(57)【要約】    【課題】  プラズマディスプレイパネルに直接貼付することができ、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができ、しかも透明性に優れた光学フィルタを提供する。    【解決手段】  プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、該光学フィルタは耐衝撃層を有し、該耐衝撃層は熱可塑性ポリオレフィンを含有し、該耐衝撃層は密度０．８〜１．０、内部ヘーズ０．１〜３．０であり、且つ、該耐衝撃層の厚みが０．２ｍｍ〜１．０ｍｍであり、該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊ以上である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、
（２）該光学フィルタは耐衝撃層を有し、
（３）該耐衝撃層は熱可塑性ポリオレフィンを含有し、該耐衝撃層は密度０．８〜１．０、内部ヘーズ０．１〜３．０であり、且つ、該耐衝撃層の厚みが０．２ｍｍ〜１．０ｍｍであり、
（４）該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であることを特徴とする光学フィルタ。
【請求項２】
前記耐衝撃層が、ポリプロピレン／低融点ポリエチレン／ポリプロピレンの３層からなる積層体のシートとして構成され、耐衝撃層を構成する該ポリプロピレンのＤＳＣ融解ピーク温度が１００℃〜１４０℃であり、該低融点ポリエチレンのＤＳＣ融解ピーク温度が４０℃〜１００℃であり、耐衝撃層の製造時の各樹脂のＭＦＲが１〜４０である請求項１記載の光学フィルタ。
【請求項３】
前記ポリプロピレンの層に結晶化核剤が含まれる請求項２記載の光学フィルタ。
【請求項４】
前記耐衝撃層を構成するポリプロピレン／低融点ポリエチレン／ポリプロピレンの３層からなる積層体の各層の厚みの比が、１：６：１〜１：１４０：１である請求項３記載の光学フィルタ。
【請求項５】
前記耐衝撃層が、共押出により形成されることを特徴とする請求項３又は４記載の光学フィルタ。
【請求項６】
前記耐衝撃層が、エチレンとプロピレンの共重合体を含み、該共重合体のＤＳＣ融解ピーク温度が８０℃〜１４０℃、耐衝撃層の製造時の樹脂のＭＦＲが１〜４０である請求項１記載の光学フィルタ。
【請求項７】
前記エチレンとプロピレンの共重合体がメタセロン触媒により重合されたものである請求項６記載の光学フィルタ。
【請求項８】
前記耐衝撃層が、結晶化核剤を含む請求項６又は７記載の光学フィルタ。
【請求項９】
前記耐衝撃層が、密度０．８〜１．０のポリエチレンで、ＤＳＣ融解ピーク温度が４０〜８０℃、ＭＦＲが１〜４０である請求項１記載の光学フィルタ。
【請求項１０】
反射防止膜を有する請求項１乃至９の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項１１】
近赤外線吸収化合物を含む樹脂層を有し、８００〜１０００ｎｍの波長範囲の透過率が２０％以下となる請求項１乃至１０の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項１２】
ネオン光５６０〜６３０ｎｍの波長範囲に最大吸収波長を持つネオン光吸収化合物を含む樹脂層を有し、該波長範囲における最大吸収波長の透過率が４０％以下となる請求項１乃至１１の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項１３】
可視光３８０〜７８０ｎｍの波長範囲の透過率が４０％以上となる請求項１乃至１２の何れか１項に記載の光学フィルタ。
【請求項１４】
プラズマディスプレイ装置から発生する静電気及び／又は電磁波ノイズをシールドする電磁波遮蔽層を有する請求項１乃至１３の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項１５】
プラズマディスプレイに貼着するための粘着剤層が設けられた請求項１乃至１４の何れか１項記載の光学フィルタ。
【請求項１６】
請求項１乃至１５の何れか１項記載の光学フィルタを粘着剤層を介して表示面に貼付されてなるプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルに直接貼付することができ、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができる光学フィルタ、該光学フィルタを貼付したプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型の薄型テレビ、薄型ディスプレイ用途等にプラズマディスプレイ装置の開発、製品化が行われている。このプラズマディスプレイ装置はその構造上、他の機器に誤動作を与えたり、リモートコントロールの操作に影響を与える近赤外線や、色調に影響を与えるネオン光がディスプレイ内部から放出されるため、これらを遮断する必要がある。また、プラズマディスプレイ装置から電磁波が発生するため、人体への影響を考慮して、電磁波の放出の強さを規格内に低減化することが要求されている。
【０００３】
これらの要求に鑑みて、既にプラズマディスプレイパネルに貼付するための各種フィルタが開発されており、例えば、特開２０００−５９０８３号公報（特許文献１）には電磁波遮蔽効果と近赤外線カット、色補正、反射防止の各層を蓄積した光学フィルタが開示されている。このような光学フィルタは、透明性に優れていることが基本的要件である。
【０００４】
一方、プラズマディスプレイ装置は、大型化が進む中、軽量化・薄肉化が求められ、光学フィルタを設けた状態でのプラズマディスプレイパネルの耐衝撃性の向上がますます必要となっている。
【０００５】
しかしながら、前記各機能を有した光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに組合せた状態で、いかにしてプラズマディスプレイの十分な耐衝撃性を高めるか、どの程度の耐衝撃性が必要かが解決すべき課題となった。また、耐衝撃層を形成するのに、溶剤乾燥型樹脂を塗布して形成した場合には、乾燥時にどうしても微細な気泡が塗膜から抜けきらないため、透明性が要求されるプラズマディスプレイパネル用の光学フィルタにはヘーズが高すぎて用いることができない。また、加熱硬化型の樹脂の場合には、加熱時にフィルター中に含まれる、近赤外線吸収色素やネオン光吸収色素などの色素に変質をもたらすという問題がある。また、プラズマディスプレイの薄肉化の要求に従い、耐衝撃層の厚みも薄くしなければならないが、必要な耐衝撃性を確保する必要がある。
【０００６】
特開２００２−２６０５３９号公報（特許文献２）には、プラズマディスプレイ前面に反射防止膜を有する光学フィルタを粘着剤層を介して貼付したディスプレイパネルが示されている。特許文献２のディスプレイパネルに貼着されている光学フィルタは、粘着剤層に耐衝撃性の改善を与えているため、耐衝撃性と接着性が必要となっている。特許文献２の実施例１では、アクリル酸共重合体を溶融してシート状に成形した粘着シートを光学フィルタに貼りつけ、次にプラズマディスプレイに貼りつけている。また、該実施例１のような、粘着シートは巻取保管性、作業性等の取扱性が悪いという問題がある。
【０００７】
また、特許文献２の実施例２では、プラズマディスプレイの前面にフィルタを貼り付けるため、ディスプレイとフィルタの間隔を１ｍｍに保って透明熱硬化性シリコーンを用いて、熱処理を行って貼り合わせている。しかしながら、該実施例２のような光学フィルタとプラズマディスプレイとの貼着方法は、シリコーンの流し込み、及び加熱処理を必要とするため生産性が悪く、歩留りも悪いという問題がある。さらに、特許文献２の粘着剤層を含めた光学フィルタは、光学フィルタ自体の基本的要件である透明性の程度については一切示されていない。
