(57)【要約】【課題】フィルムマスク等の比較的安価な露光マスクでも高品質な露光製品の生産を短いタクトで実現できるプロキシミティ露光装置を提供すること。【解決手段】マスク２００と感光基板３００とを近接させて、マスク２００に形成されたパターン２００Ｐを感光基板３００に露光するプロキシミティ露光装置Ｅ１であって、マスク２００を密接可能な密接平面４００Ｐを下面に備えた透明ガラス板４００と、マスク２００を密接平面４００Ｐに吸着保持するためのマスク吸着保持手段Ｐ１，４０１と、マスク２００と感光基板３００との間に微小隙間Ｄを形成するように透明ガラス板４００を保持するガラス板保持手段３１とを有するように構成する。【選択図】      図３
2005300753.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクと感光基板とを近接させて、前記マスクに形成されたパターンを前記感光基板に露光するプロキシミティ露光装置であって、前記マスクを密接可能な密接平面を下面に備えた透明ガラス板と、前記マスクを前記密接平面に吸着保持するためのマスク吸着保持手段と、前記マスクと前記感光基板との間に微小隙間を形成するように前記透明ガラス板を保持するガラス板保持手段とを有することを特徴とするプロキシミティ露光装置。
【請求項２】
前記マスク吸着保持手段は、前記透明ガラス板の下面に前記パターンの外方となるように形成されたマスク吸着溝と、該マスク吸着溝と前記マスクとにより形成される密閉空間を真空吸引する吸引手段とからなる請求項１記載のプロキシミティ露光装置。
【請求項３】
前記マスク吸着保持手段は、前記マスクと前記透明ガラス板と前記ガラス板保持手段とにより形成される密閉空間を真空吸引する吸引手段からなる請求項１記載のプロキシミティ露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光マスクと感光基板とを近接させて、露光マスクに形成されたパターンを感光基板に露光するプロキシミティ露光装置に関する。より詳しくは、フィルムマスク等の比較的安価な露光マスクでも高品質な露光製品の生産を短いタクトで実現できるプロキシミティ露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
露光マスクを用いて露光を行うための露光装置として、真空密着方式やプロキシミティ方式などを用いた露光装置が知られている。図７は従来の露光装置の正面一部断面図である。図７（Ａ）はプロキシミティ露光装置を示し、図７（Ｂ）は真空密着露光装置を示す。
【０００３】
図７（Ａ）に示すように、プロキシミティ露光装置５０は、パターンの形成された露光マスク５１、露光マスク５１を保持するマスクホルダ５２、被露光体である感光基板５３、及び感光基板５３を吸引保持する吸引テーブル５４を備える。プロキシミティ露光装置５０では、露光マスク５１と感光基板５３との間に５０〜１００μｍ程度の微小隙間Ｄを設けて略平行光ＬＴにより露光を行う。
【０００４】
プロキシミティ露光装置５０では、微小隙間Ｄを全露光領域に亘って一定に保たなければ、感光基板５３に露光されるパターン幅にバラツキが生じてしまうため、露光マスク５１として平面精度の高いガラスマスクを使用する。そのようなガラスマスクは一般に高価であり、しかもパターン毎に用意しなければならないためコストが高くつく。
【０００５】
一方、真空密着露光装置６０は、図７（Ｂ）に示すように、パターンの形成された露光マスク６１、露光マスク６１を保持するマスクホルダ６２、被露光体である感光基板６３、感光基板６３を吸引保持する吸引テーブル６４、及びマスクホルダ６２と吸引テーブル６４との間に設けられ密閉空間６６を形成するためのシール部材６５を備える。真空密着露光装置６０では、密閉空間６６を真空吸引することにより、露光マスク６１と感光基板６３とを密着させた状態で略平行光ＬＴにより露光を行う。
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−２６８５２５
【特許文献２】特開２００４−１２５７７
【特許文献３】特開平６−２９５８５１
