(57)【要約】      （修正有）【課題】簡便にかつ緻密にマイクロレンズ用凹部を形成することが可能なマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法、マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置を提供すること。【解決手段】本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法は、基板上に、マイクロレンズ用凹部を形成するマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法であって、基板５に対し、基板のマイクロレンズ用凹部が形成される面とは反対の面側から、超短パルスレーザ光源７よりレーザ光を照射して、基板に変質領域６を形成する工程と、変質領域を有する基板にエッチングを施し、マイクロレンズ用凹部を形成する工程とを有することを特徴とする。レーザ光のパルス幅は、１０ｆｓ〜１ｐｓである。レーザ光のパルスエネルギーは、１μＪ〜１ｍＪである。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、マイクロレンズ用凹部を形成するマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法であって、
前記基板に対し、前記基板の前記マイクロレンズ用凹部が形成される面とは反対の面側から、超短パルスレーザ光源よりレーザ光を照射して、前記基板に変質領域を形成する工程と、
前記変質領域を有する前記基板にエッチングを施し、前記マイクロレンズ用凹部を形成する工程とを有することを特徴とするマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【請求項２】
基板上に、マイクロレンズ用凹部を形成するマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法であって、
前記基板に対し、前記基板の前記マイクロレンズ用凹部が形成される面とは反対の面側から、超短パルスレーザ光源よりレーザ光を照射して、前記基板に変質領域を形成する工程と、
前記変質領域を有する前記基板にエッチングを施し、前記マイクロレンズ用凹部と、アライメントマークとを形成する工程とを有することを特徴とするマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【請求項３】
前記レーザ光のパルス幅は、１０ｆｓ〜１ｐｓである請求項１または２に記載のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【請求項４】
前記レーザ光のパルスエネルギーは、１μＪ〜１ｍＪである請求項１ないし３のいずれかに記載のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【請求項５】
前記基板の幅方向での前記変質領域の長さは、１〜５００μｍである請求項１ないし４のいずれかに記載のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【請求項６】
前記基板の面方向に対する前記変質領域の幅は、０．５〜１０μｍである請求項１ないし５のいずれかに記載のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【請求項７】
前記エッチングは、ウェットエッチングにより行われるものである請求項１ないし６のいずれかに記載のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【請求項８】
前記マイクロレンズ用凹部の平面視したときの平均径は、５〜１００μｍである請求項１ないし７のいずれかに記載のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【請求項９】
前記マイクロレンズ用凹部の中央部付近での平均曲率半径は、２．５〜５０μｍである請求項１ないし８のいずれかに記載のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【請求項１０】
前記マイクロレンズ用凹部の中心付近での深さは、５〜１００μｍである請求項１ないし９のいずれかに記載のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【請求項１１】
前記基板は、実質的に透明である請求項１ないし１０のいずれかに記載のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれかに記載の凹部付き基板の製造方法により製造されたことを特徴とするマイクロレンズ用凹部付き基板。
【請求項１３】
請求項１２に記載のマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて製造されたことを特徴とするマイクロレンズ基板。
【請求項１４】
マイクロレンズは、非球面レンズである請求項１３に記載のマイクロレンズ基板。
【請求項１５】
請求項１３または１４に記載のマイクロレンズ基板上に、透明導電膜が設けられたことを特徴とする液晶パネル用対向基板。
【請求項１６】
請求項１３または１４に記載のマイクロレンズ基板と、該マイクロレンズ基板上に設けられたブラックマトリックスと、該ブラックマトリックスを覆う透明導電膜とを有することを特徴とする液晶パネル用対向基板。
【請求項１７】
請求項１５または１６に記載の液晶パネル用対向基板を備えたことを特徴とする液晶パネル。
【請求項１８】
画素電極を備えた液晶駆動基板と、該液晶駆動基板に接合された請求項１５または１６に記載の液晶パネル用対向基板と、前記液晶駆動基板と前記液晶パネル用対向基板との空隙に封入された液晶とを有することを特徴とする液晶パネル。
【請求項１９】
前記液晶駆動基板は、マトリックス状に配設された前記画素電極と、前記画素電極に接続された薄膜トランジスタとを有するＴＦＴ基板である請求項１８に記載の液晶パネル。
【請求項２０】
請求項１７ないし１９のいずれかに記載の液晶パネルを備えたライトバルブを有し、該ライトバルブを少なくとも１個用いて画像を投射することを特徴とする投射型表示装置。
【請求項２１】
画像を形成する赤色、緑色および青色に対応した３つのライトバルブと、光源と、該光源からの光を赤色、緑色および青色の光に分離し、前記各光を対応する前記ライトバルブに導く色分離光学系と、前記各画像を合成する色合成光学系と、前記合成された画像を投射する投射光学系とを有する投射型表示装置であって、
前記ライトバルブは、請求項１７ないし１９のいずれかに記載の液晶パネルを備えたことを特徴とする投射型表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上に多数のマイクロレンズ用凹部が形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法、マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
スクリーン上に、画像を投影する投射型表示装置が知られている。
このような投射型表示装置では、その画像形成に主として液晶パネル（液晶光シャッター）が用いられている。
この液晶パネルは、例えば、各画素を制御する薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）と画素電極とを有する液晶駆動基板（ＴＦＴ基板）と、ブラックマトリックスや共通電極等を有する液晶パネル用対向基板とが、液晶層を介して接合された構成となっている。
【０００３】
このような構成の液晶パネル（ＴＦＴ液晶パネル）では、液晶パネル用対向基板の画素となる部分以外のところにブラックマトリックスが形成されているため、液晶パネルを透過する光の領域は制限される。このため、光の透過率が下がる。
かかる光の透過率を高めるべく、液晶パネル用対向基板には、各画素に対応する位置に多数の微小なマイクロレンズが設けられたものが知られている。これにより、液晶パネル用対向基板を透過する光は、ブラックマトリックスに形成された開口に集光され、光の透過率が高まる。
【０００４】
このようなマイクロレンズを形成するために、基板に凹部を形成する方法として、例えば、フォトレジストを用いた方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
しかし、かかる技術では、基板上の、マイクロレンズを形成するための凹部（マイクロレンズ用凹部）の密度を高くするのが困難であった。また、そのため、例えば、これを用いて得られる投射型表示装置が表示する画像の解像度を高くするのが困難であった。また、このような方法は、いくつもの工程を有するため、煩雑であるといった問題もあった。
【０００５】
【特許文献１】特開平９−１０１４０１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、簡便にかつ緻密にマイクロレンズ用凹部を形成することが可能なマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法、マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法は、基板上に、マイクロレンズ用凹部を形成するマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法であって、
前記基板に対し、前記基板の前記マイクロレンズ用凹部が形成される面とは反対の面側から、超短パルスレーザ光源よりレーザ光を照射して、前記基板に変質領域を形成する工程と、
前記変質領域を有する前記基板にエッチングを施し、前記マイクロレンズ用凹部を形成する工程とを有することを特徴とする。
