(57)【要約】【課題】低コストで、高屈折率化と安定化の両立を図ることができる透明電磁波シールドフィルムおよびその製法、ならびにそれを用いたプラズマディスプレイパネル用前面フィルターおよびプラズマディスプレイを提供する。【解決手段】高分子フィルム１の表面に、高屈折率膜２と、銀を主成分とする金属膜３とを、交互に複数層積層してなる透明電磁波シールドフィルム５であって、上記高屈折率膜２の少なくとも１層が、下記の（ａ）を主成分とし、下記の（ｂ）を含有するコーティング膜の紫外線照射によって高屈折率（屈折率１．９以上）の薄膜となるよう形成されている。（ａ）チタン系アルコキシド類およびチタン系アシレート類の少なくとも一種の有機チタン化合物。（ｂ）βジケトン類、アルコキシアルコール類およびアルカノールアミン類からなる群から選ばれた少なくとも一種の添加剤。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子フィルムの表面に、高屈折率膜と、銀を主成分とする金属膜とを、交互に複数層積層してなる透明電磁波シールドフィルムであって、上記高屈折率膜の少なくとも１層が、下記の（ａ）を主成分とし、下記の（ｂ）を含有するコーティング膜の紫外線照射によって形成されていることを特徴とする透明電磁波シールドフィルム。
（ａ）チタン系アルコキシド類およびチタン系アシレート類の少なくとも一種の有機チタン化合物。
（ｂ）βジケトン類、アルコキシアルコール類およびアルカノールアミン類からなる群から選ばれた少なくとも一種の添加剤。
【請求項２】
上記（ａ）を主成分とし、上記（ｂ）を含有するコーティング膜の紫外線照射によって形成された高屈折率膜の屈折率が１．９以上である請求項１記載の透明電磁波シールドフィルム。
【請求項３】
上記（ａ）の有機チタン化合物が、テトラ−ｎ−ブトキシチタンの４量体または７量体である請求項１または２記載の透明電磁波シールドフィルム。
【請求項４】
上記（ｂ）の添加剤が、アセチルアセトンである請求項１〜３のいずれか一項に記載の透明電磁波シールドフィルム。
【請求項５】
上記コーティング膜の材料における、（ｂ）の添加剤の割合が、（ａ）の有機チタン化合物におけるチタン原子１ｍｏｌに対し、０．１〜２ｍｏｌの範囲に設定されている請求項１〜４のいずれか一項に記載の透明電磁波シールドフィルム。
【請求項６】
上記金属膜の厚みが５〜２０ｎｍの範囲に設定されている請求項１〜５のいずれか一項に記載の透明電磁波シールドフィルム。
【請求項７】
上記高分子フィルムが、ポリエチレンテレフタレートによって形成された請求項１〜６のいずれか一項に記載の透明電磁波シールドフィルム。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の透明電磁波シールドフィルムの製法であって、高屈折率膜形成材料のコーティングと、これに対する紫外線照射と、その照射によって生成された高屈折率膜上に金属膜を形成する工程とを繰り返すことにより透明電磁波シールドフィルムを製造するに際し、高分子フィルムから最も遠い表面の高屈折率膜以外の高屈折率膜を、その材料のコーティングおよび紫外線照射によって屈折率１．９未満の薄膜となるよう生成し、順次積層される膜の生成時の紫外線照射の繰り返しにより、上記屈折率１．９未満の薄膜を、最終的に屈折率１．９以上の薄膜となるようにすることを特徴とする透明電磁波シールドフィルムの製法。
【請求項９】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の透明電磁波シールドフィルムを用いてなることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用前面フィルター。
【請求項１０】
請求項９記載のプラズマディスプレイパネル用前面フィルターを用いてなることを特徴とするプラズマディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明電磁波シールドフィルムおよびその製法、ならびにそれを用いたプラズマディスプレイパネル用前面フィルターおよびプラズマディスプレイに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、大型の薄型テレビや薄型ディスプレイ用途等にプラズマディスプレイパネルが採用され、すでに市場にも浸透してきている。しかし、このプラズマディスプレイパネルは、その構造や動作原理上、高強度の漏洩電磁波を発生させるため、人体に悪影響を与えるおそれがあり、またプラズマディスプレイパネルから発生する近赤外光線が、周辺の電子機器に作用し誤作動を発生させる等の問題が生じている。