(57)【要約】      （修正有）【課題】カラーフィルタを介して、取り出した赤色光、青色光および緑色光の輝度にばらつきが生じることを効果的に防止することができる有機ＥＬディスプレイパネルを提供する。【解決手段】絶縁性透明基板上に、各画素に、１つづつ含まれるように、列状に、かつ、互いに略平行に形成された白色光を３色に変換する複数の赤色、青色および緑色のカラーフィルタと、各フィルタ上に、区分されて形成された複数の透明電極と、複数の透明電極上に形成された有機物を含む少なくとも一層の発光層と、少なくとも一層の発光層上に、複数の透明電極に略直交するように、形成された複数の電子注入電極を備え、少なくとも一層の発光層から発せられ、各フィルタのそれぞれから取り出される赤色光、青色光および緑色光の輝度が極大になるように、各フィルタのそれぞれに対応する透明電極中の白色光の光路長が設定されている有機ＥＬディスプレイパネル。【選択図】図３
2005222704.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性透明基板上に、各画素に、１つづつ含まれるように、列状に、かつ、互いに略平行に形成された白色光を赤色光に変換する複数の赤色カラーフィルタ、白色光を青色光に変換する複数の青色カラーフィルタおよび白色光を緑色光に変換する複数の緑色カラーフィルタと、前記複数の赤色カラーフィルタ、前記複数の青色カラーフィルタおよび前記複数の緑色カラーフィルタ上に、前記赤色カラーフィルタ、前記青色カラーフィルタおよび前記緑色カラーフィルタのそれぞれに対応するように、区分されて形成された複数の透明電極と、前記複数の透明電極上に形成された有機物を含む少なくとも一層の発光層と、前記少なくとも一層の発光層上に、前記複数の透明電極に略直交するように、画素ごとに、形成された複数の電子注入電極を備え、前記少なくとも一層の発光層から発せられ、前記赤色カラーフィルタ、前記青色カラーフィルタおよび前記緑色カラーフィルタのそれぞれから取り出される赤色光、青色光および緑色光の輝度が極大になるように、前記赤色カラーフィルタ、前記青色カラーフィルタおよび前記緑色カラーフィルタのそれぞれに対応する前記透明電極中の白色光の光路長が設定されていることを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項２】
前記複数の透明電極が同じ材料によって形成され、前記赤色カラーフィルタ、前記青色カラーフィルタおよび前記緑色カラーフィルタのそれぞれに対応する前記透明電極の厚さが、前記赤色カラーフィルタ、前記青色カラーフィルタおよび前記緑色カラーフィルタのそれぞれから取り出される赤色光、青色光および緑色光の輝度が極大になるように設定されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項３】
前記複数の透明電極が同じ厚さを有し、前記赤色カラーフィルタ、前記青色カラーフィルタおよび前記緑色カラーフィルタのそれぞれから取り出される赤色光、青色光および緑色光の輝度が極大になるように、前記赤色カラーフィルタ、前記青色カラーフィルタおよび前記緑色カラーフィルタのそれぞれに対応する前記複数の透明電極の材料の屈折率が選択されていることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項４】
前記複数の透明電極が、４０ｎｍないし２００ｎｍの厚さを有していることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項５】
前記複数の透明電極が、４０ｎｍないし１５０ｎｍの厚さを有していることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項６】
さらに、前記複数の赤色カラーフィルタ、前記複数の青色カラーフィルタおよび前記複数の緑色カラーフィルタ上に、パッシベーション層を備えたことを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項７】
前記パッシベーション層が、ケイ素化合物によって形成されたことを特徴とする請求項６に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項８】
前記少なくとも一層の発光層が、少なくとも３８０ないし７８０ｎｍの連続した発光スペクトルを有する白色光を発する発光層によって構成されたことを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項９】
前記少なくとも一層の発光層が、二層の発光層によって構成されたことを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記少なくとも一層の発光層が、蒸着によって形成されたことを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項１１】
さらに、前記複数の透明電極と、前記少なくとも一層の発光層との間に、ホールを安定的に輸送するとともに、電子の輸送を妨げる機能を有するホール輸送層を備え、前記少なくとも一層の発光層と、前記複数の電子注入電極との間に、電子を安定的に輸送するとともに、ホールの輸送を妨げる機能を有する電子輸送層を備えたことを特徴とする請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【請求項１２】
さらに、前記複数の透明電極と、前記ホール輸送層との間に、前記複数の透明電極からのホールの注入を容易にする機能を有するホール注入層を備え、前記電子輸送層と、前記電子注入電極との間に、前記電子注入電極からの電子の注入を容易にする機能を有する電子注入層を備えたことを特徴とする請求項１１に記載の有機ＥＬディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）ディスプレイパネルに関するものであり、さらに詳細には、カラーフィルタを介して、取り出した赤色光、青色光および緑色光の輝度にばらつきが生じることを効果的に防止することができる有機ＥＬディスプレイパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機ＥＬ素子が大きな注目を集めるようになっている。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）などによって形成された透明なホール（正孔）注入電極と、有機蛍光材料を含む有機発光層と、マグネシウムなどの仕事関数の小さな金属によって形成された電極（電子注入電極）とを基本構成として有するもので、１０ボルト前後の電圧によって、数百ないし数万ｃｄ／ｍ２というきわめて高い輝度が得られるという特徴を有している。
【０００４】
かかる有機ＥＬ素子を含んだ有機ＥＬディスプレイパネルは、ディスプレイ装置、とりわけ、カラーディスプレイ装置への応用が期待されている。
【０００５】
有機ＥＬディスプレイパネルを、カラーディスプレイ装置に用いる場合には、光の三原色である赤、緑、青の光を発する有機発光層を各画素ごとに形成する方法や、少なくとも１つの有機発光層とカラーフィルター層を形成し、カラーフィルター層を用いて、少なくとも１つの有機発光層から発せられる白色光から、各画素毎に、光の三原色である赤、緑、青の光を取り出す方法が一般的に用いられている。
【０００６】
しかしながら、光の三原色である赤、緑、青の光を発する有機発光層を各画素ごとに形成する場合には、赤色光を発する有機発光層に用いるのに適した蛍光材料が少ないため、色純度の高い赤色光を得ることが困難であるだけでなく、一般に、青色光を発する有機発光層の寿命が、赤色光を発する有機発光層および緑色光を発する有機発光層に比して、極端に短いため、カラーディスプレイ装置の寿命が、青色光を発する有機発光層の寿命によって、制限を受けるという問題があった。
【０００７】
これに対して、白色光を発する有機発光層とカラーフィルター層とを形成し、カラーフィルター層を用いて、各画素ごとに、白色光を、光の三原色である赤、緑、青（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の光を取り出すことによって、カラーディスプレイ装置を構成する場合には、一種類の有機ＥＬ素子によって、カラーディスプレイ装置を構成することができるため、構成が簡易であるだけでなく、低コスト化が可能であり、実用性を有している。
【０００８】
このため、白色光を発する有機発光層を用い、透明な基板上に、白色光を赤色光に変換する赤色カラーフィルタ、白色光を青色光に変換する青色カラーフィルタおよび白色光を緑色光に変換する緑色カラーフィルタを、各画素ごとに形成し、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタのそれぞれの上に、一定の厚さを有する透明なホール注入電極を形成し、さらに、ホール注入電極上に、発光層および金属の電子注入電極を積層した有機ＥＬディスプレイパネルが広く用いられている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、かかる有機ＥＬディスプレイパネルにおいては、カラーフィルタを介して、取り出した赤色光、青色光および緑色光の輝度に、ばらつきがあるという問題があった。
【００１０】
したがって、本発明は、カラーフィルタを介して、取り出した赤色光、青色光および緑色光の輝度にばらつきが生じることを効果的に防止することができる有機ＥＬディスプレイパネルを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、本発明のかかる目的を達成するため、鋭意研究を重ねた結果、赤色カラーフィルタを介して、取り出した赤色光の輝度、青色カラーフィルタを介して、取り出した青色光の輝度および緑色カラーフィルタを介して、取り出した緑色光の輝度が、いずれも、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）などによって形成されたホール注入用の透明電極中の白色光の光路長によって、大きく変化することを見出した。
