(57)【要約】【課題】  図形セルのパターン・データから自動的にキャラクタ・パターンを抽出し、二重露光を招くことなく、キャラクタ・パターン修正作業に伴うユーザの負荷を軽減する。【解決手段】  セルベース設計されたデバイスパターン・データ中の図形セルをキャラクタ・パターンとして抽出する動作を有する電子ビーム描画データ作成方法であって、図形セルに含まれるパターン・データの重なりを除去した後、図形セルに含まれるセル配置枠１０からキャラクタ・パターン切り出し枠を生成し、この切り出し枠内の図形２１をキャラクタ・パターンとして、ＣＰ方式でショットするパターンに割り当てると共に、切り出し枠外の図形２２を非キャラクタ・パターンとし、非キャラクタ・パターンに対して、隣接するパターンとの重なり除去を行い、隣接するパターンと重ならない部分を、ＶＳＢ方式でショットするパターンに割り当てる。【選択図】      図３
2005268657.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャラクタ・プロジェクション方式の電子ビームリソグラフィにおいて、セルベース設計されたデバイスパターン・データ中の図形セルをキャラクタ・パターンとして抽出する動作を有する電子ビーム描画データ作成方法であって、
前記図形セルに含まれるパターン・データの重なりを除去する工程と、
前記図形セルに含まれるセル配置枠からキャラクタ・パターン切り出し枠を生成する工程と、
前記生成されたキャラクタ・パターン切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして、キャラクタ・プロジェクション方式でショットするパターンに割り当てる工程と、
前記生成されたキャラクタ・パターン切り出し枠外の図形を非キャラクタ・パターンとする工程と、
前記非キャラクタ・パターンに対して、隣接するパターンとの重なり除去を行い、隣接するパターンと重ならない部分を、可変成形ビーム方式でショットするパターンに割り当てる工程と、
を含むことを特徴とする電子ビーム描画データ生成方法。
【請求項２】
前記キャラクタ・パターン切り出し枠を生成する工程として、前記図形セルに含まれるパターンの外接矩形を求め、前記図形セルに含まれるセル配置枠と前記外接矩形との重なり部分を抽出し、前記抽出された重なり部分をキャラクタ・パターン切り出し枠として生成することを特徴とする請求項１記載の電子ビーム描画データ生成方法。
【請求項３】
前記キャラクタ・パターン切り出し枠を生成する工程として、前記セル配置枠を垂直及び水平方向に指定量だけ移動させることを特徴とする請求項１記載の電子ビーム描画データ生成方法。
【請求項４】
前記キャラクタ・パターン切り出し枠を生成する工程として、前記セル配置枠を垂直及び水平方向に指定量だけ移動させた後、前記図形セルに含まれるパターンの外接矩形を求め、前記図形セルに含まれるセル配置枠と前記外接矩形との重なり部分を抽出し、前記抽出された重なり部分をキャラクタ・パターン切り出し枠として生成することを特徴とする請求項１記載の電子ビーム描画データ生成方法。
【請求項５】
キャラクタ・プロジェクション方式の電子ビームリソグラフィにおいて、コンピュータ制御の下に、セルベース設計されたデバイスパターン・データ中の図形セルをキャラクタ・パターンとして抽出する機能を有する電子ビーム描画データ作成用プログラムであって、
前記図形セルに含まれるパターン・データの重なりを除去する手順と、前記図形セルに含まれるセル配置枠からキャラクタ・パターン切り出し枠を生成する手順と、前記生成されたキャラクタ・パターン切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして、キャラクタ・プロジェクション方式でショットするパターンに割り当てる手順と、前記生成されたキャラクタ・パターン切り出し枠外の図形を非キャラクタ・パターンとする手順と、前記非キャラクタ・パターンに対して、隣接するパターンとの重なり除去を行い、隣接するパターンと重ならない部分を、可変成形ビーム方式でショットするパターンに割り当てる手順と、
