(57)【要約】【課題】  高効率で生産性が高く、信頼性の高いカラーフィルタを製造する方法を提供する。【解決手段】  本発明のカラーフィルタの製造方法は、所定パターンの遮光層２が形成された基板１上に、撥インク性を示す撥インク要素と、光照射により前記撥インク要素の撥インク性を親インク性に変換可能な変換機能要素とを有する機能膜３を形成する工程と、機能膜３の所定領域に対して光照射を行う光照射工程と、機能膜３のうち光照射により親インク化した領域（親インク領域）３ｂ上に着色層６を形成する工程とを含み、光照射工程において、遮光層２の非形成領域と、該非形成領域の周りに形成された遮光層２の一部とに跨る形にて光照射を行うことを特徴とする。【選択図】    図１
2005121737.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、着色層と、該着色層を所定領域毎に区画するための遮光層とを具備してなるカラーフィルタの製造方法であって、
所定パターンの遮光層が形成された基板上に、撥インク性を示す撥インク要素と、光照射により前記撥インク要素の撥インク性を親インク性に変換可能な変換機能要素とを有する機能膜を形成する工程と、
前記機能膜の所定領域に対して光照射を行う光照射工程と、
前記機能膜のうち前記光照射により親インク化した領域上に前記着色層を形成する工程とを含み、
前記光照射工程において、前記遮光層の非形成領域と、該非形成領域の周りに形成された遮光層の一部とに跨る形にて光照射を行うことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記機能膜において、前記変換機能要素が前記撥インク要素に混入されてなることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記機能膜において、前記変換機能要素と前記撥インク要素とが積層されてなることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記光照射工程において、前記機能膜が形成されている側に、前記所定領域に対する光照射を可能とするマスクパターンを有したフォトマスクを配設する工程を含み、前記フォトマスクを形成した側から前記機能膜に対して光照射を行うことを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
第１基板上に、着色層と、該着色層を所定領域毎に区画するための遮光層とを具備してなるカラーフィルタの製造方法であって、
所定パターンの遮光層が形成された第１基板上に、撥インク性を示す撥インク膜を形成する工程と、
第２基板上に、光照射により前記撥インク膜の撥インク性を親インク性に変換可能な変換機能膜を形成する工程と、
前記第２基板の前記変換機能膜の形成されていない側に対してフォトマスクを配設する工程と、
前記第１基板の撥インク膜と前記第２基板の変換機能膜とを対向させ、該第１基板と第２基板とを密着若しくは略密着させる工程と、
前記フォトマスク側から光照射を行う工程と、
前記第１基板のうち前記光照射により親インク化した領域に対し前記着色層を形成する工程とを含み、
前記光照射工程において、前記フォトマスクを用いることにより、前記遮光層の非形成領域と、該非形成領域の周りに形成された遮光層の一部とに跨る形にて光照射が行われることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
基板上に、着色層と、該着色層を所定領域毎に区画するための遮光層とを具備してなるカラーフィルタの製造方法であって、
所定パターンの遮光層が形成された基板上に、撥インク性を示す撥インク膜を形成する工程と、
フォトマスク上に、光照射により前記撥インク膜の撥インク性を親インク性に変換可能な変換機能膜を形成する工程と、
前記撥インク膜と前記変換機能膜とを対向させ、これらを密着若しくは略密着させる工程と、
前記フォトマスク側から光照射を行う工程と、
前記基板のうち前記光照射により親インク化した領域に対し前記着色層を形成する工程とを含み、
前記光照射工程において、前記フォトマスクを用いることにより、前記遮光層の非形成領域と、該非形成領域の周りに形成された遮光層の一部とに跨る形にて光照射が行われることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
