(57)【要約】【目的】  本案は、溶液の加熱に高周波加熱装置を使用した、高効率で燃焼生成物の付着、炭酸ガスの発生、空気の汚染が無い、小型化、低圧加圧の設備とした。【構成】  溶液２を原水ポンプ３で加圧し高周波加熱波装置５で蒸気発生温度まで加熱する、更に、蒸発面６を加熱し溶液を蒸発させ、気体７と固体８に分離する、冷却水の水膜１４と液化装置９のチャンバーの膨張空間の大小により気体７を液化する、送風ブロアー１７のダクト配置により気体７と固体８の浮力を調整する、及び、密閉された分離槽１５に気体（炭酸ガス、窒素等）を充満し、気体７と固体８の比重を調節して落下速度を調整し、浄化溶液と固体８の回収をする溶液浄化装置。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶液の蒸発面を蒸気発生装置の蒸気発生面の水位と同一となるように調節した溶液の蒸気発生する溶液浄化装置。
【請求項２】
チャンバーを段階的に数段設置し、これに溶液の水膜を作り溶液の蒸気をこの水膜を通過させ冷却し液化する、及び、各チャンバーの膨張空間を流通過程により調節することにより温度及び圧力の勾配を発生さ浄化溶液を回収する溶液浄化装置。
【請求項３】
送風ブロアーにより蒸発気体の流通通路に空気の流れを作り、吐き出し口を蒸発気体の流通通路に従い数ヶ所設置し、これらに各ダンバーを設け流通通路に生じる気体速度を調節して、蒸発気体や及び固形物の落下距離を調整する溶液浄化装置。
【請求項４】
「請求項１」「請求項２」「請求項３」の装置を密閉構造としてこれに気体（炭酸ガス、窒素等）を充填し、気体（炭酸ガス、窒素等）を濃度調整し、蒸発気体および固形物の比重を調節して落下速度を調節できる溶液浄化装置。
【請求項５】
溶液の蒸気発生装置及び蒸気発生面に高周波加熱装置を用いる「請求項１」「請求項２」    「請求項３」及び「請求項４」を特徴とする溶液浄化装置。
【発明の詳細な説明】
【特許の詳細な説明】
【背景技術】
【０００１】  従来、溶液の浄化装置には蒸発方法があり、ガスバーナー、灯油バーナー、電気ヒーター等を熱源としていた、ガスバーナーや灯油バーナーによる燃焼では有効熱量は３０％程度で他の７０％は煙道等から外部へ逃げて熱損失が多い、又、燃料の燃焼には酸素が必要である、燃焼時の燃焼生成物（炭素等）が発生する、空気の汚染や炭酸ガスの発生原因となっている。  電気ヒーターは、単位面積当りの投入電力が小さく、熱損失が多い為、大容量の電力が必要である。設備面積も広く必要であった。
【発明が解決しようとする課題】
【０００２】  本案は、これらを改善させるもので上記の目的を達成するために、溶液の蒸発面を蒸気発生装置の蒸気発生面の水位と同一となるように水面を調節した、この効果で原水ポンプの加圧圧力が低く抑えられる。
【０００３】  チャンバーを段階的に数段設置し、これに冷却水を流し溶液の水膜を作り溶液の蒸気をこの水膜を通過させ接触効果により冷却し液化する、各チャンバーの膨張空間を流通過程により調節することにより温度及び圧力の勾配を発生さ膨張効果により冷却し液化し浄化溶液を回収する。
【０００４】  送風ブロアーにより蒸発気体の流通通路に空気の流れを作り、吐き出し口を蒸発気体の流通通路に従い数ヶ所設置し、これらに各ダンバーを設け流通通路に生じる気体速度を調節して、蒸発気体や及び固形物の落下距離を調整することにより落下距離を短く出来る装置の小型化が出来る。
【０００５】溶液浄化装置の全体、又は、部分的に密閉構造としてこれに気体（炭酸ガス、窒素等）を充填し、気体（炭酸ガス、窒素等）を濃度調整し、蒸発気体および固形物の比重を調節して落下速度を調節することにより落下距離を短く出来る装置の小型化が出来る。
