(57)【要約】【課題】  サーマルイメージプロセスによって転写素材を転写対象へ転写するときに、効率的な転写処理を可能とする。【解決手段】  転写装置１０には、上型１２としてレーザービームＬＢを透過する材質を用い、この上型に光熱変換層１８を形成する。この上型と下型１４との間に、転写素材層３４が形成された転写フィルム３０と、ワーク３６とを重ねて加圧しながら、ワークに形成する有機ＥＬ発光層のパターンに応じてレーザービームを照射することにより光熱変換層を発熱させて転写素材層を軟化させることにより、転写素材層を仮支持体から切断・剥離させて、転写素材層中の有機ＥＬ発光層を形成する成分をワークに転写する。【選択図】        図１
2005005245.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
転写素材が重ねられた転写対象を対で配置した加圧手段の間で挟持して加熱することにより、転写対象へ転写素材を転写する転写素材の転写方法であって、
前記加圧手段の一方を光透過材によって形成すると共に、前記転写素材側の面に光源から発せられる光を吸収して発熱する光熱変換層を形成し、
前記一対の加圧手段の間で前記転写対象と共に前記転写素材を加圧しながら、前記光源から発せられる光を前記光透過材側から前記光熱変換層に照射して前記転写素材を加熱することにより、該転写素材を前記転写対象へ転写することを特徴とする転写素材の転写方法。
【請求項２】
対で配置した加圧手段の間で形状転写対象を挟持して、熱転写プロセスによって一方の加圧手段と形状転写対象の間に設けた型材に形成している所定パターンの突部に応じた凹部を形状転写対象に形成する形状転写方法であって、
所定波長の光を透過する光透過材によって前記一方の加圧手段を形成すると共に、前記形状転写対象側の面に前記所定波長の光が照射されることにより発熱する光熱変換層を形成し、
前記一対の加圧手段の間で前記形状転写対象を前記型材によって加圧しながら、前記光源から発する光を前記一方の加圧手段側から前記光熱変換層へ照射して前記光熱変換層を発熱させることにより、前記形状転写対象を加熱して、前記型材の突部に応じた凹部のパターンを前記形状転写対象に形成することを特徴とする形状転写方法。
【請求項３】
転写素材が重ねられた転写対象を上側加圧手段と、下側加圧手段の間で挟持して、熱転写プロセスによって転写素材を転写する転写素材の転写方法であって、
前記上側加圧手段をレーザー透過材によって形成すると共に、前記転写素材側の面にレーザー光によって発熱する光熱変換層を形成し、
前記上側加圧手段と前記下側加圧手段との間で前記転写対象と共に前記転写素材を加圧しながら、レーザー発振手段によって発振したレーザー光を前記光熱変換層に照射して前記転写素材を加熱することにより、該転写素材を前記転写対象へ転写することを特徴とする転写素材の転写方法。
【請求項４】
前記転写対象の表面に形成する前記転写素材のパターンに合わせて前記レーザー発振手段からレーザー光を前記光熱変換層へ照射することを特徴とする請求項３に記載の転写素材の転写方法。
【請求項５】
少なくとも前記下側加圧手段、好ましくは前記上側加圧手段と前記下側加圧手段に冷却手段を設けていることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の転写素材の転写方法。
【請求項６】
前記上側加圧手段の前記転写素材側の面に、前記転写対象の表面に形成する前記転写素材のパターンに合わせた突部を形成し、前記突部に設けた前記光熱変換層に前記レーザー光を照射することを特徴とする請求項３から請求項５の何れか１項に記載の転写素材の転写方法。
【請求項７】
前記上側加圧手段を石英ガラスによって形成していることを特徴とする請求項３から請求項６の何れか１項に記載の転写素材の転写方法。
【請求項８】
前記光熱変換層をニッケルによって形成していることを特徴とする請求項３から請求項７の何れか１項に記載の転写素材の転写方法。
【請求項９】
形状転写対象を上側加圧手段と、下側加圧手段の間で挟持して、熱転写プロセスによって上側加圧手段を形成する型材に設けている所定パターンの突部に応じた凹部を前記形状転写対象に形成する形状転写方法であって、
該所定波長の光を透過する光透過材によって前記型材を形成すると共に、前記型材の前記形状転写素材側の面に前記所定波長の光が照射されることにより発熱する光熱変換層を形成し、
前記上側加圧手段と前記下側加圧手段との間で前記転写対象と共に前記転写素材を加圧しながら、前記型材に対向して配置した光源から照射される前記所定波長の光によって前記光熱変換層を発熱させることにより、前記形状転写対象を加熱して、前記型材の突部に応じた凹部のパターンを前記形状転写対象に形成することを特徴とする形状転写方法。
【請求項１０】
前記光源が近赤外線を発する加熱光源であることを特徴とする請求項９に記載の形状転写方法。
【請求項１１】
前記光源が所定波長のレーザービームを発するレーザー発振手段であることを特徴とする請求項９に記載の形状転写方法。
【請求項１２】
前記レーザー発振手段が前記型材に形成している前記突部へ向けて前記レーザービームを走査しながら照射することを特徴とする請求項１１に記載の形状転写方法。
【請求項１３】
少なくとも前記下側加圧手段、好ましくは前記上側加圧手段と下側加圧手段に冷却手段を設けていることを特徴とする請求項９から請求項１２の何れか１項に記載の形状転写方法。
【請求項１４】
ウエブ状の転写対象に転写素材を重ねて加熱及び加圧することにより転写対象へ転写素材を転写する転写素材の転写方法であって、
外周部の基材として光透過材を用いて円筒状に形成した転写ローラの外周面に、光源から照射される光を吸収して発熱する光熱変換層を設け、前記光熱変換層に前記転写素材を重ねた前記転写対象を巻き掛けて搬送するときに、
加圧ローラによって前記転写ローラとの間で前記転写対象と共に前記転写素材を加圧しながら、前記転写ローラの内部に設けた光源から発する光を前記光熱変換層へ照射して前記転写対象へ転写する前記転写素材のパターンに応じて前記光熱変換層を発熱させ、
発熱した前記光熱変換層によって前記転写素材を加熱して前記転写対象へ転写させることを特徴とする転写素材の転写方法。
【請求項１５】
前記光源がレーザー光を発するときに、前記転写ローラの外周部をレーザー透過材によって形成すると共に、前記光熱変換層をレーザー吸収材によって形成していることを特徴とする請求項１４に記載の転写素材の転写方法。
【請求項１６】
ウエブ状の転写対象に転写素材を重ねて加熱及び加圧することにより転写対象へ転写素材を転写する転写素材の転写方法であって、
光透過性の可撓性部材によって形成したウエブ状の支持材の一方の面に光源から照射される光を吸収して発熱する光熱変換層を設け、該支持材の光熱変換層側の面に前記転写素材を重ね、さらに、転写素材に重ねた前記転写対象を巻き掛けローラに巻きかけて搬送するときに、
加圧手段によって前記支持材と前記巻き掛けローラのとの間で前記転写対象と前記転写素材を加圧しながら、光源から発する光を前記支持材に設けた前記光熱変換層へ照射して前記転写パターンに応じて前記光熱変換層を発熱させ、
発熱した前記光熱変換層によって前記転写素材を加熱して前記転写対象へ転写させることを特徴とする転写素材の転写方法。
【請求項１７】
前記光源から前記支持材の前記光熱変換層へ向けてレーザー光を、前記転写パターンに応じて走査しながら照射することを特徴とする請求項１６に記載の転写素材の転写方法。
【請求項１８】
ウエブ状の転写対象を加熱及び加圧することにより転写対象の表面に所定パターンの凹部を形成する形状転写方法であって、
外周部の基材として光透過材を用いて略円筒状に形成した転写ローラの外周面に、光源から照射される光を吸収して発熱する光熱変換層及び、前記転写対象の表面に形成する凹部に応じた凸部が形成された型材を配置し、該転写ローラに、前記転写対象を巻き掛けて搬送するとき、
加圧ローラによって前記転写ローラとの間で前記転写対象を加圧しながら、転写ローラの内部に設けた光源から前記光熱変換層へ照射する光によって光熱変換層を発熱させ、前記型材に形成している前記凸部を介して前記転写対象を加熱することにより、前記凸部に応じた前記凹部を前記転写対象に形成することを特徴とする形状転写方法。
【請求項１９】
前記光源がレーザー光を発するときに、前記転写ローラの外周部をレーザー透過材によって形成すると共に、前記光熱変換層をレーザー吸収材によって形成し、かつ、前記凸部に選択的に前記レーザー光を照射することを特徴とする請求項１８に記載の形状転写方法。
【請求項２０】
ウエブ状の転写対象に転写素材を重ねて加熱及び加圧することにより転写素材を所定の転写パターンで転写対象へ転写する転写装置であって、
所定波長の光を透過する光透過材によって外周部の基材が円筒状に形成され、前記転写素材と前記転写対象を巻き掛けて搬送する転写ローラと、
前記転写ローラの外周面と転写ローラに巻き掛けられる前記転写対象との間に配置され前記所定波長の光を吸収して発熱する光熱変換層と、
前記転写ローラとの間で前記転写対象を挟持することにより加圧する加圧手段と、
前記転写ローラの内部に配置されて所定波長の光を前記加圧手段によって加圧された前記転写対象へ向けて照射することにより前記転写パターンに基づいて前記光熱変換層を発熱させて転写素材を加熱する光源と、
を含むことを特徴とする転写装置。
【請求項２１】
前記光熱変換層を前記転写ローラの外周面に形成していることを特徴とする請求項２０に記載の転写装置。
【請求項２２】
ウエブ状の転写対象を、所定パターンの凸部が形成された型材に重ねて加熱及び加圧することにより転写対象の表面に前記凸部に応じたパターンの凹部を形成する転写装置であって、
所定波長の光を透過する光透過材によって外周部の基材が略円筒状に形成され前記転写対象を巻き掛けて搬送する転写ローラと、
前記転写ローラの外周面と転写ローラに巻き掛けられる前記転写対象との間に形成されて前記所定波長の光を吸収して発熱する光熱変換層と、
前記転写ローラとの間で前記型材に前記転写対象を重ねて挟持することにより加圧する加圧手段と、
前記転写ローラの内部に配置されて所定波長の光を前記加圧手段によって加圧された前記転写対象へ向けて照射することにより前記光熱変換層を発熱させて前記型材の凸部によって転写対象を加熱する光源と、
を含むことを特徴とする転写装置。
【請求項２３】
前記型材が前記転写ローラの外周部に一体に形成されていることを特徴とする請求項２２に記載の転写装置。
【請求項２４】
ウエブ状に形成された型材を前記転写対象と重ねて前記転写ローラに巻き掛けて搬送することを特徴とする請求項２２に記載の転写装置。
【請求項２５】
前記光源がレーザー光を発するときに、前記転写ローラの前記基材をレーザー透過材によって形成すると共に、前記光熱変換層をレーザー吸収材によって形成することを特徴とする請求項２０から請求項２４の何れか１項に記載の転写装置。
【請求項２６】
それぞれから前記レーザー光を射出可能な多数の射出口を設けたレーザーヘッドから前記転写対象の搬送方向と直交する方向に沿った任意の位置に前記レーザー光を照射可能としていることを特徴とする請求項２５に記載の転写装置。
【請求項２７】
前記加圧手段として前記転写ローラの所定範囲に巻き掛けた無端の加圧ベルトを備えたことを特徴とする請求項２０から請求項２６の何れか１項に記載の転写装置。
【請求項２８】
前記転写ローラの周囲に加熱された前記転写対象を冷却する冷却手段を含むことを特徴とする請求項２０から請求項２７の何れか１項に記載の転写装置。
【請求項２９】
ウエブ状の転写対象に転写素材を重ねて加熱及び加圧することにより転写素材を所定の転写パターンで転写対象へ転写する転写装置であって、
所定波長のレーザー光を透過する光透過性の可撓性部材によってウエブ状に形成した支持材の一方の面に該レーザー光を吸収して発熱する光熱変換層を設けた加熱部材と、
前記転写対象を巻きかけて搬送する巻き掛けローラと、
前記支持材側が外方となるように加熱部材、前記転写素材及び前記転写対象が重ねて巻き掛けられる巻き掛けローラと、
前記巻き掛けローラに巻き掛けられる前記加熱部材を前記巻き掛けローラへ加圧することにより前記転写素材と前記転写対象を加圧する加圧手段と、
前記巻き掛けローラに前記転写対象及び前記転写素材と共に巻き掛けられる前記加熱部材へ向けて前記レーザー光を照射することにより前記転写パターンに応じて前記光熱変換層を発熱させて転写素材を加熱する光源と、
を含むことを特徴とする転写装置。
【請求項３０】
前記光源が、前記転写パターンに応じて前記レーザー光を走査しながら照射することを特徴とする請求項２９に記載の転写装置。
【請求項３１】
前記巻き掛けローラの外周部を冷却する冷却手段を設けていることを特徴とする請求項２９又は請求項３０に記載の転写装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、サーマルイメージングプロセスを用いて、転写素材を転写対象に転写する転写素材の転写方法、型材に形成した凸部応じたパターンの凹部を形状転写対象に形成する形状転写方法及び転写装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
赤外線透過材をプラスチックに押し当てた状態で赤外線輻射を行って、プラスチックに赤外線を照射することにより加熱し、透過材の表面の形状を、プラスチックに加熱転写する成形方法が提案されている（例えば、非特許文献１参照）。
【０００３】
この成形方法では、例えばポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を転写樹脂として、このＰＭＭＡと接する一方の型に炭酸ガスレーザーを透過するセレン化亜鉛などの素材を設置し、ＰＭＭＡの裏側面にシリコンを設置する。この状態でレーザービームを照射することによりＰＭＭＡを加熱することができ、さらに加圧することにより、ＰＭＭＡを金型に応じた形状に加工することができる。
【０００４】
このようにレーザービームを用いることにより転写樹脂を瞬時に加熱することができ、また、従来の加熱プレス方法に比べて速やかな冷却が可能となる。
【０００５】
ところで、カラーフィルタのセパレーションリブ（所謂仕切りパターン）や液晶表示装置のブラックマトリックス等を形成するときレーザー光（レーザービーム）を用いたサーマルイメージプロセスが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００６】
この提案では、基材上に光熱変換層及び受像要素に転写する画像成分を含む転写層を設けたドナーシートを用い、このドナーシートと受像要素を重ね合わせた状態で加圧すると共に、光熱変換層へレーザービームを照射して、光熱変換層を溶融させることにより、基材から転写層を剥離させて、転写層を受像要素に転写するようにしている。
【０００７】
一方、フルカラーディスプレイ、バックライト、照明光源等の面光源やプリンタ等の光源アレイとして、有機ＥＬ（Electroluminescent）素子等の有機発光素子があり、この有機ＥＬ素子を製造するときにも、サーマルイメージングプロセスを用いることが可能である。
【０００８】
有機発光素子は、発光層及び発光層を挟んだ一対の対向電極から構成されており、一対の対向電極間に電界を生じさせることにより発光層が発光する。
【０００９】
このような有機ＥＬ素子を製造するときに、有機薄膜と光熱変換層を有するドナーシートを用い、ドナーシートにレーザービームを照射することにより、有機薄膜を熱転写する方法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【００１０】
また、金属シートに薄肉で内部が中空の突起を形成して、この突起形成面に有機ＥＬ発光層を蒸着し、透明導電膜上に形成された正孔輸送層に圧着する。この状態で、突起内部にレーザー光を選択的に照射することにより有機ＥＬ発光層を正孔輸送層に転写するカラー有機ディスプレイの製造方法が提案されている（例えば、特許文献３参照。）。
【００１１】
一方、連続するウエブの表面に、所定の形状を転写する形状転写装置としては、外周面に型を形成しているスタンパーロールを、外周面に対向させている加熱手段によって加熱し、加熱したスタンパーロールに樹脂原反シートを巻きかけて加圧することにより、ウエブである樹脂原反シートにエンボスパターンを形成する提案がなされておりいる（例えば、特許文献４参照。）。
【００１２】
また、連続するウエブの表面に転写素材を転写する方法としては、トナーを付着させた記録紙を、熱線定着ローラと加圧ゴムローラによって挟持して、加圧及び加熱処理を施すことにより、転写素材であるトナーを記録紙に転写する方法などがある（例えば、特許文献５参照。）。
【００１３】
この提案では、熱線定着ローラの外周部を透光性基体によって形成し、さらに、この透光性基体の表面に熱線吸収層を設け、内部に配置しているハロゲンランプによって熱線吸収層を加熱するようにしている。
【非特許文献１】「第１３回年次大会論文集」、社団法人プラスチック成形加工学会  、加工成形‘０２、特別セッションIV−１０３
【特許文献１】特開２００１−１３０１４１号公報
【特許文献２】国際公開第００／４１８９３号パンフレット
【特許文献３】特許第２９１８０３７号
【特許文献４】特開２０００−２２１３１２号公報
【特許文献５】特開２００１−２２２１０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかしながら、レーザービームが照射されることにより発熱する光熱変換層を、転写素材と共にドナーシートに形成した場合、光熱変換層が好ましくない成分を含む転写素材を用いることができないという問題がある。また、光熱変換層が溶融する高温下では、この熱が転写素材に伝達することで、転写素材の成分が破壊されてしまうことがあり、ドナーシートに光熱変換層を形成することは、転写素材を制限してしまうことがある。
【００１５】
また、ドナーシートの全面にレーザービームを照射するために、このレーザービームの熱によって、ドナーシートと受像要素を挟んで加圧している転写型の温度も上昇してしまう。ドナーシートと受像要素を型の間から取出すためには、ドナーシートと受像要素が冷却されてから行わなければならず、これが、つぎの受像素材に転写素材を転写するまでの時間である、転写サイクルの短縮を妨げてしまっている。
