(57)【要約】【課題】  画像の理想位置からの記録位置ずれを抑制しつつ、記録媒体が任意形状に変形する場合における画像の記録位置ずれを補正することのできる画像記録装置及び画像記録方法を得る。【解決手段】  ＰＷＢ（プリント配線板）１５０に対してラスターデータを用いて配線パターンを記録するに際し、ＰＷＢ１５０の変形状態を示す変形情報を予め取得しておき、当該変形情報に基づいて、変形後のＰＷＢ１５０に記録された配線パターンが、上記ラスターデータにより示される配線パターンと同一形状となるように当該ラスターデータを変換し、変換されたラスターデータに基づいて変形前のＰＷＢ１５０に配線パターンを記録する。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像情報により示される画像が記録される記録媒体の変形に応じて当該画像を変形させて前記記録媒体に記録する画像記録装置であって、
前記記録媒体の変形状態を示す変形情報を予め取得する取得手段と、
前記取得手段により取得された前記変形情報に基づいて、変形後の前記記録媒体に記録された画像が前記画像情報により示される画像と同一形状となるように前記画像情報を変換する変換手段と、
前記変換手段により変換された前記画像情報に基づいて変形前の前記記録媒体に画像を記録する記録手段と、
を備えた画像記録装置。
【請求項２】
前記記録媒体を複数積層させることにより最終的な記録媒体を作成する場合で、かつ各記録媒体の積層のたびに積層後の記録媒体が変形する場合において、
前記取得手段は、前記記録媒体の各積層毎に積層後の前記記録媒体の前記変形情報を予め取得しておき、
前記変換手段は、前記複数の記録媒体への記録対象となる各画像情報毎に、前記取得手段により取得された前記記録媒体の各積層毎の前記変形情報に基づいて、前記最終的な記録媒体に記録された画像が当該画像情報により示される画像と同一形状となるように当該画像情報を変換し、
前記記録手段は、前記記録媒体の各積層毎に、前記変換手段により変換された対応する前記画像情報に基づいて変形前の前記記録媒体に画像を記録する
請求項１記載の画像記録装置。
【請求項３】
前記記録媒体を複数積層させることにより最終的な記録媒体を作成する場合で、かつ各記録媒体の積層のたびに積層後の記録媒体が変形する場合において、
前記取得手段は、前記最終的な記録媒体の前記変形情報を予め取得しておき、
前記変換手段は、１層目の記録媒体への記録対象となる前記画像情報については、前記取得手段により取得された前記変形情報に基づいて、前記最終的な記録媒体に記録された画像が当該画像情報により示される画像と同一形状となるように当該画像情報を変換し、２層目以降の記録媒体への記録対象となる前記画像情報については、前回までの積層による前記記録媒体の変形状態に応じて、記録される画像が変形するように当該画像情報を変換し、
前記記録手段は、前記記録媒体の各積層毎に、前記変換手段により変換された対応する前記画像情報に基づいて前記記録媒体に画像を記録する
請求項１記載の画像記録装置。
【請求項４】
前記取得手段は、前記変形情報として、前記記録媒体の所定位置に予め設けられた複数の基準マークの、前記記録媒体が変形する前と変形した後との間の位置ずれの方向及び量を示す情報を取得する
請求項１乃至請求項３の何れか１項記載の画像記録装置。
【請求項５】
前記基準マークを、前記記録媒体に対して画像記録の際の位置決め用に予め設けられたものとした
請求項４記載の画像記録装置。
【請求項６】
前記基準マークを、前記記録媒体に対して４箇所以上に設けた
請求項４又は請求項５記載の画像記録装置。
【請求項７】
前記基準マークを、前記記録媒体の外周部近傍に設けた
請求項４乃至請求項６の何れか１項記載の画像記録装置。
【請求項８】
前記変換手段は、ＦＦＤ法に基づいて前記画像情報を変換する
請求項１乃至請求項７の何れか１項記載の画像記録装置。
【請求項９】
前記記録媒体を前記画像の記録を行う際にエッチング工程及びプレス工程を伴うプリント配線板とすると共に、前記画像情報を前記プリント配線板に形成する配線パターンを示すものとした
請求項１乃至請求項８の何れか１項記載の画像記録装置。
【請求項１０】
前記取得手段は、前記エッチング工程が終了した直後の前記プリント配線板の変形状態を示す変形情報を予め取得する
請求項９記載の画像記録装置。
【請求項１１】
前記取得手段は、前記プレス工程が終了した直後の前記プリント配線板の変形状態を示す変形情報を予め取得する
請求項９記載の画像記録装置。
【請求項１２】
前記画像情報を、前記配線パターンを示すベクトルデータとした
請求項９乃至請求項１１の何れか１項記載の画像記録装置。
【請求項１３】
前記画像情報を、前記配線パターンを示すラスターデータとした
請求項９乃至請求項１１の何れか１項記載の画像記録装置。
【請求項１４】
画像情報により示される画像が記録される記録媒体の変形に応じて当該画像を変形させて前記記録媒体に記録する画像記録方法であって、
前記記録媒体の変形状態を示す変形情報を予め取得しておき、
前記変形情報に基づいて、変形後の前記記録媒体に記録された画像が前記画像情報により示される画像と同一形状となるように前記画像情報を変換し、
変換された前記画像情報に基づいて変形前の前記記録媒体に画像を記録する
画像記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像記録装置及び画像記録方法に関し、特に画像情報により示される画像が記録される記録媒体の変形に応じて当該画像を変形させて前記記録媒体に記録する画像記録装置及び画像記録方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント配線板（以下、「ＰＷＢ」という。）やフラット・パネル・ディスプレイ（以下、「ＦＰＤ」という。）の基板に所定のパターンを記録する装置として、当該基板に直接パターンを記録することのできるレーザ走査画像記録装置が知られている。
【０００３】
この種の画像記録装置では、本来、上記パターンを予め決められた位置かつ大きさで記録しなければならない。
【０００４】
しかしながら、ＰＷＢに記録されるパターン（配線パターン）は、部品実装の高密度化に伴って高精細化が進み、主として加熱した状態で行われるプレス工程で生じる基板の伸縮に伴う記録位置ずれの問題が顕在化している。例えば、多層プリント配線板の場合、基板に設けられたスルーホール等の穴と、各層のパターンとの位置合わせが高精度に行えないため、ＰＷＢを高密度化することができないことが問題となる。
【０００５】
また、ＦＰＤにおいても、高生産性を目的とした基板サイズの大型化が進み、加熱処理前後における基板の伸縮量の増大に伴う描画位置ずれの問題が顕在化してきている。例えば、カラーフィルタパターンを記録する際には、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色の記録位置ずれが問題となる。
【０００６】
このような問題を解消するために、特許文献１には、光ビームを主走査方向に走査させつつＰＷＢを副走査方向に移動させると共に、光ビームを描画データに基づいて変調させることによりＰＷＢに対して複数の面付パターンの記録を行う技術であって、ＰＷＢの面付位置決め情報を測定し、ベクトルデータからビットマップデータに変換する際に、上記面付位置決め情報に基づいて記録位置ずれを補正する技術が開示されている。
【特許文献１】特開２０００−１２２３０３公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記特許文献１の技術では、各層間のパターンの位置ずれは生じないものの、ＰＷＢの変形量が大きな場合には描画パターンの変形量も大きくなり、最終的に製作されたＰＷＢにおける描画パターンの予め定められた絶対寸法位置（以下、「理想位置」という。）からの位置ずれが大きくなってしまう、という問題点があった。
【０００８】
当該位置ずれが大きくなった場合、当該ＰＷＢに取り付けるべき電子部品の実装位置が本来の位置から大きくずれることになるため、当該電子部品のＰＷＢへの実装を自動化することが困難になる。また、電子部品が実装できたとしても、当該ＰＷＢの装置筐体への組み付けが困難になる場合もある。
【０００９】
すなわち、ＰＷＢを組み付ける装置には、ＰＷＢにおける電子部品の実装位置のずれ量が予め定められた許容ずれ量以内であることを前提として、当該電子部品に対応する電子部品（例えば、雌コネクタに対応する雄コネクタや発光素子に対応する受光素子等。）や開口等が設けられている場合が多い。この場合、当該電子部品の実装位置のずれ量が上記許容ずれ量を超えている場合には、当該ＰＷＢを装置筐体に組み付けることは著しく困難である。
【００１０】
