(57)【要約】【課題】  耐久性及び信頼性に優れた有機ＥＬ装置を安価に提供する。【解決手段】  本発明の有機ＥＬ装置は、一対の電極１１１，１２間に、画素単位で駆動可能な有機ＥＬ層１１０ｂを具備してなり、前記有機ＥＬ層１１０ｂは、少なくとも２つの画素（Ｒ，Ｇ）間で異なる色光を発光可能なように、該画素（Ｒ，Ｇ）間で異なる構成とされるとともに、前記一対の電極１１１，１２のうちの一方の電極１１１と該有機ＥＬ層１１０ｂとの間には導電層１１０ａが配設されてなり、前記導電層１１０ａには、前記画素単位毎に、当該画素の有機ＥＬ層１１０ｂの発光色と同色の色光を選択透過する着色成分が含有されてなることを特徴とする。【選択図】    図３
2005353316.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の電極間に、画素単位で駆動可能な有機ＥＬ層を具備してなる有機ＥＬ装置であって、
前記有機ＥＬ層は、少なくとも２つの画素間で異なる色光を発光可能なように、該画素間で異なる構成とされるとともに、前記一対の電極のうちの一方の電極と該有機ＥＬ層との間には導電層が配設されてなり、
前記導電層には、前記画素単位毎に、当該画素の有機ＥＬ層の発光色と同色の色光を選択透過する着色成分が含有されてなることを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項２】
前記有機ＥＬ層は、異なる画素単位毎に赤色、緑色、青色のいずれかの色光を発光可能に構成されてなることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項３】
前記有機ＥＬ層に対し前記導電層が配設された側が当該有機ＥＬ装置の光出射側として構成され、
さらに、前記着色成分が、各画素単位毎に当該画素の発光色と同色の色光を選択透過する一方、その他の色光を選択吸収する構成とされていることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項４】
一対の電極間に、画素単位で駆動可能な有機ＥＬ層を具備してなる有機ＥＬ装置であって、
前記有機ＥＬ層は、各画素共通に白色を発光可能に構成され、前記一対の電極のうちの一方の電極と該有機ＥＬ層との間には導電層が配設されてなり、
前記導電層には、少なくとも２つの画素間で異なる色の光を選択透過する着色成分が含有されてなることを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項５】
前記導電層には、異なる画素単位毎に赤色、緑色、青色のいずれかの色光を選択透過可能な着色成分が含有されてなることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項６】
前記一対の電極が陽極及び陰極であって、
前記陽極と前記有機ＥＬ層との間に、前記導電層としての正孔注入層が配設されてなることを特徴とする請求項１ないし５のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項７】
前記正孔注入層が高分子導電材料にて構成されてなることを特徴とする請求項１ないし６のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項８】
前記着色成分としてフタロシアニン系の材料が含有されてなることを特徴とする請求項１ないし７のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項９】
一対の電極間に、画素単位で駆動可能な有機ＥＬ層を具備してなる有機ＥＬ装置の製造方法であって、
基板上に電極を形成する工程と、
形成した電極上に導電層を形成する工程と、
形成した導電層上に有機ＥＬ層を形成する工程と、を含み、
