(57)【要約】【課題】被検ガス濃度を長時間に亘って連続的に高精度で測定（監視）する。【解決手段】被検ガスが導入されるガスチャンバと、標準ガスが満たされる参照チャンバとに、光源ランプからの光を平面鏡を介して通過させ、その光の干渉縞の変位に基づいて被検ガスの濃度を測定する光干渉式ガス濃度測定装置であって、所定時間おきにガスチャンバに被検ガスを導入するとともに、所定時間おきにのみ光源ランプを点灯させて被検ガスの濃度を所定時間おきに連続して測定する。【選択図】図２
2005326328.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検ガスが導入されるガスチャンバと、標準ガスが満たされる参照チャンバとに、光源ランプからの光を平面鏡を介して通過させ、その光の干渉縞の変位に基づいて前記被検ガスの濃度を測定する光干渉式ガス濃度測定装置であって、
所定時間おきに前記ガスチャンバに被検ガスを導入するとともに、前記所定時間おきにのみ前記光源ランプを点灯させて前記被検ガスの濃度を前記所定時間おきに連続して測定することを特徴とする連続監視用光干渉式ガス濃度測定装置。
【請求項２】
前記ガスチャンバへ被検ガスが導入された後、次回の被検ガスが導入される前に前記光源ランプを点灯させて、前記被検ガスの濃度を、前記次回の被検ガスの導入の直前に測定することを特徴とする請求項１記載の連続監視用光干渉式ガス濃度測定装置。
【請求項３】
被検ガスが導入されるガスチャンバと、標準ガスが満たされる参照チャンバとに、光源ランプからの光を平面鏡を介して通過させ、その光の干渉縞の変位に基づいて前記被検ガスの濃度を測定する光干渉式ガス濃度測定装置を用いたガス濃度の連続監視方法であって、以下の（ａ）〜（ｅ）のプロセスを繰り返すことによって、被検ガス濃度を連続して監視することを特徴とする光干渉式ガス濃度測定装置を用いたガス濃度の連続監視方法。
（ａ）前記ガスチャンバへの被検ガスの導入期間中は前記光源ランプを消灯状態としておく。
（ｂ）上記被検ガスの導入後、ガスチャンバ内のガス流動が静止するまで、あるいは、ガス流動が静止する時点から、前記光源ランプが点灯して当該ランプが所定の輝度に達するまでの時間を遡った時点まで光源ランプは消灯状態としておく。
（ｃ）前記ガスチャンバ内のガス流動静止後に前記光源ランプを点灯し、あるいは、ガス流動が静止するときに前記光源ランプの輝度が所定の輝度になるタイミングで当該光源ランプを点灯し、前記ガスチャンバ内のガス流動静止後に干渉縞の位置データを読み取る。
（ｄ）位置データ読み取り後は前記光源ランプを消灯する。
（ｅ）前記ガスチャンバへ被検ガスを導入する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＪＩＳ  Ｍ  ７６０２に規定されている干渉計形精密ガス濃度測定装置、すなわち、被検ガスと標準ガスとの光の屈折率の相違を干渉縞の変位として検出し、その変位に基づいて被検ガスの濃度を測定する光干渉式ガス濃度測定装置に関する。
特に、被検ガスの濃度を所定時間おきに測定することによって連続的に当該濃度を連続的に監視することができるようにした連続監視用光干渉式ガス濃度測定装置および光干渉式ガス濃度測定装置を用いたガス濃度の連続監視方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の光干渉式ガス濃度測定装置は、被検ガスが流入するガスチャンバと、標準ガスが満たされる参照チャンバとに、光源ランプからの光を平面鏡を介して通過させ、その光の干渉縞の変位に基づいて前記被検ガスの濃度を測定するようになっている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００３−２４０７１４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
比較的小型の光干渉式ガス濃度測定装置、例えば携帯型の光干渉式ガス濃度測定器の場合、肉眼で上記干渉縞の状態を読み取るようになっているから、消費電力（したがって発熱）の少ない小型電球（例えば２．５Ｖ、０．３Ａ程度の豆電球）を光源として用いることができる。
