(57)【要約】【課題】  低電力でしかも小型の構成でありながら、加熱室に長時間連続して蒸気を供給することのできる加熱調理装置及びその駆動方法を提供する。【解決手段】  加熱室１１内に配置された被加熱物を加熱する加熱手段１７と、加熱室１１内に蒸気を供給する蒸気供給手段１５とを備え、加熱室１１内に蒸気を供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理装置の駆動方法であって、蒸気供給手段１５による加熱室への蒸気供給量を減少させるとともに、該蒸気供給量の減少による被加熱物への加熱エネルギの低下分を加熱手段１７の駆動により補充するようにした。【選択図】  図１
2005061669.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱室内に配置された被加熱物を加熱する加熱手段と、前記加熱室内に蒸気を供給する蒸気供給手段とを備え、前記加熱室内に蒸気を供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理装置の駆動方法であって、
前記蒸気供給手段による前記加熱室への蒸気供給量を減少させるとともに、該蒸気供給量の減少による被加熱物への加熱エネルギの低下分を前記加熱手段の駆動により補充することを特徴とする加熱調理装置の駆動方法。
【請求項２】
蒸気供給により被加熱物を加熱する加熱工程が、
前記加熱室内を蒸気で充満させる蒸気量増量期間と、
該蒸気量増量期間の後に前記加熱手段と前記蒸気供給手段とを駆動する蒸気量維持期間とを含み、
前記蒸気量維持期間が、前記蒸気供給手段の駆動により前記加熱室に蒸気を供給する蒸気加熱ステップと、前記蒸気供給手段による前記加熱室への蒸気供給量を低下させるとともに該蒸気供給量の減少による被加熱物への加熱エネルギの低下分を前記加熱手段の駆動により補充する蒸発抑制ステップとを交互に実施する期間であることを特徴とする請求項１記載の加熱調理装置の駆動方法。
【請求項３】
前記蒸気供給手段による蒸気の供給を制限して前記加熱手段を駆動する時間ｔ1と、前記蒸気供給手段による蒸気の供給を制限せず前記加熱手段の駆動を停止する時間ｔ2との比を、０．２≦ｔ1／ｔ2＜１の範囲に設定したことを特徴とする請求項１記載の加熱調理装置の駆動方法。
【請求項４】
前記蒸気供給手段による蒸気の供給を制限して前記加熱手段を駆動する時間ｔ1を、２０秒≦ｔ1＜6０秒の範囲に設定したことを特徴とする請求項１記載の加熱調理装置の駆動方法。
【請求項５】
前記蒸気供給手段による蒸気の供給を制限して前記加熱手段を駆動する時間ｔ1と、前記蒸気供給手段による蒸気の供給を制限せず前記加熱手段の駆動を停止する時間ｔ2との繰り返しサイクルの時間を、６０秒〜２００秒の範囲に設定したことを特徴とする請求項１記載の加熱調理装置の駆動方法。
【請求項６】
前記蒸気供給手段への給電量を減少させることで前記蒸気供給量を低下させることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１項記載の加熱調理装置の駆動方法。
【請求項７】
被加熱物を収容する加熱室と、
前記加熱室内に配置された被加熱物を加熱する加熱手段と、
前記加熱室内に蒸気を供給する蒸気供給手段と、
前記加熱手段と前記蒸気供給手段を制御する制御手段とを備えた加熱調理装置であって、
前記蒸気供給手段が、前記加熱室内に配置された蒸発源と、該蒸発源を加熱して蒸気を発生させる蒸発源加熱手段とを有し、
前記制御手段が、前記蒸気供給手段による前記加熱室への蒸気供給量を減少させるとともに、該蒸気供給量の減少による被加熱物への加熱エネルギの低下分を前記加熱手段の駆動により補充することを特徴とする加熱調理装置。
【請求項８】
前記蒸発源が加熱室内に水を溜める蒸発皿であることを特徴とする請求項７記載の加熱調理装置。
【請求項９】
前記加熱手段が、前記加熱室の天面に配置された上側ヒータであることを特徴とする請求項７又は請求項８記載の加熱調理装置。
【請求項１０】
前記蒸気供給手段に水を供給するための水タンクを備えたことを特徴とする請求項７〜請求項９のいずれか１項記載の加熱調理装置。
【請求項１１】
前記水タンクから前記蒸気供給手段までの給水経路の途中に、前記蒸発源へ給水するためのポンプを具備し、該ポンプにより前記蒸気供給手段への供給水量を減少させて加熱室内への蒸気供給量を低下させることを特徴とする請求項７〜請求項１０のいずれか１項記載の加熱調理装置。
【請求項１２】
前記加熱室に高周波を供給する高周波発生手段を具備し、かつ、
前記蒸気供給手段が、高周波を受けて発熱する電波吸収層を少なくとも一部に備えて水溜部の形成された蒸発皿を有し、
前記高周波発生手段からの高周波を前記蒸発皿に照射することにより前記蒸発皿内の水を加熱して蒸気を発生することを特徴とする請求項７〜請求項１０のいずれか１項記載の加熱調理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加熱調理装置及びその駆動方法に関し、特に蒸気（スチーム）を用いた加熱調理装置において、蒸気加熱における使用水量を節減し、長時間連続駆動を実現する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
