(57)【要約】【課題】基板処理装置全体の高さを抑えつつ、下側に配設された処理機構部の保守を効率的に行うことができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置１は、上下に並設された上側の第１処理機構部２及び下側の第２処理機構部３と、第１処理機構部２及び第２処理機構部３に接続した昇降機構部とからなる。第１処理機構部２は、第１処理チャンバ１１を備え、第１処理チャンバ１１内において、基板Ｋを所定の方向に搬送しつつ基板Ｋに対して所定の処理を行い、第２処理機構部３は、第２処理チャンバ３１を備え、第２処理チャンバ３１内において、前記所定の方向とは逆方向に基板Ｋを搬送しつつ基板Ｋに対して所定の処理を行う。第１処理チャンバ１１は、第２処理チャンバ３１に対し回動可能に、又は第２処理チャンバ３１から上方に上昇可能に第２処理チャンバ３１上に載置される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
上下に並設された上側の第１処理機構部及び下側の第２処理機構部と、該第１処理機構部及び第２処理機構部に接続した昇降機構部とから構成される基板処理装置であって、
前記第１処理機構部は、閉塞空間を有する筐体状の第１処理チャンバを備え、該第１処理チャンバ内において、基板を水平方向に搬送しつつ該基板に対して所定の処理を行うように構成され、
前記第２処理機構部は、同じく閉塞空間を有する筐体状の第２処理チャンバを備え、該第２処理チャンバ内において、基板を水平方向に搬送しつつ該基板に対して所定の処理を行うように構成され、
前記昇降機構部は、前記第１処理チャンバ及び第２処理チャンバに接続して、前記第１処理チャンバから搬出された基板を降下させて前記第２処理チャンバ内に、又は前記第２処理チャンバから搬出された基板を上昇させて前記第１処理チャンバ内に搬入するように構成された基板処理装置において、
前記第１処理チャンバは、前記第２処理チャンバに対し回動可能に、又は第２処理チャンバから上方に上昇可能に該第２処理チャンバ上に載置されてなることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記第１処理チャンバの前記搬送方向と平行な中心軸回りに、相互に揺動自在に設けられた第１部材及び第２部材を具備し、前記第１部材が、前記第１処理チャンバの搬送方向と直交する方向の一方端側に固設され、前記第２部材が、前記第２処理チャンバの搬送方向と直交する方向の一方端側に固設された連結手段を更に備えてなり、
前記第１処理チャンバは、前記連結手段の前記中心軸を中心に回動して、該第１処理チャンバの前記直交方向の他方端側が上方に持ち上がるように構成されてなることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記第１処理チャンバを、回動又は上方に上昇させる駆動手段を備えてなることを特徴とする請求項１又は２記載の基板処理装置。
【請求項４】
一方端が回動又は上昇後の前記第１処理チャンバと係合するとともに、他方端が前記第２処理チャンバと係合して、該第１処理チャンバが下方に移動するのを制止する係止部材を更に備えてなることを特徴とする請求項１乃至３記載のいずれかの基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体（シリコン）ウエハ，液晶ガラス基板，フォトマスク用ガラス基板，光ディスク用基板などの各種基板に対し、これを移動させつつ（搬送しつつ）所定の処理を行なう基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、基板処理装置として、図６に示すような構造を備えたものが知られており、この基板処理装置１００は、同図６に示すように、上下に並設された第１処理機構部１０１及び第２処理機構部１０２と、これら第１処理機構部１０１と第２処理機構部１０２とを接続する昇降機構部１０３などから構成される（特開２００２−２６１１４３号公報参照）。
【０００３】
