(57)【要約】【課題】真空処理装置のための駆動機構であって、定位置の支持柱１、支持柱に配置されたモータ４、軸線Ａ−Ａを中心として回転可能な伝動装置室６、伝動装置室の壁を貫通していて所属のサブストレートホルダーに作用結合している制御ロッド９を備えている形式のものにおいて、面積の大きなサブストレートもサブストレートホルダーに固定しない状態でかつ衝撃を受けることなく真空処理装置を通して案内されるようにする。【解決手段】モータが定位置の支承ケーシング５に結合されており、支承ケーシング内に支持柱に対して同心的に、放射状に配置された複数のアーム１４から成る回転可能な装置を支承してあり、アームが二腕の各アングルレバー１６の１つの端部にヒンジ的に結合され、各アングルレバーが枢着ピン１７を有し、アングルレバーの別の端部が制御ロッド９にヒンジ的に結合されており、枢着ピンが定位置の制御カム１１内に案内されており、制御カムのカム軌道経路が制御ロッドの半径方向運動を規定している。【選択図】図１
2005336596.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空処理装置のための駆動機構であって、真空処理装置内を複数のサブストレートホルダー（５２）が、軸線（Ａ−Ａ）を中心とした循環軌道に沿って入口ロックゲート（３２）から少なくとも１つの処理室（３７，４０，４１）を経て出口ロックゲート（３４）へ搬送可能であり、循環軌道の中心部に定位置の支持柱（１）が配置されており、支持柱に伝動装置室（６）が回転可能に支承してあり、伝動装置室（６）の外側にサブストレートホルダー（５２）の回転運動及び半径方向移動のための制御ロッド（９）が配置されており、回転可能な伝動装置室（６）内で支持柱（１）にモータ（４）を位置不動に取り付け、かつ制御ロッド（９）のための回転可能な移動駆動部を配置してあり、制御ロッドが伝動装置室（６）の壁を貫通していて、所属のサブストレートホルダー（５２）に作用結合している形式のものにおいて、
モータ（４）が定位置の支承ケーシング（５）に結合されており、支承ケーシング内に支持柱（１）に対して同心的に、放射状に配置された複数のアーム（１４）から成る回転可能な装置が支承されており、
回転可能な装置のアーム（１４）が二腕の各アングルレバー（１６）の１つの端部にヒンジ的に結合されており、各アングルレバーがそれぞれ少なくとも１つの枢着ピン（１７）を有しており、
アングルレバー（１６）の別の端部がそれぞれ制御ロッド（９）にヒンジ的に結合されており、
アングルレバー（１６）の枢着ピン（１７）が定位置の１つの制御カム（１１）内に案内されており、制御カム（１１）のカム軌道経路が制御ロッド（９）の半径方向運動を規定していることを特徴とする、真空処理装置のための駆動機構。
【請求項２】
制御ロッド（９）が半径方向案内（８）内に支承されており、半径方向案内が回転可能な伝動装置室（６）に固定されている請求項１記載の駆動機構。
【請求項３】
制御カム（１１）がアングルレバー（１６）の下側で定位置の制御プレート（２）内に配置されている請求項１記載の駆動機構。
【請求項４】
アングルレバー（１６）が半径方向外側に向かって凸状に湾曲した鎌形に形成されており、アングルレバー（１６）の、制御カム（１１）内に案内された枢着ピン（１７）がアングルレバー（１６）の中央区分に配置されている請求項１記載の駆動機構。
【請求項５】
アングルレバー（１６）の、アーム（１４）と逆の側の端部が連接棒（１８）を介して制御ロッド（９）に結合されている請求項１記載の駆動機構。
【請求項６】
制御カム（１１）が周方向に延びる周期的な波形の閉じた１つのカム軌道経路を有しており、周期的な波形のカム軌道経路の、軸線（Ａ−Ａ）からの半径方向の最大の距離が、各処理室（３７，４０，４１）内でのサブストレートホルダー（５２）の終端位置を規定している請求項１記載の駆動機構。
【請求項７】
定位置の制御カム（１１）の内側に定位置の別の制御カム（１２）を配置してあり、放射状に配置された複数のアーム（１４）から成る回転可能な装置に、少なくとも１つの旋回枢着部（２０）を配置してあり、旋回枢着部に別のアングルレバー（２１）を配置してあり、アングルレバー（２１）の１つの端部が別の制御カム（１２）によって案内されるようになっており、かつアングルレバー（２１）の別の端部が枢着連結片（２４）を介して伝動装置室（６）に結合されており、これによって伝動装置室の周速度が周期的に変化させられるようになっている請求項１記載の駆動機構。
【請求項８】
