(57)【要約】      （修正有）【課題】ディスプレイ、光エレクトロニクスなどの光学分野で有用な、偏光制御用の光学フィルムを提供する。【解決手段】感光性薄膜に偏光または無偏光の放射線を照射して形成される光学的異方性層を有する光学フィルム。ここで、上記感光性薄膜が、下記（１）〜（３）のそれぞれで表される構造よりなる群から選ばれる少なくとも１つの構造を有する重合体を含有してなるフィルム。−Ｐ１−ＣＲ１＝ＣＲ２−ＣＯ−Ｑ１−・・・（１）、Ｐ２−ＣＲ３＝ＣＲ４−ＣＯ−Ｑ２−・・・（２）、−Ｐ３−ＣＲ５＝ＣＲ６−ＣＯ−Ｑ３・・・（３）、ここで、Ｐ１，Ｐ３、Ｑ１、Ｑ２は、互に独立に、芳香環を有する２価の有機基であり、Ｐ２、Ｑ３は、互に独立に、芳香環を有する１価有機基であり、Ｒ１〜Ｒ６は、互いに独立に、水素原子またはアルキル基である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性薄膜に偏光または無偏光の放射線を照射して形成される光学的異方性層を有することを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
光学的異方性層がそれぞれ異なった光学的異方性を有する、面内の複数の領域からなる請求項１の光学フィルム。
【請求項３】
前記感光性薄膜が、下記式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）のそれぞれで表される構造よりなる群から選ばれる少なくとも１つの構造を有する重合体を含有してなる請求項１または２の光学フィルム。
−Ｐ1−ＣＲ1＝ＣＲ2−ＣＯ−Ｑ1−  ・・・・・（Ｉ）
Ｐ2−ＣＲ3＝ＣＲ4−ＣＯ−Ｑ2−  ・・・・・（ＩＩ）
−Ｐ3−ＣＲ5＝ＣＲ6−ＣＯ−Ｑ3    ・・・・・（ＩＩＩ）
ここで、Ｐ1、Ｐ3、Ｑ1およびＱ2は、互に独立に、芳香環を有する２価の有機基であり、Ｐ2およびＱ3は、互に独立に、芳香環を有する１価の有機基であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、互に独立に、水素原子またはアルキル基である。
【請求項４】
感光性薄膜に偏光または無偏光の放射線を照射することを特徴とする光学フィルムの製造法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学素子に用いられる光学フィルムに関する。さらに詳しくは、ディスプレイ、光エレクトロニクスなどの光学分野で偏光制御に用いられる光学フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ディスプレイ、光エレクトロニクスなどの光学分野において、位相差板、視野角改良フィルムなどの光学フィルムが用いられている。これらの光学フィルムには様々な用途があるが、近年では特に、液晶表示素子における偏光制御のために多用されるようになっている。
【０００３】
位相差板とは、互いに垂直な方向に振動する直線偏光が板を通過したとき、これらの間に所定の光路差を与える複屈折板をいう。通常用いられる位相差板には、得られる光路差と用いる光の真空中での波長との比により、４分の１、２分の１、１波長板等の種類がある。
【０００４】
このような位相差板には、従来より、白雲母を適当な厚さに劈開した薄板や、一方向に分子配向させた合成樹脂板等が用いられてきた。しかしながら、白雲母を劈開して得られる位相差板には、大面積のものが得られないという問題点があった。また、一方向に分子配向させた合成樹脂板からなる位相差板においては、その光学特性が面内で十分均一でないという問題点があった。さらに、前記のような方法で得られる位相差板は、その全面にわたって同一の光学特性を有するものであり、面内の複数の領域にそれぞれ異なった光学特性を付与することはできなかった。
【０００５】
位相差板を製造する別の方法として、延伸された樹脂フィルムないしはラビング処理された高分子薄膜上で液晶をホモジニアス配向させたのち、固化させる方法が知られている（特許文献１、２参照）。この方法によれば、光学特性が面内で均一な位相差板を得ることができる。しかし、この方法を用いる場合においても、面内の複数の領域にそれぞれ異なった光学特性を有する光学フィルムを得ようとすれば、レジストにより保護層を設けてラビングするという、複雑なプロセスが必要とされる。
【０００６】
これらの問題を解決する手段として、特許文献３は、基板上に形成した感光性薄膜に偏光または無偏光の放射線を照射することにより液晶配向膜を形成し、次に、この配向膜上で光学的機能をもつ液晶物質を配向させることにより所期の光学特性を有する層を形成し、さらに、この層を固化させて光学的機能層とする方法を開示している。
【０００７】
しかしながら、配向膜を用いるこのような方法では、配向膜の塗布工程、配向処理工程、液晶物質の配向工程など、製造工程が依然として煩雑であり、したがって、製造費が高くなるという問題もある。
【０００８】
視野角改良フィルムは、液晶表示素子に付与してその視野角を改良する目的で用いられるものであり、該液晶表示素子の屈折特性を好適に補償する屈折特性を有する。かかる、視野角改良フィルムに好適な屈折特性としては、その屈折率楕円体が好適な形状および傾斜を有していることが挙げられる。
【０００９】
視野角改良フィルムの製造法としては、従来より、配向処理された高分子薄膜上でディスコティック液晶を傾斜配向させたのち、必要に応じて固化させる方法が知られている（特許文献４参照）。しかし、この方法では、配向膜の塗布工程、配向処理工程、液晶物質の配向工程など、製造工程が煩雑であり、したがって、光学フィルムの製造費が高くなるという問題がある。また、この方法を用いて面内の複数の領域にそれぞれ異なった光学特性を有する光学フィルムを得ようとすれば、レジストにより保護層を設けてラビングするという、さらに複雑なプロセスが必要とされる。
【特許文献１】特開平９−３０４７７８号公報
【特許文献２】特開２００１−１２９９２７号公報
【特許文献３】特願２００２−１７２１１１明細書
【特許文献４】特開平７−９８４１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の第１の目的は、ディスプレイ、光エレクトロニクスなどの光学分野で有用な、偏光制御用の光学フィルムを提供することにある。
【００１１】
本発明の第２の目的は、任意に傾斜した任意形状の屈折率楕円体を有する偏光制御用の光学フィルムを提供することにある。
【００１２】
本発明の第３の目的は、面内の複数の領域にそれぞれ異なった光学特性を有する偏光制御用の光学フィルムを提供することにある。
【００１３】
本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになろう。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、感光性薄膜に偏光または無偏光の放射線を照射して形成される光学的異方性層を有することを特徴とする光学フィルムによって達成される。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、面内均一性の優れた光学フィルムを簡便に得ることができる。それらを液晶セルと組み合わせたときに、効果的な光制御が可能となり、優れた電気光学特性を持つ液晶素子を作製することができる。また、本発明により、任意に傾斜した任意形状の屈折率楕円体を有する光学フィルムが簡便に得られるので、それらを液晶セルと組み合わせたときに、最適な光学補正を行うことができ、優れた視野角特性をもつ液晶素子を作製することができる。
【００１６】
さらに、本発明により、面内の複数の領域に異なる光学特性を有する光学フィルムが簡便に得られるので、それらを用いた電気光学素子の面内の各領域において、異なる光学設計を行うことができる。
【００１７】
従って、本発明の光学フィルムは、種々の装置に有効に使用でき、例えば卓上計算機、腕時計、置時計、係数表示板、ワードプロセッサ、パーソナルコンピューター、液晶テレビなどの表示素子に好適に用いられる。
【００１８】
また、面内の複数の領域に異なる光学特性を有する光学フィルムは、偏光ホログラフィーを用いた光学素子を構成する場合にも有用であり、例えば、光ピックアップなどの装置に好適に用いられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明を詳細に説明する。
【００２０】
感光性重合体
本発明で用いられる感光性薄膜は、有利には、放射線に感応する構造を有する感光性重合体を含有する。ここでいう“感応”とは、放射線の照射を受けると、光励起反応によってエネルギー準位が高まり、次いでエネルギーを放出して安定状態に戻ることを意味する。
【００２１】
このような構造としては、下記式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）のそれぞれで表される共役エノン構造（以下、「特定構造」ともいう）を例示することができる。
−Ｐ1−ＣＲ1＝ＣＲ2−ＣＯ−Ｑ1−  ・・・・・（Ｉ）
Ｐ2−ＣＲ3＝ＣＲ4−ＣＯ−Ｑ2−  ・・・・・（ＩＩ）
−Ｐ3−ＣＲ5＝ＣＲ6−ＣＯ−Ｑ3    ・・・・・（ＩＩＩ）
【００２２】
ここで、Ｐ1、Ｐ3、Ｑ1およびＱ2は、互に独立に、芳香環を有する２価の有機基であり、Ｐ2およびＱ3は、互に独立に、芳香環を有する１価の有機基であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、互に独立に、水素原子またはアルキル基である。
【００２３】
上記式（Ｉ）、（ＩＩ）および（ＩＩＩ）におけるＰ1、Ｐ3、Ｑ1およびＱ2は芳香環を有する２価の有機基であり、またＰ2およびＱ3は芳香環を有する１価の有機基である。Ｐ1、Ｐ2、Ｐ3、Ｑ1、Ｑ2およびＱ3としては、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数６〜２０の、芳香環を有する有機基が好ましい。
