(57)【要約】【課題】  軟磁性下地層にその磁化容易軸が半径方向を向くように磁気異方性を付与して低ノイズ化を図ると共に、磁気ヘッドの安定浮上を確保して信頼性を高める。【解決手段】  非磁性ディスク基板１上に軟磁性下地層２が形成されてなる垂直磁気記録媒体用ディスク基板１０において、非磁性ディスク基板１は、半径方向の微細な筋状の凹凸が主体として形成されてなる表面形状を有し、軟磁性下地層２は、円周方向の微細な筋状の凹凸が主体として形成されてなる表面形状を有する。【選択図】        図１
2005353177.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性ディスク基板上に軟磁性下地層が形成されてなる垂直磁気記録媒体用ディスク基板において、
前記非磁性ディスク基板は、半径方向の微細な筋状の凹凸が主体として形成されてなる表面形状を有し、
前記軟磁性下地層は、円周方向の微細な筋状の凹凸が主体として形成されてなる表面形状を有することを特徴とする垂直磁気記録媒体用ディスク基板。
【請求項２】
前記非磁性ディスク基板の表面粗さＲａが０．８ｎｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載の垂直磁気記録媒体用ディスク基板。
【請求項３】
前記軟磁性下地層の表面粗さＲａが０．３ｎｍ以下であることを特徴とする請求項２に記載の垂直磁気記録媒体用ディスク基板。
【請求項４】
非磁性ディスク基板上に軟磁性下地層を形成してなる垂直磁気記録媒体用ディスク基板の製造方法において、
前記非磁性ディスク基板の表面に半径方向の微細な筋状の凹凸を形成する半径方向筋状凹凸形成工程と、
該半径方向の微細な筋状の凹凸が形成された非磁性ディスク基板上に、無電解めっき法又は電解めっき法により軟磁性下地層をめっきするめっき工程と、
該めっきされた軟磁性下地層の表面を研磨する研磨工程と、
該研磨される軟磁性下地層の表面に円周方向の微細な筋状の凹凸を形成する円周方向筋状凹凸形成工程とを備えることを特徴とする垂直磁気記録媒体用ディスク基板の製造方法。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれかに記載の垂直磁気記録媒体用ディスク基板上に、少なくとも磁気記録層を備え、前記軟磁性下地層の円周方向の微細な筋状の凹凸が主体として形成されてなる表面形状が最表面に反映されていることを特徴とする垂直磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、垂直磁気記録媒体用ディスク基板並びにその基板の製造方法及びその基板を用いた垂直磁気記録媒体に関し、特に、ハードディスク装置（ＨＤＤ）に用いて好適なものである。
【背景技術】
【０００２】
磁気記録媒体の高密度化を実現する技術として、従来の長手磁気記録方式に代えて、垂直磁気記録方式が注目されつつある。
特に、情報を記録する役割を担う磁気記録層の下側に、磁気ヘッドから発生する磁束を通しやすい軟磁性裏打ち層（又は軟磁性下地層）と呼ばれる軟磁性膜を付与した二層垂直磁気記録媒体は、磁気ヘッドの発生磁界強度とその磁界勾配を増加させ、記録分解能を向上させるとともに媒体からの漏洩磁束も増加させることから、高密度記録が可能な垂直磁気記録媒体として好適であることが知られている（例えば特許文献１参照）。
従来、軟磁性裏打ち層としては、ＮｉＦｅ合金やＣｏを主体とするアモルファス合金等が一般的に用いられている。これらの材料を用いる場合、記録再生特性の観点から０．１μｍ〜数μｍの膜厚が必要とされている。このような比較的厚い膜厚の軟磁性層は、従来の磁気記録媒体の製造に用いられているスパッタ法では、安価に大量生産することが非常に困難であり、無電解めっき法による低コストでの大量生産が課題となっている。
【０００３】
