(57)【要約】【課題】本発明は、液晶ディスプレイ素子やエレクトロルネッセンスディスプレイ素子やタッチパネル素子等に用いられる電極基板用フィルムであって、特にそのガスバリア性と耐薬品性とを向上させたことを特徴とする、透明電極層を有するガスバリア性フィルムの提供を目的とする。【解決手段】透明プラスチックフィルムの少なくとも片面に、少なくともガスバリア性を有する金属酸化物薄膜層とガスバリア性被膜層を順次積層し、さらに前記ガスバリア性被膜層の上には透明電極層を積層する。【選択図】図１
2005019286.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明プラスチックフィルムの少なくとも片面に、少なくともガスバリア性を有する金属酸化物薄膜層とガスバリア性被膜層を順次積層し、さらに前記ガスバリア性被膜層の上には透明電極層を積層してあることを特徴とする透明電極層を有するガスバリア性フィルム。
【請求項２】
透明プラスチックフィルムの少なくとも片面に、少なくともガスバリア性を有する金属酸化物薄膜層とガスバリア性被膜層とガスバリア性を有する金属酸化物薄膜層とを順次積層し、さらに最上層に位置する前記金属酸化物薄膜層の上には透明電極層を積層してあることを特徴とする透明電極層を有するガスバリア性フィルム。
【請求項３】
ガスバリア性を有する金属酸化物薄膜層が酸化珪素、酸化アルミニウムまたは酸化マグネシウム、或いはそれらの混合物のいずれかからなることを特徴とする請求項１または２記載の透明電極層を有するガスバリア性フィルム。
【請求項４】
ガスバリア性被膜層が、水溶性高分子と１種以上の金属アルコキシドまたは／およびその加水分解物を含む水溶液或いは水／アルコール混合溶液を塗布し加熱乾燥してなるものであることを特徴とする請求項１または２記載の透明電極層を有するガスバリア性フィルム。
【請求項５】
金属アルコキシドが、テトラエトキシシランまたはトリイソプロポキシアルミニウム、或いはそれらの混合物のいずれかであることを特徴とする請求項４記載の透明電極層を有するガスバリア性フィルム。
【請求項６】
水溶性高分子がポリビニルアルコールであることを特徴とする請求項４記載の透明電極層を有するガスバリア性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶ディスプレイ素子、エレクトロルミネッセンスディスプレイ素子、タッチパネル素子等に代表されるエレクトロニクス素子用の、ガスバリア性を付与した電極基板用フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶ディスプレイ素子、エレクトロルミネッセンスディスプレイ素子、タッチパネル素子等のエレクトロニクス素子においては、従来の透明電極付きガラス基板を用いた素子から、透明プラスチックフィルム上に透明電極を設けてなる透明電極付きフィルム基板を用いた素子へと需要が変化しつつある。透明電極付きフィルム基板を用いた素子は、軽量性、屈曲性、耐衝撃性等に優れ、大面積化が容易であること等が利点として挙げられる。しかし、その一方でプラスチックフィルム基板は、ガラス基板と比較して水蒸気や酸素等に対するガスバリア性に劣り、プラスチックフィルム基板を用いた素子の表示性能等に支障を及ぼすことが問題点として挙げられている。
【０００３】
この様なガスバリア性に係る欠点を補う方法として、透明プラスチックフィルム上にガスバリア層を設ける方法が提案されている。このガスバリア層は、主に酸化珪素、酸化アルミニウム等の金属酸化物からなる層であり、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、フォトＣＶＤ法等により形成される。
【０００４】
