(57)【要約】 【課題】  インクジェット方式の液滴吐出法を用いて有機ＥＬ素子等のデバイスを製造する際の歩留まりを向上させる。【解決手段】  機能性材料を含む液状体を基板Ｓに対して吐出する吐出ヘッド１４と、基板Ｓ上の液状体に対して所定ガス（不活性ガス）を吹き付けるブロー装置１６とを備えてデバイスの製造装置１０を構成した。吐出ヘッド１４により液状体を吐出する吐出工程にて、基板Ｓに吐出された液状体が所望の領域内において濡れ拡がらない場合であっても、ブロー装置１６によって所定ガスを吹き付けることにより、この所定ガスによる風圧の作用等の物理的な作用によって所望の領域内において液状体が濡れ拡がるようになる。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
機能性材料を含む液状体を吐出ヘッドにより基板に対して吐出する吐出工程を含むデバイスの製造方法であって、
前記吐出工程の実行開始以後に所定ガスをブロー装置により前記基板上の前記液状体に対して吹き付ける吹付工程を含むことを特徴とするデバイスの製造方法。
【請求項２】
前記吹付工程において、前記所定ガスを前記基板上の全ての前記液状体に対して吹き付けることを特徴とする請求項１に記載のデバイスの製造方法。
【請求項３】
前記吐出工程の実行開始以後に前記基板上の前記液状体の配置状態を検知する検知工程を含み、
前記吹付工程において、前記所定ガスを前記基板上の前記検知工程での検知結果に応じた前記液状体に対して選択的に吹き付けることを特徴とする請求項１に記載のデバイスの製造方法。
【請求項４】
前記吹付工程において、前記所定ガスを吹き付ける方向を、少なくとも前記吐出ヘッドと前記ブロー装置との相対位置又は前記液状体が前記吐出ヘッドから吐出しているか否かの判定結果に応じて設定することを特徴とする請求項１から請求項４の何れかひとつに記載のデバイスの製造方法。
【請求項５】
前記吹付工程において、前記所定ガスを吹き付ける方向を、前記基板に対する前記吐出ヘッドの相対移動方向の後方側に向かう方向に設定することを特徴とする請求項１から請求項４の何れかひとつに記載のデバイスの製造方法。
【請求項６】
前記吹付工程において、少なくとも前記吐出ヘッドが前記基板に対向する位置に配置されているとき又は前記液状体が前記吐出ヘッドから吐出されているときには、前記所定ガスの吹き付けを禁止あるいは前記所定ガスの吹き付け量を前記吐出ヘッドが前記基板に対向する位置に配置されていないとき又は前記液状体が前記吐出ヘッドから吐出されていないときに比べて低減することを特徴とする請求項１から請求項５の何れかひとつに記載のデバイスの製造方法。
【請求項７】
前記吐出工程の実行完了以後に前記吹付工程の実行を開始することを特徴とする請求項１から請求項６の何れかひとつに記載のデバイスの製造方法。
【請求項８】
前記所定ガスは不活性ガスからなることを特徴とする請求項１から請求項７の何れかひとつに記載のデバイスの製造方法。
【請求項９】
前記所定ガスは前記液状体が気化してなる気化ガスからなることを特徴とする請求項１から請求項７の何れかひとつに記載のデバイスの製造方法。
【請求項１０】
前記吐出工程において、仕切部材により囲まれた前記基板の所定領域内に対して前記液状体を吐出しており、
前記所定領域内は前記液状体に対して親和性を有することを特徴とする請求項１から請求項９の何れかひとつに記載のデバイスの製造方法。
【請求項１１】
前記吐出工程において、仕切部材により囲まれた前記基板の所定領域内に対して前記液状体を吐出しており、
前記仕切部材は前記液状体に対して非親和性を有することを特徴とする請求項１から請求項１０の何れかひとつに記載のデバイスの製造方法。
【請求項１２】
機能性材料を含む液状体を基板に対して吐出する吐出ヘッドを備えるデバイスの製造装置であって、
前記基板上の前記吐出ヘッドから吐出された前記液状体に対してガス排出口から所定ガスを吹き付けるブロー装置を備えることを特徴とするデバイスの製造装置。
【請求項１３】
前記吐出ヘッドと前記ブロー装置とは一体的に形成されることを特徴とする請求項１２に記載のデバイスの製造装置。
【請求項１４】
前記ブロー装置の前記ガス排出口は、前記基板に対する前記吐出ヘッドの相対移動方向において前記吐出ヘッドよりも後方側の位置に配置されることを特徴とする請求項１２または請求項１３に記載のデバイスの製造装置。  
【請求項１５】
前記ガス排出口の開口部は、前記基板に対する前記吐出ヘッドの相対移動方向の後方部に臨むようにして形成されることを特徴とする請求項１２から請求項１４の何れかひとつに記載のデバイスの製造装置。
【請求項１６】
前記基板に対する前記吐出ヘッドの相対移動方向の後方に向かう方向と、前記ガス排出口の開口部が前記相対移動方向の後方部に向かい臨む方向とのなす角度に対して、
前記吐出ヘッドと前記ブロー装置とが互いに独立に形成されている場合の前記角度は、前記吐出ヘッドと前記ブロー装置とが一体的に形成されている場合の前記角度よりも大きな値を含むことを特徴とする請求項１５に記載のデバイスの製造装置。
【請求項１７】
前記ブロー装置は、前記所定ガスが流通すると共に管状に伸びるガス排出部と、前記ガス排出部の長手方向に沿った適宜の位置に配置された複数の前記ガス排出口とを備えることを特徴とする請求項１２から請求項１６の何れかひとつに記載のデバイスの製造装置。
【請求項１８】
前記基板上の前記吐出ヘッドから吐出された前記液状体の配置状態を検知する検知手段と、
前記検知手段の検知結果に応じて前記ブロー装置の動作を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記所定ガスを前記検知結果に応じた前記液状体に対して選択的に吹き付けることを特徴とする請求項１２から請求項１７の何れかひとつに記載のデバイスの製造装置。
【請求項１９】
前記吐出ヘッドの状態を検知する状態検知手段と、
前記状態検知手段の検知結果に応じて前記ブロー装置の動作を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、前記検知結果において、少なくとも前記吐出ヘッドが前記基板に対向する位置に配置されているとき又は前記液状体が前記吐出ヘッドから吐出されているときには、前記所定ガスの吹き付けを禁止あるいは前記所定ガスの吹き付け量を前記吐出ヘッドが前記基板に対向する位置に配置されていないとき又は前記液状体が前記吐出ヘッドから吐出されていないときに比べて低減することを特徴とする請求項１２から請求項１８の何れかひとつに記載のデバイスの製造装置。
【請求項２０】
内部に配置された前記基板に対して前記吐出ヘッドにより前記液状体を吐出させる吐出装置と、
前記基板を前記吐出装置の外部から内部へ及び内部から外部へと搬送する搬送手段とを備え、