【００１２】
図１は、青色カラーフィルタを介して、取り出した青色光の輝度が、透明電極を透過する光の光路長によって、どのように変化するかを示す概略的なグラフである。
【００１３】
図１に示されるように、青色カラーフィルタを介して、取り出した青色光の輝度は、透明電極中の白色光の光路長によって、大きく変化し、透明電極中の白色光の光路長に対する青色光の輝度の変化を示す曲線は、透明電極中の白色光の光路長がある値のときに、極大値を有している。
【００１４】
赤色カラーフィルタを介して、取り出した赤色光および緑色カラーフィルタを介して、取り出した緑色光の場合にも、同様に、透明電極中の白色光の光路長に対する赤色光および緑色光の輝度の変化を示す曲線は、透明電極中の白色光の光路長がある値のときに、極大値を有している。
【００１５】
したがって、透明電極中の白色光の光路長に対する青色光、赤色光および緑色光の輝度の変化を示す曲線が、それぞれ、極大になるように、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタに対応する透明電極中の白色光の光路長を設定することによって、赤色カラーフィルタを介して、取り出した赤色光の輝度、青色カラーフィルタを介して、取り出した青色光の輝度および緑色カラーフィルタを介して、取り出した緑色光の輝度にばらつきが生じることを効果的に防止することが可能になる。
【００１６】
本発明は、かかる知見に基づくものであり、本発明によれば、本発明の前記目的は、絶縁性透明基板上に、各画素に、１つづつ含まれるように、列状に、かつ、互いに略平行に形成された白色光を赤色光に変換する複数の赤色カラーフィルタ、白色光を青色光に変換する複数の青色カラーフィルタおよび白色光を緑色光に変換する複数の緑色カラーフィルタと、前記複数の赤色カラーフィルタ、前記複数の青色カラーフィルタおよび前記複数の緑色カラーフィルタ上に、前記赤色カラーフィルタ、前記青色カラーフィルタおよび前記緑色カラーフィルタのそれぞれに対応するように、区分されて形成された複数の透明電極と、前記複数の透明電極上に形成された有機物を含む少なくとも一層の発光層と、前記少なくとも一層の発光層上に、前記複数の透明電極に略直交するように、画素ごとに、形成された複数の電子注入電極を備え、前記少なくとも一層の発光層から発せられ、前記赤色カラーフィルタ、前記青色カラーフィルタおよび前記緑色カラーフィルタのそれぞれから取り出される赤色光、青色光および緑色光の輝度が極大になるように、前記赤色カラーフィルタ、前記青色カラーフィルタおよび前記緑色カラーフィルタのそれぞれに対応する前記透明電極中の白色光の光路長が設定されていることを特徴とする有機ＥＬディスプレイパネルによって達成される。
【００１７】
本発明の好ましい実施態様においては、前記複数の透明電極が同じ材料によって形成され、前記赤色カラーフィルタ、前記青色カラーフィルタおよび前記緑色カラーフィルタのそれぞれに対応する前記透明電極の厚さが、前記赤色カラーフィルタ、前記青色カラーフィルタおよび前記緑色カラーフィルタのそれぞれから取り出される赤色光、青色光および緑色光の輝度が極大になるように設定されている。
【００１８】
本発明の別の好ましい実施態様においては、前記複数の透明電極が同じ厚さを有し、前記赤色カラーフィルタ、前記青色カラーフィルタおよび前記緑色カラーフィルタのそれぞれから取り出される赤色光、青色光および緑色光の輝度が極大になるように、前記赤色カラーフィルタ、前記青色カラーフィルタおよび前記緑色カラーフィルタのそれぞれに対応する前記複数の透明電極の材料の屈折率が選択されている。
【００１９】
本発明の好ましい実施態様においては、前記複数の透明電極が、４０ｎｍないし２００ｎｍの厚さを有している。
【００２０】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記複数の透明電極が、４０ｎｍないし１５０ｎｍの厚さを有している。
【００２１】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、有機ＥＬディスプレイパネルは、さらに、前記複数の赤色カラーフィルタ、前記複数の青色カラーフィルタおよび前記複数の緑色カラーフィルタ上に、パッシベーション層を備えている。
【００２２】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記パッシベーション層が、ケイ素化合物によって形成されている。
【００２３】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記少なくとも一層の発光層が、少なくとも３８０ないし７８０ｎｍの連続した発光スペクトルを有する白色光を発する発光層によって構成されている。
【００２４】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記少なくとも一層の発光層が、二層の発光層によって構成されている。
【００２５】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、前記少なくとも一層の発光層が、蒸着によって形成されている。
【００２６】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、有機ＥＬディスプレイパネルは、さらに、前記複数の透明電極と、前記少なくとも一層の発光層との間に、ホールを安定的に輸送するとともに、電子の輸送を妨げる機能を有するホール輸送層を備え、前記少なくとも一層の発光層と、前記複数の電子注入電極との間に、電子を安定的に輸送するとともに、ホールの輸送を妨げる機能を有する電子輸送層を備えている。
【００２７】
本発明のさらに好ましい実施態様においては、有機ＥＬディスプレイパネルは、さらに、前記複数の透明電極と、前記ホール輸送層との間に、前記複数の透明電極からのホールの注入を容易にする機能を有するホール注入層を備え、前記電子輸送層と、前記電子注入電極との間に、前記電子注入電極からの電子の注入を容易にする機能を有する電子注入層を備えている。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によれば、カラーフィルタを介して、取り出した赤色光、青色光および緑色光の輝度にばらつきが生じることを効果的に防止することができる有機ＥＬディスプレイパネルを提供することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
本発明において、有機ＥＬディスプレイパネルは、絶縁性透明基板上に、各画素に、１つづつ含まれるように、列状に、かつ、互いに略平行に形成された白色光を赤色光に変換する複数の赤色カラーフィルタ、白色光を青色光に変換する複数の青色カラーフィルタおよび白色光を緑色光に変換する複数の緑色カラーフィルタと、複数の赤色カラーフィルタ、複数の青色カラーフィルタおよび複数の緑色カラーフィルタ上に、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタのそれぞれに対応するように、区分されて形成された複数の透明電極と、複数の透明電極上に形成された有機物を含む少なくとも一層の発光層と、少なくとも一層の発光層上に、複数の透明電極に略直交するように、画素ごとに、形成された複数の電子注入電極とを、基本構成として有している。
【００３０】
本発明において、絶縁性透明基板を形成するための材料は、透明で、絶縁性を有していれば、とくに限定されるものではなく、積層される透明電極の材質によって、適宜選択することができる。
【００３１】
絶縁性透明基板を形成するために好ましく使用することのできる材料としては、ガラスが挙げられ、ガラスのうち、とくに、無アルカリガラスが好ましく使用される。
【００３２】
本発明において、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタを形成するために、顔料および／または有機染料を用いることができ、顔料としては、無機顔料および有機顔料のいずれをも使用可能であり、無機顔料としては、たとえば、金属の複合酸化物などを用いることができ、無機顔料と有機顔料の混合物を使用することもできる。
【００３３】
顔料および有機染料のうちでは、カラーバリエーションの多さから、有機顔料および有機染料が好ましく使用され、有機顔料および有機染料のうちでも、有機顔料は、耐熱性があり、有機溶媒や水に溶解しないため、とくに好ましい。
【００３４】
本発明において、有機顔料および有機染料としては公知の材料を使用することができ、たとえば、赤色用の有機顔料および有機染料としては、ジケトピロロピロール系、アンスラキノン系、キナクリドン系、ペリレン系、アゾ系、ベンズイミダゾロン系などが挙げられ、緑色用の有機顔料および有機染料としては、ハロゲン化銅フタロシアニン系、アンスラキノン系などが挙げられ、青色用の有機顔料および有機染料としては、銅フタロシアニン系、インダントロン系などが挙げられる。また、混色用の黄色用の有機顔料および有機染料としては、イソインドリン系、イソインドリノン系、キノフタロン系、ジスアゾ系などが挙げられる。
【００３５】
これらの有機顔料および有機染料の中で、赤色カラーフィルタを形成するためには、アゾ系の有機顔料または有機染料が好ましく用いられ、青色カラーフィルタを形成するためには、銅フタロシアニン系の有機顔料または有機染料が好ましく用いられる。また、緑色カラーフィルタは、銅フタロシアニン系の有機顔料または有機染料とジスアゾ系の有機顔料もしくは有機染料を混合して形成することが好ましい。
【００３６】
本発明において、赤色カラーフィルタは、５７３ないし７８０ｎｍの波長の光を透過させる光透過特性を有し、好ましくは、５７８ないし６２０ｎｍの波長の光を透過させる光透過特性を有している。また、緑色カラーフィルタは、４９３ないし５７３ｎｍの波長の光を透過させる光透過特性を有し、好ましくは、５２０ないし５７０ｎｍの波長の光を透過させる光透過特性を有している。一方、青色カラーフィルタは、３８０ないし４９３ｎｍの波長の光を透過させる光透過特性を有し、好ましくは、４３０ないし４７０ｎｍの波長の光を透過させる光透過特性を有している。
