(57)【要約】【課題】装置機構を簡素化すると共に、載置対象物を載置台に載置する際、高精度の位置決めを行うことを可能とする載置装置等を提供する。【解決手段】基板載置装置２００は、吸着テーブル１０３（載置台）の上面から各リフトピン２０１を突出させ、各リフトピン２０１の上端に基板１０８（載置対象物）を配し、各リフトピン２０１を−Ｗ方向に下降させることにより、基板１０８を下降させて、吸着テーブル１０３の上面に載置する。基板１０８は、基板１０８の周縁部がストッパピン２０４に当接するまでは、−Ｗ方向に下降するが、基板１０８の周縁部がストッパピン２０４に当接した後は、−Ｚ方向に下降する。すなわち、リフトピン２０１の下降中に、基板１０８は、ストッパピン２０４により当て止めされ、位置決めが行われる。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
載置台に載置対象物を載置する載置装置であって、
前記載置対象物を水平方向に支持し、前記載置台の第１貫通孔を介して前記載置台の上面から突出自在であり、鉛直方向と所定の角度をなす方向である斜方向に昇降する、複数の昇降部材と、
前記載置対象物の載置位置の周縁に沿って前記載置台の上面に設けられ、前記載置対象物の周縁部を当て止めする、複数の当止部材と、
を具備することを特徴とする載置装置。
【請求項２】
前記当止部材は、前記載置台の第２貫通孔を介して前記載置台の上面から突出自在であり、昇降することを特徴とする請求項１に記載の載置装置。
【請求項３】
前記当止部材は、前記載置台の第２貫通孔を介して前記載置台の上面から突出自在であり、昇降し、前記載置対象物の下降と連動して下降することを特徴とする請求項１に記載の載置装置。
【請求項４】
前記斜方向から前記複数の昇降部材の下端が固着し、前記斜方向に押引を行う第１押引手段に連結され、前記載置台の下方に設けられる、第１支持部材を具備することを特徴とする請求項１に記載の載置装置。
【請求項５】
前記当止部材は、押引を行う第２押引手段に連結されることを特徴とする請求項２または請求項３に記載の載置装置。
【請求項６】
前記斜方向から前記複数の昇降部材の下端が固着し、上方から前記複数の当止部材の下端が当接し、前記斜方向に押引を行う第１押引手段に連結され、前記載置台の下方に設けられる、第２支持部材を具備することを特徴とする請求項２または請求項３に記載の載置装置。
【請求項７】
前記当止部材の下端と前記第２支持部材とは、前記斜方向の水平面射影方向に互いに摺動可能に連結されることを特徴とする請求項６に記載の載置装置。
【請求項８】
前記複数の昇降部材を個別にあるいは部分毎に昇降させることを特徴とする請求項１に記載の載置装置。
【請求項９】
前記載置対象物の中央部分と周辺部分とでは、前記昇降部材の昇降速度が異なることを特徴とする請求項１に記載の載置装置。
【請求項１０】
載置対象物が載置される載置台であって、
前記載置対象物の載置位置の範囲内において鉛直方向と所定の角度をなす方向である斜方向に貫通する複数の第１貫通孔を具備することを特徴とする載置台。
【請求項１１】
前記載置対象物の載置位置の周縁に沿って上面から下面に貫通する複数の第２貫通孔を具備することを特徴とする請求項１０に記載の載置台。
【請求項１２】
前記載置対象物を吸着する吸着孔を具備することを特徴とする請求項１０に記載の載置台。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラス基板、シリコンウェハ等の載置対象物を定盤、吸着台等の載置台に載置する載置装置等に関する。より詳細には、載置対象物を載置台の所定の位置に載置する載置装置等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、基板上に液晶ディスプレイ、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、有機ＥＬ（ｏｒｇａｎｉｃ  ＥｌｅｃｔｒｏＬｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）等に用いるカラーフィルタのパターンを形成する方法として、染色法、顔料分散法、電着法、印刷法等の各種方法がある。
【０００３】
また、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色のインクをインクジェット方式により基板上に吐出して着色層パターンを形成するパターン形成装置が提案されている（例えば、［特許文献１］参照。）。
このインクジェット方式によれば、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色のパターン形成を一度の工程により行い、製造工程を簡素化することができるので、コストの低減、歩留まりの向上等を図ることができる。
【０００４】
そして、基板上にパターン形成を行うする場合、相当の精度が要求され、例えば、インクジェット方式のパターン形成装置の場合、インクジェットヘッドの位置決め精度と共に、インク塗布対象の基板を定盤上の所定の位置に精度よく載置することが要求される。
【０００５】
図１４は、従来の基板載置装置１４００の概略構成を示す斜視図（載置前）である。
