(57)【要約】【課題】  幅の広い磁気ヘッドのギャップ部に収束イオンビーム加工により溝を形成する際に、記録特性を確保しつつ、材料を除去する量を最小化し、加工コストの低減を図る。【解決手段】  ギャップから遠い部分の溝幅をギャップに近い部分より狭くすると共に、曲線形状とする。また、磁性体部分の溝の長さをギャップ長さの二分の一以上二倍以下とすると共に、溝の深さをギャップ長さ以下、ギャップ長さの二分の一以上とする。このような形状を採用することで、溝体積を最小に押さえつつ、十分な記録特性を得ることができる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
狭いギャップを隔てて対向する磁性材料に透磁率の低い部分を設けることによって形成される、複数の記録部を有する磁気ヘッドであって、前記透磁率の低い部分の幅は、ギャップに近い部分で広く、ギャップから離れた部分で狭いことを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】
狭いギャップを隔てて対向する磁性材料に透磁率の低い部分を設けることによって形成される、複数の記録部を有する磁気ヘッドであって、前記透磁率の低い部分の輪郭線は、少なくともギャップから離れた部分では、曲線であることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項３】
前記透磁率の低い部分の輪郭線と前記ギャップの交点の角度は４５度以上であることを特徴とする請求項１もしくは請求項２記載の磁気ヘッド。
【請求項４】
前記透磁率の低い部分の輪郭線と前記ギャップの交点の角度は９０度以下であることを特徴とする請求項３に記載の磁気ヘッド。
【請求項５】
前記透磁率の低い部分のギャップ近傍における幅は、ギャップ長さよりも広いことを特徴とする請求項１ないし請求項４記載の磁気ヘッド。
【請求項６】
前記透磁率の低い部分の深さは、ギャップ長さの二分の一以上であることを特徴とする請求項１ないし請求項５記載の磁気ヘッド。
【請求項７】
前記透磁率の低い部分の深さ（記録面からの距離）は、ギャップ長さ以下であることを特徴とする請求項１ないし請求項６記載の磁気ヘッド。
【請求項８】
前記透磁率の低い部分は、少なくとも二つの磁性部材をつき合わせてギャップを形成した後に、磁性材料を部分的に除去することによって形成されることを特徴とする請求項１ないし請求項７記載の磁気ヘッドを製造するための方法。
【請求項９】
磁性材料を部分的に除去する手段が収束イオンビーム加工であることを特徴とする請求項８記載の磁気ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高密度磁気記録媒体である磁気ディスクにトラック位置決めのための基準磁気信号を書き込むための基準磁気信号記録装置及びその製造方法に関するものであり、特にこれに用いるヘッドの構造及びその製造方法に関わる。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスクなどの高密度磁気記録媒体の使用時には、トラック位置決めのための基準磁気信号が予め記録されている。このための基準磁気信号は、古くはディスクをドライブに装着後に、ヘッドアームを外部に設けたプッシュピンにより位置決めして記録することが行われている。近年では、トラック密度の増加に伴い、ドライブ機構の精度、剛性などの制約により、このような方法では要求を満足し得る精密な基準磁気信号の記録が困難となっている。
【０００３】
高精度の基準磁気信号記録技術として、磁気ディスクをドライブに組み込む前に、特許文献１のように高精度かつ高剛性のスピンスタンドを用いて、基準磁気信号を書き込む方法が最近では採用されている。
【特許文献１】特開平９−３３０５７１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上述のような装置は高価であり、特に高いトラック密度に対応した基準磁気信号の記録は長時間を要することから、基準磁気信号の書き込みに要する費用が増大するという問題がある。
【０００５】
また、多数の記録部を有する磁気ヘッドを用いて、複数の基準磁気信号を書き込む方法も提案されているが、このようなヘッドの製作には、高価な加工装置を用いて長時間の加工が必要であり、コストの高いものとなっている。
【０００６】
本発明の目的は、上述の課題を解消し、記録媒体への基準磁気信号の書込時間を短縮し得る多数の記録部を有する磁気ヘッドを安価に構成するための、ヘッドの構造及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するための本発明に係る磁気ヘッドは、狭いギャップを隔てて二つの磁性材料を対向する構造を形成した後に、磁性材料を部分的に除去して透磁率の低い部分を形成することによって製造され、前記透磁率の低い部分の幅は、ギャップに近い部分で広く、ギャップから離れた部分で狭い形状とすることを特徴とする。また、前記透磁率の低い部分の輪郭線は、少なくともギャップから遠い部分で曲線とすることが好ましく、この輪郭線のギャップとのなす角は４５度以上、９０度以下とすることが好ましい。さらに、前記透磁率の低い部分の深さはギャップ長さ、すなわちギャップを隔てて対面する二つの磁性部材の間隔に対して、二分の一以上、一倍以下であることが好ましい。
【発明の効果】
【０００８】
以上説明したように本発明に係る磁気ヘッドは、良好な記録特性を有する複数の記録部をもつ磁気ヘッドを経済的に製造することが可能であり、高密度磁気記録装置の製造コストを低減できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