前記変換機能要素又は前記変換機能膜は、光触媒材料からなることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
前記変換機能要素又は前記変換機能膜は、光触媒反応により撥インク性を示す分子を分解し、該分子の分解に基づき撥インク性を親インク性に変換する材料からなることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
前記着色層の形成工程において、液滴吐出法を用いることを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】
前記光照射工程において、前記遮光層の非形成領域と、該非形成領域の周りに形成された遮光層の一部とに跨る形にて光照射を行う場合に、該遮光層の幅の半分以下を対象として光照射することを特徴とする請求項１ないし９のいずれか１項に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれか１項に記載の製造方法により得られたことを特徴とするカラーフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタの製造方法、及びカラーフィルタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
カラー表示を可能とする液晶表示装置等の電気光学装置に適用するカラーフィルタの製造方法として、例えば特許文献１に開示された技術が知られている。
【特許文献１】特開２０００−２２１３１９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
一般的に、基板上にカラーレジストをスピンコート法により成膜し、フォトリソグラフィーを用いてパターニングした後に、赤色、緑色、青色の各画素を形成する技術が利用されている。しかしながら、このような技術においては、使用するレジストの量の９０％以上を廃棄しており、材料使用効率が低い。また、各色毎にフォトリソグラフィ工程を少なくとも３回繰り返す必要があるので生産性が低いという問題もある。
【０００４】
また、特許文献１では、液滴吐出法を用いて、着色材料を含む微小液滴を基板上に形成した隔壁内の画素に滴下することにより、赤色、緑色、青色の各画素を形成する技術が開示されている。しかしながら、このような技術においては、材料使用効率は高くなるが、隔壁形成時にフォトリソグラフィ工程を少なくとも１回行う必要がある。
【０００５】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、高効率で生産性が高く、信頼性の高いカラーフィルタを製造する方法を提供することを目的とする。更に、その製造方法により得られた安価で高信頼性のカラーフィルタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の課題を解決するため、本発明のカラーフィルタの製造方法は、基板上に、着色層と、該着色層を所定領域毎に区画するための遮光層とを具備してなるカラーフィルタの製造方法であって、所定パターンの遮光層が形成された基板上に、撥インク性を示す撥インク要素と、光照射により前記撥インク要素の撥インク性を親インク性に変換可能な変換機能要素とを有する機能膜を形成する工程と、前記機能膜の所定領域に対して光照射を行う光照射工程と、前記機能膜のうち前記光照射により親インク化した領域上に前記着色層を形成する工程とを含み、前記光照射工程において、前記遮光層の非形成領域と、該非形成領域の周りに形成された遮光層の一部とに跨る形にて光照射を行うことを特徴とする。
【０００７】
上記製造方法によると、機能膜に含まれる変換機能要素に対する光照射により、撥インク要素を親インク化することができ、特に光照射を機能膜の所定領域に対して選択的に行うことで、撥インク要素の所定領域のみを選択的に親インク化することができるようになる。そして、選択的に親インク化した領域に対し着色層を形成するものとしているため、該着色層を光照射領域に応じて選択的に形成することが可能となる。ここで、本発明では光照射を、遮光層の非形成領域と、該非形成領域の周りに形成された遮光層の一部とに跨る形に行うものとしている。つまり遮光層の非形成領域よりも大きな範囲に光照射を行うことで親インク化領域を形成し、その親インク化領域に着色層を形成するものとしているため、得られるカラーフィルタは遮光層周辺での白抜けや色ムラなどが生じ難くなり、これを液晶表示装置等の電気光学装置に適用した場合には、品質の高いカラー表示を提供することが可能となる。
