(57)【要約】【課題】投影ビームをパターン化するためにプログラム可能パターニング手段を使うリソグラフィ投影装置に於いて、パターニング手段の更新速度をあまり上げることなくスループットを改善した装置を提供すること。【解決手段】このリソグラフィ装置は、二つの基板１９、２０上に投影するための二つの別々の投影ビーム１３、１４をパターン化するためにコンピュータ１０からの制御信号を使って二つのプログラム可能パターニング手段１１、１２を駆動する。この様に同じデータを使って二つの基板を選択的に露出するので、このリソグラフィ装置のスループットが実質的に２倍になる。各パターニング手段１１、１２がコンピュータ１０からの制御信号に正しく反応することを保証するために、較正ユニット２１、２２を使って各パターニング手段への信号を調整してもよい。【選択図】      図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線の第１投影ビームを供給するための放射線システム；
所望のパターンに従って第１投影ビームをパターン化するための、プログラム可能パターニング手段；
第１基板を保持するための基板テーブル；および
第１のパターン化したビームを第１基板の目標部分上に投影するための第１投影システム；および
上記所望のパターンに従ってこの第１プログラム可能パターニング手段を設定するために制御信号を提供するための制御システムを含むリソグラフィ投影装置であって：
上記所望のパターンに従って放射線の第２投影ビームをパターン化するのに役立つ第２プログラム可能パターニング手段；
第２基板を保持するための第２基板テーブル；および
この第２のパターン化したビームをこの第２基板の目標部分上に投影するための第２投影システムを含むことに特徴があり；
そこで上記制御システムが上記所望のパターンに従って上記第２プログラム可能パターニング手段を設定するためにも上記制御信号を提供する投影装置。
【請求項２】
請求項１に記載されたリソグラフィ投影装置に於いて、上記投影装置が、更に、第１プログラム可能パターニング手段への制御信号入力を調整するための第１較正手段；および第２プログラム可能パターニング手段への制御信号入力を調整するための第２較正手段投を含む投影装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載されたリソグラフィ投影装置に於いて、前記放射線システムが更に前記第２投影ビームを供給する投影装置。
【請求項４】
請求項１または請求項２に記載されたリソグラフィ投影装置に於いて、前記投影装置が、更に、前記第２投影ビームを供給するための第２放射線システムを含む投影装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４の何れか１項に記載されたリソグラフィ投影装置に於いて、前記第１基板テーブル、前記第１プログラム可能パターニング手段、前記第１投影システム、前記第２基板テーブル、前記第２プログラム可能パターニング手段および前記第２投影システムが共通のベースフレームに取付けてある投影装置。
【請求項６】
請求項１ないし請求項４の何れか一項に記載されたリソグラフィ投影装置に於いて、前記第１基板テーブル、前記第１プログラム可能パターニング手段および前記第１投影システムが第１のベースフレームに取付けてあり、前記第２基板テーブル、前記第２プログラム可能パターニング手段および前記第２投影システムが第２の、別の、ベースフレームに取付けてある投影装置。
【請求項７】
第１基板を用意する工程；
放射線システムを使って放射線の第１投影ビームを用意する工程；
制御システムを使って制御信号を発生し、前記制御信号を使って第１プログラム可能パターニング手段で所望のパターンを創成する工程；
第１投影ビームをパターン化するために前記第１プログラム可能パターニング手段を使う工程；および
放射線の第１のパターン化したビームを第１基板の目標部分上に投影する工程を含むデバイス製造方法であって：
第２基板を用意する工程；
第２プログラム可能パターニング手段で前記所望のパターンを創成するために前記制御信号を使う工程；
第２投影ビームをパターン化するために前記第２プログラム可能パターニング手段を使う工程；および
前記第２のパターン化したビームを前記第２基板の目標部分上に投影する工程を含むことに特徴があるデバイス製造方法。
【請求項８】
リソグラフィ投影装置を制御するためのコンピュータプログラムであって、この投影装置に：
