(57)【要約】      （修正有）【課題】バッチ処理によらないで、ロードロック室内を低コストで低圧排気するロードロックとドライ真空ポンプの組立体の提供。【解決手段】ロードロックハウジング１５を有するロードロックと；シャフトと、ローターと、前記ローターから外方向に伸張している第１同心シリンダ及び第２同心シリンダとを含んでおり、連結システムと一体に接続されているドライ真空ポンプ１２であって、前記第１及び第２ドライ真空ポンプ同心シリンダと、前記フランジ状のシリンダと、前記フランジ状のシリンダに対して同心に配置されているシリンダとは、前記シャフトに対して軸方向に配置されている、ドライ真空ポンプと；前記第１及び第２同心シリンダと、前記フランジ状のシリンダと、前記フランジ状のシリンダに対して同心に配置されているシリンダとの上に選択的に設けられている螺旋構造を有するフランジによって形成されている分子吸引圧縮ステージと、を含んでいる。【選択図】図１
2005299659.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロードロックハウジングを有するロードロックであって、前記ロードロックハウジングは連結システムを含んでおり、前記連結システムは、フランジ状のシリンダと、前記フランジ状のシリンダに対して同心に配置されているシリンダとを含んでいる、前記ロードロックと、
前記連結システムと一体的に接続されているドライ真空ポンプであって、シャフトと、ローターと、前記ローターから外方向に伸張している第１同心シリンダ及び第２同心シリンダと、を含んでおり、前記第１及び第２同心シリンダと、前記フランジ状のシリンダと、前記フランジ状のシリンダに対して同心に配置されているシリンダとは、前記シャフトに対して軸方向に配置されている、前記ドライ真空ポンプと、
前記第１及び第２同心シリンダと、前記フランジ状のシリンダと、前記フランジ状のシリンダに対して同心に配置されているシリンダとに選択的に設けられている螺旋構造を有する複数のフランジであって、前記第１及び第２同心シリンダは、前記フランジ状のシリンダ及び前記フランジ状のシリンダに対して同心に配置されている前記シリンダに対して回転して分子吸引圧縮ステージを形成している、前記複数のフランジと、を備えている、ロードロックとドライ真空ポンプの組立体。
【請求項２】
前記ドライ真空ポンプは、複数の同心円形チャネルを含む本体部分を有するポンプハウジングを含んでおり、前記ローターは、上面及び下面と、前記下面に設けられている複数の突起リングを含んでおり、前記複数の突起リングは、前記シャフトの回りに対称的に配置されており、前記複数の同心円形チャネルは、前記複数の突起リングを収容して再生圧縮ステージを形成している、請求項１に記載の組立体。
【請求項３】
前記分子吸引圧縮ステージは、前記再生圧縮ステージに接続されており、前記分子吸引圧縮ステージと前記再生圧縮ステージは、一緒になって前記ロードロック内に在るガスを取り除くように作られている、請求項２に記載の組立体。
【請求項４】
前記複数のフランジは、前記フランジ状のシリンダの内側に面している表面と、前記フランジ状のシリンダに対して同心に配置されている前記シリンダの内側及び外側に向いている表面とに設けられている、請求項３に記載の組立体。
【請求項５】
ハウジングと連結システムとを有するロードロックであって、前記ロードロックハウジング内には少なくとも１つのロードロック室が設けられており、前記少なくとも１つのロードロック室には少なくとも１つのローディングポートと少なくとも１つのアンローディングポートとが設けられており、前記連結システムはフランジ状のシリンダを含んでいる、前記ロードロックと、
シャフトと、前記シャフトにしっかり取り付けられているローターと、前記シャフトが貫通して伸張している本体部分とを有するドライ真空ポンプであって、前記本体部分は前記フランジ状のシリンダに取り付けられている、前記ドライ真空ポンプと、を備えている、ロードロックとドライ真空ポンプの組立体。
【請求項６】
