(57)【要約】【課題】シート体が損傷することなく通過可能で、使用する液量を削減でき、小型のシール装置及びこれを用いたシールド装置装置とウエット処理装置の提供。【解決手段】内部に空間部２ａが設けられた筐体状の構造体２を有し、構造体２に設けられた導入部４と導出部５にそれぞれシール装置６が備えられて構造体２の空間部２ａと外部の気体が遮断可能な構成とされ、空間部２ａに一対のウエット処理用ノズル４１、４１が設けられたウエット処理装置３１。シール装置６はシート体３が通過可能なスリット状開口部７が形成された本体部２ｂを有し、開口部７に液体８が充填されて本体部２ｂの一方の側と他方の側の気体が遮断可能な構成とされ、液体８の圧力が制御されることで開口部７から液体８が漏れない構成とされた。【選択図】  図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート体が通過可能なスリット状開口部が形成された本体部を有し、前記スリット状開口部に液体が充填されて前記本体部の一方の側と他方の側の気体が遮断可能な構成とされ、前記液体の圧力が制御されることで前記スリット状開口部から前記液体が漏れない構成とされたことを特徴とするシール装置。
【請求項２】
前記スリット状開口部に、前記液体を供給する液供給部と前記液体を排出する液排出部が設けられたことを特徴とする請求項１記載のシール装置。
【請求項３】
前記スリット状開口部に、供給する前記液体の圧力を制御するための圧力制御手段が設けられたことを特徴とする請求項１に記載のシール装置。
【請求項４】
内部に空間部が設けられた筐体状の構造体を有し、該構造体にシート体を前記空間部に導入するための導入部と前記空間部に導入されたシート体を外部に導出するための導出部とが設けられ、前記導入部と導出部にそれぞれ前記請求項１乃至３のいずれか一項に記載のシール装置が備えられて前記構造体の空間部と外部の気体が遮断可能な構成とされたことを特徴とするシールド装置。
【請求項５】
請求項４に記載のシールド装置が備えられ、前記構造体の空間部に、前記シート体にウエット処理を施すウエット処理手段が設けられたことを特徴とするウエット処理装置。
【請求項６】
前記ウエット処理手段は、前記空間部内に導入されたシート体に対向する対向面を有する処理部と、該処理部の一方に隣接して設けられ、前記シート体と前記対向面との間の隙間にウエット処理液を導入する処理液導入部と、前記処理部の他方に設けられ、前記隙間からのウエット処理液を回収する処理液回収部とからなるウエット処理用ノズルが備えられたことを特徴とする請求項５記載のウエット処理装置。
【請求項７】
前記ウエット処理が有機溶剤処理であることを特徴とする請求項５又は６に記載のウエット処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、シール装置及びこれを用いたシールド装置とウエット処理装置に係わり、特に、ガラス基板、フィルム等のシート体に外部からの気体の侵入が遮断された空間部内で洗浄等のウエット処理等に用いて好適な技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
金属帯材等のシート状被洗浄物を有機溶剤を用いて脱脂洗浄する工程に用いられる洗浄装置の一種として洗浄室の出入口に液シール構造部（シール装置）を設けたタイプのものが知られている。
図７はこのようなタイプの従来の洗浄装置の例を示す概略構成図である（例えば、特許文献１参照。）。
従来の洗浄装置は、被洗浄物１０１を連続的に有機溶剤で洗浄する洗浄室１０２と、この洗浄室１０２の被洗浄物１０１の出入口に設けられた液貯留槽１０３と、液貯留槽１０３の下方に設けられた液受容器１０６と、液貯留槽１０３の上下に設けられた遮断壁１０７、１０８と、ポンプ１０９が備えられている。液貯溜槽１０３内には液１０５が上部開口部まで満たされている。このような構成により洗浄室１０２の内部と外部１０４の気体が液貯留槽１０３により遮断されている。
【０００３】
遮断壁１０７の下端は液貯溜槽１０３内の上部に配置され、液１０５中に浸漬された状態とされている。また、遮断壁１０８の上端は液貯溜槽１０３の底面に接続され、下端は液受容器１０６に満たされた液１０５中に浸漬した状態とされている。このような構成により液貯溜槽１０３の上方および下方においても洗浄室１０２の内部と外部１０４は気体が連通しないようになっている。
液貯留槽１０３の洗浄室１０２の内側および外側にはそれぞれ被洗浄物１０１の通過のために開口部１０３ａ、１０３ｂが設けられている。
液貯溜槽１０３に満たされている液１０５は上部開口部や開口部１０３ａ、１０３ｂから流出して液受容器１０６に貯まるようになっている。液受容器１０６に貯まった液１０５は、ポンプ１０９によって液貯溜槽１０３に送液されるようになっている。
