(57)【要約】【課題】  芳香族化合物を含む排水を処理するにあたって、化学的酸素要求量をより一層減少させることを目的とする。【解決手段】  芳香族化合物を含有する排水に対して、好気性細菌による第１段の好気性処理を行った後、汚泥と上澄み液とに分離し、その上澄み液を含む処理排水に対して、好気性細菌による第２段の好気性処理を行う。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
芳香族化合物を含有する排水に対して、好気性細菌による第１段の好気性処理を行った後、第１汚泥と第１上澄み液とに分離し、その第１上澄み液を含む処理排水に対して、好気性細菌による第２段の好気性処理を行う、排水の処理方法。
【請求項２】
上記第２段の好気性処理に供給する処理排水の化学的酸素要求量が、２００〜１０００ｍｇ／Ｌである、請求項１に記載の排水の処理方法。
【請求項３】
上記第２段の好気性処理に供給する処理排水が、化学的酸素要求量が２００ｍｇ／Ｌ未満である上記第１上澄み液と、化学的酸素要求量が１０００ｍｇ／Ｌを超える液とを混合したものである、請求項２に記載の排水の処理方法。
【請求項４】
上記芳香族化合物は、テレフタル酸、パラトルイル酸、安息香酸、及びこれらの塩のうち、少なくともいずれか一つである、請求項１乃至３のいずれかに記載の排水の処理方法。
【請求項５】
（ａ）酢酸と水とを含む溶媒中でパラキシレンを酸化して、粗テレフタル酸スラリーを得る工程、
（ｂ）上記粗テレフタル酸スラリーを固液分離して、粗テレフタル酸を回収する工程、      
（ｃ）上記粗テレフタル酸を水に溶解させた水溶液を、水素添加処理する工程、
（ｄ）上記水素添加処理した水溶液からテレフタル酸を晶析させて、高純度テレフタル酸スラリーを得る工程、
（ｅ）上記高純度テレフタル酸スラリーを固液分離して、高純度テレフタル酸を回収する工程、
を含む高純度テレフタル酸の製造工程において、この製造工程から発生する排水を、請求項１乃至４のいずれかに記載の排水の処理方法によって処理する、高純度テレフタル酸の製造方法。
【請求項６】
上記（ｄ）及び／又は（ｅ）の工程から発生する排水を処理する、請求項５に記載の高純度テレフタル酸の製造方法。
【請求項７】
上記処理排水に上記第２段の好気性処理を行った後、第２汚泥と第２上澄み液とに分離し、その第２上澄み液の化学的酸素要求量が１００ｍｇ／Ｌ未満である、請求項１乃至６のいずれかに記載の排水の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、排水の処理に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、芳香族カルボン酸の一種であるテレフタル酸の製造工程では、溶媒中でパラキシレンを酸化して、粗テレフタル酸スラリーを得、この粗テレフタル酸スラリーを固液分離して、粗テレフタル酸結晶を製造する。このとき、上記溶媒は主に酢酸であるが、パラキシレンの酸化反応工程で水が生成するので、製造工程内で溶媒を再利用するには、この酸化生成水を脱する必要がある。
【０００３】
また、粗テレフタル酸を高純度テレフタル酸に精製する際には、粗テレフタル酸結晶を高温高圧下で水に溶解させ、この水溶液を水素添加処理することで、テレフタル酸の副生成物である４−カルボキシベンズアルデヒドをパラトルイル酸へと還元させる。パラトルイル酸はテレフタル酸よりも水への溶解度が高いため、この水溶液から高純度なテレフタル酸を晶析させ、固液分離することで高純度テレフタル酸を得る。このように、上記酸化生成水や、水素添加処理後の晶析や固液分離によって生じる排水には、パラトルイル酸やテレフタル酸といった芳香族化合物を含まれる。
【０００４】
これらの排水に含まれる芳香族化合物は出来うる限り回収されることが望ましいが、回収しきれない分については廃水として処理される。この廃水を処理するにあたっては、特許文献１に記載されているような曝気下で好気性細菌により上記芳香族化合物を分解させる活性汚泥法等を用いて、化学的酸素要求量（以下、「ＣＯＤ」と略す。）を減少させている。