アーム（１４）から成る回転可能な装置の直径方向に相対する箇所にそれぞれ１つの旋回枢着部（２０）を配置してあり、各旋回枢着部のアングルレバー（２１）がそれぞれ枢着連結片（２４）を介して伝動装置室（６）に結合されている請求項７記載の駆動機構。
【請求項９】
各枢着連結片（２４）の、アングルレバー（２１）と逆の側の端部が枢着ピン（２５）を介して伝動装置室（６）に結合されている請求項７記載の駆動機構。
【請求項１０】
各枢着ピン（２５）がそれぞれアングル片（２６）及び対向片（２７）を介して伝動装置室（６）の隣接の角隅に結合されている請求項９記載の駆動機構。
【請求項１１】
回転可能な各アーム（１４）にそれぞれ少なくとも１つの位置発信器（２８）を配置してあり、位置発信器が、対応する定位置の位置受信器（３０）と作用接続するようになっている請求項１記載の駆動機構。
【請求項１２】
位置発信器（２８）及び位置受信器（３０）の信号によって、アーム（１４）の回転角度位置並びに、各処理室（３７，４０，４１）若しくは引渡し室（３３）との対向位置が規定されるようになっている請求項１１記載の駆動機構。
【請求項１３】
軸線（Ａ−Ａ）の周囲に等角度間隔で１つの引渡し室（３３）と３つの処理室（３７，４０，４１）とが分配配置され、かつ４つのアーム（１４）が分配配置されている請求項１記載の駆動機構。
【請求項１４】
駆動機構（４４）の伝動装置室（６）が内側の室部分（５４）の底部（５５）と外側の室部分（６４）の底部（４６）との間に配置されている請求項１記載の駆動機構。
【請求項１５】
伝動装置室（６）に、４対の水平なブラケット（４７）が互いに交差するように配置して固定されており、ブラケットに平行四辺形リンク装置（４９）が取り付けられており、平行四辺形リンク装置の下側の端部が別の水平なブラケット（５０）を介してサブストレートホルダー（５２）に結合されている請求項１４記載の駆動機構。
【請求項１６】
サブストレートホルダー（５２）が上側を軸線（Ａ−Ａ）に向けて３乃至５度傾けて配置されている請求項１記載の駆動機構。
【請求項１７】
軸線（Ａ−Ａ）に対して接線方向で室部分（６４）に、水平なロックゲート列（３１）を接続してあり、ロックゲート列が互いに直線的に並べられた入口ロックゲート室（３２）、引渡し室（３３）及び出口ロックゲート室（３４）から成っており、ロックゲート列をサブストレートが３乃至１５度の角度を成して通過案内されるようになっている請求項１４及び１６記載の駆動機構。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空処理装置のための駆動機構であって、真空処理装置内を複数のサブストレートホルダーが、真空処理装置の軸線を中心とした循環軌道に沿って入口ロックゲートから少なくとも１つの処理室を経て出口ロックゲートへ搬送可能であり、循環軌道の中心部に定位置の支持柱が配置されており、支持柱に伝動装置室が回転可能に支承してあり、制御装置室の外側にサブストレートホルダーの回転運動及び半径方向移動のための制御ロッドが配置されており、回転可能な伝動装置室内で支持柱にモータを位置不動に取り付け、かつ制御ロッドのための回転可能な移動駆動部を配置してあり、制御ロッドが伝動装置室の壁を貫通していて、所属のサブストレートホルダーに作用結合している形式のものに関する。
【背景技術】
【０００２】
前記形式の装置は、ほぼ鉛直な状態で長方形若しくは正方形の平らなサブストレート若しくは基板を処理するために有利に用いられ、真空室、１つの導入ロックゲート、１つの出口ロックゲート、真空室内に配置された複数のサブストレートホルダーから成る回転可能な装置、及び駆動機構を有しており、真空室は周囲に分配されて真空室側で開いた少なくとも２つの処理室から成っており、駆動機構はサブストレートホルダーを連続的に回転させかつ処理室に対して送り次いで戻すようになっている。
【０００３】
真空下で連続的に稼動する処理装置若しくは被覆装置は、サブストレートの種々の処置のために個別の処理ステーションを通してサブストレートを案内するようになっていて、次のような構成ユニットを備えており：
ａ）少なくとも１つの真空室、
ｂ）少なくとも１つの排気機構若しくはポンプ機構、
ｃ）処理源を備えたアクセス可能な処理ステーション、
ｄ）必要に応じて処理ステーションの入り口における内側のロックゲート弁、
ｅ）処理源（電流源及び／又はガス源）のための供給装置、
ｆ）真空室に対するサブストレートの出し入れのためのロックゲート弁を有する少なくとも１つのロックゲート機構、
ｇ）サブストレートの二次元若しくは三次元の搬送のための搬送機構、
