(57)【要約】【課題】  携帯電話、デジタルカメラ、ＰＤＡ、カーナビゲーションなどの携帯用、車載用機器に搭載できる小型ハードディスクドライブに用いることができるように小径化した場合においても、フライスティクション障害の発生を充分に防止でき、磁気ヘッドの浮上特性が良好になるようになされた磁気ディスクの製造を可能とする磁気ディスク用ガラス基板を提供する。【解決手段】  主表面上に、異方性テクスチャを略々円周方向に形成することにより、円周方向についての表面粗さを、主表面の外周側から内周側に向けて増大するようにし、また、円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比（Ｒa-c／Ｒa-r）を、主表面の外周側から内周側に向けて増大させるようにする。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハードディスクドライブに搭載される磁気ディスク用のガラス基板であって、
主表面における前記磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面粗さは、全主表面の外周側より内周側に向かって増大していることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項２】
請求項１記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、
前記主表面における前記磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面粗さは、全主表面の外周側より内周側に向かって連続的に増大していることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項３】
請求項１、または、請求項２記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、
前記主表面において前記磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径６ｍｍの箇所においては、前記磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さが０．２５ｎｍ以上であって、
前記主表面において前記磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径１１ｍｍの箇所においては、前記磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さが０．２４ｎｍ以下であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、
前記主表面における前記磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面粗さの前記主表面における前記磁気ディスク用ガラス基板の径方向についての表面粗さに対する比は、全主表面の外周側より内周側に向かって増大していることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、
前記主表面において前記磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径６ｍｍの箇所においては、前記主表面における前記磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さの前記主表面における前記磁気ディスク用ガラス基板の径方向についての表面の算術平均粗さに対する比が０．６１以上であって、
前記主表面において前記磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径１１ｍｍの箇所においては、前記主表面における前記磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さの前記主表面における前記磁気ディスク用ガラス基板の径方向についての表面の算術平均粗さに対する比が０．６０以下であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項６】
ハードディスクドライブに搭載される磁気ディスク用のガラス基板であって、
主表面上には、テクスチャが、前記磁気ディスク用ガラス基板の円周方向成分をもって互いに交差する状態に形成されており、
前記テクスチャ同士が交差する角度は、前記磁気ディスク用ガラス基板の全主表面の外周側から内周側に向かって増大していることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項７】
請求項６記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、
前記テクスチャ同士が交差する角度は、前記磁気ディスク用ガラス基板の全主表面の外周側から内周側に向かって連続的に増大していることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項８】
請求項６記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、
前記主表面において前記磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径６ｍｍの箇所においては、前記テクスチャ同士が交差する角度が５．０°以上であって、
前記主表面において前記磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径１１ｍｍの箇所においては、前記テクスチャ同士が交差する角度が４．５°以下であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、
前記主表面上に磁性層が成膜されることにより磁気ディスクとされる磁気ディスク用ガラス基板であり、
前記主表面には、前記磁性層に磁気異方性を付与するテクスチャが形成されていることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項１０】
請求項１乃至請求項９のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、
１インチ型ハードディスクドライブ、または、１インチ型ハードディスクドライブよりも小径の磁気ディスクを用いるハードディスクドライブに搭載される磁気ディスク用のガラス基板であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項１０のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、
ロードアンロード方式で起動停止動作を行うハードディスクドライブに搭載するための磁気ディスク用ガラス基板であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項１２】
主表面に第１領域と、この第１領域の表面粗さよりも粗い第２領域を有し、
前記第１領域は、円形の板状ガラス基板上において前記第２領域よりも外周側にあることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項１３】
請求項１２記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、
前記第１領域は、磁気ヘッドが磁気ディスクに導入する領域であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
【請求項１４】
請求項１乃至請求項１３のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板を備え、
前記磁気ディスク用ガラス基板上に、少なくとも磁性層が成膜されていることを特徴とする磁気ディスク。
【請求項１５】
請求項１４に記載の磁気ディスクであって、
この磁気ディスクの主表面上のいずれの領域の粗さが、使用される磁気ヘッドの表面粗さよりも小さいことを特徴とする磁気ディスク。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ディスク装置であるハードディスクドライブ（ＨＤＤ）に用いられる磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクに関する。
【背景技術】
【０００２】
今日、情報記録技術、特に、磁気記録技術は、いわゆるＩＴ産業の発達に伴って飛躍的な技術革新が要請されている。そして、コンピュータ用ストレージとして用いられる磁気ディスク装置であるハードディスクドライブ（ＨＤＤ）に搭載される磁気ディスクにおいては、磁気テープやフレキシブルディスクなどの他の磁気記録媒体と異なり、急速な情報記録密度の増大化が続けられている。パーソナルコンピュータ装置に収納することができる情報容量は、上述の情報記録密度の増大化に支えられて、飛躍的に増加している。
【０００３】
このような磁気ディスクは、アルミニウム系合金基板などの基板上に、磁性層等が成膜されて構成されている。ハードディスクドライブにおいては、磁気ヘッドが高速回転される磁気ディスク上を浮上飛行する。この磁気ヘッドが、情報信号を磁化パターンとして磁性層に記録し、また、再生を行なう。
【０００４】
したがって、このようなハードディスクドライブに用いる磁気ディスクにおいては、磁気ヘッドの浮上飛行方向の磁気特性が優れていることが求められる。そこで、例えば、特許文献１に記載されているように、磁気ディスク用基板の主表面に同心円状のテクスチャ加工を行うことにより、磁気ディスクの磁気特性に円周方向の磁気異方性を与え、磁気記録媒体としての磁気特性を向上させ、高記録密度化を図る技術が提案されている。
【０００５】
また、近年、ハードディスクドライブを携帯用機器（いわゆる「ノート型パーソナルコンピュータ装置」など）に搭載すること（いわゆる「モバイル用途」）に対する要求が高まっている。これに伴い、磁気ディスク用の基板として、高強度、かつ、高剛性材料であり耐衝撃性の高いガラス基板が採用されている。また、ガラス基板は、平滑な表面を容易に得ることが可能なので、磁気ディスク上を浮上飛行しながら記録再生を行う磁気ヘッドの浮上量を狭隘化することが可能である。このため、ガラス基板を時期ディスク用基板として用いれば、高い情報記録密度の磁気ディスクを得ることができる。つまり、ガラス基板は、磁気ヘッドの低浮上量対応性に優れた基板であるといえる。
【０００６】
このような磁気ディスク用ガラス基板としては、例えば、特許文献２に記載されているように、基板の主表面上に同心円状のテクスチャ加工をすることにより、磁気ディスクの磁気特性、記録再生特性を向上させ、情報記録密度の増大化に貢献しようとするものが提案されている。
【０００７】
一方、磁気ディスクにおける情報記録容量を増大させるためには、磁気ディスクにおいて情報信号の記録がなされない無駄な領域の面積を小さくすることが必要である。そこで、ハードディスクドライブの起動停止方式として、従来より用いられているＣＳＳ方式（「コンタクトスタートストップ（Contact Start Stop）方式」）に代えて、情報記録容量の増大が可能なＬＵＬ方式（「ロードアンロード（Load Unload）方式」、別名「ランプロード方式」ともいう。）の導入が進められている。
【０００８】
ＣＳＳ方式においては、磁気ディスクの非使用状態（停止状態）において磁気ヘッドが載置されるＣＳＳゾーンを磁気ディスク上に設ける必要がある。
