(57)【要約】【課題】オゾン水を用いて処理対象物の処理を行う際に、処理槽内にオゾンガスが充満することを防止し、作業環境の悪化を防止することができるオゾン水利用システムを提供する。【解決手段】有底筒状の筐体と、該筐体内に収納された処理対象物を回転させる回転軸と、前記処理対象物にオゾン水を噴射させるオゾン水噴射手段とからなる処理槽を有するオゾン水利用システムであって、前記筐体は、底面に前記回転軸を挿通させる貫通孔と、前記オゾン水を排出するオゾン水排出孔と、オゾンガスを排出するオゾンガス排出孔とを有し、かつ、前記オゾンガス排出孔を囲繞する隔壁を有するオゾン水利用システム。【選択図】    図３
2005129865.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有底筒状の筐体と、該筐体内に収納された処理対象物を回転させる回転軸と、前記処理対
象物にオゾン水を噴射させるオゾン水噴射手段とからなる処理槽を有するオゾン水利用シ
ステムであって、
前記筐体は、底面に前記回転軸を挿通させる貫通孔と、前記オゾン水を排出するオゾン水
排出孔と、オゾンガスを排出するオゾンガス排出孔とを有し、かつ、前記オゾンガス排出
孔を囲繞する隔壁を有する
ことを特徴とするオゾン水利用システム。
【請求項２】
筐体は、底面の中心に貫通孔を有するとともに、前記貫通孔の外側にオゾンガス排出孔と
、前記オゾンガス排出孔よりも前記筐体の側壁側にオゾン水排出孔とを有し、かつ、前記
オゾンガス排出孔と前記オゾン水排出孔とを仕切るように隔壁を有することを特徴とする
請求項１記載のオゾン水利用システム。
【請求項３】
回転軸は、一端に処理対象物を保持する保持面と該保持面の反対側面に保持部隔壁とが形
成された保持部を有し、筐体は、底面に貫通孔を囲繞する内側隔壁と該内側隔壁及びオゾ
ンガス排出孔を囲繞する外側隔壁との二重構造からなる隔壁を有するものであって、前記
保持部の前記保持部隔壁は、前記外側隔壁と前記内側隔壁との間に入るように配置されて
いることを特徴とする請求項１又は２記載のオゾン水利用システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、オゾン水を用いて処理対象物の処理を行う際に、処理槽内にオゾンガスが充満
することを防止し、作業環境の悪化を防止することができるオゾン水利用システムに関す
る。
【背景技術】
【０００２】
オゾンガスを水に溶解して得られるオゾン水は、オゾンの持つ強い酸化力により殺菌・脱
臭・漂白等に優れた効果を発揮し、しかもオゾンガスは時間とともに無害な酸素（気体）
に自己分解して残留性がないことから、環境にやさしい殺菌・洗浄・漂白剤等として注目
されている。近年、環境への関心が高まる中、オゾン水を用いた洗浄プロセスが注目され
ており、例えば、半導体基板の洗浄や半導体基板のレジスト除去への応用が検討されてい
る。
【０００３】
このようなオゾン水を用いた洗浄装置としては、例えば、特許文献１に、複数の洗浄ノズ
ルからのオゾン水の供給を制御する場合に、洗浄ノズルから噴射されるオゾン水の圧力が
変動することのないようにした洗浄処理装置が開示されており、また、特許文献２には、
オゾンガスが気泡状態で混合されたガス混合オゾン水を回転する基板の中心部に供給し、
基板の遠心力によりガス混合オゾン水を基板の中心部から外周部へ流動させる基板処理方
法が開示されている。
【０００４】
従来、このようなオゾン水を用いた処理対象物の処理は、密閉された処理槽内で行われて
いたため、処理に共されなかったオゾン水中のオゾンがオゾンガスとして処理槽中へ拡散
し充満してしまうものであった。自然界に存在する程度の低濃度のオゾンガスは、人体に
対して特に有害とはならないが、基板表面のレジスト除去等に使用されるオゾン水から発
