(57)【要約】【課題】半導体および液晶製造工程における半導体基板および液晶基板表面の静電除去装置を提供する。【解決手段】少なくとも略２周する断面多角形の渦巻状の長筒体１１により形成されたガイド容器３内に、円筒状フィルタ１が外周に空気室９を備えて同軸状に保持固定されると共に、該空気室９の外周に同軸状に通気通路１０が形成され、且つ前記長筒体１１の両端部はそれぞれ側壁板１２・１３により閉塞され、更に前記通気通路１０の基端部が前記空気室９に連通されて連通部１４を設け、且つ前記通気通路１０の末端部に噴出し用スリット１５を設ける一方、前記上面に位置する通気通路１０に突出部１６を長手方向全長に亘って突設して形成され、該突出部１６のいずれか一方側に位置する側壁板に軟Ｘ線放射管１７を貫通固定する。【選択図】図２
2005019044.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体、または液晶の基板の巾と略同一長さの円筒状フィルタが軟Ｘ線イオナイザーと共に、ガイド容器内に装置され、
前記円筒状フィルタは、濾材を円筒状に成型して長手方向中央に通気空間を設けると共に、一方側端部に空気供給管取付リングを固定し、且つ他方側端部に密閉栓を密着固定して形成され、
前記ガイド容器は、前記円筒状フィルタが外周に空気室を備えて同軸状に保持固定され、且つ該空気室の外周に同軸状に通気通路を備えるべく、前記円筒状フィルタの下面部から少なくとも略２周する断面多角形の渦巻状の長筒体により形成されると共に、前記長筒体の両端部はそれぞれ側壁板により閉塞され、更に前記通気通路の基端部が前記空気室に連通されて連通部を設け、且つ前記通気通路の末端部に噴出し用スリットを設ける一方、前記上面に位置する通気通路に突出部を長手方向全長に亘って突設して形成され、
前記ガイド容器の両側壁板に前記円筒状フィルタの空気供給管取付リングと密閉栓の外周面が密に貫通固定されると共に、前記突出部のいずれか一方側に位置する側壁板に軟Ｘ線放射管を貫通固定したことを特徴とする半導体および液晶製造工程における半導体基板および液晶基板表面の静電除去装置。
【請求項２】
半導体、または液晶の基板の巾と略同一長さの円筒状フィルタが軟Ｘ線イオナイザーと共に、ガイド容器内に装置され、
前記円筒状フィルタは、濾材を円筒状に成型して長手方向中央に通気空間を設けると共に、両側端部に空気供給管取付リングを固定して形成され、
前記ガイド容器は、前記円筒状フィルタが外周に空気室を備えて同軸状に保持固定され、且つ該空気室の外周に同軸状に通気通路を備えるべく、前記円筒状フィルタの下面部から少なくとも略２周する断面多角形の渦巻状の長筒体により形成されると共に、前記長筒体の両端部はそれぞれ側壁板により閉塞され、更に前記通気通路の基端部が前記空気室に連通されて連通部を設け、且つ前記通気通路の末端部に噴出し用スリットを設ける一方、前記上面に位置する通気通路に突出部を長手方向全長に亘って突設して形成され、
前記ガイド容器の両側壁板に前記円筒状フィルタの空気供給管取付リングの外周面が密に貫通固定されると共に、前記突出部のいずれか一方側に位置する側壁板に軟Ｘ線放射管を貫通固定したことを特徴とする半導体および液晶製造工程における半導体基板および液晶基板表面の静電除去装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体および液晶製造工程において、半導体基板および液晶基板表面に付着した静電気を除去する半導体および液晶製造工程における半導体基板および液晶基板表面の静電除去装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体および液晶製造工程においては、半導体基板および液晶基板の加工・ハンドリング工程で、該基板表面に静電気を帯電し、該静電気で半導体および液晶の回路が静電破壊を起こすトラブルが多発している。
【０００３】そして、前記トラブル対策として、半導体および液晶製造装置において、基板表面上に静電気を除去するためのイオナイザーが設置されている。前記イオナイザーには、高電圧で空気をイオン化する電気式イオナイザーと、軟Ｘ線を空気に照射して、空気をイオン化する軟Ｘ線式イオナイザーがある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前記電気式イオナイザーは、取り扱いが簡単であるが、長時間の高圧放電で電極が摩耗し、電極の交換が必要なだけでなく、塵が発生し、基板に付着するという課題があった。
【０００５】また、軟Ｘ線式イオナイザーは、軟Ｘ線が人体に影響を及ぼすため、軟Ｘ線式が外に漏れないよう配慮する必要があるという課題があった。
【０００６】更に、前記電気式イオナイザーおよび軟Ｘ線式イオナイザー    のいずれのタイプも、イオンを基板に噴き付けるためのノズルを装備しているが、配管で空気を供給しているため、噴出しイオン空気の清浄度および均一性が十分でないという課題があった。