前記第１処理機構部１０１及び第２処理機構部１０２は、基板を矢示方向に搬送しつつ当該基板に対して所定の処理を行うように構成されており、第１処理機構部１０１は、適宜投入された基板に対して、例えば、エッチング処理を行った後、当該基板を昇降機構部１０３に搬出し、第２処理機構部１０２は、昇降機構部１０３から搬出された基板に対して、例えば、洗浄処理及び乾燥処理を行った後、当該基板を第２処理機構部１０２から外部に排出する。
【０００４】
前記昇降機構部１０３は、基板に対して所定の処理を行う処理機構（図示せず）と、この処理機構（図示せず）を支持して上下方向に昇降させる昇降機構（図示せず）とから構成される。
【０００５】
前記処理機構（図示せず）は、第１処理機構部１０１から搬出された基板を処理機構（図示せず）内に受け入れ、当該基板に対して、例えば、洗浄処理を行った後、当該基板を処理機構（図示せず）から第２処理機構部１０２に搬出する。
【０００６】
前記昇降機構（図示せず）は、処理機構（図示せず）が上昇端位置にあるときに、第１処理機構部１０１から搬出された基板が処理機構（図示せず）内に受け入れられるように、処理機構（図示せず）が下降端位置にあるときに、処理機構（図示せず）内の基板が第２処理機構部１０２に搬出されるように、当該処理機構（図示せず）を昇降させる。
【０００７】
尚、処理機構（図示せず）は、昇降機構（図示せず）による下降動作中に、基板処理を行うように構成される。
【０００８】
この基板処理装置１００では、第１処理機構部１０１に投入された基板は、当該第１処理機構部１０１においてエッチング処理された後、第１処理機構部１０１から昇降機構部１０３の処理機構（図示せず）に搬送され、当該処理機構（図示せず）において洗浄処理される。
【０００９】
このとき、処理機構（図示せず）は、昇降機構（図示せず）によって下方に移動せしめられており、下降端位置に達すると、洗浄処理された基板が処理機構（図示せず）から第２処理機構部１０２に搬送されて、当該第２処理機構部１０２において更に洗浄処理された後、乾燥処理され、そして、第２処理機構部１０２から排出される。このようにして、基板に対し一連の処理が適宜実行される。
【００１０】
このように、この基板処理装置１００によれば、第１処理機構部１０１と第２処理機構部１０２とを上下方向に並設することで、基板処理装置１００の設置スペースを小さくすることができ、当該装置１００を効率的に配設することができる。
【００１１】
【特許文献１】特開２００２−２６１１４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
ところで、基板処理装置１００全体の高さは、当該基板処理装置１００が配設される工場の天井高さによって制限を受ける他、上側に設けられた第１処理機構部１０１の保守を行い易くするためにも、ある程度低い方が好ましい。また、第１処理機構部１０１と第２処理機構部１０２との間には、下側に設けられた第２処理機構部１０２の保守を行い易くするために、所定間隔の隙間が形成されていることが好ましい。
【００１３】
しかしながら、上記従来の基板処理装置１００では、当該第１処理機構部１０１と第２処理機構部１０２との間に、所定間隔の隙間が形成されるようにこれらを設置すると、基板処理装置１００全体の高さが規定の高さ以上に高くなるという問題を生じるため、第１処理機構部１０１と第２処理機構部１０２との間に十分な隙間を設けることができなかった。
【００１４】
したがって、第２処理機構部１０２の保守を行う際には、第１処理機構部１０１を取り外さなければならないなど、第２処理機構部１０２の保守を効率的に行うことができなかった。
【００１５】
本発明は、以上の実情に鑑みなされたものであって、基板処理装置全体の高さを抑えつつ、下側に配設された処理機構部の保守を効率的に行うことができる基板処理装置の提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的を達成するための本発明は、上下に並設された上側の第１処理機構部及び下側の第２処理機構部と、該第１処理機構部及び第２処理機構部に接続した昇降機構部とから構成される基板処理装置であって、
前記第１処理機構部は、閉塞空間を有する筐体状の第１処理チャンバを備え、該第１処理チャンバ内において、基板を水平若しくは傾斜させた状態で水平方向に搬送しつつ該基板に対して所定の処理を行うように構成され、
