(57)【要約】 【課題】  長いスケールのスケールパターンを簡便かつ安価でありながらも精密に形成するスケールパターン形成装置等を提供する。【解決手段】  スケールパターンが形成されるパターン形成層７２を一面に有するスケール基材７に一連のスケールパターンを形成する。所定のストロークで往復運動可能に設けられスケール基材７が載置されるテーブル面２４を有する搬送手段２と、搬送手段２の運動方向に対する位置が固定されているとともに一回の動作でパターン形成層７２に所定幅のスケールパターンを加圧形成するプレス型３と、直前にプレス型３で形成されたスケールパターンに対して次にプレス型３で加工される加工領域を連続させるようにスケール基材７とプレス型３とを相対移動させて位置調整する位置調整手段（ＣＰＵ６９）と、を備える。【選択図】 図１
2005326170.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スケールパターンが形成されるパターン形成層を少なくとも一面に有するスケール基材と前記パターン形成層に一回の動作で所定幅のスケールパターンを形成するパターン加工手段とを相対移動させるとともに所定タイミングで前記パターン加工手段を動作させて前記パターン形成層に一連のスケールパターンを形成する方法であって、
前記パターン形成層に前記パターン加工手段の一回の動作で所定幅のスケールパターンを加工するスケールパターン加工工程と、
前記スケール基材を所定幅だけ搬送する搬送工程と、
直前の前記スケールパターン加工工程で形成されたスケールパターンに対して次の前記スケールパターン加工工程における前記パターン加工手段の加工領域を連続させるように前記スケール基材と前記パターン加工手段とを相対移動させて位置調整する位置調整工程と、を備えた
ことを特徴としたスケールパターン形成方法。
【請求項２】
請求項１に記載のスケールパターン形成方法において、
前記搬送工程は、移動可能に設けられたテーブル面に前記スケール基材を配設した状態でこのテーブル面の移動により前記スケール基材を搬送し、
前記位置調整工程は、前記テーブル面の移動量を検出した検出値に基づいて前記スケール基材と前記パターン加工手段とを相対移動させる
ことを特徴とするスケールパターン形成方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載のスケールパターン形成方法において、
前記位置調整工程は、直前の前記スケールパターン加工工程で形成されたスケールパターンを検出するとともにこの検出されたスケールパターンに基づいて前記スケール基材と前記スケールパターン加工手段とを相対移動させる
ことを特徴としたスケールパターン形成方法。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれかに記載のスケールパターン形成方法において、
前記搬送工程は、所定のストロークで往復運動可能に設けられたテーブル面に前記スケール基材を配設した状態で前記ストロークの始点からこのテーブル面の移動により前記所定幅ずつ前記スケール基材を搬送し、
前記搬送工程において前記テーブル面の位置がストロークの終点に達したところで前記スケール基材の位置を一時固定するとともに前記テーブル面の位置を始点に引き戻す逆送り工程を備え、
前記位置調整工程は、直前の前記スケールパターン加工工程で形成されたスケールパターンを検出するとともにこの検出されたスケールパターンに基づいて前記スケール基材と前記パターン加工手段とを相対移動させる
ことを特徴とするスケールパターン形成方法。
【請求項５】
スケールパターンが形成されるパターン形成層を少なくとも一面に有するスケール基材に一連のスケールパターンを形成する装置であって、
所定のストロークで往復運動可能に設けられ前記スケール基材が配設されるテーブル面を有する搬送手段と、
前記搬送手段の運動方向に対する位置が固定されているとともに一回の動作で前記パターン形成層に所定幅のスケールパターンを加工するパターン加工手段と、
