(57)【要約】【課題】犠牲層エッチングホールから振動板と電極間の空隙内に気体が侵入し、動作が不安定になり、樹脂単体で封止したものにあってはガスの透過を完全に抑制することができず、信頼性が十分でない。【解決手段】積層振動板１１１とこれに対向する個別電極１１２との間の空隙１１３を犠牲層エッチングで形成し、犠牲層エッチングを行うための犠牲層エッチングホール１３１を有機樹脂１３２及びガスバリア層１３３を順次形成して封止することで、封止を確実に行うと共に、空隙１２３への気体の侵入を確実に遮蔽する。【選択図】  図１０
2005007766.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルが連通する液流路の少なくとも１つの壁面を構成し、第１電極を含む又は第１電極を兼ねた振動板と、この振動板に空隙を介して対向する第２電極とを備え、前記振動板を静電力で変形させることで前記ノズルから液滴を吐出させる静電型液滴吐出ヘッドにおいて、前記空隙に通じる空隙封止孔が充填材と順次形成されたガスバリア層で封止されていることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項２】
請求項１に記載の液滴吐出ヘッドにおいて、前記空隙封止孔の少なくとも一部が前記振動板に形成されていることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の液滴吐出ヘッドにおいて、前記ガスバリア層上に液体に対して耐腐食性を有する耐腐食性膜が形成されていることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の液滴吐出ヘッドにおいて、前記充填材が有機樹脂であることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の液滴吐出ヘッドにおいて、前記振動板の液流路側表面には液体に対して耐腐食性を有する耐腐食性膜が形成されていることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項６】
請求項５に記載の液滴吐出ヘッドにおいて、前記耐腐食性膜はポリイミド樹脂又はポリベンゾオキサゾールであることを特徴とする液滴吐出ヘッド。
【請求項７】
液滴吐出ヘッドとこの液滴吐出ヘッドに液体を供給する液体タンクを一体化した液体カートリッジにおいて、前記液滴吐出ヘッドが前記請求項１ないし６のいずれかに記載の液滴吐出ヘッドであることを特徴とする液体カートリッジ。
【請求項８】
液滴を吐出する液滴吐出ヘッドを備えて画像を形成する画像形成装置において、前記請求項１ないし６のいずれかに記載の液滴吐出ヘッド又は請求項７に記載の液体カートリッジを備えていることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は液滴吐出ヘッド、液体カートリッジ及び画像形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
【特許文献１】ＷＯ９８／４２５１３号公報
【特許文献２】特開平５―２２９１１８号公報
【特許文献３】特開平１０−２９１３２２号公報
【特許文献４】特開２０００−２４６８９５号公報
【特許文献５】特開２００１−１８３８３号公報
【特許文献６】ＷＯ９９／３４９７９号公報
【特許文献７】特開２００１−２６８９４７号公報
【特許文献８】特開２００２−２９２８６７号公報
【０００３】
プリンタ、ファクシミリ、複写装置、プロッタ等の画像形成装置として用いるインクジェット記録装置として、静電型アクチュエータを含む静電型液滴吐出ヘッドを備えたものが知られている。なお、液滴吐出ヘッドとしては例えば液体レジストを液滴として吐出する液滴吐出ヘッド、ＤＮＡの試料を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドなどもあるが、以下ではインクジェットヘッドを中心に説明する。
【０００４】
この静電型アクチュエータを含む静電型液滴吐出ヘッドは、一般に、ノズルが連通する液流路の少なくとも１つの壁面を構成し、第１電極を含む又は第１電極を兼ねた振動板と、この振動板に空隙を介して対向する第２電極とによって静電型アクチュエータを構成し、この静電型アクチュエータを駆動することで振動板を変形させて、この振動板の機械的な力によって液流路内の液体を加圧してノズルから液滴を吐出させる。
【０００５】
ところで、例えばインクジェットヘッドにおいては、インクとヘッド構成部材の材料の組み合わせによっては、インクによってヘッド構成部材がインクに溶解してしまうことがある。特に、流路形成部材をシリコンで形成した場合に、インクにシリコンが溶出して、ノズル部に析出し、ノズルの目詰まりが発生したり、インクの発色性を低下させて画質が劣化する。また、振動板を用いる静電型ヘッドにあっては、シリコン薄膜振動板としたときにも同様に振動板を形成するシリコンが溶出すると、振動特性が変動したり、振動不能になる。
【０００６】
そこで、従来の静電型インクジェットヘッドにあっては、流路形成部材のインクに接する面に耐インク性の薄膜を形成することが行われている。例えば、
【特許文献１】にはインクに接する面に、チタン又は、チタン化合物あるいは、酸化アルミニウムを形成すること、
【特許文献２】にはインクに接する面に酸化物膜を形成すること、
【特許文献３】には酸化シリコン膜の表面に耐インク性を有する酸化物、窒化物、金属等の薄膜を形成することが、
【特許文献４】には圧電材からなるインク液室表面に有機樹脂膜を形成することが開示されている。
【０００７】
また、静電型インクジェットヘッドとして、振動板と対向電極との間の空隙を犠牲層エッチングで形成し、信頼性を確保するために空隙を形成した犠牲層除去孔部を封止したものがある。例えば、
【特許文献５】には犠牲層除去孔を酸化シリコン膜で封止すること、
【特許文献６】には犠牲層除去孔をＮｉで封止すること、
【特許文献７】には樹脂で封止することが記載されている。また