前記導電層を形成する工程は、該導電層を構成する材料と、所定の色光を選択透過することが可能な着色材料とをそれぞれ溶媒に溶解ないし分散させた液状組成物を作成する工程と、作成した液状組成物を液滴吐出法にて各画素に選択吐出する工程と、吐出した液状組成物を乾燥させる工程と、を含むことを特徴とする有機ＥＬ装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載の有機ＥＬ装置を備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ装置、有機ＥＬ装置の製造方法、電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ノートパソコン、携帯電話機、電子手帳等の電子機器において、情報を表示する手段として有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと称す）素子を画素毎に複数備える有機ＥＬ装置が提案されている。一般的に、有機ＥＬ素子は、対向する一対の電極の間に有機ＥＬ層（発光層）を含む有機機能層が配置された構成を有している。
【０００３】
このような有機ＥＬ装置として、有機ＥＬ層の光疲労緩和を目的としてカラーフィルタを具備させたものが例えば特許文献１に開示されている。
【特許文献１】特開平８−３２１３８０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上記特許文献１に開示された有機ＥＬ装置では、カラーフィルタの導入により有機ＥＬ層の光疲労が緩和され、当該装置の長寿命化が図られている。しかしながら、このようなカラーフィルタを別途形成するには手間が掛かり、また該カラーフィルタを形成した後、さらに上層にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を形成する場合には、該ＴＦＴの製造工程において高温の熱処理が加わるため、当該カラーフィルタが変質若しくは劣化する等の不具合が発生する惧れがあり、得られる有機ＥＬ装置の信頼性を低下させる惧れがある。
【０００５】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたもので、その目的は、耐久性及び信頼性に優れた有機ＥＬ装置を安価に提供することにある。また、例えば表示装置として用いた場合に、外光反射が少なく高コントラストで、色純度も高い有機ＥＬ装置を提供することも目的の一つとしている。また、本発明の異なる目的は、製造効率の高い有機ＥＬ装置の製造方法を提供することにある。さらに、本発明の異なる目的は、信頼性に優れた電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明の有機ＥＬ装置の第１の態様は、一対の電極間に、画素単位で駆動可能な有機ＥＬ層を具備してなる有機ＥＬ装置であって、前記有機ＥＬ層は、少なくとも２つの画素間で異なる色光を発光可能なように、該画素間で異なる構成とされるとともに、前記一対の電極のうちの一方の電極と該有機ＥＬ層との間には導電層が配設されてなり、前記導電層には、前記画素単位毎に、当該画素の有機ＥＬ層の発光色と同色の色光を選択透過する着色成分が含有されてなることを特徴とする。
【０００７】
このような有機ＥＬ装置によると、導電層の形成により、電極から有機ＥＬ層への電子或いは正孔の注入が促進され、発光効率が向上する。そして、該導電層に、当該画素の発光色と同色の着色成分を混入しているため、有機ＥＬ層に対し、該有機ＥＬ層自身の発光色と異なる色の光が入射されることを防止ないし抑制でき、その結果、当該有機ＥＬ層の寿命を向上させることが可能となるとともに、当該画素の色純度を高め、かつコントラストを向上することが可能となる。また、このように寿命向上、コントラスト向上のために光入射を防止し、且つ色純度を高めるために、上記特許文献１のようなカラーフィルタを別途設けるのではなく、有機ＥＬ層への電子或いは正孔の注入を促進させ得る導電層に着色成分を含有させることで実現しているため、製造効率が向上するとともに、当該有機ＥＬ装置を小型化することが可能となる。
【０００８】
本発明の有機ＥＬ装置において、前記有機ＥＬ層は、異なる画素単位毎に赤色、緑色、青色のいずれかの色光を発光可能に構成されてなるものとすることができ、この場合、フルカラー表示が可能となる。なお、このように有機ＥＬ層を構成した場合、導電層には、当該画素の有機ＥＬ層の発光色に対応して、赤色、緑色、青色のいずれかの色光を選択透過可能な着色成分が含有されることとなる。
【０００９】
