(57)【要約】【課題】  位置決めマークの検出段階において生じる誤差を補正することにより、描画領域の位置のずれ等を正確に修正し、高い精度でアライメント補正が可能な露光装置を提供する。【解決手段】  データ判断部が、基板上の実際のアライメント穴の位置を示す第１〜第４マーク位置データに補正が必要か否かを判断する（ステップＳ７０３）。さらに、補正が必要な非許容データの数に基づいて、マーク位置データが描画領域の修正に適用できるか否かを判断し（ステップＳ７０４）、非許容データが１つの場合、データ処理部が非許容データを補正し（ステップＳ７０５）、非許容データが２つ以上である場合、正確な描画が不可能である旨、ユーザに報知させるための警告ランプが点灯する（ステップＳ７０６）。データ処理部は、必要に応じて補正されたマーク位置データに基づいて、描画領域の修正を行なう（ステップＳ７０７）。【選択図】        図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定のパターンを描画する領域である描画領域の位置と形状のずれを修正するため、前記描画領域の輪郭を定める複数のマークが表面に表された被描画体を描画する露光装置であって、
前記複数のマークの実際の位置を検出するマーク位置検出手段と、
前記複数のマークの実際の位置をそれぞれ示すマーク位置データを生成するマーク位置データ生成手段と、
前記複数のマーク位置データそれぞれが、所定の誤差許容範囲を超えた非許容データであるか否かを判断するデータ許容性判断手段と、
前記複数のマーク位置データが、前記描画領域の位置と形状の修正に用いることができる修正可能データであるか否かを前記非許容データの数に基づいて判断するデータ適用性判断手段と、
前記非許容データを補正して補正マーク位置データとするデータ補正手段とを備え、
前記データ補正手段が、前記データ適用性判断手段が前記複数のマーク位置データが修正可能データであると判断した場合に、必要に応じて前記非許容データを補正して補正マーク位置データとし、
前記マーク位置データと前記補正マーク位置データとに基づき前記描画領域の位置と形状を修正して前記被描画体を描画することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記描画領域が矩形状であって、４つの前記マークが前記描画領域の頂点に位置することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
前記データ許容性判断手段が、第１のマーク位置データが示す第１のマークと、前記第１のマーク以外の前記マークとの距離の誤差に基づいて、前記第１のマーク位置データが前記非許容データであるか否かを判断し、全ての前記マーク位置データについて前記第１のマーク位置データと同様に判断することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記データ許容性判断手段が、第１のマーク位置データが示す第１のマークと前記第１のマークから最も近い第２のマークとの距離である第１の距離の誤差と、前記第１のマークと前記第２のマークの次に前記第１のマークに近い第３のマークとの距離である第２の距離の誤差の合計が、所定の許容範囲内にあるか否かに基づいて、前記第１のマーク位置データが前記非許容データであるか否かを判断し、全ての前記マーク位置データについて前記第１のマーク位置データと同様に判断することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項５】
前記データ許容性判断手段が、前記第１の距離と前記第２の距離との誤差の合計に、前記第２のマークと前記第３のマークとの距離である第３の距離の誤差をさらに加えた誤差の合計に基づいて、前記第１のマーク位置データが前記非許容データであるか否かを判断することを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
前記データ適用性判断手段が、前記非許容データの数が１つ以下であった場合、前記マーク位置データが前記適用可能データであると判断し、
前記非許容データが１つであった場合、前記データ補正手段が、前記非許容データを除く前記マーク位置データが示す第１乃至第３のマークとともに平行四辺形を形成する位置に補正マーク位置データが示すマークがあるように、前記非許容データを補正して前記補正マーク位置データとし、
前記非許容データが無かった場合、前記データ補正手段が、前記マーク位置データを補正しないことを特徴とする請求項２乃至５に記載の露光装置。
【請求項７】