【特許文献１】特開２０００−５９０８３号公報
【特許文献２】特開２００２−２６０５３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、プラズマディスプレイパネルに直接貼付することができ、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができ、しかも透明性に優れ、薄肉の光学フィルタを提供し、さらに、耐衝撃層を形成する際に取扱性に問題がなく、或いは耐衝撃層を形成するのに加熱硬化する必要のない、耐衝撃層自体に透明性に優れたプラズマディスプレイパネルに貼着するための光学フィルタを提供すること、該光学フィルタを貼着したプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【０００９】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、反射防止性を付与した光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１０】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、近赤外線吸収性の樹脂層を備えた光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１１】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、ネオン光吸収性の樹脂層を備えた光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１２】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、透明性の高い光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１３】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタに加えて、静電気及び／又は電磁波ノイズが抑制された光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１４】
さらに本発明の付随的な目的は、上記性質を有する光学フィルタが、プラズマディスプレイパネルの表示面に貼着されてなるプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の光学フィルタは、（１）プラズマディスプレイパネルの表示面に直接貼付されるための光学フィルタであって、（２）該光学フィルタは耐衝撃層を有し、（３）該耐衝撃層は熱可塑性ポリオレフィンを含有し、該耐衝撃層は密度０．８〜１．０、内部ヘーズ０．１〜３．０、好ましくは０．１〜１．５であり、且つ、該耐衝撃層の厚みが０．２ｍｍ〜１．０ｍｍであり、（４）該光学フィルタをプラズマディスプレイパネルに貼付したときのプラズマディスプレイパネルに対する衝撃試験による破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であることを特徴とする。
【００１６】
衝撃試験は、図３に示す衝撃試験装置を用いて行い、高さ９．６ｃｍから直径５０．８ｍｍの鋼球１２（質量５３４ｇ）（ＪＩＳ  Ｂ１５０１  玉軸受用鋼球に規定されたもの）を落下させたときの、破壊エネルギーを測定して行った。試験台８としてＳＵＳ製土台９と、厚さ１０ｍｍのガラス板１０を貼り合わせたものを用いた。該試験台８上に、プラズマディスプレイ用の前面ガラス板１１として旭硝子社製の高歪点ガラス板（ＰＤ−２００：商品名、厚み２．８ｍｍ）を載置した。なお、ＰＤ−２００は、プラズマディスプレイメーカー各社が共通に使用しているプラズマディスプレイ用の前面ガラス板である。試験台８上に前面ガラス板１１を直接載置した理由は、プラズマディスプレイの筐体によるクッション性を排除するためである。
【００１７】
本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層の厚みは０．２ｍｍ〜１．０ｍｍであることが必要であり、０．２ｍｍ未満だと、耐衝撃試験において破壊エネルギーが０．５Ｊ以上であることを達成することができず、１．０ｍｍを超えるとヘーズが大きくなり、透明性が失われる。
【００１８】
本発明において「内部ヘーズ」とは、耐衝撃層の表面の影響を無くして測定した、「耐衝撃層」単体についての内部のヘーズを意味する。したがって、耐衝撃層が他の層と積層されていて単体で作成されないものについては、耐衝撃層に接している層を全て剥がした状態で測定している。測定法はＪＩＳ  Ｋ７１０５−１９８１に準拠した方法で、試験片にオイルを塗布し、表面の影響を無くし、内部の影響だけを試験する。
【００１９】
本発明の光学フィルタの好ましい１番目の態様は、前記本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層が、ポリプロピレン／低融点ポリエチレン／ポリプロピレンの３層からなる積層体であって、該ポリプロピレンのＤＳＣ融解ピーク温度が１００℃〜１４０℃であり、該低融点ポリエチレンのＤＳＣ融解ピーク温度が４０℃〜１００℃である光学フィルタである。
【００２０】
ＤＳＣ融解ピーク温度が１００℃〜１４０℃のポリプロピレンは、シート状に成形したときの耐ブロッキング性に優れるため取扱性に優れ、３層からなる積層体の耐衝撃層の両外側の層となる。一方、ＤＳＣ融解ピーク温度が４０℃〜１００℃である、特に密度が０．９以下の低融点ポリエチレンは、透明性に優れる点において有利であるが、シート状に成形してもべとべとの状態であるという不都合があるため、低融点ポリエチレン単体ではブロッキングが発生し、取扱性が悪いという欠点がある。しかしながら、本発明では、ポリプロピレンからなる両外側層に挟まれた中間層とし、積層体全体をシート状に成形することができるため、両外側層のポリプロピレンにより、耐衝撃層を３層からなるシート状に成形したときに、得られたシートに耐ブロッキング性が付与されると同時に、シートに透明性を与える。
【００２１】
本発明の前記１番目の態様の光学フィルタにおいて、耐衝撃層を構成するポリプロピレン／低融点ポリエチレン／ポリプロピレンの３層からなる積層体の各層の厚みの比が、１：６：１〜１：１４０：１であることが好ましい。ポリプロピレンは結晶化しやすく透明性が良くない樹脂であるので、できるだけ薄い膜とすることが好ましいので、ポリプロピレンと低融点ポリエチレンの各層の厚みの比は上記範囲内が好ましい。耐衝撃層は厚みが０．２ｍｍ〜１．０ｍｍの範囲内において、ポリプロピレンの厚み１に対して低融点ポリエチレンの厚みが６未満だと、ポリプロピレンの層の厚みの影響で、シート状に成形された耐衝撃層の透明性が悪くなる。また、低融点ポリエチレンの厚みが１４０を超えると、ポリプロピレンの層の厚みが薄くなるために、シート状態においてブロッキングが発生するという問題がある。
【００２２】
本発明の前記１番目の態様の光学フィルタにおいて、耐衝撃層は共押出により形成され、３層の各層を構成する樹脂のＭＦＲが１〜４０であることが好ましい。ＭＦＲが１未満だとＴダイでの押出時、樹脂圧力が高くなり、成形しにくくなり、押出時の冷却ムラによる結晶化のムラが生じやすく、透明性が損なわれることがある。また、４０を超えるとＴダイでの押出時のネックインが大きくなり成形しにくくなる。
【００２３】
本発明の前記１番目の態様の光学フィルタにおいて、耐衝撃層は共押出によるシートとして得られ、耐ブロッキング性があるので、光学フィルタの構成部材として巻取保管することが可能である。そのため、該耐衝撃層のシートを他の層構成と貼り合わせることにより、光学フィルタを製造することができるので、作業性に有利である。