また、本発明の有機ＥＬ装置において、前記有機ＥＬ層に対し前記導電層が配設された側が当該有機ＥＬ装置の光出射側として構成され、さらに、前記着色成分が、各画素単位毎に当該画素の発光色と同色の色光を選択透過する一方、その他の色光を選択吸収するものとして構成することができる。この場合、当該有機ＥＬ装置に対して外から入射し得る光（外光）のうち、当該画素の発光色と異なる色の色光（以下、補色光とも言う）を選択吸収することが可能なため、該補色光が光出射側から出射されることを防止ないし抑制することが可能となる。その結果、外光の写り込みを防止ないし抑制でき、高コントラストの表示を実現することができるようになる。
【００１０】
一方、上記課題を解決するために、本発明の有機ＥＬ装置の第２の態様は、一対の電極間に画素単位で駆動可能な有機ＥＬ層を具備してなる有機ＥＬ装置であって、前記有機ＥＬ層は、各画素共通に白色を発光可能に構成され、前記一対の電極のうちの一方の電極と該有機ＥＬ層との間には導電層が配設されてなり、前記導電層には、少なくとも２つの画素間で異なる色の光を選択透過する着色成分が含有されてなることを特徴とする。
【００１１】
このような有機ＥＬ装置によると、導電層の形成により、電極から有機ＥＬ層への電子或いは正孔の注入が促進され、発光効率が向上する。そして、該導電層に、少なくとも２つの画素間で異なる色の光を選択透過する着色成分を混入しているため、該画素毎に異なる色の光を創出することが可能となる。また、このように着色機能を具備した要素を、上記特許文献１のようなカラーフィルタにて構成するのではなく、有機ＥＬ層への電子或いは正孔の注入を促進させ得る導電層に着色成分を含有させることで実現しているため、製造効率が向上するとともに、当該有機ＥＬ装置を小型化することが可能となる。
【００１２】
上記第２態様の有機ＥＬ装置において、前記導電層には、異なる画素単位毎に赤色、緑色、青色のいずれかの色光を選択透過可能な着色成分が含有されてなるものとすることができる。この場合、フルカラー表示が実現でき、特に白色光を発光する一の有機ＥＬ層をベタ状に形成した場合にも、フルカラー表示が可能となるのである。
【００１３】
上記第１及び第２の有機ＥＬ装置において、前記一対の電極が陽極及び陰極であって、前記陽極と前記有機ＥＬ層との間に、前記導電層としての正孔注入層が配設されてなるものとすることができる。また、特に導電層たる正孔注入層を高分子導電材料にて構成すれば、着色成分と該高分子導電材料とを溶媒に溶解ないし分散させた上で、液相法を用いて、着色成分が含有した導電層を好適に形成することが可能となる。さらに、前記着色成分として有機材料を用いた場合には、高分子導電材料からなる導電層中に着色成分が均一に分散され易く、色むら発生を抑制することができるようになる。なお、着色成分としてはフタロシアニン系の材料からなるものを好適に採用することができ、この場合、水系の溶媒に対する分散性が高いため液相法による製造効率が向上し、さらには導電層を構成する高分子導電材料として酸性のものを用いた場合にも、該酸に対して非常に安定なものとなる。
【００１４】
次に、上記課題を解決するために、本発明の有機ＥＬ装置の製造方法は、一対の電極間に、画素単位で駆動可能な有機ＥＬ層を具備してなる有機ＥＬ装置の製造方法であって、基板上に電極を形成する工程と、形成した電極上に導電層を形成する工程と、形成した導電層上に有機ＥＬ層を形成する工程とを含み、前記導電層を形成する工程は、該導電層を構成する材料と、所定の色光を選択透過することが可能な着色材料とをそれぞれ溶媒に溶解ないし分散させた液状組成物を作成する工程と、作成した液状組成物を液滴吐出法にて各画素に選択吐出する工程と、吐出した液状組成物を乾燥させる工程とを含むことを特徴とする。このような製造方法を採用することで、上記第１態様若しくは第２態様の有機ＥＬ装置を高効率で製造することができるようになる。
【００１５】
次に、本発明の電子機器は、本発明の有機ＥＬ装置を例えば表示部として備えることを特徴とする。このような電子機器によれば、色純度が高く、高コントラストの表示を実現することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。なお、参照する各図において、図面上で認識可能な大きさとするために、縮尺は各層や各部材ごとに異なる場合がある。
