(57)【要約】【課題】  基板の表裏に描画される回路パターンの位置合わせ精度を向上しつつ、露光工程に要する時間を短縮する。【解決手段】  両面露光装置１０は、被描画体上面１６Ｕを第１走査光源ユニット１２により、被描画体下面１６Ｄを第２走査光源ユニット１３により同時に露光させる。そして、第１及び第２走査光源ユニット１２、１３から照射されるレーザ光の照射位置を、第１ＣＣＤカメラ４７と第２ＣＣＤカメラ４９とによりそれぞれ同時に撮影することにより、被描画体上面１６Ｕ上の露光点Ｐ1と、被描画体下面１６Ｄ上の露光点Ｐ2の位置を確認する。露光点Ｐ1及びＰ2の位置に基づいて、必要に応じて第１及び第２反射鏡３６、３８を制御してレーザ光の光路を調整し、露光点Ｐ1及びＰ2の位置を最適化する。両面露光装置による露光は、被描画体１６を反転させることなく両面同時に進行するために、短時間で行われる。【選択図】        図２
2005121959.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つの面を有する被描画体を、所定の位置に保持する被描画体保持ユニットと、
前記被描画体の２つの面に設けられた露光領域に光を照射するための光源と、
前記光源から照射された光を主走査方向に走査させる光走査ユニットと、
前記光走査ユニットにより走査された光が、前記被描画体に照射される位置を確認する光路確認手段と、
前記被描画体への光の照射位置を調整する光路調整手段と
を備え、前記被描画体の２つの面の副走査方向の照射位置を一致させて同時に露光することが可能であることを特徴とする両面露光装置。
【請求項２】
前記被描画体保持ユニットが、前記露光領域を露出しつつ、前記光源から照射される光の光路に対して前記被描画体の全面が垂直になるように前記被描画体を保持することを特徴とする請求項１に記載の両面露光装置。
【請求項３】
前記被描画体保持ユニットが複数設けられ、前記被描画体保持ユニットの全てが独立に相対移動して、前記被描画体を一定の張力で保持することを特徴とする請求項２に記載の両面露光装置。
【請求項４】
前記被描画体保持ユニットが、前記副走査方向に沿って往復動自在であることを特徴とする請求項２に記載の両面露光装置。
【請求項５】
前記被描画体保持ユニットが、前記被描画体の両端部に接する複数の保持部材を有することを特徴とする請求項２に記載の両面露光装置。
【請求項６】
前記保持部材の位置が、前記被描画体の大きさに応じて調整可能であることを特徴とする請求項５に記載の両面露光装置。
【請求項７】
前記保持部材が、ロボットハンドにより構成されることを特徴とする請求項５に記載の両面露光装置。
【請求項８】
前記被描画体保持ユニットが、前記被描画体を保持する張力を一定に保つための張力調整機構をさらに有することを特徴とする請求項２に記載の両面露光装置。
【請求項９】
前記被描画体表面を保持しつつ、前記被描画体を前記被描画体保持ユニットに供給する被描画体供給ユニットをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の両面露光装置。
【請求項１０】
前記被描画体供給ユニットが、前記被描画体表面に接する接触部材を有することを特徴とする請求項９に記載の両面露光装置。
【請求項１１】
前記接触部材の位置が、前記被描画体の大きさに応じて調整可能であることを特徴とする請求項１０に記載の両面露光装置。
【請求項１２】
前記接触部材が、多孔質素材から成形された吸着板であり、前記吸着板の内部を減圧することにより前記被描画体を保持することを特徴とする請求項１０に記載の両面露光装置。
【請求項１３】
前記吸着板の内部を部分的に減圧するため、前記吸着板が分室構造であることを特徴とする請求項１２に記載の両面露光装置。
【請求項１４】
前記光源を移動させる光源移動ユニットをさらに有し、
