(57)【要約】【課題】アンチモンや砒素を含有せず、優れた安定性、特に耐熱性、耐光性、耐湿熱性を有する近赤外線吸収化合物、さらにその近赤外線吸収化合物を用いて作製した耐光性等の耐性に優れた赤外線吸収フィルター、光記憶媒体を提供する。【解決手段】下記式（１）で示されるジイモニウム化合物、及びこれを用いて得られる近赤外線吸収フイルター。【化１】2005336150.tif 000012（式（１）中、Ｒ1〜Ｒ8は互いに独立に水素原子又は置換基を有しても良い脂肪族炭化水素残基を、Ｒ9及びＲ10は互いに独立にハロゲン原子を有しても良い脂肪族炭化水素をそれぞれ表す。また環Ａ及びＢはさらに置換基を有していてもよい。）【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で示されるジイモニウム化合物
【化１】
2005336150.tif 000011
（式（１）中、Ｒ1〜Ｒ8はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有しても良い脂肪族炭化水素残基を、Ｒ9及びＲ10はそれぞれ独立にハロゲン原子を有しても良い脂肪族炭化水素をそれぞれ表す。また環Ａ及びＢはさらに置換基を有してもよい。）
【請求項２】
式（１）のＲ9及びＲ10がフッ素原子を有する脂肪族炭化水素残基である請求項１に記載のジイモニウム化合物
【請求項３】
式（１）のＲ9及びＲ10がトリフルオロメチル基である請求項２に記載のジイモニウム化合物
【請求項４】
式（１）のＲ1乃至Ｒ8のうち少なくとも１つが直鎖又は分鎖の（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基である請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物
【請求項５】
式（１）のＲ1乃至Ｒ8のうち少なくとも１つが直鎖（Ｃ１−Ｃ３）アルキル基である請求項４に記載のジイモニウム化合物
【請求項６】
式（１）のＲ1乃至Ｒ8のうち少なくとも１つが分鎖のアルキル基である請求項４に記載のジイモニウム化合物
【請求項７】
式（１）のＲ1乃至Ｒ8がすべて末端で分鎖しているアルキル基である請求項６に記載のジイモニウム化合物
【請求項８】
式（１）のＲ1乃至Ｒ8がｉｓｏ−ブチル基又はｉｓｏ−アミル基である請求項７に記載のジイモニウム化合物
【請求項９】
式（１）のＲ1乃至Ｒ8の置換基を有しても良い脂肪族炭化水素残基の置換基がハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボンアミド基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アリール基又はアルコキシル基である請求項１乃至請求項３のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物
【請求項１０】
式（１）のＲ1乃至Ｒ8がすべてシアノ基で置換されたアルキル基である請求項９に記載のジイモニウム化合物
【請求項１１】
Ｒ1乃至Ｒ8のうち少なくとも１個はシアノ基で置換されたアルキル基で、同じく少なくとも１個はアルキル基である請求項９に記載のジイモニウム化合物
【請求項１２】
請求項１乃至請求項１１のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物及び樹脂を含有することを特徴とする組成物
【請求項１３】
請求項１乃至請求項１２のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物を含有する層を有する近赤外線吸収フィルター
【請求項１４】
請求項１３に記載の近赤外線吸収フィルター備えたプラズマディスプレー
【請求項１５】
請求項１乃至請求項１１のいずれか一項に記載ジイモニウムの化合物を記録層に含有することを特徴とする光情報記録媒体
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は赤外領域に吸収を有するジイモニウム化合物及びその用途に関する。特に劇物に該当せず、耐熱性、耐光性及び溶解度等に優れ、その用途が拡大されたジイモニウム化合物及びそれを用いた赤外線吸収フィルター、光記憶媒体及びその樹脂組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、近赤外線吸収剤としてのジイモニウム化合物は、広く知られており（例えば特許文献１〜３参照）、近赤外線吸収フィルター、断熱フィルム及びサングラス等に広く利用されている。しかしながら、これらの化合物の中で、対イオンが六フッ化アンチモン酸イオン、六フッ化砒素イオンなどであるものが耐熱性に優れ、中でも六フッ化アンチモン酸イオンの化合物が主に使用されていた。しかしアンチモンを含む化合物は、劇物に該当する為、近年、重金属等の使用が規制を受ける産業分野、特に電気材料分野ではこれらの金属を含まない化合物が望まれていた。これを解決する手段として、過塩素酸イオン、六フッ化リン酸イオン、ホウフッ化イオン等を対イオンとして用いる方法があるが、耐熱性や耐湿熱性を考えると、これらの対イオンでは不十分である。更にナフタレンジスルホン酸などの有機対イオンを使用した化合物も提案されているが（例えば特許文献２参照）、モル吸光係数が低く、化合物自体が緑味を帯びている為、実際上使用することができなかった。またトリフルオロメタンスルホン酸イオンなどを用いたものも知られている（例えば特許文献１参照）が、それらでは未だ十分な耐熱性や耐湿熱性を有しているとはいえず（例えば特許文献４参照）、さらに優れた材料が求められていた。
【０００３】
【特許文献１】特公平７−５１５５５号公報（第２頁）
【特許文献２】特開平１０−３１６６３３号公報（第５頁）
【特許文献３】特公昭４３−２５３３５号公報（第７−１４頁）
【特許文献４】特願２００３−０１７５３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明はこの様な状況に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、アンチモンを含有せず、さらに優れた安定性、特に耐熱性、耐光性、耐湿熱性を有する近赤外線吸収化合物、さらにそのような化合物を用いた、溶解度等に優れ、その用途が拡大された赤外線吸収フィルター（特にプラズマディスプレーパネル用）を提供すること、更には耐候性等の耐性に優れた光記憶媒体及び樹脂組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは前記したような課題を解決すべく鋭意努力した結果、特定の構造を有するジイモニウム化合物が前記諸課題を解決するものであることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち本発明は、
（１）下記式（１）で示されるジイモニウム化合物
【０００６】
【化１】
2005336150.tif 000002
【０００７】
（式（１）中、Ｒ1〜Ｒ8はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を有しても良い脂肪族炭化水素残基を、Ｒ9及びＲ10はそれぞれ独立にハロゲン原子を有しても良い脂肪族炭化水素をそれぞれ表す。また環Ａ及びＢはさらに置換基を有してもよい。）、
（２）式（１）のＲ9及びＲ10がフッ素原子を有する脂肪族炭化水素残基である（１）に記載のジイモニウム化合物、
（３）式（１）のＲ9及びＲ10がトリフルオロメチル基である（２）に記載のジイモニウム化合物、
