(57)【要約】【課題】  透過モード時のコントラスト及び表示輝度を高めることが可能な反射体を提供する。【解決手段】  一面に複数の凹部３１Ａが形成された透明基材３１と、透明基材３１の一面側に積層された複数の開口部３２Ａを有する反射膜３２とから構成されてなり、開口部３２Ａから露出する透明基材３１の一面が平面３１Ｃとされていることを特徴とする反射体３０を採用する。【選択図】        図４
2005055762.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一面に複数の凹部が形成された透明基材と、該透明基材の一面側に積層された複数の開口部を有する反射膜とから構成されてなり、前記開口部から露出する前記透明基材の一面が平面とされていることを特徴とする反射体。
【請求項２】
前記反射膜の表面が前記複数の凹部に対応した凹凸面とされていることを特徴とする請求項１に記載の反射体。
【請求項３】
前記平面の表面粗さが１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲であることを特徴とする請求項１に記載の反射体。
【請求項４】
一対の基板と該一対の基板の間に配置された液晶層とが備えられてなる液晶表示パネルと、前記液晶表示パネルを照明するバックライトとから構成され、
一方の基板側に偏光板と位相差板とが付設され、他方の基板に請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の反射体が一体化されてなることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
基体一面を感光性樹脂層とし、該感光性樹脂層に対して表面に微細な凸部を有する型を押し付け、前記基体の一面と反対側の他面にマスク層を積層し、前記他面から光線を照射して前記マスク層と重なる部分を除いた前記感光性樹脂層を硬化させることにより表面に凹部を有する硬化樹脂層を形成し、次いで前記型を前記硬化樹脂層から剥離させて所定時間放置することにより前記マスク層と重なっていた未硬化部分を平坦化させ、次いで未硬化部分を硬化させるとともに前記硬化樹脂層上に反射膜を形成し、前記平坦化された部分に対応する反射膜を開口することを特徴とする反射体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射体及び液晶表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話や携帯用ゲーム機などの携帯電子機器には、そのバッテリ駆動時間が使い勝手に大きく影響するために、消費電力を抑えることができる反射型液晶表示装置が備えられている。反射型液晶表示装置には、例えば、その前面から入射する外光を全反射させる反射体や、その前面から入射する外光を反射するとともに後方からのバックライト光を透過させる反射体などが備えられており、これらの反射体を装着する形態としては、液晶パネルを構成する２枚の基板の間に反射体を内蔵させたものや、透過型の液晶パネルの背面側に反射体を配設させたものなどが知られている。
例えば、下記特許文献１に記載の反射型液晶表示装置では、液晶層を透過した光を反射させるための反射体として、表面に複数の凹部が設けられた反射体を用いている。
【０００３】
下記特許文献１に記載の反射体は、複数の凹部の全面にＡｌ等の反射膜が形成されたものである。従ってこの反射体を半透過型の液晶表示装置に用いる場合には、反射膜に開口部を設ける必要がある。図１１及び図１２に開口部を設けた反射体の一例を示す。
【０００４】
図１１は、反射体を液晶表示装置の表示面側からみた平面模式図であり、図１２は、図１１のＹ-Ｙ線に対応する断面模式図である。
