(57)【要約】【課題】高密度記録において、エラーレートとオーバーライト特性とを両立する磁気記録媒体の記録再生方法およびそれに用いる磁気記録媒体を提供すること。【解決手段】支持体上に強磁性粉末と結合剤を含む磁性層を有する磁気記録媒体の記録再生方法において、最短記録波長をλｍｉｎ、磁性層面内に対する磁化容易軸の角度をθ、磁性層厚をδｍａｇとしたときに、（λｍｉｎ／６）≦δｍａｇ≦（λｍｉｎ／２）及び５度≦θ≦４５度を満足することを特徴とする磁気記録媒体の記録再生方法。前記記録再生方法に用いられる前記磁気記録媒体。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に強磁性粉末と結合剤を含む磁性層を有する磁気記録媒体の記録再生方法において、最短記録波長をλｍｉｎ、磁性層面内に対する磁化容易軸の角度をθ、磁性層厚をδｍａｇとしたときに、下式（１）及び（２）を満足することを特徴とする磁気記録媒体の記録再生方法。
（λｍｉｎ／６）≦δｍａｇ≦（λｍｉｎ／２）    （１）
５度≦θ≦４５度    （２）
【請求項２】
ＰＷ５０／（λｍｉｎ／２）≧３であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の記録再生方法。
（ここで、ＰＷ５０は孤立再生波形の半値幅を示す。）
【請求項３】
請求項１または２記載の磁気記録媒体の記録再生方法に用いられる磁気記録媒体。
【請求項４】
請求項３記載の磁気記録媒体に用いられる強磁性粉末が六方晶系フェライト粉末であることを特徴とする請求項３記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
前記磁気記録媒体は支持体と磁性層の間に非磁性粉末と結合剤を含む非磁性層を設けたことを特徴とする請求項３記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気記録媒体の記録再生方法及びそれに用いる磁気記録媒体に関し、特にデジタル信号を高密度で記録再生する技術に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体は業務用、民生用分野での情報記録用や、データストレージのバックアップ用など広い用途で使われている。近年、ブロードバンドネットワークやデジタル放送の普及によって扱うデータ量は急速に増加している。そのためデータを保存するストレージ装置の大容量化に対する要求は強く、高密度記録化はますます必須になっていく。
【０００３】
高密度記録のために種々の技術が提案され実用化されてきた。例えば、再生用ヘッドとしてＭＲヘッド、信号処理方式としてＰＲＭＬが導入され必須技術になっている。一方で磁気記録再生装置の小型化や軽量化、低消費電力化が進められ、消去ヘッドを廃止してきており、オーバーライト特性に適した磁気記録媒体が必要になってきている。磁気記録媒体では磁性層の均一薄層化、強磁性体の磁気特性の改良、強磁性粉末粒子の微細化、磁性層の平滑化、強磁性粒子の高充填化、等種々の媒体作成技術の改良が試みられてきた（特許文献１）。
【０００４】
しかしながら、高密度記録、特にデジタル記録に必要とされているＭＲヘッドやＰＲＭＬ信号処理技術を考慮したときのエラーレートとオーバーライト特性との両立の提供には現行の磁気記録媒体の記録再生方法では不十分であった。
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−１８５２４０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
高密度記録において、エラーレートとオーバーライト特性とを両立する磁気記録媒体の記録再生方法およびそれに用いる磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題は以下の手段により達成することができる。
１）支持体上に強磁性粉末と結合剤を含む磁性層を有する磁気記録媒体の記録再生方法において、最短記録波長をλｍｉｎ、磁性層面内に対する磁化容易軸の角度をθ、磁性層厚をδｍａｇとしたときに、下式（１）及び（２）を満足することを特徴とする磁気記録媒体の記録再生方法。
（λｍｉｎ／６）≦δｍａｇ≦（λｍｉｎ／２）    （１）
５度≦θ≦４５度    （２）
２）ＰＷ５０／（λｍｉｎ／２）≧３であることを特徴とする上記１）記載の磁気記録媒体の記録再生方法。
（ここで、ＰＷ５０は孤立再生波形の半値幅を示す。）
３）上記１）または２）記載の磁気記録媒体の記録再生方法に用いられる磁気記録媒体。
４）上記３）記載の磁気記録媒体に用いられる強磁性粉末が六方晶系フェライト粉末であることを特徴とする上記３）記載の磁気記録媒体。
５）前記磁気記録媒体は支持体と磁性層の間に非磁性粉末と結合剤を含む非磁性層を設けたことを特徴とする上記３）記載の磁気記録媒体。
【発明の効果】
【０００８】
本発明は、最短記録波長（λｍｉｎ）、磁性層面内に対する磁化容易軸の角度（θ）、及び磁性層厚（δｍａｇ）を特定することにより、高密度記録において、エラーレートとオーバーライト特性とを両立する磁気記録媒体の記録再生方法及びそれに用いられる磁気記録媒体を得ることが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
本発明は以下の知見に基づきなされたものである。
一般にデジタル信号をインダクティブヘッド（リングヘッド）で磁気記録媒体に記録する場合、デジタル信号の変化点で磁気記録媒体に記録された磁化の変化が起こり、その漏れ磁化を再生ヘッドによって再生信号として捕らえる。よって、記録磁化の変化点をＭＲヘッドで捕らえるのに適した磁気記録媒体の磁化状態が存在する。