（４）式（１）のＲ1乃至Ｒ8のうち少なくとも１つが直鎖又は分鎖の（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基である（１）乃至（３）のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物、
（５）式（１）のＲ1乃至Ｒ8のうち少なくとも１つが直鎖（Ｃ１−Ｃ３）アルキル基である（４）に記載のジイモニウム化合物、
（６）式（１）のＲ1乃至Ｒ8のうち少なくとも１つが分鎖のアルキル基である（４）に記載のジイモニウム化合物、
（７）式（１）のＲ1乃至Ｒ8がすべて末端で分鎖しているアルキル基である（６）に記載のジイモニウム化合物、
（８）式（１）のＲ1乃至Ｒ8がｉｓｏ−ブチル基又はｉｓｏ−アミル基である（７）に記載のジイモニウム化合物、
（９）式（１）のＲ1乃至Ｒ8の置換基を有しても良い脂肪族炭化水素残基の置換基がハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボンアミド基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アリール基又はアルコキシル基である（１）乃至（３）のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物、
（１０）式（１）のＲ1乃至Ｒ8がすべてシアノ基で置換されたアルキル基である（９）に記載のジイモニウム化合物、
（１１）Ｒ1乃至Ｒ8のうち少なくとも１個はシアノ基で置換されたアルキル基で、同じく少なくとも１個はアルキル基である（９）に記載のジイモニウム化合物、
（１２）（１）乃至（１１）のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物及び樹脂を含有することを特徴とする組成物、
（１３）（１）乃至（１２）のいずれか一項に記載のジイモニウム化合物を含有する層を有する近赤外線吸収フィルター、
（１４）（１３）に記載の近赤外線吸収フィルター備えたプラズマディスプレー、
（１５）（１）乃至（１１）のいずれか一項に記載ジイモニウムの化合物を記録層に含有することを特徴とする光情報記録媒体、
に関する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の近赤外線吸収性のジイミニウム化合物は、アンチモン及び砒素などを含まず、劇物に該当せず、モル吸光係数が９万以上と高く、耐熱性、耐光性及び溶解度等に優れた化合物である。また従来の六フッ化リン酸イオン、過塩素酸イオン、ホウフッ化イオンを有するジイモニウム塩に比べ、特に耐熱性、耐湿熱性に優れている。本発明のジイミニウム化合物を用いた近赤外線吸収フィルターは、アンチモン等を含有せず、耐熱性に極めて優れた近赤外線吸収フィルターであり、熱による分解などの反応を起こしにくく、可視部の着色がほとんど認められない。この様な特徴を有していることから、本発明のジイミニウム化合物は、近赤外線吸収フィルターや、例えば断熱フィルム及びサングラスのような近赤外吸収フィルムに好適に用いることができ、特に、プラズマディスプレー用の近赤外線吸収フィルターに好適である。
また本発明の光情報記録媒体は、従来のジイモニウム化合物を含有するる光情報記録媒体に比べ、耐光性を大幅に向上することができる。またこれらのジイモニウム化合物は、光情報記録媒体を調製する上での溶解度も十分であり加工性にも優れている。また、例えば光情報記録媒体の記録層に当たる有機色素薄膜に、この化合物を含有させた場合、繰り返し再生における耐久性、耐光安定性を著しく向上させた光情報記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明のジイモニウム化合物はジイモニウムカチオンと、対イオンとしてジ（アルキルスルホニル）イミドアニオンの塩を２個有するものであり式（１）で表される。
【００１０】
【化２】
2005336150.tif 000003
【００１１】
式（１）においてＲ9及びＲ10は互いに独立にハロゲン原子を有しても良い脂肪族炭化水素を表す。脂肪族炭化水素としては飽和及び不飽和の直鎖、分鎖及び環状のアルキル基が挙げられ、炭素数は１乃至３６が好ましく、さらに好ましくは置換基を有しても良い飽和の直鎖アルキル基で、炭素数は１乃至２０であるものが挙げられ、炭素数１〜４が最も好ましい。ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子が好ましく、さらにはフッ素、塩素、臭素原子が好ましく、最もフッ素原子が好ましい。具体的な例を挙げるとＲ9とＲ10が互いに独立にメチル基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、モノフルオロメチル基、ジクロロメチル基、モノクロロメチル基、ジブロモメチル基、ジフルオロクロロメチル基、エチル基、ペンタフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、トリフルオロクロロエチル基、ジフルオロエチル基、モノフルオロエチル基、トリフルオロヨードエチル基、プロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、ヘキサフルオロプロピル基、ペンタフルオロプロピル基、テトラフルオロプロピル基、トリフルオロプロピル基、ジフルオロプロピル基、モノフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロオクチル基、ペルフルオロオクチルエチル基などの飽和の直鎖アルキル基、アリル基、テトラフルオロアリル基、トリフルオロエチレン基、ペルフルオロブチルエチレン基などの不飽和のアルキル基、イソプロピル基、ペンタフルオロイソプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、ペルフルオロ−３−メチルブチル基、ペルフルオロ−３−メチルヘキシル基などの分鎖のアルキル基、シクロヘキシル基などの環状アルキル基などが挙げられ、Ｒ9とＲ10が同じであるものが好ましい。さらにＲ9とＲ10が結合し、環状のアルキル基を形成することも出来る。
【００１２】
Ｒ9とＲ10が共にフッ素原子を有する脂肪族炭化水素基であるものが好ましく、その具体例としては、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、モノフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、ジフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ヘキサフルオロプロピル基、ペンタフルオロプロピル基、テトラフルオロプロピル基、トリフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基などが挙げられ、好ましくはトリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、テトラフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基であり、さらに好ましくはトリフルオロメチル基である。上記の各基において、特に断りのない限りアルキル部分はノルマルである。
【００１３】
式（１）において環Ａ及びＢにはそれぞれ、１，４−位以外に１〜４個の置換基を有していても、有していなくても良い。結合しうる置換基としては、例えばハロゲン原子、ヒドロキシル基、低級アルコキシ基、シアノ基、低級アルキル基が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子等が挙げられる。アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基等のＣ１〜Ｃ５のアルコキシ基が挙げられ、低級アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基等のＣ１〜Ｃ５のアルキル基が挙げられる。Ａ及びＢが共に置換基を有していないか、又はハロゲン原子（特に塩素原子、臭素原子、フッ素原子）、メチル基若しくはシアノ基で置換されているものが好ましい。