前記データ適用性判断手段が、前記非許容データの数が２以上の場合に前記マーク位置データが前記適用可能データでないと判断することを特徴とする請求項２乃至６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記データ適用性判断手段が、前記マーク位置データが前記適用可能データでないと判断した場合に、前記複数のマーク位置データが前記適用可能データでないことをユーザに警告する警告手段をさらに有することを特徴とする請求項１乃至７に記載の露光装置。
【請求項９】
前記データ許容性判断手段が、第１のマーク位置データが示す第１のマークと、前記第１のマークの他のマークとの位置関係に基づいて、前記第１のマーク位置データが非許容データであるか否かを判断し、全ての前記マーク位置データについて前記第１のマーク位置データと同様に判断することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記データ許容性判断手段が、前記第１のマークと前記他のマークとの距離の誤差に基づいて、前記第１のマーク位置データが非許容データであるか否かを判断することを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記データ許容性判断手段が、前記第１のマークと複数の前記他のマークとの距離の誤差の合計に基づいて、前記第１のマーク位置データが非許容データであるか否かを判断することを特徴とする請求項１０に記載の露光装置。
【請求項１２】
所定のパターンを描画する領域である描画領域の位置と形状のずれを修正するために、被描画体の表面に表された、前記描画領域の輪郭を定める複数のマークの位置を示すマーク位置データを補正するマーク位置データ補正方法であって、
マーク位置検出手段が前記複数のマークの実際の位置を検出し、
マーク位置データ生成手段が、前記複数のマークの実際の位置をそれぞれ示すマーク位置データを生成し、
データ許容性判断手段が、前記複数のマーク位置データそれぞれが、所定の誤差許容範囲を超えた非許容データであるか否かを判断し、
データ適用性判断手段が、前記複数のマーク位置データが前記描画領域の位置と形状の修正に用いることができる適用可能データであるか否かを前記非許容データの数に基づいて判断し、
データ補正手段が、前記データ適用性判断手段が前記マーク位置データが前記適用可能データであると判断した場合に、前記非許容データを補正して補正マーク位置データとすることを特徴とするマーク位置データ補正方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、描画領域の輪郭を定めるマークの位置を示すデータであるマーク位置データの補正機能付き露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィの手法によるプリント回路基板への回路パターンの印刷においては、フォトレジスト層が形成された基板上に、露光装置によってパターンが描画される。そして、回路パターンの描画の後、種々の処理が施されることによりプリント回路基板が得られる。
【０００３】
回路パターンは、プリント基板上の予め定められた位置に描画される必要があるが、基板には描画後の熱処理などにより微細な変形を生じることがあり、パターンの描画位置が本来の位置からずれる場合がある。そこで、例えば、基板上の四隅といった所定の位置に予め位置決めマークを設け、基板の変形による位置決めマークの位置ずれを予め測定してずれを補正することにより、パターンの描画位置が調整されている（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２０００−１２２３０３号公報（第５〜６頁）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
基板上の位置決めマークのずれに基づいて、基板に対する描画領域の位置のずれを修正する場合、位置決めマークを検出する段階において生じる誤差については補正されていない。従って、位置決めマークの実際の位置、すなわち基板の変形後の位置を示すデータに測定誤差が含まれる可能性があり、この場合、正確なアライメント補正が困難である。
【０００５】
