(57)【要約】【課題】  防塵ガラス上に埃やゴミ等が付着することによって画質が悪化するのを抑制する。【解決手段】  レーザ光５２を出射するレーザ発振器を内部に収納している筐体７０の外側に、レーザ光５２が通過する防塵ガラス７５の表面を覆うように、出射孔８１が形成された防塵カバー８０を配置する。そして、防塵カバー８０の両側面に形成された空気供給孔８２ａ〜８２ｄから、防塵カバー８０内に空気を供給する。このようにして、防塵カバー８０の内側から外側に向かう方向に出射孔８１を通過する空気の流れを発生させる。【選択図】図６
2005157049.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
前記光源から出射された光線に媒体表面を走査させる走査部と、
前記光源および前記走査部を内部に有し、前記走査部によって媒体表面が走査させられる光線が通過する第１の孔を有するハウジングと、
前記第１の孔を閉塞するための透光部材と、
前記透光部材を透過した光線が通過する第２の孔が形成されており、前記ハウジングの外側に前記透光部材を覆うように配置されたカバー部材と、
前記カバー部材の内側から外側に向かう方向に前記第２の孔を通過する空気の流れを発生させる空気流発生機構とを備えていることを特徴とする走査光学装置。
【請求項２】
前記空気流発生機構が、前記カバー部材の外側から内側に向かう方向に前記第２の孔を通過する空気の流れを発生させないことを特徴とする請求項１に記載の走査光学装置。
【請求項３】
前記カバー部材には空気供給孔が形成されており、
前記空気流発生機構は、
ファンと、
前記ファンから送り出された空気を前記空気供給孔から前記カバー部材内に供給するための供給管とを有していることを特徴とする請求項１または２に記載の走査光学装置。
【請求項４】
前記空気供給孔が、前記カバー部材の両端部近傍にそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項３に記載の走査光学装置。
【請求項５】
前記カバー部材内に配置されており、前記カバー部材の外側から内側に向かう方向に前記第２の孔を通過する空気の流れを発生させないための空気流調整部材をさらに備えていることを特徴とする請求項３または４に記載の走査光学装置。
【請求項６】
前記透光部材と前記空気流調整部材との間に空隙が形成されていることを特徴とする請求項５に記載の走査光学装置。
【請求項７】
前記カバー部材の内側から外側に向かう方向に前記第２の孔を通過する空気量が実質的に均一であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の走査光学装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の走査光学装置を備えた写真処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光源から出射された光線を利用して画像の走査処理を行う走査光学装置およびこれを備えた写真処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
印画紙や感光ドラムなどの感光媒体に対して走査処理を行うための走査光学装置には、図１１および図１２に示す走査光学装置５１５のように、レーザ光５５２を出射するレーザ発振器５５０と、レーザ光５５２の方向を変更するための反射鏡５５５と、レーザ光５５２の走査を行うポリゴンミラー５６０と、ポリゴンミラー５６０で反射されたレーザ光５５２が通過させられるｆθレンズ５６５とを備えているものがある。ここで、レーザ発振器５５０およびポリゴンミラー５６０などは、レーザ光５５２を外部に出射するための長孔５７２を有する筐体５７０内に収納されている場合が多い。また、筐体５７０に形成された長孔５７２が開口したままの状態では、筐体５７０内に埃やゴミが進入して、レーザ光５５２の光路上に移動し、レーザ光５５２を誤った方向に反射させることによって、正常な走査処理が行えなくなるという問題が発生する。したがって、かかる問題を回避するために、走査光学装置５１５においては、筐体５７０に形成された長孔５７２は板状の防塵ガラス５７５により閉塞されている。
【０００３】
