(57)【要約】      （修正有）【課題】プラズマディスプレイパネルに関し、ＭｇＯ保護膜の特性を改善する【解決手段】プラズマディスプレイパネル１００の互いに対向配置される第１基板１１１及び第２基板１１７、第１基板と第２基板の対向面に各々形成されながら互いに交差するように配列される複数の第１電極１１５及び複数の第２電極１１７、複数の第１電極及び複数の第２電極を各々覆って形成される誘電体層１２１及び誘電体層を覆って形成されるＭｇＯ保護膜１２７を含み、ＭｇＯ保護膜の結晶配向面は(１１１)面と(１１０)面が混合されて構成され、ＭｇＯ保護膜の粒径によって(１１１)面と(１１０)面を最適混合比率にすることで保護膜の電子放出能力を向上させてプラズマディスプレイパネルの表示品質を改善する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向配置される第１基板及び第２基板;
前記第１基板と第２基板の対向面に各々形成されながら互いに交差するように配列される複数の第１電極及び複数の第２電極;
前記複数の第１電極及び前記複数の第２電極を各々覆って形成される誘電体層;及び
前記誘電体層を覆って形成されるＭｇＯ保護膜を含み、
前記ＭｇＯ保護膜の結晶配向面は(１１１)面と(１１０)面が混合されて形成され、前記ＭｇＯ保護膜の粒径によって前記(１１１)面と前記(１１０)面の混合比率が異なることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記保護膜の粒径が５０〜１００ｎｍである場合、前記保護膜の(１１１)面と(１１０)面は各々５．５〜６．５：３．５〜４．５の比率で混合されたことを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記保護膜の粒径が１００〜１５０ｎｍである場合、前記保護膜の(１１１)面と(１１０)面は各々４．５〜５．５：４．５〜５．５の比率で混合されたことを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記保護膜の粒径が１５０〜２００ｎｍである場合、前記保護膜の(１１１)面と(１１０)面は各々３．０〜４．０:６．０〜７．０の比率で混合されたことを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記保護膜の粒径が２００〜２５０ｎｍである場合、前記保護膜の(１１１)面と(１１０)面は各々２．５〜３．５：６．５〜７．５の比率で混合されたことを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前記保護膜の粒径が２５０〜３５０ｎｍである場合、前記保護膜の(１１１)面と(１１０)面は１．５〜２．５：７．５〜８．５の比率で混合されたことを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
前記保護膜は柱状結晶構造を有することを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
前記保護膜の粒径は前記保護膜の蒸着時において、注入する水素と酸素の分圧によって調節されることを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はプラズマディスプレイパネルに関し、より詳しくは特性が改善されたプラズマディスプレイパネル保護膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は気体放電の時に生じるプラズマから出る光を用いて文字またはグラフィックを表示する装置として、プラズマディスプレイパネルの放電空間に設置した二つの電極に所定の電圧を印加してこれらの間でプラズマ放電が起こるようにし、このプラズマ放電時に発生する紫外線によって所定のパターンからなる蛍光体層を励起させて画像を形成する。
【０００３】
