(57)【要約】【課題】  メカノケミカル研磨の化学反応の誘起を妨げることなく、被加工物の温度上昇を抑えて、研磨効率の向上を図り、かつ、コストを軽減し、環境負荷の小さいメカノケミカル研磨方法及びメカノケミカル研磨装置を提供する。【解決手段】  ターンテーブルＤにチャックＣを介して吸着載置され回転しているウェーハＨの表面上に、まだ砥石Ｔを押し当てない状態で霧状の水Ｗ１を冷却用液体供給ノズル２から砥石Ｔに降り掛けることなく噴霧して、ウェーハＨを湿潤状態にして冷却する。この状態で、メカノケミカル研磨を開始し、ウェーハＨが撥水状態になった後、冷却用液体供給ノズル２から噴霧されていた霧状の水Ｗ１を液状の水Ｗ２に切り替えて、ウェーハＨの表面上に砥石Ｔに降り掛けることなく液状の水Ｗ２を供給しつつ冷却してメカノケミカル研磨を行う。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
メカノケミカル砥石を用いて被加工物の表面を研磨するメカノケミカル研磨方法であって、
前記被加工物の表面に霧状の冷却用液体を噴霧し、前記被加工物の表面が湿潤状態でメカノケミカル研磨を開始し、前記被加工物の表面が撥水状態になった後に液状又は霧状の冷却用液体を前記メカノケミカル砥石に直接降り掛からないように被加工物の表面へ供給し、研磨することを特徴とするメカノケミカル研磨方法。
【請求項２】
前記霧状の冷却用液体は、該冷却用液体と所定の圧力の気体とを混合して生成したものであって、メカノケミカル研磨の開始前と前記被加工物の表面が撥水状態になった後とで該冷却用液体と該気体との混合比を変えて噴霧することを特徴とする請求項１に記載のメカノケミカル研磨方法。
【請求項３】
前記冷却用液体が水であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のメカノケミカル研磨方法。
【請求項４】
メカノケミカル砥石を用いて被加工物の表面を研磨するメカノケミカル研磨装置であって、
前記被加工物の表面に霧状の冷却用液体を供給して前記被加工物の表面を湿潤状態にする第１の冷却用液体供給手段と、
該被加工物の表面に液状又は霧状の冷却用液体を前記メカノケミカル砥石に直接降り掛からないように供給する第２の冷却用液体供給手段と、
を備えることを特徴とするメカノケミカル研磨装置。
【請求項５】
前記霧状の冷却用液体を供給する前記第１又は第２の冷却用液体供給手段は、前記冷却用液体と所定気圧の気体を混合して霧を生成するものであって、該冷却用液体と該気体との混合比及び噴霧圧力が変更可能であることを特徴とする請求項４に記載のメカノケミカル研磨装置。
【請求項６】
前記第１の冷却用液体供給手段と、前記第２の液状冷却用液体供給手段とは、１系列の冷却用液体供給手段を兼用することを特徴とする請求項４又は請求項５に記載のメカノケミカル研磨装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、メカノケミカル砥石を用いて被加工物の表面を研磨するメカノケミカル研磨方法及びメカノケミカル研磨装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
メカノケミカル砥石（以下、「砥石」ともいう。）を用いて被加工物の表面を研磨するメカノケミカル研磨は、砥石と被加工物との摩擦面に生じる機械的エネルギにより化学反応が誘起されることにより、高精度で加工変質層がほとんどない高品質の加工面が得られるので、例えば、シリコンウェーハ等の半導体基板の鏡面研磨等に用いられている。
ここで、研磨効率を向上させるために、被加工物の表面と砥石との間に酸化剤を介在させて被加工物の表面を研磨するメカノケミカル研磨方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この酸化剤は、砥石に滴下されるものであり、この状態で被加工物を上方から砥石に押し付けると、砥石と被加工物との間で化学反応が誘起され、効率よく被加工物の表面の研磨を行うことができる。このような酸化剤を用いることにより、低い加工圧力でも効率よく被加工物の表面を研磨することができる。