被加熱物を収容する加熱室をヒータにより加熱するとともに、この加熱室に蒸気を供給して加熱調理を行う加熱調理装置がある（例えば特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開昭５４−１１５４４８号公報
【０００４】
上記特許文献１に開示される加熱調理装置は、ヒータ加熱による加熱処理と並行して加熱室内に蒸気を充満させて、効率的な調理を実施可能にしている。また、この他にも蒸気発生機能に加えて高周波加熱機能を備えた複合加熱調理装置も提案されている。このような加熱調理装置においては、ヒータ加熱や高周波による加熱を適宜組み合わせて加熱調理することが可能となっている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところが、冷凍肉まんの再加熱やアクアパッツア（一尾魚と野菜の蒸し煮）等、といった調理時間の長い蒸し料理においては、加熱調理の途中で、蒸気を供給するための蒸発源に水がなくなり、調理途中で水を補給する必要が生じる。しかしながら、水の補給のために加熱調理装置の開閉扉を開けたり、加熱ヒータの加熱を停止させたりすると、加熱室内の温度は急激に低下し、熱量の損失も大きくなる。また、降温による影響をリカバリーできる被調理素材の場合でも、調理時間の損失、調理の出来栄えに及ぼす影響は大きい。また、調理途中で給水することなしに加熱調理を連続して行い、蒸気供給なしの加熱を行った場合、調理の出来映えが蒸気の有無に大きく左右されることがあった。
このため、長時間加熱を必要とする調理の場合には、単位時間当たりの使用水量をできるだけ少なくし、水の補給なしに長時間の連続運転を可能とする加熱装置への要求が高まっている。
【０００６】
従来、加熱室外部にボイラ等の蒸気供給源を設けて連続的に蒸気を供給する構成の加熱調理装置があるが、このような構成においては、調理前に予めボイラを予熱しておかなければならず、予備加熱時間、即ち、調理前の準備に要する時間が長くなる原因となっている。また、加熱室外部から蒸気を供給するので、加熱部にスケール等が溜まり、衛生上問題を生じる上に、このスケールの清掃に部品分解等の手間が掛かり、使い勝手が良くなかった。さらに、装置自体が大型化し、一般家庭用の加熱調理装置としてはコストや省エネルギの観点から好ましくなかった。
【０００７】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたもので、低電力でしかも小型の構成でありながら、加熱室に長時間連続して蒸気を供給することのできる加熱調理装置及びその駆動方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明に係る請求項１記載の加熱調理装置は、加熱室内に配置された被加熱物を加熱する加熱手段と、前記加熱室内に蒸気を供給する蒸気供給手段とを備え、前記加熱室内に蒸気を供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理装置の駆動方法であって、前記蒸気供給手段による前記加熱室への蒸気供給量を減少させるとともに、該蒸気供給量の減少による被加熱物への加熱エネルギの低下分を前記加熱手段の駆動により補充することを特徴とする。
【０００９】
この加熱調理装置の駆動方法では、加熱室への蒸気の供給を減少させるとともに加熱手段を駆動し、蒸気供給量の減少による被加熱物への加熱エネルギの低下分を加熱手段の駆動により補充するので、使用水量を節減しつつ被加熱物への熱エネルギの供給を一定に維持にすることができる。これにより、長時間の加熱にも途中で給水したり、開閉扉を開けたりすることなく加熱を維持することが可能となる。従って長時間の連続蒸気調理が可能となる。
【００１０】
請求項２記載の加熱調理装置の駆動方法は、蒸気供給により被加熱物を加熱する加熱工程が、
前記加熱室内を蒸気で充満させる蒸気量増量期間と、
該蒸気量増量期間の後に前記加熱手段と前記蒸気供給手段とを駆動する蒸気量維持期間とを含み、
前記蒸気量維持期間が、前記蒸気供給手段の駆動により前記加熱室に蒸気を供給する蒸気加熱ステップと、前記蒸気供給手段による前記加熱室への蒸気供給量を低下させるとともに該蒸気供給量の減少による被加熱物への加熱エネルギの低下分を前記加熱手段の駆動により補充する蒸発抑制ステップとを交互に実施する期間であることを特徴とする。
【００１１】
この加熱調理装置の駆動方法では、蒸気量増量期間により加熱室に蒸気が充満するとともに被加熱物表面に熱容量の大きい水分が付着することで、被加熱物の加熱効率が向上するようになる。また、該蒸気量増量期間の後の蒸気量維持期間においては、上記供給手段による蒸気供給量を減少させ、これによる加熱エネルギの低下分を加熱手段の駆動により補充する蒸発抑制ステップを、蒸気加熱ステップと交互に実施することにより、使用水量を節減しつつ被加熱物への熱エネルギの供給を一定に維持にすることができる。
【００１２】
請求項３記載の加熱調理装置の駆動方法は、前記蒸気供給手段による蒸気の供給を制限して前記加熱手段を駆動する時間ｔ1と、前記蒸気供給手段による蒸気の供給を制限せず前記加熱手段の駆動を停止する時間ｔ2との比を、０．２≦ｔ1／ｔ2＜１の範囲に設定したことを特徴とする。
