(57)【要約】【課題】  真空中の静電チャックを設けた搬送ハンドによる基板等の搬送において、被吸着面の導電性膜の有無、材質、及び膜質にかかわらず信頼性の高い基板等の搬送を行うことを可能とする。【解決手段】  搬送に先立ち基板の搬送ハンドとの接触面の抵抗、インピーダンス、及び誘電率の少なくともいずれか一つを測定して、上記測定値に応じて搬送速度、搬送加速度、静電チャック印加電圧のいずれか或いは全ての組み合わせを制御する。【選択図】      図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
静電チャックを設けた搬送ハンドにより板状体を搬送する板状体搬送方法において、搬送に先立ち板状体の前記搬送ハンドとの接触面の抵抗、インピーダンス、及び誘電率のうち少なくともいずれか一つを測定し、測定した結果に基づいて搬送速度、搬送加速度、及び静電チャック印加電圧のうち少なくともいずれか一つを制御することを特徴とする板状体搬送方法。
【請求項２】
前記測定した結果に基づいて搬送プロファイルを制御することを特徴とする請求項１に記載の板状体搬送方法。
【請求項３】
搬送ハンドに静電チャックを設けて板状体を搬送する板状体搬送装置において、搬送に先立ち板状体の前記搬送ハンドとの接触面の抵抗、インピーダンス、及び誘電率のうち少なくともいずれか一つを測定する測定器と、該測定器の測定結果に基づいて搬送速度、搬送加速度、及び静電チャック印加電圧のうち少なくともいずれか一つを制御する制御器を具備することを特徴とする板状体搬送装置。
【請求項４】
前記測定器が弾性体を介して前記板状体搬送ハンドに取り付けられていることを特徴とする請求項３に記載の板状体搬送装置。
【請求項５】
静電チャックパッドが前記測定器を兼ねることを特徴とする請求項４に記載の板状体搬送装置。
【請求項６】
静電チャックを設けた搬送ハンドを有する露光装置において、搬送に先立ち板状体の前記搬送ハンドとの接触面の抵抗、インピーダンス、及び誘電率のうち少なくともいずれか一つを測定する測定器と、該測定器の測定結果に基づいて搬送速度、搬送加速度、及び静電チャック印加電圧のうち少なくともいずれか一つを制御する制御器を具備することを特徴とする露光装置。
【請求項７】
前記板状体がレチクルであることを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
請求項６または７に記載の露光装置を用いて露光対象に露光を行う工程と、露光された前記露光対象を現像する工程と、を具備することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造装置や、半導体検査装置などにおいて用いられる、マスクやレチクル、または半導体ウエハやガラス基板などの薄板状の基板を保持し、搬送する基板保持、搬送機構に関するものであり、特に真空雰囲気下で半導体基板を露光する半導体露光装置の静電吸着装置に適する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造工程においてレチクルパターンをシリコンウエハ上に投影して転写する投影露光装置として、ＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ  Ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ：極紫外）光である１３〜１４ｎｍ程度の波長の露光光を光源として使用するＥＵＶ露光装置が提案されている。
【０００３】
現在公表されているＥＵＶ露光装置について図８を用いて説明する。
３０６Ａはデバイスパターンの描画された原版（レチクル）であり、３０３は露光領域を真空にする為の真空チャンバーである。３０６はレチクル３０６Ａを搭載するレチクルステージであり、３２０はレチクル３０６Ａを真空チャンバー３０３内に搬入する時に使用するレチクルロードロックである。３１３はレチクル３０６Ａを搬送するためのレチクルチェンジャーハンドであり、３１２はレチクル３０６Ａを真空領域内で保管する為のレチクルストッカーである。
【０００４】