【特許文献４】特開平８−８３７４９
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
真空密着露光装置６０では、露光マスク６１と感光基板６３とを密着させて露光を行うため、高い解像度が得られる。しかし、露光毎に真空吸引、及び露光マスク６１と感光基板６３との切り離しを行うため、タクトが長くなると共に、感光基板６３が持ちこんだゴミが露光マスク６１に付着したり、露光マスク６１に傷が付いたりして連続した不良を引き起こし易く、露光マスク６１の寿命も短かかった。したがって、露光マスク６１には比較的安価なフィルムマスクを用いており、プロキシミティ露光装置５０で得られるような高品質な露光製品の生産は期待できなかった。
【０００８】
このように、従来のプロキシミティ露光装置５０ではパターン毎に高価なガラスマスクが必要となり、真空密着露光装置６０ではタクトが長くなると共に、高品質な露光製品の生産は期待できないという問題があった。
【０００９】
本発明は、上述の問題に鑑みてなされたものであり、フィルムマスク等の比較的安価な露光マスクでも高品質な露光製品の生産を短いタクトで実現できるプロキシミティ露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上述の課題を解決するために、請求項１の発明は、図３及び図４に示すように、マスク２００と感光基板３００とを近接させて、前記マスク２００に形成されたパターン２００Ｐを前記感光基板３００に露光するプロキシミティ露光装置１Ｅ，２Ｅであって、前記マスク２００を密接可能な密接平面４００Ｐを下面に備えた透明ガラス板４００と、前記マスク２００を前記密接平面４００Ｐに吸着保持するためのマスク吸着保持手段Ｐ１，４０１と、前記マスク２００と前記感光基板３００との間に微小隙間Ｄを形成するように前記透明ガラス板４００を保持するガラス板保持手段３１とを有する。
【００１１】
請求項１の発明によると、透明ガラス板４００は、マスク２００を密接可能な密接平面４００Ｐを下面に備える。マスク吸着保持手段Ｐ１，４０１は、マスク２００を密接平面４００Ｐに吸着保持する。ガラス板保持手段３１は、マスク２００と感光基板３００との間に微小隙間Ｄを形成する。マスク２００として薄くたわみやすいもの、例えばフィルムマスク２００を使用した場合でも、フィルムマスク２００は透明ガラス板４００に吸着保持されることにより、たわみの影響をなくすことができる。このため、フィルムマスク２００を用いて、真空密着方式とすることなく、良質の露光ができる。また、フィルムマスク２００が透明ガラス板４００に吸着保持されることにより、安定した微小隙間Ｄが確保できるので、従来のプロキシミティ露光装置と異なり、パターン毎に高価なガラスマスクを用いる必要がない。更に、露光毎に真空を引く必要がないためタクトが短くて済み、ゴミの付着等による連続した不良もなくなる。
【００１２】
請求項２の発明では、図３及び図４に示すように、前記マスク吸着保持手段は、前記透明ガラス板４００の下面に前記パターン２００Ｐの外方となるように形成されたマスク吸着溝４０１と、該マスク吸着溝４０１と前記マスク２００とにより形成される密閉空間を真空吸引する吸引手段Ｐ１とからなる。
【００１３】
請求項２の発明によると、マスク吸着溝４０１は、透明ガラス板４００の下面に前記パターン２００Ｐの外方となるように形成される。吸引手段Ｐ１は、マスク吸着溝４０１とマスク２００とにより形成される密閉空間を真空吸引する。これにより、マスク２００は透明ガラス板４００に吸着保持される。マスク吸着溝４０１をパターン２００Ｐの外方とすることにより、パターン露光の妨げとならない。
【００１４】
請求項３の発明では、図５及び図６に示すように、前記マスク吸着保持手段は、前記マスク２００と前記透明ガラス板４００Ａと前記ガラス板保持手段３１Ａとにより形成される密閉空間４０１Ａを真空吸引する吸引手段Ｐ２からなる。
【００１５】