【００２４】
芳香環を有する１価の有機基（Ｐ2、Ｑ3）としては、具体的には、フェニル基、４−メトキシフェニル基、４−ペンチルフェニル基、４−オクチルフェニル基、４−フルオロフェニル基、３−メトキシフェニル基、３−ペンチルフェニル基、３−オクチルフェニル基、３−フルオロフェニル基、３，４−ジフルオロフェニル基、３，４，５−トリフルオロフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル基、３−トリフルオロメチルフェニル基、ビフェニル基、４−ペンチルビフェニル基、４−オクチルビフェニル基、４−フルオロビフェニル基、３，４−ジフルオロビフェニル基、３，４，５−トリフルオロビフェニル基、１−ナフチル基、４−オクチル−１−ナフチル基、５−ペンチル−１−ナフチル基、２−ナフチル基、６−オクチル−２−ナフチル基、９−アントリル基、１０−オクチル−９−アントリル基、１０−ペンチル−９−アントリル基を挙げることができる。これらは互いに同一でも異なっていてもよい。
【００２５】
また、芳香環を有する２価の有機基（Ｐ1、Ｐ3、Ｑ1、Ｑ2）としては、具体的には、１，２−フェニレン基、３−フルオロ−１，２−フェニレン基、４−フルオロ−１，２−フェニレン基、３−メトキシ−１，２−フェニレン基、４−メトキシ−１，２−フェニレン基、３−メチル−１，２−フェニレン基、４−メチル−１，２−フェニレン基、１，３−フェニレン基、２−フルオロ−１，３−フェニレン基、４−フルオロ−１，３−フェニレン基、５−フルオロ−１，３−フェニレン基、２−メトキシ−１，３−フェニレン基、４−メトキシ−１，３−フェニレン基、５−メトキシ−１，３−フェニレン基、２−メチル−１，３−フェニレン基、４−メチル−１，３−フェニレン基、５−メチル−１，３−フェニレン基、１，４−フェニレン基、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、２−メトキシ−１，４−フェニレン基、２−メチル−１，４−フェニレン基、４，４’−ビフェニレン基、３，４’−ビフェニレン基、３，３’−ビフェニレン基などが挙げられる。これらは互いに同一でも異なっていてもよい。
【００２６】
また、式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ水素原子またはアルキル基であり、好ましくは水素原子または炭素数１〜６のアルキル基であり、さらに好ましくは水素原子である。これらのアルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、互いに同一でも異なっていてもよい。
【００２７】
本発明で用いられる感光性重合体としては、例えば上記特定構造を主鎖または側鎖に有するものを挙げることができる。得られる光学的異方性が大きいことから、上記特定構造を側鎖に有するものが好ましい。前記感光性重合体の骨格には特に制限はなく、具体的には、（１）ポリアミック酸エステル（２）ポリスチレン誘導体、（３）ポリ（スチレン−ｃｏ−フェニルマレイミド）誘導体、および、（４）ポリ（メタ）アクリレート誘導体を例示することができる。これらのうち、耐熱性の点から、（１）ポリアミック酸エステル（２）ポリスチレン誘導体、および（３）ポリ（スチレン−ｃｏ−フェニルマレイミド）誘導体が好ましい。
【００２８】
前記感光性重合体中の、特定構造を有する繰り返し単位の比率は、全繰返し単位の１０〜１００％が好ましく、５０〜９０％が特に好ましい。
【００２９】
さらに、前記感光性重合体には、下記式（ＩＶ）で表される有機基（以下、「特定メソゲン」ともいう）を導入して光学的異方性を増幅することが好ましい。
【００３０】
−Ｐ4−Ｔ4−Ｑ4−    ・・・・・（ＩＶ）
ここで、Ｐ4およびＱ4は２価の芳香環、複素環または脂環を表しそしてＴ4は単結合または２価の結合基を表す。
【００３１】
かかる２価の芳香環、複素環または脂環（Ｐ4、Ｑ4）としては、具体的には、１，４−フェニレン基、２−フルオロ−１，４−フェニレン基、２−メトキシ−１，４−フェニレン基、２−メチル−１，４−フェニレン基、４，４’−ビフェニレン基、２，６−ナフチリデン基、２，６−アントリリデン基、１，３−シクロブチレン基、１，４−シクロヘキシレン基、１，２，３，４−テトラヒドロ−２，６−ナフチリデン基、１，２，３，４−テトラヒドロ−２，６−ナフチリデン基、１，２，３，４，５，６，７，８，９，１０−デカヒドロ−２，６−ナフチリデン基などが挙げられる。これらは互いに同一でも異なっていてもよい。
【００３２】
Ｔ4で表される２価の結合基としては、具体的には、ケト基、エーテル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、尿素結合、ビニレン基、アセチレン基、アゾ基、アゾキシ基、アゾメチン基、炭素数１〜１０のメチレン鎖、および、前記結合基から選ばれる互いに同じでも異なっていてもよい２個以上の基を連結して得られる結合基を挙げることができる。これらのうち、エステル結合、アミド結合、炭素数２のメチレン鎖であるエチレン基、および、エーテル結合と炭素数２のメチレン鎖の結合基である−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−で表される基が好ましい。
【００３３】
前記特定メソゲンは、前記感光性重合体の主鎖中および／または側鎖中に導入することができる。得られる光学的異方性が大きいことから、側鎖中に導入することが好ましい。前記特定メソゲンが前記感光性重合体の側鎖中に導入される場合、前記特定構造と同一側鎖中で共存していてもよく、また、前記特定構造を含まない側鎖中にあってもよい。また、特定構造と特定メソゲンが共存している側鎖と、特定構造のみを有する側鎖および／または特定メソゲンのみを有する側鎖が組み合わされて存在していてもよい。また、特定構造と特定メソゲンが共存している側鎖にあっては、特定構造と特定メソゲンのいずれが主鎖結合部位に近く位置していてもよい。
【００３４】
さらにまた、特定構造と特定メソゲンが主鎖中または側鎖中で共存している場合においては、特定構造（Ｉ）〜（ＩＩＩ）中の有機基Ｐ1、Ｐ3、Ｑ1、またはＱ2と、特定メソゲン（ＩＶ）中の有機基Ｐ4またはＱ4が、その構造の一部または全部を共有していてもよい。
【００３５】
前記ポリアミック酸エステルは、（イ）下記式（Ｖ）で表されるテトラカルボン酸二無水物と（ロ）下記式（ＶＩ）で表されるジアミン化合物とを重縮合させることにより得られるポリアミック酸と、（ハ）特定構造を有するハロゲン化物、（ニ）特定構造を有するアルコールまたは（ホ）特定構造を有するフェノール類とを反応させることにより得られる。
【００３６】
【化１】
2005215029.tif 000002
【００３７】
ここでＳ5は４価の有機基である。
【００３８】
Ｈ2Ｎ−Ｔ6−ＮＨ2    ・・・・・（ＶＩ）
ここで、Ｔ6は２価の有機基である。
【００３９】
ポリアミック酸エステルの合成に用いられる上記式（Ｖ）で表されるテトラカルボン酸二無水物（イ）としては、例えば、ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジクロロ−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−テトラメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジシクロヘキシルテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、３，５，６−トリカルボキシノルボルナン−２−酢酸二無水物、２，３，４，５−テトラヒドロフランテトラカルボン酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−メチル−５（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−エチル−５（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−７−メチル−５（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−７−エチル−５（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−エチル−５（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５，８−ジメチル−５（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］−フラン−１，３−ジオン、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水物、ビシクロ［２，２，２］−オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、エチレンジアミン四酢酸二無水物、３−オキサビシクロ［３，２，１］オクタン−２，４−ジオン−６−スピロ−３’−テトラヒドロフラン−２’，５’−ジオン、および、下記式（ＶＩＩ）および（ＶＩＩＩ）で表される化合物などの脂肪族および脂環式テトラカルボン酸二無水物；
【００４０】
【化２】
2005215029.tif 000003
【００４１】
【化３】
2005215029.tif 000004
【００４２】
（式中、Ｒ7およびＲ9は、芳香環を有する二価の有機基を示し、Ｒ8およびＲ10は、水素原子またはアルキル基を示し、複数存在するＲ8およびＲ10は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。）
ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジフェニルメタンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ジメチルジフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−フランテトラカルボン酸二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルフィド二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルスルホン二無水物、４，４’−ビス（３，４−ジカルボキシフェノキシ）ジフェニルプロパン二無水物、３，３’，４，４’−パーフルオロイソプロピリデンジフタル酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（フタル酸）フェニルホスフィンオキサイド二無水物、ｐ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ｍ−フェニレン−ビス（トリフェニルフタル酸）二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニルエーテル二無水物、ビス（トリフェニルフタル酸）−４，４’−ジフェニルメタン二無水物、エチレングリコール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、プロピレングリコール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、１，４−ブタンジオール−ビス（アンヒドロトリメリテート、１，６−ヘキサンジオール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、１，８−オクタンジオール−ビス（アンヒドロトリメリテート）、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン−ビス（アンヒドロトリメリテート）、２，３，４，５−ピリジンテトラカルボン酸二無水物、および、２，６−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ピリジン二無水物、下記式（１）〜（１８）で表される化合物等の芳香族および複素環式テトラカルボン酸二無水物を挙げることができる。これらは１種単独でまたは２種以上組み合わせて用いられる。
【００４３】
【化４】
2005215029.tif 000005
【００４４】
【化５】
2005215029.tif 000006
【００４５】
これらのうち、ブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフラル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５，８−ジメチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、ビシクロ［２，２，２］−オクト−７−エン−２，３，５，６−テトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、上記式（ＶＩＩ）で表される化合物のうち下記式（１９）〜（２１）で表される化合物および上記式（ＶＩＩＩ）で表される化合物のうち下記式（２２）で表される化合物が好ましい。また、特に好ましいものとして、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，３−ジメチル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−８−メチル−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−ｃ］フラン−１，３−ジオン、ピロメリット酸二無水物および下記式（１９）で表される化合物を挙げることができる。
【００４６】
【化６】
2005215029.tif 000007
【００４７】
これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用できる。
【００４８】
また、ポリアミック酸エステルの合成に用いられる（ロ）ジアミン化合物としては、例えば、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、４，４’−ジアミノベンズアニリド、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、１，５−ジアミノナフタレン、３，３−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、５−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン、６−アミノ−１−（４’−アミノフェニル）−１，３，３−トリメチルインダン、３，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，３’−ジアミノベンゾフェノン、３，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）−１０−ヒドロアントラセン、２，７−ジアミノフルオレン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、４，４’−メチレン−ビス（２−クロロアニリン）、２，２’，５，５’−テトラクロロ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジクロロ−４，４’−ジアミノ−５，５’−ジメトキシビフェニル、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、１，４，４’−（ｐ−フェニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンイソプロピリデン）ビスアニリン、２，２’−ビス［４−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、４，４’−ジアミノ−２，２’−ビス（トリフルオロメチル）ビフェニル、４，４’−ビス［（４−アミノ−２−トリフルオロメチル）フェノキシ］−オクタフルオロビフェニル、１−ドデシルオキシ−２，４−ジアミノベンゼン、１−テトラデシルオキシ−２，４−ジアミノベンゼン、１−ペンタデシルオキシ−２，４−ジアミノベンゼン、１−ヘキサデシルオキシ−２，４−ジアミノベンゼン、１−オクタデシルオキシ−２，４−ジアミノベンゼン、１−コレステリルオキシ−２，４−ジアミノベンゼン、１−コレスタニルオキシ−２，４−ジアミノベンゼン、１（４，４−ジメチル−コレスタ−２４−エン−３−イルオキシ）−２，４−ジアミノベンゼン、１（４，４−ジメチル−コレスタ−５，２４−ジエン−３−イルオキシ）−２，４−ジアミノベンゼン、ドデカノキシ（３，５−ジアミノベンゾイル）、テトラデシルオキシ（３，５−ジアミノベンゾイル）、ペンタデシルオキシ（３，５−ジアミノベンゾイル）、ヘキサデシルオキシ（３，５−ジアミノベンゾイル）、オクタデシルオキシ（３，５−ジアミノベンゾイル）、コレステリルオキシ（３，５−ジアミノベンゾイル）、コレスタニルオキシ（３，５−ジアミノベンゾイル）、４，４−ジメチル−コレスタ−２４−エン−３−イルオキシ（３，５−ジアミノベンゾイル）、４，４−ジメチル−コレスタ−５，２４−ジエン−３−イルオキシ（３，５−ジアミノベンゾイル）、（２，４−ジアミノフェノキシ）パルミテート、（２，４−ジアミノフェノキシ）ステアレート、（２，４−ジアミノフェノキシ）−４−トリフルオロメチルベンゾエート、および、下記式（２３）〜（２４）で表される化合物などの芳香族ジアミン；
【００４９】
【化７】
2005215029.tif 000008
【００５０】
メタキシリレンジアミン、エチレンジアミン、１，２−プロパンジアミン、１，３−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、ウンデカメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン、４，４−ジアミノヘプタメチレンジアミン、１，２−ジアミノシクロヘキサン、１，３−ジアミノシクロヘキサン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、１，２−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、イソホロンジアミン、テトラヒドロジシクロペンタジエニレンジアミン、ヘキサヒドロ−４，７−メタノインダニレンジメチレンジアミン、トリシクロ［６．２．１．０2,7］−ウンデシレンジメチルジアミン、ビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン、ビス（４−アミノ−３−メチルシクロヘキシル）メタン、ビス（４−アミノ−３，５−ジメチルシクロヘキシル）メタン、ビス（２−アミノエチル）エーテル、ビス（３−アミノプロピル）エーテル、１，２−ビス（２−アミノエトキシ）エタン、１，３−ビス（２−アミノエトキシ）プロパン、１，４−ビス（２−アミノエトキシ）ブタン、１，４−ビス（２−アミノエトキシ）ブタン、１，５−ビス（２−アミノエトキシ）ペンタン、１，６−ビス（２−アミノエトキシ）ヘキサン、１，２−ビス（３−アミノプロポキシ）エタン、１，３−ビス（３−アミノプロポキシ）プロパン、１，４−ビス（３−アミノプロポキシ）ブタン、１，４−ビス（３−アミノプロポキシ）ブタン、１，５−ビス（３−アミノプロポキシ）ペンタン、および、１，６−ビス（３−アミノプロポキシ）ヘキサンなどの脂肪族および脂環式ジアミン；
【００５１】