図１１及び図１２に示すように、この従来の反射体１３０は、複数の凹部１３１Ａ…が設けられた透明基材１３１に、金属からなる反射膜１３２が積層されて構成されている。反射膜１３２には略矩形の開口部１３２Ａが設けられ、この開口部１３２Ａから透明基材１３１が露出している。
また、図１１には、開口部１３２Ａに対応する液晶表示装置の画素領域Ａを一点鎖線で示している。図１１に示すように、通常の液晶表示装置においては、一つの画素領域Ａに対して開口部１３２Ａが一つ設けられる関係になっている。この画素領域Ａにおいて、開口部１３２Ａが形成された領域はバックライト光が透過する透過領域となっており、それ以外の領域は、外光が反射する反射領域になっている。
【特許文献１】特開平１１−５２１１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の反射体１３１においては、透過領域（開口部１３２Ａ）にも凹部１３１Ａが形成されているため、ここを透過するバックライト光は凹部１３１Ａによって散乱される。このようにバックライト光が散乱されると、透過モード時のコントラストが低下するとともに表示輝度が低下するといった問題があった。
【０００６】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、透過モード時のコントラスト及び表示輝度を高めることが可能な反射体を提供することを目的とする。また、このような反射体の製造方法並びに反射体を備えた液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
本発明の反射体は、一面に複数の凹部が形成された透明基材と、該透明基材の一面側に積層された複数の開口部を有する反射膜とから構成されてなり、前記開口部から露出する前記透明基材の一面が平面とされていることを特徴とする。
【０００８】
上記の構成により、開口部を透過する光が平面を通過するために、当該光の屈折率が開口部の全面にわたってほぼ一定になり、光の散乱が起きることがない。
また透過モード時にはパネル及び偏光板、位相差板の光学条件（例えばパネルのリタデーション（Δｎｄ）、配向方位、偏光板、位相差板の軸方向、及び位相差板のリタデーション（Δｎｄ）など）で決まる、視覚特性がそのまま利用できる。
【０００９】
また本発明の反射体は、先に記載の反射体であり、前記反射膜の表面が前記複数の凹部に対応した凹凸面とされていることを特徴とする。
【００１０】
上記の構成により、反射膜によって反射される反射光の反射角度を広くすることができるとともに広い角度範囲で反射光の強度を一定にすることができ、反射特性を高めることができる。
【００１１】
また本発明の反射体においては、前記平面の表面粗さが１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下の範囲であることが好ましい。
【００１２】
また、本発明の液晶表示装置は、一対の基板と該一対の基板の間に配置された液晶層とが備えられてなる液晶表示パネルと、前記液晶表示パネルを照明するバックライトとから構成され、一方の基板側に偏光板と位相差板とが付設され、他方の基板に先に記載の反射体が一体化されてなることを特徴とする。
【００１３】
上記の構成により、開口部を透過するバックライト光が平坦面を通過するので、バックライト光の屈折率が開口部の全面にわたってほぼ一定になる。このため、バックライト光の散乱が起きることがなく、これにより透過モード時のコントラスト及び表示輝度を高めることができる。
【００１４】
また前記反射膜の表面が前記複数の凹部に対応した凹凸面とされていることが好ましい。
上記の構成により、反射膜によって反射される反射光の反射角度を広くすることができるとともに広い角度範囲で反射光の強度を一定にすることができ、液晶表示装置の反射特性を高めることができる。
【００１５】
