(57)【要約】【課題】通常の長さの炉はもちろんのこと、炉長が長大化した場合であっても、簡単な構造で安定的にかつスムーズな動作でウォーキングビーム搬送を行うことができる処理材の炉内搬送装置を提供する。【解決手段】炉長方向に互いに間隔を隔てて配列されるポスト８を有する固定ビーム２とこれに対して上下動および前後動可能な可動ビーム３との間で移し替えをしながら、処理材Ｍをウォーキングビーム搬送するようにした熱処理炉４内に、可動ビームを支持しつつ前後動させるために、その下方から当接されかつ正逆回転駆動される回転ローラ５を、炉長方向に互いに間隔を隔ててかつ炉幅方向に炉を貫通させて設けるとともに、炉外であって当該炉の側方に、可動ビームを上下動させるために回転ローラを昇降させる昇降機構６を配置した。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
炉長方向に互いに間隔を隔てて配列される固定ビームとこれに対して上下動および前後動可能な可動ビームとの間で移し替えをしながら、処理材をウォーキングビーム搬送するようにした炉内に、該可動ビームを支持しつつ前後動させるために、その下方から当接されかつ正逆回転駆動される回転ローラを、炉長方向に互いに間隔を隔ててかつ炉幅方向に該炉を貫通させて設けるとともに、炉外であって当該炉の側方に、上記可動ビームを上下動させるために上記回転ローラを昇降させる昇降機構を配置したことを特徴とする処理材の炉内搬送装置。
【請求項２】
前記各固定ビームの高さと前記可動ビームの上昇高さとの相対高さ関係を、炉長方向に変更したことを特徴とする請求項１に記載の処理材の炉内搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、通常の長さの炉はもちろんのこと、炉長が長大化した場合であっても、簡単な構造で安定的にかつスムーズな動作でウォーキングビーム搬送を行うことができる処理材の炉内搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、フラットパネルディスプレイに代表されるガラスパネル等の比較的軽量な処理材を熱処理炉内で搬送する際には、ローラハース搬送やウォーキングビーム搬送によっている。ローラハース搬送は例えば特許文献１に示されているように、多数のローラを並設し、ローラを回転駆動することによってその上に搭載された処理材を移動させるものである。また、ウォーキングビーム搬送は例えば特許文献２や３に示されているように、固定ビームに対して可動ビームを上下動および前後動させたり、あるいは一対の可動ビームを所定の位相差で上下動および前後動させることにより、固定ビームと可動ビームとの間で、もしくは可動ビーム同士の間で処理材を移し替えしながら移動させるものである。
【特許文献１】特開２０００−１３０９５１号公報
【特許文献２】特開平５−８８３３号公報
【特許文献３】特開２０００−３３５７２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、ローラハース搬送では、並設されるローラが同一レベルとなるようにその据付精度を高く確保しないと、ローラに乗り移りながら移動する処理材が振動してしまい、この振動のために処理材に傷が付くおそれがある。しかしながら、多数のローラを高い据付精度で設置することは至難である。また他方、炉内雰囲気が相当高温になる熱処理炉の場合には、ローラの熱変形を防ぐ観点から、ローラを常時回転させておくことが好ましいが、このようにローラを継続的に回転させるとその上の処理材も同時に動いてしまうことから、処理材の搬送制御が難解になってしまうという不都合もあった。
【０００４】
