(57)【要約】【課題】  被吐出部の多様なピッチに容易に対応可能な吐出装置を提供すること。【解決手段】  吐出装置は、ステージと、前記ステージに対して相対移動するヘッド群と、を備えている。そして、前記ヘッド群はＮ個（Ｎは２以上の自然数）のヘッドからなり、前記Ｎ個のヘッドのそれぞれは複数のノズルを有し、前記Ｎ個のヘッドのそれぞれの前記Ｘ軸方向のノズルピッチが所定値になるように、前記複数のノズルが配置されており、前記ヘッド群の前記Ｘ軸方向のノズルピッチが前記所定値の１／Ｎ倍になるように、前記Ｎ個のヘッドが配置されている。【選択図】  図５
2005095833.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステージと、
前記ステージに対して相対移動するヘッド群と、
を備えた吐出装置であって、
前記ヘッド群はＮ個のヘッドからなり、
前記Ｎ個のヘッドのそれぞれは複数のノズルを有し、
前記Ｎ個のヘッドのそれぞれのＸ軸方向のノズルピッチが所定値になるように、前記複数のノズルが配置されており、
前記ヘッド群の前記Ｘ軸方向のノズルピッチが前記所定値の１／Ｎ倍になるように、前記Ｎ個のヘッドが配置されていて、
Ｎは２以上の自然数である、
吐出装置。
【請求項２】
請求項１記載の吐出装置であって、
前記Ｎ個のヘッドのそれぞれにおいて、前記複数のノズルは前記Ｘ軸方向に並んでいる、
吐出装置。
【請求項３】
請求項２記載の吐出装置であって、
前記Ｎ個のヘッドのそれぞれにおける前記複数のノズルは、ともに前記Ｘ軸方向に延びた第１の列と第２の列とをなしており、
前記第１の列および前記第２の列のそれぞれにおいて、前記複数のノズルは前記所定値の２倍のピッチで並んでおり、
前記第１の列は前記第２の列に対して前記所定値の長さだけ前記Ｘ軸方向にずれている、
吐出装置。
【請求項４】
請求項１記載の吐出装置であって、
前記Ｎ個のヘッドのそれぞれにおける前記複数のノズルは、それぞれＸ軸方向に延びたＭ個の列をなしていて、
前記Ｍ個の列のそれぞれにおいて、前記複数のノズルは前記所定値のＭ倍のピッチで並んでおり、
前記Ｍ個の列の一つに対して、他の（Ｍ−１）個の列は、前記所定値のｉ倍の長さだけ重複無くＸ軸方向にずれていて、
Ｍは２以上の自然数であり、
ｉは１から（Ｍ−１）までの自然数である、
吐出装置。
【請求項５】
請求項１記載の吐出装置であって、
前記Ｎ個のヘッドの一つにおける基準ノズルのＸ座標に対して、他の（Ｎ−１）個のヘッドにおける基準ノズルのＸ座標は、前記所定値のｊ／Ｎ倍の長さだけ重複無くずれていて、
ｊは１から（Ｎ−１）までの自然数である、
吐出装置。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか記載の吐出装置であって、
前記ステージは、被吐出部を有する基体を保持し、
前記ヘッド群が前記基体に対してＹ軸方向に相対移動することで前記複数のノズルの少なくとも１つのノズルが前記被吐出部に対応する領域に侵入する場合には、前記少なくとも１つのノズルから前記被吐出部に液状の材料が吐出され、
前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とは互いに直交する、
吐出装置。
【請求項７】
請求項６記載の吐出装置であって、
前記被吐出部の平面像は長辺と短辺とで決まるほぼ矩形であり、
前記ステージは、前記長辺の方向が前記Ｘ軸方向に平行になるとともに前記短辺の方向が前記Ｙ軸方向に平行になるように、前記基体を保持し、
前記ヘッド群が前記基体に対して前記Ｙ軸方向に相対移動することで前記複数のノズルの少なくとも２つのノズルが前記被吐出部に対応する領域にほぼ同時に侵入する場合には、前記少なくとも２つのノズルから前記被吐出部に前記液状の材料がほぼ同時に吐出される、
吐出装置。
【請求項８】
カラーフィルタ基板の製造装置であって、
基体を保持するステージと、
前記ステージに対して相対移動するヘッド群と、
を備え、
前記ヘッド群はＮ個のヘッドからなり、
前記Ｎ個のヘッドのそれぞれは、前記基体に対してカラーフィルタ材料を吐出可能な複数のノズルを有し、
前記Ｎ個のヘッドのそれぞれのＸ軸方向のノズルピッチが所定値になるように、前記複数のノズルが配置されており、
前記ヘッド群の前記Ｘ軸方向のノズルピッチが前記所定値の１／Ｎ倍になるように、前記Ｎ個のヘッドが配置されていて、
Ｎは２以上の自然数である、
カラーフィルタ基板の製造装置。
【請求項９】
エレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置であって、
基体を保持するステージと、
前記ステージに対して相対移動するヘッド群と、
を備え、
前記ヘッド群はＮ個のヘッドからなり、
前記Ｎ個のヘッドのそれぞれは、前記基体に対して発光材料を吐出可能な複数のノズルを有し、
前記Ｎ個のヘッドのそれぞれのＸ軸方向のノズルピッチが所定値になるように、前記複数のノズルが配置されており、
前記ヘッド群の前記Ｘ軸方向のノズルピッチが前記所定値の１／Ｎ倍になるように、前記Ｎ個のヘッドが配置されていて、
Ｎは２以上の自然数である、
エレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置。
【請求項１０】
プラズマ表示装置の製造装置であって、
基体を保持するステージと、
前記ステージに対して相対移動するヘッド群と、
を備え、
前記ヘッド群はＮ個のヘッドからなり、
前記Ｎ個のヘッドのそれぞれは、前記基体に対して蛍光材料を吐出可能な複数のノズルを有し、
前記Ｎ個のヘッドのそれぞれのＸ軸方向のノズルピッチが所定値になるように、前記複数のノズルが配置されており、
前記ヘッド群の前記Ｘ軸方向のノズルピッチが前記所定値の１／Ｎ倍になるように、前記Ｎ個のヘッドが配置されていて、
Ｎは２以上の自然数である、
プラズマ表示装置の製造装置。
【請求項１１】
被吐出部を有する基体をステージ上に載置するステップ（ａ）と、
それぞれが複数のノズルを有するＮ個のヘッドであって、それぞれのＸ軸方向のノズルピッチが所定値であるＮ個のヘッド、を前記基体に対してＹ軸方向に相対移動するステップ（ｂ）と、
を含む吐出方法であって、
前記ステップ（ｂ）は、１つの走査期間内に、前記Ｎ個のヘッドの一つにおける基準ノズルのＸ座標に対して、他の（Ｎ−１）個のヘッドにおける基準ノズルのＸ座標を、前記所定値のｊ／Ｎ倍の長さだけ重複無くずらしながら、前記Ｎ個のヘッドを前記基体に対して前記Ｙ軸方向に相対移動するステップ（ｂ１）を含み、
前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とは互いに直交し、
Ｎは２以上の自然数であり、
ｊは１から（Ｎ−１）までの自然数である、
吐出方法。
【請求項１２】
請求項１１記載の吐出方法であって、
前記ステップ（ｂ）は、前記Ｘ軸方向に並んだ前記複数のノズルをそれぞれが有する前記Ｎ個のヘッドを、前記基体に対して前記Ｙ軸方向に相対移動するステップ（ｂ２）を含む、
吐出方法。
【請求項１３】
請求項１１または１２記載の吐出方法であって、
前記ステップ（ｂ）によって前記複数のノズルの少なくとも１つのノズルが前記被吐出部に対応する領域に侵入する場合には、前記少なくとも１つのノズルから前記被吐出部に液状の材料を吐出するステップ（ｃ）をさらに含んだ吐出方法。
【請求項１４】
請求項１３記載の吐出方法であって、
前記被吐出部の平面像は長辺と短辺とで決まるほぼ矩形であり、
前記ステップ（ａ）は、前記被吐出部の長辺の方向が前記Ｘ軸方向に平行になるとともに、前記短辺の方向が前記Ｙ軸方向に平行になるように、前記基体を載置するステップ（ａ１）を含み、
前記ステップ（ｃ）は、前記複数のノズルの少なくとも２つのノズルが前記被吐出部にに対応する領域にほぼ同時に侵入する場合には、前記少なくとも２つのノズルから前記被吐出部に液状の材料をほぼ同時に吐出するステップ（ｃ１）をさらに含む、
吐出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液状の材料を吐出する吐出装置および吐出方法に関し、より具体的には、カラーフィルタ基板や、マトリクス型表示装置などにおいて周期的に配置された領域に液状の材料を塗布するのに好適な吐出装置および吐出方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット装置を用いて、画素化された領域に材料を塗布することが知られている。例えば、インクジェット装置を用いてカラーフィルタ基板のフィルタエレメントや、マトリクス型表示装置においてマトリクス状に配置された発光部を形成することが知られている（例えば特許文献１）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−１２７３４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
材料が塗布されるべき複数の被吐出部のピッチが、インクジェット装置のノズルピッチに一致しないことが多い。被吐出部とは、例えばフィルタエレメントが設けられるべき部位である。
【０００５】
このため、従来のインクジェット装置において、２つの被吐出部の間の距離と、２つの吐出ノズルとの間の距離と、が一致するように、被吐出部が並ぶ方向に対してインクジェットヘッド（あるいは吐出ノズルが並ぶ方向）が傾いている。しかしながら、このような構成では、２つの被吐出部の間の距離がカラーフィルタ毎に異なる場合に、カラーフィルタ毎にインクジェットヘッドの取り付け角度を変更する手間が生じる。ヘッドの取り付け角度を変更するためには、ヘッドの角度に応じたキャリッジを新たに製造する手間と、その新しいキャリッジにヘッドを取り付け直す手間と、が生じる。
【０００６】
本発明は上記課題を鑑みてなされたものであり、その目的の一つは、被吐出部の多様なピッチに容易に対応可能な吐出装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の吐出装置は、ステージと、前記ステージに対して相対移動するヘッド群と、を備えている。そして、前記ヘッド群はＮ個のヘッドからなり、前記Ｎ個のヘッドのそれぞれは複数のノズルを有し、前記Ｎ個のヘッドのそれぞれのＸ軸方向のノズルピッチが所定値になるように、前記複数のノズルが配置されており、前記ヘッド群の前記Ｘ軸方向のノズルピッチが前記所定値の１／Ｎ倍になるように、前記Ｎ個のヘッドが配置されている。なお、Ｎは２以上の自然数である。
【０００８】
上記特徴によれば、ヘッド群のＸ軸方向のノズルピッチは、ヘッドのＸ軸方向のノズルピッチの１／Ｎ倍の長さである。ここで、Ｎはヘッド群に含まれるヘッドの数である。このため、吐出装置のＸ軸方向のノズル線密度を通常のインクジェット装置のＸ軸方向のノズル線密度よりも高くできる。この結果、多様なピッチで並ぶターゲットに対応できる吐出装置が得られる。
【０００９】
好ましくは、前記Ｎ個のヘッドのそれぞれにおいて、前記複数のノズルは前記Ｘ軸方向に並んでいる。
【００１０】
上記特徴によれば、Ｘ軸方向に複数のノズルが並んでいる。このため、Ｘ軸方向に延びたターゲット（被吐出部）に対して上記複数のノズルからほぼ同時に液状の材料を吐出できる。この結果、液状の材料を吐出するための駆動信号を、複数のノズルに対して共通にできる。また、一方向に並んだ複数のノズルからの吐出タイミングがほぼ同時なので、駆動信号を遅延させるための回路構成などが不要である。この結果、駆動信号における波形になまりが生じる要因が少なく、このため、精密な駆動波形を用いてヘッドを駆動できる。
【００１１】
本発明の他の態様によれば、前記Ｎ個のヘッドのそれぞれにおいて、前記複数のノズルはともに前記Ｘ軸方向に延びた第１の列と第２の列とをなしており、前記第１の列および前記第２の列のそれぞれにおいて、前記複数のノズルは前記所定値の２倍のピッチで並んでおり、前記第１の列は前記第２の列に対して前記所定値の長さだけ前記Ｘ軸方向にずれている。
【００１２】
上記特徴によれば、ヘッドのＸ軸方向のノズルピッチを小さくすることができる。このため、ヘッドのＸ軸方向のノズル線密度を大きくできる。
【００１３】
本発明の他の態様によれば、前記Ｎ個のヘッドにおいて、前記複数のノズルはＸ軸方向に延びたＭ個の列をなし、前記Ｍ個の列のそれぞれにおいて、前記複数のノズルは前記所定値のＭ倍のピッチで並んでおり、前記Ｍ個の列の一つに対して、他の（Ｍ−１）個の列は、前記所定値のｉ倍の長さだけ重複無くＸ軸方向にずれている。なお、Ｍは２以上の自然数であり、ｉは１から（Ｍ−１）までの自然数である。
【００１４】
上記特徴によれば、ヘッドのＸ軸方向のノズルピッチをさらに小さくすることができる。このため、ヘッドのＸ軸方向のノズル線密度をさらに大きくできる。
【００１５】
本発明のさらに他の態様によれば、前記Ｎ個のヘッドの一つにおける基準ノズルのＸ座標に対して、他の（Ｎ−１）個のヘッドにおける基準ノズルのＸ座標は、前記所定値のｊ／Ｎ倍の長さだけ重複無くずれている。なお、ｊは１から（Ｎ−１）までの自然数である。
【００１６】
上記特徴によれば、ヘッド群のＸ軸方向のノズルピッチをさらに小さくすることができる。このため、ヘッド群のＸ軸方向のノズル線密度をさらに大きくできる。
【００１７】
好ましくは、前記ステージは、被吐出部を有する基体を保持し、前記ヘッド群が前記基体に対して前記Ｙ軸方向に相対移動することで前記複数のノズルの少なくとも１つのノズルが前記被吐出部に対応する領域に侵入する場合には、前記少なくとも１つのノズルから前記被吐出部に液状の材料が吐出され、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とは互いに直交する。
【００１８】
上記特徴によれば、被吐出部に効率よく液状の材料を吐出できる。
【００１９】
好ましくは、前記被吐出部の平面像は長辺と短辺とで決まるほぼ矩形であり、前記ステージは、前記長辺の方向が前記Ｘ軸方向に平行になるとともに前記短辺の方向がＹ軸方向に平行になるように、前記基体を保持し、前記ヘッド群が前記基体に対して前記Ｙ軸方向に相対移動することで前記複数のノズルの少なくとも２つのノズルが前記被吐出部に対応する領域にほぼ同時に侵入する場合には、前記少なくとも２つのノズルから前記被吐出部に液状の材料がほぼ同時に吐出される。
【００２０】
上記特徴によれば、１回の走査期間内で、必要な体積の液状の材料が被吐出部に吐出され得る。複数のノズルが１つの被吐出部に対して同時に液状の材料を吐出するからである。
【００２１】
