(57)【要約】【課題】  ５０μｍを超える厚膜でも一回の露光でパターン形成が可能であり、かつ、焼成前後でのパターンサイズの変化が小さい隔壁を製造し得る感光性ペーストを提供する。【解決手段】  無機粒子、アルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン樹脂および屈折率が１．４〜１．８である有機溶剤を含有する感光性ペースト。【選択図】          なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機粒子、アルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン樹脂および屈折率が１．４〜１．８である有機溶剤を含有する感光性ペースト。
【請求項２】
屈折率が１．４〜１．８である有機溶剤が、ポリプロピレングリコールジベンゾエート、２−ヘプタノン、ガンマ−ブチロラクトン、および１，２−プロパンジオールジベンゾエートからなる群から選ばれる少なくとも１種の有機溶剤である請求項１に記載の感光性ペースト。
【請求項３】
無機粒子の誘電率が４．０以上９．５以下である請求項１または２に記載の感光性ペースト。
【請求項４】
無機粒子の屈折率が１．４０〜２．５０である請求項１〜３のいずれかに記載の感光性ペースト。
【請求項５】
無機粒子の平均粒子径が０．０１μｍ〜４０μｍである請求項１〜４のいずれかに記載の感光性ペースト。
【請求項６】
無機粒子が、シリカ粒子およびガラス粒子からなる群から選ばれる少なくとも一種の無機粒子である請求項１〜５のいずれかに記載の感光性ペースト。
【請求項７】
アルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン樹脂が、（Ａ）および（Ｂ）を含有する請求項１〜６のいずれかに記載の感光性ペースト。
（Ａ）式（２）で表される官能基および式（３）で表される官能基からなる群から選ばれる少なくとも一種の官能基を有するポリオルガノシロキサン樹脂
（Ｂ）水酸基を有するポリオルガノシロキサン樹脂
2005300633.tif 000016
［式（２）中、Ａ1は酸素原子または硫黄原子を表す。
Ｒa、Ｒbは、それぞれ独立に、二価の有機基を表す。
Ｒ1〜Ｒ3は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の一価の有機基を表す。
ｌ1およびｍ1は、それぞれ独立に、０以上２０以下の整数を表す。］
2005300633.tif 000017
［式（３）中、Ａ2は酸素原子または硫黄原子を表す。
Ｒ’a、Ｒ’bは、それぞれ独立に、二価の有機基を表す。
Ｒ4〜Ｒ8は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の一価の有機基を表す。
ｌ2およびｍ2は、それぞれ独立に、０以上２０以下の整数を表す。］
【請求項８】
（Ｂ）水酸基を有するポリオルガノシロキサン樹脂が、式（４）で表されるフェノール性水酸基を有する樹脂および式（５）で表されるアルコール性水酸基を有する樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂である請求項７に記載の感光性ペースト。
2005300633.tif 000018
［式（４）中、Ａ3は酸素原子または硫黄原子を表す。
Ｒ”a、Ｒ”bは、それぞれ独立に、二価の有機基を表す。
Ｒ9〜Ｒ12は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基または炭素数１〜２０の一価の有機
基を表す。
ｌ3およびｍ3は、それぞれ独立に、０以上２０以下の整数を表す。］
2005300633.tif 000019
［式（５）中、Ｒ13〜Ｒ18は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の一価の
有機基を表す。
ｐ、ｑは、それぞれ独立に、０以上２０以下の整数を表す。
ｒは、１以上２０以下の整数を表す。］
【請求項９】
さらに硼酸または硼酸誘導体を含有する請求項１〜８のいずれかに記載の感光性ペースト。
【請求項１０】
硼酸または硼酸誘導体の含有量が、無機粒子の含有量に対して、０．１〜３０質量％である請求項９記載の感光性ペースト。
【請求項１１】
さらに電磁線の照射または加熱により酸を発生する化合物を含有する請求項１〜１０のいずれかに記載の感光性ペースト。
【請求項１２】
電磁線の照射または加熱により酸を発生する化合物が、式（１）で表される酸を発生する化合物である請求項１１に記載の感光性ペースト。
2005300633.tif 000020
［式（１）中、Ｒｆは、少なくとも１つの水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜２０の一価の基を表す。］
【請求項１３】
アルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン樹脂が、前記の（Ｂ）水酸基を有するポリオルガノシロキサン樹脂と、（Ｃ）式（２）で表される官能基を分子内に２個以上有し、かつ屈折率が１．３５〜１．６０である化合物とを含有する組成物である請求項１〜１２のいずれかに記載の感光性ペースト。
2005300633.tif 000021
［式（２）中、Ａ1は酸素原子または硫黄原子を表す。
Ｒa、Ｒbは、それぞれ独立に、二価の有機基を表す。
Ｒ1〜Ｒ3は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の一価の有機基を表す。
ｌ1およびｍ1は、それぞれ独立に、０以上２０以下の整数を表す。］
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれかに記載の感光性ペーストを基板上に塗布し、露光、現像してパターンを形成し、焼成して隔壁を形成することを特徴とするディスプレイ用部材の製造方法。
【請求項１５】
さらに、隔壁表面にコート層を形成する請求項１４に記載のディスプレイ用部材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性ペーストに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ディスプレイにおいて小型・高精細化が進んでおり、それに伴ってパターン加工技術の向上が望まれている。パターン加工技術としては、例えば、感光性ペースト法などが知られており、プラズマディスプレイの部材である背面板の隔壁形成などに用いられている。
プラズマディスプレイの背面板の隔壁を形成する方法としては、例えば、アクリル酸−スチレン共重合ポリマー、ガラス粉末および光重合開始剤を含有してなる感光性ペーストを基板上に塗布し、露光、現像して隔壁パターンを形成し、焼成せしめて隔壁を形成する方法が知られているが（特許文献１参照）、バインダーとして用いたアクリル酸−スチレン共重合ポリマーを分解、除去しながら、ガラス粉末を焼結せしめるため、焼成前後での隔壁のパターンサイズの変化が大きいという問題があった。