前記搬送手段は前記吐出ヘッドによる前記液状体の吐出動作終了後に前記基板を前記吐出装置の内部から外部へと搬送し、
前記ブロー装置は前記吐出装置の外部にて前記所定ガスを吹き付けることを特徴とする請求項１２から請求項１９の何れかひとつに記載のデバイスの製造装置。
【請求項２１】
前記所定ガスは不活性ガスからなることを特徴とする請求項１２から請求項２０の何れかひとつに記載のデバイスの製造装置。
【請求項２２】
前記所定ガスは前記液状体が気化してなる気化ガスからなることを特徴とする請求項１２から請求項２０の何れかひとつに記載のデバイスの製造装置。
【請求項２３】
前記吐出工程において、仕切部材により囲まれた前記基板の所定領域内に対して前記液状体を吐出しており、
前記領域内は前記液状体に対して親和性を有することを特徴とする請求項１２から請求項２２の何れかひとつに記載のデバイスの製造装置。
【請求項２４】
前記吐出工程において、仕切部材により囲まれた前記基板の所定領域内に対して前記液状体を吐出しており、
前記仕切部材は前記液状体に対して非親和性を有することを特徴とする請求項１２から請求項２３の何れかひとつに記載のデバイスの製造装置。
【請求項２５】
請求項１から請求項１１の何れかひとつに記載のデバイスの製造方法により製造されたことを特徴とするデバイス。
【請求項２６】
請求項１２から請求項２５の何れかひとつに記載のデバイスの製造装置により製造されたことを特徴とするデバイス。
【請求項２７】
請求項２５または請求項２６に記載のデバイスを備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）等のデバイスの製造方法及びデバイスの製造装置及びデバイス及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体集積回路等の微細な配線パターンを有するデバイスの製造方法や、基板上に透明電極や発光層等の機能層を形成する電気光学装置の製造方法などにおいて、インクジェット方式の液滴吐出法を用いて配線又は成膜する方法が知られており、この液滴吐出法では、同一基板上に異なる薄膜パターンを形成するために、異なる薄膜領域を仕切る凸状の仕切部材（バンク）を設け、この仕切部材で囲まれた所定領域に機能性材料を含む液状体を充填するようになっている。そして、この液滴吐出法において、仕切部材で囲まれた所定領域内に充填された液状体が均一に濡れ拡がるように、かつ、所定領域内に充填された液状体が仕切部材を乗り越えて流出することを防止するために、例えば仕切部材を、液状体に対し親和性を示す親和性バンク層と、液状体に対し非親和性を示す非親和性バンク層とを交互に積層して構成するデバイスが知られている（例えば、特許文献１参照）。
また、例えば仕切部材の表面の一部に撥インク性を付与すると共に、仕切部材で囲まれた所定領域内に親インク性を付与する有機ＥＬ素子の製造方法が知られている（例えば、特許文献２参照）。
また、基板上に設けられた仕切部材あるいは仕切部材が設けられた基板の全表面に所定のプラズマ処理を行い、仕切部材の表面に液状体に対する非親和性を付与する有機ＥＬ素子の製造方法が知られている（例えば、特許文献３参照、特許文献４参照）。
【特許文献１】特開平１１−３２９７４１号公報
【特許文献２】特開２００２−３０５０７７号公報
【特許文献３】特開２００２−３３４７８２号公報
【特許文献４】特開２００２−３７２９２１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記従来技術に係る有機ＥＬ素子等のデバイスの製造方法であっても、インクジェット方式による液状体の充填状態等によっては、仕切部材で囲まれた基板上の所定領域内において液状体が均一に濡れ拡がらない場合があり、製造時の歩留まりを向上させることが出来ないという問題が生じる。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、製造時の歩留まりを向上させることが可能なデバイスの製造方法及びデバイスの製造装置及びデバイス及び電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
上記課題を解決して係る目的を達成するために、請求項１に記載の本発明のデバイスの製造方法は、機能性材料を含む液状体を吐出ヘッドにより基板に対して吐出する吐出工程を含むデバイスの製造方法であって、前記吐出工程の実行開始以後に所定ガスをブロー装置により前記基板上の前記液状体に対して吹き付ける吹付工程を含むことを特徴としている。
【０００５】
上記のデバイスの製造方法によれば、吐出工程にて基板に吐出された液状体が所望の領域内において濡れ拡がらない場合であっても、吹付工程によって所定ガスを吹き付けることにより、この所定ガスによる風圧の作用等の物理的な作用によって所望の領域内において液状体が濡れ拡がるようになる。これにより、デバイスの製造時における歩留まりを容易に向上させることができる。
【０００６】
さらに、請求項２に記載の本発明のデバイスの製造方法は、前記吹付工程において、前記所定ガスを前記基板上の全ての前記液状体に対して吹き付けることを特徴としている。
【０００７】
上記のデバイスの製造方法によれば、例えば所定領域毎に区画された区画領域毎に吹付工程を個別に実行する場合に比べて、吹付工程の実行回数が過剰に増大することを防止することができ、デバイスを製造する際に要する処理工程数を削減することができる。
【０００８】
さらに、請求項３に記載の本発明のデバイスの製造方法は、前記吐出工程の実行開始以後に前記基板上の前記液状体の配置状態を検知する検知工程を含み、前記吹付工程において、前記所定ガスを前記基板上の前記検知工程での検知結果に応じた前記液状体に対して選択的に吹き付けることを特徴としている。
【０００９】
上記のデバイスの製造方法によれば、例えば基板上の液状体の配置状態を撮像する撮像手段等によって液状体の配置状態を検知し、この検知結果に応じた液状体、例えば所望の領域内において濡れ拡がっていない液状体に対してのみ所定ガスを吹き付けることにより、不必要な吹き付けの実行を防止し、吹付工程を適切に実行することができ、デバイスの製造時における歩留まりを適切に向上させることができる。
【００１０】
さらに、請求項４に記載の本発明のデバイスの製造方法は、前記吹付工程において、前記所定ガスを吹き付ける方向を、少なくとも前記吐出ヘッドと前記ブロー装置との相対位置又は前記液状体が前記吐出ヘッドから吐出しているか否かの判定結果に応じて設定することを特徴としている。
【００１１】
