(57)【要約】【課題】連続的に露光動作とアライメント動作を平行作業させることにより、装置のスループットを上げることを目的とする。【解決手段】  本発明は、露光エリアとアライメントエリアの二つのエリアを設け、それぞれに露光ステージ部とアライメントステージ部を設け、さらにそれぞれのステージの駆動を駆動手段が分離独立したそれぞれの平面モーターで行い、互いのウエハ搭載部を交換することにより、連続的に露光動作とアライメント動作を平行作業させるようにした。【選択図】  図１
2005353969.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
原版面に描かれたパターンを投影光学系又は電子ビームを介して基板に投影し、該投影光学系に対し原版と基板の両方、もしくは基板のみをステージ装置により相対的に移動させることにより、原版のパターンを基板に繰り返し露光する露光装置において、露光エリアとアライメント計測エリアが、ステージ装置上に設けられ、それぞれのエリア内で基板を移動させる駆動手段が設けられ、それぞれの駆動手段間で基板あるいは基板を保持した部位あるいは基板を含む可動部を交換可能に支持し、露光エリアとアライメント計測エリア間の交換位置に、それぞれのエリア内の可動部駆動手段の駆動範囲と一部重複する駆動範囲を持つ交換駆動手段を設けたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
基板あるいは基板を保持した部位あるいは基板を含む可動部を交換する際に、露光エリアとアライメント計測エリア内の複数の可動部駆動手段と複数箇所で重複する駆動範囲を持つ複数の交換駆動手段を、露光エリアとアライメント計測エリア間の交換位置に設けたことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
基板あるいは基板を保持した部位あるいは基板を含む可動部を交換する際に、露光エリアとアライメント計測エリア間の交換位置にて、それぞれのエリア内の可動部駆動制御手段と交換位置に設けた交換駆動制御手段を切り換えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項４】
原版面に描かれたパターンを投影光学系又は電子ビームを介して基板に投影し、該投影光学系に対し原版と基板の両方、もしくは基板のみをステージ装置により相対的に移動させることにより、原版のパターンを基板に繰り返し露光する露光装置において、露光エリアとアライメント計測エリアが、ステージ装置上に設けられ、それぞれのエリア内で基板を移動させる駆動手段が設けられ、それぞれの駆動手段間で基板あるいは基板を保持した部位あるいは基板を含む可動部を交換可能に支持され、該ステージ可動部に可動部位置計測用干渉計を搭載したことを特徴とする露光装置。
【請求項５】
ステージ可動部の各移動軸に対して複数の位置計測用干渉計を搭載したことを特徴とする請求項４に記載の露光装置。
【請求項６】
複数ステージのそれぞれの干渉計固定部ミラーは、少なくとも一軸方向で共通の反射面を持つ一体構造であることことを特徴とする請求項４または５に記載の露光装置。
【請求項７】
露光エリアとアライメント計測エリア間で、基板あるいは基板を保持する部位あるいは基板を含む可動部を交換する際に、可動部に搭載した複数の干渉計を切り換えることにより、連続的に基板の位置計測を行うようにしたことを特徴とする請求項５）に記載の露光装置。
【請求項８】
露光エリアとアライメント計測エリアのそれぞれのエリア内で基板を移動させる駆動手段、及びそれぞれの駆動手段間で基板あるいは基板を保持した部位あるいは基板を含む可動部を交換移動させる手段が、同一平面内で移動可能な平面モーターより成ることを特徴とする請求項４〜７のいずれかに記載の露光装置。
【請求項９】