【０００５】
【特許文献１】特開平１０−３２７８４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、活性汚泥法によってＣＯＤを減少させる際、処理時間を長くしても排水のＣＯＤを１００ｍｇ／Ｌ未満にすることは難しく、逆に処理時間を長くすることは、上記好気性細菌が死滅、腐敗させてしまい、かえってＣＯＤ増加の要因となる。
【０００７】
そこでこの発明は、芳香族化合物を含む排水を処理するにあたって、ＣＯＤをより一層減少させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明は、芳香族化合物を含有する排水に対して、好気性細菌による第１段好気性処理を行った後、汚泥と上澄み液とに分離し、その上澄み液を含む処理排水に対して、好気性細菌による第２段好気性処理を行うことにより、上記の課題を解決したのである。
【発明の効果】
【０００９】
芳香族化合物を含む排水に対して好気性細菌による第１段の好気性処理を行った後に、沈殿池で汚泥を沈降させた上澄み液は、元の排水よりもＣＯＤが減少しているが、この後さらにもう一段となる第２段の好気性処理を行うと、長時間の曝気を行うよりも効果的に排水の処理を進めることができ、その処理液を沈殿池により固液分離することで、ＣＯＤの値もより一層減少させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、図１を用いつつこの発明について詳細に説明する。
この発明は、芳香族化合物を含有する排水ａに対して、第１好気性処理槽１１において好気性細菌による第１段の好気性処理を行った後、第１汚泥ｅと第１上澄み液ｄとに分離し、その第１上澄み液ｄを含む処理排水ｇに対して、第２好気性処理槽１３において好気性細菌による第２段の好気性処理を行う排水の処理方法である。
【００１１】
この発明が適用できる上記芳香族化合物は、これらを分解できる上記好気性細菌が存在するものでなければならない。上記芳香族化合物としては、例えば、テレフタル酸の製造工程において生成される、テレフタル酸、パラトルイル酸、安息香酸、４−カルボキシベンズアルデヒド、及びこれらの塩が挙げられる。なお、これらの塩とは、例えばナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩などである。
【００１２】
上記の排水ａが含有する上記芳香族化合物の量は、上記排水ａのＣＯＤ（二クロム酸カリウム法による。以下同じ。）が、３０００〜１００００ｍｇ／Ｌとなる量であることが望ましく、４０００〜８０００ｍｇ／Ｌであればより望ましい。ＣＯＤが３０００ｍｇ／Ｌ未満の排水であれば、わざわざこの発明にかかる排水の処理方法を用いてＣＯＤを減少させる理由に乏しく、従来用いられている排水の処理方法でも処理可能であるからである。一方、ＣＯＤが１００００ｍｇ／Ｌを超える排水に対してこの処理を行うと、上記の第１段の好気性処理における負担が大きくなりすぎるため、あらかじめ別の方法で上記芳香族化合物を回収してその含有量を減少させた上でこの発明にかかる方法を用いるのが望ましい。
【００１３】
上記の第１好気性処理槽１１においては、空気ｂを導入して上記好気性細菌に酸素を与えることで、導入した排水ａに対して第１段の好気性処理を行い、排水ａが含有する上記芳香族化合物を分解する。なお、空気ｂの代わりに酸素を用いてもよい。上記好気性細菌とは、酸素が無くては生育できない細菌であり、酸素を用いて上記芳香族化合物を分解することのできる細菌である。このような細菌としては、例えば、アルカリゲネス属やロドコッカス属などが挙げられる。また、上記の好気性処理とは、上記芳香族化合物を含有する水溶液に、空気又は酸素を供給して曝気し、上記好気性細菌によって、上記芳香族化合物を分解させる処理である。