前記光源が多数の変調素子により形成され、前記光源と前記光源移動ユニットとを含む投影光源ユニットが、走査光を照射することを特徴とする請求項１に記載の両面露光装置。
【請求項１５】
前記光路確認手段により、前記被描画体の２つの面に設けられた前記露光領域における副走査方向の光の照射位置が同時に確認されることを特徴とする請求項１に記載の両面露光装置。
【請求項１６】
前記被描画体が帯状であって、前記被描画体をロール状に巻き取るローラ部材をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の両面露光装置。
【請求項１７】
前記被描画体を、前記被描画体保持ユニットにより一定の張力で保持しつつ前記ローラ部材により巻き取りながら、前記露光領域に光を照射することを特徴とする請求項１６に記載の両面露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の表裏に回路パターンを作画する露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
通常、プリント基板は、絶縁材料の板の表裏に銅等の導電材料により回路パターンを作成してある内層板を、積層させることにより製作される。回路パターンを形成するため、例えば直接描画法においては、銅張積層板にフォトレジストを塗布、あるいはラミネートし、その表面においてパターンに相当する部分にレーザ光を照射して硬化させ、後処理において、硬化した部分以外が除去される。
【０００３】
複数の回路パターンが重ね合わせられる、いわゆる多層基板等においては、異なる層に作画される回路パターン同士を正確に対応させることが重要であり、このためには高い位置合わせ精度が必要とされる。このため、従来、対応させる基板のそれぞれに位置決めマークを描画するか、または位置決め用の穴を空け、それらをカメラ等で撮影し、これらの基板の相対的な位置データにより、回路パターンが所定の位置に描画されるように制御される（例えば特許文献１）。
【特許文献１】特開平１１−９５４５２号公報（段落［０００３］）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
基板の両面に回路パターンを形成する場合、基板を裏返す工程が必要になるため、表面と裏面でそれぞれ基板の位置決めマーク等を計測する必要があり、また、基準となる基板の位置決め用のマークは、表裏それぞれで異なり、また穴では表裏で見え方が異なる場合があり誤差が積算されてしまうといった問題がある。さらに、基板の裏返し工程により、露光工程全体に要する時間が長くなるといった問題もある。
【０００５】
そこで本発明は、基板の表裏に描画される回路パターンの位置合わせ精度の向上と、露光工程に要する時間の短縮を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の両面露光装置は、板状、フィルム状、帯状など少なくとも２つの面を有する形態である被描画体の２つの面に対して露光を行う。この両面露光装置は、被描画体を所定の位置に保持する被描画体保持ユニットと、被描画体の２つの面に設けられた露光領域に光を照射するための光源と、光源から照射された光を主走査方向に走査させる光走査ユニットと、光走査ユニットにより走査された光が、被描画体に照射される位置を確認する光路確認手段と、被描画体への光の照射位置を調整する光路調整手段とを備え、被描画体の２つの面の副走査方向の照射位置を一致させて同時に露光することが可能である。
【０００７】
前記被描画体保持ユニットが、露光領域を露出しつつ、光源から照射された光の光路に対して、被描画体の全面が垂直になるように被描画体を保持することが好ましい。
【０００８】
両面露光装置には、例えば被描画体保持ユニットが複数設けられる。この場合、これらの被描画体保持ユニットの全てが独立に相対移動することにより、被描画体を一定の張力で保持することが好ましい。そして、被描画体保持ユニットは、所定の方向（副走査方向）に沿って往復動自在であることが好ましい。
