(57)【要約】【課題】  描画同士の境界部分における表示ムラを引き起こすことのない高品質な表示装置を製造する。【解決手段】  非表示領域Ｕによって区画された表示領域を有する複数の画素が基板に設けられた表示装置を製造する表示装置の製造方法であって、前記画素を形成すべくＴＦＴアレイ基板１０へ塗布する配向膜溶液を、インクジェットヘッド３４に設けられたノズル孔１１８から吐出させながらＴＦＴアレイ基板１０に対して相対移動させてＴＦＴアレイ基板１０の表面に前記配向膜溶液を描画する描画工程を含み、該描画工程では、前記インクジェットヘッド３４によるＴＦＴアレイ基板１０への描画を改行しながら複数回行い、改行による各描画同士の境界部分を、前記非表示領域Ｕに配置させることを特徴とする。【選択図】      図７
2005121739.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非表示領域によって区画された複数の画素を基板上に具備してなる表示装置の製造方法であって、
前記画素を形成するために前記基板へ塗布する液状組成物を、吐出ヘッドに配列された複数のノズルから吐出させつつ、該吐出ヘッドを前記基板に対して相対移動させて前記基板の表面に前記液状組成物を描画する描画工程を含み、
該描画工程では、前記吐出ヘッドによる前記基板への描画を改行しながら複数回行い、改行による各描画同士の境界部分を、前記非表示領域に配置させることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記非表示領域が格子状に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記基板へ塗布する液状組成物が、前記基板に配向膜を形成する配向膜形成材料を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記基板へ塗布する液状組成物が、前記基板と他の基板との間にて液晶層を形成する液晶材料を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記基板へ塗布する液状組成物が、前記基板の各画素毎に対応してそれぞれ特定の色表示を行わせるための着色層を形成する着色層形成材料を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記基板へ塗布する液状組成物が、前記基板上に具備されたカラーフィルタのオーバーコートを形成するオーバーコート形成材料を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記基板へ塗布する液状組成物が、前記基板上にフォトレジストを形成するフォトレジスト形成材料を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記吐出ヘッドの端部のノズルから吐出される液状組成物のドットの略半分を前記非表示領域に掛からせることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記複数回行う描画の各描画をそれぞれ同一方向に沿って並列に行うことを特徴とする請求項１ないし８のいずれか１項に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれか１項に記載の製造方法により得られたことを特徴とする表示装置。
【請求項１１】
請求項１０に記載の表示装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上に複数の画素を具備してなる表示装置の製造方法、表示装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば、コンピュータや携帯用の情報機器端末の発達に伴い、液晶装置の使用が増加している。この種の液晶装置は、液晶を介して一対の基板を貼り合わせたもので、これら基板には、ラビング処理が施された配向膜が形成されている。