【特許文献１】特開平１０−１４２５４５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、筐体５７０の長孔５７２を閉塞する防塵ガラス５７５の表面に埃やゴミが付着すると、レーザ光５５２が遮られ、感光媒体である印画紙５０２に走査処理を行うレーザ光５５２の光量が低下することにより画像の濃度が薄くなったり、埃やゴミの部分が印画紙５０２上において影となる現象（いわゆる「ケラレ現象」）が生じたりし、画像が悪化するという問題が発生する。したがって、防塵ガラス５７５の表面を定期的に清掃し、付着した埃やゴミを除去する必要がある。ところが、現状では、防塵ガラス５７５の表面に付着した埃やゴミなどを作業員が手作業で拭き取ることが多く、防塵ガラス５７５の清掃作業に長時間を要してしまう。また、走査光学装置５１５を備えた写真処理装置を長時間連続動作させる場合に定期的な清掃を行おうとすると写真処理装置の動作を一旦停止させなければならないので、走査光学装置５１５を備えた写真処理装置の処理能力が著しく低いものとなってしまう。
【０００５】
そこで、本発明の目的は、防塵ガラス上に埃やゴミ等が付着することによって画質が悪化するのを抑制することができる走査光学装置および写真処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段及び効果】
【０００６】
本発明の走査光学装置は、光源と、前記光源から出射された光線に媒体表面を走査させる走査部と、前記光源および前記走査部を内部に有し、前記走査部によって媒体表面が走査させられる光線が通過する第１の孔を有するハウジングと、前記第１の孔を閉塞するための透光部材と、前記透光部材を透過した光線が通過する第２の孔が形成されており、前記ハウジングの外側に前記透光部材を覆うように配置されたカバー部材と、前記カバー部材の内側から外側に向かう方向に前記第２の孔を通過する空気の流れを発生させる空気流発生機構とを備えている。
【０００７】
この構成によると、カバー部材の外部を浮遊する埃やゴミが第２の孔からカバー部材内に進入しにくくなるので、透光部材の表面に埃やゴミが付着するのを抑制することができる。したがって、透光部材の清掃を頻繁に行わなくても、透光部材の表面に埃やゴミが付着していない状態で走査を行うことができる。その結果、透光部材の表面に付着する埃やゴミに起因した画像悪化が生じることが殆どなくなる。
【０００８】
本発明の走査光学装置では、前記空気流発生機構が、前記カバー部材の外側から内側に向かう方向に前記第２の孔を通過する空気の流れを発生させないことが好ましい。
【０００９】
この構成によると、カバー部材の外部を浮遊する埃やゴミがカバー部材内により進入しにくくなるので、透光部材の表面に埃やゴミが付着するのをさらに抑制することができる。したがって、透光部材の清掃を殆ど行わなくても、透光部材の表面に埃やゴミが付着していない状態で走査を行うことができる。その結果、透光部材の表面に付着する埃やゴミに起因した画像悪化が生じることが殆どなくなる。
【００１０】
本発明の走査光学装置では、前記カバー部材には空気供給孔が形成されており、前記空気流発生機構は、ファンと、前記ファンから送り出された空気を前記空気供給孔から前記カバー部材内に供給するための供給管とを有していてもよい。
【００１１】
この構成によると、第２の孔を通過する空気量の調整を容易に行うことができる。また、空気供給孔からカバー部材内に供給された空気が、透光部材の表面に吹き付けられる場合には、メンテナンス時等に透光部材の表面に付着した埃やゴミを取り除き、第２の孔からカバー部材の外部へ排出することができる。
【００１２】
本発明の走査光学装置では、前記空気供給孔が、前記カバー部材の両端部近傍にそれぞれ設けられていることが好ましい。
【００１３】
この構成によると、前記カバー部材の外側から内側に向かう方向に前記第２の孔を通過する空気の流れを高い確率で発生しないようにすることができる。したがって、カバー部材の外部を浮遊する埃やゴミがカバー部材内に高い確率で進入しなくなるので、透光部材の表面に埃やゴミが付着するのを確実に抑制することができる。
【００１４】
本発明の走査光学装置では、前記カバー部材内に配置されており、前記カバー部材の外側から内側に向かう方向に前記第２の孔を通過する空気の流れを発生させないための空気流調整部材をさらに備えていることが好ましい。
【００１５】
この構成によると、前記カバー部材の外側から内側に向かう方向に前記第２の孔を通過する空気の流れが殆ど発生しないようにすることができる。したがって、カバー部材の外部を浮遊する埃やゴミがカバー部材内に殆ど進入しなくなるので、透光部材の表面に埃やゴミが付着するのをより確実に抑制することができる。
