(57)【要約】【課題】  凹凸部においては感光性樹脂の膜厚より浅い深さで感光性樹脂を除去し、凹凸部以外の部分においては感光性樹脂を残さずに電気光学装置用基板を製造する。【解決手段】  電気光学装置用基板の製造工程において、まず、図５（ａ）に示すように第２基板１２０上に感光性樹脂１３２を塗布する。続いて、凹凸部を形成するべく、図５（ｂ）に示すように第１のレチクル１４５にて一回目の露光を行う。この後、凹凸部以外の部分において感光性樹脂を膜厚の深さまで除去すべく、図５（ｃ）に示すように第２のレチクル１４８にて二回目の露光を行う。二回の露光を行った後、現像を行い下地層１３０を形成する。【選択図】      図５
2005157272.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凹凸状の光反射部を有する電気光学装置用基板の製造方法であって、
基板にポジ型の感光性材料を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程により塗布された感光性材料に、前記光反射部における凸部に対応した領域を形成するべく、前記感光性材料の膜厚の深さより浅い深さまで光が作用するように露光する凹凸形成用露光工程と、
前記電気光学装置用基板となる領域を形成するべく、前記電気光学装置用基板となる領域外に対して、前記塗布工程により塗布された感光性材料の膜厚の深さ以上に光が作用するように露光する基板露光工程と、
露光が行われた前記感光性材料を現像し、露光時に感光された領域を除去する現像工程と、
前記現像工程により前記感光性材料に形成された凹凸面上に、光反射性を有する反射層を形成する反射層形成工程と
を有することを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項２】
前記基板露光工程では、光を透過させるための開口部を前記電気光学装置用基板となる領域内に形成するべく、前記電気光学装置用基板となる領域外に加え、前記電気光学装置用基板となる領域内であって開口部に対応する領域を露光すること
を特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項３】
凹凸状の光反射部を有する電気光学装置用基板の製造方法であって、
基板にネガ型の感光性材料を塗布する塗布工程と、
前記塗布工程により塗布された感光性材料に、前記光反射部における凸部に対応した領域を形成するべく、前記感光性材料の膜厚の深さより浅い深さまで光が作用するように露光する凹凸形成用露光工程と、
前記電気光学装置用基板となる領域を形成するべく、前記電気光学装置用基板となる領域外を遮光し、前記塗布工程により塗布された感光性材料の膜厚の深さ以上に光が作用するように露光する基板露光工程と、
露光が行われた前記感光性材料を現像し、露光時に遮光された領域を除去する現像工程と、
前記現像工程により前記感光性材料に形成された凹凸面上に、光反射性を有する反射層を形成する反射層形成工程と
を有することを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項４】
前記基板露光工程では、光を透過させるための開口部を前記電気光学装置用基板となる領域内に形成するべく、前記電気光学装置用基板となる領域外に加え、前記電気光学装置用基板となる領域内であって開口部に対応する領域を遮光すること
を特徴とする請求項３に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項５】
前記凹凸形成用露光工程ではステッパ露光により露光を行い、前記基板露光工程ではステッパ露光或いは一括露光により露光を行うことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれかに記載の電気光学装置用基板の製造方法を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項７】
凹凸面を有する下地層と、光反射性を有する光反射層とを有する電気光学装置用基板であって、
前記光反射層は、前記下地層のうち前記凹凸面上に位置するように設けられ、
前記下地層は、その側端面が平坦であり、前記凹凸面の凹部の深さが前記下地層の膜厚より浅いこと
を特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項８】
凹凸面を有する下地層と、光反射性を有する光反射層と、光を遮光する遮光層とを有する電気光学装置用基板であって、
前記遮光層は、黒色樹脂材料で形成されており前記下地層のうち前記凹凸面の所定の領域に設けられ、
前記光反射層は、前記下地層のうち前記凹凸面上に位置するように設けられ、
前記下地層は、その側端面が平坦であり、前記凹凸面の凹部の深さが前記下地層の膜厚より浅いこと
を特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項９】
凹凸面を有する下地層と、光反射性を有する光反射層と、光を遮光する遮光層とを有する電気光学装置用基板であって、
前記遮光層は、金属材料で形成されており前記下地層のうち前記凹凸面の所定の領域に設けられ、
前記光反射層は、前記下地層のうち前記凹凸面上に位置するように設けられ、
前記下地層は、その側端面が平坦であり、前記凹凸面の凹部の深さが前記下地層の膜厚より浅いこと
