットを使用した場合における放出ガスの測定結果を示すグラフである。
【図４】各種ガスケットを使用した場合における放出有機物成分の基板への吸着量の測定結果を示すグラフである。
【図５】本発明の蒸着装置に使用される蒸着源容器の構造の一例を示す断面図である。
【図６】通常使用されている減圧処理装置を示す概略構成図である。
【図７】従来のガスケットを用いた場合の測定結果を示す図である。
【符号の説明】
【００４０】
１１        減圧容器
１２        排気用１次ポンプ
１３        排気用２次ポンプ
１４        処理対象物導入扉
１５        第１のガスケット
１６        第２のガスケット
１７        ガス導入機構
２１        処理室
２４        ゲート弁
２５        基板
２６        基板ホルダー
３１        基板導入室
３４        基板導入扉
２８、３８  ポンプゲート弁
２２、３２  １次ポンプ
２３、３３  ２次ポンプ
２７、３７  ポンプパージガス導入機構
２９        処理室ガス導入機構
４１        蒸着源室
４２        蒸着源容器
４３        ヒーター
４４        シャッター機構
５２，５３，５４，５５，５６，５７，５８，５９，６０      ガスケット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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