他方、ウォーキングビーム搬送にあっては、ローラハース搬送に比べて振動が少なく、処理材を円滑に搬送することができる。しかしながら、炉長が長くなるにつれて、可動ビームの長さも長くなってそれ自体の自重やその上で搬送される処理材の重量なども嵩むようになる。このように可動ビームの負荷が大きくなると、これを増強することが必要になり、その結果として可動ビームが大型化し、熱処理炉を設計する上での制約となってしまう。
【０００５】
特許文献３では、可動ビームを支持しつつ昇降させるリフトローラおよびそれを振り動かすリフトシリンダー等を備え、リフトローラで可動ビームを支持することでその軽量化・小型化を図っている。しかしながら、特許文献３の開示によれば、炉床上にリフトローラを設置するとともに、炉床下にリフトシリンダー等を設置していて、このため当該炉床に別途、リフトシリンダーでリフトローラを振り動かすための貫通部分やこれを封止するためのシール機構など、複雑な構造を構築しなければならないという不利な点があった。
【０００６】
本発明は上記従来の課題に鑑みて創案されたものであって、通常の長さの炉はもちろんのこと、炉長が長大化した場合であっても、簡単な構造で安定的にかつスムーズな動作でウォーキングビーム搬送を行うことができる処理材の炉内搬送装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明にかかる処理材の炉内搬送装置は、炉長方向に互いに間隔を隔てて配列される固定ビームとこれに対して上下動および前後動可能な可動ビームとの間で移し替えをしながら、処理材をウォーキングビーム搬送するようにした炉内に、該可動ビームを支持しつつ前後動させるために、その下方から当接されかつ正逆回転駆動される回転ローラを、炉長方向に互いに間隔を隔ててかつ炉幅方向に該炉を貫通させて設けるとともに、炉外であって当該炉の側方に、上記可動ビームを上下動させるために上記回転ローラを昇降させる昇降機構を配置したことを特徴とする。
【０００８】
また、前記各固定ビームの高さと前記可動ビームの上昇高さとの相対高さ関係を、炉長方向に変更したことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明にかかる処理材の炉内搬送装置にあっては、通常の長さの炉はもちろんのこと、炉長が長大化した場合であっても、簡単な構造で安定的にかつスムーズな動作でウォーキングビーム搬送を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下に、本発明にかかる処理材の炉内搬送装置の好適な実施形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。本実施形態にかかる処理材の炉内搬送装置１は基本的には、図１および図２に示すように、炉長方向に互いに間隔を隔てて配列される固定ビーム２とこれに対して上下動および前後動可能な可動ビーム３との間で移し替えをしながら、処理材Ｍをウォーキングビーム搬送するようにした炉４内に、可動ビーム３を支持しつつ前後動させるために、その下方から当接されかつ正逆回転駆動される回転ローラ５を、炉長方向に互いに間隔を隔ててかつ炉幅方向に炉４を貫通させて設けるとともに、炉４外であって当該炉４の側方に、可動ビーム３を上下動させるために回転ローラ５を昇降させる昇降機構６を配置して構成される。
【００１１】
本実施形態にあっては、処理材Ｍとして比較的軽量なフラットパネルディスプレイを加熱処理する熱処理炉４が示されていて、この熱処理炉４は、相当の厚さの壁によって中空筒体状に区画形成され、その炉長方向両端には搬入口４ａと搬出口４ｂとが形成される。この熱処理炉４の炉内には、固定ビーム２が固定して設けられる。この固定ビーム２は、横ビーム７の上に、炉幅方向に一対並設されかつ炉長方向に互いに等しい間隔を隔てて配列される複数のポスト８を立設して構成される。また熱処理炉４には、搬入口４ａから搬出口４ｂへわたって炉１内を炉長方向に貫通する可動ビーム３が炉幅方向に一対設けられる。この一対の可動ビーム３は、固定ビーム２に対して、そしてまた熱処理炉４に対して、上下動および前後動可能に設けられる。
