(57)【要約】【課題】  面位置検出系の光路を投影光学系をパージする領域と効率よく一致させることで面位置検出機構の光路における雰囲気の揺らぎによる計測誤差を低減する面位置検出系を構成した露光装置を提供することである。【解決手段】  投影光学系と感光基板間の光路空間をほぼ包囲する包囲部材を備え、該包囲部材は、光学素子を保持する保持部と走査方向の該包囲部材内に不活性ガスを対向して吹き付けるガス供給口と、さらに該包囲部材の該感光基板側端面と該感光基板とが隙間を有して配置され、該隙間から不活性ガスを排気することを特徴とする露光装置において、前記包囲部材の長手方向であり、かつパージ領域の長手方向と平行に面位置検出機構の光路を配置したことを特徴とする。【選択図】  図１
2005353971.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射し、該投影光学系と該感光基板間の光路空間をほぼ包囲する包囲部材と、該包囲部材内に不活性ガスを対向した向きに吹き付けるガス供給口と、前記感光基板の位置を検出する斜入射方式の検出系と、前記包囲部に設けられた前記検出系の照明光もしくは検出光が透過するため空間および光学部材とを備えた走査型露光装置において、前記包囲部は直方体形状で、前記検出系の光学系は前記直方体形状の包囲部の長手方向に平行な方向に配置されていることを特徴と走査型露光装置。
【請求項２】
前記走査型露光装置の露光領域は長方形もしくは円弧状のスリット形状で、前記直方体形状の包囲部は前記露光領域を包囲する走査型露光装置において、前記検出系の光学系は前記直方体形状の包囲部の長手方向および前スリット状の露光領域の長手方向に平行な方向に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の走査型露光装置。
【請求項３】
前記対向して吹き付けるガス供給口の一方をガス回収口とし、パージガスの流れを一方向にしたことを特徴とする請求項１または２に記載の走査型露光装置。
【請求項４】
前記ガス供給口またはガス回収口または前記パージガスの流れは、前記スリット状の露光領域長手方向および前記包囲部の長手方向および前記検出系の光学系配置方向に対して垂直な方向であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の走査型露光装置。
【請求項５】
露光光がＫｒＦエキシマレーザ、ＡｒＦエキシマレーザ、またはフッ素エキシマレーザのいずれかであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の走査型露光装置。
【請求項６】
前記不活性ガスが窒素、ヘリウム、アルゴンから選ばれる１種であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の走査型露光装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項記載の走査型露光装置を用いて、レチクル上のパターンをウエハー上に転写後、現像処理工程を介してデバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
走査型露光装置において、基板面位置検出機構の構造に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体露光装置は、回路パターンを有する原版（レチクル）を感光基板（シリコンウエハ）に転写することにより半導体集積回路の製造を行う装置である。この半導体露光装置は、光源からの露光光を任意の場所へ、決められた露光量を照射する照明光学系、照明光学系からの露光光を用いて、原版のパターンを所定の倍率で基板上に露光転写する投影光学系等が用いられる。近年では、回路の集積度をより高めるため、回路パターンのより一層の微細化が要求され、半導体露光装置への要求精度も従来の構造のままでは対応できなくなってきている。
【０００３】
半導体露光装置の解像力を向上させる手段としては、露光波長をより短波長に変えてゆく方法と、投影光学系の開口数（ＮＡ）を大きくしてゆく方法とがある。
【０００４】