上記のデバイスの製造方法によれば、例えば、吐出ヘッドとブロー装置との間の距離が小さくなることに伴い、所定ガスを吐出ヘッドから離間する方向に向かい吹き付けるように設定することで、吐出工程において吐出ヘッドから吐出される液状体に対して所定ガスが作用してしまうことを抑制することができる。また、液状体が吐出ヘッドから吐出しているときには、液状体が吐出していない場合に比べて、所定ガスをより吐出ヘッドから離間する方向に向かい吹き付けるように設定することで、吐出工程において吐出ヘッドから吐出される液状体に対して所定ガスが作用してしまうことを抑制することができる。
【００１２】
さらに、請求項５に記載の本発明のデバイスの製造方法は、前記吹付工程において、前記所定ガスを吹き付ける方向を、前記基板に対する前記吐出ヘッドの相対移動方向の後方側に向かう方向に設定することを特徴としている。
【００１３】
上記のデバイスの製造方法によれば、所定ガスを吐出ヘッドから離間する方向に向かい吹き付けるように設定することにより、吐出工程において吐出ヘッドから吐出される液状体に対して所定ガスが作用してしまうことを抑制することができる。
【００１４】
さらに、請求項６に記載の本発明のデバイスの製造方法は、前記吹付工程において、少なくとも前記吐出ヘッドが前記基板に対向する位置に配置されているとき又は前記液状体が前記吐出ヘッドから吐出されているときには、前記所定ガスの吹き付けを禁止あるいは前記所定ガスの吹き付け量を前記吐出ヘッドが前記基板に対向する位置に配置されていないとき又は前記液状体が前記吐出ヘッドから吐出されていないときに比べて低減することを特徴としている。
【００１５】
上記のデバイスの製造方法によれば、吐出工程において吐出ヘッドから吐出される液状体に対して所定ガスが作用してしまうことを抑制することができ、吐出工程を適切に実行することができる。
【００１６】
さらに、請求項７に記載の本発明のデバイスの製造方法は、前記吐出工程の実行完了以後に前記吹付工程の実行を開始することを特徴としている。
【００１７】
上記のデバイスの製造方法によれば、吐出工程において吐出ヘッドから吐出される液状体に対して所定ガスが作用してしまうことを抑制することができると共に、吹付工程の実行回数が過剰に増大することを防止することができ、デバイスを製造する際に要する処理工程数を削減することができる。
【００１８】
さらに、請求項８に記載の本発明のデバイスの製造方法では、前記所定ガスは不活性ガスからなることを特徴としている。
【００１９】
上記のデバイスの製造方法によれば、液状体に対して不活性ガスを吹き付けることにより、液状体中に含まれる物質の組成を変化させることなく、所望の性能を有するデバイスを製造することができる。
【００２０】
さらに、請求項９に記載の本発明のデバイスの製造方法では、前記所定ガスは前記液状体が気化してなる気化ガスからなることを特徴としている。
【００２１】
上記のデバイスの製造方法によれば、液状体に対して、液状体が気化してなる気化ガスを吹き付けることにより、液状体中に含まれる物質の組成を変化させることなく、しかも、吹付工程において基板上の液状体が過剰に乾燥してしまうことを防止することができ、所望の性能を有するデバイスを製造することができる。
【００２２】
さらに、請求項１０に記載の本発明のデバイスの製造方法は、前記吐出工程において、仕切部材により囲まれた前記基板の所定領域内に対して前記液状体を吐出しており、前記所定領域内は前記液状体に対して親和性を有することを特徴としている。
【００２３】
上記のデバイスの製造方法によれば、所定領域内は液状体に対して親和性を有することから、液状体が濡れ拡がりやすくなり、所望の性能を有するデバイスを容易に製造することができる。
【００２４】
さらに、請求項１１に記載の本発明のデバイスの製造方法は、前記吐出工程において、仕切部材により囲まれた前記基板の所定領域内に対して前記液状体を吐出しており、前記仕切部材は前記液状体に対して非親和性を有することを特徴としている。
【００２５】
上記のデバイスの製造方法によれば、仕切部材により囲まれた基板の所定領域内に吐出された液状体が仕切部材を乗り越えて所定領域外に流出することを抑制することができ、所望の性能を有するデバイスを容易に製造することができる。
【００２６】
また、請求項１２に記載の本発明のデバイスの製造装置は、機能性材料を含む液状体を基板に対して吐出する吐出ヘッドを備えるデバイスの製造装置であって、前記基板上の前記吐出ヘッドから吐出された前記液状体に対してガス排出口から所定ガスを吹き付けるブロー装置を備えることを特徴としている。
【００２７】
上記構成のデバイスの製造装置によれば、吐出ヘッドから基板に吐出された液状体が所望の領域内において濡れ拡がらない場合であっても、ブロー装置によって所定ガスを吹き付けることにより、この所定ガスによる風圧の作用等の物理的な作用によって所望の領域内において液状体が濡れ拡がるようになる。これにより、デバイスの製造時における歩留まりを容易に向上させることができる。
【００２８】
また、請求項１３に記載の本発明のデバイスの製造装置では、前記吐出ヘッドと前記ブロー装置とは一体的に形成されることを特徴としている。
【００２９】
上記構成のデバイスの製造装置によれば、吐出ヘッドとブロー装置とは、基板に対して一体的に相対移動することから、吐出ヘッドによる液状体の吐出動作と、ブロー装置による所定ガスの吹き付け動作とを連動させて実行することができ、装置構成を簡略化することができる。
【００３０】
さらに、請求項１４に記載の本発明のデバイスの製造装置では、前記ブロー装置の前記ガス排出口は、前記基板に対する前記吐出ヘッドの相対移動方向において前記吐出ヘッドよりも後方側の位置に配置されることを特徴としている。
【００３１】
上記構成のデバイスの製造装置によれば、吐出ヘッドから液状体が吐出される際に、ガス排出口から排出される所定ガスが作用してしまうことを抑制することができる。
【００３２】
さらに、請求項１５に記載の本発明のデバイスの製造装置では、前記ガス排出口の開口部は、前記基板に対する前記吐出ヘッドの相対移動方向の後方部に臨むようにして形成されることを特徴としている。
【００３３】
上記構成のデバイスの製造装置によれば、所定ガスを吐出ヘッドから離間する方向に向かい吹き付けるように設定することにより、吐出ヘッドから液状体が吐出される際に、液状体に対して所定ガスが作用してしまうことを抑制することができる。
【００３４】
さらに、請求項１６に記載の本発明のデバイスの製造装置は、前記基板に対する前記吐出ヘッドの相対移動方向の後方に向かう方向と、前記ガス排出口の開口部が前記相対移動方向の後方部に向かい臨む方向とのなす角度に対して、前記吐出ヘッドと前記ブロー装置とが互いに独立に形成されている場合の前記角度は、前記吐出ヘッドと前記ブロー装置とが一体的に形成されている場合の前記角度よりも大きな値を含むことを特徴としている。
【００３５】
