(57)【要約】【課題】所定の処理を行いつつガスを排気する処理装置のガス排気側に接続されて前記ガスをガス配管により排出するようにしたガス配管装置において、ガス配管の逆止弁の清掃ないし交換時に、ガスの排出を停止させなくても済むようにし、もって、前記処理装置の稼働率の低下を回避できるようにする。【解決手段】各々、少なくとも１つの逆止弁２３ａ，２３ｂを有する複数のガス配管２２ａ，２２ｂを互いに並列に配置して複数系統の排出経路を形成し、それら複数系統の排出経路から、任意の排出経路を選択して使用できるようにする。【選択図】図１
2005230681.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスを排出するためのガス配管を備え、所定の処理を行いつつガスを排気する処理装置のガス排気側に接続されて前記ガスを前記ガス配管により排出するようにしたガス配管装置であって、
前記ガス配管は、複数とされていて互いに並列に配置され、
前記各ガス配管に設けられ、該ガス配管における前記ガスの排出方向とは逆の方向への通過を規制する逆止弁と、
前記各逆止弁毎に設けられ、該逆止弁に対応する前記ガス配管を該逆止弁の排出方向上流側において開閉する上流側開閉手段と、
前記各逆止弁毎に設けられ、該逆止弁に対応する前記ガス配管を該逆止弁の排出方向下流側において開閉する下流側開閉手段とを備えていることを特徴とするガス配管装置。
【請求項２】
請求項１に記載のガス配管装置において、
前記複数の逆止弁，前記複数の上流側開閉手段および前記複数の下流側開閉手段を収容する収容体を備えていることを特徴とするガス配管装置。
【請求項３】
請求項１に記載のガス配管装置において、
前記各逆止弁が前記ガス中の異物により閉塞されているか否かを検出する検出手段と、  前記検出手段の検出結果に基づき、閉塞されていることが検出された前記逆止弁を経由せずに前記ガスが通過するように前記複数の上流側開閉手段および前記複数の下流側開閉手段を制御する制御手段とを備えていることを特徴とするガス配管装置。
【請求項４】
ガスを排出するためのガス配管を備え、所定の処理を行いつつガスを排気する処理装置のガス排気側に接続されて前記ガスを前記ガス配管により排出するようにしたガス配管装置であって、
前記ガス配管に前記ガスの排出方向に並ぶように設けられ、各々、該ガス配管における前記排出方向とは逆の方向への通過を規制する複数の逆止弁と、
前記各逆止弁毎に設けられ、両端がそれぞれ前記ガス配管における該逆止弁の上流側部分および下流側部分に接続されたバイパス配管と、
前記各バイパス配管に設けられ、該バイパス配管を開閉するバイパス開閉手段と、
前記各逆止弁毎に設けられ、前記ガス配管を該逆止弁の排出方向上流側直近における前記バイパス配管との接続部と、該逆止弁との間において開閉する上流側開閉手段と、
前記各逆止弁毎に設けられ、前記ガス配管を該逆止弁の排出方向下流側直近における前記バイパス配管との接続部と、該逆止弁との間において開閉する下流側開閉手段とを備えていることを特徴とするガス配管装置。
【請求項５】
請求項４に記載のガス配管装置において、
前記複数の逆止弁，前記複数の上流側開閉手段，前記複数の下流側開閉手段および前記複数のバイパス開閉手段を収容する収容体を備えていることを特徴とするガス配管装置。  
【請求項６】
請求項４に記載のガス配管装置において、
前記各逆止弁が前記ガス中の異物により閉塞されているか否かを検出する検出手段と、  前記検出手段の検出結果に基づき、閉塞されていることが検出された前記逆止弁を経由せずに前記ガスが通過するように前記複数の上流側開閉手段，前記複数の下流側開閉手段および前記複数のバイパス開閉手段を制御する制御手段とを備えていることを特徴とするガス配管装置。
【請求項７】
請求項１，２，３，４，５および６のうちの何れか１項に記載のガス配管装置を備えた除害装置であって、
異物を含有するガスから前記異物を取り除いて前記ガスを排気する除去処理手段を備え、
