(57)【要約】【課題】      Ｅ体含有率の極めて少ない７−アミノ−３−[（Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸及びその塩の経済的に優れた製造方法を提供する。【解決手段】  式（１）で表される７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸のアルカリ金属塩の水溶液に、ハイポーラスポリマー及び／又は活性炭を添加して処理することを特徴とする式（２）で表される７−アミノ−３−[（Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸及びそのアルカリ金属塩の含有率が向上した式（１）で表される７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸及びそのアルカリ金属塩の製造方法。【化１】2005343854.tif 000012【化２】2005343854.tif 000013
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）で表される７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸のアルカリ金属塩の水溶液に、ハイポーラスポリマー及び／又は活性炭を添加して処理することを特徴とする式（２）で表される７−アミノ−３−[（Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸及びそのアルカリ金属塩の含有率が向上した式（１）で表される７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸及びそのアルカリ金属塩の製造方法。
【化１】
2005343854.tif 000008
【化２】
2005343854.tif 000009
【請求項２】
ハイポーラスポリマー及び／又は活性炭での処理を撹拌下に行う請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
式（３）で表される７−アミド−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸化合物に4位カルボン酸保護基の脱保護反応を行い、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸水素塩、及びアルカリ金属炭酸塩から選ばれる化合物の少なくとも１種の水溶液で処理して式（４）の７−アミド−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸のアルカリ金属塩を得た後、水溶液中で酵素反応を施して得られる式（１）の７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸のアルカリ金属塩の水溶液に、ハイポーラスポリマー及び／又は活性炭を添加して処理することを特徴とする式（２）で表される７−アミノ−３−[（Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸及びそのアルカリ金属塩の含有率が向上した式（１）で表される７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸及びそのアルカリ金属塩の製造方法。
【化３】
2005343854.tif 000010
［式中、Ｒ１はベンジル基又はフェノキシメチル基を示す。Ｒ２はカルボン酸保護基を示す。］
【化４】
2005343854.tif 000011
［式中、Ｒ１は前記に同じ。Ｍはアルカリ金属を示す。］
【請求項４】
ハイポーラスポリマー及び／又は活性炭での処理を撹拌下に行う請求項３記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、７−アミノ−３−[（Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸及びその塩の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
式（５）で表される経口セフェム剤セフジトレンピボキシルは、幅広い抗菌スペクトル及び強い抗菌力を持った優れた抗菌剤として広く使用されている。
【０００３】
【化１】
2005343854.tif 000002
【０００４】
セフジトレンピボキシルに見られるように、３位にアルケニル基を有するセファロスポリン系抗生物質において、その３位アルケニル基の立体構造がＺ配置であることが、グラム陰性菌に対する優れた抗菌作用を発現するメカニズムの一端を担っている。よってセフジトレンピボキシルのＥ配置をとる幾何異性体を極力存在させないことが医薬抗菌剤としての効果を発揮する上で重要であり、セフジトレンピボキシル製造工程において製造中間体のＺ体含有率を向上させる試みがなされている。