これにより、マイクロレンズ用凹部が緻密に配列したマイクロレンズ用凹部付き基板を簡便に製造することができる。
【０００８】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法は、基板上に、マイクロレンズ用凹部を形成するマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法であって、
前記基板に対し、前記基板の前記マイクロレンズ用凹部が形成される面とは反対の面側から、超短パルスレーザ光源よりレーザ光を照射して、前記基板に変質領域を形成する工程と、
前記変質領域を有する前記基板にエッチングを施し、前記マイクロレンズ用凹部と、アライメントマークとを形成する工程とを有することを特徴とする。
これにより、マイクロレンズ用凹部が緻密に配列したマイクロレンズ用凹部付き基板を簡便に製造することができる。
【０００９】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記レーザ光のパルス幅は、１０ｆｓ〜１ｐｓであることが好ましい。
これにより、多光子吸収を効果的に生じさせることができるため、より効率的に変質領域を形成することができる。また、工程数を大幅に増やさずにアライメントマークを形成することができる。
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記レーザ光のパルスエネルギーは、１μＪ〜１ｍＪであることが好ましい。
これにより、より効率的に変質領域を形成することができる。
【００１０】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記基板の幅方向での前記変質領域の長さは、１〜５００μｍであることが好ましい。
これにより、エッチング工程において、基板が食刻される度合いを適度なものとすることができる。また、エッチング工程において形成されるマイクロレンズ用凹部の形状は、特に光学特性に優れたマイクロレンズを得るのに最適なものとなる。
【００１１】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記基板の面方向に対する前記変質領域の幅は、０．５〜１０μｍであることが好ましい。
これにより、エッチング工程において、基板が食刻される度合いを適度なものとすることができる。また、エッチング工程において形成されるマイクロレンズ用凹部の形状は、特に光学特性に優れたマイクロレンズを得るのに最適なものとなる。
【００１２】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記エッチングは、ウェットエッチングにより行われるものであることが好ましい。
これにより、ドライエッチング法に比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。その結果、生産性が向上し、安価にマイクロレンズ用凹部付き基板を提供することができる。
【００１３】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記マイクロレンズ用凹部の平面視したときの平均径は、５〜１００μｍであることが好ましい。
これにより、例えば、このようなマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて製造される液晶パネルは、スクリーンに投影される画像において優れた解像度を有するものとなる。
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記マイクロレンズ用凹部の中央部付近での平均曲率半径は、２．５〜５０μｍであることが好ましい。
これにより、このようなマイクロレンズ用凹部を用いて得られるマイクロレンズの光学特性を特に優れたものとすることができる。
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記マイクロレンズ用凹部の中心付近での深さは、５〜１００μｍであることが好ましい。
これにより、このようなマイクロレンズ用凹部を用いて得られるマイクロレンズの光学特性を特に優れたものとすることができる。
【００１４】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法では、前記基板は、実質的に透明であることが好ましい。
これにより、マイクロレンズ用凹部付き基板を用いてマイクロレンズ基板を製造する際、マイクロレンズ基板をマイクロレンズ用凹部付き基板から剥離せずに用いることができる。
【００１５】
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板は、本発明の凹部付き基板の製造方法により製造されたことを特徴とする。
これにより、マイクロレンズ用凹部が緻密に配列したマイクロレンズ用凹部付き基板を生産性よく得ることができる。特に、比較的大面積のマイクロレンズ用凹部付き基板を容易かつ安価に得ることができる。
【００１６】
本発明のマイクロレンズ基板は、本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて製造されたことを特徴とする。
これにより、マイクロレンズが緻密に配列したマイクロレンズ基板を生産性よく得ることができる。特に、比較的大面積のマイクロレンズ基板を容易かつ安価に得ることができる。
本発明のマイクロレンズ基板では、マイクロレンズは、非球面レンズであることが好ましい。
これにより、球面収差が抑えられ、優れた光学特性を有するものとなる。
【００１７】
本発明の液晶パネル用対向基板は、本発明のマイクロレンズ基板上に、透明導電膜が設けられたことを特徴とする。
これにより、液晶パネル用対向基板を生産性よく得ることができる。
本発明の液晶パネル用対向基板は、本発明のマイクロレンズ基板と、該マイクロレンズ基板上に設けられたブラックマトリックスと、該ブラックマトリックスを覆う透明導電膜とを有することを特徴とする。
これにより、液晶パネル用対向基板を生産性よく得ることができる。
【００１８】
本発明の液晶パネルは、本発明の液晶パネル用対向基板を備えたことを特徴とする。
これにより、液晶パネルを生産性よく得ることができる。
本発明の液晶パネルは、画素電極を備えた液晶駆動基板と、該液晶駆動基板に接合された本発明の液晶パネル用対向基板と、前記液晶駆動基板と前記液晶パネル用対向基板との空隙に封入された液晶とを有することを特徴とする。
これにより、液晶パネルを生産性よく得ることができる。
本発明の液晶パネルでは、前記液晶駆動基板は、マトリックス状に配設された前記画素電極と、前記画素電極に接続された薄膜トランジスタとを有するＴＦＴ基板であることが好ましい。
これにより、液晶パネルを生産性よく得ることができる。
【００１９】
本発明の投射型表示装置は、本発明の液晶パネルを備えたライトバルブを有し、該ライトバルブを少なくとも１個用いて画像を投射することを特徴とする。
これにより、投射する画像の解像度の高い投射型表示装置を提供することができる。
本発明の投射型表示装置は、画像を形成する赤色、緑色および青色に対応した３つのライトバルブと、光源と、該光源からの光を赤色、緑色および青色の光に分離し、前記各光を対応する前記ライトバルブに導く色分離光学系と、前記各画像を合成する色合成光学系と、前記合成された画像を投射する投射光学系とを有する投射型表示装置であって、
前記ライトバルブは、本発明の液晶パネルを備えたことを特徴とする。
これにより、投射する画像の解像度の高い投射型表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板およびマイクロレンズ基板は、それぞれ、個別基板とウエハーの双方を含むものとする。
図１〜図３は、本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図、図４は、本発明の液晶パネル用対向基板の製造方法を示す模式的な縦断面図、図５は、本発明の液晶パネル用対向基板を示す模式的な縦断面図、図６は、本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板を示す模式的な平面図である。
【００２１】
図５に示すように、液晶パネル用対向基板１は、後に詳述するマイクロレンズ用凹部付き基板２と、かかるマイクロレンズ用凹部付き基板２に、所定の屈折率を有する透明な樹脂層１４を介して接合されたカバーガラス１３とで構成されたマイクロレンズ基板２００を有している。また、かかるカバーガラス１３上に形成され、複数（多数）の開口１１１を有するブラックマトリックス１１と、かかるカバーガラス１３上にブラックマトリックス１１を覆うように形成された透明導電膜１２とを有している。また、マイクロレンズ用凹部付き基板２は、表面に複数（多数）の非球面の凹部（マイクロレンズ用凹部）３が形成されたガラス基板５からなっている。また、樹脂層１４では、マイクロレンズ用凹部付き基板２のマイクロレンズ用凹部３に充填された樹脂により、非球面のマイクロレンズ８が形成されている。
【００２２】
この液晶パネル用対向基板１では、遮光機能を有するブラックマトリックス１１は、マイクロレンズ８の位置に対応するように設けられている。具体的には、マイクロレンズ８の光軸Ｑがブラックマトリックス１１に形成された開口１１１を通るように、ブラックマトリックス１１は設けられている。したがって、液晶パネル用対向基板１では、ブラックマトリックス１１と対向する面から入射した入射光Ｌは、マイクロレンズ８で集光され、ブラックマトリックス１１の開口１１１を通過する。また、透明導電膜１２は、透明性を有する電極であり、光を透過する。このため、入射光Ｌは、液晶パネル用対向基板１を通過する際に、光量の大幅な減衰が防止される。すなわち、液晶パネル用対向基板１は、高い光透過率を有している。
