(57)【要約】【課題】ＳＭＩＦ−ＰＯＤに収納された透明基板をを自動的に識別し、該透明基板の情報及びレシピを読み取り、その進捗情報を得ることができ、逆に自動的に書き込むことにより、入力ミス等の人為的要因を排除し、貼り紙等から発生する塵埃が透明基板に付着して製品不良となる原因を排除するフォトマスクの製造情報の管理システム及びその方法を提供することにある。【解決手段】フォトマスクの製造工程の製造装置及びその装置間を連結する基板搬送装置及び特定の名称を付与した透明基板を収納したＳＭＩＦ−ＰＯＤと、前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤに装着したＲＦ−ＩＤタグ及び前記製造装置に装着したＲＦ−ＩＤリーダライタ及び該ＲＦ−ＩＤリーダライタを制御管理するワークステーション及び情報及びレシピの記録／出力が可能な生産管理データベースから構成されたフォトマスクの製造情報管理システム。【選択図】図１
2005300723.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体集積回路装置用のフォトマスクの製造工程であり、各種の製造装置及びその装置間を連結する基板搬送装置より構成する生産ラインと、該生産ラインの情報及びレシピを管理する各種ワークステーションより構成する管理ラインとからなるフォトマスクの製造情報管理システムにおいて、生産ラインは、製造装置及びその装置間を連結するＳＭＩＦ−ＰＯＤを具備した基板搬送装置及び該ＳＭＩＦ−ＰＯＤに収納される特定する名称を付与した透明基板から構成され、管理ラインには、前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤに装着したＲＦ−ＩＤタグ及び前記製造装置の近傍に装着したＲＦ−ＩＤリーダライタ及び該ＲＦ−ＩＤリーダライタを制御管理するワークステーション及び情報及びレシピの記録／出力が可能な生産管理データベースから構成されることを特徴とするフォトマスクの製造情報管理システム。
【請求項２】
請求項１記載のフォトマスクの製造情報管理システムを用いたフォトマスクの製造情報の管理方法において、各々製造装置毎に、少なくとも以下の手順を含むことを特徴とするフォトマスクの製造情報の管理方法。
（ａ）基板を製造装置へロード時の手順。
（１−ａ）製造装置にＳＭＩＦ−ＰＯＤを投入する。
（１−ｂ）該製造装置側より基板ロード可の信号が出力される。
（１−ｃ）該製造装置の近傍に装着したＲＦ−ＩＤリーダライタは、基板ロード可の信号を受信する。
（１−ｄ）該ＲＦ−ＩＤリーダライタは、前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤに装着したＲＦ−ＩＤタグに基板ロード可の信号を書き込む。
（１−ｅ）特定する名称を付与した透明基板は、ＳＭＩＦ−ＰＯＤから製造装置へロードされる。
（１−ｆ）該製造装置は、特定する名称を付与した透明基板に所定の処理工程を施す。
（１−ｇ）該製造装置の近傍に装着したＲＦ−ＩＤリーダライタは、製造装置より前記所定の処理工程の情報及びレシピを受信する。
（１−ｈ）情報及びレシピを制御管理するワークステーションは、生産管理データベースへ所定の処理工程の情報及びレシピを記録する。
（ｂ）基板を製造装置へアンロード時の手順。
（２―ａ）製造装置側より基板アンロード可の信号が出力される。
（２―ｂ）該製造装置の近傍に装着したＲＦ−ＩＤリーダライタは、基板アンロード可の信号を受信する。
（２―ｃ）該ＲＦ−ＩＤリーダライタは、前記待避中のＳＭＩＦ−ＰＯＤに装着したＲＦ−ＩＤタグに基板アンロード可の信号を書き込む。
（２―ｄ）特定する名称を付与した透明基板は、製造装置より待避中のＳＭＩＦ−ＰＯＤへアンロードされる。
（２―ｅ）該製造装置の近傍に装着したＲＦ−ＩＤリーダライタは、製造装置より前記特定する名称を付与した透明基板のアンロードの処理工程の情報及びレシピを受信する。
（２―ｆ）情報及びレシピを制御管理するワークステーションは、生産管理データベースへ透明基板のアンロードの処理工程の情報及びレシピを記録する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体集積回路装置用のフォトマスクの製造工程に係るフォトマスクの製造情報の管理システム及びそれを用いたフォトマスクの製造情報の管理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体集積回路装置の製造工程では、被転写基板であるウエハ上に多層に配線を形成するために、露光光を用いてフォトマスク上の集積回路パターンを前記ウエハに転写するフォトリソグラフィ工程が複数回繰り返されている。一方、半導体集積回路装置の製造期間の短縮等の改善が進められている。その手段として、種々の標準化や前記フォトマスクの製造の日数（工期）の短縮が図られている。特に、一つの半導体集積回路装置の製造工程は、複数のフォトマスクが必要であり、前記ウエハに転写するフォトリソグラフィ工程毎に、その順に所定のフォトマスクを供給することが重要となる。特に、このフォトマスクをタイムリーに供給できるか否かが半導体集積回路装置の製造の日数を決める重要な要因となっている。
【０００３】