露光エリアとアライメント計測エリア間で、基板あるいは基板を保持する部位あるいは基板を含む可動部を交換する際に、可動部に搭載した複数の干渉計を切り換えることにより、連続的に基板の位置計測を行うようにしたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造工程において用いられる露光装置で、特にレチクルパターンをシリコンウエハ上に投影して転写する投影露光装置に関するものであり、なかでもレチクルパターンをウエハ上に投影露光する際、レチクル及びシリコンウエハを投影露光系に対して順次移動させるレチクルステージ及びウエハステージにてレチクル及びウエハを移動させるステージ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来技術を図１８と図１９に示す。
【０００３】
照明系ユニット１０１は、露光光源からの露光光をレチクルに対して整形照射する。露光パターン原版であるレチクルを搭載したレチクルステージ１０２は、ウエハに対して所定の縮小露光倍率比で、ウエハに対してレチクルスキャン動作させる。縮小投影レンズ１０３は、原版パターンをウエハ（基板）に縮小投影する。ウエハステージ１０４は基板（ウエハ）を露光毎に順次連続移動させる。露光装置本体１０５は、前記レチクルステージ１０２及び投影レンズ１０３、ウエハステージ１０４を支持する。アライメントスコープ１０６は、ウエハ上のアライメントマーク及びステージ上のアライメント用基準マークを計測し、ウエハ内アライメント及びレチクルとウエハ間のアライメントを行う際の計測を行う。図１７で、微動ステージ１０７はウエハを縮小露光系の光軸方向及びチルト方向及び光軸中心に回転方向に微動調整する。ウエハチャック１０８はウエハを微動ステージ１０７に支持固定する。ウエハ１０９は、レチクル基板に描かれたレチクルパターンを投影転写するために、単結晶シリコン基板表面にレジストが塗られている。Ｘバーミラー１１０は、微動ステージ１０７のＸ方向の位置をレーザー干渉計により計測するターゲットである。Ｙバーミラー１１１は、同じくＹ方向の位置を計測するターゲットである。照度センサー１１２は、前記微動ステージ１０７上面に設けられ、露光光の照度を露光前にキャリブレーション計測し、露光量補正に用いる。ステージ基準マーク１１３は微動ステージ１０７上面に設けられ、ステージアライメント計測用のターゲットが設けられる。Ｘリニアモーター１１４は、前記微動ステージ１０７をＸ方向に移動駆動する。Ｘガイド１１５は、前記微動ステージ１０７のＸ軸方向の移動を案内する。Ｙガイド１１６は、前記Ｘガイド１１５及び微動ステージ１０７をＹ方向に移動案内する。ステージ定盤１１７は前記微動ステージ１０７を平面ガイドする。Ｙリニアモーター１１８、１１９は前記微動ステージ１０７をＹ方向に移動駆動する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明では、上記従来例の構成で問題になっていた以下の項目を解決する。
（１）ウエハの受け渡しとアライメント計測と露光動作を、同一ステージで行う為、それぞれの動作時間がダイレクトに加算され、最終的にウエハ１枚あたりの処理時間の増加になる欠点があった。
（２）従来装置では、スループットを上げる為には、アライメント動作、露光動作を高速化しなければならず、位置決め精度等の劣化を招く欠点があった。
（３）装置のスループットを上げる為には、ウエハの受け渡し時間を短縮する為に、ウエハ搬送系のユニットを大出力駆動手段にする必要が出てくるため、発熱量増加及び駆動源の大型化等が発生する欠点があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記課題を解決するために、本発明では露光エリアとアライメントエリアの二つのエリアを設け、それぞれに露光ステージ部とＡＡ（アライメント）ステージ部を設け、さらにそれぞれのステージの駆動を駆動手段が分離独立したそれぞれの平面モーターで行い、互いのウエハ搭載部（スライダー）を交換することにより、連続的に露光動作とアライメント動作を平行作業させるようにした。
