(57)【要約】 【課題】  光源の波長変動に対する安定性に優れ、小型軽量化に適した変位検出装置を提供する。【解決手段】  発光素子１により発光された光を２つの光Ｌａ１，Ｌａ２に分離して出射し、回折格子８により任意の角度に回折された２つの１回回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を作り出すとともに、戻された回折光Ｌｄ１，Ｌｄ２を互いに干渉させて、干渉信号を検出する受発光複合ユニット１２と、変位を検出するための移動する回折格子１１と、受発光複合ユニット１２から出射された２つの光Ｌａ１,Ｌａ２を回折格子１１に照射するとともに、回折格子１１からの２つの２回回折光Ｌｄ１，Ｌｄ２を受発光複合ユニット１２へ導く回折格子８と、回折格子１１からの２つの１回回折光Ｌｃ１，Ｌｃ２を反射して再度回折格子１１に照射する反射光学系１４とを備える。【選択図】        図１
2005121539.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光を出射する光源と、
上記光源から出射された光を、２つの光に分離して外部光学系へ出射し、当該外部光学系から反射される上記２つの光を合成して合成光を生成するビームスプリッタと、
上記ビームスプリッタから出射された２つ光を任意の角度に回折するための第１の回折格子と、
変位を検出するための移動する第２の回折格子と、
回折光を夫々反射する反射手段と、
上記反射手段により反射された回折光が、上記第２の回折格子と第１の回折格子を再び辿って上記ビームスプリッタに戻り、このビームスプリッタにより合成された合成光を光電変換して干渉信号を生成する受光手段とを備えること
を特徴とする変位検出装置。
【請求項２】
上記ビームスプリッタは、上記光源から出射された光を、互いに偏光成分が異なる２つの光に分離して外部光学系へ出射し、当該外部光学系から反射される上記２つの光を合成して合成光を生成する偏光ビームスプリッタからなり、
上記光源と上記偏光ビームスプリッタの間に配設され、上記光源から出射される光の偏光状態を変化させて上記偏光ビームスプリッタへ導く位相板と、
上記反射手段により反射された回折光が、上記第２の回折格子と第１の回折格子を再び辿り、得られる２つの回折光を合成させて合成光を生成し、当該合成光を複数に分割する光分割手段と、
上記分割された合成光を夫々所定の偏光成分のみ透過させる偏光手段とを備え、
上記受光手段は、上記偏光手段を透過した干渉光を夫々光電変換して干渉信号を生成することを特徴とする請求項１記載の変位検出装置。
【請求項３】
上記光源、偏光ビームスプリッタ、位相板、第１の回折格子、光分割手段、偏光手段及び受光手段を一体化してなることを特徴とする請求項２記載の変位検出装置。
【請求項４】
さらに、上記反射手段を一体化してなることを特徴とする請求項３記載の変位検出装置。
【請求項５】
上記第１の回折格子と第２の回折格子の格子ピッチが略等しいことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の変位検出装置。
【請求項６】
上記第１の回折格子と第２の回折格子が透過型のホログラムからなることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の変位検出装置。
【請求項７】
上記第１の回折格子と第２の回折格子の格子ピッチが互いに異なることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の変位検出装置。
【請求項８】
上記回折光を反射する反射手段が反射型回折格子で構成されたことを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の変位検出装置。
【請求項９】
上記光源、ビームスプリッタ、第１の回折格子及び受光手段を一体化してなることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の変位検出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、工作機械や半導体製造装置等の可動部分における相対移動位置を検出するための変位検出装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、工作機械や半導体製造装置等の可動部分における相対移動位置を検出する装置として、回折格子を用いた光学式の変位検出装置が知られている。
【０００３】
従来の光学式変位測定装置としては、例えば図１４に示すような構成のものが提案されている。
【０００４】
図１４は、この従来の光学式変位測定装置１００を模式的に示す側面図である。
【０００５】
この光学式変位測定装置１００は、工作機械等の可動部分の移動にともない、図１４中矢印Ｘ１及びＸ２方向に直線移動する回折格子１０１と、光を出射する光源１０２と、光源１０２から出射された光を２本のビームに分割するとともに回折格子１０１からの２つの回折光を重ね合わせ干渉させるハーフミラー１０３と、回折格子１０１で回折された回折光を反射する２つのミラー１０４ａ，１０４ｂと、干渉した２つの回折光を光電変換して干渉信号を生成するフォトディテクタ１０５とを備えている。
【０００６】
光源１０２から出射された光は、ハーフミラー１０３により２本のビームに分割される。この２本のビームはそれぞれ回折格子１０１に照射される。回折格子１０１に照射された２本のビームは、この回折格子１０１で夫々回折され、回折光となる（以下、この回折光を１回回折光と称する）。この１回回折光は夫々ミラー１０４ａ，１０４ｂにより反射される。ミラー１０４ａ，１０４ｂにより反射された１回回折光は、回折格子１０１に再度照射されて再度回折される（以下、この再度回折された回折光を２回回折光と称する）。これら２本の２回回折光は、同一の光路を経てハーフミラー１０３に入射され、夫々重ね合わされて干渉し、フォトディテクタ１０５に照射される。
【０００７】
このような構成の光学式変位測定装置１００では、回折格子１０１における図１４中矢印Ｘ１、Ｘ２方向の変位を検出することができる。すなわち、光学式変位測定装置１００では、回折格子１０１の移動に応じて、回折格子１０１に基づく２本の２回回折光に位相差が生じる。このため、この光学式変位測定装置１００では、フォトディテクタにより得られる干渉信号から２本の２回回折光の位相差を検出することにより、工作機械等の可動部分の移動位置を測定することができる。