【０００３】
【特許文献１】特開２００１−２２０６４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の目的は、５０μｍを超える厚膜でも一回の露光でパターン形成が可能であり、かつ、焼成前後でのパターンサイズの変化が小さい隔壁を製造し得る感光性ペーストを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、５０μｍを超える厚膜でも一回の露光でパターン形成が可能であり、かつ、焼成前後でのパターンサイズの変化が小さい隔壁を製造し得る感光性ペーストを見出すべく、鋭意検討を重ねた結果、特定の感光性ペーストが、５０μｍを超える厚膜でも一回の露光でパターン形成が可能であり、かつ、焼成前後でのパターンサイズの変化が小さい隔壁を製造し得ることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００６】
即ち、本発明は、アルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン樹脂組成物、無機粒子および屈折率が１．４〜１．８である有機溶剤を含有する感光性ペーストを提供する。また、本発明は、前記の感光性ペーストを基板上に塗布し、露光、現像してパターンを形成し、焼成して隔壁を形成することを特徴とするディスプレイ用部材の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の感光性ペーストによれば、５０μｍを超える厚膜でも一回の露光でパターン形成が可能であり、かつ、焼成前後でのパターンサイズ変化が小さい隔壁を製造し得る。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明の感光性ペーストは、アルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン樹脂組成物、無機粒子および屈折率が１．４〜１．８である有機溶剤を含有する。
【０００９】
本発明の感光性ペーストに含有される有機溶媒の屈折率が１．４〜１．８であり、好ましくは１．４３〜１．７０であり、より好ましくは１．４４〜１．６０である。溶剤の屈折率が前記の範囲にあると、製膜後の感光性ペーストの透明性が高い傾向があり、好ましい。有機溶媒の屈折率は、２５℃において、屈折率計（京都電子工業（株）製  ＲＡ−５２０Ｎ）を用いて測定することができる。また、屈折率は、例えば、改訂４版  化学便覧  基礎編ＩＩ  ５１４−５２０頁（日本化学会編  丸善（株）  平成５年９月３０日  発行）など文献に記載されている。
屈折率が１．４〜１．８である有機溶媒としては、例えば、プロピレングリコールモノブチルエーテル（１．４２）、ポリプロピレングリコールジベンゾエート（１．５２）、２−ヘプタノン（１．４１）、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（１．４０）、ガンマ−ブチロラクトン（１．４４）、１，２−プロパンジオールジベンゾエート（１．５４）等が挙げられ、好ましくは屈折率が１．４３〜１．７０であるポリプロピレングリコールジベンゾエート、ガンマ−ブチロラクトン、１，２−プロパンジオールジベンゾエートが挙げられ、より好ましくは屈折率が１．４４〜１．６０であるポリプロピレングリコールジベンゾエート、１，２−プロパンジオールジベンゾエートが挙げられる。
【００１０】
本発明の感光性ペーストにおける溶媒の含有量としては、感光性ペーストに対して質量分率で、通常、１質量％以上３０質量％以下であり、好ましくは３質量％以上２０質量％以下であり、より好ましくは５質量％以上１５質量％以下である。
【００１１】
本発明の感光性ペーストに用いられる無機粒子の比誘電率は、好ましくは４．０以上９．５以下であり、より好ましくは４．０以上９．０以下である。
比誘電率は、２０℃において、誘電率測定装置（安藤電気社製  型番ＴＲ−１０Ｃ）を用いて測定することができる。
【００１２】
前記の無機粒子の屈折率は、好ましくは１．４０〜２．５０であり、より好ましくは１．４３〜２．２０であり、とりわけ好ましくは１．４３〜１．８０である。無機粒子の屈折率が前記の範囲にあると、露光時に光の散乱が小さいため良好なパターンを形成することができる傾向があり、好ましい。屈折率は、２５℃において、プリズム屈折率測定装置（ＯＰＴＥＣ社製  型番ＧＰ１−Ｐ）を用いて測定することができる。
【００１３】
前記の無機粒子の平均粒径は、好ましくは０．０１〜４０μｍであり、より好ましくは０．１〜１０μｍであり、とりわけ好ましくは１〜８μｍである。
無機粒子の平均粒径が、前記の範囲にあると、感光性ペーストを用いて形成される隔壁中における無機粒子の充填量を増加させることができることから焼成時の収縮が少ないため好ましく、また露光時の光の散乱が小さいため良好なパターンを形成できる傾向があり、好ましい。
平均粒径は、２５℃において、粒径測定装置（大塚電子社製  型番ＤＬＳ−７０００）を用いて測定することができる。
本発明の感光性ペーストにおいては、平均粒径の異なる無機粒子を任意の割合で混合して用いてもよい。
無機粒子の形状は、球状であることが好ましい。
【００１４】
前記の無機粒子としては、例えば、コロイダルシリカ、エアロジル、シリカゲルなどのシリカ粒子、ケイ素酸化物を主成分とするガラス粒子、またはこれらの混合物が挙げられる。
【００１５】
本発明の感光性ペーストに用いられる無機粒子の添加割合は、感光性ペースト全量に対して、好ましくは２０〜９５質量％であり、より好ましくは４０〜９５質量％である。
無機粒子の添加割合が前記の範囲にあると、焼成時の膜収縮が小さくなり基板から剥離しにくくなる傾向が見られ、また露光時の光の散乱が小さくなり良好なパターンを形成できる傾向があり、好ましい。
【００１６】
本発明の感光性ペーストにおけるアルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン樹脂組成物は、下記（Ａ）および（Ｂ）を含有する樹脂組成物であることが好ましい。
（Ａ）式（２）で表される官能基および式（３）で表される官能基からなる群から選ばれる少なくとも一種の官能基を有するポリオルガノシロキサン樹脂。
（Ｂ）水酸基を有するポリオルガノシロキサン樹脂。
（ここで、本明細書中におけるアルカリ可溶性の表記は、アルカリ水溶液、アルカリ性を示す有機溶剤またはアルカリ性を示す有機溶剤の水溶液のいずれかに溶解しうることをいう。）
【００１７】
2005300633.tif 000002
【００１８】
［式（２）中、Ａ1は酸素原子または硫黄原子を表す。
Ｒa、Ｒbは、それぞれ独立に、二価の有機基を表す。
Ｒ1〜Ｒ3は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の一価の有機基を表す。