ｈ）搬送機構と協働するサブストレートホルダー若しくはサブストレート支持体、及び
ｉ）サブストレートをロックゲート機構へ供給しかつ又はロックゲート機構から搬出するために必要に応じて設けられる装置。
【０００４】
循環形及び必要に応じて半径方向の搬送路を有しかつ、ほぼ回転対称的な主真空室に接続された複数の処理ステーション若しくは処理室を備えた装置は、クラスター型装置(Cluster-Anlage)とも呼ばれる。
【０００５】
処理過程において、サブストレートの予熱（ガス抜き）及び冷却、真空蒸着、陰極スパッタリング、プラズマ処理（例えば洗浄のための加熱及び付着接続）、PVD法、CVD法、PVCD法等が使用され、多数の方法パラメータ及び装置構成要素が公知である。ここで、Ｐは「physical」を表し、Ｃは「chemical」を、Ｖは「vacuum」を、かつＤは「deposition」を表している。前記幾つかの方法は反応式に、例えば反応ガス若しくは混合気の供給の下に行われ、若しくは非反応式に、例えば不活性ガス内で行われる。さらに、表面処理のためのエッチング法若しくはサブストレート上への所定の表面パターン及び接触線の形成も行われる。本発明は、基板若しくはサブストレートにおけるあらゆる処理方法及び装置構成要素を対象としている。
【０００６】
連続式のクラスター型装置は技術的開発段階でまず、ディスク、チップ、メモリー及びウエハなどの比較的小さいサブストレートのために使用されている。窓ガラスやディスプレーのような大きなサブストレートへの応用に際しては問題があり、装置の構成寸法、及びサブストレート若しくはサブストレートホルダーを操作するため、例えば水平状態で供給されたサブストレートをほぼ鉛直な位置へ起こすための所要スペースの問題、サブストレートの弾性的な変形、破損若しくは被覆の機械的な損傷のおそれ、継続的に若しくは一時的に装置内に存在する構成要素への被覆部材の堆積による汚れや、プロセスパラメータの変化、特に温度変化による若しくは機械的な作用による汚れの脱落が問題である。
【０００７】
例えばヨーロッパ特許第０１３６５６２Ｂ１号明細書に記載の手段では、各サブストレートは水平にされた状態で１つのロックゲート機構内へ供給されて、そこでまず昇降装置を用いて上方へ持ち上げられ、次いで旋回装置を用いて垂直な位置へ旋回させられ、垂直な位置でサブストレートホルダーに固定される。第２のロックゲート機構内での取り出しに際しては、前述の過程を逆に行うようになっている。該手段は、面積の大きな方形のサブストレートの処理のためには大きな所要スペース、大きなロックゲート容積及び処理室容積、並びに長い排気時間若しくは真空ポンプの大きな吸引能力を必要とする。
【０００８】
ヨーロッパ特許第０１３６５６２Ｂ１号明細書には、円形ディスク状の小さなサブストレート、例えばディスク、半導体及びウエハのための連続式の陰極スパッタリング装置を記載してある。外側室は周囲に１つのロックゲート機構と室形、即ちチャンバー状の４つの処理ステーションを等間隔で備えている。このような装置もクラスター型装置に属するものである。
【０００９】
外側室と内側室との間に多角形の回転可能なドラムを配置してあり、ドラムの胴体、即ち周壁に板ばねを介して５つのサブストレートホルダーを取り付けてあり、サブストレートホルダーは運転状態ではシール及び弁手段を介してロックゲート機構若しくは処理室を密閉するようになっている。真空室内に常に存在しているサブストレートホルダーの半径方向運動は、もっぱら停止位置で中央の１つの円錐体及び５つのプッシュロッドによって同期的に生ぜしめられるようになっており、プッシュロッドはほぼ半分の高さ位置で内側室の側壁を通して案内されていて、従ってドラムと一緒に回転させられない。円錐体から成る駆動部も定位置に、即ち位置不動に設けられている。
【００１０】
サブストレートホルダー用のドラムは別の駆動部によって断続的に、即ちステップ・バイ・ステップ式に回転させられる。真空室内でサブストレートホルダー用ドラムを１つのステーションから次のステーションへ回転させるために、プッシュロッドはサブストレートホルダー用ドラムの円形の運動軌道から引き戻され、次いで再び送り出されねばならない。駆動機構による接線方向の速度経過と半径方向の速度経過とをどのように調整して適合させるかについては開示も示唆もされていない。
【００１１】
サブストレートの寸法の増大並びに、サブストレート厚さの減少に基づく形状剛性及び強度の減少によって、新たな問題が生じ、即ち装置の構成が極めて煩雑で高価になり、かつ運転経過が複雑になっている。