前記第２処理機構部は、同じく閉塞空間を有する筐体状の第２処理チャンバを備え、該第２処理チャンバ内において、基板を水平若しくは傾斜させた状態で水平方向に搬送しつつ該基板に対して所定の処理を行うように構成され、
前記昇降機構部は、前記第１処理チャンバ及び第２処理チャンバに接続して、前記第１処理チャンバから搬出された基板を降下させて前記第２処理チャンバ内に、又は前記第２処理チャンバから搬出された基板を上昇させて前記第１処理チャンバ内に搬入するように構成された基板処理装置において、
前記第１処理チャンバは、前記第２処理チャンバに対し回動可能に、又は第２処理チャンバから上方に上昇可能に該第２処理チャンバ上に載置されてなることを特徴とする基板処理装置に係る。
【００１７】
この発明によれば、基板が、第１処理機構部又は第２処理機構部の処理チャンバ内に適宜投入されると、投入された基板は、当該処理チャンバ内において、水平若しくは傾斜した状態で水平方向に搬送されつつこれに所定の処理が行われる。
【００１８】
ついで、第１処理機構部又は第２処理機構部で処理された基板は、昇降機構部に搬出された後、当該昇降機構部により降下又は上昇せしめられて第２処理機構部又は第１処理機構部の処理チャンバに搬入され、搬入された基板は、当該処理チャンバ内において、水平若しくは傾斜した状態で前記水平方向に搬送されつつ所定の処理が行われる。
【００１９】
この後、基板は、当該第２処理機構部又は第１処理機構部の処理チャンバ内から外部に排出される。
【００２０】
そして、第１処理チャンバは、第２処理チャンバに対し回動可能に、又は第２処理チャンバから上方に上昇可能に当該第２処理チャンバ上に載置されていることから、第２処理チャンバ内の保守を行う場合には、第１処理チャンバを回動又は上昇させることで、当該第１処理チャンバと第２処理チャンバとの間を開口させることができる。これにより、作業者は、当該開口部から手を入れたり、第２処理チャンバ内を覗き込むことで、保守を行うことが可能となる。
【００２１】
尚、前記基板処理装置は、前記第１処理チャンバの長手方向と平行な中心軸回りに、相互に揺動自在に設けられた第１部材及び第２部材を具備し、前記第１部材が、前記第１処理チャンバの搬送方向と直交する方向の一方端側に固設され、前記第２部材が、前記第２処理チャンバの搬送方向と直交する方向の一方端側に固設された連結手段を更に備えてなり、前記第１処理チャンバは、前記連結手段の前記中心軸を中心に回動して、該第１処理チャンバの前記直交方向の他方端側が上方に持ち上がるように構成されていても良い。
【００２２】
また、前記基板処理装置は、更に、前記第１処理チャンバを回動又は上昇させる駆動手段を備えていても良く、また、一方端が回動又は上昇後の前記第１処理チャンバと係合するとともに、他方端が前記第２処理チャンバと係合して、該第１処理チャンバが下方に移動するのを制止する係止部材を更に備えていても良い。
【発明の効果】
【００２３】
斯くして、本発明に係る基板処理装置によれば、第１処理チャンバを上方に上げて、第１処理チャンバと第２処理チャンバとの間に開口部を形成することができるので、従来のように、第１処理チャンバを取り外したりする必要はなく、当該保守を効率的に行うことができる。また、基板処理装置全体の高さを低く抑えることができる。
【００２４】
また、第１処理チャンバを上げる駆動手段を設けるようにようにすれば、自動的に所定の揺動角度位置まで上げることができ、より効率的に保守作業を行うことができる。尚、通常、第１処理チャンバは相当の重量を有しており、こういった意味でも駆動手段により当該第１処理チャンバを上げるようにすると良い。
【００２５】
また、係止部材の一方端を回動又は上昇後の第１処理チャンバに係合させるとともに、他方端を第２処理チャンバに係合させて、当該第１処理チャンバが下方に移動するのを制止するようにすれば、第１処理チャンバが何らかの拍子に落下するのを確実に防止することができ、作業者は安心して保守作業を行なうことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の具体的な実施形態について、添付図面に基づき説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示した正面図であり、図２は、図１における矢示Ａ−Ａ方向の断面図であって、図３における矢示Ｂ−Ｂ方向の断面図である。また、図３は、図２における矢示Ｃ方向の平面図であり、図４は、図２における矢示Ｄ方向の正面図であり、図５は、図３における矢示Ｅ−Ｅ方向の断面図である。