【００１３】
この加熱調理装置の駆動方法では、駆動時間ｔ1とｔ2の比を所定範囲に設定することにより、使用水量の削減効果と、蒸気量低下に伴う被加熱物の乾燥を防止する効果との両方の効果を同時に得ることができる。
【００１４】
請求項４記載の加熱調理装置の駆動方法は、前記蒸気供給手段による蒸気の供給を制限して前記加熱手段を駆動する時間ｔ1を、２０秒≦ｔ1＜6０秒の範囲に設定したことを特徴とする。
【００１５】
この加熱調理装置の駆動方法では、蒸気の供給を制限して加熱手段を駆動する時間を所定時間以上に設定することで、確実に使用水量の削減を図ることができる。
【００１６】
請求項５記載の加熱調理装置の駆動方法は、前記蒸気供給手段による蒸気の供給を制限して前記加熱手段を駆動する時間ｔ1と、前記蒸気供給手段による蒸気の供給を制限せず前記加熱手段の駆動を停止する時間ｔ2との繰り返しサイクルの時間を、６０秒〜２００秒の範囲に設定したことを特徴とする。
【００１７】
この加熱調理装置の駆動方法では、駆動時間ｔ1とｔ2の繰り返しサイクルを所定の範囲に設定することで、被加熱物へ供給する加熱エネルギにムラを生じさせることなく、均一に加熱することができる。
【００１８】
請求項６記載の加熱調理装置の駆動方法は、前記蒸気供給手段への給電量を減少させることで前記蒸気供給量を低下させることを特徴とする。
【００１９】
この加熱調理装置の駆動方法では、蒸気供給手段への給電量を増減することで簡単に蒸気供給量を制御することができる。
【００２０】
請求項７記載の加熱調理装置は、被加熱物を収容する加熱室と、前記加熱室内に配置された被加熱物を加熱する加熱手段と、前記加熱室内に蒸気を供給する蒸気供給手段と、前記加熱手段と前記蒸気供給手段を制御する制御手段とを備えた加熱調理装置であって、前記蒸気供給手段が、前記加熱室内に配置された蒸発源と、該蒸発源を加熱して蒸気を発生させる蒸発源加熱手段とを有し、前記制御手段が、前記蒸気供給手段による前記加熱室への蒸気供給量を減少させるとともに、該蒸気供給量の減少による被加熱物への加熱エネルギの低下分を前記加熱手段の駆動により補充することを特徴とする。
【００２１】
この加熱調理装置では、制御手段が、加熱室への蒸気の供給を減少させるとともに加熱手段を駆動し、蒸気供給量の減少による被加熱物への加熱エネルギの低下分を加熱手段の駆動により補充するので、使用水量を節減しつつ被加熱物への熱エネルギの供給を一定に維持にすることができる。これにより、長時間の加熱にも途中で給水したり、開閉扉を開けたりすることなく加熱を維持することが可能となる。従って長時間の連続蒸気調理が可能となる。
【００２２】
請求項８記載の加熱調理装置は、前記蒸発源が加熱室内に水を溜める蒸発皿であることを特徴とする。
【００２３】
この加熱調理装置では、極めて簡単な構成で加熱室内に蒸気を供給することができ、また、付着した汚れを簡単に払拭できるので、メンテナンスが容易となる。
【００２４】
請求項９記載の加熱調理装置は、前記加熱手段が、前記加熱室の天面に配置された上側ヒータであることを特徴とする。
【００２５】
この加熱調理装置では、加熱室の上方に片寄った蒸気を加熱室上方に配置した上側ヒータで加熱することで、蒸気供給量を制限した際の温度低下による結露の発生を高効率で防止できる。また、加熱室内の空気を撹拌することのない静的な加熱方式なので、加熱室や被加熱物の温度を低下させることなく、極めて効率のよい加熱を実現できる。このように、上側ヒータの発熱による輻射熱によって、蒸気供給量の減少による被加熱物への加熱エネルギの低下分を、いち早く、高効率で補充することができる。
【００２６】
請求項１０記載の加熱調理装置は、前記蒸気供給手段に水を供給するための水タンクを備えたことを特徴とする。
【００２７】
この加熱調理装置では、水タンクから蒸気供給手段に連続して水を供給することができ、蒸発源の貯水量が少なくても長時間にわたる連続的な蒸気供給を実現することができる。
【００２８】
請求項１１記載の加熱調理装置は、前記水タンクから前記蒸気供給手段までの給水経路の途中に、前記蒸発源へ給水するためのポンプを具備し、該ポンプにより前記蒸気供給手段への供給水量を減少させて加熱室内への蒸気供給量を低下させることを特徴とする。
【００２９】
この加熱調理装置では、ポンプの駆動により蒸気供給手段への供給水量を制御することができ、必要な水量を必要なだけ蒸気供給手段に供給することが容易に可能となる。
【００３０】
請求項１２記載の加熱調理装置は、前記加熱室に高周波を供給する高周波発生手段を具備し、かつ、前記蒸気供給手段が、高周波を受けて発熱する電波吸収層を少なくとも一部に備えて水溜部の形成された蒸発皿を有し、前記高周波発生手段からの高周波を前記蒸発皿に照射することにより前記蒸発皿内の水を加熱して蒸気を発生することを特徴とする。
【００３１】
この加熱調理装置では、電波吸収層を備えた蒸発皿に高周波を照射することにより蒸発皿内の水を加熱して蒸気を発生させることができる。
【発明の効果】
【００３２】
本発明の加熱調理装置によれば、長時間の蒸気加熱に際しても、使用水量を節減しながら連続運転を行うことが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、本発明に係る加熱調理装置及びその駆動方法の好適な実施の形態について、図面を参照しつつ詳細に説明する。