ところで、液晶装置の基板に配向膜を成膜する方式としては、複数のノズルが配列された吐出ヘッドを基板に対して相対移動させながら、各ノズルから配向膜形成材料を含む配向膜溶液を吐出して、基板の表面に配向膜溶液を塗布するインクジェット方式が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平９−１３８４１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、上記のインクジェット方式において、吐出ヘッドによる基板への配向膜溶液の塗布を、一度の描画によって行う場合は、均一でムラのない成膜を施すことができるが、基板に対する吐出ヘッドの大きさ等の関係から、一度の描画によって全ての領域を塗布することができない場合がある。このような場合、図１０に示すように、１回目の描画で基板１へ塗布しきれなかった残りの領域を、吐出ヘッド２を改行して描画することにより塗布していた。しかしながら、このように吐出ヘッド２を改行して描画を行うと、その後の乾燥工程後に、それぞれの描画によって塗布された配向膜同士の境界部分にて膜厚ムラが生じてしまい、この境界部分のムラが液晶表示の表示ムラを引き起こしてしまう場合があった。
【０００４】
この発明は、描画同士の境界部分における表示ムラを引き起こすことのない高品質な表示装置を製造することが可能な表示装置の製造方法、表示装置および電子機器を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明の表示装置の製造方法は、非表示領域によって区画された複数の画素を基板上に具備してなる表示装置の製造方法であって、前記画素を形成するために前記基板へ塗布する液状組成物を、吐出ヘッドに配列された複数のノズルから吐出させつつ、該吐出ヘッドを前記基板に対して相対移動させて前記基板の表面に前記液状組成物を描画する描画工程を含み、該描画工程では、前記吐出ヘッドによる前記基板への描画を改行しながら複数回行い、改行による各描画同士の境界部分を、前記非表示領域に配置させることを特徴とする。
【０００６】
このように、描画を改行することにより形成される各描画の境界部分を表示装置の非表示領域に配置するので、乾燥工程後に境界部分にてムラが生じたとしても、表示領域における表示ムラを引き起こすような不具合をなくすことができる。つまり、表示ムラのない極めて高品質な表示装置を製造することができ、また、大型の表示装置も高品質にて製造することができる。
【０００７】
また、前記非表示領域が格子状に設けられていることが望ましい。これにより、格子状の非表示領域に、各描画の境界部分を確実に配置させることができる。
【０００８】
さらに、前記基板へ塗布する液状組成物が、前記基板に配向膜を形成する配向膜形成材料を含むものであることが好ましい。これにより、各描画によって塗布された配向膜の境界部分が非表示領域に配置され、表示ムラのない高品質な表示装置を製造することができる。
【０００９】
また、前記基板へ塗布する液状組成物が、前記基板と他の基板との間にて液晶層を形成する液晶材料を含むものであることが好ましい。これにより、各描画によって塗布された液晶の境界部分が非表示領域に配置され、表示ムラのない高品質な表示装置を製造することができる。
【００１０】
また、前記基板へ塗布する液状組成物が、前記基板の各画素毎に対応してそれぞれ特定の色表示を行わせるための着色層を形成する着色層形成材料を含むものであることが好ましい。これにより、各描画によって塗布された着色層の境界部分が非表示領域に配置され、表示ムラのない高品質な表示装置を製造することができる。
【００１１】
また、前記基板へ塗布する液状組成物が、前記基板に具備されたカラーフィルタのオーバーコート膜を形成するオーバーコート形成材料を含むものであることが好ましい。これにより、各描画によって塗布されたオーバーコートの境界部分が非表示領域に配置され、表示ムラのない高品質な表示装置を製造することができる。
【００１２】
また、前記基板へ塗布する液状組成物が、前記基板上のフォトレジストを形成するフォトレジスト形成材料を含むものであることが好ましい。これにより、各描画によって塗布されたフォトレジストの境界部分が非表示領域に配置され、表示ムラのない高品質な表示装置を製造することができる。
【００１３】
さらに、前記吐出ヘッドの端部のノズルから吐出される液状組成物のドットの略半分を前記非表示領域に掛からせるのが望ましい。これにより、各描画の境界部分を確実に非表示領域に配置させることができる。