また、本発明の反射体の製造方法は、基体一面を感光性樹脂層とし、該感光性樹脂層に対して表面に微細な凸部を有する型を押し付け、前記基体の一面と反対側の他面にマスク層を積層し、前記他面から光線を照射して前記マスク層と重なる部分を除いた前記感光性樹脂層を硬化させることにより表面に凹部を有する硬化樹脂層を形成し、次いで前記型を前記硬化樹脂層から剥離させて所定時間放置することにより前記マスク層と重なっていた未硬化部分を平坦化させ、次いで未硬化部分を硬化させるとともに前記硬化樹脂層上に反射膜を形成し、前記平坦化された部分に対応する反射膜を開口することを特徴とする。
【００１６】
型の押し付けにより形成された凹部のうち未硬化部に形成された凹部は、時間の経過とともにその凹部形状を維持することができずに次第になだらかになり、ついには平坦面となる。このようにして、マスク層が重なった部分のみ平坦にすることができ、この平坦部分に反射膜の開口部が重なることで、開口部から露出する面が平面である反射体を容易に製造できる。また、未硬化部に熱を加えて平坦化を促進させても良い。
また、マスク層の形状やパターンを変えることで、平面の位置、大きさ、形状を変えることができ、反射体の設計が容易になる。
【００１７】
また、上記反射体を製造する方法として、微細な凸部を有し且つ予め平坦面が形成された型を感光性樹脂層に押し付け、感光樹脂層の全面に光線を照射して硬化させ、型を外した後に硬化済みの硬化樹脂層に反射膜を形成し、更に開口部を設ける方法を採用しても良い。
【００１８】
上記の方法によれば、光線による硬化工程が一度で済むので工程を短縮できる。また、型の製造に要する時間を短縮できる。
【発明の効果】
【００１９】
以上、詳細に説明したように、本発明の反射体は、反射膜に複数の開口部が設けられ、開口部から露出した面が平面であるので、開口部を透過する光が平面を通過する際に、当該光の屈折率が開口部の全面にわたってほぼ一定になり、光の散乱が起きることがない。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明するが、本発明は以下の実施形態のみに限定されるものではない。また、各図において各構成部材の縮尺は図示し易いように適宜変更して記載してある。
【００２１】
図１は、本実施形態の半透過型の液晶表示装置の断面構成図であり、図２は液晶表示装置の要部を示す拡大断面模式図である。尚、本実施形態の液晶表示装置は、いわゆるパッシブマトリックス型と呼ばれるものである。
【００２２】
図１に示すように、本実施形態の液晶表示装置Ａは、液晶表示パネル２０と、この液晶表示パネル２０の背面側に配置されて液晶表示パネル２０を裏面側から照明するためのバックライト１０とから概略構成されている。
【００２３】
液晶表示パネル２０は半透過型のものであり、液晶層２３を挟持して対向するガラスなどからなる透明の第１の基板２１と、透明の第２の基板２２をシール材２４で接合一体化して概略構成されている。第１の基板２１および第２の基板２２の液晶層２３側には、表示回路層２６，２７がそれぞれ形成されている。
【００２４】
バックライト１０は透明な導光板１２と光源装置１３とから概略構成されている。バックライト１０において、光源装置（光源）１３は、導光板１２に光を導入する側の端面１２ａ側に配設されている。
導光板１２は、上記液晶表示パネル２０の背面側（基板２２の外側）に配置されて光源装置１３から入射された光を液晶表示パネル２０に照射するものであり、平板状の透明なアクリル樹脂板などから構成されている。図２に示すように導光板１２の一側の端面１２ａ（以下、入射面１２ａということもある）に配置された光源装置１３から出射された光が、入射面１２ａを介して導光板１２の内部に導入されるようになっている。
導光板１２を構成する材料としてはアクリル系樹脂のほか、ポリカーボネート系樹脂、エポキシ樹脂などの透明な樹脂材料や、ガラスなどを用いることができる。
