(57)【要約】      （修正有）【課題】シール部形成の処理時間を短縮し、基板貼り合わせ直後の液晶の漏れを防ぐ。【解決手段】カラーフィルター基板上にシール部材の一部を塗布する工程Ｓ２と、対向配置するＴＦＴ基板上にシール部材の他部を塗布する工程Ｓ４と、ＴＦＴ基板上に滴下法により液晶層を形成する工程Ｓ５と、両基板を貼り合わせて硬化する工程Ｓ６を含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
二枚の対向する基板を貼り合わせる前に、液晶セル領域内に液晶を配置する、液晶表示装置の製造方法において、前記二枚の対向する基板にそれぞれシール部を形成する事を特徴とする、液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
二枚の対向する基板を貼り合わせる前に、液晶セル領域内に液晶を配置する、液晶表示装置の製造方法において、一方の基板に外周シール部を形成し、他方の基板にパネルシール部を形成する事を特徴とする、液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
二枚の対向する基板を貼り合せる前に、液晶セル領域内に液晶を配置する、液晶表示装置の製造方法において、前記二枚の対向する基板を貼り合せた時に閉ざされたパネルシール部が形成されるように、一方の基板にパネルシール部の一部を形成し、他方の基板には前記一方の基板のパネルシール部を補う領域のシール部を形成する事を特徴とする、液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記二枚の対向する基板に形成されているシール部に、硬化方式の異なる、二種類以上のシール剤が使用されていることを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載された、液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記二枚の対向する基板に形成されているシール部に、一部又は全部に導電性の粒子が混合されている、シール剤が使用されている事を特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載された、液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記二枚の対向する基板に形成されているシール部に、粒子径の異なるシール内スペーサが混合されている、二種類以上のシール剤が使用されていることを特徴とする、請求項１から３のいずれか一項に記載された、液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項に記載の液晶表示装置の製造方法によって製造されたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
請求項７に記載された、液晶表示装置を備えた事を特徴とした、電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置、液晶装置の製造方法、及びこの液晶装置を備える電子機器に係り、特に、シール部を形成する技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年液晶表示装置の製造方法において、液晶滴下貼り合せ工法と呼ばれる、カラーフィルター基板とＴＦＴ基板を貼り合わせるよりも前に液晶パネル領域内に液晶を配置する液晶表示装置の製造方法が、確立されてきた。以下、従来技術を用いた、液晶表示装置の製造方法について説明する。
【０００３】
例えば特許文献１にて、従来技術を用いた、液晶滴下貼り合せ工法による液晶表示装置の製造方法が示されている。