【００１２】
これら可動ビーム３の固定ビーム２に対する運動様態は、ウォーキングビーム搬送としてよく知られているもので、図１に示すように基本的には、可動ビーム３は固定ビーム２のポスト８の高さ位置よりも低い位置にある状態((ａ)参照)から、直上へポスト８の高さ位置よりも高い位置に達するまで上昇され、このときにポスト８上の処理材Ｍが可動ビーム３の方に移し替えされ((ｂ)参照)、次いで、上昇位置で、可動ビーム３は前進方向前方のポスト８上に処理材Ｍが移動する位置まで前進され((ｃ)参照)、次いで、前進位置で、可動ビーム３はポスト８の高さ位置よりも低い位置に達するまで下降され、このときに可動ビーム３上の処理材Ｍが固定ビーム２のポスト８の方に移し替えされ((ｄ)参照)、その後、下降位置で、可動ビーム３は前進量分だけ後進され((ｅ)参照)、次回の処理材Ｍの搬送に際してはこの後進位置から上昇されるようになっている((ａ)参照)。
【００１３】
そして可動ビーム３と固定ビーム２との間での上記移し替えに従って、処理材Ｍは順次熱処理炉４の搬入口４ａから搬出口４ｂへと向かって一定のピッチでピッチ搬送され、この搬送期間中に熱処理されるようになっている。
【００１４】
このようにして可動ビーム３および固定ビーム２が配設された熱処理炉４内には、ポスト８位置を避けて、炉長方向に互いに間隔を隔ててかつ炉幅方向に当該熱処理炉４を貫通させて、複数の回転ローラ５が設けられる。これら回転ローラ５は、熱処理炉４内でポスト８に対し昇降されるとともに、正逆回転駆動されるようになっており、上昇されて可動ビーム３にその下方から当接されることでこれらを支持するとともに、この支持状態で正逆回転駆動されることで可動ビーム３を前後動させるようになっている。
【００１５】
詳細には、これら各回転ローラ５は、円筒体状のローラ本体９と、ローラ本体９の軸方向両端部からその軸方向外方へ向かって延出された一対の回転軸１０とから構成される。ローラ本体９は、一対の可動ビーム３の炉幅方向間隔よりも長く形成されて熱処理炉４内に位置される一方で、一対の回転軸１０はそれぞれ、熱処理炉４の両側の側壁１１それぞれに上下方向に形成されるスリット（図示せず）を介して、炉４外の当該炉４の側方へ向かって突出される。スリットには、回転軸１０の上下動を許容しつつ熱処理炉４内を炉４外から封止する適宜なシール装置が設けられる。
【００１６】
他方、熱処理炉４の炉外には、回転軸１０が貫通する両側の側壁１１それぞれに面して、当該熱処理炉４の側方に昇降機構６が一対配置される。これら昇降機構６には、回転ローラ５の一対の回転軸１０がそれぞれ連結され、これにより回転軸１０はこれら昇降機構６によって水平状態で昇降されて、この回転軸１０、ひいては回転ローラ５の昇降動作により回転ローラ５に当接された可動ビーム３が上下動されるようになっている。昇降機構６については、例えば周知のシリンダー装置やジャッキ装置を使用することができる。また、回転ローラ５は正逆回転駆動されるが、そのためのモータなどの回転駆動機構（図示せず）は、いずれかの昇降機構６内に設けられて、いずれかの回転軸１０と連結される。
【００１７】
さらに、本実施形態にあっては、熱処理炉４の搬入口４ａ側の炉外に、可動ビーム３を係脱自在に係合してこれを一時的に支持し、これにより可動ビーム３から回転ローラ５を離隔させる操作を可能とする一時サポート１２が設けられる。そしてこの一時サポート１２により、本実施形態におけるウォーキングビーム搬送にあっては、上述したいわゆる基本的なウォーキングビーム搬送の運動様態に対し、常時もしくは間欠的にまたは必要になった場合に限って実行することが可能な、追加のステップが設定されている。
【００１８】