露光波長については、３６５ｎｍのｉ線から最近では２４８ｎｍ付近の発振波長を有するＫｒＦエキシマレーザ、１９３ｎｍ付近の発振波長を有するＡｒＦエキシマレーザの開発が行われている。更に、１５７ｎｍ付近の発振波長を有するＦ２エキシマレーザの開発が行われている。
【０００５】
このＡｒＦエキシマレーザ、Ｆ２エキシマレーザ等の露光光では、その発光スペクトルが酸素の吸収帯と重なるため、露光光の透過率が酸素の吸収により低下する。また、酸素が露光光を吸収することにより、オゾンが生成され、このオゾンが光の吸収をより増加させ、透過率を著しく低下させることに加え、オゾンに起因する各種生成物が光学素子表面に付着し、光学系の効率低下を招く。
【０００６】
また、Ｆ２エキシマレーザの露光光に関しては、水分の吸収帯とも重なり、酸素と同様に水分が露光光を吸収し、透過率の低下、光学系の効率低下と半導体露光装置の性能低下につながる。
【０００７】
以上のような酸素等に吸収を示すＡｒＦエキシマレーザ、Ｆ２エキシマレーザ等の露光光を用いる場合の半導体露光装置では、照明光学系、投影光学系等を含む露光光の光路の雰囲気に光化学反応に対して不活性なガス（窒素ガス、ヘリウムガス、アルゴンガス等）を供給し、酸素、水分等をパージする技術が必要である。
【０００８】
特開平８−２７９４５８号公報によると、半導体露光装置において照明光学系、投影光学系の光路内に不活性ガスを供給するガス供給系と投影光学系の感光基板側端部から感光基板の近傍までの空間に、空間内の露光光の光路中に存在する大気を不活性ガスで置換するための密閉部材を配置する。また、ガス供給系からの不活性ガスを照明光学系、投影光学系、密閉空間へ各々、独立したラインで供給しパージする構成としている。
【０００９】
また、特開平２００１−１１８７８３号公報にあるように投影光学系感光基板側端部から感光基板の近傍までの空間に、カバー状の空間遮蔽物を配置し、前記カバーの内側に不活性ガスを流すことで露光領域のパージをする構成も開示されている。
【００１０】
さらに、最近では、最も効率よく酸素、水分等に吸収特性を持つ露光光を用いる走査型露光装置において、特に、投影光学系と感光基板間の露光光の光路中における酸素、水分等を効率良くパージするパージ手段と、投影光学系の最も感光基板に近い光学素子がレジストから発生するガス等により汚染されることに対しての汚染対策手段として、投影光学系と該感光基板間の光路空間をほぼ包囲する包囲部材を備え、包囲部材は、光学素子を保持する保持部と走査方向の包囲部材内に不活性ガスを対向して吹き付けるガス供給口と、さらに包囲部材の感光基板側端面と感光基板とが隙間を有して配置され、隙間から不活性ガスを排気することを特徴とする露光装置が提案されている。
【００１１】
一方、これらの露光装置では解像力の向上に伴い、投影光学系の許容深度（焦点深度）が減少し、ウエハー面を投影光学系の合焦位置に設定する際の精度に対して厳しい精度が要求されている。
【００１２】
従来より半導体素子製造用の縮小投影型の露光装置では、第１物体としてのレチクルの回路パターンを投影レンズ系により第２物体としてのウエハー上に投影露光するのに先立って、面位置検出装置（オートフォーカス装置、ＡＦ装置）を用いてウエハー面の光軸方向の位置を検出して、該ウエハー面を投影レンズの最良結像面に位置するようにしている。
【００１３】
投影露光装置に用いられるウエハー面の面位置検出機構の１つとしてウエハー面に対して光束を斜入射に入射させて構成される検出機構がある。
【００１４】
この検出機構では被検査面であるウエハー面上に複数の光束を照射し、ウエハー面から反射された複数の光束をそれぞれ光電変換素子にて受光し、光電変換素子上での光束の入射位置情報から、ウエハー面のＺ方向の位置情報（フォーカス）を検出したり、さらに複数の計測点のフォーカス情報から、ウエハー面の傾き情報（チルト）を検出するといった総合的なウエハー面の面位置情報を計測している。
【００１５】
ここにおいて、ウエハーの面位置情報を検出する面位置検出機構は露光装置内の空調機構による微妙な温度差に起因する空気の屈折率の空間的な乱れのために、ウエハー面の面位置検出用光束は屈折率の異なる層あるいは塊によって光路に変動を起こし、検出器上への光束の入射位置が異なってしまうという現象が生じる。そのために、ウエハー表面位置の検出精度が劣化してしまうという問題点があった。
【００１６】