また、金属酸化物からなるガスバリア層のバリア性を向上させ、この層を薬品から保護するために、金属酸化物からなるガスバリア層の上にさらに耐薬品層を設けるようにした提案もなされている。因みにこの薬品とは、透明電極層を有する電極基板用フィルムの透明電極層をパターン化する際のエッチング工程で用いる、アルカリ性水溶液や酸性水溶液である。一般的に透明電極層に対するエッチング工程は、レジスト被覆、レジスト露光、レジスト現像、透明電極層のエッチング、レジスト剥離の手順であり、レジスト現像工程とレジスト剥離工程でアルカリ性水溶液を、透明電極エッチング工程で酸性水溶液を用いる。
【０００５】
しかし最近は、このようなガスバリア性を付与し、耐薬品性を向上させた電極基板用フィルムにおいても、より高度のガスバリア性と耐薬品性が要求されるようになってきている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、この様な背景からなされたものであり、液晶ディスプレイ素子やエレクトロルネッセンスディスプレイ素子等に用いられる電極基板用フィルムであって、特にそのガスバリア性と耐薬品性とを向上させたことを特徴とする透明電極層を有するガスバリア性フィルムの提供を目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を達成するためになされ、請求項１に記載される発明は、透明プラスチックフィルムの少なくとも片面に、少なくともガスバリア性を有する金属酸化物薄膜層とガスバリア性被膜層を順次積層し、さらに前記ガスバリア性被膜層の上には透明電極層を積層してあることを特徴とする透明電極層を有するガスバリア性フィルムである。
【０００８】
また、請求項２記載の発明は、透明プラスチックフィルムの少なくとも片面に、少なくともガスバリア性を有する金属酸化物薄膜層とガスバリア性被膜層とガスバリア性を有する金属酸化物薄膜層とを順次積層し、さらに最上層に位置する前記金属酸化物薄膜層の上には透明電極層を積層してあることを特徴とする透明電極層を有するガスバリア性フィルム。
【０００９】
さらにまた、請求項３記載の発明は、請求項１または３記載の透明電極層を有するガスバリア性フィルムにおいて、ガスバリア性を有する金属酸化物薄膜層が酸化珪素、酸化アルミニウムまたは酸化マグネシウム、或いはそれらの混合物のいずれかからなることを特徴とする。
【００１０】
さらにまた、請求項４記載の発明は、請求項１または２記載の透明電極層を有するガスバリア性フィルムにおいて、ガスバリア性被膜層が水溶性高分子と１種以上の金属アルコキシドまたは／およびその加水分解物を含む水溶液或いは水／アルコール混合溶液を塗布し加熱乾燥してなるものであることを特徴とする。
【００１１】
さらにまた、請求項５記載の発明は、請求項４記載の透明電極層を有するガスバリア性フィルムにおいて、金属アルコキシドが、テトラエトキシシランまたはトリイソプロポキシアルミニウム、或いはそれらの混合物のいずれかであることを特徴とする。
【００１２】
さらにまた、請求項６記載の発明は、請求項４記載の透明電極層を有するガスバリア性フィルムにおいて、水溶性高分子がポリビニルアルコールであることを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照に本発明を詳細に説明する。
図１には本発明に係る透明電極層を有するガスバリア性フィルム１の概略の断面構成が示してある。この透明電極層を有するガスバリア性フィルム１は、透明プラスチックフィルム２の少なくとも片面に、少なくともガスバリア性を有する金属酸化物薄膜層３とガスバリア性被膜層４とが順次積層されていて、さらにガスバリア性被膜層４の上には透明電極層６が積層されている。
【００１４】