生したオゾンガスは、自然界に存在するオゾン濃度に比べて遥かに高濃度であり、このよ
うな高濃度のオゾンガスは、人体に対して極めて有害なガスとなる。そのため、従来のオ
ゾン水を用いて処理対象物の処理を行うオゾン水利用システムでは、処理が終了して処理
槽を開閉するごとに非常に強烈なオゾン臭がし、作業環境が悪化するという問題があった
。
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−２７４１２５号公報
【特許文献２】特開２００１−３５１８９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、上記現状に鑑み、処理対象物の処理を行う際に処理槽内にオゾンガスが充満す
ることを防止し、作業環境の悪化を防止することができるオゾン水利用システムを提供す
ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、有底筒状の筐体と、該筐体内に収納された処理対象物を回転させる回転軸と、
前記処理対象物にオゾン水を噴射させるオゾン水噴射手段とからなる処理槽を有するオゾ
ン水利用システムであって、前記筐体は、底面に前記回転軸を挿通させる貫通孔と、前記
オゾン水を排出するオゾン水排出孔と、オゾンガスを排出するオゾンガス排出孔とを有し
、かつ、前記オゾンガス排出孔を囲繞する隔壁を有するオゾン水利用システムである。
以下に本発明を詳述する。
【０００８】
本発明のオゾン水利用システムは、有底筒状の筐体と、該筐体内に収納された処理対象物
を回転させる回転軸と、上記処理対象物にオゾン水を噴射させるオゾン水噴射手段とから
なる処理槽を有するものである。
本明細書においてオゾン水には、水にオゾンガスを溶解させたもののほか、酢酸又はその
誘導体等の有機酸を溶解した水溶液にオゾンガスを溶解させたものも含まれる。
また、上記処理対象物としては特に限定されず、例えば、半導体装置に用いられる各種シ
リコンウエハ、ディスプレイパネルに用いられるガラス基板、その他樹脂基板等が挙げら
れる。
【０００９】
上記処理槽を構成する筐体は、その内部で上記オゾン水を用いて上記処理対象物に種々の
処理を施す部材であり、その形状としては、有底筒状であれば特に限定されず、例えば、
その平面形状が円、楕円、多角形等任意の形状が挙げられる。
【００１０】
本発明のオゾン水利用システムにおいて、上記筐体は、底面に回転軸を挿通させる貫通孔
と、オゾン水を排出するオゾン水排出孔と、オゾンガスを排出するオゾンガス排出孔とを
有し、かつ、上記貫通孔と上記オゾンガス排出孔とを囲繞する隔壁を有する。
【００１１】
上記貫通孔は、後述する回転軸を挿通させるための孔であり、上記筐体の底面の中心を貫
通するように形成されていることが好ましい。上記貫通孔の大きさとしては特に限定され
ず、使用する回転軸の大きさに合わせて適宜調整される。
【００１２】
上記オゾン水排出孔は、上記処理対象物の処理に供され、上記筐体の内部に流入してきた
オゾン水を筐体外に排出するための孔である。上記オゾン水排出孔の数及び大きさとして
は特に限定されず、上記筐体の大きさ等に合わせて適宜調整される。
【００１３】
上記オゾンガス排出孔は、上記処理対象物の処理に供されたオゾン水から拡散したオゾン
ガスを筐体外に排出するための孔である。上記オゾンガス排出孔の数及び大きさとしては
特に限定されず、上記筐体の大きさ等に合わせて適宜調整される。
【００１４】
本発明のオゾン水利用システムでは、上記筐体は、底面に上記オゾンガス排出孔を囲繞す
る隔壁を有する。上記隔壁は、上記オゾンガス排出孔と上記オゾン水排出孔とを隔てる役
割を果たすものである。すなわち、上記処理対象物の処理に供され筐体の内部に流入して
きたオゾン水は、筐体の底面において上記隔壁により塞き止められて上記オゾン水排出孔