【０００５】
例えば、製造中間体の７−アミノ−３−[２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸のＺ／Ｅ混合物をアミン塩又は塩酸塩に調製し、イオン交換樹脂又は活性炭の吸着クロマトグラフィーにより、７−アミノ−３−[（Ｅ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸のアミン塩又は塩酸塩を枯渇する方法が開示されている（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平７−１８８２５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、該文献に記載の方法によると、その実施例４及び実施例５ではＥ体含有量（率）がそれぞれ１４％及び２％と満足できるものとなっていない。
最近では特に医薬品製造業界に於いてクロマトグラフィーによる分離精製が工業的な手段として用いられているが、溶離液の回収／カラム充填剤の再生等の負担が大きく、必ずしも最適な手法とは言えない。ましてや、医薬品製造における純度及び数％の製造量の向上は薬効及び生産コストに顕著に反映されるものであり、より高純度で高収率となる製造方法が望まれている。
【０００７】
本発明の課題は、Ｅ体含有率の極めて少ない７−アミノ−３−[（Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸及びその塩の経済的に優れた製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は以下の発明に係る。
１．式（１）で表される７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸のアルカリ金属塩の水溶液に、ハイポーラスポリマー及び／又は活性炭を添加して処理することを特徴とする式（２）で表される７−アミノ−３−[（Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸及びそのアルカリ金属塩の含有率が向上した式（１）で表される７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸及びそのアルカリ金属塩の製造方法。
【０００９】
【化２】
2005343854.tif 000003
【００１０】
【化３】
2005343854.tif 000004
【００１１】
２．式（３）で表される７−アミド−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸化合物に4位カルボン酸保護基の脱保護反応を行い、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸水素塩、及びアルカリ金属炭酸塩から選ばれる化合物の少なくとも１種の水溶液で処理して式（４）の７−アミド−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸のアルカリ金属塩を得た後、水溶液中で酵素反応を施して得られる式（１）の７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸のアルカリ金属塩の水溶液に、ハイポーラスポリマー及び／又は活性炭を添加して処理することを特徴とする式（２）で表される７−アミノ−３−[（Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸及びそのアルカリ金属塩の含有率が向上した式（１）で表される７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸及びそのアルカリ金属塩の製造方法。
【００１２】
【化４】
2005343854.tif 000005
［式中、Ｒ１はベンジル基又はフェノキシメチル基を示す。Ｒ２はカルボン酸保護基を示す。］
【００１３】
【化５】
2005343854.tif 000006
［式中、Ｒ１は前記に同じ。Ｍはアルカリ金属を示す。］
【００１４】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねてきた結果、驚くべきことに７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸をアルカリ金属塩としてハイポーラスポリマー及び／又は活性炭で処理することで極めて純度の高いＺ体が簡単に高収率で得られることを見出した。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の製造方法によれば、Ｅ体とＺ体との幾何異性体が混在する７−アミノ−３−[２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸をアルカリ金属塩とすることにより、簡便に極めて高いＺ体含有率を有する７−アミノ−３−[２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸及びそのアルカリ金属塩を高収率で得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
