(57)【要約】【課題】  分岐状ペンタシロキサンの製造方法で、高純度なテトラキストリメチルシロキシシランを収率良く製造する事ができる。【解決手段】  下記一般式（１）で示されるテトラアルコキシシランと下記式（２）で示されるヘキサメチルジシロキサンを加水分解縮合反応させることを特徴とする下記式（３）で示される分岐状ペンタシロキサンの製造方法において、下記一般式（１）で示されるテトラアルコキシシラン１モルに対して、式（２）で示されるヘキサメチルジシロキサン２．０〜１０．０モル、酸触媒０．０１〜０．５モル、水２．５〜１０．０モルを用いて、水を添加する工程は温度０〜３０℃未満で３０分〜５時間反応し、水の添加終了後に温度３０〜１００℃で３０分〜５時間反応することを特徴とする分岐状ペンタシロキサンの製造方法。  Ｓｉ（ＯＲ）４                                （１）  （ＣＨ３）３ＳｉＯＳｉ（ＣＨ３）３              （２）  Ｓｉ｛ＯＳｉ（ＣＨ３）３｝４                （３）【選択図】  なし。【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示されるテトラアルコキシシラン（Ｒは炭素数２〜１０の１価炭化水素基）と下記式（２）で示されるヘキサメチルジシロキサンを加水分解縮合反応させることを特徴とする下記式（３）で示される分岐状ペンタシロキサンの製造方法において、下記一般式（１）で示されるテトラアルコキシシラン１モルに対して、式（２）で示されるヘキサメチルジシロキサン２．０〜１０．０モル、酸触媒０．０１〜０．５モル、水２．５〜１０．０モルを用い、水を添加する工程は温度０〜３０℃未満で３０分〜５時間反応し、水の添加終了後に温度３０〜１００℃で３０分〜５時間反応することを特徴とする分岐状ペンタシロキサンの製造方法。
Ｓｉ（ＯＲ）４                                （１）
（ＣＨ３）３ＳｉＯＳｉ（ＣＨ３）３              （２）
Ｓｉ｛ＯＳｉ（ＣＨ３）３｝４                （３）
【請求項２】
化学式Ｓｉ（ＯＣＨ３）４  で示されるテトラメトキシシランと上記式（２）で示されるヘキサメチルジシロキサンを加水分解縮合反応させることを特徴とする上記式（３）で示される分岐状ペンタシロキサンの製造方法において、テトラメトキシシラン１モルに対して、式（２）で示されるヘキサメチルジシロキサン２．０〜１０．０モル、メタノール、エタノール、イソプロパノールから選択されるアルコール１．０〜５．０モル、酸触媒０．０１〜０．５モル、水２．５〜１０．０モルを用い、水を添加する工程は温度０〜３０℃未満で３０分〜５時間反応し、水の添加終了後に温度３０〜１００℃で３０分〜５時間反応することを特徴とする分岐状ペンタシロキサンの製造方法。
【請求項３】
製造工程が、下記（Ａ）〜（Ｄ）からなることを特徴とする請求項１記載の製造方法。
（Ａ）ヘキサメチルジシロキサン２．０〜１０．０モルと、必要に応じて炭素数１〜６の１価低級アルコール０．５〜１０．０モルと、酸触媒０．０１〜０．５モルを混合し、０〜３０℃未満に冷却する工程。
（Ｂ）上記の系に一般式（１）のテトラアルコキシシラン１．０モルを加える工程。
（Ｃ）内温を０〜３０℃未満に維持しながら、水２．５〜１０．０モルを加える工程。
（Ｄ）内温が３０〜１００℃となるように加熱する工程。
【請求項４】
製造工程が、下記（Ａ′）〜（Ｄ′）からなることを特徴とする請求項２記載の製造方法。
（Ａ′）ヘキサメチルジシロキサン２．０〜１０．０モルと、メタノール、エタノール、イソプロパノールから選択されるアルコール１．０〜５．０モルと、酸触媒０．０１〜０．５モルを混合し、０〜３０℃未満に冷却する工程。
（Ｂ′）上記の系にテトラメトキシシラン１．０モルを加える工程。
（Ｃ′）内温を０〜３０℃未満に維持しながら、水２．５〜１０．０モルを加える工程。
（Ｄ′）内温が３０〜１００℃となるように加熱する工程。
【請求項５】