【００２４】
本発明の光学フィルタの好ましい２番目の態様は、前記本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層が、エチレンとプロピレンのランダム共重合体を含み、ＤＳＣ融解ピーク温度が８０℃〜１４０℃、ＭＦＲが１〜４０である。耐衝撃層をＤＳＣ融解ピーク温度が８０℃〜１４０℃、ＭＦＲが１〜４０となるような、エチレンとプロピレンの共重合体を含む層とすることにより、異なる側鎖が不規則に存在し、結晶化を起こしにくく、透明性が高くなる。耐衝撃層の形成に用いる樹脂のＤＳＣ融解ピーク温度が８０℃未満であると、耐ブロッキング性が悪く光学フィルタとして不適であり、１４０℃を超えるとフィルム成型性が悪くなる。ＭＦＲが１未満だとＴダイでの押出時、樹脂圧力が高くなり、成形しにくくなり、押出時の冷却ムラによる結晶化のムラが生じやすく、透明性が損なわれることがあり、また、４０を超えるとＴダイでの押出時のネックインが大きくなり成形しにくくなる。
【００２５】
本発明の前記２番目の態様の光学フィルタにおいて、耐衝撃層は結晶核剤を含むことが、耐衝撃層に樹脂の結晶構造を生成させないために好ましい。結晶核剤は結晶粒径を微細化する機能を有し、樹脂の結晶粒の成長を抑制し、形成された層を透明にする。
【００２６】
本発明の前記２番目の態様の光学フィルタにおいて、耐衝撃層は耐ブロッキング性のシート単体として得ることができるため、、光学フィルタの構成部材として巻取保管することが可能である。そのため、該耐衝撃層のシートを他の層構成と貼り合わせることにより、光学フィルタを製造することができるので、作業性に有利である。
【００２７】
本発明の光学フィルタの好ましい３番目の態様は、前記本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層が、密度０．８〜１．０のポリエチレンで、ＤＳＣ融解ピーク温度が４０〜１００℃、ＭＦＲが１〜４０の光学フィルタである。耐衝撃層におけるポリエチレンの密度が０．８未満であると耐熱性が極端に低くなり、１．０を超えると結晶化度が高く不透明となる。ＭＦＲが１未満だとＴダイでの押出時、樹脂圧力が高くなり、成形しにくくなり、押出時の冷却ムラによる結晶化のムラが生じやすく、透明性が損なわれることがあり、また、４０を超えるとＴダイでの押出時のネックインが大きくなり成形しにくくなる。該耐衝撃層は、透明性に優れ、しか耐衝撃性を有するが、柔らかいため、単体のシートとしては存在が困難である。本発明の３番目の態様の光学フィルタは、通常、耐衝撃層の両側に支持シートで挟んだ状態のサンドイッチ構造とすることが好ましい。プラズマディスプレイの全面に貼付する光学フィルタとしては、３番目の態様の耐衝撃層は、該光学フィルタの構成層を両側としたサンドイッチ構造、例えば、反射防止層と金属メッシュ層を両側としたサンドイッチ構造としてシート状態で存在することができる。
【００２８】
前記したように、本発明の光学フィルタは層構成中において反射防止膜を設けることが好ましく、最外層に反射防止膜を設けることが好ましい。
【００２９】
本発明の光学フィルタは、層構成中において、８００〜１０００ｎｍの波長範囲の透過率が２０％以下となるような、近赤外線吸収化合物を含む樹脂層を有することが好ましい。
【００３０】
本発明の光学フィルタは、層構成中において、ネオン光５６０〜６３０ｎｍの波長範囲に最大吸収波長を持つネオン光吸収化合物を含む樹脂層を有し、該波長範囲における最大吸収波長の透過率が４０％以下となることが望ましい。
【００３１】
本発明の光学フィルタは、層構成中において、プラズマディスプレイ装置から発生する静電気及び／又は電磁波ノイズをシールドするための電磁波遮蔽層を有することが望ましい。
【００３２】
本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイに貼着するための粘着剤層を設けることができる。
【００３３】
本発明のプラズマディスプレイパネルは、前記した形態の光学フィルタを粘着剤層を介して表示面に貼付して構成することができる。
【発明の効果】
【００３４】
本発明の耐衝撃層を有する光学フィルタは、耐衝撃性と共に透明性に優れるため、本発明の光学フィルタを組み込んだプラズマディスプレイパネルは耐衝撃性に優れると共に透明性にも優れる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
図１は本発明の耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造の一例を示す図である。５は電磁波遮蔽層であり、透明基材上に接着剤により接着された金属箔をエッチングによりメッシュ状に加工したものであり、電磁波遮蔽能を有する。４は色素含有粘着剤層であり、メッシュ上の金属の凹凸を平坦化すると同時に、エッチングによる凹部に残る接着剤の微細凹凸の段差を埋める作用もある。３は耐衝撃層であり、さらに耐衝撃層３上に粘着剤層２を介して反射防止層１が形成されている。これらの層からなる光学フィルタは粘着剤層６を介して、プラズマディスプレイモジュール７の表面に貼付される。
【００３６】
図２は本発明の耐衝撃層を設けた光学フィルタをプラズマディスプレイの前面に貼付した場合の積層構造の別の一例を示す図である。図２の態様は、耐衝撃層３上に粘着剤層２を介して、電磁波遮蔽層５を設け、さらに該電磁波遮蔽層５上に色素含有粘着剤層４を設け、さらに色素含有粘着剤層４上に反射防止層１を設けたものである。これらの層からなる光学フィルタは粘着剤層６を介して、プラズマディスプレイモジュール７の表面に貼付される。
【００３７】
図１、図２において、近赤外線吸収色素、および／又は、ネオン光吸収色素等の色素を色素含有粘着剤層４中に含有しているが、光学フィルタを構成するいかなる層にも含有させることが可能である。
【００３８】
以下、本発明の光学フィルタをプラズマディスプレイに適用する場合の光学フィルタの層構成に用いられる各層を例示して説明する。
【００３９】
耐衝撃層：
図４は、本発明の光学フィルタにおける好ましい１番目の態様の耐衝撃層、即ち、ポリプロピレン／低融点ポリエチレン／ポリプロピレンの３層の積層体の耐衝撃層を形成するためのシート成形機の１例であり、耐衝撃層が多層シートである場合の多層シート成形機の概略を示す。図４において、２１−１、２１−２、２１−３は多層シートの各単層の樹脂を収容するためのホッパーであり、例えば、ポリプロピレン、低融点ポリエチレン、ポリプロピレンを種類毎に各ホッパー２１−１、２１−２、２１−３に収容する。ホッパーへは５ｍｍ径の粒状の固形樹脂材料が収容される。ホッパー２１−１、２１−２、２１−３から供給された各樹脂は常温から約２２０℃位まで加熱され、ダイス２３に供給され、３層を形成するそれぞれの樹脂が約２２０〜２４０℃に加熱され、先端が合体した３種のマニホールド２４−１、２４−２、２４−３から積層シート２５が吐出される。吐出された積層シート２５は、３個の冷却ロール２６−１、２６−２、２６−３間に導入され約３０〜６０℃程度に冷却された積層シート２５は、排紙装置２７により排紙され、３層からなる耐衝撃層が製造される。該積層シート２５は巻取保管が可能である。
【００４０】
該積層シート２５に使用されるポリプロピレンには、例えば、日本ポリケム製の「ウインテックＷＦＸ４Ｔ」（登録商標）を、ポリエチレンには日本ポリケム（株）製の「カーネルＫＦ３４０Ｔ」（登録商標）を用いることができる。
【００４１】