【０００６】
また、ウエハ搭載部交換エリアに、交換用平面モーターを複数設け、この交換用平面モーターに、ステージ駆動範囲と一部重複する駆動範囲を持たせることにより、二つのステージ間でウエハ搭載部（スライダー）の交換動作を同時にかつ高速に行う。
【発明の効果】
【０００７】
本発明により、露光エリアとアライメントエリアの二つのエリアを設け、それぞれに露光ステージ部とＡＡ（アライメント）ステージ部を設け、さらにそれぞれのステージの駆動を、駆動制御手段が分離独立したそれぞれの平面モーターで行い、互いのウエハ搭載部（スライダー）を交換することにより、連続的に露光動作とアライメント動作を平行作業させることが可能になり、装置のスループットを上げる効果がある。
【０００８】
また、ウエハ搭載部交換エリアでの平面モーターの駆動手段を設けることにより、二つのスライダー及びウエハ交換部の交換動作を同時にかつ高速に行うことが可能になり、装置のスループットを上げる効果がある。
【０００９】
また、ステージ可動部上に位置計測用干渉計を同軸方向に複数搭載することにより、干渉計切り換えにより連続して交換動作と露光動作とＡＡ動作時の位置計測を可能にし、二つのスライダー及びウエハの交換動作を高速に行うことが可能になり、装置のスループットを上げる効果がある。
【００１０】
また、ステージ可動部上に位置計測用干渉計を同軸方向に複数搭載することにより、可動部の軽量化を可能にし、装置のスループットを上げる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下に本発明の実施例を説明する。
【００１２】
図１〜１０に、本実施例及び他の実施例を示す。ここで、照明系ユニット１は、露光光源と露光光をレチクルに対して、整形照射する機能をもつ。レチクルステージ２は、露光パターン原版であるレチクルを搭載し、ウエハに対して所定の縮小露光倍率比で、ウエハに対してレチクルスキャン動作させる。縮小投影レンズ３は、原版パターンをウエハ（基板）に縮小投影する。ウエハステージ４は、基板（ウエハ）を露光毎に縮小投影レンズ３からの露光位置に対して順次連続移動位置決めさせる。ウエハ４Ａは、レチクルに描かれたレチクルパターンを縮小露光系を通して投影転写するために、単結晶シリコン基板表面にレジストが塗られる。ステージ定盤４Ｂは、ウエハステージを露光エリアとアライメントエリアの両エリアで支持ガイドする。露光装置本体５は、前記レチクルステージ２及び投影レンズ３、ウエハステージ４等を支持する。アライメントスコープ６は、ウエハ上のアライメントマーク及びステージ上のアライメント用基準マークを計測し、ウエハ内アライメント及びレチクルとウエハ間のアライメント計測を行う顕微鏡である。Ｘ干渉計７は、ウエハステージ４の露光ステージ１２のＸ軸方向の位置を計測する。Ｙ干渉計８は、ウエハステージ４の露光ステージ１２のＹ軸方向の位置を計測する。Ｘ干渉計９は、ＡＡステージ（アライメントステージ）１３のＸ軸方向の位置を計測する。Ｙ干渉計１０は、ウエハステージ４のＡＡステージ１３のＹ軸方向の位置を計測する。Ｙ干渉計１１は，１１Ａ，１１Ｂにより露光ステージ１２及びＡＡステージ１３間の中間位置付近での、両ステージのＹ軸方向の位置を計測する。露光ステージ１２は、露光エリア内のウエハに対して、露光位置決めを行う。
【００１３】
図３〜５に示すように、平面モーターコイル１２Ａは、ステージ定盤４Ｂ上面の露光ステージ１２移動範囲をカバーする範囲に配置され、これに駆動電流を印加することにより、露光ステージ１２のスライダー１２Ｂ側に設けられた平面モーターマグネット１２Ｃに対して、ローレンツ力によりスライダー１２ＢをＸＹ方向に移動させる。スライダー１２Ｂの底面にはエアーベアリング（不図示）により、ステージ定盤４Ｂに対して浮上し、非接触で移動可能に支持されている。また、平面モーターコイル１２Ａは、図５に示すように、単線のコイルが折り返し平行に配置され、一組のコイルは互いに面内で直交する方向にコイルが交わるように配置された２つのコイルより成り、それぞれのコイルには、駆動電流を印加するコイル端子１２Ｄ〜１２Ｇが設けられている。平面モーターコイル１３Ａに関しても、同一構造のコイル配置をとり、独立してコイル端子が設けられている。