【００１４】
また、各描画を、それぞれ同一方向に沿って並列に行うことが好ましい。これにより、各描画の境界部分における乾燥時間の差を極力少なくすることができる。
【００１５】
また、本発明に掛かる表示装置は、上記の製造方法により得られたことを特徴とする。これにより、表示ムラのない極めて高品質な表示装置とすることができる。
【００１６】
さらに、本発明に係る電子機器は、上記表示装置を備えることを特徴とする。この構成によれば、高品質で良好な表示が可能な表示装置を備えた電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明に係る実施形態について図面を参照しつつ説明する。
［表示装置］
以下に示す本実施の形態の表示装置は、スイッチング素子としてＴＦＴ（Thin Film Transistor）素子を用いたアクティブマトリクスタイプの透過型液晶装置である。図１は本実施形態の透過型液晶装置のマトリクス状に配置された複数の画素におけるスイッチング素子、信号線等の等価回路図である。図２はデータ線、走査線、画素電極等が形成されたＴＦＴアレイ基板の相隣接する複数の画素群の構造を示す要部平面図である。図３は図２のＡ−Ａ’線断面図である。なお、図３においては、図示上側が光入射側、図示下側が視認側（観察者側）である場合について図示している。また、各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
【００１８】
本実施の形態の表示装置において、図１に示すように、マトリクス状に配置された複数の画素には、画素電極９と、当該画素電極９への通電制御を行うためのスイッチング素子であるＴＦＴ素子３０とがそれぞれ形成されており、画像信号が供給されるデータ線６ａが当該ＴＦＴ素子３０のソースに電気的に接続されている。データ線６ａに書き込む画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、この順に線順次に供給されるか、あるいは相隣接する複数のデータ線６ａに対してグループ毎に供給される。
【００１９】
また、走査線３ａがＴＦＴ素子３０のゲートに電気的に接続されており、複数の走査線３ａに対して走査信号Ｇ１、Ｇ２、…、Ｇｍが所定のタイミングでパルス的に線順次で印加される。また、画素電極９はＴＦＴ素子３０のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるＴＦＴ素子３０を一定期間だけオンすることにより、データ線６ａから供給される画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎを所定のタイミングで書き込む。
【００２０】
画素電極９を介して液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｓ１、Ｓ２、…、Ｓｎは、後述する共通電極との間で一定期間保持される。液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能にする。ここで、保持された画像信号がリークすることを防止するために、画素電極９と共通電極との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量７０が付加されている。
【００２１】
次に、図２に基づいて、本実施形態の表示装置の要部の平面構造について説明する。図２に示すように、ＴＦＴアレイ基板上に、インジウム錫酸化物（Indium Tin Oxide, 以下、ＩＴＯと略記する）等の透明導電性材料からなる矩形状の画素電極９（点線部９Ａにより輪郭を示す）が複数、マトリクス状に設けられており、画素電極９の縦横の境界に各々沿ってデータ線６ａ、走査線３ａおよび容量線３ｂが設けられている。本実施の形態において、各画素電極９および各画素電極９を囲むように配設されたデータ線６ａ、走査線３ａ、容量線３ｂ等が形成された領域が画素であり、マトリクス状に配置された各画素毎に表示を行うことが可能な構造になっている。そして、各が素電極９を囲むデータ線６ａ、走査線３ａ、容量線３ｂ等が形成された縦横の格子状に形成された領域が画像の表示を行わない非表示領域Ｕとされている。