【特許文献８】には空隙を封止する方法として、第１の封止領域と第２の封止領域の２箇所の封止領域を別々の工程で封止することで空隙の封止を実現し、第１の封止領域を封止した後に、第２の封止領域を弾性部材を用いて封止を行ない、ガスバリヤ性の高い樹脂材料に弾性率の小さい樹脂材料を積層することで封止を行なうことが記載されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した静電型インクジェットヘッドの耐腐食性膜としてメタル系の膜を形成したものにあっては、複雑な立体形状をしたシリコン基板のインク液室の側壁と振動板上に対してメタル系の膜をスパッタ法や真空蒸着法によって形成するため、その成膜手法の性質上、耐腐食性膜の被覆性が悪く、液室内部や振動板上で大きな膜厚分布が発生していた。
【０００９】
そして、耐腐食性膜の膜厚が薄い領域において、長期間にわたってインクが接した場合、耐腐食性薄膜が溶解し、やがては下地部材を浸食し長期信頼性に大きな問題を生じている。更に、このようなヘッドにおいては、振動板と個別電極間の空間の封止はされておらず、外界の影響、例えば湿度等の影響をうけるため、動作信頼性の低下を招いている。
【００１０】
一方、湿度等の外界の影響を受けず高い信頼性を確保するために振動板と個別電極間の空隙を封止したヘッドにあっては、犠牲層除去孔を振動板を構成している材料である酸化シリコン膜やＮｉで封止し、振動板表面に液に対する耐腐食性膜が形成されていないので使用可能な液にはｐＨ等の液の性質に制限がある。
【００１１】
特に、インクジェットヘッドに用いる場合は高精細、高画質化のためのインク処方が種々検討されているが、このようにインクの性質に制限があることは選択の範囲が限定されるため好ましくない。
【００１２】
さらに、犠牲層除去孔部で振動板と個別電極間の空隙の封止はＣＶＤ法やスパッタ法や真空蒸着法等によって酸化シリコン膜を形成したり、スパッタ法によってＮｉを成膜して封止を行っているが、各封止材は液の性質によっては腐食がおき、信頼性の低下を引き起こしている。具体的には、酸化シリコン膜の場合、液の性質が中性のものしか使用することができず、Ｎｉではアルカリ性の液しか使用できないと不具合がある。
【００１３】
また、静電引力が発生する個別電極間の空隙を樹脂で封止したヘッドのうち、
【特許文献７】に開示のものは、樹脂単体で封止しているため、ガスの透過を完全に抑制することができず、信頼性が十分でない。また、
【特許文献８】に開示のものは、第１の封止領域と第２の封止領域の２箇所の封止領域を別々の工程で封止し、ガスバリヤ性の高い樹脂材料を弾性率の小さい樹脂材料で積層する構成であるので、
【特許文献７】に開示のものよりも有効であるが、他方、封止領域を２箇所に分割し、別々の工程で別々に封止を行なうためにコストが高くなるといった問題があり、また、ガスバリア性を有する樹脂膜上に弾性率の低い樹脂材料を形成しているが、耐腐食性を有するものではないので信頼性の点で十分でない。
【００１４】
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、信頼性の高い液滴吐出ヘッド及びヘッド一体型の液体カートリッジを提供するとともに、信頼性に優れた画像形成装置を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、本発明に係る液滴吐出ヘッドは、第１電極を含む又は第１電極を兼ねた振動板とこの振動板に対向する第２電極との間の空隙に通じる空隙封止孔が充填材と順次形成されたガスバリア層で封止されている構成とした。
【００１６】
ここで、空隙封止孔の少なくとも一部が振動板に形成されていることが好ましい。また、ガスバリア層上に液体に対して耐腐食性を有する耐腐食性膜が形成されていることが好ましい。さらに、充填材が有機樹脂であることが好ましい。さらにまた、振動板の液流路側表面には液体に対して耐腐食性を有する耐腐食性膜が形成されていることが好ましく、この振動板上の耐腐食性膜はポリイミド樹脂又はポリベンゾオキサゾールであることが好ましい。
【００１７】
本発明に係る液体カートリッジは、本発明に係る液滴吐出ヘッドとこのヘッドに液体を供給する液体タンクを一体化したものである。
【００１８】
本発明に係る画像形成装置は、本発明に係る液滴吐出ヘッド又は本発明に係る液体カートリッジを備えたものである。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面を参照して説明する。まず、説明の都合上、本発明に係る液滴吐出ヘッドの製造工程について図１を参照して説明する。
本発明に係る液滴吐出ヘッドは、同図（ｄ）に示すように、流路基板１と、アクチュエータ基板２と、ノズル板３とを積層した構造をなし、流路基板１には加圧液室（液流路）６や流体抵抗部等が形成され、アクチュエータ基板２には、第１の電極を兼ねた（第１の電極を別途形成しても良い。）振動板１１と、この振動板１１と空隙１３を介して対向する第２電極（以下「個別電極」という。）１２とを有する静電型アクチュエータが構成され、ノズル板３には加圧液室６に連通するノズル５が形成されている。
【００２０】
この液滴吐出ヘッドの作製工程は、同図（ａ１）に示すように、面方位（１１０）にシリコン基板２１を準備し、このシリコン基板１０１にＫＯＨ等によるウエットエッチング或いは高密度プラズマを用いたドライエッチング等による異方性エッチングを行って、同図（ｂ１）に示すように、加圧液室６、図示しない流体抵抗部、共通液室等を形成して、流路基板１を作製する。
【００２１】
なお、流路基板１には使用する液の性質や種類に応じて、液流路が形成された部材表面に耐腐食性を有する耐腐食性膜を形成する。この耐腐食性膜は、例えば熱酸化法によって形成されたＳｉ酸化膜が好ましいが、ディップ法やＣＶＤ法等によって形成された有機樹脂膜や金属等の耐腐食性膜であってもよい。
【００２２】
一方、同図（ａ２）に示すように、支持体基板３１上に互いに絶縁膜３２で絶縁分離された個別電極１２を形成し、絶縁膜３２上にその個別電極１２と振動板１１との間に空隙１３を形成するため犠牲層３３を形成する。ここで、犠牲層３３の材料は、振動板や個別電極とは犠牲層エッチングの選択性を有するものを用いる。
【００２３】
振動板１１は、単層、又は積層であって、第１電極となる導電性を有する層が含まれていれば何れでもよい。例えば、不純物をドープした導電性を有するシリコンに酸化Ｓｉ膜や窒化Ｓｉ膜等の絶縁物を積層した積層振動板である。