１価低級アルコールがメタノール又はエタノール又はイソプロパノールである請求項３記載の製造方法
【請求項６】
酸触媒が硫酸、メタンスルホン酸、トリフロロメタンスルホン酸から選択される請求項１乃至４記載の製造方法。
【請求項７】
一般式（１）のテトラアルコキシシランがテトラエトキシシラン及び又はテトライソプロポキシシランである請求項１又は３記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、分岐状ペンタシロキサンの製造方法に関し、特に工業用油剤、衣類、装置の洗浄剤として有用なテトラキストリメチルシロキシシランの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
本発明は、分岐状ペンタシロキサンの製造方法に関する。分岐状ペンタシロキサン、特にテトラキストリメチルシロキシシラン（｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ｝４Ｓｉ、以下Ｍ４Ｑと略す）は、工業用油剤、衣類や装置の洗浄剤として用いられる。珪素原子１個からなる原料テトラアルコキシシランや、珪素原子数が２、３、４の反応中間体成分（トリメチルシロキシトリアルコキシシラン、ビストリメチルシロキシジアルコキシシラン、トリストリメチルシロキシアルコキシシラン、トリストリメチルシロキシヒドロキシシラン等）は、ガラス等、表面に活性点を持つ基材の洗浄剤として使用した場合、基材と反応して表面処理される可能性が考えられるため、混入してくる量は最小限にとどめる事が望まれている。また、これらの原料シラン、及び反応中間体成分を衣料の洗浄剤として使用し、衣料に残存したまま着用した時には皮膚への刺激性を及ぼすことも考えられ、同様に混入量を最小限にとどめることが望まれる。
【０００３】
以上のことから、油剤として使用されるＭ４Ｑは、低沸点の珪素含有成分が少なく、９９．０％以上の高純度、特に９９．５％以上である事が望まれている。
【０００４】
Ｍ４Ｑを得るための合成方法は、メチルトリストリメチルシロキシシラン（｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ｝３ＳｉＣＨ３、以下Ｍ３Ｔと略す）の合成方法が参考となる。従来Ｍ３Ｔを製造する方法としては、下記の方法が知られている。
【０００５】
１．メチルトリクロロシランとトリメチルクロロシランを、メタノールの存在下に共加水分解する方法（国際公開ＷＯ２００１−１５６５８号、特開２００２−６８９３０号公報）。
２．メチルトリクロロシランとヘキサメチルジシロキサンを、過塩素酸触媒の存在下に反応させる方法（Ｄｏｋｌ．  Ａｋａｄ．  Ｎａｕｋ    ＳＳＳＲ、  ２２７、  ６０７〜６１０（１９７６））。
３．メチルトリエトキシシランとヘキサメチルジシロキサンを、酸性のイオン交換樹脂の存在下に反応させる方法（Ｊ．  Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．  Ｃｈｅｍ．，  ３４０，  ３１−３６（１９８８））。
４．メチルトリアルコキシシランとヘキサメチルジシロキサンを、カルボン酸と酸触媒の存在下反応させる方法（特開平１１−２１７３８９号公報）。
５．メチルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン及びメタノール中に濃硫酸を添加した後、水とメタノールの混合物を滴下して反応させる方法（国際公開ＷＯ２００１−１５６５８号公報、特開２００２−６８９３０号公報）。
【０００６】
１．の方法でテトラキストリメチルシロキシシランを合成するには、テトラクロロシランとトリメチルクロロシランをメタノールの存在下に共加水分解すればよい。しかし、大量の水が必要であり、且つ反応の選択性が低いため収率が非常に低いという問題がある。
【０００７】
２．の方法でテトラキストリメチルシロキシシランを合成するには、テトラクロロシランとヘキサメチルジシロキサンを、過塩素酸触媒の存在下に反応すればよい。しかし、取り扱いの困難な過塩素酸を触媒として用いる必要があり、工業的な製造方法として適していない。
