(57)【要約】      （修正有）【課題】各種医薬の合成中間体として有用な含窒素縮合複素環化合物の製造方法を提供する。【解決手段】式(I)2005035933.tif 000015［Ａ環は5-10員芳香環であり、Ａ環またはＢ環の少なくとも一方は窒素を環構成原子として有し、Ｚは−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ3−（Ｒ3は炭化水素基等）を、Ｒ2は炭化水素基、複素環基またはアシル基を示す］で表される化合物またはその塩の製造法であって、式(I)におけるＲ2−Ｚ−基をハロゲン原子または−ＯＳＯ2Ｒ1−（Ｒ1はアルキル基）とした化合物またはその塩と、式ＨＺ−Ｒ2で表される化合物またはその塩とを、触媒、配位子および塩基の存在下に反応させることを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式
【化１】
2005035933.tif 000013
［式中、Ｙはハロゲン原子または−ＯＳＯ2Ｒ1−  （Ｒ1はハロゲン化されていてもよいアルキル基を示す）を；
Ａ環はさらに置換基を有していてもよい5−10員芳香環を；
Ｂ環は置換基を有していてもよい環を示し、Ａ環またはＢ環の少なくとも一方が環構成原子として窒素原子を有する］で表される化合物またはその塩と、
式：  ＨＺ−Ｒ2    ［式中、Ｚは−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ3−  （Ｒ3は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す）を、Ｒ2は置換されていてもよい炭化水素基、置換されていてもよい複素環基またはアシル基を示す］で表される化合物またはその塩とを、触媒、配位子および塩基の存在下に反応させることを特徴とする、式
【化２】
2005035933.tif 000014
［式中の記号は前記と同意義を示す］で表される化合物またはその塩の製造法。
【請求項２】
触媒がパラジウム触媒である請求項１記載の製造法。
【請求項３】
配位子がＢＩＮＡＰ化合物である請求項１記載の製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種医薬の合成中間体として有用な含窒素縮合複素環化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
含窒素縮合複素環化合物の製造法としては、例えば下記の方法が報告されている。
（1）式  
【化１】
2005035933.tif 000002
［式中、Ｌ5は脱離基を；Ａ環は置換されていてもよい5−10員芳香環を；Ｒ１およびＲ２は同一または異なって、置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を；Ｘは結合手、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ２−または−ＮＲ３−  （Ｒ３は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す）を；Ｌａは結合手またはアルキレンを；Ｒ10は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す］で表される化合物とベンジルアルコール（PhCH2OH）とを、塩基の存在下、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で反応させることにより、式  
【化２】
2005035933.tif 000003
［式中の記号は前記と同意義を示す］で表される化合物を製造する方法（特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】国際公開第WO02／062764号パンフレット
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
各種医薬の合成中間体として有用な含窒素縮合複素環化合物を、簡便にかつ高収率で得ることのできる製造方法の開発が望まれている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、式  
【化３】
2005035933.tif 000004
［式中、Ｚは−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ3−  （Ｒ3は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す）を；Ｒ2は置換されていてもよい炭化水素基、置換されていてもよい複素環基またはアシル基を；Ａ環はさらに置換基を有していてもよい5−10員芳香環を；Ｂ環は置換基を有していてもよい環を示し、Ａ環またはＢ環の少なくとも一方が環構成原子として窒素原子を有する］で表される含窒素縮合複素環化合物［以下、化合物（I）と略記することがある］の製造方法について検討した結果、式  
【化４】
2005035933.tif 000005
［式中、Ｙはハロゲン原子または−ＯＳＯ2Ｒ1−  （Ｒ1はハロゲン化されていてもよいアルキル基を示す）を；その他の記号は前記と同意義を示す］で表される化合物［以下、化合物（II）と略記することがある］と式：  ＨＺ−Ｒ2    ［式中、Ｚは−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ3−  （Ｒ3は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す）を、Ｒ2は置換されていてもよい炭化水素基、置換されていてもよい複素環基またはアシル基を示す］で表される化合物［以下、化合物（III）と略記することがある］とを、触媒、配位子および塩基の存在下に反応させることにより、化合物（I）を簡便にかつ高収率で得られることを見出し、本発明を完成するに至った。  
すなわち、本発明は、
１）化合物（II）またはその塩と化合物（III）またはその塩とを、触媒、配位子および塩基の存在下に反応させることを特徴とする、化合物（I）またはその塩の製造方法；
２）触媒がパラジウム触媒である前記１）記載の製造方法；
３）配位子がＢＩＮＡＰ化合物である前記１）記載の製造方法；
などに関する。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の製造方法によれば、各種医薬の合成中間体として有用な含窒素縮合複素環化合物を、簡便にかつ高収率で得ることができる。  
前記含窒素縮合複素環化合物は、例えばWO98／47882に記載されたソマトスタチン受容体作動薬（腫瘍、糖尿病、糖尿病性合併症、肥満等の予防・治療薬）あるいはその合成中間体；WO02／062764に記載された糖尿病の予防・治療薬あるいはその合成中間体；EP-A119591に記載された感染症の予防・治療薬あるいはその合成中間体；EP-A733632に記載されたタキキニン拮抗薬（炎症、アレルギー性疾患等の予防・治療薬）あるいはその合成中間体；などとして有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下に、化合物（Ｉ）、化合物（II）および化合物（III）における各記号の定義について詳述する。  
Ｙはハロゲン原子または−ＯＳＯ2Ｒ1−  （Ｒ1はハロゲン化されていてもよいアルキル基を示す）を示す。  
ここで、ハロゲン原子としては、例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられる。なかでも臭素が好ましい。  
Ｒ1で示される「ハロゲン化されていてもよいアルキル基」としては、例えばハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルキル基（例、メチル、エチル、トリフルオロメチル）が挙げられる。  
Ｙは、好ましくはハロゲン原子、さらに好ましくは臭素である。
【０００８】
Ａ環で示される「さらに置換基を有していてもよい5−10員芳香環」における「5−10員芳香環」としては、例えば5−10員芳香族炭化水素環、5−10員芳香族複素環が挙げられる。  
5−10員芳香族炭化水素環の好適な例としては、ベンゼン、ナフタレンなどが挙げられる。  
5−10員芳香族複素環の好適な例としては、環構成原子として炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子および窒素原子から選ばれるヘテロ原子を１ないし４個含有する5−10員芳香族複素環、例えばフラン、チオフェン、ピロール、オキサゾール、イソオキサゾール、チアゾール、イソチアゾール、イミダゾール、ピラゾール、１，２，３−オキサジアゾール、フラザン、１，２，３−チアジアゾール、１，２，３−トリアゾール、ピリジン、ピリダジン、ピリミジン、トリアジン、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、ベンゾ［ｂ］チオフェン、インドール、イソインドール、１Ｈ−インダゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾオキサゾール、１，２−ベンゾイソオキサゾール、ベンゾチアゾール、１，２−ベンゾイソチアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール、キノリン、イソキノリンなどが挙げられる。  
Ａ環で示される「5−10員芳香環」は、好ましくは、ベンゼン環である。
【０００９】
前記「5−10員芳香環」は、置換可能な位置にさらに１ないし３個の置換基を有していてもよい。このような置換基としては、例えば「ハロゲン原子」、「ニトロ基」、「シアノ基」、「Ｃ１−３アルキレンジオキシ基」、「置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基」、「置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基」、「置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルキニル基」、「置換されていてもよい炭素数３〜１０のシクロアルキル基」、「置換されていてもよい炭素数３〜１０のシクロアルケニル基」、「置換されていてもよい炭素数４〜１０のシクロアルカジエニル基」、「置換されていてもよい炭素数６〜１４のアリール基」、「置換されていてもよい複素環基」、「アシル基」、「置換されていてもよいアミノ基」、「置換されていてもよいヒドロキシ基」、「置換されていてもよいチオール基」、「アミジノ基」などが挙げられる。
【００１０】
ここで、「ハロゲン原子」としては、例えばフッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられる。  
「Ｃ１−３アルキレンジオキシ基」としては、例えばメチレンジオキシ、エチレンジオキシなどが挙げられる。  
「置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基」における「炭素数１〜１０のアルキル基」としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec.-ブチル、t.-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル、ヘキシル、イソヘキシル、１，１−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、２−エチルブチル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシルなどが挙げられる。  
「置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基」における「炭素数２〜１０のアルケニル基」としては、例えばエテニル、１−プロペニル、２−プロペニル、２−メチル−１−プロペニル、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、４−メチル−３−ペンテニル、１−ヘキセニル、３−ヘキセニル、５−ヘキセニル、１−ヘプテニル、１−オクテニルなどが挙げられる。  
「置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルキニル基」における「炭素数２〜１０のアルキニル基」としては、例えばエチニル、１−プロピニル、２−プロピニル、１−ブチニル、２−ブチニル、３−ブチニル、１−ペンチニル、２−ペンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−ヘキシニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシニル、１−ヘプチニル、１−オクチニルなどが挙げられる。
【００１１】
前記「炭素数１〜１０のアルキル基」、「炭素数２〜１０のアルケニル基」および「炭素数２〜１０のアルキニル基」は、置換可能な位置に１ないし３個の置換基を有していてもよい。  
このような置換基としては、例えば炭素数３〜１０のシクロアルキル基、炭素数６〜１４のアリール基（例、フェニル、ナフチル）、芳香族複素環基（例、チエニル、フリル、ピリジル、オキサゾリル、チアゾリル、キノリル）、非芳香族複素環基（例、テトラヒドロフリル、モルホリノ、チオモルホリノ、ピペリジノ、ピロリジニル、ピペラジニル）、炭素数７〜１３のアラルキル基、炭素数１〜４のアルキル基あるいは炭素数２〜８のアシル基（例、アルカノイル基、アルコキシカルボニル基）でモノあるいはジ置換されていてもよいアミノ基、炭素数１〜８のアルキルスルホニルアミノ基、アミジノ基、炭素数２〜８のアシル基（例、アルカノイル基、アルコキシカルボニル基）、炭素数１〜８のアルキルスルホニル基、炭素数１〜４のアルキル基でモノあるいはジ置換されていてもよいカルバモイル基、炭素数１〜４のアルキル基でモノあるいはジ置換されていてもよいスルファモイル基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、１〜３個のハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）で置換されていてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基、１〜３個のハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）で置換されていてもよい炭素数２〜５のアルケニルオキシ基、炭素数３〜７のシクロアルキルオキシ基、炭素数７〜１３のアラルキルオキシ基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基（例、フェニルオキシ、ナフチルオキシ）、チオール基、１〜３個のハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）で置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキルチオ基、炭素数７〜１３のアラルキルチオ基、炭素数６〜１４のアリールチオ基（例、フェニルチオ、ナフチルチオ）、スルホ基、シアノ基、アジド基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）などが挙げられる。