【００２４】
そして、振動板１１を形成する部材から犠牲層３３に通じる犠牲層除去孔（犠牲層エッチングホール）３５を形成し、この犠牲層除去孔３５を通じて個別電極１２に対応する部分の犠牲層３３をエッチングで除去して、振動板１１と個別電極１２間に空隙１３を形成する。
【００２５】
その後、同図（ｂ２）に示すように、振動板１１上には耐腐食性膜１５である有機樹脂膜、好ましくは、ポリイミド或いはポリペンゾオキサゾールをスピンコート法やスプレー法、ＣＶＤ法等によって厚さ０．１μｍから５０μｍ、好ましくは、０．５μｍから１０μｍで全面にわたり成膜する。あるいは、真空蒸着法によりポリイミドを同様の厚さ形成する。
【００２６】
この耐腐食性膜１５の膜厚が著しく薄い場合は、振動板１１上に存在するゴミ等が原因で発生するピンホールを生じ、又、著しく厚い場合には、振動板１１の剛性が高くなり噴射特性が変化するという観点から膜厚範囲が定まる。このとき耐腐食性膜１５の内部応力は引張応力を有しているため振動板１１が座屈変形することはない。耐腐食性膜１５として有機系樹脂膜以外にメタル系の膜や酸化Ｓｉ膜や窒化Ｓｉ膜等の無機材料を使用することも可能であるが、腐食性が有機樹脂膜より劣るため、吐出させる液の性質に合わせて適宜選択することが好ましい。
【００２７】
このように平坦な振動板１１上に耐腐食性膜１５を前記手法によって形成することで、振動板１１上の膜厚分布を均一にすることができるので、膜厚分布に起因する内部応力の分布が無くなり、撓みの無い平坦な振動板１１が得られる。
【００２８】
このとき、この耐腐食性膜１５によって前述の犠牲層エッチングホール３５は有機樹脂膜によって充填される。有機樹脂膜を犠牲層エッチングホール領域にのみパターニング形成し，ガスバリア層、例えば、Ａｌ、ＴｉＮ、Ｓｉ等の無機材料、好ましくは、Ａｌ材料で前記有機樹脂層を被覆する。好ましくは、更に、液に対して耐腐食性を有する膜、好ましくは、ポリイミド或いはポリペンゾオキサゾールをスピンコート法やスプレー法、ＣＶＤ法等によって厚さ０．１μｍから５０μｍ、好ましくは、０．５μｍから１０μｍ全面にわたり成膜する。
【００２９】
このように、個別電極１２と振動板１１の空隙が外界と完全に遮断された構造となる。同時に個別電極１２等の全ての配線は、前述の耐腐食性膜で完全に被覆されるため配線の信頼性も大幅に向上する。このようにして、振動板１１上に耐腐食性膜１５を形成したアクチュエータ基板２が得られる。
【００３０】
その後、同図（ｃ）に示すように、流路基板１とアクチュエータ基板２とを互いにアライメントし接合する。さらに、同図（ｄ）に示すように、流路基板１上に液滴吐出のためのノズル４が形成された耐腐食性を有するノズル板３、例えばニッケルやＳｉ、或いは前記材料表面を耐腐食性膜で被覆したノズル板３を接着し、液滴吐出ヘッドを完成する。
【００３１】
次に、アクチュエータ基板の製造工程の第１例の詳細について図２ないし図４を参照して説明する。なお、図２及び図３は振動板短手方向に沿う断面説明図、図４は図３のＡ部の拡大説明図である。
まず、図２（ａ）に示すように、支持体５１であるＳｉ基板又はガラス基板上に絶縁膜５２（ガラス基板を用いたときには不要）  を形成し、この絶縁膜５２上にＳｉに不純物を導入したポリシリコンや金属、透明導電膜等の導電性を有する材料を形成し、これをパターニングして第２電極である個別電極５３を形成する。
【００３２】
そして、個別電極５３上には、個別電極保護膜５４として絶縁膜を形成する。この電極保護膜５４としては、犠牲層エッチング除去時に選択性を有する材料を用いる。例えば犠牲層が多結晶Ｓｉのときは酸化Ｓｉ膜を全面に形成する。
【００３３】
次いで、同図（ｂ）に示すように、個別電極保護膜５４上に振動板と個別電極間の空隙を形成するための犠牲層５５、例えば多結晶Ｓｉを全面に形成しアクチュエータの空隙領域のみ残すパターニングをする。さらに、この犠牲層５５上と犠牲層５５のパターン間間には犠牲層エッチング除去時にエッチング選択性を有し、振動板保護膜となる絶縁膜５６、例えば、犠牲層５５が多結晶Ｓｉの場合には酸化Ｓｉ膜を形成する。
【００３４】
そして、同図（ｃ）に示すように、この絶縁膜５６上にはアクチュエータ領域にパターニングされた不純物を含有した多結晶Ｓｉや金属等の第１電極となる導電層５７を形成する。更に、この導電層５７の一部に犠牲層エッチング除去用の第一のエッチングホール５８を犠牲層５５上の絶縁膜５６でストップするまでエッチング開口する。
【００３５】
その後、同図（ｄ）に示すように、導電層５７上に犠牲層エッチング除去時に導電層５７を保護する保護膜５９を形成する。例えば、犠牲層５５が多結晶Ｓｉのときは酸化Ｓｉ膜や窒化Ｓｉ膜を形成する。この保護膜５９を導電層５７上と側壁面を被覆するように形成することで、犠牲層エッチング時に導電層５７がダメージを受けることを防止する。この保護膜５９として窒化Ｓｉ膜を選択した場合は、膜の内部応力が引張応力なので、犠牲層エッチング後の撓みが防止できるので好ましい。
【００３６】
さらに、導電層保護膜５９の一部に第二の犠牲層エッチングホール６０を犠牲層５５上まで開口する。このとき、第二の犠牲層エッチングホール６０は第一のエッチングホール５８の内部に互いに同心に形成されるため、この部分で犠牲層エッチングホールは第一の犠牲層エッチングホール５８と第二の犠牲層エッチングホール６０間で段差が形成される。
【００３７】
その後、同図（ｅ）に示すように、犠牲層エッチングホール６０を通じて犠牲層５５をエッチング除去することで、個別電極５３上の絶縁膜５４と振動板保護膜５６の間に空隙６２が形成される。犠牲層５５が多結晶Ｓｉのときはフッ素化合物ガス、例えばＳＦ６、ＸｅＦ２ガスを用いたドライエッチングやＴＭＡＨ（水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液）によるウェットエッチングにより犠牲層５５の除去を行うことができる。
【００３８】
このようにして、個別電極５３に対向して空隙６２を介して積層構成の振動板６３（絶縁膜５６、導電層５７、保護膜５９の積層膜）が形成される。
【００３９】