【００３７】
本発明において、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタは、それぞれ、各画素ごとに、フォトリソグラフィプロセスによって、絶縁性透明基板の表面に、列状に、互いに略平行になるように、形成され、有機ＥＬディスプレイパネルの画素は、それぞれ、１つの赤色カラーフィルタ、１つの青色カラーフィルタおよび１つの緑色カラーフィルタを備えている。
【００３８】
本発明において、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタは厚いほど、色度が向上し、薄すぎると、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタとしての機能が低下するが、厚くなりすぎると、顔料の結晶が析出したり、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタにひび割れが生じるため、一般に１．５μｍ以下であることが好ましい。具体的には、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタの好ましい厚さは、色によって異なり、赤色カラーフィルタは、４００ないし１５０００オングストロームの厚さを有していることが好ましく、緑色カラーフィルタは、１２００ないし１２０００オングストロームの厚さを有していることが好ましく、青色カラーフィルタは、４００ないし１５０００オングストロームの厚さを有していることが好ましい。これら赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタおよび青色カラーフィルタの厚さは、要求される光学特性に応じて、変化させることができる。
【００３９】
本発明において、好ましくは、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタの表面に、パッシベーション層が形成されている。赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタの表面に、パッシベーション層を形成することによって、透明電極をパターニングする際に施されるエッチング処理や洗浄処理によって、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタが損傷を受けることを防止して、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタを保護することが可能になる。
【００４０】
本発明において、パッシベーション層は、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）、窒化ケイ素（ＳｉＮｙ）、酸窒化ケイ素（ＳｉＯｘＮｙ）などのケイ素化合物によって形成することができるが、酸化ケイ素と窒化ケイ素の複合膜によって形成することもできる。
【００４１】
本発明において、パッシベーション層は、酸化ケイ素や窒化ケイ素、酸窒化ケイ素などのケイ素化合物によって形成されることが好ましいが、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタに悪影響を与えない材料であれば、有機系の透明樹脂あるいは無機系の透明樹脂などによって、パッシベーション層を形成することもできる。
【００４２】
本発明において、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素あるいは酸化ケイ素と窒化ケイ素の複合膜によって形成されたパッシベーション層に、ピンホールなどの欠陥や異物などが含まれている可能性がある場合には、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素あるいは酸化ケイ素と窒化ケイ素の複合膜によって形成されたパッシベーション層を保護するために、有機系の透明樹脂あるいは無機系の透明樹脂などによって、パッシベーション層上に、保護膜を形成することもできる。
【００４３】
パッシベーション層は、６３２ｎｍにおける屈折率が１．４０ないし１．５５であることが好ましく、６３２ｎｍにおける屈折率が１．４４ないし１．４８であると、さらに好ましい。パッシベーション層の６３２ｎｍにおける屈折率がこれよりも高いと、発光層中の成分から、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタを保護する機能が低下し、一方、これよりも低いと、水分などから、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタを保護する機能が低下してしまう。
【００４４】
パッシベーション層を、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）によって形成する場合には、ｘが１．８ないし２．２であることが好ましく、さらに好ましくは、１．９０ないし２．０５である。ｘの値は、パッシベーション層の平均値として、この範囲にあればよく、パッシベーション層の厚さ方向に、ｘの値が一定の割合で変化していてもよい。
【００４５】
パッシベーション層を、窒化ケイ素（ＳｉＮｙ）によって形成する場合には、ｙが０．１ないし０．５であることが好ましい。ｙの値は、パッシベーション層の平均値として、この範囲にあればよく、パッシベーション層の厚さ方向に、ｙの値が一定の割合で変化していてもよい。
【００４６】
パッシベーション層を、酸窒化ケイ素（ＳｉＯｘＮｙ）によって形成する場合には、ｘが０．８０ないし１．９７、ｙが０．０２ないし０．８０であることが好ましい。ｘ、ｙの値は、パッシベーション層の平均値として、この範囲にあればよく、パッシベーション層の厚さ方向に、ｘ、ｙの値が一定の割合で変化していてもよい。
【００４７】
パッシベーション層は、不純物として、０．５重量％以下のＣ、Ａｒなどを含んでいてもよく、さらに、層内の応力を緩和させるために、３０原子％以下のＨを含んでいてもよい。
【００４８】
本発明において、パッシベーション層は、２ないし５０ｎｍの平均表面粗さ（Ｒａ）を有していることが好ましく、１０ないし５０ｎｍの最大表面粗さ（Ｒｍａｘ）を有していることが好ましい。
【００４９】
また、パッシベーション層は、発光層から発せられた光の８０％以上を透過する透過率を有していることが好ましい。
【００５０】
パッシベーション層の厚さはとくに限定されるものではないが、５ないし５０ｎｍ、とくに１０ないし３０ｎｍであることが好ましい。
【００５１】
パッシベーション層は、スパッタリング法、プラズマＣＶＤ法などによって、形成することができる。
【００５２】
スパッタリング法によって、パッシベーション層を形成する場合には、ＲＦ電源を用いた高周波スパッタリング法によって、パッシベーション層を成膜することが好ましい。ＲＦ電源を用いた高周波スパッタリングの電力は１０ないし１００Ｗ／平方センチメートルの範囲が好ましく、周波数は１３．５６ＭＨｚ、成膜速度は５ないし５０ｎｍ／分、成膜中の圧力は０．１ないし１．０パスカルであることが好ましい。
【００５３】
スパッタリング法を用いて、パッシベーション層を成膜する場合、スパッタリング用ガスには、通常のスパッタリング装置に使用される不活性ガスを使用することができるが、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅよりなる群から選ばれる１種の不活性ガスあるいは２種以上の混合不活性ガスを用いることが好ましい。Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅのいずれかを、主たるスパッタリング用ガスとして用いるときは、基板とターゲットの間の距離は２０ないし６０パスカル・ｃｍの範囲にあることが好ましく、とくに、３０ないし５０パスカル・ｃｍの範囲にあることが好ましい。Ａｒ、ＫｒおよびＸｅのうち、Ａｒを用いることが最も好ましい。
【００５４】
本発明にかかる有機ＥＬディスプレイパネルは、ホール注入電極として機能する透明電極と、電子注入電極との間に、少なくとも一層の有機化合物を含む発光層を備え、発光層は、少なくとも発光機能に関与する１種または２種の有機化合物を含んでいる。
【００５５】
本発明において、少なくとも一層の発光層から発せられる光の波長は、白色光の波長であれば、とくに限定されるものではないが、好ましくは、少なくとも一層の発光層が、少なくとも３８０ないし７８０ｎｍの連続した発光スペクトルを有する白色光を発するように構成されている。
【００５６】
本発明において、少なくとも一層の発光層が、４３０ｎｍないし６５０ｎｍ以下の連続した発光スペクトルを有する白色光を発するように構成されていると、とくに好ましい。
【００５７】
本発明において、少なくとも一層の発光層は、ホール輸送性化合物もしくは電子輸送性化合物またはこれらの混合物であるホスト物質を含み、ホール（正孔）および電子の注入機能、ホールおよび電子の輸送機能ならびにホールおよび電子の再結合により、励起子を生成させる機能を有しており、電子的に比較的ニュートラルな化合物を含んでいることが好ましい。
【００５８】
少なくとも一層の発光層のホスト物質として用いられるホール輸送性化合物としては、トリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体が挙げられ、さらに、トリフェニルジアミン誘導体が好ましく使用できる。
【００５９】
トリフェニルジアミン誘導体の例としては、テトラアリールベンジシン化合物（トリアリールジアミンないしトリフェニルジアミン：ＴＰＤ）がとくに好ましい。
【００６０】
テトラアリールベンジシン化合物（ＴＤＰ）の好ましい具体例は、以下のとおりである。
【００６１】
【化１】
2005222704.tif 000003
【００６２】
【化２】
2005222704.tif 000004
【００６３】
【化３】
2005222704.tif 000005
【００６４】