また、このような小型の光干渉式ガス濃度測定装置は、短時間測定用に限られるため、長時間使用による光源ランプの発熱に起因する問題は発生しない。
しかしながら、光干渉式ガス濃度測定装置を用いて被検ガスの濃度を連続的に監視しようとした場合には、上記干渉縞を例えばＣＣＤ等のイメージセンサで長時間に亘って撮像することから、光源ランプとして高輝度、長寿命の電球（例えば５Ｖ、１Ａの光学ランプ）が要求される。
そして、このような高輝度、超寿命の光源ランプは発熱が大きいため、上述した平面鏡やその他の光学部品（プリズム等）の温度差に起因する膨張、捻れ等による干渉縞のゼロ位置移動が測定の信頼性を損なわせる要因となり、結果として、被検ガス濃度を長時間に亘って連続的に高精度で測定（監視）することは困難であるという問題が生じていた。
【０００４】
この発明の目的は、以上のような問題を解決し、被検ガス濃度を長時間に亘って連続的に高精度で測定（監視）することができる連続監視用光干渉式ガス濃度測定装置および光干渉式ガス濃度測定装置を用いたガス濃度の連続監視方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、請求項１記載の連続監視用光干渉式ガス濃度測定装置は、被検ガスが導入されるガスチャンバと、標準ガスが満たされる参照チャンバとに、光源ランプからの光を平面鏡を介して通過させ、その光の干渉縞の変位に基づいて前記被検ガスの濃度を測定する光干渉式ガス濃度測定装置であって、
所定時間おきに前記ガスチャンバに被検ガスを導入するとともに、前記所定時間おきにのみ前記光源ランプを点灯させて前記被検ガスの濃度を前記所定時間おきに連続して測定することを特徴とする。
請求項２記載の連続監視用光干渉式ガス濃度測定装置は、請求項１記載の連続監視用光干渉式ガス濃度測定装置において、前記ガスチャンバへ被検ガスが導入された後、次回の被検ガスが導入される前に前記光源ランプを点灯させて、前記被検ガスの濃度を、前記次回の被検ガスの導入の直前に測定することを特徴とする。
請求項３記載の光干渉式ガス濃度測定装置を用いたガス濃度の連続監視方法は、被検ガスが導入されるガスチャンバと、標準ガスが満たされる参照チャンバとに、光源ランプからの光を平面鏡を介して通過させ、その光の干渉縞の変位に基づいて前記被検ガスの濃度を測定する光干渉式ガス濃度測定装置を用いたガス濃度の連続監視方法であって、以下の（ａ）〜（ｅ）のプロセスを繰り返すことによって、被検ガス濃度を連続して監視することを特徴とする。
（ａ）前記ガスチャンバへの被検ガスの導入期間中は前記光源ランプを消灯状態としておく。
（ｂ）上記被検ガスの導入後、ガスチャンバ内のガス流動が静止するまで、あるいは、ガス流動が静止する時点から、前記光源ランプが点灯して当該ランプが所定の輝度に達するまでの時間を遡った時点まで光源ランプは消灯状態としておく。
（ｃ）前記ガスチャンバ内のガス流動静止後に前記光源ランプを点灯し、あるいは、ガス流動が静止するときに前記光源ランプの輝度が所定の輝度になるタイミングで当該光源ランプを点灯し、前記ガスチャンバ内のガス流動静止後に干渉縞の位置データを読み取る。
（ｄ）位置データ読み取り後は前記光源ランプを消灯する。
（ｅ）前記ガスチャンバへ被検ガスを導入する。
【発明の効果】
【０００６】
請求項１記載の連続監視用光干渉式ガス濃度測定装置によれば、所定時間おきにガスチャンバに被検ガスが導入されるとともに、所定時間おきに光源ランプが点灯されて被検ガスの濃度が所定時間おきに連続して測定されるので、被検ガス濃度を長時間に亘って連続的に測定（監視）することができる。
そして、前記光源ランプは、前記所定時間おきにのみ点灯され、他の時間は消灯されているので、当該光源ランプからの発熱が低減されることとなる。
したがって、被検ガスの濃度を所定時間おきに連続して測定しても、上述した平面鏡（あるいはその他の光学部品）の温度差に起因する膨張、捻れ等による干渉縞のゼロ位置移動が抑制され、結果として、測定の信頼性が向上し、被検ガス濃度を長時間に亘って連続的に高精度で測定（監視）することが可能となる。