【０００７】本発明は、前記課題を解決すべくなされたもので、軟Ｘ線式イオナイザーを使用するが、軟Ｘ線が外部に漏洩しないように配慮すると共に、噴出しイオン空気の清浄度と均一性の確保ができる半導体および液晶製造工程における半導体基板および液晶基板表面の静電除去装置に関するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、半導体、または液晶の基板の巾と略同一長さの円筒状フィルタが軟Ｘ線イオナイザーと共に、ガイド容器内に装置され、
前記円筒状フィルタは、濾材を円筒状に成型して長手方向中央に通気空間を設けると共に、一方側端部に空気供給管取付リングを固定し、且つ他方側端部に密閉栓を密着固定して形成され、
前記ガイド容器は、前記円筒状フィルタが外周に空気室を備えて同軸状に保持固定され、且つ該空気室の外周に同軸状に通気通路を備えるべく、前記円筒状フィルタの下面部から少なくとも略２周する断面多角形の渦巻状の長筒体により形成されると共に、前記長筒体の両端部はそれぞれ側壁板により閉塞され、更に前記通気通路の基端部が前記空気室に連通されて連通部を設け、且つ前記通気通路の末端部に噴出し用スリットを設ける一方、前記上面に位置する通気通路に突出部を長手方向全長に亘って突設して形成され、
前記ガイド容器の両側壁板に前記円筒状フィルタの空気供給管取付リングと密閉栓の外周面が密に貫通固定されると共に、前記突出部のいずれか一方側に位置する側壁板に軟Ｘ線放射管を貫通固定するという手段、または、
半導体、または液晶の基板の巾と略同一長さの円筒状フィルタが軟Ｘ線イオナイザーと共に、ガイド容器内に装置され、
前記円筒状フィルタは、濾材を円筒状に成型して長手方向中央に通気空間を設けると共に、両側端部に空気供給管取付リングを固定して形成され、
前記ガイド容器は、前記円筒状フィルタが外周に空気室を備えて同軸状に保持固定され、且つ該空気室の外周に同軸状に通気通路を備えるべく、前記円筒状フィルタの下面部から少なくとも略２周する断面多角形の渦巻状の長筒体により形成されると共に、前記長筒体の両端部はそれぞれ側壁板により閉塞され、更に前記通気通路の基端部が前記空気室に連通されて連通部を設け、且つ前記通気通路の末端部に噴出し用スリットを設ける一方、前記上面に位置する通気通路に突出部を長手方向全長に亘って突設して形成され、
前記ガイド容器の両側壁板に前記円筒状フィルタの空気供給管取付リングの外周面が密に貫通固定されると共に、前記突出部のいずれか一方側に位置する側壁板に軟Ｘ線放射管を貫通固定するという手段、
のいずれかを採用することにより、上記課題を解決した。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。図１は、本発明半導体および液晶製造工程における半導体基板および液晶基板表面の静電除去装置を側面側から見た縦断面図、図２は同正面側から見た縦断面図、図３は同使用状態を示す要部の斜視図である。図１・図２に示すように、半導体、または液晶の基板３１の巾と略同一長さの円筒状フィルタ１が、軟Ｘ線式イオナイザー２と共にガイド容器３内に装置されている。
【００１０】前記円筒状フィルタ１は、濾材１ａを円筒状に成型して通気空間４を設けると共に、一方側端部には、空気供給口５を穿設した空気供給管取付リング６を固定し、且つ他方側端部に密閉栓７を密着固定して形成されている。そして、前記円筒状フィルタ１の空気供給管取付リング６には、図示していない送風機により圧縮空気を送気する圧縮空気供給管８の先端部が連結されている。なお、前記円筒状フィルタ１は、特に限定する必要はないが、好ましくは本特許出願人の特許出願に係る特願２００３−２３７６８により製造することが推奨される。
【００１１】前記ガイド容器３は、前記円筒状フィルタ１が、外周に空気室９を備えて同軸状に保持固定され、且つ該空気室９の外周に同軸状に通気通路１０を備えることができるよう、前記円筒状フィルタ１の下面部から略２周する断面台形等の多角形渦巻状の長筒体１１により形成されると共に、前記長筒体１１の両端部はそれぞれ側壁板１２・１３により閉塞され、更に前記通気通路１０の基端部が前記空気室９に連通されて連通部１４を設け、且つ前記通気通路１０の末端部に噴出し用スリット１５を設ける一方、前記上面に位置する通気通路１０に突出部１６を長手方向全長に亘って突設して形成されている。前記長筒体１１は、図１においては、略２周する渦巻状に形成されているが、３周以上の渦巻状に形成してもよい。なお、特に限定する必要はないが、好ましくは、噴出し用スリット１５の先端にガイド突起１５ａを、前記ガイド容器３の底面部から突出するように、突設することが推奨される。このガイド突起１５ａを突設することにより、後述するイオン化された清浄空気２５を拡散させることなく、基板３１上に噴出すことができるのである。
