(57)【要約】【課題】  繰り返しパターンの一部の特定パターン部分を短時間に正確に像観察装置の視野内に移動させることができるパターン検出方法及び装置を実現する。【解決手段】  次々に取得される画像データから輝度のラインプロファイルを生成し、隣り合った画像データのラインプロファイルについて、重ね合わさる部分を判断して重ね合わせ、一連のつながったプロファイルを生成する。コンピュータは、画面上に一つにつながったプロファイルを適当にスケーリングして表示し、オペレータは、輝度の閾値を指定する。コンピュータ５は、プロファイル上でその閾値を超えた部分をパターンと判断してカウントし、カウント結果を画面に表示する。画面に表示されたカウント結果から、試料ステージが目標位置に到達したかどうかを判断する。【選択図】      図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料の表面に配列して形成された繰り返しパターンにおける特定のパターンを検出するためのパターン検出方法であって、繰り返しパターンの配列方向に沿って試料を移動させるとともに試料の表面に形成された繰り返しパターンの像を検出し、像内において新しいパターンが検出されたときにそのパターンをカウントし、カウントされたパターンの数により試料の移動を停止し、停止したときの試料の表面の像を検出することにより特定のパターンの検出を行うようにしたパターン検出方法。
【請求項２】
試料の表面に配列して形成された繰り返しパターンにおける特定のパターンを検出するためのパターン検出方法であって、繰り返しパターンの配列方向に沿って試料を移動させるとともに試料の表面に形成された繰り返しパターンの像を検出し、移動中において検出された像に基づき各像の特定ラインにおける輝度プロファイルを取得し、設定した輝度の閾値を超えたプロファイル部分をパターンと判断してカウントし、カウントされたパターンの数により試料の移動を停止し、停止したときの試料の表面の像を検出することにより特定のパターンの検出を行うようにしたパターン検出方法。
【請求項３】
繰り返しパターンにおける初期位置でのパターンから特定パターンまでの繰り返しパターンの数が記憶されており、この記憶されたパターンの数と、試料の移動によってカウントされたパターンの数とを比較するようにした請求項１又は２記載のパターン検出方法。
【請求項４】
試料の表面に配列して形成された繰り返しパターンにおける特定のパターンを検出するためのパターン検出装置であって、繰り返しパターンの配列方向に沿って試料を移動させる手段と、試料の表面に形成された繰り返しパターンの像を検出する手段とを有し、像内において新しいパターンが検出されたときにそのパターンをカウントし、カウントされたパターンの数により試料の移動を停止し、停止したときの試料の表面の像を検出することにより特定のパターンの検出を行うようにしたパターン検出装置。
【請求項５】
試料の表面に配列して形成された繰り返しパターンにおける特定のパターンを検出するためのパターン検出装置であって、繰り返しパターンの配列方向に沿って試料を移動させる手段と、試料の表面に形成された繰り返しパターンの像を検出する手段とを有し、移動中において検出された像に基づき各像の特定ラインにおける輝度プロファイルを取得し、設定した輝度の閾値を越えたプロファイル部分をパターンとしてカウントし、カウントされたパターンの数により試料の移動を停止し、停止したときの試料の表面の像を検出することにより特定のパターンの検出を行うようにしたパターン検出装置。
【請求項６】
繰り返しパターンにおける初期位置でのパターンから特定パターンまでの繰り返しパターンの数が記憶されており、この記憶されたパターンの数と、試料の移動によってカウントされたパターンの数とを比較するようにした請求項４又は５記載のパターン検出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、メモリーなどの繰り返しパターンが形成された試料の特定のパターン部分を検出するに最適な像観察装置を用いたパターン検出方法及び装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、半導体メモリーを製造する過程で、試料としての半導体ウェハ上に形成された特定のパターンの有無が検出される。この検出は、まず電気的な試験によりパターンに特定の特徴があること、および、その特定パターンの位置が正確に判明した場合、その特定パターン部を例えば像観察装置としての走査電子顕微鏡の光軸上に移動させ、その特定パターン部分を含む領域を電子ビームで走査し、この走査に伴って発生した、例えば２次電子を検出し、検出信号を電子ビームの走査に同期したディスプレイに映像信号として供給する。
