(57)【要約】【課題】  高温多湿雰囲気下や紫外線照射環境下でも、可撓性基材層の劣化を抑制でき、反射防止層と可撓性基材の層間密着性、保存安定性、耐久性に優れ、フレキシブルな各種ディスプレイに使用しても、可撓性に優れ、低コストで製造できる反射防止フィルムおよび画像表示装置を提供する。【解決手段】  可撓性基材の上に、直接、または、他の層を介して、屈折率の異なる多層膜からなる反射防止層を形成する反射防止フィルムにおいて、前記の反射防止層のうち、少なくとも１層が、無機成分を含有する不完全無機酸化物層である反射防止フィルムおよび画像表示装置を特徴とする。【選択図】      図１
2005055724.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性基材の上に、直接、または、他の層を介して、屈折率の異なる多層膜からなる反射防止層を形成する反射防止フィルムにおいて、前記の反射防止層のうち、少なくとも１層が、不完全無機酸化物層であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項２】
前記の不完全無機酸化物層が、酸化チタン層、および／または、酸化珪素層であることを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム。
【請求項３】
前記の酸化チタン層の酸化度が、１．０以上１．８以下の範囲にあることを特徴とする請求項２に記載の反射防止フィルム。
【請求項４】
前記の酸化珪素層の酸化度が、１．０以上１．８以下の範囲にあることを特徴とする請求項２に記載の反射防止フィルム。
【請求項５】
前記の反射防止層が、基材層側から最外層に向かって、中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層の順に積層し、または、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層および低屈折率層の順に積層し、前記の高屈折率層が、屈折率、１．８以上２．５以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、膜厚、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下の酸化チタン層であり、前記の中屈折率層が、屈折率、１．６以上１．８以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、膜厚、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下の炭素を含有する酸炭化珪素層であり、前記の低屈折率層が、屈折率、１．３以上１．５以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、膜厚、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下の酸化珪素層であることを特徴とする請求項１〜４に記載の反射防止フィルム。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の反射防止フィルムにおいて、更に、ハードコート層が設けられていることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項７】
最上層に防汚層が積層されていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項８】
前記の可撓性基材において、粘着層が、反射防止層を形成しない面に形成されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載の反射防止フィルム。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか記載の反射防止フィルムが、表示部の観察側に積層、又は、配置されていることを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止フィルム、およびそれを用いた画像表示装置に関し、さらに詳しくは、ワープロ、コンピュータ、テレビ等の各種ディスプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板の表面、透明プラスチック類サングラスレンズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファインダーレンズなどの光学レンズ、各種計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラス等の表面に使用され、更に、フレキシブルな各種ディスプレイに使用しても、柔軟に追従することができる可撓性に優れ、高温多湿雰囲気下や紫外線照射環境下でも、反射防止層同士、及び、反射防止層と可撓性基材の層間密着性、耐久性に優れる反射防止フィルム、およびそれを用いた画像表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来よりカーブミラー、バックミラー、ゴーグル、窓ガラス、テレビ、パソコン・ワープロ等のディスプレイ、その他種々の商業ディスプレイ等には、ガラスやプラスチック等の透明基板が使用されている。
【０００３】
そして、それらの透明な基材には、基材を通して、文字や図形その他の情報を読み取るため、基材の表面で光が反射するのを防止するため、反射防止機能を付与することが行われる。
【０００４】
透明な基材に反射防止機能を付与するために、例えば、透明基材に、酸化珪素、酸化チタン等の無機酸化物からなり、それらは一般的に完全に酸化されており、互いに屈折率の異なる層を積層し多層膜を形成することが知られている。
【０００５】
そして、前記の反射防止膜の層構成としては、多層膜を構成する最外層（基材層と反対の表面）としては、光の反射を防止するために、酸化珪素等からなる屈折率の小さい層を設けることが知られており、前記の最外層の内側（基材層と最外層との層間）としては、最外層より屈折率の大きい層を１層以上形成するものが知られている。
【０００６】
また、前記の反射防止膜を作成する方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法等の物理的蒸着方法や、プラズマＣＶＤ法等の化学的蒸着方法等が用いられることが知られている。
【０００７】
一方、薄型、安価で、携帯可能なＩＴ機器に対する需要が高まり、例えば、折り曲げ可能なフレキシブルディスプレイ等の新しいディスプレイが提案されてきている。
【０００８】