詳細には、一般的には、後退位置に達した可動ビーム３は、当該後退位置においてポスト８の高さ位置よりも高い位置へと直接上昇され、ポスト８上の処理材Ｍが可動ビーム３へと移し替えされるが、本実施形態のウォーキングビーム搬送では図１に示すように、後退位置に達した((ｅ)参照)可動ビーム３は、回転ローラ５により一旦ポスト８の高さ位置よりは低い位置、すなわち処理材Ｍの移し替えを行わない中間の高さ位置まで上昇される。
【００１９】
この中間の高さ位置で、一時サポート１２が可動ビーム３を係合し、これにより可動ビーム３はその全体が一時的に、回転ローラ５ではなく、一時サポート１２によって支持される。この一時サポート１２による支持状態で、回転ローラ５は再度下降され、これにより回転ローラ５の可動ビーム３に対する当接状態が解除されるようになっている((ａ)参照)。すなわち、追加のステップでは、可動ビーム３からこれを上下動させる回転ローラ５を離隔させるようになっている。
【００２０】
そしてこの追加のステップの実行後に再度、回転ローラ５が上昇されて、その際一時サポート１２からその係合解除と相俟って可動ビーム３を受け取り、その後、回転ローラ５により可動ビーム３がポスト８の高さ位置よりも高い位置へと上昇されて、これにより処理材Ｍが可動ビーム３へと移し替えされるようになっている。
【００２１】
図３には、各回転ローラ５を昇降機構６で昇降させるための構造が各種示されている。図３（ａ）は、熱処理炉４の側方に炉長方向に沿って長く形成された架台１３を配設するとともに、この架台１３の上に、複数の回転ローラ５の各回転軸１０をそれぞれ軸受支持する軸受部材１４を複数並設し、この架台１３を昇降機構６で駆動することで複数の回転ローラ５を一挙に昇降させるように構成したものである。この場合、昇降機構６は架台１３の数に応じて設備され、すべての回転ローラ５を一つの架台１３上に軸受支持した場合には、昇降機構６は一台設備されることになる。
【００２２】
図３（ｂ）は、各軸受部材１４ごとに軸受架台１５を設備し、この軸受架台１５を個々独立に昇降機構で昇降させるように構成したものである。この場合、昇降機構６は軸受架台１５の数、すなわち回転ローラ５の数に応じて設備される。なお、昇降機構６を駆動するためのモータや空気圧源、油圧源などの駆動源や制御装置は共通化してもよい。
【００２３】
図３（ｃ）は、基端がピボットセンター１６に回転自在に支持された複数のスイングアーム１７の先端にそれぞれ各軸受部材１４を連結するとともに、これらスイングアーム１７の中間部分それぞれに昇降機構６を連結し、昇降機構６で各スイングアーム１７を上下に振り動かして回転ローラ５を個々独立に昇降させるように構成したものである。この場合も、昇降機構６は軸受部材１４の数、すなわち回転ローラ５の数に応じて設備される。この構成の場合でも、昇降機構６を駆動するためのモータや空気圧源、油圧源などの駆動源や制御装置は共通化してもよい。
【００２４】
次に、本実施形態にかかる処理材の炉内搬送装置１の作用について説明する。特に、本実施形態特有の追加のステップを備えた搬送動作に従って説明すると、図１(ａ)に示した状態では、可動ビーム３は一時サポート１２によって、固定ビーム２のポスト８の高さ位置よりも低い位置に支持されている。そしてこの際、熱処理炉４内の処理材Ｍは、ポスト８上に載置されている。他方、回転ローラ５は、昇降機構６によって下降されて可動ビーム３に対する当接状態が解除され、その下方に離隔されている。この離隔状態では、回転駆動機構により回転ローラ５を自由に正逆回転駆動することができ、この回転作用によって、回転ローラ５が炉内雰囲気で熱変形されることを防止することができる。
【００２５】
この点について詳述すると、回転ローラ５は長時間回転停止させておくと、その自重によって高温クリープによる撓み変形が生じてしまう。回転ローラ５が熱変形すると、搬送時に可動ビーム３、ひいては処理材Ｍに振動を発生させてしまうという問題がある。これに対して、回転ローラ５を回転させておけば、そのような熱変形の問題を解消することができる。