【０００３】
この結果、ディスプレイ上には、特定パターンの走査像が高い倍率と高い分解能で表示され、観察することができ、その特定パターンの様子や分析から例えば欠陥発生の原因を見出すようにしている。このような半導体デバイスの特定パターンの検査を走査電子顕微鏡を用いて行う例として、特許文献１、特許文献２、特許文献３を参照することができる。特に、特許文献３には、半導体素子の繰返しパターン群中に存在する対象パターンの位置出し・位置決めを容易にするため、繰返しパターンを構成する基本パターンを学習する機能と、この基本パターンの数を自動計測するとともに、対象パターンを位置出し・位置決めする機能を持たせたものが記載されている。
【特許文献１】特開２００２−２５４９１号公報
【特許文献２】特開２０００−１００３６６号公報
【特許文献３】特開２００１−１４８０１６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、検出対象のパターンが、複雑で特徴的なパターンが多い場合には、判明している特定パターン位置付近のＣＡＤデータと走査電子顕微鏡の走査像とを比較することで、正確に特定パターン位置を観察することができる。すなわち、ＣＡＤデータに基づくパターンにおいて、図１（ａ）に示すような、電気的検査などで特定パターンが判明している位置（図１（ａ）における×印の位置）を含むパターン領域と、走査電子顕微鏡内に導入された検出対象の半導体ウェハを移動させ、特定パターン位置付近が光軸に近いところに位置させる。そして、得られた走査像とＣＡＤデータに基づく像とのパターンマッチング処理を行い、マッチングした位置にウェハ試料を停止させる。このような処理を行うことにより、走査電子顕微鏡像において特定パターン部分が見えなくとも、図１（ｂ）に示すように、矢印で示された箇所に特定パターンが存在していることが確定できる。なお、図中Ｐで示された部分が形成されたパターンである。
【０００５】
次に、半導体メモリーのように、形成されたパターンが単調なパターンの繰り返しである場合についての問題点を説明する。ＣＡＤデータに基づくパターンにおいて、図２（ａ）に示すような、電気的検査などで例えば欠陥が判明している位置（図２（ａ）における×印の位置）を含むパターン領域が存在している場合、走査電子顕微鏡内に導入された検出対象の半導体ウェハを移動させ、欠陥位置付近が光軸に近いところに位置させる。そして、得られた走査像とＣＡＤデータに基づく像とのパターンマッチング処理を行い、マッチングした位置にウェハ試料を停止させる。このような処理を行うことにより、図２（ｂ）に示す像のように、欠陥の原因がパターン上に大きな異物Ｄが付着している場合などでは、走査電子顕微鏡の走査像を観察することにより、オペレータは異物Ｄを比較的簡単に見つけだすことができる。
【０００６】
しかしながら、メモリーなどのパターンは前記したように、単調なパターンの繰り返しとなり、パターンマッチングにより、欠陥個所を含む領域の像をディスプレイ上に表示したとしても、図２（ｃ）に示すように、欠陥個所が目で見て判別できない場合、走査電子顕微鏡像の中で欠陥位置の候補が複数（Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ）あり、正確に欠陥位置を特定することができない。
【０００７】
そのため、繰り返しパターンの中の目で見えない欠陥位置を特定する場合、従来は以下の操作をオペレータが手動で行っていた。最初のステップでは、ＣＡＤ図面などを参照して、ウェハ上のアライメントマークなどの認識できる位置から、目標とする欠陥位置までの繰り返しパターンの数を確認する。第２のステップでは、欠陥個所の観察を行うため、走査電子顕微鏡の試料ステージに被検出ウェハ試料を取り付け、ステージを移動させて上記アライメントマークをディスプレイ上に表示する。
【０００８】
第３のステップでは、オペレータは、走査電子顕微鏡のステージ移動を指示し、アライメントマークから目標とする欠陥位置までステージを移動させる。このステージの移動に伴い、ディスプレイ画面上に表示された繰り返しパターンは次々に流れていく。オペレータは、流れていく繰り返しパターンの数をカウントし、目標とするアライメントマークから特定の数の繰り返しパターンがディスプレイ画面上に表示されたときにステージ移動を停止する。このような作業は大きな工数が必要で多くの時間が費やされると共に、パターンの数のカウント間違いが起こりやすいと言う問題点を有している。
【０００９】
本発明は上記課題に鑑みてなされたもので、繰り返しパターンの一部の特定パターン部分を短時間に正確に像観察装置の視野内に移動させることができるパターン検出方法及び装置を実現する。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