前記ロードロックハウジングは、第１ロードロック室と第２ロードロック室を含んでおり、前記ドライ真空ポンプは、前記第１ロードロック室と第２ロードロック室を別々に排気する、請求項５に記載の組立体。
【請求項７】
前記第１ロードロック室は、第１ローディングポートと第１アンローディングポートを含んでおり、前記第２ロードロック室は、第２ローディングポートと第２アンローディングポートを含んでいる、請求項６に記載の組立体。
【請求項８】
前記第１及び第２ローディングポートと前記第１及び第２アンローディングポートは、周囲の大気が、それぞれ、前記第１ロードロック室と前記第２ロードロック室に入らないようにするスリット弁を含んでいる、請求項７に記載の組立体。
【請求項９】
前記ローターから外方向に伸張する第１同心シリンダと第２同心シリンダを更に備えており、前記フランジ状のシリンダは、前記第１同心シリンダと前記第２同心シリンダを取り囲んでおり、前記フランジ状のシリンダに取り付けられている同心シリンダは、前記第１同心シリンダと前記第２同心シリンダの間に配置されている、請求項５に記載の組立体。
【請求項１０】
前記第１同心シリンダと前記同心シリンダの間、前記第２同心シリンダと前記同心シリンダの間、及び前記第２同心シリンダと前記フランジ状のシリンダの間に形成されている実質的に均一な間隙を更に備えており、螺旋構造を有するフランジが、前記実質的に均一な間隙内に設けられている、請求項９に記載の組立体。
【請求項１１】
前記複数のフランジの第１フランジは、前記同心シリンダの内側に面している表面に取り付けられており、前記複数のフランジの第２フランジは、前記同心シリンダの外側に面している表面に取り付けられており、前記複数のフランジの第３フランジは、前記フランジ状のシリンダの内側に面している表面に取り付けられている、請求項１０に記載の組立体。
【請求項１２】
前記フランジ状のシリンダ、及び前記フランジ状のシリンダに取り付けられており第１同心シリンダと第２同心シリンダの間に差し込まれている同心シリンダと、前記第１同心シリンダ、前記第２同心シリンダ、前記フランジ状のシリンダ、及び前記フランジ状のシリンダに取り付けられている前記同心シリンダ上に選択的に配置されているフランジと、を備えている分子吸引圧縮ステージを更に備えており、前記第１同心シリンダと前記第２同心シリンダは、前記ローターから外方向に伸張しており、前記第１同心シリンダと前記第２同心シリンダは、前記フランジ状のシリンダと、前記フランジ状のシリンダに取り付けられている前記同心シリンダとに対して相対回転するように作られている、請求項５に記載の組立体。
【請求項１３】
前記ローターと前記本体部分の間に形成されている再生圧縮ステージを更に備えており、同心円形チャネルが前記本体部分内に形成されており、前記ローターは上面と下面を有しており、それぞれ異なる突起リングが前記下面上に配置されており、一連の間隔を空けて配置されているブレードが前記それぞれ異なる突起リングそれぞれの上に取り付けられており、前記それぞれ異なる突起リングと前記それぞれ異なる突起リングそれぞれの上に取り付けられている前記一連の間隔を空けて配置されているブレードは、前記同心円形チャネル内に嵌め込まれている、請求項１２に記載の組立体。
【請求項１４】
前記ローターと前記本体部分の間に形成されている再生圧縮ステージを更に備えており、同心円形チャネルが前記本体部分内に形成されており、前記ローターは上面と下面を有しており、それぞれ異なる突起リングが前記下面上に配置されており、一連の間隔を空けて配置されているブレードが前記それぞれ異なる突起リングそれぞれの上に取り付けられており、前記それぞれ異なる突起リングと前記それぞれ異なる突起リングそれぞれの上に取り付けられている前記一連の間隔を空けて配置されているブレードは、前記同心円形チャネル内に嵌め込まれている、請求項５に記載の組立体。
【請求項１５】
前記ドライ真空ポンプの前記本体部分は、前記フランジ状のシリンダに直接取り付けられ、前記ロードロックを前記ドライ真空ポンプに一体に接続している、請求項５に記載の組立体。