本発明は、種々の態様で実現することが可能であり、例えば、カラーフィルタの製造装置や、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置や、プラズマ表示装置の製造装置などの態様で実現することができる。
【００２２】
本発明の吐出方法は、被吐出部を有する基体をステージ上に載置するステップ（ａ）と、それぞれが複数のノズルを有するＮ個のヘッドであって、それぞれのＸ軸方向のノズルピッチが所定値であるＮ個のヘッド、を前記基体に対してＹ軸方向に相対移動するステップ（ｂ）と、を含む吐出方法である。そして、前記ステップ（ｂ）は、１つの走査期間内に、前記Ｎ個のヘッドの一つにおける基準ノズルのＸ座標に対して、他の（Ｎ−１）個のヘッドにおける基準ノズルのＸ座標を、前記所定値のｊ／Ｎ倍の長さだけ重複無くずらしながら、前記Ｎ個のヘッドを前記基体に対して前記Ｙ軸方向に相対移動するステップ（ｂ１）を含む。なお、前記Ｘ軸方向と前記Ｙ軸方向とは互いに直交する。なお、Ｎは２以上の自然数であり、ｊは１から（Ｎ−１）までの自然数である。
【００２３】
上記特徴によれば、１つの走査期間内に被吐出部と重なる複数のノズルのＸ軸方向のピッチは、ヘッドのＸ軸方向のノズルピッチの１／Ｎ倍の長さである。このため、吐出装置のＸ軸方向のノズル線密度を通常のインクジェット装置のＸ軸方向のノズル線密度よりも高くできる。
【００２４】
好ましくは、前記ステップ（ｂ）は、前記Ｘ軸方向に並んだ前記複数のノズルをそれぞれが有する前記Ｎ個のヘッドを、前記基体に対して前記Ｙ軸方向に相対移動するステップ（ｂ２）を含む。
【００２５】
上記特徴によれば、Ｙ軸方向に並んだ被吐出部に対して複数のノズルから液状の材料を効率よく吐出できる。
【００２６】
好ましくは、前記吐出方法が、前記ステップ（ｂ）によって前記複数のノズルの少なくとも１つのノズルが前記被吐出部に対応する領域に侵入する場合には、前記少なくとも１つのノズルから前記被吐出部に液状の材料を吐出するステップ（ｃ）をさらに含んでいる。
【００２７】
上記特徴によれば、被吐出部に液状の材料が塗布される。
【００２８】
好ましくは、前記被吐出部の平面像は長辺と短辺とで決まるほぼ矩形であり、前記ステップ（ａ）は、前記被吐出部の長辺の方向が前記Ｘ軸方向に平行になるとともに前記短辺の方向が前記Ｙ軸方向に平行になるように、前記基体を載置するステップ（ａ１）を含み、前記ステップ（ｃ）は、前記複数のノズルの少なくとも２つのノズルが前記被吐出部に対応する領域にほぼ同時に侵入する場合には、前記少なくとも２つのノズルから前記被吐出部に液状の材料をほぼ同時に吐出するステップ（ｃ１）をさらに含む。
【００２９】
上記特徴によれば、１回の走査期間内で、必要な体積の液状の材料が被吐出部に吐出され得る。複数のノズルが１つの被吐出部に対して同時に液状の材料を吐出するからである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
[実施例１]
以下では、下記記載の順番に沿って本実施例の吐出装置および吐出方法を説明する。
・Ａ．吐出装置の全体構成
・Ｂ．キャリッジ
・Ｃ．ヘッド
・Ｄ．ヘッド群
・Ｅ．制御部
・Ｆ．吐出方法の一例
【００３１】
（Ａ．吐出装置の全体構成）
図１に示すように、吐出装置１００は、液状の材料１１１を保持するタンク１０１と、チューブ１１０と、チューブ１１０を介してタンク１０１から液状の材料１１１が供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２は、複数のヘッド１１４（図２）を保持するキャリッジ１０３と、キャリッジ１０３の位置を制御する第１位置制御装置１０４と、後述する基体１０Ａを保持するステージ１０６と、ステージ１０６の位置を制御する第２位置制御装置１０８と、制御部１１２と、を備えている。タンク１０１と、キャリッジ１０３における複数のヘッド１１４と、はチューブ１１０で連結されており、タンク１０１から複数のヘッド１１４のそれぞれに液状の材料１１１が圧縮空気によって供給される。
【００３２】
第１位置制御装置１０４は、制御部１１２からの信号に応じて、キャリッジ１０３をＸ軸方向、およびＸ軸方向に直交するＺ軸方向に沿って移動させる。さらに、第１位置制御装置１０４は、Ｚ軸に平行な軸の回りでキャリッジ１０３を回転させる機能も有する。本実施例では、Ｚ軸方向は、鉛直方向（つまり重力加速度の方向）に平行な方向である。第２位置制御装置１０８は、制御部１１２からの信号に応じて、Ｘ軸方向およびＺ軸方向の双方に直交するＹ軸方向に沿ってステージ１０６を移動させる。さらに、第２位置制御装置１０８は、Ｚ軸に平行な軸の回りでステージ１０６を回転させる機能も有する。なお、本明細書では、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８を、「走査部」と表記することもある。
【００３３】
ステージ１０６は、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な平面を有する。また、ステージ１０６は、所定の材料を塗布すべき被吐出部を有する基体をその平面上に固定、または保持できるように構成されている。なお、本明細書では、被吐出部を有する基体を「受容基板」と表記することもある。
【００３４】
本明細書におけるＸ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向は、キャリッジ１０３およびステージ１０６のどちらか一方が他方に対して相対移動する方向に一致している。また、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向を規定するＸＹＺ座標系の仮想的な原点は、吐出装置１００の基準部分に固定されている。本明細書において、Ｘ座標、Ｙ座標、およびＺ座標とは、このようなＸＹＺ座標系における座標である。なお、上記の仮想的な原点は、基準部分だけでなく、ステージ１０６に固定されていてもよいし、キャリッジ１０３に固定されていてもよい。
【００３５】
上述のように、キャリッジ１０３は第１位置制御装置１０４によってＸ軸方向に移動させられる。一方、ステージ１０６は第２位置制御手段１０８によってＹ軸方向に移動させられる。つまり、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８によって、ステージ１０６に対するヘッド１１４の相対位置が変わる。より具体的には、これらの動作によって、キャリッジ１０３、ヘッド群１１４Ｇ（図２）、ヘッド１１４、またはノズル１１８(図３）は、ステージ１０６上で位置決めされた被吐出部に対して、Ｚ軸方向に所定の距離を保ちながら、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に相対的に移動、すなわち相対的に走査する。ここで、静止した被吐出部に対してキャリッジ１０３がＹ軸方向に移動してもよい。そしてキャリッジ１０３がＹ軸方向に沿って所定の２点間を移動する期間内に、静止した被吐出部に対してノズル１１８から材料１１１を吐出してもよい。「相対移動」または「相対走査」とは、液状の材料１１１を吐出する側と、そこからの吐出物が着弾する側（被吐出部側）の少なくとも一方を他方に対して移動することを含む。
【００３６】
さらに、キャリッジ１０３、ヘッド群１１４Ｇ（図２）、ヘッド１１４、またはノズル１１８（図３）が相対移動するとは、ステージ、基体、または被吐出部に対するこれらの相対位置が変わることである。このため、本明細書では、キャリッジ１０３、ヘッド群１１４Ｇ、ヘッド１１４、またはノズル１１８が吐出装置１００に対して静止して、ステージ１０６のみが移動する場合であっても、キャリッジ１０３、ヘッド群１１４Ｇ、ヘッド１１４、またはノズル１１８が、ステージ１０６、基体、または被吐出部に対して相対移動すると表記する。また、相対走査または相対移動と、材料の吐出と、の組合せを指して「塗布走査」と表記することもある。
【００３７】
キャリッジ１０３およびステージ１０６は上記以外の平行移動および回転の自由度をさらに有している。ただし、本実施例では、上記自由度以外の自由度に関する記載は説明を平易にする目的で省略されている。
【００３８】
制御部１１２は、液状の材料１１１を吐出すべき相対位置を表す吐出データを外部情報処理装置から受け取るように構成されている。制御部１１２の詳細な構成および機能は、後述する。
【００３９】
（Ｂ．キャリッジ）
図２は、キャリッジ１０３をステージ１０６側から観察した図であり、図２の紙面に垂直な方向がＺ軸方向である。また、図２の紙面の左右方向がＸ軸方向であり、紙面の上下方向がＹ軸方向である。
【００４０】
図２に示すように、キャリッジ１０３は、それぞれほぼ同じ構造を有する複数のヘッド１１４を保持している。本実施例では、キャリッジ１０３に保持されるヘッド１１４の数は２４個である。それぞれのヘッド１１４は、後述する複数のノズル１１８が設けられた底面を有している。それぞれのヘッド１１４のこの底面の形状は、２つの長辺と２つの短辺とを有する多角形である。図２に示すように、キャリッジ１０３に保持されたヘッド１１４の底面はステージ１０６側を向いており、さらに、ヘッド１１４の長辺方向と短辺方向とは、それぞれＸ軸方向とＹ軸方向とに平行である。なお、ヘッド１１４同士の相対位置関係の詳細は、後述する。
【００４１】
本明細書では、Ｙ軸方向に隣接する４つのヘッド１１４を「ヘッド群１１４Ｇ」と表記することもある。この表記によれば、図２のキャリッジ１０３は、６つのヘッド群１１４Ｇを保持していると表現し得る。
【００４２】
（Ｃ．ヘッド）
図３は、ヘッド１１４の底面を示す。ヘッド１１４は、Ｘ軸方向に並んだ複数のノズル１１８を有する。これら複数のノズル１１８は、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰが約７０μｍとなるように配置されている。ここで、「ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰ」は、ヘッド１１４におけるノズル１１８のすべてをＹ軸方向に沿ってＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。
【００４３】
本実施例では、ヘッド１１４における複数のノズル１１８は、ともにＸ軸方向に延びるノズル列１１６Ａと、ノズル列１１６Ｂと、をなす。ノズル列１１６Ａと、ノズル列１１６Ｂとは、Ｙ軸方向に並んでいる。そして、ノズル列１１６Ａおよびノズル列１１６Ｂのそれぞれにおいて、９０個のノズル１１８が一定間隔でＸ軸方向に一列に並んでいる。本実施例では、この一定間隔は約１４０μｍである。つまり、ノズル列１１６ＡのノズルピッチＬＮＰおよびノズル列１１６ＢのノズルピッチＬＮＰは、ともに約１４０μｍである。
【００４４】
ノズル列１１６Ｂの位置は、ノズル列１１６Ａの位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの半分の長さ（約７０μｍ）だけＸ軸方向の正の方向（図３の右方向）にずれている。このため、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰは、ノズル列１１６Ａ（またはノズル列１１６Ｂ）のノズルピッチＬＮＰの半分の長さ（約７０μｍ）である。
【００４５】
したがって、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズル線密度は、ノズル列１１６Ａ（またはノズル列１１６Ｂ）のノズル線密度の２倍である。なお、本明細書において「Ｘ軸方向のノズル線密度」とは、複数のノズルをＹ軸方向に沿ってＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像の単位長さ当たりの数に相当する。
【００４６】
もちろん、ヘッド１１４が含むノズル列の数は、２つだけに限定されない。ヘッド１１４はＭ個のノズル列を含んでもよい。ここで、Ｍは１以上の自然数である。この場合には、Ｍ個のノズル列のそれぞれにおいて複数のノズル１１８は、ノズルピッチＨＸＰのＭ倍の長さのピッチで並ぶ。さらに、Ｍが２以上の自然数の場合には、Ｍ個のノズル列のうちの一つに対して、他の（Ｍ−１）個のノズル列は、ノズルピッチＨＸＰのｉ倍の長さだけ重複無くＸ軸方向にずれている。ここで、ｉは１から（Ｍ−１）までの自然数である。
【００４７】
さて、ノズル列１１６Ａおよびノズル列１１６Ｂのそれぞれが９０個のノズル１１８からなるため、１つのヘッド１１４は１８０個のノズル１１８を有する。ただし、ノズル列１１６Ａの両端のそれぞれ５ノズルは「休止ノズル」として設定されている。同様に、ノズル列１１６Ｂの両端のそれぞれ５ノズルも「休止ノズル」として設定されている。そして、これら２０個の「休止ノズル」からは液状の材料１１１が吐出されない。このため、ヘッド１１４における１８０個のノズル１１８のうち、１６０個のノズル１１８が液状の材料１１１を吐出するノズルとして機能する。本明細書では、これら１６０個のノズル１１８を「吐出ノズル」と表記することもある。
【００４８】
本明細書では、ヘッド１１４同士の相対位置関係を説明する目的で、ノズル列１１６Ａに含まれる９０個のノズル１１８のうち、左から６番目のノズル１１８をヘッド１１４の「基準ノズル１１８Ｒ」と表記する。つまり、ノズル列１１６Ａにおける８０個の吐出ノズルのうち、最も左側の吐出ノズルがヘッド１１４の「基準ノズル１１８Ｒ」である。なお、すべてのヘッド１１４に対して、「基準ノズル１１８Ｒ」の指定の仕方が同じであればよいので、「基準ノズル１１８Ｒ」の位置は、上記位置でなくてもよい。
【００４９】
図４（ａ）および（ｂ）に示すように、それぞれのヘッド１１４は、インクジェットヘッドである。より具体的には、それぞれのヘッド１１４は、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、を備えている。振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、タンク１０１から孔１３１を介して供給される液状の材料１１１が常に充填される液たまり１２９が位置している。
【００５０】
また、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、複数の隔壁１２２が位置している。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、１対の隔壁１２２と、によって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、１対の隔壁１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９から液状の材料１１１が供給される。
