(57)【要約】【課題】マイクロ波エネルギーを封じ込める金属製容器を用いたプラズマＣＶＤ装置のインピーダンス整合を取る整合器を小型化し、さらに生産ライン切り換え時のインピーダンス整合作業も簡素化できる中空体容器プラズマ成膜装置を提供する。【解決手段】  金属製容器に中空体容器を保持し、金属製容器を真空にする手段と原料ガスを挿入する手段と、さらに金属製容器内にプラズマを発生する手段を具備する中空体容器プラズマ成膜装置であって、プラズマを発生するマイクロ波発振器と金属製容器との間に方形導波管を介してインピーダンスを整合する整合器が導波管開口面積調整型整合器である中空体容器プラズマ成膜装置。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
マイクロ波エネルギーを封じ込め、成膜する中空体容器が供給される金属製容器あるいは金属製容器内に石英ガラス等による真空チャンバーと金属製容器あるいは真空チャンバー内に原料ガスを挿入する原料ガス導入管が金属製容器に具備されていると共に、金属製容器あるいは真空チャンバー内を真空にする手段を有し、さらに金属製容器の外側に金属製容器あるいは真空チャンバー内にプラズマを発生させるためのマイクロ波発振器と、インピーダンス整合を取るための整合器が方形導波管を介して金属製容器に連設している中空体容器プラズマ成膜装置であって、前記インピーダンス整合を取るための整合器が方形導波管内部の開口面積を変化させてインピーダンス整合を取るための導波管開口面積調整型整合器が具備されていることを特徴とする中空体容器プラズマ成膜装置。
【請求項２】
前記、インピーダンス整合を得るための導波管開口面積調整型整合器が方形導波管内部に垂直に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の中空体容器プラズマ成膜装。
【請求項３】
前記、インピーダンス整合を得るための導波管開口面積調整型整合器は調整素子ホルダーと一枚あるいは一枚以上の調整板から形成されていることを特徴とする請求項１〜２に記載の中空体容器プラズマ成膜装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は中空体容器、例えばプラスチックボトルあるいはプラスチックカップまたはプラスチックトレー、紙容器、紙カップ、その他中空体のプラスチック成形品等の表面に薄膜を形成する際に用いられるプラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）を用いた装置として好適な中空体容器用プラズマ成膜装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、プラスチック容器等の中空体容器の表面に薄膜を形成して、中空体容器の酸素透過率や水蒸気透過率等のガスバリア性、あるいは、表面の濡れ性等を向上することが要望されている。
【０００３】
また、中空体容器にガスバリア性を付与するために、中空体容器の表面に薄膜を形成させる、例えば、図１１に示すような電磁波を励起させて発生させたプラズマを用いて、高真空を発生させたチャンバー１０２内にボトルやフラスコ等の中空体容器１０１を供給し、供給した中空体容器１０１上にアモルファス炭素材料の被覆を形成する方法および装置１００（例えば、特許文献１参照。）が知られている。
【０００４】
上記のように、原料ガスをプラズマ中で分解してその分解種を中空体容器の表面に積み上げて膜にする方法の一つであるプラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）の装置として図７に示す、プラズマを発生させるマイクロ波発振器１１５、方形導波管１１６、Ｅ−Ｈチューナー型整合器１１７と成膜する中空体容器１１２が供給される金属製容器１１１、さらに原料ガスを注入する導入管等１１８からなるプラズマ成膜装置２００も知られている。
【０００５】
また、上記プラズマ成膜装置２００で中空体容器１１２の表面に薄膜を形成する際には、金属製容器１１１内に成膜する中空体容器１１２等を供給し、金属製容器１１１の上部に形成している蓋１１０を密封した後、金属製容器１１１内を真空吸引して一定の減圧状態を保ち、さらに原料ガスを原料ガス導入菅１１８より注入した後、プラズマを発生させるマイクロ波発振器１１５で、マイクロ波電力が方形導波管１１６を介して金属製容器１１１内へ導かれ、マイクロ波エネルギーによって、中空体容器１１２の内部でプラズマが発生することによって成される。