本発明は上記問題点を解消するためになされたものであり、画像の理想位置からの記録位置ずれを抑制しつつ、記録媒体が任意形状に変形する場合における画像の記録位置ずれを補正することのできる画像記録装置及び画像記録方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、請求項１記載の画像記録装置は、画像情報により示される画像が記録される記録媒体の変形に応じて当該画像を変形させて前記記録媒体に記録する画像記録装置であって、前記記録媒体の変形状態を示す変形情報を予め取得する取得手段と、前記取得手段により取得された前記変形情報に基づいて、変形後の前記記録媒体に記録された画像が前記画像情報により示される画像と同一形状となるように前記画像情報を変換する変換手段と、前記変換手段により変換された前記画像情報に基づいて変形前の前記記録媒体に画像を記録する記録手段と、を備えている。
【００１２】
請求項１に記載の画像記録装置によれば、取得手段によって記録媒体の変形状態を示す変形情報が予め取得され、変換手段により、当該変形情報に基づいて、変形後の記録媒体に記録された画像が、当該記録媒体への記録対象となる画像情報により示される画像、すなわち、変形前の記録媒体に記録された場合の画像と同一形状となるように画像情報が変換され、当該変換された画像情報に基づいて変形前の前記記録媒体に画像が記録手段によって記録される。なお、上記記録媒体には、ＰＷＢ及びＦＰＤ基板が含まれる。
【００１３】
すなわち、本発明では、記録媒体の変形状態を予め把握しておき、記録媒体の変形後の当該記録媒体に記録された画像が、変形前の記録媒体に記録した場合の画像と同一形状となるように画像情報を変換している。従って、当該変換後の画像情報により示される画像は、記録媒体の変形状態とは逆の状態に変形したものとなるが、この画像を本発明では変形前の記録媒体に記録しているため、当該記録媒体が変形した後の画像が変換前の画像情報により示される画像と同一形状となる。この結果、画像の理想位置からの記録位置ずれを抑制しつつ、記録媒体が任意形状に変形する場合における画像の記録位置ずれを補正することができる。
【００１４】
このように、請求項１に記載の画像記録装置によれば、画像情報により示される画像が記録される記録媒体の変形に応じて当該画像を変形させて前記記録媒体に記録するに際し、前記記録媒体の変形状態を示す変形情報を予め取得しておき、前記変形情報に基づいて、変形後の前記記録媒体に記録された画像が前記画像情報により示される画像と同一形状となるように前記画像情報を変換し、変換された前記画像情報に基づいて変形前の前記記録媒体に画像を記録しているので、画像の理想位置からの記録位置ずれを抑制しつつ、記録媒体が任意形状に変形する場合における画像の記録位置ずれを補正することができる。
【００１５】
なお、本発明は、請求項２に記載の発明のように、前記記録媒体を複数積層させることにより最終的な記録媒体を作成する場合で、かつ各記録媒体の積層のたびに積層後の記録媒体が変形する場合において、前記取得手段は、前記記録媒体の各積層毎に積層後の前記記録媒体の前記変形情報を予め取得しておき、前記変換手段は、前記複数の記録媒体への記録対象となる各画像情報毎に、前記取得手段により取得された前記記録媒体の各積層毎の前記変形情報に基づいて、前記最終的な記録媒体に記録された画像が当該画像情報により示される画像と同一形状となるように当該画像情報を変換し、前記記録手段は、前記記録媒体の各積層毎に、前記変換手段により変換された対応する前記画像情報に基づいて変形前の前記記録媒体に画像を記録するものとすることができる。
【００１６】
本発明により、前記記録媒体を複数積層させることにより最終的な記録媒体を作成する場合で、かつ各記録媒体の積層のたびに積層後の記録媒体が変形する場合においても、画像の理想位置からの記録位置ずれを抑制しつつ、記録媒体が任意形状に変形する場合における画像の記録位置ずれを補正することができる。
【００１７】
また、本発明は、請求項３に記載の発明のように、前記記録媒体を複数積層させることにより最終的な記録媒体を作成する場合で、かつ各記録媒体の積層のたびに積層後の記録媒体が変形する場合において、前記取得手段は、前記最終的な記録媒体の前記変形情報を予め取得しておき、前記変換手段は、１層目の記録媒体への記録対象となる前記画像情報については、前記取得手段により取得された前記変形情報に基づいて、前記最終的な記録媒体に記録された画像が当該画像情報により示される画像と同一形状となるように当該画像情報を変換し、２層目以降の記録媒体への記録対象となる前記画像情報については、前回までの積層による前記記録媒体の変形状態に応じて、記録される画像が変形するように当該画像情報を変換し、前記記録手段は、前記記録媒体の各積層毎に、前記変換手段により変換された対応する前記画像情報に基づいて前記記録媒体に画像を記録するものとすることもできる。
【００１８】
本発明によっても、前記記録媒体を複数積層させることにより最終的な記録媒体を作成する場合で、かつ各記録媒体の積層のたびに積層後の記録媒体が変形する場合においても、画像の理想位置からの記録位置ずれを抑制しつつ、記録媒体が任意形状に変形する場合における画像の記録位置ずれを補正することができる。
【００１９】
なお、本発明の前記取得手段は、請求項４に記載の発明のように、前記変形情報として、前記記録媒体の所定位置に予め設けられた複数の基準マークの、前記記録媒体が変形する前と変形した後との間の位置ずれの方向及び量を示す情報を取得するものとすることができる。これによって、簡易に変形情報を取得することができる。
【００２０】
なお、上記基準マークには、基準位置を示す穴、溝、記号、文字、図形等を含めることができる。また、上記取得手段には、上記基準マークの位置を撮影により検出する撮影装置や、上記基準マークの位置を光を利用して検出するフォト・インタラプタ等のセンサを含めることができる。
【００２１】
また、前記基準マークは、請求項５に記載の発明のように、前記記録媒体に対して画像記録の際の位置決め用に予め設けられたものとすることが好ましい。これによって、基準マークを設けるための新たな手段を要することなく、本発明を簡易かつ低コストに実現することができる。
【００２２】
また、前記基準マークは、請求項６に記載の発明のように、前記記録媒体に対して４箇所以上に設けることが好ましい。これによって、記録媒体における画像記録領域を各基準マークの配設位置を角点とした複数の分割領域に分割して当該記録媒体の変形状態を取得することができ、より多様な記録媒体の変形に対応することができる。
【００２３】
また、前記基準マークは、請求項７に記載の発明のように、前記記録媒体の外周部近傍に設けることが好ましい。これによって、記録媒体における画像記録領域の全域に対する変形に対応することができる。
【００２４】
更に、上記各発明の前記変換手段は、請求項８に記載の発明のように、ＦＦＤ（Free Form Deformation）法に基づいて前記画像情報を変換することが好ましい。すなわち、ＦＦＤ法による後述する（１）式は、ｖを固定値とした場合、ｕによる一次関数であるため、ｖを決定すれば、初期値（開始点）及び増分（ｕの増分に対応する増分）も容易に求めることができる。これを用いることにより、その後の演算を単純な加算演算とすることができ、演算処理の高速化を図ることができる。
【００２５】
また、本発明は、請求項９に記載の発明のように、前記記録媒体を前記画像の記録を行う際にエッチング工程及びプレス工程を伴うプリント配線板とすると共に、前記画像情報を前記プリント配線板に形成する配線パターンを示すものとしてもよい。これによって、配線パターンの理想位置からの記録位置ずれを抑制しつつ、プリント配線板が任意形状に変形する場合における配線パターンの記録位置ずれを補正することができる。
【００２６】
特に、請求項９に記載の発明の前記取得手段は、請求項１０に記載の発明のように、前記エッチング工程が終了した直後の前記プリント配線板の変形状態を示す変形情報を予め取得するものとしてもよい。これによって、複数のプリント配線板を連続して製造する一連の製造工程において、最初の所定数のプリント配線板について変形情報を取得し、当該変形情報を用いて残りのプリント配線板を製造する場合に、変形情報を取得してからプリント配線板を製造するまでの時間を短縮することができ、この結果として、プリント配線板を短時間で製造することができる。
【００２７】
