(57)【要約】【課題】  被測定物の透明度に的確に対応した組織構造を観察することができる組織構造の観察方法を提供すること。【解決手段】  本発明は、光学顕微鏡装置２０を用いて被測定物６の組織構造を観察する組織構造の観察方法であって、光軸におけるコンデンサレンズ２基準点１５との間の距離を決定し、その距離ｘ及び散乱光の散乱角θに対し予め求められた次式ｙ＝ｔａｎθ・（ｘ−ｘ０）（式中、ｙは、回折像面８に設置される空間絞り９のパターンエッジ９ｄの光軸７からの距離）で表される関係に基づいてｙを算出し、光軸７からの距離が、算出されたｙのパターンエッジを有する空間絞り９を回折像面８に設置し、対物レンズ１０の焦準を被測定物６に合わせて被測定物６を観察し、空間絞り９を通過する特定範囲の散乱角の散乱光の強度と空間絞りを外した状態での全散乱角の散乱光の強度とを測定する。【選択図】  図１
2005147898.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から発せられる照明光を空間上の一点である収束点に収束させるコンデンサレンズを有する照明手段と、
前記収束点の手前側であって前記コンデンサレンズからの照明光を受ける位置に設けられ、被測定物を載置する被測定物載置台と、
前記被測定物において透過又は反射された照明光が前記収束点に収束されてから入射されるように配置される対物レンズと、
前記収束点を含み前記照明光の光軸に直交する回折像面の位置に設置され、前記被測定物を透過した散乱光又は被測定物によって反射された散乱光のうち特定範囲の散乱角の散乱光を選択的に通過させる空間絞りと、
を備える光学顕微鏡装置を用いて、前記被測定物載置台に載置される前記被測定物の組織構造を観察する組織構造の観察方法であって、
前記回折像面における前記空間絞りのパターンエッジの前記光軸からの距離、及び前記被測定物を透過した散乱光又は被測定物によって反射された散乱光のうち前記特定範囲の散乱角に含まれる散乱角θに対して予め求められた下記式：
ｙ＝ｔａｎθ・（ｘ−ｘ０）
（上記式中、ｙは、前記回折像面における前記空間絞りのパターンエッジの前記光軸からの距離、ｘは前記光軸における前記コンデンサレンズと基準点との間の距離、ｘ０はｙ＝０のときのｘの値を表す）
で表される関係に基づいてｘを算出する第１工程と、
前記光軸における前記コンデンサレンズと基準点との間の距離が、前記第１工程で算出されたｘの値となる位置に前記コンデンサレンズを配置する第２工程と、
前記対物レンズの焦準を、前記被測定物載置台上に載置される前記被測定物に合わせて前記被測定物を観察する第３工程と、
前記空間絞りを通過する特定範囲の散乱角の散乱光の強度を測定する第４工程と、
前記空間絞りを外した状態で前記被測定物を透過した散乱光又は被測定物によって反射された散乱光の強度を測定する第５工程と、
を含むことを特徴とする組織構造の観察方法。
【請求項２】
光源から発せられる照明光を空間上の一点である収束点に収束させるコンデンサレンズを有する照明手段と、
前記収束点の手前側であって前記コンデンサレンズからの照明光を受ける位置に設けられ、被測定物を載置する被測定物載置台と、
前記被測定物において透過又は反射された照明光が前記収束点に収束されてから入射されるように配置される対物レンズと、
を備える光学顕微鏡装置を用いて、前記被測定物載置台に載置される前記被測定物の組織構造を観察する組織構造の観察方法であって、
光軸における前記コンデンサレンズと基準点との間の距離を決定する第１工程と、
前記第１工程で決定された前記光軸における前記コンデンサレンズと基準点との間の距離ｘ、及び前記被測定物を透過した散乱光又は被測定物によって反射された散乱光の散乱角θに対して予め求められた下記式：
ｙ＝ｔａｎθ・（ｘ−ｘ０）
（上記式中、ｙは、前記収束点を含み前記照明光の光軸に直交する回折像面における空間絞りのパターンエッジの前記光軸からの距離、ｘは前記光軸における前記コンデンサレンズと前記基準点との間の距離、ｘ０はｙ＝０のときのｘの値を表す）
で表される関係に基づいてｙの値を算出する第２工程と、
前記光軸からの距離が、前記第２工程で算出されたｙの値であるパターンエッジを有する空間絞りであって前記被測定物を透過した散乱光又は被測定物によって反射された散乱光のうち前記散乱角θを含む特定範囲の散乱角の散乱光を選択的に通過させる空間絞りを、前記収束点を含み前記照明光の光軸に直交する回折像面の位置に設置する第３工程と、
前記対物レンズの焦準を前記被測定物載置台に載置される前記被測定物に合わせて、前記被測定物を観察する第４工程と、
前記空間絞りを通過する特定範囲の散乱角の散乱光の強度を測定する第５工程と、
前記空間絞りを外した状態で前記被測定物を透過した散乱光又は被測定物によって反射された散乱光の強度を測定する第６工程と、
を含むことを特徴とする組織構造の観察方法。
【請求項３】
前記散乱角θの前記特定範囲が、下記式：
４°≦θ
で表されることを特徴とする請求項１又は２に記載の組織構造の観察方法。
【請求項４】
前記散乱角θの前記特定範囲が、下記式：
０．４°≦θ≦１．２°
で表されることを特徴とする請求項１又は２に記載の組織構造の観察方法。
【請求項５】
前記散乱角θの前記特定範囲が、下記式：
０°≦θ≦０．４°
で表されることを特徴とする請求項１又は２に記載の組織構造の観察方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種材料において透明性の程度を低下させる要因となる組織構造を観察する組織構造の観察方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
各種材料の透明性の程度（以下、「透明度」と呼ぶ）は、その組織構造と密接に相関している。そのため、材料の透明性を調べる上で、その組織構造を正確に評価・解析することが重要となる。そのために、多くの手法が開発され活用されているが、光学顕微鏡装置はその中でも、利用のしやすさや得られる情報の多様性等から、材料の組織構造を観察する手段として最も一般的に利用されるようになっている。