【０００９】
また、被描画体保持ユニットは、被描画体の両端部に接する複数の保持部材を有することが好ましく、さらにこの場合、保持部材の位置は、被描画体の大きさに応じて調整可能であることが望ましい。例えば、保持部材はロボットハンドにより構成される。
【００１０】
被描画体保持ユニットは、被描画体を保持する張力を一定に保つための張力調整機構をさらに有することが好ましい。張力調整機構としては、例えばバネが用いられる。
【００１１】
両面露光装置は、感光性などの表面特性を損なうことなく被描画体を保持しつつ、被描画体を被描画体保持ユニットに供給するための被描画体供給ユニットをさらに有していることが好ましい。被描画体供給ユニットは、被描画体表面に接する複数の、あるいは１つの接触部材を含んでいることが好ましく、この場合、接触部材の位置は、被描画体の大きさに応じて調整可能であることが望ましい。接触部材は、例えば多孔質素材から成形された吸着板であって、吸着板の内部を減圧することにより被描画体を保持する。この吸着板の内部は、部分的に減圧するために分室構造であっても良い。
【００１２】
両面露光装置は、光源を移動させる光源移動ユニットをさらに有していて、多数の変調素子により形成された光源と光源移動ユニットとを含む投影光源ユニットが、走査光を被描画体に照射することが望ましい。
【００１３】
両面露光装置は、被描画体の２つの面に設けられた露光領域における副走査方向の光の照射位置が、光路確認手段により同時に確認されることがより望ましい。光路確認手段としては、例えば、被描画体の両面の露光領域における照射位置を同時に撮影するＣＣＤカメラが用いられる。この場合、露光位置のずれを測定するためのスケールと共に露光位置を撮影し、検出された露光位置をチャート上に表示することが好ましい。
【００１４】
被描画体は、例えば帯状であって、この場合、被描画体をロール状に巻き取るローラ部材を両面露光装置がさらに有していることが好ましい。そして、この被描画体を、被描画体保持ユニットにより一定の張力で保持しつつローラ部材により巻き取りながら、被描画体両面の露光領域に光を照射することが好ましい。
【００１５】
本発明の両面露光装置による、表裏の面に同時に回路パターンを露光する描画においては、被描画体の反転時に生じうる位置ずれを抑制できる。さらに、両面の照射位置を同時に直接確認するため、従来の位置決めマークによる間接的な位置補正よりも精度の高い位置合わせが可能となる。また、表裏の露光を同時に進められるため、露光工程に要する時間が大幅に短縮される。
【発明の効果】
【００１６】
以上のように本発明によれば、両面露光装置を用いて、描画における表裏の位置合わせ精度の向上と、露光工程に要する時間の短縮を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明の第１の実施形態を、図面を参照して説明する。図１は、両面露光装置の一部を概略的に示す斜視図である。
【００１８】
両面露光装置１０は、第１走査光源ユニット１２、第２走査光源ユニット１３、レールガイド１４、光路調整ユニット（図示せず）、及び被描画体供給ユニット（図示せず）を含む。そして、第１及び第２走査光源ユニット１２、１３から放射されたレーザ光ＬＢは、光路調整ユニットにより光路調整される。一方、プリント基板である被描画体１６は、その両面に露光される領域（以下露光領域という）を備えており、レーザ光ＬＢを同時に２方向から照射される。
【００１９】
レールガイド１４の上面１４Ｕには、第２走査光源ユニット１３から照射されるレーザ光ＬＢを通過させるために、その中央領域に穴１４Ｈが設けられている。また、レールガイド上面１４Ｕには、被描画体１６の両端を固定するための第１被描画体保持ユニット１８及び第２被描画体保持ユニット２０が設置される。さらに、これらの第１及び第２被描画体保持ユニット１８、２０が、副走査方向（レールガイド上面１４Ｕの長手方向）に移動するための第１〜第４ガイドレール２２〜２５が設けられている。