本発明に係る加熱調理装置は、蒸気供給を伴う加熱時に、蒸気供給手段からの蒸気の供給が安定した後、所定間隔で間欠的に加熱室への蒸気の供給量を減少させる一方で加熱手段を駆動する。これにより、被加熱物への熱エネルギの供給を一定に維持し、使用水量を節減しつつ蒸気供給を伴う長時間の連続加熱を実現可能にしたことを特徴としている。
【００３４】
まず、この加熱調理装置の構成について説明する。
図１は本発明に係る加熱調理装置の開閉扉を開けた状態を示す正面図、図２は加熱調理装置の制御ブロック図である。
図１に示すように、この加熱調理装置１００は、被加熱物を収容する加熱室１１に加熱源からの熱と蒸気との少なくともいずれかを供給して被加熱物を加熱処理する加熱調理装置であって、加熱手段の一つである高周波を発生するマグネトロン（高周波発生部）１３と、加熱室１１内で蒸気を発生する蒸気供給手段としての蒸気発生部１５と、加熱室１１の上方に配置された加熱手段の一つである上部ヒータ１７と、これら各部を制御する制御手段としての制御部３９（図２参照）とを基本的な構成要素として有する。
【００３５】
高周波発生部１３からの高周波は、回転駆動される電波撹拌用のスタラー羽根２３によって加熱室１１の全体に分散される。そして、蒸気発生部１５には、加熱室１１の側方に設けた給水タンク２７から水が供給される構成となっている。
【００３６】
蒸気発生部１５は、加熱室１１の底面奥側で、少なくとも一方の隅部に設けてある。本実施形態においては、一例として奥側両隅に２基配置した構成を示しているが、片側に１基配置した構成や、加熱室１１の奥側壁面に沿って細長形状の蒸発皿を配置した構成であってもよい。また、加熱室１１の奥側側面には、サーミスタや赤外線センサ等の加熱室温度センサ３１が取り付けられ、加熱室１１の温度を測定する。さらに、加熱室１１の奥側背面には、赤外線センサ等の被加熱物温度センサ３２が取り付けられ、被加熱物の温度を測定する。
【００３７】
なお、本発明の加熱調理装置１００には、加熱室１１内の空気を撹拌・循環させる循環ファン３３や、加熱室１１内を循環する空気を加熱する加熱手段の一つであるコンベクションヒータ３５からなる室内気加熱部３７を取り付けてもよい。これら各部の動作も、マイクロプロセッサを備えてなる制御部３９からの制御指令により行われる。
【００３８】
加熱室１１は、前面開放の箱形の本体ケース１０内部に形成されており、本体ケース１０の前面には、加熱室１１の被加熱物取出口を開閉する透光窓４１ａ付きの開閉扉４１が開閉自在に取り付けられている。
【００３９】
また、開閉扉４１の前面側に設けられる操作パネル９１には、加熱の開始を指示するスタートスイッチ９３、予め記憶部９５に用意されている調理プログラムうち、所望のプログラムを選定する自動調理スイッチ９７等の種々の操作スイッチの他、例えばランプ等の蒸気供給状況を報知する報知手段９９が設けられている。
そして、制御部３９は、商用電源に接続される電源部４０から電力供給されており、高周波発生部１３、上部加熱ヒータ１７、蒸気発生部１５等に加熱電力が許容電力値を超えないように、各部への電力配分を制御している。
【００４０】
高周波発生部１３は加熱室１１の下側の空間に配置されており、加熱室１１底面の略中央の、マグネトロンより発生した高周波を受ける位置にスタラー羽根２３を設けてある。これら高周波発生部１３やスタラー羽根２３は、加熱室１１の底部に限らず、加熱室１１の他の面側に設けることもできる。また、スタラー羽根２３の代わりにターンテーブルを備えた構成としてもよい。
【００４１】
蒸気発生部１５は、加熱により蒸気を発生する加熱源となる水溜凹所（加熱面）４５ａを有した加熱ブロック（金属ベース）４５を有する。
【００４２】
ここで、本加熱調理装置１００による蒸気発生の基本原理を簡単に説明する。
図３に加熱調理装置の蒸気発生の基本原理を表す説明図を示した。
これによれば、給水タンク２７に貯留された水は、逆止弁４９を通して給水管５１に供給される。給水管５１の中間部配管５１ａでは、加熱ブロック４５のシーズヒータ５３からの発生熱が伝熱されることで、中間部配管５１ａ内の水が加熱される。そして、加熱された水の一部は、湯になる際に沸騰して気泡を発生し、急激に体積膨張する。このとき、給水管５１の給水タンク２７側の逆止弁４９は閉止され、給水タンク２７側への逆流が阻止される。従って、体積膨張した水は吐出側配管５５へ間欠的に供給される。これにより、吐出側配管５５内では水位が上昇し、上部に形成されたエア抜き孔５７から余分な蒸気が排出されると共に、加熱された水が吐出口５９から加熱ブロック４５の水溜凹所４５ａに間欠的に供給される。
【００４３】
一方、水溜凹所４５ａもシーズヒータ５３により加熱されており、滴下された加熱水はここで蒸発して加熱室１１に供給される。つまり、加熱ブロック４５のシーズヒータ５３の発熱により、水溜凹所４５ａへ加熱した水を供給すると共に、水溜凹所４５ａを加熱する構成となっている。このように、加熱された水が水溜凹所４５ａに供給されるので、蒸気発生を一層短時間で行うことができる。なお、水溜凹所４５ａに給水する構成としては、上記に限らず、ポンプを用いて供給水量を制御しながら供給する構成としてもよい。
【００４４】