【００２６】
ウォーキングビーム搬送の基本的な運動様態からすれば、可動ビーム３の停止状態、すなわち図１(ｅ)から図１(ｂ)までの段階では、回転ローラ５の回転を停止させるが、このときに回転ローラ５に熱変形が生じやすい。回転ローラ５の回転状態を維持するために、これを半回転から１回転程度ゆっくりと正逆転させることも考えられるが、このようにすると可動ビーム３が微妙に前後に動くこととなり、可動ビーム３上に搭載された処理材Ｍを正確な移動量で移動させるにあたり、可動ビーム３の位置を的確にコントロールできるか否かという意味で、制御上の難点がある。
【００２７】
そこで本実施形態にあっては、このような難点が生じないように、可動ビーム３から離隔させた状態で回転ローラ５を回転駆動できるようにしていて、これにより制御の容易性・的確性を確保しつつ、回転ローラ５の熱変形を防止することができる。
【００２８】
しかしながら、簡易には、可動ビーム３を支持している図１(ｅ)の状態で回転ローラ５を回転駆動するようにしてもよい。またこの図１(ａ)の状態では、可動ビーム３には処理材Ｍが載置されていないので、一時サポート１２であっても、可動ビーム３を安定的に支持することができる。
【００２９】
図１(ｂ)に示した状態では、回転ローラ５は回転駆動機構によるその回転駆動が停止され、かつ昇降機構６によって上昇されて、まず可動ビーム３にその下方から当接されかつ一時サポート１２の支持解除と相俟って、当該可動ビーム３を支持するとともに、その後可動ビーム３をポスト８の高さ位置よりも高い位置へとさらに上昇させて、これにより可動ビーム３上に処理材Ｍを移し替えする。
【００３０】
図１(ｃ)に示した状態では、回転ローラ５は昇降機構６による昇降動作が停止され、かつ回転駆動機構によって正転駆動されて、これにより可動ビーム３を前進させて処理材Ｍの搬送を行う。この回転ローラ５で可動ビーム３を支持することによる搬送では、ローラハース搬送に比べて、搬送に用いる回転ローラ５の配設数を大幅に削減することができる上に、ローラの乗り移り時に処理材に振動が発生してしまうという、ローラハース搬送での問題を適切に解決することができる。
【００３１】
すなわち、可動ビーム３により、ローラハース搬送に比べて、回転ローラ５の設置間隔を広げることができ、そしてこれに伴って可動ビーム３は回転ローラ５上でその自重、さらには処理材Ｍの重量によって撓み変形することとなって、このことが結果的に、並設される回転ローラ５の据付精度が仮に高精度でないとしても、撓み変形した可動ビーム３が各回転ローラ５に対しおおよそ均一に加重し得ることとなり、特に可動ビーム３を前後動させるときの振動発生を抑えることができて、処理材Ｍを静的に安定して搬送することができる。換言すれば、回転ローラ５の据え付け精度に高い精度を要求することなく、簡単な構造で安定的にかつスムーズな動作で処理材Ｍを搬送することができる。
【００３２】
また、処理材Ｍを移し替えする際に、固定ビーム２と可動ビーム３との間で滑りが発生する可能性はほとんどなく、処理材Ｍが傷付かないように保護するための高歪点ガラスなどの処理材用担持体を用いることなしに、処理材Ｍを直接ビーム２，３上に搭載して搬送することができる。
【００３３】
図１(ｄ)に示した状態では、回転ローラ５は回転駆動機構によるその回転駆動が停止されかつ昇降機構６によって下降されて、これにより可動ビーム３はポスト８の高さ位置よりも低い位置へと下降され、ポスト８上に処理材Ｍを移し替えする。
【００３４】
図１(ｅ)に示した状態では、回転ローラ５は昇降機構６による昇降動作が停止されかつ回転駆動機構によって逆転駆動されて、これにより可動ビーム３は前進した分だけ後進される。そしてその後、次回の処理材Ｍの搬送までは、図１(ａ)の状態で回転ローラ５は熱変形防止のために回転駆動される。
【００３５】