透明プラスチックフィルム２としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリスルホンフィルム、アモルファスポリオレフィンフィルム等が用いられる。この透明プラスチックフィルム２の厚みは任意ではあるが、一般的には数十μｍから数百μｍ程度である。
【００１５】
一方、この透明プラスチックフィルム２の片面に積層されている、ガスバリア性を有する金属酸化物薄膜層３は、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム或いはそれらの混合物等の金属酸化物からなる薄膜であり、透明性を有しかつ酸素、水蒸気等に対するガスバリア性を有している。その中では酸化アルミニウムまたは、酸化珪素あるいはその混合物のいずれかからなる金属酸化物薄膜層が好ましい。
【００１６】
このガスバリア性を有する金属酸化物薄膜層３は種々の薄膜形成方法により透明プラスチックフィルム２上に積層、形成することができる。具体的には、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、プラズマＣＶＤ法、フォトＣＶＤ法等により形成すればよいが、薄膜を形成するプラスチックフィルムの特徴を活かし、巻き取り式による連続蒸着を行うことができる巻き取り式の真空成膜装置を用いて形成することが好ましい。
【００１７】
次に、この金属酸化物薄膜層３を形成するための巻き取り式真空成膜装置の例を簡単に説明する。図２はその概略の構成を示している。
この真空成膜装置は、大略的には、ウエブ状のプラスチックフィルムの巻出し・巻き取り室２０と成膜室３０とからなり、巻出し・巻き取り室２０は、トルクモータ等の一定の張力にて巻き取り可能な巻き取り手段をもつ巻き取り軸２１と、パウダークラッチ等のトルク制御手段により一定のバックテンションをかけつつウエブ状のプラスチックフィルムの巻出しを可能にする巻出し軸２２と、プラスチックフィルムの走行を規制するアイドルローラ２３、２４と、適宣にフィードバックを行うための張力検出器を具備したテンションロール２５と、フィルム表面の温度温度を監視するための温度センサー２７とを具備すると共に、成膜室３０は、成膜時のプラスチックフィルム表面の温度をコントロールし、そこに抱かれながら搬送されるプラスチックフィルム表面に薄膜を形成するための温調入りドラム３１と、プロセスガスまたは原料ガスを導入するシャワーヘッドをもつプラズマＣＶＤ用の電極３２が配置されている成膜部とを具備している。
【００１８】
この装置は、成膜部における成膜手段がプラズマＣＶＤ法を採用しているが、この外の真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の成膜手段を採用している成膜装置であってもよい。しかし、熱に弱いプラスチックフィルムに対して適宜の温度コントロールの元に金属酸化物薄膜層を形成することを考慮すると、最も低温で成膜が可能なプラズマＣＶＤを採用している図２に示すような成膜装置が好ましいと考えられる。
プラズマの発生には、直流プラズマ、低周波プラズマ、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、３極構造プラズマ、マイクロ波プラズマ、ダウンストリームプラズマ、カラムナープラズマ、プラズマアシステッドエピタキシー等の各種低温プラズマ発生装置が用いられる。
【００１９】
