(57)【要約】【課題】電磁波遮蔽層構造及びその製造方法。【解決手段】電磁波遮蔽層構造は透明基板と網状膜を具え、透明基板が第１面とその反対の第２面とを具え、網状膜もまた第１面と第２面を具え、網状膜の第２面が透明基板の第１面と貼り合わされ、特に、網状膜の第１面に適当な厚さの感圧樹脂が従来使用されていたＵＶ透明化処理用樹脂の代わりに設けられている。【選択図】        図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１面とその反対の第２面とを具えた透明基板と、第１面と第２面を具えて第１面に感圧樹脂が塗布されて第２面が該透明基板の第１面に接合された網状膜と、を具えたことを特徴とする、電磁波遮蔽層構造。
【請求項２】
請求項１記載の電磁波遮蔽層構造において、第１面と第２面を具えると共にその第２面が前記感圧樹脂の、網状膜と反対に位置する第１面に接合された離型膜を具えたことを特徴とする、電磁波遮蔽層構造。
【請求項３】
請求項２記載の電磁波遮蔽層構造において、第１面と第２面を具えると共にその第１面が前記透明基板の第２面に接合されたもう一つの離型膜を具えたことを特徴とする、電磁波遮蔽層構造。
【請求項４】
電磁波遮蔽層の製造方法において、
網状膜を透明基板の表面に接合させる工程と、
網状膜にあって透明基板との接合面と反対の表面に感圧樹脂を塗布する工程と、
を具えたことを特徴とする、電磁波遮蔽層の製造方法。
【請求項５】
請求項４記載の電磁波遮蔽層の製造方法において、離型膜を前記感圧樹脂の、網状膜との接合面と反対の表面に接合する工程を具えたことを特徴とする、電磁波遮蔽層の製造方法。
【請求項６】
請求項５記載の電磁波遮蔽層の製造方法において、もう一つの離型膜を、前記透明基板の網状膜との接合面と反対の表面に接合する工程を具えたことを特徴とする、電磁波遮蔽層の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は一種の電磁波遮蔽層構造及びその製造方法に係り、特に、感圧樹脂がＵＶ透明化処理用樹脂の代わりに採用された電磁波遮蔽層構造及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマテレビはプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）で組成される。このプラズマディスプレイパネルは前面ガラス基板と背面ガラス基板の間に慣性ガス、即ちプラズマ（例えばネオンガスとキセノンガスの混合ガス）が封入されてなり、外から加えられる電場により電子放電が発生する時に、電子放電がこれらの慣性ガスのエネルギーを変換して紫外線を放出させ、この紫外線がガラス基板に塗布された赤、青、緑の蛍光粉を励起させ、これら蛍光粉が励起した後、人の眼が識別できる可視光が発生し並びに前面ガラス基板を透過して射出され、射出後の可視光が使用者が観るカラー画面を形成する。
【０００３】
一般に、使用者がプラズマテレビを観る時にプラズマテレビから発射される光線を自然に、快適に感じさせ、また電磁波輻射を防止するため、通常はプラズマテレビ中のプラズマディスプレイパネルの前方にフィルタが設けられている。
【０００４】
基本的に、このフィルタは、電磁波遮蔽層、色補正層、防眩層及びガラス層で組成されている。これにより、プラズマディスプレイパネルが射出する光線がこのフィルタに進入した後、光線と電磁波遮蔽層及び色補正層の作用により、光線自身の電磁波輻射が電磁波遮蔽層のメッシュ構造により除去され、光線が色補正層中の染料を通過する時、染料が光線に対してスペクトル校正を行ない、光線の色を鮮やかにし、更に立体感を有するものとなす。フィルタ中のガラス層は光線と作用せず、その主要な機能は全体のフィルタの構造を強化することにある。防眩層は外界光線（紫外光）が使用者に対向する表面に投射される時に、外界光線が反射されて使用者の眼に至りちらつきを発生するのを防止するために設計されている。ゆえにプラズマディスプレイパネルの前面ガラス基板より射出される光線がフィルタを通過してカラー画面を現出する時に使用者は十分に自然で、快適な感覚を受け、且つ電磁波輻射が防止される。