ＭＲヘッドでは磁気記録媒体の漏れ磁化の垂直成分（磁気記録媒体の厚み方向成分）を捕らえるため、適する磁気記録媒体の磁化方向があることがわかった。
また、ＰＲＭＬ信号処理に対しては、その信号処理に対して適した再生波形が存在する。特に規格化線密度Ｋ＝（ＰＷ５０）／（Ｂｉｔ長）が３以上の高密度記録においてはＥＰＲＭＬやＥＥＰＲＭＬ等の高次の信号処理方式が必要であるが、孤立再生波形の対称性は必ずしも必要ではないことがわかった。
これらを考慮した磁気記録媒体として強磁性粉末の集合体（すなわち、磁性層内の磁気的クラスター）をヘッドで記録再生する際に、その集合体の最適な磁化容易軸の角度が存在することがわかり、これを規定することによりＭＲヘッドやＰＲＭＬ信号処理技術を考慮したときのエラーレートに最適な磁気記録媒体を提供することができる。
また、オーバーライト記録で一番厳しいのは、必要な磁気記録再生装置での最短ｂｉｔ長にあたる磁気記録媒体への最短磁化反転長（最短磁化反転長の２倍を最短記録波長とする）で重ね書きをしたときの前記録の消え残りである。特に最短記録波長での記録深さよりも磁性層厚が大きいとオーバーライト特性は悪くなる。
一方で、必要な長波長信号レベルを記録するには磁性層厚は大きい方が有効である。この相反する課題を両立させるため、最短記録波長での記録深さをなるべく大きくするために最適な磁性層面内に対する磁化容易軸の角度θがあることがわかった。
これによりオーバーライト特性には最短記録波長（λｍｉｎ）の１／４以下の磁性層厚が必要との特開平１１−１８５２４０に対して、本発明では磁性層厚は、最短記録波長（λｍｉｎ）の１／２以下でオーバーライト特性は得られ、必要な長波長信号レベルも得られるようになった。
すなわち、本発明は以下のように最短記録波長（λｍｉｎ）、磁化容易軸の角度（θ）と磁性層厚（δｍａｇ）を規定することにより、エラーレートとオーバーライトを両立する磁気記録媒体の記録再生方法及びそれに用いられる磁気記録媒体を提供することができる。
（λｍｉｎ／６）≦δｍａｇ≦（λｍｉｎ／２）    （１）
５度≦θ≦４５度    （２）
好ましくは、
（λｍｉｎ／６）≦δｍａｇ≦（λｍｉｎ／２）    （１ａ）
１０度≦θ≦４０度    （２ａ）
更に好ましくは、
（λｍｉｎ／６）≦δｍａｇ≦（λｍｉｎ／３）    （１ｂ）
１０度≦θ≦４０度    （２ｂ）
磁化容易軸の角度（θ）を制御する手段としては、強磁性粉末のサイズや形状、磁性層の塗布法、磁性層の配向法等を適宜選定することが挙げられる。特に強磁性粉末としては、六方晶系フェライト粉末が好ましい。
【００１０】
また、本発明は、高記録密度を確保するためには、次式を満足することが好ましい。
ＰＷ５０／（λｍｉｎ／２）≧３、好ましくはＰＷ５０／（λｍｉｎ／２）≧３．５（ここで、ＰＷ５０は孤立再生波形の半値幅を示す。）
但し前記したように、孤立再生波形の対称性は必ずしも必要ではない。
【００１１】
本発明に用いられる再生ヘッドとしては、ＡＭＲヘッド、ＧＭＲヘッド、ＴＭＲヘッドなどが挙げられる。また、記録ヘッドはＭＩＧヘッド、薄膜ヘッドなどが用いられる。
また、本発明に用いられる信号処理方法としては、特に制限されないが、ＰＲＭＬ、ＥＰＲＭＬ、ＥＥＰＲＭＬ等が挙げられる。
また、本発明ではオーバーライト特性としては、記録波長０．６〜１．８μｍ、好ましくは０．６〜１．０μｍの信号を、最短記録波長（λｍｉｎ）０．１２〜０．３６μｍ、好ましくは０．１２〜０．２０μｍの信号でオーバーライトし得ることが好ましい。また、上記長波長信号はオーバーライト記録と並行乃至独立して記録または再生するようにしてもよい。
【００１２】
本発明における磁気記録媒体は、その層構成は特に制限されるべきものでない。例えば、磁性層として強磁性粉末組成の異なる２層以上を積層して設けてもよい。この場合、本発明におけるδｍａｇは、各々の層の総和を意味する。
δｍａｇは、上記関係式（１）を満足するように制御されるが、通常、３０〜１５０ｎｍ、好ましくは、３０〜８０ｎｍである。
【００１３】
また、層構成として好ましい態様は、磁性層と支持体の間に非磁性粉末と結合剤を含む非磁性層を設けたものを挙げることができる。この場合、磁性層と非磁性層は同時重層塗布または逐次塗布により形成される。重層の場合、磁性層を上層、非磁性層を下層ともいう。
【００１４】
磁性層に使用される強磁性粉末としては、酸化鉄、強磁性金属粉末、六方晶系フェライト粉末等が用いられるが、六方晶系フェライト粉末が好ましい。
以下、六方晶系フェライト粉末について説明する。本発明の上層に含まれる六方晶系フェライト粉末としてバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライト、およびそれらのＣｏ置換体等の各置換体が挙げられる。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、更に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｎｂ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｚｎ−Ｎｂ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ、Ｚｎ−Ｔｉ、Ｚｎ−Ｎｉ等の元素を添加した物を使用することができる。ＳＦＤの観点からは、純粋なマグネトプランバイト型フェライトの方が、スピネル層を多く含む複合型フェライトよりも好ましい。抗磁力を制御するためには、組成、粒子径、粒子厚を制御する、六方晶フェライトのスピネル相の厚みを制御する、スピネル相の置換元素の量を制御する、スピネル相の置換サイトの場所を制御する、などの方法がある。