そして特に本実施形態の処理材の炉内搬送装置１にあっては、通常の長さの炉はもちろんのこと、炉長が長大化した場合であっても、可動ビーム３を支持しつつ前後動させるために、その下方から当接されかつ正逆回転駆動される回転ローラ５を、炉長方向に互いに間隔を隔ててかつ炉幅方向に熱処理炉４を貫通させて設けるとともに、熱処理炉４外であって当該炉４の側方に、可動ビーム３を上下動させるために回転ローラ５を昇降させる昇降機構６を配置したことによって、簡単な構造で安定的にかつスムーズな動作でウォーキングビーム搬送を行うことができ、この搬送方式の特長である低ショックな搬送によって処理材Ｍへの傷の発生等の問題を解消することができる。
【００３６】
また、回転ローラ５を炉幅方向に熱処理炉４を貫通させて設け、熱処理炉４外であって当該炉４側方に、回転ローラ５の昇降機構６を配置するようにしたので、炉床上にリフトローラを設置するとともに炉床下にリフトシリンダー等を設置していて、炉床に貫通部分やシール機構を構成する必要のある特許文献３とは異なり、側壁１１を介して設備できることから、熱処理炉４の構造を簡単化することができ、設備コストも低減することができる。
【００３７】
また、特許文献３のようにリフトローラを作動させるための昇降機構等が炉内に存在しないため、熱処理炉４内のクリーン度を高く維持することができる。特に、回転ローラ５は炉４側方で両端が水平に支持されるシンプルな構造であって、負荷が小さい軽量な処理材Ｍを処理する熱処理炉４に適用して好適である。
【００３８】
そしてまた、一時サポート１２を利用して、回転ローラ５を自在に回転させることができるようにしたので、回転ローラ５の熱変形も適切に防止することができる。そしてさらに、回転ローラ５による可動ビーム３の支持により、可動ビーム３の必要強度を低く設定することが可能であり、これにより熱処理炉４の設計自由度を高く維持することができる。
【００３９】
ところで、上記実施形態にあっては、回転ローラ５の熱変形を、その回転作用で防止する場合について説明したが、回転ローラ５のローラ本体９の外周囲にこれを取り囲んで、炉内雰囲気によってローラ本体９が熱変形されるのを防止するための断熱材を設けるようにしてもよい。このようにすれば、回転ローラ５を格別にアイドル回転させる必要はなく、従ってまた回転ローラ５のアイドル回転を確保すべく、可動ビーム３を一時的に支持するための一時サポート１２も廃止することができる。
【００４０】
また、回転ローラ５を昇降機構６で昇降させる構成の変形例として図３（ｄ）は、各回転軸１０にクランクを形成し、当該回転軸１０を回転させることによりクランクを利用してローラ本体９の位置を上下にシフトさせるように構成したものである。この場合の昇降機構６としては、各回転軸１０の一端に連結されてこれを回転させる減速式モータなどが用いられる。この場合も、昇降機構６は回転軸１０の数、すなわち回転ローラ５の数に応じて設備される。なお、昇降機構６を駆動するための駆動源や制御装置は共通化してもよい。
【００４１】
特に、この構成の場合には、回転ローラ５を正逆回転駆動する回転駆動機構は、回転軸１０とローラ本体９との間に組み込まれ、昇降機構６による回転軸１０の回転とは別に、回転軸１０に対してローラ本体９を正逆転駆動するようになっている。あるいは、この構成の場合には、回転軸１０にローラ本体９を回転自在に支持させて正逆転などの回転駆動を行わないようにし、可動ビーム３の前後動は別途シリンダー装置を設備して、それによって行わせるようにしてもよい。この場合、回転ローラ５はその上を前後動される可動ビーム３との十分な摩擦作用で滑りが生じないようにして回転されることになる。
【００４２】
図４には、上述した本実施形態にかかる処理材の炉内搬送装置１の応用例が示されている。この応用例では、昇降機構６等が熱処理炉４の側方に設置されることから、空間的に利用可能な熱処理炉４の炉床直下に、処理材Ｍのリターンライン１８を設備するようにしたものであり、このようにすることで、スペースセービングを達成することができる。処理材Ｍのリターンライン１８は、炉内に構成されずに、全体が露出されることの外は、上記の炉内搬送装置１の構成と同様である。特に、リターンライン１８では、炉内雰囲気に晒されることがないため、回転ローラ５の熱変形対策は不要である。