【０００５】
周知の電磁波遮蔽層は非常に複雑であり、且つその製造工程において、電磁波遮蔽層構造を主体と表層の二つの部分に分けて生産される。図１は周知の電磁波遮蔽層の主体構造を示す。この主体構造１０５は網状膜１１０の設計により光線自身の付帯する電磁波輻射を除去し、このため先ず網状膜１１０が透明基板１２０（一般にはポリエチレンテレフタレートとされうる）に貼り付けられる。しかし、網状膜は綿密に編成された網状構造とされ、ゆえに光線が網状膜１１０を通過する時、網状膜１１０が大幅に光線の透過する確率を下げるため、光線がこの網状膜１１０を通過した時の透光率が不足する。このため毛状ガラスに水が付着すると光線透過率が高まる原理を応用し、網状膜１１０の上に一層のＵＶ透明化処理用樹脂１３０を塗布して光線が網状膜１１０を通過する時の透光率を高める。その後、ＵＶ透明化処理用樹脂１３０の粘着性を考慮し、また、ＵＶ透明化処理用樹脂１３０を保護して電磁波遮蔽層表層構造との接合前の破壊を防止するため、ＵＶ透明化処理用樹脂１３０に透明基板１４０を貼り合わせる。
【０００６】
電磁波遮蔽層構造の主体構造１０５が完成した後、続いて電磁波遮蔽層表層構造の生産を行なう。この表層構造は主体構造１０５を保護するほか、簡単に除去できる特性を具備する必要がある（電磁波遮蔽層構造をフィルタ中の他の層と接合しやすくするため）。図２は周知の電磁波遮蔽層主体構造、表層構造の接合の簡易表示図である。主体構造１０５の完成後、表層構造１４５が主体構造１０５中の透明基板１２０、１４０のその他の層との接合面と反対の外表面１４３、１１７に設けられ、該表層構造１４５は感圧方式で粘着する感圧樹脂１５０、１６０に離型膜１７０、１８０が貼り合わされたもので、該主体構造１０５に該感圧樹脂１５０、１６０を利用して貼り合わされ、主体構造１０５を保護する。且つ離型膜１７０、１８０と感圧樹脂１５０、１６０の組合せにより、離型膜１７０、１８０が容易に主体構造１０５より取り除かれる。主体構造１０５と表層構造１４５が接合されて完全な電磁波遮蔽層構造１００が形成される。
【０００７】
周知の電磁波遮蔽層構造及びその生産方式には以下のような欠点がある。
１．周知の電磁波遮蔽層構造の構成層数は多く、このため光線の電磁波遮蔽層構造に対する透過率が低くなる。
２．周知の電磁波遮蔽層構造の構成層数は多く、電磁波遮蔽層の厚さが多くなり過ぎ、且つ製造コストがかかりすぎる。
３．周知の電磁波遮蔽層の製造方式は二つの部分の構造が別個に生産されるため、生産効率が低い。
４．周知の電磁波遮蔽層の製造方式は二つの部分の構造が別個に生産されるため、電磁波遮蔽層がフィルタ中のその他の層と組み合わされる時、電磁波遮蔽層構造の改良にはその二つの部分の生産が関わるため、電磁波遮蔽層構造の改良が難しくなる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
以上を鑑み、本発明は一種の電磁波遮蔽層構造及びその製造方法を提供し、それは構成層数を減らし、製造コストを減らし、生産効率を高められる電磁波遮蔽層構造及びその製造方法であるものとする。
【０００９】
本発明の主要な目的は一種の電磁波遮蔽層構造を提供することにあり、それは、透明基板と網状膜を具え、透明基板が第１面とその反対の第２面とを具え、網状膜もまた第１面と第２面を具え、網状膜の第２面が透明基板の第１面と貼り合わされ、特に、網状膜の第１面に適当な厚さの感圧樹脂が設けられたものとされる。
【００１０】
本発明の好ましい実施例によると、網状膜の表面上の感圧樹脂が破壊されないように、感圧樹脂の網状膜との接合面と反対の感圧樹脂の表面に更に離型膜が配置されている。
【００１１】
透明基板の網状膜との接合面と反対の透明基板の表面の、運送時の引っかき傷を防止するため、離型膜が配置されている。且つ透明基板表面の離型膜を順調に貼り合わせ或いは除去できるように、透明基板の離型膜との接合面に感圧樹脂が配置されて該感圧樹脂と離型膜が圧着される。
【００１２】
本発明の次の目的は、電磁波遮蔽層の製造方法を提供することにあり、この方法は、網状膜を透明基板表面に接合する工程と、網状膜の透明基板との接合面と反対の表面に適当な厚さの感圧樹脂を塗布する工程と、を具えている。