【００２２】
データ線６ａは、ＴＦＴ素子３０を構成する例えばポリシリコン膜からなる半導体層１ａのうち、後述のソース領域にコンタクトホール５を介して電気的に接続されており、画素電極９は、半導体層１ａのうち、後述のドレイン領域にコンタクトホール８を介して電気的に接続されている。また、半導体層１ａのうち、後述のチャネル領域（図中左上がりの斜線の領域）に対向するように走査線３ａが配置されており、走査線３ａはチャネル領域に対向する部分でゲート電極として機能する。
【００２３】
容量線３ｂは、走査線３ａに沿って略直線状に伸びる本線部（すなわち、平面的に見て、走査線３ａに沿って形成された第１領域）と、データ線６ａと交差する箇所からデータ線６ａに沿って前段側（図中上向き）に突出した突出部（すなわち、平面的に見て、データ線６ａに沿って延設された第２領域）とを有する。そして、図２中、右上がりの斜線で示した領域には、複数の第１遮光膜１１ａが設けられている。
【００２４】
次に、図３に基づいて、本実施の形態の表示装置の断面構造について説明する。図３は、上述した通り図２のＡ−Ａ’線断面図であり、ＴＦＴ素子３０が形成された領域の構成について示す断面図である。本実施の形態の液晶装置においては、ＴＦＴアレイ基板１０と、これに対向配置される対向基板２０との間に液晶層５０が挟持されている。
【００２５】
液晶層５０は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、一対の配向膜４０及び６０の間で、所定の配向状態をとる。ＴＦＴアレイ基板１０は、石英等の透光性材料からなる基板本体１０Ａと、その液晶層５０側表面に形成されたＴＦＴ素子３０、画素電極９、配向膜４０を主体として構成されており、対向基板２０はガラスや石英等の透光性材料からなる基板本体２０Ａと、その液晶層５０側表面に形成された共通電極２１、配向膜６０、を主体として構成されている。そして、各基板１０，２０は、スペーサー１５を介して所定の基板間隔が保持されている。
【００２６】
ＴＦＴアレイ基板１０において、基板本体１０Ａの液晶層５０側表面には画素電極９が設けられ、各画素電極９に隣接する位置に、各画素電極９をスイッチング制御する画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０が設けられている。画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０は、ＬＤＤ（Lightly Doped Drain）構造を有しており、走査線３ａ、当該走査線３ａからの電界によりチャネルが形成される半導体層１ａのチャネル領域１ａ’、走査線３ａと半導体層１ａとを絶縁するゲート絶縁膜２、データ線６ａ、半導体層１ａの低濃度ソース領域１ｂおよび低濃度ドレイン領域１ｃ、半導体層１ａの高濃度ソース領域１ｄおよび高濃度ドレイン領域１ｅを備えている。
【００２７】
上記走査線３ａ上、ゲート絶縁膜２上を含む基板本体１０Ａ上には、高濃度ソース領域１ｄへ通じるコンタクトホール５、及び高濃度ドレイン領域１ｅへ通じるコンタクトホール８が開孔した第２層間絶縁膜４が形成されている。つまり、データ線６ａは、第２層間絶縁膜４を貫通するコンタクトホール５を介して高濃度ソース領域１ｄに電気的に接続されている。
【００２８】
さらに、データ線６ａ上および第２層間絶縁膜４上には、高濃度ドレイン領域１ｅへ通じるコンタクトホール８が開孔した第３層間絶縁膜７が形成されている。すなわち、高濃度ドレイン領域１ｅは、第２層間絶縁膜４および第３層間絶縁膜７を貫通するコンタクトホール８を介して画素電極９に電気的に接続されている。
【００２９】
また、ＴＦＴアレイ基板１０の基板本体１０Ａの液晶層５０側表面において、各画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０が形成された領域には、ＴＦＴアレイ基板１０を透過し、ＴＦＴアレイ基板１０の図示下面（ＴＦＴアレイ基板１０と空気との界面）で反射されて、液晶層５０側に戻る戻り光が、少なくとも半導体層１ａのチャネル領域１ａ’および低濃度ソース、ドレイン領域１ｂ、１ｃに入射することを防止するための第１遮光膜１１ａが設けられている。
