(57)【要約】【課題】継ぎ目がなく、良好な真円度であり、かつ、表面に微細凹凸パターンを有するエンボスロールの製法、及び、このエンボスロールを使用した転写シートの製法を提供する。【解決手段】表面に微細凹凸パターンが形成されたエンボスロールの製法。円筒状の元型１２の内周面に感光性樹脂１４を塗布する工程と、感光性樹脂層を露光する工程と、露光後の感光性樹脂層を現像する工程と、現像後に元型の内周面をエッチングする工程と、エッチング後に感光性樹脂層を剥離する工程と、感光性樹脂層剥離後の元型の内周面に電鋳により金属層１６を形成する工程と、元型と金属層とを分離する工程と、金属層の内周部分に支持ロール２０を冷却嵌めする工程とを有する。【選択図】          図１
2005035119.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に微細凹凸パターンが形成されたエンボスロールの製法であって、
円筒状の元型の内周面に感光性樹脂を塗布する工程と、
前記感光性樹脂層を露光する工程と、
前記露光後の感光性樹脂層を現像する工程と、
前記現像後に元型の内周面をエッチングする工程と、
前記エッチング後に感光性樹脂層を剥離する工程と、
前記感光性樹脂層剥離後の元型の内周面に電鋳により金属層を形成する工程と、
前記元型と金属層とを分離する工程と、
前記金属層を内周部分より支持ロールで支持する工程と、
を有することを特徴とするエンボスロールの製法。
【請求項２】
表面に微細凹凸パターンが形成されたエンボスロールの製法であって、
円筒状の元型の内周面に感光性樹脂を塗布する工程と、
前記感光性樹脂層を露光する工程と、
前記露光後の感光性樹脂層を現像する工程と、
前記現像後の感光性樹脂層の表面に電鋳により金属層を形成する工程と、
前記元型と金属層とを分離する工程と、
前記金属層を内周部分より支持ロールで支持する工程と、
を有することを特徴とするエンボスロールの製法。
【請求項３】
前記金属層を前記支持ロールで支持する工程において、前記金属層の内周部分に前記支持ロールを冷却嵌めする請求項１又は２のいずれかに記載のエンボスロールの製法。
【請求項４】
前記元型が硬脆材又は樹脂材よりなる請求項１〜３のいずれか１項に記載のエンボスロールの製法。
【請求項５】
前記冷却嵌めの量がエンボスロールの使用温度において０．１ｍｍ以上である請求項１〜４のいずれか１項に記載のエンボスロールの製法。
【請求項６】
前記冷却嵌めする工程において、前記金属層の内周と前記支持ロールの外周との間隙に流体を供給する請求項１〜５のいずれか１項に記載のエンボスロールの製法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のエンボスロールを使用してシート状物の表面に微細凹凸パターンを形成することを特徴とする転写シートの製法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はエンボスロールの製法及び該エンボスロールを使用した転写シートの製法に係り、特に、ロールの外周面に規則的な微細凹凸パターンが形成されたエンボスロールの製法及び該エンボスロールを使用して光学シート等のシート状物を製造するのに好適な転写シートの製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、レンチキュラーレンズやフライアイレンズ等の平板状レンズ、電子ディスプレイ用途の光拡散シート、反射防止シート、輝度向上シート、光導波路シート等の光学シートが使用されている。このようなシート状物の製造は、平板状の金型を使用したプレス成形によるものと、エンボスロールを使用したロール成形によるものに大別される。
【０００３】
このうち、表面に微細凹凸パターンを有するものの製造は、プレス成形により行うのが一般的である。その理由は、平板状であればプレス金型の微細加工（たとえば、フォトエッチング）が容易だからである。その反面、プレス成形は生産性に劣るという欠点もある。すなわち、原料のシート状物とプレス金型とを積層し、ホットプレス内にセットし、加熱・加圧成形を行うが、１バッチのサイクルタイムが長く（たとえば、約１時間）、多段のホットプレスを使用したとしても、生産性は劣る。
