(57)【要約】【課題】  ノズル間の吐出体積の誤差が被吐出部に蓄積されにくくすること。【解決手段】  吐出ヘッド部が第１の走査期間内に被吐出部に第１のノズルから液状の材料を吐出するとともに、第２の走査期間内に上記被吐出部に第２のノズルから液状の材料を吐出する。走査部は、第１の走査期間と第２の走査期間との間で、吐出ヘッド部およびステージの少なくとも一方を他方に対してＸ軸方向に相対移動させる。【選択図】  図１
2005230690.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ軸方向に分布した複数のノズルを有する吐出ヘッド部と、ステージと、を備えた吐出装置を用いて、基体に液状の材料を塗布する材料塗布方法であって、
被吐出部を有する前記基体を前記ステージ上に配置するステップ（Ａ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の相対ｘ座標を第１の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の相対位置を前記Ｘ軸方向にほぼ直交する第１方向に変化させるステップ（Ｂ）と、
前記複数のノズルのうち第１のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第１のノズルから前記被吐出部に前記液状の材料を吐出するステップ（Ｃ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標が第２の相対ｘ座標に一致するように、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記Ｘ軸方向に変化させるステップ（Ｄ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標を前記第２の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記第１方向の反対方向に変化させるステップ（Ｅ）と、
前記複数のノズルのうち第２のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第２のノズルから前記被吐出部に前記液状の材料を吐出するステップ（Ｆ）と、
を含んだ材料塗布方法。
【請求項２】
請求項１記載の材料塗布方法であって、
前記ステップ（Ｆ）の後で、前記ステージから前記基体を取り除くステップ（Ｇ）と、
第２の被吐出部を有する第２の基体を前記ステージ上で配置するステップ（Ｈ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標を前記第２の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記第１方向に変化させるステップ（Ｉ）と、
前記複数のノズルのうち第３のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第３のノズルから前記被吐出部に前記液状の材料を吐出するステップ（Ｊ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標が前記第１の相対ｘ座標に一致するように、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記Ｘ軸方向に変化させるステップ（Ｋ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標を前記第１の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記反対方向に変化させるステップ（Ｌ）と、
前記複数のノズルのうち第４のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第４のノズルから前記被吐出部に前記液状の材料を吐出するステップ（Ｍ）と、
をさらに含んだ材料塗布方法。
【請求項３】
Ｘ軸方向に分布した複数のノズルを有する吐出ヘッド部と、ステージと、を備えた吐出装置を用いたカラーフィルタ基板の製造方法であって、
被吐出部を有する前記基体を前記ステージ上に配置するステップ（Ａ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の相対ｘ座標を第１の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の相対位置を前記Ｘ軸方向にほぼ直交する第１方向に変化させるステップ（Ｂ）と、
前記複数のノズルのうち第１のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第１のノズルから前記被吐出部に前記液状のカラーフィルタ材料を吐出するステップ（Ｃ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標が第２の相対ｘ座標に一致するように、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記Ｘ軸方向に変化させるステップ（Ｄ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標を前記第２の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記第１方向の反対方向に変化させるステップ（Ｅ）と、
前記複数のノズルのうち第２のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第２のノズルから前記被吐出部に前記液状のカラーフィルタ材料を吐出するステップ（Ｆ）と、
を含んだカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項４】
請求項３記載のカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記ステップ（Ｆ）の後で、前記ステージから前記基体を取り除くステップ（Ｇ）と、
第２の被吐出部を有する第２の基体を前記ステージ上で配置するステップ（Ｈ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標を前記第２の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記第１方向に変化させるステップ（Ｉ）と、
前記複数のノズルのうち第３のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第３のノズルから前記被吐出部に前記液状のカラーフィルタ材料を吐出するステップ（Ｊ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標が前記第１の相対ｘ座標に一致するように、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記Ｘ軸方向に変化させるステップ（Ｋ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標を前記第１の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記反対方向に変化させるステップ（Ｌ）と、
前記複数のノズルのうち第４のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第４のノズルから前記被吐出部に前記液状のカラーフィルタ材料を吐出するステップ（Ｍ）と、
をさらに含んだカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項５】
Ｘ軸方向に分布した複数のノズルを有する吐出ヘッド部と、ステージと、を備えた吐出装置を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、
被吐出部を有する前記基体を前記ステージ上に配置するステップ（Ａ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の相対ｘ座標を第１の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の相対位置を前記Ｘ軸方向にほぼ直交する第１方向に変化させるステップ（Ｂ）と、
前記複数のノズルのうち第１のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第１のノズルから前記被吐出部に前記液状の発光材料を吐出するステップ（Ｃ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標が第２の相対ｘ座標に一致するように、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記Ｘ軸方向に変化させるステップ（Ｄ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標を前記第２の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記第１方向の反対方向に変化させるステップ（Ｅ）と、
前記複数のノズルのうち第２のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第２のノズルから前記被吐出部に前記液状の発光材料を吐出するステップ（Ｆ）と、
を含んだエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【請求項６】
請求項５記載のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、
前記ステップ（Ｆ）の後で、前記ステージから前記基体を取り除くステップ（Ｇ）と、
第２の被吐出部を有する第２の基体を前記ステージ上で配置するステップ（Ｈ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標を前記第２の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記第１方向に変化させるステップ（Ｉ）と、
前記複数のノズルのうち第３のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第３のノズルから前記被吐出部に前記液状の発光材料を吐出するステップ（Ｊ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標が前記第１の相対ｘ座標に一致するように、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記Ｘ軸方向に変化させるステップ（Ｋ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標を前記第１の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記反対方向に変化させるステップ（Ｌ）と、
前記複数のノズルのうち第４のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第４のノズルから前記被吐出部に前記液状の発光材料を吐出するステップ（Ｍ）と、
をさらに含んだエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【請求項７】
Ｘ軸方向に分布した複数のノズルを有する吐出ヘッド部と、ステージと、を備えた吐出装置を用いたプラズマ表示装置の製造方法であって、
被吐出部を有する前記基体を前記ステージ上に配置するステップ（Ａ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の相対ｘ座標を第１の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の相対位置を前記Ｘ軸方向にほぼ直交する第１方向に変化させるステップ（Ｂ）と、
前記複数のノズルのうち第１のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第１のノズルから前記被吐出部に前記液状の蛍光材料を吐出するステップ（Ｃ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標が第２の相対ｘ座標に一致するように、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記Ｘ軸方向に変化させるステップ（Ｄ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標を前記第２の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記第１方向の反対方向に変化させるステップ（Ｅ）と、
前記複数のノズルのうち第２のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第２のノズルから前記被吐出部に前記液状の蛍光材料を吐出するステップ（Ｆ）と、
を含んだプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項８】
請求項７記載のプラズマ表示装置の製造方法であって、
前記ステップ（Ｆ）の後で、前記ステージから前記基体を取り除くステップ（Ｇ）と、
第２の被吐出部を有する第２の基体を前記ステージ上で配置するステップ（Ｈ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標を前記第２の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記第１方向に変化させるステップ（Ｉ）と、
前記複数のノズルのうち第３のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第３のノズルから前記被吐出部に前記液状の蛍光材料を吐出するステップ（Ｊ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標が前記第１の相対ｘ座標に一致するように、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記Ｘ軸方向に変化させるステップ（Ｋ）と、
前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標を前記第１の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記反対方向に変化させるステップ（Ｌ）と、
前記複数のノズルのうち第４のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第４のノズルから前記被吐出部に前記液状の蛍光材料を吐出するステップ（Ｍ）と、
をさらに含んだプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項９】
Ｘ軸方向に分布した第１のノズルおよび第２のノズルを有する吐出ヘッド部と、
被吐出部を有する基体を載せるステージと、
第１の走査期間内および第２の走査期間内のそれぞれの期間に亘って、前記吐出ヘッド部および前記ステージの少なくとも一方を他方に対して、前記Ｘ軸方向にほぼ直交するＹ軸方向に相対移動させる走査部と、
を備えた吐出装置であって、
前記吐出ヘッド部が前記第１の走査期間内に前記被吐出部に前記第１のノズルから液状の材料を吐出するとともに、前記第２の走査期間内に前記被吐出部に前記第２のノズルから前記液状の材料を吐出するように、前記走査部は、前記第１の走査期間と前記第２の走査期間との間で、前記吐出ヘッド部および前記ステージの少なくとも一方を他方に対して前記Ｘ軸方向に相対移動させる、
吐出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、吐出装置および材料塗布方法に関し、特にカラーフィルタ基板の製造、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造、およびプラズマ表示装置の製造に好適な吐出装置および材料塗布方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルタ、エレクトロルミネッセンス表示装置などの製造に用いられるインクジェット装置が知られている（例えば特許文献１）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−２２１６１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