【０００３】
このような光学顕微鏡装置を用いた被測定物の組織構造の観察方法として、空間上の一点である収束点に収束する照明光に対し、被測定物を収束点の手前側に配置し、収束点を含む面を対物レンズを通して観察することにより、被測定物の組織構造を反映した回折像を観察する方法が知られている（特許文献１参照）。またこの特許文献１には、被測定物における散乱の要因となる組織構造を知るために、対物レンズを通して被測定物を観察することにより暗視野像を観察することも開示されている。
【０００４】
一方、透明度は、特定の散乱角範囲の散乱光強度によって表されることが知られており、散乱光強度は、光散乱測定装置によって測定されるのが通常となっている。
【特許文献１】特開２００１−２６４６３８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、被測定物の透明度を改良するためには、被測定物の透明度と、被測定物の組織構造とが的確に対応していることが望まれる。
【０００６】
しかしながら、上述した従来技術においては、透明度を表す散乱光強度と、光散乱の要因となる組織構造はそれぞれ、光散乱測定装置、光学顕微鏡装置で別々に測定される。このため、透明度と、散乱の要因となる組織構造とが的確に対応しているとは言えなかった。
【０００７】
本発明は、上記課題に鑑みて為されたものであり、被測定物の透明度に的確に対応した組織構造を観察することができる組織構造の観察方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明は、光源から発せられる照明光を空間上の一点である収束点に収束させるコンデンサレンズを有する照明手段と、収束点の手前側であってコンデンサレンズからの照明光を受ける位置に設けられ、被測定物を載置する被測定物載置台と、被測定物において透過又は反射された照明光が収束点に収束されてから入射されるように配置される対物レンズと、収束点を含み照明光の光軸に直交する回折像面の位置に設置され、被測定物を透過した散乱光又は被測定物によって反射された散乱光のうち特定範囲の散乱角の散乱光を選択的に透過させる空間絞りと、を備える光学顕微鏡装置を用いて、被測定物載置台に載置される被測定物の組織構造を観察する組織構造の観察方法であって、回折像面における空間絞りのパターンエッジの光軸からの距離、及び被測定物を透過した散乱光又は被測定物によって反射された散乱光のうち上記特定範囲の散乱角に含まれる散乱角θに対して予め求められた下記式：
ｙ＝ｔａｎθ・（ｘ−ｘ０）
（上記式中、ｙは、回折像面における前記空間絞りのパターンエッジの前記光軸からの距離、ｘは光軸におけるコンデンサレンズと基準点との間の距離、ｘ０はｙ＝０のときのｘの値を表す）
で表される関係に基づいてｘを算出する第１工程と、光軸におけるコンデンサレンズと基準点との間の距離が、第１工程で算出されたｘの値となる位置にコンデンサレンズを配置する第２工程と、対物レンズの焦準を、被測定物載置台に載置される被測定物に合わせて被測定物を観察する第３工程と、空間絞りを通過する特定範囲の散乱角の散乱光の強度を測定する第４工程と、空間絞りを外した状態で前記被測定物を透過した散乱光又は被測定物によって反射された散乱光の強度を測定する第５工程とを含むことを特徴とする。
【０００９】
上記組織構造の観察方法によれば、空間絞りを通過する特定範囲の散乱角の散乱光強度と前記被測定物を透過した散乱光又は被測定物によって反射された散乱光の強度、即ち全散乱角（０°〜９０°）の散乱光の強度を測定して、両者の比を算出することにより、被測定物の透明度を知ることができる。一方、上記組織構造の観察方法によれば、上記光学顕微鏡装置において、上記のようにして被測定物を観察することで、被測定物における光散乱に起因する組織構造を観察することができる。このとき、被測定物からの特定範囲の散乱角の散乱光強度の測定及び被測定物の組織構造の観察はいずれも、空間絞りを通過する散乱光に基づいて行われる。従って、被測定物の透明度に的確に対応した組織構造を観察することができる。
【００１０】
また本発明は、光源から発せられる照明光を空間上の一点である収束点に収束させるコンデンサレンズを有する照明手段と、収束点の手前側であってコンデンサレンズからの照明光を受ける位置に設けられ、被測定物を載置する被測定物載置台と、被測定物において透過又は反射された照明光が収束点に収束されてから入射されるように配置される対物レンズと、を備える光学顕微鏡装置を用いて、被測定物載置台に載置される被測定物の組織構造を観察する組織構造の観察方法であって、光軸におけるコンデンサレンズと基準点との間の距離を決定する第１工程と、第１工程で決定された光軸におけるコンデンサレンズと基準点との間の距離ｘ、及び被測定物を透過した散乱光又は被測定物によって反射された散乱光の散乱角θに対して予め求められた下記式：
ｙ＝ｔａｎθ・（ｘ−ｘ０）
（上記式中、ｙは、収束点を含み照明光の光軸に直交する回折像面における空間絞りのパターンエッジの光軸からの距離、ｘは光軸におけるコンデンサレンズと基準点との間の距離、ｘ０はｙ＝０のときのｘの値を表す）
で表される関係に基づいてｙの値を算出する第２工程と、光軸からの距離が、第２工程で算出されたｙの値であるパターンエッジを有する空間絞りであって被測定物を透過した散乱光又は被測定物によって反射された散乱光のうち上記散乱角θを含む特定範囲の散乱角の散乱光を選択的に透過させる空間絞りを、収束点を含み照明光の光軸に直交する回折像面の位置に設置する第３工程と、対物レンズの焦準を、被測定物載置台に載置される被測定物に合わせて被測定物を観察する第４工程と、空間絞りを通過する特定範囲の散乱角の散乱光の強度を測定する第５工程と、空間絞りを外した状態で全散乱角の散乱光の強度を測定する第６工程とを含むことを特徴とする。
【００１１】
