(57)【要約】【課題】  研磨痕が大幅に減少した情報記録媒体用ガラス原盤の製造方法を提供すること。【解決手段】  平坦化された表面を有するガラス基板１上に、アルコキシシランを含有する溶液を塗布した後、加熱してアルコキシシランの加水分解反応を行うことによって、ガラス基板１上にシリカガラス膜２が形成された情報記録媒体用ガラス原盤１０を得る。この情報記録媒体用ガラス原盤１０を用いて、高密度情報記録媒体表面の平坦性を向上させることができる。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
平坦化された表面を有するガラス基板上に、アルコキシシランを含有する溶液を塗布する溶液塗布工程と、
塗布された前記アルコキシシランの加水分解・重縮合反応を行い、前記ガラス基板上にシリカガラス膜を形成するシリカガラス膜形成工程と、
を有することを特徴とする情報記録媒体用ガラス原盤の製造方法。
【請求項２】
前記溶液塗布工程は、スピンコート法により前記アルコキシシランを含有する溶液を前記ガラス基板上に塗布することを特徴とする請求項１記載の情報記録媒体用ガラス原盤の製造方法。
【請求項３】
前記加水分解・重縮合反応は、１００℃以上において行うことを特徴とする請求項１記載の情報記録媒体用ガラス原盤の製造方法。
【請求項４】
前記ガラス基板の表面を、予め研磨材により研磨する研磨工程をさらに有することを特徴とする請求項１記載の情報記録媒体用ガラス原盤の製造方法。
【請求項５】
研磨された前記ガラス基板表面の表面粗さの算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１ｎｍ〜０．１μｍであることを特徴とする請求項４記載の情報記録媒体用ガラス原盤の製造方法。
【請求項６】
平坦な表面を有するガラス原盤を形成するガラス原盤形成工程と、
形成された前記ガラス原盤上に凹凸形状を形成した後、当該凹凸形状が転写されたスタンパを形成するスタンパ形成工程と、を有し、
前記ガラス原盤形成工程は、
ガラス基板を研磨材により研磨する研磨工程と、
研磨された前記ガラス基板上に、アルコキシシランの加水分解・重縮合反応物からなるシリカガラス膜を形成するシリカガラス膜形成工程と、
を有することを特徴とする情報記録媒体の製造方法。
【請求項７】
ガラス基板と、
前記ガラス基板上に形成されたシリカガラス膜と、を備え、
前記シリカガラス膜の表面の、互いに直交する２方向においてそれぞれ測定された表面粗さの算術平均粗さ（Ｒａ）が、下記式で示す関係を有することを特徴とする情報記録媒体用ガラス原盤。
【数１】
2005222638.tif 000005
（式中、Ｒａ１及びＲａ２は、互いに直交する２方向においてそれぞれ測定された算術平均粗さであり、但し、Ｒａ１≦Ｒａ２である。）
【請求項８】
前記シリカガラス膜は、アルコキシシランの加水分解・重縮合反応により形成されたものであることを特徴とする請求項７記載の情報記録媒体用ガラス原盤。
【請求項９】
前記シリカガラス膜の表面の、表面粗さの最大高さ（Ｒｙ）が５ｎｍ以下であることを特徴とする請求項７記載の情報記録媒体用ガラス原盤。
【請求項１０】
前記シリカガラス膜の厚さが、５０ｎｍ〜５μｍであることを特徴とする請求項７記載の情報記録媒体用ガラス原盤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報記録媒体用ガラス原盤の製造方法等に関し、より詳しくは、平滑化された表面を有する情報記録媒体用ガラス原盤の製造方法等に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、情報記録媒体である光ディスクの樹脂製基板は、ガラス原盤上にフォトレジスト膜を塗布した後、リソグラフィ法に形成された二次元構造をニッケル表面に転写したスタンパを用い、射出成形法により製造されている。この場合、スタンパに転写されたガラス原盤表面の凹凸形状が、射出成形法により形成される総ての樹脂製基板表面に転写されることになることから、ガラス原盤表面の平坦性は、情報記録媒体表面の平坦性と直結する。
【０００３】