【０００９】
これに対し、ＬＵＬ方式においては、磁気ディスクの非使用状態（停止状態）においては、磁気ヘッドが磁気ディスクの外周側に移動し、磁気ディスク上より退避されて支持される。したがって、ＣＳＳ方式とは異なり、磁気ヘッドと磁気ディスクとが接触することがなく、また磁気ディスク上にＣＳＳゾーンにおけるような吸着防止用の凸凹形状を設ける必要がない。このため、ＬＵＬ方式では、磁気ディスクの主表面を極めて平滑化することが可能となる。
【００１０】
ＣＳＳ方式用の磁気ディスクと比較して、ＬＵＬ方式用の磁気ディスクにおいては、磁気ヘッドの浮上量を一段と低下させることができ、記録信号のＳ／Ｎ比（Signal Noise Ratio）の向上を図ることができ、高記録密度化が図られるという利点がある。
【００１１】
このような、ＬＵＬ方式の導入に伴う磁気ヘッド浮上量の低下により、１０ｎｍ以下の極狭な浮上量においても、磁気ヘッドが安定して動作することが求められるようになってきた。しかし、極狭な浮上量で磁気ディスク上に磁気ヘッドを浮上飛行させる場合には、フライスティクション障害が頻発するという問題が生じた。
【００１２】
フライスティクション障害とは、磁気ディスク上を浮上飛行している磁気ヘッドが、浮上姿勢や浮上量に変調をきたす障害であり、これにより不規則な再生出力変動の発生を伴うことである。また、このフライスティクション障害が生ずると、浮上飛行中の磁気ヘッドが磁気ディスクに接触してしまうヘッドクラッシュ障害を生じてしまうことがある。
【００１３】
従来のハードディスクドライブにおいては、このようなフライスティクション障害の発生を防止するため、磁気ディスクの回転速度の高速化による磁気ディスクと磁気ヘッドとの間の相対的な線速度の高速化や、磁気ヘッドの構造による浮上性の安定化を図ってきた。
【００１４】
【特許文献１】特開２００２−３０２７５公報
【特許文献２】特開２００２−３２９０９公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
前述したように、近年の磁気ディスクにおいては、磁気ディスクと磁気ヘッドとの間のスペーシングロスを改善し、記録信号のＳ／Ｎ比を向上させた結果、情報記録密度が１平方インチ当り４０ギガビットを超えるまでに到っており、さらに、１平方インチ当り１００ギガビットを超えるような超高記録密度をも実現されようとしている。
【００１６】
このように高い情報記録密度が実現できるようになった近年の磁気ディスクは、従来の磁気ディスクに比較してずっと小さなディスク面積であっても、実用上十分な情報量を収納できるという特徴を有している。また、磁気ディスクは、他の情報記録媒体に比較して、情報の記録速度や再生速度（応答速度）が極めて敏速であり、情報の随時書き込み及び読み出しが可能であるという特徴も有している。
【００１７】
このような磁気ディスクの種々の特徴が注目された結果、近年においては、いわゆる携帯電話、デジタルカメラ、携帯情報機器（例えば、ＰＤＡ（personal digital assistant）：パーソナルデジタルアシスタント）、あるいは、カーナビゲーションシステムなどのように、パーソナルコンピュータ装置よりも筐体がずっと小さく、かつ、高い応答速度が求められる機器に搭載できる小型のハードディスクドライブが求められるようになってきている。具体的には、例えば、外径が５０ｍｍ以下、板厚が０．５ｍｍ以下の基板を用いて製造した磁気ディスクを搭載した小型のハードディスクドライブが求められている。
【００１８】
このような小型のハードディスクドライブにおいて使用される外径が５０ｍｍ以下というような磁気ディスクにおいては、外周径及び内周径ともに小径化するため、磁気ディスクと磁気ヘッドとの間の相対的な線速度が低下する。また、磁気ディスクの小径化に伴ってこの磁気ディスクを回転させるスピンドルモータも小型化され、磁気ディスクの回転速度をさらに高速化することも容易ではない。このため、浮上姿勢や浮上量に対する影響や、前述したようなフライスティクション障害の発生を充分に防止できないおそれがある。
【００１９】
さらに、磁気ディスクの小径化に伴って磁気ヘッドも小型化されるため、この磁気ヘッドの浮上安定性が低下するおそれもある。
【００２０】
そこで、本発明は、前述のような実情に鑑みてなされたものであり、その第１の目的は、例えば、いわゆる携帯電話、デジタルカメラ、携帯型の「ＭＰ３プレイヤー」、ＰＤＡなどの携帯情報機器、あるいは、「カーナビゲーションシステム」などの車載用機器など、非常に可搬性の高い機器に搭載できる小型のハードディスクドライブにも用いることができるように小径化した場合においても、フライスティクション障害の発生を充分に防止できるようになされた磁気ディスクを提供することにあり、また、このような磁気ディスクの製造を可能とする磁気ディスク用ガラス基板を提供することにある。
【００２１】
さらに、上述したように、磁気ディスクの小径化によって径の小さいディスク（１インチや０．８５インチ等）では、特に内周側（以下、ＩＤ側という。）での磁気ディスクと磁気ヘッドとの間の相対的な線速度が遅くなるため、磁気ヘッドが磁気ディスク上に落ちやすくなる。特に減圧時には上記現象が生じやすい。そこで、このような浮上性改善の評価としてタッチダウンプレッシャ（以下、ＴＤＯ（Touch Down Pressure）という。）測定およびテイクオフプレッシャ（以下、ＴＯＰ（Take Off Pressure）という。）測定が行われている。
【００２２】
加えて、上述したような磁気ディスク装置を内蔵する携帯用機器（携帯電話、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、携帯型音楽プレイヤー、ＰＤＡ等）は、その携帯性から登山や飛行機内など気圧が変わる環境においても使用したいという要求がある。しかしながら、このような気圧の変化が大きい環境では、使用環境における気圧変化から磁気ディスク装置内部の気圧も影響を受け、磁気ヘッドが磁気ディスク上に落ちやすくなる。このため、ＴＤＯ（Touch Down Pressure）およびＴＯＰ（Take Off Pressure）の値と、その差ΔＰを改善することが望まれている。そこで、本発明の第２の目的は、上記問題に鑑み、ＴＯＰを改善することで、浮上特性を向上させることが可能な磁気ディスクおよび磁気ディスク用ガラス基板を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
本発明者は、前記第１の目的を達成すべく研究を進めた結果、以下の手段によって前記課題が解決できることを見出した。磁気ディスク用ガラス基板の主表面に対して、異方的に凹凸形状が分布するテクスチャ（例えば、筋状のテクスチャ。以下、「異方性テクスチャ」という。）を磁気ディスク用ガラス基板の円周方向成分をもって互いに交差する状態に形成する際に、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面粗さを磁気ディスク用ガラス基板の外周側から内周側に向けて増大するようにした。この異方性テクスチャが、主表面上に形成される磁性層に磁気異方性を付与する作用を発揮し、併せて、特に内周側において、磁気ヘッドの浮上性を安定化させた。
【００２４】
また、この磁気ディスク用ガラス基板の主表面に対して、異方性テクスチャ同士の交差する角度（クロス角）を全主表面の外周側から内周側に向けて増大させると、この異方性テクスチャが、主表面上に形成される磁性層に磁気異方性を付与する作用を発揮し、併せて、特に内周側において、磁気ヘッドの浮上性を安定化させ、前記課題が解決できることも見出した。
【００２５】
さらに、本発明者は、前記第２の目的を達成すべく研究した結果、第１の目的を達成する手段と同様に磁気ディスク用基板の表面粗さに解決手段を見出した。すなわち、磁気ディスクの表面粗さが、磁気記録層などを形成する前の磁気ディスク用基板における表面粗さに影響されることから、基板の表面粗さを制御することで、磁気ディスクの表面粗さを制御した。磁気ディスク表面の表面粗さを内周側と外周側で異ならしめることで、ＴＯＰに影響を与えることができることを見出した。
【００２６】
具体的には、磁気ディスクのＩＤ側の表面粗さを粗くすべく、磁気ディスク用基板のＩＤ側の表面粗さを粗くすることで磁気ディスクのＩＤ側の表面粗さを粗くした。磁気ディスク用基板の表面粗さは、連続的または段階的に外周側（以下、ＯＤ側という。）からＩＤ側に向かって増大させるように付ける。これにより、基板上に磁性膜を形成した磁気ディスクにおいても、ＯＤ側からＩＤ側に向かって表面粗さが連続的または段階的に増大して付く。
【００２７】
なお、異方性テクスチャは、磁気ディスク用ガラス基板の主表面において円周方向に形成されることにより、この磁気ディスク用ガラス基板上に磁性層を形成したときに、磁性層の磁気異方性（磁化容易軸）を円周方向に誘導するように作用する。このような異方性テクスチャは、例えば、機械研磨加工（メカニカルテクスチャ加工とも呼ばれている）により形成することができる。
【００２８】
本発明は以下の構成を有するものである。
【００２９】
〔構成１〕
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板は、ハードディスクドライブに搭載される磁気ディスク用のガラス基板であって、主表面における磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面粗さは、全主表面の外周側より内周側に向かって増大していることを特徴とするものである。
【００３０】
〔構成２〕
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板は、構成１記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、主表面における磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面粗さは、全主表面の外周側より内周側に向かって連続的または段階的に増大していることを特徴とするものである。
【００３１】
〔構成３〕
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板は、構成１、または、構成２記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径６ｍｍの箇所においては、磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）が０．２５ｎｍ以上であって、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径１１ｍｍの箇所においては、磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）が０．２４ｎｍ以下であることを特徴とするものである。
【００３２】
〔構成４〕
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板は、構成１乃至構成３のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、主表面における磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の主表面における磁気ディスク用ガラス基板の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比〔Ｒa-c／Ｒa-r〕は、全主表面の外周側より内周側に向かって増大していることを特徴とするものである。