２，３−ジアミノピリジン、２，６−ジアミノピリジン、３，４−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリミジン、５，６−ジアミノ−２，３−ジシアノピラジン、５，６−ジアミノ−２，４−ジヒドロキシピリミジン、２，４−ジアミノ−６−ジメチルアミノ−１，３，５−トリアジン、１，４−ビス（３−アミノプロピル）ピペラジン、２，４−ジアミノ−６−イソプロポキシ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−メトキシ−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ジアミノ−６−メチル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−１，３，５−トリアジン、４，６−ジアミノ−２−ビニル−ｓ−トリアジン、２，４−ジアミノ−５−フェニルチアゾール、２，６−ジアミノプリン、５，６−ジアミノ−１，３−ジメチルウラシル、３，５−ジアミノ−１，２，４−トリアゾール、６，９−ジアミノ−２−エトキシアクリジンラクテート、３，８−ジアミノ−６−フェニルフェナントリジン、１，４−ジアミノピペラジン、１，４−ビス（２−アミノエチル）ピペラジン、１，４−ビス（３−アミノプロピル）ピペラジン、３，６−ジアミノアクリジン、ビス（４−アミノフェニル）フェニルアミンおよび下記式（ＩＸ）〜（Ｘ）で表される化合物などの、分子内に２つの１級アミノ基および該１級アミノ基以外の窒素原子を有するジアミン；
【００５２】
【化８】
2005215029.tif 000009
【００５３】
（式中、Ｒ11は、ピリジン、ピリミジン、トリアジン、ピペリジンおよびピペラジンから選ばれる窒素原子を含む環構造を有する１価の有機基を示し、Ｘ1は２価の有機基を示す。）
【００５４】
【化９】
2005215029.tif 000010
【００５５】
（式中、Ｘ2は、ピリジン、ピリミジン、トリアジン、ピペリジンおよびピペラジンから選ばれる窒素原子を含む環構造を有する２価の有機基を示し、Ｒ12は２価の有機基を示し、２つのＸ2は、同一でも異なっていてもよい。）
【００５６】
下記式（ＸＩ）で表されるジアミノオルガノシロキサン；
【００５７】
【化１０】
2005215029.tif 000011
【００５８】
（式中、Ｒ13は炭素数１〜１２の炭化水素基を示し、複数存在するＲ13は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、ｑは１〜３の整数であり、ｒは１〜２０の整数である。）
【００５９】
下記式（２５）〜（２６）で表される化合物などを挙げることができる。これらのジアミン化合物は、単独でまたは２種以上組み合わせて用いることができる。
【００６０】
【化１１】
2005215029.tif 000012
【００６１】
（式中、ｙは２〜１２の整数であり、ｚは１〜５の整数である。）
【００６２】
これらのうち、ｐ−フェニレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、１，５−ジアミノナフタレン、２，７−ジアミノフルオレン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオレン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、４，４’−（ｐ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、４，４’−（ｍ−フェニレンジイソプロピリデン）ビスアニリン、１，４−シクロヘキサンジアミン、１，３−ビス（アミノメチル）シクロヘキサン、４，４’−メチレンビス（シクロヘキシルアミン）、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、上記式（２３）〜（２４）で表される化合物、２，６−ジアミノピリジン、３，４−ジアミノピリジン、２，４−ジアミノピリミジン、３，６−ジアミノアクリジン、上記式（ＩＸ）で表される化合物のうち下記式（２７）で表される化合物、上記式（Ｘ）で表される化合物のうち下記式（２８）で表される化合物、および、上記式（ＸＩ）で表される化合物のうち１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサンが好ましい。
【００６３】
【化１２】
2005215029.tif 000013
【００６４】
これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用できる。
【００６５】
また、特定メソゲンを有するジアミン化合物として、例えば、４−（４−トランス−ｎ−へプチルシクロヘキシルフェノキシ）−１，３−ジアミノべンゼン、４−（４−トランス−ぺンチルシクロヘキシルフェノキシ）−１，３−ジアミノべンゼン、４−トランス−ペンチルビシクロヘキシル−３、５−ジアミノベンゾエート、４−〔３−（４−ビフェニルオキシ）プロポキシ〕−１，３−ジアミノベンゼン、４−〔８−（４−ビフェニルオキシ）オクチルオキシ〕−１，３−ジアミノベンゼン、４−〔３−（４−シアノビフェニル−４’−オキシ）プロポキシ〕−１，３−ジアミノベンゼン、４−〔１２−（４−シアノビフェニル−４’−オキシ）ドデシルオキシ〕−１，３−ジアミノベンゼン、４−〔６−（４−メトキシビフェニル−４’−オキシ）ヘキシルオキシ〕−１，３−ジアミノベンゼン、４−〔１２−（４−メトキシビフェニル−４’−オキシ）ドデシルオキシ〕−１，３−ジアミノベンゼン、４−〔３−（４−フルオロビフェニル−４’−オキシ）プロポキシ〕−１，３−ジアミノベンゼン、４−〔３−（４−トリフルオロメトキシビフェニル−４’−オキシ）プロポキシ〕−１，３−ジアミノベンゼン、および、５−〔６−（４−シアノビフェニル−４’−オキシ）ヘキシル〕−３，５−ジアミノベンゾエートを挙げることができる。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用できる。
【００６６】
また、ポリアミック酸エステルの合成に用いられる（ハ）特定構造を有するハロゲン化物としては、具体的には、１−ブロモ−３−（４−カルコニルオキシ）プロパン、１−ブロモ−３−（４’−カルコニルオキシ）プロパン、１−ブロモ−４−（４−カルコニルオキシ）ブタン、１−ブロモ−４−（４’−カルコニルオキシ）ブタン、１−ブロモ−６−（４−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−６−（４’−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−８−（４−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−８−（４’−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−３−（４’−フルオロ−４−カルコニルオキシ）プロパン、１−ブロモ−３−（４−フルオロ−４’−カルコニルオキシ）プロパン、１−ブロモ−４−（４’−フルオロ−４−カルコニルオキシ）ブタン、１−ブロモ−４−（４−フルオロ−４’−カルコニルオキシ）ブタン、１−ブロモ−６−（４’−フルオロ−４−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−６−（４−フルオロ−４’−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−８−（４’−フルオロ−４−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−８−（４−フルオロ−４’−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−３−（４’−メトキシ−４−カルコニルオキシ）プロパン、１−ブロモ−３−（４−メトキシ−４’−カルコニルオキシ）プロパン、１−ブロモ−４−（４’−メトキシ−４−カルコニルオキシ）ブタン、１−ブロモ−４−（４−メトキシ−４’−カルコニルオキシ）ブタン、１−ブロモ−６−（４’−メトキシ−４−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−６−（４−メトキシ−４’−カルコニルオキシ）ヘキサン、などの臭化物、および、前記臭化物の臭素原子をフッ素原子、塩素原子または沃素原子で置き換えた化合物が挙げられる。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用できる。これらのうち、反応性が高く合成が容易であることから、臭化物が好ましく、とりわけ１−ブロモ−６−（４−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−６−（４’−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−８−（４−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−８−（４’−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−６−（４’−メトキシ−４−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−６−（４−メトキシ−４’−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−８−（４’−メトキシ−４−カルコニルオキシ）オクタン、および、１−ブロモ−８−（４−メトキシ−４’−カルコニルオキシ）オクタンが特に好ましい。
【００６７】