この液晶パネル用対向基板１では、１個のマイクロレンズ８と、ブラックマトリックス１１の１個の開口１１１とが、１画素に対応している。
なお、マイクロレンズ用凹部付き基板２は、例えば反射防止層等の他の構成要素を有していてもよい。
【００２３】
以下、本発明のマイクロレンズ基板や液晶パネル用対向基板の製造方法を説明するに先立って、まず、本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法の第１実施形態について、図１〜図２を参照しながら説明する。
本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法では、基板に対して、超短パルスレーザ光源よりレーザ光を照射して、基板に変質領域を形成する工程と、該変質領域が形成された基板にエッチングを施し、マイクロレンズ用凹部を形成する工程とを有することを特徴とする。なお、実際には基板上に多数のマイクロレンズ用凹部を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、１つのマイクロレンズ用凹部を形成する場合を例として挙げて説明する。
【００２４】
まず、マイクロレンズ用凹部付き基板２を製造するに際し、ガラス基板５を用意する。
このガラス基板５は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、ガラス基板５は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
また、製造されたマイクロレンズ用凹部付き基板２が液晶パネルの製造に用いられ、かかる液晶パネルがガラス基板５以外のガラス基板を有する場合には、ガラス基板５の熱膨張係数は、かかる液晶パネルが有する他のガラス基板の熱膨張係数とほぼ等しいものであることが好ましい。このように、ガラス基板５と液晶パネルが有する他のガラス基板の熱膨張係数をほぼ等しいものとすると、得られる液晶パネルでは、温度が変化したときに二者の熱膨張係数が違うことにより生じる反り、たわみ等が防止される。
かかる観点からは、ガラス基板５と液晶パネルが有する他のガラス基板とは、同じ材質で構成されていることが好ましい。これにより、温度変化時の熱膨張係数の相違による反り、たわみ等が効果的に防止される。
【００２５】
特に、製造されたマイクロレンズ用凹部付き基板２を高温ポリシリコンのＴＦＴ液晶パネルの製造に用いる場合には、ガラス基板５は、石英ガラスで構成されていることが好ましい。ＴＦＴ液晶パネルは、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を有している。かかるＴＦＴ基板には、製造時の環境により特性が変化しにくい石英ガラスが好ましく用いられる。このため、これに対応させて、ガラス基板５を石英ガラスで構成することにより、反り、たわみ等の生じにくい、安定性に優れたＴＦＴ液晶パネルを得ることができる。
ガラス基板５の厚さは、ガラス基板５を構成する材料、屈折率等の種々の条件により異なるが、通常、０．３〜３ｍｍ程度が好ましく、０．５〜２ｍｍ程度がより好ましい。厚さをこの範囲内とすると、必要な光学特性を備えたコンパクトなマイクロレンズ用凹部付き基板２を得ることができる。
【００２６】
［変質領域形成工程］
まず、図１に示すように、ガラス基板５に対し、ガラス基板５のマイクロレンズ用凹部３を形成する面とは反対の面側から、超短パルスレーザ光源７よりレーザ光を、ガラス基板５の内部で集光するように照射する。
このように超短パルスレーザ光源７よりレーザ光を照射すると、多光子吸収により、該レーザ光の焦点（集光点）近傍から、レーザ光の照射方向、すなわち、図１中Ｘの方向に向かって、変質領域６が形成される。
【００２７】
また、このように超短パルスレーザ光源７を用いることによって、変質領域６の、ガラス基板５の面方向における幅を極めて小さいものとすることができる。これにより、最終的に得られるマイクロレンズ用凹部付き基板２は、マイクロレンズ用凹部３が緻密に配列したものとなる。
なお、本明細書中における変質領域とは、化学的に変質した領域、微小の亀裂または欠損等を含むものをいう。
【００２８】
超短パルスレーザ光源に用いられるレーザとしては、特に限定されないが、パルス幅において、フェムト秒オーダーのレーザを用いるのが好ましい。また、再生増幅された超短パルスを用いるのが好ましい。これにより、多光子吸収に必要なエネルギー強度を容易に得ることができ、使用する波長に対し透明な材料（ガラス基板５）においても、吸収を誘起させることが可能となる。このようなレーザを用いることによって、熱拡散により生じる不要な変質領域をほとんど有しない変質領域６を形成することができる。また、多光子吸収の持つ非線形効果から、光軸に対して垂直な方向に対し、回折限界以下の領域で変質領域６を形成することができる。
【００２９】
照射されるレーザ光のパルス幅は、１０ｆｓ〜１ｐｓであるのが好ましく、５０ｆｓ〜５００ｆｓであるのがより好ましく、１００ｆｓ〜１５０ｆｓであるのがさらに好ましい。これにより、多光子吸収を効果的に生じさせることができるため、より効率的に変質領域６を形成することができる。また、目的とする部位にのみ選択的に変質領域を形成することができる。これに対し、パルス幅が前記下限値未満であると、多光子吸収を生じるのが困難となる場合があり、そのため、十分な変質領域６が形成されない可能性がある。一方、パルス幅が前記上限値を超えると、レーザ光の照射領域の周辺に熱拡散が生じる場合があり、結果として、変質領域６の形状を制御するのが困難となる場合がある。
【００３０】
また、レーザ光の波長は、２００〜１５００ｎｍであるのが好ましく、４００〜８００ｎｍであるのがより好ましい。これにより、多光子吸収による材料（ガラス基板５）内部での変質領域６を形成可能であり、また、光軸に対し垂直方向の変質領域の幅をより減少させることが可能となる。
また、レーザ光のパルスエネルギーは、１μＪ〜１ｍＪであるのが好ましく、１０μＪ〜５００μＪであるのがより好ましく、８０μＪ〜１２０μＪであるのがさらに好ましい。これにより、より効率的に変質領域６を形成することができる。これに対し、パルスエネルギーが前記下限値未満であると、エッチングレートを十分向上させるための変質領域６を形成するのが困難となる場合がある。一方、パルスエネルギーが前記上限値を超えると、変質領域６の形状や大きさ等を制御するのが困難となる場合がある。
また、レーザ光の照射パルス数は、１〜１００ショットであるのが好ましく、１〜１０ショットであるのがより好ましい。これにより、より確実に変質領域６を形成することができる。
【００３１】
なお、本発明の方法によれば、照射されるレーザ光の焦点位置や上述したような照射条件を制御することによって、変質領域の長さや幅等を容易に制御することができる。その結果、後述するマイクロレンズ用凹部を所望の形状や大きさにより確実に制御することができる。例えば、変質領域６の長さを大きくするようにレーザ光の焦点等を調整すると、中心付近での深さが深いマイクロレンズ用凹部３を形成することができ、アスペクト比を比較的大きなものとすることができる。また、変質領域の長さを小さくするようにレーザ光の焦点等を調整すると、中心付近での深さの浅いマイクロレンズ用凹部３を形成することができ、アスペクト比を比較的小さなものとすることができる。
以上のようにして形成された変質領域６は、他の部分と比較して、エッチングレートが大きいため、後に詳述するようなエッチングを施すことで、マイクロレンズ用凹部３を形成することができる。
【００３２】
ガラス基板５の幅方向での変質領域６の長さ（図中Ａで表される長さ）は、１〜５００μｍであるのが好ましい。これにより、後述するエッチング工程において、ガラス基板５が食刻される度合いを適度なものとすることができる。また、後述するエッチング工程において形成されるマイクロレンズ用凹部３の形状は、特に光学特性に優れたマイクロレンズを得るのに最適なものとなる。これに対し、変質領域６の長さが前記下限値未満であると、後述するエッチング工程で形成されるマイクロレンズ用凹部３の曲率半径を十分に小さくするのが困難となり、これにより得られるマイクロレンズ基板において、十分な光学特性を得るのが困難となる場合がある。一方、変質領域６の長さが前記上限値を超えると、マイクロレンズ用凹部３の形状等を制御するのが困難となる場合がある。
【００３３】
また、ガラス基板５の面方向での変質領域６の幅（図中Ｂで表される幅）は、０．５〜１０μｍであるのが好ましく、１〜５μｍであるのがより好ましい。これにより、後述するエッチング工程において、ガラス基板５が食刻される度合いを適度なものとすることができる。また、後述するエッチング工程において形成されるマイクロレンズ用凹部３の形状は、特に光学特性に優れたマイクロレンズを得るのに最適なものとなる。
【００３４】
なお、変質領域６は、図示の構成のように、ガラス基板５の表面（マイクロレンズ用凹部３を形成する側の面）まで連続して形成されるものであってもよいし、ガラス基板５の表面まで形成されていないものであってもよい。前者の場合には、後に詳述するようなエッチングを施してマイクロレンズ用凹部３を形成する際に、無駄なく、より経済的にマイクロレンズ用凹部３を形成することができる。一方、後者の場合には、ガラス基板５上に形成される各マイクロレンズ用凹部３の深さ、幅、曲率半径等を、各マイクロレンズ用凹部３で異なるように制御することができる。
また、レーザ光の照射条件は、照射する各部位において異なるものであってもよい。
【００３５】
［エッチング工程］
次に、図２に示すように、変質領域６を形成したガラス基板５にエッチングを施し、ガラス基板５上にマイクロレンズ用凹部３を形成する。