請求項３の発明によると、マスク２００と透明ガラス板４００Ａとガラス板保持手段３１Ａとにより密閉空間４０１Ａが形成される。密閉空間４０１Ａは吸引手段Ｐ２による真空吸引により減圧され、透明ガラス板４００Ａはガラス板保持手段３１Ａに吸着保持される。透明ガラス板４００Ａに請求項２の発明のようなマスク吸着溝４０１を形成しない分、加工する手間及びコストを減らすことができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によると、フィルムマスク等の比較的安価な露光マスクでも高品質な露光製品の生産を短いタクトで実現できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
｛実施形態｝ 
図１は本発明に係るプロキシミティ露光装置の第１実施形態を示す概略図、図２は図１におけるマスクステージ機構４及びワークステージ機構５を拡大して示す正面一部断面図、図３は第１実施形態における本発明の要部を示す正面一部断面図、図４は第１実施形態における本発明の要部を示す平面一部断面図である。
【００１８】
図１に示すように、第１実施形態のプロキシミティ露光装置１Ｅは、フォトレジストが塗布された帯状ワーク３００を送出する送り出しリール機構１と、露光処理された帯状ワーク３０１を巻き取る巻き取りリール機構２と、送り出しリール機構１と巻き取りリール機構２との間に設置され露光用光を照射する光照射機構３と、パターン２００Ｐが形成されたフィルムマスク２００を吸着保持したガラス治具４００を保持するマスクステージ機構４と、帯状ワーク３００をフィルムマスク２００と所定の間隔を有するように保持するワークステージ機構５と、帯状ワーク３００を間欠的に搬送する搬送機構６とを備える。
【００１９】
送り出しリール機構１は、フォトレジストが塗布された帯状ワーク３００が巻き取られたリール３１０を回転自在に支持し、所定の速度で帯状ワーク３００を送出させるリール支持手段７と、吸引箱９、ファン１０及び排気ダクト１１と、帯状ワーク３００をＵ字状に貯留する貯留手段８と、帯状ワーク３００を貯留手段８に案内するローラ１２と、帯状ワーク３００を貯留手段８から送り出す送り手段１３とを備える。
【００２０】
巻き取りリール機構２は、露光処理された帯状ワーク３０１を所定の速度で引き取る引き取り手段１４と、吸引箱１６、ファン１７及び排気ダクト１８と、該帯状ワーク３０１をＵ字状に貯留する貯留手段１５と、巻取用のリール３２０を回転自在に支持し、帯状ワーク３０１を所定の速度で巻き取る巻き取り手段１９と、帯状ワーク３０１を貯留手段１５から巻き取り手段１９に案内するローラ２０とを備える。
【００２１】
光照射機構３は、超高圧水銀灯または超高圧キセノン水銀灯等で構成される紫外線ランプと、集光鏡と、反射用のコールミラーと、光分布を均一にするインテグレータと、反射用のコールミラーと、平行光にするコリメータレンズと、これ等を所定位置に取り付けるケースとを備える。
【００２２】
マスクステージ機構４は、図２に示すように、床面に設置された機台２１またはＸＹテーブルに設置され、機枠２３を所定の位置に昇降させる機枠昇降手段２２と、機枠２３の上部に所定の間隔をもって設けられたＬ型のガイド部材２４、２５と、ガイド部材２４、２５のＬ字状の案内面にそれぞれ紙面に垂直な方向にスライド可能に当接した状態で支持される支持部材２９、３０と、両端部がそれぞれ支持部材２９、３０に取り付けられた枠体３１とを備える。枠体３１には、本発明の特徴となるガラス冶具４００が複数本のボルト２６により固定される。
【００２３】
ガラス治具４００は、図３及び図４に示すように、枠体３１に取り付け可能なサイズに加工された透明ガラス板である。その下面、すなわち帯状ワーク３００と対向する面は、充分に平坦になる様に研磨され、密接平面４００Ｐを形成する。密接平面４００Ｐはフィルムマスク２００を密接可能とする。
【００２４】
密接平面４００Ｐにフィルムマスク２００を密接させた状態におけるパターン２００Ｐの外方には、マスク吸着溝４０１が形成されている。マスク吸着溝４０１は、ガラス治具４００の外縁に沿って連続的に形成され、平面視が略「口」の字状を呈する細溝である。マスク吸着溝４０１は、フィルムマスク２００に形成されたパターン２００Ｐがマスク吸着溝４０１の内側に位置できるように、少なくともパターン２００Ｐのサイズよりも大きな範囲を囲うように、パターン２００Ｐの外方に形成する。これにより、パターン露光の妨げとならない。