請求項１の発明に基づくパターン検出方法は、試料の表面に配列して形成された繰り返しパターンにおける特定のパターンを検出するためのパターンを用いた検出方法であって、繰り返しパターンの配列方向に沿って試料を移動させるとともに試料の表面に形成された繰り返しパターンの像を検出し、像内において新しいパターンが検出されたときにそのパターンをカウントし、カウントされたパターンの数により試料の移動を停止し、停止したときの試料の表面の像を検出することにより特定のパターンの検出を行うようにしたことを特徴としている。
【００１１】
請求項２の発明に基づくパターン検出方法は、試料の表面に配列して形成された繰り返しパターンにおける特定のパターンを検出するためのパターン検出方法であって、繰り返しパターンの配列方向に沿って試料を移動させるとともに試料の表面に形成された繰り返しパターンの像を検出し、移動中において検出された像に基づき各像の特定ラインにおける輝度プロファイルを取得し、設定した輝度の閾値を超えたプロファイル部分をパターンと判断してカウントし、カウントされたパターンの数により試料の移動を停止し、停止したときの試料の表面の像を検出することにより特定のパターンの検出を行うようにしたことを特徴としている。
【００１２】
請求項３の発明に基づくパターン検出方法は、第１及び第２記載の発明において、繰り返しパターンにおける初期位置でのパターンから特定パターンまでの繰り返しパターンの数が記憶されており、この記憶されたパターンの数と、試料の移動によってカウントされたパターンの数とを比較するようにしたことを特徴としている。
【００１３】
請求項４の発明に基づくパターン検出装置は、試料の表面に配列して形成された繰り返しパターンにおける特定のパターンを検出するためのパターン検出装置であって、繰り返しパターンの配列方向に沿って試料を移動させる手段と、試料の表面に形成された繰り返しパターンの像を検出する手段とを有し、像内において新しいパターンが検出されたときにそのパターンをカウントし、カウントされたパターンの数により試料の移動を停止し、停止したときの試料の表面の像を検出することにより特定のパターンの検出を行うようにしたことを特徴としている。
【００１４】
請求項５の発明に基づくパターン検出装置は、試料の表面に配列して形成された繰り返しパターンにおける特定のパターンを検出するためのパターン検出装置であって、繰り返しパターンの配列方向に沿って試料を移動させる手段と、試料の表面に形成された繰り返しパターンの像を検出する手段とを有し、移動中において検出された像に基づき各像の特定ラインにおける輝度プロファイルを取得し、設定した輝度の閾値を越えたプロファイル部分をパターンとしてカウントし、カウントされたパターンの数により試料の移動を停止し、停止したときの試料の表面の像を検出することにより特定のパターンの検出を行うようにしたことを特徴としている。
【００１５】
請求項６の発明に基づくパターン検出装置は、第４又は第５記載の発明において、繰り返しパターンにおける初期位置でのパターンから特定パターンまでの繰り返しパターンの数が記憶されており、この記憶されたパターンの数と、試料の移動によってカウントされたパターンの数とを比較するようにしたことを特徴としている。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１の発明に基づくパターン検出方法は、繰り返しパターンの配列方向に沿って試料を移動させ、検出された像内の視野に新しいパターンが現れた場合、自動的にそのパターンをカウントし、カウントされたパターンの数により試料の移動を停止し、停止したときの試料の表面の像に基づき特定パターン部分の検出を行うようにしたことを特徴としている。この結果、特定パターン部分の位置決めを短時間に自動的に行うことができ、オペレータの工数を大幅に削減でき、また、パターンのカウント間違いなどによる誤った試料の位置決めが防止できる。したがって、多数の繰り返しパターンの内の特定パターンを有したパターン部分を検出像内に簡単に正確に移動させることができる。
【００１７】
請求項２の発明に基づくパターン検出方法は、繰り返しパターンの配列方向に沿って試料を移動させ、移動中における検出像に基づき各像の特定ラインにおける輝度プロファイルを取得し、設定した輝度の閾値を超えたプロファイル部分をパターンと判断してカウントし、カウントされたパターンの数により試料の移動を停止し、停止したときの試料の表面の像に基づき特定パターン部分の検出を行うようにしたことを特徴としている。この結果、特定パターン部分の位置決めを短時間に自動的に行うことができ、オペレータの工数を大幅に削減でき、また、パターンのカウント間違いなどによる誤った試料の位置決めが防止できる。したがって、多数の繰り返しパターンの内の特定パターンを有したパターン部分を検出像内に簡単に正確に移動させることができる。