半導体集積回路装置用の前記フォトマスクの製造工程では、透明基板上に遮光層、レジスト層を順次、積層する塗布工程と、前記レジスト層に電子描画装置を用いてパターニングする露光工程、必要とするパターン部のみが欠落した状態のレジストパターンを形成する現像処理工程と、前記レジストパターンをマスクとして前記遮光層をエッチングによってパターニングして、必要とするパターン部のみが欠落した状態の遮光パターンを形成するエッチング処理工程と、前記レジストパターンを剥離する剥膜処理工程を処理されてフォトマスクが製造される。前記フォトマスクは、予め計画された順番及びその完了日に従ってその順番に投入され、タイムリーに半導体集積回路装置の製造工程内に供給する方法で管理されている。
【０００４】
フォトマスクの製造工程では、移動するフォトマスクをＳＭＩＦ−ＰＯＤに収納してその工程間の運搬を行っている。前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤは、製造工程内に配置した装置への透明基板をロード及びアンロードする動作で、自動化可能なフォトマスクの収納容器であり、グローバルスタンダードの容器である。前記装置は、フォトマスク製造工程において使用されるあらゆる装置であり、例えば、成膜装置、塗布装置、電子線描画装置、現像処理装置、エッチング処理装置、剥膜処理装置、洗浄装置、検査装置等の製造装置と、自動化ライン装置、工程内待避ブース装置、等の自動搬送が含まれる。最近では、ＳＭＩＦ−ＰＯＤは、ＲＦ−ＩＤタグが具備されている。前記ＲＦ−ＩＤタグは、収容したフォトマスク、又は透明基板等に付与された特定する名称や製造進捗日時、又は完成予定日時等の項目の情報を管理・記録する用途のものである。前記ＲＦ−ＩＤタグは、透明基板の情報、例えば、基板厚、遮光膜の膜質、レジストの区分及び感度および製造履歴が記録されており、この情報をベースに、経由した前記製造装置毎に、製造実績のレシピを追加記録する。次に経由した装置では、該装置の記録したレシピを活用・判定し、その指示条件レシピに従って装置が処理する。前記レシピは、電子線描画装置のレシピ、例えば、照射量、近接効果補正係数であり、製造工程のプロセスレシピ、例えば、温度、時間、ガス又は薬液の流量、圧力、回転数等である。
【０００５】
前記ＲＦ−ＩＤタグに記録されている情報及びレシピを確認する手段は、装置にＲＦ−ＩＤリーダライタ（以下ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗと記す）が付設されており、ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／ＷがＲＦ−ＩＤタグに記録されている情報及びレシピを読み取ったり、逆にＲＦ−ＩＤタグに書き込んだりする技術システムが開発されている（特許文献１参照）。
【０００６】
しかしながら、前記装置の全てにＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗが付設されているわけではない。その理由は、その製造装置のメーカの技術対応力の不足によりＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗを付与することができない場合もあれば、ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗを付与することはできてもそのために高額な付設費用を要する場合等がある。現状では、装置にＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗが付設されていない場合には、別途クリーンペーパ等に情報及びレシピを記入して、ＳＭＩＦ−ＰＯＤに貼付することで対処している。しかし、その方法では、以下の問題点がある。ＳＭＩＦ−ＰＯＤに収納したフォトマスク、又は透明基板を自動的に識別することができない。透明基板が装置に投入されたか、否か等の進捗情報を得ることができない。前記情報及びレシピを記入したクリーンペーパ等から、事後に人手を介して登録しても、入力ミス等の人為的なミスにより不良が発生する恐れがある。さらに、紙等の貼付により発塵する問題がある。
【０００７】
以下に公知文献を記す。
【特許文献１】特開２００２−２５８９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的は、ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗが付設されていないＳＭＩＦ−ＰＯＤに対応する装置にて透明基板を処理する場合でも、ＳＭＩＦ−ＰＯＤに収納された透明基板を特定する名称を自動的に識別し、該透明基板の情報及びレシピを読み取り、その進捗情報を得ることができ、逆に自動的に書き込むことにより、入力ミス等の人為的要因を排除し、さらに、人手を介してに貼り紙等から発生する塵埃が透明基板に付着して製品不良となる原因を排除することができるフォトマスクの製造情報の管理システム及びその方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の請求項１に係る発明は、半導体集積回路装置用のフォトマスクの製造工程であり、各種の製造装置及びその装置間を連結する基板搬送装置より構