また、請求項９に記載の発明の前記取得手段は、請求項１１に記載の発明のように、前記プレス工程が終了した直後の前記プリント配線板の変形状態を示す変形情報を予め取得するものとしてもよい。これによって、複数のプリント配線板を連続して製造する一連の製造工程において、最初の所定数のプリント配線板について変形情報を取得し、当該変形情報を用いて残りのプリント配線板を製造する場合に、エッチング工程による変形とプレス工程による変形の双方の変形が含まれた状態で配線パターンの記録位置ずれを補正することができ、請求項１０に記載の発明に比較して、より高精度に記録位置ずれを補正することができる。
【００２８】
ところで、プリント配線板を製造する際に用いられる配線パターンを示す画像情報は、通常、ＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）ステーションからベクトルデータとして供給され、当該ベクトルデータが画像記録装置による記録画像の解像度とされたラスターデータに変換されて適用される。
【００２９】
そこで、請求項９乃至請求項１１の何れか１項に記載の発明は、請求項１２に記載の発明のように、前記画像情報を、前記配線パターンを示すベクトルデータとしてもよい。これによって、ラスターデータに比較して分解能の高いベクトルデータに対して変換手段による変換を行うことができ、ラスターデータに対して変換を行う場合に比較して、より高精度に記録位置ずれを補正することができる。
【００３０】
これに対して、請求項９乃至請求項１１の何れか１項に記載の発明は、請求項１３に記載の発明のように、前記画像情報を、前記配線パターンを示すラスターデータとしてもよい。これによって、ベクトルデータに比較して構造の単純なラスターデータに対して変換手段による変換を行うことができ、ベクトルデータに対して変換を行う場合に比較して、より簡易に記録位置ずれを補正することができる。
【００３１】
一方、上記目的を達成するために、請求項１４記載の画像記録方法は、画像情報により示される画像が記録される記録媒体の変形に応じて当該画像を変形させて前記記録媒体に記録する画像記録方法であって、前記記録媒体の変形状態を示す変形情報を予め取得しておき、前記変形情報に基づいて、変形後の前記記録媒体に記録された画像が前記画像情報により示される画像と同一形状となるように前記画像情報を変換し、変換された前記画像情報に基づいて変形前の前記記録媒体に画像を記録するものである。
【００３２】
従って、請求項１４に記載の画像記録方法によれば、請求項１記載の発明と同様に作用するので、請求項１記載の発明と同様に、画像の理想位置からの記録位置ずれを抑制しつつ、記録媒体が任意形状に変形する場合における画像の記録位置ずれを補正することができる。
【発明の効果】
【００３３】
本発明に係る画像記録装置及び画像記録方法によれば、画像情報により示される画像が記録される記録媒体の変形に応じて当該画像を変形させて前記記録媒体に記録するに際し、前記記録媒体の変形状態を示す変形情報を予め取得しておき、前記変形情報に基づいて、変形後の前記記録媒体に記録された画像が前記画像情報により示される画像と同一形状となるように前記画像情報を変換し、変換された前記画像情報に基づいて変形前の前記記録媒体に画像を記録しているので、画像の理想位置からの記録位置ずれを抑制しつつ、記録媒体が任意形状に変形する場合における画像の記録位置ずれを補正することができる、という効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
［第１の実施の形態］
図１には、本形態に係るフラットベッドタイプの画像記録装置１００が示されている。
【００３５】
画像記録装置１００は、４本の脚部１５４に支持された厚い板状の設置台１５６を備え、ステージ移動方向に沿って延びた２本のガイド１５８を介して、平板状のステージ１５２を備えている。ステージ１５２は、ＰＷＢ（プリント配線板）１５０を表面に吸着して保持する機能を有している。
【００３６】
ステージ１５２は、その長手方向がステージ移動方向とされ、ガイド１５８に案内されて、往復移動（走査）可能に支持されている。なお、この画像記録装置１００には、ステージ１５２をガイド１５８に沿って駆動するための図示しない駆動装置が設けられており、走査方向での所望の倍率に対応した移動速度（走査速度）となるように、後述するステージ制御部１１２（図５も参照。）によって駆動制御される。
【００３７】
設置台１５６の中央部には、ステージ１５２の移動経路を跨ぐようにコ字状のゲート１６０が設けられている。コ字状のゲート１６０の端部の各々は、設置台１５６の両側面に固定されている。このゲート１６０を挟んで一方の側には記録ヘッド１６２が設けられ、他方の側にはＰＷＢ１５０の先端及び後端と、ＰＷＢ１５０に予め設けられている平面視円形状の複数（本実施の形態では、４個）の位置決め穴１５０Ａの位置とを検知するための複数（本実施の形態では、３台）のカメラ１６４が設けられている。
【００３８】
記録ヘッド１６２は、図２及び図３の（Ｂ）に示すように、ｍ行ｎ列（例えば、２行５列）の略マトリックス状に配列された複数の記録素子ユニット１６６を備えている。
【００３９】
記録素子ユニット１６６で露光される領域である画像領域１６８は、図２に示すように、短辺が走査方向に沿った矩形状であり、走査方向に対し、所定の傾斜角θで傾斜している。そして、ステージ１５２の移動に伴い、ＰＷＢ１５０には記録素子ユニット１６６毎に帯状の露光済み領域１７０が形成される。なお、図２に示すように、走査方向は、ステージ移動方向とは向きが反対である。
【００４０】
また、図３において（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、帯状の露光済み領域１７０それぞれが、隣接する露光済み領域１７０と部分的に重なるように、ライン状に配列された各行の記録素子ユニット１６６の各々は、配列方向に所定間隔（画像領域の長辺の自然数倍、本実施の形態では１倍）ずらして配置されている。このため、たとえば、１行目の最も左側に位置する画像領域１６８Ａと、画像領域１６８Ａの右隣に位置する画像領域１６８Ｃとの間の露光できない部分は、２行目の最も左側に位置する画像領域１６８Ｂにより露光される。同様に、画像領域１６８Ｂと、画像領域１６８Ｂの右隣に位置する画像領域１６８Ｄとの間の露光できない部分は、画像領域１６８Ｃにより露光される。
【００４１】
記録素子ユニット１６６の各々は、入射された光ビームを空間光変調素子である図示しないデジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）によって、ドット単位でオン／オフ制御され、ＰＷＢ１５０には、二値化されたドットパターン（黒／白）が露光され、この複数のドットパターンによって１画素の濃度を表現するようになっている。
【００４２】
図４に示される如く、前述した帯状の露光済み領域１７０（１つの記録素子ユニット１６６）は、二次元配列（４×５）された２０個のドットによって形成される。
【００４３】
前記二次元配列のドットパターンは、走査方向に対して傾斜されていることで、走査方向に並ぶ各ドットが、走査方向と交差する方向に並ぶドット間を通過するようになっており、高解像度化を図ることができる。
【００４４】
なお、傾斜角度の調整のばらつきによって、利用しないドットが存在する場合もあり、例えば、図４では、斜線としたドットは利用しないドットとなり、このドットに対応するＤＭＤは、常にオフ状態とする。
【００４５】
ところで、本実施の形態に係る画像記録装置１００は、多層プリント配線板として構成されるＰＷＢ１５０の各層の配線パターンを記録対象とした装置である。以下、画像記録装置１００を用いた当該ＰＷＢ１５０の全体的な製造工程を簡単に説明する。
【００４６】
まず、ＰＷＢ１５０の表面に感光剤を塗布し、当該ＰＷＢ１５０を画像記録装置１００におけるステージ１５２上の所定位置（本実施の形態では、図１に示すようにステージ１５２の略中央の位置）に載置する。これによって当該ＰＷＢ１５０は、ステージ１５２の表面に吸着されて保持される。
【００４７】
次に、画像記録装置１００により、ＰＷＢ１５０の上面に対して配線パターンを示す画像データに基づく走査露光を行うことによって当該ＰＷＢ１５０の上面に配線パターンの画像（潜像）を形成する。
【００４８】
そして、当該ＰＷＢ１５０に対し、不図示の装置によって現像（画像記録装置１００による未露光部分の除去）及びエッチングを行う。これにより、多層プリント配線板における１層分が作成できる。
【００４９】
次に、作成した１層分のＰＷＢ１５０の配線パターン形成面に対して、２層目を構成する基板を不図示のプレス熱板によりプレスするプレス工程によって積層させる。
【００５０】
その後、以上の工程（感光剤の塗布、画像記録装置１００による配線パターンの走査露光、現像、エッチング、基板の積層）を必要な層数分だけ繰り返し、最終層（表層）のエッチングが終了した後に所定の仕上げ工程を経て最終的なＰＷＢ１５０が完成する。