【００５１】
振動板１２６上には、それぞれのキャビティ１２０に対応して、振動子１２４が位置する。振動子１２４は、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂと、を含む。この１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂとの間に駆動電圧を与えることで、対応するノズル１１８から液状の材料１１１が吐出される。なお、ノズル１１８からＺ軸方向に液状の材料１１１が吐出されるように、ノズル１１８の形状が調整されている。
【００５２】
ここで、本明細書において「液状の材料」とは、ノズルから吐出可能な粘度を有する材料をいう。この場合、材料が水性であると油性であるとを問わない。ノズルから吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。
【００５３】
制御部１１２（図１）は、複数の振動子１２４のそれぞれに互いに独立に信号を与えるように構成されていてもよい。つまり、ノズル１１８から吐出される材料１１１の体積が、制御部１１２からの信号に応じてノズル１１８毎に制御されてもよい。そのような場合には、ノズル１１８のそれぞれから吐出される材料１１１の体積は、０ｐｌ〜４２ｐｌ（ピコリットル）の間で可変にしてもよい。また、制御部１１２は、後述するように、塗布走査の間に吐出動作を行うノズル１１８と、吐出動作を行わないノズル１１８と、を設定することでもできる。
【００５４】
本明細書では、１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティ１２０に対応する振動子１２４と、を含んだ部分を「吐出部１２７」と表記することもある。この表記によれば、１つのヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の吐出部１２７を有する。吐出部１２７は、ピエゾ素子の代わりに電気熱変換素子を有してもよい。つまり、吐出部１２７は、電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して材料を吐出する構成を有していてもよい。
【００５５】
（Ｄ．ヘッド群）
次に、ヘッド群１１４Ｇにおける４つのヘッド１１４の相対位置関係を説明する。図５には、図２のキャリッジ１０３においてＹ軸方向に隣接する２つのヘッド群１１４Ｇが示されている。
【００５６】
図５に示すように、それぞれのヘッド群１１４Ｇは、４つのヘッド１１４からなる。そして、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰが、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰの１／４倍の長さとなるように、ヘッド群１１４において４つのヘッド１１４が配置されている。より具体的には、１つのヘッド１１４の基準ノズル１１８ＲのＸ座標に対して、他のヘッド１１４の基準ノズル１１８ＲのＸ座標が、ノズルピッチＨＸＰのｊ／４倍の長さだけ、Ｘ軸方向に重複無くずれて位置している。ここで、ｊは１から３までの自然数である。このため、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰは、ノズルピッチＨＸＰの１／４倍である。
【００５７】
本実施例では、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰは約７０μｍだから、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰは、その１／４倍の約１７．５μｍである。ここで、「ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰ」は、ヘッド群１１４Ｇにおけるノズル１１８のすべてを、Ｙ軸方向に沿ってＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。
【００５８】
もちろん、ヘッド群１１４Ｇが含むヘッド１１４の数は、４つだけに限定されない。ヘッド群１１４ＧはＮ個のヘッド１１４からなってもよい。ここで、Ｎは２以上の自然数である。この場合には、ノズルピッチＧＸＰがノズルピッチＨＸＰの１／Ｎ倍の長さになるように、ヘッド群１１４ＧにおいてＮ個のヘッド１１４が配置されればよい。あるいは、Ｎ個のヘッド１１４の一つにおける基準ノズル１１８ＲのＸ座標に対して、他の（Ｎ−１）個のヘッド１１４における基準ノズル１１８のＸ座標が、ノズルピッチＨＸＰのｊ／Ｎ倍の長さだけ重複無くずれていればよい。なお、この場合には、ｊは１から（Ｎ−１）までの自然数である。
【００５９】
以下では、本実施例のヘッド１１４の相対位置関係をより具体的に説明する。
【００６０】
まず、説明を平易にする目的で、図５の左上のヘッド群１１４Ｇに含まれる４つのヘッド１１４を、Ｙ軸方向の負の方向（図５の下方向）に向かって、ヘッド１１４１、ヘッド１１４２、ヘッド１１４３、ヘッド１１４４と表記する。同様に、図５の右下のヘッド群１１４Ｇに含まれる４つのヘッド１１４を、上からそれぞれヘッド１１４５、ヘッド１１４６、ヘッド１１４７、ヘッド１１４８と表記する。
【００６１】
そして、ヘッド１１４１におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列１Ａ、１Ｂと表記し、ヘッド１１４２におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列２Ａ、２Ｂと表記し、ヘッド１１４３におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列３Ａ、３Ｂと表記し、ヘッド１１４４におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列４Ａ、４Ｂと表記する。同様に、ヘッド１１４５におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列５Ａ、５Ｂと表記し、ヘッド１１４６におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列６Ａ、６Ｂと表記し、ヘッド１１４７におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列７Ａ、７Ｂと表記し、ヘッド１１４８におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列８Ａ、８Ｂと表記する。
【００６２】
これらノズル列１Ａ〜８Ｂのそれぞれは、実際には９０個のノズル１１８からなる。そして、上述したように、ノズル列１Ａ〜８Ｂのそれぞれにおいて、これら９０個のノズルは、Ｘ軸方向に並んでいる。ただし、図５では説明の便宜上、ノズル列１Ａ〜８Ｂのそれぞれが、４つの吐出ノズル（ノズル１１８）からなるように描かれている。さらに、図５では、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４１の基準ノズル１１８Ｒであり、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４２の基準ノズル１１８Ｒであり、ノズル列３Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４３の基準ノズル１１８Ｒであり、ノズル列４Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４４の基準ノズル１１８Ｒであり、ノズル列５Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４５の基準ノズル１１８Ｒである。
【００６３】
そして、ヘッド１１４２の基準ノズル１１８Ｒの位置（またはＸ座標）は、ヘッド１１４１の基準ノズル１１８Ｒの位置（またはＸ座標）から約１７．５μｍだけＸ軸方向の正の方向（図５の右方向）にずれている。そして、ヘッド１１４３の基準ノズル１１８Ｒの位置は、ヘッド１１４２の基準ノズル１１８Ｒの位置から約１７．５μｍだけＸ軸方向の正の方向にずれている。さらに、ヘッド１１４４の基準ノズル１１８Ｒの位置は、ヘッド１１４３の基準ノズル１１８Ｒの位置から約１７．５μｍだけＸ軸方向の正の方向にずれている。なお、あるヘッドが他のヘッドに対してずれる方向は、Ｘ軸方向の正の方向だけでなく、負の方向（図５の左方向）でもよい。
【００６４】
上記配置によって、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標とノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標との間に、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列３Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列４Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、が収まる。同様に、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標とノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８のＸ座標との間に、ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列３Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列４Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、が収まる。ノズル列１Ａの他のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列１Ｂの他のノズル１１８のＸ座標と、の間にも、同様にノズル列２Ａ（または２Ｂ）のノズル１１８のＸ座標、ノズル列３Ａ（または３Ｂ）のノズル１１８のＸ座標、ノズル列４Ａ（または４Ｂ）のノズル１１８のＸ座標が収まる。
【００６５】
本実施例では、ヘッド１１４１の基準ノズル１１８ＲのＸ座標に対して、ヘッド１１４２、１１４３、１１４４の基準ノズルのＸ座標が、ノズルピッチＨＸＰの１／４倍の長さ、ノズルピッチＨＸＰの２／４倍の長さ、ノズルピッチＨＸＰの３／４倍の長さだけそれぞれずれている。しかしながら、４つのヘッド１１４の配置はこのような配置に限定されず、１つのヘッド１１４の基準ノズル１１８ＲのＸ座標に対して、他のヘッドの基準ノズル１１８ＲのＸ座標が、ノズルピッチＨＸＰのｊ／４倍の長さだけＸ軸方向に重複無くずれて位置していればよい。ここで、ｊは１から３までの自然数である。
【００６６】
図５の右下のヘッド群１１４Ｇにおけるヘッド１１４５、１１４６、１１４７、１１４８の配置、つまりコンフィギュレーションも、ヘッド１１４１、１１４２、１１４３、１１４４の配置と同様である。
【００６７】
Ｘ軸方向に互いに隣接する２つのヘッド群１１４Ｇの間の相対位置関係を、ヘッド１１４５とヘッド１１４１との間の相対位置関係に基づいて説明する。
【００６８】
ヘッド１１４５の基準ノズル１１８Ｒの位置は、ヘッド１１４１の基準ノズル１１８Ｒの位置から、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰと、ヘッド１１４における吐出ノズルの数と、の積の長さだけＸ軸方向の正の方向にずれている。本実施例では、ノズルピッチＨＸＰは約７０μｍであるとともに、１つのヘッド１１４における吐出ノズルの数は１６０個なので、ヘッド１１４５の基準ノズル１１８Ｒの位置は、ヘッド１１４１の基準ノズル１１８Ｒの位置から１１．２ｍｍ（７０μｍ×１６０）だけＸ軸方向の正の方向にずれている。ただし、図５では、説明の便宜上、ヘッド１１４１における吐出ノズルの数は８個なので、ヘッド１１４５の基準ノズル１１８Ｒの位置が、ヘッド１１４１の基準ノズル１１４１の位置から５６０μｍ（７０μｍ×８）だけＸ軸方向にずれているように描かれている。
【００６９】
ヘッド１１４１とヘッド１１４５とが上述のように配置されているので、ノズル列１Ａの最も右の吐出ノズルのＸ座標と、ノズル列５Ａの最も左の吐出ノズルのＸ座標とは、ノズルピッチＬＮＰだけずれている。このため、２つのヘッド１１４Ｇ全体のＸ軸方向のノズルピッチは、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰの１／４倍である。
【００７０】
また、キャリッジ１０３全体としてのＸ軸方向のノズルピッチも、１７．５μｍ、すなわち、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰの１／４倍の長さになるように、６つのヘッド群１１４Ｇが配置されている。
【００７１】
（Ｅ．制御部）
次に、制御部１１２の構成を説明する。図６に示すように、制御部１１２は、入力バッファメモリ２００と、記憶手段２０２と、処理部２０４と、走査駆動部２０６と、ヘッド駆動部２０８と、を備えている。バッファメモリ２０２と処理部２０４とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と記憶手段２０２とは、相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と走査駆動部２０６とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４とヘッド駆動部２０とは相互に通信可能に接続されている。また、走査駆動部２０６は、第１位置制御手段１０４および第２位置制御手段１０８と相互に通信可能に接続されている。同様にヘッド駆動部２０８は、複数のヘッド１１４のそれぞれと相互に通信可能に接続されている。
【００７２】
入力バッファメモリ２００は、外部情報処理装置から液状の材料１１１の液滴の吐出を行うための吐出データを受け取る。吐出データは、基体上のすべての被吐出部の相対位置を表すデータと、すべての被吐出部に液状の材料１１１を所望の厚さにまで塗布するのに必要となる相対走査の回数を示すデータと、オンノズル１１８Ａとして機能するノズル１１８を指定するデータと、オフノズル１１８Ｂとして機能するノズル１１８を指定するデータと、を含む。オンノズル１１８Ａおよびオフノズル１１８Ｂの説明は後述する。入力バッファメモリ２００は、吐出データを処理部２０４に供給し、処理部２０４は吐出データを記憶手段２０２に格納する。図６では、記憶手段２０２はＲＡＭである。