このような、従来構成の露光装置では、ロードロック３２０を通ったレチクル３０６Ａは、レチクルチェンジャーハンド３１３により真空領域内のレチクルストッカー３１２へ搬送される。さらにレチクルチェンジャーハンド３１３は、レチクルストッカー３１２内のレチクル３０６Ａをレチクルステージ３０６へ搬送し露光を行う。
【０００５】
露光装置内でレチクルを搬送する手段として特開平０５−２７８８１３号公報（特許文献１）においてレチクル下面を真空吸着する手段が開示されている。また、真空領域で搬送する手段として特開２００１−３１５０８５号公報（特許文献２）に静電吸着を行うハンドが開示されている。
【特許文献１】特開平０５−２７８８１３号公報
【特許文献２】特開２００１−３１５０８５号公報
【特許文献３】特開２０００−０３１２５２号公報
【特許文献４】特開２００２−２０３８３７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、上記従来の基板搬送においては、搬送中に原版（レチクル）を落下させて、破損するおそれがあるという問題があった。すなわちＥＵＶ露光装置の中のような真空中では、特許文献１において開示されているように、レチクル下面を真空吸着しても差圧が得られず、レチクル搬送に十分な吸着力を得ることが出来ない。また、ＥＵＶ露光装置に使用されるレチクルが通常はガラス製であり、特許文献２で開示されているような静電チャックでは、レチクル搬送に十分な吸着力を得ることが出来ない。さらにＥＵＶ露光装置に使用されるレチクルの下面には、パターン膜として導電性膜が施されており、その導電性膜を静電チャックで吸着することが出来るが、その膜の材質や、膜質により吸着力が異なり、搬送中にレチクルを落下させ、破損するおそれがあった。
【０００７】
本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたものであって、真空中の静電チャックハンド
による板状体搬送において、被吸着面の導電性膜の有無、材質、膜質にかかわらず信頼性の高い板状体搬送を行うことができる板状体搬送方法、搬送装置及び露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するために、本発明は、静電チャックを設けた搬送ハンドにより板状体を搬送する板状体搬送方法において、搬送に先立ち板状体の前記搬送ハンドとの接触面の抵抗、インピーダンス、及び誘電率のうち少なくともいずれか一つを測定し、測定した結果に基づいて搬送速度、搬送加速度、及び静電チャック印加電圧のうち少なくともいずれか一つを制御することを特徴とする。前記測定した結果に基づいて搬送プロファイルを制御することが好ましい。
【０００９】
また、本発明は、搬送ハンドに静電チャックを設けて板状体を搬送する板状体搬送装置において、搬送に先立ち板状体の前記搬送ハンドとの接触面の抵抗、インピーダンス、及び誘電率のうち少なくともいずれか一つを測定する測定器と、該測定器の測定結果に基づいて搬送速度、搬送加速度、及び静電チャック印加電圧のうち少なくともいずれか一つを制御する制御器を具備することを特徴としてもよい。前記測定器が弾性体を介して前記板状体搬送ハンドに取り付けられていることが好ましく、静電チャックパッドが前記測定器を兼ねることもできる。
【００１０】
また、本発明は、静電チャックを設けた搬送ハンドを有する露光装置において、搬送に先立ち板状体の前記搬送ハンドとの接触面の抵抗、インピーダンス、及び誘電率のうち少なくともいずれか一つを測定する測定器と、該測定器の測定結果に基づいて搬送速度、搬送加速度、及び静電チャック印加電圧のうち少なくともいずれか一つを制御する制御器を具備することを特徴としてもよい。例えば、前記板状体はレチクルである。
【００１１】
本発明に係るデバイス製造方法は、上記露光装置を用いて露光対象に露光を行う工程と、露光された前記露光対象を現像する工程と、を具備することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、真空中の静電チャックを設けた搬送ハンドによる板状体の搬送において、被吸着面の導電性膜の有無、材質、及び膜質にかかわらず信頼性の高い搬送を行うことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