これまでのところ、この課題に対し、例えば特許文献２には、Ｎｉ−Ｆｅ−Ｐからなる軟磁性材料膜の無電解めっきによる生産の可能性が開示されている。
また、本件出願人は、より安定して無電解めっきにより大量生産できるめっき膜として、Ｐ濃度を低くした軟磁性Ｎｉ−Ｐ（以下「Ｎｉ−低Ｐ」ともいう。）膜について検討を行い、Ｐ濃度を１ｗｔ％以上６ｗｔ％以下にすることで、軟磁性裏打ち層として十分に機能する軟磁気特性を有し得ることを示した（特許文献３参照）。
このような二層垂直磁気記録媒体の軟磁性裏打ち層は、磁気記録層を構成する磁性膜を垂直に磁化するための磁界の通過経路の役割を担っているから、記録・再生効率を向上し、低ノイズの優れた記録・再生特性を得るためには、その軟磁性膜の特性として、垂直磁気ディスク媒体では特にディスクの円周方向の透磁率を高くすることが要望されている。従って、軟磁性膜の磁化容易軸がディスクの半径方向を向くように磁気異方性を付与する方法が必要とされている。
【０００４】
従来、上述したような二層膜構造の垂直磁気ディスク媒体における軟磁性膜の磁化容易軸がディスクの半径方向を向くように磁気異方性を付与する方法としては、特許文献４，５に記載されているように、軟磁性裏打ち層の上層や下層に、Ｃｏ合金等の強磁性層を形成しこれを所望の方向に磁化させるように着磁する方法や、反強磁性薄膜を形成し交換結合を利用して磁化をピン止めする方法が提案されている。
また、長手方向を媒体径方向とする狭小幅で浅底の直線溝を基板の表面に多数設けることにより、基板上に設けられる軟磁性裏打ち層の磁化容易軸が溝方向の媒体径方向に強制設定され、軟磁性裏打ち層の透磁率が媒体円周方向で均一かつ高い値となるようにするもの（特許文献６参照）も知られている。
さらに、磁気ヘッドの吸着を防止するために、垂直磁気記録媒体のディスク基板の表面を平滑面にして軟磁性層の表面に微小凹凸を設けるもの（特許文献７参照）も知られている。
【特許文献１】特公昭５８−９１号公報
【特許文献２】特開平７−６６０３４号公報
【特許文献３】特願２００３−０２７４８６号明細書
【特許文献４】特開平６−１８０８３４号公報
【特許文献５】特開平１０−２１４７１９号公報
【特許文献６】特開平２−１２６４２１号公報
【特許文献７】特開平２−２３５１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述の特許文献４，５に記載のものは、スパッタ法により成膜するものであるから、軟磁性裏打ち層（軟磁性下地層）を無電解めっき法により形成することにより低コストで大量生産を可能とするために採用することは困難である。
さらに、特許文献６のものは、基板表面に半径方向の溝を形成して軟磁性裏打ち層にその磁化容易軸が半径方向を向くように磁気異方性を付与するものであるが、その軟磁性裏打ち層を無電解めっき法で成膜するだけでは、基板表面の半径方向の溝や軟磁性裏打ち層のめっき時にその表面に生じる異常突起などの凹凸形状が媒体の最表面に反映されることは避けられない。その場合、記録・再生用の電磁変換素子を搭載したスライダからなる磁気ヘッドは、その媒体の最表面上を円周方向を主体として浮上走行するので、その最表面の凹凸形状により、浮上量変動を引き起こしたり、実効的なスペーシングが減少し、その結果、ヘッドとディスクの接触確率が増加して信頼性が低下してしまうといった問題を有している。
【０００６】
また、特許文献７においては、軟磁性層を積層するディスク基板の表面を粗面にした場合の問題点を解決するために、ディスク基板の表面を平滑面にして軟磁性層の表面を微小凹凸状の粗面に形成するものであるから、ディスク基板の表面を平滑面にした場合の軟磁性層の磁化容易軸方向によるノイズの問題点を有している。