【００２５】
また、図２に示すように、第２の基板２２の液晶層２３側には、反射体３０と、カラー表示を行うためのカラーフィルタ３３Ｒ、３３Ｇ、３３Ｂと、反射体３０を被覆して保護するとともに透明有機膜３１やカラーフィルタ３３Ｒ、３３Ｇ、３３Ｂによる凹凸を平坦化するためのオーバーコート膜３４と、液晶層２３を駆動するためのストライプ電極３５と、液晶層２３を構成する液晶分子の配向を制御するための配向膜３６とが順次積層されている。
また、反射体３０は、透明基材３１と、反射膜３２とが積層されて構成されている。
【００２６】
一方、第１の基板２１の液晶層２３側には、ストライプ電極３５、オーバーコート膜３４、配向膜３６が順次積層されて形成されている。
【００２７】
更に、第２の基板２２の液晶層２３側と反対側（第２の基板２２の外面側）に、偏光板３８が設けられており、第１の基板２１の液晶層２３側と反対側（第１の基板２１の外面側）には、位相差板４７と偏光板４８がこの順で積層されている。
そして、第２の基板２２の偏光板３８の外側に、半透過液晶表示装置Ａにおいて透過表示を行うための光源としての導光板１２が配設されている。
【００２８】
第１、第２の基板２１、２２に各々設けられたストライプ電極３５、３５は、ＩＴＯ（Indium tin oxide）などの透明導電膜からなる短冊状の平面形状のものを多数整列形成したもので、外部の駆動回路（図示せず）に個々に接続されて液晶層２３を構成する液晶分子を駆動するためのものである。各ストライプ電極３５，３５は互いに平面視直角に向くように配置されて上記の液晶表示装置Ａがパッシブマトリクス型とされている。各ストライプ電極３５，３５が交差する部分が画素領域とされている。
【００２９】
次に、本実施形態の反射体３０について詳細に説明する。
図３には、反射体３０と、ストライプ電極３５，３５の交差部分からなる画素領域との位置関係を示している。図３に示すように、反射体３０に対して、画素領域Ａがマトリックス状に配置されている。
【００３０】
次に、図４に反射体の要部の斜視図を示し、図５には一つの画素領域Ａに対応する反射体の拡大平面図を示し、図６には図５のＸ-Ｘ線に対応する断面図を示す。
図４に示すように、本実施形態の反射体３０は、一面３１Ｂに複数の凹部３１Ａが形成された透明基材３１と、透明基材３１の一面３１Ｂ上に成膜された反射膜３２とから構成されている。
透明基材３１はその上に形成される反射膜３２に凹凸形状を与えて反射光を効率よく散乱させるために設けられているものである。反射膜３２に凹凸形状を与えることにより、液晶表示パネル２０に入射する光を効率よく反射することができるため、反射モードにおける明るい表示を実現することができる。
すなわち図４及び図５に示すように、透明基材３１の表面には、その内面が球面の一部をなす多数の凹部３１Ａが左右に重なり合うようにして連続して形成されており、各凹部３１Ａに反射膜３２が成膜されている。透明基材３１は、例えば、透明アクリル樹脂等から構成される。
【００３１】
反射膜３２は、Ａｌ、Ａｇ等の金属光沢を有する金属薄膜からなるものであり、厚みが０．０８μｍ〜０．２μｍの範囲とされている。反射膜３２には、所々に開口部３２Ａが設けられている。この開口部３２Ａが設けられた部分からは、下地である透明基材３１が露出するようになっている。そして図４及び図６に示すように、一面３１Ｂのうち、開口部３２Ａから露出した面が平面３１Ｃとされている。
【００３２】
開口部３２Ａが形成された領域は、透明基材３１を透過してきたバックライト光が透過する透過領域となっている。一方、反射膜３２が形成されている領域は、第１の基板２１側から入射した外光が反射される反射領域となっている。
本実施形態の反射体３０においては、透過領域を構成する面が平面３２Ｃなので、バックライト光の屈折率が開口部３２Aの全面にわたって一定となり、バックライト光の散乱が少なくなってバックライト光の輝度を高めることができる。
