(57)【要約】      （修正有）【課題】  金属中心部を２つ持つ化合物、これらの製造方法、この化合物を触媒として用いること、この化合物を用いてホモ重合体、共重合体およびオリゴ重合体を製造する方法を提供する。【解決手段】  式（Ｉ）のニ核遷移金属錯体。2005336187.tif 000151［式中、Ｍ１、Ｍ２は周期律表３〜１１族の遷移金属、Ａｌ、Ｂから選択され、Ｌ１〜Ｌ４はＮ、Ｐ、Ｓ、Ｏ、Ｃ、Ｓｉ、Ｓｅ、ＡｓおよびＳｂから選択され、Ａ１、Ａ２、Ｂは特定の基、Ｑは特定のイオン、ｋ１〜ｋ４、ｍ１、ｍ２は特定の数を表す］この錯体を触媒としてオレフィン重合体、各種共重合体、オリゴマーを合成する。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
2005336187.tif 000146
［式中、
Ｍ１およびＭ２は、同一もしくは異なってもよく、独立して、周期律表の３から１１族の遷移金属、ＡｌおよびＢから成る群から選択され、
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４は、同一もしくは異なってもよく、独立して、Ｎ、Ｐ、Ｓ、Ｏ、Ｃ、Ｓｉ、Ｓｅ、ＡｓおよびＳｂから成る群から選択され、
Ａ１およびＡ２は、同一もしくは異なってもよく、独立して、共有結合を通して中心Ｌ１とＬ２およびＬ３とＬ４を橋渡しし得る基および／または原子の中から選択され、かつ場合により更にＭ１およびＭ２に配位する基を含有していてもよく、
Ｂは、中心Ｌ２とＬ３を互いに共有結合によって電子的につなげる基であり、
ｍ１は、個々の配位子Ｑの数および差を示し、これは１から６のいずれかの値を取り得、
ｍ２は、個々の配位子Ｑの数および差を示し、これは１から６のいずれかの値を取り得、
Ｑは、Ｍ１と結合している１から６個の配位子の群およびＭ２と結合している１から６個の配位子の群であり、ここで、Ｍ１と結合しているＱ配位子およびＭ２と結合しているＱ配位子は、両方とも同一もしくは異なってもよく、独立して、モノアニオン性、ジアニオン性および非荷電性配位子から成る群から選択され、
ｋ１は、Ｌ１と結合している個々の置換基Ｒの数および差を示し、これは０からｓ１−１（ここで、ｓ１はＬ１の原子価である）のいずれかの値を取り得、
ｋ２は、Ｌ２と結合している個々の置換基Ｒの数および差を示し、これは０からｓ２−２（ここで、ｓ２はＬ２の原子価である）のいずれかの値を取り得、
ｋ３は、Ｌ３と結合している個々の置換基Ｒの数および差を示し、これは０からｓ３−２（ここで、ｓ３はＬ３の原子価である）のいずれかの値を取り得、
ｋ４は、Ｌ４と結合している個々の置換基Ｒの数および差を示し、これは０からｓ４−１（ここで、ｓ４はＬ４の原子価である）のいずれかの値を取り得、そして
Ｒは、Ｌ１と結合している０からｓ１−１個の置換基の群、Ｌ２と結合している０からｓ２−２個の置換基の群、Ｌ３と結合している０からｓ３−２個の置換基の群、およびＬ４と結合している０からｓ４−１個の置換基の群であり、ここで、これらは同一もしくは異なってもよく、独立して、ハイドライド、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ１−２０−アルケニル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、Ｃ１−２０−ヘテロアリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、−ＯＤ１、−ＮＤ２Ｄ３、ＰＤ６Ｄ７Ｄ８および−ＢＤ９Ｄ１０から成る群から選択され、ここで、
Ｄ１からＤ１０は、同一もしくは異なってもよく、独立して、Ｈ、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、およびアルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアリールアルキル基から成る群から選択される］
で表される化合物。
【請求項２】
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３およびＬ４が、同一もしくは異なり、独立して、Ｎ、Ｏ、ＰおよびＳから成る群から選択される請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｌ２およびＬ３が窒素中心部である式（ＩＩ）
【化２】
2005336187.tif 000147
で表される請求項１または２記載の化合物。
【請求項４】
Ａ１およびＡ２が、同一もしくは異なり、独立して、炭素原子数が１から２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子数が４から２０の環状飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子数が３から２０の複素環式飽和もしくは不飽和化合物、窒素含有基、燐含有基、ケイ素含有基、錫含有基、ゲルマニウム含有基およびホウ素含有基から成る群から選択され、ここで、前記基の全部がさらなる置換基を持っていてもよい、
請求項１から３のいずれか記載の化合物。
【請求項５】
Ｂがさらなる置換基を持っていてもよい芳香もしくは複素芳香基である請求項１から４のいずれか記載の化合物。
【請求項６】
Ｌ２およびＬ３がＡ１およびＡ２と二重結合で連結している窒素中心部でありそしてＢが置換基で置換されているパラ置換芳香６員環である式（ＩＶ）
【化３】
2005336187.tif 000148
［式中、
Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４は、同一もしくは異なり、ハライド、ハイドライド、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ１−２０−アルケニル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、−ＯＴ１、−ＯＴ１Ｔ２、−ＮＴ３Ｔ４、−ＮＴ５Ｔ６Ｔ７、−ＰＴ８Ｔ９、−ＰＴ１０Ｔ１１Ｔ１２（ここで、Ｔ１からＴ１２は、同一もしくは異なり、独立して、Ｈ、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、Ｃ１−２０−ヘテロアリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、およびアルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアリールアルキル基から成る群から選択される）から成る群から選択される］
で表される請求項１から５のいずれか記載の化合物。
【請求項７】
Ｌ１がＬ４と同じでありそしてＡ１の置換されていない骨組構造がＡ２の置換されていない骨組構造と同じである請求項１から６のいずれか記載の化合物。
【請求項８】
Ｒｋ１およびＲｋ４がそれぞれＬ１と結合している１からｓ１−２個の置換基の群およびＬ４と結合している１からｓ４−２個の置換基の群であり、ここで、これらが、同一もしくは異なり、独立して、さらなる置換基を持っていてもよい不飽和Ｃ６−２０環系から成る群から選択され、ここで、前記置換基が、同一もしくは異なってもよく、独立して、ハライド、ハイドライド、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ１−２０−アルケニル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２４基のＣ６−２０−アルキルアリール基、−ＯＴ１、−ＯＴ１Ｔ２、−ＮＴ３Ｔ４、−ＮＴ５Ｔ６Ｔ７、−ＰＴ８Ｔ９および−ＰＴ１０Ｔ１１Ｔ１２から成る群から選択され、そして２個の隣接する置換基が一緒になってさらなる置換基を持っていてもよい飽和もしくは不飽和環を形成していてもよい、
請求項１から７のいずれか記載の化合物。
【請求項９】
群Ｒｋ１およびＲｋ４の置換基Ｒが各場合とも置換アリールおよび／またはヘテロアリール基から成る群から選択される請求項１から８のいずれか記載の化合物。
【請求項１０】
Ｍ１およびＭ２が、同一もしくは異なり、独立して、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＡｌおよびＢから成る群から選択され、
ＱがＭ１と結合している１からｒ１−２個の配位子の群およびＭ２と結合している１からｒ２−２個の配位子の群であり、ここで、Ｍ１と結合しているＱ配位子およびＭ２と結合しているＱ配位子の両方が、同一もしくは異なり、独立して、ハライド、ハイドライド、Ｃ１−１０−アルキル基、Ｃ１−２０−アルケニル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、Ｃ１−２０−ヘテロアリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−１４基のアルキルアリール基、ＯＴ１、ＯＴ１Ｔ２、−ＮＴ３Ｔ４、−ＮＴ５Ｔ６Ｔ７、−ＰＴ８Ｔ９、−ＰＴ１０Ｔ１１Ｔ１２、１，２−アルカンジイル化合物、１，４−アルカンジイル化合物、１，５−アルカンジイル化合物、１，ω−アルカンジイル化合物、ジアルコキサイド、ジチオレート、ジアミド、エーテル、アミン、ホスフィン、ホスフィンオキサイド、オレフィン、アセチレン、一酸化炭素、窒素、水素、カルベン、窒素イリド、炭素イリドおよび燐イリドから成る群から選択される、
請求項１から９のいずれか記載の化合物。
【請求項１１】
Ｍ１およびＭ２が、同一もしくは異なり、独立して、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、ＮｉおよびＰｄから成る群から選択される請求項１から１０のいずれか記載の化合物。
【請求項１２】
式（ＶＩ）
【化４】
2005336187.tif 000149
で表される化合物。
【請求項１３】
請求項１から１２のいずれか記載の化合物を製造する方法であって、
ａ）式（ＶＩＩ）
【化５】
2005336187.tif 000150
で表される化合物を調製した後、
ｂ）前記式（ＶＩＩ）で表される化合物を
Ｉ）式Ｍ１（Ｑｍ１）で表される金属化合物と反応させそして更に式Ｍ２（Ｑｍ２）で表される金属化合物と反応させるか、或は
ＩＩ）式Ｍ３（Ｑｏ３）で表される金属化合物と反応させた後、式Ｍ１（Ｑｍ１）で表される金属化合物と反応させそして更に式Ｍ２（Ｑｍ２）で表される金属化合物と反応させるか、或は
ＩＩＩ）式Ｍ１（Ｑｍ１）で表される金属化合物と反応させた後、式Ｍ３（Ｑｏ３）で表される金属化合物と反応させそして更に式Ｍ２（Ｑｍ２）で表される金属化合物と反応させるか、或は
ＩＶ）式Ｍ３（Ｑｏ３）で表される金属化合物と反応させた後、式Ｍ１（Ｑｍ１）で表される金属化合物と反応させ、次に再度式Ｍ３（Ｑｏ３）で表される金属化合物と反応させそして更に式Ｍ２（Ｑｍ２）で表される金属化合物と反応させるか、或は
Ｖ）式Ｍ３（Ｑｏ３）で表される複数の金属化合物と反応させた後、式Ｍ４（Ｑｏ４）で表される金属化合物と反応させ、次に式Ｍ１（Ｑｍ１）で表される金属化合物と反応させた後、式Ｍ２（Ｑｍ２）で表される金属化合物と反応させるか、或は
ＶＩ）式Ｍ１（Ｑｍ１）で表される金属化合物と反応させた後、式Ｍ３（Ｑｏ３）で表される金属化合物と反応させ、次に式Ｍ４（Ｑｏ４）で表される金属化合物と反応させた後、式Ｍ２（Ｑｍ２）で表される金属化合物と反応させるか、或は
ＶＩＩ）式Ｍ３（Ｑｏ３）で表される金属化合物と反応させた後、式Ｍ４（Ｑｏ４）で表される金属化合物と反応させ、次に式Ｍ１（Ｑｍ１）で表される金属化合物と反応させ、次に再び式Ｍ３（Ｑｏ３）で表される金属化合物と反応させ、次に再び式Ｍ４（Ｑｏ４）で表される金属化合物と反応させた後、式Ｍ２（Ｑｍ２）で表される金属化合物と反応させる、
段階を含んで成るが、ここで、ｏ３およびｏ４が個々の配位子Ｑの数および差を示しそしてＱ配位子がＭ３と結合している場合には全部１から８の値でありそしてＱ配位子がＭ４と結合している場合には全部１から８の値であり、そして
Ｍ３およびＭ４が、同一もしくは異なってもよく、独立して、周期律表の３から１１族の遷移金属、ＡｌおよびＢから成る群から選択される、
方法。
【請求項１４】
請求項１から１２のいずれか記載の化合物を触媒として用いる使用。
【請求項１５】
該化合物を酸または塩基の存在下で反応させる請求項１から１２のいずれか記載化合物の使用。
【請求項１６】
請求項１から１２のいずれか記載化合物の中の１つを酸または塩基と反応させることで入手可能な中間体。
【請求項１７】
ホモ重合体、共重合体および／またはオリゴ重合体を製造する方法であって、請求項１から１２のいずれか記載の化合物または請求項１６記載の中間体をオレフィン単量体と反応させる方法。
【請求項１８】
前記オレフィン単量体をエテン、プロペン、１−ブテン、２−ブテン、イソブテン、１−ペンテン、２−ペンテン、１−ヘキセン、２−ヘキセン、３−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、シクロペンテン、ノルボルネン、スチレン、ｐ−メチルスチレン、アクリル酸メチル、メタアクリル酸メチル、酢酸ビニル、アクリロニトリルおよびメタアクリロニトリルまたはこれらの混合物から成る群から選択する請求項１７記載の方法。
【請求項１９】
請求項１７または１８記載の方法で入手可能な重合体。
【請求項２０】
請求項１９記載の重合体をあらゆる種類の成形部品を製造する目的で用いる使用。
【請求項２１】
請求項１９記載の重合体を加工することで入手可能な成形部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属中心部を２つ持つ化合物、これらの製造方法、この化合物を触媒として用いること、この化合物を用いてホモ重合体、共重合体およびオリゴ重合体を製造する方法、この化合物とオレフィン単量体を用いて入手可能な重合体、この重合体をあらゆる種類の成形部品で用いること、およびまたこの重合体から入手可能な成形部品にも関する。
【背景技術】
【０００２】
通常の触媒に比べてオレフィン重合で特に高い活性を示す多核化合物が非常に求められている。
【０００３】
フェニレンジアミンおよびピリジンカルバルデヒドから誘導される鉄錯体の合成が非特許文献１に記述されている。彼らは、パラ−フェニレンジアミンおよびメタ−フェニレンジアミンを用いると二核錯体が生じるが、そのような二核錯体の方がオルソ−フェニレンジアミンを用いた時に生じる相当する単核構造物よりも良好にノルボルネンの接触エポキシ化に触媒作用を及ぼすことを示すことができた。重合への触媒作用に関する実験は全く行われなかった。その２つの鉄中心部は、本発明の化合物とは対照的に、非特許文献１に記述されている実験に示されているように２つの配位子で互いに連結している。
【０００４】
イミン官能を有するジピリジンアルデヒド、オリゴピリジンアルデヒドおよびポリピペリジンアルデヒドを用いて超分子組織体を生じさせることが非特許文献２に記述されている。そのような化合物でもまた金属中心部が少なくとも２個の配位子で互いに連結している。
【０００５】
パラジウムの単核ピリジルイミン錯体と二核ピリジルイミン錯体、即ち［Ｎ−ドデシルピリジル−２−メタンイミン］パラジウムジクロライドと｛［Ｎ，Ｎ’−μ−１，２−ドデカンジイル］ビス［ピリジル−２−メタンイミン］｝パラジウムジクロライド［この錯体ではピリジルイミン単位がアルキル鎖で橋渡しされており、従って２つの金属中心部の間に電子的相互作用は存在し得ない］の比較が非特許文献３に記述されている。それらの錯体にエテン重合に関する比較試験を受けさせ、二核錯体が示す重合活性の方が低いことを確認している。
【０００６】
多核α−ジイミン−ニッケル錯体の合成および使用そしてそれらを重合触媒として用いることが特許文献１に開示されている。特許文献１では、ニッケル中心部と一緒に錯体を形成している部分構造単位が置換炭化水素に相当する基で互いに連結している。また、そのような基を導入すると触媒活性中心部の電子的結合が邪魔される。
【０００７】
