(57)【要約】【課題】  塗布ムラが線状に現れることを防止すること。【解決手段】  材料塗布方法は、複数の被吐出部の任意の一つにおける吐出パターンが、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部の少なくとも一つにおける吐出パターンと異なるように、少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、液滴を吐出するステップを含む。【選択図】  図１４
2005230615.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージと、複数のノズルを有するヘッドと、を備えた吐出装置を用いてマトリクス状に並んだ複数の被吐出部のそれぞれに液状の材料を塗布する材料塗布方法であって、
前記複数の被吐出部を有する基体を載せた前記ステージと、前記ヘッドとの少なくとも一方を他方に対して移動させるステップ（Ａ）と、
前記ステップ（Ａ）によって前記複数の被吐出部のそれぞれに対応するそれぞれの領域に前記複数のノズルの少なくとも一つが達する場合に、前記複数の被吐出部のそれぞれに向けて、前記少なくとも一つのノズルから前記材料の液滴をそれぞれ吐出するステップ（Ｂ）と、を含み、
前記ステップ（Ｂ）は、前記複数の被吐出部の任意の一つにおける吐出パターンが、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部の少なくとも一つにおける吐出パターンと異なるように、前記少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、前記液滴を吐出するステップ（Ｂ１）を含み、
前記吐出パターンは、前記液滴の相対着弾位置と、前記液滴の吐出重量と、前記液滴が吐出される際の相対移動方向と、との組によって表されていて、
前記ステップ（Ｂ１）は、前記複数の被吐出部のそれぞれを前記任意の一つの被吐出部として行われる、
材料塗布方法。
【請求項２】
請求項１記載の材料塗布方法であって、
前記ステップ（Ｂ１）は、前記任意の一つの被吐出部における吐出パターンが、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部のそれぞれにおけるそれぞれの吐出パターンと異なるように、前記少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、前記液滴を吐出するステップ（ＢＢ１）を含む、
材料塗布方法。
【請求項３】
請求項１記載の材料塗布方法であって、
前記ステップ（Ｂ１）は、前記任意の一つの被吐出部に塗布される前記材料の重量が、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部の少なくとも一つに塗布される前記材料の重量と異なるように、前記少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、前記液滴を吐出するステップ（ＢＢ２）を含む、
材料塗布方法。
【請求項４】
請求項３記載の材料塗布方法であって、
前記ステップ（Ｂ１）は、前記任意の一つの被吐出部に塗布される前記材料の重量が、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部のそれぞれに塗布される前記材料のそれぞれの重量と異なるように、前記少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、前記液滴を吐出するステップ（ＢＢ３）を含む、
材料塗布方法。
【請求項５】
請求項１記載の材料塗布方法であって、
前記ステップ（Ｂ１）は、前記任意の一つの被吐出部における前記液滴の相対着弾位置が、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部の少なくとも一つにおける前記液滴の相対着弾位置と異なるように、前記少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、前記液滴を吐出するステップ（ＢＢ４）を含む、
材料塗布方法。
【請求項６】
請求項１記載の材料塗布方法であって、
前記ステップ（Ｂ１）は、前記任意の一つの被吐出部における前記液滴の相対着弾位置が、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部のそれぞれにおける前記液滴のそれぞれの相対着弾位置と異なるように、前記少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、前記液滴を吐出するステップ（ＢＢ５）を含む、
材料塗布方法。
【請求項７】
請求項１記載の材料塗布方法であって、
前記複数の被吐出部のそれぞれに対応する前記吐出パターンのそれぞれを規定する吐出データを、前記吐出装置の制御部にロードするステップ（Ｃ）を、さらに含み、
前記ステップ（Ｂ）は前記吐出データに応じて行われる、
材料塗布方法。
【請求項８】
ステージと、複数のノズルを有するヘッドと、を備えた吐出装置を用いてマトリクス状に並んだ複数の被吐出部のそれぞれに液状のカラーフィルタ材料を塗布するカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記複数の被吐出部を有する基体を載せた前記ステージと、前記ヘッドとの少なくとも一方を他方に対して移動させるステップ（Ａ）と、
前記ステップ（Ａ）によって前記複数の被吐出部のそれぞれに対応するそれぞれの領域に前記複数のノズルの少なくとも一つが達する場合に、前記複数の被吐出部のそれぞれに向けて、前記少なくとも一つのノズルから前記カラーフィルタ材料の液滴をそれぞれ吐出するステップ（Ｂ）と、を含み、
前記ステップ（Ｂ）は、前記複数の被吐出部の任意の一つにおける吐出パターンが、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部の少なくとも一つにおける吐出パターンと異なるように、前記少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、前記液滴を吐出するステップ（Ｂ１）を含み、
前記吐出パターンは、前記液滴の相対着弾位置と、前記液滴の吐出重量と、前記液滴が吐出される際の相対移動方向と、との組によって表されていて、
前記ステップ（Ｂ１）は、前記複数の被吐出部のそれぞれを前記任意の一つの被吐出部として行われる、
カラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項９】
ステージと、複数のノズルを有するヘッドと、を備えた吐出装置を用いてマトリクス状に並んだ複数の被吐出部のそれぞれに液状の発光材料を塗布するエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、
前記複数の被吐出部を有する基体を載せた前記ステージと、前記ヘッドとの少なくとも一方を他方に対して移動させるステップ（Ａ）と、
前記ステップ（Ａ）によって前記複数の被吐出部のそれぞれに対応するそれぞれの領域に前記複数のノズルの少なくとも一つが達する場合に、前記複数の被吐出部のそれぞれに向けて、前記少なくとも一つのノズルから前記発光材料の液滴をそれぞれ吐出するステップ（Ｂ）と、を含み、
前記ステップ（Ｂ）は、前記複数の被吐出部の任意の一つにおける吐出パターンが、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部の少なくとも一つにおける吐出パターンと異なるように、前記少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、前記液滴を吐出するステップ（Ｂ１）を含み、
前記吐出パターンは、前記液滴の相対着弾位置と、前記液滴の吐出重量と、前記液滴が吐出される際の相対移動方向と、との組によって表されていて、
前記ステップ（Ｂ１）は、前記複数の被吐出部のそれぞれを前記任意の一つの被吐出部として行われる、
エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【請求項１０】
ステージと、複数のノズルを有するヘッドと、を備えた吐出装置を用いてマトリクス状に並んだ複数の被吐出部のそれぞれに液状の蛍光材料を塗布するプラズマ表示装置の製造方法であって、
前記複数の被吐出部を有する基体を載せた前記ステージと、前記ヘッドとの少なくとも一方を他方に対して移動させるステップ（Ａ）と、
前記ステップ（Ａ）によって前記複数の被吐出部のそれぞれに対応するそれぞれの領域に前記複数のノズルの少なくとも一つが達する場合に、前記複数の被吐出部のそれぞれに向けて、前記少なくとも一つのノズルから前記蛍光材料の液滴をそれぞれ吐出するステップ（Ｂ）と、を含み、
前記ステップ（Ｂ）は、前記複数の被吐出部の任意の一つにおける吐出パターンが、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部の少なくとも一つにおける吐出パターンと異なるように、前記少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、前記液滴を吐出するステップ（Ｂ１）を含み、
前記吐出パターンは、前記液滴の相対着弾位置と、前記液滴の吐出重量と、前記液滴が吐出される際の相対移動方向と、との組によって表されていて、
前記ステップ（Ｂ１）は、前記複数の被吐出部のそれぞれを前記任意の一つの被吐出部として行われる、
プラズマ表示装置の製造方法。
【請求項１１】
マトリクス状に配置された複数の被吐出部を有する基体を載せるステージと、
複数のノズルを有するヘッドと、
前記複数の被吐出部を有する基体を載せた前記ステージと、前記ヘッドとの少なくとも一方を他方に対して移動させる走査部と、を備えた吐出装置であって、
前記ヘッドは、前記走査部によって前記複数の被吐出部のそれぞれに対応するそれぞれの領域に前記複数のノズルの少なくとも一つが達する場合に、前記複数の被吐出部のそれぞれに向けて、前記少なくとも一つのノズルから前記材料の液滴をそれぞれ吐出するとともに、
前記ヘッドは、前記複数の被吐出部の任意の一つにおける吐出パターンが、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部の少なくとも一つにおける吐出パターンと異なるように、前記少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、前記液滴を吐出し、
前記吐出パターンは、前記液滴の相対着弾位置と、前記液滴の吐出重量と、前記液滴が吐出される際の相対移動方向と、との組によって表されていて、
前記ヘッドは、前記複数の被吐出部のそれぞれを前記任意の被吐出部として、前記液滴を吐出する、
吐出装置。
【請求項１２】
請求項１１記載の吐出装置であって、
吐出データを記憶する制御部をさらに備えており、
前記吐出データは、前記複数の被吐出部のそれぞれに対応する前記吐出パターンのそれぞれを規定しており、
前記ヘッドは、前記記憶部に記憶された前記吐出データに応じて、前記液滴を吐出する、
吐出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、吐出装置および材料塗布方法に関し、特にカラーフィルタ基板の製造、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造、およびプラズマ表示装置の製造に好適な吐出装置および材料塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルタ、エレクトロルミネッセンス表示装置などの製造に用いられるインクジェット装置が知られている（例えば特許文献１）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−２２１６１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
製造時の誤差等によって、インクジェットヘッドにおいて等間隔に並ぶべき複数のノズルが、等間隔から有意にずれて並ぶ場合がある。このようなインクジェットヘッドを用いて、マトリクス状に並んだ複数の被吐出部（例えばカラーフィルタエレメントが設けられるべき部位）に液状の材料（例えばカラーフィルタ材料）を塗布すると、ノズルの位置のバラツキが、走査方向や幅走査方向に沿った線状の塗布ムラとして現れてしまう。ところで、カラーフィルタが表示装置において用いられる場合に、カラーフィルタにおける線状の塗布ムラは、線状の輝度ムラとして現れる。そして、観察者にとって線状の輝度ムラは、知覚しやすい。
【０００５】
本発明は上記課題を鑑みてなされたものであり、その目的の一つは、隣合う被吐出部同士の吐出パターンを意図的に異ならせることで、塗布ムラが線状に現れることを防止することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の材料塗布方法は、ステージと、複数のノズルを有するヘッドと、を備えた吐出装置を用いてマトリクス状に並んだ複数の被吐出部のそれぞれに液状の材料を塗布する材料塗布方法であって、前記複数の被吐出部を有する基体を載せた前記ステージと、前記ヘッドとの少なくとも一方を他方に対して移動させるステップ（Ａ）と、前記ステップ（Ａ）によって前記複数の被吐出部のそれぞれに対応するそれぞれの領域に前記複数のノズルの少なくとも一つが達する場合に、前記複数の被吐出部のそれぞれに向けて、前記少なくとも一つのノズルから前記材料の液滴をそれぞれ吐出するステップ（Ｂ）と、を含む。そして、前記ステップ（Ｂ）は、前記複数の被吐出部の任意の一つにおける吐出パターンが、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部の少なくとも一つにおける吐出パターンと異なるように、前記少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、前記液滴を吐出するステップ（Ｂ１）を含む。ここで、  前記吐出パターンは、前記液滴の相対着弾位置と、前記液滴の吐出重量と、前記液滴が吐出される際の相対移動方向と、との組によって表されている。そして、前記ステップ（Ｂ１）は、前記複数の被吐出部のそれぞれを前記任意の一つの被吐出部として行われる。
【０００７】
上記特徴によって得られる効果の一つは、複数の被吐出部が形成するマトリクス上で、塗布ムラが線状に現れることを防ぐことができることである。任意の一つの被吐出部における吐出パターンが、任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部の少なくとも一つにおける吐出パターンと異なるため、塗布ムラが局在化しにくいからである。
【０００８】
本発明の他の態様では、前記ステップ（Ｂ１）は、前記任意の一つの被吐出部における吐出パターンが、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部のそれぞれにおけるそれぞれの吐出パターンと異なるように、前記少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、前記液滴を吐出するステップ（ＢＢ１）を含む。
【０００９】
本発明の他の態様では、前記ステップ（Ｂ１）は、前記任意の一つの被吐出部に塗布される前記材料の重量が、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部の少なくとも一つに塗布される前記材料の重量と異なるように、前記少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、前記液滴を吐出するステップ（ＢＢ２）を含む。
【００１０】
本発明の他の態様では、前記ステップ（Ｂ１）は、前記任意の一つの被吐出部に塗布される前記材料の重量が、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部のそれぞれに塗布される前記材料のそれぞれの重量と異なるように、前記少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、前記液滴を吐出するステップ（ＢＢ３）を含む。
【００１１】
本発明の他の態様では、前記ステップ（Ｂ１）は、前記任意の一つの被吐出部における前記液滴の相対着弾位置が、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部の少なくとも一つにおける前記液滴の相対着弾位置と異なるように、前記少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、前記液滴を吐出するステップ（ＢＢ４）を含む。
【００１２】
本発明の他の態様では、前記ステップ（Ｂ１）は、前記任意の一つの被吐出部における前記液滴の相対着弾位置が、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部のそれぞれにおける前記液滴のそれぞれの相対着弾位置と異なるように、前記少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、前記液滴を吐出するステップ（ＢＢ５）を含む。
【００１３】
本発明の他の態様では、上記材料塗布方法が、前記複数の被吐出部のそれぞれに対応する前記吐出パターンのそれぞれを規定する吐出データを、前記吐出装置の制御部にロードするステップ（Ｃ）を、さらに含む。そして、前記ステップ（Ｂ）は前記吐出データに応じて行われる。
【００１４】
本発明は種々の態様で実現することが可能であり、例えば、カラーフィルタ基板の製造方法や、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法や、プラズマ表示装置の製造方法などの態様で実現できる。
【００１５】