直前に前記パターン加工手段で形成されたスケールパターンに対して次に前記パターン加工手段で加工される加工領域を連続させるように前記スケール基材と前記パターン加工手段とを相対移動させて位置調整する位置調整手段と、を備えた
ことを特徴としたスケールパターン形成装置。
【請求項６】
請求項５に記載のスケールパターン形成装置において、
前記テーブル面の位置が前記ストロークの終点に達したところで前記スケール基材の位置を一時的に固定する固定手段と、
既に前記パターン加工手段で形成されたスケールパターンの位置を検出するスケールパターン位置検出手段と、を備え、
前記搬送手段は、前記スケール基材が前記テーブル面に配設された状態で前記ストロークの始点からこのテーブル面の移動により前記所定幅ずつ前記スケール基材を搬送し、
前記位置調整手段は、前記スケールパターン位置検出手段で取得された検出領域内において既に前記パターン加工手段で形成されたスケールパターンの終端が次に前記パターン加工手段で加工される加工領域の始端に連続するように前記テーブル面を移動させる
ことを特徴とするスケールパターン形成装置。
【請求項７】
請求項５または請求項６に記載のスケールパターン形成装置において、
前記スケールパターン加工手段は、前記スケールパターン形成層を加圧してスケールパターンを凹設するプレス型を有する
ことを特徴とするスケールパターン形成装置。
【請求項８】
プレス型による歯面にて加圧形成された一連のスケールパターンを有するスケール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スケールパターン形成方法、スケールパターン形成装置、スケールに関する。
【背景技術】
【０００２】
一面にスケールパターンを有する長手状のスケールと、このスケールに対して相対移動するとともにスケールパターンを検出してスケールに対する相対移動量を検出する検出ヘッドと、を備えた変位検出器が知られている。
ここで、スケールにスケールパターンを形成するにあたっては、リソグラフィによる方法が知られている。
リソグラフィによる方法では、まず、スケールの表面に、例えばＣｕ（銅）の薄膜を蒸着等してスケールパターン形成層を形成する。そして、スケールパターン形成層の上にレジストを塗布し、スケールパターンを有するマスクを介してレジストを露光させる。そして、現像の後、所定のスケールパターンが残るようにエッチングする。すると、スケール上にスケールパターンが形成される。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
近年、数十メートルにも及ぶ非常に長いスケールが要望されている。
しかしながら、数十メートルにも及ぶスケールに一連のスケールパターンを形成することには困難を有し、例えば、従来のようなリソグラフィでは対応できないという問題がある。
ここで、スケールを一回のリソグラフィで加工できる程度の細かな部分に分割して、この部分ごとにリソグラフィでスケールパターンを形成することも考えられる。
しかしながら、スケールパターンは全体として一連に繋がっていなければならないので、部分ごとに形成されるスケールパターンを前後で連続するように繋ぐ必要がある。すると、リソグラフィではレジストを現像しなければ転写されたスケールパターンを確認できないので、次の部分にスケールパターンを形成する前に直前の部分の現像処理を行わなければならない。そのため、非常な手間とコストを要し、現実的ではないという問題がある。
【０００４】
本発明の目的は、長いスケールのスケールパターンを簡便かつ安価でありながらも精密に形成するスケールパターン形成方法およびスケールパターン形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明のスケールパターン形成方法は、スケールパターンが形成されるパターン形成層を少なくとも一面に有するスケール基材と前記パターン形成層に一回の動作で所定幅のスケールパターンを形成するパターン加工手段とを相対移動させるとともに所定タイミングで前記パターン加工手段を動作させて前記パターン形成層に一連のスケールパターンを形成する方法であって、前記パターン形成層に前記パターン加工手段の一回の動作で所定幅のスケールパターンを加工するスケールパターン加工工程と、前記スケール基材を所定幅だけ搬送する搬送工程と、直前の前記スケールパターン加工工程で形成されたスケールパターンに対して次の前記スケールパターン加工工程における前記パターン加工手段の加工領域を連続させるように前記スケール基材と前記パターン加工手段とを相対移動させて位置調整する位置調整工程と、を備えたことを特徴とする。