【０００４】
一方、ロール成形によれば、連続加工が容易であり、生産性に優れている。その反面、ロール成形に使用するエンボスロールの微細加工が困難であるという課題がある。この課題に対処するべく提案されたものとして、可撓性を有する露光マスクを使用してロール型スタンパーを製作する構成が挙げられる（特許文献１参照）。
【０００５】
また、表面に微細凹凸パターンを有する薄板平板状の金型を、支持ロールの外周に巻き付けてエンボスロールを製作する構成も考えられる。このような薄板平板の巻き付け技術は、印刷の分野で多用されており、各種の方法が提案されている（たとえば、非特許文献１参照）。
【０００６】
【特許文献１】
特開平２−１１０８４１号公報
【０００７】
【非特許文献１】
新・印刷技術入門、７２、７３頁、印刷学会出版部  ２００１年１０月発行（泉  和人  著）
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の提案（特許文献１）のように、露光マスクを使用して微細加工する構成では、エンドレス（継ぎ目のない）のパターンをロール表面に形成できないという問題点がある。すなわち、微細パターンである程、継ぎ目を連続的に形成することが困難であり、ロールになじむ性質の露光マスクを使用してもこの点の解決にはならない。
【０００９】
また、表面に微細凹凸パターンを有する薄板平板状の金型を製作し、これを支持ロールの外周に巻き付けてエンボスロールを製作する構成の場合、継ぎ目を生じるのは避け得ず、また、エンボスロールの真円度を良好にすることも困難である。更に、巻き付け部分に応力集中を生じ易く、構造上不安定になるという不具合をも生じる。
【００１０】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、継ぎ目がなく（エンドレス）、良好な真円度であり、かつ、表面に微細凹凸パターンを有するエンボスロールの製法、及び、このエンボスロールを使用した生産性、経済性に優れた転写シートの製法を提供することを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本発明は、表面に微細凹凸パターンが形成されたエンボスロールの製法であって、
円筒状の元型の内周面に感光性樹脂を塗布する工程と、
前記感光性樹脂層を露光する工程と、
前記露光後の感光性樹脂層を現像する工程と、
前記現像後に元型の内周面をエッチングする工程と、
前記エッチング後に感光性樹脂層を剥離する工程と、
前記感光性樹脂層剥離後の元型の内周面に電鋳により金属層を形成する工程と、
前記元型と金属層とを分離する工程と、
前記金属層を内周部分より支持ロールで支持する工程と、
を有することを特徴とするエンボスロールの製法を提供する。
【００１２】
本発明によれば、先ず、円筒状の元型の内周面にフォトエッチングにより微細凹凸パターンを形成する。次いで、この微細凹凸パターンを電鋳により転写する。転写後の金属層は円筒状となり、この円筒状物の内側に支持ロールを入れて支持する。これにより、継ぎ目がなく（エンドレス）、良好な真円度であり、かつ、表面に微細凹凸パターンを有するエンボスロールを得ることができる。
【００１３】
円筒状物の内側に支持ロールを入れて支持する方法としては、接着、嵌合、溶着、焼ばめ等の各種方法が採用できる。溶着の場合には、電気、レーザ、化学反応（酸化反応等）等を利用して全面又は局部を溶着すればよい。
【００１４】
「エッチング」とは、一般的には、エッチャントを使用したウェット処理、電子線等を使用したドライ処理を指すが、ここではこれ以外に、感光性樹脂層（レジスト層）で被覆していない部分を選択的に除去する加工方法、たとえば、サンドブラスト加工等をも広く含むものである。
【００１５】