また、特定構造と特定メソゲンをともに有するハロゲン化物として、例えば１−ブロモ−６−（４’−フェニル−４−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−６−（４−フェニル−４’−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−８−（４’−フェニル−４−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−８−（４−フェニル−４’−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−６−（４’−（２−フェノキシエトキシ）−４−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−６−（４−（２−フェノキシエトキシ）−４’−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−８−（４’−（２−フェノキシエトキシ）−４−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−８−（４−（２−フェノキシエトキシ）−４’−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−６−（４’−（２−フェニルエチル）−４−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−６−（４−（２−フェニルエチル）−４’−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−８−（４’−（２−フェニルエチル）−４−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−８−（４−（２−フェニルエチル）−４’−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−６−（４’−シクロヘキシル−４−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−６−（４−シクロヘキシル−４’−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−８−（４’−シクロヘキシル−４−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−８−（４−シクロヘキシル−４’−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−６−（４’−（２−（シクロヘキシルオキシ）エトキシ）−４−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−６−（４−（２−（シクロヘキシルオキシ）エトキシ）−４’−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−８−（４’−（２−（シクロヘキシルオキシ）エトキシ）−４−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−８−（４−（２−（シクロヘキシルオキシ）エトキシ）−４’−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−６−（４’−（２−シクロヘキシルエチル）−４−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−６−（４−（２−シクロヘキシルエチル）−４’−カルコニルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−８−（４’−（２−シクロヘキシルエチル）−４−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−８−（４−（２−シクロヘキシルエチル）−４’−カルコニルオキシ）オクタン、１−ブロモ−６−（４−（４−カルコニル）フェノキシ）ヘキサン、１−ブロモ−６−（４−（４’−カルコニル）フェノキシ）ヘキサン、１−ブロモ−８−（４−（４−カルコニル）フェノキシ）オクタン、１−ブロモ−８−（４−（４’−カルコニル）フェノキシ）オクタン、１−ブロモ−６−（４−（４’−メトキシ−４−カルコニル）フェノキシ）ヘキサン、１−ブロモ−６−（４−（４−メトキシ−４’−カルコニル）フェノキシ）ヘキサン、１−ブロモ−８−（４−（４’−メトキシ−４−カルコニル）フェノキシ）オクタン、１−ブロモ−８−（４−（４−メトキシ−４’−カルコニル）フェノキシ）オクタン、１−ブロモ−６−（４−（４−カルコニル）シクロヘキシルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−６−（４−（４’−カルコニル）シクロヘキシルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−８−（４−（４−カルコニル）シクロヘキシルオキシ）オクタン、１−ブロモ−８−（４−（４’−カルコニル）シクロヘキシルオキシ）オクタン、１−ブロモ−６−（４−（４’−メトキシ−４−カルコニル）シクロヘキシルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−６−（４−（４−メトキシ−４’−カルコニル）シクロヘキシルオキシ）ヘキサン、１−ブロモ−８−（４−（４’−メトキシ−４−カルコニル）シクロヘキシルオキシ）オクタン、および、１−ブロモ−８−（４−（４−メトキシ−４’−カルコニル）シクロヘキシルオキシ）オクタンを挙げることができる。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用できる。
【００６８】
（ニ）特定構造を有するアルコールとしては、例えば、４−（４−カルコニル）シクロヘキサノール、４−（４’−カルコニル）シクロヘキサノール、および、前記（ハ）ハロゲン化物のハロゲン原子を水酸基で置き換えた化合物を挙げることができる。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用できる。これらのうち、６−（４−カルコニルオキシ）−１−ヘキサノール、６−（４’−フルオロ−４−カルコニルオキシ）−１−ヘキサノール、８−（４−カルコニルオキシ）−１−オクタノール、および、８−（４’−フルオロ−４−カルコニルオキシ）−１−オクタノールが好ましい。
【００６９】
（ホ）特定構造を有するフェノール類としては、例えば、４−ヒドロキシカルコン、４’−ヒドロキシカルコン、４’−ヒドロキシフルオロ−４−カルコン、４−フルオロ−４’−ヒドロキシカルコン、４−（４−カルコニル）フェノール、４−（４’−カルコニル）フェノールなどが挙げられる。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用できる。
【００７０】
前記ポリアミック酸エステルの合成においては、その性状を改善し、さらに、得られる光学的異方性の大きさを増すために、特定構造を含むハロゲン化物、アルコールまたはフェノール類とともに、（ハ’）特定構造を含まないハロゲン化物、（ニ’）特定構造を含まないアルコールまたは（ホ’）特定構造を含まないフェノール類を用いることができる。
【００７１】
かかる（ハ’）特定構造を含まないハロゲン化物としては、例えば臭化セチル、臭化ステアリル、臭化メチル、臭化エチル、臭化プロピル、塩化セチル、塩化ステアリル、塩化メチル、塩化エチル、塩化プロピル、１，１，１−トリフルオロ−２−ヨードエタン等を挙げることができる。また、特定構造を含まず、特定メソゲンを含むハロゲン化物として、例えば１−ブロモ−３−（４−ビフェニリルオキシ）プロパン、１−ブロモ−３−（４−シクロヘキシルフェノキシ）プロパン、１−ブロモ−４−（４−ビフェニリルオキシ）ブタン、１−ブロモ−４−（４−シクロヘキシルフェノキシ）ブタン、１−ブロモ−６−（４−ビフェニリル）ヘキサン、１−ブロモ−６−（４−シクロヘキシルフェノキシ）ヘキサン、１−ブロモ−８−（４−ビフェニリルオキシ）オクタン、および、１−ブロモ−８−（４−シクロヘキシルフェノキシ）オクタンを挙げることができる。
【００７２】
また、（ニ’）特定構造を含まないアルコールとしては、例えば、前記の（ハ’）、特定構造を含まないハロゲン化物のハロゲン原子を水酸基で置き換えた化合物を挙げることができる。
【００７３】
（ホ’）特定構造を含まないフェノール類としては、例えば、フェノール、４−シクロヘキシルフェノール、ビフェノール、クレゾール、４−セチルオキシフェノール、４−セチルフェノール、４−ステアリルオキシフェノール、４−ステアリルフェノールおよび４−トリフルオロメチルフェノール等を挙げることができる。
【００７４】
これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用できる。
【００７５】
前記ポリアミック酸エステルは、前記（イ）テトラカルボン酸二無水物成分と（ロ）ジアミン成分を重縮合させてポリアミック酸を得て、次いで、必要に応じて触媒の存在下で、（ハ）特定構造を有するハロゲン化物、（ニ）特定構造を有するアルコールまたは（ホ）特定構造を有するフェノール類と反応させることにより得られる。さらに、場合によっては、耐熱性を改善するため、残留するポリアミック酸構造を脱水閉環してイミド構造とすることもできる。
【００７６】
ポリアミック酸と特定構造を有するハロゲン化物を反応する際に用いられる触媒としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムプロポキシド、カリウムプロポキシド、ナトリウムブトキシド、カリウムブトキシド、トリメチルアミン、トリエチルアミンおよびピリジン等の塩基触媒を挙げることができる。
【００７７】
ポリアミック酸と特定構造を有するアルコールまたはフェノール類を反応する際に用いられる触媒としては、例えば、ジシクロヘキシルカルボジイミドおよびクロロギ酸メチル等のような脱水触媒を挙げることができる。これらの脱水触媒は、必要に応じて、ジメチルアミノピリジン等の助触媒と組み合わせて用いることができる。
