(57)【要約】【課題】ロールツーロール工程におけるウェブの変形を補正する。【解決手段】ロールツーロール処理システムは、ウェブ進転機構（２０５）と、前記ウェブ進転機構（２０５）に結合される可撓ウェブ基材（２１０）と、前記可撓ウェブ基材（２１０）の変形を動的に検出するように構成された複数のセンサ（２２０）と、前記可撓ウェブ基材（２１０）に結合される少なくとも１つの制御可能な機械構成要素（２３０）と、前記複数のセンサ（２２０）および前記少なくとも１つの制御可能な機械構成要素（２３０）に結合されたコンピュータシステム（２２５）とを備える。コンピュータシステム（２２５）は、前記可撓ウェブ基材（２１０）の変形を検出し、前記検出された変形に基づいて、前記可撓ウェブ基材（２１０）を動的に位置合わせするためのロジックを備える。【選択図】図２Ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロールツーロール工程においてウェブ変形を補正するための方法であって、
可撓ウェブ基材を伴う前記ロールツーロール工程を開始すること、
前記ロールツーロール工程における前記可撓ウェブ基材の変形を検出すること、および
前記検出された変形に基づいて、前記可撓ウェブ基材を動的に位置合わせすることを含むウェブ変形を補正するための方法。
【請求項２】
前記可撓ウェブ基材の変形を検出することは、
前記可撓ウェブ基材上の光学模様を用いて、前記変形を検出すること、
前記検出された変形と望ましい変形とを比較すること、
前記比較に基づいてエラー信号を生成すること、および
前記可撓ウェブ基材を動的に位置合わせするために用いられる補正信号を生成することを含む請求項１に記載のウェブ変形を補正するための方法。
【請求項３】
前記可撓ウェブ基材を動的に位置合わせすることは、
前記検出された変形に基づいて、制御可能な機械構成要素を用いて、前記可撓ウェブ基材を位置合わせすることを含む請求項１に記載のウェブ変形を補正するための方法。
【請求項４】
前記制御可能な機械構成要素は、方向制御可能円盤を備えることを特徴とする請求項３に記載のウェブ変形を補正するための方法。
【請求項５】
前記制御可能な機械構成要素は、球形ニップを備えることを特徴とする請求項３に記載のウェブ変形を補正するための方法。
【請求項６】
前記球形ニップはそれぞれ、ばね押し対抗ローラを備えることを特徴とする請求項５に記載の方法。
【請求項７】
ロールツーロール処理システムであって、
ウェブ進転機構と、
前記ウェブ進転機構に結合される可撓ウェブ基材と、
前記可撓ウェブ基材の変形を動的に検出するように構成された複数のセンサと、
前記可撓ウェブ基材に結合される少なくとも１つの制御可能な機械構成要素と、
前記複数のセンサおよび前記少なくとも１つの制御可能な機械構成要素に結合されたコンピュータシステムとを備え、
該コンピュータシステムは、
前記可撓ウェブ基材の変形を検出し、
前記検出された変形に基づいて、前記可撓ウェブ基材を動的に位置合わせする
ためのロジックを備える
ロールツーロール処理システム。
【請求項８】
前記可撓ウェブ基材の変形を検出するための前記ロジックは、
前記可撓ウェブ基材上の光学模様を用いて、前記変形を検出するためのロジックと、
前記検出された変形と望ましい変形とを比較するためのロジックと、
前記比較に基づいてエラー信号を生成するためのロジックと、
前記可撓ウェブ基材を動的に位置合わせするために用いられる補正信号を生成するためのロジックと
を含む請求項７に記載のロールツーロール処理システム。
【請求項９】
前記可撓ウェブ基材を動的に位置合わせするためのロジックは、