また、本発明は、表面に微細凹凸パターンが形成されたエンボスロールの製法であって、
円筒状の元型の内周面に感光性樹脂を塗布する工程と、
前記感光性樹脂層を露光する工程と、
前記露光後の感光性樹脂層を現像する工程と、
前記現像後の感光性樹脂層の表面に電鋳により金属層を形成する工程と、
前記元型と金属層とを分離する工程と、
前記金属層を内周部分より支持ロールで支持する工程と、
を有することを特徴とするエンボスロールの製法を提供する。
【００１６】
本発明によれば、先ず、円筒状の元型の内周面にフォトリソグラフィー加工により微細凹凸パターンの感光性樹脂層を形成する。次いで、この微細凹凸パターンを電鋳により転写する。転写後の金属層は円筒状となり、この円筒状物の内側に支持ロールを入れて支持する。これにより、継ぎ目がなく（エンドレス）、良好な真円度であり、かつ、表面に微細凹凸パターンを有するエンボスロールを得ることができる。すなわち、本発明は、先の元型の内周面をエッチングして微細凹凸パターンを形成する工程に代えて、感光性樹脂層の微細凹凸パターンを電鋳により転写する工程を採用する。
【００１７】
本発明において、前記金属層を前記支持ロールで支持する工程において、前記金属層の内周部分に前記支持ロールを冷却嵌めすることが好ましい。このように、冷却嵌めを採用すれば、本発明の効果がより好適に発揮できるからである。
【００１８】
ここで、「冷却嵌め」とは、焼ばめと同様の技術思想のもとに行う作業である。「焼ばめ」とは、常温でははまり込まない程度の孔と軸とを、孔を加熱して膨張させた状態ではめ込んで、常温になって収縮してかたく固定されるようにすることをいう。これに対し、ここでいう「冷却嵌め」とは、常温でははまり込まない程度の円筒状物と支持ロールとを、支持ロールを冷却し収縮させた状態ではめ込んで、常温になって膨張してかたく固定されるようにすることをいう。
【００１９】
また、本発明において、前記元型が硬脆材又は樹脂材よりなることが好ましい。このように、元型が硬脆材（たとえば、ガラス、セラミックス等）であれば元型と金属層とを分離する工程において、容易に元型を破壊でき、無傷の金属層が得られるからである。また、元型が樹脂材であれば元型と金属層とを分離する工程において、容易に元型を溶解又は膨潤させることができ、無傷の金属層が得られるからである。
【００２０】
また、本発明において、前記冷却嵌めの量がエンボスロールの使用温度において０．１ｍｍ以上であることが好ましい。このような冷却嵌めの量とすれば、エンボスロールの使用に実用上耐え得るからであり、また、冷却嵌めが確実に行えるからである。
【００２１】
また、本発明において、前記冷却嵌めする工程において、前記金属層の内周と前記支持ロールの外周との間隙に流体を供給することが好ましい。このように、金属層と支持ロールとの間隙に流体を供給すれば、この流体が潤滑の効果を発揮し、嵌合作業が円滑に行えるからである。なお、流体は気体でも液体でも採用できる。
【００２２】
また、本発明は、上記のエンボスロールを使用してシート状物の表面に微細凹凸パターンを形成することを特徴とする転写シートの製法を提供する。本発明によれば、ロールによる連続成形加工ができるので、ホットプレスによるバッチ処理に比べて品質安定性、生産性が大幅に向上し、大幅なコストダウンも可能となる。
【００２３】
なお、エンボスロールを使用した微細凹凸パターンの形成方法としては、ロールによるエンボス加工（加熱、加圧を伴う）のみならず、ＵＶ樹脂と紫外線による成形加工、ＥＢ溶液を使用した成形加工、ロールによるキャスティング加工、押し出し成形加工、溶液製膜法等、各種の加工方法が採用できる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面に従って、本発明に係るエンボスロールの製法及び該エンボスロールを使用した転写シートの製法の好ましい実施の形態について詳説する。図１は、表面に微細凹凸パターンが形成されたエンボスロール２２の製造フローを説明する断面図である。
【００２５】