【特許文献１】特開２００１−２０５５５５号公報（段落００３１〜００７８、第１図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、このメカノケミカル研磨は、砥石と被加工物との摩擦による摩擦熱や、前記化学反応の反応熱の発生により被加工物の温度が上昇してしまう。このため、例えば、前記シリコンウェーハをメカノケミカル研磨により高精度に研磨する場合には、シリコンウェーハの温度が高い状態で研磨を続けると、仕上げ精度や品質に影響を与える。
これは、例えば、被加工物の加工表面に対して裏面にデバイス等を設けている場合に、上昇した雰囲気温度により前記デバイスに悪影響を及ぼすという問題があった。
また、前記デバイスを保護するために貼り付けられた保護テープが熱で変質し、保護テープの粘着層が変質してしまい、保護テープを容易に剥がすことができないという問題もあった。このため、砥石やシリコンウェーハとの押し付け圧力を低く制限する、あるいは砥石やシリコンウェーハの回転数を低く制限して研磨する必要があったので、研磨効率を上げることが困難であるという問題があった。
また、研磨効率を向上させるために酸化剤を用いると、研磨後に生じる廃液の処理のためのコストが増大し、環境負荷が大きくなるという問題もあった。また、酸化剤は高価であるために、製造コストが増大するという問題もあった。
さらに、乾式でのメカノケミカル研磨では、砥石より研磨くずが出るため、その処理に手間がかかるという問題もあった。
【０００４】
そこで、本発明は、前記した問題を解決し、メカノケミカル研磨の化学反応の誘起を妨げることなく、被加工物の温度上昇を抑えて、研磨効率の向上を図り、かつ、コストを軽減し、環境負荷の小さいメカノケミカル研磨方法及びメカノケミカル研磨装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、前記課題を解決すべく構成されるものであり、請求項１に記載の発明は、メカノケミカル砥石を用いて被加工物の表面を研磨するメカノケミカル研磨方法であって、前記被加工物の表面に霧状の冷却用液体を噴霧し、前記被加工物の表面が湿潤状態でメカノケミカル研磨を開始し、前記被加工物の表面が撥水状態になった後に液状又は霧状の冷却用液体を前記メカノケミカル砥石に直接降り掛からないように被加工物の表面へ供給し、研磨することを特徴とする。
【０００６】
本明細書において、霧状の冷却用液体とは、所定気圧の気体（エアー）によって微粒子の水滴を生成させた冷却用の液体をいう。
また、液状の冷却用液体とは、微粒子の水滴にすることなく、一定の体積を有しつつ一定の形状のない流動する冷却用の液体をいう。
【０００７】
請求項１に記載の発明によれば、研磨初期段階では、摩擦熱や反応熱による被加工物の温度上昇を抑えるために化学反応の誘起に支障を来さない程度に霧状の冷却用液体で被加工物の表面を湿潤状態にし、被加工物の表面が撥水状態になった後に液状又は霧状の冷却用液体を供給して冷却しながら被加工物を研磨するので、効率的なメカノケミカル研磨を行うことができる。
また、メカノケミカル砥石に直接降り掛からないように被加工物の表面へ冷却用液体を供給することにより、メカノケミカル砥石面と被加工物面との間に生じる化学反応への冷却用液体の影響を最小限にして被加工物の温度上昇を抑えることができるので、効率的なメカノケミカル研磨を行うことができる。
【０００８】
また、請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明であって、前記霧状の冷却用液体は、該冷却用液体と所定の圧力の気体とを混合して生成したものであって、メカノケミカル研磨の開始前と前記被加工物の表面が撥水状態になった後とで該冷却用液体と該気体との混合比を変えて噴霧することを特徴とする。
【０００９】
請求項２に記載の発明によれば、冷却用液体と所定の圧力の気体の混合比を、メカノケミカル研磨の開始前と前記被加工物の表面が撥水状態になった後とで変えて霧を生成し、被加工物の表面へ噴霧することができるので、メカノケミカル砥石や被加工物の材質、メカノケミカル砥石と被加工物との押し付け圧力、あるいはメカノケミカル砥石や被加工物の回転数等に応じて、霧状の冷却用液体の供給を調整でき、効率的なメカノケミカル研磨を行うことができる。
【００１０】
また、請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の発明であって、前記冷却用液体が水であることを特徴とする。