【００１６】
本発明の走査光学装置では、前記透光部材と前記空気流調整部材との間に空隙が形成されていることが好ましい。
【００１７】
この構成によると、カバー部材の空気供給孔から供給された空気が、空気流調整部材と透光部材との間を通過するようになって、透光部材と空気流調整部材との間に空気流が生じる。したがって、この空気流によって、メンテナンス時等に透光部材に付着した埃やゴミを取り除き、第２の孔からカバー部材の外部へ排出することができる。
【００１８】
本発明の走査光学装置では、前記カバー部材の内側から外側に向かう方向に前記第２の孔を通過する空気量が実質的に均一であることが好ましい。
【００１９】
この構成によると、第２の孔から排出された空気が媒体を揺らすことによって、その平面性が失われるのを抑制することができる。したがって、第２の孔を通過した光線によって媒体表面に対して適正に走査が行われる。その結果、媒体表面に高画質な画像を形成することができる。
【００２０】
本発明の写真処理装置は、上述のいずれかの走査光学装置を備えている。
【００２１】
この構成によると、透光部材の表面に埃やゴミが付着していない状態の走査光学装置によって適切に露光処理を実施することができる。これにより、高品質のプリントを出力することができるようになる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、本発明の好適な実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。
【００２３】
まず、本発明の第１の実施の形態にかかる走査光学装置を備えた写真処理装置の概略構成について、図１を参照しつつ説明する。図１は、本実施の形態に係る走査光学装置を備えた写真処理装置の概略構成を示す図である。図１に示す写真処理装置１において、ペーパーマガジン１１から引き出された長尺の印画紙２は、カッター１２において所定の長さとなるように幅方向に沿って切断される。切断された印画紙２の感光乳剤層が形成されていない面（裏面）には、印字ユニット１３において所望の文字が印字される。
【００２４】
印字ユニット１３の下流側には、露光ユニット１４が配置されている。露光ユニット１４は、感光材料である印画紙２に対してディジタル画像データに基づく露光処理を行うものであって、レーザ発振器から出射されたレーザ光を適切に処理し印画紙２に対して走査処理を行う走査光学装置１５を備えている。走査光学装置１５の詳細については後述する。また、走査光学装置１５と対向する位置には、印画紙２を搬送するための２組の搬送ローラ対１６ａ、１６ｂが露光位置を挟んで対称に配置されている。印画紙２に形成されるべき潜像に関するディジタル画像信号に基づいて、搬送ローラ対１６ａ、１６ｂによる印画紙２の搬送タイミングと走査光学装置１５の露光タイミングとを制御することによって、印画紙２の感光乳剤面をライン露光して所望画像の潜像を形成することができる。
【００２５】
露光ユニット１４の下流側には、印画紙２の搬送方向を９０°曲げるためのガイド搬送機構１８が配置されている。ガイド搬送機構１８は、共に緩やかに湾曲するように９０°曲げられており上下対となった平板状のペーパー上ガイド１９ａおよびペーパー下ガイド１９ｂと、ペーパー下ガイド１９ｂに設けられた開口（図示せず）から一部分が突出するように配置された３つの駆動ローラ２１、２２、２３と、ペーパー上ガイド１９ａに設けられた開口（図示せず）から一部分が突出し且つ各駆動ローラ２１、２２、２３とそれぞれ圧着するように配置された３つの圧着ローラ２５、２６、２７とを有している。
【００２６】
ガイド搬送機構１８の下流側には、ペーパー振り分け部３０が配置されている。ペーパー振り分け部３０は、ここまで１列搬送されてきた印画紙２を２列或いはそれ以上の列に振り分けて、ここより下流において印画紙２の並列搬送を可能にするために用いられる。
【００２７】
ペーパー振り分け部３０の下流側には、ここから排出された印画紙２を処理液部３２に送り出すための送り出し搬送部３１が配置されている。処理液部３２では、露光済みの印画紙２に対して現像、漂白、安定化などの処理が施される。これにより、露光によって形成された印画紙２上の潜像が顕在化される。
【００２８】
次に、本実施の形態に係る走査光学装置の詳細な構造について、図２および図３に基づいて説明する。図２は、図１に示す写真処理装置に含まれる走査光学装置の概略平面図である。図３は、走査光学装置の概略側面図である。