上記のような構成の洗浄装置を用いて被洗浄物１０１を有機溶剤で洗浄するには、被洗浄物１０１を液貯溜槽１０３の開口部１０３ａ、液１０５、開口部１０３ｂの順に通過することによって洗浄室１０２に搬送し、洗浄室１０２内で有機溶剤により洗浄されるようになっている。
【０００４】
【特許文献１】
特開平７−６２５８１号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら従来の洗浄装置においては、液貯溜槽１０３に満たされている液１０５は洗浄処理中は上部開口部や開口部１０３ａ、１０３ｂから常時流出するようになっているため、液シール構造部に用いられる液量が多くなってしまう。また、従来の洗浄装置では上記開口部から流出した液１０５を受け取るための液受容器１０６や、液貯溜槽１０３の上下の遮断壁１０７、１０８が設けられているために、洗浄装置が大型なものとなってしまうという問題があった。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、ガラス基板、フィルム、金属帯材等の比較的厚みが薄いシート体が損傷することなく通過可能で、しかも使用する液量を削減でき、小型化されたシール装置を提供することを課題の一つとする。
また、上記のようなシール装置を用いることにより、シールド装置内の空間部と外部の気体が遮断され、上記空間部内で上記シート体が損傷することなく、しかも汚染されることなく種々の処理が可能で、小型化されたシールド装置を提供することを課題の一つとする。
また、上記のようなシールド装置を用いることにより、シールド装置内の空間部と外部の気体が遮断され、上記空間部内で上記シート体が損傷することなく、しかも汚染されることなく、洗浄、エッチング、現像、剥離等のウエット処理が可能で、小型化されたウエット処理装置を提供することを課題の一つとする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために本発明のシール装置は、シート体が通過可能なスリット状開口部が形成された本体部を有し、上記スリット状開口部に液体が充填されて上記本体部の一方の側と他方の側の気体が遮断可能な構成とされ、上記液体の圧力が制御されることで上記スリット状開口部から上記液体が漏れない構成とされたことを特徴とする。
本発明のシール装置によれば、上記本体部にシート体が通過可能なスリット状開口部が設けられたことにより、ガラス基板、フィルム、金属帯材等の比較的厚みが薄いシート体を傷等の損傷が生じることなく通過させることが可能である。
また、上記スリット状開口部に充填された液体は圧力が制御されることで上記開口部から漏れないようになっているので、従来の液シール構造（シール装置）のように液貯溜槽に形成した開口部から液体を常時流出させ、この液体を液受容器で受け取り、液受容器に貯まった液体をポンプよって液貯溜槽に送液できるような構成としたものに比べて使用する液量を大幅に削減でき、また、上記ような液受容器やポンプを設けなくて済むので、小型化できる。
上記スリット状開口部は幅（高さ方向の寸法あるいは重力と平行する方向）が制御されることで、上記スリット状開口部から上記液体が漏れないように圧力が制御することができる。
上記本体部としては、板状体、箱状体、中空容器のいずれであってもよい。
【０００８】
また、本発明のシール装置において、上記スリット状開口部に、上記液体を供給する液供給部と上記液体を排出する液排出部が設けられていてもよい。
このシール装置によれば、上記スリット状開口部に液供給部が設けられたことにより、上記スリット状開口部に新鮮な液体を供給でき、また、上記スリット状開口部に充填された液体量が乾燥等によって減った場合に追加供給し易い。また、上記スリット状開口部に上記液排出部が設けられたことにより、上記スリット状開口部に充填された液体が汚染された場合や充填する液体の種類を変更する場合などにおいて上記液体を回収することができる。
【０００９】
また、本発明のシール装置において、上記スリット状開口部に、供給する上記液体の圧力を制御するための圧力制御手段が設けられていてもよい。
かかる構成のシール装置によれば、上記スリット状開口部に新鮮な液体を供給でき、しかも上記スリット状開口部に充填する液体の圧力の制御が容易で、上記スリット開口部からの液漏れの防止効果も大きい。
【００１０】
上記の課題を解決するために本発明のシールド装置は、内部に空間部が設けられた筐体状の構造体を有し、該構造体にシート体を上記空間部に導入するための導入部と上記空間部に導入されたシート体を外部に導出するための導出部とが設けられ、上記導入部と導出部にそれぞれ上記のいずれかの構成の本発明のシール装置が備えられて上記構造体の空間部と外部の気体が遮断可能な構成とされたことを特徴とする。