【００１１】
請求項３に記載の発明によれば、冷却用液体を水とすることにより、メカノケミカル研磨を行っても廃液が有害物とはならないため、環境負荷が小さいメカノケミカル研磨を行うことができる。また、薬液を用いた場合に比べてコストを軽減することができる。
【００１２】
また、請求項４に記載の発明は、メカノケミカル砥石を用いて被加工物の表面を研磨するメカノケミカル研磨装置であって、前記被加工物の表面に霧状の冷却用液体を供給して前記被加工物の表面を湿潤状態にする第１の冷却用液体供給手段と、該被加工物の表面に液状又は霧状の冷却用液体を前記メカノケミカル砥石に直接降り掛からないように供給する第２の冷却用液体供給手段と、を備えることを特徴とする。
【００１３】
請求項４に記載の発明によれば、第１の冷却用液体供給手段から霧状の冷却用液体を被加工物の表面に供給し、第２の冷却用液体供給手段から液状又は霧状の冷却用液体を被加工物の表面に供給するので、例えば、メカノケミカル研磨による化学反応の誘起に支障を来さない程度に霧状の冷却用液体を供給することができ、被加工物の表面を湿潤状態にしてメカノケミカル研磨を開始することができ、かつ、化学反応が誘起されて、被加工物の表面が撥水状態になってから液状又は霧状の冷却用液体を供給することができるので、被加工物を冷却しつつ研磨作業ができる効率的なメカノケミカル研磨を行うことができるようになっている。
【００１４】
また、請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の発明であって、前記霧状の冷却用液体を供給する前記第１又は第２の冷却用液体供給手段は、前記冷却用液体と所定気圧の気体を混合して霧を生成するものであって、該冷却用液体と該気体との混合比及び噴霧圧力が変更可能であることを特徴とする。
【００１５】
請求項５に記載の発明によれば、冷却用液体と所定の圧力の気体との混合比及び噴霧圧力を変更して霧状の冷却用液体を被加工物の表面に供給するので、メカノケミカル砥石や被加工物の材質、メカノケミカル砥石と被加工物との押し付け圧力、あるいはメカノケミカル砥石や被加工物の回転数等に応じて、霧状の冷却用液体の供給を調整でき、効率的なメカノケミカル研磨を行うことができるようになっている。
【００１６】
また、請求項６に記載の発明は、請求項４又は請求項５に記載の発明であって、前記第１の冷却用液体供給手段と、前記第２の液状冷却用液体供給手段とは、１系列の冷却用液体供給手段を兼用することを特徴とする。
【００１７】
請求項６に記載の発明によれば、霧状冷却用液体供給と、液状冷却用液体供給手段とが、１系列の冷却用液体供給手段として兼用することにより、装置を簡略することができ、被加工物を冷却しつつ研磨作業が行える効率的なメカノケミカル研磨を行うことができるようになっている。
【発明の効果】
【００１８】
よって本発明は前記のように構成したので、請求項１に記載の発明は、研磨初期段階では、摩擦熱や反応熱による被加工物の温度上昇を抑えるために化学反応の誘起に支障を来さない程度に霧状の冷却用液体で被加工物の表面を湿潤状態にし、被加工物の表面が撥水状態になった後に液状又は霧状の冷却用液体を供給して冷却しながら被加工物を研磨するので、効率的なメカノケミカル研磨を行うことができる。また、メカノケミカル砥石に直接降り掛からないように被加工物の表面へ冷却用液体を供給することにより、メカノケミカル砥石面と被加工物面との間に生じる化学反応への冷却用液体の影響を最小限にして被加工物の温度上昇を抑えることができるので、効率的なメカノケミカル研磨を行うことができる。
【００１９】
また、請求項２に記載の発明は、冷却用液体と所定の圧力の気体の混合比を、メカノケミカル研磨の開始前と前記被加工物の表面が撥水状態になった後とで変えて霧を生成し、被加工物の表面へ噴霧することができるので、メカノケミカル砥石や被加工物の材質、メカノケミカル砥石と被加工物との押し付け圧力、あるいはメカノケミカル砥石や被加工物の回転数等に応じて、霧状の冷却用液体の供給を調整でき、効率的なメカノケミカル研磨を行うことができる。
【００２０】
また、請求項３に記載の発明は、冷却用液体を水とすることにより、メカノケミカル研磨を行っても廃液が有害物とはならないため、環境負荷が小さいメカノケミカル研磨を行うことができる。また、薬液を用いた場合に比べてコストを軽減することができる。