このような構成の成膜装置において、プラズマＣＶＤ法にて透明プラスチックフィルムに酸化珪素の薄膜層を形成する場合には、有機珪素化合物と酸素ガスを加えたもの、場合によってはそれに不活性ガスを加えたものを原料として用いて成膜される。この際、有機珪素化合物としては、テトラエトキシシラン（ＴＥＯＳ）、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）、テトラメチルシラン（ＴＭＳ）、ヘキサメチルジシラン、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、テトラメチルジシロキサン、メチルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、テトラメチルジシラザン等の比較的低分子量の有機珪素化合物を選択する。そして、これらの一つまたは、複数を選択して気化させ、酸素ガスと混合し、真空成膜装置の成膜部分へ導入し、温調入りドラム３１と電極３２の間にプラズマを発生させ、プラズマＣＶＤ法にて酸化珪素薄膜層をプラスチックフィルム２９上に形成すればよい。
【００２０】
金属酸化物薄膜層３の層厚は特に限定されるものではないが、あまり薄すぎるとガスバリア性の発現が難しいため、５０Å以上は必要であると考えられる。これ以上の層厚は、その透明性が損なわれない範囲において、要求されるバリア性能に合わせて適宜選択すればよい。しかし、ある程度の層厚となると十分なバリア性は確保できるが、柔軟性、経済性の面で問題を生じるため、一般的には１００〜２０００Å程度の範囲が好ましい。
【００２１】
一方、金属酸化物薄膜層３上に積層するガスバリア性被膜層４は、水溶性高分子と１種以上の金属アルコキシドまたは／およびその加水分解物を含む水溶液或いは水／アルコール混合溶液を主剤とするコーティング剤を用いて形成される。例えば、水溶性高分子を水系（水或いは水／アルコール混合）溶媒で溶解させたものに金属アルコキシドを直接、或いは予め加水分解させるなど処理を行って混合したものをコーティング剤とし、これを金属酸化物薄膜層３上に適宜の厚さでコーティング後、加熱乾燥し形成すればよい。以下、このコーティング剤に含まれる各成分についてさらに詳細に説明する。
【００２２】
コーティング剤に用いられる水溶性高分子としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、デンプン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等が挙げられる。この中では、特にポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡと略す）は、得られるガスバリア性被膜層に優れたガスバリア性を付与することができるので好ましい。ここでいうＰＶＡは、一般にポリ酢酸ビニルをけん化して得られるものである。ＰＶＡとしては例えば、酢酸基が数十％残存している、いわゆる部分けん化ＰＶＡから酢酸基が数％しか残存していない完全ＰＶＡ等まで、種々のＰＶＡを用いることができる。
【００２３】
また金属アルコキシドは、一般式、Ｍ（ＯＲ）ｎ（Ｍ：Ｓｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｚｒ等の金属、Ｒ：ＣＨ３、Ｃ２Ｈ５等のアルキル基）で表せる化合物である。具体的にはテトラエトキシシラン〔Ｓｉ（ＯＣ２Ｈ５）４〕、トリイソプロポキシアルミニウム〔Ａｌ（Ｏ−２’−Ｃ３Ｈ７）３〕等が挙げられ、中でもテトラエトキシシラン、トリイソプロポキシアルミニウムは加水分解後、水系の溶媒中において比較的安定であるので好ましい。
【００２４】
このコーティング剤中にはガスバリア性を損なわない範囲で、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、或いは分散剤、安定化剤、粘度調整剤、着色剤等の公知の添加剤を必要に応じて加えることも可能である。
【００２５】
コーティング剤の塗布方法としては、通常用いられるディッピング法、ロールコーティング法、スクリーン印刷法、スプレー法、グラビア印刷法等の従来公知の方法が採用できる。
【００２６】