前記ガス配管装置は、前記除去処理手段に該除去処理手段から排気された前記ガスを排出するように接続されていることを特徴とする除害装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，ＣＶＤ装置やドライエッチング装置の排ガスから粉体の除去された後の残留粉体含有ガスなどの異物含有ガスを排出するためのガス配管を備えたガス配管装置に関し、特にメンテナンスに伴うガスの排出停止を回避する対策に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示装置の製造時に使用されるＣＶＤ装置やドライエッチング装置などの処理装置から排気されるガスには、例えば、特許文献１に記載されているように、粉体が含まれており、このことから、図３のブロック図に模式的に示すように、処理装置１００のガス排気側に、除去処理装置２５０とガス配管装置３００とを備えた粉体除去装置２００を真空ポンプ１１０を介して接続し、除去処理装置２５０によりガスから粉体を除去した後、そのガスを、ガス配管装置３００のガス配管３１０により排出するようになされている。
【０００３】
その際に、ガス配管３１０には、ガスの逆流を防止することを主な目的として、逆止弁３２０が設置されている。
【０００４】
そして、ガス中の異物としての残留粉体により前記逆止弁３２０が閉塞したときには、その閉塞した逆止弁３２０を清掃ないし交換するようになされている。尚、ガス中の粉体を除去するようにした除去処理装置２５０の一例としては、特許文献２や特許文献３に記載のものが挙げられる。
【特許文献１】特開平８−１２７８７４号公報（第２頁）
【特許文献２】特開２００３−１０５５４３号公報（第４頁および第５頁，図１〜図７）
【特許文献３】特開昭６２−１４１７１８号公報（第２頁および第３頁，第１図および第２図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記従来のガス配管装置３００では、逆止弁３２０の清掃ないし交換毎に、除去処理装置２５０や真空ポンプ１１０のみならず、処理装置１００についても、その作動も停止させる必要があり、このために、それら処理装置１００の稼働率が低下するという問題がある。
【０００６】
本発明は、斯かる点に鑑みてなされたものであり、その主な目的は、液晶表示装置の製造時に使用されるＣＶＤ装置およびドライエッチング装置などの処理装置から排出される粉体含有ガスや、その排ガス中の粉体を取り除く粉体除去装置などの除害装置から排出される残留粉体含有ガスなど、異物を含有するガスを排出するためのガス配管を備えたガス配管装置において、ガスの排出方向を規制する逆止弁の清掃ないし交換時にガスの排出を停止させなくても済むようにし、もって、前記処理装置の稼働率の低下を回避できるようにすることにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の目的を達成すべく、本発明では、ガスの排出経路を複数系統とし、それら複数系統の排出経路のなかから、１系統以上の任意の排出経路を選択使用できるようにした。
【０００８】
具体的には、本発明では、ガスを排出するためのガス配管を備えていて、所定の処理を行いつつガスを排気する処理装置のガス排気側に接続されて前記ガス配管により前記ガスを排出するようにしたガス配管装置を前提としている。そして、前記ガス配管は、複数とされていて互いに並列に配置されており、前記各ガス配管には、該ガス配管における前記ガスの所定の排出方向とは逆の方向への通過を規制する逆止弁が設けられているものとする。その上で、前記各逆止弁に対応する前記ガス配管を該逆止弁の排出方向上流側において開閉する上流側開閉手段と、前記各逆止弁に対応する前記ガス配管を該逆止弁の排出方向下流側において開閉する下流側開閉手段とが前記各逆止弁毎に設けられているものとする。
【０００９】