前記検出された変形に基づいて、前記少なくとも１つの制御可能な機械構成要素を用いて、前記可撓ウェブ基材を位置合わせするためのロジックを含むことを特徴とする請求項７に記載のロールツーロール処理システム。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの制御可能な機械構成要素は、球形ニップを備えることを特徴とする請求項９に記載のロールツーロール処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、包括的には、半導体処理に関し、特に、ロールツーロール工程におけるウェブの変形を補正するための方法およびシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体処理産業では、現在、既存の構造を小型化し、より小さな構造を組立てる傾向が強い。この工程は、一般に、微細構造組立と呼ばれる。微細構造組立がかなりの影響を与えている１つの分野は、微小電子の分野である。特に、微小電子構造の小型化により、一般に、構造はより安価になり、性能は向上し、電力消費は低減され、所定の寸法に対してより多くの構成要素を収容することができる。微細構造組立は、電子産業において広範囲に使用されているが、バイオテクノロジー、光学、機械システム、検知デバイス、およびリアクター等の他の応用にも適用されている。
【０００３】
通常、電子デバイスの組立は、大抵の場合最小の特徴寸法に近いか超えるような精度で、大抵の場合互いに位置合わせされなければならないいくつかのパターンニングステップを必要とする。現在、電子デバイスは、フォトリソグラフィーを用いて、結晶シリコンまたはガラス等の平坦で、非可撓性の変形しない基材上で組立てられる。しかし、このようなデバイスを製造するためのはるかに安価な手段は、インプリントリソグラフィーに基づく。
【０００４】
インプリントリソグラフィーは、通常、組立てられる構造の特徴部を有するマスターと、パターン化する基材材料との接触を用いて、薄膜を基材材料上に高解像度でパターン化するために用いられる。パターン化される薄膜は、誘電体、半導体、金属または有機物とすることができ、薄膜または個々の層としてパターン化することができる。インプリントリソグラフィーは、特に、ロールツーロール処理において有用である。なぜなら、より高いスループットを有し、より広い基材を扱うことができるからである。このロールツーロール基材を、以下の説明では、ウェブと呼ぶ。
【０００５】
従来のフォトリソグラフィーでは、連続したパターニングステップ間での位置合わせを保証するために、光学位置合わせ模様が用いられている。ロールツーロール工程においても光学位置合わせ模様を用いることは可能であるが、いくつかの理由から実用的ではない。まず、基本的なインプリントリソグラフィー工程は、光学式ではないため、さらに複雑さが増加する。次に、ロールツーロール環境における基材の平坦性の欠如によって、被写界深度制限および他の光学収差による、光学位置合わせを行う際の精度上の困難が生じる。最後に、ロールツーロール処理において用いられる可撓基材は、温度、湿度、または機械応力のばらつきのために、寸法が変化することがある。１つのパターン化された層の次の層に対するこれらの変形および／または拡張は、大面積にわたる正確な位置合わせを不可能にする場合がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
したがって、ロールツーロール工程におけるウェブの変形を補正するための方法およびシステムが求められる。この方法およびシステムは、簡単、安価であり、既存の技術に簡単に適応することができなければならない。本発明は、これらの需要に対応することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、ロールツーロール工程におけるウェブの変形を補正するための方法およびシステムを含む。本発明は、ロールツーロール工程におけるウェブの平坦性および寸法を動的に調整することができる制御可能な機械構成要素を含む。ロールツーロール工程におけるウェブの寸法を調整することによって、連続したパターニングステップの層毎の位置合わせ精度は大幅に向上し、それによって、重ね合わせ静電容量がより低く、解像度がより高い複雑な電子構造の製造が可能になる。
【０００８】