をコンピュータに実行させるためのコンピュータ読み取り可能な電子ビーム描画データ生成用プログラム。
【請求項６】
キャラクタ・プロジェクション方式の描画と可変成形ビーム方式の描画を併用して試料上に所望パターンを描画する電子ビーム描画装置であって、
セルベース設計されたデバイスパターン・データ中の図形セルをキャラクタ・パターンとして抽出するために、
前記図形セルに含まれるパターン・データの重なりを除去する手段と、前記図形セルに含まれるセル配置枠からキャラクタ・パターン切り出し枠を生成する手段と、前記生成されたキャラクタ・パターン切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして、キャラクタ・プロジェクション方式でショットするパターンに割り当てる手段と、前記生成されたキャラクタ・パターン切り出し枠外の図形を非キャラクタ・パターンとする手段と、前記非キャラクタ・パターンに対して、隣接するパターンとの重なり除去を行い、隣接するパターンと重ならない部分を、可変成形ビーム方式でショットするパターンに割り当てる手段と、
を備えた電子ビーム描画データ生成部を有することを特徴とする電子ビーム描画装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微小な成形ビームを繰り返し露光することにより、半導体デバイスの回路パターンを描画する、キャラクタ・プロジェクション方式の電子ビームリソグラフィ技術に係わり、特にデバイスパターン・データ中の図形セルをキャラクタ・パターンとして抽出する動作を有する電子ビーム描画データ作成方法及び電子ビーム描画データ生成用プログラムに関する。さらに、上記の電子ビーム描画データ作成機能を備えた電子ビーム描画装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの製造において、電子ビーム（ＥＢ）リソグラフィは、光リソグラフィでは露光することができない微細なパターンの露光に使用されている。その中でもＥＢ直接描画技術は、露光するパターン毎にマスクを用意する必要がなく、ＱＴＡＴ、低コストの微細パターンの露光方法として注目されている。さらに、繰り返しショットするパターン形状の開口を利用したキャラクタ・プロジェクション（ＣＰ）方式は、従来の可変成形ビーム（ＶＳＢ）方式に較べ、ＥＢショット数を削減し、描画スループットを向上させることが可能である。このため、ＶＳＢ方式に加え、ＣＰ方式での描画を併用して行うことができる装置が研究・開発されている。
【０００３】
ＣＰ方式でのＥＢ直接描画において、最も重要なことの一つに、キャラクタ・パターンの抽出がある。これは、描画を行うパターン・データの中から、繰り返しパターン（キャラクタ・パターン）を抽出し、キャラクタ・ショットに割り当てることである。
【０００４】
キャラクタ・パターンの抽出方法としては、描画を行うパターン・データから重なり除去を行ったデータを生成し、ビームの最大サイズ（通常数μｍ□）以下の同じ形状をしたパターンを抽出する方法（例えば、特許文献１参照）、描画を行うパターン・データの図形セルをキャラクタ・パターンとする方法（例えば、特許文献２参照）、などが用いられている。
【０００５】
このようなキャラクタ・パターンを抽出する処理は、通常、半導体デバイスのレイアウトデータの形式として一般的なＧＤＳIIストリーム形式から、各ＥＢ描画装置固有の描画データ形式に変換を行う、データ変換の際に行われることが多い。しかし、図形セルをキャラクタ・パターンとする場合には、データ変換処理の前に、二重露光を防止するためにキャラクタ・パターンとなる図形データの編集や修正を行う必要がある。
【０００６】
この図形データの編集や修正とは、キャラクタ・パターンとする図形セル内のパターン・データに対して、他のセルと重ならないようにパターンを修正したり、重ならない部分のみを抽出してキャラクタ・パターンとする、などの作業である。そして、このような作業は、ユーザがＣＡＤなどの図形データエディタを使用して手作業で行う必要があり、多大な手間を要することになる。