また、反射領域には複数の凹部３１Ａ…が形成されているので、所定の反射特性を得ることができる。
【００３３】
透過領域（露出面３１Ｃ）の表面粗さについては、反射領域の表面粗さよりも小さいことが好ましく、具体的には１０ｎｍ以上〜１００ｎｍ以下の範囲が好ましい。表面粗さが１００ｎｍを越えるとバックライト光の散乱が大きくなってしまうので好ましくない。また表面粗さを１０ｎｍ未満としても、それに見合う効果が得られない。
尚、反射領域の表面粗さは、凹部３１Ａ…の形状によって決定されるものであるが、具体的には１００ｎｍ以上３０００ｎｍ以下の範囲が好ましい。
【００３４】
また、一つの画素領域Ａにおける開口部３２Ａが占める面積比（開口率）は、２０％以上６０％以下の範囲であることが好ましい。開口率が２０％未満だと、バックライト光の透過量が減少し、バックライト点灯時における液晶表示装置Ａの表示が暗くなってしまうので好ましくない。また、開口率が６０％を越えると、透過領域の面積が増える分、反射領域の面積が減少し、これに伴って一画素領域Ａあたりの凹部３１Ａの数が減少し、所定の反射特性が得られなくなるので好ましくない。
【００３５】
尚、本発明に適用可能な凹部３１Ａの形状について説明すると、凹部３１Ａを平面視した場合に、凹部３１Ａの輪郭が、円形、楕円形、円周の一部が直線である略円形、丸みを帯びた四角形など、様々な形状のものを例示できる。また、凹部の内面形状としては、球面または曲率が連続的若しくは不連続的に変化するような曲面またはこれらの一部に平面を有する形状等が好ましい。
また、上記凹部３１Ａの深さを０．１μｍ〜３μｍの範囲でランダムに形成し、隣接する凹部３１Ａのピッチを５μｍ〜５０μｍの範囲でランダムに配置し、上記凹部３１Ａ内面の傾斜角を−３０度〜＋３０度の範囲に設定することが望ましい。
更に、凹部３１Ａ内面の傾斜角分布を−３０度〜＋３０度の範囲に設定する点、隣接する凹部３１Ａのピッチを平面全方向に対してランダムに配置する点が特に重要である。なぜならば、仮に隣接する凹部３１Ａのピッチに規則性があると、光の干渉色が出て反射光が色付いてしまうという不具合があるからである。また、凹部３１Ａ内面の傾斜角分布が−３０度〜３０度の範囲を超えると、反射光の拡散角が広がりすぎて反射強度が低下し、明るい表示が得られない（反射光の拡散角が空気中で３６度以上になり、液晶表示装置内部の反射強度ピークが低下し、全反射ロスが大きくなる）からである。
【００３６】
また、凹部３１Ａの深さが３μｍを超えると、液晶表示装置Ａを製造する際に、オーバーコート膜３４により凹部３１Ａを平坦化するときに凸部の頂上が埋めきれず、所望の平坦性が得られなくなり、表示むらの原因となるので好ましくない。
また、隣接する凹部３１Ａのピッチが５μｍ未満の場合、透明基材３１を形成するために用いる転写型の製作上の制約があり、加工時間が極めて長くなる、所望の反射特性が得られるだけの形状が形成できない、干渉光が発生する等の問題が生じる。また、実用上、前記転写型の製作に使用しうる３０μｍ〜１００μｍ径のダイヤモンド圧子を用いる場合、隣接する凹部３１Ａのピッチを５μｍ〜５０μｍとすることが望ましい。
【００３７】
また、本実施形態の液晶表示装置はいわゆるパッシブマトリックス型であったが、本発明はこれに限らず、アクティブマトリックス型の液晶表示装置に適用してもよい。
【００３８】
次に、本発明の反射体の製造方法の一例を、図７〜図９を参照して説明する。
まず、図７Ａに示すように、透明基体３１Ｄの上面３１Ｄ１に、アクリル系レジスト、ポリスチレン系レジスト、アジドゴム系レジスト、イミド系レジストなどのいずれか１種の感光性樹脂液をスピンコート法、スクリーン印刷法、吹き付け法などの塗布法により塗布し、更に加熱することにより透明基体３１Ｄ上に感光性樹脂層３１Ｅを形成する。感光性樹脂層３１Ｅの膜厚は０.５〜５μｍの範囲が好ましい。
