(57)【要約】【課題】液晶材料の注入速度を向上させる。【解決手段】液晶層の厚さが異なる２以上の表示領域を備える場合、液晶層を厚くする方の表示領域に液晶注入口３を設ける。例えば、透過領域１と反射領域２を備える場合には、液晶層を厚くする方の透過領域１に液晶注入口３を設ける。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶層の厚さが異なる２以上の表示領域と、
液晶層を厚くする方の表示領域に設けられた液晶注入口と、
前記液晶注入口から液晶材料を注入して形成された液晶層と、
を備えたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記表示領域は、透過領域と反射領域であって、
前記液晶注入口を透過領域に設けたことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記表示領域は、透過領域と半透過領域であって、
前記液晶注入口を透過領域に設けたことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。  
【請求項４】
前記表示領域は、半透過領域と反射領域であって、
前記液晶注入口を半透過領域に設けたことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶層の厚さが異なる２以上の表示領域を備えた液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、一般に、対向配置されたアレイ基板と対向基板との間隙に液晶材料を注入して液晶層を形成した構成である。近年では、バックライト装置等の光源からの光を液晶層に透過させることで表示を行う透過領域、外光を液晶層を介して反射させることで表示を行う反射領域、透過領域と反射領域の双方を備えた半透過領域といった複数の表示領域を備えた液晶表示装置が開発されている（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−３０３８６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、表示領域の種類によって液晶層の適切な厚さ（セルギャップ）が異なるため、液晶材料の注入時間が表示領域によって異なることになる。このため、液晶注入口を設ける位置によっては、注入速度が著しく遅くなることがあった。
【０００４】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、液晶材料の注入速度を向上させ得る液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明に係る液晶表示装置は、液晶層の厚さが異なる２以上の表示領域と、液晶層を厚くする方の表示領域に設けられた液晶注入口と、前記液晶注入口から液晶材料を注入して形成された液晶層と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
本発明にあっては、液晶層を厚くする方の表示領域に液晶注入口を設けたことで、液晶材料を注入しやすくしている。
【０００７】
ここで、液晶層の厚さが異なるとは、液晶層の平均的な厚さが異なることを意味する。例えば半透過型で反射領域は反射型、透過領域は透過型と液晶層の厚さが同じ場合には、液晶層を厚くする方の表示領域は半透過型と反射型では半透過型、半透過型と透過型では透過型である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の液晶表示装置によれば、液晶材料の注入速度を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、一実施の形態における液晶表示装置について説明する。
【００１０】
図１の平面図および図２の断面図に示すように、本液晶表示装置は、アレイ基板４と対向基板５との間隙に液晶層１０が保持され、液晶層１０の厚さが異なる透過領域１及び反射領域２と、透過領域１に設けられた液晶注入口３と、透過領域１及び反射領域２へ外部から送られてくる制御信号や映像信号を伝送するためのアウターリードボンディング（ＯＬＢ）パッド６とを備えた構成である。透過領域１と反射領域２により、本液晶表示装置の表示領域が形成される。なお、図１では、一例としてＯＬＢパッド６を透過領域１側に配置した状態を示している。
【００１１】
アレイ基板４について説明すると、透過領域１では透明基板１４ａ上に透明電極１２が形成され、反射領域２では透明基板１４ａ上に絶縁層９を介して反射電極１１が形成される。この透明電極１２の材料には通常は酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）が用いられる。アレイ基板４の透過領域１における背面にはバックライト装置１６が配置される。
【００１２】
対向基板５では、透明基板１４ｂの液晶層１０側の表面にカラーレジスト膜１３が形成され、その表面に透明の対向電極１５が形成される。
【００１３】
なお、実際にはその他にも信号線、走査線、制御線といった各種配線や、画素毎に薄膜トランジスタ、補助容量等が配置されるが、図２においては説明の便宜上省略してある。
【００１４】
このような構成の液晶表示装置において、透過領域１では、バックライト装置１６から透明基板１４ａを介して入射した光を透明電極１２が透過することによって表示を行い、反射領域２では、外部から透明基板１４ｂ、液晶層１０を介して入射した光を反射電極１１で反射することによって表示を行う。
【００１５】
本液晶表示装置の製造工程では、アレイ基板４と対向基板５の周囲側辺に設けられたシール材により、両基板を一定の間隔を空けて固定し、透過領域１に配置されるシール材の一部分に液晶注入口３を設ける。好ましくは、図１に示すように、シール材の反射領域２に対向する部分に液晶注入口３を設ける。そして、この液晶注入口３から液晶材料を注入することで、液晶層１０を形成する。液晶層１０は、絶縁層９がない透過領域１では厚く形成され、絶縁層９がある反射領域２では薄く形成されることになる。液晶材料の注入後は、液晶注入口３を封止剤で封止する。
【００１６】
したがって、本実施の形態によれば、液晶層１０を厚くする方の表示領域に液晶注入口３を設けたことで、液晶材料を注入しやすくなり、液晶材料の注入速度を向上させることができる。
【００１７】
本実施の形態においては、表示領域を透過領域１と反射領域２とで形成し、透過領域１に液晶注入口３を設けたが、これに限られるものではない。例えば、図３の平面図に示すように、透過領域１と半透過領域７とにより表示領域を形成するようにしてもよい。半透過領域は、その領域内に透過領域と反射領域の双方を備えた領域である。半透過領域７を備えた場合にも、液晶層が厚い方の透過領域１に液晶注入口３を設けることで、液晶材料を注入しやすくなり、液晶材料の注入速度を向上させることができる。また、図４の平面図に示すように、反射領域２と半透過領域８とにより表示領域を形成するようにしてもよい。この場合にも、液晶層が厚い方の半透過領域８に液晶注入口３を設けることで、液晶材料を注入しやすくなり、液晶材料の注入速度を向上させることができる。なお、図３と図４においては、図１と同一物には同一の符号を付すものとし、ここでは重複した説明は省略する。
【００１８】
また、本実施の形態においては、ＯＬＢパッド６を透過領域１側に配置した例を示したが、これに限られるものではない。例えば、図５の平面図に示すように、ＯＬＢパッド６を反射領域２側に配置するようにしてもよいし、あるいは、図３の場合であればＯＬＢパッド６を半透過領域７側に配置するようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】一実施の形態における液晶表示装置の構成を示す平面図である。
【図２】上記実施の形態における液晶表示装置の構成を示す断面図である。
【図３】上記実施の形態における液晶表示装置の別の構成を示す平面図である。
【図４】上記実施の形態における液晶表示装置のさらに別の構成を示す平面図である。
【図５】上記実施の形態における液晶表示装置のさらに別の構成を示す平面図である。
【符号の説明】
【００２０】
１…透過領域，２…反射領域
３…液晶注入口，４…アレイ基板
５…対向基板，６…ＯＬＢパッド
７，８…半透過領域，９…絶縁層
１０…液晶層，１１…反射電極
１２…透明電極，１３…カラーレジスト膜
１４ａ…透明基板，１４ｂ…透明基板
１５…対向電極，１６…バックライト装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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