次いで、図３（ａ）に示すように、振動板６３の全面に液に対して耐腐食性を有する耐腐食性膜である有機樹脂膜６５、例えばポリイミドやポリペンゾオキサゾールを回転塗布法や蒸着法、ＣＶＤ法によって厚さ０．１μｍから５０μｍ、好ましくは、０．５μｍから１０μｍに成膜する。この有機樹脂膜６５の膜厚が著しく薄い場合は、振動板６３上に存在するゴミ等が原因のピンホールを生じ、著しく厚い場合には振動板６３の剛性が高くなり噴射特性が変化するという観点から膜厚範囲が定まる。このとき耐腐食性膜６５の内部応力は引張応力を有しているため積層の振動板６３が座屈変形することはない。
【００４０】
このとき、前記犠牲層エッチングホール５８，６０はこの有機樹脂膜６５で充填される。この場合、充填した有機樹脂は、犠牲層エッチングホール５８、６０の内部でのみ形成封止され、空隙６２内部には浸入しない。
【００４１】
次に、同図（ｂ）に示すように、この有機樹脂膜６５を通常のフォトリソグラフィ法によってパターニングし、犠牲層エッチングホール５８、６０の領域のみに形成する。パターニングされた有機樹脂膜６５の側壁を被覆し全面にガスバリア層６６として、例えばＡｌ、ＴｉＮ等の金属膜やＳｉ、酸化Ｓｉ等の無機膜等を形成する。ここで配線材とガスバリア層６６を兼用するために、Ａｌを用いることはコストダウンの上でもより好ましい。
【００４２】
そして、同図（ｃ）に示すように、犠牲層エッチングホール５８、６０に充填された有機樹脂膜６５を被覆するように、この領域のみガスバリア層６６を通常のフォトリソグラフィーによってエッチング除去する。このとき、ガスバリア層６６によって前記パターニングされた有機樹脂膜６５は側壁面を含め完全に被覆される。これにより、空隙６２には液体のみならず気体も透過侵入せず、完全に外界から遮断される。
【００４３】
次いで、同図（ｄ）に示すように、更に耐腐食性膜の有機樹脂膜６７であるポリベンゾオキサゾールやポリイミド樹脂をスピンコートにより全面に形成する。このとき、ガスバリア層６６は前記耐腐食性を有する有機樹脂膜６７で被覆されることにより、ガスバリア層６が吐出する液に対して耐腐食性を有していない材料でも用いることが可能となる。また、同時に振動板６３上にも耐腐食性を有する有機樹脂膜６７が形成されるので振動板６３も腐食されることがない。
【００４４】
このようにして犠牲層をエッチング除去して形成した空隙を耐腐食性膜である有機樹脂膜とガスバリア層で封止したアクチュエータ基板が完成する。なお、この封止部分の拡大説明図を図４に示している。
【００４５】
このようなアクチュエータ基板と流路基板とノズル板を図１で説明したように互いにアライメントして接着接合することで、本発明に係る液吐出ヘッドが完成する。
【００４６】
なお、ここで、アクチュエータ基板の液吐出ヘッド以外の応用例としてプロジェクター等に用いる光スイッチがある。この場合、画素に対応して振動板をレイアウト形成し最表面に光を反射する材料、例えばアルミニウム等を形成する。振動板の撓みに応じ反射角が変わるため、光の変調が可能となる。光スイッチとして、このアクチュエータ基板を利用する場合は図１で説明した流路基板やノズル板を接着しない構成となる。
【００４７】
次に、アクチュエータ基板の製造工程の第２例の詳細について図５ないし図７を参照して説明する。なお、図５及び図６は振動板短手方向に沿う断面説明図、図７は図６のＢ部の拡大説明図である。
まず、図５（ａ）に示すように、支持体７１であるＳｉ基板又はガラス基板上に絶縁膜７２（ガラス基板を用いたときには不要）  を形成し、この絶縁膜７２上にＳｉに不純物を導入したポリシリコンや金属、透明導電膜等の導電性を有する材料を形成し、これをパターニングして第２電極である個別電極７３を形成する。
【００４８】
そして、個別電極７３上には、個別電極保護膜７４として絶縁膜を形成する。この電極保護膜７４としては、犠牲層エッチング除去時に選択性を有する材料を用いる。例えば犠牲層が多結晶Ｓｉのときは酸化Ｓｉ膜を全面に形成する。
【００４９】
次いで、同図（ｂ）に示すように、個別電極保護膜７４上に振動板と個別電極間の空隙を形成するための犠牲層７５、例えば多結晶Ｓｉを全面に形成しアクチュエータの空隙領域のみ残すパターニングをする。さらに、この犠牲層７５上と犠牲層７５のパターン間間には犠牲層エッチング除去時にエッチング選択性を有し、振動板保護膜となる絶縁膜７６、例えば、犠牲層７５が多結晶Ｓｉの場合には酸化Ｓｉ膜を形成する。
【００５０】
そして、同図（ｃ）に示すように、この絶縁膜７６上にはアクチュエータ領域にパターニングされた不純物を含有した多結晶Ｓｉや金属等の第１電極となる導電層７７を形成する。更に、この導電層７７の一部に犠牲層エッチング除去用の第一のエッチングホール７８を犠牲層７５上の絶縁膜７６でストップするまでエッチング開口する。
【００５１】
その後、同図（ｄ）に示すように、導電層７７上に犠牲層エッチング除去時に導電層７７を保護する保護膜７９を形成する。例えば、犠牲層７５が多結晶Ｓｉのときは酸化Ｓｉ膜や窒化Ｓｉ膜を形成する。この保護膜７９を導電層７７上と側壁面を被覆するように形成することで、犠牲層エッチング時に導電層７７がダメージを受けることを防止する。この保護膜７９として窒化Ｓｉ膜を選択した場合は、膜の内部応力が引張応力なので、犠牲層エッチング後の撓みが防止できるので好ましい。
【００５２】
さらに、導電層保護膜７９の一部に第二の犠牲層エッチングホール８０を犠牲層７５上まで開口する。このとき、第二の犠牲層エッチングホール８０は第一のエッチングホール８０の内部に互いに同心に形成されるため、この部分で犠牲層エッチングホールは第一の犠牲層エッチングホール７８と第二の犠牲層エッチングホール８０間で段差が形成される。
【００５３】
その後、同図（ｅ）に示すように、犠牲層エッチングホール８０を通じて犠牲層７５をエッチング除去することで、個別電極７３上の絶縁膜７４と振動板保護膜７６の間に空隙８２が形成される。犠牲層７５が多結晶Ｓｉのときはフッ素化合物ガス、例えばＳＦ６、ＸｅＦ２ガスを用いたドライエッチングやＴＭＡＨ（水酸化テトラメチルアンモニウム水溶液）によるウェットエッチングにより犠牲層５５の除去を行うことができる。
【００５４】
このようにして、個別電極７３に対向して空隙８２を介して積層構成の振動板８３（絶縁膜７６、導電層７７、保護膜７９の積層膜）が形成される。
【００５５】