前述したように、変質領域６は、他の部分と比較して、エッチングレートが大きいため、図２（ｂ）に示すように、他の部分よりも速く食刻され、変質領域６に対応する部位に、孔部６１が形成される。
その後、孔部６１は徐々に食刻され（図２（ｃ）参照）、所望のサイズとなるまでエッチングが施され、図２（ｄ）に示すようなマイクロレンズ用凹部３が形成される。
【００３６】
エッチング法としては、例えば、ウェットエッチング法、ドライエッチング法等が挙げられる。その中でも、ウェットエッチング法を用いるのが好ましい。これにより、ドライエッチング法に比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。その結果、生産性が向上し、安価にマイクロレンズ用凹部付き基板２を提供することができる。
【００３７】
前述したエッチング法の中で、ウェットエッチング法を用いる場合には、エッチング剤として、フッ化水素水溶液、フッ化アンモン溶液、フッ酸＋硝酸水溶液、塩化鉄（III）溶液、アルカリ水溶液等を用いることができる。
また、ドライエッチング法を用いる場合には、エッチング剤として、ＣＨＦ３ガス、塩素系ガス等を用いることができる。
以上により、マイクロレンズ用凹部３が形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板２（本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板）が得られる。
【００３８】
なお、ガラス基板５のマイクロレンズ用凹部３または孔部６１が形成されている側の面上に、さらに新しい変質領域６を形成し、エッチングを施すといった一連の工程を繰り返して行ってもよい。これにより、基板５の全面にわたって偏りなく凹部３を形成することができる。また、マイクロレンズ用凹部３の形状をそろえて均一なものとすることができる。この場合、１回目と２回目以降とで、同じ条件であってもよいし、異なる条件であってもよい。
【００３９】
以上のようにして形成されたマイクロレンズ用凹部３の平面視したときの平均径は、５〜１００μｍであるのが好ましく、１０〜５０μｍであるのがより好ましい。これにより、例えば、このようなマイクロレンズ用凹部付き基板２を用いて製造される液晶パネルは、スクリーンに投影される画像において優れた解像度を有するものとなる。
また、マイクロレンズ用凹部３の中央部付近での平均曲率半径は、２．５〜５０μｍであるのが好ましく、５〜２５μｍであるのがより好ましい。これにより、このようなマイクロレンズ用凹部３を用いて得られるマイクロレンズの光学特性を特に優れたものとすることができる。
また、マイクロレンズ用凹部３の中心付近での深さは、５〜１００μｍであるのが好ましく、１０〜５０μｍであるのがより好ましい。これにより、このようなマイクロレンズ用凹部３を用いて得られるマイクロレンズの光学特性を特に優れたものとすることができる。
【００４０】
以上説明したような本発明の方法によれば、変質領域を基板上に緻密に形成することができるため、最終的に得られるマイクロレンズ用凹部付き基板を、マイクロレンズ用凹部が緻密に配列したものとすることができる。
また、本発明の方法によれば、形成されるマイクロレンズ用凹部の平均径をｃ、中心付近での深さをｄとしたときの、ｄ／ｃ、いわゆる、アスペクト比を容易に制御することができる。
また、本発明の方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼りあわせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質の大型マイクロレンズ用凹部付き基板を簡便な方法で安価に製造することができる。
【００４１】
次に、本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法の第２実施形態について説明する。
以下、前述した第１実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項については、その説明を省略する。
本実施形態では、マイクロレンズ用凹部３を形成する際に、アライメントマーク４もほぼ同時に形成する。
このアライメントマーク４（図６参照）は、例えば、前記液晶パネル用対向基板１を製造する際に、位置決めの指標とされる。
【００４２】
このようなアライメントマーク４は、以下のようにして形成することができる。
まず、図３（ａ）に示すように、変質領域６を形成する際に、変質領域６を形成するのと同様にして、アライメントマーク４を形成するための変質領域６’を形成する。
その後、エッチングを施すことにより、まず、変質領域６’に対応する部位に孔部６１’が形成され（図３（ｂ）参照）、その後、さらにエッチングが進み（図３（ｃ）参照）、図３（ｄ）に示すようにアライメントマーク４が形成される。
なお、変質領域６を形成する際のレーザ光の焦点位置や照射条件等と、変質領域６’を形成する際のそれらとは、異なるものであってもよいし、同じであってもよい。
【００４３】
アライメントマーク４の形成位置は特に限定されないが、例えば、図６に示すように、アライメントマーク４をマイクロレンズ用凹部３の形成領域外に形成することができる。
アライメントマーク４は、マイクロレンズ用凹部付き基板２上に複数箇所設けることが好ましい。特に、アライメントマーク４はマイクロレンズ用凹部付き基板２の角部に複数箇所設けることが好ましい。これにより、位置決めをより容易に行うことができるようになる。
【００４４】
図６は、アライメントマーク４を十字型にした例を示している。アライメントマーク４の形状は、特に限定されないが、図６に示すように、角を形成する角部４１を有していることが好ましい。このようにアライメントマーク４が角部４１を有していると、位置決めをより正確に行うことができるようになる。
さらには、図６に示すように、アライメントマーク４は、その中心部位を示すマーク（図６では円形の開口６２）を有していることが好ましい。これにより、位置決めの精度をさらに向上させることができる。
以上説明したように、マイクロレンズ用凹部３を形成する過程で、アライメントマーク４も形成することで、工程数を大幅に増やさずにアライメントマーク４を形成することができる。
【００４５】
このアライメントマーク４は、マイクロレンズ用凹部付き基板２を用いて種々のものを組み立てるとき、様々な位置決めに用いることができる。例えば、かかるマイクロレンズ用凹部付き基板２を用いてブラックマトリックス１１を有する液晶パネル用対向基板１を製造する場合には、アライメントマーク４を指標として、ブラックマトリックス１１を、凹部３すなわちマイクロレンズ８の対応する位置に位置決めすることができる。
【００４６】
以下、マイクロレンズ用凹部付き基板２を用いて、マイクロレンズ基板２００および液晶パネル用対向基板１を製造する方法について、図４を参照しながら説明する。
なお、本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板およびマイクロレンズ基板は、以下に述べる液晶パネル用対向基板および液晶パネル以外にも、例えば、ＣＣＤ、光通信素子等の各種電気光学装置、その他の装置などに用いることができることは言うまでもない。
【００４７】
＜１＞まず、図４（ａ）に示すように、カバーガラス１３を、接着剤を介して、マイクロレンズ用凹部付き基板２のマイクロレンズ用凹部３が形成された面に接合する。
この接着剤が硬化する（固化する）ことにより、樹脂層（接着剤層）１４が形成される。また、これにより、樹脂層１４に、凹部３に充填された樹脂で構成され、凸レンズとして機能するマイクロレンズ８が形成される。
なお、この接着剤には、ガラス基板５の屈折率よりも高い屈折率（例えばｎ＝１．６０程度）の光学接着剤などが好適に用いられる。
【００４８】
＜２＞次に、図４（ｂ）に示すように、カバーガラス１３の厚さを薄くする。
これは、カバーガラス１３を、例えば、研削、研磨、エッチング等することにより行うことができる。
カバーガラス１３の厚さは、必要な光学特性を備えた液晶パネル用対向基板１を得る観点からは、１０〜１０００μｍ程度が好ましく、２０〜１５０μｍ程度がより好ましい。
なお、積層したカバーガラス１３が、以降の工程を行うのに最適な厚さの場合には、本工程は行わなくてもよい。
【００４９】
＜３＞次に、図４（ｃ）に示すように、カバーガラス１３上に、開口１１１が形成されたブラックマトリックス１１を形成する。
このとき、ブラックマトリックス１１は、マイクロレンズ８の位置に対応するように、具体的には、マイクロレンズ８の光軸Ｑがブラックマトリックス１１の開口１１１を通るように形成する（図５参照）。
【００５０】
このブラックマトリックス１１は、例えば、Ｃｒ、Ａｌ、Ａｌ合金、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｔｉ等の金属膜、カーボンやチタン等を分散した樹脂層などで構成されている。その中でも、ブラックマトリックス１１は、Ｃｒ膜またはＡｌ合金膜で構成されていることが好ましい。ブラックマトリックス１１がＣｒ膜で構成されていると、遮光性に優れたブラックマトリックス１１を得ることができる。また、ブラックマトリックス１１がＡｌ合金膜で構成されていると、優れた放熱性を有する液晶パネル用対向基板１が得られる。
ブラックマトリックス１１の厚さは、液晶パネル用対向基板１の平坦性に対する影響を抑制する観点等からは、０．０３〜１．０μｍ程度が好ましく、０．０５〜０．３μｍ程度がより好ましい。
【００５１】