上記組織構造の観察方法によれば、空間絞りを通過する特定範囲の散乱角の散乱光強度と全散乱角の散乱光強度を測定して、両者の比を算出することにより、被測定物の透明度を知ることが可能となる。一方、上記組織構造の観察方法によれば、上記光学顕微鏡装置において、上記のようにして被測定物を観察することで、被測定物における光散乱に起因する組織構造を観察することができる。このとき、被測定物からの特定範囲の散乱角の散乱光強度の測定及び被測定物の組織構造の観察はいずれも、空間絞りを通過する散乱光に基づいて行われる。従って、被測定物の透明度に的確に対応した組織構造を観察することができる。
【００１２】
また、上記組織構造の観察方法において、散乱角θの特定範囲は、下記式：
４°≦θ
、下記式：
０．４°≦θ≦１．２°
又は下記式：
０°≦θ≦０．４°
で表されることが好ましい。
【００１３】
散乱角θの特定範囲が上記各式を満たすと、空間絞りを通過する散乱光の強度を測定することにより、被測定物の透明度をより的確に知ることが可能となる。従って、被測定物の透明度に、より的確に対応した組織構造を観察することができる。なお、散乱角θの特定範囲が下記式：
４°≦θ
で表される場合には、特に、大きな散乱角の散乱光を生じさせることによって透明度を低下させる要因となる比較的細かい組織構造に関する知見を得ることができる。また散乱角θの特定範囲が下記式：
０．４°≦θ≦１．２°
で表される場合には、特に、小さな散乱角の散乱光を生じさせることによって透明度を低下させる要因となる比較的粗い組織構造に関する知見を得ることができる。更に、散乱角θの特定範囲が下記式：
０°≦θ≦０．４°
で表される場合には、特に、散乱光を生じさせることなく透明度低下の要因とならない組織構造に関する知見を得ることができる。
【００１４】
本発明において、空間絞りとは、被測定物を透過した光又は被測定物によって反射された光のうち特定範囲の散乱角の散乱光を通過させるための少なくとも１つの光通過部と、光通過部に隣接し被測定物を透過した光又は被測定物によって反射された光のうち上記特定範囲の散乱角の散乱光以外の散乱光を遮断する遮光部とを有するものを言い、パターンエッジとは、上記光通過部と上記遮光部との円周状の境界線を言うものとする。特に、上記円周状の境界線が空間絞りにおいて２つ以上存在する場合には、パターンエッジとは、最も内側の円周状の境界線を言うものとする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の組織構造の観察方法によれば、被測定物の透明度に的確に対応した組織構造を観察することができる。このため、観察された組織構造及び被測定物の透明度に基づき、被測定物の透明度を低下させる要因を容易に推定することができ、被測定物の透明度を改良するための知見を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、全図中、同一又は同等の構成要素については同一符号を付し、重複する説明は省略する。
【００１７】
［第１実施形態］
本発明の第１実施形態にかかる組織構造の観察方法について説明する。まず、本発明の組織構造の観察方法の説明に先立って、組織構造の観察方法に用いる光学顕微鏡装置の構成について説明する。
【００１８】
図１は、本発明による組織構造の観察方法に用いる光学顕微鏡装置の一例を示す概略図である。図１に示すように、光学顕微鏡装置２０は、光源１と、光源１から発せられる照明光を空間上の一点である収束点４に収束させるコンデンサレンズ２とを備えている。光源１とコンデンサレンズ２とにより照明手段３が構成されている。
【００１９】
照明手段３の上方には、被測定物６を載置するステージ（被測定物載置台）５が配置されている。ステージ５の上面は、被測定物６を載置するための載置面５ａとなっている。また、ステージ５は、その中央に照明手段３からの照明光を通過させる開口を有し、照明光はこの開口を通ってさらに上方の収束点４で収束する。即ちステージ５は、収束点４の手前側であってコンデンサレンズ２からの照明光を受ける位置に設けられている。これにより、収束点４を通り照明光の光軸７に垂直な平面８には、被測定物６の照明光によるフーリエ変換像すなわち回折像が形成される。ここでは、この平面８を回折像面と呼ぶことにする。
【００２０】
被測定物６としては、高分子材料、生体材料、セラミックス、金属等が用いられる。このうち、ポリエチレン等の樹脂フィルムは最も典型的な対象材料である。
【００２１】
コンデンサレンズ２は、レンズ移動機構（図示せず）により、ステージ５に対して光軸７の方向に移動可能となっている。コンデンサレンズ２を光軸７の方向に移動させることにより、収束点４が移動し、ステージ５に載置された被測定物６と収束点４との距離、すなわち、被測定物６と回折像面８との距離を変化させることができる。また、被測定物６と回折像面８との距離は、距離測定装置（図示せず）により測定可能となっている。
【００２２】
回折像面８の位置には、空間絞り９が設けられている。空間絞り９は、被測定物６を透過する光又は被測定物６によって反射される光のうち特定範囲の散乱角の散乱光を選択的に通過させるためのものである。図２は、空間絞り９の一例を示す平面図である。図２に示すように、空間絞り９は、半径Ｒの円形状の遮光部９ａと、遮光部９ａの外周側のパターンとしての透光部（光通過部）９ｂとを備えており、空間絞り９は、被測定物６を透過した照明光の光軸７が遮光部９ａの中央点９ｃを通るように配置されている。ここで、遮光部９ａの半径Ｒの値は、回折像面８と載置面５ａとの間の距離Ｌが所定値となったときに、下記式：
θ＝ｔａｎ−１（Ｒ／Ｌ）＝４°
を満たすことが可能であるように設定される。
なお、本実施形態では、遮光部９ａと透光部９ｂとの円周状の境界線９ｄが、パターンである透光部９ｂのエッジと一致し、本発明で言うパターンエッジに相当している。遮光部９ａは、被測定物６を透過する散乱光又は被測定物６によって反射される散乱光を遮断することができる材質（例えば、透明ガラスにクロム蒸着されたもの）から成り、透光部９ｂは、散乱光を透過することができる材質（例えば透明ガラス）から成る。空間絞り９は、空間絞り移動機構（図示せず）により、回折像面８と同一面上に配置されるように光軸７に沿って移動可能とされ、光軸７が中央点９ｃを通るように光軸７に垂直に移動可能とされている。なお、空間絞り９は観察途中でも、容易に脱着可能となっている。