そのため、プラズマディスプレイパネルの前面に、電磁波や近赤外光線の漏洩を防止するフィルターを設けることにより、上記問題に対応している。このようなプラズマディスプレイパネル用前面フィルターに用いられる電磁波シールドフィルムとしては、高シールド性のメッシュタイプや、中低シールド性の導電膜タイプ等があるが、低コスト化等の点で、導電膜タイプの需要増加が、今後見込まれる。上記導電膜タイプの電磁波シールドフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム等の高分子フィルム基材の表面に、導電層である銀層と、高屈折率層である金属酸化物層とを交互に積層したものが用いられている。上記銀層や金属酸化物層は、通常、スパッタ法等の真空蒸着法により形成されている。スパッタ法によると、材料コスト、製造コストの点において割高であるといったデメリットを有するものの、安定した品質の薄膜を生成し得ることから、現状ではこの成膜法が広く採用されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
一方、比較的低コストな成膜方法として、液相法であるウェットコーティング法も提案されており、上記スパッタ法に代わる成膜方法として注目されている。そして、本出願人は、上記ウェットコーティング法を応用し、電磁波シールドフィルムを製造する技術を既に提案している。すなわち、有機チタン化合物をウェットコーティングし、その後、ゾルゲル反応によって、酸化チタン膜を成膜し、これと銀膜とを、基材上に積層し、電磁波シールドフィルムを製造する技術を提案している（特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平１１−１７７２７７号公報
【特許文献２】特開２００３−５６５９公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、ゾルゲル反応により有機チタン化合物を酸化チタン膜へと生成させるには、一般的に、２００℃以上の高温で熱処理を行うことにより、上記反応を充分に進行させる必要がある。ところが、ＰＥＴフィルムのような耐熱性に劣る高分子フィルム等を基材とした場合、上記のような高温での熱処理を行うことができないため、成膜される酸化チタン膜中に未反応の有機チタン化合物が残存しやすく、その結果、屈折率が不充分（屈折率：１．８程度かそれ未満）となりやすいといった問題がある。また、このようにして成膜された酸化チタン膜は、その屈折率や膜厚が、熱や湿熱により変化しやすく、安定性の面でも劣るといった傾向がみられることから、これらの改善が望まれている。
【０００５】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、低コストで、高屈折率化と安定化の両立を図ることができる透明電磁波シールドフィルムおよびその製法、ならびにそれを用いたプラズマディスプレイパネル用前面フィルターおよびプラズマディスプレイの提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するため、本発明は、高分子フィルムの表面に、高屈折率膜と、銀を主成分とする金属膜とを、交互に複数層積層してなる透明電磁波シールドフィルムであって、上記高屈折率膜の少なくとも１層が、下記の（ａ）を主成分とし、下記の（ｂ）を含有するコーティング膜の紫外線照射によって形成されている透明電磁波シールドフィルムを第１の要旨とする。
（ａ）チタン系アルコキシド類およびチタン系アシレート類の少なくとも一種の有機チタン化合物。
（ｂ）βジケトン類、アルコキシアルコール類およびアルカノールアミン類からなる群から選ばれた少なくとも一種の添加剤。
【０００７】
また、本発明は、上記第１の要旨の透明電磁波シールドフィルムの製法であって、高屈折率膜形成材料のコーティングと、これに対する紫外線照射と、その照射によって生成された高屈折率膜上に金属膜を形成する工程とを繰り返すことにより透明電磁波シールドフィルムを製造するに際し、高分子フィルムから最も遠い表面の高屈折率膜以外の高屈折率膜を、その材料のコーティングおよび紫外線照射によって屈折率１．９未満の薄膜となるよう生成し、順次積層される膜の生成時の紫外線照射の繰り返しにより、上記屈折率１．９未満の薄膜を、最終的に屈折率１．９以上の薄膜となるようにする透明電磁波シールドフィルムの製法を第２の要旨とする。
【０００８】
さらに、本発明は、上記第１の要旨の透明電磁波シールドフィルムを用いてなるプラズマディスプレイパネル用前面フィルターを第３の要旨とし、このプラズマディスプレイパネル用前面フィルターを用いてなるプラズマディスプレイを第４の要旨とする。
【０００９】
