(57)【要約】【課題】  層間剥離等の症状を発生することなく、高いガスバリア性を備えたフィルムであって、例えば透明導電電極等のように、微量のガス侵入によっても容易に性能が低下する事を防止するのに用いることを可能とした透明導電ガスバリアフィルムを提供する。【解決手段】透明プラスチックフィルムに、有機物であるモノマー又はポリマーのいずれか又は両方による有機物層と、無機物である金属、非金属、無機非金属、金属酸化物、窒化物、炭化物いずれか若しくは複数によるセラミック層と、の２つの層を１単位とするガスバリア層を積層してなり、前記ガスバリア層を、前記基材の表面側から順に、第１有機物層と第１セラミック層とから構成される第１ガスバリア層、・・・、第ｎ有機物層と第ｎセラミック層とから構成される第ｎガスバリア層、というように複数の前記ガスバリア層を積層されている、という構成を有した透明導電ガスバリアフィルムとした。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材として用いる透明プラスチックフィルムに、
有機物であるモノマーまたはポリマーのいずれか又は両方による有機物層と、
無機物である金属、非金属、無機非金属、金属酸化物、窒化物、炭化物いずれか若しくは複数によるセラミック層と、
の２つの層を１単位とするガスバリア層を積層してなり、
前記ガスバリア層を、前記基材の表面側から順に、第１有機物層と第１セラミック層とから構成される第１ガスバリア層、第２有機物層と第２セラミック層とから構成される第２ガスバリア層、・・・、第ｎ有機物層と第ｎセラミック層とから構成される第ｎガスバリア層、というようにｎ層（但しｎは自然数である。）よりなる複数の前記ガスバリア層を積層してなり、
前記複数のガスバリア層は、前記基材の片面又は両面それぞれに積層されてなること、
を特徴とする、透明導電ガスバリアフィルム。
【請求項２】
請求項１に記載の透明導電ガスバリアフィルムにおいて、
前記ガスバリア層は、
前記有機物層の表面に前記セラミック層が積層されて構成されたもの、
もしくは前記セラミック層の表面に前記有機物層が積層されて構成されたもの、
であって、
各前記ガスバリア層における前記有機物層と前記セラミック層との積層順は全て規則的に同一であること、若しくは全て順不同に積層されてなること、
を特徴とする、透明導電ガスバリアフィルム。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の透明導電ガスバリアフィルムにおいて、
前記第１有機物層は、
ウレタンアクリレートと、ポリオールと、イソシアネートと、を混合してなる紫外線硬化樹脂よりなるものであり、
その厚みは０．１μｍ〜１０．０μｍであること、
を特徴とする、透明導電ガスバリアフィルム。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の透明導電ガスバリアフィルムにおいて、
前記第１有機物層以外の前記有機物層は、
ウレタンアクリレートと、ポリオールと、イソシアネートと、を混合してなる紫外線硬化樹脂よりなるものであり、
その厚みは０．０１μｍ〜５．０μｍであること、
を特徴とする、透明導電ガスバリアフィルム。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の透明導電ガスバリアフィルムにおいて、
前記セラミック層は、ゾルゲル法、蒸着法、化学的気相成長法（ＣＶＤ）、物理的気相成長法（ＰＶＤ）、スパッタリング法、のいずれかにより形成されてなり、
その厚みは、１０ｎｍ〜２０００ｎｍであること、
を特徴とする、透明導電ガスバリアフィルム。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の透明導電ガスバリアフィルムにおいて、
前記第ｎセラミック層が最表面となるように複数の前記ガスバリア層が積層されてなり、
かつ、前記第ｎセラミック層が、ゾルゲル法、蒸着法、化学的気相成長法（ＣＶＤ）、物理的気相成長法（ＰＶＤ）、スパッタリング法、のいずれかにより形成されてなり、
その厚みは、１０ｎｍ〜２０００ｎｍであること、
を特徴とする、透明導電ガスバリアフィルム。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の透明導電ガスバリアフィルムにおいて、
酸素透過量が２２℃における湿度６５％下で測定した値が１．０ｃｃ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、
水蒸気透過量が４０℃における湿度９０％下で測定した値が０．１ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であること、