本発明は、上述の点に鑑み、低コストで大量生産を可能とするために軟磁性下地層を無電解めっき法により成膜する場合であっても、軟磁性下地層にその磁化容易軸が半径方向を向くように磁気異方性を付与して低ノイズ化を図ると共に、磁気ヘッドの安定浮上を確保して信頼性を高めることが可能な垂直磁気記録媒体用ディスク基板並びにその基板の製造方法及びその基板を用いた垂直磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上述の目的を達成するため、本発明の垂直磁気記録媒体用ディスク基板は、非磁性ディスク基板上に軟磁性下地層が形成されてなる垂直磁気記録媒体用ディスク基板において、非磁性ディスク基板は、半径方向の微細な筋状の凹凸が主体として形成されてなる表面形状を有し、軟磁性下地層は、円周方向の微細な筋状の凹凸が主体として形成されてなる表面形状を有することを特徴とする。
ここで、非磁性ディスク基板の表面粗さＲａが０．８ｎｍ以上であり、軟磁性下地層の表面粗さＲａが０．３ｎｍ以下であることが好ましい。
そして、非磁性ディスク基板は、ディスク状の非磁性基体上に非磁性下地層が形成されてなるものとすることができ、非磁性ディスク基板又はディスク状の非磁性基体としては、アルミニウム合金基板又はガラス基板等が、非磁性下地層としては、非磁性Ｎｉ−Ｐめっき膜等が、軟磁性下地層としては、軟磁性Ｎｉ−Ｐめっき膜又は軟磁性Ｎｉ−Ｃｏ−Ｐめっき膜等が好適に用いられる。
【０００８】
また、本発明の垂直磁気記録媒体用ディスク基板の製造方法は、非磁性ディスク基板上に軟磁性下地層を形成してなる垂直磁気記録媒体用ディスク基板の製造方法において、非磁性ディスク基板の表面に半径方向の微細な筋状の凹凸を形成する半径方向筋状凹凸形成工程と、半径方向の微細な筋状の凹凸が形成された非磁性ディスク基板上に、無電解めっき法又は電解めっき法により軟磁性下地層をめっきするめっき工程と、めっきされた軟磁性下地層の表面を研磨する研磨工程と、研磨される軟磁性下地層の表面に円周方向の微細な筋状の凹凸を形成する円周方向筋状凹凸形成工程とを備えることを特徴とする。
ここで、半径方向筋状凹凸形成工程及び円周方向筋状凹凸形成工程には、周知のテクスチャ加工装置が好適に用いられ、研磨工程には、研磨方向がランダムである通常の平面研磨装置を用い、研磨工程の後に円周方向筋状凹凸形成工程を設けることが好ましいが、研磨方向を円周方向とすることにより、研磨工程が円周方向筋状凹凸形成工程を兼ねるものとすることもできる。
【０００９】
さらに、本発明の垂直磁気記録媒体は、本発明の垂直磁気記録媒体用ディスク基板上に、少なくとも磁気記録層を備え、軟磁性下地層の円周方向の微細な筋状の凹凸が主体として形成されてなる表面形状が最表面に反映されていることを特徴とする。
本発明においては、非磁性ディスク基板が、半径方向の微細な筋状の凹凸が主体として形成されてなる表面形状を有するので、その表面上に形成される軟磁性下地層には、磁化容易軸がその微細な筋状の凹凸に沿って半径方向に向けられてなる磁気異方性が付与される。
その軟磁性下地層は、円周方向の微細な筋状の凹凸が主体として形成されてなる表面形状を有するので、その表面上に磁気記録層等の薄膜が形成されてなる媒体の最表面には、その円周方向の微細な筋状の凹凸が主体として形成されてなる表面形状が反映される。
【００１０】
従って、軟磁性下地層の表面形状を円周方向の微細な筋状の凹凸を主体とするものに形成することにより、媒体の最表面には、軟磁性下地層の表面形状が反映され、非磁性ディスク基板の表面形状や軟磁性下地層の成膜時にその表面に生じる異常突起形状等は反映されないようにできるので、非磁性ディスク基板表面の半径方向の微細な筋状の凹凸を十分に大きな、好ましくはその表面粗さＲａが０．８ｎｍ以上のものとして、磁化容易軸が半径方向に向けられてなる磁気異方性を軟磁性下地層に付与すると共に、軟磁性下地層の円周方向の微細な筋状の凹凸が主体として形成されてなる表面形状を媒体の最表面に反映させ、その最表面上に円周方向を主体として浮上走行する磁気ヘッドの浮上性を向上させることができる。