尚、Ｂに置換基を有する場合は、４つのＢ環がすべて同じであるもの、更に置換基の位置はフェニレンジアミン骨格に結合する窒素原子に対してｍ−位であるものが好ましい。さらに環Ａ及びＢには１，４−位以外に置換基を有していていないものが好ましい。
【００１４】
Ｒ1乃至Ｒ8は互いに独立に水素原子又は置換基を有しても良い脂肪族炭化水素残基をあらわす。脂肪族炭化水素残基とは飽和及び不飽和の直鎖、分鎖及び環状の脂肪族炭化水素から水素原子１個を除いた基を意味する。炭素数としては１〜３６、好ましくは炭素数が１〜２０であるものが挙げられる。
【００１５】
置換基を有しない飽和脂肪族炭化水素残基又は不飽和の脂肪族炭化水素残基の具体例としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔｅｒ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｔｅｒ−ペンチル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ペンチニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、ヘキサジエニル基、イソプロペニル基、イソへキセニル基、シクロへキセニル基、シクロペンタジエニル基、エチニル基、プロピニル基、へキシニル基、イソへキシニル基、シクロへキシニル基等が挙げられる。これらの中で、好ましいものとしては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉｓｏ−ペンチル基、ｔｅｒ−ペンチル基、ビニル基、アリル基、プロペニル基、ペンチニル基などのＣ１−Ｃ５の直鎖、分鎖の飽和脂肪族炭化水素残基又は不飽和の脂肪族炭化水素残基等が挙げられる。
【００１６】
本発明においては、Ｒ1乃至Ｒ8のうち少なくとも１つが直鎖又は分鎖の（Ｃ１−Ｃ６）アルキル基であるもの、さらにはＲ1乃至Ｒ8のうち少なくとも１つが直鎖（Ｃ１−Ｃ３）アルキル基であるものが好ましく、又、Ｒ1乃至Ｒ8のうち少なくとも１つが分鎖のアルキル基であるもの、とりわけＲ1乃至Ｒ8がすべて末端で分鎖しているアルキル基であるものが好ましい。Ｒ1乃至Ｒ8がすべて末端で分鎖しているアルキル基であるものとしては、Ｒ1乃至Ｒ8がすべてｉｓｏ−ブチル基又はｉｓｏ−アミル基であるものが特に好ましい。  
【００１７】
置換基を有した脂肪族炭化水素残基における置換基の例としては、例えばハロゲン原子（例、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ）、ヒドロキシ基、アルコキシ基（例、メトキシ基、エトキシ基、イソブトキシ基など）、アルコキシアルコキシ基（例、メトキシエトキシ基など）、アリール基（例、フェニル基、ナフチル基などでこのアリール基はさらに置換基を有しても良い）、アリールオキシ基（例、フェノキシ基など）、アシルオキシ基（例、アセチルオキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキシリルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などこのアリールオキシ基はさらに置換基を有しても良い）、アミノ基、アルキル置換アミノ基（例、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基など）、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、カルボンアミド基、アルコキシカルボニル基（例、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アシル基、アミド基（例、アセトアミド基など）、スルホンアミド基（例、メタンスルホンアミド基など）、スルホ基が挙げられる。これらの置換基のうち、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、カルボンアミド基、アルコキシカルボニル基、アシル基、アリール基又はアルコキシル基等が好ましい。  
【００１８】
これら基はそれぞれ独立して存在しうるものであり、例えば、１個のアミノ基に無置換の直鎖アルキル基とシアノ置換アルキル基が置換したもの、無置換の分鎖アルキル基とシアノ置換アルキル基が置換したもの、無置換の直鎖アルキル基と無置換の分鎖アルキル基が置換したものなどであってもよい。  
【００１９】
置換基を有した脂肪族炭化水素残基の具体例としては、シアノメチル基、２−シアノエチル基、３−シアノプロピル基、２−シアノプロピル基、４−シアノブチル基、３−シアノブチル基、２−シアノブチル基、５−シアノペンチル基、４−シアノペンチル基、３−シアノペンチル基、２−シアノペンチル基、３，４−ジシアノブチル基等のシアノ置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル基、メトキシエチル基、エトキシエチル基、３−メトキシプロピル基、３−エトキシプロピル基、４−メトキシブチル基、４−エトキシブチル基、５−エトキシペンチル基、５−メトキシペンチル基等のアルコキシ置換（Ｃ１〜Ｃ６）アルキル基、トリフルオロメチル基、モノフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、テトラフルオロエチル基、トリフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロブチルエチル基、ペルフルオロヘキシル基、ペルフルオロヘキシルエチル基、ペルフルオロオクチル基、ペルフルオロオクチルエチル基などのフッ化（Ｃ１〜Ｃ８）アルキル基等が挙げられる。
【００２０】
本発明において、Ｒ1〜Ｒ8がすべてシアノ基で置換されたアルキル基であるジイモニウム化合物、あるいはＲ1乃至Ｒ8のうち少なくとも１個はシアノ基で置換されたアルキル基で、同じく少なくとも１個はアルキル基であるジイモニウム化合物が特に好ましい。
【００２１】
本発明の式（１）で表されるジイモニウム化合物は、例えば特許文献３に記載された方法に準じた方法で得ることができる。即ち、ｐ−フェニレンジアミンと１−クロロ−４−ニトロベンゼンをウルマン反応させて得られた生成物を還元することにより得られる下記式（４）
【００２２】
【化３】
2005336150.tif 000004
【００２３】
（式（４）中、環Ａ及びＢは前記で定義された通りである。）
で表される化合物を有機溶媒中、好ましくはＤＭＦ（ジメチルホルムアマイド）、ＤＭＩ
（ジメチルイミダゾリノン)又はＮＭＰ(Ｎ−メチルピロリドン)等の水溶性極性溶媒中、３０〜１６０℃、好ましくは５０〜１４０℃で、所望のＲ1〜Ｒ8に対応するハロゲン化化合物（例えば、Ｒ1〜Ｒ8がｎ−Ｃ4Ｈ9のときはｎ−Ｃ4Ｈ9Ｂｒ）と反応させて、全ての置換基（Ｒ1〜Ｒ8）が同一である化合物（以下、全置換体と記す）（式（２））を得ることができる。また、Ｒ1乃至Ｒ8のすべてが同じ置換基である化合物以外の下記式（２）を合成する場合（例えば下記化合物例Ｎｏ.３４の化合物の前駆体）には、先に所定のモル数（上記式（４）１モル当たり４モル）の試薬（ｎ−Ｃ4Ｈ9Ｂｒ）と反応させてＲ1〜Ｒ8のうち４つにｎ−ブチル基を導入した後、残りの置換基（ｉｓｏ−ブチル基）を導入するのに必要なモル数（上記式（４）のアミン体１モル当たり４モル）の対応する試薬（ｉｓｏ−Ｃ4Ｈ9Ｂｒ）と反応させることによっても式（２）の化合物は合成できる。例示したＮｏ.３４の化合物の製造方法と同様の方法により、全置換体以外の任意の化合物を得ることができる。