【００１７】
（第１実施形態）
図１は、本発明の有機ＥＬ装置の一実施形態について、特にアクティブマトリクス型の有機ＥＬ装置１の要部を模式的に示す説明図である。なお、有機ＥＬ装置１は、薄膜トランジスタを用いたアクティブ型の駆動方式を採用している。
【００１８】
有機ＥＬ装置１は、基板２の上に、回路素子としての薄膜トランジスタを含む回路素子部１４、画素電極（陽極）１１１、有機ＥＬ層（有機ＥＬ素子）を含む機能層１１０、陰極１２、及び封止部３等を順次積層した構造からなる。
【００１９】
基板２としては、本例ではガラス基板が用いられている。ガラス基板の他にも、シリコン基板、石英基板、セラミックス基板、金属基板、プラスチック基板、プラスチックフィルム基板等、電気光学装置や回路基板に用いられる公知の様々な基板が適用される。基板２内には、発光領域としての複数の画素領域Ａがマトリクス状に配列されており、カラー表示を行う場合、例えば赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色に対応する画素領域Ａが所定の配列で構成される。各画素領域Ａには、画素電極１１１が配置され、その近傍には信号線１３２、電源線１３３、走査線１３１及び図示しない他の画素電極用の走査線等が配置されている。
【００２０】
また、封止部３は、水や酸素の侵入を防いで陰極１２あるいは機能層１１０の酸化を防止するものであり、基板２に塗布される封止樹脂、及び基板２に貼り合わされる封止基板３ｂ（封止缶）等を含む。封止樹脂の材料としては、例えば、熱硬化樹脂あるいは紫外線硬化樹脂等が用いられ、特に、熱硬化樹脂の１種であるエポキシ樹脂が好ましく用いられる。封止樹脂は、基板２の周縁に環状に塗布されており、例えば、マイクロディスペンサ等により塗布される。封止基板３ｂは、ガラスや金属等からなり、基板２と封止基板３ｂとは封止樹脂を介して張り合わされる。
【００２１】
図２は、上記有機ＥＬ装置１の回路構造を示している。
図２において、基板２上には、複数の走査線１３１と、走査線１３１に対して交差する方向に延びる複数の信号線１３２と、信号線１３２に並列に延びる複数の電源線１３３とが配線されている。また、走査線１３１及び信号線１３２の各交点毎に上記画素領域Ａが形成されている。
信号線１３２には、例えば、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを含むデータ側駆動回路１０３が接続されている。また、走査線１３１には、シフトレジスタ及びレベルシフタを含む走査側駆動回路１０４が接続されている。
【００２２】
画素領域Ａには、走査線１３１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用の第１の薄膜トランジスタ１２３と、この薄膜トランジスタ１２３を介して信号線１３２から供給される画像信号を保持する保持容量１３５と、保持容量１３５によって保持された画像信号がゲート電極に供給される駆動用の第２の薄膜トランジスタ１２４と、この薄膜トランジスタ１２４を介して電源線１３３に電気的に接続したときに電源線１３３から駆動電流が流れ込む画素電極１１１（陽極）と、画素電極１１１と対向電極１２（陰極）との間に挟み込まれる機能層１１０とが設けられている。機能層１１０は、有機ＥＬ素子としての有機ＥＬ層を含む。
【００２３】
画素領域Ａでは、走査線１３１が駆動されて第１の薄膜トランジスタ１２３がオンとなると、そのときの信号線１３２の電位が保持容量１３５に保持され、この保持容量１３５の状態に応じて、第２の薄膜トランジスタ１２４の導通状態が決まる。また、第２の薄膜トランジスタ１２４のチャネルを介して電源線１３３から画素電極１１１に電流が流れ、さらに機能層１１０を通じて対向電極１２（陰極）に電流が流れる。そして、このときの電流量に応じて、機能層１１０が発光する。
【００２４】