【００２７】
図１に示すように、本例の基板処理装置１は、上下に並設された第１処理機構部２及び第２処理機構部３と、これら第１処理機構部２及び第２処理機構部３の両側にそれぞれ配設され、当該第１処理機構部２及び第２処理機構部３に接続した第１昇降機構部４及び第２昇降機構部５などを備えている。
【００２８】
また、前記基板処理装置１は、第１処理機構部２に投入された基板Ｋを、当該第１処理機構部２から第１昇降機構部４，第２処理機構部３，第２昇降機構部５及び第１処理機構部２に順次矢示方向に搬送しつつ所定の処理を行い、第１処理機構部２から外部に排出するように構成される。尚、本例では、基板処理装置１は、基板Ｋに対して、エッチング処理，洗浄処理及び乾燥処理を順次行うように構成されているものとする。
【００２９】
図１乃至図５に示すように、前記第１処理機構部２は、基板投入／排出部１０と乾燥処理部２５とからなり、第２処理機構部３の上側に配設されている。前記基板投入／排出部１０は、底面が支持フレーム７上に分離可能に載置され、上部が開口するとともに、水平方向に細長となった筐体状の処理チャンバ１１と、処理チャンバ１１の上部開口部を閉塞する蓋体１２と、上側に基板排出室１３を形成するとともに、下側に基板投入室１４を形成するように、処理チャンバ１１内を仕切る仕切部材１５と、基板Ｋを水平に支持した状態で処理チャンバ１１の長手方向に沿った所定の方向に搬送するように、基板排出室１３及び基板投入室１４に前記基板搬送方向に沿って配設された複数の搬送ローラ１６などから構成される。
【００３０】
尚、前記支持フレーム７は、複数の支柱から格子状に構成されており、前記処理チャンバ１１は、その長手方向の両端部の底面が当該支持フレーム７によって支持されている。
【００３１】
また、基板投入／排出部１０は、処理チャンバ１１の長手方向と直交する方向における基板排出室１３及び基板投入室１４（処理チャンバ１１）の一方端側の側壁に形成された基板排出口１１ａ及び基板投入口１１ｂと、前記基板搬送方向上流側の基板排出室１３の側壁に形成された基板搬入口１１ｃと、前記基板搬送方向下流側の基板投入室１４の側壁に形成された基板搬出口１１ｄと、処理チャンバ１１の長手方向と直交する平面内で揺動し、基板排出口１１ａ及び基板投入口１１ｂをそれぞれ閉塞する各扉１７と、各扉１７を開閉させる駆動機構（図示せず）とを備えている。
【００３２】
また、基板投入／排出部１０は、基板搬送方向と直交する方向側から基板Ｋ両端面に当接可能に配設されたガイドローラ１８と、仕切部材１５の上面及び処理チャンバ１１の底面にそれぞれ配設され、このガイドローラ１８を支持して前記直交方向に沿って基板Ｋに近づく方向及び基板Ｋから離れる方向（即ち、図２における矢示方向）に移動させる駆動機構１９とを備えている。
【００３３】
前記搬送ローラ１６は、その回転軸１６ａの両端部が基板排出室１３及び基板投入室１４の内壁に固設された支持部材２０によって回転自在にそれぞれ支持され、基板排出室１３及び基板投入室１４の他方端側の側壁には、搬送ローラ１６をその軸中心に回転させる駆動機構２１が設けられている。尚、図中において、駆動機構２１は、駆動モータなどが収納される収納ボックスを示している。
【００３４】
前記各扉１７は、その下方端に形成された取付部１７ａの貫通穴と、基板排出室１３及び基板投入室１４の一方端側の側壁に形成された凸部１１ｅ，１１ｆの貫通穴とに挿通された挿通部材２２を介して、前記平面内で揺動自在に基板排出室１３及び基板投入室１４の側壁に取り付けられている。
【００３５】
斯くして、この基板投入／排出部１０によれば、基板投入室１４では、まず、駆動機構（図示せず）により扉１７が開かれた後、適宜手段によって、基板Ｋが基板投入口１１ｂから基板投入室１４内に投入されて搬送ローラ１６上に載置される。この後、駆動機構（図示せず）により扉１７が閉じられる。ついで、各駆動機構１９により各ガイドローラ１８が基板Ｋに近づく方向に移動せしめられて基板Ｋ両端面に当接せしめられ、これにより、基板搬送方向と直交する方向に基板Ｋが移動するのが防止される。この後、駆動機構２１により搬送ローラ１６がその軸中心に回転せしめられて、基板Ｋが第１昇降機構部４側に搬送され、基板搬出口１１ｄから搬出される。