【００２３】
空間絞り９のさらに上方には、対物レンズ１０、結像レンズ１１および接眼レンズ１２を備えた鏡筒１３が配置されている。ここで、対物レンズ１０は、被測定物６を透過した照明光が収束点４に収束されてから入射される位置に配置されている。鏡筒１３の内部構成自体は、従来からある一般的なものであり、対物レンズ１０と結像レンズ１１のほかにレンズ、プリズム、反射板等が付加されていても良い。この場合、光軸７に沿って鏡筒１３又は被測定物載置台５を移動させることにより、焦準合わせを行うことができるようなっている。
【００２４】
しかし、焦準合わせのための鏡筒１３の移動可能範囲は、従来の一般的な顕微鏡に比べて十分に長いことが必要である。すなわち、少なくとも被測定物６と回折像面８の両方に焦準合わせができるようになっている。
【００２５】
対物レンズ１０は、被測定物６に焦準を合わせたときの位置が空間絞り９よりも後方（上方）になるような焦点距離を有している。したがって、焦準合わせ動作において、空間絞り９が邪魔になることがない。
【００２６】
対物レンズ１０が捕らえた像は、結像レンズ１１の後方にある中間像位置１４に形成され、接眼レンズ１２はこの像を観察できるように焦準が調整されている。
【００２７】
次に、上記光学顕微鏡装置２０を用いた被測定物６の組織構造の観察方法を説明する。本実施形態では、４°以上の散乱角に基づく組織構造の観察方法について説明する。
【００２８】
まず、被測定物６の組織構造の観察前に、被測定物６を透過する散乱光又は被測定物６によって反射される散乱光の散乱角θに対して、回折像面８における空間絞り９のパターンエッジ９ｄの光軸７からの距離ｙと、光軸７におけるコンデンサレンズ２と基準点１５との間の距離ｘとの関係を求める。以下、この関係の求め方について詳述する。
【００２９】
まずステージ５に被測定物６を載置し、光源１から照明光を発し、コンデンサレンズ２により収束される照明光により被測定物６を照明する。
【００３０】
このとき、被測定物６として、図３の顕微鏡写真に示すような縦横に複数の線が等間隔に配列されたテストパターンを用いる。
【００３１】
次に、空間絞り９をはずした状態で、対物レンズ１０の焦準を回折像面８に合わせる。このとき、被測定物６を透過した照明光は、収束点４に収束され、対物レンズ１０及び結像レンズ１１を透過した後、中間像結像位置１４に結像される。ここで、接眼レンズ１２を覗くと、中間像結像位置１４に結像された回折像が観察される。
【００３２】
続いて、空間絞り９を装着し、回折像の観察視野を選択する。図４は、顕微鏡観察による回折像を示す図であるが、図４において、中央に円形の高輝度領域（以下、「中央領域」と呼ぶ）１６があり、その上下左右の周囲４箇所に中央の高輝度領域１６より少し暗い領域（以下、「周辺領域」と呼ぶ）１７が見える。この周辺領域１７は、中央領域１６の次に高輝度の領域であり、本実施形態では、中央領域１６の中央の点が収束点４であり、周辺領域１７で最も高輝度の点Ｂ２を基準点とする。ここで、中央領域１６は、被測定物６を透過した直接光によるものであり、周辺領域１７は、被測定物６の回折光によるものである。
【００３３】
このとき、図５に示すように、光軸７上の固定点（基準点）１５からコンデンサレンズ２の配置点ａ１までの距離Ｄ１を測定すると共に、図４に示すように、観察された回折像面８において、収束点４と基準点Ｂ２との間のスポット間隔ｌｓ１を測定する。なお、光軸７上の固定点１５は、距離Ｄ１を測定し易いように光軸７上の任意の位置に取ることができる。
【００３４】
次に、レンズ移動機構により、図５の二点鎖線で示すように、コンデンサレンズ２を光軸７に沿って上方に移動させ、上記配置点ａ１とは異なる配置点ａ２に配置する。これにより、回折像は大きくなり、図４の二点鎖線で示すように、回折像面８において、周辺領域１７の基準点Ｂ２は中央領域１６からより遠ざかるようになり、収束点４と基準点Ｂ２との間のスポット間隔が大きくなる。このとき、図５に示すように、固定点１５からコンデンサレンズ２の配置点ａ２までの距離Ｄ２を測定すると共に、図４に示すように、収束点４と基準点Ｂ２との間の間隔ｌｓ２を測定する。
【００３５】
以後、上記と同様にして、コンデンサレンズ２を光軸７に沿って上方に移動させて異なる配置点に配置し、そのたびに、固定点１５からコンデンサレンズ２の配置点までの距離を測定すると共に、収束点４と基準点Ｂ２との間の間隔を測定する。
【００３６】
こうして固定点１５からコンデンサレンズ２の配置点までの距離Ｄ１，Ｄ２，・・・，Ｄｎ（ｎは２以上の整数）を測定すると共に、収束点４と基準点Ｂ２との間の間隔ｌｓ１，ｌｓ２，・・・，ｌｓｎを測定した後は、Ｄ１〜Ｄｎのそれぞれをｘｙ座標系におけるｘ成分とし、ｌｓ１〜ｌｓｎのそれぞれをｘｙ座標系におけるｙ成分として、ｘ成分とｙ成分との相関関係を表す直線を最小二乗法により求め、その直線の傾きαから、下記式：
θ１〔ラジアン〕＝ｔａｎ−１α
に基づいて直線とｘ軸とのなす角θ１を求める。こうして求められる角θ１が、被測定物６の回折角となる。また、その直線においてｙ＝０となるｘの値として、ｘ０を求める。ｘ０は固定点１５の取り方によって決まる値である。
【００３７】
このように直線とｘ軸とのなす角θ１が被測定物６の回折角となる理由は、以下の通りである。即ち直線とｘ軸とのなす角θ１は、コンデンサレンズ２の配置点の変化量ΔＤに対するスポット間隔の変化量Δｌｓの比（Δｌｓ／ΔＤ）で表される。一方、回折角θ１は、図６において∠ＡＤＥで表される。点Ａは収束点４である。ここで、図６において、ステージ５上の被測定物を通り、角度θ１で回折された光線は、収束点Ａを通り、中心が被測定物と収束点Ａの間の光軸７上にあり、直径がＬ／（１＋ｃｏｓ２α）（Ｌは被測定物と収束点Ａとの間の距離Ｌ１またはＬ２、α＝∠ＪＡＤ＝∠ＪＡＧ）で表される球面上で一点に交わる。θ１が十分小さく、球面が平面に近似できるとき、交点は収束点Ａを通り光軸７に垂直な平面上で交わるとみなせる。このとき、∠ＡＤＥ＝∠ＡＪＥ＝∠ＡＧＥ＝θ１である。また、ｔａｎθ１は、下記式：