その軟磁性下地層の円周方向の微細な筋状の凹凸は、軟磁性下地層の磁気容易軸方向に影響を与えないようにできる限り小さくし、好ましくはその表面粗さＲａを０．３ｎｍ以下とすることが、ノイズ特性を向上し、かつ磁気ヘッドの浮上性を向上させるうえで好ましい。
【００１１】
また、めっきされた軟磁性下地層の表面を研磨する研磨工程を設ける場合には、非磁性ディスク基板の表面形状が反映されることによる表面形状やめっき時に生じる異常突起形状等が除去されるので、非磁性ディスク基板の表面形状に左右されることなく、軟磁性下地層の表面形状を最適化して、ノイズ特性を向上すると共に磁気ヘッドの浮上性を向上させることができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、軟磁性下地層を無電解めっき法により成膜する場合であっても、軟磁性下地層にその磁化容易軸が非磁性ディスク基板表面の半径方向の微細な筋状の凹凸に沿って半径方向に向けられてなる磁気異方性を付与して低ノイズ化を図ると共に、軟磁性下地層の円周方向の微細な筋状の凹凸が主体として形成されてなる表面形状を媒体の最表面に反映させて磁気ヘッドの安定浮上を確保することで信頼性を高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の好ましい実施形態について説明する。
（基板の実施形態）
まず、本発明の垂直磁気記録媒体用ディスク基板について説明する。垂直磁気記録媒体用ディスク基板として好ましい構造の断面模式図を図１及び図２に示す。但し、これはディスク基板の例示として示すものであり、本発明の垂直磁気記録媒体用ディスク基板をこれに限定するものではない。
図１に示す実施形態の垂直磁気記録媒体用ディスク基板１０は、非磁性ディスク基板１上に軟磁性下地層２を積層してなる構造を有する。図示はしていないが、軟磁性下地層２は、非磁性ディスク基板１の他面側にも同様に設けることができる。
非磁性ディスク基板１としては、一般的な磁気記録媒体用ディスク基板の基体に用いられる材質、例えばアルミニウム合金や強化ガラス、結晶化ガラスなどを用いることができる。また、ポリカーボネート、ポリオレフィン及びその他のプラスチック樹脂を射出成形することで作製した基板を用いることもできる。
【００１４】
この非磁性ディスク基板１の表面には、図４に示すように、半径方向の微細な筋状の凹凸１３を主体として形成する。この半径方向の微細な筋状の凹凸１３は、その上に成膜する軟磁性下地層２にその磁化容易軸が半径方向を向くように磁気異方性を付与するためのものであって、例えば、多数の半径方向の微細な筋状の研磨痕、いわゆる半径方向のテクスチャからなるものとすることができ、基板を射出成形する場合には、その成形型に半径方向の微細な筋状の凹凸を設けてその凹凸形状を転写したものとすることができる。
半径方向の微細な筋状の凹凸１３が半径方向のテクスチャからなるものとする場合には、図６に示すようなテクスチャ加工装置を用いて基板回転方向の送り速度を遅くし、半径方向への遥動を早くすることで形成することができる。
また、軟磁性下地層２の磁化容易軸の方向を半径方向に制御するためには、半径方向の微細な筋状の凹凸１３は、それを構成する個々の筋状の凹凸の基板半径方向と成す角度が主体として０°から３０°の範囲内にあるものとすることが望ましく、その半径方向の微細な筋状の凹凸１３が形成された非磁性ディスク基板１の表面粗さＲａは、０．８ｎｍ以上であることが望ましい。
【００１５】
なお、図６に示すテクスチャ加工装置は、周知・慣用されているものであるが、被加工基板としてのディスク基板５１を回転させながら加工液供給部５４からダイヤモンド砥粒などを含むテクスチャ加工液５５を供給して押圧ローラ５３により研磨テープ５２をディスク基板５１の表面に押圧し、その状態で押圧ローラ５３により研磨テープ５２をディスク基板５１の半径方向に揺動することにより、ディスク基板５１の表面にテクスチャ加工を施すもので、ディスク基板５１の回転速度と研磨テープ５２の半径方向の揺動速度との相対速度を制御することにより、そのテクスチャ加工による研磨痕からなるテクスチャを半径方向にも円周方向にも形成することができる。