本発明のシールド装置によれば、上記筐体状の構造体に設けられた上記導入部と導出部にそれぞれ上記のいずれかの構成の本発明のシール装置が備えられたことにより、シールド装置内（筐体状の構造体内）の空間部と外部の気体が遮断されているので、上記空間部内で上記シート体に傷等の損傷を生じることなく、しかも汚染されることなく種々の処理が可能である。また、小型化された本発明のシール装置が備えられたことにより、小型化されたシールド装置を提供できる。
【００１１】
上記の課題を解決するために本発明のウエット処理装置は、上記の構成の本発明のシールド装置が備えられ、上記構造体の空間部に、上記シート体にウエット処理を施すウエット処理手段が設けられたことを特徴とする。
かかる構成の本発明のウエット処理装置によれば、シールド装置内の空間部と外部の気体が遮断されているので、上記空間部内で上記シート体に傷等の損傷を生じることなく、しかも汚染されることなく、洗浄、エッチング、現像、剥離等のウエット処理が可能である。また、小型化された本発明のシールド装置が備えらたことにより、小型化されたウエット処理装置を提供できる。
【００１２】
また、上記構成の本発明のウエット処理装置において、上記ウエット処理手段は、上記空間部内に導入されたシート体に対向する対向面を有する処理部と、該処理部の一方に隣接して設けられ、上記シート体と上記対向面との間の隙間にウエット処理液を導入する処理液導入部と、上記処理部の他方に設けられ、上記隙間からのウエット処理液を回収する処理液回収部とからなるウエット処理用ノズルが備えられたものであってもよい。
このウエット処理装置では、上記構造体の空間部に上記のような構成のウエット処理用ノズルが備えられているので、上記処理液導入部からウエット処理液を上記シート体表面に供給したら、そのウエット処理液を供給した部分以外のシート体表面にウエット処理液を接触させることなく、上記処理液回収部から除去物（シート体から除去したもの）等を含んだウエット処理液を外部に排出できるので、効率良くウエット処理ができる。
また、上記処理液導入部から供給されるウエット処理液の圧力（上記シート体と上記対向面との間の隙間に供給するウエット処理液の圧力）に対して処理液回収部から排出されるウエット処理液の圧力（処理液回収部の吸引力）を制御することでウエット処理液をウエット処理の系外に漏らすことがなく、排出することができるので、少ない処理液で充分なウエット処理ができる。
また、上記のいずれかの構成の本発明のウエット処理装置において、上記ウエット処理が有機溶剤処理であってもよい。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
［第１の実施の形態］
図１は、本発明に係わるシール装置（液シール構造部と呼ぶこともある）が備えられた第１の実施形態のシールド装置の概略構成を示す斜視図である。図２は、図１のシールド装置のＩＩ−ＩＩ線断面図である。なお、図１においてはノズル９（液供給部）を省略して図示している。
第１の実施形態のシールド装置１は、内部に空間部２ａが設けられた筐体状の構造体２を有し、該構造体２の一方の側にシート体３を空間部２ａに導入するための導入部４が設けられ、他方の側に空間部２ａに導入されたシート体３を外部に導出するための導出部５とが設けられ、導入部４と導出部５にそれぞれ液シール構造部６（シール装置）が備えられて構造体２の空間部２ａと外部の気体が遮断可能な構成とされたものである。このシールド装置１は、構造体２の空間部２ａにシート体３を挿通し、空間部２ａでシート体３に種々の処理を施すために用いられるものである。
【００１４】
構造体２は、略直方体状のものである。この構造体２は、図１の二点鎖線で示したように上側と下側に分割可能なものであってもよい。
シート体３は、ガラス基板、樹脂フィルム、金属帯材等の比較的厚みが薄いものが用いられる。
【００１５】
各液シール構造部６は、構造体２の対向する一対の側板２ｂ、２ｂのうち一方の側板（本体部）２ｂと、該側板２ｂに形成され、シート体３が通過可能なスリット状開口部７と、このスリット状開口部７に充填された液体８を有し、上記側板２ｂの内側と外側（一方の側と他方の側）の気体が遮断可能な構成とされ、さらに液体７の圧力が制御されることでスリット状開口部７から液体８が漏れない構成とされたものである。
上記スリット状開口部７に充填される液体８としては、水、純水、有機溶媒等の各種の液体が用いることができるが、特に、水を用いる場合は低コストとすることができる点で好ましく、純水を用いる場合はスリット状開口部７を通過するシート体３を汚染しない点で好ましい。