【数１】
2005147898.tif 000003
を満たす。よって、θ１＝ｔａｎ−１（Δｌｓ／ΔＤ）となるのである。
【００３８】
つぎに、回折像面８上の任意点Ｐに対応する回折角θａの測定方法を説明する。
【００３９】
ここでは、コンデンサレンズ２が配置点ａ１にあるときを例にして説明する。
【００４０】
まず基準点Ｂ２に対応した回折角θ１を求める。回折角θ１の測定方法は、上述した通りである。次に、光学顕微鏡装置２０のカメラ長Ｌ１を、下記式：
Ｌ１＝ｌｓ１／ｔａｎθ１
に基づいて求める。ここで、ｌｓ１は、固定点１５からコンデンサレンズ２の配置点ａ２までの距離がＤ１である場合における回折像上の収束点４と基準点Ｂ２との間の間隔を表し、θ１は、基準点Ｂ２に対応した被測定物６の回折角を表すものである。
【００４１】
続いて、任意点Ｐに対応する回折角θａを、下記式：
θａ＝ｔａｎ−１（ｌａ１／Ｌ１）
に基づいて求める。ここで、ｌａ１は、回折像面８上の任意点Ｐと収束点４との間の距離を表すものである。また任意点Ｐは、例えば高次の回折光に対応するものである。
【００４２】
このようにθａが、任意点Ｐに対応した被測定物６の回折角となる理由は、以下の通りである。即ち図７において、ステージ５上の被測定物を通り、角度θａで回折された光線は、収束点Ａを通り、中心が被測定物と収束点Ａの間の光軸７上にあり、直径がＬ１／（１＋ｃｏｓ２α）（Ｌ１は被測定物と収束点Ａとの間の距離、α＝∠ＣＡＢ＝∠ＣＡＤ）で表される球面上で一点に交わる。θａが十分小さく、球面が平面に近似できるとき、交点は収束点Ａを通り光軸７に垂直な平面上で交わるとみなせる。このとき、∠ＡＢＰ＝∠ＡＣＰ＝∠ＡＤＰ＝θａである。また、ｔａｎθａは、下記式：
【数２】
2005147898.tif 000004
を満たす。よって、θａ＝ｔａｎ−１（ｌａ１／Ｌ１）となるのである。
【００４３】
上記のように、回折像面８上の任意点に対応する回折角θａは、下記式：
θａ＝ｔａｎ−１（ｌａ１／Ｌ１）
で表され、回折像面８上の同一点（すなわち、ｌａ１が一定である点）におけるθａはＬ１の値に従って変化する。すなわち、空間絞り９のパターンエッジ９ｄの光軸からの距離ｙが一定の場合であっても、θａはＬ１の値に従って変化する。ここで、Ｌ１はコンデンサレンズ２の光軸７上の位置と光軸７上の基準点１５との間の距離ｘとともに変化する。従って、透過または遮蔽しようとする散乱光の散乱角θに対して適切な空間絞りとｘとの組み合わせを選択するためには、θとｘとの関係が必要である。そこで、θとｘとの関係を求める。図８において、カメラ長Ｌ１の時の回折角θに対応する空間絞り９のパターンエッジを９ｄ１、カメラ長Ｌ２の時の回折角θに対応する空間絞り９のパターンエッジを９ｄ２とする。この場合、カメラ長の変位量ΔＬ＝Ｌ２−Ｌ１がｘの変位量Δｘである。よって、この場合の空間絞り９のパターンエッジ９ｄの光軸７からの距離ｙの変位量Δｙ＝ｙ２−ｙ１は、下記式：
Δｙ＝Δｘ・ｔａｎθ
により求められる。ここで、ｘ＝ｘ０のときｙ＝０であるとすると、下記式：
ｙ＝（ｘ−ｘ０）・ｔａｎθ
により、ｙとｘの関係を表すことができる。こうして、被測定物６を透過する散乱光又は被測定物６に反射される散乱光の散乱角θに対して、回折像面８における空間絞り９のパターンエッジ９ｄの光軸７からの距離ｙと、光軸７におけるコンデンサレンズ２と基準点１５との距離ｘとの関係が求められる。この関係は、例えば図９に示す通りとなる。本実施形態では、上述したように、４°以上の散乱角の散乱光に基づいて組織構造を観察するので、散乱角θとしては、上記式においてθ＝４°とすることによりｘとｙの関係が求められる。
【００４４】
上記光学顕微鏡装置２０においては、空間絞り９が予め設置されており、空間絞り９のパターンエッジ９ｄの光軸７からの距離ｙは既に決められている。
【００４５】
従って、まず空間絞り９のパターンエッジ９ｄの光軸７からの距離ｙと、被測定物６を透過する散乱光又は被測定物６によって反射される散乱光の散乱角θに対して予め求められた上記式で表される関係とに基づいてｘを算出する（第１工程）。
【００４６】
次に、コンデンサレンズ２の光軸７上の基準点１５と、コンデンサレンズ２の光軸７上の位置との間の距離が、上記のようにして算出されたｘの値となる位置にコンデンサレンズ２を配置する（第２工程）。このとき、コンデンサレンズ２は、レンズ移動機構により光軸７に沿って移動させることができ、コンデンサレンズ２の光軸７上の基準点１５とコンデンサレンズ２の光軸７上の位置との間の距離は、距離測定装置により測定することができる。
【００４７】
次に、ステージ５の上に、被測定物６を載置する。被測定物６としては、例えば透明フィルムを用いる。なお、被測定物６のステージ５上への載置は、必ずしも上記コンデンサレンズ２の配置の後である必要はなく、例えばコンデンサレンズ２の配置の前に行ってもよいし、更にコンデンサレンズ２の基準点１５からの位置を求める前に行ってもよい。
【００４８】
そして、光源１から照明光を発し、コンデンサレンズ２により収束される照明光により被測定物６を照明する。このとき、４°より小さい散乱角は、空間絞り９の遮光部９ａにより遮断される。従って、４°以上の散乱角を有する散乱光が空間絞り９の透光部９ｂを透過することになる。
【００４９】
そして、対物レンズ１０の焦準を、ステージ５上に載置される被測定物６に合わせて被測定物６を観察する（第３工程）。
【００５０】
このとき、空間絞り９の透光部９ｂを透過する散乱光の強度を測定し（第４工程）、更に空間絞り９をはずした状態で被測定物６を透過する散乱光又は被測定物６によって反射される散乱光の全散乱角の散乱光強度も測定する（第５工程）。そして、全散乱光強度に対する空間絞り９の透光部９ｂを透過した散乱光強度の割合、すなわち相対散乱光強度を算出する。被測定物６の透明度は、この相対散乱光強度で表される。ここで、相対散乱光強度は、例えば、以下のようにして簡便に測定することができる。すなわち空間絞り９を光路中に挿入したときと外したときの被測定物６の回折像をＣＣＤカメラを用いて同一露光条件及び同一階調で撮影し、各画素の階調を画像処理用ソフトウェアにより求め、各画素の階調の合計を相対散乱光強度として算出することができる。