次いで、図６（ａ）に示すように、振動板８３の全面に液に対して耐腐食性を有する耐腐食性膜である有機樹脂膜８５、例えばポリイミドやポリペンゾオキサゾールを回転塗布法や蒸着法、ＣＶＤ法によって厚さ０．１μｍから５０μｍ、好ましくは、０．５μｍから１０μｍに成膜する。この有機樹脂膜８５の膜厚が著しく薄い場合は、振動板８３上に存在するゴミ等が原因のピンホールを生じ、著しく厚い場合には振動板８３の剛性が高くなり噴射特性が変化するという観点から膜厚範囲が定まる。このとき耐腐食性膜８５の内部応力は引張応力を有しているため積層の振動板８３が座屈変形することはない。
【００５６】
このとき、前記犠牲層エッチングホール７８，８０はこの有機樹脂膜８５で充填される。この場合、充填した有機樹脂は、犠牲層エッチングホール７８、８０の内部でのみ形成封止され、空隙８２内部には浸入しない。
【００５７】
次に、同図（ｂ）に示すように、この有機樹脂膜８５を通常のフォトリソグラフィ法によってパターニングし、犠牲層エッチングホール７８、８０及び振動板８３上に形成する。パターニングされた有機樹脂膜８５の側壁を被覆し全面にガスバリア層８６として、例えばＡｌ、ＴｉＮ等の金属膜やＳｉ、酸化Ｓｉ等の無機膜等を形成する。ここで配線材とガスバリア層６６を兼用するために、Ａｌを用いることはコストダウンの上でもより好ましい。
【００５８】
そして、同図（ｃ）に示すように、犠牲層エッチングホール７８、８０に充填された有機樹脂膜８５を被覆するように、この領域のみガスバリア層８６を通常のフォトリソグラフィーによってエッチング除去する。このとき、ガスバリア層８６によって前記パターニングされた有機樹脂膜８５は側壁面を含め完全に被覆される。これにより、空隙８２には液体のみならず気体も透過侵入せず、完全に外界から遮断される。
【００５９】
次いで、同図（ｄ）に示すように、更に耐腐食性膜の有機樹脂膜８７であるポリベンゾオキサゾールやポリイミド樹脂をスピンコートにより全面に形成する。このとき、ガスバリア層８６は前記耐腐食性を有する有機樹脂膜８７で被覆されることにより、ガスバリア層８６が吐出する液に対して耐腐食性を有していない材料でも用いることが可能となる。そして、全面に形成した有機樹脂膜８７をパターニングする。このとき、最初に形成した有機樹脂膜８６の端部側壁を被覆するようにパターニングを行なう（図７参照）。こ
【００６０】
このようにして犠牲層をエッチング除去して形成した空隙を耐腐食性膜である有機樹脂膜とガスバリア層で封止したアクチュエータ基板が完成する。なお、この封止部分の拡大説明図を図７に示している。
【００６１】
このようなアクチュエータ基板と流路基板とノズル板を図１で説明したように互いにアライメントして接着接合することで、本発明に係る液吐出ヘッドが完成する。
【００６２】
なお、ここでも、アクチュエータ基板の液吐出ヘッド以外の応用例としてプロジェクター等に用いる光スイッチがある。
【００６３】
そこで、本発明に係る液滴吐出ヘッドの第１実施形態について図８ないし図１０を参照して説明する。なお、図８は同ヘッドの斜視説明図、図９は同ヘッドの振動板長手方向に沿う断面説明図、図１０は図９のＣ部の拡大説明図である。
このヘッドは、流路基板１０１と、アクチュエータ基板１０２と、ノズル基板１０３とを積層して接着剤で接合して、ノズル基板１０３のノズル１０４が連通する個別液室（液流路）１０６、この個別液室に流体抵抗部１０７を介して液体を供給するための共通液室１０８などを形成している。
【００６４】
流路基板１０１には、面方位（１１０）の単結晶シリコン基板を異方性エッチングすることで、個別液室（液流路）１０６、この個別液室に流体抵抗部１０７を介して液体を供給するための共通液室１０８を形成するための貫通部や凹部を形成している。
【００６５】
アクチュエータ基板１０２は、個別液室１０６の１つの壁面を構成する積層振動板１１１と、この積層振動板１１１に空隙１１３を介して対向する個別電極１１３とによって静電型アクチュエータを構成し、積層振動板１１１の変形戻り力によって個別液室１０６の液体を加圧する。
【００６６】
このアクチュエータ基板１０２は、前述したアクチュエータ基板の製造工程の第１例と同様に作製したものであり、Ｐ型（１００）配向の単結晶シリコン基板１２１に酸化シリコン膜１２２を形成し、この酸化シリコン膜１２２上に導電性を有する多結晶Ｓｉを成膜して個別電極１１２の形状にパターニングし、更にこの個別電極１１２上には絶縁保護層として酸化シリコン膜１２４を形成し、酸化シリコン膜１２４上に多結晶Ｓｉからなる犠牲層を形成し、この犠牲層上に、積層振動板１１１を構成する電気絶縁層である酸化シリコン膜１２６、ボロン原子を１Ｅ１９／ｃｍ３以上含む厚さ０．５μｍの多結晶シリコン層１２７、窒化シリコン膜１２８を順次積層し、多結晶Ｓｉの犠牲層を犠牲層エッチングホール１３１を介してエッチング除去することで、空隙（ギャップ）１１３を形成している。
【００６７】
ここで、窒化シリコン膜１２８は、積層振動板１１１を構成する多結晶Ｓｉ膜１２７表面と犠牲層エッチングホール１３１内部の多結晶Ｓｉ膜１２７側壁面を被覆するように形成している。この窒化シリコン膜１２８による被覆の様子は図１０に示している。
【００６８】
さらに、犠牲層をエッチングした犠牲層エッチングホール１３１は有機樹脂であるポリベンゾオキサゾール１３２で充填している。そして、このポリベンゾオキサゾール１３２表面及び側面を被覆するように、ガスバリア層であるＡｌ１３３を６０００Å厚みに形成している。さらにまた、このＡｌ１３３上と積層振動板１１１上には耐腐食性膜であるポリベンゾオキサゾール１３４をスピンコート法によって全面に１μｍの厚さで形成している。このとき、振動板１１１の撓みは発生していないこと、および、空隙１１３内にポリペンゾオキサゾール１３２が染み込まないことが確認された。
【００６９】
ノズル基板１０３は、個別液室１０６に対応して連通するノズル１０４とともに、共通液室１０８への液供給口１０９を形成したもので、ここではニッケル基板で形成しているが、有機樹脂膜やこれと金属膜との積層膜などを用いることもできる。
【００７０】