例えば、表示装置の最外部に貼り付ける反射防止フィルムとして、基材の上に、無機誘電体からなる３層積層薄膜による反射防止膜を形成した反射防止フィルムが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平８−１２９１０１号公報  しかしながら、従来の反射防止フィルムでは、通常、完全に酸化された無機酸化物の反射防止層からなるため、高温高湿度環境下や紫外線照射環境下に長時間晒されると、熱や紫外線によって、結合が切れ、可撓性基材（高分子フィルム）が劣化したり、基材層と反射防止層との層間で、可撓性基材と光学層の層間や光学層間同士の密着強度が低下し、品質劣化するという欠点がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明の目的は液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（以下「ＥＬ」ともいう。）表示装置、無機ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ（以下「ＰＤＰ」ともいう。）等の各種表示装置の表面だけでなく、フレキシブルな各種表示装置の表面に積層、又は、配置して使用して、強く折り曲げても、柔軟に追従することができると共に、高温多湿雰囲気下や紫外線照射環境下でも、基材層の劣化を抑制し、保存安定性、層間密着性、耐久性に優れ、反射防止等の光学機能性を維持できる反射防止フィルム、および画像表示装置      を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１に記載の発明は、上記の課題を解決するもので、可撓性基材の上に、直接、または、他の層を介して、屈折率の異なる多層膜からなる反射防止層を形成する反射防止フィルムにおいて、前記の反射防止層のうち、少なくとも１層が、不完全無機酸化物層である構成からなり、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（以下「ＥＬ」ともいう。）表示装置、無機ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ（以下「ＰＤＰ」ともいう。）等の各種表示装置の表面だけでなく、フレキシブルな各種表示装置の表面に積層、又は、配置して使用して、強く折り曲げても、柔軟に追従することができると共に、高温多湿雰囲気下や紫外線照射環境下でも、層間密着性、耐久性に優れ、反射防止等の光学機能性を維持できることを特徴とする反射防止フィルムを要旨とする。
【００１１】
また、請求項２に記載の発明は、前記の不完全無機酸化物層が、酸化チタン層、または酸化珪素層であることを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１２】
また、請求項３に記載の発明は、前記の酸化チタン層の酸化度が、１．０以上１．８以下の範囲にあることを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１３】
また、請求項４に記載の発明は、前記の酸化珪素層の酸化度が、１．０以上１．８以下の範囲にあることを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１４】
また、請求項５に記載の発明は、前記の反射防止層が、基材層側から最外層に向かって、中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層の順に積層し、または、高屈折率層、低屈折率層、高屈折率層および低屈折率層の順に積層し、前記の高屈折率層が、屈折率、１．８以上２．５以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、膜厚、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下の酸化チタン層であり、前記の中屈折率層が、屈折率、１．６以上１．８以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、膜厚、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下の炭素を含有する酸炭化珪素層であり、前記の低屈折率層が、屈折率、１．３以上１．５以下（波長λ＝５５０ｎｍ）、膜厚、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下の酸化珪素層であることを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１５】
また、請求項６に記載の発明は、前記の反射防止フィルムにおいて、更に、ハードコート層が設けられていることを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１６】
また、請求項７に記載の発明は、最上層に防汚層が積層されていることを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１７】
また、請求項８に記載の発明は、前記の可撓性基材において、粘着層が、反射防止層を形成しない面に形成されていることを特徴とする反射防止フィルムである。
【００１８】
また、請求項９に記載の発明は、前記の反射防止フィルムが、表示部の観察側に積層、又は、配置されていることを特徴とする画像表示装置である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の反射防止フィルムにおいては、各種ディスプレイ、液晶表示装置に用いる偏光板の表面、透明プラスチック類サングラスレンズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファインダーレンズなどの光学レンズ、各種計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラス等の表面に使用され、更に、フレキシブルな各種ディスプレイに使用しても可撓性に優れるため柔軟に追従することができ、高温多湿雰囲気下や紫外線照射環境下でも、可撓性基材層が劣化することなく、保存安定性、反射防止層と可撓性基材との層間密着性、耐久性に優れ、低コストで製造することができるという利点を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
上記の本発明について、以下に更に詳しく説明する。
【００２１】
まず、本発明にかかる反射防止フィルム、及び、それを使用した画像表示装置の構成についてその二三を例示して図面を用いて説明すると、図１、図２は、本発明に係る多層反射防止膜を形成する反射防止フィルムの一態様である層構成を示す概略断面図であり、図３は、本発明に係る多層型反射防止フィルムにより表示面を被覆した液晶表示装置の一例を示す概略断面図であり、図４、図５は、プラズマＣＶＤ法による本発明に係る可撓性基材上に光学機能性膜を形成する反射防止フィルムの製造方法を説明するための概略図である。
