(57)【要約】【課題】  耐熱性に優れるポリイミドから形成しても、安定した屈折率変化領域を形成することができ、光伝搬損失を低減することのできる、ポリイミド光学素子の製造方法を提供すること。【解決手段】  ポリイミド前駆体の溶液を調製し、これを基板６上に成膜後、乾燥させ、得られたポリイミド前駆体皮膜５をＸＹＺステージ４に載置する。次いで、光源１から、パルスレーザ光を連続または不連続に発光させて、そのパルスレーザ光を反射鏡２を介して集光レンズ３に照射し、その集光レンズ３から、ポリイミド前駆体皮膜５の内部に集光させる。そして、このようなパルスレーザ光の照射とともにＸＹＺステージ４を３次元的に移動させると、パルスレーザ光の集光点Ｐが、ポリイミド前駆体皮膜５の内部において相対的に移動し、その集光点Ｐの移動軌跡に沿って、その他の部分よりも屈折率が高くなる連続または不連続な領域として、屈折率変化領域Ｓが３次元的に形成される。【選択図】    図１
2005055833.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリイミド前駆体皮膜を用意する工程、
前記ポリイミド前駆体皮膜の内部にパルスレーザ光を集光させ、その集光点を前記ポリイミド前駆体皮膜の内部で連続または不連続に移動させることにより、屈折率が変化した屈折率変化領域を形成する工程、
前記屈折率変化領域が形成された前記ポリイミド前駆体皮膜をイミド化する工程
を含んでいることを特徴とする、ポリイミド光学素子の製造方法。
【請求項２】
前記パルスレーザ光のパルス幅が、１０−１２秒以下であることを特徴とする、請求項１に記載のポリイミド光学素子の製造方法。
【請求項３】
前記ポリイミド前駆体皮膜の厚み１０μｍにおける光透過率が、前記パルスレーザ光の波長において９５％以上であり、かつ、前記パルスレーザ光の波長の１／Ｎの波長（Ｎは、２、３、４から選ばれる整数）において５０％以下であることを特徴とする、請求項１または２に記載のポリイミド光学素子の製造方法。
【請求項４】
前記ポリイミド前駆体皮膜が、イミド化促進剤を含んでいることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載のポリイミド光学素子の製造方法
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリイミド光学素子の製造方法に関し、詳しくは、ポリイミドから形成される、光導波路、回折格子、波長フィルタなどの光学素子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光導波路、回折格子、波長フィルタなどの光学素子、特に、光通信デバイスとして用いられる光導波路においては、従来より、石英などのガラスから形成されるものが、よく知られている。
【０００３】
しかるに、近年、ＷＤＭ通信をはじめとする光ファイバ網の構築には、各種の光通信デバイスを、低コストで量産する必要があり、そのため、光導波路を有機材料から形成すること、とりわけ、はんだリフローなどで要求される耐熱性に優れるポリイミドから形成することが検討されている。
【０００４】
例えば、パルスレーザ光を有機材料からなる母相の内部に集光し、母相内部で集光点を相対移動させ、連続した屈折率変化領域からなるコア領域を母相の内部に形成する光導波路の製造方法が提案されており（例えば、特許文献１参照。）、この提案では、液状のフッ素化ポリイミドを乾燥および硬化させることにより母相を形成し、この母相をＸＹＺステージに載置して、パルスレーザ光を母相内部に集光させながら、ＸＹＺステージを移動制御することにより、集光点の軌跡に沿って屈折率が他の領域の屈折率より高くなる屈折率変化領域を連続的に形成することが検討されている。
【特許文献１】特開２００２−１４２４６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、上記の方法によって、ポリイミドからなる母相に、屈折率変化領域を形成すると、その屈折率変化領域において一旦変化した屈折率が、経時的に元の屈折率に戻り、光導波路が消失するという不具合を生じる。
【０００６】