本発明に用いられる六方晶系フェライト粉末は、通常六角板状の粉体である。
【００１５】
本発明では六方晶系フェライト磁性粉の平均板径は１０〜３５ｎｍが好ましく、更に好ましくは１５〜３５ｎｍの範囲である。また、該磁性粉の平均厚さは通常、２〜１５ｎｍであるが特に４〜１０ｎｍが好ましい。更に平均板状比は好ましくは１．５〜４であり、更に好ましくは２〜３．８である。平均板径が１０ｎｍ未満のとき、高比表面積となり、分散が困難となるため好ましくない。また、これら六方晶系フェライト粉末末のＢＥＴ法による比表面積（ＳＢＥＴ）は通常３０〜１２０ｍ２／ｇであるが、４０〜１００ｍ２／ｇが好ましい。３０ｍ２／ｇに満たないとノイズが高くなり、１２０ｍ２／ｇを超えると分散が困難となり表面性が得にくく好ましくない。
含水率は０．３〜２．０％とするのが好ましい。結合剤の種類によって該磁性粉の含水率は最適化するのが好ましい。該磁性粉のｐＨは用いる結合剤との組み合わせにより最適化することが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好ましくは６〜１０である。該磁性粉は必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐ、Ｚｒ、Ｍｇまたはこれらの酸化物や水酸化物などで表面処理を施してもかまわない。好ましくはＡｌ２Ｏ３・ｎＨ２ＯまたはＳｉＯ２・ｎＨ２Ｏによる表面処理であり、用いるバインダによってその量と比率を変えることが好ましい。その量は該磁性粉に対し０．１〜１０質量％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ２以下になり好ましい。該磁性粉には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｂａ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合があるが合計量が少ないほうが好ましいが、０〜１００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えない。σｓは３５Ａ・ｍ２／ｋｇ以上、好ましくは４０Ａ・ｍ２／ｋｇ以上である。タップ密度は０．５ｇ／ｍｌ以上が好ましく０．８ｇ／ｍｌ以上がさらに好ましい。六方晶系フェライト粉末の製法としてはガラス結晶化法、共沈法、水熱反応法等があり、本発明は製法を選ばないが、ガラス結晶化法は微細で粒度分布が良好な粒子が得られるので好ましい。
【００１６】
本発明の磁気記録媒体における磁性層の結合剤は、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用できる。熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１０００〜２０００００、好ましくは１００００〜１０００００、重合度が約５０〜１０００程度のものである。
【００１７】
このような結合剤としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。
【００１８】
また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等があげられる。
【００１９】
前記の結合剤に、より優れた強磁性粉末の分散効果と磁性層の耐久性を得るためには必要に応じ、ＣＯＯＭ、ＳＯ３Ｍ、ＯＳＯ３Ｍ、Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２、Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２、（以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ２、Ｎ＋Ｒ３（Ｒはアルキル基、アルケニル基、アシル基、アリル基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮなどから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものをもちいることが好ましい。このような極性基の量は１０−１〜１０−８モル／ｇであり、好ましくは１０−２〜１０−６モル／ｇである。
【００２０】
本発明の磁気記録媒体に用いられる結合剤は、強磁性粉末に対し、５〜５０質量％の範囲、好ましくは１０〜３０質量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜１００質量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜５０質量％、ポリイソシアネートは２〜１００質量％の範囲でこれらを組み合わせて用いるのが好ましい。
【００２１】
また、磁性層の六方晶系フェライト粉末の充填度は、使用した六方晶系フェライト粉末のσｓ及び最大磁束密度（Ｂｍ）から計算でき（Ｂｍ／４πσｓ）となり、本発明においてはその値は、望ましくは１．１〜３．２ｇ／ｃｍ３であり、更に望ましくは１．２〜３．０ｇ／ｃｍ３である。
【００２２】
本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ２（０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ２（０．４９〜９８ＭＰａ）が好ましい。
【００２３】
本発明にもちいるポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製、デスモジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモジュールＨＬ、等がありこれらを単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組み合わせでもちいることができる。
