(57)【要約】【課題】  米粒等の形状異方性粒子の長さ、幅、厚みおよび表面状態を容易かつ確実に計測することができる形状異方性粒子の姿勢制御方法および姿勢制御装置を提供すること。【解決手段】  形状異方性粒子を基板上に配置し、該粒子を撮像手段によって撮像する際の粒子の姿勢制御方法において、前記粒子を立てた状態で収容する孔を有するガイド板を撮像手段の基板に配置し、前記孔に前記粒子を収容し、前記ガイド板によって、前記粒子を撮像面に対して垂直方向のみならず任意の角度で立たせた状態に位置決めさせることを特徴としている。また、電極をガイド板に配備し、前記電極に電場を印加し前記粒子を吸着させ、前記ガイド板を回転あるいはスライドさせて、前記粒子を撮像面に対して垂直方向のみならず任意の角度で立たせた状態に位置決めさせることを特徴としている。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
形状異方性粒子を基板上に配置し、該粒子を撮像手段によって撮像する際の粒子の姿勢制御方法において、
前記粒子を立てた状態で収容する孔を有するガイド板を撮像手段の基板に配置し、前記孔に前記粒子を収容し、前記ガイド板によって、前記粒子を基板面に対して任意の角度で立たせた状態に位置決めさせることを特徴とする形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項２】
前記ガイド板の孔の上部開口縁を、上方に行くに従って拡大するように形成したことを特徴とする請求項１に記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項３】
前記ガイド板の孔に前記粒子を収容した状態で、ガイド板を上方へ移動させることを特徴とする請求項１または２に記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項４】
前記ガイド板をさらに上方へ移動させ、該ガイド板の孔から前記粒子を脱出させることを特徴とする請求項３に記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項５】
前記ガイド板の孔に粒子先端を保持させながらガイド板を移動して、前記粒子を任意の配向方向に傾斜させることを特徴とする請求項１に記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項６】
前記ガイド板をさらに移動させることにより、粒子を基板上で一定の方向に倒すことを特徴とする請求項５に記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項７】
前記ガイド板を、形状異方性粒子を立てた状態で収容する第１ガイド板と、前記粒子を寝かせた状態で収容する孔を有する第２ガイド板とによって構成し、第２ガイド板を前記第１ガイド板の上方に配置させ、前記第１ガイド板の孔と第２ガイド板の孔をずらした状態で、前記第２ガイド板の孔に前記粒子を寝かせた状態で収容し、前記第１ガイド板に対して第２ガイド板を第１ガイド板の面と平行な方向に移動し、該第２ガイド板の孔を前記第１ガイド板の孔に、少なくとも一部を合致させることによって、第２ガイド板の孔に存在する前記粒子を第１ガイド板の孔に落下させて、前記粒子を基板面に対して立てた状態に位置決めさせることを特徴とする請求項１に記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項８】
前記ガイド板に前記粒子を寝かせて収容する孔を形成するとともに、その孔の中にシャッターを配設し、該シャッターの上に粒子を寝かせた状態に収容し、前記シャッターを回動することによって、前記粒子を前記基板上に落下させて、前記シャッターと孔の側壁の間で、前記粒子を立てた状態に位置決めすることを特徴とする請求項１に記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項９】
前記シャッターをさら回動させることによって、前記粒子を前記基板上で寝かせた状態に位置決めすることを特徴とする請求項８に記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項１０】
前記ガイド板を、形状異方性粒子を立てた状態で収容する第１ガイド板と、前記粒子を寝かせた状態で収容する孔を有する第２ガイド板とによって構成するとともに、第２ガイド板の孔の下部に、シャッターを配設し、第２ガイド板を前記第１ガイド板の上方に配置させ、前記第２ガイド板の孔の前記シャッター上に前記粒子を寝かせた状態で収容し、前記シャッターを開くことによって、第２ガイド板の孔に存在する前記粒子を第１ガイド板の孔に落下させて、前記粒子を基板面に対して立てた状態に位置決めさせることを特徴とする請求項１に記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項１１】
前記第１ガイド板の孔の上部開口縁を、上方に行くに従って拡大するように形成したことを特徴とする請求項７または１０に記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項１２】
前記第１ガイド板の孔に前記粒子を収容した状態で、該ガイド板を上方へ移動させることによって、粒子を露出させることを特徴とする請求項７、１０のいずれかに記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項１３】
前記第１ガイド板の孔に粒子先端を保持させながら該ガイド板を移動して、前記粒子を任意の配向方向に傾斜させることを特徴とする請求項７，１０，１２のいずれかに記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項１４】
前記第１ガイド板をさらに上方へ移動させ、該ガイド板の孔から前記粒子を脱出させることを特徴とする請求項１３に記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項１５】
前記第１ガイド板を移動して、前記粒子を任意の配向方向に傾斜させた後、さらにガイド板を移動させることにより、粒子を基板上で一定の方向に寝かせた状態にすることを特徴とする請求項１３に記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項１６】
形状異方性粒子を撮像手段によって撮像する際の粒子の姿勢制御方法において、
電場を利用して電極に前記粒子を吸着して、粒子の姿勢を制御することを特徴とする形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項１７】
形状異方性粒子を基板上に配置し、該粒子を撮像手段によって撮像する際の粒子の姿勢制御方法において、
前記基板上に前記粒子を載置させ、電場を利用することによって前記粒子を基板上に任意の角度で立てた状態にすることを特徴とする形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項１８】