【０００６】
このような構成において、スケールパターン加工工程と搬送工程とを繰り返し行えば、長いスケール基材にスケールパターンを形成することができる。そして、位置調整工程により、スケール基材とパターン加工手段との位置が調整されるので、一連に連続したスケールパターンが形成される。
このとき、パターン加工工程は、一回の動作でパターンを形成してしまうので、例えばリソグラフィの現像工程を経ることなしに、加工されたパターンを即座に確認することができる。従って、直前に加工されたスケールパターンを認識したうえで、直前に加工されたパターンに対して次に加工するパターンが連続するようにスケール基材とパターン加工手段との位置を簡単に調整することができる。
その結果、簡便かつ安価に長いスケールパターンを形成することができる。
【０００７】
ここで、パターン形成層は、スケール基材の基部に対して別体であってもよく、あるいは一体的であってもよい。例えば、スケール基材は、テープ状のステンレス材等で形成された基部と、この基部の一面に設けられた樹脂等のパターン形成層と、を有していてもよく、あるいは、スケール基材の全体が樹脂等で形成されており少なくともスケール基材の表面がスケール加工手段にてスケールパターンを加工可能に形成されていてもよい。
また、スケール加工手段は、例えば、パターン形成層を加圧して凹凸のスケールパターンを形成するプレス型であってもよく、あるいは、レーザー光線でパターン形成層に凹凸を形成するレーザー加工手段であってもよい。
【０００８】
本発明では、前記搬送工程は、移動可能に設けられたテーブル面に前記スケール基材を配設した状態でこのテーブル面の移動により前記スケール基材を搬送し、前記位置調整工程は、前記テーブル面の移動量を検出した検出値に基づいて前記スケール基材と前記パターン加工手段とを相対移動させることが好ましい。
【０００９】
このような構成において、例えば、テーブル面の移動量がパターン加工手段の加工領域幅になったときに、直前に加工されたスケールパターンと次に加工されるスケールパターンとを連続させることができる。そして、テーブル面の移動量は、テーブル送り手段（例えば、送りねじとナット部材等）の駆動量から容易に知ることができる。従って、位置調整工程を簡便かつ迅速に行うことができる。
【００１０】
ここで、本発明では、前記位置調整工程は、前記パターン加工手段による加工領域の幅が予め設定された記憶手段から前記加工領域の幅を読み出す加工領域幅読み出し工程と、前記テーブル面の移動量を検出しつつ前記加工領域幅読み出し工程で読み出される前記加工領域の幅の分だけ前記テーブル面を搬送させる工程と、を備えることが好ましい。
このような構成によれば、加工領域幅読み出し工程で読み出した幅のぶんだけテーブル面を送り移動させるように制御すればよいので、テーブル面を簡便かつ迅速に移動させつつ、加工されるスケールパターンを連続させることができる。
【００１１】
本発明では、前記位置調整工程は、直前の前記スケールパターン加工工程で形成されたスケールパターンを検出するとともにこの検出されたスケールパターンに基づいて前記スケール基材と前記スケールパターン加工手段とを相対移動させることが好ましい。
【００１２】
このような構成によれば、直前に加工されたパターンを検出し、その位置を確認したうえで次のパターンを形成するので、直前のパターンと次のパターンとを確実に連続させることができる。
ここで、パターン加工工程は、一回の動作でパターンを形成するところ、リソグラフィ等の現像処理を行わなくても加工されたパターンが即座に確認される。つまり、直前に加工されたスケールパターンが即座に検出できるので、加工されたパターンを検出しながらスケール基材とパターン加工手段との位置を調整することができる。