ｌ1およびｍ1は、それぞれ独立に、０以上２０以下の整数を表す。］
【００１９】
2005300633.tif 000003
【００２０】
［式（３）中、Ａ2は酸素原子または硫黄原子を表す。
Ｒ’a、Ｒ’bは、それぞれ独立に、二価の有機基を表す。
Ｒ4〜Ｒ8は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の一価の有機基を表す。
ｌ2およびｍ2は、それぞれ独立に、０以上２０以下の整数を表す。］
【００２１】
ここで、Ｒa、Ｒb、Ｒ’a、Ｒ’bは、それぞれ二価の有機基を表し、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。
前記の二価の有機基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、イソプロピレン基、イソブチレン基などの炭素数１〜６のアルキレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基などのシクロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキル基で置換されていてもよいフェニレン基、炭素数１〜２０のアルキル基で置換されていてもよいナフチレン基、炭素数１〜２０のアルキル基で置換されていてもよいビフェニレン基、炭素数１〜２０のアルキル基で置換されていてもよいフルオレニル基などのアリーレン基などが挙げられ、好ましくは、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、イソプロピレン基、イソブチレン基などの炭素数１〜６のアルキレン基が挙げられる。
【００２２】
Ｒ1〜Ｒ8は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の一価の有機基を表す。前記の炭素数１〜２０の一価の有機基としては、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、例えば、炭素数１〜２０の直鎖状脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の分岐状脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の環状脂肪族炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基などが挙げられる。炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基はアルキル基、アルケニル基等で置換されていてもよい。
これらの中で、炭素数１〜６の直鎖状炭化水素基、炭素数３〜６の分岐状炭化水素基、炭素数３〜６の環状炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が好ましい。
【００２３】
前記の炭素数１〜２０の直鎖状脂肪族炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ウンデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、イコシル基などが挙げられ、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基が挙げられる。
前記の炭素数３〜２０の分岐状脂肪族炭化水素基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ターシャリーブチル基、ターシャリーオクチル基などが挙げられる。
前記の炭素数３〜２０の環状脂肪族炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基などが挙げられる。
前記の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基上の置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などのアルキル基、アリル基、エチニル基などのアルケニル基、アリルオキシ基などのアルケニルオキシ基、エテニル基などのアルキニル基、エテニルオキシ基などのアルキニルオキシ基などが挙げられる。
前記の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、トリル基、キシリル基、トリメチルフェニル基、エチルフェニル基、ジエチルフェニル基、トリエチルフェニル基、プロピルフェニル基、ブチルフェニル基、メチルナフチル基、ジメチルナフチル基、トリメチルナフチル基、ビニルナフチル基、メチルアンスリル基、エチルアンスリル基などが挙げられる。
【００２４】
ｌ2およびｍ2は、それぞれ独立に、０以上２０以下の整数を表し、好ましくは０以上１５以下の整数を表し、より好ましくは０以上１０以下の整数を表す。
【００２５】
式（２）で表される官能基および（３）で表される官能基からなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基としては、例えば、オキシラニル基、グリシジル基、オキシラニルエチル基、グリシジルオキシエチル基、グリシジルオキシプロピル基、グリシジルオキシフェニル基、オキセタニル基、（３’−メチル−３’−オキセタニル）メチル基、２−（３’−メチル−３’−オキセタニル）エチル基、（３’−メチル−３’−オキセタニル）メチルオキシエチル基、（３’−メチル−３’−オキセタニル）メチルオキシプロピル基、（３’−エチル−３’−オキセタニル）メチル基、２−（３’−エチル−３’−オキセタニル）エチル基、（３’−エチル−３’−オキセタニル）メチルオキシエチル基、（３’−エチル−３’−オキセタニル）メチルオキシプロピル基などが挙げられる。
【００２６】
（Ａ）式（２）で表される官能基および（３）で表される官能基からなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基を有するポリオルガノシロキサン樹脂としては、例えば、ポリ［グリシジルオキシプロピルシルセスキオキサン］、ポリ［（３’−エチル−３’−オキセタニル）メチルオキシプロピルシルセスキオキサン］などが挙げられる。
【００２７】
（Ｂ）水酸基を有するポリオルガノシロキサン樹脂としては、好ましくは、式（４）で表されるフェノール性水酸基を有する樹脂および式（５）で表されるアルコール性水酸基を有する樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種の樹脂が挙げられる。
【００２８】
2005300633.tif 000004
【００２９】
［式（４）中、Ａ3は酸素原子または硫黄原子を表す。
Ｒ”a、Ｒ２”bは、それぞれ独立に、二価の有機基を表す。
Ｒ9〜Ｒ12は、それぞれ独立に、水素原子、水酸基または炭素数１〜２０の一価の有機
基を表す。