【００３３】
〔構成５〕
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板は、構成１乃至構成４記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径６ｍｍの箇所においては、主表面における磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の主表面における磁気ディスク用ガラス基板の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比〔Ｒa-c／Ｒa-r〕が０．６１以上であって、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径１１ｍｍの箇所においては、主表面における磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の主表面における磁気ディスク用ガラス基板の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比〔Ｒa-c／Ｒa-r〕が０．６０以下であることを特徴とするものである。
【００３４】
〔構成６〕
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板は、ハードディスクドライブに搭載される磁気ディスク用のガラス基板であって、主表面上には、テクスチャが、磁気ディスク用ガラス基板の円周方向成分をもって互いに交差する状態に形成されており、テクスチャ同士が交差する角度は、磁気ディスク用ガラス基板の全主表面の外周側から内周側に向かって増大していることを特徴とするものである。
【００３５】
〔構成７〕
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板は、構成６記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、テクスチャ同士が交差する角度は、磁気ディスク用ガラス基板の全主表面の外周側から内周側に向かって連続的に増大していることを特徴とするものである。
【００３６】
〔構成８〕
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板は、構成６記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径６ｍｍの箇所においては、テクスチャ同士が交差する角度が５．０°以上であって、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径１１ｍｍの箇所においては、テクスチャ同士が交差する角度が４．５°以下であることを特徴とするものである。
【００３７】
〔構成９〕
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板は、構成１乃至構成８のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、主表面上に磁性層が成膜されることにより磁気ディスクとされる磁気ディスク用ガラス基板であり、主表面には、磁性層に磁気異方性を付与するテクスチャが形成されていることを特徴とするものである。
【００３８】
〔構成１０〕
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板は、構成１乃至構成９のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、１インチ型ハードディスクドライブ、または、１インチ型ハードディスクドライブよりも小径の磁気ディスクを用いるハードディスクドライブに搭載される磁気ディスク用のガラス基板であることを特徴とするものである。
【００３９】
〔構成１１〕
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板は、構成１乃至構成１０のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、ロードアンロード方式で起動停止動作を行うハードディスクドライブに搭載するための磁気ディスク用ガラス基板であることを特徴とするものである。
【００４０】
〔構成１２〕
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板は、主表面に第１領域と、この第１領域の表面粗さよりも粗い第２領域を有し、第１領域が、円形の板状ガラス基板上において第２領域よりも外周側にあることを特徴とするものである。
【００４１】
〔構成１３〕
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板は、構成１２記載の磁気ディスク用ガラス基板であって、第１領域が、磁気ヘッドが磁気ディスクに導入する領域であることを特徴とするものである。
【００４２】
〔構成１４〕
本発明に係る磁気ディスクは、構成１乃至構成１３のいずれか一に記載の磁気ディスク用ガラス基板を備え、この磁気ディスク用ガラス基板上に、少なくとも磁性層が成膜されていることを特徴とするものである。
【００４３】
〔構成１５〕
本発明に係る磁気ディスクは、構成１４に記載の磁気ディスクであって、この磁気ディスクの主表面上のいずれの領域の粗さが、使用される磁気ヘッドの表面粗さよりも小さいことを特徴とするものである。
【００４４】
なお、磁気ディスク用ガラス基板の主表面の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）とは、主表面における５μｍ四方の領域を原子間力顕微鏡で測定したとき、測定用プローブを前記磁気ディスク用ガラス基板の円周方向に走査したときに測定される表面の算術平均粗さを示している。
【００４５】
また、磁気ディスク用ガラス基板の主表面の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）とは、主表面における５μｍ四方の領城を原子間力顕微鏡で測定したとき、測定用プローブを前記磁気ディスク用ガラス基板の径方向に走査したときに測定される表面の算術平均粗さを示している。
【００４６】
磁気ディスク用ガラス基板の主表面の表面の算術平均粗さ（Ｒa）とは、主表面における５μｍ四方の領城を原子間力顕微鏡で測定したとき、測定用プローブを前記磁気ディスク用ガラス基板の径方向に走査したときに測定される表面の算術平均粗さを示している。なお、上記の算術平均粗さとは、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｂ０６０１に準拠して算出する値である。
【発明の効果】
【００４７】
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板においては、主表面における磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面粗さが、全主表面の外周側より内周側に向かって増大しているので、主表面上に形成される磁性層に磁気異方性を付与する作用が得られ、併せて、特に内周側において、磁気ヘッドの浮上性が安定化される。
【００４８】
また、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径６ｍｍの箇所において、磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）を０．２５ｎｍ以上とし、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径１１ｍｍの箇所において、磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）を０．２４ｎｍ以下とすることにより、主表面の特に内周側において、磁気ヘッドの浮上性を充分に安定化させることができる。
【００４９】
さらに、この磁気ディスク用ガラス基板において、主表面における磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比、すなわち、〔Ｒa-c／Ｒa-r〕は、主表面の外周側から内周側に向かって増大しているので、主表面上に形成される磁性層に磁気異方性を付与する作用が得られ、併せて、特に内周側において、磁気ヘッドの浮上性が安定化される。
【００５０】
また、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径６ｍｍの箇所において、主表面における磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の主表面における磁気ディスク用ガラス基板の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比〔Ｒa-c／Ｒa-r〕を０．６１以上とし、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径１１ｍｍの箇所において、主表面における磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の主表面における磁気ディスク用ガラス基板の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比〔Ｒa-c／Ｒa-r〕を０．６０以下とすることにより、主表面の特に内周側において、磁気ヘッドの浮上性を充分に安定化させることができる。
【００５１】
また、主表面上において磁気ディスク用ガラス基板の円周方向成分をもって互いに交差する状態に形成されたテクスチャは、テクスチャ同士が交差する角度（クロス角）が磁気ディスク用ガラス基板の全主表面の外周側から内周側に向かって増大するように形成されているので、主表面上に形成される磁性層に磁気異方性を付与する作用が得られ、併せて、特に内周側において、磁気ヘッドの浮上性が安定化される。
【００５２】
なお、磁気ディスク用ガラス基板におけるテクスチャ同士が交差する角度は、主表面上の５μｍ四方の領域を原子間力顕微鏡で測定した測定結果をフーリエ変換して特定されるものであるので、容易、かつ、正確に特定することができる。
【００５３】
さらに、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径６ｍｍの箇所において、テクスチャ同士が交差する角度を５．０°以上とし、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径１１ｍｍの箇所において、テクスチャ同士が交差する角度を４．５°以下とすることにより、主表面の特に内周側において、磁気ヘッドの浮上性を充分に安定化させることができる。
【００５４】
本発明に係る磁気ディスクは、前述の磁気ディスク用ガラス基板上に、少なくとも磁性層が成膜されているものであるので、例えば、外径が５０ｍｍ以下というような小径化を図った場合においても、主表面上に形成された磁性層が磁気異方性を有するとともに、内周側においても磁気ヘッドの浮上性を安定化させ、かつ、ロードアンロード耐久性に優れた磁気ディスクを提供することができる。すなわち、この磁気ディスクは、ＬＵＬ（ロードアンロード）方式により起動停止動作を行うハードディスクドライブに搭載する磁気ディスクとしても、良好に用いることができる。
【００５５】