【００４３】
図５には、別の応用例が示されている。上述したように昇降機構６等を熱処理炉４の側方に設置するようにしたので、熱処理炉４内の上下方向の空間を自由に利用することが可能であり、そこでこの応用例にあっては、上記応用例と同様にリターンライン１８を熱処理炉４の炉床直下に設備することに加えて、さらに熱処理炉４内の炉内搬送装置１を上下に多段に配列するようにしていて、このように構成することによってスペースセービングだけでなく、さらに処理材Ｍの処理効率をも格段に向上することができる。
【００４４】
また図６には、さらに別の応用例が示されている。この応用例は基本的には、各固定ビーム２ａ〜２ｃの高さと可動ビーム３の上昇高さとの相対高さ関係を、炉長方向に変更するようにしたものである。図示例にあっては、熱処理炉４内に複数のエリアもしくはゾーンが設定され、これら各エリア毎もしくは各ゾーン毎に、専用の固定ビームがそれぞれ備えられる。具体的には、搬入口４ａから搬出口４ｃに向かって３つのエリア（Ａ）〜（Ｃ）が設定され、各エリア（Ａ）〜（Ｃ）それぞれに同一寸法の第１〜第３固定ビーム２ａ〜２ｃが設けられている。これら固定ビーム２ａ〜２ｃにはそれぞれ、そのポスト８上端の高さ位置を変更するために、図示しないリフターが設けられる。
【００４５】
図示の状態では、可動ビーム３の前進動作時にあって、可動ビーム３が第２および第３固定ビーム２ｂ，２ｃのポスト８の高さ位置よりも高い位置に上昇されてこれらから処理材Ｍの移し替えがなされ、処理材Ｍを搬送する一方で、第１固定ビーム２ａはそのポスト８の高さ位置が可動ビーム３の高さ位置よりも高く上昇されて、処理材Ｍの移し替えがなされず、従って第１固定ビーム２ａ上の処理材Ｍの搬送が待機状態になるようになっている。
【００４６】
第１固定ビーム２ａ上の処理材Ｍを搬送するときは、可動ビーム３をそのポスト８の高さ位置よりも高くなるように上昇させるようにし、この上昇動作が可動ビーム３の運動サイクルの何回に一回実行されるかによって、特定のゾーンでの処理材Ｍの滞留時間を変更することができるので、いわゆるピッチ搬送を可変とすることができて、これにより熱処理などとの関係を考慮して、処理材Ｍを自在に搬送することができる。可動ビーム３を利用したこのような搬送制御にあっては、可動ビーム３の桁高さをゾーン毎に高低変化させることで、同様な作用を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明にかかる処理材の炉内搬送装置の好適な一実施形態を、その動作状況とともに示す説明図である。
【図２】図１の処理材の炉内搬送装置の正面断面図である。
【図３】図１の処理材の炉内搬送装置に適用可能な回転ローラを昇降機構で昇降させるための構造を示す説明図である。
【図４】本発明にかかる処理材の炉内搬送装置の応用例を示す正面断面図である。
【図５】本発明にかかる処理材の炉内搬送装置の別の応用例を示す正面断面図である。
【図６】本発明にかかる処理材の炉内搬送装置のさらに別の応用例を示す側断面図である。
【符号の説明】
【００４８】
１  炉内搬送装置
２  固定ビーム
３  可動ビーム
４  熱処理炉
５  回転ローラ
６  昇降機構
８  ポスト
Ｍ  処理材
【図１】
2005121299.tif 000003
【図２】
2005121299.tif 000004
【図３】
2005121299.tif 000005
【図４】
2005121299.tif 000006
【図５】
2005121299.tif 000007
【図６】
2005121299.tif 000008