また、ポリプロピレン中に結晶核剤を添加することにより、ポリプロピレンの結晶化を抑制し、ポリプロピレンの結晶は微細均一化するので、結晶核剤を添加して製造した耐衝撃層は、透明性を大幅に向上させることができ、この他に、結晶核剤を添加することにより、曲げ弾性率や熱変形温度を向上させる。本発明で使用できる結晶核剤には、例えば、ＴＸ１９９５（登録商標、日本ポリケム（株）製）、ＮＣ−４（商品名、ビスｐ−エチルベンジリデンソルビトール、三井化学（株）製）、ＮＣ−６（商品名、ビスｐ−メチルベンジリデンソルビトール、三井化学（株）製）、パインクリスタルＫＭ−１５００（商品名、ロジン系結晶核剤、白色粉末、軟化点１０５℃、嵩比重０．５４ｇ／ｃｍ3 、荒川化学（株）製）が挙げられる。
【００４２】
これらの樹脂を使用して図４のシート成形機を用いて積層シート２５を製造する場合には、マニホールド２４−１及び２４−３からは、積層シート２５の表裏層として、例えば、それぞれ膜厚２０μｍのポリプロピレン（「ウインテックＷＦＸ４Ｔ」（登録商標）日本ポリケム製）のＤＳＣ溶解ピーク６０℃、ＭＦＲ３．５の層が、またマニホールド２４−２からは、積層シート２５の中間層として、膜厚３６０μｍのポリエチレン（「カーネルＫＦ３４０Ｔ」（登録商標）日本ポリケム（株）製）を用いることができる。
【００４３】
本発明の光学フィルタにおける好ましい２番目の態様の耐衝撃層は、メタロセン触媒を用いて重合したエチレン・プロピレン・ランダム共重合体からなるシートである。該エチレン・プロピレン・ランダム共重合体からなるシートは、メタロセン触媒が用いられることで、分子量分布が狭いものとなり、分子量と分子構造（側鎖の数や長さ）が揃っている特徴がある。これにより、低分子量のポリマーの含まれない共重合体となるので、該共重合体をシートにしたとき、ベタつきがなく（即ち、ブロッキングの発生がなく）、成型時（２００℃以上の加熱時）に、発煙、臭気、金型汚れが少ないという利点がある。メタロセン触媒を用いて重合したエチレン・プロピレン・ランダム共重合体としては、「メタロセンＰＰウインテック」（登録商標、日本ポリケム（株）製）を利用することができ、該共重合体は、分子量の分布の広さを示す分散指数（Ｍｗ／Ｍｎ）が２．８と小さいため、ドラフト性がよく、結晶性分布が狭いため低融点ポリマーとなり、透明性に優れ、また低分子量・低結晶成分が少ない。エチレン・プロピレン・ランダム共重合体に結晶核剤を添加することが、エチレン・プロピレン・ランダム共重合体の結晶を抑制する上で好ましい。
【００４４】
本発明の光学フィルタにおける好ましい２番目の態様の耐衝撃層としてエチレン・プロピレン・ランダム共重合体のシートを作製するには、前記のポリプロピレン／低融点ポリエチレン／ポリプロピレンの３層の積層体の耐衝撃層を形成するための図４のシート成形機と同一の成形機を使用することができ、該成形機を使用する場合、マニホールド２４−１、２４−２、２４−３から吐出される樹脂は同一のエチレン・プロピレン・ランダム共重合体が使用され、同種の３層で構成された積層シートが吐出される。該シートは巻取保管が可能である。
【００４５】
本発明の光学フィルタにおける好ましい３番目の態様の耐衝撃層は、前記本発明の光学フィルタにおける耐衝撃層が、密度０．８〜１．０のポリエチレンで、ＤＳＣ融解ピーク温度が４０〜１００℃、ＭＦＲが１〜４０の光学フィルタである。このようなポリエチレンには、メタロセン触媒を用いて重合したポリエチレンが使用でき、例えば、日本ポリケム（株）製の「カーネルＫＦ３４０Ｔ」（登録商標）を用いることができる。これにより、低分子量のポリマーの含まれない共重合体となるので、該共重合体をシートにしたとき、ベタつきがなく（即ち、ブロッキングの発生がなく）、成型時（２００℃以上の加熱時）に、発煙、臭気、金型汚れが少ないという利点がある。
【００４６】
図５は、本発明の光学フィルタにおける好ましい３番目の態様の耐衝撃層、即ち、ポリエチレンの耐衝撃層を形成するための共押出ラミネート機の１例である。本発明の光学フィルタにおける好ましい３番目の態様の耐衝撃層としてポリエチレンシートを作製するには、メタロセン触媒を用いて重合したポリエチレンを、図５の共押出ラミネート機を用いてフィルムとフィルム間に流し込んで挟んで耐衝撃層を成形する。図５において３５は第１フィルム供給部であり、第１フィルム供給部３５から供給された、フィルム、例えば、反射防止フィルムは、アンカーコート部３６に導入され、密着性向上のためのアンカーコート剤（例えば、ポリエチレンイミン系アンカーコート剤）を０．０１〜３．０ｇ／ｍ2 ／wet 、好ましくは０．１ｇ〜３．０ｇ／ｍ2 ／wet 、最も好ましくは、２．０ｇ〜３．０ｇ／ｍ2 ／wet となるように、例えば、グラビアダイレクトコート或いはグラビアリバースコートにより塗布する。他方、第２フィルム供給部３９から供給されてくるフィルム、例えば、電磁波遮蔽層フィルムは、アンカーコート部４０に導入され、密着性向上のためのアンカーコート剤（例えば、ポリエチレンイミン系アンカーコート剤）を０．０１〜３．０ｇ／ｍ2 ／wet 、好ましくは０．１ｇ〜３．０ｇ／ｍ2 ／wet 、最も好ましくは、２．０ｇ〜３．０ｇ／ｍ2 ／wet となるように、例えば、グラビアダイレクトコート或いはグラビアリバースコートにより塗布する。
【００４７】
次いで、前記第１フィルム供給部３５からのフィルムと、前記第２フィルム供給部３９からのフィルムと重ね合わせる際に両フィルムの間に、メタロセン触媒を用いて重合したポリエチレンを共押出ラミネート機のダイス４２から押し出された樹脂を挟み込み冷却ロール３７とニップロール３８との間を通してラミネート成形して積層シートとする。次いで、得られた積層シートは排紙部４１から排紙される。
【００４８】
本発明の光学フィルタにおける好ましい３番目の態様の耐衝撃層に使用される樹脂には、メタロセン触媒を用いて重合したポリエチレンが使用でき、例えば、日本ポリケム（株）製の「カーネルＫＦ３４０Ｔ」（登録商標）を用いることができる。これにより、低分子量のポリマーの含まれない共重合体となるので、該共重合体をシートにしたとき、ベタつきがなく（即ち、ブロッキングの発生がなく）、成型時（２００℃以上の加熱時）に、発煙、臭気、金型汚れが少ないという利点がある。
【００４９】
電磁波遮蔽層：
電磁波遮蔽層５は、透明基材、接着剤層（図示していない）、金属メッシュ層がこの順に積層された積層構造を有するものである。
【００５０】
（金属メッシュ層）
金属メッシュ層は、積層構造の電磁波遮蔽層５を構成する一部の層である。本発明に用いられる金属メッシュ層は、ＰＤＰ等から発生した電磁波を遮蔽する機能を有するものである。このような金属メッシュ層は、後述する透明基材上に、接着剤層により金属箔が貼り合わせられ、その金属箔がメッシュ状にエッチングされることにより形成される。本発明においては、この金属メッシュ層は、電磁波遮蔽性を有するものであれば、その金属の種類等は特に限定されるものではなく、例えば銅、鉄、ニッケル、クロム、アルミニウム、金、銀、ステンレス、タングステン、チタン等を用いることができる。本発明においては、上記の中でも銅が、電磁波のシールド性、エッチング処理適性や取扱い性の面から好ましい。また用いられる銅箔の種類としては、圧延銅箔、電解銅箔等が挙げられるが、特に、電解銅箔であることが好ましい。これにより、厚さが１０μｍ以下の均一性のよい金属メッシュ層とすることができ、また、金属メッシュ層の表面に黒化処理が施された際に、酸化クロム等との密着性を良好なものとすることができるからである。
【００５１】
ここで、本発明においては、上記金属箔の一方の面または両面に黒化処理されていることが好ましい。黒化処理とは、酸化クロム等により金属メッシュ層の表面を黒化する処理であり、光学フィルタにおいて、この酸化処理面は、観察者側の面となるように配置される。この黒化処理により金属メッシュ層表面に形成された酸化クロム等により、光学フィルタ表面の外光が吸収されることから、光学フィルタ表面で光が散乱することを防止することができ、良好な透過性を得ることが可能な光学フィルタとすることができるのである。このような黒化処理は、上記金属箔に黒化処理液を塗布することにより行なうことができる。
【００５２】