他方、ポリ（アリーレンジホスフィン）、ポリ（アリーレンジホスフィンオキサイド）およびポリ（アリーレンジホスフィンスルフィド）配位子を有するパラジウムおよび白金錯体が非特許文献４および５に記述されているが、このような錯体では、配位子の燐中心部がパラ−フェニレン置換基で互いに連結している。そのようにして生じさせた高分子触媒の方が相当する単核種よりも有機連成反応で向上した触媒活性を示すことはない。
【特許文献１】Ｙ．Ｌｉｅ他、米国特許第２００２／００８２１６２
【非特許文献１】Ｍ．Ｊａｃｏｂ他、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．６２（１９８９）、１３２５−１３２７
【非特許文献２】Ｒ．Ｚｉｅｓｓｅｌ他、Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．２１６−２１７（２００１）、１９５−２２３
【非特許文献３】Ｒ．Ｃｈｅｎ他、Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃａｔａｌ．Ａ：Ｃｈｅｍ．１９３（２００３）、３３−４０
【非特許文献４】Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ  ３３（２０００）、６５７−６５９
【非特許文献５】Ｔ．Ｋａｎｂａｒａ他、Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．：Ｐａｒｔ  Ａ：Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．４０（２００２）、２６３７−２６４７
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従って、本発明の目的は、オレフィンのオリゴマー化および重合に類似単核化合物よりも良好な触媒作用を示す二核化合物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本目的を式（Ｉ）
【００１０】
【化１】
2005336187.tif 000002
【００１１】
［式中、
Ｍ１およびＭ２は、同一もしくは異なってもよく、独立して、周期律表の３から１１族の遷移金属、ＡｌおよびＢから成る群から選択され、
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４は、同一もしくは異なってもよく、独立して、Ｎ、Ｐ、Ｓ、Ｏ、Ｃ、Ｓｉ、Ｓｅ、ＡｓおよびＳｂから成る群から選択され、
Ａ１およびＡ２は、同一もしくは異なってもよく、独立して、共有結合を通して中心Ｌ１とＬ２およびＬ３とＬ４を橋渡しし得る基および／または原子の中から選択され、かつ場合により更にＭ１およびＭ２に配位する基を含有していてもよく、
Ｂは、中心Ｌ２とＬ３を互いに共有結合によって電子的につなげる基であり、
ｍ１は、個々の配位子Ｑの数および差を示し、これは１から６のいずれかの値を取り得、
ｍ２は、個々の配位子Ｑの数および差を示し、これは１から６のいずれかの値を取り得、
Ｑは、Ｍ１と結合している１から６個の配位子の群およびＭ２と結合している１から６個の配位子の群であり、ここで、Ｍ１と結合しているＱ配位子およびＭ２と結合しているＱ配位子は、両方とも同一もしくは異なってもよく、独立して、モノアニオン性、ジアニオン性および非荷電性配位子から成る群から選択され、
ｋ１は、Ｌ１と結合している個々の置換基Ｒの数および差を示し、これは０からｓ１−１（ここで、ｓ１はＬ１の原子価である）のいずれかの値を取り得、
ｋ２は、Ｌ２と結合している個々の置換基Ｒの数および差を示し、これは０からｓ２−２（ここで、ｓ２はＬ２の原子価である）のいずれかの値を取り得、
ｋ３は、Ｌ３と結合している個々の置換基Ｒの数および差を示し、これは０からｓ３−２（ここで、ｓ３はＬ３の原子価である）のいずれかの値を取り得、
ｋ４は、Ｌ４と結合している個々の置換基Ｒの数および差を示し、これは０からｓ４−１（ここで、ｓ４はＬ４の原子価である）のいずれかの値を取り得、そして
Ｒは、Ｌ１と結合している０からｓ１−１個の置換基の群、Ｌ２と結合している０からｓ２−２個の置換基の群、Ｌ３と結合している０からｓ３−２個の置換基の群、およびＬ４と結合している０からｓ４−１個の置換基の群であり、ここで、これらは同一もしくは異なってもよく、独立して、ハイドライド、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ１−２０−アルケニル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、Ｃ１−２０−ヘテロアリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、−ＯＤ１、−ＮＤ２Ｄ３、ＰＤ６Ｄ７Ｄ８および−ＢＤ９Ｄ１０から成る群から選択され、ここで、
Ｄ１からＤ１０は、同一もしくは異なってもよく、独立して、Ｈ、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ６−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、およびアルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアリールアルキル基から成る群から選択される］
で表される化合物を用いて達成する。
【００１２】
本発明に従う有利な化合物には、
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３およびＬ４が、同一もしくは異なり、独立して、Ｎ、Ｏ、ＰおよびＳから成る群から選択される化合物が含まれる。
【００１３】
有利な化合物には、Ｌ２およびＬ３が窒素中心部である式（ＩＩ）
【００１４】
【化２】
2005336187.tif 000003
【００１５】
で表される化合物が含まれる。
【００１６】
本発明に従う有利な化合物には、
Ａ１およびＡ２が、同一もしくは異なり、独立して、炭素原子数が１から２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子数が４から２０の環状飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子数が３から２０の複素環式飽和もしくは不飽和化合物、窒素含有基、燐含有基、ケイ素含有基、錫含有基、ゲルマニウム含有基およびホウ素含有基から成る群から選択され、ここで、前記基の全部がさらなる置換基を持っていてもよい、
化合物が含まれる。
【００１７】
有利な化合物には、Ｌ２およびＬ３が関連したフラグメントＡ１およびＡ２と二重結合で結合している窒素原子である式（ＩＩＩ）
【００１８】
【化３】
2005336187.tif 000004
【００１９】
で表される化合物が含まれる。
【００２０】
有利なさらなる化合物には、Ｂがさらなる置換基を持っていてもよい芳香もしくは複素芳香基である化合物が含まれる。
【００２１】
有利な化合物には、
Ｌ２およびＬ３がＡ１およびＡ２と二重結合で連結している窒素中心部でありそしてＢが置換基で置換されているパラ置換芳香６員環である式（ＩＶ）
【００２２】
【化４】
2005336187.tif 000005
【００２３】
［式中、
Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４は、同一もしくは異なり、ハライド、ハイドライド、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ１−２０−アルケニル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、−ＯＴ１、−ＯＴ１Ｔ２、−ＮＴ３Ｔ４、−ＮＴ５Ｔ６Ｔ７、−ＰＴ８Ｔ９、−ＰＴ１０Ｔ１１Ｔ１２（ここで、Ｔ１からＴ１２は、同一もしくは異なり、独立して、Ｈ、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、Ｃ１−２０−ヘテロアリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、およびアルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアリールアルキル基から成る群から選択される）から成る群から選択される］
で表される化合物が含まれる。
【００２４】
有利な化合物には、Ｌ１がＬ４と同じでありそしてＡ１の置換されていない骨組構造がＡ２の置換されていない骨組構造と同じである化合物が含まれる。
【００２５】
有利な化合物には、式（Ｖ）
【００２６】
【化５】
2005336187.tif 000006
【００２７】
［式中、
Ｚ１、Ｚ２、Ｚ３、Ｚ４は、同一もしくは異なり、独立して、ハライド、ハイドライド、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ１−２０−アルケニル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のＣ６−２０−アルキルアリール基、−ＯＴ１、−ＯＴ１Ｔ２、−ＮＴ３Ｔ４、−ＮＴ５Ｔ６Ｔ７、−ＰＴ８Ｔ９および−ＰＴ１０Ｔ１１Ｔ１２から成る群から選択され、ここで、２個の隣接するＺ置換基が一緒になってさらなる置換基を持っていてもよい飽和もしくは不飽和環を形成していてもよい］
で表される化合物が含まれる。
【００２８】
有利な化合物には、
Ｒｋ１およびＲｋ４がそれぞれＬ１と結合している１からｓ１−２個の置換基の群およびＬ４と結合している１からｓ４−２個の置換基の群であり、ここで、これらが、同一もしくは異なり、独立して、さらなる置換基を持っていてもよい不飽和Ｃ６−２０環系から成る群から選択され、ここで、前記置換基が、同一もしくは異なってもよく、独立して、ハライド、ハイドライド、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ１−２０−アルケニル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のＣ６−２０−アルキルアリール基、−ＯＴ１、−ＯＴ１Ｔ２、−ＮＴ３Ｔ４、−ＮＴ５Ｔ６Ｔ７、−ＰＴ８Ｔ９および−ＰＴ１０Ｔ１１Ｔ１２から成る群から選択され、そして２個の隣接する置換基が一緒になってさらなる置換基を持っていてもよい飽和もしくは不飽和環を形成していてもよい、
前記式（Ｖ）で表される化合物が含まれる。
【００２９】
本発明に従う有利な化合物には、群Ｒｋ１およびＲｋ４の置換基Ｒが各場合とも置換アリールおよび／またはヘテロアリール基から成る群から選択される化合物が含まれる。
【００３０】
有利な化合物には、
Ｍ１およびＭ２が、同一もしくは異なり、独立して、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｚｎ、ＡｌおよびＢから成る群から選択され、
ｍ１が個々の配位子Ｑの数および差を示し、これが１から６のいずれかの値を取り得、
ｍ２が個々の配位子Ｑの数および差を示し、これが１から６のいずれかの値を取り得、そして
ＱがＭ１と結合している１から６個の配位子の群およびＭ２と結合している１から６個の配位子の群であり、ここで、Ｍ１と結合しているＱ配位子およびＭ２と結合しているＱ配位子の両方が、独立して、ハライド、ハイドライド、Ｃ１−１０−アルキル基、Ｃ１−２０−アルケニル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、Ｃ１−２０−ヘテロアリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、ＯＴ１、ＯＴ１Ｔ２、−ＮＴ３Ｔ４、−ＮＴ５Ｔ６Ｔ７、−ＰＴ８Ｔ９、−ＰＴ１０Ｔ１１Ｔ１２、１，２−アルカンジイル化合物、１，４−アルカンジイル化合物、１，５−アルカンジイル化合物、１，ω−アルカンジイル化合物、ジアルコキサイド、ジチオレート、ジアミド、エーテル、アミン、ホスフィン、ホスフィンオキサイド、オレフィン、アセチレン、一酸化炭素、窒素（Ｎ２）、水素（Ｈ２）、カルベン、窒素イリド、炭素イリドおよび燐イリドから成る群から選択される、
前記式（Ｖ）で表される化合物が含まれる。
【００３１】
有利な化合物には、
Ｍ１およびＭ２が、同一もしくは異なり、独立して、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｎｉ、ＰｄおよびＡｌから成る群から選択される、
前記式（Ｖ）で表される化合物が含まれる。
【００３２】
有利な化合物は、式（ＶＩ）
【００３３】
【化６】
2005336187.tif 000007
【００３４】
で表される化合物である。
【００３５】
本発明は、更に、前記式（Ｉ）で表される化合物を製造する方法も提供し、この方法は、
ａ）式（ＶＩＩ）
【００３６】
【化７】
2005336187.tif 000008
【００３７】
［式中、ｌ１はｋ１と等しいか或はそれ以上であり、ｌ２はｋ２と等しいか或はそれ以上であり、ｌ３はｋ３と等しいか或はそれ以上であり、そしてｌ４はｋ４と等しいか或はそれ以上である］
で表される化合物を調製した後、
ｂ）前記式（ＶＩＩ）で表される化合物を
Ｉ）式Ｍ１（Ｑｍ１）で表される金属化合物と反応させそして更に式Ｍ２（Ｑｍ２）で表される金属化合物と反応させるか、或は
ＩＩ）式Ｍ３（Ｑｏ３）で表される金属化合物と反応させた後、式Ｍ１（Ｑｍ１）で表される金属化合物と反応させそして更に式Ｍ２（Ｑｍ２）で表される金属化合物と反応させるか、或は
ＩＩＩ）式Ｍ１（Ｑｍ１）で表される金属化合物と反応させた後、式Ｍ３（Ｑｏ３）で表される金属化合物と反応させそして更に式Ｍ２（Ｑｍ２）で表される金属化合物と反応させるか、或は
ＩＶ）式Ｍ３（Ｑｏ３）で表される金属化合物と反応させた後、式Ｍ１（Ｑｍ１）で表される金属化合物と反応させ、次に再度式Ｍ３（Ｑｏ３）で表される金属化合物と反応させそして更に式Ｍ２（Ｑｍ２）で表される金属化合物と反応させるか、或は
Ｖ）式Ｍ３（Ｑｏ３）で表される複数の金属化合物と反応させた後、式Ｍ４（Ｑｏ４）で表される金属化合物と反応させ、次に式Ｍ１（Ｑｍ１）で表される金属化合物と反応させた後、式Ｍ２（Ｑｍ２）で表される金属化合物と反応させるか、或は
ＶＩ）式Ｍ１（Ｑｍ１）で表される金属化合物と反応させた後、式Ｍ３（Ｑｏ３）で表される金属化合物と反応させ、次に式Ｍ４（Ｑｏ４）で表される金属化合物と反応させた後、式Ｍ２（Ｑｍ２）で表される金属化合物と反応させるか、或は
ＶＩＩ）式Ｍ３（Ｑｏ３）で表される金属化合物と反応させた後、式Ｍ４（Ｑｏ４）で表される金属化合物と反応させ、次に式Ｍ１（Ｑｍ１）で表される金属化合物と反応させ、次に再び式Ｍ３（Ｑｏ３）で表される金属化合物と反応させ、次に再び式Ｍ４（Ｑｏ４）で表される金属化合物と反応させた後、式Ｍ２（Ｑｍ２）で表される金属化合物と反応させる、
段階を含んで成り、ここで、
ｏ３はＭ３と結合している個々の配位子Ｑの数および差を示しかつｏ３は１から８の数であり、そしてｏ４はＭ４と結合している個々の配位子Ｑの数および差を示しかつｏ４は１から８の数であり、
Ｍ３およびＭ４は同一もしくは異なってもよく、これらを独立して周期律表の３から１１族の遷移金属、ＡｌおよびＢから成る群から選択する。
【００３８】
本発明は、更に、本発明の化合物を触媒として用いることも提供する。
【００３９】
本化合物を有利にはルイス酸または塩基の存在下で用いる。
【００４０】
本発明は、更に、本発明の化合物の中の１つをルイス酸またはルイス塩基と反応させることで入手可能な中間体も提供する。
【００４１】
本発明は、更に、ホモ重合体、共重合体および／またはオリゴ重合体を製造する方法も提供し、この方法では、本発明の化合物または中間体をオレフィン単量体と反応させる。
【００４２】
本方法では、前記オレフィン単量体を有利にはエテン、プロペン、１−ブテン、２−ブテン、イソブテン、１−ペンテン、２−ペンテン、１−ヘキセン、２−ヘキセン、３−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、シクロペンテン、ノルボルネン、スチレン、ｐ−メチルスチレン、アクリル酸メチル、メタアクリル酸メチル、酢酸ビニル、アクリロニトリルおよびメタアクリロニトリルまたはこれらの混合物から成る群から選択する。