そこで本発明においては、位置決めマークの検出段階において生じる誤差を補正することにより、描画領域の位置のずれ等を正確に修正し、高い精度でアライメント補正を可能にする露光装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の露光装置は、所定のパターンを描画する領域である描画領域の位置のずれを修正するために描画領域の輪郭を定める複数のマークが、表面に表された被描画体を描画する。露光装置は、複数のマークの実際の位置を検出するマーク位置検出手段と、複数のマークの実際の位置をそれぞれ示すマーク位置データを生成するマーク位置データ生成手段と、複数のマーク位置データそれぞれが、所定の誤差許容範囲を超えた非許容データであるか否かを判断するデータ許容性判断手段と、複数のマーク位置データが、描画領域の位置の修正に用いることができる修正可能データであるか否かを非許容データの数に基づいて判断するデータ適用性判断手段と、非許容データを補正して補正マーク位置データとするデータ補正手段とを備える。そして、データ適用性判断手段が、マーク位置データが修正可能データであると判断した場合、データ補正手段は、必要に応じて非許容データを補正して補正マーク位置データとし、露光装置は、マーク位置データと補正マーク位置データとに基づいて描画領域の位置を修正して被描画体を描画する。
【０００７】
なお、描画領域の輪郭を定める複数のマークの実際の位置、すなわち被描画体の変形後のマークの位置を示すマーク位置データに基づいて描画領域を修正することにより、本発明の露光装置は、描画領域の位置のずれのみならず、描画領域自体の形状の変化についても、修正を加えることができる。
【０００８】
描画領域は例えば矩形状であって、この場合、４つのマークが描画領域の頂点に位置する。そして、データ許容性判断手段は、第１のマーク位置データが示す第１のマークと、第１のマーク以外のマークとの距離の誤差に基づいて、第１のマーク位置データが非許容データであるか否かを判断し、全てのマーク位置データについて第１のマーク位置データと同様に判断することが好ましい。
【０００９】
データ許容性判断手段は、第１のマークと第１のマークから最も近い第２のマークとの距離である第１の距離の誤差と、第１のマークと第２のマークの次に第１のマークに近い第３のマークとの距離である第２の距離の誤差の合計が、所定の許容範囲内にあるか否かに基づいて、第１のマーク位置データが非許容データであるか否かを判断することが望ましい。さらに、データ許容性判断手段は、第１の距離と第２の距離との誤差の合計に、第２のマークと第３のマークとの距離である第３の距離の誤差をさらに加えた誤差の合計に基づいて、第１のマーク位置データが非許容データであるか否かを判断することが、より望ましい。
【００１０】
データ適用性判断手段は、例えば、非許容データの数が１つ以下であった場合、マーク位置データが適用可能データであると判断する。そして、非許容データが１つであった場合、データ補正手段が、非許容データを除くマーク位置データが示す第１乃至第３のマークとともに平行四辺形を形成する位置に補正マーク位置データが示すマークがあるように、非許容データを補正して補正マーク位置データとし、非許容データが無かった場合、データ補正手段が、マーク位置データを補正しないことが好ましい。
【００１１】
データ適用性判断手段は、例えば、非許容データの数が２以上の場合にマーク位置データが適用可能データでないと判断する。
【００１２】
露光装置は、データ適用性判断手段がマーク位置データが適用可能データでないと判断した場合に、複数のマーク位置データが適用可能データでないことをユーザに警告する警告手段をさらに有することが望ましい。
【００１３】
データ許容性判断手段は、例えば、第１のマーク位置データが示す第１のマークと、第１のマークの他のマークとの距離の誤差、位置関係に基づいて、第１のマーク位置データが非許容データであるか否かを判断し、全てのマーク位置データについて第１のマーク位置データと同様に判断する。そして、この場合、データ許容性判断手段は、第１のマークと複数の他のマークとの距離の誤差の合計に基づいて、第１のマーク位置データが非許容データであるか否かを判断することが好ましい。
【００１４】
本発明のマーク位置データ補正方法は、所定のパターンを描画する領域である描画領域の位置と形状のずれを修正するために、被描画体の表面に表された、描画領域の輪郭を定める複数のマークの位置を示すマーク位置データを補正する方法である。そして、マーク位置データ補正方法においては、マーク位置検出手段が複数のマークの実際の位置を検出し、マーク位置データ生成手段が、複数のマークの実際の位置をそれぞれ示すマーク位置データを生成し、データ許容性判断手段が、複数のマーク位置データそれぞれが、所定の誤差許容範囲を超えた非許容データであるか否かを判断し、データ適用性判断手段が、複数のマーク位置データが描画領域の位置と形状の修正に用いることができる適用可能データであるか否かを非許容データの数に基づいて判断する。さらに、データ適用性判断手段がマーク位置データが適用可能データであると判断した場合に、データ補正手段が、非許容データを補正して補正マーク位置データとする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、位置決めマークの検出段階において生じる誤差を補正することにより、描画領域の位置のずれ、変形を正確に修正し、高い精度でアライメント補正が可能な露光装置を実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。図１は、本実施形態の露光装置を示す斜視図である。図２は、露光装置に設置された基板を示す斜視図である。