さらに、磁気ディスク用ガラス基板においてＩＤ側（内周側）とＯＤ側（外周側）で表面粗さを異ならしめたことによって、ＩＤ側からＯＤ側まで一定の表面粗さを有する磁気ディスクに比べて、ＩＤ側のＴＯＰを良好にさせることができる。従って、ハードディスクドライブ内の気圧がＴＤＰまで下がり、磁気ヘッドが磁気ディスク上へ接触したとしても、ＴＯＰが低いためすぐに上昇し、磁気ヘッドが磁気ディスクから離れる。
【００５６】
また、登山や飛行機内などのような気圧変化が大きな状況であっても、磁気ヘッドが磁気ディスク上に落ちにくく、かつ、落ちても上昇しやすい浮上特性の良いハードディスクドライブに好適な磁気ディスク用基板および磁気ディスクを提供することができる。
【００５７】
したがって、本発明によれば、例えば、いわゆる携帯電話、デジタルカメラ、携帯型の「ＭＰ３プレイヤー」、ＰＤＡなどの携帯情報機器、あるいは、「カーナビゲーションシステム」などの車載用機器など、非常に可搬性の高い機器に搭載できる小型のハードディスクドライブにも用いることができるように小径化した場合においても、フライスティクション障害の発生を充分に防止できるようになされた磁気ディスクを提供することができ、また、このような磁気ディスクの製造を可能とする磁気ディスク用ガラス基板を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５８】
以下、本発明を実施するための最良の形態について、図面を参照して詳細に説明する。
【００５９】
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板は、板状ガラスの主表面を研削処理してガラス母材とし、このガラス母材を切断してガラスディスクを切り出し、このガラスディスクの主表面に対して研磨処理を行い、さらに、化学強化処理及びテクスチャ加工を経て製造される。
【００６０】
研削処理に供する板状ガラスとしては、様々な形状の板状ガラスを用いることができる。この板状ガラスの形状は、矩形状であっても、ディスク状（円盤状）であってもよい。ディスク状の板状ガラスは、従来の磁気ディスク用ガラス基板の製造において用いられている研削装置を用いて研削処理を行うことができ、信頼性の高い加工を安価にて行うことができる。
【００６１】
この板状ガラスのサイズは、製造しようとする磁気ディスク用ガラス基板より大きいサイズである必要がある。例えば、「１インチ型ハードディスクドライブ」、あるいは、それ以下のサイズの小型ハードディスクドライブに搭載する磁気ディスクに用いる磁気ディスク用ガラス基板を製造する場合にあっては、この磁気ディスク用ガラス基板の直径は略々２０ｍｍ乃至３０ｍｍ程度であるので、ディスク状の板状ガラスの直径としては、３０ｍｍ以上、好ましくは、４８ｍｍ以上であることが好ましい。特に、直径が６５ｍｍ以上のディスク状の板状ガラスを用いれば、１枚の板状ガラスから、複数の「１インチ型ハードディスクドライブ」に搭載する磁気ディスクに用いる磁気ディスク用ガラス基板を採取することができ、大量生産に好適である。板状ガラスのサイズの上限については、特に限定する必要はないが、ディスク状の板状ガラスの場合には、直径が１００ｍｍ以下のものを用いることが好ましい。
【００６２】
この板状ガラスは、例えば、溶融ガラスを材料として、プレス法やフロート法、または、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらのうち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。
【００６３】
また、板状ガラスの材料としては、化学強化されるガラスであれば、特に制限は設けないが、アルミノシリケートガラスを好ましく挙げることができる。特に、リチウムを含有するアルミノシリケートガラスが好ましい。このようなアルミノシリケートガラスは、イオン交換型化学強化処理、特に、低温イオン交換型化学強化処理により、好ましい圧縮応力を有する圧縮応力層及び引張応力を有する引張応力層を精密に得ることができるので、磁気ディスク用化学強化ガラス基板の材料として特に好ましい。
【００６４】
このようなアルミノシリケートガラスの組成比としては、ＳｉＯ２を、５８乃至７５重量％、Ａｌ２Ｏ３を、５乃至２３重量％、Ｌｉ２Ｏを、３乃至１０重量％、Ｎａ２Ｏを、４乃至１３重量％、主成分として含有することが好ましい。
【００６５】
さらに、アルミノシリケートガラスの組成比としては、ＳｉＯ２を、６２乃至７５重量％、Ａｌ２Ｏ３を、５乃至１５重量％、Ｌｉ２Ｏを、４乃至１０重量％、Ｎａ２Ｏを、４乃至１２重量％、ＺｎＯ２を、５．５乃至１５重量％、主成分として含有するとともに、Ｎａ２ＯとＺｎＯ２との重量比（Ｎａ２Ｏ／ＺｎＯ２）が０．５乃至２．０、Ａｌ２Ｏ３とＺｎＯ２との重量比（Ａｌ２Ｏ３／ＺｎＯ２）が０．４乃至２．５であることが好ましい。
【００６６】
また、ＺｎＯ２の未溶解物が原因で生じるガラスディスクの表面の突起を無くすためには、モル％表示で、ＳｉＯ２を、５７乃至７４％、ＺｎＯ２を、０乃至２．８％、Ａｌ２Ｏ３を、３乃至１５％、ＬｉＯ２を、７乃至１６％、Ｎａ２Ｏを、４乃至１４％含有する化学強化用ガラスを使用することが好ましい。
【００６７】
このようなアルミノシリケートガラスは、化学強化処理を施すことによって、抗折強度が増加し、ヌープ硬度にも優れたものとなる。
【００６８】
研削処理は、ワーク、すなわち、板状ガラスの主表面の形状精度（例えば、平坦度）や寸法精度（例えば、板厚の精度）を向上させることを目的とする加工である。この研削処理は、板状ガラスの主表面に、砥石、あるいは、定盤を押圧させ、これら板状ガラス及び砥石または定盤を相対的に移動させることにより、板状ガラスの主表面を研削することにより行われる。このような研削処理は、遊星歯車機構を利用した両面研削装置を用いて行うことができる。
【００６９】
また、この研削処理においては、板状ガラスの主表面に研削液を供給することにより、スラッジ（研削屑）を研削面から洗い流し、また、研削面を冷却するとよい。さらに、この研削液に遊離砥粒を含有させたスラリーをワークの主表面に供給して研削してもよい。
【００７０】
研削処理において用いる砥石としては、ダイヤモンド砥石を用いることができる。また、遊離砥粒としては、アルミナ砥粒やジルコニア砥粒、または、炭化珪素砥粒などの硬質砥粒を用いるとよい。
【００７１】
この研削処理により、板状ガラスの形状精度が向上し、主表面の形状が平坦化されるとともに板厚が所定の値となるまで削減されたガラス母材が形成される。
【００７２】
本発明においては、ガラス母材の主表面が研削処理により平坦となされ、また、板厚が削減されているので、このガラス母材を切断して、このガラス母材からガラスディスクを切り出すことができる。すなわち、ガラス母材からガラスディスクを切り出すときに、欠け、ひび、割れといった欠陥が発生することを防止することができる。
【００７３】
ガラス母材の平坦度としては、例えば、７０８８ｍｍ２（直径９５ｍｍの円の面積）において、３０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましい。また、ガラス母材の板厚としては、２ｍｍ以下であることが好ましく、０．８ｍｍ以下であることがより好ましい。なお、ガラス母材の板厚が０．２ｍｍ未満であると、ガラス母材自体が、ガラスディスクを切り出す工程における負荷に耐えられないおそれがあるので、ガラス母材の板厚は、０．２ｍｍ以上とすることが好ましい。ガラス母材の板厚が２ｍｍを超えると、板厚が厚すぎるために精密な切り出しができないおそれがあり、また、ガラスディスクを切り出すときに、欠け、ひび、割れといった欠陥が発生するおそれがある。
【００７４】
ガラス母材のサイズは、製造しようとする磁気ディスク用ガラス基板より大きいサイズである必要がある。例えば、「１インチ型ハードディスクドライブ」、あるいは、それ以下のサイズの小型ハードディスクドライブに搭載する磁気ディスクに用いる磁気ディスク用ガラス基板を製造する場合にあっては、磁気ディスク用ガラス基板の直径は略々２０ｍｍ乃至３０ｍｍ程度であるので、ガラス母材の直径としては、３０ｍｍ以上、好ましくは、４８ｍｍ以上であることが好ましい。特に、直径が６５ｍｍ以上のガラス母材を用いれば、１枚のガラス母材から、「１インチ型ハードディスクドライブ」に搭載する磁気ディスクに用いる磁気ディスク用ガラス基板となるガラスディスクを複数枚切り出すことができ、大量生産に好適である。ガラス母材のサイズの上限については、特に限定する必要はないが、ディスク状のガラス母材の場合には、直径が１００ｍｍ以下とすることが好ましい。
【００７５】
ガラス母材の切断は、ダイヤモンドカッタやダイヤモンドドリルなど、ガラスよりも硬質な物質を含む切刃や砥石を用いて行うことができる。また、ガラス母材の切断は、レーザカッタを用いて行ってもよい。ただし、レーザカッタを用いて直径３０ｍｍ以下のような小型のガラスディスクを精密に切り出すことは困難な場合があり、切刃や砥石を用いるほうが簡便に切り出しを行うことができ、好適である。
【００７６】
ここで、ガラス母材から切り出されるガラスディスクのサイズとして、特に好適なサイズは、直径３０ｍｍ以下である。
【００７７】
次に、円筒状の砥石を用いて、ガラスディスクの中央部分に所定の直径の円孔を形成するとともに、外周端面の研削をして、所定の直径とした後、外周端面及び内周端面に所定の面取り加工を施す。
【００７８】
そして、ガラス母材から切り出されたガラスディスクに対して、少なくとも研磨処理を施し、ガラスディスクの主表面を鏡面化する。
【００７９】
この研磨処理を施すことにより、ガラスディスクの主表面のクラックが除去され、主表面の表面粗さは、例えば、Ｒmaxで７ｎｍ以下、Ｒａで０．７ｎｍ以下となされる。ガラスディスクの主表面がこのような鏡面となっていれば、このガラスディスクを用いて製造される磁気ディスクにおいて、磁気ヘッドの浮上量が、例えば、１０ｎｍである場合であっても、いわゆるクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害の発生を防止することができる。また、ガラスディスクの主表面がこのような鏡面となっていれば、後述する化学強化処理において、ガラスディスクの微細領域において均一に化学強化処理を施すことができ、また、微小クラックによる遅れ破壊を防ぐことができる。
【００８０】
なお、Ｒmaxとは、最大高さ（Ｒｙとも言う）であって、平均線から最も高い山頂までの高さ（最大山高さ：Ｒｐ）と平均線から最も低い谷底までの深さ（最大谷深さ：Ｒｖ）の和（Ｒｐ＋Ｒｖ）で示される。また、最大高さＲmaxとは、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｂ０６０１に準拠して算出した値である。
【００８１】
この研磨処理は、例えば、ガラスディスクの主表面に、研磨パッド（研磨布）が貼り付けられた定盤を押圧させ、ガラスディスクの主表面に研磨液を供給しながら、これらガラスディスク及び定盤を相対的に移動させ、ガラスディスクの主表面を研磨することにより行われる。このとき、研磨液には、研磨砥粒を含有させておくとよい。研磨砥粒としては、酸化セリウム研磨砥粒、コロイダルシリカ研磨砥粒、または、ダイヤモンド研磨砥粒を用いることができる。
【００８２】
なお、ガラスディスクを研磨する前に、研削処理をしておくことが好ましい。このときの研削処理は、前述した板状ガラスに対する研削処理と同様の手段により行うことができる。ガラスディスクを研削処理してから研磨処理を行うことにより、より短時間で、鏡面化された主表面を得ることができる。
【００８３】