【００４３】
本発明は、更に、本発明の化合物を用いる方法で入手可能な重合体も提供する。
【００４４】
本発明は、更に、本発明の化合物を用いて製造しておいた重合体をあらゆる種類の成形部品の製造で用いることも提供する。
【００４５】
本発明は、更に、本発明の化合物を用いて製造しておいた重合体を加工することで入手可能な成形部品も提供する。
【００４６】
前記式（Ｉ）で表される新規な化合物において、Ｍ１およびＭ２は同一もしくは異なり、これらを独立して周期律表の３−１１族の遷移金属、ＡｌおよびＢから成る群から選択する。
【００４７】
チタン、ジルコニウム、ハフニウム、バナジウム、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、ルテニウム、コバルト、ロジウム、ニッケル、パラジウム、白金、銅、亜鉛、アルミニウムおよびホウ素が好適である。
【００４８】
特にチタン、ジルコニウム、ハフニウム、鉄、ルテニウム、コバルト、ニッケル、パラジウム、銅、亜鉛およびアルミニウムが好適である。
【００４９】
非常に特にチタン、ジルコニウム、ハフニウム、鉄、ルテニウム、コバルト、ニッケル、パラジウムが好適である。
【００５０】
特にニッケルが好適である。
【００５１】
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、Ｌ４は同一もしくは異なり、これらを独立してＮ、Ｐ、Ｓ、Ｏ、Ｃ、Ｓｉ、Ｓｅ、ＡｓおよびＳｂから成る群から選択する。
【００５２】
Ｃ、Ｎ、Ｏ、ＰおよびＳが好適である。
【００５３】
特に好適には、Ｌ２およびＬ３は窒素である。
【００５４】
Ｌ２およびＬ３がＮの時には、Ｌ１およびＬ４を好適にはＣ、Ｎ、Ｏ、ＳおよびＰから成る群から選択する。
【００５５】
特に、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３およびＬ４の全部が窒素であるのが好適である。
【００５６】
Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３およびＬ４は、さらなる基Ｒｋ１、Ｒｋ２、Ｒｋ３およびＲｋ４（ここで、ｋ１、ｋ２、ｋ３およびｋ４は、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３およびＬ４の原子価に応じて、Ｒ置換基の群の複数の同一および／または異なる置換基を表す）で置換されていてもよく、そしてＲｋ１、Ｒｋ２、Ｒｋ３およびＲｋ４上のさらなる置換基は同一もしくは異なってもよく、これらを独立してハイドライド、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ１−２０−アルケニル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、Ｃ１−２０−ヘテロアリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、−ＯＤ１、−ＮＤ２Ｄ３、−ＰＤ６Ｄ７Ｄ８および−ＢＤ９Ｄ１０から成る群から選択し、ここで、Ｄ１からＤ１０は同一もしくは異なってもよく、これらを独立してＨ、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、およびアルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアリールアルキル基から成る群から選択する。
【００５７】
本発明の目的で、Ｃ１−２０−アルキル基は、本分野の技術者に公知の炭素原子数が１から２０のあらゆる直鎖もしくは分枝アルキル基である。メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、ｎ−ペンチル、ｉ−ペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニルおよびデシル基が好適であり、これらは置換されていてもよい。Ｃ１−２０−アルキル基の可能な置換基は、アルキル基に適することが本分野の技術者に公知のあらゆる置換基である。好適な置換基はハロゲン、ニトロ基、ヒドロキシル基、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基である。Ｃ１−２０−アルキル基上の特に好適な置換基はベンゾイル、トリメチルフェニル、エチルフェニル、クロロメチル、クロロエチルおよびニトロメチルである。
【００５８】
本発明の目的で、Ｃ１−２０−アルケニル基は、本分野の技術者に公知の炭素原子数が１から２０のあらゆる直鎖もしくは分枝アルケニル基である。メチリデン、エチリデン、プロピリデンおよびシクロヘキセニル基が好適である。
【００５９】
本発明の目的で、Ｃ５−２０−シクロアルキル基は、本分野の技術者に公知の炭素原子数が５から２０のあらゆる置換および未置換単環状もしくは多環状シクロアルキル基である。シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、および部分もしくは完全水添フルオレニルが好適であり、シクロアルキル基は全部置換されていてもよい。Ｃ５−１４−シクロアルキル上の可能な置換基は、シクロアルキル基に適することが本分野の技術者に公知のあらゆる置換基である。好適な置換基はハロゲン、ニトロ基、Ｃ１−１０−アルコキシ基、Ｃ１−１０−アルキル基、Ｃ６−１２−シクロアルキル基、Ｃ６−１２−アリール基である。Ｃ５−１４−シクロアルキル基上の特に好適な置換基はメチルシクロヘキシル、クロロシクロヘキシルおよびニトロシクロヘキシルである。
【００６０】
本発明の目的で、Ｃ６−２０−アリール基は、本分野の技術者に公知の炭素原子数が６から２０のあらゆる置換および未置換単環状もしくは多環状アリール基である。フェニル、ナフチルおよびフルオレニルが好適であり、これらは置換されていてもよい。Ｃ６−２０−アリール基上の可能な置換基は、アリール基に適することが本分野の技術者に公知のあらゆる置換基である。好適な置換基はハロゲン、トリフルオロメチル基、ニトロ基、Ｃ１−２０−アルコキシ基、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基である。Ｃ６−２０−アリール基上の特に好適な置換基は３，５−ジメチルフェニル、４−ｔ−ブチルフェニル、４−メトキシフェニル、クロロ、ブロモ、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｔ−ブチル、トリルおよびニトロフェニル基である。
【００６１】
本発明の目的で、Ｃ１−２０−ヘテロアリール基は、本分野の技術者に公知の炭素原子数が１から２０のあらゆる置換および未置換単環状もしくは多環状複素環式芳香族である。チエニルフェニル、ピリジル、フラニル、ピラニル、チアゾリル、ピロリル、オキサゾリル、イソキサゾリル、ピラゾリル、イミダゾリル、１，２，３−トリアゾリル、１，２，４−トリアゾリル、ベンゾフラニル、チアナフテニル、ジベンゾフラニル、インドリル、ベンズイミダゾリル、インダゾリル、キノリルおよびイソキノリル基が好適であり、これらはさらなる置換基を持っていてもよい。Ｃ１−２０−ヘテロアリール基上の可能な置換基は、ヘテロアリール基に適することが本分野の技術者に公知のあらゆる置換基である。好適な置換基は水素、ハロゲン、ニトロ基、Ｃ１−２０−アルコキシ基、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ１−２０−ヘテロアリール基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基およびＣ６−２０−アリール基である。Ｃ１−２０−ヘテロアリール基上の特に好適な置換基は２，４−ジメチルフラン−３−イルおよびＮ−メチル−２−フェニルピロール−４−イル基である。
【００６２】
本発明の目的で、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基は、本分野の技術者に公知のアルキル基中の炭素原子数が１から２０でアリール基中の炭素原子数が６から２０のあらゆる置換および未置換アルキルアリールである。ベンジルおよびアルキル置換ベンジル基が好適である。
【００６３】
−ＯＤ１、−ＮＤ２Ｄ３、−ＰＤ６Ｄ７Ｄ８および−ＢＤ９Ｄ１０中の基Ｄ１からＤ１０に関するＣ１−２０−アルキル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、およびアルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアリールアルキル基は、この上で定義した通りである。特に好適な化合物−ＯＤ１は、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ、フェノキシ、２，６−ジフェニルフェノキシ、２，６−ジメチルフェノキシ、２，６−ジクロロフェノキシ、２，６−ジブロモフェノキシ、２，６−ジヨードフェノキシ基であり、特に好適な化合物−ＮＤ２Ｄ３は、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、ジプロピルアミノ、ジブチルアミノ、ジ−ｔ−ブチルアミノ、ジフェニルアミノ、メチルフェニルアミノ、エチルフェニルアミノ、２，６−ジメチルアニリノ、２，６−ジエチルアニリノ、２，６−ジイソプロピルアニリノ、２，６−ジクロロアニリノ、３，５−ジメチルアニリノ基であり、特に好適な化合物−ＰＤ６Ｄ７Ｄ８は、トリシクロヘキシルホスフィノ、トリフェニルホスフィノ、トリ−ｔ−ブチルホスフィノ、トリエチルホスフィノ、トリメチルホスフィノ、ジシクロヘキシルホスフィノ、ジフェニルホスフィノ基であり、そして特に好適な化合物−ＢＤ９Ｄ１０は、ジクロロボラニル、ジメチルボラニル、ジエチルボラニル、ジフェニルボラニル、ビス（２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェニル）ボラニル、ジヒドロキシボラニル、ジメトキシボラニル、ジエトキシボラニル基である。
【００６４】
基Ｒｋ１およびＲｋ４を好適には置換アリールおよび／またはヘテロアリールから成る群から選択する。
【００６５】
非常に特に好適には、基Ｒｋ１およびＲｋ４を下記の式１から１０６で表される置換芳香族から成る群から選択し、ここで、破線はＬ１、Ｌ２、Ｌ３および／またはＬ４との結合点を示す。
【００６６】
【化８】
2005336187.tif 000009
【００６７】
【化９】
2005336187.tif 000010
【００６８】
【化１０】
2005336187.tif 000011
【００６９】
【化１１】
2005336187.tif 000012
【００７０】
【化１２】
2005336187.tif 000013
【００７１】
本発明の目的で、配位子Ｑは、Ｍ１および／またはＭ２と共有結合または配位結合のいずれかで結合している本分野の技術者に公知のあらゆるモノアニオン性、ジアニオン性および非荷電性配位子であり、ここで、指数ｍ１およびｍ２は、Ｑの群の複数の同一もしくは異なるＱ配位子が金属Ｍ１またはＭ２と結合し得ることを示す。
【００７２】
モノアニオン性配位子を、好適には、ハライド、ハイドライド、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ１−２０−アルケニル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、Ｃ１−２０−ヘテロアリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、−ＯＴ１、−ＯＴ１Ｔ２、−ＮＴ３Ｔ４、−ＮＴ５Ｔ６Ｔ７、−ＰＴ８Ｔ９、−ＰＴ１０Ｔ１１Ｔ１２（ここで、Ｔ１からＴ１２は、同一もしくは異なり、独立して、Ｈ、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ６−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のＣ６−２０−アルキルアリール基から成る群から選択される）から成る群から選択する。
【００７３】
本発明の目的で、ハライドはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素、好適には塩素および臭素である。
【００７４】
好適なＣ１−２０−アルキル基、Ｃ１−２０−アルケニル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、Ｃ１−２０−ヘテロアリール基、およびアルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基は、この上に基Ｒに関して記述したそれらと同じである。
【００７５】
ジアニオン配位子を好適には１，３−アルカンジイル化合物、１，４−アルカンジイル化合物、１，５−アルカンジイル化合物、１，ω−アルカンジイル化合物、ジアルコキサイド、ジチオレートおよびジアミドから成る群から選択する。非常に好適なジアニオン配位子は、１，４−ブタンジイル、１，５−ペンタンジイル、１，２−エタンジオラト、１，２−エタンジチオラト、１，２−エタンジアミドおよび１，２−ビスヒドロキシラトベンゼンである。
【００７６】
非荷電性配位子を好適にはエーテル、アミン、ホスフィンおよびホスフィンオキサイド、オレフィンおよびアセチレン、一酸化炭素、窒素（Ｎ２）、水素（Ｈ２）、カルベンおよび燐イリドから成る群から選択する。好適なエーテルはジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフランおよび１，２−ジメトキシエタンである。好適なアミンはアンモニア、トリエチルアミン、ピリジン、ビピリジン、シクロヘキシルアミンである。好適なホスフィンおよびホスフィンオキサイドはトリ−ｔ−ブチルホスフィン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィンオキサイド、ビス（ジフェニルホスフィノ）エタンである。好適なオレフィンおよびアセチレンはエテン、プロペン、ヘキセン、シクロペンテン、スチレン、スチルベン、ブタジエン、イソプレン、フェニルアセチレンである。
【００７７】
好適な燐イリドは、式
【００７８】
【化１３】
2005336187.tif 000014
【００７９】
［式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３は、Ｒの群から選択され、そしてＸは、酸素、−Ｎ−Ｔ１および−ＣＴ１Ｔ２（ここで、Ｔ１からＴ１２は、同一もしくは異なり、独立して、Ｈ、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ６−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のＣ６−２０−アルキルアリール基から成る群から選択される）から選択される］
で表される化合物である。
【００８０】
本目的で、ハライドはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素、好適には塩素および臭素である。
【００８１】
好適なＣ１−２０−アルキル基、Ｃ１−２０−アルケニル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、Ｃ１−２０−ヘテロアリール基、およびアルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基は、この上に基Ｒに関して記述したそれらと同じである。
【００８２】
特に、Ｒ１＝Ｒ２＝Ｒ３＝フェニル、シクロヘキシル、メチル、エチル、イソプロピル、メトキシ、フェノキシまたはジメチルアミノでありそしてＸ＝ＣＨ２、ベンジル、シクロプロパン−１，１−ジイル、フルベニル、フェニルイミン、トリメチルシリルイミン、ｔ−ブチルイミン、エタン−１，１−ジイルまたはオキソであるのが好適である。
【００８３】
モノアニオン性、ジアニオン性および非アニオン性配位子の群の中でモノアニオン性配位子が好適である。非常に特にハライドおよびアセチルアセトン誘導体が好適である。
【００８４】
本発明の目的で、Ａ１およびＡ２は、本分野の技術者に公知のあらゆるブリッジ（ｂｒｉｄｇｅｓ）であり、これには、中心部Ｌ１とＬ２またはＬ３とＬ４を連結する置換もしくは未置換原子および／または基が含まれ、ここで、Ａ１およびＡ２はまた更に金属中心Ｍ１およびＭ２に配位する部位を持っていてもよい。
【００８５】
Ａ１およびＡ２が同一もしくは異なりそしてこれらを独立して炭素原子数が１から２０の飽和もしくは不飽和炭化水素基、炭素原子数が４から２０の環状飽和もしくは不飽和炭化水素基から成る群から選択するのが好適であり、この場合、Ｌ１とＬ２またはＬ３とＬ４は、環、即ち炭素原子数が３から２０の複素環式飽和もしくは不飽和化合物、窒素含有基、燐含有基、ケイ素含有基、錫含有基、ゲルマニウム含有基およびホウ素含有基と直接結合しており、ここで、これらの基は全部さらなる単結合置換基Ｚ１からＺ１０および／または二重結合置換基Ｅ１からＥ２を持っていてもよい。
【００８６】
炭素原子数が４から２０の好適な飽和もしくは不飽和炭化水素基は式１０７から１４５で表される構造物である。
【００８７】
【化１４】
2005336187.tif 000015
【００８８】
【化１５】
2005336187.tif 000016
【００８９】
【化１６】
2005336187.tif 000017
【００９０】
ここでは、Ａ１をＬ１またはＬ２の橋渡し要素（ｂｒｉｄｇｉｎｇ  ｅｌｅｍｅｎｔ）として示し、Ａ２に関しては、Ｌ１およびＬ２をＬ３およびＬ４に置き換える必要がある。
【００９１】
Ｌ１とＬ２またはＬ３とＬ４が環と直接結合している場合の炭素原子数が４−２０の好適な環状飽和もしくは不飽和炭化水素基は、式１４６から１５７で表される置換もしくは未置換ベンゼン、ナフタレンおよびアントラセン環である。
【００９２】
【化１７】
2005336187.tif 000018
【００９３】
【化１８】
2005336187.tif 000019
【００９４】
ここでは、Ａ１をＬ１またはＬ２の橋渡し要素として示し、Ａ２に関しては、Ｌ１およびＬ２をＬ３およびＬ４に置き換える必要がある。
【００９５】
炭素原子を３から２０個とヘテロ原子を１個以上有する好適な複素環式化合物は、式１５８から２０４で表される置換もしくは未置換ピリジン、キノリン、チオフェンおよびフラン環である。
【００９６】
【化１９】
2005336187.tif 000020
【００９７】
【化２０】
2005336187.tif 000021
【００９８】
【化２１】
2005336187.tif 000022
【００９９】
【化２２】
2005336187.tif 000023
【０１００】
【化２３】
2005336187.tif 000024
【０１０１】
ここでは、Ａ１をＬ１またはＬ２の橋渡し要素として示し、Ａ２に関しては、Ｌ１およびＬ２をＬ３およびＬ４に置き換える必要がある。
【０１０２】
好適な窒素含有基は、下記の式２０５から２２１で表される基である。
【０１０３】
【化２４】
2005336187.tif 000025
【０１０４】
【化２５】
2005336187.tif 000026
【０１０５】
ここでは、Ａ１をＬ１またはＬ２の橋渡し要素として示し、Ａ２に関しては、Ｌ１およびＬ２をＬ３およびＬ４に置き換える必要がある。
【０１０６】
好適な燐含有基は、下記の式２２２から２３３で表される基である。
【０１０７】
【化２６】
2005336187.tif 000027
【０１０８】
【化２７】
2005336187.tif 000028
【０１０９】
ここでは、Ａ１をＬ１またはＬ２の橋渡し要素として示し、Ａ２に関しては、Ｌ１およびＬ２をＬ３およびＬ４に置き換える必要がある。
【０１１０】
Ｌ１とＬ２および／またはＬ３とＬ４を１個以上のケイ素中心部経由でつなげている好適な基は、式２３４から２３６で表される基である。
【０１１１】
【化２８】
2005336187.tif 000029
【０１１２】
ここでは、Ａ１をＬ１またはＬ２の橋渡し要素として示し、Ａ２に関しては、Ｌ１およびＬ２をＬ３およびＬ４に置き換える必要がある。
【０１１３】
Ｌ１とＬ２および／またはＬ３とＬ４を１個以上の錫中心部経由でつなげている好適な基は、下記の式２３７から２３８で表される基である。
【０１１４】
【化２９】
2005336187.tif 000030
【０１１５】
ここでは、Ａ１をＬ１またはＬ２の橋渡し要素として示し、Ａ２に関しては、Ｌ１およびＬ２をＬ３およびＬ４に置き換える必要がある。
【０１１６】
Ｌ１とＬ２および／またはＬ３とＬ４をゲルマニウム中心部経由でつなげている好適な基は、式２３９で表される基である。
【０１１７】
【化３０】
2005336187.tif 000031
【０１１８】
ここでは、Ａ１をＬ１またはＬ２の橋渡し要素として示し、Ａ２に関しては、Ｌ１およびＬ２をＬ３およびＬ４に置き換える必要がある。
【０１１９】
Ｌ１とＬ２および／またはＬ３とＬ４をホウ素中心部経由でつなげている好適な基は、−ＢＨ−、−Ｂ（ＣＨ３）−、−ＢＰｈ−、−ＢＦ−、−ＢＣｌ−である。
【０１２０】
Ｌ１とＬ２および／またはＬ３とＬ４を燐中心部経由でつなげている好適な基は、−Ｐ（Ｐｈ）−Ｐ（Ｐｈ）−、−Ｐ（Ｍｅ）−Ｐ（Ｍｅ）−である。
【０１２１】
Ｅ１およびＥ２は二重結合基であり、これらは同一もしくは異なってもよく、これらを独立してＳ、Ｏ、ＣＺ１Ｚ２、ＮＺ１、ＯＺ１＋、ＮＺ１Ｚ２＋から成る群から選択する。
【０１２２】
Ｚ１からＺ１０は同一もしくは異なってもよく、これらを独立してハライド、ハイドライド、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ１−２０−アルケニル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、−ＯＴ１、ＯＴ１Ｔ２、−ＮＴ３Ｔ４、ＮＴ５Ｔ６Ｔ７、−ＰＴ８Ｔ９、−ＰＴ１０Ｔ１１Ｔ１２（ここで、Ｔ１からＴ１２は、同一もしくは異なり、独立して、Ｈ、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、Ｃ１−２０−ヘテロアリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、およびアルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアリールアルキル基から成る群から選択される）から成る群から選択する。好適なハライド、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ１−２０−アルケニル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、−ＯＴ１、ＯＴ１Ｔ２、−ＮＴ３Ｔ４、ＮＴ５Ｔ６Ｔ７、−ＰＴ８Ｔ９、−ＰＴ１０Ｔ１１Ｔ１２は、基Ｒに関して記述したそれらと同じである。
【０１２３】
本発明の目的で、Ｂは、中心部Ｌ２とＬ３を互いに電子的に連結させ得る本分野の技術者に公知のいずれかの基である。本目的で、中心部Ｌ２とＬ３の間の電子的連結は、それのπ電子が非局在化する結果として両方の電荷がＬ１とＡ１とＬ２とＭ１を含んで成る環およびこの環の置換基の中そしてＬ３とＡ２とＬ４とＭ２を含んで成る環およびこの環の置換基の中に移行し得る基である。
【０１２４】
Ｂは、好適には、芳香もしくは複素芳香基であり、これは置換基Ｇ１からＧ８を持っていてもよい。
【０１２５】
Ｂは、特に好適には、Ｌ２との結合点とＬ３との結合点が互いに関してオルソ位ではない芳香もしくは複素芳香基である。
【０１２６】
式２４０から２４９で表される基が非常に特に好適である。
【０１２７】
【化３１】
2005336187.tif 000032
【０１２８】
【化３２】
2005336187.tif 000033
【０１２９】
ここで、置換基Ｇ１からＧ８は同一もしくは異なり、これらを独立してハライド、ハイドライド、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ１−２０−アルケニル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、−ＯＴ１、ＯＴ１Ｔ２、−ＮＴ３Ｔ４、ＮＴ５Ｔ６Ｔ７、−ＰＴ８Ｔ９、−ＰＴ１０Ｔ１１Ｔ１２（ここで、Ｔ１からＴ１２は、同一もしくは異なり、独立して、Ｈ、Ｃ１−２０−アルキル基、Ｃ５−２０−シクロアルキル基、Ｃ６−２０−アリール基、Ｃ１−２０−ヘテロアリール基、アルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアルキルアリール基、およびアルキル基がＣ１−２０基でアリール基がＣ６−２０基のアリールアルキル基から成る群から選択される）から成る群から選択する。
【０１３０】
Ｌ１とＬ２および／またはＬ３とＬ４がＮ−Ｏの配位子を有する好適な基本的構造は下記の式２５０から２６３で表される構造である。
【０１３１】
【化３３】
2005336187.tif 000034
【０１３２】
【化３４】
2005336187.tif 000035
【０１３３】
【化３５】
2005336187.tif 000036
【０１３４】
Ｌ１とＬ２および／またはＬ３とＬ４がＮ−Ｏの配位子を有する化合物の特に好適な基本的構造は下記の式２５５から２５８、２６４、２６５、２６１から２６３で表される構造である。
【０１３５】
【化３６】
2005336187.tif 000037
【０１３６】
【化３７】
2005336187.tif 000038
【０１３７】
Ｌ１とＬ２および／またはＬ３とＬ４がＮ−Ｎの配位子を有する好適な構造は下記の式２６６から２８２で表される構造である。
【０１３８】
【化３８】
2005336187.tif 000039
【０１３９】
【化３９】
2005336187.tif 000040
【０１４０】
【化４０】
2005336187.tif 000041
【０１４１】
【化４１】
2005336187.tif 000042
【０１４２】
Ｎ−Ｎ配位子の構成ブロックＡ１およびＡ２の中にヘテロ原子を有する特に好適な基本的構造は下記である：
【０１４３】
【化４２】
2005336187.tif 000043
【０１４４】
【化４３】
2005336187.tif 000044
【０１４５】
Ｌ１とＬ２および／またはＬ３とＬ４がＰ−Ｎの配位子を有する特に好適な構造は下記である：
【０１４６】
【化４４】
2005336187.tif 000045
【０１４７】
Ｌ１とＬ２および／またはＬ３とＬ４がＳ−Ｎの配位子を有する特に好適な基本的構造は下記の式２８４および２８５で表される構造である。
【０１４８】
【化４５】
2005336187.tif 000046
【０１４９】
特に下記の基本的構造が好適である：
【０１５０】
【化４６】
2005336187.tif 000047
【０１５１】
本発明の化合物はいろいろな方法で調製可能である。
【０１５２】
このように、タイプ（Ｉ）の化合物を製造する１つの方法は下記の段階を含んで成り得る：
ａ）式（Ｋ−１）
【０１５３】
【化４７】
2005336187.tif 000048
【０１５４】
［式中、ｍ１はこの上で定義した通りであり、ｎ３はｋ３に等しいか或はそれ以上であり、そしてｌ４はｋ４に等しいか或はそれ以上である］
で表される化合物を準備し、
ｂ）前記式（Ｋ−１）で表される化合物を式Ｍ２（Ｑｏ２）［式中、ｏ２は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させる。
【０１５５】
式（Ｉ）で表される新規な化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｋ−１）
【０１５６】
【化４８】
2005336187.tif 000049
【０１５７】
［式中、ｍ１はこの上で定義した通りであり、ｎ３はｋ３に等しいか或はそれ以上であり、そしてｌ４はｋ４に等しいか或はそれ以上である］
で表される化合物を準備し、
ｂ）前記式（Ｋ−１）で表される化合物を式Ｍ３（Ｑｏ３）［式中、ｏ３は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させることで式（Ｋ−２）
【０１５８】
【化４９】
2005336187.tif 000050
【０１５９】
［式中、ｎ４はｌ４より小さい］
で表される化合物を生じさせた後、
ｃ）前記式（Ｋ−２）で表される化合物を式Ｍ２（Ｑｏ２）［式中、ｏ２は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させる。
【０１６０】
式（Ｉ）で表される新規な化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｋ−１）
【０１６１】
【化５０】
2005336187.tif 000051
【０１６２】
［式中、ｍ１はこの上で定義した通りであり、ｎ３はｋ３に等しいか或はそれ以上であり、そしてｌ４はｋ４に等しいか或はそれ以上である］
で表される化合物を準備し、
ｂ）前記式（Ｋ−１）で表される化合物を式Ｍ３（Ｑｏ３）［式中、ｏ３は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させることで式（Ｋ−３）
【０１６３】
【化５１】
2005336187.tif 000052
【０１６４】
［式中、ｏ３はｎ３より小さい］
で表される化合物を生じさせた後、
ｃ）前記式（Ｋ−３）で表される化合物を式Ｍ２（Ｑｏ２）［式中、ｏ２は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させる。
【０１６５】
式（Ｉ）で表される新規な化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｋ−１）
【０１６６】
【化５２】
2005336187.tif 000053
【０１６７】
［式中、ｍ１はこの上で定義した通りであり、ｎ３はｋ３に等しいか或はそれ以上であり、そしてｌ４はｋ４に等しいか或はそれ以上である］
で表される化合物を準備し、
ｂ）前記式（Ｋ−１）で表される化合物を式Ｍ３（Ｑｏ３）［式中、ｏ３は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させることで式（Ｋ−４）
【０１６８】
【化５３】
2005336187.tif 000054
【０１６９】
［式中、ｐ３はｎ３より小さくそしてｎ４はｌ４より小さいか、或はｐ３はｎ３より小さくそしてｎ４はｌ４に等しいか、或はｎ４はｌ４より小さくそしてｐ３はｎ３に等しい］
で表される化合物を生じさせた後、
ｃ）前記式（Ｋ−４）で表される化合物を式Ｍ２（Ｑｏ２）［式中、ｏ２は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させる。
【０１７０】
式（Ｉ）で表される新規な化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｋ−１）
【０１７１】
【化５４】
2005336187.tif 000055
【０１７２】
［式中、ｍ１はこの上で定義した通りであり、ｎ３はｋ３に等しいか或はそれ以上であり、そしてｌ４はｋ４に等しいか或はそれ以上である］
で表される化合物を準備し、
ｂ）前記式（Ｋ−１）で表される化合物を式Ｍ３（Ｑｏ３）［式中、ｏ３は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させることで式（Ｋ−５ａ）
【０１７３】
【化５５】
2005336187.tif 000056
【０１７４】
［式中、ｎ４はｌ４に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせた後、
ｃ）前記式（Ｋ−５ａ）で表される化合物を式Ｍ４（Ｑｏ４）［式中、ｏ４は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させることで式（Ｋ−５ｂ）