【特許文献１】特許第２７４７５７３公報
【特許文献２】特開２０００−３４８０８４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
このように従来、セルベース設計されたデバイスパターン・データ中の図形セルをキャラクタ・パターンとして抽出する場合、データ変換処理の前に、二重露光を防止するためにキャラクタ・パターンとなる図形データの編集や修正を行う必要があり、この編集や修正が非常に面倒であった。
【０００８】
本発明は、上記事情を考慮してなされたもので、その目的とするところは、図形セルのパターン・データから自動的にキャラクタ・パターンを抽出することができ、二重露光の問題を招くことなく、キャラクタ・パターンの修正作業に伴うユーザへの負荷を無くすことのできる、電子ビーム描画データ生成方法を提供することにある。
【０００９】
また、本発明の他の目的は、上記の電子ビーム描画データ生成方法をコンピュータにより実施するための電子ビーム描画データ生成用プログラムを提供することにある。更に、本発明の別の目的は、上記の電子ビーム描画データ作成機能を備えた電子ビーム描画装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために本発明は、次のような構成を採用している。
【００１１】
即ち、本発明の一態様は、キャラクタ・プロジェクション方式の電子ビームリソグラフィにおいて、セルベース設計されたデバイスパターン・データ中の図形セルをキャラクタ・パターンとして抽出する動作を有する電子ビーム描画データ作成方法であって、前記図形セルに含まれるパターン・データの重なりを除去する工程と、前記図形セルに含まれるセル配置枠からキャラクタ・パターン切り出し枠を生成する工程と、前記生成されたキャラクタ・パターン切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして、キャラクタ・プロジェクション方式でショットするパターンに割り当てる工程と、前記生成されたキャラクタ・パターン切り出し枠外の図形を非キャラクタ・パターンとする工程と、前記非キャラクタ・パターンに対して、隣接するパターンとの重なり除去を行い、隣接するパターンと重ならない部分を、可変成形ビーム方式でショットするパターンに割り当てる工程と、を含むことを特徴とする。
【００１２】
また、本発明の別の一態様は、キャラクタ・プロジェクション方式の電子ビームリソグラフィにおいて、コンピュータ制御の下に、セルベース設計されたデバイスパターン・データ中の図形セルをキャラクタ・パターンとして抽出する機能を有する電子ビーム描画データ作成用プログラムであって、前記図形セルに含まれるパターン・データの重なりを除去する手順と、前記図形セルに含まれるセル配置枠からキャラクタ・パターン切り出し枠を生成する手順と、前記生成されたキャラクタ・パターン切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして、キャラクタ・プロジェクション方式でショットするパターンに割り当てる手順と、前記生成されたキャラクタ・パターン切り出し枠外の図形を非キャラクタ・パターンとする手順と、前記非キャラクタ・パターンに対して、隣接するパターンとの重なり除去を行い、隣接するパターンと重ならない部分を、可変成形ビーム方式でショットするパターンに割り当てる手順と、をコンピュータに実行させることを特徴とする。
【００１３】
また、本発明の別の一態様は、キャラクタ・プロジェクション方式の描画と可変成形ビーム方式の描画を併用して試料上に所望パターンを描画する電子ビーム描画装置であって、セルベース設計されたデバイスパターン・データ中の図形セルをキャラクタ・パターンとして抽出するために、前記図形セルに含まれるパターン・データの重なりを除去する手段と、前記図形セルに含まれるセル配置枠からキャラクタ・パターン切り出し枠を生成する手段と、前記生成されたキャラクタ・パターン切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンとして、キャラクタ・プロジェクション方式でショットするパターンに割り当てる手段と、前記生成されたキャラクタ・パターン切り出し枠外の図形を非キャラクタ・パターンとする手段と、前記非キャラクタ・パターンに対して、隣接するパターンとの重なり除去を行い、隣接するパターンと重ならない部分を、可変成形ビーム方式でショットするパターンに割り当てる手段と、を備えた電子ビーム描画データ生成部を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、図形セルをキャラクタ・プロジェクション方式の電子ビーム直接描画で使用するキャラクタ・パターンとして抽出する際に、図形セルが持つセル配置枠から、自動的にキャラクタ・パターン切り出し枠を生成することができる。従って、描画データを準備するユーザがこれまで手作業で行っていた作業から解放し、ユーザの負荷を軽減することができる。
【００１５】
また、それに続くデータ変換処理において、キャラクタ・パターン切り出し枠内の図形をキャラクタ・パターンに割り当て、キャラクタ・プロジェクション方式でショットするためのショットデータを生成し、非キャラクタ・パターンについては、隣接するパターンとの重なりを検出し、重なる場合はショットデータを生成せず、重なりがない場合は可変成形ビーム方式でのショットデータを生成する。そのため、パターンの二重露光を防止すると共に、寸法精度を劣化させることなくパターンの描画を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の詳細を図示の実施形態によって説明する。
【００１７】
（第１の実施形態）
本発明の第１の実施形態として、コンタクト・ホールのパターンに関して、セルベース設計されたデバイスパターン・データ中の図形セルをキャラクタ・パターンとして抽出する動作を有する電子ビーム描画データ作成方法について説明する。なお、この描画データ生成処理を行うには、コンピュータを用いても良いし、描画データ作成用の専用の装置を用いても良い。
【００１８】
例えば、ロジックデバイスの設計において使用されているスタンダード・セルをキャラクタ・パターンとする場合、図１に示すようなパターンが、図２に示すように繰り返し配置される。そのとき、セルの配置は、ＦＲＡＭＥと呼ばれるセル配置枠を基準にして行われる。図１及び図２において、１０はセル配置枠、２１は重なり無しのコンタクト・ホール、２２は重なり有りのコンタクト・ホールを示している。
【００１９】
図１のように、セル配置枠１０に重なるパターンが存在する場合、セル全体をキャラクタ・パターンとすると、図２のように隣接するパターンと重なってしまう。そのままキャラクタ・ショットとしてＣＰ方式で描画を行うと、これらパターンは二重露光されてしまうため、パターンの寸法精度が劣化する。
【００２０】
本実施形態では、この二重露光の問題を解決するために次のようにしている。
【００２１】
図１に示したように、一般的なスタンダード・セルのパターン・データにはＦＲＡＭＥレイヤーと呼ばれる、セルの配置枠を定義したレイヤーが存在する。このセル配置枠は、デバイスパターンのレイアウト設計を行うときに、スタンダード・セル、その他のブロックなどをチップ内に配置するときに基準とされる図形であり、レイアウト・ツールは、このセル配置枠が重ならないように、セルやブロックの配置位置を最適化する。
【００２２】
即ち、図１のスタンダード・セルをキャラクタとする場合、図３（ａ）（ｂ）に示すように、キャラクタ・パターンとする図形セルのパターンを、その図形セルが持つセル配置枠１０の内外に分離することにより、キャラクタ・パターンとしてＣＰ方式でショットした場合に、他のパターンと重なるパターンと重ならないパターンとに分けることができる。これにより、隣接するパターンと重ならないようにＣＰ方式でショットすることが可能な、キャラクタ・パターンのデータを生成することができる。
【００２３】
なお、図３中の２２ａは図２に示した重なり有りのコンタクト・ホール２２に関し、セル配置枠１０の内側に位置するパターン、２２ｂはセル配置枠１０の外側に位置するパターンを示している。