尚、上記の構成において、前記複数の逆止弁，前記複数の上流側開閉手段および前記複数の下流側開閉手段を、収容体に収容するようにすることができる。さらに、前記各逆止弁が前記ガス中の異物により閉塞されているか否かを検出する検出手段と、この検出手段の検出結果に基づいて、閉塞されていることが検出された前記逆止弁を経由しないで前記ガスが通過するように前記複数の上流側開閉手段および前記複数の下流側開閉手段を制御する制御手段とを備えるようにすることもできる。
【００１０】
また、上記の構成では、前記ガス配管が複数とされているが、前記ガス配管が１つである場合には、そのガス配管に対し、前記複数の逆止弁を排出方向に並ぶように配置することができる。そして、それら各逆止弁毎に、両端がそれぞれ前記ガス配管における該逆止弁の上流側部分および下流側部分に接続されたバイパス配管を設けるとともに、それら各バイパス配管に、該バイパス配管を開閉するバイパス開閉手段を設ける。さらに、前記各逆止弁毎に、前記ガス配管を該逆止弁の排出方向上流側直近における前記バイパス配管との接続部と該逆止弁との間において開閉する上流側開閉手段を設けるとともに、前記ガス配管を該逆止弁の排出方向下流側直近における前記バイパス配管との接続部と該逆止弁との間において開閉する下流側開閉手段を設けるようにする。尚、この場合にも、前記複数の逆止弁，前記複数の上流側開閉手段，前記複数の下流側開閉手段および前記複数のバイパス開閉手段を収容体に収容するようにしたり、前記検出手段の検出結果に基づいて、閉塞されていることが検出された前記逆止弁を経由しないで前記ガスが通過するように前記複数の上流側開閉手段，前記複数の下流側開閉手段および前記複数のバイパス開閉手段を制御手段により制御する構成とすることができる。
【００１１】
さらには、上記構成のガス配管装置を、異物を含有するガスから前記異物を取り除いて前記ガスを排気する除去処理手段に該除去処理手段から排気された前記ガスを排出するように接続して除害装置を構成することもできる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、処理装置から排気されたガスをガス配管の逆止弁により排出方向のみに通過させるようにしたガス配管装置において、各々、少なくとも１つの逆止弁を有する複数系統の排出経路を選択使用できるようにしたことで、何れかの逆止弁がガス中の異物により閉塞気味になったときに、その逆止弁を経由する排出経路以外の排出経路によりガスを排出することができるので、ガスの通過を中断することなく逆止弁のメンテナンスを行うことができ、よって、本ガス配管装置に接続される処理装置の稼働率が上記のようなメンテナンスにより低下するのを回避することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施形態を、図面に基づいて説明する。
【００１４】
（実施形態１）
図１は、本発明の実施形態１に係るガス配管装置を備えた除害装置としての粉体除去装置の全体構成を処理装置との接続状態を含めて模式的に示すブロック図である。この粉体除去装置１０は、液晶表示装置の製造工程において、ＣＶＤ装置やドライエッチング装置など、異物としての粉体の発生を伴って所定の処理を行いつつ、その粉体を含有するガスを排気する前記処理装置４０のガス排気側に接続されて用いられる。
【００１５】
この粉体除去装置１０は、処理装置４０から真空ポンプ５０の作動により導入されたガスから粉体を除去して排気する除害処理手段としての除去処理装置１１と、この除去処理装置１１のガス排気側に接続されていて、該除去処理装置１１から排気されたガスを排出するガス配管装置２０とを備えている。
【００１６】
ガス配管装置２０は、各々、ガスを排出するための第１および第２の２つのガス配管２２ａ，２２ｂを備えており、これらガス配管２２ａ，２２ｂは互いに並列に配置されている。各ガス配管２２ａ，２２ｂの途中には、それぞれ、ガスが所定の排出方向（図１の右方向）とは逆の方向に移動するのを規制する一方、前記排出方向への移動を許容する第１および第２の２つの逆止弁２３ａ，２３ｂが設けられている。
【００１７】