また、ガラスディスクの端面を鏡面研磨しておくことが好ましい。ガラスディスクの端面は切断形状となっているので、この端面を鏡面に研磨しておくことにより、パーティクルの発生を抑制することができ、この磁気ディスク用ガラス基板を用いて製造された磁気ディスクにおいて、いわゆるサーマルアスペリティ障害を良好に防止することができるからである。
【００８４】
そして、ガラスディスクの研磨工程の後に、化学強化処理を施す。化学強化処理を行うことにより、磁気ディスク用ガラス基板の表面に高い圧縮応力を生じさせることができ、耐衝撃性を向上させることができる。特に、ガラスディスクの材料としてアルミノシリケートガラスを用いている場合には、好適に化学強化処理を行うことができる。
【００８５】
化学強化処理としては、公知の化学強化処理方法を用いたものであれば、特に制限されない。ガラスディスクの化学強化処理は、例えば、加熱した化学強化塩に、ガラスディスクを接触させ、ガラスディスクの表層のイオンが化学強化塩のイオンでイオン交換されることによって行われる。
【００８６】
ここで、イオン交換法としては、低温型イオン交換法、高温型イオン交換法、表面結晶化法、ガラス表面の脱アルカリ法などが知られているが、本発明においては、ガラスの徐冷点を超えない温度領域でイオン交換を行う低温型イオン交換法を用いることが好ましい。
【００８７】
なお、ここでいう低温型イオン交換法は、ガラスの徐冷点以下の温度領域において、ガラス中のアルカリイオンをこのアルカリイオンよりもイオン半径の大きいアルカリイオンと置換し、イオン交換部の容積増加によってガラス表層に圧縮応力を発生させ、ガラス表層を強化する方法のことをさす。
【００８８】
なお、化学強化処理を行なうときの溶融塩の加熱温度は、イオン交換が良好に行われるという観点等から、２８０°Ｃ乃至６６０°Ｃ、特に、３００°Ｃ乃至４００°Ｃであることが好ましい。
【００８９】
ガラスディスクを溶融塩に接触させる時間は、数時間乃至数十時間とすることが好ましい。
【００９０】
なお、ガラスディスクを溶融塩に接触させる前に、予備加熱として、ガラスディスクを１００°Ｃ乃至３００°Ｃに加熱しておくことが好ましい。また、化学強化処理後のガラスディスクは、冷却、洗浄工程等を経て、製品（磁気ディスク用ガラス基板）となされる。
【００９１】
また、化学強化処理を行うための処理漕の材料としては、耐食性に優れるとともに、低発塵性の材料であれば、特に限定されない。化学強化塩や化学強化溶融塩は酸化性があり、かつ、処理温度が高温なので、耐食性に優れた材料を選定することにより、損傷や発塵を抑制し、もって、サーマルアスペリティ障害や、ヘッドクラッシュを抑制する必要がある。この観点からは、処理漕の材料としては、石英材が特に好ましいが、ステンレス材や、特に耐食性に優れるマルテンサイト系、または、オーステナイト系ステンレス材も用いることができる。なお、石英材は、耐食性に優れるが、高価なので、採算性を考慮して、適宜選択することができる。
【００９２】
化学強化塩の材料としては、硝酸ナトリウム、及び／又は、硝酸カリウムを含有する化学強化塩材料であることが好ましい。このような化学強化塩は、ガラス、特に、アルミノシリケートガラスを化学強化処理したときに、磁気ディスク用ガラス基板としての所定の剛性及び耐衝撃性を実現することができるからである。次に、ガラスディスクの主表面に対してテクスチャ加工を施す。
【００９３】
図１は、本発明において、テクスチャ加工を行うテクスチャ加工装置の構成を示す斜視図である。
【００９４】
このテクスチャ加工においては、まず、図１に示すように、ガラスディスク１を、中央部分の円孔２において、テクスチャ加工装置のチャッキング軸１０１の先端側に装着する。このチャッキング軸１０１は、円筒状の先端側が軸方向に複数の部分に分割されており、内方側より力を加えることによりこの先端側を拡径できるようになっている。このチャッキング軸１０１の先端側をガラスディスク１の円孔２に挿入して拡径させることにより、ガラスディスクは、このチャッキング軸１０１によって保持される。
【００９５】
このチャッキング軸１０１は、図１中矢印Ａで示すように、所定の回転速度によって軸回りに回転操作されるとともに、図１中矢印Ｂで示すように、軸に直交する方向に所定の周囲及び振幅にて往復移動されるようになっている。
【００９６】
そして、このテクスチャ加工装置においては、一対の研磨テープ１０２，１０３が、図１中矢印Ｃで示すように、サプライロール１０２ａ，１０３ａからテイクアップロール１０２ｂ，１０３ｂに向けて、所定の速度で送り操作されて巻き取られるようになっている。これら研磨テープ１０２，１０３は、互いに重ね合わされた状態で、等しい速度で送り操作される。
【００９７】
チャッキング軸１０１に保持されたガラスディスク１は、主表面となる部分を、送り操作される一対の研磨テープ１０２，１０３の間に挿入される。そして、これら研磨テープ１０２，１０３は、一対の加圧ローラ１０４，１０５により、ガラスディスク１の両面側の主表面に対して、図１中矢印Ｄ及び矢印Ｅで示すように、それぞれ所定の圧力にて押接される。すなわち、ガラスディスク１は、両主表面を、一対の研磨テープ１０２，１０３によって挟持されることとなる。
【００９８】
この状態において、チャッキング軸１０１をガラスディスク１とともに軸回りに回転させるとともに、このチャッキング軸１０１を軸に直交する方向に所定の周囲及び振幅にて往復移動させる。このとき、チャッキング軸１０１の往復移動の方向は、一対の研磨テープ１０２，１０３の送り操作方向に直交する方向となっている。また、このとき、ガラスディスク１と各研磨テープ１０２，１０３との間には、液体状の研磨剤を供給する。
【００９９】
このとき、ガラスディスク１と各研磨テープ１０２，１０３とは、相対的に摺接移動される。
【０１００】
図２は、本発明におけるテクスチャ加工において、ガラスディスクと研磨テープとの相対的な摺接移動方向を示す模式図である。
【０１０１】
各研磨テープ１０２，１０３の送り操作の速度は極めて遅いので、ガラスディスク１と各研磨テープ１０２，１０３との相対的摺動は、ガラスディスク１の回転速度及び往復移動の周期及び振幅によって決まる。そして、ガラスディスク１に対する各研磨テープ１０２，１０３の相対的摺動は、図２に示すように、このガラスディスク１の円周方向（接線方向）の移動（Ｆ）を基本としつつ、この円周方向に対して、サインカーブを描いて揺動する移動（Ｇ）となる。
【０１０２】
このようにしてテクスチャが形成されたガラスディスク１の主表面においては、円周方向についての表面粗さは、径方向についての表面粗さよりも小さくなっている。すなわち、このテクスチャ加工において形成されるテクスチャは、基本的に、ガラスディスク１の円周方向に沿って形成された「異方性テクスチャ」であるといえる。
【０１０３】
また、このようにしてテクスチャが形成されたガラスディスク１の主表面においては、ガラスディスク１の円周方向についての表面粗さが、全主表面の外周側より内周側に向かって増大しているので、このガラスディスク１の主表面上に磁性層を形成すると、この磁性層に磁気異方性を付与する作用が得られ、併せて、特に内周側において、磁気ヘッドの浮上性が安定化される。
【０１０４】
なお、この磁気ディスク用ガラス基板において、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径６ｍｍの箇所において、磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）を０．２５ｎｍ以上とし、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径１１ｍｍの箇所において、磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）を０．２４ｎｍ以下とすることが好ましい。この場合には、主表面の特に内周側において、磁気ヘッドの浮上性を充分に安定化させることができる。
【０１０５】
さらに、このテクスチャが形成されたガラスディスク１の主表面においては、円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比、すなわち、〔Ｒa-c／Ｒa-r〕は、主表面の外周側から内周側に向かって増大していることとなる。
【０１０６】
この磁気ディスク用ガラス基板において、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径６ｍｍの箇所において、主表面における磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の主表面における磁気ディスク用ガラス基板の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比〔Ｒa-c／Ｒa-r〕を０．６１以上とし、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径１１ｍｍの箇所において、主表面における磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の主表面における磁気ディスク用ガラス基板の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比〔Ｒa-c／Ｒa-r〕を０．６０以下とすることが好ましい。この場合には、主表面の特に内周側において、磁気ヘッドの浮上性を充分に安定化させることができる。
【０１０７】
また、このようにしてガラスディスク１の主表面に形成されるテクスチャは、主表面上においてガラスディスク１の円周方向成分をもって互いに交差する状態に形成されており、テクスチャ同士が交差する角度（クロス角）が、ガラスディスク１の主表面の外周側から内周側に向かって増大するように形成される。これは、ガラスディスク１の主表面においては、外周側よりも内周側の接線速度が遅いからである。
【０１０８】
そのため、このガラスディスク１の主表面上に磁性層を形成すると、この磁性層に磁気異方性を付与する作用が得られ、併せて、特に内周側において、磁気ヘッドの浮上性が安定化される。
【０１０９】
なお、このテクスチャのクロス角は、ガラスディスクの主表面において、５μｍ四方の領域を原子間力顕微鏡で測定し、この測定結果をフーリエ変換することによって、容易、かつ、正確に特定することができる。
【０１１０】
この磁気ディスク用ガラス基板において、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径６ｍｍの箇所において、テクスチャ同士が交差する角度を５．０°以上とし、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径１１ｍｍの箇所において、テクスチャ同士が交差する角度を４．５°以下とすることが望ましい。この場合には、主表面の特に内周側において、磁気ヘッドの浮上性を充分に安定化させることができる。
【０１１１】
このテクスチャ加工が終了した後、ガラスディスク１を洗浄することにより、磁気ディスク用ガラス基板が完成する。
【０１１２】
前述のようにして製造される本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板は、「１インチ型ハードディスクドライブ」、または、「１インチ型」よりも小型のハードディスクドライブに搭載するための磁気ディスク用ガラス基板として好適である。なお、「１インチ型ハードディスクドライブ」に搭載する磁気ディスクを製造するための磁気ディスク用ガラス基板の直径は、約２７．４ｍｍである。また、「０．８５インチ型ハードディスクドライブ」に搭載する磁気ディスクを製造するための磁気ディスク用ガラス基板の直径は、約２１．６ｍｍである。