【００２４】
本発明の磁気記録媒体の磁性層中には、通常、潤滑剤、研磨剤、分散剤、帯電防止剤、分散剤、可塑剤、防黴剤等などを始めとする種々の機能を有する素材をその目的に応じて含有させることができる。
【００２５】
本発明の磁性層に使用する潤滑剤としては、ジアルキルポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５個）、ジアルコキシポリシロキサン（アルコキシは炭素数１〜４個）、モノアルキルモノアルコキシポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５個、アルコキシは炭素数１〜４個）、フェニルポリシロキサン、フロロアルキルポリシロキサン（アルキルは炭素数１〜５個）などのシリコンオイル；グラファイト等の導電性微粉末；二硫化モリブデン、二硫化タングステンなどの無機粉末；ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレン塩化ビニル共重合体、ポリテトラフルオロエチレン等のプラスチック微粉末；α−オレフィン重合物；常温で固体の飽和脂肪酸（炭素数１０から２２）；常温で液状の不飽和脂肪族炭化水素（ｎ−オレフィン二重結合が末端の炭素に結合した化合物、炭素数約２０）；炭素数１２〜２０個の一塩基性脂肪酸と炭素数３〜１２個の一価のアルコールから成る脂肪酸エステル類、フルオロカーボン類等が使用できる。
【００２６】
上記の中でも飽和脂肪酸と脂肪酸エステルが好ましく、両者を併用することがより好ましい。脂肪酸エステルの原料となるアルコールとしてはエタノール、ブタノール、フェノール、ベンジルアルコール、２−メチルブチルアルコール、２−ヘキシルデシルアルコール、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ｓ−ブチルアルコール等のモノアルコール類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、グリセリン、ソルビタン誘導体等の多価アルコールが挙げられる。同じく脂肪酸としては酢酸、プロピオン酸、オクタン酸、２−エチルヘキサン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、ベヘン酸、アラキン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸、エライジン酸、パルミトレイン酸等の脂肪族カルボン酸またはこれらの混合物が挙げられる。
【００２７】
脂肪酸エステルとしての具体例は、ブチルステアレート、ｓ−ブチルステアレート、イソプロピルステアレート、ブチルオレエート、アミルステアレート、３−メチルブチルステアレート、２−エチルヘキシルステアレート、２−ヘキシルデシルステアレート、ブチルパルミテート、２−エチルヘキシルミリステート、ブチルステアレートとブチルパルミテートの混合物、ブトキシエチルステアレート、２−ブトキシ−１−プロピルステアレート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルをステアリン酸でアシル化したもの、ジエチレングリコールジパルミテート、ヘキサメチレンジオールをミリスチン酸でアシル化してジオールとしたもの、グリセリンのオレエート等の種々のエステル化合物を挙げることができる。
【００２８】
さらに、磁気記録媒体を高湿度下で使用するときしばしば生ずる脂肪酸エステルの加水分解を軽減するために、原料の脂肪酸及びアルコールの分岐／直鎖、シス／トランス等の異性構造、分岐位置を選択することがなされる。
これらの潤滑剤は結合剤１００質量部に対して通常、０．２〜２０質量部の範囲で添加される。
【００２９】
潤滑剤としては、更に以下の化合物を使用することもできる。即ち、シリコンオイル、グラファイト、二硫化モリブデン、窒化ほう素、弗化黒鉛、フッ素アルコール、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステル、二硫化タングステン等である。
【００３０】
本発明の磁性層に用いられる研磨剤としては、一般に使用される材料でα、γアルミナ、溶融アルミナ、コランダム、人造コランダム、炭化珪素、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）、ダイヤモンド、人造ダイヤモンド、ザクロ石、エメリー（主成分：コランダムと磁鉄鉱）、αＦｅ２Ｏ３等が使用される。これらの研磨剤はモース硬度が６以上である。具体的な例としては住友化学社製、ＡＫＰ−１０、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＡＫＰ−１５２０、ＡＫＰ−１５００、ＨＩＴ−５０、ＨＩＴ６０Ａ、ＨＩＴ６０Ｇ、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ８２、ＨＩＴ−１００、日本化学工業社製、Ｇ５、Ｇ７、Ｓ−１、酸化クロムＫ、上村工業社製ＵＢ４０Ｂ、不二見研磨剤社製ＷＡ８０００、ＷＡ１００００、ＬＡＮＤＳ社製ＬＳ６００Ｆ  ０／−１／４、東名ダイヤ社製ＭＤ−２００、ＭＤ−１５０、ＭＤ−１００、ＭＤ−７０、ＩＲＭ  ０−１／４Ｆ、ＩＲＭ  ０−１／４ＦＦ、ＧＥ社製０−１／１０、０−１／４、ＤｏＰｕｎｔ社製マイポレックス  １／１０ＱＧ、同１／８ＱＧ、戸田工業社製ＴＦ１００、ＴＦ１４０、ＴＦ１８０などが挙げられる。平均粒子径が０．０５〜１μｍのものは効果があり、好ましくは０．０５〜０．５μｍである。