このように構成した液滴吐出ヘッドにおいて、電圧を印加するための個別電極１１２の引き出し部１１２ａの上部をエッチング開口してパッド部１４０を形成し、ここにＦＰＣを実装して、多結晶Ｓｉ膜１２７を電気的に接地して、個別電極１１２に所定周波数の駆動電圧を印加することでヘッドを駆動した。
【００７１】
このとき、積層振動板１１１の多結晶Ｓｉ１２７と個別電極１１２間には静電引力が働き、積層振動板１１１は静電引力により個別電極１１２側に十分引かれた。その結果、個別液室１０６は十分に引圧となり、液供給のための流体抵抗部１０７を経て共通液室１０８から個別液室１０６へ液体が供給された。
【００７２】
そして、駆動電圧の周波数周期に応じて積層振動板１１１は酸化シリコン膜１２６、多結晶Ｓｉ膜１２７及び窒化シリコン膜１２８の剛性により元の位置へと戻り、このとき個別液室１０６の液体が加圧され、ノズル１０４を経て液滴は矢印１４１の方向へ安定に吐出された。
【００７３】
このとき、撓みがなく平坦な振動板１１１であったので各ノズル１０４から吐出される液滴の噴射特性のバラツキは少なく、また、設計値通りの駆動電圧で液滴吐出特性が得られた。
【００７４】
また、この状態で液による信頼性試験を行った結果、積層振動板１１１上に形成した有機樹脂膜であるポリベンゾオキサゾール１３４は腐食性に優れているため、動作特性の劣化が無く、更に積層振動板１１１と個別電極１１２間の空隙１１３が犠牲層エッチングホール１３１部において前記有機樹脂膜１３４とガスバリア層１３３の積層で完全に封止されているため動作環境の影響を全く受けず、通常であれば振動動作不良が発生する高湿度環境でも安定して動作し続けることが確認された。
【００７５】
このように、振動板とこれに対向している個別電極間の空隙に通じる空隙封止孔（この実施形態では犠牲層エッチングホール）を充填封止材と順次形成されたガスバリア層で封止したので、充填封止材は空隙内にゴミや液体が浸入することを防止し、更に、ガスバリア層が積層して形成されているので空気中の水蒸気（気体）や外界のガスの空隙への浸入を完全に遮断することができ、長期にわたり安定した動作特性が得られ、高信頼性の液吐出ヘッドが実現できる。
【００７６】
この場合、空隙封止孔の少なくとも一部を振動板に形成することで、空隙封止孔が平面的に配置されることから、充填封止材と順次形成されるガスバリア層を容易に均一な膜厚で形成することができ、安定した封止性を確保することができる。
【００７７】
また、ガスバリア層上には液に対して対腐食性を有する膜が形成することで、ガスバリア層が対腐食性を有する必要がなくなり、材料選択の自由度広がるので安価な材料を選定することでコストダウンが図れる。また、吐出する液の腐食性に対する制限がないので様々な性質の液を吐出することが可能となる。
【００７８】
さらに、空隙封止孔を充填している充填封止材として有機樹脂を用いることで、ピンホール等の膜欠陥不良がなくなり、空隙封止孔を高歩留りで安定して充填封止することができる。
【００７９】
さらにまた、振動板表面に耐腐食性膜を形成することで、液の腐食性に対する制限がなくなり、様々な性質の液を長期にわたって安定して吐出することができるようになる。この耐腐食性膜として、ポリイミド樹脂、又はポリベンゾオキサゾール樹脂を用いることで、耐腐食性にすぐれ、回転塗布法等の簡便な方法によって均一に形成することができてコストダウンを実現可能となるとともに、バラツキも小さく高信頼性の液滴吐出ヘッドが実現できる。
【００８０】
次に、本発明に係る液滴吐出ヘッドの第２実施形態について図１１ないし図１３を参照して説明する。なお、図１１は同ヘッドの斜視説明図、図１２は同ヘッドの振動板長手方向に沿う断面説明図、図１３は図１２のＤ部の拡大説明図である。
このヘッドは、流路基板１５１と、アクチュエータ基板１５２と、ノズル基板１５３とを積層して接着剤で接合して、ノズル基板１５３のノズル１５４が連通する個別液室（液流路）１５６、この個別液室に流体抵抗部１５７を介して液体を供給するための共通液室１５８などを形成している。
【００８１】
流路基板１５１には、面方位（１１０）の単結晶シリコン基板を異方性エッチングすることで、個別液室（液流路）１５６、この個別液室に流体抵抗部１５７を介して液体を供給するための共通液室１５８を形成するための貫通部や凹部を形成している。
【００８２】
アクチュエータ基板１５２は、個別液室１５６の１つの壁面を構成する積層振動板１６１と、この積層振動板１６１に空隙１６３を介して対向する個別電極１６３とによって静電型アクチュエータを構成し、積層振動板１６１の変形戻り力によって個別液室１５６の液体を加圧する。
【００８３】
このアクチュエータ基板１５２は、前述したアクチュエータ基板の製造工程の第２例と同様に作製したものであり、Ｐ型（１００）配向の単結晶シリコン基板１７１に酸化シリコン膜１７２を形成し、この酸化シリコン膜１７２上に導電性を有する多結晶Ｓｉを成膜して個別電極１６２の形状にパターニングし、更にこの個別電極１６２上には絶縁保護層として酸化シリコン膜１７４を形成し、酸化シリコン膜１７４上に多結晶Ｓｉからなる犠牲層を形成し、この犠牲層上に、積層振動板１６１を構成する電気絶縁層である酸化シリコン膜１７６、ボロン原子を１Ｅ１９／ｃｍ３以上含む厚さ０．５μｍの多結晶シリコン層１５７、窒化シリコン膜１５８を順次積層し、多結晶Ｓｉの犠牲層を犠牲層エッチングホール１８１を介してエッチング除去することで、空隙（ギャップ）１６３を形成している。
【００８４】
ここで、窒化シリコン膜１７８は、積層振動板１６１を構成する多結晶Ｓｉ膜１７７表面と犠牲層エッチングホール１８１内部の多結晶Ｓｉ膜１７７側壁面を被覆するように形成している。この窒化シリコン膜１２８による被覆の様子は図１３に示している。
【００８５】
さらに、犠牲層をエッチングした犠牲層エッチングホール１８１は有機樹脂であるポリベンゾオキサゾール１８２で充填するとともに、このポリベンゾオキサゾール１８２は積層振動板１６１表面（窒化シリコン膜１７８表面）にも形成している。
【００８６】
このとき、犠牲層エッチングホール１８１に対してオーバーサイズのスリットをポリベンゾオキサゾール１８２に形成する。そして、犠牲層エッチングホール１８１に形成したポリベンゾオキサゾール１８２表面及びスリットを形成した側面を被覆するように、ガスバリア層であるＡｌ１８３を６０００Å厚みに形成している。さらにまた、このＡｌ１８３上に耐腐食性膜であるポリベンゾオキサゾール１８４をスピンコート法によって全面に１μｍの厚さで形成し、Ａｌ１８３上のみにパターニングした。この場合、最初に形成した有機樹脂であるポリベンゾオキサゾール１８２のスリット端部で上面の一部と側壁を被服するようにパターンを形成した。