【００１６】
さらに、ウエブ状の転写対象に転写素材や形状を転写する時には、必ずしもウエブの全面に素材転写や形状転写を行わなければならないとは限らない。このようなときに、加熱ローラの全面を加熱することは、極めて熱効率が悪い。
【００１７】
また、転写対象には、加熱された状態で取り扱うと熱変形を生じてしまうものがあり、また、加熱ローラが次の転写対象領域に対向するときに、温度上昇が生じていると、正確な加熱制御が困難となり、この点からも転写サイクルの短縮を難しくしている。
【００１８】
本発明は上記事実に鑑みてなされたものであり、サーマルイメージプロセスによって転写対象に転写素材を加熱転写したり、形状転写対象に所定パターンの凹部を形成するときの効率的な加熱や、転写素材及び形状転写の作業サイクルの短縮を可能とする転写素材の転写方法及び形状転写方法を提案することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
上記目的を達成するための本発明の転写素材の転写方法は、転写素材が重ねられた転写対象を対で配置した加圧手段の間で挟持して加熱することにより、転写対象へ転写素材を転写する転写素材の転写方法であって、前記加圧手段の一方を光透過材によって形成すると共に、前記転写素材側の面に光源から発せられる光を吸収して発熱する光熱変換層を形成し、前記一対の加圧手段の間で前記転写対象と共に前記転写素材を加圧しながら、前記光源から発せられる光を前記光透過材側から前記光熱変換層に照射して前記転写素材を加熱することにより、該転写素材を前記転写対象へ転写することを特徴とする。
【００２０】
また、本発明の形状転写方法は、対で配置した加圧手段の間で形状転写対象を挟持して、熱転写プロセスによって一方の加圧手段と形状転写対象の間に設けた型材に形成している所定パターンの突部に応じた凹部を形状転写対象に形成する形状転写方法であって、該所定波長の光を透過する光透過材によって前記一方の加圧手段を形成すると共に、前記形状転写対象側の面に前記所定波長の光が照射されることにより発熱する光熱変換層を形成し、前記一対の加圧手段の間で前記形状転写対象を前記型材によって加圧しながら、前記光源から発する光を前記一方の加圧手段側から前記光熱変換層へ照射して前記光熱変換層を発熱させることにより、前記形状転写対象を加熱して、前記型材の突部に応じた凹部のパターンを前記形状転写対象に形成することを特徴とする。
【００２１】
本発明の転写素材の転写方法及び形状転写方法によれば、一対の加圧手段によって転写素材と転写対象又は型材によって転写対象を加圧するときに、加圧手段の一方を光透過材によって形成すると共に光熱変換層を設け、光源から照射する光によって光熱変換層を発熱させ、転写素材と転写対象又は、型材と転写対象を加熱する。
【００２２】
これにより、加圧手段の温度上昇を抑えながら、転写素材及び転写対象又は型材と転写対象を効率的に加熱することができる。また、加圧手段の実質的な熱量を少なくすることができるので、転写サイクルの短縮が可能となり、効率的な素材転写又は形状転写が可能となる。
【００２３】
このような本発明を適用する転写素材の転写方法は、転写素材が重ねられた転写対象を上側加圧手段と、下側加圧手段の間で挟持して、熱転写プロセスによって転写素材を転写する転写素材の転写方法であって、前記上側加圧手段をレーザー透過材によって形成すると共に、前記転写素材側の面にレーザー光によって発熱する光熱変換層を形成し、前記上側加圧手段と前記下側加圧手段との間で前記転写対象と共に前記転写素材を加圧しながら、レーザー発振手段によって発振したレーザー光を前記光熱変換層に照射して前記転写素材を加熱することにより、該転写素材を前記転写対象へ転写することを特徴とする。
【００２４】
この発明によれば、光源としてレーザー発振手段を用い、上側加圧手段をレーザー光が透過する材質によって形成すると共に、この上側加圧手段にレーザー光を吸収して発熱する光熱変換層を設ける。これにより、レーザー発振手段で発振したレーザー光を、光熱変換層に照射して、転写素材を加熱することにより転写素材を転写対象へ転写する。
【００２５】
このときに、加熱と加圧を併用して転写すると共に、レーザー光を用いて光熱変換層を発熱させることにより転写素材を加熱するようにしているため、転写素材の効率的な加熱が可能となる。また、加圧することにより転写素材が溶融するまで昇温する必要がないため、転写素材などが温度により変質が著しい素材であっても有効である。
【００２６】
また、上側加圧手段に光熱変換層を設けているため、転写対象へ転写する転写素材の成分が光熱変換層の成分に影響を受けることがないため、任意の成分の転写素材を用いて転写処理を行うことができる。
【００２７】
このような本発明では、転写素材による転写素材層を仮支持体に形成し、転写素材層が転写対象に対向して、仮支持体が上側加圧手段の光熱変換層に対向するようにすることが好ましい。
【００２８】
また、請求項４に係る発明は、前記転写対象の表面に形成する前記転写素材のパターンに合わせて前記レーザー発振手段からレーザー光を前記光熱変換層へ照射することを特徴とする。
【００２９】
この発明によれば、レーザー発振手段から射出するレーザー光を、転写対象に形成する転写素材のパターンに応じて照射する。
【００３０】
これにより、転写素材の全面を加熱せずに、必要な領域のみを加熱することができるので、より一層の効率的加熱が可能となる。また、転写素材の加熱不要領域や、転写対象、上側加圧手段及び下側加圧手段の温度上昇を抑えることができるので、転写サイクルの短縮が可能となる。
【００３１】
また、請求項５に係る発明は、少なくとも前記下側加圧手段、好ましくは前記上側加圧手段と前記下側加圧手段に冷却手段を設けていることを特徴とする。
【００３２】
この発明によれば、下側加圧手段ないし上側加圧手段に冷却手段を設ける。これにより、転写素材を転写対象へ転写することにより上昇した下側加圧手段、上側加圧手段、転写素材及び転写対象の温度を下げることができる。
【００３３】
転写対象や上側加圧手段及び下側加圧手段の温度が高い状態で、上側加圧手段と下側加圧手段の間から転写対象を取出すと、転写精度が低下してしまう。このために、転写素材を転写対象に転写した時には、転写対象は勿論、上側加圧手段及び下側加圧手段の温度を十分に下げた後に、転写対象を取出す必要がある。
【００３４】
このときに、上側加圧手段及び下側加圧手段を冷却手段によって冷却することにより、転写素材を加熱するときの上側加圧手段及び下側加圧手段の温度上昇を抑えることができると共に、転写素材の加熱を終了した後は、転写素材、転写対象、上側加圧手段及び下側加圧手段の温度を迅速に下げることができる。
【００３５】
これにより、転写精度を低下させてしまうことなく、転写サイクルの大幅な短縮が可能となる。
【００３６】
さらに、請求項６に係る発明は、前記上側加圧手段の前記転写素材側の面に、前記転写対象の表面に形成する前記転写素材のパターンに合わせた突部を形成し、前記突部に設けた前記光熱変換層に前記レーザー光を照射することを特徴とする。
【００３７】
この発明によれば、転写対象に転写して形成する転写素材のパターンに合わせて、上側加圧手段に突部を形成し、転写対象で転写素材が転写される部位が加圧されるようにしている。
【００３８】
これにより、転写対象へ転写素材を転写するときの加圧力（加圧圧力）や転写温度（加熱温度）を下げて、効率的に転写素材を転写対象に転写することができる。
【００３９】
このような本発明では、前記上側加圧手段を石英ガラスによって形成することができ、前記光熱変換層をニッケルによって形成することができる。
【００４０】
なお、上側加圧手段の材質としては、レーザー光の透過率は勿論、屈折率を考慮して選択することが好ましい。また、レーザー光の透過率や、屈折率、光熱変換層に用いる材質の吸収率は、レーザー光の波長によって異なるので、レーザー光の波長を考慮して選択することが好ましい。
【００４１】
一方、本発明の形状転写方法は、形状転写対象を上側加圧手段と、下側加圧手段の間で挟持して、熱転写プロセスによって上側加圧手段を形成する型材に設けている所定パターンの突部に応じた凹部を前記形状転写対象に形成する形状転写方法であって、該所定波長の光を透過する光透過材によって前記型材を形成すると共に、前記型材の前記形状転写素材側の面に前記所定波長の光が照射されることにより発熱する光熱変換層を形成し、前記上側加圧手段と前記下側加圧手段との間で前記転写対象と共に前記転写素材を加圧しながら、前記型材に対向して配置した光源から照射される前記所定波長の光によって前記光熱変換層を発熱させることにより、前記形状転写対象を加熱して、前記型材の突部に応じた凹部のパターンを前記形状転写対象に形成することを特徴とする。
【００４２】
この発明によれば、形状転写に用いる型材が形成されるか配置される一方の加圧手段を光源から発する所定波長の光を透過する材質によって形成すると共に、この加圧手段の形状転写対象側の面に、この光を吸収して発熱する光熱変換層を設け、形状転写対象を加圧しながら光源から発する光によって、形状転写対象が接する型材の凸部を加熱する。
【００４３】
これにより、形状転写対象が加熱されて軟化することにより、形状転写対象に、型材の突部のパターンに応じた凹部のパターンを形成することができる。
【００４４】
このときに、形状転写対象を部分的に加熱するために、形状転写対象の温度上昇を抑えて、効率的に形状転写を行うことができる。
【００４５】
このような本発明の形状転写方法では、前記光源が近赤外線を発する加熱光源を用いることができる。
【００４６】
また、本発明の形状転写方法では、前記光源が所定波長のレーザービームを発するレーザー発振手段を用いることもできる。この場合、前記レーザー発振手段が前記型材に形成している前記凸部へ向けて前記レーザービームを照射することにより、転写対象に接する型材の凸部のみを加熱するので、型材及び形状転写対象の効率的な加熱が可能となる。
【００４７】
さらに、本発明の形状転写方法においても、少なくとも前記下側加圧手段、好ましくは前記上側加圧手段と前記下側加圧手段を形成する型材に冷却手段を設けることが好ましく、これにより、形状転写対象の温度上昇を抑えることができると共に、形状転写対象、上側加圧手段および下側加圧手段の迅速な冷却が可能となり、形状転写サイクルの短縮を図ることができる。
【００４８】
なお、上側加圧手段は、一対の加圧手段のうちでレーザー発振手段から発せられるレーザー光又は、加熱光源から発せられる光が照射される側を示すものであり、必ずしも鉛直方向の上側に限るものではなく、例えば、上側加圧手段と下側加圧手段に相当する加圧手段を水平方向に沿って対で配置しているときには、レーザー光や加熱光源からの光が照射される側が上側加圧手段となる。すなわち、本発明では、対で配置される加圧手段の中で、レーザー光や赤外線などが照射される側を上側加圧手段としている。
【００４９】
一方、請求項１４に係る転写素材の転写方法は、ウエブ状の転写対象に転写素材を重ねて加熱及び加圧することにより転写対象へ転写素材を転写する転写素材の転写方法であって、外周部の基材として光透過材を用いて円筒状に形成した転写ローラの外周面に、光源から照射される光を吸収して発熱する光熱変換層を設け、前記光熱変換層に前記転写素材を重ねた前記転写対象を巻き掛けて搬送するときに、加圧ローラによって前記転写ローラとの間で前記転写対象と共に前記転写素材を加圧しながら、前記転写ローラの内部に設けた光源から発する光を前記光熱変換層へ照射して前記転写対象へ転写する前記転写素材のパターンに応じて前記光熱変換層を発熱させ、発熱した前記光熱変換層によって前記転写素材を加熱して前記転写対象へ転写させることを特徴とする。
【００５０】
この発明によれば、光透過材によって円筒状に形成した転写ローラに転写素材と転写対象を重ねて巻き掛け、加圧ローラとの間で挟持して加圧する。また、転写ローラの内部には、光源を配置し、転写素材と転写ローラの基材の間に光熱変換層を配置する。
【００５１】
光源は、転写対象に転写する転写素材のパターンに基づいて、所定波長の光を照射することにより、この光が基材を透過して光熱変換層に吸収されて発熱し、転写パターンに応じて転写素材を加熱して、転写素材を転写対象に転写させる。
【００５２】
これにより、転写対象等の全面を加熱することがないので、転写対象等の温度上昇を抑えることができる。すなわち、転写素材を効率的に加熱して転写対象へ転写することができる。
【００５３】
また、転写対象の温度上昇及び転写ローラの温度上昇を抑えることができるので、転写対象の冷却時間を短縮することができ、これに伴って、転写サイクルを短縮して、ウエブ状の転写対象に転写素材を連続して転写するときの生産性の向上を図ることができる。
【００５４】
このような転写素材の転写方法においては、前記光源がレーザー光を発するときに、前記転写ローラの外周部をレーザー透過材によって形成すると共に、前記光熱変換層をレーザー吸収材によって形成するものであれば良い。
【００５５】
一方、請求項１６に係る転写素材の転写方法は、ウエブ状の転写対象に転写素材を重ねて加熱及び加圧することにより転写対象へ転写素材を転写する転写素材の転写方法であって、光透過性の可撓性部材によって形成したウエブ状の支持材の一方の面に光源から照射される光を吸収して発熱する光熱変換層を設け、該支持材の光熱変換層側の面に前記転写素材を重ね、さらに、転写素材に重ねた前記転写対象を巻き掛けローラに巻きかけて搬送するときに、加圧手段によって前記支持材と前記巻き掛けローラのとの間で前記転写対象と前記転写素材を加圧しながら、光源から発する光を前記支持材に設けた前記光熱変換層へ照射して前記転写パターンに応じて前記光熱変換層を発熱させ、発熱した前記光熱変換層によって前記転写素材を加熱して前記転写対象へ転写させることを特徴とする。
【００５６】
この発明によれば、光透過性を有する可撓性部材によって形成したウエブ状の支持材の一方の面に光熱変換層を形成し、光熱変換層に転写素材を対向させ、この転写素材に転写対象を重ねた状態で、転写対象を巻き掛けローラに巻きかけて搬送する。転写素材を転写対象に転写する時には、支持材の非光熱変換層側の面から、転写パターンに応じて光を照射して、光熱変換層を加熱する。
【００５７】
これにより、転写素材を効率的に加熱して、転写対象へ転写することができる。このときにも、転写対象の全面を加熱することがないので、効率的な転写素材の転写が可能となる。
【００５８】
このような転写素材の転写方法においては、前記光源から前記支持材の前記光熱変換層へ向けてレーザー光を、前記転写パターンに応じて走査しながら照射することができ、これにより、任意の転写パターンで転写素材を転写対象へ転写することができる。
【００５９】
請求項１８に係る形状転写方法は、ウエブ状の転写対象を加熱及び加圧することにより転写対象の表面に所定パターンの凹部を形成する形状転写方法であって、外周部の基材として光透過材を用いて略円筒状に形成した転写ローラの外周面に、光源から照射される光を吸収して発熱する光熱変換層及び、前記転写対象の表面に形成する凹部に応じた凸部が形成された型材を配置し、該転写ローラに前記転写対象を巻き掛けて搬送するとき、加圧ローラによって前記転写ローラとの間で前記転写対象を加圧しながら、転写ローラの内部に設けた光源から前記光熱変換層へ照射する光によって光熱変換層を発熱させ、前記型材に形成している前記凸部を介して前記転写対象を加熱することにより、前記凸部に応じた前記凹部を前記転写対象に形成することを特徴とする。
【００６０】
この発明によれば、転写ローラにウエブ状の転写対象を巻き掛け、加圧ローラを用いた加圧手段によって加圧する。このときに、転写ローラの基材と転写対象との間に、光熱変換層と型材を配置する。
【００６１】
光熱変換層は、光源から転写対象へ向けて照射される所定波長の光を吸収して発熱し、型材を加熱する。
【００６２】
このとき、転写対象は、主に型材に形成している凸部から熱を受けて加熱されるので、凸部のパターンに応じた凹部が形状される。また、転写ローラは、基材がこの光を透過するので、型材を加熱するための熱量が少なくて済むと共に、転写ローラの温度上昇が抑えられる。
【００６３】
これにより、高い熱効率での転写が可能となると共に、転写サイクルを短縮して、ウエブ状の転写対象に転写素材を連続して転写するときの生産性の向上を図ることができる。
【００６４】
このような形状転写方法においては、前記光源がレーザー光を発するときに、前記転写ローラの外周部をレーザー透過材によって形成すると共に、前記光熱変換層をレーザー吸収材によって形成し、かつ、前記凸部に選択的に前記レーザー光を照射するものであれば良く、これにより、より転写効率の向上を図ることができる。
【００６５】
一方、請求項２０に係る転写装置は、ウエブ状の転写対象に転写素材を重ねて加熱及び加圧することにより転写素材を所定の転写パターンで転写対象へ転写する転写装置であって、所定波長の光を透過する光透過材によって外周部の基材が円筒状に形成され、前記転写素材と前記転写対象を巻き掛けて搬送する転写ローラと、前記転写ローラの外周面と転写ローラに巻き掛けられる前記転写対象との間に配置され前記所定波長の光を吸収して発熱する光熱変換層と、前記転写ローラとの間で前記転写対象を挟持することにより加圧する加圧手段と、前記転写ローラの内部に配置されて所定波長の光を前記加圧手段によって加圧された前記転写対象へ向けて照射することにより前記転写パターンに基づいて前記光熱変換層を発熱させて転写素材を加熱する光源と、を含むものであれば良い。
【００６６】
すなわち、ウエブ状の転写対象に転写素材を転写する転写装置においては、光透過性の基材によって円筒状に形成した転写ローラに転写素材と転写対象を巻き掛け加圧する。このときに、転写ローラと転写素材の間に光熱変換層を配置して、この光熱変換層へ向けて、転写素材の転写パターンに基づいて光を照射する。
【００６７】
これにより、転写パターンに基づいた転写素材が加熱されて、転写対象へ転写される。
【００６８】
転写素材をウエブ状の転写対象へ転写する転写装置（素材転写装置）においては、前記光熱変換層を前記転写ローラの外周面に形成することができる。
【００６９】