【００２４】
図３の場合は、（ａ）にキャラクタ・パターン、（ｂ）に非キャラクタ・パターンを示す。ここで、（ｂ）の非キャラクタ・パターンに関しては、図２のようにチップ内に配置されている場合は、データ変換処理において、以下のようなショットデータの割り当てを行う。
【００２５】
・隣接するキャラクタ・パターンが存在するときは、その重なりを調べ、重なるパターンはショットしないため、ＥＢショットデータを生成しない。
【００２６】
・隣接するキャラクタ・パターンが存在しても、非キャラクタ・パターンとは重なりがない場合、又は隣接パターンが存在しない場合は、ＶＳＢ方式でショットする。
【００２７】
このように本実施形態では、例えば図２のように、チップ内にスタンダード・セルが配置されている場合、図３（ａ）（ｂ）のようなキャラクタ・パターンの分離を行うことにより、ＣＰショット（キャラクタ・パターン数）は４、ＶＳＢショット（非キャラクタ・パターンのうち、重なりがないパターン数）は４となり、合計で８ショットで、パターンの二重露光を行うことなく、描画を行うことができる。
【００２８】
なお、本実施形態に用いる電子ビーム描画装置としては、キャラクタ・プロジェクション方式の描画と可変成形ビーム方式の描画を併用できるものであれば、その構成は如何なるものであっても良い。
【００２９】
本実施形態の方法により、図形セル内のパターンを、キャラクタ・パターンと非キャラクタ・パターンに分離することは、もともと図形セルが持つセル配置枠を利用しているため、自動的に行うことができる。従って、キャラクタ・パターンの二重露光を防止し、ユーザの手作業でのパターンの修正作業を必要としない。また、非キャラクタ・パターンについても、他のキャラクタ・パターンでショットできるパターンと、ＶＳＢ方式でショットを行うパターンに割り当てることにより、パターン・データに忠実なＥＢショットを行うことができる。
【００３０】
以上のことから、キャラクタ・プロジェクション方式によるショット数の削減効果と、パターンの描画精度に対して、電子ビーム描画装置の性能を最大限に引き出して、スループット及び歩留まりの向上を期待することができる。
【００３１】
（第２の実施形態）
以下の第２〜第４の実施形態は、図形セルの持つセル配置枠を利用した、最適キャラクタ・パターン抽出について、セル配置枠からのキャラクタ・パターン切り出し枠（以下、ＣＰ切り出し枠）の生成に関するものである。
【００３２】
第２の実施形態では、第１の実施形態におけるキャラクタ・パターンの抽出において、キャラクタ数の増加を抑制するようにしている。
【００３３】
図４に、典型的なスタンダード・セルのレイヤー構成とパターンレイアウトを示した。このスタンダード・セルは、入力Ａ，Ｂ，Ｃに対して、出力Ｚ＝（ＡＢ）＋Ｃの演算を行う、ＡＮＤ・ＯＲ複合セルである。スタンダード・セル・ベース設計のロジックデバイスでは、電子回路にこのようなスタンダード・セルが割り当てられ、回転や反転など配置方向を変えながら、チップ内に配置され、さらにそれらセル間を配線することにより電子回路が構成されることより、パターンレイアウトが生成されている。
【００３４】
図４に示したスタンダード・セルは、説明を簡単にするため、４つのレイヤー（アクティブエリア４１，ゲート４２，コンタクト・ホール４２，メタル４４）によりトランジスタ回路が形成されているものとする。さらに、このセルをチップ内に配置する際に使用する、ＦＲＡＭＥレイヤーと呼ぶセル配置枠３０を含んでいる。第１の実施形態のキャラクタ・パターン抽出方法によれば、図４の各レイヤーのパターン４１〜４４からキャラクタ・パターン部分を抽出するには、各レイヤーのパターン４１〜４４のうち、セル配置枠３０内のパターンを抽出すればよい。つまり、各レイヤーのパターン４１〜４４とセル配置枠３０とのＡＮＤ演算を行う。
【００３５】