表示装置の大型化に伴ない、被吐出部（例えばカラーフィルタエレメントが塗布されるべき部位）が大きくなる。被吐出部が大きくなると、一つの被吐出部に対して、１つのノズルが材料を吐出する回数が多くなる。ところで、インクジェットヘッドの製造時の誤差等によって、１回の吐出によって吐出される材料の体積がノズル毎にわずかに異なっている場合がある。このような場合に、１つの被吐出部に対して同じノズルから複数回液状の材料を吐出すると、塗布された材料の総体積が被吐出部毎に大きく異なり得る。
【０００５】
本発明は上記課題を鑑みてなされたものであり、その目的の一つは、ノズル間の吐出体積の誤差が被吐出部に蓄積されにくくすることである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の材料塗布方法は、Ｘ軸方向に分布した複数のノズルを有する吐出ヘッド部と、ステージと、を備えた吐出装置を用いて、基体に液状の材料を塗布する材料塗布方法である。上記材料塗布方法は、被吐出部を有する前記基体を前記ステージ上に配置するステップ（Ａ）と、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の相対ｘ座標を第１の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の相対位置を前記Ｘ軸方向にほぼ直交する第１方向に変化させるステップ（Ｂ）と、前記複数のノズルのうち第１のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第１のノズルから前記被吐出部に前記液状の材料を吐出するステップ（Ｃ）と、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標が第２の相対ｘ座標に一致するように、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記Ｘ軸方向に変化させるステップ（Ｄ）と、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標を前記第２の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記第１方向の反対方向に変化させるステップ（Ｅ）と、前記複数のノズルのうち第２のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第２のノズルから前記被吐出部に前記液状の材料を吐出するステップ（Ｆ）と、を含んでいる。
【０００７】
上記構成によって得られる効果の一つは、ノズルからの１回の吐出によって吐出される材料の体積がノズル毎に異なっていても、体積のバラツキが１つの被吐出部に蓄積されにくいことである。
【０００８】
本発明のある態様によると、上記材料塗布方法はさらに、前記ステップ（Ｆ）の後で、前記ステージから前記基体を取り除くステップ（Ｇ）と、第２の被吐出部を有する第２の基体を前記ステージ上で配置するステップ（Ｈ）と、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標を前記第２の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記第１方向に変化させるステップ（Ｉ）と、前記複数のノズルのうち第３のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第３のノズルから前記被吐出部に前記液状の材料を吐出するステップ（Ｊ）と、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標が前記第１の相対ｘ座標に一致するように、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記Ｘ軸方向に変化させるステップ（Ｋ）と、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対ｘ座標を前記第１の相対ｘ座標に維持したまま、前記ステージに対する前記吐出ヘッド部の前記相対位置を前記反対方向に変化させるステップ（Ｌ）と、前記複数のノズルのうち第４のノズルが前記被吐出部に対応する領域に達した場合に、前記第４のノズルから前記被吐出部に前記液状の材料を吐出するステップ（Ｍ）と、を含んでいる。
【０００９】
上記構成によって得られる効果の一つは、吐出装置によって引き続いて材料が塗布されるべき複数の基体のそれぞれに対して、２回以上の走査期間をかけて塗布走査を行う場合に、吐出ヘッド部またはステージを移動させる回数を減少できることである。
【００１０】
本発明は、種々態様で実現することが可能であり、例えば、カラーフィルタ基板の製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法、プラズマ表示装置の製造方法などの態様で実現することができる。
【００１１】
本発明の吐出装置は、Ｘ軸方向に分布した第１のノズルおよび第２のノズルを有する吐出ヘッド部と、被吐出部を有する基体を載せるステージと、第１の走査期間内および第２の走査期間内のそれぞれの期間に亘って、前記吐出ヘッド部および前記ステージの少なくとも一方を他方に対して、前記Ｘ軸方向にほぼ直交するＹ軸方向に相対移動させる走査部と、を備えている。そして、前記吐出ヘッド部が前記第１の走査期間内に前記被吐出部に前記第１のノズルから液状の材料を吐出するとともに、前記第２の走査期間内に前記被吐出部に前記第２のノズルから前記液状の材料を吐出するように、前記走査部は、前記第１の走査期間と前記第２の走査期間との間で、前記吐出ヘッド部および前記ステージの少なくとも一方を他方に対して前記Ｘ軸方向に相対移動させる。
【００１２】
上記構成によって得られる効果の一つは、ノズルからの１回の吐出によって吐出される材料の体積がノズル毎に異なっていても、体積のバラツキが１つの被吐出部に蓄積されにくいことである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
（実施形態１）
（Ａ．吐出装置１００Ｒの全体構成）
図１の吐出装置１００Ｒは、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを保持するタンク１０１Ｒと、チューブ１１０Ｒと、チューブ１１０Ｒを介してタンク１０１Ｒから液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備えた材料塗布装置である。そして、吐出走査部１０２は、グランドステージＧＳと、吐出ヘッド部１０３と、第１位置制御装置１０４と、ステージ１０６と、第２位置制御装置１０８と、制御部１１２と、を備えている。
【００１４】
吐出ヘッド部１０３は、ステージ１０６側に液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する複数のヘッド１１４（図２）を保持している。これら複数のヘッド１１４のそれぞれは、制御部１１２からの信号に応じて、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴を吐出する。そして、タンク１０１Ｒと、吐出ヘッド部１０３における複数のヘッド１１４とは、チューブ１１０Ｒで連結されており、タンク１０１Ｒから複数のヘッド１１４のそれぞれに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される。
【００１５】
ここで、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒは、本発明の「液状の材料」に対応する。「液状の材料」とは、ヘッド１１４のノズル（後述）から液滴として吐出可能な粘度を有する材料をいう。この場合、材料が水性であると油性であるとを問わない。ノズルから吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。
【００１６】
第１位置制御装置１０４は、制御部１１２からの信号に応じて、吐出ヘッド部１０３をＸ軸方向、およびＸ軸方向に直交するＺ軸方向に沿って移動させる。さらに、第１位置制御装置１０４は、Ｚ軸に平行な軸の回りで吐出ヘッド部１０３を回転させる機能も有する。本実施形態では、Ｚ軸方向は、鉛直方向（つまり重力加速度の方向）に平行な方向である。
【００１７】
具体的には、第１位置制御装置１０４は、Ｘ軸方向に延びる一対のリニアモータと、Ｘ軸方向に延びる一対のＸ軸ガイドレールと、Ｘ軸エアスライダと、回動部と、支持構造体１４と、を備えている。支持構造体１４は、これら一対のリニアモータと、一対のＸ軸ガイドレールと、一対のＸ軸エアスライダと、回動部とを、ステージ１０６からＺ軸方向に所定距離だけ離れた位置に固定している。一方、Ｘ軸エアスライダは、一対のＸ軸ガイドレールに移動可能に支持されている。そして、Ｘ軸エアスライダは、一対のリニアモータの働きによって、一対のＸ軸ガイドレールに沿ってＸ軸方向に移動する。吐出ヘッド部１０３は回動部を介してＸ軸エアスライダと連結されているので、吐出ヘッド部１０３は、Ｘ軸エアスライダとともにＸ軸方向に移動する。なお、吐出ヘッド部１０３は、吐出ヘッド部１０３におけるノズル（後述）がステージ１０６側を向くように、Ｘ軸エアスライダに支持されている。なお、回動部はサーボモータを有しており、吐出ヘッド部１０３をＺ軸に平行な軸の回りで回転させる機能を有する。
【００１８】
第２位置制御装置１０８は、制御部１１２からの信号に応じて、Ｘ軸方向およびＺ軸方向の双方に直交するＹ軸方向に沿ってステージ１０６を移動させる。さらに、第２位置制御装置１０８は、Ｚ軸に平行な軸の回りでステージ１０６を回転させる機能も有する。具体的には、第２位置制御装置１０８は、Ｙ軸方向に延びる一対のリニアモータと、Ｙ軸方向に延びる一対のＹ軸ガイドレールと、Ｙ軸エアスライダと、支持ベースと、θテーブルと、を備えている。一対のリニアモータおよび一対のＹ軸ガイドレールは、グランドステージＧＳ上に位置している。一方、Ｙ軸エアスライダは、一対のＹ軸ガイドレールに移動可能に支持されている。そして、Ｙ軸エアスライダは、一対のリニアモータの働きによって、一対のＹ軸ガイドレールに沿ってＹ軸方向に移動する。Ｙ軸エアスライダは、支持ベースおよびθテーブルを介してステージ１０６の裏面に連結されているので、ステージ１０６は、Ｙ軸エアスライダとともにＹ軸方向に移動する。なお、θテーブルはモータを有しており、ステージ１０６をＺ軸に平行な軸の回りで回転させる機能を有する。
【００１９】
なお、本明細書では、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８を、「走査部」とも表記する。
【００２０】
本実施形態におけるＸ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向は、吐出ヘッド部１０３およびステージ１０６のどちらか一方が他方に対して相対移動する方向に一致している。また、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向を規定するＸＹＺ座標系の仮想的な原点は、吐出装置１００Ｒの基準部分に固定されている。本明細書において、Ｘ座標、Ｙ座標、およびＺ座標とは、このようなＸＹＺ座標系における座標である。なお、上記の仮想的な原点は、基準部分だけでなく、ステージ１０６に固定されていてもよいし、吐出ヘッド部１０３に固定されていてもよい。
【００２１】
上述のように、吐出ヘッド部１０３は第１位置制御装置１０４によってＸ軸方向に移動させられる。一方、ステージ１０６は第２位置制御装置１０８によってＹ軸方向に移動させられる。つまり、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８によって、ステージ１０６に対するヘッド１１４の相対位置が変わる。より具体的には、これらの動作によって、吐出ヘッド部１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８（図２）は、ステージ１０６上で位置決めされた被吐出部に対して、Ｚ軸方向に所定の距離を保ちながら、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に相対的に移動、すなわち相対的に走査する。ここで、静止した被吐出部に対して吐出ヘッド部１０３がＹ軸方向に移動してもよい。そして吐出ヘッド部１０３がＹ軸方向に沿って所定の２点間を移動する期間内に、静止した被吐出部に対してノズル１１８（図２）からカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出してもよい。「相対移動」または「相対走査」とは、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する側と、そこからの吐出物が着弾する側（被吐出部側）の少なくとも一方を他方に対して移動することを含む。
【００２２】
さらに、吐出ヘッド部１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８（図２）が相対移動するとは、ステージ、基体、または被吐出部に対するこれらの相対位置が変わることである。このため、本明細書では、吐出ヘッド部１０３、ヘッド群１１４Ｇ、ヘッド１１４、またはノズル１１８が吐出装置１００Ｒに対して静止して、ステージ１０６のみが移動する場合であっても、吐出ヘッド部１０３、ヘッド群１１４Ｇ、ヘッド１１４、またはノズル１１８が、ステージ１０６、基体、または被吐出部に対して相対移動すると表記する。また、相対走査または相対移動と、材料の吐出と、の組合せを指して「塗布走査」と表記することもある。
【００２３】
吐出ヘッド部１０３およびステージ１０６は上記以外の平行移動および回転の自由度をさらに有している。ただし、本実施形態では、上記自由度以外の自由度に関する記載は説明を平易にする目的で省略されている。
【００２４】
制御部１１２は、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出すべき相対位置を表す吐出データを外部情報処理装置から受け取るように構成されている。制御部１１２の詳細な構成および機能は、後述する。
【００２５】
（Ｂ．ヘッド）
図２に示すヘッド１１４は、吐出ヘッド部１０３が有する複数のヘッド１１４の一つである。図２は、ステージ１０６側からヘッド１１４を眺めた図であり、ヘッド１１４の底面を示している。ヘッド１１４は、Ｘ軸方向に延びるノズル列１１６を有している。ノズル列１１６は、Ｘ軸方向にほぼ均等に並んだ複数のノズル１１８からなる。これら複数のノズル１１８は、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰが約７０μｍとなるように配置されている。ここで、「ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰ」は、ヘッド１１４におけるノズル１１８のすべてを、Ｘ軸方向に直交する方向からＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。
【００２６】
ノズル列１１６におけるノズル１１８の数は１８０個である。ただし、ノズル列１１６の両端のそれぞれ１０ノズルは「休止ノズル」として設定されている。そして、これら２０個の「休止ノズル」からは液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されない。このため、ヘッド１１４における１８０個のノズル１１８のうち、１６０個のノズル１１８が液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するノズル１１８として機能する。本明細書では、これら１６０個のノズル１１８を「吐出ノズル１１８Ｔ」と表記することもある。
【００２７】
なお、１つのヘッド１１４におけるノズル１１８の数は、１８０個に限定されない。１つのヘッド１１４に３６０個のノズルが設けられていてもよい。
【００２８】
図３（ａ）および（ｂ）に示すように、それぞれのヘッド１１４は、インクジェットヘッドである。より具体的には、それぞれのヘッド１１４は、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、を備えている。振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、２つのタンク１０１Ｒ（図１）から孔１３１を介して供給される液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが常に充填される液たまり１２９が位置している。
【００２９】