【００３６】
一方、基板排出室１３では、駆動機構２１により搬送ローラ１６がその軸中心に回転せしめられた状態にあり、基板Ｋが、基板搬入口１１ｃを介して乾燥処理部２５から搬入され、所定の位置まで搬送されると、駆動機構２１の作動が停止せしめられる。次に、各駆動機構１９により各ガイドローラ１８が基板Ｋから離れる方向に移動せしめられた後、駆動機構（図示せず）により扉１７が開かれ、ついで、適宜手段によって、搬送ローラ１６上の基板Ｋが基板排出口１１ａから排出される。この後、駆動機構（図示せず）により扉１７が閉じられる。
【００３７】
前記乾燥処理部２５は、その詳細を図示しないが、基板Ｋを乾燥させる乾燥処理機構の他、基板投入／排出部１０と同様に、処理チャンバと、蓋体と、搬送ローラと、前記基板搬送方向下流側の処理チャンバの側壁に形成された基板搬出口と、前記基板搬送方向上流側の処理チャンバの側壁に形成された基板搬入口などを備えており、基板搬入口を介して第２昇降機構部５から搬入された基板Ｋを搬送ローラにより基板排出室１３側に搬送しつつ乾燥処理機構により当該基板Ｋに対して乾燥処理を行った後、基板搬出口から基板排出室１３に搬出するように構成される。尚、前記処理チャンバは、前記処理チャンバ１１と同様に、その長手方向の両端部の底面が支持フレーム７によって支持されるようになっている。
【００３８】
前記第２処理機構部３は、底面が支持フレーム７の中央部に載置部材３０を介して載置され、上部が開口するとともに、処理チャンバ１１と同方向に細長となった筐体状の処理チャンバ３１と、処理チャンバ３１の上部開口部を閉塞する蓋体３２と、基板Ｋを傾斜させた状態で所定の方向に（第２処理機構部２における基板搬送方向とは逆方向に）搬送するように、処理チャンバ３１内に前記基板搬送方向に沿って配設された複数の搬送ローラ３３と、搬送ローラ３３の上方に配設された複数のノズル３４と、搬送ローラ３３の下方に配設された複数のノズル３５などから構成される。
【００３９】
また、第２処理機構部３は、前記基板搬送方向下流側の処理チャンバ３１の側壁に形成された基板搬出口（図示せず）と、前記基板搬送方向上流側の処理チャンバ３１の側壁に形成された基板搬入口（図示せず）とを備えており、基板搬入口（図示せず）を介して第１昇降機構部４から搬入された基板Ｋを搬送ローラ３３により搬送し、基板搬出口（図示せず）から第２昇降機構部５に搬出するように構成される。
【００４０】
前記搬送ローラ３３は、その回転軸３３ａの両端部が処理チャンバ３１の内壁に固設された支持部材３６によって回転自在にそれぞれ支持され、また、その両端部に位置するローラの外周面には、基板搬送方向と直交する方向に基板Ｋが移動するのを防止するための鍔部３３ｂが形成されており、処理チャンバ３１の側壁には、搬送ローラ３３をその軸中心に回転させる駆動機構３７が設けられている。尚、図中において、駆動機構３７は、駆動モータなどが収納される収納ボックスを示している。
【００４１】
前記ノズル３４は、エッチング液供給装置（図示せず）に接続された供給管３８に固設されており、この供給管３８を介してエッチング液供給装置（図示せず）から供給されたエッチング液を基板Ｋの上面に向けて吐出する。また、供給管３８は、傾斜した基板Ｋと平行となるように、取付部材３９を介して処理チャンバ３１の内壁に取り付けられている。
【００４２】
また、前記ノズル３５は、ノズル３４と同様に、エッチング液供給装置（図示せず）に接続された供給管４０に固設されており、この供給管４０を介してエッチング液供給装置（図示せず）から供給されたエッチング液を基板Ｋの下面に向けて吐出する。また、供給管４０は、傾斜した基板Ｋと平行となるように、取付部材４１を介して処理チャンバ３１の底面に取り付けられている。
【００４３】
前記第１昇降機構部４は、第１処理機構部２に対し、該第１処理機構部２における基板搬送方向下流側で接続する一方、第２処理機構部３に対し、該第２処理機構部３における基板搬送方向上流側で接続しており、その詳細を図示しないが、基板Ｋに対して所定の処理を行う処理機構と、この処理機構を支持して上下方向に昇降させる昇降機構などからなる。
【００４４】