【請求項１６】
前記ロードロックハウジングは底壁を含んでおり、少なくとも１つの通路が前記底壁を貫通して設けられ、前記少なくとも１つのロードロック室と前記ドライ真空ポンプの間の流体連通を可能にしている、請求項５に記載の組立体。
【請求項１７】
前記ロードロックハウジングは、第１ロードロック室と、第２ロードロック室と、前記底壁を貫通して前記ドライ真空ポンプと前記第１ロードロック室との間に連通状態を提供する第１通路と、前記底壁を貫通して前記ドライ真空ポンプと前記第２ロードロック室との間に連通状態を提供する第２通路と、を含んでいる、請求項１６に記載の組立体。
【請求項１８】
前記第１通路と前記第２通路それぞれに配置されている弁を更に備えており、前記弁は、前記ドライ真空ポンプと前記第１ロードロック室及び前記第２ロードロック室との間に選択的に連通状態を提供する、請求項１７に記載の組立体。
【請求項１９】
前記ドライ真空ポンプ内に形成されている再生圧縮ステージと、前記ロードロックと前記ドライ真空ポンプが共有する構成要素によって形成される分子吸引圧縮ステージと、を更に備えている、請求項５に記載の組立体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体の製作に使用するための改良型のロードロックと真空ポンプの組立体に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウェーハを製作する際には、各種材料を半導体ウェーハ上に堆積させ、半導体ウェーハから取り除かなければならない。材料を半導体ウェーハ上へ、そして半導体ウェーハから移動させるのは、半導体ウェーハの電気的特性を高めるためである。半導体ウェーハへ、そして半導体ウェーハから材料を移動させるために、様々な気体を使って半導体ウェーハに衝突させる。例えば、半導体ウェーハから汚染物質を取り除くには、処理ガスを使って半導体ウェーハに接触させ、その上の汚染物質と反応させる。しかしながら、そのような処理を行う前に、半導体ウェーハを低圧環境内に配置しなければならない。従って、半導体ウェーハを低圧環境に移すのに真空ポンプシステムが使用される。
【０００３】
これらの真空処理システムには、ロードロック室と真空ポンプが利用される。例えば、半導体ウェーハがロードロック室内に配置され、次にロードロック室が真空ポンプを使って排気される。排気後、半導体ウェーハは低圧環境内に配置されたことになり、その後、別の処理が施される。
【０００４】
ロードロック室を排気して低圧にするには、ドライ真空ポンプを使うことができる。一般的に、ロードロック室の内部を排気して低圧にする場合のコストは、５つのパラメータ、即ち（１）排気すべきガスの量、（２）ロードロック室の内部表面積、（３）ロードロック室内に必要な低圧、（４）ロードロック室とドライ真空ポンプの間の配管内の抵抗、及び（５）ロードロック室内を低圧にするのに必要な時間、に関係する。
【０００５】
この他、コストは、各ロードロック室が一度に処理できる半導体ウェーハの数に関係する。従って、ロードロック室の内部を低圧に排気するコストを下げるため、一度に処理する半導体ウェーハの数を増やしたこともある。しかしながら、収容する半導体ウェーハの数を増やすには、ロードロック室の寸法も大きくしなければならない。従って、そのような「バッチ」処理は、排気するガス量と、ロードロック室の内部表面積を大幅に増すことになる。
【０００６】
従って、「バッチ」処理に頼ることなく、ロードロック室の内側を低圧に排気するコストを下げる必要がある。ロードロック室とドライ真空ポンプの間の配管内の抵抗を下げるか又は無くすことによって、「バッチ」処理に頼ることなく排気するコストを下げることができる。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【０００７】