【００５１】
なお、上記散乱光強度の測定と、被測定物６の観察の順序は、逆であってもよい。
【００５２】
上記組織構造の観察方法によれば、空間絞り９の透光部９ｂを透過する散乱光の強度と全散乱角の散乱光強度を測定して、両者の比を算出することにより、被測定物６の透明度を知ることができる。特に、被測定物６の透明度は、４°以上の散乱角を有する散乱光の強度によってより的確に表されるため、被測定物６の透明度をより的確に知ることができる。一方、上記組織構造の観察方法によれば、光学顕微鏡装置２０において、上記のようにして被測定物６を観察することで、被測定物６における光散乱に起因する組織構造を観察することができる。このとき、被測定物６からの特定範囲の散乱角の散乱光強度の測定及び被測定物６の組織構造の観察はいずれも、空間絞り９の透光部９ｂを透過する散乱光に基づいて行われる。従って、被測定物６の透明度に的確に対応した組織構造を観察することができる。このため、観察された組織構造及び被測定物６の透明度に基づき、被測定物６の透明度を低下させる要因を容易に推定することができ、被測定物の透明度を改良するための知見を得ることができる。
【００５３】
［第２実施形態］
次に、本発明に係る組織構造の観察方法の第２実施形態について説明する。
【００５４】
まず組織構造の観察方法の説明に先立ち、この観察方法に用いる光学顕微鏡装置１２０について説明する。本実施形態の組織構造の観察方法に用いる光学顕微鏡装置１２０の構成は、空間絞りの構成を除いて、第１実施形態の光学顕微鏡装置２０の構成と同様であるので、各構成要素には同一の符号を付してその説明は省略し、以下においては空間絞りの構成１０９の構成について第１実施形態の空間絞り９との相違点を中心に詳述する。
【００５５】
図１０は空間絞り１０９の一例を示す平面図である。図１０に示すように、空間絞り１０９は、半径Ｒ１の円形状の第１遮光部１０９ａと、第１遮光部１０９ａの外周側に設けられる外径Ｒ２の環状の透光部１０９ｂと、透光部１０９ｂの外周側に設けられる第２遮光部１０９ｃとを備えており、空間絞り１０９は、被測定物６を透過した照明光の光軸７が第１遮光部１０９ａの中央点１０９ｄを通るように配置されている。ここで、第１遮光部１０９ａの半径Ｒ１の値は、回折像面８と載置面５ａとの間の距離Ｌが所定値となったときに、下記式：
θ＝ｔａｎ−１（Ｒ１／Ｌ）＝０．４°
を満たすことが可能であるように設定され、透光部１０９ｂの外径Ｒ２の値は、回折像面８と載置面５ａとの間の距離Ｌが所定値となったときに、下記式：
θ＝ｔａｎ−１（Ｒ２／Ｌ）＝１．２°
を満たすことが可能であるように設定される。
【００５６】
なお、本実施形態においては、第１遮光部１０９ａと透光部１０９ｂとの円周状の境界線１０９ｅがパターンエッジに相当する。
【００５７】
透光部１０９ｂは、散乱光を透過することができる材質から成り、第１及び第２透光部１０９ａ，１０９ｃは、散乱光を遮断することができる材質から成る。空間絞り１０９は、空間絞り移動機構（図示せず）により、回折像面８と同一面上に配置されるように光軸７に沿って移動可能とされ、光軸７が中央点１０９ａを通るように光軸７に垂直に移動可能とされている。
【００５８】
次に、上記光学顕微鏡装置１２０を用いた被測定物６の組織構造の観察方法について説明する。
【００５９】
本実施形態の組織構造の観察方法は、空間絞りを通過する散乱光の強度を測定する時に、空間絞り１０９の透光部１０９ｂを透過する０．４°〜１．２°の散乱角を有する散乱光の強度を測定し、被測定物６を観察する時に、上記範囲の散乱角の散乱光による組織構造を観察すること以外は、第１実施形態の組織構造の観察方法と同様である。
【００６０】
本実施形態の組織構造の観察方法によっても、空間絞り１０９の透光部１０９ｂを透過する散乱光の強度と全散乱角の散乱光強度を測定して、両者の比を算出することにより、被測定物６の透明度を知ることができる。特に、被測定物６の透明度は、０．４°〜１．２°の散乱角を有する散乱光の強度によってより的確に表されるため、被測定物６の透明度をより的確に知ることができる。一方、上記組織構造の観察方法によれば、光学顕微鏡装置１２０において、上記のようにして被測定物６を観察することで、被測定物６における光散乱に起因する組織構造を観察することができる。このとき、被測定物６からの特定範囲の散乱角の散乱光強度の測定及び被測定物６の組織構造の観察はいずれも、空間絞り１０９の透光部１０９ｂを透過する散乱光に基づいて行われる。従って、被測定物６の透明度に的確に対応した組織構造を観察することができる。このため、観察された組織構造及び被測定物６の透明度に基づき、被測定物６の透明度を低下させる要因を容易に推定することができ、透明度の高い被測定物６を容易に得ることができる。
【００６１】
［第３実施形態］
次に、本発明に係る組織構造の観察方法の第３実施形態について説明する。
【００６２】
まず組織構造の観察方法の説明に先立ち、この観察方法に用いる光学顕微鏡装置２２０について説明する。本実施形態にかかる組織構造の観察方法に用いる光学顕微鏡装置２２０の構成は、空間絞りの構成を除いて、第１実施形態の光学顕微鏡装置２０の構成と同様であるので、各構成要素には同一の符号を付してその説明は省略し、以下においては空間絞り２０９の構成について第１実施形態の空間絞り９との相違点を中心に詳述する。
【００６３】
図１１は空間絞り２０９の一例を示す平面図である。図１１に示すように、空間絞り２０９は、半径Ｒ３の円形状の透光部２０９ａと、透光部２０９ａの外周側に設けられる遮光部２０９ｂとを備えており、空間絞り２０９は、被測定物６を透過した照明光の光軸７が透光部２０９ａの中央点２０９ｃを通るように配置されている。ここで、透光部２０９ａの半径Ｒ３の値は、回折像面８と載置面５ａとの間の距離Ｌが所定値となったときに、下記式：