黒化処理の方法としては、ＣｒＯ2 水溶液や、無水クロム酸水溶液に酒石酸、マロン酸、クエン酸、乳酸等の異なるオキシカルボン酸化合物を添加して、６価クロムの一部を３価クロムに還元した溶液等を、ロールコート法、エアーカーテン法、静電霧化法、スクイズロールコート法、浸漬法等により塗布し、乾燥させることにより行なうことができる。なお、この黒化処理は、透明基材上に、接着剤層または粘着剤層により金属箔が貼り合わせられ、メッシュ状にエッチングされた後に行なわれるものであってもよい。
【００５３】
この黒化処理された金属箔の表面の黒濃度が０．６以上であることが好ましい。これにより、より非視認性を良好なものとすることができるからである。ここで、黒濃度は、ＣＯＬＯＲ  ＣＯＮＴＲＯＬ  ＳＹＳＴＥＭのＧＲＥＴＡＧ  ＳＰＭ１００−１１（（株）ＫＩＭＯＴＯ製）を用いて、観測視野角１０°、観測光源Ｄ５０、照明タイプとして濃度標準ＡＮＳＩ  Ｔに設定し、白色キャリブレイション後に測定した値である。
【００５４】
また、上記金属箔の膜厚は、１μｍ〜１００μｍの範囲内、中でも５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より膜厚が厚いと、エッチングによりパターン線幅を細かく高精細化することが困難となり、また上記範囲より膜厚が薄い場合には、十分な電磁波シールド性が得られないからである。
【００５５】
さらに、上記金属箔は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に準拠する十点平均粗さが０．５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。上記範囲より小さい場合には、上記黒化処理をした場合であっても、光学フィルタ表面の外光が鏡面反射することから、視認性が劣化し、また上記範囲より大きい場合には、接着剤やレジスト等を塗布することが困難となるからである。
【００５６】
ここで、金属箔のエッチングは、後述する透明基材上に、接着剤層または粘着剤層を介して金属箔が貼り合わせられた後に行なわれるものである。このエッチングは、通常のフォトリソグラフィー法により行なうことができ、例えば金属箔の表面にレジストを塗布し、乾燥した後、レジストをパターン版で密着露光し、現像処理を行なうことにより得ることができる。
【００５７】
本発明に用いられる上述したような金属メッシュ層は、表面抵抗が１０-6Ω／□〜５Ω／□の範囲内、中でも１０-4Ω／□〜３Ω／□の範囲内であることが好ましい。一般的に、電磁波遮蔽性は、表面抵抗により測定することができ、この表面抵抗が低いほど、電磁波遮蔽性が良好なものということができる。ここで、上記表面抵抗の値は、表面抵抗測定装置ロレスターＧＰ、（株）ダイヤインスツルメンツ製にてＪＩＳ  Ｋ７１９４「導電性プラスチックの４探針法による抵抗率試験法」に記載される方法にて測定された値である。
【００５８】
このエッチング処理された後の金属メッシュ層は、５０μｍ□〜５００μｍ□の範囲内、中でも１００μｍ□〜４００μｍ□の範囲内、特に２００μｍ□〜３００μｍ□の範囲内であることが好ましく、またメッシュ線幅が５μｍ〜２０μｍの範囲内であることが好ましい。メッシュ線幅が上記範囲より細かい場合には、断線が起こる場合があり、電磁波遮蔽性の面から好ましくなく、またメッシュ線幅が上記範囲より太い場合には、可視光の透過率が低く、例えばプラズマディスプレイの輝度が低くなる等という面から好ましくないからである。
【００５９】
透明基材：
透明基材は積層構造の電磁波遮蔽層５を構成する一部の層である。本発明に用いられる透明基材は透明性を有し、かつ接着剤層が形成可能であれば、その種類等は特に限定されるものではなく、例えばポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類、環状ポリオレフィン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン類、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリカーボネート、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエーテルサルホン、ポリエーテルケトンからなるフィルムで可視領域の光線透過率が８０％以上のフィルムが挙げられる。
【００６０】
これらのフィルムは本発明の目的を妨げない程度であれば着色していてもよく、さらに単層で使うこともできるが、２層以上組み合わせた多層フィルムとして使ってもよい。中でも透明性、耐熱性、コストや取扱い性の面等から、ＰＥＴが最も好ましい。可視領域の光線透過率はできる限り高いことが望ましいが、これは最終製品としては５０％以上の光線透過率が必要なことから最低２枚を積層する場合でも透明基材としては８０％を有すれば目的に適うからである。透過率が高ければ高いほど透明基材を複数枚積層できるため、光線透過率は好ましくは８５％以上、最も好ましくは９０％以上であり、このために厚さを薄化するのも有効な手段である。この透明基材の厚さは、透明性さえ満足すれば特に制限されるものではないが、加工性上からは１２μｍ〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。厚さ１２μｍ未満の場合はフィルムが柔軟過ぎ、導電層である金属メッシュ層の成膜や加工する際の張力により伸張やシワが発生しやすく、そのため金属メッシュ層の亀裂や剥離が生じやすく適さない。３００μｍを超えるとフィルムの可撓性が減少し、各工程での連続巻き取りが困難で適さない。さらに複数枚を積層する際は加工性が大幅に劣るといった問題もある。
【００６１】
接着剤層：
接着剤層は図１及び図２において図示していないが、透明基材と金属箔とを接着するのに用いられた層である。接着剤層は、金属メッシュ層および透明基材とを接着することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明においては、上記金属メッシュ層を構成する金属箔および透明基材を接着剤層を介して貼り合わせた後、金属箔をエッチングによりメッシュ状とすることから、接着剤層も耐エッチング性を有することが好ましい。具体的には、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール単独もしくはその部分ケン化品、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタンエステル樹脂等が挙げられる。また、本発明に用いられる接着剤層は、紫外線硬化型であってもよく、また熱硬化型であってもよい。特に、透明基材との密着性や、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素との相溶性、分散性などの観点からアクリル樹脂もしくはポリエステル樹脂が好ましい。
【００６２】
また、接着剤層中に、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上含有させてもよい。その場合、近赤外領域の光線透過率が、２０％以下、中でも１０％以下、５６０−６３０ｎｍにおける光線透過率が４０％以下、好ましくは３０％以下、さらに好ましくは２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂の水酸基価および酸価が各々１０以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が樹脂中の反応基と反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとすることができる。
【００６３】