本発明の吐出装置は、マトリクス状に配置された複数の被吐出部を有する基体を載せるステージと、複数のノズルを有するヘッドと、前記複数の被吐出部を有する基体を載せた前記ステージと、前記ヘッドとの少なくとも一方を他方に対して移動させる走査部と、を備えている。そして、前記ヘッドは、前記走査部によって前記複数の被吐出部のそれぞれに対応するそれぞれの領域に前記複数のノズルの少なくとも一つが達する場合に、前記複数の被吐出部のそれぞれに向けて、前記少なくとも一つのノズルから前記材料の液滴をそれぞれ吐出する。さらに、前記ヘッドは、前記複数の被吐出部の任意の一つにおける吐出パターンが、前記任意の一つの被吐出部に隣合う被吐出部の少なくとも一つにおける吐出パターンと異なるように、前記少なくとも一つのノズルから前記任意の一つの被吐出部に向けて、前記液滴を吐出する。ここで、  前記吐出パターンは、前記液滴の相対着弾位置と、前記液滴の吐出重量と、前記液滴が吐出される際の相対移動方向と、との組によって表されている。そして、前記ヘッドは、前記複数の被吐出部のそれぞれを前記任意の被吐出部として、前記液滴を吐出する。
【００１６】
本発明の他の態様では、前記吐出装置が吐出データを記憶する制御部をさらに備えている。ここで、前記吐出データは、前記複数の被吐出部のそれぞれに対応する前記吐出パターンのそれぞれを規定している。そして、前記ヘッドは、前記記憶部に記憶された前記吐出データに応じて、前記液滴を吐出する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
（実施形態１）
（Ａ．吐出装置１００Ｒの全体構成）
図１の吐出装置１００Ｒは、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを保持するタンク１０１Ｒと、チューブ１１０と、チューブ１１０を介してタンク１０１Ｒから液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備えた材料塗布装置である。そして、吐出走査部１０２は、グランドステージＧＳと、キャリッジ１０３と、第１位置制御装置１０４と、ステージ１０６と、第２位置制御装置１０８と、制御部１１２と、を備えている。
【００１８】
キャリッジ１０３は、ステージ１０６側に液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する複数のヘッド１１４（図２）を保持している。これら複数のヘッド１１４のそれぞれは、制御部１１２からの信号に応じて、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴を吐出する。そして、タンク１０１Ｒと、キャリッジ１０３における複数のヘッド１１４とは、チューブ１１０Ｒで連結されており、タンク１０１Ｒから複数のヘッド１１４のそれぞれに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される。
【００１９】
ここで、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒは、本発明の「液状の材料」に対応する。「液状の材料」とは、ヘッド１１４のノズル（後述）から液滴として吐出可能な粘度を有する材料をいう。この場合、材料が水性であると油性であるとを問わない。ノズルから吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。
【００２０】
第１位置制御装置１０４は、制御部１１２からの信号に応じて、キャリッジ１０３をＸ軸方向、およびＸ軸方向に直交するＺ軸方向に沿って移動させる。さらに、第１位置制御装置１０４は、Ｚ軸に平行な軸の回りでキャリッジ１０３を回転させる機能も有する。本実施形態では、Ｚ軸方向は、鉛直方向（つまり重力加速度の方向）に平行な方向である。
【００２１】
具体的には、第１位置制御装置１０４は、Ｘ軸方向に延びる一対のリニアモータと、Ｘ軸方向に延びる一対のＸ軸ガイドレールと、Ｘ軸エアスライダと、キャリッジ回動部と、支持構造体１４と、を備えている。支持構造体１４は、これら一対のリニアモータと、一対のＸ軸ガイドレールと、一対のＸ軸エアスライダと、キャリッジ回動部とを、ステージ１０６からＺ軸方向に所定距離だけ離れた位置に固定している。一方、Ｘ軸エアスライダは、一対のＸ軸ガイドレールに移動可能に支持されている。そして、Ｘ軸エアスライダは、一対のリニアモータの働きによって、一対のＸ軸ガイドレールに沿ってＸ軸方向に移動する。キャリッジ１０３はキャリッジ回動部を介してＸ軸エアスライダと連結されているので、キャリッジ１０３は、Ｘ軸エアスライダとともにＸ軸方向に移動する。なお、キャリッジ１０３は、キャリッジ１０３におけるノズル（後述）がステージ１０６側を向くように、Ｘ軸エアスライダに支持されている。なお、キャリッジ回動部はサーボモータを有しており、キャリッジ１０３をＺ軸に平行な軸の回りで回転させる機能を有する。
【００２２】
第２位置制御装置１０８は、制御部１１２からの信号に応じて、Ｘ軸方向およびＺ軸方向の双方に直交するＹ軸方向に沿ってステージ１０６を移動させる。さらに、第２位置制御装置１０８は、Ｚ軸に平行な軸の回りでステージ１０６を回転させる機能も有する。具体的には、第２位置制御装置１０８は、Ｙ軸方向に延びる一対のリニアモータと、Ｙ軸方向に延びる一対のＹ軸ガイドレールと、Ｙ軸エアスライダと、支持ベースと、θテーブルと、を備えている。一対のリニアモータおよび一対のＹ軸ガイドレールは、グランドステージＧＳ上に位置している。一方、Ｙ軸エアスライダは、一対のＹ軸ガイドレールに移動可能に支持されている。そして、Ｙ軸エアスライダは、一対のリニアモータの働きによって、一対のＹ軸ガイドレールに沿ってＹ軸方向に移動する。Ｙ軸エアスライダは、支持ベースおよびθテーブルを介してステージ１０６の裏面に連結されているので、ステージ１０６は、Ｙ軸エアスライダとともにＹ軸方向に移動する。なお、θテーブルはモータを有しており、ステージ１０６をＺ軸に平行な軸の回りで回転させる機能を有する。
【００２３】
なお、本明細書では、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８を、「走査部」とも表記する。
【００２４】
本実施形態におけるＸ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向は、キャリッジ１０３およびステージ１０６のどちらか一方が他方に対して相対移動する方向に一致している。また、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向を規定するＸＹＺ座標系の仮想的な原点は、吐出装置１００Ｒの基準部分に固定されている。本明細書において、Ｘ座標、Ｙ座標、およびＺ座標とは、このようなＸＹＺ座標系における座標である。なお、上記の仮想的な原点は、基準部分だけでなく、ステージ１０６に固定されていてもよいし、キャリッジ１０３に固定されていてもよい。
【００２５】
上述のように、キャリッジ１０３は第１位置制御装置１０４によってＸ軸方向に移動させられる。一方、ステージ１０６は第２位置制御装置１０８によってＹ軸方向に移動させられる。つまり、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８によって、ステージ１０６に対するヘッド１１４の相対位置が変わる。より具体的には、これらの動作によって、キャリッジ１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８（図２）は、ステージ１０６上で位置決めされた被吐出部に対して、Ｚ軸方向に所定の距離を保ちながら、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に相対的に移動、すなわち相対的に走査する。ここで、静止した被吐出部に対してキャリッジ１０３がＹ軸方向に移動してもよい。そしてキャリッジ１０３がＹ軸方向に沿って所定の２点間を移動する期間内に、静止した被吐出部に対してノズル１１８（図２）から材料１１１を吐出してもよい。「相対移動」または「相対走査」とは、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する側と、そこからの吐出物が着弾する側（被吐出部側）の少なくとも一方を他方に対して移動することを含む。
【００２６】
さらに、キャリッジ１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８（図２）が相対移動するとは、ステージ、基体、または被吐出部に対するこれらの相対位置が変わることである。このため、本明細書では、キャリッジ１０３、ヘッド群１１４Ｇ、ヘッド１１４、またはノズル１１８が吐出装置１００Ｒに対して静止して、ステージ１０６のみが移動する場合であっても、キャリッジ１０３、ヘッド群１１４Ｇ、ヘッド１１４、またはノズル１１８が、ステージ１０６、基体、または被吐出部に対して相対移動すると表記する。また、相対走査または相対移動と、材料の吐出と、の組合せを指して「塗布走査」と表記することもある。
【００２７】
キャリッジ１０３およびステージ１０６は上記以外の平行移動および回転の自由度をさらに有している。ただし、本実施形態では、上記自由度以外の自由度に関する記載は説明を平易にする目的で省略されている。
【００２８】
制御部１１２は、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出すべき相対位置を表す吐出データを外部情報処理装置から受け取るように構成されている。制御部１１２の詳細な構成および機能は、後述する。
【００２９】
（Ｂ．ヘッド）
図２に示すヘッド１１４は、キャリッジ１０３が有する複数のヘッド１１４の一つである。図２は、ステージ１０６側からヘッド１１４を眺めた図であり、ヘッド１１４の底面を示している。ヘッド１１４は、Ｘ軸方向に延びるノズル列１１６を有している。ノズル列１１６は、Ｘ軸方向にほぼ均等に並んだ複数のノズル１１８からなる。これら複数のノズル１１８は、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰが約７０μｍとなるように配置されている。ここで、「ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰ」は、ヘッド１１４におけるノズル１１８のすべてを、Ｘ軸方向に直交する方向からＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。
【００３０】
ノズル列１１６におけるノズル１１８の数は１８０個である。ただし、ノズル列１１６の両端のそれぞれ１０ノズルは「休止ノズル」として設定されている。そして、これら２０個の「休止ノズル」からは液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されない。このため、ヘッド１１４における１８０個のノズル１１８のうち、１６０個のノズル１１８が液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するノズル１１８として機能する。本明細書では、これら１６０個のノズル１１８を「吐出ノズル１１８Ｔ」と表記することもある。
【００３１】
なお、１つのヘッド１１４におけるノズル１１８の数は、１８０個に限定されない。１つのヘッド１１４に３６０個のノズルが設けられていてもよい。
【００３２】
図３（ａ）および（ｂ）に示すように、それぞれのヘッド１１４は、インクジェットヘッドである。より具体的には、それぞれのヘッド１１４は、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、を備えている。振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、２つのタンク１０１Ｒ（図１）から孔１３１を介して供給される液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが常に充填される液たまり１２９が位置している。
【００３３】
また、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、複数の隔壁１２２が位置している。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、１対の隔壁１２２と、によって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、１対の隔壁１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される。
【００３４】
振動板１２６上には、それぞれのキャビティ１２０に対応して、振動子１２４が位置する。振動子１２４は、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂと、を含む。この１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂの間に駆動電圧を与えることで、対応するノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。なお、ノズル１１８からＺ軸方向に液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されるように、ノズル１１８の形状が調整されている。
【００３５】
ここで、本明細書において「液状の材料」とは、ノズルから吐出可能な粘度を有する材料をいう。この場合、材料が水性であると油性であるとを問わない。ノズルから吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。
【００３６】
制御部１１２（図１）は、複数の振動子１２４のそれぞれに互いに独立に信号を与えるように構成されていてもよい。つまり、ノズル１１８から吐出される材料１１１の体積が、制御部１１２からの信号に応じてノズル１１８毎に制御されてもよい。そのような場合には、ノズル１１８のそれぞれから吐出される材料１１１の体積は、０ｐｌ〜４２ｐｌ（ピコリットル）の間で可変にしてもよい。また、制御部１１２は、後述するように、塗布走査の間に吐出動作を行うノズル１１８と、吐出動作を行わないノズル１１８と、を設定することでもできる。
【００３７】
本明細書では、１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティ１２０に対応する振動子１２４と、を含んだ部分を「吐出部１２７」と表記することもある。この表記によれば、１つのヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の吐出部１２７を有する。吐出部１２７は、ピエゾ素子の代わりに電気熱変換素子を有してもよい。つまり、吐出部１２７は、電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して材料を吐出する構成を有していてもよい。
【００３８】
（Ｃ．制御部）
次に、制御部１１２の構成を説明する。図４に示すように、制御部１１２は、入力バッファメモリ２００と、記憶手段２０２と、処理部２０４と、走査駆動部２０６と、ヘッド駆動部２０８と、を備えている。バッファメモリ２０２と処理部２０４とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と記憶手段２０２とは、相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と走査駆動部２０６とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４とヘッド駆動部２０８とは相互に通信可能に接続されている。また、走査駆動部２０６は、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８と相互に通信可能に接続されている。同様にヘッド駆動部２０８は、複数のヘッド１１４のそれぞれと相互に通信可能に接続されている。
【００３９】
入力バッファメモリ２００は、吐出装置１００Ｒの外部に位置するホストコンピュータ１８０から、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄを吐出するための吐出データを受け取る。吐出データは、後述するサブ吐出ビットマップデータＢＤ２１、ＢＤ２２、ＢＤ２３を含む。入力バッファメモリ２００は、吐出データを処理部２０４に供給し、処理部２０４は吐出データを記憶手段２０２に格納する。図４では、記憶手段２０２はＲＡＭである。
【００４０】
処理部２０４は、記憶手段２０２内の吐出データに基づいて、被吐出部に対するノズル１１８の相対位置を示すデータを走査駆動部２０６に与える。走査駆動部２０６はこのデータと、後述する吐出周期ＥＰ（図５）と、に応じた駆動信号を第２位置制御装置１０８に与える。この結果、被吐出部に対してヘッド１１４が相対走査する。一方、処理部２０４は、記憶手段２０２に記憶された吐出データに基づいて、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出に必要な吐出信号ＥＳをヘッド１１４に与える。この結果、ヘッド１１４における対応するノズル１１８から、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄが吐出される。ヘッド駆動部２０８の構成の詳細は、図１１、図１２、図１３に示されており、これらについては後述する。
【００４１】
制御部１１２は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、バスを含んだコンピュータであってもよい。この場合には、制御部１１２の上記機能は、コンピュータによって実行されるソフトウェアプログラムによって実現される。もちろん、制御部１１２は、専用の回路（ハードウェア）によって実現されてもよい。