【０００６】  溶液の蒸気発生装置及び蒸気発生面に高周波加熱装置を用いる溶液浄化装置した、高周波加熱装置で加熱した場合、有効熱量は９０％と非常に高効率である為、運転コストの安い。高周波加熱装置は酸素が必要でなく、燃焼生成物（炭素等）の付着がない、空気の汚染や有害気体（オキシダント、炭酸ガス等）の発生がない、又、高精度の温度制御が低温から高温まで可能で温度制御も安定する、以上のように設備の小型化、低価格、運転コストの安く空気の汚染や有害気体（オキシダント、炭酸ガス等）の発生がない溶液浄化装置が出来た。
【０００７】  以下、動作原理を各図により説明をする。
【０００８】  図１溶液浄化装置の原理図において原液槽１の溶液２を原水ポンプ３により加圧し予熱装置４（廃熱等）に送液し高周波加熱装置５により蒸気発生温度まで加熱する、加熱された溶液２は蒸発面６（平板、ノズル等）より蒸気放出させ、気体７と固形物８に分離させる。気体７は液化装置９により液化され回収され回収槽１０に集められる。
【０００９】  回収槽１０に集められた浄化液は冷却ポンプ１１により加圧され浄化液冷却器１２により更に冷却され冷却ノズル１３より液化装置９に噴霧され液化装置９の内部に水膜１４をつくり水膜１４と気体７の接触により気体７が液化し冷却水とともに回収槽１０に回収される
【００１０】  液化装置９で回収されない気体７を送風ブロアー１７で回収気体１８を気体冷却器１９で回収気体１８を冷却する、送風ブロアー１７で回収した気体２０は排気ダクトで分散気体２１、２２、２３とし、これらにダンバーを取り付け分離槽１５内の気体の流速を調節する、この流速に逆らって落下する固形物８の落下速度を遅くして固形化１６する。
【００１１】  分離槽１５を密閉構造として分離槽１５に気体（炭酸ガス、窒素等）を充填し、気体７と固形物８の比重を調節して落下速度を遅くし固形化１６する。
【発明の効果】
【００１２】  溶液の蒸発面を蒸気発生装置の蒸気発生面の水位と同一となるように調節しためポンプ加圧圧力が低く抑えられる。  チャンバーを段階的に数段設置し、これに溶液の水膜を作り溶液の蒸気をこの水膜を通過させ接触膨張効果により冷却し液化する、各チャンバーの膨張空間を流通過程により調節することにより温度及び圧力の勾配を発生さ膨張効果により冷却し液化し浄化溶液を回収する。  送風ブロアーにより蒸発気体の流通通路に空気の流れを作り、吐き出し口を蒸発気体の流通通路に従い数ヶ所設置し、これらに各ダンバーを設け流通通路に生じる気体速度を調節して、蒸発気体や及び固形物の落下距離を調整することにより落下距離を短く出来る装置の小型化が出来る。溶液浄化装置の全体、又は、部分的に密閉構造としてこれに気体（炭酸ガス、窒素等）を充填し、気体（炭酸ガス、窒素等）を濃度調整し、蒸発気体および固形物の比重を調節して落下速度を調節することにより落下距離を短く出来る装置の小型化が出来る。  溶液の蒸気発生装置及び蒸気発生面に高周波加熱装置を用いる溶液浄化装置した、高周波加熱装置で加熱した場合、有効熱量は９０％と非常に高効率である為、運転コストの安い。高周波加熱装置は酸素が必要でなく、燃焼生成物（炭素等）の付着がない、空気の汚染や有害気体（オキシダント、炭酸ガス等）の発生がない、又、高精度の温度制御が低温から高温まで可能で温度制御も安定する、以上のように設備の小型化、低価格、運転コストの安く空気の汚染や有害気体（オキシダント、炭酸ガス等）の発生がない溶液浄化装置が出来た。
【図面の簡単な説明】
【図１】溶液浄化装置の原理図
【符号の説明】
１    原液槽２    溶液３    原水ポンプ４    予熱装置５    高周波加熱装置６    蒸発面７    気体８    固形物９    液化装置１０  回収槽１１  冷却ポンプ１２  浄化液冷却器１３  冷却ノズル１４  水膜１５  分離槽１６  固形化１７  送風ブロアー１８  回収気体１９  気体冷却器２０  回収した気体２１  分散気体２２  分散気体２３  分散気体
【図１】
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