【００１４】
上記の好気性処理を行う第１好気性処理槽１１は、従来の好気性処理槽と同様のものを使用してもよい。また、上記の第１段の好気性処理は、さらに複数段からなる好気性処理からなっていてもよく、上記第１好気性処理槽１１は、複数の処理槽で構成されていてもよい。それら複数の処理槽が並列であると、一度に処理できる量を増やすことができ、直列であると、より徹底した上記好気性処理を行うことができる。また、上記の第１好気性処理槽１１が複数の上記処理槽で構成されていて、かつそれらの上記処理槽が直列に繋がれている場合、その間には空気及び酸素を導入しない槽があってもよく、間欠的に空気又は酸素を導入する槽があってもよい。さらに、複数の上記処理槽から構成されていて直列に繋がれている場合、上記排水ａを直列に並んだ最初の上記処理槽に導入するだけではなく、下流となる上記処理槽に分散して導入してもよい。また、より効率よく酸化分解するために、栄養源である窒素やリン等のバランスを維持するため、栄養剤や鉄分、ミネラル分によってそれらを補給したり、除去操作を行ったりしてもよい。
【００１５】
なお、上記第１好気性処理槽１１内の、上記好気性細菌の量を示す活性汚泥浮遊物（以下、「ＭＬＳＳ」と略す。）濃度は、１０００〜１００００ｍｇ／Ｌであることが望ましく、２０００〜８０００ｍｇ／Ｌであればより望ましい。１０００ｍｇ／Ｌ未満であると、上記好気性細菌が足らずに上記の排水ａを十分に処理しきれない場合があり、１００００ｍｇ／Ｌを超えると、汚泥界面が水面近くまで上がり、汚泥が処理水中に流出する恐れが出てくる。
【００１６】
上記排水ａに対して上記の第１好気性処理槽１１で上記好気性処理を行うことにより、汚泥の混ざった第１汚泥混合液ｃが得られる。なお、上記汚泥とは上記好気性細菌を含有する、ゼラチン状の集合体である。この第１汚泥混合液ｃを第１沈殿池１２に導入し、この汚泥を沈降させて、上澄み液と分離させる。この第１沈殿池１２には、一般的な沈殿池を用いてよい。また、この沈殿池は単数でもよいし、直列又は並列に複数設けてもよい。
【００１７】
沈降によって分離された上記の第１汚泥ｅには、上記好気性細菌が含まれているので、上記の第１好気性処理槽１１に返送汚泥として戻して、再び排水ａの処理に用いると望ましい。ただし、好気性処理によって汚泥は増殖するので、全部を戻すとＭＬＳＳ濃度の増大を招くため、第１汚泥ｅの一部を余剰汚泥ｆとして系外に抜き出す必要がある。
【００１８】
上記の、得られた第１上澄み液ｄは上記好気性細菌によってＣＯＤが上記の排水ａよりも大きく減少させられているが、この第一段の好気性処理だけでＣＯＤを１００ｍｇ／Ｌ未満とすることは難しく、また、無理にＣＯＤを減少させようとすると、上記好気性細菌を死滅、腐敗させてしまい、かえってＣＯＤの増加を招いてしまう。そのため、上記の第１上澄み液ｄのＣＯＤは、１００ｍｇ／Ｌ以上であることが望ましく、２００ｍｇ／Ｌ以上であるとより望ましい。
【００１９】
上記の第１上澄み液ｄに対しては、もう一段となる、第２段の好気性処理を行うことが必要である。この第２段の好気性処理に導入する処理排水ｇは、上記の第１上澄み液ｄそのままでもよいし、又は、上記の第１上澄み液ｄを、それよりＣＯＤの高い他の液と混合して用いてもよい。
【００２０】
この第２段の好気性処理を行う第２好気性処理槽１３へ導入する処理排水ｇのＣＯＤは、２００〜１０００ｍｇ／Ｌであることが望ましく、３００〜８００ｍｇ／Ｌであればより望ましい。２００ｍｇ／Ｌ以下であると、有機物をエネルギー源とする上記好気性細菌が生存するのに不足となり、上記好気性細菌が十分に活性化できない可能性がある。一方、１０００ｍｇ／Ｌを超えていると、第２好気性処理槽１３で上記好気性処理を行っても、処理後の液のＣＯＤがなお高いままとなってしまう可能性がある。
【００２１】
そのため、上記の処理排水ｇに上記の第１上澄み液ｄをそのまま用いる場合は、第１上澄み液ｄのＣＯＤは、２００〜１０００ｍｇ／Ｌであることが望ましい。