θ＝ｔａｎ−１（Ｒ３／Ｌ）＝０．４°
を満たすことが可能であるように設定される。
【００６４】
なお、本実施形態においては、透光部２０９ａと遮光部２０９ｂとの円周状の境界線２０９ｄによってパターンエッジが構成されている。
【００６５】
透光部２０９ａは、散乱光を透過することができる材質から成り、遮光部２０９ｂは、散乱光を遮断することができる材質から成る。空間絞り２０９は、空間絞り移動機構（図示せず）により、回折像面８と同一面上に配置されるように光軸７に沿って移動可能とされ、光軸７が中央点２０９ｃを通るように光軸７に垂直に移動可能とされている。
【００６６】
次に、上記光学顕微鏡装置２２０を用いた被測定物６の組織構造の観察方法について説明する。
【００６７】
本実施形態の組織構造の観察方法は、空間絞りを通過する散乱光の強度を測定する時に、空間絞り２０９の透光部２０９ａを透過する０°〜０．４°の散乱角を有する散乱光の強度を測定し、被測定物６を観察する時には、上記範囲の散乱角の散乱光による組織構造を観察すること以外は、第１実施形態の組織構造の観察方法と同様である。
【００６８】
本実施形態の組織構造の観察方法によっても、空間絞り２０９の透光部２０９ａを透過する散乱光の強度と全散乱角の散乱光強度を測定して、両者の比を算出することにより、被測定物６の透明度を知ることができる。特に、被測定物６の透明度は、０°〜０．４°の散乱角を有する散乱光の強度によってより的確に表されるため、被測定物６の透明度をより的確に知ることができる。一方、上記組織構造の観察方法によれば、光学顕微鏡装置２２０において、上記のようにして被測定物６を観察することで、被測定物６における光散乱に起因する組織構造を観察することができる。このとき、被測定物６からの特定範囲の散乱角の散乱光強度の測定及び被測定物６の組織構造の観察はいずれも、空間絞り２０９の透光部２０９ａを透過する散乱光に基づいて行われる。従って、被測定物６の透明度に的確に対応した組織構造を観察することができる。このため、観察された組織構造及び被測定物６の透明度に基づき、被測定物６の透明度を低下させる要因を容易に推定することができ、透明度の高い被測定物６を容易に得ることができる。
【００６９】
なお、本発明は上述した実施形態に限定されるものではない。例えば上記第１〜第３実施形態にかかる組織構造の観察方法においては、コンデンサレンズ２を光軸７方向に移動させることにより、回折像面８とステージ５との相対的な位置を変更しているが、ステージ５を光軸７方向に移動させることにより、回折像面８とステージ５との相対的な位置を変更してもよい。この場合であっても、被測定物６を透過する散乱光又は被測定物６によって反射される散乱光のうち特定範囲の散乱角の散乱光の強度を測定できると共に、その散乱光の強度に由来する暗視野像、即ち組織構造を観察することができる。従って、被測定物６の透明度と、光散乱の要因となる組織構造とを観察することができる。
【００７０】
また上記第１〜第３実施形態では、コンデンサレンズ２を透過した照明光が被測定物６を透過しているが、コンデンサレンズ２を透過した照明光が被測定物６で反射されるようにしてもよい。この場合でも、被測定物６を透過する散乱光又は被測定物６によって反射される散乱光のうち特定範囲の散乱角の散乱光の強度を測定できると共に、その散乱光の強度に由来する暗視野像、即ち組織構造を観察することができる。従って、被測定物６の透明度に的確に対応した組織構造を観察することができる。
【００７１】
更に、上記実施形態では、空間絞りが予め設置された光学顕微鏡装置を用いた組織構造の観察方法について説明したが、予め空間絞りが設置されていない光学顕微鏡装置を用いる場合は、以下のようにして組織構造を観察する。
【００７２】
即ち、まず光軸７におけるコンデンサレンズ２と基準点１５との間の距離ｘを決定し（第１工程）、この決定された距離ｘと、被測定物６を透過する散乱光又は被測定物６によって反射される散乱光の散乱角θに対して予め求められた下記式：
ｙ＝ｔａｎθ・（ｘ−ｘ０）
（上記式中、ｙは、回折像面８における空間絞りのパターンエッジの光軸７からの距離、ｘは光軸７におけるコンデンサレンズ２と基準点１５との間の距離、ｘ０はｙ＝０のときのｘの値を表す）
で表される関係に基づいてｙの値を算出する（第２工程）。このとき、散乱角θとしては、空間絞りを透過させようとする特定範囲の散乱角の散乱光のうちから具体的な散乱角を任意に選択する。
【００７３】
次に、算出されたｙの値の半径のパターンエッジを有する空間絞りを用意し、この空間絞りを、収束点４を含み照明光の光軸７に直交する回折像面８の位置に設置する（第３工程）。ここで、この空間絞りは、被測定物６を透過する光及び被測定物６によって反射される光のうち特定範囲の散乱角の散乱光を選択的に通過させるものである。
【００７４】
次に、対物レンズ１０の焦準を、ステージ５に載置される被測定物６に合わせて被測定物６を観察し（第４工程）、空間絞りを通過する特定範囲の散乱角の散乱光の強度を測定する（第５工程）。そして、最後に、空間絞り９をはずした状態で被測定物６を透過する散乱光又は被測定物６によって反射される散乱光の全散乱角の散乱光強度も測定する（第６工程）。
【００７５】
上記のようにして被測定物６の組織構造を観察する場合でも、空間絞りを透過する散乱光の強度と全散乱角の散乱光強度を測定して、両者の比を算出することにより、被測定物６の透明度を知ることができる。一方、光学顕微鏡装置において、上記のようにして被測定物６を観察することで、被測定物６における光散乱に起因する組織構造を観察することができる。このとき、被測定物６からの特定範囲の散乱角の散乱光強度の測定及び被測定物６の組織構造の観察はいずれも、空間絞りを透過する散乱光に基づいて行われる。従って、被測定物６の透明度に的確に対応した組織構造を観察することができる。このため、観察された組織構造及び被測定物６の透明度に基づき、被測定物６の透明度を低下させる要因を容易に推定することができ、透明度の高い被測定物６を容易に得ることができる。なお、上記のようにして被測定物６の組織構造の観察を行う場合、散乱角θの特定範囲は、上記第１〜第３実施形態で述べたように、下記式：