【０００８】
３．の方法でテトラキストリメチルシロキシシランを合成するには、テトラエトキシシランとヘキサメチルジシロキサンを、酸性のイオン交換樹脂の存在下に反応すればよい。しかし、反応率を上げるためには大過剰のヘキサメチルジシロキサンを用いる必要がある。また、Ｍ３Ｔの合成においても反応中間体の１，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチル−３−エトキシトリシロキサン（｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ｝２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）ＣＨ３、以下Ｍ２Ｔ（ＯＥｔ）と略す）が大量に残るという欠点がある。
【０００９】
さらに、ケイ素上にトリメチルシロキシ基を導入する場合、Ｍ３Ｔの時にはトリメチルシロキシ基を３個導入することになるが、２個目よりも３個目の反応性が低くなる。Ｍ４Ｑを合成する場合にはトリメチルシロキシ基を４個導入することになるため、４個目のトリメチルシロキシ基の反応性が、Ｍ３Ｔ合成における３個目のトリメチルシロキシ基の反応性よりもさらに低くなると考えられる。従って、Ｍ４Ｑを同様に合成した場合、反応中間体の１，１，１，５，５，５−ヘキサメチル−３−トリメチルシロキシ−３−エトキシトリシロキサン（｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ｝３ＳｉＯＣＨ２ＣＨ３、以下Ｍ３Ｑ（ＯＥｔ）と略す）の残留量がより多くなると考えられ、高純度なテトラキストリメチルシロキシシランを得る方法としては適していない。
【００１０】
４．の方法でテトラキストリメチルシロキシシランを合成するには、テトラアルコキシシランとヘキサメチルジシロキサンを、カルボン酸と酸触媒の存在下に反応すればよい。しかし、Ｍ３Ｔの合成において反応中間体のＭ２Ｔ（ＯＥｔ）が残ってしまうことから、Ｍ４Ｑを同様に合成した場合、反応中間体のＭ３Ｑ（ＯＥｔ）残留量がより多くなると考えられ、高純度なＭ４Ｑを効率良く得る方法として満足すべきものではない。
【００１１】
５．の方法でテトラキストリメチルシロキシシランを合成するには、テトラメトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン及びメタノール中に濃硫酸を添加した後、水とメタノールの混合物を滴下して反応すればよい。しかし、上記と同様にＭ３Ｔの合成において反応中間体の｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ｝２Ｓｉ（ＣＨ３）ＯＣＨ３（以下Ｍ２Ｔ（ＯＭｅ）と略す）が残ってしまうことから、Ｍ４Ｑを同様に合成した場合、反応中間体の｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ｝３ＳｉＯＣＨ３（以下Ｍ３Ｑ（ＯＭｅ）と略す）残留量がより多くなると考えられ、高純度なＭ４Ｑを効率良く得る方法として満足すべきものではない。
【００１２】
【特許文献１】国際公開０１／１５６５８号公報
【特許文献２】特開２００２−６８９３０号公報
【特許文献３】特開２００２−２６５４７８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
また、何れの方法においても、反応中間体である１，１，１，５，５，５−ヘキサメチル−３−トリメチルシロキシ−３−メトキシ（またはエトキシ）トリシロキサンのメトキシ基（またはエトキシ基）が加水分解された不純物、すなわち、１，１，１，５，５，５−ヘキサメチル−３−トリメチルシロキシ−３−ヒドロキシトリシロキサン（｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ｝３ＳｉＯＨ、以下Ｍ３Ｑ（ＯＨ）と略す）の副生量を制御することについては何ら示唆されていない。
【００１４】