図１５は、従来の基板載置装置１４００の概略構成を示す斜視図（載置後）である。
【０００６】
基板載置装置１４００は、吸着テーブル１４０１、複数のリフトピン１４０２、アライメントカメラ１４０３（高精度用）、アライメントカメラ１４０４（粗精度用）等を備える。リフトピン１４０２は、基板１４０５を支持する棒状部材であり、吸着テーブル１４０１の載置面１４０８上から出没する。
【０００７】
基板載置装置１４００は、リフトピン１４０２を鉛直方向（垂直方向）に下降（下降１４０７）させることにより、基板１４０５を吸着テーブル１４０１上に載置する（図１５参照。）。
尚、吸着テーブル１４０１の載置面１４０８と基板１４０５との平行状態を維持すべく、複数のリフトピンは、全て同一の高さで上下移動する。
【０００８】
基板載置装置１４００は、高精度用のアライメントカメラ１４０３を用いて、基板１４０５上のアライメントマーク１４０６を撮像して基板の位置を把握し、基板の載置の際に生じた載置位置のズレの補正を行う。
この場合、基板１４０５の載置位置に大きなズレが発生し、アライメントカメラ１４０３によるアライメントマーク１４０６の追跡が困難となる場合を考慮して、アライメントマーク１４０３がアライメントカメラの視野に収まるように、広視野のアライメントカメラが用いられたり、高精度用及び粗精度用の２種類のアライメントカメラ（アライメントカメラ１４０３及びアライメントカメラ１４０４）が用いられる。
さらに、基板１４０５を外部から押す押圧機構１４０９を設け、押圧機構１４０９により基板１４０５を押圧して移動させることにより、アライメントマーク１４０６をアライメントカメラの視野に収め、載置位置のズレを補正することができる。
【０００９】
【特許文献１】特開２００２−３６１８５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、従来の基板載置装置は、ロボットアーム等により基板をリフトピンの上端に配する際に位置ズレを生じる可能性があり、さらに、リフトピンの下降時においても位置ズレを生じる可能性があり、定盤の所定の位置に高精度に基板を載置することが困難であるという問題点がある。
この場合、高画素数のＣＣＤカメラ（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅｓ）を設けたり、微精度用及び粗精度用の２種類のＣＣＤカメラを設ける必要があり、費用的負担が増大するという問題点がある。
さらに、アライメントマークがＣＣＤカメラの視野内に入るように、外部から基板を押して位置を強制する機構を設ける必要があり、装置機構が複雑化するという問題点がある。
【００１１】
インクジェット方式のパターン形成装置により、カラーフィルタの着色処理を行う場合等、高精度に位置決めを行って基板を所定の位置に載置する場合、基板上のアライメントマークをアライメントカメラにより検出し、位置決めを行うのが一般的である。
例えば、目標位置に対し許容誤差を±１μｍ以内とする場合、ＣＣＤカメラに関しては、ＣＣＤが１／３型、３５万画素（６４０×４８０）、使用レンズ６倍のものが用いられ、この場合、ＣＣＤカメラの視野は、０．８ｍｍ×０．６ｍｍとなり、基板が定盤上に載置され吸着される際、１ｍｍ程度移動すると、ＣＣＤカメラの視野から外れ、その後の位置決めを行うことが困難となる。
【００１２】
本発明は、以上の問題点に鑑みてなされたものであり、装置機構を簡素化すると共に、載置対象物を載置台に載置する際、高精度の位置決めを行うことを可能とする載置装置等を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前述した目的を達成するために第１の発明は、載置台に載置対象物を載置する載置装置であって、前記載置対象物を水平方向に支持し、前記載置台の第１貫通孔を介して前記載置台の上面から突出自在であり、鉛直方向と所定の角度をなす方向である斜方向に昇降する、複数の昇降部材と、前記載置対象物の載置位置の周縁に沿って前記載置台の上面に設けられ、前記載置対象物の周縁部を当て止めする、複数の当止部材と、を具備することを特徴とする載置装置である。
【００１４】
第１の発明の載置装置は、載置対象物を複数の昇降部材の上端に配し、当該複数の昇降部材を斜方向に下降させて載置対象物を水平に保ちつつ斜方向に下降させると、載置対象物の周縁部は、載置位置に設けられる当止部材により当て止めされ、以降、載置対象物は、当止部材に沿って下降し、所定の位置に位置決めされて載置台の上面に載置される。
【００１５】
載置装置は、載置対象物を載置台に載置する装置である。
載置対象物は、載置台に載置する対象物であり、例えば、ガラス基板等の基板、シリコンウェハ等のウェハである。
載置台は、載置対象物を載置する台であり、例えば、定盤、吸着テーブル等である。
【００１６】
昇降部材は、載置対象物を水平方向に支持し、斜方向に昇降する部材であり、例えば、斜方向を中心軸とする棒状部材、リフトピンである。尚、昇降部材は、載置台を斜方向に貫通する第１貫通孔を挿通する。
当止部材は、載置対象物の周縁部を当て止めする部材であり、例えば、棒状部材、ストッパピンである。尚、当止部材は、載置台に固着してもよいし、載置台を上面から下面に貫通する第２貫通孔を介して前記載置台の上面から突出自在として昇降するようにしてもよい。