スリット状開口部７は幅Ｗ（高さ方向の寸法あるいは重力と平行する方向）が制御されることで、このスリット状開口部７から液体８が漏れないように圧力が制御されている。上記幅Ｗは、８ｍｍ未満とされることが、スリット状開口部７に充填する液体８の圧力の制御が容易で、液体８が表面張力によりスリット状開口部７内に保持され、液漏れを防止できる点で好ましい。
【００１６】
構造体２の空間部２ａの圧力Ｐ１は、構造体外部の圧力Ｐ０より高くなっていることが、構造体２の内側への液漏れを極めて少なくできる点で好ましい。
構造体２の接液面は液体（処理液）７に親和性のある（親液性）材料から構成されていることが好ましく、それ以外の部分は液体（処理液）７に対して親和性の小さい（疎液性）材料から構成されていてもよく、具体的にはスリット状開口部７の壁面を親液性材料から構成するか、あるいはスリット状開口部７の壁面に新液性材料膜が被覆されていることが好ましく、スリット状開口部７の壁面表面以外の部分は疎液性材料から構成されていてもよい。
上記親液性材料としては、処理液が水溶液の場合にはアルミナ、シリコン酸化物等のセラミックス、表面に親水基を持たせる親水処理を行ったプラスティック、ＴｉＯ２  のような金属酸化物、親水処理したステンレススチール等の金属が用いられる。上記の場合の疎液性材料としては、四フッ化エチレン樹脂、シリコーン樹脂、ポリエチレン樹脂、四フッ化エチレン−パーフロロアルキルビニルエーテル共重合樹脂等が用いられる。
【００１７】
また、液体８の種類によっては構造体２の接液面から液体８に構造体材料が溶出することがあるため、それを防止するために上記接液面の最表面がクロム酸化物のみからなる不動態膜面のステンレス、あるいは酸化アルミニウムとクロム酸化物の混合膜を表面に備えたステンレス、あるいは石英から構成することが好ましい。
【００１８】
また、図２に示すように各スリット状開口部７の近傍には、該開口部７に液体８を供給するノズル９（液供給部）が設けられていることが、スリット状開口部７に新鮮な液体８を供給でき、また、スリット状開口部７に充填された液体量が乾燥等によって減った場合に追加供給し易い点で好ましい。
【００１９】
上記構造体２には、空間部２ａの圧力Ｐ１を測定する圧力測定手段として圧力測定装置（図示略）が設けられている。また、構造体２には、空間部２ａに圧力調整用ガスを供給する圧力調整用ガス供給手段（図示略）と、空間部２ａに供給された圧力調整用ガスを排気するための圧力調整用ガス排出手段（図示略）が設けられている。上記圧力調整用ガス供給手段としては、例えば、構造体２に接続された圧力調整用ガス供給管と、該供給管に接続された圧力調整用ガス供給源と、圧力調整用ガスの流量制御装置を備えたものである。上記圧力調整用ガス排出手段としては、例えば、構造体２に接続された圧力調整用ガス排出管と、該排出管に接続された負圧源を備えたものである。
【００２０】
上記圧力調整用ガス供給手段により供給される圧力調整用ガスとしては、不活性ガスを用いるのが、構造体２内で有機溶剤を使用できる点で好ましく、特に不活性ガスとして窒素ガスを用いる場合には、低コストで構造体２内で有機溶剤を使用できる環境を作製できる点で好ましい。
これらの圧力測定装置と圧力調整用ガス排出手段と圧力調整用ガス排出手段が設けられることで、圧力測定装置により構造体２の空間部２ａの圧力Ｐ１を測定しながら圧力調整用ガス排出手段により構造体２の空間部２ａ内に圧力調整用ガスを供給し、圧力Ｐ１が構造体の外部の圧力Ｐ０より高くなるように制御することができ、また、圧力Ｐ１が高くなり過ぎた場合には圧力調整用ガス排出手段により圧力調整用ガスを排出することで、空間部２ａの圧力Ｐ１を調整することができる。
【００２１】
また、上記構造体２には、液体８がスリット状開口部７から構造体２の内側に漏れた場合に、液体８を構造体の外部に排出するためのドレイン管１０が接続されている。
また、上記構造体内に導入したシート体３に種々の処理を施すために、シート体３に施す処理に応じた装置が空間部２ａに設けられ、例えば、シート体３に切削加工を施す場合には空間部２ａにバイト装置や切削用砥石等が配置され、洗浄等のウエット処理を施す場合には空間部２ａにウエット処理手段が配置され、めっき加工を施す場合には空間部２ａにメッキ処理手段等が配置される。なお、構造体２の空間部２ａにウエット処理手段を設けた例については、後述の第４の実施形態で詳しく説明する。
【００２２】