【００５１】
ここで、前述したように、ＰＷＢ１５０の所定位置には複数（本実施の形態では４個）の位置決め穴１５０Ａが設けられているが、これらの位置は、上記プレス工程において生じるＰＷＢ１５０の伸縮により、上記所定位置から任意方向にずれが生じる場合が多い。
【００５２】
ところで、本実施の形態に係る画像記録装置１００では、ＰＷＢ１５０を試作及び量産の２段階で製造するようにしている。
【００５３】
次に、画像記録装置１００におけるＰＷＢ１５０の試作時の作用を、図５及び図６を参照しつつ詳細に説明する。なお、図５は、画像記録装置１００におけるＰＷＢ１５０に対する露光制御を行うための機能的なブロック図であり、図６は、画像記録装置１００の当該試作時における処理の流れを示すフローチャートである。
【００５４】
まず、表面に感光剤が塗布された１層目のＰＷＢ１５０を画像記録装置１００におけるステージ１５２上の所定位置に載置する。これによって当該ＰＷＢ１５０は、ステージ１５２の表面に吸着されて保持される。
【００５５】
次に、画像記録装置１００全体の動作を司るコントローラ１０２は、上記図示しない駆動装置により、ステージ１５２を走査方向に対する所望の倍率に対応した移動速度（走査速度）で移動させるための制御をステージ制御部１１２に対して実行させる。これにより、ステージ１５２に載置された配線パターン露光前のＰＷＢ１５０は、最下流の位置（図１に示される位置）からステージ移動方向への移動が開始される。
【００５６】
これに応じて、複数（本実施の形態では、３台）のカメラ１６４によるＰＷＢ１５０に対する撮影画像を示す画像データが記録位置情報画像処理部１１０に順次入力されるので、当該記録位置情報画像処理部１１０は、当該画像データに基づき、ステージ１５２上に載置されたＰＷＢ１５０の位置決め穴１５０Ａの位置を検出し、当該位置を示す位置情報を取得して基板歪補正画像処理部１０６に出力する（図６のステップ３００）。
【００５７】
なお、ＰＷＢ１５０の位置決め穴１５０Ａの検出は、カメラ１６４から入力された画像データによって示される画像と、上記プレス工程を経ていない標準的なＰＷＢ１５０に対するカメラ１６４による撮影によって得られ、かつ記録位置情報画像処理部１１０に備えられた不図示のメモリに登録しておいた画像データにより示される画像とのパターン・マッチングにより得ることができる。
【００５８】
また、上記不図示のメモリに標準的なＰＷＢ１５０における位置決め穴１５０Ａの位置を示す情報を予め記憶しておき、カメラ１６４から入力された画像データにおける、当該位置決め穴１５０Ａの位置を示す情報により示される位置を含む所定範囲内の領域に対応する画像データから、位置決め穴１５０Ａの形状である円形の画像を抽出することにより検出する方法等を適用することもできる。
【００５９】
記録位置情報画像処理部１１０から位置情報が入力された基板歪補正画像処理部１０６は、当該位置情報に対して、ＰＷＢ１５０のステージ１５２上における配置位置のずれに対処するための補正を行った後に、不図示の記憶手段に記憶する（ステップ３０２）。なお、本実施の形態では、上記位置情報の補正を、当該位置情報によって示される４個の位置決め穴１５０Ａの各位置における中心位置を予め定められた基準位置に一致させることのできる移動量を走査方向及び走査方向に直交する方向の２方向について求め、当該２方向に対して当該移動量だけ上記位置情報によって示される位置決め穴１５０Ａの各位置を移動させるように補正することにより行う。
【００６０】
その後、コントローラ１０２は、ステージ１５２を上記ステージ移動方向とは逆方向に移動させるようにステージ制御部１１２を制御することにより、ＰＷＢ１５０を最下流の位置（図１に示される位置）に戻す。
【００６１】
一方、ラスター変換処理部１０４には、ＣＡＭ（Computer Aided Manufacturing）ステーションを含んで構成されたデータ作成装置２００により作成されたＰＷＢ１５０に露光記録すべき配線パターンを示すベクトルデータが入力される。
【００６２】
そこで、ラスター変換処理部１０４は、当該ベクトルデータを取得し（ステップ３０４）、ラスターデータ（ビットマップデータ）に変換して、基板歪補正画像処理部１０６に出力する（ステップ３０６）。
【００６３】
これに応じて基板歪補正画像処理部１０６は、入力されたラスターデータに対して、ＰＷＢ１５０のステージ１５２上における配置位置のずれに対処するための補正を行った後に、不図示の記憶手段に記憶する（ステップ３０８）。なお、本実施の形態では、上記ラスターデータの補正を、上記ステップ３０２の処理において求めた移動量だけ走査方向及び走査方向に直交する方向に対して当該ラスターデータによって示される配線パターンの位置を移動させるように補正することにより行う。
【００６４】
そして、基板歪補正画像処理部１０６は、補正後のラスターデータに対して、当該ラスターデータにより示される配線パターンが走査方向及び走査方向に直交する方向に対して予め定められた倍率で拡大されるようにする変倍処理を施す（ステップ３１０）。なお、当該変倍処理で適用する倍率は、最終的に得られるＰＷＢ１５０の変形量に応じて経験的に設定されるものであり、ＰＷＢ１５０の変形がない場合を‘１’としたときの変形量の割合が、走査方向及び走査方向に直交する方向について過去のＰＷＢの作成実績から経験的に設定される。
【００６５】
一方、上記ベクトルデータはコントローラ１０２にもデータ作成装置２００から入力される。
【００６６】
これに応じて、コントローラ１０２は、当該ベクトルデータに基づき、図示しない駆動装置により、ステージ１５２を走査方向に対する所望の倍率に対応した移動速度（走査速度）で移動させるための制御をステージ制御部１１２に対して実行させる。これにより、ステージ１５２に載置された配線パターン露光前のＰＷＢ１５０は、最下流の位置（図１に示される位置）からステージ移動方向への移動が開始される。
【００６７】
一方、画像記録制御部１０８は、上記ステップ３１０の処理によって基板歪補正画像処理部１０６において得られた変倍処理後のラスターデータを用いて、最終画像データとなる各記録素子ユニット１６６のオン／オフデータを生成する。そして、当該オン／オフデータを用い、ステージ１５２の移動に同期して、記録ヘッド１６２の各記録素子ユニット１６６のＤＭＤを制御し、配線パターンの画像記録を実行する。これにより、配線パターンを示す画像がＰＷＢ１５０に露光されることになる（ステップ３１２）。
【００６８】
その後、前述したように、配線パターン記録後のＰＷＢ１５０に対し、不図示の装置によって現像（画像記録装置１００による未露光部分の除去）及びエッチングが行われる。これにより、多層プリント配線板における１層分が作成できる。
【００６９】
次に、作成された１層分のＰＷＢ１５０の配線パターン形成面に対して、２層目を構成する基板を不図示のプレス熱板によりプレスするプレス工程によって積層させた後、表面に感光剤が塗布される。
【００７０】
そして、当該ＰＷＢ１５０は画像記録装置１００におけるステージ１５２上の所定位置に載置される。これによって当該ＰＷＢ１５０は、ステージ１５２の表面に吸着されて保持される。
【００７１】
その後、上記ステップ３００及びステップ３０２と同様に、ＰＷＢ１５０の位置決め穴１５０Ａの位置を示す位置情報を取得して当該位置情報に対してＰＷＢ１５０のステージ１５２上における配置位置のずれに対処するための補正を行った後、不図示の記憶手段に記憶する（ステップ３１４及びステップ３１６）。
【００７２】
そして、基板歪補正画像処理部１０６は、上記ステップ３０２の処理によって不図示の記憶手段に記憶された位置情報により示される位置決め穴１５０Ａの各位置に対する、上記ステップ３１６の処理によって不図示の記憶手段に記憶された位置情報により示される位置決め穴１５０Ａの位置のずれ量（以下、「変化量データ」という。）を、各位置決め穴１５０Ａ毎に走査方向及び走査方向に直交する方向の２方向について算出して不図示の記憶手段に記憶する（ステップ３１８）。
【００７３】
以上のステップ３００〜ステップ３１８の処理を必要な層数分だけ繰り返す（ステップ３２０）。これによって、ＰＷＢ１５０を構成する層数より１だけ少ない組数の変化量データが得られて不図示の記憶手段に記憶されることになる。
【００７４】
そして、以上の処理を所定枚数のＰＷＢ１５０について行うことによって各ＰＷＢ１５０毎の変化量データを取得し（ステップ３２２）、取得した各ＰＷＢ１５０毎の変化量データの代表値を、各積層毎でかつ位置決め穴１５０Ａ毎に導出して不図示の記憶手段に記憶する（ステップ３２４）。なお、本実施の形態では、上記変化量データの代表値として、各積層毎でかつ位置決め穴１５０Ａ毎の変化量データの相加平均値を算出しているが、これに限らず、当該変化量データの加重平均値を算出したり、当該変化量データの中央値を導出したりしてもよい。
