(57)【要約】【課題】ミラーで反射した光ビームの偏向角が歪曲しても、被照射面における光ビームの走査速度が一定になるよう制御することが可能な光走査装置などを提供する。【解決手段】光ビームを走査する光走査装置において、光ビームが主走査方向の複数の位置を通過するそれぞれのタイミングを検知し複数の位置検知信号を生成する信号生成手段と、位置検知信号相互の時間間隔を計測し、走査速度を求める走査速度演算手段と、走査速度に応じたタイング信号を生成するタイミング信号生成手段と、タイミング信号に基づいて光源から光ビームを発射させる光ビーム発生手段と、を備えた。【選択図】  図８
2005315903.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射ミラーの反射面を変動させることにより、光源から発射された光ビームを偏向させ、偏向させた該光ビームにより被照射面を走査する光走査装置において、
前記光源から発射され、前記反射ミラーで偏向させた光ビームにより前記被照射面を、該被照射面の主走査方向に走査するときに、該光ビームが該主走査方向の複数の位置を通過するそれぞれのタイミングを検知し、検知されたそれぞれのタイミングに応じて複数の位置検知信号を生成する信号生成手段と、
前記複数の位置検知信号相互の時間間隔を計測し、前記光ビームが前記複数の位置を通過するときの走査速度を求める走査速度演算手段と、
前記走査速度演算手段により求めた前記走査速度に応じたタイング信号を生成するタイミング信号生成手段と、
前記タイミング信号生成手段により生成された前記タイミング信号に基づいて前記光源から前記光ビームを発射させる光ビーム発生手段と、を備えたことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記信号生成手段は、前記反射ミラーで偏向された光ビームが前記被照射面を走査する光路上に、前記それぞれのタイミングを検知する複数のセンサを備えたことを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
【請求項３】
前記信号生成手段は、前記反射ミラーで偏向された光ビームが前記被照射面を走査するそれぞれのタイミングを検知するセンサと、該光ビームの光路上に、該光ビームの一部を反射して該センサに向ける検知用反射ミラーとを備えたことを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
【請求項４】
前記光源は、複数の光ビームを発射するものであって、
前記複数の光ビームのうちの少なくとも１つを前記信号生成手段による位置検知信号の生成に用いることを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
【請求項５】
前記信号生成手段は、前記光ビームが前記主走査方向における走査開始位置及び走査終了位置を通過するそれぞれのタイミングを検知して走査開始信号及び走査終了信号を生成するものであって
前記走査速度演算手段は、前記走査開始信号及び走査終了信号それぞれに同期させて生成されるそれぞれの基準クロックに基づいて前記複数の走査位置検知信号相互の時間間隔を計測し、前記走査速度を求めることを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
【請求項６】
タイミング信号生成手段は、前記走査速度演算手段により求められた前記走査速度に応じてパルス幅変調されたタイング信号を生成することを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
【請求項７】
前記信号生成手段は、前記光ビームが前記主走査方向における走査開始位置及び走査終了位置を通過するそれぞれのタイミングを検知して走査開始信号及び走査終了信号を生成するものであって、
開口を有し、両辺に電極部が設けられた基板、及び該開口に嵌合し、該電極部に対向する対向電極部を有する両辺と該両辺に交わる別の両辺の中央部から該辺に垂直に延伸する延伸部とを有し、該延伸部により該基板に捩回自在に支持された、表面に反射ミラーが形成された可動部材を備え、該電極と該対向電極との間に交流電圧が印加されたときに該可動部材が該延伸部を中心に揺動し、該反射ミラーで反射した光ビームにより前記被照射面を走査するマイクロミラーデバイスと、
前記走査開始信号及び前記走査終了信号が生成されるタイミングに合わせて前記マイクロミラーデバイスに所定周波数の交流電圧を印加する駆動手段と、を備えたことを特徴とする請求項１記載の光走査装置。
【請求項８】
前記基板は、回動自在に支持されたものであって、
前記マイクロミラーデバイスは、前記基板を左右両方向に回動させることにより前記反射ミラーで反射した光ビームにより前記被照射面を前記主走査方向及び該主走査方向と交わる副走査方向に走査することを特徴とする請求項７記載の光走査装置。
【請求項９】
前記可動部材は、固有の振動周波数を有するものであって、
前記駆動手段は、前記振動周波数よりも高い周波数の交流電圧を前記固定電極と前記対向電極との間に印加することを特徴とする請求項７記載の光走査装置。
【請求項１０】
光源から発射され、反射ミラーで偏向させた光ビームにより被照射面を主走査方向に走査する光走査方法において、
前記光ビームが前記主走査方向の複数の位置を通過するそれぞれのタイミングをセンサにより検知し、検知されたそれぞれのタイミングに応じて複数の位置検知信号を生成し、
生成された前記複数の位置検知信号相互の時間間隔を計測して前記光ビームが前記複数の位置を通過するときの走査速度を求め、
求めた前記走査速度に応じたタイング信号を生成し、
生成された前記タイミング信号に基づいて前記光源から前記光ビームを発射させることを特徴とする光走査方法。
【請求項１１】
前記光ビームが前記主走査方向の複数の位置を通過する前記それぞれのタイミングをセンサにより検知し、前記複数の位置検知信号を生成する位置検知モードと、該タイミングを該センサにより非検知の位置非検知モードとを有し、
所定の指令を受けて前記位置検知モードが選択されたときは、前記センサにより検知され、求めた前記走査速度により新たに生成された前記タイミング信号により前記光源から前記光ビームを発射させ、前記位置非検知モードが選択されたときは、それまで設定されていた前記タイミング信号により前記光源から前記光ビームを発射させることを特徴とする請求ｌ０記載の光走査方法。
【請求項１２】
表面に反射ミラーが形成された可動部材とを備え、電界又は磁界の作用により該可動部材が揺動し、該反射ミラーで反射した光ビームが偏向するマイクロミラーデバイスを用い、
前記光ビームが前記主走査方向における走査開始位置及び走査終了位置を通過するそれぞれのタイミングを検知して走査開始信号及び走査終了信号を生成し、