【００７８】
ポリアミック酸エステル中に残留しているポリアミック酸構造の脱水閉環反応は、ポリアミック酸エステルを加熱する方法により、または、ポリアミック酸エステルを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミド、または、１，３−ジメチルイミダゾリジノンのような非プロトン性有機溶媒に溶解し、この溶液中に無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの脱水剤およびピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミンなどの脱水閉環触媒を添加し、必要に応じて加熱する方法により行うことができる。
【００７９】
さらに、前記ポリスチレン誘導体（２）またはポリ（スチレン−フェニルマレイミド）誘導体（３）は、水酸基で置換されたポリスチレン重合体、または、水酸基で置換されたスチレン−フェニルマレイミド重合体と、（ハ）特定構造を有するハロゲン化物とを、必要に応じて触媒存在下で反応させることにより得られる。
【００８０】
前記の、水酸基で置換されたポリスチレン重合体、および、水酸基で置換されたスチレン−フェニルマレイミド重合体は、ヒドロキシスチレン誘導体および／またはヒドロキシフェニルマレイミド誘導体を、必要に応じてアゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物または過酸化ベンゾイルなどの過酸化物などの触媒存在下で重合し、さらに場合によっては、酸性または塩基性条件下で加水分解することにより得られる。
【００８１】
前記ヒドロキシスチレン誘導体としては、例えば、４−アセトキシスチレン、３−アセトキシスチレン、４−ｔ−ブトキシスチレン、３−ｔ−ブトキシスチレン、および、４−ヒドロキシ−α−メチルスチレンを挙げることができる。また、前記ヒドロキシフェニルマレイミド誘導体としては、４−アセトキシフェニルマレイミド、３−アセトキシフェニルマレイミド、４−ヒドロキシフェニルマレイミド、３−ヒドロキシフェニルマレイミド、４−ｔ−ブトキシフェニルマレイミド、および、３−ｔ−ブトキシフェニルマレイミドを挙げることができる。
【００８２】
また、前記の、水酸基で置換されたポリスチレン重合体、および、ヒドロキシ置換されたスチレン−フェニルマレイミド重合体の合成に際しては、得られるポリスチレン誘導体またはポリ（スチレン−フェニルマレイミド）誘導体の性状を改善し、さらに、得られる光学的異方性の大きさを増すために、（へ）他のラジカル重合性モノマーを、共重合成分として併用することができる。
【００８３】
（へ）他のラジカル重合性モノマーとしては、例えば４−（４−（４−ビフェニリルオキシ）ブトキシ）スチレン、４−（６−（４−ビフェニリルオキシ）ヘキシルオキシ）スチレン、４−（８−（４−ビフェニリルオキシ）オクチルオキシ）スチレン、４−（４−（４−ビフェニリルオキシ）ブトキシ）フェニルマレイミド、４−（６−（４−ビフェニリルオキシ）ヘキシルオキシ）フェニルマレイミド、および、４−（８−（４−ビフェニリルオキシ）オクチルオキシ）フェニルマレイミドなどの特定メソゲンを有するモノマー；
【００８４】
メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレートなどの脂肪族（メタ）アクリレート化合物；
テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエン（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレートなどの脂環式（メタ）アクリレート化合物；
ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレートなどの芳香族（メタ）アクリレート化合物；
【００８５】
エチレン、プロピレン、ブテン、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−トリフルオロメチルスチレン、α−メチルスチレン、ｐ−トリフルオロメチル−α−メチルスチレン、４−（４−トリフルオロメチルベンゾイルオキシ）スチレン、ｐ−セチルオキシスチレン、ｐ−パルミトイルオキシスチレン、４−トリフルオロメチルフェニル−３−（４−ビニルフェニル）プロピオネート、４−セチル−３−（４−ビニルフェニル）プロピオネート、４−ステアリル−３−（４−ビニルフェニル）プロピオネート、塩化ビニル、酢酸ビニル、アクリロニトリル等のビニル化合物；
【００８６】
無水マレイン酸、フェニルマレイミド、４−フルオロフェニルマレイミド、３，５−ジフルオロフェニルマレイミド、４−（トリフルオロメチル）フェニルマレイミド、４−（セチルオキシ）フェニルマレイミド、４−（パルミトイルオキシ）フェニルマレイミド等のマレイン酸誘導体；
ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等のジエン類などが挙げられる。
【００８７】
前記ポリスチレン誘導体またはポリ（スチレン−フェニルマレイミド）誘導体の合成に用いられるハロゲン化物としては、例えば、先に挙げた（ハ）特定構造を有するハロゲン化物と同じハロゲン化合物を挙げることができる。
【００８８】
前記ポリスチレン誘導体またはポリ（スチレン−フェニルマレイミド）誘導体の合成においては、その性状を改善し、さらに、得られる光学的異方性の大きさを増すために、（ハ）特定構造を含むハロゲン化物とともに、特定構造を含まないハロゲン化物を用いることができる。かかる、特定構造を含まないハロゲン化物としては、例えば、先に挙げた（ハ’）特定構造を含まないハロゲン化物と同じハロゲン化合物を挙げることができる。
【００８９】
ヒドロキシ置換されたポリスチレン重合体またはヒドロキシ置換されたスチレン−フェニルマレイミド重合体と、有機ハロゲン化物とを反応する際に用いられる触媒としては、例えば、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシド、ナトリウムプロポキシド、カリウムプロポキシド、ナトリウムブトキシド、カリウムブトキシド、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピリジン等の塩基触媒を挙げることができる。
【００９０】
また、前記ポリスチレン誘導体またはポリ（スチレン−フェニルマレイミド）誘導体は、特定構造を側鎖に有するスチレン誘導体および／または特定構造を側鎖に有するフェニルマレイミド誘導体を、必要に応じてアゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物または過酸化ベンゾイルなどの過酸化物などの触媒存在下で重合することによっても得られる。
【００９１】
前記ポリ（メタ）アクリレート誘導体は、特定構造を有する（メタ）アクリレート化合物を、必要に応じてアゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物または過酸化ベンゾイルなどの過酸化物などの触媒存在下で重合することによって得ることができる。前記（メタ）アクリレート化合物としては、具体的には、特開平９−３３５０９２号公報および特開平１０−３２１６１７号公報で、特定構造を有する（メタ）アクリレート化合物として例示されている化合物を挙げることができる。これらのうち、特開平１０−３２１６１７号公報に例示されている化合物が、得られる光学的異方性が大きい点から好ましい。
【００９２】
また、前記ポリ（メタ）アクリレート誘導体の合成に際しては、得られるポリ（メタ）アクリレート誘導体の性状を改善し、さらに、得られる光学的異方性の大きさを増すために、特定構造を含む（メタ）アクリレート化合物とともに、他のラジカル重合性モノマーを併用することができる。かかる、他のラジカル重合性モノマーとしては、先に挙げた、（へ）他のラジカル重合性モノマーと同じ化合物を例示することができる。
【００９３】
これらの感光性重合体は、単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００９４】
感光性薄膜の添加剤
本発明で用いられる感光性薄膜は、得られる光学的異方性の増幅および安定化のために、前記感光性重合体とともに、種々の低分子または高分子の添加剤を含有することができる。
【００９５】
得られる光学的異方性の増幅に用いられる添加剤としては、例えば、低分子または高分子の液晶化合物を挙げることができる。
【００９６】
前記低分子液晶化合物としては、例えば、ネマチック相、コレステリック相、スメクチック相等を形成する、シッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶等を挙げることができる。
【００９７】
これらのうち、ネマチック相を形成する低分子液晶化合物が好ましい。より具体的には、４−シアノ−４’−ペンチルビフェニルおよび４−シアノ−４’−ヘキシルビフェニル等のビフェニル系液晶を例示することができる。
【００９８】
前記低分子液晶化合物は、ラジカル重合性を有する液晶モノマーであってもよい。かかる液晶モノマーとしては、具体的には、下記式（２９）〜（３２）で表される構造を有するモノアクリレート、
【００９９】
【化１３】
2005215029.tif 000014
【０１００】
下記式（３３）〜（３７）で表される構造を有するジアクリレート、
【０１０１】
【化１４】
2005215029.tif 000015
【０１０２】
下記式（３８）〜（４０）で表される構造を有するトリアクリレート、
【０１０３】
【化１５】
2005215029.tif 000016
【０１０４】
を挙げることができる。
【０１０５】
これらの液晶モノマーは、単独で、または組み合わせて用いることができる。得られる光学的機能層の耐熱性、透明性の点から、モノアクリレートとジアクリレートまたはトリアクリレートを組み合わせて用いるのが好ましい。