一方、情報記録媒体の高密度化に伴い、媒体表面の平坦性は重要性を増している。即ち、従来、光ディスクは、記録再生光の短波長化及び集光レンズの高ＮＡ（開口数）化により、記録密度の高密度化に対応してきた。しかし、例えば、近年商品化されたＢｌｕＲａｙディスクを例に挙げると、ＮＡは通常の集光レンズの限界近い０．８５まで高められ、また、記録再生光は、連続発振が可能な半導体レーザのうち最も短波長である青色レーザが使用されるように、限界に到っているのが現状である。このような状況下、近年、報告されている集光レンズと記録媒体とを極端に接近させて光情報の記録再生を行う近接場光記録方法においては、媒体表面にわずかな凸部があると記録ヘッドとの衝突の原因になる。
【０００４】
また、近年、メモリーハードディスクドライブの高容量・小径化のニーズに伴い、高密度記録のために磁気ヘッドの浮上量の低下、単位記録面積の減少等が求められている。このため、磁気ディスク用ガラス基板の製造工程において、ヘッドの低浮上に対応して、表面粗さ及び突起の低減等の規格が益々厳しくなっている。
【０００５】
このような情報記録媒体用ガラス原盤や磁気ディスク用ガラス基板等のガラス基板表面を平坦化する方法としては、例えば、研磨装置でガラス基板を研磨する際に使用する研磨液の最大粒径を小さくする方法（特許文献１参照）、一次粒子の平均粒径が２００ｎｍ以下の研磨材を含有する研磨液を用いてガラス基板を研磨する方法（特許文献２参照）、研磨工程毎に圧力を変化させてガラス基板を研磨する方法（特許文献３参照）、砥粒を含む研磨液と砥粒を含まない液とを使用する方法（特許文献４参照）等が挙げられる。また、希土類元素を含有するガラスを用いることにより、研磨によって生じるガラス基板表面の凹凸を低減させる方法（特許文献５参照）も報告されている。
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−３０８９５６号公報
【特許文献２】特開２００３−１５５４７１号公報
【特許文献３】特開２００１−００６１６１号公報
【特許文献４】特開２００１−００１２４２号公報
【特許文献５】特開平１０−０８３５３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、このような研磨材を使用する研磨方法により研磨されたガラス基板の表面には、研磨痕が観察され、また、ガラス基板表面に付着した研磨材を完全に除去することは困難である。さらに、研磨材組成物には、通常、研磨材の再凝集を防ぐ目的で界面活性剤等の分散剤が所定量配合されているが、このような分散剤は、ガラス基板表面に吸着し易い性質を有することから、研磨処理後のガラス基板表面が汚染されるという問題がある。
本発明は、このように、ガラス基板の平坦化を検討する際の問題を解決すべくなされたものである。
即ち、本発明の目的は、研磨痕が大幅に減少した情報記録媒体用ガラス原盤の製造方法を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、表面平坦性に優れた情報記録媒体の製造方法を提供することにある。
さらに、本発明の他の目的は、表面平坦性に優れた情報記録媒体用ガラス原盤を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するため、本発明においては、平坦な面を有するガラス基板上にシリカガラス膜を形成している。即ち、本発明は、平坦化された表面を有するガラス基板上に、アルコキシシランを含有する溶液を塗布する溶液塗布工程と、塗布されたアルコキシシランの加水分解・重縮合反応を行い、ガラス基板上にシリカガラス膜を形成するシリカガラス膜形成工程と、を有することを特徴とする情報記録媒体用ガラス原盤の製造方法を要旨とするものである。
本発明が適用される情報記録媒体用ガラス原盤の製造方法によれば、例えば、情報記録媒体用ガラス原盤等の表面に残る研磨痕、微小な突起の影響を大幅に低減することができ、このようなガラス原盤を使用することにより高密度情報記録媒体の表面の平坦性を向上させることができる。
【０００９】