【００２１】
また、請求項４に記載の発明は、第１の冷却用液体供給手段から霧状の冷却用液体を被加工物の表面に供給し、第２の冷却用液体供給手段から液状又は霧状の冷却用液体を被加工物の表面に供給するので、例えば、メカノケミカル研磨による化学反応の誘起に支障を来さない程度に霧状の冷却用液体を供給することができ、被加工物の表面を湿潤状態にしてメカノケミカル研磨を開始することができ、かつ、化学反応が誘起されて、被加工物の表面が撥水状態になってから液状又は霧状の冷却用液体を供給することができるので、被加工物を冷却しつつ研磨作業ができる効率的なメカノケミカル研磨を行うことができる。
【００２２】
また、請求項５に記載の発明は、冷却用液体と所定の圧力の気体との混合比及び噴霧圧力を変更して霧状の冷却用液体を被加工物の表面に供給するので、メカノケミカル砥石や被加工物の材質、メカノケミカル砥石と被加工物との押し付け圧力、あるいはメカノケミカル砥石や被加工物の回転数等に応じて、霧状の冷却用液体の供給を調整でき、効率的なメカノケミカル研磨を行うことができる。
【００２３】
また、請求項６に記載の発明は、霧状冷却用液体供給と、液状冷却用液体供給手段とが、１系列の冷却用液体供給手段として兼用することにより、装置を簡略することができ、被加工物を冷却しつつ研磨作業が行える効率的なメカノケミカル研磨を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の好適な実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
本実施の形態において、被加工物（以下、「ウェーハ」という。）には、シリコン又はシリコンを主成分とする材料からなるウェーハを用いる。また、メカノケミカル砥石には、ＳｉＯ2粒子を含む砥石を用いて、粗研削加工が終了したウェーハＨの表面に鏡面仕上げ加工を行う場合について説明する。
【００２５】
図１は、ウェーハに砥石を押し当てメカノケミカル研磨を行いつつウェーハに液状の冷却用液体と霧状の冷却用液体を供給する状態を示す断面図である。図２は、ウェーハに霧状の冷却用液体を噴霧した状態を示す平面図である。図３は、図１のＡ−Ａ断面図である。
【００２６】
本発明に係るメカノケミカル研磨装置１０は、図１に示すように、スピンドルＰと、砥石Ｔと、ターンテーブルＤと、冷却用液体供給ノズル２と、調整手段３を備えて構成されている。
【００２７】
図１に示すように、スピンドルＰには、ウェーハＨの表面を研磨するための砥石ＴがボルトＢＴにより固定され、スピンドルＰとともに回転することができるようになっており、スピンドルＰの端部のＺ軸方向に設けられたテーパ穴Ｎには、研磨くずのスピンドル内への進入を防止するためのカバー部材Ｋが取り付けられている。
また、ターンテーブルＤの上方側には、ターンテーブルＤにチャックＣを介して多段を含む粗研削加工が終了したウェーハＨが吸着載置されている。
そして、ウェーハＨの表面に鏡面を形成するために、ウェーハＨが吸着載置されているターンテーブルＤの上面を水平にして回転させる。
【００２８】
冷却用液体供給ノズル２は、液状冷却用液体供給手段として用いられ、冷却用液体Ｗ１，Ｗ２をウェーハＨの表面に供給する役割を果たす。この冷却用液体供給ノズル２は、霧状の冷却用液体を供給する第１の冷却用液体供給手段と、液状の冷却用液体を供給する第２の冷却用液体供給手段とを、１系列の冷却用液体供給手段で兼用することができるようになっている。
ここで、冷却用液体には水を用い、この水を霧状で用いる場合は水Ｗ１として、液状として用いる場合は水Ｗ２として説明する。
【００２９】
この冷却用液体供給ノズル２は、図２に示すように、回転する砥石Ｔを回転する乾燥状態のウェーハＨの表面に押し当てる前に、霧状の水Ｗ１を噴霧することにより、ウェーハＨの表面を湿潤状態にするとともに、砥石ＴをウェーハＨの表面に押し当てメカノケミカル研磨を行ったことによりウェーハＨの表面が撥水状態になった後に、液状の水Ｗ２をウェーハＨの表面に供給することができる。また、メカノケミカル研磨によりウェーハＨの表面が鏡面となると、霧状の水Ｗ１から液状の水Ｗ２に切り替えて、液状の水Ｗ２をウェーハＨの表面に供給することができる。これにより、メカノケミカル研磨に悪影響を与えることなく、ウェーハＨを冷却しつつ、効率の良いメカノケミカル研磨を行うことができる。
