(57)【要約】【課題】  マスクの汚れを人手によらず且つ処理室を大気にさらすことなく短時間で良好に除去することができる極めて実用性に秀れた有機ＥＬ素子製造装置を提供するものである。【解決手段】  仕込み室，取り出し室，前処理室，成膜室，マスクストック室，マスククリーニング室等の一つ若しくは複数種の処理室と、この処理室に基板を搬送する搬送室とから成り、基板上に有機ＥＬ材料を順次成膜して有機ＥＬ素子を製造する有機ＥＬ素子製造装置であって、有機ＥＬ材料成膜時にこの基板上に設けられるマスク１をクリーニングするクリーニング機構を前記いずれかの処理室に設け、このクリーニング機構は、マスク１を保持する保持部２と、この保持部２に保持されたマスク１と対向状態に設けられ、この保持部２に保持されたマスク１に粒状のドライアイス３を噴射するノズル体４とから成るものである。【選択図】      図３
2005129299.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
仕込み室，取り出し室，前処理室，成膜室，マスクストック室，マスククリーニング室等の一つ若しくは複数種の処理室と、この処理室に基板を搬送する搬送室とから成り、基板上に有機ＥＬ材料を順次成膜して有機ＥＬ素子を製造する有機ＥＬ素子製造装置であって、有機ＥＬ材料成膜時にこの基板上に設けられるマスクをクリーニングするクリーニング機構を前記いずれかの処理室に設け、このクリーニング機構は、マスクを保持する保持部と、この保持部に保持されたマスクと対向状態に設けられ、この保持部に保持されたマスクに粒状のドライアイスを噴射するノズル体とから成ることを特徴とする有機ＥＬ素子製造装置。
【請求項２】
前記ノズル体若しくはマスクを、前記保持部に保持されたマスク若しくはノズル体と略平行な方向に可動し得る駆動部を前記クリーニング機構に設けたことを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ素子製造装置。
【請求項３】
前記クリーニング機構にノズル体を一つ若しくは複数ずつ対向状態に設け、この対向状態に設けた一つ若しくは複数ずつのノズル体間に、前記保持部に保持された前記マスクが配設されるように前記クリーニング機構を構成したことを特徴とする請求項１，２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子製造装置。
【請求項４】
前記クリーニング機構を、マスクをクリーニングするためのマスククリーニング室に設けたことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子製造装置。
【請求項５】
前記クリーニング機構を、交換用のマスクをストックしておくマスクストック室に設けたことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子製造装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ガラス基板上に下部金属電極，有機ＥＬ薄膜，上部透明電極を順次積層することで有機ＥＬ素子を製造する（例えば特願２００３−１３７６７４号公報（特許文献１）に開示されているような）有機ＥＬ素子製造装置においては、所定のパターンが形成されたマスクを基板に積層させてこのマスクを介して有機ＥＬ材料を蒸着することで所望のパターンの有機ＥＬ薄膜を基板上に成膜している。
【０００３】
ところで、当然ながらこのマスクには蒸着の度に前記有機ＥＬ材料が徐々に付着・堆積し、数十〜数百回用いると、開口サイズの縮小や開口形状の変形等を生じ、有機ＥＬ薄膜を所望のパターンに成膜できなくなってしまうため、このマスクの交換が必要となる。
【０００４】
具体的には、交換用のマスクをストックしておくマスクストック室のない有機ＥＬ素子製造装置の場合には、以下の手順で交換を行っている。
【０００５】
１．成膜室（蒸着室）を真空から大気圧に戻す。
【０００６】
２．成膜室からマスクを搬出する。
【０００７】
３．アセトン・アルコール等の溶剤でマスクに付着した有機ＥＬ材料を除去し、更に純水で洗浄することでクリーニングを行う（所謂ウエットクリーニング）。