本発明が適用される情報記録媒体用ガラス原盤の製造方法における溶液塗布工程は、スピンコート法によりアルコキシシランを含有する溶液をガラス基板上に塗布することが好ましい。アルコキシシラン溶液の濃度及びスピンコートの回転数を適切に選択することにより、形成されるシリカガラス膜の厚さの制御が可能である。また、同様な被膜が形成されるスパッタリングや化学気相蒸着法（ＣＶＤ）等と比較して、生産効率を高めることができる。
加水分解・重縮合反応は、１００℃以上において行うことが好ましい。アルコキシシランの加水分解・重縮合反応が促進され、シリカガラス膜の硬度を高めることができる。
また、ガラス基板の表面を、予め研磨材により研磨する研磨工程をさらに有することが好ましい。ガラス基板の表面に形成されるシリカガラス膜表面の平坦性をさらに向上させることができる。
研磨されたガラス基板表面の表面粗さの算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．１ｎｍ〜０．１μｍであることが好ましい。
【００１０】
また、本発明は、平坦な表面を有するガラス原盤を形成するガラス原盤形成工程と、形成されたガラス原盤上に凹凸形状を形成した後、凹凸形状が転写されたスタンパを形成するスタンパ形成工程と、を有し、ガラス原盤形成工程は、ガラス基板を研磨材により研磨する研磨工程と、研磨されたガラス基板上に、アルコキシシランの加水分解・重縮合反応物からなるシリカガラス膜を形成するシリカガラス膜形成工程と、を有することを特徴とする情報記録媒体の製造方法として把握される。
【００１１】
次に、本発明は、ガラス基板と、ガラス基板上に形成されたシリカガラス膜と、を備え、シリカガラス膜の表面の、互いに直交する２方向においてそれぞれ測定された表面粗さの算術平均粗さ（Ｒａ）が、下記式で示す関係を有することを特徴とする情報記録媒体用ガラス原盤を要旨とするものである。
【００１２】
【数１】
2005222638.tif 000003
【００１３】
（式中、Ｒａ１及びＲａ２は、互いに直交する２方向においてそれぞれ測定された算術平均粗さであり、但し、Ｒａ１≦Ｒａ２である。）
本発明が適用される情報記録媒体用ガラス原盤の表面の表面粗さが、測定方向に依存せず略均一な測定値が得られることにより、ガラス原盤の表面の平坦性が大幅に改良される。
本発明が適用される情報記録媒体用ガラス原盤の表面に形成されるシリカガラス膜は、アルコキシシランの加水分解・重縮合反応により形成されたものであり、このシリカガラス膜の表面の、表面粗さの最大高さ（Ｒｙ）が５ｎｍ以下であることが好ましい。また、シリカガラス膜の厚さが、５０ｎｍ〜５μｍであることが好ましい。
【００１４】
尚、本発明が適用される情報記録媒体用ガラス原盤には、情報記録媒体用のガラス原盤、リムーバル用途に使用されるハードディスク用のガラス基板等が含まれる。
【発明の効果】
【００１５】
かくして本発明によれば、研磨痕が大幅に減少し、平坦性が良好な情報記録媒体用ガラス原盤の製造方法が提供される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明を実施するための最良の形態（以下、実施の形態という）について詳述する。
図１は、本実施の形態が適用される情報記録媒体用ガラス原盤を説明する図である。図１に示された情報記録媒体用ガラス原盤１０は、平坦な表面を有するガラス基板１と、ガラス基板１上に形成されたシリカガラス膜２と、を備えている。
情報記録媒体用ガラス原盤１０において使用するガラス基板１の材料は、アルミノシリケートガラス、結晶化ガラス、ソーダライムガラス、合成石英ガラス等のいずれも使用される。また、例えば、アルミノシリケートガラスの成分としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウム、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム等が挙げられる。ガラス基板１の厚さは、特に限定されないが、通常、０．６ｍｍ〜１０ｍｍである。
【００１７】