目的物であるＭ４Ｑを効率良く得るためには、反応中間体であるＭ３Ｑ（ＯＭｅ）やＭ３Ｑ（ＯＥｔ）の残留量を少なくすることによって反応収率を向上すること、Ｑ単位の縮合物、すなわち反応中間体や出発原料であるテトラアルコキシシランの縮合物である高沸点物（｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ｝３ＳｉＯＳｉ｛ＯＳｉ（ＣＨ３）３｝３等）の副生を少なくすることによって反応収率を向上させることが必要である。さらに、目的物に対してより沸点の近い副生物であるＭ３Ｑ（ＯＨ）の残留量を少なくすることにより、蒸留精製工程の効率を向上させることが高純度品の収量を増加させるために重要である。
【００１５】
この不純物のリテンションタイムは、島津製ガスクロマトグラフィー装置ＧＣ１４Ｂを用い、カラム充填剤として商品名ＳＥ３０、液相３％品、カラム内径５ｍｍ、長さ３ｍ、検出器ＴＣＤ、インジェクション温度８０℃、８０℃での保持時間１分、昇温速度１５℃／分、最終温度３００℃で分析したとき、Ｍ３Ｑ（ＯＭｅ）が６．２分、Ｍ３Ｑ（ＯＥｔ）が６．３分、Ｍ３Ｑ（ＯＨ）が６．６分、Ｍ４Ｑが７．５分、高沸点成分は１０．５分〜１３．０分の間に数本検出される。これらの反応中間体、及びＭ３Ｑ（ＯＨ）と目的物であるＭ４Ｑのリテンションタイムがこのように非常に近いことから、これら成分の生成量が蒸留精製工程の効率を左右することになる。
【００１６】
以上の様に、分岐状テトラシロキサンを収率良く製造する方法、特に高純度なＭ４Ｑを効率良く製造する方法は知られていなかった。本発明は、上記事情に鑑みなされたもので、分岐状ペンタシロキサン、特にテトラキストリメチルシロキシシランを効率的かつ高収率で得ることのできる製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明者は、上記目的を達成するために鋭意検討を行った結果、ヘキサメチルジシロキサン、及び必要に応じて低級アルコールとの混合液中に強酸触媒を添加し、次いでテトラアルコキシシランを加え、冷却しながら水を加えて共加水分解を行ない、さらに加熱し、得られた反応物を蒸留精製することによって高純度のＭ４Ｑが高収率で得られる事を見出し、本発明に至ったものである。
【発明の効果】
【００１８】
本発明のＭ４Ｑ製造方法は、反応中間体であるアルコキシ体（Ｍ３Ｑ（ＯＭｅ）、Ｍ３Ｑ（ＯＥｔ）等）、及びＱ単位の２量体、３量体である高沸点物の生成量が少なくＭ４Ｑの生成収率が高いだけではなく、Ｍ３Ｑ（ＯＨ）生成量も少ないことから蒸留精製によるＭ４Ｑの高純度化が容易であり、効率よくＭ４Ｑを製造することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の分岐状テトラシロキサン類の製造方法は、下記一般式（１）で示されるテトラアルコキシシラン（Ｒは炭素数２〜１０の１価炭化水素基）と下記式（２）で示されるヘキサメチルジシロキサンを加水分解縮合反応させることを特徴とする下記式（３）で示される分岐状ペンタシロキサンの製造方法において、下記一般式（１）で示されるテトラアルコキシシラン１モルに対して、式（２）で示されるヘキサメチルジシロキサン２．０〜１０．０モルを用い、水を添加する工程は温度０〜３０℃未満で３０分〜５時間反応し、水の添加終了後に温度３０〜１００℃で３０分〜５時間反応することを特徴とする分岐状ペンタシロキサンの製造方法である。
Ｓｉ（ＯＲ）４                                （１）
（ＣＨ３）３ＳｉＯＳｉ（ＣＨ３）３              （２）
Ｓｉ｛ＯＳｉ（ＣＨ３）３｝４                （３）
【００２０】
ここで、Ｒは炭素数２〜１０の１価炭化水素基であり、Ｒの具体例はエチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基を挙げることができるが、Ｒは互いに同一であっても異なっていてもよい。これらの中でも、特にエチル基ないしイソプロピル基が好ましい。
【００２１】