このようなプラズマディスプレイは大別して交流型（ＡＣ ｔｙｐｅ）、直流型（ＤＣ ｔｙｐｅ）及び混合型（Ｈｙｂｒｉｄ ｔｙｐｅ）に分かれる。図８は一般的な交流型プラズマディスプレイパネルの放電セルの分解斜視図である。図８を参照すると、一般的なプラズマディスプレイパネル１００は下部基板１１１、下部基板１１１の上に形成された複数のアドレス電極１１５、このアドレス電極１１５が形成された下部基板１１１の上に形成された誘電体層１１９、この誘電体層１１９の上部に形成されて放電距離を維持させてセル間のクロストークを防止する複数の隔壁１２３と隔壁１２３の表面に形成された蛍光体層１２５を含む。
【０００４】
複数の放電維持電極１１７は上部基板１１３の下方に形成され、下部基板１１１の上に形成された複数のアドレス電極１１５と所定間隔で離隔されて直交している。そして、誘電体層１２１及び保護膜１２７が順次に放電維持電極１１７を覆っている。特に、保護膜１２７としては可視光線がよく透過できるように透明であり、のみならず誘電体層の保護及び２次電子放出性能に優れたＭｇＯを主に使用しており、最近は異なる材料を用いた保護膜の研究も行われている。
【０００５】
前記ＭｇＯ保護膜は、一般に多結晶体であって、プラズマディスプレイパネル動作のうちの放電時の放電ガスのイオン衝撃による影響を緩和させることができる耐スパッタリング特性を有しイオン衝突から誘電体層を保護するだけでなく、２次電子の放出を通じて放電電圧を下げる役割を果たす透明保護薄膜であって、３０００〜７０００Åの厚さで誘電体層を覆って形成する。このような各種の機能は、保護膜の表面状態、特に膜表面に現れる結晶面（結晶配向面）の状態に影響されると考えられる。
【０００６】
ＭｇＯ保護膜はスパッタリング法、電子ビーム蒸着法、ＩＢＡＤ（ｉｏｎ ｂｅａｍ ａｓｓｉｓｔｅｄ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、イオンビーム支援堆積法）、ＣＶＤ（化学気相蒸着法）及びゾル-ゲル法などを用いて形成しており、最近はイオンプレ−ティング方式が開発されて用いられている。
【０００７】
ここで、電子ビーム蒸着法は電場と磁場で加速された電子ビームをＭｇＯ蒸着材料に衝突させて蒸着材料を加熱及び蒸発させることによってＭｇＯ保護膜を形成する方法である。スパッタリング法の場合、電子ビーム蒸着法に比べて保護膜が緻密で結晶配向に有利な特性を有する長所があるが、製造工程経費が高額になる問題点がある。ゾル-ゲル法の場合、液相でＭｇＯ保護膜を製造する。
【０００８】
前記様々なＭｇＯ保護膜の従来型形成方式に対する代案としてイオンプレ−ティング法が最近、試みられているが、イオンプレ−ティング法においては蒸発する粒子をイオン化して成膜させる。イオンプレ−ティング法はＭｇＯ保護膜の密着性と結晶性に対してスパッタリング法と類似の特性を有するが、蒸着を８ｎｍ/ｓの高速で行うことができる長所がある。
【０００９】
このような各種製法に用いるＭｇＯ材料は、単結晶または焼結体形態のものを用いる。ＭｇＯ単結晶材料の場合、蒸着のための溶融において、冷却速度による固溶限界の差によって特定ドーパントの定量制御が難しい問題点があるので、イオンプレ−ティング方式には、材料製造時に特定ドーパントを定量的に添加したＭｇＯ焼結体の材料を用いてＭｇＯ保護膜を製造している。
【００１０】
ＭｇＯ保護膜は放電ガスに接触するので、保護膜を構成する成分と膜特性は放電特性に大きい影響を及ぼすことがある。この時、ＭｇＯ保護膜の特性は成分と蒸着時の成膜条件に大きく依存する。従って、目的とする膜特性が得られるように最適の保護膜蒸着条件を開発してプラズマディスプレイの表示品質を更に改善する最適のＭｇＯ保護膜を形成することが切実に要求される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は前述した要求に応じて提案されたものであって、その目的はプラズマディスプレイパネルに用いられるＭｇＯ保護膜の特性を改善することである。本発明の他の目的はプラズマディスプレイパネル用保護膜の特性改善のためにＭｇＯ保護膜における結晶配向面の最適混合比率を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