を特徴とする、透明導電ガスバリアフィルム。
【請求項８】
請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の透明導電ガスバリアフィルムにおいて、
複数存在する前記有機物層のうち少なくとも１つは、
ウレタンアクリレートと、ポリオールと、イソシアネートと、金属塩化物と、チタネートポリマーと、を混合してなる紫外線硬化樹脂よりなるものであること、
を特徴とする、透明導電ガスバリアフィルム。
【請求項９】
請求項８に記載の透明導電ガスバリアフィルムにおいて、
酸素透過量が２２℃における湿度６５％下で測定した値が０．１ｃｃ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、
水蒸気透過量が４０℃における湿度９０％下で測定した値が１０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であること、
を特徴とする、透明導電ガスバリアフィルム。
【請求項１０】
請求項１ないし請求項９のいずれか１項に記載の透明導電ガスバリアフィルムであって、
前記ｎは２以上５以下であり、
前記ｎが２以上５以下の場合の前記透明導電ガスバリアフィルムの、
酸素透過量が２２℃における湿度６５％下で測定した値が０．１ｃｃ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、
水蒸気透過量が４０℃における湿度９０％下で測定した値が０．１ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であること、
を特徴とする、透明導電ガスバリアフィルム。  
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電ガスバリアフィルムに関する発明であって、具体的には酸素、水蒸気などの気体の透過度が極めて小さく、かつ透明導電性も兼ね備えた透明導電ガスバリアフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
昨今、液晶ディスプレイや有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）等のディスプレイ開発が進んでいるが、これらのディスプレイでは透明基板が用いられている。従来はガラスを基板として用いていたが、これは透明基板がガスバリア性を確保できていなければ、透過する酸素や水蒸気によって透明基板が変質、変形してしまう、また各種ガスの侵入によりディスプレイそのものの性質が低下してしまうためであり、そのためガスバリア性に優れ、かつ透明性を有しているガラスを基板として用いるのである。
【０００３】
しかしガラスを基板として用いた場合、可撓性に乏しく、衝撃に弱い、即ち割れやすい、という問題があり、また昨今ディスプレイの薄型、軽量化が求められている状況にあって、ガラス基板ではどうしても限界が生じてしまい、問題であった。
そこでガラス基板に代わり、透明なプラスチックフィルムを基材とした透明基板の開発が進められている。
【０００４】
しかし透明プラスチックフィルムを基材とした場合、ガラスを基板とした場合に比べてガスバリア性の点で劣ってしまうので、この問題を解消するために基材に用いる透明プラスチックフィルムに対してガラス基板並の高ガスバリア性を付与することが強く求められている。
【０００５】
その為に、ガスバリア層として酸化珪素などの無機物を積層することで無機物層を形成することが検討されたが、このような無機物層であると、柔軟性、可撓性の観点からこれら無機物層の膜厚を厚くしようとしても、一定以上にするとクラックが生じてしまい、ガスバリア性が低下してしまう。そこで一般的には三次元架橋構造を有する有機物層と無機物層とを繰り返し透明プラスチックフィルム基板の表面に積層することで高ガスバリア性を実現しようとしている。
【０００６】
そこで、例えば特許文献１であれば、シリコンアルミニウム複合酸化物薄膜を積層してなるガスバリアフィルムにおいて、その最外層にさらに架橋性樹脂硬化物層を設けることで、無機酸化物層の膜厚を厚くすることなくガスバリア性を向上させようとしている。
【０００７】
また特許文献２でも同様に、無機酸化物からなるガスバリア膜に導電膜を積層することで、ガスバリア性を有した透明導電電極を得ることを目的としている。
【０００８】
【特許文献１】特開平９−２４１８２９号公報