各ガス配管２２ａ，２２ｂにおける逆止弁２３ａ，２３ｂの排出方向上流側（図１の左側。以下、単に「上流側」という）には、それぞれ、対応するガス配管２２ａ，２２ｂを開閉する上流側開閉バルブ２４ａ，２４ｂが設けられている。また、各ガス配管２２ａ，２２ｂにおける逆止弁２３ａ，２３ｂの排出方向下流側（同図の左側。以下、単に「下流側」という）には、それぞれ、対応するガス配管２２ａ，２２ｂを開閉する下流側開閉バルブ２５ａ，２５ｂが設けられている。これら開閉バルブ２４ａ，２４ｂ，２５ａ，２５ｂには、対応するガス配管２２ａ，２２ｂを開閉するためのアクチュエータ（図示せず）が内蔵されており、そのアクチュエータは、後述の制御信号に応じて開閉作動するようになっている。
【００１８】
さらに、各逆止弁２３ａ，２３ｂと上流側開閉バルブ２４ａ，２４ｂとの間には、それぞれ、該逆止弁２３ａ，２３ｂの上流側におけるガス圧を検出してその検出値を出力する上流側圧力計２６ａ，２６ｂが設けられており、一方、各逆止弁２３ａ，２３ｂと下流側開閉バルブ２５ａ，２５ｂとの間には、それぞれ、該逆止弁２３ａ，２３ｂの下流側におけるガス圧を検出してその検出値を出力する下流側圧力計２７ａ，２７ｂが設けられている。これら上流側および下流側圧力計２６ａ，２６ｂ，２７ａ，２７ｂは、本発明における検出手段を構成している。
【００１９】
上記の除去処理装置１１と、第１および第２ガス配管２２ａ，２２ｂと、第１および第２逆止弁２３ａ，２３ｂと、上流側開閉バルブ２４ａ，２４ｂと、下流側開閉バルブ２５ａ，２５ｂと、上流側圧力計２６ａ，２６ｂと、下流側圧力計２７ａ，２７ｂとは、共通の収容体６０内に収容されている。
【００２０】
上記収容体６０の外部には、上流側および下流側圧力計２６ａ，２６ｂ，２７ａ，２７ｂの各出力信号が入力される一方、それら出力信号に基づいて、上流側および下流側開閉バルブ２４ａ，２４ｂ，２５ａ，２５ｂに対し、上述の制御信号を出力する制御手段としての制御部３０が設けられている。この制御部３０では、各逆止弁２３ａ，２３ｂの上流側ガス圧と下流側ガス圧との間の差圧を演算するとともに、その差圧が所定値に達している（差圧≧所定値）か否かを判定し、判定結果がＹＥＳであるときには、上流側および下流側開閉バルブ２４ａ，２４ｂ，２５ａ，２５ｂが共に閉じる制御信号を出力するようになされる。尚、ここで、「閉塞」とは、完全に閉塞している状態のみならず、該当する逆止弁２３ａ，２３ｂの清掃ないし交換が必要とされる程度に閉塞している状態をも含む。
【００２１】
そして、本実施形態では、図１に太い実線の矢印で示すように、第１逆止弁２３ａの上流側および下流側開閉バルブ２４ａ，２５ａが共に開いたときの第１ガス配管２２ａによる排出経路としての第１の排出経路と、同図に太い破線の矢印で示すように、第２逆止弁２３ｂの上流側および下流側開閉バルブ２４ｂ，２５ｂが共に開いたときの第２ガス配管２２ｂによる排出経路としての第２の排出経路との２系統の排出経路が形成されるようになされており、その２系統の排出経路を択一的に切り替えて使用するようになっている。
【００２２】
次に、上記のように構成された粉体除去装置１０の作動について説明する。尚、初期状態では、第１逆止弁２３ａの上流側および下流側開閉バルブ２４ａ，２５ａは共に開いている一方、第２逆止弁２３ｂの上流側および下流側開閉バルブ２４ｂ，２５ｂは共に閉じていて、第１の排出経路を使用しているものとする。
【００２３】
処理装置４０の作動に伴って発生した粉体含有ガスは、真空ポンプ５０の作動により、粉体除去装置１０に導入される。導入されたガスは、除去処理装置１１により粉体が除去された後、それぞれ、ガス配管装置２０の第１および第２ガス配管２２ａ，２２ｂに向かって排気される。その際に、第１ガス配管２２ａの上流側開閉バルブ２４ａは開いている一方、第２ガス配管２２ｂの上流側開閉バルブ２４ｂは閉じているので、除去処理装置１１から排気されたガスは、第１ガス配管２２ａを通過して排出される。
【００２４】