から筐体外へ排出され、上記オゾン水排出孔に流入することはない。上記隔壁は、上記貫
通孔も囲繞することが好ましい。上記隔壁により、上記処理対象物の処理に供されて筐体
の内部に流入してきたオゾン水が、上記貫通孔内に流入することを防止することができる
からである。
【００１５】
上記処理槽を構成する回転軸は、上記処理対象物を上記筐体内で回転させることができる
ものであれば特に限定されず、従来公知のモーターや回転軸等が挙げられる。本発明のオ
ゾン水利用システムでは、上記回転軸により処理対象物を回転させながら、該処理対象物
に種々の処理を施す。
【００１６】
また、上記処理槽を構成するオゾン水噴射手段としては特に限定されず、通常のノズル等
が挙げられ、例えば、板状の本体部の噴射面に多数の噴射孔が略均等に分布するように形
成され、処理対象物の処理面にオゾン水を略均一に噴射させることができるシャワー状ノ
ズル、複数の管状ノズルが処理対象物の処理面の略全面に均等に分布するように固定され
たもの、管状ノズルが処理対象物の略中央に配設されたもの等任意のものが挙げられる。
【００１７】
上記構成からなる本発明のオゾン水利用システムを用いて処理対象物の処理を行うには、
上記筐体内で上記回転軸により処理対象物を回転させながら、上記オゾン水噴射手段から
オゾン水を処理対象物の処理面に噴射させる。この処理に供されたオゾン水は、上記処理
対象物の外周から上記筐体の内側外周付近へ流れ落ち、筐体の外周付近から隔壁へ向かっ
て流れ、該隔壁により塞き止められてオゾン水排出孔から排出される。
また、上記オゾン水から拡散したオゾンガスは、上記隔壁により囲繞されたオゾンガス排
出孔に吸引されて外部へ排出され、筐体内に充満することはない。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、オゾン水を用いて処理対象物の処理を行う際に、処理槽内にオゾンガス
が充満することがなく、作業環境の悪化を防止することができる。
また、処理対象物を回転させる回転軸の一端に処理対象物を保持固定する保持部を有し、
筐体の底面に外側隔壁と内側隔壁とからなる隔壁が形成されている場合、保持部を容易に
取り替えることができるため、様々な大きさの処理対象物の処理を容易に行うことができ
、更に、耐オゾン性に劣る回転軸やその周辺機器に処理に供したオゾン水が付着すること
を防止することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明を実施の形態に則して説明する。
本発明のオゾン水利用システムにおいて、上記回転軸は、一端に処理対象物を保持する保
持面と該保持面の反対側面に保持部隔壁とが形成された保持部を有することが好ましい。
上記処理対象物の保持安定性が優れたものとなるからである。
【００２０】
図１（ａ）は、保持部の一例を模式的に示す断面図であり、（ｂ）は、その底面図である
。
図１（ａ）及び（ｂ）に示すように、保持部１は、上記処理対象物を保持固定する平面視
円形の保持面４と、保持面４の反対側面にそこから立ち上がる形状の保持部隔壁３とが形
成されており、更に、保持面４の反対側面の中心であって、保持部隔壁３の内側には、回
転軸を固定する軸受部２が形成されている。
なお、図１に示した保持部１は平面視円形であるが、平面視多角形、楕円形等任意の形状
であってもよく、更に、上記処理対象物を安定して保持固定できる保持面を有するもので
あればその形状は特に限定されない。
【００２１】
保持部隔壁３は連続した円筒状となっているが、本発明では、例えば、板状部材が所定の
間隔を空けて断続的に配列された形状であってもよく、また、その形状も円筒状に限定さ
れることはない。
また、保持部隔壁３の大きさとしては、筐体の内部に設置した際に底面に形成された隔壁