本発明において、Ｍで示されるアルカリ金属原子としてはリチウム原子、ナトリウム原子、カリウム原子が好ましい。中でも経済的な観点から、ナトリウム原子、カリウム原子が特に好ましい。
【００１７】
本発明は式（１）で表される７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸のアルカリ金属塩の水溶液に直接ハイポーラスポリマー及び／又は活性炭を添加し、短時間処理するだけで、Ｅ体を極めて高い選択性で除去できる。特に上記ハイポーラスポリマー及び／又は活性炭を添加して、撹拌するとＥ体の除去をより促進させることができ好ましい。
【００１８】
本発明で使用する式（１）で表される７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸は公知化合物であり、Ｅ体含有率について特に制限されないが、よりＺ体含有率の向上した式（１）で表される化合物を得るためには、１〜３０％程度、好ましくは１〜２０％程度、より好ましくは１〜１８％程度とするのがよく、本方法を繰り返すことで更なるＺ体含有率の向上が期待できるので、１％未満のものであってもよい。
【００１９】
式（１）の化合物のアルカリ金属塩の水溶液は、相当する７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウム等のアルカリ金属炭酸塩の水溶液で処理することによって、容易に得ることができるし、後述の反応式１の製造工程によって得られる式（１’）の化合物を含有する水溶液をそのまま使用することもできる。
【００２０】
本発明において式（１）の化合物のアルカリ金属塩の水溶液中の濃度は必ずしも重要ではなく、式（１）の化合物のアルカリ金属塩が十分に溶解する程度であればよいのであって、適宜設定すればよい。
【００２１】
本発明において使用するハイポーラスポリマーとしては特に制限されず、母体構造がメタアクリル酸エステル共重合型樹脂等のアクリル系樹脂、フェノール−ノボラック型樹脂等のフェノール系樹脂、スチレン−ジビニルベンゼン共重合型樹脂等のスチレン系樹脂であるハイポーラスポリマーが挙げられ、中でも母体構造がスチレン系樹脂であるハイポーラスポリマーが好ましく、更に比表面積が４００ｍ2／ｇ以上、特に４００〜１０００ｍ2／ｇのものが好ましい。このようなハイポーラスポリマーとしては、例えば三菱化学（株）製ＨＰ−２０、ＳＰ−２０７、Ｒｏｈｍ−Ｈａａｓ社製ＸＡＤ−１１８０、ＸＡＤ−１６００、Ｔｏｓｏ−Ｈａａｓ社製ＡｍｂｅｒｃｈｒｏｍＣＧ−１６１等が挙げられる。これらは単独で或いは２種以上を混合して使用してもよい。
これらハイポーラスポリマーの使用量は、式（１）で表される化合物１重量部に対して０.１〜５重量部、好ましくは０.３〜４重量部、より好ましくは０.５〜３重量部程度とするのが良い。処理温度は、−２０〜５０℃、好ましくは−１０〜３０℃、より好ましくは０〜１０℃の範囲で保つのが良い。処理時間は数分〜２時間程度で十分である。処理終了後、ハイポーラスポリマーは濾過や遠心分離といった通常の分離手段により分離することができる。
【００２２】
本発明で使用する活性炭としては塩化亜鉛炭や水蒸気炭といった活性炭の種類は問わず、一般的なものが制限無く使用できる。また、それらを混合して使用してもよい。
これら活性炭の使用量は、式（１）で表される化合物のアルカリ金属塩１重量部に対して０.１〜５重量部、好ましくは０.３〜４重量部、より好ましくは０.５〜３重量部程度とするのが良い。活性炭の含水率にも特に制限はなく、５０％含水活性炭であっても、含水率１０％程度の所謂Ｄｒｙ活性炭であってもよい。処理温度は、−２０〜５０℃、好ましくは−１０〜３０℃、より好ましくは０〜１０℃の範囲で保つのが良い。処理時間は数分〜２時間程度で十分である。処理終了後、活性炭は濾過や遠心分離といった通常の分離手段により除去することができる。
【００２３】
得られた式（２）で表される７−アミノ−３−[（Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸の含有率が向上した式（１）で表される化合物のアルカリ金属塩の水溶液に、塩酸等の酸を加えてそのｐＨを３.０〜４.３に調整することにより、式（２）で表されるＺ体化合物の含有率が向上した式（１）で表される化合物とすることができる。該式（１）で表される化合物は結晶として水中に析出し、この結晶を濾過や遠心分離といった通常の分離手段により分離し、水及び乾燥促進の為にアセトンで洗浄後乾燥することにより得られる。