【０００８】
４．クリーニングしたマスク（若しくは予めクリーニングしておいたマスク）を成膜室に搬入する。
【０００９】
５．成膜室を真空にする。
【００１０】
この場合、マスクを搬出してから新しいマスクをセットするまでは、装置を使用することができず、また、交換の度に成膜室の排気を行う必要があるため極めて作業効率が悪い。しかも、この成膜室及びマスクを大気にさらすことになり、この大気中の水分や油脂により成膜室及びマスクが汚染されやすいという問題がある。
【００１１】
一方、図１に図示したような交換用のマスクをストックしておくマスクストック室を有する有機ＥＬ素子製造装置の場合には、以下の手順で交換を行っている。
【００１２】
１．成膜室からマスクストック室にマスクを搬送する。
【００１３】
２．マスクストック室から新しいマスクを成膜室に搬送する。
【００１４】
この場合、成膜室の汚れたマスクをマスクストック室の汚れていないマスクと交換するだけで、成膜室を真空状態から大気圧に戻す必要なく（即ち、排気を行う必要なく）、直ぐに装置を使用することが可能であるが、マスクストック室には有機ＥＬ材料の付着した汚れたマスクがたまる。従って、この汚れたマスクがある程度たまった場合には、以下の手順でクリーニングを行っている。
【００１５】
１．マスクストック室を真空から大気圧に戻す。
【００１６】
２．マスクストック室からマスクを搬出する。
【００１７】
３．アセトン・アルコール等の溶剤でマスクに付着した有機ＥＬ材料を除去し、更に純水で洗浄することでクリーニングを行う。
【００１８】
４．クリーニングしたマスク（若しくは予めクリーニングしておいたマスク）をマスクストック室に搬入する。
【００１９】
即ち、マスクストック室を有する場合であっても、クリーニングの度にマスクストック室を大気にさらす必要がある。
【００２０】
従って、従来は、マスクの交換・クリーニングのために成膜室若しくはマスクストック室を大気圧に戻す必要があり、この成膜室やマスクストック室若しくはマスクが大気にさらされることで成膜室等が汚染されやすく、到達真空度や排気効率の低下、有機ＥＬ素子への汚れの付着等の問題があったのが現状である。
【００２１】
また、ウエットクリーニングは人手により行うことから、一回の作業に必要な工程が多く、作業に時間がかかるという問題や、チャンバー大気解放時の汚染の問題がある。
【００２２】
更に、有機ＥＬ素子は、わずかな汚れや真空度の変化により特性が大きく変化してしまうため、有機ＥＬ素子製造装置においては、大気の影響をできるだけ排除したいという要求が常に存在する。
【００２３】
【特許文献１】特願２００３−１３７６７４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２４】
本発明は、上述のような現状に鑑み、マスクの交換及びクリーニングの度に成膜室やマスクストック室等の処理室若しくはマスクを大気にさらす必要があるため、大気によりこの処理室やマスクが汚染されやすいという知見に基づき成されたもので、マスクの汚れを人手によらず且つ処理室やマスクを大気にさらすことなく短時間で良好に除去することができる極めて実用性に秀れた有機ＥＬ素子製造装置を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００２５】
添付図面を参照して本発明の要旨を説明する。
【００２６】
仕込み室，取り出し室，前処理室，成膜室，マスクストック室，マスククリーニング室等の一つ若しくは複数種の処理室と、この処理室に基板を搬送する搬送室とから成り、基板上に有機ＥＬ材料を順次成膜して有機ＥＬ素子を製造する有機ＥＬ素子製造装置であって、有機ＥＬ材料成膜時にこの基板上に設けられるマスク１をクリーニングするクリーニング機構を前記いずれかの処理室に設け、このクリーニング機構は、マスク１を保持する保持部２と、この保持部２に保持されたマスク１と対向状態に設けられ、この保持部２に保持されたマスク１に粒状のドライアイス３を噴射するノズル体４とから成ることを特徴とする有機ＥＬ素子製造装置に係るものである。
【００２７】