第１の実施形態のシールド装置によれば、筐体状の構造体２に設けられた導入部４と導出部５にそれぞれ上記のような構成のシール装置（液シール構造部）６が備えられたことにより、導入部４側のスリット状開口部７からシート体３を空間部２ａに導入するとともに導出部５側のスリット状開口部７から導出しても、筐体状の構造体２の空間部２ａと外部の気体が遮断されているので、空間部２ａでシート体３に傷等の損傷を生じることなく、しかも汚染されることなく種々の処理が可能である。また、上記スリット状開口部７に充填された液体８は圧力が制御されることで上記開口部７から漏れないようになっているので、液シール構造部に用いる液量が少なくて済む。また、小型化されたシール装置６が備えられたことにより、小型のシールド装置を実現できる。
【００２３】
［第２の実施の形態］
図３は、第２の実施形態のシールド装置の概略構成を示す断面図である。
第２の実施形態のシールド装置１１が、図１に示した第１の実施形態のシールド装置１と異なるところは、各スリット状開口部７に液体８を供給する液供給部１９と開口部７に供給する液体８の圧力を制御するためのバルブ等の圧力制御手段（図示略）が接続されている点である。
【００２４】
液供給部１９は、液供給管１９ａと、液供給源（図示略）からなり、液供給管１９ａの一端部は構造体２の導入部４側又は導出部５側の側板２ｂ上部を通ってスリット状開口部７と連通しており、他端部は上記液供給源と接続されている。
各スリット状開口部７に液供給部１９が設けられたことにより、スリット状開口部７に新鮮な液体を供給でき、また、スリット状開口部７に充填された液体量が乾燥等によって減った場合に追加供給し易い。
【００２５】
上記圧力制御手段は、各液供給管１９ａの途中に設けられている。このような圧力制御手段が設けられたことにより、スリット状開口部７に新鮮な液体８を供給でき、しかもスリット状開口部７に充填する液体８の圧力の制御が容易で、上記スリット開口部７からの液漏れの防止効果も大きい。
【００２６】
［第３の実施の形態］
図４は、第３の実施形態のシールド装置の概略構成を示す断面図である。
第３の実施形態のシールド装置２１が、図１に示した第１の実施形態のシールド装置１と異なるところは、各スリット状開口部７に液体８を供給する液供給部２９と開口部７に供給する液体８の圧力を制御するためのバルブ等の圧力制御手段（図示略）が接続され、さらに各スリット状開口部７に液体８を供給する液供給部２９と液体８を排出する液排出部３０が接続されている点である。
【００２７】
液供給部２９は、スリット状開口部７の上下に設けられた液供給管２９ａ、２９ｂと、これら液供給管２９ａ、２９ｂに接続された液供給源（図示略）からなる。上側の液供給管２９ａの一端部は構造体２の導入部４側又は導出部５側の側板２ｂ上部を通ってスリット状開口部７と連通しており、他端部は上記液供給源と接続されている。下側の液供給管２９ｂの一端部は構造体２の導入部４側又は導出部５側の側板２ｂ下部を通ってスリット状開口部７と連通しており、他端部は上記液供給源と接続されている。
上記圧力制御手段は、各液供給管２９ａの途中に設けられている。
【００２８】
液排出部３０は、液供給部２９に近接して設けられており、スリット状開口部７の上下に設けられた液排出管３０ａ、３０ｂからなる。上側の液排出管３０ａの一端部は構造体２の導入部４側又は導出部５側の側板２ｂ上部を通ってスリット状開口部７と連通しており、下側の液排出管３０ｂの一端部は構造体２の導入部４側又は導出部５側の側板２ｂ下部を通ってスリット状開口部７と連通している。尚、液排出部３０と液供給部２９の設置位置は入れ替わった形態であってもよい。
各スリット状開口部７に液排出部３０が設けられたことにより、スリット状開口部７に充填された液体８が汚染された場合や充填する液体８の種類を変更する場合などにおいて上記液体を回収することができる。
【００２９】
本実施形態のシールド装置によれば、各スリット状開口部７に上側の液供給管２９ａと液排出管３０ａが接続され、また、各スリット状開口部７に下側の液供給管２９ｂと液排出管３０ｂが接続され、さらに液供給管２９ａに圧力制御手段が設けられたことにより、構造体２内にシート体３を挿通している最中においてシート体３の上面とスリット状開口部壁面との隙間と、シート体３の下面とスリット状開口部壁面との隙間にそれぞれ充填されている液体８の圧力をコントロールし易く、各スリット開口部７からの液漏れの防止効果が大きい。
【００３０】
［第４の実施の形態］
図５は、本発明に係わる第４の実施形態のウエット処理装置の概略構成を示す断面図である。