上記の蒸気供給手段の具体的な構成例を、以下に詳細に説明する。
図４に加熱ブロックの外観斜視図を示した。（ａ）は上面側で（ｂ）は裏面側である。
加熱ブロック４５は、軽量で熱伝導性の高いアルミのダイキャスト成形品としている。加熱ブロック４５には、本体６１の内部に蒸発源加熱ヒータとしてＵ字形のシーズヒータ５３が埋設されており、このシーズヒータ５３に沿った上面側に水溜凹所４５ａが形成され、下面側に給水管５１の中間部配管５１ａを被覆する加熱部４５ｂが形成されている。これら水溜凹所４５ａ及び加熱部４５ｂはダイキャストにより一体に形成されており、接続面等が存在しない一体構成のため、高効率でシーズヒータ５３の発熱を伝導可能にしている。
【００４５】
また、水溜凹所４５ａの下側に位置する収容穴６３には、温度を検知する蒸発皿温度センサとしてのサーミスタ６５が挿入されて、本体６１のシーズヒータ５３付近の温度を測定する。水溜凹所４５ａの一端側には開口孔６７が形成されて、前記吐出口５９（図５参照）からの水が水溜凹所４５ａ内に供給される。なお、シーズヒータ５３や加熱部４５ｂ等の形状や取り付け位置等は、必要とする加熱量や加熱調理装置１００の筐体内への設置スペース等に応じて適宜変更され得るものである。なお、上記シーズヒータ５３は、線ヒータ、セラミックヒータ等の他種類のヒータであっても構わない。
【００４６】
蒸気発生部１５は、加熱室１１の底面から蒸気を供給して加熱室１１内で効率良く蒸気拡散する構成となっている。加熱ブロック４５の水溜凹所４５ａの表面は、珪酸（ＳｉＯ2）等を含む親水材料で処理していることで、水が球状になることなく、大きな接触面積が確保でき、より多くの蒸気を発生させやすくしている。また、仮に汚れが付着しても簡単に除去できるようにしている。例えば、蒸気発生の過程では、水分中のカルシウムやマグネシウム、塩素化合物等が濃縮されて水溜凹所４５ａ底部に沈殿固着することがあるが、水溜凹所４５ａが加熱室１１内に開放されているため、水溜凹所４５ａを布等で拭き取るだけで、きれいにこのような汚れを払拭することができる。
【００４７】
ここで、図１に示す給水タンク２７から加熱ブロック４５までの給水経路を説明するため、図５に図１のＡ方向矢視図を示した。
前述の蒸気発生原理を説明した図３と同様であるが、給水タンク２７の水は、逆止弁４９を通して給水管５１に供給され、加熱ブロック４５の加熱部４５ｂで加熱されて吐出側配管５５に供給される。そして、加熱された水が吐出口５９から加熱ブロック４５の水溜凹所４５ａへ間欠的に供給される。なお、給水管５１としては、特に伝熱を受ける加熱部４５ｂ周辺では、銅パイプ等の熱電導度の高い材質が好適に用いられる。
【００４８】
従って、本加熱調理装置１００では、予熱が必要となる大型のボイラ等を用いずに蒸気供給が可能になるとともに、いち早く加熱室内への蒸気の供給を可能にすることができる。これにより、低電力でしかも小型の構成で蒸気供給が可能になり、調理の自在性を高めることができる。
【００４９】
次に、蒸気供給を伴う加熱時に、蒸気供給手段からの蒸気の供給が安定した後、所定間隔で間欠的に加熱室への蒸気の供給量を減少させる一方で加熱手段を駆動するという、本発明に係る加熱調理装置の駆動方法について詳細に説明する。
本加熱調理装置の駆動方法によれば、蒸発源からの蒸発量を積極的に低減させ、このことに起因する蒸気からの加熱エネルギの低下分を、加熱手段の駆動により補充し、被加熱物の加熱特性に影響を与えることなく使用水量を節減するようにしている。これにより、蒸気供給を伴う長時間の加熱の際にも、人為的に加熱の途中で水を給水したり、開閉扉を開けたりすることなく加熱を維持させることが可能となる。従って、長時間にわたる安定した連続蒸気調理が可能となる。
【００５０】
図６にその駆動シーケンスの一例を示した。
ここでの加熱工程は、加熱室１１の内側面に蒸気が多量に結露することを防止するために加熱室１１を蒸気供給前に予め加熱する予熱と、蒸気加熱を行う本加熱とからなる。本加熱は、加熱室１１内を蒸気で充満させる蒸気量増量期間と、この蒸気量増量期間の後、加熱手段と蒸気供給手段とを駆動する蒸気量維持期間とを含む。
【００５１】
予熱では、まず、コンベクションヒータ３５を発熱させて循環ファン３３を回転させることで、加熱室１１内に熱風循環を形成し、加熱室１１全体を加熱する。そして、所定時間経過後に、加熱手段である上側ヒータ１７を発熱させて、加熱室内の温度を一層高める。ただし、この予熱は、場合よっては省略することもある。なお、被加熱物は予熱開始前に加熱室１１内に載置するものとする。
【００５２】
蒸気量増量期間では、予熱完了後に蒸発源加熱ヒータであるシーズヒータ５３を発熱させ、蒸発皿に供給した水を加熱して蒸気を発生させる（図６の時間ｔａ（例えば１０分）の間）。具体的には、蒸気を加熱室１１内に供給すると、図６の時間ｔｂ（例えば７分）で蒸気が飽和水蒸気量に達する。その状態のまま蒸気を加熱室１１内に供給し続け、加熱室１１内に必要十分な蒸気量を充満させる。
【００５３】
蒸気量維持期間では、蒸気量増量期間により加熱室１１内の蒸気量が加熱調理に適した所定量に達した後に、２つの異なるステップを繰り返し行なう。