【００１２】
「置換されていてもよい炭素数３〜１０のシクロアルキル基」における「炭素数３〜１０のシクロアルキル基」としては、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル、ビシクロ［２．２．２］オクチル、ビシクロ［３．２．１］オクチル、ビシクロ［３．２．２］ノニル、ビシクロ［３．３．１］ノニル、ビシクロ［４．２．１］ノニル、ビシクロ［４．３．１］デシルなどが挙げられる。  
「置換されていてもよい炭素数３〜１０のシクロアルケニル基」における「炭素数３〜１０のシクロアルケニル基」としては、例えば２−シクロペンテン−１−イル、３−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル、３−シクロヘキセン−１−イルなどが挙げられる。  
「置換されていてもよい炭素数４〜１０のシクロアルカジエニル基」における「炭素数４〜１０のシクロアルカジエニル基」としては、例えば２，４−シクロペンタジエン−１−イル、２，４−シクロヘキサジエン−１−イル、２，５−シクロヘキサジエン−１−イルなどが挙げられる。  
「置換されていてもよい炭素数６〜１４のアリール基」における「炭素数６〜１４のアリール基」としては、例えばフェニル、ナフチル、アントリル、フェナントリル、アセナフチレニル、ビフェニリルなどが挙げられる。
【００１３】
「置換されていてもよい複素環基」における「複素環基」としては、非芳香族複素環基および芳香族複素環基が挙げられる。  
非芳香族複素環基としては、例えば環構成原子として炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子および窒素原子から選ばれるヘテロ原子を１ないし４個含有する５〜７員の単環式非芳香族複素環基または縮合非芳香族複素環基が挙げられる。該非芳香族縮合複素環基としては、例えばこれら５〜７員の単環式非芳香族複素環基と、１ないし２個の窒素原子を含む６員環、ベンゼン環または１個の硫黄原子を含む５員環とが縮合した基等が挙げられる。  
非芳香族複素環基の好適な例としては、１−ピロリジニル、ピペリジノ、モルホリノ、チオモルホリノ、１−ピペラジニル、ヘキサメチレンイミン−１−イル、オキサゾリジン−３−イル、チアゾリジン−３−イル、イミダゾリジン−３−イル、２−オキソイミダゾリジン−１−イル、２，４−ジオキソイミダゾリジン−３−イル、２，４−ジオキソオキサゾリジン−３−イル、２，４−ジオキソチアゾリジン−３−イル、１，３−ジオキソイソインドール−２−イル、５-オキソオキサジアゾール−３−イル、５-オキソチアジアゾール−３−イルなどが挙げられる。
【００１４】
芳香族複素環基としては、例えば環構成原子として炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子および窒素原子から選ばれるヘテロ原子を１ないし４個含有する５〜７員の単環式芳香族複素環基または縮合芳香族複素環基が挙げられる。該縮合芳香族複素環基としては、例えばこれら５〜７員の単環式芳香族複素環基と、１ないし２個の窒素原子を含む６員環、ベンゼン環または１個の硫黄原子を含む５員環とが縮合した基等が挙げられる。  
芳香族複素環基の好適な例としては、２−フリル、３−フリル、２−チエニル、３−チエニル、２−ピリジル、３−ピリジル、４−ピリジル、２−ピリミジニル、４−ピリミジニル、５−ピリミジニル、６−ピリミジニル、３−ピリダジニル、４−ピリダジニル、２−ピラジニル、１−ピロリル、２−ピロリル、３−ピロリル、１−イミダゾリル、２−イミダゾリル、４−イミダゾリル、５−イミダゾリル、１−ピラゾリル、３−ピラゾリル、４−ピラゾリル、イソオキサゾリル、イソチアゾリル、２−チアゾリル、４−チアゾリル、５−チアゾリル、２−オキサゾリル、４−オキサゾリル、５−オキサゾリル、１，２，４−オキサジアゾール−５−イル、１，３，４−オキサジアゾール−２−イル、１，３，４−チアジアゾール−２−イル、１，２，４−トリアゾール−１−イル、１，２，４−トリアゾール−３−イル、１，２，３−トリアゾール−１−イル、１，２，３−トリアゾール−２−イル、１，２，３−トリアゾール−４−イル、テトラゾール−１−イル、テトラゾール−５−イル、２−キノリル、３−キノリル、４−キノリル、２−キナゾリル、４−キナゾリル、２−キノキサリル、２−ベンゾフリル、３−ベンゾフリル、２−ベンゾチエニル、３−ベンゾチエニル、２−ベンゾオキサゾリル、２−ベンゾチアゾリル、ベンズイミダゾール−１−イル、ベンズイミダゾール−２−イル、インドール−１−イル、インドール−３−イル、１Ｈ−インダゾール−３−イル、１Ｈ−ピロロ［２，３−ｂ］ピラジン−２−イル、１Ｈ−ピロロ［２，３−ｂ］ピリジン−６−イル、１Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピリジン−２−イル、１Ｈ−イミダゾ［４，５−ｃ］ピリジン−２−イル、１Ｈ−イミダゾ［４，５−ｂ］ピラジン−２−イルなどが挙げられる。
【００１５】
前記「置換されていてもよい炭素数３〜１０のシクロアルキル基」、「置換されていてもよい炭素数３〜１０のシクロアルケニル基」、「置換されていてもよい炭素数４〜１０のシクロアルカジエニル基」、「置換されていてもよい炭素数６〜１４のアリール基」および「置換されていてもよい複素環基」における置換基としては、例えば１〜３個のハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）で置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキル基；１〜３個のハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）で置換されていてもよい炭素数２〜６のアルケニル基；炭素数３〜１０のシクロアルキル基；炭素数６〜１４のアリール基（例、フェニル、ナフチル）；芳香族複素環基（例、チエニル、フリル、ピリジル、オキサゾリル、チアゾリル）；非芳香族複素環基（例、テトラヒドロフリル、モルホリノ、チオモルホリノ、ピペリジノ、ピロリジニル、ピペラジニル）；炭素数７〜１３のアラルキル基；炭素数１〜４のアルキル基あるいは炭素数１〜１５のアシル基（例、アルカノイル基）でモノあるいはジ置換されていてもよいアミノ基（アミノ、モノ−またはジ−Ｃ２−１０アルカノイルアミノ、Ｃ１−１０アルコキシ−カルボニルアミノ、カルバモイルアミノ、モノ−またはジ−Ｃ１−１０アルキル−カルバモイルアミノ、Ｃ６−１４アリール−カルボニルアミノ、Ｃ３−１０シクロアルキル−カルボニルアミノ、Ｃ７−１３アラルキルオキシ−カルボニルアミノ、モノ−またはジ−Ｃ１−１０アルキルスルホニルアミノ、Ｃ６−１４アリールスルホニルアミノ、Ｃ１−６アルコキシ−カルバモイルアミノ）；アミジノ基；炭素数２〜８のアシル基（例、アルカノイル基）；炭素数１〜４のアルキル基でモノあるいはジ置換されていてもよいカルバモイル基；炭素数１〜４のアルキル基でモノあるいはジ置換されていてもよいスルファモイル基；カルボキシル基；炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基；ヒドロキシ基；１〜３個のハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）で置換されていてもよい炭素数１〜６のアルコキシ基；１〜３個のハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）で置換されていてもよい炭素数２〜５のアルケニルオキシ基；炭素数３〜７のシクロアルキルオキシ基；炭素数７〜１３のアラルキルオキシ基；炭素数６〜１４のアリールオキシ基（例、フェニルオキシ、ナフチルオキシ）；チオール基；１〜３個のハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）で置換されていてもよい炭素数１〜６のアルキルチオ基；炭素数７〜１３のアラルキルチオ基；炭素数６〜１４のアリールチオ基（例、フェニルチオ、ナフチルチオ）；スルホ基；シアノ基；アジド基；ニトロ基；ニトロソ基；ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）などが挙げられる。置換基の数は、例えば１〜３個である。
【００１６】
「アシル基」としては、例えば式：  −ＣＯＲ４，−ＣＯ−ＯＲ４，−ＳＯ２Ｒ４，−ＳＯＲ４，−ＰＯ３Ｒ４Ｒ５，−ＣＯ−ＮＲ４ａＲ５ａ，−ＣＳ−ＮＲ４ａＲ５ａ[式中、Ｒ４およびＲ５は、同一または異なって、水素原子、置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示す。Ｒ４ａおよびＲ５ａは、同一または異なって、水素原子、置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を示すか、 Ｒ４ａおよびＲ５ａは、隣接する窒素原子とともに、置換されていてもよい含窒素複素環を形成していてもよい]で表される基などが挙げられる。  
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ４ａまたはＲ５ａで示される「置換されていてもよい炭化水素基」としては、Ａ環における置換基として例示した「置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキル基」、「置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基」、「置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルキニル基」、「置換されていてもよい炭素数３〜１０のシクロアルキル基」、「置換されていてもよい炭素数３〜１０のシクロアルケニル基」、「置換されていてもよい炭素数４〜１０のシクロアルカジエニル基」および「置換されていてもよい炭素数６〜１４のアリール基」、および「置換されていてもよい炭素数７〜１３のアラルキル基」、「置換されていてもよい炭素数８〜１３のアリールアルケニル基」などが挙げられる。
【００１７】
「置換されていてもよい炭素数７〜１３のアラルキル基」における「炭素数７〜１３のアラルキル基」としては、例えばベンジル、フェネチル、ナフチルメチルなどが挙げられる。  
「置換されていてもよい炭素数８〜１３のアリールアルケニル基」における「炭素数８〜１３のアリールアルケニル基」としては、例えばスチリルなどが挙げられる。  
これら「置換されていてもよい炭素数７〜１３のアラルキル基」および「置換されていてもよい炭素数８〜１３のアリールアルケニル基」における置換基としては、例えば前記「置換されていてもよい炭素数３〜１０のシクロアルキル基」などの置換基として例示したものが挙げられる。置換基の数は、例えば１〜３個である。  
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ４ａまたはＲ５ａで示される「置換されていてもよい複素環基」としては、Ａ環における置換基として例示したものが挙げられる。  
Ｒ４ａおよびＲ５ａが隣接する窒素原子とともに形成する「置換されていてもよい含窒素複素環」における「含窒素複素環」としては、例えば環構成原子として炭素原子以外に少なくとも１個の窒素原子を含み、さらに酸素原子、硫黄原子および窒素原子から選ばれるヘテロ原子を１ないし２個含有していてもよい５〜７員の含窒素複素環が挙げられる。該含窒素複素環の好適な例としては、ピロリジン、イミダゾリジン、ピラゾリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、チオモルホリンなどが挙げられる。  
該含窒素複素環は、置換可能な位置に１〜２個の置換基を有していてもよい。このような置換基としては、ヒドロキシ基、１〜３個のハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）で置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、Ｃ７−１３アラルキル基（例、ベンジル、ジフェニルメチル）などが挙げられる。
【００１８】
「アシル基」の好適な例としては、ホルミル、カルボキシル、カルバモイル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル（例、アセチル、ブタノイル、イソブタノイル、イソペンタノイル）、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル(例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル)、Ｃ６−１４アリール−カルボニル（例、ベンゾイル、1−ナフトイル、2−ナフトイル）、Ｃ６−１４アリールオキシ−カルボニル（例、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル）、Ｃ７−１３アラルキルオキシ−カルボニル（例、ベンジルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル）、モノ−またはジ−（ハロゲン原子およびＣ１−６アルコキシ−カルボニルから選ばれる１ないし３個の置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル）−カルバモイル(例、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル、ジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、エチルメチルカルバモイル、プロピルカルバモイル、トリフルオロエチルカルバモイル)、Ｃ６−１４アリール−カルバモイル（例、フェニルカルバモイル）、Ｃ３−１０シクロアルキル−カルバモイル（例、シクロプロピルカルバモイル）、Ｃ７−１３アラルキル−カルバモイル（例、ベンジルカルバモイル）、Ｃ１−６アルキルスルホニル（例、メチルスルホニルなど）、Ｃ６−１４アリールスルホニル（例、フェニルスルホニル）、ヒドロキシで置換されていてもよい含窒素複素環−カルボニル（例、ピロリジニルカルボニル、ピペリジノカルボニル）、Ｃ１−６アルキルスルフィニル（例、メチルスルフィニル）、Ｃ１−６アルコキシ−カルバモイル(例、メトキシカルバモイル)、アミノカルバモイル、ヒドロキシカルバモイル、チオカルバモイルなどが挙げられる。
【００１９】
「置換されていてもよいアミノ基」としては、例えば炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルケニル基、炭素数６〜１４のアリール基およびアシル基から選ばれる１または２個の置換基で置換されていてもよいアミノ基が挙げられる。  
ここで、「炭素数１〜１０のアルキル基」、「炭素数２〜１０のアルケニル基」、「炭素数３〜１０のシクロアルキル基」、「炭素数３〜１０のシクロアルケニル基」、「炭素数６〜１４のアリール基」および「アシル基」としては、Ａ環における置換基として例示したものが挙げられる。  