【０００８】
前記機能膜において、前記変換機能要素が前記撥インク要素に混入されてなる態様、また前記変換機能要素と前記撥インク要素とが積層されてなる態様のいずれも採用することができる。特に混入態様を採用した場合、撥インク要素を一層親インク化しやすくなり、光照射量も少なくて済むため高効率となる。
【０００９】
前記光照射工程において、前記機能膜が形成されている側に、前記選択的な光照射を可能とするマスクパターンを有したフォトマスクを配設する工程を含み、前記フォトマスクを形成した側から前記機能膜に対して光照射を行うものとすることができる。このような方法により、選択的光照射を一層確実に且つ高効率で行なうことができるようになる。
【００１０】
次に、上記課題を解決するために、本発明のカラーフィルタの製造方法は、その異なる態様として、第１基板上に、着色層と、該着色層を所定領域毎に区画するための遮光層とを具備してなるカラーフィルタの製造方法であって、所定パターンの遮光層が形成された第１基板上に、撥インク性を示す撥インク膜を形成する工程と、第２基板上に、光照射により前記撥インク膜の撥インク性を親インク性に変換可能な変換機能膜を形成する工程と、前記第２基板の前記変換機能膜の形成されていない側に対してフォトマスクを配設する工程と、前記第１基板の撥インク膜と前記第２基板の変換機能膜とを対向させ、該第１基板と第２基板とを密着若しくは略密着させる工程と、前記フォトマスク側から光照射を行う工程と、前記第１基板のうち前記光照射により親インク化した領域に対し前記着色層を形成する工程とを含み、前記光照射工程において、前記フォトマスクを用いることにより、前記遮光層の非形成領域と、該非形成領域の周りに形成された遮光層の一部とに跨る形にて光照射が行われることを特徴とする。
【００１１】
このような製造方法によっても、変換機能膜に対する光照射により、撥インク膜を親インク化することができ、特に光照射を変換機能膜の所定領域に対して選択的に行うことで、撥インク膜の所定領域のみを選択的に親インク化することができるようになる。そして、選択的に親インク化した領域に対し着色層を形成するものとしているため、該着色層を光照射領域に応じて選択的に形成することが可能となる。ここで、本発明では光照射を、遮光層の非形成領域と、該非形成領域の周りに形成された遮光層の一部とに跨る形に行うものとしている。つまり遮光層の非形成領域よりも大きな範囲に光照射を行うことで、該光照射領域を親インク化させ、その親インク化領域に着色層を形成するものとしているため、得られるカラーフィルタは遮光層周辺での白抜けや色ムラなどが生じ難くなり、これを液晶表示装置等の電気光学装置に適用した場合には、品質の高いカラー表示を提供することが可能となる。また、上記製造方法では、撥インク膜を第１基板に形成する一方、変換機能膜とフォトマスクとを第２基板に形成し、該変換機能膜と撥インク膜とを密着若しくは略密着させた状態で光照射するものとしているため、光照射工程後は該第２基板との密着を解放し、変換機能膜を残存させない形にてカラーフィルタを得ることができる。
【００１２】
一方、本発明のカラーフィルタの製造方法は、更に異なる態様として、基板上に、着色層と、該着色層を所定領域毎に区画するための遮光層とを具備してなるカラーフィルタの製造方法であって、所定パターンの遮光層が形成された基板上に、撥インク性を示す撥インク膜を形成する工程と、フォトマスク上に、光照射により前記撥インク膜の撥インク性を親インク性に変換可能な変換機能膜を形成する工程と、前記撥インク膜と前記変換機能膜とを対向させ、これらを密着若しくは略密着させる工程と、前記フォトマスク側から光照射を行う工程と、前記基板のうち前記光照射により親インク化した領域に対し前記着色層を形成する工程とを含み、前記光照射工程において、前記フォトマスクを用いることにより、前記遮光層の非形成領域と、該非形成領域の周りに形成された遮光層の一部とに跨る形にて光照射が行われることを特徴とする。