【００１３】
ここで、本発明では、前記位置調整工程は、少なくとも前記パターン加工手段による加工領域の一部を含みつつ直前の前記スケールパターン形成工程で形成されたスケールパターンを撮像する撮像工程と、前記撮像工程で取得された画像領域内において直前の前記スケールパターン加工工程で形成されたスケールパターンの終端が次の前記スケールパターン加工工程での加工領域の始端に連続するように前記テーブルを移動させる工程と、を備えることが好ましい。
このような構成において、パターン加工工程では、一回の動作でパターンを加工してしまうので、加工されたパターンを撮像工程で撮像するのは簡便である。そして、撮像工程で撮像された像に基づいてスケールパターンが連続するようにスケール基材とパターン加工手段との位置を調整するので、簡便でありながらもスケールパターンの連続性を確実にすることができる。
【００１４】
本発明では、前記搬送工程は、所定のストロークで往復運動可能に設けられたテーブル面に前記スケール基材を配設した状態で前記ストロークの始点からこのテーブル面の移動により前記所定幅ずつ前記スケール基材を搬送し、前記搬送工程において前記テーブル面の位置がストロークの終点に達したところで前記スケール基材の位置を一時固定するとともに前記テーブル面の位置を始点に引き戻す逆送り工程を備え、前記位置調整工程は、直前の前記スケールパターン加工工程で形成されたスケールパターンを検出するとともにこの検出されたスケールパターンに基づいて前記スケール基材と前記パターン加工手段とを相対移動させることが好ましい。
【００１５】
このような構成によれば、テーブル面がストロークの終点にまで達したところでスケール基材を固定しつつテーブル面を引き返したうえで、搬送工程とパターン形成工程とを繰り返せば、テーブル面の移動ストロークよりも長いスケール基材にスケールパターンを形成することができる。
ここで、スケール基材を固定しつつテーブル面を引き返したときに、スケール基材とテーブル面との位置ずれが生じやすいところ、位置調整工程において、直前に加工されたスケールパターンの検出に基づいてスケール基材とパターン加工手段との位置調整を行うので、スケールパターンを連続させることができる。
【００１６】
本発明のスケールパターン形成装置は、スケールパターンが形成されるパターン形成層を少なくとも一面に有するスケール基材に一連のスケールパターンを形成する装置であって、所定のストロークで往復運動可能に設けられ前記スケール基材が配設されるテーブル面を有する搬送手段と、前記搬送手段の運動方向に対する位置が固定されているとともに一回の動作で前記パターン形成層に所定幅のスケールパターンを加工するパターン加工手段と、直前に前記パターン加工手段で形成されたスケールパターンに対して次に前記パターン加工手段で加工される加工領域を連続させるように前記スケール基材と前記パターン加工手段とを相対移動させて位置調整する位置調整手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１７】
本発明では、前記テーブル面の位置が前記ストロークの終点に達したところで前記スケール基材の位置を一時的に固定する固定手段と、既に前記パターン加工手段で形成されたスケールパターンの位置を検出するスケールパターン位置検出手段と、を備え、前記搬送手段は、前記スケール基材が前記テーブル面に配設された状態で前記ストロークの始点からこのテーブル面の移動により前記所定幅ずつ前記スケール基材を搬送し、前記位置調整手段は、前記スケールパターン位置検出手段で取得された検出領域内において既に前記パターン加工手段で形成されたスケールパターンの終端が次に前記パターン加工手段で加工される加工領域の始端に連続するように前記テーブル面を移動させることが好ましい。
【００１８】
このような構成によれば、上記発明と同様の作用効果を奏することができる。すなわち、長いスケール基材にスケールパターンを形成することができる。そして、位置調整手段により、スケール基材とパターン加工手段との位置が調整されるので、一連に連続したスケールパターンが形成される。