【００３０】
ここで、湿潤状態とは、ウェーハＨの表面が、回転するウェーハＨの表面に湿り気がある状態をいう。
【００３１】
なお、ウェーハＨの表面がメカノケミカル研磨により撥水状態になったことを具体的に検知する場合は、例えば、ウェーハＨの表面上に供給された霧状の水Ｗ１が、ウェーハＨの表面にはじかれて水滴となり、ウェーハＨの表面上を移動したことを検知しても良い。また、ウェーハＨの表面が、凹凸が少なく滑らかな面が形成されたか否かを検知してもよいし、目視で撥水状態を確認しても良いし、撥水状態になる時間を予め測定しておき、メカノケミカル研磨開始からその測定した時間経過後を撥水状態となったとしても良い。
【００３２】
この冷却用液体供給ノズル２は、図３に示すように、霧状の水Ｗ１，液状のＷ２が砥石Ｔに直接降り掛からないように、冷却用液体供給ノズル２の噴出口を砥石Ｔの方向に向かないように、ウェーハＨの回転中心の傍近から外周方向に向くように配置されている。
【００３３】
このように、冷却用液体供給ノズル２を配置したことにより、霧状の水Ｗ１，液状のＷ２を砥石Ｔに降り掛けることなくウェーハＨの表面に供給することができるので、メカノケミカル研磨に悪影響を与えることなく、ウェーハＨを冷却しつつメカノケミカル研磨を行うことができる。
【００３４】
ここで、霧状の水Ｗ１は、メカノケミカル研磨の前にウェーハＨの表面に噴霧することにより、メカノケミカル研磨に悪影響を及ぼさない範囲で、ウェーハＨを湿潤状態にしつつ気化熱でウェーハＨを予め冷却し、メカノケミカル研磨中においても噴霧してウェーハＨを冷却するために用いられる。
【００３５】
また、液状の水Ｗ２は、ウェーハＨを冷却するために供給される液状の冷却用の液体であって、メカノケミカル研磨による砥石ＴとウェーハＨとの摩擦面に生じる機械的エネルギによる化学反応が誘起されることにより発生する反応熱や、砥石ＴとウェーハＨとの摩擦による摩擦熱によるウェーハＨの温度上昇を抑えるために用いられる。つまり、ウェーハＨが過度に熱せられないように冷却することにより、熱によるウェーハＨの品質を低下させることなく、また、砥石ＴとウェーハＨとの押し付け圧力、あるいは砥石ＴやウェーハＨの回転数等に制限されることなく、効率的にメカノケミカル研磨を行うことができる。
【００３６】
調整手段３は、噴霧する霧状の水Ｗ１の水量と所定の圧力の気体との混合比及び噴霧圧力とを変える役割を果たす。
この調整手段３は、図１に示すように、冷却用液体供給ノズル２に取り付けられ、霧状の水Ｗ１を噴霧する場合に、混合する気体の圧力の調節を行ってウェーハＨに噴霧する噴霧圧力を変更して、霧状の水Ｗ１の水量の増減を行って霧状の水Ｗ１と気体との混合比の調節を行うことができるように構成されている。
したがって、ウェーハＨの材質や、研磨する砥石Ｔ及びウェーハＨの回転数等に対応して水Ｗ１の霧の水滴の細かさや噴霧する霧の勢い、霧の量を変更することができる。
【００３７】
次に、本発明のメカノケミカル研磨方法について説明する。
本発明のメカノケミカル研磨方法は、（１）霧状の水Ｗ１の噴霧量と噴霧圧力とを予め設定しておき、（２）霧状の水Ｗ１を乾燥状態のウェーハＨの表面に供給してウェーハＨを湿潤状態にし、（３）メカノケミカル研磨によりウェーハＨの表面が撥水状態となった場合に液状の水Ｗ２をウェーハＨに供給して冷却して、メカノケミカル研磨を行うように構成されている。
【００３８】
（１）
まず、霧状の水Ｗ１の噴霧量と噴霧圧力とを調整手段３により予め設定しておく。
また、図１に示すように、チャックＣを介して粗研削加工が終了したままの状態でウェーハＨが吸着載置されているターンテーブルＤを回転させる。
【００３９】
（２）
そして、図１に示すように、ターンテーブルＤにチャックＣを介して吸着載置されているウェーハＨの表面上に、まだ砥石Ｔを押し当てない状態において調整手段３で予め設定された噴霧量と噴霧圧力で霧状の水Ｗ１を冷却用液体供給ノズル２Ａから砥石Ｔに降り掛けることなく噴霧して、ウェーハＨを湿潤状態にする。これにより、ウェーハＨは、霧状の水Ｗ１による気化熱で冷却される。なお、この霧状の水Ｗ１を噴霧することによって、メカノケミカル研磨に悪影響を及ぼさない。