本実施の形態では、ガラス基板１の表面は、予め、所定の研磨材を用いて研磨加工が施されることが好ましい。このような予め研磨加工により研磨されたガラス基板１の表面の表面粗さ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１）は、通常、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１ｎｍ〜０．１μｍであり、最大高さ（Ｒｙ）が３ｎｍ〜１０μｍである。また、研磨材により研磨加工されたガラス基板の表面を、原子間力顕微鏡により表面粗さを測定する際に、通常、測定方向により異なる測定値が測定される。これは、ガラス基板１の表面を、通常、研磨材を含ませた研磨パッドを回転させて研磨するために、研磨パッドの回転方向に直交する場合と、平行する場合とで、表面粗さが異なるためと考えられる。
具体的には、研磨されたガラス基板１の表面の、互いに直交する測定方向におけるそれぞれの表面粗さ（Ｒａ１及びＲａ２、但し、Ｒａ１＜Ｒａ２）の関係が、通常、Ｒａ２／Ｒａ１＝１．５以上である。
【００１８】
本実施の形態で、ガラス基板１の研磨加工において使用する研磨材としては、ガラス材料等の研磨用に一般に使用されている研磨材を使用することができる。研磨材としては、金属、金属又は半金属の炭化物、窒化物、酸化物、ホウ化物、ダイヤモンド等が挙げられる。金属又は半金属元素としては、周期律表（長周期型）の２Ａ、２Ｂ、３Ａ、３Ｂ、４Ａ、４Ｂ、５Ａ、６Ａ、７Ａ又は８Ａ族のものが挙げられる。研磨材の具体例として、例えば、酸化アルミニウム、炭化珪素、ダイヤモンド、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、シリカ等が挙げられる。研磨材は、これらを１種又は２種以上を使用することができる。中でも、酸化アルミニウム、シリカ、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン等が好ましい。酸化アルミニウムは、α、θ、γ等種々の結晶系が知られているが、用途に応じ適宜選択、使用することができる。シリカ粒子としては、コロイダルシリカ粒子、ヒュームドシリカ粒子、表面修飾したシリカ粒子等が挙げられる。
【００１９】
研磨材の一次粒子の平均粒径は、通常、２００ｎｍ以下、好ましくは１００ｎｍ以下である。また、研磨速度を向上させる観点から、好ましくは１ｎｍ以上、より好ましくは２０ｎｍ以上である。研磨材の一次粒子が凝集して二次粒子を形成している場合は、同様に研磨速度を向上させる観点及び被研磨物の表面粗さを低減させる観点から、二次粒子の平均粒径は、通常、５０〜３０００ｎｍ、好ましくは２００〜１２００ｎｍである。
【００２０】
本実施の形態が適用される情報記録媒体用ガラス原盤１０の表面に形成されるシリカガラス膜２は、アルコキシシランの加水分解・重縮合反応により形成される非晶質無機酸化物により構成される。アルコキシシランは、珪素原子にアルコキシ基が結合した化合物であり、これらは、加水分解反応及び脱水縮合反応（又は、脱アルコール縮合）により三次元架橋が形成され、シリカガラスを生成する。アルコキシシランは、通常、炭素数１〜４のアルコキシ基を有し、具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。アルコキシシランの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等が挙げられる。
シリカガラス膜２の厚さは、特に限定されないが、通常、５ｎｍ〜５μｍであり、少なくとも、前述した、研磨加工が施されたガラス基板１の表面の表面粗さ（最大高さＲｙ）より、大きいことが必要である。
【００２１】