【００２４】
【化４】
2005336150.tif 000005
【００２５】
上記で合成した化合物を、有機溶媒中、好ましくはＤＭＦ、ＤＭＩ、ＮＭＰ等の水溶性極性溶媒中、０〜１００℃、好ましくは５〜７０℃で下記式（３）に対応する酸化剤（例えば銀塩）を２当量添加して酸化反応を行う。また上記で合成した化合物を硝酸銀、過塩素酸銀、塩化第二銅等の酸化剤で酸化した後、その反応液に、式（３）のアニオンの酸もしくは塩を添加して塩交換を行う方法によっても式（１）で表されるジイモニウム化合物を合成することが出来る。
【００２６】
【化５】
2005336150.tif 000006
【００２７】
次に、式（１）で示される本発明のジイモニウム化合物の具体例を表１（１）から表１（４）に示す。表中、Ｒ1〜Ｒ8に関し、ｉ−は「ｉｓｏ−」のように分鎖の状態を表し、Ｐｈはフェニル基を表す。Ａ及びＢに関し、１,４−位以外が無置換の場合は「４Ｈ」と表記し、置換位置はフェニレンジアミン骨格に結合する窒素原子に対しての置換位置である。また、Ｒ1〜Ｒ8に関し、Ｒ1〜Ｒ8が全てｎ−ブチル基である場合には「４（ｎ−Ｃ4Ｈ9，ｎ−Ｃ4Ｈ9）」と略記し、また例えば、１つがｉｓｏ−ペンチル基で残りがｎ−ブチル基である場合、即ち、４組の置換基の組み合わせの一つにｉｓｏ−ペンチル基が含まれ、残りの３組が全てｎ−ブチル基である場合には「３（ｎ−Ｃ4Ｈ9，ｎ−Ｃ4Ｈ9）（ｎ−Ｃ4Ｈ9，ｉ−Ｃ5Ｈ11」と略記する。また、窒素原子と隣接する２つのＲが結合しピペリジン環を形成したものを「（ピペリジン環）」と示す。更に、ｃｙはシクロを意味する。又、Ｒ9及びＲ10で、炭素数３以上のアルキル部分はいずれもノルマルである。
【００２８】
【表１】
2005336150.tif 000007
【００２９】
【表２】
2005336150.tif 000008
【００３０】
【表３】
2005336150.tif 000009
【００３１】
【表４】
2005336150.tif 000010
【００３２】
本発明の組成物は、樹脂及び式（１）で示される本発明のジイモニウム化合物を含有するものである。
用いうる樹脂の具体例として、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル等のビニル化合物、及びそれらのビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリシアン化ビニリデン、フッ化ビニリデン／トリフルオロエチレン共重合体、フッ化ビニリデン／テトラフルオロエチレン共重合体、シアン化ビニリデン／酢酸ビニル共重合体、等のビニル化合物又はフッ素系化合物の共重合体、ポリトリフルオロエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリヘキサフルオロプロピレン等のフッ素を含む樹脂、ナイロン６、ナイロン６６等のポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、ポリペプチド、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリオキシメチレン等のポリエーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等が挙げられる。
【００３３】
本発明の組成物を作成する方法としては、特に限定されるものではないが、例えば次のような、それ自体公知の方法が利用できる。
（１）樹脂に本発明のジイモニウム化合物を混練し、加熱成形して樹脂板又はフィルムを作製する方法、
（２）本発明のジイモニウム化合物と樹脂モノマー又は樹脂モノマーの予備重合体を重合触媒の存在下にキャスト重合し、樹脂板又はフィルムを作製する方法、
（３）本発明の組成物を含有する塗料を作製し、透明樹脂板、透明フィルム、又は透明ガラス板にコーティングする方法、
（４）本発明のジイモニウム化合物及び樹脂（接着剤）含有させた組成物を用いて、合わせ樹脂板、合わせ樹脂フィルム、又は合わせガラス板を作製する方法、
等である。
【００３４】
（１）の作製方法としては、用いる樹脂によって加工温度、フィルム化（樹脂板化）条件等が多少異なるが、通常、本発明のジイモニウム化合物を基材樹脂の粉体又はペレットに添加し、１５０〜３５０℃に加熱、溶解させた後、成形して樹脂板を作製する方法、あるいは押し出し機によりフィルム化（樹脂板化）する方法等が挙げられる。本発明のジイモニウム化合物の添加量は、作製する樹脂板又はフィルムの厚み、吸収強度、可視光透過率等によって異なるが、通常、基材樹脂の重量に対して０．０１〜３０重量％、好ましくは０．０３〜１５重量％使用される。
【００３５】
（２）の方法では、上記の化合物と樹脂モノマー又は樹脂モノマーの予備重合体を重合触媒の存在下に型内に注入し、反応させて硬化させるか、又は金型に流し込んで型内で硬い製品となるまで固化させて成形する。多くの樹脂がこの過程で成形可能であり、その様な方法を採用しうる樹脂の具体例としては、アクリル樹脂、ジエチレングリコールビス（アリルカーボネート）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリスチレン樹脂、シリコン樹脂、等が挙げられる。その中でも、硬度、耐熱性、耐薬品性に優れたアクリルシートが得られるメタクリル酸メチルの塊状重合によるキャスティング法が好ましい。
【００３６】
重合触媒としては公知のラジカル熱重合開始剤が利用でき、例えばベンゾイルパーオキシド、ｐ−クロロベンゾイルパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート等の過酸化物、アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ化合物が挙げられる。その使用量は混合物の総量に対して、一般的に０．０１〜５重量％である。熱重合における加熱温度は、通常４０〜２００℃であり、重合時間は通常３０分〜８時間程度である。また熱重合以外に、光重合開始剤や増感剤を添加して光重合する方法も採用できる。
【００３７】
（３）の方法としては、本発明のジイモニウム化合物をバインダー樹脂及び有機溶媒に溶解させて塗料化する方法、上記化合物を樹脂の存在下に微粒子化して分散させ、水系塗料とする方法等がある。このうち本発明のジイモニウム化合物をバインダー樹脂及び有機溶媒に溶解させて塗料化する方法では、例えば、脂肪族エステル樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニル系樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオレフィン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニル変性樹脂等、又はそれらの共重合樹脂をバインダーとして用いる事ができる。
【００３８】
溶媒としては、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、エーテル系の溶媒、又はそれらの混合物の溶媒を用いることができる。本発明のジイモニウム化合物の濃度は、作製するコーティングの厚み、吸収強度、可視光透過率によって異なるが、バインダー樹脂に対して、一般的に０．１〜３０重量％である。
【００３９】