請求項２記載の連続監視用光干渉式ガス濃度測定装置によれば、請求項１記載の連続監視用光干渉式ガス濃度測定装置において、前記ガスチャンバへ被検ガスが導入された後、次回の被検ガスが導入される前に前記光源ランプが点灯して、前記被検ガスの濃度が、前記次回の被検ガスの導入の直前に測定されるので、さらに次のような作用効果が得られる。
すなわち、前記ガスチャンバへ被検ガスが所定時間おきに導入される状況においては、ガスチャンバへ導入された被検ガスの状態は、導入直後においては流動状態にあって安定しておらず、次回の被検ガス導入時の直前に、最も安定した状態となる。
この請求項２の連続監視用光干渉式ガス濃度測定装置によれば、ガスチャンバへ被検ガスが導入された後、次回の被検ガスが導入される前に前記光源ランプが点灯して、前記被検ガスの濃度が、前記次回の被検ガスの導入の直前に測定されるので、ガスチャンバ内に導入された被検ガスの状態が最も安定した状態のときに当該被検ガスの濃度が測定されることとなる。
したがって、測定の信頼性が一層向上し、被検ガス濃度を長時間に亘って連続的により高精度で測定（監視）することが可能となる。
請求項３記載の光干渉式ガス濃度測定装置を用いたガス濃度の連続監視方法によれば、
（ａ）前記ガスチャンバへの被検ガスの導入期間中は前記光源ランプを消灯状態としておく。
（ｂ）上記被検ガスの導入後、ガスチャンバ内のガス流動が静止するまで、あるいは、ガス流動が静止する時点から、前記光源ランプが点灯して当該ランプが所定の輝度に達するまでの時間を遡った時点まで光源ランプは消灯状態としておく。
（ｃ）前記ガスチャンバ内のガス流動静止後に前記光源ランプを点灯し、あるいは、ガス流動が静止するときに前記光源ランプの輝度が所定の輝度になるタイミングで当該光源ランプを点灯し、前記ガスチャンバ内のガス流動静止後に干渉縞の位置データを読み取る。
（ｄ）位置データ読み取り後は前記光源ランプを消灯する。
（ｅ）前記ガスチャンバへ被検ガスを導入する。
というプロセスが繰り返されることによって、被検ガス濃度が連続して監視される。
そして、前記光源ランプは、前記位置データ読み取り時に点灯され、他の時間は消灯されているので、当該光源ランプからの発熱が低減されることとなる。
したがって、被検ガスの濃度を上記（ａ）〜（ｅ）のプロセスにより連続して測定しても、上述した平面鏡（あるいはその他の光学部品）の温度差に起因する膨張、捻れ等による干渉縞のゼロ位置移動が抑制され、結果として、測定の信頼性が向上し、被検ガス濃度を長時間に亘って連続的に高精度で測定（監視）することが可能となる。
しかも、上記（ｃ）のプロセスで、ガスチャンバ内のガス流動が静止した後に干渉縞の位置データが読み取られるので、測定の信頼性が一層向上し、被検ガス濃度を長時間に亘って連続的により高精度で測定（監視）することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下本発明の一実施の形態について図面を参照して説明する。
図１は、本発明に係る連続監視用光干渉式ガス濃度測定装置の一実施の形態を示すブロック図である。
図１において、１はガス（被検ガス）の供給ラインであり、この供給ラインを通じて図示しないガス供給源から、図示しないガス供給対象へガスが供給される。
図示の連続監視用光干渉式ガス濃度測定装置は、上記ガス供給ライン１を通して供給されるガスの濃度を連続して監視するためのもので、センサユニットＳＵと、演算表示ユニットＤＵとを備えている。
【０００８】
センサユニットＳＵは、光干渉型ユニット１０と、この光干渉型ユニット１０により得られる上述した干渉縞を撮像するイメージセンサとしてのＣＣＤ１１と、光干渉型ユニット１０のガスチャンバＧＣに被検ガスを導入するためのガス導入パイプ１２と、ガスチャンバＧＣ内の被検ガスを排出するための排出パイプ１３と、前記ガス導入パイプ１２に介在させたガス導入用電磁弁ＳＶ１と、光干渉型ユニット１０の参照チャンバＡＣに標準ガスとしての空気を供給するためのエア供給パイプ１５と、参照チャンバＡＣの圧力補正するための圧力補正チューブ１６と、前記エア供給パイプ１５に介在させたエア供給用電磁弁ＳＶ２，ＳＶ３と、同じくエア供給パイプ１５に介在させたポンプＰと、上記電磁弁およびポンプＰの作動を制御するためのコントローラ２０とを有している。