第１プログラム可能パターニング手段で所望のパターンを創成するために使用する制御信号を発生する工程；
第１投影ビームをパターン化するために前記第１プログラム可能パターニング手段を使う工程；および
第１のパターン化したビームを第１基板の目標部分上に投影する工程；
を実行するように命令するためのコード手段を含むプログラムに於いて、前記プログラムが、更に、投影装置に：
第２プログラム可能パターニング手段で前記所望のパターンを創成するために前記制御信号を使う工程；
第２投影ビームをパターン化するために前記第２プログラム可能パターニング手段を使う工程；および
前記第２のパターン化したビームを第２基板の目標部分上に投影する工程；
を実行するように命令するためのコード手段を含むことを特徴とするプログラム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、リソグラフィ投影装置にして：
−    放射線の投影ビームを供給するための放射線システム；
−    所望のパターンに従ってこの投影ビームをパターン化するための、プログラム可能パターニング手段；
−    基板を保持するための基板テーブル；
−    このパターン化したビームをこの基板の目標部分上に投影するための投影システム；および
−    所望のパターンに従ってこのプログラム可能パターニング手段を設定するために制御信号を提供するための制御システムを含む投影装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
リソグラフィ投影装置は、集積回路（ＩＣ）、フラットパネルディスプレイおよび微細構造を持つその他のデバイスの製造に使用する。このプログラム可能パターニング手段は、例えば、ＩＣの個々の層に対応するパターンを創成し、このパターンを、放射線感応性材料（レジスト）の層で塗被した基板（例えば、シリコンウエハまたはガラス板）の目標部分（例えば、一つ以上のダイの一部を含む）上に結像する。
【０００３】
この結像工程の前に、基板は、例えば、下塗り、レジスト塗布およびソフトベークのような、種々の処理を受けるかも知れない。露出後、基板は、例えば、露出後ベーク（ＰＥＢ）、現像、ハードベークおよび結像形態の測定／検査のような、他の処理を受けるかも知れない。これらの変換手順は、基板上にレジストのパターン化した層を生ずる。蒸着、エッチング、イオン注入（ドーピング）、金属化処理、酸化処理、化学・機械的研磨等のような、各々デバイスの層の仕上げ、創成または修正を意図した、一つ以上のパターン工程が続く。もし、幾つかの層が必要ならば、全処理またはその変形を各新しい層に反復しなければならないだろう。結局、デバイスのアレイが基板（ウエハ）上にできる。次に、これらのデバイスをダイシングまたは鋸引のような手法によって互いから分離し、そこから個々のデバイスをキャリヤに取付け、ピンに接続し等できる。そのようなプロセスに関する更なる情報は、例えば、ピータ・バン・ザントの“マイクロチップの製作：半導体加工の実用ガイド”、第３版、マグロウヒル出版社、1997年、ISBN0-07-067250-4という本から得ることができ、それを参考までにここに援用する。
【０００４】
完成した基板は、その全域に亘って３×１０13画素のオーダだろう。約３０ないし４０×１０6画素のプログラム可能パターニング手段を使って毎時約５ウエハの露出スループットを達成するためには、露出に必要な時間および不動時間を考慮に入れて、このプログラム可能パターニング手段を約２５０マイクロ秒毎に、即ち４ｋＨｚの割合で新しいデータでリフレッシュすることが必要である。各画素が１バイトのデータを要するとすれば、このデータを毎秒約３×１０12ビットの速度で転送しなければならない。マスクパターンを現すファイルからこのデータを必要な速度で計算することは、困難な問題であり、高速を要し、従って高価なコンピュータを要する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、スループットを改善した、プログラム可能パターニング手段を使うリソグラフィ投影装置を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
この発明によれば、この目的およびその他の目的は、冒頭の段落で指定するリソグラフィ装置であって、上記所望のパターンに従って放射線の第２投影ビームをパターン化するのに役立つ第２プログラム可能パターニング手段；
−    第２基板を保持するための第２基板テーブル；および