このため、特開２０００−０８２６５４号公報にもあるように物体面近傍の外的要因を計測する参照計測部を面位置検出部に配置し、面位置検出部の面計測値の外的要因に対する変化率に応じて該参照計測部の計測条件を変化可能な構成とし、該面計測値と該参照計測値とを用いて該物体面の面位置情報を求めている。
【００１７】
また、特開平８−２７９４５８号公報では、投影光学系下端部から感光基板近傍の空間の全体を密閉部材で覆うことで面位置検出系の光路における空気の揺らぎを低減する方法が開示されている。
【００１８】
しかしながら、投影光学系と該感光基板間の光路空間をほぼ包囲する包囲部材を備え、包囲部材は、光学素子を保持する保持部と走査方向に沿って包囲部材内に不活性ガスを対向して吹き付けるガス供給口と、さらに包囲部材の感光基板側端面と感光基板とが隙間を有して配置され、隙間から不活性ガスを排気することを特徴する露光装置においては、面位置検出系の光路における雰囲気の揺らぎについての考慮がなされていなかった。
【特許文献１】特開平８−２７９４５８号公報
【特許文献２】特開２００１−１１８７８３号公報
【特許文献３】特開２０００−０８２６５４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１９】
特開平８−２７９４５８号公報による先行技術では、透明部材と感光基板間をガスでパージしていないため、面位置検出系の光路が露光領域においてパージ領域内およびパージ領域外を出入りするため、光路におけるパージ領域外の変動の影響を受け、計測誤差の原因となる。また、パージ領域の透過の度に透過ガラスを光路が通るため、透過ガラスの変形、振動、および面精度の変化が計測誤差を招く。
【００２０】
特開２００１−１１８７８３号公報による先行技術では、投影光学系と感光基板の空間を大まかに分離する送風板をおいて、投影光学系と送風板間にガス給気口と排気口を設けて、ガスを一定方向から流す構成としているが、この空間に排気口を設けると周囲の雰囲気ガス中に含まれる酸素、水分等を巻き込みやすくパージ領域の雰囲気が不安定となり、面検出系の光路における雰囲気の揺らぎの原因となる。
【００２１】
また、近年の露光装置においては投影光学系の開口数（ＮＡ）を大きくし、投影光学系を大型化することなく大面積のレチクルのパターンを高精度に転写するために、レチクルおよびウエハーを投影光学系に対して同期走査して露光を行うステップ・アンド・スキャン方式が主流となってきている。
【００２２】
露光領域はレチクルのスキャン方向に対して直行方向に長手方向のある長方形もしくは、円弧状のスリット形状となっている。よってパージ領域を効率良くパージするために、前記包囲部材の形状を露光領域の長手方向に長手方向が一致している直方体形状とすることで、パージガス流量を低減した効果的なパージ領域を形成することができる。
【００２３】
本出願に係る発明の目的は、酸素、水分等に吸収特性を持つ露光光を用い、投影光学系と該感光基板間の光路空間をほぼ包囲する包囲部材を備え、包囲部材は投影光学系露光領域の長手方向と長手方向が一致して配置された直方体形状をし、光学素子を保持する保持部と走査方向に沿って包囲部材内に不活性ガスを対向して吹き付けるガス供給口と、さらに包囲部材の感光基板側端面と感光基板とが隙間を有して配置され、隙間から不活性ガスを排気することを特徴とする露光装置において、特に面位置検出系の光路を投影光学系をパージする領域と効率よく一致させることで面位置検出機構の光路における雰囲気の揺らぎによる計測誤差を低減する面位置検出系を構成した露光装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２４】
上記の目的を達成するため、光源からの照明光を用いて、マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して感光基板上に露光する走査型露光装置は、該投影光学系と該感光基板間の光路空間をほぼ包囲する包囲部材を備え、該包囲部材は、光学素子を保持する保持部と走査方向の該包囲部材内に不活性ガスを対向して吹き付けるガス供給口と、さらに該包囲部材の該感光基板側端面と該感光基板とが隙間を有して配置され、該隙間から不活性ガスを排気することを特徴とする露光装置において、前記包囲部材の長手方向であり、かつパージ領域の長手方向と平行に面位置検出機構の光路を配置したことを特徴とする。