この２つのステップとは、蒸気供給手段の駆動により加熱室１１に蒸気を供給する蒸気加熱ステップと、蒸気供給手段による加熱室１１への蒸気供給量を低下させるとともに、この蒸気供給量の減少による被加熱物への加熱エネルギの低下分を加熱手段の駆動により補充する蒸発抑制ステップである。これらのステップを交互に実施することで、使用水量を節約することができる。
【００５４】
具体的には、蒸気加熱ステップは、蒸気発生部１５による蒸気の供給を制限せずに行うとともに上側ヒータ１７の駆動を停止するステップであり、蒸発抑制ステップは、蒸気発生部１５による蒸気の供給を制限して供給量を減少させるとともに上側ヒータ１７を駆動するステップである。従って、蒸気加熱ステップでは、蒸気発生部１５から加熱室１１へ蒸気が供給され、蒸発抑制ステップでは、蒸発源加熱ヒータであるシーズヒータ５３の給電量を減少させるため、蒸気発生部１５における水の蒸発が制限されて蒸気供給量が減少し、その結果、使用水量の増加が抑えられる。なお、ここでいう「供給を制限する」とは、供給量を減少させて元の供給量より少ない供給量とすること、或いは、供給を停止して供給量をゼロとすることを意味する。
【００５５】
この蒸気抑制ステップでは、高温の蒸気の供給が制限されて少なくなるため、被加熱物に対する加熱エネルギが減少する傾向になるが、その加熱エネルギの低下分を上側ヒータ１７の駆動により補充することで、均等な加熱エネルギを連続的に被加熱物に対して供給している。
【００５６】
このようにして、加熱工程の前半を蒸気量増量期間で加熱室内に蒸気を充満させ、冷凍肉まんの再加熱やアクアパッツアなどの食品を冷たいうちに大量の蒸気と接触させる。
そして加熱室内の蒸気量が増えて飽和水蒸気量達し、蒸気量が安定してくる加熱工程の後半において、蒸気の供給を一時的に減少させ、この蒸気供給量の減少分による熱エネルギの低下を、上側ヒータ１７の駆動により補償する。
【００５７】
つまり、蒸気供給手段により発生させた蒸気が加熱室の上方に集まりやすいので、この片寄った分布状態の蒸気を加熱室上方に配置した上側ヒータで加熱する。これにより、蒸気供給量を制限した際の加熱室内温度の低下による結露の発生を高効率で防止することができる。また、上側ヒータ１７による加熱は、加熱室１１内の空気を撹拌することのない静的な加熱方式なので、被加熱物に風を吹き当てて被加熱物の有する熱を奪うことなく、被加熱物近傍の局所的な加熱雰囲気を掻き乱して雰囲気温度を低下させることもないので、極めて効率のよい加熱を実現できる。そして、上側ヒータ１７により加熱室１１の温度を高い温度で一定に維持できれば、蒸気供給を停止した後に再度供給を開始する際、新たに発生させた高温の蒸気の熱量が加熱室１１自体の昇温用に費やされることがなくなり、被加熱物への加熱用として費やされるようになる。そのため、使用水量を節減しつつ、均一で美しい蒸し上がり状態を高効率で得ることが可能になる。
【００５８】
このような本加熱中の蒸気量維持期間においては、前記した蒸気加熱ステップと、蒸気抑制ステップとを次に示す条件で実施することが好ましい。
まず、蒸気供給手段による蒸気の供給を制限して加熱手段を駆動する時間（蒸気抑制ステップの時間）ｔ1と、蒸気供給手段による蒸気の供給を制限せず加熱手段の駆動を停止する時間（蒸気加熱ステップの時間）ｔ2との比を、０．２≦ｔ1／ｔ2＜１の範囲に設定する。この比が上記範囲より小さすぎると、使用水量が増加して水の削減効果が小さくなる。また、比が上記範囲より大きすぎると、使用水量が減少するが、その反面、被加熱物が乾燥して仕上がり状態が悪化することとなる。
【００５９】
また、蒸気供給手段による蒸気の供給を制限して加熱手段を駆動する時間ｔ1を、２０秒≦ｔ2≦４０秒の範囲に設定する。この蒸気加熱ステップの時間が上記範囲より短い場合には、蒸気供給を制限しても、制限した直後から直ちに蒸気供給量は低下せずに、ある程度の応答遅れを伴って低下するために、実質的な使用水量の削減効果が小さくなる。また、時間が上記範囲より長い場合には、蒸気発生部１５の蒸発皿となる水溜凹所４５ａの温度が低下して、次に蒸気を供給するときに、蒸発皿内の水を加熱するまでの時間が余分にかかり、蒸気発生の応答性が悪くなる。
【００６０】
また、蒸気供給手段による蒸気の供給を制限して加熱手段を駆動する時間ｔ1と、蒸気供給手段による蒸気の供給を制限せず前記加熱手段の駆動を停止する時間ｔ2との繰り返しサイクルの時間を、６０秒〜２００秒の範囲に設定する。この繰り返しサイクルの時間も上記の時間ｔ2と同様に、上記範囲より短いと蒸気発生部１５からの蒸気発生の応答速度を上回り、使用水量の削減効果が薄くなる。また、上記範囲より長くなると、次に蒸気を供給するときに、蒸発皿内の水を加熱するまでの時間が余分にかかり、蒸気発生の応答性が悪くなる。
【００６１】
なお、各時間は一例として、蒸気抑制ステップの時間ｔ1を４０秒、蒸気加熱ステップの時間ｔ2を８０秒、繰り返しのサイクル周期ｔ3を１２０秒とすることができる。
【００６２】
そして、本加熱調理装置１００の水タンク２７の容量が６００ｃｃ程度である場合には、従来の蒸気加熱方法では２５分程度の連続加熱しかできなかったが、本発明の駆動方法によれば、平均レベルでも２５％以上の使用水量の節減が図られ、更に長時間の連続運転が可能となる。