図１３は、従来技術を用いた、液晶滴下貼り合せ工法による、液晶表示装置の製造方法の概略製造工程図である。まず、一方の基板にカラーフィルターを作製する（図１３の工程Ｓ１）。他方の基板にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を作製する（図１３の工程Ｓ３）。カラーフィルター基板、およびＴＦＴ基板の作成方法については、本誌面では割愛する。ここでは、大判の基板（マザー基板）上に複数個の液晶パネルを一括して作製する場合を例に挙げて説明する。
【０００４】
その後、カラーフィルター基板上にシール部を形成する（図１３の工程Ｓ２）。シール部を形成する方式は、例えば、ディスペンサーによる描画方式、スクリーン印刷機による印刷方式が挙げられる。
【０００５】
シール部形成後、ＴＦＴ基板に、液晶滴下（図１３の工程Ｓ５）を行う。図１２は、液晶滴下貼り合せ工法を用いて作製された、液晶パネルの一例である。液晶滴下は、計量した液晶１８を、液晶パネル領域１３のうちの閉ざされたパネルシール１５の内側の領域に滴下する工程である。液晶滴下の方式は、例えば、ディスペンサーによる滴下方式、インクジェット方式が挙げられる。
【０００６】
その後、シール部が形成されたカラーフィルター基板と、液晶が滴下されたＴＦＴ基板を向かい合わせにし、貼り合せ（図１３の工程Ｓ６）を行う。
【０００７】
貼り合せ工程（図１３の工程Ｓ６）後に、シール硬化（図１３の工程Ｓ７）が行われる。シール硬化の方法は、例えば、熱をかけてシールを硬化する方法、光を照射してシールを硬化する方法、などが挙げられる。
【０００８】
その後、スクライブブレイク（図１３の工程Ｓ８）を行い、液晶パネルが完成する。
シール部が形成される基板は、ＴＦＴ基板でも構わないが、従来はどちらか一方の基板にのみシール部が形成されていた。
【特許文献１】特公平８−２０６２７号公報
【０００９】
また、カラーフィルター基板とＴＦＴ基板を貼り合わせた後に、液晶パネル領域内に、例えば真空注入法を用いて、液晶を注入する、液晶表示装置の製造方法では、カラーフィルター基板とＴＦＴ基板の両方にシール部を形成する事を特徴とする、液晶表示装置の製造方法が、一般的に知られている。特許文献２にその一例を示す。
【特許文献２】国際公開番号  ＷＯ９９／５２０１１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、元来、シール部形成工程は時間を要するものであり、上記特許文献１の従来技術を用いた、液晶表示装置の製造方法では、カラーフィルター基板、又はＴＦＴ基板のどちらか一方にのみシール部を形成するために、全体として工程処理時間が長い。さらに、シール部の形成に使用できるシール剤が一種類のみであったので、カラーフィルター基板とＴＦＴ基板の間で、電気的導通を必要とする場合に、シール剤に導通性微粒子を混合させる場合は、電気的導通を必要とする箇所がシール部の一部であっても全てのシール部に導通性を持たせなければ成らなかった。また、シール剤にスペーサを混入する場合には、基板の凹凸に合わせて複数種の粒子径を持つシール内スペーサを用いたいという要求もあるが、シール内スペーサも一種類の粒子径のみしか利用できなかった。つまり、基板上の一部の凹凸のみを考慮に入れて、シール内スペーサの粒子径を決定していたので、セルギャップの均一性が良くなかった。これらのように、一種類のシール剤のみしか利用できない場合は、パネル設計上の制約が多い事が問題であった。
【００１１】
また、上記特許文献２の従来技術を用いた、液晶表示装置の製造方法では、液晶の注入口を所有している為に、液晶滴下後にカラーフィルター基板とＴＦＴ基板を貼り合せる場合は、液晶が外部へ漏れ出す事が問題であった。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の液晶表示装置の製造方法では、カラーフィルター基板とＴＦＴ基板の両方にシール部を形成し、液晶滴下後に、カラーフィルター基板とＴＦＴ基板を貼り合せる事を特徴とする。
【００１３】