図１において、第１の実施の形態と第２の実施の形態とが併せて示されている。このうち、第１の実施の形態は、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、（ｇ）及び（ｈ）であり、第２の実施の形態は、（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｆ）、（ｇ）及び（ｈ）である。図２は、第１の実施の形態におけるフォトエッチング工程等の概略を説明する断面図である。以下、順を追って説明する。なお、共通する工程は、随時説明を省略する。
【００２６】
第１の実施の形態において、元型１２として、内径が２００ｍｍ、肉厚が５ｍｍ、長さが３００ｍｍのガラス管を準備した。元型１２の内周面に感光性樹脂であるレジスト１４を所定厚さに塗布し、プレベークを行った（図１（ａ）、図２（ａ）に示される状態）。なお、元型１２とレジスト１４との付着力を向上させるべく、下地処理、たとえば、カップリング剤のコート、金属酸化膜の形成等も採用できる。レジスト１４の塗布方法としては、ディップコート、スピンコート等の公知の手段が採用できる。
【００２７】
図１（ｂ）に示される状態において、レジスト１４の層の表面にレーザヘッドより（図示略）レーザビームを照射して露光を行った。この露光は、支持ロッドの先端に固定されたレーザヘッドを円周方向に回転させながら、支持ロッドを元型１２の長さ方向に移動させ、スポット状に（レーザビーム径は５μｍ）元型１２の内周の略全面をパターン露光する。
【００２８】
なお、これ以外の露光方式として、円筒状のフォトマスクを使用し、紫外線等を照射することにより行うこともできる。また、レーザヘッドを円周方向に回転させる構成に代えて、元型１２を回転させる構成を採用してもよい。更に、元型１２の外周部よりガラスを透過して露光することもできる。
【００２９】
露光後に現像処理を行うことにより、図１（ｃ）、図２（ｃ）に示される状態となり、感光性樹脂であるレジスト１４に所定の開口１４ａ、１４ａ…が形成される。ポストベーク後にエッチングを行うことにより、図２（ｄ−１）に示される状態となり、更にレジスト１４を剥離すると図１（ｄ）、図２（ｄ−２）に示される状態となり、元型１２の表面に微細凹凸パターンが形成された状態となる。この微細凹凸パターンは、ドット形状であり、ピッチが縦横いずれも１．５μｍ、幅が縦横いずれも１．０μｍ、深さが０．０６μｍである。この微細凹凸パターンは、元型１２の略全面に形成される。なお、エッチャントはフッ化水素系の液体を使用した。また、元型１２の外周部の表面は図示しないレジストにより保護した。
【００３０】
次に、元型１２の内周部表面に無電解メッキを施し、コンタクト層を形成した後に電鋳処理を行い、この反転型である金属層１６を形成する（図１（ｅ）、図２（ｅ）に示される状態）。電鋳処理に使用する金属材料としては、たとえば、ニッケルを主体としたものが好ましく使用できる。電鋳処理により得られた反転型である金属層１６を元型１２から剥離した状態が図１（ｇ）、図２（ｇ）に示される。この金属層１６の厚さは、約２００μｍとなるように電鋳処理を行った。
【００３１】
電鋳処理後に、元型１２と金属層１６とを分離した。この分離方法は、元型１２であるガラス管を破壊することにより行った。これにより、容易に無傷の金属層１６が得られた。なお、微細凹凸パターンの深さが小さい場合には、元型１２であるガラス管を破壊せず、元型１２と金属層１６との熱膨張係数の差を利用して、金属層１６のみを冷却して分離することも可能である。
【００３２】
次に、この金属層１６の内周部分に支持ロール２０を冷却嵌めしてエンボスロール２２を形成する。冷却嵌めの工程の前に、金属層１６の内径が２００ｍｍになるように、機械加工、放電加工等の各種加工方法により内径調整を事前に施しておく。
【００３３】