さらには、水の補給のために加熱調理装置１００の開閉扉４１を開けたり、各ヒータの加熱を停止させたりすると、加熱室１１内の温度は急激に低下するが、このような水補給を行うことがないために、効率のよい加熱調理が行える。特に、温度低下によりリカバリー不能となる被調理素材を加熱調理する場合でも、調理の出来栄えに影響を及ぼすことがなくなり、調理時間の損失や調理の失敗を招くことがなくなる。
【００６３】
以上説明した本発明の駆動方法は、加熱初期の蒸気量増量期間で多量の蒸気を加熱室１１に供給すれば、その後の蒸気量維持期間において多量の蒸気を投入しなくとも、しっとりと仕上げることができると確認されたことにより知見されたものである。そのために、加熱前半の蒸気量増量期間では通常通りの蒸気供給量を確保して、加熱後半の蒸気量維持期間における蒸気供給量を減少させている。
【００６４】
なお、上記実施形態では、加熱手段として上側ヒータ１７を用いたが、これに限らず、他のコンベクションヒータ３５等のヒータを用いてもよく、さらには、各ヒータを組み合わせて用いてもよい。
また、蒸気発生部１５へ給水するポンプを備えた場合には、このポンプにより蒸気発生部１５への供給水量を減少させて加熱室内への蒸気供給量を低下させるとよい。これにより、蒸気供給手段への供給水量を適切に制御することができ、必要な水量を必要なだけ蒸気供給手段に供給することが容易となる。
【００６５】
また、本実施形態の加熱調理装置１００は、加熱時に、制御部３９は、加熱ブロック４５のサーミスタ６５や加熱室内の温度を検出する加熱室温度センサ３１、或いは被加熱物温度センサ３２からの検出温度に応じて、蒸気発生量やヒータ加熱量をフィードバック制御し、加熱室１１内の温度や蒸気量を適切に設定する。これにより、温度管理の難しい卵料理等を容易に行うことが可能となる。
【００６６】
さらに、加熱調理装置１００は、制御部３９の制御により、加熱室温度センサ３１による加熱室１１の温度検出値に応じて、加熱ブロック４５のシーズヒータ５３への給電量（後述する連続加熱時間であってもよい）を増減させることができる。
このような制御方法によれば、加熱室１１の温度が所定値より高い場合には蒸気発生時におけるシーズヒータ５３への給電量が低減され、加熱室１１の温度検出値が所定値より低い場合にはシーズヒータ５３への給電量が増加される。つまり、加熱室１１の低温時における加熱量の多く必要とする場合に、シーズヒータ５３の加熱量を増加させ、いち早く水が蒸発されるようにする。一方、加熱室１１の高温時には、加熱ブロック４５の水溜凹所４５ａが既に水が蒸発する程度に昇温されているため、無駄にシーズヒータ５３を加熱することがなくなり、省エネルギ効果が高められる。
【００６７】
また、加熱調理装置１００は、制御部３９の制御により、被加熱物温度センサ３２による温度検出値に応じて、蒸気発生量を増減させるようにしてもよい。
このような制御方法によれば、被加熱物の表面温度が所定温度以上の場合に、加熱ブロック４５のシーズヒータ５３への給電量が増加すると共に水溜凹所４５ａへ給水する。これにより発生した蒸気によって、被加熱物の表面温度は供給された蒸気によって上昇が抑止され、過剰な焦げ付きを防止できる。
【００６８】
さらに、本実施形態の加熱調理装置１００では、蒸気発生部１５を加熱室１１の底面隅部に２基備えているので、被加熱物の加熱内容に応じて発生させる蒸気量を可変にでき、蒸気を多量に必要とするもの、少量でよいもの等の切り分けができ、蒸気供給のパターンを所望の蒸気供給量になるように任意に設定することができる。
【００６９】
また、報知手段９９は、加熱室１１に蒸気を供給している間、蒸気供給中である旨の報知を行う。この場合、例えばＬＥＤを用いたときには点灯動作等により報知を行う。従って、蒸発が供給されると、その旨が報知手段９９によって報知され、加熱調理装置１００の外観からは視認が困難な蒸気供給状態が確実に把握可能となり、高温蒸気に対する安全性が高められる。
【００７０】
次に、本実施形態の一変形例を説明する。
本変形例では、前述の加熱調理装置１００の蒸気発生部の蒸発皿を深底形状として、水タンクを設けない構成にしている。
図７に本変形例に係る加熱調理装置の加熱室の部分断面図を示した。
この場合の蒸気発生部の蒸発皿４６は、深底形状に形成され、蒸発皿４６の外側周面には蒸発源加熱ヒータとしてのシーズヒータ４８が配設されている。蒸発皿４６の上面には、開口部を有する蓋体５２が着脱自在に配設され、開口部から発生した蒸気を加熱室１１に供給している。蒸発皿４６は、有底円筒状であってもよく、加熱室壁面に沿った細長溝状であってもよい。
【００７１】
上記構成における水の供給は、主に被加熱物の加熱開始前に予め給水しておくことになるが、蒸発皿４６の貯水量が多いために、加熱後の継ぎ足しの頻度は最小限に抑えられる。従って、前述した加熱調理装置の駆動方法を実施することで、使用水量が節減され、蒸気供給を伴う長時間の連続加熱が可能となる。
【００７２】
次に、本発明に係る加熱調理装置の第２の実施形態を説明する。
図８に本実施形態における加熱調理装置の加熱室の概略断面図を示した。
本加熱調理装置２００の加熱室１１の壁面には、蒸発皿としての受け皿７１を加熱室１１の所定高さ位置に配置させるための係止部７２ａ、７２ｂが形成され、この係止部７２ａ，７２ｂに受け皿７１の端部を係止させることで、受け皿７１を加熱室１１内に取り付けている。