前記基板の上方に、該基板と対向する面に電極を有するガイド板を配設し、該電極によって電場を発生させ、ガイド板を移動させることによって、基板上の粒子を任意の傾斜角度に立たせることを特徴とする請求項１７に記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項１９】
形状異方性粒子を寝た状態で収容する孔を有し、該孔の下端開口周縁に電極を配設したガイド板を、前記基板の上方に配置させ、前記孔に、前記粒子を収容し、該粒子を前記基板上に寝かせた状態で位置決めし、ガイド板の孔が前記粒子から脱するまで前記基板面に対してガイド板を上方に移動し、該ガイド板を前記基板面に対して平行な方向に移動させて、電極を前記粒子の上方に位置させ、前記電極に通電しながらガイド板を上方へ移動させて、前記粒子を基板面に対して任意の角度で立てた状態に位置決めさせることを特徴とする請求項１８に記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項２０】
前記基板上に回転軸付き電極を配設し、該電極に粒子を吸着させ、電極軸を回動、あるいはそれに加え、上下・左右に稼動させることによって、粒子の向きを、基板に対して任意の角度に位置決めすることを特徴とする請求項１６または１７に記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項２１】
前記電極を前記基板に配設し、該電極によって電場を発生させることによって、基板上の粒子を立たせることを特徴とする請求項１７に記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項２２】
前記基板の上方に電極板をさらに配設し、該電極と前記基板の電極との間に電位差を発生させることを特徴とする請求項２１に記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項２３】
前記電極をガイド板に上下動可能に配設したことを特徴とする請求項１８〜２２のいずれかに記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項２４】
前記電極を弾性変形する材料によって形成したことを特徴とする請求項１６〜２３のいずれかに記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項２５】
前記電極を立体的に多形化したことを特徴とする請求項１６〜２４のいずれかに記載の形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【請求項２６】
請求項１〜２５のいずれかに記載の姿勢制御方法を用いた形状異方性粒子の姿勢制御装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、形状異方性粒子の姿勢制御方法および姿勢制御装置に関し、特には、米粒の計測に適した形状異方性粒子の制御方法および姿勢制御装置に関する。
【背景技術】
【０００２】  近年、米の品質評価に、光学的な米粒品質判定装置が採用されている。
このような米粒品質判定装置は、縦横に多数の凹部を形成した試料皿を使用し、この試料皿の凹部に米粒を収容させて、それをスキャナで読み取り、画像処理をして、それによって形状，サイズ，胴割れ等の品質の判定を行っている（例えば、特許文献１参照）。【０００３】
【特許文献１】  実公平７−３３１５１号公報（図２）
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】  ところで、このようなスキャナを利用した従来の米粒品質判定装置では、凹部内に寝かせた状態で収容した米粒のひとつの面のみの二次元イメージをスキャナで読み取っているため、米粒子長と粒子幅は分かるが、そのときの米粒の厚み（イメージの奥行き），裏面の胴部や任意の角度から見た表面状態等の測定はできない。
形状異方性粒子は、撮像手段の基板上、例えば、スキャナのガラス面等に載置すると、寝た状態に載置される。この状態では、粒子の奥行き厚み，粒子の撮像手段と反対の面等を計測することができない。特に、米粒品質判定を行なう場合には、粒子の奥行き厚みのみならず撮像手段と反対側の表面の傷，色合いの判定も重要な評価要素であるが、その計測を行なうことが難しい。
【０００５】  そこで、本発明の目的は、米粒等の形状異方性粒子を任意の方向から撮像し、上記２Ｄ形状のみならずその厚みや種々の角度から見た表面状態等を容易かつ確実に計測することができる形状異方性粒子の姿勢制御方法および姿勢制御装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】  本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項１）は、形状異方性粒子を基板上に配置し、該粒子を撮像手段によって撮像する際の粒子の姿勢制御方法において、前記粒子を立てた状態で収容する孔を有するガイド板を基板上に配置し、前記孔に前記粒子を収容し、前記ガイド板によって、前記粒子を基板面に対して任意の角度で立たせた状態に位置決めさせることを特徴としている。
なお、基板とは、スキャナにおけるガラス面等の撮像面ばかりでなく、その近傍に配置させる透明の板体等も含むものとする。
【０００７】  本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項２）は、請求項１に記載の発明において、前記ガイド板の孔の上部開口縁を、上方に行くに従って拡大するように形成したことを特徴としている。
【０００８】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項３）は、請求項１または２に記載の発明において、前記ガイド板の孔に前記粒子を収容した状態で、ガイド板を上方へ移動させることを特徴としている。
【０００９】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項４）は、請求項３に記載の発明において、前記ガイド板をさらに上方へ移動させ、該ガイド板の孔から前記粒子を脱出させることを特徴としている。
【００１０】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項５）は、請求項１に記載の発明において、前記ガイド板の孔に粒子先端を保持させながらガイド板を移動して、前記粒子を任意の配向方向に傾斜させることを特徴としている。
【００１１】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項６）は、請求項５に記載の発明において、前記ガイド板をさらに移動させることによって、粒子を基板上で一定の方向に倒すことを特徴としている。
【００１２】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項７）は、請求項１に記載の発明において、前記ガイド板を、形状異方性粒子を立てた状態で収容する第１ガイド板と、前記粒子を寝かせた状態で収容する孔を有する第２ガイド板とによって構成し、第２ガイド板を前記第１ガイド板の上方に配置させ、前記第１ガイド板の孔と第２ガイド板の孔をずらした状態で、前記第２ガイド板の孔に前記粒子を寝かせた状態で収容し、前記第１ガイド板に対して第２ガイド板を第１ガイド板の面と平行な方向に移動し、該第２ガイド板の孔を前記第１ガイド板の孔に、少なくとも一部を合致させることによって、第２ガイド板の孔に存在する前記粒子を第１ガイド板の孔に落下させて、前記粒子を基板面に対して立てた状態に位置決めさせることを特徴としている。