感光性樹脂層３１Ｅを形成する際の加熱条件は、用いる感光性樹脂の種類によって異なるが、条件を決定する目安として、感光性樹脂層３１Ｅ中に溶媒が残留しないように、また感光性樹脂の流動性をやや高めにして型押しの際に凹凸の転写が可能となるようにするとよい。
【００３９】
次に図７Ａに示すように、表面に微細な凸部４１を予め形成した型４２を用い、図７Ｂに示すように型４２の凸部４１を感光性樹脂層３１Ｅに押し付けて感光性樹脂層３１Ｅの上面部に凸部４１を転写して複数の凹部３１Ａを形成する。ここで用いる型４２は、シリコン樹脂、エポキシ樹脂などの合成樹脂から、あるいは、Ｎｉ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｌなどの金属材料からなることが好ましい。
型押しする場合の圧力は用いる感光性樹脂の種類に合った値を選択することが好ましく、例えば、０．１ＭＰａ〜２ＭＰａ（１〜２０ｋｇ／ｃｍ2）程度の圧力とする。また、型４２を感光性樹脂層３１Ｅに押し付ける時間は、感光性樹脂の種類に合った値を選択することが好ましく、例えば３０秒〜１０分程度の時間とする。
【００４０】
次に、図７Ｃに示すように、透明基体３１Ｄの一面の反対面である他面３１Ｄ２にマスク層Ｍ１を形成する。マスク層Ｍ１は、反射膜の開口部を形成する予定位置に重なるようにして形成する。尚、マスク層Ｍ１の形成は、型４２の型押し前に形成しておいても良い。
【００４１】
次に、透明基体の他面３１Ｄ２側から感光性樹脂層３１Ｅを硬化させるための紫外線（ｇ、ｈ、ｉ線）等の光線を照射し、感光性樹脂層３１Ｅの一部を硬化させる。また感光性樹脂層３１Ｅのうちマスク層Ｍ１と重なる部分は、マスク層Ｍ１によって光線が遮蔽されて未硬化部３１Ｅ１（未硬化部分）となる。
【００４２】
次に、感光性樹脂層３１Ｅの一部が硬化したならば、図８Ａに示すように、型４２を感光性樹脂層３１Ｅから取り外すとともにマスク層Ｍ１を除去する。このようにして、透明基体３１Ｄ上に、複数の凹部３１Ａを有するとともに未硬化部３１Ｅ１を有する硬化樹脂層３１Ｆが得られる。尚、型４２を取りはずした直後は、未硬化部３１Ｅ１においても凹部３１Ａは依然として形成された状態にある。
【００４３】
次に、型４２を外した状態で硬化樹脂層３１Ｆを放置する。硬化樹脂層３１Ｆを放置することで、未硬化部３１Ｅ１に形成されていた凹部３１Ａが次第にならされ、図８Ｂに示すように、未硬化部３１Ｅ１の表面が平坦になる。これは、未硬化部３１Ｅ１が完全に硬化されていないために柔軟性に富んで変形自在な状態なため、未硬化部３１Ｅ１の表面が最も安定した状態とされる平坦面になろうとするためである。放置条件は感光性樹脂の材質によるが、放置時間が１〜６時間の範囲がよく、放置温度が２０〜３５℃の範囲がよい。
また、未硬化部３１Ｅ１に対して加熱を行い、熱変形させることで平坦化を促進させても良い。このときの加熱温度は３５〜４５℃の範囲がよい。
【００４４】
次に図８Ｃに示すように、透明基体の他面３１Ｄ２側から紫外線（ｇ、ｈ、ｉ線）等の光線を再度照射し、未硬化部３１Ｅ１を含む硬化樹脂層３１Ｆ全体を完全に硬化させる。このようにして、透明基体３１Ｄと硬化樹脂層３１Ｆからなる透明基材３１が形成される。透明基材３１（硬化樹脂層３１Ｆ）の一面３１Ｂには、複数の凹部３１Ａ…と平面３１Ｃ…とが混在して形成される。
【００４５】
次に図９Ａに示すように、透明基材の一面３１Ｂ上に反射膜用のマスク層Ｍ２を形成する。マスク層Ｍ２は平面３１Ｃに重ねて形成する。
そして、図９Ｂに示すように、マスク層Ｍ２及び一面３１Ｂ上に反射膜３２を成膜する。反射膜３２は、スパッタ、蒸着、ＣＶＤ（化学気相蒸着）、イオンプレーティング、無電界メッキ等の方法により厚さが１００〜２００ｎｍの範囲になるように形成する。