【特許文献１】ヨーロッパ特許第０１３６５６２Ｂ１号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
従って本発明の課題は、冒頭に述べた形式の駆動機構を改善して、垂直線、即ち鉛直線に対して軽く傾けて立てられていてかつサブストレートホルダーに固定されることのない面積の大きなサブストレートも確実にかつ衝撃なく真空処理装置内を通して案内されて処理できるようにすることである。
【００１３】
さらに本発明では、設置面積、室容積及び排気時間を減少させ、かつ真空室の外側及び内側でのサブストレートの操作を簡単にすると共に、剥離した層の粒子によるサブストレートの汚れのおそれを著しく減少させるようにしたい。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
前述の課題を解決するために本発明では、冒頭に述べた形式の駆動機構において、次の手段が講じられており、即ち：
ａ）モータが定位置、即ち位置不動の支承ケーシングに結合されており、支承ケーシング内に支持柱に対して同心的に、放射状に配置された複数のアーム若しくはブラケットから成る装置が回転可能に支承されており、
ｂ）該回転可能な装置（星形構造体）のアーム若しくはブラケットが二腕の各アングルレバーの１つの端部にヒンジ的に結合、即ち枢着結合されており、各アングルレバーがそれぞれ少なくとも１つの枢着ピンを有しており、
ｃ）アングルレバーの別の端部がそれぞれ制御ロッドにヒンジ的に結合されており、
ｄ）アングルレバーの枢着ピンが定位置の１つの制御カム内に案内されており、制御カムのカム軌道経路が制御ロッドの半径方向運動を規定している。
【発明の効果】
【００１５】
本発明に基づく前記手段によって、前述の課題を十分に解決することができ、特に周方向で閉じられた、即ち環状の運動軌道に沿って調整された衝撃のない運動を生ぜしめる構成を得ることができる。
【００１６】
従属請求項に記載してある実施態様（構成若しくは手段）を個別に若しくは種々に組み合わせて用いることによって、本発明を有利に改善することができる：
制御ロッドを半径方向案内内に支承してあり、半径方向案内が回転可能な伝動装置室に固定されており、
１つの制御カムをアングルレバーの下側で定位置の制御プレート内に配置してあり、
アングルレバーを、半径方向外側に向かって凸状に湾曲した、即ち外側へ突出するように湾曲された鎌形（三日月形）に形成してあり、アングルレバーの、制御カム内に案内された枢着ピンはアングルレバーの中央区分に配置されており、
アングルレバーの、アームと逆の側の端部、即ち他方の端部は連接棒を介して制御ロッドに結合されており、
制御カムは周方向に延びる周期的な波形の閉じた１つのカム軌道経路を有しており、周期的な波形のカム軌道経路の、軸線からの半径方向の最大の距離によって、各処理室内でのサブストレートホルダーの終端位置を規定してあり、
定位置の１つの、即ち第１の制御カムの内側に、定位置の別の、即ち第２の制御カムを配置してあり、かつ放射状に配置された複数のアームから成る回転可能な装置に、少なくとも１つの旋回枢着部を配置してあり、旋回枢着部に別のアングルレバーを配置してあり、該別のアングルレバーの１つの端部、即ち一方の端部は第２の制御カムによって案内されるようになっており、かつ前記別のアングルレバーの別の端部、即ち他方の端部は枢着連結片を介して伝動装置室に結合されており、これによって伝動装置室の周速度を周期的にサブストレートホルダーの半径方向移動運動に重畳して変化させるようになっており、
アームから成る回転可能な装置の直径方向に相対する箇所に、例えば仮想の１つの直径線上の相対する２つの箇所にそれぞれ１つの旋回枢着部を配置してあり、各旋回枢着部に枢着されたアングルレバーはそれぞれ枢着連結片を介して伝動装置室に結合されており、
各枢着連結片の、所属のアングルレバーと逆の側の端部は枢着ピンを介して伝動装置室に結合されており、
各枢着ピンはそれぞれアングル片及び対向片を介して伝動装置室の隣接の角隅に結合されており、
回転可能な各アームにそれぞれ少なくとも１つの位置発信器を配置してあり、位置発信器は、対応する定位置の位置受信器と作用接続するようになっており、
位置発信器及び位置受信器の信号によって、アームの回転角度位置並びに、各処理室若しくは引渡し室との対向位置を規定するようになっており、
駆動機構の軸線、即ち回転軸線若しくは中心軸線の周囲に１つの引渡し室と３つの処理室、並びに４つのアームを等角度間隔で分配して設けてあり、