【００２２】
図１は、本発明に係る多層反射防止膜を形成する反射防止フィルム３６の一態様である層構成を示す概略断面図である。
【００２３】
図１に示すように、本発明に係る反射防止フィルム３６は、可撓性基材３０の上に反射防止層を複数層形成するものであり、基材層側から最外層に向かって、層構成、低屈折率層３２／高屈折率層３３／中屈折率層４２／可撓性基材層３０からなる。
【００２４】
前記の反射防止層のうち、少なくとも１層が、不完全無機酸化物層３４であることが必要である。
【００２５】
これは、本発明に係る反射防止フィルム３６を上記の層構成とすることによって、高温多湿雰囲気下や紫外線照射環境下でも、基材層の経時劣化を防止でき、保存安定性、層間密着性、反射防止性、耐久性に優れるものである。
【００２６】
図２は、本発明に係る多層反射防止膜を形成する反射防止フィルム３６の別態様の層構成を示す概略断面図である。
【００２７】
図２に示すように、本発明に係る反射防止フィルムの層構成は、基材層側から最外層に向かって、層構成、低屈折率層３２／高屈折率層３３／低屈折率層３２／高屈折率層３３／可撓性基材層３０からなる。
【００２８】
前記の反射防止層のうち、少なくとも１層が、無機成分を含有する不完全酸化層であることが必要である。
【００２９】
これは、本発明に係る反射防止フィルム３６を上記の層構成とすることによって、高温多湿雰囲気下や紫外線照射環境下でも、基材層の経時劣化を防止でき、保存安定性、層間密着性、反射防止性、耐久性に優れるものである。
【００３０】
次に、上記のような本発明にかかる反射防止フィルム、画像表示装置等を構成する材料、その製造法等について説明すると、まず、本発明にかかる反射防止フィルムを構成する反射防止層３４は、当該反射防止層を構成する少なくとも１層が、無機成分を含有する不完全無機酸化物層であることが必要である。
【００３１】
ここで、不完全無機酸化物層とは、無機酸化物において、化学量論組成より酸素の少ない酸化物よりなる層をいう。
【００３２】
このように、本発明における反射防止層３４は、屈折率の異なる多層膜からなり、そのうち少なくとも一層が、不完全無機酸化物層を用いることによって、結晶の伝導帯と荷電子帯間の光学的バンドギャップ以上のエネルギー（太陽光、紫外線、紫外線より長波長側の可視光線等の励起光源）が与えられても、下地の高分子フィルム（基材層）表面の酸化分解による劣化の進行を抑制し、基材層と反射防止層との層間密着性の保存安定性にも優れるという利点を有する。
【００３３】
また、本発明における反射防止層は、不完全無機酸化物層を用いることによって、光学的バンドギャップが狭いため、エネルギーの高い紫外線等の短波長光を通しにくいため、下地の高分子フィルムの劣化を防止することができるという利点を有する。
【００３４】
これに対して、本発明における反射防止層３４が、完全無機酸化物層であると、光学的バンドギャップ以上のエネルギーにより励起され、活性酸素を生成し、酸化反応を促進し、その結果、下地の高分子フィルム（基材層）と接する表面の有機物質を攻撃して、酸化分解が促進され、急速に経時劣化してしまい、更に劣化が進行すると、基材層と反射防止層との層間が剥離してしまうので好ましくない。
【００３５】
本発明の不完全無機酸化物層において、屈折率、１．８以上（５５０ｎｍ）の高屈折率層３３としては、例えば、酸化チタン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ニオブ、酸化ハフニウム、酸化タンタル、酸化亜鉛等を使用することができ、中でも、酸化チタンは屈折率が高いという理由でより好ましい。
【００３６】
また、酸化チタンの酸化度が、１．０以上１．８以下の範囲にあり、完全に酸化されていないため、光学的バンドギャップ以上のエネルギーが与えられても、下地の高分子フィルム表面の酸化分解による劣化の進行を抑制し、基材層と反射防止層との層間密着性を維持することができるので好ましいものである。
【００３７】
これに対して、酸化チタンの酸化度が、１．８を超えると、これ以上酸化しにくいため、空孔を埋めることができず、下地の高分子フィルム表面の酸化分解が促進され、急速に経時劣化してしまい、更に高分子フィルムと反射防止層との層間密着性に劣り、また、光学的バンドギャップが広いため、紫外線も通り抜けやすいので好ましくない。
【００３８】
また、酸化チタンの酸化度が、１．０未満であると可視光の透過率が低くなるので好ましいくないものである。
【００３９】
前記の酸化チタン層を形成するための原料としては、Ｔｉ（ｉ−ＯＣ3Ｈ7）4（チタンテトラｉ−プロポキシド）、Ｔｉ（ＯＣＨ3）4（チタンテトラメトキシド）、Ｔｉ（ＯＣ2Ｈ5）4（チタンテトラエトキシド）、Ｔｉ（ｎ−ＯＣ3Ｈ7）4（チタンテトラｎ−プロポキシド）、Ｔｉ（ｎ−ＯＣ4Ｈ9）4（チタンテトラｎ−ブトキシド）、Ｔｉ（ｔ−ＯＣ4Ｈ9）4（チタンテトラｔ−ブトキシド）、Ｔｉ（ｓｅｃ−ＯＣ4Ｈ9）4（チタンテトラｓｅｃ−ブトキシド）のチタンアルコキシド、およびＴｉＣｌ4（四塩化チタン）が挙げられる。その中でも、Ｔｉ（ｉ−ＯＣ3Ｈ7）4（チタンテトラｉ−プロポキシド）、Ｔｉ（ｔ−ＯＣ4Ｈ9）4（チタンテトラｔ−ブトキシド）は、蒸気圧が高く、真空製膜時に取り扱いやすいという理由で好適である。
【００４０】
次に、本発明の不完全無機酸化物層において、屈折率、１．５０以下（５５０ｎｍ）の低屈折率層３２としては、酸化珪素、弗化マグネシウム、フッ素含有有機化合物等を使用することができ、中でも、酸化珪素が不完全無機酸化物層でも可視光透過率が高いという理由で好ましい。
【００４１】
また、酸化珪素の酸化度が、１．０以上１．８以下の範囲にあることが好ましく、１．０以上１．７以下の範囲にあることがより好ましい。
【００４２】
このことによって、完全に酸化されていないため、光学的バンドギャップ以上のエネルギーが与えられても、下地の高分子フィルム表面の酸化分解による劣化の進行を抑制し、基材層と反射防止層との層間密着性を維持することができるという利点を有する。
【００４３】
これに対して、酸化珪素の酸化度が、１．８を超えると、これ以上酸化しにくいため、空孔を埋めることができず、下地の高分子フィルム表面の酸化分解が促進され、急速に経時劣化してしまい、更に高分子フィルムと反射防止層との層間密着性に劣り、また、光学的バンドギャップが広いため、紫外光が下地層に透過しやすいので好ましいくないものである。
【００４４】
また、酸化珪素の酸化度が、１．０未満であると可視光透過率が低下するという理由で好ましいくないものである。
【００４５】