【０１１３】
そして、本発明に係る磁気ディスクにおいて、磁気ディスク用ガラス基板上に形成される磁性層としては、例えば、コバルト（Ｃｏ）系強磁性材料からなるものを用いることができる。特に、高い保磁力が得られるコバルト−プラチナ（Ｃｏ−Ｐｔ）系強磁性材料や、コバルト−クロム（Ｃｏ−Ｃｒ）系強磁性材料からなる磁性層として形成することが好ましい。なお、磁性層の形成方法としては、ＤＣマグネトロンスパッタリング法を用いることができる。
【０１１４】
また、この磁性層を形成する前に、ガラスディスクに対し、円周方向のテクスチャ加工を施すことにより、磁気特性を向上させることもできる。また、ガラス基板と磁性層との間に、適宜、下地層等を介挿させることが好ましい。これら下地層の材料としてはＡｌ−Ｒｕ系合金や、Ｃｒ系合金などを用いることができる。
【０１１５】
また、磁性層上には、磁気ヘッドの衝撃から磁気ディスクを防護するための保護層を設けることができる。この保護層としては、硬質な水素化炭素保護層を好ましく用いることができる。
【０１１６】
さらに、この保護層上に、ＰＦＰＥ（パーフルオロポリエーテル）化合物からなる潤滑層を形成することにより、磁気ヘッドと磁気ディスクとの干渉を緩和することができる。この潤滑層は、例えば、ディップ法により、塗布成膜することにより形成することができる。
【実施例１】
【０１１７】
以下、実施例及び比較例を挙げることにより、具体的に説明する。なお、本発明は、これら実施例の構成に限定されるものではない。
【０１１８】
〔実施例（１）（磁気ディスク用ガラス基板の実施例）〕
以下に述べる本実施例における磁気ディスク用ガラス基板は、以下の（１）乃至（８）の工程により作成される。
【０１１９】
（１）粗研削工程
（２）形状加工工程
（３）精研削工程
（４）端面鏡面加工工程
（５）第１研磨工程
（６）第２研磨工程
（７）化学強化工程
（８）テクスチャ加工
まず、アモルファスのアルミノシリケートガラスからなるディスク状のガラス母材を用意した。このアルミノシリケートガラスは、リチウムを含有している。このアルミノシリケートガラスの組成は、ＳｉＯ２を、６３．６重量％、Ａｌ２Ｏ３を、１４．２重量％、Ｎａ２Ｏを、１０．４重量％、Ｌｉ２Ｏを、５．４重量％、ＺｎＯ２を、６．０重量％、Ｓｂ２Ｏ３を、０．４重量％含むものである。
【０１２０】
（１）粗研削工程
溶融させたアルミノシリケートガラスから形成した厚さ０．６ｍｍのシートガラスをガラス母材として用いて、このシートガラスから、研削砥石により、直径２８．７ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの円盤状のガラスディスクを得た。
【０１２１】
シートガラスを形成する方法としては、一般に、ダウンドロー法やフロート法が用いられるが、これ以外に、ダイレクトプレスによって、円盤状のガラス母材を得てもよい。このシートガラスの材料であるアルミノシリケートガラスとしては、ＳｉＯ２を、５８乃至７５重量％、Ａｌ２Ｏ３を、５乃至２３重量％、Ｎａ２Ｏを、４乃至１３重量％、Ｌｉ２Ｏを、３乃至１０重量％、含有するものであればよい。
【０１２２】
次に、ガラスディスクに対し、寸法精度及び形状精度の向上のために、粗研削工程を施した。この粗研削工程は、両面研削装置を用いて、粒度＃４００の砥粒を用いて行なった。
【０１２３】
具体的には、始めに粒度＃４００のアルミナ砥粒を用い、荷量を１００ｋｇ程度に設定して、サンギアとインターナルギアを回転させることによって、キャリア内に収納したガラスディスクの両面を、面精度０乃至１μｍ、表面粗さ（Ｒmax）６μｍ程度に研削した。
【０１２４】
（２）形状加工工程
次に、円筒状の砥石を用いて、ガラスディスクの中央部分に直径６．１ｍｍの円孔を形成するとともに、外周端面の研削をして、直径を２７．４３ｍｍとした後、外周端面及び内周端面に所定の面取り加工を施した。このときのガラスディスクの端面の表面粗さは、Ｒmaxで４μｍ程度であった。
【０１２５】
なお、一般に、「２．５インチ型ＨＤＤ（ハードディスクドライブ）」では、外径が６５ｍｍの磁気ディスクを用いている。
【０１２６】
（３）精研削工程
次に、砥粒の粒度を＃１０００に替え、ガラスディスクの主表面を研削することにより、主表面の表面粗さを、Ｒmaxで２μｍ程度、Ｒａで０．２μｍ程度とした。
【０１２７】
この精研削工程を行うことにより、前工程である粗研削工程や形状加工工程において主表面に形成された微細な凹凸形状を除去することができる。
【０１２８】
このような精研削工程を終えたガラスディスクを、超音波を印加した中性洗剤及び純水の各洗浄槽に順次浸漬して、超音波洗浄を行なった。
【０１２９】
（４）端面鏡面加工工程
次いで、ガラスディスクの端面について、従来より用いられているブラシ研磨により、ガラスディスクを回転させながら、ガラスディスクの端面（内周端面及び外周端面）の表面の粗さを、Ｒmaxで１μｍ、Ｒａで０．３μｍ程度に研磨した。
【０１３０】
そして、端面鏡面加工を終えたガラスディスクの主表面を水洗浄した。
【０１３１】
なお、この端面鏡面加工工程においては、ガラスディスクを重ね合わせて端面を研磨するが、この際に、ガラスディスクの主表面にキズ等が付くことを避けるため、後述する第１研磨工程よりも前、あるいは、第２研磨工程の前後に行うことが好ましい。
【０１３２】
この端面鏡面加工工程により、ガラスディスクの端面は、パーティクル等の発塵を防止できる鏡面状態に加工された。端面鏡面加工工程後にガラスディスクの直径を測定したところ、２７．４ｍｍであった。
【０１３３】
（５）第１研磨工程
次に、前述した精研削工程において残留した傷や歪みを除去するため、両面研磨装置を用いて、第１研磨工程を行なった。
【０１３４】
両面研磨装置においては、研磨パッドが貼り付けられた上下定盤の間に、キャリアにより保持させたガラスディスクを密着させ、このキャリアを、サンギア及びインターナルギアに噛合させるとともに、ガラスディスクを上下定盤によって挟圧する。その後、研磨パッドとガラスディスクの研磨面（主表面）との間に研磨液を供給しながら、サンギアを回転させることによって、ガラスディスクは、定盤上で自転しながらインターナルギアの回りを公転して、両主表面を同時に研磨加工される。
【０１３５】
以下の実施例で使用する両面研磨装置としては、同一の装置を用いている。具体的には、ポリッシャとして硬質ポリシヤ（硬質発泡ウレタン）を用いて、第１研磨工程を実施した。研磨条件は、酸化セリウム（平均粒径１．３μｍ）及びＲＯ水からなる研磨液を用い、荷重を１００ｇ／ｃｍ２、研磨時間を１５分とした。そして、この第１研磨工程を終えたガラスディスクを、中性洗剤、純水(1)、純水(2)、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させた。
【０１３６】
（６）第２研磨工程
次に、第１研磨工程で使用した両面研磨装置と同様の両面研磨装置を用いて、ポリッシャを軟質ポリッシャ（スウェードパット）に替えて、主表面の鏡面研磨工程として、第２研磨工程を実施した。
【０１３７】
この第２研磨工程は、前述した第１研磨工程により得られた平坦な主表面を維持しつつ、この主表面の表面粗さＲａを、例えば、０．５乃至０．３ｎｍ程度以下まで低減させることを目的とするものである。
【０１３８】
研磨条件は、コロイダルシリカ（平均粒径８０ｎｍ）及びＲＯ水からなる研磨液を用い、荷重を１００ｇ／ｃｍ２、研磨時間を５分とした。
【０１３９】
そして、この第２研磨工程を終えたガラスディスクを、中性洗剤、純水(1)、純水(2)、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させた。
【０１４０】
（７）化学強化工程
次に、洗浄を終えたガラスディスクに対し、化学強化処理を施した。化学強化処理は、硝酸カリウムと硝酸ナトリウムとを混合させた化学強化液を用いて行い、強化処理されたガラスディスクから溶出されるリチウム含有量をＩＣＰ発光分析装置を用いて測定した。
【０１４１】
この化学強化溶液を、３４０°Ｃ乃至３８０°Ｃに加熱し、洗浄及び乾燥を終えたガラスディスクを、約２時間乃至４時間浸漬して、化学強化処理を行なった。この浸漬の際には、ガラスディスクの表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラスディスクが端面で保持されるように、ホルダーに収納した状態で行った。
【０１４２】
化学強化処理を終えたガラスディスクを、２０°Ｃの水槽に浸漬して急冷し、約１０分間維持した。
【０１４３】
そして、急冷を終えたガラスディスクを、約４０°Ｃに加熱した濃硫酸に浸漬して洗浄を行った。さらに、硫酸洗浄を終えた磁気ディスク用ガラス基板を、純水(1)、純水(2)、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ（蒸気乾燥）の各洗浄槽に順次浸漬させて、超音波洗浄し、乾燥させた。
【０１４４】
次に、洗浄を終えたガラスディスクの主表面及び端面について、目視検査を行い、さらに、光の反射、散乱及び透過を利用した精密検査を実施した。その結果、ガラスディスクの主表面及び端面には、付着物による突起や、傷等の欠陥は発見されなかった。
【０１４５】
また、前述のような工程を経たガラスディスクの主表面の表面粗さは、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）によって測定したところ、Ｒmaxで２．５ｎｍ、Ｒａで０．３０ｎｍと、超平滑な表面となっていることが確認された。なお、表面粗さの数値は、ＡＦＭ（原子間力顕微鏡）によって測定した表面形状について、日本工業規格（ＪＩＳ）Ｂ０６０１にしたがって算出したものである。
【０１４６】
また、前述のような工程を経たガラスディスクは、内径が７ｍｍ、外径が２７．４ｍｍ、板厚は０．３８１ｍｍであり、「１．０インチ型」磁気ディスクに用いる磁気ディスク用ガラス基板の所定寸法であることを確認した。
【０１４７】
さらに、このガラスディスクの円孔の内周側端面の表面粗さは、面取り部Ｒmaxで０．４μｍ、Ｒａで０．０４μｍ、側壁部Ｒmaxで０．４μｍ、Ｒａで０．０５μｍであった。外周端面における表面粗さＲａは、面取部で０．０４μｍ、側壁部で、０．０７μｍであった。このように、内周側端面は、外周側端面と同様に、鏡面状に仕上がっていることを確認した。
【０１４８】
また、このガラスディスクの表面に異物やサーマルアスペリティの原因となるパーティクルは認められず、円孔の内周側端面にも異物やクラックは認められなかった。
【０１４９】
（８）テクスチャ加工
次に、化学強化処理を終えたガラスディスクに対し、テクスチャ加工を行った。このテクスチャ加工は、テクスチャ加工装置を用いて、ガラスディスクと、このガラスディスクの両主表面を挟持する研磨テープとを所定の状態で相対的に摺接移動させることによって行った。これらガラスディスクと各研磨テープとの相対的摺動は、ガラスディスクの円周方向（接線方向）の移動を基本としつつ、この円周方向に対して、サインカーブを描いて揺動する移動として行った。
【０１５０】
また、このとき、ガラスディスクと各研磨テープとの間に、研磨砥粒としてダイヤモンド砥粒をを含有する液体状の研磨剤を供給した。
【０１５１】
このテクスチャ加工の条件は、以下の〔表１〕に示すように、この実施例（１）において、研磨テープとして織布テープを使用し、研磨剤（スラリー）として多結晶型ダイヤモンドスラリーを使用し、ガラスディスクの回転数を毎分５９７回転とし、ガラスディスクの揺動（オシレーション）の周波数を７．８Ｈｚとし、ガラスディスクの揺動（オシレーション）の振幅を１ｍｍとし、加圧ローラによる加工加重を３．６７５ｋｇ（１．５pound）とした。