前記走査開始信号と前記走査終了信号とが生成されるタイミングに合わせて前記マイクロミラーデバイスに所定周波数の交流電界を印加することを特徴とする請求項１０記載の光走査方法。
【請求項１３】
前記可動部材は、固有の振動周波数を有するものであって、
前記マイクロミラーデバイスに前記振動周波数よりも高い周波数の交流電界を印加することを特徴とする請求項１０記載の光走査方法。
【請求項１４】
光源から所定の信号で変調された光ビームを発射し、反射面が変動する反射ミラーにより該光ビームを偏向させて被照射面を走査し、該被照射面に該光ビームによる像を書き込む光書込装置において、
前記被照射面に前記光ビームによる像を書き込むときに、該光ビームにより該被照射面が走査される主走査方向の複数の位置を通過するそれぞれのタイミングを検知し、検知されたそれぞれのタイミングに応じて複数の位置検知信号を生成する信号生成手段と、
前記複数の位置検知信号相互の時間間隔を計測し、前記光ビームが前記複数の位置を通過するときの走査速度を求める走査速度演算手段と、
前記複数の位置検知信号相互の時間間隔を計測し、前記光ビームが前記複数の位置を通過するときの走査速度を求める走査速度演算手段と、
前記走査速度演算手段により求めた前記走査速度に応じたタイング信号を生成するタイミング信号生成手段と、
前記タイミング信号生成手段により生成された前記タイミング信号に基づいて前記光源から前記光ビームを発射させる光ビーム発生手段と、を備えたことを特徴とする光書込装置。
【請求項１５】
前記信号生成手段は、前記反射ミラーで偏向された光ビームが前記被照射面を走査する光路上に、前記それぞれのタイミングを検知する複数のセンサを備えたことを特徴とする請求項１４記載の光書込装置。
【請求項１６】
前記信号生成手段は、前記光ビームが前記主走査方向における走査開始位置及び走査終了位置を通過するそれぞれのタイミングを検知して走査開始信号及び走査終了信号を生成するものであって
前記走査速度演算手段は、前記走査開始信号及び走査終了信号それぞれに同期させて生成されるそれぞれの基準クロックに基づいて前記複数の走査位置検知信号相互の時間間隔を計測し、前記走査速度を求めることを特徴とする請求項１４記載の光書込装置。
【請求項１７】
タイミング信号生成手段は、前記走査速度演算手段により求められた前記走査速度に応じてパルス幅変調されたタイング信号を生成することを特徴とする請求項１４記載の光書込装置。
【請求項１８】
前記信号生成手段により前記複数の位置検知信号を生成する位置検知光ビーム走査モードと、前記光ビーム発生手段により発射された光ビームにより前記被照射面に前記像を書き込む像書込光ビーム走査モードとを切り替える操作子を備えたことを特徴とする請求項１４記載の光書込装置。
【請求項１９】
帯電した像担持体を光ビームにより走査して静電潜像を書き込み、書き込まれた該静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成し、形成された該トナー像を記録媒体上に転写及び定着させることにより該記録媒体上に定着トナー像からなる画像を形成する画像形成装置において、
光源から光ビームを発射し、反射面が変動する反射ミラーにより該光ビームを偏向させ、偏向させた該光ビームにより前記像担持体を走査する光走査手段、
前記光走査手段により前記像担持体が前記光ビームにより走査される主走査方向の複数の位置を通過するそれぞれのタイミングを検知し、検知されたそれぞれのタイミングに応じて複数の位置検知信号を生成する信号生成手段、
前記複数の位置検知信号相互の時間間隔を計測し、前記光ビームが前記複数の位置を通過するときの走査速度を求める走査速度演算手段、
前記走査速度演算手段により求めた前記走査速度に応じたタイング信号を生成するタイミング信号生成手段、及び
前記タイミング信号生成手段により生成された前記タイミング信号に基づいて前記光源から前記光ビームを発射させる光ビーム発生手段を有し、所定の信号で変調された駆動信号により前記光走査手段を駆動することにより前記像担持体上に前記静電潜像を書き込む光書込装置を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２０】
前記信号生成手段は、前記光ビームが前記主走査方向における走査開始位置及び走査終了位置を通過するそれぞれのタイミングを検知して走査開始信号及び走査終了信号を生成するものであって、
前記光書込装置は、
開口を有し、両辺に固定電極部が設けられた基板と、該開口に嵌合し、該固定電極部に対向する対向電極部を有する両辺と該両辺に交わる別の両辺中央部から該辺に垂直に延伸する延伸部とを有し、該延伸部により該基板に捩回自在に支持された、表面に反射ミラーが形成された可動部材とを備え、前記固定電極と前記対向電極との間に交流電圧が印加されると該可動部材が揺動することにより、前記反射ミラーで反射した光ビームが偏向するマイクロミラーデバイスと、
前記走査開始信号と前記走査終了信号とが生成されるタイミングに合わせて前記マイクロミラーデバイスに所定周波数の交流電圧を印加する駆動手段とをさらに備えたことを特徴とする請求項１９記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光源から発射された光ビームを反射ミラーで偏向させ、偏向させた光ビームにより被照射面を走査する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光ディスク、レーザプリンタ、複写機、バーコードリーダなどの光学機器や情報機器において、記録媒体や感光体などの被照射面に光ビームを走査し、その被照射面に情報を書き込み、あるいはその被照射面から情報を読み取る光走査装置が盛んに用いられている。
【０００３】
光走査装置は、反射ミラーをメカニカルに回転させる方法が従来から多用されているが、近年、シリコンマイクロマシニング技術を利用し、マイクロミラーを揺動させ、そのマイクロミラーで反射した光ビームにより被照射面を走査する、例えばデジタル・マイクロミラー・デバイス（以下、「ＤＭＤ」と略称する。）などが開発されている。
【０００４】
ＤＭＤは、駆動方式により、電磁誘導型と、静電駆動型とがある。
【０００５】
例えば、支持基板にトーションバネで支持されて支持基板の平面方向と垂直な方向に揺動可能なミラーと、トーションバネを挟むミラーの両側位置において支持基板に支持された固定電極とを備え、固定電極とミラーに設けられた電極部との間に電圧を印加して静電引力によりミラーを揺動させる静電誘導発生手段を用いたものがある（特許文献１〜３参照）。
【０００６】
また、反射面と駆動コイル及び検出コイルとからなるミラーの両側に永久磁石を備え、駆動用コイルに交流信号を印加し、その電界と磁石による磁界との相互作用によりミラーを揺動させるものがある（特許文献４）。
【０００７】
図１は、静電引力によってミラーを揺動させる、光走査装置の光偏向部の代表例を示す平面図及び断面図である。