駆動機構の伝動装置室は、内側の室部分の底部と外側の室部分の底部との間に配置されており、
伝動装置室に、４対の水平なブラケットを互いに交差するように配置して固定してあり、各ブラケットに平行四辺形リンク装置を取り付けてあり、平行四辺形リンク装置の下側の端部は別の水平なブラケットを介してサブストレートホルダーに結合されており、
サブストレートホルダーは上側を軸線に向けて、即ち駆動装置の内側に向けて３乃至５度傾けて配置されており、
外側の室部分に、水平なロックゲート列を軸線に対して接線方向で接続してあり、ロックゲート列は互いに直線的に並べられた入口ロックゲート室、引渡し室及び出口ロックゲート室から成っており、ロックゲート列をサブストレートは鉛直線に対して３乃至１５度の角度で傾いて通過案内されるようになっている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
本発明の実施例を図１乃至図７に基づき詳細に説明する。本発明は、１つの引渡し室及び３つの処理室から成る四室型・真空処理装置に限定されるものではなく、ロックゲート室を含めて室の数及び駆動機構の作用箇所の数は、製品特性に応じて増減され得るものである。
【００１８】
図面において、図１は内部の駆動機構を、伝動装置室用ケーシング及びサブストレートホルダーの除かれた状態で示す斜視図であり、図２は２つの制御カム（カム溝）を備える制御プレートの平面図であり、図３は駆動機構をモータ及び支承ケーシングから成る駆動ユニットの除かれた状態で示す平面図であり、図４は図３に対して伝動装置室を９０度にわたって回動させた状態で示す平面図であり、図５は真空装置内での周方向の運動と半径方向の運動との重畳された運動経過を示す概略図であり、図６は真空装置の中心部を伝動装置室に懸架された２つのサブストレートホルダーと共に部分的に破断して示す側面図であり、図７は図１乃至図６の手段の組み込まれた装置の斜視図である。
【００１９】
図１には、回動不能、即ち不動の支持柱１を示してあり、支持柱（単に、「支柱」ともいう）の周囲に、４つのサブストレートホルダーから成る装置を回転可能に配置してある。さらに支持柱には、円板状の制御プレート２を同じく回動不能に取り付けてあり、かつ制御プレートに対して距離を置いて、モータ４及び支承ケーシング５から成る駆動ユニット３を取り付けてある。制御プレート２と支承ケーシング５との間の空間（中間スペース）内に、複数の制御エレメントから成る装置を配置してあり、該装置は全体的に支持柱の軸線A-Aを中心として回転可能である。
【００２０】
制御エレメント及び駆動ユニット３は、軸線A-Aを中心として回転可能な正方形の輪郭の伝動装置室６内に収納されており、伝動装置室の内側の縁部は鎖線７によって示してある。回転可能な伝動装置室６の４つの側壁に、それぞれ半径方向案内８を固定してあり、半径方向案内は等角度間隔に配置されていて、制御ロッド９を軸線A-Aに対して半径方向に運動可能に案内しており、制御ロッドは外側の端部にサブストレートホルダー５２（図６、参照）の制御のための旋回支承部１０を保持している。
【００２１】
制御プレート２は、フライス加工成形された周方向で閉じる、換言すれば循環する、即ち環状の２つの制御カム、つまり外側の第１の制御カム１１及び内側の第２の制御カム１２を有しており、制御カムの経過は図２に示してある。
【００２２】
定位置、即ち位置不動の支承ケーシング５のすぐ下側で、支承ケーシング内に十字形回転部材１３を回転可能に支承してあり、十字形回転部材は周囲に等角度間隔に配置された４つのアーム１４を備えている。アームはそれぞれ外側の端部で回転支承部１５を介して各アングルレバー１６の１つの端部に係合しており、アングルレバーの別の端部は制御ロッド９と作用結合している。
【００２３】
アングルレバー（二腕レバーともいう）１６は中央の領域で枢着ピン１７及び、アングルレバー１６の下側に配置された案内ローラを介して外側の制御カム１１内に係合している。アングルレバー１６はここでは鎌形に形成されている。重要なことはアングルレバーのアングル角であり、アングル角は仮想の２つの直線（図４、参照）によって、即ち一方では回転支承部１５から枢着ピン（ヒンジピン）１７へ延びる直線と、他方では該枢着ピンから所属の制御ロッドとのヒンジ的な結合部へ延びる直線とによって規定されている。枢着ピン１７の軸線のある頂点を中心とした角度αは、６０度と１２０度との間である。すでに図２から明らかであるように、比較して外側のカム区分１１ａと比較して内側のカム区分１１ｂとの間の漸進的な移行部によって、制御ロッドの緩やかな、即ち衝撃のない半径方向運動を可能にしてある。