成する生産ラインと、該生産ラインの情報及びレシピを管理する各種ワークステーションより構成する管理ラインとからなるフォトマスクの製造情報管理システムにおいて、生産ラインは、製造装置及びその装置間を連結するＳＭＩＦ−ＰＯＤを具備した基板搬送装置及び該ＳＭＩＦ−ＰＯＤに収納される特定する名称を付与した透明基板から構成され、管理ラインには、前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤに装着したＲＦ−ＩＤタグ及び前記製造装置の近傍に装着したＲＦ−ＩＤリーダライタ及び該ＲＦ−ＩＤリーダライタを制御管理するワークステーション及び情報及びレシピの記録／出力が可能な生産管理データベースから構成されることを特徴とするフォトマスクの製造情報管理システムである。
【００１０】
本発明の請求項２に係る発明は、請求項１記載のフォトマスクの製造情報管理システムを用いたフォトマスクの製造情報の管理方法において、各々製造装置毎に、少なくとも以下の手順を含むことを特徴とするフォトマスクの製造情報の管理方法である。
（ａ）基板を製造装置へロード時の手順。
（１−ａ）製造装置にＳＭＩＦ−ＰＯＤを投入する。
（１−ｂ）該製造装置側より基板ロード可の信号が出力される。
（１−ｃ）該製造装置の近傍に装着したＲＦ−ＩＤリーダライタは、基板ロード可の信号を受信する。
（１−ｄ）該ＲＦ−ＩＤリーダライタは、前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤに装着したＲＦ−ＩＤタグに基板ロード可の信号を書き込む。
（１−ｅ）特定する名称を付与した透明基板は、ＳＭＩＦ−ＰＯＤから製造装置へロード
される。
（１−ｆ）該製造装置は、特定する名称を付与した透明基板に所定の処理工程を施す。
（１−ｇ）該製造装置の近傍に装着したＲＦ−ＩＤリーダライタは、製造装置より前記所定の処理工程の情報及びレシピを受信する。
（１−ｈ）情報及びレシピを制御管理するワークステーションは、生産管理データベースへ所定の処理工程の情報及びレシピを記録する。
（ｂ）基板を製造装置へアンロード時の手順。
（２―ａ）製造装置側より基板アンロード可の信号が出力される。
（２―ｂ）該製造装置の近傍に装着したＲＦ−ＩＤリーダライタは、基板アンロード可の信号を受信する。
（２―ｃ）該ＲＦ−ＩＤリーダライタは、前記待避中のＳＭＩＦ−ＰＯＤに装着したＲＦ−ＩＤタグに基板アンロード可の信号を書き込む。
（２―ｄ）特定する名称を付与した透明基板は、製造装置より待避中のＳＭＩＦ−ＰＯＤへアンロードされる。
（２―ｅ）該製造装置の近傍に装着したＲＦ−ＩＤリーダライタは、製造装置より前記特定する名称を付与した透明基板のアンロードの処理工程の情報及びレシピを受信する。
（２―ｆ）情報及びレシピを制御管理するワークステーションは、生産管理データベースへ透明基板のアンロードの処理工程の情報及びレシピを記録する。
である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の方法、すなわち、製造装置とは別にオフラインでＲＦ−ＩＤリーダライタを付設したフォトマスクの製造情報の管理システム及びそれを用いたフォトマスクの製造情報の管理方法を用いることにより、ＲＦ−ＩＤリーダライタが付設されていないＳＭＩＦ−ＰＯＤ対応の製造装置で透明基板に所定の処理をする場合でも、ＳＭＩＦ−ＰＯＤに付設したＲＦ−ＩＤタグに情報及びレシピの書き込み（記録）や、読み取り（呼出）をすることができ、ＳＭＩＦ−ＰＯＤに収納された透明基板の製造装置へのロード／アンロードの情報及びレシピによりその進捗情報を得ることができ、入力ミス等の人為的要因が排除でき、ＳＭＩＦ−ＰＯＤに紙等を貼付け等の人手の作業を排除し、発塵源を無くしたため、透明基板に塵埃が付着する品質不良を削減することができ、さらに、生産管理データベースに対して各々の製造装置の情報及びレシピをワークステーションに登録し、該ワークステーションの記録／呼出の機能によりフォトマスクの製造進捗日時の情報又は完了計画日時等を随時に提供できる。また、半導体集積回路装置の製造工程でのウエハに転写するフォトリソグラフィ工程毎に、所定のフォトマスクをタイムリーに供給できることにより、半導体集積回路装置の製造の日数を安定的に短縮する効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明のフォトマスクの製造情報管理システムを一実施形態に基づいて以下に説明する。図１ａ〜ｂは、本発明のフォトマスクの製造情報管理システムの一実施例を示す概念図である。図１ａに示すように、まず、半導体集積回路装置用のフォトマスクの製造工程では、各種の製造装置（２）と、その装置間を連結する基板搬送装置（３）とにより構成する生産ライン（４）と、該生産ラインの情報及びレシピの管理する各種ワークステーション（６、１６）より構成する管理ライン（７）とから構築されている。
【００１３】