【００７３】
処理部２０４は、記憶手段２０２内の吐出データに基づいて、被吐出部に対するノズル１１８の相対位置を示すデータを走査駆動部２０６に与える。走査駆動部２０６はこのデータと、後述する吐出周期ＥＰ（図７）と、に応じた駆動信号を第１位置制御手段１０４および第２位置制御手段１０８に与える。この結果、被吐出部に対してヘッド１１４が相対走査する。一方、処理部２０４は、記憶手段２０２に記憶された吐出データと、吐出周期ＥＰと、に基づいて、吐出タイミング毎のノズル１１８のオン・オフを指定する選択信号ＳＣをヘッド駆動部２０８へ与える。ヘッド駆動部２０８は、選択信号ＳＣに基づいて、液状の材料１１１の吐出に必要な吐出信号ＥＳをヘッド１１４に与える。この結果、ヘッド１１４における対応するノズル１１８から、液状の材料１１１が液滴として吐出される。
【００７４】
制御部１１２は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭを含んだコンピュータであってもよい。この場合には、制御部１１２の上記機能は、コンピュータによって実行されるソフトウェアプログラムによって実現される。もちろん、制御部１１２は、専用の回路（ハードウェア）によって実現されてもよい。
【００７５】
次に制御部１１２におけるヘッド駆動部２０８の構成と機能を説明する。
【００７６】
図７（ａ）に示すように、ヘッド駆動部２０８は、１つの駆動信号生成部２０３と、複数のアナログスイッチＡＳと、を有する。図７（ｂ）に示すように、駆動信号生成部２０３は駆動信号ＤＳを生成する。駆動信号ＤＳの電位は、基準電位Ｌに対して時間的に変化する。具体的には、駆動信号ＤＳは、吐出周期ＥＰで繰り返される複数の吐出波形Ｐを含む。ここで、吐出波形Ｐは、ノズル１１８から１つの液滴を吐出するために、対応する振動子１２４の一対の電極間に印加されるべき駆動電圧波形に対応する。
【００７７】
駆動信号ＤＳは、アナログスイッチＡＳのそれぞれの入力端子に供給される。アナログスイッチＡＳのそれぞれは、吐出部１２７のそれぞれに対応して設けられている。つまり、アナログスイッチＡＳの数と吐出部１２７の数（つまりノズル１１８の数）とは同じである。
【００７８】
処理部２０４は、ノズル１１８のオン・オフを表す選択信号ＳＣを、アナログスイッチＡＳのそれぞれに与える。ここで、選択信号ＳＣは、アナログスイッチＡＳ毎に独立にハイレベルおよびローレベルのどちらかの状態を取り得る。一方、アナログスイッチＡＳは、駆動信号ＤＳと選択信号ＳＣとに応じて、振動子１２４の電極１２４Ａに吐出信号ＥＳを供給する。具体的には、選択信号ＳＣがハイレベルの場合には、アナログスイッチＡＳは電極１２４Ａに吐出信号ＥＳとして駆動信号ＤＳを伝播する。一方、選択信号ＳＣがローレベルの場合には、アナログスイッチＡＳが出力する吐出信号ＥＳの電位は基準電位Ｌとなる。振動子１２４の電極１２４Ａに駆動信号ＤＳが与えられると、その振動子１２４に対応するノズル１１８から液状の材料１１１が吐出される。なお、それぞれの振動子１２４の電極１２４Ｂには基準電位Ｌが与えられている。
【００７９】
図７（ｂ）に示す例では、２つの吐出信号ＥＳのそれぞれにおいて、吐出周期ＥＰの２倍の周期２ＥＰで吐出波形Ｐが現れるように、２つの選択信号ＳＣのそれぞれにおいてハイレベルの期間とローレベルの期間とが設定されている。これによって、対応する２つのノズル１１８のそれぞれから、周期２ＥＰで液状の材料１１１が吐出される。また、これら２つのノズル１１８に対応する振動子１２４のそれぞれには、共通の駆動信号生成部２０３からの共通の駆動信号ＤＳが与えられている。このため、２つのノズル１１８からほぼ同じタイミングで液状の材料１１１が吐出される。
【００８０】
以上の構成によって、吐出装置１００は、制御部１１２に与えられた吐出データに応じて、液状の材料１１１の塗布走査を行う。
【００８１】
（Ｆ．吐出方法の一例）
図８（ａ）および（ｂ）を参照しながら、Ｘ軸方向に平行なストライプ状のターゲット、すなわち被吐出部１８Ｌ、に対して、吐出装置１００が液状の材料１１１を吐出する方法を説明する。なお、図８（ａ）に示す例では、キャリッジ１０３のＹ軸方向への相対移動によって、図５で説明したヘッド１１４１、１１４２、１１４３、１１４４、１１４５が、この順番で被吐出部１８Ｌと重なり合う。
【００８２】
図８（ａ）に示すように、まず、キャリッジ１０３がステージ１０６に対してＹ軸方向に相対移動し始める。そして、ノズル列１Ａが被吐出部１８Ｌに重なると、ノズル列１Ａに含まれるノズル１１８から、被吐出部１８Ｌに対して材料１１１が同時に吐出される。図８（ｂ）のラベル「１Ａ」の右には、ノズル列１Ａの吐出による着弾位置が黒丸で描かれている。図８（ｂ）に示すように、ノズル列１Ａの吐出によって、Ｘ軸方向にほぼ１４０μｍのピッチで液状の材料１１１が被吐出部１８Ｌに着弾する。
【００８３】
ノズル列１Ａの次に、ノズル列１Ｂが被吐出部１８Ｌに重なる。ノズル列１Ｂが被吐出部１８Ｌに重なると、ノズル列１Ｂに含まれるノズル１１８から、被吐出部１８Ｌに対して液状の材料１１１が同時に吐出される。図８（ｂ）のラベル「１Ｂ」の右には、ノズル列１Ｂの吐出による着弾位置が黒丸で描かれている。図８（ｂ）に示すように、ノズル列１Ｂの吐出によって、Ｘ軸方向にほぼ１４０μｍのピッチで液状の材料１１１が被吐出部１８Ｌに着弾する。ただし、ノズル列１Ｂの吐出による着弾位置と、ノズル列１Ｂに先行するノズル列１Ａの吐出による着弾位置との間の距離は、ほぼ７０μｍである。なお、図８（ｂ）のラベル「１Ｂ」の右には、ノズル列１Ｂに先行するノズル列の吐出による着弾位置が白丸で描かれている。
【００８４】
ノズル列１Ｂの次に、ノズル列２Ａが被吐出部１８Ｌに重なる。ノズル列２Ａが被吐出部１８Ｌに重なると、ノズル列２Ａに含まれるノズル１１８から、被吐出部１８Ｌに対して液状の材料１１１が同時に吐出される。図８（ｂ）のラベル「２Ａ」の右には、ノズル列２Ａの吐出による着弾位置が黒丸で描かれている。図８（ｂ）に示すように、ノズル列２Ａの吐出によって、Ｘ軸方向にほぼ１４０μｍのピッチで液状の材料１１１が被吐出部１８Ｌに着弾する。ただし、ノズル列２Ａの吐出による着弾位置と、ノズル列２Ａに先行するノズル列の吐出による着弾位置との間の最短距離は、ほぼ１７．５μｍである。なお、図８（ｂ）のラベル「２Ａ」の右には、ノズル列２Ａに先行するノズル列による着弾位置が白丸で描かれている。
【００８５】
ノズル列２Ａの次に、ノズル列２Ｂが被吐出部１８Ｌに重なる。ノズル列２Ｂが被吐出部１８Ｌに重なると、ノズル列２Ｂに含まれるノズル１１８から、被吐出部１８Ｌに対して液状の材料１１１が同時に吐出される。図８（ｂ）のラベル「２Ｂ」の右には、ノズル列２Ｂの吐出による着弾位置が黒丸で描かれている。図８（ｂ）に示すように、ノズル列２Ｂの吐出によって、Ｘ軸方向にほぼ１４０μｍのピッチで液状の材料が被吐出部１８Ｌに着弾する。ただし、ノズル列２Ｂの吐出による着弾位置と、ノズル列２Ｂに先行するノズル列の吐出による着弾位置との間の最短距離は、ほぼ１７．５μｍである。なお、図８（ｂ）のラベル「２Ｂ」の右には、ノズル列２Ｂに先行するノズル列の吐出による着弾位置が白丸で描かれている。
【００８６】
その後、ノズル列３Ａ、３Ｂ、４Ａ、４Ｂ、５Ａ、５Ｂがこの順番で被吐出部１８Ｌに重なり、ノズル列３Ａ、３Ｂ、４Ａ、４Ｂ、５Ａ、５Ｂのそれぞれから被吐出部１８Ｌに対して、ノズル列１Ａ、１Ｂ、２Ａ、２Ｂと同様に液状の材料１１１が吐出される。この結果、ヘッド群１１４Ｇが被吐出部１８Ｌに対してＹ軸方向に１回だけ相対移動する間に、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰの１／４倍の長さ、すなわち１７．５μｍ、のピッチで液状の材料１１１が着弾する。
【００８７】
上記のストライプ状の被吐出部１８Ｌの例の一つは、金属配線が形成されるための部分である。したがって、本実施例の吐出装置１００は、液状の配線材料を吐出することで金属配線を製造する配線製造装置に適用できる。例えば、後述のプラズマ表示装置５０（図２０〜２２）における支持基板５２上にアドレス電極５４を形成する配線製造装置に適用できる。
【００８８】
本実施例によれば、吐出装置１００において、キャリッジ１０３が相対移動する方向（Ｙ軸方向）に直交する方向（Ｘ軸方向）に、複数のノズル１１８が並んでいる。このため、Ｘ軸方向に延びた被吐出部１８Ｌに対して、複数のノズル１１８からほぼ同時に液状の材料１１１を吐出できる。この結果、駆動信号ＤＳを生成する駆動信号生成部２０３は、複数のノズル１１８に対して１つでよい。また、一方向に並んだ複数のノズル１１８からの吐出タイミングがほぼ同時なので、駆動信号生成部２０３からの駆動信号ＤＳを遅延させるための回路構成などが不要である。この結果、駆動信号ＤＳにおける波形になまりが生じる要因が少なく、このため、精密な吐出波形Ｐを振動子１２４に印加することができる。したがって、ノズル１１８からの液状の材料１１１の吐出がより安定している。
【００８９】
また本実施例によれば、吐出装置１００において、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチは、ヘッドのＸ軸方向のノズルピッチの１／Ｎ倍の長さである。ここで、Ｎはヘッド群１１４Ｇに含まれるヘッド１１４の数である。このため、吐出装置１００のＸ軸方向のノズル線密度が、通常のインクジェット装置のＸ軸方向のノズル線密度よりも高い。この結果、キャリッジ１０３をＹ軸方向に１回だけ相対移動する期間内に、Ｘ軸方向に沿ってより細密な着弾パターンを形成できる。
[実施例２]
【００９０】
本発明をカラーフィルタ基板の製造装置に適用した例を説明する。
【００９１】
図９（ａ）および（ｂ）に示す基体１０Ａは、後述する製造装置１（図１０）による処理を経て、カラーフィルタ基板１０となる基板である。基体１０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂを有する。
【００９２】
具体的には、基体１０Ａは、光透過性を有する支持基板１２と、支持基板１２上に形成されたブラックマトリクス１４と、ブラックマトリクス１４上に形成されたバンク１６と、を含む。ブラックマトリクス１４は遮光性を有する材料で形成されている。そして、ブラックマトリクス１４とブラックマトリクス１４上のバンク１６とは、支持基板１２上にマトリクス状の複数の光透過部分、すなわちマトリクス状の複数の画素領域、が規定されるように位置している。
【００９３】
それぞれの画素領域において、支持基板１２、ブラックマトリクス１４、およびバンク１６で規定される凹部は、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、被吐出部１８Ｂに対応する。被吐出部１８Ｒは、赤の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｇは、緑の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｂは、青の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＢが形成されるべき領域である。
【００９４】
図９（ｂ）に示す基体１０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体１０Ａにおいて、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、および被吐出部１８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部１８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部１８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、そして、被吐出部１８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【００９５】
被吐出部１８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部１８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＧＹと同じであり、被吐出部１８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＢＹとも同じである。また、被吐出部１８Ｒの平面像は、長辺と短辺とで決まる矩形である。具体的には、被吐出部１８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部１８Ｇおよび被吐出部１８Ｂも被吐出部１８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【００９６】
図１０に示す製造装置１は、図９の基体１０Ａの被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂのそれぞれに対して、対応するカラーフィルタ材料を吐出する装置である。具体的には、製造装置１は、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する吐出装置１００Ｒと、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを乾燥させる乾燥装置１５０Ｒと、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇを塗布する１００Ｇと、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを乾燥させる乾燥装置１５０Ｇと、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂを塗布する１００Ｂと、被吐出部１８Ｂのカラーフィルタ材料１１１Ｂを乾燥させる乾燥装置１５０Ｂと、カラーフィルタ材料１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂを再度加熱（ポストベーク）するオーブン１６０と、ポストベークされたカラーフィルタ材料１１１Ｒ，１１１Ｇ、１１１Ｂの層の上に保護膜２０を設ける吐出装置１００Ｃと、保護膜２０を乾燥させる乾燥装置１５０Ｃと、乾燥された保護膜２０を再度加熱して硬化する硬化装置１６５と、を備えている。さらに製造装置１は、吐出装置１００Ｒ、乾燥装置１５０Ｒ、吐出装置１００Ｇ、乾燥装置１５０Ｇ、吐出装置１００Ｂ、乾燥装置１５０Ｂ、吐出装置１００Ｃ、乾燥装置１５０Ｃ、硬化装置１６５の順番に基体１０Ａを搬送する搬送装置１７０も備えている。