を特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項１０】
凹凸面を有する下地層と、光反射性を有する光反射層と、光を遮光する遮光層とを有する電気光学装置用基板であって、
前記遮光層は、着色された樹脂を積層して形成されており前記下地層のうち前記凹凸面の所定の領域に設けられ、
前記光反射層は、前記下地層のうち前記凹凸面上に位置するように設けられ、
前記下地層は、その側端面が平坦であり、前記凹凸面の凹部の深さが前記下地層の膜厚より浅いこと
を特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項１１】
凹凸面を有する下地層と、光反射性を有する光反射層とを有する電気光学装置用基板であって、
前記光反射層は、前記下地層のうち前記凹凸面上に位置するように設けられ、
前記下地層は、ポジ型の感光性材料であって、その側端面が平坦であり、前記凹凸面の凹部の深さが前記下地層の膜厚より浅いこと
を特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項１２】
凹凸面を有する下地層と、光反射性を有する光反射層とを有する電気光学装置用基板であって、
前記光反射層は、前記下地層のうち前記凹凸面上に位置するように設けられ、
前記下地層は、ネガ型の感光性材料であって、その側端面が平坦であり、前記凹凸面の凹部の深さが前記下地層の膜厚より浅いこと
を特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項１３】
相互に対向して電気光学物質を挟持する一対の基板と、
前記一対の基板のうち一方の基板に設けられ、対向する基板側からの入射光を反射する電気光学装置用基板と、
前記電気光学装置用基板の側端面を跨いで位置し、前記液晶に電圧を印加するための電極と
を有する電気光学装置であって、
前記電気光学装置用基板は、請求項７乃至１２のいずれかに記載の電気光学装置用基板であること
を特徴とする電気光学装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の電気光学装置を表示装置として備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置に関し、特に、観察側からの入射光を反射させて画像の表示を行う反射型表示と、背面側からの入射光を観察側に透過させて画像の表示を行う透過型表示とが可能な半透過反射型の電気光学装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電気光学装置の一種である半透過反射型の液晶装置は、液晶層とバックライトユニットとの間に、バックライトユニットの光を透過させると共に、外光を反射させる半透過反射層を有している。この半透過反射層は、バックライトの光を透過させるための開口部を有する一方、観察者が視認する画面に写り込みが生じるのを防ぐために、外光を散乱させるための凹凸状の反射面を有している。
【０００３】
この凹凸状の反射面を形成する方法としては、例えば、特許文献１に記載されている方法がある。この方法は、図１４（ａ）に示したように、基板５００上にポジ型の感光性樹脂５１０を塗布し、塗布された感光性材料をフォトマスク５２０を用いて露光する。このフォトマスク５２０のうち、ランダムに配置された透光部５３０は、下地層５４０ａの凹凸面を形成するためのものである。このようなフォトマスク５２０にて感光性樹脂を露光した後、現像処理を施すと、図１４（ｃ）に示すような凹凸面を有する下地層５４０ａが形成される。次に、この下地層５４０ａに対してポストベークを行った後、形成された凹凸面および基板５００上に、ポジ型の感光性樹脂を再度塗布し、パネル表示領域周辺の実装領域を露光する。感光性樹脂を露光した後、現像処理を施すと、図１４（ｄ）に示すような凹凸面を有する下地層５４０ｂが形成される。下地層５４０ａと下地層５４０ｂをポストベークした後、下地層の凹凸面のみに、アルミニウムなどの光反射性を有する材料を積層し、反射層５６０を形成する。
【特許文献１】特開２００３−７５９８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に開示されている方法においては、「感光性樹脂の塗布−露光−現像−ポストベーク」という一連の工程が、反射層５６０を形成するまでに二回行われるが、このように工程数が多いと製造に時間がかかり、その分、製造コストにも影響してくる。製造時間やコストを削減するために、二回目の工程を省略し、基板５００と、一回目の工程で形成された下地層５４０ａとの上に反射層５６０を形成する方法が考えられる。しかしながら、一回の工程のみでは、図１４（ｃ）に示したように、下地層５４０ａの凹部の底が基板に達してしまうため、このまま反射層を形成すると、凹部の底に形成される反射層が平坦となり、良好な散乱特性を得ることができなくなってしまう。このように、凹部の底に形成される反射面が平坦とならないようにするために、凹部の底が基板に達しないように、露光を行う方法がある。具体的には、感光性材料に作用する光の深さが、感光性材料の膜厚の深さより浅い深さに止まるように、露光工程において照射する光を制御する。このような露光を行った後、現像を行うと、凹凸部の凹部の深さが感光性樹脂の膜厚より浅い深さの下地層が形成される。しかしながら、このような態様によると、感光性材料に作用する光は、基板の深さまで作用しないため、凹凸部以外の部分、即ち、パネル表示領域外の部分に感光性樹脂が残ってしまう。このようにパネル表示領域外の実装領域に対応する部分に樹脂が残ってしまうと、この領域に配設されるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの光透過性導電材料により形成されるデータ線が切れてしまうという問題が生じてしまう。