ガスバリア性被膜層３の厚さは、コーティング剤の種類や加工機や加工条件によって最適条件が異なり特に限定しない。但し乾燥後の厚さが、０．０１μｍ以下の場合は、均一な被膜が得られなく十分なガスバリア性を得られない場合があるので好ましくない。また厚さが５０μｍを超える場合には被膜にクラックが生じ易くなるため問題となる場合がある。好ましくは０．０１〜５０μｍの範囲にあることが好ましく、より好ましくは０．１〜１０μｍの範囲にあることである。
【００２７】
他方、このガスバリア性被膜層の上に設けられている透明電極層は酸化インジウム、酸化すず等からなる層である。操作性、コスト、エッチング性等を考慮すると、ＩＴＯ（インジウム−スズ複合酸化物）からなる透明電極層が好適である。この透明電極層６の厚さは、１０〜１５０ｎｍ程度である。
【００２８】
一方、図３に示す本発明の透明電極層を有するガスバリア性フィルム１１は、透明プラスチックフィルム１２の少なくとも片面に、ガスバリア性を有する金属酸化物薄膜層１３とガスバリア性被膜層１４とガスバリア性を有する金属酸化物薄膜層１５とが順次積層されており、さらに最上層に位置する前記酸化物薄膜層１５の上には透明電極層１６が積層されている。この透明電極層を有するガスバリア性フィルム１１は、大略的には透明プラスチックフィルムの上にガスバリア層と透明電極層が積層されている点では同じような構成になっているが、ガスバリア層がガスバリア性を有する金属酸化物薄膜層１３とガスバリア性被膜層１４とガスバリア性を有する金属酸化物薄膜層１５との３層構成になっている点で、前記した透明電極層を有するガスバリア性フィルム１のガスバリア層とは構成を異にしている。図１に示すに透明電極層を有するガスバリア性フィルム１のガスバリア層は前述したようにガスバリア性を有する金属酸化物薄膜層３とガスバリア性被膜層４との２層構成になっている。
【００２９】
【実施例】
次に実施例をあげて本発明をさらに説明する。
【００３０】
＜実施例１＞
透明プラスチックフィルムとして厚さ１００μｍのポリナフタレンテレフタレート（ＰＥＮ）フィルムを用い、その片面に、図２に示した巻き取り式の真空成膜装置により、厚さが４０ｎｍの酸化珪素薄膜層を成膜した。次に、この酸化珪素薄膜層の上に下記組成の塗布液Ａを０．３μｍの厚みでマイクログラビア法により塗布した後、１８０℃の乾燥オーブンにて乾燥を行い、ガスバリア性被膜層を積層した。このようにして得られた積層バリアフィルムの水蒸気バリア性と酸素バリア性をモコン法により測定した結果、それぞれ０．０１（ｇ／ｍ２・ｄａｙ）と、０．０２（ｃｍ３／ｍ２・ｄａｙ）であった。
さらに、上記積層バリアフィルムには透明電極としてＩＴＯの薄膜（厚さ１００ｎｍ）を成膜し、実施例１に係る透明電極層を有するガスバリア性フィルムを得た。この透明電極層を有するガスバリア性フィルムの水蒸気バリア性は０．０７ｇ／ｍ２・ｄａｙであった。
【００３１】
続いて、前記積層バリアフィルムを、透明電極のエッチング工程で用いる１ＮＨＣｌ水溶液と、１ｗｔ％ＮａＯＨ水溶液に、それぞれ５０℃で６０秒間、５０℃で３０秒間浸漬した後、再度、水蒸気バリア性と酸素バリア性を測定した。その結果、それぞれ０．０１（ｇ／ｍ２・ｄａｙ）、０．０２（ｃｍ３／ｍ２・ｄａｙ）であり、バリア性能の劣化は確認できなかった。
【００３２】
［塗布液Ａの組成］
・水溶性ポリマー：ポリビニルアルコール（重合度２４００、鹸化度９８％）
・金属アルコキシド：テトラアルコキシシラン（ＴＥＯＳ）
・希釈溶媒：水／メタノール混合溶媒
・加水分解触媒：０．１ｍｏｌ／ｌＨＣｌ溶液
上記各成分を重量組成比が、水溶性ポリマー／金属アルコキシド＝５０：５０（重量部）となるように混合し、塗布液Ａとした。
【００３３】
＜比較例１＞
酸化珪素薄膜層の上のガスバリア性被膜層の替わりに、下記組成の塗布液Ｂを用いてロールコーティング法で０．３μｍ厚の耐薬品層を設けた以外は実施例１と同様の条件にて比較例１に係る積層バリアフィルムを作成した。