【００９７】
図１１に示すように、吐出装置１００Ｒの構成は、実施例１の吐出装置１００の構成と基本的に同じである。ただし、タンク１０１とチューブ１１０とに代えて、吐出装置１００Ｒが液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒ用のタンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとを備える点で、吐出装置１００Ｒの構成は吐出装置１００の構成と異なる。なお、吐出装置１００Ｒの構成要素のうち、吐出装置１００の構成要素と同様なものには実施例１と同じ参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【００９８】
吐出装置１００Ｇの構成と、吐出装置１００Ｂの構成と、吐出装置１００Ｃの構成とは、いずれも基本的に吐出装置１００Ｒの構造と同じある。ただし、吐出装置１００Ｒにおけるタンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｇがカラーフィルタ材料１１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置１００Ｇの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｂがカラーフィルタ材料１１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置１００Ｂの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。さらに、タンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｃが保護膜材料用のタンクとチューブとを備える点で吐出装置１００Ｃの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。なお、本実施例における液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒ，１１１Ｇ、１１１Ｂは、本発明の液状の材料の一例である。
【００９９】
次に、吐出装置１００Ｒの動作を説明する。吐出装置１００Ｒは、基体１０Ａ上でマトリクス状に配置された複数の被吐出部１８Ｒに同一の材料を吐出する。なお、実施例３〜５において説明するように、基体１０Ａは、エレクトロルミネッセンス表示装置用の基板に置き換わってもよいし、プラズマ表示装置用の背面基板に置き換わってもよいし、電子放出素子を備えた画像表示装置の基板に置き換わってもよい。
【０１００】
図１２の基体１０Ａは、被吐出部１８Ｒの長辺方向および短辺方向がそれぞれＸ軸方向およびＹ軸方向に一致するように、ステージ１０６に保持されている。
【０１０１】
まず、第１の走査期間が始る前に、制御部１１２は、吐出データに応じて、いくつかのノズル１１８のＸ座標が被吐出部１８ＲのＸ座標範囲に収まるように、キャリッジ１０３、すなわちヘッド群１１４Ｇ、を基体１０Ａに対してＸ軸方向に相対移動させる。被吐出部１８ＲのＸ座標範囲とは、被吐出部１８Ｒの両端のＸ座標で決まる範囲である。本実施例では、被吐出部１８Ｒの長辺の長さは約３００μｍであり、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰは１７．５μｍである。このため、ヘッド群１１４Ｇにおける１６個または１７個のノズル１１８が、１つの被吐出部１８ＲのＸ座標範囲に入る。Ｘ座標範囲外のノズル１１８からは、走査期間の内になんらカラーフィルタ材料１１１Ｒは吐出されない。
【０１０２】
ところで、本実施例において「走査期間」とは、図２９に示すように、キャリッジ１０３の一辺がＹ軸方向に沿って走査範囲１３４の一端Ｅ１（または他端Ｅ２）から他端Ｅ２（または一端Ｅ１）まで相対移動を１回行う期間を意味する。「走査範囲１３４」とは、基体１０Ａ上のすべての被吐出部１８Ｒに材料を塗布するためにキャリッジ１０３が相対移動する範囲を意味し、走査範囲１３４によってすべての被吐出部１８Ｒが覆われている。なお、場合によって、用語「走査範囲」は、１つのノズル１１８が相対移動する範囲を意味することもあるし、１つのノズル列１１６が相対移動する範囲を意味することもあるし、１つのヘッド１１４が相対移動する範囲を意味することもある。
【０１０３】
制御部１１２は、吐出周期ＥＰ（図７（ｂ））の整数倍の時間間隔毎に、１つのノズル１１８とＹ軸方向に並んだ被吐出部１８Ｒとが重なるように、キャリッジ１０３の相対移動の速度を決定する。そうすれば、その１つのノズル１１８を含むノズル列における他のノズル１１８も、吐出周期ＥＰの整数倍の時間間隔毎に、それぞれの被吐出部１８Ｒと重なる。本実施例では、被吐出部１８ＲのＹ軸方向のピッチがＬＲＹ（図９（ｂ））なので、ステージ１０６に対するキャリッジ１０３の相対移動の速度をＶとすると、Ｖ＝ＬＲＹ／（ｋ・ＥＰ）である。ここで、ｋは整数である。
【０１０４】
第１の走査期間が始ると、走査範囲１３４の一端Ｅ１からＹ軸方向の正の方向（図１２の紙面上方向）に、ヘッド群１１４Ｇが相対移動し始める。そうすると、ノズル列１Ａ、１Ｂ、２Ａ、２Ｂ、３Ａ、３Ｂ、４Ａ、４Ｂの順番で、これらのノズル列が被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入する。なお、第１の走査期間の間、ヘッド群１１４ＧのＸ座標は変化しない。
【０１０５】
図１２に示す例の場合には、ノズル列１Ａがある１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８と、左から３番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１が吐出される。さらに、ノズル列１Ｂがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズルとから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【０１０６】
その後、ノズル列２Ａがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。次に、ノズル列２Ｂがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【０１０７】
そして、ノズル列３Ａがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列３Ａの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。次に、ノズル列３Ｂがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列３Ｂの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【０１０８】
さらに、ノズル列４Ａがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列４Ａの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。次に、ノズル列４Ｂがその１つの被吐出部１８Ｒに対応する領域に侵入すると、ノズル列４Ｂの最も左のノズル１１８と、左から２番目のノズル１１８とから、カラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【０１０９】
本実施例によれば、１つの走査期間内に、１つの被吐出部１８Ｒに、必要とされる体積のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出できる。これは、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰが、１つのヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰのほぼ１／４であり、このため、１つの走査期間内に、より多くのノズル１１８が１つの被吐出部に重なるからである。
【０１１０】
一方、図１２に示すように、第１の走査期間内では、ノズル列１Ａにおける最も左側のノズル１１８と、ノズル列２Ａにおける右から２番目のノズル１１８と、ノズル列３Ａにおける右から２番目のノズル１１８と、ノズル列４Ａにおける右から２番目のノズル１１８とは、一度も被吐出部１８Ｒに重ならない。したがって、これらのノズルからはなんらカラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出は行われない。
【０１１１】
第１の走査期間が終わると、制御部１１２は、ヘッド群１１４ＧをＸ軸方向に相対移動させてから次の走査期間を開始して、まだ塗布されていない被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。
【０１１２】
以上では、被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する工程を説明した。以下では、製造装置１によってカラーフィルタ基板１０が得られるまでの一連の工程を説明する。
【０１１３】
まず、以下の手順にしたがって図９の基体１０Ａを作成する。まず、スパッタ法または蒸着法によって、支持基板１２上に金属薄膜を形成する。その後、フォトリソグラフィー工程によってこの金属薄膜から格子状のブラックマトリクス１４を形成する。ブラックマトリクス１４の材料の例は、金属クロムや酸化クロムである。なお、支持基板１２は、可視光に対して光透過性を有する基板、例えばガラス基板である。続いて、支持基板１２およびブラックマトリクス１４を覆うように、ネガ型の感光性樹脂組成物からなるレジスト層を塗布する。そして、そのレジスト層の上にマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム密着させながら、このレジスト層を露光する。その後、レジスト層の未露光部分をエッチング処理で取り除くことで、バンク１６が得られる。以上の工程によって、基体１０Ａが得られる。
【０１１４】
なお、バンク１６に代えて、樹脂ブラックからなるバンクを用いても良い。その場合は、金属薄膜（ブラックマトリクス１４）は不要となり、バンク層は、1層のみとなる。
【０１１５】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体１０Ａを親液化する。この処理によって、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、で規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における支持基板１２の表面と、ブラックマトリクス１４の表面と、バンク１６の表面と、が親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体１０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部におけるバンク１６の表面がフッ化処理（撥液性に処理）され、このことで、バンク１６の表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた支持基板１２の表面およびブラックマトリクス１４の表面は若干親液性を失うが、それでもこれら表面は親液性を維持する。このように、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂとなる。
【０１１６】
なお、支持基板１２の材質、ブラックマトリクス１４の材質、およびバンク１６の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面が被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂである。
【０１１７】
被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂが形成された基体１０Ａは、搬送装置１７０によって、吐出装置１００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図１３（ａ）に示すように、吐出装置１００Ｒは、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。具体的には、吐出装置１００Ｒは、図１２を参照しながら説明した吐出方法で被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する。基体１０Ａの被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｒ上にフィルタ層１１１ＦＲを得る。
【０１１８】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図１３（ｂ）に示すように、吐出装置１００Ｇは、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｇを吐出する。具体的には、吐出装置１００Ｇは、図１２を参照しながら説明した吐出方法で被吐出部１８Ｇにカラーフィルタ材料１１１Ｇを塗布する。基体１０Ａの被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｇ上にフィルタ層１１１ＦＧを得る。
【０１１９】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図１３（ｃ）に示すように、吐出装置１００Ｂは、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｂを吐出する。具体的には、吐出装置１００Ｂは、図１２を参照しながら説明した吐出方法で被吐出部１８Ｂにカラーフィルタ材料１１１Ｂを塗布する。基体１０Ａの被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｂ上のカラーフィルタ材料１１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｂ上にフィルタ層１１１ＦＢを得る。