【００２５】
マスク吸着溝４０１の途中には、ガラス治具４００の肉厚方向に貫通する真空吸引穴Ｈ１が穿設され、マスク吸着溝４０１の外側には、ガラス治具４００の肉厚方向に貫通するボルト穴４０２が複数穿設される。真空吸引穴Ｈ１の上面は吸着パッドＰ１を介して真空ポンプに接続される。
【００２６】
図２に戻って、ワークステージ機構５は、帯状ワーク３００を吸引保持する吸引テーブル７１が設置されたワークテーブル７０と、該ワークテーブル７０を挟んで上流側と下流側とに設置され、帯状ワーク３００の搬送時に該帯状ワーク３００を吸引テーブル７１から持ち上げて支持する支持搬送手段７２、７３と、フィルムマスク２００の下面と吸引テーブル７１の保持面との間隔寸法を測定するための間隙測定手段７４〜７７と、間隙測定手段７４〜７７による測定結果に基づいて枠体３１を昇降させて間隙を調整するためのマスク枠体昇降調整手段とを備える。
【００２７】
ワークテーブル７０と吸引テーブル７１とを一つの部材によって形成すること、ワークテーブル７０が昇降する構成とすることは可能である。
【００２８】
また、ワークテーブル７０を、水平面上においてＸ方向およびＹ方向に移動すると共にθ方向に回転するＸＹθテーブル上に設置し、昇降手段によって該ＸＹθテーブルと共にＺ方向に昇降する構成にすることができる。
【００２９】
吸引テーブル７１には、上面の所定箇所に吸引用孔が穿設され、排気用フアン、排気用管及び管路切り換え弁等を有する排気手段（図示せず）が吸引用孔と連通するように接続される。
【００３０】
帯状ワーク３００がワークステージ機構５の吸引テーブル７１に吸引保持されているときは、ローラ８５の上面が吸引テーブル７１の帯状ワーク３００の吸引保持面と同一位置かあるいは吸引保持面よりも下方に位置する。帯状ワーク３００を搬送するときは、ローラ８５の上面が吸引保持面よりも上方でかつ帯状ワーク３００の上面がフィルムマスク２００に接触しない位置に移動する。
【００３１】
間隙測定手段７４〜７７は、所定幅のライン状の半導体レーザー光をフィルムマスク２００の下面に向けて照射しフィルムマスク２００の下面からの反射光を受光するセンサーと、該センサーの受光信号に基づいて間隙寸法値を演算する演算部（図示せず）とを備える。該センサーは、測定基準位置が吸引テーブル７１の吸引保持面になるように、ワークテーブル７０の所定位置に取り付けられる。
【００３２】
搬送機構６は、機枠９９のワークステージ機構５側に設置され帯状ワーク３００を挟持する可動爪を有する定位置挟持手段９８と、帯状ワーク３００を挟持し機枠９９に形成されたレール１００に沿って帯状ワーク３００の搬送方向に移動するように設置され、帯状ワーク３００を挟持する可動爪を有する可動挟持手段１０１と、可動挟持手段１０１を待機位置から搬送端部位置に、搬送端部位置から待機位置に往復動させる駆動手段１０２とを備える。
【００３３】
該搬送機構６は、駆動ローラとニップローラとを備え帯状ワーク３００の幅方向の両端部を挟持して該帯状ワーク３００を間欠的に搬送する構成にすることができ、この場合、送り手段１３、引き取り手段１４に代えて設置するのが好ましい。
【００３４】
上のように構成されたプロキシミティ露光装置１Ｅにおいて、フィルムマスク２００の取り付けは次のように行われる。まず、平坦な作業台等の上で、ガラス治具４００のマスク吸着溝４０１がフィルムマスク２００の内側に入ると共にパターン２００Ｐを囲うように、フィルムマスク２００の上にガラス治具４００を接触させる。次に、真空ポンプを動作させて、フィルムマスク２００をガラス治具４００に吸着保持させる。
【００３５】
そして、枠体３１の下から、フィルムマスク２００を吸着保持したガラス治具４００をセットし、ボルト穴４０２にボルト２６を通し枠体３１に締め付けて固定する。最後に、枠体３１を所定の露光位置に押し込む。このとき、図示しない押圧手段により支持部材２９、３０が押圧され、該支持部材２９、３０をガイド部材２４、２５に位置決め固定する。
【００３６】