図３は、上記有機ＥＬ装置１における表示領域の断面構造を拡大した図である。この図３には赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色に対応する３つの画素領域の断面構造が示されている。前述したように、有機ＥＬ装置１は、基板２上に、ＴＦＴなどの回路等が形成された回路素子部１４、画素電極（陽極）１１１、機能層１１０が形成された発光素子部１１、及び陰極１２が順次積層して構成されている。
この有機ＥＬ装置１では、機能層１１０から基板２側に発した光が、回路素子部１４及び基板２を透過して基板２の下側（光出射側）に出射されるとともに、機能層１１０から基板２の反対側に発した光が陰極１２により反射されて、回路素子部１４及び基板２を透過して基板２の下側に出射されるようになっている。
【００２５】
回路素子部１４においては、基板２上に遮光性材料からなる遮光層ＢＭが島状に形成され、さらにこれを覆う形にてシリコン酸化膜からなる下地保護膜２ｃが形成されている。この下地保護膜２ｃ上には、遮光層ＢＭと平面的に重畳する位置に対し、多結晶シリコンからなる島状の半導体膜１４１が形成されている。なお、半導体膜１４１には、ソース領域１４１ａ及びドレイン領域１４１ｂが高濃度Ｐイオン打ち込みにより形成されている。なお、Ｐが導入されなかった部分がチャネル領域１４１ｃとなっている。
【００２６】
さらに回路素子部１４には、下地保護膜２ｃ及び半導体膜１４１を覆う透明なゲート絶縁膜１４２が形成されており、該ゲート絶縁膜１４２上にはＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等からなるゲート電極（走査線）１４３が形成されている。また、ゲート電極１４３及びゲート絶縁膜１４２上には透明な第１層間絶縁膜１４４ａと第２層間絶縁膜１４４ｂが形成されている。各層間絶縁膜としては、例えばＳｉＯ２或いはＳｉＮからなるもの透光性絶縁膜を適当な膜厚（例えば２００ｎｍ程度）としたものを採用することができる。
ゲート電極１４３は半導体膜１４１のチャネル領域１４１ｃに対応する位置に設けられている。また、第１、第２層間絶縁膜１４４ａ、１４４ｂを貫通して、半導体膜１４１のソース、ドレイン領域１４１ａ、１４１ｂにそれぞれ接続されるコンタクトホール１４５，１４６が形成されている。
【００２７】
そして、第２層間絶縁膜１４４ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極１１１が形成されている。該画素電極１１１は、平面視略矩形にマトリクス状に形成されており、その厚さは、５０ｎｍ〜２００ｎｍ（例えば７０ｎｍ）の範囲とされている。また、画素電極１１１は、上述したコンタクトホール１４５を介してＴＦＴ１２３に接続されている。なお、他方のコンタクトホール１４６は電源線１３３に接続されている。このようにして、回路素子部１４には、画素電極１１１に接続された半導体膜１４１を含む駆動用の薄膜トランジスタ１２３が形成されている。また、回路素子部１４には、前述した保持容量１３５及びスイッチング用の薄膜トランジスタ１２４も形成されているが、図３ではこれらの図示を省略している。
【００２８】
そして、上記のような画素電極１１１の上に発光素子部１１が形成されている。発光素子部１１は、画素電極１１１上に積層された機能層１１０と、機能層１１０同士の間に配されて各機能層１１０を区画するバンク部１１２とを主体として構成されている。
機能層１１０上には、アルミニウム等の反射性金属膜からなる陰極１２が配置されている。
【００２９】
バンク部１１２は、図３に示すように、基板２側に位置する無機物バンク層（第１バンク層）１１２ａと、基板２から離れて位置する有機物バンク層（第２バンク層）１１２ｂとの積層にて構成されている。無機物バンク層１１２ａは、例えばＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の無機材料からなる。また、有機物バンク層１１２ｂは、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性のあるレジストから形成されている。
【００３０】
また、機能層１１０は、画素電極１１１上に積層された正孔注入／輸送層（導電層）１１０ａと、正孔注入／輸送層１１０ａ上に隣接して形成された有機ＥＬ層（発光層）１１０ｂとから構成されている。