そして、この半径方向の微細な筋状の凹凸１３からなる表面形状を有する非磁性ディスク基板１上に、Ｎｉ−低Ｐ、Ｎｉ−Ｂ、Ｎｉ−Ｃｏ−Ｐ、Ｎｉ−Ｆｅ−Ｃｏ−Ｐなどからなる軟磁性下地層２を、無電解めっき法又は電解めっき法により積層する。無電解めっき法としては、従来から知られているような、次亜リン酸ナトリウムを還元剤とする通称カニゼンめっき法を用いことができる。
【００１６】
次に、軟磁性下地層２の表面を、遊離砥粒を用いたポリッシングにより平滑化する。これには、比較的Ｐ濃度が高い非磁性Ｎｉ−Ｐ（以下「Ｎｉ−高Ｐ」ともいう。）層が両面に設けられている従来のハードディスク基板の両面を同時に研磨する平面研磨装置を用いることができ、ほぼ同様なポリッシング工程を行うことで、優れた表面平滑性を得ることができる。
なお、軟磁性下地層２の膜厚は、その構成により違いはあるが、無電解めっき法又は電解めっき法により積層し、垂直磁気記録媒体の軟磁性裏打ち層として機能させるためには、０．５μｍ以上であることが望ましい。また、その膜厚の上限は、特に規定されないが製造コストの観点から７μｍ以下とすることが望ましい。
さらに、この軟磁性下地層２の表面に、図５に示すように、円周方向の微細な筋状の凹凸１４を主体として形成する。この微細な筋状の凹凸１４は、その凹凸形状を媒体の最表面に反映させて磁気ヘッドの浮上性を安定化するためのものであって、例えば、同心円状の多数の円周半径方向の微細な筋状の研磨痕、いわゆる円周方向のテクスチャからなるものとすることができる。円周方向のテクスチャからなるものとする場合には、図６に示すようなテクスチャ加工装置の基板回転方向の送り速度を早くし、半径方向への遥動を遅くすることで形成することができる。
【００１７】
ここで、軟磁性下地層２の磁化容易軸方向に影響を与えずに、さらに、電磁変換素子を搭載したスライダからなる磁気ヘッドの浮上量変動を引き起こしたり、凸部の存在により実効的なスペーシングを減少し、その結果、ヘッドとディスクの接触確率が増加して信頼性が低下してしまうといった問題を引き起こさないようにするためには、円周方向の微細な筋状の凹凸１４は、それを構成する個々の筋状の凹凸の基板半径方向と成す角度が主体として８０°から９０°の範囲内にあるものとすることが望ましく、その円周方向の微細な筋状の凹凸１４が形成された軟磁性下地層２の表面粗さＲａは、０．３ｎｍ以下であることが望ましい。
（基板の別の実施形態）
また別の実施形態として、図２に示すように、ディスク状の非磁性基体１１上に、軟磁性下地層２との密着性を高めるための非磁性下地層１２を形成して非磁性ディスク基板１とし、その非磁性ディスク基板１上に軟磁性下地層２を形成して垂直磁気記録媒体用ディスク基板１０とすることができる。図示はしてないが、非磁性下地層１２及び軟磁性下地層２は、非磁性基体１の他面側にも同様に設けることができる。
【００１８】
この実施形態では、非磁性ディスク基板１の表面は非磁性下地層１２の表面であるから、上述の図１の実施形態で非磁性ディスク基板１の表面に形成する半径方向の微細な筋状の凹凸１３は、非磁性下地層１２の表面に形成する。その半径方向の微細な筋状の凹凸１３と軟磁性下地層２の態様は、図１の実施形態と同様である。
また、ディスク状の非磁性基体１１としては、図１の実施形態の非磁性ディスク基板１と同様のものを用いることができ、非磁性下地層１２としては、Ｎｉ−高Ｐからなるものとすることが、従来の基板に採用されている材料であることから好ましい。
なお、さらに別の実施形態として、半径方向の微細な筋状の凹凸１３による作用効果を損なうものでないならば、非磁性ディスク基板１と軟磁性下地層２の間に他の層が介在してもよいことはいうまでもない。