【０１５２】
【表１】
2005317181.tif 000003
【０１５３】
このテクスチャ加工が終了した後、ガラスディスクを洗浄し、磁気ディスク用ガラス基板を得た。
【０１５４】
〔実施例（２）（磁気ディスク用ガラス基板の実施例）〕
〔表１〕に示すように、実施例（１）においてテクスチャ加工の条件のみを変更した実施例（２）を作成した。
【０１５５】
この実施例（２）においては、テクスチャ加工の条件は、研磨テープとして織布テープを使用し、研磨剤（スラリー）として多結晶型ダイヤモンドスラリーを使用し、ガラスディスクの回転数を毎分８８３回転とし、ガラスディスクの揺動（オシレーション）の周波数を７．８Ｈｚとし、ガラスディスクの揺動（オシレーション）の振幅を１ｍｍとし、加圧ローラによる加工加重を３．６７５ｋｇ（１．５pound）とした。
【０１５６】
〔比較例（１）〕
〔表１〕に示すように、実施例（１）においてテクスチャ加工の条件のみを変更した比較例（１）を作成した。
【０１５７】
この比較例（１）においては、テクスチャ加工の条件は、研磨テープとして織布テープを使用し、研磨剤（スラリー）として多結晶型ダイヤモンドスラリーを使用し、ガラスディスクの回転数を毎分１０８３回転とし、ガラスディスクの揺動（オシレーション）の周波数を７．８Ｈｚとし、ガラスディスクの揺動（オシレーション）の振幅を１ｍｍとし、加圧ローラによる加工加重を３．６７５ｋｇ（１．５pound）とした。
【０１５８】
〔比較例（２）〕
〔表１〕に示すように、実施例（１）においてテクスチャ加工の条件を変更した比較例（２）を作成した。
【０１５９】
この比較例（２）は、外径が６５ｍｍの磁気ディスク用ガラス基板の例である。
【０１６０】
この比較例（２）においては、テクスチャ加工の条件は、研磨テープとして織布テープを使用し、研磨剤（スラリー）として多結晶型ダイヤモンドスラリーを使用し、ガラスディスクの回転数を毎分３８３回転とし、ガラスディスクの揺動（オシレーション）の周波数を５Ｈｚとし、ガラスディスクの揺動（オシレーション）の振幅を１ｍｍとし、加圧ローラによる加工加重を１３．４７５ｋｇ（５．５pound）とした。
【０１６１】
〔磁気ディスク用ガラス基板の主表面における円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）、円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比〔Ｒa-c／Ｒa-r〕及びテクスチャのクロス角の測定〕
前述のようにして作成した磁気ディスク用ガラス基板の実施例（１）、実施例（２）、比較例（１）及び比較例（２）について、主表面における円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）を測定した。
【０１６２】
図３は、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板及び比較例の主表面の各個所における円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）を示すグラフである。
【０１６３】
また、磁気ディスク用ガラス基板の実施例（１）、実施例（２）、比較例（１）及び比較例（２）について測定された、磁気ディスク用ガラス基板の主表面の各個所（中心からの距離が６．０ｍｍ、８．５ｍｍ及び１１．０ｍｍ）における円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）を、以下の〔表２〕に示す（なお、比較例（２）については、中心からの距離が１４．５ｍｍ、２２．０ｍｍ及び３０．６ｍｍの箇所について示す）。
【０１６４】
なお、これら〔比較例（１）〕及び〔比較例（２）〕の磁気ディスク用ガラス基板は、本発明における前述の〔構成３〕、〔構成５〕及び〔構成８〕の磁気ディスク用ガラス基板についての比較例となる。
【０１６５】
【表２】
2005317181.tif 000004
【０１６６】
これら図３及び〔表２〕に示すように、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の各実施例における主表面においては、主表面における円周方向についての表面粗さが、主表面の外周側から内周側に向かって連続的に増大していることがわかる。
【０１６７】
そして、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の実施例においては、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径６ｍｍの箇所において、磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）が０．２５ｎｍ以上であって、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径１１ｍｍの箇所において、磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）が０．２４ｎｍ以下となっている。
【０１６８】
また、前述のようにして作成した磁気ディスク用ガラス基板の実施例（１）、実施例（２）、比較例（１）及び比較例（２）について、円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比〔Ｒa-c／Ｒa-r〕を測定した。
【０１６９】
図４は、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板及び比較例の主表面の各個所における円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比〔Ｒa-c／Ｒa-r〕を示すグラフである。
【０１７０】
また、磁気ディスク用ガラス基板の実施例（１）、実施例（２）、比較例（１）及び比較例（２）について測定された、磁気ディスク用ガラス基板の主表面の各個所における円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比〔Ｒa-c／Ｒa-r〕を、〔表２〕に示す。
【０１７１】
これら図４及び〔表２〕からもわかるように、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の主表面においては、主表面における円周方向についての表面粗さが、主表面における径方向についての表面粗さよりも小さくなっていることがわかる。
【０１７２】
また、円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比、すなわち、〔Ｒa-c／Ｒa-r〕が、主表面の外周側から内周側に向かって連続的に増大していることがわかる。
【０１７３】
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の実施例においては、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径６ｍｍの箇所において、主表面における磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の主表面における磁気ディスク用ガラス基板の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比〔Ｒa-c／Ｒa-r〕が０．６１以上であって、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径１１ｍｍの箇所において、主表面における磁気ディスク用ガラス基板の円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の主表面における磁気ディスク用ガラス基板の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比〔Ｒa-c／Ｒa-r〕が０．６０以下となっている。
【０１７４】
また、前述のようにして作成された磁気ディスク用ガラス基板の主表面において、５μｍ四方の領域を原子間力顕微鏡で測定し、この測定結果を２次元ＦＦＴによってフーリエ変換した。
【０１７５】
図５は、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の主表面の各個所について測定された原子間力顕微鏡像をフーリエ変換した結果を示す画像である。
【０１７６】
そして、図５に示すように、磁気ディスク用ガラス基板の主表面上において円周方向成分をもって互いに交差する状態に形成されたテクスチャ同士が交差する角度（クロス角）を特定した。
【０１７７】
図６は、本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板及び比較例の主表面の各個所におけるテクスチャのクロス角を示すグラフである。
【０１７８】
また、磁気ディスク用ガラス基板の実施例（１）、実施例（２）、比較例（１）及び比較例（２）について測定された、磁気ディスク用ガラス基板の主表面の各個所におけるテクスチャのクロス角を、〔表２〕に示す。
【０１７９】
その結果、この磁気ディスク用ガラス基板においては、図６に示すように、クロス角が、主表面の外周側から内周側に向かって増大していることが確認された。このクロス角をθとすると、tanθは、磁気ディスク用ガラス基板の中心からの距離ｒに反比例（すなわち、〔１／ｒ〕に比例）していることがわかる。
【０１８０】
本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の実施例においては、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径６ｍｍの箇所において、テクスチャ同士が交差する角度（クロス角）が５．０°以上であって、主表面において磁気ディスク用ガラス基板の中心から半径１１ｍｍの箇所において、テクスチャ同士が交差する角度（クロス角）が４．５°以下となっている。
【０１８１】
〔実施例（３）（磁気ディスクの実施例）〕
次に、以下の工程を経て、本発明に係る磁気ディスクを製造した。
【０１８２】
前述の工程により得た実施例（１）及び実施例（２）の磁気ディスク用ガラス基板の両主表面に、静止対向型のＤＣマグネトロンスパッタリング装置を用いて、Ａｌ−Ｒｕ合金のシード層、Ｃｒ−Ｗ合金の下地層、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ合金の磁性層、水素化炭素保護層を順次成膜した。シード層は、磁性層の磁性グレインを微細化させる作用を奏し、下地層は、磁性層の磁化容易軸を面内方向に配向きせる作用を奏する。
【０１８３】
この磁気ディスクは、非磁性基板である磁気ディスク用ガラス基板と、この磁気ディスク用ガラス基板上に形成された磁性層と、この磁性層上に形成された保護層と、この保護層上に形成された潤滑層とを少なくとも備えて構成される。
【０１８４】
そして、磁気ディスク用ガラス基板と磁性層との間には、シード層及び下地層からなる非磁性金属層（非磁性下地層）が形成されている。この磁気ディスクにおいて、磁性層以外は、全て非磁性体からなる層である。この実施例においては、磁性層及び保護層、保護層及び潤滑層は、それぞれ接した状態で形成されている。
【０１８５】