【特許文献２】特開平１０−３０９７７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、この特許文献１に記載の発明では、架橋性プラスチックを利用することによりガスバリア性フィルムを得るものであるが、記載された樹脂だけであれば充分なガスバリア性を得る事は出来ず、また記載された樹脂による層にさらに無機酸化物による層を積層しようとすることは必ずしも容易ではなく、その結果ここに記載の発明をもとに透明導電性フィルムを製造することは容易ではない。
【００１０】
また、特許文献２に記載の発明における無機酸化物層に対する有機物層の選択であれば、本発明において要求されるほどには充分なガスバリア性を有しているとは言えず、即ちより高ガスバリア性を得るためには新たな無機酸化物層と有機物層との組合わせを検討しなければならない。
【００１１】
そこで、本発明はこのような要望に鑑みて為されたものであり、その目的は、層間剥離、膜剥がれといった症状を発生することなく、高いガスバリア性を備えたフィルムであって、例えば透明導電電極や、透明電磁波シールド等のように、微量のガス侵入によっても容易に性能が低下してしまうことを防止するのに用いることを可能とした透明導電ガスバリアフィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するため、本願発明の請求項１に記載の発明は、基材として用いる透明プラスチックフィルムに、有機物であるモノマーまたはポリマーのいずれか又は両方による有機物層と、無機物である金属、非金属、無機非金属、金属酸化物、窒化物、炭化物いずれか若しくは複数によるセラミック層と、の２つの層を１単位とするガスバリア層を積層してなり、前記ガスバリア層を、前記基材の表面側から順に、第１有機物層と第１セラミック層とから構成される第１ガスバリア層、第２有機物層と第２セラミック層とから構成される第２ガスバリア層、・・・、第ｎ有機物層と第ｎセラミック層とから構成される第ｎガスバリア層、というようにｎ層（但しｎは自然数である。）よりなる複数の前記ガスバリア層を積層してなり、前記複数のガスバリア層は、前記基材の片面又は両面それぞれに積層されてなること、を特徴とする。
【００１３】
本願発明の請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の透明導電ガスバリアフィルムにおいて、前記ガスバリア層は、前記有機物層の表面に前記セラミック層が積層されて構成されたもの、もしくは前記セラミック層の表面に前記有機物層が積層されて構成されたもの、であって、各前記ガスバリア層における前記有機物層と前記セラミック層との積層順は全て規則的に同一であること、若しくは全て順不同に積層されてなること、を特徴とする。
【００１４】
本願発明の請求項３に記載の発明は、請求項１又は請求項２に記載の透明導電ガスバリアフィルムにおいて、前記第１有機物層は、ウレタンアクリレートと、ポリオールと、イソシアネートと、を混合してなる紫外線硬化樹脂よりなるものであり、その厚みは０．１μｍ〜１０．０μｍであること、を特徴とする。
【００１５】
本願発明の請求項４に記載の発明は、請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の透明導電ガスバリアフィルムにおいて、前記第１有機物層以外の前記有機物層は、ウレタンアクリレートと、ポリオールと、イソシアネートと、を混合してなる紫外線硬化樹脂よりなるものであり、その厚みは０．０１μｍ〜５．０μｍであること、を特徴とする。
【００１６】
本願発明の請求項５に記載の発明は、請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の透明導電ガスバリアフィルムにおいて、前記セラミック層は、ゾルゲル法、蒸着法、化学的気相成長法（ＣＶＤ）、物理的気相成長法（ＰＶＤ）、スパッタリング法、のいずれかにより形成されてなり、その厚みは、１０ｎｍ〜２０００ｎｍであること、を特徴とする。
【００１７】
本願発明の請求項６に記載の発明は、請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の透明導電ガスバリアフィルムにおいて、前記第ｎセラミック層が最表面となるように複数の前記ガスバリア層が積層されてなり、かつ、前記第ｎセラミック層が、ゾルゲル法、蒸着法、化学的気相成長法（ＣＶＤ）、物理的気相成長法（ＰＶＤ）、スパッタリング法、のいずれかにより形成されてなり、その厚みは、１０ｎｍ〜２０００ｎｍであること、を特徴とする。
【００１８】