全シール部の内、例えば半分のシール部をカラーフィルター基板に形成し、残りの半分のシール部をＴＦＴ基板に形成することでシール部の形成を２台の装置を用いて双方の基板で並行して行うことができるので、カラーフィルター基板とＴＦＴ基板のどちらか一方に全てのシール部を形成する場合と比較して、工程処理時間が半分になるという特徴を有する。
【００１４】
また、本発明の液晶表示装置の製造方法は、二枚の対向する基板を貼り合わせる前に、液晶セル領域内に液晶を配置する、液晶表示装置の製造方法において、一方の基板に外周シール部を形成し、他方の基板にパネルシール部を形成する事を特徴とする。
この構成によれば、外周シール部とパネルシール部にそれぞれ異なった方式でシール部を形成することができる。例えば、外周シール部は大判基板の最外周近傍のみを描画するシール部であるために、印刷方式ではシールマスクの大半を無駄にしてしまいシール材利用効率も悪いので、シールディスペンサー方式でシール部を形成し、パネルシール部はシール部面積が多く各パターンづつ描画するシールディスペンサー方式では作業工程時間が長くなるために、印刷方式でシール部を形成することで作業効率を上げることができる。
【００１５】
また、本発明の液晶表示装置の製造方法は、二枚の対向する基板を貼り合せる前に、液晶セル領域内に液晶を配置する、液晶表示装置の製造方法において、前記二枚の対向する基板を貼り合せた時に閉ざされたパネルシール部が形成されるように、一方の基板にパネルシール部の一部を形成し、他方の基板には前記一方の基板のパネルシール部を補う領域のシール部を形成する事を特徴とする。
この構成によれば、二枚の対向する基板のそれぞれに、パネルシール部を形成する事で、作業時間の大幅な短縮が図れる。
【００１６】
また、カラーフィルター基板とＴＦＴ基板の両方にシール部を形成するために、複数の種類のシール剤を用いてシール部を形成する事が可能となる。その為、硬化方式の異なる複数の種類のシール剤を使用して、シール部を形成する事が可能である。
その場合、液晶に接するパネルシール部のシール材には高価な熱光併用硬化タイプのシール材を使用し、外周シール部には安価な熱硬化タイプのシール材を使用することで、コストダウンにつながるという効果が得られる。
【００１７】
また、一パネル内のシール部の内、一部を導電性を有するシール剤を用いて形成し、他の部分を非導電性のシール剤を用いて形成する事が可能である。例えば２枚の基板間でシール部を用いて電極等の電気的導通を取る必要がある場合、導通を取る箇所はシール部の一部であっても、従来は全ての箇所で導電性を有するシール剤を用いなければならなかった。その点、本発明では、導通を取る領域のみ導電性を有するシール剤（導電粒子を含むシール剤）を用い、その他の領域は非導電性のシール剤（導電粒子を含まない通常のシール剤）を用いれば済むので、製造コストの削減を図ることができる。
さらに、粒子径の異なるシール内スペーサが混合された複数のシール剤を利用する事が出来るので、あらゆる基板上の凹凸を考慮に入れた、シール部を形成する事が可能である。その結果、セルギャップをより均一に保持することができ、表示品位に優れた液晶表示装置を提供することができる。
【００１８】
基板貼り合せ後に閉ざされたシール部が形成されるので、基板貼り合せ直後の液晶の漏れを防ぐ効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。尚、以下で参照する各図面に示す液晶表示装置の各構成要素は、説明を容易にする為に、簡略化されている。
【実施例１】
【００２０】
図１は、第一の実施形態にかかる液晶表示装置の製造方法の概略製造工程図である。まず、一方の基板にカラーフィルターを作製する（図１の工程Ｓ１）。他方の基板にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を作製する（図１の工程Ｓ３）。カラーフィルター基板、およびＴＦＴ基板の作成方法については、本誌面では割愛する。
【００２１】
その後、カラーフィルター基板上にシール部を形成する（図１の工程Ｓ２）。また、ＴＦＴ基板にもシール部を形成する（図１の工程Ｓ４）。シール部を形成する方式は、例えば、ディスペンサーによる描画方式、スクリーン印刷機による印刷方式が挙げられる。