【００１８】
請求項３の発明に基づくパターン検出方法は、繰り返しパターンにおける初期位置のパターンから特定パターンまでの繰り返しパターンの数が記憶されており、この記憶されたパターンの数と、試料の移動によってカウントされたパターンの数とを比較するようにしたことを特徴としている。この発明も請求項１および２と同様な効果が得られる。
【００１９】
請求項４の発明に基づくパターン検出装置は、試料の表面に配列して形成された繰り返しパターンにおける特定のパターンを検出するためのパターンを用いた検出装置であって、繰り返しパターンの配列方向に沿って試料を移動させるとともに試料の表面に形成された繰り返しパターンの像を検出し、像内において新しいパターンが検出されたときにそのパターンをカウントし、カウントされたパターンの数により試料の移動を停止し、停止したときの試料の表面の像を検出することにより特定のパターンの検出を行うようにしたことを特徴としている。従って、特定パターン部分の位置決めを短時間に自動的に行うことができ、オペレータの工数を大幅に削減でき、また、パターンのカウント間違いなどによる誤った試料の位置決めが防止できる。したがって、多数の繰り返しパターンの内の特定パターンを有したパターン部分を検出像内に簡単に正確に移動させることができる。
【００２０】
請求項５の発明に基づくパターン検出装置は、試料の表面に配列して形成された繰り返しパターンにおける特定のパターンを検出するためのパターン検出装置であって、繰り返しパターンの配列方向に沿って試料を移動させる手段と、試料の表面に形成された繰り返しパターンの像を検出する手段とを有し、像内において新しいパターンが検出されたときにそのパターンをカウントし、カウントされたパターンの数により試料の移動を停止し、停止したときの試料の表面の像を検出することにより特定のパターンを行うようにしたことを特徴としている。従って、特定パターン部分の位置決めを短時間に自動的に行うことができ、オペレータの工数を大幅に削減でき、また、パターンのカウント間違いなどによる誤った試料の位置決めが防止できる。したがって、多数の繰り返しパターンの内の特定パターン部分を検出像内に簡単に正確に移動させることができる。
【００２１】
請求項６の発明に基づくパターン検出装置は、繰り返しパターンにおける初期位置でのパターンから特定パターンまでの繰り返しパターンの数が記憶されており、この記憶されたパターンの数と、試料の移動によってカウントされたパターンの数とを比較するようにしたことを特徴としている。従って、この発明も請求項４又は５と同様な効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。図３は本発明を実施するための像観察装置（パターン検出装置）としての走査電子顕微鏡システムの一例を示しており、１は走査電子顕微鏡本体である。詳細に各構成が示されていないが、走査電子顕微鏡本体１の内部には、試料上の特定領域を電子ビームで２次元的に走査し、電子ビームの走査に基づいて試料から発生する２次電子や反射電子、吸収電流などを検出する検出器を備えた画像信号生成部２が設けられている。
【００２３】
走査電子顕微鏡本体１内部には、走査電子顕微鏡の電子光学系、例えばコンデンサレンズや対物レンズなどの電子ビームを試料上にフォーカスするレンズ系や、電子ビームを偏向し、試料上の所望領域で電子ビームを走査するための偏向系や、試料が載せられた試料ステージを移動させる機構などを有した走査電子顕微鏡の構成要素３が設けられている。
【００２４】
画像信号生成部２で取り込まれた画像信号は、画像取り込み用ケーブル４を介してコンピュータ５に接続されている。コンピュータ５と走査電子顕微鏡本体１内部の構成要素３の内、制御電源や制御部などの各制御要素との間は通信ケーブル６で接続されている。コンピュータ５内には、画像信号取り込み用インターフェースと、走査電子顕微鏡本体１の構成要素３中の制御要素との通信用のインターフェイスが備えられている。また、コンピュータ５にはディスプレイ７が接続されている。
【００２５】
更に、コンピュータ５内では本発明を実施するソフトウェアが動作し、画像信号生成部２で得られた映像信号に対して、画像処理により試料の位置決めを行ったり、画像・走査電子顕微鏡の構成要素３の設定条件・取得時刻などの付帯データをハードディスクなどの媒体に保存する。また、コンピュータ５は、ハードディスクなどの記憶媒体に保存されたデータをディスプレイ７に一覧表示して、オペレータに提供する。このような構成で半導体デバイス試料における所定のパターン（特定パターン）の検出を行う例について、図４のフロー図を参考にして説明する。また、以下の実施の形態では、特定パターンとして、試料の表面に配列して形成された繰り返しパターンにおける欠陥パターンを用いる場合を例にとって説明する。