酸化珪素の原料としては、有機シリコーンが反射防止層の密着性も向上することができ、歩留まりを向上することができ、低コストであるという理由で好ましく、具体的には、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、メチルトリメトキシシラン（ＭＴＭＯＳ）、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、テトラメトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、テトラエトキシシラン等である。
【００４６】
また、屈折率、１．６０〜１．８０（５５０ｎｍ）の中屈折率層としては、酸炭化珪素、酸化アルミニウム等を使用することができ、中でも、炭素を含有する酸炭化珪素が可視光透過率が高く、フレキシビリティが高いという理由で好ましい。
【００４７】
また、酸炭化珪素の酸化度が、０．５以上１．５以下の範囲にあることが好ましい。
このことによって、光学的バンドギャップ以上のエネルギーが与えられても、下地の高分子フィルム表面の酸化分解による劣化の進行を抑制し、基材層と反射防止層との層間密着性を維持することができるという利点を有する。
【００４８】
これに対して、酸炭化珪素の酸化度が、１．５を超えると屈折率が低下してしまい、また、これ以上酸化しにくいため、空孔を埋めることができず、下地の高分子フィルム表面の酸化分解が促進され、急速に経時劣化してしまい、更に高分子フィルムと反射防止層との層間密着性に劣るので好ましくない。
【００４９】
また、酸炭化珪素の酸化度が、０．５未満であると可視光の透過率が低下するという理由で好ましいくないものである。
【００５０】
酸炭化珪素の原料としては、具体的に、有機シリコーンが反射防止層の密着性も向上することができ、歩留まりを向上することができ、低コストであるという理由で好ましく、具体的には、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）、テトラメチルジシロキサン（ＴＭＤＳＯ）、メチルトリメトキシシラン（ＭＴＭＯＳ）、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、テトラメトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、テトラエトキシシラン等を使用することができる。
【００５１】
また、本発明の反射防止層の厚さは、特に限定されるものではなく、反射防止効果を奏することができればいかなる厚さでもよいが、３０ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、５０ｎｍ〜２００ｎｍがより好ましい。
【００５２】
層の厚さが３０ｎｍより薄いと、反射防止効果をほとんど期待できないため好ましくなく、一方、層の厚さが５００ｎｍより厚いと可視光線透過率が低くなるため好ましくない。
【００５３】
反射防止フィルムは、屈折率の異なる多層膜を基材層の上に設けるものであり、層構成として、基材側から外側に向かって、基材層／高屈折率層／低屈折率層／高屈折率層／低屈折率層、基材層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層等からなり、反射防止層のうち、少なくとも１層が、不完全無機酸化物層を用いることが必要である。
【００５４】
ここで、上記の低屈折率層、中屈折率層、および高屈折率層は、多層膜からなる反射防止層を屈折率により相対的に比較した場合において、それぞれの層を区別するための名称である。
【００５５】
上記の高屈折率層として用いることにより、反射防止多層膜中において、当該高屈折率層の上側（可撓性基材側と反対の方向）に設けられた低屈折率層と組み合わせにより、夫々の屈折率の違いにより光の反射を効率よく防止することができる。
【００５６】
ここで、反射防止フィルムを形成する際において、当該高屈折率層の屈折率は積層されている他の層との関係で相対的に決定することが好ましく、反射防止多層膜全体としてのバランスにより反射防止効果を奏するものである。
【００５７】
また、当該中屈折率層を設ける位置については、本発明は特に限定するものではなく反射防止全体として反射防止機能が向上するような位置であればいかなる位置に設けることも可能であるが、高屈折率層と低屈折率層とは接触している方が効率よく光の反射を防止することができるため、当該中屈折率層は高屈折率層の下に設置することが好ましい。
【００５８】
また、反射防止層の最外層（可撓性基材と反対側の表面）に設けられる低屈折率層としては、反射防止フィルムの光学特性（反射防止機能）を向上せしめるために設けられるものであり、当該低屈折率層を最外層に設けることにより効率よく光を透過することができる。
【００５９】
次に、本発明に係る反射防止フィルムの可撓性基材層３０としては、当該反射防止フィルムの土台となる部分である。
【００６０】
基材層３０は、可視光域で透明な高分子フィルムであれば特に限定されるものではなく、具体的に、例えば、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリスチレン系樹脂フィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネイト系樹脂フィルム、ポリスルホンフィルム、環状オレフィン系樹脂フィルム、ポリエーテルフィルム、トリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォン系フィルム、アクリロニトリルフィルム、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂（ＡＳ樹脂）フィルム、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体樹脂（ＡＢＳ樹脂）フィルム、ポリアミド系樹脂フィルム、フッ素系樹脂フィルム、アセタール系樹脂フィルム、セルロース系樹脂フィルム等が使用できる。
【００６１】
中でも、無色透明の延伸フィルムが好ましく、一軸または二軸延伸ポリエステルフィルムが透明性、耐熱性に優れていることからより好ましい。
【００６２】
また、光学異方性のない点でトリアセチルセルロースも好ましい。
【００６３】
基材の厚みとしては、通常は６μm〜３００μm程度のものが好ましい。
【００６４】
なお、本発明における基材は、本質的に透明である限り着色されていてもよく、印刷などで模様や文字などが付与されていてもよい。
【００６５】
また、反射防止フィルムとしては、ハードコート層３１も設けることができる。
【００６６】
本発明に用いられるハードコート層３１は、本発明の反射防止フィルムに強度を持たせることを目的として形成される層である。従って、反射防止フィルムの用途によっては必須の層ではない。
【００６７】