【００１９】
本発明では、前記スケールパターン加工手段は、前記スケールパターン形成層を加圧してスケールパターンを凹設するプレス型を有することが好ましい。
【００２０】
このような構成によれば、プレス型で加圧すれば即座に凹凸のスケールパターンが形成される。そして、リソグラフィの現像処理等を必要としないで即座に加工されたスケールパターンが確認できるので、直前に加工されたスケールパターンを検出して確認しながら前後のスケールパターンを連続させる場合に好適である。
【００２１】
本発明のスケールは、プレス型による歯面にて加圧形成された一連のスケールパターンを有することを特徴とする。
【００２２】
このような構成において、プレス型で加圧形成されたスケールパターンは現像処理等を必要とせずに即座に確認できるので、長いスケールに対して部分ごとにスケールパターンを形成する場合に、直前に加工されたパターンを確認しながら次のパターンを連続させることができる。その結果、プレス型によるパターン加工は、スケールパターンを長くする場合に好適である。
また、プレス加工によれば、リソグラフィに比べてレジスト塗布から露光および現像等の処理を必要としないので、非常に簡便かつ安価である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明の実施の形態を図示するとともに図中の各要素に付した符号を参照して説明する。
（第１実施形態）
本発明のスケールパターン形成装置に係る第１実施形態について説明する。
まず、スケールパターンが形成されるスケール基材について説明する。
スケール基材７は、図１に示されるように、長手状の基部７１と、この基部７１の一面に設けらた樹脂等によるパターン形成層７２と、を備える。
スケール基材７の長さは例えば数１０メートルとすることが例として挙げられる。基部７１は、低熱膨張係数の部材で形成されることが望ましく、例えば、ガラスで形成されることが例としてあげられる。パターン形成層７２は、押圧によって凹凸が加圧形成される程度の硬度を有する樹脂で形成されることが望ましく、このような樹脂としては、例えばＰＭＭＡ（polymethyl methacrylate ポリメタクリル酸メチル）が挙げられる他、軟質の金属でもよく、例えば銅メッキが挙げられる。
【００２４】
図１に、スケールパターン形成装置の構成を示す。
スケールパターン形成装置１は、搬送手段としての搬送部２と、パターン加工手段としてのプレス型３と、スケールパターン位置検出手段としての撮像手段４と、固定手段としてのグリップ手段５と、制御部６と、を備えて構成されている。
【００２５】
搬送部２は、送りねじ２１と、移動テーブル２２と、サーボモータ２５と、を備えている。
送りねじ２１は、固定台２１２上に所定距離だけ離間して配設された支持板２１１に軸支されている。
移動テーブル２２は、送りねじ２１に螺合したナット部材２３に連結され、送りねじ２１の回転により送りねじ２１の軸方向に沿って進退可能に設けられている。また、移動テーブル２２は、略平坦に形成され、スケール基材７が載置される載置面となるテーブル面２４を有する。
駆動手段となるサーボモータ２５は、送りねじ２１の一端に直結され、サーボモータ２５には回転検出器２６が設けられている。
なお、スケール基材７の長さが数１０メートルに及ぶところ、移動テーブル２２の移動ストロークは、スケール基材７の長さよりも短い。また、移動テーブル２２の移動の真直性を保つために、送りねじと平行にガイドレールなどが適宜設けられていてもよい。
ここで、移動テーブル２２は、テーブル面２４上にスケール基材７を載置した状態で、ストロークの一端である始点からストロークの他端である終点に向けて順次所定ピッチずつ送られ、ストロークの終点に達したところで、始点に引き戻される。なお、図１中において、右側をストロークの始点とし、左側をストロークの終点とする。
【００２６】
プレス型３は、テーブル面２４に対向する側の面に凹凸の歯面３１を有する。