【００１７】
露光装置１０は、基台１１と固定テーブル２９より構成される。基台１１には、基板２０を固定するための描画テーブル１８が配置されている。固定テーブル２９には、露光用レーザ発振器２５と、露光用レーザ発振器２５からの露光用レーザ光ＬＰを描画テーブル１８に導くための露光用光学系が設けられている。基台１１の上面には、一対の平行なレール１２が配置されており、描画テーブル１８は、モータを有する駆動部１３によって、レール１２上を移動可能である。以下では、描画テーブル１８の移動方向と垂直な主走査方向をＹ方向、描画テーブル１８の移動方向と平行な副走査方向をＸ方向と定め、これらの両方向に座標軸を有し、描画テーブル上の点Ｏを原点とする描画座標系を規定する。
【００１８】
基台１１には、レール１２の外側に、計測用カメラ５６が設けられている。計測用カメラ５６は、伸縮自在のアーム部６０を有し、撮像素子（図示せず）を含む撮影部６２が主走査方向に移動することにより、基板２０の端部に設けられた第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３の全てを撮影可能である。第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３は、熱処理等による基板２０の変形に伴って生じる、基板２０の露光面Ｅの回路パターンを描画する領域である描画領域の位置のずれと形状の変化を修正するために、描画領域の四隅に設けられている。ここでは、第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３は、矩形状の描画領域の頂点に位置するように設けられており、基板２０の変形量はわずかであるため、実際の、すなわち基板２０の変形後の第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３の中心によって規定される領域もほぼ矩形状である。
【００１９】
基板２０が描画テーブル１８上に固定されると、描画テーブル１８は、レール１２上を副走査方向（Ｘ方向）に沿って往復運動する。そして、描画テーブル１８が往復運動する間、計測用カメラ５６は、主走査方向（Ｙ方向）に沿って移動し、第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３を撮影する。これにより、基板２０の露光面における第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３の位置が計測される。そして、後述のように、第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３の中心位置を示すマーク位置データを描画領域の補正に適用することができるか否かが判断され、適用することができると判断された場合には露光工程に移行する。
【００２０】
露光工程においては、まず、描画テーブル１８が、レール１２上を固定テーブル２９側に向けて再び移動するとともに、以下のように、露光用レーザ光ＬＰが基板２０に向けて照射される。レーザ発振機２５から発振された露光用レーザ光ＬＰは、第１ビームベンダ２６によって偏向され、音響光学素子（ＡＯＭ）によって構成される光変調ユニット２８へ導かれる。光変調ユニット２８において変調された後、露光用レーザ光ＬＰは、第２ビームベンダ３０、レンズ３２、第３ビームベンダ３４を介してポリゴンミラー３６に導かれる。露光用レーザ光ＬＰは、ポリゴンミラー３６の反射面によって偏向され、ｆ―θレンズ３８に到達する。この時、ポリゴンミラー３６は、露光用レーザ光ＬＰを主走査方向（Ｙ方向）に沿うように偏向する。ｆ―θレンズ３８を経由した露光用レーザ光ＬＰは、ターニングミラー４０、コンデンサレンズ４２を介して描画テーブル１８へ導かれる。その結果、露光用レーザ光ＬＰが基板２０上に照射され、露光面Ｅの描画領域は所定の回路パターンに応じて露光される。
【００２１】
図３は、本実施形態における露光装置の概略的なブロック図である。
【００２２】
本体制御部５０は、露光装置１０の全体を制御する装置であり、本体制御部５０内には、露光制御部５３が設けられている。露光制御部５３は、テーブル駆動部１３、計測用カメラ制御部５２、光変調ユニット駆動部５５、ポリゴンミラー駆動部５７等へ制御信号を送る。