【００４２】
（Ｄ．吐出データ生成部）
外部のホストコンピュータ１８０は、吐出データ生成部１８１として機能する。図５における機能ブロック図に示すように、吐出データ生成部１８１は、吐出パターンデータ生成部１８２と、３つのルックアップテーブルＬＵＴ１、ＬＵＴ２、ＬＵＴ３と、データ変換部１８３と、データ分割部１８４と、を有している。吐出パターンデータ生成部１８２は、被吐出部１８Ｒ毎に吐出パターンをランダムに指定するための吐出パターンデータＥＰＤＩＪを生成する。３つのルックアップテーブルＬＵＴ１、ＬＵＴ２、ＬＵＴ３と、データ変換部１８３とは、吐出パターンデータＥＰＤＩＪに応じて、初期ビットマップデータＢＤ１から吐出ビットマップデータＢＤ２を生成する。データ分割部１８４は、吐出ビットマップデータＢＤ２から、サブ吐出ビットマップデータＢＤ２１、ＢＤ２２、ＢＤ２３を生成して、吐出装置１００Ｒの制御部１１２に与える。吐出データ生成部１８１の機能の詳細は後述する。
【００４３】
（Ｅ．カラーフィルタ基板）
図６（ａ）および（ｂ）に示す基体１０Ａは、実施形態２において説明する製造装置１による処理を経て、カラーフィルタ基板１０となる基板である。基体１０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂを有する。
【００４４】
具体的には、基体１０Ａは、光透過性を有する支持基板１２と、支持基板１２上に形成されたブラックマトリクス１４と、ブラックマトリクス１４上に形成されたバンク１６と、を含む。ブラックマトリクス１４は遮光性を有する材料で形成されている。そして、ブラックマトリクス１４とブラックマトリクス１４上のバンク１６とは、支持基板１２上にマトリクス状の複数の光透過部分、すなわちマトリクス状の複数の画素領域、が規定されるように位置している。
【００４５】
それぞれの画素領域において、支持基板１２、ブラックマトリクス１４、およびバンク１６で規定される凹部は、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、被吐出部１８Ｂに対応する。被吐出部１８Ｒは、赤の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｇは、緑の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｂは、青の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＢが形成されるべき領域である。
【００４６】
図６（ｂ）に示す基体１０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体１０Ａにおいて、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、および被吐出部１８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部１８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部１８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、そして、被吐出部１８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【００４７】
被吐出部１８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部１８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＧＹと同じであり、被吐出部１８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＢＹとも同じである。また、被吐出部１８Ｒの平面像は、長辺と短辺とで決まる矩形である。具体的には、被吐出部１８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部１８Ｇおよび被吐出部１８Ｂも被吐出部１８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【００４８】
（Ｆ．吐出パターンの考え方）
本実施形態の吐出装置１００Ｒによれば、任意の一つの被吐出部１８Ｒの「吐出パターン」が、その任意の一つの被吐出部１８Ｒに隣合う被吐出部１８Ｒのそれぞれの「吐出パターン」と異なる。「吐出パターン」とは、「相対着弾位置パターン」と、「吐出重量パターン」と、「吐出方向パターン」とのセットを意味する。これら「相対着弾位置パターン」、「吐出重量パターン」、および「吐出方向パターン」の説明に進む前に、説明を平易にする目的で、以下で幾つかの表記の定義を導入する。
【００４９】
本実施形態の吐出装置１００Ｒは、複数の被吐出部１８Ｒのそれぞれに、カラーフィルタ材料１１１Ｒの複数の液滴Ｄを吐出する。具体的には、被吐出部１８Ｒにおける８個の着弾位置ＳＤのそれぞれに液滴Ｄが着弾するように、吐出装置１００Ｒは、４つの吐出ノズル１１８Ｔから８個の液滴Ｄを吐出する。図７に示すように、それぞれの被吐出部１８Ｒにおける８つの着弾位置ＳＤは、それぞれがＸ軸方向に延びる２つの列をなしている。これら２つの列は、Ｙ軸方向に隣合っている。２つの列のそれぞれは、４つの着弾位置ＳＤから構成される。
【００５０】
本明細書では、これら２つの列を、それぞれ「第１の着弾位置列」および「第２の着弾位置列」と表記する。そして、第１の着弾位置列を構成する４つの着弾位置ＳＤのそれぞれに吐出されるそれぞれの液滴Ｄを、Ｘ座標の小さい方から、液滴Ｄ１１、液滴Ｄ１２、液滴Ｄ１３、液滴Ｄ１４と表記する。また、第２の着弾位置列を構成する４つの着弾位置ＳＤのそれぞれに吐出されるそれぞれの液滴Ｄを、Ｘ座標の小さい方から、液滴Ｄ２１、液滴Ｄ２２、液滴Ｄ２３、液滴Ｄ２４と表記する。なお、他の実施形態においては、１つの被吐出部１８Ｒに吐出される液滴Ｄの数は１つでもよい。
【００５１】
さらに本明細書では、基体１０Ａ上の任意の一つの被吐出部１８Ｒを「被吐出部１８ＲＩＪ」と表記する。添字のＩおよびＪは、基体１０Ａにおける被吐出部１８Ｒの位置に対応している。ここで、本実施形態では複数の被吐出部１８Ｒが、マトリクス状にＬ×Ｍ個並んでいる。このため「被吐出部１８ＲＩＪ」の添字Ｉは１以上Ｌ以下の整数であり、一方、添字Ｊは１以上Ｍ以下の整数である。
【００５２】
以下では、被吐出部１８ＲＩＪの吐出パターンが、被吐出部１８ＲＩＪに隣合う被吐出部１８ＲＩＪのそれぞれの吐出パターンと異なることを、より具体的に説明する。
【００５３】
（Ｆ１．被吐出部１８Ｒにおける相対着弾位置パターン）
本実施形態の塗布方法によれば、被吐出部１８ＲＩＪにおける相対着弾位置パターンと、被吐出部１８ＲＩＪに隣合う被吐出部１８Ｒの相対着弾位置パターンと、が異なる。具体的には、本実施形態では、被吐出部１８ＲＩＪにおける第１の着弾位置列の相対ｙ座標（または第２の着弾位置列の相対ｙ座標）と、被吐出部１８ＲＩＪに隣合う被吐出部１８Ｒにおける第１の着弾位置列の相対ｙ座標（または第２の着弾位置列の相対ｙ座標）とが異なる。
【００５４】
ここで、「被吐出部１８ＲＩＪにおける相対着弾位置」とは、液滴Ｄが着弾する位置を被吐出部１８ＲＩＪの内部座標で表した位置である。また、「相対着弾位置パターン」は、１つの被吐出部１８ＲＩＪにおける相対着弾位置のセットに対応する。さらに、「相対ｙ座標」は、被吐出部１８ＲＩＪの内部座標上のｙ座標を意味する。
【００５５】
図７に示す被吐出部１８ＲＩＪにおいて、第１の着弾位置列の相対ｙ座標および第２の着弾位置列の相対ｙ座標は、それぞれｙ１およびｙ２である。ｙ１およびｙ２は、被吐出部１８ＲＩＪをＹ軸方向に三等分するような相対ｙ座標である。また、ｙ１とｙ２との差の絶対値は、以下で説明する「ａ」の２倍の値よりも大きい。被吐出部１８ＲＩＪにおける液滴Ｄのそれぞれの相対着弾位置のこのような組合せが、上述の「相対着弾位置パターン」に対応する。
【００５６】
一方、図７にも示すように、被吐出部１８ＲＩＪと対角方向に隣合う４つの被吐出部１８Ｒ（Ｉ−１）（Ｊ−１）、１８Ｒ（Ｉ−１）（Ｊ＋１）、１８Ｒ（Ｉ＋１）（Ｊ−１）、１８Ｒ（Ｉ＋１）（Ｊ＋１）のそれぞれにおいて、第１の着弾位置列の相対ｙ座標および第２の着弾位置列の相対ｙ座標は、下記（表１）の通りである。
【００５７】
【表１】
2005230615.tif 000003
【００５８】
また、図７にも示すように、被吐出部１８ＲＩＪとＸ軸方向に隣合う２つの被吐出部１８ＲＩ（Ｊ−１）、１８ＲＩ（Ｊ＋１）のそれぞれにおいて、第１の着弾位置列の相対ｙ座標および第２の着弾位置列の相対ｙ座標は、下記（表２）の通りである。
【００５９】
【表２】
2005230615.tif 000004
【００６０】
さらに、図７にも示すように、被吐出部１８ＲＩＪとＹ軸方向に隣合う２つの被吐出部１８Ｒ（Ｉ−１）Ｊ、１８Ｒ（Ｉ＋１）Ｊのそれぞれにおいて、第１の着弾位置列の相対ｙ座標および第２の着弾位置列の相対ｙ座標は、下記（表３）の通りである。
【００６１】
【表３】
2005230615.tif 000005
【００６２】
このように、被吐出部１８ＲＩＪにおける相対着弾位置パターンは、被吐出部１８ＲＩＪに隣合う８個の被吐出部１８Ｒにおけるそれぞれの相対着弾位置パターンと異なる。さらに、基体１０Ａ上の被吐出部１８Ｒのいずれが任意の一つの被吐出部１８ＲＩＪとして選択されても、この点は同様である。
【００６３】
以上説明したように、第１の着弾位置列の相対ｙ座標および第２の着弾位置列の相対ｙ座標の組合せが変われば、被吐出部１８Ｒへ吐出される液滴Ｄの少なくとも一つの相対着弾位置が変わる。つまり、相対ｙ座標の組合せが変われば、液滴Ｄの相対着弾位置パターンが変わる。ところで、上述したように「相対着弾位置パターン」は、「吐出パターン」を構成する要素の一つである。したがって、第１の着弾位置列の相対ｙ座標および第２の着弾位置列の相対ｙ座標の組合せが異なれば、「吐出パターン」が異なることになる。
【００６４】
このため、被吐出部１８ＲＩＪの吐出パターンは、被吐出部１８ＲＩＪに隣合う８つの被吐出部１８Ｒ（Ｉ−１）（Ｊ−１）、１８Ｒ（Ｉ−１）Ｊ、１８Ｒ（Ｉ−１）（Ｊ＋１）、１８ＲＩ（Ｊ−１）、１８ＲＩ（Ｊ＋１）、１８Ｒ（Ｉ＋１）（Ｊ−１）、１８Ｒ（Ｉ＋１）Ｊ、１８Ｒ（Ｉ＋１）（Ｊ＋１）のそれぞれの吐出パターンと異なる。
（Ｆ２．被吐出部１８Ｒの吐出重量のパターン）
【００６５】
被吐出部１８ＲＩＪに着弾する８個の液滴Ｄ１１、液滴Ｄ１２、液滴Ｄ１３、液滴Ｄ１４、液滴Ｄ２１、液滴Ｄ２２、液滴Ｄ２３、液滴Ｄ２４のそれぞれの体積は、大（Ｌ）、中（Ｍ）、および小（Ｓ）のいずれかを取り得る。
【００６６】
図８に示すように、被吐出部１８ＲＩＪにおいて、液滴Ｄ１１の体積、液滴Ｄ１２の体積、液滴Ｄ１３の体積、液滴Ｄ１４の体積は、いずれも「中（Ｍ）」である。また、液滴Ｄ２１の体積、液滴Ｄ２２の体積、液滴Ｄ２３の体積、液滴Ｄ２４の体積も、いずれも「中（Ｍ）」である。被吐出部１８ＲＩＪにおける液滴Ｄのそれぞれの体積のこのような組合せが、上述の「吐出重量パターン」に対応する。
【００６７】
また、図８に示すように、被吐出部１８ＲＩＪとＸ軸方向に隣合う被吐出部１８ＲＩ（Ｊ−１）において、液滴Ｄ１１の体積は「大（Ｌ）」であり、液滴Ｄ１２の体積は「小（Ｓ）」であり、液滴Ｄ１３の体積は「大（Ｌ）」であり、液滴Ｄ１４の体積は「小（Ｓ）」である。一方、液滴Ｄ２１の体積は「小（Ｓ）」であり、液滴Ｄ２２の体積は「大（Ｌ）」であり、液滴Ｄ２３の体積は「小（Ｓ）」であり、液滴Ｄ２４の体積は「大（Ｌ）」である。このように、被吐出部ＲＩ（Ｊ−１）における吐出重量パターンは、被吐出部１８ＲＩＪにおける吐出重量パターンと異なる。
【００６８】
さらに、図８に示すように、被吐出部１８ＲＩＪとＸ軸方向に隣合うもう一つの被吐出部１８ＲＩ（Ｊ＋１）においては、液滴Ｄ１１の体積は「小（Ｓ）」であり、液滴Ｄ１２の体積は「大（Ｌ）」であり、液滴Ｄ１３の体積は「小（Ｓ）」であり、液滴Ｄ１４の体積は「大（Ｌ）」である。一方、液滴Ｄ２１の体積は「大（Ｌ）」であり、液滴Ｄ２２の体積は「小（Ｓ）」であり、液滴Ｄ２３の体積は「大（Ｌ）」であり、液滴Ｄ２４の体積は「小（Ｓ）」である。このように、被吐出部ＲＩ（Ｊ＋１）における吐出重量パターンは、被吐出部１８ＲＩＪにおける吐出重量パターンと異なる。
【００６９】
被吐出部１８ＲＩＪにおける吐出重量パターンは、被吐出部１８ＲＩＪと対角方向に隣合う４つの被吐出部１８Ｒ（Ｉ−１）（Ｊ−１）、１８Ｒ（Ｉ−１）（Ｊ＋１）、１８Ｒ（Ｉ＋１）（Ｊ−１）、１８Ｒ（Ｉ＋１）（Ｊ＋１）のそれぞれにおける吐出重量パターンとも異なる。さらに、被吐出部１８ＲＩＪにおける吐出重量パターンは、被吐出部１８ＲＩＪとＹ軸方向に隣合う２つの被吐出部１８ＲＩ（Ｊ−１）、１８ＲＩ（Ｊ＋１）のそれぞれにおけるそれぞれの吐出重量パターンとも異なる。
【００７０】
さて、上述したように「吐出重量パターン」は「吐出パターン」を構成する要素の一つである。したがって、「吐出重量パターン」が異なれば、「吐出パターン」が異なることになる。
【００７１】
（Ｆ３．被吐出部１８Ｒの吐出方向パターン）
以下に詳細に説明するように、隣合う２つの被吐出部の間で「吐出方向パターン」が異なる。
【００７２】
図９中の「１」は、キャリッジ１０３に対してステージ１０６がＹ軸方向の正の方向に相対移動している期間内に液滴Ｄが吐出されることを示し、「２」は、負の方向に相対移動している期間内に液滴Ｄが吐出されることを示している。
【００７３】
図９に示すように、被吐出部１８ＲＩＪにおいて、液滴Ｄ１１、Ｄ１２、Ｄ１３、Ｄ１４のそれぞれは、キャリッジ１０３に対してステージ１０６がＹ軸方向の正の方向に相対移動している期間内に吐出される。一方、液滴Ｄ２１、Ｄ２２、Ｄ２３、Ｄ２４のそれぞれは、キャリッジ１０３に対してステージ１０６がＹ軸方向の負の方向に相対移動している期間内に吐出される。１つの被吐出部１８Ｒに吐出されるそれぞれの液滴Ｄの吐出方向のパターンを、「被吐出部１８Ｒの吐出方向パターン」、または単に「吐出方向パターン」と表記する。
【００７４】
また、図９に示すように、上記の一つの被吐出部１８ＲＩＪとＸ軸方向に隣合う被吐出部１８ＲＩ（Ｊ−１）において、液滴Ｄ１１、Ｄ１２、Ｄ１３、Ｄ１４のそれぞれは、キャリッジ１０３に対してステージ１０６がＹ軸方向の負の方向に相対移動している期間内に吐出される。一方、液滴Ｄ２１、Ｄ２２、Ｄ２３、Ｄ２４のそれぞれは、キャリッジ１０３に対してステージ１０６がＹ軸方向の正の方向に相対移動している期間内に吐出される。このため、被吐出部１８ＲＩ（Ｊ−１）の吐出方向パターンは、被吐出部１８ＲＩＪの吐出方向パターンとは異なる。
【００７５】
本実施形態では、任意の被吐出部１８ＲＩＪの吐出方向パターンは、その任意の被吐出部１８ＲＩＪに隣合う被吐出部１８Ｒの吐出方向パターンと異なっている。そして、任意の一つの被吐出部１８Ｒとして複数の被吐出部１８Ｒのいずれを選択しても、吐出方向パターンに関するこの関係が成り立っている。
【００７６】
さて、上述したように「吐出方向パターン」は「吐出パターン」を構成する要素の一つである。したがって、「吐出方向パターン」が異なれば、「吐出パターン」が異なることになる。
【００７７】
以下では、ランダムな吐出パターンで複数の被吐出部１８Ｒに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する手順および構成を説明する。
【００７８】
（Ｅ．基本パターンデータ）
吐出データ生成部１８１（図５）におけるルックアップテーブルＬＵＴ１には、互いに異なる９通りの「相対着弾位置パターン」が記憶されている。具体的には、ルックアップテーブルＬＵＴ１には、液滴Ｄ１１、Ｄ１２、Ｄ１３、Ｄ１４、Ｄ２１、Ｄ２２、Ｄ２３、Ｄ２４のそれぞれのＹ軸方向へのオフセット量が、相対着弾位置パターン番号Ｎ１に関連付けられて記憶されている。ルックアップテーブルＬＵＴ１内のこのデータを「基本パターンデータＢ１」と表記する。なお、ＬＵＴ１におけるオフセット量は、後述する初期ビットマップデータＢＤ１によって表される着弾位置ＳＤからのＹ軸方向へのずれを示す。
【００７９】
下記（表４）にルックアップテーブルＬＵＴ１内の基本パターンデータＢ１の内容を示す。
【００８０】
【表４】
2005230615.tif 000006
【００８１】
吐出データ生成部１８１（図５）におけるルックアップテーブルＬＵＴ２には、互いに異なる９通りの「吐出重量パターン」が記憶されている。具体的には、ルックアップテーブルＬＵＴ２には、液滴Ｄ１１、Ｄ１２、Ｄ１３、Ｄ１４、Ｄ２１、Ｄ２２、Ｄ２３、Ｄ２４のそれぞれの重量が、１から９までの吐出重量パターン番号Ｎ２に関連付けられて記憶されている。ここで、１つの液滴Ｄが取り得る重量は、上述したように、大（Ｌ）、中（Ｍ）、小（Ｓ）のいずれかである。なお、Ｌ、Ｍ、Ｓの大小関係は、Ｌ＞Ｍ＞Ｓであり、Ｍは、ＬとＳとのほぼ平均値である。ルックアップテーブルＬＵＴ２内のこのデータを「基本パターンデータＢ２と表記」する。
【００８２】
下記（表５）にルックアップテーブルＬＵＴ２内の基本パターンデータＢ２の内容を示す。
【００８３】
【表５】
2005230615.tif 000007
【００８４】
吐出データ生成部１８１（図５）におけるルックアップテーブルＬＵＴ３には、互いに異なる２通りの「吐出方向パターン」が記憶されている。具体的には、ルックアップテーブルＬＵＴ３には、液滴Ｄ１１、Ｄ１２、Ｄ１３、Ｄ１４、Ｄ２１、Ｄ２２、Ｄ２３、Ｄ２４のそれぞれの吐出方向Ｌ・Ｒが、１から２までの吐出方向パターン番号Ｎ３に関連付けられて記憶されている。ただし、吐出方向「Ｌ」は、ステージ１０６がキャリッジ１０３に対してＹ軸方向の正の方向に相対移動する期間内に液滴Ｄが吐出されることを意味している。また、吐出方向「Ｒ」は、ステージ１０６がキャリッジ１０３に対してＹ軸方向の負の方向に相対移動する期間内に液滴Ｄが吐出されることを意味している。ルックアップテーブルＬＵＴ３内のこのデータを「基本パターンデータＢ３」と表記する。