本実施形態のウエット処理装置３１は、図４に示した第３の実施形態のシールド装置２１が備えられ、構造体２の空間部２ａに、上記シート体３にウエット処理を施すウエット処理手段として図５及び図６に示すような上下一対のウエット処理用ノズル（一対のプッシュ・プル型ノズル）４１、４１が設けられ、導入部４側の液シール構造部６とウエット処理用ノズル４１の間に上下一対の乾燥機構４５ａ、４５ｂが設けられ、導出部５側の液シール構造部６とウエット処理用ノズル４１の間に上下一対の乾燥機構４６ａ、４６ｂが設けられ、導出部５の外側に上下一対の乾燥機構４７ａ、４７ｂが設けられ、構造体２の内側及び外側にはシート体３を搬送するための搬送コロ等の搬送機構（図示略）が設けられた概略構成のものである。なお、図中符号Ｓは、シート体３の搬送方向（移動方向）である。
【００３１】
各ウエット処理用ノズル４１は、図５に示すように空間部２ａに導入されたシート体（被処理物）３に対向する対向面５３ａ（シート体対向面と呼ぶこともある）を有する処理部５３と、該処理部５３の一方に隣接して設けられ、上記シート体３と上記対向面との間の隙間にウエット処理液５０を導入する処理液導入部５１と、上記処理部５３の他方に設けられ、上記隙間からのウエット処理液５０を回収する処理液回収部５２が備えられたものである。
処理液導入部５１は、一端にシート体３に向けて開口する第１の開口部５１ｂが設けられた導入管５１ｃが備えられ、また、この導入管５１ｃの他端にウエット処理液５０を導入するための導入口５１ａが設けられている。
処理液回収部５２は、一端に被処理基板２１に向けて開口する第２の開口部５２ｂが設けられた排出管５２ｃが備えられ、また、この排出管５２ｃの他端にウエット処理後のウエット処理液の排出液を空間２ａの外部（ウエット処理の系外）へ排出するための排出口５２ａが設けられている。
上記導入管５１ｃの他端と排出管５２ｃの他端はそれぞれ構造体２の壁面を貫通して外部に導出されているが、導入管５１ｃの他端と構造体２の壁面との間及び排出管５２ｃの他端と構造体２の壁面との間はそれぞれシール材（図示略）により封止され、構造体２の外部の気体が構造体２内に侵入できないようになっている。
【００３２】
上記第１の開口部５１ｂと第２の開口部５２ｂの間に処理部５３のシート体対向面５３ａが介在され、これら開口部５１ｂ、５２ｂとシート対向面５３ａはほぼ面一に配置されている。
処理部５３のシート体対向面５３ａとシート体３の間の空間には、ウエットエッチング処理（ウエット処理）を行う領域５５が形成されている。
【００３３】
また、処理液回収部５２には圧力制御部（図示略）が設けられている。この圧力制御部は、排出口５２ａ側に設けられた減圧ポンプにより構成されており、シート体３に接触したウエット処理液５０がウエット処理後に排出管５２ｃに流れるように、第１及び第２の開口部で不活性ガス（空間部２ａの雰囲気）と接触しているウエット処理液の圧力（ウエット処理液の表面張力と被処理物の被処理面の表面張力も含む）と空間部２ａの不活性ガスの圧力との均衡がとれるようにするためのものである。
【００３４】
したがって、排出口５２ａ側の圧力制御部に減圧ポンプを用いて、この減圧ポンプで処理部５３のウエット処理液５０を吸引する力を制御して、第１及び第２の開口部で不活性ガスと接触しているウエット処理液５０の圧力（ウエット処理液の表面張力と被処理物の被処理面の表面張力も含む）と不活性ガスの圧力との均衡をとるようになっている。つまり、ウエット処理液の圧力Ｐｗ（ウエット処理液の表面張力とシート体３の被処理面の表面張力も含む）と不活性ガスの圧力Ｐａとの関係をＰｗ≒Ｐａとすることにより、第１の開口部５１ｂを通じてシート体３に供給され、シート体３に接触した処理液は、シート体３上のウエット処理液を供給した部分以外の部分に接触することなく、シート体３上から除去されて、排出管５２ｃに排出される。
【００３５】
このような構成のウエット処理用ノズル４１、４１は、処理部５３、５３が隙間を隔てて対向するように設けられている。このような一対のウエット処理用ノズル４１、４１の処理部５３、５３間の隙間にシート体３が搬送されて、シート体３とウエット処理用ノズル４１、４１との間のウエット処理領域５５、５５でウエット処理が行える、すなわち、シート体３の両面にウエット処理を施すことができる。
【００３６】
各ウエット処理用ノズル４１の接液面は、ＰＦＡ等のフッ素樹脂や、用いるウエット処理液によっては最表面がクロム酸化物のみからなる不動態膜面のステンレス、あるいは酸化アルミニウムとクロム酸化物の混合膜を表面に備えたステンレス、オゾン水に対しては電解研磨表面を備えたチタン等とすることが、ウエット処理液への不純物の溶出がないことから好ましい。接液面を石英により構成すれば、フッ酸を除く全てのウエット処理液の供給に好ましい。
【００３７】
