(57)【要約】   【課題】  大型基板に噴射される薬液の温度を一定に調節する薬液供給システムの提供。  【解決手段】薬液を供給する薬液供給装置、薬液供給装置内部の薬液の温度を調節する第１温度調節装置、薬液供給装置から供給された薬液を基板に噴射する複数個のノズル８０、薬液を薬液供給装置からノズルに供給する薬液供給管３１、薬液供給管を流れる薬液の温度を調節する第２温度調節装置５０を含む薬液供給システム。  【選択図】      図２ 
2005088003.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
薬液を供給する薬液供給装置と、
前記薬液供給装置内部の薬液の温度を調節する第１温度調節装置と、
前記薬液供給装置から供給された薬液を噴射する複数個のノズルと、
前記薬液を前記薬液供給装置から前記ノズルに供給する薬液供給管と、
前記薬液供給管を流れる薬液の温度を調節する第２温度調節装置と、
を含む薬液供給システム。
【請求項２】
前記薬液供給管は、前記複数個のノズルが配設されている複数個のノズルバーと、前記複数個のノズルバーと前記薬液供給装置とを連結する複数個の連結バーと、を含む請求項１に記載の薬液供給システム。
【請求項３】
前記第２温度調節装置は、前記連結バーの周辺に配設されている複数個の流体供給管である、請求項２に記載の薬液供給システム。
【請求項４】
前記複数個の流体供給管は前記連結バーと接触している、請求項３に記載の薬液供給システム。
【請求項５】
前記複数個の流体供給管には冷水もしくは温水が供給される、請求項４に記載の薬液供給システム。
【請求項６】
前記複数個の流体供給管には冷気もしくは温気が供給される、請求項４に記載の薬液供給システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は薬液供給システムに関し、特に液晶表示装置製造のための薬液供給システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、現在最も広く用いられている平板表示装置の一つであって、電界生成電極が形成されている２枚の表示板とその間に挿入されている液晶層とからなる。液晶表示装置は、電極に電圧を印加して液晶層の液晶分子を再配列させることによって、液晶層を通過する光の透過率を調節する表示装置である。
このような液晶表示装置の製造には、いくつかの導電層及び絶縁層を薬液を使用して現像、エッチング、洗浄する工程などが含まれている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
生産性向上のために液晶表示装置の基板のサイズが大型化し、集積度が増加するほど、エッチング均一性のマージンが狭くなり、均一性不良、染み不良が発生し易くなりつつある。即ち、同じ条件で薬液の温度が上がれば、エッチングが一層速く進み、薬液の温度が下がればエッチングがゆっくり進む。したがって、大面積の基板において、中心部と周縁部の温度差によって中心部と周縁部とでエッチング速度に差が生じる。
【０００４】
このようなエッチングにおける均一性不良を防止するために、基板に噴射される薬液の設定温度を一定に維持することが望ましい。薬液の設定温度を維持するために、薬液供給装置の１つである薬液循環装置の温度を調節している。ところが、薬液循環装置と離れている工程設備内基板に噴射される薬液の温度を正確に調節することが難しいため、基板部位のエッチング均一性を向上させることが難しいという問題点がある。
本発明の技術的課題は、大型基板に噴射される薬液の温度を一定に調節する薬液供給システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明による薬液供給システムは、薬液を供給する薬液供給装置、前記薬液供給装置内部の薬液の温度を調節する第１温度調節装置、前記薬液供給装置から供給された薬液を噴射する複数個のノズル、前記薬液を前記薬液供給装置でから前記ノズルに供給する薬液供給管、及び前記薬液供給管を流れる薬液の温度を調節する第２温度調節装置を含むことが好ましい。
【０００６】