すなわち、本発明者らは、前記改善を実現すべく研究を重ねる過程で、高熱処理を行うことなく、有機チタン化合物のゾルゲル反応を充分に進行させるための手法について集中して研究を行った結果、有機チタン化合物溶液の塗工面に対し、紫外線照射を行うと、有機チタン化合物の光分解反応が進行するとともに、チタン−酸素を含む化合物の縮合と緻密化が生じるため、高屈折率でしかも安定性の高い酸化チタン膜（高屈折率膜）を成膜し得ることを突き止めた。そして、本発明者らは、上記紫外線照射との兼ね合いにおいて、電磁波シールドフィルムとしての諸性能をより向上させるための最適材料の選択や組み合わせ、各層の最適な成膜方法、最適な積層構造等について、更なる研究を重ねた。その結果、電磁波シールドフィルムにおける上記高屈折率膜の少なくとも１層を、特定の有機チタン化合物（ａ成分）を主成分とし、特定の添加剤（ｂ成分）を含有するコーティング膜の紫外線照射によって形成すると、その有機チタン化合物と添加剤とによって紫外線吸収性キレートが形成されたところに紫外線照射がなされることから、高屈折率かつ安定性の高い膜の形成が実現し、その結果、この電磁波シールドフィルムが、従来品よりも高性能となることを突き止め、本発明に到達した。
【００１０】
ところで、上記透明電磁波シールドフィルム作製時において、その高分子フィルム基材の表面に、高屈折率膜と、銀を主成分とする金属膜とを交互に複数層積層するに際し、その高屈折率膜をはじめから高屈折率（屈折率１．９以上）となるよう形成すると、場合によっては、３層積層付近で高屈折率膜にクラックが発生することがあった。このことに鑑み、本発明者が研究を重ねたところ、上記クラックの原因は、下層に形成された高屈折率膜が、上層形成時の紫外線照射に影響を受け、過剰に硬化収縮したためであることがわかった。この知見のもと、本発明者らが更に鋭意研究を重ねた結果、下層の屈折率をはじめから１．９以上となるよう形成せず、上層形成時の紫外線照射の影響を計算に入れたうえで、最終的に屈折率１．９以上の薄膜となるようにすると、本発明の電磁波シールドフィルムとしての性能を損なわずに、クラック抑制を図ることができることも突き止めた。
【発明の効果】
【００１１】
以上のように、本発明の透明電磁波シールドフィルムは、高分子フィルムの表面に、高屈折率膜と、銀を主成分とする金属膜とを、交互に複数層積層してなるものであって、上記高屈折率膜の少なくとも１層が、特定の有機チタン化合物（ａ成分）を主成分とし、特定の添加剤（ｂ成分）を含有するコーティング膜の紫外線照射によって形成されている。そのため、電磁波や近赤外線光の漏洩を有効に防止できるとともに、その基材（高分子フィルム）に収縮・劣化が見られず、製品性に優れ、しかも、低コストで、高屈折率化と安定化の両立が従来以上になされることから、商品価値の高いものとなる。また、その層間の接着性が高いことから、長寿命で耐久性に優れ、しかも、柔軟性にも優れることから、例えば、曲面を持った透明プラスチック基板等の上に貼り付けて用いることもできる。
【００１２】
特に、上記特定の有機チタン化合物（ａ成分）を主成分とし、特定の添加剤（ｂ成分）を含有するコーティング膜の紫外線照射によって形成された高屈折率膜の屈折率が１．９以上であると、高透明、低反射とすることができ、特にプラズマディスプレイ用途において優れた機能を発揮することができる。
【００１３】
また、上記特定の有機チタン化合物（ａ成分）が、テトラ−ｎ−ブトキシチタンの４量体または７量体であると、高屈折率膜でのクラック発生を、より抑えることができる。
【００１４】
さらに、上記特定の添加剤（ｂ成分）が、アセチルアセトンであると、上記特定の有機チタン化合物との反応性等に優れ、より高屈折率な膜を形成することができる。
【００１５】
また、上記コーティング膜の材料における、上記特定の添加剤（ｂ成分）の割合が、上記有機チタン化合物（ａ成分）におけるチタン原子に対し、特定の範囲に設定されていると、高屈折率膜でのクラック発生を、より抑えることができる。
【００１６】
さらに、上記金属膜の厚みが５〜２０ｎｍの範囲に設定されていると、電磁波シールド性や透明性の点で、より優れた性能を得ることができる。
【００１７】
そして、上記高分子フィルムが、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）によって形成されていると、低コストで透明性（視認性）に優れる。
【００１８】