請求項２２に係る転写装置は、ウエブ状の転写対象を、所定パターンの凸部が形成された型材に重ねて加熱及び加圧することにより転写対象の表面に前記凸部に応じたパターンの凹部を形成する転写装置であって、所定波長の光を透過する光透過材によって外周部の基材が略円筒状に形成され前記転写対象を巻き掛けて搬送する転写ローラと、前記転写ローラの外周面と転写ローラに巻き掛けられる前記転写対象との間に形成されて前記所定波長の光を吸収して発熱する光熱変換層と、前記転写ローラとの間で前記型材に前記転写対象を重ねて挟持することにより加圧する加圧手段と、前記転写ローラの内部に配置されて所定波長の光を前記加圧手段によって加圧された前記転写対象へ向けて照射することにより前記光熱変換層を発熱させて前記型材の凸部によって転写対象を加熱する光源と、を含むものであれば良い。
【００７０】
ウエブ状の転写対象に所定パターンの凹部を連続的に形成する形状転写を行うための転写装置としては、光透過性の基材によって円筒状に形成した転写ローラに、転写対象を巻き掛けて加圧する。このときに、転写対象に形成する凹部に基づいた凸部が形成された型材及び光熱変換層を、転写ローラと転写対象の間に配置し、光熱変換層へ向けて光源から所定波長の光を照射することにより、主に型材に形成している凸部によって転写対象を加熱する。
【００７１】
これにより、転写対象の全面を加熱することなく、転写対象を加熱して、型材の凸部に応じた凹部を転写対象に、連続して形成することができる。
【００７２】
このようなウエブ状の転写対象に所定パターンの凹部を形成する転写装置（形状転写装置）においては、前記型材が前記転写ローラの外周部に一体に形成されているものであっても良く、ウエブ状に形成された型材を前記転写対象と重ねて前記転写ローラに巻き掛けられて搬送するものであっても良い。
【００７３】
また、ウエブ状の転写対象へ転写対象の転写又は所定パターンの凹部の転写を行う本発明の転写装置においては、前記光源がレーザー光を発するときに、前記転写ローラの前記基材をレーザー透過材によって形成すると共に、前記光熱変換層をレーザー吸収材によって形成することができる。
【００７４】
このときには、所定パターンの凹部を転写対象に形成する転写装置においては、光源から凸部のそれぞれに選択的にレーザー光を照射することが好ましい。すなわち、転写対象に形成する凹部のパターンに応じてレーザー光を走査して照射することにより、より効率的な加熱が可能となる。
【００７５】
また、本発明の転写装置においては、それぞれから前記レーザー光を射出可能な多数の射出口を設けたレーザーヘッドから前記転写対象の搬送方向と直交する方向に沿った任意の位置に前記レーザー光を照射可能としても良く、前記加圧手段として前記転写ローラの所定範囲に巻き掛けた無端の加圧ベルトを備えたものであっても良い。
【００７６】
さらに、本発明の転写装置においては、前記転写ローラの周囲に加熱された前記転写対象を冷却する冷却手段を含むことが好ましい。
【００７７】
また、請求項２９に係る転写装置は、ウエブ状の転写対象に転写素材を重ねて加熱及び加圧することにより転写素材を所定の転写パターンで転写対象へ転写する転写装置であって、所定波長のレーザー光を透過する光透過性の可撓性部材によってウエブ状に形成した支持材の一方の面に該レーザー光を吸収して発熱する光熱変換層を設けた加熱部材と、前記転写対象を巻きかけて搬送する巻き掛けローラと、前記支持材側が外方となるように加熱部材、前記転写素材及び前記転写対象が重ねて巻き掛けられる巻き掛けローラと、前記巻き掛けローラに巻き掛けられる前記加熱部材を前記巻き掛けローラへ加圧することにより前記転写素材と前記転写対象を加圧する加圧手段と、前記巻き掛けローラに前記転写対象及び前記転写素材と共に巻き掛けられる前記加熱部材へ向けて前記レーザー光を照射することにより前記転写パターンに応じて前記光熱変換層を発熱させて転写素材を加熱する光源と、を含むことを特徴とする。
【００７８】
この発明によれば、巻き掛けローラに転写対象と転写素材を巻きかけて搬送する。このとき、光透過性で可撓性部材を用いてウエブ状の支持材を用い、支持材の一方の面に光熱変換層を設けた加熱部材を、光熱変換層が転写素材に対向するように重ねて巻き掛けロールに巻き掛ける。
【００７９】
転写素材を転写対象に転写する時には、光源から発する光を、転写パターンに応じて支持材側から光熱変換層へ照射する。これにより、光熱変換層が発熱することにより転写素材が加熱されて転写対象に転写する。
【００８０】
このような転写装置においては、前記光源が、前記転写パターンに応じて前記レーザー光を走査しながら照射するものであることが好ましく、また、前記巻き掛けローラの外周部を冷却する冷却手段を設けることができる。
【００８１】
これにより、ウエブ状の転写対象へ、所望の転写パターンで転写素材を転写することができる。
【００８２】
このような本発明の転写装置は、転写対象、転写素材及び加熱部材をシート状に形成して、巻き掛けロールに巻き掛けることにより、シート状の転写対象への素材転写が可能となる。
【発明の効果】
【００８３】
以上説明したように本発明によれば、光透過材によって形成した加圧手段に光熱変換層を形成し、光源から照射する光によって光熱変換層を選択的に加熱しながら素材転写や形状転写を行うことにより、熱量を抑えて効率的な加熱及び転写サイクルの短縮が可能となるという優れた効果が得られる。
【００８４】
また、本発明は、上側加圧手段に光熱変換層を設けると共に、この上側加圧手段をレーザー光の透過する材質によって形成することにより、ドナーシートに光熱変換層と転写素材を一体で設ける必要がなくなり、転写素材の成分が光熱変換層の成分によって制限を受けてしまうのを防止することができる。
【００８５】
また、加熱と加圧を併用しているため、転写素材が溶融するまで昇温する必要がなく、温度に対して変質が著しい素材であっても転写素材等として用いることが可能となる。
【００８６】
さらに、本発明では、転写対象に形成する転写素材のパターンに応じてレーザー光を走査して転写素材を加熱するようにしているので、効率的な転写が可能となり、転写作業による生産性を各段に向上させることができる。
【００８７】
また、本発明では、加熱源としてレーザービームや近赤外線を用いて、形状転写対象を効率的に加熱して、形状転写を行うことができる。
【００８８】
また、本発明では、転写サイクルの短縮を図ることができるので、加圧手段として転写ローラを用いることにより、ウエブ状の転写対象に連続して素材転写又は形状転写を行うときの生産性の向上を図ることができる。
【００８９】
また、本発明の転写装置によれば、ウエブ状やシート状の転写対象への高精度の素材転写又は形状転写を連続的に行うことができるので、高品質で生産性の高い素材転写又は形状転写を行うことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００９０】
以下に、本発明の実施の形態を説明する。
〔第１実施例〕
図１には、本発明の第１の実施の形態に適用した転写装置１０の概略構成を示している。この転写装置１０は、転写素材が設けられたドナーシートと転写対象を重ね合わせ、サーマルイメージングプロセスによって、転写対象へ画像転写を行う。本実施の形態では、一例として、この転写装置１０を、ガラス基板に、透明電極、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、金属電極を積層して形成した有機ＥＬ（Electroluminescence：電界発光）素子の形成に用いる。
【００９１】
転写装置１０は、上側加圧手段を形成する上型１２と、下側加圧手段を形成する下型１４と、を備えており、上型１２と下型１４の間でドナーシートと転写対象を重ねあわせた状態で所定圧力で挟持することにより加圧する。
【００９２】
下型１４としては、従来公知の一般的材質を用いることができる。また、下型１４には、冷却手段として冷却配管１６が設けられている。この冷却配管１６では、所定温度の冷却水などの冷媒（例えば１０°Ｃ〜２０°Ｃ）が循環されるようになっており、これにより、転写装置１０では、下型１４を所定の温度（冷却水温度）に保持すると共に、下型１４の温度上昇を防止するようにしている。
【００９３】
なお、冷媒としては、冷却水に限らず任意の液体ないし気体を用いることができる。また、冷却手段は、冷却配管１６に限らず、冷却風を下型１４へ吹付けるなど、下型１４の温度上昇を防止して、所定温度に維持する構成であれば、任意の構成を用いることができる。
【００９４】
上型１２は、後述するレーザービームを透過する石英ガラスまたはＺnＳe等を用いて形成されている。また、この上型１２には、下型１４側の面に光熱変換層１８が設けられている。この光熱変換層１８は、例えば、ニッケル（Ｎｉ）蒸着によって厚さ０．４μm程度に形成されており、レーザービームが照射されることにより、レーザービームのエネルギーを吸収して、レーザービームの照射された部位が発熱するようになっている。
【００９５】
一方、転写装置１０には、加熱ヘッド２０及びレーザー制御装置２２が設けられている。加熱ヘッド２０は、レーザー発振器２４、図示しない集光レンズを含むビーム偏向器２６及び反射ミラー２８を備えており、レーザー発振器２４で発振したレーザービームＬＢを射出する。
【００９６】
反射ミラー２８は、レーザー発振器２４で発振して、ビーム偏向器２６を通過したレーザービームＬＢを、上型１２へ向けて反射する。これにより、レーザービームＬＢが、上型１２に照射される。なお、本実施の形態では、ビーム偏向器２６を通過したレーザービームＬＢを、反射ミラー２８によって上型１２へ向けて反射するが、加熱ヘッド２０は、これに限らず、ビーム偏向器２６を通過したレーザービームＬＢを直接、上型１２に照射するものであっても良い。
【００９７】
本実施の形態に適用したレーザー発振器２４は、半導体レーザーを用いており、レーザー制御装置２２から入力される駆動信号に応じて、所定波長のレーザービームＬＢを発振する。
【００９８】
ビーム偏向器２６は、例えばＡＯＤ（音響光学装置）を備えており、レーザー発振器２４から射出されるレーザービームＬＢを集光して、上型１２の所定位置に、所定径のスポットで集光するようにしている。
【００９９】
一方、転写装置１０では、上型１２と下型１４を一体で、例えば、図１の紙面表裏方向及び左右方向（矢印Ｌ方向及び矢印Ｌ方向と直交する方向）に移動するＸ−Ｙテーブルによって形成された図示しない移動手段が設けられている。
【０１００】
これにより、上型１２に対して加熱ヘッド２０が相対移動して、加熱ヘッド２０のレーザービームＬＢ射出口が、上型１２の任意の位置に対向可能となっている。
【０１０１】
レーザー制御装置２２は、この図示しない移動手段の移動に同期して、レーザー発振器２４をオン・オフ（パルス駆動）することにより、上型１２の任意の位置にレーザービームＬＢを照射できるようになっている。
【０１０２】
上型１２は、レーザービームＬＢが照射されることにより、このレーザービームＬＢを透過する。上型１２は、略矩形ブロック形状に形成されており、レーザービームＬＢは、この上型１２に垂直に照射されるようにしている。これにより、レーザービームＬＢが、上型１２での吸収が抑えられて効率的に光熱変換層１８に照射される。なお、ビーム偏向器２６は、レーザービームＬＢが、光熱変換層１８上に所定のスポット径で焦点を結ぶようにしている。
【０１０３】
光熱変換層１８は、レーザービームＬＢに対して吸収率の高い材質によって形成しており、これにより、レーザービームＬＢが照射されることにより、このレーザービームＬＢのエネルギーを吸収して、レーザービームＬＢの照射された部位が発熱するようになっている。
【０１０４】
一方、本実施の形態では、ドナーシートとして転写フィルム３０を用いている。この転写フィルム３０は、仮支持体３２と、この仮支持体３２の一方の面に設けられた転写素材層３４によって形成されている。
【０１０５】
仮支持体３２は、例えば化学的及び熱的に安定である可撓性材料を用いて、厚さ５μｍの薄いシート状に形成されている。このような仮支持体３２としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）等を用いることができる。
【０１０６】
なお、仮支持体３２としては、４フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ）、３フッ化塩化エチレン樹脂（ＰＣＴＦＥ）等のフッ素樹脂、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリアート、ポリカーボネート、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィンなどや、これらの積層体を用いることができ、肉厚は１μｍ〜３００μｍ、好ましくは、３μｍ〜２００μｍであり、３μｍ〜５０μｍであることがより好ましい。
【０１０７】
転写素材層３４は、厚さが６０ｎｍで、前記した有機ＥＬ素子の発光層（有機ＥＬ発光層）となる成分を含んでいる。なお、転写素材層３４の厚さとしては、１０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜８０ｎｍであることがより好ましい。
【０１０８】
転写素材層３４は、発熱した光熱変換層１８によって加熱されることにより軟化し、仮支持体３２から剥離し易くかつ、非加熱部との界面で切断し易くなる。このとき、転写フィルム３０が転写対象へ向けて加圧されていることにより、転写素材層３４の成分が転写対象に転写される。
【０１０９】
本実施の形態では、レーザービームＬＢが照射されることにより発熱する光熱変換層１８による転写素材層３４の加熱温度は、４０°Ｃ〜２５０°Ｃ、好ましくは５０°Ｃ〜２００°Ｃ、より好ましくは６０°Ｃ〜１８０°Ｃである。
【０１１０】
また、転写素材層３４としては、その成分中のガラス転移温度が、４０°Ｃ以上でかつ転写温度＋４０°Ｃ以下が好ましく、さらに、５０°Ｃ以上でかつ転写温度＋２０°Ｃ以下が好ましく、特に６０°Ｃ以上で、かつ転写温度以下であることが好ましい。また、転写素材層３４中の有機薄膜層（有機ＥＬ発光層）自体又はその成分の流動開始温度は、４０°Ｃ以上で、かつ転写温度＋４０°Ｃ以下が好ましく、さらに５０°Ｃ以上で、かつ転写温度＋２０°Ｃ以下が好ましく、特に６０°Ｃ以上で、かつ転写温度以下が好ましい。
【０１１１】
転写対象となるワーク３６は、ポリイミド等を用いた基板（以下「ＰＩ基板３８」とする）に、ハードコート層及び平滑層を兼ねる絶縁層４０と、有機ＥＬ素子の金属電極となる陰極層４２と、電子輸送層４４と、が積層されて形成されている。
【０１１２】
陰極層４２は、例えばアルミ蒸着によって形成した厚さ１８０ｎｍの蒸着層となっており、電子輸送層４４は、例えば厚さ４０ｎｍに形成されている。
【０１１３】
転写装置１０では、ワーク３６の電子輸送層４４と、転写フィルム３０の転写素材層３４を対向させた状態で重ねあわせて、上型１２と下型１４との間に配置し、上型１２と下型１４との間で所定圧力を加えることにより加圧しながら、加熱ヘッド２０から射出するレーザービームＬＢを光熱変換層１８の所定位置へ照射することにより、転写素材層３４を部分的に加熱する。
【０１１４】
これにより、図２に示すように、ワーク３６の電子輸送層４４上に、加熱された転写素材層３４が有機ＥＬ発光層４６として転写する。
【０１１５】
一方、図１に示すレーザー制御装置２２には、有機ＥＬ素子に形成する発光層（有機ＥＬ発光層４６）のパターンに応じたデジタル画像データが入力されるようになっており、レーザー制御装置２２は、この画像データに基づいて、上型１２と下型１４を一体で移動する移動手段（Ｘ−Ｙテーブル）の作動を制御しながら、レーザー発振器２４へ駆動信号（駆動パルス）を出力する。
【０１１６】
これにより、転写装置１０では、有機ＥＬ素子の発光層のパターンに応じて、上型１２に設けている光熱変換層１８にレーザービームＬＢを照射して、光熱変換層１８を発熱させる。
【０１１７】
なお、本実施の形態に適用している転写フィルム３０及びワーク３６は、６ＭＰａが加圧上限で、２５０°Ｃが加熱上限となっており、転写装置１０では、この加圧上限及び加熱上限の範囲で加圧及び加熱を行うようになっている。
【０１１８】
一方、上型１２には、冷却手段として冷却配管４８が設けられている。この冷却配管４８は、例えば、上型１２の周縁部に設けられて、光熱変換層１８へのレーザービームＬＢの照射を妨げてしまうのを防止している。
【０１１９】
この冷却配管４８には、前記した下型１４の冷却配管１６と同様に冷却水等の冷却媒体が循環されるようになっている。これにより、下型１４と共に上型１２の温度上昇が抑えられ、かつ、温度上昇が生じたときに、迅速な冷却が可能となっている。
【０１２０】
このように構成されている転写装置１０では、転写フィルム３０とワーク３６が、転写素材層３４と電子輸送層４４が対向された状態で重ね合わせられて、上型１２と下型１４の間に配置される。このとき、転写フィルム３０が上型１２の光熱変換層１８に接触し、ワーク３６のＰＩ基板３８が下型１４に接触するように配置される。
【０１２１】
この状態で、転写装置１０では、転写フィルム３０とワーク３６を一体で加圧しながら、加熱ヘッド２０から上型１２へ向けてレーザービームＬＢを射出する。
【０１２２】
上型１２には、転写フィルム３０側の面に光熱変換層１８が設けられており、加熱ヘッド２０から射出されたレーザービームＬＢは、上型１２を透過して光熱変換層１８に照射される。
【０１２３】
光熱変換層１８は、レーザービームＬＢが照射されることによりレーザービームＬＢの照射された部位が発熱し、これにより、転写フィルム３０に設けている転写素材層３４が加熱される。
【０１２４】
転写フィルム３０に設けている転写素材層３４は、加熱されることによりその部分が軟化して仮支持体３２から剥離し易くなると共に、加熱された部分が、非加熱部分との界面で切断し易くなる。このときに、上型１２と下型１４の間で加圧されていることにより、軟化した転写素材層３４が、ワーク３６の電子輸送層４４上に転写する。
【０１２５】
転写素材層３４は、有機ＥＬ発光層４６を形成する成分を含んでおり、これにより、ワーク３６には、電子輸送層４４上に有機ＥＬ発光層４６が形成される。
【０１２６】