【００１４】
平面モーターコイル１２Ａに対して、例として駆動印加電流１２Ｈ，１２Ｉを図示矢印のように印加した場合、両コイルに発生する駆動推力の合力として−Ｘ方向にスライダー１２Ｂの駆動推力を発生する。つまり、各コイルの印加電流方向を変えることにより、ＸＹ方向の駆動を行う。
【００１５】
コイル端子１２Ｄ〜１２Ｇは、前記平面モーターコイル１２Ａの面内回転方向で直交するコイル配置を持つ２つのコイルに通電する。駆動電流１２Ｈ，１２Ｉは、前記平面モーターコイル１２Ａに対して印加し、スライダー１２Ｂの移動方向により、駆動電流の印加方向を制御する。
【００１６】
ステージ１３はＡＡステージで、前記アライメントスコープ６の計測位置に、ウエハ４Ａ及び基準マーク１４を移動位置決めする。平面モーターコイル１３Ａは、ステージ定盤４Ａ上面のＡＡステージ１３移動範囲をカバーする範囲に配置され、ＡＡステージ１３のスライダー１３Ｂ側に設けられた平面モーターマグネット１３Ｃに対して駆動電流を流し、ローレンツ力によりスライダー１３ＢをＸＹ方向に移動させる。スライダー１３Ｂの底面にはエアーベアリング（不図示）により、ステージ定盤４Ｂに対して浮上し、非接触で移動可能に支持されている。
【００１７】
図２に示すように、基準マーク１４はステージ上面に設けられ、ステージアライメント計測用のターゲットが設けられたステージ基準マークで、アライメントスコープ６により原版とウエハステージとのアライメント等が行われる。照度センサー１５は、ステージ上面に設けられ、露光光の照度を露光前にキャリブレーション計測し、露光量補正に用いる。
【００１８】
図４〜７に示すように、スワップエリア１６内には、スワップ平面モーターコイル１６Ａ及びスワップ平面モーターコイル１６Ｂが、図４に示すように分割して設けられている。スワップ平面モーターコイル１６Ａ及びスワップ平面モーターコイル１６Ｂの略半分のエリアは、それぞれ平面モーターコイル１２Ａと平面モーターコイル１３Ａの有効エリアとオーバーラップする構造で実装され、スライダー１２Ｂ及びスライダー１３Ｂがスワップエリア１６内で両方の平面モーターコイルの有効範囲内に位置できるように配置されている。
【００１９】
図６に示すように、コイル端子１６Ｃ〜１６Ｊは、スワップ平面モーターコイル１６Ａのそれぞれの端子に、駆動電流１６Ｋ及び１６Ｌを印加することにより、図示矢印方向の推力を発生し、スライダー１２Ｂ及び１３Ｂをスワップエリア１６内で矢印方向に移動させる。
【００２０】
図７に示すように、スワップエリア１６では、露光ステージ１２のスライダー１２ＢとＡＡステージ１３のスライダー１３Ｂとを交換するために、両方のスライダーを図示矢印のように一端スワップエリア内に位置させ、さらに図示矢印のようにスワップ平面モーターコイル１６Ａ、１６Ｂを駆動することにより、スライダー１２Ｂと１３Ｂの交換を行う。
【００２１】
図８に示すように、露光ステージＸＹ干渉計システム１７は、前記露光ステージ１２のＸＹ方向の位置を前記Ｘ干渉計７とＹ干渉計８により計測し、スライダー１２Ｂの位置情報をステージ系制御システム１９に伝達する。ＡＡステージＸＹ干渉計システム１８は、前記ＡＡステージ１３のＸＹ方向の位置を前記Ｘ干渉計９とＹ干渉計１０により計測し、スライダー１３Ｂの位置情報をステージ系制御システム１９に伝達する。ステージ系制御システム１９は、各干渉計の位置情報を元に、各ウエハステージ及びレチクルステージ等の位置制御及び相対位置制御を行う。
【００２２】