次に、本発明のフォトマスクの製造情報管理システム（１）の管理ライン（７）は、生産ラインにおいては、製造装置の製造装置側出入力（１２）と、その装置間を連結するＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）を具備した基板搬送装置と、該ＳＭＩＦ−ＰＯＤに収納される特定する名称を付与した透明基板（１０）から構成され、管理ラインにおいては、前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤに装着したＲＦ−ＩＤタグ（１４）と、前記製造装置の近傍に装着したＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）と、該ＲＦ−ＩＤリーダライタを制御管理するワークステー
ション（１６）と、情報及びレシピの記録／出力する生産管理データベース（１７）から構成されている。
【００１４】
次に、図１ｂは、ａ図の破線枠部の詳細図である。ｎ番目の装置Ｍｎのフォトマスクの製造情報管理システムを説明するもので、ＳＭＩＦポート（２３）へ特定する名称を付与した透明基板（１０）を収納したＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）が投入され、載置されている。製造装置の製造装置側出入力（１２）は、製造装置内の情報及びレシピ等の信号を出力、又は入力するものである。製造装置の近傍には、オフライン状態で、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）が付設され、該ＲＦ−ＩＤリーダライタは、製造装置側出入力（１２）よりの受信、又はＲＦ−ＩＤタグ（１４）との送受信、又はワークステーション（１６）との送受信を分担する。ワークステーション（１６）は、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）より受信したフォトマスクの製造の情報及びレシピ（５）を各製造装置間にネットワークされたワークステーション（６）を経由して、生産管理データベース（１７）に登録しデータベースを構築する。
【００１５】
次に、以下に具体的な実施例に従って説明する。図２ａ〜ｂは、本発明のフォトマスクの製造情報の管理方法を説明するフロー図である。図１ａ〜ｂに示すフォトマスクの製造情報管理システム（１）を用いて、フォトマスクの製造情報の管理方法の手順を説明する。まず、特定する名称を付与した透明基板（１０）は、ＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）に収納する。透明基板には、予め特定する名称、例えばシリーズ名称、マスク品種番号、マスク名等を組み合わせた英数字からなる名称又はコード番号が付与され、該特定する名称により、製造関連仕様及び指示の情報及びレシピ、製造進捗日時の情報及びレシピ、製造装置の製造処理結果等の情報及びレシピ等を全て管理する方法及び手順が採用されたものである。ここで、生産ラインへの投入準備が終了する。
【００１６】
図１を参照して、図２（ａ）〜（ｂ）に示すフロー図を説明する。まず（ａ）は、基板を製造装置へロード時の手順であり（１−ａ）では、製造装置にＳＭＩＦ−ＰＯＤを投入する。基板搬送装置（３）内には、各々の製造装置（２）の正面位置にＳＭＩＦポート（２３）が付設されている。該ＳＭＩＦポート（２３）に特定する名称を付与した透明基板（１０）を収納したＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）が載置されると、製造装置（２）では、前記透明基板に付与された特定する名称と、製造装置側で準備した製造処理の製造関連仕様及び指示の情報及びレシピの特定する名称とを照合し、一致すれば、製造装置での製造処理のための準備を開始する。その手順の（１−ｂ）は、製造装置側出入力（１２）より基板ロード可の信号が出力される。次に（１−ｃ）では、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）は、製造装置側出入力（１２）より出力した基板ロード可の信号を受信し、記録する。次に（１−ｄ）では、ＲＦ−ＩＤリーダライタは、前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤに装着したＲＦ−ＩＤタグ（１４）に基板ロード可の信号と、当該製造装置の製造処理の開始時間とを書き込む。すなわち、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）には、製造処理の開始時間を記録して、フォトマスクの製造進捗日時の実績情報としての履歴となり、製造進捗では、当該製造装置に投入中に時間区分される。次に（１−ｅ）では、同時並行により、特定する名称を付与した透明基板は、ＳＭＩＦ−ＰＯＤから製造装置へロードされる。ロード可の信号と同時に、特定する名称を付与した透明基板（１０）は、ＳＭＩＦ−ＰＯＤの扉を開放し、製造装置の移載装置を経由して装置内ステージまで移動する。前記ＳＭＩＦ−ＰＯＤはＳＭＩＦポート（２３）に待避した状態のまま、当該製造処理が完了するまでその位置に止まる。また、ＳＭＩＦ−ＰＯＤの扉を開放した時刻を記録し、例えば、当該製造装置の製造処理の開始時間とする。以上で装置間の移動が完了した。次の（１−ｆ）では、当該製造装置では、特定する名称を付与した透明基板に所定の処理工程を施す。所定の処理工程では、特定する名称により登録された製造関連仕様及び指示の情報及びレシピより、必要な項目を抽出し、製造装置の製造処理レシピに条件設定した後、該レシピ、又は指示の情報に従って製造処理する。処理完了時、製造関連仕様及び指示の情報及びレシピに関連した情報及