【００２４】
図３（制御エレメントの一部分は図示を省略してある）から明らかであるように、アングルレバー１６はアーム１４と逆の側の端部で連接棒１８及び第１の枢着部（ヒンジ）１９を介して制御ロッド９に結合されている。それぞれ第２の枢着部は半径方向案内８のカバープレートによって覆われており、半径方向案内は第２の枢着部を受容するために下側に向かって開かれており、このことは図１に示してある。
【００２５】
定位置の制御プレート２の外側の制御カム１１と回転運動する制御ロッド９との間の相対回転運動により制御される半径方向運動に、制御プレート２の内側の制御カム１２と回転運動する制御ロッド９との間の相対回転運動により制御されて周期的に変化する円運動速度を次のようにして重畳するようになっている。即ち、図３に示してあるように、アーム１４の堅く結合された十字形回転部材１３に、直径方向に相対する２つの旋回枢着部２０を設けてあり、旋回枢着部にそれぞれ別のアングルレバー２１を所定の範囲で旋回可能に枢着してある。各アングルレバー２１はそれぞれ２つの枢着ピン２２，２３を有しており、これらのうちの第１の枢着ピンは部分的に覆われ（隠れ）ているものの、ローラ（該ローラも図示されず、即ち覆われている）を介して内側の制御カム１２内に案内されている。旋回枢着部２０を中心とした枢着ピン２２，２３のアングル角（角度位置）は所定の角度β´によって規定されており、このことは図３の右側上部及び左側下部に示してある。枢着ピンのアンクル角は、スペース状態及び運動力に応じて６０度と１２０度との間で選ばれる。直径方向（仮想の１つの直径線上）に２つの旋回枢着部２０を相対して配置することは、発生する半径方向力を相殺しようとするものであるものの、原理的には１つのアングルレバー２１で間に合わせることも可能である。
【００２６】
図２からさらに明らかであるように、比較して外側のカム区分１２ａと比較して内側のカム区分１２ｂとの間の調整若しくは適合された漸進的な移行部は、枢着ピン２２の緩やかな半径方向運動を可能にしている。半径方向運動は、旋回枢着部２０に対する枢着ピン２２，２３のてこ長さの寸法及びアングル角の値に応じて図３の外側の両方の矢印の方向で伝動装置室６の周方向速度を生ぜしめる。周方向若しくは接線方向の周期的に変化させられる運動は、半径方向運動に重畳される。
【００２７】
各枢着ピン２３はそれぞれ枢着連結片２４及び別の枢着ピン２５を介してアングル片２６に結合してあり、各アングル片はそれぞれ各対向片２７に所定の範囲内で調節可能に取り付けられており、各対向片は伝動装置室６の相対する２つの角隅に結合されている。これによって、伝動装置室６の周方向速度は内側の制御カム１２の軌道経過に応じて最大値と停止状態との間で漸進的にかつ周期的に変化される。停止状態は、制御ロッド９がサブストレートのための引渡し室の前に正確に位置（対向）するか若しくは処置室の前に正確に位置した場合に生ぜしめられる。
【００２８】
図４は、モータ４及び支承ケーシング５から成る駆動ユニット３を取り除いた状態で駆動機構を示している。制御駆動部によって伝動装置室６は時計回り方向に９０度の角度にわたって送られており、枢着ピン２５、アングル片２６、及び対向片２７の位置は右側下部の角隅に見える。該送り運動に、十字形回転部材１３、旋回枢着部２０、アングルレバー２１、半径方向案内、並びに制御ロッド９は追従する。図面を見やすくするために、図３のアングルレバー２１のうちの１つはその接続部材とともに省略してあるものの、いまや左側上部に位置している。
【００２９】
図１及び図４にさらに示してあるように、アーム１４にそれぞれ３つの位置発信器２８を配置してあり、かつ支承ケーシング５（図１）に、若しくは同軸的に設けられたカバー（図示省略）のブラケット２９に３つの位置受信器３０を取り付けてある。位置発信器及び位置受信器は次のような機能を有している。即ち、適切なデーター伝達及び評価によって、制御ロッド９及びアーム４がロックゲート列内の引渡し室若しくは処置室と相対しているかを規定するだけではなく、どの制御ロッド９がどの室と相対して位置するかを規定することができるようになっている。
【００３０】
図５は周方向及び半径方向の運動経過（運動軌道）を概略的に示している。断面線Ｅ−Ｅに平行に延びるロックゲート列３１は、入口ロックゲート３２、引渡し室３３、及び出口ロックゲート３４から成っている。ロックゲート列３１は公知の構造の真空弁３５を備えている。
【００３１】