ｌ3およびｍ3は、それぞれ独立に、０以上２０以下の整数を表す。］
【００３０】
ここで、二価の有機基としては、前記と同じ基が挙げられる。
炭素数１〜２０の一価の有機基としては、前記と同じ基が挙げられる。
式（４）で表されるフェノール性水酸基としては、例えば、ヒドロキシフェニル基、（ヒドロキシフェニル）メチル基、２−（ヒドロキシフェニル）エチル基、１−（ヒドロキシフェニル）エチル基、３−（ヒドロキシフェニル）プロピル基、２−（ヒドロキシフェニル）プロピル基、１−（ヒドロキシフェニル）プロピル基などが挙げられる。
ｌ3およびｍ3は、それぞれ独立に、０以上２０以下の整数を表し、好ましくは０以上１５以下の整数を表し、より好ましくは０以上１０以下の整数を表す。
【００３１】
式（４）で表されるフェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン樹脂としては、例えば、ジメチル［２−（４’−ヒドロキシフェニル）エチル］シリル基を有するポリシルセスキオキサンなどが挙げられる。
【００３２】
2005300633.tif 000005
【００３３】
［式（５）中、Ｒ13〜Ｒ18は、それぞれ独立に，水素原子を表すか、または炭素数１〜２
０の一価の有機基を表す。
ｐ、ｑは、それぞれ独立に、０以上の整数を表す。
ｒは、１以上２０以下の整数を表す。］
【００３４】
ここで、炭素数１〜２０の一価の有機基としては、前記と同じ基が挙げられる。
ｐ、ｑは、それぞれ独立に、０以上２０以下の整数を表し、好ましくは０以上１５以下の整数を表し、より好ましくは０以上１０以下の整数を表す。
ｒは、１以上２０以下の整数を表し、好ましくは１以上１５以下の整数を表し、より好ましくは１以上１０以下の整数を表す。
式（５）で表されるアルコール性水酸基としては、例えば、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、ヒドロキシエチルオキシエチル基などが挙げられる。
式（５）で表されるアルコール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン樹脂としては、例えば、ジメチルヒドロキシエチルオキシエチルシリル基を有するポリシルセスキオキサンなどが挙げられる。
【００３５】
（Ａ）および（Ｂ）のポリオルガノシロキサン樹脂は、前記のそれぞれの官能基を有していれば、そのシロキサン樹脂の主鎖構造に制限はなく、直鎖状、ラダー状、籠状のものを用いることができる。
【００３６】
直鎖状の主鎖構造としては式（８）で表される構造が、ラダー状の主鎖構造としては式（９）で表される構造が、籠状の主鎖構造としては式（１０）で表される構造が、それぞれ挙げられる。
【００３７】
2005300633.tif 000006
【００３８】
［式（６）中、Ｒ１９〜Ｒ２４は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の炭化水素基を表す。］
【００３９】
アルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン樹脂組成物中の（Ａ）および（Ｂ）のポリオルガノシロキサン樹脂の配合割合は、好ましくは（Ａ）５〜８５質量％、（Ｂ）１５〜９５質量％であり、より好ましくは、（Ａ）１０〜７０質量％、（Ｂ）３０〜９０質量％である。配合割合が前記の範囲にあると、５０μｍを超える厚膜であってもパターンが形成できる傾向にあるので、好ましい。
【００４０】
（Ａ）式（２）で表される官能基および式（３）で表される官能基からなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基を含むポリオルガノシロキサン樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量は、好ましくは３５０〜３０，０００であり、より好ましくは３５０〜１０，０００である。重量平均分子量が、前記の範囲にあると、露光部の硬化性が高い傾向があり、また未露光部の溶解性が高く、パターン形成特性が良好になる傾向があり、好ましい。
【００４１】
（Ａ）式（２）で表される官能基および式（３）で表される官能基からなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基を含むポリオルガノシロキサン樹脂は、前記の官能基を有するアルコキシシランを、酸触媒またはアルカリ触媒を用いて、水の存在下で、縮合することにより得ることができる。縮合の際には、テトラアルコキシシラン、トリアルコキシオルガノシラン、ジアルコキシジオルガノシラン、アルコキシトリオルガノシランなどを共存させて共縮合せしめてもよい。
前記の式（２）で表される官能基および式（３）で表される官能基からなる群から選ばれる少なくとも一種の官能基を有するアルコキシシランとしては、グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、オキセタニルオキシプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。
前記の酸触媒としては、例えば、塩酸、酢酸などが挙げられる。また、アルカリ触媒としては、例えば、アンモニア、トリエチルアミンなどが挙げられる。
前記のテトラアルコキシシランとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランなどが挙げられる。
前記のトリアルコキシオルガノシランとしては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシランなどが挙げられる。
前記のジアルコキシジオルガノシランとしては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、エチルメチルジメトキシシラン、エチルメチルジエトキシシランなどが挙げられる。
前記のアルコキシトリオルガノシランとしては、例えば、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、メトキシトリエチルシラン、エトキシトリエチルシラン、エチルジメチルメトキシシランなどが挙げられる。
【００４２】
また、式（２）で表される官能基を有するポリオルガノシロキサン樹脂は、分子内に不飽和結合を有するオルガノアルコキシシランまたはオルガノクロロシランを上記と同様にして縮合し、過酸化物またはオゾン等で酸化することによっても得ることができる。縮合の際には、前記の、テトラアルコキシシラン、トリアルコキシオルガノシラン、ジアルコキシジオルガノシラン、アルコキシトリオルガノシランなどを共存させて共縮合せしめてもよい。
前記の分子内に不飽和結合を有するオルガノアルコキシシランまたはオルガノクロロシランとしては、ジメチルビニルエトキシシラン、ジメチルビニルクロロシラン、アリルジメチルエトキシシラン、アリルジメチルクロロシランなどが挙げられる。
前記の過酸化物としては、ｍ−クロロ過安息香酸などが挙げられる。