の内側に配置される大きさであれば特に限定されず、上記筐体の底面に形成された隔壁の
大きさに合わせて適宜調整される。
【００２２】
軸受部２は、その内側に回転軸を固定できるようになっており、軸受部２に固定された回
転軸を作動させることにより、保持部１をその外周方向に回転させることができるように
なっている。
また、軸受部２は、保持部１の略中心に形成されており、その大きさとしては特に限定さ
れず、筐体の底面に形成された隔壁の大きさ及び回転軸の大きさ等に合わせて適宜調整さ
れる。
なお、本発明において、上記軸受部は上記保持部における必須の部材ではなく、上記保持
部と回転軸とが一体的に形成されていてもよい。上記保持部に軸受部が形成されていると
、大きさの異なる処理対象物の処理を行う場合、処理対象物の大きさに合わせた保持部の
交換が容易となる。
【００２３】
上記保持部に軸受部が形成されている場合、上記軸受部と保持部隔壁とは、図１に示した
軸受部２と保持部隔壁３のように同心円状に形成されていることが好ましい。後述するが
、上記軸受部を有する保持部を筐体に取り付けた際に、上記保持部をスムーズに回転させ
ることができるからである。
また、図１において、軸受部２は保持部隔壁３よりも高くなるように形成されているが、
例えば、保持部隔壁と軸受部とは同じ高さであってもよく、逆に、保持部隔壁の方が軸受
部よりも高く形成されていてもよい。
【００２４】
このような保持部の保持面に上記処理対象物を保持固定する手段としては特に限定されず
、例えば、両面テープ等の接着手段により保持面に固定する方法；真空ポンプで保持面に
吸着させるバキュームチャッキング法等が挙げられる。なお、上記バキュームチャッキン
グ法により処理対象物を保持面に吸着させる方法としては、例えば、回転軸と真空ポンプ
とを接続させ、保持部の底面に保持面に貫通する吸着孔を形成しておくことで、処理対象
物を保持部の保持面に吸着させることができる。
【００２５】
また、本発明のオゾン水利用システムにおいて、上記筐体は、底面の中心に貫通孔を有す
るとともに、上記貫通孔の外側にオゾンガス排出孔と、上記オゾンガス排出孔よりも上記
筐体の側壁側にオゾン水排出孔とを有し、かつ、上記オゾンガス排出孔と上記オゾン水排
出孔とを仕切るように隔壁を有することが好ましい。
【００２６】
更に、上記筐体は、底面に貫通孔を囲繞する内側隔壁と該内側隔壁及びオゾンガス排出孔
を囲繞する外側隔壁との二重構造からなる隔壁を有するものであることが好ましい。オゾ
ン水を用いた処理対象物の処理を行った際に、筐体内にオゾンガスが充満することを防止
することに加え、耐オゾン性に劣る回転軸やその周辺機器に処理に供したオゾン水が付着
することを防止できるからである。
【００２７】
図２（ａ）は、筐体の一例を模式的に示す断面図であり、（ｂ）は、その平面図である。
図２（ａ）及び（ｂ）に示すように、底面１１ａとその周縁から立ち上げられた側壁１１
ｂとを備える有底円筒状の筐体１１は、底面１１ａに貫通孔１６を囲繞する内側隔壁１３
と、内側隔壁１３及びオゾンガス排出孔１５を囲繞する外側隔壁１２との二重構造からな
る隔壁を有し、外側隔壁１２と筐体１１の側壁１１ｂとの間にオゾン水排出孔１４が形成
されている。
【００２８】
外側隔壁１２及び内側隔壁１３は、その中心が筐体１１の底面１１ａの中心と重なる位置
に同心円状に形成されている。
外側隔壁１２及び内側隔壁１３の大きさとしては、オゾン水排出孔１４、オゾンガス排出
孔１５及び貫通孔１６との関係が上述した通りとなるものであれば特に限定されず、処理
対象物の大きさ等に合わせて適宜調整される。なお、図２（ａ）において、外側隔壁１２
は、内側隔壁１３よりも低く形成されているが、本発明では、例えば、外側隔壁と内側隔
壁とが同じ高さであってもよく、逆に、外側隔壁の方が内側隔壁よりも高く形成されてい