本発明の目的は、耐熱性に優れるポリイミドから形成しても、安定した屈折率変化領域を形成することができ、光伝搬損失を低減することのできる、ポリイミド光学素子の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本発明のポリイミド光学素子の製造方法は、ポリイミド前駆体皮膜を用意する工程、前記ポリイミド前駆体皮膜の内部にパルスレーザ光を集光させ、その集光点を前記ポリイミド前駆体皮膜の内部で連続または不連続に移動させることにより、屈折率が変化した屈折率変化領域を形成する工程、前記屈折率変化領域が形成された前記ポリイミド前駆体皮膜をイミド化する工程を含んでいることを特徴としている。
【０００８】
また、本発明では、前記パルスレーザ光のパルス幅が、１０−１２秒以下であることが好適である。
【０００９】
また、本発明では、前記ポリイミド前駆体皮膜の厚み１０μｍにおける光透過率が、前記パルスレーザ光の波長において９５％以上であり、かつ、前記パルスレーザ光の波長の１／Ｎの波長（Ｎは、２、３、４から選ばれる整数）において５０％以下であることが好適である。
【００１０】
また、本発明では、前記ポリイミド前駆体皮膜が、イミド化促進剤を含んでいることが好適である。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のポリイミド光学素子の製造方法によると、まず、ポリイミド前駆体皮膜にパルスレーザ光の集光点の移動により、屈折率変化領域を形成した後、次いで、そのポリイミド前駆体皮膜をイミド化させることにより、ポリイミドを形成する。そのため、屈折率変化領域において、一旦変化した屈折率が、経時的に元の屈折率に戻りにくく、その結果、安定した屈折率変化領域を形成することができ、光伝搬損失を低減することのできる、ポリイミド光学素子を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明のポリイミド光学素子の製造方法では、まず、ポリイミド前駆体皮膜を用意する。ポリイミド前駆体皮膜は、例えば、ポリイミド前駆体の溶液を調製し、この溶液を成膜した後に乾燥させることにより、得ることができる。
【００１３】
ポリイミド前駆体の溶液は、少なくともポリイミド前駆体および溶媒を含んでいる。
【００１４】
ポリイミド前駆体は、ポリアミド酸であって、有機テトラカルボン酸二無水物と、ジアミンとを反応させることによって得ることができる。
【００１５】
有機テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、３，３'，４，４'−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、３，３'，４，４'−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン酸二無水物などが挙げられる。
【００１６】
好ましくは、例えば、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物、４，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン二無水物、１，４−ビス（３，４−ジカルボキシトリフルオロフェノキシ）テトラフルオロベンゼン二無水物、（トリフルオロメチル）ピロメリット酸二無水物、ジ（トリフルオロメチル）ピロメリット酸二無水物、ジ（ヘプタフルオロプロピル）ピロメリット酸二無水物など、分子内にフッ素原子を含有するフッ素置換テトラカルボン酸二無水物などが挙げられる。
【００１７】
これら有機テトラカルボン酸二無水物は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００１８】
また、ジアミンとしては、例えば、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、３，４'−ジアミノジフェニルエーテル、４，４'−ジアミノジフェニルエーテル、４，４'−ジアミノジフェニルスルホン、３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、２，２−ビス（４−アミノフェノキシフェニル）プロパン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、２，４−ジアミノトルエン、２，６−ジアミノトルエン、４，４'−ジアミノジフェニルメタン、４，４'−ジアミノ−２，２'−ジメチルビフェニルなどが挙げられる。
【００１９】