【００２３】
計測用カメラ５６は、露光制御部５３からの制御信号による計測用カメラ制御部５２の制御に基づいて、第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３を順次撮影する。この間、テーブル駆動部１３は、露光制御部５３から送信される制御信号に基づいて、基板２０を固定した描画テーブル１８の移動を制御する。第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３の撮影結果はデータ処理部５４に送られ、データ処理部５４は、計測用カメラ５６の撮影範囲における座標系から、描画座標系のデータにおける第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３の中心の座標を算出し、各座標データをマーク位置データとする。
【００２４】
データ処理部５４は、マーク位置データをデータ判断部５９に送る。データ判断部５９において、マーク位置データが描画領域の修正に用いることができるか否か、すなわちマーク位置データが示す第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３の位置が、本来描画すべき描画領域の頂点と比べて大きい誤差を含むか否かが判断される。データ判断部５９が、マーク位置データの誤差が大きく、描画領域の修正に適用できないと判断すると、回路パターンを基板２０上に正確に描画することができないという異常を伝え、基板２０の交換が必要である旨をユーザに警告するために、データ判断部５９は、露光装置１０の表面に設けられた警告ランプ５８を点灯させる。
【００２５】
一方、データ判断部５９が、マーク位置データを描画領域の修正に適用できると判断した場合には、マーク位置データが適用可能であることを伝える信号をデータ処理部５４に送信する。データ処理部５４は、後述のように、必要に応じて補正を加えたマーク位置データを露光制御部５３に送り、露光工程が開始する。露光工程においては、まず、データ処理部５４が、露光制御部５３に対して、必要に応じて補正されたマーク位置データに基づいて回路パターンを形成するための露光をさせる制御信号を送る。そして、露光制御部５３が、テーブル駆動部１３、光変調ユニット駆動部５５、ポリゴンミラー駆動部５７を制御することにより、基板２０が描画テーブル１８上を副走査方向（Ｘ方向）に移動しつつ、露光面Ｅが露光され、回路パターンが形成される。
【００２６】
図４は、アライメント穴を示すマーク位置データの誤差が、許容範囲以内であるか否かを判断する方法を概略的に示す図である。図５は、補正されたマーク位置データに基づくマークを示す図である。図６は、マーク位置データに基づいて修正された描画領域を示す図である。
【００２７】
第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３の位置をそれぞれ示す座標データであるマーク位置データの誤差が許容範囲内にあるか否かは、アライメント穴間の距離に基づいて、データ判断部５９において以下のように判断される。第２アライメント穴Ｈ１の位置を示す第２マーク位置データについては、第１アライメント穴Ｈ０と第２アライメント穴Ｈ１との実際の距離であるＬ０１、第２アライメント穴Ｈ１と第３アライメント穴Ｈ２との実際の距離Ｌ１２、及び第１アライメント穴Ｈ０と第３アライメント穴Ｈ２との実際の距離Ｌ０２がそれぞれ算出される（図４（Ａ）参照）。ここで実際の距離とは、計測用カメラ５６の計測に基づいて算出された第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３の位置を示すマーク位置データに基づく距離をいう。
【００２８】
続いて、本来描画すべき描画領域を示すデータである描画データにおける、第１アライメント穴Ｈ０と第２アライメント穴Ｈ１との距離Ｗ０１、第２アライメント穴Ｈ１と第３アライメント穴Ｈ２との距離Ｗ１２、及び第１アライメント穴Ｈ０と第３アライメント穴Ｈ２との距離Ｗ０２がそれぞれ算出される。こうして算出された描画データ上のアライメント穴間の距離であるＷ０１、Ｗ１２、Ｗ０２と、それぞれ対応するアライメント穴間の実際の距離であるＬ０１、Ｌ１２、Ｌ０２との差を誤差とし、これらの誤差の絶対値の合計である合計誤差Ｄ０１２が、（１）式に示すように算出される。
Ｄ０１２＝ＡＢＳ（Ｗ０１―Ｌ０１）＋ＡＢＳ（Ｗ１２―Ｌ１２）＋ＡＢＳ（Ｗ０２―Ｌ０２）                                   ・・・（１）