【００２２】
図２は、シール部形成（図１の工程Ｓ２）終了後のカラーフィルター基板１１の一例である。図２では、一枚の基板で４枚の液晶パネルが製造出きる。外周シール１２、及び液晶パネル領域１３の内側に、液晶領域を規定するパネルシール１５が形成されている。この例では、カラーフィルター基板１１側に、４枚の液晶パネル用のパネルシール１５のうち、２枚の液晶パネル（図２における左上、左下の液晶パネルに相当）用のパネルシール１５が形成されている。さらに、外周シール１２は、液晶パネル領域１３を囲むように形成されている。なお、外周シール１２、及びパネルシール１５は、閉ざされたシールである。液晶滴下貼り合せ工法においては、外周シール１２を形成し、貼り合せ工程（図１の工程Ｓ６）を真空雰囲気中で行う事で、パネルシール１５内部の液晶１８中に気泡を巻きこまない液晶パネルを作成する事ができる。
【００２３】
図３は、シール部形成（図１の工程Ｓ４）終了後のＴＦＴ基板１６の一例である。液晶パネル領域１３の内側に、液晶領域を規定するパネルシール１５が形成されている。この例では、ＴＦＴ基板１６側に、４枚の液晶パネル用のパネルシール１５のうち、２枚の液晶パネル（図２のカラーフィルター基板上に図３のＴＦＴ基板を裏返して貼り合わせるとすれば、右上、右下の液晶パネルに相当）用のパネルシール１５が形成されている。
なお、本実施形態では、カラーフィルター基板に外周シールを形成しているが、ＴＦＴ基板に形成しても構わない。また、カラーフィルター基板にシール部を形成する方式と、ＴＦＴ基板側にシール部を形成する方式が異なっていても構わない。例えば、カラーフィルター基板のシール部形成には、スクリーン印刷機による印刷方式を用い、ＴＦＴ基板側のシール部形成には、ディスペンサーによる描画方式を用いる。さらに、カラーフィルター基板と、ＴＦＴ基板に形成されるシール剤に、硬化方式の異なるタイプのシール剤が使用されても構わない。例えば、カラーフィルター基板に、熱硬化タイプのシール剤を使用し、ＴＦＴ基板に、ＵＶ硬化タイプのシール剤を使用する。また、カラーフィルター基板、またはＴＦＴ基板に形成されているシール剤に、導電性の粒子が混合されているタイプのシール剤が使用されても構わない。また、カラーフィルター基板と、ＴＦＴ基板に形成されるシール部に、異なる粒子径のシール内スペーサが混合されているシール剤を使用しても構わない。例えば、カラーフィルター基板に、粒子径が１０μｍのシリカ球がシール内スペーサとして混合されているシール剤を使用し、ＴＦＴ基板に、粒子径が５μｍのシリカ球がシール内スペーサとして混合されているシール剤を使用されても構わない。また、シール内スペーサはシリカ製の微粒子や、シリカ製のファイバーが使用されても構わない。
【００２４】
シール部形成後、ＴＦＴ基板１６に、液晶滴下（図１の工程Ｓ５）を行う。液晶滴下は、計量した液晶を、パネルシール１５の内側に滴下する工程である。液晶滴下の方式は、例えば、ディスペンサーによる滴下方式、インクジェット方式が挙げられる。
【００２５】
その後、カラーフィルター基板の基板辺ａ１４と、ＴＦＴ基板の基板辺ｂ１７を重ねあわせるように、カラーフィルター基板１１とＴＦＴ基板１６を向かい合わせにし、貼り合せ（図１の工程Ｓ６）を行う。
【００２６】
図４は、貼り合せ工程（図１の工程Ｓ６）終了後のカラーフィルター基板とＴＦＴ基板の一例である。パネルシール１５の内側の領域に、液晶１８が、均一に満たされる。
【００２７】
貼り合せ工程（図１の工程Ｓ６）後に、シール硬化（図１の工程Ｓ７）が行われる。シール硬化の方法は、例えば、熱をかけてシールを硬化する方法、光を照射してシールを硬化する方法、などが挙げられる。その後、スクライブブレイク（図１の工程Ｓ８）を行い、液晶パネルが完成する。
【００２８】