【００３０】
また、第１遮光膜１１ａと画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０との間には、画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０を構成する半導体層１ａを第１遮光膜１１ａから電気的に絶縁するための第１層間絶縁膜１２が形成されている。さらに、図２に示したように、ＴＦＴアレイ基板１０に第１遮光膜１１ａを設けるのに加えて、コンタクトホール１３を介して第１遮光膜１１ａは、前段あるいは後段の容量線３ｂに電気的に接続するように構成されている。
【００３１】
さらに、ＴＦＴアレイ基板１０の液晶層５０側最表面、すなわち、画素電極９および第３層間絶縁膜７上には、電圧無印加時における液晶層５０内の液晶分子の配向を制御する配向膜４０が形成されている。したがって、このようなＴＦＴ素子３０を具備する領域においては、ＴＦＴアレイ基板１０の液晶層５０側最表面、すなわち液晶層５０の挟持面には複数の凹凸ないし段差が形成された構成となっている。
【００３２】
他方、対向基板２０には、基板本体２０Ａの液晶層５０側表面であって、データ線６ａ、走査線３ａ、画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０の形成領域に対向する領域、すなわち各画素部の開口領域以外の領域に、入射光が画素スイッチング用ＴＦＴ素子３０の半導体層１ａのチャネル領域１ａ’や低濃度ソース領域１ｂ、低濃度ドレイン領域１ｃに侵入することを防止するための第２遮光膜２３が設けられている。さらに、第２遮光膜２３が形成された基板本体２０Ａの液晶層５０側には、その略全面にわたって、ＩＴＯ等からなる共通電極２１が形成され、その液晶層５０側には、電圧無印加時における液晶層５０内の液晶分子の配向を制御する配向膜６０が形成されている。
【００３３】
［表示装置の製造方法］
次に、本実施の形態に示した上記液晶装置からなる表示装置の製造方法について、その例を図面を参照しつつ説明する。
図４は、本実施形態の表示装置の製造方法について、そのプロセスフローを示す説明図である。すなわち、本製造方法は、一対の基板に配向膜を形成し、この配向膜にラビング処理を施し、一方の基板に対して枠状シール材を形成した後、このシール材枠内に液晶を滴下し、他方の基板を貼り合せる。以下、各フローについて詳細を説明する。
【００３４】
まず、図４のステップＳ１に示すように、ガラス等からなる下側の基板本体１０Ａ上にＴＦＴ素子３０等を構成するために、遮光膜１１ａ、第１層間絶縁膜１２、半導体層１ａ、チャネル領域１ａ’、低濃度ソース領域１ｂ、低濃度ドレイン領域１ｃ、高濃度ソース領域１ｄ、高濃度ドレイン領域１ｅ、蓄積容量電極１ｆ、走査線３ａ、容量線３ｂ、第２層間絶縁膜４、データ線６ａ、第３層間絶縁膜７、コンタクトホール８、画素電極９を形成する。
【００３５】
次に、図４のステップＳ２に示すように、基板本体１０Ａ上に、配向膜溶液を塗布して配向膜４０を形成する。
その後、図４のステップＳ３に示すように、配向膜４０に所定の方向にラビング処理を施し、ＴＦＴアレイ基板１０を作成する。また、上側の基板本体２０Ａ上にも遮光膜２３、対向電極２１、配向膜６０を形成し、さらに前記配向膜６０に所定の方向にラビング処理を施し対向基板２０を作成する。
【００３６】
次に、図４のステップＳ４において、上記対向基板２０又はＴＦＴアレイ基板１０上に枠状のシール材９３を形成する。なお、シール材９３としては紫外線硬化樹脂等を用いることができ、これを印刷法等で枠状に形成するものとしており、液晶注入口を有しない閉口枠形状に形成する。この時、所定の基板間隔を保持する為に、シール材９３中にスペーサー１５を分散させて、所定の基板間隔を保持するようにしてもよい。
【００３７】
次に、図４のステップＳ５において、シール材９３を形成したＴＦＴアレイ基板１０上に、当該液晶装置のセル厚に見合った所定量の液晶を滴下する。その後、図４のステップＳ６において、液晶を滴下したＴＦＴアレイ基板１０と他方の対向基板２０とを、液晶を挟持するように貼り合わせ、さらに、ＴＦＴアレイ基板１０及び対向基板２０の外面側に図示しない位相差板、偏光板等の光学フィルムを貼り合わせ、図３に示したセル構造を備える表示装置である液晶装置が製造される。