【０１７５】
【化５６】
2005336187.tif 000057
【０１７６】
［式中、ｐ３はｎ３に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｄ）前記式（Ｋ−５ｂ）で表される化合物を式Ｍ２（Ｑｏ２）［式中、ｏ２は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させる。
【０１７７】
式（Ｉ）で表される新規な化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｋ−１）
【０１７８】
【化５７】
2005336187.tif 000058
【０１７９】
［式中、ｍ１はこの上で定義した通りであり、ｎ３はｋ３に等しいか或はそれ以上であり、そしてｌ４はｋ４に等しいか或はそれ以上である］
で表される化合物を準備し、
ｂ）前記式（Ｋ−１）で表される化合物を式Ｍ３（Ｑｏ３）［式中、ｏ３は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させることで式（Ｋ−６ａ）
【０１８０】
【化５８】
2005336187.tif 000059
【０１８１】
［式中、ｎ４はｌ４に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせた後、
ｃ）前記式（Ｋ−６ａ）で表される化合物を式Ｍ４（Ｑｏ４）［式中、ｏ４は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させることで式（Ｋ−６ｂ）
【０１８２】
【化５９】
2005336187.tif 000060
【０１８３】
［式中、ｐ３はｎ３に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｄ）前記式（Ｋ−６ｂ）で表される化合物を式Ｍ２（Ｑｏ２）［式中、ｏ２は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させる。
【０１８４】
また、前記式（Ｋ−１）で表される化合物を製造する可能性も数多く存在する。
【０１８５】
式（Ｋ−１）で表される化合物を製造する１つの方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（ＶＩＩ）
【０１８６】
【化６０】
2005336187.tif 000061
【０１８７】
［式中、ｌ１はｋ１に等しいか或はそれ以上であり、ｎ２はｋ２に等しいか或はそれ以上であり、ｎ３はｋ３に等しいか或はそれ以上であり、そしてｌ４はｋ４に等しいか或はそれ以上である］
で表される化合物を準備し、
ｂ）前記式（ＶＩＩ）で表される化合物を式Ｍ１（Ｑｍ１）［式中、ｍ１はこの上で定義した通りである］で表される金属化合物と反応させる。
【０１８８】
式（Ｋ−１）で表される化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（ＶＩＩ）
【０１８９】
【化６１】
2005336187.tif 000062
【０１９０】
［式中、ｌ１はｋ１に等しいか或はそれ以上であり、ｎ２はｋ２に等しいか或はそれ以上であり、ｎ３はｋ３に等しいか或はそれ以上であり、そしてｌ４はｋ４に等しいか或はそれ以上である］
で表される化合物を準備し、
ｂ）前記式（ＶＩＩ）で表される化合物を式Ｍ３（Ｑｏ３）［式中、ｏ３は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させることで式（Ｋ−８）
【０１９１】
【化６２】
2005336187.tif 000063
【０１９２】
［式中、ｎ１はｌ１に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｃ）前記式（Ｋ−８）で表される化合物を式Ｍ１（Ｑｍ１）［式中、ｍ１はこの上で定義した通りである］で表される金属化合物と反応させる。
【０１９３】
式（Ｋ−１）で表される化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（ＶＩＩ）
【０１９４】
【化６３】
2005336187.tif 000064
【０１９５】
［式中、ｌ１はｋ１に等しいか或はそれ以上であり、ｎ２はｋ２に等しいか或はそれ以上であり、ｎ３はｋ３に等しいか或はそれ以上であり、そしてｌ４はｋ４に等しいか或はそれ以上である］
で表される化合物を準備し、
ｂ）前記式（ＶＩＩ）で表される化合物を式Ｍ３（Ｑｏ３）［式中、ｏ３は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させることで式（Ｋ−９）
【０１９６】
【化６４】
2005336187.tif 000065
【０１９７】
［式中、ｐ２はｎ２に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｃ）前記式（Ｋ−９）で表される化合物を式Ｍ１（Ｑｍ１）［式中、ｍ１はこの上で定義した通りである］で表される金属化合物と反応させる。
【０１９８】
タイプ（Ｋ−１）の化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（ＶＩＩ）
【０１９９】
【化６５】
2005336187.tif 000066
【０２００】
［式中、ｌ１はｋ１に等しいか或はそれ以上であり、ｎ２はｋ２に等しいか或はそれ以上であり、ｎ３はｋ３に等しいか或はそれ以上であり、そしてｌ４はｋ４に等しいか或はそれ以上である］
で表される化合物を準備し、
ｂ）前記式（ＶＩＩ）で表される化合物を式Ｍ３（Ｑｏ３）［式中、ｏ３は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させることで式（Ｋ−１０ａ）
【０２０１】
【化６６】
2005336187.tif 000067
【０２０２】
［式中、ｐ２はｎ２に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、
ｃ）前記式（Ｋ−１０ａ）で表される化合物を式Ｍ４（Ｑｏ４）［式中、ｏ４は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させることで式（Ｋ−１０ｂ）
【０２０３】
【化６７】
2005336187.tif 000068
【０２０４】
［式中、ｎ１はｌ１に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｄ）前記式（Ｋ−１０ｂ）で表される化合物をタイプＭ１（Ｑｍ１）［ここで、ｍ１はこの上で定義した通りである］の金属化合物と反応させる。
【０２０５】
式（Ｋ−１）で表される化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（ＶＩＩ）
【０２０６】
【化６８】
2005336187.tif 000069
【０２０７】
［式中、ｌ１はｋ１に等しいか或はそれ以上であり、ｎ２はｋ２に等しいか或はそれ以上であり、ｎ３はｋ３に等しいか或はそれ以上であり、そしてｌ４はｋ４に等しいか或はそれ以上である］
で表される化合物を準備し、
ｂ）前記式（ＶＩＩ）で表される化合物を式Ｍ３（Ｑｏ３）［式中、ｏ３は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させることで式（Ｋ−１１ａ）
【０２０８】
【化６９】
2005336187.tif 000070
【０２０９】
［式中、ｎ１はｌ１に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、
ｃ）前記式（Ｋ−１１ａ）で表される化合物を式Ｍ４（Ｑｏ４）［式中、ｏ４は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させることで式（Ｋ−１１ｂ）
【０２１０】
【化７０】
2005336187.tif 000071
【０２１１】
［式中、ｐ２はｎ２に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｄ）前記式（Ｋ−１１ｂ）で表される化合物を式Ｍ１（Ｑｍ１）［式中、ｍ１はこの上で定義した通りである］で表される金属化合物と反応させる。
【０２１２】
タイプ（Ｋ−１）の化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（ＶＩＩ）
【０２１３】
【化７１】
2005336187.tif 000072
【０２１４】
［式中、ｌ１はｋ１に等しいか或はそれ以上であり、ｎ２はｋ２に等しいか或はそれ以上であり、ｎ３はｋ３に等しいか或はそれ以上であり、そしてｌ４はｋ４に等しいか或はそれ以上である］
で表される化合物を準備し、
ｂ）前記式（ＶＩＩ）で表される化合物を式Ｍ３（Ｑｏ３）［式中、ｏ３は１から８の範囲の値を取り得る］で表される金属化合物と反応させることで式（Ｋ−１２）
【０２１５】
【化７２】
2005336187.tif 000073
【０２１６】
［式中、ｐ２はｎ２より小さくそしてｎ１はｌ１より小さいか、或はｐ２はｎ２より小さくそしてｎ１はｌ１に等しいか、或はｎ１はｌ１より小さくそしてｐ２はｎ２に等しい］
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｃ）前記式（Ｋ−１２）で表される化合物を式Ｍ１（Ｑｍ１）［式中、ｍ１はこの上で定義した通りである］で表される金属化合物と反応させる。
【０２１７】
また、前記式（ＶＩＩ）で表される化合物を製造する可能性も数多く存在する。式（ＶＩＩ）で表される化合物を製造する１つの方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｓ１−１）
【０２１８】
【化７３】
2005336187.tif 000074
【０２１９】
［式中、Ｘ２は反応性基であり、そして指数ｌ１はＲ群の個々の置換基の数および差を示し、これは０からα−１（ここで、αはＬ１の原子価に相当する）の値を取り得る］
で表される官能化構成ブロックの化合物を準備し、
ｂ）式（Ｓ１−２）
【０２２０】
【化７４】
2005336187.tif 000075
【０２２１】
［式中、Ｘ３は反応性基であり、そして指数ｌ４はＲ群の個々の置換基の数および差を示し、これは０からδ−１（ここで、δはＬ４の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得る］
で表される官能化構成ブロックの化合物を準備し、
ｃ）前記式（Ｓ１−１）で表される構成ブロックの化合物を式（Ｓ１−３）
【０２２２】
【化７５】
2005336187.tif 000076
【０２２３】
［式中、指数ｌ２はＲ群の個々の置換基の存在数および差に相当し、これは０からβ−１（ここで、βはＬ２の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得、そして指数ｌ３はＲ群の個々の置換基の存在数および差に相当し、これは０からγ−１（ここで、γはＬ３の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得る］
で表される二官能剤の化合物と反応させることで式（Ｓ１−４）
【０２２４】
【化７６】
2005336187.tif 000077
【０２２５】
［式中、ｎ２はｌ２に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｄ）前記（Ｓ１−４）で表される化合物を前記式（Ｓ１−２）で表される構成ブロックの化合物と反応させることで式（Ｓ１−５）
【０２２６】
【化７７】
2005336187.tif 000078
【０２２７】
［式中、ｎ３はｌ３に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせる。
【０２２８】
式（ＶＩＩ）で表される化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｓ２−１）
【０２２９】
【化７８】
2005336187.tif 000079
【０２３０】
［式中、Ｘ２は反応性基であり、そして指数ｌ１はＲ群の個々の置換基の数および差を示し、これは０からα−１（ここで、αはＬ１の原子価に相当する）の値を取り得る］
で表される官能化構成ブロックの化合物を準備し、
ｂ）式（Ｓ２−２）
【０２３１】
【化７９】
2005336187.tif 000080
【０２３２】
［式中、Ｘ３およびＸ４は反応性基である］
で表される官能化構成ブロックの化合物を準備し、
ｃ）前記式（Ｓ２−１）で表される官能化構成ブロックの化合物を式（Ｓ２−３）
【０２３３】
【化８０】
2005336187.tif 000081
【０２３４】
［式中、指数ｌ２はＲ群の個々の置換基の存在数および差に相当し、これは０からβ−１（ここで、βはＬ２の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得、そして指数ｌ３はＲ群の個々の置換基の存在数および差に相当し、これは０からγ−１（ここで、γはＬ３の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得る］
で表される二官能剤の化合物と反応させることで式（Ｓ２−４）
【０２３５】
【化８１】
2005336187.tif 000082
【０２３６】
［式中、ｎ２はｌ２に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、
ｄ）前記式（Ｓ２−４）で表される化合物を前記式（Ｓ２−２）で表される官能化構成ブロックの化合物と反応させることで式（Ｓ２−５）
【０２３７】
【化８２】
2005336187.tif 000083
【０２３８】
［式中、ｎ３はｌ３に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｅ）前記式（Ｓ２−５）で表される化合物をＬ４を導入し得る作用剤と反応させる。
【０２３９】
式（ＶＩＩ）で表される化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｓ３−１）
【０２４０】
【化８３】
2005336187.tif 000084
【０２４１】
［式中、Ｘ１およびＸ２は反応性基である］
で表される官能化構成ブロックの化合物を準備し、
ｂ）式（Ｓ３−２）
【０２４２】
【化８４】
2005336187.tif 000085
【０２４３】
［式中、Ｘ３は反応性基であり、そして指数ｌ４はＲ群の置換基の数および差を示し、これは０からδ−１（ここで、δはＬ４の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得る］
で表される官能化構成ブロックの化合物を準備し、
ｃ）前記式（Ｓ３−１）で表される官能化構成ブロックの化合物を式（Ｓ３−３）
【０２４４】
【化８５】
2005336187.tif 000086
【０２４５】
［式中、指数ｌ２はＲ群の置換基の存在数および差に相当し、これは０からβ−１（ここで、βはＬ２の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得、そして指数ｌ３はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からγ−１（ここで、γはＬ３の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得る］
で表される二官能剤の化合物と反応させることで式（Ｓ３−４）
【０２４６】
【化８６】
2005336187.tif 000087
【０２４７】
［式中、ｎ２はｌ２に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、
ｄ）前記式（Ｓ３−４）で表される化合物をＬ１を導入し得る作用剤と反応させることで式（Ｓ３−５）
【０２４８】
【化８７】
2005336187.tif 000088
【０２４９】