先の「発明が解決しようとする課題」の欄で述べたような課題は、予めギャップを隔てて二つの磁性部材を対向配置してなる磁気ヘッドの磁性部材を局部的に除去して透磁率の低い部分を設けることによって多数の記録部を形成した磁気ヘッドにおいて、磁性部材を除去する量を最小とすることによって解決される。
【００１０】
磁性部材を除去する量を少なくすると、透磁率の低い部分の大きさが減少し、漏れ磁束が増大するため、この部分が記録阻害部分として十分に機能しなくなる。このため、いかなる形状に透磁率の低い部分を形成するかが最大の課題である。
【００１１】
本発明者の研究によると、透磁率の低い部分の好ましい形状は特許請求の範囲の欄に記載した形状である。以下、図２により、本発明を詳細に説明する。
【００１２】
図２は、磁気ヘッドを媒体に対向する面から見た様子を模式的に示したものである。
【００１３】
磁気ヘッドは二つの高透磁率材料(1)及び(2)を、狭い幅の非磁性材料(3)を隔てて対向配置することで構成され、高透磁率材料によって導かれた磁束がギャップに遮られ、磁気媒体の置かれる上方に漏れ出すことによって磁気記録を行う機能を持つ。
【００１４】
多数の記録部を有する磁気ヘッドは、ギャップ近傍の磁性体(1)及び(2)に透磁率の低い部分(3)を設けることによって形成される。こうすることで、この部分ではギャップ近傍に磁束を導く作用が失われ、この部分での磁気記録は行われないことになる。
【００１５】
透磁率の低い部分(3)は、二つの高透磁率部材(1)及び(2)をギャップ(4)を隔てて突き合わせた後、所定の形状に材料を除去することによって形成される。これは、収束イオンビーム加工、もしくはフォトリソグラフィ技術が利用できるが、特に、収束イオンビーム加工は、微細な形状を精度よく加工できるという特徴があり、この目的に好ましい。
【００１６】
収束イオンビーム加工を使用する際のコストの問題は、加工によって除去する材料の量を最小とすることによって解決されるが、溝の体積を小さくし過ぎると、漏れ磁束によって十分な記録阻害効果が得られないという問題がある。そこで、本発明の課題は、いかなる形状に溝を形成したときに、十分な記録阻害効果を得、かつ除去する材料を最小にすることができるか、という点になる。
【００１７】
まず、溝の幅(5)は、ギャップ幅(4)よりも大きく取る必要があり、好ましくは２倍以上とする。一般に多数の記録部を有する磁気ヘッドにおいて、記録部の幅は、記録ピッチの二分の一とすることが、記録作業上最も効率的であるが、このようにすると記録阻害部の幅(5)が十分に得られない場合には、記録部の幅を記録ピッチの四分の一とした、前記形状のヘッドから記録部を一つおきに取り除いた形のヘッドとすることで、幅(5)の大きさを拡大する必要がある。この場合、記録作業は、ヘッド位置をずらして二度行う必要があり、記録作業の効率は低下する。
【００１８】
透磁率の低い部分（記録阻害部）の幅は、ギャップに近い部分で広く、ギャップから離れた部分で狭くする。また、ギャップから離れた位置における透磁率の低い部分の輪郭線(6)は曲線とすることが好ましい。この曲線として、円、楕円、放物線などが利用でき、なるべく滑らかな曲線とすることが好ましい。また、該輪郭線がギャップと交わる角度(7)は、４５度以上、９０度以下とすることが好ましい。
【００１９】
透磁率の低い部分（記録阻害部）の長さ(8)は、ギャップ長さ(4)の二分の一以上とする必要があり、ギャップの長さ程度とすることが好ましい。また、除去する材料を最小とするため、ギャップ長さの二倍以下とすることが好ましい。
【００２０】
透磁率の低い部分の深さは、ギャップ長さの二分の一以上、一倍以下とする。また、側壁の傾きは９０度以下４５度以上とする。
【００２１】
これらの条件を満足する形に溝を形成し、記録阻害部を設けることで、多数の記録部を有する磁気ヘッドを安価に得ることができる。
【００２２】
図１は、このような条件を満足する形に形成したマルチギャップヘッドを示したものであり、幅７７μのヘッドに有効記録幅０．２５μの記録部を１５０個形成するものの一部を示したものである。
【００２３】
記録ピッチ(9)は５００ｎｍであり、サイドフリンジ（ギャップ横への磁束漏れ出しによる記録幅の拡大）を見込んで、溝の径(5)を３８０ｎｍとした。この径はギャップ長１３３ｎｍの二倍以上あり、十分な幅である。溝形状は円形とし、円の中心がギャップ中心線上に位置するようにした。こうすることで、記録阻害部の長さもギャップの幅程度となる。溝の深さ(10)は、ギャップ長さよりやや小さい１００ｎｍとした。
【００２４】
磁気ヘッドをこのような形状とすることにより、加工に必要な時間が短縮され、十分な記録特性を有する磁気ヘッドを経済的に得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】本発明の一実施例を示す模式図である。
【図２】透磁率の低い部分の形状を説明する図である。
【符号の説明】
【００２６】
１  第一の高透磁率部材
２  第二の高透磁率部材
３  透磁率の低い部分
４  ギャップ
５  透磁率の低い部分の幅
６  透磁率の低い部分の輪郭線（曲線部分）
７  透磁率の低い部分の輪郭線とギャップの成す角
８  透磁率の低い部分の長さ
９  記録ピッチ
１０  溝の深さ
【図１】
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【図２】
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