【００３８】
ここで、図４のステップＳ２における配向膜４０の形成工程について具体的に説明する。本実施形態では、例えば図５に示すような液滴吐出装置３００を用いて配向膜溶液の滴下が行われ、配向膜溶液を基板に塗布する。
図５は、液滴吐出装置３００（以下、インクジェット装置３００とも言う）の概略構成を示す斜視図である。このインクジェット装置３００は、ベース３１、基板移動手段３２、ヘッド移動手段３３、インクジェットヘッド（吐出ヘッド）３４、インク（液状体）供給手段３５等を有して構成されたものである。ベース３１は、その上に前記基板移動手段３２、ヘッド移動手段３３を設置したものである。
【００３９】
基板移動手段３２は、ベース３１上に設けられたもので、Ｙ軸方向（主走査方向）に沿って配置されたガイドレール３６を有したものである。この基板移動手段３２は、例えばリニアモータにより、スライダ３７をガイドレール３６、３６に沿って移動させるよう構成されたものである。スライダ３７には、θ軸用のモータ（図示せず）が備えられている。このモータは、例えばダイレクトドライブモータからなるものであり、これのロータ（図示せず）はテーブル３９に固定されている。このような構成のもとに、モータに通電するとロータおよびテーブル３９は、θ方向に沿って回転し、テーブル３９をＹ軸に対して所定の角度θ回転固定するようになっている。
【００４０】
テーブル３９は、基板Ｓを位置決めし、保持するものである。すなわち、このテーブル３９は、公知の吸着保持手段（図示せず）を有し、この吸着保持手段を作動させることにより、基板Ｓをテーブル３９の上に吸着保持するようになっている。基板Ｓは、テーブル３９の位置決めピン３９ａにより、テーブル３９上の所定位置に正確に位置決めされ、保持されるようになっている。テーブル３９には、インクジェットヘッド３４がインク（液状組成物）を捨打ちあるいは試し打ちするための捨打ちエリア４１が設けられている。この捨打ちエリア４１は、Ｘ軸方向（副走査方向）に延びて形成されたもので、テーブル３９の後端部側に設けられたものである。
【００４１】
ヘッド移動手段３３は、ベース３１の後部側に立てられた一対の架台３３ａ、３３ａと、これら架台３３ａ、３３ａ上に設けられた走行路３３ｂとを備えてなるもので、該走行路３３ｂをＸ軸方向（副走査方向）、すなわち前記の基板移動手段３２のＹ軸方向（主走査方向）と直交する方向に沿って配置したものである。走行路３３ｂは、架台３３ａ、３３ａ間に渡された保持板３３ｃと、この保持板３３ｃ上に設けられた一対のガイドレール３３ｄ、３３ｄとを有して形成されたもので、ガイドレール３３ｄ、３３ｄの長さ方向にインクジェットヘッド３４を保持させるスライダ４２を移動可能に保持したものである。スライダ４２は、リニアモータ（図示せず）等の作動によってガイドレール３３ｄ、３３ｄ上を走行し、これによりインクジェットヘッド３４をＸ軸方向に移動させるよう構成されたものである。
【００４２】
インクジェットヘッド３４には、揺動位置決め手段としてのモータ４３、４４、４５、４６が接続されている。そして、スライダ４２とインクジェットヘッド３４とに接続されているモータ４３を作動させると、インクジェットヘッド３４はＺ軸に沿って上下動し、Ｚ軸上での位置決めが可能になっている。なお、このＺ軸は、前記のＸ軸、Ｙ軸に対しそれぞれに直交する方向（上下方向）である。また、モータ４４を作動させると、インクジェットヘッド３４は図６中のβ方向に沿って揺動し、位置決め可能になり、モータ４５を作動させると、インクジェットヘッド３４はγ方向に揺動し、位置決め可能になり、モータ４６を作動させると、インクジェットヘッド３４はα方向に揺動し、位置決め可能になる。
【００４３】
このようにインクジェットヘッド３４は、スライダ４２上において、Ｚ軸方向に直線移動して位置決め可能となり、かつ、α、β、γに沿って揺動し、位置決め可能となっている。したがって、インクジェットヘッド３４のインク吐出面を、テーブル３９側の基板Ｓに対する位置あるいは姿勢を、正確にコントロールすることができるようになっている。
【００４４】