また、前記ノズル体４若しくはマスク１を、前記保持部２に保持されたマスク１若しくはノズル体４と略平行な方向に可動し得る駆動部を前記クリーニング機構に設けたことを特徴とする請求項１記載の有機ＥＬ素子製造装置に係るものである。
【００２８】
また、前記クリーニング機構にノズル体４を一つ若しくは複数ずつ対向状態に設け、この対向状態に設けた一つ若しくは複数ずつのノズル体４間に、前記保持部２に保持された前記マスク１が配設されるように前記クリーニング機構を構成したことを特徴とする請求項１，２のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子製造装置に係るものである。
【００２９】
また、前記クリーニング機構を、マスク１をクリーニングするためのマスククリーニング室に設けたことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子製造装置に係るものである。
【００３０】
また、前記クリーニング機構を、交換用のマスク１をストックしておくマスクストック室に設けたことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ素子製造装置に係るものである。
【発明の効果】
【００３１】
本発明は上述のように構成したから、マスクの汚れを人手によらず且つ処理室を大気にさらすことなく短時間で良好に除去することができる極めて実用性に秀れた有機ＥＬ素子製造装置となる。
【００３２】
また、請求項２記載の発明においては、マスクの全面に満遍なくドライアイスを吹き付けて、より一層確実にこのマスクの汚れを除去できる一層実用性に秀れた有機ＥＬ素子製造装置となる。
【００３３】
また、請求項３記載の発明においては、マスクの表裏面に同時にドライアイスを吹き付けて、より一層効率的にこのマスクの汚れを除去できるより一層実用性に秀れた有機ＥＬ素子製造装置となる。
【００３４】
また、請求項４，５記載の発明においては、本発明を一層容易に実現できるより一層実用性に秀れた有機ＥＬ素子製造装置となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
好適と考える本発明の実施の形態（発明をどのように実施するのが最良か）を、図面に基づいてその作用効果を示して簡単に説明する。
【００３６】
成膜時に有機ＥＬ材料が付着・堆積したマスク１を、成膜室から搬送室を通じてクリーニング機構が設けられた処理室に搬送し、このクリーニング機構によりこのマスク１のクリーニングを行う。
【００３７】
この際、いずれかの処理室に備えたクリーニング機構によってマスク１をクリーニングすることができるから、従来のように成膜室やマスクストック室等の処理室を大気圧に戻す必要なく、成膜室から前記処理室にマスクを搬送するだけでクリーニングを行うことができ、この成膜室やマスクストック室等の処理室及びマスク１を大気にさらすことがないから、この処理室及びマスクが大気中の油脂・水分等によって汚染されることを確実に阻止できる。
【００３８】
従って、処理室内部が大気にさらされず、常に好適な真空度に設定することができ、真空度や付着する汚れ等により敏感に特性が変化する有機ＥＬ素子を、一定の品質で歩留まり良く製造できることになる。
【００３９】
具体的には、ノズル体４から（粒状の）ドライアイス３をマスク１に噴射することでこのマスク１のクリーニングを行うクリーニング機構により、マスク１の表面にドライアイス３を吹き付けることで、このドライアイス３が、マスク１に堆積した汚れに衝突し、マスク１の表面に接触して前記汚れとこのマスク１表面との界面において気化する際の体積膨張により、このマスク１の表面に堆積した汚れを除去することができ、このマスク１に付着した汚れを清浄な雰囲気中で人手によらず容易且つ確実に除去することができる。
【００４０】
また、ウエットクリーニングと異なり、液体を経過せずに固体から昇華するドライアイス３によりクリーニングを行うから、処理室内を水分で汚すことなくマスク１をクリーニングすることができる。しかも、ウエットクリーニングのように人手により行う必要がなく、短時間で効率良くクリーニングを行うことができる。
【００４１】