【００２２】
上記の処理排水ｇが、上記の第１上澄み液ｄだけではなく、上記のＣＯＤの高い他の液と混合する場合には、上記の第１上澄み液ｄのＣＯＤは１００〜２００ｍｇ／Ｌであることが望ましく、１２０〜１８０ｍｇ／Ｌであればより望ましい。第１好気性処理槽１１のみでＣＯＤを下げようとすると、１００ｍｇ／Ｌ未満とするのは困難である。一方、２００ｍｇ／Ｌを超えると、上記のＣＯＤの高い他の液と混合した後の処理排水ｇのＣＯＤが上記の条件を満たすための混合比がより限られてくるし、また、あえてＣＯＤの高い他の液と混合しなくても効率よく排水処理を行うことが出来る。
【００２３】
また、上記の第１上澄み液ｄと混合する上記のＣＯＤが高い他の液は、そのまま上記好気性処理を行っても、ＣＯＤが十分に低下させることが困難なものであることが望ましい。ＣＯＤが２００ｍｇ／Ｌ未満である第１上澄み液ｄと混合することによって、液全体のＣＯＤを、第２好気性処理を行うのに適した範囲に収め、効率よく排水処理を行えるようになるからである。このＣＯＤが高い他の液のＣＯＤは、１０００〜１００００ｍｇ／Ｌであることが望ましい。ＣＯＤが１０００ｍｇ／Ｌ未満の液であれば、そのまま上記好気性処理を一段行うことによって、ＣＯＤを１００ｍｇ／Ｌ未満にまで下げることができるからである。一方、１００００ｍｇ／Ｌを超える液は、第１上澄み液ｄと混合する前に、別の処理を行ってあらかじめＣＯＤを下げておくことが望ましい。
【００２４】
なお、上記の排水ａの一部を上記第１好気性処理槽１１に導入する代わりに、上記のＣＯＤが高い他の液として、第１上澄み液ｄと混合してもよい。
【００２５】
上記の処理排水ｇは、第２好気性処理槽１３に導入して再び上記好気性処理を行う。この第２好気性処理槽１３では、上記第１好気性処理槽１１と同様に、空気ｈを導入して上記好気性細菌に酸素を与えることで、処理排水ｇに対して第２段の好気性処理を行い、処理排水ｇが含有する上記芳香族化合物を分解する。なお、上記と同様に、空気ｈの代わりに酸素を用いてもよい。この第２好気性処理槽１３は、上記の第１好気性処理槽１１と同じく、従来の好気性処理槽と同様のものを使用してもよく、複数の処理槽で直列や並列に構成されていてもよい。ただし、処理排水ｇは排水ａよりも、含有する上記芳香族化合物の量が少ないため、第２好気性処理槽１３は必ずしも第１好気性処理槽１１と同じ構成でなくてもよく、それぞれが処理すべき水溶液のＣＯＤに合わせた構成であれば望ましい。
【００２６】
なお、上記第２好気性処理槽１３内の、ＭＬＳＳ濃度は、１０００〜１００００ｍｇ／Ｌであることが望ましく、２０００〜８０００ｍｇ／Ｌであればより望ましい。１０００ｍｇ／Ｌ未満であると、上記好気性細菌が足らずに上記の処理排水ｇを十分に処理しきれない場合があり、１００００ｍｇ／Ｌを超えると、沈殿池で汚泥界面が水面近くまで上がり、汚泥が処理水中に流出するおそれが出てくる。
【００２７】
上記の第２好気性処理槽１３で処理された第２汚泥混合液ｉは、第２沈殿池１４に導入し、上記汚泥を沈降させて上澄み液と分離させるとよい。ここで、第２沈殿池１４は、上記の第１沈殿池１２と同様に、一般的な沈殿池を用いてよい。また、この沈殿池は単数でもよいし、直列又は並列に複数設けてもよい。
【００２８】
沈降によって分離された第２汚泥ｋには、上記好気性細菌が含まれているので、上記の第２好気性処理槽１３に返送汚泥として戻して、再び処理排水ｇの処理に用いると望ましい。また、上記の第１好気性処理槽１１に戻してもよい。ただし、好気性処理によって汚泥は増殖するので、全部を戻すとＭＬＳＳ濃度の増大を招くため、第２汚泥ｋの一部を余剰汚泥ｍとして系外に抜き出す必要がある。
【００２９】
上記の第２汚泥ｋと分離された第２上澄み液ｊのＣＯＤは、少ないほどよく、０を超えて１００ｍｇ／Ｌ未満であれば望ましく、８０ｍｇ／Ｌ未満であればより望ましい。１００ｍｇ／Ｌ未満であれば、元の排水ａよりも環境に与える影響は著しく少なくなっているからである。なお、この第２上澄み液ｊは、さらに塩素などで滅菌した後で放流するとより望ましい。