【００２４】
本発明の方法によれば、例えば１回の反応によりＥ体含有率が０.１％（重量％、以下同様）よりも少なく、極めてＺ体含有率が高い、具体的にはＺ体含有率９９％以上、好ましくは９９〜１００％、より好ましくは９９.５〜９９.９９％、９９.７５〜９９.９６％、９９.９〜９９.９５％の７−アミノ−３−[２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸を得ることができる。更に、本発明によればＺ体を高収率で得ることができる。反応を繰り返すことによりＺ体の含有率を向上させることができる。なお、本明細書においてＥ体含有率はＥ体及びＺ体中のＥ体の存在割合を意味しており、次式によって求められる。
Ｅ体含有率（％）＝１００×（Ｅ体存在量）／｛（Ｅ体存在量）＋（Ｚ体存在量）｝
【００２５】
本発明において使用する式（１）で表される７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸のアルカリ金属塩［式（１'）で表される化合物］は例えば次の反応式１に従って製造することができる。
【００２６】
【化６】
2005343854.tif 000007
［式中、Ｒ１はベンジル基又はフェノキシメチル基を示す。Ｒ２はカルボン酸保護基を示す。Ｍはアルカリ金属を示す。］
【００２７】
上記反応式１によると、式（３）で表される７−アミド−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸化合物の４位のカルボン酸保護基の脱保護反応（第一工程）を行って、式（４）で表される７−アミド−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸のアルカリ金属塩とし、次いで７位アミド結合の脱保護反応（第二工程）を行って、本発明で使用する式（１'）で表される７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸アルカリ金属塩を製造することができる。
【００２８】
Ｒ２で示されるカルボン酸保護基は、特に制限なく公知のものが使用できる。例えば「Ｔｈｅｏｄｏｒａ  Ｗ．Ｇｒｅｅｎｅ著の“Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ  Ｇｒｏｕｐｓ  ｉｎ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８１，ｂｙ  Ｊｏｈｎ  Ｗｉｌｅｙ＆Ｓｏｎｓ．  Ｉｎｃ．“の第５章（１５２〜１９２頁）に記載されている基を例示できる。中でもフェニル環上に置換基として電子供与性基を有することのあるベンジル基及び／又はフェニル環上に置換基として電子供与性基を有することのあるジフェニルメチル基が好ましい。電子供与性基の具体例として、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ．−ブチル基等の低級アルキル基、ヒドロキシ基、メトキシ基、エトキシ基等の低級アルコキシ基を挙げることができる。ジフェニルメチル基の場合には、置換又は非置換のフェニル基がメチレン鎖或いはヘテロ原子を介して分子内で結合しているタイプのものを含んでも良い。フェニル環上に置換基として電子供与性基を有することのあるベンジル基及び／又はフェニル環上に置換基として電子供与性基を有することのあるジフェニルメチル基の具体例として、ベンジル基、パラメトキシベンジル基、オルソメトキシベンジル基、ジフェニルメチル基、３,４,５−トリメトキシベンジル基、３,５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジル基、２,４,６−トリメチルベンジル基、ピペロニル基、ジトリルメチル基、ナフチルメチル基、９−アントリル基等を挙げることができる。中でも経済的な観点から、容易に入手できるパラメトキシベンジル基、ジフェニルメチル基が特に好ましい。
【００２９】
第一工程の反応には、β−ラクタム化合物の該カルボン酸保護基の脱保護反応として一般に知られている種々の手法が利用できる。例えば、貴金属触媒を用いて接触還元する方法、酸で処理する方法等が知られている。さらに後者の方法にはトリフルオロ酢酸を使用する方法〔Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．９１，５６７４（１９６９）〕、蟻酸を使用する方法〔Ｃｈｅｍ．Ｐｈａｒｍ．Ｂｕｌｌ．３０，４５４５（１９８２）〕、アニソール存在下に塩化アルミニウムを作用させる方法〔Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．２７９３（１９７９）〕等が知られているが、特にフェノール類中で該脱保護反応を行う方法（特公平６−４６３８号公報）が、経済的にも、操作の簡便さの点からも優位である。