プレス型３は、テーブル面２４に対して昇降可能に設けられ、テーブル面２４上に載置されたスケール基材７をテーブル面２４とにて挟持するとともに、スケール基材７のパターン形成層７２に歯面３１の凹凸を転写する。そして、プレス型３の加圧によりパターン形成層７２にスケールパターンが加圧形成される。
また、移動テーブル２２の移動方向において、プレス型３の位置は固定されており、図１中では、プレス型３は、移動テーブル２２のストロークの略中央部分をプレスするように配設されている。
なお、プレス型３の歯面３１の幅（プレス幅）は、移動テーブル２２のストロークよりも短い。また、プレス型３が加圧する位置は、特に限定されず、例えば、移動テーブル２２がストロークの始点に位置する状態で、テーブル面の最終端側を加圧するようにしてもよい。
【００２７】
撮像手段４は、移動テーブル２２の移動方向に沿う方向においてプレス型３に隣接し、プレス型３から見て移動テーブル２２のストロークの終点側に配設されている。
ここで、撮像手段４は、プレス型３による加工領域の終端側を含みつつ、プレス型３で形成された後に移動テーブル２２で終点側に所定ピッチだけ送られたスケールパターンを撮像領域とする。
撮像手段４は、ＣＣＤカメラで構成されることが例として挙げられる。
【００２８】
グリップ手段５は、搬送部２に対してストロークの終点からさらに所定距離だけ離間した位置に配設されている。
グリップ手段５は、移動テーブル２２の移動によって搬送されたスケール基材７の位置を一時的に固定する固定手段である。このようなグリップ手段５としては、スケール基材７を挟持する挟持手段であってもよく、あるいは、スケール基材７に吸着してスケール基材７の位置を固定する吸着手段であってもよい。
【００２９】
制御部６は、サーボモータ２５を駆動制御するモータ駆動制御部６１と、回転検出器２６による回転検出に基づいて移動テーブルの位置を検出する変位検出器６２と、撮像手段４によって撮像された画像を処理する画像処理部６３と、プレス型の昇降動作を駆動制御するプレス駆動制御部６４と、グリップ手段５のグリップ動作を駆動制御するグリップ駆動制御部６５と、記憶装置６６と、中央演算処理装置（ＣＰＵ）６９と、を備えている。
【００３０】
記憶装置６６には、参照スケールパターン６７と、プレス型３による加工領域幅であるプレス幅と、移動テーブル２２のストローク幅６６３と、が入力されて記憶されている。
参照スケールパターン６６１は、撮像手段４で撮像されたスケールパターンの位置が適正であるかを判断するための参照パターンであり、画像領域内においてプレス型３の加工領域の始端に連続する位置に設定されたスケールパターンである。
【００３１】
中央演算処理装置（ＣＰＵ）６９は、内部メモリに制御プログラムがインストールされて、制御部６の全体動作を制御するとともに、例えば、位置調整手段等の各種機能実現手段として機能する。ＣＰＵ６９の制御動作を図２および図３を参照して説明する。
【００３２】
図２は、ＣＰＵ６９による制御手順を示すフローチャートであり、図３〜図５は、各手順における動作の様子を示す図である。
スケール基材７のパターン形成層７２にスケールパターンを形成するにあたっては、まず、スケール基材７をテーブル面２４上に載置して、移動テーブル２２をストロークの始点にセットする。
この際、スケール基材７の長さが移動テーブル２２よりも長いところ、開始時点においては、図３（Ａ）に示されるように、移動テーブル２２の始端とスケール基材７の始端とを合わせ、スケール基材７を移動テーブル２２の終端を延長する方向にあまるようにする。
【００３３】
この状態で、ＳＴ１００において、変位検出器６２により移動テーブル２２の位置が検出される。ＣＰＵ６９は、検出値を記憶装置に記憶されたストローク幅６６３に対比して、ストローク限界ではないと判断すると（ＳＴ１０１：ＹＥＳ）、ＳＴ１０２においてプレス工程を実行させる。すると、プレス型３がスケール基材７に押圧されてプレス型３の歯面がパターン形成層７２に転写されて、プレス幅のスケールパターンが形成される（スケールパターン加工工程）。一回のプレス工程が完了すると、ＣＰＵ６９は、モータ駆動制御部６１からの駆動パルスでサーボモータ２５を所定回数回転させて移動テーブル２２を順方向に送り移動させる（ＳＴ１０３、搬送工程）。このとき、ＣＰＵ６９は、変位検出器６２からの検出値に基づいて記憶装置６６に記憶されたプレス幅６６２だけ移動テーブル２２を移動させる（位置調整工程）。すると、次にプレス型３で加工されるパターンが直前に加工されたパターンに連続する。