【００２５】
光源からの照明光を用いて、マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して感光基板上に露光する走査型露光装置における露光領域は、スキャン方向に対して、直行成分に長手方向の長方形もしくは円弧状のスリット形状をしている。
【００２６】
そして、酸素、水分等の濃度分布により生じる照度ムラの影響を最小限に留め、スループットの維持、向上を図るために、不活性ガスは走査方向へ対向して吹き付ける。
【００２７】
前記包囲部材は、前記露光領域の長手方向に包囲部材の長手方向を一致させた直方体形状とすることで、パージ領域に供給する不活性ガスの流量を低減することができる。よって、走査方向に対して直交方向に長手方向が形成されている露光領域の長手方向にパージ領域の長手方向および包囲部材の長手方向がそれぞれ一致した構成が形成される。
【００２８】
上記構成において、投影光学系と感光基板間の光路空間をほぼ包囲する包囲部材を備え、包囲部材は投影光学系露光領域の長手方向と長手方向が一致して配置された直方体形状をし、走査方向の包囲部材内に不活性ガスを対向して吹き付け、包囲部材の感光基板側端面と感光基板の隙間から不活性ガスを排気することにより、投影光学系と感光基板間における酸素、水分等の吸収ガスを最も効率良く排出する露光装置においては、包囲部材の構成のため、面位置検出機構をパージ領域内部に配置することが困難である。
【００２９】
従って、本発明においては、前記面位置検出系の投光系出射端および検出系入射端を前記方位部材の長手方向、従って、前記パージ領域の長手方向と一致させ、面位置検出系の光路が投影光学系のパージ領域を通過する距離を最大にし、すなわち、パージ領域外を通る距離を最小になるよう配置する。上記構成において、パージガスは圧力、流量、温度が管理された不活性ガスとすることで、投影光学系のパージエリア内において面位置検出系光路空間における雰囲気の揺らぎがパージ領域外と比べて低減されるので、面位置検出系の光路が、パージ領域外を通る距離を最小にすることで、面位置検出機構の光路における雰囲気の揺らぎに起因する計測誤差を最小に抑えることができることを特徴としている。
【発明の効果】
【００３０】
本発明の走査型露光装置における投影光学系感光基板側端部構造の包囲部材は、投影光学系と感光基板間における酸素、水分等を効率良くパージした露光装置において、面位置検出機構の光路のパージ領域外を通過する距離を最小にすることで、面位置検出機構がパージ領域外の雰囲気の揺らぎから受ける計測誤差を最小にすることが可能となる。これにより、面位置検出機構の誤計測成分を低減させ、信頼性の高い走査型露光装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
本発明の露光装置は制限されず、露光光として紫外光を用い、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置であれば公知のものに起用される。
【００３２】
本発明の露光装置に用いる露光光としての紫外光は制限されないが、従来技術で述べたように遠赤外線とりわけ１９３ｎｍ付近の波長を有するＡｒＦエキシマレーザや１５７ｎｍ付近の波長を有するフッ素（Ｆ２）エキシマレーザ光に対して有効である。
【００３３】
（第１の実施例）
図１は、本発明の第１の実施例に係る概略図である。図１において、重力方向は−Ｚ方向、走査方向は±Ｙ方向である。１は投影光学系、２は感光基板、３は投影光学系１と感光基板２の間の光路空間をほぼ包囲する包囲部材であり、露光領域長手方向に包囲部材の長手方向が一致した直方体形状をしている。４は空間Ｓ１に不活性ガスを供給する吹き出し口で対向して設けている、５は感光基板２を支持する感光基板ステージ、６は照明光学系、７は転写される原版であるレチクル、８はレチクル７を支持するレチクルステージである。また、不活性ガスはヘリウム、窒素、アルゴンを用いることが望ましい。
【００３４】
上記構成において、空間Ｓ１では、包囲部材３に設けた走査方向へ不活性ガスを吹き付ける吹き出し口４より、不図示の不活性ガス供給設備と不活性ガス供給ラインから圧力、流量、温度が管理された不活性ガスを対向して光路空間に吹き付け、供給された不活性ガスが隙間ｇより排気されることにより、空間Ｓ２に残存していた酸素、水分が効率良く排出される。