このように作製した塗料を用いて透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明ガラス等の上にスピンコーター、バーコーター、ロールコーター、スプレー等でコーティングして近赤外線吸収フィルターを得ることができる。
（４）の方法において、接着剤用の樹脂としては、シリコン系、ウレタン系、アクリル系等の樹脂用、又は合わせガラス用のポリビニルブチラール接着剤、エチレン−酢酸ビニル系接着剤等の合わせガラス用の公知の透明接着剤が使用できる。本発明のジイモニウム化合物を０．１〜３０重量％添加した接着剤を用いて透明な樹脂板同士、樹脂板と樹脂フィルム、樹脂板とガラス、樹脂フィルム同士、樹脂フィルムとガラス、ガラス同士を接着して、フィルターを作製する。
尚、それぞれの方法で混練、混合の際、紫外線吸収剤、可塑剤等、樹脂成形に用いる通常の添加剤を加えても良い。
【００４０】
次に、本発明の近赤外線吸収フィルターを説明する。本発明のジイモニウム塩を含有する樹脂層を基材上に設けたものでもよく、また基材自体が近赤外線吸収化合物を含有する樹脂組成物（又その硬化物）からなる層であっても良い。基材としては、一般に近赤外線吸収フィルターに使用し得るものであれば特に制限されないが、通常、樹脂製の基材が使用される。本発明のジイモニウム化合物を含有する層の厚みは、通常０．１μｍ〜１０ｍｍ程度であるが、近赤外線カット率等の目的に応じて適宜決定される。また、本発明のジイモニウム化合物の含有量も目的とする近赤外線カット率に応じて、適宜決定される。用いうる樹脂としては、上記樹脂組成物と同様な樹脂が挙げられ、樹脂板又は樹脂フィルムに成形した場合、できるだけ透明性の高いものが好ましい。近赤外線吸収フィルターを作製する方法としては、上記脂組成物の作製と同様の方法が挙げられる。
【００４１】
本発明の赤外線吸収フィルターは赤外線吸収化合物として本発明の式（１）のジイモニウム化合物のみを含有しても良いが、２種類以上の本発明のジイモニウム化合物を併用することも、さらにこれらの化合物と、本発明ののジイモニウム化合物以外の近赤外線吸収化合物を併用して作製しても良い。併用し得る他の近赤外線吸収化合物としては、例えばフタロシアニン系色素、シアニン系色素、ジチオールニッケル錯体等があげられる。また、併用しうる無機金属の近赤外線吸収化合物の例としては、例えば金属銅又は硫化銅、酸化銅等の銅化合物、酸化亜鉛を主成分とする金属混合物、タングステン化合物、ＩＴＯ、ＡＴＯ等が挙げられる。
【００４２】
又、フィルターの色調を変えるために、可視領域に吸収を持つ色素（調色用色素）を、本発明の効果を阻害しない範囲で加えてもよい。又、調色用色素のみを含有するフィルターを作製し、後で本発明の近赤外線吸収フィルターを貼り合わせることもできる。
この様な近赤外線吸収フィルターは、プラズマディスプレーの前面板に用いられる場合には、可視光の透過率は高いほどよく、少なくとも４０％以上、好ましくは５０％以上の透過率が必要である。近赤外線のカット領域は、好ましくは７５０〜１２００ｎｍ、より好ましくは８００〜１０００ｎｍであり、その領域の近赤外線の平均透過率が５０％以下、より好ましくは３０％以下、更に好ましくは２０％以下、特に好ましくは１０％以下になることが望ましい。
【００４３】
本発明の近赤外線吸収フィルターは、ディスプレーの前面板の様な用途に限らず、赤外線をカットする必要があるフィルターやフィルム、例えば断熱フィルム、光学製品、サングラス等にも使用することが出来る。
本発明の近赤外線吸収フィルターは、可視光領域が非常に高い透過率でありアンチモンや砒素を含有せず、環境に優しく、近赤外領域は幅広く吸収する優れた近赤外線吸収フィルターである。また従来のアンチモンを含有しない過塩素酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ホウフッ化イオンを含有する近赤外線吸収フィルターに比べ安定性に優れている。さらに溶解度も十分であり加工性にも優れている。特に、本発明の近赤外線吸収フィルターは耐熱、耐湿熱、耐光性において非常に優れており、熱による分解などの反応を起こしにくいため、可視部の着色がほとんど起こらない近赤外線吸収フィルターを得る事ができる。更にこの様な特徴を有していることから、近赤外線吸収フィルターや例えば断熱フィルム及びサングラスのような近赤外線吸収フィルムに好適に用いることができ、特にプラズマディスプレー用の近赤外線吸収フィルターに好適である。
【００４４】
次に本発明の光情報記録媒体について説明する。
本発明の光情報記録媒体は、基板上に記録層を有するもので、該記録層が本発明のジイモニウム化合物を含有することを特徴とする。この記録層は、ジイモニウム化合物のみで構成されていても良く、またバインダー等の各種添加剤と混合して含有されていても良い。この場合、本発明のジイモニウム化合物により情報が記録される。
【００４５】
また、本発明のジイモニウム化合物とこれ以外の有機色素とを含有する混合物を、該有機色素により情報が記録される光情報記録媒体の記録層に含有させることによって、該光情報記録媒体の耐光性を向上させることができる。このような光情報記録媒体において、情報の記録に供される有機色素としては、例えばシアニン系色素、スクワリリウム系色素、インドアニリン系色素、フタロシアニン系色素、アゾ系色素、メロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、ピリリウム系色素等が挙げられる。
このような方法において、本発明のジイモニウム化合物は、これらの有機色素１モルに対して、通常０．０１〜１０モル、好ましくは０．０３〜３モル使用される。
【００４６】
本発明の光情報記録媒体は、基板上に本発明のジイモニウム化合物及び所望によりこれ以外の色素を含有する記録層を設けたもので、必要に応じ、反射層、保護層が設けられる。基板としては公知のものを任意に使用することが出来る。例えば、ガラス板、金属板又はプラスチック板もしくはフィルムが挙げられ、これらを製造するためのプラスチックとしてはアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、メタクリル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリイミド樹脂、非晶質ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリプロピレン樹脂等があげられる。基板の形状としては、ディスク状、カード状、シート状、ロールフィルム状等種々のものがあげられる。
【００４７】
ガラス又はプラスチック基板上には記録時のトラッキングを容易にするために案内溝を形成させてもよい。また、ガラス又はプラスチック基板にはプラスチックバインダー又は無機酸化物、無機硫化物等の下引き層を設けてもよく、下引層は基板より熱伝導率の低いものが好ましい。
【００４８】
本発明の光情報記録媒体における記録層は、例えば、本発明のジイモニウム化合物及び、より好ましくは本発明ののジイモニウム化合物と他の有機色素を公知の有機溶剤、例えばテトラフルオロプロパノール（ＴＦＰ）、オクタフルオロペンタノール（ＯＦＰ）、ダイアセトンアルコール、メタノール、エタノール、ブタノール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジクロロエタン、イソホロン、シクロヘキサノン等に溶解し、必要に応じて、バインダーを加え、その溶液をスピンコーター、バーコーター、ロールコーター等により基板上に塗布することにより得ることが出来る。その他の方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法もしくは基板を溶液中に漬けるディッピング法によっても得ることができる。ここにおいてバインダ−としてはアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂等が使用されうる。