更に、ドライアイス３は、マスク１に接触した瞬間に気化するため、被クリーニング部材の表面を削り取る作用を発揮しないから、このドライアイス３を吹き付けて汚れを除去しても、マスク１に破損等が生じることがない。
【００４２】
即ち、マスク１としては通常厚さ数十μｍ程度の極めて薄く変形・破損しやすいものが用いられるが、上述のように、ドライアイス３はマスク１表面に付着した瞬間に気化するから、このマスク１を変形・破損させる心配なく確実にクリーニングすることが可能となる。
【００４３】
また、例えば、ノズル体４若しくはマスク１を、前記保持部２に保持されたマスク１若しくはノズル体４と略平行な方向に可動し得る駆動部を前記クリーニング機構に設けることで、このマスク１表面に満遍なくドライアイス３を吹き付けることができることになり、より一層確実にこのマスク１の汚れを除去できる。
【００４４】
また、例えば、このクリーニング機構を交換用のマスク１をストックしておくマスクストック室等に設けることで、この汚れたマスク１を成膜室から搬出して新しいマスク１に交換して直ぐに装置を使用できると共に、この汚れたマスク１をクリーニングすることができるため、マスクストック室に予備のマスク１を各成膜室に対して１枚ずつ設けておくだけでこのマスク１が破損等しない限り外部に取り出す必要なく、即ち、このマスクストック室を大気にさらす必要なく、このマスク１を交互にクリーニングして用いることができ、このマスク１が破損等しない限り、長期間交換する必要なく用いることができ、極めて作業性に秀れたものとなる。
【００４５】
従って、マスクストック室を大気に戻して排気を行う回数を極めて少なくでき、作業効率を低下させることなく、極めて生産性良く有機ＥＬ素子を製造できることになる。
【００４６】
また、例えば、前記クリーニング機構にノズル体４を一つ若しくは複数ずつ対向状態に設け、この対向状態に設けた一つ若しくは複数ずつのノズル体４間に、前記マスク１が保持部２に保持された状態で配設されるように前記クリーニング機構を構成しても良く、この場合には、より一層効率良くマスク１のクリーニングを行えることになる。
【００４７】
従って、本発明は、マスクの汚れを人手によらず且つ処理室を大気にさらすことなく良好に除去することができる極めて実用性に秀れた有機ＥＬ素子製造装置となる。
【実施例】
【００４８】
本発明の具体的な実施例について図面に基づいて説明する。
【００４９】
本実施例は、仕込み室，取り出し室，前処理室，成膜室，マスクストック室，マスククリーニング室等の一つ若しくは複数種の処理室と、この処理室に基板を搬送する搬送室とから成り、基板上に有機ＥＬ材料を順次成膜して有機ＥＬ素子を製造する有機ＥＬ素子製造装置であって、有機ＥＬ材料を基板上に所定のパターンに成膜するために成膜時にこの基板上に設けられるマスク１をクリーニングするクリーニング機構を前記いずれかの処理室に設け、このクリーニング機構は、マスク１を保持する保持部２と、この保持部２に保持されたマスク１と対向状態に設けられ、このマスク１にドライアイス３を噴射するノズル体４とから成るものである。
【００５０】
具体的には、図２に図示したように、搬送室の周囲に複数種の処理室を設け、この処理室に搬送室に設けられた搬送体により順次基板（ガラス基板）を送り込み、この基板上に下部金属電極，有機ＥＬ薄膜，上部透明電極を順次成膜するものである。
【００５１】
更に具体的に説明すると、本実施例は、搬送室の周囲に、仕込み（取り出し）室，前処理室，三つの成膜室，マスクストック室を設け、このマスクストック室に前記クリーニング機構を設けたものである。尚、クリーニング機構をマスクストック室に設けた構成でなく、このクリーニング機構を一の処理室に独立して設けた（即ち、このマスク１のクリーニングのみを行うマスククリーニング室を設けた）構成としても良い。
【００５２】
即ち、本実施例は、成膜室からマスク１を搬出してマスクストック室のマスク１と交換すると共に、従来のマスクストック室を有する有機ＥＬ素子製造装置においてマスクの交換を行うのと同様に、この交換した汚れたマスク１をマスクストック室に搬入してクリーニングすることができる構成である。
【００５３】