【０００５】
本発明は、上述した背景の下になされたものであり、凹凸部においては感光性樹脂の膜厚より浅い深さで感光性樹脂を除去し、凹凸部以外の部分においては感光性樹脂を残さないことを可能とする、電気光学装置用基板の製造方法、該電気光学装置用基板の製造方法を含む電気光学装置の製造方法、電気光学装置用基板、該電気光学装置用基板を用いた電気光学装置、および電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、本発明に係わる電気光学装置用基板の製造方法は、凹凸状の光反射部を有する電気光学装置用基板の製造方法であって、基板にポジ型の感光性材料を塗布する塗布工程と、前記塗布工程により塗布された感光性材料に、前記光反射部における凸部に対応した領域を形成するべく、前記感光性材料の膜厚の深さより浅い深さまで光が作用するように露光する凹凸形成用露光工程と、前記電気光学装置用基板となる領域を形成するべく、前記電気光学装置用基板となる領域外に対して、前記塗布工程により塗布された感光性材料の膜厚の深さ以上に光が作用するように露光する基板露光工程と、露光が行われた前記感光性材料を現像し、露光時に感光された領域を除去する現像工程と、前記現像工程により前記感光性材料に形成された凹凸面上に、光反射性を有する反射層を形成する反射層形成工程とを有することを特徴とする。
この電気光学装置用基板の製造方法によれば、感光性材料に形成される凹凸面の凹部の深さが感光性材料の膜厚の深さより浅くなり、電気光学装置用基板となる領域以外の部分の感光性材料が除去されて、電気光学装置用基板の側端面が平坦となる。凹凸部の凹部が感光性材料の膜厚の深さとならないため、凹部の底に形成される反射層が平坦とならず、良好な散乱特性を得ることができる。また、電気光学装置用基板の側端面が平坦となるため、この側端面を跨いで設けられる電極が切れてしまうという不具合が解消される。
なお、この製造方法においては、前記基板露光工程では、光を透過させるための開口部を前記電気光学装置用基板となる領域内に形成するべく、前記電気光学装置用基板となる領域外に加え、前記電気光学装置用基板となる領域内であって開口部に対応する領域を露光するようにしてもよい。
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明に係わる電気光学装置用基板の製造方法は、凹凸状の光反射部を有する電気光学装置用基板の製造方法であって、基板にネガ型の感光性材料を塗布する塗布工程と、前記塗布工程により塗布された感光性材料に、前記光反射部における凸部に対応した領域を形成するべく、前記感光性材料の膜厚の深さより浅い深さまで光が作用するように露光する凹凸形成用露光工程と、前記電気光学装置用基板となる領域を形成するべく、前記電気光学装置用基板となる領域外を遮光し、前記塗布工程により塗布された感光性材料の膜厚の深さ以上に光が作用するように露光する基板露光工程と、露光が行われた前記感光性材料を現像し、露光時に遮光された領域を除去する現像工程と、前記現像工程により前記感光性材料に形成された凹凸面上に、光反射性を有する反射層を形成する反射層形成工程とを有することを特徴とする。
この電気光学装置用基板の製造方法によれば、感光性材料に形成される凹凸面の凹部の深さが感光性材料の膜厚の深さより浅くなり、電気光学装置用基板となる領域以外の部分の感光性材料が除去されて、電気光学装置用基板の側端面が平坦となる。凹凸部の凹部が感光性材料の膜厚の深さとならないため、凹部の底に形成される反射層が平坦とならず、良好な散乱特性を得ることができる。また、電気光学装置用基板の側端面が平坦となるため、この側端面を跨いで設けられる電極が切れてしまうという不具合が解消される。
なお、この製造方法においては、前記基板露光工程では、光を透過させるための開口部を前記電気光学装置用基板となる領域内に形成するべく、前記電気光学装置用基板となる領域外に加え、前記電気光学装置用基板となる領域内であって開口部に対応する領域を遮光するようにしてもよい。
また、上記電気光学装置用基板の製造方法においては、前記凹凸形成用露光工程ではステッパ露光により露光を行い、前記基板露光工程ではステッパ露光或いは一括露光により露光を行うようにしてもよい。
【０００８】
また、本発明は、上記電気光学装置用基板の製造方法を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法を提供する。この電気光学装置の製造方法によれば、その製造工程において、凹凸部の凹部が感光性材料の膜厚の深さとならないため、凹部の底に形成される反射層が平坦とならず、良好な散乱特性を得ることができる。また、電気光学装置用基板の側端面が平坦となるため、この側端面を跨いで設けられる電極が切れてしまうという不具合が解消される。