【００３０】
なお、この発明にかかる排水の処理方法を用いる前に、上記芳香族化合物以外の浮遊物質や土砂等を除去したり、ｐＨの調整や希釈などをしたりして、この発明にかかる排水の処理方法がより効果的に用いられるようにするとより望ましい。
【００３１】
この発明にかかる排水の処理方法は、テレフタル酸の製造工程において生成する排水に対して適用することができる。このテレフタル酸の製造工程とは、例えば、図２に示すような、以下に示す工程である。
【００３２】
まず、原料であるパラキシレンから、粗テレフタル酸結晶を得る工程は次のとおりである。酸化工程２１において、パラキシレンＡを酢酸Ｂ溶媒中で、触媒の存在下、空気Ｃ中の酸素により酸化する。このとき、酸化により生じる水が、酢酸とともに反応蒸気Ｄとして留出する。パラキシレンの酸化により生成されたテレフタル酸やその中間体、不純物を含有する混合スラリーＥから、晶析工程２２において、粗テレフタル酸結晶をさらに析出させる。これによって得られたスラリーＦを、固液分離工程２３において分離母液Ｇと粗テレフタル酸ケーキＭとに分離する。この分離母液Ｇの一部は、リサイクル母液Ｈとして酸化工程２１に送られる。溶媒回収工程２４においては、反応蒸気Ｄや分離母液Ｇから、溶媒成分Ｌを回収して酸化工程２１に戻し、溶媒として用いる。また溶媒回収工程２４においては水成分Ｋや、分離母液Ｇが含有する酸化触媒成分や不純物などの高沸点成分Ｊが得られる。さらに、粗テレフタル酸ケーキＭは、乾燥工程２５でケーキ付着溶媒を蒸発させて、粗テレフタル酸結晶Ｎを得る。
【００３３】
粗テレフタル酸結晶は、不純物として酸化中間体である４−カルボキシベンズアルデヒドを含んでいるため、高純度テレフタル酸結晶を得るには、粗テレフタル酸結晶中の４−カルボキシベンズアルデヒドを水溶性の高いパラトルイル酸に還元することで、溶解度の差によって高純度なテレフタル酸を分離する。その工程は次のとおりである。まず、溶解工程３１で、粗テレフタル酸結晶Ｎを水Ｏに高温高圧下で溶解させる。得られた水溶液Ｐを、水添反応工程３２において、水素Ｑによって還元させることで、溶液中の４−カルボキシベンズアルデヒドをパラトルイル酸に還元する。得られた還元処理液Ｒを、晶析工程３３で放圧冷却させて高純度テレフタル酸結晶を析出させる。なお、放圧冷却とは、高圧状態にある液体を、より低圧な状態へ急激に移行させることによって蒸発、及び冷却させることを言う。このときパラトルイル酸等の不純物を同伴した晶析蒸気Ｓが得られる。高純度テレフタル酸結晶が析出したスラリーＴは、固液分離工程３４で分離母液Ｕと高純度テレフタル酸ケーキＸとに分離させる。高純度テレフタル酸ケーキＸは、乾燥工程３６でケーキ付着溶媒を蒸発させて高純度テレフタル酸結晶Ｙを得る。また、分離母液Ｕからは、回収工程３５で濃縮や冷却によりパラトルイル酸等の不純物を含む結晶Ｗを回収して、原料として再利用するために上記の酸化工程２１に戻す。また、回収しきれなかった上記芳香族化合物を含む水溶液Ｖは、一部は溶解工程３１に戻して溶媒として利用してもよいが、一部または全部は廃液として処理する。
【００３４】
上記のようなテレフタル酸の製造工程のうち、例えば、反応蒸気Ｄ、水成分Ｋ、晶析蒸気Ｓ、上記芳香族化合物を含む水溶液Ｖなどの一部は、回収し切れなかった上記芳香族化合物を含有したまま、廃液処理される。また、上記に挙げた以外の工程からも、上記芳香族化合物を含有した排水が出ることがある。さらに、上記のようなテレフタル酸の製造工程全体を洗浄する際の洗浄水も、上記芳香族化合物を含んだ排水となる。これらの排水を処理する際に、この発明にかかる排水の処理方法を利用すると、テレフタル酸製造工程から出る排水のＣＯＤを大きく減少させることができる。ただし、この発明にかかる排水の処理方法を行う前に、上記芳香族化合物以外の浮遊分などを取り除くなどの前処理を行い、この発明にかかる排水の処理方法の効果が十分に現れるようにしておくことが望ましい。