【００７５】
次に、画像記録装置１００におけるＰＷＢ１５０の量産時の作用を、図５及び図７を参照しつつ詳細に説明する。なお、図７は、画像記録装置１００の当該量産時における処理の流れを示すフローチャートである。
【００７６】
まず、基板歪補正画像処理部１０６は、図６で示した試作時における処理によって記憶された各積層毎でかつ位置決め穴１５０Ａ毎の変形量データの代表値を不図示の記憶手段から読み出す（ステップ４００）。
【００７７】
一方、表面に感光剤が塗布された１層目のＰＷＢ１５０を画像記録装置１００におけるステージ１５２上の所定位置に載置する。これによって当該ＰＷＢ１５０は、ステージ１５２の表面に吸着されて保持される。
【００７８】
次に、コントローラ１０２は、上記図示しない駆動装置により、ステージ１５２を走査方向に対する所望の倍率に対応した移動速度（走査速度）で移動させるための制御をステージ制御部１１２に対して実行させる。これにより、ステージ１５２に載置された配線パターン露光前のＰＷＢ１５０は、最下流の位置（図１に示される位置）からステージ移動方向への移動が開始される。
【００７９】
これに応じて、複数（本実施の形態では、３台）のカメラ１６４によるＰＷＢ１５０に対する撮影画像を示す画像データが記録位置情報画像処理部１１０に順次入力されるので、当該記録位置情報画像処理部１１０は、当該画像データに基づき、ステージ１５２上に載置されたＰＷＢ１５０の位置決め穴１５０Ａの位置を図６に示されるステップ３００と同様の処理にて検出し、当該位置を示す位置情報を取得して基板歪補正画像処理部１０６に出力する（ステップ４０２）。
【００８０】
当該位置情報が入力された基板歪補正画像処理部１０６は、ＰＷＢ１５０のステージ１５２上における配置位置のずれに対処するための補正データ（以下、「基板配置ずれ補正データ」という。）を導出して、不図示の記憶手段に記憶する（ステップ４０４）。なお、本実施の形態では、上記基板配置ずれ補正データの導出を、図６のステップ３０２におけるＰＷＢ１５０の配置位置のずれに対処するための補正の処理で適用した移動量の導出方法と同様に、上記位置情報によって示される４個の位置決め穴１５０Ａの各位置における中心位置を予め定められた基準位置（図６のステップ３０２で適用したものと同一の基準位置）に一致させることのできる移動量を走査方向及び走査方向に直交する方向の２方向について求めることによって行う。
【００８１】
一方、ラスター変換処理部１０４には、データ作成装置２００により作成されたＰＷＢ１５０に露光記録すべき配線パターンを示すベクトルデータが入力される。
【００８２】
そこで、ラスター変換処理部１０４は、当該ベクトルデータを取得し（ステップ４０６）、ラスターデータ（ビットマップデータ）に変換して、基板歪補正画像処理部１０６に出力する（ステップ４０８）。
【００８３】
これに応じて基板歪補正画像処理部１０６は、入力されたラスターデータに対して、ＰＷＢ１５０のステージ１５２上における配置位置のずれに対処するための補正を行った後に、不図示の記憶手段に記憶する（ステップ４１０）。なお、本実施の形態では、上記ラスターデータの補正を、上記ステップ４０４の処理において記憶しておいた基板配置ずれ補正データを不図示の記憶手段から読み出し、当該基板配置ずれ補正データによって示される移動量だけ走査方向及び走査方向に直交する方向に対して当該ラスターデータによって示される配線パターンの位置を移動させるように補正することにより行う。
【００８４】
そして、基板歪補正画像処理部１０６は、補正後のラスターデータに対して、当該ラスターデータにより示される配線パターンが走査方向及び走査方向に直交する方向に対して予め定められた倍率（図６のステップ３１０で適用したものと同一の倍率）で拡大されるようにする変倍処理を施す（ステップ４１２）。
【００８５】
更に、基板歪補正画像処理部１０６は、変倍処理後のラスターデータを、上記プレス加工等によって変形した後のＰＷＢ１５０における記録された配線パターンが、上記ラスターデータにより示される配線パターンと同一形状となるように変換する逆変形処理を行う（ステップ４１４）。
【００８６】
以下、当該逆変形処理について説明する。なお、ここでは、一例として図８に示すように、画像（本形態では、配線パターン）が記録される記録媒体（本形態では、ＰＷＢ１５０）に変形が生じていないと想定した場合（変形前）の記録媒体における複数（同図では４つ）の基準マーク（本形態では、位置決め穴１５０Ａ）の位置が点Ｓ00、Ｓ10、Ｓ11、Ｓ01で示される位置であり、変形後の各基準マークの位置が点Ｐ00、Ｐ10、Ｐ11、Ｐ01で示される位置である場合について説明する。
【００８７】
まず、点Ｓ00、Ｓ10、Ｓ11、Ｓ01を角点として構成される四角形を、点Ｐ00、Ｐ10、Ｐ11、Ｐ01を角点とする四角形に変形する既存の変形手法（ここでは、ＦＦＤ（Free Form Deformation）法）について説明する。なお、ここで用いる各点Ｐｉｊ（ｉ＝０，１、ｊ＝０，１）は「コントロールポイント」と呼ばれている。
【００８８】
図８に示すように、変形前の画像における任意点の座標（ｕ，ｖ）（ここで、０≦ｕ≦１，０≦ｖ≦１）に対応する変形後の画像の座標Ｓ（ｕ，ｖ）は、ＦＦＤ法により、次の（１）式によって求めることができる。なお、このとき、変形前の座標系におけるＸ座標とＹ座標は、各辺の長さにおいて正規化を行っている。
【００８９】
【数１】
2005157326.tif 000003
【００９０】
ここで、Ｂ0（ｕ）＝１−ｕ、Ｂ1（ｕ）＝ｕであり、（１）式は（２）式のように展開される。
【００９１】
【数２】
2005157326.tif 000004
【００９２】
このような既存の変形処理手法を利用して、変形前の座標空間内における長方形とされた画像を、変形後の座標空間内における四角形（変形四角形）とされた画像に変換することが可能である。
【００９３】
具体的には、座標Ｓ（ｕ，ｖ）の画素データとして、変形前の画像における座標（ｕ，ｖ）の画素データを適用すればよい。ここで、座標Ｓ（ｕ，ｖ）は小数点以下の値を持つことになるが、四捨五入を行うことによって最も近い座標を得ることができる。また、必要に応じて、着目座標の近傍の複数点の画素データから線形補間処理等の補間処理によって、当該着目画素の画素データを得る場合もある。なお、以上のような画素データの導出処理は、「最近隣内挿処理」と呼ばれている。
【００９４】
そして、以上のような変形処理手法を本実施の形態に係る逆変形処理に適用する場合には、一例として図９に示すように、座標Ｓ（ｕ，ｖ）の座標（ｕ，ｖ）を中心点とした点対称の位置に位置する座標Ｓ（ｕ’，ｖ’）の画素データとして、変形前の画像における座標（ｕ，ｖ）の画素データを適用する変換を、ｕとｖの値を変化させることによって全ての画素について行うことにより、当該逆変形処理を実現することができる。
【００９５】
このとき、コントロールポイントとなる点Ｐｉｊ（ｉ＝０，１、ｊ＝０，１）の値として、上記ステップ４００の処理によって読み出した各積層毎でかつ位置決め穴１５０Ａ毎の変形量データの代表値（位置決め穴１５０Ａの位置のずれ量）を、各位置決め穴１５０Ａ毎に積算し、これによって得られた総合的な位置ずれ量だけＰＷＢ１５０が変形していない場合を想定した対応する位置決め穴１５０Ａの位置を走査方向及び走査方向に直交する方向に移動させることによって得られる各位置決め穴１５０Ａの最終的な変形後の位置を示す値を適用する。
【００９６】
一方、上記ベクトルデータはコントローラ１０２にもデータ作成装置２００から入力される。
【００９７】
これに応じて、コントローラ１０２は、当該ベクトルデータに基づき、図示しない駆動装置により、ステージ１５２を走査方向に対する所望の倍率に対応した移動速度（走査速度）で移動させるための制御をステージ制御部１１２に対して実行させる。これにより、ステージ１５２に載置された配線パターン露光前のＰＷＢ１５０は、最下流の位置（図１に示される位置）からステージ移動方向への移動が開始される。
【００９８】
一方、画像記録制御部１０８は、上記ステップ４１４の処理により基板歪補正画像処理部１０６において得られた逆変形処理後のラスターデータを用いて、最終画像データとなる各記録素子ユニット１６６のオン／オフデータを生成する。そして、当該オン／オフデータを用い、ステージ１５２の移動に同期して、記録ヘッド１６２の各記録素子ユニット１６６のＤＭＤを制御し、配線パターンの画像記録を実行する。これにより、配線パターンを示す画像がＰＷＢ１５０に露光されることになる（ステップ４１６）。
【００９９】