本発明は、半導体製造装置や、半導体検査装置などにおいて用いられる、マスクやレチクル、または半導体ウエハやガラス基板などの薄板状の板状体を保持し、搬送する保持搬送機構であれば公知のものに適用される。以下に本発明の実施例として、板状体がレチクルまたはウエハである場合の具体的例を説明する。
【実施例１】
【００１４】
図１は、本発明の一実施例に係る真空中におけるレチクル搬送ハンドを備える露光装置を示す概略図である。図において、１は光源の発光点となる光源材料をガス化、液化または噴霧ガス化させたポイントに向けてレーザー光を照射して、光源材料原子をプラズマ励起することにより発光させるための励起レーザーであり、ＹＡＧ固体レーザー等を用いる。
【００１５】
２は露光用光源の光源発光部であって、内部は真空に維持された構造を持ち、２Ａは露光用光源の発光ポイント（以下、光源という）である。２Ｂは光源ミラーであり、光源２Ａからの全球面光を発光方向に揃え集光反射するために、光源２Ａを中心に半球面状のミ
ラーとして配置される。光源２Ａのポイントには、発光元素として液化Ｘｅ、液化Ｘｅ噴霧体またはＸｅガスを不図示のノズルにより噴出させ、かつ、励起レーザー１からの光が照射される。
【００１６】
３は露光装置全体を格納する真空チャンバーであり、真空ポンプ４により真空状態を維持することが可能である。５は光源発光部２からの露光光を導入して成形する露光光導入部であり、ミラー５Ａ〜５Ｄにより構成され、露光光を均質化し、かつ整形する。
【００１７】
６はレチクルステージであり、このレチクルステージ６上の可動部には、露光パターンの反射原版である原版６Ａが搭載されている。７は原版６Ａから反射した露光パターンを縮小投影する縮小投影ミラー光学系であり、原版６Ａにより反射された露光パターンをミラー７Ａ〜７Ｅに順次投影反射し最終的に規定の縮小倍率比でウエハ８Ａ上に縮小投影する。８はウエハステージであり、原版６Ａにより反射縮小投影されたパターンを露光するＳｉ基板であるウエハ８Ａを、所定の露光位置に位置決めするために、ＸＹＺ、ＸＹ軸回りのチルト、及びＺ軸回りの回転方向の６軸駆動可能に位置決め制御される。
【００１８】
９はレチクルステージ支持体であり、レチクルステージ６を装置設置床に対して支持する。１０は投影系支持体であり、縮小投影ミラー光学系７を装置設置床に対して支持する。１１はウエハステージ支持体であり、ウエハステージ８を装置設置床に対して支持する。以上のレチクルステージ支持体９と投影系支持体１０とウエハステージ支持体１１により分離独立して支持された、レチクルステージ６と縮小投影ミラー光学系７間、及び縮小投影ミラー光学系７とウエハステージ８間は、相対位置を位置計測し所定の相対位置に連続して維持制御する手段（不図示）が設けられている。
また、レチクルステージ支持体９と投影系支持体１０とウエハステージ支持体１１には、装置設置床からの振動を絶縁するマウント（不図示）が設けられている。
【００１９】
１２は装置外部から一旦装置内部に原版６Ａであるレチクルを保管するレチクルストッカーであり、保管容器に密閉状態で異なるパターン及び異なる露光条件に合わせたレチクルが保管されている。１３はレチクルストッカー１２から使用するレチクルを選択して搬送するレチクルチェンジャーである。１４はＸＹＺ及びＺ軸周りに回転可能なレチクルアライメントハンド１１４Ａを備えて成るレチクルアライメントユニットであり、レチクルチェンジャー１３から原版６Ａを受け取って１８０度回転することにより、レチクルステージ６端部に設けられたレチクルアライメントスコープ１５部分に搬送し、縮小投影ミラー光学系７基準に設けられたアライメントマーク１５Ａに対して原版６Ａ上をＸ，Ｙ，Ｚ軸回転方向に微動してアライメントする。アライメントを終了した原版６Ａはレチクルステージ６上にチャッキングされる。
【００２０】
１６は装置外部から一旦装置内部にウエハ８Ａを保管するウエハストッカーであり、保管容器に複数枚のウエハが保管されている。１７はウエハ搬送ロボットであり、ウエハストッカー１６から露光処理するウエハ８Ａを選定し、ウエハメカプリアライメント温調器１８に運ぶ。ウエハメカプリアライメント温調器１８では、ウエハ８Ａの回転方向の送り込み粗調整を行うと同時に、ウエハ温度を露光装置内部温調温度に合わせ込む。１９はウエハ送り込みハンドであり、ウエハメカプリアライメント温調器１８にてアライメントと温調がなされたウエハ８Ａをウエハステージ８に送り込む。