本願発明の請求項７に記載の発明は、請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の透明導電ガスバリアフィルムにおいて、酸素透過量が２２℃における湿度６５％下で測定した値が１．０ｃｃ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、水蒸気透過量が４０℃における湿度９０％下で測定した値が０．１ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であること、を特徴とする。
【００１９】
本願発明の請求項８に記載の発明は、請求項１ないし請求項６のいずれか１項に記載の透明導電ガスバリアフィルムにおいて、複数存在する前記有機物層のうち少なくとも１つは、ウレタンアクリレートと、ポリオールと、イソシアネートと、金属塩化物と、チタネートポリマーと、を混合してなる紫外線硬化樹脂よりなるものであること、を特徴とする。
【００２０】
本願発明の請求項９に記載の発明は、請求項８に記載の透明導電ガスバリアフィルムにおいて、酸素透過量が２２℃における湿度６５％下で測定した値が０．１ｃｃ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、水蒸気透過量が４０℃における湿度９０％下で測定した値が１０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であること、を特徴とする。
【００２１】
本願発明の請求項１０に記載の発明は、請求項１ないし請求項９のいずれか１項に記載の透明導電ガスバリアフィルムであって、前記ｎは２以上５以下であり、前記ｎが２以上５以下の場合の前記透明導電ガスバリアフィルムの、酸素透過量が２２℃における湿度６５％下で測定した値が０．１ｃｃ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、水蒸気透過量が４０℃における湿度９０％下で測定した値が０．１ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であること、を特徴とする。  
【発明の効果】
【００２２】
以上のように、本願発明に係る透明導電ガスバリアフィルムであれば、有機物層とセラミック層とよりなるガスバリア層を、透明プラスチックフィルム基板の表面に複数積層してなるので、可撓性を損なうことなく高い水蒸気、酸素ガスバリア性を有した透明導電膜とすることが出来るので、例えば有機ＥＬや液晶ディスプレイなどのようにガス透過を嫌う部材に用いる透明導電基板として用いることが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本願発明の実施の形態について説明する。尚、ここで示す実施の形態はあくまでも一例であって、必ずもこの実施の形態に限定されるものではない。
（実施の形態１）
本願発明に係る透明導電ガスバリアフィルムについて、第１の実施の形態として説明する。
この透明導電ガスバリアフィルムは、基材として用いる透明プラスチックフィルム（以下、単に「基材フィルム」と言うこともある。）に、有機物であるモノマーまたはポリマーのいずれか又は両方による有機物層と、無機物である金属、非金属、無機非金属、金属酸化物、窒化物、炭化物いずれか若しくは複数によるセラミック層と、の２つの層を１単位とするガスバリア層を積層してなり、前記ガスバリア層を、前記基材の表面側から順に、第１有機物層と第１セラミック層とから構成される第１ガスバリア層、第２有機物層と第２セラミック層とから構成される第２ガスバリア層、・・・、第ｎ有機物層と第ｎセラミック層とから構成される第ｎガスバリア層、というようにｎ層（但しｎは自然数である。）よりなる複数の前記ガスバリア層を積層されている、という構成を有している。
【００２４】
ここで、前記ガスバリア層は、前記有機物層の表面に前記セラミック層が積層されて構成されたもの、もしくは前記セラミック層の表面に前記有機物層が積層されて構成されたもの、であって、各前記ガスバリア層における前記有機物層と前記セラミック層との積層順は全て規則的に同一であること、若しくは全て順不同に積層されているのである。
即ち、基材フィルム／第１有機物層／第１セラミック層／第２有機物層／第２セラミック層／・・・／第ｎ有機物層／第ｎセラミック層、という構成であってもよいし、基材フィルム／第１セラミック層／第１有機物層／第２セラミック層／第２有機物層／・・・／第ｎセラミック層／第ｎ有機物層、という構成であっても構わない。さらに、基材フィルム／第１有機物層／第１セラミック層／第２セラミック層／第２有機物層／第３セラミック層／・・・／第ｎ有機物層／第ｎセラミック層、というように、ガスバリア層を構成する有機物層とセラミック層との積層順を全く順不同のものとしてあっても構わない。さらにここでは基材フィルムの片面に積層した例を挙げているが必ずしもこれに限るものではなく、例えば基材フィルムの両面に積層することも考えられる。