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｅ）前記式（Ｓ３−５）で表される化合物を前記式（Ｓ３−２）で表される二官能構成ブロックの化合物と反応させる。
【０２５０】
式（ＶＩＩ）で表される化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｓ４−１）
【０２５１】
【化８８】
2005336187.tif 000089
【０２５２】
［式中、Ｘ１およびＸ２は反応性基である］
で表される官能化構成ブロックの化合物を準備し、
ｂ）式（Ｓ４−２）
【０２５３】
【化８９】
2005336187.tif 000090
【０２５４】
［式中、Ｘ３およびＸ４は反応性基である］
で表される二官能構成ブロックの化合物を準備し、
ｃ）前記式（Ｓ４−１）で表される官能化構成ブロックの化合物を式（Ｓ４−３）
【０２５５】
【化９０】
2005336187.tif 000091
【０２５６】
［式中、指数ｌ２はＲ群の置換基の存在数および差に相当し、これは０からβ−１（ここで、βはＬ２の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得、そして指数ｌ３はＲ群の置換基の存在数および差に相当し、これは０からγ−１（ここで、γはＬ３の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得る］
で表される二官能剤の化合物と反応させることで式（Ｓ４−４）
【０２５７】
【化９１】
2005336187.tif 000092
【０２５８】
［式中、ｎ２はｌ２に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、
ｅ）前記式（Ｓ４−４）で表される化合物を前記式（Ｓ４−２）で表される官能化構成ブロックの化合物と反応させることで式（Ｓ４−５）
【０２５９】
【化９２】
2005336187.tif 000093
【０２６０】
で表される化合物を生じさせ、次に、
ｆ）前記式（Ｓ４−５）で表される化合物をＬ１を導入し得る作用剤と反応させることで式（Ｓ４−６）
【０２６１】
【化９３】
2005336187.tif 000094
【０２６２】
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｇ）前記式（Ｓ４−６）で表される化合物をＬ４を導入し得る作用剤と反応させる。
【０２６３】
式（ＶＩＩ）で表される化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｓ５−１）
【０２６４】
【化９４】
2005336187.tif 000095
【０２６５】
［式中、Ｘ１およびＸ２は反応性基である］
で表される官能化構成ブロックの化合物を準備し、
ｂ）式（Ｓ５−２）
【０２６６】
【化９５】
2005336187.tif 000096
【０２６７】
［式中、Ｘ３およびＸ４は反応性基である］
で表される二官能構成ブロックの化合物を準備し、
ｃ）前記式（Ｓ５−１）で表される官能化構成ブロックの化合物を式（Ｓ５−３）
【０２６８】
【化９６】
2005336187.tif 000097
【０２６９】
［式中、指数ｌ２はＲ群の置換基の存在数および差に相当し、これは０からβ−１（ここで、βはＬ２の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得、そして指数ｌ３はＲ群の置換基の存在数および差に相当し、これは０からγ−１（ここで、γはＬ３の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得る］
で表される二官能剤の化合物と反応させることで式（Ｓ５−４）
【０２７０】
【化９７】
2005336187.tif 000098
【０２７１】
［式中、ｎ２はｌ２に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、次に、
ｄ）前記式（Ｓ５−４）で表される化合物をＬ１を導入し得る作用剤と反応させることで式（Ｓ５−５）
【０２７２】
【化９８】
2005336187.tif 000099
【０２７３】
で表される化合物を生じさせた後、
ｅ）前記式（Ｓ５−５）で表される化合物を前記式（Ｓ５−２）で表される官能化構成ブロックの化合物と反応させることで式（Ｓ５−６）
【０２７４】
【化９９】
2005336187.tif 000100
【０２７５】
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｆ）前記式（Ｓ５−６）で表される化合物をＬ４を導入し得る作用剤と反応させる。
【０２７６】
式（ＶＩＩ）で表される化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｓ６−１）
【０２７７】
【化１００】
2005336187.tif 000101
【０２７８】
［式中、ｌ２はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からβ−１（ここで、βはＬ２の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得、そしてＸ１は反応性基である］
で表される化合物を準備し、
ｂ）式（Ｓ６−２）
【０２７９】
【化１０１】
2005336187.tif 000102
【０２８０】
［式中、ｌ３はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からγ−１（ここで、γはＬ３の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得、そしてＸ４は反応性基である］
で表される官能化構成ブロックの化合物を準備し、
ｃ）前記式（Ｓ６−１）で表される化合物を式（Ｓ６−３）
【０２８１】
【化１０２】
2005336187.tif 000103
【０２８２】
［式中、Ｙ１およびＹ２は各々反応性基である］
で表される二官能剤の化合物と反応させることで式（Ｓ６−４）
【０２８３】
【化１０３】
2005336187.tif 000104
【０２８４】
で表される化合物を生じさせ、次に、
ｄ）前記（Ｓ６−４）で表される化合物を前記式（Ｓ６−２）で表される官能化構成ブロックの化合物と反応させることで式（Ｓ６−５）
【０２８５】
【化１０４】
2005336187.tif 000105
【０２８６】
で表される化合物を生じさせた後、
ｅ）前記式（Ｓ６−５）で表される化合物をＬ１を導入し得る作用剤と反応させることで式（Ｓ６−６）
【０２８７】
【化１０５】
2005336187.tif 000106
【０２８８】
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｆ）前記式（Ｓ６−６）で表される化合物をＬ４を導入し得る作用剤と反応させる。
【０２８９】
式（ＶＩＩ）で表される化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｓ７−１）
【０２９０】
【化１０６】
2005336187.tif 000107
【０２９１】
［式中、ｌ２はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からβ−１（ここで、βはＬ２の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得、そしてＸ１は反応性基である］
で表される構成ブロックの化合物を準備し、
ｂ）式（Ｓ７−２）
【０２９２】
【化１０７】
2005336187.tif 000108
【０２９３】
［式中、ｌ３はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からγ−１（ここで、γはＬ３の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得、そしてＸ４は反応性基である］
で表される官能化構成ブロックの化合物を準備し、
ｃ）前記式（Ｓ７−１）で表される構成ブロックの化合物を式（Ｓ７−３）
【０２９４】
【化１０８】
2005336187.tif 000109
【０２９５】
［式中、Ｙ１およびＹ２は各々反応性基である］
で表される二官能剤の化合物と反応させることで式（Ｓ７−４）
【０２９６】
【化１０９】
2005336187.tif 000110
【０２９７】
で表される化合物を生じさせ、
ｄ）前記（Ｓ７−４）で表される化合物をＬ１を導入し得る作用剤と反応させることで式（Ｓ７−５）
【０２９８】
【化１１０】
2005336187.tif 000111
【０２９９】
で表される化合物を生じさせ、
ｅ）前記式（Ｓ７−５）で表される化合物を前記式（Ｓ７−２）で表される官能化構成ブロックの化合物と反応させることで式（Ｓ７−６）
【０３００】
【化１１１】
2005336187.tif 000112
【０３０１】
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｆ）前記式（Ｓ７−６）で表される化合物をＬ４を導入し得る作用剤と反応させる。
【０３０２】
式（ＶＩＩ）で表される化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｓ８−１）
【０３０３】
【化１１２】
2005336187.tif 000113
【０３０４】
［式中、指数ｌ１はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からα−１（ここで、αはＬ１の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得、そして指数ｌ２はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からβ−１（ここで、βはＬ２の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得る］
で表される構成ブロックの化合物を準備し、
ｂ）式（Ｓ８−２）
【０３０５】
【化１１３】
2005336187.tif 000114
【０３０６】
［式中、指数ｌ３はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からγ−１（ここで、γはＬ３の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得、そして指数ｌ４はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からδ−１（ここで、δはＬ４の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得る］
で表される官能化構成ブロックの化合物を準備し、
ｃ）前記式（Ｓ８−１）で表される構成ブロックの化合物を式（Ｓ８−３）
【０３０７】
【化１１４】
2005336187.tif 000115
【０３０８】
［式中、Ｙ１およびＹ２は各々反応性基である］
で表される二官能剤の化合物と反応させることで式（Ｓ８−４）
【０３０９】
【化１１５】
2005336187.tif 000116
【０３１０】
［式中、ｎ２はｌ２に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｄ）前記（Ｓ８−４）で表される化合物を前記式（Ｓ８−２）で表される官能化構成ブロックの化合物と反応させる。
【０３１１】
式（ＶＩＩ）で表される化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｓ９−１）
【０３１２】
【化１１６】
2005336187.tif 000117
【０３１３】
［式中、指数ｌ１はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からα−１（ここで、αはＬ１の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得、そして指数ｌ２はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からβ−１（ここで、βはＬ２の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得る］
で表される構成ブロックの化合物を準備し、
ｂ）式（Ｓ９−２）
【０３１４】
【化１１７】
2005336187.tif 000118
【０３１５】
［式中、Ｘ２は反応性基であり、そして指数ｌ４はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からδ−１（ここで、δはＬ４の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得る］
で表される官能化構成ブロックの化合物を準備し、
ｃ）前記式（Ｓ９−１）で表される構成ブロックの化合物を式（Ｓ９−３）
【０３１６】
【化１１８】
2005336187.tif 000119
【０３１７】
で表される二官能剤の化合物と反応させることで式（Ｓ９−４）
【０３１８】
【化１１９】
2005336187.tif 000120
【０３１９】
［式中、ｎ２はｌ２に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｄ）前記（Ｓ９−４）で表される化合物を前記式（Ｓ９−２）で表される官能化構成ブロックの化合物と反応させる。
【０３２０】
式（ＶＩＩ）で表される化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｓ１０−１）
【０３２１】
【化１２０】
2005336187.tif 000121
【０３２２】
［式中、指数ｌ１はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からα−１（ここで、αはＬ１の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得、そして指数ｌ２はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からβ−１（ここで、βはＬ２の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得る］
で表される構成ブロックの化合物を準備し、
ｂ）式（Ｓ１０−２）
【０３２３】
【化１２１】
2005336187.tif 000122
【０３２４】
［式中、Ｘ３およびＸ４は反応性基である］
で表される官能化構成ブロックの化合物を準備し、
ｃ）前記式（Ｓ１０−１）で表される構成ブロックの化合物を式（Ｓ１０−３）
【０３２５】
【化１２２】
2005336187.tif 000123
【０３２６】
で表される二官能剤の化合物と反応させることで式（Ｓ１０−４）
【０３２７】
【化１２３】
2005336187.tif 000124
【０３２８】
［式中、ｎ２はｌ２に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、次に、
ｄ）前記（Ｓ１０−４）で表される化合物を前記式（Ｓ１０−２）で表される化合物と反応させることで一般式（Ｓ１０−５）
【０３２９】
【化１２４】
2005336187.tif 000125
【０３３０】
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｇ）前記式（Ｓ１０−５）で表される化合物をＬ４を導入し得る作用剤と反応させる。
【０３３１】
式（ＶＩＩ）で表される化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｓ１１−１）
【０３３２】
【化１２５】
2005336187.tif 000126
【０３３３】