少なくとも一層の発光層のホスト物質として用いられる電子輸送性化合物としては、キノリン誘導体が好ましく使用することができ、さらには、８−キノリノールないしその誘導体を配位子とする金属錯体、とくに、下式の構造を有するトリス（８−キノリナト）アルミニウム（Ａｌｑ３）が好ましく使用される。また、フェニルアントラセン誘導体やテトラアリールエテン誘導体も、電子輸送性化合物として使用することができる。
【００６５】
【化４】
2005222704.tif 000006
【００６６】
本発明において、少なくとも一層の発光層は、ホール輸送性化合物もしくは電子輸送性化合物またはこれらの混合物であるホスト物質に、蛍光物質であるドーパントがドープされた構造を有していることが好ましい。
【００６７】
また、本発明にかかる有機ＥＬディスプレイパネルは、互いに積層された二層の発光層を備えていてもよい。二層の発光層を形成する場合には、それぞれに、異なった発光波長を有する蛍光物質をドーピングすることによって、広い発光波長帯域を確保し、また、発光色の色彩の自由度を向上させることができる。
【００６８】
本発明において、ドーパントとして含有させる蛍光物質としては、たとえば、特開昭６３−２６４６９２号公報に開示された化合物、具体的には、ルブレン系化合物、クマリン系化合物、キナクリドン系化合物、ジシアノメチルピラン系化合物などの化合物よりなる群から選ばれる１種以上の化合物が好ましく使用できる。
【００６９】
本発明に好ましく使用できる蛍光物質の例を挙げると、以下のとおりである。
【００７０】
【化５】
2005222704.tif 000007
【００７１】
【化６】
2005222704.tif 000008
【００７２】
【化７】
2005222704.tif 000009
【００７３】
【化８】
2005222704.tif 000010
【００７４】
さらに、本発明においては、特開２０００−２６３３４号公報および特開２０００−２６３３７号公報に記載されているナフタセン系化合物も、ドーパントとして含有させる蛍光物質として、好ましく使用することができ、ルブレン系化合物、クマリン系化合物、キナクリドン系化合物、ジシアノメチルピラン系化合物などと併用することによって、有機ＥＬディスプレイパネルの寿命を飛躍的に向上させることができる。
【００７５】
本発明において、ドーパントとして含有させる蛍光物質として、好ましく使用することのできるナフタセン系化合物は、式（Ｉ）で示される基本骨格を有している。
【００７６】
【化９】
2005222704.tif 000011
【００７７】
式（Ｉ）において、Ｒ１ないしＲ４は、それぞれ、非置換または置換基を有するアルキル基、アリール基、アミノ基、複素環基およびアルケニル基のいずれかを表わし、アリール基、アミノ基、複素環基およびアルケニル基のいずれかであることが好ましくい。
【００７８】
Ｒ１ないしＲ４で表わされるアリール基としては、単環でも、多環でもよく、縮合環や環集合のものも含んでいる。総炭素数は、６ないし３０であることが好ましく、置換基を有していてもよい。
【００７９】
Ｒ１ないしＲ４で表わされるアリール基としては、フェニル基、（ｏ−，ｍ−，ｐ−）トリル基、ピレニル基、ペリレニル基、コロネニル基、（１−、および２−）ナフチル基、アントリル基、（ｏ−，ｍ−，ｐ−）ビフェニリル基、ターフェニル基、フェナントリル基などが好ましい。
【００８０】
Ｒ１ないしＲ４で表わされるアミノ基としては、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、アラルキルアミノ基などのいずれであってもよい。これらは、総炭素数１ないし６の脂肪族および／または１なし４環の芳香族炭素環を有していることが好ましい。具体的には，ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジブチルアミノ基、ジフェニルアミノ基、ジトリルアミノ基、ビスジフェニルアミノ基、ビスナフチルアミノ基などが含まれる。
【００８１】
Ｒ１ないしＲ４で表わされる複素環基としては、ヘテロ原子として、Ｏ、Ｎ、Ｓを含有する５員環または６員環の芳香族複素環基、炭素数２ないし２０の縮合多環芳香族複素環基などが挙げられる。
【００８２】
Ｒ１ないしＲ４で表わされるアルケニル基としては、少なくとも置換基の１つにフェニル基を有する（１−および２−）フェニルアルケニル基、（１，２−および２，２−）ジフェニルアルケニル基、（１，２，２−）トリフェニルアルケニル基などが好ましいが、非置換のものであってもよい。
【００８３】
芳香族複素環基および縮合多環芳香族複素環基としては、たとえば、チエニル基、フリル基、ピロリル基、ピリジン基、キノリル基、キノキサリルなどが挙げられる。
【００８４】
Ｒ１ないしＲ４が置換基を有する場合、これらの置換基のうちの少なくとも２つがアリール基、アミノ基、複素環基、アルケニル基およびアリーロキシ基のいずれかであることが好ましい。アリール基、アミノ基、複素環基およびアルケニル基については、Ｒ１ないしＲ４と同様のものが使用できる。
【００８５】
Ｒ１ないしＲ４の置換基となるアリーロキシ基としては、総炭素数６ないし１８のアリール基を有するものが好ましく、具体的には、（ｏ−，ｍ−，ｐ−）フェノキシ基などが挙げられる。
【００８６】
これらの置換基の２種以上が、縮合環を形成し、あるいは、さらに、置換されていてもよい。置換されている場合、好ましい置換基は、前記置換基を同様である。
【００８７】
Ｒ１ないしＲ４が置換基を有する場合には、少なくとも、その２種以上が前記置換基を有していることが好ましい。その置換位置は、とくに限定されるものではなく，メタ、パラ、オルト位のいずれであってもよい。また、Ｒ１とＲ４、Ｒ２とＲ３は、それぞれ同じものであることが好ましいが、互いに異なるものであってもよい。
【００８８】
式（Ｉ）において、Ｒ１ないしＲ８のうち、少なくとも５種以上、好ましくは６種以上が、非置換または置換基を有するアルキル基、アリール基、アミノ基、アルケニル基または複素環基である。
【００８９】
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８で表わされるアルキル基としては、炭素数が１ないし６のものが好ましいが、直鎖状であっても、分岐を有していてもよい。Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８で表わされるアルキル基の好ましい具体例としては、メチル基、エチル基、（ｎ，ｉ）プロピル基、（ｎ，ｉ，ｓｅｃ，ｔｅｒｔ）−ブチル基、（ｎ，ｉ，ｎｅｏ，ｔｅｒｔ）−ペンチル基などが挙げられる。
【００９０】
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７およびＲ８で表わされるアリール基、アミノ基およびアルケニル基としては、Ｒ１ないしＲ４と同様のものが使用できる。また、Ｒ５とＲ６、Ｒ７とＲ８は、それぞれ同じものであることが好ましいが、互いに異なるものであってもよい。
【００９１】
本発明において、ドーパントとして含有させる蛍光物質として、好ましく使用することのできる化合物には、たとえば、次のものが挙げられる。
【００９２】
【化１０】
2005222704.tif 000012
【００９３】
【化１１】
2005222704.tif 000013
【００９４】
二層の発光層を設ける場合、各発光層が、２種以上のこれらの蛍光物質を含み、２種以上の蛍光物質が、異なった発光波長を有していることが好ましい。
【００９５】
本発明において、発光層におけるドーパントの含有量は、０．０１ないし２０重量％であることが好ましく、さらに好ましくは，０．１ないし１５重量％である。
【００９６】
本発明において、発光層の厚さはとくに限定されるものではなく、その好ましい厚さは、形成方法によっても異なるが、通常、５ないし５００ｎｍ、さらに好ましくは、１０ないし３００ｎｍである。
【００９７】
本発明において、二層以上の発光層を形成する場合、各発光層の厚さは、分子層一層分に相当する厚さから、発光層全体の厚さ未満の範囲にあり、具体的には、１ないし８５ｎｍ、好ましくは５ないし６０ｎｍ、さらに好ましくは５ないし５０ｎｍである。
【００９８】
本発明において、好ましくは、発光層は蒸着によって形成される。
【００９９】
本発明において、発光層を、蒸着によって形成する条件は、とくに限定されるものではないが、１×１０−４パスカル以下で、蒸着速度を０．０１ないし１ｎｍ／秒程度とすることが好ましい。
【０１００】
本発明において、好ましくは、少なくとも一層の発光層は、ホール輸送性化合物と電子注入輸送性化合物の混合物を含んでいる。
【０１０１】
少なくとも一層の発光層が、ホール輸送性化合物と電子注入輸送性化合物の混合物を含んでいる場合には，キャリアのホッピング伝導パスが形成されるため、各キャリアは極性的に優勢な物質中を移動し、逆の極性のキャリア注入が起こり難くなり、したがって、発光層に含まれた化合物がダメージを受けることが防止されるので、有機ＥＬディスプレイパネルの寿命を向上させることができるという利点がある。
【０１０２】
さらに、蛍光物質からなるドーパントを、ホール輸送性化合物および電子注入輸送性化合物の混合物を発光層に含有させることによって、発光層自体が有する発光波長特性を変化させることができ，発光波長を長波長側に移行させるとともに、発光強度を向上させ、さらには、有機ＥＬディスプレイパネルの安定性を向上させることが可能になる。
【０１０３】
少なくとも一層の発光層が、ホール輸送性化合物および電子注入輸送性化合物の混合物を含んでいる場合、ホール輸送性化合物と電子注入輸送性化合物の混合比は、それぞれのキャリア移動度とキャリア濃度にしたがって決定されるが、一般的には、重量比で、１／９９ないし９９／１、好ましくは、１０／９０ないし９０／１０、さらに好ましくは、２０／８０ないし８０／２０、最も好ましくは、４０／６０ないし６０／４０が選ばれる。
【０１０４】
ホール輸送性化合物および電子注入輸送性化合物の混合物を含む発光層を形成する場合には、ホール輸送性化合物と電子注入輸送性化合物を、異なる蒸着源に入れて、蒸発させ、共蒸着することが好ましいが、ホール輸送性化合物と電子注入輸送性化合物の蒸気圧が同程度あるいは非常に近い場合には、あらかじめ同じ蒸着源内で混合させておき、蒸着することもできる。