置換されたアミノ基の好適な例としては、モノ−またはジ−Ｃ１−１０アルキルアミノ（例、メチルアミノ、ジメチルアミノ、エチルアミノ、ジエチルアミノ、プロピルアミノ、ジブチルアミノ）、モノ−またはジ−Ｃ２−１０アルケニルアミノ（例、ジアリルアミノ）、モノ−またはジ−Ｃ３−１０シクロアルキルアミノ（例、シクロヘキシルアミノ）、モノ−またはジ−Ｃ２−１０アルカノイルアミノ（例、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブタノイルアミノ、イソブタノイルアミノ、イソペンタノイルアミノ）、Ｃ６−１４アリール−カルボニルアミノ（例、ベンゾイルアミノ）、Ｃ６−１４アリールアミノ（例、フェニルアミノ）、カルバモイルアミノ、モノ−またはジ−Ｃ１−１０アルキル−カルバモイルアミノ（例、メチルカルバモイルアミノ、ジメチルカルバモイルアミノ）、Ｃ１−１０アルコキシ−カルボニルアミノ（例、メトキシカルボニルアミノ）、Ｃ７−１３アラルキルオキシ−カルボニルアミノ（例、ベンジルオキシカルボニルアミノ）、Ｃ３−１０シクロアルキル−カルボニルアミノ（例、シクロペンチルカルボニルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ）、モノ−またはジ−Ｃ１−１０アルキルスルホニルアミノ（例、メチルスルホニルアミノ、ジメチルスルホニルアミノ）、Ｃ６−１４アリールスルホニルアミノ（例、フェニルスルホニルアミノ）、Ｃ１−６アルコキシ−カルバモイルアミノ(例、メトキシカルバモイルアミノ)等が挙げられる。
【００２０】
「置換されていてもよいヒドロキシ基」としては、例えばそれぞれ置換されていてもよい「炭素数１〜１０のアルキル基」、「炭素数２〜１０のアルケニル基」、「炭素数２〜１０のアルキニル基」、「炭素数３〜１０のシクロアルキル基」、「炭素数３〜１０のシクロアルケニル基」、「炭素数６〜１４のアリール基」または「炭素数７〜１３のアラルキル基」で置換されていてもよいヒドロキシ基が挙げられる。  
ここで、「炭素数１〜１０のアルキル基」、「炭素数２〜１０のアルケニル基」、「炭素数２〜１０のアルキニル基」、「炭素数３〜１０のシクロアルキル基」、「炭素数３〜１０のシクロアルケニル基」、「炭素数６〜１４のアリール基」または「炭素数７〜１３のアラルキル基」としては、前記Ｒ４などとして例示したものが挙げられる。  
これら「炭素数１〜１０のアルキル基」、「炭素数２〜１０のアルケニル基」、「炭素数２〜１０のアルキニル基」、「炭素数３〜１０のシクロアルキル基」、「炭素数３〜１０のシクロアルケニル基」、「炭素数６〜１４のアリール基」および「炭素数７〜１３のアラルキル基」は、それぞれ置換可能な位置に１ないし３個の置換基を有していてもよい。このような置換基としては、例えばハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、炭素数１〜３のアルコキシ基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜５のアルカノイル基、シアノ基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、カルボキシル基、アミノ基、炭素数２〜５のアルカノイルアミノ基等が挙げられる。
【００２１】
置換されたヒドロキシ基は、好ましくは、ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、炭素数１〜３のアルコキシ基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜５のアルカノイル基、シアノ基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基、炭素数２〜５のアルカノイルアミノ基および炭素数３〜１０のシクロアルキル基から選ばれる１ないし３個の置換基をそれぞれ有していてもよい、「炭素数１〜１０のアルコキシ基」、「炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基」、「炭素数２〜１０のアルキニルオキシ基」、「炭素数３〜１０のシクロアルキルオキシ基」、「炭素数３〜１０のシクロアルケニルオキシ基」、「炭素数６〜１４のアリールオキシ基」、「炭素数７〜１３のアラルキルオキシ基」等である。  
ここで、「炭素数１〜１０のアルコキシ基」としては、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ、sec.−ブトキシ、t.−ブトキシ、ペンチルオキシ、イソペンチルオキシ、ネオペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、ノニルオキシなどが挙げられる。  
「炭素数２〜１０のアルケニルオキシ基」としては、例えばアリル（allyl）オキシ、クロチルオキシ、２−ペンテニルオキシ、３−ヘキセニルオキシなどが挙げられる。  
「炭素数２〜１０のアルキニルオキシ基」としては、例えばエチニルオキシ、プロピニルオキシ、ペンチニルオキシなどが挙げられる。  
「炭素数３〜１０のシクロアルキルオキシ基」としては、例えばシクロブトキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシなどが挙げられる。  
「炭素数３〜１０のシクロアルケニルオキシ基」としては、例えば２−シクロペンテニルオキシ、２−シクロヘキセニルオキシなどが挙げられる。  
「炭素数６〜１４のアリールオキシ基」としては、例えばフェノキシ、ナフチルオキシ等が挙げられる。  
「炭素数７〜１３のアラルキルオキシ基」としては、例えばベンジルオキシ、フェネチルオキシ、ナフチルメチルオキシ等が挙げられる。
【００２２】
置換されたヒドロキシ基は、さらに好ましくは、ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、炭素数１〜３のアルコキシ基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜５のアルカノイル基、シアノ基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基、炭素数２〜５のアルカノイルアミノ基および炭素数３〜１０のシクロアルキル基から選ばれる１ないし３個の置換基をそれぞれ有していてもよい、「炭素数１〜１０のアルコキシ基」、「炭素数３〜１０のシクロアルキルオキシ基」または「炭素数７〜１３のアラルキルオキシ基」である。
【００２３】
「置換されていてもよいチオール基」としては、例えばそれぞれ置換されていてもよい「炭素数１〜１０のアルキル基」、「炭素数２〜１０のアルケニル基」、「炭素数２〜１０のアルキニル基」、「炭素数３〜１０のシクロアルキル基」、「炭素数３〜１０のシクロアルケニル基」、「炭素数６〜１４のアリール基」または「炭素数７〜１３のアラルキル基」で置換されていてもよいチオール基が挙げられる。  
ここで、「炭素数１〜１０のアルキル基」、「炭素数２〜１０のアルケニル基」、「炭素数２〜１０のアルキニル基」、「炭素数３〜１０のシクロアルキル基」、「炭素数３〜１０のシクロアルケニル基」、「炭素数６〜１４のアリール基」または「炭素数７〜１３のアラルキル基」としては、前記Ｒ４などとして例示したものが挙げられる。  
これら「炭素数１〜１０のアルキル基」、「炭素数２〜１０のアルケニル基」、「炭素数２〜１０のアルキニル基」、「炭素数３〜１０のシクロアルキル基」、「炭素数３〜１０のシクロアルケニル基」、「炭素数６〜１４のアリール基」および「炭素数７〜１３のアラルキル基」は、それぞれ置換可能な位置に１ないし３個の置換基を有していてもよい。このような置換基としては、例えばハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、炭素数１〜３のアルコキシ基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜５のアルカノイル基、シアノ基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基、カルボキシル基、アミノ基、炭素数２〜５のアルカノイルアミノ基等が挙げられる。
【００２４】
置換されたチオール基は、好ましくは、ハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、炭素数１〜３のアルコキシ基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜５のアルカノイル基、シアノ基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基、炭素数２〜５のアルカノイルアミノ基および炭素数３〜１０のシクロアルキル基から選ばれる１ないし３個の置換基をそれぞれ有していてもよい、「炭素数１〜１０のアルキルチオ基」、「炭素数２〜１０のアルケニルチオ基」、「炭素数２〜１０のアルキニルチオ基」、「炭素数３〜１０のシクロアルキルチオ基」、「炭素数３〜１０のシクロアルケニルチオ基」、「炭素数６〜１４のアリールチオ基」、「炭素数７〜１３のアラルキルチオ基」等が挙げられる。  
「炭素数１〜１０のアルキルチオ基」としては、例えばメチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチルチオ、sec.−ブチルチオ、t.−ブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチルチオ、ネオペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、ノニルチオ等が挙げられる。  
「炭素数２〜１０のアルケニルチオ基」としては、例えばアリル（allyl）チオ、クロチルチオ、２−ペンテニルチオ、３−ヘキセニルチオなどが挙げられる。  
「炭素数２〜１０のアルキニルチオ基」としては、例えばエチニルチオ、プロピニルチオ、ペンチニルチオなどが挙げられる。  
「炭素数３〜１０のシクロアルキルチオ基」としては、例えばシクロブチルチオ、シクロペンチルチオ、シクロヘキシルチオ等が挙げられる。  
「炭素数３〜１０のシクロアルケニルチオ基」としては、例えば２−シクロペンテニルチオ、２−シクロヘキセニルチオなどが挙げられる。  
「炭素数６〜１４のアリールチオ基」としては、例えばフェニルチオ、ナフチルチオ等が挙げられる。  
「炭素数７〜１３のアラルキルチオ基」としては、例えばベンジルチオ、フェネチルチオ、ナフチルメチルチオ等が挙げられる。  
置換されたチオール基は、さらに好ましくは、カルバモイル基で置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキルチオ基である。
【００２５】
Ａ環で示される「5−10員芳香環」における「置換基」の好適な具体例としては、
１）ハロゲン原子；
２）ニトロ基；
３）シアノ基；
４）Ｃ１−３アルキレンジオキシ基；
５）ハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、シアノ基、アミノ基、炭素数２〜８のアルカノイルアミノ基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数１〜８のアルキルスルホニルアミノ基から選ばれる置換基をそれぞれ１ないし３個有していてもよいＣ１−１０アルキル基またはＣ２−１０アルケニル基；
６）置換されていてもよいヒドロキシ基［例、ハロゲン原子、炭素数１〜３のアルコキシ基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜５のアルカノイル基、シアノ基、カルバモイル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基、炭素数２〜５のアルカノイルアミノ基および炭素数３〜１０のシクロアルキル基から選ばれる１ないし３個の置換基をそれぞれ有していてもよい、
炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数３〜１０のシクロアルキルオキシ基または炭素数７〜１３のアラルキルオキシ基；ヒドロキシ基］；
７）アシル基［例、ホルミル、カルボキシル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル、カルバモイル、アミノカルバモイル、ヒドロキシカルバモイル、モノ−またはジ−（ハロゲン原子およびＣ１−６アルコキシ−カルボニルから選ばれる１ないし３個の置換基を有していてもよいＣ１−６アルキル）−カルバモイル、Ｃ３−１０シクロアルキル−カルバモイル、Ｃ７−１３アラルキル−カルバモイル、ヒドロキシで置換されていてもよい含窒素複素環−カルボニル（例、ピロリジニルカルボニル、ピペリジノカルボニル）、Ｃ１−６アルキルスルホニル、Ｃ１−６アルキルスルフィニル、チオカルバモイル］；
８）置換されていてもよいアミノ基［例、アミノ、モノ−またはジ−Ｃ２−１０アルカノイルアミノ、Ｃ１−１０アルコキシ−カルボニルアミノ、カルバモイルアミノ、モノ−またはジ−Ｃ１−１０アルキル−カルバモイルアミノ、Ｃ６−１４アリール−カルボニルアミノ、Ｃ３−１０シクロアルキル−カルボニルアミノ、Ｃ７−１３アラルキルオキシ−カルボニルアミノ、モノ−またはジ−Ｃ１−１０アルキルスルホニルアミノ、Ｃ６−１４アリールスルホニルアミノ、Ｃ１−６アルコキシ−カルバモイルアミノ］；
９）炭素数６〜１４のアリール基；
１０）置換されていてもよいチオール基［例、カルバモイル基で置換されていてもよい炭素数１〜１０のアルキルチオ基］；
１１）置換されていてもよい複素環基［例、１ないし３個のハロゲン原子で置換されていてもよいＣ１−６アルキル基、カルボキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、シアノ基、カルバモイル基、アミノ基、モノ−またはジ−Ｃ２−１０アルカノイルアミノ基、Ｃ１−１０アルコキシ−カルボニルアミノ基、カルバモイルアミノ基、モノ−またはジ−Ｃ１−１０アルキル−カルバモイルアミノ基、Ｃ６−１４アリール−カルボニルアミノ基、Ｃ３−１０シクロアルキル−カルボニルアミノ基、Ｃ７−１３アラルキルオキシ−カルボニルアミノ基、モノ−またはジ−Ｃ１−１０アルキルスルホニルアミノ基、Ｃ６−１４アリールスルホニルアミノ基およびＣ１−６アルコキシ−カルバモイルアミノ基から選ばれる１ないし２個の置換基をそれぞれ有していてもよい芳香族複素環基（好ましくは、フリル、チエニル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、チアゾリル、テトラゾリル、ピリジル、ピロリル、トリアゾリル）または非芳香族複素環基（好ましくは、ジオキソイソインドール、５−オキソオキサジアゾール−３−イル、５−オキソチアジアゾール−３−イル）］；
１２）アミジノ基；
などが挙げられる。  
置換基の数は、好ましくは１ないし３個、さらに好ましくは１ないし２個である。
【００２６】