［式中、指数ｌ１はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からα−１（ここで、αはＬ１の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得、そして指数ｌ２はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からβ−１（ここで、βはＬ２の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得る］
で表される構成ブロックの化合物を準備し、
ｂ）式（Ｓ１１−２）
【０３３４】
【化１２６】
2005336187.tif 000127
【０３３５】
［式中、Ｘ２は反応性基であり、そして指数ｌ４はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からδ−１（ここで、δはＬ４の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得る］
で表される官能化構成ブロックの化合物を準備し、
ｃ）前記式（Ｓ１１−２）で表される化合物を式（Ｓ１１−３）
【０３３６】
【化１２７】
2005336187.tif 000128
【０３３７】
で表される二官能剤の化合物と反応させることで式（Ｓ１１−４）
【０３３８】
【化１２８】
2005336187.tif 000129
【０３３９】
［式中、ｎ３はｌ３に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、
ｄ）前記（Ｓ１１−４）で表される化合物を前記式（Ｓ１１−２）で表される官能化構成ブロックの化合物と反応させる。
【０３４０】
式（ＶＩＩ）で表される化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｓ１２−１）
【０３４１】
【化１２９】
2005336187.tif 000130
【０３４２】
［式中、指数ｌ１はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からα−１（ここで、αはＬ１の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得、そして指数ｌ２はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からβ−１（ここで、βはＬ２の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得る］
で表される構成ブロックを準備し、
ｂ）式（Ｓ１２−２）
【０３４３】
【化１３０】
2005336187.tif 000131
【０３４４】
［式中、Ｘ３およびＸ４は反応性基である］
で表される官能化構成ブロックの化合物を準備し、
ｃ）前記式（Ｓ１２−２）で表される官能化構成ブロックの化合物を式（Ｓ１２−３）
【０３４５】
【化１３１】
2005336187.tif 000132
【０３４６】
で表される二官能剤の化合物と反応させることで式（Ｓ１２−４）
【０３４７】
【化１３２】
2005336187.tif 000133
【０３４８】
［式中、ｎ３はｌ３に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、次に、
ｄ）前記（Ｓ１２−４）で表される化合物を前記式（Ｓ１２−１）で表される化合物と反応させることで式（Ｓ１２−５）
【０３４９】
【化１３３】
2005336187.tif 000134
【０３５０】
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｅ）前記式（Ｓ１２−５）で表される化合物をＬ４を導入し得る作用剤と反応させる。
【０３５１】
タイプ（ＶＩＩ）の化合物を製造するさらなる方法は、下記の段階を含んで成る：
ａ）式（Ｓ１３−１）
【０３５２】
【化１３４】
2005336187.tif 000135
【０３５３】
［式中、指数ｌ１はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からα−１（ここで、αはＬ１の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得、そして指数ｌ２はＲ群の置換基の数および差に相当し、これは０からβ−１（ここで、βはＬ２の原子価に相当する）のいずれかの値を取り得る］
で表される構成ブロックの化合物を準備し、
ｂ）式（Ｓ１３−２）
【０３５４】
【化１３５】
2005336187.tif 000136
【０３５５】
［式中、Ｘ３およびＸ４は反応性基である］
で表される官能化構成ブロックの化合物を準備し、
ｃ）前記式（Ｓ１３−２）で表される官能化構成ブロックの化合物を式（Ｓ１３−３）
【０３５６】
【化１３６】
2005336187.tif 000137
【０３５７】
で表される二官能剤の化合物と反応させることで式（Ｓ１３−４）
【０３５８】
【化１３７】
2005336187.tif 000138
【０３５９】
［式中、ｎ３はｌ３に等しいか或はそれより小さい］
で表される化合物を生じさせ、次に、
ｄ）前記（Ｓ１３−４）で表される化合物をＬ４を導入し得る作用剤と反応させることで式（Ｓ１３−５）
【０３６０】
【化１３８】
2005336187.tif 000139
【０３６１】
で表される化合物を生じさせ、そして次に、
ｇ）前記式（Ｓ１３−５）で表される化合物を前記式（Ｓ１３−１）で表される化合物と反応させる。
【０３６２】
Ｌ３およびＬ４が窒素原子である化合物を製造する方法に下記の段階を含めるのが好適である：
ａ）α，β−ジカルボニル化合物と第一級アミンをタイプ
Ｍ３（Ｑｏ３）
［ここで、
Ｍ３は、遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ケイ素、ゲルマニウム、アルカリ金属またはアルカリ土類金属であり、
配位子Ｑは、モノアニオン性、ジアニオン性および非荷電性配位子から成る群から選択され、そして
ｏ３は、Ｍ３の電荷に応じて０、１、２、３、４、５、６、７または８であり得る］
の化合物が基になった触媒の存在有り無しで反応させることでα−ケトイミンまたはα−アルドイミンを合成し、そして次に、生じた生成物を単離し、
ｂ）段階ａ）の生成物をジアミン、特に芳香族ジアミンと反応させ、そして得た生成物を単離し、そして
ｃ）段階ｂ）の生成物をＭ１（Ｑｍ１）および／またはＭ２（Ｑｍ２）と反応させた後に生成物を単離する。
【０３６３】
タイプ（Ｖ）の化合物を製造する方法に下記の段階を含めるのが特に好適である：
ａ）α，β−ジカルボニル化合物と第一級アミンを反応させることでα−ケトイミンまたはα−アルドイミンを合成し、そして次に、生じた生成物を単離し、
ｂ）段階ａ）の生成物とジアミン、特に芳香族ジアミンをＭ１（Ｑｍ１）および／またはＭ２（Ｑｍ２）の存在下で反応させた後に生成物を単離する。
【０３６４】
式（Ｖ）で表される化合物を製造する方法に下記の段階を含めるのが非常に特に好適である：
ａ）式（ＶＩＩＩ）
【０３６５】
【化１３９】
2005336187.tif 000140
【０３６６】
で表される化合物の合成をパラ−フェニレンジアミンと２当量のジカルボニル化合物をタイプＭ３（Ｑｏ３）［ここで、
Ｍ３は、遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ケイ素、ゲルマニウム、アルカリ金属またはアルカリ土類金属であり、
配位子Ｑは、モノアニオン性、ジアニオン性および非荷電性配位子から成る群から選択され、そして
ｏ３は、Ｍ３の電荷に応じて０、１、２、３、４、５、６、７または８であり得る］
の化合物が基になった触媒の存在有り無しで反応させ、そして次に、生じた生成物を単離し、
ｂ）段階ａ）の生成物と第一級アミン、特に芳香族アミンをタイプＭ４（Ｑｏ４）［ここで、
Ｍ４は、遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ケイ素、ゲルマニウム、アルカリ金属またはアルカリ土類金属であり、
配位子Ｑは、モノアニオン性、ジアニオン性および非荷電性配位子から成る群から選択され、そして
ｏ４は、Ｍ４の電荷に応じて０、１、２、３、４、５、６、７または８であり得る］
の化合物が基になった触媒の存在有り無しで反応させ、そして得た生成物を単離し、
ｃ）段階ｂ）の生成物をＭ１（Ｑｍ１）および／またはＭ２（Ｑｍ２）と反応させた後に生成物を単離する。
【０３６７】
式（Ｖ）で表される化合物を製造する方法に下記の段階を含めるのが特に好適である：
ａ）式（ＶＩＩＩ）
【０３６８】
【化１４０】
2005336187.tif 000141
【０３６９】
で表される化合物の合成をパラ−フェニレンジアミンと２当量のジカルボニル化合物をタイプＭ３（Ｑｏ３）［ここで、
Ｍ３は、遷移金属、ホウ素、アルミニウム、ケイ素、ゲルマニウム、アルカリ金属またはアルカリ土類金属であり、
配位子Ｑは、モノアニオン性、ジアニオン性および非荷電性配位子から成る群から選択され、そして
ｏ３は、Ｍ３の電荷に応じて０、１、２、３、４、５、６、７または８であり得る］
の化合物が基になった触媒の存在有り無しで反応させ、
段階ａ）の生成物とジアミン、特に芳香族ジアミンをＭ１（Ｑｍ１）および／またはＭ２（Ｑｍ２）の存在下で反応させた後に単離を行う。
【０３７０】
本発明の化合物を触媒として用いる。
【０３７１】
それらを好適にはオレフィンの重合で触媒として用いる。
【０３７２】
本発明の化合物を特に好適には単独または酸および塩基、例えばルイス酸、ブレンステッド酸またはピアソン酸またはルイス塩基などと組み合わせてオレフィンのホモ重合、共重合およびオリゴ重合用触媒として用いる。
【０３７３】
好適なルイス酸はボランまたはアラン、例えばアルミニウムアルキル、アルミニウムハライド、アルキルアルミニウムハライド、アルミニウムアルコキサイド、ホウ素オルガニル（ｂｏｒｏｎ  ｏｒｇａｎｙｌｓ）、ホウ素ハライド、ホウ酸エステル、またはハライドとアルキルもしくはアリールもしくはアルコキサイド置換基またはトリフェニルメチルカチオンの両方を含有するホウ素もしくはアルミニウム化合物、およびまたこれらの混合物である。
【０３７４】
特に、アルミノキサン（ａｌｕｍｉｎｏｘａｎｅｓ）、またはアルミニウム含有ルイス酸と水とアルキルアルミニウムハライドの混合物が好適であり、これらは一般に本分野の技術者に公知である。
【０３７５】
本発明の化合物はそのような酸または塩基の存在下で中間体を生じるが、このような中間体は、実際の重合を行う前か或は重合させるべき単量体の存在下（インサイチュ）で活性触媒溶液として調製可能である。
【０３７６】
本発明の触媒を好適にはオレフィン単量体のホモ重合、共重合および／またはオリゴ重合で用いる。本発明の目的で、オレフィン単量体は本分野の技術者に公知のあらゆるオレフィン単量体である。単量体をエテン、プロペン、１−ブテン、２−ブテン、イソブテン、１−ペンテン、２−ペンテン、１−ヘキセン、２−ヘキセン、３−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、シクロペンテン、ノルボルネン、エチリデンノルボルネン、スチレン、ｐ−メチルスチレン、アクリル酸メチル、メタアクリル酸メチル、酢酸ビニル、アクリロニトリル、メタアクリロニトリルおよびこれらの混合物から成る群から選択するのが好適である。特にエテン、プロペン、１−ブテン、２−ブテン、１−ヘキセン、１−オクテンおよびシクロペンテンが好適である。
【０３７７】
そのような単量体を好適にはホモ重合体の製造で用いる。エテン、プロペンまたは２−ブテンの重合が非常に特に好適である。
【０３７８】
その得た重合体を本分野の技術者に公知の通常方法、例えば押出し加工、射出成形、発泡、フィルムブロー加工（ｆｉｌｍ  ｂｌｏｗｉｎｇ）、カレンダー加工などであらゆる種類の成形体を製造する目的で用いる。
実施例
【実施例１】
【０３７９】
ビス（２，４，６−トリメチルアニリノ）亜鉛クロライド（化合物１）
【０３８０】
【化１４１】
2005336187.tif 000142
【０３８１】
１．９９ｇの塩化亜鉛を２０ｍｌのトルエンに入れて懸濁させた後、４．０２ｇの２，４，６−トリメチルアニリンと混合する。この混合物を２０分間撹拌した後、トルエンを更に２０ｍｌ加える。３５分後にｎ−ヘキサンを１００ｍｌ加えた後、その混合物を１時間撹拌する。生成物を濾別した後、１０ｍｌのトルエンで洗浄する。その後、それを減圧下で一定重量になるまで乾燥させる。
収量：５．５３ｇ（９２％）
【実施例２】
【０３８２】
化合物２
【０３８３】
【化１４２】
2005336187.tif 000143
【０３８４】
開放状態の丸底フラスコをＮ２で覆いながらこれにアセナフトキノンを１８．１８ｇおよびビス（２，４，６−トリメチルアニリノ）亜鉛クロライドを６１ｍｇ入れて、１００℃になるまで加熱する。次に、２，４，６−トリメチルアニリンを１３．４９ｇ加えた後の混合物を１６０℃に１時間加熱する。次に、それを室温になるまで冷却した後、２２０ｍｌのジクロロメタンと混合する。その混合物を濾過した後、ロータリーエバポレーターを用いて、その濾液に蒸発を乾燥まで受けさせる。次に、３００ｍｌのメタノールを用いて生成物を再結晶化させる。
収量：１１．９５ｇ（４０％）
【実施例３】
【０３８５】
化合物３
【０３８６】
【化１４３】
2005336187.tif 000144
【０３８７】
還流冷却器を取り付けておいたフラスコに化合物２を５．６２ｇ、２，３，５，６−テトラメチル−パラ−フェニレンジアミンを１．２４ｇおよび二臭化ニッケルを３．３１ｇ入れた後、１５０ｍｌの氷酢酸と混合する。この混合物を２日間還流させた後、冷却し、室温で更に４日後に生成物を濾別する。その濾過残留物を各場合とも４０ｍｌの氷酢酸で２回洗浄しそして次に各場合とも４０ｍｌのジエチルエーテルで４回洗浄した後、オイルポンプ真空下で一定重量になるまで乾燥させる。
収量：６．８ｇ（７３％）
Ｎｉ含有量：１０．１％（計算値：１０．１％）
【実施例４】
【０３８８】
エテンの重合。共触媒：メチルアルミノキサン（Ｃｒｏｍｐｔｏｎ  ＧｍｂＨ／Ｂｅｒｇｋａｍｅｎからトルエン中１０％濃度溶液として得た：モル質量が９００ｇ／モルのＥｕｒｅｃｅｎ  Ａ１５１００／１０Ｔ、ＣＨ３／Ａｌ：１．９７、加水分解用ガス：８５標準ｍｌ／ｇ、Ａｌが５．２％質量／質量、ＴＭＡが３４．２％質量／質量）。
【０３８９】
不活性にしておいた１  ｌのオートクレーブにトルエンを３８０ｍｌおよびトルエン中１０％濃度のメチルアルミノキサン溶液を２．６ｍｌ仕込んで重合温度である３０℃になるまで加熱する。次に、エテンを用いて圧力を３．４バールに設定して、その溶液をエテンで飽和状態にする。
【０３９０】
７．６ｍｇの化合物３を３２．６ｍｌの塩化メチレンに溶解させた後、加圧ビュレットを用いて反応槽に前記溶液を１ｍｌ導入する（０．２３３ｍｇに相当）。前記加圧ビュレットを２０ｍｌのトルエンで濯ぐことで触媒の総量が前記反応槽に移されたことを確保する。次に、重合を３．４バールの圧力下で実施する。エテンを導入して圧力を調節する。
【０３９１】
１０１分後、エテンの供給を止めかつ反応槽の内容物をエタノールを２  ｌ入れておいた容器に移すことで実験を停止する。
【０３９２】
重合体を濾別した後、真空乾燥オーブンに入れて８０℃で乾燥させる。
【０３９３】
それによってポリエチレンを１６．６ｇ得たが、これは触媒活性がニッケル１モル当たり２４６５３ｋｇの重合体／時であることに相当する。
融点：１３２℃（ＤＳＣで２回目の加熱）、融解エンタルピー：１４８Ｊ／ｇ
ＧＰＣ：Ｍｚ：１５１６０００  Ｍｗ：５３５０００  Ｍｎ：１８３０００  Ｍｗ／Ｍｎ：２．９
［サンプルの各々をオルト−ジクロロベンゼン（ｏ−ＤＣＢ）に１４０℃で溶解させた後、４本の２０μｍスチレン−ジビニルベンゼン線形カラム（Ｌ＝３００ｍｍ、ｄ＝８ｍｍ）の組み合わせが備わっている高温用ＧＰＣ装置（Ｗａｔｅｒｓ  １５０Ｃ）を用いて測定を行った。イオノール（Ｉｏｎｏｌ）を流量補正用内部標準として用いた。溶離液の中の重合体濃度を検出する目的で示差屈折計を用いた。ポリエチレンを１４０℃のｏ−ＤＣＢに入れた場合のＭａｒｋ−Ｈｏｕｗｉｎｋパラメーターを用いた普遍的較正の概念を基にしてクロマトグラムの量的評価を実施した。］