接着剤層を介してドライラミネーション法等により透明基材および金属メッシュ層を形成するための金属箔とを接着することができる。また、この接着剤層の膜厚が０．５μｍ〜５０μｍの範囲内、中でも１μｍ〜２０μｍであることが好ましい。これにより、透明基材および金属メッシュ層とを強固に接着することができ、また、金属メッシュ層を形成するエッチングの際に透明基材が酸化鉄等のエッチング液の影響を受けること等を防ぐことができるからである。
【００６４】
色素含有粘着剤層：
図１、図２に示すように、本発明の光学フィルタに用いられる色素含有粘着剤層４は、上記した電磁波遮蔽性を有する金属メッシュ層の凹凸を平坦化するための層であり、金属メッシュ層の凹凸によって光学フィルタの透明性が低下することを防ぐ機能を有するものである。また、金属メッシュ層の形成の際に行なわれるエッチングによって、接着剤層表面が劣化することにより低下する透明性の改良や、金属メッシュ層を斜めから見た際の断面の乱反射を防止することも可能である。本発明において用いられる色素含有粘着剤層４は、金属メッシュ層の凹凸を平坦化することが可能な層であれば、その種類等は特に限定されるものではないが、本発明では色素含有粘着剤層４に用いる樹脂のガラス転移点温度（Ｔｇ）が３０℃〜１５０℃の範囲内、中でも４０℃〜１２０℃の範囲内であることが好ましい。これにより、樹脂を溶剤等に溶解させて、金属メッシュ層上に塗布後、溶剤を揮発させて乾燥する際に、表面に金属メッシュ層の凹凸により形成される凹凸を、透明基材のＴｇ以上の温度で、例えば、ミラーロール等を用いて圧力をかけることにより平坦化することができ、透明性の高い高品質な光学フィルタとすることができるからである。この色素含有粘着剤層４を平坦化する工程における温度および圧力は、その透明樹脂の種類により適宜選択されるものであるが、通常５０℃〜１７０℃の範囲内であり、また圧力は線圧０．１ｋｇ／ｃｍ2 〜１０ｋｇ／ｃｍ2 の範囲内であることが好ましい。
【００６５】
上述したような性質を有する樹脂としては、具体的には、アクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ウレタン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリイミド系樹脂、またはポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとの共重合体からなるペルフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレンとペルフルオロアルキルビニルエーテルとヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＥＰＥ）、テトラフルオロエチレンとエチレンまたはプロピレンとのコポリマー（ＥＴＦＥ）、ポリクロロトリフルオロエチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）、エチレンとクロロトリフルオロエチレンとのコポリマー（ＥＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン系樹脂（ＰＶＤＦ）、フッ化ビニル系樹脂（ＰＶＦ）等のフッ素系樹脂を挙げることができ、中でも透明性の観点からアクリル系樹脂、エステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂であることが好ましい。また、上記樹脂の平均分子量は、５００〜６００，０００の範囲内、中でも１万〜４０万であることが好ましい。これにより、上記のような性質を有する透明樹脂とすることができるからである。
【００６６】
本発明において、このような色素含有粘着剤層４の膜厚は、金属メッシュ層が形成されていない部分の膜厚が、１０μｍ〜５０μｍの範囲内であることが好ましい。これにより、金属メッシュ層の凹凸を平坦化することが可能となるからである。本発明の光学フィルタの色素含有粘着剤層４における、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上を含有させてもよい。その場合、近赤外線領域の光線透過率が、２０％以下、中でも１０％以下、５６０−６３０ｎｍにおける光線透過率が４０％以下、好ましくは３０％以下、特に２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂の水酸基価、および／または、酸価が各々１０以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸基により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとすることができる。
【００６７】
反射防止層：
反射防止層に関しては、磨りガラスのように、光を散乱もしくは拡散させて像をボカス手法を採用することができる。すなわち、光を散乱もしくは拡散させるためには、光の入射面を粗面化することが基本であり、この粗面化処理には、サンドブラスト法やエンボス法等により基体表面を直接粗面化する方法、基体表面に放射線、熱の何れかもしくは組み合わせにより硬化する樹脂中にシリカなどの無機フィラーや、樹脂粒子などの有機フィラーを含有させた粗面化層を設ける方法、および基体表面に海島構造による多孔質膜を形成する方法を挙げることができる。
【００６８】
また、反射防止層を形成する他の方法としては、屈折率の高い材料と低い材料を交互に積層し、多層化（マルチコート）することで、表面の反射が抑えられ、良好な反射防止効果を得ることができる。通常、この反射防止層は、ＳｉＯ2 に代表される低屈折率材料と、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 等の高屈折率材料とを交互に蒸着等により成膜する気相法等によって形成される。
【００６９】
反射防止効果を向上させるためには、低屈折率層の屈折率は、１．４５以下であることが好ましい。これらの特徴を有する材料としては、例えばＬｉＦ（屈折率ｎ＝１．４）、ＭｇＦ2 （屈折率ｎ＝１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ3 （屈折率ｎ＝１．４）、ＡｌＦ3 （屈折率ｎ＝１．４）、Ｎａ3 ＡｌＦ6 （屈折率ｎ＝１．３３）、ＳｉＯ2 （屈折率ｎ＝１．４５）等の無機材料を微粒子化し、アクリル系樹脂やエポキシ系樹脂等に含有させた無機系低反射材料、フッ素系・シリコーン系の有機化合物、熱可塑性樹脂、熱硬化型樹脂、放射線硬化型樹脂等の有機低反射材料を挙げることができる。
【００７０】
さらに、５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルとフッ素系の皮膜形成剤を混合した材料を使用することもできる。該５〜３０ｎｍのシリカ超微粒子を水もしくは有機溶剤に分散したゾルは、ケイ酸アルカリ塩中のアルカリ金属イオンをイオン交換等で脱アルカリする方法や、ケイ酸アルカリ塩を鉱酸で中和する方法等で知られた活性ケイ酸を縮合して得られる公知のシリカゾル、アルコキシシランを有機溶媒中で塩基性触媒の存在下に加水分解と縮合することにより得られる公知のシリカゾル、さらには上記の水性シリカゾル中の水を蒸留法等により有機溶剤に置換することにより得られる有機溶剤系のシリカゾル（オルガノシリカゾル）が用いられる。これらのシリカゾルは水系および有機溶剤系のどちらでも使用することができる。有機溶剤系シリカゾルの製造に際し、完全に水を有機溶剤に置換する必要はない。前記シリカゾルはＳｉＯ2 として０．５〜５０重量％濃度の固形分を含有する。シリカゾル中のシリカ超微粒子の構造は球状、針状、板状等様々なものが使用可能である。また、皮膜形成剤としては、アルコキシシラン、金属アルコキシドや金属塩の加水分解物や、ポリシロキサンをフッ素変性したものなどを用いることができる。
【００７１】