−    この第２のパターン化したビームをこの第２基板の目標部分上に投影するための第２投影システムを含むことに特徴があり；
そこで上記制御システムが上記所望のパターンに従って上記第２プログラム可能パターニング手段を設定するためにも上記制御信号を提供する投影装置で達成される。
【０００７】
第２基板を露出するために、第１のプログラム可能パターニング手段と同じデータを使うことによって同じパターンを有するように設定した第２のプログラム可能パターニング手段を使うことは、リソグラフィ投影装置のスループットを実質的に２倍にする。これは、次に、この装置のコスト効果を改善する。二つの基板テーブルを備える本装置は、二つの安定位置を有し、この発明によれば、それらは、共に基板を露出するために使うことが出来る。
【０００８】
【発明の実施の形態】
各パターニング手段に対して適切な信号制御をもたらすために、局部較正ユニットを各プログラム可能パターニング手段と共に使ってもよい。これらのユニットは、両プログラム可能パターニング手段からの正しい応答を保証するために制御手段がもたらす信号に局部補正を適用する。
【０００９】
単一放射線システムを使って、その放射線投影ビームを二つのビームに分け、各々をプログラム可能パターニング手段の一つでパターン化する。都合よく、これがリソグラフィ投影装置のコストを低減する。その代りに、各プログラム可能パターニング手段に一つずつ、二つの放射線システムを設けてもよい。この投影装置の資本コストは大きいだろうが、各パターン化したビームのビーム強度は、単一放射線システムのビームを分ける投影装置より大きく、それによって必要な露出時間を減らし、従ってこの投影装置のスループットを増すだろう。
【００１０】
第１および第２基板テーブル、第１および第２プログラム可能パターニング手段並びに第１および第２投影システムを共通のベースフレームに取付け、本質的に単一統合装置を作ってもよい。その代りに、第１基板テーブル、第１プログラム可能パターニング手段および第１投影システムを第１ベースフレームに取付け、第２基板テーブル、第２プログラム可能パターニング手段および第２投影システムを第２の、別の、ベースフレームに取付けてもよい。後者の構成は、効果的に二つの別々の装置を提供し、一つの部分が第２の部分の精度に影響する外乱を発生する危険を減少する。
【００１１】
この発明の更なる態様によれば、デバイス製造方法で：
−    第１基板を用意する工程；
−    放射線システムを使って放射線の第１投影ビームを用意する工程；
−    制御システムを使って制御信号を発生し、上記制御信号を使って第１プログラム可能パターニング手段で所望のパターンを創成する工程；
−    この第１投影ビームをパターン化するために上記第１プログラム可能パターニング手段を使う工程；および
−    この第１のパターン化したビームを基板の目標部分上に投影する工程を含む方法であって：
−    第２基板を用意する工程；
−    第２プログラム可能パターニング手段で上記所望のパターンを創成するために上記制御信号を使う工程；
−    第２投影ビームをパターン化するために上記第２プログラム可能パターニング手段を使う工程；および
−    上記第２のパターン化したビームを上記第２基板の目標部分上に投影する工程を含むことに特徴がある方法が提供される。
【００１２】
この発明のその上更なる態様によれば、リソグラフィ投影装置を制御するためのコンピュータプログラムで、この投影装置に：
−    第１プログラム可能パターニング手段で所望のパターンを創成するために使用する制御信号を発生する工程；
−    第１投影ビームをパターン化するために上記第１プログラム可能パターニング手段を使う工程；および
−    この第１のパターン化したビームを基板の目標部分上に投影する工程；
を実行するように命令するためのコード手段を含むプログラムに於いて、上記プログラムが、更に、この投影装置に：
−    第２プログラム可能パターニング手段で上記所望のパターンを創成するために上記制御信号を使う工程；
−    第２投影ビームをパターン化するために上記第２プログラム可能パターニング手段を使う工程；および
−    上記第２のパターン化したビームを第２基板の目標部分上に投影する工程；
を実行するように命令するためのコード手段を含むことを特徴とするプログラムが提供される。
【００１３】