【０００９】
光干渉型ユニット１０は、公知の光干渉型ユニット（例えば上述したＪＩＳ  Ｍ  ７６０２に規定されている干渉計形精密ガス濃度測定器）で構成することができ、被検ガスが導入されるガスチャンバＧＣと、標準ガス（この実施の形態ではエア）が満たされる参照チャンバＡＣとに、光源ランプ１７からの光を平面鏡およびプリズム等の光学部品（図示せず）を介して通過させ、その光の干渉縞の変位に基づいて前記被検ガスの濃度を測定することができるユニットである。
この実施の形態では、光源ランプ１７は、例えば５Ｖ、１Ａ程度の高輝度、長寿命の光学ランプで構成する。
ガス導入パイプ１２は、直径６ｍｍ程度のチューブ１２ａによって前述したガス供給ライン１に接続される。チューブ１２ａには、バルブ２とエアフィルタ３とが介装されている。
エア供給パイプ１５はチューブ１５ａに接続され、チューブ１５ａおよびエアフィルタ４を介して大気に開放されている。
排出パイプ１３はチューブ１３ａに接続され、チューブ１３ａを介して大気に開放されている。
ガス導入パイプ１２とエア供給パイプ１５は、上記電磁弁ＳＶ１およびＳＶ３の下流側、電磁弁ＳＶ２の上流側で接続されている（接続部を符号１８で示す）。
【００１０】
コントローラ２０は、上記電磁弁ＳＶ１〜ＳＶ３の作動をそれぞれ制御するための電磁弁コントロール部２１と、上記ポンプＰの作動を制御するためのポンプコントロール部２２と、上記光源ランプ１７を駆動する（点灯させる）ためのランプドライブ部２３とを有しており、これら各部は、それぞれ、上記電磁弁ＳＶ１〜ＳＶ３、ポンプＰ、光源ランプ１７と電気的に接続されている。
【００１１】
したがって、上記バルブ２が開けられた状態で、コントローラ２０の作動により、エア供給用電磁弁ＳＶ２、ＳＶ３が閉じられ、ガス導入用電磁弁ＳＶ１が開かれると、ガス供給ライン１内の陽圧によって、ガス供給ライン１を流れるガス（被検ガス）がガス導入パイプ１２を通じてガスチャンバＧＣに導入されることとなる。
また、コントローラ２０の作動により、ガス導入用電磁弁ＳＶ１とエア供給用電磁弁ＳＶ２が閉じられ、エア供給用電磁弁ＳＶ３が開かれてポンプＰが作動すると、参照チャンバ（エアチャンバ）ＡＣにエアが満たされることとなる。
また、コントローラ２０の作動により、ガス導入用電磁弁ＳＶ１が閉じられ、エア供給用電磁弁ＳＶ２，ＳＶ３が開かれてポンプＰが作動すると、ガスチャンバＧＣと参照チャンバ（エアチャンバ）ＡＣとにエアが満たされることとなる。
【００１２】
演算表示ユニットＤＵは、コネクタ３０，３１により前記センサユニットＳＵに接続されており、上記コントローラ２０およびイメージセンサ１１に電気的に接続されている。
演算表示ユニットＤＵは、この装置全体の制御を行うマイクロプロセッサ４０と、プリンタドライバ４１と、前記ランプドライブ部２３を介して光源ランプ１７を点滅させるための光源ランプ点滅制御回路４２と、記録データ出力端子４３とを有している。この出力端子４３にプリンタを接続することによって、イメージセンサ１１にて得られた測定データをプリントし、あるいは、出力端子４３にオシロスコープを接続することによって、イメージセンサ１１にて得られた測定データを表示することができるようになっている。
【００１３】
図２はこの装置の主要な作動を示すタイムチャートである。図中、縦軸はシグナルステータス（ＯＮ／ＯＦＦ状態）、横軸は時間（１目盛り１秒）である。
以下、図１，図２（主として図２）を参照して連続監視用光干渉式ガス濃度測定装置の作動ないし、ガス濃度の連続監視方法について説明する。
【００１４】
（１）ガス導入用電磁弁ＳＶ１が閉じられ、エア供給用電磁弁ＳＶ２，ＳＶ３が開かれてポンプＰが作動し、ガスチャンバＧＣと参照チャンバ（エアチャンバ）ＡＣとにエアが満たされる。