受け皿７１は、水を貯留可能な浅底形状を有し、加熱室１１に対して複数の高さ位置に容易に脱着自在とされている。受け皿７１は、皿本体となる金属板７３と、この金属板７３の皿の外側底面に対峙してあるいは接触して配置される高周波発熱体７４（高周波吸収層）とを少なくとも有している。そして、受け皿７１の上面には、被加熱物Ｍを載置するための網状或いは多数パンチ孔の載置台７５が取り付けられている。
【００７３】
金属板７７は、例えばアルミメッキ鋼板等からなり、水溜可能な深さを有している。アルミメッキ鋼板の表側面には防汚効果の高いフッ素塗装を施し、裏側面には吸熱効果の高い黒色耐熱塗装を施すことが好ましい。
高周波発熱体７４は、金属板７３側とは反対側の面に、高周波を吸収して発熱する窒化物及び硼化物からなる高周波発熱膜を基体に密着させて形成している。基体は、セラミック材又は耐熱樹脂材からなり、蓄熱効果の高い材料が好適に用いられる。
なお、上記係止部７２ａ，７２ｂは、受け皿７１の加熱室挿入方向に沿って両脇側に設けられた絶縁体からなり、加熱室１１との間に隙間を形成することで、高周波加熱時におけるスパークの発生を防止している。
【００７４】
上記構成の加熱調理装置２００によれば、加熱室１１の底面側に配置された高周波発生部１３から高周波を発生させ、スタラー羽根２３の回転により加熱室１１内に高周波を拡散供給する。これにより、受け皿７１の高周波発熱膜が発熱して高周波発熱体７４が加熱され、その熱が金属板７３を介して貯留された水を加熱する。すると、受け皿７１から蒸気が発生して、受け皿７１の上方の加熱室１１に蒸気が供給される。従って、本実施形態においては、蒸発源加熱ヒータが高周波発生部１３に相当し、この高周波発生部１３の出力を制御することで、蒸気発生量の制御が可能となる。
【００７５】
この場合にも、前述した加熱調理装置の駆動方法を実施することで、使用水量が節減され、蒸気供給を伴う長時間の連続加熱が可能となる。
【実施例】
【００７６】
ここで、第１実施形態における加熱調理装置を用いて、蒸気供給により被加熱物を加熱する調理を実施した結果を以下に説明する。
実施例１、２及び比較例１，２のそれぞれは、蒸気発生部のシーズヒータへの通電時間と、上側ヒータへの通電時間の割合を変化させて調理したもので、調理終了までの使用水量と、被加熱物の調理の出来映えと、被加熱物表面の結露の状態からそれぞれに対して良否判定を行った。その結果を表１に示す。
【００７７】
【表１】
2005061669.tif 000003
【００７８】
比較例１は蒸気発生部の駆動を制限することなく加熱調理中連続して蒸気供給を行った場合であり、上側ヒータの駆動を行わず、蒸気供給時間を１２０秒とした。実施例１、２は本発明に係る駆動方法により、蒸気発生部の蒸気供給量を減少させた場合で、実施例１では上側ヒータの駆動時間を２０秒、蒸気供給時間を１００秒とし、実施例２では上側ヒータの駆動時間を４０秒、蒸気供給時間を８０秒とした。また、比較例２では上側ヒータ駆動の時間を６０秒、蒸気供給時間を６０秒とした。なお、上側ヒータの駆動と蒸気供給との繰り返しサイクルは、いずれも１２０秒の周期で行った。
【００７９】
その結果、比較例１では使用水量が多くなり、水タンクの容量を超えてしまい、調理途中の水供給が必要となった。被加熱物の状態は、しっとりとした良好な状態であるが、加熱室内に残留する結露の量が多くなった。
これに対して実施例１、２では、共に使用水量が減少して調理途中の水供給が不要となり、また、被加熱物の状態は良好であった。
また、比較例２では使用水量が減少するが、被加熱物表面の水分量が減少して乾燥気味となった。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】本発明に係る加熱調理装置の開閉扉を開けた状態を示す正面図である。
【図２】加熱調理装置の制御ブロック図である。
【図３】加熱調理装置の蒸気発生の基本原理を表す説明図である。
【図４】加熱ブロックの外観図で（ａ）は上面側、（ｂ）は裏面側の斜視図である。
【図５】図１のＡ方向矢視図である。
【図６】本発明に係る加熱調理装置の駆動シーケンスの一例を示す説明図である。
【図７】変形例における加熱調理装置の加熱室の部分断面図を示した。
【図８】第２実施形態における加熱調理装置の加熱室の概略断面図である。
【符号の説明】
【００８１】
１１  加熱室
１３  高周波発生部（加熱手段）
１５  蒸気発生部（蒸気供給手段）
１７  上側ヒータ（加熱手段）
２７  水タンク
３５  コンベクションヒータ（加熱手段）
５３  シーズヒータ（蒸発源加熱ヒータ）
７１  受け皿
７４  高周波発熱体（高周波吸収層）
１００，２００  加熱調理装置
【図１】
2005061669.tif 000004
【図２】
2005061669.tif 000005
【図３】
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【図４】
2005061669.tif 000007
【図５】
2005061669.tif 000008
【図６】
2005061669.tif 000009
【図７】
2005061669.tif 000010
【図８】
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