ロードロックとドライ真空ポンプの組立体において、ハウジングと連結システムとを有するロードロックであって、少なくとも１つのロードロック室が前記ロードロックハウジング内に設けられており、少なくとも１つのローディングポートと少なくとも１つのアンローディングポートが前記少なくとも１つのロードロック室に設けられており、前記連結システムはフランジ状のシリンダを含んでいる、ロードロックと；シャフトと、前記シャフトにしっかり取り付けられているローターと、前記シャフトが貫通し伸張している本体部分とを有するドライ真空ポンプと、を備えており、前記本体部分が前記フランジ状のシリンダに取り付けられている、ロードロックとドライ真空ポンプの組立体である。
【０００８】
更に、ロードロックとドライ真空ポンプの組立体において、連結システムを含んでいるロードロックハウジングを有するロードロックであって、前記連結システムが、フランジ状のシリンダと、前記フランジ状のシリンダに対して同心に配置されているシリンダとを含んでいる、ロードロックと；前記連結システムと一体に接続されているドライ真空ポンプであって、シャフトと、ローターと、前記ローターから外方向に伸張している第１同心シリンダ及び第２同心シリンダと、を含んでおり、前記第１及び第２同心シリンダと、前記フランジ状のシリンダと、前記フランジ状のシリンダに対して同心に配置されているシリンダとは、前記シャフトに対して軸方向に配置されている、ドライ真空ポンプと；前記第１及び第２同心シリンダと、前記フランジ状のシリンダと、前記フランジ状のシリンダに対して同心に配置されているシリンダとの上に選択的に設けられている螺旋構造を有するフランジであって、前記第１及び第２同心シリンダが、前記フランジ状のシリンダと、前記フランジ状のシリンダに対して同心に配置されている前記シリンダとに対して相対回転して分子吸引圧縮ステージを形成している、フランジと；を備えている、ロードロックとドライ真空ポンプの組立体が提供されている。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
図１及び図２では、組み合わせられた真空ポンプとロードロックの組立体を全体として参照番号１０で示している。組立体１０は、一体に接続されているドライ真空ポンプ１２とロードロック１４で形成されている。ロードロック１４は、ドライ真空ポンプ１２を一体的に受け入れるように作られている連結システム１６を備えたロードロックハウジング１５を含んでいる。ドライ真空ポンプ１２とロードロック１４の間を接続すると、通常は両者の間に伸張している移行配管に付帯する抵抗が無くなる。それを目的にして、（Ｈｏｌｗｅｃｋのような）分子吸引ステージ１８は、ドライ真空ポンプ１２と共有する連結システム１６の構成要素によって形成されている。分子吸引ステージ１８は、ドライ真空ポンプ１２内に形成されている再生ステージ１９と共に、組立体１０が、ロードロック１４内に真空状態を生成できるようにする。
【００１０】
ロードロックハウジング１５は、第１ロードロック室２１と第２ロードロック室２２を含んでいる。第１及び第２ロードロック室２１と２２は、上記真空状態が生成される領域となっている。第１及び第２ロードロック室２１と２２は真空密閉状態にあり、高圧と低圧の間を循環する。一般的には、高圧は略大気圧であり、低圧は略真空状態である。従って、半導体ウェーハ（図示せず）は、高圧で第１及び第２ロードロック室２１と２２に入り、低圧で室を出る。
【００１１】
第１及び第２ロードロック室２１と２２を形成するために、ロードロックハウジング１５は、２つの部分に分割されている。例えば、図２に示しているように、壁２３が、第１ロードロック室２１と第２ロードロック室２２を分離している。更に、以下に論じるように、第１及び第２ロードロック室２１と２２は、ドライ真空ポンプ１２と別々に接続されており、別々に排気することができる。
【００１２】
作動時、半導体ウェーハは、第１及び第２ロードロック室２１と２２内に設けられているウェーハシート（図示せず）上に置かれ、そこから取り出される。半導体ウェーハは、第１ローディングポート２５と第２ローディングポート２６を通して、それぞれ第１及び第２ロードロック室２１と２２に挿入される。第１及び第２ローディングポート２５と２６には、それぞれスリット弁３１と３２が装着されている。スリット弁３１と３２は、それぞれ、第１及び第２ローディングポート２５と２６に対して作動器（図示せず）で開閉できる扉３３と３４を含んでいる。実際、作動器は、扉３３、３４と第１及び第２ローディングポート２５、２６を密閉係合させる力を掛けることができる。