前記目的を達成するための本発明のプラズマディスプレイパネルは、互いに対向配置される第１基板及び第２基板、第１基板と第２基板の対向面に各々形成されながら互いに交差するように配列される複数の第１電極及び複数の第２電極、複数の第１電極及び複数の第２電極を各々覆って形成される誘電体層、そして誘電体層を覆って形成されるＭｇＯ保護膜を含み、ＭｇＯ保護膜の結晶配向面は(１１１)面と(１１０)面が混合されて構成され、ＭｇＯ保護膜構成粒子のの粒径によって(１１１)面と(１１０)面の最適混合比率が異なることを特徴とする。
【００１３】
そして、保護膜の粒径が５０〜１００ｎｍである場合、保護膜の(１１１)面と(１１０)面は各々５．５〜６．５：３．５〜４．５の比率で混合されるのが好ましい。
【００１４】
また、保護膜の粒径が１００〜１５０ｎｍである場合、保護膜の(１１１)面と(１１０)面は各々４．５〜５．５：４．５〜５．５の比率で混合されるのが好ましい。
【００１５】
そして、保護膜の粒径が１５０〜２００ｎｍである場合、保護膜の(１１１)面と(１１０)面は各々３．０〜４．０：６．０〜７．０の比率で混合されるのが好ましい。
【００１６】
また、保護膜の粒径が２００〜２５０ｎｍである場合、保護膜の(１１１)面と(１１０)面は各々２．５〜３．５：６．５〜７．５の比率で混合されるのが好ましい。
【００１７】
そして、保護膜の粒径が２５０〜３５０ｎｍである場合、保護膜の(１１１)面と(１１０)面は１．５〜２．５：７．５〜８．５の比率で混合されるのが好ましい。
【００１８】
また、保護膜は柱状結晶構造を有するのが好ましい。保護膜の粒径は保護膜の蒸着時において、注入する水素及び酸素の分圧を変更することにより調節できる。
【発明の効果】
【００１９】
以上で説明したように本発明ではＭｇＯ保護膜表面の結晶配向面を(１１１)面と(１１０)面の混合からなるようにし、特定粒径でのこれらの結晶配向面の混合比を異なるせるので、電子放出能力を向上させてプラズマディスプレイパネルの表示品質を改善することができる。
【００２０】
また、各々の粒径の値によって(１１１)面と(１１０)面の混合比を異なるせるので、放電特性が向上して走査放電遅延時間を短縮でき、これによってブラックノイズ発生現象も低減できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００２２】
図１は本発明の一実施例によるプラズマディスプレイパネルの上板の斜視図である。図１では本発明の一実施例によるプラズマディスプレイパネルの上部の部分だけを別に離して示している。
【００２３】
図１には基板１３の上に複数の電極１７、誘電体層２１、保護膜２７が順次に形成された本発明の実施例によるプラズマディスプレイパネルの上板が示されている。図１では便宜上、理解を助けるために本発明の一実施例によるプラズマディスプレイパネルの上板を１８０度引っ繰り返して示す。図１に図示しないが、プラズマディスプレイパネルの上板とは別途に前記基板１３に対応する他の基板に前記電極１７（第１電極又は第２電極）と垂直に交差する複数の他の電極（第２電極又は第１電極（複合同順））を形成し、その上に誘電体層を覆った後、隔壁を形成した後、隔壁の間に蛍光体層を塗布し、プラズマディスプレイパネルの下板を製造する。
【００２４】
このように製造したプラズマディスプレイパネルの上板及び下板の縁をフリップで塗布して両基板を封じ、ＮｅとかＸｅなどの放電ガスを注入することによってプラズマディスプレイパネルを製造する。
【００２５】
このように製造した本発明の実施例によるプラズマディスプレイパネルでは、電極から駆動電圧の印加を受けてこれらの電極の間にアドレス放電を起こして誘電体層に壁電荷を形成し、アドレス放電によって選択された放電セルにおいて、上板に形成した一対の電極に正負交互の電圧が供給されるように交流信号を印加して、これらの電極間にサスティン放電を起こす。これにより放電セルを形成する放電空間に充填された放電ガスが励起されて遷移されながら紫外線を発生させ、紫外線による蛍光体の励起で可視光線を発生させながら画像を実現する。
【００２６】
図２は本発明の一実施例によるＭｇＯペレットを用いたＭｇＯ保護膜形成に関する工程設備を概略的に示す図面であって、電極と誘電体層を順次に形成した基板上に、電子ビーム蒸着法により、ＭｇＯ保護膜を形成する装置を概略的に示している。