【０００８】
また、他の従来の光学式変位測定装置としては、例えば図１５に示すような構成のものが提案されている。
【０００９】
図１５は、従来の光学式変位測定装置１１０を模式的に示す側面図である。
【００１０】
この光学式変位測定装置１１０は、工作機械等の可動部分の移動にともない、図１５中矢印Ｘ１及びＸ２方向に直線移動する回折格子１１１と、光を出射する光源１１２と、光源１１２から出射された光を２本のビームに分割するとともに回折格子１１１からの２つの回折光を重ね合わせて干渉させるハーフミラー１１３と、ハーフミラー１１３により分割された２本のビームを回折格子上１１１上の同一位置に照射する２つの第１のミラー１１４ａ，１１４ｂと、回折格子１１１で回折された回折光を反射する２つの第２のミラー１１５ａ，１１５ｂと、干渉した２つの回折光を受光して干渉信号を生成するフォトディテクタ１１６とを備えている。
【００１１】
光源１１２から出射された光は、ハーフミラー１１３により２本のビームに分割される。この２本のビームは、それぞれ第１のミラー１１４ａ，１１４ｂに反射されて回折格子１１１上の同一位置に照射される。回折格子１１１に照射された２本のビームは、この回折格子でそれぞれ回折され、１回回折光となる。１回回折光は、それぞれ第２のミラー１１５ａ，１１５ｂにより反射される。またこの１回回折光は、回折格子１１１に再度照射されて回折され、２回回折光となる。これら２本の２回回折光は、同一の光路を経てハーフミラー１１３に入射され重ね合わされて干渉し、フォトディテクタ１１６に照射される。
【００１２】
このような構成の光学式変位測定装置１１０では、回折格子１１１における図１５中矢印Ｘ１、Ｘ２方向の変位を検出することができる。すなわち、この光学的変位測定装置１１０では、回折格子１１１の移動に応じて、回折格子１１１に基づく２本の２回回折光に位相差が生じる。このため、光学式変位測定装置１１０では、フォトディテクタ１１６により得られる干渉信号から２本の２回回折光の位相差を検出することにより、工作機械等の可動部分の移動位置を測定することができる。（例えば、特許文献１参照。）
【特許文献１】特開昭６０−９８３０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
上記従来の光学式変位測定装置は、製造工程において、単独に製作された各光学部品を調整しながら組み立てる必要性があるため、各部品の仕上がり精度や特性のばらつきに対して精密な調整を必要とし、工程が複雑化する上に、装置の経時的な安定性に欠き、また装置全体の小型化、軽量化を図る上で大きな障害となっていた。
【００１４】
また、光源から出射する光の偏光軸が、ハーフミラー１０３、１１３で１対１に分配される角度になるように調整しなければならず、さらに複雑な工程を余儀なく導入せざるを得ず、また装置内に余分な面積を要するという問題点があった。
【００１５】
これに対し、本件出願人は、上記問題点を解決した変位検出装置として、例えば特願２００２−１２７５２５号に記載されている図１に示すようような構成の変位検出装置１０を先に提案している。
【００１６】
この変位検出装置１０は、工作機械等の可動部分に取り付けられ直線移動する透過型の回折格子１１と、発光素子により発光された光を２つの光Ｌａ１，Ｌａ２に分離して出射し、回折格子１１により回折された２つの２回回折光Ｌｃ１，Ｌｃ２を互いに干渉させて干渉信号を検出する受発光複合ユニット１２と、受発光複合ユニット１２から出射された２つの光Ｌａ１,Ｌａ２を回折格子１１に照射するとともに、回折格子１１からの２つの２回回折光Ｌｃ１、Ｌｃ２を受発光複合ユニット１２へ導く反射部材１３ａ、１３ｂと、回折格子１１からの２つの１回回折光Ｌｂ１、Ｌｂ２を反射して再度回折格子１１に照射する反射光学系１４とを備えている。
【００１７】
反射光学系１４は、１回回折光Ｌｂ１を反射して再度回折格子１１に照射する反射器２６と、１回回折光Ｌｂ２を反射して再度回折格子１１に照射する反射器２７と、１回回折光Ｌｂ１の偏光状態を変える１／４波長板ＷＰ１と、１回回折光Ｌｂ２の偏光状態を変える１／４波長板ＷＰ２とを有する。
【００１８】
この変位検出装置１０における受発光複合ユニット１２は、光源５１から出射された光を互いに偏光成分が異なる２つの光に分離して外部光学系へ出射し、該外部光学系から反射される上記２つの光を合成して合成光を生成する偏光分離部５８と上記光源５１の間に配設した位相板４３により、上記光源５１から出射される光の偏光状態を変化させて偏光分離部５８へ導き、上記偏光分離部５８により生成された合成光を光分岐膜５９により複数に分割し、分割された合成光を夫々所定の偏光成分のみ透過させる偏光部４２を介して受光素子５２に導くことにより、上記偏光部４２を通過した所定の偏光成分のみ干渉光を夫々受光素子５２により光電変換して干渉信号を生成する構成とすることにより、上記受光部やハーフミラーなどをパッケージ化させコンパクトに構成することができた。
【００１９】
しかしながら、装置全体の小型化に伴い、ビームの有効径の縮小化によって、光軸ずれの許容範囲が狭くなり、使用温度環境によって光源の波長変動による所謂ケラレを生じてしまことや、装置内に配置するミラー部が余分な体積を要し、これ以上のコンパクト化に困難が発生した。
【００２０】
そこで、本発明は、上述した問題点に鑑みて案出されたものであり、その目的とするところは、光源の波長変動に対する安定性に優れ、小型軽量化に適した変位検出装置を提供することにある。
【００２１】
本発明の更に他の目的、本発明によって得られる具体的な利点は、以下に説明される実施の形態の説明から一層明らかにされる。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
本発明に係る変位検出装置は、上述の課題を解決するために、光を出射する光源と、上記光源から出射された光を、２つの光に分離して外部光学系へ出射し、当該外部光学系から反射される上記２つの光を合成して合成光を生成するビームスプリッタと、上記ビームスプリッタから出射された２つ光を任意の角度に回折するための第１の回折格子と、変位を検出するための移動する第２の回折格子と、回折光を夫々反射する反射手段と、上記反射手段により反射された回折光が、上記第２の回折格子と第１の回折格子を再び辿って上記ビームスプリッタに戻り、このビームスプリッタにより合成された合成光を光電変換して干渉信号を生成する受光手段とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２３】