低屈折率層は、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティングや印刷等によるウェットコーティング法や、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ、イオンプレーティング等による気相法で、高屈折率層上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させることによって得ることができる。
【００７２】
高屈折率層の形成は、屈折率を高くするために高屈折率のバインダ樹脂を使用するか、高い屈折率を有する超微粒子をバインダ樹脂に添加することによって行なうか、あるいはこれらを併用することによって行なう。高屈折率層の屈折率は１．５５〜２．７０の範囲にあることが好ましい。
【００７３】
高屈折率層に用いる樹脂については、透明なものであれば任意の樹脂が使用可能であり、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、放射線（紫外線を含む）硬化型樹脂などを用いることができる。熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を用いることができ、これらの樹脂に、必要に応じて架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤等を加えることができる。
【００７４】
高い屈折率を有する超微粒子としては、例えば、紫外線遮蔽の効果をも得ることができる、ＺｎＯ（屈折率ｎ＝１．９）、ＴｉＯ2 （屈折率ｎ＝２．３〜２．７）、ＣｅＯ2 （屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子、また、帯電防止効果が付与されて埃の付着を防止することもできる、アンチモンがドープされたＳｎＯ2 （屈折率ｎ＝１．９５）またはＩＴＯ（屈折率ｎ＝１．９５）の微粒子が挙げられる。その他の微粒子としては、Ａｌ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．６３）、Ｌａ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．９５）、ＺｒＯ2 （屈折率ｎ＝２．０５）、Ｙ2 Ｏ 3（屈折率ｎ＝１．８７）等を挙げることができる。これらの微粒子は単独または混合して使用され、有機溶剤または水に分散したコロイド状になったものが分散性の点において良好であり、その粒径としては、１〜１００ｎｍ、塗膜の透明性から好ましくは、５〜２０ｎｍであることが望ましい。
【００７５】
高屈折率層を設けるには、上記で述べた材料を例えば溶剤に希釈し、スピンコーティング、ロールコーティング、印刷等の方法で基体上に設けて乾燥後、熱や放射線（紫外線の場合は上述の光重合開始剤を使用する）等により硬化させればよい。
【００７６】
また反射防止層中に、近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素を１種以上含有させてもよい。その場合、近赤外線領域の光線透過率が２０％以下、中でも１０％以下、５６０〜６３０ｎｍにおける光線透過率が４０％以下、好ましくは３０％以下、特に２５％以下、であることが好ましい。さらに樹脂が水酸基価および酸価が所定の値以下でなければならない。これにより、上記樹脂に含まれる水酸基および酸価により近赤外線吸収色素、および／または、ネオン光吸収色素が反応すること等を防ぐことができ、安定に近赤外線吸収能、および／または、ネオン光吸収機能を発揮することが可能なものとなる。
【００７７】
粘着剤層：
図１及び図２の粘着剤層２、６は、光学フィルタを構成する各層を接着するための層であり、例えば、市販の両面接着テープ（例、ＣＳ−９６１１：商品名、日東電工（株）製）が使用できる。
【実施例１】
【００７８】
ランダムポリプロピレンとして、メタロセン触媒を用いて重合したエチレンとプロピレンの共重合体であって、ＤＳＣ融解ピーク温度１２５℃、ＭＦＲ＝７．０（ＪＩＳ  Ｋ  ７２１０により測定したＭＦＲ）のランダムポリプロピレン（ウィンテックＷＦＸ４Ｔ：商品名、日本ポリケム（株）製）と、ポリエチレンとして、ＤＳＣ融解ピーク温度６０℃、ＭＦＲ＝２．２（ＪＩＳ  Ｋ  ６７６０により測定したＭＦＲ）の低密度ポリエチレン（カーネルＫＳ２４０Ｔ：商品名、日本ポリケム（株）製）とを図４に示されるシート成形機を用いて、ポリプロピレン／低密度ポリエチレン／ポリプロピレンの３層からなり、厚み比が１：８：１の多層シートであって、全体の厚み３００μｍ、４００μｍ、及び５００μｍの３種類の共押出し多層シートを成形した。
【００７９】
厚さ１００μｍの透明ＰＥＴ樹脂を基板とした反射防止シートとしてリアルック８２００ＵＶ（商品名、日本油脂製、厚み８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム／厚み５μｍのＡＲ層／厚み４０μｍの保護フィルムからなる積層フィルム）上に、前記工程で得られた共押出し多層シートを耐衝撃層として、アクリル系粘着剤（日東電工社製ＣＳ−９６１１：商品名）を用いて貼り合わせ、本実施例１の反射防止膜付光学フィルタを得た。得られた反射防止膜付光学フィルタの反射防止性能は０．５％であった。
【００８０】
次に、ＰＤＰパネルの前面に上記工程で得られた反射防止膜付光学フィルタを貼付けるため、粘着剤層として、ｎ−ブチルアクリレート７８．４重量％、２−エチルへキシルアクリレート１９．６重量％及びアクリル酸２．０重量％を共重合させたアクリル酸エステル共重合体を溶融撹拌した後、近赤外線吸収剤０．０３重量部〔（日本触媒（株）製  商品名“イーエクスカラー”ＴＸ−ＥＸ−８０５Ｋ）０．０１５重量部、及び（日本リーカット（株）製  商品名“ＣＩＲ−１０８０”）０．０１５重量部、染料（三井化学（株）製  商品名“ＰＳブル−ＢＮ”）０．０００１重量部加え、厚み０．５ｍｍでシート状に形成することにより粘着シートを調製した。該粘着シートを光学フィルタに貼付け、次にプラズマディスプレイに貼付けることにより、本実施例１のＰＤＰパネルを得た。
【００８１】
得られたＰＤＰパネルは気泡の発生やフィルタの剥離は無かった。又、光学フィルタに粘着シートが貼付けした状態での近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において、８５％以上であった。耐衝撃試験として図３に示す衝撃試験装置を用いて行い、高さ９．６ｃｍから直径５０．８ｍｍの鋼球１２（質量５３４ｇ）（ＪＩＳ  Ｂ１５０１  玉軸受用鋼球に規定されたもの）を落下させたときの、破壊エネルギーを測定したところ、耐衝撃層の厚みが３００μｍの場合、０．５ＪではＰＤＰパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。耐衝撃層の４００μｍの場合、０．６ＪではＰＤＰパネルが割れず、０．７Ｊで割れた。耐衝撃層の５００μｍの場合、１．１ＪではＰＤＰパネルが割れず、１．２Ｊで割れた。また、耐衝撃層の厚みが３００μｍ、４００μｍ、５００μｍの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ０．５、０．６、１．１であった。その結果を下記の表１に示す。内部ヘーズの試験法は、前記に説明したＪＩＳ  Ｋ７１０５−１９８１に準拠した方法で行い、スガ試験機（株）製ＨＧＭ−２Ｋ（商品名）にて測定した。
【実施例２】
【００８２】
ランダムポリプロピレンとして、メタロセン触媒を用いて重合したエチレンとプロピレンの共重合体であって、ＤＳＣ融解ピーク温度１２５℃、ＭＦＲ＝７．０（ＪＩＳ  Ｋ  ７２１０により測定したＭＦＲ）のランダムポリプロピレン（ウィンテックＷＦＸ４Ｔ：商品名、日本ポリケム（株）製）に対して、結晶核剤としてビスｐ−エチルベンジリデンソルビトール（ＮＣ−４：商品名、三井化学（株）製）を０．３％を添加してなる樹脂組成物を図４に示されるシート成形機を用いて、３層が同じ樹脂組成からなる多層シートであって、全体の厚み３００μｍ、４００μｍ、及び５００μｍの３種類の多層シートを成形した。