【実施例】
【００３５】
この発明を、実施例により、さらに具体的に説明する。なお、液のＣＯＤ分析方法は、ＪＩＳ  Ｋ  ０１０１の「１８．二クロム酸カリウムによる酸素消費量（ＣＯＤCr）に準じて行った。
【００３６】
（実験例１）
テレフタル酸製造工程で生成した、ＣＯＤが６０００〜７０００ｍｇ／Ｌである芳香族化合物含有排水を、第１好気性処理槽（ＭＬＳＳ濃度：５０００ｍｇ／Ｌ、ｓｌｕｄｇｅ  ｄｕｔｙ：０．２５ｋｇ−ＣＯＤ／ｋｇ−ＳＳ／Ｄ）にて２３．１時間滞留させて曝気処理を行った。この際、曝気開始から９時間経過後より、約１時間ごとに処理液をサンプリングし、上澄み液のＣＯＤを分析した。そのサンプリングした曝気開始からの経過時間と結果とを表１に示す。
【００３７】
【表１】
2005095754.tif 000002
【００３８】
上記の第１好気性処理槽において２３．１時間曝気処理して得られた第１上澄み液に、ＣＯＤが６０００〜７０００ｍｇ／Ｌである上記芳香族化合物含有排水を混合して、ＣＯＤが４００〜８００ｍｇ／Ｌである処理排水を得た。この処理排水を、第２好気性処理槽（ＭＬＳＳ濃度：２０００ｍｇ／Ｌ、ｓｌｕｄｇｅ  ｄｕｔｙ：０．１ｋｇ−ＣＯＤ／ｋｇ−ＳＳ／Ｄ）にて４０時間滞留させて、曝気処理を行った。曝気開始から８時間ごとに処理液をサンプリングし、その上澄み液のＣＯＤを分析した。その結果を表２に示す。
【００３９】
【表２】
2005095754.tif 000003
【００４０】
（実験例２）
上記の第１好気性処理槽において２３．１時間曝気処理して得られた第１上澄み液に、メタノールを混合して、ＣＯＤが４００〜８００ｍｇ／Ｌの処理排水を得た。この処理排水を、第２好気性処理槽（ＭＬＳＳ濃度：２０００ｍｇ／Ｌ、ｓｌｕｄｇｅ  ｄｕｔｙ：０．１ｋｇ−ＣＯＤ／ｋｇ−ＳＳ／Ｄ）にて、４０時間滞留させて、曝気処理を行った。曝気開始から８時間ごとに処理液をサンプリングし、その上澄み液のＣＯＤを上記と同様に分析した。その結果を表３に示す。
【００４１】
【表３】
2005095754.tif 000004
【００４２】
（結果）
上記第１好気性処理で得られる処理液のＣＯＤは１００ｍｇ／Ｌ以上であるが、上記第２好気性処理を行うことにより、そのＣＯＤは１００ｍｇ／Ｌ未満にすることができた。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】この発明にかかる排水の処理方法の一例を示すチャート図
【図２】テレフタル酸の製造工程例図
【符号の説明】
【００４４】
１１  第１好気性処理槽
１２  第１沈殿池
１３  第２好気性処理槽
１４  第２沈殿池
２１  酸化工程
２２  晶析工程
２３  固液分離工程
２４  溶媒回収工程
２５  乾燥工程
３１  溶解工程
３２  水添反応工程
３３  晶析工程
３４  固液分離工程
３５  回収工程
３６  乾燥工程
ａ  排水
ｂ  空気
ｃ  第１汚泥混合液
ｄ  第１上澄み液
ｅ  第１汚泥
ｆ  余剰汚泥
ｇ  処理排水
ｈ  空気
ｉ  第２汚泥混合液
ｊ  第２上澄み液
ｋ  第２汚泥
ｍ  余剰汚泥
Ａ  パラキシレン
Ｂ  酢酸
Ｃ  空気
Ｄ  反応蒸気
Ｅ  混合スラリー
Ｆ  スラリー
Ｇ  分離母液
Ｈ  リサイクル母液
Ｊ  高沸点成分
Ｋ  水成分
Ｌ  溶媒成分
Ｍ  粗テレフタル酸ケーキ
Ｎ  粗テレフタル酸結晶
Ｏ  水
Ｐ  水溶液
Ｑ  水素
Ｒ  還元処理液
Ｓ  晶析蒸気
Ｔ  スラリー
Ｕ  分離母液
Ｖ  芳香族化合物を含む水溶液
Ｗ  不純物を含む結晶
Ｘ  高純度テレフタル酸ケーキ
Ｙ  高純度テレフタル酸結晶
【図１】
2005095754.tif 000005
【図２】
2005095754.tif 000006