ここで使う“プログラム可能パターニング手段”という用語は、所望のパターンを基板の目標部分に創成できるように、入射放射線ビームにパターン化した断面を与えるために使うことができるあらゆる手段を指すと広く解釈すべきであり；“光バルブ”および“空間光変調装置”（ＳＬＭ）という用語もこのような関係で使うことが出来る。そのようなパターニング手段の例には次のようなものがある：
−    プログラム可能ミラーアレイ。これは、粘弾性制御層および反射面を有するマトリックスアドレス可能面を含んでもよい。そのような装置の背後の基本原理は、（例えば）この反射面のアドレス指定された領域が入射光を回折光として反射し、一方アドレス指定されない領域が入射光を未回折光として反射するということである。適当な空間フィルタを使って、上記未回折光を反射ビームから濾過して取除き、回折光だけを後に残すことができ；この様にして、このビームがマトリックスアドレス可能面のアドレス指定パターンに従ってパターン化されるようになる。格子光バルブ（ＧＬＶ）のアレイも対応する方法で使うことが出来る。各ＧＬＶは、入射光を回折光として反射する格子を作るために互いに対して変形出来る複数の反射性リボンから成る。プログラム可能ミラーアレイの更なる代替実施例は、極小ミラーのマトリックス配置を使用し、適当な局部電界を印加することにより、または圧電作動手段を使うことにより、それらの各々を軸線周りに個々に傾斜することができる。再び、これらのミラーは、マトリックスアドレス可能で、アドレス指定したミラーが入射放射線ビームをアドレス指定されないミラーの方へ異なる方向に反射し；この様にして、反射ビームをこれらのマトリックスアドレス可能ミラーのアドレス指定パターンに従ってパターン化する。必要なマトリックスアドレス指定は、適当な電子手段を使って行える。上に説明した両方の場合に、パターニング手段は、一つ以上のプログラム可能ミラーアレイを含むことができる。ここで言及したようなミラーアレイについての更なる情報は、例えば、米国特許第５，２９６，８９１号および同第５，５２３，１９３号、並びにＰＣＴ特許出願第ＷＯ９８／３８５９７号および第ＷＯ９８／３３０９６号から集めることができ、それらを参考までにここに援用する。プログラム可能ミラーアレイの場合、上記支持構造体は、例えば、必要に応じて固定または可動でもよい、フレームまたはテーブルとして具体化してもよい。
−    プログラム可能ＬＣＤアレイ。そのような構成の例は、米国特許第５，２２９，８７２号で与えられ、それを参考までにここに援用する。
【００１４】
形態の予備バイアス、光学的近接補正形態、位相変動技術および多重露出技術を使用する場合は、プログラム可能パターニング手段上に“表示した”パターンが結局基板の層または基板上に転写したパターンとかなり違うかも知れないことを理解すべきである。
【００１５】
簡単のために、この投影システムを、“レンズ”と呼ぶかも知れないが；この用語は、例えば、屈折性光学素子、反射性光学素子、反射屈折性システムおよびマイクロレンズアレイを含む、種々の型式の投影システムを包含するように広く解釈すべきである。この出願で使用する“投影システム”という用語は、プログラム可能パターニング手段から基板へパターン化したビームを伝達するためのあらゆるシステムを単純に指すと理解すべきである。この放射線システムも放射線のこの投影ビームを指向し、成形しまたは制御するためにこれらの設計形式の何れかに従って作用する部品を含んでもよく、そのような部品も以下で集合的または単独に“レンズ”と呼ぶかも知れない。投影システムの最終素子と基板との間のスペースを１より大きい屈折率の液体で埋めることを提案した。これは、露出放射線の液体中での波長が短いので、小さい形態の結像を可能にする。本発明は、この種の装置で使ってもよい。更に、このリソグラフィ装置は、二つ以上の基板テーブル（および／または二つ以上のマスクテーブル）を有する型式でもよい。そのような“多段”装置では、追加のテーブルを並列に使ってもよく、または準備工程を一つ以上のテーブルで行い、一方他の一つ以上のテーブルを露出に使ってもよい。二段階リソグラフィ装置は、例えば、米国特許第５，９６９，４４１号およびＰＣＴ特許出願第ＷＯ９８／４０７９１号に記載してあり、それらを参考までにここに援用する。
【００１６】
この本文では、ＩＣの製造に於けるこの発明による装置の使用を具体的に参照してもよいが、そのような装置は、他の多くの可能な用途があることを明確に理解すべきである。例えば、それを集積光学システム、磁区メモリ用誘導検出パターン、液晶ディスプレイパネル、薄膜磁気ヘッド、薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ、プリント回路板（ＰＣＢ）等の製造に使ってもよい。