研磨剤を単独で使用するだけでなく、２種類以上の研磨剤を併用することも好適で、微粒子ダイヤモンドの場合は他の研磨剤と併用することで、磁性体に対する添加量を０．１％程度に減少することができる。これら研磨剤の合計量は磁性体１００質量部に対して１〜２０質量部、望ましくは１〜１５質量部の範囲で添加される。１質量部より少ないと十分な耐久性が得られず、２０質量部より多すぎると表面性、充填度が劣化する。これら研磨剤は、あらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。
【００３１】
本発明の磁気記録媒体の磁性層中には、前記非磁性粉末の他に帯電防止剤として導電性粒子を含有することもできる。帯電防止剤としては特に、カーボンブラックを添加することは、媒体全体の表面電気抵抗を下げる点で好ましい。本発明に使用できるカーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、導電性カーボンブラック、アセチレンブラック等を用いることができる。比表面積は５〜５００ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜１５００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｍ３、が好ましい。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００、１３００、１０００、９００、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、旭カーボン社製、＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５、三菱化学社製＃３０３０Ｂ、＃３０４０Ｂ、＃３０５０Ｂ、＃３２３０Ｂ、＃３３５０Ｂ、＃９１８０Ｂ、＃２７００、＃２６５０、＃２６００、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃９５０Ｂ、＃９００、＃１０００、＃９５、＃３０、＃４０、＃１０Ｂ、ＭＡ２３０、ＭＡ２２０、ＭＡ７７、コロンビアンカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  １５０、５０、４０、１５、ライオンアグゾ社製ケッチェンブラックＥＣ、ケッチェンブラックＥＣＤＪ−５００、ケッチェンブラックＥＣＤＪ−６００などが挙げられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、カーボンブラックを酸化処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。  また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。磁性層にカーボンブラックを使用する場合は磁性体に対する量は０．１〜３０質量％でもちいることが好ましい。さらに後述する非磁性層には全非磁性粉末に対し３〜２０質量％含有させることが好ましい。
【００３２】
一般的にカーボンブラックは帯電防止剤としてだけでなく、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用されるこれらのカーボンブラックは、その種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会編を参考にすることができる。
【００３３】
本発明の六方晶系フェライト粉末を含有する磁性層を含む磁気記録媒体は、支持体と磁性層の間に非磁性層を設ける構成が好ましい。非磁性層（下層）は、非磁性粉末を結合剤中に分散した層が好ましい。その非磁性層に使用される非磁性粉末には、種々のものが使用できる。例えば、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどが単独または組合せで使用される。微細で粒度がそろっているものとして、α−酸化鉄、ゲータイト、酸化チタン、酸化亜鉛が好適である。これら非磁性粉末の粒子サイズは０．０１〜１μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。使用する結合剤との相互作用を大きくし分散性を改良するために、使用する非磁性粉末が表面処理されていてもよい。表面処理により粒子表面に存在させる物としては、シリカ、アルミナ、シリカ−アルミナなどの無機物でも、カップリング剤により形成されるものでもよい。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｃｍ３、含水率は０．１〜５質量％、ｐＨは２〜１１、比表面積は５〜１００ｍ２／ｇ、が好ましい。前記非磁性粉末の形状は針状、球状、サイコロ状、板状のいずれでも良い。
【００３４】
非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００、ＨＩＴ−８０、戸田工業製α−酸化鉄ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＲＸ、ＤＢＮ−４５０ＢＸ、ＤＢＮ−６５０ＲＸ、ＤＡＮ−８５０ＲＸ、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、テイカ製酸化チタンＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製酸化鉄ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２  Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられる。