てもよい。
また、上記筐体において、外側隔壁と内側隔壁とは同心円状であることは必ずしも必要で
はないが、後述するように、外側隔壁１２と内側隔壁１３とが同心円状に形成されている
と、上記保持部隔壁を有する保持部を筐体に取り付けた際に、上記保持部をスムーズに回
転させることができる。
【００２９】
オゾン水排出孔１４は、筐体１１の側壁１１ｂと外側隔壁１２との間、即ち、外側隔壁１
２の外側の底面１１ａに形成されている。
本発明において、筐体は、図２（ａ）に示すように、筐体の側壁から外側隔壁に向けて下
り傾斜となっていることが好ましく、オゾン水排出孔は、上記外側隔壁の下端付近（筐体
の底面の最も低い部分）に形成されていることが好ましい。後で詳述するが、筐体の側壁
と外側隔壁との間の底面が上記の形状であり、上記位置にオゾン水排出孔が形成されてい
ると、処理対象物の処理に供され、筐体の外周付近からその内部に流入してきたオゾン水
がオゾン水排出孔の形成された部分に集められ、好適に排出することかできるからである
。
かかる観点から、本発明では、筐体の側壁と外側隔壁との間の底面の最も低い部分にオゾ
ン水排出孔が形成されていることが好ましく、特に図２（ａ）に示したような形状に限定
されることはない。
なお、図２に示した筐体１１では、オゾン水排出孔１４が１つだけ形成されているが、こ
れに限定されることはなく、例えば、２つ以上のオゾン水排出孔が形成されていてもよい
。
【００３０】
オゾンガス排出孔１５は、筐体１１の外側隔壁１２と内側隔壁１３との間、即ち、外側隔
壁１２の内側の底面１１ａに形成されている。
図２（ｂ）では、オゾンガス排出孔１５は３つ形成されているが、本発明では、上述した
ように、オゾンガス排出孔の数としてはこれに限定されることはなく、例えば、２つ以下
であってもよく、逆に、４つ以上であってもよい。勿論、上記オゾンガス排出孔はスリッ
ト状であってもよい。ただし、本発明では、オゾンガス排出孔は、図２（ｂ）に示すよう
に、外側隔壁１２と内側隔壁１３との間に等間隔で３つ形成されていることが好ましい。
オゾンガスがオゾンガス排出孔に吸引される際に生じる共振を抑えることができ、効率よ
くオゾンガスを吸引することができるからである。
【００３１】
貫通孔１６は、内側隔壁１３の内側であって、筐体１１の底面１１ａの中心を貫通するよ
うに形成されており、上述した回転軸を挿通させるための孔である。貫通孔１６の大きさ
としては特に限定されず、使用する回転軸の大きさに合わせて適宜調整される。
【００３２】
更に、本発明のオゾン水利用システムにおいて、回転軸の一端に上記保持部が形成されて
おり、筐体の底面に形成された隔壁が外側隔壁と内側隔壁とからなる場合、上記保持部の
保持部隔壁は、上記筐体の外側隔壁と内側隔壁との間に入るように配置されることが好ま
しい。
【００３３】
なお、本発明のオゾン水利用システムにおいて、上記処理槽を構成する筐体は、図２に示
したような構造に限定されることはなく、例えば、筐体の底面に貫通孔、オゾン水排出孔
及びオゾンガス排出孔が形成されており、上記オゾンガス排出孔のみを囲繞する隔壁と上
記貫通孔のみを囲繞する隔壁とがそれぞれ形成された構造等であってもよい。このような
構造の筐体であっても、図２に示した筐体１１と同様に、処理対象物の処理に供されたオ
ゾン水をオゾン水排出孔から排出させ、上記オゾン水から拡散したオゾンガスをオゾンガ
ス排出孔から排出させることができ、上記オゾン水がオゾンガス排出孔に流入することを
防止することができる。
【００３４】
図３は、本発明のオゾン水処理システムを構成する処理槽の一例を示す断面図である。
図３に示すように、処理槽１０では、図１に示した保持部１と図２に示した筐体１１とが
互いに非接触かつ保持部１の保持部隔壁３が筐体１１の外側隔壁１２と内側隔壁１３との