【００１３】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項８）は、請求項１に記載の発明において、前記ガイド板に前記粒子を寝かせて収容する孔を形成するとともに、その孔の中にシャッターを配設し、該シャッターの上に粒子を寝かせた状態に収容し、前記シャッターを回動することによって、前記粒子を前記基板上に落下させて、前記シャッターと孔の側壁の間で、前記粒子を立てた状態に位置決めすることを特徴としている。
ガイド板は上下あるいは左右に稼動してもよいし、固定式でもよい。シャッターの回転軸はシャッターの中央部付近あるいは端等どこにあってもよい。また、上記孔の断面形状は下に行くほど広がっていてもよいし、広がらなくてもよい。片方のみが広がっていてもよい。シャッターの回転角度０から１８０度とれるが、希望の角度に設定できる。シャッターの形状は矩形でも円でも楕円でも不定形でもよい。またシャッター面は平面でも曲面でも一部曲面があってもよい。シャッターは硬い材質でもよいが、一部あるいは全部に弾性あるいは屈曲性があると種々の粒子サイズに対応できる。
【００１４】  また、この発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項９）は、請求項８に記載の発明において、前記シャッターをさら回動あるいはそれに加えて上下あるいは左右に稼動させることによって、前記粒子を前記基板上で希望の角度あるいは寝かせた状態に位置決めすることを特徴としている。
【００１５】  また、この発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項１０）は、請求項１に記載の発明において、前記ガイド板を、形状異方性粒子を立てた状態で収容する第１ガイド板と、前記粒子を寝かせた状態で収容する孔を有する第２ガイド板とによって構成するとともに、第２ガイド板の孔の下部に、シャッターを配設し、第２ガイド板を前記第１ガイド板の上方に配置させ、前記第２ガイド板の孔の前記シャッター上に前記粒子を寝かせた状態で収容し、前記シャッターを開くことによって、第２ガイド板の孔に存在する前記粒子を第１ガイド板の孔に落下させて、前記粒子を撮像面に対して立てた状態に位置決めさせることを特徴としている。
シャッターは、スライド式であっても回動式であってもよい。回動式の場合には、その回動軸は、シャッターの端部でも、中間部でもよい。
【００１６】  また、この発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項１１）は、請求項７または１０に記載の発明において、前記第１ガイド板の孔の上部開口縁を、上方に行くに従って拡大するように形成したことを特徴としている。
【００１７】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項１２）では、請求項７または１０に記載の発明において、前記第１ガイド板の孔に前記粒子を収容した状態で、該ガイド板を上方へ移動させることによって粒子を露出させることを特徴としている。
【００１８】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項１３）は、請求項７，１０，１２のいずれかに記載の発明において、前記第１ガイド板の孔に粒子先端を保持させながら該ガイド板を移動して、前記粒子を任意の配向方向に傾斜させることを特徴としている。
【００１９】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項１４）では、請求項１３に記載の発明において、前記第１ガイド板をさらに上方へ移動させ、該ガイド板の孔から前記粒子を脱出させることを特徴としている。
【００２０】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項１５）は、請求項１３に記載の発明において、前記ガイド板を移動して、前記粒子を任意の配向方向に傾斜させた後、さらにガイド板を移動させることにより、粒子を基板上で一定の方向に寝かせた状態にすることを特徴としている。
【００２１】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項１６）は、形状異方性粒子を撮像手段によって撮像する際の粒子の姿勢制御方法において、電場を利用して電極に前記粒子を吸着して、粒子の姿勢を制御することを特徴としている。
【００２２】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項１７）は、形状異方性粒子を基板上に配置し、該粒子を撮像手段によって撮像する際の粒子の姿勢制御方法において、前記基板上に前記粒子を載置させ、電場を利用することによって前記粒子を基板上に任意の角度で立たせた状態にすることを特徴としている。
【００２３】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項１８）は、請求項１７に記載の発明において、前記基板の上方に、該基板と対向する面に電極を有するガイド板を配設し、該電極に電場を発生させ、ガイド板を移動させることによって、基板上の粒子を立たせることを特徴としている。
【００２４】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項１９）は、請求項１８に記載の発明において、形状異方性粒子を寝た状態で収容する孔を有し、該孔の下端開口周縁に電極を配設したガイド板を、前記基板の上方に配置させ、前記孔に、前記粒子を収容し、該粒子を前記基板上に寝かせた状態で位置決めし、ガイド板の孔が前記粒子から脱するまで前記基板面に対してガイド板を上方に移動し、該ガイド板を前記基板面に対して平行な方向に移動させて電極を、前記粒子の上方に位置させ、前記電極に通電しながらガイド板を上方へ移動させて、前記粒子を基板面に対して任意の角度で立てた状態に位置決めさせることを特徴としている。
【００２５】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項２０）は、請求項１６または１７に記載の発明において、前記基板の上方に回転軸付き電極を配設し、該電極に粒子を吸着させ、電極軸を回動、あるいはそれに加え、上下あるいは左右に稼動させることによって、粒子の向きを、基板の法線方向に対して任意の角度に位置決めすることを特徴としている。
【００２６】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項２１）は、請求項１７に記載の発明において、前記電極を前記基板に配設し、該電極によって電場を発生させることによって、基板上の粒子を立たせることを特徴としている。