上記構成のデバイスの製造装置によれば、吐出ヘッドとブロー装置とが基板に対して一体的に相対移動する場合には、ガス排出口から排出される所定ガスを、吐出ヘッドとブロー装置とが互いに独立に形成されている場合に比べて、より吐出ヘッドの後方部に向かう方向へ集中させることで、吐出ヘッドから液状体が吐出される際に、ガス排出口から排出される所定ガスが液状体に作用することを防止することができる。
【００３６】
さらに、請求項１７に記載の本発明のデバイスの製造装置では、前記ブロー装置は、前記所定ガスが流通すると共に管状に伸びるガス排出部と、前記ガス排出部の長手方向に沿った適宜の位置に配置された複数の前記ガス排出口とを備えることを特徴としている。
【００３７】
上記構成のデバイスの製造装置によれば、ガス排出部に設けられた複数のガス排出口から所定ガスを排出することにより、基板上の複数の液状体に対して所定ガスを効率よく吹き付けることができる。
【００３８】
さらに、請求項１８に記載の本発明のデバイスの製造装置は、前記基板上の前記吐出ヘッドから吐出された前記液状体の配置状態を検知する検知手段と、前記検知手段の検知結果に応じて前記ブロー装置の動作を制御する制御手段とを備え、前記制御手段は、前記所定ガスを前記検知結果に応じた前記液状体に対して選択的に吹き付けることを特徴としている。
【００３９】
上記構成のデバイスの製造装置によれば、例えば基板上の液状体の配置状態を撮像する撮像手段等を検知手段として液状体の配置状態を検知し、この検知結果に応じた液状体、例えば所望の領域内において濡れ拡がっていない液状体に対してのみ所定ガスを吹き付けることにより、不必要な吹き付けの実行を防止し、吹き付け動作を適切に実行することができ、デバイスの製造時における歩留まりを適切に向上させることができる。
【００４０】
さらに、請求項１９に記載の本発明のデバイスの製造装置は、前記吐出ヘッドの状態を検知する状態検知手段と、前記状態検知手段の検知結果に応じて前記ブロー装置の動作を制御する制御手段とを備え、前記制御手段は、前記検知結果において、少なくとも前記吐出ヘッドが前記基板に対向する位置に配置されているとき又は前記液状体が前記吐出ヘッドから吐出されているときには、前記所定ガスの吹き付けを禁止あるいは前記所定ガスの吹き付け量を前記吐出ヘッドが前記基板に対向する位置に配置されていないとき又は前記液状体が前記吐出ヘッドから吐出されていないときに比べて低減することを特徴としている。
【００４１】
上記構成のデバイスの製造装置によれば、吐出ヘッドから液状体が吐出される際に、ガス排出口から排出される所定ガスが液状体に作用することを防止することができる。
【００４２】
さらに、請求項２０に記載の本発明のデバイスの製造装置は、内部に配置された前記基板に対して前記吐出ヘッドにより前記液状体を吐出させる吐出装置と、前記基板を前記吐出装置の外部から内部へ及び内部から外部へと搬送する搬送手段とを備え、前記搬送手段は前記吐出ヘッドによる前記液状体の吐出動作終了後に前記基板を前記吐出装置の内部から外部へと搬送し、前記ブロー装置は前記吐出装置の外部にて前記所定ガスを吹き付けることを特徴としている。
【００４３】
上記構成のデバイスの製造装置によれば、吐出ヘッドから液状体が吐出される際に、ガス排出口から排出される所定ガスが液状体に作用することを防止することができると共に、吹き付け動作の実行回数が過剰に増大することを防止することができ、デバイスを製造する際に要する処理工程数を削減することができる。
【００４４】
さらに、請求項２１に記載の本発明のデバイスの製造装置では、前記所定ガスは不活性ガスからなることを特徴としている。
【００４５】
上記構成のデバイスの製造装置によれば、液状体に対して不活性ガスを吹き付けることにより、液状体中に含まれる物質の組成を変化させることなく、所望の性能を有するデバイスを製造することができる。
【００４６】
さらに、請求項２２に記載の本発明のデバイスの製造装置では、前記所定ガスは前記液状体が気化してなる気化ガスからなることを特徴としている。
【００４７】
上記構成のデバイスの製造装置によれば、液状体に対して、液状体が気化してなる気化ガスを吹き付けることにより、液状体中に含まれる物質の組成を変化させることなく、しかも、吹付工程において基板上の液状体が過剰に乾燥してしまうことを防止することができ、所望の性能を有するデバイスを製造することができる。
【００４８】
さらに、請求項２３に記載の本発明のデバイスの製造装置は、前記吐出工程において、仕切部材により囲まれた前記基板の所定領域内に対して前記液状体を吐出しており、前記領域内は前記液状体に対して親和性を有することを特徴としている。
【００４９】
上記構成のデバイスの製造装置によれば、所定領域内は液状体に対して親和性を有することから、液状体が濡れ拡がりやすくなり、所望の性能を有するデバイスを容易に製造することができる。
【００５０】
さらに、請求項２４に記載の本発明のデバイスの製造装置は、前記吐出工程において、仕切部材により囲まれた前記基板の所定領域内に対して前記液状体を吐出しており、前記仕切部材は前記液状体に対して非親和性を有することを特徴としている。
【００５１】
上記構成のデバイスの製造装置によれば、仕切部材により囲まれた基板の所定領域内に吐出された液状体が仕切部材を乗り越えて所定領域外に流出することを抑制することができ、所望の性能を有するデバイスを容易に製造することができる。
【００５２】
また、請求項２５に記載の本発明のデバイスは、請求項１から請求項１１の何れかひとつに記載のデバイスの製造方法により製造されたことを特徴としている。
【００５３】
上記構成のデバイスによれば、所望の領域内において液状体が濡れ拡がるようにすることができ、所望の性能を有するデバイスを提供することができる。
【００５４】
また、請求項２６に記載の本発明のデバイスは、請求項１２から請求項２５の何れかひとつに記載のデバイスの製造装置により製造されたことを特徴としている。
【００５５】
上記構成のデバイスによれば、所望の領域内において液状体が濡れ拡がるようにすることができ、所望の性能を有するデバイスを提供することができる。
【００５６】
また、請求項２７に記載の本発明の電子機器は、請求項２５または請求項２６に記載のデバイスを備えることを特徴としている。
【００５７】
上記構成の電子機器によれば、製造時の歩留まりが向上された電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５８】
以下、本発明の実施の形態に係るデバイスの製造方法及びデバイスの製造装置及びデバイス及び電子機器について添付図面を参照しながら説明する。
この実施の形態によるデバイスの製造装置１０は、例えば、制御装置１０ａと、ベース１１と、ベース１１上に設置された基板移動装置１２およびヘッド移動装置１３と、吐出ヘッド１４と、液状体供給装置１５と、ブロー装置１６とを備えて構成され、液状体供給装置１５から供給される機能性材料を含む液状体を吐出ヘッド１４によりベース１１に保持される基板Ｓに対して吐出するものである。