【０１０５】
ホール輸送性化合物および電子注入輸送性化合物の混合物を含む発光層を形成する場合には、有機発光層内で、ホール輸送性化合物と電子注入輸送性化合物とが均一に混合していることが好ましいが、均一に混合していることは必ずしも必要でない。
【０１０６】
本発明において、有機ＥＬディスプレイパネルは、好ましくは、少なくとも一層の発光層に加えて、ホール注入電極からのホールの注入を容易にする機能、ホールを安定的に輸送する機能および電子の輸送を妨げる機能を有するホール注入輸送層、ならびに、電子注入電極からの電子の注入を容易にする機能、電子を安定的に輸送する機能およびホールの輸送を妨げる機能を有する電子注入輸送層を備えている。これらの層を備えることによって、発光層に注入されるホールや電子を増大させるとともに、発光層内に閉じ込めさせ、再結合領域を最適化させ、発光効率を向上させることが可能になる。
【０１０７】
本発明において、さらに好ましくは、有機ＥＬディスプレイパネルは、ホール注入電極、ホール注入電極からのホールの注入を容易にする機能を有するホール注入層、ホールを安定的に輸送するとともに、電子の輸送を妨げる機能を有するホール輸送層、電子を安定的に輸送するとともにホールの輸送を妨げる機能を有する電子輸送層および電子注入電極からの電子の注入を容易にする機能を有する電子注入層を備えている。
【０１０８】
本発明において、ホール注入輸送層、ホール注入層およびホール輸送層に、好ましく使用することができる化合物としては、例えば、テトラアリールベンジシン化合物（トリアリールジアミンないしトリフェニルジアミン：ＴＰＤ）、芳香族三級アミン、ヒドラゾン誘導体、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、アミノ基を有するオキサジアゾール誘導体、ポリチオフェンなどを挙げることができる。これらのうち、テトラアリールベンジシン化合物（トリアリールジアミンないしトリフェニルジアミン：ＴＰＤ）、ＷＯ／９８／３００７１号に記載されているトリアリールアミン多量体（ＡＴＰ）が、とくに好ましく使用することができる。
【０１０９】
トリアリールアミン多量体（ＡＴＰ）の好ましい具体例は、以下のとおりである。
【０１１０】
【化１２】
2005222704.tif 000014
【０１１１】
【化１３】
2005222704.tif 000015
【０１１２】
【化１４】
2005222704.tif 000016
【０１１３】
本発明において、さらには、特開昭６３−２９５６９５号公報、特開平２−１９１６９４号公報、特開平３−７９２号公報、特開平５−２３４６８１号公報、特開平５−２３９４５５号公報、特開平５−２９９１７４号公報、特開平７−１２６２２５号公報、特開平７−１２６２２６号公報、特開平８−１００１７２号公報、ＥＰ０６５０９５５Ａ１などに記載されている各種有機化合物も、ホール注入輸送層、ホール注入層およびホール輸送層に使用することができる。
【０１１４】
本発明において、２種以上のこれらの化合物を併用してもよく、２種以上のこれらの化合物を併用する場合には、一層中に混合しても、また、２以上の層として、積層してもよい。
【０１１５】
ホール注入輸送層を分割して、ホール注入層およびホール輸送層を設ける場合には、前記化合物の中から、好ましい組み合わせを選択して、使用することができる。このとき、ホール注入電極として機能するＩＴＯなどの透明電極側から、イオン化ポテンシャルの小さい化合物の層の順に、積層することが好ましい。また、ホール注入電極として機能する透明電極の表面には、薄膜性の良好な化合物の層を形成することが好ましい。とくに、前記ＡＴＰをホール注入層に用い、前記ＴＰＤをホール輸送層に用いると、好ましい。前記ＡＴＰをホール注入層に用い、前記ＴＰＤをホール輸送層に用いることによって、駆動電圧が低下し、電流リークの発生やダークスポットの発生および成長を防止することができる。
【０１１６】
本発明において、ホール注入輸送層、ホール注入層およびホール輸送層は、前記化合物を蒸着することによって形成することができる。蒸着によって、素子化する場合には、均一で、ピンホールのない１ないし１０ｎｍ程度の薄膜を形成することができるため、ホール注入層にイオン化ポテンシャルが小さく、可視波長の光を吸収する化合物を用いても、発光色の色調変化や再吸収による発光効率の低下を防止することができる。
【０１１７】
本発明において、電子注入輸送層を、電子注入層と電子輸送層とに分割することもでき、電子注入輸送層、電子注入層および電子輸送層に、好ましく使用することができる化合物としては、たとえば、トリス（８−キノリノラト）アルミニウム（Ａｌｑ３）などの８−キノリノールないしその誘導体を配位子とする有機金属錯体、オキサジアゾール誘導体、ペリレン誘導体、ピリジン誘導体、ピリミジン誘導体、キノキサリン誘導体などを挙げることができる。
【０１１８】
本発明において、電子注入輸送層、電子注入層および電子輸送層は、前記化合物を蒸着することによって形成することができる。
【０１１９】
本発明において、有機発光層、ホール注入輸送層あるいはホール注入層およびホール輸送層、ならびに、電子注入輸送層あるいは電子注入層および電子輸送層の各層を、蒸着によって形成する条件はとくに限定されるものではないが、１×１０−４パスカル以下で、蒸着速度を０．０１ないし１ｎｍ／秒程度とすることが好ましい。各層は、１×１０−４パスカル以下の減圧下で、連続して、形成されることが好ましい。１×１０−４パスカル以下の減圧下で、連続して、各層を形成することによって、各層の界面に不純物が吸着されることを防止することができるから、高特性の有機ＥＬディスプレイパネルを得ることが可能になるとともに、有機ＥＬディスプレイパネルの駆動電圧を低下させ、ダークスポットが発生し、成長することを抑制することができる。
【０１２０】
本発明において、発光層、ホール注入輸送層、ホール注入層、ホール輸送層、電子注入輸送層、電子注入層あるいは電子輸送層に、２種以上の化合物を含有させる場合には、化合物を入れた各ボートを個別に温度制御して、共蒸着によって、発光層、ホール注入輸送層、ホール注入層、ホール輸送層、電子注入輸送層、電子注入層あるいは電子輸送層を形成することが好ましい。
【０１２１】
本発明において、前記ホール注入輸送層または前記ホール注入層および前記ホール輸送層に代えて、あるいは、これらに加えて、ホールの導通パスを備え、電子をブロックする機能を有する高抵抗の無機ホール注入輸送層を設けることもできる。
【０１２２】
このように、ホールの導通パスを備え、電子をブロックする機能を有する高抵抗の無機ホール注入輸送層を設けることによって、発光層にホールを効率よく注入することができ、発光効率を向上させることが可能となるとともに、駆動電圧を低下させることが可能になる。さらには、ホールの導通パスを備え、電子をブロックする機能を有する高抵抗の無機ホール注入輸送層を設けることによって、有機ＥＬディスプレイパネルの厚さを減少させることができ、有機ＥＬディスプレイパネルを薄層化することが可能となる。
【０１２３】
本発明において、無機ホール注入輸送層の主成分として、シリコンやゲルマニウムなどの金属あるいは半金属の酸化物を用い、これに、仕事関数が４．５ｅＶ以上、好ましくは、４．５ないし６．０ｅＶの金属、半金属およびこれらの酸化物、炭化物、窒化物、ケイ化物、硼化物のいずれか１種以上を含有させて、ホールの導通パスを形成すると、ホール注入電極から発光層へ、ホールを効率よく注入することができるだけでなく、発光層からホール注入電極への電子の移動を抑制して、発光層において、ホールと電子とを効率よく再結合させることができ、好ましい。
【０１２４】
高抵抗の無機ホール注入輸送層を設ける場合には、従来の有機のホール注入輸送層や、有機のホール注入層、有機のホール輸送層を有する有機ＥＬディスプレイパネルに比して、同等か、それ以上の輝度を得ることができ、しかも、耐熱性、耐候性が高いので、寿命が長く、無機材料であるホール注入電極との接続性も良好になり、そのため、リークやダークスポットの発生も少ないという利点がある。さらには、比較的高価な有機物質とは異なり、無機ホール注入輸送層を形成するための無機物質は、安価で、入手がしやすく、無機ホール注入輸送層の形成も容易であるので、有機ＥＬディスプレイパネルの製造コストを低減させることができる。
【０１２５】
高抵抗の無機ホール注入輸送層の抵抗率は、１Ω・ｃｍないし１×１０１１Ω・ｃｍであることが好ましく、１×１０３Ω・ｃｍないし１×１０８Ω・ｃｍであることが、とくに好ましい。無機ホール注入輸送層の抵抗率をかかる範囲に設定することによって、高い電子ブロック性を維持しつつ、ホール注入効率を飛躍的に向上させることが可能になる。高抵抗の無機ホール注入輸送層の抵抗率は、シート抵抗と膜厚からも求めることができる。
【０１２６】
高抵抗の無機ホール注入輸送層は、シリコンとゲルマニウムの酸化物（Ｓｉ１−ｘＧｅｘ）Ｏｙを主成分とすることが好ましく、ここに、ｘは０ないし１、ｙは１．７ないし２．２、好ましくは、１．７ないし１．９９である。無機ホール注入輸送層の主成分は、酸化シリコン（すなわち、ｘが０．５以下）でも、酸化ゲルマニウム（すなわち、ｘが０．５を越えている）でもよく、それらの混合薄膜であってもよい。ｙが、この範囲より大きくても、小さくても、ホール注入機能が低下し、好ましくない。組成は、たとえば、ラザフォード後方散乱、化学分析などによって調べることができる。
【０１２７】
無機ホール注入輸送層は、さらに、仕事関数が４．５ｅＶ以上、好ましくは、４．５ないし６．０ｅＶの金属、半金属およびこれらの酸化物、炭化物、窒化物、ケイ化物、硼化物のいずれか１種以上を含有していることが好ましい。仕事関数が４．５ｅＶ以上、好ましくは、４．５ないし６．０ｅＶの金属、半金属としては、Ａｕ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｉｒ、Ｎｂ、Ｐｔ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔａ、Ｐｄ、Ｃｏを挙げることができる。これらの金属、半金属およびこれらの酸化物、炭化物、窒化物、ケイ化物、硼化物は混合して用いることができ、その場合の混合比は任意である。これらの含有量は、好ましくは、０．２ないし４０モル％、より好ましくは、１ないし２０モル％である。これらの含有量が、０．２モル％よりも少ないと、ホール注入機能が低下し、一方、４０モル％よりも多いと、電子ブロック機能が低下し、好ましくない。これらを２種以上併用する場合には、合計の含有量がかかる範囲内にあることが好ましい。