また、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、複数の隔壁１２２が位置している。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、１対の隔壁１２２と、によって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、１対の隔壁１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される。
【００３０】
振動板１２６上には、それぞれのキャビティ１２０に対応して、振動子１２４が位置する。振動子１２４は、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂと、を含む。この１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂの間に駆動電圧を与えることで、対応するノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。なお、ノズル１１８からＺ軸方向に液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されるように、ノズル１１８の形状が調整されている。
【００３１】
ここで、本明細書において「液状の材料」とは、ノズルから吐出可能な粘度を有する材料をいう。この場合、材料が水性であると油性であるとを問わない。ノズルから吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。
【００３２】
制御部１１２（図１）は、複数の振動子１２４のそれぞれに互いに独立に信号を与えるように構成されていてもよい。つまり、ノズル１１８から吐出される液状の材料の体積が、制御部１１２からの信号に応じてノズル１１８毎に制御されてもよい。そのような場合には、ノズル１１８のそれぞれから吐出される液状の材料の体積は、０ｐｌ〜４２ｐｌ（ピコリットル）の間で可変にしてもよい。また、制御部１１２は、後述するように、塗布走査の間に吐出動作を行うノズル１１８と、吐出動作を行わないノズル１１８と、を設定することでもできる。
【００３３】
本明細書では、１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティ１２０に対応する振動子１２４と、を含んだ部分を「吐出部１２７」と表記することもある。この表記によれば、１つのヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の吐出部１２７を有する。吐出部１２７は、ピエゾ素子の代わりに電気熱変換素子を有してもよい。つまり、吐出部１２７は、電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して材料を吐出する構成を有していてもよい。
【００３４】
（Ｃ．吐出ヘッド部）
図４は、吐出ヘッド部１０３をステージ１０６側から観察した図であり、図４の紙面に垂直な方向がＺ軸方向である。また、図４の紙面の上下方向がＸ軸方向であり、紙面の左右方向がＹ軸方向である。
【００３５】
図４に示すように、吐出ヘッド部１０３は、それぞれほぼ同じ構造を有する複数のヘッド群１１４Ｇを保持している。本実施例では、吐出ヘッド部１０３に保持されるヘッド群１１４Ｇの数は２０個である。２０個のヘッド群１１４Ｇは、Ｘ軸方向に延びる２つの列を構成している。なお、以下で説明するように、それぞれのヘッド群１１４Ｇは、Ｙ軸方向に隣合う４つのヘッド１１４からなる。
【００３６】
図５に示すように、それぞれのヘッド群１１４Ｇは、Ｙ軸方向に隣合う４つのヘッド１１４からなる。そして、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰが、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰの１／４倍の長さとなるように、ヘッド群１１４において４つのヘッド１１４が配置されている。より具体的には、ヘッド群１１４Ｇにおいて、１つのヘッド１１４の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標に対して、他のヘッド１１４の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標が、ノズルピッチＨＸＰのｊ／４倍の長さだけ、Ｘ軸方向に重複無くずれて位置している。ここで、ｊは１から３までの自然数である。このため、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰは、ノズルピッチＨＸＰの１／４倍である。
【００３７】
本実施形態では、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰは約７０μｍだから、ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰは、その１／４倍の約１７．５μｍである。ここで、「ヘッド群１１４ＧのＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰ」は、ヘッド群１１４Ｇにおけるノズル１１８のすべてを、Ｘ軸方向に直交する方向からＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。
【００３８】
もちろん、ヘッド群１１４Ｇが含むヘッド１１４の数は、４つだけに限定されない。ヘッド群１１４ＧはＮ個のヘッド１１４からなってもよい。ここで、Ｎは２以上の自然数である。ヘッド群１１４ＧがＮ個のヘッド１１４からなる場合には、ノズルピッチＧＸＰがノズルピッチＨＸＰの１／Ｎ倍の長さになるように、ヘッド群１１４ＧにおいてＮ個のヘッド１１４が配置されればよい。あるいは、Ｎ個のヘッド１１４の一つにおける第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標に対して、他の（Ｎ−１）個のヘッド１１４における基準ノズル１１８のＸ座標が、ノズルピッチＨＸＰのｊ／Ｎ倍の長さだけ重複無くずれていればよい。なお、この場合には、ｊは１から（Ｎ−１）までの自然数である。
【００３９】
以下では、本実施形態のヘッド１１４の相対位置関係をより具体的に説明する。
【００４０】
まず、説明を平易にする目的で、図５の最も左側のヘッド群１１４Ｇに含まれる４つのヘッド１１４を、上からそれぞれヘッド１１４１、ヘッド１１４２、ヘッド１１４３、ヘッド１１４４と表記する。同様に、図８および図９の左から２番目のヘッド群１１４Ｇに含まれる４つのヘッド１１４を、上からそれぞれヘッド１１４５、ヘッド１１４６、ヘッド１１４７、ヘッド１１４８と表記する。
【００４１】
そして図５に示すように、ヘッド１１４１におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列１Ａ、１Ｂと表記し、ヘッド１１４２におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列２Ａ、２Ｂと表記し、ヘッド１１４３におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列３Ａ、３Ｂと表記し、ヘッド１１４４におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列４Ａ、４Ｂと表記する。同様に、ヘッド１１４５におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列５Ａ、５Ｂと表記し、ヘッド１１４６におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列６Ａ、６Ｂと表記し、ヘッド１１４７におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列７Ａ、７Ｂと表記し、ヘッド１１４８におけるノズル列１１６Ａ、１１６Ｂをノズル列８Ａ、８Ｂと表記する。
【００４２】
これらノズル列１Ａ〜８Ｂのそれぞれは、実際には９０個のノズル１１８からなる。そして、上述したように、ノズル列１Ａ〜８Ｂのそれぞれにおいて、これら９０個のノズルは、Ｘ軸方向に並んでいる。ただし、図５では説明の便宜上、ノズル列１Ａ〜８Ｂのそれぞれが、４つの吐出ノズル１１８Ｔ（ノズル１１８）からなるように描かれている。さらに、図５では、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１であり、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４２の第１の基準ノズル１１８Ｒ１であり、ノズル列３Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４３の第１の基準ノズル１１８Ｒ１であり、ノズル列４Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４４の第１の基準ノズル１１８Ｒ１であり、ノズル列５Ａの最も左のノズル１１８がヘッド１１４５の第１の基準ノズル１１８Ｒ１である。なお図５の左方向は、Ｘ軸方向の負の方向である。
【００４３】
ヘッド１１４１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標と、ヘッド１１４２の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標との差の絶対値は、ノズルピッチＬＮＰの１／４倍の長さ、すなわちノズルピッチＨＸＰの１／２倍の長さ、である。図５の例では、ヘッド１１４１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッド１１４２の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの１／４倍の長さだけＸ軸方向の負の方向（図５の左方向）にずれている。ただし、ヘッド１１４１がヘッド１１４２に対してずれる方向は、Ｘ軸方向の正の方向（図５の右方向）であってもよい。
【００４４】
ヘッド１１４３の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標と、ヘッド１１４４の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標との差の絶対値は、ノズルピッチＬＮＰの１／４倍の長さ、すなわちノズルピッチＨＸＰの１／２倍の長さ、である。図５の例では、ヘッド１１４３の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッド１１４４の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの１／４倍の長さだけＸ軸方向の負の方向（図５の左方向）にずれている。ただし、ヘッド１１４３がヘッド１１４４に対してずれる方向は、Ｘ軸方向の正の方向（図５の右方向）であってもよい。
【００４５】
ヘッド１１４２の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標と、ヘッド１１４３の第１の基準ノズル１１８Ｒ１のＸ座標との差の絶対値は、ノズルピッチＬＮＰの１／８倍または３／８倍の長さ、すなわちノズルピッチＨＸＰの１／４倍または３／４倍の長さ、である。図５の例では、ヘッド１１４２の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッド１１４３の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置に対して、ノズルピッチＬＮＰの１／８、すなわち１７．５μｍだけＸ軸方向の正の方向（図５の右方向）にずれている。ただし、ヘッド１１４２がヘッド１１４３に対してずれる方向は、Ｘ軸方向の負の方向（図５）であってもよい。
【００４６】
本実施形態では、Ｙ軸方向の負の方向（図面の下方向）に向かって、ヘッド１１４１、１１４２、１１４３、１１４４が、この順番で並んでいる。しかしながら、Ｙ軸方向に並んだこれら４つのヘッド１１４の順番は、本実施形態の順番でなくてもよい。具体的には、ヘッド１１４１とヘッド１１４２とが、Ｙ軸方向に隣合うとともに、ヘッド１１４３とヘッド１１４４とがＹ軸方向に隣合っていればよい。
【００４７】
上記配置によって、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標とノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標との間に、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列３Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列４Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、が収まる。同様に、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標とノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８のＸ座標との間に、ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列３Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列４Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、が収まる。ノズル列１Ａの他のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列１Ｂの他のノズル１１８のＸ座標と、の間にも、同様にノズル列２Ａ（または２Ｂ）のノズル１１８のＸ座標、ノズル列３Ａ（または３Ｂ）のノズル１１８のＸ座標、ノズル列４Ａ（または４Ｂ）のノズル１１８のＸ座標が収まる。
【００４８】
より具体的には、上記のヘッドの配置によって、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。そして、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列３Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列３Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列４Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列２Ａの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。ノズル列４Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標は、ノズル列１Ａの左から２番目のノズル１１８のＸ座標と、ノズル列２Ｂの最も左のノズル１１８のＸ座標と、の中間にほぼ一致する。
【００４９】
図５の左から２番目のヘッド群１１４Ｇにおけるヘッド１１４５、１１４６、１１４７、１１４８の配置、つまりコンフィギュレーションも、ヘッド１１４１、１１４２、１１４３、１１４４の配置と同様である。
【００５０】
次に、Ｘ軸方向に隣合う２つのヘッド群１１４Ｇの間の相対位置関係を、ヘッド１１４５とヘッド１１４１との間の相対位置関係に基づいて説明する。
【００５１】
ヘッド１１４５の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッド１１４１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置から、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰと、ヘッド１１４における吐出ノズル１１８Ｔの数と、の積の長さだけＸ軸方向の正の方向にずれている。本実施形態では、ノズルピッチＨＸＰは約７０μｍであるとともに、１つのヘッド１１４における吐出ノズル１１８Ｔの数は１６０個なので、ヘッド１１４５の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置は、ヘッド１１４１の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置から１１．２ｍｍ（７０μｍ×１６０）だけＸ軸方向の正の方向にずれている。ただし、図８および図９では、説明の便宜上、ヘッド１１４１における吐出ノズル１１８Ｔの数は８個なので、ヘッド１１４５の第１の基準ノズル１１８Ｒ１の位置が、ヘッド１１４１の基準ノズル１１４１の位置から５６０μｍ（７０μｍ×８）だけずれているように描かれている。