【００３５】
上述のように支持体上に複数の塗布層を形成させることは高記録密度の磁気記録媒体を製造するうえで有効である。本発明に用いられる塗布方式には特に制限はなく、下層の乾燥後に上層を設ける逐次塗布、下層及び上層を同時に行う同時塗布方式等が挙げられる。  中でも同時塗布方式は薄層の磁性層を生産性よく作り出すことができる。その同時塗布方式、即ち、ウェット・オン・ウェット方式の具体的な方法としては、
【００３６】
（１）磁性塗料で一般的に用いられるグラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布装置によりまず下層を塗布し、その層がまだ湿潤状態にあるうちに、例えば、特公平１−４６１８６号公報、特開昭６０−２３８１７９合公報及び特開平２−２６５６７２号公報に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布する方法、
【００３７】
（２）特開昭６３−８８０８０号公報、特開平２−１７９７１号公報及び特開平２−２６５６７２号公報に開示されているような塗布液通液スリットを二つ内蔵した塗布ヘッドにより、下層の塗布液及び上層の塗布液をほぼ同時に塗布する方法、
【００３８】
（３）特開平２−１７４９６５号公報に開示されているバックアップロール付きエクストルージョン塗布装置により、上層及び下層をほぼ同時に塗布する方法、等が挙げられる。
【００３９】
ウェット・オン・ウェット方式で塗布する場合、磁性層用塗布液と非磁性層用塗布液の流動特性はできるだけ近い方が、塗布された磁性層と非磁性層の界面の乱れがなく厚さが均一な厚み変動の少ない磁性層を得ることができる。塗布液の流動特性は、塗布液中の粉末粒子と結合剤の組み合わせに強く依存するので、特に、非磁性層に使用する非磁性粉末の選択に留意する必要がある。
【００４０】
本磁気記録媒体の支持体は、通常、３〜１００μｍ、テープ状で使用する時は望ましくは３〜２０μｍ、フレキシブルディスクとして使用する場合は２５〜８０μｍが好ましく、支持体上に設ける非磁性層は、通常、０．５〜５．０μｍ、好ましくは０．５〜３μｍである。また、前記磁性層及び前記非磁性層以外の他の層を目的に応じて形成することもできる。例えば、支持体と下層の間に密着性向上のための下塗り層を設けてもかまわない。この厚みは通常、０．０１〜１μｍ、好ましくは０．０５〜０．３μｍである。また、磁性層を担持する面とは反対側の支持体面上にバック層を設けてもかまわない。この厚みは通常、０．１〜１．０μｍ、好ましくは０．３〜１．０μｍである。これらの下塗り層、バック層は公知のものが使用できる。円盤状磁気記録媒体の場合、両面もしくは片面に上記磁性層を含む構成を設けることができる。
【００４１】
本発明で使用される支持体には特に制限はなく、通常使用されているものを用いることができる。支持体を形成する素材の例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド（芳香族ポリアミドを含む）、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリサルホン、ポリエーテルサルホン等の各種合成樹脂のフィルム、およびアルミニウム箔、ステンレス箔などの金属箔を挙げることができる。
【００４２】
本発明の目的を有効に達成するには、支持体の表面粗さは、中心線平均表面粗さＲａ（カットオフ値０．２５ｍｍ）で０．０３μｍ以下、望ましく０．０２μｍ以下、さらに望ましく０．０１μｍ以下である。また、これらの支持体は単に前記中心線平均表面粗さが小さいだけではなく、１μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロールされるものである。これらのフィラーの一例としては、Ｃａ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機樹脂微粉末があげられる。本発明に用いられる支持体のウエブ走行方向のＦ−５値は好ましくは５〜５０ｋｇ／ｍｍ２（４９〜４９０ＭＰａ）、ウエブ幅方向のＦ−５値は好ましくは３〜３０ｋｇ／ｍｍ２（２９．４〜２９４ＭＰａ）であり、ウエブ長手方向のＦ−５値がウエブ幅方向のＦ−５値より高いのが一般的であるが、特に幅方向の強度を高くする必要があるときはその限りでない。
【００４３】
また、支持体のウエブ走行方向および幅方向の１００℃、３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに望ましくは１．５％以下、８０℃、３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに望ましくは０．５％以下である。破断強度は両方向とも５〜１００ｋｇ／ｍｍ２（４９〜９８０ＭＰａ）、弾性率は１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ２（９８０〜１９６００ＭＰａ）が望ましい。
【００４４】
本発明で用いられる有機溶媒は任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン等のケトン類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノール、などのアルコール類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコール等のエステル類、グリコールジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は必要ならば各層でその種類、量を変えてもかまわない。下層に揮発性の高い溶媒をもちい表面性を向上させる、下層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性をあげる、磁性層に溶解性パラメータの高い溶媒を用い充填度を上げるなどがその例としてあげられるがこれらの例に限られたものではないことは無論である。