【０１２８】
前記金属、半金属およびこれらの酸化物、炭化物、窒化物、ケイ化物、硼化物は、通常、高抵抗の無機ホール注入輸送層中に、分散状態で、含有されている。分散粒子の粒径は、通常、１ないし５ｎｍ程度である。これらの導体である分散粒子間に、主成分である高抵抗のシリコンとゲルマニウムの酸化物を介して、ホールを輸送するためのホッピングパスが形成されるものと考えられる。
【０１２９】
高抵抗の無機ホール注入輸送層は、さらに、不純物として、Ｈや、スパッタガスとして用いるＮｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅなどを、合計５分子％以下含有していてもよい。
【０１３０】
高抵抗の無機ホール注入輸送層の組成は均一でなくてもよく、平均として、かかる組成を有していれば、膜厚方向に濃度勾配を有していてもよい。
【０１３１】
高抵抗の無機ホール注入輸送層は、通常、非晶質状態である。
【０１３２】
高抵抗の無機ホール注入輸送層は、０．３ないし１００ｎｍの膜厚を有していることが好ましく、より好ましくは、１ないし１００ｎｍであり、５ないし３０ｎｍの膜厚を有していると、とくに好ましい。高抵抗の無機ホール注入輸送層の膜厚が、０．３ｎｍ未満でも、１００ｎｍを越えていても、ホール注入の機能が十分に発揮されなくなる。
【０１３３】
高抵抗の無機ホール注入輸送層は、スパッタリング、蒸着など、各種の物理的あるいは化学的な薄膜形成方法によって、形成することができるが、スパッタリング法によって形成することが好ましい。とくに、主成分であるシリコンとゲルマニウムの酸化物と、仕事関数が４．５ｅＶ以上の金属、半金属およびこれらの酸化物、炭化物、窒化物、ケイ化物、硼化物のいずれか１種以上を、ターゲットとして、別個にスパッタリングする多元スパッタリング法によって、無機ホール注入輸送層を形成することが好ましい。多元スパッタリング法によれば、それぞれのターゲットに適した条件で、スパッタリングすることができる。また、主成分のターゲット上に、金属、半金属およびこれらの酸化物、炭化物、窒化物、ケイ化物、硼化物のいずれか１種以上の小片を配置し、これらの面積比を適当に調整することによって、組成を調整すれば、一元スパッタリング法によって、無機ホール注入輸送層を形成することもできる。
【０１３４】
無機ホール注入輸送層をスパッタリング法によって形成する場合、スパッタガスの圧力は、０．１ないし１パスカルの範囲に設定することが好ましい。スパッタガスとしては、スパッタリングに、通常、用いられる不活性ガス、たとえば、Ａｒ、Ｎｅ、Ｘｅ、Ｋｒなどを使用することができ、必要に応じて、窒素ガスを用いることもできる。スパッタリング時において、これらのスパッタガスに加えて、１ないし９９％の酸素ガスを混合するようにしてもよい。
【０１３５】
スパッタリング法としては、ＲＦ電源を用いた高周波スパッタリング法や、ＤＣスパッタリング法を使用することができ、ＲＦ電源を用いた高周波スパッタリングの電力は０．１ないし１０Ｗ／平方センチメートルの範囲が好ましく、成膜速度は０．５ないし１０ｎｍ／分、とくに、１ないし５ｎｍの範囲が好ましい。
【０１３６】
成膜時の基板温度は、２５ないし１５０℃程度である。
【０１３７】
本発明において、前記電子注入輸送層または前記電子注入層および前記電子輸送層に代えて、あるいは、これらに加えて、電子の導通パスを備え、ホールをブロックする機能を有する高抵抗の無機電子注入輸送層を設けることもできる。
【０１３８】
このように、電子の導通パスを備え、ホールをブロックする機能を有する高抵抗の無機電子注入輸送層を、発光層と電子注入電極との間に、設けることによって、発光層に電子を効率よく注入することができ、発光効率を向上させることが可能となるとともに、駆動電圧を低下させることが可能になる。さらには、電子の導通パスを備え、ホールをブロックする機能を有する高抵抗の無機電子注入輸送層を設けることによって、有機ＥＬディスプレイパネルの厚さを減少させることができ、有機ＥＬディスプレイパネルを薄層化することが可能となる。
【０１３９】
高抵抗の無機電子注入輸送層は、好ましくは、第一成分として、仕事関数が４ｅＶ以下、好ましくは、１ｅＶないし４ｅＶであって、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、ＣｓおよびＦｒよりなる群から選ばれる１種以上のアルカリ金属元素、または、Ｍｇ、ＣａおよびＳｒよりなる群から選ばれる１種以上のアルカリ金属土類元素、または、ＬａおよびＣｅよりなる群から選ばれる１種以上のランタノイド系元素の酸化物を含有している。これらの中では、とくに、酸化リチウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化セリウムが好ましい。これらの元素を混合して用いる場合、混合比は任意に決定することができる。これらの元素を混合して用いる場合、混合物中に、酸化リチウムが、Ｌｉ２Ｏ換算で、５０モル％以上が含有されていることが好ましい。
【０１４０】
高抵抗の無機電子注入輸送層は、さらに、第二成分として、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｖ、Ｒｕ、ＳｍおよびＩｎよりなる群から選ばれる１種以上の元素を含有している。第二成分の含有量は、好ましくは、０．２ないし４０モル％、より好ましくは、１ないし２０モル％である。第二成分の含有量が、０．２モル％より少ないと、電子注入機能が低下し、他方、４０モル％を越えると、ホールブロック機能が低下し、好ましくない。第二成分として、２種以上の元素を併用する場合、合計の含有量がかかる範囲内にあることが好ましい。第二成分は、金属の状態で存在しても、酸化物の状態で存在してもよい。
【０１４１】
このように、高抵抗である第一成分中に、第二成分として、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｖ、Ｒｕ、ＳｍおよびＩｎよりなる群から選ばれる１種以上の元素を、０．２ないし４０モル％含有させて、導電パスを形成することにより、電子注入電極から有機発光層に、効率よく、電子を注入することができる。これは、第一成分中に、第二成分を含有させることによって、絶縁物質中に、導電物質が島状に存在することになり、電子注入のためのホッピングパスが形成されるためと考えられる。
【０１４２】
第一成分中に、第二成分を、０．２ないし４０モル％含有させることにより、さらに、発光層から電子注入電極へのホールの移動を抑制することが可能になり、発光層において、ホールと電子とを効率よく再結合させることができる。
【０１４３】
高抵抗の無機電子注入輸送層を設ける場合には、従来の有機の電子注入輸送層や、有機の電子注入層、有機の電子輸送層を有する有機ＥＬ素子に比して、同等か、それ以上の輝度を得ることができ、しかも、耐熱性、耐候性が高いので、寿命が長く、無機材料である電子注入電極との接続性も良好になり、そのため、リークやダークスポットの発生も少ないという利点がある。さらには、比較的高価な有機物質とは異なり、無機電気注入輸送層を形成するための無機物質は、安価で、入手がしやすく、無機電子注入輸送層の形成も容易であるので、有機ＥＬディスプレイパネルの製造コストを低減させることができる。
【０１４４】
高抵抗の無機電子注入輸送層の抵抗率は、１Ω・ｃｍないし１×１０１１Ω・ｃｍであることが好ましく、１×１０３Ω・ｃｍないし１×１０８Ω・ｃｍであることが、とくに好ましい。無機電子注入輸送層の抵抗率をかかる範囲に設定することによって、高いホールブロック性を維持しつつ、電子注入効率を飛躍的に向上させることが可能になる。この場合、シート抵抗は４端子法などによって測定することができる。
【０１４５】
第一成分の酸化物は、通常、化学量論組成（stoichiometric  composition）であるが、これから、多少偏倚して、非化学量論組成（non‐stoichiometry）となっていてもよい。第二成分の酸化物も同様である。
【０１４６】
高抵抗の無機電子注入輸送層は、さらに、不純物として、Ｈや、スパッタガスとして用いるＮｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅなどを、合計５分子％以下含有していてもよい。
【０１４７】
高抵抗の無機電子注入輸送層は、通常、非晶質状態である。
【０１４８】
高抵抗の無機電子注入輸送層は、０．２ないし３０ｎｍの膜厚を有していることが好ましく、０．２ないし２０の膜厚を有していると、とくに好ましい。高抵抗の無機電子注入輸送層の膜厚が、０．２ｎｍ未満でも、３０ｎｍを越えていても、電子注入の機能が十分に発揮されなくなる。
【０１４９】
高抵抗の無機電子注入輸送層は、スパッタリング、蒸着など、各種の物理的あるいは化学的な薄膜形成方法によって、形成することができるが、スパッタリング法によって形成することが好ましい。とくに、第一成分と第二成分を、ターゲットとして、別個にスパッタリングする多元スパッタリング法によって、無機電子注入輸送層を形成することが好ましい。多元スパッタリング法によれば、それぞれのターゲットに適した条件で、スパッタリングすることができる。また、大地成分と第二成分の混合ターゲットを用いて、一元スパッタリング法によって、無機電子注入輸送層を形成することもできる。
【０１５０】
無機電子注入輸送層をスパッタリング法によって形成する場合、スパッタガスの圧力は、０．１ないし１パスカルの範囲に設定することが好ましい。スパッタガスとしては、スパッタリング法に、通常、用いられる不活性ガス、たとえば、Ａｒ、Ｎｅ、Ｘｅ、Ｋｒなどを使用することができ、必要に応じて、窒素ガスを用いることもできる。スパッタリング時において、これらのスパッタガスに加えて、１ないし９９％の酸素ガスを混合するようにしてもよい。