その後、前述したように、配線パターン記録後のＰＷＢ１５０に対し、不図示の装置によって現像（画像記録装置１００による未露光部分の除去）及びエッチングが行われる。これにより、多層プリント配線板における１層分が作成できる。
【０１００】
そして、作成された１層分のＰＷＢ１５０の配線パターン形成面に対して、２層目を構成する基板を不図示のプレス熱板によりプレスするプレス工程によって積層させる。
【０１０１】
その後、以上の工程（感光剤の塗布、画像記録装置１００による配線パターンの走査露光、現像、エッチング、基板の積層）を必要な層数分だけ繰り返し、最終層（表層）のエッチングが終了した後に所定の仕上げ工程を経て最終的なＰＷＢ１５０が完成することになる。
【０１０２】
そこで、画像記録装置１００は、以上のステップ４０２〜ステップ４１６の処理を必要な層数分だけ繰り返す（ステップ４１８）。
【０１０３】
なお、上記ステップ４０２〜ステップ４１６の処理を繰り返し行う際に上記ステップ４１４では、コントロールポイントとなる点Ｐｉｊ（ｉ＝０，１、ｊ＝０，１）の値として、上記ステップ４００の処理によって読み出した各積層毎でかつ位置決め穴１５０Ａ毎の変形量データの代表値（位置決め穴１５０Ａの位置のずれ量）のうち、その時点における積層回数をｎとしたときのｎ層目の値までを除く代表値を各位置決め穴１５０Ａ毎に積算し、これによって得られた総合的な位置ずれ量だけＰＷＢ１５０が変形していない場合を想定した対応する位置決め穴１５０Ａの位置を走査方向及び走査方向に直交する方向に移動させることによって得られる各位置決め穴１５０Ａの変形後の位置を示す値を適用するようにする。
【０１０４】
例えば、４層構成のＰＷＢを作成する場合、一例として図１０（Ａ）に示すように、前述した試作時における処理（図６参照。）により、２層目の積層後の変形量データとして変形量データｆ１が、３層目の積層後の変形量データとして変形量データｆ２が、４層目の積層後の変形量データとして変形量データｆ３が、各々得られた場合、図１０（Ｂ）に示すように、以上の量産時における処理（図７参照。）により、１層目の配線パターンは全ての変形量データ（変形量データｆ１〜ｆ３）に基づいて得られるＰＷＢ１５０の最終的な変形量に応じて逆変形されて記録され、２層目の配線パターンは変形量データｆ１を除く変形量データ（変形量データｆ２、ｆ３）に基づいて得られるＰＷＢ１５０の変形量に応じて逆変形されて記録され、３層目の配線パターンは変形量データｆ１及び変形量データｆ２を除く変形量データ（変形量データｆ３）に基づいて得られるＰＷＢ１５０の変形量に応じて逆変形されて記録され、更に、４層目の配線パターンは変形されることなく記録される。
【０１０５】
このとき、各層を積層する度にＰＷＢ１５０の変形が繰り返されるため、この結果として、各層に記録された配線パターンを、理想位置からの記録位置ずれを抑制しつつ、ＰＷＢ１５０が任意形状に変形する場合における各層間の記録位置ずれを解消することができる。
【０１０６】
以上説明したように、本実施の形態では、画像情報（ここでは、ラスターデータ）により示される画像（ここでは、配線パターン）が記録される記録媒体（ここでは、ＰＷＢ１５０）の変形に応じて当該画像を変形させて前記記録媒体に記録するに際し、前記記録媒体の変形状態を示す変形情報（ここでは、変形量データ）を予め取得しておき、前記変形情報に基づいて、変形後の前記記録媒体に記録された画像が前記画像情報により示される画像と同一形状となるように前記画像情報を変換し、変換された前記画像情報に基づいて変形前の前記記録媒体に画像を記録しているので、画像の理想位置からの記録位置ずれを抑制しつつ、記録媒体が任意形状に変形する場合における画像の記録位置ずれを補正することができる。
【０１０７】
また、本実施の形態では、前記記録媒体の各積層毎に積層後の前記記録媒体の前記変形情報を予め取得しておき、複数の記録媒体への記録対象となる各画像情報毎に、取得された前記記録媒体の各積層毎の前記変形情報に基づいて、最終的に得られた記録媒体に記録された画像が当該画像情報により示される画像と同一形状となるように当該画像情報を変換し、前記記録媒体の各積層毎に、変換された対応する前記画像情報に基づいて変形前の前記記録媒体に画像を記録しているので、前記記録媒体を複数積層させることにより最終的な記録媒体を作成する場合で、かつ各記録媒体の積層のたびに積層後の記録媒体が変形する場合においても、画像の理想位置からの記録位置ずれを抑制しつつ、記録媒体が任意形状に変形する場合における画像の記録位置ずれを補正することができる。
【０１０８】
また、本実施の形態では、前記変形情報として、前記記録媒体の所定位置に予め設けられた複数の基準マーク（ここでは、位置決め穴１５０Ａ）の、前記記録媒体が変形する前と変形した後との間の位置ずれの方向及び量を示す情報を取得しているので、簡易に変形情報を取得することができる。
【０１０９】
また、本実施の形態では、本発明の基準マークとして、前記記録媒体に対して画像記録の際の位置決め用に予め設けられたものを適用しているので、基準マークを設けるための新たな手段を要することなく、本発明を簡易かつ低コストに実現することができる。
【０１１０】
また、本実施の形態では、本発明の基準マークとして、前記記録媒体の外周部近傍に設けられた位置決め穴１５０Ａを適用しているので、記録媒体における画像記録領域の全域に対する変形に対応することができる。
【０１１１】
更に、本実施の形態では、ＦＦＤ法に基づいて前記画像情報を変換しているので、変換処理の高速化を図ることができる。すなわち、ＦＦＤ法による（１）式は、ｖを固定値とした場合、ｕによる一次関数であるため、ｖを決定すれば、初期値（開始点）及び増分（ｕの増分に対応する増分）も容易に求めることができる。これを用いることにより、その後の演算を単純な加算演算とすることができ、演算処理の高速化を図ることができる。
【０１１２】
特に、本実施の形態では、前記記録媒体を前記画像の記録を行う際にエッチング工程及びプレス工程を伴うプリント配線板とすると共に、前記画像情報を前記プリント配線板に形成する配線パターンを示すものとしているので、配線パターンの理想位置からの記録位置ずれを抑制しつつ、プリント配線板が任意形状に変形する場合における配線パターンの記録位置ずれを補正することができる。
【０１１３】
また、本実施の形態では、ベクトルデータに比較して構造の単純なラスターデータに対して逆変形処理を行っているので、ベクトルデータに対して逆変形処理を行う場合に比較して、より簡易に記録位置ずれを補正することができる。
【０１１４】
［第２の実施の形態］
本第２の実施の形態では、本発明を、複数のＰＷＢを連続して製造する一連の製造工程（ここでは、１ロット分のＰＷＢの製造工程）において、最初の所定数のＰＷＢについて変形量データを取得し、当該変形量データを用いて残りのＰＷＢを製造する場合に適用した場合の形態例について説明する。なお、本第２の実施の形態に係る画像記録装置の構成は、上記第１の実施の形態に係る画像記録装置１００（図１〜図５参照。）と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【０１１５】
以下、本第２の実施の形態に係る画像記録装置１００における１ロット分のＰＷＢ１５０の製造時の作用を、図５及び図１２を参照しつつ詳細に説明する。なお、図１２は、本形態に係る画像記録装置１００の１ロット分のＰＷＢ１５０の製造時における処理の流れを示すフローチャートである。
【０１１６】
このとき、本形態に係る画像記録装置１００では、まず、変形量データ導出処理を実行する（ステップ５００）。
【０１１７】
ここで、変形量データ導出処理について、図１３を参照しつつ詳細に説明する。なお、図１３は、当該変形量データ導出処理の実行時における画像記録装置１００の処理の流れを示すフローチャートである。ここで、当該変形量データ導出処理は、図６に示したフローチャートの処理と略同一の処理を行うものであるので、図１３における図６と同一の処理を行うステップについては図６と同一のステップ番号を付して、その説明を極力省略する。
【０１１８】
図１３におけるステップ３１２の処理により、配線パターンを示す画像がＰＷＢ１５０に露光されると、配線パターン記録後のＰＷＢ１５０に対し、不図示の装置によって現像（画像記録装置１００による未露光部分の除去）及びエッチングが行われる。これにより、多層プリント配線板における１層分が作成できる。
【０１１９】
次に、作成された１層分のＰＷＢ１５０は画像記録装置１００におけるステージ１５２上の所定位置に載置される。これによって当該ＰＷＢ１５０は、ステージ１５２の表面に吸着されて保持される。
【０１２０】