また、高屈折率膜形成材料のコーティングと、これに対する紫外線照射と、その照射によって生成された高屈折率膜上に金属膜を形成する工程とを繰り返すことにより上記透明電磁波シールドフィルムを製造するに際し、上記高分子フィルムから最も遠い表面の高屈折率膜以外の高屈折率膜を、その材料のコーティングおよび紫外線照射によって屈折率１．９未満の薄膜となるよう生成し、順次積層される膜の生成時の紫外線照射の繰り返しにより、上記屈折率１．９未満の薄膜を、最終的に屈折率１．９以上の薄膜となるように製造すると、その製造時にクラックを発生させることなく、高品質のフィルムを得ることができる。
【００１９】
さらに、本発明の透明電磁波シールドフィルムを用いたプラズマディスプレイパネル用前面フィルターならびにプラズマディスプレイは、電磁波や近赤外線光の漏洩を有効に防止できるとともに、低コストで耐久性に優れている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
つぎに、本発明の実施の形態について説明する。
【００２１】
本発明の透明電磁波シールドフィルムとしては、例えば、図１に示すような層構造のものがあげられる。すなわち、図１の透明電磁波シールドフィルム５は、高分子フィルム１の表面に、高屈折率膜２と、銀を主成分とする金属膜３とが交互に複数層積層してなる電磁波シールド層４が形成され、構成されている。そして、本発明においては、上記高屈折率膜２の少なくとも１層が、特定の有機チタン化合物（ａ成分）を主成分とし、特定の添加剤（ｂ成分）を含有するコーティング膜の紫外線照射によって形成されていることが最大の特徴である。すなわち、上記特定の有機チタン化合物（ａ成分）中に、上記特定の添加剤（ｂ成分）を含有すると、紫外線吸収性キレートが形成されるようになるため、この混合材料のコーティング膜に紫外線照射を施すことにより、上記紫外線吸収性キレートに紫外線が作用し、高屈折率の酸化チタン膜が、容易かつ高品質に形成されるようになるのである。なお、上記金属膜３は、上記のとおり銀を主成分とするのであるが、これは、殆どが銀からなり、他の少量の金属を含む場合を含める趣旨であり、全体が銀のみからなる場合も含まれる。また、本発明の電磁波シールドフィルムは、透明性（可視光透過率が７０％以上）が要求されることから、各層の厚み等は、それに準じるよう適宜設定される必要がある。さらに、上記特定の有機チタン化合物（ａ成分）を主成分とし、特定の添加剤（ｂ成分）を含有するコーティング膜の紫外線照射によって形成された高屈折率膜の屈折率が１．９以上であると、高透明、低反射とすことができ、特にプラズマディスプレイ用途において優れた機能を発揮することができるため、好ましい。より好ましくは、屈折率が１．９〜２．１の範囲である。そして、上記高屈折率膜２は、その全層の屈折率が１．９以上であると好ましいが、そのうちの１〜２層が、屈折率１．９未満であってもよい。
【００２２】
上記高分子フィルム１としては、可視光領域（光線の波長が３８０〜７８０ｎｍ程度）において透明性を有するものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等からなるフィルムがあげられる。これらのなかでも、低コストで、透明性に優れる点で、ＰＥＴフィルムが好適に用いられる。
【００２３】
この高分子フィルム１の厚みは、通常、１０〜５００μｍ、好ましくは２５〜２５０μｍである。
【００２４】
上記高屈折率膜２の形成に用いる特定の有機チタン化合物（ａ成分）としては、チタン系アルコキシド類およびチタン系アシレート類の少なくとも一種の有機チタン化合物が用いられる。これらの有機チタン化合物は、光分解性、光還元性等の特異な光化学特性を備えているため、この溶液を用いてコーティングおよび紫外線照射を行うと、所望する高屈折率な膜を短時間で作製できるようになるとともに、有機成分の残存量が少ないため、その後の反応も起こりにくく、高屈折率膜２の安定性が得られるようになる。
【００２５】
上記チタン系アルコキシド類の化合物としては、Ｍ−Ｏ−Ｒ結合（Ｒはアルキル基を示し、Ｍはチタン原子を示す）を有する化合物であれば特に限定はないが、例えば、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−ｉ−プロポキシチタン、テトラメトキシチタン等が好適に用いられる。また、上記チタン系アシレート類の化合物としては、例えば、Ｍ−Ｏ−ＣＯ−Ｒ結合（ＲおよびＭは、前記と同様である）を有する化合物であれば特に限定はなく、ヒドロキシチタンステアレート等が好適に用いられる。これら化合物は、単独でもしくは２種以上併せて用いられる。
【００２６】
ここで、下層の高屈折率膜２形成時の紫外線照射を調節して、その膜の屈折率を１．９未満とし、その後の各層に対する紫外線照射を勘案し、最終的に全層の高屈折率膜２の屈折率が１．９以上となるよう紫外線照射を行う場合は、上記有機チタン化合物（ａ成分）として、クラック発生を抑制し、高屈折率で安定性に優れる高屈折率膜を形成し得るといった点から、テトラ−ｎ−ブトキシチタンの４量体または７量体を用いることが、性能等の点から好ましい。