尚、本実施の形態においては、基材フィルム／第１有機物層／第１セラミック層／第２有機物層／第２セラミック層／・・・／第ｎ有機物層／第ｎセラミック層、という構成を有したものとする。
【００２５】
以下本実施の形態に係る透明導電ガスバリアフィルムの構成につき簡単に説明する。
まず本実施の形態に用いる基材フィルムである透明プラスチックフィルムについて説明する。このプラスチックフィルムは透明であればよく、例えばポリエチレンテレタレート、ポリイミド、ポリアミド、アクリル、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ＡＢＳ、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルフォン、ノルボルネン系樹脂、などの樹脂フィルムであれば、高い透明性を有し、また寸法安定性も高いので好適である。昨今普及し始めている、いわゆるスーパーエンジニアリングプラスチックと呼ばれる一群のプラスチックによる透明プラスチックフィルムとすることも考えられる。そして原材料の入手のしやすさ、加工の容易さ等の点から、例えばポリエチレンテレフタレート（以下「ＰＥＴ」とも言う。）フィルムを用いることがより好適であるので、以下において基材フィルムをＰＥＴフィルムであるものとしてさらに説明を加えていく。
【００２６】
また本実施の形態における基材フィルムの厚さとしては、後述のガスバリア層の積層回数にもよるが、１０μｍ〜１０００μｍとすることが好ましい。１０μｍ未満であると耐久性等の点で問題が生じ、１０００μｍを超えると、取扱性、可撓性等の点で問題が生じるからである。また耐久性、可撓性等をバランス良く得るためには、さらに５０μｍ〜２００μｍの範囲内であることがより好ましい。
【００２７】
このようなフィルムの表面にガスバリア層を積層するのであるが、本発明では上述の通り有機物層とセラミック層とによりガスバリア層を形成している。
【００２８】
有機物層について説明すると、本実施の形態に係る有機物層ではガスバリア性を得ることが可能な樹脂を用いた層とするのであれば良いが、実際の有機物層形成時における作業性、加工性などの観点から、この有機物層には速やかな硬化が可能であり、また機械特性にも優れたものであることが好ましい。例えばこれらに優れた紫外線硬化型樹脂としてウレタンアクリレートを用いることが好適であると言える。
【００２９】
さらに、より高いガスバリア性を付与するために、また膜剥がれの原因となる内部応力を緩和し、層間密着力を向上させるために、ポリオールとイソシアネートとをウレタンアクリレートに混合し、得られた混合樹脂を用いた有機物層とすることも好適である。
【００３０】
そしてこのような有機物層とした場合に得られる透明導電ガスバリアフィルムの酸素透過量が２２℃における湿度６５％下で測定した値が１．０ｃｃ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、水蒸気透過量が４０℃における湿度９０％下で測定した値が０．１ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であるようにすればより好適なものとなる。
【００３１】
さらに、本実施の形態において複数存在する有機物層のうち、少なくとも１層においてさらにチタネートポリマーと金属塩化物コロイドとを添加した樹脂を用いることで、より一層高い酸素ガスバリア性を付与することが可能となる。
【００３２】
チタネートポリマーをさらに添加するのは、緻密性の低い樹脂内部に緻密性の高い酸化チタンオリゴマーを分散させること、またチタネートポリマーを混合することによりポリオールやイソシアネートの架橋密度を向上させることが出来ることにより、全体として高い機械特性が得られるからであり、またチタネートポリマーを混合した有機物層のさらに表面に積層するセラミック層の酸素バリア性をより向上させることが出来るからである。そして添加するチタネートポリマーの添加量は上記目的に鑑みれば、ウレタンアクリレートに対して０．０００１ｗｔ％〜１．０ｗｔ％であることが望ましく、より好適な性能を得るには、０．０００１ｗｔ％〜０．１ｗｔ％であればよい。
【００３３】
金属塩化物コロイドとして用いる金属塩化物は、例えば塩化鉄、塩化アルミニウム、塩化錫、等であることが考えられ、また望ましいのであるが、得られた金属塩化物コロイドはアルコール分散したコロイド溶液であることが望ましい。
この金属塩化物コロイドは樹脂中に分散させておくことにより、樹脂の耐熱性と密着力とを向上させることが出来る。