【００８５】
下記（表６）にルックアップテーブルＬＵＴ３内の基本パターンデータＢ３の内容を示す。
【００８６】
【表６】
2005230615.tif 000008
【００８７】
（Ｈ．吐出パターンデータの生成）
複数の被吐出部１８Ｒのそれぞれの「吐出パターン」を規定するデータを、「吐出パターンデータＥＰＤＩＪ」と呼ぶ。以下では、吐出パターンデータＥＰＤＩＪの構成、および生成方法を説明する。
【００８８】
吐出パターンデータＥＰＤＩＪは、被吐出部１８ＲＩＪ毎に決められている。そして、吐出パターンデータＥＰＤＩＪは、相対着弾位置パターン番号Ｎ１を指定する「相対着弾位置パターンデータＤＰＩＪ」と、吐出重量パターン番号Ｎ２を指定する「吐出重量パターンデータＥＷＩＪ」と、吐出方向パターン番号Ｎ３を指定する「吐出方向パターンデータＳＥＩＪ」と、の組によって表されている。ところで、相対着弾位置パターンデータＤＰＩＪ、吐出重量パターンデータＥＷＩＪ、および吐出方向パターンデータＳＥＩＪのそれぞれは整数値で表されているので、吐出パターンデータＥＰＤＩＪのそれぞれは、３つの整数値からなるベクトルである。なお、添字ＩおよびＪは、被吐出部１８ＲＩＪの基体１０Ａ上での位置に対応している。
【００８９】
吐出パターンデータＥＰＤＩＪは、吐出パターンデータ生成部１８２がすべてのＩおよびＪについて以下のステップ（１）および（２）の処理を行うことで生成される。
【００９０】
＜ステップ（１）＞
ＤＰＩＪ＝ＩＮＴ（ＮＤＰ＊ＲＤＮ１）    …（式１）
ＥＷＩＪ＝ＩＮＴ（ＮＥＷ＊ＲＤＮ２）    …（式２）
ＳＥＩＪ＝ＩＮＴ（ＮＳＥ＊ＲＤＮ３）    …（式３）
ＥＰＤＩＪ＝（ＤＰＩＪ、ＥＷＩＪ、ＳＥＩＪ）…（式４）
上記（式１）中の「ＮＤＰ」は相対着弾位置パターンの全数である。本実施形態では「ＮＤＰ」は「９」である。上記（式２）中の「ＮＥＷ」は吐出重量パターンの全数である。本実施形態では「ＮＥＷ」は「９」である。上記（式３）中の「ＮＳＥ」は吐出方向パターンの全数である。本実施形態では「ＮＳＥ」は「２」である。
【００９１】
上記（式１）から（式３）におけるＲＤＮ１、ＲＤＮ２、ＲＤＮ３のそれぞれは、Ｉの値、Ｊの値、（式１）、（式２）、および（式３）毎に呼び出される乱数値であり、例えば、コンピュータ上で擬似乱数発生プログラムが発生する擬似乱数列の値でよい。これらＲＤＮ１、ＲＤＮ２、ＲＤＮ３の値は、０以上１以下の実数である。また、「ＩＮＴ（）」は、丸カッコ内の値の整数部分を返す関数である。なお、「＊」は積を表す演算子である。
【００９２】
上記（式４）に示すように、吐出パターンデータＥＰＤＩＪは、３つの整数（ＤＰＩＪ、ＥＷＩＪ、ＳＥＩＪ）を成分とするベクトルである。
【００９３】
＜ステップ（２）＞
被吐出部１８ＲＩＪの吐出パターンデータＥＰＤＩＪと、被吐出部１８ＲＩＪに隣合う８つの被吐出部１８Ｒ（Ｉ−１）（Ｊ−１）、１８Ｒ（Ｉ−１）Ｊ、１８Ｒ（Ｉ−１）（Ｊ＋１）、１８ＲＩ（Ｊ−１）、１８ＲＩ（Ｊ＋１）、１８Ｒ（Ｉ＋１）（Ｊ−１）、１８Ｒ（Ｉ＋１）Ｊ、１８Ｒ（Ｉ＋１）（Ｊ＋１）の吐出パターンデータＥＰＤ（Ｉ−１）（Ｊ−１）、ＥＰＤ（Ｉ−１）Ｊ、ＥＰＤ（Ｉ−１）（Ｊ＋１）、ＥＰＤＩ（Ｊ−１）、ＥＰＤＩ（Ｊ＋１）、ＥＰＤ（Ｉ＋１）（Ｊ−１）、ＥＰＤ（Ｉ＋１）Ｊ、ＥＰＤ（Ｉ＋１）（Ｊ＋１）のそれぞれとを比較する。具体的には、吐出パターンデータＥＰＤＩＪと同じ吐出パターンデータＥＰＤｒｓがあるか否かを判定する。ここで、吐出パターンデータＥＰＤＩＪが吐出パターンデータＥＰＤｒｓと同じであるとは、吐出パターンデータＥＰＤＩＪによって表されるベクトルと、吐出パターンデータＥＰＤｒｓによって表されるベクトルとが同じであることを意味する。
【００９４】
吐出パターンデータＥＰＤ（Ｉ−１）（Ｊ−１）、ＥＰＤ（Ｉ−１）Ｊ、ＥＰＤ（Ｉ−１）（Ｊ＋１）、ＥＰＤＩ（Ｊ−１）、ＥＰＤＩ（Ｊ＋１）、ＥＰＤ（Ｉ＋１）（Ｊ−１）、ＥＰＤ（Ｉ＋１）Ｊ、ＥＰＤ（Ｉ＋１）（Ｊ＋１）の中に、吐出パターンデータＥＰＤＩＪと同じデータが存在する場合には、吐出パターンデータ生成部１８２は、同じ吐出パターンデータが割当てられた被吐出部１８Ｒについて、再度、上記（式１）から（式４）の演算を行う。このことで、その被吐出部１８Ｒの吐出パターンデータＥＰＤを書き換える。この際、（式１）から（式３）のそれぞれについて、前回の処理の際とは異なる乱数値（ＲＤＮ１、ＲＤＮ２、ＲＤＮ３）が読み出されるので、吐出パターンデータＥＰＤのベクトル値が更新される可能性が高い。
【００９５】
被吐出部１８Ｒのマトリクスの最も外側に位置している被吐出部１８ＲＩＪについては、その被吐出部１８ＲＩＪに隣合う被吐出部１８Ｒが８個存在しない。このような場合には、その被吐出部１８ＲＩＪに対して、周期的境界条件を適用すればよい。周期的境界条件を適用するとは、具体的には、被吐出部１８Ｒのマトリクスの８つの周囲のそれぞれに、同じマトリクスが隣合っていると仮定することである。このような周期的境界条件に基づけば、例えば被吐出部１８Ｒ１１には、１８Ｒ２１、１８Ｒ２２、１８Ｒ１２、１８ＲＬ１、１８ＲＬ２、１８ＲＬＭ、１８Ｒ１Ｍ、１８Ｒ２Ｍが隣合うことになる。
【００９６】
吐出パターンデータ生成部１８２は、基体１０Ａに含まれる複数の被吐出部１８Ｒのそれぞれを、上記で説明した被吐出部１８ＲＩＪとして、＜ステップ２＞の比較・更新処理を行う。このため、被吐出部１８ＲＩＪに対応する吐出パターンデータＥＰＤＩＪは、その被吐出部１８ＲＩＪに隣合う被吐出部１８Ｒｒｓの吐出パターンデータＥＰＤｒｓのいずれとも異なる。
【００９７】
（Ｇ．初期ビットマップデータ）
図１０（ａ）〜（ｃ）は、初期ビットマップデータＢＤ１を説明する概念図である。初期ビットマップデータＢＤ１および後述の吐出ビットマップデータＢＤ２は、どちらも複数の液滴データＤＤから構成されている。図１０（ｃ）に示すように、液滴データＤＤのそれぞれは、「アドレスデータＤＤ１」と、「オフセットデータＤＤ２」と、「吐出重量データＤＤ３」と、「吐出方向データＤＤ４」と、「被吐出部データＤＤ５」と、からなる。「アドレスデータＤＤ１」は、ビットマップ上での相対位置に対応するともに、基体１０Ａ上での液滴Ｄの着弾位置ＳＤの相対位置に対応している。「オフセットデータＤＤ２」はアドレスデータＤＤ１が示す相対位置からのズレを示している。「吐出重量データＤＤ３」は、アドレスデータＤＤ１が示す相対位置に吐出されるべき液滴Ｄの重量を示す。「吐出方向データＤＤ４」は、ステージ１０６に対するキャリッジ１０３の相対移動方向を示す。「被吐出部データＤＤ５」は、アドレスデータＤＤ１によって示される相対位置が、どの被吐出部１８Ｒに含まれるか（含まれない場合もある）を示している。
【００９８】
上述したようにアドレスデータＤＤ１は、液滴Ｄの着弾位置ＳＤを示している。図１０（ａ）の白丸および黒丸はどちらも、アドレスデータＤＤ１が表す位置（着弾位置ＳＤ）である。図１０（ａ）における着弾位置ＳＤのうち、Ｘ軸方向に隣合う２つの着弾位置ＳＤの間の距離は、吐出装置１００ＲのＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰとほぼ同じである。そして、Ｙ軸方向に隣合う２つの着弾位置ＳＤの間の距離は、吐出装置１００ＲのＹ軸方向の最小の吐出ピッチとほぼ同じである。つまり、初期ビットマップデータＢＤ１によって表される複数の着弾位置ＳＤのすべてに液滴Ｄを着弾させる必要がある場合には、吐出装置１００Ｒは、Ｙ軸方向の最小の吐出ピッチ毎に、吐出ノズル１１８Ｔのすべてから液滴Ｄを吐出する。ここで、「Ｙ軸方向の吐出ピッチ」は、吐出周期とＹ軸方向への相対移動速度との積で表されている。
【００９９】
図１０（ａ）において、白丸で表されている着弾位置ＳＤへは、液滴Ｄが吐出される。一方、黒丸で表されている着弾位置ＳＤへは、液滴Ｄが吐出されない。吐出装置１００Ｒが液滴Ｄを吐出するかどうかは、吐出重量データＤＤ３が示す数値が０（吐出しないことを意味する）か、それ以外の値（吐出することを意味する）かで決まる。
【０１００】
さらに、初期ビットマップデータＢＤ１は、基体１０Ａの大きさと、被吐出部１８Ｒの大きさと、被吐出部１８Ｒの基体１０Ａ上の位置とに基づいて、作成されている。説明を分かりやすくするために、図１０（ａ）には、被吐出部１８Ｒの位置が、初期ビットマップデータＢＤ１によって表される平面に重ねて描かれている。白丸の着弾位置ＳＤは、被吐出部１８Ｒの内側に位置する。一方、黒丸は、被吐出部１８Ｒの外側、例えば被吐出部１８Ｒと被吐出部１８Ｒの間の領域、に位置している。
【０１０１】
吐出データ生成部１８１（図５）におけるデータ変換部１８３は、初期ビットマップデータＢＤ１と、上述の基本パターンデータＢ１、Ｂ２、Ｂ３と、吐出パターンデータＥＰＤＩＪとに応じて、吐出用ビットマップデータＢＤ２を生成する。
【０１０２】
（Ｊ．吐出ビットマップデータの生成）
吐出ビットマップデータＢＤ２のデータ構造は、図１０（ａ）〜（ｃ）に示した初期ビットマップデータＢＤ１のデータ構造と同じである。以下では、図５の吐出データ生成部１８１が吐出ビットマップデータＢＤ２を生成する手順を説明する。
【０１０３】
データ変換部１８３は、初期ビットマップデータＢＤ１を内部のＲＡＭにロードする。一方、吐出パターンデータ生成部１８２は、吐出パターンデータＥＰＤＩＪの相対着弾位置パターンデータＤＰＩＪをルックアップテーブルＬＵＴ１に供給する。そして、ルックアップテーブルＬＵＴ１は、供給された相対着弾位置パターンデータＤＰＩＪが示す相対着弾位置パターン番号Ｎ１に対応する８つのオフセット量をデータ変換部１８３に与える。データ変換部１８３は、初期ビットマップデータＢＤ１における被吐出部データＤＤ５に基づいて、被吐出部１８ＲＩＪに対応する８つの液滴データＤＤを選択する。そして、データ変換部１８３は、選択された８つの液滴データＤＤにおけるオフセットデータＤＤ２の内容を、ルックアップテーブルＬＵＴ１から読み出された８つのオフセット量で置き換える。
【０１０４】
また吐出パターンデータ生成部１８２は、吐出パターンデータＥＰＤＩＪの吐出重量パターンデータＥＷＩＪをルックアップテーブルＬＵＴ２に供給する。そして、ルックアップテーブルＬＵＴ２は、供給された吐出重量パターンデータＥＷＩＪが示す吐出重量パターン番号Ｎ２に対応する８つの吐出重量をデータ変換部１８３に与える。データ変換部１８３は、初期ビットマップデータＢＤ１における被吐出部データＤＤ５に基づいて、被吐出部１８ＲＩＪに対応する８つの液滴データＤＤを選択する。そして、データ変換部１８３は、選択された８つの液滴データＤＤの吐出データＤＤ３の内容を、ルックアップテーブルＬＵＴ２から読み出された８つの吐出重量で置き換える。
【０１０５】
さらに吐出パターンデータ生成部１８２は、吐出パターンデータＥＰＤＩＪの吐出方向パターンデータＥＤＩＪをルックアップテーブルＬＵＴ３に供給する。そして、ルックアップテーブルＬＵＴ３は、供給された吐出方向パターンデータＥＤＩＪが示す吐出方向パターン番号Ｎ３に対応する８つの吐出方向をデータ変換部１８３に与える。データ変換部１８３は、初期ビットマップデータＢＤ１における被吐出部データＤＤ５に基づいて、被吐出部１８ＲＩＪに対応する８つの液滴データＤＤを選択する。そして、データ変換部１８３は、選択された８つの液滴データＤＤの吐出方向データＤＤ４の内容を、ＬＵＴ３から読み出された８つの吐出方向で置き換える。
【０１０６】
以上のようにして、データ変換部１８３は、被吐出部１８ＲＩＪに関する液滴データＤＤのすべてについて、オフセットデータＤＤ２の内容と、吐出重量データＤＤ３の内容と、吐出方向データＤＤ４の内容とを書き換える。データ変換部１８３が初期ビットマップデータＢＤ１を上記のように書き換えることで、吐出ビットマップデータＢＤ２が得られる。
【０１０７】
データ分割部１８４は、データ変換部１８３から供給される吐出ビットマップデータＢＤ２を、吐出重量データＤＤ３と吐出方向データＤＤ４とにしたがって、３つのサブ吐出ビットマップデータＢＤ２１、ＢＤ２２、ＢＤ２３に分割する。具体的には、データ分割部１８４は、大（Ｌ）を示す吐出重量データＤＤ３を有する液滴データＤＤのみを吐出ビットマップデータＢＤ２から抽出して、サブ吐出ビットマップデータＢＤ２１を生成する。なお、サブ吐出ビットマップデータＢＤ２１において、他の液滴データＤＤの吐出重量データＤＤ３には０（吐出しないことを示す値）が記憶されている。
【０１０８】
同様に、データ分割部１８４は、中（Ｍ）を示す吐出重量データＤＤ３を有する液滴データＤＤのみを吐出ビットマップデータＢＤ２から抽出して、サブ吐出ビットマップデータＢＤ２２を生成する。さらに、データ分割部１８４は、小（Ｓ）を示す吐出重量データＤＤ３を有する液滴データＤＤのみを吐出ビットマップデータＢＤ２から抽出して、サブ吐出ビットマップデータＢＤ２３を生成する。
【０１０９】
さらに、データ分割部１８４は、サブ吐出ビットマップデータＢＤ２１、ＢＤ２２、ＢＤ２３のそれぞれが、１対のビットマップデータから構成されるように、サブ吐出ビットマップデータＢＤ２１、ＢＤ２２、ＢＤ２３を生成する。具体的には、一方のビットマップデータには、Ｒを示す吐出方向データＤＤ４を有する液滴データＤＤのみが抽出されており、他方のビットマップデータには、Ｌを示す吐出方向データＤＤ４を有する液滴データＤＤのみが抽出されている。
【０１１０】
上記の構造を有するサブ吐出ビットマップデータＢＤ２１、ＢＤ２２、ＢＤ２３を吐出装置１００Ｒが受け取ると、吐出装置１００Ｒは、吐出重量がＬであるとともに吐出方向がＲである液滴Ｄを第１走査期間（第１パスともいう）に吐出し、吐出重量がＬであるとともに吐出方向がＬである液滴Ｄを第２の走査期間（第２パスともいう）に吐出する。また、吐出装置１００Ｒは、吐出重量がＭであるとともに吐出方向がＲである液滴Ｄを第３走査期間（第３パスともいう）に吐出し、吐出重量がＭであるとともに吐出方向がＬである液滴Ｄを第４走査期間（第４パスともいう）に吐出する。同様に、吐出装置１００Ｒは、吐出重量がＳであるとともに吐出方向がＲである液滴Ｄを第５走査期間（第５パスともいう）に吐出し、吐出重量がＳであるとともに吐出方向がＬである液滴Ｄを第６走査期間（第６パスともいう）に吐出する。
【０１１１】
（Ｋ．ヘッド駆動部）
図１１、図１２、および図１３を参照しながら、吐出装置１００Ｒにおけるヘッド駆動部２０８（図４）の構成と機能とを説明する。ヘッド駆動部２０８は、吐出データ（サブ吐出ビットマップデータＢＤ２１、ＢＤ２２、ＢＤ２３）に応じて、ヘッド１１４を駆動する。
【０１１２】
図１１（ａ）に示すように、ヘッド駆動部２０８は、駆動信号生成部１９０と、駆動信号整形部１９１と、遅延調整部１９２と、を有する。
【０１１３】
駆動信号生成部１９０は、図１１（ｂ）に示すような駆動信号ＤＳａ、ＤＳｂ、ＤＳｃのいずれかを生成する。駆動信号ＤＳａ、ＤＳｂ、ＤＳｃのそれぞれの電位は、基準電位Ｌに対して時間的に変化する。具体的には、駆動信号ＤＳａは、吐出周期ＥＰで繰り返される複数の吐出波形Ｐａを含む。同様に、駆動信号ＤＳｂは、吐出周期ＥＰで繰り返される複数の吐出波形Ｐｂを含む。そして、駆動信号ＤＳｃは、吐出周期ＥＰで繰り返される複数の吐出波形Ｐｃを含む。ここで、吐出波形Ｐａ、Ｐｂ、Ｐｃのそれぞれは、１つのノズル１１８から１つの液滴を吐出するために、対応する振動子１２４の一対の電極間に印加されるべき駆動電圧波形に対応する。
【０１１４】
駆動信号ＤＳａ（またはＤＳｂ、ＤＳｃ）の駆動波形は、振動子１２４の２つの電極の一方の電位に対する他方の電位の時間的な変化によって表される。そして、この他方の電位が取る最大電位を変えれば、吐出される液滴Ｄの重量を変えることができる。具体的には、大（Ｌ）の吐出重量に対応する駆動波形ＤＳａの最大電位は、他の２つの駆動波形ＤＳｂ、ＤＳｃの最大電位のいずれよりも大きい。同様に、小（Ｓ）の吐出重量に対応する駆動波形ＤＳｃの最大電位は、他の２つの駆動波形ＤＳａ、ＤＳｂの最大電位のいずれよりも小さい。なお、駆動波形を可変にするこのような技術（いわゆるバリアブルドットを実現する技術）については、特開２００１−５８４３３号公報の図５〜図８において説明されているので、ここでは説明を省略する。
【０１１５】
図１２（ａ）および（ｂ）に示すように、駆動信号整形部１９１は、シフトレジスタ１９３と、データラッチ１９４と、マスク信号生成回路１９５と、マスクパターンレジスタ１９６と、マスク回路ＭＣとを備えている。駆動信号整形部１９１は、駆動信号生成部１９０からの駆動信号ＤＳａ（またはＤＳｂ、ＤＳｃ）を、吐出重量データＤＤ３に応じて、複数の振動子１２４のそれぞれに供給する。
【０１１６】
シフトレジスタ１９３へは、アドレスＤＤ１の順番にしたがって、サブ吐出ビットマップデータＢＤ２１（または、ＢＤ２２、ＢＤ２３）がシリアルに供給される。シフトレジスタ１９３およびデータラッチ１９４は、サブ吐出ビットマップデータＢＤ２１から吐出重量データＤＤ３を抽出するとともに、シリアルデータである吐出重量データＤＤ３を２ビット×１６０チャネルのパラレルデータに変換する。データラッチ１９４は、シフトレジスタ１９３からの２ビット×１６０チャネルのパラレルデータをラッチする。ここで、「１チャネル」とは、１つの吐出ノズル１１８Ｔに対応する信号を意味する。
【０１１７】
マスク信号生成回路１９５は、マスクパターンレジスタ１９６から与えられるマスクパターンデータと、データラッチ１９４から与えられる吐出データＤＤ３とに応じて、対応する選択信号ＳＣ（ｉ）（ｉ＝１〜１６０）を生成する。ここで、選択信号ＳＣ（ｉ）は、互いに独立にハイレベルおよびローレベルのどちらかの状態を取り得る。なお、選択信号ＳＣ（ｉ）がハイレベルの場合に、対応する吐出部１２７はノズル１１８から液滴Ｄを吐出し、ローレベルの場合には、対応する吐出部１２７は液滴Ｄを吐出しない。
【０１１８】