【００１７】
斜方向は、鉛直方向と所定の角度をなす方向である。例えば、昇降部材が棒状部材のリフトピンである場合、昇降部材の軸方向が斜方向である。
また、当止部材の軸方向、昇降する方向は、載置台の載置位置から突出するものであれば、特に限定されないが、例えば、鉛直方向としてもよいし、鉛直方向から傾斜させてもよい。
【００１８】
第１の発明では、載置装置は、載置台の上面から各昇降部材を突出させ、各昇降部材の上端に載置対象物を配し、各昇降部材を斜方向に下降させることにより、載置対象物を下降させて、載置台の上面に載置する。載置対象物は、載置対象物の周縁部が当止部材に当接するまでは、斜方向に下降するが、載置対象物の周縁部が当止部材に当接した後は、当止部材に沿って下降する。すなわち、昇降部材の下降中に、載置対象物は、当止部材により当て止めされ、位置決めが行われる。
【００１９】
従って、載置対象物は、水平方向に平行移動しつつ斜方向に下降するが、当止部材により当て止めされて位置決めが行われた後は、当止部材に沿って下降し、載置台の上面に載置されるので、載置装置は、昇降部材の上端に載置対象物を配する際に位置決め精度を出さずとも、載置台の上面に載置対象物を載置する際に位置決め精度を出すことができる。載置装置は、昇降部材の下降動作を行うだけで、載置対象物の位置決めを行うことができる。
【００２０】
また、昇降部材の昇降に関しては、載置台の下方に面状の第１支持部材を設け、この第１支持部材の上面に斜方向から各昇降部材の下端を固着し、この第１支持部材の下面に斜方向に押引を行う第１押引手段（電動シリンダ等）を連結し、この第１押引手段による押引により第１支持部材を介して昇降部材を斜方向に昇降させるようにしてもよい。
【００２１】
また、当止部材の昇降に関しては、当止部材の下端に押引を行う第２押引手段を連結し、この第２押引手段による押引により当止部材を昇降させるようにしてもよい。
また、当止部材を載置対象物の下降と連動して下降するようにしてもよい。この場合、載置対象物の周縁部は、摩擦することなく当止部材と共に下降するので、載置対象物の周縁部の摩耗を防止することができる。
【００２２】
また、上記の第１支持部材に替えて、載置台の下方に面状の第２支持部材を設け、この第２支持部材の上面に斜方向から各昇降部材の下端を固着すると共に昇降する当止部材の下端を当接させ、この第２支持部材の下面に斜方向に押引を行う第１押引手段（電動シリンダ等）を連結し、この第１押引手段による押引により第１支持部材を介して昇降部材を斜方向に昇降させると共に当止部材を昇降させるようにしてもよい。さらに、当止部材の下端と第２支持部材とは、斜方向の水平面射影方向に互いに摺動可能に連結するようにしてもよい。
【００２３】
この場合、特別の動作制御を要することなく、正確に昇降部材及び当止部材の下降速度を一致させることができ、動作制御を簡略化すると共に、誤動作の懸念がない。
【００２４】
また、各昇降部材毎あるいは各部分毎（中心部分、周辺部分等）に独立したアクチュエータ等を設けるなどして、複数の昇降部材を個別にあるいは部分毎に昇降させるようにしてもよい。この場合、載置台と載置対象物との間における、エア抜き、真空破壊等を迅速に行うことができる。
【００２５】
第２の発明は、載置対象物が載置される載置台であって、前記載置対象物の載置位置の範囲内において鉛直方向と所定の角度をなす方向である斜方向に貫通する複数の第１貫通孔を具備することを特徴とする載置台である。
【００２６】
第２の発明の載置台は、第１の発明の載置装置に用いられる載置台に関する発明である。
また、載置台は、載置対象物の載置位置の周縁に沿って上面から下面に貫通する複数の第２貫通孔を具備するようにしてもよい。
また、載置台は、載置対象物を真空力により吸着する吸着孔を具備するようにしてもよい。
また、載置台は、真空力による吸着の他、静電気により載置対象物を固定するようにしてもよい。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、装置機構を簡素化すると共に、載置対象物を載置台に載置する際、高精度の位置決めを行うことを可能とする載置装置等を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、添付図面を参照しながら、本発明に係る載置装置等の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、以下の説明及び添付図面において、略同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略することにする。
【００２９】
最初に、図１を参照しながら、本発明の実施の形態に係る基板載置装置を備えるインクジェット方式のパターン形成装置１０１の構成について説明する。
尚、図１には、図示しないが、基板載置装置は、吸着テーブル１０３に設けられ、基板１０８を吸着テーブル１０３上に載置する。
【００３０】