【０１５１】
スパッタリング法としては、ＲＦ電源を用いた高周波スパッタリング法や、ＤＣスパッタリング法を使用することができ、ＲＦ電源を用いた高周波スパッタリングの電力は０．１ないし１０Ｗ／平方センチメートルの範囲が好ましく、成膜速度は０．５ないし１０ｎｍ／分、とくに、１ないし５ｎｍの範囲が好ましい。
【０１５２】
成膜時の基板温度は、２５ないし１５０℃程度である。
【０１５３】
本発明において、ホール注入電極として機能する透明電極は、ホール注入輸送層あるいはホール注入層に、ホールを効率よく、注入することのできる材料によって形成されることが好ましく、仕事関数が４．５ないし５．５ｅＶの材料によって形成されることが好ましい。ホール注入電極として機能する透明電極を形成するために、好ましく使用できる材料としては、たとえば、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化錫（ＳｎＯ２）および酸化亜鉛（ＺｎＯ）のいずれかを主成分とした酸化物が挙げられる。これらの酸化物は、その化学量論組成から、多少偏倚した組成を有していてもよい。錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）における酸化インジウムに対する酸化錫の混合比は１ないし２０重量％が好ましく、さらに好ましくは、５ないし１２重量％である。また、亜鉛ドープ酸化インジウム（ＩＺＯ）における酸化インジウムに対する酸化亜鉛の混合比は、通常、１２ないし３２重量％である。
【０１５４】
本発明において、ホール注入電極として機能する透明電極は、仕事関数を調整するために、酸化シリコン（ＳｉＯ２）を含んでいてもよい。酸化シリコン（ＳｉＯ２）の含有量は、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）に対するモル比で、０．５ないし１０％であることが好ましい。酸化シリコンを含有させることによって、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）を増大させることができる。
【０１５５】
本発明において、ホール注入電極として機能する透明電極は、各赤色カラーフィルタ、各青色カラーフィルタおよび各緑色カラーフィルタ上に、列状に形成されている。
【０１５６】
本発明者の研究によれば、赤色カラーフィルタを介して、取り出した赤色光の輝度は、透明電極中の白色光の光路長によって、大きく変化し、透明電極中の白色光の光路長に対する赤色光の輝度の変化を示す曲線は、透明電極中の白色光の光路長がある値のときに、極大となることが見出されており、同様に、青色カラーフィルタを介して、取り出した青色光の輝度は、透明電極中の白色光の光路長によって、大きく変化し、透明電極中の白色光の光路長に対する青色光の輝度の変化を示す曲線は、透明電極中の白色光の光路長がある値のときに、極大になり、緑色カラーフィルタを介して、取り出した緑色光の輝度は、透明電極中の白色光の光路長によって、大きく変化し、透明電極中の白色光の光路長に対する緑色光の輝度の変化を示す曲線は、透明電極中の白色光の光路長がある値のときに、極大となることが見出されている。
【０１５７】
したがって、少なくとも一層の発光層から発せられ、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタのそれぞれから、取り出される赤色光の輝度、青色光の輝度および緑色光の輝度が極大になるように、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタのそれぞれに対応して形成された透明電極中の白色光の光路長を設定することによって、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタのそれぞれから、取り出される赤色光の輝度、青色光の輝度および緑色光の輝度のばらつきを最小化することが可能になる。
【０１５８】
そこで、本発明においては、少なくとも一層の発光層から発せられ、赤色カラーフィルタを介して、取り出された赤色光の輝度が極大になるように、赤色カラーフィルタ上に形成された透明電極中の白色光の光路長が設定されて、透明電極が赤色カラーフィルタ上に形成され、少なくとも一層の発光層から発せられ、青色カラーフィルタを介して、取り出された青色光の輝度が極大になるように、青色カラーフィルタ上に形成された透明電極中の白色光の光路長が設定されて、透明電極が青色カラーフィルタ上に形成され、少なくとも一層の発光層から発せられ、緑色カラーフィルタを介して、取り出された緑色光の輝度が極大になるように、緑色カラーフィルタ上に形成された透明電極中の白色光の光路長が設定されて、透明電極が緑色カラーフィルタ上に形成されている。
【０１５９】
本発明において、好ましくは、透明電極が同じ材料によって形成され、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタのそれぞれに対応する透明電極の厚さが、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタのそれぞれから取り出される赤色光、青色光および緑色光の輝度が極大になるように設定されている。
【０１６０】
本発明において、透明電極を同じ厚さを有するように形成し、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタのそれぞれから取り出される赤色光、青色光および緑色光の輝度が極大になるように、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタのそれぞれに対応する透明電極の材料の屈折率を選択するようにしてもよい。
【０１６１】
本発明において、ホール注入電極として機能する透明電極は、白色光に対する光透過率が５０％以上であることが好ましくは、さらに好ましくは、８０％以上、最も好ましくは、９０％以上の光透過率を有している。光透過率がこれ以下の場合には、必要な輝度を得ることができない。
【０１６２】
本発明において、ホール注入電極として機能する透明電極の厚さは、４０ｎｍないし２００ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは、４０ｎｍないし１５０ｎｍである。透明電極の厚さが、２００ｎｍを越えると、光透過率が低下し、好ましくない。一方、透明電極の厚さが、４０ｎｍ未満のときは、輝度が低下し、好ましくない。
【０１６３】
したがって、本発明において、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタのそれぞれに対応する透明電極の厚さは、４０ｎｍないし２００ｎｍ、さらに好ましくは、４０ｎｍないし１５０ｎｍの範囲内で、かつ、赤色カラーフィルタ、青色カラーフィルタおよび緑色カラーフィルタのそれぞれから取り出される赤色光、青色光および緑色光の輝度が極大になるように、選択されることが好ましい。
【０１６４】
本発明において、電子注入電極は、電子注入輸送層あるいは電子注入層に、電子を効率よく、注入することのできる材料によって形成されることが好ましい。
【０１６５】
有機材料によって、電子注入輸送層あるいは電子注入層が形成されている場合には、電子注入電極を形成するために、好ましく使用できる材料としては、たとえば、Ｋ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｚｒなどの金属元素単体、または、安定性を向上させるために、これらの金属元素を含む二成分もしくは三成分の合金を挙げることができる。これらの金属元素を含む二成分もしくは三成分の合金の具体例としては、Ａｇ・Ｍｇ（Ａｇ：０．１ないし５０原子％）、Ａｌ・Ｌｉ（Ｌｉ：０．０１ないし１４原子％）、Ｉｎ・Ｍｇ（Ｍｇ：５０ないし８０原子％）、Ａｌ・Ｃａ（Ｃａ：０．０１ないし２０原子％）を挙げることができる。
【０１６６】
本発明において、電子注入電極の厚さは、０．１ｎｍ以上であることが好ましく、さらに好ましくは０．５ｎｍ以上、最も好ましくは１ｎｍ以上である。電子注入電極の厚さの上限値はとくに限定されないが、通常は、１ないし５００ｎｍ程度である。
【０１６７】
これに対して、無機材料によって、無機電子注入輸送層が形成されている場合には、低仕事関数で、電子注入性を有している必要がないので、電子注入電極を形成するための材料はとくに限定されるものではなく、通常の金属を用いることができる。金属の中では、Ａｌ、Ａｇ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、Ａｕ、Ｍｏ、Ｗ、Ｐｔ、ＰｄおよびＮｉよりなる群、とくに、ＡｌおよびＡｇよりなる群から選ばれる１種または２種以上の金属元素が、導電率や取り扱いやすさの観点から、好ましく使用することができる。
【０１６８】
本発明において、電子注入電極は、有機ＥＬディスプレイパネルの各画素ごとに、ホール注入電極として機能する透明電極と略直交するように、列状に形成される。
【０１６９】
以下、本発明の効果をより明瞭なものとするため、実施例を掲げる。
【実施例】
【０１７０】
以下、本発明の効果をより明瞭なものとするため、実施例を掲げる。
【０１７１】
実施例１
絶縁性透明基板として、コーニングジャパン株式会社製のガラス基板＃７０５９を用い、絶縁性透明基板上に、液晶用赤色カラーレジスト（富士写真フイルムオーリン株式会社製ＣＲ７００１）、液晶用緑色カラーレジスト（富士写真フイルムオーリン株式会社製ＣＧ７００１）および液晶用青色カラーレジスト（富士写真フイルムオーリン株式会社製ＣＢ７００１）を、それぞれ、１００μｍの幅で、パターニングして、２５６本の５８０ｎｍ以下の波長の光をカットする赤色カラーフィルタ、２５６本の５６０ｎｍ以上の波長の光をカットし、４８０ｎｍ以下の波長の光をカットする緑色カラーフィルタおよび２５６本の４９０ｎｍ以下の波長の光をカットする青色カラーフィルタを、列状に形成し、さらに、赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタおよび青色カラーフィルタ上に、紫外線硬化性樹脂をパターニングして、オーバーコート層を形成した。
