(57)【要約】【課題】層間剥離が発生しない有機ＥＬ表示パネルを提供する。【解決手段】有機ＥＬ表示パネル１は、基板２を含む。基板２上に、第１電極層４と、第１電極層４を覆う有機機能層５と、有機機能層５上に設けられている第２電極層６と、からなる積層体が形成され、第２電極層６を覆っている封止膜７によって該積層体が封止されている。有機機能層５は欠落部８を有している。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、前記基板上に形成されている第１電極層と、前記第１電極層を覆う有機機能層と、前記有機機能層上に設けられている第２電極層と、前記第２電極層を覆っている封止膜と、を有する有機エレクトロルミネセンス表示パネルであって、
前記有機機能層が欠落部を有することを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示パネル。
【請求項２】
前記第１電極層及び前記第２電極層の少なくとも一方は互いに離間している複数の電極片からなり、
前記欠落部は前記電極片の互いに隣接するもの同士の間の間隙に連通していることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。
【請求項３】
前記第１電極層を覆いかつ画素形成窓を有する絶縁層を含み、
前記欠落部が前記絶縁層の前記画素形成窓を除く部分を臨む位置に形成されていることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。
【請求項４】
前記欠落部は前記有機機能層の中央部に偏在していることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。
【請求項５】
前記欠落部は前記有機機能層の内周部に偏在していることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。
【請求項６】
前記封止膜が矩形であり、
前記欠落部は前記封止膜の角部近傍に偏在していることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。
【請求項７】
前記封止膜が矩形であり、
前記欠落部は前記封止膜の対角線近傍に偏在していることを特徴とする請求項１記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機エレクトロルミネセンス表示パネルに関する。
【０００２】
【従来技術】
従来、エレクトロルミネセンス特性を有する有機発光材料を発光源とする有機エレクトロルミネセンス（以下有機ＥＬと称する）表示パネルが知られている。該有機ＥＬ表示パネルは、例えば透明基板の表示領域上に、透明電極と有機発光材料を含む有機機能層と金属電極とが順次積み重なっている有機ＥＬ素子を含む。
【０００３】
該有機ＥＬ素子は、窒化酸化シリコン等のガスバリア性を有する無機材料からなる封止膜によって封止されている。該封止膜は、該有機ＥＬ素子へ水分等が侵入する侵入経路を遮断して、有機ＥＬ素子の劣化であるいわゆるダークスポットと呼ばれる非発光領域が形成されるのを防止している（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
【特許文献１】特開平８−１１１２８６号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上記の如き無機材料からなる封止膜は、プラズマＣＶＤ法などの成膜方法によって得られる。かかる封止膜が成膜されると、膜の平面方向などに高い残留応力が発生する。該残留応力は封止膜の下の多層構造体に作用して、多層構造体が変形してしまう。当該変形によって、電極層と有機機能層の界面などの、接着力が小である界面において、層間剥離が発生する。
【０００６】
一般に、有機材料層と無機材料層の界面における接着力は無機材料層同士の界面における接着力に比べて小である。特に低分子有機材料からなる有機材料層が蒸着法などによって成膜されている場合、界面における接着力はより小である。故に、有機機能層が低分子有機材料からなる層の積層体である場合、層間剥離が発生し易い。かかる層間剥離が発生すると、有機ＥＬ素子が破壊されてしまい、非発光部が形成されてしまう。
【０００７】
また、封止膜が変形することによって、封止膜に亀裂等の破損が発生してしまう。当該破損部から水分等が侵入することによって、有機ＥＬ素子が劣化してしまうという問題がある。