【０００９】
また、本発明は、凹凸面を有する下地層と、光反射性を有する光反射層とを有する電気光学装置用基板であって、前記光反射層は、前記下地層のうち前記凹凸面上に位置するように設けられ、前記下地層は、その側端面が平坦であり、前記凹凸面の凹部の深さが前記下地層の膜厚より浅いことを特徴とする電気光学装置用基板を提供する。係る電気光学装置用基板によれば、凹凸部の凹部が感光性材料の膜厚の深さより浅いため、凹部の底に形成される反射層が平坦とならず、良好な散乱特性を得ることができる。また、電気光学装置用基板の側端面が平坦となるため、この側端面を跨いで設けられる電極が切れてしまうという不具合が解消される。
好ましい態様において、電気光学装置用基板は、光を遮光する遮光層であって黒色樹脂材料で形成された遮光層を、前記下地層のうち前記凹凸面の所定の領域に具備するようにしてもよい。
また、好ましい態様において、電気光学装置用基板は、光を遮光する遮光層であって、金属材料で形成された遮光層を、前記下地層のうち前記凹凸面の所定の領域に具備するようにしてもよい。
また、好ましい態様においては、電気光学装置用基板は、光を遮光する遮光層であって、着色された樹脂材料を積層して形成された遮光層を、前記下地層のうち前記凹凸面の所定の領域に具備するようにしてもよい。
また、好ましい態様においては、電気光学装置用基板の下地層は、ポジ型の感光性材料であることが好ましい。
また、好ましい態様においては、電気光学装置用基板の下地層は、ネガ型の感光性材料であることが好ましい。
さらに、本発明は、上記電気光学装置用基板を含む電気光学装置、および該電気光学装置を表示装置として備えることを特徴とする電子機器を提供する。上述した電気光学装置用基板は、その製造工程において、電気光学装置用基板の側端面が平坦となり、この側端面を跨いで設けられる電極が切れてしまうという不具合が生じないため、歩留まりに優れ、製造コストが安価になる。これにより、この電気光学装置用基板を含む電気光学装置、および該電気光学装置を表示装置として備える電子機器の製造コストを安価にすることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、図面を参照し、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下に示す各図においては、各構成要素を図面上で認識され得る程度の大きさとするため、各構成要素の寸法や比率を実際のものとは適宜に異ならせてある。
【００１１】
［液晶装置の構成］
まず、本発明の実施形態に係わる液晶装置１００の構成について説明する。図１は、本実施形態に係わる液晶装置１００の断面図であり、図２は、同液晶装置１００の大略構成を示す分解斜視図である。なお、図１は、図２におけるＡ−Ａ'線から見た断面に相当する。図１および図２に示したように、液晶装置１００は、電気光学物質の一種である液晶１８０（図２においては図示略）を第１基板１１０および第２基板１２０により狭持する液晶パネル１０２と、当該液晶パネル１０２の第２基板側に配設されたバックライトユニット１０４とを具備している。なお、以下の説明においては、便宜上、図１に示したように、液晶１８０に対して第１基板１１０側を、液晶装置１００による表示画像を視認する観察者が位置する側という意味で「観察側」と表記し、液晶１８０からみて第２基板１２０側を「背面側」と表記する。
【００１２】
バックライトユニット１０４は、例えば、導光板１０６と、冷陰極管などの光源１０５とを具備しており、この光源１０５は、板状部材である導光板１０６の側端面に対して光を照射する。導光板１０６のうち、液晶パネル１０２と対向する面には、導光板１０６からの光を液晶パネル１０２に対して一様に拡散させる拡散板（図示略）が貼着されている。また、この反対側の面には、導光板１０６から背面側に出射しようとする光を液晶パネル１０２側に反射させる反射板（図示略）が貼着されており、その側端面から入射した光を、液晶パネル１０２の第２基板１２０に対して一様に導く。
【００１３】
液晶パネル１０２の第１基板１１０は、ガラスなどの光透過性材料からなる板状部材である。第１基板１１０の観察側の面には、コントラストを改善するための位相差板１１１（図２では図示略）と、入射光を偏光させるための偏光板１１２（図２では図示略）が、第１基板１１０側からこの順で積層されており、第１基板１１０の液晶１８０側（背面側）の面には、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）膜などの画素電極１１４がマトリックス状に配置されている。この各画素電極１１４の間隙には、一方向（図２に示すＹ方向）に延在する複数の走査線１１６が形成されており、各画素電極１１４と各画素電極に隣接する走査線１１６は、非線形な電流−電圧特性を有する二端子型スイッチング素子であるＴＦＤ（Thin Film Diode）素子１１５を介して接続されている。そして、図１に示すように、画素電極１１４、走査線１１６およびＴＦＤ素子１１５が形成された第１基板１１０の表面は、配向膜１１８（図２では図示略）により覆われている。この配向膜１１８は、ポリイミドなどの有機薄膜であり、電圧が印加されていないときの液晶１８０の配向状態を規定するためのラビング処理が施されている。
【００１４】