【００２９】
走査光学装置１５は、図２に示すように、筐体７０内に、レーザ光５２を出射するレーザ発振器５０と、レーザ発振器５０からのレーザ光の出射方向に配置された反射鏡５５と、レーザ光を走査する断面６角形のポリゴンミラー６０と、ポリゴンミラー６０で反射されたレーザ光が通過させられるｆθレンズ６５とを備えている。筐体７０には、ポリゴンミラー６０で反射されたレーザ光５２が外部に出射されるように長孔７２（図３参照）が形成されており、この長孔７２は防塵ガラス７５によって閉塞されている。
【００３０】
レーザ発振器５０は、所定の波長のレーザ光５２を出射する半導体レーザおよび／または固体レーザを含んでいる。レーザ発振器５０で出射されたレーザ光５２が反射鏡５５およびポリゴンミラー６０などにより印画紙２上に導かれ、印画紙２の感光乳剤層を露光走査することにより、画像の潜像が印画紙２上に形成される。また、反射鏡５５は、レーザ発振器５０で出射されたレーザ光５２をポリゴンミラー６０に向かう方向に変更するためのものである。
【００３１】
ポリゴンミラー６０は、正六角柱のそれぞれの側面に反射ミラーが配置されたもので、正六角柱の軸のまわりを一定の速度で回転可能となるようになっている。したがって、ポリゴンミラー６０に向かって入射するレーザ光５２は、正六角柱の１つの側面に配置された反射ミラーで反射されることによって、ポリゴンミラー６０の回転に伴って走査される。また、ポリゴンミラー６０と印画紙２との間に配置されたｆθレンズ６５は、ポリゴンミラー６０で反射されたレーザ光５２を印画紙２上に結像する。
【００３２】
防塵ガラス７５は、レーザ光５２が透過することができる透明な部材であり、筐体７０に形成された矩形の長孔７２を十分に覆うことができる大きさの矩形の板状部材である。したがって、筐体７０の外部を浮遊する埃やゴミが、長孔７２を通過して筐体７０内部に進入することはほとんどない。また、防塵ガラス７５は、筐体７０の外部に配置されている防塵カバー８０によって覆われている。
【００３３】
ここで、図４〜図６を参照しつつ、防塵カバー８０の詳細な構造について説明する。図４は、防塵カバー８０近傍の正面図である。図５は、図４の防塵カバー８０の部分の模式的な拡大図である。図６は、防塵カバー８０近傍の模式的な側面図である。防塵カバー８０は、略箱状の部材であり、防塵ガラス７５の表面を完全に覆っている。また、防塵カバー８０のレーザ光５２の光路５２ａ（図６参照）に対応する位置には、防塵ガラス７５を透過したレーザ光５２を通過させるための出射孔８１が形成されている。ここで、防塵カバー８０の長さＬ１と、出射孔８１の長さＬ２と、露光幅Ｗ（図２参照）とは、以下の（式１）に示すような関係が成り立つ。
【００３４】
Ｌ１＞Ｌ２＞Ｗ                                                        （式１）
【００３５】
また、防塵カバー８０の両側面には、後述するファン９０から送り出された空気を防塵カバー８０内に供給するための空気供給孔８２ａ〜８２ｄがそれぞれ形成されている。空気供給孔８２ａ〜８２ｄは、空気供給孔８２ａと空気供給孔８２ｂとが互いに対向し、空気供給孔８２ｃと空気供給孔８２ｄとが互いに対向するように形成されている。そして、空気供給孔８２ａ、８２ｂは光路５２ａよりも上方に、空気供給孔８２ｃ、８２ｄは光路５２ａよりも下方に形成されている。また、空気供給孔８２ａ、８２ｃおよび空気供給孔８２ｂ、８２ｄは、光路５２ａに対して対称となる位置にそれぞれ形成されている。
【００３６】
防塵カバー８０の内部には、角柱状のブロック８３ａ、８３ｂが、光路５２ａに対して対称に配置されている。つまり、ブロック８３ａは光路５２ａよりも上方において、ブロック８３ａの下端部が、防塵カバー８０の出射孔８１の上縁部近傍と一致するように配置されており、ブロック８３ｂは光路５２ａよりも下方において、ブロック８３ｂの上端部が、防塵カバー８０の出射孔８１の下縁部近傍と一致するように配置されている。したがって、防塵ガラス７５で覆われた長孔７２から出射されたレーザ光５２は、ブロック８３ａとブロック８３ｂとの間（以下、「空間Ａ」と称する）を通過し、出射孔８１から出射される。
【００３７】