パターン形成装置１０１は、インクジェット方式によりフラットな基板に対して微細ピッチの塗布パターンを形成する装置である。パターン形成装置１０１は、Ｘ軸、Ｙ軸、θ軸を有する移動ステージ、載置された基板を固定する吸着テーブル、基板位置をステージに対し位置決めするために、基板の位置を検出するためのアライメントカメラ、塗布剤を吐出するためのインクジェットヘッドユニット、インクジェットヘッドユニットを所望の塗布ピッチに合わせるための回転機構等を有する。
【００３１】
パターン形成装置１０１において、対象となるカラーフィルタの画素幅は、数十μｍであり、正確に画素毎にインクを落とすためには、基板のアライメント精度が重要になり、目標位置に対し、±１μｍ以下の誤差で基板のアライメントを行う必要がある。
一般に、基板上に予め画像処理カメラにより認識可能なマークを付与し、画像処理カメラと吸着テーブルのＸ方向移動、Ｙ方向移動、θ方向回転により目標位置に基板を位置決めすることにより、基板のアライメントが行われる。
【００３２】
図１は、パターン形成装置１０１の概略斜視図である。
尚、θ軸は鉛直方向回転軸を示し、θ方向はその回転方向を示す。Ｙ軸は塗布幅方向を示し、Ｘ軸は塗布方向を示し、θ軸、Ｙ軸、Ｘ軸は、互いに直角をなす。
【００３３】
図１に示すパターン形成装置１０１は、インクジェットヘッドユニット１０２、吸着テーブル１０３、アライメントカメラ１０４、θ軸移動ステージ１０５、Ｙ軸移動ステージ１０６、Ｘ軸移動ステージ１０７等により構成される。
【００３４】
パターン形成装置１０１は、インクジェット方式によりカラーフィルタを製造する装置である。パターン形成装置１０１は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の三色の色素を含有するインクをインクジェット方式で光透過性の基板上に吐出し、各インクを乾燥させて着色画素部を形成し、当該基板上にカラーフィルタパターンを形成する。
【００３５】
インクジェットヘッドユニット１０２は、複数のインクジェットヘッドの位置決めを行い、基板に対してインクを吐出してパターン形成を行う。インクジェットヘッドユニット１０２については、後述する。
吸着テーブル１０３は、カラーフィルタパターンを形成する対象となる基板１０８（ガラス基板、フィルム基板等）を吸着して固定するテーブルである。基板の吸着は、例えば、吸着テーブルと基板との間の空気を減圧、真空にすることにより行われる。この場合、吸着テーブルには、空気を吸引するための小孔（図示しない）が設けられ、吸着の際には当該孔を通じて真空ポンプ（図示しない）等により空気の吸引が行われる。
【００３６】
アライメントカメラ１０４は、吸着テーブル１０３に吸着固定された基板１０８のθ方向角度及びＸＹ座標を検出するために、基板１０８の所定箇所（基板上に形成されるアライメントマーク（図示しない）等）を撮像するカメラである。アライメントカメラ１０４の撮像画像は、パターン形成装置１０１のアライメント部（図示しない）に入力される。
尚、アライメントカメラ１０４は、パターン形成装置１０１のフレーム（図示しない）に固定支持される。
【００３７】
アライメント部（図示しない）は、撮像画像に基づいて基板１０８のθ方向角度及びＸＹ座標を抽出する処理を行う。アライメント部（図示しない）は、抽出したデータを所定のデータと比較してそれらの偏差を算出し、偏差を小さくするように制御量を演算する。アライメント部（図示しない）は、θ軸移動ステージ１０５、Ｙ軸移動ステージ１０６、Ｘ軸移動ステージ１０７に対してそれぞれの制御量を出力して各ステージの位置制御を行う。このように、アライメント部（図示しない）は、アライメントカメラ１０４の撮像画像に基づいて、基板１０８が所定のθ方向角度、所定のＸＹ座標となるように制御する。
【００３８】
θ軸移動ステージ１０５は、回転ステージであり、例えば、ステップモータ、サーボモータ等の制御可能なモータによって所定の回転軸に回転自在に支持される。θ軸移動ステージ１０５は、アライメント部（図示しない）が出力する制御量に基づいて、吸着テーブル１０３を回転する。
【００３９】
Ｙ軸移動ステージ１０６は、直線移動ステージであり、例えば、ステップモータ、サーボモータ等の制御可能なモータによって所定の軸方向に移動可能に支持される。Ｙ軸移動ステージ１０６は、アライメント部（図示しない）が出力する制御量に基づいて、θ軸移動ステージ１０５をＹ軸方向に移動する。
【００４０】
Ｘ軸移動ステージ１０７は、直線移動ステージであり、例えば、ステップモータ、サーボモータ等の制御可能なモータによって所定の軸方向に移動可能に支持される。Ｘ軸移動ステージ１０７は、アライメント部（図示しない）が出力する制御量に基づいて、Ｙ軸移動ステージ１０６をＸ軸方向に移動する。
【００４１】
このように、パターン形成装置１０１は、θ軸移動ステージ１０５、Ｙ軸移動ステージ１０６、Ｘ軸移動ステージ１０７により、所定のθ方向角度、所定のＸＹ座標となるように、基板１０８の位置決めを行う。
【００４２】
次に、図２及び図３を参照しながら、本発明の第１の実施の形態に係る基板載置装置２００の構成について説明する。
図２は、基板載置前の基板載置装置２００の概略構成図（鉛直方向断面図）である。
図３は、基板載置後の基板載置装置２００の概略構成図（鉛直方向断面図）である。
【００４３】
尚、Ｗ方向（斜方向）は、各リフトピン２０１の軸方向（全て同一方向）であり、Ｗ方向上向きを「＋Ｗ方向」、軸方向下向きを「−Ｗ方向」などと表現する。