第２基板１２０は、ガラスなどの光透過性材料からなる板状部材であり、その背面側の面には、第１基板１１０と同様に、位相差板１２１（図２では図示略）および偏光板１２２（図２では図示略）が、第２基板側からこの順で積層されている。一方、第２基板１２０の液晶１８０側（観察側）の面には、下地層１３０と、半透過反射層１４０と、３色のカラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂと、データ線１５２と、配向膜１５４（図２では図示略）とが第２基板側からこの順で積層されている。このうち配向膜１５４は、配向膜１１８と同様の有機薄膜であり、ラビング処理が施されている。
【００１５】
下地層１３０は、感光性材料を露光・現像処理することにより造形されたものであり、その側端面１３０ａは平坦となっている。下地層１３０は、ドット１６０の中央付近に位置する光透過用の開口部１２５と、観察側に設けられた滑らかな凹凸状の面１３０ｂ（以下、「凹凸面」と称する）とを有している。
【００１６】
半透過反射層１４０は、例えばアルミニウムまたは銀などの光反射性を有する材料が、図３の平面図および断面図に示したように、下地層１３０のうち観察側の面上に略一定の膜厚にて薄膜形成されたものであり、半透過反射層１４０の表面形状は下地層１３０の凹凸状の表面形状が反映されたものとなっている（以下、この凹凸状の表面形状を有する面を「散乱反射面」と称する）。なお、説明の便宜上、以降の説明においては、第２基板１２０と、下地層１３０と、半透過反射層１４０とを含む半透過反射性を有する機能性基板を「電気光学装置用基板１２４」と称する。
【００１７】
カラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂは、各ドット１６０に対応して設けられた樹脂層である。各カラーフィルタは、顔料などにより赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）および青色（Ｂ）のいずれかにそれぞれ着色されており、その色に対応する波長の光を選択的に透過させる。なお、図２における「Ｒ」、「Ｇ」および「Ｂ」は、ドット１６０の各々が、いずれのカラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂが配置されるドット１６０かを示している。
【００１８】
遮光層１５１は、例えば、カーボンブラックが分散された黒色樹脂材料や、クロム（Ｃｒ）といった金属材料などにより形成されており、隣接するカラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０の側面を遮光するように、各カラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂの間隙を埋めるように格子状に形成されている。なお、遮光層１５１は、特定の材料によって形成されることに限定されず、例えば、着色層を構成するカラーフィルタ１５０Ｒ，１５０Ｇ，１５０Ｂの各着色層を二色または三色重ねること、すなわち積層することによっても形成することができる。
【００１９】
複数のデータ線１５２の各々は、ＩＴＯなどの光透過性導電材料により形成された帯状の電極である。図２に示すように、データ線１５２は、カラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂの面上に形成されており、上述した走査線１１６と交差する方向（図２中Ｘ方向）に延在し、第１基板１１０上に列をなす複数の画素電極１１４と対向するように位置する。そしてデータ線１５２は、図１に示したように、電気光学装置用基板１２４の側端面においては、その側端面を跨いで位置し、第２基板１２０上においては、観察側の面上に位置する。
【００２０】
以上説明した構成の第１基板１１０および第２基板１２０は、図１に示すように、シール材１７０を介して貼り合わされるとともに、両基板上の構造物と、シール材１７０とによって囲まれた領域に、例えばＴＮ（Twisted Nematic）型などの液晶１８０が封止される。かかる構成の下、第１基板１１０と第２基板１２０とにより狭持された液晶１８０は、画素電極１１４とこれに対向するデータ線１５２との間に電圧が印加されることにより、その配向方向が変化する。図２に示すように、この印加電圧に応じて液晶１８０の配向方向が変化する領域の最小単位１６０はマトリックス状に配列されており、その各々がサブ画素（ドット）として機能する。この液晶パネル１０２に観察側から外光が入射すると、外光は、電気光学装置用基板１２４により観察側に向けて散乱反射し、これにより反射型表示が実現される。一方、液晶パネル１０２の背面側からバックライトユニット１０４の光が入射すると、入射した光は、下地層１３０および半透過反射層１４０の開口部１２５を通過して観察側に出射し、これにより透過型表示が実現される。
【００２１】
［製造方法］
次に、本発明の実施形態に係わる電気光学装置用基板１２４の製造方法について説明する。図４は、電気光学装置用基板１２４の製造工程を示すフローチャートであり、図５および図６は、同製造工程における第２基板１２０の部分断面図である。なお、図５および図６においては第２基板１２０のうち１つのドット１６０に対応する部分と、パネル表示領域外とパネル表示領域内の境となる部分とが示されている。
【００２２】