その後、ウェーハＨが湿潤状態になると、砥石ＴがルピンドルＰに取り付けられた状態で回転し、そのままウェーハＨの表面に押し当てられることでメカノケミカル研磨が行われる。
【００４０】
（３）
そして、メカノケミカル研磨により、摩擦による摩擦熱と化学反応による反応熱とが発生してウェーハＨの温度が上昇する。このウェーハＨの温度上昇を抑えるために、図３に示すように、ウェーハＨの表面が撥水状態となった後、冷却用液体供給ノズル２から噴霧されていた霧状の水Ｗ１を液状の水Ｗ２に切り替えて、ウェーハＨの表面上に砥石Ｔに液状の水Ｗ２を降り掛けることなく供給される。これにより、ウェーハＨは、冷却されながら過度に温度上昇することなくその表面をメカノケミカル研磨されることとなる。
そして、メカノケミカル研磨により生成される研磨くずＧは、液状の水Ｗ２に絡み取られつつ、回転するウェーハＨの遠心力により、液状の水Ｗ２とともにウェーハＨの周縁方向に移動させられ、ウェーハＨの表面上から除去されることとなる。
【００４１】
そして、表面を研磨されたウェーハＨの表面上からは、液状の水Ｗ２の供給を停止しつつ、スピンドルＰとともに砥石Ｔが離れることにより、研磨作業が終了する。
【００４２】
このようにして、メカノケミカル砥石でウェーハＨをメカノケミカル研磨することで、化学反応や摩擦により発生する熱により温度上昇するウェーハＨを効率よく冷却しても、化学反応に影響を及ぼさずにメカノケミカル研磨を行うことができる。また、排出される廃液が水であるため、環境負荷を軽減させることもできる。
【００４３】
以上、本発明について、好適な実施形態の一例を説明した。しかし、本発明は、前記実施形態に限られず、本発明のメカノケミカル研磨装置の前記各構成要素については、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、適宜設計変更が可能である。
また、本発明のメカノケミカル研磨方法ついては、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、適宜変更が可能である。
【００４４】
例えば、被加工物には、ＳｉＣ、ＧａＮ、Ａｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2、各種ガラス等を用いることができる。
また、メカノケミカル砥石には、シリカ粒子かセリア粒子、又はＢａＣＯ3、ＣａＣＯ3、酸化鉄粒子を含む砥石を用いることもできる。
【００４５】
また、ウェーハの表面への冷却用液体（霧状の水Ｗ１，液状の水Ｗ２）の供給は、１本の冷却液供給ノズル２の先端形状を変化させることにより霧状で供給するか液状で供給するかを切り替えているが、霧状用ノズルと液状用ノズルとを別途設けても良い。これにより、霧状の水Ｗ２の供給と液状の水Ｗ１の供給とをスムーズに切り替えることができる。
【００４６】
また、霧状の水Ｗ１は、メカノケミカル研磨によりウェーハＨの表面が撥水状態となった後、液状の水Ｗ２の換わりに噴霧しても良い。
【００４７】
さらに、調整手段３による噴霧する霧状の水Ｗ１の水量と所定の圧力の気体との混合比及び噴霧圧力との調節は、ウェーハＨの研磨前に予め設定しても良いが、研磨中に自動的に調整できるように構成しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】ウェーハに砥石を押し当て摩擦しつつウェーハに液状の冷却用液体と霧状の冷却用液体を供給する状態を示す断面図である。
【図２】ウェーハに霧状の冷却用液体を噴霧した状態を示す平面図である。
【図３】図１のＡ−Ａ断面図である。
【符号の説明】
【００４９】
１０      メカノケミカル研磨装置
２        冷却用液体供給ノズル（第１の冷却用液体供給手段，第２の冷却用液体供給手段）
３        調整手段
Ｔ        砥石（メカノケミカル砥石）
Ｈ        ウェーハ（被加工物）
Ｗ１      霧状の水（霧状の冷却用液体）
Ｗ２      液状の水（液状の冷却用液体）
【図１】
2005046947.tif 000003
【図２】
2005046947.tif 000004
【図３】
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