【００５２】
ヘッド１１４１とヘッド１１４５とが上述のように配置されているので、ノズル列１Ａの最も右の吐出ノズル１１８ＴのＸ座標と、ノズル列５Ａの最も左の吐出ノズル１１８ＴのＸ座標とは、ノズルピッチＬＮＰだけずれている。このため、２つのヘッド１１４Ｇ全体のＸ軸方向のノズルピッチは、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰの１／４倍である。
【００５３】
吐出ヘッド部１０３における他のヘッド群１１４Ｇにおいても、４つのヘッド１１４の相対位置関係は、上記と同じ相対位置関係である。また、Ｘ軸方向に隣合う他の２つのヘッド群の相対位置関係も、上記２つのヘッド群間の相対位置関係と同じである。
【００５４】
さらに、吐出ノズル１１８Ｔは、ノズル分布範囲ＥＸＴ（図４）において、Ｘ軸方向のノズルピッチがノズルピッチＨＸＰのほぼ１／４倍の長さ、つまり１７．５μｍとなるように、分布している。ここで「ノズル分布範囲ＥＸＴ」とは、本実施形態では、Ｘ軸方向に沿った範囲であって、吐出ヘッド部１０３において最も外側に位置する２つの吐出ノズル１１８Ｔの間で規定される範囲である。ただし、ノズル分布範囲ＥＸＴには、これら最も外側に位置する２つの吐出ノズル１１８Ｔも含まれる。また、後述する基体１０Ａ上の複数の被吐出部１８Ｒが形成するマトリクスのＸ軸方向の長さは、ノズル分布範囲ＥＸＴの長さよりも短い。
【００５５】
（Ｄ．制御部）
次に、制御部１１２の構成を説明する。図６に示すように、制御部１１２は、入力バッファメモリ２００と、記憶手段２０２と、処理部２０４と、走査駆動部２０６と、ヘッド駆動部２０８と、を備えている。バッファメモリ２０２と処理部２０４とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と記憶手段２０２とは、相互に通信可能に接続されている。処理部２０４と走査駆動部２０６とは相互に通信可能に接続されている。処理部２０４とヘッド駆動部２０８とは相互に通信可能に接続されている。また、走査駆動部２０６は、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８と相互に通信可能に接続されている。同様にヘッド駆動部２０８は、複数のヘッド１１４のそれぞれと相互に通信可能に接続されている。
【００５６】
入力バッファメモリ２００は、吐出装置１００Ｒの外部に位置するホストコンピュータ（不図示）から、カラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するための吐出データを受け取る。入力バッファメモリ２００は、吐出データを処理部２０４に供給し、処理部２０４は吐出データを記憶手段２０２に格納する。図６では、記憶手段２０２はＲＡＭである。なお、吐出装置１００Ｒは、外部のホストコンピュータの機能を果たすコンピュータを制御部１１２内に有してもよい。
【００５７】
処理部２０４は、記憶手段２０２内の吐出データに基づいて、被吐出部に対するノズル１１８の相対位置を示すデータを走査駆動部２０６に与える。走査駆動部２０６はこのデータと、吐出周期と、に応じた駆動信号を第２位置制御装置１０８に与える。この結果、被吐出部に対してヘッド１１４が相対走査する。一方、処理部２０４は、記憶手段２０２に記憶された吐出データに基づいて、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出に必要な吐出信号を複数のヘッド１１４のそれぞれに与える。この結果、複数のヘッド１１４のそれぞれにおけるノズル１１８から、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄ（図３）が吐出される。
【００５８】
制御部１１２は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、バスを含んだコンピュータであってもよい。この場合には、制御部１１２の上記機能は、コンピュータによって実行されるソフトウェアプログラムによって実現される。もちろん、制御部１１２は、専用の回路（ハードウェア）によって実現されてもよい。
【００５９】
（Ｅ．カラーフィルタ基板）
図７（ａ）および（ｂ）に示す基体１０Ａは、実施形態２において説明する製造装置１による処理を経て、カラーフィルタ基板１０となる基板である。基体１０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂを有する。
【００６０】
具体的には、基体１０Ａは、光透過性を有する支持基板１２と、支持基板１２上に形成されたブラックマトリクス１４と、ブラックマトリクス１４上に形成されたバンク１６と、を含む。ブラックマトリクス１４は遮光性を有する材料で形成されている。そして、ブラックマトリクス１４とブラックマトリクス１４上のバンク１６とは、支持基板１２上にマトリクス状の複数の光透過部分、すなわちマトリクス状の複数の画素領域、が規定されるように位置している。
【００６１】
それぞれの画素領域において、支持基板１２、ブラックマトリクス１４、およびバンク１６で規定される凹部は、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、被吐出部１８Ｂに対応する。被吐出部１８Ｒは、赤の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｇは、緑の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｂは、青の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＢが形成されるべき領域である。
【００６２】
図７（ｂ）に示す基体１０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体１０Ａにおいて、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、および被吐出部１８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部１８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部１８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、そして、被吐出部１８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【００６３】
被吐出部１８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部１８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＧＹと同じであり、被吐出部１８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＢＹとも同じである。また、被吐出部１８Ｒの平面像は、長辺と短辺とで決まる多角形である。具体的には、被吐出部１８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部１８Ｇおよび被吐出部１８Ｂも被吐出部１８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【００６４】
（Ｆ．塗布工程）
以下で、吐出装置１００Ｒを用いて基体１０Ａの被吐出部１８Ｒに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する工程を説明する。
【００６５】
（Ｆ１．第１の基体１０Ａへの塗布工程）
図８に示すように、被吐出部１８Ｒを有する第１の基体１０Ａをステージ１０６上に配置する。具体的には、複数の被吐出部１８Ｒが形成するマトリクスの行方向および列方向が、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向に平行になるように、基板１０Ａをステージ１０６上に配置する。本実施形態では、さらにこの際、それぞれの被吐出部１８Ｒの長辺方向がＸ軸方向に平行になり、かつ短辺方向がＹ軸方向に平行になるように、基板１０Ａがステージ１０６上で配向される。
【００６６】
図８に示すように、ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標は、ｘ１に維持されている。ここで、「ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標」とは、ステージ１０６に固定された内部座標系におけるｘ座標である。この内部座標系のｘ軸、ｙ軸、およびｚ軸の方向は、それぞれ先に定義したＸ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向にそれぞれ一致している。また、「吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標」とは、吐出ヘッド部１０３における所定の基準点の相対ｘ座標である。例えば「吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標」は、ある一つのヘッド１１４における第１の基準ノズル１１８Ｒ１の相対ｘ座標で表されてもよい。
【００６７】
吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標がｘ１に一致する場合には、被吐出部１８ＲのＸ座標範囲内に、少なくとも１つの吐出ノズル１１８Ｔが位置する。ここで「被吐出部１８ＲのＸ座標範囲」とは、Ｘ軸方向に沿った被吐出部１８Ｒの端から端までの範囲である。本実施形態では、「被吐出部１８ＲのＸ座標範囲」の長さは被吐出部１８Ｒの長辺の長さに実質的に等しい。また、本実施形態では、被吐出部１８ＲのＸ座標範囲の長さがほぼ３００μｍであり、吐出ヘッド部１０３のＸ軸方向のノズルピッチＧＸＰがほぼ１７．５μｍであるので、１つの被吐出部１８Ｒに１６個の吐出ノズル１１８Ｔが対応する。このような１６個の吐出ノズル１１８Ｔは、ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対位置がＹ軸方向に変化することで、被吐出部１８Ｒに対応する領域に達する（例えば被吐出部１８Ｒに重なる）ことができる。ただし、ここでは、１６個の吐出ノズル１１８Ｔのうち、５つの吐出ノズル１１８Ｔを被吐出部１８Ｒへの吐出のために用いる。
【００６８】
以下では、吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標がｘ１である場合に、被吐出部１８Ｒに対して吐出を行う吐出ノズル１１８Ｔを「第１のノズル」とも表記する。
【００６９】
次に図８に示すように、制御部１１２は、第２位置制御装置１０８を駆動することで、吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標をｘ１に維持したまま、ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対位置をＹ軸方向の正の方向（図９の右方向）に変化させる。このことによって、吐出ヘッド部１０３は走査範囲１３４（図３３）の一端から他端まで１回だけ相対移動する。本明細書では、吐出ヘッド部１０３が、走査範囲の一端から他端、または他端から一端まで１回だけ相対移動する期間を「走査期間」あるいは「１パスの期間」とも表記する。
【００７０】
ここで、「走査範囲１３４」とは、図３３に示すように、基体１０Ａ上のすべての被吐出部１８Ｒに材料を塗布するために、吐出ヘッド部１０３の一辺がステージ１０６に対して相対移動する範囲を意味する。このため、走査範囲１３４によってすべての被吐出部１８Ｒが覆われている。本実施形態では、吐出ヘッド部１０３は、走査範囲１３４を１回の走査期間内に移動する。
【００７１】
なお、場合によって用語「走査範囲」は、ステージ１０６に対して１つのノズル１１８（図２）が相対移動する範囲を意味することもあるし、１つのノズル列１１６Ａ（１１６Ｂ）（図２）が相対移動する範囲を意味することもあるし、１つのヘッド１１４（図２）が相対移動する範囲を意味することもある。
【００７２】
さらに、ステージ１０６に対して、吐出ヘッド部１０３、ヘッド群１１４Ｇ（図４）、ヘッド１１４（図２）、またはノズル１１８（図２）が相対移動するとは、ステージ１０６、基体１０Ａ、または被吐出部１８Ｒに対するこれらの相対位置が変わることを意味する。このため、本明細書では、吐出ヘッド部１０３、ヘッド群１１４Ｇ、ヘッド１１４、またはノズル１１８が吐出装置１００Ｒに対して静止するとともに、ステージ１０６のみが移動する場合であっても、吐出ヘッド部１０３、ヘッド群１１４Ｇ、ヘッド１１４、またはノズル１１８が、ステージ１０６、基体１０Ａ、または被吐出部１８Ｒに対して相対移動すると表記する。また、相対走査または相対移動と、材料の吐出と、の組合せを指して「塗布走査」と表記することもある。
【００７３】
吐出ヘッド部１０３がＹ軸方向の正の方向へ相対移動することによって、５つの吐出ノズル１１８Ｔ（第１のノズル）が被吐出部１８Ｒに対応する領域に達した場合には、吐出ヘッド部１０３は、それら５つの吐出ノズル１１８Ｔ（第１のノズル）から、その被吐出部１８Ｒに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄ（図３）を吐出する。このようにして、吐出装置１００Ｒは、Ｙ軸方向に並んだ複数の被吐出部１８Ｒのそれぞれに対して、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄを吐出する。
【００７４】
次に図９に示すように、制御部１１２は、第１位置制御装置１０４を介して、ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標がｘ２に一致するように、ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対位置をＸ軸方向に変化させる。具体的には、このことによって、吐出ヘッド部１０３が、ステージ１０６に対してＸ軸方向の正の方向に約３０ノズル分の距離だけ相対移動する。本実施形態では、約３０ノズル分の距離は、ほぼ５０７．５μｍ（１７．５×（３０−１））である。
【００７５】
ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標がｘ２に一致する場合にも、被吐出部１８ＲのＸ座標範囲内に、少なくとも１つの吐出ノズル１１８Ｔが位置する。本実施形態では、１つの被吐出部１８Ｒに１６個の吐出ノズル１１８Ｔが対応する。このような４つの吐出ノズル１１８Ｔは、ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対位置がＹ軸方向に変化することで、被吐出部１８Ｒに対応する領域に達する（例えば被吐出部１８Ｒに重なる）ことができる。ただし、ここでは、１６個の吐出ノズル１１８Ｔのうち、４つの吐出ノズル１１８Ｔを被吐出部１８Ｒへの吐出に用いる。
【００７６】
以下では、吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標がｘ２である場合に、被吐出部１８Ｒに対して吐出を行う吐出ノズル１１８Ｔを「第２のノズル」とも表記する。
【００７７】
次に図９に示すように、制御部１１２は、第２位置制御装置１０８を駆動することで、吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標をｘ２に維持したまま、ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対位置をＹ軸方向の負の方向（図９の左方向）に変化させる。このことによって、吐出ヘッド部１０３は走査範囲の他端から一端まで１回だけ相対移動する。
【００７８】
吐出ヘッド部１０３がＹ軸方向の負の方向へ相対移動することによって、４つの吐出ノズル１１８Ｔ（第２のノズル）が被吐出部１８Ｒに対応する領域に達した場合には、吐出ヘッド部１０３は、それら４つの吐出ノズル１１８Ｔ（第２のノズル）から、その被吐出部１８Ｒに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄ（図３）を吐出する。このようにして、吐出装置１００Ｒは、Ｙ軸方向に並んだ複数の被吐出部１８Ｒのそれぞれに対して、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄを吐出する。
【００７９】