【００３０】
本工程おける４位カルボン酸保護基の脱保護反応に於いて、好適に使用されるフェノール類の例としては、例えばフェノール、クロロフェノール、クレゾール、メトキシフェノール、ナフトール等が挙げられ、これらフェノール類は単独で又は二種以上混合して用いても良い。本方法で用いられるフェノール類は試薬としてのみではなく、溶媒としての機能も有する為、融点の低いフェノール、クレゾールが特に好ましい。フェノール類を使用する場合は、補助溶媒として例えば水、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒等を単独で或いは二種以上混合してフェノール類に対して５０％以下の範囲で添加することもできる。フェノール類の使用量は、式（３）で表される化合物１重量部に対して０.５〜５００重量部、好ましくは１〜２００重量部、より好ましくは１〜５０重量部程度とするのが良い。上記反応の温度としては、使用するフェノール類の種類によって異なるので一概には言えないが、−２０〜１００℃、好ましくは−１０〜７０℃、より好ましくは０〜６０℃の範囲で行えば、反応物及び生成物の安定性の点から考えても有利である。反応時間は特に限定されることなく、式（３）で表される化合物がほとんど消失するまで行えばよい。反応温度にもよるが、一般的には０.５〜１２時間程度行えば、反応は完結する。また、本工程では反応系内に触媒量の酸を添加して、より短時間に反応を完結させることができる。本工程に於いて、好適に使用される酸性触媒の例としては、例えば塩酸、硫酸、過塩素酸、リン酸、蟻酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸等が挙げられる。これらは単独で或いは二種以上混合して使用しても良い。触媒の使用量はその種類により若干異なるが、総じて式（３）で表される化合物に対して０.０１〜１００モル％、好ましくは０.０１〜５０モル％、より好ましくは０.０１〜１０モル％である。反応終了後、式（４）で表される化合物は通常の抽出操作で容易に得ることができる。例えば、反応終了後の溶液に有機溶剤としてメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、塩化メチレン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル等のエーテル系溶媒を加え、水層として水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化リチウム水溶液等のアルカリ金属水酸化物の水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、炭酸リチウム水溶液等のアルカリ金属塩の水溶液を加えることにより、フェノール類を有機溶剤層へ除去し、式（４）で表されるアルカリ金属塩の水溶液として容易に取得することができる。
【００３１】
第二工程の反応には、酵素反応が好適に用いられる。７位のアミド保護基の脱保護は酵素反応によって、容易にしかもほぼ定量的な収率で実施することができる。反応溶媒は、酵素の活性を長く保つために、通常水系で行われる。第一工程に於いて式（４）で表される化合物はアルカリ金属塩の形で水溶液として取得することができる為、直接該水溶液中にそれぞれペニシリン−Ｇアシラーゼ酵素（ペニシリン−Ｇアミダーゼ酵素とも言う）を添加し、反応温度及びｐＨを所定の範囲に保ちながら式（４）の化合物がほぼ消失するまで反応を行えば良い。ペニシリン−Ｇアシラーゼ酵素としては例えばＢＯＥＨＲＩＮＧＥＲ  ＭＡＮＮＨＥＩＭ社製：ペニシリン−ＧアミダーゼＰＧＡ−１５０，ＰＧＡ−３００，ＰＧＡ−４５０、ＤＡＬＡＳ  ＢＩＯＴＥＣＨ  ＬＩＭＩＴＥＤ社製：ペニシリン−Ｇアシラーゼ（酵素）、Ｒｏｃｈｅ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｂｉｏｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製：ペニシリン−Ｇアミダーゼ、Ａｌｔｕｓ  Ｂｉｏｌｏｇｉｃｓ  Ｉｎｃ．社製：ＳｙｎｔｈａＣＬＥＣ−ＰＡ等を例示することができる。反応はほぼ定量的に進行し、式（１’）で表される７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸アルカリ金属塩が得られる。
【００３２】