尚、金属塩化物コロイドの添加量としては、ウレタンアクリレートに対して０．００００１ｗｔ％〜１．０ｗｔ％であることが望ましく、樹脂の耐熱性と密着力とをより向上させるためには０．０００１ｗｔ％〜０．１ｗｔ%とすればよい。
【００３４】
そして、チタネートポリマーと金属塩化物コロイドとを用いた場合の本実施の形態に係る透明導電ガスバリアフィルムの酸素透過度が２２℃における湿度６５％下で測定した値が０．０５ｃｃ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、水蒸気透過量が４０℃における湿度９０％下で測定した値が１０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であるようにこれらを用いれば、より好適な透明導電ガスバリアフィルムとすることが出来る。
【００３５】
このように構成される有機物層であって、基材フィルム表面に直接積層される第１有機物層には、基材フィルムの表面に存在する凹凸を平滑化する、ということと、基材フィルムが熱や吸湿などにより伸縮してしまう、ということが積層されているセラミック層に影響してしまうことを阻止する、という特別の目的を有している。
そこで、この第１有機物層では、このような目的を達するために、その膜厚が０．１μｍ〜１０．０μｍであることが好ましい。
そして第１有機物層以外の有機物層にはこのような特別な目的は有さないため、その膜厚は０．０１μｍ〜５．０μｍであればよいが、内部応力による膜剥がれをより確実に防止するためには、０．０１μｍ〜３．０μｍであることが望ましい。
【００３６】
またこの有機物層の形成方法は公知な手法で自由に行なえばよいが、例えばマイクログラビア塗工により形成されるものであってもよい。
【００３７】
次にセラミック層について説明する。
本実施の形態におけるセラミック層は、有機物層の表面に形成されることにより、有機物層と対でガスバリア層を形成するのであるが、このセラミック層は、無機酸化物、窒化物、炭化物、等による化合物により形成される層である。具体的には、ＳｉＯx、Ａｌ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＴｉＯx、ＩＴＯ（スズ・インジウム酸化物）等であれば好適なセラミック層となす事が出来る。また窒化物としてはＡｌＮ、Ｓｉ3Ｎ4、ＳｉＯxＮ、ＴｉＯxＮ等、炭化物としてはＳｉＣ等、とすることが考えられ、また好適である。
【００３８】
そしてこのセラミック層は、ゾルゲル法、蒸着法、ＣＶＤ、ＰＶＤ、スパッタリング法、等の公知な手法により積層されていて構わない。
【００３９】
またこのセラミック層の厚みとしては、ガスバリア性と光透過性とを考慮すれば、１０ｎｍ〜２０００ｎｍであることが望ましいが、さらに可撓性も考慮し、全てにおいてバランス良く好適な性能を発揮するためには、１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましい。
【００４０】
以上説明した各部材による本実施の形態に係る透明導電ガスバリアフィルムは、例えば次のようにして形成される。
まず、ＰＥＴフィルムの表面に第１有機物層を形成する。
この第１有機物層は、ウレタンアクリレートに、ポリオールと、イソシアネートと、チタネートポリマーと、金属塩化物コロイドと、を添加した樹脂をＰＥＴフィルムの表面に塗布する。
【００４１】
次いで形成された第１有機物層の表面に、ＣＶＤ法によりＳｉＯxによるセラミック層を形成する。このようにして第１有機物層と第１セラミック層とによる第１ガスバリア層がＰＥＴフィルムの表面に形成される。
【００４２】
次に第１ガスバリア層の表面に第２有機物層を塗布により形成するが、原料である樹脂としては、ウレタンアクリレートに、ポリオールと、イソシアネートと、を添加したものであってよいが、より一層高いガスバリア性を得るために、この層においても第１有機物層の場合と同様にチタネートポリマーと、金属塩化物コロイドとを添加したものとしても構わない。そして第２有機物層が形成されれば、前述同様にして第２セラミック層を積層し、その結果第２ガスバリア層が完成する。
【００４３】
このように必要なだけガスバリア層を繰り返し積層するのであるが、最外層となる第ｎセラミック層がＩＴＯによるものである層とすることで、得られた積層フィルムはガスバリア性を兼ね備えた導電性フィルムとなり、即ち透明導電ガスバリアフィルムとすることが出来る。
【００４４】
