(57)【要約】【課題】  ジアゾニウム塩を金属塩還元剤を用いて還元し、フェニルヒドラジン類を製造する方法において、反応後に不要な金属塩を実質的に除去可能なフェニルヒドラジン類の製造方法を提供すること。【解決手段】    一般式（１）で表されるジアゾニウム塩を金属塩還元剤を用いて還元して、一般式（２）で表されるフェニルヒドラジン類を製造する方法において、反応終了後、不要な金属塩をキレート剤で実質的に除去することを特徴とする一般式（２）で表されるフェニルヒドラジン類の製造法。【化１】2005336103.tif 000010  前記一般式（１）及び一般式（２）において、Ｒ1は置換基を表し、ｎは０〜５の整数を表す。ｎが２以上の場合、Ｒ1は同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成してもよい。一般式（１）においてX-は陰イオンを表す。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（１）で表されるジアゾニウム塩を金属塩還元剤を用いて還元して、一般式（２）で表されるフェニルヒドラジン類を製造する方法において、反応終了後、不要な金属塩をキレート剤で実質的に除去することを特徴とする一般式（２）で表されるフェニルヒドラジン類の製造法。
【化１】
2005336103.tif 000009
前記一般式（１）及び一般式（２）において、Ｒ1は置換基を表し、ｎは０〜５の整数を表す。ｎが２以上の場合、Ｒ1は同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成してもよい。一般式（１）においてX-は陰イオンを表す。
【請求項２】
金属塩還元剤として塩化スズ（ＩＩ）を用いることを特徴とする請求項１に記載のフェニルヒドラジン類の製造法
【請求項３】
キレート剤が分子中に２つ以上のカルボキシル基を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のフェニルヒドラジン類の製造方法。
【請求項４】
キレート剤が酒石酸、酒石酸の塩、エチレンジアミン四酢酸、エチレンジアミン４酢酸の塩よりなる群から選ばれることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載のフェニルヒドラジン類の製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はフェニルヒドラジン類の製造法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ヒドラジン化合物は医薬品や、写真用カプラー等の中間体に利用される、有機合成上有用な化合物である。例えば、ヒドラジン類を原料として製造されるピラゾール化合物は、医薬品、農薬、染料、写真用カプラー等に用いられる。ヒドラジン類は一般に対応するジアゾニウム塩を亜硫酸ナトリウムや、塩化スズなどで還元することで製造できる（例えば、以下の非特許文献１及び２、特許文献１から３までを参照）。
しかしながらこれらの手法によるヒドラジン類の製造ではいくつかの問題点が存在する。すなわち、亜硫酸ナトリウムなどに代表される水溶性の無機還元剤で還元を行うには、原料のジアゾニウム塩に水溶性がある程度ないと反応が進行しないことが問題であった。また、塩化スズ（II）に代表される金属塩還元剤を用いる場合は水溶性が小さいジアゾニウム塩でも反応するが、反応後の後処理時に金属塩由来の副生成物がゲル化したり、濾過性の悪い固体となって析出したりと、反応液の取り扱い性が悪くなり、作業性等の製造適性を著しく低下させることが問題であった。
【非特許文献１】新実験化学講座１９７８年  丸善株式会社発行  １４巻  １５８０ページ
【非特許文献２】実験化学講座  １９９２年  丸善株式会社発行  ２０巻  ３３８ページ
【特許文献１】特開昭５７−４９５７号公報
【特許文献２】特開昭５７−４９５６号公報
【特許文献３】特開２００１−２３３８４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、ジアゾニウム塩を金属塩還元剤を用いて還元し、フェニルヒドラジン類を製造する方法において、反応後に不要な金属塩を実質的に除去可能なフェニルヒドラジン類の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
前記課題は、フェニルヒドラジン類の製造方法を提供することにより解決される。
（１）一般式（１）で表されるジアゾニウム塩を金属塩還元剤を用いて還元して、一般式（２）で表されるフェニルヒドラジン類を製造する方法において、反応終了後、不要な金属塩をキレート剤で実質的に除去することを特徴とする一般式（２）で表されるフェニルヒドラジン類の製造法。
【０００５】
【化１】
2005336103.tif 000002
【０００６】