【０００６】
さらに、図７に示したプラズマ成膜装置２００以外に、例えば、図８に示すプラズマ成膜装置３００も多く使用され知られている。図８に示すプラズマ成膜装置３００はプラズマを発生させるマイクロ波発振器１２５、方形導波管１２６、Ｅ−Ｈチューナー整合器１２７と、金属製容器１２１および金属製容器１２１内に石英ガラス等からなり、成膜する中空体容器１２２が供給される真空チャンバー１２３、さらに原料ガスを注入する原料ガス導入管１２８等から形成されている。
【０００７】
また、中空体容器１２２表面の薄膜の形成は、真空チャンバー１２３内に成膜する中空体容器１２２を供給した後に、金属製容器１２１の上部に形成している蓋１２０を密封し、真空チャンバー１２３内を真空吸引して一定の減圧状態を保ち、さらに原料ガスを原料ガス導入菅１２８より注入した後、プラズマを発生させるためにマイクロ波発振器１２５で、マイクロ波電力が方形導波管１２６を介して金属製容器１２１内へ導かれ、マイクロ波エネルギーによって、中空体容器１２２の内部でプラズマが発生することによって成される。
【０００８】
また、プラズマを発生させるためのマイクロ波エネルギーは、金属製容器１２１とマイクロ波発振器１２５との間に形成されているＥ−Ｈチューナー型整合器１２７によりインピーダンス整合される。また、金属製容器１２１（負荷側）のインピーダンスは投入電力、ガスの種類、ガス流量、圧力、成膜する中空体容器１２１等のプラズマ発生条件等によって変化するために、マイクロ波発振器１２５（発振部側）とのインピーダンス整合をとるために、上記Ｅ−Ｈチューナー型整合器１２７で調整される。
【０００９】
また、整合状態が悪い場合にはマイクロ波発振器１２５からのマイクロ波がすべて金属製容器１２１（負荷側）に投入することが出来ず、金属製容器１２１内でのマイクロ波電力が不足し、プラズマが発生しないかまたは十分なプラズマエネルギーを得ることができない。また、整合状態の悪化に伴い、一部のマイクロ波は反射波として再びマイクロ波発振器１２５（発振部側）側に戻り、マイクロ波発振器１２５の内部に反射波による保護機能が具備されていない場合には内部発振素子が破壊されることがある。
【００１０】
また、上記インピーダンス整合を得るためのＥ−Ｈチューナー型整合器の構造は図９に示すように、方形導波管１３６の長辺方向の略中央上面の適宜の位置に、方形導波管１３６の短辺（幅）と同じ大きさで、適宜の長さを持った分岐導波管（E面導波管）１３１が方形導波管１３６上面に垂直に形成されている。
【００１１】
また、分岐導波管（E面導波管）１３１内部には分岐導波管（E面導波管）１３１内面と周回上で電気的に接触する金属板１３４が形成され、この金属板１３４は分岐導波管（E面導波管）１３１の外部に形成され、金属板１３４と連設されている軸１３３の作動により金属板１３４の位置が調整される構造となっている。
【００１２】
さらに、方形導波管１３６の長辺方向の略中央側面の適宜の位置にも同様に、方形導波管１３６の側面１３５と同じ大きさで、適宜の長さを持った分岐導波管（Ｈ面導波管）１３２が方形導波管１３６の側面１３５に水平に形成されている。
【００１３】
また、分岐導波管（Ｈ面導波管）１３２内部には分岐導波管（Ｈ面導波管）１３２内面と周回上で電気的に接触する金属板１３４が形成され、この金属板１３４は分岐導波管（Ｈ面導波管）１３２の外部に形成され、金属板１３４と連設されている軸１３３の作動により金属板１３４の位置が調整される構造となっている。
【００１４】
上記、各々分岐導波管（Ｈ面導波管、Ｈ面導波管）１３１、１３２は各々Ｅ面スタブ（整合回路）とＨ面スタブ（整合回路）に相当するものであり、金属板(短絡板)の位置を可動すことによってスタブのサセプタンスをいろいろと変化させ負荷アドミタンスのサセプタンスを打ち消すことによって整合される。
【００１５】
また、金属製容器（負荷側）とマイクロ波発振器（発振部側）とのインピーダンス整合を取るために形成されているＥ−Ｈチューナー型整合器以外に、例えば、図１０に示すような方形導波管１４６の長辺方向（マイクロ波が進行する方向）に複数のインピーダンス可変用調整素子１４１を挿入する、一般にスリースタブチューナー型整合器５００も使用されている。