本発明に係る変位検出装置では、回折格子を配置することによって、光の波長が変動しても、戻り光の光軸を入射側とほぼ同じにすることができ、光学系の有効径の中心付近を通過させることができるため、安定した出力を得ることができる。また、反射板の代わりに回折格子を用いることで、この部分を薄型にすることができ、検出装置全体を小型化することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００２５】
先ず、本発明を適用した第１の実施の形態の変位検出装置について説明する。
【００２６】
図２に示す本発明の第１の実施の形態における変位検出装置５０は、上述の図１に示した変位検出装置１０を改良したものであって、上記変位検出装置１０と同一の構成要素には同一符号が付されている。
【００２７】
この変位検出装置５０は、工作機械等の可動部分に取り付けられ直線移動する透過型の回折格子１１と、発光素子５１により発光された光を２つの光Ｌａ１，Ｌａ２に分離して出射し、回折格子８により任意の角度に回折された２つの１回回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を作り出すとともに、戻された回折光Ｌｄ１，Ｌｄ２を互いに干渉させて、干渉信号を検出する受発光複合ユニット１２と、受発光複合ユニット１２から出射された２つの光Ｌａ１,Ｌａ２を回折格子１１に照射するとともに、回折格子１１からの２つの２回回折光Ｌｄ１、Ｌｄ２を受発光複合ユニット１２へ導く回折格子８と、回折格子１１からの２つの１回回折光Ｌｂ１、Ｌｂ２を反射して再度回折格子１１に照射する反射光学系１４とを備えている。
【００２８】
回折格子１１は、図３に示すように、例えば薄板状の形状を有しており、その表面に狭いスリットや溝等、又は、屈折率が分布した格子が所定間隔毎に刻まれている。このような回折格子１１に入射された光は、表面に刻まれたスリット等により回折し、該回折格子１１を透過する。回折により生じる回折光は、格子の間隔と光の波長で定まる方向に発生する。
【００２９】
ここで、本発明の実施の形態を説明するにあたり、格子が形成されている回折格子１１の面を格子面１１ａと称する。なお、回折格子１１が透過型の場合には、光が入射される面と回折光が発生する面とをともに格子面１１ａと呼ぶ。また、回折格子１１の格子が形成された方向（図３中、矢印Ｃ１、Ｃ２方向）、すなわち、格子の透過率や反射率、溝の深さ等の変化の方向を表す格子ベクトルに対して垂直な方向であって且つ格子面１１ａに平行な方向を格子方向と称する。格子が形成された方向に垂直な方向であり、且つ格子面１１ａに平行な方向（図３中、矢印Ｄ１、Ｄ２方向）、すなわち、回折格子１１の格子ベクトルに対して平行な方向を格子ベクトル方向と称する。なお、これら回折格子１１の各方向については、本発明の第１の実施の形態のみならず、他の実施の形態においても同様に称するものとする。
【００３０】
この回折格子１１は、工作機械等の可動部分に取り付けられ、該可動部分の移動にともなって、図３中矢印Ｄ１、Ｄ２方向、すなわち格子ベクトル方向に移動する。
【００３１】
なお、本発明では回折格子の種類は限定されず、上述したように機械的に溝等が形成されたもののみならず、例えば、感光性樹脂に干渉縞を焼き付けて作成したものであっても良い。
【００３２】
回折格子８は、光Ｌａ１を回折させ回折格子１１の格子面１１ａの所定の位置に照射する。この光Ｌｂ１が回折格子１１により回折されることにより１回回折光Ｌｃ１が得られる。また、上記回折格子８は、光Ｌａ２も回折させ、回折格子１１の格子面１１ａの所定の位置に照射する。この光Ｌｂ２が回折格子１１により回折されることにより１回回折光Ｌｃ２が得られる。
【００３３】
また、回折格子８には、１回回折光Ｌｃ１が回折格子１１により回折されることにより生じる２回回折光Ｌｄ１が照射される。回折格子８は、この２回目の回折光Ｌｄ１を回折させ受発光複合ユニット１２に照射する。また、回折格子８には、１回回折光Ｌｃ２が回折格子１１により回折されることにより生じる２回回折光Ｌｄ２が照射される。回折格子８は、この２回回折光Ｌｄ２を回折させ受発光複合ユニット１２に照射する。
【００３４】
ちなみに、この回折格子８により回折格子１１の格子面１１ａに照射する所定の位置と、格子面１１ｂに照射する所定の位置とを近づけても良い。これにより、回折格子１１内の厚みムラ等によって生じる光路長の差を小さくすることができ、スケールの厚みムラ等による誤差を軽減させることができる。
【００３５】
ここで、上記回折格子８の格子ピッチと回折格子１１の格子ピッチが、ほぼ等しい時について考えると、温度の変化により光源の波長が変化してしまった場合、回折格子による回折角は、次の式を満たすように変化する。
【００３６】
ｓｉｎθａ＋ｓｉｎθａ’＝ｍλ／ｄ
（ここで、ｍ＝回折次数、ｄ＝格子ピッチ、θａ＝入射角、θａ’＝回折角）
したがって、回折格子８がない状態では、図４の（Ａ），（Ｂ）に示すように、光源の波長λの変動によって、回折角が変動した分、光軸にずれを生じる。よって光学部品１４で所謂ケラレを生じる可能性がある。なお、図４の（Ａ）は格子ピッチｄが５５０ｎｍで光源の波長λが７７８ｎｍの状態を示し、（Ｂ）は格子ピッチｄが５５０ｎｍで光源の波長λが５５０ｎｍの状態を示している。
【００３７】
これに対して、この実施の形態における変位検出装置５０のように回折格子８を配置するで、図５の（Ａ），（Ｂ）に示すように、光源の波長が変動しても戻り光の光軸を入射側とほぼ同じにすることができ受発光複合ユニット１２の中心を通過させることができるため、安定した出力を得ることができる。なお、図５の（Ａ）は格子ピッチｄが５５０ｎｍで光源の波長λが７７８ｎｍの状態を示し、（Ｂ）は格子ピッチｄが５５０ｎｍで光源の波長λが５５０ｎｍの状態を示している。
【００３８】
また、回折格子８の格子ピッチと回折格子１１の格子ピッチが等しくなくても、角度の補正の効果は減少するものの、従来よりも少ない変動に抑えることができる。従って、例えば、受発光複合ユニット１２と反射光学系１４の配置を変えず、回折格子８の格子ピッチと回折格子１１の格子ピッチの組み合わせを変えることにより、回折格子１１の格子ピッチを自由に変えて設計できる。すなわち、回折格子１１の格子ピッチを微細化して、この変位検出装置５０をバージョンアップする場合に、上記回折格子８の格子ピッチを変えるだけで対応することができる。