【０１０６】
また、前記の液晶モノマーを感光性薄膜に含有させる場合には、放射線照射工程での重合反応を促進する目的で、ベンゾインなどの光ラジカル開始剤を併用することが好ましい。
【０１０７】
前記高分子液晶化合物としては、各種の主鎖型および側鎖型高分子液晶を挙げることができ、より具体的には、下記式（４１）〜（４５）で表される高分子化合物を挙げることができる。
【０１０８】
【化１６】
2005215029.tif 000017
【０１０９】
本発明において用いられる感光性薄膜は、得られる光学的異方性の安定化のために、熱硬化性の架橋剤を含有することもできる。熱硬化架橋剤としては、多官能エポキシ含有化合物が有効であり、具体的には、エチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、２，２−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，３，５，６−テトラグリシジル−２，４−ヘキサンジオール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、および、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，−テトラグリシジル−４、４’−ジアミノジフェニルメタン等を挙げることができる。
【０１１０】
また、前記熱硬化性架橋剤は、側鎖に熱硬化性基を有する高分子化合物であってもよい。かかる高分子化合物としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、アクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテルなどのグリシジル基含有ビニルモノマーのラジカル重合体を挙げることができる。これらのモノマーは、単独であるいは組み合わせて用いられる。
【０１１１】
前記ラジカル重合体には、本発明の効果を損なわない程度に他のラジカル重合性モノマーを併用することができる。かかる、他のラジカル重合性モノマーとしては、先に挙げた、（へ）他のラジカル重合性モノマーを例示することができる。これらのうち、スチレン、ｐ−メチルスチレン、α−メチルスチレン、が好ましい。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用できる。
【０１１２】
さらに、側鎖に熱硬化性基を有する高分子化合物の別の例として、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等の下記式（ｉ）で表されるエポキシ樹脂；フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂等の下記式（ｉｉ）で表されるようなエポキシ樹脂；多官能型エポキシ樹脂等の下記式（ｉｉｉ）で表されるようなエポキシ樹脂を挙げることができる。
【０１１３】
【化１７】
2005215029.tif 000018
【０１１４】
（式中、Ｘはメチレン基、炭素数２〜６のアルキレン基、炭素数２〜６のフルオロアルキレン基または脂環式骨格を有する２価の有機基であり、Ｒは炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｙはｐ価の有機基であり、ｍは０〜４の整数であり、ｍ’は０〜３の整数であり、ｎおよびｐは２〜２０の数である。）
【０１１５】
これらは市販品として入手できる。例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂としては、エピコート８２８、同１００１、同１００２、同１００３、同１００４、同１００７、同１００９、同１０１０（以上、油化シェルエポキシ（株）製）等を、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂としては、エピコート８０７、同８３４（以上、油化シェルエポキシ（株）製）等を、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、エピコート１５２、同１５４、同１５７Ｈ６５（以上、油化シェルエポキシ（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０２（以上、日本化薬（株）製）等を、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂としては、ＥＯＣＮ−１０２、ＥＯＣＮ−１０３Ｓ、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＥＯＣＮ−１０２０、ＥＯＣＮ−１０２５、ＥＯＣＮ−１０２７（以上、日本化薬（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（油化シェルエポキシ（株）製）等を、その他、環式脂肪族エポキシ樹脂として、アラルダイトＣＹ１７５、同ＣＹ１７７、同ＣＹ１７９（以上、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）、ＥＲＬ−４２３４、ＥＲＬ−４２９９、ＥＲＬ−４２２１、ＥＲＬ−４２０６（以上、Ｕ．Ｃ．Ｂ社製）、ショーダイン５０９（昭和電工（株）製）、アラルダイトＣＹ−１８２、同ＣＹ−１９２、同ＣＹ−１８４（以上、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製）、エピクロン２００、同４００（以上、大日本インキ工業（株）製）、エピコート８７１、同８７２、ＥＰ１０３２Ｈ６０（以上、油化シェルエポキシ（株）製）、ＥＤ−５６６１、ＥＤ−５６６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）等を、脂肪族ポリグリシジルエーテルとして、エピコート１９０Ｐ、同１９１Ｐ（以上、油化シェルエポキシ（株）製）エポライト１００ＭＦ（共栄社化学（株）製）、エピオールＴＭＰ（日本油脂（株）製）等を挙げることができる。
【０１１６】
さらに、前述の多官能エポキシ含有化合物を使用する際、架橋反応を効率良く起こす目的で、１−ベンジル−２−メチルイミダゾールなどの塩基触媒を添加することができる。
【０１１７】
また、本発明で用いられる光配向膜は、基板との接着性を改善する目的で、官能性シラン含有化合物を含有することができる。官能性シラン含有化合物としては、例えば、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１０−トリメトキシイシリル−１，４，７−トリアザデカン、１０−トリエトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、９−トリメトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、９−トリエトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリエトキシシランなどを挙げることができ、さらに特開昭６３ー２９１９２２号公報記載のテトラカルボン酸二無水物とアミノ基含有シラン化合物との反応物などを挙げることができる。
【０１１８】
基板
本発明の光学フィルムの作製に際して用いられる基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラス等のガラス、酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリサルホン、ポリカーボネート、ポリアリレートの如き樹脂フィルムを挙げることができる。前記基板は、光学フィルムの保護層として用いられる場合には、透明、かつ、複屈折の小さなものであることが好ましい。
【０１１９】
感光性薄膜
本発明で用いられる感光性薄膜は、例えば次に示す方法により有利に作製される。
【０１２０】
まず、前記感光性重合体、および、必要に応じて、前記添加剤を溶媒に溶解し、感光性ワニスを調製する。この際用いられる溶剤としては、該重合体を溶解し得る有機溶剤であれば特に制限はない。このような溶媒としては、例えばＮ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、１，３−ジメチルイミダゾリジノン、ヘキサメチルホスホルトリアミドなどの非プロトン系極性溶媒；ｍ−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノールなどのフェノール系溶媒；クロロベンゼン、ジクロロエタン、テトラクロロエタンのようなハロゲン化溶媒；シクロヘキサノンのようなケトン系溶媒を例示することができる。これらは、単独でまたは２種以上組み合わせて使用できる。なお、前記溶媒には、用いられる重合体の貧溶媒を、重合体が析出しない範囲で併用することができる。
【０１２１】
次に、前記感光性ワニスを、ロールコーター法、スピンナー法、印刷法等により前記基板上に塗布し、４０〜２００℃の温度で加熱して塗膜を形成させる。塗膜の膜厚は、固形分として、好ましくは０．１〜１００μｍ、より好ましくは１〜１０μｍである。感光性ワニスの塗布に際しては、基板と塗膜との接着性をさらに良好にするために、基板上に、予め官能性シラン含有化合物、チタネート等を塗布することもできる。
【０１２２】
光学的機能層
次いで、前記塗膜に直線偏光ないしは部分偏光された放射線、または、無偏光の放射線を照射し、場合によってはさらに１５０〜２５０℃の温度で加熱処理を行い、光学的異方性を付与して、光学的機能層とする。放射線としては、１５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長を有する紫外線および可視光線を用いることができる。３２０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長を有する紫外線が好ましい。また、得られる光学的異方性を改善するために、基板を５０〜２５０℃に加熱しつつ、照射を行ってもよい。また、前記放射線の照射は、基板面に垂直の方向から行っても、斜め方向から行ってもよく、また、これらを組み合わせて行ってもよい。