ハードコート層３１を形成するための材料としては、同様に可視光域で透明な材料であり反射防止フィルムに強度をもたせることができるものであれば特に限定されるものではなく、その強度としては、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４で示す鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を示すことが好ましい。
【００６８】
具体的には、熱硬化型樹脂、及び／又は、電離放射線硬化型樹脂を用いることが好ましく、さらに具体的には、アクリレート系の官能基をもつもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル、ポリエーテル、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン、ポリチオールポリエン系樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリレート（以下、アクリレートとメタアクリレートとを（メタ）アクリレートと記載する。）等のオリゴマー又はプレポリマー及び反応性の希釈剤であるエチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、ビニルトルエン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、へキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を含むものが好適に用いられる。
【００６９】
前記のハードコート層の膜厚としては、通常１〜３０μｍの範囲のものが好適に用いられる。
【００７０】
その形成方法は、通常のコーティング方法を用いることが可能であり、特に限定されるものではない。
【００７１】
また、ハードコート層３１を設ける位置であるが、ハードコートを設ける目的は反射防止フィルムを構成する基材層の強度を向上させることであり、反射防止機能を向上せしめるためのものではないため、最上層のシリカ層から離れた位置であって、基材のすぐ上に設置することが好ましい。
【００７２】
本発明の反射防止フィルムとしては、最上層の低屈折率層３２の更に上に防汚層３５を設けてもよい。
【００７３】
防汚層３５は、ディスプレイパネルの前面に配置した反射防止フィルムにごみや汚れが付着するのを防止し、あるいは付着しても除去しやすくするために形成される。具体的には、反射防止機能を低下させない範囲でフッ素系界面活性剤等の界面活性剤、フッ素系樹脂を含む塗料、シリコーンオイル等の剥離剤、もしくはワックス等をごく薄く塗布し、余剰分を拭い除去しておく。
【００７４】
防汚層３５は、恒久的な層として形成してもよいが、必要の都度、塗布して形成してもよい。防汚層３５の厚みとしては、１〜３０ｎｍが好ましい。
【００７５】
３０ｎｍを超えると、光学的な影響が生じ、反射防止フィルムとしての光学特性を低下せしめるため、好ましくない。
【００７６】
本発明に係る反射防止層を構成する高屈折率層、中屈折率層、及び、低屈折率層を可撓性基材層の上に形成する方法としては、例えば、前記の材料をプラズマ化学蒸着（ＣＶＤ）法、熱ＣＶＤ法、真空蒸着法、スパッタリング法、ゾルゲル法等のウェットコーティング法、イオンプレーティング法等の薄膜形成法で形成あるいは積層することができる。
【００７７】
中でも、プラズマＣＶＤ法を用いることにより、反射防止層を形成する際の膜厚、屈折率等の条件を比較的容易に管理することができ、特に有機物を含有する原料を形成する際には、原料をガス状にして用いるプラズマＣＶＤ法、スパッタ法が安定した薄膜を形成することができ、また、複数の薄層を同時に形成することができるため、生産性の向上を図ることができるという利点を有するため好ましいものである。
【００７８】
図６は、プラズマＣＶＤ法による本発明に係る可撓性基材層上に光学機能性膜を形成する反射防止フィルムの製造方法を説明するための概略図である。
【００７９】
図６に示すように、プラズマＣＶＤ装置を用いて可撓性基材層上に光学機能性膜を形成したフィルムの製造方法としては、まず、ウエッブ状の高分子フィルム（可撓性基材層）１が基材巻き出し部２より巻きだされて、真空容器３中のプラズマＣＶＤの反応室４に導入される。
【００８０】
この反応容器３の全体は、真空ポンプ５により排気される。また、同時に反応室４には、原料ガス導入口６より規定流量の有機チタン化合物ガスと酸素ガスが供給され、反応室４の内部は、常に一定圧力のこれらのガスで満たされている。
【００８１】
次に、基材巻き出し部２より巻き出され、反応室４に導入された高分子フィルム１は、反転ロール７を経て、成膜用ドラム８に巻き付き、成膜用ドラム８の回転と同期しながら反転ロール７’の方向に送られていく。
【００８２】
次に、電極９と成膜用ドラム８との間には、電源１０によりＲＦ電圧が印加される。
【００８３】
このとき、電源の周波数は、ラジオ波に限らず、直流からマイクロ波まで適当な周波数を使用することも可能である。
【００８４】
そして、電極９と成膜用ドラム８の間にＲＦ電圧を印加することにより、この両電極の周辺にプラズマ１１が発生する。
【００８５】
そして、このプラズマ１１中で原料ガスが反応し、化合物を生成して成膜用ドラム８に巻き付いた高分子フィルム１上に堆積して、反射防止膜１２が形成される。
【００８６】
その後、反射防止膜１２が表面に形成された高分子フィルム１は、反転ロール７’を経て、基材巻き取り部２’で巻き取られる。
【００８７】
本発明のプラズマＣＶＤ法においては、温度、材料ガス流量・圧力、放電条件、高分子フィルム１の送りスピートのコントロールにより、形成される反射防止膜１２の屈折率、膜厚等を広範囲でコントロールしうるため、所望の光学特性の膜を得ることができる。
【００８８】
図５は、プラズマＣＶＤ法による本発明に係る反射防止フィルムの製造方法を説明するための別態様の概略図である。
【００８９】
反射防止フィルムの作製には、図５に示すようなプラズマＣＶＤ装置を用いることも可能である。
【００９０】
当該プラズマＣＶＤ装置は容量結合型のプラズマＣＶＤ装置であり、その基本的構造及び原理は図４の装置と同様である。
【００９１】
従って、当該装置においてもウェブ状の高分子フィルム２１は基材巻き出し部２２より巻きだされて、真空容器２３中の反応室（ａ，ｂ，ｃ）に導入される。そして、当該反応室内の成膜用ドラム２４上で所定の膜が形成され、基材巻き取り部２６により巻き取られる。
【００９２】
従って、当該装置においてもウェブ状の高分子フィルム２１は基材巻き出し部２２より巻きだされて、真空容器２３中の反応室（ａ，ｂ，ｃ）に導入される。そして、当該反応室内の成膜用ドラム２４上で所定の膜が形成され、基材巻き取り部２６により巻き取られる。
【００９３】