【００２７】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項２２）は、請求項２１に記載の発明において、前記基板の上方に電極板をさらに配設し、該電極と前記基板上の電極との間に電位差を発生させ、粒子を立たせることを特徴としている。
【００２８】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項２３）は、請求項１８〜２２のいずれかに記載の発明において、前記電極をガイド板に上下動可能に配設したことを特徴とする形状異方性粒子の姿勢制御方法。
【００２９】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項２４）は、請求項１６〜２３のいずれかに記載の発明において、前記電極を弾性変形する材料によって形成したことを特徴としている。
【００３０】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御方法（請求項２５）は、請求項１６〜２４のいずれかに記載の発明において、前記電極を立体的に多形化したことを特徴としている。
【００３１】  また、本発明の形状異方性粒子の姿勢制御装置（請求項２６）は、請求項１〜２５のいずれかに記載の姿勢制御方法を用いたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００３２】  以上説明したように、請求項１の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、形状異方性粒子を任意の角度で立った状態に位置決めできるので、粒子の３Ｄサイズは勿論のこと、粒子の胴割れや粒子が痩せているか否か等、さらには、傾いた状態の粒子の表面（傷，色合い等）や透過光による内部状態、傷，色合いの判定等の計測を行なうことが可能である。
【００３３】  請求項２の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、形状異方性粒子が上部開口縁の斜面または曲面等に案内されて孔に落下するので、確実に粒子を立った状態に位置決めすることができる。
【００３４】  また、請求項３の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、前記ガイド板の孔に前記粒子を収容した状態で、ガイド板が上方へ移動するので、立った状態にある形状異方性粒子の胴部が、撮像域に、充分に露出されるので、ガイド板に邪魔されることなく、より精度の高い計測ができる。
【００３５】  また、請求項４の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、前記ガイド板をさらに上方へ移動させ、粒子がガイド板の孔から脱出させることによって、形状異方性粒子を、ガイド板の孔による拘束から解除させる。したがって、粒子は、その位置で倒れて、寝た状態になるので、その状態での計測を引き続き行なうことができる。
【００３６】  また、請求項５の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、ガイド板の孔に粒子先端を保持させながらガイド板を移動させることによって、粒子を傾斜させるので、立った状態の形状異方性粒子を、徐々に傾けることができる。したがって、粒子が多数ある場合に、それらの倒れ方向が一定方向に統一され、位置もばらつくことなく、計測が容易になり、データの質も向上する。また、形状異方性粒子は徐々に倒されるので、任意の角度での粒子の状態の計測が可能になり、他に例のない新しく多彩なデータを得ることができる。
【００３７】  また、請求項６の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、さらにガイド板を移動させることにより、粒子を、ばらつくことなく所望とする位置に寝た状態に位置させるので、より計測が容易になる。
【００３８】  また、請求項７の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、先ず、形状異方性粒子を寝かせた状態で第２のガイド板の孔に収容させ、第２のガイド板の孔をガイドとして、形状異方性粒子を第１のガイド板へ導くため、形状異方性粒子を容易に立てることができる。
【００３９】  また、請求項８の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、先ず形状異方性粒子を寝かせた状態でガイド板の孔に収容させ、シャッターを回転し傾け、粒子を滑らせ、該シャッターと穴の側壁をガイドとして、形状異方性粒子をその間に導くので、粒子を確実に落下させ立った状態にすることができる。該シャッターに弾性があると粒子が立った後、該シャッターを少し逆回転すると粒子がより強く固定されるし、粒子のサイズのばらつきにも対応できる。また、孔の側壁に弾性あるいは屈曲性があっても粒子のサイズのばらつきに対応できる。
【００４０】  また、請求項９の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、立った状態にある粒子を、さらに該シャッターを連続的により大きく回転させ、散らばることなく、確実に基板上に横にすることができる。また該シャッターの回転を希望の角度で止めると、その角度に粒子を傾けて立たせることができる。
【００４１】  また、請求項１０の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、先ず、形状異方性粒子を寝かせた状態で第２ガイド板の孔に収容させ、第２ガイド板のシャッターをガイドとして、形状異方性粒子を第１ガイド板の孔へ導くので、粒子を第１ガイド板の孔に確実に落下させることができる。
【００４２】  また、請求項１１の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、第２ガイド板の形状異方性粒子が孔の上部開口縁の斜面または曲面にしたがって第１ガイド板の孔に案内されるので、粒子は確実に第１ガイド板の孔に案内される。
【００４３】  また、請求項１２の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、前記第１ガイド板の孔に収容されている形状異方性粒子の胴部が、撮像域へより露出されるので、ガイド板に邪魔されることなく、より精度の高い計測ができる。
【００４４】  また、請求項１３の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、第１ガイド板がさらに上方へ移動され、形状異方性粒子は、第１ガイド板の孔による拘束から解除され、その位置で倒れて、寝た状態になる。したがって、その状態での計測を引き続き行なうことができる。
【００４５】  また、請求項１４の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、第１ガイド板の孔に粒子先端を保持させながら該ガイド板を移動させることによって、粒子を傾斜させるので、立った状態の形状異方性粒子を、徐々に傾けることができる。したがって、粒子が多数ある場合に、それらの倒れ方向が一定方向に統一され、位置もばらつくことなく、計測が容易になり、データの質も向上する。また、形状異方性粒子は徐々に倒されるので、任意の角度での粒子の状態の計測が可能になり、他に例のない新しく多彩なデータを得ることができる。