ここで用いられる酵素の使用量は、式（４）で表される化合物１重量部に対して０.１〜５重量部、好ましくは０.３〜１重量部、より好ましくは０.４〜０.７重量部程度とするのが良い。上記反応の温度としては、使用する酵素の種類によって異なるので一概には言えないが、１０〜５０℃、好ましくは１５〜４０℃、より好ましくは２０〜３５℃の範囲で行うことができる。上記反応のｐＨとしては、使用する酵素の種類によって異なるので一概には言えないが、７.０〜９.５、好ましくは７.３〜９.０、より好ましくは７.５〜８.８の範囲が好ましい。反応時間は特に限定されることなく、式（４）で表される化合物がほとんど消失するまで行えばよい。反応温度及びｐＨにもよるが、一般的には０.５〜１２時間程度行えば、反応は完結する。上記反応においては、反応が進行するにつれてフェニル酢酸誘導体が産生する為、反応系内のｐＨが低下する。反応系のｐＨを所定の範囲内で保持する目的で、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化リチウム水溶液等のアルカリ金属水酸化物の水溶液、炭酸水素ナトリウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、炭酸リチウム水溶液等のアルカリ金属炭酸塩の水溶液等を単独で或いは二種以上混合して加える。反応終了後、酵素は濾過や遠心分離といった通常の分離手段により分離され、式（１）で表される７−アミノ−３−[２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸のアルカリ金属塩を、水系分離母液として得ることができる。
【００３３】
本反応式１で示される製造工程によれば式（１'）で表される７−アミノ−３−[（Ｅ／Ｚ）−２−（４−メチルチアゾール−５−イル）ビニル]−３−セフェム−４−カルボン酸アルカリ金属塩は水溶液の形態で得られている。従って、式（１'）で表される化合物を晶析、分離により単離する必要なく、本発明の方法を適用することができる。
【００３４】
尚、本反応式１で示される式（３）の化合物から式（４）の化合物を経て、式（１'）の化合物、更に式（１）の化合物を製造する方法は新規であり、得られる水溶液をそのまま使用することができるので好ましい。
【実施例】
【００３５】
以下に、実施例、比較例及び参考例を掲げて、本発明をより一層明らかにする。
尚、式（１）で表される化合物を化合物（１）、式（１'）で表される化合物を化合物（１'）、式（２）で表される化合物を化合物（２）、式（３）で表される化合物を化合物（３）、式（４）で表される化合物を化合物（４）と示す。
また、各実施例におけるＥ体含有率及びＺ体含有率はＨＰＬＣにより得られた各面積値を各存在量として上記式により決定した。測定条件は次の通りとした。
ａ）化合物（３）に適用
カラム〔ＹＭＣ−ＡＭ３１２（ＯＤＳ）６.０φ×１５０ｍｍ〕、カラム温度（２５℃付近の一定温度）、移動相（アセトニトリル／Ｂｕｆｆｅｒ＝５０／５０、Ｂｕｆｆｅｒ：ＮａＨ２ＰＯ４・２Ｈ２Ｏ  ７.２９ｇ、Ｎａ２ＨＰＯ４  ０.４６４ｇを、蒸留水１Ｌに溶解する。）、流量（１.０ｍＬ／ｍｉｎ．）、検出波長（２７４ｎｍ）、打ち込み量（１０μＬ）、走査時間：４５分、Ｚ体保持時間（１６〜１７分）、Ｅ体保持時間（２１〜２２分）
ｂ）化合物（１）及び（２）に適用
カラム〔Ｗａｔｅｒｓ  Ｓｙｍｍｅｔｒｙ  Ｓｈｉｅｌｄ  ＲＰ８  ５μｍ（４.６φ×２５０ｍｍ）〕、カラム温度（３０℃付近の一定温度）、移動相（アセトニトリル／Ｂｕｆｆｅｒ＝３／９７、Ｂｕｆｆｅｒ：ＮＨ４Ｈ２ＰＯ４  ２.９ｇを、蒸留水約９００ｍＬに溶解する。リン酸にてｐＨ２.０に調整した後、蒸留水を加えて正確に１Ｌとする。）、流量（１.０ｍＬ／ｍｉｎ．）、検出波長（２５４ｎｍ）、打ち込み量（１０μＬ）、走査時間：３０分、Ｚ体保持時間（６.５〜７.５分）、Ｅ体保持時間（９.５〜１０.５分）
【００３６】
実施例１
〔操作１〕５００ｍＬ四頭フラスコに、Ｅ体含有率１０％の化合物（３）（Ｒ１＝ベンジル、Ｒ２＝ジフェニルメチル）１０ｇを量り取り、フェノール５５ｍＬを加えて５０〜５５℃で５時間撹拌した。反応液に酢酸エチル１００ｍＬ及び５％炭酸水素ナトリウム水溶液２００ｍＬを加えた後、１０℃以下まで冷却した。有機層を除いて水層を採り、酢酸エチル１５０ｍＬで３回洗浄して、化合物（４）（Ｒ１＝ベンジル、Ｍ＝ナトリウム）の水溶液を得た。この水溶液にＰＧＡ−４５０  ５ｇを添加し、２０〜３０℃、５％炭酸ナトリウム水溶液を用いてｐＨ＝７.５〜８.５の範囲内で制御しながら３時間反応を行った。反応終了後酵素を濾過して除き、化合物（１'）（Ｍ＝ナトリウム）の水溶液をフラスコ中に得た。この水溶液中にはＥ体含有率１０％の化合物（１'）が４.７７ｇ（収率８４.０％）相当存在していた。
〔操作２〕この水溶液を１０℃以下に冷却後、活性炭５ｇを添加して１時間撹拌した。活性炭を濾過して除き、濾液に４Ｎ−塩酸を加えてｐＨを４.０に調整して１０℃以下の温度で１時間熟成した。析出した結晶を濾過して採り、水及びアセトンで結晶を洗浄して乾燥後、化合物（２）の含有率が向上した化合物（１）を得た。