【００２１】
２０及び２１はゲートバルブであり、装置外部からレチクル及びウエハを挿入するためのゲート開閉機構を有する。２２も同じくゲートバルブであり、装置内部でウエハストッカー１６及びウエハメカプリアライメント温調器１８の空間と露光空間とを隔壁で分離し、ウエハ８Ａを搬入搬出するときのみ開閉する。このように、図１に示す露光装置は、上記隔壁で分離することによりウエハ８Ａの装置外部に対する搬入搬出の際に、一旦大気開
放される容積を最小限にして、速やかに真空平衡状態にすることを可能にしている。
【００２２】
また、原版（レチクル）６Ａをレチクルステージ６に位置決めクランプする際は、レチクルストッカー１２に保管された原版（レチクル）６Ａをレチクルチェンジャー１３により選定搬送し、さらに、レチクルアライメントユニット１４のレチクルアライメントハンド１１４Ａに、持ち替えて回転搬送すると同時に、レチクルステージ６を、レチクルアライメントスコープ１５によるレチクルアライメント位置まで移動させる。
【００２３】
レチクルステージ６に位置決めクランプされた原版（レチクル）６Ａは、レチクルステージ６を駆動することにより露光位置へ移動し、光源２Ａから照射された露光光により原版（レチクル）６Ａにパターニングされた回路パターンはミラーを介してウエハ８Ａ上に結像される。
【００２４】
図２はレチクルチェンジャー１３を表す概要図である。レチクルチェンジャー１３はレチクルストッカー１２に保管されているレチクル６Ａを下方からレチクルチェンジャーハンド１３Ａによって保持し、レチクルアライメントハンド１１４Ａへ搬送する。レチクルアライメントハンド１１４Ａにはレチクルチェンジャーハンド１３Ａとの干渉回避の為の溝が設けられており、レチクル６Ａを下方から保持した状態で受け渡しを行う。
【００２５】
図３はレチクルチェンジャーハンド１３Ａを表す概要図である。レチクルチェンジャーハンド１３Ａには、レチクルパターン面上の露光領域を避けて、レチクルの端部４箇所を保持する為の静電チャックパッド１３Ｂが取り付けられている。
【００２６】
図４-1は静電チャックパッド１３Ｂの１箇所を横から見た概要図である。静電チャックパッド１３Ｂは絶縁体１３ｉの部分と正極、負極の電極、誘電体１３ｄの部分、及び測定電極１３ｍを備えて成り立っている。静電チャック１３ｃはレチクル６Ａなどの被吸着物と電極の間の誘電体を介して高電圧を印加し、このとき被吸着物と電極との間に生じる静電気的な吸引力を利用して被吸着物を電極側に吸引保持する。
【００２７】
不図示の電源及び配線より正極と、負極の電極に直流高電圧が印加されると、誘電体１３ｄの内部に誘電分極を生じ、誘電体１３ｄの電極側に印加した電圧の極性と反対側の極性を持つ電荷分布σを生じる。これに伴って誘電体１３ｄの反対の面には同じ容量で逆極性を持つ電荷分布−σを生じ、レチクル６Ａなどの被吸着物の表面には電荷分布σを生じる。このとき誘電体１３ｄと被吸着物に生じた電荷分布により静電気的な吸引力（ジョンセン−ラーベック力）が発生し、被吸着物は静電チャック１３ｃに吸着される。
【００２８】
図４-2に静電チャックの等価回路を示す。Ｖは電極と被吸着物との間に印加された電圧であり、Ｃａ，Ｒａは被吸着物と誘電体間の容量値、抵抗値であり、Ｃｂ，Ｒｂは誘電体と電極間の容量値、抵抗値である。Ｃｂ，Ｒｂは静電チャック装置で一義的に決まるものである。しかし、Ｃａ，Ｒａは被吸着物であるレチクルに蒸着された導電膜の有無、材質、膜厚、及び膜質によって変わり、よってその吸着力も前記条件により変わり、その吸着力が小さい場合は搬送中にレチクルを落下させ、或いは破損するおそれがある。
【００２９】
本発明では前記おそれを回避するために、レチクル搬送に先立ち被吸着面の特性を測定する測定電極を備えている。図５に搬送開始時のシーケンスを示す。ステップａにてレチクルをハンドで垂直に持ち上げると、ステップｂにおいて測定電極が被吸着面に接触するので、被吸着面の抵抗値或いは誘電率或いはインピーダンスの少なくともいずれか一つを測定することが出来る。ステップｃでは得られた測定値より不図示の制御装置で測定値に応じた搬送条件を算出し、そしてステップｄにて該搬送条件で搬送を開始する。前記搬送条件とは搬送速度、搬送加速度、及び静電チャックへの給電電圧のいずれか或いは全ての