好ましくは、例えば、２，２'−ビス（トリフルオロメトキシ）−４，４’−ジアミノビフェニル（ＴＦＭＯＢ）、３，３’−ジアミノ−５，５’−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン（ＢＡＡＦ）、２，２−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕ヘキサフルオロプロパン（ＨＦＢＡＰＰ）、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル（ＴＦＭＢ）、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン（ＢＩＳ−ＡＰ−ＡＦ）、２，２−ビス（３−アミノ−４−メチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン（ＢＩＳ−ＡＴ−ＡＦ）、２，２’−ジフルオロベンジジン（ＦＢＺ）、４，４’−ビス（アミノオクタフルオロ）ビフェニル、３，５−ジアミノベンゾトリフルオライド、１，３−ジアミノ−２，４，５，６−テトラフルオロベンゼン、２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ベンジジン（ＢＴＦＢ）など、分子内にフッ素原子を含有するフッ素置換ジアミンなどが挙げられる。
【００２０】
これらジアミンは、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００２１】
そして、ポリイミド前駆体は、有機テトラカルボン酸二無水物およびジアミンを、常法に従って反応させることにより、得ることができる。すなわち、例えば、有機テトラカルボン酸二無水物とジアミンとを、ほぼ等モルとなる割合で、不活性ガス雰囲気下、反応溶媒中において、２５０℃以下の温度、好ましくは、室温(２５℃)〜８０℃の範囲で、５〜２０時間程度攪拌することによって、ポリイミド前駆体を粘性のある溶液として得ることができる。
【００２２】
反応溶媒としては、有機テトラカルボン酸二無水物およびジアミンを溶解させるとともに、得られるポリイミド前駆体を溶解し得るものであれば、特に限定されないが、例えば、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドなどの極性溶媒が挙げられる。これら極性溶媒は、単独で、または、２種以上の混合溶媒として用いることもできる。
【００２３】
このようにして得られるポリイミド前駆体は、例えば、その重量平均分子量が、５０００〜５０００００程度、好ましくは、１００００〜１５００００程度であって、反応溶媒中に、例えば、１〜５０重量％、好ましくは、５〜３０重量％の割合（固形分濃度）の溶液として調製される。
【００２４】
また、このポリイミド前駆体の溶液には、必要により、イミド化促進剤を配合することができる。イミド化促進剤を配合することによって、ポリイミド前駆体のイミド化を促進させることができ、ポリイミド光学素子の光伝搬損失を低減させることができる。
【００２５】
イミド化促進剤としては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールジメチルエーテル、ポリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテルおよびポリプロピレングリコールジメチルエーテルなどが挙げられる。これらイミド化促進剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。また、このようなイミド化促進剤を用いれば、ポリイミド前駆体のイミド化（硬化）において、残存溶媒とともに揮散させることができるので、最終的に得られるポリイミド皮膜中での残存を低減でき、透明性などの光学用途に要求される樹脂特性が阻害されることを防止することができる。
【００２６】
また、イミド化促進剤は、その重量平均分子量が、通常、１００〜２０００、さらには、２００〜１０００の範囲にあるものが、好ましく用いられる。
【００２７】
イミド化促進剤の配合割合は、ポリイミド前駆体１００重量部に対して、例えば、５〜５０重量部、好ましくは、１０〜４０重量部の範囲である。
【００２８】
また、このポリイミド前駆体の溶液には、必要により、感光剤を配合することができる。感光剤を配合することによって、パルスレーザ光の集光点において、屈折率の変化を大きくすることができる。
【００２９】
感光剤としては、例えば、下記一般式（１）で示される１，４−ジヒドロピリジン誘導体が、好ましく用いられる。
【００３０】
【化１】
2005055833.tif 000003