【０００８】
図１に示す走査装置の光偏向部は、基板１０１に設けられた凹部１０１ａにミラー１０２が配置されている。ミラー１０２の両側にはトーションバー１０３が設けられ、トーションバー１０３は、支持基板１０１に支持されている。
【０００９】
したがって、光偏向部は、トーションバー１０３の捩れ作用により、ミラー１０２が図の破線で示すように支持基板１０１平面に接近したり、離れたりして自在に揺動する。
【００１０】
トーションバー１０３は、導電性部材で構成されると共に、その両端が支持基板１０１に設けられたパッド１０４に電気接続されている。また、支持基板１０１の凹部１０１ａ両側には絶縁体１０６を介して固定電極１０７が設けられている。
【００１１】
光走査装置は、固定電極１０７のパッド１０８とトーションバー１０３が接続されたパッド１０４との間に高電圧が印加され、固定電極１０７とミラー１０２との間に静電力を発生させ、その静電引力によってミラー１０２の一方の側面を固定電極１０７側に吸引し、この吸引動作によってトーションバー１０３を捩じり変形させながらミラー１０２を基板平面に対して揺動させる。この揺動動作の直後に固定電極１０７への高圧電圧の印加を解除すると、トーションバー１０３の捩じり復元力によってミラーは逆方向に揺動される。この電圧印加と停止とを繰り返すことにより、ミラー１０２を揺動させることができるので、図示していない光源から発射され、ミラー１０２で反射する光を偏向させて、被照射面に照射される光を走査することができる。
【特許文献１】特開平８−２１１３２０号公報
【特許文献２】特許第３０１１１４４号公報
【特許文献３】特開２００２−１６２５３８号公報
【特許文献４】特開２００２−７８３６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら、ＤＭＤは、一般にシリコン基板上にエッチングにより形成され、ミラー基板の厚さは数１０μｍ、大きさは数ｍｍ四方程度であり、光走査装置の光偏向部として用いるには、揺動する振れ角が大きく、揺動周波数が高く、しかもできるだけ駆動電圧が低いことが望ましい。
【００１３】
一方、これら条件を満たすためには、ミラーの軽量化が不可欠であり、ミラー基板の大きさを犠牲にせずに、厚さを薄くすると、揺動中にミラー基板が変形し、変形したミラーにより反射した光ビームは、偏向角が歪曲してしまう。また、マイクロミラーに限らず、ポリゴンミラー等の回転ミラーにおいても、ミラー基板の厚さを高精度に制御する事は困難であることから、ミラー基板面にミラー部分が形成されたときに、面精度がばらつくので、そのバラツキの程度によっては、ミラーで反射した光ビームの偏向角が同様に歪曲する。そこで、光ビームの被照射面において、光ビームの走査速度が変動し、走査精度が低下するという問題がある。
【００１４】
本発明はかかる事情に鑑み、ミラーで反射した光ビームの偏向角が歪曲しても、被照射面における光ビームの走査速度が一定になるよう制御することが可能な光走査装置、光走査方法、光書込装置、及び画像形成装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記の目的を達成する本発明の光走査装置は、反射ミラーの反射面を変動させることにより、光源から発射された光ビームを偏向させ、偏向させた該光ビームにより被照射面を走査する光走査装置において、
上記光源から発射され、上記反射ミラーで偏向させた光ビームにより上記被照射面を、該被照射面の主走査方向に走査するときに、該光ビームが該主走査方向の複数の位置を通過するそれぞれのタイミングを検知し、検知されたそれぞれのタイミングに応じて複数の位置検知信号を生成する信号生成手段と、
上記複数の位置検知信号相互の時間間隔を計測し、上記光ビームが上記複数の位置を通過するときの走査速度を求める走査速度演算手段と、
上記走査速度演算手段により求めた上記走査速度に応じたタイング信号を生成するタイミング信号生成手段と、
上記タイミング信号生成手段により生成された上記タイミング信号に基づいて上記光源から上記光ビームを発射させる光ビーム発生手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１６】
このように、主走査方向の複数の位置を通過するそれぞれのタイミングを検知し、検知されたそれぞれのタイミングに応じて複数の位置検知信号を生成すると共に、光ビームがそれらの位置を通過するときの走査速度を求めてタイング信号を生成し、そのタイミング信号に基づいて光ビームを発射させるので、反射ミラー面がひずんで、走査速度は変化しても、光ビームによって照射される光ビームスポットを等間隔に形成することができる。
【００１７】
上記の目的を達成する本発明の光走査方法は、光源から発射され、反射ミラーで偏向させた光ビームにより被照射面を主走査方向に走査する光走査方法において、
上記光ビームが上記主走査方向の複数の位置を通過するそれぞれのタイミングをセンサにより検知し、検知されたそれぞれのタイミングに応じて複数の位置検知信号を生成し、
生成された上記複数の位置検知信号相互の時間間隔を計測して上記光ビームが上記複数の位置を通過するときの走査速度を求め、
求めた上記走査速度に応じたタイング信号を生成し、
生成された上記タイミング信号に基づいて上記光源から上記光ビームを発射させることを特徴とする。
【００１８】
このように、主走査方向の複数の位置を通過するそれぞれのタイミングをセンサで検知し、光ビームがそれらの位置を通過するときの走査速度を求めてタイング信号を生成し、そのタイミング信号に基づいて光ビームを発射させるので、反射ミラー面がひずんで、走査速度は変化しても、光ビームによって照射される光ビームスポットを等間隔に形成することができる。
上記の目的を達成する本発明の光書込装置は、光源から所定の信号で変調された光ビームを発射し、反射面が変動する反射ミラーにより該光ビームを偏向させて被照射面を走査し、該被照射面に該光ビームによる像を書き込む光書込装置において、
上記被照射面に上記光ビームによる像を書き込むときに、該光ビームにより該被照射面が走査される主走査方向の複数の位置を通過するそれぞれのタイミングを検知し、検知されたそれぞれのタイミングに応じて複数の位置検知信号を生成する信号生成手段と、
上記複数の位置検知信号相互の時間間隔を計測し、上記光ビームが上記複数の位置を通過するときの走査速度を求める走査速度演算手段と、
上記複数の位置検知信号相互の時間間隔を計測し、上記光ビームが上記複数の位置を通過するときの走査速度を求める走査速度演算手段と、
上記走査速度演算手段により求めた上記走査速度に応じたタイング信号を生成するタイミング信号生成手段と、
上記タイミング信号生成手段により生成された上記タイミング信号に基づいて上記光源から上記光ビームを発射させる光ビーム発生手段と、を備えたことを特徴とする。
【００１９】