このように、ＳＴ１００からＳＴ１０３までの工程が繰り返され、一回のプレス動作に対してプレス幅だけ移動テーブル２２の送りが実行される（図３（Ｂ）参照）。
【００３４】
次に、図４（Ｃ）に示されるように、移動テーブル２２の移動がストロークの終点に達したところで、移動テーブル２２の位置検出が行われると（ＳＴ１００）、ストローク限界であると判断される（ＳＴ１０１：ＮＯ）。このとき、終了条件が前判断され、終了条件を満たしていない場合（ＳＴ１０４：ＮＯ）には、引き続きスケールパターンの加工が行われる。
【００３５】
ＳＴ１０５において、グリップ手段５によりスケール基材７が例えば挟持されて位置固定が行われる。次に、ＳＴ１０６において、移動テーブル２２が終点から始点に向けて逆送りされる（逆送り工程）。このとき、スケール基材７はグリップ手段５で固定されているところ、移動テーブル２２だけが移動する。移動テーブル２２の移動が完了したところでグリップ手段５による固定が解除されてスケール基材７がリリースされる（図４（Ｄ）参照）。
ＳＴ１０７において、撮像手段４によりスケールパターンの撮像が行われる。すなわち、直前のプレス工程ＳＴ１０２でプレスされた後、プレス幅だけ送られた（ＳＴ１０３）スケールパターンが撮像手段４で撮像される（撮像工程）。このとき、撮像手段４は、スケールパターンの終端部と、プレス型３の加工領域の始端とを一つの画像領域内に撮像する。撮像された画像は、画像処理部６３で処理されてＣＰＵ６９に送られる（ＳＴ１０９）。すると、図５（Ｅ）に示されるように、ＣＰＵ６９は、撮像された画像を記憶装置６６に記憶された参照スケールパターン６６１に対比して、現在のスケールパターンが参照スケールパターン６６１からずれている量を算出し（ＳＴ１１０）、算出されたずれ量の分だけ移動テーブル２２を移動させる（ＳＴ１１１）。
ＳＴ１１２において、撮像されたスケールパターンが参照スケールパターンに一致したところで（ＳＴ１１２：ＹＥＳ）、プレス工程（ＳＴ１０２）および送り工程（ＳＴ１０３）が順次実行されて、スケールパターンが形成される。ここで、ＳＴ１０８〜ＳＴ１１１により、撮像した画像に基づく位置調整工程が構成される。
【００３６】
ＳＴ１０４において、終了条件を満たしたところでスケールパターンの加工が終了される。終了条件としては、スケール基材７の長さを予め記憶装置６６に入力しておいて、移動テーブル２２の移動量がスケール基材の長さ分に達したところで終了条件を満たしたと判断することが例として挙げられる。
【００３７】
このような構成を備える第１実施形態によれば、次の効果を奏することができる。
（１）プレス工程ＳＴ１０２とテーブル送り工程ＳＴ１０３とが繰り返し行われることにより、プレス幅よりも長いスケール基材にスケールパターンを形成することができる。
さらに、移動テーブル２２がストロークの終点に達したところでスケール基材７を固定（ＳＴ１０５）しつつ移動テーブルを始点に向けて逆送り（ＳＴ１０６）するので、移動ストロークよりも長いスケール基材にスケールパターンを加工することができる。
【００３８】
（２）テーブル送り工程ＳＴ１０３では、送りねじ２１の回転検出に基づく変位検出に基づいて移動テーブル２２をプレス幅の分だけ搬送するので、テーブル移動を迅速に行うことができる。そして、送りねじ２１の精度を高めておけば、スケールパターンの連続性を確実にすることができる。
（３）プレス型３によりスケールパターンを加圧形成するので、一回の動作でプレス幅のスケールパターンが形成される。すると、直前に加工されたスケールパターンが即座に撮像でき、加工されたパターンを撮像しながらスケール基材７とプレス型３との位置を調整することができる。その結果、簡便かつ安価でありながらもスケールパターンの連続性を確実にすることができる。
【００３９】