フィルムマスク２００の取り付けが終了した後、露光運転を開始する。露光時は、フィルムマスク２００の下面と帯状ワーク３００の被露光面とが微小隙間Ｄを形成するように、マスク枠体昇降調整手段が動作する。ガラス治具４００は透明ガラス板であるため、露光用光はこれを透過し、帯状ワーク３００には、フィルムマスク２００に形成されたパターン２００Ｐを介して露光が行われる。
【００３７】
フィルムマスク２００は薄くたわみやすいが、ガラス治具４００に吸着保持されることにより、たわみの影響をなくすことができる。このため、フィルムマスク２００を用いて、真空密着方式とすることなく、良質の露光ができる。また、フィルムマスク２００がガラス治具４００に吸着保持されることにより、安定した微小隙間Ｄが確保できるので、従来のプロキシミティ露光装置と異なり、パターン毎に高価なガラスマスクを用いる必要がない。更に、露光毎に真空を引く必要がないためタクトが短くて済み、ゴミの付着等による連続した不良もなくなる。このように、プロキシミティ露光装置１Ｅによると、比較的安価なフィルムマスク２００を用いて従来のプロキシミティ露光装置と同様な高品質の露光製品の生産が実現できる。
【００３８】
プロキシミティ露光装置１Ｅと真空密着露光装置とで、タクト時間、解像劣化及び解像ムラについて比較する実験を行った。実験条件は次のとおりである。帯状ワーク３００には、ポリイミド（厚さは２５μｍ）と銅（厚さは８μｍ）とで形成される銅張りポリイミドの銅側にドライフィルムレジスト（ドライフィルムの厚さは１０μｍ、カバーフィルムの厚さは１６μｍ：旭化成株式会社製  製品番号ＳＰＧ１０２）をラミネートしたものを使用した。
【００３９】
フィルムマスク２００には、サイズが２９０ｍｍ×４４０ｍｍ×１７５μｍのＰＥＴフィルムを使用した。露光量は６０ｍＪ／ｃｍ２とした。露光量の測定は、ウシオ電気株式会社製のＵＶＤ−３６５ＰＤで行った。露光機は使用波長がｇ，ｈ，ｉの３線仕様であるが、センサーはｉ線測定であるため、実際の露光量はもう少し多いものと思われる。プロキシミティギャップは５０μｍとした。真空密着用の真空ポンプには、オリオン機械株式会社製のＫＨＨ−６６（到達圧力２ｋＰａ以下、設計排気量２７．５リットル／分（６０Ｈｚ），２３リットル／分（５０Ｈｚ））を使用した。
【００４０】
露光時間はレジストの感度で変わるため、露光時間を除いた搬送・真空密着時間をプロキシミティ露光装置１Ｅと真空密着露光装置とで比較すると、真空密着露光装置では１４秒であるのに対してプロキシミティ露光装置１Ｅでは７秒と半分になった。なお、真空密着露光装置のタクト改善のために、真空ポンプの容量を大きくすることが考えられるが、その場合はフィルムマスク２００に皺ができるといった不具合が生じる。
【００４１】
解像度及び解像ムラにおいて、プロキシミティ露光装置１Ｅでは劣ると考えられ、テストを実施したところ、フィルムマスク２００で１０μｍ幅の露光部が、真空密着露光装置ではほぼ１０μｍ幅であるのに対して、プロキシミティ露光装置１Ｅでは１４μｍ幅と広くなったが、露光面全域（３８０×２５０ｍｍ）で幅は安定しており解像ムラが見られなかった。Ｌ／Ｓ（ライン／スペース）＝５０μｍ（ピッチ１００μｍ）以上で使用する場合は支障ないと考えられる。
｛実施形態２｝
次に、本発明に係るプロキシミティ露光装置の第２実施形態について説明する。図５は本発明に係るプロキシミティ露光装置における本発明の要部を示す正面一部断面図、図６は第２実施形態における本発明の要部を示す平面図である。
【００４２】
図５及び図６に示すように、第２実施形態のプロキシミティ露光装置２Ｅは、第１実施形態のプロキシミティ露光装置１Ｅにおけるマスクステージ機構４及びガラス治具４００に代えてそれぞれマスクステージ機構４Ａ及びガラス治具４００Ａを備える。それ以外の構成は第１実施形態のプロキシミティ露光装置１Ｅと同一である。
【００４３】
プロキシミティ露光装置２Ｅでは、図５に示すように、枠体３１Ａは厚台部３１Ａ１と薄台部３１Ａ２とを備える。薄台部３１Ａ２の下面には、下面外形に沿ったガラス吸着溝４０２Ａが形成され、ガラス吸着溝４０２Ａの一点からは肉厚方向に貫通する第１真空吸引穴Ｈ３が穿設される。厚台部３１Ａ１の一方には、肉厚方向に貫通し後述の密閉空間４０１Ａに連通する第２真空吸引穴Ｈ４が穿設される。第１真空吸引穴Ｈ３及び第２真空吸引穴Ｈ４の上面はそれぞれ吸着パッドＰ３、Ｐ４を介して真空ポンプに接続される。第１真空吸引穴Ｈ３及び第２真空吸引穴Ｈ４はそれぞれ独立に真空吸引されるように構成される。