ブロック８３ａ、８３ｂの長さはそれぞれ等しく、その長さＬ３は、出射孔８１の長さＬ２よりもやや長く、防塵カバー８０の長さＬ１よりも短い。したがって、ブロック８３ａ、８３ｂの長さＬ３と出射孔８１の長さＬ２との間には、以下の（式２）に示すような関係が成り立つ。
【００３８】
Ｌ１＞Ｌ３＞Ｌ２                                                      （式２）
【００３９】
防塵カバー８０の両側面とブロック８３ａとの間（以下、「空間Ｂ」と称する）、および防塵カバー８０の両側面とブロック８３ｂとの間（以下、「空間Ｃ」と称する）には、所定間隔の隙間が形成されている。また、ブロック８３ａは、図６に示すように、防塵カバー８０を横から見た場合には、空気供給孔８２ａ、８２ｂの中心をブロック８３ａの上面が通るような位置に配置されている。同様に、ブロック８３ｂは、防塵カバー８０を横から見た場合には、空気供給孔８２ｃ、８２ｄの中心をブロック８３ｂの下面が通るような位置に配置されている。
【００４０】
また、ブロック８３ａと防塵ガラス７５との間（以下、「空間Ｄ」と称する）、およびブロック８３ｂと防塵ガラス７５との間（以下、「空間Ｅ」と称する）には、防塵カバー８０の上面とブロック８３ａの上面との間（以下、「空間Ｆ」と称する）、および防塵カバー８０の下面とブロック８３ｂの下面との間（以下、「空間Ｇ」と称する）よりも十分狭い、幅Ｌ６の隙間がそれぞれ形成されている。一方、防塵カバー８０の内側面（防塵ガラス７５と対向する面）とブロック８３ａ、８３ｂのそれぞれの一端面とは密着している。
【００４１】
ファン９０は、フィルター９２によって埃やゴミが取り除かれた清浄な空気を取り込むと共に、イオナイザー９３によってイオン化した空気を排出することができる。また、ファン９０と防塵カバー８０の空気供給孔８２ａ〜８２ｄとの間は、供給管９１によってそれぞれ接続されている。したがって、ファン９０から排出された空気は、供給管９１を介して防塵カバー８０内に供給される。このように、防塵カバー８０に供給される空気は、埃やゴミが取り除かれた清浄な空気であるので、防塵カバー８０内には殆ど埃やゴミは存在しない。また、防塵カバー８０内に供給される空気は、イオン化されているので、防塵ガラス７５に静電気によって埃やゴミが付着するのを抑制することができる。
【００４２】
次に、図４〜図６を参照しつつ、防塵カバー８０内に供給された空気の流れについて説明する。
【００４３】
まず、空気供給孔８２ａ、８２ｂから防塵カバー８０内に供給された空気の大部分は、空間Ｆに流れ込み、空間Ｆの中央部近傍において空気供給孔８２ａから供給された空気と空気供給孔８２ｂから供給された空気とが衝突する。このとき、空気供給孔８２ａ、８２ｂから防塵カバー８０内に供給された空気の一部（空間Ｆに流れ込んだ空気以外の空気）は、ブロック８３ａの側面の上端部近傍に衝突して空間Ｂを介して空間Ａに流れ込む。
【００４４】
同様に、空気供給孔８２ｃ、８２ｄから防塵カバー８０内に供給された空気の大部分は、空間Ｇに流れ込み、空間Ｇの中央部近傍において空気供給孔８２ｃから供給された空気と空気供給孔８２ｄから供給された空気とが衝突する。このとき、空気供給孔８２ｃ、８２ｄから防塵カバー８０内に供給された空気の一部（空間Ｇに流れ込んだ空気以外の空気）は、ブロック８３ｂの側面の下端部近傍に衝突して空間Ｃを介して空間Ａに流れ込む。
【００４５】
一方、防塵カバー８０内の空間Ｆの中央部近傍に到達した空気は、ブロック８３ａと防塵ガラス７５との間の空間Ｄを介して空間Ａ内に流れ込む。このとき、空間Ｄ内には、ブロック８３ａの上方の空間Ｆからブロック８３ａの下方の空間Ａに向かい、且つ、防塵ガラス７５とほぼ平行の空気流が生じる。同様に、防塵カバー８０内の空間Ｇの中央部近傍に到達した空気は、ブロック８３ｂと防塵ガラス７５との間の空間Ｅを介して空間Ａ内に流れ込む。このとき、空間Ｅ内には、ブロック８３ｂの下方の空間Ｇからブロック８３ｂの上方の空間Ａに向かい、且つ、防塵ガラス７５とほぼ平行の空気流が生じる。したがって、レーザ光５２の光路５２ａとなる空間Ａ内の防塵ガラス７５の表面には、上下方向から防塵ガラス７５とほぼ平行な空気流が吹き付けられる。よって、防塵ガラス７５の表面の光路５２ａとなる部分に付着している埃やゴミが取り除かれる。
【００４６】
このようにして、空間Ｆ、Ｄを通過して空間Ａに到達した空気、空間Ｇ、Ｅを通過して空間Ａに到達した空気、空間Ｂを通過して空間Ａに到達した空気、および空間Ｃを通過して空間Ａに到達した空気が、空間Ａ内で合流して、出射孔８１から排出される。このとき、出射孔８１から排出される空気量は、出射孔８１のほぼ全領域にわたってほぼ均一であることが好ましい。