【００１２】前記構成より成るガイド容器３の両側壁板１２・１３に、前記円筒状フィルタ１の両端部の空気供給管取付リング６と密閉栓７の外周面が密に貫通固定され、更に、前記突出部１６の一端部の側壁板１２に軟Ｘ線放射管１７が貫通固定されて形成されている。なお、図中、１８は電源１９からの電力を前記軟Ｘ線放射管１７に供給するケーブルであり、更に図中、２０は、前記軟Ｘ線放射管１７に突設された放射ガイドリングで、該軟Ｘ線放射管１７からの軟Ｘ線の放射角度を制御するものである。
【００１３】前記構成より成る本発明半導体および液晶製造工程における半導体基板および液晶基板表面の静電除去装置の作用について説明する。円筒状フィルタ１の通気空間４内に圧縮空気供給管８から圧縮空気２１を導入すると、該圧縮空気２１は他方側端部が密閉栓７により閉塞されているため、通気空間４内において乱流して、濾材１ａにより濾過されて、前記円筒状フィルタ１の全周面より清浄空気２２となって空気室９に噴出し、前記連通部１４を通って通気通路１０内に流入する。前記空気室９を設けることにより、円筒状フィルタ１の全周面から噴出した清浄空気２２は、該空気室９内において乱流して、均一な流速となって通気通路１０内に流入するのである。
【００１４】一方、電源１９を投入し軟Ｘ線放射管１７に通電すると、該軟Ｘ線放射管１７より軟Ｘ線２３が、前記突出部１６内へ放射される。そして、前記通気通路１０内に流入した清浄空気２２は前記突出部１６に至ったときに、前記軟Ｘ線２３によりイオン化２４（＋イオン、−イオン）され、該イオン化された清浄空気２５が噴出し用スリット１５より均一な流速で基板３１上に噴出し、該基板３１表面の静電気を中和・除去するのである。
【００１５】前記イオン化された清浄空気２５を、噴出し用スリット１５から長手方向に均一に噴出させるために、円筒状フィルタ１内の圧力が、ガイド容器３内の圧力より低くなるように噴出し用スリット１５の開口巾が設定されている。
【００１６】前記のように、通気通路１０が多角形に折曲して円筒状フィルタ１を包み込むような構造を採用しているため、前記円筒状フィルタ１の濾材１ａが軟Ｘ線２３に暴露されず、前記濾材１ａが劣化することなく、更に前記通気通路１０が多角形状に折曲して多数の角部１０ａを有するので、軟Ｘ線２３の直進性が阻止され、ガイド容器３の外部に漏洩することがない。
【００１７】図４は、本発明半導体および液晶製造工程における半導体基板および液晶基板表面の静電除去装置の他の実施の形態を示す正面側から見た縦断面図である。前記図１・２に示す円筒状フィルタ１は、他方側端部が密閉栓７により閉塞されているのに対し、図４に示す円筒状フィルタ１は、他方側端部にも空気供給取付リング６が取付けられ、前記円筒状フィルタ１の両側部から圧縮空気を導入することができるように構成されている。図４に示す他の実施の形態の場合、円筒状フィルタ１に圧縮空気を導入する方法が、図１・２の場合とやや異なるだけで、その他の作用及び効果は図１・２と同一であるので説明を省略する。
【００１８】
【発明の効果】本発明は上記のようであるから、円筒状フィルタから噴出した清浄空気は、多角形状に折曲されたガイド容器の上面部に突出した突出部において軟Ｘ線によってイオン化され、該イオン化された清浄空気が噴出し用スリットから基板上において、長手方向に均一に噴出し、該基板表面の静電気を中和・除去するので、半導体基板および液晶基板の加工・ハンドリング工程で、前記基板の回路が静電破壊を起こすことがなく、製品の品質向上に寄与することができる。またガイド容器が多角形状に形成され、多数の角部を有するので、軟Ｘ線の直進性が阻止され、ガイド容器外部に漏洩することがなく、安全である。
更に、円筒状フィルタは直接軟Ｘ線に照射されないよう設置されているので、該円筒状フィルタが劣化する虞れはない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明半導体および液晶製造工程における半導体基板および液晶基板表面の静電除去装置を側面側から見た縦断面図である。
【図２】同正面側から見た縦断面図である。
【図３】同使用状態を示す要部の斜視図である。
【図４】本発明半導体および液晶製造工程における半導体基板および液晶基板表面の静電除去装置の他の実施の形態を正面側から見た縦断面図である。
【符号の説明】
１  円筒状フィルタ、  １ａ  濾材、  ２  軟Ｘ線式イオナイザー、  ３  ガイド容器、  ４  通気空間、  ６  空気供給管取付リング、  ７  密閉栓、  ９空気室、  １０  通気通路、  １１  長筒体、  １２・１３  側壁板、  １４連通部、  １５  噴出し用スリット、  １６  突出部、  １７  軟Ｘ線放射管、  ３１  基板。
【図１】
2005019044.tif 000003
【図２】
2005019044.tif 000004
【図３】
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【図４】
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