前記処理機構は、基板Ｋが搬入又は搬出される搬入／搬出口が形成された処理チャンバと、処理チャンバ内に配設され、基板Ｋを支持して前記基板搬送方向と平行な方向に搬送する複数の搬送ローラと、搬送ローラの上方及び下方に配設され、エッチング液供給装置に接続された複数のノズルと、搬送ローラを支持して基板搬送方向と直交する方向に傾斜させる傾斜機構などを備えており、前記昇降機構は、処理チャンバが上昇端位置にあるときに、その搬入／搬出口と基板投入室１４の基板搬出口１１ｄとが接続し、処理チャンバが下降端位置にあるときに、その搬入／搬出口と第２処理機構部３の基板搬入口（図示せず）とが接続するように、当該処理チャンバを昇降させる。
【００４５】
そして、この第１昇降機構部４では、処理チャンバの上昇端位置で、搬入／搬出口を介して基板投入室１４から搬入された基板Ｋが搬送ローラにより所定の位置まで搬送されると、傾斜機構により搬送ローラが傾斜せしめられて、基板Ｋが第２処理機構部３における傾斜角度と同じ角度に傾斜するとともに、エッチング液供給装置から供給されたエッチング液が、基板Ｋの上面及び下面に向けて各ノズルから吐出される。
【００４６】
また、このとき、処理チャンバは、昇降機構によって降下せしめられており、処理チャンバが下降端位置まで降下せしめられると、エッチング液の供給が停止された後、基板Ｋが、搬送ローラにより前記搬入時とは逆方向に搬送されて、搬入／搬出口から第２処理機構部３に搬出される。
【００４７】
前記第２昇降機構部５は、第１処理機構部２に対して、該第１処理機構部２における基板搬送方向上流側で接続する一方、第２処理機構部３に対して、該第２処理機構部３における基板搬送方向下流側で接続しており、第１昇降機構部４とほぼ同様の構成を備えているが、当該第２昇降機構部５では、各ノズルから洗浄液が基板Ｋの上面及び下面に向けて吐出されるようになっている。
【００４８】
即ち、基板Ｋは、処理チャンバの下降端位置で、搬入／搬出口を介して第２処理機構部３から所定の角度で傾斜した状態で搬入され、処理チャンバの上昇中に、基板Ｋの上面及び下面に向けて各ノズルから洗浄液が吐出される。この後、所定の時間が経過すると、洗浄液の供給が停止されるとともに、傾斜機構により基板Ｋが水平姿勢に戻される。そして、処理チャンバが上昇端位置まで上昇せしめられると、当該基板Ｋが搬入／搬出口から乾燥処理部２５に搬出される。
【００４９】
また、前記基板処理装置１は、基板投入／排出部１０及び乾燥処理部２５のそれぞれに設けられ、当該基板投入／排出部１０及び乾燥処理部２５の処理チャンバ１１，（図示せず）を揺動させてこれらの他方端側（正面側の端部）を上方に上げる揺動機構部６を備えており、基板投入／排出部１０に設けられた揺動機構部６は、図１乃至図５に示すように、処理チャンバ１１の長手方向の両端近傍であり、且つ処理チャンバ１１の一方端近傍の支持フレーム７にそれぞれ固設され、処理チャンバ１１の長手方向と平行な軸７１ａを備えた２つの回転支持部材７１と、油圧シリンダや空圧シリンダから構成され、これら各回転支持部材７１の近傍で処理チャンバ１１の一方端側と係合する２つの駆動シリンダ７２，７３などからなる。
【００５０】
尚、処理チャンバ１１の長手方向の両端には、当該処理チャンバ１１の一方端から前記長手方向と直交する方向にそれぞれ延設された延設部１１ｇが形成されており、前記各回転支持部材７１は、その軸７１ａがこれらの各延設部１１ｇに形成された貫通穴１１ｈに軸受７４を介して嵌挿されている。これにより、処理チャンバ１１は、各回転支持部材７１の軸７１ａ中心に処理チャンバ１１の長手方向と直交する平面内で揺動自在となっている。また、延設部１１ｇ及び回転支持部材７１が前記連結手段に相当する。
【００５１】
前記駆動シリンダ７２の一方は、回転支持部材７１の一方に固設された取付部材７５に、処理チャンバ１１の長手方向と直交する平面内で揺動自在に取り付けられており、そのロッド７２ａが、前記各延設部１１ｇ間に前記長手方向と平行に掛け渡された連結軸７６に前記平面内で揺動自在に係合している。また、前記駆動シリンダ７３の他方は、支持フレーム７に固設された取付部材７７に、前記長手方向と直交する平面内で揺動自在に取り付けられており、そのロッド７３ａが、前記連結軸７６に前記平面内で揺動自在に係合している。
【００５２】