【００１６】
上記、インピーダンス可変用調整素子１４１は方形導波管１４６の長辺方向の略中央上面部の中心に形成される。また、方形導波管１４６上面部に形成されるインピーダンス可変用調整素子１４１の間隔はλｇ／４またはλｇ／８（λｇ：導波管内におけるマイクロ波の波長）などであり、等間隔に２本以上配置されている。
【００１７】
また、インピーダンス可変用調整素子１４１は通常棒状の導体であり、方形導波管１４
６内部への挿入度合いによってインピーダンスを変化させるものである。方形導波管１４６に挿入される長さが方形導波管１４６内波長λｇの１／４よりも小さいときには容量性インピーダンスとなるが、λｇ／４以上の長さでは誘導性インピーダンスとなる。また、棒状の導体がλｇ／４の長さでは共振状態になり方形導波管が短絡したのと等価になる。このために棒状の導体であるインピーダンス可変用調整素子１４１をそれぞれ適宜の位置に形成することにより、金属製容器（負荷側）とマイクロ波発振器（発振部側）とのインピーダンス整合を得ることが出来る。
【００１８】
以下に先行技術文献を示す
【特許文献１】特表２００２−５０９８４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
しかし、上述した従来のインピーダンス整合を取るための図９に示すＥ−Ｈチューナー型整合器あるいは図１０に示すスリースタブチューナー型整合器は比較的大型で構造上長いために、金属製容器とマイクロ波発振器との間に形成される際に、マイクロ波発振器方向が長くなり、設置スペースも広くなると言う問題がある。
【００２０】
また、Ｅ−Ｈチューナー型整合器あるいはスリースタブチューナー型整合器等を使用した従来の整合方式は成膜する中空体容器の形状変更時あるいは成膜プロセス変更時、必ず金属製容器（負荷側）とマイクロ波発振器（発振部側）とのインピーダンス整合が大幅に必要となり、切り換え時のロスタイムが多大となる問題がある。
【００２１】
本発明は、上記従来の問題点に鑑み為されたもので、その目的とするところは、中空体容器プラズマ成膜装置の金属製容器（負荷側）とマイクロ波発振器（発振部側）とのインピーダンス整合部分を小型化し、設置スペースが小さく、さらに成膜する中空体容器あるいは成膜プロセスの切り替え時のインピーダンス整合作業等が短時間且つ容易に行うことができる簡素化した中空体容器プラズマ成膜装置を提案する。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
上記問題点を解決するために、まず本発明の請求項１に係る発明は、マイクロ波エネルギーを封じ込め、成膜する中空体容器が供給される金属製容器あるいは金属製容器内に石英ガラス等による真空チャンバーと金属製容器あるいは真空チャンバー内に原料ガスを挿入する原料ガス導入管が金属製容器に具備されていると共に、金属製容器あるいは真空チャンバー内を真空にする手段を有し、さらに金属製容器の外側に金属製容器あるいは真空チャンバー内にプラズマを発生させるためのマイクロ波発振器と、インピーダンス整合を取るための整合器が方形導波管を介して金属製容器に連設している中空体容器プラズマ成膜装置であって、前記インピーダンス整合を取るための整合器が方形導波管内部の開口面積を変化させてインピーダンス整合を取るための導波管開口面積調整型整合器が具備されていることを特徴とする中空体容器プラズマ成膜装置である。
【００２３】
次ぎに、本発明の請求項２に係る発明は、前記インピーダンス整合を得るための導波管開口面積調整型整合器が方形導波管内部に垂直に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の中空体容器プラズマ成膜装置である。
【００２４】
また、本発明の請求項３に係る発明は、  前記インピーダンス整合を得るための導波管開口面積調整型整合器は調整素子ホルダーと一枚あるいは一枚以上の調整板から形成されていることを特徴とする請求項１〜２に記載の中空体容器プラズマ成膜装置である。
【発明の効果】
【００２５】
金属製容器（負荷側）と発振部側（マイクロ波発振器）間のインピーダンス整合が小型で省スペース型の導波管開口面積調整型整合器を用いることにより、中空体容器プラズマ成膜装置がコンパクトになり、設置の際のスペース効率が向上する。
【００２６】