合計誤差Ｄ０１２を、第２マーク位置データの誤差とする。合計誤差Ｄ０１２に対しては、予め、アライメント穴の加工精度等に基づいて許容量ＣＬ２が定められており、データ判断部５９は、合計誤差Ｄ０１２と許容量ＣＬ２との大小を比較し、合計誤差Ｄ０１２が許容量ＣＬ２よりも大きい場合、第２マーク位置データが、そのままでは描画領域の修正に使用することができず、補正が必要な非許容データであると判断する。
【００２９】
データ判断部５９は、同様に、それぞれ第１、第３及び第４アライメント穴Ｈ０、Ｈ２、Ｈ３の位置を示す第１、第３及び第４マーク位置データについても、非許容データであるか否かを判断する（図４（Ｂ）〜（Ｄ）参照）。このように、アライメント穴を示すマーク位置データの信頼性が、距離の短い２つの他のアライメント穴、すなわち略矩形状の描画領域の対角線上にあるものを除く２つのアライメント穴との距離と、それら２つのアライメント穴間の距離とに基づいて判断される。
【００３０】
第１〜第４マーク位置データの全てについて、非許容データであるか否かが判断されると、データ判断部５９は、非許容データの数に基づいて、第１〜第４マーク位置データを描画領域の位置や形状の修正に適用することができるか否かを判断する。すなわち、非許容データが全く含まれない場合、若しくは非許容データが１つ含まれた場合、第１〜第４マーク位置データは、描画領域の修正に適用することができるものと判断する。一方、非許容データが２つ以上存在した場合、計測用カメラ５６による第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３の計測誤差、基板２０の変形が著しく大きいと考えられ、また、非許容データを信頼性の高い補正マーク位置データとする適当な補正が不可能であるため、かかるマーク位置データは描画領域の修正に適用できないと判断する。
【００３１】
第１〜第４マーク位置データに、非許容データが１つ含まれた場合、以下のように、非許容データに対する補正が行なわれる（図５参照）。すなわち、第１アライメント穴Ｈ０の位置を示す第１マーク位置データの合計誤差Ｄ１０３が許容量ＣＬ０よりも大きく、第１マーク位置データのみが非許容データであった場合、第１マーク位置データは、第２〜第４アライメント穴Ｈ１〜Ｈ３の３点と平行四辺形を形成する位置Ｈ０’を示す補正マーク位置データに補正される。マーク位置データの補正は、データ判断部５９からの指示信号に従って、データ処理部５４によって行われる。
【００３２】
データ判断部５９が、第１〜第４マーク位置データが描画領域の修正に適用することができる適用可能データであると判断し、非許容データが含まれなかった場合、データ処理部５４は、第１〜第４マーク位置データに基づいて描画領域を修正し、非許容データが１つ含まれた場合、データ処理部５４は、補正マーク位置データを含むマーク位置データに基づいて描画領域を修正する（図６参照）。データ処理部５４による描画領域の修正においては、まず、第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３を頂点とする、矩形に近い四角形である実際の描画領域の４辺の中点である第１〜第４中点Ｍ０１、Ｍ１２、Ｍ２３、Ｍ３０が算出される。そして、第１中点Ｍ０１と第３中点Ｍ２３とを結ぶ線分ＬＸと、第２中点Ｍ１２と第４中点Ｍ３０とを結ぶ線分ＬＹとから成る、破線が示す領域が平行四辺形の形状になるように、描画データにおける描画領域の形状を修正する。また、この修正処理に伴って、描画データにおける描画領域の位置も、第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３のＸ座標の値であるＸ0〜3と、Ｙ座標の値であるＹ0〜3の平均から算出される実際の描画領域の中心点Ｃの座標（（Ｘ0＋Ｘ1＋Ｘ2＋Ｘ3）／４，（Ｙ0＋Ｙ1＋Ｙ2＋Ｙ3）／４）を中心とする位置に、移動するよう修正される。
【００３３】
図７は、本体制御部５０において行なわれる、描画データ修正ルーチンを示すフローチャートである。
【００３４】
描画データ修正ルーチンは、第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３が設けられた基板２０の描画テーブル１８上への固定により開始される。ステップＳ７０１では、計測カメラ５６が、第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３を撮影、位置を計測してステップＳ７０２に進む。ステップＳ７０２では、データ処理部５４が、計測用カメラ５６の撮影結果から、描画座標系における第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３の位置を示す第１〜第４マーク位置データを生成し、ステップＳ７０３に進む。ステップＳ７０３では、データ判断部５９が、第１〜第４マーク位置データに補正が必要か否かを判断する。第１〜第４マーク位置データのうちいずれかが、補正が必要な非許容データであると判断されるとステップＳ７０４に進み、第１〜第４マーク位置データに非許容データ補正が含まれず、補正が不要であると判断されるとステップＳ７０７に進む。