このように、所定の信号で変調された光ビームが主走査方向の複数の位置を通過するそれぞれのタイミングを検知し、検知されたそれぞれのタイミングに応じて複数の位置検知信号を生成すると共に、光ビームがそれらの位置を通過するときの走査速度を求めてタイング信号を生成し、そのタイミング信号に基づいて光ビームを発射させるので、反射ミラー面がひずんで、走査速度は変化しても、光ビームによって照射される被照射面に等間隔の光ビームスポットを形成することができる。
【００２０】
上記の目的を達成する本発明の画像形成装置は、帯電した像担持体を光ビームにより走査して静電潜像を書き込み、書き込まれた該静電潜像をトナーで現像してトナー像を形成し、形成された該トナー像を記録媒体上に転写及び定着させることにより該記録媒体上に定着トナー像からなる画像を形成する画像形成装置において、
光源から光ビームを発射し、反射面が変動する反射ミラーにより該光ビームを偏向させ、偏向させた該光ビームにより上記像担持体を走査する光走査手段、
上記光走査手段により上記像担持体が上記光ビームにより走査される主走査方向の複数の位置を通過するそれぞれのタイミングを検知し、検知されたそれぞれのタイミングに応じて複数の位置検知信号を生成する信号生成手段、
上記複数の位置検知信号相互の時間間隔を計測し、上記光ビームが上記複数の位置を通過するときの走査速度を求める走査速度演算手段、
上記走査速度演算手段により求めた上記走査速度に応じたタイング信号を生成するタイミング信号生成手段、及び
上記タイミング信号生成手段により生成された上記タイミング信号に基づいて上記光源から上記光ビームを発射させる光ビーム発生手段を有し、所定の信号で変調された駆動信号により上記光走査手段を駆動することにより上記像担持体上に上記静電潜像を書き込む光書込装置を備えたことを特徴とする。
【００２１】
このように、所定の信号で変調された光ビームが主走査方向の複数の位置を通過するそれぞれのタイミングを検知し、検知されたそれぞれのタイミングに応じて複数の位置検知信号を生成すると共に、光ビームがそれらの位置を通過するときの走査速度を求めてタイング信号を生成し、そのタイミング信号に基づいて光ビームを発射させるので、反射ミラー面がひずんで、走査速度は変化しても、光ビームによって照射される被照射面に等間隔の光ビームスポットを形成することができる光書込装置を備えているので、歪みのない画像を形成することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の光走査装置、光走査方法、光書込装置によれば、ミラーで反射した光ビームの偏向角が歪曲しても、被照射面における光ビームの走査速度が一定になるよう制御することができる。また本発明の光書込装置、画像形成装置によれば、書き込まれた画像の歪みがほとんどない高品質の画像を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下に、本発明の光書込装置を用いた本発明の画像形成装置の実施形態について説明する。なお、本実施形態に用いる光書込装置は、本発明の光走査方法を用いた本発明の光走査装置の実施形態が使用されている。
（第１の実施形態）
図２は、本発明の画像形成装置の第１の実施形態を示す図である。
【００２４】
図２に示す本実施形態の画像形成装置は、トナー像が形成される感光体３０５と、感光体３０５の周囲に配置された、感光体３０５を帯電させる帯電手段３０４、帯電した感光体３０５に静電潜像を書き込む光書込手段３０３、静電潜像にトナーを付着させてトナー像を形成する現像手段３０２、トナー像を用紙に転写する転写手段、及びトナー像転写後の残留トナーをクリーニングするクリーニング手段３０６と、用紙を収納する用紙収納部３００と、転写タイミングを調整するレジストロール３１０と、用紙を搬送する搬送手段３０８と、転写されたトナー像を用紙上に定着させる定着手段３０７と、を備えている。
【００２５】
図示されていない制御手段により画像形成の開始指示が出されると、感光体３０５は、矢印Ａ方向に回転し、光書込手段３０３における光走査手段の反射ミラーを駆動して同期信号を生成し、帯電手段３０４により感光体３０５を帯電する。
【００２６】
ここで、本実施形態の光書込手段３０３は、光走査手段として、静電引力により反射ミラーが揺動して反射光を偏向させるＤＭＤが用いられている。
【００２７】
光書込手段３０３は、外部から入力された画像データにより変調されたレーザビームにより、感光体３０５に画像データに基づく静電潜像を形成し、現像手段３０２は、トナーにより静電潜像を可視化してトナー像を形成する。
【００２８】
用紙収納部３００に収納された用紙は、給紙ロール３０１により１枚ずつ繰り出され、レジストロール３１０により転写タイミングが調整された後、感光体３０５と転写手段３０９とのニップ部に搬送され、感光体３０５上のトナー像が転写手段３０９により用紙上に転写される。用紙に転写されたトナー像はその後、定着手段３０７により定着され、用紙上に入力された画像データに基づく画像が形成される。
【００２９】
ここで、本実施形態の画像形成装置は、感光体３０５上に形成されたトナー像が直接用紙に転写される直接転写方式のものについて説明したが、画像形成装置は必ずしも直接転写方式である必要はなく、中間転写体を用いた中間転写方式のものであってもよい。また、感光体３０５は、１つである必要はなく、例えばトナーの色（例えばＹ、Ｍ、Ｃ、Ｋの４色）に応じて感光体３０５が直列に複数配置されたタンデム形式のものであってもよい。
【００３０】
図３（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、本発明の光書込装置の第１の実施形態であり、第１の実施形態の画像形成装置の光書込手段のうちの主として光学系を示す図であり、図３（ａ）は斜視図を示し、図３（ｂ）、（ｃ）は、断面から見た概略図を示す。
【００３１】
図３（ａ）に示す光書込手段３０３の光学系は、光源２００と、集光レンズ２０１と、ドットの大きさに応じたスリット部を持つアパーチャ２０２と、光ビーム径を調整するシリンダレンズ２０３と、ＤＭＤの一部をなす揺動自在な反射ミラー４０と、光ビームの等角走査を等速走査に変換するｆθレンズ２０７、２０８と、光路変更ミラー２０９と、感光体の回転方向への集光を行なうシリンダレンズ２１０とを備えている。
【００３２】
光ビーム発生手段２００から発射された光ビームは、集光レンズ２０１により集光され、アパーチャ２０２及びシリンダレンズ２０３を通過するときに光ビーム径がドットの大きさに調整される。そして、揺動自在な反射ミラー４０で反射した光ビームは、扇形に振られ等角走査するが、ｆθレンズ２０７、２０８を介することにより等速走査に変換される。そして、光路変更ミラー２０９、シリンダレンズ２１０を介し、光ビームは、感光体３０５の回転方向に交わる主走査方向２１２に走査される。
【００３３】