サブストレートはサブストレートホルダーを伴うことなく斜めに立てられた状態で案内されて、一列の矢印３６で示すようにロックゲート列３１を通して断続的に搬送される。引渡し室３３は処理室３７に相対している。リング状（環状）のスペース３８内における調整された若しくは漸進的な運動経過は、太い矢印線によって示してある。回転運動は引渡し室３３から出発して、互いに連続する各矢印線３９に沿ってそれぞれ９０度にわたって行われる。引渡し室３３及び処理室４０，３７，４１の直前の４つの停留点で、半径方向の矢印４２によってサブストレートの前進及び後退を示してある。サブストレートの前進は、処理室４０，３７，４１の開放領域内に配置されていて遮蔽作用のあるフレーム状のブラインド４３の直前まで行われる。サブストレートとブラインド４３との間の密閉作用は不要であり、それというのは極めて薄いサブストレートは密閉に寄与し得るものではないからである。サブストレートホルダーの後退運動を終了すると、サブストレートホルダーは９０度にわたって順次に次の処理室の前へ回転させられ、処理の終わりには引渡し室３３の前へ回転させられて、そこからロックゲート３４内へ搬出される。
【００３２】
図５には、装置の容積若しくは空間を節減する極めてコンパクトな構成を示してあり、この場合、サブストレートホルダーは大気に触れさせられないようになっている。多くの例ではロックゲート室３２，３４内にも、パーフォレーションされたサブストレートホルダーを配置してあり、サブストレートホルダーはサブストレート面全体にわたって圧縮ガスを供給できるようになっていてかつ下側の端部にローラを備えており、これによってサブストレートはガスクッションを介して摩擦なしにサブストレートホルダー上に移し載せられ、かつ再びサブストレートホルダーから押し出される。サブストレートをホルダー上に静止させて排気するために、ガス供給は一時的に停止される。このことは、サブストレートがリング状のスペース３８内のサブストレートホルダー上にある場合にも当てはまることである。
【００３３】
図６に中央の駆動機構４４を示してあり、駆動機構は垂直な軸線Ａ−Ａを有し、かつ同軸的な組み付けフランジ４５及び伝動装置室６を備えている。組み付けフランジ４５は、真空室の部分的に示す底部４６への取り付けのために役立っている。回転可能な伝動装置室６の角隅に全体で８つのブラケット４７を取り付けてあり（図３も参照）、ブラケットは斜めステー４８を介して伝動装置室６に支えられている。
【００３４】
互いに平行に延びる各対のブラケット４７（各対は互いに交差するように配置されている）に、上側の旋回枢着部を介して全体で８つの平行四辺形リンク装置４９を下方へ向けて懸架してある。平行四辺形リンク装置４９の下側の端部は、互いに平行に延びる対の脚片を有するＵ字形の弓形部材若しくはハンガーとして形成された水平なブラケット５０に旋回可能に枢着されており、該ブラケットの外側の端部はフレーム状のサブストレートホルダー５２の水平な桁材５１に結合されており、サブストレートホルダーはサブストレート（図示省略）の保持のために用いられる。サブストレートホルダー５２は上側を鉛直線に対して３乃至５度の角度にわたって後方へ傾けられている。
【００３５】
図示の両方のサブストレートホルダー５２は、半径方向で矢印５３の方向に互いに離反若しくは接近するように運動可能である。複数のサブストレートホルダー５２のうちの２つのみを図面に示してある。伝動装置室６の前側と後側とに配置された別の両方のサブストレートホルダーは、図面を見やすくするために図示を省略してある。該サブストレートホルダーも半径方向で互いに相対する方向に、それも矢印５３に対して直角に、即ち図６の図平面に対して垂直に運動可能である。
【００３６】
伝動装置室６は、鉛直な軸線Ａ−Ａを有する真空室内に組み込まれている。真空室は内側の深鍋形（鉢形又はドラム形）の室部分５４から成っており、室部分５４の底部５５内に支持柱１の上側の端部区分が相対回動不能に差し込まれ、かつフランジ５６を用いて真空蜜にされている。鉛直方向の支えはアンカーステー５７を介して行われており、アンカーステーの有効な長さは図７に示す調節部材６７によって調節可能である。アンカーステー５７は半径方向の連結片６６に結合されている。
【００３７】