【００２７】
本発明の一実施例による工程では、電場と磁場の中で加速された電子ビームを蒸着材料に衝突させて蒸着材料を加熱蒸発させることによって保護膜を蒸着形成する。この場合、電子ビームのエネルギーを材料表面に集中させて高速蒸着及び高純度蒸着を実行できる。図２はこのような保護膜の形成設備の一例を示したに過ぎず、保護膜の形成設備がこれに限られるわけではない。
【００２８】
図２に示したＭｇＯ保護膜１７の成膜工程においては、先ず、基板１３を左側から右側にローラ２１で移動させて入口２３から蒸着室２０の上部に挿入し（ロード）、ＭｇＯ保護膜１７を蒸着した後、蒸着室の出口２５の側に排出する。基板１３に異常がある場合には蒸着室の入口２３から基板１３を引き出して （アンロード）取り出すことができる。蒸着室２０の内部を真空にする必要があるので、真空ポンプ（未図示）が取り付けられて排気を持続的に行い、シャッター３３を用いて内外部を二重に遮断しながら開閉させる。電子銃３１を作動させると磁場及び電場が形成され、電子銃３１から放射される電子またはイオンを蒸着室２０の下部に設置した蒸着材であるＭｇＯペレット２７に衝突させてＭｇＯ蒸気を上方に配置した基板１３の下面に蒸着させる。蒸着室２０の内部雰囲気は微量の水素及び酸素を供給して調節するが、その分圧比を変化させて蒸着状況を調節する。また、蒸着材が過熱される恐れがあるので、冷却装置２９で冷却させながらＭｇＯ保護膜１７を蒸着する。
【００２９】
このような蒸着工程で製造したＭｇＯ保護膜１７は放電ガスに接触するので、保護膜を構成する成分と膜特性が放電特性に大きい影響を及ぼす。特に、ＭｇＯ保護膜を使う場合に放電遅延時間に影響する。走査電極を通じてプラズマディスプレイパネルに駆動電圧が印加される時間を走査時間といい、走査時間の間に放電が起こるように設計するが、現実的には、駆動電圧印加の時に直ちに放電が起こらず、放電が遅れるので,この遅れを放電遅延時間という。放電遅延時間は再び形成遅延時間と統計的遅延時間に分けて検討される。
【００３０】
本発明ではプラズマディスプレイパネルに用いるＭｇＯ保護膜表面の結晶配向状態を蒸着条件変更によって調節し、これに伴う放電遅延時間を測定することによって、放電遅延時間が最小になる結晶配向面を分析しようとした。このために本発明ではＭｇＯ保護膜１７を水素と酸素の分圧比を変化させて蒸着しながら結晶配向面の変化を観察した。本発明の一実施例によるＭｇＯ保護膜を酸素と水素の分圧比を調節しながら蒸着して次の表１の通りに結晶配向面が得られ、その結果による統計的遅延時間は次の通りである。
【表１】
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【００３１】
表１に示されているように、プラズマディスプレイパネルのＭｇＯ保護膜として結晶配向面が(１１１)面と(１１０)面の混合状態である場合に統計的遅延時間が２５５〜３１６ｎｓｅｃ程度になり、５例のなかで最も低いことが分かる。従って、柱状結晶構造を有するＭｇＯ保護膜の表面を(１１１)面及び(１１０)面の混合面にする場合、最も良い放電特性を得ることができるということが分かった。
【００３２】
本発明はここでなお進んで酸素/水素分圧を調節すると、(１１１)面及び(１１０)面の粒径を調節でき、粒径によって(１１１)面と(１１０)面の混合比率が変わる点を発見した。例えば、イオンプレ−ティング方式でＭｇＯ保護膜を蒸着時において、水素を注入しなくて酸素だけを注入する場合、保護膜表面の結晶配向面は(１１１)面のみになる。水素を徐々に注入して酸素と水素の分圧を増加させると、ＭｇＯ保護膜の粒径が次第に大きくなっている途中で酸素と水素の分圧比が第１の臨界値に到達すると、結晶配向面(１１０)面が生成され始める。そうして、酸素に対する水素の分圧比が第２の臨界値以上に大きくなると、(１１１)面が消えて結晶配向面は(１１０)面のみになる。また、酸素と水素の分圧比によって粒径も調節できる。前記のようなＭｇＯ保護膜形成工程では粒径が順次に小さくなる現象も観察できた。
【００３３】