間に挿入するように配置され、保持部１の軸受部２が筐体１１の内側隔壁１３の内側とな
るように配置されており、更に、筐体１１の貫通孔１６には回転軸３０が挿通されており
、回転軸３０の先端部分は、保持部１の軸受部２に固定されている。
また、図示はしないが、処理槽１０の保持部１の保持面４に保持固定された処理対象物の
上方にオゾン水を噴射させるためのオゾン水噴射手段が設けられている。
【００３５】
このような処理槽１０において、オゾン水による処理対象物は、保持部１の保持面（上面
）に保持固定される。
そして、上記基板表面のレジストの除去を行うには、回転軸３０を作動させて上記処理対
象物を保持部１とともに外周方向に回転させながら、処理対象物の上方に配設されたオゾ
ン水噴射手段からオゾン水を処理対象物の処理面に噴射させる。
このとき、保持部１と筐体１１とは、互いに非接触であり、かつ、保持部１の軸受部２及
び保持部隔壁３と筐体１１の内側隔壁１３とがそれぞれ同心円状に形成されていると、回
転軸３０により保持部１を回転させた場合、保持部１を筐体１１と接触することなくスム
ーズに回転させることができる。
【００３６】
上記処理対象物の処理に供されたオゾン水は、処理対象物の外周から保持部１の外周を伝
ったり、処理対象物の外周から飛んで筐体１１の側壁１１ｂに当たったりして筐体１１の
内側外周付近へ流れ落ち、筐体１１の外周付近から外側隔壁１２へ向かって流れ、外側隔
壁１２により塞き止められてオゾン水排出孔１４から排出される。
【００３７】
また、筐体１１の外側隔壁１２と内側隔壁１３との間に形成されたオゾンガス排出孔１５
には、図示しない吸引ポンプ等のガス吸引手段が接続されており、オゾン水から拡散した
オゾンガスは、保持部１と外側隔壁１２との隙間から外側隔壁１２と内側隔壁１３との間
の空間に吸引され、オゾンガス排出孔１５を通って排出され、筐体１１内に充満すること
はない。特に、オゾン水の溜まる筐体１１の底面１１ｂ上にオゾンガス排出孔１５が設け
られているので、効率的にオゾンガスを排出することができる。
【００３８】
また、回転軸３０やその周辺機器は、通常、オゾン水によりダメージを受けやすい材料か
らなるものであるが、上記態様の処理槽では、回転軸３０の周囲に内側隔壁１３と軸受部
２とが形成されているため、処理に供されたオゾン水が外側隔壁１２を飛び越えた場合で
あっても、回転軸３０やその周辺機器に上記オゾン水が付着することがない。
更に、上記態様の処理槽では、処理対象物を保持固定する保持部と回転軸との取り外しが
容易であるため、処理対象物の大きさに合わせて適宜保持部を交換することができる。
【００３９】
なお、このようなオゾン水を用いた処理対象物の処理を行う際には、図４に示すように、
筐体１１の上部に、底面の外周付近にフランジ部２２が形成され、処理対象物に対応する
位置に該処理対象物と略同じ大きさの開孔２１が設けられた蓋部２０を載置、固定し、開
孔２１にオゾン水を噴射させるオゾン水噴射手段を嵌め込んで筐体１１内を密閉空間とす
ることが好ましい。図４は、本発明における処理槽の一例を示す断面図である。
【００４０】
蓋部２０は、フランジ部２２が筐体１１の側壁との間に隙間を形成することなく接する大
きさであることが好ましく、筐体１１に対してネジ等の固定具により固定されることが好
ましい。オゾン水による処理対象物の処理中に、オゾン水から拡散したオゾンガスが漏れ
出すことを防止するためである。
【００４１】
本発明のオゾン水利用システムでは、処理槽にオゾン水を加熱する手段を有することが好
ましい。例えば、処理対象物の処理として、レジスト除去を行う場合、レジストとオゾン
との化学反応によりなされるものであることから、温度をかけることによってレジスト除
去速度を高めることができる。更に、処理槽内を加圧する手段を有することが好ましい。