【００１７】
本文書では、“放射線”および“ビーム”という用語を紫外放射線（例えば、３６５、２４８、１９３、１５７または１２６ｎｍの波長の）およびＥＵＶ（例えば、５〜２０ｎｍの範囲の波長を有する超紫外放射線）、並びにイオンビームまたは電子ビームのような、粒子ビームを含むあらゆる種類の電磁放射線を包含するために使用する。
【００１８】
次にこの発明の実施例を、例としてだけ、添付の概略図を参照して説明する。
これらの図で、対応する参照記号は、対応する部品を示す。
【００１９】
【実施例】
図１は、この発明の特別の実施例によるリソグラフィ投影装置を概略的に描く。この装置は、以下の構成要素を含む：
−    放射線（例えば、ＵＶ放射線）の投影ビームＰＢを供給するための、この特別の場合放射線源ＬＡも含む、放射線システムＥｘ、ＩＬ；
−    投影ビームにパターンを付けるためのプログラム可能パターニング手段ＰＰＭ（例えば、プログラム可能ミラーアレイ）；一般的にこのプログラム可能パターニング手段の位置は、部材ＰＬに対して固定であるが；しかし、そうではなくそれを部材ＰＬに関して正確に位置決めするためにそれを位置決め手段に結合してもよい；
−    基板Ｗ（例えば、レジストを塗被したシリコンウエハ）を保持するための基板ホルダを備え、且つこの基板を部材ＰＬに関して正確に位置決めするための位置決め手段に結合した物体テーブル（基板テーブル）ＷＴ；
−    このパターン化したビームを基板Ｗの目標部分Ｃ（例えば、一つ以上のダイを含む）上に投影するための、投影システム（“レンズ”）ＰＬ（例えば、石英および／またはＣａＦ2レンズシステムまたはそのような材料で作ったレンズ素子を含む反射屈折性システム、またはミラーシステム）；この投影システムはプログラム可能パターニング手段の像を基板上に投影してもよい；その代りに、この投影システムは、二次線源の像を投影し、それに対してプログラム可能パターニング手段の素子がシャッタとして作用してもよく；この投影システムが、例えば、これらの二次線源を作るためにおよび基板上にマイクロスポットを投影するためにマイクロレンズアレイ（ＭＬＡとして知られる）も含んでよい。
【００２０】
ここに描くように、この装置は、反射型である（即ち、反射性のプログラム可能パターニング手段を有する）。しかし、一般的に、それは、例えば、（透過性のプログラム可能パターニング手段を備える）透過型でもよい。
【００２１】
線源ＬＡ（例えば、エキシマレーザ）が放射線のビームを作る。このビームを直接か、または、例えば、ビーム拡大器Ｅｘのような、状態調節手段を通してから、照明システム（照明器）ＩＬの中へ送る。この照明器ＩＬは、このビームの強度分布の外側および／または内側半径方向範囲（普通、それぞれ、σ外側および／またはσ内側と呼ぶ）を設定するための調整手段ＡＭを含んでもよい。その上、それは、一般的に、積分器ＩＮおよびコンデンサＣＯのような、種々の他の部品を含む。この様にして、プログラム可能パターニング手段ＰＰＭに入射するビームＰＢは、その断面に所望の均一性および強度分布を有する。
【００２２】
図１に関して、線源ＬＡは、（この線源ＬＡが、例えば、水銀灯である場合によくあることだが）このリソグラフィ投影装置のハウジング内にあってもよいが、このリソグラフィ投影装置から遠く離れていて、それが作った放射線ビームをこの装置に（例えば、適当な指向ミラーを使って）導いてもよいことに注意すべきで；この後者のシナリオは、線源ＬＡがエキシマレーザである場合によくあることである。本発明および請求項は、これらのシナリオの両方を包含する。
【００２３】
ビームＰＢは、次に、プログラム可能パターニング手段ＰＰＭを横切る。プログラム可能パターニング手段ＰＰＭによって反射されてから、ビームＰＢは、投影システムＰＬを通過し、それがこのビームＰＢを基板Ｗの目標部分Ｃ上に集束する。位置決め手段（および干渉計測定手段ＩＦ）を使って、基板テーブルＷＴを、例えば、異なる目標部分ＣをビームＰＢの経路に配置するように、正確に動かすことができる。使う場合には、プログラム可能パターニング手段用の位置決め手段を使って、例えば、走査中に、プログラム可能パターニング手段ＰＰＭの位置をビームＰＢの経路に関して正確に補正することができる。一般的に、物体テーブルＷＴの移動は、図１にはっきりは示さないが、長ストロークモジュール（粗位置決め）および短ストロークモジュール（微細位置決め）を使って実現する。類似のシステムをこのプログラム可能パターニング手段を配置するために使ってもよい。物体テーブルおよび／またはプログラム可能パターニング手段が固定位置にあってもよいのに対して、必要な相対運動をもたらすために投影ビームがその代りに／それに加えて可動であってもよいことが分るだろう。