最後に、図９Ｃに示すようにマスク層Ｍ２を除去する。マスク層Ｍ２が除去された部分には反射膜３２が形成されず、透明基材の平面３１Ｃが露出する開口部３２Ａとなる。また、反射膜３２の表面は、凹部３１Ａの形状が反映されて凹凸面となる。このようにして本実施形態の反射体３０が得られる。
【００４６】
上記の反射体の製造方法によれば、型４２の押し付けにより形成された凹部３１Ａのうち未硬化部３１Ｅ１に形成された凹部３１Ａが、時間の経過とともにその凹部形状を維持することができずに次第になだらかになり、ついには平坦面となる。このようにして、マスク層Ｍ１が重なった部分のみ平坦にすることができ、更にこの平坦部分に反射膜の開口部３２Ａを重ねることで、開口部３２Ａから露出する基体面が平面３１Ｃである反射体３０を容易に製造できる。
また、マスク層Ｍ１の形状やパターンを変えることで、平面３１Ｃの位置、大きさ、形状を変えることができ、反射体３０の設計が容易になる。
【００４７】
次に、本発明の反射体の製造方法の別の例を、図１０を参照して説明する。尚、図１０に示す構成部材のうち、図７及び図８において示した構成部材と同一の構成部材には同一符号を付するとともに、その説明を簡単に行う。
まず、図１０Ａに示すように、透明基体３１Ｄの上面３１Ｄ１に感光性樹脂層３１Ｅを形成する。
次に図１０Ａに示すように、表面に微細な凸部５１ａと平坦面５１ｂとが予め混在して形成された型５２を用い、図１０Ｂに示すように型５２の凸部５１及び平坦面５１ｂを感光性樹脂層３１Ｅに押し付けて感光性樹脂層３１Ｅの上面部に凸部５１ａ及び平坦面５１ｂを転写して複数の凹部３１Ａ及び平面３１Ｃを形成する。ここで用いる型５２は、シリコン樹脂、エポキシ樹脂などの合成樹脂から、あるいは、Ｎｉ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｌなどの金属材料からなることが好ましい。
【００４８】
次に、図１０Ｃに示すように、透明基体の他面３１Ｄ２側から感光性樹脂層３１Ｅを硬化させるための紫外線等を照射し、感光性樹脂層３１Ｅ全体を硬化させ、硬化樹脂層３１Ｆが形成される。
そして、硬化樹脂層３１Ｆが形成されたならば、図１０Ｄに示すように、型５２を硬化樹脂層３１Ｆから取り外す。このようにして、透明基体３１Ｄと硬化樹脂層３１Ｆとからなる透明基材３１の一面３１Ｂに、複数の凹部３１Ａ…と平面３１Ｃ…とが混在して形成される。
【００４９】
更に、透明基材３１の一面３１Ｂに反射膜３２を形成する。反射膜３２は、図９で説明した方法と同じ方法で形成される。このようにして本実施形態の反射体３０が得られる。
【００５０】
上記の反射体の製造方法によれば、光線による硬化工程が一度で済むので工程を短縮できる。
【００５１】
尚、型５２は、圧子と、レジスト層が形成されてなる母型基材とを用意し、圧子をレジスト層に順次押し付けて凹部を形成し、レジスト層を硬化させた後に電解メッキ等により金属電鋳材を形成し、この金属電鋳材をレジスト樹脂から剥がすことにより、レジスト層に形成された凹部が金属電鋳材に凸部として転写されることによって得られる。
上記の製造方法において使用する型５２には平坦面５１ｂが設けられており、この平坦面５１ｂは上記レジスト層に対して圧子の押し付けを省略することで形成される。従って、上記の型５２の製造方法は、全面に凸部を設けた型を製造する場合と比べて、圧子の押し付け回数を少なくすることができ、型５２の製造を短時間で行うことができる。
従って上記の反射体の製造方法は、型５２の製造時間の短縮という副次的な効果も得られる。
【実施例】
【００５２】
（実施例１）