すなわち、まず、スパッタリングターゲットとして、Ａｌ−Ｒｕ（アルミニウム−ルテニウム）合金（Ａｌ：５０ａｔ％、Ｒｕ：５０ａｔ％）を用いて、磁気ディスク用ガラス基板上に、膜厚３０ｎｍのＡｌ−Ｒｕ合金からなるシード層をスパッタリングにより成膜した。次に、スパッタリングターゲットとして、Ｃｒ−Ｗ（クロム−タングステン）合金（Ｃｒ：８０ａｔ％、Ｗ：２０ａｔ％）を用いて、シード層５上に、膜厚２０ｎｍのＣｒ−Ｗ合金からなる下地層をスパッタリングにより成膜した。次いで、スパッタリングターゲットとして、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ（コバルト−クロム−プラチナ−タンタル）合金（Ｃｒ：２０ａｔ％、Ｐｔ：１２ａｔ％、Ｔａ：５ａｔ％、残部Ｃｏ）からなるスパッタリングターゲットを用いて、下地層上に、膜厚１５ｎｍのＣｏ−Ｃｒ−Ｐｔ−Ｔａ合金からなる磁性層をスパッタリングにより形成した。
【０１８６】
次に、磁性層上に水素化炭素からなる保護層を形成し、さらに、ＰＦＰＥ（パーフロロポリエーテル）からなる潤滑層をディップ法で成膜した。保護層は、磁気ヘッドの衝撃から磁性層を保護する作用を奏する。このようにして、磁気ディスクを得た。
【０１８７】
得られた磁気ディスクを用い、浮上量が１０ｎｍのグライドヘッドによりグライド検査を行ったところ、衝突する異物等は検出されず、安定した浮上状態を維持することができた。また、この磁気ディスクを用いて、７００ｋＦＣＩで記録再生試験を行ったところ、十分な信号強度比（Ｓ／Ｎ比）を得ることができた。また、信号のエラーは確認されなかった。
【０１８８】
さらに、１平方インチ当り６０ギガビット以上の情報記録密度を必要とする「１インチ型ハードディスクドライブ」に搭載して駆動させたところ、特に問題なく記録再生を行うことができた。すなわち、クラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害は発生しなかった。
【０１８９】
また、前述の工程により得た比較例（１）及び比較例（２）の磁気ディスク用ガラス基板についても、前述の実施例（３）と同様に、磁気ディスクを作成した。
【０１９０】
そして、実施例（１）及び実施例（２）の磁気ディスク用ガラス基板を用いて作成された磁気ディスクと、比較例（１）及び比較例（２）の磁気ディスク用ガラス基板を用いて作成された磁気ディスクとについて、ロードアンロード耐久性について試験を行った。このロードアンロード耐久性試験についての結果を、〔表２〕に示す。
【０１９１】
前述の実施例（１）の磁気ディスク用ガラス基板については、磁気ディスクとして構成した後のロードアンロード耐久性は、６０万回以上であり、充分な耐久性となっていることが確認された。
【０１９２】
前述の実施例（２）の磁気ディスク用ガラス基板についても、磁気ディスクとして構成した後のロードアンロード耐久性は、５０万回であり、充分な耐久性となっていることが確認された。
【０１９３】
前述の比較例（１）の磁気ディスク用ガラス基板については、磁気ディスクとして構成した後のロードアンロード耐久性は、３０万回以上であり、充分な耐久性を有しないことが確認された。
【０１９４】
なお、前述の比較例（２）の磁気ディスク用ガラス基板については、磁気ディスクとして構成した後のロードアンロード耐久性は、６０万回以上と充分な耐久性を有しているが、この比較例（２）は、外径が６５ｍｍの磁気ディスクの例であり、表面粗さ等の測定個所は中心からの距離が１４．５ｍｍ、２２．０ｍｍ及び３０．６ｍｍの箇所であるので、外径を２７．４ｍｍとした場合についての比較はできない。
【実施例２】
【０１９５】
次に本発明に係る第２の実施例を説明する。
【０１９６】
第２の実施例においては、第１の実施例よりも更に小径の磁気ディスク用基板を用いた。磁気ディスク用基板の作成、磁気ディスク用基板に対するテクスチャ加工および磁気ディスクの製造については、第１の実施例と実質的に同様である。
【０１９７】
〔表３〕は、本発明に係る磁気ディスク用基板の算術平均粗さ（Ｒａ）および本発明に係る磁気ディスクの算術平均粗さ（Ｒａ）を測定半径に応じて測定した結果と、それぞれの測定半径におけるＴＯＰを示している。また、〔表３〕では、比較として、表面粗さが異なる比較例（３）および比較例（４）のＴＯＰも示している。なお、〔表３〕のＴＯＰにおける０．９１ａｔｍという値は、測定地における常圧値である。
【０１９８】
【表３】
2005317181.tif 000005
【０１９９】
図７は、〔表３〕における粗さをグラフにしたものであり、実施例（３）、比較例（３）、比較例（４）における磁気ディスク用基板での粗さと磁気ディスクの粗さを示している。ここでの表面粗さは前述したように原子間力顕微鏡で測定したものである。磁気ディスクの粗さが磁気ディスク用基板の粗さを反映していることがわかる。すなわち、磁気ディスク用基板の粗さを粗くすれば、磁気ディスクの粗さも粗くなっている。また、実施例（３）においては、ある測定半径（第１領域）での粗さが、この測定半径よりも内周側の測定半径（第２領域）の粗さよりも小さくなっていることがわかる。なお、上記第１領域は、ディスク回転開始時または記録・再生開始時に磁気ヘッドが接触する可能性がある領域、すなわちＬＵＬ方式において磁気ヘッドが磁気ディスクに導入される領域であってもよい。これにより、この領域よりも内周側での表面粗さが粗くなる。また、この領域から内周側に向かって段階的または連続的に表面粗さを増大させるようにしてもよい。
【０２００】
ここで、ＴＤＯ（Touch Down Pressure）およびＴＯＰ（Take Off Pressure）について説明する。近年、磁気ディスクの記録密度増加に伴う、磁気ヘッド浮上量の低下から、磁気ヘッドと磁気ディスクとの接触頻度が増加することが懸念されている。そこで、浮上特性の評価としてＴＤＰ測定、ＴＯＰ測定が行われている。
【０２０１】
図８はＴＯＤ／ＴＯＰ試験の概念図である。ＴＤＯ（Touch Down Pressure）とは、ハードディスクドライブ内の気圧を徐々に下げていったときに、磁気ヘッドが浮上状態から摺動状態へ移行したときの気圧の値をいう。ＴＯＰ（Take Off Pressure）とは、ＴＤＯとは逆にハードディスクドライブ内の気圧を徐々に上げていったときに、磁気ヘッドが摺動状態から浮上状態へ移行したときの気圧の値をいう。浮上状態から摺動状態へ移行、すなわち磁気ディスクと磁気ヘッドの接触状態は、ＡＥ（Acoustic Emission）センサの出力を見ることで確認する。実験は気圧コントロールが可能な容器にて行った。
【０２０２】
ＴＤＰ測定することで、磁気ヘッドの磁気ディスクへの接触しにくさを見ることができ、ＴＯＰ測定によって磁気ディスクに接触し、摺動状態となった磁気ヘッドが磁気ディスクから離れる離れやすさを見ることができる。したがって、ＴＯＤ，ＴＯＰともに小さいことが求められ、かつＴＯＤとＴＯＰの差であるΔＰが小さいことが望まれる。このΔＰが小さいときに、ヘッド浮上特性が良好であるといえる。
【０２０３】
図９は、〔表３〕におけるＴＯＰをグラフにしたものであり、実施例（３）、比較例（３）、比較例（４）におけるＴＯＰを測定半径に応じてプロットしたものになっている。実施例（３）と比較して粗さが小さい比較例（３）と、実施例（３）を比べると、粗さが小さいため、ＴＯＰがほぼ常圧となっていることがわかる。比較例（４）では、主表面の半径方向においてほぼ同一の粗さであるため、ＴＯＰが実施例（３）と比べて大きなＴＯＰ値となっている。特に、ＩＤ側の粗さが小さいためＴＯＰ値がほぼ常圧となっている。
【０２０４】
いずれの例においてもＩＤ側でＴＯＰが高い値となっているのは、特に小径の磁気ディスクにおいては、内周側に行くほど、磁気ディスクと磁気ヘッドの相対先速度が遅くなるので、磁気ヘッドが十分な揚力を得られず、不安定になるためだと考えられる。そこで、さらに、磁気ディスクと磁気ヘッドの粗さを粗くすることで、ＴＯＰを良好にすることが考えられる。例えば、磁気ヘッドの粗さを粗くすることが考えられる。この場合、磁気ヘッドの表面粗さは磁気ディスクのいずれの領域よりも粗くすることが好ましい。
【０２０５】
また、磁気ディスクを記録方向に駆動する駆動部と、再生部と記録部とを備えた磁気ヘッドと、この磁気ヘッドを前記磁気ディスクに対して相対運動させる手段を有する磁気記録装置において、磁気ヘッドをＮＰＡＢスライダーとすることも好ましい。これにより、さらに磁気ヘッドが磁気ディスクに接触・摺動しにくく、また接触・摺動したとしても上昇しやすくなる。さらに、これらを組み合わせることで、磁気ヘッドの浮上特性がより良好となる。
【０２０６】
なお、本発明においては、磁気ディスク用ガラス基板の直径（サイズ）については、特に限定されるものではない。しかし、本発明は、特に、小径の磁気ディスク用ガラス基板を製造する場合に優れた有用性を発揮する。ここでいう小径とは、例えば、直径が３０ｍｍ以下の磁気ディスク用ガラス基板である。
【図面の簡単な説明】
【０２０７】
【図１】本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の製造工程において、テクスチャ加工を行うテクスチャ加工装置の構成を示す斜視図である。
【図２】本発明におけるテクスチャ加工において、ガラスディスクと研磨テープとの相対的な摺接移動方向を示す模式図である。
【図３】本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板及び比較例の主表面の各個所における円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）を示すグラフである。
【図４】本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板及び比較例の主表面の各個所における円周方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-c）の径方向についての表面の算術平均粗さ（Ｒa-r）に対する比〔Ｒa-c／Ｒa-r〕を示すグラフである。
【図５】本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板の主表面の各個所について測定された原子間力顕微鏡像をフーリエ変換した結果を示す画像である。
【図６】本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板及び比較例の主表面の各個所におけるテクスチャのクロス角を示すグラフである。
【図７】本発明に係る磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクの実施例と、比較例における主表面の各個所での表面の算術平均粗さ（Ｒa）を示すグラフである。
【図８】ＴＯＤ／ＴＯＰ試験の概念図である。
【図９】本発明に係る磁気ディスクの実施例と、比較例における主表面の各個所でのＴＯＰを示すグラフである。
【符号の説明】
【０２０８】
１  ガラスディスク
２  円孔
１０１  チャッキング軸
１０２，１０３  研磨テープ
【図１】
2005317181.tif 000006
【図２】
2005317181.tif 000007
【図３】
2005317181.tif 000008
【図４】
2005317181.tif 000009
【図５】
2005317181.tif 000010
【図６】
2005317181.tif 000011
【図７】
2005317181.tif 000012
【図８】
2005317181.tif 000013
【図９】
2005317181.tif 000014