従って、マスク１を交換するマスクストック室と、前記クリーニング機構とを一体とすることで、このマスク１の搬送を一層容易とし、極めて効率良くマスク１の交換及びクリーニングができる構成であるのは勿論、新たに前記マスククリーニング室を設ける必要がないため、スペースを有効に活用できる。尚、基板のサイズ等によりマスクストック室にマスククリーニング機構が収まらない場合には、このマスクストック室とは別にマスククリーニング室を設けた構成としても良い。
【００５４】
更に、成膜時に必要なマスク１は通常１枚であり、例えば、このマスクストック室に、マスク１を各成膜室に対して１枚ずつストックしておくことで、このマスクストック室のマスク１と成膜室のマスク１とを交互にクリーニングしながらこのマスク１が破損等しない限り、外部のマスクと交換する必要なく長期間使用することが可能となり、このマスク１を交換する際（クリーニングする際）に装置を停止したり、処理室を真空状態から大気圧に戻す必要なく、このマスク１を容易且つコスト安にクリーニングして長期間用いることができ、経済性及び作業性に秀れた構成となる。
【００５５】
また、前記ノズル体４若しくはマスク１を、前記保持部２に保持されたマスク１若しくはノズル体４と略平行な方向に可動し得る駆動部を前記クリーニング機構に設けた構成としても良い。
【００５６】
具体的には、本実施例においては、ノズル体４をマスク１と平行な方向に可動自在に設定している。従って、このノズル体４により、前記マスク１の全面に満遍なくドライアイス３を吹き付けてより一層確実に前記マスク１の汚れを除去できる。
【００５７】
尚、ノズル体４を、ドライアイス３の噴射方向を自在に設定し得る自在ノズルとしても良く、この場合も、同様にマスク１全面に満遍なくドライアイス３を吹き付けることができ、良好にクリーニングを行うことができる。また、本実施例は、ノズル体４を前記マスク１と対向状態に設け、このノズル体４を可動自在に設定した構成であるが、このマスク１及びノズル体４を夫々可動自在に設定しても良く、この場合には、より一層効率的にこのマスク１のクリーニングを行うことができる。
【００５８】
本実施例は、図３に図示したように、ノズル体４をマスク１と対向状態に一つ設けた構成であるが、前記クリーニング機構にノズル体４を一つ若しくは複数ずつ対向状態に設け、この対向状態に設けた一つ若しくは複数ずつのノズル体４間に、保持部２に保持された前記マスク１が配設されるように前記クリーニング機構を構成しても良く、例えば二つのノズル体４を対向状態に設けた場合、一つのノズル体４でマスク１の表裏面にドライアイス３を吹き付ける構成に比して二分の一の時間でこのマスクの汚れを除去することができ作業効率が向上する。
【００５９】
各部を具体的に説明する。マスク１は、所望のパターンが形成された金属製の薄い板状部材であり、マスク台11に固定されている。このマスク１は、交換の際、マスク搬送機構（図２の搬送室の搬送機構）により、このマスク搬送機構にマスク台11が載置された状態で成膜室からクリーニング機構が設けられたマスクストック室内に搬送され、搬送部７に受け渡すように構成している。
【００６０】
クリーニング機構は、図３に図示したようにマスク１を保持する保持部２と、この保持部２と対向状態に設けられるノズル体４とから成り、このノズル体４からドライアイス３を噴射してマスク１に吹き付けることでこのマスク１上に付着した汚れを除去するものである。本実施例は、チャンバー８の上部に保持部２を設け、下部にノズル体４を設けた構成を採用している。尚、チャンバー８の上部にノズル体４を設け、下部に保持部２を設けた構成等、他の構成を採用しても良い。
【００６１】
保持部２は、金属製のマスク１を保持する保持体５と、この保持体５をチャンバー８の上部に固定する上部固定具６とから成るものである。具体的には、保持体５に、マスク１を保持するためのマグネット９を設け、このマグネット９にマスク１が直接接触することを阻止する板体10（例えば石英板）をこのマグネット９とこのマスク１との間に設けている。
【００６２】
即ち、前記マスク搬送機構により搬送されたマスク１は、マグネット９によって引き寄せられると共に、前記搬送部７によりこの板体10側に押し付けられるように支承されてこの保持体５の板体10表面に保持される。
【００６３】