【００５９】
基板移動装置１２は、例えば、基板Ｓを保持するステージＳＴと、Ｙ軸方向に沿って伸びる基板ガイドレール１６と、制御装置１０ａにより駆動制御されるリニアモータ等（図示略）により基板ガイドレール１６に沿ってＹ軸方向に移動可能に設けられた基板スライダー１７と、基板スライダー１７に具備されて制御装置１０ａの駆動制御によりＺ軸回りのθ方向にステージＳＴを回転駆動可能なモータ１８（例えば、ダイレクトドライブモータ等）とを備えて構成されている。
ステージＳＴは、基板Ｓを所定位置に位置決めして保持するものであり、制御装置１０ａにより駆動制御される吸着保持装置等（図示略）によって、ステージＳＴに設けられた吸着孔ＳＴａを介して基板ＳをステージＳＴ上に吸着保持するようになっている。
ヘッド移動装置１３は、例えばベース１１上に固定されてＺ軸方向に伸びる支柱１９Ａ，１９Ａと、支柱１９Ａ，１９Ａに固定されてＸ軸方向に伸びるコラム１９Ｂと、コラム１９Ｂに支持されてＸ軸方向に伸びるヘッドガイドレール２０と、制御装置１０ａにより駆動制御されるリニアモータ等（図示略）によりヘッドガイドレール２０に沿ってＸ軸方向に移動可能に設けられたヘッドスライダー２１とを備えて構成されている。
【００６０】
吐出ヘッド１４は、ヘッドスライダー２１に装着され、制御装置１０ａにより駆動制御される揺動位置決め装置としての各モータ２２，２３，２４，２５を備えている。
すなわち、吐出ヘッド１４は、モータ２２によりＺ軸方向に沿って前進および後退して位置決め可能であり、モータ２３によりＹ軸回りのβ方向に沿って揺動して位置決め可能であり、モータ２４によりＸ軸回りのγ方向に揺動して位置決め可能であり、モータ２４によりＺ軸回りのα方向に揺動して位置決め可能である。
これにより、吐出ヘッド１４は、Ｚ軸方向に直線移動して位置決め可能、かつ、α方向およびβ方向およびγ方向に沿って揺動して位置決め可能であり、吐出ヘッド１４の吐出面１４Ａは、ステージＳＴ上に支持された基板Ｐに対して位置および姿勢を適宜に設定可能とされている。
なお、吐出ヘッド１４の吐出面１４Ａには、液状体供給装置１５から供給される機能性材料を含む液状体を吐出する複数のノズルが設けられ、各ノズルから吐出される液状体の吐出量や液状体の吐出動作の実行および停止等の各タイミングは、制御装置１０ａにより制御されている。
また、Ｘ軸とＹ軸とＺ軸とは互いに直交する軸とされ、例えばＺ軸方向が上下方向（正方向が鉛直方向上方に向かう方向）とされ、Ｘ軸方向が水平面内の左右方向とされ、Ｙ軸方向が水平面内の前後方向とされている。
【００６１】
ブロー装置１６は、例えば支柱１９Ａ，１９Ａに支持されてＸ軸方向に伸びるガス流通管３１を備え、例えば図２（ａ），（ｂ）に示すようにガス流通管３１の長手方向に沿った適宜の位置に複数のガス排出口３２，…，３２が設けられている。
ここで、ガス流通管３１の内径（直径）は、例えば２〜３０ｍｍとされ、Ｘ軸方向に沿ったガス流通管３１の長さは、例えば基板ＳのＸ軸方向の長さＳＸに対してＳＸ〜（ＳＸ＋２００ｍｍ）とされ、各ガス排出口３２の直径は、例えば１〜５ｍｍとされ、隣り合うガス排出口３２，３２間の距離は、例えば３〜３０ｍｍとされ、Ｘ軸方向に沿った単数列あるいは複数列をなすようにして複数のガス排出口３２，…，３２が設けられている。
そして、Ｙ軸方向に沿った基板スライダー１７の移動方向の正方向をＹ軸の正方向とし、後述する吐出工程において基板スライダー１７がＹ軸正方向に移動するように設定されている状態において、ガス流通管３１は吐出ヘッド１４よりもＹ軸正方向に所定距離Ｌ（例えば、Ｌ＝５〜１００ｃｍ等）だけずれた位置に配置され、さらに、ガス流通管３１に設けられた各ガス排出口３２の開口部はＹ軸の正方向側に臨むように形成されている。
つまり、例えば図２（ａ），（ｂ）に示すように、ガス流通管３１は、基板スライダー１７に対する吐出ヘッド１４の相対移動正方向（Ｙ軸負方向）に対し、吐出ヘッド１４の後方部に配置されると共に、ガス流通管３１において鉛直方向下方（Ｚ軸負方向）から吐出ヘッド１４の後方部に向かいＸ軸周りに所定角度φ１（例えば、０≦φ１≦６０°等）をなす位置に設けられた貫通孔がガス排出口３２とされている。
これにより、制御装置１０ａの制御によってガス流通管３１に供給される所定ガス（例えば、窒素ガスやアルゴンガス等の不活性ガス）は、各ガス排出口３２から基板Ｓに対する吐出ヘッド１４の相対移動正方向（Ｙ軸負方向）の後方側に向かう方向に排出されることになる。
【００６２】
本発明の実施の形態に係るデバイスの製造装置１０は上記構成を備えており、次に、このデバイスの製造装置１０を用いたデバイスの製造方法、特に、特に有機エレクトロルミネッセンス装置（有機ＥＬ装置）における機能層の形成方法について説明する。
【００６３】
有機ＥＬ装置３０１は、例えば図３に示すように、基板３１１と、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）などの回路等が形成された回路素子部３２１と、画素電極３３１と、バンク部３４１と、発光素子３５１と、陰極（対向電極）３６１と、封止基板３７１とから構成された有機ＥＬ素子３０２に、フレキシブル基板（図示略）の配線および駆動ＩＣ（図示略）を接続したものである。回路素子部３２１は基板３１１上に形成され、複数の画素電極３３１が回路素子部３２１上に整列している。そして、各画素電極３３１間にはバンク部３４１が格子状に形成されており、隣り合うバンク部３４１，３４１により形成された凹部開口３４４に、発光素子３５１が形成されている。陰極３６１は、バンク部３４１および発光素子３５１の上部全面に形成され、陰極３６１の上には封止用基板３７１が積層されている。
【００６４】
有機ＥＬ素子を含む有機ＥＬ装置３０１の製造プロセスは、バンク部３４１を形成するバンク部形成工程と、発光素子３５１を適切に形成するためのプラズマ処理工程と、発光素子３５１を形成する発光素子形成工程と、陰極３６１を形成する対向電極形成工程と、封止用基板３７１を陰極３６１上に積層して封止する封止工程とを備えている。
発光素子形成工程は、凹部開口３４４、すなわち画素電極３３１上に正孔注入／輸送層３５２および発光層３５３を形成することにより発光素子３５１を形成するもので、正孔注入／輸送層形成工程と発光層形成工程とを具備している。
そして、正孔注入／輸送層形成工程は、正孔注入／輸送層３５２を形成するための第１組成物（液状体）を各画素電極３３１上に吐出する第１吐出工程と、吐出された第１組成物に対してブロー装置１６により所定ガスを吹き付けるブロー処理工程と、吐出された第１組成物を乾燥させて正孔注入／輸送層３５２を形成する第１乾燥工程とを有し、発光層形成工程は、発光層３５３を形成するための第２組成物（液状体）を正孔注入／輸送層３５２の上に吐出する第２吐出工程と、吐出された第２組成物を乾燥させて発光層３５３を形成する第２乾燥工程とを有している。