記録層の膜厚は、記録感度や反射率を考慮すると、好ましくは０．０１μｍ〜５μｍ、より好ましくは０．０２μｍ〜３μｍである。
【００４９】
本発明の光情報記録媒体には、必要により記録層の下に下引層を、また記録層上に保護層を設けることが出来、さらに記録層と保護層の間に反射層を設けることが出来る。反射層を設ける場合、反射層は金、銀、銅、アルミニウム等、好ましくは金、銀、又はアルミニウムの金属で構成され、これらの金属は単独で使用してもよく、２種以上の合金としてもよい。この層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等で形成される。このような反射層の厚さは、０．０２〜２μｍである。反射層の上に設けられることのある保護層は、通常、紫外線硬化樹脂をスピンコート法により塗装した後、紫外線を照射し、塗膜を硬化させて形成されるものである。その他、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂等も保護膜の形成材料に用いられる。このような保護膜の厚さは、通常、０．０１〜１００μｍである。
【００５０】
本発明の光情報記録媒体における情報の記録、あるいは画像の形成はレーザー、例えば、半導体レーザー、ヘリウム−ネオンレーザー、Ｈｅ−Ｃｄレーザー、ＹＡＧレーザー、Ａｒレーザー等の集光したスポット状の高エネルギービームを基板を通して、もしくは基板と反対側から記録層に照射することにより行われ、情報あるいは画像の読み出しは、低出力のレーザービームを照射することにより、ピット部とピットが形成されていない部分の反射光量もしくは透過光量の差を検出することにより行われる。
【００５１】
本発明のジイモニウム化合物は最大吸収波長が９００ｎｍ以上にあり、モル吸光係数も数万乃至十数万と大きい値を有している。また耐熱性、耐光性、耐湿熱性などの安定性試験の結果より、従来のものに比べ変色が少なく、安定性に優れており、また溶解性試験より十分な溶剤溶解性を有しており、加工性の良い赤外線吸収剤として使用することが出来る。
【００５２】
本発明の組成物、特に赤外線吸収フィルターは、従来のジイモニウム化合物を用いた近赤外吸収フィルターに比べ、溶解度も高く加工性に優れており、更に耐熱性、耐湿熱性、耐光性などの安定性に優れている。特にこれらの安定性試験における分解などの反応が起こりにくく、可視部の着色がほとんど起こらない耐熱、耐湿熱、耐光性に優れた近赤外線吸収フィルターである。このような特徴を有していることから、近赤外線吸収フィルターや、例えば断熱フィルム及びサングラスのような近赤外線吸収フィルムとして好適に用いる事が出来、特にプラズマディスプレー用の近赤外吸収フィルターに好適である。
【００５３】
本発明の光情報記録媒体は従来のジイモニウム化合物からなる光情報記録媒体に比べ、耐光安定性に優れる。またこれらの化合物は、光情報記録媒体を調製する上で、溶解度も十分であり加工性も優れている。また例えば光情報記録媒体の記録層に当たる有機色素薄膜に、これらの化合物を光安定化材として含有させた場合、繰り返し再生における耐久性、耐光安定性を著しく向上させた光情報記録媒体を提供することができる。
【実施例】
【００５４】
以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明が、これらの実施例に限定されるものではない。尚、実施例中、「部」、「％」は特に特定しない限り、重量基準である。
【００５５】
実施例１
（表１におけるＮｏ．１の化合物の合成）
ＤＭＦ１６．５部中にＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス（ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル）−ｐ−フェニレンジアミン３部を加え、６０℃に加熱溶解した後、ＤＭＦ１６．５部に溶解した硝酸銀１．１６部とビストリフルオロメタンスルフォン酸イミドカリウム塩２．１９部を加え、３０分間加熱撹拌した。不溶解分を濾別した後、反応液に水を加え、析出した結晶を濾過、水洗、乾燥し目的の化合物Ｎｏ．１を４．３部得た。
λｍａｘ  １１０２ｎｍ（ジクロロメタン）
融点１７０℃付近：熱分解点（重量減少開始温度）２８０℃付近（熱重量測定及び示差熱分析（ＴＧ−ＤＴＡ））
【００５６】
実施例２
（表１におけるＮｏ．２の化合物の合成）
前記実施例１でＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミンの代わりにＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス｛ｐ−ジ（ｉ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミンに代えた以外は同様に反応し、Ｎｏ．２の化合物を４．３部得た。λｍａｘ  １１０４ｎｍ（ジクロロメタン）
融点１６５℃付近：熱分解点（重量減少開始温度）２８２℃付近（ＴＧ−ＤＴＡ測定）
【００５７】
実施例３
（表１におけるＮｏ．３の化合物の合成）
硝酸ナトリウム０．５８部を水３部に溶解した溶液に、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス{ｐ−ジ（シアノプロピル）アミノフェニル}−ｐ−フェニレンジアミン3．２８部とＤＭＦ１６．５部を加えた。反応液を６０℃まで加熱した後、ＤＭＦ１６．５部に溶解した硝酸銀１．１６部を加え、３０分間撹拌した。不溶解分を濾別した後、反応液にビストリフルオロメタンスルフォン酸イミドカリウム塩２．１９部を加え３時間撹拌、水を加えた。析出した結晶を、濾過、水洗、乾燥し目的の化合物Ｎｏ．３を４．５部得た。
λｍａｘ  １０６４ｎｍ（ジクロロメタン）
融点１８０℃付近：熱分解点（重量減少開始温度）２８２℃付近（ＴＧ−ＤＴＡ測定）
【００５８】
実施例４
（表１におけるＮｏ．４の化合物の合成）
前記実施例１でＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミンの代わりにＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス｛ｐ−ジ（ｉ−アミル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミンに代えた以外は同様に反応し、Ｎｏ．４の化合物を３．７部得た。λｍａｘ  １１０２ｎｍ（ジクロロメタン）
融点１７５℃付近：熱分解点（重量減少開始温度）２８０℃付近（ＴＧ−ＤＴＡ測定）
【００５９】
実施例５
（表１におけるＮｏ．９の化合物の合成）
前記実施例１でＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミンの代わりにＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス｛ｐ−ジ（シアノブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミンに代えた以外は同様に反応し、Ｎｏ．９の化合物を４．１部得た。λｍａｘ  １０８６ｎｍ（ジクロロメタン）
融点１４５℃付近：熱分解点（重量減少開始温度）２７７℃付近（ＴＧ−ＤＴＡ測定）
【００６０】
実施例６
（表１におけるＮｏ．１２の化合物の合成）