組み合わせを意味し、制御装置では搬送可否も含めて判断する。例えば被吸着面に導電膜を蒸着していないレチクルを露光装置内に誤って搬送した場合とか、レチクルを裏返しに搬送してしまった場合などのミスオペレート時や、被吸着面の導電膜が剥がれてきた場合などのトラブル時にも、吸着力が弱い故に搬送中にレチクルを落下させてしまうおそれを未然に防ぎ,信頼性の高い搬送を実現できる。
【００３０】
また、被吸着面の抵抗値或いは誘電率或いはインピーダンスとレチクルの吸着力との関係は、予め導電膜の特性の異なるレチクルを用意して、レチクル引き剥がし評価や横方向の力によるレチクルのずれ量評価などで実測し、その結果をテーブル化して制御装置に記憶させておく。よってレチクル搬送に先立ち被吸着面の特性を測定することにより、最適な搬送プロファイルでレチクル搬送を実現できる。ここで言う搬送プロファイルとは搬送速度、搬送加速度、及び静電チャックへの給電電圧を含んだ搬送シーケンスの任意の組み合わせのことである。
【００３１】
本実施例では被吸着面の抵抗値或いは誘電率或いはインピーダンスの少なくともいずれか一つを測定する手段をレチクルチェンジャーハンド１３Ａの静電チャックパッド１３Ｂに配置したが、前記手段をレチクルアライメントハンド１１４Ａやレチクルステージ６など露光装置内の他の搬送機構内に配置しても良い。いずれの場合も搬送に先立ち搬送経路上で基板の搬送ハンドとの接触面の抵抗、インピーダンス、及び誘電率の少なくともいずれか一つを測定して、得られた測定値より不図示の制御装置で測定値に応じた搬送条件を算出し、搬送速度、搬送加速度、及び静電チャックへの給電電圧のいずれか或いは全ての組み合わせを制御することにより信頼性の高い搬送を実現できる。
【００３２】
また、前記手段を搬送機構以外のレチクルストッカー１２やゲートバルブ２０の外側で露光装置内の大気雰囲気内のレチクル保持機構内などに配置しても良い。この場合もレチクル搬送に先立ち被吸着面の特性を測定することにより最適な搬送プロファイルでレチクル搬送を実現できる。
【００３３】
さらに本実施例では、被吸着面の抵抗値或いは誘電率或いはインピーダンスの少なくともいずれか一つを測定する手段をレチクルチェンジャーハンドの静電チャックパッドに配置したが、ウエハを搬送するハンド、ウエハを露光するときに保持するウエハチャックに被吸着面の抵抗値或いは誘電率或いはインピーダンスの少なくともいずれか一つを測定する手段を配置しても同様の効果が得られるのは言うまでもない。
【実施例２】
【００３４】
図６は本発明の実施例２に係る静電チャックパッド１３Ｂの１箇所を横から見た概要図である。本実施例では弾性体１３ｅを介して測定電極１３ｍを被吸着面に接続させている。測定電極１３ｍにはそれぞれ不図示の配線が接続されている。測定電極１３ｍを弾性体１３ｅを介して被吸着面と接続させていることで被接触面や静電チャックパッド１３Ｂの接触面にうねりなどがあっても測定電極１３ｍとレチクル６Ａの被接触面が確実に接続することが出来る。よって正確に被吸着面の抵抗値或いは誘電率或いはインピーダンスの少なくともいずれか一つを測定することが出来る。
【実施例３】
【００３５】
図７は本発明の実施例３に係る静電チャックパッド１３Ｂの１箇所を横から見た概要図である。本実施例では静電チャックパッド１３Ｂの電極と、誘電体１３ｄが、被吸着面の抵抗値或いは誘電率或いはインピーダンスを測定する測定電極を兼ねることを特徴とする。図４-2において、Ｃｂ，Ｒｂは誘電体１３ｄと電極間の容量値、抵抗値であるので、予め測定しておけば全体の抵抗値或いは誘電率或いはインピーダンスを測定することにより、Ｃａ，Ｒａを求めることが出来る。また、実施例１と同様に被吸着面の抵抗値或いは誘
電率或いはインピーダンスと吸着力との関係は予めレチクル引き剥がし評価や横方向の力によるレチクル６Ａのずれ量評価などで実測し、その結果をテーブル化して制御装置に記憶させておいてもよい。本実施例では被吸着面の特性を測定する位置と静電チャックパッド１３Ｂによる吸引位置が完全に一致するので、レチクル６Ａの導電膜の剥がれなどによる影響を正確に測定することが出来る。よって、より信頼性の高い搬送を実現できる。
【実施例４】