【０１２０】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを、オーブン１６０内に位置させる。その後、オーブン１６０はフィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢを再加熱（ポストベーク）する。
【０１２１】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｃのステージ１０６に位置させる。そして、吐出装置１００Ｃは、フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆って保護膜２０が形成されるように、液状の保護膜材料を吐出する。フィルタ層１１１ＦＲ，１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆う保護膜２０が形成された後に、搬送装置１７０は基体１０Ａをオーブン１５０Ｃ内に位置させる。そして、オーブン１５０Ｃが保護膜２０を完全に乾燥させた後に、硬化装置１６５が保護膜２０を加熱して完全に硬化することで、基体１０Ａはカラーフィルタ基板１０となる。
【０１２２】
本実施例によれば、吐出装置１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂのそれぞれにおいて、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチは、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチの１／Ｎ倍の長さである。ここで、Ｎはヘッド群１１４Ｇに含まれるヘッド１１４の数である。このため、吐出装置１００Ｒ、１００Ｇ、１００ＢのＸ軸方向のノズル線密度が、通常のインクジェット装置のＸ軸方向のノズル線密度よりも高い。したがって、製造装置１は、吐出データを変更するだけで、さまざまな大きさの被吐出部にカラーフィルタ材料を塗布できる。さらに製造装置１は、吐出データを変更するだけで、さまざまなピッチのカラーフィルタ基板を製造できる。
[実施例３]
【０１２３】
次に、本発明をエレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置に適用した例を説明する。
【０１２４】
図１４（ａ）および（ｂ）に示す基体３０Ａは、後述する製造装置２（図１５）による処理によって、エレクトロルミネッセンス表示装置３０となる基板である。基体３０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂを有する。
【０１２５】
具体的には、基体３０Ａは、支持基板３２と、支持基板３２上に形成された回路素子層３４と、回路素子層３４上に形成された複数の画素電極３６と、複数の画素電極３６の間に形成されたバンク４０と、を有している。支持基板は、可視光に対して光透過性を有する基板であり、例えばガラス基板である。複数の画素電極３６のそれぞれは、可視光に対して光透過性を有する電極であり、例えば、ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）電極である。また、複数の画素電極３６は、回路素子層３４上にマトリクス状に配置されており、それぞれが画素領域を規定する。そして、バンク４０は、格子状の形状を有しており、複数の画素電極３６のそれぞれを囲む。また、バンク４０は、回路素子層３４上に形成された無機物バンク４０Ａと、無機物バンク４０Ａ上に位置する有機物バンク４０Ｂとからなる。
【０１２６】
回路素子層３４は、支持基板３２上で所定の方向に延びる複数の走査電極と、複数の走査電極を覆うように形成された絶縁膜４２と、絶縁膜４２上に位置するともに複数の走査電極が延びる方向に対して直交する方向に延びる複数の信号電極と、走査電極および信号電極の交点付近に位置する複数のスイッチング素子４４と、複数のスイッチング素子４４を覆うように形成されたポリイミドなどの層間絶縁膜４５と、を有する層である。それぞれのスイッチング素子４４のゲート電極４４Ｇおよびソース電極４４Ｓは、それぞれ対応する走査電極および対応する信号電極と電気的に接続されている。層間絶縁膜４５上には複数の画素電極３６が位置する。層間絶縁膜４５には、各スイッチング素子４４のドレイン電極４４Ｄに対応する部位にスルーホール４４Ｖが設けられており、このスルーホール４４Ｖを介して、スイッチング素子４４と、対応する画素電極３６と、の間の電気的接続が形成されている。また、バンク４０に対応する位置にそれぞれのスイッチング素子４４が位置している。つまり、図１３（ｂ）の紙面に垂直な方向から観察すると、複数のスイッチング素子４４のそれぞれは、バンク４０に覆われるように位置している。
【０１２７】
基体３０Ａの画素電極３６とバンク４０とで規定される凹部（画素領域の一部）は、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、被吐出部３８Ｂに対応する。被吐出部３８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｂは、青の波長域の光線を発光する発光層２１１ＧＢが形成されるべき領域である。
【０１２８】
図１４（ｂ）に示す基体３０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体３０Ａにおいて、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、および被吐出部３８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部３８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部３８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部３８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【０１２９】
被吐出部３８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部３８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＧＹと同じであり、被吐出部１８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＢＹとも同じである。また、被吐出部３８Ｒの平面像は、長辺と短辺とで決まる矩形である。具体的には、被吐出部３８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部３８Ｇおよび被吐出部３８Ｂも被吐出部３８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【０１３０】
図１５に示す製造装置２は、図１４の基体３０Ａの被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂのそれぞれに対して、対応する発光材料を吐出する装置である。製造装置２は、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒを塗布する吐出装置２００Ｒと、被吐出部３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを乾燥させる乾燥装置２５０Ｒと、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇを塗布する吐出装置２００Ｇと、被吐出部３８Ｇ上の発光材料２１１Ｇを乾燥させる乾燥装置２５０Ｇと、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂを塗布する吐出装置２００Ｂと、被吐出部３８Ｂ上の発光材料Ｂを乾燥させる乾燥装置２５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置２は、吐出装置２００Ｒ、乾燥装置２５０Ｒ、吐出装置２００Ｇ、乾燥装置２５０Ｇ、吐出装置２００Ｂ、乾燥装置２５０Ｂの順番に基体３０Ａを搬送する搬送装置２７０も備えている。
【０１３１】
図１６に示す吐出装置２００Ｒは、液状の発光材料２１１Ｒを保持するタンク２０１Ｒと、チューブ２１０Ｒと、チューブ２１０Ｒを介してタンク２０１Ｒから発光材料２１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施例１の吐出走査部１０２（図１）の構成と同じであるため、同様な構成要素には同一の参照符号を付けるとともに、重複する説明を省略する。また、吐出装置２００Ｇの構成と吐出装置２００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置２００Ｒの構造と同じある。ただし、タンク２０１Ｒとチューブ２１０Ｒとの代わりに、吐出装置２００Ｇが発光材料２１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置２００Ｇの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク２０１Ｒとチューブ２１０Ｒとの代わりに、吐出装置２００Ｂが発光材料２１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置２００Ｂの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。なお、本実施例における液状の発光材料２１１Ｒ、２１１Ｂ、２１１Ｇは、本発明の液状の材料の一例である。
【０１３２】
製造装置２を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置３０の製造方法を説明する。まず、公知の製膜技術とパターニング技術とを用いて、図１４に示す基体３０Ａを製造する。
【０１３３】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体３０Ａを親液化する。この処理によって、画素電極３６とバンク４０とで規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における画素電極３６の表面、無機物バンク４０Ａの表面、および有機物バンク４０Ｂの表面が、親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体３０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部における有機物バンク４０Ｂの表面がフッ化処理（撥液性に処理）されて、このことで有機物バンク４０Ｂの表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた画素電極３６の表面および無機物バンク４０Ａの表面は、若干親液性を失うが、それでも親液性を維持する。このように、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂとなる。
【０１３４】
なお、画素電極３６の材質、無機バンク４０の材質、および有機バンク４０の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面は被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂである。
【０１３５】
ここで、表面処理が施された複数の画素電極３６のそれぞれの上に、対応する正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを形成してもよい。正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂが、画素電極３６と、後述の発光層２１１ＲＦ、２１１ＧＦ、２１１ＢＦと、の間に位置すれば、エレクトロルミネッセンス表示装置の発光効率が高くなる。複数の画素電極３６のそれぞれの上に正孔輸送層を設ける場合には、正孔輸送層と、バンク４０と、によって規定された凹部が、被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂに対応する。
【０１３６】
なお、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂをインクジェット法により形成することも可能である。この場合、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを形成するための材料を含む溶液を各画素領域ごとに所定量塗布し、その後、乾燥させることにより正孔輸送層を形成することができる。
【０１３７】
被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成された基体３０Ａは、搬送装置２７０によって、吐出装置２００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図１７（ａ）に示すように、吐出装置２００Ｒは、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｒを吐出する。具体的には、吐出装置２００Ｒは、図１２を参照しながら説明した吐出方法で被吐出部３８Ｒに発光材料２１１Ｒを塗布する。基体３０Ａの被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｒ上に発光層２１１ＦＲを得る。
【０１３８】
次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図１７（ｂ）に示すように、吐出装置２００Ｇは、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｇを吐出する。具体的には、吐出装置２００Ｇは、図１２を参照しながら説明した吐出方法で被吐出部３８Ｇに発光材料２１１Ｇを塗布する。基体３０Ａの被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｇ上の発光材料Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｇ上に発光層２１１ＦＧを得る。