マスク回路ＭＣは、選択信号ＳＣ（ｉ）に応じて、対応する振動子１２４への駆動信号ＤＳａ（またはＤＳｂ、ＤＳｃ）の伝播をオン・オフ（マスク）する。より具体的には、図１２（ｂ）に示すように、マスク回路ＭＣは、駆動信号ＤＳａ（またはＤＳｂ、ＤＳｃ）がパラレルに供給される複数のアナログスイッチＡＳ（ｉ）を含んでいる。そして、複数のアナログスイッチＡＳ（ｉ）のそれぞれは、対応する選択信号ＳＣ（ｉ）に応じて、駆動信号ＤＳａの伝播をオン・オフする。なお、複数のアナログスイッチＡＳ（ｉ）のそれぞれは、吐出部１２７のそれぞれに対応して設けられている。つまり、アナログスイッチＡＳ（ｉ）の数と吐出部１２７の数（つまりノズル１１８の数）とは同じである。
【０１１９】
図１３に示す遅延調整部１９２は、シフトレジスタ１９７と、データラッチ１９８と、遅延信号生成回路１９９と、遅延回路ＤＬ（ｉ）と、を備えている。遅延調整部１９２がオフセットデータＤＤ２に応じて駆動信号ＤＳａ（またはＤＳｂ、ＤＳｃ）を遅延することで、液滴Ｄの被吐出部１８Ｒに内における相対着弾位置ＳＤが変わる。
【０１２０】
シフトレジスタ１９７へは、アドレスＤＤ１の順番にしたがって、サブ吐出ビットマップデータＢＤ２１（または、ＢＤ２２、ＢＤ２３）がシリアルに供給される。シフトレジスタ１９７は、シリアルに入力される吐出ビットマップデータＢＤ２１からオフセットデータＤＤ２だけを抽出するとともに、シリアルデータであるオフセットデータＤＤ２を８ビット×１６０チャネルのパラレルデータに変換する。データラッチ１９８は、シフトレジスタ１９７によって生成されたパラレルデータをラッチする。データラッチ１９８は、各チャネルのオフセットデータＤＤ２を遅延信号生成回路１９９に供給する。
【０１２１】
遅延信号生成回路１９９は、オフセットデータＤＤ２に応じた遅延信号ＰＯＳ（ｉ）（ｉ＝１〜１６０）を生成する。それぞれの遅延信号ＰＯＳ（ｉ）は、それぞれの遅延回路ＤＬ（ｉ）に供給される。それぞれの遅延回路ＤＬ（ｉ）は、対応する遅延信号ＰＯＳ（ｉ）に応じて、駆動信号ＤＳａ（またはＤＳｂ、ＤＳｃ）を遅延させる。なお、遅延量を数値で表した場合、遅延量の範囲は０から１まである。そして、遅延回路ＤＬ（ｉ）に遅延量０．５がセットされた場合に、液滴Ｄは、被吐出部１８Ｒにおいて相対ｙ座標ｙ１またはｙ２の位置上に着弾する。
【０１２２】
吐出方向データＤＤ４は、走査駆動部２０６に供給される。この結果、ステージ１０６が、吐出方向データＤＤ４に応じて、Ｒの方向（例えばＹ軸方向の正の方向）およびＬの方向（Ｙ軸方向の負の方向）のどちらかに相対移動する。
【０１２３】
以上の構成によって、吐出装置１００Ｒは、制御部１１２に与えられた吐出データ、すなわちサブ吐出ビットマップデータＢＤ２１、ＢＤ２２、ＢＤ２３、に応じて、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの塗布を行う。
【０１２４】
（Ｌ．塗布工程）
吐出装置１００Ｒは、Ｙ軸方向に沿って、基体１０Ａに対するキャリッジ１０３の相対位置を変化させる。そして、ノズル１１８のいくつかが、被吐出部１８Ｒに対応する領域に達した場合に、吐出データに基づいて液滴Ｄを吐出する。このことで、任意の一つの被吐出部１８Ｒの吐出パターンと、その任意の一つの被吐出部１８Ｒに隣合う被吐出部の吐出パターンとが、異なるようになる。
【０１２５】
図１４（ａ）および（ｂ）は、吐出装置１００Ｒによってカラーフィルタ材料１１１Ｒが塗布された複数の被吐出部１８Ｒを示す模式図である。図１４（ａ）および（ｂ）において、吐出パターンが異なる被吐出部１８Ｒには、異なる番号が付されている。本実施形態では、着弾位置パターンが９パターンあり、吐出重量パターンが９パターンあり、さらに吐出方向パターンが２パターンあるので、吐出パターンの数は１６２（９×９×２）ある。このため図１４（ａ）に示すように、任意の一つの被吐出部１８Ｒの吐出パターンと、その任意の一つの被吐出部１８Ｒに隣合う被吐出部１８Ｒの吐出パターンとは、すべて異なり得る。ただし、図１４（ｂ）に示されるように、吐出パターンの数は４個でもよい。吐出パターンの数が４個でも、任意の一つの被吐出部１８Ｒの吐出パターンは、その任意の一つの被吐出部１８Ｒに隣合う被吐出部１８Ｒの吐出パターンのそれぞれと異なり得るからである。
【０１２６】
（Ｍ．効果の検証）
（１）図１５（ａ）は、相対着弾位置パターンを変化させない塗布工程によって塗布された被吐出部１８Ｒを示している。
【０１２７】
液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄが被吐出部１８Ｒ上の着弾すると、着弾した位置（着弾位置ＳＤ）からその周囲に塗れ広がる。液滴Ｄの相対着弾位置が適切に設定されていれば、図１５（ａ）に示すように、塗れ広がったカラーフィルタ材料１１１Ｒによって、均一なフィルタ層１１１ＦＲが形成される。
【０１２８】
ただし、駆動信号生成部１９０の出力（駆動信号）に温度依存性が存在するため、吐出周期ＥＰが、当初目標とした周期から有意にずれる場合がある。また、温度変化に伴って、被吐出部１８Ｒ同士の間の間隔が、わずかではあるが、変化する可能性もある。さらに、基体１０Ａが大型化すると、基体１０Ａ上の被吐出部１８Ｒが充分な平坦性を有する平面上に並ばない場合もあり得る。被吐出部１８Ｒが充分な平坦性を有する平面上に並ばない場合には、ステージ１０６がＹ軸方向に相対移動するに伴って、ノズル１１８と、被吐出部１８Ｒとの間の距離が変動し得る。
【０１２９】
上記のような現象が生じると、液滴Ｄの着弾位置ＳＤは、当初設定された着弾位置からずれてしまう。そうすると、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが有している粘性によって、図１５（ｂ）または図１５（ｃ）に示すように、厚さが均一でないカラーフィルタ層１１１ＦＲが得られる。図１５（ｂ）に示す例では、２つの着弾位置列の間の距離が、最適距離より離れために、フィルタ層１１１ＦＲの厚さのプロファイルに２つのピークが現れている。一方、図１５（ｃ）に示す例では、２つの着弾位置列の間の距離が最適距離より短いため、フィルタ層１１１ＦＲの厚さのプロファイルに１つのピークが現れている。このようなフィルタ層１１１ＲＦの厚さの不均一さは、カラーフィルタ材料１１１Ｒの粘性が高いほど、顕著に現れる。
【０１３０】
そして、Ｙ軸方向に隣合う着弾列間の距離を一定にできないヘッド１１４を用いて、Ｙ軸方向に塗布走査を行うと、図１５（ｄ）に示すように、厚さが厚い部分または薄い部分がＸ軸方向に延びる列として現れる。そうすると、観察者がカラーフィルタ基板を観察した場合に、輝度が周囲よりも低い部分または高い部分が線状に知覚される。なお、輝度の不均一さが線状に存在すると、目立つ。
【０１３１】
本実施形態の塗布工程によれば、任意の被吐出部１８Ｒの相対着弾位置パターンが、その任意の被吐出部１８Ｒに隣合う被吐出部１８Ｒの相対着弾位置パターンと異なるように、それぞれの被吐出部１８Ｒに液滴Ｄが吐出される。この結果、図１５（ｅ）に示すように、カラーフィルタ層１１１ＦＲの厚さが厚い部分も薄い部分も、一方向（Ｘ軸方向）に連続しない。したがって、周囲よりも輝度が低い部分や周囲よりも高い部分が線状に現れないので、結果として、フィルタ層１１１ＦＲの厚さの不均一さは目立たない。
【０１３２】
（２）ヘッド１１４の製造時の製造誤差に起因して、ノズル１１８の向きが、設計した方向からずれていたり、キャリッジ１０３におけるノズル１１８の相対位置がずれている場合がある。また、ノズル１１８へのゴミの付着によって、液滴Ｄの飛翔軌道が変わる場合もある。これらのような場合には、Ｘ軸方向に隣合う着弾位置ＳＤ間の距離が一定でなくなる。
【０１３３】
着弾位置ＳＤ間の距離が一定でない場合には、被吐出部１８Ｒにおいてフィルタ層１１１ＦＲの厚さが不均一になりやすい。フィルタ層１１１ＲＦの厚さの不均一さは、カラーフィルタ材料１１１Ｒの粘性が高いほど、顕著に表れる。
【０１３４】
さらに、Ｘ軸方向に隣合う着弾位置ＳＤ間の距離を一定にできないヘッド１１４を用いて、Ｙ軸方向に塗布走査を行うと、図１６（ａ）に示すように、フィルタ層１１１ＦＲの厚い部分または薄い部分が、Ｙ軸方向に延びる列として現れてしまう。この結果、周囲よりも輝度が低い部分または高い部分が線状に現れる。上述したように、線状の輝度ムラは目立つ。
【０１３５】
本実施形態の塗布工程によれば、任意の一つの被吐出部１８Ｒの吐出重量パターンが、その任意の一つの被吐出部１８Ｒに隣合う被吐出部１８Ｒの吐出重量パターンと異なるように、それぞれの被吐出部１８Ｒに液滴Ｄが吐出される。この結果、図１６（ｂ）に示すように、カラーフィルタ層１１１ＦＲの厚さが厚い部分も薄い部分も一方向（Ｙ軸方向）に連続しない。したがって、周囲よりも輝度が低い部分や周囲よりも高い部分が線状に現れないので、結果として、フィルタ層１１１ＦＲの厚さの不均一さは目立たない。
【０１３６】
（３）ノズル１１８から吐出された液滴Ｄは、被吐出部１８Ｒに着弾した直後に、慣性によって、ステージ１０６に対してノズル１１８が相対移動している方向に偏る。このため、被吐出部１８Ｒ内に、フィルタ層１１１ＦＲの厚さが厚い部分と薄い部分とが生じてしまう。このようなフィルタ層１１１ＲＦの厚さの不均一さは、カラーフィルタ材料１１１Ｒの粘性が低いほど、顕著に現れる。
【０１３７】
さらに、Ｘ軸方向に並んだ複数の被吐出部１８Ｒのすべてに対して、ヘッド１１４を同じ方向（例えばＹ軸方向の正の方向）に相対移動させながら液滴Ｄを着弾させる場合には、図１７（ａ）に示すように、フィルタ層１１１ＦＲの厚い部分または薄い部分がＸ軸方向に延びる列として現れてしまう。
【０１３８】
本実施形態の塗布工程によれば、任意の一つの被吐出部１８Ｒの吐出方向パターンが、その任意の一つの被吐出部１８Ｒに隣合う被吐出部１８Ｒの吐出方向パターンと異なるように、それぞれの被吐出部１８Ｒに液滴Ｄが吐出される。この結果、図１７（ｂ）に示すように、フィルタ層１１１ＦＲの厚さが厚い部分も薄い部分も一方向（Ｘ軸方向）に連続しない。したがって、周囲よりも輝度が低い部分や周囲よりも高い部分が線状に現れないので、結果として、フィルタ層１１１ＦＲの厚さの不均一さは目立たない。
【０１３９】
（実施形態１の変形例）
（１）実施形態１によれば、任意の一つの被吐出部１８Ｒにおける吐出パターンが、その任意の一つの被吐出部１８Ｒに隣合う８つの被吐出部１８Ｒのそれぞれにおける吐出パターンのいずれとも同じでない。ただし、任意の一つの被吐出部１８Ｒの吐出パターンは、その任意の一つの被吐出部に隣合う８つの被吐出部１８Ｒの少なくとも一つにおける吐出パターンと異なっていればよい。このような構成であっても、カラーフィルタ材料１１１Ｒの層の厚さムラが、線状に現れることを防ぐことができる。
【０１４０】
（２）実施形態１によれば、任意の一つの被吐出部１８Ｒにおける相対着弾位置パターンが、その任意の一つの被吐出部１８Ｒに隣合う８つの被吐出部１８Ｒのそれぞれにおける相対着弾位置パターンのいずれとも同じでない。ただし、任意の一つの被吐出部１８Ｒの相対着弾位置パターンは、その任意の一つの被吐出部１８Ｒに隣合う８つの被吐出部の少なくとも一つにおける相対着弾位置パターンと異なっていればよい。このような構成であっても、カラーフィルタ材料１１１Ｒの層の厚さムラが、線状に現れることを防ぐことができる。
【０１４１】
（３）実施形態１によれば、任意の一つの被吐出部１８Ｒにおける吐出重量パターンが、その任意の一つの被吐出部１８Ｒに隣合う８つの被吐出部１８Ｒのそれぞれにおける吐出重量パターンのいずれとも同じでない。ただし、任意の一つの被吐出部の吐出重量パターンは、その任意の一つの被吐出部に隣合う８つの被吐出部の少なくとも一つにおける吐出重量パターンと異なっていればよい。このような構成であっても、カラーフィルタ材料１１１Ｒの層の厚さムラが、線状に現れることを防ぐことができる。
【０１４２】
（４）実施形態１によれば、９つの吐出重量パターンのいずれの吐出重量パターンが被吐出部１８Ｒに割当てられても、被吐出部１８Ｒに吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの総重量は同じである。ただし、吐出重量パターン毎に被吐出部１８Ｒに吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの総重量が異なるように、基本パターンデータＢ２が設定されてもよい。この構成の効果は以下の通りである。
【０１４３】
ヘッド１１４にノズル１１８を設ける際の製造誤差によって、被吐出部１８Ｒに吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの総重量が、ノズル１１８毎に異なっている場合がある。このような場合には、フィルタ層１１１ＦＲが厚い被吐出部１８Ｒ（またはフィルタ層１１１ＦＲが薄い被吐出部１８Ｒ）が線状に並んでしまう。そこで、吐出重量パターン毎に被吐出部１８Ｒに吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの総重量をランダムに変えれば、フィルタ層の厚い被吐出部１８Ｒ（またはフィルタ層の薄い被吐出部１８Ｒ）が線状に並ぶことを防ぐことができる。このような技術は「誤差分散」と呼ばれることもある。フィルタ層の厚さの誤差が局在化することが防止され得るからである。
【０１４４】
（５）実施形態１の塗布工程によって得られるカラーフィルタ基板は、フィルタ層がそれぞれの画素領域に対応して位置するカラーフィルタ基板である。もちろん、以下に示すように、本発明の塗布工程は、複数のストライプ状のフィルタ層を有するカラーフィルタ基板の製造方法にも適用できる。
【０１４５】
マトリクス状に分布する複数の被吐出部がＸ軸方向またはＹ軸方向に接すれば、Ｘ軸方向またはＹ軸方向に延びる複数のストライプ状のフィルタ層が形成される。つまり、複数のストライプ状のフィルタ層を有するカラーフィルタ基板も、マトリクス状に分布する複数の被吐出部に液状のカラーフィルタ材料を塗布することで、形成できる。ここで、本発明は、マトリクス状に分布した複数の被吐出部に液状の材料を塗布する方法に適用できる。したがって、複数のストライプ状のフィルタ層を有するカラーフィルタ基板を製造する方法にも、本発明が適用される。
【０１４６】
（６）実施形態１では、ホストコンピュータ１８０が吐出データ生成部１８１を有している。しかしながら、吐出装置１００Ｒが吐出データ生成部１８１を有していてもよい。例えば、制御部１１２内に吐出データ生成部１８１が設けられており、制御部１１２が、吐出データ（サブ吐出ビットマップデータＢＤ２１、ＢＤ２２、ＢＤ２３）を生成してもよい。
【０１４７】
（実施形態２）
実施形態１では、被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する工程を説明した。以下では、製造装置１によってカラーフィルタ基板１０が得られるまでの一連の工程を説明する。
【０１４８】
図１８に示す製造装置１は、図６の基体１０Ａの被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂのそれぞれに対して、対応するカラーフィルタ材料を吐出する装置である。具体的には、製造装置１は、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する吐出装置１００Ｒと、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを乾燥させる乾燥装置１５０Ｒと、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇを塗布する１００Ｇと、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを乾燥させる乾燥装置１５０Ｇと、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂを塗布する１００Ｂと、被吐出部１８Ｂのカラーフィルタ材料１１１Ｂを乾燥させる乾燥装置１５０Ｂと、カラーフィルタ材料１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂを再度加熱（ポストベーク）するオーブン１６０と、ポストベークされたカラーフィルタ材料１１１Ｒ，１１１Ｇ、１１１Ｂの層の上に保護膜２０を設ける吐出装置１００Ｃと、保護膜２０を乾燥させる乾燥装置１５０Ｃと、乾燥された保護膜２０を再度加熱して硬化する硬化装置１６５と、を備えている。さらに製造装置１は、吐出装置１００Ｒ、乾燥装置１５０Ｒ、吐出装置１００Ｇ、乾燥装置１５０Ｇ、吐出装置１００Ｂ、乾燥装置１５０Ｂ、吐出装置１００Ｃ、乾燥装置１５０Ｃ、硬化装置１６５の順番に基体１０Ａを搬送する複数の搬送装置１７０も備えている。複数の搬送装置１７０のそれぞれは、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。
【０１４９】
吐出装置１００Ｒの構成は実施形態１において説明したため、説明を省略する。吐出装置１００Ｇの構成と、吐出装置１００Ｂの構成と、吐出装置１００Ｃの構成とは、いずれも基本的に吐出装置１００Ｒの構造と同じある。ただし、吐出装置１００Ｒにおけるタンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｇがカラーフィルタ材料１１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置１００Ｇの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｂがカラーフィルタ材料１１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置１００Ｂの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。さらに、タンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｃが保護膜材料用のタンクとチューブとを備える点で吐出装置１００Ｃの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒ，１１１Ｇ、１１１Ｂのそれぞれは、本発明の「液状の材料」の一例である。