これをもう少し綿密に観察するために本発明の実施例では次のような実験を実施した。以下、このような本発明の実施例について説明する。このような実施例は単に本発明を例示するためのものであり、本発明がここに限られるわけではない。従って、本発明の実施例では注入する酸素と水素の分圧によってＭｇＯ保護膜の粒径及び結晶配向面を調節したが、このような酸素及び水素の分圧を変数として調節することは一実施例に過ぎないし、必ず酸素と水素の分圧でだけ配向結晶面の比率を調節できるということではない。
【００３４】
実施例１
ＭｇＯペレットをＭｇＯ蒸着室に入れて誘電体が形成されたプラズマディスプレイパネルにＭｇＯを蒸着する時、ＭｇＯ保護膜が約７０００Å程度に形成されるようにした。蒸着室内部の場合、基本圧力を１×１０-４Ｐａとして、蒸着形成時の圧力を５．３×１０-２Ｐａで、酸素を１００ｓｃｃｍで供給しながら基板を２００±５℃に維持した。電流を３９０ｍＡ、電圧を-１５ｋＶ ＤＣで調節した電子銃を用いて電子ビームを照射してＭｇＯ保護膜を蒸着させた。水素と酸素分圧を６：１程度に調節しながらＭｇＯ保護膜の粒径を２５０~３５０ｎｍとし、この状態で(１１１)面と(１１０)面の混合比率を変化させて統計的遅延時間を測定し、その結果を次の表２に示す。
【表２】
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【００３５】
表２に示したように、ＭｇＯ保護膜の粒径が２５０〜３５０ｎｍである時、肉眼観察時にＭｇＯ保護膜の(１１１)面と(１１０)面の比が２：８である場合、統計的遅延時間が最も短かった。また、もう少し詳細な実験を行って、その最適混合比率範囲は１．５〜２．５：７．５〜８．５であることを確認した。
【００３６】
図３は本発明の実施例１に従うＭｇｏ保護膜の走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）写真を示す。図３のＳＥＭ写真で、四角形形状は結晶配向面のうちの(１１０)面を示し、三角形の形状は(１１１)面を示す。図３は本発明の実施例１に伴うＳＥＭ写真の一部分として、詳しく示されていないが、四角形の形状に近い(１１０)面が主たることを観察できる。
【００３７】
実施例２
水素と酸素の分圧を３:１程度に調節しながらＭｇＯ保護膜の粒径を２００〜２５０ｎｍとし、この状態で(１１１)面及び(１１０)面の混合比率を変更させて統計的遅延時間を測定し、その結果を次の表３に示す。それ以外の条件は実施例１と同一である。
【表３】
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【００３８】
表３に示したように、ＭｇＯ保護膜の粒径が２００〜２５０ｎｍである時,肉眼観察時に保護膜のＭｇＯ保護膜の(１１１)面と(１１０)面の比が３：７の場合、統計的遅延時間が最も短かった。更に、もう少し詳細な実験を行って最適混合比率の範囲は２．５〜３．５：６．５〜７．５であることを確認した。
【００３９】
図４は本発明の実施例２に伴うＭｇＯ保護膜の一部のＳＥＭ写真であって、詳しく示されていないが、四角形の形状に類似な(１１０)面が多数であることを観察できる。
【００４０】
実施例３
水素と酸素の分圧を２．５：１程度に調節しながらＭｇＯ保護膜の粒径を１５０〜２００ｎｍとし、これにより(１１１)面と(１１０)面の混合比率を変更させて統計的遅延時間を測定し、その結果を次の表４に示す。それ以外の条件は実施例１と同一である。
【表４】
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【００４１】
表４に示したように、ＭｇＯ保護膜の粒径が１５０〜２００ｎｍである時、肉眼観察時にＭｇＯ保護膜の(１１１)面と(１１０)面の比が３．５：６．５の場合、統計的遅延時間が最も短かった。もう少し詳細な実験を行って最適混合比率の範囲は３．０〜４．０：６．０〜７．０であることを確認した。
【００４２】
図５は本発明の実施例３に伴うＭｇＯ保護膜の一部のＳＥＭ写真として、詳しく示されていないが、四角形の形状に近い(１１０)面が多いが、三角形の形状に近い(１１１)面も、これよりちょっと少ない程度に含まれていることを観察できる。
