(57)【要約】【課題】  ステージピンに反射した散乱光の発生を抑制し、基板表面の欠陥の誤検出を防止することができる基板検査装置を提供する。【解決手段】  ステージ上に光の透過性を有する基板を支持するステージピンを設け、このステージピン上に載置した基板に照射したレーザー光の反射光をディテクタで検出することによって基板の欠陥を検出する基板検査装置において、ステージピンからディテクタへのレーザー光の反射を防止するための反射防止手段を有することとした。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージ上に光の透過性を有する基板を支持するステージピンを設け、このステージピン上に載置した基板に照射したレーザー光の反射光をディテクタで検出することによって前記基板の欠陥を検出する基板検査装置において、
前記ステージピンから前記ディテクタへのレーザー光の反射を防止するための反射防止手段を有することを特徴とする基板検査装置。
【請求項２】
前記反射防止手段は、前記ステージピンを前記ステージよりも前記レーザー光の反射率が低い材料で形成したことを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【請求項３】
前記反射防止手段は、前記ステージピンの上部表面に前記ステージよりも前記レーザー光の反射率が低い材料からなる低反射層を設けたことを特徴とする請求項１に記載の基板検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ステージ上に光の透過性を有する基板を支持するステージピンを設け、このステージピン上に載置した基板に照射したレーザー光の反射光をディテクタで検出することによって基板の欠陥を検出する基板検査装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体装置に形成している回路パターンは、近年の半導体装置の高集積化に伴い、非常に複雑かつ微細な構造となっている。
【０００３】
そのため、回路パターンを形成する基板上に微細な異物や疵が存在していると、この異物や疵によって回路パターンに断線やショートが発生するといった問題があった。
【０００４】
この問題を解決するために、従来より、基板検査装置を用いて基板表面の異物や疵などの欠陥を検出し、欠陥が無い基板にのみ回路パターンを形成して製品を製造していた。
【０００５】
この基板検査装置１０は、図４に示すように、ステージ１１の上に基板１３を支持するステージピン１２を設けており、このステージピン１２の上に載置した基板１３を垂直上方から照射するレーザー光１４によって走査し、このレーザー光１４の反射光のうち、所定の反射光１５以外の反射光１６（以下、「散乱光」という。）を基板１３の周囲に設けたディテクタ１７を用いて検出し、この散乱光１６の有無を判別することによって、基板１３の表面の欠陥の有無を判別していた。
【０００６】
すなわち、基板１３の表面に異物や疵といった欠陥部１８がない場合、レーザー光１４は、垂直上方向にのみ反射するため散乱光１６が発生しないが、基板１３の表面に欠陥部１８がある場合、レーザー光１４は、欠陥部１８に当たり不規則な方向へ反射する散乱光１６が発生する。そして、この散乱光１６をディテクタ１７が検出したときに欠陥部１８有りと判別していた（たとえば、特許文献１参照。）。
【特許文献１】特開平１１−２９５２３３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、上記従来の基板検査装置１０は、本来シリコン基板のように光を透過しない基板の検査に用いられるものであったため、この基板検査装置１０を用いて石英基板のように光の透過性が高い基板１３の検査を行うと、図５に示すように、レーザー光１４が基板１３を透過することによってステージピン１２に反射して散乱光１６が発生し、この散乱光１６をディテクタ１７が検出することによって、実際には欠陥部１８が存在していない基板１３を欠陥部１８ありと誤って判別してしまうおそれがあった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
そこで、請求項１に係る本発明では、ステージ上に光の透過性を有する基板を支持するステージピンを設け、このステージピン上に載置した基板に照射したレーザー光の反射光をディテクタで検出することによって基板の欠陥を検出する基板検査装置において、ステージピンからディテクタへのレーザー光の反射を防止するための反射防止手段を有することとした。
【０００９】
また、請求項２に係る本発明では、反射防止手段は、ステージピンをステージよりもレーザー光の反射率が低い材料で形成した。
【００１０】
また、請求項３に係る本発明では、反射防止手段は、ステージピンの上部表面にステージよりもレーザー光の反射率が低い材料からなる低反射層を設けた。
【発明の効果】
【００１１】
請求項１に係る本発明では、ステージ上に光の透過性を有する基板を支持するステージピンを設け、このステージピン上に載置した基板に照射したレーザー光の反射光をディテクタで検出することによって基板の欠陥を検出する基板検査装置において、ステージピンからディテクタへのレーザー光の反射を防止するための反射防止手段を有することとしたため、レーザー光がステージピンに反射することによる散乱光の発生を抑制することができるので、欠陥の誤検出を防止することができる。
【００１２】
また、請求項２に係る本発明では、反射防止手段は、ステージピンをステージよりもレーザー光の反射率が低い材料で形成したため、ステージピンの交換を行うだけで、多大な設備投資を行うことなく基板検査装置の検査精度を向上させることができる。
【００１３】
また、請求項３に係る本発明では、反射防止手段は、ステージピンの上部表面にステージよりもレーザー光の反射率が低い材料からなる低反射層を設けたため、ステージピンに加工を施すだけで、多大な設備投資を行うことなく基板検査装置の検査精度を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明に係る基板検査装置は、被検査体である基板を載置するステージ上に、基板を水平に保ち、また、検査後の基板を容易に脱離可能とする基板支持体であるステージピンを設けており、このステージピン上に載置した基板に垂直上方からレーザー光を照射して、その反射光の内、所定の反射光以外の反射光（以下、「散乱光」という。）を基板の周囲に設けたディテクタを用いて検出することによって基板表面の異物や疵といった欠陥を検出する基板検査装置である。