【００１３】
本発明の好ましい実施例によると、この電磁波遮蔽層の製造方法はさらに感圧樹脂の網状膜との接合面と反対の表面に離型膜を接合する工程を具えている。
【００１４】
本発明の好ましい実施例によると、この電磁波遮蔽層の製造方法はさらに透明基板の網状膜との接合面と反対の表面に離型膜を接合する工程を具えている。
【００１５】
このほか、本発明の好ましい実施例によると、この電磁波遮蔽層の製造方法はさらにもう一つの離型膜を透明基板と接合する工程を具え、この工程は、もう一つの離型膜と透明基板の接合面との間に一層の感圧樹脂を塗布し、これにより順調に感圧樹脂と離型膜を圧着させる工程とされる。
【００１６】
総合すると、本発明の提供する電磁波遮蔽層構造及びその製造方法は、網状膜に適当な厚さの感圧樹脂を塗布することを以て、周知のＵＶ透明化処理用樹脂の代わりとし、電磁波遮蔽層構造及びその製造方法を簡易化し、且つ製造コストを下げ、生産効率を高めるものとする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、第１面とその反対の第２面とを具えた透明基板と、第１面と第２面を具えて第１面に感圧樹脂が塗布されて第２面が該透明基板の第１面に接合された網状膜と、を具えたことを特徴とする、電磁波遮蔽層構造としている。
請求項２の発明は、請求項１記載の電磁波遮蔽層構造において、第１面と第２面を具えると共にその第２面が前記感圧樹脂の、網状膜と反対に位置する第１面に接合された離型膜を具えたことを特徴とする、電磁波遮蔽層構造としている。
請求項３の発明は、請求項２記載の電磁波遮蔽層構造において、第１面と第２面を具えると共にその第１面が前記透明基板の第２面に接合されたもう一つの離型膜を具えたことを特徴とする、電磁波遮蔽層構造としている。
請求項４の発明は、電磁波遮蔽層の製造方法において、
網状膜を透明基板の表面に接合させる工程と、
網状膜にあって透明基板との接合面と反対の表面に感圧樹脂を塗布する工程と、
を具えたことを特徴とする、電磁波遮蔽層の製造方法としている。
請求項５の発明は、請求項４記載の電磁波遮蔽層の製造方法において、離型膜を前記感圧樹脂の、網状膜との接合面と反対の表面に接合する工程を具えたことを特徴とする、電磁波遮蔽層の製造方法としている。
請求項６の発明は、請求項５記載の電磁波遮蔽層の製造方法において、もう一つの離型膜を、前記透明基板の網状膜との接合面と反対の表面に接合する工程を具えたことを特徴とする、電磁波遮蔽層の製造方法としている。
【００１８】
【発明の実施の形態】
本発明は周知の電磁波遮蔽層構造の構成層数が過多であり、且つ製造時に電磁波遮蔽層構造を二つの部分に分けて生産しなければならず、このため電磁波遮蔽層構造の厚さが増し、透光率が下がり、設計の改良が難しくなり、またコストが多くかかる等の多くの問題を解決する。本発明は感圧樹脂自身が透明で且つＵＶ透明化処理用樹脂と同じく、網状膜の透光率を増加できる特性を具備することを考慮し、この感圧樹脂の運用により電磁波遮蔽層構造を簡易化し、それにより生産フローを簡易化し、二つの部分に分けて生産する必要を無くす。
【００１９】
本発明の実施例によると、電磁波遮蔽層構造において、感圧樹脂が直接網状膜の透明基板との接合面と反対の表面に塗布される。図３は本発明の実施例の電磁波遮蔽層構造の簡単な表示図である。この電磁波遮蔽層構造２００は、その主体構造が透明基板２１０（材質にセルローストリアセテート或いはポリエチレンテレフタレートを使用可能）と、透明基板２１０の上方表面の網状膜２２０、及び該網状膜２２０の透明基板２１０との接合面２１５と反対の表面２２５に塗布された厚さがＸの感圧樹脂２３０を具えている。
【００２０】
網状膜２２０の表面２２５上の感圧樹脂２３０が周知の電磁波遮蔽層構造中のＵＶ透明化処理用樹脂の代わりに使用できることを証明するため、本発明の実施例の電磁波遮蔽層構造２００に対して光学実験を行なった。実験で分かったことは、感圧樹脂２３０の厚さＸが一定の値に達した後、感圧樹脂２３０はＵＶ透明化処理用樹脂と同じ機能を具備し、網状膜２２０の透光率を高めるということである。