本実施形態の光書込手段３０３は、また、光ビームが感光体３０５の主走査方向の複数の位置を通過するときの各タイミングを検知する複数のセンサ２１６ａ〜２１６ｇを備えており、複数のセンサそれぞれから位置検知信号が生成される。さらに、光ビームが感光体３０５の主走査方向における走査開始位置及び走査終了位置を通過するそれぞれのタイミングを検知する走査始終位置センサ２１７ａ、２１７ｂを備えており、走査開始信号及び走査終了信号が生成される。
【００３４】
ちなみに、走査開始信号及び走査終了信号は、揺動自在な反射ミラー４０を静電誘導により揺動させる際の駆動信号発生タイミング信号となる。
【００３５】
また、主走査方向の検知位置が、例えば等間隔に設定されるなどにより判明していれば、それぞれの位置検知信号により検知位置を光ビームが通過する際の走査速度を求めることができる。
【００３６】
図３（ｂ）に示すように、光ビームにより感光体３０５を走査し静電潜像が形成される通常時は、感光体３０５の主走査方向における走査開始位置及び走査終了位置を通過するそれぞれのタイミングを検知する走査始終位置センサ２１７により走査開始信号及び走査終了信号が生成される。
図３（ｃ）に示すように、感光体３０５に静電潜像が形成されないアイドリング時は、感光体３０５の主走査方向における複数の位置を通過するときの各タイミングを検知する複数のセンサ２１６によりそれぞれの位置検知信号が生成される。
ここで、本実施形態のＤＭＤの反射ミラー４０は、反射した光ビームを、感光体３０５の主走査方向に走査するよう揺動する（図の破線）こともできるし、主走査方向と直交する副走査方向に走査するよう揺動する（図の実線）こともできる。したがって、光ビームが感光体３０５の主走査方向に走査して静電潜像を形成する光ビーム走査モードと、副走査方向に走査する位置検知光ビーム走査モードとを有するように構成することができる。
【００３７】
図４は、本実施形態の光書込手段に用いられ、本発明の光走査装置の第１の実施形態のデジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）の一例を示す図である。
【００３８】
図４に一例を示すＤＭＤは、シリコン単層厚板からなる矩形のシリコン基板１により形成され、ミラー部９と、ミラー部９が形成された可動部材１０と、可動部材配設電極４と、可動部材配設電極４に対向する固定電極３と、を有する。
【００３９】
可動部材１０には、両側に突出形成された支持部材２があり、支持部材２の両端は、シリコン基板１に固定されているので、支持部材２が捩じれることにより、ミラー部９平面は、シリコン基板１の水平面に対し、上下所定の角度をなして揺動する。
【００４０】
図５及び図６は、ミラー部を有するシリコン基板を基台に取り付ける状態を示す図である。
【００４１】
図５に示すように、ミラー部９を有するシリコン基板１を取り付ける基台２０には、光書込手段３０３に備える光走査手段（本発明の光走査装置に相当する。）の図示されていないパッドに接続される接触子２３が設けられている。
【００４２】
図６に示すように、シリコン基板１を基台２０に取り付けると、固定電極３及び可動部材配設電極４に、接触子２３を介して高電圧を印加することができる。
【００４３】
このようにミラー部９を有する可動部材１０が揺動自在に支持部材２で支持され、可動部材１０の両側に可動部材配設電極４を備え、その可動部材配設電極４には、シリコン基板１に固定された固定電極３が対向配置されているので、固定電極３と可動部材配設電極４との間に所定周波数の交流電圧が印加されると、固定電極３と可動部材配設電極４との間に所定周波数で引力と反発力とが反転する静電力が生じるので、その静電力により可動部材１０が揺動する。
【００４４】
ここで、支持部材２を中心にして可動部材１０の両端を上下動させることにより光ビームが感光体３０５の主走査方向に走査して静電潜像を形成する光ビーム走査モードを構成し、シリコン基板１を取り付けた基台２０を、例えば水平方向に回動させるか、又は上下動させることにより副走査方向に走査する位置検知光ビーム走査モードを構成することができる。
【００４５】
図７は、固定電極と可動部材配設電極との間に印加される交流電圧の周波数と可動部材の振れ角との関係を模式的に示す図である。
【００４６】
図７に示すように、可動部材は、周波数が一定周波数を超えるとシリコン基板の水平面に対し、上下所定の角度をなして振れ、周波数が高くなるにつれて振角が大きくなる。振角は、共振周波数ｆｃにおいて最大（Θm）になるが、さらに周波数が高くなると次第に収斂する（Θａ）。
【００４７】
可動部材は、固有の共振周波数を有するが、一般に共振周波数領域は狭く、いわゆるＱ値が高い。Ｑ値が高い共振周波数を用いるとそのミラー部により偏向された光ビームの走査位置を正確に検知するためには高精度のセンサを多数設置する必要がある上、検知回路が複雑になるためコスト負担が大きくなる。
そこで、本実施形態においては、光走査手段として用いるＤＭＤの駆動周波数は、共振周波数ｆｃよりも大きく、振角が収斂する範囲の周波数、例えばｆｄに設定されている。
図から明らかなように、共振周波数ｆｃよりも大きく、振角が収斂する範囲の周波数においては、周波数が多少変動してもミラー部の振角の変動はほとんどないと考えられるので、ミラー部の反射面が歪み、感光体の走査位置の違いにより光ビームの走査速度が変動しても、その走査速度の変動を正確にとらえることができる。また、複数のミラー部を有し、それら複数のミラー部それぞれを駆動する場合でも、正確にとらえられた走査速度を用いて光ビームの発射タイミングを調整することによりそれぞれの振角を一致させることも比較的容易になる。
【００４８】
図８は、本実施形態の光走査手段の機能ブロック図である。
【００４９】
図８に示す光走査手段は、光ビーム発生手段２５０と、半導体レーザーや発光ダイオードなどの光源２００と、ＤＭＤ４３と、ＤＭＤ４３の駆動手段２６０と、複数のフォトダイオードなどの光センサ２１６、２１７と、信号生成手段２７０と、走査速度演算手段２７１と、タイミング信号生成手段２７２と、データ処理手段２８０と、を備えている。
データ処理手段２８０は、マイクロプロセッサ(ＭＰＵ)３１、ＲＯＭ３２、ＲＡＭ３３、アドレス・データバス３４により構成され、マイクロプロセッサ(ＭＰＵ)３１は、クロック３０を有する。
光ビーム発生手段２５０は、光ビーム発生タイミング制御手段５０と、光ビーム発生信号生成手段５１と、発光ドライバ５２とにより構成され、発光ドライバ５２は、タイミング信号生成手段２７２により生成されたタイミング信号により制御されたタイミングで光源２００から光ビームを発射させる。
【００５０】