このようにして得られた積層バリアフィルムの水蒸気バリア性と酸素バリア性をモコン法により測定した結果、それぞれ０．２１（ｇ／ｍ２・ｄａｙ）と、０．１０（ｃｍ３／ｍ２・ｄａｙ）であり、実施例１の積層ガスバリアフィルムに比べ初期のバリア性が劣っていた。
さらに、上記積層バリアフィルムには透明電極としてＩＴＯの薄膜（厚さ１００ｎｍ）を成膜し、比較例１に係る透明電極層を有するガスバリア性フィルムを得た。
【００３４】
さらに、この積層バリアフィルムを実施例１と同様に、１ＮＨＣｌ水溶液（５０℃で６０秒間）、１ｗｔ％ＮａＯＨ水溶液（５０℃で３０秒間）に浸漬した結果、水蒸気バリア性、酸素バリア性はそれぞれ０．２１（ｇ／ｍ２・ｄａｙ）、０．１０（ｃｍ３／ｍ２・ｄａｙ）と劣化は押さえられているものの、バリア性において実施例１の積層バリアフィルムと比べると劣っていた。
【００３５】
［塗布液Ｂの組成］
・感光性モノマー：ペンタエリスリトールトリアクリレート
・希釈溶媒：イソプロピルアルコール
・光重合開始剤：イルガキュア１８４
上記各成分をその重量組成比を３０：７０：１（重量部）となるように混合し、塗布液Ｂとした。塗布液Ｂからなる被膜の硬化条件は高圧水銀ランプ（出力１２０Ｗ／ｃｍ１灯）の使用で、照射量５００ｍｊ／ｃｍ２であった。
【００３６】
＜比較例２＞
ガスバリア性被膜を設けなかった以外は実施例１と同様の条件により、比較例２に係る金属酸化物薄膜層を有するバリアフィルムを作成した。次に、得られたバリアフィルムの水蒸気バリア性と酸素バリア性をモコン法により測定した結果、それぞれ０．２７（ｇ／ｍ２・ｄａｙ）と、０．１５（ｃｍ３／ｍ２・ｄａｙ）であった。
さらに、上記金属酸化物薄膜層を有するバリアフィルムには透明電極としてＩＴＯの薄膜（厚さ１００ｎｍ）を成膜し、比較例２に係る透明電極層を有するガスバリア性フィルムを得た。
【００３７】
続いて、前記金属酸化物薄膜層を有するバリアフィルムを実施例１と同様に、１ＮＨＣｌ水溶液と１ｗｔ％ＮａＯＨ水溶液に、それぞれ５０℃で６０秒間、５０℃で３０秒間浸漬した結果、水蒸気バリア性と酸素バリア性はそれぞれ２．２８（ｇ／ｍ２・ｄａｙ）と、４．８２（ｃｍ３／ｍ２・ｄａｙ）であり、大きくバリア性能が劣化していた。
【００３８】
＜実施例２＞
透明プラスチックフィルムとして厚さ１００μｍのポリナフタレンテレフタレート（ＰＥＮ）フィルムを用い、その片面に、図２に示した巻き取り式の真空成膜装置により厚さが４０ｎｍの酸化珪素薄膜層を成膜した。次に、この酸化珪素薄膜層の上に前記組成の塗布液Ａを０．３μｍの厚みでマイクログラビア法により塗布した後、１８０℃の乾燥オーブンにて乾燥を行い、ガスバリア性被膜層を積層した。そしてさらに、ガスバリア性被膜層の上には、もう一度真空成膜装置により厚さが４０ｎｍの酸化珪素薄膜層を積層した。このようにして得られた積層バリアフィルムの水蒸気バリア性と酸素バリア性をモコン法により測定した結果、それぞれ０．０１（ｇ／ｍ２・ｄａｙ）と、０．０２（ｃｍ３／ｍ２・ｄａｙ）であった。
さらに、上記積層バリアフィルムには透明電極としてＩＴＯの薄膜（厚さ１００ｎｍ）を成膜し、実施例２に係る透明電極層を有するガスバリア性フィルムを得た。この透明電極層を有するガスバリア性フィルムの水蒸気バリア性は０．００５ｇ／ｍ２・ｄａｙであった。
【００３９】
続いて、前記積層バリアフィルムを、透明電極のエッチング工程で用いる１ＮＨＣｌ水溶液と、１ｗｔ％ＮａＯＨ水溶液に、それぞれ５０℃で６０秒間、５０℃で３０秒間浸漬した後、再度、水蒸気バリア性と酸素バリア性を測定した。その結果、それぞれ０．０１（ｇ／ｍ２・ｄａｙ）、０．０２（ｃｍ３／ｍ２・ｄａｙ）であり、バリア性能の劣化は確認できなかった。
【００４０】
＜比較例３＞