（媒体の実施形態）
次に、本発明の垂直磁気記録媒体用ディスク基板を用いた垂直磁気記録媒体の好ましい実施形態の構造の断面模式図を図３に示す。但し、図３に示した垂直磁気記録媒体は例示として示すものであり、本発明の垂直磁気記録媒体をこれに限定するものではない。
【００１９】
図３に示す実施形態の垂直磁気記録媒体は、図１又は図２に示す垂直磁気記録媒体用ディスク基板１０の上に、非磁性シード層２０、磁気記録層３０及び保護層４０を順次積層してなる構造を有する。図示はしていないが、非磁性シード層２０、磁気記録層３０及び保護層４０は、基板１０の他面側にも同様に設けることができる。
非磁性シード層２０には、磁気記録層３０の結晶配向や結晶粒径等を好ましく制御するための材料を、特に制限なく用いることができる。例えば、磁気記録層３０がＣｏＣｒＰｔ系合金からなる垂直磁化膜であれば、非磁性シード層２０としてはＣｏＣｒ系合金やＴｉ、あるいはＴｉ系合金、Ｒｕやその合金等を使用することができ、磁気記録層３０がＣｏ系合金等とＰｔあるいはＰｄ等を積層した、いわゆる積層垂直磁化膜である場合には、非磁性シード層２０としてＰｔやＰｄ等を用いることができる。また、非磁性シード層２０の上や下に更にプレシード層や中間層等を設けることも、本発明の効果を妨げるものではない。
【００２０】
磁気記録層３０としては、垂直磁気記録媒体としての記録再生を担うことができるいかなる材料をも用いることができる。すなわち、上述のＣｏＣｒＰｔ系合金や酸化物を添加したＣｏＣｒＰｔ系合金、Ｃｏ系合金等とＰｔあるいはＰｄ等を積層した膜等のいわゆる垂直磁化膜を用いることができる。
保護層４０としては、例えばカーボンを主体とする薄膜が用いられる。また、そのカーボンを主体とする薄膜と、その上に例えばパーフルオロポリエーテル等の液体潤滑剤を塗布してなる液体潤滑剤層とからなるものとすることもできる。
なお、これらの非磁性シード層２０、磁気記録層３０及び保護層４０はスパッタリング法、ＣＶＤ法、真空蒸着法、めっき法などのいずれの薄膜形成方式でも形成することが可能である。
【００２１】
このようにして作製された垂直磁気記録媒体は、軟磁性下地層にその磁化容易軸が非磁性ディスク基板表面の半径方向の微細な筋状の凹凸に沿って半径方向に向けられてなる磁気異方性を付与して低ノイズ化を図ると共に、軟磁性下地層の円周方向の微細な筋状の凹凸からなる表面形状を媒体の最表面に反映させて磁気ヘッドの安定浮上を確保することができ、かつ、軟磁性下地層が量産性の高い無電解めっき法により形成できることから、非常に安価に製造することができる。
【実施例】
【００２２】
以下に、図２に示す垂直磁気記録媒体用ディスク基板１０及びその基板１０を用いた図３に示す垂直磁気記録媒体について、本発明の実施例を記す。
〔実施例１〕
（基板の参考例）
図２に示す非磁性基体１１として、公称直径３．５インチのＡｌ−５Ｍｇ（ｗｔ％）合金板を用い、Ｐ濃度１２．５％のＮｉ−高Ｐめっき液を用いてＰ濃度１２．５ｗｔ％、膜厚９μｍの非磁性下地層１２としてのＮｉ−高Ｐ層を無電解めっき法により形成した後に、Ｐ濃度３．７％のＮｉ−低Ｐめっき液を用いてＰ濃度４．５ｗｔ％、膜厚３μｍの軟磁性下地層２としてのＮｉ−低Ｐ層を無電解めっき法により形成し、遊離砥粒を用いたポリッシングにより１μｍ研磨して表面粗さＲａを０．３ｎｍ、膜厚を２μｍとし、Ｎｉ−Ｐ層の総膜厚を１１μｍとした基板構成とした。
【００２３】
この構成において、図６に示すテクスチャ加工装置を用いてＮｉ−高Ｐ層の表面に半径方向のテクスチャ加工を施すことにより、参考例の基板を作製した。また、比較例として、テクスチャ加工を施さない基板を作製した。
（媒体の参考例）
そして、それらの基板上に、図３に示すように、非磁性シード層２０、磁気記録層３０及び保護層４０を順次積層することにより、参考例及び比較例（基準）の媒体を作製した。