例えば、ゲート・レイヤーのパターン４２をキャラクタ・パターンとする場合には、セル配置枠３０とのＡＮＤ処理を行う。その結果、図５に示すように、この場合は、全パターンがセル配置枠３０内にあるため、全パターンがキャラクタ・パターンに割り当てられる。しかし、キャラクタ・パターンの大きさは、セル配置枠３０の大きさにより規定されるため、このように全パターンがセル配置枠３０内に収まる場合には、さらにキャラクタの大きさを小さく定義することが可能である。
【００３６】
図５では、破線で示すセル配置枠３０に対して、ゲート・レイヤーのパターンの外形から求めた矩形（実線で示す）３１は内包されている。そして、パターンの外形とセル配置枠３０との重なり部分を、ＣＰ切り出し枠として、新しくキャラクタ・パターン抽出領域を示すパターンを定義する。つまり、ゲート・レイヤーの全パターンの外形矩形３１とセル配置枠３０とのＡＮＤ処理をし、ＣＰ切り出し枠を生成することにより、キャラクタ・パターンとして抽出する大きさを最小にすることができる。
【００３７】
なお、ここでは、
・セル配置枠３０とゲート・レイヤー・パターンとのＡＮＤ
・セル配置枠３０とゲート・レイヤー・パターンの外形矩形３１とのＡＮＤ
・ＣＰ切り出し枠とゲート・レイヤー・パターンとのＡＮＤ
と、図形のＡＮＤ処理を複数回行うが、どの順番で行っても、キャラクタ・パターンの抽出結果は同一となるため、その順序に決まりはない。
【００３８】
このように本実施形態では、新しくＣＰ切り出し枠を、パターンの外形矩形３１とセル配置枠３０のＡＮＤ処理により生成することにより、ＣＰ切り出し枠により抽出されるキャラクタ・パターンに対して、そのパターンをＣＰ方式でショットするのに必要な最小の大きさを得ることができる。そのため、ＣＰ方式でショットすることができる最大のビームサイズをキャラクタ・パターンの大きさが超えるような場合は、複数のキャラクタに分割する必要があるが、キャラクタ・パターンとして抽出した大きさを極力小さくすることにより、無駄なキャラクタを生成することがなくなる。
【００３９】
ここで、一つの図形セルでも、複数のキャラクタに分割されることにより、ショット数が増加し、また、キャラクタ数には装置により上限があるため、実質的なキャラクタ数を減少させてしまう。従って、本実施形態によるＣＰ切り出し枠によるキャラクタ・パターンの抽出方法は、セル配置枠の大きさによりキャラクタ・パターンの大きさを定義する場合に較べ、キャラクタ数の増加を抑制することができる。
【００４０】
なお、本実施形態によるＣＰ切り出し枠によるキャラクタ・パターンの抽出は、セル配置枠がないセルに何らかの方法で他のセルと重ならない領域を示すパターンを生成した場合など、セル配置枠が単純な矩形でない場合でも、上述のような、セル配置枠とパターンの外形矩形のＡＮＤ処理により、簡単に抜き出すことができる。
【００４１】
（第３の実施形態）
次に、図４におけるアクティブエリア・レイヤーのパターン４１について考える。ここで問題となるのは、図６の破線で示すセル配置枠３０により、セル配置枠内外にパターンを分離し、枠内図形をキャラクタ・パターンとして抽出、枠外図形を非キャラクタ・パターンとして抽出すると、非キャラクタ・パターンの形状が複雑になり、ＶＳＢ方式によりショットする場合のＥＢショット数が多くなる。微細なパターンをセル配置枠により分割することにより、さらに微細なパターンを生成する、という問題が生じる。
【００４２】
そこで本実施形態では、デバイスパターン内に出現するセル図形のセル配置枠３０を、一律に垂直方向、及び水平方向に平行移動させることにより、セル配置枠外の非キャラクタ・パターンの微細化と形状の複雑化を抑制する。これは、図６における実線で示した枠３１を、新たなＣＰ切り出し枠として使用することを意味する。セル配置枠３０の水平方向及び垂直方向への移動量は、使用しているスタンダード・セルの間では共通に使えることは、図１及び図４のようにスタンダード・セルが設計されていることから、明らかである。つまり、全てのスタンダード・セルのセル配置枠３０を一律に移動させることによって、セル間の図形の重なり状況が変わるということはない。
【００４３】
但し、図４のスタンダード・セルが回転や反転をしてチップ内に配置されている場合は、図７に示すように、回転や反転後のスタンダード・セルのレイアウトに対して、セル配置枠３０を他のセルと同一方向に、同じ量だけ移動させて、ＣＰ切り出し枠３２を生成する必要がある。