斯くして、前記各駆動シリンダ７２，７３が駆動されて、連結軸７６が下方に移動せしめられることで、処理チャンバ１１は、各回転支持部材７１の軸７１ａを中心に揺動してその他方端側が上方に上げられる。これにより、基板投入／排出部１０の処理チャンバ１１と第２処理機構部３の処理チャンバ３１との間が開口する。
【００５３】
また、揺動機構部６は、支持フレーム７に配設された支持部材７８と、係合穴７９ａが形成された係合部７９ｂを一方端に有し、他方端が処理チャンバ１１の長手方向と平行な平面内及び前記長手方向と直交する平面内で回転自在に支持部材７８に取り付けられた支持ロッド７９と、処理チャンバ１１の他方端側の側壁に立設され、支持ロッド７９の係合部７９ｂの係合穴７９ａに係合可能となった係合部材８０とを備えている。尚、支持ロッド７９が前記係止部材に相当する。
【００５４】
斯くして、駆動シリンダ７２，７３により処理チャンバ１１の他方端側を上方に上げたときに、支持ロッド７９の係合穴７９ａと係合部材８０とを係合させておくことで、当該処理チャンバ１１が下方に移動するのが制止される。尚、駆動シリンダ７２，７３が正常に作動している限り、通常、処理チャンバ１１が下方に移動することはないが、当該駆動シリンダ７２，７３に何らかのトラブルが発生したときに処理チャンバ１１が落下するのを防止すべく、前記支持ロッド７９などを配設している。
【００５５】
また、乾燥処理部２５に設けられた揺動機構部６についても、基板投入／排出部１０に設けられた揺動機構部６と同様の構成を備えており、駆動シリンダ（図示せず）が駆動されることで、処理チャンバ（図示せず）の他方端側が上方に上げられ、また、上方に上げられた処理チャンバ（図示せず）が下方に移動するのが当該処理チャンバ（図示せず）の係合部材（図示せず）と係合した支持ロッド（図示せず）により制止される。
【００５６】
以上のように構成された本例の基板処理装置１によれば、第１処理機構部２の基板投入／排出部１０の基板投入室１４に基板投入口１１ｂから基板Ｋが投入されると、投入された基板Ｋは搬送ローラ１６により搬送されて基板搬出口１１ｄから搬出され、搬出された基板Ｋは、第１昇降機構部４の処理チャンバ（図示せず）に搬入／搬出口（図示せず）から搬入される。
【００５７】
搬入された基板Ｋは、傾斜機構（図示せず）により所定の角度に傾斜せしめられるとともに、エッチング液供給装置（図示せず）より供給されたエッチング液が各ノズル（図示せず）から基板Ｋ上面及び下面に向けて吐出される。一方、処理チャンバ（図示せず）は昇降機構（図示せず）により降下せしめられる。
【００５８】
そして、処理チャンバ（図示せず）が下降端位置まで降下すると、エッチング液の供給が停止された後、基板Ｋは搬入／搬出口（図示せず）から搬出され、搬出された基板Ｋは、第２処理機構部３の処理チャンバ３１に基板搬入口（図示せず）から搬入される。
【００５９】
搬入された基板Ｋは、搬送ローラ３３により搬送されるとともに、エッチング液供給装置（図示せず）から各ノズル３４，３５にエッチング液が供給されて、当該各ノズル３４，３５から基板Ｋ上面及び下面に向けて吐出される。そして、基板Ｋは基板搬出口（図示せず）から搬出され、搬出された基板Ｋは、第２昇降機構部５の処理チャンバ（図示せず）に搬入／搬出口（図示せず）から搬入される。
【００６０】
搬入された基板Ｋの上面及び下面には、洗浄液供給装置（図示せず）より供給された洗浄液が各ノズル（図示せず）から吐出される。一方、処理チャンバ（図示せず）は昇降機構（図示せず）により上昇せしめられる。
【００６１】
この後、所定の時間が経過すると、洗浄液の供給が停止されるとともに、傾斜機構（図示せず）により基板Ｋが水平姿勢に戻される。そして、処理チャンバ（図示せず）が上昇端位置まで上昇すると、基板Ｋは搬入／搬出口（図示せず）から搬出され、搬出された基板Ｋは、第１処理機構部２の乾燥処理部２５に基板搬入口（図示せず）から搬入される。
【００６２】
搬入された基板Ｋは、搬送ローラ（図示せず）により搬送されつつ乾燥処理機構（図示せず）により基板Ｋに対して乾燥処理が施され、この後、基板搬出口（図示せず）から搬出される。搬出された基板Ｋは、基板投入／排出部１０の基板排出室１３に基板搬入口１１ｃから搬入され、搬入された基板Ｋは、基板排出口１１ａから排出される。