【００２６】
まず、一連の自動操作の開始前に、アライメントマークのある部分や、パターンの描画範囲の端部など、容易に位置を特定できる部分がディスプレイの画面上に表示されるように、オペレータは試料が載せられた試料ステージを移動させる。ステップ１では、オペレータがキーボード等を使用して、繰り返しパターンの最初のパターンの位置から、欠陥の存在が事前に判明しているパターンの位置（目標位置）までに存在している繰り返しパターンの数、欠陥部分を有する繰り返しパターンのＣＡＤ図面上の座標、繰り返しパターンの最初のパターン位置（初期位置）のＣＡＤ図面上の座標等が装置に入力される。
【００２７】
ステップ２では、試料ステージの移動が開始される。コンピュータ５は走査電子顕微鏡本体１内の構成要素３を制御し、初期位置から目標位置に向かう方向（即ち繰り返しパターンの配列方向）に、一定速度で試料ステージを連続移動させる。これにより、試料が当該繰り返しパターンの配列方向に沿って移動する。ステップ３では、この時の画像データの取り込み（像検出）とその解析が行われる。すなわち、画像信号生成部２からの画像データ（検出像データ）はコンピュータ５に取り込まれるが、検出像内において最初に１番目の繰り返しパターンが取り込まれ、次に試料ステージの移動により所定距離試料が移動したときの画像（検出像）を取り込む。
【００２８】
コンピュータ５は、常に所定距離試料ステージが移動した後の画像と、その画像の直前に取り込まれた画像との比較を行う。なお、この２種の画像は、大部分が重なり合うことが望ましい。この比較によって、ディスプレイ７の画面上のパターンの移動が判別される。ステップ４では、この画面上のパターンの移動をコンピュータは監視し、画像上に新しいパターンが現れた場合、コンピュータ５は自動的にそのパターンをカウントする。
【００２９】
ステップ５では、ステージが目標位置に到達したかどうかの判断を行う。コンピュータ５は、ステップ３，ステップ４の動作によって現在までにカウントされたパターンの数などから、現在の画像が試料上のどの位置を見ているかを判断し、目標位置に到達していない場合にはステップ３に戻る。また、目標位置に到達している場合は、ステップ６に進む。
【００３０】
ステップ６では、コンピュータ５は構成要素中の試料ステージを制御し、試料ステージを停止させる。これにより、試料の移動が停止する。そして、ステップ７では、コンピュータ５は静止した画像中で目標位置を示す印を表示する。このような動作を自動的にさせることにより、半導体ウェハ試料の欠陥部分（欠陥パターン）をディスプレイ画面のほぼ中心に位置させ、欠陥の内容や欠陥の原因を解析する。
【００３１】
この形態例によれば、欠陥部分の位置決めを短時間に自動的に行うことができ、オペレータの工数を大幅に削減でき、また、パターンのカウント間違いなどによる誤った試料の位置決めが防止できる。したがって、多数の繰り返しパターンの内の欠陥パターンを有したパターン部分を像観察装置の観察視野（検出像内）に簡単に正確に移動させることができる。
【００３２】
次に、本発明の第２の実施の形態について図５を参照しながら説明する。この第２の実施の形態においても、半導体デバイス試料の表面に配列して形成された繰り返しパターンにおける欠陥パターンを特定パターンとして検出するものとする。まず、一連の自動操作の開始前に、アライメントマークのある部分や、パターンの描画範囲の端部など、容易に位置を特定できる部分がディスプレイの画面上に表示されるように、オペレータは試料が載せられた試料ステージを移動させる。
【００３３】
ステップ１では、オペレータがキーボード等を使用して、繰り返しパターンの最初のパターンの位置から、欠陥の存在が事前に判明しているパターンの位置（目標位置）までに存在している繰り返しパターンの数、欠陥部分を有する繰り返しパターンのＣＡＤ図面上の座標、繰り返しパターンの最初のパターン位置（初期位置）のＣＡＤ図面上の座標等が装置に入力される。
【００３４】
更にステップ１では、試料ステージの移動が開始される。コンピュータ５は走査電子顕微鏡本体１内の構成要素３を制御し、初期位置から目標位置に向かう方向（即ち繰り返しパターンの配列方向）に、一定速度で試料ステージを連続移動させる。これにより、試料が当該繰り返しパターンの配列方向に沿って移動する。この場合、オペレータが手動でステージを目標位置に向けて移動させるようにしても良い。
【００３５】