【００２４】
この発明によるリソグラフィ装置は、ここでは基板上のレジストの露出用であると説明しているが、この発明はこの用途に限定されず、この装置をレジストのないリソグラフィで使うためにパターン化した投影ビームを投影するために使ってもよいことが分るだろう。
【００２５】
図示する装置は、四つの推奨モードで使うことができる：
１．ステップモード：プログラム可能パターニング手段上の全パターンを目標部分Ｃ上に一度に（即ち、単一“フラッシュ”で）投影する。次に基板テーブルＷＴをｘおよび／またはｙ方向に動かして異なる目標部分ＣがビームＰＢで照射されるようにする。
２．走査モード：与えられた目標部分Ｃを単一“フラッシュ”では露出しないことを除いて、本質的にステップモードと同じ。その代りに、プログラム可能パターニング手段が与えられた方向（所謂“走査方向”、例えば、ｙ方向）に速度ｖで動き得て、それで投影ビームＰＢがプログラム可能パターニング手段上を走査させられ；同時に、基板テーブルＷＴがそれと共に同じまたは反対方向に速度Ｖ＝Ｍｖで動かされ、このＭはレンズＰＬの倍率である。この様にして、比較的大きい目標部分Ｃを、解像度について妥協する必要なく、露出できる。
３．パルスモード：プログラム可能パターニング手段を本質的に固定して保持し、パルス化した放射線源を使って全パターンを基板の目標部分Ｃ上に投影する。投影ビームＰＢに基板Ｗを横切る線を走査させるように、基板テーブルＷＴを本質的に一定の速度で動かす。プログラム可能パターニング手段上のパターンを必要に応じて放射線システムのパルスの間で更新し、これらのパルスは、連続する目標部分Ｃを基板上の必要な場所で露出するように時間を調節する。従って、投影ビームが基板Ｗの全域を走査して基板のストリップに対して完全なパターンを露出出来る。全基板を１行ずつ露出するまでこのプロセスを繰返す。
４．連続走査モード：実質的に一定の放射線源を使用しおよび投影ビームが基板を横切って走査してそれを露出すると、プログラム可能パターニング手段上のパターンを更新することを除いて、本質的にパルスモードと同じ。
【００２６】
上に説明した使用モードの組合せおよび／または変形または完全に異なる使用モードも使ってよい。
【００２７】
図２は、この発明のリソグラフィ投影装置の一部を示す。コンピュータ１０が空間光変調装置１１またはその他のプログラム可能パターニング手段上にパターンを創成するためのデータを発生する。同じデータを第２空間光変調装置１２またはその他のプログラム可能パターニング手段上にパターンを創成するためにも使う。空間光変調装置１１および１２上のパターンを使ってパターン化した投影ビーム１５、１６を作るために投影ビーム１３、１４にパターンを付ける。これらのパターン化した投影ビームは、それぞれ、投影光学素子１７、１８を使って基板１９、２０上に投影する。この様にして、単一コンピュータ１０からのデータを使って空間光変調装置を駆動し、二つの基板を選択的に露出する。
【００２８】
両空間光変調装置１１、１２がコンピュータ１０からの制御信号に正しく反応することを保証するために、この制御信号を第１および第２空間光変調装置１１、１２へ供給する前に、それぞれ、第１および第２局部較正ユニット２１、２２へ送る。較正ユニット２１、２２を使って信号を調整し、信号最大値および最小値が要求レベルにあるようにし、中間で正しいグレイ・レベルをもたらすようにする。
【００２９】
局部較正ユニット２１、２２は、空間光変調装置の各画素に対して必要な補正値を含むルックアップテーブルを包含してもよい。これらの補正値をコンピュータ１０が生成した画素データに適用して、正しいグレイ・レベルを作るために空間光変調装置のミラーを設定するために必要な入力を作る。
【００３０】
代替実施例では、空間光変調装置用の画素データを生成するためにコンピュータ１０が使うマスタファイルを修正して空間光変調装置の一つに要する局部較正が必要なく、他の空間光変調装置用の局部較正ユニットがこれを補償するようにする。
【００３１】