図５に示す装置と図４に示す装置との差は、図４に示す装置においては、フィルム上に反射防止膜を形成するための反応室は一つしか設置されていないが、図５に示すプラズマＣＶＤ装置は、複数（３つ）の反応室を有している点にある。夫々の反応室（ａ，ｂ，ｃ）は隔離壁２５で隔離されることで形成されている。ここで、以下の説明の便宜上、当該３つの反応室を右側から反応室ａ、反応室ｂ、反応室ｃとする。そして、各反応室には、夫々電極版ａ１、ｂ１、ｃ１及び原料ガス導入口ａ２、ｂ２、ｃ２が設置されている。
【００９４】
各反応室（ａ，ｂ，ｃ）は、成膜用ドラム２４の外周に沿って設置されている。これは、積層膜が形成されるプラスティックフィルムは、図５に示す例で説明したように成膜用ドラム２４と同期しながら反応室内に挿入され、かつ成膜用ドラム上において多層膜を形成するものであることから、このように配置することにより連続して各膜を積層することができるからである。
【００９５】
なお、図５に示す装置では反応室の数を３室としたが、本発明の反射防止フィルムの製造方法に用いるプラズマＣＶＤ装置としてはこれに限定されるものではなく、必要に応じて変更することができる。
【００９６】
上述したようなプラズマＣＶＤ装置によれば、各反応室へ導入する原料ガスを変化させることにより、夫々の反応室内で独立して膜を形成することが可能であることから、例えば、酸化チタン膜とシリカ膜との多層膜をプラスティックフィルム上に形成する場合は、反応室ａに有機チタン化合物を含むガスを導入し、反応室ｂと反応室ｃにはケイ素を含むガスを導入することにより、プラスティックフィルム２１が成膜用ドラム２５を経て基材巻き取り部２６へ巻き取られるまでに当該プラスティックフィルム２１上に酸化チタン膜とシリカ膜とが形成された反射防止フィルムを形成することができる。
【００９７】
さらに、上記の場合において反応室ｂと反応室ｃとに導入されたガスは、ケイ素を含むガスであるが、各々の反応室内の条件、例えばガスの流量や圧力、放電条件等を変化させることにより、反応室ｂと反応室ｃとで形成されるシリカ膜の特性を変化させることも可能である。当該装置により酸化チタン膜、シリカ膜、また、これらの膜の厚さ、膜の組成、密度、および屈折率等を自在に組み合わせることが可能となる。
【００９８】
また、必ずしも夫々の反応室に異なる原料ガスを導入する必要もなく、例えば図５に示す反応室ａ，ｂ，ｃ全てに有機チタン化合物を含むガスを導入することで酸化チタン膜を形成し、その後に一旦反応室ａ，ｂ，ｃに導入されたガスを全て抜き、改めてケイ素を含むガスを反応室ａ，ｂ，ｃに導入して上記酸化チタン膜の上にシリカ膜を形成することも可能である。
【００９９】
本発明においては、上述した図４に示すような装置で複数回プラスティックフィルムを処理することにより、プラスティックフィルム上に酸化チタン膜とシリカ膜とが形成された積層フィルムを形成するようにしてもよいし、上述したように図５に示す装置を用いて一回でプラスティックフィルムを処理することにより、プラスティックフィルム上に酸化チタン膜とシリカ膜とが形成された反射防止フィルムを形成するようにしてもよい。また、図４に示す装置を用いて複数回プラスティックフィルムを処理することにより、酸化チタン膜とシリカ膜とが交互に複数層積層された反射防止フィルムを得ることも可能である。
【０１００】
図３は、本発明に係る反射防止フィルムをガラス基板の表示面に被覆した画像表示装置の一例を示す概略断面図である。
【０１０１】
本発明に係る画像表示装置としては、図３に示すように、液晶表示素子上に、反射防止フィルム層３６／偏光素子３８／トリアセチルセルロースフィルム層３７からなる層構成の偏光板がラミネートされており、また液晶表示素子の他方の面には、トリアセチルセルロースフィルム層３７／偏光素子３８／トリアセチルセルロースフィルム層３７からなる層構成の偏光板がラミネートされている。
【０１０２】
具体的には、上記で得られた図１、図２の反射防止フィルム層を最外層（基材と接する層の反対側の層）とし、この反射防止フィルム層から可撓性基材層の方向へ向かって、反射防止フィルム層、例えば、防汚層３５／低屈折率層３２／高屈折率層３３／中屈折率層４２／ハードコート層３１／可撓性基材層３０からなる層構成の反射防止フィルム層３６と、偏光素子３８と、可撓性基材層３０としてのトリアセチルセルロースフィルム３７とを順次積層し、層構成、反射防止フィルム層３６／偏光素子３８／トリアセチルセルロースフィルム層３７とするものである。
【０１０３】
なお、本発明の反射防止フィルムの下面には、粘着剤が塗布されていてもよく、この場合、反射防止フィルムは反射防止すべき対象物、例えば、ガラスに貼着して用いることができる。又、バックライト４１は、図３の下側から照射される。
【０１０４】
本発明の反射防止フィルムは通常バックライト４１の出射側に配置されるが、最下面のトリアセチルセルロースフィルムの代わりに本発明の反射防止フィルムを更に用いてもよい。
【０１０５】
尚、ＳＴＮ型の液晶表示装置には、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入される。また、この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられる。
【０１０６】
本発明に係る画像表示装置を構成する偏光素子３８としては、ヨウ素または染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマーフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を用いることができる。
【０１０７】
このラミネート処理にあたって接着性を増すため及び静電防止のために、前記の反射防止フィルムの透明基材フィルムが、例えば、トリアセチルセルロースフィルムである場合には、トリアセチルセルロースフィルムにケン化処理を行なう。このケン化処理は、トリアセチルセルロースフィルムにハードコート層を施す前後のどちらでもよい。
【０１０８】
而して、本発明に係る反射防止フィルムや、偏光素子等を使用して上記の液晶表示装置以外に、図示しないが、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置、無機ＥＬ表示装置、プラズマディスプレイ、フレキシブルな各種ディスプレイの表面の材料等に使用することができ、本発明に係る反射防止フィルムを画像表示部の観察側に積層、または、配置して使用して、強く折り曲げても、柔軟に追従することができると共に、高温多湿雰囲気下や紫外線照射環境下でも、層間密着性、耐久性に優れ、反射防止等の光学機能性を維持できるものである。
【実施例１】
【０１０９】
可撓性基材層（高分子フィルム）３０として、８０μｍのケン化処理を施したトリアセチルセルロースフィルム（製品名：フジタック、富士写真フィルム製、屈折率１．５０）上に、ハードコート樹脂を塗布及び乾燥し、電離放射線により硬化させ、厚み６μｍのハードコート層３１を形成した。このハードコート層の屈折率は１．５２であった。
【０１１０】