【００１３】
このような製造方法においても、遮光層の非形成領域よりも大きな範囲に光照射を行うことで、該光照射領域を親インク化させ、その親インク化領域に着色層を形成するものとしているため、得られるカラーフィルタは遮光層周辺での白抜けや色ムラなどが生じ難くなり、これを液晶表示装置等の電気光学装置に適用した場合には、品質の高いカラー表示を提供することが可能となる。また、上記製造方法では、撥インク膜を基板上に形成する一方、フォトマスク上に変換機能膜を形成し、該変換機能膜と撥インク膜とを密着若しくは略密着させた状態で光照射するものとしているため、光照射工程後は上記密着を解放し、変換機能膜を残存させない形にてカラーフィルタを得ることができる。
【００１４】
本発明において、前記変換機能要素又は前記変換機能膜は光触媒材料からなるものであって、具体的には、例えば光触媒反応により撥インク性を示す分子を分解し、該分子の分解により、撥インク性を親インク性に変換する材料からなるものとすることができる。
【００１５】
なお、前記着色層の形成工程において、液滴吐出法を用いることができる。つまり、例えば着色層を構成する着色材料を含む液状組成物等を、インクジェット装置等の液滴吐出装置を用いて吐出することで、親インク化した領域に対して選択的に配置することが可能となる。
【００１６】
前記光照射工程において、前記遮光層の非形成領域と、該非形成領域の周りに形成された遮光層の一部とに跨る形にて光照射を行う場合に、該遮光層の幅の半分以下を対象として光照射するものとすることができる。この場合、隣接画素との混色を防止することが可能となる。
【００１７】
次に、本発明のカラーフィルタは、上記製造方法により得られたことを特徴とし、このようなカラーフィルタは安価で信頼性の高いものとなる。そして、該カラーフィルタは例えば液晶表示装置等の電気光学装置に具備させることで、信頼性の高いカラー表示を実現することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明のカラーフィルタの製造方法について図面を参照しながら説明する。なお、各図において、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
【００１９】
図１は、本発明のカラーフィルタの製造方法について、その一実施の形態を説明するための断面模式図である。
本実施の形態の製造方法では、まず、図１（ａ）に示すように、石英、ガラス等にて構成される透光性の基板１上に、遮光層２を所定のパターンにて形成する。遮光層２は、例えばクロム又は酸化クロム等の遮光性の金属材料を蒸着し、これをフォトリソグラフィー法により所定形状にパターニングすることで得ることができる。なお、マスク蒸着によりパターン化した遮光層２を形成することも可能である。
【００２０】
このような遮光層２を形成した後、光触媒機能を有する機能膜３を形成する。具体的には、遮光層２を形成した基板１上に機能膜３を構成する材料を滴下し、その後、基板１全体を回転させることにより薄膜の機能膜３を形成するものとしている。
【００２１】
この機能膜３は、撥インク性を示す撥インク要素と、光照射により撥インク要素の撥インク性を親インク性に変換可能な変換機能要素とを含んで構成されている。撥インク要素は、例えばフルオロアルキルシラン（ＦＡＳ）等の撥インク性材料からなり、変換機能要素は、例えばＴｉＯ２等の光触媒機能を有した材料（光触媒材料）からなり、本実施の形態では、これらの材料が混ぜ込まれた形にて機能膜３を構成している。なお、撥インク要素を構成する撥インク性材料を成膜した後、変換機能膜を構成する光触媒材料を成膜する工程、或いは変換機能膜を構成する光触媒材料を成膜した後、撥インク要素を構成する撥インク性材料を成膜する工程のいずれをも採用可能で、この場合、機能膜３はこれら両要素の積層体として構成されることとなる。また、機能膜３を形成した後、必要に応じて乾燥工程を加えても良い。
【００２２】
次に、図１（ｂ）に示すように、基板１の機能膜３が形成された側にフォトマスク５を配設する。このフォトマスク５は、ガラス等の透光性の基材５上に遮光性のマスクパターン４を形成したものである。ここで、マスクパターン４は所定のパターンにて形成されており、本実施の形態では、遮光層２のパターン上、具体的には遮光層２からはみ出ない領域に形成されている。