【００４５】
本発明の磁気記録媒体は、前記強磁性粉末と結合剤、及び必要ならば他の添加剤と共に有機溶媒を用いて混練分散し、磁性塗料を支持体上に塗布し、必要に応じて配向、乾燥して得られる。
【００４６】
本発明の磁気記録媒体の磁性塗料、非磁性塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する磁性体、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入してもよい。
【００４７】
磁性塗料の混練分散に当たっては各種の混練機が使用される。例えば、二本ロールミル、三本ロールミル、ボールミル、ペブルミル、トロンミル、サンドグラインダー、ゼグバリ（Ｓｚｅｇｖａｒｉ）、アトライター、高速インペラー分散機、高速ストーンミル、高速衝撃ミル、ディスパー、ニーダー、高速ミキサー、ホモジナイザー、超音波分散機などを用いることができる。
【００４８】
混練工程では連続ニーダや加圧ニーダなど強い混練力をもつものを使用することが、磁気記録媒体の高いＢｒを得る上で好ましい。連続ニーダまたは加圧ニーダを用いる場合は磁性体と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）および磁性体１００質量部に対し１５〜５００質量部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報、特開昭６４−７９２７４号公報に記載されている。本発明では、特開昭６２−２１２９３３に示されるような同時重層塗布方式を用いることによりより効率的に生産することが出来る。
【００４９】
本発明の磁気記録媒体の磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ２以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ２以下であり、磁性層に含まれる残留溶媒が非磁性層に含まれる残留溶媒より少ないほうが好ましい。
【００５０】
磁性層が有する空隙率は下層、最上層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは１０容量％以下である。非磁性層の空隙率が磁性層の空隙率より大きいほうが好ましいが非磁性層の空隙率が５容量％以上であれば小さくてもかまわない。
【００５１】
本発明は、目的に応じ下層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に下層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。
【００５２】
このような方法により、支持体上に塗布された磁性層等は必要により層中の強磁性粉末を配向させる処理を施したのち、形成した磁性層を乾燥する。又必要により表面平滑化加工を施したり、所望の形状に裁断したりして、本発明の磁気記録媒体を製造する。
【００５３】
磁性層の０．５％伸びでの弾性率はウエブ塗布方向、幅方向とも望ましくは１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ２（９８０〜１９６００ＭＰａ）、破断強度は望ましくは１〜３０ｋｇ／ｃｍ２（９８〜２９４０ｋＰａ）、磁気記録媒体の弾性率はウエブ塗布方向、幅方向とも望ましくは１００〜１５００ｋｇ／ｍｍ２（９８０〜１４７００ＭＰａ）、残留のびは望ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は望ましくは１％以下、さらに望ましくは０．５％以下、もっとも望ましくは０．１％以下である。
【００５４】
本発明の磁気記録媒体は、ビデオ用途、コンピューターのバックアップ用途などのテープであってもデーター記録用途のフロッピーディスクや磁気ディスクであってもよいが、ドロップアウトの発生による信号の欠落が致命的となるデジタル記録用途の媒体に対しては特に有効である。更に、非磁性層と磁性層の重層構成で、磁性層の厚さを特定することにより、電磁変換特性が高い、オーバーライト特性が優れた、高密度で大容量の磁気記録媒体を得ることができる。
本発明の新規な特長を以下の実施例で具体的に説明する。
【実施例】
【００５５】
以下、本発明の具体的実施例を説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
以下のような磁性塗料の作製、磁気テープの製法によって得られた、磁性層面内に対する磁化容易軸の角度（θ）、磁性層厚（δｍａｇ）の異なるテープにおいて、記録ヘッド（ＭＩＧ、トラック幅１０μｍ）と再生ヘッド（ＡＭＲ、トラック幅５μｍ）を搭載したドラムテスタによって測定した例を示す。最短記録波長（λｍｉｎ）は３６０ｎｍとした。
エラーレートはＢＥＳ社製ボード（Ｍ５Ｗ）を用いて測定を行った。オーバーライトは、記録波長１．８μｍの記録信号を記録波長３６０ｎｍの記録信号でオーバーライトする条件で行った。初期の記録波長１．８μｍの再生信号出力をＡ、オーバーライト後の記録波長１．８μｍの再生信号出力をＢとしたとき、オーバーライトはＢ−Ａとする。