前記実施例１でＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミンの代わりにＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス｛ｐ−ジエチルアミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミンに代えた以外は同様に反応し、Ｎｏ．１２の化合物を２．１部得た。λｍａｘ  １０８４ｎｍ（ジクロロメタン）
融点１８６℃付近：熱分解点（重量減少開始温度）２７８℃付近（ＴＧ−ＤＴＡ測定）
【００６１】
実施例７
（表１におけるＮｏ．３５の化合物の合成）
前記実施例１でＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミンの代わりにＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス｛ｐ−アミノフェニル｝−ｐ−フェニレンジアミンのｎ−ブチル誘導体と３−シアノプロピル誘導体の混合物に代えた以外は同様に反応し、Ｎｏ．３５の化合物を２．６部得た。
λｍａｘ  １０９０ｎｍ（ジクロロメタン）
融点１３５℃付近：熱分解点（重量減少開始温度）２５６℃付近（ＴＧ−ＤＴＡ測定）
【００６２】
その他の化合物例についても上記合成例１〜合成例７と同様に対応するフェニレンジアミン誘導体を酸化剤で酸化した後、対応するアニオンと反応させることにより、合成できる。
【００６３】
実施例８
前記実施例で得られた化合物について、ジクロロメタン中でのモル吸光係数（ε）を測定した。（Ｖ−５７０  日本分光（株）製による）
この結果を表２に示す。
【００６４】
比較例１、２
特許文献２に記載の化合物であるＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝フェニレンジイモニウムの１，５−ナフタレンジスルホン酸塩（特許文献２、実施例１に記載の化合物）（比較例１：化合物Ｎｏ．１５１）及び１−ヒドロキシ−２，５−ナフタレンジスルホン酸塩（比較例２：化合物Ｎｏ．１５２）を用いた以外は同様にしてジクロロメタン中でのモル吸光係数（ε）を測定した。この結果を表２に示す。
【００６５】
表２（モル吸光係数比較試験）
化合物Ｎｏ．              モル吸光係数（ε）
Ｎｏ．１                  １０８，０００
Ｎｏ．２                  １０９，０００
Ｎｏ．３                  １０９，０００
Ｎｏ．４                  １１０，０００  
Ｎｏ．９                  １０９，０００                  
Ｎｏ．１２                  ９６，０００
Ｎｏ．１５１（比較例１）    ８２，０００
Ｎｏ．１５２（比較例２）    ２４，５００
【００６６】
本発明のジイモニウム化合物はモル吸光係数が９．６万以上と高いことが判る。
【００６７】
実施例９（ジイモニウム化合物の溶解性）
前記実施例で得られた化合物について、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）及びトルエン中で室温で撹拌して溶解性を判定した。その結果を表３に示す。
【００６８】
比較例３，４
比較のために特許文献３に記載の化合物であるＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝フェニレンジイモニウムの六フッ化アンチモン酸塩（比較例３：化合物Ｎｏ１５３）及びＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス｛ｐ−ジ（３−シアノプロピル）アミノフェニル｝フェニレンジイモニウムの六フッ化アンチモン酸塩（比較例４：化合物Ｎｏ１５４）についても前記同様の溶解性の判定を行った。その結果を表３に示す。
【００６９】
表３（溶解性比較試験）（％）
化合物Ｎｏ．              ＭＥＫ        トルエン
Ｎｏ．１                  ２０％        ０．２％
Ｎｏ．２                    ５％      ０．０４％
Ｎｏ．３                    ２％            不溶
Ｎｏ．４                  １０％        ０．１％
Ｎｏ．１５３（比較例３）４．５％            不溶
Ｎｏ．１５４（比較例４）    不溶            不溶
【００７０】
以上結果より明らかなように同じ置換基を持つ誘導体に比べ、本発明のジイモニウム化合物はＭＥＫ、トルエンなど汎用に用いられる溶剤への溶解度が向上したことがわかる。
【００７１】
実施例１０（近赤外線吸収フィルター及び耐湿熱安定性試験）
ＭＥＫ１８．８部に、前記各実施例で得られた各化合物１．２部をそれぞれ溶解させた。この溶解液に、ＭＥＫ７５部中にアクリル系樹脂（ダイヤナールＢＲ−８０、三菱レイヨン社製）２５部を加え溶解させた樹脂液を８０部を混合し、塗工用溶液を得た。これをポリエステルフィルムに厚さ２〜４μｍになるように塗工し、８０℃で乾燥させて本発明の近赤外線吸収フィルターを得た。
得られた近赤外線吸収フィルターを６０℃、９５％ＲＨの条件の恒温恒湿機中で１４日間、放置した。その後、そのフィルターを分光光度計（ＵＶー２２００  （株）島津製作所製）にて測色し、Ｌ*、ａ*、ｂ*値を算出し、ｂ*値の変化から安定性評価を行った。ｂ*値が低い、すなわち可視部における吸収が低いほど、近赤外線吸収フィルターとして好ましい。得られた耐湿熱試験の結果を表４に示す。得られた耐熱試験の結果を表４に示す。
【００７２】
比較例５、６
比較のために上記化合物の代わりに特許文献１に記載の化合物であるＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝フェニレンジイモニウムの六フッ化リン酸塩（比較例５：化合物Ｎｏ．１５５）、Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝フェニレンジイモニウムのホウフッ化塩（比較例６：化合物Ｎｏ．１５６）を用いた以外は実施例１０と同様にしてフィルターを作製し、同様に評価して、結果を表４に示した。
【００７３】
表４（耐湿熱安定性試験）
ｂ*値
化合物Ｎｏ．                  初期          １４日後        差
Ｎｏ．１                      ３．５          ５．３      １．８
Ｎｏ．２                      ２．２          ４．１      １．９
Ｎｏ．３                      ３．６          ６．１      ２．５
Ｎｏ．４                      ２．２          ４．３      ２．１
Ｎｏ．９                      ２．４          ４．３      １．９
Ｎｏ．１５５（比較例５）      ２．９          ９．０      ６．１
Ｎｏ．１５６（比較例６）      ３．５        １４．３    １０．８
【００７４】
これらの化合物を含有する本発明の近赤外線吸収フィルターは比較試料に対してｂ*値の変化が小さいことから、高温高湿の条件での安定性に優れていることが判る。とりわけ上記式（１）のＲ1乃至Ｒ8がすべて末端で分鎖しているアルキル基であるものが、ｂ*値が低く近赤外線吸収フィルターとして優れている。
【００７５】
実施例１１（光情報記録媒体の例）