【００４７】
次に、本実施の形態にかかる走査光学装置において、防塵カバー８０内に空気が供給された場合に、防塵カバー８０の出射孔８１から排出される空気の流れのシミュレーション結果について説明する。図７および図８は、防塵カバー８０内に空気が供給された場合に、防塵カバー８０の出射孔８１から排出される空気の流れのシミュレーション結果を示している。ここで、図７は、防塵カバー８０を上面から見た場合の空気の流れを表しており、図８は、防塵カバー８０を側面から見た場合の空気の流れを示している。なお、図７および図８で示す矢印は、その大きさが空気流の速さを表しており、その方向が空気流の向きを表している。
【００４８】
ここで、シミュレーションにおける各条件は以下のように定めた。
防塵カバー８０の長さＬ１：３４９ｍｍ
出射孔８１の長さＬ２：３３４ｍｍ
ブロック８３ａ、８３ｂの長さＬ３：３３７ｍｍ
ブロック８３ａ、８３ｂの幅Ｌ４：１６ｍｍ
ブロック８３ａ、８３ｂの高さＬ５：６ｍｍ
空間Ｄ、Ｅの幅Ｌ６：１ｍｍ
ただし、防塵カバー８０の長さＬ１は、防塵カバー８０の内側面の長さである。
【００４９】
図７より、出射孔８１の両端部近傍から排出される空気流の向きは、やや出射孔８１の中央部よりであるが、防塵カバー８０の内部への空気の吸い込みは生じていない。また、出射孔８１の中央部近傍から排出される空気流の速度は、出射孔８１の両端部近傍から排出される空気流の速度と比べてやや速いが、出射孔８１から排出される空気流の速度は、出射孔８１の幅方向の全領域にわたってほぼ均一である。したがって、射孔８１から排出される空気量は、出射孔８１の幅方向の全領域にわたってほぼ均一である。なお、出射孔８１の中央部近傍から排出される空気流の速度は、１ｍ／ｓ程度であることが好ましい。このように、出射孔８１から排出される空気流の速度が非常に小さい場合には、この空気流によって印画紙２の平面性が低下することはほとんどない。
【００５０】
図８より、出射孔８１の上端部近傍および下端部近傍において、防塵カバー８０の内部への空気の吸い込みは生じていない。また、出射孔８１から排出される空気流の速度は、出射孔８１の高さ方向の全領域にわたってほぼ均一である。したがって、出射孔８１の高さ方向の全領域にわたってほぼ均一である。
【００５１】
なお、図７および図８に示した結果は、一例であり、出射孔８１から排出される空気流の向きは、出射孔８１の全領域において防塵カバー８０の内部から外部に向かう方向であり、且つ、出射孔８１の前面に垂直な方向であり、出射孔８１から排出される空気量は、出射孔８１の全領域にわたって均一であることが好ましい。
【００５２】
以上のように、本実施の形態の走査光学装置１５によると、防塵カバー８０の出射孔８１から防塵カバー８０内の空気を外に排出するので、防塵カバー８０の外部を浮遊する埃やゴミがカバー部材内に進入しにくくなり、防塵ガラス７５の表面に付着するのを抑制することができる。したがって、防塵ガラス７５の清掃を行うことなく、防塵ガラス７５の表面に埃やゴミが付着していない状態で走査を行うことができる。その結果、走査光学装置１５を備えた写真処理装置１の生産性が大幅に改善されると共に、防塵ガラス７５の表面に付着する埃やゴミに起因した画像悪化が殆ど生じなくなる。
【００５３】
また、本実施の形態の走査光学装置１５によると、防塵ガラス７５の表面の光路５２ａ上に対応する部分に、上下方向から防塵ガラス７５とほぼ平行な空気流が吹き付けられるので、メンテナンス時等に防塵ガラス７５の表面に付着した埃やゴミを取り除き、出射孔８１から防塵カバー８０の外部へ排出することができる。
【００５４】
また、本実施の形態の走査光学装置１５によると、出射孔８１から防塵カバー８０の外に排出される空気量がほぼ均一となるように防塵カバー８０内の空気の流れを調整するブロック８３ａ、８３ｂが、防塵カバー８０内に配置されている。したがって、出射孔８１の両端部近傍において生じる防塵カバー８０の外部から内部に向かう方向の空気の流れを抑制することができる。その結果、防塵カバー８０の外部を浮遊する埃やゴミが防塵カバー８０内に進入しにくくなり、防塵ガラス７５の表面に付着するのを確実に抑制することができる。
【００５５】
次いで、本発明の第２の実施の形態に係る走査光学装置を備えた写真処理装置について、図面を参照しつつ説明する。
【００５６】