【００３５】
ステップＳ７０４では、データ判断部５９が、第１〜第４マーク位置データが描画領域の修正に用いることができるか否か、すなわち非許容データが１つであるか、あるいは２つ以上あるかを判断する。非許容データが１つであった場合、非許容データを補正して補正マーク位置データとすることにより、補正マーク位置データを含むマーク位置データが描画領域の修正に適用可能であると判断し、ステップＳ７０５に進む。非許容データが２つ以上存在した場合には、マーク位置データは描画領域の修正に適用できないと判断し、ステップＳ７０６に進む。
【００３６】
ステップＳ７０５では、データ処理部５４が、非許容データに補正を施して補正マーク位置データとし、ステップＳ７０７に進む。ステップＳ７０６では、マーク位置データによる描画領域の修正が不可能であり、回路パターンを正確に基板２０上に描画することができないことをユーザに報知させるために、警告ランプ５８が点灯する。そして、ステップＳ７０７では、必要に応じて補正マーク位置データを含むマーク位置データに基づいて、データ処理部５４が描画データ上の描画領域の位置、形状を修正し、描画データ修正ルーチンは終了する。
【００３７】
以上のように、本実施形態によれば、計測用カメラ５６によって計測された第１〜第４アライメント穴Ｈ０〜Ｈ３の位置を示すマーク位置データが、描画領域の位置、形状のずれの修正に適用できるか否かを判断し、適用できる場合にのみ描画領域を修正するため、計測誤差が大きく生じていた場合においても、正確なアライメント補正が可能になる。
【００３８】
描画領域の形状は、本実施形態に限定されず、アライメント穴の数は描画領域の形状にあわせて調整できる。例えば、描画領域が三角形、多角形であれば、各頂点に配置するように本実施形態のアライメント穴の数を増減し、これに応じて複数のマーク位置データが描画領域の修正に適用できると判断する非許容データの数の上限を増減しても良い。また、同一の基板に複数の描画領域が含まれる場合、各描画領域に対して複数のアライメント穴を設けることにより、本実施形態と同様に精度の高いアライメント補正が可能になる。
【００３９】
マーク位置データに基づく描画データ上の描画領域の修正方法についても、本実施形態に限定されず、データ処理においてではなく露光工程において修正しても良い。
【００４０】
マーク位置データの補正の必要性は、アライメント穴間の距離に限らず、アライメント穴間の位置関係に基づいて判断されても良い。例えば、あるマークの位置を示すマーク位置データについて、他の２つのマークとを結ぶ線分の成す角度に基づいて判断されても良い。また、アライメント穴間の距離に基づいて判断する場合、判断の対象となるマーク位置データが示すマークと、最も距離の短い２つのマークとの距離の合計のみに基づいて補正の必要性を判断しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】露光装置を示す斜視図である。
【図２】露光装置に設置された基板を示す斜視図である。
【図３】露光装置の概略的なブロック図である。
【図４】アライメント穴を示すマーク位置データの誤差が、許容範囲以内であるか否かを判断する方法を概略的に示す図である。
【図５】補正されたマーク位置データに基づくマークを示す図である。
【図６】マーク位置データに基づいて修正された描画領域を示す図である。
【図７】本体制御部における描画データ修正ルーチンを示すフローチャートである。
【符号の説明】
【００４２】
１０  露光装置
２０  基板（被描画体）
５０  本体制御部
５３  露光制御部
５４  データ処理部（マーク位置データ生成手段・データ補正手段）
５６  計測用カメラ（マーク位置検出手段）
５８  警告ランプ（警告手段）
５９  データ判断部（データ許容性判断手段・データ適用性判断手段）
Ｅ  露光面（表面）
Ｈ０〜Ｈ３  第１〜第４アライメント穴（マーク）
【図１】
2005300640.tif 000003
【図２】
2005300640.tif 000004
【図３】
2005300640.tif 000005
【図４】
2005300640.tif 000006
【図５】
2005300640.tif 000007
【図６】
2005300640.tif 000008
【図７】
2005300640.tif 000009