【００４３】
（Ｂ）水酸基を有するポリオルガノシロキサン樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量は、通常、１，０００〜５０，０００であり、好ましくは１，０００〜３０，０００である。重量平均分子量が前記の範囲にあると、塗布性が良好であり、また、パターンが良好に形成される傾向があり、好ましい。
【００４４】
（Ｂ）水酸基を有するポリオルガノシロキサン樹脂は、オルガノアルコキシシランを前記の方法で縮合した後、末端のシラノール基を、保護された水酸基を有するクロロシラン化合物と反応させて封止し、水酸基の保護基を脱保護することにより得ることができる。
また、保護された水酸基を有するオルガノアルコキシシランを前記と同様に縮合した後、水酸基の保護基を脱保護することによっても得ることができる。
【００４５】
ここで、オルガノアルコキシシランとしては、オルガノメトキシシラン、オルガノエトキシシランが挙げられ、具体的には、テトラエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、トリエチルエトキシシラン、トリエチルメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、トリフェニルエトキシシラン、トリフェニルメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジメトキシシラン、ジメチルフェニルエトキシシラン、ジメチルフェニルメトキシシランなどが挙げられる。
【００４６】
保護された水酸基を有するクロロシラン化合物は、分子内に保護された水酸基とビニル基やアリル基などの不飽和結合とを有する化合物と、ジアルキルクロロヒドロシラン化合物とを、遷移金属触媒の存在下、ヒドロシリル化することにより製造することができる。
また、保護された水酸基を有するクロロシラン化合物は、分子内に保護された水酸基を有する有機金属化合物とジアルキルジクロロシラン化合物との縮合反応によっても製造することができる。
【００４７】
水酸基の保護基としては、例えば、アルキル基、シリル基、アシル基、アルキルオキシカルボニル基などが挙げられる。
水酸基の保護基として、具体的には、メトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、ｔ−ブトキシメチル基、２−メトキシエトキシメチル基、２，２，２−トリクロロエトキシメチル基、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基、テトラハイドロピラニル基、３−ブロモテトラハイドロピラニル基、テトラハイドロチオピラニル基、４−メトキシテトラハイドロピラニル基、テトラハイドロフラニル基、１−エトキシエチル基、１−メチル−１−メトキシエチル基、１−（イソプロポキシ）エチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、２−（フェニルセレニル）エチル基、ｔ−ブチル基、ベンジル基、３−メチル−２−ピコリルＮ−オキシド基、ジフェニルメチル基、５−ジベンゾスベリル基、トリフェニルメチル基、９−アンスリル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、イソプロピルジメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基、（トリフェニルメチル）ジメチルシリル基、ｔ−ブチルジフェニルシリル基、メチルジイソプロピルシリル基、メチルジｔ−ブチルシリル基、トリベンジルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリフェニルシリル基、ホルミル基、アセチル基、３−フェニルプロピオネート基、３−ベンゾイルプロピオネート基、イソブチレート基、４−オキソペンタノエート基、ピバロエート基、アダマントエート基、ベンゾエート基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、イソブチルオキシカルボニル基などが挙げられる。
式（４）で表されるフェノール性水酸基の、活性水素原子が保護されたクロロシラン化合物としては、例えば、２−（４’−トリメチルシリルオキシフェニル）エチルジメチルクロロシラン、［２−（４’−ｔ−ブトキシフェニル）エチル］ジメチルクロロシランなどが挙げられる。
【００４８】
アルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン樹脂組成物は、前記（Ａ）および（Ｂ）のポリオルガノシロキサン樹脂に加えて、（Ｄ１）〜（Ｄ８）で表されるポリオルガノシロキサン樹脂を含有してもよい。
（Ｄ１）式（２）で表される官能基および式（４）で表されるフェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン樹脂
（Ｄ２）式（２）で表される官能基および式（６）で表される官能基を有するポリオルガノシロキサン樹脂
（Ｄ３）式（３）で表される官能基および式（４）で表されるフェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン樹脂
（Ｄ４）式（４）で表される官能基および式（６）で表される官能基を有するポリオルガノシロキサン樹脂
（Ｄ５）式（４）で表される官能基および式（６）で表される官能基を有するポリオルガノシロキサン樹脂
（Ｄ６）式（２）で表される官能基、式（３）で表される官能基および式（４）で表されるフェノール性水酸基を有するポリオルガノシロキサン樹脂
（Ｄ７）式（２）で表される官能基、式（３）で表される官能基および式（６）で表される官能基を有するポリオルガノシロキサン樹脂
（Ｄ８）式（２）で表される官能基、式（３）で表される官能基、および式（４）で表されるフェノール性水酸基および式（６）で表される官能基を有するポリオルガノシロキサン樹脂
【００４９】
2005300633.tif 000007
【００５０】
［式（２）中、Ａ1は、前記と同じ意味を表す。
Ｒa、Ｒbは、前記と同じ意味を表す。
Ｒ1〜Ｒ3は、前記と同じ意味を表す。
ｌ1およびｍ1は、前記と同じ意味を表す。］
【００５１】
2005300633.tif 000008
【００５２】
［式（３）中、Ａ2は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ’a、Ｒ’bは、前記と同じ意味を表す。
Ｒ4〜Ｒ8は、前記と同じ意味を表す。
ｌ2およびｍ2は、前記と同じ意味を表す。］
【００５３】
2005300633.tif 000009
【００５４】
［式（４）中、Ａ3は、前記と同じ意味を表す。
Ｒ”a、Ｒ２”bは、前記と同じ意味を表す。
Ｒ9〜Ｒ12は、前記と同じ意味を表す。
ｌ3およびｍ3は、前記と同じ意味を表す。］
【００５５】
2005300633.tif 000010