（式中、Ａｒは１，４−ジヒドロピリジン環への結合位置に対してオルソ位にニトロ基を有する芳香族基を示し、Ｒ１は水素原子または炭素原子数１〜３のアルキル基を示し、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立に水素原子または炭素原子数１または２のアルキル基を示す。）
上記式（１）中、Ａｒで示されるオルソ位にニトロ基を有する芳香族基として、好ましくは、ｏ−ニトロフェニル基が挙げられ、また、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５で示される炭素数１、２または３のアルキル基として、好ましくは、メチル基（Ｃ１）、エチル基（Ｃ２）、ｎ−プロピル基（Ｃ３）、ｉ−プロピル基（Ｃ３）が挙げられる。
【００３１】
このような１，４−ジヒドロピリジン誘導体は、より具体例には、例えば、１−エチル−３，５−ジメトキシカルボニル−４−（２−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジン、１−メチル−３，５−ジメトキシカルボニル−４−（２−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジン、１−プロピル−３，５−ジメトキシカルボニル−４−（２−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジン、１−プロピル−３，５−ジエトキシカルボニル−４−（２−ニトロフェニル）−１，４−ジヒドロピリジンが挙げられる。
【００３２】
感光剤の配合割合は、例えば、ポリイミド前駆体１００重量部に対して、０．５重量部以上、１０重量部未満の範囲である。
【００３３】
次いで、この方法では、上記により得られたポリイミド前駆体の溶液を成膜した後に乾燥させることにより、ポリイミド前駆体皮膜を得る。
【００３４】
ポリイミド前駆体の溶液の成膜は、特に限定されず、例えば、スピンコート法、キャスティング法など公知の成膜方法を用いることができる。
【００３５】
例えば、基板上に、ポリイミド前駆体の溶液を、上記の成膜方法により塗布し、乾燥させることにより、ポリイミド前駆体皮膜を得ることができる。
【００３６】
基板は、特に限定されず、例えば、ガラス基板、シリコンウエハ、金属膜、プラスチックフィルム、フレキシブル回路基板などが用いられる。
【００３７】
このようにして得られるポリイミド前駆体皮膜の厚みは、特に限定されないが、屈折率変化領域の形成を容易化する観点から、例えば、３〜２０００μｍ、好ましくは、１０〜１００μｍである。
【００３８】
また、ポリイミド前駆体皮膜の厚み１０μｍにおける光透過率が、次に述べるパルスレーザ光の波長において９５％以上であり、かつ、パルスレーザ光の波長の１／Ｎの波長（Ｎは、２、３、４から選ばれる整数）において５０％以下であることが好ましい。
【００３９】
本発明のポリイミド光学素子の製造方法では、後述するように、ポリイミド前駆体皮膜の内部に、パルスレーザ光を集光させるが、そのような多光子吸収過程を経由した加工において、光吸収が過度に大きいと、集光点での照射エネルギーが不足して、ポリイミド前駆体皮膜の内部へ直接加工することが困難となる。
【００４０】
なお、Ｎ個の光子が同時に吸収される場合、波長は１／Ｎとなり、１／Ｎの波長では、光吸収の大きい方が好ましい。
【００４１】
そして、本発明のポリイミド光学素子の製造方法では、次いで、ポリイミド前駆体皮膜の内部にパルスレーザ光を集光させ、その集光点をポリイミド前駆体皮膜の内部で連続または不連続に移動させることにより、屈折率が連続または不連続に変化した屈折率変化領域を形成する。
【００４２】
ポリイミド前駆体皮膜の内部にパルスレーザ光を集光させ、その集光点をポリイミド前駆体皮膜の内部で連続または不連続に移動させるには、例えば、図１に示す装置が用いられる。
【００４３】
すなわち、図１において、この装置は、パルスレーザ光を発光する光源１と、反射鏡２と、集光レンズ３と、ＸＹＺステージ４とを備えている。
【００４４】
光源１は、チタン・サファイア結晶を媒体とするレーザ、色素レーザを再生・増幅して得られるパルスレーザなどが用いられる。
【００４５】