この製造工程においては、まず、第２基板１２０を洗浄した後、洗浄した基板を乾燥させる（図４：プロセスＰ１）。次に、図５（ａ）に示すように、第２基板１２０のうち観察側となる面に、例えばスピンコート法などにより、感光性材料の一種であるポジ型の感光性樹脂１３２を塗布する（図４：プロセスＰ２）。この感光性樹脂１３２としては、例えばＰＣ４０５Ｇ（ＪＳＲ株式会社製）などを用いることができる。その後、第２基板１２０に塗布した感光性樹脂１３２を減圧環境下において乾燥させ（図４：プロセスＰ３）、乾燥した感光性樹脂１３２を８５℃から１０５℃の範囲で約１２０秒プリベークする（図４：プロセスＰ４）。
【００２３】
次に、プリベークした感光性樹脂１３２を、ステッパにより、図７に示したパターンのレチクル１４５を用いて露光する（図４：プロセスＰ５）。図７に示したように、レチクル１４５は、ガラスなどの光透過性を有する基板に、クロムなどの遮光層（図中斜線で示す）が設けられたものである。図７の拡大図に示されるように、レチクル１４５には、下地層１３０の凹凸面１３０ｂを形成するための微小な遮光領域である、凹凸用遮光部１４７ｂが複数設けられている。なお、感光性樹脂１３２はポジ型であるため、光が照射されると、その部分は、後述の現像工程において現像液に溶解し除去される。
【００２４】
このようなレチクル１４５にて、例えば、露光時間を１，６００ｍｓｅｃとして露光すると、レチクル１４５を透過した光は、図５（ｂ）に示すように、感光性樹脂１３２上面のうち図中破線で示される面まで作用する。なお、感光性樹脂１３２において、レチクル１４５を透過した光が作用する深さは、感光性樹脂１３２の材質や、露光時の光の強度に応じて異なるので、露光時間を替えることにより制御することができる。
【００２５】
ステッパにより、以上のようなレチクル１４５を順次ずらし、繰り返し露光処理を行って基板１２０全体の露光処理を行った後、次に、レチクル１４８を用いて露光を行う（図４：プロセスＰ６）。図８は、この二回目の露光に用いられるレチクル１４８のパターンを示す図である。この図に示されるように、レチクル１４８には、ガラスなどの光透過性を有する基板に、遮光層１４７（図中斜線で示す）が設けられている。
【００２６】
このレチクル１４８においては、パネル表示領域内に相当する部分が遮光されており、液晶パネル１０２におけるドット１６０の各々に対応して、同一のパターンがマトリックス状に設けられている。そして、図８の拡大図に示されるように、レチクル１４８のうち１つのドット１６０に対応する領域には、開口部１２５を形成するための開口用透光部１４９ａが設けられている。このようなレチクル１４８にて、一回目の露光時間と露光時間を異ならせ、例えば、露光時間を４，０００ｍｓｅｃとして二回目の露光を行うと、レチクル１４８の遮光されていない部分を透過した光、即ち、開口用透光部１４９ａと、パネル表示領域外に相当する部分を透過した光は、感光性樹脂１３２の最下部にまで作用する。ステッパにより、以上のようなレチクル１４８を順次ずらし、繰り返し露光処理を行って基板１２０全体の露光処理を行った後、感光性樹脂１３２に現像処理を施すと（図４：プロセスＰ７）、図５（ｄ）に示したように、露光工程において光が作用した深さの分、凹凸面の凹部分と、開口部１２５の部分と、パネル表示領域外となる部分の感光性樹脂が除去され、凹凸を有する凹凸面１３０ｂを有し、側端面１３０ａが平坦な下地層１３０が形成される。
【００２７】
さて、感光性樹脂１３２の現像工程が終了すると、次いで、感光性樹脂１３２に、例えば、ｉ線などの紫外線（ultraviolet rays：以下、ＵＶと称する）を照射する。本実施形態で用いた感光性樹脂１３２（ＰＣ４０５Ｇ）は、黄色味を帯びており、ＵＶを照射することにより黄色味が除去され光透過性が向上する。これは、もし仮に下地層１３０が着色されていたとすると、電気光学装置用基板１２４における外光の反射時に、その色が反射光に反映されてしまうため、その改善を目的としている。なお、この工程は、本実施形態で用いた感光性樹脂１３２についての特有の工程であり、電気光学装置用基板１２４の製造において必須の工程ではない。この後、感光性樹脂１３２を、例えば「２２０℃」にて５０分間焼成する（図４：プロセスＰ８）。
【００２８】
次いで、図６（ａ）に示すように、半透過反射層１４０となるアルミニウムまたはアルミニウム合金を略一定の厚みにて、例えばスパッタリングなどにより、下地層１３０を覆うように形成する（図４：プロセスＰ９）。ここで、本実施形態においては、下地層１３０に形成された凹凸面の凹部が第２基板に達していないため、凹凸面１３０ｂの凹部が平坦とならない。次に、図６（ｂ）に示すように、アルミニウム層のうち凹凸面１３０ｂ以外の部分を除去すべく、マスク１４２形成する。具体的には、下地層１３０の凹凸面１３０ｂに対応する部分をマスク１４２で覆う。そして、アルミニウム層のうちマスク１４２で覆われていない部分をエッチングした後、マスク１４２を除去すると、図６（ｃ）に示すように開口部１２５と、凹凸状の半透過反射層１４０とを有する散乱反射型の電気光学装置用基板１２４が製造される。
【００２９】