【００２７】
上記ａ成分の有機チタン化合物とともに用いられる特定の添加剤（ｂ成分）としては、βジケトン類、アルコキシアルコール類およびアルカノールアミン類からなる群から選ばれた少なくとも一種が用いられる。すなわち、これら特定の添加剤は、上記有機チタン化合物のアルコキシド基との反応性と安定性の点で優れるからである。そして、上記β−ジケトン類としては、アセチルアセトン，ベンゾイルアセトン，アセト酢酸エチル，アセト酢酸メチル，マロン酸ジエチル等があげられる。また、上記アルコキシアルコール類としては、２−メトキシエタノール，２−エトキシエタノール，２−メトキシ−２−プロパノール等があげられる。さらに、上記アルカノールアミン類としては、モノエタノールアミン，ジエタノールアミン，トリエタノールアミン等があげられる。これら添加剤は、単独でもしくは２種以上併せて用いられる。特に好適なのはβ−ジケトン類であり、なかでも、アセチルアセトンが最適である。
【００２８】
なお、上記特定の添加剤（ｂ成分）以外にも、必要に応じ、エチレングリコール，ポリエチレングリコール，ジエチレングリコール，トリエチレングリコール，プロピレングリコール，ポリプロピレングリコール等のグリコール類を併用してもよい。
【００２９】
そして、上記特定の添加剤（ｂ成分）の含有割合が、上記有機チタン化合物（ａ成分）におけるチタン原子１ｍｏｌに対し、０．１〜２ｍｏｌの範囲であると、高屈折率膜２でのクラック発生をより抑えることができ、好ましい。
【００３０】
ここで、上記高屈折率膜２の形成に際し調製されるコーティング材料において、上記特定の有機チタン化合物（ａ成分）および特定の添加剤（ｂ成分）を溶解させる有機溶媒としては、特に限定されるものではなく、例えば、メタノール，エタノール，プロパノール，ブタノール，ヘプタノール等のアルコール類や、酢酸エチル等の有機酸エステルや、アセトニトリル，アセトン，エチルメチルケトン等のケトン類や、テトラヒドロフラン，ジオキサン等のシクロエーテル類や、ホルムアミド，Ｎ．Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類や、ヘキサン等の炭化水素類や、トルエン等の芳香族類があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。
【００３１】
そして、上記高屈折率膜２の厚みは、透明性や色調の観点から、１０〜１５０ｎｍの範囲が好ましく、特に好ましくは２０〜１００ｎｍである。
【００３２】
上記高屈折率膜２とともに、交互に複数層、積層形成される、銀を主成分とする金属膜３の材料としては、純銀の他、銀系合金であっても差し支えない。また、必要に応じ、金系金属やパラジウム系合金等を、この材料に加えても差し支えない。
【００３３】
また、銀を主成分とする金属膜３の厚みは、電磁波シールド性と透明性の両立を考慮して、５〜２０ｎｍの範囲内が好ましく、特に好ましくは７〜１５ｎｍの範囲内である。
【００３４】
上記高分子フィルム１上に積層形成される電磁波シールド層４は、上記高屈折率膜２と、上記金属膜３とを、交互に合計７層積層し構成されていると、優れた可視光透過性（視認性）および電磁波シールド性を得ることができ、特にプラズマディスプレイ用途において優れた機能を発揮することができるため、好ましい。また、透明性および金属膜３の劣化防止の観点から、高分子フィルム１から最も遠い表面には、高屈折率膜２が位置決めされているものが好ましい。
【００３５】
本発明の透明電磁波シールドフィルム５は、例えばつぎのようにして製造することができる。
【００３６】
すなわち、まず、特定の有機チタン化合物（ａ成分）と特定の添加剤（ｂ成分）とを有機溶媒中に溶解し、紫外線吸収性キレートが形成されたコーティング液を調製する。他方、高分子フィルム１を準備し、この高分子フィルム１の表面に、上記コーティング液を、スピンコート法、グラビアコート法、ディップコート法、バーコート法、ドクターブレード法、リバースロールコート法等のうちの適宜の方法により塗布し、８０〜１００℃の範囲で乾燥させるとともに、高圧水銀ランプ等の紫外線照射機によって紫外線照射を行うことにより、所定の屈折率を有する高屈折率膜２を形成する。この場合、紫外線照射の際の光量は、好ましくは３００〜８０００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲内であり、より好ましくは５００〜５０００ｍＪ／ｃｍ2 の範囲内である。すなわち、光量が３００ｍＪ／ｃｍ2 未満であると、高屈折率膜２の高屈折率化を図りにくく、逆に８０００ｍＪ／ｃｍ2 を超えると、光量が強すぎるため、高分子フィルム１が、上記紫外線照射の際に生じる熱により変形するおそれがあるからである。