処理槽内を加圧することにより、過飽和のオゾン水を生成させることができ、このような
高濃度のオゾン水を用いることにより、更に高い効率でレジスト除去を行うことができる
。
【００４２】
本発明のオゾン水利用システムにおいて、上記処理槽を構成する各部材の材料としては、
耐オゾン性を有するものであれば特に限定されず、例えば、ＳＵＳ等の金属、フッ素系樹
脂等が挙げられるが、なかでも、フッ素系樹脂からなるものが好適である。上記フッ素系
樹脂としては、例えば、ポリフッ化エチレン樹脂；ポリテトラフルオロエチレン樹脂（Ｐ
ＴＦＥ）、パーフルオロアルコキシ樹脂（ＰＦＡ）、フッ化エチレンプロピレン樹脂（Ｆ
ＥＰ）等の４フッ化エチレン共重合体；フッ素系ゴム等が挙げられる。
【００４３】
本発明のオゾン水利用システムは、上記処理槽を有するものであれば特に限定されないが
、その他に、オゾン発生器、オゾンガス検出器、オゾン溶解モジュール、オゾン水検出器
及びポンプを組み合わせることが好ましい。このようなレジスト除去装置としては、例え
ば、図５に示す態様が挙げられる。
図５は、本発明のオゾン水利用システムの態様を示す概略図である。
図５に示す態様のオゾン水利用システムは、オゾン発生器５１、オゾンガス検出器５２、
オゾン溶解モジュール５３、オゾン水濃度検出器５４、処理槽５５、及び、ポンプ５６か
ら構成されている。
【００４４】
オゾン発生器５１では、オゾンガスが生成される。オゾン発生器５１としては特に限定さ
れず、誘電体で被覆された対向電極の間に酸素を供給するとともに放電させる公知のオゾ
ン発生器を用いることができる。オゾン発生器５１で生成されたオゾンガスの濃度はオゾ
ンガス検出器５２により測定・監視される。オゾンガス検出器５２により測定されたオゾ
ンガス濃度の値がオゾン発生器５１にフィードバックされオゾン発生器５１で生成される
オゾンガスの濃度が随時調整される。
【００４５】
オゾン発生器５１で生成したオゾンガスは、オゾン溶解モジュール５３において水に溶解
される。
オゾン溶解モジュール５３は、非多孔性膜からなるガス透過膜が収容されているものが好
ましい。このようなオゾン溶解モジュールを用いれば、一旦処理対象物の処理に供したオ
ゾン水を再度循環させて利用しても目詰まりが起こることがない。
オゾン溶解モジュール５３において生成したオゾン水は、オゾン水流出口５７から往路管
５９ａに排出されてオゾン水濃度検出器５４に送られ、上記オゾン水の溶存オゾンガス濃
度が監視・管理される。
【００４６】
得られたオゾン水は、往路管５９ａを通ってオゾン水流入口５００から上述した筐体等が
内部に設置された処理槽５５に送られ、この処理槽５５において処理対象物の処理を行う
ために用いられる。
すなわち、処理槽５５において、オゾン水流入口５００から導入されたオゾン水は、処理
槽内を上述した方法で流れて、処理対象物の処理を行った後、筐体の底面に形成されたオ
ゾン水排出孔（処理槽５５のオゾン水排出口５１０）から排出される。また、処理に供さ
れたオゾン水から拡散したオゾンガスは、筐体に形成されたオゾンガス排出孔から適宜排
出されるため、処理槽５５内にオゾンガスが充満することがない。
【００４７】
処理槽５５は、紫外線を照射する手段が付加されていてもよい。本発明のオゾン水利用シ
ステムにより、例えば基板表面のレジストを除去する際、紫外線を照射することにより、
オゾンの分解速度が促進され、それに伴いレジストの除去効果を上げることができる。従
って、オゾン水と紫外線照射とを併用することによって、より高いレジスト除去効果を得
ることができる。
上記紫外線を照射する手段としては特に限定されず、例えば、ＵＶランプ等が挙げられる
。照射される紫外線の波長は、オゾンが吸収する２５４ｎｍ近辺であることが好ましい。
【００４８】