また、Ｚ方向（鉛直方向）は、各ストッパピン２０４の軸方向（全て同一方向）、鉛直方向であり、Ｚ方向上向きを「＋Ｚ方向」、Ｚ方向下向きを「−Ｚ方向」などと表現する。
また、Ｗ方向及びＺ方向は、同一方向ではなく所定の角度をなす。
【００４４】
基板載置装置２００は、吸着テーブル１０３（載置台）にリフトピン２０１（昇降部材）、支持部材２０２（第１支持部材）、電動シリンダ２０３（第１押引手段）、ストッパピン２０４（当止部材）、電動シリンダ２０５（第２押引手段）等が設けられて構成される。
【００４５】
リフトピン２０１は、基板１０８（載置対象物）を支持し、吸着テーブル１０３の上面（図６において後述する孔６０１）から出没、突出する棒状部材である。
支持部材２０２は、複数のリフトピン２０１を一体として支持する面状部材である。
電動シリンダ２０３は、支持部材２０２をＷ方向に移動させる装置である。
【００４６】
尚、支持部材２０２は、吸着テーブル１０３下方にて水平方向に設けられることが望ましい。また、各リフトピン２０１は、下端を支持部材２０２に固着されるが、各リフトピン２０１の軸方向（Ｗ方向）とＺ方向とは、それぞれ、同一の一定の角度をなす。また、各リフトピン２０１の上端位置は、同一の高さであることが望ましい。この場合、各リフトピン２０１の上端を含む平面は、昇降中も常に水平面となり、吸着テーブル１０３上の載置面と常に平行である。
【００４７】
ストッパピン２０４は、基板１０８の（載置対象物）の周縁位置に設けられ、吸着テーブル１０３の上面に固定される棒状部材、あるいは、吸着テーブル１０３の上面（図６において後述する孔６０２）から出没、突出する棒状部材である。
電動シリンダ２０５は、ストッパピン２０４をＺ方向に移動させる装置である。
吸着孔２０６は、吸着テーブル１０３上に載置された基板１０８を真空力により吸引して位置固定する孔である。
【００４８】
次に、図２〜図４を参照しながら、本発明の実施の形態に係る基板載置装置２００の動作について説明する。
図４は、ストッパピン２０４と基板１０８との位置関係を示す図である。
【００４９】
図２に示すように、基板載置装置２００は、電動シリンダ２０３を＋Ｗ方向に伸張させ、支持部材２０２を介して、各リフトピン２０１を吸着テーブル１０３の上面から突出させる。
基板載置装置２００は、電動シリンダ２０５を＋Ｚ方向に伸長させ、ストッパピン２０４の上端を各リフトピン２０１の上端と比較して高い位置に押し上げる。
基板載置装置２００は、ロボットアーム等を用いて、基板１０８を各リフトピン２０１の上端に配する。
尚、この時点では、基板１０８の周縁部とストッパピン２０４とは、接触しない。
【００５０】
図３に示すように、基板載置装置２００は、電動シリンダ２０３を−Ｗ方向に収縮させ、支持部材２０２を介して、各リフトピン２０１を−Ｗ方向に移動させて吸着テーブル１０３の上面に埋入させ、基板１０８を下降させて吸着テーブル１０３上面に載置する。
基板載置装置２００は、吸着孔２０６から吸引を行い、吸着テーブル１０３上に載置された基板１０８を位置固定する。
【００５１】
図４に示すように、基板１０８は、リフトピン２０１が−Ｗ方向に下降するのに伴い、水平方向に平行移動しつつ−Ｗ方向に下降するが、ストッパピン２０４により当て止めされて位置決めが行われた後は、水平方向に平行移動せずに−Ｚ方向に下降し、吸着テーブル１０３の上面に載置される。
すなわち、基板１０８は、基板１０８の周縁部がストッパピン２０４に当接するまでは、−Ｗ方向に下降するが（図４：Ｓ１〜Ｓ３）、基板１０８の周縁部がストッパピン２０４に当接した後は、ストッパピン２０４から受ける水平方向の反力によりリフトピン２０１の上端を滑り、−Ｚ方向に下降する（図４：Ｓ３〜Ｓ４）。
【００５２】
以上の過程を経て、基板載置装置２００は、吸着テーブル１０３（載置台）の上面から各リフトピン２０１を突出させ、各リフトピン２０１の上端に基板１０８（載置対象物）を配し、各リフトピン２０１を−Ｗ方向に下降させることにより、基板１０８を下降させて、吸着テーブル１０３の上面に載置する。基板１０８は、基板１０８の周縁部がストッパピン２０４に当接するまでは、−Ｗ方向に下降するが、基板１０８の周縁部がストッパピン２０４に当接した後は、−Ｚ方向に下降する。すなわち、リフトピン２０１の下降中に、基板１０８は、ストッパピン２０４により当て止めされ、位置決めが行われる。
【００５３】
このように、基板１０８は、水平方向に平行移動しつつ−Ｗ方向に下降するが、ストッパピン２０４により当て止めされて位置決めが行われた後は、水平方向に平行移動せずに−Ｚ方向に下降し、吸着テーブル１０３の上面に載置されるので、基板載置装置２００は、リフトピン２０１の上端に基板１０８を配する際に位置決め精度を出さずとも、吸着テーブル１０３の上面に基板１０８を載置する際に位置決め精度を出すことができる。従って、基板載置装置２００は、リフトピン２０１の下降動作を行うだけで、基板１０８の位置決めを行うことができる。
【００５４】
尚、ストッパピンに関しては、基板との接触による磨耗の懸念があれば、基板と同期して下降を行い、かつ、リフトピンが吸着テーブル表面より下がった後、ストッパピンが下降するような構造としてもよい。