第１の基体１０Ａにおける複数の被吐出部１８Ｒのそれぞれへは、１回目の走査期間と、２回目の走査期間とで、それぞれ異なる吐出ノズル１１８Ｔからカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄが吐出される。具体的には、１回目の走査期間には、５つの第１のノズルから液滴Ｄが吐出されて、２回目の走査期間には、４つの第２のノズルから液滴Ｄが吐出される。このように、１つの被吐出部１８Ｒに対して、合計９つの吐出ノズル１１８Ｔからの液滴Ｄが吐出される。この結果、被吐出部１８Ｒのそれぞれには、所定の体積のカラーフィルタ材料１１１Ｒが塗布される。複数の被吐出部１８Ｒのそれぞれについて、１回目の走査期間内の吐出に用いられる吐出ノズル１１８Ｔと、２回目の走査期間内の吐出に用いられる吐出ノズル１１８Ｔとが異なるので、ヘッド１１４の製造誤差に起因して吐出ノズル１１８Ｔ間で液滴Ｄの吐出体積が異なっていても、吐出ノズル１１８Ｔ間の吐出体積の差異が、一つの被吐出部１８Ｒに塗布されたカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積の差異として現れにくい。
【００８０】
このように吐出装置１００Ｒは、２回の走査期間の間に、第１の基体１０Ａにおける複数の被吐出部１８Ｒのすべてに対して、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する。
【００８１】
吐出装置１００Ｒが１枚目の基体１０Ａに対する塗布工程を終了すると、搬送装置１７０が、フォーク部を用いて、ステージ１０６から第１の基板１０Ａを取り除く。なお、第１の基体１０Ａに対する第２の走査期間が終了してから、２枚目の基体１０Ａに対する第１の走査期間が開始されるまで、吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標は、ｘ２に維持されたままである。
【００８２】
（Ｆ２．第２の基体１０Ａへの塗布工程）
第２の基体１０Ａの構造は、第１の基体１０Ａの構造と同じである。まず、図１０に示すように、第２の基体１０Ａをステージ１０６上に配置する。具体的には、ステージ１０６に対する第２の基体１０Ａの相対位置が、ステージ１０６に対する第１の基体１０Ａの相対位置と同じになるように、ステージ１０６上で第２の基体１０Ａの位置を決める。ここで、ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標はｘ２に維持されているので、複数の被吐出部１８ＲのそれぞれのＸ座標範囲内には、１６個の吐出ノズル１１８Ｔが位置する。ただしここでは、１６個の吐出ノズル１１８Ｔのうち、上述の４つの吐出ノズル１１８Ｔ、つまり４つの第２のノズル、を被吐出部１８Ｒへの吐出に用いる。
【００８３】
次に図１０に示すように、制御部１１２は、第２位置制御装置１０８を駆動することで、吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標をｘ２に維持したまま、ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対位置をＹ軸方向の正の方向（図１０の右方向）に変化させる。このことによって、吐出ヘッド部１０３は走査範囲の一端から他端まで１回だけ相対移動する。
【００８４】
吐出ヘッド部１０３がＹ軸方向の負の方向へ相対移動することによって、４つの吐出ノズル１１８Ｔ（第２のノズル）が被吐出部１８Ｒに対応する領域に達した場合には、吐出ヘッド部１０３は、それら４つの吐出ノズル１１８Ｔ（第２のノズル）から、その被吐出部１８Ｒに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄ（図３）を吐出する。このようにして、吐出装置１００Ｒは、Ｙ軸方向に並んだ複数の被吐出部１８Ｒのそれぞれに対して、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄを吐出する。
【００８５】
次に図１１に示すように、制御部１１２は、第１位置制御装置１０４を介して、ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標がｘ２からｘ１に変わるように、ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対位置をＸ軸方向に変化させる。このことによって、吐出ヘッド部１０３が、ステージ１０６に対してＸ軸方向の負の方向に約３０ノズル分の距離だけ相対移動する。上述したように本実施形態では、約３０ノズル分の距離は、ほぼ５０７．５μｍ（１７．５×（３０−１））である。
【００８６】
ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標がｘ１に一致する場合にも、被吐出部１８ＲのＸ座標範囲内に、少なくとも１つの吐出ノズル１１８Ｔが位置する。本実施形態では、１つの被吐出部１８Ｒに１６個の吐出ノズル１１８Ｔが位置する。ただしここでは、１６個の吐出ノズル１１８Ｔのうち、上述の５つの吐出ノズル１１８Ｔ、つまり５つの第１のノズル、を被吐出部１８Ｒへの吐出に用いる。
【００８７】
次に図１１に示すように、制御部１１２は、第２位置制御装置１０８を駆動することで、吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標をｘ１に維持したまま、ステージ１０６に対する吐出ヘッド部１０３の相対位置をＹ軸方向の負の方向（図１１の左方向）に変化させる。このことによって、吐出ヘッド部１０３は走査範囲の他端から一端まで１回だけ相対移動する。
【００８８】
吐出ヘッド部１０３がＹ軸方向の負の方向へ相対移動することによって、５つの吐出ノズル１１８Ｔ（第１のノズル）が被吐出部１８Ｒに対応する領域に達した場合には、吐出ヘッド部１０３は、それら５つの吐出ノズル１１８Ｔ（第１のノズル）から、その被吐出部１８Ｒに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄ（図３）を吐出する。このようにして、吐出装置１００Ｒは、Ｙ軸方向に並んだ複数の被吐出部１８Ｒのそれぞれに対して、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄを吐出する。
【００８９】
第２の基体１０Ａにおける複数の被吐出部１８Ｒのそれぞれへは、１回目の走査期間と、２回目の走査期間とで、それぞれ異なる吐出ノズル１１８Ｔからカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄが吐出される。具体的には、１回目の走査期間には、４つの第２のノズルから液滴Ｄが吐出されて、２回目の走査期間には、５つの第１のノズルから液滴Ｄが吐出される。このように、一つの被吐出部１８Ｒに対して、合計９つの吐出ノズル１１８Ｔからの液滴Ｄが吐出される。この結果、被吐出部１８Ｒのそれぞれには、所定の体積のカラーフィルタ材料１１１Ｒが塗布される。本実施形態によれば、複数の被吐出部１８Ｒのそれぞれについて、１回目の走査期間内の吐出に用いられる吐出ノズル１１８Ｔと、２回目の走査期間内の吐出に用いられる吐出ノズル１１８Ｔとが異なるので、ヘッド１１４の製造誤差に起因して吐出ノズル１１８Ｔ間で液滴Ｄの吐出体積が異なっていても、吐出ノズル１１８Ｔ間の吐出体積の差異が、一つの被吐出部１８Ｒに塗布されたカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積の差異として現れにくい。
【００９０】
（実施形態１の変形例）
（１）上記実施形態では、第１の基体１０Ａに対する第２の走査期間にカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する吐出ノズル１１８Ｔと、第２の基体１０Ａに対する第１の走査期間にカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する吐出ノズル１１８Ｔとが、同じである。しかしながら、本発明はこのような構成に限定されない。以下において説明するように、第１の基体１０Ａに対する第２の走査期間にカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する吐出ノズル１１８Ｔと、第２の基体１０Ａに対する第１の走査期間にカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する吐出ノズル１１８Ｔとが、異なっていてもよい。
【００９１】
図１２〜図１５においては、１つのヘッド群１１４Ｇにおける吐出ノズル１１８Ｔのそれぞれを、Ｘ座標の小さい順に、ノズルＮ１、Ｎ２、Ｎ３、〜Ｎ６４と表記する。
【００９２】
まず、制御部１１２は、吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標をｘ１にセットする。そうすると、例えば図１２の左隅の被吐出部１８ＲのＸ座標範囲内に、ノズルＮ２からＮ１７まで、１６個の吐出ノズル１１８Ｔが位置する。そして、制御部１１２は、吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標をｘ１にセットしたうえで、第１の基体１０Ａに対する第１の走査期間を開始する。第１の基体１０Ａに対する第１の走査期間には、ノズルＮ２〜Ｎ１７の吐出ノズル１１８Ｔのうち、ノズルＮ２、Ｎ４、Ｎ６、〜Ｎ１６までの８個の吐出ノズル１１８Ｔが、被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄを吐出する。ここで、図１２におけるノズルＮ２、Ｎ４、Ｎ６、〜Ｎ１６のそれぞれが、本発明の第１のノズルに対応する。図１２中の黒丸は、第１のノズルからの液滴Ｄが着弾する位置を示している。
【００９３】
次に、制御部１１２は、吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標をｘ２にセットする。本変形例では、説明の便宜上、ｘ１はｘ２より大きい（ｘ１＞ｘ２）。また相対ｘ座標ｘ１とｘ２との間の距離が３２ノズル分の距離に相当する。つまり、吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標をｘ２にセットすると、ノズルＮ１が位置していた位置に、ノズルＮ３３が位置するようになる。制御部１１２が吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標をｘ２にセットすると、図１３の左隅の被吐出部１８ＲのＸ座標範囲に、ノズルＮ３４からＮ４９まで、１６個の吐出ノズル１１８Ｔが位置する。なお、図１３の左隅の被吐出部１８Ｒは、図１２の左隅の被吐出部１８Ｒと同じである。
【００９４】
そして、制御部１１２は、吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標をｘ２にセットしたうえで、第１の基体１０Ａに対して第２の走査期間を開始する。図１３に示すように、第１の基体１０Ａの第２の走査期間には、ノズルＮ３４〜Ｎ４９の吐出ノズル１１８Ｔのうち、ノズルＮ３５、Ｎ３７、Ｎ３９、〜Ｎ４９までの８個の吐出ノズル１１８Ｔが、被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄを吐出する。ここで、図１３におけるノズルＮ３５、Ｎ３７、Ｎ３９、〜Ｎ４９のそれぞれが、本発明の第２のノズルに対応する。図１３中の黒丸は、第２のノズルからの液滴Ｄが着弾する位置を示している。なお、図１３中の白丸は、比較のために、第１のノズルからの液滴Ｄが着弾する位置を示している。
【００９５】
次に、ステージ１０６上の第１の基体１０Ａを取り除き、ステージ１０６上に第２の基体１０Ａをセットする。ステージ１０６に対する第２の基体１０Ａの相対位置は、ステージ１０６に対する第１の基体１０Ａの相対位置と同じである。また吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標はｘ２に維持されたままである。この場合、ノズルＮ３４〜Ｎ４９までの１６個の吐出ノズル１１８Ｔが、図１４の左隅の被吐出部１８ＲのＸ座標範囲に位置する。
【００９６】
制御部１１２は、第２の基体１０Ａがセットされたら、第２の基体１０Ａに対して第１の走査期間を開始する。図１４に示すように、第２の基体１０Ａの第１の走査期間には、ノズルＮ３４〜Ｎ４９の１６個の吐出ノズル１１８Ｔのうち、ノズルＮ３４、Ｎ３６、Ｎ３８、〜Ｎ４８の８個の吐出ノズル１１８Ｔが、被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄを吐出する。ここで、図１４におけるノズルＮ３４、Ｎ３６、Ｎ３８、〜Ｎ４８のそれぞれが、本発明の第３のノズルに対応する。図１４中の黒丸は、第３のノズルからの液滴Ｄが着弾する位置を示している。
【００９７】
制御部１１２は、吐出ヘッド１０３の相対ｘ座標をｘ１にセットする。そうすると、ノズルＮ２〜Ｎ１７までの１６個の吐出ノズル１１８Ｔが、図１５の左隅の被吐出部１８ＲのＸ座標範囲内に位置する。
【００９８】
次に、制御部１１２は、吐出ヘッド部１０３の相対ｘ座標をｘ１にセットしたうえで、第２の基体１０Ａに対する第２の走査期間を開始する。図１５に示すように、第２の基体１０Ａの第２の走査期間には、ノズルＮ２〜Ｎ１７の吐出ノズル１１８Ｔのうち、ノズルＮ３、Ｎ５、Ｎ７、〜Ｎ１７の８個の吐出ノズル１１８Ｔが、被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴Ｄを吐出する。ここで、図１５におけるノズルＮ３、Ｎ５、Ｎ７、〜Ｎ１７のそれぞれが、本発明の第４のノズルに対応する。図１５中の黒丸は、第４のノズルからの液滴Ｄが着弾する位置を示している。なお、図１５中の白丸は、比較のために、第３のノズルからの液滴Ｄが着弾する位置を示している。
【００９９】
本変形例で説明したように、複数の被吐出部１８Ｒのそれぞれについて、第１の基体１０Ａに対する第２の走査期間内に吐出動作を行うノズルと、第２の基体に対する第１の走査期間に吐出動作を行うノズルとは異なる。つまり、第２のノズルと第３のノズルとが異なる。なお、実施形態１では、第２のノズルと第３のノズルとが同じである。
【０１００】
（２）上記実施形態では、吐出装置１００Ｒは、１つの基体１０Ａに対して２回のパスの期間（走査期間）に亘って塗布走査を行う。ただし、パスの期間の数が偶数であれば、パスの数は何回でもよい。パスの期間の数が偶数であれば、複数の基体１０Ａのそれぞれに対して順次に効率よく材料１１１Ｒを塗布できるからである。
【０１０１】
（実施形態２）
実施形態１では、被吐出部１８Ｒにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する工程を説明した。以下では、製造装置１によってカラーフィルタ基板１０が得られるまでの一連の工程を説明する。
【０１０２】
図１６に示す製造装置１は、図７の基体１０Ａの被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂのそれぞれに対して、対応するカラーフィルタ材料を吐出する装置である。具体的には、製造装置１は、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する吐出装置１００Ｒと、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを乾燥させる乾燥装置１５０Ｒと、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇを塗布する１００Ｇと、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを乾燥させる乾燥装置１５０Ｇと、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂを塗布する１００Ｂと、被吐出部１８Ｂのカラーフィルタ材料１１１Ｂを乾燥させる乾燥装置１５０Ｂと、カラーフィルタ材料１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂを再度加熱（ポストベーク）するオーブン１６０と、ポストベークされたカラーフィルタ材料１１１Ｒ，１１１Ｇ、１１１Ｂの層の上に保護膜２０を設ける吐出装置１００Ｃと、保護膜２０を乾燥させる乾燥装置１５０Ｃと、乾燥された保護膜２０を再度加熱して硬化する硬化装置１６５と、を備えている。さらに製造装置１は、吐出装置１００Ｒ、乾燥装置１５０Ｒ、吐出装置１００Ｇ、乾燥装置１５０Ｇ、吐出装置１００Ｂ、乾燥装置１５０Ｂ、吐出装置１００Ｃ、乾燥装置１５０Ｃ、硬化装置１６５の順番に基体１０Ａを搬送する搬送装置１７０も備えている。搬送装置１７０は、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。