この開口１１１が形成されたブラックマトリックス１１は、例えば次のように形成することができる。まず、カバーガラス１３上にスパッタリング等の気相成膜法によりブラックマトリックス１１となる薄膜を成膜する。次に、かかるブラックマトリックス１１となる薄膜上にレジスト膜を形成する。次に、アライメントマーク４を指標として、ブラックマトリックス１１の開口１１１がマイクロレンズ８（凹部３）に対応する位置に来るように、前記レジスト膜を露光してかかるレジスト膜に開口１１１のパターンを形成する。次に、ウエットエッチングを行い、前記薄膜のうちの開口１１１となる部分のみを除去する。次に、前記レジスト膜を除去する。なお、ウエットエッチングを行う際の剥離液としては、例えば、ブラックマトリックス１１となる薄膜がＡｌ合金等で構成されているときは、リン酸系エッチング液を用いることができる。
なお、開口１１１が形成されたブラックマトリックス１１は、塩素系ガス等を用いたドライエッチングによっても好適に形成することができる。
【００５２】
＜４＞次に、カバーガラス１３上に、ブラックマトリックス１１を覆うように透明導電膜（共通電極）１２を形成する。
これにより、液晶パネル用対向基板１、または、液晶パネル用対向基板１を複数個取りできるウエハーを得ることができる。
この透明導電膜１２は、例えば、インジウムティンオキサイド（ＩＴＯ）、インジウムオキサイド（ＩＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）などで構成されている。
透明導電膜１２の厚さは、０．０３〜１μｍ程度が好ましく、０．０５〜０．３０μｍ程度がより好ましい。
この透明導電膜１２は、例えば、スパッタリングにより形成することができる。
【００５３】
＜５＞最後に、ダイシング装置等を用いて液晶パネル用対向基板１のウエハーを所定の形状、大きさに（例えば、図６中、一点鎖線で示すように）カットする。
これにより、図５に示すような液晶パネル用対向基板１を得ることができる。この液晶パネル用対向基板１が備えるマイクロレンズ８は、非球面レンズとされているので、球面収差が抑えられ、優れた光学特性を有するものとなる。
【００５４】
なお、上記工程＜４＞で液晶パネル用対向基板１が得られた場合等、カットを行う必要がない場合には、本工程は行わなくてもよい。
なお、上述した実施形態では、マイクロレンズ用凹部付き基板２のマイクロレンズ用凹部３を形成する領域外にアライメントマーク４を形成したが、マイクロレンズ用凹部３を形成する領域内にアライメントマーク４を形成してもよいことは言うまでもない。
【００５５】
なお、液晶パネル用対向基板を製造する場合には、例えば、ブラックマトリックス１１を形成せずに、カバーガラス１３上に直接透明導電膜１２を形成してもよい。
なお、上述した実施形態では、アライメントマーク４をブラックマトリックス１１の位置決めに用いたが、液晶パネル用対向基板１もしくはそのウエハーが他の構成要素を有する場合には、アライメントマーク４を、これらの位置決めに用いてもよい。
また、アライメントマーク４を、液晶パネル用対向基板１の構成要素以外のもの、例えば、ＴＦＴ基板（液晶駆動基板）等の他の基板の位置決めに用いてもよい。
【００５６】
なお、上記液晶パネル用対向基板１の製造方法の説明においては、マイクロレンズ用凹部付き基板２の凹部３に樹脂１４を充填してカバーガラス１３で挟み込み、該樹脂１４でマイクロレンズ８を構成した場合を例に挙げて説明したが、マイクロレンズ用凹部付き基板２を型として用いた２Ｐ法（フォトポリマゼーション）によってマイクロレンズ基板を製造することもできる。
【００５７】
以下、２Ｐ法によるマイクロレンズ基板の製造方法を、図７〜図９を参照しながら説明する。
まず、図７（ａ）に示すように、本発明によって製造された、マイクロレンズ用の凹部３が形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板２を準備する。本方法では、この凹部３が形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板２を型として用いる。これら凹部３に樹脂が充填されることにより、マイクロレンズ８が形成される。なお、凹部３の内面には、例えば離型剤などが塗布されていてもよい。そして、このマイクロレンズ用凹部付き基板２を、例えば凹部３が鉛直上方に開放するように設置する。
【００５８】
＜Ｃ１＞次に、凹部３が形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板２上に、マイクロレンズ８を構成することとなる未硬化の樹脂を供給する。
＜Ｃ２＞次に、かかる樹脂に透明基板５１を接合し、押圧・密着させる。
＜Ｃ３＞次に、前記樹脂を硬化させる。この硬化方法は、樹脂の種類によって適宜選択され、例えば、紫外線照射、加熱、電子線照射などが挙げられる。
これにより、図７（ｂ）に示すように、凹部３内に充填された樹脂１４１により、マイクロレンズ８が形成される。
【００５９】
＜Ｃ４＞次に、図７（ｃ）に示すように、型であるマイクロレンズ用凹部付き基板２をマイクロレンズ８から取り外す。
＜Ｃ５＞次に、図８に示すように、例えばマイクロレンズ８が鉛直上方に向くように透明基板５１を設置した後、樹脂層１４２を構成することとなる未硬化の樹脂を、マイクロレンズ８上に供給する。この供給方法としては、例えば、スピンコート等の塗布法、平板の型等を使った２Ｐ法などが挙げられる。
【００６０】
＜Ｃ６＞次に、図９に示すように、ガラス基板（ガラス層）５２をかかる樹脂に接合し、押圧・密着させた後、かかる樹脂を硬化させ、樹脂層１４２を形成する。
＜Ｃ７＞その後、必要に応じ、ガラス基板５２の厚さを研削、研磨等により調整してもよい。
これにより、図９に示すようなマイクロレンズ基板２００が得られる。
【００６１】
その後、上述した方法と同様にして、ガラス基板５２上にブラックマトリックス、透明導電膜等を形成することにより、液晶パネル用対向基板を得ることができる。
また、上述した説明では、１枚のマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて構成された平凸レンズ（平凸型マイクロレンズ）を備えたマイクロレンズ基板を用いているが、本発明のマイクロレンズ基板は、これに限定されるものではない。
【００６２】
以下に、２枚のマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて構成された両凸レンズ（両凸型マイクロレンズ）を備えたマイクロレンズ基板について説明する。
図１０は、このマイクロレンズ基板の実施形態を示す模式的な縦断面図である。
同図に示すように、このマイクロレンズ基板２００は、本発明によって製造された、第１のマイクロレンズ用凹部付き基板（第１の基板）２１と、第２のマイクロレンズ用凹部付き基板（第２の基板）２２と、樹脂層１４と、マイクロレンズ８と、スペーサー９とを有している。
【００６３】
第１のマイクロレンズ用凹部付き基板２１は、第１のガラス基板（第１の透明基板）５３上に非球面の凹曲面（レンズ曲面）を有する複数（多数）の第１の凹部（マイクロレンズ用凹部）３６と第１のアライメントマーク４２とが形成された構成となっている。
第２のマイクロレンズ用凹部付き基板２２は、第２のガラス基板（第２の透明基板）５４上に非球面の凹曲面（レンズ曲面）を有する複数（多数）の第２の凹部（マイクロレンズ用凹部）３７と第２のアライメントマーク４３とが形成された構成となっている。
【００６４】
本実施形態のマイクロレンズ基板２００は、第１のマイクロレンズ用凹部付き基板２１と第２のマイクロレンズ用凹部付き基板２２とが、第１の凹部３６と第２の凹部３７とが対向するように、樹脂層（接着剤層）１４を介して接合された構成となっている。また、このマイクロレンズ基板２００では、第１のマイクロレンズ用凹部付き基板２１と第２のマイクロレンズ用凹部付き基板２２との間に、第１の凹部３６と第２の凹部３７との間に充填された樹脂で、非球面の両凸レンズよりなるマイクロレンズ８が構成されている。
【００６５】
このマイクロレンズ基板２００は、２つの領域、有効レンズ領域９９と非有効レンズ領域１００とを有している。有効レンズ領域９９とは、第１の凹部３６および第２の凹部３７内に充填される樹脂により形成されるマイクロレンズ８が、使用時にマイクロレンズとして有効に用いられる領域をいう。一方、非有効レンズ領域１００とは、有効レンズ領域９９以外の領域をいう。
このようなマイクロレンズ基板２００は、例えば、第１のマイクロレンズ用凹部付き基板２１側から光Ｌを入射させ、第２のマイクロレンズ用凹部付き基板２２側から光Ｌを出射させて、使用される。
【００６６】
このマイクロレンズ基板２００のように、マイクロレンズ８を凸レンズで構成すると、マイクロレンズ８の収差（特に球面収差）がさらに低減する。このため、マイクロレンズ８の中心部近傍はもちろんのこと、マイクロレンズ８の縁部近傍に入射した入射光Ｌも、マイクロレンズ８で好適に集光されるようになる。つまり、マイクロレンズ８の光利用効率は、高い。したがって、このマイクロレンズ基板２００は、高い輝度を有する出射光Ｌを出射することができる。
【００６７】
しかも、マイクロレンズ８の収差が低減されると、マイクロレンズ８の光軸から大幅にずれた方向に出射光が出射することが好適に防止されるようになる。このため、マイクロレンズ基板２００を液晶パネルに用いると、マイクロレンズ８を通過した出射光が隣接する画素内に入射することが、好適に防止されるようになる。すなわち、画素間でクロストークが防止されるようになる。したがって、このマイクロレンズ基板２００を備えた液晶パネルを用いて画像を形成すると、黒色の輝度が極めて低いものとなる。
【００６８】
上述したような構成のマイクロレンズ基板は、このような利点を有しているので、マイクロレンズ基板を備えた液晶パネルを用いて画像を形成すると、黒色はより暗く、白色はより明るくなる。したがって、マイクロレンズ基板を備えた液晶パネルでは、高いコントラスト比が得られ、より美しい画像を形成することが可能となる。