さらには、製造工程が、下記（Ａ）〜（Ｄ）からなることを特徴とする。
（Ａ）ヘキサメチルジシロキサン２．０〜１０．０モルと、必要に応じて炭素数１〜６の１価低級アルコール０．５〜１０．０モルと、酸触媒０．０１〜０．５モルを混合し、０〜３０℃未満に冷却する工程。
（Ｂ）上記の系に一般式（１）のテトラアルコキシシラン１．０モルを加える工程。
（Ｃ）内温を０〜３０℃未満に維持しながら、水２．５〜１０．０モルを加える工程。
（Ｄ）内温が３０〜１００℃となるように加熱する工程。
【００２２】
または、化学式Ｓｉ（ＯＣＨ３）４  で示されるテトラメトキシシランと上記式（２）で示されるヘキサメチルジシロキサンを加水分解縮合反応させることを特徴とする上記式（３）で示される分岐状ペンタシロキサンの製造方法において、テトラメトキシシラン１モルに対して、式（２）で示されるヘキサメチルジシロキサン２．０〜１０．０モル、メタノール、エタノール、イソプロパノールから選択されるアルコール１．０〜５．０モル、酸触媒０．０１〜０．５モル、水２．５〜１０．０モルを用い、水を添加する工程は温度０〜３０℃未満で３０分〜５時間反応し、水の添加終了後に温度３０〜１００℃で３０分〜５時間反応することを特徴とする分岐状ペンタシロキサンの製造方法を提供するものである。
【００２３】
かかる製造工程が、下記（Ａ′）〜（Ｄ′）からなることを特徴とする。
（Ａ′）ヘキサメチルジシロキサン２．０〜１０．０モルと、メタノール、エタノール、イソプロパノールから選択されるアルコール１．０〜５．０モルと、酸触媒０．０１〜０．５モルを混合し、０〜３０℃未満に冷却する工程。
（Ｂ′）上記の系にテトラメトキシシラン１．０モルを加える工程。
（Ｃ′）内温を０〜３０℃未満に維持しながら、水２．５〜１０．０モルを加える工程。
（Ｄ′）内温が３０〜１００℃となるように加熱する工程。
【００２４】
これらのテトラアルコキシシランは、常法により合成したものを精製して用いる事ができるが、テトラクロロシランとアルコールとから脱塩酸反応により合成した反応液を精製することなく用いることができる。
【００２５】
テトラクロロシランとアルコールから脱塩酸反応により得られる未精製のテトラアルコキシシランは、一般に高純度であり、不純物としてアルコールと少量にジシロキサンを含有する。本反応に用いる未精製のテトラアルコキシシランの純度が５０％以上であれば問題ないが、８０％以上の純度である事が好ましく、特に好ましくは９０％以上の純度であることが望ましい。
【００２６】
（１）のテトラアルコキシシラン１．０モルに対してヘキサメチルジシロキサン２．０〜１０．０モルを用いることが好ましい。２．０モル未満だと反応中間体であるアルコキシ体（Ｍ３Ｑ（ＯＭｅ）、Ｍ３Ｑ（ＯＥｔ）等）の残存量が増加するため反応収率が低下し、１０．０モルを越えても収率の向上は期待できず、ポットイールドが低下してしまう。好ましくは２．５〜５．０モルである。
【００２７】
本発明で反応溶媒として用いられるアルコールは炭素数１〜６の１価低級アルコールであり、具体例としてメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ペンタノール、ヘキサノールが挙げられるが、好ましくはメタノール、エタノール、イソプロパノールである。
【００２８】
本発明で用いるアルコールの使用量は、（１）のテトラアルコキシシラン１．０モルに対して０．５〜１０．０モルである。０．５モル未満であると加水分解反応に必要な水の分散性が不足し、反応中間体の残存量増加や高沸点物の生成量が増加するため、収率が低下する。１０．０モルを越えるとポットイールドが低下してしまう。特に好ましくは１．０〜５．０モルである。
【００２９】
（１）のテトラアルコキシシランにおけるＲがメチル基を除くシラン、特にテトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシランである場合、加水分解反応の進行と共にエタノール、あるいはプロパノールが副生し、水とアルコキシシランとの分散性が良くなるため、溶剤としてのアルコールを使用しなくても良い。ポット収率の点から、アルコールを必要としない合成方法が特に好ましい。