その際に、除去処理装置１１から排気されたガスには、僅かではあるが、異物としての残留粉体が含有されており、その残留粉体は、第１逆止弁２３ａに徐々に堆積し、やがては、第１逆止弁２３ａを閉塞することになる。このような残留粉体の堆積に伴い、第１逆止弁２３ａの上流側ガス圧が徐々に上昇する一方、下流側ガス圧が徐々に低下する。これに対し、制御部３０では、第１逆止弁２３ａの上流側圧力計２６ａにより検出された上流側ガス圧と、下流側圧力計２７ａにより検出された下流側ガス圧との間の差圧の演算を逐次行うとともに、その差圧が所定値に達しているか否かの判定を逐次行う。そして、差圧が所定値に達したときには、第１逆止弁２３ａが閉塞したと見做し、第２逆止弁２３ｂの上流側および下流側開閉バルブ２４ｂ，２５ｂに対して、開く制御信号を出力する一方、第１逆止弁２３ａの上流側および下流側開閉バルブ２４ａ，２５ａに対しては、閉じる制御信号を出力する。これにより、除去処理装置１１から排気されたガスは、第１ガス配管２２ａに代わり、第２ガス配管２２ｂを通過して排出されるようになる。これにより、除去処理装置１１の除去処理に伴うガスの排出を中断することなく、第１逆止弁２３ａの清掃ないし交換が行われることとなる。
【００２５】
したがって、本実施形態によれば、液晶表示装置製造時に使用されるＣＶＤ装置やドライエッチング装置などのように、粉体を含有するガスを発生しつつ所定の処理を行う処理装置４０に対し、そのガス排気側に接続して使用される粉体除去装置１０において、除去処理装置１１により粉体が除去されて排気されたガスを排出するようにしたガス配管装置２０として、第１逆止弁２３ａを有する第１ガス配管２２ａと、第２逆止弁２３ｂを有する第２ガス配管２２ｂとにより２系統の排出経路を形成し、その２系統の排出経路を択一的に切り替えて使用するようにしたので、使用中の逆止弁２３ａ（又は２３ｂ）がガス中の残留粉体により閉塞したときに、除去処理装置１１の処理を停止させることなく、その逆止弁２３ａ（又は２３ｂ）の清掃ないし交換などのメンテナンスを行うことができ、よって、前記メンテナンスに伴う処理装置４０および除去処理装置１１の各稼働率の低下を回避することができ、その分、液晶表示装置の生産性向上に寄与することができる。
【００２６】
また、排出経路の切替えを、逆止弁２３ａ，２３ｂの上流側ガス圧と下流側ガス圧との間の差圧に基づいて自動的に行うことができるので、そのような切替作業を行うことに起因する手間の増大を回避することができる。
【００２７】
尚、上記の実施形態では、ガス配管装置２０の上流側圧力計２６ａ，２６ｂをそれぞれ上流側開閉バルブ２４ａ，２４ｂの下流側に配置するようにしているが、上流側に配置するようにしてもよく、同様に、下流側圧力計２７ａ，２７ｂについては、それぞれ、下流側開閉バルブ２５ａ，２５ｂの下流側に配置するようにしてもよい。
【００２８】
また、上記の実施形態では、各逆止弁２３ａ，２３ｂの上流側および下流側にそれぞれ圧力計２６ａ，２６ｂ，２７ａ，２７ｂを配置しているが、各逆止弁２３ａ，２３ｂの上流側のみにそれぞれ圧力計を配置し、その上流側圧力計により検出された圧力が所定値に達したとき（圧力≧所定値）に、上記の制御信号を出力するようにしてもよい。つまり、本発明における検出手段は、上流側圧力計２６ａ，２６ｂのみにより構成することもできる。
【００２９】
また、上記の実施形態では、第１逆止弁２３ａを経由する第１排出経路，および第２逆止弁２３ｂを経由する第２排出経路からなる２系統の排出経路を択一的に切り替えるようにしているが、それら２系統の排出経路を組み合わせて同時に使用するようにしておいて、例えば第１逆止弁２３ａが閉塞したときに、第２排出経路のみの使用に切り替えるようにしてもよい。
【００３０】
また、上記の実施形態では、第１および第２の２つのガス配管２２ａ，２２ｂにより２系統の排出経路を形成するようにしているが、３つ以上のガス配管により３系統以上の排出経路を形成するようにしてもよい。
【００３１】