【００３９】
また、この変位検出装置５０における反射光学系１４は、１回回折光Ｌｃ１を反射して再度回折格子１１に照射する反射器２６と、１回回折光Ｌｃ２を反射して再度回折格子１１に照射する反射器２７と、１回回折光Ｌｃ１の偏光状態を変える１／４波長板ＷＰ１と、１回回折光Ｌｃ２の偏光状態を変える１／４波長板ＷＰ２とを有する。
【００４０】
反射器２６には、１／４波長板ＷＰ１を通過した１回回折光Ｌｃ１が照射される。反射器２６は、この１回回折光Ｌｃ１が入射経路と同じ経路を逆行するように、該１回回折光Ｌｃ１を垂直に反射する。ちなみに、この反射器２６に照射される１回回折光Ｌｃ１は、１／４波長板ＷＰ１を既に通過しており、またこの反射器２６を反射する１回回折光Ｌｃ１は１／４波長板ＷＰ１を再度通過するため、偏光方向が９０°回転された状態で、再度回折格子１１へ照射されることになる。
【００４１】
反射器２７には、１／４波長板ＷＰ２を通過した１回回折光Ｌｃ２が照射される。反射器２７は、この１回回折光Ｌｃ２が入射経路と同じ経路を逆行するように、該１回回折光Ｌｃ２を垂直に反射する。ちなみに、この反射器２７に照射される１回回折光Ｌｃ２は、１／４波長板ＷＰ２を既に通過しており、またこの反射器２７を反射する１回回折光Ｌｃ２は１／４波長板ＷＰ２を再度通過するため、偏光方向が９０°回転された状態で、再度回折格子１１へ照射されることになる。
【００４２】
なお、この反射光学系１４は、上述した構成に限定されるものではなく、例えば、反射プリズム、反射型回折格子あるいは反射型ブレーズドホログラムを用いて構成しても良い。
【００４３】
図６は、反射光学系１４に反射プリズムを用いた変位検出装置５０の構成を示している。
【００４４】
また、図７は、反射光学系１４に反射型回折格子を用いた変位検出装置５０の構成を示している。なお、この図６及び図７において、図２と同一の構成要素、部材については同一符号を付して、その説明を省略する。
【００４５】
図６に示すように、反射プリズム３０には、１／４波長板ＷＰ３１が順次積層されている。この反射プリズム３０の反射面３０ａには、１／４波長板ＷＰ３１を通過した１回回折光Ｌｃ１、Ｌｃ２が照射される。反射面３０ａは、この１回回折光Ｌｃ１、Ｌｃ２が入射経路と同じ経路を逆行するように、当該１回回折光Ｌｃ１、Ｌｃ２を垂直に反射する。ちなみに、この反射面３０ａに照射される１回回折光Ｌｃ１、Ｌｃ２は、１／４波長板ＷＰ３１を既に通過しており、またこの反射面３０ａを反射する１回回折光Ｌｃ１、Ｌｃ２は、１／４波長板ＷＰ３１を再度通過するため、偏光方向が９０°回転された状態で、再度回折格子１１へ照射されることになる。
【００４６】
次に、受発光複合ユニット１２の詳細について説明をする。受発光複合ユニット１２は、図８に示すように発光素子や受光素子を収容する収容部材４０と、複数のレンズ（４１ａ，４１＿１，４１＿２，４１＿３，４１＿４）からなる複合レンズ部４１と、所定の偏光成分のみを透過させる偏光部４２（４２＿１、４２＿２、４２＿３、４２＿４）と、光の偏光状態を変化させる位相板４３と、回折格子１１に照射する光を分割し或いは回折格子１１で回折することより得られる２回回折光Ｌｄ１、Ｌｄ２を分離するための光分岐部４４とを備える。
【００４７】
収容部材４０は、光Ｌａを出射する光源５１と、後述する干渉光を光電変換して干渉信号を生成する受光素子５２（５２＿１、５２＿２、５２＿３、５２＿４）と、光源５１を設置して電気信号を印加し或いは反射面５３ａにより光路制御を行うための半導体基板５３と、受光素子を設置して電気信号を取り出すための半導体基板５４とを有する。
【００４８】
光分岐部４４は、光源５１から出射された光Ｌａを２つの光Ｌａ１、Ｌａ２に分割して出射するとともに、回折格子８からの２回回折光Ｌｄ１、Ｌｄ２を合成させて合成光Ｌｄを生成する偏光分離部５８と、偏光分離部５８から照射される合成光Ｌｄを合成光Ｌｄａ,Ｌｄｂ,Ｌｄｃ，Ｌｄｄに分割する光分岐膜５９＿１、５９＿２、５９＿３、５９＿４とを有する。
【００４９】
光源５１は、レーザ光等の可干渉光を発光する素子である。なお、この光源５１は、例えば可干渉距離の小さいレーザ光を発光するマルチモードの半導体レーザ等であっても良い。
【００５０】
受光素子５２は、受光面に対して照射された光を、その光量に応じた電気信号に変換する光電変換素子であり、例えば、フォトディテクタ等からなるものである。この受光素子５２は、受光面に対して照射された各干渉光Ｌｄａ,Ｌｄｂ,Ｌｄｃ，Ｌｄｄを受光して、その光量に応じた干渉信号を生成する。
【００５１】
受光素子５２により光電変換されて得られた干渉信号は、半導体基板５４を介して図示しない位置検出部により検出される。この図示しない位置検出部は、得られた干渉信号に基づいて位相差を求め、回折格子１１の相対移動位置を示す位置信号を出力する。
【００５２】
複合レンズ部４１は、所定の開口数を有するレンズ等の光学素子からなるものである。レンズ４１ａには、光源５１から出射された光Ｌａが入射される。レンズ４１ａは、入射された光Ｌａを所定のビーム径で回折格子１１の格子面１１ａや、反射器２６、２７に結像させることができる。この第１の実施の形態においては、透過型の回折格子１１を採用しているため、出射する光Laは通常反射器２６、２７に結像させる。このため、格子面１１ａ上において照射されるビーム径を大きくすることができ、格子面１１ａ上のゴミや傷の影響を軽減させることが可能となる。またこのような、外部に出射する光、受光する光のビーム径を共に制御する複合レンズ部４１を同一パッケージ内に配置することにより、集積度を高めることができ、また作製工程を簡略化でき、装置全体の信頼性を高めることができる。
【００５３】
またレンズ４１＿１，４１＿２，４１＿３，４１＿４には、偏光部４２から出射された干渉光Ｌｄａ,Ｌｄｂ,Ｌｄｃ，Ｌｄｄがそれぞれ入射される。レンズ４１＿１，４１＿２，４１＿３，４１＿４は、入射された各干渉光Ｌｄ１,Ｌｄ２,Ｌｄ３,Ｌｄ４を受光素子５２＿１，５２＿２，５２＿３，５２＿４に結像させる。その結像点は、必ずしもビーム径が最小となる点とする必要はない。またこの複合レンズ部４１は、上述のように複数のレンズを連ねた構造に限定されるものではなく、例えば、上述のレンズ４１ａ，４１＿１，４１＿２，４１＿３，４１＿４を一体として１つのレンズで構成しても良い。また、この複合レンズ部４１を構成する各レンズは、ビームを収束させる場合のみならず、例えば平行光を出射させたり、或いは発散光を出射するようにしても良い。