収量：３.８２ｇ
Ｚ体収率：９５.０％（操作２）、７９.８％（操作１＋２）
Ｅ体含有率：０.０９％（Ｚ体含有率：９９.９１％）
【００３７】
１Ｈ−ＮＭＲ（０.２ｍｏｌ／Ｌ−ＤＣｌ／Ｄ２Ｏ  ｐｐｍ  ｆｒｏｍ  ＴＳＰ）：２.５３（３Ｈ，ｓ，ＣＨ３），３.５６〜３.６１（１Ｈ，ｄ，Ｓ−ＣＨ（Ｈ），１８.４Ｈｚ），３.７５〜３.８０（１Ｈ，ｄ，Ｓ−ＣＨ（Ｈ），１８.４Ｈｚ），５.２６〜５.２７（１Ｈ，ｄ，Ｓ−ＣＨ，５.２Ｈｚ），５.４５〜５.４６（１Ｈ，ｄ，Ｎ−ＣＨ，５.２Ｈｚ），６.７９（２Ｈ，ｓ，ＨＣ＝ＣＨ），９.７９（１Ｈ，ｓ，Ｓ−ＣＨ＝Ｎ）
【００３８】
実施例２
〔操作１〕５００ｍＬ四頭フラスコに、Ｅ体含有率９％の化合物（３）（Ｒ１＝ベンジル、Ｒ２＝ｐ−メトキシベンジル）１０ｇを量り取り、クレゾール６０ｍＬを加えて４５〜５０℃で１０時間撹拌した。反応液に酢酸ブチル１００ｍＬ及び５％炭酸水素ナトリウム水溶液２００ｍＬを加えた後、１０℃以下まで冷却した。有機層を除いて水層を採り、酢酸ブチル１５０ｍＬで３回洗浄して、化合物（４）（Ｒ１＝ベンジル、Ｍ＝ナトリウム）の水溶液を得た。この水溶液にＰＧＡ−４５０（５ｇ）を添加し、２０〜３０℃、５％炭酸ナトリウム水溶液を用いてｐＨ＝７.５〜８.５の範囲内で制御しながら３時間反応を行った。反応終了後酵素を濾過して除き、化合物（１'）（Ｍ＝ナトリウム）の水溶液をフラスコ中に得た。この水溶液中にはＥ体含有率９％の化合物（１）が５.２９ｇ（収率８６.０％）相当存在していた。
〔操作２〕この水溶液を１０℃以下に冷却後、活性炭４.５ｇを添加して１時間撹拌した。活性炭を濾過して除き、濾液に４Ｎ−塩酸を加えてｐＨを４.０に調整して１０℃以下の温度で１時間熟成した。析出した結晶を濾過して採り、水及びアセトンで結晶を洗浄して乾燥後、化合物（２）の含有率が向上した化合物（１）を得た。化合物（１）の構造は１Ｈ−ＮＭＲで確認した。
収量：４.３０ｇ
Ｚ体収率：９５.５％（操作２）、８２.１％（操作１＋２）
Ｅ体含有率：０.０８％（Ｚ体含有率：９９.９２％）
【００３９】
実施例３
〔操作１〕５００ｍＬ四頭フラスコに、Ｅ体含有率１５％の化合物（３）（Ｒ１＝フェノキシメチル、Ｒ２＝パラメトキシベンジル）１０ｇを量り取り、フェノール／クレゾール（１／１）混合溶媒５０ｍＬを加えて５０〜６０℃で４時間撹拌した。反応液にメチルイソブチルケトン１００ｍＬ及び５％炭酸水素ナトリウム水溶液２００ｍＬを加えた後、１０℃以下まで冷却した。有機層を除去して水層を採り、メチルイソブチルケトン１５０ｍＬで３回洗浄して、化合物（４）（Ｒ１＝フェノキシメチル、Ｍ＝ナトリウム）の水溶液を得た。この水溶液にＰＧＡ−４５０（５ｇ）を添加し、２５〜３０℃、５％炭酸ナトリウム水溶液を用いてｐＨ＝７.７〜８.７の範囲内で制御しながら４時間反応を行った。反応終了後酵素を濾過して除き、化合物（１'）（Ｍ＝ナトリウム）の水溶液を得た。この水溶液中にはＥ体含有率１５％の化合物（１'）が４.８４ｇ（収率８０.９％）相当存在していた。
〔操作２〕この水溶液を１０℃以下に冷却後、活性炭６ｇを添加して１時間撹拌した。活性炭を濾過して除き、濾液に４Ｎ−塩酸を加えてｐＨを４.０に調整して１０℃以下の温度で１時間熟成した。析出した結晶を濾過して採り、水及びアセトンで結晶を洗浄して乾燥後、化合物（２）の含有率が向上した化合物（１）を得た。化合物（１）の構造は１Ｈ−ＮＭＲで確認した。
収量：３.５６ｇ
Ｚ体収率：９２.５％（操作２）、７４.８％（操作１＋２）
Ｅ体含有率：０.１０％（Ｚ体含有率：９９.９０％）
【００４０】
実施例４
〔操作１〕５００ｍＬ四頭フラスコに、Ｅ体含有率１２％の化合物（３）（Ｒ１＝フェノキシメチル、Ｒ２＝ジフェニルメチル）１０ｇを量り取り、フェノール４５ｍＬを加えて５５〜６０℃で４時間撹拌した。反応液にメチルエチルケトン１００ｍＬ及び３％炭酸カリウム水溶液２００ｍＬを加えた後、１０℃以下まで冷却した。有機層を除去して水層を採り、メチルエチルケトン１５０ｍＬで３回洗浄して、化合物（４）（Ｒ１＝フェノキシメチル、Ｍ＝カリウム）の水溶液を得た。この水溶液にＰＧＡ−４５０（５ｇ）を添加し、２５〜３０℃、５％炭酸カリウム水溶液を用いてｐＨ＝７.７〜８.７の範囲内で制御しながら４時間反応を行った。反応終了後酵素を濾過して除き、化合物（１'）（Ｍ＝カリウム）の水溶液を得た。この水溶液中にはＥ体含有率１２％の化合物（１'）が４.９３ｇ（収率８５.１％）相当存在していた。
〔操作２〕この水溶液を１０℃以下に冷却後、活性炭６ｇを添加して１時間撹拌した。活性炭を濾過して除き、濾液に４Ｎ−塩酸を加えてｐＨを４.０に調整して１０℃以下の温度で１時間熟成した。析出した結晶を濾過して採り、水及びアセトンで結晶を洗浄して乾燥後、化合物（２）の含有率が向上した化合物（１）を得た。化合物（１）の構造は１Ｈ−ＮＭＲで確認した。
収量：３.６５ｇ