ところで、転写装置１０では、上型１２と下型１４を一体で、Ｘ−Ｙ方向に移動しながらワーク３６に形成する有機ＥＬ発光層４６のパターンに応じた画像データに基づいてレーザービームＬＢを上型１２の光熱変換層１８上に照射する。
【０１２７】
このとき、転写装置１０では、上型１２と下型１４を一体でＸ−Ｙ方向（水平方向）の２方向に移動させながら、上型１２にレーザービームＬＢを照射することにより、常にレーザービームＬＢが一定角度（本実施の形態では、上型１２の上面に対して垂直）で上型１２に照射される。
【０１２８】
これにより、転写装置１０では、光熱変換層１８の所望の位置にレーザービームＬＢを照射することができるようになっている。
【０１２９】
すなわち、上型１２を移動しないか一方向にのみ移動するようにして、レーザービームＬＢを偏向しながら走査した時には、レーザービームＬＢの偏向角度によって、レーザービームＬＢが上型１２に照射される角度が変化する。上型１２へのレーザービームＬＢの照射角度が変化すると、上型１２内でのレーザービームＬＢの屈折角が変化するために、光熱変換層１８へのレーザービームＬＢの照射位置にずれが生じることがある。
【０１３０】
これに対して、転写装置１０では、上型１２へのレーザービームＬＢの照射角が変化することがないために、光熱変換層１８の所望の位置にレーザービームＬＢを照射することが可能となっている。
【０１３１】
一方、前記した如く光熱変換層１８は、レーザービームＬＢが照射された部位が発熱して、対向する転写素材層３４を加熱する。このとき、レーザービームＬＢが、ワーク３６に形成する有機ＥＬ発光層４６のパターンに応じて照射されることにより、転写素材層３４は、有機ＥＬ発光層４６のパターンに応じて加熱されて軟化し、非加熱部との境界で切断してワーク３６に転写する。すなわち、転写装置１０では、転写素材層３４とワーク３６の間を加圧しながら、転写フィルム３０上の必要な部位のみを加熱して、転写素材層３４を、ワーク３６に転写する。
【０１３２】
これにより、転写装置１０では、効率的に転写素材層３４を加熱軟化することができ、転写フィルム３０の全面を加熱する場合に比べて、転写フィルム３０及びワーク３６の温度上昇を抑えることができると共に、上型１２及び下型１４の温度上昇も抑えることができる。
【０１３３】
このとき、転写装置１０では、上型１２と下型１４との間で、転写フィルム３０とワーク３６を加圧するので、転写素材層３４を溶融させることなく、ワーク３６へ転写することができ、これにより、転写素材層３４の成分に熱破壊等を生じさせることなく転写することができる。
【０１３４】
転写素材層３４には、加熱されて溶融してしまうことにより破壊されてしまう成分を含むことがあるが、転写装置１０では、加圧しながら転写素材層３４を加熱するので、転写素材層３４が軟化するだけで、転写素材層３４とワーク３６との間に粘着力を生じさせることができる。また、転写素材層３４は、軟化することにより仮支持体３２との間の粘着力が下がると共に、周囲の転写素材層３４との境界部分での粘着力を下げることができる。
【０１３５】
これにより、転写装置１０では、転写素材層３４を溶融させることなく、ワーク３６へ転写することができ、溶融してしまうことにより破壊されてしまう成分を含む転写素材層３４に対しても、転写装置１０では、その成分を破壊することなくワーク３６に転写することができる。
【０１３６】
一方、転写装置１０では、上型１２に設けている光熱変換層１８のみが発熱して温度上昇し、上型１２自体の温度上昇が抑えられている。また、光熱変換層１８は、薄肉に形成されているために、熱量が少なく、これにより、上型１２自体に温度上昇が生じるときに比べて冷却が容易となっている。
【０１３７】
また、転写装置１０には、上型１２に冷却配管４８を設けると共に、下型１４に冷却配管１６を設けて、上型１２及び下型１４の冷却及び、レーザービームＬＢによって発熱した光熱変換層１８の冷却及び光熱変換層１８によって加熱された転写フィルム３０及びワーク３６の冷却を図っている。
【０１３８】
これにより、転写装置１０では、転写フィルム３０及びワーク３６を迅速に冷却することができると共に、上型１２及び下型１４も迅速に冷却される。
【０１３９】
このように、転写装置１０では、上型１２、転写フィルム３０及びワーク３６の温度上昇を防止しながら、転写フィルム３０及びワーク３６の迅速な冷却を図っているので、ワーク３６への転写素材層３４の転写サイクルを短縮することができる。これと共に、上型１２及び下型１４と共に光熱変換層１８を冷却した状態から、高精度で転写温度を制御してワーク３６への転写素材（転写素材層３４）の転写を行うことができる。
【０１４０】
すなわち、転写素材層３４（有機ＥＬ発光層４６）を転写したワーク３６を上型１２と下型１４の間から取出して、転写フィルム３０を剥がすときには、転写フィルム３０及びワーク３６が冷めてから行わないと、有機ＥＬ発光層４６のずれ等の仕上り品質の低下が生じてしまう。また、加熱を開始するときの温度が異なると、加熱温度も変化してしまう。
【０１４１】
通常、転写フィルム３０とワーク３６が冷めるまでには時間がかかり、これが転写サイクルに大きく影響している。
【０１４２】
これに対して、転写装置１０では、転写素材層３４の転写に必要な部位のみにレーザービームＬＢを照射して加熱する共に、上型１２及び下型１４に冷却手段を設けることにより、上型１２、下型１４と共に転写フィルム３０及びワーク３６を迅速に冷却することができる。
【０１４３】
これにより、転写サイクルを大きく短縮して、有機ＥＬ発光層４６の転写の終了した転写フィルム３０とワーク３６を、短時間で上型１２と下型１４の間から取出すことができる。
【０１４４】
一方、転写フィルム３０及びワーク３６では、全面が加熱されることにより熱収縮が生じることがあり、この熱収縮がワーク３６に転写した有機ＥＬ発光層４６（転写素材層３４）の位置精度を低下させてしまうことがある。
【０１４５】
これに対して、転写装置１０では、転写素材層３４の転写に必要な部位に対向する光熱変換層１８のみにレーザービームＬＢを照射するために、転写フィルム３０やワーク３６の全面を加熱することがなく、転写フィルム３０やワーク３６に熱収縮が生じるのを抑えることができ、高精度での転写が可能となっている。すなわち、転写装置１０では、転写フィルム３０やワーク３６への熱影響を最小限に抑えながら転写処理を行うことができる。
【０１４６】
このように、転写装置１０では、ワーク３６に形成する有機ＥＬ発光層４６のパターンに応じて、転写フィルム３０及びワーク３６を加熱するので、高精度の転写が可能となっている。また、転写素材層３４の、ワーク３６へ転写する部位のみを加熱するようにしているので、有機ＥＬ発光層４６を形成するのに不要な部分の転写素材層３４がワーク３６に転写してしまうことがなく、ワーク３６に切れのよいパターンの有機ＥＬ発光層４６を形成することができる。
【０１４７】
一方、転写装置１０に用いる転写フィルム３０は、仮支持体３２に転写素材層３４を形成した構成となっているため、転写素材層３４の成分が、光熱変換層１８の成分の影響を受けてしまうことがない。
【０１４８】
これにより、レーザービームＬＢを用いて、サーマルイメージプロセスによってワーク３６に有機ＥＬ発光層４６を形成するときに、光熱変換層１８が転写素材層３４の成分を限定することがない。すなわち、光熱変換層１８が転写素材層３４の成分を制限してしまうことがなく、任意の成分を含む転写素材層３４のワーク３６への転写を行うことができる。
〔第２の実施の形態〕
次に本発明の第２の実施の形態を説明する。なお、第２の実施の形態の基本的構成は、前記した第１の実施の形態と同じであり、第２の実施の形態で第１の実施の形態と同一の部品には、同じ符号を付与してその説明を省略する。
【０１４９】
図３には、第２の実施の形態に適用した転写装置５０の概略構成を示している。この転写装置５０では、第１の実施の形態に適用した上型１２に代えて、上型５２を用いている。
【０１５０】
この上型５２には、転写フィルム３０に対向する面に、突部５４を形成している。この突部５４は、ワーク３６に形成する有機ＥＬ発光層４６のパターンに応じて形成されている。すなわち、上型５２には、上型５２と下型１４との間にワーク３６を位置決めして挟んだときに、ワーク３６に形成する有機ＥＬ発光層４６に対向するように突部５４が形成されている。
【０１５１】
また、上型５２には、例えばＮｉを所定厚さ（例えば０．４μm）で蒸着することにより、転写フィルム３０に対向する面の形状に合わせて光熱変換層５６が形成されている。これにより、上型５２の突部５４を被う光熱変換層５６の転写フィルム３０への接触面が、ワーク３６に形成する有機ＥＬ発光層４６のパターンに応じた形状となっている。
【０１５２】
一方、レーザー制御装置２２は、この突部５４へレーザービームＬＢを照射するようにレーザー発振器２４の駆動を制御する。転写装置５０では、転写フィルム３０とワーク３６を挟んだ上型５２と下型１４が一体で、図示しない移動手段によってＸ−Ｙ方向へ移動する。このときに、レーザー制御装置２２は、上型５２の移動に基づいてレーザー発振器２４の駆動（オン／オフ）を制御する。
【０１５３】
このように構成されている転写装置５０では、ワーク３６に重ね合わせた転写フィルム３０を、上型５２の突部５４で押圧し、この突部５４を被う光熱変換層５６へレーザービームＬＢを照射する。
【０１５４】
このときに、転写装置５０では、転写フィルム３０とワーク３６の間を、上型５２に形成している突部５４によって加圧しながら、この突部５４を被う光熱変換層５６が発熱することにより転写フィルム３０の転写素材層３４を加熱し、軟化させる。
【０１５５】
これにより、転写装置５０では、前記した転写装置１０に比較して、上型５２と下型１４の間の加圧力が比較的低い状態で、転写素材層３４を軟化させて、ワーク３６に転写することができる。
【０１５６】
したがって、転写装置５０では、より一層効率的に転写素材層３４をワーク３６に転写して、ワーク３６に有機ＥＬ発光層４６を形成することができる。
【０１５７】
このように構成されている転写装置５０においても、上型５２をＸ−Ｙ方向に移動しながらレーザービームＬＢを照射するので、レーザービームＬＢを正確に上型５２の突部５４へ照射することができる。
【０１５８】
また、転写装置５０では、転写フィルム３０やワーク３６の全域にレーザービームＬＢを照射して加熱することがないので、転写フィルム３０やワーク３６の温度上昇や熱収縮を抑えることができ、また、温度上昇は、主に上型５２に設けている光熱変換層５６に生じるようになっているので、熱量が少なく、下型１４と上型５２に設けている冷却配管１６、４８によって迅速に冷却することができるので、転写サイクルを短縮しながら、有機ＥＬ発光層４６を高精度でワーク３６上に形成することができる。
【０１５９】
さらに、転写装置５０においても、転写素材層３４のワーク３６へ転写する部位のみを加熱するようにしているので、有機ＥＬ発光層４６を形成するのに不要な部分の転写素材層３４がワーク３６に転写してしまうことがなく、ワーク３６に切れのよいパターンの有機ＥＬ発光層４６を形成することができる。
【０１６０】
また、転写装置５０では、転写素材層３４の成分が光熱変換層５６の成分の影響を受けてしまうことがないと共に、転写素材層３４が溶融することにより熱破壊等を生じさせてしまうことがなく、任意の成分の転写素材層３４を用いて、ワーク３６に適正な有機ＥＬ発光層４６を形成することができる。
【０１６１】
［実験例］
ここで、実験例として、第１の実施の形態に適用した転写装置１０と、第２の実施の形態に適用した転写装置５０のそれぞれにおいて、出力０．７５Ｗ、発振波長が８０８ｎｍのレーザー発振器２４を用い、走査速度が５m／sec〜３０m／secの範囲で、スポット径が１０μm〜１００μmの範囲となるようにレーザービームＬＢを走査して、転写素材層３４のワーク３６への転写部位に対向する上型１２の温度を、１００°C、１５０°C、２５０°Cに変化させたときの仕上りを観察した。
【０１６２】
なお、下型１４の温度が１０°C〜２０°Cの範囲となるように、冷却配管１６を用いて、下型１４への冷却処理を施すようにしている。
【０１６３】
この実験結果を図４に示す。なお、図４では、転写装置１０において高品質の有機ＥＬ発光層４６を形成できる加熱温度に対する加圧圧力の下限を破線で示し、転写装置５０において高品質の有機ＥＬ発光層４６を形成できる加熱温度に対する加圧圧力の下限を実線で示している。
【０１６４】
図４に示すように、転写装置１０では、上型１２の温度が、１００°Ｃでは加圧圧力が６ＭＰａ、１５０°Ｃでは加圧圧力が３ＭＰａ以上、２５０°Ｃでは加圧圧力が２ＭＰａ以上で、ワーク３６上に、高品質の有機ＥＬ発光層４６を形成することができた。
【０１６５】
これに対して転写装置５０では、上型５２の温度が、１００°Ｃでは加圧圧力が３ＭＰａ以上、１５０°Ｃでは加圧圧力が２ＭＰａ以上、２５０°Ｃでは加圧圧力が１．５ＭＰａ以上で、ワーク３６上に、高品質の有機ＥＬ発光層４６を形成することができた。
【０１６６】
このように、上型５２に突部５４を形成した転写装置５０では、上型１２をフラットにしている転写装置１０よりも低い加圧圧力ないし加熱温度で、転写装置１０と同等の仕上り品質が得られる。
〔第３の実施の形態〕
次に本発明の第３の実施の形態を説明する。
【０１６７】
図５には、第３の実施の形態に適用した形状転写装置６０の概略構成を示している。なお、以下で説明する第３の実施の形態において、前記した第１ないし第２の実施の形態と同一の部品には、同一の符号を付与してその説明を省略する。
【０１６８】
第３の実施の形態に適用した形状転写装置６０は、下型１４に対向して上型６２が設けられており、下型１４と上型６２との間で、形状転写対象であるフィルム６４を挟んで、加圧しながら加熱する。
【０１６９】
上型６２は、レーザービームＬＢを透過する石英ガラス等を用いて、略矩形ブロック形状に形成されている。また、上型６２には、フィルム６４に対向する面に所定パターンの突部６６が形成されており、この突部６６を覆うように光熱変換層６８が形成されている。
【０１７０】
形状転写装置６０では、フィルム６４を挟んだ下型１４と上型６２を図示しない移動手段によってＸ−Ｙ方向へ移動しながら、加熱ヘッド２０から射出するレーザービームＬＢを、上型６２の上方から突部６６へ照射する。これにより、レーザービームＬＢが突部６６を被う光熱変換層６８に照射されるようにしている。
【０１７１】
光熱変換層６８は、前記した光熱変換層１８、５６と同様に、上型６２を透過したレーザービームＬＢが照射されることにより、このレーザービームＬＢのエネルギーを吸収して発熱する。
【０１７２】
フィルム６４は、上型６２に突部６６が形成されていることにより、この突部６６が接触して加圧される。このときに、突部６６にレーザービームＬＢが照射されて発熱することにより、フィルム６４は、突部６６に対向する部位が加熱される。
【０１７３】
このフィルム６４としては、ＰＭＭＡ、アクリル樹脂等によって形成されており、加熱されることにより加熱部分が軟化する。また、フィルム６４は、軟化した加熱部分が突部６６によって加圧されることにより塑性変形する。
【０１７４】
これにより、図６に示すように、形状転写装置６０では、上型６２に形成している突部６６に応じて、フィルム６４に凹部７０を形成するようにしている。すなわち、形状転写装置６０では、下型１４と上型６２との間でフィルム６４を加圧しながら加熱することにより、上型６２に形成している凹凸に応じた凹凸（凸凹）をフィルム６４の表面に形成する。
【０１７５】
また、図５に示すように、下型１４には、冷却配管１６が設けられており、上型６２には、冷却配管４８が設けられている。これにより、形状転写装置６０では、下型１４及び上型６２の温度上昇を抑えながら、フィルム６４の迅速な冷却を図るようにしている。
【０１７６】
このような形状転写装置６０では、上型６２に形成する突部６６を、液晶ディスプレイやＥＬディスプレイなどの表示デバイスの画像パターンに応じて形成することにより、フィルム６４に画素パターンに応じた凹部（凹部７０）を形成することができる。また、形状転写装置６０では、フィルム６４の表面のエンボス加工等に用いることができる。
【０１７７】
ここで、形状転写装置６０を用いた形状転写の具体例を説明する。
【０１７８】
形状転写装置６０としては、発振波長が８０８ｎｍ、出力０．７５Ｗのレーザー発振器２４（加熱ヘッド２０）を用いる。フィルム６４としては、アクリル製とし、このフィルム６４に、凹部７０として１００μｍ×５０μｍの開口で深さ３０μｍの溝を、１５μｍの間隔で形成する。
【０１７９】
このときに、レーザービームＬＢの走査速度を５〜３０ｍ／sec、レーザービームＬＢのスポット径を１０μm〜１００μmの範囲で調節することにより、上型６２に形成している突部６６の温度（フィルム６４の加熱温度）を８０°Ｃ〜１２０°Ｃの範囲となるように制御する。
【０１８０】
また、フィルム６４に対する加圧力は、１５ＭＰａ〜３０ＭＰａの範囲とし、下型１４の温度を１０°Ｃ〜２０°Ｃの範囲に維持するように、冷却配管１６、４８に冷却水を循環させる。
【０１８１】
このようにして、フィルム６４の加圧及び加熱を行うことにより、上型６２に形成した突部６６のパターンに応じた凹部７０を、フィルム６４の表面に、適正に形成することができる。
【０１８２】
このとき、形状転写装置６０では、フィルム６４の突部６６に対向する部位のみを加熱し、フィルム６４の全域を加熱することがないので、フィルム６４の全域を加熱することによる熱収縮をフィルム６４に生じさせてしまうことがない。
【０１８３】
例えば、フィルム６４の全域を加熱して軟化させた場合、フィルム６４の剛性が低下して、凹部７０の位置精度に誤差（狂い）が生じることがあるが、形状転写装置６０では、フィルム６４の剛性を維持できるので、フィルム６４の正確な位置に高精度で凹部７０を形成することができる。
【０１８４】
また、形状転写装置６０においても、主に光熱変換層６８に温度上昇が生じるので熱量が少なく、上型６２自体に温度上昇が生じるときよりも短時間での冷却が可能となっている。
【０１８５】
これと共に、形状転写装置６０では、下型１４に冷却配管１６を設け、上型６２に冷却配管４８を設けているので、フィルム６４の迅速な冷却を図ることができ、フィルム６４に対する形状転写サイクルの短縮を図ることができる。