【００１３】
このような密閉係合は、扉３３、３４と第１及び第２ローディングポート２５、２６との間に真空密閉状態を作り出せるほど高めることができる。例えば、扉３３、３４には着座面（図示せず）が設けられ、第１及び第２ローディングポート２５、２６にはＯリング（図示せず）のようなシール面が備えられている。スリット弁３１と３２が閉じると、これらの着座面とシール面は、大気が第１及び第２ロードロック室２１、２２に入るのを防ぐことができる。
【００１４】
ロードロックハウジング１５には、更に、第１アンローディングポート３５と第２アンローディングポート３６が設けられている。第１及び第２ローディングポート２５、２６と同様に、第１及び第２アンローディングポート３５、３６には、扉４３、４４付きのスリット弁４１、４２が備えられている。扉４３と４４は、先に述べた方法で、第１及び第２アンローディングポート３５、３６と密閉係合するように作られている。スリット弁３１、３２と同様に、スリット弁４１、４２が閉じると、大気が、第１及び第２ロードロック室２１、２２に入れないようになる。
【００１５】
スリット弁３１、３２と４１、４２が閉じると、真空密閉状態が形成され、第１及び第２ロードロック室２１、２２は周囲の大気から分離され、処理室に残っている空気はドライ真空ポンプ１２を使って排気することができる。つまり、スリット弁３１、３２と４１、４２を閉じると、第１及び第２ロードロック室２１、２２を、先に論じた低圧になるまで排気することができる。
【００１６】
半導体ウェーハを「処理する」ため、第１及び第２ローディングポート２５、２６は最初は開いており、ロボットアーム（図示せず）を使って、半導体ウェーハを第１及び第２ロードロック室２１、２２内に配置することができる。その後スリット弁３１、３１が閉じられ、スリット弁３１、３２と４１、４２は、排気の間は閉じた状態に留まる。第１及び第２ロードロック室２１、２２が排気されて低圧になった後、スリット弁４１と４２が開かれ、半導体ウェーハを、別のロボットアーム（図示せず）で第１及び第２ロードロック室２１、２２から取り出すことができるようになる。
【００１７】
先に論じたように、ドライ真空ポンプ１２は、連結システム１６でロードロックハウジング１５のハウジングに一体的に接続されている。つまり、ロードロックハウジング１５は、中間配管の必要無しに、ドライ真空ポンプ１２を一体的に受け入れるように作られている。例えば、連結システム１６は、ドライ真空ポンプ１２の一部分を受け入れるよう構成されたフランジ状のシリンダ５０を含んでいる。更に具体的には、ドライ真空ポンプ１２は、フランジ状のシリンダ５０に直接取り付けることのできる本体部分５３を備えたポンプハウジング５２を有している。
【００１８】
更に、先に論じたように、連結システム１６は、分子吸引ステージ１８を形成するため、ドライ真空ポンプ１２と共有する構成要素を含んでいる。更に、連結システム１６は、第１及び第２ロードロック室２１、２２とドライ真空ポンプ１２の間の流体連通用の弁通路を提供している。
【００１９】
連結システム１６は、部分的には、ロードロックハウジング１５の底壁５６で形成されている。例えば、底壁５６は、オフセット壁部分５８と円筒形壁部分５９を含んでいる。円筒形壁部分５９は、オフセット壁部分５８を、底部５６の残り部分と連結している。更に連結システム１６の部分として、オフセット壁部分５８と円筒形壁部分５９は、第１及び第２ロードロック室２１、２２の部分を効果的に「切り取っている」。円筒形壁部分５９から半径方向に内向きに、支持プレート６０と取り付けプレート６１が伸張している。フランジ状のシリンダ５０は、ロードロックハウジング１５に対して支持プレート６０で支持されている。更に、取り付けプレート６１は、同心シリンダ６２を、フランジ状のシリンダ５０に隣接して配置している。同心シリンダ６２は、フランジ状のシリンダ５０と軸を共有しており、以下に論じるように、フランジ状のシリンダ５０と同心シリンダ６２は、ドライ真空ポンプ１２に共有されている。