温度を設定温度に合うように微細に調節できるので、エッチング速度の均一性のマージンを広げてエッチング速度の不均一性を防止することができる。
また、前記薬液供給管は、前記複数個のノズルが配設されている複数個のノズルバーと、前記複数個のノズルバーと前記薬液供給装置とを連結する複数個の連結バーと、を含むことが好ましい。
薬液が流れる連結バーを複数設けることによって、薬液供給装置で設定温度に合わせられた薬液の熱量消耗を減らすことができる。これは、連結バーを主連結バーと複数の補助連結バーとから構成することで、主連結バーから補助連結バーを通って複数個のノズルバーに流れる薬液の移動距離及び移動時間を減らすことができるからである。したがって、大面積の基板の場合、中心部と周縁部の温度差によって中心部と周縁部のエッチング速度の差が発生することを防止することができる。
【０００７】
前記第２温度調節装置は、前記連結バーの周辺に配設されている複数個の流体供給管であることが好ましい。
このような流体供給管は、前述した主連結バーの周辺だけでなく、補助連結バーの周辺にもノズルバーの周辺にも配設できる。
また、前記複数個の流体供給管は、前記連結バーと接触されていることが好ましい。このような流体供給管によって補助連結バーを流れる薬液の温度を調節することで、第１温度調節装置で調整された薬液の設定温度が、工程設備内部で噴射される薬液にもそのまま維持することができる。
【０００８】
また、前記複数個の流体供給管には、冷水もしくは温水が供給されることが好ましい。前記複数個の流体供給管には冷気もしくは温気が供給されることが好ましい。
【発明の効果】
【０００９】
本発明による薬液供給システムは、薬液供給管を流れる薬液の温度を調節する第２温度調節装置を設けることによって、薬液供給装置内部の薬液温度と薬液供給管を通じて基板に噴射される薬液の温度を均一に維持し、大型基板のエッチング速度の均一性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施することができるように詳細に説明する。しかし、本発明は多様な形態で実現することができ、ここで説明する実施例に限定されない。
本発明の実施例による薬液供給システムについて図面を参照して詳細に説明する。
まず、図１及び図２を参照して本発明の好ましい一実施例による薬液供給システムについて詳細に説明する。
【００１１】
図１は、本発明の一実施例による薬液供給システムの概略図である。図２は、本発明の一実施例による薬液供給管の平面図であって、補助連結バーが２つ設けられている様子を示す。図３は、本発明の一実施例による薬液供給管の平面図であって、補助連結バーが３つ設けられている様子を示す。
図１及び図２を参照すれば、本発明の一実施例による薬液供給システムは、薬液１、特にエッチング液を供給する薬液供給装置２０、薬液供給装置２０から供給された薬液が流れる通路である薬液供給管３０を含む。薬液供給管３０の端部には、複数個のノズル８０が配設されており、このノズル８０を通じてノズル８０の下部に位置する基板１０に薬液が噴射される。
【００１２】
薬液供給装置２０は、噴射した薬液を再び使用する循環ライン（図示せず）が配設されている薬液循環装置の構造であることが好ましい。薬液供給装置２０内部の薬液１の温度を調節するために、薬液供給装置２０には第１温度調節装置４０が配設されている。第１温度調節装置４０は、薬液供給装置２０内の薬液の温度を測定する温度測定器４１、薬液供給装置２０内の薬液１の温度を調節するヒーター４２を含む。温度測定器４１を通じて測定された薬液供給装置２０内の薬液１の温度をヒーター４２を利用してＰＩＤ（比例微積分制御）法で調節して設定温度に合わせる。
【００１３】
このような薬液供給装置２０内部の薬液１は、薬液供給管３０を通じて工程設備１００内の基板１０に噴射される。
図２に示すように、薬液供給管３０は、工程設備１００内部に位置し、複数個のノズル８０が設けられている複数個のノズルバー３１と、複数個のノズルバー３１と薬液供給装置２０とを連結する２つの補助連結バー３２と、を含む。
【００１４】