【００５６】
［式（６）中、Ａ4は酸素原子または硫黄原子を表す。
Ｒ’’’a、Ｒ’’’bは、それぞれ独立に、二価の有機基を表す。
ｌ4、ｍ4は、それぞれ独立に、０以上２０以下の整数を表す。］
【００５７】
ここで、二価の有機基としては、前記と同じ基が挙げられる。
ｌ4、ｍ4は、それぞれ独立に、０以上２０以下の整数を表し、好ましくは０以上１０以下の整数を表し、より好ましくは０以上５以下の整数を表す。
【００５８】
（Ｄ）アルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量は、好ましくは１，０００〜５０，０００であり、より好ましくは１，０００〜３０，０００である。
【００５９】
（Ｄ）アルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン樹脂は、前記の方法で製造した式（２）で表される官能基および式（３）で表される官能基からなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基を有するポリオルガノシロキサン樹脂の末端のシラノール基と、式（４）で表されるフェノール性水酸基および式（６）で表される官能基からなる群から選ばれる少なくとも一種の官能基の活性水素原子が保護されたクロロシラン化合物とを反応させてシラノール基の水酸基を封止し、保護基を脱保護することにより得ることができる。
また、（Ｄ）アルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン樹脂は、式（２）で表される官能基および式（３）で表される官能基からなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基を有するアルコキシシランと、式（４）で表されるフェノール性水酸基および式（６）で表される官能基からなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基を有するアルコキシシランとを、前記の方法で縮合することによっても得ることができる。
式（４）で表されるフェノール性水酸基の活性水素原子が保護されたクロロシラン化合物としては、例えば、２−（４’−トリメチルシリルオキシフェニル）エチルジメチルクロロシラン、［２−（４’−ｔ−ブトキシフェニル）エチル］ジメチルクロロシランなどが挙げられる。
式（６）で表される官能基の活性水素原子が保護されたクロロシラン化合物としては、例えば、トリメチルシリルオキシカルボニルプロピルジメチルクロロシランなどが挙げられる。
（Ｄ）アルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン樹脂としては、例えば、（３’−エチル−３’−オキセタニル）メチルオキシプロピル基とカルボキシプロピル基を有するポリシルセスキオキサンなどが挙げられる。
【００６０】
本発明の感光性ペーストに含まれるアルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン樹脂組成物は、（Ｃ）分子内に２個以上の式（２）で表される官能基を有して、屈折率が１．３５〜１．６０である化合物を含有する樹脂組成物であってもよい。また、（Ｃ）と（Ｂ）を組み合わせることが好ましい。
前記の（Ｃ）分子内に２個以上の式（２）で表される官能基を含有し、屈折率が１．３５〜１．６０である化合物としては、例えば、エチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，２，７，８−ジエポキシオクタン、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールプロポキシレートトリグリシジルエーテル、グリセロールジグリシジルエーテルなどが挙げられる。
【００６１】
本発明の感光性ペーストには、さらに硼酸または硼酸誘導体が含有されていてもよい。前記の硼酸誘導体としては、酸化硼素等が挙げられる。
前記の硼酸または硼酸誘導体を用いる場合、その含有量は、無機粒子に対して好ましくは０．１〜３０質量％であり、より好ましくは０．５〜２０質量％であり、とりわけ好ましくは１〜１０質量％である。
硼酸または硼酸誘導体の含有量が前記の範囲にあると、基板との密着性が良好な傾向があり、また露光時の光の散乱が小さいため良好なパターンを形成できる傾向があり、好ましい。
【００６２】
硼酸または硼酸誘導体は、無機粒子に担持または添加された後、シランカップリング剤で表面処理して使用することが好ましい。
担持の方法としては、硼酸または硼酸誘導体を含有する溶液に無機微粒子を添加した後、溶媒を濃縮、乾固する方法、硼酸または硼酸誘導体を含有する溶液に無機粒子を添加した後、硼酸または硼酸誘導体が溶解しない溶媒で晶析する方法などが挙げられる。
前記のシランカップリング剤としては、ビニル系、エポキシ系、オキセタン系などのシランカップリング剤が好ましい。
前記のシランカップリング剤としては、例えば、ＬＳ−７０、ＬＳ−８１５、ＬＳ−２３００、ＬＳ−４０８０、ＬＳ−２９４０、ＬＳ−３３８０、ＬＳ−４０６０、ＬＳ−１２４０、ＬＳ−１３７５、ＬＳ−１２６０（いずれも信越化学工業（株）製）、ＴＥＳＯＸ（東亞合成化学工業（株）製）などが挙げられる。
【００６３】
また、本発明の感光性ペーストには、さらに電磁線の照射または加熱により酸を発生する化合物が含有されていてもよい。
電磁線の照射または加熱により酸を発生する化合物としては、例えば、光酸発生剤、光カチオン重合開始剤、熱カチオン重合開始剤などが挙げられる。
前記の電磁線の照射量としては、電磁線の照射により酸を発生する化合物が、酸を発生する量以上であれば、本発明の効果を阻害しない範囲内で、差し支えない。また、加熱の温度や時間としては、加熱により酸を発生する化合物が酸を発生する温度、時間以下であれば、本発明の効果を阻害しない範囲内で、適宜決定しうる。
光酸発生剤としては、例えば、［シクロヘキシル−（２−シクロヘキサノニル）−メチル］スルホニウム  トリフルオロメタンスルフォネート、ビス（ｐ−トリルスルフォニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルフォニル）ジアゾメタン、ターシャリーブチルカルボニルメチル−テトラヒドロチオフェニウム  トリフルオロメタンスルフォネートなどが挙げられる。光酸発生剤としては、前記の他に、特開平１１―２０２４９５号公報記載の化合物などを使用することもできる。
光カチオン重合開始剤、熱カチオン重合開始剤としては、例えば、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスフェート塩、アンチモネート塩などを挙げることができる。具体的には、ロードシルフォトイニシエーター２０７４（ローデル社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５０、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＳＰ−１７２、アデカオプトンＣＰシリーズ（いずれも旭電化工業（株）製）などが挙げられる。また、前記の他に、特開平９−１１８６６３号公報に記載された化合物も使用することができる。