また、一対のウエット処理用ノズル４１、４１のうち一方（図面では上側）のウエット処理用ノズル４１には、図６に示すように処理部５３に、シート体３がウエット処理されている間、上記領域５５内のウエット処理液に超音波振動を付与するための超音波振動子６８が設けられている。超音波振動子６８を設ける場合の処理部５３は、振動板（振動部）としても機能するものが用いられ、超音波振動子６８は処理部５３の周縁部から立ち上がる側板（側壁部）６７の内側の振動板６６の主面上に設けられている。側板６７は処理部５３と一体に形成されている。これら側板６７と処理部５３を構成する材料としては、ステンレス鋼、石英、サファイア、アルミナ等のセラミックスなどのうちから選択されて用いられる。超音波振動子６８は、電源（図示略）に接続されている。
【００３８】
超音波振動子６８は、約２０ｋＨｚ乃至約１０ＭＨｚの範囲の周波数の超音波振動を出力可能なものであることがウエット処理を行う場合に実用的なウエット処理（特に、超音波洗浄）が可能である点で好ましく、特に、保持可能なウエット処理液層（洗浄液層）の厚さの観点から０．２ＭＨｚ以上の周波数が好ましいが、約２０ｋＨｚの周波数の超音波でのウエット処理も可能である。
本実施形態では超音波振動子６８が一方のウエット処理用ノズル４１に設けたが、上下のウエット処理用ノズル４２、４２の両方に設けてもよい。
上記ウエット処理液５０としては、シート体３に施す処理に応じて選択され、例えば、洗浄処理の場合は洗浄液や純水、エッチングの場合にはエッチング液、現像の場合は現像液、剥離の場合には剥離液が用いられ、ウエット処理液５０として有機溶剤を用いる場合は本実施形態のウエット処理装置で施される処理はウエット処理となる。
【００３９】
図５における一対の乾燥機構４５ａ、４５ｂは、導入部４側のスリット状開口部７を通って構造体２の空間部２ａに導入されたシート体３に対して上下方向からそれぞれ不活性ガス等の気体を吹きつけてシート体３を乾燥できるようになっている。このような一対の乾燥機構４５ａ、４５ｂを設けるのは、導入部４側のスリット状開口部７を通って空間部２ａに導入されたシート体３の表面はスリット状開口部７に充填された液体８が付着した状態となっているので、ウエット処理用ノズル４１、４１間で施す処理によってはこれらノズル４１、４１間に導入する前に乾燥処理（第一の乾燥処理と呼ぶこともある）を要するからである。
一対の乾燥機構４６ａ、４６ｂは、ウエット処理用ノズル４１、４１の間から出てくるシート体３に対して上下方向からそれぞれ不活性ガス等の気体を吹きつけてシート体３を乾燥できるようになっている。このような一対の乾燥機構４６ａ、４６ｂを設けるのは、ウエット処理用ノズル４１、４１の間から導出されたシート体３の表面はウエット処理液５０が付着した状態となっているので、導出部５側のスリット状開口部７に充填された液体８の種類やこのウエット処理の後工程等によっては、シート体３を導出部５側のスリット状開口部７に挿通する前に乾燥処理（第二の乾燥処理と呼ぶこともある）を要するからである。
一対の乾燥機構４７ａ、４７ｂは、導出部５側のスリット状開口部７から導出されたシート体３に対して上下方向からそれぞれ空気等の気体を吹きつけてシート体３を乾燥できるようになっている。ここで用いられる一対の乾燥機構４７ａ、４７ｂの具体例としては、上下一対のエアカーテンが使用できる。このような一対の乾燥機構４７ａ、４７ｂを設けるのは、導出部５側のスリット状開口部７を通って導出されたシート体３の表面はスリット状開口部７に充填された液体８が付着した状態となっているので、導出部５側のスリット状開口部７に充填された液体８の種類やこのウエット処理の後工程等によっては、シート体３に乾燥処理（第三の乾燥処理と呼ぶこともある）を施す必要がある。
上記搬送機構は、シート体３をシールド装置２１内を通り、さらに一対の乾燥機構４７ａ、４７ｂ間を通るように自動的に搬送できるようになっているものである。
【００４０】
上記シールド装置２１内の空間部２ａで、導入部側の側板２ｂと上下一対のウエット処理用ノズル４１、４１間の空間部の圧力Ｐ２は、シールド装置２１の外部の圧力Ｐ０より高くなっていることが、シールド装置２１の内側への液漏れを極めて少なくできる点で好ましい。
また、上記シールド装置２１内の空間部２ａで、導出部側の側板２ｂと上下一対のウエット処理用ノズル４１、４１間の空間部の圧力Ｐ３は、シールド装置２１の外部の圧力Ｐ０より高くなっていることが、シールド装置２１の内側への液漏れを極めて少なくできる点で好ましい。
【００４１】
図５乃至図６に示したようなウエット処理装置３１を用いてシート体３に第一の乾燥処理、ウエット処理、第二の乾燥処理、第三の乾燥処理を順次施すには以下のように行われる。
搬送機構によりシート体３をシールド装置２１の導入部４側のスリット状開口部７から空間部２ａ内に導入し、一対の乾燥機構４５ａ、４５ｂ間、一対のウエット処理用ノズル４１、４１間、一対の乾燥機構４６ａ、４６ｂ間を順次移動させた後、導出部５側のスリット状開口部７からシールド装置２１外に導出し、次いで一対の乾燥機構４７ａ、４７ｂ間を移動させる。