【００４６】  また、請求項１５の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、さらに第１ガイド板を移動させることにより、粒子を、ばらつくことなく所望とする位置に寝た状態に位置させるので、より計測が容易になる。
【００４７】  また、請求項１６の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、電場を利用して、粒子の姿勢を制御するので、構造が単純になり、撮像に際しての障害も少ない。
【００４８】  また、請求項１７の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、電場を利用して、形状異方性粒子を基板上に任意の角度で立たせた状態にするので、任意の角度における粒子の平面視形状の計測のみならず、胴部全周にわたる表面状態の計測等が可能になる。
【００４９】  また、請求項１８の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、ガイド板を移動することにより、ガイド板に配設した電極を基板面に対して平行な方向および垂直な方向に移動させて、基板上の粒子を立たせることができるので、形状異方性粒子は、ガイド板に配設された電極に対応した位置に整列する。このため計測がより容易になり、得られるデータの質も向上する。
【００５０】  また、請求項１９の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、ガイド板の孔によって、粒子を整列状態で基板上に位置させることができ、そして粒子をその位置に立たせることができるので、粒子厚みの計測が可能になり、またその精度も高い。また、基板上に寝た状態にある形状異方性粒子をガイド板によって、徐々に立たせることによって、任意の角度で立たせた状態の形状異方性粒子を計測することができ、さらに新しい情報を得ることができる。
【００５１】  また、請求項２０の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、粒子が安定して電極に吸着しているので回転軸の方向（たとえば基板面に対して平行とか垂直など）や回転の向き（時計方向あるいは半時計方向）を希望に応じて変えることが出来る。その為、撮像の方向もそれに応じて下方、上方、横方向、それ以外の希望の方向等、自由に選択できる。電極の回転角度は連続的にかえられるし、また希望の角度に固定することもできる。そのために多彩な計測が可能である。
【００５２】  また、請求項２１の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、構成が単純になり、しかも基板に対して任意の方向から容易に撮像を行える。
【００５３】  また、請求項２２の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、より安定して粒子を基板上に保持させることができる。また、立った粒子の角度を変えることができる。
【００５４】  また、請求項２３の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、電極が上下に動くことによって、粒子のサイズに対応して基板上に安定して保持させることができる。
【００５５】  また、請求項２４の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、電極が変形することによって、粒子のサイズに対応して基板上に安定して保持させることができる。
【００５６】  また、請求項２５の形状異方性粒子の姿勢制御方法によれば、電極の形状を適宜な形状にすることによって、粒子を所望とする数量あるいは姿勢に保持させることができる。
【００５７】  また、請求項２６の形状異方性粒子の姿勢制御装置によれば、形状異方性粒子を任意の角度で立てた状態に保持できるので、任意の角度で立たせた状態の形状異方性粒子を計測することができ、従来の装置では得られない新しい情報を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５８】  以下に、本発明を図面に示した実施の形態に基づいて説明する。【００５９】  図１は本発明に係る形状異方性粒子の姿勢制御方法を利用した姿勢制御装置の例として、米粒品質判定装置を示した斜視図、図２はその米粒品質判定装置における米粒（形状異方性粒子）の姿勢制御方法の第１実施形態で使用されるガイド板を概念的に示した斜視図、図３はそのガイド板を使用した米粒の姿勢制御の動作順を示した概念的な断面図、図４は図１に示した米粒品質判定装置における米粒（形状異方性粒子）の姿勢制御方法の第２実施形態で使用されるガイド板を概念的に示した斜視図、図５は第２実施形態のガイド板を使用した米粒の姿勢制御の動作順を示した概念的な断面図、図６及び７は図１に示した米粒品質判定装置における米粒（形状異方性粒子）の姿勢制御方法の第３実施形態の動作順を示した概念的な断面図、図８乃至１１は図１に示した米粒品質判定装置における米粒（形状異方性粒子）の姿勢制御方法の第４実施形態の動作順を示した概念的な断面図である。【００６０】  この装置１では、ケース２の下部に撮像装置、例えば、スキャナが設置され、その基板（撮像面）３の上面に米粒ａのガイド板４が配設されている。
ガイド板４は、第１ガイド板４ａと第２ガイド板４ｂとによって構成され、第１ガイド板４ａの上方に第２ガイド板４ｂが配置されている。
そして、第１ガイド板４ａは、ケース２に対して、上下方向に移動可能に設置され、ハンドル５を回すことによって移動される。また、第２ガイド板４ｂは、第１ガイド板４ａに対して、ケース２の基板３の面と平行な方向（以下、横方向という）に移動可能に設置され、摘み６を摘んで、押し込んだり、引き出すことによって移動される。【００６１】  上記ガイド板４ａ，４ｂには、米粒ａを収容する孔７，８がそれぞれ形成されている。そして、第１ガイド板４ａの孔７は、米粒ａを立てた状態で通過する程度の大きさを有し、またガイド板４ｂの孔８は、米粒ａを寝かせた状態で収容できる程度の大きさを有している。【００６２】  図２および図３に示した第１実施の形態では、第１ガイド板４ａの孔７は、その上部開口を画成する面の一部が、曲面７ａによって形成されており、したがって、上方に行くに従って面積が拡大している。
また、第２ガイド板４ｂの孔８は、長方形状に形成され、長手方向の距離Ｌ１は、米粒ａの縦の長さよりもやや大きく、短手方向の距離Ｌ２は、米粒ａの幅の長さよりもやや大きくしている。【００６３】  この第１実施の形態では、図３（ａ）に示したように、第１ガイド板４ａの孔７と、第２ガイド板４ｂの孔８とが、ずれた状態に位置され、第１ガイド板４ａの下面と基板３の上面との距離Ｌ３は、米粒ａの長さの２／３程度の長さに設置されている。
