(57)【要約】【課題】蒸着マスクエッジ部に不正蒸気による無機酸化物（エッジ部無機酸化物）が堆積し、このエッジ部無機酸化物が被蒸着物であるプラスチックフィルムと接触して、欠陥を生じることがない様に、エッジ部無機酸化物が本来蒸着マスクされない部分を覆い、陰を作ることから、蒸着面積が小さくなっていくことを防止し、高い生産性を維持しながら欠陥が少ない無機酸化物蒸着フィルムおよびその製造方法を提案することが求められていた。【解決手段】基材上に蒸着マスクを用いて無機酸化物蒸着層を設ける無機酸化物蒸着フィルムの製造方法において、前記蒸着マスクのエッジ部に無機酸化物が堆積していない状態で蒸着を行うことを特徴とする無機酸化物蒸着フィルムの製造方法を提供する。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に蒸着マスクを用いて無機酸化物蒸着層を設ける無機酸化物蒸着フィルムの製造方法において、前記蒸着マスクのエッジ部に無機酸化物が堆積していない状態で蒸着を行うことを特徴とする無機酸化物蒸着フィルムの製造方法。
【請求項２】
基材上に蒸着マスクを用いて無機酸化物蒸着層を設けられた無機酸化物蒸着フィルムにおいて、前記無機酸化物蒸着層が蒸着マスクのエッジ部に無機酸化物が堆積していない状態で蒸着されたものであることを特徴とする無機酸化物蒸着フィルム。
【請求項３】
請求項１記載の無機酸化物蒸着フィルムの製造方法において、前記蒸着マスクのエッジ部に無機酸化物が堆積していない状態を、エッジ部の冷却により実現していることを特徴とする無機酸化物蒸着フィルムの製造方法。
【請求項４】
請求項２記載の無機酸化物蒸着フィルムにおいて、蒸着マスクのエッジ部に無機酸化物が堆積していない状態を、エッジ部の冷却により実現していることを特徴とする無機酸化物蒸着フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空中で連続的に供給されるフィルムに蒸着層を形成する真空蒸着装置に係わり、特に真空蒸着、プラズマＣＶＤなど、固相反応により無機酸化物を基材上に堆積させるための真空成膜方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の真空蒸着方法では、有効蒸発蒸気のみを被蒸着体上へ堆積させるため、コーティング蒸着マスク（以下単に蒸着マスクという）を用いて不正部をカットしている。このことにより不正蒸気の基材への堆積を防ぎ、収率の高い成膜を可能にしてきた。蒸着マスクと被蒸着体が出来るだけ近接しているほど、端部におけるエッジ部垂れの無い堆積が可能となる。実用上、蒸着マスクと被蒸着体との距離は５〜１０ｍｍ程度である。これよりも近接していると、マスクと被蒸着体が容易に接触し、被蒸着体が損傷する。またこれよりも遠いと、不正蒸気の有効なカットが出来ない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記のような方法を用いると、蒸着マスクエッジ部に不正蒸気による無機酸化物（エッジ部無機酸化物）が堆積し、このエッジ部無機酸化物が被蒸着物であるプラスチックフィルムと接触して、欠陥を生じることがある。この欠陥はプラスチックフィルムの耐熱性がそれ程高くない場合、ピンホールとなって機能を大きく落とす原因となる。
【０００４】
特に近年、コスト追求のための長尺化がなされ、蒸着工程も長時間の連続蒸着が必要となっている。この連続蒸着によりエッジ部無機酸化物の堆積量は多くなり、問題が顕在化してきている。
【０００５】
また、上記エッジ部無機酸化物が本来蒸着マスクされない部分を覆い、陰を作ることから、蒸着面積が小さくなっていくことも問題となっている。
【０００６】
本発明は前記問題を解決するためになされたもので、高い生産性を維持しながら欠陥が少ない無機酸化物蒸着フィルムおよびその製造方法を提案するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は具体的には、請求項１記載の発明においては、基材上に蒸着マスクを用いて無機酸化物蒸着層を設ける無機酸化物蒸着フィルムの製造方法において、前記蒸着マスクのエッジ部に無機酸化物が堆積していない状態で蒸着を行うことを特徴とする無機酸化物蒸着フィルムの製造方法を提供するものである。
【０００８】
これにより、蒸着マスク部エッジ部への金属酸化物やＳｉＯ2などの無機酸化物堆積（エッジ部無機酸化物）を防ぐことで、エッジ部無機酸化物のプラスチックフィルムへの接触を防ぎ、これによるピンホールの発生を抑えることが可能になる。また、上記エッジ部無機酸化物の堆積を防ぐことで、積層体の寸法安定性を維持することが可能なピンホールフリー・寸法安定蒸着が可能になる。
【０００９】
請求項２記載の発明においては、基材上に蒸着マスクを用いて無機酸化物蒸着層を設けられた無機酸化物蒸着フィルムにおいて、前記無機酸化物蒸着層が蒸着マスクのエッジ部に無機酸化物が堆積していない状態で蒸着されたものであることを特徴とする無機酸化物