このマグネット９としては、マスク１と略同じ大きさのものを採用すると良く、この場合には、前記ドライアイス３によるクリーニングの際のマスク１のズレやガタつきを一層確実に阻止できる。
【００６４】
また、本実施例においては、板体10の落下を確実に阻止するために、この板体10の端部を保持体５の開口部に形成した嵌入溝５ａに嵌入し、この板体10と保持体５の内底部との間にマグネット９を設けた構成としている。尚、保持体５に単に前記マグネット９と板体10とを積層状態に設け、適宜な手段でこの保持体５に固定した構成としても良い。
【００６５】
ノズル体４は、駆動部により、前記保持部２に保持されたマスク１と平行な方向に可動自在に設定している。具体的には、このノズル体４を、公知のＸ−Ｙステージ駆動機構13上に可動自在に設けられるノズル固定部12に取り付けた構成である。即ち、このノズル体４により、前記マスク１の全面に満遍なくドライアイス３を吹き付けてより一層確実に前記マスク１の汚れを除去できる構成である。尚、図中符号14はＸ−Ｙステージ駆動機構13をチャンバー８の下部に固定する下部固定具、15はこのＸ−Ｙステージ駆動機構13の駆動源（図示省略）と接続される電源ケーブル及びドライアイス供給源（図示省略）と接続されるドライアイス供給ケーブルが設けられる管体である。
【００６６】
また、本実施例のクリーニング機構は、前記マスク１に付着した汚れを除去する際、この汚れがチャンバー８内に残らないように確実に吸引して外部に排気し得る捕獲機構を備えた構成としている。
【００６７】
この捕獲機構は、真空ポンプ22と連結される排気路21と連通状態に設けた吸引口20と、この吸引口20側への気流を作出して汚れを吸引口20に誘導するＮ2パージ機構19とから成るものであり、この吸引口20は、前記Ｘ−Ｙステージ駆動機構13の周囲を囲繞するように設けられている。尚、図中符号16はゲートバルブ，17はシャッターである。
【００６８】
従って、この捕獲機構により、前記保持部２により保持されたマスク１をクリーニングした際に、このマスク１から除去された汚れを確実に吸引して排気することができ、チャンバー８内がマスク１から除去された汚れによって汚染されることを確実に阻止できる。
【００６９】
また、本実施例のクリーニング機構には、Ｏ3パージ機構18を設けている。即ち、このＯ3パージ機構18からチャンバー８内にＯ3をパージすることで、有機物を灰化せしめる作用を有するＯ3により、このチャンバー８内の有機物汚れを確実に除去できる構成である。
【００７０】
本有機ＥＬ素子製造装置の使用方法を以下に説明する。
【００７１】
仕込み室を通じて搬送室に基板（ガラス基板）を搬入する。この基板を各処理室に順次搬入し、各処理室毎に処理を行う。
【００７２】
具体的には、前処理室において基板をクリーニング（酸素プラズマによるクリーニング）し、三つの成膜室に基板を順次搬入しながら下部金属電極，有機ＥＬ薄膜，上部透明電極を順次成膜する。
【００７３】
成膜室には、前記有機ＥＬ材料を所定のパターンで成膜するためのマスク１が設けられており、このマスク１を基板に積層させた状態で成膜を行う。
【００７４】
このマスク１を数十〜数百回用いることで有機物汚れが堆積した場合、マスク１を成膜室から搬出して、前記マスクストック室に搬入する。
【００７５】
この際、マスクストック室にストックされている汚れていないマスク１を搬出して成膜室に搬入すると共に、マスクストック室に搬入した汚れたマスク１を、前記マスククリーニング機構によりクリーニングする。
【００７６】
具体的には、前記Ｎ2パージ機構19からＮ2をパージしながら前記ノズル体４から噴射されるドライアイス３をマスク１表面に吹き付けてこのマスク１表面に付着・堆積する汚れ（有機物汚れ）を除去することでこのマスク１のクリーニングを行う。クリーニングされたマスク１はそのままマスクストック室にストックされる。
【００７７】
従って、マスクを交換する度に生産を中断する必要がないのは勿論、マスクストック室にストックされたマスク１が破損等しない限り外部に取り出す必要なく、即ち、このマスクストック室及びマスクを大気にさらす必要なく、このマスク１を交互にクリーニングして用いることができ、このマスク１が破損等しない限り、長期間交換する必要なく用いることができる。