【０１３９】
次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図１７（ｃ）に示すように、吐出装置２００Ｂは、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｂを吐出する。具体的には、吐出装置２００Ｂは、図１２を参照しながら説明した吐出方法で被吐出部３８Ｂに発光材料２１１Ｂを塗布する。基体３０Ａの被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｂ上の発光材料２１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｂ上に発光層２１１ＦＢを得る。
【０１４０】
図１７（ｄ）に示すように、次に、発光層２１１ＦＲ，２１１ＦＧ、２１１ＦＢ、およびバンク４０を覆うように対向電極４６を設ける。対向電極４６は陰極として機能する。その後、封止基板４８と基体３０Ａとを、互いの周辺部で接着することで、図１７（ｄ）に示すエレクトロルミネッセンス表示装置３０が得られる。なお、封止基板４８と基体３０Ａとの間には不活性ガス４９が封入されている。
【０１４１】
エレクトロルミネッセンス表示装置３０において、発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢから発光した光は、画素電極３６と、回路素子層３４と、支持基板３２と、を介して射出する。このように回路素子層３４を介して光を射出するエレクトロルミネッセンス表示装置は、ボトムエミッション型の表示装置と呼ばれる。
【０１４２】
本実施例によれば、吐出装置２００Ｒ、２００Ｇ、２００Ｂのそれぞれにおいて、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチは、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチの１／Ｎ倍の長さである。ここで、Ｎはヘッド群１１４Ｇに含まれるヘッド１１４の数である。このため、吐出装置２００Ｒ、２００Ｇ、２００ＢのＸ軸方向のノズル線密度が、通常のインクジェット装置のＸ軸方向のノズル線密度よりも高い。したがって、したがって、製造装置２は、吐出データを変更するだけで、さまざまな大きさの被吐出部に発光材料を塗布できる。さらに製造装置２は、吐出データを変更するだけで、さまざまなピッチのエレクトロルミネッセンス表示装置を製造できる。
[実施例４]
【０１４３】
本発明をプラズマ表示装置の背面基板の製造装置に適用した例を説明する。
【０１４４】
図１８（ａ）および（ｂ）に示す基体５０Ａは、後述する製造装置３（図１９）による処理によって、プラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる基板である。基体５０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂを有する。
【０１４５】
具体的には、基体５０Ａは、支持基板５２と、支持基板５２上にストライプ状に形成された複数のアドレス電極５４と、アドレス電極５４を覆うように形成された誘電体ガラス層５６と、格子状の形状を有するとともに複数の画素領域を規定する隔壁６０と、を含む。複数の画素領域はマトリクス状に位置しており、複数の画素領域が形成するマトリクスの列のそれぞれは、複数のアドレス電極５４のそれぞれに対応する。このような基体５０Ａは、公知のスクリーン印刷技術で形成される。
【０１４６】
基体５０Ａのそれぞれの画素領域において、誘電体ガラス層５６および隔壁６０によって規定される凹部が、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、被吐出部５８Ｂに対応する。被吐出部５８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｂは、青の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＢが形成されるべき領域である。
【０１４７】
図１８（ｂ）に示す基体５０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体５０Ａにおいて、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、および被吐出部５８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部５８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部５８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部５８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【０１４８】
被吐出部５８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部５８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＧＹと同じであり、被吐出部５８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＢＹとも同じである。また、被吐出部５８Ｒの平面像は、長辺と短辺とで決まる矩形である。具体的には、被吐出部５８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部５８Ｇおよび被吐出部５８Ｂも被吐出部５８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【０１４９】
図１９に示す製造装置３は、図１８の基体５０Ａの被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂのそれぞれに対して、対応する蛍光材料を吐出する装置である。製造装置３は、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒを塗布する吐出装置３００Ｒと、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを乾燥させる乾燥装置３５０Ｒと、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇを塗布する吐出装置３００Ｇと、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料３１１Ｇを乾燥させる乾燥装置３５０Ｇと、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂを塗布する吐出装置３００Ｂと、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料３１１Ｂを乾燥させる乾燥装置３５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置３は、吐出装置３００Ｒ、乾燥装置３５０Ｒ、吐出装置３００Ｇ、乾燥装置３５０Ｇ、吐出装置３００Ｂ、乾燥装置３５０Ｂの順番に基体５０Ａを搬送する搬送装置３７０も備えている。
【０１５０】
図２０に示す吐出装置３００Ｒは、液状の蛍光材料３１１Ｒを保持するタンク３０１Ｒと、チューブ３１０Ｒと、チューブ３１０Ｒを介してタンク３０１Ｒからカラーフィルタ材料が供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施例１において説明したため重複する説明を省略する。
【０１５１】
吐出装置３００Ｇの構成と吐出装置３００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置３００Ｒの構造と同じある。ただし、タンク３０１Ｒとチューブ３１０Ｒとの代わりに、吐出装置３００Ｇが蛍光材料３１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置３００Ｇの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク３０１Ｒとチューブ３１０Ｒとに代えて、吐出装置３００Ｂが蛍光材料３１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置３００Ｂの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。なお、本実施例における液状の蛍光材料３１１Ｒ、３１１Ｂ、３１１Ｇは、本発明の液状の材料の一例である。
【０１５２】
製造装置３を用いたプラズマ表示装置の製造方法を説明する。まず、公知のスクリーン印刷技術によって、支持基板５２上に、複数のアドレス電極５４と、誘電体ガラス層５６と、隔壁６０と、を形成して、図１８に示す基体５０Ａを得る。
【０１５３】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体５０Ａを親液化する。この処理によって、隔壁６０および誘電体ガラス層５６によって規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）の隔壁６０の表面、誘電体ガラス層５６の表面が、親液性を呈し、これらの表面が被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂとなる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、隔壁６０と、誘電体ガラス層５６と、によって規定された凹部の表面は、被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂである。
【０１５４】
被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂが形成された基体５０Ａは、搬送装置３７０によって、吐出装置３００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図２１（ａ）に示すように、吐出装置３００Ｒは、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｒを吐出する。具体的には、吐出装置３００Ｒは、図１２を参照しながら説明した吐出方法で被吐出部５８Ｒに蛍光材料３１１Ｒを塗布する。基体５０Ａの被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｒ上に蛍光層３１１ＦＲを得る。
【０１５５】
次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図２１（ｂ）に示すように、吐出装置３００Ｇは、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｇを吐出する。具体的には、吐出装置３００Ｇは、図１２を参照しながら説明した吐出方法で被吐出部５８Ｇに蛍光材料３１１Ｇを塗布する。基体５０Ａの被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料３１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｇ上に蛍光層３１１ＦＧを得る。
【０１５６】
次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図２１（ｃ）に示すように、吐出装置３００Ｂは、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｂを吐出する。具体的には、吐出装置３００Ｂは、図１２を参照しながら説明した吐出方法で被吐出部５８Ｂに蛍光材料３１１Ｂを塗布する。基体５０Ａの被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料Ｂの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料３１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｂ上に蛍光層３１１ＦＢを得る。
【０１５７】
以上の工程によって、基体５０Ａはプラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる。
【０１５８】
次に図２２に示すように、背面基板５０Ｂと、前面基板５０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせてプラズマ表示装置５０が得られる。前面基板５０Ｃは、ガラス基板６８と、ガラス基板６８上で互いに平行にパターニングされた表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂと、表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂとを覆うように形成された誘電体ガラス層６４と、誘電体ガラス層６４上に形成されたＭｇＯ保護層６２と、を有する。背面基板５０Ｂと前面基板５０Ｃとは、背面基板５０Ｂのアドレス電極５４と、前面基板５０Ｃの表示電極６６Ａ・表示スキャン電極６６Ｂとが、互いに直交するように位置合わせされている。各隔壁６０で囲まれるセル（画素領域）には、所定の圧力で放電ガス６９が封入されている。
【０１５９】
本実施例によれば、吐出装置３００Ｒ、３００Ｇ、３００Ｂのそれぞれにおいて、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチは、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチの１／Ｎ倍の長さである。ここで、Ｎはヘッド群１１４Ｇに含まれるヘッド１１４の数である。このため、吐出装置３００Ｒ、３００Ｇ、３００ＢのＸ軸方向のノズル線密度が、通常のインクジェット装置のＸ軸方向のノズル線密度よりも高い。したがって、したがって、製造装置３は、吐出データを変更するだけで、さまざまな大きさの被吐出部に蛍光材料を塗布できる。さらに製造装置３は、吐出データを変更するだけで、さまざまなピッチのプラズマ表示装置を製造できる。
[実施例５]
【０１６０】
次に本発明を、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造装置に適用した例を説明する。
