(57)【要約】【課題】必要最低限の純水供給を確保した効率の良い純水供給システムを提供する。【解決手段】恒常的に稼働されるウエハー処理設備３０については第１の純水供給管５０から、一定の流量と圧力を有した二次純水が優先的に供給される。一方、非恒常的に稼働されるメンテナンス用設備３１には、第１の純水供給管５０のリターン管５０ａから分岐された第２の純水供給管５１から余剰の純水が供給される。第１の純水供給管５０のリターン管５０ａには流量計５２が設けられ、その計測値に応じて、第２の純水供給管５１に設けられた自動制御バルブ５３の開口度が制御装置５４によって自動制御される。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
純水システムと、
前記純水システムから純水が供給される第１の純水供給管と、
前記第１の純水供給管を介して純水が供給される第１の設備と、
前記第１の純水供給管のリターン管から分岐された第２の純水供給管と、
前記第２の純水供給管を介して純水が供給される第２の設備と、
前記第１の純水供給管のリターン管を流れる純水の流量を計測する流量計と、
前記第２の純水供給管に設けられた自動調整バルブと、
前記流量計で計測された純水の流量に応じて、前記自動バルブの開口度を制御する制御装置と、を具備することを特徴とする純水供給システム。
【請求項２】
前記第１の純水供給管のリターン管及び前記第２の純水供給管のリターン管に流れる純水を貯留すると共に、前記純水システムに連結された純水タンクを有することを特徴とする請求項１記載の純水供給システム。
【請求項３】
前記第１の設備は、恒常的に稼働する設備であることを特徴とする請求項１記載の純水供給システム。
【請求項４】
前記第２の設備は、非恒常的に稼働する設備であることを特徴とする請求項１記載の純水供給システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造工場や薬品製造工場等において利用される純水供給システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
図２は従来例に係る半導体製造工場における純水供給システムを示す図である。
１０は一次純水システムであり、原水（水道水や井戸水等）から一次純水を生成する。この一次純水は二次純水システム２０に供給される。二次純水システム２０は、純水タンク２１と、これに連結された二次純水製造装置２２から構成されている。純水タンク２１は、一次純水を貯留する。そして、純水タンク２１内で一定量を超えた一次純水は、二次純水製造装置２２に自動的に供給されるように構成されている。
【０００３】
二次純水製造装置２２によって生成された二次純水は純水供給管２３を流れ、純水供給管２３から分岐した第１の分岐管２４ａ，２５ａを介して、ウエハー処理設備３０、メンテナンス用設備３１にそれぞれ供給される。ウエハー処理設備３０は、例えばウエハー洗浄装置であり、メンテナンス用設備３１は、例えば熱処理装置で用いられる石英管の洗浄装置、あるいはＣＭＰ装置やレジストコーター内に併設された洗浄ユニット等であり、いずれも洗浄処理のために純水の供給を必要とする設備である。ウエハー処理設備３０は、恒常的に稼働される設備であり、一方メンテナンス用設備は、非恒常的に稼働される（メンテナンス時のみ）設備である。
【０００４】
ウエハー処理設備３０、メンテナンス用設備３１の直前には、それぞれ自動バルブ２６、２７が設けられ、それぞれの設備が稼働している時には開き、稼働していない時には閉じるように自動制御されている。また、自動バルブ２６、２７の手前の第１の分岐管２４ａ，２５ａから、第２の分岐管２４ｂ，２５ｂが分岐され、純水供給管２３から純水タンク２１への帰路を構成するリターン管２３ａにそれぞれ連結されている。
【０００５】
第２の分岐管２４ｂ，２５ｂを設けているのは、自動バルブ２６、２７が閉じられている時でも常時一定量の二次純水を第１の分岐管２４ａ，２５ａに流し、管内に雑菌等が繁殖するのを防止するためである。また、ウエハー処理設備３０、メンテナンス用設備３１で使用済みの二次純水は排水管４０を経由して外部へ排水される。
【０００６】
ところで、純水供給システムのトータルの純水供給量は、各設備への純水供給量を見積もって決定する必要がある。そこで、ウエハー処理設備３０とメンテナンス用設備３１とが同時に稼働する場合があることを考慮して経験的に純水供給量を決定していた。
【０００７】
なお、関連する先行技術文献には、以下の特許文献が挙げられる。
【特許文献１】特開平６−５５１７１号公報
【特許文献１】特開平６−１３４４５７号公報
【特許文献１】特開平９−２５３６２３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
従来の純水供給システムでは、ウエハー処理設備３０とメンテナンス用設備３１への純水供給は同じ純水供給管２３を通して行われ、それぞれ一定の流量、一定の圧力が確保されていた。このため、メンテナンス設備３１が稼働する際に、ウエハー処理設備３０への純水供給不足を防ぐために、１次純水システム１０及び二次純水システム２０の純水供給能力を相当高くしなければならず、これらの純水システム設備の大型化、高コスト化を招いていた。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