【００８７】
このとき、振動板１６１の撓みは発生していないこと、および、空隙１６３内にポリペンゾオキサゾール１８２が染み込まないことが確認された。
【００８８】
ノズル基板１５３は、個別液室１５６に対応して連通するノズル１５４とともに、共通液室１５８への液供給口１５９を形成したもので、ここではニッケル基板で形成しているが、有機樹脂膜やこれと金属膜との積層膜などを用いることもできる。
【００８９】
このように構成した液滴吐出ヘッドにおいて、電圧を印加するための個別電極１６２の引き出し部１６２ａの上部をエッチング開口してパッド部１９０を形成し、ここにＦＰＣを実装して、多結晶Ｓｉ膜１７７を電気的に接地して、個別電極１６２に所定周波数の駆動電圧を印加することでヘッドを駆動した。
【００９０】
このとき、積層振動板１６１の多結晶Ｓｉ１７７と個別電極１６２間には静電引力が働き、積層振動板１６１は静電引力により個別電極１６２側に十分引かれた。その結果、個別液室１５６は十分に引圧となり、液供給のための流体抵抗部１５７を経て共通液室１５８から個別液室１５６へ液体が供給された。
【００９１】
そして、駆動電圧の周波数周期に応じて積層振動板１６１は酸化シリコン膜１７６、多結晶Ｓｉ膜１７７及び窒化シリコン膜１７８の剛性により元の位置へと戻り、このとき個別液室１５６の液体が加圧され、ノズル１５４を経て液滴は矢印１９１の方向へ安定に吐出された。
【００９２】
このとき、撓みがなく平坦な振動板１５１であったので各ノズル１５４から吐出される液滴の噴射特性のバラツキは少なく、また、設計値通りの駆動電圧で液滴吐出特性が得られた。
【００９３】
また、この状態で液による信頼性試験を行った結果、積層振動板１６１上に形成した有機樹脂膜であるポリベンゾオキサゾール１８２は腐食性に優れているため、動作特性の劣化が無く、更に積層振動板１６１と個別電極１６２間の空隙１６３が犠牲層エッチングホール１８１部において前記有機樹脂膜１８２とガスバリア層１８４の積層で完全に封止されているため動作環境の影響を全く受けず、通常であれば振動動作不良が発生する高湿度環境でも安定して動作し続けることが確認された。
【００９４】
次に、本発明に係る液体カートリッジであるインクカートリッジの一例について図１４を参照して説明する。
このインクカートリッジ２００は、ノズル２０１等を有する上記各実施形態のいずれかのインクジェットヘッド２０２と、このインクジェットヘッド２０２に対してインク（液体）を供給する液体タンクであるインクタンク２０３とを一体化したものである。
【００９５】
このように本発明に係る液滴吐出ヘッドであるインクジェットヘッドとインクタンクとを一体化することにより、長期にわたり安定した液滴吐出動作を行うことができ、小型、低コスト化を図れ、信頼性が向上する。
【００９６】
次に、本発明に係る液滴吐出ヘッドであるインクジェットヘッドを搭載した画像形成装置であるインクジェット記録装置の一例について図１５及び図１６を参照して説明する。なお、図１５は同記録装置の斜視説明図、図１６は同記録装置の機構部の側面説明図である。
【００９７】
このインクジェット記録装置は、記録装置本体２１１の内部に主走査方向に移動可能なキャリッジ、キャリッジに搭載した本発明を実施したインクジェットヘッド（液滴吐出ヘッド）からなる記録ヘッド、記録ヘッドへインクを供給するインクカートリッジ等で構成される印字機構部２１２等を収納し、装置本体２１１の下方部には前方側から多数枚の用紙２１３を積載可能な給紙カセット（或いは給紙トレイでもよい。）２１４を抜き差し自在に装着することができ、また、用紙２１３を手差しで給紙するための手差しトレイ２１５を開倒することができ、給紙カセット２１４或いは手差しトレイ２１５から給送される用紙２１３を取り込み、印字機構部２１２によって所要の画像を記録した後、後面側に装着された排紙トレイ２１６に排紙する。
【００９８】
印字機構部２１２は、図示しない左右の側板に横架したガイド部材である主ガイドロッド２２１と従ガイドロッド２２２とでキャリッジ２２３を主走査方向に摺動自在に保持し、このキャリッジ２２３にはイエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、ブラック（Ｂｋ）の各色のインク滴を吐出する本発明に係るインクジェットヘッドからなるヘッド２２４を複数のインク吐出口（ノズル）を主走査方向と交差する方向に配列し、インク滴吐出方向を下方に向けて装着している。またキャリッジ２２３にはヘッド２２４に各色のインクを供給するための各インクカートリッジ２２５を交換可能に装着している。なお、本発明に係る液体カートリッジとしてのインクカートリッジを用いる構成とすることもできる。
【００９９】
インクカートリッジ２２５は上方に大気と連通する大気口、下方にはインクジェットヘッドへインクを供給する供給口を、内部にはインクが充填された多孔質体を有しており、多孔質体の毛管力によりインクジェットヘッドへ供給されるインクをわずかな負圧に維持している。また、記録ヘッドとしてここでは各色のヘッド２２４を用いているが、各色のインク滴を吐出するノズルを有する１個のヘッドでもよい。
【０１００】
ここで、キャリッジ２２３は後方側（用紙搬送方向下流側）を主ガイドロッド２２１に摺動自在に嵌装し、前方側（用紙搬送方向上流側）を従ガイドロッド２２２に摺動自在に載置している。そして、このキャリッジ２２３を主走査方向に移動走査するため、主走査モータ２２７で回転駆動される駆動プーリ２２８と従動プーリ２２９との間にタイミングベルト２３０を張装し、このタイミングベルト２３０をキャリッジ２２３に固定しており、主走査モーター２２７の正逆回転によりキャリッジ２２３が往復駆動される。
【０１０１】