また、プラズマＣＶＤ法にて、図６に示す反応室ａでは酸化珪素膜３２（第１層）を、反応室ｂでは酸化チタン膜３３（第２層）を、ｃでは酸化珪素膜３２（第３層）を形成するようにした。
【０１１１】
高周波電源として１３．５６ＭＨｚのＲＦ電源を用いた。その他の条件は、以下に示す通りである。
〔第１層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ａ）〕
印加電力：１ｋＷ
原料ガス：ＨＭＤＳＯ（（ＣＨ3）3ＳｉＯＳｉ（ＣＨ3）3）、Ｏ2
ＨＭＤＳＯ：酸素のガス比  ４：１
〔第２層：酸化チタン膜の成膜条件（反応室ｂ）〕
印加電力：１ｋＷ
原料ガス：ＴＴＩＰ（Ｔｉ（Ｏ−ｉＣ3Ｈ7）3）、Ｏ2
ＴＴＩＰ：酸素のガス比  ０．１：１
〔第３層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ｃ）〕
印加電力：１ｋＷ
原料ガス：ＴＭＯＳ（テトラメトキシシラン）、Ｏ2
ＴＭＯＳ：酸素のガス比  ０．３：１
〔第１層：酸化珪素膜の測定結果〕
膜厚                       １１９ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）  １．７０
酸化度                    １．０
〔第２層：酸化チタン膜の測定結果〕
膜厚                       ２０ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）  ２．２
酸化度                    １．５
〔第３層：酸化珪素膜の測定結果〕
膜厚                       １２０ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）  １．４５
酸化度                    １．７
〔反射防止膜の測定結果〕
層構成：酸化珪素膜／酸化チタン膜／酸化珪素膜
視感度反射率：０．４２％
〔反射防止膜測定に使用した装置〕
屈折率・視感度反射率・膜厚        分光光度計
型番  ＵＶ−３１００ＰＣ          メーカー  島津製作所
以上に示した反射防止膜の形成結果のように、視感度反射率、０．４２％の光学特性を有し、酸化珪素膜（第１層）の酸化度、１．０、酸化チタン膜（第２層）の酸化度、１．５、酸化珪素膜（第３層）の酸化度、１．０の反射防止膜をトリアセチルセルロースフィルム上に形成し、層構成、酸化珪素膜（第３層）／酸化チタン膜（第２層）／酸化珪素膜（第１層）／ハードコート層３１／トリアセチルセルロースフィルム層３７からなる本発明に係る反射防止フィルム３６を得た。
【０１１２】
上記で得られた本発明に係る実施例１の反射防止フィルム３６は、高温多湿雰囲気下や紫外線照射環境下でも、反射防止層同士、及び、反射防止層と可撓性基材の膜剥がれもなく、層間密着性、耐久性、生産性に優れ、フレキシブルな各種ディスプレイに使用しても、柔軟に追従することができるものであった。
【実施例２】
【０１１３】
可撓性基材層（高分子フィルム）として、８０μｍのケン化処理を施したトリアセチルセルロースフィルム（製品名：フジタック、富士写真フィルム製、屈折率１．５０）上に、ハードコート樹脂を塗布及び乾燥し、電離放射線により硬化させ、厚み６μｍのハードコート層を形成した。このハードコート層の屈折率は１．５２であった。
【０１１４】
また、プラズマＣＶＤ法にて、図６に示す反応室ａでは酸化珪素膜（第１層）を、反応室ｂでは酸化チタン膜（第２層、第４層）を、ｃでは酸化珪素膜（第３層）を形成するようにした。
【０１１５】
高周波電源として１３．５６ＭＨｚのＲＦ電源を用いた。その他の条件は、以下に示す通りである。
〔第１層：酸化チタン膜の成膜条件（反応室ａ）〕
印加電力：１ｋＷ
原料ガス：ＴＴＩＰ（Ｔｉ（Ｏ−ｉＣ3Ｈ7）3）、Ｏ2
ＴＴＩＰ：酸素のガス比  ０．１：１
〔第２層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ｂ）〕
印加電力：１ｋＷ
原料ガス：ＴＭＯＳ（テトラメトキシシラン）、Ｏ2
ＨＭＤＳＯ：酸素のガス比  ０．３：１
〔第３層：酸化チタン膜の成膜条件（反応室ｃ）〕
印加電力：１ｋＷ
原料ガス：ＴＴＩＰ（Ｔｉ（Ｏ−ｉＣ3Ｈ7）3）、Ｏ2
ＴＴＩＰ：酸素のガス比  ０．１：１
〔第４層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ｂ）〕
印加電力：１ｋＷ
原料ガス：ＴＭＯＳ（テトラメトキシシラン）、Ｏ2
ＴＭＯＳ：酸素のガス比  ０．３：１
〔第１層：酸化チタン膜の測定結果〕
膜厚                       ２０ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）  ２．４
酸化度                    １．０
〔第２層：酸化珪素膜の測定結果〕
膜厚                       ４１ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）  ２．４
酸化度                    １．７
〔第３層：酸化チタン膜の測定結果〕
膜厚                       ３３ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）  ２．４
酸化度                    １．０
〔第４層：酸化珪素膜の測定結果〕
膜厚                       １１０ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）  １．４５
酸化度                    １．７
〔反射防止膜の測定結果〕
層構成：酸化チタン膜／酸化珪素膜／酸化チタン膜／酸化珪素膜
視感度反射率：０．２２％
以上に示した反射防止膜の形成結果のように、視感度反射率、０．４２％の光学特性を有し、酸化チタン膜（第１層）の酸化度、１．５、酸化珪素膜（第１層）の酸化度、１．０、酸化チタン膜（第２層）の酸化度、１．５、酸化珪素膜（第３層）の酸化度、１．０の反射防止膜をトリアセチルセルロースフィルム上に形成し、層構成、酸化珪素膜（第４層）／酸化チタン膜（第３層）／酸化珪素膜（第２層）／酸化チタン膜（第１層）／ハードコート層／ＴＡＣフィルムからなる本発明に係る反射防止フィルムを得た。
【０１１６】
なお、反射防止膜の測定装置は、実施例１と同じものを使用した。
【０１１７】
本発明に係る実施例２の反射防止フィルムは、高温多湿雰囲気下や紫外線照射環境下でも、反射防止層同士、及び、反射防止層と可撓性基材の膜剥がれもなく、層間密着性、耐久性、生産性に優れ、フレキシブルな各種ディスプレイに使用しても、柔軟に追従することができるものであった。