駆動手段２６０は、ＤＭＤ４３の電極に印加する電圧の振幅を調整する電圧可変手段４７と、周波数演算手段４６により求めた周波数により駆動信号の発生タイミングを制御する駆動信号タイミング制御手段３６と、駆動信号タイミング制御手段３６により制御された周波数の駆動信号を生成するプログラマブル発振器３９と、プログラマブル発振器３９により周波数が制御された信号の振幅を電圧可変手段４７により調整するドライバーアンプ部４１とを有し、振幅及び周波数が制御された電圧をＤＭＤ４３の電極に印加する。
ＤＭＤ４３は、表面に反射ミラー４０が形成され可動部材を備え、基板に設けられた電極と可動部材に設けられた対向電極との間に交流電圧が印加されたときに可動部材が揺動し、光源から発射された光ビームを反射ミラーで反射し、偏向された光ビームにより感光体表面を走査する。
【００５１】
複数の光センサ２１６、２１７は、ＤＭＤ４３の反射ミラーで偏向された光ビームが感光体表面を主走査方向に走査されるその光路上に、等間隔に配置され、光ビームが通過するタイミングを検知する。なお、主走査方向の両端に配置されたセンサは、走査開始位置と走査終了位置とを検知する。
信号生成手段２７０は、複数の光センサ２１６、２１７から取り出された信号を増幅するセンサアンプ部４２と、各光センサから取り出された信号により複数の位置検知信号を生成する位置検知信号生成手段３８と、位置検知信号のうち走査開始位置と走査終了位置との位置検知信号から同期基準信号を生成する同期基準信号生成手段３７と、同期基準信号生成手段３７が生成されるタイミングで基準クロックを生成する基準クロック生成手段４８と、基準クロックにより走査開始位置検知信号と走査終了位置検知信号との間の時間を計測する時間計測手段４９と、時間計測手段４９により計測された時間によりＤＭＤの電極に印加する交流電圧の周波数を決定する周波数演算手段４６と、を備えている。
【００５２】
走査速度演算手段２７１は、位置検知信号生成手段３８により生成された複数の位置検知信号相互の時間間隔から、光ビームが感光体表面の主走査方向の複数の位置を通過する走査速度を求める。
【００５３】
タイミング信号生成手段２７２は、走査速度演算手段５４により求めた、感光体表面の主走査方向の複数の位置を通過する走査速度それぞれに対応するタイミングでタイミング信号を生成する。ここでは、各光センサは等間隔に配置されているので、複数の位置検知信号相互の時間間隔は、反射ミラー面に歪みがないときは同じであるが、歪みが生じると異なる。
【００５４】
今、隣接位置相互間における走査時間をＴｓｐとし、光ビームのスポット数をＢｍとすれば、その隣接位置相互間における光ビームの発光周期Ｔは、Ｔｓｐ／Ｂｍとなる。したがって、同数のパルスをこのＴに応じてパルス幅変調することにより、タイミング信号を求めることができる。
この光走査手段を用いる本実施形態の光書込手段においては、感光体面上の各ビームスポットにより常に所定位置に静電潜像が形成される必要があり、隣り合う静電潜像相互間の位置誤差が１２．５％以下となるように制御される。
【００５５】
次に、この光走査手段によるビームスポットの制御について説明する。
【００５６】
図９〜図１１は、揺動する反射ミラーにより反射する光ビームのビームスポット制御を説明する図であり、図９は、光ビームによる走査が理想波形を描いた場合、図１０及び図１１は、光ビームによる走査が歪み波形が変形した場合を示す。
図９において、Ａは、反射ミラーの振角と感光体表面の走査位置との関係を示し、Ｂは、光ビームが感光体表面の主走査方向各位置を通過するタイミングを等間隔に配置された複数の光センサにより検知された位置検知信号を示し、Ｃは、光ビームが主走査方向の走査開始位置と走査終了位置とを通過するタイミングが検知され、反射ミラーの揺動を制御する同期基準信号を示し、Ｄは、同期基準信号により同期させて生成された基準クロックを示し、Ｅは、ＤＭＤの電極に印加される駆動信号を示し、Ｆは、光ビームを発射させるタイミング信号を示す。
【００５７】
図に示すように、感光体面上にビームスポットが形成される範囲は、感光体の走査領域である。走査領域の光路上には光センサ２１６ａ〜２１６ｇが配設され、これらで検知された位置検知信号ＰＳａ〜ＰＳｇが得られる。また、位置検知信号ＰＳａ、及びＰＳｇから同期基準信号Ｐａ〜Ｐｄが生成され、各同期基準信号Ｐａ〜Ｐｇに同期して基準クロックＣＫａ、ＣＫｂ、ＣＫｃ、ＣＫｄが生成される。そして、この基準クロックを用いて各位置検知信号ＰＳａ〜ＰＳｇ相互の時間間隔や、各同期基準信号Ｐａ〜Ｐｇ相互の時間間隔Ｔａｂ、Ｔｂｃ、Ｔｃｄ、Ｔｂｂなどを計測することができる。この時間間隔Ｔａｂ、Ｔｂｃ、Ｔｃｄ、Ｔｂｂを計測することにより、反射ミラーによる走査軌跡の変動を計測することが可能であり、計測結果により変動量を求め揺動周期を調整することが可能になる。
【００５８】
また、位置検知信号ＰＳａ〜ＰＳｇにおける隣接信号相互間の時間間隔Ｔｓｐ、主走査方向各位置相互間に形成すべきビームスポット数Ｂｍとから、光ビームを発射させるタイミング信号ｍＣＫａ、ｍＣＫｂ、ｍＣＫｃ、ｍＣＫｄ、ｍＣＫｅ、ｍＣＫｆが生成される。
図１０において、Ａは、反射ミラーが歪んでいるときの振角と感光体表面の走査位置との関係を示し、Ｂは、反射ミラーが歪んでいない理想状態のときに光ビームが感光体表面の主走査方向各位置を通過するタイミングを等間隔に配置された複数の光センサにより検知された位置検知信号を示し、Ｇは、反射ミラーが歪んでいるときに光ビームが感光体表面の主走査方向各位置を通過するタイミングを等間隔に配置された複数の光センサにより検知された位置検知信号を示している。
【００５９】
Ａの実線で示すように、反射ミラーで反射して感光体面に走査される光ビームは、反射面が歪曲することにより走査位置によって走査速度が変化する。Ｇに示すように、Ｂに較べて位置検知信号ＰＳｂとＰＳｅが、ＰＳｂ２とＰＳｅ２に変化している。
【００６０】
図１１において、Ｈは、反射ミラーが歪んでいない理想状態のときに光ビームが感光体表面の主走査方向各位置を通過するタイミングを光センサにより検知された位置検知信号と光ビームを発射させるタイミング信号を示す。Jは、反射ミラーが歪んでいる状態のときに光ビームが感光体表面の主走査方向各位置を通過するタイミングを光センサにより検知された位置検知信号と光ビームを発射させるタイミング信号を示す。
【００６１】
Jにおいて、位置検知信号ＰＳａとＰＳｂ２間は時間間隔が長くなり、ＰＳｂ２とＰＳｃ間は時間間隔が短くなっている。また、位置検知信号ＰＳｄとＰＳe２間は時間間隔が短くなり、ＰＳｅ２とＰＳｆ間は時間間隔が長くなっている。
【００６２】
このような走査特性のとき、感光体面上に一定間隔でビームスポットを形成するには、Jに示す、理想形と較べて、タイミング信号ＣＫａは、パルス幅を大きく、タイミング信号ＣＫｂは、パルス幅を小さくする必要がある。また、タイミング信号ＣＫｄは、パルス幅を小さく、タイミング信号ＣＫｅは、パルス幅を大きくする必要がある。
【００６３】
これにより、光ビームの走査速度が変動しても、変動する走査速度に合わせてビームスポットの照射時間を調整すれば、感光体の主走査方向に等間隔で照射されるビームスポットにより歪みのない静電潜像が形成される。