【００３６】
次に、本発明の実施例４として、上記露光装置を利用した半導体デバイスの製造プロセスを説明する。図９は半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ２（マスク作製）では設計した回路パターンに基づいてマスクを作製する。
【００３７】
一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記のマスクとウエハを用いて、上記の露光装置によりリソグラフィ技術を利用してウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の組み立て工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、ステップ７でこれを出荷する。
【００３８】
上記ステップ４のウエハプロセスは以下のステップを有する。ウエハの表面を酸化させる酸化ステップ、ウエハ表面に絶縁膜を成膜するＣＶＤステップ、ウエハ上に電極を蒸着によって形成する電極形成ステップ、ウエハにイオンを打ち込むイオン打ち込みステップ、ウエハに感光剤を塗布するレジスト処理ステップ、上記の露光装置によって回路パターンをレジスト処理ステップ後のウエハに転写する露光ステップ、露光ステップで露光したウエハを現像する現像ステップ、現像ステップで現像したレジスト像以外の部分を削り取るエッチングステップ、エッチングが済んで不要となったレジストを取り除くレジスト剥離ステップ。これらのステップを繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンを形成する。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の一実施例に係る露光装置の構成を示す図である。
【図２】本発明の実施例１に係るレチクルチェンジャーの構成を示す図である。
【図３】本発明の実施例１に係るレチクルチェンジャーハンドの構成を示す図である。
【図４−１】図３に示した静電チャックパッドの構成を示す図である。
【図４−２】静電チャックパッドの等価回路図である。
【図５】搬送開始時のシーケンスを表す図である。
【図６】本発明の実施例２に係る静電チャックパッド１３Ｂの１箇所を横から見た概要図である。
【図７】本発明の実施例３に係る静電チャックパッド１３Ｂの１箇所を横から見た概要図である。
【図８】従来のＥＵＶ露光装置の構成を示す図である。
【図９】半導体デバイスの全体的な製造プロセスのフローを示す図である。
【符号の説明】
【００４０】
１：励起レーザー、２：光源発光部、２Ａ：光源、３：真空チャンバー、４：真空ポンプ、５：露光光導入部、５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄ：ミラー、６：レチクルステージ、６Ａ：原版（レチクル）、７：縮小投影ミラー光学系、７Ａ，７Ｂ，７Ｃ，７Ｄ，７Ｅ：ミラー、８：ウエハステージ、８Ａ：ウエハ、９：レチクルステージ支持体、１０：投影系支持体、１１：ウエハステージ支持体、１２：レチクルストッカー、１３：レチクルチェンジャー、１３Ａ：レチクルチェンジャーハンド、１３Ｂ：静電チャックパッド、１４：レチクルアライメントユニット、１５：レチクルアライメントスコープ、１５Ａ：レチクルアライメントマーク、１６：ウエハストッカー、１７：ウエハ搬送ロボット、１８：ウエハメカプリアライメント温調器、１９：ウエハ送り込みハンド、２０，２１，２２：ゲートバルブ、１１４Ａ：レチクルアライメントハンド、３０３：真空チャンバー、３０６：レチクルステージ、３０６Ａ：原版（レチクル）、３１２：レチクルストッカー、３１３：レチクルチェンジャーハンド、３２０：ロードロック。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４−１】
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【図４−２】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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