【００２３】
このようなフォトマスク５を形成した後、図１（ｂ）に示すように機能膜３を有する基板１に対して該フォトマスク５側から光照射を行う。ここでは、例えば波長２００ｎｍ〜４５０ｎｍ程度の紫外光照射を行うものとしており、機能膜３のうちマスクパターン４が形成された領域以外の光照射領域に対して選択的に光照射が行なわれるものとされている。つまり、本実施の形態では、遮光層２からはみ出ない領域に対応して形成されたマスクパターン４に倣って、遮光層２の非形成領域と、該非形成領域の周りに形成された遮光層２の一部とに跨る形にて光照射が行われるものとされている。なお、紫外光照射以外にも、例えばレーザ光を照射するものとしても良い。
【００２４】
以上のように選択的光照射を行なうことで、図１（ｃ）に示すように、機能膜３のうち光照射が行われなかった領域（マスクパターン４の形成領域に対応）が、撥インク性を維持したままの撥インク領域３ａとなり、光照射が行われた領域（マスクパターン４の非形成領域に対応）が、親インク性に変換され、親インク領域３ｂとなる。したがって、撥インク領域３ａは遮光層２上に形成され、親インク領域３ｂは遮光層２の非形成領域と遮光層２の一部とに跨って形成されることとなる。なお、ここで機能膜３のうち、ＴｉＯ２等の光触媒機能を有した材料（光触媒材料）からなる変換機能要素は、撥インク要素を構成するフルオロアルキルシラン（ＦＡＳ）等の撥インク性材料を分解するための触媒作用を示すものである。
【００２５】
次に、図１（ｄ）に示すように、光照射により親インク性に変換した親インク領域３ｂに対して着色層６を形成する。ここでは、着色層６を構成する着色材料を所定の溶媒に溶解ないし分散させた液状体１１を、インクジェットノズル１０を備えたインクジェット装置（液滴吐出装置）にて吐出させている。特に、着色材料として赤色、緑色、青色の材料を、親インク領域３ｂのうちの選択された領域にそれぞれ滴下するものとしている。このような液状体１１の滴下後、加熱等により乾燥を行い、さらに必要に応じて着色層６上に保護膜を形成してカラーフィルタを得る。
【００２６】
なお、上述したインクジェット装置としては、例えば図６に示したような構成のインクジェット装置１０１を用いることができる。図６（ａ）は、インクジェット装置１０１の概略斜視図であって、図６（ｂ）は、インクジェット装置１０１の要部（ヘッド部分）の概略断面図である。
【００２７】
図６（ａ）に示すインクジェット装置１０１は、基板１１０（図１の例では、親インク領域３ｂを備えた基板１）上に材料インク１１を吐出するインクジェットヘッド（液滴吐出ヘッド）１０と、このインクジェットヘッド１０と基板１１０との位置を相対的に移動させる移動機構１０４と、インクジェットヘッド１０及び移動機構１０４を制御する制御部ＣＯＮＴとを備えたものである。
【００２８】
インクジェットヘッド１０は、材料インク（液状体）１１を吐出し、これを基板１１０上に吐出するようになっている。この場合のインクジェットヘッド１０は、図６（ｂ）に示すようにノズル孔１１８に連通する圧力発生室１１５と、圧力発生室１１５内の材料インク１１を加圧することにより、ノズル孔１１８から材料インク１１を吐出させるピエゾ素子（圧力発生素子）１２０を備えるものである。
【００２９】
移動機構１０４は、基板ステージ１０６上に載置された基板１１０の上方に、インクジェットヘッド１０を下方に向けて支持するヘッド支持部１０７と、上方のインクジェットヘッド１０に対して基板ステージ１０６とともに基板１１０をＸ、Ｙ方向に移動させるステージ駆動部１０８とから構成されたものである。
【００３０】
また、インクジェットヘッド１０において、ピエゾ素子１２０は、一対の電極１２１の間に位置し、通電するとこれが外側に突出する形にて撓曲するよう構成されたものである。そして、このような構成のもとに圧電素子１２０が接合されている振動板１１３は、圧電素子１２０と一体になって同時に外側へ撓曲するようになっており、これによって圧力発生室１１５の容積が増大するようになっている。
【００３１】