前記一般式（１）及び一般式（２）において、Ｒ1は置換基を表し、ｎは０〜５の整数を表す。ｎが２以上の場合、Ｒ1は同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成してもよい。一般式（１）においてX-は陰イオンを表す。
（２）金属塩還元剤として塩化スズ（ＩＩ）を用いることを特徴とする前記（１）に記載のフェニルヒドラジン類の製造法
（３）キレート剤が分子中に２つ以上のカルボキシル基を有することを特徴とする前記（１）又は（２）に記載のフェニルヒドラジン類の製造方法。
（４）キレート剤が酒石酸、酒石酸の塩、エチレンジアミン四酢酸、エチレンジアミン４酢酸の塩よりなる群から選ばれることを特徴とする前記（１）ないし（３）のいずれか１に記載のフェニルヒドラジン類の製造法。
【発明の効果】
【０００７】
ジアゾニウム塩を金属塩還元剤により還元してフェニルヒドラジン類を合成する際、反応後不要な金属塩をキレート剤で実質的に取り除くことにより、後処理時に問題となるゲル化、および濾過性の悪い固体の生成を抑制し、効率よく目的物を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
本発明は、以下の一般式（１）で表されるジアゾニウム塩から、一般式（２）で示されるフェニルヒドラジン類を製造する方法において、反応終了後不要な金属塩をキレート剤で実質的に除去することを特徴とする。ここで、「実質的に除去する」とは、反応後の後処理、具体的には、例えば、水又は塩基水溶液等と有機溶媒を加えて反応を停止させた後に目的物の精製を行う際、少なくとも、ゲル化が生じたり、濾過性の悪い固体がて析出して反応液の取り扱いが不可能にならない程度、又はそれ以上に金属塩を除去することを意味する。
【０００９】
【化２】
2005336103.tif 000003
【００１０】
反応後に不要な金属塩を取り除くために添加するキレート剤とは、一般に金属イオンと強く配位することで金属イオンに起因する種々のトラブルを回避するために添加する化合物である。このようなキレート剤に関する詳細な説明は、具体的な化合物も含め種々の文献及び報文で報告されている（例えば、昭和４４年南江堂発行の「入門キレート化学」、昭和４０年南江堂発行の「金属キレート ［Ｉ］、［ＩＩ］」を参照）。
【００１１】
本発明の製造方法において用いられるキレート剤は、前記のごときものが特に制限なく用いられるが、具体的に挙げると、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、トアミノトリエチルアミン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン、１，３ージアミノプロパン、１，２ージアミノプロパン、ピリジン、ビピリジン、グリシン、アスパラギン酸、Ｎ−ジヒドロキシエチルグリシン、イミノ二酢酸、エチレンジアミン四酢酸、Ｎ−ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、エチレンジアミン四プロピオン酸、クエン酸、酒石酸、アスコルビン酸、トリグリコール酸、チオ尿素、８−ヒドロキシキノリン、アセチルアセトン、およびこれら化合物の塩等が挙げられる。
【００１２】
中でも、本発明において用いられるキレート剤としては、Ｎ，Ｎ’−ジメチルエチレンジアミン、アスパラギン酸、Ｎ−ジヒドロキシエチルグリシン、イミノ二酢酸、エチレンジアミン四酢酸、Ｎ−ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、エチレンジアミン四プロピオン酸、クエン酸、酒石酸、アスコルビン酸、トリグリコール酸、およびこれらの塩（Ｎａ塩、Ｋ塩、Ｌｉ塩、Ｃｓ塩、アンモニウム塩等）が好ましく、特に酒石酸、エチレンジアミン四酢酸およびこれらの塩（Ｎａ塩、Ｋ塩、Ｌｉ塩、アンモニウム塩等）が最も好ましい。
【００１３】
これらキレート剤はどのような方法で添加してもよく、反応後に反応液に直接加えても、またキレート剤の水溶液にして加えてもよい。また、キレート剤の添加量は、反応で用いた金属還元剤に対し、２〜１００当量が好ましく、４〜１０当量がより好ましい。これよりもキレート剤が少ないと充分に金属イオンを捕捉できず、後処理時に濾過性が悪化したり、目的物に不要な金属塩が混入するなどの問題が発生し、またキレート剤を過剰量入れた場合は不必要に多くの試薬を用いることになる。
【００１４】
次に、本発明のフェニルヒドラジン類の製造に用いるジアゾニウム塩について説明する。ジアゾニウム塩化合物は以下の構造式で示される。
【００１５】
【化３】
2005336103.tif 000004
【００１６】
一般式（１）においてＲ1は置換基を表し、ｎは０〜５の整数を表す。ｎが２以上の場合、Ｒ1は同一でも異なっていてもよく、また互いに連結して環を形成してもよい。また、Ｘ-は陰イオンを表す。
【００１７】