本発明の第１の態様は、ロールツーロール工程におけるウェブの変形を補正するための方法である。この方法は、可撓ウェブ基材を伴うロールツーロール工程を開始すること、ロールツーロール工程における可撓ウェブ基材における変形を検出すること、および検出された変形に基づいて、可撓ウェブ基材を動的に位置合わせすることを含む。
【０００９】
本発明の第２の態様は、ロールツーロール処理システムである。この処理システムは、ウェブ進転機構と、ウェブ進転機構に結合される可撓ウェブ基材と、可撓ウェブ基材の変形を動的に検出するように構成された複数のセンサと、可撓ウェブ基材に結合される少なくとも１つの制御可能な機械構成要素と、および複数のセンサおよび少なくとも１つの制御可能な機械構成要素に結合されたコンピュータシステムとを備え、このコンピュータシステムは、可撓ウェブ基材の変形を検出し、検出された変形に基づいて、可撓ウェブ基材を動的に位置合わせするためのロジックを備える。
【００１０】
本発明の他の態様および利点は、本発明の原理を実施例により示す添付の図面に関連してなされる、以下の詳細な説明から明白になる。
【００１１】
本明細書で参照する図面は、本明細書の一部を構成する。図面に示される特徴は、明示的に示されず、それに反する言外の意味が示されない限り、本発明すべての実施形態を示すのではなく、本発明のいくつかの実施形態を図示するためのみのものである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
本発明は、ロールツーロール工程におけるウェブの変形を補正するための方法およびシステムに関する。以下の説明は、当業者が発明を作製し使用できるようにするために提示され、特許出願およびその要件の文脈において提供される。本明細書に記載される実施形態ならびに包括的な原理および特徴に対する様々な変更は、当業者に容易に明白となるであろう。したがって、本発明は、示される実施形態に限定されないが、本明細書に記載される原理および特徴と一致する最も広い範囲が与えられる。
【００１３】
例示の目的で図面に示されるように、本発明は、ロールツーロール工程におけるウェブの変形を補正するための方法およびシステムである。本発明は、ロールツーロール工程におけるウェブの平坦性を動的に調整することができる制御可能な機械構成要素を含む。ロールツーロール工程においてウェブを調整することによって、連続したパターニングステップの層毎の位置合わせ精度は大幅に向上し、それによって、重ね合わせ静電容量がより低く、解像度がより高い電子構造の製造が可能になる。
【００１４】
図１Ａは、ウェブの変形を補正するための例示的な方法の高レベルフローチャートである。第１のステップ１１０は、可撓ウェブ基材を伴うロールツーロール工程を開始することを含む。第２のステップ１２０は、ロールツーロール工程における可撓ウェブ基材における変形を検出することを含む。最終ステップ１３０は、検出された変形に基づいて、可撓ウェブ基材を動的に位置合わせすることを含む。位置合わせ工程はウェブ変形の状態に影響を与えるため、位置合わせ工程の影響は、ステップ１２０によって検出されるウェブの変形に影響を与える。したがって、ウェブの変形状態は、閉帰還システムによって補正される。
【００１５】
ある実施形態において、ステップ１２０は、変形を検出するための可撓ウェブ基材上に光学模様を実装することを含む。次に、ウェブの検出された変形状態は、望ましい変形状態と比較されることができる。この比較に基づいてエラー信号が生成される。このエラー信号およびウェブの変形状態に対するアクチュエータの影響についての知識から、変形状態補正信号を生成することができ、可撓ウェブ基材を動的に位置合わせするために用いることができる。
【００１６】
図１Ｂは、本発明の実施形態に従って、可撓ウェブ基材上での変形を検出するために用いられるであろうステップのさらに詳細なフローチャートである。第１のステップ１２１は、変形を検出するために、可撓ウェブ基材上の光学模様を用いることを含む。第２のステップ１２２は、検出された変形を望ましい変形と比較することを含む。次のステップ１２３は、この比較に基づいてエラー信号を生成することを含む。最終ステップ１２４は、可撓ウェブ基材を動的に位置合わせするために用いられる補正信号を生成することを含む。