この状態で、例えば、第２ガイド板４ｂ上に米粒ａを撒き、それらをブレード等によって移動させることによって、米粒ａを第２ガイド板４ｂの孔８に収容させる。【００６４】  次いで、図３（ｂ）に示したように、第２ガイド板４ｂを矢印方向に移動させる。すると、米粒ａは、第１ガイド板４ａの曲面７ａ，側壁面等によって案内され、図３（ｃ）に示したように、第１ガイド板４ａの孔７に落下し、下端が基板３に当接し、上部が孔７の下部開口縁によって位置決めされて、立った状態に保持される。この状態で、米粒ａの側面が撮像手段（図示せず）によって計測される。【００６５】  次いで、図３（ｄ）に示したように、第１ガイド板４ａを上方に移動させながら、横方向へ移動させる。すると、米粒ａは、ほぼ同一方向に傾斜角が徐々に大きくなり、終には、図３（ｅ）に示したように、基板３上に寝た状態に位置される。したがって、この場合には、米粒ａが寝た状態も含めて任意の角度における計測を行なうことができる。
なお、上記説明で、米粒ａを徐々に傾斜させるプロセスにおいて、その任意の傾斜角度における米粒ａの計測を行なう場合には、第１ガイド板４ａを横方向に移動させながら、該第１ガイド板を徐々に下方に移動させることが好ましい。【００６６】  図４および図５は、第２実施形態を示している。
この実施形態では、第１ガイド板４ａの孔７は、面７ｂによって形成されている。
また、第２ガイド板４ｂの孔８も、その上部開口を画成する面８ａによって形成されており、上方に行くに従って面積が拡大している。【００６７】  この第２実施の形態では、図５（ａ）に示したように、第１ガイド板４ａの孔７と、第２ガイド板４ｂの孔８とが、合致した状態に位置され、第１ガイド板４ａの下面と基板（ガラス，アクリルをはじめとする透明樹脂等の透明基板）３の上面との距離Ｌ４は、米粒ａの長さの２／３程度の長さに設置されている。
この状態で、例えば、第２ガイド板４ｂ上に米粒ａを撒き、それらをブレード等によって移動させることによって、図５（ｂ）に示したように、米粒ａを第２ガイド板４ｂの孔８に収容させる。【００６８】  次いで、図５（ｃ）に示したように、第２ガイド板４ｂを横方向へ移動させる。すると、図５（ｂ）に示したように、米粒ａが縦に並んだ状態で複数個存在する場合には、上方に位置する米粒ａが第１ガイド板４ａの孔７から完全に排除される。【００６９】  第１ガイド板４ａの孔７に落下した米粒ａは、曲面７ｂによって案内され、図５（ｃ）に示したように、下端が基板３に当接し、上部が孔７の下部開口縁によって位置決めされて、立った状態に保持される。この状態で、米粒ａが下方面からの撮像手段（図示せず）によって計測される。
なお、図５（ｃ）の状態で、米粒ａの計測が完了した後、米粒ａを任意の傾斜角度あるいは寝た状態で計測する場合には、上記第１実施形態の図３（ｄ）および図３（ｅ）で説明したように、第１ガイド板４ａを移動させればよい。【００７０】  図６は、第３実施形態を示している。
この実施形態では、第１ガイド板４ａの孔７は、第１実施形態と同様に、上部開口を画成する面の一部が、曲面７ｃによって形成されており、さらに、対向する側壁面も曲面７ｄによって形成されている。したがって、斜めの状態で進入した米粒ａが孔７内で、徐々に立てられる。
また、第２ガイド板４ｂの孔８も、第１実施形態と同様に、長方形に形成され、側壁面８ｂの一部が下方に行くに従って広がるように形成されている。
また、この実施形態では、第２ガイド板４ｂの孔８の下部開口に、シャッター９が配設されている。このシャッター９は、軸９ａによって第２ガイド板４ｂに回動自在に支持され、適宜な手段、例えば、手や電磁ソレノイド等のアクチュエータによって回動される。【００７１】  この第３実施形態では、図６（ａ）に示したように、第２ガイド板４ｂが第１ガイド板４ａに対して、シャッター９の回動を妨げない適宜な距離Ｌ５をもって配設されている。そして、第１ガイド板４ａの孔７と、第２ガイド板４ｂの孔８は、オフセットされた状態に位置され、第１ガイド板４ａの下面と基板３の上面との距離Ｌ６は、米粒ａの長さの２／３程度の長さに設置されている。
この状態で、例えば、第２ガイド板４ｂ上に米粒ａを撒き、それらをブレード等によって移動させることによって、図６（ａ）に示したように、米粒ａを第２ガイド板４ｂの孔８内のシャッター９上に載置させる。【００７２】  次いで、図６（ｂ）に示したように、シャッター９を回動させる。すると、米粒ａは、第１ガイド板４ａの孔７に落下し曲面７ｃ，７ｄによって案内されて、図６（ｃ）に示したように、下端が基板３に当接し、上部が孔７の下部開口縁によって位置決めされて、立った状態に保持される。この状態で、米粒ａの側面が撮像手段（図示せず）によって計測される。
なお、図６（ｃ）の状態で、米粒ａの計測が完了した後、米粒ａを傾倒させた状態，寝た状態で計測する場合には、上記第１実施形態の図３（ｄ）および図３（ｅ）で説明したように、第１ガイド板４ａを移動させればよい。【００７３】  図７（ａ），（ｂ），（ｃ）は図６の場合の変形例である。この場合は第１ガイド板と第２ガイド板が一体となりそれらの孔の位置も一致している。孔８の断面の形は図７では直線型であるが、曲線型でもよい。図７（ａ）ではシャッター９は横になっていてその上に粒子ａが横たわっている。図７（ｂ）ではシャッター９が回転して、粒子ａが滑り落ち、孔８の側壁と、シャッター９の一部に挟まれて、立った状態にある。この状態で、計測ができる。図７（ｃ）ではさらにシャッター９をより大きく回転させると、粒子は、だんだん、傾いてきて、最後に、シャッター９から離れ、基板３上に横になる。この状態で計測ができる。もちろんこの途中の希望の角度でシャッター９の回転を止めてその状態で計測ができる。【００７４】  図８乃至図１３は、電場によって形状異方性粒子、例えば米粒ａの姿勢を制御する例を示している。
図８（ａ），（ｂ），（ｃ）は、その基本的な態様，図９は第５の実施形態，図１０および図１１は、その他の実施形態，図１２は、可動電極の形態，図１３乃至図１５は、電極の他の形態を示している。【００７５】  図８（ａ）では、基板３の上方に、該基板と平行に配置させたガイド板１０に電極１１を配設するとともに、該電極を静電気発生器１２に接続させ、電極１１に印加した静電気によって米粒ａをガイド板１０に垂下した状態に保持する。
図８（ｂ）では、基板３上に電極１１を配設するとともに、該電極を静電気発生器１２に接続させ、電極１１に印加した静電気によって、米粒ａを基板３上に起立した状態に保持する。
図８（ｃ）では、基板３の上方に該基板と平行に電極１３を配置させ、基板３上に電極１１を配設し、その電極を静電気発生器１２に接続させることにより、通電し、米粒ａを電極１１上で起立した状態にし、電極１３により姿勢を保持する。【００７６】  図９は、第４実施形態を示している。
この第４実施形態では、ガイド板４に、第１実施形態における第２のガイド板４ｂの孔８と同様に、長方形の孔１４が形成されている。この実施形態のガイド板４では、ガイド板４の下面における孔１４の開口周縁に電極１１が設置されており、該電極１１は静電気発生器１２に接続されている。
なお、この実施形態は、図１に示したような装置でも実施することができる。その場合には、図１に示したガイド板４ａ，４ｂを一体化して、ガイド板４を構成し、そのガイド板４をケース２に対して、上方および横方向に移動可能に設置すればよい。【００７７】  この第４実施形態では、図９（ａ）に示したように、ガイド板４は基板３に近接した状態に設置される。