【００２０】
第１通路６３と第２通路６４は、オフセット壁部分５８を貫通して設けられている。第１通路６３と第２通路６４は、第１及び第２ロードロック室２１、２２とドライ真空ポンプ１２の間に流体連通を形成し、第１弁組立体６５と第２弁組立体６６が、それぞれ第１及び第２通路６３、６４内に配置されている。第１弁組立体６５と第２弁組立体６６は、ドライ真空ポンプ１２と第１及び第２ロードロック室２１、２２の間に選択的に連通状態を形成する。第１及び第２通路６３、６４は、それぞれ弁座６７を含んでおり、第１及び第２弁組立体６５、６６は、それぞれ、支持プレート６０を貫通して作動器（図示せず）に取り付けられている弁棒６８を含んでいる。弁棒６８は、弁座６７と境界面を成すよう構成されている弁プラグ６９を支持している。作動器は、弁プラグ６９を弁座６７と相互に係合及び係合解除させる。従って、第１及び第２弁組立体６５、６６の何れかが開いているときは、第１及び第２ロードロック室２１、２２をそれぞれ排気することができる。実際、連結システム１６とドライ真空ポンプ１２は、協働して第１及び第２ロードロック室２１、２２を排気する働きをする。
【００２１】
先に論じたように、ドライ真空ポンプ１２はポンプハウジング５２を含んでいる。ポンプハウジング５２内には、シャフト７６が取り付けられている。シャフト７６は、その長手方向軸の回りを回転するようになっており、電気モーター（図示せず）で駆動される。
【００２２】
更に、先に論じたように、再生ステージ１９が、ドライ真空ポンプ１２内に形成されている。例えば、ローター８０は、シャフト７６にしっかり取り付けられている。ローター８０は、円盤の形をしており、上面８１と下面８２を有している。再生ステージ１９は、ローター８０の下面８２とポンプハウジング５２の本体部分５３の間に形成されている。
【００２３】
或る実施形態では、下面８２は、シャフト７６の回りに対称的に配置されている６個の突起リング８４、８５、８６、８７、８８、８９を含んでいる。一連の等間隔に配置されたブレードＢが、各突起リング８４、８５、８６、８７、８８、８９上に取り付けられている。各ブレードＢは僅かに湾曲しており、凹面側がローター８０の移動方向を指している。更に、各突起リング８４、８５、８６、８７、８８、８９上には１００個のブレードＢが設けられ、６個の同心環状アレイを形成している。各突起リング８４、８５、８６、８７、８８、８９の幅と、各リング上のブレードＢの対応する寸法は、最も外側の突起リング８９から最も内側の突起リング８４に向かって徐々に減少している。
【００２４】
本体部分５３は、再生ステージ１９のステーターを形成し、６個の同心の円形チャネル９４、９５、９６、９７、９８、９９を含んでいる。チャネル９４、９５、９６、９７、９８、９９は、本体部分５３内に形成されており、それぞれ上側部分１０２と下側部分１０３を有する鍵穴状に形成されている。チャネル９４、９５、９６、９７、９８、９９の上側部分１０２は、それぞれ突起リング８４、８５、８６、８７、８８、８９を収容する寸法に作られており、下側部分１０３は、関係する突起リングの対応するブレードＢを収容する寸法に作られている。
【００２５】
或る実施形態では、図２に示しているブレードＢの断面積は、対応するチャネル９４、９５、９６、９７、９８、９９の最大断面積の約１／６である。しかしながら、各チャネル９４、９５、９６、９７、９８、９９は、その長さ部分に沿って断面積が減少している。この減少する断面積は、そこに収容されている対応するブレードＢと実質的に同じ大きさである。この減少する断面積は、ポーティングによってチャネルを通過するガスを、隣接する内側チャネルに偏向させる「ストリッパ」を形成している。
【００２６】