また、予め成膜する中空体容器等や成膜プロセスに応じた導波管開口面積調整用の調整板を用意し、調整板を導波管開口面積調整型整合器に挿入することにより容易に整合条件を得ることができる。
【００２７】
さらに、中空体容器等の形状変更時または成膜プロセス変更時において、本発明による導波管開口面積調整型整合器は予め決まった調整板の抜き挿し作業で成されるために、寸時に生産ライン等の切り替えが可能となり、ロス時間が大幅に減少する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
本発明の中空体容器プラズマ成膜装置を実施の形態に沿って以下に図面を参照にしながら詳細に説明する。図１〜図６は本発明の一実施例を示す。図１は本発明の中空体容器プラズマ成膜装置の一実施例の概略を示す概略図である。本発明の中空体容器プラズマ成膜装置はプラスチックボトル、プラスチックカップまたはプラスチックトレーあるいは中空体のプラスチック成形品等中空体容器の表面に薄膜を形成し、ガスバリア性を有する中空体容器の製造等に使用される。図１に示すように本発明の中空体容器プラズマ成膜装置１５は金属製容器１とマイクロ波発振器５と方形導入管６と原料ガス導入管８、さらに金属製容器１とマイクロ波発振器５の間にインピーダンス整合を得るための導波管開口面積調整型整合器４から形成されている。
【００２９】
上記、金属製容器１は上部に成膜する中空体容器２を出し入れ可能な開口部が形成され、さらにこの開口部を密閉するための蓋部１０が形成されている。また金属製容器１の内部の下部方向に中空体容器２を保持する支持体１３が形成されている。
【００３０】
さらに、金属製容器１の下部外側から金属製容器１内部の中空体容器２口栓部を通り中空体容器２の底部方向に伸びている原料ガス導入管８と図には示していないが真空ポンプ等により金属製容器１内を真空にするために空気を排出する排気口１４が形成されている。
【００３１】
また、上記金属製容器１内部はマイクロ波を閉じ込め、さらに真空状態を保つことの出来る構造に形成されている。さらに、金属製容器１の上部に形成されている開口部を密閉する蓋部１０は金属製であり、金属製容器１内におけるマイクロ波電力の完全遮蔽と真空気密が可能な構造に形成されている。
【００３２】
次ぎに、中空体容器２内でプラズマを発生させるためのマイクロ波エネルギーの注入方法は、先ずマイクロ波発振器５によってプラズマのエネルギー源となる電磁波が放射される。放射される電磁波の周波数は通常２．４５ＧＨｚが用いられるが、とくにこの周波数に限定されるものではない。
【００３３】
また、放射された電磁波はインピーダンス整合器である導波管開口面積調整型整合器４から方形導波管６を介して金属製容器１の側面から金属製容器１内に送り込まれ、中空容器２内部に導入された原料ガスとマイクロ波エネルギーによってプラズマが発生し、金属製容器１内に供給されている中空容器２の内側表面が成膜される。
【００３４】
上記、金属製容器１内に送り込まれる電磁波は必ずしも金属製容器１の側面からでなくても良く、例えば、金属製容器１の上部あるいは下部からでも良い。
【００３５】
次ぎに、図２は本発明の中空体容器プラズマ成膜装置の他の一実施例の概略を示す概略図である。図２に示すように中空体容器プラズマ成膜装置２０は金属製容器１とマイクロ波発振器５と方形導入管６と原料ガス導入管８、さらに金属製容器１とマイクロ波発振器５の間にインピーダンス整合を得るための導波管開口面積調整型整合器４から形成されている。
【００３６】
また、金属製容器１は上部に成膜する中空体容器２を出し入れ可能な開口部が形成され、さらにこの開口部を密閉するための蓋部１０が形成されている。また金属製容器１の内部には真空状態を保つための真空チャンバー３が形成されて、さらに形成されている真空チャンバーの内側に成膜する中空体容器２が真空チャンバー３内側下部に形成されている支持体１３により保持されている。
【００３７】
また、金属製容器１の下部外側から金属製容器１内部の中空体容器２口栓部を通り中空体容器２の底部方向に伸びている原料ガス導入管８と図には示していないが真空ポンプ等により真空チャンバー３内を真空にするために真空チャンバー３内の空気を排気する排気口１４が形成されている。
【００３８】
上記真空チャンバー３は石英ガラス管等、マイクロ波電力の損失が少なく、プラズマ熱に対して耐熱性があり、真空状態で機械的に十分耐える非金属のものであれば良く、とくに限定されるものではない。