びレシピを抽出し、該情報及びレシピを製造装置側出入力（１２）より出力する。次の（１−ｇ）では、製造装置の近傍に装着したＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）は、製造出入力（１２）より前記情報及びレシピを受信し、記録する。次の（１−ｈ）では、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）からワークステーション（１６）へ前記情報及びレシピを送信し、ワークステーション（１６）経由して、装置間のワークステーション（６）を介して生産管理データベース（１７）へ所定の処理工程の情報及びレシピを記録し、データベースを構築する。以上（１−ａ）〜（１−ｈ）の手順により、特定する名称を付与した透明基板（１０）が当該製造装置（２）へロードされた後、当該製造装置での所定の製造処理が完了する。又、同時に、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）には、フォトマスクの製造進捗日時の実績情報が書き込まれ、生産管理データベース（１７）には、フォトマスクの製造進捗日時と、情報及びレシピがデータベース化されて保存される。
【００１７】
次の（ｂ）では、透明基板を製造装置から待避中のＳＭＩＦ−ＰＯＤへアンロードする時の手順を説明する。まず（２―ａ）では、製造装置側出入力（１２）より当該のＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）へ特定する名称を付与した透明基板（１０）をアンロードするアンロード可の信号が出力される。次の（２―ｂ）では、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）は、製造装置側出入力（１２）より基板アンロード可の信号を受信する。次の（２―ｃ）では、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）は、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）に基板アンロード可の信号を書き込む。次に（２―ｄ）では、同時並行により、特定する名称を付与した透明基板は、製造装置（２）より待避中のＳＭＩＦ−ＰＯＤへアンロードされる。次の（２―ｅ）では、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）は、製造装置側出入力（１２）より特定する名称を付与した透明基板のアンロードの処理工程の情報及びレシピを受信し、記録する。次の（２―ｆ）では、ＲＦ−ＩＤリーダライタ（１５）からワークステーション（１６）へ前記情報及びレシピを送信し、ワークステーション（１６）経由して、装置間のワークステーション（６）を介して生産管理データベース（１７）へ所定の処理工程の情報及びレシピを記録し、データベースを構築する。以上（２−ａ）〜（２−ｆ）の手順により、名称を付与した透明基板（１０）が当該製造装置での所定の製造処理を完了した後、当該製造装置（２）から待避中のＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）へアンロードするまで完了する。情報及びレシピを制御管理するワークステーションは、生産管理データベースへ透明基板のアンロードの処理工程の情報及びレシピを記録する。当該製造装置からＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）までのアンロードの終了時の時刻を終了時間として書き込みを行う。すなわち、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）には、ＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）へのアンロードの終了時間を記録して、フォトマスクの製造進捗日時の実績情報としての履歴となり、製造進捗では、当該製造装置より搬出済であり、当該製造装置の製造処理完了状態に時間区分される。又、同時に、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）には、フォトマスクの製造進捗日時の実績情報が書き込まれ、生産管理データベース（１７）には、フォトマスクの製造進捗日時と、情報及びレシピがデータベース化されて保存される。
【００１８】
以上により、当該製造装置での製造処理は終了した。フォトマスクの製造進捗日時の履歴では、手順（１−ｅ）でのＳＭＩＦ−ＰＯＤから透明基板を投入開始した時刻が製造処理の開始時間とし、手順（２−ｄ）でのＳＭＩＦ−ＰＯＤへ透明基板を収納完了した時刻が製造処理の完了時間となる。フォトマスクの製造進捗日時では、開始時間〜完了時間までを当該製造装置の処理工程中と区分し、開始時間が未登録の場合は、当該製造装置未加工と区分し、開始時間及び完了時間が登録の場合に当該製造装置完了と区分し、随時、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）又は生産管理データベースから進捗情報を得ることができる。又、生産管理データベースから、簡単に当該工程内の滞留時間、次工程までの投入待ち滞留時間等が提供され、当該特定する名称を付与した透明基板（１０）の滞留履歴、又は全工程完了日時が提供され、工期短縮等の改善に寄与することができる。