そして、このようなマイクロレンズ基板２００は、例えば以下のようにして製造することができる。以下、図１１〜図１２を参照しつつ、マイクロレンズ基板の製造方法を説明する。
【００６９】
マイクロレンズ基板２００を製造する際には、本発明によって製造された、第１のマイクロレンズ用凹部付き基板２１および第２のマイクロレンズ用凹部付き基板２２を、まず用意する。
第２のマイクロレンズ用凹部付き基板２２を製造するとき、レーザ光の焦点位置、照射条件、または、エッチング条件（例えばエッチング時間、エッチング温度、エッチング液の組成等）のうちの少なくとも１つを、第１のマイクロレンズ用凹部付き基板２１を製造する際の条件と異なるものとすることにより、第１の凹部３６の非球面形状（例えば曲率半径等）と第２の凹部３７の非球面形状とを異なるものとしてもよい。第１の凹部３６の非球面形状と第２の凹部３７の非球面形状とを異なるものとすることで、収差を効果的に低減することができる。
【００７０】
＜Ｄ１＞まず、図１１に示すように、第１のマイクロレンズ用凹部付き基板２１の第１の凹部３６が形成された面に、少なくとも有効レンズ領域９９を覆うように、所定の屈折率（特に第１のガラス基板５３および第２のガラス基板５４の屈折率より高い屈折率）を有する未硬化の樹脂１４３を供給し、第１の凹部３６内に樹脂１４３を充填する。また、この際、第１のマイクロレンズ用凹部付き基板２１上にスペーサー９を含む未硬化の樹脂１４４を供給する。かかる樹脂１４４は、例えばスペーサー９を設置する部位に供給する。
【００７１】
樹脂１４３と樹脂１４４とは、同種類の材料で構成することが好ましい。これにより、製造されるマイクロレンズ基板２００で、樹脂１４３と樹脂１４４との熱膨張係数が相違することにより、そり、たわみ等が生じることが好適に防止される。
樹脂１４３を第１のマイクロレンズ用凹部付き基板２１上に供給する際、スペーサー９が樹脂１４４中に分散していると、スペーサー９を均一に配設することが容易となる。これにより、形成される樹脂層１４の厚みムラが好適に抑制される。
【００７２】
＜Ｄ２＞次に、図１１に示すように、樹脂１４３および樹脂１４４上に第２のマイクロレンズ用凹部付き基板（相手体）２２を設置する（第２のマイクロレンズ用凹部付き基板２２を樹脂に密着させる）。
このとき、第１の凹部３６と第２の凹部３７とが対向するように、第２のマイクロレンズ用凹部付き基板２２を、樹脂上に設置する。また、このとき、第２のマイクロレンズ用凹部付き基板２２がスペーサー９に当接するように、第２のマイクロレンズ用凹部付き基板２２を樹脂上に設置する。これにより、第１のマイクロレンズ用凹部付き基板２１および第２のマイクロレンズ用凹部付き基板２２の互いに対向する端面間の距離は、スペーサー９で規定される。したがって、マイクロレンズ８のコバ厚および最大厚さが、高い精度で規定される。
【００７３】
＜Ｄ３＞次に、第１のアライメントマーク４２と第２のアライメントマーク４３とを用いて、第１の凹部３６と第２の凹部３７との位置合わせを行う。これにより、第２の凹部３７を第１の凹部３６に対応した位置に正確に位置させることができるようになる。このため、形成されるマイクロレンズ８の形状、光学特性が、より設計値に近いものとなる。
＜Ｄ４＞次に、樹脂１４３および樹脂１４４を硬化させて樹脂層１４を形成する。
これにより、第２のマイクロレンズ用凹部付き基板２２が樹脂層１４を介して第１のマイクロレンズ用凹部付き基板２１に接合される。また、樹脂層１４を構成する樹脂のうち、第１の凹部３６と第２の凹部３７との間に充填された樹脂により、マイクロレンズ８が形成される。なお、樹脂の硬化は、例えば、樹脂に紫外線、電子線を照射すること、樹脂を加熱することなどにより行うことができる。
【００７４】
＜Ｄ５＞その後、必要に応じて、図１２に示すように、研削、研磨等を行ない、第２のマイクロレンズ用凹部付き基板２２の厚さを調整してもよい。
これにより、図１０に示すような両凸レンズを備えたマイクロレンズ基板２００を得ることができる。
その後、上述した方法と同様にして、第２のガラス基板５４上にブラックマトリックス、透明導電膜等を形成することにより、液晶パネル用対向基板１を得ることができる。
【００７５】
次に、図５に示した液晶パネル用対向基板１を用いた液晶パネル（液晶光シャッター）について、図１３を参照しながら説明する。
図１３に示すように、本発明の液晶パネル（ＴＦＴ液晶パネル）１６は、ＴＦＴ基板（液晶駆動基板）１７と、ＴＦＴ基板１７に接合された液晶パネル用対向基板１と、ＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基板１との空隙に封入された液晶よりなる液晶層１８とを有している。
【００７６】
ＴＦＴ基板１７は、液晶層１８の液晶を駆動するための基板であり、ガラス基板１７１と、かかるガラス基板１７１上に設けられた多数の画素電極１７２と、かかる画素電極１７２の近傍に設けられ、各画素電極１７２に対応する多数の薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）１７３とを有している。
この液晶パネル１６では、液晶パネル用対向基板１の透明導電膜（共通電極）１２と、ＴＦＴ基板１７の画素電極１７２とが対向するように、ＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基板１とが、一定距離離間して接合されている。
ガラス基板１７１は、前述したような理由から、石英ガラスで構成されていることが好ましい。
【００７７】
画素電極１７２は、透明導電膜（共通電極）１２との間で充放電を行うことにより、液晶層１８の液晶を駆動する。この画素電極１７２は、例えば、前述した透明導電膜１２と同様の材料で構成されている。
薄膜トランジスタ１７３は、近傍の対応する画素電極１７２に接続されている。また、薄膜トランジスタ１７３は、図示しない制御回路に接続され、画素電極１７２へ供給する電流を制御する。これにより、画素電極１７２の充放電が制御される。
【００７８】
液晶層１８は液晶分子（図示せず）を含有しており、画素電極１７２の充放電に対応して、かかる液晶分子、すなわち液晶の配向が変化する。
この液晶パネル１６では、通常、１個のマイクロレンズ８と、かかるマイクロレンズ８の光軸Ｑに対応したブラックマトリックス１１の１個の開口１１１と、１個の画素電極１７２と、かかる画素電極１７２に接続された１個の薄膜トランジスタ１７３とが、１画素に対応している。
【００７９】
マイクロレンズ用凹部付き基板２側から入射した入射光Ｌは、ガラス基板５を通り、マイクロレンズ８を通過する際に集光されつつ、樹脂層１４、カバーガラス１３、ブラックマトリックス１１の開口１１１、透明導電膜１２、液晶層１８、画素電極１７２、ガラス基板１７１を透過する。なお、このとき、マイクロレンズ用凹部付き基板２の入射側には通常偏光板（図示せず）が配置されているので、入射光Ｌが液晶層１８を透過する際に、入射光Ｌは直線偏光となっている。その際、この入射光Ｌの偏光方向は、液晶層１８の液晶分子の配向状態に対応して制御される。したがって、液晶パネル１６を透過した入射光Ｌを、偏光板（図示せず）に透過させることにより、出射光の輝度を制御することができる。
なお、偏光板は、例えば、ベース基板と、かかるベース基板に積層された偏光基材とで構成され、かかる偏光基材は、例えば、偏光素子（ヨウ素錯体、二色性染料等）を添加した樹脂よりなる。
【００８０】
このように、液晶パネル１６は、マイクロレンズ８を有しており、しかも、マイクロレンズ８を通過した入射光Ｌは、集光されて各ブラックマトリックス１１の開口１１１を通過する。しかも、液晶パネル１６が有する液晶パネル用対向基板１は、前述したようにマイクロレンズ用凹部付き基板２（すなわち、凹部３に形成されたマイクロレンズ８）とブラックマトリックス１１との間で好適に位置合わせがなされている。したがって、液晶パネル１６、特にブラックマトリックス１１を通過する際の入射光Ｌの減衰が抑制される。すなわち、液晶パネル１６は、高い光の透過率を有し、比較的小さい光量で明るい画像を形成することができる。
【００８１】
この液晶パネル１６は、例えば、公知の方法により製造されたＴＦＴ基板１７と液晶パネル用対向基板１とを配向処理した後、シール材（図示せず）を介して両者を接合し、次いで、これにより形成された空隙部の封入孔（図示せず）より液晶を空隙部内に注入し、次いで、かかる封入孔を塞ぐことにより製造することができる。その後、必要に応じて、液晶パネル１６の入射側や出射側に偏光板を貼り付けてもよい。
【００８２】
なお、上記液晶パネル１６では、液晶駆動基板としてＴＦＴ基板を用いたが、液晶駆動基板にＴＦＴ基板以外の他の液晶駆動基板、例えば、ＴＦＤ基板、ＳＴＮ基板などを用いてもよい。
なお、上述した実施形態では、最終的に得られた液晶パネル用対向基板１にアライメントマーク４を残存させなかったが、液晶パネル用対向基板１にアライメントマーク４を残存させて、これを液晶パネル１６を製造する際の位置決めに用いてもよい。
【００８３】
以下、上記液晶パネル１６を用いた投射型表示装置について説明する。
図１４は、本発明の投射型表示装置の光学系を模式的に示す図である。
同図に示すように、投射型表示装置３００は、光源３０１と、複数のインテグレータレンズを備えた照明光学系と、複数のダイクロイックミラー等を備えた色分離光学系（導光光学系）と、赤色に対応した（赤色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）７４と、緑色に対応した（緑色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）７５と、青色に対応した（青色用の）液晶ライトバルブ（液晶光シャッターアレイ）７６と、赤色光のみを反射するダイクロイックミラー面７１１および青色光のみを反射するダイクロイックミラー面７１２が形成されたダイクロイックプリズム（色合成光学系）７１と、投射レンズ（投射光学系）７２とを有している。