露光ステージドライバー２０は、前記ステージ系制御システム１９により、目標位置及び駆動印加電流を決定し、前記平面モーターコイル１２Ａに印加する。ＡＡステージドライバー２１は、前記ステージ系制御システム１９により、目標位置及び駆動印加電流を決定し、前記平面モーターコイル１３Ａに印加する。
【００２３】
以上の構成で、露光ステージ２１での露光動作が終了し、ＡＡステージ２２でのアライメント計測動作が終了し、相互のウエハ４Ａを交換する際の実際のステージスワップ動作を図９、図１０に示す。
【００２４】
露光を終了した露光ステージ１２のスライダー１２Ｂと、アライメント計測を終了したＡＡステージ１３のスライダー１３Ｂは、図１０（１）の位置から（２）図示矢印方向に移動し、一端、図１０（３）に示す位置、スワップエリア１６に位置決めされる。
【００２５】
次に、スワップエリア内１６に設けられたスワップ平面モーターコイル１６Ａとスワップ平面モーターコイル１６Ｂに、スワップ平面モーター駆動制御手段により駆動電流を印加することにより、図示矢印方向に、スライダー１２Ｂ及び１３Ｂを移動させることにより、図１０（４）に示す位置に平面モーターコイル１２Ａ、１３Ａの有効範囲に、両方のスライダーを移動位置決めさせる。
【００２６】
次に、平面モーターコイル１２Ａ、１３Ａの駆動制御手段に切り換わりスライダー１２Ｂ，１３Ｂが交換され、図１０（５）（６）に示すように、露光ステージ１２及びＡＡステージ１３のイニシャル位置に交換位置決めされ、それぞれがＡＡステージ１３でのウエハ受け渡し及びアライメント動作及び露光ステージ１２での露光動作を開始する。
【００２７】
以上の一連の動作で、ＸＹ位置計測干渉計の切り換えは、次のように行われる。
【００２８】
図１０（１）位置では、スライダー１２Ｂは、Ｘ軸をＸ干渉計７Ｂ、Ｙ軸及び回転方向をＹ干渉計８Ａ、８Ｂにより位置計測される。スライダー１３Ｂは、Ｘ軸をＸ干渉計９Ｂ、Ｙ軸及びＺ軸回りの回転方向をＹ干渉計１０Ｃ，１０Ｄにより位置計測される。
【００２９】
図１０（２）位置では、スライダー１２Ｂは、Ｘ軸をＸ干渉計７Ｂ、７Ａ、Ｙ軸及びＺ軸回りの回転方向をＹ干渉計８Ａ，８Ｂにより位置計測される。スライダー１３Ｂは、Ｘ軸をＸ干渉計９Ｂ，９Ｃ、Ｙ軸及びＺ軸回りの回転方向をＹ干渉計１０Ｃ，１０Ｄにより位置計測される。
【００３０】
図１０（３）位置では、スライダー１２Ｂは、Ｘ干渉計７Ａ、Ｙ軸及びＺ軸回りの回転方向をＹ干渉計８Ｂ，１１Ａにより位置計測される。スライダー１３Ｂは、Ｘ軸をＸ干渉計９Ｃ、Ｙ軸及びＺ軸回りの回転方向をＹ干渉計１０Ｃ，１１Ｂにより位置計測される。
【００３１】
図１０（４）位置では、スライダー１２Ｂは、Ｘ干渉計７Ａ、Ｙ軸及びＺ軸回りの回転方向をＹ干渉計１０Ａ、１０Ｂ及び１１Ａにより位置計測される。スライダー１３Ｂは、Ｘ軸をＸ干渉計９Ｃ、Ｙ軸及びＺ軸回りの回転方向をＹ干渉計８Ｄ，１１Ｂにより位置計測される。
【００３２】
図１０（５）位置では、スライダー１２Ｂは、Ｘ干渉計９Ａ，９Ｂ、Ｙ軸及びＺ軸回りの回転方向をＹ干渉計１０Ａ，１０Ｂにより位置計測される。スライダー１３Ｂは、Ｘ軸をＸ干渉計７Ｂ，７Ｃ、Ｙ軸及びＺ軸回りの回転方向をＹ干渉計８Ｃ，８Ｄにより位置計測される。
【００３３】
図１０（６）位置では、スライダー１２Ｂは、Ｘ干渉計９Ｂ、Ｙ軸及びＺ軸回り回転方向をＹ干渉計１０Ａ，１０Ｂにより位置計測される。スライダー１３Ｂは、Ｘ軸をＸ干渉計７Ｂ、Ｙ軸及び回転方向をＹ干渉計８Ｃ，８Ｄにより位置計測される。
【００３４】
以上のように、各軸の干渉計を、同一軸で切り換えて、スライダー位置計測を連続的に行うことにより、同一面上で回転移動による１２、露光ステージと１３、ＡＡステージ間でのスライダーの交換を可能にする。
【００３５】
他の実施例１を、図１１〜１５に示す。
【００３６】