【００６５】
なお、この有機ＥＬ装置３０１は、基板３１１上に回路素子部３２１までが形成された部分をアクティブマトリクス基板とし、このようにアクティブマトリクス基板を備えていることにより、この有機ＥＬ装置３０１はアクティブマトリクス駆動をなすものとなっている。さらに、この有機ＥＬ装置３０１においては、発光素子３５１から基板３１１側に発した光が、アクティブマトリクス基板、すなわち回路素子部３２１及び基板３１１を透過して、基板３１１の裏面側（観測者側）に出射される、いわゆるボトムエミッションタイプとなっている。なお、発光素子３５１から基板３１１の反対側に発した光は、後述するように陰極３６１で反射されて、アクティブマトリクス基板（回路素子部３２１及び基板３１１）を透過して基板３１１の裏面側（観測者側）に出射されるようになっている。
【００６６】
また、画素電極３３１は、透明導電性材料、例えばインジウム錫酸化物（Indium Tin Oxide：ＩＴＯ）によって形成されたもので、平面視略矩形にパターニングされたものである。
バンク部３４１は、基板３１１側にＳｉＯ２等からなる無機バンク３４２と、この無機バンク３４２上に形成された有機バンク３４３とから構成されたものである。無機バンク３４２は、画素電極３３１の周縁部上に乗上げるように形成されたもので、平面視した状態で画素電極３３１の周囲と無機バンク３４２とが平面的に重なるように配置された構造となっている。また、有機バンク３４３も、平面視した状態で画素電極３３１の一部と重なるように配置されている。なお、有機バンク３４３は、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性のある材料によって形成されている。
【００６７】
発光素子３５１の正孔注入／輸送層３５２の形成材料としては、特に３，４−ポリエチレンジオシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液、すなわち、ポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを混合させ、さらにこれを水に分散させた分散液が好適に用いられる。なお、正孔注入／輸送層３５２の形成材料としては、前記のものに限定されることなく種々のものが使用可能である。例えば、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体などを、適宜な分散媒、例えば前記のポリスチレンスルフォン酸に分散させたものなどが使用可能である。
発光層３５３の形成材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料が用いられる。具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）等のポリシラン系など、各種の高分子系材料が好適に用いられる。また、これらの高分子系材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
【００６８】
以下に、上述した有機ＥＬ装置３０１の製造方法について説明する。
先ず、例えば図４に示すステップＳ０１においては、基板３１１上にＴＦＴ素子や各種配線等を形成し、さらに層間絶縁膜や平坦化膜を形成することにより、アクティブマトリクス基板を形成する。
次に、ステップＳ０２においては、アクティブマトリクス基板上に蒸着法等によってＩＴＯを成膜し、さらにパターニングすることによって画素電極３３１を形成する。
続いて、ステップＳ０３においては、画素電極３３１の周囲を囲むようにして基板３１１上にＳｉＯ２からなる無機バンク３４２を形成する。さらに、この無機バンク３４２上に樹脂からなる有機バンク３４３を形成し、これにより、例えば図６（ａ）に示すように、画素電極３３１上に凹部開口３４４を形成する。なお、有機バンク３４３に用いられる材料としては、ポリイミド、アクリル樹脂などが挙げられる。これらの材料としては、予めフッ素元素を含有したものを用いてもよい。
次に、ステップＳ０４においては、無機バンク３４２および有機バンク３４３からなるバンク部３４１で囲まれた凹部開口３４４に対して酸素プラズマ−ＣＦ４プラズマの連続処理を行うことにより、基板３１１上の濡れ性を制御する。ここでは、先ず、酸素プラズマ処理により、例えば図６（ｂ）に示すように、親水性のＩＴＯ表面４０１および活性化（親水化）されたポリイミド層４０２が形成される。次に、ＣＦ４プラズマ処理により、例えば図６（ｃ）に示すように、親水性のＩＴＯ表面４０１を保持したままでポリイミド層４０２の表面がフッ素化された撥液性表面４０３に改質される。
なお、このような基板３１１上の濡れ性の制御するための方法としては、例えば自己組織化膜を形成する方法を採用することもできる。
次に、ステップＳ０５においては、後述する発光素子形成工程を実行する。
次に、ステップＳ０６においては、焼成処理を行うことによって銀微粒子を焼結させることにより、陰極（対向電極）３６１を形成する。
次に、ステップＳ０７においては、陰極３６１上に保護層、封止樹脂を形成し、さらに封止基板を貼設して、一連の工程を終了する。
【００６９】
以下に、上述したステップＳ０５における発光素子形成工程について説明する。
この発光素子形成工程においては、インクジェット方式の液滴吐出法により、正孔注入／輸送層３５２および発光層３５３を形成する。
先ず、図５に示すステップＳ１１においては、例えば図７（ａ）に示すように、正孔注入／輸送層３５２の形成材料を含有する第１組成物（液状体）Ａ１を吐出ヘッド１４により凹部開口３４４内に選択的に吐出する。このとき、例えば吐出ヘッド１４による吐出状態によっては、例えば図７（ｂ）に示すように、凹部開口３４４内において第１組成物（液状体）Ａ１が均一に濡れ拡がらない場合が生じる。
次に、ステップＳ１２においては、例えば、基板スライダー１７をＹ軸正方向に所定距離だけ移動させることによって、ステージＳＴに保持された基板３１１に対して吐出ヘッド１４およびブロー装置１６のガス流通管３１が相対移動し、吐出ヘッド１４は他の異なる凹部開口３４４の上方位置へと相対移動し、ガス流通管３１は第１組成物（液状体）Ａ１が吐出された凹部開口３４４の上方位置へと相対移動する。
【００７０】
次に、ステップＳ１３においては、例えば図７（ｃ）に示すように、所定ガスをガス流通管３１の各ガス排出口３２から凹部開口３４４内の第１組成物（液状体）Ａ１に対して吹き付ける。これにより、吐出ヘッド１４により吐出された第１組成物（液状体）Ａ１が凹部開口３４４内において均一に濡れ拡がらない場合であっても、ブロー装置１６から供給される所定ガスの風圧により、例えば図７（ｄ）に示すように、第１組成物（液状体）Ａ１が凹部開口３４４内において均一に濡れ拡がるようになる。