次に、本発明の第２実施形態について説明する。第２実施形態の基本的構成は、第１実施形態と同様であるが、テーブル送り工程（ＳＴ２０４）の後に画像を撮像して位置調整を行う点（ＳＴ２０４〜ＳＴ２０８）に特徴を有する。
図６に、第２実施形態の動作手順を表すフローチャートを示す。
ここで、図６においてＳＴ２０１からＳＴ２０４は第１実施形態のＳＴ１００からＳＴ１０３に同様である。また、図６においてＳＴ２０５からＳＴ２０８は、第１実施形態のＳＴ１０８からＳＴ１１２に同様である。
すなわち、ＳＴ２０３のプレス工程の後、ＳＴ２０４において移動テーブル２２がプレス幅の分だけ順送りされる。すると、ＳＴ２０５からＳＴ２０８により撮像画像に基づいた位置調整が行われ、移動テーブル２２のずれが補正されて（ＳＴ２０８）、直前のプレス工程（ＳＴ２０３）で形成されたスケールパターンの終端が次のプレス工程（ＳＴ２０３）での加工領域の始端に連続した位置に調整される。ここで、ＳＴ２０５からＳＴ２０９により位置調整工程が構成される。
【００４０】
このような構成を備える第２実施形態によれば、上記実施形態の効果に加えて、次の効果を奏する。
（４）テーブル送り工程（ＳＴ２０４）の後、ＳＴ２０５からＳＴ２０９において直前に加工されたスケールパターンの像を確認しながらスケール基材７とプレス型３との位置調整を行うので、スケールパターンの連続性をより確実にすることができる。
【００４１】
なお、本発明は前述の実施形態に限定されず、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれる。
移動テーブル２２のテーブル面２４が上方を向いており、スケール基材７は当該テーブル面に載置された状態で、プレス型３が上からスケール基材７を加圧する場合を例示したが、テーブル面２４が下方を向いていて、プレス型３がスケール基材７を下から加圧してもよいことはもちろんである。
スケールパターン位置検出手段としては、ＣＣＤカメラ等の撮像手段４で構成される場合を例示したが、光源と受光手段と有しスケールパターンからの反射光に基づいてスケールパターンの位置を検出する検出ヘッドであってもよい。この場合には、撮像工程に代えて検出ヘッドによるスケールパターン位置検出工程が行われる。このような検出ヘッドは、当該スケールパターン形成方法で製造されたスケールを変位検出器のスケールとする場合に、このスケールに組み合わされる検出ヘッドとすることが例として挙げられる。
【産業上の利用可能性】
【００４２】
本発明は、光学式変位測定装置のスケールのスケールパターンを形成するスケールパターン形成方法、スケールパターン形成装置に利用できる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１】本発明に係る第１実施形態を示す図。
【図２】前記第１実施形態において、スケールパターンを形成する工程を示すフローチャート。
【図３】前記第１実施形態において、スケールパターンを形成する各工程を示す図。
【図４】前記第１実施形態において、スケールパターンを形成する各工程を示す図。
【図５】前記第１実施形態において、スケールパターンを形成する各工程を示す図。
【図６】本発明に係る第２実施形態のフローチャートを示す図。
【符号の説明】
【００４４】
１…スケールパターン形成装置、２…搬送部、３…プレス型、４…撮像手段、５…グリップ手段、６…制御部、７…スケール基材、２２…移動テーブル、２３…ナット部材、２４…テーブル面、２５…サーボモータ、２６…回転検出器、３１…歯面、６１…モータ駆動制御部、６２…変位検出器、６３…画像処理部、６４…プレス駆動制御部、６５…グリップ駆動制御部、６６…記憶装置、６７…参照スケールパターン、７１…基部、７２…パターン形成層、２１１…支持板、２１２…固定台、６６１…参照スケールパターン、６６２…プレス幅、６６３…ストローク幅。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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