Ｂ環で示される「置換基を有していてもよい環」における環としては、例えば5−10員芳香環、5−10員非芳香環などが挙げられる。  
ここで、5−10員芳香環としては、Ａ環で示される「置換されていてもよい5−10員芳香環」における「5−10員芳香環」として例示したものが挙げられる。また、5−10員非芳香環としては、例えば5−10員非芳香族炭化水素環、5−10員非芳香族複素環が挙げられる。  
5−10員非芳香族炭化水素環の好適な例としては、シクロアルカン（例、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン）、シクロアルケン（例、シクロヘキセン）などが挙げられる。  
5−10員非芳香族複素環の好適な例としては、環構成原子として炭素原子以外に酸素原子、硫黄原子および窒素原子から選ばれるヘテロ原子を１ないし４個含有する5−10員非芳香族複素環、例えばテトラヒドロフラン、テトラヒドロチオフェン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、チオモルホリン、ピペラジン、ヘキサメチレンイミン、オキサゾリジン、チアゾリジン、イミダゾリジン、オキソピリジンなどが挙げられる。  
Ｂ環で示される環は、好ましくは5−10員非芳香族複素環、さらに好ましくはオキソピリジンである。
【００２７】
Ｂ環で示される「置換基を有していてもよい環」における置換基としては、Ａ環における置換基として例示したものなどが挙げられる。置換基の数は、例えば１ないし３個である。
【００２８】
化合物（Ｉ）および化合物（II）において、Ａ環またはＢ環の少なくとも一方が環構成原子として窒素原子を有する。すなわち、Ａ環またはＢ環の少なくとも一方は、含窒素複素環である。  
化合物（Ｉ）および化合物（II）において、部分構造  
【化５】
2005035933.tif 000006
［式中、Ｒ6およびＲ7は同一または異なって、置換されていてもよい炭化水素基または置換されていてもよい複素環基を；
Ｒ8はニトリル基または−Ｌ−ＮＨＲ9（Ｌは２価の炭化水素基を、Ｒ9は水素原子またはアミノ基の保護基を示す）を；
Ｘは結合手、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−または−ＮＲ10−（Ｒ10は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す）を示す］である。
【００２９】
Ｒ6およびＲ7で示される「置換されていてもよい炭化水素基」としては、前記Ｒ４などとして例示したものが挙げられる。  
Ｒ6およびＲ7で示される「置換されていてもよい複素環基」としては、Ａ環における置換基として例示したものが挙げられる。  
Ｒ6は、好ましくは置換されていてもよい炭化水素基であり、さらに好ましくは炭素数３ないし１０のシクロアルキル基（例、シクロプロピル）で置換されていてもよい炭素数１ないし１０のアルキル基である。Ｒ6は、特に好ましくは炭素数４ないし５のアルキル基（例、ブチル、イソブチル、sec.-ブチル、t.-ブチル、ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、１−エチルプロピル）である。  
Ｒ7は、好ましくは置換されていてもよい炭化水素基である。Ｒ7は、さらに好ましくは、ハロゲン原子（例、フッ素、塩素）、ヒドロキシ基、ニトロ基、アミノ基、ハロゲン化されていてもよい炭素数１ないし６のアルキル基（例、トリフルオロメチル、メチル）、炭素数１ないし６のアルコキシ基（例、メトキシ）、芳香族複素環基（例、キノリル、チエニル）および炭素数３ないし１０のシクロアルキル基（例、シクロペンチル）から選ばれる１ないし３個（好ましくは１ないし２個）の置換基をそれぞれ有していてもよい、
炭素数１ないし１０のアルキル基（例、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec.-ブチル、t.-ブチル、ペンチル）、炭素数６〜１４のアリール基（例、フェニル）または炭素数７〜１３のアラルキル基（例、ベンジル、フェネチル、ナフチルメチル）である。なかでも、炭素数１ないし１０のアルキル基（好ましくはブチル）、炭素数６〜１４のアリール基（好ましくはフェニル）などが好ましい。
【００３０】
Ｒ8はニトリル基または−Ｌ−ＮＨＲ9（記号は前記と同意義を示す）を示す。  
Ｌで示される「２価の炭化水素基」としては、例えば
（１）Ｃ１−１０アルキレン（例、−ＣＨ２−、−（ＣＨ２）２−、−（ＣＨ２）３−、−（ＣＨ２）４−、−（ＣＨ２）５−、−（ＣＨ２）６−、−ＣＨＣＨ３−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−（ＣＨ（ＣＨ３））２−、−（ＣＨ２）２Ｃ（ＣＨ３）２−、−（ＣＨ２）３Ｃ（ＣＨ３）２−など）；
（２）Ｃ２−１０アルケニレン（例、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−ＣＨ２−ＣＨ２−など）；
（３）Ｃ２−１０アルキニレン（例、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ２−Ｃ≡Ｃ−ＣＨ２−ＣＨ２−など）などが挙げられる。  
Ｌは、好ましくはＣ１−１０アルキレン、さらに好ましくは−ＣＨ２−である。  
Ｒ9で示される「アミノ基の保護基」としては、例えばホルミル、Ｃ１−６アルキル−カルボニル（例、アセチル、プロピオニル）、Ｃ１−６アルコキシ−カルボニル（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、tert−ブトキシカルボニル）、ベンゾイル、Ｃ７−１３アラルキル−カルボニル（例、ベンジルカルボニル）、Ｃ７−１３アラルキルオキシ−カルボニル（例、ベンジルオキシカルボニル、９−フルオレニルメトキシカルボニル）、トリチル、フタロイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチレン、シリル（例、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ジメチルフェニルシリル、tert−ブチルジメチルシリル、tert−ブチルジエチルシリル）、Ｃ２−６アルケニル（例、１−アリル）などが挙げられる。これらの基は、１ないし３個のハロゲン原子（例、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、Ｃ１−６アルコキシ（例、メトキシ、エトキシ、プロポキシ）またはニトロなどで置換されていてもよい。  
Ｒ8は好ましくはニトリル基である。
【００３１】
Ｘは結合手、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−または−ＮＲ10−（Ｒ10は前記と同意義を示す）を示す。  
Ｒ10で示される「置換されていてもよい炭化水素基」としては、前記Ｒ４などとして例示したものが挙げられる。なかでも炭素数１〜１０のアルキル基（例、メチル、エチル）が好ましい。  
Ｘは好ましくは結合手または−Ｏ−、さらに好ましくは結合手である。
【００３２】
化合物（III）において、Ｚは−Ｏ−、−Ｓ−または−ＮＲ3−  （Ｒ3は水素原子または置換されていてもよい炭化水素基を示す）を示す。なかでも、−Ｏ−または−ＮＲ3−が好ましい。  
Ｒ3で示される「置換されていてもよい炭化水素基」としては、前記Ｒ４などとして例示したものが挙げられる。なかでも炭素数１〜１０のアルキル基（例、メチル、エチル）が好ましい。  
Ｒ2で示される「置換されていてもよい炭化水素基」としては、前記Ｒ４などとして例示したものが挙げられる。なかでも、炭素数１〜１０のアルキル基（例、メチル、tert−ブチル）、炭素数３〜１０のシクロアルキル基（例、シクロヘキシル）、炭素数７〜１３のアラルキル基（例、ベンジル）などが好ましい。  
Ｒ2で示される「置換されていてもよい複素環基」および「アシル基」としては、Ａ環における置換基として例示したものが挙げられる。なかでも、ヒドロキシ基でそれぞれ置換されていてもよい、Ｃ１−６アルキル−カルボニル（例、アセチル、ブタノイル）、Ｃ６−１４アリールスルホニル（例、フェニルスルホニル）などが好ましい。  
なお、Ｚが−ＮＲ3−であり、Ｒ2がアシル基である場合、該アシル基とＲ3とが結合して、隣接する窒素原子とともに含窒素複素環を形成していてもよい。このような含窒素複素環としては、例えば2−オキソピペリジンなどが挙げられる。
【００３３】
化合物（Ｉ）、化合物（II）および化合物（III）は、それらが塩を形成し得る場合には、塩として用いてもよい。このような塩としては、例えば無機塩基との塩、有機塩基との塩、無機酸との塩、有機酸との塩、塩基性または酸性アミノ酸との塩などが挙げられる。  
無機塩基との塩の好適な例としては、ナトリウム塩、カリウム塩などのアルカリ金属塩；カルシウム塩、マグネシウム塩などのアルカリ土類金属塩；アルミニウム塩；アンモニウム塩などが挙げられる。  
有機塩基との塩の好適な例としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン、ピコリン、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジベンジルエチレンジアミンなどとの塩が挙げられる。  
無機酸との塩の好適な例としては、塩酸、臭化水素酸、硝酸、硫酸、リン酸などとの塩が挙げられる。  
有機酸との塩の好適な例としては、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、フマル酸、シュウ酸、酒石酸、マレイン酸、クエン酸、コハク酸、リンゴ酸、メタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸などとの塩が挙げられる。  
塩基性アミノ酸との塩の好適な例としては、アルギニン、リジン、オルニチンなどとの塩が挙げられる。  
酸性アミノ酸との塩の好適な例としては、アスパラギン酸、グルタミン酸などとの塩が挙げられる。
【００３４】
本発明の製造方法では、化合物（II）またはその塩と化合物（III）またはその塩とを、触媒、配位子および塩基の存在下に反応させることにより、化合物（Ｉ）またはその塩を製造する。  
本反応は、通常、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われる。  
反応に悪影響を及ぼさない溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジメトキシエタンなどのエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類；アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類などが挙げられる。これらの溶媒は、２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。溶媒は、好ましくはアミド類および芳香族炭化水素類、さらに好ましくは芳香族炭化水素類である。なかでも、トルエンが好ましい。
【００３５】
本発明の製造方法に用いられる触媒としては、遷移金属化合物類、例えば、ロジウム；パラジウム炭素、酢酸パラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、テトラキス（トリ−（２−トリル）ホスフィン）パラジウム、テトラキス（トリ−（２−フリル）ホスフィン）パラジウムなどのパラジウム触媒；ビス（アセチルアセトン）ニッケル、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）ニッケル、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル、ビス（１，１０−フェナントロリン）ニッケルなどのニッケル触媒；ラネーニッケル；ラネーコバルトなどが挙げられる。触媒は、好ましくはパラジウム触媒、さらに好ましくは酢酸パラジウムである。  
触媒の使用量は、化合物（II）またはその塩に対して、通常、０．００００１ないし１０モル当量、好ましくは０．００１ないし１モル当量である。  
本発明の製造方法に用いられる配位子としては、例えば２，２´−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１´ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）、２，２´−ビス（ジ−0−トリルホスフィノ）−１，１´ビナフチルなどのＢＩＮＡＰ化合物；トリフェニルホスフィン、トリ−tert−ブチルホスフィン、トリ−シクロヘキシルホスフィンなどのホスフィン化合物などが挙げられる。配位子は、好ましくはＢＩＮＡＰ化合物、さらに好ましくはＢＩＮＡＰである。  
配位子の使用量は、化合物（II）またはその塩に対して、通常、０．００００１ないし１０モル当量、好ましくは０．００１ないし１モル当量である。
【００３６】
本発明の製造方法に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの金属水素化物；ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、ナトリウムｔｅｒｔ−ブチラート、カリウムｔｅｒｔ−ブチラートなどのアルカリ金属アルコラート；水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属塩；ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン）などのアミン類が挙げられる。塩基は、好ましくはアルカリ金属アルコラート、さらに好ましくはナトリウムｔｅｒｔ−ブチラートである。  
塩基の使用量は、化合物（II）またはその塩に対して、好ましくは０．１ないし２モル当量である。  
化合物（III）またはその塩の使用量は、化合物（II）またはその塩に対して、通常、１ないし１００モル当量、好ましくは１ないし１０モル当量である。  
反応温度は、通常、−1０ないし２５０℃、好ましくは０ないし１５０℃である。  
反応時間は、通常、０．１ないし１００時間、好ましくは０．１ないし４０時間である。  
このようにして得られる化合物（Ｉ）またはその塩は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製することができる。
【００３７】
本発明の製造方法における原料化合物として用いられる化合物（II）および化合物（III）は、自体公知の方法にしたがって製造することができる。  
例えば、化合物（II）のうち、部分構造  
【化６】
2005035933.tif 000007
［式中、Ｒ11はニトリル基またはＣ2−7アルコキシカルボニル基を；その他の記号は前記と同意義を示す］である化合物［以下、化合物（IIa）と略記することがある］は、例えば以下のＡ1〜Ａ3法によって製造することができる。  
以下の各反応において、原料化合物が塩を形成し得る場合には、原料化合物を塩として用いてもよい。このような塩としては、例えば化合物（Ｉ）の塩として前記したものが用いられる。