したがって、圧力発生室１１５内に増大した容積分に相当する材料インク１１が、図示しない供給口から圧力発生室１１５内へ流入し、また、このような状態からピエゾ素子１２０への通電を解除すると、ピエゾ素子１２０と振動板１１３はともに元の形状に戻る。その結果、圧力発生室１１５も元の容積に戻ることから、圧力発生室１１５内部の材料インク１１の圧力が上昇し、ノズル孔１１８から基板に向けて材料インク１１が液滴として吐出される。なお、インクジェットヘッド１０のインクジェット方式としては、ピエゾ素子１２０を用いたピエゾジェットタイプ以外の方式でもよく、例えば、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いた方式を採用してもよい。
【００３２】
また、制御部ＣＯＮＴは、装置全体の制御を行うマイクロプロセッサ等のＣＰＵや、各種信号の入出力機能を有するコンピュータなどによって構成されたもので、図６（ａ）に示したようにインクジェットヘッド１０及び移動機構１０４にそれぞれ電気的に接続されることにより、インクジェットヘッド１０による吐出動作、及び移動機構１０４による移動動作の少なくとも一方を制御するものとなっている。
【００３３】
このようなインクジェット装置１０１を用いることで、材料インク１１を基板１上の親インク領域３ｂに選択的に滴下することができるようになり、インクジェットヘッド１０に印加される電圧、駆動波形を変化させることで、一滴当りの吐出量を制御することが可能となる。また、インクジェットヘッド１０と基板ステージ１０６の相対的な速度、或いは材料インク１１の吐出周波数、インクジェットヘッド１０の角度を変化させることにより、所望の位置に液滴を滴下することが可能となる。
【００３４】
図４は、遮光層２と撥インク領域３ａと親インク領域３ｂとの関係を模式的に示す平面図である。本実施の形態の製造方法においては、図４に示すように、撥インク領域３ａを遮光層２のパターン上であって、該遮光層２からはみ出ない領域に形成し、一方、親インク領域３ｂを遮光層２の非形成領域と、該非形成領域の周りに形成された遮光層２の一部とに跨る形にて形成するものとしている。したがって、着色層６をインクジェット装置１０１を用いて形成するに際し、該着色層６を遮光層２の非形成領域に好適に形成することが可能となる。そして、特に着色領域が遮光層２よりも大きいため、これを液晶表示装置等のカラーフィルタとして用いた場合には、白抜けや色ムラなどがなくなり、高い表示品質を得ることができるようになる。
【００３５】
一方、図５は遮光層２と撥インク領域３ａと親インク領域３ｂとの関係を模式的に示す断面図である。本実施の形態の製造方法では、図５に示すように、光照射工程において遮光層２の幅Ｄ１の半分以下を対象として、遮光層２の一部（ここでは遮光層２の非形成領域と隣合う領域）を光照射するものとしている。つまり、遮光層２を光照射する幅Ｄ２が、Ｄ１の半分以下となるように光照射を行っている。したがって、製造されるカラーフィルタにおいて、隣接画素間の混色、つまり互いに隣合う異なる色の着色層同士の混色を防止することが可能となる。
【００３６】
図７は上述した製造方法により得られるカラーフィルタの平面構成を模式的に示したものである。このカラーフィルタ２００は、基板１上に、マトリクス状に配された着色層６と、各着色層の境目に形成された仕切り２１４とを含んで構成されている。着色層６は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のいずれかの色要素から構成され、仕切り２１４は、遮光層２からなる構成されるブラックマトリクスであって、仕切り２１４によって囲まれた領域は個々の画素をなしている。なお、図示していないが、仕切り２１４及び着色層６の上面には、必要に応じてこれらを一括的に覆う保護膜等が設けられる。なお、図７の例では、カラーフィルタにおけるＲ、Ｇ、Ｂの配列はストライプ配列となっているが、その他の配列でも構わない。例えば図８（ａ）に示すようなモザイク配列でもよく、図８（ｂ）に示すようなデルタ配列でもよい。
【００３７】
次に、本発明に係るカラーフィルタの製造方法について、その変形例を図面を参照しつつ説明する。
図２は、本発明のカラーフィルタの製造方法について、その一変形例を説明するための断面模式図である。ここで、図２においては、図１に示した模式図と同じ構成要素、構成部材には図１と同じ符号を付し、説明を省略する場合がある。
【００３８】