【００１９】
以下に本発明の一実施例により詳細に説明する。
【実施例１】
【００２０】
図３は、本発明のフォトマスクの製造方法の管理方法を説明する実施例１のシステム図である。最初にフォトマスクの製造情報で、実施例１の管理システムについて説明する。
【００２１】
まず、フォトマスクの製造工程では、予め、一般仕様及び個別仕様から、描画用の設計ルール及びマスクデータとそのファイル名、マスクレイアウト及び描画手順を記述したＪＯＢと、透明基板の管理情報等を入力し、マスク製造仕様を予め作成する。前記マスク製造仕様は、フォトマスクに対応して一点一葉に作成され、マスク管理番号を用いて製造工程内で当該透明基板を流通するルールである。なお、マスク管理番号は数字と英文字の文字列から形成されている。以下、マスク管理番号のみを入力して、あらゆる管理情報を利用できる管理システムである。すなわち、マスク管理番号は、特定する名称に相当し、マスク管理番号を付与した透明基板は、本発明の特定する名称を付与した透明基板と同じものである。
【００２２】
製造工程では、複数の製造装置又は加工処理する部署があり、予め作成したマスク製造仕様に従って順番に加工されて製造物が完成する。一般には、最初に特定する名称（マスク管理番号）を付与した透明基板が、工程内に投入され当該製造仕様に従って製造が開始される。本発明では、マスク管理番号を付与した透明基板（１０）では、その収納するＳＭＩＦ−ＰＯＤにＲＦ−ＩＤタグ（１４）を取り付けて、該ＲＦ−ＩＤタグに所定の形式による製造情報が記録され、各製造装置（２）では、装置側出入力（１２）を経由し、ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗ（１５）より前記ＲＦ−ＩＤタグに対し製造情報を出力し、その情報を当該装置の所定の形式である製造条件パラメータに変換する手段（６１）や、該製造条件パラメータを出力する手段（６２）を用いて、製造条件パラメータとして有効に利用される。情報の一元管理と、情報の有効利用に効果のあるＲＦ−ＩＤ管理による処理システムであり、フォトマスクの製造情報管理システム外の外部管理システム（５０）及び外部データベース（５７）から必要な製造情報を入力し、生産管理データベースへ記録し、ＲＦ−ＩＤタグへ入力する手段とを有する手順管理方法であり、情報の入出力の簡略化と、入力ミスの防止に効果のある処理システムである。
【００２３】
図３右側には、生産ラインの製造装置（２）が配置され、該装置には装置側出入力（１２）が配置されている。又製造装置の近傍にオフラインのＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗ（１５）が付設されている。ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗ（１５）は、装置側出入力（１２）と内部配線され、所定の通信ルールにより双方向に情報及びレシピを出入力する。図左側には、当該工程の作業員エリアであり、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）を具備したＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）が基板搬送装置（３）のＳＭＩＦポート（２３）にあり、ＳＭＩＦ−ＰＯＤ（１３）には、マスク管理番号付き透明基板（１０）が収納され、該透明基板に係る情報及びレシピの履歴がＲＦ−ＩＤタグ（１４）に記録されている。なお、図では、内部配線は、実線で、非接触通信は破線で結線状態を示す。ＲＦ−ＩＤタグ（１４）は、ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗ（１５）と非接触の通信方法により、所定の通信ルールにより双方向に情報及びレシピを出入力する。又図左端には、装置間のワークステーション（６）の端末としてＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗ（１５）を制御管理するワークステーション（１６）が配置され、ワークステーション（１６）は、ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗ（１５）と内部配線され、所定の通信ルールにより双方向に情報及びレシピを出入力する。上述のように、マスク管理番号付き透明基板は、ＳＭＩＦ−ＰＯＤ内に収納され、当該透明基板に係る情報及びレシピは、当該ＲＦ−ＩＤタグに指示の工程順にオンラインに登録し、記録され、且つＳＭＩＦ−ＰＯＤ及び当該透明基板は一括グループで管理されている。ＲＦ−ＩＤタグは、最小限度の範囲で、当該工程の作業員により情報をワークステーション（１６）へ入力する手段もある。図下には、生産管理データベース（１７）があり、フォトマスク製造情報管理システム（１）の外部より外部情報及びレシピを取り込み、各々の手段によるデータの情報及びレシピを当該製造