【００３９】
次ぎに、中空体容器２内でプラズマを発生させるためのマイクロ波エネルギーの注入方法は、先ずマイクロ波発振器５によってプラズマのエネルギー源となる電磁波が放射される。放射される電磁波の周波数は通常２．４５ＧＨｚが用いられるが、とくにこの周波数に限定されるものてはない。
【００４０】
また、放射された電磁波はインピーダンス整合器である導波管開口面積調整型整合器２０から方形導波管６を介して金属製容器１の側面から金属製容器１内に送り込まれ、中空容器２内部に導入された原料ガスとマイクロ波エネルギーによってプラズマが発生し、金属製容器１内に供給されている中空容器２の内側表面が成膜される。
【００４１】
上記、金属製容器１内に送り込まれ電磁波は必ずしも金属製容器１の側面からでなくても良く、例えば、金属製容器１の上部あるいは下部からでも良い。
【００４２】
次ぎに図３は本発明に使用されるインピーダンス整合を得る導波管開口面積調整型整合器４の一実施例の概要を示す概略図である。図３に示すように導波管開口面積調整型整合器４は２枚の調整素子フォルダ４３と２枚の長辺側調整板４１と２枚の短辺側調整板４２からなり、これらはすべて導電性の良い金属体から形成されている。
【００４３】
また、調整素子フォルダ４３の内面側はそれぞれ長辺側調整板４１および短辺側調整板４２がスライド可能なように溝部が設けられている。また、調整素子フォルダ４３の表裏側面に、方形導波管６と接続するための取り付け用螺子穴が施されている。
【００４４】
さらに、上記調整素子フォルダ４３に挿入する長辺側調整板４１あるいは短辺側調整板４２の挿入度合いを変化させることにより金属製容器（負荷側）とマイクロ波発振器（発振部側）とのインピーダンス整合を得ることが出来る。
【００４５】
また、調整素子フォルダ４３に挿入される長辺側調整板４１あるいは短辺側調整板４２のスライドは単独でスライドすることができるために、制御盤からの信号等により単独で
適宜挿入駆動させることもできる。
【００４６】
次ぎに、図６（ａ、ｂ）は導波管開口面積調整型整合器４の動作を説明する説明図である。図６（ａ、ｂ）に示すように、マイクロ波伝搬の基本モードであるＴＥ10波が伝搬している方形導波管の管軸に直角な平面内に薄い導体板を上下あるいは左右から挿入し、管の横断面を絞って窓部を形成する。図６（ａ）の場合には方形導波管の等価往復線路に容量性のサセプタンスが並列に入ったものと考えることができる。その理由は、絞りは電界に直角になっているから上下絞りの間に強い電界が現われ、静電的エネルギーが蓄えられ、静電容量のような作用をするためである。このような理由で容量性窓が形成される。また、図６（ｂ）の場合には、磁界が絞りと直角になっているから絞りに沿って電流が流れ、絞りの間に磁気エネルギーが蓄えられインダクタンスのような作用をする。すなわち、誘導性窓になる。これらの窓を用いて、金属製容器（負荷側）から窓までの距離を適宜に設け、負荷アドミタンスのコンダクタンス部を方形導波管の特性アドミタンスに等しくし、さらに、窓の間隔を変えて負荷アドミタンスのサセプタンスを打ち消すようにすることで金属製容器（負荷側）からの反射波がなくなり、整合が取れたことになる。
【００４７】
次に図４には導波管開口面積調整型整合器４の他の一実施例の概略を示す概略図である。図４に示すように導波管開口面積調整型整合器４は調整素子フォルダ４３と板の中央部に図６に示した誘導性窓を有する誘導性調整素子板４４および同様に板の中央部に容量性窓を有する容量性調整素子板４５から形成されている。これらは導電性の良い金属体から形成されている。調整素子フォルダ４３の内側には誘導性調整素子板４４と容量性調整素子板４５を重ね合わせて、調整素子フォルダ４３の長辺方向から挿入可能なように溝が形成されている。また、調整素子フォルダ４３に形成す溝は長辺方向からのスライド挿入であっても良く、また短辺方向からのスライド挿入であっても良い。
【００４８】