アルコキシシランの加水分解・重縮合反応に使用する触媒としては、例えば、金属キレート化合物、有機酸、金属アルコキシド、ホウ素化合物、無機酸、アンモニア等が挙げられる。金属キレート化合物としては、例えば、アルミニウムトリス（アセチルアセトナート）、チタニウムテトラキス（アセチルアセトナート）、チタニウムビス（イソプロポキシ）ビス（アセチルアセトナート）、ジルコニウムテトラキス（アセチルアセトナート）、ジルコニウムビス（ブトキシ）ビス（アセチルアセトナート）及びジルコニウムビス（イソプロポキシ）ビス（アセチルアセトナート）等が挙げられる。有機酸しては、例えば、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、マレイン酸等が挙げられる。金属アルコキシドとしては、例えば、リチウムエトキシド、マグネシウムイソプロポキシド、アルミニウムイソプロポキシド、亜鉛プロポキシド等が挙げられる。ホウ素化合物としてはホウ素ハライド、トリアルコキシボラン等が挙げられる。無機酸としては、塩酸、硝酸等が挙げられる。アルコキシシランの加水分解・重縮合反応に使用する触媒成分の添加量は、通常、アルコキシシラン１００重量部に対して０．１重量部〜１０重量部である。
【００２２】
アルコキシシランは、通常、適当な溶剤に希釈した溶液に調製して使用される。溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテルアルコールおよびエーテル類；アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等のケトン類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類；ｎ−ヘキサン等の脂肪族炭化水素；ジメチルホルムアミド、ホルムアミド等のアミド類等が挙げられる。アルコキシシランの溶液の濃度は、通常、５重量％〜２０重量％である。
【００２３】
本実施の形態が適用される情報記録媒体用ガラス原盤１０は、表面にシリカガラス膜２が形成されることにより、情報記録媒体用ガラス原盤１０の表面の平坦性が大幅に改良される。このようなシリカガラス膜２の表面の表面粗さ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１）の最大高さ（Ｒｙ）が、通常、５ｎｍ以下、好ましくは、３ｎｍ以下、より好ましくは２ｎｍ以下である。
また、シリカガラス膜２の表面の、互いに直交する測定方向におけるそれぞれの表面粗さの算術平均粗さ（Ｒａ１及びＲａ２、但し、Ｒａ１≦Ｒａ２）の関係が、下記式に示す関係を有している。
【００２４】
【数２】
2005222638.tif 000004
【００２５】
即ち、シリカガラス膜２の表面粗さの算術平均粗さは、測定方向に依存せず略均一な測定値が得られ、情報記録媒体用ガラス原盤１０の表面の平坦性が大幅に改良される。シリカガラス膜２の表面の、互いに直交する測定方向におけるそれぞれの表面粗さの算術平均粗さ（Ｒａ１及びＲａ２、但し、Ｒａ１≦Ｒａ２）の関係（Ｒａ２／Ｒａ１）は、通常、１．３以下、好ましくは、１．１以下、より好ましくは１．０５以下である。尚、シリカガラス膜２の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、通常、０．０５ｎｍ〜０．３ｎｍである。
【００２６】
次に、本実施の形態が適用される情報記録媒体用ガラス原盤１０の製造方法について説明する。
図２は、本実施の形態が適用される情報記録媒体用ガラス原盤の製造方法を説明する図である。図２に示されるように、情報記録媒体用ガラス原盤１０は、ガラス基板１の表面を研磨材により研磨する研磨工程（図２（ａ））と、続いて、研磨されたガラス基板１上に、アルコキシシランの溶液を塗布する溶液塗布工程（図２（ｂ））と、塗布されたアルコキシシランを加水分解・重縮合反応させ、ガラス基板１上に、シリカガラス膜２を形成するシリカガラス膜形成工程（図２（ｃ））と、が順次行われることにより製造される。
（研磨工程）
図２（ａ）に示すように、研磨工程は、公知の研磨装置により、ガラス基板１の表面を、前述した研磨材により研磨する。研磨工程は、通常、粗研磨工程（ラッピング工程）、実研磨工程（ポリッシング工程）及び仕上げ工程（ファイナル工程）の３段階を経て行われることが好ましい。
【００２７】
（溶液塗布工程）
続いて、図２（ｂ）に示すように、研磨工程において研磨されたガラス基板１の表面に、アルコキシシランの溶液を、好ましくは、スピンコート法等の湿式塗布方法により塗布し、適当な厚さ（通常、１０ｎｍ〜１０μｍ以下）を有する塗布膜２ａを形成する。尚、スピンコート法における回転数は、通常、５００ｒｐｍ〜３０００ｒｐｍである。また、アルコキシシランの溶液の濃度は、通常、５重量％〜２０重量％である。