本態様のオゾン水利用システムにおいては、生成したオゾン水を循環させて用いることが
好ましい。オゾン水を循環させて用いることにより、必要なオゾン水量を節約できること
に加え、より高い濃度のオゾン水を容易に得ることができる。
上記オゾン水を循環させるには、例えば、処理槽５５のオゾン水流出口５１０から復路管
５９ｂに排出されたオゾン水を、ポンプ５６を用いてオゾン溶解モジュール５３のオゾン
水流入口５８に送り込めばよい。
【００４９】
このような本発明のオゾン水利用システムは、基板表面に形成されたレジストをオゾン水
を用いて除去する場合や、半導体基板の表面をオゾン水を用いて洗浄する場合等に好適に
使用することができる。
【実施例】
【００５０】
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定
されるものではない。
【００５１】
（実施例１）
直径１００ｍｍのウエハに予めレジスト液（富士フィルムアーチ社製、ＨＰＲ−２０４Ｌ
Ｔ）を塗布し、スピンコーター（ミカサ社製、１Ｈ−ＤＸ２型）にて２０００ｒｐｍ（ｍ
ｉｎ−１）、３０秒間処理した後、更に９０℃２０分間乾燥して、厚さ約１．０μｍのレ
ジストをコートして処理対象物である基板を作製した。
【００５２】
次に、パーフルオロアルコキシ樹脂製で、図４に示した構造の処理槽を構成し、作製した
基板を処理槽の保持部の保持面に保持固定した。
また、オゾン水を噴射させるノズルとしては、パーフルオロアルコキシ樹脂製の直径１０
０ｍｍ、厚さ１０ｍｍで円板状の本体部に、炭酸ガスレーザを用いて直径０．５ｍｍの噴
射孔を中心間距離１０ｍｍで、噴射面の全面に略均等に分布するように形成して作製した
。
【００５３】
そして、処理槽に２１℃、５０ｐｐｍの濃度のオゾン水を１．０Ｌ／ｍｉｎの流速で８０
秒間流し、オゾン水排出孔から処理に供したオゾン水を排出するとともに、オゾンガス排
出孔からオゾンガスの排出を行い基板表面のレジストの除去を行った。
その後、処理槽の蓋部を開けたところ、オゾン臭は全くしなかった。
【産業上の利用可能性】
【００５４】
本発明によれば、処理対象物の処理を行う際に処理槽内にオゾンガスが充満することを防
止し、作業環境の悪化を防止することができるオゾン水利用システムを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】（ａ）は、本発明のオゾン水利用システムにおける保持部の一例を模式的に示す断面図であり、（ｂ）は、その底面図である。
【図２】（ａ）は、本発明のオゾン水利用システムにおける筐体の一例を模式的に示す断面図であり、（ｂ）は、その平面図である。
【図３】本発明のオゾン水利用システムを構成する処理槽の一例を示す断面図である。
【図４】本発明のオゾン水利用システムを構成する処理槽の一例を示す断面図である。
【図５】本発明のオゾン水利用システムの態様を示す概略図である。
【符号の説明】
【００５６】
１  保持部
２  軸受部
３  保持部隔壁
４  保持面
１０  処理槽
１１  筐体
１１ａ  底面
１１ｂ  側壁
１２  外側隔壁
１３  内側隔壁
１４  オゾン水排出孔
１５  オゾンガス排出孔
１６  貫通孔
２０  蓋部
２１  開孔
２２  フランジ部
３０  回転軸
５１  オゾン発生器
５２  オゾンガス検出器
５３  オゾン溶解モジュール
５４  オゾン水濃度検出器
５５  反応槽
５６  ポンプ
５７  オゾン水流出口
５８  オゾン水流入口
５９ａ  往路管
５９ｂ  復路管
５００  オゾン水流入口
５１０  オゾン水排出口
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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