【０１７２】
次いで、プラズマＣＶＤプロセスを用いて、ＳｉＯｘＮｙ（ｘ＝１．７７、ｙ＝０．２６）の組成を有し、１０００ｎｍの厚さを有する酸窒化ケイ素のパッシベーション層を、オーバーコート層上に、成膜した。成膜速度は３３０ｎｍ／ｍｉｎ、ガス圧力は９０Ｐａ、成膜温度は２００℃、電力は６００Ｗ、周波数は１３．５６ＭＨｚ、ギャップは３３ｍｍとした。
【０１７３】
さらに、赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタおよび青色カラーフィルタのそれぞれに対応するように、パッシベーション層上に、ホール注入電極として機能する錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）の透明電極を、２５オングストロームの厚さを有するように、パターニングして、合計７６８本の透明電極を成膜した。
【０１７４】
次いで、透明電極がパターニングされた絶縁性透明基板を、中性洗剤を用いて、超音波洗浄し、乾燥後、ＵＶオゾン洗浄を施した。
【０１７５】
こうして洗浄した絶縁性透明基板を、真空成膜槽内に移し、基板ホルダーによって固定した後、真空成膜槽内を、１×１０−４Ｐａ以下に減圧した。
【０１７６】
次いで、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（Ｎ−（４−メチルフェニル）−Ｎ−フェニル−（４−アミノフェニル））−１，１’−ビスフェニル−４，４’−ジアミンを、透明電極上に、０．１ｎｍ／ｓｅｃの蒸着速度で、蒸着し、４０ｎｍの厚さを有するホール注入層を形成した。
【０１７７】
さらに、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（１−ナフチル）−１，１’−ジフェニル−４，４’−ジアミンを、ホール注入層上に、０．１ｎｍ／ｓｅｃの蒸着速度で、蒸着し、１０ｎｍの厚さを有するホール輸送層を形成した。
【０１７８】
次いで、下記構造式で示されるジスチリルアリーレン誘導体と、下記構造式で示されるルブレンを、体積比率１００：３、蒸着速度０．１ｎｍ／ｓｅｃで、ホール輸送層上に、共蒸着し、１０ｎｍの厚さを有する下部発光層を形成した。
【０１７９】
【化１５】
2005222704.tif 000017
ここに、Ａｒはアリール基であり、Ｒはメチル基である。
【０１８０】
【化１６】
2005222704.tif 000018
【０１８１】
さらに、下記構造式で示されるクマリンと、下記構造式で示されるキナクリドンを、体積比率１００：３、蒸着速度０．１ｎｍ／ｓｅｃで、下部発光層上に、共蒸着し、３０ｎｍの厚さを有する上部発光層を形成した。
【０１８２】
【化１７】
2005222704.tif 000019
【０１８３】
【化１８】
2005222704.tif 000020
【０１８４】
次いで、上述したジスチリルアリーレン誘導体を、蒸着速度０．１ｎｍ／ｓｅｃで、上部発光層上に、蒸着し、３０ｎｍの厚さを有する電子輸送層を形成した。
【０１８５】
さらに、ＬｉＦを、蒸着速度０．０１ｎｍ／ｓｅｃで、電子輸送層上に、蒸着し、０．７ｎｍの厚さを有する無機電子注入層を形成した。
【０１８６】
次いで、Ａｌを、蒸着速度０．８ｎｍ／ｓｅｃで、無機電子注入層上に、３００ｎｍの厚さを有する電子注入電極を、透明電極に略直交するように、蒸着し、合計６４本の電子注入電極を形成した。
【０１８７】
こうして、それぞれが、３５０μｍ×３５０μｍのサイズを有する２５６×６４の画素が形成された有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃１を作製した。
【０１８８】
５０ｎｍの厚さを有する透明電極を形成した点を除き、有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃１と同様にして、有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃２を作製した。
【０１８９】
７５ｎｍの厚さを有する透明電極を形成した点を除き、有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃１と同様にして、有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃３を作製した。
【０１９０】
１００ｎｍの厚さを有する透明電極を形成した点を除き、有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃１と同様にして、有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃４を作製した。
【０１９１】
１２５ｎｍの厚さを有する透明電極を形成した点を除き、有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃１と同様にして、有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃５を作製した。
【０１９２】
１５０ｎｍの厚さを有する透明電極を形成した点を除き、有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃１と同様にして、有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃６を作製した。
【０１９３】
１７５ｎｍの厚さを有する透明電極を形成した点を除き、有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃１と同様にして、有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃７を作製した。
【０１９４】
２００ｎｍの厚さを有する透明電極を形成した点を除き、有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃１と同様にして、有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃８を作製した。
【０１９５】
こうして作製した有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃１ないし＃８を、順次、駆動電圧８Ｖで、直流駆動し、赤色カラーフィルタを介して、取り出した赤色光の輝度、緑色カラーフィルタを介して、取り出した緑色光の輝度および青色カラーフィルタを介して、取り出した青色光の輝度を測定した。
【０１９６】
測定結果は、図２ないし図４に示されている。
【０１９７】
図２は、赤色カラーフィルタを介して、取り出した赤色光の輝度と透明電極の厚さの関係を示し、図３は、緑色カラーフィルタを介して、取り出した緑色光の輝度と透明電極の厚さの関係を示し、図４は、青色カラーフィルタを介して、取り出した青色光の輝度と透明電極の厚さの関係を示している。
【０１９８】
図２ないし図４に示されるように、赤色カラーフィルタを介して、取り出した赤色光の輝度は、透明電極の厚さが１２５ｎｍのときに、極大になり、緑色カラーフィルタを介して、取り出した緑色光の輝度は、透明電極の厚さが１００ｎｍのときに、極大になり、青色カラーフィルタを介して、取り出した青色光の輝度は、透明電極の厚さが５０ｎｍのときに、極大になることが判明した。
【０１９９】
したがって、赤色カラーフィルタに対応する透明電極の厚さを１２５ｎｍに設定し、緑色カラーフィルタに対応する透明電極の厚さを１００ｎｍに設定し、青色カラーフィルタに対応する透明電極の厚さを５０ｎｍに設定することによって、赤色、緑色および青色のいずれにおいても、輝度のむらを大幅に低減させることが可能になることがわかった。
【０２００】
実施例２
赤色カラーフィルタに対応する透明電極の厚さを１２５ｎｍに、緑色カラーフィルタに対応する透明電極の厚さを１００ｎｍに、青色カラーフィルタに対応する透明電極の厚さを５０ｎｍに設定した点を除き、実施例１と同様にして、有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃９を作製した。
【０２０１】
こうして作製した有機ＥＬディスプレイパネルサンプル＃９を、駆動電圧８Ｖで、直流駆動し、赤色カラーフィルタを介して、取り出した赤色光の輝度、緑色カラーフィルタを介して、取り出した緑色光の輝度および青色カラーフィルタを介して、取り出した青色光の輝度を測定した。
【０２０２】
その結果、赤色、緑色および青色のいずれにおいても、輝度のばらつきは３％以下であった。
【０２０３】
比較例
赤色カラーフィルタに対応する透明電極の厚さ、緑色カラーフィルタに対応する透明電極の厚さおよび青色カラーフィルタに対応する透明電極の厚さを、いずれも、１００ｎｍに設定した点を除き、実施例１と同様にして、有機ＥＬディスプレイパネル比較サンプル＃１を作製した。
【０２０４】
こうして作製した有機ＥＬディスプレイパネル比較サンプル＃１を、駆動電圧８Ｖで、直流駆動し、赤色カラーフィルタを介して、取り出した赤色光の輝度、緑色カラーフィルタを介して、取り出した緑色光の輝度および青色カラーフィルタを介して、取り出した青色光の輝度を測定した。
【０２０５】
その結果、輝度のばらつきは、約１０％であった。
【図面の簡単な説明】
【０２０６】
【図１】図１は、青色カラーフィルタを介して、取り出した青色光の輝度が、透明電極を透過する光の光路長によって、どのように変化するかを示す概略的なグラフである。
【図２】図２は、赤色カラーフィルタを介して、取り出した赤色光の輝度と透明電極の厚さの関係を示すグラフである。
【図３】図３は、緑色カラーフィルタを介して、取り出した緑色光の輝度と透明電極の厚さの関係を示すグラフである。
【図４】図４は、青色カラーフィルタを介して、取り出した青色光の輝度と透明電極の厚さの関係を示すグラフである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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