ここで、照明系ユニット１は、露光光源と露光光をレチクルに対して、整形照射する機能をもつ。露光パターン原版であるレチクルを搭載したレチクルステージ２は、ウエハに対して所定の縮小露光倍率比で、ウエハに対してレチクルスキャン動作させる。縮小投影レンズ３は、原版パターンをウエハ（基板）に縮小投影する。ウエハステージ４は、基板（ウエハ）を露光毎に縮小投影レンズ３からの露光位置に対して順次連続移動位置決めさせる。ウエハ４Ａは、レチクル基板に描かれたレチクルパターンを縮小露光系を通して投影転写するために、単結晶シリコン基板表面にレジストが塗られる。ステージ定盤４Ｂは、ウエハステージを支持ガイドする。露光装置本体５は、前記レチクルステージ２及び投影レンズ３、ウエハステージ４等を支持する。アライメントスコープ６は、ウエハ上のアライメントマーク及びステージ上のアライメント用基準マークを計測し、ウエハ内アライメント及びレチクルとウエハ間のアライメント計測を行う顕微鏡である。Ｘ干渉計２２，２３は、露光ステージ３８に搭載され、Ｘ軸方向の位置を計測する。Ｘ干渉計ミラー２４は、露光ステージ３８に搭載されたＸ干渉計２３のターゲットとなる。Ｙ干渉計２５，２６，２７，２８は、露光ステージ３８のＹ軸方向の位置及びＺ軸回りの回転方向位置を計測する。Ｙ干渉計ミラー２９は、露光ステージ３８に搭載されたＹ干渉計２５，２６のターゲットとなる。Ｘ干渉計で３０，３１は、ＡＡステージ３９に搭載され、Ｘ軸方向の位置を計測する。Ｘ干渉計ミラー３２は、ＡＡステージ３９に搭載されたＸ干渉計３０のターゲットとなる。Ｙ干渉計３３，３４，３５，３６は、ＡＡステージ３９のＹ軸方向の位置及びＺ軸回りの回転方向位置を計測する。Ｙ干渉計ミラー３７は、ＡＡステージ３９に搭載されたＹ干渉計３５，３６のターゲットとなる。露光ステージ３８は、スライダー２２Ｂに搭載されたウエハ４Ａを露光エリアに移動位置決めする。ＡＡステージ３９は、スライダー２３Ｂに搭載されたウエハ４Ａをアライメント計測エリア内で移動位置決めする。基準マーク４０は、ステージ上面に設けられ、ステージアライメント計測用のターゲットが設けられたステージ基準マークで、アライメントスコープ６により原版とウエハステージとのアライメント等が行われる。照度センサー４１は、ステージ上面に設けられ、露光光の照度を露光前にキャリブレーション計測し、露光量補正に用いる。
【００３７】
また、ステージの駆動手段は、実施例と同じく平面モーターにより、図１３、図１４に示す。
【００３８】
平面モーターコイル１２Ａは、ステージ定盤４Ｂ上面の露光ステージ３８移動範囲をカバーする範囲に配置され、これに駆動電流を印加することにより、露光ステージ３８のスライダー２２Ｂ側に設けられた平面モーターマグネット（実施例に示した）に対して、ローレンツ力によりスライダー２２ＢをＸＹ方向に移動させる。平面モーターコイル１３Ａは、ステージ定盤４Ａ上面のＡＡステージ３９移動範囲をカバーする範囲に配置され、ＡＡステージ３９のスライダー２３Ｂ側に設けられた平面モーターマグネットに対して駆動電流を流し、ローレンツ力によりスライダー１３ＢをＸＹ方向に移動させる。スワップエリア１６内には、スワップ平面モーターコイル１６Ａ及び１６Ｂが、図１３に示すように分割して設けられている。スワップ平面モーターコイル１６Ａ及び１６Ｂの略半分のエリアは、それぞれ平面モーターコイル１２Ａと１３Ａの有効エリアとオーバーラップする構造で実装され、スライダー２２Ｂ及び２３Ｂがスワップエリア１６内で両方の平面モーターコイルの有効範囲内に位置できるように配置されている。
【００３９】
図１４に示すように、スワップエリア１６では、露光ステージ３８のスライダー２２ＢとＡＡステージ３８のスライダー２３Ｂとを交換するために、両方のスライダーを図示矢印のように一端スワップエリア内に位置させ、さらに図示矢印のようにスワップ平面モーターコイル１６Ａ，１６Ｂを駆動することにより、スライダー２２Ｂとスライダー２３Ｂの交換を行う。
【００４０】