【０１２３】
本発明の光学フィルムに付与される屈折特性は、前記の放射線照射工程により制御される。前記薄膜に直線偏光された放射線を照射した場合、得られる光学的機能層には、放射線の電気ベクトルを回転軸とする扁長な屈折率楕円体が形成される。一方、前記薄膜に無偏光の放射線を照射した場合、屈折率楕円体は、放射線の光軸を回転軸とする扁平な形状となる。さらに、部分偏光された放射線を用いた場合には、偏光度に応じ、直線偏光と無偏光の場合の中間的な結果を与える。
【０１２４】
そこで、放射線照射に際して、電気ベクトルの方向、光軸の方向、および／または，偏光度の異なる放射線を必要に応じて組み合わせてもちいることにより、各種の光学フィルムに好適な、任意に傾斜した任意形状の屈折率楕円体を有する光学的異方層を得ることができる。
【０１２５】
また、前記放射線照射に際しては、面内の異なる領域に異なる光学特性を有する光学部材を作製する目的で、偏光状態、光軸の方向、およびエネルギーの異なった放射線を、面内の各領域に照射することができる。照射される放射線の偏光状態、光軸の方向、およびエネルギーを面内で変化させる方法としては、フォトマスクを介して照射を行う方法、必要に応じて光強度、入射角等を変化させつつ、塗膜を光線により掃引する方法、などを挙げることができる。これらの方法は、単独で、または、組み合わせて用いることができる。さらに、これらの方法の１つないしは両方と、基板全面への一括照射を組み合わせて行ってもよい。特に好ましい方法は、フォトマスクを介しての照射により基板の一部に第一の配向性を付与した後、基板全面への露光により残部へ第二の配向性を付与することである。
【０１２６】
前記光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマーレーザー等が使用できる。前記の好ましい波長領域の紫外線は、フィルター、回折格子等を前記光源と併用する手段等により得ることができるが、簡便には、偏光板としてパイレックス（登録商標）ガラス製偏光板など３２０ｎｍより短い波長の紫外線を透過しないものを、前記光源とともに用いてもよい。
【０１２７】
光学フィルム
次に、前記光学的機能層に必要に応じて適当な保護層を付加し、本発明の光学フィルムを得ることができる。この際、光学的機能層の作製時に用いられた基板は、剥離するなどして除去してもよく、また、それ自体を光学的機能層の保護層として利用してもよい。
【０１２８】
前記の、付加される保護層としては、例えば、酢酸セルロース、ポリカーボネート、ポリサルホン、ポリアリレートのような樹脂層を挙げることができる。これらの保護層は、必要に応じ、紫外線吸収剤、可塑剤、酸化防止剤等を含有していてもよい。また、これらの保護層は、透明、かつ、複屈折の小さなものであることが好ましい。
【０１２９】
作用
本発明によれば、光学特性の面内均一性の高い、偏光制御用の光学フィルムを単純な工程で作製して提供することができる。さらに、本発明によれば、光学的機能層を形成する段階で、面内の異なる領域に偏光状態、光軸の方向、またはエネルギーの異なる放射線を照射することにより、面内の複数の領域にそれぞれ異なった光学特性を有する光学フィルムを作製して提供することができる。さらに、本発明によれば、光学的機能層の形成に際して、電気ベクトルの方向、光軸の方向、および／または，偏光度の異なる放射線を組み合わせて用いることにより、各種の光学フィルムに好適な屈折率楕円体を有する光学的異方層を、任意に得ることができる。
【実施例】
【０１３０】
以下、本発明を実施例により、さらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。
【０１３１】
合成例１
水酸基で置換されたスチレン−フェニルマレイミド重合体の合成
４−アセトキシスチレン０．０５モル（８．１ｇ）、Ｎ−（４−アセトキシフェニル）マレイミド０．０５モル（１１．６ｇ）、およびα，α’−アゾビスイソブチロニトリル０．１ｇを、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド８０ｍｌに溶解させ、窒素雰囲気下、８０℃で８時間反応させた。次いで、反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。
【０１３２】
この反応生成物をメタノールで洗浄した後、４０ｍｌの濃塩酸を含む４００ｍｌのエタノール中で４時間加熱還流した。得られた粘凋な溶液を大過剰の水中に注ぎ、反応生成物を沈殿させた。この沈殿を、水で洗浄した後、減圧下４０℃で１５時間乾燥させて、水酸基で置換されたスチレン−フェニルマレイミド重合体（以下、「重合体１ａ」という）  １３．４ｇを得た。
【０１３３】
特定構造を有するポリ（スチレン−フェニルマレイミド）誘導体の合成
重合体１ａ  ３．１ｇに、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド８０ｍｌ、１−（４−カルコニルオキシ）−６−ブロモヘキサン９．７ｇ、炭酸カリウム５．６ｇ、およびヨウ化カリウム０．２ｇを加え、窒素雰囲気下、８５℃で１２時間反応させた。
【０１３４】
次いで、反応混合物を大過剰の水中に注ぎ、反応生成物を沈殿させた。この反応生成物を水およびエタノールで順次洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥させて、特定構造を有するポリ（スチレン−フェニルマレイミド）誘導体（以下、「重合体１ｂ」という）７．０ｇを得た。
【０１３５】
合成例２
ポリアミック酸の重合
２，３，５−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物０．１モル（２２．４ｇ）とｐ−フェニレンジアミン０．１モル（１０．８ｇ）をＮ−メチル−２−ピロリドン３００ｇに溶解させ、６０℃で６時間反応させた。
【０１３６】
次いで、反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。この反応性生物をメタノールで洗浄し、減圧下４０℃で１５時間乾燥させて、ポリアミック酸（以下、「重合体２ａ」という）２７．４ｇを得た。
【０１３７】
特定構造を有するポリアミック酸エステルの合成
重合体２ａ  １６．６ｇにＮ−メチル−２−ピロリドン３５０ｇ、１−ブロモ−６−（４−カルコニルオキシ）ヘキサン３８．７ｇおよび炭酸カリウム１３．８ｇを添加し、１２０℃で４時間反応させた。
【０１３８】
次いで、反応混合液を水中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。得られた沈殿物を水で洗浄し減圧下で１５時間乾燥させて、ポリアミック酸エステル（以下、「重合体２ｂ」という）３５．４ｇを得た。
【０１３９】
合成例３
特定構造を有するポリメタクリレート誘導体の合成
４−（２−メタクリロイルオキシエチル）カルコンカルボキシラート１８．２ｇ、４−（２−（メタクリロイルオキシ）エトキシ）ビフェニル１４．１ｇ、およびアゾビスイソブチロニトリル０．５ｇをテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解し、窒素雰囲気下で１０時間加熱還流した。粘凋な反応混合物をメタノール中に投入しポリマーを沈殿、乾燥させて、ポリメタクリレート（以下、「重合体３ｂ」という）３２ｇを得た。
【０１４０】
比較合成例
イミド化反応
重合体２ａ  ２０．０ｇにＮ−メチル−２−ピロリドン３８０ｇ、ピリジン９．５ｇおよび無水酢酸１２．３ｇを添加し、１２０℃で４時間イミド化反応をさせた。
【０１４１】
次いで、反応混合液を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。この反応性生物を、メタノールで洗浄し減圧下で１５時間乾燥させて、ポリイミド（以下、「重合体Ａｂ」という）１５．３ｇを得た。
【０１４２】
実施例１
位相差板の作成
合成例１で得られた重合体１ｂをγ−ブチロラクトンに溶解させて、固形分濃度１０重量％の溶液とし、この溶液を孔径１μｍのフィルターで濾過し、液晶配向剤溶液を調製した。この溶液を、パイレックス（登録商標）ガラス基板の上に膜厚が７．５μｍになるようにスピンナーを用いて塗布し、１８０℃で１時間乾燥し薄膜を形成した。次に、ランテクニカルサービス（株）製紫外線偏光露光装置ＬＰＵ−２０００Ｓを用いて、３６５ｎｍの波長を主とする直線偏光した紫外線１０Ｊ／ｃｍ2を法線方向から薄膜に照射して光学的異方性を付与し、位相差板とした。
【０１４３】
得られた位相差板の遅行軸の方位は照射された紫外線の偏光方向と同一の方向であり、波長６３３ｎｍでのリタデーションは０．３１７μｍであった。さらに、遅行軸ベクトルおよびリタデーションは、面内で均一であった。
【０１４４】
実施例２〜３
位相差板の作製
合成例１で得られた重合体１ｂに代えて合成例２〜３で得られた重合体２ｂ〜３ｂを用い、感光性薄膜の厚さを表１に示すとおりとしたほかは、実施例１と同様にして、位相差板の作成を試みた。得られた位相差板の遅行軸の方位は、いずれの実施例においても、照射された紫外線の偏光方向と同一の方向であった。得られたリタデーションを表１に示す。いずれの実施例においても、遅行軸ベクトルおよびリタデーションは、位相差板の面内で均一であった。
【０１４５】
【表１】
2005215029.tif 000019
【０１４６】
比較例
位相差板の作製
合成例１で得られた重合体１ｂに代えて比較合成例で得られた重合体Ａｂを用いたほかは実施例１と同様にして、位相差板の作成を試みた。得られた光学フィルムは有意な光学的異方性を示さず、位相差板としての機能を持たなかった。