【００３８】
［Ａ1法］
化合物（IIa）のうち、Ｘが−Ｏ−である化合物（IIa−1）は、例えば以下の方法によって製造することができる。  
【化７】
2005035933.tif 000008
［式中、Ｒ12はＣ1−6アルキル基を、Ｌ1は脱離基を、その他の記号は前記と同意義を示す］
Ｒ12で示されるＣ1−6アルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピルなどが挙げられる。  
Ｌ1で示される脱離基としては、例えばハロゲン原子（例、塩素、臭素、ヨウ素）、ハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルキルスルホニルオキシ（例、メタンスルホニルオキシ、エタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ）、置換基を有していてもよいＣ６−１０アリールスルホニルオキシ、ヒドロキシなどが挙げられる。  
該「置換基を有していてもよいＣ６−１０アリールスルホニルオキシ」における「置換基」としては、例えばハロゲン原子（例、塩素、臭素、ヨウ素）、ハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルキルまたはＣ１−６アルコキシなどが挙げられる。置換基の数は、例えば１ないし３個である。「置換基を有していてもよいＣ６−１０アリールスルホニルオキシ」の具体例としては、ベンゼンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシ、１−ナフタレンスルホニルオキシ、２−ナフタレンスルホニルオキシなどが挙げられる。  
「脱離基」は、好ましくは、ハロゲン原子（例、塩素、臭素、ヨウ素）、メタンスルホニルオキシ、トリフルオロメタンスルホニルオキシ、ｐ−トルエンスルホニルオキシなどである。
【００３９】
（工程1）
本工程では、化合物（IV）と化合物（Ｖ）とを反応させて、化合物（VI）を製造する。  
本反応は、例えば、化合物（IV）と化合物（Ｖ）とを縮合剤を用いて直接縮合させる方法、あるいは、化合物（IV）の反応性誘導体と化合物（Ｖ）とを適宜反応させる方法などを用いて行われる。  
該縮合剤としては、例えばジシクロヘキシルカルボジイミド、ジイソプロピルカルボジイミド、１−エチル−３−ジメチルアミノプロピルカルボジイミド及びその塩酸塩などのカルボジイミド系縮合試薬；シアノりん酸ジエチル、アジ化ジフェニルホスホリルなどのりん酸系縮合試薬；カルボニルジイミダゾール、２−クロロ−１，３−ジメチルイミダゾリウムテトラフルオロボレートなどが挙げられる。  
縮合剤を用いる反応に用いられる溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−-ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ-ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル類；酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどのエステル類；アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類；アセトン、２−ブタノンなどのケトン類；水などが挙げられる。これらの溶媒は、２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。  
化合物（Ｖ）の使用量は、化合物（IV）に対して、通常０．１〜１０モル当量、好ましくは０．３〜３モル当量である。  
縮合剤の使用量は、化合物（IV）に対して、通常０．１〜１０モル当量、好ましくは０．３〜３モル当量である。  
縮合剤として、前記カルボジイミド系縮合試薬を用いる場合、必要に応じて適当な縮合促進剤（例、１−ヒドロキシ−７−アザベンゾトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、N-ヒドロキシこはく酸イミド、N-ヒドロキシフタルイミド）を用いることにより反応効率を向上させることができる。また、縮合剤として、前記りん酸系縮合試薬を用いる場合、通常トリエチルアミンなどの有機アミン性塩基を添加することにより反応効率を向上させることができる。  
上記した縮合促進剤や有機アミン性塩基の使用量は、化合物（IV）に対して、通常０．１〜１０モル当量、好ましくは０．３〜３モル当量である。  
反応温度は、通常、−３０℃〜１００℃である。  
反応時間は、通常、０．５〜６０時間である。
【００４０】
化合物（IV）の反応性誘導体を用いる方法において、反応性誘導体としては、例えば、酸無水物、酸ハライド（例、酸クロリド、酸ブロミド）、イミダゾリド、混合酸無水物（例、メチル炭酸、エチル炭酸、イソブチル炭酸との無水物）などが挙げられる。  
例えば、化合物（IV）の反応性誘導体として酸ハライドを用いる場合、反応は、塩基の存在下、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われる。  
該塩基としては、例えばトリエチルアミン、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどのアミン類；炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属塩などが挙げられる。  
反応に悪影響を及ぼさない溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどのエステル類；アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；水などが挙げられる。これらの溶媒は、２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。  
化合物（IV）の反応性誘導体の使用量は、化合物（Ｖ）に対して、通常１〜１０モル当量、好ましくは１〜３モル当量である。  
反応温度は、通常、−３０℃〜１００℃である。  
反応時間は、通常、０．５〜２０時間である。  
また、化合物（IV）の反応性誘導体として混合酸無水物を用いる場合、反応は、例えば化合物（IV）とクロロ炭酸エステル（例、クロロ炭酸メチル、クロロ炭酸エチル、クロロ炭酸イソブチル）とを塩基の存在下に反応させ、さらに化合物（Ｖ）と反応させることによって行われる。  
該塩基としては、例えばトリエチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−エチルジイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンなどのアミン類；炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属塩などが挙げられる。  
化合物（Ｖ）の使用量は、化合物（IV）に対して、通常１〜１０モル当量、好ましくは０．３〜３モル当量である。  
反応温度は、通常、−３０℃〜１００℃である。  
反応時間は、通常、０．５〜２０時間である。  
このようにして得られる化合物（VI）は，公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製することができる。  
なお、工程１において原料化合物として用いられる化合物（IV）および（Ｖ）は、自体公知の方法にしたがって製造することができる。
【００４１】
（工程２）
本工程では、化合物（VI）と塩基とを反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で反応させて、化合物（VII）を製造する。  
該塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水素化カリウムなどの金属水素化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド；水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属塩；ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン）などのアミン類が挙げられる。  
塩基の使用量は、化合物（VI）に対して、好ましくは０．１〜２モル当量である。  
反応に悪影響を及ぼさない溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル類；クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；水；メタノール、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類；アセトン、２−ブタノンなどのケトン類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられる。これらの溶媒は、２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。  
反応温度は、通常、−１０〜１５０℃、好ましくは０〜１１０℃である。  
反応時間は、通常、０．５〜２０時間である。  
このようにして得られる化合物（VII）は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製することができる。
【００４２】
（工程３）
本工程では、化合物（VII）と化合物（VIII）とを反応させて、化合物（IIa−1）を製造する。  
化合物（VIII）においてＬ1で示される脱離基がハロゲン原子、ハロゲン化されていてもよいＣ1-6アルキルスルホニルオキシまたは置換基を有していてもよいＣ6-10アリールスルホニルオキシである場合、本反応は、常法に従い、塩基の存在下、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われる。  
該塩基としては、例えば水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属塩；ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンなどのアミン類；水素化カリウム、水素化ナトリウムなどの金属水素化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム t.-ブトキシド、ナトリウム t.-ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシドなどが挙げられる。  
塩基の使用量は、化合物（VII）に対して、好ましくは１〜５モル当量である。
反応に悪影響を及ぼさない溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル類；アセトン、２−ブタノンなどのケトン類；クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられる。これらの溶媒は、２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。  
反応温度は、通常、−５０〜１５０℃、好ましくは−１０〜１００℃である。  
反応時間は、通常、０．５〜２０時間である。
【００４３】
化合物（VIII）においてＬ1で示される脱離基がヒドロキシである場合、本反応は、自体公知の方法、例えば、シンセシス(Synthesis) １頁 （１９８１年）に記載の方法、あるいはこれに準じた方法にしたがって行われる。  
本反応は、通常、有機リン化合物および親電子剤の存在下、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われる。  
該有機リン化合物としては、例えばトリフェニルホスフィン、トリブチルホスフィンなどが挙げられる。  
親電子剤としては、例えばアゾジカルボン酸ジエチル、アゾジカルボン酸ジイソプロピル、アゾジカルボニルジピペラジンなどが挙げられる。  
有機リン化合物および親電子剤の使用量は、化合物（VII）に対して、好ましくは１〜５モル当量である。  
反応に悪影響を及ぼさない溶媒としては、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類；クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類；酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチルなどのエステル類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられる。これらの溶媒は、２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。  
反応温度は、通常、−５０〜１５０℃、好ましくは−１０〜１００℃である。  
反応時間は、通常、０．５〜２０時間である。  
このようにして得られる化合物（IIa−1）は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製することができる。  
なお、工程３における原料化合物として用いられる化合物（VIII）は、自体公知の方法にしたがって製造することができる。
【００４４】
［Ａ2法］
化合物（IIa）のうち、ＸがＸａ（Ｘａは−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−または−ＮＲ10−（Ｒ10は前記と同意義を示す）を示す）である化合物（IIa−2）は、例えば以下の方法によって製造することができる。  
【化８】
2005035933.tif 000009
［式中、Ｌ2は脱離基を、その他の記号は前記と同意義を示す］
Ｌ2で示される脱離基としては、前記Ｌ1として例示したハロゲン原子、ハロゲン化されていてもよいＣ１−６アルキルスルホニルオキシおよび置換基を有していてもよいＣ６−１０アリールスルホニルオキシが挙げられる。
【００４５】
（工程４）
本反応は、化合物（VII）を、ハロゲン化剤、Ｃ１−６アルキルスルホニル化剤またはＣ６−１０アリールスルホニルオキシ化剤と反応させることにより、化合物（IX）を製造する。  
該ハロゲン化剤としては、例えば、チオニルクロリド、チオニルブロミド、３塩化リン、３臭化リン、オキシ塩化リン、５塩化リンなどが挙げられる。ハロゲン化剤を用いる反応では、触媒としてＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドなどのアミド類を用いてもよい。該触媒の使用量は、化合物（VII）に対して、通常、０．０００１〜１０モル当量、好ましくは０．００１〜３モル当量である。また、場合によってはこれら触媒を溶媒として用いてもよい。  
Ｃ１−６アルキルスルホニル化剤としては、例えば、メタンスルホニルクロリド、エタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリドなどが挙げられる。  