【００１７】
本発明の上記の実施形態は、たとえば、コンピュータシステムを動作させて機械読取り可能な命令のシーケンスを実行することによって実施されることができる。特に、変形の検出によって提供される変形測定値の変換、変形と望ましい状態との比較、エラーを補正するための適切なエラー信号の生成、および変形調整のための適切な信号への変形補正信号の変換は、当該コンピュータシステム内で有利に実施される。命令は、様々なタイプのコンピュータ読取り可能媒体内にあってもよい。この点で、本発明の他の態様は、本発明の実施形態に従って方法を実施するためのディジタルデータプロセッサによって実行可能な機械読取り可能な命令のプログラムを有形に具体化するコンピュータ読取り可能媒体を含むプログラムされた製品に関する。
【００１８】
このコンピュータ読取り可能な媒体は、たとえば、システム内に含まれるＲＡＭを備えていてもよい。または、命令は、他のコンピュータ読取り可能な媒体に含まれてもよく、コンピュータシステムによって直接または間接的にアクセスされてもよい。コンピュータシステムまたはその他のものに含まれるかどうかに関係なく、命令は、直接アクセス記憶デバイス（ＤＡＳＤ）（たとえば、従来の「ハードドライブ」またはＲＡＩＤアレイ）、磁気データ記憶ディスケット、磁気テープ、不揮発性電子メモリ、光記憶デバイス（たとえば、ＣＤ  ＲＯＭ、ＷＯＲＭ、ＤＶＤ）、またはデジタル、アナログ、および無線通信リンク等の送信媒体を含む他の適切なコンピュータ読取り可能媒体のような様々な機械読取り可能記憶媒体に記憶されてもよい。本発明の例示的な実施形態では、機械読取り可能な命令は、コンパイルされたＣ、Ｃ＋＋、またはこのタイプのアプリケーション技術のプログラミングにおいて当業者によって一般に用いられる同様の言語コードのラインを含んでいてもよい。
【００１９】
図２Ａは、ウェブの変形を補正するためのシステム２００の高レベル図である。システム２００は、ウェブローラ２０５、可撓基材すなわちウェブ２１０、ウェブ位置センサ２２０、および制御可能な機械構成要素２３０を含む。可撓ウェブ基材は、ポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルホン、ポリカーボネート、ポリアリレート、およびポリエチレンナフタレート等のポリマー材料、または非常に薄いガラスまたはこのような材料の２つ以上の積層体等の無機材料である。これらの材料が開示されているが、当業者であれば、様々な他の材料を用いることができることを容易に認識するであろう。
【００２０】
図２Ｂは、変形補正を求めるための実施形態を示す。図２Ｂは、ウェブ２４０を示す。アイテム２５０は、ウェブ２４０上の光学点の実際の位置を表し、アイテム２６０は、光学点の望ましい位置を表す。したがって、アイテム２７０は、光学模様の実際の位置２５０を望ましい位置２６０に移動させるために必要な変位を表す。したがって、このような変位がウェブ２４０で課せられると、ウェブ２４０の特徴部の残りもほぼ位置合わせされるはずである。
【００２１】
再度図２Ａを参照すると、ウェブ位置センサ２２０および制御可能な機械構成要素２３０は、コンピュータシステム２２５と電子的に結合される。このようなコンピュータシステムの例については、図３を参照されたい。図３において、参照番号２２５で包括的に示されるコンピュータシステムのブロック図が示される。コンピュータ２２５は、ノート型コンピュータ、デスクトップコンピュータ、産業用パーソナルコンピュータ、埋め込み型コンピュータ等の様々な異なるタイプのいずれかであればよい。例示される実施形態では、プロセッサ３１２は、コンピュータシステム２２５の機能を制御する。本実施形態では、実線で示されるデータは、プロセッサ３１２とシステム２２５の構成要素との間で転送される。さらに、モジュール式熱ユニット３１４は、プロセッサ３１２から熱を除去するために用いられる。コンピュータ２２５はまた、電力をコンピュータシステム２２５の構成要素に破線で示すように供給するための電源３１６を有する。さらに、電源３１６は、電池を有してもよい。