装置に出力送信する。装置間のワークステーション（６）及び生産管理データベース（１７）では、ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗ（１５）への出入力をする手段（７１）と、又はＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗ（１５）を経由してＲＦ−ＩＤタグ（１４）へ入力をする手段（７２）とにより管理する。すなわち、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）では、当該工程以前迄の情報及びレシピが入力済みであり、当該工程において必要なデータが自動的に追加入力されている。
【００２４】
ＳＭＩＦ−ＰＯＤにの端部に具備するＲＦ−ＩＤタグ（１４）は、Ｒａｄｉｏ  Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ  ＩＤｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎの略であり、電波を用いてデータの書き込み又は読み出しを行い、アンテナを介して通信を行う認識方法である。本発明では、フォトマスクの描画方法に必要な全ての情報及びレシピ等、又は、フォトマスクの製造進捗日時等を記録し、必要に応じて活用するものである。又、生産管理データベース（１７）でも同様な情報及びレシピ、製造進捗日時を提供することができる。
【００２５】
図４は、生産管理データベースを説明する概念図である。生産管理データベース（１７）では、表の横方向にコード番号、情報名、ページ番号、スロット番号の順番に項目配置され、縦方向に１、から１１のコード番号が配置される表形式で構成されている。縦方向では、各々の製造装置で必要な情報を全て記録出来るように考慮された構成である。先頭の１項目（コード番号０００１）は、特定する名称であるマスク管理番号の入力エリアであり、１ページをエリアとし、データ形式は、８ワードである。２項目（コード番号０００２）は、製造処理工程、又は製造装置の入力エリアであり、２ページをエリアとし、データ形式は、８ワードである。３項目（コード番号０００３）は、製造進捗日時の履歴の入力エリアであり、３ページをエリアとし、データ形式は、８ワードである。次の４項目（コード番号０００３）〜１０項目（コード番号００１０）は、情報及びレシピ等を記録する入力エリアとして規定されている。例えば、自動移載装置の場合、４項目（コード番号０００４）は、透明基板管理情報の入力エリアであり、４ページをエリアとした。５項目（コード番号０００５）は、透明基板の管理ＩＤコード番号の入力エリアであり、５ページをエリアとした。６項目は、レジスト名の入力エリアであり、６ページをエリアとした。７項目は、レジスト塗布ロット番号の入力エリアであり、７ページをエリアとした。８項目は、金属薄膜の膜質情報（１８）の入力エリアであり、８ページをエリアとした。９項目は、透明基板の板厚情報（１９）の入力エリアであり、９ページをエリアとした。１０項目は、拡張用とし、１０ページから１６ページまで割り当てている。例えば、露光条件パラメータの入力エリアは、１０ページをエリアとした。露光ビームのスポットサイズの入力エリアは、１１ページをエリアとした。露光ビームの照射量の入力エリアは、１２ページをエリアとした。最後の１１項目（コード番号００１１）は、ＳＭＩＦ−ＰＯＤのシリアル番号の入力エリアであり、１７ページをエリアとした。
【００２６】
例えば、実施例１のフォトマスクの製造に係る製造装置（又は製造処理工程）が５装置である場合（又は５製造処理工程）では、生産管理データベースの５ファイルが割り当てられ、各々のファイルの先頭の１項目（コード番号０００１）にはマスク管理番号が記載され、各々のファイルの２項目（コード番号０００２）は、製造処理工程（又は製造装置）によりその製造装置を区分することになる。すなわち、先頭の１項目（コード番号０００１）及び２項目（コード番号０００２）により当該製造装置を規定する方法である。
【００２７】
次に、実施例１のフォトマスクの製造情報の管理システムを用いたフォトマスクの製造方法について説明する。上述したように、実施例１の製造装置は、自動移載装置、描画装置、現像処理装置、エッチング処理装置、剥膜処理装置の順に、製造装置を経由して製造した。
【００２８】
まず、透明基板では、透明基板の材質で区分し、さらに外形寸法と、その板厚によりより分別管理されている。前記透明基板の片側表面に０．０１ミクロンオーダー厚の金属薄
膜層が形成され、金属薄膜層の層構成の区分、すなわち、単層、２層、３層等と、金属薄膜の透過率により分別管理されている。その情報は、金属薄膜の膜質情報に記載されている。次に、前記金属薄膜上に０．１ミクロンオーダー厚のレジスト膜（３）で形成され、さらにレジスト名と、レジスト塗布ロット番号により分別管理されている。その情報は、レジスト塗布ロット番号の情報及びレシピに記載されている。透明基板を準備する自動移載装置では、ＳＭＩＦ−ＰＯＤがＳＭＩＦポートに載置されると、透明基板管理情報より透明基板の外形寸法及び板厚と、金属薄膜の層構成と、レジスト層の品種等条件と合致した透明基板を選別し、ＳＭＩＦ−ＰＯＤ内に前記透明基板を１枚収納した。
【００２９】