すなわち、上述の基板をスパッタリング装置内に導入し、ランプヒータを用いて基板表面温度が２００℃になるように１０秒間加熱を行った後、Ｔｉターゲットを用いてＴｉからなる非磁性シード層２０を１０ｎｍ、引き続きCo70Cr20Pt10ターゲットを用いてＣｏＣｒＰｔ合金からなる磁気記録層３０を３０ｎｍ成膜し、最後に、保護層４０として、カーボンターゲットを用いてカーボンからなる保護膜を８ｎｍ成膜後、真空装置から取り出した。これらのスパッタリング成膜はすべてＡｒガス圧５ｍＴｏｒｒ下でＤＣマグネトロンスパッタリング法により行った。その後、パーフルオロポリエーテルからなる液体潤滑剤層２ｎｍをディップ法により形成することにより、参考例及び比較例（基準）の媒体を作製した。
（参考例の評価）
これら媒体に関して、３７０ＫＦＣＩ（Flux Change per inch）の記録密度における対信号雑音比ＳＮＲを測定し、基準（比較例）に対し、±０．３ｄＢを同等、＞＋０．３ｄＢを良い、＜−０．３ｄＢを悪いとして判定することにより、ノイズ評価を行った。
【００２４】
その測定・評価結果として、半径方向テクスチャ（下地テクスチャ）条件とノイズとの関係を表１に示す。なお、各表面粗さＲａは、上層を成膜する前に原子間力顕微鏡ＡＦＭを用いて測定した。以下も同様である。
ノイズ特性は、テクスチャ無しの基準媒体（比較例）と比較して、Ｒａを０．８ｎｍ以上、また、テクスチャ角を３０°以内とすることで、基準媒体よりも良い特性を得ることができた。
【００２５】
【表１】
2005353177.tif 000003
（基板の実施例）
次に、上述の参考例において、ノイズ特性が基準媒体よりも優れている下地テクスチャ条件の参考例の基板のＮｉ−低Ｐめっき軟磁性層の表面に、図６に示すテクスチャ加工装置を用いて円周方向のテクスチャ加工を施すことにより、図２に示す垂直磁気記録媒体用ディスク基板１０の実施例の基板を作製した。また、比較例として、それぞれのテクスチャ加工を施さない基板を作製した。
（媒体の実施例）
そして、上述の参考例と同様にして、それらの基板上に、図３に示すように、非磁性シード層２０、磁気記録層３０及び保護層４０を順次積層することにより、実施例と比較例（基準）の媒体を作製した。
（実施例の評価）
これらの媒体に関して、ノイズ評価は、上述の参考例と同様に行い、ヘッドの浮上性評価は、タッチダウンポイント（周速を遅くして行き、ヘッドが墜落するポイントの高さ）を測定し、テクスチャ無しの基準媒体（比較例）に対し、良い（低い）場合を○、悪い（高い）場合を×とした。
【００２６】
その測定・評価結果として、半径方向（下地）及び円周方向（表面）テクスチャ条件とノイズ及びヘッドの浮上性との関係を表２に示す。
ノイズ特性は、テクスチャ無しの基準媒体（比較例）と比較して、Ｒａを０．３ｎｍ以下とすることで、基準媒体よりも良い特性を得ることができた。また、円周方向のテクスチャを施したため、ヘッドの浮上性は、基準媒体よりも良好な結果を得た。
ここで、テクスチャ加工においてＲａ＜０．２ｎｍの加工を施すことは、現在では技術的に困難であり、現実的ではない。そのため、Ｒａの下限については正確には規定できないが、少なくともＲａ＝０．２ｎｍにおいては、テクスチャ無しの媒体より浮上性は良い。
【００２７】
【表２】
2005353177.tif 000004
〔実施例２〕
（基板の参考例）
図２に示す非磁性基体１１として、公称直径３．５インチのＡｌ−５Ｍｇ（ｗｔ％）合金板を用い、Ｐ濃度１２．５％のＮｉ−高Ｐめっき液を用いてＰ濃度１２．５ｗｔ％、膜厚９μｍの非磁性下地層１２としてのＮｉ−高Ｐ層を無電解めっき法により形成した後に、Ｐ濃度１２％、Ｃｏ濃度６０％のＮｉＣｏＰめっき液を用いてＰ濃度１２ｗｔ％、Ｃｏ濃度６０ｗｔ％、膜厚３μｍの軟磁性下地層２としてのＮｉＣｏＰ層を無電解めっき法により形成し、遊離砥粒を用いたポリッシングにより1μｍ研磨して表面粗さＲａを０．３ｎｍ、膜厚を２μｍとし、Ｎｉ−高Ｐ層とＮｉＣｏＰ層の総膜厚を１１μｍとした基板構成とした。