【０１０３】
吐出装置１００Ｒの構成は実施形態１において説明したため、説明を省略する。吐出装置１００Ｇの構成と、吐出装置１００Ｂの構成と、吐出装置１００Ｃの構成とは、いずれも基本的に吐出装置１００Ｒの構造と同じある。ただし、吐出装置１００Ｒにおけるタンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｇがカラーフィルタ材料１１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置１００Ｇの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｂがカラーフィルタ材料１１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置１００Ｂの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。さらに、タンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｃが保護膜材料用のタンクとチューブとを備える点で吐出装置１００Ｃの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒ，１１１Ｇ、１１１Ｂのそれぞれは、本発明の「液状の材料」の一例である。
【０１０４】
まず、以下の手順にしたがって図７の基体１０Ａを作成する。まず、スパッタ法または蒸着法によって、支持基板１２上に金属薄膜を形成する。その後、フォトリソグラフィー工程によってこの金属薄膜から格子状のブラックマトリクス１４を形成する。ブラックマトリクス１４の材料の例は、金属クロムや酸化クロムである。なお、支持基板１２は、可視光に対して光透過性を有する基板、例えばガラス基板である。続いて、支持基板１２およびブラックマトリクス１４を覆うように、ネガ型の感光性樹脂組成物からなるレジスト層を塗布する。そして、そのレジスト層の上にマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム密着させながら、このレジスト層を露光する。その後、レジスト層の未露光部分をエッチング処理で取り除くことで、バンク１６が得られる。以上の工程によって、基体１０Ａが得られる。
【０１０５】
なお、バンク１６に代えて、樹脂ブラックからなるバンクを用いても良い。その場合は、金属薄膜（ブラックマトリクス１４）は不要となり、バンク層は、１層のみとなる。
【０１０６】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体１０Ａを親液化する。この処理によって、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、で規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における支持基板１２の表面と、ブラックマトリクス１４の表面と、バンク１６の表面と、が親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体１０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部におけるバンク１６の表面がフッ化処理（撥液性に処理）され、このことで、バンク１６の表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた支持基板１２の表面およびブラックマトリクス１４の表面は若干親液性を失うが、それでもこれら表面は親液性を維持する。このように、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂとなる。
【０１０７】
なお、支持基板１２の材質、ブラックマトリクス１４の材質、およびバンク１６の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面が被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂである。
【０１０８】
被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂが形成された基体１０Ａは、搬送装置１７０によって、吐出装置１００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図１７（ａ）に示すように、吐出装置１００Ｒは、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるように、吐出データに応じて、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。より具体的には、吐出装置１００Ｒは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部１８Ｒのそれぞれに、カラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する。
【０１０９】
基体１０Ａの被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｒ上にフィルタ層１１１ＦＲを得る。
【０１１０】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図１７（ｂ）に示すように、吐出装置１００Ｇは、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成されるように、被吐出部１８Ｇに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｇを吐出する。より具体的には、吐出装置１００Ｇは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部１８Ｇのそれぞれに、カラーフィルタ材料１１１Ｇを塗布する。
【０１１１】
基体１０Ａの被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｇ上にフィルタ層１１１ＦＧを得る。
【０１１２】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図１７（ｃ）に示すように、吐出装置１００Ｂは、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成されるように、被吐出部１８Ｂに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｂを吐出する。より具体的には、吐出装置１００Ｂは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部１８Ｂのそれぞれに、カラーフィルタ材料１１１Ｂを塗布する。
【０１１３】
基体１０Ａの被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｂ上のカラーフィルタ材料１１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｂ上にフィルタ層１１１ＦＢを得る。
【０１１４】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを、オーブン１６０内に位置させる。その後、オーブン１６０はフィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢを再加熱（ポストベーク）する。
【０１１５】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｃのステージ１０６に位置させる。そして、吐出装置１００Ｃは、フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆って保護膜２０が形成されるように、液状の保護膜材料を吐出する。フィルタ層１１１ＦＲ，１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆う保護膜２０が形成された後に、搬送装置１７０は基体１０Ａをオーブン１５０Ｃ内に位置させる。そして、オーブン１５０Ｃが保護膜２０を完全に乾燥させた後に、硬化装置１６５が保護膜２０を加熱して完全に硬化することで、基体１０Ａはカラーフィルタ基板１０となる。
【０１１６】
（実施形態３）
次に、本発明をエレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置に適用した例を説明する。
【０１１７】
図１８（ａ）および（ｂ）に示す基体３０Ａは、後述する製造装置２（図１９）による処理によって、エレクトロルミネッセンス表示装置３０となる基板である。基体３０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂを有する。
【０１１８】
具体的には、基体３０Ａは、支持基板３２と、支持基板３２上に形成された回路素子層３４と、回路素子層３４上に形成された複数の画素電極３６と、複数の画素電極３６の間に形成されたバンク４０と、を有している。支持基板は、可視光に対して光透過性を有する基板であり、例えばガラス基板である。複数の画素電極３６のそれぞれは、可視光に対して光透過性を有する電極であり、例えば、ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）電極である。また、複数の画素電極３６は、回路素子層３４上にマトリクス状に配置されており、それぞれが画素領域を規定する。そして、バンク４０は、格子状の形状を有しており、複数の画素電極３６のそれぞれを囲む。また、バンク４０は、回路素子層３４上に形成された無機物バンク４０Ａと、無機物バンク４０Ａ上に位置する有機物バンク４０Ｂとからなる。
【０１１９】
回路素子層３４は、支持基板３２上で所定の方向に延びる複数の走査電極と、複数の走査電極を覆うように形成された絶縁膜４２と、絶縁膜４２上に位置するともに複数の走査電極が延びる方向に対して直交する方向に延びる複数の信号電極と、走査電極および信号電極の交点付近に位置する複数のスイッチング素子４４と、複数のスイッチング素子４４を覆うように形成されたポリイミドなどの層間絶縁膜４５と、を有する層である。それぞれのスイッチング素子４４のゲート電極４４Ｇおよびソース電極４４Ｓは、それぞれ対応する走査電極および対応する信号電極と電気的に接続されている。層間絶縁膜４５上には複数の画素電極３６が位置する。層間絶縁膜４５には、各スイッチング素子４４のドレイン電極４４Ｄに対応する部位にスルーホール４４Ｖが設けられており、このスルーホール４４Ｖを介して、スイッチング素子４４と、対応する画素電極３６と、の間の電気的接続が形成されている。また、バンク４０に対応する位置にそれぞれのスイッチング素子４４が位置している。つまり、図１３（ｂ）の紙面に垂直な方向から観察すると、複数のスイッチング素子４４のそれぞれは、バンク４０に覆われるように位置している。
【０１２０】
基体３０Ａの画素電極３６とバンク４０とで規定される凹部（画素領域の一部）は、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、被吐出部３８Ｂに対応する。被吐出部３８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｂは、青の波長域の光線を発光する発光層２１１ＧＢが形成されるべき領域である。
【０１２１】
図１８（ｂ）に示す基体３０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体３０Ａにおいて、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、および被吐出部３８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部３８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部３８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部３８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【０１２２】
被吐出部３８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部３８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＧＹと同じであり、被吐出部１８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＢＹとも同じである。また、被吐出部３８Ｒの平面像は、長辺と短辺とで決まる矩形である。具体的には、被吐出部３８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部３８Ｇおよび被吐出部３８Ｂも被吐出部３８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【０１２３】
図１９に示す製造装置２は、図１８の基体３０Ａの被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂのそれぞれに対して、対応する発光材料を吐出する装置である。製造装置２は、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒを塗布する吐出装置２００Ｒと、被吐出部３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを乾燥させる乾燥装置２５０Ｒと、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇを塗布する吐出装置２００Ｇと、被吐出部３８Ｇ上の発光材料２１１Ｇを乾燥させる乾燥装置２５０Ｇと、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂを塗布する吐出装置２００Ｂと、被吐出部３８Ｂ上の発光材料Ｂを乾燥させる乾燥装置２５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置２は、吐出装置２００Ｒ、乾燥装置２５０Ｒ、吐出装置２００Ｇ、乾燥装置２５０Ｇ、吐出装置２００Ｂ、乾燥装置２５０Ｂの順番に基体３０Ａを搬送する搬送装置２７０も備えている。搬送装置２７０は、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。
【０１２４】
図２０に示す吐出装置２００Ｒは、液状の発光材料２１１Ｒを保持するタンク２０１Ｒと、チューブ２１０Ｒと、チューブ２１０Ｒを介してタンク２０１Ｒから発光材料２１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施形態１の吐出走査部１０２（図１）の構成と同じであるため、同様な構成要素には同一の参照符号を付けるとともに、重複する説明を省略する。また、吐出装置２００Ｇの構成と吐出装置２００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置２００Ｒの構造と同じある。ただし、タンク２０１Ｒとチューブ２１０Ｒとの代わりに、吐出装置２００Ｇが発光材料２１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置２００Ｇの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク２０１Ｒとチューブ２１０Ｒとの代わりに、吐出装置２００Ｂが発光材料２１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置２００Ｂの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状の発光材料２１１Ｒ、２１１Ｂ、２１１Ｇは、本発明の液状の材料の一例である。
【０１２５】
製造装置２を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置３０の製造方法を説明する。まず、公知の製膜技術とパターニング技術とを用いて、図１８に示す基体３０Ａを製造する。