【００５４】
偏光部４２＿１、４２＿２、４２＿３、４２＿４は、位相板４３から入射された各合成光Ｌｄａ,Ｌｄｂ,Ｌｄｃ，Ｌｄｄについて所定の偏光成分のみを透過させ、干渉光Ｌｄａ,Ｌｄｂ,Ｌｄｃ，Ｌｄｄとしてレンズ部４１へ出射する。各偏光部４２は４５°間隔（例えば５°、５０°、９５°、１４０°）に配置されていれば足り、偏光部４２の取り付け時の姿勢について制約を受けずに配置することができる。なお、このような偏光部４２を位相板４３と複合レンズ部４１の間に設けることにより、ユニット全体をコンパクトな構成にすることができる利点もある。
【００５５】
位相板４３は、偏光部４２と、光分岐部４４の間に挟み込まれるように積層される。この位相板４３は、例えば１／４波長板からなり、円偏光と直線偏光間の変換を行う。ちなみにこの位相板４３は、光源５１からレンズ４１ａを介して光Ｌａが入射される。位相板４３は、例えば直線偏光である光Ｌａを円偏光に変換して偏光分離部５８へ照射する。また、この位相板４３は、光分岐膜５９＿１、５９＿２、５９＿３、５９＿４から出射された合成光Ｌｄａ,Ｌｄｂ,Ｌｄｃ，Ｌｄｄを受けて円偏光に変換し、上述した偏光部４２へ出射する。すなわち、光源５１からの光Ｌａの変換と光分岐膜５９からの光Ｌｄの変換とを１つの位相板４３により共用する構成を採用する。
【００５６】
偏光分離部５８は、例えば偏光ビームスプリッタ等からなり、光源５１から出射された光Ｌａが位相板４３を介して入射される。この偏光分離部５８は、入射された光Ｌａの一部を反射して光Ｌａ１を生成し、入射された光Ｌａの一部を透過して光Ｌａ２を生成する。なおこの偏光分離部５８は、光Ｌａ１,Ｌａ２を、偏光成分が直交するＳ偏光とＰ偏光に分割しても良い。この場合光Ｌａ１はＳ偏光と光となり、また光Ｌａ２は、Ｐ偏光の光となる。またこの偏光分離部５８には、回折格子１１からの２回回折光Ｌｄ１及び２回回折光Ｌｄ２が入射される。偏光分離部５８は、２つの２回回折光Ｌｄ１、Ｌｄ２を重ね合わせて合成させ、該合成光Ｌｄを光分岐膜５９へ出射する。
【００５７】
光分岐膜５９＿１、５９＿２、５９＿３、５９＿４の各反射率は、夫々１／４，１／３，１／２，１に設定されている（すなわち、光分岐膜５９＿４は全反射面となっている）。このため、入射された合成光Ｌｄをほぼ同一の光量で、合成光Ｌｄａ,Ｌｄｂ,Ｌｄｃ，Ｌｄｄに分割することが可能となる。
【００５８】
なお、受発光複合ユニット１２には、上述した収容部材４０と、複合レンズ部４１と、偏光部４２と、位相板４３と、光分岐部４４が、同一パッケージ内に配設され独立ユニットとして構成される。またこれらの各部材は、夫々積層されて一体となるように構成されている。
【００５９】
すなわち、受発光複合ユニット１２は、各部材をパッケージ化して一体構造とすることにより、精密な位置調整が容易になり、また部品の配置スペースを大きくとる必要がなくなり、変位検出装置全体の小型化、軽量化を図ることができる。また、各部材を同一の収容部材内に収納することにより、環境変化や経時変化の影響を軽減させることができ、調整時のずれ等を最小限に抑えることができ、ひいては受発光複合ユニット１２全体の信頼性を高めることができる。
【００６０】
次に、本発明を適用した第１の実施の形態の変位検出装置５０の動作例について説明をする。
【００６１】
先ず光源５１から出射された光Ｌａは、例えば図８に示すように半導体基板５３の反射面５３ａにより反射されてレンズ４１ａへ照射される。光Ｌａは、このレンズ４１ａにより像変換され、例えば１／４波長板からなる位相板４３へ照射される。
【００６２】
位相板４３へ照射された光Ｌａは、該位相板４３により円偏光に変化させられる。すなわち、位相板４３を介して出射される直線偏光の光Ｌａは、光源５１から出射される光の偏光方向の如何によらず、円偏光に変化させることができる。これにより、光源５１から出射される光の偏光成分を従来技術の如く、光源５１から出射する光の偏光成分を偏光分離部５８に対してほぼ４５°にすることなく、自由に選択することも可能となる。
【００６３】
位相板４３を出射された光Ｌａは、偏光分離部５８により例えばＳ偏光とＰ偏光の光Ｌａ１、Ｌａ２に分離され、回折格子８を介して、回折格子１１へ入射させる。ちなみにこの回折格子１１における光Ｌｂ１の入射角をθa、光Ｌｂ２の入射角をθb、また１回回折光Ｌｃ１の回折角をθa´、１回回折光Ｌｃ２の回折角をθb´としたとき、以下の式（１１）、（１２）が成立する。
【００６４】
ｓｉｎθa＋ｓｉｎθa´＝ｍλ／ｄ          （１１）
ｓｉｎθb＋ｓｉｎθb´＝ｍλ／ｄ          （１２）
ｄ：回折格子のピッチ
λ：光の波長
ｍ：回折次数
１回回折光Ｌｃ１、Ｌｃ２はそれぞれ反射器２６、２７を垂直に反射する。このとき、１回回折光Ｌｃ１、Ｌｃ２は、１／４波長板ＷＰ１、ＷＰ２を２回通過するため、偏光方向は夫々９０°回転させられる。このため、元々Ｓ偏光であった１回回折光Ｌｃ１はＰ偏光に変換され、また元々Ｐ偏光であった１回回折光Ｌｃ１は、Ｓ偏光に変換される。
【００６５】
次に、反射器２６、２７を夫々反射した１回回折光Ｌｃ１、Ｌｃ２は、再度回折格子１１により回折されて２回回折光Ｌｄ１、Ｌｄ２となり、同一の光路を経て再度偏光分離部５８へ到達する。偏光分離部５８では、このＰ偏光である２回回折光Ｌｄ１と、Ｓ偏光である２回回折光Ｌｄ２とを重ね合わせて合成させ、合成光Ｌｄを生成する。
【００６６】
合成光Ｌｄは光分岐膜５９＿１、５９＿２、５９＿３、５９＿４を介してＬｄａ,Ｌｄｂ,Ｌｄｃ，Ｌｄｄに分割される。この分割された合成光Ｌｄａ,Ｌｄｂ,Ｌｄｃ，Ｌｄｄは、夫々位相板４３に照射される。このとき２回回折光Ｌｄ１、Ｌｄ２は、互いに逆周りの円偏光になる。この合成光Ｌｄを特定の偏光成分のみ透過する偏光板を通じて受光すると、この合成光Ｌｄについて、重ね合わせた２つの２回回折光Ｌｄ１、Ｌｄ２の振幅をＡ１、Ａ２とし、回折格子１１の格子ベクトル方向への移動量をｘ、初期位相をδとし、またＫ＝２π／ｄ（ｄは格子ピッチ）として、１回目、２回目の回折で夫々１次の回折光を利用した場合は、特定の偏光成分を取り出すと以下の（１３）式のような干渉信号Ｉが得られる。