【００２０】
第１及び第２被描画体保持ユニット１８、２０は、図示しない駆動手段（例えば、モータ）によって、想像線で示す被描画体固定位置と、実線で示す露光位置の間を往復自在に移動する。第１及び第２被描画体保持ユニット１８、２０が、被描画体固定位置において被描画体供給ユニットから被描画体１６を受取ると、被描画体１６表面の露光領域を露出させながら、被描画体１６の全面が照射されるレーザ光ＬＢの光路に対して垂直になるように保持しつつ、露光位置に向かって移動し、一定速度で移動しながら露光処理が行われ、露光が終了すると再び被描画体固定位置に戻る。なお、第１走査光源ユニット１２、第２走査光源ユニット１３、レールガイド１４、及び被描画体供給ユニットの動作は、描画制御部３０によって制御される。
【００２１】
図２は、両面露光装置の側面図である。
【００２２】
第１及び第２被描画体保持ユニット１８、２０は、レールガイド１４の第１〜第４ガイドレール２２〜２５に沿って独立に相対移動可能であり、これにより被描画体１６を適当な張力によって保持しながら運ぶことができる。
【００２３】
第１走査光源ユニット１２は、光源１１からのレーザ光を、副走査方向に直交する主走査方向に走査する走査光に変換するための光走査ユニットであり、レーザ光を変調するための変調素子である第１音響光学素子４２、レーザ光を主走査方向に走査させるための第１ポリゴンミラー２６、及び第１ｆθレンズ３２を備えている。同様に第２走査光源ユニット１３は、第２音響光学素子４４、第２ポリゴンミラー２８、及び第２ｆθレンズ３４を備えている。
【００２４】
光源１１から照射されるレーザ光ＬＢは、ビームスピリッタ２７によって２つのレーザ光ＬＢ1とＬＢ2とに分割され、レーザ光ＬＢ1はさらにビームベンダ２９によって光路を変更される。レーザ光ＬＢ1は第１音響光学素子４２に入射し、変調された後に、第１ポリゴンミラー２６に照射される。そして、レーザ光ＬＢ1は第１ｆθレンズ３２を経て、光路調整ユニットである第１反射鏡３６によって反射され、被描画体１６の上面１６Ｕに照射される。一方、レーザ光ＬＢ2は、第２音響光学素子４４によって変調されて第２ポリゴンミラー２８に照射され、第２ｆθレンズ３４を経て光路調整ユニットである第２反射鏡３８によって反射され、被描画体の下面１６Ｄに照射される。こうして両面の露光が同時に進行し、さらに被描画体の反転工程が不要となるため、露光は短時間で行われる。
【００２５】
第１及び第２走査光源ユニット１２、１３によって走査されるレーザ光ＬＢ1、ＬＢ2の照射範囲は、被描画体上面１６Ｕ、被描画体下面１６Ｄに限られず、第１ガイドレール２２からレールガイド上面１４Ｕの端部（図２の被描画体１６より紙面奥側）にかけても及ぶ。そして、第１ガイドレール２２と、レールガイド上面１４Ｕの第１ガイドレール２２側の端部との間の領域には、保持された被描画体１６よりもわずかに高い位置に第１ハーフプリズム３７、被描画体１６よりもわずかに低い位置に第２ハーフプリズム３９が設けられている。また、第１ハーフプリズム３７と第２ハーフプリズム３９との間には、光を透過しない仕切り板（図示せず）が、被描画体１６と平行で、且つ同じ高さになるように設けられている。第１及び第２走査光源ユニット１２、１３からのレーザ光ＬＢ1、ＬＢ2の一部は、それぞれ第１及び第２ハーフプリズム３７、３９に入射し、それぞれ仕切り板に達する。これらの仕切り板に達した入射光の一部は、仕切り板上で入射方向に対して垂直に反射され、それぞれ第１及び第２ハーフプリズム３７、３９を再び経由して、レーザ光ＬＢ1’、ＬＢ2’として副走査方向に折り返される。
【００２６】
レーザ光ＬＢ1’及びＬＢ2’は、第１ＣＣＤカメラ４７、及び第２ＣＣＤカメラ４９にそれぞれ入射する。第１及び第２ＣＣＤカメラ４７、４９は、第１及び第２ハーフプリズム３７、３９とそれぞれほぼ同じ高さにあり、光学系の光軸が副走査方向に平行となるように配置されている。