パルス幅は、１０−１２秒以下、好ましくは、１０−１２〜１０−１５秒であることが好ましい。パルス幅が１０−１２秒を超えると、レーザ光の集光点以外の屈折率が変化する場合がある。また、波長は、可視光領域の４００ｎｍから１．２μｍであることが好ましい。また、繰り返し周波数は、特に限定されないが、通常、１Ｈｚ〜８０ＭＨｚであることが好ましい。また、パルスレーザ光の照射エネルギーは、適宜選択できるが、通常、０．０１ｎＪ／ｐｕｌｓｅ〜５００ｍＪ／ｐｕｌｓｅ、好ましくは、１０ｎＪ／ｐｕｌｓｅ〜１００ｍＪ／ｐｕｌｓｅ、さらに好ましくは、０．０１〜１００μＪ／ｐｕｌｓｅである。
【００４６】
反射鏡２は、光源１から照射されたパルスレーザ光を、集光レンズ３に向かうように、反射させる。
【００４７】
集光レンズ３は、反射鏡２によって反射されたパルスレーザ光を、ＸＹＺステージ４上に載置されたポリイミド前駆体皮膜５の内部に集光させる。なお、集光レンズ３の倍率は、例えば、２．５〜１５０倍、さらには、１０〜５０倍であることが好ましい。
【００４８】
ＸＹＺステージ４は、その上にポリイミド前駆体皮膜５を載置して、矢印で示す、Ｘ方向、Ｙ方向およびＺ方向において３次元的に移動する。
【００４９】
そして、この方法では、ＸＹＺステージ４上に、例えば、ポリイミド前駆体５が形成された基板６を載置して、光源１から、パルスレーザ光を連続または不連続に発光させて、そのパルスレーザ光を反射鏡２を介して集光レンズ３に照射し、その集光レンズ３から、ポリイミド前駆体皮膜５の内部に集光させる。ポリイミド前駆体皮膜５の内部では、パルスレーザ光の集光点Ｐにおいて構造変化を生じ、集光点Ｐでの屈折率が、その他の部分の屈折率よりも高くなる。
【００５０】
そして、このようなパルスレーザ光の照射とともに、ＸＹＺステージ４を３次元的に移動させる。すると、パルスレーザ光の集光点Ｐが、ポリイミド前駆体皮膜５の内部において相対的に移動するので、その集光点Ｐの移動軌跡に沿って、その他の部分よりも屈折率が高くなる連続または不連続な領域として、屈折率変化領域Ｓが３次元的に形成される。
【００５１】
なお、このようにして形成される屈折率変化領域Ｓの大きさ、形状、屈折率変化の程度などは、パルスレーザ光の照射時間、焦点位置の移動方向やその速度、パルス幅の大きさ、照射エネルギーの大きさ、あるいは、集光レンズ３の開口数や倍率などにより、適宜調整することができる。
【００５２】
そして、本発明のポリイミド光学素子の製造方法では、その後、パルスレーザ光により屈折率変化領域が形成されたポリイミド前駆体皮膜をイミド化する。イミド化は、熱風循環、輻射加熱、誘導加熱などの公知の方法により、加熱して硬化させる。また、皮膜の着色を防止すべく、真空中あるいは不活性ガス雰囲気下にてイミド化することが好ましい。これによって、ポリイミド前駆体皮膜がイミド化され、屈折率変化領域が３次元的に連続または不連続で形成されたポリイミド皮膜を得ることができる。
【００５３】
このような方法によれば、ポリイミド前駆体皮膜の内部に屈折率変化領域を３次元的に連続または不連続で形成した後に、これをイミド化させてポリイミド皮膜を得るので、屈折率変化領域において、一旦変化した屈折率が、経時的に元の屈折率に戻りにくく、その結果、安定した屈折率変化領域を形成することができ、光伝搬損失を低減することのできる、ポリイミド光学素子を製造することができる。
【００５４】
このようにして得られるポリイミド光学素子は、ポリイミド皮膜の内部において、屈折率変化領域の屈折率が、その他の領域の屈折率よりも高くなるので、この屈折率変化領域が、通常、コア層となる光学素子として、広く用いることができる。
【００５５】
より具体的には、光学素子として、例えば、光導波路、回折格子、波長フィルタなどに用いることができ、さらに具体的には、例えば、光スイッチング部品、光分合波部品、波長変換フィルタ、光アイソレータ、光サーキュレータ、光コネクタ、光外部変調器などに用いることができる。
【実施例】
【００５６】
以下に実施例および比較例を示し、本発明をより具体的に説明するが、本発明は、何ら実施例および比較例に限定されるものではない。
【００５７】
実施例１
２，２’−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル（ＴＦＭＢ）１６．０ｇ（０．０５モル）をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）１５２．８ｇに溶解させた。攪拌しながら、この溶液に２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）へキサフルオロプロパン二無水物（６ＦＤＡ）２２．２ｇ（０．０５モル）を加えた後、室温で２４時間攪拌して反応させた。さらに、重量平均分子量５００のポリエチレングリコールジメチルエーテル１１．５ｇ（ポリアミド前駆体の３０重量部）を加えて、ポリイミド前駆体の溶液を調製した。