【００２１】
これにより、本発明の実施例によると、網状膜２２０の表面２２５の上に一定厚さの感圧樹脂２３０を塗布することで、周知のＵＶ透明化処理用樹脂に代わり、電磁波遮蔽層構造２００中で網状膜２２０の透光率を高める素材としている。
【００２２】
電磁波遮蔽層構造２００の主体構造が図３のように簡易化された後、電磁波遮蔽層構造２００の表層の製造もまた簡易化される。図４に示されるのは本発明の実施例の完全な電磁波遮蔽層構造の簡単な表示図である。網状膜２２０の表面２２５に感圧樹脂２３０が塗布され、電磁波遮蔽層構造において、該表面２２５と反対の感圧樹脂２３０の表面２３５に直接離型膜３１０が圧着される。及び接合面２１５と反対の透明基板２１０の表面３０５に感圧樹脂３２０が塗布され、離型膜３３０が圧着される。主体構造１０５に離型膜３１０、３３０が加えられて完全な電磁波遮蔽層構造３００が形成される。
【００２３】
本発明の実施例の完全な電磁波遮蔽層構造３００を図１の周知の電磁波遮蔽層構造１００と比較すると、本発明は構造の層数を減らし製造工程が簡易化されているが、周知の電磁波遮蔽層構造１００と同じ光学性質を有し、且つ透光率は増加されている。
【００２４】
図５は本発明の実施例の電磁波遮蔽層構造と周知の電磁波遮蔽層構造の構造及び光学性質比較表である。図５に示されるように、本発明の実施例は周知のＵＶ透明化処理用樹脂と一層の透明基板が少なくとも減らされているが、その光学性質は周知のものと遜色なく、例えばＬ値、ａ値、ｂ値及び抵抗値はみな等しい。且つ透光率（Ｔ％）データ上、本発明の実施例は周知のものより約２〜３％高くなっている。これにより本発明の実施例の電磁波遮蔽層構造３００は構成層数が減らされて製造工程が簡易化された状況下で、周知の電磁波遮蔽層構造１００と同じ光学性質を有し、且つ透光率が増加されている。
【００２５】
【発明の効果】
本発明の長所は以下のとおりである。
１．本発明は周知の技術と比較しえ少なくとも一層のＵＶ透明化処理用樹脂と一層の透明基板が少なく、これにより構造自体の厚さが薄型化されている（約７０μｍ〜８０μｍ）ほか、この二層の材料、製造工程及びコストが節約される。２．本発明は感圧樹脂を周知のＵＶ透明化処理用樹脂の代わりに採用し、周知のとおり感圧樹脂自身の材料特性により全体の電磁波遮蔽層構造の耐圧性が増されている。
３．本発明はもともとフィルタ中に使用される構造であり、このため本発明がプラズマテレビのフィルタアイプロテクトレンズとして運用される時、プラズマテレビの厚さを減らし、且つプラズマテレビの製造コストを下げることができる。
【００２６】
総合すると、本発明の提供する電磁波遮蔽層構造及びその製造方法は、網状膜に適当な厚さの感圧樹脂を塗布することを以て、周知のＵＶ透明化処理用樹脂の代わりとし、電磁波遮蔽層構造とその製造方法を簡易化し、製造コストを減らし、生産効率を高めることができる。
【００２７】
以上は本発明の好ましい実施例の説明であり、本発明の実施範囲を限定するものではなく、本発明に基づきなしうる細部の修飾或いは改変は、いずれも本発明の請求範囲に属するものとする。
【図面の簡単な説明】
【図１】周知の電磁波遮蔽層構造の主体構造表示図である。
【図２】周知の電磁波遮蔽層構造の主体構造と表層構造の接合表示図である。
【図３】本発明の実施例の電磁波遮蔽層構造の主体構造の簡易表示図である。
【図４】本発明の実施例の完全な電磁波遮蔽層構造の簡易表示図である。
【図５】本発明の実施例の完全な電磁波遮蔽層構造と周知の電磁波遮蔽層構造の構造及び光学性質比較表である。
【符号の説明】
１００、２００、３００  電磁波遮蔽層構造
１１０、２２０  網状膜
１２０、１４０、２１０  透明基板
１３０  ＵＶ透明化処理用樹脂
１５０、１６０、２３０、３２０  感圧樹脂
１７０、１８０、３１０、３３０  離型膜
２１５  接合面
２２５、２３５、３０３、３０５  表面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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