【０１２６】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体３０Ａを親液化する。この処理によって、画素電極３６とバンク４０とで規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における画素電極３６の表面、無機物バンク４０Ａの表面、および有機物バンク４０Ｂの表面が、親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体３０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部における有機物バンク４０Ｂの表面がフッ化処理（撥液性に処理）されて、このことで有機物バンク４０Ｂの表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた画素電極３６の表面および無機物バンク４０Ａの表面は、若干親液性を失うが、それでも親液性を維持する。このように、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂとなる。
【０１２７】
なお、画素電極３６の材質、無機物バンク４０Ａの材質、および有機物バンク４０Ａの材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面は被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂである。
【０１２８】
ここで、表面処理が施された複数の画素電極３６のそれぞれの上に、対応する正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを形成してもよい。正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂが、画素電極３６と、後述の発光層２１１ＲＦ、２１１ＧＦ、２１１ＢＦと、の間に位置すれば、エレクトロルミネッセンス表示装置の発光効率が高くなる。複数の画素電極３６のそれぞれの上に正孔輸送層を設ける場合には、正孔輸送層と、バンク４０と、によって規定された凹部が、被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂに対応する。
【０１２９】
なお、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂをインクジェット法により形成することも可能である。この場合、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを形成するための材料を含む溶液を各画素領域ごとに所定量塗布し、その後、乾燥させることにより正孔輸送層を形成することができる。
【０１３０】
被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成された基体３０Ａは、搬送装置２７０によって、吐出装置２００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図２１（ａ）に示すように、吐出装置２００Ｒは、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成されるように、吐出データに応じて、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｒを吐出する。より具体的には、吐出装置２００Ｒは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部３８Ｒのそれぞれに、発光材料２１１Ｒを塗布する。
【０１３１】
基体３０Ａの被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｒ上に発光層２１１ＦＲを得る。
【０１３２】
次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図２１（ｂ）に示すように、吐出装置２００Ｇは、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成されるように、被吐出部３８Ｇに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｇを吐出する。より具体的には、吐出装置２００Ｇは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部３８Ｇのそれぞれに、発光材料２１１Ｇを塗布する。
【０１３３】
基体３０Ａの被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｇ上の発光材料Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｇ上に発光層２１１ＦＧを得る。
【０１３４】
次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図２１（ｃ）に示すように、吐出装置２００Ｂは、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成されるように、被吐出部３８Ｂに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｂを吐出する。より具体的には、吐出装置２００Ｂは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部３８Ｂのそれぞれに、発光材料２１１Ｂを塗布する。
【０１３５】
基体３０Ａの被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｂ上の発光材料２１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｂ上に発光層２１１ＦＢを得る。
【０１３６】
図２１（ｄ）に示すように、次に、発光層２１１ＦＲ，２１１ＦＧ、２１１ＦＢ、およびバンク４０を覆うように対向電極４６を設ける。対向電極４６は陰極として機能する。その後、封止基板４８と基体３０Ａとを、互いの周辺部で接着することで、図２１（ｄ）に示すエレクトロルミネッセンス表示装置３０が得られる。なお、封止基板４８と基体３０Ａとの間には不活性ガス４９が封入されている。
【０１３７】
エレクトロルミネッセンス表示装置３０において、発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢから発光した光は、画素電極３６と、回路素子層３４と、支持基板３２と、を介して射出する。このように回路素子層３４を介して光を射出するエレクトロルミネッセンス表示装置は、ボトムエミッション型の表示装置と呼ばれる。
【０１３８】
（実施形態４）
本発明をプラズマ表示装置の背面基板の製造装置に適用した例を説明する。
【０１３９】
図２２（ａ）および（ｂ）に示す基体５０Ａは、後述する製造装置３（図２３）による処理によって、プラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる基板である。基体５０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂを有する。
【０１４０】
具体的には、基体５０Ａは、支持基板５２と、支持基板５２上にストライプ状に形成された複数のアドレス電極５４と、アドレス電極５４を覆うように形成された誘電体ガラス層５６と、格子状の形状を有するとともに複数の画素領域を規定する隔壁６０と、を含む。複数の画素領域はマトリクス状に位置しており、複数の画素領域が形成するマトリクスの列のそれぞれは、複数のアドレス電極５４のそれぞれに対応する。このような基体５０Ａは、公知のスクリーン印刷技術で形成される。
【０１４１】
基体５０Ａのそれぞれの画素領域において、誘電体ガラス層５６および隔壁６０によって規定される凹部が、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、被吐出部５８Ｂに対応する。被吐出部５８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｂは、青の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＢが形成されるべき領域である。
【０１４２】
図２２（ｂ）に示す基体５０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体５０Ａにおいて、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、および被吐出部５８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部５８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部５８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部５８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【０１４３】
被吐出部５８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部５８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＧＹと同じであり、被吐出部５８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＢＹとも同じである。また、被吐出部５８Ｒの平面像は、長辺と短辺とで決まる矩形である。具体的には、被吐出部５８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部５８Ｇおよび被吐出部５８Ｂも被吐出部５８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【０１４４】
図２３に示す製造装置３は、図２２の基体５０Ａの被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂのそれぞれに対して、対応する蛍光材料を吐出する装置である。製造装置３は、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒを塗布する吐出装置３００Ｒと、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを乾燥させる乾燥装置３５０Ｒと、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇを塗布する吐出装置３００Ｇと、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料３１１Ｇを乾燥させる乾燥装置３５０Ｇと、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂを塗布する吐出装置３００Ｂと、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料３１１Ｂを乾燥させる乾燥装置３５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置３は、吐出装置３００Ｒ、乾燥装置３５０Ｒ、吐出装置３００Ｇ、乾燥装置３５０Ｇ、吐出装置３００Ｂ、乾燥装置３５０Ｂの順番に基体５０Ａを搬送する搬送装置３７０も備えている。搬送装置３７０は、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。
【０１４５】
図２４に示す吐出装置３００Ｒは、液状の蛍光材料３１１Ｒを保持するタンク３０１Ｒと、チューブ３１０Ｒと、チューブ３１０Ｒを介してタンク３０１Ｒからカラーフィルタ材料が供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施形態１において説明したため重複する説明を省略する。
【０１４６】
吐出装置３００Ｇの構成と吐出装置３００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置３００Ｒの構造と同じある。ただし、タンク３０１Ｒとチューブ３１０Ｒとの代わりに、吐出装置３００Ｇが蛍光材料３１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置３００Ｇの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク３０１Ｒとチューブ３１０Ｒとに代えて、吐出装置３００Ｂが蛍光材料３１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置３００Ｂの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状の蛍光材料３１１Ｒ、３１１Ｂ、３１１Ｇは、発光材料の一種であるとともに、本発明の「液状の材料」に対応する。
【０１４７】
製造装置３を用いたプラズマ表示装置の製造方法を説明する。まず、公知のスクリーン印刷技術によって、支持基板５２上に、複数のアドレス電極５４と、誘電体ガラス層５６と、隔壁６０と、を形成して、図２２に示す基体５０Ａを得る。
【０１４８】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体５０Ａを親液化する。この処理によって、隔壁６０および誘電体ガラス層５６によって規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）の隔壁６０の表面、誘電体ガラス層５６の表面が、親液性を呈し、これらの表面が被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂとなる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、隔壁６０と、誘電体ガラス層５６と、によって規定された凹部の表面は、被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂである。
【０１４９】
被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂが形成された基体５０Ａは、搬送装置３７０によって、吐出装置３００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図２５（ａ）に示すように、吐出装置３００Ｒは、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒの層が形成されるように、吐出データに応じて、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｒを吐出する。より具体的には、吐出装置３００Ｒは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部５８Ｒのそれぞれに、蛍光材料３１１Ｒを塗布する。
【０１５０】
基体５０Ａの被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｒ上に蛍光層３１１ＦＲを得る。
【０１５１】
次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図２５（ｂ）に示すように、吐出装置３００Ｇは、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成されるように、被吐出部５８Ｇに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｇを吐出する。より具体的には、吐出装置３００Ｇは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部５８Ｇのそれぞれに、蛍光材料３１１Ｇを塗布する。
【０１５２】
基体５０Ａの被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料３１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｇ上に蛍光層３１１ＦＧを得る。
【０１５３】
次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図２５（ｃ）に示すように、吐出装置３００Ｂは、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂの層が形成されるように、被吐出部５８Ｂに対応した吐出データに応じて、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｂを吐出する。より具体的には、吐出装置３００Ｂは、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部５８Ｂのそれぞれに、蛍光材料３１１Ｂを塗布する。