【００５８】
そして、ポリイミド前駆体の溶液を、厚み１．０ｍｍの合成石英ガラスからなる基板上にスピンコート法にて塗布し、９０℃で約１５分間乾燥させて、その基板上に乾燥後の厚み３０μｍのポリイミド前駆体皮膜を形成した。
【００５９】
このポリイミド前駆体皮膜を、ＸＹＺステージ上に載置し、このポリイミド前駆体皮膜の内部の深さ１０μｍに、波長７８０ｎｍ、パルス幅１５０フェムト秒、繰り返し周波数１ｋＨｚのチタン・サファイア・フェムト秒パルスレーザ装置を用いて、照射エネルギー０．１５μＪ／ｐｕｌｓｅ、対物レンズの倍率１０倍の照射条件で、パルスレーザ光を連続的に照射すると同時に、照射方向に対して垂直な方向に、ポリイミド前駆体皮膜を移動速度約１００μｍ／秒で移動させ、図２に概略的に示すように、その移動方向に連続する長さ２０ｍｍの屈折率変化領域Ｓ１を形成した。
【００６０】
その後、真空雰囲気下、３６０℃で２時間加熱し、イミド化を完結させて、ポリイミド皮膜中に、２０ｍｍ長さの屈折率変化領域からなる光導波路を形成した。
【００６１】
この光導波路の両端から、１ｍｍの部位をダイシング装置によって切断し、端面加工した後、波長１５５０ｎｍの光を、シングルモードファイバを通して光導波路に入射させることにより、光導波路内を光が伝搬することを確認した。
【００６２】
実施例２
実施例１で調製したポリイミド前駆体皮膜を、ＸＹＺステージ上に載置し、実施例１と同じパルスレーザー装置により同じ照射条件で、パルスレーザ光を不連続的に照射すると同時に、照射方向に対して垂直な方向に、ポリイミド前駆体皮膜を移動速度約１００μｍ／秒で移動させ、図３に概略的に示すように、ライン幅５μｍ、ライン間隔５μｍ、ライン本数５０本、ライン長３ｍｍの屈折率変化領域Ｓ２を形成した。
【００６３】
その後、真空雰囲気下、３６０℃で２時間加熱し、イミド化を完結させて、ポリイミド皮膜中に、上記した５０本のラインの屈折率変化領域からなる回折格子を形成した。
【００６４】
この回折格子に、６３３ｎｍのＨｅ−Ｎｅ色レーザーを照射し、回折光が出ることを確認した。
【００６５】
比較例１
実施例１と同様にしてポリイミド前駆体の溶液を調製し、厚み１．０ｍｍの合成石英ガラスからなる基板上にスピンコート法にて塗布し、９０℃で約１５分間乾燥させて、その基板上に乾燥後の厚み３０μｍのポリイミド前駆体皮膜を形成した。
【００６６】
その後、真空雰囲気下、３６０℃で２時間加熱し、イミド化を完結させてポリイミド皮膜を得た。次いで、実施例１と同様の操作により、２０ｍｍ長さの屈折率変化領域からなる光導波路を形成した。
【００６７】
この光導波路の両端から、１ｍｍの部位をダイシング装置によって切断し、端面加工した後、波長１５５０ｎｍの光を、シングルモードファイバを通して光導波路に入射させたところ、初期は光が光導波路内を伝搬したが、室温で９０日放置後には、光は光導波路内を伝搬しなかった。
【００６８】
比較例２
実施例１と同様にしてポリイミド前駆体溶液を調製し、厚み１．０ｍｍの合成石英ガラスからなる基板上にスピンコート法にて塗布し、９０℃で約１５分間乾燥させて、その基板上に乾燥後の厚み３０μｍのポリイミド前駆体皮膜を形成した。
【００６９】
その後、真空雰囲気下、３６０℃で２時間加熱し、イミド化を完結させてポリイミド皮膜を得た。次いで、実施例２と同様の操作により、５０本のラインの屈折率変化領域からなる回折格子を形成した。
【００７０】
この回折格子に、６３３ｎｍのＨｅ−Ｎｅ色レーザーを照射したところ、初期は回折光が発生したが、室温で９０日放置後には、回折光は発生しなかった。
【図面の簡単な説明】
【００７１】
【図１】本発明のポリイミド光学素子の製造方法に用いられる装置の一実施形態を示す概略斜視図である。
【図２】図１に示す装置を用いて、実施例１の光導波路を形成する態様を示す概略斜視図である。
【図３】図１に示す装置を用いて、実施例２の回折格子を形成する態様を示す概略斜視図である。
【符号の説明】
【００７２】
１    光源
２    反射鏡
３    集光レンズ
４    ＸＹＺステージ
５    ポリイミド前駆体皮膜
６    基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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