【００２８】
この構成において、Ｎｉ−高Ｐ層の表面に半径方向のテクスチャ加工を施すことにより、参考例の基板を作製した。また、比較例として、テクスチャ加工を施さない基板を作製した。
（媒体の参考例）
そして、それらの基板上に、実施例１と同様にして、図３に示すように、非磁性シード層２０、磁気記録層３０及び保護層４０を順次積層することにより、参考例と比較例（基準）の媒体を作製した。
（参考例の評価）
これらの媒体に関して、ノイズ評価を実施例１と同様に行った。その測定・評価結果として、半径方向テクスチャ（下地テクスチャ）条件とノイズとの関係を表３に示す。
【００２９】
ノイズ特性は、テクスチャ無しの基準媒体（比較例）と比較して、Ｒａを０．８ｎｍ以上、また、テクスチャ角を３０°以内とすることで、基準媒体よりも良い特性を得ることができた。
【００３０】
【表３】
2005353177.tif 000005
（基板の実施例）
次に、上述の参考例において、ノイズ特性が基準媒体よりも優れている下地テクスチャ条件の参考例の基板のＮｉＣｏＰめっき軟磁性層の表面に、図６に示すテクスチャ加工装置を用いて円周方向のテクスチャ加工を施すことにより、図２に示す垂直磁気記録媒体用ディスク基板１０の実施例の基板を作製した。また、比較例として、テクスチャ加工を施さない基板を作製した。
（媒体の実施例）
そして、実施例１と同様にして、それらの基板上に、図３に示すように、非磁性シード層２０、磁気記録層３０及び保護層４０を順次積層することにより、垂直磁気記録媒体の実施例と比較例（基準）の媒体を作製した。
（実施例の評価）
これら媒体に関して、ノイズ及びヘッドの浮上性の評価を実施例１と同様に行った。
【００３１】
その測定・評価結果として、半径方向（下地）及び円周方向（表面）テクスチャ条件とノイズ及びヘッドの浮上性との関係を表４に示す。
ノイズ特性は、テクスチャ無しの基準媒体（比較例）と比較して、Ｒａを０．３ｎｍ以下とすることで、基準媒体よりも良い特性を得ることができた。また、円周方向のテクスチャを施したため、ヘッドの浮上性は、基準媒体よりも良好な結果を得た。
【００３２】
【表４】
2005353177.tif 000006
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明に係る垂直磁気記録媒体用ディスク基板の実施形態の構成を示す断面模式図である。
【図２】本発明に係る垂直磁気記録媒体用ディスク基板の別の実施形態の構成を示す断面模式図である。
【図３】本発明に係る垂直磁気記録媒体の実施形態の構成を示す断面模式図である。
【図４】本発明に係る垂直磁気記録媒体用ディスク基板の非磁性ディスク基板の表面に形成する半径方向の微小なスジ状の凹凸の実施形態を説明するための平面図である。
【図５】本発明に係る垂直磁気記録媒体用ディスク基板の軟磁性下地層の表面に形成する円周方向の微小なスジ状の凹凸の実施形態を説明するための平面図である。
【図６】本発明に係る垂直磁気記録媒体用ディスク基板の作製に用いることが可能なテクスチャ加工装置の実施形態を説明するための要部斜視図である。
【符号の説明】
【００３４】
１    非磁性ディスク基板
２    軟磁性下地層
１０  垂直磁気記録媒体用ディスク基板
１１  非磁性基体
１２  非磁性下地層
１３  半径方向の微小なスジ状の凹凸
１４  円周方向の微小なスジ状の凹凸
２０  非磁性シード層
３０  磁気記録層
４０  保護層
【図１】
2005353177.tif 000007
【図２】
2005353177.tif 000008
【図３】
2005353177.tif 000009
【図４】
2005353177.tif 000010
【図５】
2005353177.tif 000011
【図６】
2005353177.tif 000012