（比較実施例１）
化合物４
【０３９４】
【化１４４】
2005336187.tif 000145
【０３９５】
アセナフトキノン２，４，６−トリメチルフェニルイミンの二臭化ニッケル錯体の合成を下記の如く実施する。
【０３９６】
３．６６ｇのアセナフトキノンと４．３７ｇの二臭化ニッケルを７５ｍｌの氷酢酸と一緒に反応槽の中に入れた後、窒素雰囲気下で５．４１ｇの２，４，６−トリメチルアニリンと混合する。この混合物を７．５時間還流させた後、冷却する。沈澱して来た生成物を各場合とも３０ｍｌの氷酢酸で２回洗浄しそして２５ｍｌのジエチルエーテルで４回洗浄した後、オイルポンプ真空下で一定重量になるまで乾燥させる。
収量：１０．４ｇ（７８％）
Ｎｉ含有量：９．０％（計算値：９．１％）
（比較実施例２）
エテンの重合。共触媒：メチルアルミノキサン（Ｃｒｏｍｐｔｏｎ  ＧｍｂＨ／Ｂｅｒｇｋａｍｅｎからトルエン中１０％濃度溶液として得た：モル質量が９００ｇ／モルのＥｕｒｅｃｅｎ  Ａ１５１００／１０Ｔ、ＣＨ３／Ａｌ：１．９７、加水分解用ガス：８５標準ｍｌ／ｇ、Ａｌが５．２％質量／質量、ＴＭＡが３４．２％質量／質量）。
【０３９７】
不活性にしておいた１  ｌのオートクレーブにトルエンを３８０ｍｌおよびトルエン中１０％濃度のメチルアルミノキサン溶液を２．６ｍｌ仕込んで重合温度である３０℃になるまで加熱する。次に、エテンを用いて圧力を３．４バールに設定して、その溶液をエテンで飽和状態にする。
【０３９８】
１４ｍｇの化合物４を５４．９ｍｌの塩化メチレンに溶解させた後、加圧ビュレットを用いて反応槽に前記溶液を１ｍｌ導入する（０．２５５ｍｇに相当）。前記加圧ビュレットを２０ｍｌのトルエンで濯ぐことで触媒の総量が前記反応槽に移されたことを確保する。次に、重合を３．４バールの圧力下で実施する。エテンを導入して圧力を調節する。
【０３９９】
１０１分後、エテンの供給を止めかつ反応槽の内容物をエタノールを２  ｌ入れておいた容器に移すことで実験を停止する。
【０４００】
重合体を濾別した後、真空乾燥オーブンに入れて８０℃で乾燥させる。
【０４０１】
それによってポリエチレンを１０．０５ｇ得たが、これは触媒活性がニッケル１モル当たり１４９２７ｋｇの重合体／時であることに相当する。
融点：１２５℃（ＤＳＣで２回目の加熱）、融解エンタルピー：１２５Ｊ／ｇ
その触媒活性を実施例４のそれと比較することで、二核錯体の活性の方が一核錯体のそれよりも有意に高いことが分かる。
【実施例５】
【０４０２】
エテンの重合。共触媒：エチルアルミニウムセスキクロライド（Ｃｒｏｍｐｔｏｎ  ＧｍｂＨ／Ｂｅｒｇｋａｍｅｎから入手）。
【０４０３】
不活性にしておいた１  ｌのオートクレーブにトルエンを３８０ｍｌおよびエチルアルミニウムセスキクロライドを０．４ｍｌ仕込んで重合温度である３０℃になるまで加熱する。次に、エテンを用いて圧力を３．４バールに設定して、その溶液をエテンで飽和状態にする。
【０４０４】
７．６ｍｇの化合物３を３２．６ｍｌの塩化メチレンに溶解させた後、加圧ビュレットを用いて反応槽に前記溶液を１ｍｌ導入する（０．２３３ｍｇに相当）。前記加圧ビュレットを２０ｍｌのトルエンで濯ぐことで触媒の総量が前記反応槽に移されたことを確保する。次に、重合を３．４バールの圧力下で実施する。エテンを導入して圧力を調節する。
【０４０５】
９０分後、エテンの供給を止めかつ反応槽の内容物をエタノールを２  ｌ入れておいた容器に移すことで実験を停止する。
【０４０６】
重合体を濾別した後、真空乾燥オーブンに入れて８０℃で乾燥させる。
【０４０７】
それによってポリエチレンを９．６ｇ得る。
融点：１２８℃、融解エンタルピー：１０１Ｊ／ｇ
ＧＰＣ：Ｍｚ：１３７５０００  Ｍｗ：５５００００  Ｍｎ：２０５０００  Ｍｗ／Ｍｎ：２．７
［サンプルの各々をオルト−ジクロロベンゼン（ｏ−ＤＣＢ）に１４０℃で溶解させた後、４本の２０μｍスチレン−ジビニルベンゼン線形カラム（Ｌ＝３００ｍｍ、ｄ＝８ｍｍ）の組み合わせが備わっている高温用ＧＰＣ装置（Ｗａｔｅｒｓ  １５０Ｃ）を用いて測定を行った。イオノールを流量補正用内部標準として用いた。溶離液の中の重合体濃度を検出する目的で示差屈折計を用いた。ポリエチレンを１４０℃のｏ−ＤＣＢに入れた場合のＭａｒｋ−Ｈｏｕｗｉｎｋパラメーターを用いた普遍的較正の概念を基にしてクロマトグラムの量的評価を実施した。］
【実施例６】
【０４０８】
エテンの重合。共触媒：ジエチルアルミニウムクロライド（Ｃｒｏｍｐｔｏｎ  ＧｍｂＨ／Ｂｅｒｇｋａｍｅｎから入手）。
【０４０９】
不活性にしておいた１  ｌのオートクレーブにトルエンを３８０ｍｌおよび２０％濃度のジエチルアルミニウムクロライド溶液を０．３３ｍｌ仕込んで重合温度である３０℃になるまで加熱する。次に、エテンを用いて圧力を３．４バールに設定して、その溶液をエテンで飽和状態にする。
【０４１０】
７．６ｍｇの化合物３を３２．６ｍｌの塩化メチレンに溶解させた後、加圧ビュレットを用いて反応槽に前記溶液を１ｍｌ導入する（０．２３３ｍｇに相当）。前記加圧ビュレットを２０ｍｌのトルエンで濯ぐことで触媒の総量が前記反応槽に移されたことを確保する。次に、重合を３．４バールの圧力下で実施する。エテンを導入して圧力を調節する。
【０４１１】
９０分後、エテンの供給を止めかつ反応槽の内容物をエタノールを２  ｌ入れておいた容器に移すことで実験を停止する。
【０４１２】
重合体を濾別した後、真空乾燥オーブンに入れて８０℃で乾燥させる。
【０４１３】
それによってポリエチレンを５．８ｇ得る。
融点：１３７℃、融解エンタルピー：１２６Ｊ／ｇ
ＧＰＣ：Ｍｚ：２３１６０００  Ｍｗ：６８２０００  Ｍｎ：２０９０００  Ｍｗ／Ｍｎ：３．３
［サンプルの各々をオルト−ジクロロベンゼン（ｏ−ＤＣＢ）に１４０℃で溶解させた後、４本の２０μｍスチレン−ジビニルベンゼン線形カラム（Ｌ＝３００ｍｍ、ｄ＝８ｍｍ）の組み合わせが備わっている高温用ＧＰＣ装置（Ｗａｔｅｒｓ  １５０Ｃ）を用いて測定を行った。イオノールを流量補正用内部標準として用いた。溶離液の中の重合体濃度を検出する目的で示差屈折計を用いた。ポリエチレンを１４０℃のｏ−ＤＣＢに入れた場合のＭａｒｋ−Ｈｏｕｗｉｎｋパラメーターを用いた普遍的較正の概念を基にしてクロマトグラムの量的評価を実施した。］
【実施例７】
【０４１４】
プロペンの重合。共触媒：メチルアルミノキサン（Ｃｒｏｍｐｔｏｎ  ＧｍｂＨ／Ｂｅｒｇｋａｍｅｎからトルエン中１０％濃度溶液として得た：モル質量が９００ｇ／モルのＥｕｒｅｃｅｎ  Ａ１５１００／１０Ｔ、ＣＨ３／Ａｌ：１．９７、加水分解用ガス：８５標準ｍｌ／ｇ、Ａｌが５．２％質量／質量、ＴＭＡが３４．２％質量／質量）。
【０４１５】
不活性にしておいた１  ｌのオートクレーブにトルエンを３８０ｍｌおよびトルエン中１０％濃度のメチルアルミノキサン溶液を２６．４ｍｌ仕込んで重合温度である３０℃になるまで加熱する。次に、プロペンを用いて圧力を６バールに設定して、その溶液をプロペンで飽和状態にする。
【０４１６】
３２０ｍｇの化合物３を６８．８ｍｌの塩化メチレンに溶解させた後、加圧ビュレットを用いて反応槽に前記溶液を５ｍｌ導入する（２３．３ｍｇに相当）。前記加圧ビュレットを２０ｍｌのトルエンで濯ぐことで触媒の総量が前記反応槽に移されたことを確保する。次に、重合を６バールの圧力下で実施する。プロペンを導入して圧力を調節する。
【０４１７】
９０分後、プロペンの供給を止めかつ反応槽の内容物をエタノールを２  ｌ入れておいた容器に移すことで実験を停止する。
【０４１８】
重合体を濾別した後、真空乾燥オーブンに入れて８０℃で乾燥させる。
【０４１９】
それによって重合体を１０．２ｇ得る。
ガラス転移温度：−３６℃（ＤＳＣで２回目の加熱）。
１Ｈ−ＮＭＲ（６６℃のＣ２Ｄ２Ｃｌ４中）：２５０ＣＨ／１０００Ｃ
ＧＰＣ：Ｍｚ：２１３０００  Ｍｗ：１３２０００  Ｍｎ：５６０００  Ｍｗ／Ｍｎ：２．４
［サンプルの各々をオルト−ジクロロベンゼン（ｏ−ＤＣＢ）に１４０℃で溶解させた後、４本の２０μｍスチレン−ジビニルベンゼン線形カラム（Ｌ＝３００ｍｍ、ｄ＝８ｍｍ）の組み合わせが備わっている高温用ＧＰＣ装置（Ｗａｔｅｒｓ  １５０Ｃ）を用いて測定を行った。イオノール（Ｉｏｎｏｌ）を流量補正用内部標準として用いた。溶離液の中の重合体濃度を検出する目的で示差屈折計を用いた。ポリエチレンを１４０℃のｏ−ＤＣＢに入れた場合のＭａｒｋ−Ｈｏｕｗｉｎｋパラメーターを用いた普遍的較正の概念を基にしてクロマトグラムの量的評価を実施した。］
【実施例８】
【０４２０】
プロペンの重合。共触媒：メチルアルミノキサン（Ｃｒｏｍｐｔｏｎ  ＧｍｂＨ／Ｂｅｒｇｋａｍｅｎからトルエン中１０％濃度溶液として得た：モル質量が９００ｇ／モルのＥｕｒｅｃｅｎ  Ａ１５１００／１０Ｔ、ＣＨ３／Ａｌ：１．９７、加水分解用ガス：８５標準ｍｌ／ｇ、Ａｌが５．２％質量／質量、ＴＭＡが３４．２％質量／質量）。
【０４２１】
不活性にしておいた１  ｌのオートクレーブにトルエンを３８０ｍｌおよびトルエン中１０％濃度のメチルアルミノキサン溶液を２６．４ｍｌ仕込んで重合温度である３０℃になるまで加熱する。次に、プロペンを用いて圧力を３バールに設定して、その溶液をプロペンで飽和状態にする。
【０４２２】
３２０ｍｇの化合物３を６８．８ｍｌの塩化メチレンに溶解させた後、加圧ビュレットを用いて反応槽に前記溶液を５ｍｌ導入する（２３．３ｍｇに相当）。前記加圧ビュレットを２０ｍｌのトルエンで濯ぐことで触媒の総量が前記反応槽に移されたことを確保する。次に、重合を３バールの圧力下で実施する。プロペンを導入して圧力を調節する。
【０４２３】
９０分後、プロペンの供給を止めかつ反応槽の内容物をエタノールを２  ｌ入れておいた容器に移すことで実験を停止する。
【０４２４】
重合体を濾別した後、真空乾燥オーブンに入れて８０℃で乾燥させる。
【０４２５】
それによって重合体を１０．４ｇ得る。
ガラス転移温度：−３８℃（ＤＳＣで２回目の加熱）。
１Ｈ−ＮＭＲ（７６℃のＣ２Ｄ２Ｃｌ４中）：２６２ＣＨ／１０００Ｃ
ＧＰＣ：Ｍｚ：１２６０００  Ｍｗ：７９０００  Ｍｎ：４００００  Ｍｗ／Ｍｎ：２．０
［サンプルの各々をオルト−ジクロロベンゼン（ｏ−ＤＣＢ）に１４０℃で溶解させた後、４本の２０μｍスチレン−ジビニルベンゼン線形カラム（Ｌ＝３００ｍｍ、ｄ＝８ｍｍ）の組み合わせが備わっている高温用ＧＰＣ装置（Ｗａｔｅｒｓ  １５０Ｃ）を用いて測定を行った。イオノールを流量補正用内部標準として用いた。溶離液の中の重合体濃度を検出する目的で示差屈折計を用いた。ポリエチレンを１４０℃のｏ−ＤＣＢに入れた場合のＭａｒｋ−Ｈｏｕｗｉｎｋパラメーターを用いた普遍的較正の概念を基にしてクロマトグラムの量的評価を実施した。］
【実施例９】
【０４２６】
ヘキセンの重合。共触媒：メチルアルミノキサン（Ｃｒｏｍｐｔｏｎ  ＧｍｂＨ／Ｂｅｒｇｋａｍｅｎからトルエン中１０％濃度溶液として得た：モル質量が９００ｇ／モルのＥｕｒｅｃｅｎ  Ａ１５１００／１０Ｔ、ＣＨ３／Ａｌ：１．９７、加水分解用ガス：８５標準ｍｌ／ｇ、Ａｌが５．２％質量／質量、ＴＭＡが３４．２％質量／質量）。
【０４２７】
不活性にしておいたガラス製反応槽にトルエンを５０ｍｌ、１−ヘキセンを５０ｍｌおよびトルエン中１０％濃度のメチルアルミノキサン溶液を２６．４ｍｌ仕込む。
【０４２８】
３２０ｍｇの化合物３を６８．８ｍｌの塩化メチレンに溶解させた後、反応槽に前記溶液を５ｍｌ導入する（２３．３ｍｇに相当）。
【０４２９】
９０分後、反応槽の内容物をエタノールを２  ｌ入れておいた容器に移すことで実験を停止する。
【０４３０】
重合体を濾別した後、真空乾燥オーブンに入れて８０℃で乾燥させる。
【０４３１】
それによって重合体を１５．１ｇ得る。
ガラス転移温度：−５４℃（ＤＳＣで２回目の加熱）。
１Ｈ−ＮＭＲ（７６℃のＣ２Ｄ２Ｃｌ４中）：１４９ＣＨ／１０００Ｃ
ＧＰＣ：Ｍｚ：１７２０００  Ｍｗ：９９０００  Ｍｎ：３８０００  Ｍｗ／Ｍｎ：２．６
［サンプルの各々をオルト−ジクロロベンゼン（ｏ−ＤＣＢ）に１４０℃で溶解させた後、４本の２０μｍスチレン−ジビニルベンゼン線形カラム（Ｌ＝３００ｍｍ、ｄ＝８ｍｍ）の組み合わせが備わっている高温用ＧＰＣ装置（Ｗａｔｅｒｓ  １５０Ｃ）を用いて測定を行った。イオノールを流量補正用内部標準として用いた。溶離液の中の重合体濃度を検出する目的で示差屈折計を用いた。ポリエチレンを１４０℃のｏ−ＤＣＢに入れた場合のＭａｒｋ−Ｈｏｕｗｉｎｋパラメーターを用いた普遍的較正の概念を基にしてクロマトグラムの量的評価を実施した。］
【実施例１０】
【０４３２】
２−ブテンの重合。共触媒：メチルアルミノキサン（Ｃｒｏｍｐｔｏｎ  ＧｍｂＨ／Ｂｅｒｇｋａｍｅｎからトルエン中１０％濃度溶液として得た：モル質量が９００ｇ／モルのＥｕｒｅｃｅｎ  Ａ１５１００／１０Ｔ、ＣＨ３／Ａｌ：１．９７、加水分解用ガス：８５標準ｍｌ／ｇ、Ａｌが５．２％質量／質量、ＴＭＡが３４．２％質量／質量）。
【０４３３】
不活性にしておいたガラス製反応槽に１−ヘキサンを１００ｍｌ、トランス−２−ブテンを８．５ｇおよびトルエン中１０％濃度のメチルアルミノキサン溶液を１２．１ｍｌ仕込む。
【０４３４】
１８７．８ｍｇの化合物３を４０．３ｍｌの塩化メチレンに溶解させた後、反応槽に前記溶液を１０ｍｌ導入する（４６．６ｍｇに相当）。
【０４３５】
２４０分後、反応槽の内容物を４０ｍｌのエタノールと混合した後に各場合とも１００ｍｌの蒸留水で２回洗浄することで実験を停止する。ロータリーエバポレーターを用いて溶媒を除去する。
【０４３６】
重合体を真空乾燥オーブンに入れて８０℃で乾燥させる。
【０４３７】
それによって重合体を６．４ｇ得る。
ガラス転移温度：−５３℃（ＤＳＣで２回目の加熱）。
１Ｈ−ＮＭＲ（７６℃のＣ２Ｄ２Ｃｌ４中）：２４７ＣＨ／１０００Ｃ
Ｍｗ：２１６０００  Ｍｎ：１８７０００  Ｍｗ／Ｍｎ：１．１５
［サンプルの各々をオルト−ジクロロベンゼン（ｏ−ＤＣＢ）に４０℃で溶解させた後、３本の２０μｍスチレン−ジビニルベンゼン線形カラム（Ｌ＝３００ｍｍ、ｄ＝７．５ｍｍ）の組み合わせが備わっているＧＰＣ装置（Ｗａｔｅｒｓ）を用いて測定を行った。イオノールを流量補正用内部標準として用いた。溶離液の中の重合体濃度を検出する目的で示差屈折計を用いた。ポリスチレンに関するＭａｒｋ−Ｈｏｕｗｉｎｋパラメーターを用いた普遍的較正の概念を基にしてクロマトグラムの量的評価を実施した。］
（比較実施例３）
２−ブテンの重合。共触媒：メチルアルミノキサン（Ｃｒｏｍｐｔｏｎ  ＧｍｂＨ／Ｂｅｒｇｋａｍｅｎからトルエン中１０％濃度溶液として得た：モル質量が９００ｇ／モルのＥｕｒｅｃｅｎ  Ａ１５１００／１０Ｔ、ＣＨ３／Ａｌ：１．９７、加水分解用ガス：８５標準ｍｌ／ｇ、Ａｌが５．２％質量／質量、ＴＭＡが３４．２％質量／質量）。
【０４３８】
不活性にしておいたガラス製反応槽に１−ヘキサンを１００ｍｌ、トランス−２−ブテンを８．７ｇおよびトルエン中１０％濃度のメチルアルミノキサン溶液を１２．１ｍｌ仕込む。
【０４３９】
４３．８ｍｇの化合物４を１０ｍｌの塩化メチレンに溶解させた後、この溶液を反応槽に導入する。
【０４４０】
２４０分後、反応槽の内容物を４０ｍｌのエタノールと混合した後に各場合とも１００ｍｌの蒸留水で２回洗浄することで実験を停止する。ロータリーエバポレーターを用いて溶媒を除去する。
【０４４１】
重合体を真空乾燥オーブンに入れて８０℃で乾燥させる。
【０４４２】
それによって重合体を４．４ｇ得る。
ガラス転移温度：−５２℃（ＤＳＣで２回目の加熱）。
１Ｈ−ＮＭＲ（７６℃のＣ２Ｄ２Ｃｌ４中）：２４７ＣＨ／１０００Ｃ
Ｍｗ：２３１０００  Ｍｎ：１６６０００  Ｍｗ／Ｍｎ：１．３９
［サンプルの各々をテトラヒドロフランに４０℃で溶解させた後、３本の２０μｍスチレン−ジビニルベンゼン線形カラム（Ｌ＝３００ｍｍ、ｄ＝７．５ｍｍ）の組み合わせが備わっているＧＰＣ装置（Ｗａｔｅｒｓ）を用いて測定を行った。イオノールを流量補正用内部標準として用いた。溶離液の中の重合体濃度を検出する目的で示差屈折計を用いた。ポリスチレンに関するＭａｒｋ−Ｈｏｕｗｉｎｋパラメーターを用いた普遍的較正の概念を基にしてクロマトグラムの量的評価を実施した。］