【００２２】
コンピュータシステム２２５は、コンピュータ２２５の望ましい機能に応じて、様々な他の構成要素を取り入れてもよい。例示的な実施形態では、ユーザインターフェース３１８は、プロセッサ３１２に結合される。ユーザインターフェース３１８の例は、キーボード、マウス、および／または音声認識システムを含む。さらに、出力デバイス３２０は、プロセッサ３１２に結合され、ユーザに視覚情報を提供する。出力デバイス３２０の例は、コンピュータモニタ、ＴＶスクリーン、プリンタ等を含む。本実施形態では、通信ポート３２２がプロセッサ３１２に結合され、それによりコンピュータシステム２２５は、プリンタ、他のコンピュータ、またはネットワーク等の外部デバイスまたはシステムと通信できる。
【００２３】
プロセッサ３１２は、ソフトウェアプログラムを用いてコンピュータ２２５の動作を制御する。電子メモリは、プロセッサ３１２に結合され、プログラムを記憶し、プログラムの実行を容易にする。例示される実施形態では、プロセッサ３１２は、揮発性メモリ３２４および不揮発性メモリ３２６に接続される。ＤＲＡＭ、ＳＤＲＡＭ、ＳＲＡＭ等の様々なメモリタイプは、揮発性メモリ３２４として用いられてもよい。不揮発性メモリ３２６は、ハードドライブ、光学記憶部、または他のタイプのディスクもしくはテープ駆動メモリを含んでいてもよい。不揮発性メモリ３２６は、揮発性メモリ３２４と共に用いられる、ＥＰＲＯＭ等の読出し専用メモリ（ＲＯＭ）を含んでいてもよい。
【００２４】
システム２２５はまた、通信ネットワークを通じてリンクされるリモート処理デバイスによってタスクが実施される分散コンピューティング環境と共に使用されてもよい。分散コンピューティング環境では、プログラムモジュールは、ローカルおよびリモートメモリ記憶デバイスに設けられてよい。プログラムモジュールの実行は、独立式でローカルに、またはクライアント／サーバ式で遠隔で起こる場合がある。このような分散コンピューティング環境の例は、オフィスのローカルエリアネットワーク、企業全体コンピュータネットワーク、およびインターネットを含む。さらに、ネットワークは、本発明の精神および範囲内で、無線手段または様々な通信手段のいずれを介しても通信することができる。
【００２５】
再度図２Ａに戻ると、光学模様２１５は、可撓ウェブ基材２１０上に配置され、ロールツーロール工程におけるウェブ変形および歪みを求めるために用いられる。模様２１５は、単純な追跡模様または複雑なパターン（たとえば、シェブロンパターン）であってよい。ウェブ位置センサ２２０は、可撓基材２１０上に存在する光学模様２１５を追跡し、光学模様２１５の検出された位置に基づいて、電気信号をコンピュータシステム２２５に送信する。
【００２６】
図２Ａの実施形態では、センサ２２０は、光学照明源／検出器の組み合わせ対を有する。ウェブから反射された光は、シェブロンパターンの存在によって変調され、光検出器によって電気信号に変換される。電子変調の周波数に基づいて、ウェブの速度および位置は求められ、追跡用の２のセンサ間の位相差によって、センサに対するウェブ模様の横位置を求めることができる。複数のセンサ対２２０およびウェブ模様トラックを設けることによって、複数の所在地におけるウェブの位置および居場所を求めることができる。この情報から、望ましい圧縮状態と比較したウェブの相対的な伸長または圧縮が決定される。
【００２７】
コンピュータシステム２２５内のコンピュータソフトウェアは、電子信号を受信し、可撓ウェブ基材２１５の変形および歪みを求める。この結果、コンピュータシステム２２５は、再位置合わせ信号を制御可能な機械構成要素２３０に送信し、その点で、制御可能な機械構成要素２３０は、可撓ウェブ基材２１０の検出された変形および歪みに基づいて、可撓ウェブ基材２１０を再位置合わせする。