【００４４】
セル配置枠３０の移動方向と移動量は、正しく決定する必要があり、誤った方向や値を指定すると、非キャラクタ・パターンの形状がさらに複雑になったり、微細なパターンを多く生成してしまうことになるため、注意を要する。
【００４５】
図６及び図７に対して、本実施形態の方法で生成したＣＰ切り出し枠３１，３２による非キャラクタ・パターンをＶＳＢ方式でショットする場合は、非キャラクタ・パターンを矩形に分割してＥＢショットデータを生成する。この場合は、３ショットが必要となる。セル配置枠３０をそのままＣＰ切り出し枠とする場合は、非キャラクタ・パターンをＶＳＢでショットするには、６ショットが必要となるため、ＶＳＢのショット数を削減することができる。
【００４６】
このように本実施形態では、セル配置枠３０の水平方向及び垂直方向への適切な移動によるＣＰ切り出し枠３１，３２の生成により、図６及び図７から明らかなように、非キャラクタ・パターンをＶＳＢ方式でショットしたときのショット数を削減でき、また、微細パターンの生成を抑制することができる。
【００４７】
即ち、キャラクタ・パターン切り出し枠の生成の際に、セル配置枠３０を指定方向へ指定量だけ移動させることにより、非キャラクタ・パターンの複雑化及び微細化を抑制し、非キャラクタ・パターンが可変成形ビーム方式でショットされるときの、ショット数増加の抑制及び微小ショットの発生を抑制することができる。このため、スループットを劣化させず、高精度なパターンの描画を行うことができる。
【００４８】
（第４の実施形態）
本実施形態では、図４のコンタクト・レイヤーのパターン４３を例にとり、一般的な図形セル全体に対して適用できる、キャラクタ・パターン抽出方法について述べる。
【００４９】
この場合のパターンについては、セル配置枠３０をそのままＣＰ切り出し枠として使用すると、セル配置枠３０にまたがるコンタクト・ホール・パターンは必ず二分割される。非キャラクタ・パターンとなった部分が隣接するパターンが存在して、ＶＳＢ方式によりショットする必要がなくても、ショットの接続精度によっては、コンタクト・ホールが分割して形成されることもある。
【００５０】
そこで本実施形態では、図８（ａ）に示すように、第３の実施形態と同じく、セル配置枠３０を水平方向にコンタクト・ホールの半分の大きさだけ平行移動することにより、コンタクト・ホールの分割を抑制する。さらに、図８（ｂ）に示すように、セル配置枠３０を移動して生成したＣＰ切り出し枠３３と、コンタクト・レイヤーの全パターンの外形矩形とのＡＮＤ処理をすることにより、もっとも小さいＣＰ切り出し枠３４を生成することができる。
【００５１】
この方法によるキャラクタ・パターン抽出方法における、ＣＰ切り出し枠の生成処理のフローチャートを、図９に示す。
【００５２】
ステップＳ１：ＥＢ描画を行うデバイスパターンのレイアウトデータをデータ変換システムに入力し、図形セルを抽出する。このとき、データ変換システムには、セル配置枠を移動させるレイヤーについては、その移動方向と移動量を指定する。図形セルの抽出は、セルが回転や反転をしている場合には、反転の有無及び、回転の角度毎に、別のキャラクタとして抽出する。
【００５３】
ステップＳ２：抽出した図形セル内の処理対象とするレイヤーのパターンに対して、パターン間の重なりを除去する。セル配置枠パターンが複数含まれている場合には、それらの重なり除去も同様に行う。
【００５４】
ステップＳ３：セル配置枠パターンとして指定されたレイヤーの図形情報を読み込むことにより、セル配置枠のデータを抽出する。ここで抽出するデータとは、通常の図形データそのものである。
【００５５】
ステップＳ４：指定したセル配置枠の移動方向に、指定した移動量だけ、セル配置枠を移動し、新たにＣＰ切り出し枠を生成する。移動する方向は、水平方向のみ、垂直方向のみ、またはその両方のいずれかが指定できる。
【００５６】
ステップＳ５：処理対象となるパターンの外形矩形を生成し、ステップＳ４で生成したＣＰ切り出し枠とのＡＮＤ処理を行い、セル枠サイズの調整を行う。