図１（ｈ）、図３は、このエンボスロール２２の形成方法を説明する概略図である。支持ロール２０としては、外径が２００．１５ｍｍ、有効長さが２００ｍｍのＳ４５Ｃ製のロールを使用した。金属層１６を室温に維持し、一方、支持ロール２０をドライアイスにより外径が１９９．８５ｍｍになるまで冷却し、その後、金属層１６内に支持ロール２０を嵌め込んだ。図３（ａ）、（ｂ）は、この過程を示している。
【００３４】
本発明においては、この嵌め合い量が重要であり、冷却嵌めの量がエンボスロールの使用温度において０．１ｍｍ以上であることが好ましく、０．３ｍｍ以上であることがより好ましい。冷却嵌めの量は、円筒状物１８の破断強度以内とすば特に制限はないが、冷却嵌めの量を過大に設定した場合、冷却嵌めの作業は困難である。
【００３５】
このエンボスロールを使用して転写シートを製造する際の加工温度は、１５０度Ｃ前後である。円筒状物１８のニッケルの熱膨張係数は支持ロール２０のＳ４５Ｃの熱膨張係数より大きいものの、この加工温度の範囲であれば、冷却嵌めの量の０．１ｍｍ以上を確保でき、使用上問題となることはない。
【００３６】
なお、エンボスロールを使用して転写シートを製造する際の加工温度が更に高い場合には、支持ロール２０の外径を大きくして、冷却嵌めの量を更に大きくする必要がある。
【００３７】
支持ロール２０の材質を、ニッケルよりも熱膨張係数の大きいステンレス鋼とすれば、転写シートを製造する際の加工温度を高くする程、嵌め合いが強くなり好ましいが、転写シートを製造する際の加工圧力をあまり高くできないという制約もある。
【００３８】
本実施の形態において、従来より多用されている焼ばめを採用せず、冷却嵌めを採用するのは、部材の熱容量の観点による。すなわち、金属層１６は、板厚が小さく（本例では、２００μｍ）熱容量も僅かであり、加熱しても短時間で室温に復帰し易い。これに対し、支持ロール２０は使用時の強度を確保する点より、厚肉の円筒部材又はムク材の円柱材より形成され、熱容量も大きい。従って、冷却しても短時間で室温に復帰しにくく、作業性が良好だからである。
【００３９】
この際、冷却嵌めする工程において、金属層１６の内周と支持ロール２０の外周との間隙に圧縮空気を供給した。これにより、エアクッションの作用で（この圧縮空気が潤滑の効果を発揮し）、冷却嵌めが容易となった。この際供給する流体は圧縮空気に限定されるものではなく、他の気体（たとえば、窒素ガス）、液体（たとえば、水、潤滑油剤）であってもよい。
【００４０】
金属層１６の内周と支持ロール２０の外周との間隙に圧縮空気を供給する方法としては、たとえば、支持ロール２０の外周に微細な気体噴出孔を多数形成しておき、支持ロール２０の軸端より支持ロール２０内部を経由して圧縮空気を供給する構成が採り得る。
【００４１】
このように、金属層１６の内周と支持ロール２０の外周との間隙に圧縮空気を供給しながら金属層１６内に支持ロール２０を嵌め込む方法は、他の技術分野（たとえば、非特許文献１参照）では見られるものの、転写シートの製法においてはこれまで採用される例が皆無であった。本発明は、円筒状の元型１２の内周面のエッチング、電鋳による金属層１６の成形、支持ロール２０と金属層１６との冷却嵌め、及び、金属層１６と支持ロール２０との間隙への流体の供給、の技術の組み合わせにより、良好な精度のエンボスロールの製法を提供するものである。
【００４２】
なお、供給する流体の圧力は９８０ＭＰａ（１０ｋｇ／ｃｍ２  ）以上とすることが好ましい。このような流体の圧力とすることにより、円筒状物１８が径方向に広げられ、嵌め合い作業が円滑に行える。
【００４３】
支持ロール２０と金属層１６との冷却嵌めが終了し、形成されたエンボスロール２２が常温に戻ることにより、支持ロール２０が膨張し、金属層１６との間で嵌め合い状態を形成し、一体化したエンボスロール２２となる。
【００４４】
次に、本発明における第２の実施の形態について説明する。本実施の形態では、図１における（ａ）、（ｂ）、（ｃ）までは第１の実施の形態と略同様の工程であることより、その説明は省略する。
【００４５】