【０１８６】
これにより、形状転写装置６０では、多数のフィルム６４への形状転写を短時間で効率良く行うことができる。
【０１８７】
また、形状転写装置６０では、フィルム６４上で凹部７０を形成する領域のみを加熱するようにしているため、フィルム６４の熱影響を必要最小限に抑えることができる。すなわち、フィルム６４を不必要に加熱してしまうことにより、フィルム６４に熱影響が生じてしまうのを抑えることができる。
【０１８８】
なお、以上説明した第１乃至第３の実施の形態では、波長が８０８ｎｍのレーザービームＬＢを発するレーザー発振器２４を用いたが、本発明は、光熱変換層に発熱を生じさせるものであれば、波長が８０８ｎｍなどの８００ｎｍ帯（０．８μｍ帯）に限らず、波長が９００ｎｍなどの９００ｎｍ帯（０．９μｍ帯）やそれ以上の１０００ｎｍ帯（１．０μ帯）などの任意の波長のレーザービームＬＢを用いることができる。
【０１８９】
すなわち、レーザービームとしては、任意の半導体レーザーを用いることができ、半導体レーザーに限らず、固体レーザー、ガスレーザー、ＹＡＧレーザーなどの任意のレーザービームを適用することができる。
【０１９０】
また、本実施の形態では、上型１２、５２、６２として、石英ガラスやＺｎＳｅ等を用いたが、これに限らず、レーザービームＬＢに対する透過率が高く、レーザービームＬＢを効率的に透過するものであれば、任意の材質で形成することができる。
【０１９１】
また、第１乃至第３の実施の形態では、光熱変換層として蒸着層を用いたが、光熱変換層は、これに限らず、レーザービームが照射されることにより効率的に発熱するものであれば任意の構成を適用することができる。
【０１９２】
すなわち、使用するレーザービームの波長に基づいて、上側加圧手段（加圧手段）の材質および光熱変換層の材質を設定するものであれば良く、第１乃至第３の実施の形態では、波長が８０８ｎｍのレーザービームＬＢを例に説明しているので、この波長のレーザービームＬＢに対して透過率が高い石英ガラスやＺｎＳｅを用いて上型１２、５２、６８を形成し、Ｎｉを用いて光熱変換層を形成したが、この波長域では、上側加圧手段をＬｉＦ、ＭｇＦ2、ＣａＦ2、水晶等を用いることができる。
【０１９３】
また、光熱変換層としては、炭素鋼等を用いることができ、これより低い短い波長域では、Ｃｕや研磨した銀等を用いることができる。
【０１９４】
さらに、第１及び第２の実施の形態では、一対の加圧手段として上型と下型を用いて転写素材と転写対象を加圧するようにしたが、加圧手段（上側加圧手段及び下側加圧手段）の構成はこれに限るものではない。例えば、一対の加圧手段の少なくとも一方にローラを用い、ドナーシートと転写対象を搬送しながら加圧及び加熱を行うものであっても良い。
【０１９５】
このときに、第１の実施の形態に対応する構成において、上側加圧手段としてローラ（転写ローラ）を用いるときには、転写ローラの内部にレーザー発振手段等の光源を配置し、転写ローラの周面に光熱変換層を形成すると共に、転写ローラに対向して加圧ローラを設けて、転写素材及び転写対象を加圧するようにする。これと共に、転写ローラとして、レーザービームＬＢが透過する材質（透過率の高い材質）によって形成し、光熱変換層にレーザービームＬＢを照射するときには、光熱変換層がドナーシートに接触する位置に、レーザービームＬＢを照射するようにすれば良い。
【０１９６】
また、第２の実施の形態に対応する構成で、一方の加圧手段としてローラ（転写ローラ）を用いるときには、転写ローラの周面に突部を形成し、転写ローラの内部からこの突部へ向けてレーザービームＬＢを照射する。このときに、転写ローラの周面の突部を被うように光熱変換層を形成することにより、転写ローラの周面に形成する突部のパターンを繰返すように、転写素材を転写対象へ転写することができる。
【０１９７】
また、第１及び第２の実施の形態では、仮支持体３２に転写素材層３４を設けたが、転写素材の転写を行うときには、転写素材の成分が光熱変換層の影響を受けないものであれば、転写素材を、光熱変換層上に直接ないし干渉防止層を設けるなどして塗布するようにしても良い。
【０１９８】
さらに、本発明の転写素材の転写方法は、転写装置１０又は転写装置５０に限らず、転写素材が設けられたドナーシートと転写対象とを加圧しながら加熱する構成であれば、任意の構成に適用することができる。
【０１９９】
一方、第３の実施の形態では、レーザービームＬＢを用いて形状転写対象を加熱する形状転写装置６０を例に説明したが、本発明の形状転写方法は、レーザービームＬＢに限らず、任意の光を用いて、光熱変換層において、この光エネルギーを熱エネルギーに変換して形状転写対象を加熱するものであれば良い。
【０２００】
例えば、赤外線などの任意の波長の光を光熱変換層へ照射することにより、形状転写対象を加熱するものであっても良い。
【０２０１】
このような光の一例としては、赤外線等を用いることができ、赤外線の一例として近赤外線を用いた一例を、第４の実施の形態として説明する。
〔第４の実施の形態〕
次に本発明の第４の実施の形態を説明する。なお、第４の実施の形態の基本的構成は、前記した第３の実施の形態と同じであり、第４の実施の形態で、第３の実施の形態と同一の部品には、同一の符号を付与してその説明を省略する。
【０２０２】
図７には、第４の実施の形態に適用した形状転写装置８０の概略構成を示している。この形状転写装置８０には、下型１４に対向する上型８２に突部６６を形成すると共に、突部６６を被うように光熱変換層８４を形成している。
【０２０３】
また、形状転写装置８０には、加熱ヘッド２０及びレーザー制御装置２２に代えて、ヒータユニット８６及びヒータユニット８６を制御するヒータ制御装置８８が設けられている。
【０２０４】
ヒータユニット８６には、光ビームとして近赤外線ＮＲを発するヒータ９０及びヒータ９０から発せられる近赤外線ＮＲを上型８２へ向けて反射する反射板９２を備えている。
【０２０５】
ヒータ９０としては、セラミックスやタングステン等が用いられており、ピークが所定波長となる近赤外線ＮＲを発する。また、ヒータユニット８６には、複数本のヒータ９０が設けられており、これにより、上型８２の全域、少なくとも上型８２と下型１４の間に配置されるフィルム６４の全域へ向けて近赤外線ＮＲを略均一に照射可能となっている。なお、本実施の形態では、一例としてタングステンによって発光する長尺のランプヒータを用いている。
【０２０６】
ヒータ９０から発する近赤外線ＮＲとしては、前記したレーザー発振器２４で発するレーザービームＬＢの波長を含むものであるが、第４の実施の形態に適用したヒータ９０は、レーザービームＬＢとして適用した波長を越える１.２μｍ（１２００ｎｍ）〜２.０μｍ（２０００ｎｍ）の範囲に、波長のピークがあるものを用いている。
【０２０７】
ヒータ制御装置８８は、ヒータ９０の加熱を制御することにより、フィルム６４を所定温度に加熱できるようにしている。
【０２０８】
上型８２は、近赤外線ＮＲに対する透過率が高い石英ガラス等を用いて、略矩形ブロック状に形成されており、ヒータユニット８６は、この上型８２の上面に対して略垂直に近赤外線ＮＲを照射する。
【０２０９】
これにより、上型８２に照射された近赤外線ＮＲは、上型８２での吸収が抑えられて、上型８２内を効率的に透過するようになっている。
【０２１０】
このような上型８２に対して、上型８２に形成されている光熱変換層８４は、近赤外線ＮＲに対する吸収率の高い金属材が用いられている。
【０２１１】
これにより、上型８２を透過した近赤外線ＮＲが、光熱変換層８４に照射され、光熱変換層８４が近赤外線ＮＲを吸収することにより発熱する。このような光熱変換層８４としては、上型８２との境界面での反射が抑えられていることが好ましく、これにより、近赤外線ＮＲの吸収効率が向上されて、効率的な光熱変換が可能となる。
【０２１２】
すなわち、形状転写装置８０では、ヒータ９０から近赤外線として発せられる輻射熱によって光熱変換層８４を発熱させることにより、フィルム６４を加熱する。このとき、フィルム６４が、突部６６に対向する部位で光熱変換層８４に接触することにより、この接触部分のみが加熱されるようにしている。
【０２１３】
このように構成されている形状転写装置８０では、下型１４と上型８２との間に、形状転写対象であるフィルム６４を挟んで加圧しながら、ヒータユニット８６のヒータ９０から発せられる近赤外線ＮＲを照射する。
【０２１４】
これにより、形状転写装置８０では、上型８２に設けている光熱変換層８４が発熱し、上型８２の突部６６を覆っている光熱変換層８４がフィルム６４の表面に接触していることにより、フィルム６４のこの部分を加熱する。
【０２１５】
フィルム６４は、突部６６に対向する部位が光熱変換層８４に接触していることにより、この部位が加熱されて軟化する。また、光熱変換層８４に接触している部位は、上型８２によって加圧されており、フィルム６４は、加熱されて軟化している部分が塑性変形して、凹部７０（図６参照）が形成される。
【０２１６】
これにより、形状転写装置８０においても、フィルム６４に、上型８２の突部６６に応じたパターンの凹部７０が形成される。すなわち、フィルム６４への形状転写がなされる。
【０２１７】
このように、近赤外線ＮＲを用いた形状転写装置８０においても、フィルム６４に、上型８２に形成した突部６６の形状を転写することができる。このとき、形状転写装置８０においても、フィルム６４の全面を加熱することがないので、フィルム６４の温度上昇を抑えることができる。
【０２１８】
すなわち、上型８２の略全域に近赤外線ＮＲを照射するようにしているが、近赤外線ＮＲは、上型８２に設けている光熱変換層８４に遮られるので、フィルム６４を直接加熱してしまうことがなく、フィルム６４は、上型８２に形成されている突部６６に対応する部位のみが加熱される。
【０２１９】
これにより、形状転写装置８０においても、フィルム６４の全域を加熱してしまうことがないので、前記した形状転写装置６０と同様に、フィルム６４に高精度で凹部７０を形成することができる。
【０２２０】
また、形状転写装置８０においても、主に光熱変換層８４に温度上昇が生じるので熱量が少なく、冷却配管１６、４８を設けているので、形状転写の終了したフィルム６４の迅速な冷却が可能であるので、形状転写サイクルの短縮を図ることができる。
【０２２１】
これにより、近赤外線ＮＲを用いる形状転写装置８０においても、フィルム６４への形状転写サイクルを短くできるので、フィルム６４に形状転写を行うときの生産性の向上を図ることができる。
【０２２２】
なお、以上説明した第４の実施の形態では、近赤外線ＮＲを用いて説明したが、光熱変換層に照射する光は、これに限るものではなく、中赤外線、遠赤外線等の任意の波長の光を用いることができ、光熱変換層は、使用した波長の光に対する吸収率の高い材質を用いるようにすれば良い。
【０２２３】
また、第４の実施の形態では、少なくともフィルム６４の全域に近赤外線ＮＲを照射可能なヒータユニット８６を用いたが、フィルム６４に対してヒータユニット８６の近赤外線照射領域が狭い時には、Ｘ−Ｙテーブル等を用いて、ヒータユニット８６とフィルム６４（上型８２及び下型１４）を相対移動させて、近赤外線ＮＲをフィルム６４の略全域に照射可能としたものであっても良い。
【０２２４】
なお、以上説明した第１乃至第４の実施の形態では、上型１２、５２、６２、８２のそれぞれに冷却配管４８を設け、下型１４に冷却配管１６を設けたが、冷却手段は、これに限定するものではなく、上側加圧手段と下側加圧手段のそれぞれを適正に冷却するものであれば、例えば冷却風を吹付けるなどの任意の構成を用いることができる。
【０２２５】
また、冷却配管４８を上型の周縁部に設けたが、冷却配管４８は、レーザービームＬＢや近赤外線ＮＲ等を遮らないように配置したものであれば良い。例えば上型５２、６２、８２に冷却配管４８を設ける場合、少なくとも突部５４、６６へのレーザービームＬＢや近赤外線ＮＲの照射を妨げなければ良いので、突部５４、６６を避けて冷却配管４８を敷設すれば良く、上型１２においては、レーザービームＬＢを照射する部位である転写素材層３４の転写パターンが予め明確であれば、その部位（転写パターン上）を避けて冷却配管４８を敷設すれば良い。
【０２２６】
さらに、第１乃至第４の実施の形態では、上側加圧手段と下側加圧手段のそれぞれを冷却するようにしたが、少なくとも、上側加圧手段と下側加圧手段の何れか少なくとも一方、好ましくは下側加圧手段を冷却することにより、上側加圧手段及び下側加圧手段と共に、転写素材と転写対象や、形状転写対象を冷却可能としたものであれば良い。
【０２２７】
また、本実施の形態では、レーザー光、近赤外線などの赤外線が照射される上側加圧手段を、上方側に配置して説明したが、上側加圧手段はこれに限るものではなく、例えば、上側加圧手段及び下側加圧手段を水平方向に沿って対で配置しているときには、レーザー光や加熱光源からの赤外線が照射される側が上側加圧手段となる。
【０２２８】
一方、前記したように、本発明の転写素材の転写方法及び形状転写方法においては、加圧手段としてローラを用いることができる。これにより、ウエブ状の転写対象を搬送しながら、この転写対象に連続的に転写素材を転写したり、形状転写を行うことができる。
【０２２９】
ここで、ウエブ状の転写対象への素材転写及び形状転写を説明する。
〔第５実施例〕
図８には、第５の実施の形態に適用した転写装置（素材転写装置１００）の要部の概略構成を示している。なお、第５の実施の形態において、前記した第１乃至第４の実施の形態と同一の部品には、同一の符号を付与してその説明を省略する。
【０２３０】
素材転写装置１００は、転写対象となるワークフィルム１０２と、転写素材が設けられたドナーフィルム１０４とを重ね合わせ、サーマルイメージングプロセスによって、ワークフィルム１０２へ転写素材による転写画像を形成する。すなわち、ドナーフィルム１０４に設けている転写素材を、所定のパターンでワークフィルム１０２に転写する。
【０２３１】
素材転写装置１００には、加圧手段となる転写ローラ１０６が設けられている。また、この転写ローラ１０６の周囲には、加圧ローラ１０８及び剥離ローラ１１０が設けられている。
【０２３２】
素材転写装置１００には、ワークフィルム１０２をロール状に巻き取ったフィルムロール１１２と、ドナーフィルム１０４をロール状に巻き取ったドナーロール１１４が装填される。
【０２３３】
ドナーロール１１４から引出されたドナーフィルム１０４は、アイドルローラ１１６に巻きかけられて転写ローラ１０６と加圧ローラ１０８の間へ送り込まれ、転写ローラ１０６に巻きかけられる。また、ドナーフィルム１０４は、転写ローラ１０６と剥離ローラ１１０の間から引出されると、アイドルローラ１１８に巻きかけられた後に、巻取り軸１２０に巻き付けられる。
【０２３４】
また、フィルムロール１１２から引出されたワークフィルム１０２は、アイドルローラ１２２に巻きかけられて転写ローラ１０６と加圧ローラ１０８の間へ送り込まれ、転写ローラ１０６に巻きかけられる。これにより、ワークフィルム１０２がドナーフィルム１０４に重ね合わせられる。
【０２３５】
また、ワークフィルム１０２は、転写ローラ１０６と剥離ローラ１１０の間から引出されると、アイドルローラ１２４に巻きかけられた後に、巻取り軸１２６に巻き付けられる。これにより、巻取り軸１２６に、素材転写の終了したワークフィルム１０２が巻き取られた製品ロール１２８が形成される。
【０２３６】
図９（Ａ）に示すように、ドナーフィルム１０４は、ウエブ状に形成された仮支持体１３０が用いられ、この仮支持体１３０の一方の面に転写素材１３４によって形成された転写素材層１３２が設けられている。仮支持体１３０は、化学的及び熱的に安定である可撓性材料が用いられている。
【０２３７】
図８に示すように、素材転写装置１００では、仮支持体１３０が転写ロール１０４側となるようにドナーフィルム１０４を転写ロール１０６に巻き掛け、ワークフィルム１０２が、転写素材層１３２に密着するようにドナーフィルム１０４に重ねられて転写ローラ１０６に巻きかけられる。このときに、加圧ローラ１０８は、ドナーフィルム１０４にワークフィルム１０２を重ねながら、ワークフィルム１０２とドナーフィルム１０４を転写ローラ１０６との間で挟持することにより加圧する。
【０２３８】
ドナーフィルム１０４に設けている転写素材層１３２は、加熱されることにより軟化し、仮支持体１３０から剥離し易くなると共に、非加熱部分との界面で切断し易くなる。このときに、転写対象であるワークフィルム１０２へ向けて加圧されることにより、図９（Ｂ）に示すように、ドナーフィルム１０４の転写素材層１３２の成分（転写素材１３４）が、仮支持体１３０から剥離して、ワークフィルム１０２に転写される。
【０２３９】
ところで、図８に示すように、素材転写装置１００に設けている転写ローラ１０６は、内部が中空の円筒状に形成されている。また、転写ローラ１０６の内部には、所定位置にレーザービームＬＢを射出するレーザーヘッド１３６が配置されている。レーザーヘッド１３６は、所定位置に固定されており、転写ローラ１０６は、図示しない駆動手段の駆動力によって所定速度で相対回転するようになっている。
【０２４０】
レーザーヘッド１３６は、転写ローラ１０６の内部から、転写ローラ１０６と加圧ローラ１０８との接触部分へ向けてレーザービームＬＢを射出する。
【０２４１】
転写ローラ１０６は、外周部となる基材１０６Ａが、石英ガラス、ＺｎＳｅ等のレーザービームＬＢを透過する部材（レーザー光の透過材）によって形成されている。また、この転写ローラ１０６には、基材１０６Ａの外周面に光熱変換層１３８が形成されている。
【０２４２】
光熱変換層１３８は、レーザービームＬＢのエネルギーを吸収して発熱する例えばニッケル（Ｎｉ）蒸着等によって厚さ０．４μｍ程度に形成されており、レーザービームＬＢが照射されることにより、レーザービームＬＢが照射された部位が発熱する。
【０２４３】
素材転写装置１００では、レーザーヘッド１３６から射出されるレーザービームＬＢが転写ローラ１０６の基材１０６Ａを透過して、光熱変換層１３８に達し、光熱変換層１０８を発熱させることにより、この光熱変換層１３８対向しているドナーフィルム１０４と共にワークフィルム１０２を加熱する。
【０２４４】