Ｚ体収率：９４.１％（操作２）、８０.０％（操作１＋２）
Ｅ体含有率：０.１０％（Ｚ体含有率：９９.９０％）
【００４１】
実施例５
〔操作１〕５００ｍＬ四頭フラスコに、Ｅ体含有率１０％の化合物（３）（Ｒ１＝ベンジル、Ｒ２＝２,４,６−トリメチルベンジル）１０ｇを量り取り、フェノール５０ｍＬ及び濃塩酸０.１ｍＬを加えて４５〜５０℃で４時間撹拌した。反応液に塩化メチレン２００ｍＬ及び５％炭酸水素ナトリウム水溶液２００ｍＬを加えた後、１０℃以下まで冷却した。有機層を除去して水層をとり、塩化メチレン１５０ｍＬで５回洗浄して、化合物（４）（Ｒ１＝ベンジル、Ｍ＝ナトリウム）の水溶液を得た。この水溶液にＰＧＡ−４５０（５ｇ）を添加し、２０〜３０℃、５％炭酸ナトリウム水溶液を用いてｐＨ＝７.５〜８.５の範囲内で制御しながら３時間反応を行った。反応終了後酵素を濾過して除き、化合物（１'）（Ｍ＝ナトリウム）の水溶液を得た。この水溶液中にはＥ体含有率１０％の化合物（１'）が５.００ｇ（収率８３.０％）相当存在していた。
〔操作２〕この水溶液を１０℃以下に冷却後、活性炭５ｇを添加して１時間撹拌した。活性炭を濾過して除き、濾液に４Ｎ−塩酸を加えてｐＨを４.０に調整して１０℃以下の温度で１時間熟成した。析出した結晶を濾過して採り、水及びアセトンで結晶を洗浄して乾燥後、化合物（２）の含有率が向上した化合物（１）を得た。化合物（１）の構造は１Ｈ−ＮＭＲで確認した。
収量：４.００ｇ
Ｚ体収率：９５.０％（操作２）、７８.９％（操作１＋２）
Ｅ体含有率：０.０９％（Ｚ体含有率：９９.９１％）
【００４２】
実施例６
５００ｍＬ四頭フラスコに、Ｅ体含有率１０％の化合物（３）（Ｒ１＝ベンジル、Ｒ２＝ジフェニルメチル）１０ｇを量り取り、フェノール５０ｍＬ及び濃硫酸０.１ｍＬを加えて５０〜５５℃で３時間撹拌した。反応液に酢酸エチル１００ｍＬ及び５％炭酸水素ナトリウム水溶液３００ｍＬを加えた後、１０℃以下まで冷却した。有機層を除去して水層を採り、酢酸エチル１５０ｍＬで３回洗浄して、化合物（４）（Ｒ１＝ベンジル、Ｍ＝ナトリウム）の水溶液を得た。この水溶液にＰＧＡ−４５０（５ｇ）を添加し、２０〜３０℃、５％炭酸ナトリウム水溶液を用いてｐＨ＝７.５〜８.３の範囲内で制御しながら４時間反応を行った。反応終了後酵素を濾過して除き、化合物（１'）（Ｍ＝ナトリウム）の水溶液を得た。この水溶液中にはＥ体含有率１０％の化合物（１'）が４.８９ｇ（収率８６.１％）相当存在していた。
〔操作２〕この水溶液を１０℃以下に冷却後、ハイポーラスポリマー（ＨＰ−２０）１５ｇを添加して１時間撹拌した。該ハイポーラスポリマーを濾過して除き、濾液に４Ｎ−塩酸を加えてｐＨを４.０に調整して１０℃以下の温度で１時間熟成した。析出した結晶を濾過して採り、水及びアセトンで結晶を洗浄して乾燥後、化合物（２）の含有率が向上した化合物（１）を得た。化合物（１）は１Ｈ−ＮＭＲで確認した。
収量：３.９１ｇ
Ｚ体収率：９４.９％（操作２）、８１.６％（操作１＋２）
Ｅ体含有率：０.０９％（Ｚ体含有率：９９.９１％）
【００４３】
実施例７
〔操作１〕５００ｍＬ四頭フラスコに、Ｅ体含有率９％の化合物（３）（Ｒ１＝ベンジル、Ｒ２＝パラメトキシベンジル）１０ｇを量り取り、アニソール３０ｍＬ及び氷冷下トリフルオロ酢酸１００ｍＬを加えて同温度にて１時間撹拌した。反応液を減圧下で濃縮後、酢酸ブチル１００ｍＬ及び５％炭酸水素ナトリウム水溶液２００ｍＬを加え、１０℃以下まで冷却した。有機層を除去して水層をとり、酢酸ブチル１５０ｍＬで３回洗浄して、化合物（４）（Ｒ１＝ベンジル、Ｍ＝ナトリウム）の水溶液を得た。この水溶液にＰＧＡ−４５０（５ｇ）を添加し、２０〜３０℃、５％炭酸ナトリウム水溶液を用いてｐＨ＝７.５〜８.５の範囲内で制御しながら３時間反応を行った。反応終了後酵素を濾過して除き、化合物（１'）（Ｍ１＝ナトリウム）の水溶液を得た。この水溶液中にはＥ体含有率９％の化合物（１'）が５.２２ｇ（収率８４.９％）相当存在していた。
〔操作２〕この水溶液を１０℃以下に冷却後、活性炭５ｇを添加して１時間撹拌した。活性炭を濾過して除き、濾液に４Ｎ−塩酸を加えてｐＨを４.０に調整して１０℃以下の温度で１時間熟成した。析出した結晶を濾過して採り、水及びアセトンで結晶を洗浄して乾燥後、化合物（２）の含有率が向上した化合物（１）を得た。化合物（１）は１Ｈ−ＮＭＲで確認した。
収量：４.２５ｇ
収率：９５.５％（操作２）、８１.１％（操作１＋２）
Ｅ体含有率：０.０９％（Ｚ体含有率：９９.９１％）
【００４４】
参考例１
実施例１〜７で得られたＥ異性体含有率の少ない化合物（１）は、いずれもセフジトレンピボキシルへと効率よく変換できる。例えば実施例１より得られた化合物（１）は、特許２８４６１８６号公報や、有機化学合成協会誌  Ｖｏｌ.６０，Ｎｏ.２，１５５−１６１（２００２）に記載の方法により、セフジトレンピボキシルを製造することができる。