【００３５】
露光領域における、酸素、水分等の濃度分布により生じる照度ムラの影響を最小限に留め、スループットの維持、向上を図るために、不活性ガスは走査方向へ対向して吹き付ける。
【００３６】
このため、効率良くパージ領域を形成するため、パージ領域は走査方向に直行する成分を長手成分とする長方形領域とする。
【００３７】
図２（ａ）、（ｂ）は、投影光学系１と感光基板２間に構成された面位置検出機構の構成である。１２（ａ）は、投光部側の感光基板２位置検出装置、１２（ｂ）は受光部側の感光基板２位置検出装置、１３は計測光、１４は計測光１３が通過するための包囲部材３に設けた開口部、１５は計測光を透過させる透過部材である。投光部側の感光基板２位置検出装置１２（ａ）からの計測光１３を感光基板２に入射させ、その反射光を受光部側の感光基板２位置検出装置１２（ｂ）に取り込むことにより、感光基板２の表面を投影光学系１の焦点に合わせるため、包囲部材３には計測光１３が通過する開口部１４を設けているが、この開口部１４より酸素、水分等が混入し、空間Ｓ１におけるパージ効率を低下させる。そのため、計測光１３を透過する透過部材１５を空間Ｓ１の内部における開口部口に設置する構成としている。また、計測光１３の通過する空間における圧力変化、温度変化は計測誤差を招き、感光基板位置調整が狂い、結像性能の劣化の原因となる。そのため、包囲部材３内と周囲とのガスの温度差がフォーカス計測精度に影響しない所定の値以下になる様、不図示のガス温度制御装置にて制御する。
【００３８】
また、パージ領域においては、圧力が変動すると、光学性能の変動を招くため、所定の値以下になる様、不図示の圧力制御装置にて計測光１３の通過する空間の圧力を一定となるように制御する。
【００３９】
包囲領域及び、投影光学系鏡筒が構成されているため、面位置検出機構は投影光学系の光軸中心を中心とした、一定の半径の円外にのみ配置構成が可能である。従って、面位置検出機構の投光系、受光系共にパージ領域外に構成され、面位置検出機構の投光系出射端より出射された計測光はパージ領域外から包囲領域に構成された透過光学部材を透過してパージ領域内で基板上にて反射し、同じく、入射側に対向して配置構成された透過光学部材を透過してパージ領域外に達し、面位置検出機構の受光系に入射する。
【００４０】
面位置検出系の光路はパージ領域外においては雰囲気の揺らぎによって計測誤差を招く。つまり、面位置検出機構の投光系出射端とパージ領域までの距離ｄ１及びパージ領域から面位置検出機構の受光系入射端までの距離ｄ１において面位置検出機構は雰囲気の揺らぎによって計測誤差の影響を受ける。
【００４１】
このため、パージ領域外の光路長を最小にとる必要がある。そこで、本発明においては、パージ領域の長手方向と平行に、面位置検出機構の光路を配置することによって面位置検出機構の光路がパージ領域外を通過する距離を最小とし、パージ領域外の雰囲気の揺らぎの影響を最小限に留めることができるため、パージ領域外の雰囲気の揺らぎに起因する計測誤差の影響を最小限に抑えることができる。
【００４２】
図３において、比較のために、面位置検出機構の光路をパージ領域の長手方向と直行する方向に配置した場合の構成を示す。この場合においても、包囲領域及び、投影光学系鏡筒が構成されているため、面位置検出機構は投影光学系の光軸中心を中心とした、一定の半径の円外にのみ配置構成が可能であるため、面位置検出機構の投光系出射端とパージ領域までの距離ｄ２及びパージ領域から面位置検出機構の受光系入射端までの距離ｄ２は面位置検出機構の光路をパージ領域の長手方向と平行に配置した場合と比較して、ｄ１＜ｄ２となる。したがって、面位置検出機構の光路がパージ領域外を通過する距離が本発明における面位置検出機構の構成と比較して、面位置検出機構の計測光がうける雰囲気の揺らぎの影響は大きくなる。
【００４３】
以上のように、面位置検出機構の光路を前記包囲部材の長手方向およびパージ領域の長手方向と平行に構成することで面位置検出機構の光路がパージ領域を通過する距離を最小にすることができ、面位置検出機構がパージ領域外で受ける雰囲気の揺らぎによる影響を最小とすることができる。
【００４４】