そこで、本発明の純水供給システムは、メンテナンス用設備３１に供給される純水は、多少の圧力変動や流量変動があっても問題がない点に着目したものであり、その特徴とするところは、第１の純水供給管のリターン管から第２の純水供給管を分岐させ、リターン管の純水の流量を流量計で計測しながら、第２の純水供給管からメンテナンス用設備への純水供給量を制御するようにした点である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、メンテナンス用設備等の非恒常的に使用される設備への純水供給については、恒常的に稼働される設備への純水供給に余裕がある場合に行われるように制御されるので、恒常的に稼働される設備への純水供給量を確保した効率の良い純水システムを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
次に、本発明を実施するための形態について図面を参照しながら説明する。図１は、本発明を実施するための最良の形態に係る純水供給システムを示す図である。なお、図１において図２と同一の構成部分については同一の符号を付して説明を省略する。
【００１２】
この純水供給システムでは、二次純水製造装置２２で生成された二次純水は第１の純水供給管５０に流入する。そして、第１の純水供給管５０を流れる純水は従来例と同様にして、ウエハー処理設備３０に供給される。
【００１３】
第１の純水供給管５０のリターン管５０ａからは、第２の純水供給管５１が分岐され、この第２の純水供給管５１から更に分岐した第１の分岐管２５ａを介して、リターン管５０ａに流れる余剰の純水がメンテナンス用設備３１に供給される。第１の分岐管２５ａから分岐した第２の分岐管２５ｂは第２の純水供給管５１のリターン管５１ａに連結され、第１の分岐管２５ａに流れる純水の一部が第２の分岐管２５ｂを通ってリターン管５１ａに流入するように構成されている。
【００１４】
また、メンテナンス用設備３１への純水供給を制御するために次の構成が採用されている。すなわち、第１の純水供給管５０のリターン管５０ａには流量計５２が設けられ、この流量計５２の下流のリターン管５０ａから分岐した第２の純水供給管５１の分岐点近傍に、自動制御バルブ５３が設けられている。また、この自動制御バルブ５３の開口度は、流量計５２で計測された純水の流量に応じて、マイクロコンピュータ等の制御装置５４によって自動制御される。
【００１５】
ここで、自動制御バルブ５３は、流量計で計測された純水の流量が多いときはその開口度が大きくなるように制御され、逆に、流量が少ないときはその開口度が小さくなるように制御される。流量が少ないときでも開口度をゼロにすることはなく、雑菌等の繁殖を防止するために最低限の純水が第２の純水供給管５１に流れるように制御される。
【００１６】
また、第１の純水供給管５０のリターン管５０ａ、第２の純水供給管５１のリターン管５１ａはいずれも純水タンク２１に連結されている。
【００１７】
この純水供給システムによれば、恒常的に稼働されるウエハー処理設備３０については第１の純水供給管５０から、一定の流量と圧力を有した二次純水が優先的に供給され、非恒常的に稼働されるメンテナンス用設備３１には、第１の純水供給管５０のリターン管５０ａから分岐された第２の純水供給管５１から余剰の二次純水が供給されるように構成しているので、必要最低限の純水供給を確保した効率の良い純水供給システムを提供することができる。
【００１８】
なお、上記の形態では、本発明の半導体製造工場への適用例について説明したが、本発明はこれに限られることなく、純水供給を必要とするすべての施設、例えば薬品製造工場等に適用できるものである。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明を実施するための最良の形態に係る純水供給システムを示す図である。
【図２】従来例に係る純水供給システムを示す図である。
【符号の説明】
【００２０】
１０  一次純水システム        ２０  二次純水システム      ２１  純水タンク
２２  二次純水製造装置        ２４ａ、２５ａ  第１の分岐管    
２４ｂ、２５ｂ  第２の分岐管  ２６、２７  自動バルブ          
３０  ウエハー処理設備        ３１  メンテナンス用設備    ５０  第１の純水供給管５０ａ  第１の純水供給管のリターン管                      ５１  第２の純水供給管５１ａ  第２の純水供給管のリターン管      
５２  流量計                  ５３  自動制御バルブ        ５４  制御装置
【図１】
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【図２】
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