複数個のノズルバー３１は、基板１０と所定間隔離隔して位置しており、それぞれのノズルバー３１は、左右に３０〜４５度程度スイングしながらノズル８０を通じて基板１０で薬液を噴射する。
複数個のノズルバー３１の両端には、複数個のノズルバー３１を互いに連結する２つの補助連結バー３２が配設されている。
【００１５】
図２には、複数個のノズルバー３１と平行に設けられている１つの主連結バー３３と２つの補助連結バー３２が示されている。
主連結バー３３を通じて薬液供給装置２０から供給された薬液は、補助連結バー３２を通じて複数個のノズルバー３１に供給される。
薬液が流れる補助連結バー３２を２つ設けることによって、薬液供給装置２０で設定温度に合わせられた薬液の熱量消耗を減らすことができる。即ち、主連結バー３３から複数個のノズルバー３１に流れる薬液の移動距離及び移動時間を減らすことによって、薬液の熱量消耗を最大に減らすことである。したがって、大面積の基板の場合、中心部と周縁部の温度差によって中心部と周縁部のエッチング率の差が発生することを防止することができる。
【００１６】
このような補助連結バー３２は、図３に示されるように、３つもしくは３つ以上を設けることができる。
そして、薬液供給管３０を流れる薬液の温度を調節する第２温度調節装置５０が、主連結バー３３の周辺に配設されている。第２温度調節装置５０は、薬液が流れる主連結バー３３の周辺に設けられている複数個の流体供給管５１、５２であることが好ましい。このような流体供給管５１、５２は、補助連結バー３２の周辺にも、ノズルバー３１の周辺にも配設できる。
【００１７】
このような複数個の流体供給管５１、５２は、主連結バー３３と接触されており、冷水もしくは温水が供給されるか、冷気もしくは温気が供給されることが好ましい。また、主連結バー３３のヒッティングのためには、ホットコイルを利用したり、主連結バー３３のクーリングのために空気を利用することもできる。
このような流体供給管５１、５２によって主連結バー３３を流れる薬液の温度を調節することで、第１温度調節装置４０で調整された薬液の設定温度が、工程設備１００内部で噴射される薬液にもそのまま維持することができる。
【００１８】
そして、薬液供給管３０には温度を感知するセンサー５８が配設されており、感知された温度がフィードバックして第２温度調節装置４０の条件などを修正する。即ち、複数個の流体供給管５１、５２を流れる冷水または温水を利用してＰＩＤ（比例微積分制御）法で調節して薬液の設定温度に合せる。
したがって、温度を設定温度に合うように微細に調節できるので、エッチング速度の均一性のマージンを広げてエッチング速度の不均一性を防止することができる。
【００１９】
従来、薬液の温度を４０度に設定した場合、温度偏差は１．５度〜２度程度であったが、本発明の実施例によれば、温度偏差が０．３度〜０．５度程度であるので、温度の変化幅を減らすことができる。
工程設備の外部に位置する薬液供給管３０上には、薬液供給管３０を流れる薬液をポンピングするためのポンプ６０、そして異物を除去するためのフィルター７０が配設されていることが好ましい。
【００２０】
本発明は、添付した図面に示された一実施例に基づいて説明されたが、これは例示に過ぎず、本技術分野の通常の知識を有する者であればこれによる様々な変形及び均等な他の実施例が可能であることが理解できるであろう。よって、本発明の真の技術的保護範囲は添付された特許請求の範囲の技術的思想によって決まらなければならない。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施例による薬液供給システムの概略図である。
【図２】本発明の一実施例による薬液供給管の平面図であって、補助連結バーが２つ設けられている様子を示している。
【図３】本発明の一実施例による薬液供給管の平面図であって、補助連結バーが３つ設けられている様子を示している。
【符号の説明】
【００２２】
１０  基板
２０  薬液供給装置
３０  薬液供給管
４０  第１温度調節装置
５０  第２温度調節装置
【図１】
2005088003.tif 000003
【図２】
2005088003.tif 000004
【図３】
2005088003.tif 000005