【００３７】
つぎに、この高屈折率膜２の表面に、低温スパッタリング法等により銀膜等の金属膜３を形成する。この場合、上記低温スパッタリング法は、例えば、高屈折率膜２の表面を酸素グロー放電により曝した後、ターゲットに純銀等の金属、スパッタガスにアルゴンガス等を用いて、マグネトロン直流スパッタリング法により、低温で銀等の金属膜３を形成することにより行われる。上記低温スパッタリングの条件としては、特に限定はないが、好ましくは、電力：１ｋＷ（１．５６Ｗ／ｃｍ2 ）、真空度：０．３Ｐａ、成膜温度：４０℃、ターゲット／基材間距離：６〜８ｃｍ、ライン線速１．３ｍ／分である。
【００３８】
そして、上記のような紫外線照射による高屈折率膜２の形成と、低温スパッタリング法等による、銀を主成分とする金属膜３の形成を交互に行う。このようにして、高分子フィルム１の表面に、高屈折率膜２と上記金属膜３が交互に（合計７層）積層されてなる電磁波シールド層４が形成され、その結果、図１に示すような透明電磁波シールドフィルムを得ることができる。
【００３９】
なお、上記高屈折率膜２と、上記金属膜３とを交互に７層等の複数層積層して電磁波シールド層４を形成するに際し、その高屈折率膜２をはじめから所望する屈折率（１．９以上）となるよう形成すると、高屈折率膜２の材料である有機チタン化合物（ａ成分）の種類や添加剤（ｂ成分）の含有割合等に起因し、３層積層付近で高屈折率膜２にクラックが発生することがある。このような場合には、下層になる高屈折率膜２は、その屈折率をはじめから１．９以上となるよう形成せず、上層形成時の紫外線照射の影響を計算に入れたうえで、最終的に屈折率１．９以上の薄膜となるようにすると、本発明の電磁波シールドフィルムとしての性能を損なわずに、クラック抑制を図ることができ、好ましい。
【００４０】
そして、このようにして得られた透明電磁波シールドフィルム５は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）本体表面に粘着剤で貼り付けて用いたり、あるいはＰＤＰ用前面フィルターの透明電磁波シールドフィルムとして用いることができる。
【００４１】
本発明の透明電磁波シールドフィルムを用いたＰＤＰ用前面フィルターとしては、例えば、図２に示すように、厚み２．５ｍｍのガラス基板２１の片面２１ａに粘着剤層２２を介して前記本発明の透明電磁波シールドフィルム５の高分子フィルム１（厚み１００μｍ）面側を積層し、この透明電磁波シールドフィルム５の電磁波シールド層４の最表面に位置決めされている高屈折率膜２（図１参照）の表面に、粘着剤層２２を介して、従来公知の反射防止フィルム２３を積層接着する。そして、上記ガラス基板２１の他面２１ｂに、粘着剤層２２を介して、上記と同様の反射防止フィルム２３を積層したものがあげられる。なお、図において、矢印Ａは人間側であり、矢印Ｂはパネル側である。
【００４２】
上記基板２１としては、上記ガラス基板以外に、透明樹脂成型板等があげられる。
【００４３】
そして、上記粘着剤層２２用材料としては、例えば、アクリル系粘着剤やシリコーン系粘着剤等があげられる。
【００４４】
また、本発明の透明電磁波シールドフィルムを用いたＰＤＰ用前面フィルターとしては、上記図２の構成に限定されるものではなく、例えば、色調調整のための色素を添加した色素添加フィルムを、透明電磁波シールドフィルム５と反射防止フィルム２３との間に介在させてもよい。
【００４５】
なお、本発明の透明電磁波シールドフィルムの使用用途は、上記のようなＰＤＰ用電磁波シールドフィルム以外にも、例えば、ＬＣＤ・ＥＣ・ＥＬ・ＦＥＤ等の表示用ガラス基板，タッチパネルガラス，太陽電池用透明導電ガラス（ＴＣＯ）基板（ａ−Ｓｉ系、ＣｄＴｅ系、ＣＩＳ系）といった他の透明導電性付与用途や、防眩フィルム，融雪ガラス，車両用ガラス，冷却ショーケース用ガラス，暖房用パネルヒーター，調理用パネルヒーター等といった電熱性付与用途や、計測機器用ガラス窓，ＣＲＴ用パネルガラス，インテリジェントビルガラス等といった帯電防止性付与用途や、反射防止フィルム，反射防止ガラス，熱線反射ガラス，熱線遮断ガラス，紫外線遮断ガラス等といった光制御性付与用途や、さらには、ガスバリアー性付与用途、耐蝕性付与用途、眼鏡等のハードコート用途があげられる。
【００４６】
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。
【実施例１】
【００４７】