一画素Ａあたりの透過領域（平坦部３１Ｃ）の面積を５０％とし、曲率半径３０μｍの凹部３１Ａが多数設けられてなる図４〜図６に示した本発明に係るものと同様の反射体を製造した。尚、凹部３１Ａとして、次の４種類の寸法形状の凹部をランダムに配列させた。即ち、深さ１．４７μｍで平面視したときの輪郭の半径が９．３μｍであって最大傾斜角度が１８°のもの、深さ１．３５μｍで平面視したときの輪郭の半径が８．９μｍであって最大傾斜角度が１７．３°のもの、深さ１．２μｍで平面視したときの輪郭の半径が８．４μｍであって最大傾斜角度が１６．２°のもの、深さ１．１μｍで平面視したときの輪郭の半径が８．０μｍであって最大傾斜角度が１５．６°のもの、の４種類である。
この実施例１の反射体を液晶表示パネルに組み込んで、図１及び図２に示すような液晶表示装置を製造した。得られた液晶表示装置について、透過モード時のコントラストと、透過光の透過率を求めた。結果を表１に示す。
【００５３】
（比較例１）
一画素Ａあたりの透過領域（開口部１３２Ａ）の面積を５０％とし、曲率半径３０μｍの凹部１３１Ａが多数設けられてなる図１１及び図１２に示した従来のものと同様の反射体を製造した。尚、凹部１３１Ａとしては、実施例１の場合と同様に、上記の４種類の寸法形状の凹部をランダムに配列させた。
この比較例１の反射体を液晶表示パネルに組み込んで、実施例１と同様にして液晶表示装置を製造した。得られた液晶表示装置について、透過モード時のコントラストと、透過光の透過率を求めた。結果を表１に示す。
【００５４】
【表１】
2005055762.tif 000003
【００５５】
表１に示したように、実施例１の液晶表示装置によれば、透過コントラスト及び透過率のいずれについても比較例１の液晶表示装置より高くなっており、透過モードの表示が明るく見やすい表示となっていることが分かる。
【図面の簡単な説明】
【００５６】
【図１】本発明の実施形態である半透過型の液晶表示装置を示す断面構成図。
【図２】図１の液晶表示装置の要部を示す拡大断面模式図。
【図３】反射体と画素領域との位置関係を示す平面模式図。
【図４】本発明の実施形態である反射体の要部を示す斜視図。
【図５】本発明の実施形態である反射体の要部を示す図であって、一つの画素領域に対応する部分の拡大平面図。
【図６】図５のＹ-Ｙ線に対応する断面図。
【図７】本発明の実施形態である反射体の製造方法の一例を説明するための工程図。
【図８】本発明の実施形態である反射体の製造方法の一例を説明するための工程図。
【図９】本発明の実施形態である反射体の製造方法の一例を説明するための工程図。
【図１０】本発明の実施形態である反射体の製造方法の別の例を説明するための工程図。
【図１１】従来の反射体の要部を示す図であって、一つの画素領域に対応する部分の拡大平面図。
【図１２】図１１のＹ-Ｙ線に対応する断面図。
【符号の説明】
【００５７】
１０…バックライト、２０…液晶表示パネル、２１…第１の基板（一方の基板）、２２…第２の基板（他方の基板）、２３…液晶層、３０…反射体、３１…透明基材、３１Ａ…凹部、３１Ｂ…一面、３１Ｃ…平面、３１Ｄ…基体（透明基体）、３１Ｄ１…一面、３１Ｄ２…他面、３１Ｅ…感光性樹脂層、３１Ｅ１…未硬化部（未硬化部）、３１Ｆ…硬化樹脂層、３２…反射膜、３２Ａ…開口部、４１…凸部、４２…型、４７…位相差板、４８…偏光板、Ａ…液晶表示装置、Ｍ１…マスク層
【図１】
2005055762.tif 000004
【図２】
2005055762.tif 000005
【図３】
2005055762.tif 000006
【図４】
2005055762.tif 000007
【図５】
2005055762.tif 000008
【図６】
2005055762.tif 000009
【図７】
2005055762.tif 000010
【図８】
2005055762.tif 000011
【図９】
2005055762.tif 000012
【図１０】
2005055762.tif 000013
【図１１】
2005055762.tif 000014
【図１２】
2005055762.tif 000015