（シリカガラス膜形成工程）
さらに、図２（ｃ）に示すように、溶液塗布工程において塗布膜２ａ（図２（ｂ））が形成されたガラス基板１を、８０℃〜２００℃、好ましくは１００℃〜１８０℃において数分間から数時間、好ましくは１分〜３０分間加熱し、アルコキシシランの加水分解・重縮合反応を行うことによって塗布膜２ａを硬化させ、シリカガラス膜２が形成された情報記録媒体用ガラス原盤１０を製造する。アルコキシシランの加水分解・重縮合反応は、好ましくは、不活性ガス（例えば、窒素ガス等）雰囲気下で行われることが好ましい。
【実施例】
【００２８】
以下に、実施例に基づき、本実施の形態をより具体的に説明する。尚、本実施の形態は、実施例に限定されるものではない。
（実施例）
研磨材として粒径０．１〜０．２μｍの酸化セリウム（和光純薬株式会社製）の二次粒子１ｋｇを純粋５０リットルに添加し、攪拌して研磨液を調製した。次に、この研磨液と研磨パッドを用いて、厚さ６ｍｍ、直径２０ｃｍの石英原盤表面を、同時に研磨材が一次粒子に分解する工程を経て、１５分間ガラス表面を研磨し、その後、純水により３０分間スクラバー洗浄及びスピン乾燥を行い、精密研磨ガラス原盤を得た。
このように調製した精密研磨ガラス原盤表面を、高輝度ランプを用いて観察したところ、研磨痕が２〜１５本程度観察された。また、微小突起に由来すると思われる輝点が、１枚当たり最大２個観察された。この輝点は、Ｘ線光電子分析装置により、研磨材の成分であるセリウム元素が検出され、ガラス表面に残留した研磨材と判明した。
また、原子間力顕微鏡により、このように調製した精密研磨ガラス原盤表面の表面粗さ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１）を測定したところ、研磨パッドの回転方向と直交する方向の算術平均粗さ（Ｒａ１）が０．３ｎｍであり、研磨パッドの回転方向と直交する方向の算術平均粗さ（Ｒａ２）が０．２ｎｍである（Ｒａ１／Ｒａ２＝１．５）ことから、測定方向によって表面粗さが異なることが分かる。尚、最大高さ（Ｒｙ）が３．４ｎｍである。
【００２９】
次に、精密研磨ガラス原盤の表面に、アルコキシシラン溶液（東京応化工業株式会社製ＯＣＤ  Ｔ−２：テトラメトキシキシラン１モル、水１０モル、メチルアルコール２．２モル、ジメチルホルムアミド１モル、アンモニア３．７×１０−４モル）を、スピンコート法により塗布し、温度１２０℃〜１８０℃で３０分間加熱し、硬化層を形成することにより情報記録媒体用ガラス原盤を調製した。このように精密研磨ガラス原盤上に形成した硬化層の表面を、原子間力顕微鏡により表面粗さ（ＪＩＳ  Ｂ０６０１）を測定したところ、測定方向に依存せず、算術平均粗さ（Ｒａ）は平均０．２ｎｍであった（Ｒａ１＝Ｒａ２）。また、最大高さ（Ｒｙ）が２．２５ｎｍに減少し、平坦性が大幅に改良された。さらに、研磨痕や研磨材の残留物による微小突起等は観測されなかった。
【００３０】
このように、本実施の形態によれば、平坦な表面を有し、表面の研磨痕の影響が少ない情報記録媒体用ガラス原盤１０を得ることができる。また、本実施の形態の情報記録媒体用ガラス原盤１０の製造方法において、ガラス基板１の表面が、予め機械的研磨工程を経て表面が研磨されている場合であっても、ガラス基板１の表面上にアルコキシシランの加水分解・重縮合反応物からなるシリカガラス膜２を形成することにより、研磨工程により混入した微量な金属粒子のガラス表面における残留濃度をｐｐｂオーダーまで低減することができる。さらに、金属粒子の残留濃度が減少することにより、後工程により製造される情報記録媒体の記録層等に金属粒子が拡散することを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】情報記録媒体用ガラス原盤を説明する図である。
【図２】情報記録媒体用ガラス原盤の製造方法を説明する図である。
【符号の説明】
【００３２】
１…ガラス基板、２…シリカガラス膜、２ａ…塗布膜、１０…情報記録媒体用ガラス原盤
【図１】
2005222638.tif 000006
【図２】
2005222638.tif 000007