【００８４】
また、照明光学系は、インテグレータレンズ３０２および３０３を有している。色分離光学系は、ミラー３０４、３０６、３０９、青色光および緑色光を反射する（赤色光のみを透過する）ダイクロイックミラー３０５、緑色光のみを反射するダイクロイックミラー３０７、青色光のみを反射するダイクロイックミラー（または青色光を反射するミラー）３０８、集光レンズ３１０、３１１、３１２、３１３および３１４とを有している。
【００８５】
液晶ライトバルブ７５は、前述した液晶パネル１６と、液晶パネル１６の入射面側（マイクロレンズ用凹部付き基板２が位置する面側、すなわちダイクロイックプリズム７１と反対側）に接合された第１の偏光板（図示せず）と、液晶パネル１６の出射面側（マイクロレンズ用凹部付き基板２と対向する面側、すなわちダイクロイックプリズム７１側）に接合された第２の偏光板（図示せず）とを備えている。液晶ライトバルブ７４および７６も、液晶ライトバルブ７５と同様の構成となっている。これら液晶ライトバルブ７４、７５および７６が備えている液晶パネル１６は、図示しない駆動回路にそれぞれ接続されている。
なお、投射型表示装置３００では、ダイクロイックプリズム７１と投射レンズ７２とで、光学ブロック７０が構成されている。また、この光学ブロック７０と、ダイクロイックプリズム７１に対して固定的に設置された液晶ライトバルブ７４、７５および７６とで、表示ユニット７３が構成されている。
【００８６】
以下、投射型表示装置３００の作用を説明する。
光源３０１から出射された白色光（白色光束）は、インテグレータレンズ３０２および３０３を透過する。この白色光の光強度（輝度分布）は、インテグレータレンズ３０２および３０３により均一にされる。
インテグレータレンズ３０２および３０３を透過した白色光は、ミラー３０４で図１４中左側に反射し、その反射光のうちの青色光（Ｂ）および緑色光（Ｇ）は、それぞれダイクロイックミラー３０５で図１４中下側に反射し、赤色光（Ｒ）は、ダイクロイックミラー３０５を透過する。
【００８７】
ダイクロイックミラー３０５を透過した赤色光は、ミラー３０６で図１４中下側に反射し、その反射光は、集光レンズ３１０により整形され、赤色用の液晶ライトバルブ７４に入射する。
ダイクロイックミラー３０５で反射した青色光および緑色光のうちの緑色光は、ダイクロイックミラー３０７で図１４中左側に反射し、青色光は、ダイクロイックミラー３０７を透過する。
【００８８】
ダイクロイックミラー３０７で反射した緑色光は、集光レンズ３１１により整形され、緑色用の液晶ライトバルブ７５に入射する。
また、ダイクロイックミラー３０７を透過した青色光は、ダイクロイックミラー（またはミラー）３０８で図１４中左側に反射し、その反射光は、ミラー３０９で図１４中上側に反射する。前記青色光は、集光レンズ３１２、３１３および３１４により整形され、青色用の液晶ライトバルブ７６に入射する。
【００８９】
このように、光源３０１から出射された白色光は、色分離光学系により、赤色、緑色および青色の三原色に色分離され、それぞれ、対応する液晶ライトバルブに導かれ、入射する。
この際、液晶ライトバルブ７４が有する液晶パネル１６の各画素（薄膜トランジスタ１７３とこれに接続された画素電極１７２）は、赤色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路（駆動手段）により、スイッチング制御（オン／オフ）、すなわち変調される。
【００９０】
同様に、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ７５および７６に入射し、それぞれの液晶パネル１６で変調され、これにより緑色用の画像および青色用の画像が形成される。この際、液晶ライトバルブ７５が有する液晶パネル１６の各画素は、緑色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御され、液晶ライトバルブ７６が有する液晶パネル１６の各画素は、青色用の画像信号に基づいて作動する駆動回路によりスイッチング制御される。
これにより赤色光、緑色光および青色光は、それぞれ、液晶ライトバルブ７４、７５および７６で変調され、赤色用の画像、緑色用の画像および青色用の画像がそれぞれ形成される。
【００９１】
前記液晶ライトバルブ７４により形成された赤色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ７４からの赤色光は、面７１３からダイクロイックプリズム７１に入射し、ダイクロイックミラー面７１１で図１４中左側に反射し、ダイクロイックミラー面７１２を透過して、出射面７１６から出射する。
また、前記液晶ライトバルブ７５により形成された緑色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ７５からの緑色光は、面７１４からダイクロイックプリズム７１に入射し、ダイクロイックミラー面７１１および７１２をそれぞれ透過して、出射面７１６から出射する。
また、前記液晶ライトバルブ７６により形成された青色用の画像、すなわち液晶ライトバルブ７６からの青色光は、面７１５からダイクロイックプリズム７１に入射し、ダイクロイックミラー面７１２で図１４中左側に反射し、ダイクロイックミラー面７１１を透過して、出射面７１６から出射する。
【００９２】
このように、前記液晶ライトバルブ７４、７５および７６からの各色の光、すなわち液晶ライトバルブ７４、７５および７６により形成された各画像は、ダイクロイックプリズム７１により合成され、これによりカラーの画像が形成される。この画像は、投射レンズ７２により、所定の位置に設置されているスクリーン３２０上に投影（拡大投射）される。
このとき、液晶ライトバルブ７４、７５および７６は、前述したような液晶パネル１６を備えているので、光源３０１からの光が液晶ライトバルブ７４、７５および７６を通過する際の減衰は抑制され、スクリーン３２０上に明るい画像を投影することができる。
【００９３】
以上、本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法、マイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび投射型表示装置の好適な実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されない。
例えば、本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法では、任意の目的の工程が１または２以上追加されてもよい。
【００９４】
また、前述した実施形態では、マスクを施さずにエッチングを行う方法について説明したが、マスクを施して、エッチングを行うものであってもよい。この場合、全体がエッチングされないため、基板の厚さを保持することができ、その結果、アスペクト比をより容易に大きいものとすることができる。
また、前述した実施形態では、集光点を動かさずに変質領域を形成する方法について説明したが、これに限定されず、集光点を動かして変質領域を形成してもよい。
【００９５】
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ用凹部付き基板を用いて、マイクロレンズ基板を作るものとして説明したが、これに限定されず、例えば、マイクロレンズ用凹部付き基板をそのままマイクロレンズ基板としてもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ用凹部と同様の方法により、凹部としてのアライメントマークを形成する場合について説明したが、アライメントマークは、凸状に形成されたものであってもよい。
【００９６】
また、前述した実施形態では、マイクロレンズが非球面レンズであるとして説明したが、球面レンズであってもよい。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板として、マイクロレンズ用凹部付き基板と、透明な樹脂層と、カバーガラスとを有するものとして説明したが、例えば、マイクロレンズ用凹部付き基板および／またはカバーガラスはなくてもよい。
【００９７】
また、前述した実施形態では、本発明のマイクロレンズ基板を、液晶パネル用対向基板、液晶パネルおよび該液晶ライトバルブを備えた投射型表示装置に用いた場合を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、本発明のマイクロレンズ基板を、例えば、ＣＣＤ、光通信素子等の各種電気光学装置、有機または無機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置、その他の装置などに用いることができることは言うまでもない。
また、前述した実施形態では、本発明のマイクロレンズ基板を、投射型表示装置に適用した場合について説明したが、透過型スクリーン、リヤ型プロジェクタにも用いることができる。
【実施例】
【００９８】
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ用凹部を備えたマイクロレンズ用凹部付き基板を製造し、このマイクロレンズ用凹部付き基板を用いてマイクロレンズ基板を製造した。
まず、基板として、１．２ｍ×０．７ｍ角、厚さ２ｍｍの石英ガラス基板を用意した。
この石英ガラス基板を、３０℃に加熱した洗浄液（フッ化水素１０重量％＋グリセリン１５重量％の混合水溶液）に浸漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した。
【００９９】