【００４３】
実施例４
水素と酸素の分圧を調節しながらＭｇＯ保護膜の粒径を１００〜１５０ｎｍとし、この状態で(１１１)面及び(１１０)面の混合比率を変更させて統計的遅延時間を測定し、その結果を次の表５に示す。それ以外の条件は実施例１と同一である。
【表５】
2005129522.tif 000007
【００４４】
表５に示したように、ＭｇＯ保護膜の粒径が１００〜１５０ｎｍである時、肉眼観察時にＭｇＯ保護膜の(１１１)面と(１１０)面の比が５：５である場合、統計的遅延時間が最も短かった。もう少し詳細な実験を行って最適混合比率範囲は４．５〜５．５：４．５〜５．５であることを確認した。
【００４５】
図６は本発明の実施例４に伴うＭｇＯ保護膜の一部のＳＥＭ写真として、詳しく示されていないが、三角形の形状に近い(１１１)面と四角形の形状に近い(１１０)面が均等に混ざって分布されていることを観察できる。
【００４６】
実施例５
水素と酸素の分圧を調節しながらＭｇＯ保護膜の粒径を５０〜１００ｎｍとし、この状態で(１１１)面及び(１１０)面の混合比率を変更させて統計的遅延時間を測定し、その結果を次の表６に示す。特に、水素分圧は最小に調節した。それ以外の条件は実施例１と同一である。
【表６】
2005129522.tif 000008
【００４７】
表６に示したように、ＭｇＯ保護膜の粒径が５０〜１００ｎｍである時、肉眼観察時にＭｇＯ保護膜の(１１１)面と(１１０)面の比が６：４の場合、統計的遅延時間が最も短かった。もう少し詳細な実験を行って最適混合比率の範囲は５．５〜６．５：３．５〜４．５であることを確認した。
【００４８】
図７は本発明の実施例５に伴うＭｇＯ保護膜一部のＳＥＭ写真として、詳しく示されていないが、主に三角形の形状に近い(１１１)面が 分布していることを観察できる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明の一実施例によるプラズマディスプレイパネルの上板の斜視図である。
【図２】本発明の一実施例によるＭｇＯ蒸着過程を示す概略的な図面である。
【図３】本発明の実施例１によって蒸着したＭｇＯ保護膜の表面を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観測した写真である。
【図４】本発明の実施例２によって蒸着したＭｇＯ保護膜の表面を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観測した写真である。
【図５】本発明の実施例３によって蒸着したＭｇＯ保護膜の表面を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観測した写真である。
【図６】本発明の実施例４によって蒸着したＭｇＯ保護膜の表面を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観測した写真である。
【図７】本発明の実施例５によって蒸着したＭｇＯ保護膜の表面を走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観測した写真である。
【図８】一般的な交流型プラズマディスプレイパネルの放電セルの分解斜視図である。
【符号の説明】
【００５０】
１００ プラズマディスプレイパネル
１１１ 下部基板
１１３ 上部基板
１１５ 複数のアドレス電極
１１７ 複数の放電維持電極
１１９ 、１２１ 誘電体層
１２３ 複数の隔壁
１２５ 蛍光体層
１２７ 保護膜
【図１】
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【図２】
2005129522.tif 000010
【図３】
2005129522.tif 000011
【図４】
2005129522.tif 000012
【図５】
2005129522.tif 000013
【図６】
2005129522.tif 000014
【図７】
2005129522.tif 000015
【図８】
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