先に論じたように、分子吸引ステージ１８は、連結システム１６がドライ真空ポンプ１２と共有する構成要素によって形成されている。更に具体的には、フランジ状のシリンダ５０と同心シリンダ６２は、ドライ真空ポンプ１２と共有されている。フランジ状のシリンダ５０と同心シリンダ６２は、シャフト７６に対して軸方向に向けられており、分子吸引ステージ１８のステータを形成している。
【００２７】
フランジ状のシリンダ５０と同心シリンダ６２は、ローター８０から外方向に伸張している第１同心シリンダ１０７及び第２同心シリンダ１０８と相互関係を有している。フランジ状のシリンダ５０及び同心シリンダ６２と同様に、第１及び第２同心シリンダ１０７、１０８は、シャフト７６に対して軸方向に向いている。フランジ状のシリンダ５０、同心シリンダ６２、及び第１及び第２同心シリンダ１０７、１０８は、シャフト７６の軸回りに対称的に取り付けられている。更に、第１及び第２同心シリンダ１０７、１０８は、フランジ状のシリンダ５０及び同心シリンダ６２と交互に配置され、隣接するシリンダの間に均一な間隙を形成している。その結果、第１同心シリンダ１０７と同心シリンダ６２の間に均一な間隙が形成され、第２同心シリンダ１０８と同心シリンダ６２の間に別の均一な間隙が形成され、第２同心シリンダ１０８とフランジ状のシリンダ５０の間に又別の均一な間隙が形成される。これらの均一な間隙は、最も内側のシリンダ（第１同心シリンダ１０６）から最も外側のシリンダ（フランジ状のシリンダ５０）に行くに従って、寸法が徐々に小さくなっている。
【００２８】
隣接するシリンダの間の間隙内には、様々なねじ状の直立フランジが配置されている。これらの様々なフランジは、実質的にそれらの各隙間に亘って伸張する螺旋構造を有している。これらのフランジは、隣接するシリンダのどちらかに取り付けられている。しかしながら、或る実施形態では、図２に示しているように、第１フランジ１１０は、同心シリンダ６２の内側に面する表面に取り付けられており、第２フランジ１１は、同心シリンダ６２の外側に面する表面に取り付けられており、第３フランジ１１２は、フランジ状のシリンダ５０の内側に面する表面に取り付けられている。図面には示していないが、ローター８０と第１及び第３同心シリンダ１０７、１０８は、例えばアルミニウム又はアルミニウム合金製の１部片の構成要素として巧く製造することもできる。
【００２９】
組立体１０が作動している間、第１及び第２ロードロック室２１、２２内にあるガスは、高速で回転するローター８０によって、第１及び第２通路６３、６４を通って、連結システム１６とドライ真空ポンプ１２の間に画定されている空間１１４に引き出される。その後、ガスは、分子吸引ステージ１８に引き込まれる。ガスは、第１同心シリンダ１０７と同心シリンダ６２の間の入口１１５に入る。ガスは、次に、第１フランジ１１０を下りて、第２フランジ１１を上がり、第３フランジ１１２を下る。その後、ガスは、分子吸引ステージ１８を再生ステージ１９に接続しているポーティング（図示せず）を通過する。再生ステージ１９では、ガスはチャネル９９に入り、そこから、ガスが本体部分５３の孔１１８、１１９を通ってポンプから排出されるまで、各ストリッパの動作によって、チャネル９８、９７、９６、９５、９４を（この順に）通過する。従って、ガスの流れは、分子吸引ステージ１８では概ね半径方向外向きであり、再生ステージ１９では半径方向内向きなので、均衡の取れた効率的な組立体１０となる。
【００３０】
電気モーターは、組立体１０が作動している間は連続して作動するのが理想的である。そのような連続作動は、電気モーターの寿命を増大させるので好都合である。第１及び第２ロードロック室２１、２２の両方を同時に排気するのに合わせて、電気モーターの回転を周期的に上げ下げするのではなく、連続的に作動させるため、両室は、分けて排気することができる。
【００３１】
分かり易く言うと、第２ロードロック室２２のロード／アンロードの間に第１ロードロック室２１を排気し、第１ロードロック室２１のロード／アンロードの間に第２ロードロック室２２を排気する。
【００３２】