正孔注入／輸送層１１０ａは、正孔を有機ＥＬ層１１０ｂに注入する機能を有するとともに、正孔を正孔注入／輸送層１１０ａ内部において輸送する機能を有する。このような正孔注入／輸送層１１０ａを画素電極１１１と有機ＥＬ層１１０ｂの間に設けることにより、有機ＥＬ層１１０ｂの発光効率、寿命等の素子特性が向上する。また、有機ＥＬ層１１０ｂでは、正孔注入／輸送層１１０ａから注入された正孔と、陰極１２から注入される電子が有機ＥＬ層で再結合し、発光が得られる。
【００３１】
一方、この正孔注入／輸送層１１０ａは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色に対応する画素毎に異なる構成を有している。
具体的には、以下のような構成とされている。まず、赤色（Ｒ）の画素（以下、Ｒ画素とも言う）においては、赤色（Ｒ）の光を選択透過するとともに該赤色（Ｒ）以外の光を選択吸収する着色成分が含有された正孔注入／輸送層１１０ａ１が形成されている。また、緑色（Ｇ）の画素（以下、Ｇ画素とも言う）においては、緑色（Ｇ）の光を選択透過するとともに該緑色（Ｇ）以外の光を選択吸収する着色成分が含有された正孔注入／輸送層１１０ａ２が形成されている。さらに、青色（Ｂ）の画素（以下、Ｂ画素とも言う）においては、青色（Ｂ）の光を選択透過するとともに該青色（Ｂ）以外の光を選択吸収する着色成分が含有された正孔注入／輸送層１１０ａ３が形成されている。
【００３２】
なお、正孔注入／輸送層１１０ａは、導電性材料として高分子材料からなるポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体とポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）との混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）をインクジェット法にて成膜したもので、各画素共通で約１００ｎｍの厚さに調整されている。
また、Ｒ画素の正孔注入／輸送層１１０ａ１に含有されている着色成分はＰｉｇｍｅｎｔＲｅｄ１７７（山陽色素株式会社製）で、Ｇ画素の正孔注入／輸送層１１０ａ２に含有されている着色成分はＰｉｇｍｅｎｔＧｒｅｅｎ７、またＢ画素の正孔注入／輸送層１１０ａ３に含有されている着色成分はＰｉｇｍｅｎｔＢｌｕｅ６０である。
【００３３】
一方、正孔注入／輸送層１１０ａ上に形成された有機ＥＬ層１１０ｂは、Ｒ画素では、赤色（Ｒ）に発光する高分子材料からなる赤色有機ＥＬ層１１０ｂ１にて構成され、同様に緑色（Ｇ）の画素では、緑色（Ｇ）に発光する高分子材料からなる緑色有機ＥＬ層１１０ｂ２にて構成され、さらに青色（Ｂ）の画素では、青色（Ｂ）に発光する高分子材料からなる青色有機ＥＬ層１１０ｂ３にて構成されている。そして、各色画素は所定の配列（例えばストライプ状）で配置されている。なお、各有機ＥＬ層１１０ｂ１，１１０ｂ２，１１０ｂ３は、各発光材料（高分子材料）をインクジェット法にて成膜したもので、厚さは全ての画素で８０ｎｍ程度とした。
【００３４】
赤色有機ＥＬ層１１０ｂ１を形成する発光材料としては、例えばローダミン色素を添加したＰＰＶやＭＥＨ−ＰＰＶあるいはポリフルオレン系及びその誘導体などの有機ＥＬ材料からなるものを用いることができ、緑色有機ＥＬ層１１０ｂ２を形成する発光材料としては、例えばＰＰＶ及びその誘導体やＦ８ＢＴ＋ポリジオクチルフルオレンなどのフルオレン誘導体などの有機ＥＬ材料からなるものを用いることができる。青色有機ＥＬ層１１０ｂ３を形成する発光材料としては、例えばポリジオクチルフルオレン及びその誘導体などの有機ＥＬ材料からなるものを用いることができる。
【００３５】
一方、バンク部１１２は、画素電極１１１をパターニング形成した後、まずＳｉＯ２等の無機材料からなる無機物バンク層１１２ａを、画素開口を備える形にて厚さ５０ｎｍ程度に形成し、その後、ポリイミド等の有機材料からなる有機物バンク層１１２ｂを、同じく画素開口を備える形にて厚さ２μｍ程度に形成することで得られるものである。
【００３６】