その後、ステップ３００及びステップ３０２と同様に、ＰＷＢ１５０の位置決め穴１５０Ａの位置を示す位置情報を取得して当該位置情報に対してＰＷＢ１５０のステージ１５２上における配置位置のずれに対処するための補正を行った後、不図示の記憶手段に記憶する（ステップ３１４’及びステップ３１６）。
【０１２１】
そして、基板歪補正画像処理部１０６は、ステップ３０２の処理によって不図示の記憶手段に記憶された位置情報により示される位置決め穴１５０Ａの各位置に対する、上記ステップ３１６の処理によって不図示の記憶手段に記憶された位置情報により示される位置決め穴１５０Ａの位置のずれ量（以下、「変化量データ」という。）を、各位置決め穴１５０Ａ毎に走査方向及び走査方向に直交する方向の２方向について算出して不図示の記憶手段に記憶する（ステップ３１８）。
【０１２２】
以上の処理を所定枚数（ここでは、５枚）のＰＷＢ１５０について行うことによって各ＰＷＢ１５０毎の変化量データを取得し（ステップ３２２’）、取得した各ＰＷＢ１５０毎の変化量データの代表値を、位置決め穴１５０Ａ毎に導出して不図示の記憶手段に記憶する（ステップ３２４’）。なお、本実施の形態では、上記変化量データの代表値として、位置決め穴１５０Ａ毎の変化量データの相加平均値を算出しているが、これに限らず、当該変化量データの加重平均値を算出したり、当該変化量データの中央値を導出したりしてもよい。
【０１２３】
以上の処理によってエッチング工程が終了した直後のＰＷＢ１５０の変形状態を示す変化量データが導出されると、本形態に係る画像記録装置１００では、基板製造処理を実行する（図１２のステップ５０２）。
【０１２４】
ここで、基板製造処理について、図１４を参照しつつ詳細に説明する。なお、図１４は、当該基板製造処理の実行時における画像記録装置１００の処理の流れを示すフローチャートである。ここで、当該基板製造処理は、図７に示したフローチャートの処理と略同一の処理を行うものであるので、図１４における図７と同一の処理を行うステップについては図７と同一のステップ番号を付して、その説明を極力省略する。
【０１２５】
まず、基板歪補正画像処理部１０６は、図１３で示した変形量データ導出処理によって記憶された位置決め穴１５０Ａ毎の変形量データの代表値を不図示の記憶手段から読み出す（ステップ４００’）。
【０１２６】
その後、基板歪補正画像処理部１０６は、ステップ４１２による変倍処理後のラスターデータを、プレス加工等によって変形した後のＰＷＢ１５０における記録された配線パターンが、上記ラスターデータにより示される配線パターンと同一形状となるように変換する逆変形処理を行う（ステップ４１４’）。
【０１２７】
なお、ここで行われる逆変形処理の手法は上記第１の実施の形態に係る画像記録装置１００で適用されている手法（ＦＦＤ法を用いた逆変形処理手法）と同一であるが、コントロールポイントとなる点Ｐｉｊ（ｉ＝０，１、ｊ＝０，１）の値として、上記ステップ４００’の処理によって読み出した位置決め穴１５０Ａ毎の変形量データの代表値（位置決め穴１５０Ａの位置のずれ量）によって示される位置ずれ量だけＰＷＢ１５０が変形していない場合を想定した対応する位置決め穴１５０Ａの位置を走査方向及び走査方向に直交する方向に移動させることによって得られる各位置決め穴１５０Ａの最終的な変形後の位置を示す値を適用する点で異なる。
【０１２８】
そして、以上のような基板製造処理が終了すると、本形態に係る画像記録装置１００では、基板製造処理によるＰＷＢ１５０の製造が所定数（ここでは、１ロットに対応する数）だけ完了したか否かを判定し、否定判定となった場合は上記ステップ５０２に戻って再びＰＷＢ１５０の製造を行い、肯定判定となった時点で本処理を終了する（図１２のステップ５０４）。
【０１２９】
以上説明したように、本第２の実施の形態では、上記第１の実施の形態と同様の効果を奏することができると共に、エッチング工程が終了した直後のプリント配線板の変形状態を示す変形情報を予め取得するようにしているので、複数のプリント配線板を連続して製造する一連の製造工程において、最初の所定数のプリント配線板について変形情報を取得し、当該変形情報を用いて残りのプリント配線板を製造する場合に、変形情報を取得してからプリント配線板を製造するまでの時間を短縮することができ、この結果として、プリント配線板を短時間で製造することができる。
【０１３０】
なお、本第２の実施の形態では、エッチング工程の終了後の変形量データをカメラ１６４による撮影画像に基づいて取得する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、自動光学検査装置によるＡＯＩ（Automated Optical Inspection）機能によって取得されたデータを変形量データとして適用する形態とすることもできる。この場合も、本第２の実施の形態と同様の効果を奏することができる。
【０１３１】
また、本第２の実施の形態では、複数のＰＷＢを連続して製造する一連の製造工程（ここでは、１ロット分のＰＷＢの製造工程）において、最初の所定数のＰＷＢについてエッチング工程が終了した直後のＰＷＢの変形状態を示す変形量データを取得し、当該変形量データを用いて残りのＰＷＢを製造する場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、複数のＰＷＢを連続して製造する一連の製造工程において、最初の所定数のＰＷＢについてプレス工程が終了した直後のプリント配線板の変形状態を示す変形量データを取得し、当該変形量データを用いて残りのＰＷＢを製造する形態とすることもできる。
【０１３２】
なお、この場合の具体的な形態例としては、本第２の実施の形態に係る変形量データ導出処理（図１３参照。）に代えて、上記第１の実施の形態に係る基板試作処理（図６参照。）を適用する形態を例示することができる。
【０１３３】
この場合、複数のプリント配線板を連続して製造する一連の製造工程において、最初の所定数のプリント配線板について変形情報を取得し、当該変形情報を用いて残りのプリント配線板を製造する場合に、エッチング工程による変形とプレス工程による変形の双方の変形が含まれた状態で配線パターンの記録位置ずれを補正することができ、本第２の実施の形態に比較して、より高精度に記録位置ずれを補正することができる。
【０１３４】
また、上記各実施の形態では、ラスターデータに対して逆変形処理を行った場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、ベクトルデータに対して逆変形処理を行う形態とすることもできる。
【０１３５】
図１５には、この形態に係る画像記録装置１００におけるＰＷＢ１５０に対する露光制御を行うための機能的なブロック図が示されている。なお、同図における図５と同一の処理を行う構成要素には図５と同一の符号が付されている。
【０１３６】
同図に示すように、この場合、上記第１の実施の形態に係る画像記録装置１００に比較して、ラスター変換処理部１０４と画像記録制御部１０８との間に介在されていた基板歪補正画像処理部１０６に代えて、データ作成装置２００とラスター変換処理部１０４との間に介在された基板歪補正画像処理部１０６’が適用される点が相違している。なお、基板歪補正画像処理部１０６’は、データ作成装置２００から入力されたベクトルデータに対して、基板試作処理（図６参照。）や変形量データ導出処理（図１３参照。）等によって事前に得られた変形量データに基づく逆変形処理を施すものとされている。
【０１３７】
これによって、ラスターデータに比較して分解能の高いベクトルデータに対して逆変形処理を行うことができ、ラスターデータに対して変換を行う場合に比較して、より高精度に記録位置ずれを補正することができる。
【０１３８】
また、上記各実施の形態では、空間光変調素子としてＤＭＤを備えた記録素子ユニット１６６について説明したがこのような反射型空間光変調素子の他に、透過型空間光変調素子（ＬＣＤ）を使用することもできる。例えば、ＭＥＭＳ（Ｍｉｃｒｏ  Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  Ｓｙｓｔｅｍｓ）タイプの空間光変調素子（ＳＬＭ；Ｓｐａｃｉａｌ  Ｌｉｇｈｔ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）や、電気光学効果により透過光を変調する光学素子（ＰＬＺＴ素子）や液晶光シャッタ（ＦＬＣ）等の液晶シャッターアレイなど、ＭＥＭＳタイプ以外の空間光変調素子を用いることも可能である。なお、ＭＥＭＳとは、ＩＣ製造プロセスを基盤としたマイクロマシニング技術によるマイクロサイズのセンサ、アクチュエータ、そして制御回路を集積化した微細システムの総称であり、ＭＥＭＳタイプの空間光変調素子とは、静電気力を利用した電気機械動作により駆動される空間光変調素子を意味している。さらに、Ｇｒａｔｉｎｇ Ｌｉｇｈｔ Ｖａｌｖｅ（ＧＬＶ）を複数ならべて二次元状に構成したものを用いることもできる。これらの反射型空間光変調素子（ＧＬＶ）や透過型空間光変調素子（ＬＣＤ）を使用する構成では、上記したレーザの他にランプ等も光源として使用可能である。