【００６３】
そして、作業者が、第２処理機構部３の処理チャンバ３１内に配設された構造物に対して保守を行う場合には、各駆動シリンダ７２，７３を駆動させることで、処理チャンバ１１が各回転支持部材７１の軸７１ａ中心に揺動してその他方端側が上方に上げられ、当該処理チャンバ１１と処理チャンバ３１との間に開口部が形成されたり、同様に、乾燥処理部２５側の各駆動シリンダ（図示せず）を駆動させることで、当該乾燥処理部２５の処理チャンバ（図示せず）が回動してその他方端側が上方に上げられ、当該処理チャンバ（図示せず）と処理チャンバ３１との間に開口部が形成される。これにより、作業者は、各開口部から手を入れたり、処理チャンバ３１内を覗き込んだりして、保守を行うことが可能となる。
【００６４】
尚、駆動シリンダ７２，７３により処理チャンバ１１の他方端側を上方に上げたときには、係合部材８０に支持ロッド７９の係合穴７９ａが係合せしめられ、当該処理チャンバ１１が下方に移動するのが制止される。また、乾燥処理部２５の処理チャンバ（図示せず）についても同様である。
【００６５】
斯くして、本例の基板処理装置１によれば、基板投入／排出部１０や乾燥処理部２５に設けられた揺動機構部６の各駆動シリンダ７２，７３，（図示せず）により、処理チャンバ１１，（図示せず）を回動させてその他方端側を上方に上げることで、当該処理チャンバ１１，（図示せず）と処理チャンバ３１との間に開口部を形成することができるので、従来のように、処理チャンバを取り外したりする必要はなく、当該保守を効率的に行うことができる。また、処理チャンバ１１，（図示せず）と処理チャンバ３１との間に隙間を設けなくても良いので、基板処理装置１全体の高さを抑えることも可能となる。
【００６６】
また、係合部材８０に支持ロッド７９の係合穴７９ａを係合させて、処理チャンバ１１，（図示せず）が下方に移動するのを制止しているので、当該処理チャンバ１１，（図示せず）が何らかの拍子に落下するのを確実に防止することができ、作業者は安心して保守作業を行うことができる。
【００６７】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明の採り得る具体的な態様は、何らこれに限定されるものではない。
【００６８】
上例では、基板処理装置１を、基板Ｋに対して、エッチング処理，洗浄処理及び乾燥処理を順次行うように構成したが、これに限られるものではなく、また、第１処理機構部２，第２処理機構部３，第１昇降機構部４及び第２昇降機構部５の構造についても、これらに限られるものではなく、各種の態様を採ることが可能である。
【００６９】
また、上例では、第１処理機構部２の処理チャンバ１１，（図示せず）の他方端側のみを上方に上げるように構成したが、これに限られるものではなく、例えば、当該処理チャンバ１１，（図示せず）の四隅に駆動シリンダを適宜配設して、これらの各駆動シリンダにより、処理チャンバ１１，（図示せず）全体を上方に上げるように構成しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板処理装置の概略構成を示した正面図である。
【図２】図１における矢示Ａ−Ａ方向の断面図であって、図３における矢示Ｂ−Ｂ方向の断面図である。
【図３】図２における矢示Ｃ方向の平面図である。
【図４】図２における矢示Ｄ方向の正面図である。
【図５】図３における矢示Ｅ−Ｅ方向の断面図である。
【図６】従来例に係る基板処理装置の概略構成を示した正面図である。
【符号の説明】
【００７１】
１    基板処理装置
２    第１処理機構部
３    第２処理機構部
４    第１昇降機構部
５    第２昇降機構部
６    揺動機構部
１０  基板投入／排出部
１１  処理チャンバ
２５  乾燥処理部
３１  処理チャンバ
７１  回転支持部材
７２，７３  駆動シリンダ
７４  軸受
７５  取付部材
７６  連結軸
７７  取付部材
７８  支持部材
７９  支持ロッド
８０  係合部材
【図１】
2005129636.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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