【０１５４】
基体５０Ａの被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料Ｂの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料３１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｂ上に蛍光層３１１ＦＢを得る。
【０１５５】
以上の工程によって、基体５０Ａはプラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる。
【０１５６】
次に図２６に示すように、背面基板５０Ｂと、前面基板５０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせてプラズマ表示装置５０が得られる。前面基板５０Ｃは、ガラス基板６８と、ガラス基板６８上で互いに平行にパターニングされた表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂと、表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂとを覆うように形成された誘電体ガラス層６４と、誘電体ガラス層６４上に形成されたＭｇＯ保護層６２と、を有する。背面基板５０Ｂと前面基板５０Ｃとは、背面基板５０Ｂのアドレス電極５４と、前面基板５０Ｃの表示電極６６Ａ・表示スキャン電極６６Ｂとが、互いに直交するように位置合わせされている。各隔壁６０で囲まれるセル（画素領域）には、所定の圧力で放電ガス６９が封入されている。
【０１５７】
（実施形態５）
次に本発明を、電子放出素子を備えた画像表示装置の製造装置に適用した例を説明する。
【０１５８】
図２７（ａ）および（ｂ）に示す基体７０Ａは、後述する製造装置３（図２８）による処理によって、画像表示装置の電子源基板７０Ｂとなる基板である。基体７０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部７８を有する。
【０１５９】
具体的には、基体７０Ａは、基体７２と、基体７２上に位置するナトリウム拡散防止層７４と、ナトリウム拡散防止層７４上に位置する複数の素子電極７６Ａ、７６Ｂと、複数の素子電極７６Ａ上に位置する複数の金属配線７９Ａと、複数の素子電極７６Ｂ上に位置する複数の金属配線７９Ｂと、を備えている。複数の金属配線７９ＡのそれぞれはＹ軸方向に延びる形状を有する。一方、複数の金属配線７９ＢのそれぞれはＸ軸方向に延びる形状を有する。金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとの間には絶縁膜７５が形成されているので、金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとは電気的に絶縁されている。
【０１６０】
１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを含む部分は１つの画素領域に対応する。１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂは、互いに所定の間隔だけ離れてナトリウム拡散防止層７４上で対向している。ある画素領域に対応する素子電極７６Ａは、対応する金属配線７９Ａと電気的に接続されている。また、その画素領域に対応する素子電極７６Ｂは、対応する金属配線７９Ｂと電気的に接続されている。なお、本明細書では、基体７２とナトリウム拡散防止層７４とを合わせた部分を支持基板と表記することもある。
【０１６１】
基体７０Ａのそれぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４とが、被吐出部７８に対応する。より具体的には、被吐出部７８は、導電性薄膜４１１Ｆ（図３１）が形成されるべき領域であり、導電性薄膜４１１Ｆは、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａ，７６Ｂの間のギャップとを覆うように形成される。図２７（ｂ）において点線で示すように、本実施形態における被吐出部７８の平面形状は円形である。このように、本発明の被吐出部の平面形状は、Ｘ座標範囲とＹ座標範囲とで決まる円形でも構わない。
【０１６２】
図２７（ｂ）に示す基体７０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部７８が形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。つまり、基体７０Ａにおいて、複数の被吐出部７８は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【０１６３】
被吐出部７８同士のＹ軸方向に沿った間隔ＬＲＹ、すなわちピッチは、ほぼ１９０μｍである。また、被吐出部７８ＲのＸ軸方向の長さ（Ｘ座標範囲の長さ）はほぼ１００μｍであり、Ｙ軸方向の長さ（Ｙ座標範囲の長さ）もほぼ１００μｍである。被吐出部７８同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【０１６４】
図２８に示す製造装置４は、図２７の基体７０Ａの被吐出部７８のそれぞれに対して、導電性薄膜材料４１１を吐出する装置である。具体的には、製造装置４は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１を塗布する吐出装置４００と、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を乾燥させる乾燥装置４５０と、を備えている。さらに製造装置４は、吐出装置４００、乾燥装置４５０の順番に基体７０Ａを搬送する搬送装置４７０も備えている。搬送装置４７０は、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。
【０１６５】
図２９に示す吐出装置４００は、液状の導電性薄膜材料４１１を保持するタンク４０１と、チューブ４１０と、チューブ４１０を介してタンク４０１から導電性薄膜材料４１１が供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の説明は、実施形態１で説明したため省略する。本実施形態では、液状の導電性薄膜材料４１１は有機パラジウム溶液である。なお、本実施形態における液状の導電性薄膜材料４１１は、本発明の「液状の材料」の一例である。
【０１６６】
製造装置４を用いた画像表示装置の製造方法を説明する。まず、ソーダガラスなどから形成された基体７２上に、ＳｉＯ２を主成分とするナトリウム拡散防止層７４を形成する。具体的には、スパッタ法を用いて基体７２上に厚さ１μｍのＳｉＯ２膜を形成することによってナトリウム拡散防止層７４を得る。次に、ナトリウム拡散防止層７４上に、スパッタ法または真空蒸着法によって厚さ５ｎｍのチタニウム層を形成する。そして、フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いて、そのチタニウム層から、互いに所定の距離だけ離れて位置する１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを複数対形成する。
【０１６７】
その後、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ａ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｙ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ａを形成する。次に、スクリーン印刷技術を用いて、各金属配線７９Ａの一部分にガラスペーストを塗布して焼成することで、絶縁膜７５を形成する。そして、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ｂ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｘ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ｂを形成する。なお、金属配線７９Ｂを作製する場合には、金属配線７９Ｂが絶縁膜７５を介して金属配線７９Ａと交差するようにＡｇペーストを塗布する。以上のような工程によって、図２７に示す基体７０Ａを得る。
【０１６８】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体７０Ａを親液化する。この処理によって、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出した支持基板の表面とは、親液化される。そして、これらの表面が被吐出部７８となる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４の表面とは、被吐出部７８となる。
【０１６９】
被吐出部７８が形成された基体７０Ａは、搬送装置４７０によって、吐出装置４００のステージ１０６に運ばれる。そして、図３０に示すように、吐出装置４００は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜４１１Ｆが形成されるように、実施形態１で説明した吐出データに応じて、ヘッド１１４から導電性薄膜材料４１１を吐出する。より具体的には、吐出装置４００は、実施形態１で説明した塗布工程を行うことで、複数の被吐出部７８のそれぞれに、導電性薄膜材料４１１を塗布する。
【０１７０】
また、本実施形態では、被吐出部７８上に着弾した導電性薄膜材料４１１の液滴の直径が６０μｍから８０μｍの範囲となるように、制御部１１２はヘッド１１４に信号を与える。基体７０Ａの被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１の層が形成された場合には、搬送装置４７０が基体７０Ａを乾燥装置４５０内に位置させる。そして、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を完全に乾燥させることで、被吐出部７８上に酸化パラジウムを主成分とする導電性薄膜４１１Ｆを得る。このように、それぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間に露出したナトリウム拡散防止層７４と、を覆う導電性薄膜４１１Ｆが形成される。
【０１７１】
次に素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間に、パルス状の所定の電圧を印加することで、導電性薄膜４１１Ｆの一部分に電子放出部４１１Ｄを形成する。なお、素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間の電圧の印加を、有機物雰囲気下および真空条件下でもそれぞれ行うことが好ましい。そうすれば、電子放出部４１１Ｄからの電子放出効率がより高くなるからである。素子電極７６Ａと、対応する素子電極７６Ｂと、電子放出部４１１Ｄが設けられた導電性薄膜４１１Ｆと、は電子放出素子である。また、それぞれの電子放出素子は、それぞれの画素領域に対応する。
【０１７２】
以上の工程によって、図３１に示すように、基体７０Ａは電子源基板７０Ｂとなる。
【０１７３】
次に図３２に示すように、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせて画像表示装置７０が得られる。前面基板７０Ｃは、ガラス基板８２と、ガラス基板８２上にマトリクス状に位置する複数の蛍光部８４と、複数の蛍光部８４を覆うメタルプレート８６と、を有する。メタルプレート８６は、電子放出部４１１Ｄからの電子ビームを加速するための電極として機能する。電子源基板７０Ｂと前面基板７０Ｃとは、複数の電子放出素子のそれぞれが、複数の蛍光部８４のそれぞれに対向するように、位置合わせされている。また、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃとの間は、真空状態に保たれている。
【０１７４】
なお、上記の電子放出素子を備えた画像表示装置７０は、ＳＥＤ(Surface-Conduction Electron-Emitter Display）またはＦＥＤ（Field Emission Display)と呼ばれることもある。また、本明細書では、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマ表示装置、電子放出素子を利用した画像表示装置など、を「電気光学装置」と表記することもある。ここで、本明細書でいう「電気光学装置」とは、複屈折性の変化や、旋光性の変化や、光散乱性の変化などの光学的特性の変化（いわゆる電気光学効果）を利用する装置に限定されず、信号電圧の印加に応じて光を射出、透過、または反射する装置全般を意味する。
【図面の簡単な説明】
【０１７５】
【図１】実施形態１の吐出装置を示す模式図。
【図２】実施形態１のヘッドにおけるノズルの配置を示す模式図。
【図３】（ａ）および（ｂ）は実施形態１のヘッドにおける吐出部を示す模式図。
【図４】実施形態１の吐出ヘッド部を示す模式図。
【図５】実施形態１のヘッド群を示す模式図。
【図６】実施形態１の吐出装置における制御部の機能ブロック図。
【図７】（ａ）は実施形態１の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態１の基体の上面を示す模式図。
【図８】実施形態１の塗布工程を示す模式図であって、第１の基体に対する第１の走査期間を示す模式図。
【図９】実施形態１の塗布工程を示す模式図であって、第１の基体に対する第２の走査期間を示す模式図。
【図１０】実施形態１の塗布工程を示す模式図であって、第２の基体に対する第１の走査期間を示す模式図。
【図１１】実施形態１の塗布工程を示す模式図であって、第２の基体に対する第２の走査期間を示す模式図。
【図１２】実施形態１の塗布工程の変形例を示す模式図であって、第１の基体に対する第１の走査期間を示す模式図。
【図１３】実施形態１の塗布工程の変形例を示す模式図であって、第１の基体に対する第２の走査期間を示す模式図。
【図１４】実施形態１の塗布工程の変形例を示す模式図であって、第２の基体に対する第１の走査期間を示す模式図。
【図１５】実施形態１の塗布工程の変形例を示す模式図であって、第２の基体に対する第２の走査期間を示す模式図。
【図１６】実施形態２のカラーフィルタ基板の製造装置を示す模式図。
【図１７】実施形態２のカラーフィルタ基板の製造方法を説明する図。
【図１８】（ａ）は実施形態３の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態３の基体の上面を示す模式図。
【図１９】実施形態３のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置を示す模式図。
【図２０】実施形態３の吐出装置を示す模式図。
【図２１】実施形態３のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明する図。
【図２２】（ａ）は実施形態４の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態４の基体の上面を示す模式図。
【図２３】実施形態４のプラズマ表示装置の製造装置を示す模式図。
【図２４】実施形態４の吐出装置を示す模式図。
【図２５】実施形態４のプラズマ表示装置の製造方法を説明する図。
【図２６】実施形態４の製造方法によって製造されるプラズマ表示装置の断面を示す模式図。
【図２７】（ａ）は実施形態５の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態５の上面を示す模式図。
【図２８】実施形態５の表示装置の製造装置を示す模式図。
【図２９】実施形態５の吐出装置を示す模式図。
【図３０】実施形態５の表示装置の製造方法を説明する図。
【図３１】実施形態５の表示装置の製造方法を説明する図。
【図３２】実施形態５の製造方法によって製造される表示装置の断面を示す模式図。
【図３３】実施形態１から５の走査範囲を説明する模式図。
【符号の説明】
【０１７６】
１…製造装置、１０Ａ…基体、１００Ｒ、１００Ｇ、１００Ｂ…吐出装置、１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂ…カラーフィルタ材料。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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