−１Ａ−  次に、この石英ガラス基板の片面側に、フェムト秒レーザを用いて、石英ガラス基板の中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に１５μｍのピッチで、レーザ光の照射を行った。
なお、フェムト秒レーザより照射されたレーザ光は、石英ガラス基板の、レーザ光を照射する側の面とは反対側の面の表面から、１３μｍの位置に焦点を合わせて、波長８００ｎｍ、パルス幅１００ｆｓ、パルスエネルギー１００μＪで、各照射部位での照射パルス数を１ショットの条件で照射した。
【０１００】
これにより、石英ガラス基板の上記範囲前面にわたって、規則的に配列した変質領域が形成された。形成された変質領域の平均長さは１３μｍ、変質領域の平均幅は１μｍであった。なお、変質領域は、石英ガラス基板の、レーザ光を照射する側の面とは反対側の面の表面まで連続して形成された。
また、前記変質領域を形成する際に、上記と同様の条件にて、前記中央部以外の四隅に、図６に示すようなアライメントマークとなるように、アライメントマーク用変質領域を形成した。
【０１０１】
−２Ａ−  次に、石英ガラス基板にウェットエッチングを施し、石英ガラス基板上に多数の凹部を形成した。
なお、ウェットエッチングは、２０℃で、エッチング液としてフッ化水素５ｗｔ％水溶液を用い、浸漬時間は３時間とした。
これにより、石英ガラス基板上に、マイクロレンズ用の多数の凹部が規則的に配列したマイクロレンズ用凹部付き基板を得た。なお、形成されたマイクロレンズ用凹部の平均径は１５μｍ、曲率半径は７．５μｍ、中心付近での深さは１３μｍであった。また、隣接するマイクロレンズ用凹部同士の間隔（凹部同士の中心間平均距離）は１５μｍであった。
【０１０２】
−３Ａ−  次に、マイクロレンズ用凹部付き基板を型として用い、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート、屈折率１．４９）樹脂をキャスティング成形により成型加工した。
これにより、マイクロレンズ用凹部付き基板の凹部に対応した凸部を有するマイクロレンズが、規則的に配列した１．２ｍ×０．７ｍのマイクロレンズ基板を得た。形成されたマイクロレンズの平均径は１５μｍ、平均曲率半径は７．５μｍであった。
【０１０３】
（実施例２〜５）
フェムト秒レーザの照射条件を表１に示すようにした以外は、前記実施例１と同様にマイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板を製造した。
【０１０４】
（比較例）
まず、基板として、厚さ１ｍｍの石英ガラス基板を用意した。
この石英ガラス基板を、３０℃に加熱した洗浄液（フッ化水素１０重量％＋グリセリン１５重量％の混合水溶液）に浸漬して洗浄を行い、その表面を清浄化した。
−１Ｃ−  次に、この石英ガラス基板を、６００℃、８０Ｐａに設定したＣＶＤ炉内に入れ、ＳｉＨ４を３００ｍＬ／分の速度で供給し、ＣＶＤ法にて、厚さ０．６μｍの多結晶シリコン膜（マスクおよび裏面保護層）を形成した。
【０１０５】
−２Ｃ−  次に、形成した多結晶シリコン膜（マスク）上に、フォトレジストにより規則的なマイクロレンズのパターンを有するレジストを形成し、次いで、多結晶シリコン膜（マスク）に対してＣＦガスによるドライエッチングを行い、次いで、前記レジストを除去して、多結晶シリコン膜（マスク）に開口を形成した。
−３Ｃ−  次に、石英ガラス基板に第１のウェットエッチングを施し、石英ガラス基板上に多数の凹部を形成した。
なお、エッチング液には、フッ酸系のエッチング液を用いた。
【０１０６】
−４Ｃ−  次に、ＣＦガスによるドライエッチングを行い、多結晶シリコン膜（マスクおよび裏面保護層）を除去した。
これにより、石英ガラス基板上に、マイクロレンズ用の多数の凹部が規則的に形成されたウエハー状のマイクロレンズ用凹部付き基板を得た。なお、形成された凹部の曲率半径（マイクロレンズの中心部付近における曲率半径）は３６μｍ、隣接する凹部同士の間隔（凹部同士の中心間平均距離）は５０μｍであった。
この後、上記−３Ａ−の工程を行い、実施例１と同様にして、多数のマイクロレンズが規則的に形成されたマイクロレンズ基板を得た。形成されたマイクロレンズの平均径（直径）は、５０μｍであった。
実施例１〜５と比較例における凹部を形成する際の各条件、および形成された凹部の平均径、凹部の曲率半径、凹部の深さ、隣接する凹部の間隔、マイクロレンズの平均径、マイクロレンズの曲率半径を表１に示す。
【０１０７】
【表１】
2005121915.tif 000003
【０１０８】
（評価）
フェムト秒レーザによって基板上に変質領域を形成した実施例１〜５では、従来の方法に比べ、容易に、かつ安価にマイクロレンズ用凹部付き基板、マイクロレンズ基板を製造することができた。また、特に、実施例では、１．２ｍ×０．７ｍといった大型の基板に対する処理も容易に行うことができた。一方、フォトリソグラフィ法によりマスクに開口部を形成した比較例では、１．２ｍ×０．７ｍといった大型の基板に対する処理は困難であった。特に、フォトレジストの工程で、多数の不良品を生じ極めて歩留に劣っていた。
また、マイクロレンズの平均径を２０μｍ、隣接する凹部同士の間隔を２０μｍとなるように、比較例と同様の方法でマイクロレンズ用凹部付き基板を作製しようと試みたが、開口を確実に形成することができず、マイクロレンズ用凹部が形成されない部位が多数確認され、実用に耐えうるものではなかった。
【０１０９】
そして、前記実施例１〜５および比較例で得られたマイクロレンズ基板を用いて、図５に示す液晶パネル用対向基板を作製し、当該液晶パネル用対向基板を用いて図１３に示すような液晶パネルを作製し、当該液晶パネルを用いて図１４に示すような投射型表示装置を作製した。
得られた投射型表示装置を用いて、スクリーンにそれぞれ画像を投射させたところ、実施例１〜５で得られたマイクロレンズ基板を用いた投射型表示装置では、比較例で得られたマイクロレンズ基板を用いた投射型表示装置に比べて、解像度の高い画像を表示することができた。
【図面の簡単な説明】
【０１１０】
【図１】本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図２】本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図３】本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図４】本発明の液晶パネル用対向基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図５】本発明の液晶パネル用対向基板を示す模式的な縦断面図である。
【図６】本発明のマイクロレンズ用凹部付き基板を示す模式的な平面図である。
【図７】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図８】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図９】本発明のマイクロレンズ基板を示す模式的な縦断面図である。
【図１０】本発明のマイクロレンズ基板を示す模式的な縦断面図である。
【図１１】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図１２】本発明のマイクロレンズ基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図１３】本発明の液晶パネルを示す模式的な縦断面図である。
【図１４】本発明の投射型表示装置の光学系を模式的に示す図である。
【符号の説明】
【０１１１】
１……液晶パネル用対向基板  ２……マイクロレンズ用凹部付き基板  ２１……第１のマイクロレンズ用凹部付き基板  ２２……第２のマイクロレンズ用凹部付き基板  ２００……マイクロレンズ基板  ３……マイクロレンズ用凹部  ４……アライメントマーク  ４１……角部  ４２……第１のアライメントマーク  ４３……第２のアライメントマーク  ５……ガラス基板  ５１……透明基板  ５２……ガラス基板  ５３……第１のガラス基板  ５４……第２のガラス基板  ６、６’……変質領域  ６１、６１’……孔部  ６２……開口  ７……超短パルスレーザ光源  ８……マイクロレンズ  ９……スペーサー  ９９……有効レンズ領域  １００……非有効レンズ領域  １１……ブラックマトリックス  １１１……開口  １２……透明導電膜  １３……カバーガラス  １４……樹脂層  １４１、１４２……樹脂層  １４３、１４４……樹脂  １６……液晶パネル  １７……ＴＦＴ基板  １７１……ガラス基板  １７２……画素電極  １７３……薄膜トランジスタ  １８……液晶層  ７０……光学ブロック  ７１……ダイクロイックプリズム  ７１１、７１２……ダイクロイックミラー面  ７１３〜７１５……面  ７１６……出射面  ７２……投射レンズ  ７３……表示ユニット  ７４〜７６……液晶ライトバルブ  ３００……投射型表示装置  ３０１……光源  ３０２、３０３……インテグレータレンズ  ３０４、３０６、３０９……ミラー  ３０５、３０７、３０８……ダイクロイックミラー  ３１０〜３１４……集光レンズ  ３２０……スクリーン
【図１】
2005121915.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2005121915.tif 000012
【図１０】
2005121915.tif 000013
【図１１】
2005121915.tif 000014
【図１２】
2005121915.tif 000015
【図１３】
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【図１４】
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