【００６４】
前記の電磁線の照射または加熱により酸を発生する化合物を含有する場合、その含有量は、感光性ペースト全量に対して、好ましくは０．０１〜２０質量％であり、より好ましくは０．０５〜１０質量％である。
前記の電磁線の照射または加熱により酸を発生する化合物の含有量が、前記の範囲にあると、生産性よくパターンを形成できる傾向があり、好ましい。
【００６５】
また、本発明の感光性ペーストには、中でも電磁線の照射により式（７）で示される酸を発生する化合物が含有されていてもよい。
【００６６】
2005300633.tif 000011
【００６７】
［式（７）中、Ｒｆは、フッ素原子で置換された炭素数１〜２０の一価の有機基を表す。］
フッ素原子で置換された炭素数１〜２０の一価の有機基としては、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ブチル基などが挙げられる。
電磁線の照射により式（７）で表される酸を発生する化合物としては、例えば、式（７）で示される酸のヨードニウム塩、スルホニウム塩、エステル化合物などが挙げられる。
前記の式（７）で示される酸のヨードニウム塩としては、例えば、ＤＰＩ−１０５、ＤＰＩ−１０９、ＢＩ−１０５、ＭＰＩ−１０５、ＭＰＩ−１０９、ＢＢＩ−１０５、ＢＢＩ−１０９、ＢＢＩ−１１０（いずれもみどり化学製）などが挙げられる。
【００６８】
2005300633.tif 000012
【００６９】
前記の式（７）で示される酸のスルホニウム塩としては、例えば、ＴＰＳ−１０５、ＴＰＳ−１０９、ＭＤＳ−１０５、ＭＤＳ−１０９、ＭＤＳ−２０５、ＢＤＳ−１０９、ＤＴＳ−１０５、ＮＤＳ−１０５、ＮＤＳ−１５５、ＮＤＳ−１５９、ＮＤＳ−１６５（いずれもみどり化学製）などが挙げられる。
【００７０】
2005300633.tif 000013
【００７１】
前記の式（７）で示される酸のエステル化合物としては、例えば、ＮＡＩ−１０５、ＮＡＩ−１０９、ＮＤＩ−１０５、ＮＤＩ−１０９、ＳＩ−１０５、ＳＩ−１０９、ＰＩ−１０５、ＰＩ−１０９（いずれもみどり化学製）などが挙げられる。
【００７２】
2005300633.tif 000014
【００７３】
また、本発明の感光性ペーストは、前記の硼酸または硼酸誘導体、電磁線の照射や加熱により酸を発生する化合物、またはこれらの混合物と併用してもよい。
【００７４】
本発明の感光性ペーストは、アルカリ可溶性ポリオルガノシロキサン樹脂組成物、無機粒子および屈折率が１．４〜１．８である有機溶剤と、必要に応じて、硼酸または硼酸誘導体、電磁線の照射または加熱により酸を発生する化合物、中でも、電磁線の照射により式（７）で示される酸を発生する化合物、またはこれら２種以上の混合物とを、３本ローラや混練機等で均質に混合分散することにより製造することができる。
【００７５】
また、本発明の感光性ペーストには、必要に応じて、カルボキシル基を有する分子量１０００以下のケイ素化合物を添加してもよい。
前記のカルボキシル基を有する分子量１０００以下のケイ素化合物としては、例えば、１，３−ジ（カルボキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンなどが挙げられる。
【００７６】
さらに、本発明の感光性ペーストには、必要に応じて、式（２）で表される官能基および式（３）で表される官能基からなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基を有する分子量１０００以下のケイ素化合物を添加してもよい。
前記の分子量１０００以下のケイ素化合物としては、例えば、グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、オキセタニルオキシプロピルトリメトキシシラン、オキセタニルオキシプロピルトリエトキシシラン、１，３−ビス（グリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３，−テトラメチル−ジシロキサン、１，３−ジオキシラニル−１，１，３，３，−テトラメチル−ジシロキサン、１，３−ビス（オキセタニルオキシプロピル）−１，１，３，３，−テトラメチル−ジシロキサンなどが挙げられる。
前記の分子量１０００以下のケイ素化合物を添加する場合、その添加量は、感光性ペースト全体に対して質量分率で、好ましくは０．０１〜５質量％であり、より好ましくは０．０５〜３質量％であり、とりわけ好ましくは０．１〜１質量％である。
【００７７】
さらに、本発明の感光性ペーストには、必要に応じて、光吸収剤、光増感剤、可塑剤、分散剤、沈殿防止剤、レベリング剤などの添加剤を添加してもよい。
【００７８】
次に、本発明の感光性ペーストを用いてパターン加工を行なう方法について、一例を挙げて説明するが、本発明は該方法に限定されるものではない。
まず、基板上に、感光性ペーストを全面塗布、または、部分的に塗布する。塗布方法としては、例えば、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、スクリーン印刷などの方法を用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、ペーストの粘度を選ぶことにより調整することができ、通常、５〜５００μｍ程度である。
【００７９】
感光性ペーストを基板上に塗布する場合、基板と塗布膜との密着性を高めるために基板表面を表面処理液で処理することが好ましい。
前記の表面処理液としては、例えば、グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、グリシジルオキシプロピルトリメトキシシシラン、オキセタニルオキシプロピルトリエトキシシランなどのシランカップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤は、例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどの有機溶媒で０．１〜５％の濃度に希釈したものを用いることが好ましい。
表面処理の方法は、例えば、表面処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗布した後、８０〜１４０℃で５〜６０分間乾燥するなどを挙げることができる。
乾燥後、露光装置を用いて露光を行なう。露光装置としては、例えば、プロキシミティ露光機などが挙げられる。
大面積の露光を行なう場合には、基板上に感光性ペーストを塗布した後に、移動させながら露光を行なうことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。露光には、例えば、紫外線、電子線、Ｘ線、可視光、近赤外光などを使用することができる。