さらに、上記の実施形態では、ガス配管装置２０の２つのガス配管２２ａ，２２ｂの各上流端をそれぞれ除去処理装置１１に接続することで、２系統の排出経路を、下流端側の部分を除き、互いに独立させて形成しているが、除去処理装置１１には１つのガス配管の上流端のみを接続し、その上流端の下流側部分に２つ目のガス配管の上流端を接続させたり、又は上記１つのガス配管の途中から２つ目のガス配管を分岐させたりすることで、２系統の排出経路を上流側部分において互いに共通化させるようしてもよい。
【００３２】
（実施形態２）
図２のブロック図は、本発明の実施形態２に係るガス配管装置を備えた除害装置としての粉体除去装置の全体構成を処理装置との接続状態を含めて模式的に示しており、実施形態１の場合と同じ部分は、同じ符号を付して示している。
【００３３】
本実施形態では、ガス配管装置２０は、１つのガス配管２２を備えており、このガス配管２２には、第１および第２の２つの逆止弁２３ａ，２３ｂが排出方向に直列に並ぶように配置されている。
【００３４】
各逆止弁２３ａ，２３ｂの上流側および下流側には、実施形態１の場合と同じく、それぞれ、上流側および下流側開閉バルブ２４ａ，２４ｂ，２５ａ，２５ｂが設けられている。また、各逆止弁２３ａ，２３ｂと上流側開閉バルブ２４ａ，２４ｂとの間，および各逆止弁２３ａ，２３ｂと下流側開閉バルブ２５ａ，２５ｂとの間には、これも実施形態１の場合と同様に、それぞれ、上流側および下流側圧力計２６ａ，２６ｂ，２７ａ，２７ｂが設けられている。
【００３５】
そして、本実施形態では、両端がそれぞれガス配管２２における各逆止弁２３ａ，２３ｂの上流側開閉バルブ２４ａ，２４ｂよりも上流側の部分と下流側開閉バルブ２５ａ，２５ｂよりも下流側の部分とに接続された２つのバイパス配管２８ａ，２８ｂと、それら各バイパス配管２８ａ，２８ｂに設けられていて、該バイパス配管２８ａ，２８ｂを開閉するバイパス開閉バルブ２９ａ，２９ｂとを備えている。
【００３６】
一方、制御部３０は、実施形態１の場合と同様に、第１逆止弁２３ａの上流側および下流側圧力計２６ａ，２７ａからの各出力信号と、第２逆止弁２３ｂの上流側および下流側圧力計２６ｂ，２７ｂからの各出力信号とに基づいて、各逆止弁２３ａ，２３ｂの上流側ガス圧と下流側ガス圧との間の差圧を演算するとともに、それら各差圧が所定値に達したか否かを判定する。そして、一方の逆止弁２３ａ（又は２３ｂ）の差圧が所定値に達したときには、その逆止弁２３ａ（又は２３ｂ）の上流側および下流側開閉バルブ２４ａ，２５ａ（又は２４ｂ，２５ｂ）が共に閉じかつその逆止弁２３ａ（又は２３ｂ）のバイパス開閉バルブ２９ａ（又は２９ｂ）が開くとともに、他方の逆止弁２３ｂ（又は２３ａ）の上流側および下流側開閉バルブ２４ｂ，２５ｂ（又は２４ａ，２５ａ）が共に開きかつその逆止弁２３ｂ（又は２３ａ）のバイパス開閉バルブ２９ｂ（又は２９ａ）が閉じるように開閉バルブ２４ａ，２４ｂ，２５ａ，２５ｂ，２９ａ，２９ｂに対する制御信号を出力するようになっている。
【００３７】
つまり、本実施形態では、図２に太い実線の矢印で示すように、第１逆止弁２３ａおよび第２バイパス配管２８ｂを経由する第１の排出経路と、同図に太い破線の矢印で示すように、第１バイパス配管２８ａおよび第２逆止弁２３ｂを経由する第２の排出経路との２系統の排出経路が択一的に切り替わるようになっている。
【００３８】
次に、上記のように構成された粉体除去装置１０の作動について説明する。尚、初期状態では、第１逆止弁２３ａの上流側および下流側開閉バルブ２４ａ，２５ａが共に開きかつ第１バイパス配管２８ａのバイパス開閉バルブ２９ａが閉じている一方、第２逆止弁２３ｂの上流側および下流側開閉バルブ２４ｂ，２５ｂが共に閉じかつ第２バイパス配管２８ｂのバイパス開閉バルブ２９ｂが開いていて、第１の排出経路を使用しているものとする。
【００３９】
処理装置４０の作動に伴って発生した粉体含有ガスは、真空ポンプ５０の作動により、粉体除去装置１０に導入される。導入されたガスは、除去処理装置１１により粉体が除去された後、ガス配管装置２０のガス配管２２に向かって排気される。その際に、第１逆止弁２３ａの上流側および下流側開閉バルブ２４ａ，２５ａは開いている一方、第１バイパス配管２８ａのバイパス開閉バルブ２９ａは閉じているので、ガスは、先ず、第１逆止弁２３ａを経由して第２逆止弁２３ｂに向かう。次に、第２逆止弁２３ｂ側では、上流側および下流側開閉バルブ２４ｂ，２５ｂが共に閉じている一方、第２バイパス配管２８ｂのバイパス開閉バルブ２９ｂは開いているので、ガスは、第２逆止弁２３ｂを経由するのではなく、その第２逆止弁２３ｂを迂回する第２バイパス配管２８ｂを経由して排出される。