【００２７】
第１及び第２ＣＣＤカメラ４７、４９はレーザ光ＬＢ1’及びＬＢ2’を、それぞれ同時に撮影する。これらのレーザ光ＬＢ1’及びＬＢ2’は、主走査方向に走査されるレーザ光ＬＢ1及びＬＢ2の一部を、副走査方向に折り返したものであるため、レーザ光ＬＢ1’及びＬＢ2’のビーム位置を同時に測定、比較することにより、レーザ光ＬＢ1及びＬＢ2の、副走査方向のビーム位置が一致しているか否かが判断される。そして、第１及び第２ＣＣＤカメラ４７、４９によって確認されたレーザ光ＬＢ1とレーザ光ＬＢ2とのビーム位置の位置関係は、露光点Ｐ1とＰ2の位置関係と一致するため、被描画体上面１６Ｕと被描画体下面１６Ｄとにおける副走査方向の照射位置（露光点Ｐ1、Ｐ2）が一致しているか否か、も判断される。
【００２８】
副走査方向のビーム位置測定結果により、露光点Ｐ1、Ｐ2の位置が所定の許容範囲を越えてずれており、露光点Ｐ1、Ｐ2の位置を変更する必要があると判断されると、描画制御部３０により制御される第１及び第２反射鏡３６、３８が、光路を変更する。この光路変更後に、第１及び第２ＣＣＤカメラ４７、４９によりレーザ光ＬＢ1’及びＬＢ2’のビーム位置を再測定することにより、露光位置の最適化が確かめられる。このように両面露光においては、被描画体上面１６Ｕと被描画体下面１６Ｄの副走査方向の照射位置（露光点Ｐ1、Ｐ2）が略同一となるため、位置決めマーク等は不要であり、位置合わせ精度が高まる。
【００２９】
図３は、被描画体供給ユニット５０による両面露光装置１０への被描画体１６の供給動作を示す側面図である。
【００３０】
被描画体供給ユニット５０は、被描画体１６を第１及び第２被描画体保持ユニット１８、２０へ供給する。被描画体供給ユニット５０は、被描画体１６に接する第１接触部材５２と第２接触部材５４とを有する。ここでは、第１及び第２接触部材５２、５４は、多孔質素材から成形された吸着板であって、被描画体供給ユニット５０内の減圧ポンプ（図示せず）によって減圧されることにより、被描画体１６を吸着して保持する。被描画体１６の表面の感光性等の表面特性を保護するため、第１及び第２接触部材５２、５４の接触面は滑らかになっている。第２接触部材５４の位置は被描画体１６の大きさによって調節可能であり、描画制御部３０の指示に基づいて、位置可変機構部５６によって、調整される。また、第１及び第２接触部材５２、５４の内部は、部分的な減圧を可能にするため分室構造となっており、基板の大きさや重量に応じて減圧度が調整される。
【００３１】
第１被描画体保持ユニット１８と第２被描画体保持ユニット２０とは、被描画体１６の露光領域に含まれない端部を保持するために、第１保持部材５８と第２保持部材６０とをそれぞれ有する。第１及び第２保持部材５８、６０は、ここでは開閉自在なロボットハンドによって構成されていて、描画制御部３０の指示に基づいて、被描画体１６を受取る際に自動的に開かれ、被描画体１６を保持するためにやはり自動的に閉じられる。
【００３２】
図４は、両面露光装置１０の平面図である。
【００３３】
レールガイド上面１４Ｕには、第１リニアモータ６２及び第２リニアモータ６４が設けられ、さらに第１リニアモータ６２に沿って第１ガイドレール２２及び第２ガイドレール２３が、第２リニアモータ６４に沿って第３ガイドレール２４及び第４ガイドレール２５が設けられている。第１及び第２被描画体保持ユニット１８、２０は、第１及び第２リニアモータ６２、６４により、レールガイド１４上を移動する。なお、先述のように、第１ガイドレール２２からレールガイド上面１４Ｕの端部との間の領域には、保持された被描画体１６よりもわずかに高い位置に第１ハーフプリズム３７と、第１ＣＣＤカメラ４７とが設けられている。なお、第２ハーフプリズム３９（図示せず）と、第２ＣＣＤカメラ４９（図示せず）とは、それぞれ第１ハーフプリズム３７と、第１ＣＣＤカメラ４７との直下に設けられている。