【０１５０】
吐出装置１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂのそれぞれの制御部１１２には、それぞれのホストコンピュータ１８０からそれぞれの吐出データが供給される。なお、Ｒ、Ｇ、Ｂ用の吐出データのそれぞれは、実施形態１で説明した方法で生成される。なお、吐出装置とホストコンピュータとをまとめて、「吐出システム」と呼ぶこともある。
【０１５１】
まず、以下の手順にしたがって図６の基体１０Ａを作成する。まず、スパッタ法または蒸着法によって、支持基板１２上に金属薄膜を形成する。その後、フォトリソグラフィー工程によってこの金属薄膜から格子状のブラックマトリクス１４を形成する。ブラックマトリクス１４の材料の例は、金属クロムや酸化クロムである。なお、支持基板１２は、可視光に対して光透過性を有する基板、例えばガラス基板である。続いて、支持基板１２およびブラックマトリクス１４を覆うように、ネガ型の感光性樹脂組成物からなるレジスト層を塗布する。そして、そのレジスト層の上にマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム密着させながら、このレジスト層を露光する。その後、レジスト層の未露光部分をエッチング処理で取り除くことで、バンク１６が得られる。以上の工程によって、基体１０Ａが得られる。
【０１５２】
なお、バンク１６に代えて、樹脂ブラックからなるバンクを用いても良い。その場合は、金属薄膜（ブラックマトリクス１４）は不要となり、バンク層は、1層のみとなる。
【０１５３】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体１０Ａを親液化する。この処理によって、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、で規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における支持基板１２の表面と、ブラックマトリクス１４の表面と、バンク１６の表面と、が親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体１０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部におけるバンク１６の表面がフッ化処理（撥液性に処理）され、このことで、バンク１６の表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた支持基板１２の表面およびブラックマトリクス１４の表面は若干親液性を失うが、それでもこれら表面は親液性を維持する。このように、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂとなる。
【０１５４】
なお、支持基板１２の材質、ブラックマトリクス１４の材質、およびバンク１６の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面が被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂである。
【０１５５】
被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂが形成された基体１０Ａは、搬送装置１７０によって、吐出装置１００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図１９（ａ）に示すように、吐出装置１００Ｒは、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるように、実施形態１で説明した吐出データに応じて、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。本実施形態によれば、任意の一つの被吐出部１８Ｒにおける吐出パターンが、その任意の一つの被吐出部１８Ｒに隣合う被吐出部１８Ｒの少なくとも一つにおける吐出パターンと異なる。このため塗布ムラが局在化しにくく、この結果、複数の被吐出部１８Ｒが形成するマトリクス上で、塗布ムラが線状に現れることを防ぐことができる。
【０１５６】
基体１０Ａの被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｒ上にフィルタ層１１１ＦＲを得る。
【０１５７】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図１９（ｂ）に示すように、吐出装置１００Ｇは、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成されるように、被吐出部１８Ｇに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｇを吐出する。本実施形態によれば、任意の一つの被吐出部１８Ｇにおける吐出パターンが、その任意の一つの被吐出部１８Ｇに隣合う被吐出部１８Ｇの少なくとも一つにおける吐出パターンと異なる。このため塗布ムラが局在化しにくく、この結果、複数の被吐出部１８Ｇが形成するマトリクス上で、塗布ムラが線状に現れることを防ぐことができる。
【０１５８】
基体１０Ａの被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｇ上にフィルタ層１１１ＦＧを得る。
【０１５９】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図１９（ｃ）に示すように、吐出装置１００Ｂは、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成されるように、被吐出部１８Ｂに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｂを吐出する。本実施形態によれば、任意の一つの被吐出部１８Ｂにおける吐出パターンが、その任意の一つの被吐出部１８Ｂに隣合う被吐出部１８Ｂの少なくとも一つにおける吐出パターンと異なる。このため塗布ムラが局在化しにくく、この結果、複数の被吐出部１８Ｂが形成するマトリクス上で、塗布ムラが線状に現れることを防ぐことができる。
【０１６０】
基体１０Ａの被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｂ上のカラーフィルタ材料１１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｂ上にフィルタ層１１１ＦＢを得る。
【０１６１】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを、オーブン１６０内に位置させる。その後、オーブン１６０はフィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢを再加熱（ポストベーク）する。
【０１６２】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｃのステージ１０６に位置させる。そして、吐出装置１００Ｃは、フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆って保護膜２０が形成されるように、液状の保護膜材料を吐出する。フィルタ層１１１ＦＲ，１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆う保護膜２０が形成された後に、搬送装置１７０は基体１０Ａをオーブン１５０Ｃ内に位置させる。そして、オーブン１５０Ｃが保護膜２０を完全に乾燥させた後に、硬化装置１６５が保護膜２０を加熱して完全に硬化することで、基体１０Ａはカラーフィルタ基板１０となる。
【０１６３】
（実施形態３）
次に、本発明をエレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置に適用した例を説明する。
【０１６４】
図２０（ａ）および（ｂ）に示す基体３０Ａは、後述する製造装置２（図２１）による処理によって、エレクトロルミネッセンス表示装置３０となる基板である。基体３０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂを有する。
【０１６５】
具体的には、基体３０Ａは、支持基板３２と、支持基板３２上に形成された回路素子層３４と、回路素子層３４上に形成された複数の画素電極３６と、複数の画素電極３６の間に形成されたバンク４０と、を有している。支持基板は、可視光に対して光透過性を有する基板であり、例えばガラス基板である。複数の画素電極３６のそれぞれは、可視光に対して光透過性を有する電極であり、例えば、ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）電極である。また、複数の画素電極３６は、回路素子層３４上にマトリクス状に配置されており、それぞれが画素領域を規定する。そして、バンク４０は、格子状の形状を有しており、複数の画素電極３６のそれぞれを囲む。また、バンク４０は、回路素子層３４上に形成された無機物バンク４０Ａと、無機物バンク４０Ａ上に位置する有機物バンク４０Ｂとからなる。
【０１６６】
回路素子層３４は、支持基板３２上で所定の方向に延びる複数の走査電極と、複数の走査電極を覆うように形成された絶縁膜４２と、絶縁膜４２上に位置するともに複数の走査電極が延びる方向に対して直交する方向に延びる複数の信号電極と、走査電極および信号電極の交点付近に位置する複数のスイッチング素子４４と、複数のスイッチング素子４４を覆うように形成されたポリイミドなどの層間絶縁膜４５と、を有する層である。それぞれのスイッチング素子４４のゲート電極４４Ｇおよびソース電極４４Ｓは、それぞれ対応する走査電極および対応する信号電極と電気的に接続されている。層間絶縁膜４５上には複数の画素電極３６が位置する。層間絶縁膜４５には、各スイッチング素子４４のドレイン電極４４Ｄに対応する部位にスルーホール４４Ｖが設けられており、このスルーホール４４Ｖを介して、スイッチング素子４４と、対応する画素電極３６と、の間の電気的接続が形成されている。また、バンク４０に対応する位置にそれぞれのスイッチング素子４４が位置している。つまり、図１３（ｂ）の紙面に垂直な方向から観察すると、複数のスイッチング素子４４のそれぞれは、バンク４０に覆われるように位置している。
【０１６７】
基体３０Ａの画素電極３６とバンク４０とで規定される凹部（画素領域の一部）は、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、被吐出部３８Ｂに対応する。被吐出部３８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｂは、青の波長域の光線を発光する発光層２１１ＧＢが形成されるべき領域である。
【０１６８】
図２０（ｂ）に示す基体３０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体３０Ａにおいて、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、および被吐出部３８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部３８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部３８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部３８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【０１６９】
被吐出部３８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部３８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＧＹと同じであり、被吐出部１８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＢＹとも同じである。また、被吐出部３８Ｒの平面像は、長辺と短辺とで決まる矩形である。具体的には、被吐出部３８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部３８Ｇおよび被吐出部３８Ｂも被吐出部３８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【０１７０】
図２１に示す製造装置２は、図２０の基体３０Ａの被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂのそれぞれに対して、対応する発光材料を吐出する装置である。製造装置２は、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒを塗布する吐出装置２００Ｒと、被吐出部３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを乾燥させる乾燥装置２５０Ｒと、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇを塗布する吐出装置２００Ｇと、被吐出部３８Ｇ上の発光材料２１１Ｇを乾燥させる乾燥装置２５０Ｇと、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂを塗布する吐出装置２００Ｂと、被吐出部３８Ｂ上の発光材料Ｂを乾燥させる乾燥装置２５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置２は、吐出装置２００Ｒ、乾燥装置２５０Ｒ、吐出装置２００Ｇ、乾燥装置２５０Ｇ、吐出装置２００Ｂ、乾燥装置２５０Ｂの順番に基体３０Ａを搬送する搬送装置２７０も備えている。複数の搬送装置２７０のそれぞれは、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。
【０１７１】
図２２に示す吐出装置２００Ｒは、液状の発光材料２１１Ｒを保持するタンク２０１Ｒと、チューブ２１０Ｒと、チューブ２１０Ｒを介してタンク２０１Ｒから発光材料２１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施形態１の吐出走査部１０２（図１）の構成と同じであるため、同様な構成要素には同一の参照符号を付けるとともに、重複する説明を省略する。また、吐出装置２００Ｇの構成と吐出装置２００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置２００Ｒの構造と同じある。ただし、タンク２０１Ｒとチューブ２１０Ｒとの代わりに、吐出装置２００Ｇが発光材料２１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置２００Ｇの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク２０１Ｒとチューブ２１０Ｒとの代わりに、吐出装置２００Ｂが発光材料２１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置２００Ｂの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状の発光材料２１１Ｒ、２１１Ｂ、２１１Ｇは、本発明の液状の材料の一例である。
【０１７２】
吐出装置２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂのそれぞれの制御部１１２には、それぞれのホストコンピュータ１８０からそれぞれの吐出データが供給される。なお、Ｒ、Ｇ、Ｂ用の吐出データのそれぞれは、実施形態１で説明した方法で生成される。なお、吐出装置とホストコンピュータとをまとめて、「吐出システム」と呼ぶこともある。
【０１７３】
製造装置２を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置３０の製造方法を説明する。まず、公知の製膜技術とパターニング技術とを用いて、図２０に示す基体３０Ａを製造する。
【０１７４】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体３０Ａを親液化する。この処理によって、画素電極３６とバンク４０とで規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における画素電極３６の表面、無機物バンク４０Ａの表面、および有機物バンク４０Ｂの表面が、親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体３０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部における有機物バンク４０Ｂの表面がフッ化処理（撥液性に処理）されて、このことで有機物バンク４０Ｂの表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた画素電極３６の表面および無機物バンク４０Ａの表面は、若干親液性を失うが、それでも親液性を維持する。このように、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂとなる。
【０１７５】