さらに真空室は、図７に示してあるように四角錐台の形状の外側の室部分６４を有しており、該室部分の底部４６を伝動装置室６の下側の延長部５８が回転可能に、かつ真空蜜に貫通している。水平な両方の底部４６，５５間に、駆動機構４４の回転可能な部分を配置してある。回転可能でかつ半径方向の運動成分によって移動可能なサブストレートホルダー５２は、下方から上方へリング状のスペース３８（図５）内へ入り込んでいる。内側の室部分５４の円筒形の壁を貫通する移動案内部は設けられていない。サブストレートホルダー５２の移動運動は、前に述べた平行四辺形リンク装置４９によって行われ、相対する平行四辺形リンク機構は装置の中心線に対して対称的に旋回支承部のように旋回運動する。リンクの長さの十分な寸法によって、所定の旋回角度若しくは半径方向の運動成分において、鉛直方向の運動成分を最小にすることができる。
【００３８】
旋回支承部として機能する平行四辺形リンク機構は、スライド案内機構と異なり実質的に磨耗並びに被覆材料のほこりを生ぜしめない。ほこりはサブストレート上の層の品質に影響するものである。サブストレートホルダー５２へのブラケット５０の取り付けは、サブストレートホルダーの下側縁部で行われていて、ヨーロッパ特許第１３６５６２Ｂ１号明細書に記載してあるようにサブストレート中央部で行われているのではない。平行四辺形リンク装置４９の下側の旋回支承部は最小の距離でブラケット５０の上側を介してサブストレートホルダー５２の後ろ側に作用するようになっており、従って、磨耗粒子はサブストレートの表面に達することはない。図６からさらに明らかなように、平行四辺形リンク装置４９の周期的な運動のために制御ロッド９の外側の端部は、伝動装置室６から突出していて、旋回支承部１０を介して内側のリンクに係合している。
【００３９】
図７は、図１乃至図６に示す手段の使用のための装置、即ち真空処理装置の斜視図である。引渡し室３３の両側に入口ロックゲート３２と出口ロックゲート３４とを破線で示してある。引渡し室３３に、斜めの入り口スリット５９及びクライオポンプ６２を設けてあり、クライオポンプはポンプ接続部６０及び遮蔽スライダー６１を備えている。さらに図面で見える引渡し室３３及び処理室４１に設けてあるリブ６３は、大気圧に対する補強をなしている。内側の室部分５４と外側の室部分６４との間に環状の、即ち全周にわたって延びるカバー６５を配置してあり、カバーの上側に連結片６６を設けてあり、連結片は室部分５４内のアンカーステー５７の調節のための調節部材６７を保持している。殊に図５乃至図７には、装置の容積若しくは空間を節減する極めてコンパクトな構成を示してある。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】駆動機構を伝動装置室用ケーシング及びサブストレートホルダーの除かれた状態で示す斜視図
【図２】制御プレートの平面図
【図３】駆動機構をモータ及び支承ケーシングから成る駆動ユニットの除かれた状態で示す平面図
【図４】図３に対して伝動装置室を９０度にわたって回動させた状態で示す平面図
【図５】運動経過を示す概略図
【図６】真空装置の中心部を部分的に破断して示す側面図
【図７】真空処理装置の斜視図
【符号の説明】
【００４１】
１  支持柱、  ２  制御プレート、  ３  駆動ユニット、  ４  モータ、  ５  支承ケーシング、  ６  伝動装置室、  ７  鎖線、  ８  半径方向案内、  ９  制御ロッド、  １０  旋回支承部、  １１，１２  制御カム、  １３  十字形回転部材、  １４  アーム、  １５  回転支承部、  １６  アングルレバー、  １７  枢着ピン、  １８  連接棒、  １９  枢着部、  ２０  旋回枢着部、  ２１  アングルレバー、  ２２，２３  枢着ピン、  ２４  枢着連結片、  ２５  枢着ピン、  ２６  アングル片、  ２７  対向片、  ２８  位置発信器、  ２９  ブラケット、  ３０  位置受信器、  ３１  ロックゲート列、  ３２  入口ロックゲート、  ３３  引渡し室、  ３４  出口ロックゲート、  ３５  真空弁、  ３７  処理室、  ３８  スペース、  ４０，４１  処理室、  ４４  駆動機構、  ４５  組み付けフランジ、  ４６  底部、  ４７  ブラケット、  ４９  平行四辺形リンク装置、  ５０  ブラケット、  ５１  桁材、  ５２  サブストレートホルダー、  ５４  室部分、  ５５  底部、  ５６  フランジ、  ５７  アンカーステー、  ６４  室部分、  ６６  連結片、  ６７  調節部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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