またここでは詳述しないが、必ずしも導電性が必要でない場合は、第ｎセラミック層に導電性を持たせなくとも良く、その場合は高ガスバリア性を有した透明ガスバリアフィルムとすることが出来る。また、本実施の形態では第ｎセラミック層にのみ導電性を付与しているが、全てのセラミック層に導電性を付与することも、最外層の第ｎセラミック層以外の任意の１つ若しくは複数のセラミック層に導電性を付与することも考えられる。さらにまた積層順を有機物層／セラミック層によるガスバリア層としたが、セラミック層／有機物層という順で積層する、もしくは順不同に積層するが、最外層を第ｎ有機物層とすれば、やはり高ガスバリア性を有した透明ガスバリアフィルムとすることが出来る。
【００４５】
このように必要なだけガスバリア層を繰り返し積層するのであるが、実用的な観点から述べると、積層回数は２回から５回であることがよい。１回であるとそもそも本発明の目的を達することは不可能であり、また６回を超えて積層すると、ガスバリア層そのものの膜厚が厚いものとなってしまい、その結果積層部分が割れてしまいガスバリア性を喪失してしまうからである。
【００４６】
積層回数を２回から５回とした場合に得られる透明導電ガスバリアフィルムの酸素透過量が０．１ｃｃ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、水蒸気透過量が０．１ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であるようにすると、より好適なものとなる。
【００４７】
このようにして得られた透明導電ガスバリアフィルムであれば、これを有機ＥＬや液晶ディスプレイの透明基板として用いても内部にガスの侵入を殆ど許さず、その結果ディスプレイの機能低下という事態を防止することが出来るようになる。
【実施例１】
【００４８】
さらに本発明につき実施例によりより具体的に説明する。
厚みが５０μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製  テトロン・タイプＳ）を基材フィルムとし、その表面に有機物層を積層し、さらにその表面にＳｉＯxを積層した。
【００４９】
実施例１として、以下の透明導電性フィルムを用意した。
即ち、ウレタンアクリレート（根上工業株式会社製  ＨＤＰ）２ｇに、ポリオール（大日本精化工業株式会社製  ＶＭ−ＡＬ  Ｌ−８硬化剤）を０．１ｇ添加して混合樹脂を作成し、これにメチルエチルケトンとトルエンとを１：１の重量比で混合した溶剤１０ｇと、光重合開始剤０．０１ｇとを添加し、全体を攪拌混合した樹脂を用意した。
そしてバーコーターにて、この樹脂を基材フィルムの表面に１．０μｍの厚みとなるように積層し、紫外線にて硬化させた。このようにして第１有機物層を基材フィルム表面に形成した。
次いで、その表面に直流マグネトロンスパッタリング法によりＩＴＯ薄膜を膜厚が４０ｎｍとなるように形成した。
このようにして基材フィルム上に第１ガスバリア層を形成した。
【００５０】
そして第１ガスバリア層と同様の構成により、さらに第２ガスバリア層、第３ガスバリア層を順次形成して、実施例１に係る透明導電ガスバリアフィルムを得た。
【００５１】
実施例２として、以下の透明導電性フィルムを用意した。
実施例１における有機物層を形成した樹脂に、さらにテトラ−ｎ−ブトキシチタン重合体（日本曹達株式会社製  Ｂ−４）１ｇをｎ−ブタノール３０ｇに分散させ、得られたものの０．１ｇを添加し、さらにこれに２ｗｔ％の塩化鉄−エタノール溶液を０．０５ｇ添加して得られた樹脂を基材フィルム表面に形成して、第１有機物層を形成した。形成方法は実施例１と同様である。
得られた第１有機物層の表面に、実施例１と同様の手法により同様のＩＴＯ薄膜を形成した。
このようにして基材フィルム上に第１ガスバリア層を形成した。
そして同様にして第２ガスバリア層と第３ガスバリア層を順次形成して、実施例２に係る透明導電ガスバリアフィルムを得た。
【００５２】
比較例１として、以下の透明導電性フィルムを用意した。
実施例１においてガスバリア層は３層形成されているが、これを１層しか形成しなかったものを比較例１とした。
【００５３】
比較例２として、以下の透明導電性フィルムを用意した。
実施例２においてガスバリア層は３層形成されているが、これを１層しか形成しなかったものを比較例２とした。
【００５４】
以上得られた４つの透明導電ガスバリアフィルムを、ＭＯＣＯＮ社製のガス透過量測定装置で評価した。酸素透過量はＯＸ−ＴＲＡＮ２／２０、水蒸気透過量ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ３／３１にて測定した。また酸素透過量、水蒸気透過量、共に３２時間測定した時の透過量を測定値とした。その結果を表１に示す。
【００５５】
【表１】
2005035204.tif 000002