【００５７】
ステップＳ６：ステップＳ５で生成したサイズ調整されたＣＰ切り出し枠を、その図形セルにおける、処理レイヤーのパターンのＣＰ切り出し枠とする。
【００５８】
このように、本実施形態によるＣＰ切り出し枠の生成を行うことにより、図４のコンタクト・レイヤーのパターンからキャラクタ・パターンを抽出すると、図８（ｂ）に示すように、セル配置枠上にあるコンタクト・ホール・パターンを二分割することがなく、非キャラクタ・パターンをＶＳＢ方式でショットした場合のショット数の増加を抑制できる。さらに、ＣＰ方式で生成できる電子ビームのショットサイズにおいてキャラクタ・パターンを分割する際に、キャラクタ・パターン・サイズとして最小の大きさの情報を有しているため、キャラクタ数の増加を抑制することができる。
【００５９】
本実施形態によれば、図９の処理をデータ変換システムに組み込むことにより、キャラクタ・パターンの抽出を自動的に行うことができ、ユーザの負担を低減することができる。また、生成したパターン・データは、不必要に複雑に、そして微細に分割されることが抑制され、非キャラクタ・パターンをＶＳＢ方式でショットする場合のショット数の増加を抑制すると共に、パターンの描画精度も向上する。即ち、ＣＰ方式によるショット数の削減効果と、パターンの描画精度に対して、装置の性能を最大限に引き出して、スループット及び、歩留まりの向上を期待することができる。
【００６０】
（変形例）
なお、本発明は上述した各実施形態に限定されるものではない。実施形態では、電子ビーム描画装置とは別の装置を用いてキャラクタ・パターンを含む描画データの生成を行ったが、このような描画データ生成方法を実施するための描画データ生成部を電子ビーム描画装置内に設けることにより、描画装置内で描画データの生成を行うようにしても良い。
【００６１】
また、実施形態において記載した手法は、コンピュータに実行させることのできるプログラムとして、例えば磁気ディスク（フロッピー（登録商標）ディスク，ハードディスク等）、光ディスク（ＣＤ−ＲＯＭ，ＤＶＤ等）、半導体メモリなどの記録媒体に書き込んで適用したり、通信媒体により伝送して各種装置に適用することも可能である。本発明を実現するコンピュータは、記録媒体に記録されたプログラムを読み込み、このプログラムによって動作が制御されることにより、上述した処理を実行するものであればよい。
【００６２】
その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】第１の実施形態に使用したスタンダード・セルの例を示す図。
【図２】図１のスタンダード・セルをチップ内に配置した例を示す図。
【図３】第１の実施形態を説明するためのもので、セル配置枠によるキャラクタ・パターンの抽出例を示す図。
【図４】第２〜第４の実施形態に使用したスタンダード・セルのレイヤー構成とレイアウトの例を示す図。
【図５】第２の実施形態を説明するためのもので、ゲート・レイヤーにおけるＣＰ切り出し枠の生成例を示す図。
【図６】第３の実施形態を説明するためのもので、アクティブエリア・レイヤーにおけるＣＰ切り出し枠の生成例を示す図。
【図７】１８０度回転したセルにおけるＣＰ切り出し枠の生成例を示す図。
【図８】第４の実施形態を説明するためのもので、コンタクト・レイヤーにおけるＣＰ切り出し枠の生成例を示す図。
【図９】ＣＰ切り出し枠の生成の処理フローを示す図。
【符号の説明】
【００６４】
１０…セル配置枠
２１…重なり無しのコンタクト・ホール
２２…重なり有りのコンタクト・ホール
３０…セル配置枠
３１〜３４…ＣＰ切り出し枠
４１…アクティブエリア・パターン
４２…ゲート・パターン
４３…コンタクト・ホール・パターン
４４…メタル・パターン
【図１】
2005268657.tif 000003
【図２】
2005268657.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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