また、図３と同様に調整素子フォルダ４３の表裏側面には方形導波管と接続するための取り付け用螺子穴が施されている。また、誘導性調整素子板４４および容量性調整素子板４５は開口面積の違うものを複数枚用意して、それぞれの調整素子板４４、４５の開口具合の組み合わせを変化させることで金属製容器（負荷側）とマイクロ波発振器（発振部側）とのインピーダンス整合を得ることが出来る。さらに図４に示す整合方式は成膜する中空体容器の変更や成膜プロセスを変更した際に、予め図３に示す導波管開口面積調整型整合器を用いて得ることも出来る。さらに金属製容器（負荷側）とマイクロ波発振器（発振部側）とのインピーダンス整合を取り、この時の導波管開口面積データを基にして、成膜条件ごとに専用の誘導性調整素子板４４および容量性調整素子板４５を用意しておくこともできる。
【００４９】
次ぎに、図５は導波管開口面積調整型整合器４のまた他の一実施例の概略を示す概略図である。図５に示す導波管開口面積調整型整合器４は図４と同様に調整素子フォルダ４３と板の中央部に図６に示す誘導性窓と容量性窓を組み合わせ窓を形成したインピーダンス調整板４６から形成されている。また、インピーダンス調整板４６は導電性の良い金属体から成っている。
【００５０】
また、調整素子フォルダ４３の内側にインピーダンス調整板４６を調整素子フォルダ４３の長辺方向から挿入させる溝が形成されている。また、インピーダンス調整板４６が調整素子フォルダ４３に挿入されるために形成されている溝は長辺方向からのスライド挿入であっても良く、また短辺方向からのスライド挿入であっても良い。さらに調整素子フォルダ４３の表裏側面には方形導波管と接続するための取り付け用螺子穴が施されている。
【００５１】
また、インピーダンス調整板４６は成膜する中空体容器あるいは成膜プロセス条件に対応して、導波管開口面積の違うものを複数枚用意し、それぞれの成膜工程に応じて選択し
て用いることで金属製容器（負荷側）とマイクロ波発振器（発振部側）とのインピーダンス整合を最適にすることが可能となる。
【００５２】
また、インピーダンス整合方法は成膜工程を考慮し、成膜する中空体容器等の変更や成膜プロセスを変更した際に、予め図３および図４の導波管開口面積調整型整合器４を用いて金属製容器（負荷側）とマイクロ波発振器（発振部側）とのインピーダンス整合を取り、この時の導波管開口面積データを基にして、成膜工程ごとの成膜する中空体容器および成膜プロセス条件に応じた専用のインピーダンス調整板４６を用意しておくことにより、成膜処理ラインの生産切り換え時においてロスタイムを減少することが出来る。
【産業上の利用可能性】
【００５３】
本発明の中空体容器プラズマ成膜装置はプラスチック中空体容器の表面に薄膜を形成させて使用する包装分野での利用はもとより、半導体膜や絶縁膜を製造する電気・電子分野等の製造装置にも利用できる素晴らしい発明である。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】本発明の中空体容器プラズマ成膜装置の一実施例の概略を示す概略図である。
【図２】本発明の中空体容器プラズマ成膜装置の他の一実施例の概略を示す概略図である。
【図３】本発明の中空体容器プラズマ成膜装置の導波開口面積調整型整合器の一実施例の概略を示す概略図である。
【図４】本発明の中空体容器プラズマ成膜装置の導波開口面積調整型整合器の他の一実施例の概略を示す概略図である。
【図５】本発明の中空体容器プラズマ成膜装置の導波開口面積調整型整合器のまた他の一実施例の概略を示す概略図である。
【図６】（ａ）（ｂ）は中空体容器プラズマ成膜装置の導波開口面積調整型整合器の動作を説明する説明図である。
【図７】従来のプラズマ成膜装置全体の概略を示す概略図である。
【図８】従来のプラズマ成膜装置全体の概略を示す概略図である。
【図９】従来のプラズマ成膜装置全に使用されている整合器の概略を示す概略図である。
【図１０】従来のプラズマ成膜装置全に使用されている整合器の概略を示す概略図である。
【図１１】従来のプラズマ成膜装置の概略を示す概略図である。
【符号の説明】
【００５５】
１…金属製容器
２…中空体容器
３…真空チャンバー
４…導波管開口面積調整型整合器
５…マイクロ波発振器
６…方形導波管
８…原料ガス導入管
１０…蓋部
１３…支持体
１４…排気口
４１…長辺側調整板
４２…短辺側調整板
４３…調整素子ホルダ
４４…誘導性調整素子板
４５…容量性調整素子板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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