本実施例においては、ＴＦＴタイプの液晶ディスプレイについて述べているが、他のタイプの液晶ディスプレイであっても構わない。例えば、液晶駆動用素子がＴＦＤ（薄膜ダイオード）タイプの液晶ディスプレイや、液晶駆動用素子を必要としないパッシブマトリックスタイプの液晶ディスプレイ等であっても構わない。
【実施例２】
【００２９】
図５は、第二の実施形態にかかる液晶表示装置の製造方法の概略製造工程図である。まず、一方の基板にカラーフィルターを作製する（図５の工程Ｓ１）。他方の基板にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を作製する（図５の工程Ｓ３）。カラーフィルター基板、およびＴＦＴ基板の作成方法については、本誌面では割愛する。
【００３０】
その後、カラーフィルター基板上に外周シール部を形成する（図５の工程Ｓ９）。また、ＴＦＴ基板にパネルシール部を形成する（図５の工程Ｓ１０）。シール部を形成する方式は、例えば、ディスペンサーによる描画方式、スクリーン印刷機による印刷方式が挙げられる。
【００３１】
図６は、外周シール部形成（図５の工程Ｓ９）終了後のカラーフィルター基板１１の一例である。図６では、一枚の基板で４枚の液晶パネルが製造出きる。カラーフィルター基板１１には、外周シール１２のみが、液晶パネル領域１３を囲むように形成されている。なお、外周シール１２は、閉ざされたシールである。図７は、パネルシール部形成（図５の工程Ｓ１０）終了後のＴＦＴ基板１６の一例である。ＴＦＴ基板１６には、液晶パネル領域１３の内側に、液晶領域を規定する４枚の液晶パネル用のパネルシール１５が形成されている。なお、本実施形態では、カラーフィルター基板１１に外周シール１２を形成し、ＴＦＴ基板１６にパネルシール１５を形成しているが、カラーフィルター基板１１にパネルシール１５を形成し、ＴＦＴ基板１６に外周シール１２を形成しても構わない。また、カラーフィルター基板にシール部を形成する方式と、ＴＦＴ基板側にシール部を形成する方式が異なっていても構わない。例えば、カラーフィルター基板の外周シール部形成には、ディスペンサーによる描画方式を用い、ＴＦＴ基板側のシール部形成には、スクリーン印刷機による印刷方式を用いる。さらに、カラーフィルター基板と、ＴＦＴ基板に形成されるシール部に、硬化方式の異なるタイプのシール剤が使用されても構わない。例えば、カラーフィルター基板に、熱硬化タイプのシール剤を使用し、ＴＦＴ基板に、ＵＶ硬化タイプのシール剤を使用する。また、カラーフィルター基板、またはＴＦＴ基板に形成されているシール剤に、導電性の粒子が混合されているタイプのシール剤が使用されても構わない。また、カラーフィルター基板と、ＴＦＴ基板に形成されるシール部に、異なる粒子径のシール内スペーサが混合されているシール剤を使用しても構わない。例えば、カラーフィルター基板に、粒子径が１０μｍのシリカ球がシール内スペーサとして混合されているシール剤を使用し、ＴＦＴ基板に、粒子径が５μｍのシリカ球がシール内スペーサとして混合されているシール剤を使用されても構わない。また、シール内スペーサはシリカ製の微粒子や、シリカ製のファイバーが使用されても構わない。
【００３２】
シール部形成後、ＴＦＴ基板１６に、液晶滴下（図５の工程Ｓ５）を行う。液晶滴下は、計量した液晶を、パネルシール１５の内側に滴下する工程である。液晶滴下の方式は、例えば、ディスペンサーによる滴下方式、インクジェット方式が挙げられる。
【００３３】
その後、カラーフィルター基板１１とＴＦＴ基板１６を向かい合わせにし、貼り合せ（図５の工程Ｓ６）を行う。図４は、貼り合せ工程（図５の工程Ｓ６）終了後のカラーフィルター基板とＴＦＴ基板の一例である。パネルシール１５の内側の領域に、液晶１８が、均一に満たされる。
【００３４】
貼り合せ工程（図５の工程Ｓ６）後に、シール硬化（図５の工程Ｓ７）が行われる。シール硬化の方法は、例えば、熱をかけてシールを硬化する方法、光を照射してシールを硬化する方法、などが挙げられる。その後、スクライブブレイク（図５の工程Ｓ８）を行い、液晶パネルが完成する。
【００３５】