この状態で光源ランプ１７を点灯させ、イメージセンサ１１で干渉縞の位置を読み取る。
このようにして読み取られた干渉縞の位置が、後の測定の基準位置となるゼロ位置である。
【００１５】
（２）コントローラ２０の作動により、エア供給用電磁弁ＳＶ２、ＳＶ３が閉じられ、ｔ１時点でガス導入用電磁弁ＳＶ１が開かれて、ガス供給ライン１内のガス（被検ガス）がガスチャンバＧＣに導入される。
ｔ２時点でガス導入用電磁弁ＳＶ１が閉じられ、被検ガスの導入が終了する。
このガスチャンバＧＣへの被検ガスの導入期間中（図２におけるｔ１〜ｔ２期間であり、この実施の形態では２秒間）は光源ランプ１７は消灯している。
なお、少なくともこのプロセスの前に、前述したバルブ２は開けておく。
【００１６】
（３）被検ガスの導入後、ｔ３時点で光源ランプ１７を点灯する。
このｔ３時点では、ガスチャンバＧＣ内のガス流動は略静止状態となっている。
【００１７】
（４）ｔ４時点（次のプロセス（５））で再びガス導入用電磁弁ＳＶ１が開かれて次回の被検ガスがガスチャンバＧＣに導入されることとなるが、当該ｔ４時点の直前であるｔ４’時点で、イメージセンサ１１にて干渉縞の位置を読み取り、被検ガスの濃度を測定する。
このｔ４’時点では、ガスチャンバＧＣ内のガス流動は略完全に静止状態となっている。
【００１８】
（５）ｔ４時点で光源ランプ１７が消灯するとともに、再びガス導入用電磁弁ＳＶ１が開かれて次回の被検ガスがガスチャンバＧＣに導入される。
ｔ５時点でガス導入用電磁弁ＳＶ１が閉じられ、被検ガスの導入が終了する。
このガスチャンバＧＣへの被検ガスの導入期間中（ｔ４〜ｔ５期間であり、この実施の形態では２秒間）は光源ランプ１７は消灯している。
【００１９】
（６）被検ガスの導入後、ｔ６時点で光源ランプ１７を点灯する。
【００２０】
（７）次回の被検ガスの導入時点（ｔ７時点）の直前であるｔ７’時点で、イメージセンサ１１にて干渉縞の位置を読み取り、被検ガスの濃度を測定する。
【００２１】
（８）ｔ７時点で光源ランプ１７が消灯するとともに、再びガス導入用電磁弁ＳＶ１が開かれて次回の被検ガスがガスチャンバＧＣに導入される。
【００２２】
以上のようなプロセス、すなわち上記（２）〜（５）のプロセスを所望時間（例えば２４時間、４８時間等）繰り返すことにより、ガス供給ライン１を通して供給されるガスの濃度を上記所望時間中連続して監視する。
なお、連続監視の過程でエアチャンバＡＣに新鮮な空気を満たす必要が生じた場合には、エア供給用電磁弁ＳＶ３を開き、ポンプＰを作動させてエアチャンバＡＣに新規を供給する。
【００２３】
以上のような連続監視用光干渉式ガス濃度測定装置ないし光干渉式ガス濃度測定装置を用いたガス濃度の連続監視方法によれば次のような作用効果が得られる。
（イ）所定時間（上記実施の形態では４秒）おきにガスチャンバＧＣに被検ガスが導入されるとともに、所定時間（同じく４秒）おきに光源ランプ１７が点灯されて被検ガスの濃度が所定時間（同じく４秒）おきに連続して測定されるので、被検ガス濃度を長時間に亘って連続的に測定（監視）することができる。
そして、光源ランプ１７は、前記所定時間おきにのみ点灯され、他の時間（例えばｔ４〜ｔ６時点参照）は消灯されているので、当該光源ランプ１７からの発熱が低減されることとなる。例えば、図３に示すように、光源ランプ１７を点灯させ続けた場合に比べて、光源ランプ１７からの発熱が著しく低減されることとなる。
したがって、被検ガスの濃度を所定時間おきに連続して測定しても、上述した平面鏡（あるいはその他の光学部品）の温度差に起因する膨張、捻れ等による干渉縞のゼロ位置移動が抑制され、結果として、測定の信頼性が向上し、被検ガス濃度を長時間に亘って連続的に高精度で測定（監視）することが可能となる。
（ロ）ガスチャンバＧＣへ被検ガスが導入された後、次回の被検ガスが導入される前に（例えばｔ３時点で）光源ランプ１７が点灯して、被検ガスの濃度が、次回の被検ガスの導入（例えばｔ４時点）の直前（例えばｔ４’時点）に測定されるので、さらに次のような作用効果が得られる。