【００４０】
一方、制御部３０では、第１逆止弁２３ａの上流側および下流側圧力計２６ａ，２７ａの出力信号に基づいて差圧を逐次演算するとともに、その差圧が所定値に達しているか否かを判定する。そして、判定がＹＥＳであるときには、第２逆止弁２３ｂの上流側および下流側開閉バルブ２４ｂ，２５ｂが共に開きかつ第２バイパス配管２８ｂのバイパス開閉バルブ２９ｂが閉じる一方、第１バイパス配管２８ａのバイパス開閉バルブ２９ａが開きかつ第１逆止弁２３ａの上流側および下流側開閉バルブ２４ａ，２５ａが共に閉じるように制御信号を出力する。これにより、排出経路は、第１逆止弁２３ａおよび第２バイパス配管２８ｂを経由する第１の排出経路から、第１バイパス配管２８ａおよび第２逆止弁２３ｂを経由する第２の排出経路に切り替わる。これにより、除去処理装置１１により粉体の除去されたガスの排出を継続しつつ、第１逆止弁２３ａの清掃ないし交換が行えるようになる。
【００４１】
したがって、本実施形態によっても、実施形態１の場合と同様の効果を奏することができる。
【００４２】
尚、上記の実施形態では、２系統の排出経路を切り替えるようにしているが、その２系統の排出経路に、第１および第２逆止弁２３ａ，２３ｂを共に経由する第３の排出経路を加えて３系統とし、それら３系統の排出経路を切り替えるようにしてもよい。
【００４３】
また、上記の実施形態では、第１および第２の２つの逆止弁２３ａ，２３ｂを設けるようにしているが、３つ以上の逆止弁を設けるとともに、それに応じて、３系統，４系統など、３系統以上の排出経路を形成するようにしてもよい。
【００４４】
また、上記の実施形態１および実施形態２では、ガス配管装置２０の一部の構成要素を除去処理装置１１と共に収容体６０に収容するようにしているが、除去処理装置１１とは別に専用の収容体に収容するようにしてもよい。
【００４５】
さらに、上記の実施形態１および実施形態２では、液晶表示装置の製造過程において使用されるＣＶＤ装置やドライエッチング装置などの処理装置４０の排気ガスから粉体を除去する粉体除去装置１０の除去処理装置１１に接続される場合について説明しているが、本発明は、ガスの排気を伴って所定の処理を行う種々の処理装置のガス排気側に接続して用いられるガス配管装置に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の実施形態１に係るガス配管装置を備えた粉体除去装置の全体構成を処理装置との接続状態を含めて模式的に示すブロック図である。
【図２】本発明の実施形態２に係るガス配管装置を備えた粉体除去装置の全体構成を処理装置との接続状態を含めて模式的に示す図１相当図である。
【図３】従来のガス配管装置を備えた粉体除去装置の全体構成を処理装置との接続状態を含めて模式的に示す図１相当図である。
【符号の説明】
【００４７】
１０  粉体除去装置（除害装置）
１１  除去処理装置（除害処理手段）
２０  ガス配管装置
２２  ガス配管
２２ａ  第１ガス配管（ガス配管）
２２ｂ  第２ガス配管（ガス配管）
２３ａ  第１逆止弁（逆止弁）
２３ｂ  第２逆止弁（逆止弁）
２４ａ，２４ｂ  上流側開閉バルブ（上流側開閉手段）
２５ａ，２５ｂ  下流側開閉バルブ（下流側開閉手段）
２６ａ，２６ｂ  上流側圧力計（検出手段）
２７ａ，２７ｂ  下流側圧力計（検出手段）
２８ａ，２８ｂ  バイパス配管
２９ａ，２９ｂ  バイパス開閉バルブ（バイパス開閉手段）
３０  制御部（制御手段）
６０  収容体
【図１】
2005230681.tif 000003
【図２】
2005230681.tif 000004
【図３】
2005230681.tif 000005