引き続き、半透過反射層１４０が形成された第２基板１２０上に構造物を形成する方法について前掲図１を参照して説明する。以上のようにして半透過反射層１４０が形成されると、続いて、第２基板１２０の反射面側（観察側）に、例えばクロムからなる薄膜を、例えばスパッタリング法などにより形成する。この後、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技術を用いて当該薄膜をパターニングすることにより、格子状の遮光層１５１を得る。また、遮光層１５１は、特定の材料によって形成されることに限られず、例えば、着色層を構成するカラーフィルタ１５０Ｒ，１５０Ｇ，１５０Ｂの各着色層を二色または三色重ねること、すなわち積層することによっても形成することができる。
【００３０】
続いて、第２基板１２０における半透過反射層１４０上に赤色、緑色および青色のカラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇおよび１５０Ｂの各々を、マトリックス状に形成する。これらのカラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂの形成方法としては、例えば、顔料により着色された感光性樹脂により形成することができる。次に、カラーフィルタ１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂおよび遮光層１５１を覆うようにＩＴＯからなる薄膜を形成し、これをパターニングすることによってデータ線１５２を形成する。ここで、電気光学装置用基板１２４は、現像工程により、パネル表示領域外に相当する部分の感光性樹脂が除去されて側端面１３０ａが平坦となっているため、側端面１３０ａを跨いでパネル表示領域外に配設されるデータ線が切れてしまうといった問題が生じない。したがって、電気光学装置用基板１２４の品質が向上し、ひいては液晶装置１００の品質が向上する。そして、データ線を形成した後、これらのデータ線１５２を覆うように配向膜１５４を形成し、配向膜１５４の表面にラビング処理を施す。
【００３１】
以上が第２基板１２０上に設けられる各構造物の製造方法である。この製造方法により得られた第２基板１２０と、画素電極１１４、走査線１１６、ＴＦＤ素子１１５および配向膜１１８が形成された第１基板１１０とを、互いの配向膜１１８、と配向膜１５４を対向させた状態でシール材１７０を介して貼り合わせる。次いで、基板１１０と基板１２０とシール材１７０とによって囲まれた空間に液晶１８０を注入し、その後、図示せぬ封止材により液晶１８０が注入された空間を封止する。そして、一体化された第１基板１１０および第２基板１２０の各々の外側の面に、位相差板１１１、１２１と偏光板１１２、１２２とを貼着することによって、液晶表示パネルが完成する。
【００３２】
以上説明したように、本実施形態に係る製造方法によれば、下地層１３０に形成された凹凸面の凹部が第２基板に達しないため、半透過反射層１４０の凹部が平坦とならない。このため、半透過反射層１４０においては、鏡面反射となる部分がなくなり、良好な散乱特性を得ることが可能となる。また、パネル表示領域外となる部分の感光性樹脂が除去され、電気光学装置用基板１２４の側端面１３０ａが平坦となるため、側端面１３０ａを跨いで位置するデータ線１５２が切れてしまうという問題が生じなくなる。
【００３３】
［変形例］
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されることなく、他の様々な形態で実施可能である。例えば、上述の実施形態を以下のように変形して本発明を実施してもよい。
【００３４】
上述した実施形態においては、露光により溶化するポジ型の感光性材料を用いて電気光学装置用基板１２４を製造したが、露光により不溶化するネガ型の感光性材料を用いることも可能である。図９は、ネガ型の感光性材料を用いた場合の、電気光学装置用基板の製造工程における第２基板１２０の部分断面図である。なお、図９においては第２基板１２０のうち１つのドット１６０に対応する部分と、パネル表示領域外とパネル表示領域内の境となる部分とが示されている。まず、図９（ａ）に示すように、感光性材料の一種であるネガ型の感光性樹脂１３２Ａが塗布された第２基板１２０を、図９（ｂ）に示したように、ステッパにより、レチクル１４５Ａを用いて露光する。図１０は、この露光に用いられるレチクル１４５Ａのパターンを示す図である。ネガ型の感光性樹脂においては、露光された部分がパターンとして残るため、図１０の拡大図に示したように、凹凸面の凸部が残るように、即ち、凸部に相当する部分に光が当たるように、凹凸用透光部１４６ｂを設け、樹脂を除去したい部分を遮光する。このレチクル１４５Ａを用いて一回目の露光を行うと、図９（ｂ）に示すように、遮光されていない部分を透過した光は、感光性樹脂１３２Ａの上面のうち図中破線で示される面まで作用する。
【００３５】
次に、レチクル１４８Ａを用いて二回目の露光を行う。図１１は、この二回目の露光に用いられるレチクル１４８Ａのパターンを示す図である。この図に示されるように、レチクル１４８Ａには、パネル表示領域外の部分の感光性樹脂を除去するための遮光層１４７ｃが設けられている。このようなレチクル１４８Ａにて、一回目の露光時間と露光時間を異ならせ、二回目の露光を行うと、図９（ｃ）に示したように開口部とパネル表示領域外に相当する部分が遮光され、凹凸面が形成される領域に光が作用する。以上のようなレチクル１４５Ａとレチクル１４８Ａを用いた露光処理の後、感光性樹脂１３２Ａに現像処理を施すと、図９（ｄ）に示すような、開口部１２５と、凹凸を有する凹凸面１３０ｂとを有し、側端面１３０ａが平坦である感光性樹脂１３２Ａ（下地層１３０）が形成される。このようにネガ型の感光性樹脂を用いた態様でも、下地層１３０に形成された凹凸面の凹部が第２基板に達しないため、半透過反射層１４０の凹部が平坦とならない。このため、半透過反射層１４０においては、鏡面反射となる部分がなくなり、良好な散乱特性を得ることが可能となる。また、パネル表示領域外となる部分の感光性樹脂が除去され、電気光学装置用基板１２４の側端面１３０ａが平坦となるため、データ線１５２が切れてしまうという問題が生じなくなる。