【００４２】
上記のようにすると、導入部４側のスリット状開口部７を通ったシート体３は表面に液体８が付着するが、次に一対の乾燥機構４５ａ、４５ｂ間を通ることで第一の乾燥処理が施されてシート体３に付着した液体８は除去され、次に、シート体３は一対のウエット処理用ノズル４１、４１間を通ることで両面にウエット処理が施され、シート体３の両面にウエット処理液５０が付着するが、次にシート体３は一対の乾燥機構４６ａ、４６ｂ間を通ることで第二の乾燥処理が施されてシート体３に付着したウエット処理液５０は除去され、次ぎにシート体３は導出部５側のスリット状開口部７を通ることでシート体３は表面に液体８が付着するが、次にシールド装置２１の外部で一対の乾燥機構４７ａ、４７ｂ間を通ることで第三の乾燥処理が施されてシート体３に付着した液体８は除去される。
【００４３】
本実施形態のウエット処理装置３１によれば、シールド装置２１内の空間部２ａと外部の気体が遮断されているので、空間部２ａ内でシート体３に傷等の損傷を生じることなく、しかも汚染されることなく、洗浄、エッチング、現像、剥離等のウエット処理が可能である。また、小型化されたシールド装置２１を用いたことにより、このウエット処理装置３１も小型とすることができる。
なお、本実施形態のウエット処理装置３１においては、シールド装置２１の空隙部２ａに上下一対のウエット処理用ノズル４１、４１を一組設けた場合について説明したが、複数組設け、各組で異なる種類のウエット処理を施すようにしてもよく、また、シート体３の一方の面のみにウエット処理を施す場合にはシート体３の一方の面側にのみウエット処理手段を設けるようにしてもよい。
また、シールド装置２１の空隙部２ａに上記のような構成の一対のウエット処理用ノズル４１、４１が備えられたことにより、少ない処理液で効率良くウエット処理ができる。
【００４４】
【発明の効果】
以上説明したように本発明のシール装置によれば、比較的厚みが薄いシート体が損傷することなく通過可能で、しかも使用する液量を削減できるうえ、小型化されたシール装置を実現できる。
また、本発明のシールド装置によれば、筐体状の構造体の空間部内で上記シート体が損傷することなく、しかも汚染されることなく種々の処理を施すことができ、しかも小型化されたシールド装置を実現できる。
また、本発明のウエット処理装置によれば、シールド装置内の空間部と外部の気体が遮断され、上記空間部内で上記シート体が損傷することなく、しかも汚染されることなく、各種のウエット処理が可能で、小型化されたウエット処理装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明のシール装置が備えられた第１の実施形態のシールド装置の概略構成を示す斜視図。
【図２】図２は、図１のシールド装置のＩＩ−ＩＩ線断面図。
【図３】図３は、第２の実施形態のシールド装置の概略構成を示す断面図。
【図４】図４は、第３の実施形態のシールド装置の概略構成を示す断面図。
【図５】図５は、第４の実施形態のウエット処理装置の概略構成を示す断面図。
【図６】図５のウエット処理装置のシールド装置内に備えられた一対のウエット処理用ノズルの構成を示す拡大断面図。
【図７】洗浄室の出入口に液シール構造を設けたタイプの従来の洗浄装置の例を示す概略構成図。
【符号の説明】
１，１１，２１・・・シールド装置、２・・・筐体状の構造体、２ａ・・・空間部、３・・・シート体（被処理物）、４・・・導入部、５・・・導出部、６・・・シール装置（液シール構造部）、７・・・スリット状開口部、８・・・液体、９・・・ノズル（液供給部）、１０・・・ドレイン管、１９・・・液供給部、１９ａ・・・液供給管、２９・・・液供給部、２９ａ・・・上側の液供給管、２９ｂ・・・下側の液供給管、３０・・・液排出部、３０ａ・・・上側の液排出管、３０ｂ・・・下側の液排出管、３１・・・ウエット処理装置、４１・・・ウエット処理用ノズル、４５ａ，４５ｂ，４６ａ，４６ｂ，４７ａ，４７ｂ・・・乾燥機構、５３・・・処理部、５３ａ・・・対向面、５１・・・処理液導入部、５１ａ・・・導入口、５１ｂ・・・第１の開口部、５１ｃ・・・導入管、５２・・・処理液回収部、５２ａ・・・排出口、５２ｂ・・・第２の開口部、５２ｃ・・・排出管、５５・・・領域（ウエット処理領域）、６７・・・側板、６８・・・超音波振動子、Ｐ１・・・空間部の圧力、Ｐ０・・・外部の圧力、Ｗ・・・幅。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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