以上の構成で、露光ステージ３８での露光動作が終了し、ＡＡステージ３９でのアライメント計測動作が終了し、相互のウエハ４Ａを交換する際の実際のステージスワップ動作を図１５に示す。
【００４１】
露光を終了した露光ステージ３８のスライダー２２Ｂと、アライメント計測を終了したＡＡステージ２３は、図１５（１）の位置から（２）図示矢印方向に移動し、一端、スワップエリアに位置決めされる。
【００４２】
次に、スワップエリア１６内に設けられたスワップ平面モーターコイル１６Ａと１６Ｂに、スワップ平面モーター駆動制御手段により駆動電流を印加することにより、図示矢印方向に、スライダー２２Ｂ及び２３Ｂを移動させることにより、図１５（３）に示す位置に平面モーターコイル１２Ａと１３Ａの有効範囲に、両方のスライダーを移動位置決めさせる。
【００４３】
次に、平面モーターコイル１２Ａ及び１３Ａの駆動制御手段に切り換わりスライダー２２Ｂ及び２３Ｂが交換され、図１０（４）（５）に示すように、露光ステージ３８及びＡＡステージ３９のイニシャル位置に交換位置決めされ、それぞれがＡＡステージ３９でのウエハ受け渡し及びアライメント動作及び露光ステージ３８での露光動作を開始する。
【００４４】
以上の一連の動作で、ＸＹ位置計測干渉計の切り換えは、次のように行われる。
【００４５】
図１５（１）（２）（３）位置では、スライダー２２Ｂは、Ｘ軸をＸ干渉計２２、Ｙ軸及び回転方向をＹ干渉計２５，２６により位置計測する。スライダー２３Ｂは、Ｘ軸をＸ干渉計３０、Ｙ軸及び回転方向をＹ干渉計３５，３６により位置計測する。
【００４６】
図１５（４）位置では、スライダー２２Ｂは、Ｘ軸をＸ干渉計３０Ｂに切り換え、Ｙ軸及び回転方向をＹ干渉計２５、２６により位置計測する。スライダー２３Ｂは、Ｘ軸をＸ干渉計３１に切り換え、Ｙ軸及び回転方向をＹ干渉計３５，３６により位置計測する。
【００４７】
図１５（５）位置では、スライダー２２Ｂは、Ｘ軸をＸ干渉計３０Ｂ、Ｙ軸及び回転方向をＹ干渉計２５，２６により位置計測する。スライダー２３Ｂは、Ｘ軸をＸ干渉計３１、Ｙ軸及び回転方向をＹ干渉計３５，３６により位置計測する。図１５（５）から（１）へ干渉計を最終的に切り換えて、それぞれの露光動作及びアライメント動作に移行する。
【００４８】
以上のように、各軸の複数の干渉計を同一軸で切り換えて、スライダー位置計測を連続的に行うことにより、同一面上で回転移動による露光ステージ３８とＡＡステージ３９間でのスライダーの交換を可能にする。
【００４９】
他の実施例２を、図１６に示す。
【００５０】
ここで、レーザーヘッド４２は干渉計の光源である。光ファイバー４３は、レーザーヘッド４２からのレーザー光を露光ステージに導く。同じく、レーザーヘッド４４は干渉計の光源である。光ファイバー４５は、レーザーヘッド４２からのレーザー光を露光ステージに導く。以上のように、レーザーヘッドをステージ固定部に置くことにより、ステージ可動部の軽量化を計ることができる。
【００５１】
他の実施例３を図１７に示す。
【００５２】
実施例では、平面モーターコイルを、単層で構成したが、積層方向にコイルを重ねた平面モーター積層コイル１２Ｊを設けることにより、より発生推力の大きい平面モーターを可能にする。
【図面の簡単な説明】
【００５３】
【図１】本実施例に示す露光装置全体図。
【図２】本実施例に示すステージ装置の斜視図。
【図３】本実施例に示す平面モーター断面図。
【図４】本実施例に示す平面モーター構成図。
【図５】本実施例に示す平面モーターコイル構成図。
【図６】本実施例に示すスライダー交換部平面モーター構成図。
【図７】本実施例に示すスライダー交換方法説明図。
【図８】本実施例に示すステージ制御手段説明図。
【図９】本実施例に示すスライダー交換動作説明図。
【図１０】本実施例に示すスライダー交換動作説明図。
【図１１】他の実施例に示す露光装置全体図。
【図１２】他の実施例に示すステージ装置の斜視図。
【図１３】他の実施例に示す平面モーター断面図。