一方、磨耗の懸念が無く、かつ、ストッパピンが上昇していても、他の装置との干渉が無い場合、ストッパピンに上下移動の機構を設けずともよい。
【００５５】
従って、ストッパピン２０４は、吸着テーブル１０３上に固定してもよいし、ストッパピン２０４自体を基板１０８の下降に連動させて下降させるようにしてもよい。
ストッパピン２０４を吸着テーブル１０３上に固定する場合、リフトピン２０１の上端の最高位より高位置（例えば、図４：Ｓ１１の位置）に固定することが望ましい。
【００５６】
ストッパピン２０４を基板１０８の下降に連動させて下降させる場合、電動シリンダ２０５をストッパピン２０４の下端に連結することが望ましい。
基板載置装置２００は、基板１０８の下降に伴い、電動シリンダ２０５を−Ｚ方向に収縮させ、ストッパピン２０４を−Ｚ方向に下降させる。基板載置装置２００は、基板１０８が図４においてＳ１→Ｓ２→Ｓ３→Ｓ４と下降するのに連動させて、ストッパピン２０４を図４においてＳ１１→Ｓ１２→Ｓ１３→Ｓ１４の位置に下降させる。
【００５７】
この場合、基板１０８の周縁部は、ストッパピン２０４に当接した後、ストッパピン２０４に接したまま摩擦することなく、ストッパピン２０４と共に下降するので、基板１０８の周縁部の摩耗を防止することができる。
【００５８】
次に、図５〜図９を参照しながら、基板載置装置２００における、吸着テーブル１０３、基板１０８、リフトピン２０１等の位置、角度、移動量等の関係について説明する。
尚、図５〜図７は、基板載置装置２００が４つのリフトピン２０１、３つのストッパピン２０４を備える場合を示す。
【００５９】
図５は、吸着テーブル１０３上への基板１０８の載置を示す図である。
図５に示すように、基板載置装置２００は、リフトピン２０１を−Ｗ方向に下降させると、基板１０８は、吸着テーブル１０３と平行関係を保ちながら−Ｗ方向に下降し、その後、基板１０８の周縁部がストッパピン２０４に当て止めされて位置決めが行われると、以降、基板１０８は、ＸＹ平面における位置を保ちながら−Ｚ方向に下降し、吸着テーブル１０３上に載置される。
【００６０】
図６は、吸着テーブル１０３の一態様を示す上面図（＋Ｚ方向から見た図）である。
図７は、吸着テーブル１０３の一態様を示す側面図である。
【００６１】
図６及び図７に示す吸着テーブル１０３は、孔６０１及び孔６０２を有する。
孔６０１は、リフトピン２０１が挿通する孔であり、リフトピン２０１の数に応じて複数設けられる。また、図７に示すように、孔６０１は、リフトピン２０１の移動方向に合わせてＷ方向に設けられる。
孔６０２は、ストッパピン２０４が挿通する孔であり、ストッパピン２０４の数に応じて複数設けられる。また、図７に示すように、孔６０２は、ストッパピン２０４の移動方向に合わせてＺ方向に設けられる。また、図６に示すように、孔６０２は、基板１０８の載置位置６０３の周縁と接する位置に設けられる。
尚、ストッパピン２０４が鉛直方向から傾斜して設けられる場合、孔６０２は、当該傾斜方向に設けられる。
【００６２】
図８は、リフトピン２０１の先端部を示す上面図（＋Ｚ方向から見た図）である。
図９は、リフトピン２０１の先端部を示す側面図である。
【００６３】
図８に示すように、リフトピン２０１の中心軸（Ｗ方向）のＸＹ平面射影とＸ方向となす角８０４（α）を４５°とし、図９に示すように、リフトピン２０１の中心軸（Ｗ方向）のＸＺ平面射影とＸ方向となす角８０５（β）を８４．３°とすると、図８に示す先端移動量８０２（ｍ）が５ｍｍである場合、Ｘ方向移動量８０１（ｌ）は、３．５ｍｍとなる。また、Ｚ方向移動量８０３（ｎ）は、５０ｍｍとなる。
【００６４】
尚、角８０４（α）、角８０５（β）の大きさについては、特に限定されず、装置の規模、要求精度等に応じて適宜決定することができる。
また、事前に予め精度が出ている場合には、リフトピンの移動量を限定するようにしてもよい。この場合、無駄な移動量を制限することができるので、動作に係る所要時間等を軽減することができる。
【００６５】
次に、図１０及び図１１を参照しながら、本発明の第２の実施の形態に係る基板載置装置２５０について説明する。
【００６６】
先述の第１の実施の形態に係る基板載置装置２００（図２及び図３等）において説明したように、ストッパピン２０４については、リフトピン２０１とは別に電動シリンダを設けてもよいし、第２の実施の形態に係る基板載置装置２５０（図１０及び図１１等）に示すように、同一の電動シリンダ及び同一の支持部材２５１によりリフトピン２０１と共にストッパピン２０４をＺ方向に上下させるようにしてもよい。この場合、ストッパピン２０４は、支持部材２５１に固定させず、その下端を支持部材表面上で摺動するようにすることが望ましい。
【００６７】
図１０は、基板載置前の基板載置装置２５０の概略構成図（鉛直方向断面図）である。
図１１は、基板載置後の基板載置装置２５０の概略構成図（鉛直方向断面図）である。
【００６８】
基板載置装置２５０は、吸着テーブル１０３にリフトピン２０１、電動シリンダ２０３、ストッパピン２０４、支持部材２５１（第２支持部材）、摺動機構２５２等が設けられて構成される。
尚、吸着テーブル１０３、リフトピン２０１、電動シリンダ２０３、ストッパピン２０４は、基板載置装置２００のものと略同様のものである。