すなわち、ガスチャンバＧＣへ被検ガスが所定時間おきに導入される状況においては、ガスチャンバＧＣへ導入された被検ガスの状態は、導入直後（例えばｔ２時点）においては流動状態にあって安定しておらず、次回の被検ガス導入時（例えばｔ４時点）の直前に、最も安定した状態となる。
この連続監視用光干渉式ガス濃度測定装置ないし監視方法によれば、ガスチャンバＧＣへ被検ガスが導入された後、次回の被検ガスが導入される前に光源ランプ１７が点灯して、被検ガスの濃度が、次回の被検ガスの導入の直前（例えばｔ４’時点）に測定されるので、ガスチャンバＧＣ内に導入された被検ガスの状態が最も安定した状態のときに当該被検ガスの濃度が測定されることとなる。
したがって、測定の信頼性が一層向上し、被検ガス濃度を長時間に亘って連続的により高精度で測定（監視）することが可能となる。
【００２４】
この実施の形態では、上述したように、被検ガスの導入後ｔ３時点あるいはｔ６時点で光源ランプ１７を点灯（ＯＮ）しているが、これは光源ランプ１７がＯＮしてから所望の輝度に達するまで、約２秒弱の時間を要するからである。すなわち、データ読み取り時であるｔ４’時点（あるいはｔ７’時点）で光源ランプ１７の輝度がイメージセンサ１１によるデータ読み取りに必要な輝度に達している状態になるタイミングで光源ランプ１７をＯＮしているということである。
したがって、光源ランプとして、ＯＮから所定の輝度に達するまでの時間が短いランプを用いれば、ランプをＯＮさせるタイミングは、より遅らせることができる。例えば、図２に仮想線で示すようにｔ３’時点（あるいはｔ６’時点）に遅らせることができ、その場合には、光源ランプの点灯時間がより短くなるので、平面鏡（あるいはその他の光学部品）の温度差に起因する膨張、捻れ等による干渉縞のゼロ位置移動が一層抑制され、結果として、測定の信頼性が一層向上する。
すなわち、光源ランプ１７の点灯タイミングは、ガスチャンバＧＣ内のガス流動静止後（例えば上記ｔ４’時点の直前）とすることもできる。
【００２５】
図４は上記装置の出力端子４３に接続したオシロスコープにより得られる画像の一例を示す図、図５は図４の全体波形を微分処理して得られる波形の一例を示す図である。
図４（ａ），図５（ａ）は、それぞれ、ガスチャンバＧＣと参照チャンバ（エアチャンバ）ＡＣとにエアを満たしたときに得られる画像、すなわちゼロ位置の画像で、図中矢印Ｆで示す位置が干渉縞の位置である。
また、図４（ｂ），図５（ｂ）は、それぞれ、ガスチャンバＧＣに被検ガスを、参照チャンバ（エアチャンバ）ＡＣにエアを満たしたときに得られる画像で、図中矢印Ｆで示す位置が干渉縞の位置である。
図４（ａ）におけるＦ位置に対する図４（ｂ）におけるＦ位置の移動量、あるいは、図５（ａ）におけるＦ位置に対する図５（ｂ）におけるＦ位置の移動量によってガス濃度を測定することができる。
また、図５に示すような微分処理を施すことによって、干渉縞の黒線位置（Ｆ位置）を抽出することができ、干渉縞位置情報をより正確に得ることができるようになる。
【００２６】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内において適宜変形実施可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】本発明に係る連続監視用光干渉式ガス濃度測定装置の一実施の形態を示すブロック図。
【図２】同上装置の主要な作動を示すタイムチャート。
【図３】比較例を示すタイムチャート。
【図４】（ａ）（ｂ）はオシロスコープにより得られる画像の一例を示す図。
【図５】（ａ）（ｂ）は図４（ａ）（ｂ）の全体波形を微分処理して得られる波形の一例を示す図。
【符号の説明】
【００２８】
ＧＣ    ガスチャンバ
ＡＣ    エアチャンバ（参照チャンバ）
１７    光源ランプ
【図１】
2005326328.tif 000003
【図２】
2005326328.tif 000004
【図３】
2005326328.tif 000005
【図４】
2005326328.tif 000006
【図５】
2005326328.tif 000007