（第２の実施形態）
第２の実施形態は、複数のセンサを設ける代わりに、主走査方向の複数の位置を走査する光ビームの一部を反射する位置検知反射ミラー２１９を複数配設し、この位置検知反射ミラー２１９によって反射された光ビームを光センサ２１８で検知して検知信号を発生する点と、ＤＭＤに代えてポリゴンミラーを備え、信号生成手段の周波数演算手段により回転周期が決定される点とが相違するが、それ以外の点は共通するので、相違点について説明する。
【００６４】
図１２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、本発明の光書込装置の第２の実施形態であり、第２の実施形態の画像形成装置の光書込手段のうちの主として光学系を示す図であり、図１２（ａ）は斜視図を示し、図１２（ｂ）、（ｃ）は、断面から見た概略図を示す。
ここで、本実施形態の画像形成装置の光書込手段３０３は、第１の実施形態の光書込手段に較べて位置検知反射ミラー２１９と光センサ２１８とを有する点は相違するが、それ以外の点は共通するので、同一の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
【００６５】
図１２（ａ）に示す光書込手段３０３の光学系は、光源２００と、集光レンズ２０１と、ドットの大きさに応じたスリット部を持つアパーチャ２０２と、光ビーム径を調整するシリンダレンズ２０３と、回転するポリゴンミラーのうちの1つの反射ミラー４０と、光ビームの等角走査を等速走査に変換するｆθレンズ２０７、２０８と、光路変更ミラー２０９と、感光体の回転方向への集光を行なうシリンダレンズ２１０とを備えている。
【００６６】
また、本実施形態においては、信号生成手段により複数の位置検知信号を生成する位置検知光ビーム走査モードと、光ビーム発生手段により発射された光ビームにより被照射面に像を書き込む像書込光ビーム走査モードとを切り替える操作子２１１を備えている。
【００６７】
光書込手段３０３は、また、光ビームが感光体３０５の主走査方向の複数の位置を通過するときの各タイミングを検知する位置反射ミラーユニット２１９と、位置反射ミラーユニット２１９で反射した光ビームを受光し、それぞれから位置検知信号を生成する光センサ２１８とを備えている。さらに、光ビームが感光体３０５の主走査方向における走査開始位置及び走査終了位置を通過するそれぞれのタイミングを検知する走査始終位置センサ２１７ａ、２１７ｂを備えており、走査開始信号及び走査終了信号が生成される。
【００６８】
図１２（ｂ）に示すように、操作子２１１により光ビームにより感光体３０５を走査し静電潜像が形成される像書込光ビーム走査モードに切り替えられたときは、感光体３０５の主走査方向における走査開始位置及び走査終了位置を通過するそれぞれのタイミングを検知する走査始終位置センサ２１７ａ、２１７ｂにより走査開始信号及び走査終了信号が生成される。
図１２（ｃ）に示すように、操作子２１１により複数の位置検知信号を生成する位置検知光ビーム走査モードに切り替えられ、感光体３０５を静電潜像が形成されないアイドリング時は、感光体３０５の主走査方向における複数の位置を通過するときの各タイミングは、光センサ２１９によりそれぞれの位置検知信号が生成される。
【００６９】
図１３は、本実施形態の光書込手段に用いられる位置反射ミラーユニットを示す図であり、図１３（ａ）は、位置反射ミラーユニットに配置された複数の位置反射ミラーを示し、図１３（ｂ）は、位置反射ミラーユニットのミラー面を示す。
図１３（ａ）、（ｂ）に示すように、位置反射ミラーユニット２１９には、複数の位置反射ミラー２１９ａが、その反射光が光センサ２１８に入射するようにそれぞれの反射面が角度を持って配設されている。
【００７０】
このように、位置反射ミラーユニット２１９を用いることにより光センサの数を削減することが可能となり、低コストで精度の高い走査位置検知が可能になる。
(第３の実施形態)
第３の実施形態は、光源から複数の光ビームを発射することができ、位置検知信号を検知するための位置検知光ビーム走査モードと感光体面上に静電潜像形成のためのビームスポット形成モードとを同時に行うことが可能である点は相違するが、それ以外の点は共通するので相違点について説明する。
【００７１】
図１４（ａ）、（ｂ）は、本発明の光書込装置の第３の実施形態であり、第３の実施形態の画像形成装置の光書込手段のうちの主として光学系を示す図であり、図１４（ａ）は斜視図を示し、図１４（ｂ）は、断面から見た概略図を示す。
【００７２】
ここで、本実施形態の画像形成装置の光書込手段は、第１の実施形態の光書込手段に較べて光センサ２１６ａ、２１６ｆが光センサ２１７ａ、２１７ｂを兼ねる点、光源２００が複数のビームを発射する点は相違するが、それ以外の点は共通するので、同一の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
【００７３】
図１４（ａ）に示す光書込手段３０３の光学系は、光源２００と、集光レンズ２０１と、ドットの大きさに応じたスリット部を持つアパーチャ２０２と、光ビーム径を調整するシリンダレンズ２０３と、ＤＭＤの一部をなす揺動自在な反射ミラー４０と、光ビームの等角走査を等速走査に変換するｆθレンズ２０７、２０８と、光路変更ミラー２０９と、感光体の回転方向への集光を行なうシリンダレンズ２１０とを備えている。
【００７４】
本実施形態の光書込手段３０３は、また、光ビームが感光体３０５の主走査方向の複数の位置を通過するときの各タイミングを検知する複数のセンサ２１６ａ〜２１６ｆを備えている。
【００７５】
図１４（ｂ）に示すように、第１の光ビームにより感光体３０５を走査し静電潜像を形成すると共に、第２の光ビームにより、感光体３０５の主走査方向における各走査位置を第１の光ビームが通過するそれぞれのタイミングを検知する光センサ２１６により位置検知信号が生成される。
【００７６】
このように、複数の光ビームを同時に発光することにより、位置検知光ビーム走査モードと感光体面上にビームスポットが形成される静電潜像形成モードとを同時に行うことが可能となり、位置検知信号が常時入手されるので、より精度の高い制御が可能となる。
（第４の実施形態）
第４の実施形態は、複数のセンサを設ける代わりに、主走査方向の複数の位置を走査する光ビームの一部を反射する位置検知反射ミラーを複数配設し、この位置検知反射ミラーによって反射された光ビームを光センサで検知して検知信号を発生する点と、ＤＭＤに代えてポリゴンミラーを備え、信号生成手段の周波数演算手段により回転周期が決定される点と、光源から複数のビームを発射する点は相違するが、それ以外の点は共通するので、相違点について説明する。
【００７７】