また、リフトピン２０１及びストッパピン２０４の長さに関しては、ストッパピン２０４のＺ方向高さがリフトピン２０１のＺ方向高さ（Ｚ方向射影）より大きくなるようにすることが望ましい。
【００６９】
先述の第１の実施の形態に係る基板載置装置２００（図２及び図３等）では、ストッパピン２０４は、電動シリンダ２０５と直接連結され、リフトピン２０１とは、別個に支持、動作制御されるものとして説明したが、第２の実施の形態に係る基板載置装置２５０（図１０及び図１１等）では、ストッパピン２０４は、リフトピン２０１と共に支持部材２５１に支持される。
【００７０】
各リフトピン２０１は、下端を支持部材２５１に固着されるが、ストッパピン２０４は、下端を支持部材２５１に固着されない。
ストッパピン２０４の下端は、摺動機構２５２により支持部材２５１の上面を摺動可能に支持部材２５１と当接し、あるいは、連結される。この場合、摺動方向は、Ｗ方向のＸＹ平面射影方向である。
【００７１】
図１０に示すように、基板載置装置２５０は、電動シリンダ２０３を＋Ｗ方向に伸張させ、支持部材２５１を介して、各リフトピン２０１及び各ストッパピン２０４を吸着テーブル１０３の上面から突出させる。この場合、基板載置装置２５０は、ストッパピン２０４の上端を各リフトピン２０１の上端と比較して高い位置に押し上げる。
基板載置装置２５０は、ロボットアーム等を用いて、基板１０８を各リフトピン２０１の上端に配する。
尚、この時点では、基板１０８の周縁部とストッパピン２０４とは、接触しない。
【００７２】
図１１に示すように、基板載置装置２５０は、電動シリンダ２０３を−Ｗ方向に収縮させ、支持部材２５１を介して、各リフトピン２０１を−Ｗ方向に移動させて吸着テーブル１０３の上面に埋入させ、基板１０８を下降させて吸着テーブル１０３上面に載置する。
基板載置装置２００は、吸着孔２０６から吸引を行い、吸着テーブル１０３上に載置された基板１０８を位置固定する。
【００７３】
基板１０８は、リフトピン２０１が−Ｗ方向に下降するのに伴い、水平方向に平行移動しつつ−Ｗ方向に下降するが、ストッパピン２０４により当て止めされて位置決めが行われた後は、水平方向に平行移動せずに−Ｚ方向に下降し、吸着テーブル１０３の上面に載置される。
【００７４】
ストッパピン２０４は、下端を支持部材２５１に摺動可能に当接あるいは連結されるので、リフトピン２０１及び支持部材２５１が−Ｗ方向に下降するのに連動して、−Ｚ方向に下降する。
このように、基板１０８の周縁部は、ストッパピン２０４に当接した後、ストッパピン２０４に接したまま摩擦することなく、ストッパピン２０４と共に下降するので、基板１０８の周縁部の摩耗を防止することができる。
【００７５】
また、同一の支持部材２５１によりリフトピン２０１のみならずストッパピン２０４を支持し、当該支持部材２５１を電動シリンダ２０３により動作制御するので、リフトピン２０１用及びストッパピン２０４用の複数の電動シリンダを設ける必要はなく、１の電動シリンダを設ければよく、装置構成を簡略化することができる。
【００７６】
また、先述の第１の実施の形態に係る基板載置装置２００では、リフトピン２０１及びストッパピン２０４の−Ｚ方向についての下降速度を一致させるべく、電動シリンダ２０３及び電動シリンダ２０５の動作制御を行う必要があるが、第２の実施の形態に係る基板載置装置２５０では、特別の動作制御を要することなく、正確にリフトピン２０１及びストッパピン２０４のＺ方向の下降速度を一致させることができ、動作制御を簡略化すると共に、誤動作の懸念がない。
【００７７】
尚、摺動機構２５２に関しては、ストッパピン２０４の下端を支持部材２５１と摺動可能に当接させる場合、支持部材２５１上面においてストッパピン２０４の下端が摺動する部分を溝状に加工形成するようにしてもよい。
また、ストッパピン２０４の下端を支持部材２５１と摺動可能に連結させる場合、支持部材２５１上面にレール（スライドレール）等を設け、ストッパピン２０４の下端にスライダ（スライドブッシュ）等を設け、当該レール及び当該スライダを連結するようにしてもよい。
【００７８】
以上説明したように、本発明の基板載置装置は、吸着テーブル（載置台）の上面から各リフトピンを突出させ、各リフトピンの上端に基板（載置対象物）を配し、各リフトピンを−Ｗ方向（鉛直方向と所定の角度をなす方向）に下降させることにより、基板を下降させて、吸着テーブルの上面に載置する。基板は、下降する際、基板の周縁部がストッパピンに当て止めされて位置決めが行われるので、基板載置装置は、リフトピンの上端に基板を配する際に位置決め精度を出さずとも、吸着テーブルの上面に基板を載置する際に位置決め精度を出すことができる。基板載置装置は、リフトピンの下降動作を行うだけで、基板の位置決めを行うことができる。
【００７９】
また、ストッパピンを基板と同期して下降させることにより、基板の周縁部は、ストッパピンに当接した後、ストッパピンに接したまま摩擦することなく、ストッパピンと共に下降するので、基板の周縁部の摩耗を防止することができる。
【００８０】
尚、リフトピンは、基板を水平面方向に支持するものであれば、数あるいは形状に制限はなく、棒状部材の他、例えば、平面状の部材等であってもよい。