まず、テトラ−ｎ−ブトキシチタン７量体（日本曹達社製）６重量部（以下、「部」と略す）と、アセチルアセトン１．５部とを、ｎ−ブタノール６２．５部およびイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）３０部による混合溶媒に配合し、これを攪拌機を用いて１０分間混合し、コーティング溶液を調製した。そして、このコーティング溶液を用いて、以下のようにして、透明電磁波シールドフィルムを作製した。
【００４８】
〔透明電磁波シールドフィルムの作製〕
ＰＥＴフィルム（厚み１００μｍ）を準備し、このＰＥＴフィルム表面に、上記コーティング溶液をグラビアコーターによりコーティングし、その後、８０℃で１分間の乾燥を行った。続いて、高圧水銀ランプ（２４０Ｗ／ｃｍ）により、５ｍ／ｍｉｎで１回紫外線照射（光量：８００ｍＪ／ｃｍ2 ）し、酸化チタン膜（厚み３５ｎｍ）を形成した。なお、この酸化チタン膜の屈折率をＳＣＩ社製ＦｉｌｍＴｅｋ３０００により測定したところ、波長６３３ｎｍにおいて屈折率１．８０を示した。つづいて、この酸化チタン膜の表面上に、ターゲットに純銀（純度：４Ｎ、１２６ｍｍ×５０６ｍｍサイズ）、スパッタガスにアルゴンガスを用いて、直流マグネトロンスパッタ法〔電力：１ｋＷ（１．５６Ｗ／ｃｍ2 ）、真空度：０．３Ｐａ、成膜温度：４０℃、成膜部開口長：５ｃｍ、ターゲット／基材間距離：７ｃｍ〕により、ライン線速２ｍ／分にて、銀膜（厚み１０ｎｍ）を形成した。その後も、上記紫外線照射による酸化チタン膜の形成と、直流マグネトロンスパッタ法による銀膜の形成を交互に行った。このようにして、ＰＥＴフィルムの表面に、電磁波シールド層、すなわち、酸化チタン膜（厚み３５ｎｍ）／銀膜（厚み１０ｎｍ）／酸化チタン膜（厚み７０ｎｍ。２回コーティングによる）／銀膜（厚み１０ｎｍ）／酸化チタン膜（厚み７０ｎｍ。２回コーティングによる）／銀膜（厚み１０ｎｍ）／酸化チタン膜（厚み３５ｎｍ）が合計７層積層されてなる透明電磁波シールドフィルムを作製した。ここで、上記酸化チタン膜形成時の紫外線照射は、上記ＰＥＴフィルムから最も遠い表面の酸化チタン膜のみ、３ｍ／ｍｉｎで１回の照射（光量：１３００ｍＪ／ｃｍ2 ）で行い、それ以外の酸化チタン膜における紫外線照射は、上述のように５ｍ／ｍｉｎで１回の照射（光量：８００ｍＪ／ｃｍ2 ）で行った。
【００４９】
そして、このようにして得られた透明電磁波シールドフィルムにおいて、上記７層積層後の酸化チタン膜各層の屈折率をＳＣＩ社製ＦｉｌｍＴｅｋ３０００により測定したところ、各々全て、波長６３３ｎｍにおいて屈折率１．９２〜１．９５の範囲内であった。
【実施例２】
【００５０】
まず、テトラ−ｎ−ブトキシチタン４量体（日本曹達社製）６部と、アセチルアセトン３部とを、ｎ−ブタノール６２．５部およびイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）３０部による混合溶媒に配合し、これを攪拌機を用いて１０分間混合し、コーティング溶液を調製した。そして、このコーティング溶液を用いて、以下のようにして、透明電磁波シールドフィルムを作製した。
【００５１】
〔透明電磁波シールドフィルムの作製〕
ＰＥＴフィルム（厚み１００μｍ）を準備し、このＰＥＴフィルム表面に、上記コーティング溶液をグラビアコーターによりコーティングし、その後、８０℃で１分間の乾燥を行った。続いて、高圧水銀ランプ（２４０Ｗ／ｃｍ）により、５ｍ／ｍｉｎで１回紫外線照射（光量：８００ｍＪ／ｃｍ2 ）し、酸化チタン膜（厚み３５ｎｍ）を形成した。なお、この酸化チタン膜の屈折率をＳＣＩ社製ＦｉｌｍＴｅｋ３０００により測定したところ、波長６３３ｎｍにおいて屈折率１．７８を示した。つづいて、この酸化チタン膜の表面上に、ターゲットに純銀（純度：４Ｎ、１２６ｍｍ×５０６ｍｍサイズ）、スパッタガスにアルゴンガスを用いて、直流マグネトロンスパッタ法〔電力：１ｋＷ（１．５６Ｗ／ｃｍ2 ）、真空度：０．３Ｐａ、成膜温度：４０℃、成膜部開口長：５ｃｍ、ターゲット／基材間距離：７ｃｍ〕により、ライン線速２ｍ／分にて、銀膜（厚み１０ｎｍ）を形成した。その後も、上記紫外線照射による酸化チタン膜の形成と、直流マグネトロンスパッタ法による銀膜の形成を交互に行った。このようにして、ＰＥＴフィルムの表面に、電磁波シールド層、すなわち、酸化チタン膜（厚み３５ｎｍ）／銀膜（厚み１０ｎｍ）／酸化チタン膜（厚み７０ｎｍ。２回コーティングによる）／銀膜（厚み１０ｎｍ）／酸化チタン膜（厚み７０ｎｍ。２回コーティングによる）／銀膜（厚み１０ｎｍ）／酸化チタン膜（厚み３５ｎｍ）が合計７層積層されてなる透明電磁波シールドフィルムを作製した。ここで、上記酸化チタン膜形成時の紫外線照射は、上記ＰＥＴフィルムから最も遠い表面の酸化チタン膜のみ、３ｍ／ｍｉｎで１回の照射（光量：１３００ｍＪ／ｃｍ2 ）で行い、それ以外の酸化チタン膜における紫外線照射は、上述のように５ｍ／ｍｉｎで１回の照射（光量：８００ｍＪ／ｃｍ2 ）で行った。