【００３４】
被描画体１６の輪郭を形成する辺のうち、第１及び第２保持部材５８、６０によって保持される２辺は、いずれも第１及び第２保持部材５８、６０間に生じる張力によって、その全長に渡って均等に保持される。すなわち、被描画体１６は、主走査方向（第１及び第２保持部材５８、６０に平行な方向）全域に渡って、副走査方向に働く張力が均等になるように安定して保持されるため、露光のための移動は、被描画体１６が安定した状態で行われ、描画される回路パターンの位置合わせ精度が良好となる。
【００３５】
第２被描画体保持ユニット２０は、第１ガイドレール２２及び第２ガイドレール２３に接しながら第２保持部材６０を支える第１レール係合部材８０と、第３ガイドレール２４及び第４ガイドレール２５に接しながら第２保持部材６０を支える第２レール係合部材８１とを含む。そして、第２被描画体保持ユニット２０の上面の両端付近には、凹部が設けられており、それぞれの凹部に、被描画体１６を保持するための張力を調整する第１及び第２張力保持機構４６、４８が設けられている。先述のように、第１及び第２被描画体保持ユニット１８、２０のそれぞれが独立に相対移動可能であるために、被描画体１６は適当な張力によって保持されるが、第１及び第２張力保持機構４６、４８により、更なる張力の微調整が可能となる。第１張力保持機構４６には、第１及び第２バネ６６、６７が、第２張力保持機構４８には、第３及び第４バネ６８、６９が、それぞれ設けられている。
【００３６】
図５は、第１張力保持機構４６の拡大図である。
【００３７】
第１張力保持機構４６は、第１及び第２バネ６６、６７の他に、ガイドピン８２と、ガイドピン８２を保持するための第１保持部材８４及び第２保持部材８６を含む。そして、第１保持部材８４と第１レール係合部材８０とは、第１固定具８８及び第２固定具９０により、一体的に固定されている。
【００３８】
図６は、図５のVI―VI線に沿った第１張力保持装置４６の断面図である。
【００３９】
ガイドピン８２の先端部８２Ｔは、第２被描画体保持ユニット２０を貫通して、第１レール係合部材８０に埋設されており、ガイドピン８２と第１レール係合部材８０とは固定されている。従って、第１レール係合部材８０、ガイドピン８２、及び第１保持部材８４は、互いに固定されていて、これらの位置関係は一定である。一方、第２保持部材８６は、第１及び第２バネ６６、６７によってのみ第２被描画体保持ユニット２０と連結されていて、第１及び第２バネ６６、６７の収縮、伸長に伴って、凹部底面２０Ｕ上を相対的に摺動可能である。また、第２被描体保持ユニット２０と第１レール係合部材８０との間には、ガイドピン８２とは独立に設けられた部材９２が配置されているため、第２被描体保持ユニット２０と第１レール係合部材８０とは直接、接触してはいない。このため、第２被描体保持ユニット２０は、第１レール係合部材８０上を副走査方向に移動可能である。
【００４０】
第１被描画体保持ユニット１８が被描画体１６を保持しつつ、矢印Ａが示す副走査方向の正の方向に第２被描体保持ユニット２０よりも速く移動することにより、必要以上に張力が大きくなると、この副走査方向の正の方向に働く張力は、被描画体１６を介して第２被描画体保持ユニット２０に伝わる。この結果、第２被描画体保持ユニット２０において、ガイドピン８２、第１及び第２バネ６６、６７を副走査方向の正の方向に押圧する力が生じるが、ガイドピン８２は第１レール係合部材８０及び第１保持部材８４と一体化されているため移動しない。従って、第２被描体保持ユニット２０は、第１及び第２バネ６６、６７を押圧しながら、第１レール係合部材８０上を副走査方向の正の方向に移動する。
【００４１】