透明基板をＳＭＩＦ−ＰＯＤ内に収納するのと並行で、該透明基板に関わる全情報及びレシピがＲＦ−ＩＤタグ（１４）に記録されている。すなわち、透明基板の履歴と、ＲＦ−ＩＤタグ（１４）内の情報及びレシピに記録対応し、それ以降の工程ではＲＦ−ＩＤタグ（１４）を読みとり認識する。なお、各々の生産管理データベースの１１項目には、当該ＳＭＩＦ−ＰＯＤのシリアル番号が付与されている。
【００３０】
前記透明基板には、レジスト製造ロットから影響されるレジスト感度、および、設計ルールより引用した最小寸法の幅又は図形等により算出した値よりスポットサイズ別に最適化されたビーム照射量が設定され、レジスト塗布ロット番号毎に、露光条件のパラメータ用データベース上に登録されている。そのため、前記透明基板に付与する条件、すなわち、ビームスポットサイズ毎にビーム照射量等の露光条件のパラメータは、自動移載装置の製造装置側出入力（１２）より出力する。さらに、前記透明基板に関する管理情報のレジスト名と、レジスト塗布ロット番号と、金属薄膜の膜質情報と、透明基板の板厚情報との情報及びレシピを出力し、ＲＦ―ＩＤ・Ｒ／Ｗ（１５）と、ワークステーション（１６）を経由し、生産管理データベース（１７）に登録する。ＳＭＩＦ−ＰＯＤは、基板搬送装置（３）を経由し次の描画装置の工程のＳＭＩＦポートに搬送された。
【００３１】
次工程の描画装置では、ＳＭＩＦ−ＰＯＤがＳＭＩＦポートに載置されると、マスク管理番号を入力後、前記透明基板に付与した管理情報と、マスク製造仕様の透明基板管理情報とを照合し、完全に一致した後、ロード可の信号を出力し、前記透明基板を露光装置に載置した。並行して、露光装置側では、マスク管理番号を入力後、ビームスポットサイズ毎にビーム照射量等の露光条件のパラメータを露光装置に出力し、描画処理の準備を行なった後、描画露光をした。描画露光処理後、当該露光条件の結果の情報及びレシピを出力し、ＲＦ―ＩＤ・Ｒ／Ｗ（１５）と、ワークステーション（１６）を経由し、生産管理データベース（１７）に登録した。ＳＭＩＦ−ＰＯＤは、基板搬送装置（３）を経由し次の現像処理装置の工程のＳＭＩＦポートに搬送された。
【００３２】
以下の詳細説明は省略するが、フォトプロセス法により、現像処理装置を用いたレジストへの現像処理と、エッチング処理装置を用いた金属薄膜のエッチング処理と、剥膜処理装置を用いたレジストの剥膜処理等によりフォトマスクの金属薄膜のパターンが形成し、フォトマスクの工程は終了した。なお、ＳＭＩＦ−ＰＯＤが、ＳＭＩＦポートに載置後、ロードし、製造処理終了後、アンロードされ、ＳＭＩＦ−ＰＯＤが次の工程のＳＭＩＦポートに搬送されることが、繰り返し実行され、その製造処理終了後毎に、当該処理条件の結果の情報及びレシピを出力し、ＲＦ―ＩＤ・Ｒ／Ｗ（１５）と、ワークステーション（１６）を経由し、生産管理データベース（１７）に登録した。前記情報及びレシピは、ロード及びアンロード毎の時刻を入力し、製造進捗日時の履歴とし、フォトプロセスの薬液の組成、温度、粘度、流量、処理時間、回転数、品質レベル等をデータベース化した。
【００３３】
生産ラインでの製造進捗日時の履歴及び現状を常時開示しながら、並行して、製造装置毎のライン内品質監視の評価も開示されている。進捗日時は計画日時に比べ異常となった場合、その対処等の警告がある。また、品質異常時は、前記と同様に対処等の警告があり
、製品不良の発生時では、即時に、現在の生産管理データベースの情報及びレシピを廃棄し、新しい透明基板の生産ライン投入が開始される。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明のフォトマスクの製造情報管理システムの一実施例を示すシステム図である。
【図２】本発明のフォトマスクの製造情報の管理方法を説明するフロー図である。
【図３】本発明のフォトマスクの製造情報管理システムの実施例１を説明するシステム図である。
【図４】本発明の実施例１を説明する生産管理データベースである。
【符号の説明】
【００３５】
１…フォトマスクの製造情報管理システム
２…製造装置
３…基板搬送装置
４…生産ライン
５…（生産ラインの）情報及びレシピ
６…ワークステーション
７…管理ライン
１０…（ＳＭＩＦ−ＰＯＤに収納される）特定する名称を付与した透明基板
１２…（製造）装置側出入力
１３…ＳＭＩＦ−ＰＯＤ（を具備した基板搬送装置）
１４…（ＳＭＩＦ−ＰＯＤに装着した）ＲＦ−ＩＤタグ
１５…（製造装置の近傍に装着した）ＲＦ−ＩＤリーダライタ
１６…（ＲＦ−ＩＤリーダライタを制御管理する）ワークステーション
１７…（情報及びレシピの記録／呼出する）生産管理データベース
２３…ＳＭＩＦポート
５０…外部管理システム
５７…外部データベース
６１…（当該装置の所定の形式である）製造条件パラメータに変換する手段
６２…製造条件パラメータを出力する手段
７１…（ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗへの）出入力をする手段
７２…（ＲＦ−ＩＤ・Ｒ／Ｗを経由して）ＲＦ−ＩＤタグへ入力をする手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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