なお、画素電極３６の材質、無機バンク４０の材質、および有機バンク４０の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面は被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂである。
【０１７６】
ここで、表面処理が施された複数の画素電極３６のそれぞれの上に、対応する正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを形成してもよい。正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂが、画素電極３６と、後述の発光層２１１ＲＦ、２１１ＧＦ、２１１ＢＦと、の間に位置すれば、エレクトロルミネッセンス表示装置の発光効率が高くなる。複数の画素電極３６のそれぞれの上に正孔輸送層を設ける場合には、正孔輸送層と、バンク４０と、によって規定された凹部が、被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂに対応する。
【０１７７】
なお、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂをインクジェット法により形成することも可能である。この場合、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを形成するための材料を含む溶液を各画素領域ごとに所定量塗布し、その後、乾燥させることにより正孔輸送層を形成することができる。
【０１７８】
被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成された基体３０Ａは、搬送装置２７０によって、吐出装置２００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図２３（ａ）に示すように、吐出装置２００Ｒは、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成されるように、実施形態１で説明した吐出データに応じて、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｒを吐出する。本実施形態によれば、任意の一つの被吐出部３８Ｒにおける吐出パターンが、その任意の一つの被吐出部３８Ｒに隣合う被吐出部３８Ｒの少なくとも一つにおける吐出パターンと異なる。このため塗布ムラが局在化しにくく、この結果、複数の被吐出部３８Ｒが形成するマトリクス上で、塗布ムラが線状に現れることを防ぐことができる。
【０１７９】
基体３０Ａの被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｒ上に発光層２１１ＦＲを得る。
【０１８０】
次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図２３（ｂ）に示すように、吐出装置２００Ｇは、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成されるように、被吐出部３８Ｇに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｇを吐出する。本実施形態によれば、任意の一つの被吐出部３８Ｇにおける吐出パターンが、その任意の一つの被吐出部３８Ｇに隣合う被吐出部３８Ｇの少なくとも一つにおける吐出パターンと異なる。このため塗布ムラが局在化しにくく、この結果、複数の被吐出部３８Ｇが形成するマトリクス上で、塗布ムラが線状に現れることを防ぐことができる。
【０１８１】
基体３０Ａの被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｇ上の発光材料Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｇ上に発光層２１１ＦＧを得る。
【０１８２】
次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図２３（ｃ）に示すように、吐出装置２００Ｂは、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成されるように、被吐出部３８Ｂに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｂを吐出する。本実施形態によれば、任意の一つの被吐出部３８Ｂにおける吐出パターンが、その任意の一つの被吐出部３８Ｂに隣合う被吐出部３８Ｂの少なくとも一つにおける吐出パターンと異なる。このため塗布ムラが局在化しにくく、この結果、複数の被吐出部３８Ｂが形成するマトリクス上で、塗布ムラが線状に現れることを防ぐことができる。
【０１８３】
基体３０Ａの被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｂ上の発光材料２１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｂ上に発光層２１１ＦＢを得る。
【０１８４】
図２３（ｄ）に示すように、次に、発光層２１１ＦＲ，２１１ＦＧ、２１１ＦＢ、およびバンク４０を覆うように対向電極４６を設ける。対向電極４６は陰極として機能する。その後、封止基板４８と基体３０Ａとを、互いの周辺部で接着することで、図２３（ｄ）に示すエレクトロルミネッセンス表示装置３０が得られる。なお、封止基板４８と基体３０Ａとの間には不活性ガス４９が封入されている。
【０１８５】
エレクトロルミネッセンス表示装置３０において、発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢから発光した光は、画素電極３６と、回路素子層３４と、支持基板３２と、を介して射出する。このように回路素子層３４を介して光を射出するエレクトロルミネッセンス表示装置は、ボトムエミッション型の表示装置と呼ばれる。
【０１８６】
（実施形態４）
本発明をプラズマ表示装置の背面基板の製造装置に適用した例を説明する。
【０１８７】
図２４（ａ）および（ｂ）に示す基体５０Ａは、後述する製造装置３（図２５）による処理によって、プラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる基板である。基体５０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂを有する。
【０１８８】
具体的には、基体５０Ａは、支持基板５２と、支持基板５２上にストライプ状に形成された複数のアドレス電極５４と、アドレス電極５４を覆うように形成された誘電体ガラス層５６と、格子状の形状を有するとともに複数の画素領域を規定する隔壁６０と、を含む。複数の画素領域はマトリクス状に位置しており、複数の画素領域が形成するマトリクスの列のそれぞれは、複数のアドレス電極５４のそれぞれに対応する。このような基体５０Ａは、公知のスクリーン印刷技術で形成される。
【０１８９】
基体５０Ａのそれぞれの画素領域において、誘電体ガラス層５６および隔壁６０によって規定される凹部が、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、被吐出部５８Ｂに対応する。被吐出部５８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｂは、青の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＢが形成されるべき領域である。
【０１９０】
図２４（ｂ）に示す基体５０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体５０Ａにおいて、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、および被吐出部５８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部５８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部５８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部５８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【０１９１】
被吐出部５８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部５８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＧＹと同じであり、被吐出部５８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＢＹとも同じである。また、被吐出部５８Ｒの平面像は、長辺と短辺とで決まる矩形である。具体的には、被吐出部５８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部５８Ｇおよび被吐出部５８Ｂも被吐出部５８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【０１９２】
図２５に示す製造装置３は、図２４の基体５０Ａの被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂのそれぞれに対して、対応する蛍光材料を吐出する装置である。製造装置３は、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒを塗布する吐出装置３００Ｒと、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを乾燥させる乾燥装置３５０Ｒと、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇを塗布する吐出装置３００Ｇと、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料３１１Ｇを乾燥させる乾燥装置３５０Ｇと、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂを塗布する吐出装置３００Ｂと、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料３１１Ｂを乾燥させる乾燥装置３５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置３は、吐出装置３００Ｒ、乾燥装置３５０Ｒ、吐出装置３００Ｇ、乾燥装置３５０Ｇ、吐出装置３００Ｂ、乾燥装置３５０Ｂの順番に基体５０Ａを搬送する搬送装置３７０も備えている。複数の搬送装置３７０のそれぞれは、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。
【０１９３】
図２６に示す吐出装置３００Ｒは、液状の蛍光材料３１１Ｒを保持するタンク３０１Ｒと、チューブ３１０Ｒと、チューブ３１０Ｒを介してタンク３０１Ｒからカラーフィルタ材料が供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施形態１において説明したため重複する説明を省略する。
【０１９４】
吐出装置３００Ｇの構成と吐出装置３００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置３００Ｒの構造と同じある。ただし、タンク３０１Ｒとチューブ３１０Ｒとの代わりに、吐出装置３００Ｇが蛍光材料３１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置３００Ｇの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク３０１Ｒとチューブ３１０Ｒとに代えて、吐出装置３００Ｂが蛍光材料３１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置３００Ｂの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状の蛍光材料３１１Ｒ、３１１Ｂ、３１１Ｇは、発光材料の一種であるとともに、本発明の「液状の材料」に対応する。
【０１９５】
吐出装置３００Ｒ、３００Ｇ、３００Ｂのそれぞれの制御部１１２には、それぞれのホストコンピュータ１８０からそれぞれの吐出データが供給される。なお、Ｒ、Ｇ、Ｂ用の吐出データのそれぞれは、実施形態１で説明した方法で生成される。
【０１９６】
製造装置３を用いたプラズマ表示装置の製造方法を説明する。まず、公知のスクリーン印刷技術によって、支持基板５２上に、複数のアドレス電極５４と、誘電体ガラス層５６と、隔壁６０と、を形成して、図２４に示す基体５０Ａを得る。
【０１９７】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体５０Ａを親液化する。この処理によって、隔壁６０および誘電体ガラス層５６によって規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）の隔壁６０の表面、誘電体ガラス層５６の表面が、親液性を呈し、これらの表面が被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂとなる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、隔壁６０と、誘電体ガラス層５６と、によって規定された凹部の表面は、被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂである。
【０１９８】
被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂが形成された基体５０Ａは、搬送装置３７０によって、吐出装置３００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図２７（ａ）に示すように、吐出装置３００Ｒは、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒの層が形成されるように、実施形態１で説明した吐出データに応じて、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｒを吐出する。本実施形態によれば、任意の一つの被吐出部５８Ｒにおける吐出パターンが、その任意の一つの被吐出部５８Ｒに隣合う被吐出部５８Ｒの少なくとも一つにおける吐出パターンと異なる。このため塗布ムラが局在化しにくく、この結果、複数の被吐出部５８Ｒが形成するマトリクス上で、塗布ムラが線状に現れることを防ぐことができる。
【０１９９】
基体５０Ａの被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｒ上に蛍光層３１１ＦＲを得る。
【０２００】
次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図２７（ｂ）に示すように、吐出装置３００Ｇは、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成されるように、被吐出部５８Ｇに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｇを吐出する。本実施形態によれば、任意の一つの被吐出部５８Ｇにおける吐出パターンが、その任意の一つの被吐出部５８Ｇに隣合う被吐出部５８Ｇの少なくとも一つにおける吐出パターンと異なる。このため塗布ムラが局在化しにくく、この結果、複数の被吐出部５８Ｇが形成するマトリクス上で、塗布ムラが線状に現れることを防ぐことができる。
【０２０１】
基体５０Ａの被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料３１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｇ上に蛍光層３１１ＦＧを得る。
【０２０２】
次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図２７（ｃ）に示すように、吐出装置３００Ｂは、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂの層が形成されるように、被吐出部５８Ｂに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｂを吐出する。本実施形態によれば、任意の一つの被吐出部５８Ｂにおける吐出パターンが、その任意の一つの被吐出部５８Ｂに隣合う被吐出部５８Ｂの少なくとも一つにおける吐出パターンと異なる。このため塗布ムラが局在化しにくく、この結果、複数の被吐出部５８Ｂが形成するマトリクス上で、塗布ムラが線状に現れることを防ぐことができる。
【０２０３】
基体５０Ａの被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料Ｂの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料３１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｂ上に蛍光層３１１ＦＢを得る。
【０２０４】
以上の工程によって、基体５０Ａはプラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる。
【０２０５】