但し、本実施の形態は、第１の実施の形態において元型１２の内周面をエッチングして微細凹凸パターンを形成する工程に代えて、感光性樹脂層であるレジスト１４の微細凹凸パターンを電鋳により転写する工程を採用することより、それに対応した露光パターン形状とする。
【００４６】
また、元型１２にエッチングを施さないことより、ガラス等の硬脆材以外の材料、たとえば、樹脂材を元型１２に使用できる。本実施の形態においては、元型１２として、内径が２００ｍｍ、肉厚が５ｍｍ、長さが３００ｍｍのポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）管を使用した。但し、ポリ塩化ビニルがレジスト１４により浸食されるのを防ぐために、表面に保護コートを施した。レジスト１４の塗布厚さは、プレベーク後で５μｍになるように形成した。
【００４７】
なお、露光パターン形状は、レジスト１４の層にピッチが１０μｍ、幅が５μｍ、深さが４μｍのグルーブ形状が形成される微細凹凸パターン形状である。この微細凹凸パターンは、元型１２の略全面に形成される。
【００４８】
次に、元型１２の内周部表面に形成されているレジスト１４にＩＴＯ膜を１μｍ厚さに蒸着し、コンタクト層を形成した後に電鋳処理を行い、この反転型である金属層１６を形成する（図１（ｆ）に示される状態）。電鋳処理に使用する金属材料としては、たとえば、ニッケルを主体としたものが好ましく使用できる。電鋳処理により得られた反転型である金属層１６を元型１２から剥離した状態が図１（ｇ）に示される。この金属層１６の厚さは、約２００μｍとなるように電鋳処理を行った。
【００４９】
電鋳処理後に、元型１２と金属層１６とを分離した。この分離方法は、元型１２であるポリ塩化ビニル管を有機溶剤により膨潤させることにより行った。これにより、容易に無傷の金属層１６が得られた。なお、微細凹凸パターンが元型１２の長さ方向のグルーブ形状なので、元型１２であるポリ塩化ビニル管を破壊せず、元型１２と金属層１６とを分離することができた。
【００５０】
図１（ｈ）及び図３に示される、金属層１６の内周部分に支持ロール２０を冷却嵌めしてエンボスロール２２を形成する工程は、第１の実施の形態と略同様の工程であることより、その説明は省略する。
【００５１】
次に、エンボスロール２２を使用してシート状物の表面に微細凹凸パターンを形成する工程について説明する。図４は、転写シートの形成方法を説明する概略図である。
【００５２】
図４において、原反ロール２４より所定速度で繰出される原料シート（シート状物）Ｗは、両面より予備加熱装置２６により所定温度まで予備加熱される。そして、原料シートＷは、加工温度に維持されたエンボスロール２２とニップロール２８で挟まれ加熱、加圧を受けることによりエンボス成形加工がなされる。次いで、原料シートＷは、ガイドロール３０に巻き掛けられることによりエンボスロール２２から剥離され、両面より冷却装置３２により冷却された後、転写シート３４として巻き取りロール３６に巻き取られる。
【００５３】
原料シート（シート状物）Ｗの材質としては、各種の樹脂材料等が使用でき、たとえば、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン、ポリエステル、エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）等が好適に使用できる。また、複数の樹脂材料を２層又は３層に構成したシート状物も使用できる。
【００５４】
転写シート３４の用途がレンチキュラーレンズ等の平板状レンズ、電子ディスプレイ用途の光拡散シートのような透明体である場合には、原料シートＷには透明な樹脂材料等を使用できる。一方、転写シート３４の用途が電子ディスプレイ用途の反射防止シートのような反射体である場合には、原料シートＷには、たとえば、中間層にアルミニウム膜を設けた３層構造のラミネートシートを使用できる。
【００５５】
予備加熱装置２６としては、図示の例では、ヒータによる輻射加熱が採用されているが、これに限定されるものではなく、各種の方式が採用できる。
【００５６】