その結果、第１及び第２バネ６６、６７が収縮する。この収縮により、矢印Ｂの示す、副走査方向の負の方向に第２被描画体保持ユニット２０を押圧する力が付勢され、先に生じた過剰な張力が相殺される。こうして被描画体１６を保持する張力は一定に保たれる。なお、第２張力保持装置４８は、第１張力保持装置４６と同様の構成である。また、先述のように、第１及び第２被描画体保持ユニット１８、２０のそれぞれが独立に相対移動可能であって、これらの移動が制御されることから、被描画体１６は適当な張力によって保持されるが、第１及び第２張力保持機構４６、４８によって更なる微調整が可能となる。
【００４２】
図７は、第２の実施形態における両面露光装置１０の側面図である。
【００４３】
本実施形態においては、帯状の被描画体１６をロール状に巻き取るための第１ローラ部材７０及び第２ローラ部材７２が設けられている。本実施形態における第１及び第２被描画体保持ユニット１８、２０は、フィルム状の被描画体１６を挟んで副走査方向に張力を保持するため、被描画体１６は、ここでも適当な張力によって保持されながら露光される。なお、本実施形態は、第１及び第２ローラ部材７０、７２が設けられ、被描画体供給ユニット５０が設けられていない点のみが、第１の実施形態との相違点である。
【００４４】
図８は、第３の実施形態における両面露光装置１０の側面図である。
【００４５】
本実施形態においては、ＤＭＤ等、マトリクス状に多数配置された変調素子により画像を形成する投影光学系を用いた第１光源７１と第２光源７４とが設けられている。そして、第１光源７１と、第１光源７１を主走査方向に移動させる第１モータ７６とにより、第１投影光源ユニット９４が形成される。同様に、第２光源７４と第２モータ７８とにより、第２投影光源ユニット９６が形成される。このように、投影光源が用いられる場合、光源移動ユニットのモータが回転することにより、照明光が、変調素子によって変調されながら主走査方向に沿って走査され、被描画体１６が露光される。また、投影光源である第１及び第２光源７１、７４として、ＬＥＤ等が用いられても良い。なお、本実施形態においては、投影光源ユニットの構成のみが第１の実施形態との相違点である。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】第１の実施形態における両面露光装置の一部を概略的に示す斜視図である。
【図２】両面露光装置の側面図である。
【図３】被描画体供給ユニットの側面図である。
【図４】両面露光装置の平面図である。
【図５】第１張力保持機構の拡大図である。
【図６】図５のVI―VI線に沿った第１張力保持装置の断面図である。
【図７】第２の実施形態における両面露光装置の側面図である。
【図８】第３の実施形態における両面露光装置の側面図である。
【符号の説明】
【００４７】
１０  両面露光装置
１１ 光源
１２  第１走査光源ユニット
１３  第２走査光源ユニット
１４  レールガイド
１６  被描画体
１８  第１被描画体保持ユニット
２０  第２被描画体保持ユニット
３６  第１反射鏡（光路調整ユニット・光路調整手段）
３７  第１ハーフプリズム（光路確認手段）
３８  第２反射鏡（光路調整ユニット・光路調整手段）
３９  第２ハーフプリズム（光路確認手段）
４６  第１張力保持機構（張力調整機構）
４７  第１ＣＣＤカメラ（光路確認手段）
４８  第２張力保持機構（張力調整機構）
４９  第２ＣＣＤカメラ（光路確認手段）
５０  被描画体供給ユニット
５２  第１接触部材
５４  第２接触部材
５８  第１保持部材（ロボットバンド）
６０  第２保持部材（ロボットバンド）
７１  第１光源
７４  第２光源
７６  第１モータ（光源移動ユニット）
７８  第２モータ（光源移動ユニット）
９４  第１投影光源ユニット
９６  第２投影光源ユニット
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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