なお、このブロー処理工程においては、例えば図７（ｃ），（ｄ）に示すように、このブロー処理工程で対象とされる凹部開口３４４とは異なる他の凹部開口３４４において吐出ヘッド１４により第１組成物（液状体）Ａ２が吐出されてもよい。このとき、各ガス排出口３２から排出される所定ガスは、基板３１１に対する吐出ヘッド１４の相対移動正方向（Ｙ軸負方向）の後方側に向かう方向に吹き付けられることから、吐出ヘッド１４から排出される第１組成物（液状体）Ａ２に対して、各ガス排出口３２から排出される所定ガスが作用することが防止される。
【００７１】
次に、ステップＳ１４においては、例えば、基板スライダー１７をＹ軸正方向に所定距離だけ移動させることによって、ステージＳＴに保持された基板３１１に対して吐出ヘッド１４およびブロー装置１６のガス流通管３１が相対移動し、吐出ヘッド１４は他の異なる凹部開口３４４の上方位置へと相対移動し、ガス流通管３１は第１組成物（液状体）Ａ２が吐出された凹部開口３４４の上方位置へと相対移動する。そして、例えば図７（ｅ）に示すように、所定ガスをガス流通管３１の各ガス排出口３２から凹部開口３４４内の第１組成物（液状体）Ａ２に対して吹き付ける。これにより、吐出ヘッド１４により吐出された第１組成物（液状体）Ａ２が凹部開口３４４内において均一に濡れ拡がらない場合であっても、ブロー装置１６から供給される所定ガスの風圧により、例えば図７（ｆ）に示すように、第１組成物（液状体）Ａ２が凹部開口３４４内において均一に濡れ拡がるようになる。
次に、ステップＳ１５においては、第１組成物（液状体）を吐出する工程が終了したか否かを判定する。
この判定結果が「ＮＯ」の場合には、上述したステップＳ１１に戻る。
一方、この判定結果が「ＹＥＳ」の場合には、ステップＳ１６に進む。
ステップＳ１６においては、各凹部開口３４４内に配置された第１組成物を乾燥させる第１乾燥工程を実行し、ステップＳ１７に進む。
上述したステップＳ１１からステップＳ１６の一連の処理工程によって、画素電極３３１上に正孔注入／輸送層３５２が形成される。
【００７２】
次に、図５に示すステップＳ１７においては、例えば図８（ａ）に示すように、発光層３５３の形成材料を含有する第２組成物（液状体）Ｂ１を吐出ヘッド１４により凹部開口３４４内に選択的に吐出する。このとき、例えば吐出ヘッド１４による吐出状態によっては、例えば図８（ｂ）に示すように、凹部開口３４４内において第２組成物（液状体）Ｂ１が均一に濡れ拡がらない場合が生じる。
次に、ステップＳ１８においては、例えば、基板スライダー１７をＹ軸正方向に所定距離だけ移動させることによって、ステージＳＴに保持された基板３１１に対して吐出ヘッド１４およびブロー装置１６のガス流通管３１が相対移動し、吐出ヘッド１４は他の異なる凹部開口３４４の上方位置へと相対移動し、ガス流通管３１は第１組成物（液状体）Ａ１が吐出された凹部開口３４４の上方位置へと相対移動する。
【００７３】
次に、ステップＳ１９においては、例えば図８（ｃ）に示すように、所定ガスをガス流通管３１の各ガス排出口３２から凹部開口３４４内の第２組成物（液状体）Ｂ１に対して吹き付ける。これにより、吐出ヘッド１４により吐出された第２組成物（液状体）Ｂ１が凹部開口３４４内において均一に濡れ拡がらない場合であっても、ブロー装置１６から供給される所定ガスの風圧により、例えば図８（ｄ）に示すように、第２組成物（液状体）Ｂ１が凹部開口３４４内において均一に濡れ拡がるようになる。
なお、このブロー処理工程においては、例えば図８（ｃ），（ｄ）に示すように、このブロー処理工程で対象とされる凹部開口３４４とは異なる他の凹部開口３４４において吐出ヘッド１４により第２組成物（液状体）Ｂ２が吐出されてもよい。このとき、各ガス排出口３２から排出される所定ガスは、基板３１１に対する吐出ヘッド１４の相対移動正方向（Ｙ軸負方向）の後方側に向かう方向に吹き付けられることから、吐出ヘッド１４から排出される第２組成物（液状体）Ｂ２に対して、各ガス排出口３２から排出される所定ガスが作用することが防止される。
【００７４】
次に、ステップＳ２０においては、例えば、基板スライダー１７をＹ軸正方向に所定距離だけ移動させることによって、ステージＳＴに保持された基板３１１に対して吐出ヘッド１４およびブロー装置１６のガス流通管３１が相対移動し、吐出ヘッド１４は他の異なる凹部開口３４４の上方位置へと相対移動し、ガス流通管３１は第２組成物（液状体）Ｂ２が吐出された凹部開口３４４の上方位置へと相対移動する。そして、例えば図８（ｅ）に示すように、所定ガスをガス流通管３１の各ガス排出口３２から凹部開口３４４内の第２組成物（液状体）Ｂ２に対して吹き付ける。これにより、吐出ヘッド１４により吐出された第２組成物（液状体）Ｂ２が凹部開口３４４内において均一に濡れ拡がらない場合であっても、ブロー装置１６から供給される所定ガスの風圧により、例えば図８（ｆ）に示すように、第２組成物（液状体）Ｂ２が凹部開口３４４内において均一に濡れ拡がるようになる。
次に、ステップＳ２１においては、第２組成物（液状体）を吐出する工程が終了したか否かを判定する。
この判定結果が「ＮＯ」の場合には、上述したステップＳ１７に戻る。
一方、この判定結果が「ＹＥＳ」の場合には、ステップＳ２２に進む。
ステップＳ２２においては、各凹部開口３４４内に配置された第２組成物を乾燥させる第２乾燥工程を実行し、一連の処理工程を終了する。
上述したステップＳ１７からステップＳ２２の一連の処理工程によって、正孔注入／輸送層３５２の上に発光層３５３が形成される。
【００７５】
上述したように、本発明の実施の形態によるデバイスの製造装置１０によれば、吐出ヘッド１４から基板Ｓに吐出された液状体が所望の領域内において濡れ拡がらない場合であっても、ブロー装置１６によって所定ガスを吹き付けることにより、この所定ガスによる風圧の作用等の物理的な作用によって所望の領域内において液状体が濡れ拡がるようになる。これにより、デバイスの製造時における歩留まりを容易に向上させることができる。
しかも、ガス流通管３１は、基板スライダー１７に対する吐出ヘッド１４の相対移動正方向（Ｙ軸負方向）に対し、吐出ヘッド１４の後方部に配置されると共に、所定ガスは、各ガス排出口３２から基板Ｓに対する吐出ヘッド１４の相対移動正方向（Ｙ軸負方向）の後方側に向かう方向に排出されることから、吐出ヘッド１４から排出される液状体に対して、各ガス排出口３２から排出される所定ガスが不必要に作用することを防止することができる。
また、本発明の実施の形態によるデバイスの製造方法によれば、基板Ｓに吐出された液状体が所望の領域内において濡れ拡がらない場合であっても、所定ガスを吹き付けることにより、この所定ガスによる風圧の作用等の物理的な作用によって所望の領域内において液状体が濡れ拡がるようになる。これにより、デバイスの製造時における歩留まりを容易に向上させることができる。