【００６７】
Ｉ＝Ａ１２＋Ａ２２＋２・Ａ１・Ａ２ｃｏｓ（４・Ｋ・ｘ＋δ）        （１３）
この干渉信号Ｉは、回折格子１１が格子ベクトル方向へｄ／４移動することにより１周期分変化する。δは、重ね合わせた２つの２回回折光Ｌｄ１、Ｌｄ２の光路長の差に依存する量である。
【００６８】
この位相板４３を出射した各合成光Ｌｄａ,Ｌｄｂ,Ｌｄｃ，Ｌｄｄは、夫々偏光部４２により、所定の偏光成分のみ透過させられる。各偏光部４２は、夫々４５°間隔になるように設定されているが、本例では偏光部４２＿１は０°の偏光方向のみ透過させるようにし、また偏光部４２＿２は４５°の偏光方向のみ透過させるようにし、また偏光部４２＿３は、９０°の偏光方向のみ透過させるようにし、さらに偏光部４２＿４は、１３５°の偏光方向のみ透過させるようにする。このとき各偏光部４２を透過した干渉光Ｌｄａ,Ｌｄｂ,Ｌｄｃ，Ｌｄｄの強度は、夫々以下の式（２１）〜（２４）で表される。
【００６９】
Ｂ＋Ａｃｏｓ（４・Ｋ・ｘ＋δ）                              （２１）
Ｂ＋Ａｃｏｓ（４・Ｋ・ｘ＋９０°＋δ）                      （２２）
Ｂ＋Ａｃｏｓ（４・Ｋ・ｘ＋１８０°＋δ）                    （２３）
Ｂ＋Ａｃｏｓ（４・Ｋ・ｘ＋２７０°＋δ）                    （２４）
Ｂ＝１／４（Ａ１２＋Ａ２２）
Ａ＝１／２・Ａ１・Ａ２
式（２１）は、偏光部４２＿１を透過した干渉光Ｌｄａの強度を表した式であり、式（２２）は、偏光部４２＿２を透過した干渉光Ｌｄｂの強度を表した式であり、式（２３）は、偏光部４２＿３を透過した干渉光Ｌｄｃの強度を表した式であり、式（２４）は、偏光部４２＿４を透過した干渉光Ｌｄｄの強度を表した式である。これらの式で表される干渉光Ｌｄａ,Ｌｄｂ,Ｌｄｃ，Ｌｄｄは、レンズ４１＿１，４１＿２，４１＿３，４１＿４を介して、受光素子５２＿１，５２＿２，５２＿３，５２＿４に結像される。すなわち各受光素子５２は、上述の式で表される干渉光Ｌｄを光電変換して干渉信号を生成することとなる。
【００７０】
式（２１）と式（２３）とを減算すると、干渉信号の直流成分を除去することができる。また式（２２）と式（２４）とを減算すると、干渉信号の直流成分を除去することができる。また減算された信号は、互いに位相が９０°異なるため、回折格子に移動方向を検知するための信号を得ることができる。
【００７１】
このように、本発明を適用した変位検出装置５０では、位相板４３が偏光部４２と、光分岐部４４の間に挟み込まれるように積層される。この位相板４３は、直線偏光である光Ｌａを円偏光に変換して偏光分離部５８へ照射することができる。これにより、従来の如く光源５１から出射する光Ｌａの偏光成分を偏光分離部５８に対してほぼ４５°になるように光源５１を配置することなく、自由に選択することも可能となる。これに伴い、受発光ユニット１２において部品配置に余分な面積を要するという問題点を解消し、よりコンパクトな構成にすることができる。またこの位相板４３は、光分岐膜５９＿１、５９＿２、５９＿３、５９＿４から出射された合成光Ｌｄａ,Ｌｄｂ,Ｌｄｃ，Ｌｄｄを受けて偏光方向が回転する直線偏光に変換し、上述した偏光部４２へ出射することができる。これにより各偏光部４２の偏光方向を図９に示す上から見た図のように４５°間隔（例えば５０°、５°、１４０°、９５°）にすれば足り、偏光部４２の取り付け時における制約を緩和させることができ、ひいては製造工程を簡略化や製造コストの削減を図ることも可能となる。また、この位相板４３は、光源５１からの光Ｌａの変換と光分岐膜５９からの光Ｌｄの変換とを１つの位相板４３により共用する構成を採用するため、寸法管理や容易となり更なる製造コストの削減を図ることも可能となる。
【００７２】
次に、本発明を適用した第２の実施の形態の変位検出装置について説明する。第１の実施の形態における変位検出装置５０と同一の構成要素、部材については同一の番号を付して説明を引用し、本実施の形態における詳細な説明を省略する。
【００７３】
本発明の第２の実施の形態における変位検出装置７０は、図１０に示すように、工作機械等の可動部分に取り付けられ直線移動する反射型の回折格子７１と、発光素子１により発光された光を２つの光Ｌａ１，Ｌａ２に分離して出射し、回折格子７８により任意の角度に回折された２つの１回回折光Ｌｂ１，Ｌｂ２を作り出すとともに、戻された回折光Ｌｄ１，Ｌｄ２を互いに干渉させて、干渉信号を検出する受発光複合ユニット１２と、受発光複合ユニット１２から出射された２つの光Ｌａ１,Ｌａ２を回折格子７１に照射するとともに、回折格子７１からの２つの２回回折光Ｌｃ１、Ｌｃ２を受発光複合ユニット１２へ導く回折格子７８と、回折格子７１からの２つの１回回折光Ｌｃ１、Ｌｃ２を反射して再度回折格子７１に照射する反射光学系７４とを備えている。
【００７４】
回折格子７１は、例えば薄板状の形状を有しており、その表面に狭いスリットや溝等、または屈折率が分布した格子が所定間隔毎に刻まれている。このような回折格子７１に入射された光は、表面に刻まれたスリット等により回折し、該回折格子７１を反射する。回折により生じる回折光は、格子の間隔と光の波長で定まる方向に発生する。
【００７５】
なお、本発明では回折格子の種類は限定されず、上述したように機械的に溝等が形成されたもののみならず、例えば、感光性樹脂に干渉縞を焼き付けて作成したものであっても良い。
【００７６】
回折格子７８は、光Ｌａ１を回折させ回折格子７１の格子面７１ａの所定の位置に照射する。この光Ｌｂ１が回折格子７１により回折されることにより１回回折光Ｌｃ１が得られる。また、上記回折格子８は、光Ｌａ２も回折させ、回折格子７１の格子面７１ａの所定の位置に照射する。この光Ｌｂ２が回折格子７１により回折されることにより１回回折光Ｌｃ２が得られる。
【００７７】
また、回折格子７８には、１回回折光Ｌｃ１が回折格子７１により回折されることにより生じる２回回折光Ｌｄ１が照射される。回折格子７８は、この２回目の回折光Ｌｄ１を回折させ受発光複合ユニット１２に照射する。また、回折格子７８には、１回回折光Ｌｃ２が回折格子７１により回折されることにより生じる２回回折光Ｌｄ２が照射される。回折格子７８は、この２回回折光Ｌｄ２を回折させ受発光複合ユニット１２に照射する。
【００７８】