蒸着フィルムを提供するものである。
【００１０】
請求項３記載の発明においては、請求項１記載の無機酸化物蒸着フィルムの製造方法において、前記蒸着マスクのエッジ部に無機酸化物が堆積していない状態を、エッジ部の冷却により実現していることを特徴とする無機酸化物蒸着フィルムの製造方法を提供するものである。これによりエッジ部に無機酸化物を堆積させないことが可能になる。
【００１１】
請求項４記載の発明においては、請求項２記載の無機酸化物蒸着フィルムにおいて、蒸着マスクのエッジ部に無機酸化物が堆積していない状態を、エッジ部の冷却により実現していることを特徴とする無機酸化物蒸着フィルムを提供するものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の無機酸化物は一般に融点が高く、蒸発しにくいため、無機酸化物の蒸着においては、反応性蒸着法が広く用いられている。この蒸着法は、無機材料を蒸発させ、その同一系に反応性ガスを供給することで、無機酸化物を堆積させる方法である。
【００１３】
この反応は固相反応が優勢であり、被蒸着体上で無機材料と反応ガスが酸化反応を起こし、堆積していくものである。
【００１４】
この際、蒸着マスクエッジ部の強冷すると、融点の高い無機材料は付着するものの、反応性ガスとの固相反応は進行せず、無機材料層のみが堆積する。無機材料層は無機酸化物層に比し、体積が小さく抑えられるので、被蒸着体への接触を抑え、ピンホールフリーの機能性膜を成膜する事が可能となるものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図１は本発明の真空蒸発装置の構成を模式的に示す断面図である。以下、無機酸化物が金属酸化物である場合を用いて以下説明する。金属蒸発ルツボ１３の加熱により蒸発した金属蒸気と、酸化性ガス導入口１４から系内に導入された酸化性ガスにより、所望の無機酸化物を得る。このとき混合比が不正である部分の不正蒸気１８が、冷却ドラム１１上を走行する被蒸着体１２に付着すると、不正蒸着層を破棄せねばならず、収率の低下につながる。
【００１６】
そのため、図１に示したコーティング蒸着マスク１６と称する装置で、不正部である不正蒸気１８をカットし、適性部である有効蒸気１７のみの付着を実現している。コーティング蒸着マスク１６は、被蒸着体に対し近接し、エッジ部垂れのない堆積を可能としている。
【００１７】
このコーティング蒸着マスク１６内部のエッジ部を強冷する機構１５を持たせる。冷却は水冷で十分である場合もあるが、必要であれば冷媒も使用する。
【実施例１】
【００１８】
図１に示す装置を用い、Ａｌを蒸発させ、蒸着室中で酸素ガスと混合して、ＰＥＴ基材上に酸化アルミニウム１５ｎｍを堆積させ、蒸着フィルムを連続的に６０分間作製した。この時、蒸着マスクエッジ部の温度を−２０℃に制御した。
【００１９】
＜評価＞
ピンホールチェック…染色浸透探傷剤（カラーチェックＦＰ−Ｓ（株式会社タセト社製））を用い、拭き取り法にて蒸着フィルムのピンホール数を測定した。また、蒸着面積の安定性を評価するため、蒸着開始時の巾方向の蒸着寸法（Ｌｓ）と蒸着終了時の蒸着寸法（Ｌｅ）との差を測定し、以下に示す方法で比較した。なお、寸法精度（％）＝｛（Ｌｓ−
Ｌｅ）／Ｌｓ｝×１００とした。
【００２０】
その結果を表１に示した。
【００２１】
【表１】
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【実施例２】
【００２２】
図１に示す装置を用い、Ａｌを蒸発させ、蒸着室中で酸素ガスと混合して、ＰＥＴ基材上に酸化アルミニウム１５ｎｍを堆積させ、蒸着フィルムを連続的に６０分間作製した。この時、蒸着マスクエッジ部の温度を２５℃に制御した。
【実施例３】
【００２３】
＜比較例１＞
蒸着マスクエッジ部を強冷しなかった（エッジ部表面温度は２００℃）こと以外は、実施例１と同様の方法でＰＥＴ基材上に酸化アルミニウム１５ｎｍを堆積させ、蒸着フィルムを連続的に６０分間作製した。
【産業上の利用可能性】
【００２４】
本発明は、真空中で連続的に供給されるフィルムに蒸着層を形成する真空蒸着装置に係わり、特に真空蒸着、プラズマＣＶＤなど、固相反応により無機酸化物を基材上に堆積させるための真空成膜方法に関する。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の蒸着装置の断面図である。
【図２】本発明の無機酸化物蒸着フィルムの断面図である。
【符号の説明】
【００２６】
１…プラスチック基材
２…酸化アルミニウム蒸着層
１１…冷却ドラム
１２…被蒸着体
１３…金属蒸発ルツボ
１４…酸化性ガス導入口
１５…強冷する機構
１６…マスク
１７…有効蒸気
１８…不正蒸気
【図１】
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【図２】
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