この状態で、例えば、ガイド板４上に米粒ａを撒き、それらをブレード等によって移動させることによって、図９（ａ）に示したように、米粒ａをガイド板４の孔１５内に収容させる。【００７８】  次いで、図９（ｂ）に示したように、ガイド板４を上方に移動させ、孔１５を米粒ａから完全に離脱させる。
次いで、図９（ｃ）に示したように、ガイド板４を横方向に移動させ、電極１１を米粒ａの上方へ位置させる。
次いで、電極１１に静電発生器１２からの静電気を印加し、その状態でガイド板４を上方および横方向へ移動させる。
すると、米粒ａは、電極１１の静電気によって、先端が持ち上げられ、図９（ｄ）に示したように、基板３上に立った状態に位置決めされる。この状態で、米粒ａの側面が撮像手段（図示せず）によって計測される。
この実施形態の場合には、米粒ａが図９（ｃ）の状態から図９（ｄ）の状態に変位する間に、米粒ａの側面の計測が可能になる。【００７９】  なお、第４実施形態では、孔１５を有するガイド板４を使用し、米粒ａを孔１５によって、基板３上に整列させている。この場合には、それらの米粒ａに対応した電極１１によって、それぞれの米粒ａを立ち上がらせることができるが、孔１５を有さないガイド板４を使用することもできる。その場合には、先ず、基板３上に米粒ａをランダムに載せ、それらの米粒ａの上方にガイド板４を近づけ、電極１１によって米粒ａを吸着させて立った状態にしてもよい。しかし、この場合には、電極１１に吸着されずに残った米粒ａを排除する必要がある。そこで、この場合には、ガイド板４を一旦上方へ持ち上げ、基板３上に残った米粒ａをブレード等の適宜な手段によって排除する。その後、ガイド板４を降下させて、電極１１に吸着している米粒ａを基板３上に立たせればよい。あるいは、他の場所にランダムに配列して置かれている米粒を、このガイド板４を用いて吸着させ、それを撮像基板上に移動する方式も可能である。【００８０】  図１０および図１１は、第５実施形態を示している。
この第５実施形態では、基板３の上方に、軸１０ａを基板３に対して平行に配設し、ガイド板１０を軸１０ａに配設している。そして、ガイド板１０に、複数の帯状の電極１１を並設させている。軸１０ａは、適宜な手段、例えば、手やモーターあるいは電磁ソレノイド等のアクチュエータによって回動、上下・左右稼動がなされる。軸はガイド板あるいは電極の左側に配設の場合、右側の場合、上部場合、中央部付近の場合、下部の場合も可能である。軸は回転のみする場合、回転するのみならず上下に稼動する場合、回転と左右に稼動する場合、回転と上下・左右稼動の場合も含んでいる。
この第５の実施形態では、軸１０ａが回動自在、かつ上下動自在に配設されており、図１０（ａ）に示したように、電極１１を立てて、電極１１に静電気を印加し、それによって基板３上の米粒ａを電極１１に吸着させる。この状態で、米粒ａの厚み等が計測される。電極１１を水平、あるいはある希望の角度になるように位置させて、電極１１に静電気を印加し、それによって基板３上の米粒ａを電極１１に吸着するタイプのシステムも含んでいる。
次いで、軸１０ａを、図１１（ａ）において二点鎖線で示したように、時計方向に回動させ、米粒ａを基板３に対して任意の角度に傾斜させる。この状態で、粒子の胴部の計測がなされる。
次いで、軸１０ａを、さらに回動させて、ガイド板１０を基板３に対して平行にしたままで、あるいは図１１（ｂ）に示したように平行にするとともに、ガイド板１０を降下させ、米粒ａを基板３上に寝た状態に接触または近接させ、これらの状態で計測がなされる。平行角度の時には粒子の幅、長さが下方から計測される。また、水平あるいはそれに近い角度の時、通電をとめて基板の上に米粒を静かに置きそれを撮像することもできる。あるいはそれ以外の角度でも通電をとめて基板の上に米粒を横たえた後撮像することもできる。
一方、ガイド板１０を反時計回りに回転させると上方あるいは横方向からの計測が可能になり、米粒子の厚み、幅、長さおよび胴部の計測がなされる。この場合ガイド板の回転角度は０度から３６０度まで目的に応じて変化させることができる。【００８１】  なお、この第５実施形態では、図１０（ａ）に示したようにガイド板１０に電極１１を配設しているが、図（ｂ）に示したように軸１０ａに直接電極１１を配設して、ガイド板１０を省略してもよい。ガイド板１０はそれぞれの電極ごとに分離せずに一枚板の場合も含んでいる。ガイド板の形は矩形ばかりでなく、円形や楕円形、あるいは多角形でも他の閉曲線形も含んでいる。また、電極１１の長さは、米粒ａの長さよりも短くてもよく、形状も矩形ばかりでなく、円形や楕円形、あるいは多角形でも他の閉曲線形も含んでいる。また、平面ばかりでなく、他の曲面形も含んでいる。
また、この実施形態の場合には、軸１０ａを３６０度の角度範囲で回動させることができ、３６０度の内の希望の方向から米粒ａを撮像することができる。【００８２】  また、この第５実施形態の場合には、軸１０ａを移動して、電極１１を、例えば、米貯蔵器内の米粒に接近あるいは接触させ、米粒ａを電極１１に吸着させ、次いで、軸１０ａを基板３上に移動させ、その後、上記したように軸を回転させ希望の角度で計測できるようにすることもできる。【００８３】  図１２は、上記第５実施形態の変形例を示している。この変形例では、軸１０ａを鉛直（基板３に対して垂直方向）に配設し、その軸１０ａに電極１１を配設している。このうち、図１１（ａ）は、電極１１をガイド板１０を介して軸１０ａに配設しており、図１１（ｂ）は、電極１１を軸１０ａに直接配設している。該軸の位置はガイド板あるいは電極の端、あるいは中央部付近の場合も含んでいる。ガイド板あるいは電極の形は矩形でも、円でも、楕円でも、多角形でも、他の閉曲線形よい。【００８４】  図１３乃至図１５は、本発明で採用される電極１１の形状の一例を示している。
図１２（ａ）に示した電極１１は、燐青銅等の弾性材料によって、クランク状（あるいはその折れ曲がり箇所が曲率を持っていてもよい）に形成し、一端を図１２（ｂ）に示したように、一端部１１ｃをガイド板１０に固定している。
この電極１１を採用した場合には、図１３（ｂ）に示したように、電極１１の他端部１１ｄが変形して、サイズの異なる米粒ａを基板３上に安定して保持させることができる。これらの電極が複数個並んだ場合も含んでいる。【００８５】  図１４（ａ）は、電極１１として、スプリングを採用しており、図１４（ｂ）は、紐状の電極１１を採用している。スプリングは板ばね型でもよく、また電極基板の上面側にあってもよいある場合も封組んでいる。またこれらの電極が複数個並んだ場合も含んでいる。
これらの電極１１の場合にも、図１３に示した電極１１と同様に、サイズの異なる米粒ａを基板３上に安定して保持させることができる。