ちなみに、この回折格子７８により回折格子７１の格子面７１ａに照射する所定の位置と、格子面７１ｂに照射する所定の位置とが、同一位置になるように結像させる。このときビーム径は、格子面７１ａ上のゴミや傷の影響を受けないような大きさが望ましい。また、この結像点は、必ずしもビーム径が最小となる点とする必要はなく、ビームの像内での光路長の差が最小となる点が格子面７１ａ上に位置するようにしても良い。
【００７９】
また、この変位検出装置７０における反射光学系７４は、１回回折光Ｌｃ１を反射して再度回折格子７１に照射する反射器７６と、１回回折光Ｌｃ２を反射して再度回折格子７１に照射する反射器７７と、１回回折光Ｌｃ１の偏光状態を変える１／４波長板ＷＰ７１と、１回回折光Ｌｃ２の偏光状態を変える１／４波長板ＷＰ７２とを有する。
【００８０】
反射器７６には、１／４波長板ＷＰ７１を通過した１回回折光Ｌｃ１が照射される。反射器７６は、この１回回折光Ｌｃ１が入射経路と同じ経路を逆行するように、該１回回折光Ｌｃ１を垂直に反射する。ちなみに、この反射器７６に照射される１回回折光Ｌｃ１は、１／４波長板ＷＰ７１を既に通過しており、また、この反射器７６を反射する１回回折光Ｌｃ１は１／４波長板ＷＰ７１を再度通過するため、偏光方向が９０°回転された状態で、再度回折格子７１へ照射されることになる。
【００８１】
反射器７７には、１／４波長板ＷＰ７２を通過した１回回折光Ｌｃ２が照射される。反射器７７は、この１回回折光Ｌｃ２が入射経路と同じ経路を逆行するように、該１回回折光Ｌｃ２を垂直に反射する。
【００８２】
反射器７７には、１／４波長板ＷＰ７２を通過した１回回折光Ｌｃ２が照射される。反射器７７は、この１回回折光Ｌｃ２が入射経路と同じ経路を逆行するように、該１回回折光Ｌｃ２を垂直に反射する。ちなみに、この反射器７７に照射される１回回折光Ｌｃ２は、１／４波長板ＷＰ７２を既に通過しており、またこの反射器７７を反射する１回回折光Ｌｃ２は１／４波長板ＷＰ７２を再度通過するため、偏光方向が９０°回転された状態で、再度回折格子７１へ照射されることになる。
【００８３】
この第２の実施の形態における受発光複合ユニット１２の詳細と、第２の実施の形態における動作例は、第１の実施の形態の説明を引用する。
【００８４】
すなわち、反射型の回折格子７１を用いる第２の実施の形態に係る変位検出装置７０は、受発光複合ユニット１２における各部材をパッケージ化して一体構造とすることにより、精密な位置調整が容易になり、また部品の配置スペースを大きくとる必要がなくなり、変位検出装置全体の小型化、軽量化を図ることができる。また各部材を同一の収容部材内に収納することにより、環境変化や経時変化の影響を軽減させることができ、調整時のずれ等を最小限に抑えることができ、ひいては受発光複合ユニット１２全体の信頼性を高めることができる。
【００８５】
また、第２の実施の形態においても、光源５１からの光Ｌａの変換と光分岐膜５９からの光Ｌｄの変換とを１つの位相板４３により共用する構成を採用するため、寸法管理や容易となり更なる製造コストの削減を図ることが可能となる。
【００８６】
ここで、この第２の実施の形態に係る変位検出装置７０において、図１１に示すように、回折格子７８により開口部を閉じた密閉容器７５内に受発光複合ユニット１２を収納した構造として、回折格子７８と受発光複合ユニット１２を一体化するようにしてもよい。なお、変位検出装置７０を構成する反射光学系７４のうち、工作機械等の可動部分に取り付けられ直線移動する反射型の回折格子７１は、上記密閉容器７５内に収納できないが、反射器７６、７７は、上記密閉容器７５内に収納してもよい。
【００８７】
このように、回折格子７８を密閉容器７５の窓ガラスとして使用することで変位検出部をシールド構造とすることができ、塵埃や、クーラントによる汚れから変位検出部を保護することができ、変位検出装置７０のメインテナンス性を向上させることができる。
さらに、防水構造を採ることで、回折格子７８を液体中に入れ、液体中での計測が可能になる。
【００８８】
また、上記回折格子７８を耐熱ガラス又は断熱ガラスで構成することで、極めて高い温度環境あるいは極めて低い温度環境での計測が可能なり、変位検出部の結露や熱破損を防止することができる。
【００８９】
また、シールド構造とすることにより、測定環境を真空状態とすることも可能である。逆に、変位検出部の構成要素から放出されるガスによる影響を抑える効果もある。
【００９０】
近年、変位検出装置による測定環境として、このような環境が要求される場合が多々あり、上記シールド構造を採用した変位検出装置７０は、これ等に適用して有効である。
【００９１】
なお、ガラス窓を備える密閉容器内に上記受発光複合ユニット１２や回折格子７８を収納してシールド構造としても、同様な効果は得られる。
【００９２】
次に、本発明を適用した受発光複合ユニット１２の作製方法について図１２を用いて説明をする。
【００９３】
先ず、ステップＳ１１において、複数の光分岐部４４を連ねた光分岐部４４層と、複数の受発光複合ユニット１２の面積分の位相板４３と、複数の偏光部４２を連ねた偏光部４２層を作製する。そして光分岐部４４層と、上記位相板４３と、偏光部４２層を順次積層して積層板８１を作製する。この積層板８１を作製する際には、偏光部４２層の上に位相板４３を積層し、さらにその上に光分岐部４４層を積層しても良いし、また光分岐部４４層の上に位相板４３を積層し、さらにその上に偏光部４２層を設けても良い。
【００９４】
次にステップＳ１２へ移行し、作製した積層板８１をスライスして複数に分割する。このステップＳ１２において分割した個々の積層板はそれぞれ１個分の受発光複合ユニット１２に相当する。
【００９５】
次にステップＳ１３へ移行し、分割した個々の積層板８１毎に、複合レンズ部４１を接合し、さらにその接合した複合レンズ部４１に収容部材４０を接合する。
【００９６】
すなわち、本発明を適用した受発光複合ユニット１２の作製工程では、最初に加工しやすい大きさの光学部品を張り合わせ、後からスライスして個々の受発光複合ユニット１２を構成する大きさまで分割し、最後に複合レンズ部４１と、収容部材４０を張り合わせて完成させるため、生産工程をより簡単にすることができ、製造コストを削減させることができる。
【００９７】
上記第１及び第２の実施形態における受発光複合ユニット１２は、各部材をパッケージ化して一体構造とすることにより、精密な位置調整が容易になり、また部品の配置スペースを大きくとる必要がなくなり、小型化、軽量化を図れる点に利点がある。このため、上述の製造工程を採用することができ、さらなる小型、低価格化等を実現することができる。