本実施の形態に係る写真処理装置の構成が、第１の実施の形態に係る写真処理装置１の構成と主に異なる点は、写真処理装置１に備えられている走査光学装置１５の防塵ガラス７５は、空気供給孔８２ａ、８２ｂと空気供給孔８２ｃ、８２ｄとの２対の空気供給孔が形成されている防塵カバー８０によって覆われているのに対して、本実施の形態の写真処理装置に備えられている走査光学装置１１５の防塵ガラス１７５は、空気供給孔１８２ａ、１８２ｂの一対の空気供給孔が形成されている防塵カバー１８０によって覆われている点である。なお、その他の構成については、図１に示す写真処理装置１と同様であるので、詳細な説明は省略する。
【００５７】
ここで、図９および図１０を参照しつつ、防塵カバー１８０の詳細な構造について説明する。図９は、防塵カバー１８０近傍の模式的な正面図である。図１０は防塵カバー１８０近傍の模式的な側面図である。図１０に示すように、防塵カバー１８０は、防塵ガラス１７５の表面の光路１５２ａに対応する部分と、それよりも上方の部分とを覆っている。
【００５８】
防塵カバー１８０のレーザ光１５２の光路１５２ａに対応する位置には、防塵ガラス１７５を透過したレーザ光１５２を通過させるための長さＬ８の出射孔１８１が形成されている。また、防塵カバー１８０の両側面には、防塵カバー１８０内に空気を供給するための空気供給孔１８２ａ、１８２ｂが互いに対向するように形成されている。空気供給孔１８２ａ、１８２ｂは、光路１５２ａよりも上方に形成されている。
【００５９】
防塵カバー１８０の内部には、角柱状のブロック１８３が光路１５２ａよりも上方において、ブロック１８３の下端部が、防塵カバー１８０の出射孔１８１の上縁部近傍と一致するように配置されている。したがって、防塵ガラス１７５で覆われた長孔１７２から出射されたレーザ光１５２は、防塵カバー１８０の下面とブロック１８３との間（以下、「空間Ｈ」と称する）を通過し、出射孔１８１から出射される。
【００６０】
ブロック１８３の長さＬ９は、出射孔１８１の長さＬ８よりもやや長く、防塵カバー１８０の長さＬ７よりも短い。そして、防塵カバー１８０の両側面とブロック１８３との間（以下、「空間Ｉ」と称する）には、所定間隔の隙間が形成されている。また、ブロック１８３は、防塵カバー１８０を横から見た場合に、空気供給孔１８２ａ、１８２ｂの中心をブロック１８３の上面が通るような位置に配置されている。
【００６１】
また、ブロック１８３と防塵ガラス１７５との間（以下、「空間Ｊ」と称する）には、防塵カバー１８０の上面とブロック１８３の上面との間（以下、「空間Ｋ」と称する）よりも十分狭い、幅Ｌ１０の隙間が形成されている。一方、防塵カバー１８０の内側面（防塵ガラス１７５と対向する面）とブロック１８３の一端面とは密着している。
【００６２】
次に、図９および図１０を参照しつつ、防塵カバー１８０内に供給された空気の流れについて説明する。
【００６３】
まず、空気供給孔１８２ａ、１８２ｂから防塵カバー１８０内に供給された空気の大部分は、空間Ｋに流れ込み、空間Ｋの中央部近傍において空気供給孔１８２ａから供給された空気と空気供給孔１８２ｂから供給された空気とが衝突する。このとき、空気供給孔１８２ａ、１８２ｂから防塵カバー１８０内に供給された空気の一部（空間Ｋに流れ込んだ空気以外の空気）は、ブロック１８３の側面の上端部近傍に衝突して空間Ｉを介して空間Ｈに流れ込む。
【００６４】
一方、防塵カバー１８０内の空間Ｋの中央部近傍に到達した空気は、ブロック１８３と防塵ガラス１７５との間の空間Ｊを介して空間Ｈ内に流れ込む。このとき、空間Ｊ内には、ブロック１８３の上方の空間Ｋからブロック１８３の下方の空間Ｈに向かい、且つ、防塵ガラス１７５とほぼ平行の空気流が生じる。したがって、レーザ光１５２の光路１５２ａとなる空間Ｈ内の防塵ガラス１７５の表面上には、上方向から防塵ガラス１７５とほぼ平行な空気流が吹き付けられる。よって、防塵ガラス１７５の表面の光路１５２ａとなる部分に付着している埃やゴミが取り除かれる。
【００６５】
このようにして、空間Ｋ、Ｊを通過して空間Ｈに到達した空気および空間Ｉを通過して空間Ｈに到達した空気が、空間Ｈ内で合流して、出射孔１８１から排出される。このとき、出射孔１８１から排出される空気量は、出射孔１８１の全領域にわたってほぼ均一であることが好ましい。
【００６６】