〔比較例１〕
反射防止膜の製膜条件以外は実施例２と同様の材料、製造方法を用いて、プラズマＣＶＤ法にて、図６に示す反応室ａでは酸化珪素膜（第１層）を、反応室ｂでは酸化チタン膜（第２層、第４層）を、ｃでは酸化珪素膜（第３層）を形成するようにした。
【０１１８】
成膜条件は、以下に示す通りである。
〔第１層：酸化チタン膜の成膜条件（反応室ａ）〕
印加電力：１ｋＷ
原料ガス：ＴＴＩＰ（Ｔｉ（Ｏ−ｉＣ3Ｈ7）3）、Ｏ2
ＴＴＩＰ：酸素のガス比  ０．０１：１
〔第２層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ｂ）〕
印加電力：１ｋＷ
原料ガス：ＴＭＯＳ（テトラメトキシシラン）、Ｏ2
ＴＭＯＳ：酸素のガス比  ０．１：１
〔第３層：酸化チタン膜の成膜条件（反応室ｃ）〕
印加電力：１ｋＷ
原料ガス：ＴＴＩＰ（Ｔｉ（Ｏ−ｉＣ3Ｈ7）3）、Ｏ2
ＴＴＩＰ：酸素のガス比  ０．０１：１
〔第４層：酸化珪素膜の成膜条件（反応室ｂ）〕
印加電力：１ｋＷ
原料ガス：ＴＭＯＳ（テトラメトキシシラン）、Ｏ2
ＴＭＯＳ：酸素のガス比  ０．１：１
〔第１層：酸化チタン膜の測定結果〕
膜厚                       ２０ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）  ２．４
酸化度                    １．９
〔第２層：酸化珪素膜の測定結果〕
膜厚                       ４３ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）  １．４５
酸化度                    １．９
〔第３層：酸化チタン膜の測定結果〕
膜厚                       ３３ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）  ２．４
酸化度                    １．９
〔第４層：酸化珪素膜の測定結果〕
膜厚                       １１０ｎｍ
屈折率（λ＝５５０ｎｍ）  １．４５
酸化度                    １．９
〔反射防止膜の測定結果〕
層構成：酸化チタン膜／酸化珪素膜／酸化チタン膜／酸化珪素膜
視感度反射率：０．３５％
以上に示した反射防止膜の形成結果のように、視感度反射率、０．４２％の光学特性を有し、酸化チタン膜（第１層）の酸化度、１．９、酸化珪素膜（第１層）の酸化度、１．９、酸化チタン膜（第２層）の酸化度、１．９、酸化珪素膜（第３層）の酸化度、１．９の反射防止膜をトリアセチルセルロースフィルム上に形成し、層構成、酸化珪素膜（第４層）／酸化チタン膜（第３層）／酸化珪素膜（第２層）／酸化チタン膜（第１層）／ハードコート層／トリアセチルセルロースフィルムからなる本発明に係る反射防止フィルムを得た。
【０１１９】
なお、反射防止膜の測定装置は、実施例１と同じものを使用した。
〔紫外線照射後の密着性試験〕
上記で得られた実施例１〜２、比較例１の反射防止フィルムと、ガラス基板とを、光学粘着材（製品名：ＨＪ−９１５０Ｗ、日東電工製）を介して、貼着し、紫外線照射試験は、サンシャインウェザーメーターを用い、光源としてカーボンアークランプを用い、ブラックパネル温度６０℃、３００時間の条件で行った。（耐光性試験機：サンシャインウェザーＯ：メーカー：スガ試験機（株））
その後、カッターによって約１ｍｍ間隔で１００個クロスハッチ（升目）を入れる。その後のその升目状の表面にセロテープ（ニチバン製）を貼りつけ表面から９０度の方向にテープを剥離した。これを３回繰り返した。この時のクロスハッチの剥がれなかった個数を計測することで評価した。結果を表１に示す。
〔高温高湿度保存後の密着性試験〕
次に、上記で得られた上記で得られた実施例１〜２、比較例１の反射防止フィルムを、環境試験機を用いて、６０℃、相対湿度９０％の条件下に５００時間保存した。
【０１２０】
その後、カッターによって約１ｍｍ間隔で１００個クロスハッチ（升目）を入れる。その後のその升目状の表面にセロテープ（ニチバン製）を貼りつけ表面から９０度の方向にテープを剥離した。これを３回繰り返した。この時のクロスハッチの剥がれなかった個数を計測することで評価した。結果を表１に示す。
【０１２１】
【表１】
2005055724.tif 000003
実験結果からも明らかなように、本発明に係る実施例１〜２の反射防止フィルムは、高温多湿雰囲気下や紫外線照射環境下であっても、反射防止層同士、及び、反射防止層と可撓性基材層間の膜剥がれもなく、層間密着性、耐久性に優れるものであった。
【０１２２】
これに対して、比較例１は、反射防止層と可撓性基材層の層間で膜剥がれを生じた。
【図面の簡単な説明】
【０１２３】
【図１】本発明に係る多層反射防止膜を形成する反射防止フィルムの一態様である層構成を示す概略断面図である。
【図２】本発明に係る多層反射防止膜を形成する反射防止フィルムの別態様である層構成を示す概略断面図である。
【図３】本発明に係る多層型反射防止フィルムにより表示面を被覆した液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。
【図４】プラズマＣＶＤ法による本発明に係る可撓性基材上に反射防止膜を形成する反射防止フィルムの製造方法を説明するための概略図である。
【図５】プラズマＣＶＤ法による本発明に係る可撓性基材上に反射防止膜を形成する反射防止フィルムの製造方法を説明するための概略図である。
【符号の説明】
【０１２４】
１ 、２１、３０   高分子フィルム（可撓性基材層）
２、２２    基材巻きだし部
２'、２６    基材巻き取り部
３、２３    真空容器
４、ａ、ｂ、ｃ    反応室
５、２７    真空ポンプ
６、ａ２、ｂ２、ｃ２    原料ガス導入口
７、７'    反転ロール
８、２４    成膜用ドラム
９、ａ１、ｂ１、ｃ１    電極
１０    電源
１１    プラズマ
２５    隔離壁
３１    ハードコート層
３２    酸化珪素膜（低屈折率層）
３３    酸化チタン層（高屈折率層）
１２、３４    反射防止膜（不完全無機酸化物層）
３５    防汚層
３６    反射防止フィルム
３７    トリアセチルセルロースフィルム（基材層）
３８    偏光素子
３９    液晶表示素子
４０    偏光板
４１    バックライトユニット
４２    酸化珪素膜（中屈折率層）
【図１】
2005055724.tif 000004
【図２】
2005055724.tif 000005
【図３】
2005055724.tif 000006
【図４】
2005055724.tif 000007
【図５】
2005055724.tif 000008