【００８０】
露光後、現像を行なう。現像は、通常、浸漬法、スプレー法、ブラシ法などで行われる。
現像液としては、例えば、テトラメチルアンモニイウムハイドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のアルカリ水溶液などが挙げられる。
水溶液中のアルカリ濃度は、好ましくは０．０５〜５質量％であり、より好ましくは０．１〜５質量％である。アルカリ濃度が前記の範囲にあると、現像除去するべき部分の除去性が良好であり、また残存すべきパターンが剥離したり侵食されたりする傾向が小さく、好ましい。
現像時の温度は、その工程管理上、好ましくは１５〜５０℃である。
【００８１】
上記のようにしてパターンを形成後、焼成炉にて焼成を行なうことにより隔壁を形成することができる。焼成雰囲気や焼成温度は、感光性ペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素などの雰囲気中で、通常、４００〜６００℃で焼成することができる。焼成炉は、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
特に、ガラス基板上にパターン加工する場合は、通常、４００〜６００℃の温度で１０〜６０分間焼成が行なわれる。
【００８２】
得られる隔壁の表面にはコート層を形成してもよい。コート層は、低融点ガラス粒子とバインダー樹脂からなるペースト剤やセラミックコーティング剤などのコート剤を塗布・乾燥し、焼成して隔壁の表面に形成するか、または前記のパターン形成後、該コート剤を塗布した後、焼成を行なうことにより、隔壁の形成と同時に隔壁の表面に形成してもよい。
前記の低融点ガラス粒子としては、例えば、酸化錫リン酸系ガラス、酸化ビスマス系ガラス、鉛ガラスなどが挙げられる。
前記のバインダー樹脂としては、例えば、ブチラール樹脂、ポリビニルアルコール、アクリル樹脂、ポリα-メチルスチレンなどが挙げられる。
前記のセラミックコート剤としては、水性金属塩系コート剤、アルコキシ金属塩系コート剤などを用いることができ、具体的には、水性金属塩系コート剤としてはＭＳ−１７００、アルコキシ金属塩系コート剤としてはＧ−３０１、Ｇ−４０１（いずれも、（株）日本セラミック製）などを挙げることができる。
コート層の焼成温度は、低融点ガラス粒子とバインダー樹脂よりなるペースト剤を用いる場合、通常、２５０〜６００℃程度であり、セラミックコート剤を用いる場合、通常、室温〜５００℃である。
【００８３】
上記のパターン加工を行なう方法により得られる隔壁において、焼成前後での該隔壁のトップ幅寸法、ボトム幅寸法および高さ寸法のそれぞれの変化量は、好ましくは±３０％以内であり、より好ましくは±１０％以内である。
パターンサイズの変化が前記の範囲にあると、プラズマディスプレイの背面板の隔壁として好適に使用することができる。
【実施例】
【００８４】
上記において、本発明の実施の形態について説明を行なったが、上記に開示された本発明の実施の形態は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれらの実施の形態に限定されない。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と均等の意味および範囲内でのすべての変更を含むものである。以下、実施例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。
【００８５】
製造例１
樹脂１：フェノール性水酸基を有するシロキサン樹脂
テトラエトキシシラン１８７ｇ、２−（４’−ｔ−ブトキシフェニル）エチル−ジメチルクロロシラン（α付加体、β付加体の混合物）１１９ｇ、エタノール１００ｍｌの混合物に水６５ｇを滴下した後、６５℃で１時間反応を行なった。次に反応混合物中に窒素をバブリングしてエタノールを留去しながら１１時間反応を継続した。さらにメチルイソブチルケトン（以下、ＭＩＢＫと省略する。）２００ｍｌを加えてエタノールおよびＭＩＢＫを留去しながら４．５時間反応させた。
反応終了液にＭＩＢＫを３００ｍｌ加え、水層が中性になるまで、３００ｍｌの水を用いる水洗を、３回繰り返して行なった。
水層を分離した後、有機層を濃縮することにより、粘稠なシロキサン樹脂溶液を得た。
シロキサン樹脂溶液に約５００ｍｌの２−ヘプタノンを加え、部分濃縮してシロキサン樹脂の２−ヘプタノン溶液を得た。固形分を測定した結果、３６．２％であった。ＧＰＣ測定の結果、ポリスチレン換算重量平均分子量は１２，０００であった。
フェノール性水酸基を有するシロキサン樹脂の構造式：
【００８６】
2005300633.tif 000015
【００８７】
実施例１
製造例１で得た樹脂１溶液（３６．２％２−ヘプタノン溶液）１８．８９ｇ、１，３−ジ（３’−カルボキシプロピル）−１，１，３，３，−テトラメチル−ジシロキサン  １．１１ｇ、ロードシルフォトイニシエーター（ローデル社製、ＰＩ−２０７４）６．５４ｇ、増感剤（旭電化工業（株）製、ＳＰ−１００）１．３１ｇ、ポリプロピレングリコールジベンゾエート３２．９２ｇを５００ｍｌのナスフラスコに入れ、均一な溶液を調製した。得られた溶液をロータリーエバポレーターで２−ヘプタノンを留去、濃縮して８０．４８ｇの粘稠なアルカリ可溶シロキサン樹脂感光性組成物を得た。
上記アルカリ可溶シロキサン樹脂感光性組成物１０ｇ、１，３−ビス（３’−グリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（信越化学工業（株）製；ＬＳ−７９７０）  ３．６５ｇ、平均粒径１．６μｍの球状シリカ（（株）アドマテックス製；ＳＯ−Ｃ５）４５．２５ｇ、低融点ガラス（平均粒径２μｍ）１１．３０ｇ、粘度調整用のγ−ブチロラクトン３．３５ｇをポリプロピレン製密閉容器に入れ、攪拌脱泡機（（株）キーエンス社製；ＨＭ−５００）を用いて攪拌して均一な感光性ペーストを調製した。
調製した感光性ペーストを３００μｍギャップのアプリケーターを用いて、ガラス基板上に１回塗布した。塗布後１３０℃のオーブンで３０分乾燥して塗膜を調製した。
乾燥後の塗膜は、５０μｍライン、３６０μｍピッチのマスクを用いて、プロキシミティ露光機（大日本スクリーン製造（株）製；ＭＡＰ−１３００）で露光された。照射露光量は、１０００ｍＪ／ｃｍ2であった。露光後、１３０℃で１０分間ベークした後、１ｗｔ％水酸化ナトリウム水溶液で現像して、パターン上部幅１２６μｍ、パターン下部幅１９１μｍ、高さ１５６μｍのパターンが得られた。
卓上電気炉（サーモライン４８０００）中、５８０℃で６０分焼成することにより、パターン上部幅１２５μｍ、パターン下部幅２０６μｍ、高さ１５０μｍのパターンが剥離せずに得られた。
焼成後のパターンサイズの変化は、焼成前に較べて、±１０％以内であった。
【産業上の利用可能性】
【００８８】
本発明の感光性ペーストは、プラズマディスプレイの部材である背面板の隔壁形成などに用いることができる。