以上のように、本実施の形態の走査光学装置１１５によると、第１の実施の形態の走査光学装置１５と同様に、防塵カバー１８０の外部を浮遊する埃やゴミが防塵カバー１８０内に進入しにくくなり、防塵ガラス１７５の表面に付着するのを抑制することができる。また、防塵カバー１８０が小型化することができるので、走査光学装置１１５の小型化を図ることができる。
【００６７】
以上、本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明は上述の実施の形態に限られるものではなく、特許請求の範囲に記載した限りにおいて、様々な設計変更を行うことが可能なものである。例えば、上述の第１および第２の実施の形態では、防塵カバー内に空気を供給することによって、防塵カバーの内側から外側に向かう方向の空気の流れを生じさせる場合について説明しているが、防塵カバーの内側から外側に向かう方向の空気の流れを生じさせる手段はこれに限られない。例えば、防塵カバー内の温度を上昇させることによって、防塵カバーの内側から外側に向かう方向の空気の流れを生じさせてもよい。
【００６８】
また、上述の第１および第２の実施の形態では、空気供給孔が防塵カバーの左右の２側面に形成されている場合について示しているが、これに限らず、空気供給孔が防塵カバーの１側面に形成されていてもよい。したがって、空気供給孔が防塵カバーの上下面および左右の２側面の少なくともいずれか１面に形成されていればよい。
【００６９】
また、上述の第１及び第２の実施の形態では、防塵カバーの外部から内部への空気の逆流が殆ど無く、防塵カバーの出射孔から排出される空気量がほぼ均一である場合について説明しているが、防塵カバーの出射孔から排出される空気量は必ずしも均一でなくてもよく、防塵カバーの外部から内部への空気の逆流が生じる場合であっても、逆流した空気が防塵ガラスに到達せず、防塵ガラスに埃やゴミが付着しない範囲であればよい。したがって、防塵カバー内には、防塵カバーの外側から内側に向かう方向に出射孔を通過する空気の流れを発生させないためのブロックは、必ずしも配置されなくてもよい。
【００７０】
また、上述の第１及び第２の実施の形態では、ブロックと防塵ガラスとの間に隙間が形成されているが、ブロックと防塵ガラスとの間のすきまは無くてもよい。
【００７１】
また、上述の第１および第２の実施の形態では、１つの波長のレーザ光を出射するレーザ発振器を備えており、白黒の画像に対応する潜像を露光する走査光学装置について説明しているが、これに限らず、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色のレーザ光をそれぞれ出射するレーザ発振器が３つ備えられており、カラーの画像に対応する潜像を露光する走査光学装置であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】本発明の第１の実施の形態にかかる走査光学装置を備えた写真処理装置の概略構成を示す図である。
【図２】図１に示す写真処理装置に含まれる走査光学装置内部の概略平面図である。
【図３】図１に示す写真処理装置に含まれる走査光学装置の概略側面図である。
【図４】図１に示す写真処理装置に含まれる防塵カバーの近傍の正面図である。
【図５】図４の防塵カバー部分の模式的な拡大図である。
【図６】図４の防塵カバーの近傍の模式的な側面図である。
【図７】図４の防塵カバー内および出射孔近傍の空気の流れを示した上面図である。
【図８】図４の防塵カバー内および出射孔近傍の空気の流れを示した側面図である。
【図９】第２の実施の形態にかかる写真処理装置に含まれる防塵カバーの近傍の模式的な正面図である。
【図１０】図９の防塵カバーの近傍の模式的な側面図である。
【図１１】従来の走査光学装置内部の概略平面図である。
【図１２】従来の走査光学装置の構造を示す概略側面図である。
【符号の説明】
【００７３】
１  写真処理装置
１５、１１５  走査光学装置
５２、１５２  レーザ光（光線）
５２ａ、１５２ａ  光路
７２、１７２  長孔（第１の孔）
７５、１７５  防塵ガラス（透光部材）
８０、１８０  防塵カバー（カバー部材）
８１、１８１  出射孔（第２の孔）
８２ａ〜８２ｄ、１８２ａ、１８２ｂ  空気供給孔
８３ａ、８３ｂ、１８３  ブロック（空気流調整部材）
９０  ファン
９１  供給管
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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