【００１５】
また、この基板検査装置は、光の透過率が高い基板の検査を行う際に、基板を透過したレーザー光がステージピンからディテクタに向けて反射することを防止するための反射防止手段を備えている。
【００１６】
この反射防止手段は、ステージピンをレーザー光の反射率がステージよりも低い材料によって形成するか、又は、ステージピンの上部表面にレーザー光の反射率がステージよりも低い材料による低反射層を設けることによって形成している。
【００１７】
この反射率が低い材料としては、基板に照射するレーザー光の波長に対する分光反射率が低い金属を用いており、これにより、ステージよりもステージピンの反射率が低くなるように形成している。
【００１８】
このように、ステージピン、又はステージピンの上部表面をステージよりも低い反射率の材料によって形成することによって、石英基板などのように光の透過率が高い基板の検査を行う際に、基板を透過したレーザー光がステージピンに反射することによる散乱光の発生を抑制することができるため、欠陥の誤検出を防止することができる。
【００１９】
また、上記したように、欠陥の誤検出を防止可能とする基板検査装置とするためには、ステージピンを低反射率の材料で形成するか、又はステージピンのみに低反射率の材料を用いて加工を施すだけで済むため、ステージピン以外は従来の基板検査装置をそのまま利用することができるので、多大な設備投資を行うことなく信頼性の高い基板検査装置とすることができる。
【００２０】
以下に、本発明に係る基板検査装置について図面を参照しながら説明する。
【００２１】
基板検査装置１は、図１に示すように、ステージ２と、ステージピン４と、レーザー光照射装置５と、ディテクタ６とを備えている。
【００２２】
ステージ２は、被検査体である基板３を載置する載置台である。
【００２３】
ステージピン４は、ステージ２の上面に複数個設けており、基板３を水平に保ち、また、検査後の基板３を容易に脱離可能とする基板３の支持体である。
【００２４】
レーザー光照射装置５は、基板３を検査する際に、基板３の垂直上方からレーザー光７を照射しながら基板３の表面を走査する装置である。
【００２５】
ディテクタ６は、基板３の表面に異物や疵といった欠陥部が存在する場合に、レーザー光照射装置５が照射したレーザー光７が欠陥部に当たり垂直上方以外の方向に反射した散乱光を検出するための装置である。
【００２６】
特に、上記したステージピン４は、図２(a)に示すように、レーザー光７の反射率がステージ２よりも低い材料を用いて形成するか、又は図(b)に示すように、ステージピン４の上部表面にレーザー光７の反射率がステージ２よりも低い材料による低反射層を形成することによってレーザー光の反射を防止する反射防止手段８となっている。
【００２７】
このように、反射防止手段８を設けたことにより、図１に示すように、石英基板のように光の透過率が高い基板３の検査を行う場合、レーザー光７が基板３を透過してステージピン４に反射しても、ステージピン４の表面はレーザー光７の反射率が低いため散乱光の発生を抑制することができるので、ステージピン４を基板３のステージ側表面の欠陥部として誤って認識するといった欠陥の誤検出を防止することができ、検査精度の高い基板検査装置１とすることができる。
【００２８】
また、基板３を透過したレーザー光７がステージ２に反射しても、ステージ２とディテクタ６との間には所定の間隔が設けられているため、この反射光は再び基板３を透過する間に微弱なものとなりディテクタ６に検出されにくくなる。
【００２９】
そして、上記したように検査精度の高い基板検査装置１とするためには、ステージピン４にレーザー光７の反射率がステージ２より低い材料を用いて形成した反射防止手段８設けるだけで済むため、ステージピン４以外は従来の基板検査装置１０をそのまま利用することができるので、多大な設備投資を行うことなく検査精度の高い基板検査装置１とすることができる。
【００３０】
ここで、本実施の形態で使用するレーザー光７の反射率が低い材料としては、基板３に照射するレーザー光７の波長に対する分光反射率が低い金属を用いることとしている。
【００３１】
金属の分光反射率は、図３に示すように、金属の種類、及び照射するレーザー光の波長によってそれぞれ異なる。
【００３２】
そのため、例えば波長が約５００(nm)のレーザー光７を用いる基板検査装置１では、図３に示すように、この波長において最も分光反射率が低い金属であるAu(金)を選択することが望ましい。
【００３３】
特に、波長が約３００(nm)のレーザー光７を用いる基板検査装置１では、ステージピンに用いる材料としてAg(銀)を選択すると、図３に示すように、レーザー光７の分光反射率を10％以下とすることができるため、基板３を透過したレーザー光７がステージピン４に反射して発生する散乱光１６を無視できるほど微弱なものとすることができ、これにより欠陥の誤検出を完全に防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明に係る基板検査装置を示す説明図である。
【図２】反射防止手段を示す断面図である。
【図３】レーザー光の波長に対する金属の分光反射率を示すグラフである。
【図４】従来の基板検査装置を示す説明図である。
【図５】欠陥の誤検出を示す説明図である。
【符号の説明】
【００３５】
１  基板検査装置
２  ステージ
３  基板
４  ステージピン
５  レーザー光照射装置
６  ディテクタ
７  レーザー光
８  反射防止手段
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
2005121438.tif 000006
【図５】
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