ワークフィルム１０２とドナーフィルム１０４は、加圧された状態で加熱されることにより、加熱部分の転写素材層１３２が軟化して転写素材１３４が仮支持体１３０から剥離してワークフィルム１０２に転写される。
【０２４５】
レーザーヘッド１３６は、一方に長い矩形ブロック形状となっており、長手方向が、転写ローラ１０６の軸線方向であるワークフィルム１０２及びドナーフィルム１０４の搬送幅方向に沿うように配置されている。
【０２４６】
また、図１０に示すように、レーザーヘッド１３６には、転写ローラ１０６（図１０では図示省略）の外周部に対向する面（図１０の紙面手前側の面）に、多数の光ファイバーケーブル１４２の先端が、レーザービームＬＢの射出口１４０として配置されている。なお、本実施の形態では、一例として、レーザーヘッド１３６に４列の射出口１４０を形成している。
【０２４７】
レーザーヘッド１３６に接続している光ファイバーケーブル１４２は、レーザー発振器１４４に接続している。このレーザー発振器１４４は、レーザー制御装置１４６に制御されて、所定波長のレーザービームＬＢを発する。なお、本実施の形態では、一例として波長が８０８ｎmの半導体レーザー発振器１４４を用い、転写ローラ１０６の基材１０６Ａは、この波長のレーザー光を透過する材質が選択されており、また、光熱変換層１３８は、この波長のレーザー光のエネルギーを効率的に吸収して発熱する材質が選択されている。
【０２４８】
レーザー発振器１４４で発振されたレーザー光は、光ファイバーケーブル１４２を通過して、射出口１４０からレーザービームＬＢとして射出される。このときに、レーザーヘッド１３６は、転写ローラ１０６の軸方向に沿った任意の位置へ向けてレーザービームを射出可能となっており、素材転写装置１００は、ワークフィルム１０２上の任意の位置に転写素材１３４を転写可能となっている。なお、レーザービームＬＢは、光熱変換層１３８上で所定径のスポット状となるように集光されながらレーザーヘッド１３６の各射出口１４０から射出される。
【０２４９】
素材転写装置１００では、ワークフィルム１０２に転写素材１３４を転写するパターンに応じて、レーザーヘッド１３６からレーザービームＬＢを射出するようになっている。すなわち、素材転写装置１００では、転写ローラ１０６によるワークフィルム１０２とドナーフィルム１０４の搬送方向を副走査方向として、レーザーヘッド１３６によってレーザービームＬＢを主走査することにより、ワークフィルム１０２に所定パターンで転写素材１３４を転写する。
【０２５０】
一方、図８に示すように、素材転写装置１００には、転写ローラ１０６の内部に冷却器１４８が配置され、加圧ローラ１０８と剥離ローラ１１０の間に冷却器１５０が配置されている。冷却器１４８、１５０のそれぞれは、転写ローラ１０６に対して相対回転可能に設けられている。
【０２５１】
冷却器１４８は、転写ローラ１０６の内周面に沿うように円弧状に形成され、レーザーヘッド１３６の近傍を除く領域で転写ローラ１０６の内周面に対向し、転写ローラ１０６の内周面に沿うように湾曲されている。また、冷却器１５０は、転写ローラ１６の外周面に対向して配置され、転写ローラ１０６の外周面に沿うように湾曲されている。
【０２５２】
冷却器１４８,１５０のそれぞれには、例えば図示しない配管（冷却配管）を介して所定温度（例えば１０°Ｃ〜２０°Ｃ）の冷却水又は冷却液が供給されるようになっており、この冷却水によって冷却された冷却風を吹き出す。
【０２５３】
これにより、冷却器１４８は、主に転写ローラ１０６の基材１０６Ａを内部から冷却し、冷却器１５０は、主に転写ローラ１０６に巻きかけられたドナーフィルム１０４と共にワークフィルム１０２を冷却するようになっている。なお、冷却器１４８、１５０としては、ワークフィルム１０２、ドナーフィルム１０４及び転写ローラ１０６を適切に冷却可能であれば任意の構成を適用することができる。
【０２５４】
ここで、第５の実施の形態の作用として、素材転写装置１００を用いた有機ＥＬ発光素子の形成を説明する。なお、本発明は、これに限らず任意のウエブ状の転写対象への転写素材の転写に適用することができる。
【０２５５】
有機ＥＬ発光素子を形成するときには、ドナーフィルム１０４の転写素材層１３２として有機ＥＬ発光層を用いる。このとき、仮支持体１３０として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）等を用いて厚さ５μｍに形成したものを用いる。
【０２５６】
なお、仮支持体１３０としては、前記した仮支持体３２と同等の構成を適用でき、転写素材層１３２としては、前記した転写素材層３４と同等の構成を適用することができる。また、素材転写装置１００における光熱変換層１３８による転写素材層１３２の加熱温度は、４０°Ｃ〜２５０°Ｃ、好ましくは、５０°Ｃ〜２００°Ｃ、より好ましくは、６０°Ｃ〜１８０°Ｃとする。さらに、転写対象であるワークフィルム１０２は、前記したワーク３６と同等の構成を適用することができる。
【０２５７】
素材転写装置１００は、転写ローラ１０６と加圧ローラ１０８によるワークフィルム１０２とドナーフィルム１０４の加圧上限が６ＭＰａ、加熱上限が２５０°Ｃであり、この範囲内で加圧及び加熱を行うようになっている。
【０２５８】
また、素材転写装置１００では、ワークフィルム１０２の搬送速度であるライン速度が１００ｍｍ／secとなるように転写ローラ１０６、加圧ローラ１０８及び剥離ローラ１１０を回転駆動すると共に、レーザービームＬＢの照射時間を、１ｍsec／pix（１画素分当たりの照射時間）としている。
【０２５９】
素材転写装置１００では、ドナーロール１１４から引出したドナーフィルム１０４と共にフィルムロール１１２から引出したワークフィルム１０２を重ね合わせながら、転写ローラ１０６と加圧ローラ１０８の間へ送り込む。このときにドナーフィルム１０４の転写素材層１３２がワークフィルム１０２（絶縁層側の面）に対向される。
【０２６０】
これにより、ワークフィルム１０２とドナーフィルム１０４が、重ねられた状態で加圧された後、転写ローラ１０６に巻き掛けられて搬送される。
【０２６１】
素材転写装置１００には、転写ローラ１０６の内部にレーザーヘッド１３６が設けられており、ワークフィルム１０２への転写素材１３４の転写パターンに応じてレーザーヘッド１３６から転写ローラ１０６と加圧ローラ１０８の接触位置近傍へ向けてレーザービームＬＢを照射する。このとき、素材転写装置１００は、転写ローラ１０６によるワークフィルム１０２の搬送方向を副走査方向として、ワークフィルム１０２への転写素材１３４の転写パターンに応じてレーザービームＬＢを射出する。
【０２６２】
レーザーヘッド１３６から射出されたレーザービームＬＢは、転写ローラ１０６の基材１０６Ａを透過して、光熱変換層１３８へ照射される。
【０２６３】
光熱変換層１３８は、レーザービームＬＢが照射されることにより、このレーザービームＬＢが照射された部位で、レーザービームＬＢのエネルギーを吸収して発熱する。
【０２６４】
これにより、発熱した光熱変換層１３８に対向する部位のドナーフィルム１０４が加熱されて、この部位に対向する転写素材層１３２が軟化する。このとき、ワークフィルム１０２と共にドナーフィルム１０４が、転写ローラ１０６と加圧ローラ１０８によって加圧されていることにより、軟化した転写素材層１３２の成分がドナーフィルム１０４の仮支持体１３０から剥離して、転写素材１３４としてワークフィルム１０２に転写する。
【０２６５】
このように、転写装置１００では、転写素材１３４を転写する部位のみの光熱変換層１３８を発熱させるため、ワークフィルム１０２及びドナーフィルム１０４を効率的に加熱して転写素材１３４の転写を行うことができる。すなわち、転写ローラ１０６の基材１０６Ａを加熱することなく、光熱変換層１３８の必要な部位のみを加熱するので、効率的な加熱が可能となっている。
【０２６６】
このようにして加圧状態で加熱されたワークフィルム１０２とドナーフィルム１０４は、次に、冷却器１５０に対向し、光熱変換層１３８が発熱した基材１０６Ａは、冷却器１４８に対向する。
【０２６７】
これにより、ワークフィルム１０２及びドナーフィルム１０４は、冷却器１５０によって冷却され、ドナーフィルム１０４は巻取り軸１２０に巻き取られ、ワークフィルム１２は巻取り軸１２６に巻き取られて製品ロール１２８を形成する。
【０２６８】
また、レーザービームＬＢによって発熱した光熱変換層１３８及びこの光熱変換層１３８が設けられている転写ローラ１０６の基材１０６Ａは、冷却器１４８によって冷却されながら、レーザーヘッド１３６に対向する位置に至る。
【０２６９】
このとき、素材転写装置１００では、転写素材１３４をワークフィルム１０２に転写する部位のみの光熱変換層１３８が発熱するために、基材１０６Ａの温度上昇や、昇温が不要な部分の光熱変換層１３８に、不必要な温度上昇が生じてしまうことがない。
【０２７０】
したがって、転写ローラ１０６での熱量の増加が抑えられるので、冷却器１４８によって基材１０６Ａ及び光熱変換層１３８を、短時間で確実に冷却することができる。すなわち、素材転写装置１００では、転写ローラ１０６を用いて加熱転写を行うときの実質的な熱容量を低くして、効率的な加熱及び確実な冷却が可能となっている。
【０２７１】
これにより、素材転写装置１００では、転写ローラ１０６の基材１０６Ａや光熱変換層１３８が略同じ温度からワークフィルム１０２及びドナーフィルム１０４の加熱を行うことができるので、レーザービームＬＢの照射時間を制御することにより、高精度な加熱温度の制御が可能となっている。
【０２７２】
一方、ワークフィルム１０２は、全体が加熱された後に冷却されることにより熱収縮が生じることがあり、この熱収縮によって転写素材１３４の位置精度が低下してしまったり、熱変形が生じてしまうことがある。
【０２７３】
これに対して、素材転写装置１００では、発熱した光熱変換層１３８に対向する部位のみのワークフィルム１０２及びドナーフィルム１０４を加熱するようにしているので、ワークフィルム１０２に熱収縮が生じるのを抑えることができ、熱収縮によって転写素材１３４の転写位置に狂いが生じるのを防止し、ワークフィルム１０２に高精度で転写素材１３４を転写することができる。
【０２７４】
また、ワークフィルム１０２や転写素材１３４は、剥離ローラ１１０で仮支持体１３０から剥離するときや、巻取り軸１２６に層状に巻き取られるときなどに温度が高くなっていると、熱影響による変質や転写素材１３４の位置ズレ等が生じてしまうが、素材転写装置１００では、全面を加熱するのに比べてワークフィルム１０２の温度上昇を抑えることができ、冷却器１５０による短時間での冷却が可能となっていることにより、ワークフィルム１０２や転写素材１３４に熱影響を生じさせることなく仕上げることができる。
【０２７５】
したがって、素材転写装置１００では、高品質の有機ＥＬ発光素子を連続的に形成することができる。このときに、ワークフィルム１０２や転写ローラ１０６が冷却するまでの時間が短くて済むので、短い転写サイクルで効率的な転写処理が可能となっている。
【０２７６】
なお、第５の実施の形態では、加圧ローラ１０８を用いて、転写ローラ１０６に巻き掛けたワークフィルム１０２とドナーフィルム１０４を加圧するようにしたが、加圧手段の構成はこれに限るものではない。
【０２７７】
例えば、図１１に示す素材転写装置１５２では、転写ローラ１０６の外周面に対向して加圧ローラ１０８と共に、剥離ローラ１１０Ａを設けている。また、素材転写装置１５２には、剥離ローラ１１０Ａの近傍に加圧ローラ１０８Ａを設けると共に、加圧ローラ１０８、１０８Ａの間にテンションローラ１５４を配置し、加圧ローラ１０８、１０８Ａ及びテンションローラ１５４の間に、無端の加圧ベルト１５６を巻き掛けている。
【０２７８】
この加圧ベルト１５６は、幅寸法が、ワークフィルム１０２及びドナーフィルム１０４の幅寸法より広くなっており、また、冷却器１５０は、加圧ローラ１０８,１０８Ａの間で加圧ベルト１５６を冷却するようになっている。なお、無端の加圧ベルト１５６に換えて、例えば加圧ローラ１０８、１０８Ａの間に多数の加圧ローラを配置して、ワークフィルム１０２とドナーフィルム１０４を加圧するようにしても良い。
【０２７９】
このように構成した素材転写装置１５２は、加圧ローラ１０８、１０８Ａの間で、転写ローラ１０６と加圧ベルト１５６によってワークフィルム１０２及びドナーフィルム１０４を挟持して搬送する。
【０２８０】
これにより、転写ローラ１０６と加圧ローラ１０８によって加圧された状態で加熱（加熱転写）さたワークフィルム１０２とドナーフィルム１０４は、加圧ベルト１５６によって所定の圧力が加えられた状態で搬送される。このとき、素材転写装置１５２では、冷却器１４８、１５０によって転写ローラ１０６の基材１０６Ａと加圧ベルト１５６を冷却することにより、ワークフィルム１０２の冷却を図るようにしている。
【０２８１】
これにより、素材転写装置１５２では、ワークフィルム１０２とドナーフィルム１０４の間を加圧しながら冷却することができるので、転写素材１３４を高精度で確実にワークフィルム１０２へ転写することができる。
【０２８２】
このような素材転写装置１５２においては、網目（メッシュ）状の加圧ベルト１５６を用いて、冷却器１５０から吹き出される冷却風によるワークフィルム１０２の直接的な冷却が可能となるようにして、冷却効率の向上を図るようにしても良い。
〔第６の実施の形態〕
次に第６の実施の形態を説明する。なお、第６の実施の形態で、前記した第１乃至第５の実施の形態と同一の部品には、同一の符号を付与してその説明を省略している。
【０２８３】
図１２には、第６の実施の形態に適用した形状転写装置１６０の要部の概略構成を示している。この形状転写装置１６０は、転写ローラ１６２を備えており、この転写ローラ１６２を、図示しない駆動手段の駆動力によって所定方向（矢印Ａ方向）に回転駆動させるようになっている。また、形状転写装置１６０には、転写ローラ１６２に対向して加圧ローラ１０８及び剥離ローラ１１０が設けられており、形状転写装置１６０では、加圧ローラ１０８と剥離ローラ１１０の間で、転写ローラ１６２に、形状転写を行うウエブ状の転写対象であるワークフィルム１６４を巻き掛けて搬送する。
【０２８４】
なお、形状転写装置１６０には、ワークフィルム１６４が層状に巻かれたフィルムロール１６６が装着され、このフィルムロール１６６から引出されたワークフィルム１６４が転写ローラ１６２に巻き掛けられる。
【０２８５】
このワークフィルム１６４は、前記したフィルム６４と同様にＰＭＭＡ、アクリル樹脂等を用いて形成されており、加熱されることにより軟化する。また、ワークフィルム１６４は、軟化した状態で加圧されることにより塑性変形を生じるようになっている。
【０２８６】
図１２及び図１３に示すように、転写ローラ１６２は、外周部がレーザービームＬＢを透過するレーザー透過材を用いた基材１６２Ａによって略円筒状に形成されている。
【０２８７】
また、図１３に示すように、転写ローラ１６２には、基材１６２Ａの外周面に、凸部１６８が形成されている。この凸部１６８は、ワークフィルム１６４に形成する凹部１６４Ａに応じたパターンで転写ローラ１６２の外周面に形成されている。
【０２８８】
図１２に示すように、転写ローラ１６２には、内部にレーザーヘッド１３６が配置されている。このレーザーヘッド１３６は、転写ローラ１６２と加圧ローラ１０８の接触位置であるワークフィルム１６４の加圧位置へ向けてレーザービームＬＢを射出する。また、形状転写装置１６０では、レーザービームＬＢを凸部１６８へ向けて射出するようにしている。
【０２８９】
すなわち、レーザー制御装置１４６（図１０参照）は、転写ローラ１６２の回転に同期して、転写ローラ１６２に形成している凸部１６８のパターンに応じて、レーザーヘッド１３６からレーザービームＬＢを射出する。
【０２９０】
一方、図１２及び図１３に示すように、転写ローラ１６２の外周面には、光熱変換層１７０が形成されている。図１３に示すように、この光熱変換層１７０は、凸部１６８を覆うように形成されている。
【０２９１】
光熱変換層１７０は、例えばＮｉ等の蒸着によって形成されており、レーザービームＬＢが照射されることにより、レーザービームＬＢのエネルギーを吸収して発熱する。
【０２９２】
転写ローラ１６２の基材１６２Ａは、レーザービームＬＢを透過するようになっており、これにより、形状転写装置１６０では、凸部１６８を覆う光熱変換層１７０に、レーザーヘッド１３６からレーザービームＬＢが照射される。
【０２９３】
このように構成している形状転写装置１６０では、ワークフィルム１６４を転写ローラ１６２と加圧ローラ１０８の間で挟持することにより加圧しながら、レーザーヘッド１３６から照射するレーザービームＬＢによって凸部１６８を覆う光熱変換層１７０を発熱させて、凸部１６８に対向するワークフィルム１６４の表面を加熱する。
【０２９４】
これにより、ワークフィルム１６４には、転写ローラ１６２の凸部１６８のパターンに応じたパターンの凹部１６４Ａが連続的に形成される。
【０２９５】
このような形状転写装置１６０は、例えばワークフィルム１６４をアクリル樹脂によって形成し、このワークフィルム１６４を用いて有機ＥＬ発光素子を形成する光学部材を製作するときに、このワークフィルム１６４に有機ＥＬ発光層を設ける凹部１６４Ａを形成することができる。このとき、凹部１６４Ａを、１００μｍ×５０μｍの開口で、深さ３０μｍとなるように形成するときには、転写ローラ１６２の外周面に、１００μｍ×５０μｍ、高さ３０μｍの凸部１６８及び光熱変換層１７０を、１５μｍ間隔で形成する。
【０２９６】
また、形状転写装置１６０では、レーザービームＬＢの強度（レーザー発振器１４４の出力）、ビーム径及び照射時間（走査時間）を制御することにより、凸部１６８を覆う光熱変換層１７０の発熱によるワークフィルム１６４の加熱温度が所定の温度（例えば８０°Ｃ〜１２０°Ｃの範囲内の温度）となるようにする。これと共に、形状転写装置１６０では、ワークフィルム１６４の加圧力を、１５ＭＰａ〜３０ＭＰａとする。
【０２９７】
このようにして、ワークフィルム１６４の加圧及び加熱を行うことにより、ワークフィルム１６４の表面に所定の凹部１６４Ａを形成することができる。
【０２９８】
このとき、形状転写装置１６０では、ワークフィルム１６４の全面を加熱せずに、必要部分のみを加熱するので、加熱効率の向上が図られる。すなわち、基材１６２Ａを含めて加熱する場合に比べて少ない熱量でワークフィルム１６４を加熱することがでる。