【００２８】
図４は、本発明の実施形態による方法のさらに詳細なフローチャートである。第１のステップ４１０は、センサを用いて可撓ウェブ基材上の光学模様の位置を検出することを含む。第２のステップ４２０は、光学模様の検出された位置に基づいて、センサに電気信号をコンピュータシステムに送信させることを含む。第３のステップ４３０は、光学模様の検出された位置に基づいて、コンピュータシステムに可撓ウェブ基材の変形および歪みを求めさせることを含む。
【００２９】
第４のステップ４４０は、可撓ウェブ基材の求めた変形および歪みに基づいて、コンピュータシステムに位置合わせ信号を、可撓ウェブ基材に結合された制御可能な機械構成要素へ送信させることを含む。最終ステップ４５０は、可撓ウェブ基材の求めた変形および歪みに基づいて、制御可能な機械構成要素に可撓ウェブ基材を再位置合わせさせることを含む。
【００３０】
ウェブの機械的応答を通して、ウェブの変形の変化は変形状態検出器によって検知され、工程は終了する。エラーと送信された再位置合わせ信号との関係を適切に求めることによって、工程は、ウェブ位置合わせを、所与のエラー限度内の望ましい変形状態に集束する。
【００３１】
再度図２Ａを参照すると、制御可能な機械構成要素２３０は、可撓ウェブ基材上に応力および圧力を誘導することによって可撓ウェブ基材２１０を再位置合わせし、それによって、可撓ウェブ基材２１０に位置を変化させるように構成されている。これによって、温度、湿度、機械応力等におけるばらつきによって生じる可撓ウェブ基材２１０のエラー偏差、変形および歪みが最小限に抑えられる。
【００３２】
本発明の実施形態では、制御可能な機械構成要素は方向制御可能円盤である。図５は方向制御可能円盤の構成５００を示す。構成５００は、可撓ウェブ基材５２０と接触している複数の方向制御可能円盤５１０を示す。方向制御可能円盤５１０の角度および速度は、円盤の方向および加速度を変化させることができるモータによって制御される。角度を変化させることによって、様々な横方向の力がウェブに伝達される。これらの横方向の力はさらに、ウェブ５２０の変形状態を変更するためにも用いることができる。モータは、コンピュータシステム５３０を用いて制御することができる。
【００３３】
コンピュータシステム５３０は、再位置合わせ信号を方向制御可能円盤５１０に送信し、それにより方向制御可能円盤５１０は、検出された任意の／あらゆる変形および歪みに対応する補償応力を可撓ウェブ基材５２０に対してかける。本実施形態の１つの態様において特に注意を要するのは、ウェブが移動している場合にのみ操向角度を変更すべきことであり、そうしないと、非平坦な変形が生じてしまうであろう。したがって、複雑な計算は、変形エラーを最小限に抑える最適な操向プロトコルを引き出すために必要な場合がある。
【００３４】
他の実施形態では、制御可能な機械構成要素は、球形ニップと呼ばれる、赤道上で駆動される球形である。球形ニップの実施によって、前の実施形態におけるより複雑な計算のいくつかが避けられる。図６は、本発明の実施形態に関連して用いることができる球形ニップ構成６００を示す。構成６００は、可撓ウェブ基材６２０と接触する球形ニップ６１０を示す。球形ニップ６１０は、モータつき赤道駆動部６１１、６１２を有する。モータつき赤道駆動部６１１、６１２は、望ましい移動方向に球形ニップ６１０を回転させ、任意の点の変位を可撓ウェブ基材６２０に与える。ばね押し対抗ローラ６３０も構成６００に示される。
【００３５】
ばね押し対抗ローラ６３０は、垂直方向の力を球形ニップ６１０に提供し、球形ニップ６１０のすべりを防止し、ウェブに与え得る力を増加させるように設計されている。球形ニップ６１０は、コンピュータシステム６４０に電子的に結合される。したがって、コンピュータシステム６４０は、再位置合わせ信号を球形ニップ６１０に送信し、それによって、球形ニップ６１０およびばね押し対抗ローラ６３０は、検出された任意の／あらゆる変形および歪みに対応する補償応力を可撓ウェブ基材６２０上にかける。