次に、陰極（対向電極）１２は、発光素子部１１の全面に形成されており、画素電極１１１と対になって機能層１１０に電流を流す役割を果たす。この陰極１２は、上記金属有機化合物１５０のリチウム（Ｌｉ）イオンを還元できるものとして、本例ではカルシウム層１２ａとアルミニウム層１２ｂとが積層されて構成されている。アルミニウム層１２ｂは、有機ＥＬ層１１０ｂから発せられた光を基板２側に反射させるもので、Ａｌ膜の他、Ａｇ膜、ＡｌとＡｇの積層膜等を採用することもできる。また、その厚さは、例えば１００ｎｍ〜１０００ｎｍの範囲とすることができる。
【００３７】
このように構成された有機ＥＬ装置１においては、正孔注入／輸送層１１０ａが、画素単位毎に有機ＥＬ層１１０ｂの発光色と同色の色光を選択透過する着色成分が含有されているため、有機ＥＬ層１１０ｂに対し、該有機ＥＬ層１１０ｂ自身の発光色と異なる色の光が入射されることを防止ないし抑制できるようになる。その結果、当該有機ＥＬ層１１０ａの寿命を向上させることが可能となり、また当該画素の色純度を高めることが可能となる。なお、本実施形態では、青色で色度（ｘ，ｙ＝０．１４，０．１）、緑色で色度（ｘ、ｙ＝０．３５，０．６１）、赤色で色度（ｘ，ｙ＝０．６６，０．３３）を得ることができた。
【００３８】
また、正孔注入／輸送層１１０ａに含有される着色成分が、画素単位毎に発光色と同色の色光を選択透過する一方、その他の色光を選択吸収するため、当該有機ＥＬ装置１に対して外から入射し得る光（外光）のうち、当該画素の発光色と異なる色の色光（補色光）を選択吸収することが可能となる。その結果、該補色光が光出射側から出射されることを防止ないし抑制することができ、ひいては当該有機ＥＬ装置１を表示装置として用いた場合に、表示面での外光の写り込みを防止ないし抑制可能となり、高コントラストの表示を実現することができるようになる。なお、本実施形態の有機ＥＬ装置１では、表面反射率が４％であった。
【００３９】
なお、本実施形態の有機ＥＬ装置１では上述のような着色成分を用いたが、正孔注入／輸送層１１０ａに混入可能なものとしては染料や顔料等の色素を用いることが可能で、具体的にはフタロシアニン系の着色材料を用いるのが良い。この場合、着色成分の耐熱性が高まり、当該正孔注入／輸送層１０ａを形成する際の焼成温度（例えば２００℃程度）にも耐え得るものとなる。さらには、フタロシアニン系の着色材料をＰＥＤＯＴ／ＰＳＳに混在させる構成が好ましい。ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳは良好な正孔の注入／輸送性を持つことが知られている。ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳのような分散液は強酸性を有しているが、フタロシアニン系の着色材料を用いることにより酸に対して非常に安定なものとなる。また、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ中に着色材料を分散させることにより、着色材料が凝集もしくは結晶化することがないため、正孔注入／輸送層中に均一に着色材料を混在させることができる。また、液相法による製造効率が向上させることができる。また、本実施形態ではボトムエミッション構造を採用しているが、トップエミッション構造にも上記着色成分が含まれた正孔注入／輸送層１１０ａを採用することができる。
【００４０】
以下、第１実施形態の有機ＥＬ装置１の製造方法について説明する。
まず、基板２上に厚さ３００ｎｍ程度の遮光層ＢＭを公知のフォトリソグラフィ技術により形成した後、下地保護膜２ｃ及びＴＦＴ１２３を形成するとともに、層間絶縁膜１４４ａ，１４４ｂを形成してＥＬ装置の基体を作成する。続いて、第２層間絶縁膜１４４ｂ上に、全画素に透明陽極としてのＩＴＯを厚さ７０ｎｍ程度にパターン形成し、その後、画素開口膜たる無機物バンク層１１２ａとしてＳｉＯ２を厚さ１００ｎｍ程度に、さらに有機物バンク層１１２ｂとしてポリイミドを厚さ２μｍ程度にパターン形成する。
【００４１】