【０１６１】
図２３（ａ）および（ｂ）に示す基体７０Ａは、後述する製造装置３（図２４）による処理によって、画像表示装置の電子源基板７０Ｂとなる基板である。基体７０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部７８を有する。
【０１６２】
具体的には、基体７０Ａは、基体７２と、基体７２上に位置するナトリウム拡散防止層７４と、ナトリウム拡散防止層７４上に位置する複数の素子電極７６Ａ、７６Ｂと、複数の素子電極７６Ａ上に位置する複数の金属配線７９Ａと、複数の素子電極７６Ｂ上に位置する複数の金属配線７９Ｂと、を備えている。複数の金属配線７９ＡのそれぞれはＹ軸方向に延びる形状を有する。一方、複数の金属配線７９ＢのそれぞれはＸ軸方向に延びる形状を有する。金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとの間には絶縁膜７５が形成されているので、金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとは電気的に絶縁されている。
【０１６３】
１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを含む部分は１つの画素領域に対応する。１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂは、互いに所定の間隔だけ離れてナトリウム拡散防止層７４上で対向している。ある画素領域に対応する素子電極７６Ａは、対応する金属配線７９Ａと電気的に接続されている。また、その画素領域に対応する素子電極７６Ｂは、対応する金属配線７９Ｂと電気的に接続されている。なお、本明細書では、基体７２とナトリウム拡散防止層７４とを合わせた部分を支持基板と表記することもある。
【０１６４】
基体７０Ａのそれぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４とが、被吐出部７８に対応する。より具体的には、被吐出部７８は、導電性薄膜４１１Ｆ（図２７）が形成されるべき領域であり、導電性薄膜４１１Ｆは、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａ，７６Ｂの間のギャップとを覆うように形成される。図２３（ｂ）において点線で示すように、本実施例における被吐出部７８の平面形状は円形である。このように、本発明の被吐出部の平面形状は、Ｘ座標範囲とＹ座標範囲とで決まる円形でも構わない。
【０１６５】
図２３（ｂ）に示す基体７０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部７８が形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。つまり、基体７０Ａにおいて、複数の被吐出部７８は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【０１６６】
被吐出部７８同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ１９０μｍである。また、被吐出部７８ＲのＸ軸方向の長さ（Ｘ座標範囲の長さ）はほぼ１００μｍであり、Ｙ軸方向の長さ（Ｙ座標範囲の長さ）もほぼ１００μｍである。被吐出部７８同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【０１６７】
図２４に示す製造装置４は、図２３の基体７０Ａの被吐出部７８のそれぞれに対して、導電性薄膜材料４１１を吐出する装置である。具体的には、製造装置４は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１を塗布する吐出装置４００と、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を乾燥させる乾燥装置４５０と、を備えている。さらに製造装置４は、吐出装置４００、乾燥装置４５０の順番に基体７０Ａを搬送する搬送装置４７０も備えている。
【０１６８】
図２５に示す吐出装置４００は、液状の導電性薄膜材料４１１を保持するタンク４０１と、チューブ４１０と、チューブ４１０を介してタンク４０１Ｒから導電性薄膜材料４１１が供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の説明は、実施例１で説明したため省略する。本実施例では、液状の導電性薄膜材料４１１は有機パラジウム溶液である。なお、本実施例における液状の導電性薄膜材料４１１は、本発明の液状の材料の一例である。
【０１６９】
製造装置４を用いた画像表示装置の製造方法を説明する。まず、ソーダガラスなどから形成された基体７２上に、ＳｉＯ2を主成分とするナトリウム拡散防止層７４を形成する。具体的には、スパッタ法を用いて基体７２上に厚さ１μｍのＳｉＯ2膜を形成することによってナトリウム拡散防止層７４を得る。次に、ナトリウム拡散防止層７４上に、スパッタ法または真空蒸着法によって厚さ５ｎｍのチタニウム層を形成する。そして、フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いて、そのチタニウム層から、互いに所定の距離だけ離れて位置する１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを複数対形成する。
【０１７０】
その後、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ａ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｙ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ａを形成する。次に、スクリーン印刷技術を用いて、各金属配線７９Ａの一部分にガラスペーストを塗布して焼成することで、絶縁膜７５を形成する。そして、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ｂ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｘ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ｂを形成する。なお、金属配線７９Ｂを作製する場合には、金属配線７９Ｂが絶縁膜７５を介して金属配線７９Ａと交差するようにＡｇペーストを塗布する。以上のような工程によって、図２３に示す基体７０Ａを得る。
【０１７１】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体７０Ａを親液化する。この処理によって、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出した支持基板の表面とは、親液化される。そして、これらの表面が被吐出部７８となる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４の表面とは、被吐出部７８となる。
【０１７２】
被吐出部７８が形成された基体７０Ａは、搬送装置４７０によって、吐出装置４００のステージ１０６に運ばれる。そして、図２６に示すように、吐出装置４００は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜４１１Ｆが形成されるように、ヘッド１１４から導電性薄膜材料４１１を吐出する。具体的には、吐出装置４００は、図１２を参照しながら説明した吐出方法で被吐出部７８に導電性薄膜材料４１１を塗布する。本実施例では、被吐出部７８上に着弾した導電性薄膜材料４１１の液滴の直径が６０μｍから８０μｍの範囲となるように、制御部１１２はヘッド１１４に信号を与える。基体７０Ａの被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１の層が形成された場合には、搬送装置４７０が基体７０Ａを乾燥装置４５０内に位置させる。そして、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を完全に乾燥させることで、被吐出部７８上に酸化パラジウムを主成分とする導電性薄膜４１１Ｆを得る。このように、それぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間に露出したナトリウム拡散防止層７４と、を覆う導電性薄膜４１１Ｆが形成される。
【０１７３】
次に素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間に、パルス状の所定の電圧を印加することで、導電性薄膜４１１Ｆの一部分に電子放出部４１１Ｄを形成する。なお、素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間の電圧の印加を、有機物雰囲気下および真空条件下でもそれぞれ行うことが好ましい。そうすれば、電子放出部４１１Ｄからの電子放出効率がより高くなるからである。素子電極７６Ａと、対応する素子電極７６Ｂと、電子放出部４１１Ｄが設けられた導電性薄膜４１１Ｆと、は電子放出素子である。また、それぞれの電子放出素子は、それぞれの画素領域に対応する。
【０１７４】
以上の工程によって、図２７に示すように、基体７０Ａは電子源基板７０Ｂとなる。
【０１７５】
次に図２８に示すように、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせて画像表装置７０が得られる。前面基板７０Ｃは、ガラス基板８２と、ガラス基板８２上にマトリクス状に位置する複数の蛍光部８４と、複数の蛍光部８４を覆うメタルプレート８６と、を有する。メタルプレート８６は、電子放出部４１１Ｄからの電子ビームを加速するための電極として機能する。電子源基板７０Ｂと前面基板７０Ｃとは、複数の電子放出素子のそれぞれが、複数の蛍光部８４のそれぞれに対向するように、位置合わせされている。また、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃとの間は、真空状態に保たれている。
【０１７６】
なお、上記の電子放出素子を備えた画像表示装置７０は、ＳＥＤ(Surface-Conduction Electron-Emitter Display）またはＦＥＤ（Field Emission Display)と呼ばれることもある。
【０１７７】
本実施例によれば、吐出装置４００において、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチは、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチの１／Ｎ倍の長さである。ここで、Ｎはヘッド群１１４Ｇに含まれるヘッド１１４の数である。このため、吐出装置４００のＸ軸方向のノズル線密度が、通常のインクジェット装置のＸ軸方向のノズル線密度よりも高い。したがって、製造装置４は、吐出データを変更するだけで、さまざまな大きさの被吐出部に導電性薄膜材料を塗布できる。さらに製造装置４は、吐出データを変更するだけで、さまざまなピッチの電子源基板を製造できる。
【図面の簡単な説明】
【０１７８】
【図１】実施例１の吐出装置を示す模式図。
【図２】実施例１のキャリッジを示す模式図。
【図３】実施例１のヘッドを示す模式図。
【図４】（ａ）および（ｂ）は実施例１のヘッドの吐出部を示す模式図。
【図５】実施例１のヘッド群におけるヘッドの相対位置関係を示す模式図。
【図６】実施例１の制御部を示す模式図。
【図７】（ａ）は実施例１のヘッド駆動部を示す模式図であり、（ｂ）はヘッド駆動部における駆動信号、選択信号および吐出信号を示すタイミングチャート。
【図８】（ａ）および（ｂ）は実施例１のヘッド群からの液滴の吐出の順番を示す模式図。
【図９】実施例２の基体を示す模式図。
【図１０】実施例２の製造装置を示す模式図。
【図１１】実施例２の吐出装置を示す模式図。
【図１２】実施例２の吐出方法を示す模式図。
【図１３】実施例２の製造方法を示す模式図。
【図１４】（ａ）および（ｂ）は実施例３の基体を示す模式図。
【図１５】実施例３の製造装置を示す模式図。
【図１６】実施例３の吐出装置を示す模式図。
【図１７】実施例３の製造方法を示す模式図。
【図１８】（ａ）および（ｂ）は実施例４の基体を示す模式図。
【図１９】実施例４の製造装置を示す模式図。
【図２０】実施例４の吐出装置を示す模式図。
【図２１】実施例４の製造方法を示す模式図。
【図２２】実施例４の製造方法を示す模式図。
【図２３】（ａ）および（ｂ）は実施例５の基体を示す模式図。
【図２４】実施例５の製造装置を示す模式図。
【図２５】実施例５の吐出装置を示す模式図。
【図２６】実施例５の製造方法を示す模式図。
【図２７】実施例５の製造方法を示す模式図。
【図２８】実施例５の製造方法を示す模式図。
【図２９】走査範囲を示す模式図。
【符号の説明】
【０１７９】
１・２・３・４…製造装置
１Ａ・１Ｂ・２Ａ・２Ｂ・３Ａ・３Ｂ・４Ａ・４Ｂ…ノズル列
１０Ａ・３０Ａ・５０Ａ・７０Ａ…基体
１００・１００Ｒ・１００Ｇ・１００Ｂ・１００Ｃ・２００Ｒ・２００Ｇ・２００Ｂ・３００Ｒ・３００Ｇ・３００Ｂ・４００…吐出装置
１０２…吐出走査部
１０３…キャリッジ
１０４…第１位置制御装置
１０６…ステージ
１０８…第２位置制御装置
１１１…液状の材料
１１１Ｒ・１１１Ｇ・１１１Ｂ…カラーフィルタ材料
１１４・１１４１・１１４２・１１４３・１１４４…ヘッド
１１２…制御部
１１４Ｇ…ヘッド群
１１６Ａ・１１６Ｂ…ノズル列
１１８…ノズル
１１８Ｒ…基準ノズル
１２４…振動子
１２４Ｃ…ピエゾ素子
１２４Ａ・１２４Ｂ…電極
１２７…吐出部
２０８…ヘッド駆動部
２０３…駆動信号生成部
ＡＳ…アナログスイッチ
ＤＳ…駆動信号
２０４…処理部
ＳＣ…選択信号
ＥＳ…吐出信号
１０Ａ・３０Ａ・５０Ａ、７０Ａ…基体
１０…カラーフィルタ基板
１８Ｒ・１８Ｇ・１８Ｂ・３８Ｒ・３８Ｇ・３８Ｂ・５８Ｒ・５８Ｇ・５８Ｂ・７８…被吐出部
１１１ＦＲ・１１１ＦＧ・１１１ＦＢ…フィルタ層
１３４…走査範囲
３０…エレクトロルミネッセンス表示装置
５０Ｂ…プラズマ表示装置の背面基板
５０…プラズマ表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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