【００３６】
さらに他の実施形態では、制御可能な機械構成要素は、回転軸が他のローラ対に対して変化することが可能な機械ローラの対（駆動ローラおよび対向ローラ）を有する。図７は、本発明の実施形態に関連して用いられる機械クロスローラ構成７００を示す。構成７００は、可撓ウェブ基材７３０を駆動する機械クロスローラ７１０、７２０を示す。機械クロスローラ７１０のローラ対の回転軸は、機械クロスローラ７２０のローラ対の回転軸に対して変化することができる。機械クロスローラ７１０、７２０は、機械クロスローラ７２０のローラ対に対する機械クロスローラ７１０のローラ対の角度、位置および相対的な速度に基づいて、可撓ウェブ基材７３０の横方向の変位および張力調整を与えることができる。機械クロスローラ７１０、７２０の速度、位置、および角度を制御するモータは、コンピュータシステム７４０と電子的に結合される。したがって、コンピュータシステム７４０は、再位置合わせ信号を機械クロスローラ７１０、７２０に送信し、それによって、機械クロスローラ７１０、７２０は、検出された任意の／あらゆる変形および歪みに対応する補償応力を可撓ウェブ基材７３０にかける。
【００３７】
ロールツーロール工程におけるウェブの変形を補正するための方法およびシステムの様々な実施形態を開示した。これらの実施形態は、ロールツーロール工程におけるウェブの平坦性を動的に調整することが可能な制御可能な機械構成要素を有する。ロールツーロール工程においてウェブを調整することによって、連続したパターニングステップの層毎の位置合わせ精度は大幅に向上し、それによって、重ね合わせ静電容量がより低く、解像度がより高い電子構造の製造が可能になる。
【００３８】
本発明は、示される実施形態に従って説明されたが、当業者であれば、これらの実施形態は様々に変形することが可能であり、これらの変形は、本発明の精神および範囲内であろうことを容易に認識するであろう。したがって、多くの変更が、添付の特許請求項の精神および範囲から逸脱せずに当業者によってなされてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１Ａ】図１Ａは、本発明の実施形態による方法の高レベルフローチャートである。
【図１Ｂ】図１Ｂは、本発明の実施形態による、可撓ウェブ基材上の変形を検出するために用いることができるステップのさらに詳細なフローチャートである。
【図２Ａ】本発明の実施形態によるシステムを示す図である。
【図２Ｂ】本発明の実施形態による必要な変形補正を求めるための可能な実施形態を示す図である。
【図３】本発明の実施形態に関連して用いることができるコンピュータシステムのブロック図である。
【図４】図４は、本発明の実施形態による方法のさらに詳細なフローチャートである。
【図５】本発明の実施形態に関連して用いることができる方向制御可能円盤の構成を示す図である。
【図６】本発明の実施形態に関連して用いることができる球形ニップ構成を示す図である。
【図７】本発明の実施形態に関連して用いることができる機械クロスローラ構成を示す図である。
【符号の説明】
【００４０】
２０５  ウェブ進転機構
２１０  可撓ウェブ基材
２１５  光学模様
２２０  センサ
２２５  コンピュータシステム
２３０  制御可能な機械構成要素
５１０  方向制御可能円盤
６１０  球形ニップ
６３０  ばね押し対抗ローラ
【図１Ａ】
2005129935.tif 000003
【図１Ｂ】
2005129935.tif 000004
【図２Ａ】
2005129935.tif 000005
【図２Ｂ】
2005129935.tif 000006
【図３】
2005129935.tif 000007
【図４】
2005129935.tif 000008
【図５】
2005129935.tif 000009
【図６】
2005129935.tif 000010
【図７】
2005129935.tif 000011