ステップ２では、この時の画像データの取り込み（像検出）とラインプロファイルの生成が行われる。すなわち、画像信号生成部２からの画像データ（検出像データ）はコンピュータ５に取り込まれるが、検出像内において最初に１番目の繰り返しパターンが取り込まれ、次に試料ステージの移動により所定距離試料が移動したときの画像（検出像）を取り込む。コンピュータ５は、オペレータが指定したディスプレイの横方向のライン上での画像の輝度プロファイルを生成する。
【００３６】
ステップ３では、次々に取得される画像データから輝度のラインプロファイルを生成し、隣り合った画像データのラインプロファイルについて、重ね合わさる部分を判断して重ね合わせ、図６に示すような一連のつながったプロファイルを生成する。
【００３７】
ステップ４では、パターン数のカウントが行われる。コンピュータは、画面上に一つにつながったプロファイルを適当にスケーリングして表示し、オペレータは、適宜なインターフェースを介して、輝度の閾値を指定する。輝度の閾値を指定するインターフェースは、プロファイルが表示された画面上で図６に示す閾値を示すラインＬを表示し、このラインＬを上下に移動させることにより、任意の閾値を設定することができる。コンピュータ５は、プロファイル上でその閾値を超えた部分をパターンと判断してカウントし、カウント結果を画面に表示する。
【００３８】
ステップ５では、試料ステージが目標位置に到達したかどうかの判断を行う。オペレータは、ステップ４において画面に表示されたカウント結果から、試料ステージが目標位置に到達したかどうかを判断する。この判断は、コンピュータ５が自動的に行うことができる。試料ステージが目標位置に到達していない場合はステップ２に戻る。ステージが目標位置に到達していれば、ステップ６に進む。ステップ６では、ステップ５の判断に基づいてコンピュータが自動的に試料ステージの移動を停止させる。これにより、試料の移動が停止する。なお、オペレータが手動操作により試料ステージの移動を停止してもよい。
【００３９】
このようにして、試料ステージを目標位置に到達させることにより、試料の表面に形成されたパターンの欠陥部分を正確に特定でき、欠陥部分の走査電子顕微鏡像による観察や、Ｘ線照射によるＸ線分析により、欠陥の内容をつきとめることができる。
【００４０】
この形態によれば、欠陥部分の位置決めを短時間に自動的に行うことができ、オペレータの工数を大幅に削減でき、また、パターンのカウント間違いなどによる誤った試料の位置決めが防止できる。したがって、多数の繰り返しパターンの内の欠陥を有したパターン部分を像観察装置の観察視野（検出像内）に簡単に正確に移動させることができる。
【００４１】
上述の実施の形態例では、像観察装置として走査電子顕微鏡を用いた場合を例にとったが、本発明はこれに限るものではなく、ビームを走査して試料上のパターンの特定パターンを検出することができるような装置であれば、同様に適用することができる。また、上述の実施の形態では、特定パターンとして欠陥パターンを用いた場合を例にとったが、本発明はこれに限るものではなく、欠陥となっていない他の種類の特定パターンの検出にも同様に適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４２】
本発明は、半導体デバイスを製造する産業において、製作される半導体デバイスの特定パターン部分の検出に利用される。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】ＣＡＤデータと走査電子顕微鏡の走査像とを示す図である。
【図２】検出対象の走査電子顕微鏡像を示す図である。
【図３】本発明を実施するための走査電子顕微鏡システムの構成図である。
【図４】本発明に基づく検出方法を説明するためのフロー図である。
【図５】本発明に基づく検出方法を説明するためのフロー図である。
【図６】輝度のラインプロファイルを示す図である。
【符号の説明】
【００４４】
１  走査電子顕微鏡本体
２  画像信号生成部
３  電子光学系、試料移動機構等の構成要素
４  画像取り込み用ケーブル
５  コンピュータ
６  走査電子顕微鏡本体とコンピュータの通信を行うケーブル
【図１】
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【図２】
2005222882.tif 000004
【図３】
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【図４】
2005222882.tif 000006
【図５】
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【図６】
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