図２に示した製造方法では、まず、図２（ａ）に示すように透光性の基板（第１基板）１上に、遮光層２を所定のパターンにて形成する。このような遮光層２を形成した後、撥インク性を示す撥インク膜３１を形成する。具体的には、遮光層２を形成した基板１上に撥インク膜３１を構成する材料を滴下し、その後、基板１全体を回転させることにより薄膜の機能膜３を形成するものとしている。なお、この撥インク膜３１は、例えばフルオロアルキルシラン（ＦＡＳ）等の撥インク性材料から構成されるものである。
【００３９】
次に、図２（ｂ）に示すように、透光性の基板（第２基板）８上に、光照射により撥インク膜３１の撥インク性を親インク性に変換可能な機能膜（変換機能膜）７を形成する。なお、この機能膜７は、例えばＴｉＯ２等の光触媒機能を有した材料（光触媒材料）からなるものである。
【００４０】
さらに、基板８の機能膜７の形成されていない側に対してフォトマスク５を配設する一方、基板１の撥インク膜３１と基板８の機能膜７とを対向させ、各基板１，８を互いに密着若しくは略密着させる。なお、基板１，８を互いに密着若しくは略密着させた後に、フォトマスク５を配設するものとしても良い。
【００４１】
次に、図２（ｂ）に示すように撥インク膜３１を有する基板１に対してフォトマスク５側から光照射を行う。ここでは、撥インク膜３１のうちマスクパターン４が形成された領域以外の光照射領域に対して選択的に光照射が行なわれるものとされている。つまり、遮光層２からはみ出ない領域に対応して形成されたマスクパターン４に倣って、遮光層２の非形成領域と、該非形成領域の周りに形成された遮光層２の一部とに跨る形にて光照射が行われるものとされている。
【００４２】
以上のように選択的光照射を行なうことで、図２（ｃ）に示すように、撥インク膜３１のうち光照射が行われなかった領域（マスクパターン４の形成領域に対応）が、撥インク性を維持したままの撥インク領域３１ａとなり、光照射が行われた領域（マスクパターン４の非形成領域に対応）が、親インク性に変換され、親インク領域３１ｂとなる。したがって、撥インク領域３１ａは遮光層２上に形成され、親インク領域３１ｂは遮光層２の非形成領域と遮光層２の一部とに跨って形成されることとなる。
【００４３】
次に、図２（ｄ）に示すように、光照射により親インク性に変換した親インク領域３１ｂに対して着色層６を形成する。ここでは、着色層６を構成する着色材料を所定の溶媒に溶解ないし分散させた液状体１１を、インクジェットノズル１０を備えたインクジェット装置（液滴吐出装置）にて吐出させている。このような液状体１１の滴下後、加熱等により乾燥を行い、さらに必要に応じて着色層６上に保護膜を形成してカラーフィルタを得る。
【００４４】
以上のような製造方法によっても、機能膜７に対する選択的光照射により、撥インク膜３１を部分的に親インク化することができるようになる。そして、その親インク領域３１ｂに対し着色層６を形成するものとしているため、該着色層６を光照射領域に応じて選択的に形成することが可能となる。
【００４５】
ここで、光照射は、遮光層２の非形成領域と、該非形成領域の周りに形成された遮光層２の一部とに跨る形にて行うものとしている。つまり遮光層２の非形成領域よりも大きな範囲に光照射を行って親インク領域３１ｂを形成し、該親インク領域３１ｂ上に選択的に着色層６を形成するものとしている。したがって、得られるカラーフィルタは遮光層２の周辺での白抜けや色ムラなどが生じ難くなり、これを液晶表示装置等の電気光学装置に適用した場合には、品質の高いカラー表示を提供することが可能となる。
【００４６】
また、上記製造方法では、撥インク膜３１を基板１に形成する一方、機能膜７を基板８に形成し、該機能膜７と撥インク膜３１とを密着若しくは略密着させた状態で光照射するものとしているため、光照射工程後は該基板１，８の密着を解放することで、機能膜７を残存させない形にてカラーフィルタを得ることができる。
【００４７】
次に、図３は、本発明のカラーフィルタの製造方法について、その一変形例を示す断面模式図である。ここで、図３においては、図１及び図２に示した模式図と同じ構成要素、構成部材には図１及び図２と同じ符号を付し、説明を省略する場合がある。
【００４８】