ここで、インクジェットヘッド３４は、図６（ａ）に示すように例えばステンレス製のノズルプレート１１２と振動板１１３とを備え、両者を仕切部材（リザーバプレート）１１４を介して接合したものである。ノズルプレート１１２と振動板１１３との間には、仕切部材１１４によって複数の空間１１５と液溜まり１１６とが形成されている。各空間１１５と液溜まり１１６の内部はインク（液状組成物）で満たされており、各空間１１５と液溜まり１１６とは供給口１１７を介して連通したものとなっている。また、ノズルプレート１１２には、空間１１５からインク（液状組成物）を噴射するためのノズル孔１１８が一列に配列された状態で複数形成されている。一方、振動板１１３には、液溜まり１１６にインク（液状組成物）を供給するための孔１１９が形成されている。
【００４５】
また、振動板１１３の空間１１５に対向する面と反対側の面上には、図６（ｂ）に示すように圧電素子（ピエゾ素子）１２０が接合されている。この圧電素子１２０は、一対の電極１２１の間に位置し、通電するとこれが外側に突出するようにして撓曲するよう構成されたものである。そして、このような構成のもとに圧電素子１２０が接合されている振動板１１３は、圧電素子１２０と一体になって同時に外側へ撓曲するようになっており、これによって空間１１５の容積が増大するようになっている。したがって、空間１１５内に増大した容積分に相当するインク（液状組成物）が、液溜まり１１６から供給口１１７を介して流入する。また、このような状態から圧電素子１２０への通電を解除すると、圧電素子１２０と振動板１１３はともに元の形状に戻る。したがって、空間１１５も元の容積に戻ることから、空間１１５内部のインク（液状組成物）の圧力が上昇し、ノズル孔１１８から基板に向けてインク（液状組成物）の液滴１２２が吐出される。なお、インクジェットヘッド３４のインクジェット方式としては、前記の圧電素子１２０を用いたピエゾジェットタイプ以外の方式のものとしてもよい。例えば、バブルジェット（登録商標）方式でも良い。
【００４６】
図５に戻り、インク供給手段３５は、インクジェットヘッド３４にインク（液状組成物）を供給するインク供給源４７と、このインク供給源４７からインクジェットヘッド３４にインク（液状組成物）を送るためのインク供給チューブ４８とからなるものである。すなわちステンレス製等の容器からなるインク供給源４７にインク（液状組成物）を一時保管して、そこよりインク（液状組成物）をインク供給チューブ４８によりヘッドまで供給する方式を採用している。
【００４７】
上記構造のインクジェット装置３００を用いて基板１０に配向膜溶液を塗布する場合は、次の手順に沿って行う。まず、図７（ａ）に示すように、テーブル３９（図５参照）の所定位置に基板ＳとしてＴＦＴアレイ基板１０を位置決めして保持させ、インクジェットヘッド３４を、ＴＦＴアレイ基板１０の一方側である始点側に位置させる。次いで、インクジェットヘッド３４を一方向（Ｘ方向）へ走査しつつ、各ノズル孔１１８から配向膜溶液を吐出させる。このとき、図７（ｂ）に示すように、インクジェットヘッド３４による描画部分の縁部が、ＴＦＴアレイ基板１０の非表示領域Ｕにかかるように配向膜溶液を塗布する。
【００４８】
インクジェットヘッド３４による１回目の描画を行ったら、図７（ｃ）に示すように、インクジェットヘッド３４を、配向膜溶液が塗布されていない領域側における始点側へ戻す。なお、この場合、インクジェットヘッド３４を移動させて戻したが、基板１０を保持しているテーブル３９をθ方向に１８０°回転させることにより、インクジェットヘッド３４を、配向膜溶液が塗布されていない領域側における始点側へ配置させても良い。
【００４９】
この状態において、インクジェットヘッド３４を一方向（Ｘ方向）へ再び走査しつつ、各ノズル孔１１８から配向膜溶液を吐出させる。このようにすると、インクジェットヘッド３４のノズル孔１１８から吐出された配向膜溶液がＴＦＴアレイ基板１０上に滴下され、図７（ｄ）に示すように、ＴＦＴアレイ基板１０の残りの部分にも配向膜溶液が塗布される。また、このときもインクジェットヘッド３４による描画部分の縁部が、ＴＦＴアレイ基板１０の非表示領域Ｕにかかるように配向膜溶液を塗布する。そして、上記のような手順にてインクジェットヘッド３４による描画を行い、配向膜溶液をＴＦＴアレイ基板１０へ塗布することにより、各描画時における配向膜溶液の塗布部分の境界部分が、ＴＦＴアレイ基板１０の非表示領域Ｕに配置される。