一般式（１）及び一般式（２）中のＲ1で表される置換基としては、炭素数１から２０のアルキル基、炭素数６から３０のアリール基、炭素数１から２０のアルコキシ基、炭素数６から３０のアリールオキシ基、炭素数２から２０のアルコキシカルボニル基、炭素数７から３０のアリールオキシカルボニル基、炭素数２から２０のアシルオキシ基、炭素数２から２０のアシル基、炭素数２から２０のアミド基、炭素数１から２０のカルバモイル基、炭素数１から３０のスルファモイル基、炭素数１から２０のスルホンアミド基、ハロゲン原子、炭素数１から２０のアルキルチオ基、炭素数６から３０のアリールチオ基、炭素数１から２０のアルキルスルホニル基、炭素数６から３０のアリールスルホニル基、炭素数１から２０のアミノ基、シアノ基、ヒドラジノ基、ヒドロキシアミノ基、炭素数１から２０のウレア基、炭素数１から２０のチオウレア基、ニトロ基があげられる。
【００１８】
中でも水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、アシル基、カルバモイル基、アミド基、スルファモイル基、スルホンアミド基、アミノ基、シアノ基、ヒドラジノ基、ウレア基、チオウレア基が好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ニトロ基が特に好ましい。
【００１９】
一般式（１）及び一般式（２）において、Ｒ1は更に置換基を有していてもよく、該置換基の例としては、以下のものを挙げることができる。
【００２０】
炭素数１から２０の鎖状または環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、イソプロピル、シクロヘキシル）、炭素数６から１８のアリール基（例えば、フェニル、クロロフェニル、２，４−ジ−ｔ−アミルフェニル、１−ナフチル）、炭素数７から１８のアラルキル基（例えば、ベンジル、アニシル）、炭素原子数２から２０のアルケニル基（例えば、ビニル、２−メチルビニル）、炭素数２〜２０のアルキニル基（例えば、エチニル、２−メチルエチニル、２−フェニルエチニル）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ）、シアノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数２〜２０のアシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、サリチロイル、ピバロイル）、炭素数１〜２０のアルコキシ基（例えば、メトキシ、ブトキシ、シクロヘキシルオキシ）、炭素数６〜２０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ、１−ナフトキシ、トルオイル）、炭素数１〜２０のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ、ブチルチオ、ベンジルチオ、３−メトキシプロピルチオ）、炭素数６〜２０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ、４−クロロフェニルチオ）、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ブタンスルホニル）、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、パラトルエンスルホニル）、炭素数１〜１７のカルバモイル基（例えば、無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル）、炭素数１〜１６のアミド基（例えば、アセトアミド、ベンズアミド）、炭素数２から１０のアシルオキシ基（例えば、アセトキシ、ベンゾイルオキシ）、炭素数２から１０のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル）、５もしくは６員のヘテロ環基（例えば、ピリジル、チエニル、フリル、チアゾリル、イミダゾリル、ピラゾリルなどの芳香族ヘテロ環、ピロリジン環、ピペリジン環、モルホリン環、ピラン環、チオピラン環、ジオキサン環、ジチオラン環などのヘテロ環）、アミノ基、アシルアミノ基が挙げられる。
【００２１】
また、一般式（１）におけるＸ-はジアゾニウムに対する対イオンである陰イオンを示し、  無機陰イオンとしてはヘキサフルオロリン酸イオン、ホウフッ化水素酸イオン、塩化物イオン、硫酸イオン等が挙げられ、有機陰イオンとしてはポリフルオロアルキルカルボン酸イオン、ポリフルオロアルキルスルホン酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、芳香族カルボン酸イオン、芳香族スルホン酸イオン等が挙げられる。
【００２２】
以下に、本発明の製造方法により製造される一般式（２）で表されるフェニルヒドラジン類の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。（なお、本発明の製造方法において用いるジアゾニウム塩化合物の具体例は、以下に示すフェニルヒドラジン類の具体例に対応するジアゾニウム塩となる。）
【００２３】
【化４】
2005336103.tif 000005