【００３６】
上述した実施形態では、露光の時間により、光が感光性材料に作用する深さを制御しているが、光の強度を替えて光が感光性材料に作用する深さを制御するようにしてもよい。
また、上述した実施形態では、レチクル１４５およびレチクル１４８を順次ずらして露光を行うステッパ露光により感光性材料の露光を行っているが、基板１２０全体をカバーし、凹凸面１３０ｂを形成するためのマスクと、基板１２０全体をカバーし、開口部１２５およびパネル表示領域外の部分を形成するためのマスクとを用意し、第１の露光工程および第２の露光工程において、各々一枚のマスクで基板１２０全体を露光する一括露光により、露光処理を行うようにしてもよい。また、第１の露光工程においては、上述した実施形態のようにステッパ露光により露光を行い、第２の露光工程においては、図１２に示したように一枚の大判マスクで基板１２０全体を露光する一括露光により露光を行うようにしてもよい。なお、二回目の露光を一括露光で行う場合、一回目の露光が完了した後、８０〜１６０ｍＪで露光時間を２０００ｍｓｅｃ〜４０００ｍｓｅｃとして二回目の露光を行うようにしてもよい。また、上述した実施形態においては、現像工程の後、加熱処理を行うことにより、熱だれにより凹凸の形状を滑らかな形状に変形させるようにしてもよい。
【００３７】
上述した製造方法においては、一回目の露光においてレチクル１４８を用いて露光時間を４，０００ｍｓｅｃとして露光を行い、二回目の露光においてレチクル１４５を用いて露光時間を１，６００ｍｓｅｃとして露光を行うようにしてもよい。また、上述した製造方法においては、レチクル１４８に開口用透光部１４９ａを設けていたが、レチクル１４８に開口用透光部１４９ａを設けない態様であってもよい。また、このようにして製造された基板において、反射層の膜厚を、バックライトユニット１０４の光が透過する厚さとするようにしてもよい。
【００３８】
次に、以上説明した液晶装置１００を搭載した電子機器について説明する。図１３は、液晶装置１００を表示部として有する携帯電話機３００の外観図である。この図において、携帯電話機３００は、複数の操作ボタン３１０の他、受話口３２０、送話口３３０とともに、電話番号などの各種情報を表示する表示部として、上記液晶装置１００を備えている。また、携帯電話機３００以外にも、液晶装置１００（電気光学装置）は、コンピュータや、プロジェクタ、デジタルカメラ、ムービーカメラ、車載機器、複写機、オーディオ機器などの各種電子機器の表示部として用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の実施形態にかかる液晶装置の断面図である。
【図２】同液晶装置の分解斜視図である。
【図３】同液晶装置に含まれる電気光学装置用基板の平面および断面を示す図である。
【図４】同電気光学装置用基板の製造方法を示す工程図である。
【図５】同製造方法における各工程の様子を示す図である。
【図６】同製造方法における各工程の様子を示す図である。
【図７】同電気光学装置用基板の製造に用いられるレチクルを示す平面図である。
【図８】同電気光学装置用基板の製造に用いられるレチクルを示す平面図である。
【図９】同実施形態の変形例にかかる製造方法の工程の様子を示す図である。
【図１０】同変形例にかかる製造方法に用いられるレチクルを示す平面図である。
【図１１】同変形例にかかる製造方法に用いられるレチクルを示す平面図である。
【図１２】同変形例にかかる製造方法に用いられる一括露光用の大判マスクを示す平面図である。
【図１３】同液晶装置を搭載した電子機器の一例を示す図である。
【図１４】従来の電気光学装置用基板の製造工程における各工程の様子を示す図である。
【符号の説明】
【００４０】
１００  液晶装置（電気光学装置）、１０２  液晶パネル、１０４  バックライトユニット、１１０  第１基板、１１４  画素電極、１１５  ＴＦＤ素子、１１６  走査線、１１８，１５４  配向膜、１２０  第２基板、１２４  電気光学装置用基板、１２５  開口部、１３０  下地層、１３０ａ  側端面、１３０ｂ  凹凸面、１４０  半透過反射層、１４５，１４５Ａ，１４８、１４８Ａ  レチクル、１４６ｂ  凹凸用透光部、１４７，１４７ｃ  遮光層、１４７ｂ  凹凸用遮光部、１４９ａ  開口用透光部、１５０Ｒ、１５０Ｇ、１５０Ｂ  カラーフィルタ、１５２  データ線、１６０  ドット、１８０  液晶、３００  携帯電話機。
【図１】
2005157272.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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