【００７８】
本実施例は上述のように構成したから、成膜時に有機ＥＬ材料が付着・堆積したマスク１を、成膜室から搬送室を通じてクリーニング機構が設けられた処理室に搬送し、このクリーニング機構によりクリーニングを行う際、いずれかの処理室に備えたクリーニング機構によってマスク１をクリーニングすることができるから、従来のように成膜室やマスクストック室等の処理室を大気圧に戻す必要なく、成膜室から前記処理室にマスクを搬送するだけでクリーニングを行うことができ、この成膜室やマスクストック室等の処理室及びマスク１を大気にさらすことがないから、この処理室及びマスクが大気中の油脂・水分等によって汚染されることを確実に阻止できる。
【００７９】
従って、処理室内部が大気にさらされず、常に好適な真空状態に設定することができ、真空度や付着する汚れ等により敏感に特性が変化する有機ＥＬ素子を、一定の品質で歩留まり良く製造できることになる。
【００８０】
具体的には、ノズル体４からドライアイス３をマスク１に噴射することでこのマスク１のクリーニングを行うクリーニング機構により、マスク１の表面にドライアイス３を吹き付けることで、このドライアイス３がマスク１に堆積した汚れに衝突し、マスク１の表面に接触して前記汚れとこのマスク１表面との界面において気化する際の体積膨張により、このマスク１の表面に堆積した汚れを除去することができ、このマスク１に付着した汚れを真空雰囲気中で人手によらず容易且つ確実に除去することができる。
【００８１】
また、ウエットクリーニングと異なり、液体を経過せずに固体から昇華するドライアイス３によりクリーニングを行うから、処理室内を水分で汚すことなくマスク１をクリーニングすることができる。しかも、ウエットクリーニングのように人手により行う必要がなく、短時間で効率良くクリーニングを行うことができる。
【００８２】
更に、ドライアイス３は、マスク１に接触した瞬間に気化するため、他のブラストクリーニングに用いられるショット材と異なり、被クリーニング部材の表面を削り取る作用を発揮しないから、このドライアイス３を吹き付けて汚れを除去しても、マスク１に破損等が生じることがない。
【００８３】
即ち、マスク１としては通常厚さ数十μｍ程度の極めて薄く変形・破損しやすいものが用いられるが、上述のように、ドライアイス３はマスク１表面に付着した瞬間に気化するから、このマスク１を変形・破損させる心配なく確実にクリーニングすることが可能となる。
【００８４】
また、ノズル体４をマスク１と平行な方向に可動自在に設定することで、このノズル体４により、前記マスク１の全面に満遍なくドライアイス３を吹き付けてより一層確実に前記マスク１の汚れを除去できる。
【００８５】
更に、汚れたマスク１を成膜室から搬出して新しいマスク１に交換して直ぐに装置を使用できると共に、この汚れたマスク１をクリーニングすることができるため、マスクストック室に予備のマスク１を各成膜室に対して１枚ずつ設けておくだけでこのマスク１が破損等しない限り外部に取り出す必要なく、即ち、このマスクストック室を大気にさらす必要なく、このマスク１を交互にクリーニングして用いることができ、このマスク１が破損等しない限り、長期間交換する必要なく用いることができ、極めて作業性に秀れたものとなる。
【００８６】
従って、マスクストック室を大気に戻して排気を行う回数を極めて少なくでき、作業効率が低下することなく、極めて生産性良く有機ＥＬ素子を製造できることになる。
【００８７】
よって、本実施例は、マスクの汚れを人手によらず且つ処理室を大気にさらすことなく良好に除去することができる極めて実用性に秀れた有機ＥＬ素子製造装置となる。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】従来例の概略説明図である。
【図２】本実施例の概略説明図である。
【図３】本実施例のクリーニング機構の概略説明図である。
【符号の説明】
【００８９】
１  マスク
２  保持部
３  ドライアイス
４  ノズル体
【図１】
2005129299.tif 000003
【図２】
2005129299.tif 000004
【図３】
2005129299.tif 000005