４°≦θ
、下記式：
０．４°≦θ≦１．２°
又は下記式：
０°≦θ≦０．４°
で表すことができる。散乱角θの特定範囲が上記各式を満たすと、空間絞りを通過する散乱光の強度を測定することにより、被測定物６の透明度をより的確に知ることが可能となる。従って、被測定物６の透明度に、より的確に対応した組織構造をより観察することができる。
【００７６】
次に、本発明の組織構造の観察方法を、実施例を用いてより具体的に説明する。
【実施例】
【００７７】
（実施例１）
以下のようにして光学顕微鏡装置２０を構成した。
【００７８】
100Wハロゲンランプおよび口径１００μmの円形のピンホールからなる光源１の前方に、開口数０．４のコンデンサレンズ２を配置することにより収束する照明光を得た。
【００７９】
コンデンサレンズ２の後方にステージ５を配置し、その上に、被測定物６であるポリマーフィルムを固定したスライドグラスを載せた。ステージ５は、その載置面５ａが光軸７と直交するように固定した。
【００８０】
さらにステージ５の後方に、図２に示す平板状の空間絞り９を配置した。空間絞り９としては、円形状遮光部９ａのエッジ、即ちパターンエッジの半径Ｒが１５０μｍであるものを用いた。
【００８１】
空間絞り９の後方に長作動距離の対物レンズ１０（（株）ニコン製ＣＦ  ＩＣ  ＥＰＩＰｌａｎ  ５Ｘ、作動距離２２．５mm、開口数０．１３、倍率５倍）、および三眼鏡筒１３（（株）ニコン製ＴＩ）をこの順番で配置した。
【００８２】
三眼鏡筒１３には図示省略した写真撮影装置（（株）ニコン製Ｈ−３）および接眼レンズ１２（（株）ニコン製ＣＦＷＮ  １０Ｘ）、倍率１０倍）を取り付け、肉眼による観察、および写真撮影ができるようにした。対物レンズ１０および三眼鏡筒１３は一体となって光軸７と平行な方向に移動することにより、焦準を被測定物６の暗視野像に合わせることができるようにした。
【００８３】
次に、この光学顕微鏡装置２０を用いて、被測定物６の組織構造を以下のようにして観察した。即ち、まず空間絞り９の透光部９ｂを透過させようとする散乱光の散乱角θを４°とした。そして、選択した散乱角θ＝４°に対して、空間絞り９の境界線（パターンエッジ）９ｄの光軸７からの距離ｙと、コンデンサレンズ２の光軸７上の位置Ｐと光軸７上の基準点１５との間の距離ｘとの関係を求めた。この関係は、下記式：
ｙ＝０．０６９９・ｘ
で表される通りであった。
【００８４】
上記光学顕微鏡装置２０において、空間絞り９の遮光部９ａのエッジの半径Ｒは、１５０μｍであり、ｙ＝Ｒとなるから、このｙの値と、上記式とに基づいて、ｘの値を算出した。その結果、ｘ＝１．０７ｍｍであった。
【００８５】
そして、コンデンサレンズ２の光軸７上の位置Ｐと光軸７上の基準点１５との間の距離がｘ（＝１．０７ｍｍ）となるようにコンデンサレンズ２を光軸７に沿って移動させた。
【００８６】
次に、対物レンズ１０の焦準を被測定物６に合わせることにより、被測定物６の暗視野像、即ち組織構造を観察した。
【００８７】
またこのとき、空間絞り９を光路中に挿入したときと外したときの被測定物６の回折像をＣＣＤカメラを用いて同一露光条件及び同一階調で撮影し、各画素の階調を画像処理用ソフトウェアにより求め、各画素の階調の合計を相対散乱光強度として算出した。図１２は、両者の相対散乱光強度の比率が５５．３％である場合に、焦準を空間絞りに合わせたときの顕微鏡写真、図１３は、このとき観察した暗視野像の顕微鏡写真である。
【００８８】
このとき、被測定物６からの散乱光強度の測定及び被測定物６の組織構造の観察はいずれも、空間絞り９の透光部９ａを透過する散乱光に基づいて行われる。従って、被測定物６の透明度に的確に対応した組織構造を観察することができるものと考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００８９】
【図１】本発明による組織構造の観察方法に用いる光学顕微鏡装置の一例を示す概略図である。
【図２】本発明の第１実施形態にかかる空間絞りの一例を示す平面図である。
【図３】第１実施形態において被測定物として用いたテストパターンの実像を示す図である。
【図４】被測定物として用いたテストパターンの回折像を示す図である。
【図５】コンデンサレンズの位置をさまざまに変えたときのコンデンサレンズの位置と基準点との間の距離関係を示す概略図である。
【図６】コンデンサレンズの位置をさまざまに変えたときの回折像面と被測定物載置台との位置関係を示す図である。
【図７】回折像面と被測定物載置台との位置関係を示す図である。
【図８】コンデンサレンズの位置をさまざまに変えたときの回折像面と被測定物載置台と空間絞りとの位置関係を示す図である。
【図９】本発明の第１実施形態に用いる空間絞りのパターンエッジの光軸からの距離とコンデンサレンズの位置との関係を示すグラフである。
【図１０】本発明の第２実施形態で用いる空間絞りの一例を示す平面図である。
【図１１】本発明の第３実施形態にかかる空間絞りの一例を示す平面図である。
【図１２】実施例１において、焦準を空間絞りに合わせたときの顕微鏡写真である。
【図１３】実施例１に係る組織構造の観察方法を用いて観察された被測定物の組織構造を示す顕微鏡写真である。
【符号の説明】
【００９０】
１…光源（照明手段）、２…コンデンサレンズ（照明手段）、３…照明手段、４…収束点、５…ステージ（被測定物載置台）、６…被測定物、７…光軸、８…回折像面、９，１０９，２０９…空間絞り、９ｄ，１０９ｅ，２０９ｄ…境界線（パターンエッジ）、１０…対物レンズ、１５…基準点、２０，１２０，２２０…光学顕微鏡装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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