前記合成例１で得られたＮｏ．１の化合物０．０２部とシアニン色素（ＯＭ−５７、富士写真フィルム社製）０．１０部をテトラフルオロプロパノール１０部に溶解し、０．２μｍのフィルターを通過させて塗布液を得た。この溶液１ｍｌをグルーブ付５インチポリカーボネート樹脂基板上にピペットにて滴下し、スピンコーターにて塗布、乾燥し、有機薄膜記録層を形成した。塗布膜の最大吸収波長は７１９ｎｍであった。（Ｖ−５７０  日本分光（株）製による）得られた塗布膜に金をスッパッタリング法で製膜し、反射層として、光情報記録媒体を作製した。得られた光情報記録媒体をＣＤ−Ｒ用記録再生機で評価したところ、記録、再生が可能であった。この様に加工性も優れた光情報記録媒体を得ることができ、記録再生にも問題はなかった。
【００７６】
実施例１２（シアニン色素膜の耐光安定性試験）
テトラフルオロプロパノール１５部にシアニン色素（ＯＭ−５７）０．３部を溶解し、その溶液に、Ｎｏ．３の化合物０．０４部を添加し、塗液を作成した。得られた塗液をポリカーボネート基板にスピンコートし、色素膜を作成した。得られた色素膜をウエザオメータ（アトラス社製Ｃｉ４０００）中で、光源出力：０．３６Ｗ／ｍ2、槽内温度：２４℃、ブッラクパネル温度：４０℃、湿度：３０％ＲＨの条件で、基板側から光を照射し、５０時間で耐光安定性試験を行った。その後、シアニン色素の残存率を分光光度計（Ｖ−５７０  日本分光（株）製）にて測定した。結果を表５に示す。
【００７７】
比較例７
Ｎｏ．１の化合物の代わりに特許文献３に記載の化合物であるテトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝フェニレンジイモニウムの六フッ化アンチモン酸塩（比較例７：化合物Ｎｏ１５３）を用いた以外は同様にして色素膜を作成し、評価し、結果を表５に示した。
【００７８】
表５  （シアニン色素膜の耐光安定性試験）
シアニン色素の残存率（％）
化合物Ｎｏ．              初期    １００時間後    １５０時間後
Ｎｏ．３                  １００        ４７            ２７
Ｎｏ．１５３（比較例７）  １００        ２７              ０
【００７９】
以上の結果より明らかなように本発明の化合物を含有させることによってシアニン色素の耐光性を大幅に向上することができる。
【００８０】
実施例１３（ジイモニウム化合物薄膜の耐光安定性試験）
テトラフルオロプロパノール１０部にＮｏ．３の化合物０．１部を添加し、塗液を作成した。得られた塗液をポリカーボネート基板にスピンコートし、ジイモニウム塩の薄膜を作成した。得られた薄膜をウエザオメータ（アトラス社製  Ｃｉ４０００）中で、光源出力：０．３６Ｗ／ｍ2、槽内温度：２４℃、ブッラクパネル温度：４０℃、湿度：３０％ＲＨの条件で、基板側から光を照射し、５０時間で耐光安定性試験を行った。その後、シアニン色素の残存率を分光光度計にて測定した。結果を表６に示す。
【００８１】
比較例８
比較の為にＮｏ．１の化合物の代わりに特許文献３に記載の化合物であるテトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝フェニレンジイモニウムの六フッ化アンチモン酸塩（比較例８：化合物Ｎｏ．１５３）を用いた以外は同様にして色素膜を作成し、評価し、結果を表６に示した。
【００８２】
表６  （ジイモニウム化合物薄膜の耐光安定性試験）
ジイモニウム化合物の残存率（％）
化合物Ｎｏ．            初期      １００時間後    １５０時間後
Ｎｏ．３                １００        ８８            ８６
Ｎｏ．１５３（比較例８）１００        ８１            ７６
【００８３】
以上の結果より明らかなように本発明の化合物は薄膜にした時の耐光性が優れている。
【００８４】
実施例１４（近赤外線吸収フィルター及び耐熱安定性試験）
実施例１０と同様にしてフィルターを作製し、得られた近赤外線吸収フィルターを８０℃、の条件オーブン中で２１日間放置した。その後、そのフィルターを分光光度計にて測色し、Ｌ*、ａ*、ｂ*値を算出し、ｂ*値の変化から安定性評価を行った。ｂ*値が低い、すなわち可視部における吸収が低いほど近赤外線吸収フィルターとして好ましい。得られた耐熱試験の結果を表７に示す。
【００８５】
比較例９
比較のために上記化合物の代わりにＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス｛ｐ−ジ（ｎ−ブチル）アミノフェニル｝フェニレンジイモニウムの六フッ化アンチモン酸塩（比較例９：化合物Ｎｏ.１５３）、を用いた以外は実施例４と同様にしてフィルターを作製し、同様に評価して、結果を表７に示した。
【００８６】
表７（耐熱安定性試験）
ｂ*値
化合物Ｎｏ.                    初期          １４日後          差
Ｎｏ．１                      ３．５          ５．３        １．８
Ｎｏ．２                      ２．２          ３．７        １．５
Ｎｏ．４                      ２．４          ３．８        １．６
Ｎｏ．１５３（比較例９）      ２．５          ４．４        １．９
【００８７】
本発明の近赤外線吸収フィルターは比較試料に対してｂ*値の変化が小さいことから、高温条件下での安定性に優れていることが判る。中でも、本発明のジイモニウム化合物（１）におけるＲ1からＲ8がすべて末端で分鎖しているアルキル基であるものが、直鎖アルキル基のものに比べてｂ*値の変化が小さく近赤外線吸収フィルターとしてより優れていることが判る。
【００８８】
実施例１５（合成例８）
（式（１）において環Ａ及び環Ｂが水素原子で置換されており、Ｒ1〜Ｒ8がｎ−ブチル基とシアノプロピル基（ｎ−ブチル基：シアノプロピル基）＝（５：３）（４：４）（３：５）（２：６）（１：７）の比である混合物で、その割合が８％、３６％、３５％、１７％、４％であり、Ｒ9及びＲ10がトリフルオロメタン基である化合物の合成）
ＤＭＦ１６部中にＮ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'−テトラキス（アミノフェニル）−ｐ−フェニレンジアミン５．３部、炭酸カリウム２０部、ヨウ化カリウム１０部、１−ブロモブタン６．２部、クロロブチロニトリル２３．２部を加え、９０℃で３時間反応、その後１３０℃で１時間反応させた。冷却後、液ろ過し、この反応液にメタノール４０部を加え、５℃以下で１時間撹拌した。生成した結晶をろ過し、メタノールで洗浄した後、乾燥し薄茶色結晶７．２部を得た。得られた混合物をＬＣ（アジレント社製ＨＰ−１１００）及び質量分析計（マイクロマス社ＬＣＴ）を用い測定すると、Ｒ1〜Ｒ8がｎ−ブチル基とシアノプロピル基（ｎ−ブチル基：シアノプロピル基）＝（５：３）（４：４）（３：５）（２：６）（１：７）の混合物で、その割合が８％、３６％、３５％、１７％、４％であった。
融点（ＤＳＣ）  １４４℃
その混合物６.３部をＤＭＦ３０部に溶解させ６０℃まで加熱した。ビストリフルオロメタンスルフォン酸イミドカリウム塩４.５７部を反応液に加え、さらにＤＭＦ３０部に溶解した硝酸銀２．３２部を加え３０分間撹拌した。不溶解分を濾別した後水を加え、析出した結晶を、濾過、水洗、乾燥し目的の化合物３．５部得た。
λｍａｘ  １０９２ｎｍ（ジクロロメタン）
【００８９】
実施例１６(合成例９)
(表１におけるＮｏ．６１の化合物の合成)
前記実施例１でビストリフルオロメタンスルフォン酸イミドカリウム塩の代わりにビスペンタフルオロエタンスルフォン酸イミドカリウム塩に替えた以外は同様に反応し、Ｎｏ．６１の化合物１．６部を得た。
λｍａｘ  １０９８ｎｍ（ジクロロメタン）