【図１４】他の実施例に示す平面モーター構成図。
【図１５】他の実施例に示すスライダー交換動作説明図。
【図１６】他の実施例に示すステージ装置の斜視図。
【図１７】他の実施例に示す平面モーター断面図。
【図１８】従来例に示す露光装置全体図。
【図１９】従来例に示すステージ装置の斜視図。
【符号の説明】
【００５４】
１  照明系ユニット
２  レチクルステージ
３  縮小投影レンズ
４  ウエハステージ
５  露光装置本体
６  アライメントスコープ
７  Ｘ干渉計
８  Ｙ干渉計
９  Ｘ干渉計
１０  Ｙ干渉計
１１  Ｙ干渉計
１２  露光ステージ
１２Ａ  平面モーターコイル
１２Ｂ  スライダー
１２Ｃ  平面モーターマグネット
１２Ｄ  コイル端子Ａ
１２Ｅ  コイル端子Ｂ
１２Ｆ  コイル端子Ｃ
１２Ｇ  コイル端子Ｄ
１２Ｈ  駆動電流
１２Ｉ  駆動電流
１２Ｊ  平面モーター積層コイル
１３  ＡＡステージ
１３Ａ  平面モーターコイル
１３Ｂ  スライダー
１４  基準マーク
１５  照度センサー
１６  スワップエリア
１６Ａ  スワップ平面モーターコイル
１６Ｂ  スワップ平面モーターコイル
１６Ｃ  コイル端子Ａ
１６Ｄ  コイル端子Ｂ
１６Ｅ  コイル端子Ｃ
１６Ｆ  コイル端子Ｄ
１６Ｇ  コイル端子Ｅ
１６Ｈ  コイル端子Ｆ
１６Ｉ  コイル端子Ｇ
１６Ｊ  コイル端子Ｈ
１６Ｋ  駆動電流
１６Ｌ  駆動電流
１７  露光ステージＸＹ干渉計システム
１８  ＡＡステージＸＹ干渉計システム
１９  ステージ系制御システム
２０  露光ステージドライバー
２１  ＡＡステージドライバー
２２  Ｘ干渉計
２３  Ｘ干渉計
２４  Ｘ干渉計ミラー
２５  Ｙ干渉計
２６  Ｙ干渉計
２７  Ｙ干渉計
２８  Ｙ干渉計
２９  Ｙ干渉計ミラー
３０  Ｘ干渉計
３１  Ｘ干渉計
３２  Ｘ干渉計ミラー
３３  Ｙ干渉計
３４  Ｙ干渉計
３５  Ｙ干渉計
３６  Ｙ干渉計
３７  Ｙ干渉計ミラー
３８  露光ステージ
３９  ＡＡステージ
４０  基準マーク
４１  照度センサー
４２  レーザーヘッド
４３  光ファイバー
４４  レーザーヘッド
４５  光ファイバー
１０１  照明系ユニット
１０２  レチクルステージ
１０３  縮小投影レンズ
１０４  ウエハステージ
１０５  露光装置本体
１０６  アライメントスコープ
１０７  微動ステージ
１０８  ウエハチャック
１０９  ウエハ
１１０  Ｘバーミラー
１１１  Ｙバーミラー
１１２  照度センサー
１１３  ステージ基準マーク
１１４  Ｘリニアモーター
１１５  Ｘガイド
１１６  Ｙガイド
１１７  ステージ定盤
１１８  Ｙリニアモーター
１１９  Ｙリニアモーター
【図１】
2005353969.tif 000003
【図２】
2005353969.tif 000004
【図３】
2005353969.tif 000005
【図４】
2005353969.tif 000006
【図５】
2005353969.tif 000007
【図６】
2005353969.tif 000008
【図７】
2005353969.tif 000009
【図８】
2005353969.tif 000010
【図９】
2005353969.tif 000011
【図１０】
2005353969.tif 000012
【図１１】
2005353969.tif 000013
【図１２】
2005353969.tif 000014
【図１３】
2005353969.tif 000015
【図１４】
2005353969.tif 000016
【図１５】
2005353969.tif 000017
【図１６】
2005353969.tif 000018
【図１７】
2005353969.tif 000019
【図１８】
2005353969.tif 000020
【図１９】
2005353969.tif 000021