エンボスロール２２とニップロール２８の加熱手段としては、たとえば、ロータリージョイントを経由してロール内に熱媒を循環させる構成、ロール内にシースヒータを配する構成、ロールの表面近傍に加熱手段を設ける構成等が採用できる。加工温度、加工圧力は、エンボスロール２２表面のパターン形状、原料シートＷの材質、原料シートＷの走行速度等によって適宜の範囲を選択できる。
【００５７】
冷却装置３２としては、図示の例では、エアブローによる冷却方法が採用されているが、これに限定されるものではなく、各種の方式が採用できる。
【００５８】
なお、エンボスロールを使用した微細凹凸パターンの形成方法としては、図４に示されるような、ロールによるエンボス加工のみならず、ＵＶ樹脂と紫外線による成形加工、ＥＢ溶液を使用した成形加工、ロールによるキャスティング加工（キャスティングロールとして使用）、押し出し成形加工、溶液製膜法（シームレスベルト・キャスティングロールとして使用）等、各種の加工方法が採用できる。これらはいずれも公知の技術であることより、詳細な説明は省略する。
【００５９】
たとえば、ＵＶ樹脂と紫外線による成形加工の場合には、搬送用のウェブ（帯状可撓性支持体）上に所定厚さのＵＶ樹脂（紫外線硬化樹脂）を形成し、エンボスロール２２でＵＶ樹脂にエンボス成形加工した直後に紫外線を照射しＵＶ樹脂を硬化させる。
【００６０】
以上、本発明に係るエンボスロールの製法及び該エンボスロールを使用した転写シートの製法の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。
【００６１】
たとえば、本実施形態において、電鋳はニッケルを主体としたものが使用されているが、エンボスロール２２として加工条件に耐え得るものであれば他の金属材料であっても適用できる。エンボスロールとして使用する場合、ロール表面には通常は所定以上の硬度、縦弾性係数（ヤング率）等が要求されるが、金属板であればこれらの要求を満たすからである。
【００６２】
また、コンタクト層の形成は、無電解メッキ、蒸着に限らず、スパッタリング等の薄膜形成手段であれば広く適用できる。
【００６３】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１に係る発明によれば、先ず、円筒状の元型の内周面にフォトエッチングにより微細凹凸パターンを形成する。次いで、この微細凹凸パターンを電鋳により転写する。転写後の金属層は円筒状となり、この円筒状物の内側に支持ロールを冷却嵌めする。これにより、継ぎ目がなく（エンドレス）、良好な真円度であり、かつ、表面に微細凹凸パターンを有するエンボスロールを得ることができる。
【００６４】
また、請求項２に係る発明によれば、先ず、円筒状の元型の内周面にフォトリソグラフィー加工により微細凹凸パターンの感光性樹脂層を形成する。次いで、この微細凹凸パターンを電鋳により転写する。転写後の金属層は円筒状となり、この円筒状物の内側に支持ロールを冷却嵌めする。これにより、継ぎ目がなく（エンドレス）、良好な真円度であり、かつ、表面に微細凹凸パターンを有するエンボスロールを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るエンボスロールの製造フローを説明する断面図
【図２】フォトエッチング工程等の概略を説明する断面図
【図３】エンボスロールの形成方法を説明する概略図
【図４】転写シートの形成方法を説明する概略図
【符号の説明】
１０…パターン板、１２…元型、１４…レジスト、１６…金属層、２０…支持ロール、２２…エンボスロール、２４…原反ロール、２６…予備加熱装置、２８…ニップロール、３０…ガイドロール、３２…冷却装置、３４…転写シート、３６…巻き取りロール、Ｗ…原料シート（シート状物）
【図１】
2005035119.tif 000003
【図２】
2005035119.tif 000004
【図３】
2005035119.tif 000005
【図４】
2005035119.tif 000006