図１５（ａ）、（ｂ）は、本発明の光書込装置の第４の実施形態であり、第４の実施形態の画像形成装置の光書込手段のうちの主として光学系を示す図であり、図１５（ａ）は斜視図を示し、図１５（ｂ）は、断面から見た概略図を示す。
【００７８】
ここで、本実施形態の位置検知反射ミラー２１９と光センサ２１８とは、第２の実施形態において説明したものと同じであり、また、ＤＭＤに代えてポリゴンミラーを備える点は、第２の実施形態において説明したものと同じであり、さらに、光源から複数のビームを発射する点は、第３の実施形態において説明したのと同じであることから、同一構成要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
【００７９】
以上、本発明の光走査装置、本発明の光走査方法、及び本発明の光書込装置の実施形態を、本発明の画像形成装置の実施形態として使用される例に基づいて説明したが、本発明の光走査装置、本発明の光走査方法、及び本発明の光書込装置は、画像形成装置に用いる場合に限定される必要はなく、例えば光ディスク、バーコードリーダなどの情報機器や光学機器に適用することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００８０】
【図１】静電引力によってミラーを揺動させる、光走査装置の光偏向部の代表例を示す平面図及び断面図である。
【図２】本発明の画像形成装置の第１の実施形態を示す図である。
【図３（ａ）】第１の実施形態の画像形成装置の光書込手段のうちの主として光学系を示す斜視図である。
【図３（ｂ）】第１の実施形態の画像形成装置の光書込手段のうちの主として光学系を示す断面概略図を示す。
【図３（ｃ）】第１の実施形態の画像形成装置の光書込手段のうちの主として光学系を示す断面概略図を示す。
【図４】本発明の光走査装置の第１の実施形態のデジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）の一例を示す図である。
【図５】ミラー部を有するシリコン基板を基台に取り付ける状態を示す図である。
【図６】ミラー部を有するシリコン基板を基台に取り付ける状態を示す図である。
【図７】固定電極と可動部材配設電極との間に印加される交流電圧の周波数と可動部材の振れ角との関係を模式的に示す図である。
【図８】固定電極と可動部材配設電極との間に印加される交流電圧の周波数と可動部材の振れ角との関係を模式的に示す図である。
【図９】光ビームによる走査が理想波形を描いた場合のビームスポット制御を説明する図
【図１０】揺動する反射ミラーにより反射する光ビームのビームスポット制御を説明する図である。
【図１１】光ビームによる走査が歪み波形が変形した場合のビームスポット制御を説明する図である。
【図１２（ａ）】第２の実施形態の画像形成装置の光書込手段のうちの主として光学系を示す斜視図である。
【図１２（ｂ）】第２の実施形態の画像形成装置の光書込手段のうちの主として光学系を示す断面概略図である。
【図１２（ｃ）】第２の実施形態の画像形成装置の光書込手段のうちの主として光学系を示す断面概略図である。
【図１３】本実施形態の光書込手段に用いられる位置反射ミラーユニットを示す図である。
【図１４（ａ）】第３の実施形態の画像形成装置の光書込手段のうちの主として光学系を示す斜視図である。
【図１４（ｂ）】第３の実施形態の画像形成装置の光書込手段のうちの主として光学系を示す断面概略図である。
【図１５（ａ）】第４の実施形態の画像形成装置の光書込手段のうちの主として光学系を示す斜視図である。
【図１５（ｂ）】第４の実施形態の画像形成装置の光書込手段のうちの主として光学系を示す断面概略図である。
【符号の説明】
【００８１】
１  シリコン基板
２  支持基板
３、１０７  固定電極
４  可動部材配設電極
９  ミラー部
１０可動部材
２０  基台
２３  接触子
３０  クロック
３１  マイクロプロセッサ
３２  ＲＯＭ
３３  ＲＡＭ
３４  アドレス・データバス
３６  駆動信号タイミング制御手段
３７  同期基準信号生成手段
３８  位置検知信号生成手段
３９  プログラマブル発振器
４０  ミラーの反射面  
４１  ドライバアンプ
４２  センサアンプ
４３  ＤＭＤ
４６  周波数演算手段
４７  電圧可変手段
４８  基準クロック生成手段
４９  時間計測手段
５０  光ビーム発生タイミング制御手段
５１  光ビーム発生信号生成手段
５２  発光ドライバ
１０１  基板
１０１ａ  凹部  
１０２  ミラー
１０３  トーションバー
１０４、１０８  パッド
１０６  絶縁体
２００  光源
２０１  集光レンズ
２０２  アパーチャ
２０３、２１０  シリンダレンズ
２０７、２０８  ｆ・θレンズ
２０９  光路変更ミラー
２１１  操作子
２１６  センサ
２１７  操作始終位置センサ
２１８  光センサ
２１９  位置反射ミラーユニット
２１９ａ  位置反射ミラー
２５０  光ビーム発生手段
２６０  駆動手段
２７０  信号生成手段
２７１  走査速度演算手段
２７２  タイミング信号生成手段
２８０  データ処理手段
３００  用紙収納部
３０２  現像手段
３０３  光書込手段
３０４  帯電手段
３０５  感光体
３０６  クリーニング手段
３０７  定着手段
３０８  搬送手段
３０９  転写手段
３１０  レジストロール
【図１】
2005315903.tif 000003
【図２】
2005315903.tif 000004
【図３（ａ）】
2005315903.tif 000005
【図３（ｂ）】
2005315903.tif 000006
【図３（ｃ）】
2005315903.tif 000007
【図４】
2005315903.tif 000008
【図５】
2005315903.tif 000009
【図６】
2005315903.tif 000010
【図７】
2005315903.tif 000011
【図８】
2005315903.tif 000012
【図９】
2005315903.tif 000013
【図１０】
2005315903.tif 000014
【図１１】
2005315903.tif 000015
【図１２（ａ）】
2005315903.tif 000016
【図１２（ｂ）】
2005315903.tif 000017
【図１２（ｃ）】
2005315903.tif 000018
【図１３】
2005315903.tif 000019
【図１４（ａ）】
2005315903.tif 000020
【図１４（ｂ）】
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【図１５（ａ）】
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【図１５（ｂ）】
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