【００５２】
そして、このようにして得られた透明電磁波シールドフィルムにおいて、上記７層積層後の酸化チタン膜各層の屈折率をＳＣＩ社製ＦｉｌｍＴｅｋ３０００により測定したところ、各々全て、波長６３３ｎｍにおいて屈折率１．９０〜１．９３の範囲内であった。
【実施例３】
【００５３】
厚み２．５ｍｍのガラス基板の片面に、アクリル系粘着剤を介して、実施例１の透明電磁波シールドフィルムのＰＥＴフィルム面側を貼り付けた。つぎに、上記透明電磁波シールドフィルムの電磁波シールド層の表面に、アクリル系粘着剤を介して、反射防止フィルム（フィルム基材面側）を貼り付けた。また、上記ガラス基板の他面にも、アクリル系粘着剤を介して、反射防止フィルム（フィルム基材面側）を貼り付けた。このようにして、ＰＤＰ用前面フィルターを作製した。なお、上記反射防止フィルムは、フィルム基材（厚み５０μｍ）の表面に、屈折率１．３７の反射防止用塗料を乾燥厚み１００ｎｍで塗工して反射防止層を形成してなるものである。
【実施例４】
【００５４】
実施例１の透明電磁波シールドフィルムに代えて、実施例２の透明電磁波シールドフィルムを用いる以外は、実施例３と同様にして、ＰＤＰ用前面フィルターを作製した。
【００５５】
〔比較例１〕
まず、ＰＥＴフィルム（厚み１００μｍ）を準備し、このＰＥＴフィルムの表面に、直流マグネトロンスパッタ蒸着装置を用いてＺｎＯを蒸着し、ＺｎＯのスパッタ薄膜（厚み３５ｎｍ）を形成した。つぎに、このＺｎＯスパッタ薄膜の表面に、直流マグネトロンスパッタ蒸着装置を用いて銀膜（厚み１０ｎｍ）を形成した。その後も、上記ＺｎＯのスパッタ薄膜の形成と、銀膜の形成を交互に行った。このようにして、ＰＥＴフィルムの表面に、電磁波シールド層、すなわち、ＺｎＯのスパッタ薄膜（厚み３５ｎｍ）／銀膜（厚み１０ｎｍ）／ＺｎＯのスパッタ薄膜（厚み７０ｎｍ）／銀膜（厚み１０ｎｍ）／ＺｎＯのスパッタ薄膜（厚み７０ｎｍ）／銀膜（厚み１０ｎｍ）／ＺｎＯのスパッタ薄膜（厚み３５ｎｍ）が合計７層積層されてなる透明電磁波シールドフィルムを作製した。
【００５６】
〔比較例２〕
実施例１の透明電磁波シールドフィルムに代えて、比較例１の透明電磁波シールドフィルムを用いる以外は、実施例３と同様にして、ＰＤＰ用前面フィルターを作製した。
【００５７】
このようにして得られた実施例品および比較例品を用いて、下記の基準に従い、各特性の評価を行った。これらの結果を、後記の表１および表２に併せて示した。
【００５８】
〔可視光透過率〕
可視光透過率は、ＪＩＳ  Ｒ  ３１０６に準拠して測定した。
【００５９】
〔可視光反射率〕
可視光反射率は、ＪＩＳ  Ｒ  ３１０６に準拠して、電磁波シールド層の形成されている面から入射し測定した。
【００６０】
〔近赤外線カット率〕
波長８５０ｎｍにおける透過率を近赤外線カット率とした。
【００６１】
〔表面抵抗〕
電磁波シールド性能として、その電磁波シールド層側の表面抵抗を、うず電流計により測定した。なお、実施例３および４、比較例２については、反射防止フィルム貼着前の電磁波シールド層の表面抵抗を測定した。
【００６２】
〔耐久性〕
６０℃×９０％ＲＨで５００時間放置した後、１０ｃｍ2 当たりの点欠陥数（０．５ｍｍ径以上）を目視で観察した。
【００６３】
【表１】
2005353656.tif 000003
【００６４】
【表２】
2005353656.tif 000004
【００６５】
上記結果から、全実施例品は、可視光透過率、可視光反射率、近赤外線カット率および電磁波シールド性能（表面抵抗）について、優れた性能を備えていることがわかる。また、実施例品は比較例品に比べて低コストで、耐久性に優れていることもわかる。なお、実施例品においては、基材（ＰＥＴフィルム）の熱変形や、各層のクラックは一切確認されなかった。
【００６６】
これに対し、比較例品は、高コストで、電磁波シールドフィルム単体や、前面フィルター構成品における耐久性試験において、欠陥が数多く発生しており、耐久性に問題がある。
【図面の簡単な説明】
【００６７】
【図１】本発明の透明電磁波シールドフィルムの一例を示す模式図である。
【図２】本発明のＰＤＰ用前面フィルターの一例を示す模式図である。
【符号の説明】
【００６８】
１  高分子フィルム
２  高屈折率膜
３  金属膜
４  電磁波シールド層
５  透明電磁波シールドフィルム
【図１】
2005353656.tif 000005
【図２】
2005353656.tif 000006