また、次に本発明における露光方法を説明する。照明光学系６における光源には、波長１９３［ｎｍ］のＡｒＦエキシマレーザ、波長１５７［ｎｍ］のＦ２エキシマレーザ等を用いる。レチクル７に描かれたパターン領域は照明光学系６により照射され、投影光学系１により所定の倍率（例えば１／４、または１／５）で縮小し、感光基板ステージ５に保持された感光基板２に転写される。投影光学系１に対して、レチクル７と感光基板２を走査することにより、レチクル７のパターン領域を感光基板２に転写する。この走査露光が感光基板２上の複数の転写領域に対して繰り返し行われる。
【００４５】
（第２の実施例）
次に第２の実施例を図４を用いて説明する。図４は本発明の第２の実施例に係る概略図である。図４において先の実施例と同一の符号は同一の部材である。
【００４６】
図４に示された構成において、空間Ｓ１では、包囲部材３に設けた走査方向へ不活性ガスを吹き付ける吹き出し口４より、不図示の不活性ガス供給設備と不活性ガス供給ラインから圧力、流量、温度が管理された不活性ガスが光路空間に吹き付けられ、供給された不活性ガスが吹き出し口４に対向して配置された不活性ガス回収口１７より排気されることにより、空間Ｓ１に残存していた酸素、水分が効率良く排出される。
【００４７】
酸素、水分等の濃度分布により生じる照度ムラの影響を最小限に留め、スループットの維持、向上を図るために、不活性ガスは走査方向へ供給口より対向して吹き付けられ、対向して配置された回収口より排気される。
【００４８】
このため、効率良くパージ領域を形成するため、パージ領域は走査方向に直行する成分を長手成分とする長方形領域となる。
【００４９】
本実施例の構成においても、包囲部材の長手方向およびパージ領域の長手方向に平行に面位置検出機構の光路を構成する。このことによって、本実施例の構成においても面位置検出機構の光路におけるパージ領域外を透過する距離が最小となるため、面位置検出機構が雰囲気の揺らぎによって受ける計測誤差の影響を最小にすることができる。
【００５０】
これまで説明した実施例においては、投影光学系は屈折型光学系であったが、これに限定するものではなく、一部に反射素子を用いた反射屈折型光学系であっても良い。
【００５１】
また、光軸上に露光範囲を説明したが、これに限定するものではなく、光軸から偏芯した露光範囲を有する光学系であっても良い。
【００５２】
さらに、ＡｒＦエキシマレーザ、Ｆ２エキシマレーザに限定するものではなく、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザであっても良く、レジストからのガスによるコンタミ排出を効果的に行う。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本発明の第１の実施例に係る走査型露光装置の投影光学系感光基板側端部構造を説明する概略図。
【図２】（ａ）は本発明の第１の実施例に係る走査型露光装置の投影光学系感光基板側端部構造を説明する詳細図、（ｂ）は本発明の第１の実施例に係る走査型露光装置の投影光学系感光基板側端部構造を説明する下面図。
【図３】面位置検出機構をパージ領域の長手方向へ直交して構成した場合の投影光学系感光基板側端部構造を説明する下面図。
【図４】本発明の第２の実施例に係る走査型露光装置の投影光学系感光基板側端部構造を説明する下面図。
【符号の説明】
【００５４】
１  投影光学系
２  感光基板
３  包囲部材
４  パージガス吹き出し口
５  感光基板ステー
６  照明光学系
７  レチクル
８  レチクルステージ
９  露光領域
１０  投影光学系パージ領域
１１  パージガスの流れ
１２（ａ）  投光部側の感光基板２位置検出装置
１２（ｂ）  受光部側の感光基板２位置検出装置
１３  計測光
１４  開口部
１５  透過部材
１７  パージガス回収口
１８  スキャン方向
Ｓ１  投影光学系基板側下端におけるパージ領
ｄ１  面位置検出系と投影光学系パージ領域の間隙
ｄ２  面位置検出系と投影光学系パージ領域の間隙
ｇ  包囲部材３の感光基板２側端面と感光基板２との間隙
【図１】
2005353971.tif 000003
【図２】
2005353971.tif 000004
【図３】
2005353971.tif 000005
【図４】
2005353971.tif 000006