【００９８】
以上、本発明を適用した第１〜第２の実施の形態の変位検出装置を説明した。各実施の形態の変位検出装置では、格子が所定の間隔で平行に設けられた回折格子１１、７１を用いているが、本発明では、このような格子が平行に設けられた回折格子を用いなくても良い。例えばロータリエンコーダ等放射状の格子が設けられた回折格子を用いて角度検出をするようにしても良い。
【００９９】
また、本発明では、明暗を記録した振幅型の回折格子、屈折率変化や形状変化を記録した位相型の回折格子を用いても良く、その回折格子のタイプは限定されるものではない。
【０１００】
また、各実施の形態の変位検出装置では、回折格子１１,７１を工作機械等の可動部分に取り付けて、この回折格子１１が可動部分の移動に応じて移動する場合について説明したが、本発明では、回折格子１１,７１と、変位検出装置とが相対的に移動すれば良いことは勿論である。
【０１０１】
また、本発明は、図１３に示す光学式変位測定装置９０のように、図１５に示した従来の光学式変位測定装置１１０に適用することもできる。
【０１０２】
この光学式変位測定装置８０は、工作機械等の可動部分の移動にともない、図１３中矢印Ｘ１及びＸ２方向に直線移動する回折格子８１と、光を出射する光源８２と、光源８２から出射された光を２本のビームに分割するとともに回折格子８１からの２つの回折光を重ね合わせて干渉させるハーフミラーを用いたビームスプリッタ８３と、このビームスプリッタ８３により分割された２本のビームを回折格子上８１上の同一位置に照射する回折格子８４と、上記回折格子８１で回折された回折光を反射する２つのミラー８５ａ，８５ｂと、干渉した２つの回折光を受光して干渉信号を生成するフォトディテクタ８６とを備えている。
【０１０３】
光源８２から出射された光は、ビームスプリッタ８３により２本のビームに分割される。この２本のビームは、回折格子８４により回折されて回折格子８１上の同一位置に照射される。回折格子８１に照射された２本のビームは、この回折格子８１でそれぞれ回折され、１回回折光となる。１回回折光は、それぞれ２つのミラー８５ａ，８５ｂにより反射され、回折格子８１に再度照射されて回折され、２回回折光となる。これら２本の２回回折光は、同一の光路を経てビームスプリッタ８３に入射され重ね合わされて干渉し、フォトディテクタ８６に照射される。
【０１０４】
このような構成の光学式変位測定装置８０では、回折格子８１における図中矢印Ｘ１、Ｘ２方向の変位を検出することができる。すなわち、この光学的変位測定装置８０では、回折格子８１の移動に応じて、回折格子８１に基づく２本の２回回折光に位相差が生じる。このため、光学式変位測定装置８０では、フォトディテクタ８６により得られる干渉信号から２本の２回回折光の位相差を検出することにより、工作機械等の可動部分の移動位置を測定することができる。
【０１０５】
この光学式変位測定装置８０においても、回折格子８１と回折格子８４の格子ピッチを略等しくすることよって、上述の光学式変位測定装置５０と同様に、温度の変化による光源の波長変化に対する角度の補正の効果を十分に得ることができる。また、回折格子８１の格子ピッチと回折格子８４の格子ピッチが等しくなくても、角度の補正の効果は減少するものの、従来よりも少ない変動に抑えることができる。また、回折格子８１と回折格子８４を透過型のホログラムにて形成してもよい。また、２つのミラー８５ａ，８５ｂは、反射型回折格子で構成することもできる。さらに、上記光源８２、ビームスプリッタ８３、回折格子８４及びフォトディテクタ８６を一体化した構造を採用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【０１０６】
【図１】先に提案した変位検出装置の構成を説明するための図である。
【図２】本発明に係る変位検出装置の構成を説明するための図である。
【図３】上記変位検出装置において変位検出に用いる回折格子の斜視図である。
【図４】上記変位検出装置において偏光ビームスプリッタから出射された２つの光を任意の角度に回折するための第１の回折格子がない状態での、光源の波長λの変動による回折角の変動に伴お光軸にずれを模式的に示す図であり、（Ａ）は格子ピッチｄが５５０ｎｍで光源の波長λが７７８ｎｍの状態を示し、（Ｂ）は格子ピッチｄが５５０ｎｍで光源の波長λが５５０ｎｍの状態を示している。
【図５】上記変位検出装置において偏光ビームスプリッタから出射された２つの光を任意の角度に回折するための第１の回折格子を備えた状態での、光源の波長λの変動による回折角の変動に伴お光軸にずれを模式的に示す図であり、（Ａ）は格子ピッチｄが５５０ｎｍで光源の波長λが７７８ｎｍの状態を示し、（Ｂ）は格子ピッチｄが５５０ｎｍで光源の波長λが５５０ｎｍの状態を示している。
【図６】反射光学系に反射プリズムを用いた変位検出装置の構成を示す図である。
【図７】反射光学系に反射型回折格子を用いた変位検出装置の構成を示す図である。
【図８】上記変位検出装置において受発光複合ユニットの構成図である。
【図９】上記受発光複合ユニットを上下面から描いた図である。
【図１０】反射型の回折格子を用いる変位検出装置について説明するための図である。
【図１１】受発光複合ユニットと回折格子を一体化した構造の光学式変位測定装置の構成を示す図である。
【図１２】上記受発光複合ユニットの作製方法について説明するための図である。
【図１３】本発明の光学式変位測定装置の他の構成例を示す図である。
【図１４】従来の光学式変位測定装置の構成を示す模式図である。
【図１５】従来の他の光学式変位測定装置の構成を示す模式図である。
【符号の説明】
【０１０７】
８，１１，７１，７８  回折格子、５０，７０  変位検出装置、１２  受発光複合ユニット、１４，７４  反射光学系、２６,２７，７６，７７  反射器、ＷＰ１,ＷＰ２  １／４波長板、４０  収容部材、４１  複合レンズ部、４２  偏光部、４３  位相板、４４  光分岐部、５１  光源、５２  受光素子、５３,５４  半導体基板、５８  偏光分離部、５９  光分岐膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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