【０２９９】
これと共に、形状転写装置１６０では、ワークフィルム１６４の全面を加熱することがないので、ワークフィルム１６４の熱収縮を抑えることができ、高精度で凹部１６４Ａを形成することができる。
【０３００】
また、形状転写装置１６０では、ワークフィルム１６４に対する不必要な加熱を抑えながら冷却器１５０によってワークフィルム１６４を冷却すると共に、冷却器１４８で基材１６２Ａを冷却するので、形状転写サイクルを短縮させて生産性の向上を図ることができると共に、巻取り軸１２６に巻き取られるワークフィルム１６４に熱影響を生じさせてしまうことがなく、連続的にワークフィルム１６４への形状転写を行うことができる。
【０３０１】
なお、第６の実施の形態では、ワークフィルム１６４に形成する凹部１６４Ａのパターンに応じて、転写ローラ１６２の外周部に凸部１６８を形成したが、ワークフィルム１６４へ形状を転写するための型材は、これに限るものではない。
【０３０２】
例えば、円筒状の転写ローラの外周面に、光熱変換層１７０によって凸部１６８を形成するようにしても良く、また、前記した素材転写装置１００、１５２を用いることができる。
【０３０３】
このときには、図１４に示すように、ワークフィルム１０２に換えてワークフィルム１６４を用い、ドナーフィルム１０４に換えてモールドフィルム１７２を用いる。なお、図１４では一例として素材転写装置１００を流用した例を示している。
【０３０４】
このモールドフィルム１７２には、ワークフィルム１６４に転写するパターンに応じた凸部１７４が形成されており、この凸部１７４側の面がワークフィルム１６４に対向するように重ね合わせられる。
【０３０５】
また、レーザービームＬＢは、モールドフィルム１７２の搬送に同期してレーザー発振器１４４を作動させることにより、モールドフィルム１７２の凸部１７４に対向する光熱変換層１３８を加熱する。
【０３０６】
これにより、モールドフィルム１７２の凸部１７４と共に、ワークフィルム１６４上で凸部１７４に対向する領域（凹部１６４Ａを形成する領域）を加熱するようにすれば良い。
【０３０７】
なお、第５及び第６の実施の形態では、加熱光源としてレーザー発振器１４４及び、多数の射出口１４０のそれぞれからレーザービームＬＢを射出するレーザーヘッド１３６を用いて説明したが、これに限らず、単一ないし複数条のレーザービームＬＢを射出可能なレーザーヘッドを用い、このレーザーヘッドを主走査方向である転写ローラ１６の軸方向に移動するように構成して、転写素材の転写パターンや凸部１６８のパターンに応じてレーザービームＬＢを主走査する等の任意の構成を適用することができる。
【０３０８】
また、第５及び第６の実施の形態では、レーザー光を用いて素材転写や形状転写を行うように説明したが、レーザー光に限らず、赤外線（遠赤外線や近赤外線）等を用いて素材転写や形状転写を行うことができる。
〔第７の実施の形態〕
次にレーザービームに換えて赤外ヒータを用いた形状転写を、第７の実施の形態として説明する。なお、第７の実施の形態において、前記した第１乃至第６の実施の形態と同一の部品には、同一の符号を付与してその説明を省略する。
【０３０９】
図１５には、第７の実施の形態に適用した形状転写装置１８０の要部の概略構成を示している。
【０３１０】
この形状転写装置１８０は、略円筒状に形成された転写ローラ１８２を備えている。この転写ローラ１８２の周囲には、回転方向に沿って順に、加圧ローラ１８４Ａ、１８４Ｂ及び剥離ローラ１１０Ａが配置されている。
【０３１１】
また、加圧ローラ１８４Ａ、１８４Ｂの間には、テンションローラ１５４が設けられており、加圧ローラ１８４Ａ、１８４Ｂ及びテンションローラ１５４の間に、加圧ベルト１５６が巻き掛けられている。この加圧ベルト１５６は、加圧ローラ１８４Ａ、１８４Ｂの間で、転写ローラ１８２に巻き巻き掛けられるようになっている。
【０３１２】
この形状転写装置１８０では、転写ローラ１８２と加圧ローラ１８４Ａの間に、ワークフィルム１６４が送り込まれ、このワークフィルム１６４が加圧ローラ１８４Ａと剥離ローラ１１０Ａの間で転写ローラ１８２に巻き掛けられるようになっている。このとき、ワークフィルム１６４は、加圧ローラ１８４Ａ、１８４Ｂの間で、転写ローラ１８２と加圧ベルト１５６の間に挟持されて加圧される。なお、加圧ベルト１５６に換えて、例えば加圧ローラ１８４Ａ、１８４Ｂの間に多数の加圧ローラを配置して、ワークフィルム１６４を加圧するようにしても良い。
【０３１３】
転写ローラ１８２には、内部にヒータユニット１８６が配置されている。ヒータユニット１８６は、赤外線ＩＲを発するランプヒータ１８６Ａを備えており、ヒータユニット１８６は、加圧ローラ１８４Ａへ向けて赤外線ＩＲを発する。
【０３１４】
このヒータユニット１８６に設けるランプヒータ１８６Ａとしては、セラミックスやタングステン等を用いることができる。この赤外線ＩＲは、レーザー発振器１４４で発振したレーザー光（例えば、波長８０８ｎｍ）を含むものであるが、レーザー光の波長を越える１．２μｍ（１２００ｎｍ）〜２．０μｍ（２０００ｎｍ）の波長にピークがある近赤外線（ＮＲ）を用いている。なお、赤外線ＩＲとしては、比較的波長の短い近赤外線に限らず、波長の長い遠赤外線を用いても良い。
【０３１５】
一方、転写ローラ１８２は、外周部の基材１８２Ａが赤外線ＩＲに対して透過率の高い赤外線透過材によって形成され、この基材１８２Ａの外周面に、所定パターンの凸部１６８が形成されている。また、転写ローラ１８２の外周面には、赤外線ＩＲに対して吸収率が高く、赤外線ＩＲを吸収することにより発熱する部材を用いて形成した光熱変換層１８８が設けられており、凸部１６８がこの光熱変換層１８８によって覆われている。
【０３１６】
これにより、ヒータユニット１８６から照射される赤外線ＩＲは、転写ローラ１８２の基材１８２Ａを透過して、光熱変換層１８８に照射される。光熱変換層１８８は、赤外線ＩＲが照射されることにより発熱し、転写ローラ１８２と加圧ローラ１８４Ａ（加圧ベルト１５６）によって挟持しているワークフィルム１６４を加熱する。
【０３１７】
転写ローラ１８２は、外周面から突出するように凸部１６８が設けられていることにより、転写ローラ１８２と加圧ローラ１８４Ａとの間でワークフィルム１６４を挟持したときに、主に凸部１６８がワークフィルム１６４の表面と接触して加圧する。
【０３１８】
このときに、赤外線ＩＲが照射されて光熱変換層１８８が発熱していることにより、ワークフィルム１６４は、凸部１６８によって加圧されながら加熱されて、凸部１６８に応じた凹部１６４Ａが形成される。
【０３１９】
転写ローラ１８２の内部には、冷却器１４８が設けられており、赤外線ＩＲが照射されることにより発熱した光熱変換層１８８及びこの光熱変換層１８８が設けられている基材１８２Ａが冷却される。
【０３２０】
また、加圧ローラ１８４Ａ、１８４Ｂの間には、冷却器１５０に換えて冷却器１９０が設けられている。この冷却器１９０は、冷却器１５０と同様に、例えば冷却液が供給されることにより、この冷却液によって冷却された冷却風を、加圧ベルト１５６へ向けて吹き出すことにより、加圧ベルト１５６と共にワークフィルム１６４を冷却する。
【０３２１】
この冷却器１９０は、転写ローラ１８２の回転方向（ワークフィルム１６４の搬送方向）下流側の加圧ローラ１８４Ｂ側に偏寄して配置されており、形状転写装置１８０では、加熱されたワークフィルム１６４を、最初は緩やかに冷却させ、所定のタイミングで冷却器１９０を用いた急速冷却を行ってから、加圧を解除するようにしている。
【０３２２】
図１６には、このように構成している形状転写装置１８０でのワークフィルム１６４の温度Ｔの変化と、加圧（加圧力）Ｐの変化の概略を示している。なお、温度Ｔ及び加圧Ｐは、転写ローラ１８２の凸部１６８に対向する部位での温度及び圧力としている。
【０３２３】
形状転写装置１８０では、ヒータユニット１８６によって加圧ローラ１８４Ａに対向する光熱変換層１８８が加熱されている状態で、ワークフィルム１６４が送り込まれる。これにより、ワークフィルム１６４は、温度Ｔが所定温度Ｔｇ（例えば８０°Ｃ）に達するタイミングで、転写ローラ１８２に形成している凸部１６８による加圧が開始される。
【０３２４】
形状転写装置１８０は、ワークフィルム１６４が加圧ローラ１８４Ａに対向する位置を通過するまでに、所定の温度及び圧力に達するように加熱及び加圧する。また、形状転写装置１８０は、ワークフィルム１６４が加圧ローラ１８４Ｂに対向する位置を通過するまで、加圧ベルト１５６によってワークフィルム１６４に所定の圧力を加えた状態で保持する。
【０３２５】
一方、ワークフィルム１６４は、転写ローラ１８２が回転することにより赤外線ヒータ１８６Ａに対向する位置（加圧ローラ１８４Ａに対向する位置）を通過しても、光熱変換層１８８や転写ローラ１８２の基材１８２Ａに温度上昇が生じていることなどから、略所定の温度に維持される。
【０３２６】
これにより、ワークフィルム１６４は、凸部１６８に対向する部分が確実に軟化して、凸部１６８に応じた凹部１６４Ａが形成される。このとき、形状転写装置１８０においても、ワークフィルム１６４の全面を加熱するのではなく、主に凸部１６８に対向する部位を加熱するので、ワークフィルム１６４の全面が不必要に温度上昇してしまうのを抑えることができる。
【０３２７】
この後、冷却器１４８により、基材１８２Ａと共に光熱変換層１８８の冷却が開始されるなどすることにより、ワークフィルム１６４の温度が緩やかに下降する。このときに、転写ローラ１８２は、光熱変換層１８８に部分的な温度上昇が生じているのみであるため、熱量が少なくなっており、これにより、次に赤外線ＩＲの照射位置に達するまでに、基材１８２Ａ及び光熱変換層１８８の確実な冷却が可能となっている。
【０３２８】
ここで、形状転写装置１８０では、冷却器１９０を加圧ローラ１８４Ｂ側に偏寄して設けていることにより、ワークフィルム１６４の温度Ｔが温度Ｔｇに達するタイミングで、冷却器１９０によるワークフィルム１６４の冷却が開始されるようにしている。
【０３２９】
これにより、ワークフィルム７４は、温度Ｔが急激に低下し、環境温度に達したタイミングで、加圧ローラ１８４Ｂに対向する位置を通過することにより、加圧が解除される。
【０３３０】
このように、形状転写装置１８０では、転写プロセスにおけるワークフィルム１６４の温度及び圧力を制御することにより、高精度で確実な形状転写を行うことができるようになっている。
【０３３１】
すなわち、形状転写装置１８０では、転写プロセスにおける転写対象等に対する圧力パターンや温度パターンを適切に設定し、設定した圧力パターン及び温度パターンに応じた加熱及び加圧処理を施すことにより、高品質の形状転写を行うことができる。
【０３３２】
このときの温度パターンは、加熱するときの熱源となる光源の配置、数及び間隔、冷却手段の配置等を変化させるなどすることにより調整が可能であり、また、圧力パターンは、加圧ローラの数や配置、個々の加圧ローラや、加圧ベルトの位置及び圧力調整等によって任意のパターンに設定することができる。
【０３３３】
また、加熱を開始する時の温度が変化すると、加熱温度も変化してしまうが、加熱を開始するときまでに確実な冷却が可能となっていることにより、加熱温度の高精度な制御が可能となっている。
【０３３４】
なお、第７の実施の形態では、形状転写を例に説明したが、素材転写に適用しても良い。すなわち、素材転写を行うときの転写素材と転写対象間の圧力パターン及び加熱パターン（温度パターン）を適切に設定することにより、高精度で確実な素材転写を行うことができる。
【０３３５】
また、第７の実施の形態では、光源として赤外線ＩＲを発するヒータユニット１８６を用いたが、レーザービームＬＢを射出して加熱するものであっても良い。
【０３３６】
すなわち、レーザー光を用いて転写対象等を加熱するときの加熱パターン及び加圧パターンを、適正な素材転写、形状転写が得られるように設定し、設定した加熱パターン及び加圧パターンに基づいた素材転写、形状転写を行うことにより、高品質の素材転写、形状転写が可能となる。
〔第８の実施の形態〕
次に本発明の第８の実施の形態を説明する。なお、第８の実施の形態において、第１乃至第７の実施の形態と同一の部品には、同一の符号を付与してその説明を省略する。
【０３３７】
図１７には、第８の実施の形態に適用した転写装置（素材転写装置）２００の要部の基本構成を示している。転写装置２００は、巻き掛けローラとして冷却ローラ２０２が設けられている。
【０３３８】
図１７及び図１８に示すように、冷却ローラ２０２には、転写対象となるフイルム状の基板であるワークフィルム１０２と、仮支持体１３０の一方の面に転写素材層１３２が形成されたドナーフィルム１０４が巻き掛けられるようになっている。
【０３３９】
図１８に示すように、ワークフィルム１０２は冷却ローラ２０２側となり、このワークフィルム１０２に転写素材層１３２を対向させてドナーフィルム１０４が重ねられる。これにより、転写素材層１３２を形成している転写素材１３４の、ワークフィルム１０２への転写が可能となっている。
【０３４０】
一方、図１７に示すように、素材転写装置２００には、冷却ローラ２０２に対向してレーザー発振器２４等を用いた加熱ヘッド２０４が設けられている。この加熱ヘッド２０４は、例えばレーザー発振器２４によって発振する所定波長のレーザービームＬＢを、冷却ローラ２０２に巻き掛けられたドナーフィルム１０４へ向けて射出する。このとき、加熱ヘッド２０４では、レーザービームＬＢが所定のスポット径となるように集光している。
【０３４１】
ところで、図１７に示すように、素材転写装置２００では、冷却ローラ２０２に巻き掛けられるドナーフィルム１０４に重ねて、加熱部材である加熱フィルム２０６を巻き掛け、ワークフィルム１０２、ドナーフィルム１０４及び加熱フィルム２０６が一体で搬送されるようにし、レーザービームＬＢが加熱フィルム２０６へ照射されるようにしている。
【０３４２】
図１８に示すように、加熱フィルム２０６は、支持部材として所定幅のウエブ状に形成したフレキシブル基材２０８と、このフレキシブル基材２０８の一方の面に設けられた光熱変換層２１０と、によって構成され、光熱変換層２１０をドナーフィルム１０４に対向させて、ドナーフィルム１０４に重ねられる。
【０３４３】
フレキシブル基材２０８は、ＰＥＴ、ＰＥＮ、ＴＡＣ、ＰＥＳなどの光透過性材料を用い、例えば３０μｍ〜５００μｍ程度の肉厚となるように形成することにより可撓性を持たせ、ドナーフィルム１０４と共に冷却ローラ２０２に巻きかけたときに、ドナーフィルム１０４に密着可能となるようにしている。また、フレキシブル基材２０８は、光透過性材料を用いることにより加熱ヘッド２０４から照射されるレーザービームＬＢを透過するようになっている。
【０３４４】
このようなフレキシブル基材２０８としては、ＰＥＴ、ＰＥＮ、ＴＡＣ、ＰＥＳなどの光透過性材料に限らず、レーザービームＬＢの透過性が高く、かつ可撓性を有する材質であれば任意の材料を用いることができる。
【０３４５】
光熱変換層２１０は、Ｎｉ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ等を用い、蒸着等によって厚さが、０.１μｍ〜１.０μｍ程度の薄肉となるようにフレキシブル基材２０８に形成されている。また、光熱変換層２１０の厚さを、上記範囲とすることにより、フレキシブル基板２０８の可撓性を損ねてしまうことがないようにしている。このような光熱変換層２１０は、これらに限らず、レーザービームＬＢの吸収性が高く（例えば透過率が１５％以下）、かつ、レーザービームＬＢを吸収することにより発熱する任意の材料を用いることができる。
【０３４６】
図１７に示すように、素材転写装置２００には、冷却ローラ２０２に対向してニップローラ２１２が配置されている。ニップローラ２１２は、レーザービームＬＢの照射位置を挟んで、冷却ローラ２０２の回転方向（図１７の矢印方向）の上流側と下流側に設けられており、ワークフィルム１０２、ドナーフィルム１０４及び加熱フィルム２０６は、ニップローラ２１２の間で、冷却ローラ２０２に巻き掛けられる。
【０３４７】
ニップローラ２１２は、冷却ローラ２０２との間で、ワークフィルム１０２、ドナーフィルム１０４及び加熱フィルム２０６を一体で挟持し、ワークフィルム１０２、ドナーフィルム１０４及び加熱フィルム２０６を互いに密着させて、ズレが生じるのを防止している。
【０３４８】
また、素材転写装置２００では、加熱フィルム２０６に所定のテンションを付与するようにして、ワークフィルム１０２とドナーフィルム１０４が、ニップローラ２１２の間で加圧されるようになっている。
【０３４９】
一方、冷却ローラ２０２は、略円筒状に形成され、内部が中空となっており、この中空の内部に略円柱状に形成された冷却器２１４が、相対回転可能に配置されている。この冷却器２１４は、例えば、冷却水が供給されることにより、冷却ローラ２０２の外周部を冷却して、所定の温度範囲に維持する。
【０３５０】
これにより、冷却ローラ２０２に巻き掛けられたワークフィルム１０２等に温度上昇が生じるのを抑えると共に、温度上昇が生じたときには、迅速な冷却が可能となるようにしている。なお、冷却器２１４は、冷却手段の一例を示すものであり、冷却手段は、これに限らず任意の構成を適用することができる。
【０３５１】
このように構成している素材転写装置２００では、転写対象であるワークフィルム１０２に、転写素材層１３２が形成されたドナーフィルム１０４と、光熱変換層２１０が設けられた加熱フィルム２０６とを重ねて、冷却ローラ２０２に巻き掛ける。このとき、加熱フィルム２０６には、所定のテンションが付与され、ワークフィルム１０２、ドナーフィルム１０４及び加熱フィルム２０６は、冷却ローラ２０２への巻き掛け開始位置及び巻き掛け終了位置で、冷却ローラ２０２とニップローラ２１２に挟持される。
【０３５２】
これにより、ワークフィルム１０２、ドナーフィルム１０４及び加熱フィルム２０６の緊密に密着されると共に、ワークフィルム１０２とドナーフィルム１０４の間が加圧される。
【０３５３】