【００３０】
本発明で用いられる酸触媒としては、硫酸、塩酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などが挙げられる。特に、硫酸、トリフルオロメタンスルホン酸を用いることが好ましい。
【００３１】
本発明で用いる酸触媒の使用量は、テトラアルコキシシラン１モルに対して０．０１〜０．５モル用いることが好ましく、更に好ましくは０．０２〜０．４モル用いることが望ましい。０．０１モル未満であると反応速度が遅くなるため反応時間が長くなり、０．５モルを越えると高沸点物の生成量が増加するため、収率が低下する。
【００３２】
本反応で用いる水は、水単独で用いる事ができるが、アルコールを添加した水を用いることもできる。水にアルコールを添加する場合のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、イソブタノールなどが挙げられる。また、アルコールの合計使用量は先に述べたモル比の範囲内である。
【００３３】
水の使用量は、テトラアルコキシシラン１モルに対して２．５〜１０．０モルを用いることが好ましい。２．５モル未満であると反応中間体であるＭ３Ｑ（ＯＲ）の残留量が増加するため収率が低下し、１０．０モルを越えても収率の向上は期待できず、ポットイールドが低下してしまう。好ましくは３．０〜８．０モルである。
【００３４】
本反応は、先ずヘキサメチルジシロキサンと必要に応じてアルコールを混合し、さらに酸触媒とテトラアルコキシシラン類を混合する。ヘキサメチルジシロキサン、アルコール、酸触媒、テトラアルコキシシランは同時に混合しても良いが、水を加える前に内温を０〜３０℃未満、好ましくは０〜２５℃、特に好ましくは０〜１５℃に冷却することが好ましい。内温が０℃未満で水を添加すると反応速度が遅くなるため反応時間が長くなりすぎ、３０℃を越えた状態で水を添加すると目的物の収率が低下してしまうため好ましくない。
【００３５】
目的物の生成収率をより向上させるためにはヘキサメチルジシロキサンと必要に応じてアルコールを混合し、０〜３０℃未満とする。好ましくは０〜２５℃、特に好ましくは０〜１５℃とする。これに内温が３０℃を越えないように、好ましくは２５℃を越えないように、特に好ましくは１５℃を越えないように酸触媒を添加し、その温度で１０分〜１時間撹拌する。次いでテトラアルコキシシランを内温が０〜３０℃未満を保つ速度で、好ましくは０〜２５℃を保つ速度で、特に好ましくは０〜１５℃を保つ速度で添加し、その温度で１０分〜１時間撹拌してから水を添加することが好ましい。
【００３６】
本反応は更に水を加えて加水分解を行うが、水を加えると発熱するため、内温が０〜３０℃未満を維持するように冷却しながら加えることが良い。水を添加する際に内温が０℃未満となると反応速度が遅くなるために反応時間が長くなりすぎ、３０℃を越えると目的物の収率が低下してしまう。好ましくは０〜２５℃を維持するように添加することであり、特に好ましくは０〜１５℃を維持するように添加する。水の添加が終了してからは、さらに０〜３０℃で１０分〜５時間撹拌を続けることが好ましい。
【００３７】
本反応は更に内温を３０〜１００℃、好ましくは４０〜８０℃となるよう加熱し、３０分〜５時間、好ましくは１時間〜３時間撹拌を続けることが好ましい。こうすることによって反応中間体であるアルコキシ体（Ｍ３Ｑ（ＯＭｅ）、Ｍ３Ｑ（ＯＥｔ）等）とＭ３Ｑ（ＯＨ）の残留量が低下し、目的物であるＭ４Ｑの収率が向上する。
【００３８】
本発明の方法では、反応後に分液により水層を分離、有機層を重曹水などの塩基水溶液で中和を行う事が好ましい。更に洗液が中性となるまで有機層を水洗し、蒸留精製を行う。また、水洗後の反応液を無水硫酸ナトリウムや塩化カルシウムなどの乾燥剤を加えて脱水した後に、蒸留精製しても良い。
【実施例】
【００３９】
以下、本発明を実施例、比較例によって具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００４０】