次に図２８に示すように、背面基板５０Ｂと、前面基板５０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせてプラズマ表示装置５０が得られる。前面基板５０Ｃは、ガラス基板６８と、ガラス基板６８上で互いに平行にパターニングされた表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂと、表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂとを覆うように形成された誘電体ガラス層６４と、誘電体ガラス層６４上に形成されたＭｇＯ保護層６２と、を有する。背面基板５０Ｂと前面基板５０Ｃとは、背面基板５０Ｂのアドレス電極５４と、前面基板５０Ｃの表示電極６６Ａ・表示スキャン電極６６Ｂとが、互いに直交するように位置合わせされている。各隔壁６０で囲まれるセル（画素領域）には、所定の圧力で放電ガス６９が封入されている。
【０２０６】
（実施形態５）
次に本発明を、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造装置に適用した例を説明する。
【０２０７】
図２９（ａ）および（ｂ）に示す基体７０Ａは、後述する製造装置３（図３０）による処理によって、画像表示装置の電子源基板７０Ｂとなる基板である。基体７０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部７８を有する。
【０２０８】
具体的には、基体７０Ａは、基体７２と、基体７２上に位置するナトリウム拡散防止層７４と、ナトリウム拡散防止層７４上に位置する複数の素子電極７６Ａ、７６Ｂと、複数の素子電極７６Ａ上に位置する複数の金属配線７９Ａと、複数の素子電極７６Ｂ上に位置する複数の金属配線７９Ｂと、を備えている。複数の金属配線７９ＡのそれぞれはＹ軸方向に延びる形状を有する。一方、複数の金属配線７９ＢのそれぞれはＸ軸方向に延びる形状を有する。金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとの間には絶縁膜７５が形成されているので、金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとは電気的に絶縁されている。
【０２０９】
１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを含む部分は１つの画素領域に対応する。１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂは、互いに所定の間隔だけ離れてナトリウム拡散防止層７４上で対向している。ある画素領域に対応する素子電極７６Ａは、対応する金属配線７９Ａと電気的に接続されている。また、その画素領域に対応する素子電極７６Ｂは、対応する金属配線７９Ｂと電気的に接続されている。なお、本明細書では、基体７２とナトリウム拡散防止層７４とを合わせた部分を支持基板と表記することもある。
【０２１０】
基体７０Ａのそれぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４とが、被吐出部７８に対応する。より具体的には、被吐出部７８は、導電性薄膜４１１Ｆ（図３３）が形成されるべき領域であり、導電性薄膜４１１Ｆは、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａ，７６Ｂの間のギャップとを覆うように形成される。図２９（ｂ）において点線で示すように、本実施形態における被吐出部７８の平面形状は円形である。このように、本発明の被吐出部の平面形状は、Ｘ座標範囲とＹ座標範囲とで決まる円形でも構わない。
【０２１１】
図２９（ｂ）に示す基体７０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部７８が形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。つまり、基体７０Ａにおいて、複数の被吐出部７８は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【０２１２】
被吐出部７８同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ１９０μｍである。また、被吐出部７８ＲのＸ軸方向の長さ（Ｘ座標範囲の長さ）はほぼ１００μｍであり、Ｙ軸方向の長さ（Ｙ座標範囲の長さ）もほぼ１００μｍである。被吐出部７８同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【０２１３】
図３０に示す製造装置４は、図２９の基体７０Ａの被吐出部７８のそれぞれに対して、導電性薄膜材料４１１を吐出する装置である。具体的には、製造装置４は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１を塗布する吐出装置４００と、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を乾燥させる乾燥装置４５０と、を備えている。さらに製造装置４は、吐出装置４００、乾燥装置４５０の順番に基体７０Ａを搬送する搬送装置４７０も備えている。搬送装置４７０は、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。
【０２１４】
図３１に示す吐出装置４００は、液状の導電性薄膜材料４１１を保持するタンク４０１と、チューブ４１０と、チューブ４１０を介してタンク４０１Ｒから導電性薄膜材料４１１が供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の説明は、実施形態１で説明したため省略する。本実施形態では、液状の導電性薄膜材料４１１は有機パラジウム溶液である。なお、本実施形態における液状の導電性薄膜材料４１１は、本発明の「液状の材料」の一例である。
【０２１５】
吐出装置４００の制御部１１２には、それぞれのホストコンピュータ１８０からそれぞれの吐出データが供給される。なお、Ｒ、Ｇ、Ｂ用の吐出データのそれぞれは、実施形態１で説明した方法で生成される。
【０２１６】
製造装置４を用いた画像表示装置の製造方法を説明する。まず、ソーダガラスなどから形成された基体７２上に、ＳｉＯ２を主成分とするナトリウム拡散防止層７４を形成する。具体的には、スパッタ法を用いて基体７２上に厚さ１μｍのＳｉＯ２膜を形成することによってナトリウム拡散防止層７４を得る。次に、ナトリウム拡散防止層７４上に、スパッタ法または真空蒸着法によって厚さ５ｎｍのチタニウム層を形成する。そして、フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いて、そのチタニウム層から、互いに所定の距離だけ離れて位置する１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを複数対形成する。
【０２１７】
その後、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ａ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｙ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ａを形成する。次に、スクリーン印刷技術を用いて、各金属配線７９Ａの一部分にガラスペーストを塗布して焼成することで、絶縁膜７５を形成する。そして、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ｂ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｘ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ｂを形成する。なお、金属配線７９Ｂを作製する場合には、金属配線７９Ｂが絶縁膜７５を介して金属配線７９Ａと交差するようにＡｇペーストを塗布する。以上のような工程によって、図２９に示す基体７０Ａを得る。
【０２１８】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体７０Ａを親液化する。この処理によって、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出した支持基板の表面とは、親液化される。そして、これらの表面が被吐出部７８となる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４の表面とは、被吐出部７８となる。
【０２１９】
被吐出部７８が形成された基体７０Ａは、搬送装置４７０によって、吐出装置４００のステージ１０６に運ばれる。そして、図３２に示すように、吐出装置４００は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜４１１Ｆが形成されるように、実施形態１で説明した吐出データに応じて、ヘッド１１４から導電性薄膜材料４１１を吐出する。本実施形態によれば、任意の一つの被吐出部７８における吐出パターンが、その任意の一つの被吐出部７８に隣合う被吐出部７８の少なくとも一つにおける吐出パターンと異なる。このため塗布ムラが局在化しにくく、この結果、複数の被吐出部７８が形成するマトリクス上で、塗布ムラが線状に現れることを防ぐことができる。
【０２２０】
また、本実施形態では、被吐出部７８上に着弾した導電性薄膜材料４１１の液滴の直径が６０μｍから８０μｍの範囲となるように、制御部１１２はヘッド１１４に信号を与える。基体７０Ａの被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１の層が形成された場合には、搬送装置４７０が基体７０Ａを乾燥装置４５０内に位置させる。そして、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を完全に乾燥させることで、被吐出部７８上に酸化パラジウムを主成分とする導電性薄膜４１１Ｆを得る。このように、それぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間に露出したナトリウム拡散防止層７４と、を覆う導電性薄膜４１１Ｆが形成される。
【０２２１】
次に素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間に、パルス状の所定の電圧を印加することで、導電性薄膜４１１Ｆの一部分に電子放出部４１１Ｄを形成する。なお、素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間の電圧の印加を、有機物雰囲気下および真空条件下でもそれぞれ行うことが好ましい。そうすれば、電子放出部４１１Ｄからの電子放出効率がより高くなるからである。素子電極７６Ａと、対応する素子電極７６Ｂと、電子放出部４１１Ｄが設けられた導電性薄膜４１１Ｆと、は電子放出素子である。また、それぞれの電子放出素子は、それぞれの画素領域に対応する。
【０２２２】
以上の工程によって、図３３に示すように、基体７０Ａは電子源基板７０Ｂとなる。
【０２２３】
次に図３４に示すように、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせて画像表示装置７０が得られる。前面基板７０Ｃは、ガラス基板８２と、ガラス基板８２上にマトリクス状に位置する複数の蛍光部８４と、複数の蛍光部８４を覆うメタルプレート８６と、を有する。メタルプレート８６は、電子放出部４１１Ｄからの電子ビームを加速するための電極として機能する。電子源基板７０Ｂと前面基板７０Ｃとは、複数の電子放出素子のそれぞれが、複数の蛍光部８４のそれぞれに対向するように、位置合わせされている。また、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃとの間は、真空状態に保たれている。
【０２２４】
なお、上記の電子放出素子を備えた画像表示装置７０は、ＳＥＤ(Surface-Conduction Electron-Emitter Display）またはＦＥＤ（Field Emission Display)と呼ばれることもある。また、本明細書では、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマ表示装置、電子放出素子を利用した画像表示装置など、を「電気光学装置」と表記することもある。ここで、本明細書でいう「電気光学装置」とは、複屈折性の変化や、旋光性の変化や、光散乱性の変化などの光学的特性の変化（いわゆる電気光学効果）を利用する装置に限定されず、信号電圧の印加に応じて光を射出、透過、または反射する装置全般を意味する。
【図面の簡単な説明】
【０２２５】
【図１】実施形態１の吐出装置およびホストコンピュータを示す模式図。
【図２】実施形態１のヘッドにおけるノズルの配置を示す模式図。
【図３】（ａ）および（ｂ）は実施形態１のヘッドにおける吐出部を示す模式図。
【図４】実施形態１の吐出装置における制御部の機能ブロック図。
【図５】実施形態１のホストコンピュータにおける吐出データ生成部１８１の機能ブロック図。
【図６】（ａ）は実施形態１の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態１の基体の上面を示す模式図。
【図７】実施形態１の相対着弾位置パターンを説明する図。
【図８】実施形態１の吐出重量パターンを説明する図。
【図９】実施形態１の吐出方向パターンを説明する図。
【図１０】実施形態１の初期ビットマップデータおよび吐出ビットマップデータの概念図。
【図１１】（ａ）は実施形態１の吐出装置におけるヘッド駆動部の機能ブロック図であり、（ｂ）は実施形態１の駆動信号のタイミングチャート。
【図１２】実施形態１の駆動信号整形部を示す模式図。
【図１３】実施形態１の遅延調整部を示す模式図。
【図１４】実施形態１の吐出パターンを説明する図。
【図１５】（ａ）から（ｅ）は相対着弾位置パターンを変えた場合の効果を説明する図。
【図１６】（ａ）および（ｂ）は吐出重量パターンを変えた場合の効果を説明する図。
【図１７】（ａ）および（ｂ）は吐出方向パターンを変えた場合の効果を説明する図。
【図１８】実施形態２のカラーフィルタ基板の製造装置を示す模式図。
【図１９】実施形態２のカラーフィルタ基板の製造方法を説明する図。
【図２０】（ａ）は実施形態３の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態３の基体の上面を示す模式図。
【図２１】実施形態３のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置を示す模式図。
【図２２】実施形態３の吐出装置およびホストコンピュータを示す模式図。
【図２３】実施形態３のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明する図。
【図２４】（ａ）は実施形態４の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態４の基体の上面を示す模式図。
【図２５】実施形態４のプラズマ表示装置の製造装置を示す模式図。
【図２６】実施形態４の吐出装置およびホストコンピュータを示す模式図。
【図２７】実施形態４のプラズマ表示装置の製造方法を説明する図。
【図２８】実施形態４の製造方法によって製造されるプラズマ表示装置の断面を示す模式図。
【図２９】（ａ）は実施形態５の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態５の上面を示す模式図。
【図３０】実施形態５の表示装置の製造装置を示す模式図。
【図３１】実施形態５の吐出装置およびホストコンピュータを示す模式図。
【図３２】実施形態５の表示装置の製造方法を説明する図。
【図３３】実施形態５の表示装置の製造方法を説明する図。
【図３４】実施形態５の製造方法によって製造される表示装置の断面を示す模式図。
【符号の説明】
【０２２６】
１…製造装置、１０Ａ…基体、１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ…吐出装置、１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂ…カラーフィルタ材料、１８０…ホストコンピュータ、１８１…吐出データ生成部、１８２…吐出パターンデータ生成部、１８３…データ変換部、１８４…データ分割部、１９０…駆動信号生成部、１９１…駆動信号整形部、１９２…遅延調整部、１９３…シフトレジスタ、１９４…データラッチ、１９５…マスク信号生成回路、１９６…マスクパターンレジスタ、ＭＣ…マスク回路、１９７…シフトレジスタ、１９８…データラッチ、１９９…遅延信号生成回路、ＤＬ（ｉ）…遅延回路。
【図１】
2005230615.tif 000009
【図２】
2005230615.tif 000010
【図３】
2005230615.tif 000011
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2005230615.tif 000015
【図８】
2005230615.tif 000016
【図９】
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【図１０】
2005230615.tif 000018
【図１１】
2005230615.tif 000019
【図１２】
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【図１３】
2005230615.tif 000021
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
2005230615.tif 000026
【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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