一方、加熱ヘッド２０４は、冷却ローラ２０２に巻き掛けられた加熱フィルム２０６へ向けてレーザービームＬＢを照射する。加熱フィルム２０６では、このレーザービームＬＢがフレキシブル基材２０８を透過して光熱変換層２０６に照射される。なお、加熱ヘッド２０４は、光熱変換層２１０で所定のスポット径となるようにレーザービームＬＢが集光されている。
【０３５４】
光熱変換層２１０は、照射されたレーザービームＬＢのエネルギーを吸収して、レーザービームＬＢの照射部位が発熱し、ドナーフィルム１０４に設けられた転写素材層１３２を加熱する。ドナーフィルム１０４の転写素材層１３２は、加熱されることにより溶融し、加熱部分が剥離しやすくなる。このときに、ワークフィルム１０２とドナーフィルム１０４の間が加圧されていることにより、溶融した転写素材層１３２（転写素材１３４）がワークフィルム１０２に転写する。
【０３５５】
一方、冷却ローラ２０２内には、冷却器２１４が設けられており、冷却ローラ２０２は、この冷却器２１４によって外周部が所定の温度範囲に維持される。
【０３５６】
これにより、転写素材層１３２では、熱伝導が抑えられ、転写素材１３４は、レーザービームＬＢのスポット径に応じた大きさでワークフィルム１０２に転写する。また、ワークフィルム１０２に転写した転写素材１３４と共に、レーザービームＬＢによって発熱した光熱変換層２１０が、冷却ローラ２０２によって迅速に冷却される。
【０３５７】
このとき、素材転写装置２００は、レーザービームＬＢが照射された光熱変換層１３２のみが発熱し、この発熱部位に対向する転写素材層１３２を加熱するので、熱量が少ない。このために、冷却ローラ２０２によって転写素材層１３２が短時間で迅速に冷却される。
【０３５８】
したがって、レーザービームＬＢの照射位置よりも冷却ローラ２０２の回転方向下流側に設けているニップローラ２１２を通過して、ワークフィルム１０２からドナーフィルム１０４が剥がされるときに、ワークフィルム１０２に転写された転写素材１３４にズレ等が生じたり、ワークフィルム１０２に転写した転写素材１３４がワークフィルム１０２から剥がれてしまうことがなく、短い転写サイクルでの素材転写が可能となっている。
【０３５９】
ここで、例えば、レーザー発振器２４として波長が８０８ｎｍの半導体レーザーを用い、光熱変換層１３２上で４００μｍのスポット径でレーザービームＬＢをパルス照射し、光熱変換層１３２が８０°Ｃ〜１２０°ＣとなったときにレーザービームＬＢの照射を停止する。
【０３６０】
これにより、転写素材１３４を形成する成分に熱破壊等を生じさせることなく、レーザービームＬＢのスポット径に応じた転写素材１３４をワークフィルム１０２に転写することができる。
【０３６１】
また、図１７に示すように、レーザービームＬＢの光路中に、例えば１００μｍ×１００μｍの開口（図示省略）を形成したマスク２１６を配置し、このマスク２１６の開口を通過したレーザービームＬＢが光熱変換層２１０に照射されるようにする。
【０３６２】
これにより、ワークフィルム１０２に、転写素材１３４を、マスク２１６の開口と略同じ大きさ（約１００μｍ×１００μｍ）でワークフィルム１０２に転写することができる。
【０３６３】
このように構成された素材転写装置２００では、ワークフィルム１０２に形成する転写素材１３４のパターンに応じて、加熱ヘッド２０４を移動しながらレーザービームＬＢを照射すればよく、これにより、所望のパターンで転写素材１３４をワークフィルム１０２に転写することができる。
〔第９の実施の形態〕
次に第９の実施の形態を説明する。なお、第９の実施の形態で第１乃至第８の実施の形態と同一の部品には、同一の符号を付与してその説明を省略する。
【０３６４】
図１９及び図２０には、第９の実施の形態に適用した転写装置（素材転写装置）２２０の概略構成を示している。
【０３６５】
素材転写装置２２０には、冷却ドラム２２２が設けられている。この冷却ドラム２２２は、内部に冷却器２１４などの冷却手段（図示省略）が設けられており、この冷却手段によって、外周部が冷却されて所定の温度範囲に維持されるようになっている。
【０３６６】
図２０に示すように、この冷却ドラム２２２は、軸方向の一端部にギヤ２２４が設けられており、このギア２２４に、駆動モータ２２６の駆動軸２２６Ａに取り付けられているギヤ２２８が噛合している。
【０３６７】
これにより、素材転写装置２２０は、駆動モータ２２６が駆動すると、冷却ドラム２２２が所定の回転速度で回転するようになっている。なお、図１９では、ギヤ２２４、２２８の図示を省略している。
【０３６８】
この冷却ドラム２２２には、転写対象となるシート基板２３０と共にドナーシート２３２、加熱シート２３４が重ねて巻き付けられる。シート基板２３０は、例えば、ワークシート１０２を所定サイズに切断したものを用いることができる。また、ドナーシート２３２及び加熱シート２３４としては、ドナーフィルム１０４及び加熱フィルム２０６を、シート基板２３０のサイズに応じて切断したものを用いることができる。
【０３６９】
すなわち、第８の実施の形態で説明した素材転写装置２００がウエブ状のワークフィルム１０２に、ウエブ状の加熱フィルム２０６を用いて、ウエブ状のドナーフィルム１０４の転写素材１３４を転写するのに対し、素材転写装置２２０は、シート状の転写対象に、加熱シートを用いて転写素材１３４を転写する。
【０３７０】
図１９に示すように、シート基板２３０は、転写素材１３４が転写される面を外側に向けて冷却ドラム２２２に巻き付けられ、ドナーシート２３２は、転写素材層１３２をシート基板２３０側に向けた状態で、シート基板２３０に重ねて巻き付けられる。また、加熱シート２３４は、光熱変換層２１０側をドナーシート２３２側に向けて、ドナーシート２３２に重ねて巻き付けられる。
【０３７１】
冷却ドラム２２２には、ニップローラ２１２が対向して配置されており、ニップローラ２１２と冷却ドラム２２２の間で、シート基板２３０、ドナーシート２３２及び加熱シート２３４が挟持され、シート基板２３０、ドナーシート２３２及び加熱シート２３４が、一体で回転するようになっている。
【０３７２】
このとき、素材転写装置２２０では、最外層となる加熱シート２３４に所定のテンションを付与させることにより、シート基板２３０、ドナーシート２３２及び加熱シート２３４を互いに密着させると共に、シート基板２３０とドナーシート２３２の間を加圧するようにしている。なお、冷却ドラム２２２へのシート基板２３０、ドナーシート２３２及び加熱シート２３４の装着は、任意の固定方法を用いて行うことができる。
【０３７３】
一方、素材転写装置２２０には、レーザーヘッド２３６及びレーザー発振器２３８が設けられている。レーザーヘッド２３６は複数本の光ファイバーケーブル２４０によってレーザー発振器２３８に接続している。
【０３７４】
図１９に示すように、レーザーヘッド２３６は、ニップローラ２１２の間で冷却ドラム２２２に対向している。また、図２１に示すように、レーザーヘッド２３６には、それぞれの光ファーバーケーブル２４０の先端が、レーザービームＬＢの射出口２４２として開口しており、この開口が冷却ドラム２２２へ向けられている（図示省略）。
【０３７５】
レーザー発振器２３８は、所定波長のレーザービームＬＢを発振し、発振したレーザービームＬＢを、複数の光ファイバイーケーブル２４０内へ選択的に分岐して照射可能となっている。
【０３７６】
これにより、レーザー発振器２３８によって発振されたレーザービームＬＢが、レーザーヘッド２３６に形成されている複数の射出口２４２のそれぞれから、冷却ドラム２２２へ向けて射出可能となっている。なお、レーザーヘッド２３６から射出されたレーザービームＬＢは、冷却ドラム２２２に巻き掛けられた加熱シート２３４の光熱変換層２１０上に、所定のスポット径で照射されるように集光される。
【０３７７】
本実施の形態では、一例として射出口２４２の内径ｄが１００μｍの光ファイバーケーブル２４０を１０本用い、射出口２４２をレーザーヘッド２３６に交互に緊密に配置することにより、幅Ｗが１ｍｍの範囲で、レーザービームＬＢをライン状又は任意の位置に照射可能となっている。なお、レーザーヘッド２３６は、幅方向が冷却ドラム２２２の軸方向に沿って配置されている（図２０参照）。
【０３７８】
一方、図１９及び図２０に示すように、素材転写装置２２０には、Ｘテーブル２４４が設けられ、レーザーヘッド２３６がこのＸテーブル２４４に取り付けられている。図２０に示すように、Ｘテーブル２４４は、Ｘテーブルドライバ２４６に接続しており、Ｘテーブル２４４は、Ｘテーブルドライバ２４６によって駆動されて、レーザーヘッド２３６を冷却ドラム２２２の軸方向に沿って移動する。
【０３７９】
素材転写装置２２０では、冷却ドラム２２２の回転と、レーザーヘッド２３６の移動によって、冷却ドラム２２２に装着された加熱シート２３４上の任意の位置にレーザービームＬＢを照射可能となっている。
【０３８０】
すなわち、冷却ドラム２２２を回転しながらレーザーヘッド２３６を冷却ドラム２２２の軸方向に移動することにより、図２０に示すように、冷却ドラム２２２の外周面に螺旋状にレーザービームＬＢを照射可能となっている。
【０３８１】
図１９に示すように、素材転写装置２２０には、転写制御装置２４８が設けられている。この転写制御装置２４８は、駆動モータ２２６の回転及びＸテーブル２４４を用いたレーザーヘッド２３６の移動と共に、レーザー発振器２３８によるレーザービームＬＢの発振を制御する。
【０３８２】
このように構成されている素材転写装置２２０では、冷却ドラム２２２に、転写素材１３４の転写対象であるシート基板２３０、転写素材１３４が設けられたドナーシート２３２及び、加熱シート２３４とを重ねて巻き付けて装着した状態で、冷却ドラム２２２を所定の回転速度で回転する。
【０３８３】
これと共に、転写制御装置２４８は、冷却ドラム２２２の回転に同期させてレーザーヘッド２３６を冷却ドラム２２２の軸方向に沿って移動しながら、レーザー発振器２３８を作動させ、レーザーヘッド２３６から加熱シート２３４へ向けてレーザービームＬＢを射出する。
【０３８４】
このとき、転写制御装置２４８は、予め設定されたシート基板２３０への転写素材１３４の転写パターンに基づいて、レーザー発振器２３８を作動させることにより、転写パターンに応じて、レーザービームＬＢを、冷却ドラム２２２上の加熱シート２３４へ照射することができる。
【０３８５】
一方、レーザービームＬＢが照射される加熱シート２３４は、光透過性のフレキシブル基材２０８と光熱変換層２１０によって形成されており、レーザービームＬＢは、フレキシブル基材２０８を透過して光熱変換層２１０へ照射される。
【０３８６】
この光熱変換層２１０は、レーザービームＬＢが照射されることにより、レーザービームＬＢの照射部位が発熱し、発熱した部位に対向するドナーシート２３２の転写素材層１３２を加熱して、転写素材層１３２を溶融させる。また、シート基板２３０とドナーシート２３２の間が加圧されていることにより、溶融した転写素材層１３２の転写素材１３４が、シート基板２３０上に転写する。
【０３８７】
このとき、転写素材層１３２は、レーザービームＬＢが照射された光熱変換層２１０に対向する部位のみが加熱され、冷却ドラム２２２が冷却されていることにより、周囲の転写素材層１３２への熱伝達が抑えられている。
【０３８８】
これにより、転写素材１３４は、レーザービームＬＢのスポット径と略同じ大きさでシート基板２３０へ転写される。また、冷却ドラム２２２の外周部が常に冷却されていることにより、転写した転写素材１３４は、迅速に冷却されるので、位置ズレ等の転写不良が生じることがなく、また、短い転写サイクルでの素材転写が可能となっている。
【０３８９】
また、レーザービームＬＢが照射された加熱シート２３４の光熱変換層２１０も、冷却ドラム２２２によって冷却されるので、連続的に転写素材１３４の転写が可能となる。
【０３９０】
さらに、シート基板２３０への転写素材１３４の転写パターンを、レーザービームＬＢの照射位置によって制御できるので、予め転写パターンに応じて型材を形成することなく、所望の転写パターンで高精度の素材転写が可能となると共に、転写パターンの変更も極めて容易であり、型材の加工精度に関わらず高精度の素材転写が可能となる。
【０３９１】
なお、第８及び第９の実施の形態では、素材転写を例に説明したが、素材転写装置２００、２２０の構成は、形状転写にも適用することができる。形状転写に適用する時には、ドナーフィルム１０４に換えてモールドフィルム１７２等を用い、ドナーシート２３２に換えて、モールドフィルム１７２を所定サイズに切断したモールドシートを用い、突部２６８へ向けてレーザービームＬＢを照射すればよいが、加圧力及び冷却タイミングを調整する必要がある。
【０３９２】
なお、以上説明した本実施の形態（第１乃至第９の実施の形態）は、本発明の構成を限定するものではない。本実施の形態では、主に、有機ＥＬ発光素子を形成するための素材転写、形状転写を例に説明したが、本発明はこれに限らず、液晶ディスプレイを形成するときの素材転写や形状転写、カラーフィルタのセパレーションリブ等を形成するときの素材転写、形状転写に適用することができる。また、本発明は、これらに限らず、シート状やウエブ状の転写対象へ各種の転写素材を転写する素材転写、シート状やウエブ状の転写対象へのエンボスパターンの転写などの各種の形状転写に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【０３９３】
【図１】第１の実施の形態に適用した転写装置の概略構成図である。
【図２】有機ＥＬ発光層を転写したワークの概略構成図である。
【図３】第２の実施の形態に適用した転写装置の概略構成図である。
【図４】実験例１の実験結果に基づいた加熱温度に対する加圧圧力を示す線図である。
【図５】第３の実施の形態に適用した形状転写装置の概略構成図である。
【図６】形状転写したフィルムの概略構成図である。
【図７】第４の実施の形態に適用した形状転写装置の概略構成図である。
【図８】第５の実施の形態に適用した素材転写装置の概略構成図である。
【図９】（Ａ）は第５の実施の形態に適用したドナーフィルムの概略構成図、（Ｂ）はドナーフィルムからワークフィルムへの転写素材の転写を示す概略図である。
【図１０】レーザー光源の一例を示す概略構成図である。
【図１１】素材転写装置の他の一例を示す概略構成図である。
【図１２】第６の実施の形態に適用した形状転写装置の概略構成図である。
【図１３】ワークフィルムへの形状転写を示す概略図である。
【図１４】形状転写装置の他の一例を示す概略構成図である。
【図１５】第７の実施の形態に適用した形状転写装置の概略構成図である。
【図１６】形状転写を行うときの加熱パターンと加圧パターンの一例を示す線図である。
【図１７】第８の実施の形態に適用した転写装置の基本構成を示す概略図である。
【図１８】冷却ロール上へのワークフィルム、ドナーフィルム及び加熱シートの配置を示す要部の概略図である。
【図１９】第９の実施の形態に適用した転写装置の要部の概略構成図である。
【図２０】図１９に示す転写装置の要部の概略斜視図である。
【図２１】第９の実施の形態に適用したレーザーヘッドの射出口を示す概略図である。
【符号の説明】
【０３９４】
１０、５０、１００、１５２、２００、２２０    転写装置
１２、５２、６２、８２    上型（上側加圧手段、加圧手段）
１４    下型（下側加圧手段、加圧手段）
１６、４８    冷却配管（冷却手段）
１８、５６、６８、８４、１３８、１７０、１８８、２１０    光熱変換層
２０、２０４    加熱ヘッド
２２、１４６    レーザー制御装置
２４、１４４、２３８    レーザー発振器（レーザー発振手段、光源）
２６    ビーム偏向器
３０    転写フィルム
３２、１３０    仮支持体
３４、１３２    転写素材層（転写素材）
３６    ワーク（転写対象）
４４    電子輸送層（転写対象）
４６    有機ＥＬ発光層
５４、６６、１６８    凸部
６０、８０、１６０、１８０    形状転写装置
６４、１６４    フィルム（形状転写対象）
８６、１８６    ヒータユニット（光源）
８８    ヒータ制御装置
９０    ランプ（光源）
１０２    ワークフィルム（転写対象）
１０４    ドナーフィルム
１０６、１６２、１８２    転写ローラ（加圧手段）
１０８、１０８Ａ、１８４Ａ    加圧ローラ（加圧手段）
１３６、２３６    レーザーヘッド（光源）
１４８、１５０、１９０、２１４    冷却器（冷却手段）
１５６    加圧ベルト（加圧手段）
１６４    ワークフィルム（転写対象）
１６４Ａ    凹部
２０２    冷却ローラ（巻き掛けローラ）
２０６    加熱フィルム（加熱部材）
２０８    フレキシブル基材（支持部材）
２１２    ニップローラ
２２２    冷却ドラム（巻き掛けローラ）
２２６    駆動モータ
２３０    ワーク基板（転写対象）
２３２    ドナーシート
２３４    加熱シート（加熱部材）
２４４    Ｘテーブル
２４８    転写制御装置
ＬＢ    レーザービーム
ＮＲ    近赤外線
ＩＲ    赤外線
【図１】
2005005245.tif 000003
【図２】
2005005245.tif 000004
【図３】
2005005245.tif 000005
【図４】
2005005245.tif 000006
【図５】
2005005245.tif 000007
【図６】
2005005245.tif 000008
【図７】
2005005245.tif 000009
【図８】
2005005245.tif 000010
【図９】
2005005245.tif 000011
【図１０】
2005005245.tif 000012
【図１１】
2005005245.tif 000013
【図１２】
2005005245.tif 000014
【図１３】
2005005245.tif 000015
【図１４】
2005005245.tif 000016
【図１５】
2005005245.tif 000017
【図１６】
2005005245.tif 000018
【図１７】
2005005245.tif 000019
【図１８】
2005005245.tif 000020
【図１９】
2005005245.tif 000021
【図２０】
2005005245.tif 000022
【図２１】
2005005245.tif 000023