図３に示した製造方法では、まず、図３（ａ）に示すように透光性の基板（第１基板）１上に、遮光層２を所定のパターンにて形成し、さらに撥インク性を示す撥インク膜３１を形成する。次に、図３（ｂ）に示すように、所定のマスクパターン４を有するフォトマスク５上に、光照射により撥インク膜３１の撥インク性を親インク性に変換可能な機能膜（変換機能膜）７を形成する。さらに、この機能膜７と基板１の撥インク膜３１とを対向させ、互いに密着若しくは略密着させる。
【００４９】
次に、図３（ｂ）に示すように撥インク膜３１を有する基板１に対してフォトマスク５側から光照射を行う。ここでは、撥インク膜３１のうちマスクパターン４が形成された領域以外の光照射領域に対して選択的に光照射が行なわれるものとされている。つまり、遮光層２からはみ出ない領域に対応して形成されたマスクパターン４に倣って、遮光層２の非形成領域と、該非形成領域の周りに形成された遮光層２の一部とに跨る形にて光照射が行われるものとされている。
【００５０】
以上のように選択的光照射を行なうことで、図３（ｃ）に示すように、撥インク膜３１のうち光照射が行われなかった領域（マスクパターン４の形成領域に対応）が、撥インク性を維持したままの撥インク領域３１ａとなり、光照射が行われた領域（マスクパターン４の非形成領域に対応）が、親インク性に変換され、親インク領域３１ｂとなる。したがって、撥インク領域３１ａは遮光層２上に形成され、親インク領域３１ｂは遮光層２の非形成領域と遮光層２の一部とに跨って形成されることとなる。
【００５１】
次に、図３（ｄ）に示すように、光照射により親インク性に変換した親インク領域３１ｂに対して着色層６を形成する。ここでは、着色層６を構成する着色材料を所定の溶媒に溶解ないし分散させた液状体１１を、インクジェットノズル１０を備えたインクジェット装置（液滴吐出装置）にて吐出させている。このような液状体１１の滴下後、加熱等により乾燥を行い、さらに必要に応じて着色層６上に保護膜を形成してカラーフィルタを得る。
【００５２】
以上のような製造方法によっても、機能膜７に対する選択的光照射により、撥インク膜３１を部分的に親インク化することができるようになる。そして、その親インク領域３１ｂに対し着色層６を形成するものとしているため、該着色層６を光照射領域に応じて選択的に形成することが可能となる。
【００５３】
ここで、光照射は、遮光層２の非形成領域と、該非形成領域の周りに形成された遮光層２の一部とに跨る形にて行うものとしている。つまり遮光層２の非形成領域よりも大きな範囲に光照射を行って親インク領域３１ｂを形成し、該親インク領域３１ｂ上に選択的に着色層６を形成するものとしている。したがって、得られるカラーフィルタは遮光層２の周辺での白抜けや色ムラなどが生じ難くなり、これを液晶表示装置等の電気光学装置に適用した場合には、品質の高いカラー表示を提供することが可能となる。
【００５４】
また、上記製造方法では、撥インク膜３１を基板１に形成する一方、機能膜７を基板８に形成し、該機能膜７と撥インク膜３１とを密着若しくは略密着させた状態で光照射するものとしているため、光照射工程後、機能膜７と撥インク膜３１の密着を解放することで、機能膜７を残存させない形にてカラーフィルタを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】カラーフィルタの製造方法について一実施の形態を説明する断面模式図。
【図２】カラーフィルタの製造方法について一変形例を説明する断面模式図。
【図３】カラーフィルタの製造方法について一変形例を説明する断面模式図。
【図４】遮光層と撥インク領域と親インク領域との関係を模式的に示す平面図。
【図５】遮光層と撥インク領域と親インク領域との関係を模式的に示す断面図。
【図６】インクジェット装置の構成を示す概略斜視図及びインクジェットヘッドの構成を示す断面模式図。
【図７】本発明の製造方法により得られたカラーフィルタの一例を示す平面図。
【図８】本発明の製造方法により得られたカラーフィルタについて幾つかの変形例を示す平面図。
【符号の説明】
【００５６】
１…基板，第１基板、２…遮光層、３…機能膜、３ａ…撥インク領域、３ｂ…親インク領域、４…マスクパターン、５…フォトレジスト、６…着色層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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