【００５０】
このように、上記の実施形態に係る表示装置の製造方法によれば、描画を改行することにより形成される各描画の境界部分を格子状の非表示領域Ｕに配置するので、乾燥工程後に境界部分にてムラが生じたとしても、表示領域における表示ムラを引き起こすような不具合をなくすことができる。つまり、表示ムラのない極めて高品質な表示装置を製造することができ、また、大型の表示装置も高品質に製造することができる。また、各描画を、それぞれ同一方向に沿って並列に行うので、各描画の境界部分における乾燥時間の差を極力少なくすることができる。
【００５１】
なお、図８に示すように、各回の描画時における配向膜溶液の塗布部分の縁部は、インクジェットヘッド３４の端部のノズル孔１１８から吐出された配向膜溶液のドットＤの略半分が非表示領域Ｕに掛かっていれば良い。そして、各回の描画時における配向膜溶液の塗布部分同士の間に非表示領域Ｕにて隙間が形成されていても良い。このように、インクジェットヘッド３４の端部のノズル孔１１８から吐出された配向膜溶液のドットＤの略半分を非表示領域Ｕに掛からせることにより、各描画の境界部分を確実に非表示領域Ｕに配置させることができる。
【００５２】
なお、本実施形態に係る表示装置の製造方法では、配向膜溶液を成膜する場合を例にとって説明したが、本実施形態は、配向膜を成膜する場合に限定されない。即ち、本実施形態例は、ＴＦＴアレイ基板１０上へ液晶を吐出して塗布する場合あるいは対向基板２０上へＲ（赤）Ｇ（緑）Ｂ（青）の各色のインクを吐出して塗布する場合にも適応することができる。
【００５３】
そして、ＴＦＴアレイ基板１０へ液晶を塗布する場合には、各描画によって塗布された液晶の境界部分が非表示領域Ｕに配置され、表示ムラのない高品質な表示装置を製造することができる。また、対向基板２０へ各画素毎に対応した特定の色のインクを塗布する場合には、各描画によって塗布されたインクの境界部分が非表示領域Ｕに配置され、表示ムラのない高品質な表示装置を製造することができる。なお、基板１０、２０のいずれかに、光透過性のない樹脂（好ましくは黒色の樹脂）を所定の厚さに塗布し、フォトリソグラフィー法などの方法で格子状に形成した、いわゆるブラックマトリックスを設けて非表示領域Ｕとしても良い。
【００５４】
［電子機器］
次に、上記実施形態で示した表示装置を備えた電子機器の具体例について説明する。図９は携帯電話の一例を示した斜視図である。図９において、符号５００は携帯電話本体を示し、符号５０１は上記実施の形態の表示装置を備えた液晶表示部を示している。このように、図９に示すそれぞれの電子機器は、上記実施形態の表示装置を備えたものであるので、表示品位に優れた表示部を有する電子機器となる。また、上記実施形態で示した表示装置を備えた電子機器としては、車載用ナビゲーションモニター、携帯型液晶ＴＶ、液晶プロジェクターなどが挙げられ、視認性の良い、表示品位に優れた表示部を備えた電子機器となる。
【図面の簡単な説明】
【００５５】
【図１】本発明の表示装置の一実施形態である液晶装置の等価回路図。
【図２】図１の液晶装置について画素構造を示す平面図。
【図３】図１の液晶装置の要部を示す断面図。
【図４】図１の液晶装置の製造方法について一例を示す工程説明図。
【図５】表示装置を製造する液滴吐出装置を示す斜視図。
【図６】図５の要部斜視図及び要部断面図。
【図７】表示装置の製造方法の一例を示す工程説明図。
【図８】非表示領域における塗布状態を説明する要部の平面図。
【図９】本発明に係る電子機器の一例を示す斜視図。
【図１０】従来の基板への配向膜溶液の塗布状態を説明する平面図。
【符号の説明】
【００５６】
１０…ＴＦＴアレイ基板（基板）、３４…インクジェットヘッド（吐出ヘッド）、４０、６０…配向膜、５０…液晶層、１１８…ノズル孔（ノズル）、５００…電子機器、Ｄ…ドット、Ｕ…非表示領域
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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