一方、給紙カセット２１４にセットした用紙２１３をヘッド２２４の下方側に搬送するために、給紙カセット２１４から用紙２１３を分離給装する給紙ローラ２３１及びフリクションパッド２３２と、用紙２１３を案内するガイド部材２３３と、給紙された用紙２１３を反転させて搬送する搬送ローラ２３４と、この搬送ローラ２３４の周面に押し付けられる搬送コロ２３５及び搬送ローラ２３４からの用紙２１３の送り出し角度を規定する先端コロ２３６とを設けている。搬送ローラ２３４は副走査モータ２３７によってギヤ列を介して回転駆動される。
【０１０２】
そして、キャリッジ２２３の主走査方向の移動範囲に対応して搬送ローラ２３４から送り出された用紙２１３を記録ヘッド２２４の下方側で案内する用紙ガイド部材である印写受け部材２３９を設けている。この印写受け部材２３９の用紙搬送方向下流側には、用紙２１３を排紙方向へ送り出すために回転駆動される搬送コロ２４１、拍車２４２を設け、さらに用紙２１３を排紙トレイ２１６に送り出す排紙ローラ２４３及び拍車２４４と、排紙経路を形成するガイド部材２４５，２４６とを配設している。
【０１０３】
記録時には、キャリッジ２２３を移動させながら画像信号に応じて記録ヘッド２２４を駆動することにより、停止している用紙２１３にインクを吐出して１行分を記録し、用紙２１３を所定量搬送後次の行の記録を行う。記録終了信号または、用紙２１３の後端が記録領域に到達した信号を受けることにより、記録動作を終了させ用紙２１３を排紙する。
【０１０４】
また、キャリッジ２２３の移動方向右端側の記録領域を外れた位置には、ヘッド２２４の吐出不良を回復するための回復装置２４７を配置している。回復装置２４７はキャップ手段と吸引手段とクリーニング手段を有している。キャリッジ２２３は印字待機中にはこの回復装置２４７側に移動されてキャッピング手段でヘッド２２４をキャッピングされ、吐出口部を湿潤状態に保つことによりインク乾燥による吐出不良を防止する。また、記録途中などに記録と関係しないインクを吐出することにより、全ての吐出口のインク粘度を一定にし、安定した吐出性能を維持する。
【０１０５】
吐出不良が発生した場合等には、キャッピング手段でヘッド２２４の吐出口（ノズル）を密封し、チューブを通して吸引手段で吐出口からインクとともに気泡等を吸い出し、吐出口面に付着したインクやゴミ等はクリーニング手段により除去され吐出不良が回復される。また、吸引されたインクは、本体下部に設置された廃インク溜（不図示）に排出され、廃インク溜内部のインク吸収体に吸収保持される。
【０１０６】
このように、このインクジェット記録装置においては本発明を実施した液滴吐出ヘッドを搭載しているので、長期にわたり安定した動作特性が得られる。
【０１０７】
なお、上記実施形態においては、液滴吐出ヘッドとしてインクジェットヘッドに適用した例で説明したが、インクジェットヘッド以外の液滴吐出ヘッドとして、例えば、液体レジストを液滴として吐出する液滴吐出ヘッド、ＤＮＡの試料を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドなどの他の液滴吐出ヘッドにも適用できる。また、液滴吐出ヘッドを構成する静電型アクチュエータは、前述したように光スイッチの他、マイクロポンプなどの液体を輸送するマイクロデバイスにも適用することができる。
【０１０８】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明に係る液滴吐出ヘッドによれば、第１電極を含む又は第１電極を兼ねた振動板とこの振動板に対向する第２電極との間の空隙に通じる空隙封止孔が充填材と順次形成されたガスバリア層で封止されている構成としたので、空隙を外界から完全に遮蔽することができて、安定した動作特性が得られ、信頼性が向上する。
【０１０９】
本発明に係る液体カートリッジあるいは画像形成装置によれば、本発明に係る液滴吐出ヘッドを備えているので、安定した動作特性が得られ、信頼性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る液滴吐出ヘッドの製作工程を説明する視説明図
【図２】本発明に係る液滴吐出ヘッドを構成するアクチュエータ基板の製作工程の第１例を説明する断面説明図
【図３】図２に続く工程を説明する断面説明図
【図４】図３のＡ部の拡大図
【図５】本発明に係る液滴吐出ヘッドを構成するアクチュエータ基板の製作工程の第２例を説明する断面説明図
【図６】図５に続く工程を説明する断面説明図
【図７】図６のＡ部の拡大図
【図８】本発明の第１実施形態に係る液滴吐出ヘッドの斜視説明図
【図９】同ヘッドの振動板長手方向に沿う断面説明図
【図１０】図９のＣ部の拡大図
【図１１】本発明の第２実施形態に係る液滴吐出ヘッドの斜視説明図
【図１２】同ヘッドの振動板長手方向に沿う断面説明図
【図１３】図１２のＤ部の拡大図
【図１４】本発明に係る液体カートリッジの斜視説明図
【図１５】本発明に係る画像形成装置としてのインクジェット記録装置の一例を示す斜視説明図
【図１６】同記録装置の機構部の側面説明図
【符号の説明】
１０１…流路基板、１０２…アクチュエータ基板、１０３…ノズル基板、１０４…ノズル、１０６…個別液室、１０７…流体抵抗部、１０８…共通液室、１１１…積層振動板、１１２…個別電極、１１３…空隙、１３１…犠牲層エッチングホール（犠牲層除去孔）、１３２…有機樹脂（ポリベンゾオキサドール）、１３３…ガスバリア層（Ａｌ）、１３４…有機樹脂膜（耐腐食膜）。
【図１】
2005007766.tif 000003
【図２】
2005007766.tif 000004
【図３】
2005007766.tif 000005
【図４】
2005007766.tif 000006
【図５】
2005007766.tif 000007
【図６】
2005007766.tif 000008
【図７】
2005007766.tif 000009
【図８】
2005007766.tif 000010
【図９】
2005007766.tif 000011
【図１０】
2005007766.tif 000012
【図１１】
2005007766.tif 000013
【図１２】
2005007766.tif 000014
【図１３】
2005007766.tif 000015
【図１４】
2005007766.tif 000016
【図１５】
2005007766.tif 000017
【図１６】
2005007766.tif 000018