［実施例１〜６及び比較例１〜２］
表−１の仕込み物に示される仕込み量（上段はｇ数、下段のかっこ内はモル数を示す）にて、下記工程１〜６に従って加水分解反応を行いＭ４Ｑを得た。
【００４１】
（工程１）１０００ｍｌの４つ口ガラスフラスコに還流冷却器、温度計、及び攪拌機を取り付け、内部を窒素置換した。このフラスコに、ヘキサメチルジシロキサンとアルコールを仕込み、氷水浴で冷却し内温を１０℃とした。
（工程２）ここに、酸触媒を内温１０℃に保って３０分で滴下し、そのまま１０℃の温度で３０分間撹拌した。
（工程３）続いて、アルコキシシランを内温１０℃に保って４５分で滴下し、そのままの温度で１時間撹拌した。
（工程４）水を内温１０℃に保って１時間かけて滴下した。滴下終了後、更に５〜２５℃で１時間撹拌した。
（工程５）内温が５０℃になるよう加熱し、２時間撹拌した。
（工程６）得られた反応液を分液して水層を分離した後、有機層を重曹水、ついで水により洗浄した。
【００４２】
上記した実施例１〜６，比較例１〜２により得られた有機層をガスクロマトグラフィー分析し、その結果を表１のＧＣ分析結果１に示す。
【００４３】
得られた有機層を蒸留して沸点８９．５〜９０．０℃／１．３ｋＰａの留分を取り出した。留分の収量及び収率とポットイールドは表１に示す。収率は目的物であるＭ４Ｑと、反応に使用したテトラアルコキシシランのモル比率から求めた。得られた留分をガスクロマトグラフィー分析し、その結果を表−１のＧＣ分析結果２に示す。純度９９．５％以上のテトラキストリメチルシロキシシラン（Ｍ４Ｑ）を得た。実施例に比べて比較例では収率もポットイールドも悪いことがわかる。
【００４４】
ガスクロマトグラフィー分析条件は、使用装置が島津製ＧＣ１４Ｂ、カラム充填剤は商品名ＳＥ３０、液相３％品、カラム内径５ｍｍ、長さ３ｍ、検出器はＴＣＤ、カラムインジェクション温度８０℃、８０℃での保持時間１分、昇温速度１５℃／分、最終温度３００℃で行った。また、蒸留装置は充填剤マクマホンを用い、内径２．５ｃｍ、長さ７０ｃｍの蒸留塔を使用した。不純物、及び目的物の同定は、マススペクトルとＮＭＲ分析で行った。
【００４５】
［比較例３］
反応溶媒としてメタノールを使用せず、工程５の加熱撹拌工程を省き、工程４の水添加終了後に１０℃で３時間撹拌した以外は実施例１と同様に実施した。
【００４６】
［比較例４］
工程５の加熱撹拌工程を除き、工程４の水添加終了後に１０℃で３時間撹拌した以外は実施例１と同様に実施した。
【００４７】
［比較例５］
ヘキサメチルジシロキサン１９４４ｇ（１２．０モル）を用いた以外は実施例１と同様に実施した。
【００４８】
［比較例６］
水３６０ｇ（２０．０モル）を用いた以外は実施例１と同様に実施した。
【００４９】
［比較例７］
メタノール２５６ｇ（８．０モル）を用いた以外は実施例１と同様に実施した。
【００５０】
上記した比較例３〜７により得られた有機層をガスクロマトグラフィー分析し、その結果を表−２のＧＣ分析結果１に示す。
【００５１】
得られた有機層を蒸留して沸点８９．５〜９０．０℃／１．３ｋＰａの留分を取り出した。留分の収量及び収率とポットイールドは表１に示す。さらに、得られた留分をガスクロマトグラフィー分析し、その結果を表１のＧＣ分析結果２に示す。いずれも収率またはポットイールドが良くないことがわかる。
【００５２】
【表１】
2005035976.tif 000002
【００５３】
ここで、略号は下記の構造を示す。
Ｍ３Ｑ（ＯＭｅ）＝｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ｝３ＳｉＯＣＨ３
Ｍ３Ｑ（ＯＥｔ）＝｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ｝３ＳｉＯＣＨ２ＣＨ３
Ｍ３Ｑ（ＯＨ）＝｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ｝３ＳｉＯＨ
Ｍ４Ｑ＝｛（ＣＨ３）３ＳｉＯ｝４Ｓｉ