測定結果を下記に示す。磁性層厚が１５０ｎｍ及びλｍｉｎが３６０ｎｍで磁化容易軸の角度が０度のときのエラーレートに対して相対値で−１桁以下を本発明の目的にかなうものとすると、磁化容易軸の角度が５度から４５度の範囲で目的を達する（表１）。ここで、磁性層厚を１５０ｎｍとしたことは、磁化容易軸の角度の変化に対するエラーレートの関係（改善効果）をみるために仮に設定したものであり、この磁性層厚は１５０ｎｍである必要はなく、例えば、２００ｎｍであっても表１の関係は満足する。また、磁化容易軸の角度が０度のときのエラーレート（通常、１０−４程度）を基準にした理由は、通常のシステムで採用している磁気記録媒体の磁化容易軸の角度が０度であるからである。このことは、後述の表２についても同様である。
【００５６】
また、磁性層厚が１５０ｎｍ、磁化容易軸の角度が０度のときのオーバーライト（Ｏ／Ｗ）（−２０ｄＢ）に対して相対値で０ｄＢ以下を本目的にかなうものとすると、エラーレートが目的に達する磁化容易軸の角度が５度から４５度の範囲で、かつ磁性層厚が最短記録波長の１／６にあたる６０ｎｍから１／２にあたる１８０ｎｍの範囲でオーバーライトは目的を達することがわかった（表２）。
【００５７】
【表１】
2005222610.tif 000002
【００５８】
【表２】
2005222610.tif 000003
【００５９】
＜磁性塗料の作製＞
バリウムフェライト磁性粉                                      １００部
ポリウレタン樹脂                                                １４部
質量平均分子量：１００００
スルホン酸官能基：０．５ｍｅｑ／ｇ
研磨剤                                                            ８部
カ−ボンブラック（粒子サイズ：０．０１５μｍ）                ０．５部
＃５５（旭カーボン社製）
ステアリン酸                                                  ０．５部
ブチルステアレート                                                ２部
メチルエチルケトン                                            １８０部
シクロヘキサノン                                              １００部
【００６０】
非磁性塗料  
非磁性粉体：α酸化鉄                                          １００部
平均一次粒子径：０．０９μｍ、ＢＥＴ法による比表面積：５０ｍ２／ｇ
ｐＨ：７
ＤＢＰ吸油量：２７〜３８ｍｌ／１００ｇ、
表面処理層：Ａｌ２Ｏ３が粒子全体に対して８質量％存在
カ−ボンブラック                                                ２５部
コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製）
塩化ビニル共重合体：ＭＲ１０４（日本ゼオン社製）                １３部
ポリウレタン樹脂：ＵＲ８２００（東洋紡社製）                      ５部
フェニルホスホン酸                                            ３．５部
ブチルステアレート                                                １部
ステアリン酸                                                      ２部
メチルエチルケトン                                            ２０５部
シクロヘキサノン                                              １３５部
【００６１】
＜テープの製法＞
上記の塗料のそれぞれについて、各成分をニーダで混練した。１．０ｍｍφのジルコニアビーズを分散部の容積に対し８０％充填する量を入れた横型サンドミルにポンプで通液し、２０００ｒｐｍで１２０分間、（実質的に分散部に滞留した時間）分散させた。得られた分散液にポリイソシアネートを非磁性層の塗布液には２．５部、さらにメチルエチルケトン３部を加え，１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。
得られた非磁性層塗布液を、４μｍポリエチレンナフタレートベース上に乾燥後の厚さが１．５μｍになるように塗布乾燥させた後、磁性層の厚さが３０〜２１０ｎｍになるように逐次重層塗布をおこない、磁性層がまだ湿潤状態にあるうちに６００ｍＴの磁力を持つコバルト磁石と６００ｍＴの磁力を持つソレノイドにより面内配向させ、その後６００ｍＴのコバルト磁石で、垂直方向に磁界を印加して、斜めに配向し、乾燥が終了するまでそれを保持した。次いで７段のカレンダで温度９０℃、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）にて処理を行った。その後、厚み０．５μｍのバック層（カーボンブラック  平均粒子サイズ：１７ｎｍ  １００部、炭酸カルシウム  平均粒子サイズ：４０ｎｍ  ８０部、αアルミナ  平均粒子サイズ：２００ｎｍ  ５部をニトロセルロース樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネートに分散）を塗布した。３．８ｍｍの幅にスリットし、スリット品の送り出し、巻き取り装置を持った装置に不織布とカミソリブレードが磁性面に押し当たるように取り付け、テープクリーニング装置で磁性層の表面のクリーニングを行い、磁気テープ媒体を得た。なお、この際に磁化容易軸の角度を変えるために面内配向磁界強度と垂直方向磁界強度並びにそれぞれの磁場配向時の乾燥条件を調節した。