本実施例においては、ＴＦＴタイプの液晶ディスプレイについて述べているが、他のタイプの液晶ディスプレイであっても構わない。例えば、液晶駆動用素子がＴＦＤ（薄膜ダイオード）タイプの液晶ディスプレイや、液晶駆動用素子を必要としないパッシブマトリックスタイプの液晶ディスプレイ等であっても構わない。
【実施例３】
【００３６】
第三の実施形態における、概略工程図は、第一の実施形態における概略工程図と同じである。まず、一方の基板にカラーフィルターを作製する（図１の工程Ｓ１）。他方の基板にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を作製する（図１の工程Ｓ３）。カラーフィルター基板、およびＴＦＴ基板の作成方法については、本誌面では割愛する。
【００３７】
その後、カラーフィルター基板上にシール部を形成する（図１の工程Ｓ２）。また、ＴＦＴ基板にもシール部を形成する（図１の工程Ｓ４）。シール部を形成する方式は、例えば、ディスペンサーによる描画方式、スクリーン印刷機による印刷方式が挙げられる。
【００３８】
第一，第二の実施形態は閉ざされた複数のシール部のうちの一部を別の基板にそれぞれ形成する例であったが、本実施形態は１枚の液晶パネル用のシール部の中を部分的に別の基板に形成する例である。図８は、シール部形成（図１の工程Ｓ２）終了後のカラーフィルター基板の液晶パネル領域の一例である。図８中の縦方向に延びる互いに平行な二本のパネルシールａ１９が、液晶パネル領域１３に形成されている。図９は、シール部形成（図１の工程Ｓ４）終了後のＴＦＴ基板の液晶パネル領域の一例である。図９中の横方向に延びる互いに平行な二本のパネルシールｂ２０が、液晶パネル領域１３に形成されている。パネルシールａとパネルシールｂを足し合わせる事で、閉ざされたシール領域を形成する。パネルシールａとパネルシールｂは、互いに補う事で、閉ざされたシール領域を形成する事ができれば良い。例えば、図１０は、シール部形成（図１の工程Ｓ２）終了後のカラーフィルター基板の液晶パネル領域の他の例である。液晶パネル領域１３に、隣接する２辺（図１０における右辺、下辺に相当）に対応するパネルシールｃ２１が形成されている。図１１は、シール部形成（図１の工程４Ｓ）終了後のＴＦＴ基板の液晶パネル領域の他の例である。液晶パネル領域１３に、隣接する２辺（図１０の基板上に図１１の基板を裏返して重ね合わせるとすれば、左辺、上辺に相当）に対応するパネルシールｄ２３が形成されている。パネルシールｃ２１と、パネルシールｄ２３は、カラーフィルターの液晶パネル領域１３の短辺ａ２２と、ＴＦＴ基板の液晶パネル領域１３の短辺ｂ２４を重ね合わせて、互いに向かい合わせるようにして、貼り合せを行う際に、閉ざされたシール領域を形成する事が出きる。さらに、カラーフィルター基板と、ＴＦＴ基板に形成されるシール部に、硬化方式の異なるタイプのシール剤が使用されても構わない。例えば、カラーフィルター基板に、熱硬化タイプのシール剤を使用し、ＴＦＴ基板に、ＵＶ硬化タイプのシール剤を使用する。また、カラーフィルター基板、またはＴＦＴ基板に形成されているシール剤に、導電性の粒子が混合されているタイプのシール剤が使用されても構わない。また、カラーフィルター基板と、ＴＦＴ基板に形成されるシール部に、異なる粒子径のシール内スペーサが混合されているシール剤を使用しても構わない。例えば、カラーフィルター基板に、粒子径が１０μｍのシリカ球がシール内スペーサとして混合されているシール剤を使用し、ＴＦＴ基板に、粒子径が５μｍのシリカ球がシール内スペーサとして混合されているシール剤を使用されても構わない。また、シール内スペーサはシリカ製の微粒子や、シリカ製のファイバーが使用されても構わない。
【００３９】
次に、液晶滴下（図１の工程Ｓ５）を行う。液晶滴下は、計量した液晶を、パネルシール１５の内側に滴下する工程である。液晶滴下の方式は、例えば、ディスペンサーによる滴下方式、インクジェット方式が挙げられる。
【００４０】