【００４４】
ガラス治具４００Ａは、厚台部３１Ａ１の内周面との間に密閉空間４０１Ａを形成できるサイズに加工された透明ガラス板であり、下面は充分に研磨されている。なお、第１実施形態のガラス治具４００と異なり、透明ガラス板にはマスク吸着溝４０１やボルト穴４０３は形成されていない。次に述べるように、密閉空間４０１Ａ及びガラス吸着溝４０２Ａがこれらの機能を代用するからである。
【００４５】
すなわち、ガラス治具４００Ａの上面を薄台部３１Ａ２の下面に密接させた状態で、吸着パッドＰ３により第１真空吸引穴Ｈ３を真空吸引することにより、ガラス吸着溝４０２Ａは減圧される。これにより、真空ガラス治具４００Ａは枠体３１に吸着保持される。また、フィルムマスク２００の上面をガラス治具４００Ａの下面に密接させた状態で、吸着パッドＰ４により第２真空吸引穴Ｈ４を真空吸引することにより、密閉空間４０１Ａは減圧される。これにより、フィルムマスク２００はガラス治具４００Ａに吸着保持される。
【００４６】
プロキシミティ露光装置２Ｅにおいても、フィルムマスク２００は、ガラス治具４００Ａに吸着保持されることにより、たわみの影響がなくなる。また、フィルムマスク２００がガラス治具４００Ａに吸着保持されることにより、安定した微小隙間Ｄが確保できるので、パターン毎に高価なガラスマスクを用いる必要がない。また、露光毎に真空を引く必要がないためタクトが短くて済み、ゴミの付着等による連続した不良もなくなる。更に、透明ガラス板にマスク吸着溝４０１やボルト穴４０２を形成しない分、第１実施形態のプロキシミティ露光装置１Ｅに比べて、それらを加工する手間及びコストを減らすことができると共に、取付けボルト等の部品点数が少なくて済む。
【００４７】
上の実施形態において、プロキシミティ露光装置１Ｅ、２Ｅは帯状ワーク３００を間欠的に搬送しながら所定の箇所を露光処理する構成であるが、本発明は、所定長さに切断された正方形または長方形の枚葉状ワークをワークステージ機構５に１枚ずつ供給して露光処理する構成の露光装置にも適用することができる。その他、プロキシミティ露光装置１Ｅ、２Ｅの全体または各部の構成、構造、形状、材質、個数などは、本発明の主旨に沿って適宜変更することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】本発明に係るプロキシミティ露光装置の第１実施形態を示す概略図である。
【図２】図１におけるマスクステージ機構及びワークステージ機構を拡大して示す正面一部断面図である。
【図３】第１実施形態における本発明の要部を示す正面一部断面図である。
【図４】第１実施形態における本発明の要部を示す平面一部断面図である。
【図５】第２実施形態における本発明の要部を示す正面一部断面図である。
【図６】第２実施形態における本発明の要部を示す平面図である。
【図７】従来の露光装置の正面一部断面図である。
【符号の説明】
【００４９】
１Ｅ  プロキシミティ露光装置
２Ｅ  プロキシミティ露光装置
３１  枠体（ガラス板保持手段）
３１Ａ  枠体（ガラス板保持手段）
２００  フィルムマスク（マスク）
３００  帯状ワーク（感光基板）
４００  ガラス治具（透明ガラス板）
４００Ａ  ガラス治具（透明ガラス板）
４００Ｐ  密接平面
４０１  マスク吸着溝
４０１Ａ  密閉空間
Ｄ  微小隙間
Ｐ１  吸着パッド（吸引手段）
Ｐ２  吸着パッド（吸引手段）
【図１】
2005300753.tif 000003
【図２】
2005300753.tif 000004
【図３】
2005300753.tif 000005
【図４】
2005300753.tif 000006
【図５】
2005300753.tif 000007
【図６】
2005300753.tif 000008
【図７】
2005300753.tif 000009