【００２４】
【化５】
2005336103.tif 000006
【００２５】
【化６】
2005336103.tif 000007
【００２６】
【化７】
2005336103.tif 000008
【００２７】
金属塩還元剤を用いる一般式（１）で表されるジアゾニウム塩から一般式（２）で表されるフェニルヒドラジン類への反応は公知の反応であり、種々の方法により製造することができる（例えば、背景技術の項目で挙げた非特許文献１及び非特許文献２を参照）。また、ジアゾニウム塩は、対応するアニリンから常法により製造することができる。
【００２８】
また、この反応で用いる金属塩還元剤とは一般に低原子価金属を含む化合物、もしくは金属イオンとヒドリド源からなる化合物である（例えば、「有機合成実験法ハンドブック」１９９０年  社団法人有機合成化学協会編  丸善株式会社発行  ８１０ページを参照）。例えばNaAlH4、NaAlHn(OR)m、LiAlH4、iBu2AlH、LiBH4、NaBH4、SnCl2、CrCl2、TiCl3などが挙げられるが、LiAlH4、NaBH4、SnCl2が好ましく、SnCl2が最も好ましい。
【００２９】
本発明の製造方法によって製造されるフェニルヒドラジン類は、例えば、特開昭６１−２３６７６８号公報、特開平４−２７５２７７号公報等に記載の方法で、それを原料としてアミノピラゾール化合物を製造することができ、前記化合物は写真等のカプラーとして有用である。
以下実施例において、本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。なお、以下において「部」は特に限定のない限り「質量部」を意味する。
実施例１
（化合物例２−７の合成）
２−メトキシアニリン１．８５ｇ（０．０１５ｍｏｌ）をメタノール１５ｍＬに溶解した。これに３５質量％濃塩酸５ｍＬを加え、アセトン／氷浴により−５°まで冷却した。これに亜硝酸ナトリウム１．２４ｇを含む水溶液１０ｍＬを滴下した。反応の進行をＴＬＣで確認した。別途、水１００ｍＬに塩化スズ（II）２水和物１０．２ｇと濃塩酸２．５ｍＬを溶解した後、０°に冷却した水溶液に、前記反応溶液を滴下した。反応が進行したのをＴＬＣで確認後、反応溶液に、１５質量％ロッシェル塩（酒石酸ナトリウムカリウム４水和物：和光純薬（株）製）水溶液を２００ｍＬと酢酸エチルを１００ｍＬ加え、撹拌した。析出した白色固体を濾別後、目的物をさらに酢酸エチルで抽出後、有機相を減圧濃縮し、カラムクロマトグラフィーにより精製することで化合物例２−７のフェニルヒドラジンを１．３６ｇ得た。収率は６６％であった。
反応後の後処理の工程において、ゲル化は起こらず容易に濾過を行うことができた。
1H-NMR(300MHz,DMSO-d6)  3.8(s,3H), 4.0(ds,3H), 7.0(m,4H)
【００３０】
実施例２
（化合物例２−１６の合成）
２−メトキシアニリン１．８５ｇに代えて２，５−ジヘキシルオキシアニリン５．２４ｇを用いる他は実施例１と同様にして、化合物例２−１６のフェニルヒドラジンを３．２８ｇ得た。収率は６０％であった。
反応後の後処理の工程において、ゲル化は起こらず容易に濾過を行うことができた。
1H-NMR(300MHz,DMSO-d6) 1.20-1.55(m,20H), 1.94(m,2H), 3.90(s,2H), 
3.92(s,2H), 6.58(d,1H), 6.68(s,1H), 7.00(d,1H)
【００３１】
実施例３
（化合物例２−１５の合成）
２−メトキシアニリン１．８５ｇに代えて、２，５−ジベンジルオキシアニリン４．５８ｇを用いる他は実施例１と同様にして、化合物例２−１５を３．１２ｇ得た。収率は６０％であった。
1H-NMR(300MHz,DMSO-d6) 5.00(s,2H), 5.10(s,2H), 6.56(d,1H), 
6.70(s,1H), 7.00(d,1H), 7.10-7.60(m,10H)
【００３２】
実施例４
（化合物例２−４３の合成）
２−メトキシアニリン１．８５ｇに代えて、２−メトキシ−４−ドデシルチオアニリンを３．２４ｇ用いる他は実施例１と同様にして、化合物例２−４３を２．５ｇ得た。収率は７４％であった。
1H-NMR(300MHz,DMSO-d6) 0.80(t,3H), 1.20-1.40(m,18H), 2.95(t,2H),
3.80(s,3H), 6.95(m,2H), 7.12(d,1H)
【００３３】
実施例５
（化合物例２−７の合成）
実施例１において、キレート剤としてＥＤＴＡ２アンモニウム塩（（株）同人化学研究所製）の１５質量％水溶液２００ｍｌを用いる他は、実施例１と同様にして化合物例２−７を１．２５ｇ得た。収率は６１％であった。
【００３４】
比較例１
実施例２において、反応後に、ロッシェル塩水溶液に代え、イオン交換水２００ｍｌを加える他は実施例１と同様にしてフェニルヒドラジン類を合成したところ、系にゲル状の不溶物が生成し分液性、濾過性いずれも著しく悪化し、目的物の精製が困難となった。