図１４（ｃ）は上下に稼動する電極である。電極１１には上端と下端に鍔が付いていて、ガイド板１０外れず上下に動く。米粒子ａの下端が基板上に着地するとその後は電極１１を押し上げ、サイズの異なる米粒ａを基板３上に安定して保持させることができる。またこれらの電極が複数個並んだ場合も含んでいる。【００８６】  図１５は、立体的多角形電極１１の断面を示している。図１５（ａ）は、下端面が基板３に対して平行に形成され、図１５（ｂ）は、下端面が基板に対して傾斜して形成されている。また、図１５（ｃ）は、下端面に、複数（３個以上も含んでいる）の凸部を形成し、その凸部の先端を結ぶ面を基板３に対して平行に形成され、図１５（ｄ）は、下端面に、複数（３個以上も含んでいる）の凸部を形成し、その凸部の先端を結ぶ面を基板３に対して傾斜して形成されている。またこれらの電極の角や底面は曲率を持っている場合も含んでいる。【００８７】  図１６は、複合電極の断面を示している。図１６（ａ）は、高分子材料，セラミック等によって形成したガイド板１０に、電極１１を添設させたものである。この複合電極では、電極１１の下端部が湾曲面によって形成さている。この複合電極によれば、図１６（ａ）に示したように、米粒ａの胴部がガイド板１０によって位置決めされ、上端が電極１１に吸着される。
また、図１６（ｂ）は、高分子材料，セラミック等によって形成された筒状のガイド１０の孔に柱状の電極１１を所望の位置に固定あるいは上下動自在になる様に配設したものである。この複合電極によれば、図１６（ｂ）に示したように、米粒ａの上端をガイド１０から露出している電極１１に吸着させ、該電極１１をガイド１０内に没入させることによって、米粒ａの上部周面がガイド１０の開口縁によって位置決めされる。電極の底面は曲率がある場合も含んでいる。またこれらの複合電極が複数並んだ場合も含んでいる。【００８８】  上記実施形態では、米粒の姿勢制御方法について説明したが、本発明は、米粒ばかりでなく、他の形状異方性粒子の計測にも適用できることは勿論である。さらに本装置は姿勢制御に重点を置いて説明してきたが、また、形状異方性粒子のみならず他の任意形状粒子の配列制御装置としても、用いることができる。
また、上記したガイド板４，４ａ，４ｂ，１０および基板３は、特に明言しない限り、ポリマー、セラミックス等の絶縁性物質である。さらに本発明の電気的姿勢制御装置の動作中に無視できない電気的なノイズが起きる場合は、シールドのために目的に応じて、接地された金属電極あるいは透明電極を用いる。
【図面の簡単な説明】
【００８９】
【図１】  本発明に係る形状異方性粒子の姿勢制御方法を利用した姿勢制御装置の例として、米粒品質判定装置を示した斜視図である。
【図２】  図１の米粒品質判定装置における米粒（形状異方性粒子）の姿勢制御方法の第１実施形態で使用されるガイド板を概念的に示した斜視図である。
【図３】  第１実施形態のガイド板を使用した米粒の姿勢制御の動作順を示した概念的な断面図である。
【図４】  図１に示した米粒品質判定装置における米粒（形状異方性粒子）の姿勢制御方法の第２実施形態で使用されるガイド板を概念的に示した斜視図である。
【図５】  第２実施形態のガイド板を使用した米粒の姿勢制御の動作順を示した概念的な断面図である。
【図６】  図１に示した米粒品質判定装置における米粒（形状異方性粒子）の姿勢制御方法の第３実施形態の動作順を示した概念的な断面図である。
【図７】  図６に示した米粒品質判定装置における米粒（形状異方性粒子）の姿勢制御方法の第３実施形態の変形例の動作順を示した概念的な断面図である。
【図８】  電極を採用した米粒（形状異方性粒子）の姿勢制御方法を例示した概念的な断面図である。
【図９】  図１に示した米粒品質判定装置における米粒（形状異方性粒子）の姿勢制御方法の第４実施形態の動作順を示した概念的な断面図である。
【図１０】  図１に示した米粒品質判定装置における米粒（形状異方性粒子）の姿勢制御方法を実施するための電極の設置形態を示した概念的な断面図である。
【図１１】  図８に示した電極の動作を示した概念的な断面図である。
【図１２】  図１０に示した実施形態の変形例を示した断面図である。
【図１３】  図１１（ａ）は、電極の一形態を示した斜視図であり、図１１（ｂ）は、その電極を採用した場合の作用を示した概念的な断面図である。
【図１４】  他の形態の電極を例示した概念的な断面図である。
【図１５】  電極の形状を例示した概念的な断面図である。
【図１６】  複合電極を例示した概念的な断面図である。
【符号の説明】
【００９０】１      米粒品質判定装置
２      ケース
３      基板（ガラス，アクリルをはじめとする透明樹脂等の透明基板）
４，４ａ，４ｂ      ガイド板
５      ハンドル
６      摘み
７      孔
７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ      面（平面，曲面等）
８      孔
８ａ      曲面
８ｂ      側壁面
９      シャッター
９ａ      軸
１０      ガイド板
１０ａ      軸
１１，１１ａ，１１ｂ      電極
１１ｃ      一端部
１１ｄ      他端部
１２      静電気発生器
１３      電極
１４      孔
【図１】
2005035786.tif 000003
【図２】
2005035786.tif 000004
【図３】
2005035786.tif 000005
【図３】
2005035786.tif 000006
【図４】
2005035786.tif 000007
【図５】
2005035786.tif 000008
【図６】
2005035786.tif 000009
【図７】
2005035786.tif 000010
【図８】
2005035786.tif 000011
【図９】
2005035786.tif 000012
【図１０】
2005035786.tif 000013
【図１１】
2005035786.tif 000014
【図１２】
2005035786.tif 000015
【図１３】
2005035786.tif 000016
【図１４】
2005035786.tif 000017
【図１５】
2005035786.tif 000018
【図１６】
2005035786.tif 000019
【手続補正書】
【提出日】平成15年11月19日(2003.11.19)
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】全図
【補正方法】変更
【補正の内容】
【図１】
2005035786.tif 000020
【図２】
2005035786.tif 000021
【図３】
2005035786.tif 000022
【図４】
2005035786.tif 000023
【図５】
2005035786.tif 000024
【図６】
2005035786.tif 000025
【図７】
2005035786.tif 000026
【図８】
2005035786.tif 000027
【図９】
2005035786.tif 000028
【図１０】
2005035786.tif 000029
【図１１】
2005035786.tif 000030
【図１２】
2005035786.tif 000031
【図１３】
2005035786.tif 000032
【図１４】
2005035786.tif 000033
【図１５】
2005035786.tif 000034
【図１６】
2005035786.tif 000035