図１２は、貼り合せ工程（図１の工程Ｓ６）終了後液の、液晶滴下貼り合せ工法を用いて作製された、液晶パネルの一例である。パネルシール１５の内側の領域に、液晶１８が、均一に満たされる。
【００４１】
貼り合せ工程（図１の工程Ｓ６）後に、シール硬化（図１の工程Ｓ７）が行われる。シール硬化の方法は、例えば、熱をかけてシールを硬化する方法、光を照射してシールを硬化する方法、などが挙げられる。その後、スクライブブレイク（図１の工程Ｓ８）を行い、液晶パネルが完成する。
【００４２】
本実施例においては、ＴＦＴタイプの液晶ディスプレイについて述べているが、他のタイプの液晶ディスプレイであっても構わない。例えば、液晶駆動用素子がＴＦＤ（薄膜ダイオード）タイプの液晶ディスプレイや、液晶駆動用素子を必要としないパッシブマトリックスタイプの液晶ディスプレイ等であっても構わない。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
(電子機器)
図１４は、本発明にかかる液晶表示装置の製造方法を用いて作製された液晶表示装置を備えた電子機器の一例である携帯電話の図であり、携帯電話３１は上記実施例を用いて作製された液晶表示装置を表示部３２として備え、複数個の操作ボタン３３、マイク３４、受話口３５を備えて構成されている。
【００４４】
上記実施例を用いて作製された液晶表示装置の適応範囲は上記携帯電話に限らず、例えば、電子書籍、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、液晶テレビ、ビデオカメラ、カーナビゲーションシステム、電子手帳、テレビ電話、固定式電話、タッチパネルを備えた情報機器等の表示部に用いる事が出来る。  
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】図１は、実施例１の液晶表示装置の製造方法の概略製造工程図。
【図２】図２は、同、シール部形成後のカラーフィルター基板の一例。
【図３】図３は、同、シール部形成後のＴＦＴ基板の一例。
【図４】図４は、同、基板貼り合せ後のカラーフィルター基板とＴＦＴ基板の一例。
【図５】図５は、実施例２の液晶表示装置の製造方法の概略製造工程図。
【図６】図６は、同、外周シール部形成後のカラーフィルター基板の一例。
【図７】図７は、同、パネルシール部形成後のＴＦＴ基板の一例。
【図８】図８は、実施例３の液晶表示装置の、シール形成後のカラーフィルター基板の液晶パネル領域の一例。
【図９】図９は、同、シール形成後のＴＦＴ基板の液晶パネル領域の一例。
【図１０】図１０は、同、シール形成後のカラーフィルター基板の液晶パネル領域の他の例。
【図１１】図１１は、同、シール形成後のＴＦＴ基板の液晶パネル領域の他の例。
【図１２】図１２は、液晶滴下貼り合せ工法を用いて作製された、液晶パネルの一例。
【図１３】図１３は、従来技術を用いた、液晶滴下貼り合せ工法による、液晶表示装置の製造方法の概略製造工程図である。
【図１４】図１４は、本発明にかかる電子機器の一例の図。
【符号の説明】
【００４６】
Ｓ１…カラーフィルター基板作製工程、Ｓ２…カラーフィルター基板側シール部形成工程、Ｓ３…ＴＦＴ基板作製工程、Ｓ４…ＴＦＴ基板側シール部形成工程、Ｓ５…液晶滴下工程、Ｓ６…カラーフィルター基板とＴＦＴ基板の貼り合せ工程、Ｓ７…シール硬化工程、Ｓ８…スクライブブレイク工程、Ｓ９…外周シール部形成工程、Ｓ１０…パネルシール部形成工程、１１…カラーフィルター基板、１２…外周シール、１３…液晶パネル領域、１４…基板辺ａ、１５…パネルシール、１６…ＴＦＴ基板、１７…基板辺ｂ、１８…液晶、１９…パネルシールａ、２０…パネルシールｂ、２１…パネルシールｃ、２２…短辺ａ、２３…パネルシールｄ、２４…短辺ｂ、３１…携帯電話、３２…液晶パネル、３３…操作ボタン、３４…マイク、３５…受話口。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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