例えば、第１ロードロック室２１を排気しているときは、第１弁組立体６５は開いており、第１ロードロック室２１からのガスは、第１通路６３を通り、分子吸引ステージ１８と再生ステージ１９に引き込まれ、孔１１８と１１９から外へ出る。その時、第２弁組立体６６は閉じられ（ドライ真空ポンプ１２との連通が阻止され）ており、スリット弁４２を開き、半導体ウェーハを第２アンローディングポート３６から低圧で取り出すことができる。その後、スリット弁４２が閉じられ、スリット弁３２が開かれ、半導体ウェーハを高圧で第２ローディングポート２６から第２ロードロック室２２に挿入できるようになる。ローディングが完了すると、第２ロードロック室２２は排気の準備が整う。
【００３３】
更に、第２ロードロック室２２を排気しているときは、第２弁組立体６６は開いており、第２ロードロック室２２からのガスは、第２通路６４を通り、分子吸引ステージ１８と再生ステージ１９に引き込まれ、孔１１８と１１９から外へ出る。その時、第１弁組立体６５は閉じられ（ドライ真空ポンプ１２との連通が阻止され）ており、スリット弁４１を開き、半導体ウェーハを第１アンローディングポート３５から低圧で取り出すことができる。その後、スリット弁４１が閉じられ、スリット弁３１が開かれ、半導体ウェーハを高圧で第１ローディングポート２５から第１ロードロック室２１に挿入できるようになる。ローディングが完了すると、第１ロードロック室２２は排気の準備が整い、上記のサイクルが繰り返される。
【００３４】
理解して頂けるように、連結システム１６を使用してロードロック１４をドライ真空ポンプ１２に近接させることによって、両者の間の抵抗を無くすことができる。このように、連結システム１６を使用することで、第１及び第２ロードロック室２１、２２内を低圧にするのに必要な時間を短くすることができる。このように時間を削減できると、半導体ウェーハの「バッチ」処理に頼る必要が無くなり、同時に処理コストを低減できる。
【００３５】
本明細書で説明している実施形態は、単なる例であり、当業者であれば、本発明の趣旨及び範囲から逸脱することなく、変更及び修正を加えることができるであろう。そのような全ての変更及び修正は、上に述べた本発明の範囲内に含まれるものとする。上に述べた実施形態は、全て代替例の１つに過ぎず、また組み合わせてもよい旨理解頂きたい。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】ドライ真空ポンプとロードロック室の組み合わせ組立体の斜視図である。
【図２】一体に接続されているドライ真空ポンプとロードロック室の断面である。
【符号の説明】
【００３７】
１０      組立体
１２      ドライ真空ポンプ
１４      ロードロック
１５      ロードロックハウジング
１６      連結システム
１８      分子吸引圧縮ステージ
１９      再生圧縮ステージ
２１、２２  ロードロック室
２５、２６  ローディングポート
３５、３６  アンローディングポート
３１、３２、４１、４２  スリット弁
５０      フランジ状のシリンダ
５２      ポンプハウジング
５３      ポンプハウジングの本体部分
６２、１０７、１０８  同心シリンダ
６３、６４  通路
７６      ドライ真空ポンプのシャフト
８０      ローター
９４、９５、９６、９７、９８、９９  円形チャネル
８４、８５、８６、８７、８８、８９  突起リング
１１０、１１１、１１２  フランジ
Ｂ  ブレード
【図１】
2005299659.tif 000003
【図２】
2005299659.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成17年6月9日(2005.6.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2005299659.tif 000005
【図２】
2005299659.tif 000006
【外国語明細書】
2005299659000001.pdf