【００８３】
前記工程で得られた多層シートを耐衝撃層として用いて、前記実施例１と同様にして本実施例２の反射防止膜付光学フィルタを得た。得られた反射防止膜付光学フィルタの反射防止性能は０．５％であった。
【００８４】
前記工程で得られた反射防止膜付光学フィルタを用いて前記実施例１と同様にして本実施例２のＰＤＰパネルを得た。
【００８５】
得られたＰＤＰパネルは気泡の発生やフィルタの剥離は無かった。又、光学フィルタに粘着シートを貼付けした状態での近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において、８５％以上であった。耐衝撃試験として図３に示す衝撃試験装置を用いて行い、高さ９．６ｃｍから直径５０．８ｍｍの鋼球１２（質量５３４ｇ）（ＪＩＳ  Ｂ１５０１  玉軸受用鋼球に規定されたもの）を落下させたときの、破壊エネルギーを測定したところ、耐衝撃層の厚みが３００μｍの場合、０．５ＪではＰＤＰパネルが割れず、０．６Ｊで割れた。また、耐衝撃層の厚みが３００μｍ、４００μｍ、５００μｍの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ３．０、７．５、１０．２であった。その結果を下記の表１に示す。
【実施例３】
【００８６】
反射防止シートの調製
反射防止シートとしてリアルック８２００ＵＶ（商品名、日本油脂製、膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム／厚み５μｍのＡＲ層／厚み４０μｍの保護フィルムからなる積層フィルム）を用意した。図５に示される第２給紙ロール３９に、前記反射防止シートを配置し、該反射防止シートの裏面にポリエチレンイミン系アンカーコート剤を２．０ｇ／ｍ2 となるようにグラビアリバースコート法により塗布した。
【００８７】
電磁波遮蔽フィルムの調製
片面がクロメート処理により黒化処理されている、銅箔（古川サーキットフォイール製、ＥＸＰ−ＷＳ：商品名、厚さ９μｍ）と、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績製  Ａ４３００  厚み１００μｍ）とを、ウレタン系接着剤（Ｔｇ２０℃、平均分子量３万、酸価１、水酸基価９）にてドライラミネーション加工し貼り合わせた後、上記銅箔上にレジストを塗布後、露光、現像、エッチング、レジスト除去を行なうことにより３００μｍ□、線幅１０μｍの金属メッシュを形成することにより電磁波遮蔽フィルムを得た。。なお、この際黒化処理面はプラズマディスプレイパネルが製造された場合、見る側（人間側）になるように設置するため、非貼り合わせ面側とした。
【００８８】
前記工程で得られた電磁波遮蔽フィルムを図５に示される第１フィルム供給部３５に配置し、該電磁波遮蔽フィルムの裏面にポリエチレンイミン系アンカーコート剤を２．０ｇ／ｍ2 となるようにアンカーコート部３６においてグラビアリバースコート法により塗布した。
【００８９】
反射防止膜付光学フィルタの調製
図５の共押出ラミネート機において、前記工程で得られたアンカー剤が塗布された電磁波遮蔽フィルムと、前記工程で得られたアンカー剤が塗布された反射防止フィルムとの間にダイス４２より吐出された密度０．８８０、ＤＳＣ融解ピーク温度が６０℃、ＭＦＲが３．５（ＪＩＳ  Ｋ  ６７６０により測定したＭＦＲ）の低密度ポリエチレンを耐衝撃層として挟み込んで積層して本実施例３の反射防止膜付光学フィルタを得た。得られた反射防止膜付光学フィルタの反射防止性能は０．５％であった。
【００９０】
前記工程で得られた反射防止膜付光学フィルタを用いて前記実施例１と同様にして本実施例３のＰＤＰパネルを得た。得られたＰＤＰパネルは気泡の発生やフィルタの剥離は無かった。又、光学フィルタに粘着シートが貼付けした状態での近赤外線遮蔽性能は、８００〜１２００ｎｍの波長において、８５％以上であった。
【００９１】
耐衝撃試験として図３に示す衝撃試験装置を用いて行い、高さ９．６ｃｍから直径５０．８ｍｍの鋼球１２（質量５３４ｇ）（ＪＩＳ  Ｂ１５０１  玉軸受用鋼球に規定されたもの）を落下させたときの、破壊エネルギーを測定したところ、耐衝撃層の厚みが３００μｍの場合、０．７ＪではＰＤＰパネルが割れず、０．８Ｊで割れた。耐衝撃層の４００μｍの場合、０．９ＪではＰＤＰパネルが割れず、１．０Ｊで割れた。耐衝撃層の５００μｍの場合、１．１ＪではＰＤＰパネルが割れず、１．２Ｊで割れた。耐衝撃層の厚みが３００μｍ、４００μｍ、５００μｍの場合の耐衝撃層の内部ヘーズはそれぞれ１．０、１．３、１．５であった。その結果を下記の表１に示す。
【００９２】
〔比較例１〕
前記実施例１の耐衝撃層の代わりに、厚さ３００μｍのＰＥＴフィルムをシリコン接着剤を用いて貼り合わせて、０．３ジュールの衝撃を、重さ５３５ｇのＳＵＳ球を自然落下させて加えたところＰＤＰパネルが割れた。また、耐衝撃層の厚みが３００μｍの場合の耐衝撃層の内部ヘーズは４．１であった。下記の表１にその結果を示す。
【００９３】
【表１】
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【００９４】
表１において、ＰＰはポリプロピレン、ＰＥはポリエチレン、ＰＥＴはポリエチレンテレフタレートを示す。○○は、２回の耐衝撃試験において、２回ともＰＤＰパネルが割れないことを示し、●●は、２回の耐衝撃試験において、２回ともＰＤＰパネルが割れたことを示す。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明の光学フィルタは、プラズマディスプレイの前面に貼付した場合に、プラズマディスプレイパネルに耐衝撃性を付与することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９６】
【図１】プラズマディスプレイの前面に本発明の光学フィルタを配置した場合の積層構造の一例を示す図である。
【図２】プラズマディスプレイの前面に本発明の光学フィルタを配置した場合の積層構造の別の一例を示す図である。
【図３】衝撃試験装置を示す図である。
【図４】本発明の光学フィルタにおける好ましい１番目の態様の耐衝撃層、即ち、ポリプロピレン／低融点ポリエチレン／ポリプロピレンの３層の積層体の耐衝撃層を形成するためのシート成形機の１例であり、耐衝撃層が多層シートである場合の多層シート成形機の概略図である。
【図５】本発明の光学フィルタにおける好ましい３番目の態様の耐衝撃層、即ち、ポリエチレンの耐衝撃層を形成するための共押出ラミネート機の１例を示す概略図である。
【符号の説明】
【００９７】
１    反射防止層
２，６    粘着剤層
３    耐衝撃層
４    色素含有粘着剤層
５    電磁波遮蔽層
７    プラズマディスプレイモジュール
８    試験台
９    土台
１０  ガラス板
１１  前面ガラス板
１２  鋼球
２１−１，２１−２，２１−３  ホッパー
２３    ダイス
２４−１，２４−２，２４−３  マニホールド
２５    積層シート
２６−１，２６−２，２６−３  冷却ロール
２７  排紙装置
３５  第１フィルム供給部
３６  アンカーコート部
３７  冷却ロール
３８  ニップロール
３９  第２フィルム供給部
４１  排紙部
４２  ダイス
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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