単一放射線源を使って両投影ビーム１３、１４を作ってもよい。例えば、放射線システムからの投影ビームをビームスプリッタに通して二つの放射線ビーム１３、１４を作ってもよい。しかし、各放射線ビーム１３、１４は、強度が元の放射線ビームの約半分だろう。その結果、与えられた放射線源に対して露出時間が増すだろう。本発明の代替構成では、この装置が二つの放射線システムを含み、第１のものが第１空間光変調装置１１によってパターン化すべき放射線ビーム１３を作り、第２のものが第２空間光変調装置１２によってパターン化すべき第２放射線ビーム１４を作る。
【００３２】
本発明は、投影ビームをパターン化するために更なる空間光変調装置も含み、それらもコンピュータ１０から同じ制御信号を供給されてもよい。例えば、コンピュータ１０からの信号をもう一つのリソグラフィ投影装置の空間光変調装置に供給してもよい。
【００３３】
第１および第２基板テーブル、第１および第２投影システム並びに第１および第２プログラム可能パターニング手段を、大地からの振動を遮断した共通のベースフレームに取付けてもよい。それによってこの装置が効果的に単一ユニットを形成する。放射線システムおよび、該当すれば、第２放射線システムもこの共通のベースフレームに取付けてもよい。その代りに、この装置を二つの別々のユニットに分け、第１基板テーブル、第１プログラム可能パターニング手段および第１投影システムを第１ベースフレームに取付け、および第２基板テーブル、第２プログラム可能パターニング手段および第２投影システムを第２の、別の、ベースフレームに取付けてもよい。この様に、この装置を二つの別々のサブユニットに効果的に分け、一つの他に対する、振動のような、外乱を最小にする。前のように、放射線システム、または、もし該当するならば、複数の放射線システムを一つまたは第１と第２の両方のベースフレームに取付けてもよい。更なる代替案として、第１および第２サブユニットは、本質的に別のベースフレームを有するが、投影システムのような、この装置の一つ以上の要素に対して共通のフレームを共有してもよい。
【００３４】
この装置の第１および第２サブユニット（それぞれ、第１および第２プログラム可能パターニング手段を含む）の間で制御システムを共用する程度が変ることを理解すべきである。例えば、この制御システムが所望のパターンに対応するパターンデータを受取り、これを駆動信号に変換し、それを使って第１および第２プログラム可能パターニング手段を直接設定してもよい。その代りに、この制御システムが各プログラム可能パターニング手段にパターンデータを供給し、それらが個々にこのパターンデータをプログラム可能パターニング手段を設定するための駆動データに変換してもよい。後者の状況では、制御システムが基板上に作るべき完全なパターンに対するパターンデータを提供し、その場合にプログラム可能パターニング手段がこのパターンデータを各プログラム可能パターニング手段で各瞬間で作るべき個々の部分に分解もし、または制御システムがこのパターンデータを分解して各瞬間にパターンデータの関連する部分だけを各プログラム可能パターニング手段に提供してもよい。
【００３５】
この発明を上に第１および第２基板を露出するための第１および第２プログラム可能パターニング手段に関して説明したが、この発明はこれに限定する意図はなく、複数のプログラム可能パターニング手段を使って複数の基板を対応する方法で露出してもよいことも理解すべきである。
【００３６】
この発明の特定の実施例を上に説明したが、この発明を説明したのと別の方法で実施してもよいことが分るだろう。この説明は、この発明を制限することを意図しない。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施例によるリソグラフィ投影装置を示す。
【図２】本発明によるリソグラフィ投影装置の一部を示す。
【符号の説明】
１０  制御システム
１１  第１プログラム可能パターニング手段
１２  第２プログラム可能パターニング手段
１３  第１投影ビーム
１４  第２投影ビーム
１５  第１パターン化ビーム
１６  第２パターン化ビーム
１７  第１投影システム
１８  第２投影システム
１９  第１基板
２０  第２基板
２１  第１較正手段
２２  第２較正手段
【図１】
2005222963.tif 000003
【図２】
2005222963.tif 000004
【外国語明細書】
2005222963.tif 000005
2005222963.tif 000006
2005222963.tif 000007
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