【００７６】
なお、上述した実施の形態では、ブロー装置１６のガス流通管３１は支柱１９Ａ，１９Ａに固定されるとしたが、これに限定されず、例えば図９（ａ），（ｂ）に示すように、吐出ヘッド１４とガス流通管３１とが一体に形成されてもよい。この場合、ガス流通管３１は吐出ヘッド１４と共にＸ軸方向に沿って移動可能となることから、Ｘ軸方向に沿ったガス流通管３１の長さを上述した実施の形態に比べてより短く（例えば、基板ＳのＸ軸方向の長さＳＸよりも短く）形成してもよい。
また、この場合、ガス流通管３１は、基板スライダー１７に対する吐出ヘッド１４の相対移動正方向（Ｙ軸負方向）に対し、吐出ヘッド１４の後方部に配置されると共に、ガス流通管３１において鉛直方向下方（Ｚ軸負方向）から吐出ヘッド１４の後方部に向かいＸ軸周りに所定角度φ２（例えば、３０≦φ２≦６０°等）をなす位置に設けられた貫通孔がガス排出口３２とされている。
すなわち、この変形例では吐出ヘッド１４とガス流通管３１との間の距離が上述した実施の形態に比べて小さくなることから、ガス排出口３２から排出される所定ガスを上述した実施の形態に比べて、より吐出ヘッド１４の後方部に向かう方向へ集中させることで、吐出ヘッド１４から吐出される液状体に対して、各ガス排出口３２から排出される所定ガスが作用することを防止することができる。
【００７７】
なお、上述した実施の形態では、例えば基板Ｓ上の液状体の配置状態を検知する検知装置、例えば基板Ｓ上の液状体の配置状態を撮像する撮像装置等を備え、検知装置の検知結果に応じた液状体、例えば濡れ拡がっていない液状体に対してのみ選択的に所定ガスを吹き付けるようにしてブロー装置１６を制御してもよい。
また、上述した実施の形態では、少なくとも吐出ヘッド１４が基板Ｓに対向する位置に配置されているとき又は液状体が吐出ヘッド１４から吐出されているときには、所定ガスの吹き付けを禁止あるいは所定ガスの吹き付け量を吐出ヘッド１４が基板に対向する位置に配置されていないとき又は液状体が吐出ヘッド１４から吐出されていないときに比べて低減するようにしてブロー装置１６を制御してもよい。
また、上述した実施の形態では、例えばガス流通管３１をＸ軸周りに回転駆動させる駆動装置等を備え、制御装置１０ａの制御によりガス流通管３１をＸ軸周りに所定角度だけ回転させることによって、所定ガスの吹き付け方向を変更するように構成してもよい。この場合には、例えば吐出ヘッド１４の作動状態や、例えば吐出ヘッド１４とガス流通管３１との相対位置等に応じて所定ガスの吹き付け方向を変更することで、吐出ヘッド１４から液状体が吐出される際に、ガス流通管３１のガス排出口３２から排出される所定ガスが液状体に作用してしまうことを防止することができる。
【００７８】
なお、上述した実施の形態では、所定ガスを不活性ガスとしたが、これに限定されず、例えば液状体が気化してなる気化ガスであってもよい。この気化ガスを液状体に吹き付けることにより、液状体中に含まれる物質の組成を変化させることなく、しかも、吹付工程において基板上の液状体が過剰に乾燥してしまうことを防止することができ、所望の性能を有するデバイスを製造することができる。
【００７９】
なお、上述した実施の形態では、液状体を基板Ｓに対して吐出ヘッド１４により吐出させるための吐出装置と、ブロー装置１６によって所定ガスを基板Ｓ上の液状体に対して吹き付ける吹付装置とを、互いに独立した装置として構成し、適宜の搬送装置によって基板Ｓを吐出装置から吹付装置へと搬送するように設定し、吐出装置内にて液状体の吐出処理工程が終了した基板Ｓを、吹付装置内へと搬送し、この吹付装置内にて所定ガスを基板Ｓ上の液状体に対して吹き付けるように構成してもよい。
【００８０】
なお、上述した実施の形態に係る有機ＥＬ装置３０１を備えた電子機器の具体例について説明する。
図１０は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１０において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は前記の有機ＥＬ装置３０１からなる表示部を示している。この携帯電話にあっては、表示部１００１が、表示品位に優れた有機ＥＬ装置３０１からなっているので、表示特性に優れたものとなる。
なお、上述した実施の形態に係る有機ＥＬ装置３０１は、携帯型情報処理装置や、腕時計型電子機器など、各種の電子機器における表示部として好適に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００８１】
【図１】本発明の実施の形態に係るデバイスの製造装置を示す概略斜視図である。
【図２】図１に示すデバイスの製造装置の平面図および断面図を模式的に示す図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る有機ＥＬ装置の断面構造を拡大して示す図である。
【図４】本発明の実施の形態に係るデバイスの製造方法を示すフローチャートである。
【図５】本発明の実施の形態に係るデバイスの製造方法を示すフローチャートである。
【図６】本発明の実施の形態に係るデバイスの製造方法における各処理工程を示す図である。
【図７】本発明の実施の形態に係るデバイスの製造方法における各処理工程を示す図である。
【図８】本発明の実施の形態に係るデバイスの製造方法における各処理工程を示す図である。
【図９】本発明の実施の形態の変形例に係るデバイスの製造装置の平面図および断面図を模式的に示す図である。
【図１０】本発明の実施の形態に係るデバイスを具備する電子機器の一例を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００８２】
１０  デバイスの製造装置
１０ａ  制御装置
１４  吐出ヘッド
１６  ブロー装置
３２  ガス排出口
３０１  有機ＥＬ装置（デバイス）
３４１  バンク（仕切部材）
１０００  携帯電話本体（電子機器）
【図１】
2005129257.tif 000003
【図２】
2005129257.tif 000004
【図３】
2005129257.tif 000005
【図４】
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【図５】
2005129257.tif 000007
【図６】
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【図７】
2005129257.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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