また、ストッパピンは、基板の周縁部を当て止めして位置決めを行うものであれば、数あるいは形状に制限はなく、棒状部材の他、例えば、平面状の部材等であってもよい。
また、支持部材あるいはストッパピンを上下方向（Ｗ方向あるいはＺ方向）に移動させる手段としては、電動シリンダに限られず、例えば、電動アクチュエータ、エアシリンダ等を用いることができる。
【００８１】
また、上述の実施の形態では、複数の昇降部材（リフトピン等）は、１の支持部材に支持され、複数の昇降部材上端部の高さを同一に保ちつつ下降及び上昇するものとして説明したが、必ずしも１の支持部材を用いて複数の昇降部材上端部の高さを常に同一とせずともよい。
例えば、各昇降部材毎あるいは各部分毎（周辺部分の昇降部材、中心部分の昇降部材等）に独立したアクチュエータを設け、基板の中心部分の昇降部材の下降速度を周辺部分より大きくし、基板の中心部分を周辺部分より先に載置台（吸着テーブル等）に着地させ、エアを抜けやすくすることができる。また、基板を上昇させる際、周辺部を先に上昇させ、基板と載置台との隙間に早くエアを入れて真空破壊しやすくすることができる。
【００８２】
図１２及び図１３は、ストッパピン２０４の設置方向、上昇下降方向を示す図である。尚、図１３は、ＺＷ平面への射影を示す。
【００８３】
上述の実施の形態では、図１２のストッパピン２０４−１（実線）に示すように、当止部材（ストッパピン等）は、鉛直方向に設けられ、また、鉛直方向に上昇下降するものとして説明したが、当止機能を有していれば必ずしも鉛直方向とせずともよい。図１２のストッパピン２０４−２（点線）に示すように、例えば、基板の載置位置周縁部に沿って当止部材を斜めに設けて斜めに上昇下降させ、基板の下降及び当止部材の下降により、基板の位置を矯正することができる。
尚、当止部材を斜めに設ける場合、ＺＷ平面射影において、リフトピン２０１と吸着テーブル１０３のなす角（γ）１３０１、ストッパピン２０４−２と吸着テーブル１０３のなす角（δ）１３０２について、（０°＜）γ＜δ（＜１８０°）とすればよい。また、角（δ）１３０２は、直角、鋭角、鈍角のいずれでもよい。
【００８４】
以上、添付図面を参照しながら、本発明にかかる載置装置等の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、本願で開示した技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【図面の簡単な説明】
【００８５】
【図１】パターン形成装置１０１の概略斜視図
【図２】基板載置前の基板載置装置２００の概略構成図（鉛直方向断面図）
【図３】基板載置後の基板載置装置２００の概略構成図（鉛直方向断面図）
【図４】ストッパピン２０４と基板１０８との位置関係を示す図
【図５】吸着テーブル１０３上への基板１０８の載置を示す図
【図６】吸着テーブル１０３の一態様を示す上面図
【図７】吸着テーブル１０３の一態様を示す側面図
【図８】リフトピン２０１の先端部を示す上面図
【図９】リフトピン２０１の先端部を示す側面図
【図１０】基板載置前の基板載置装置２５０の概略構成図（鉛直方向断面図）
【図１１】基板載置後の基板載置装置２５０の概略構成図（鉛直方向断面図）
【図１２】ストッパピン２０４の設置方向、上昇下降方向を示す図
【図１３】ストッパピン２０４の設置方向、上昇下降方向を示す図
【図１４】従来の基板載置装置１４００の概略構成を示す斜視図（載置前）
【図１５】従来の基板載置装置１４００の概略構成を示す斜視図（載置後）
【符号の説明】
【００８６】
１０１………パターン形成装置
１０３………吸着テーブル（載置台）
１０４………アライメントカメラ
１０８………基板（載置対象物）
２００………基板載置装置（載置装置：第１の実施の形態）
２０１………リフトピン
２０２………支持部材（第１支持部材）
２０３………電動シリンダ
２０４………ストッパピン
２０４−１………ストッパピン（鉛直方向）
２０４−２………ストッパピン（傾斜）
２０５………電動シリンダ
２０６………吸着孔
２５０………基板載置装置（載置装置：第２の実施の形態）
２５１………支持部材（第２支持部材）
２５２………摺動機構
６０１………孔６０１（リフトピン）
６０２………孔６０２（ストッパピン）
【図１】
2005353811.tif 000003
【図２】
2005353811.tif 000004
【図３】
2005353811.tif 000005
【図４】
2005353811.tif 000006
【図５】
2005353811.tif 000007
【図６】
2005353811.tif 000008
【図７】
2005353811.tif 000009
【図８】
2005353811.tif 000010
【図９】
2005353811.tif 000011
【図１０】
2005353811.tif 000012
【図１１】
2005353811.tif 000013
【図１２】
2005353811.tif 000014
【図１３】
2005353811.tif 000015
【図１４】
2005353811.tif 000016
【図１５】
2005353811.tif 000017