ガスバリア性被膜層の替わりに、前記組成の塗布液Ｂを用いてロールコーティング法で０．３μｍ厚の耐薬品層を設けた以外は実施例２と同様の条件にて比較例３に係る積層バリアフィルムを作成した。
このようにして得られた積層バリアフィルムの水蒸気バリア性と酸素バリア性をモコン法により測定した結果、それぞれ０．０８（ｇ／ｍ２・ｄａｙ）と、０．０４（ｃｍ３／ｍ２・ｄａｙ）であり、実施例２の積層バリアフィルムに比べ初期のバリア性が劣っていた。
さらに、上記積層バリアフィルムには透明電極としてＩＴＯの薄膜（厚さ１００ｎｍ）を成膜し、比較例３に係る透明電極層を有するガスバリア性フィルムを得た。
【００４１】
さらに、前記積層バリアフィルムを実施例１と同様に１ＮＨＣｌ水溶液（５０℃で６０秒間）、１ｗｔ％ＮａＯＨ水溶液（５０℃で３０秒間）浸漬した結果、水蒸気バリア、酸素バリアはそれぞれ０．０８（ｇ／ｍ２・ｄａｙ）、０．０４（ｃｍ３／ｍ２・ｄａｙ）と劣化は押さえられているものの、バリア性において実施例２の積層バリアフィルムと比べ劣っていた。
【００４２】
＜比較例４＞
ガスバリア性被膜を塗布しなかった以外は実施例２と同様の条件により、比較例４に係る金属酸化物薄膜層を有するバリアフィルムを作成した。次に、得られたバリアフィルムの水蒸気バリア性と酸素バリア性をモコン法により測定した結果、それぞれ０．１４（ｇ／ｍ２・ｄａｙ）と、０．１（ｃｍ３／ｍ２・ｄａｙ）であった。
さらに、上記金属酸化物薄膜層を有するバリアフィルムには透明電極としてＩＴＯの薄膜（厚さ１００ｎｍ）を成膜し、比較例４に係る透明電極層を有するガスバリア性フィルムを得た。
【００４３】
続いて、前記金属酸化物薄膜層を有するバリアフィルムを実施例１と同様に１ＮＨＣｌ水溶液と１ｗｔ％ＮａＯＨ水溶液に、それぞれ５０℃で６０秒間、５０℃で３０秒間浸漬した結果、水蒸気バリア性と酸素バリア性はそれぞれ２．２１（ｇ／ｍ２・ｄａｙ）と、４．７８（ｃｍ３／ｍ２・ｄａｙ）であり、大きくバリア性能が劣化していた。
【００４４】
【発明の効果】
本発明の透明電極を有するガスバリア性フィルムは、以上のような構成であるので、ガスバリア性と耐薬品性とに優れるものであり、液晶ディスプレイ素子、エレクトロルミネッセンスディスプレイ素子、タッチパネル素子等に代表されるエレクトロニクス素子用の電極基板用フィルムとしての利用が大いに期待できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の透明電極を有するガスバリア性フィルムの概略断面構成説明図である。
【図２】巻き取り式真空成膜装置の概略の構成を示す説明図である。
【図３】本発明の透明電極を有するガスバリア性フィルムの概略断面構成説明図である。
【符号の説明】
１、１１          透明電極を有するガスバリア性フィルム
２、１２          プラスチックフィルム
３、１３、１５    金属酸化物層
４、１４          ガスバリア性被膜層
６、１６          透明電極層
２０              巻出し・巻き取り室
２１              巻き取り軸
２２              巻出し軸
２９              プラスチックフィルム
２３、２４        アイドルロール
２５              テンションロール
３７、３８        ニップローラー
２７              温度センサー
３０              成膜室
３１              温調入りドラム
３２              プラズマＣＶＤ用の電極
３５              ウエブ状のプラスチックフィルム原反
３６              ウエブ状の成膜済みフィルム
【図１】
2005019286.tif 000003
【図２】
2005019286.tif 000004
【図３】
2005019286.tif 000005