そして、形成したバンク内にインクジェット法にて正孔注入／輸送層１１０ａを形成する。具体的には、高分子導電性材料としてＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ材料と、着色成分として上述した赤色、緑色、青色のいずれかを含むものとをそれぞれを溶媒に溶解ないし分散させた液状組成物を作成した後、該液状組成物をインクジェット装置を用いたインクジェット法（液滴吐出法）にて各画素に塗布し、その塗布した液状組成物を乾燥させることで、各色の画素共通に厚さ１００ｎｍの正孔注入／輸送層１１０ａ１，１１０ａ２，１１０ａ３を得る。このときの液状組成物の濃度、およびその液状組成物中の色素濃度は、該当画素の発光色波長の透過率８０％以上、それ以外の波長領域での透過率１０％以下で調整するとよい。
【００４２】
さらに有機ＥＬ層１１０ｂを形成すべく、高分子型発光材料を各色の画素にインクジェット法を用いて吐出形成する。このときの膜厚は、全画素で８０ｎｍ程度とした。続いて、陰極１２を形成するとともに封止工程を行って、第１実施形態の有機ＥＬ装置１を得るものとしている。なお、有機ＥＬ層１１０ｂを形成する工程以降においては、蒸着法等の成膜方法を採用することもできる。
【００４３】
（第２実施形態）
次に、有機ＥＬ装置の第２実施形態について図４を用いて説明する。本第２実施形態の有機ＥＬ装置１００においては、有機ＥＬ層１１０ｂが全画素共通に白色発光するものとして構成されている。なお、有機ＥＬ層１１０ｂの構成以外は、第１実施形態と同様のため、説明を省略する。
【００４４】
第１実施形態では、正孔注入／輸送層１１０ａに着色成分が含有され、該着色成分が選択透過する色と、有機ＥＬ層１１０ｂの発光色とが画素毎に共通なものとされている。しかしながら、本第２実施形態では、正孔注入／輸送層１１０ａは第１実施形態と同様の着色成分を各画素に含ませて構成する一方、有機ＥＬ層１１０ｂは各画素共通に白色発光するものを用いて構成している。
【００４５】
この場合、正孔注入／輸送層１１０ａに混入された着色成分により、画素毎に異なる色の光を創出することが可能となる。具体的には、有機ＥＬ層１１０ａから発光された白色光を、正孔注入／輸送層１１０ａの着色成分が画素毎に赤色、緑色、青色のいずれかを選択透過するため、フルカラーの表示が可能となる。
【００４６】
また、第２実施形態では、有機ＥＬ層１１０ａが各画素共通の構成を備えるため、例えば蒸着法又は印刷法等により全画素ベタ状に形成することが可能となる。なお、その他の製造工程としては第１実施形態と同様の製造方法を採用することができるため、説明を省略する。
【００４７】
第１及び第２実施形態に示したように、各有機ＥＬ装置１，１００では、色純度を向上させるため、或いは外光反射を防止するため、或いはフルカラー表示を実現するために、正孔注入／輸送層１１０ａに対して着色成分を導入した。このような構成は、従来のようなカラーフィルタ層を別途形成する構成に比して、製造工程が簡便なため製造コスト削減に寄与できるとともに、装置の小型化を実現することが可能となる。
【００４８】
（第３実施形態）
図５は、本発明の電子機器の実施の形態例を示している。
本例の電子機器は、上述した有機ＥＬ装置を表示手段として備えている。図５は、携帯電話の一例を示した斜視図で、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は前記の有機ＥＬ装置を用いた表示部を示している。このように本発明に係る有機ＥＬ装置を表示手段として備える電子機器は、良好な発光特性を得ることができるとともに、電子機器の低価格化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】第１実施形態の有機ＥＬ装置の構成を模式的に示す説明図。
【図２】アクティブマトリクス型有機ＥＬ装置の回路構成を示す回路図。
【図３】第１実施形態の有機ＥＬ装置について表示領域の断面構造を示す拡大図。
【図４】第２実施形態の有機ＥＬ装置について表示領域の断面構造を示す拡大図。
【図５】本発明の電子機器の実施形態を示す斜視図。
【符号の説明】
【００５０】
１，１００…有機ＥＬ装置、１２…陰極（電極）、１１０ａ…正孔注入／輸送層（導電層）、１１０ｂ…有機ＥＬ層（発光層）、１１１…画素電極（電極）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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