【０１３９】
また、上記各実施の形態における光源としては、合波レーザ光源を複数備えたファイバアレイ光源、１個の発光点を有する単一の半導体レーザから入射されたレーザ光を出射する１本の光ファイバを備えたファイバ光源をアレイ化したファイバアレイ光源、複数の発光点が二次元状に配列された光源（たとえば、ＬＤアレイ、有機ＥＬアレイ等）、等が適用可能である。
【０１４０】
さらに、上記各実施の形態の画像記録装置１００は、上述したプリント配線板の製造工程におけるドライ・フィルム・レジスト（ＤＦＲ；Ｄｒｙ  Ｆｉｌｍ  Ｒｅｓｉｓｔ）の露光の他、液晶表示装置（ＬＣＤ）の製造工程におけるカラーフィルタの形成、ＴＦＴの製造工程におけるＤＦＲの露光、プラズマ・ディスプレイ・パネル（ＰＤＰ）の製造工程におけるＤＦＲの露光等の用途に好適に用いることができる。
【０１４１】
また、上記各実施の形態では、本発明の基準マークとして４個の位置決め穴１５０Ａを適用した場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、５個以上の位置決め穴を適用する形態とすることもできる。
【０１４２】
特に、一例として図１１に示すように、位置決め穴１５０ＡをＰＷＢ１５０の周辺部における８箇所に設け、これらの位置決め穴１５０Ａを本発明の基準マークとして適用することによって樽型の変形に対応することができ、より高精度な変形処理が可能となる。なお、この場合、各位置決め穴１５０Ａの中央に仮想的に位置決め穴１５０Ａを設け、合計９個の位置決め穴１５０Ａによって４つの変形四角形領域に分割し、各分割領域毎に本実施の形態と同様の処理を行う。
【０１４３】
また、上記第１の実施の形態では、ＰＷＢ１５０の量産時における処理（図７参照。）において、各積層毎に逆変形処理を行う場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、１層目についてのみ逆変形処理を行い、２層目以降については、毎回位置決め穴１５０Ａの位置を検出し、当該位置を示す位置情報をコントロールポイントとして（２）式を適用することにより、前回までの積層によるＰＷＢの変形状態に応じて記録される配線パターンが変形するようにラスターデータを変換する形態とすることもできる。
【０１４４】
この場合、２層目以降のＰＷＢへの記録対象となるラスターデータについては、一例として図８に示すように、変形前の座標空間内における画像を、変形後の座標空間内における画像に変換する。具体的には、座標Ｓ（ｕ，ｖ）の画素データとして、変形前の画像における座標（ｕ，ｖ）の画素データを適用すればよい。
【０１４５】
このように、最終的な記録媒体の前記変形情報を予め取得しておき、１層目の記録媒体への記録対象となる前記画像情報については、取得された前記変形情報に基づいて、前記最終的な記録媒体に記録された画像が当該画像情報により示される画像と同一形状となるように当該画像情報を変換し、２層目以降の記録媒体への記録対象となる前記画像情報については、前回までの積層による前記記録媒体の変形状態に応じて、記録される画像が変形するように当該画像情報を変換し、前記記録媒体の各積層毎に、前記変換手段により変換された対応する前記画像情報に基づいて前記記録媒体に画像を記録するものとすることによっても、前記記録媒体を複数積層させることにより最終的な記録媒体を作成する場合で、かつ各記録媒体の積層のたびに積層後の記録媒体が変形する場合において、画像の理想位置からの記録位置ずれを抑制しつつ、記録媒体が任意形状に変形する場合における画像の記録位置ずれを補正することができる。
【０１４６】
また、上記各実施の形態では、本発明の基準マークとして位置決め穴１５０Ａを適用した場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、基準位置を示す溝、記号、文字、図形等の他のマークを適用する形態とすることもできる。この場合も、上記各実施の形態と同様の効果を奏することができる。
【０１４７】
また、上記各実施の形態では、ＰＷＢ１５０のステージ１５２上における配置位置のずれに対処するための補正を行う場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、当該配置位置ずれが所定許容範囲内である等の場合には、当該補正処理を行わない形態とすることもできる。この場合は、当該補正処理を行うための演算負荷を削減することができる。
【０１４８】
また、上記各実施の形態では、ＦＦＤ法を利用して逆変形処理を行う場合について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、従来既知のアフィン変換や、共一次変換を利用して逆変形処理を行う形態とすることもできる。この場合も、上記各実施の形態と同様の効果を奏することができる。
【０１４９】
また、上記各実施の形態で説明した画像記録装置１００の構成（図１〜図５参照。）は一例であり、本発明の主旨を逸脱しない範囲内において適宜変更可能であることは言うまでもない。
【０１５０】
更に、上記各実施の形態において説明した画像記録装置１００の試作時における処理の流れや量産時における処理の流れ、基板１ロット製造処理、変形量データ導出処理及び基板製造処理の流れ（図６、図７、図１２〜図１４参照。）も一例であり、本発明の主旨を逸脱しない範囲内において適宜変更可能であることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【０１５１】
【図１】実施の形態に係る画像記録装置の外観を示す斜視図である。
【図２】実施の形態に係る画像記録装置の記録ヘッドの構成を示す斜視図である。
【図３】（Ａ）はＰＷＢに形成される露光済み領域を示す平面図であり、（Ｂ）は各露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す図である。
【図４】記録素子ユニットのドット配列状態を示す平面図である。
【図５】実施の形態に係る画像記録装置におけるＰＷＢに対する露光制御を行うための機能的なブロック図である。
【図６】第１の実施の形態に係る画像記録装置のＰＷＢの試作時における処理の流れを示すフローチャートである。
【図７】第１の実施の形態に係る画像記録装置のＰＷＢの量産時における処理の流れを示すフローチャートである。
【図８】実施の形態に係る逆変形処理の説明に供する説明図である。
【図９】実施の形態に係る逆変形処理の説明に供する他の説明図である。
【図１０】実施の形態に係る画像記録装置の作用の説明に供する説明図である。
【図１１】実施の形態の変形例の説明に供する説明図である。
【図１２】第２の実施の形態に係る画像記録装置の１ロット分のＰＷＢの製造時における処理の流れを示すフローチャートである。
【図１３】第２の実施の形態に係る画像記録装置の変形量データ導出処理の実行時における処理の流れを示すフローチャートである。
【図１４】第２の実施の形態に係る画像記録装置の基板製造処理の実行時における処理の流れを示すフローチャートである。
【図１５】実施の形態に係る画像記録装置におけるＰＷＢに対する露光制御を行うための機能的なブロック図の変形例である。
【符号の説明】
【０１５２】
１００    画像記録装置
１０６    基板歪補正画像処理部（取得手段、変換手段）
１５０    ＰＷＢ（記録媒体）
１５０Ａ    位置決め穴（基準マーク）
１６２    記録ヘッド（記録手段）
１６４    カメラ
【図１】
2005157326.tif 000005
【図２】
2005157326.tif 000006
【図３】
2005157326.tif 000007
【図４】
2005157326.tif 000008
【図５】
2005157326.tif 000009
【図６】
2005157326.tif 000010
【図７】
2005157326.tif 000011
【図８】
2005157326.tif 000012
【図９】
2005157326.tif 000013
【図１０】
2005157326.tif 000014
【図１１】
2005157326.tif 000015
【図１２】
2005157326.tif 000016
【図１３】
2005157326.tif 000017
【図１４】
2005157326.tif 000018
【図１５】
2005157326.tif 000019