Ｃ６−１０アリールスルホニルオキシ化剤としては、例えばベンゼンスルホニルクロリド、トルエンスルホニルクロリドなどが挙げられる。  
上記したハロゲン化剤、Ｃ１−６アルキルスルホニル化剤およびＣ６−１０アリールスルホニルオキシ化剤の使用量は、化合物（VII）に対して、通常、１〜１０モル当量、好ましくは１〜３モル当量である。  
本反応は、通常、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われる。  
反応に悪影響を及ぼさない溶媒としては、例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類；クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチルなどのエステル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられる。これらの溶媒は、２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。  
本反応は、必要により塩基の存在下に行ってもよい。このような塩基としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属塩；ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンなどのアミン類；水素化カリウム、水素化ナトリウムなどの金属水素化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム t.-ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシドなどが挙げられる。  
塩基の使用量は、化合物（VII）に対して、好ましくは１〜５モル当量である。  
反応温度は、通常、−３０℃〜１５０℃である。  
反応時間は、通常、０．５〜２０時間である。  
このようにして得られる化合物（IX）は，公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製することができる。
【００４６】
（工程５）
本工程では、化合物（IX）と化合物（Ｘ）とを反応させて、化合物（IIa−2）を製造する。  
本反応は、通常、塩基の存在下、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われる。  
該塩基としては、例えば、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムなどのアルカリ金属塩；ピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エンなどのアミン類；水素化カリウム、水素化ナトリウムなどの金属水素化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウム t.-ブトキシド、ナトリウム t-ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシドなどが挙げられる。  
塩基の使用量は、化合物（IX）に対して、好ましくは１〜５モル当量である。  
反応に悪影響を及ぼさない溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル類；クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；アセトン、２−ブタノンなどのケトン類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられる。これらの溶媒は、２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。  
反応温度は、通常、−１０〜１５０℃、好ましくは０〜１１０℃である。  
反応時間は、通常、０．５〜２０時間である。
【００４７】
また、化合物（IIa-２）において、Ｘａが−Ｓ−である化合物は、酸化反応に付すことにより、Ｘａが−ＳＯ−または−ＳＯ２−である化合物に変換できる。  
酸化反応は、通常、酸化剤を用いて、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われる。  
該酸化剤としては、例えば過酸化水素；過酢酸、過安息香酸、メタクロロ過安息香酸などの有機過酸類；二酸化マンガン、過マンガン酸カリ、クロム酸などの金属酸化剤；Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−ブロモフタルイミドなどのＮ−ハロカルボン酸アミド類；次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸tert−ブチル、クメンヒドロパーオキシドなどが用いられる。  
反応に悪影響を及ぼさない溶媒としては、例えば酢酸、プロピオン酸などの有機酸類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノールなどのアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル類；クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；アセトン、２−ブタノンなどのケトン類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；アセトニトリル、プロピオニトリルなどのニトリル類；；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；水などが挙げられる。これらの溶媒は、２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。  
反応温度は、通常、−５０〜１２０℃、好ましくは−２０〜１００℃である。
反応時間は、通常、０．５〜２０時間である。  
このようにして得られる化合物（IIa−2）は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製することができる。  
なお、工程５における原料化合物として用いられる化合物（Ｘ）は、自体公知の方法にしたがって製造することができる。
【００４８】
前記Ａ1法における原料化合物として用いられる化合物（VI）は、下記Ｂ法にしたがって製造することもできる。
［Ｂ法］  
【化９】
2005035933.tif 000010
［式中の記号は前記と同意義を示す］
（工程６）
本工程では、化合物（XI）と化合物（Ｖ）とを反応させて、化合物（VI）を製造する。  
本反応は、前記工程1と同様にして行われる。  
このようにして得られる化合物（VI）は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製することができる。
【００４９】
［Ａ3法］
化合物（IIa）のうち、Ｘが結合手である化合物（IIa−3）は、例えば特開平7-76573、特開2000-72751、特開2000-72675などに記載の方法；以下の方法あるいはこれらに準ずる方法により製造することができる。  
【化１０】
2005035933.tif 000011
［式中の記号は前記と同意義を示す］
（工程７）
本工程では、化合物（XII）と化合物（Ｖ）とを反応させて、化合物（XIII）を製造する。本反応は、前記工程1と同様にして行われる。  
このようにして得られる化合物（XIII）は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製することができる。
（工程８）
本工程では、化合物（XIII）と塩基とを反応させて、化合物（IIa−3）を製造する。本反応は、前記工程2と同様にして行われる。  
このようにして得られる化合物（IIa−3）は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製することができる。
【００５０】
化合物（IIa）のうち、Ｒ11がニトリル基である化合物（IIa−4）を、還元反応に付し、必要に応じて、さらにアミノ基の保護反応に付すことにより、化合物（II）のうち、部分構造  
【化１１】
2005035933.tif 000012
［式中の記号は前記と同意義を示す］である化合物（IIb）を製造することができる。
【００５１】
ここで、還元反応は、通常、還元剤を用いて、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われる。  
該還元剤としては、例えば、金属水素錯化合物（例、水素化ホウ素ナトリウム、トリメトキシ水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化アルミニウムリチウム、（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム）；あるいは該金属水素錯化合物とルイス酸（例、塩化コバルト、塩化亜鉛、塩化すず、ボロントリフルオリド）との組み合わせが用いられる。  
還元剤の使用量は、化合物（IIa−4）に対して、好ましくは１〜１０モル当量である。  
反応に悪影響を及ぼさない溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル類；クロロホルム、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコール類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；水などが挙げられる。これらの溶媒は、２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。  
反応温度は、通常、−２０〜１５０℃、好ましくは１０〜１００℃である。
反応時間は、通常、０．５〜２０時間である。  
還元剤として金属水素錯化合物とルイス酸との組合せを用いる場合、ルイス酸の量は化合物（IIa−4）に対して、通常、０．０１〜１００モル当量である。
【００５２】
また、還元反応は、化合物（IIa−4）を、反応に悪影響を及ぼさない溶媒中、触媒の存在下に接触還元することによっても行われる。  
反応に悪影響を及ぼさない溶媒としては、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテルなどのエーテル類；酢酸エチル、酢酸プロピルなどのエステル類；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール等のアルコール類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、１−メチル−２−ピロリドンなどのアミド類；水などが挙げられる。これらの溶媒は、２種以上を適宜の割合で混合して用いてもよい。また、本還元反応は、アンモニアの存在下に行ってもよい。  
触媒としては、例えば白金類（例、酸化白金、白金黒、白金炭素）、パラジウム類（例、パラジウム炭素、酢酸パラジウム、パラジウム黒、塩化パラジウム）、ニッケル類（例、展開ニッケル）、ロジウム類（例、ロジウム炭素、ロジウムアルミナ）などが挙げられる。  
触媒の使用量は、化合物（IIa−4）１ｇに対して、通常、０．００１〜１００ｇである。  
反応温度は、通常、０〜１５０℃、好ましくは１０〜１００℃である。  
反応時間は、通常、０．５〜２０時間である。
【００５３】
アミノ基の保護反応は、自体公知の方法にしたがって行われる。本反応は、例えば前記工程1と同様にして行われる。  
このようにして得られる化合物（IIb）は、公知の分離精製手段、例えば濃縮、減圧濃縮、溶媒抽出、晶出、再結晶、転溶、クロマトグラフィーなどにより単離精製することができる。
【実施例】
【００５４】
以下に実施例および参考例を挙げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
実施例１
Ｎ−（３−シアノ−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−６−イル）−２−ヒドロキシアセトアミド
窒素気流下、酢酸パラジウム（１４．７ｍｇ）及び２，２´−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１´ビナフチル（ＢＩＮＡＰ）（１２２．５ｍｇ）をジメチルスルホキシド（６ｍｌ）に懸濁し、内温４０℃で３０分攪拌した。反応液を内温２５℃まで冷却後、６−ブロモ−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル（０．５ｇ）、ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブチラート（１５２ｍｇ）及びグリコールアミド（１１８ｍｇ）を加え、内温２５℃で２０分攪拌した。反応液を内温９８℃で２．５時間攪拌し、内温１５℃まで冷却した。反応液に０．５Ｎ  ＨＣｌを加えて、ｐＨを５〜６とし、内温２５℃で３０分攪拌した。反応液に酢酸エチル（３０ｍｌ）及び水（１０ｍｌ）を加えて分液し、有機層から溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン：酢酸エチル（１：２、容積比）で溶出した。溶出液の溶媒を留去後、残留物を酢酸エチル−ヘキサンから再結晶して、標題化合物を得た（０．２５ｇ，収率５０．８％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）δ：  １．０４（６Ｈ，ｄ，  Ｊ＝６．７Ｈｚ），  ２．３０−２．３９（１Ｈ，ｍ  ），  ２．７１（１Ｈ，ｔ，  Ｊ＝５．０Ｈｚ），  ４．１４（２Ｈ，ｄ，  Ｊ＝７．４Ｈｚ），  ４．２２（２Ｈ，ｄ，  Ｊ＝５．０Ｈｚ），  ７．４１−７．４４（２Ｈ，ｍ），  ７．５２−７．５７（４Ｈ，ｍ），  ７．８９（１Ｈ，ｄｄ，  Ｊ＝８．７，  ２．０Ｈｚ），  ８．４８（１Ｈ，ｓ），  ８．５１（１Ｈ，ｄ，  Ｊ＝５．２Ｈｚ）
実施例２
４−ブトキシ−６−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２−イソブチル−１−オキソ−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル
窒素気流下、酢酸パラジウム（２．９８ｍｇ）及びＢＩＮＡＰ（２４．８ｍｇ）をトルエン（５ｍｌ）に加え、内温４０℃で３０分攪拌した。反応液を内温２５℃まで冷却後、６−ブロモ−４−ブトキシ−２−イソブチル−１−オキソ−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル（０．５ｇ）及びナトリウム−ｔｅｒｔ−ブチラート（１９１ｍｇ）を加えた。反応液を内温２５℃で２０分攪拌後、内温９８±２℃で２．５時間攪拌した。反応液を内温１５℃まで冷却後、０．５Ｎ  ＨＣｌ（２．５ｍｌ）を加えて酸性とし、内温２５±２℃で３０分攪拌した。反応液にトルエン（５ｍｌ）を加えて分液し、有機層を水洗後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン：酢酸エチル（５：１、容積比）で溶出した。溶出液の溶媒を留去し、標題化合物を結晶として得た（０．４８ｇ，収率９７．８％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）δ：  １．００（６Ｈ，ｄ，  Ｊ＝６．７Ｈｚ），  １．０９（３Ｈ，ｔ，  Ｊ＝７．４Ｈｚ），  １．４８（９Ｈ，ｓ），  １．４８−１．６９（２Ｈ，ｍ），  １．８６−１．９５（２Ｈ，ｍ），  ２．２４−２．３４（１Ｈ，ｍ），  ４．０１（２Ｈ，ｄ，  Ｊ＝７．５Ｈｚ），  ４．１６（２Ｈ，ｔ，  Ｊ＝６．５Ｈｚ），  ７．２７（１Ｈ，ｄｄ，  Ｊ＝８．８，  ２．４Ｈｚ），  ７．３６（１Ｈ，ｄ，  Ｊ＝２．３Ｈｚ），  ８．３６（１Ｈ，ｄ，  Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００５５】
実施例３
６−（シクロヘキシルオキシ）−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル
窒素気流下、酢酸パラジウム（２．９５ｍｇ）及びＢＩＮＡＰ（２４．５ｍｇ）をトルエン（５ｍｌ）に懸濁し、内温４０℃で３０分攪拌した。反応液を内温２５℃まで冷却後、６−ブロモ−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル（０．５ｇ）、シクロヘキサノール（０．２７９ｍｌ）及びナトリウム−ｔｅｒｔ−ブチラート（１８９ｍｇ）を加え、内温２５℃で２０分攪拌した。反応液を内温９８℃で２．５時間攪拌後、１５℃まで冷却した。反応液に０．５Ｎ  ＨＣｌ  （３ｍｌ）を加えて酸性とした後、内温２５℃で３０分攪拌した。反応液にトルエン５ｍｌ及び水３ｍｌを加えて有機層を分取した。有機層を水洗後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、トルエン：酢酸エチル（５：１、容積比）で溶出した。溶出液の溶媒を留去し、残留物をエタノールから再結晶して、標題化合物を結晶として得た（０．３５ｇ，収率６６．６％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）δ：  １．０３（６Ｈ，ｄ，  Ｊ＝６．７Ｈｚ），  １．２４−１．３３（３Ｈ，ｍ），  １．４６−１．５５（３Ｈ，ｍ），  １．７３−１．７７（２Ｈ，ｍ），  １．８６−１．９１（２Ｈ，ｍ），  ２．３２−２．３７（１Ｈ，ｍ），  ４．１３（２Ｈ，ｄ，  Ｊ＝７．５Ｈｚ），  ４．１２−４．２２（１Ｈ，ｍ），  ６．６４（１Ｈ，ｄ，  Ｊ＝２．４Ｈｚ），  ７．１８（１Ｈ，ｄｄ，  Ｊ＝８．９，  ２．５Ｈｚ），  ７．４０−７．４４（２Ｈ，ｍ），  ７．５２−７．５６（３Ｈ，ｍ），  ８．４４（１Ｈ，ｄ，  Ｊ＝４．５Ｈｚ）
実施例４
６−（ベンジルアミノ）−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル
窒素気流下、酢酸パラジウム（２．９５ｍｇ）及びＢＩＮＡＰ（２４．５ｍｇ）をトルエン（５ｍｌ）に懸濁し、内温４０℃で３０分攪拌した。反応液を内温２５℃まで冷却後、６−ブロモ−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル（０．５ｇ）、ベンジルアミン（０．２８５ｍｌ）及びナトリウム−ｔｅｒｔ−ブチラート（１８９ｍｇ）を加え、内温２５℃で２０分攪拌した。反応液を内温９８℃で２．５時間攪拌後、１５℃まで冷却し、０．５Ｎ  ＨＣｌ  （３ｍｌ）を加えてｐＨを８付近とした。反応液に酢酸エチル（５ｍｌ）を加え、内温２５℃で３０分攪拌した。反応液に酢酸エチル（５ｍｌ）を加えて有機層を分取した。有機層を水洗後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン：酢酸エチル（２：１、容積比）で溶出した。溶出液の溶媒を留去し、残留物をエタノールから再結晶して、標題化合物を結晶として得た（０．４８ｇ，収率８９．８％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）δ：  １．０１（６Ｈ，ｄ，  Ｊ＝６．７Ｈｚ），  ２．３０−２．３４（１Ｈ，ｍ），  ４．０９（２Ｈ，ｄ，  Ｊ＝７．５Ｈｚ），  ４．２３（２Ｈ，ｄ，  Ｊ＝５．５Ｈｚ），  ４．６９（１Ｈ，ｔ，  Ｊ＝５．４Ｈｚ），  ６．２１（１Ｈ，ｄ，  Ｊ＝２．３Ｈｚ），  ６．８９（１Ｈ，ｄｄ，  Ｊ＝８．８，  ２．３Ｈｚ），  ７．１７−７．１９（２Ｈ，ｍ），  ７．２６−７．３２（５Ｈ，ｍ），  ７．４７−７．４９（３Ｈ，ｍ），  ８．２９（１Ｈ，ｄ，  Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００５６】
実施例５
６−ｔｅｒｔ−ブトキシ−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル
窒素気流下、酢酸パラジウム（２．９５ｍｇ）及びＢＩＮＡＰ（２４．５ｍｇ）をトルエン（６ｍｌ）に加え、内温４０℃で３０分攪拌した。反応液を内温２５℃まで冷却し、６−ブロモ−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル（５００ｍｇ）及びナトリウム−ｔｅｒｔ−ブチラート（１８９ｍｇ）を加えた。反応液を内温２５℃で２０分攪拌後、内温１００℃で２．５時間攪拌した。反応液を内温１５℃まで冷却後、０．５Ｎ  ＨＣｌ（２．５ｍｌ）を加えて酸性とし、内温２５±２℃で３０分攪拌した。反応液にトルエン（５ｍｌ）を加えて分液し、有機層を水洗後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、ヘキサン：酢酸エチル（６：１、容積比）で溶出した。溶出液の溶媒を留去し、標題化合物を結晶として得た（０.４８ｇ、収率９７．７％）。
１Ｈ−ＮＭＲ  （ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）δ：  １．０３（３Ｈ，ｓ），  １．０５（３Ｈ，ｓ），  １．３３（９Ｈ,ｓ），  ２．３０−２．３９（１Ｈ，ｍ），  ４．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），  ６．７８−６．７９（１Ｈ，ｍ），  ７．２３−７．２４（１Ｈ，ｍ），  ７．３９−７．４３（２Ｈ，ｍ），  ７．５２−７．５７（３Ｈ，ｍ），  ８．４２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
実施例６
Ｎ−（３−シアノ−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−６−イル）−Ｎ，４−ジメチルベンゼンスルホンアミド
窒素気流下、酢酸パラジウム（５．９ｍｇ）及びＢＩＮＡＰ（４９ｍｇ）をトルエン（６ｍｌ）に加え、内温４０℃で３０分攪拌した。反応液を内温２５℃まで冷却後、Ｎ−メチルベンゼンスルホン酸アミド（４８６ｍｇ）、６−ブロモ−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル（０．５ｇ）及びナトリウム−ｔｅｒｔ−ブチラート（１８９ｍｇ）を加えた。反応液を内温２５℃で２０分攪拌し、ついで内温１００℃で７時間攪拌した。反応液を室温まで冷却し、０．５Ｎ  ＨＣｌ（３ｍｌ）を加えて酸性とし、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、トルエン：酢酸エチル（７：１、容積比）で溶出した。溶出液の溶媒を留去後、残留物をエタノールから再結晶して、標題化合物を結晶として得た（２５２ｍｇ，収率３９．６％）
１Ｈ−ＮＭＲ  （ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）δ：  １．０４（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），２．３３−２．４４（１Ｈ，ｍ），２．４４（３Ｈ，ｓ），３．１１（３Ｈ，ｓ），４．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．２１−７．２３（２Ｈ，ｍ），７．３０−７．３７（５Ｈ，ｍ），７．５０−７．５３（３Ｈ，ｍ），８．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）
【００５７】
実施例７
Ｎ−（３−シアノ−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−６−イル）プロパンアミド
グリコールアミドの代わりにプロピオンアミドを用いる以外は、実施例１と同様にして、標題化合物を得た（収率４２．３％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）δ：  １．０３（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．１８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），２．２９−２．３８（３Ｈ，ｍ），４．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．３９−７．５２（６Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｓ），７．８６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，２．１Ｈｚ），８．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
実施例８
Ｎ−（３−シアノ−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−６−イル）−Ｎ−メチルアセトアミド
グリコールアミドの代わりにＮ−メチルアセトアミドを用いる以外は、実施例１と同様にして、標題化合物を得た（収率５７．２％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）δ：  １．０５（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．９１（３Ｈ，ｓ），２．３２−２．４１（１Ｈ，ｍ），３．２４（３Ｈ，ｓ），４．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．３８−７．４１（２Ｈ，ｍ），７．４８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．０Ｈｚ），７．５７−７．５９（３Ｈ，ｍ），８．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【００５８】
実施例９
２−イソブチル−１−オキソ−６−（２−オキソピペリジン−１−イル）−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル
グリコールアミドの代わりに２−ピペリドンを用いる以外は、実施例１と同様にして、標題化合物を得た（収率４２．６％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）δ：  １．０３（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．９１−１．９６（４Ｈ，ｍ），２．３０−２．３９（１Ｈ，ｍ），２．５１−２．５５（２Ｈ，ｍ），３．５７−３．５８（２Ｈ，ｍ），４．１６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），７．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），７．４１−７．４４（２Ｈ，ｍ），７．５１−７．６１（４Ｈ，ｍ），８．５４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）
実施例１０
２−イソブチル−６−メトキシ−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル
ナトリウム−ｔｅｒｔ−ブチラートの代わりにナトリウムメチラートを用いる以外は、実施例２と同様にして、標題化合物を得た（収率９１．５％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）δ：  １．０５（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），２．３０−２．３９（１Ｈ，ｍ），３．７４（３Ｈ，ｓ），４．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），６．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．５Ｈｚ），７．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９，２．５Ｈｚ），７．４０−７．４４（２Ｈ，ｍ），７．５３−７．５７（３Ｈ，ｍ），８．４６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）
【００５９】
実施例１１
２−イソブチル−６−イソプロポキシ−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル
シクロヘキサノールの代わりにイソプロパノールを用いる以外は、実施例３と同様にして、標題化合物を得た（収率９３．３％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）δ：  １．０３（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．２７（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ），２．３０−２．３９（１Ｈ，ｍ），４．１３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），４．４４−４．５２（１Ｈ，ｍ），６．６２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．１６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．９，２．４Ｈｚ），７．４０−７．４３（２Ｈ，ｍ），７．５２−７．５７（３Ｈ，ｍ），８．４４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）
実施例１２
６−アニリノ−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル
ベンジルアミンの代わりにアニリンを用いる以外は、実施例４と同様にして、標題化合物を得た（収率８２．６％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）δ：  １．０３（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），２．３０−２．３９（１Ｈ，ｍ），４．１２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），６．０７（１Ｈ，ｓ），６．７０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），７．０４−７．１９（３Ｈ，ｍ），７．２４−７．３３（３Ｈ，ｍ），７．３９−７．５２（５Ｈ，ｍ），８．３６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００６０】
実施例１３
６−ベンジルオキシ−３−ｔｅｒｔ-ブトキシカルボニルアミノメチル−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン
窒素気流下、酢酸パラジウム（１．４ｍｇ）及びＢＩＮＡＰ（１１．５ｍｇ）をトルエン（４ｍｌ）に懸濁し、内温４０℃で３０分間撹拌した。反応液を室温まで冷却後、３−ｔｅｒｔ-ブトキシカルボニルアミノメチル−６−ブロモ−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン（１５０ｍｇ）、ベンジルアルコール（０．０６４ｍｌ）及びナトリウム  ｔｅｒｔ−ブチラート（４４．５ｍｇ）を加え、内温２５℃で２０分間撹拌した。ついで内温１００℃で2．5時間撹拌した。反応液を室温にもどして、０．５ＮＨＣｌ（０．７５ｍｌ）加え、トルエンで抽出した。抽出液を水洗後、溶媒を留去した。残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、ヘキサン−酢酸エチル（４：1，容積比）で溶出した。溶出液の溶媒を留去して、標題化合物を結晶として得た（５９ｍｇ，収率３７．８％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）δ：  ０．９９（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．４２（９Ｈ，ｓ），２．１６−２．３０（１Ｈ，ｍ），４．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），４．１７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ），４．４５（１Ｈ，ｂｒｓ），４．９２（２Ｈ，ｓ），６．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．０９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．４，９．０Ｈｚ），７．１７−７．３７（７Ｈ，ｍ），７．４７−７．５２（３Ｈ，ｍ），８．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．０Ｈｚ）
【００６１】
参考例１
５−ブロモ−２−｛［（シアノメチル）（イソブチル）アミノ］カルボニル｝安息香酸メチル
４−ブロモ無水フタル酸（５０．０ｇ）をテトラヒドロフラン（２５０ｍｌ）に溶解し、２０−３０℃でイソブチルアミノアセトニトリル（２４．７ｇ）を滴下した。反応液を２５℃で２時間撹拌後、２０−３０℃で１Ｎ  ＨＣｌ（２５０ｍｌ）を滴下し、同温度で０．５時間撹拌した。反応液に酢酸エチル（２５０ｍＬ）を加えて、抽出後、水層に酢酸エチル（１２５ｍＬ）を加えて再度抽出した。有機層を合わせ、食塩水（２５０ｍｌ）で洗浄後、ＭｇＳＯ４で乾燥した。残留物から溶媒を留去して、淡赤色油状物を得た（８４．４ｇ）。
本油状物（７２．８ｇ）をジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）（２０２ｍｌ）に溶解後、２０−３０℃で炭酸カリウム（２７．５ｇ）を添加した。反応液を同温度で０．５時間撹拌後、同温度でヨウ化メチル（１４．９ｍｌ）を滴下した。反応液を室温で１６時間撹拌後、２０−３０℃で水（４０４ｍｌ）を滴下した。反応液に酢酸エチル（３３７ｍｌ）を加えて抽出後、水層に酢酸エチル（２０２ｍｌ）を加えて再度抽出した。有機層を合わせ、食塩水で洗浄後、ＭｇＳＯ４で乾燥した。残留物から溶媒を留去して、淡赤色油状物を得た。本油状物にイソプロピルエーテル（ＩＰＥ）（２０２ｍｌ）を加えて溶解し、溶媒を留去した（この操作を２回行った）。残留物にＩＰＥ（６７４ｍｌ）を加え、得られる混合物を撹拌しながら１時間加熱還流した。反応液を２５℃まで冷却後、１時間撹拌した。析出した結晶をろ去し、ＩＰＥ（１６９ｍｌ×２）で洗浄し、４−ブロモ−２−｛［（シアノメチル）（イソブチル）アミノ］カルボニル｝安息香酸メチル（２９．９ｇ，収率４２．５％）を得た。ろ洗液を合わせ、溶媒を留去後、残留物にｎ−ヘキサン（３３７ｍｌ）を加えて、２５℃で１時間撹拌した。析出した結晶をろ取後、ｎ−ヘキサンで洗浄し、標題化合物を得た（３２．３ｇ，収率４５．９％）。
【００６２】
参考例２
６−ブロモ−４−ヒドロキシ−２−イソブチル−１−オキソ−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル
５−ブロモ−２−｛［（シアノメチル）（イソブチル）アミノ］カルボニル｝安息香酸メチル（２０．０ｇ）をメタノール（４０ｍｌ）に加温溶解し、２０℃まで冷却した。反応液に、２０−３０℃で２８％（Ｗ／Ｖ）のナトリウムメチラート−メタノール溶液（２１．９ｇ）を滴下した。反応液を室温で１時間撹拌後、０−１０℃で１Ｎ  ＨＣｌ（１２４ｍｌ）を滴下した。反応液に０−３０℃で水（２７６ｍｌ）を滴下後、室温で１時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、水（８０ｍｌ×２）で洗浄して、標題化合物を結晶として得た（１７．０ｇ，収率９３．８％）。
１Ｈ−ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６，  ３００ＭＨｚ）δ：  ０．９２（６Ｈ，ｄ，  Ｊ＝６．７Ｈｚ），  ２．０８−２．２２（１Ｈ，ｍ），  ３．８８（２Ｈ，ｄ，  Ｊ＝７．４Ｈｚ），  ７．９３（１Ｈ，ｄｄ，  Ｊ＝８．６，  １．８Ｈｚ），  ８．２１（１Ｈ，ｄ，  Ｊ＝８．６Ｈｚ），  ８．２３（１Ｈ，ｄ，  Ｊ＝１．９Ｈｚ）
参考例３
６−ブロモ−４−ブトキシ−２−イソブチル−１−オキソ−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル
６−ブロモ−４−ヒドロキシ−２−イソブチル−１−オキソ−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル（３．０ｇ）をＤＭＦ（１５ｍｌ）に溶解した。得られる溶液に２０−３０℃で１−ヨウ化ブタン（１．１２ｍｌ）を加え、同温度で炭酸カリウム（１．３６ｇ）を加えた。反応液を室温で１８時間撹拌後、２０−３０℃で水（１５ｍｌ）を滴下した。反応液を室温で１時間撹拌後、析出した結晶をろ取し、水（１５ｍｌ×２）で洗浄した（３．０７ｇ）。  
得られた結晶（２．５０ｇ）をメタノール（１２．５ｍｌ）に懸濁し、加熱溶解した。得られる溶液を約１時間かけて２５℃まで徐冷後、２５℃で２時間撹拌した。析出した結晶をろ取し、メタノール−水（１：１，容積比；２．５ｍｌ）で洗浄して、標題化合物を得た（１．８８ｇ，収率６５．２％）。
１Ｈ−ＮＭＲ  （ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）  δ：  ０．９９−１．０７（９Ｈ，ｍ），  １．５４−１．６７（２Ｈ，ｍ），  １．８７−１．９６（２Ｈ，ｍ），  ２．２４−２．３３（１Ｈ，ｍ），  ４．０２（２Ｈ，ｄ，  Ｊ＝７．５Ｈｚ），  ４．１７（２Ｈ，ｔ，  Ｊ＝６．５Ｈｚ），  ７．７７（１Ｈ，ｄｄ，  Ｊ＝８．６，  １．８Ｈｚ），７．９８（１Ｈ，ｄ，  Ｊ＝１．８Ｈｚ），  ８．３１（１Ｈ，ｄ，  Ｊ＝８．６Ｈｚ）
【００６３】
参考例４
４−ブロモ−２−ベンゾイル安息香酸
ベンゼン（５．１６ｍｌ）及びo−ジクロロベンゼン（４０ｍｌ）の混合物に塩化アルミニウム（１１．８ｇ）を加え、２℃まで冷却した。反応液を１０℃以下に保ちながら、４−ブロモ無水フタル酸（１０ｇ）を少しづつ加えた。反応液を２５℃付近に昇温し、同温度で１時間攪拌した後、８０℃に昇温して１時間攪拌した。反応液を５℃付近まで冷却し、酢酸エチル（８０ｍｌ）を２５℃以下で滴下後、引き続き水（４０ｍｌ）を４０℃以下で滴下した。有機層を分取し、４Ｎ−ＨＣｌ（４０ｍｌ）ついで水（４０ｍｌ）で洗浄後、溶媒を留去した。残留物にトルエン（６０ｍｌ）及び酢酸エチル（６ｍｌ）を加え、８０℃で加熱溶解後、徐々に２５℃まで冷却した。析出した結晶をろ取し、トルエン（６ｍｌ）及び酢酸エチル（３ｍｌ）の混合物に加えた。得られる混合物を９６℃まで加熱して結晶を溶解後、２５℃まで冷却して結晶を析出させ、更に５℃まで冷却して同温度付近で１時間攪拌した。得られる結晶をろ取して、標題化合物を得た（６．３４ｇ，収率４７．２％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）δ：７．４４（２Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），  ７．５３−７．６０（２Ｈ，ｍ），  ７．７１（４Ｈ，ｍ），  ７．９４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）
参考例５
６−ブロモ−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル
４−ブロモ−２−ベンゾイル安息香酸（６．２４ｇ）、トルエン（８１．１ｇ）及びＤＭＦ（０．１２５ｍｌ）の混合物に、窒素気流下、チオニルクロリド（２．９２ｍｌ）を加え、５０℃で１．５時間撹拌後、溶媒を留去した。残留物にトルエン（１２．５ｍｌ）及びジイソプロピルエチルアミン（３．９６ｇ）を加えて、窒素気流下９０℃付近まで昇温して溶液を得た。得られる溶液にイソブチルアミノアセトニトリル（３．８１ｇ）を加え、同温度付近で３時間撹拌した。反応液を２５℃まで冷却後、１Ｎ  ＨＣｌ（６２．４ｍｌ）を加えて攪拌した。有機層を分取し、１０％（Ｗ／Ｗ）塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、溶媒を留去した。残留物をエタノール（１８．７ｍｌ）に溶解後、無水酢酸（２．５１ｇ）及び１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（６．２３ｇ）を加えて５０℃で１時間撹拌した。反応液に２５℃で水（１５．６ｍｌ）を滴下し、析出した結晶をろ取して、標題化合物を得た（６．３４ｇ，収率８１．３％）。
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）δ：１．０４（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），  ２．３０−２．３９（１Ｈ，ｍ），  ４．１５（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ），  ７．３９−７．４４（３Ｈ，ｍ），  ７．５５−７．６０（３Ｈ，ｍ），  ７．７６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，１．９Ｈｚ），  ８．３９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）
【００６４】
参考例６
３−アミノメチル−６−ブロモ−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン
６−ブロモ−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン−３−カルボニトリル（３．０ｇ）のテトラヒドロフラン（８０ｍｌ）溶液に２５％アンモニア水（２ｍｌ）、展開ニッケル（１．５ｍｌ）を加え、５０℃、１ＭＰａで４．５時間反応させた。触媒をろ去し、ろ液の溶媒を留去した。残留物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄後、乾燥（ＭｇＳＯ４）した。溶媒を留去して、標題化合物を結晶として得た（３．０ｇ，収率９９％）。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）δ：１．００（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），１．１０（２Ｈ，ｂｒ），２．２５（１Ｈ，ｍ），３．６５（２Ｈ，ｓ），４．２０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．４Ｈｚ），７．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ），７．０８−７．２８（２Ｈ，ｍ），７．４５−７．５４（４Ｈ，ｍ），８．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ）
参考例７
３−ｔｅｒｔ-ブトキシカルボニルアミノメチル−６−ブロモ−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン
３−アミノメチル−６−ブロモ−２−イソブチル−１−オキソ−４−フェニル−１，２−ジヒドロイソキノリン（５．６ｇ）および４−ジメチルアミノピリジン（２０ｍｇ）のテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）溶液に、二炭酸ジｔｅｒｔ−ブチル（６．３ｇ）を加え、室温で１時間撹拌した。反応液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄後、乾燥（ＭｇＳＯ４）した。溶媒を留去後、残留物をジエチルエーテルから再結晶し、標題化合物を得た（６．６ｇ，収率９４％）。
１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，  ３００ＭＨｚ）δ：１．００（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），１．４３（９Ｈ，ｓ），２．２３（１Ｈ，ｍ），４．０６（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ），４．１９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ），４．５０（１Ｈ，ｂｓ），７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ），７．２１−７．２５（２Ｈ，ｍ），７．４８−７．５６（４Ｈ，ｍ），８．３０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本発明の製造方法によれば、各種医薬の合成中間体として有用な含窒素縮合複素環化合物を、簡便にかつ高収率で得ることができる。