本発明が解決しようとする課題には、前述した問題が１例として挙げられる。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の有機エレクトロルミネセンス表示パネルは、基板と、前記基板上に形成されている第１電極層と、前記第１電極層を覆う有機機能層と、前記有機機能層上に設けられている第２電極層と、前記第２電極層を覆っている封止膜と、を有する有機エレクトロルミネセンス表示パネルであって、前記有機機能層が欠落部を有することを特徴とする。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明の有機ＥＬ表示パネルの実施例を、添付図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、同一の部分については同一の符号が付されている。また有機ＥＬ表示パネルには、配線及び表示パネルの動作に必要な駆動部などが含まれるものの、以下の説明では省略している。
【００１０】
図１に示す如く、有機ＥＬ表示パネル１はガラスや樹脂などの透明材料からなる基板２を含み、基板２は表示領域３を有している。表示領域３に第１電極である陽極ライン４が形成されている。陽極ライン４は、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）等の導電材料からなる。陽極ライン４を覆うように表示領域３に有機機能層５が形成されている。有機機能層５は、エレクトロルミネセンス特性を有する有機発光材料からなる発光層（図示せず）を含む。また該発光層へ電子若しくは正孔を輸送若しくは注入する効率を高める機能を有する機能層（図示せず）が有機機能層５に含まれても良い。有機機能層５上に陽極ライン４と共に発光領域を形成する陰極ライン６が形成されている。陰極ライン６は、アルミニウム（Ａｌ）等の導電材料からなる。上記の如き積層体は、陰極ライン６を覆う封止膜７によって封止されている。封止膜７は、窒化ケイ素等のガスバリア性を有する材料からなる。有機機能層５は、欠落部８を有する。欠落部８は、有機機能層を貫通する貫通孔としても良い。また、欠落部８は、隣接する電極片同士の間の間隙に連通しても良い。欠落部８において、封止膜７は陽極４を介して基板２に接着している。
【００１１】
上記の如く有機機能層が欠落部を有することによって、封止膜と基板との間の接着が強固になることから、有機機能層を覆っている封止膜の変形が発生しにくくなる。故に、接着力が小である層の界面に応力が集中して剥離が発生することを防止することができる。
変形例として、陽極ライン電極を覆いかつ画素形成窓を有する絶縁層が形成されても良い。例えば図２に示す如く、有機ＥＬ表示パネル１は、陽極ライン４の上で発光領域９を画定している画素形成窓１０を有する絶縁層１１が形成されても良い。絶縁層１１は、酸化ケイ素、窒化ケイ素及び窒化酸化ケイ素などの絶縁材料からなることとしても良い。また、絶縁層１１は、ポリイミド等のポリマーからなることとしても良い。かかる絶縁層１１上に有機機能層５が形成され、有機機能層５の欠落部８が画素形成窓１０を除く部分を臨む位置に形成されている。有機機能層５上には陰極ライン６が形成されている。陰極ライン６は、欠落部８において絶縁層１１と接着している。陰極ライン６を覆うように封止膜７が成膜されて、有機ＥＬ表示パネル１が形成されている。
【００１２】
上記の如き構成の表示パネルにおいて、陰極ラインが封止膜と絶縁層との接着性を向上せしめる接着層としての役割を担うことができる。例えば、陰極ラインがＡｌからなる場合、Ａｌは絶縁層及び封止膜との付着性が良いことから、封止膜と基板との接着性が大となる。
なお、欠落部に陰極ラインが形成されなくても良い。例えば、欠落部において封止膜と絶縁層が直に接しても良い。
【００１３】
図３に示す如く、欠落部８は、陽極ライン４及び陰極ライン６に沿った貫通溝としても良い。また、貫通溝が交差するように形成することとしても良い。
なお、図４乃至図６に示す如く、有機機能層５はすべての陽極ライン４及び陰極ライン６の間の間隙に連通する欠落部８を有することとしても良い。有機機能層５は、発光領域９を除く領域に欠落部８を有することから、島状になっている。かかる構成によれば、有機機能層を発光領域にのみ形成することができることから、封止膜と基板との接着面積を大とすることができる。また、１つの発光領域において水分による劣化が発生しても、該水分が有機機能層を伝って拡散できない。故に、隣りあう画素へ劣化が拡大することが防止できる。
【００１４】
なお、有機機能層は、複数の欠落部を有しても良い。例えば、図７に示す如く、有機ＥＬ表示パネル１は、複数の孔状の欠落部８を有する有機機能層を含むこととしても良い。欠落部８は、有機機能層に均一に分布しても良い。かかる構成によれば、封止膜７を基板に均一に接着することができる。なお、欠落部は孔に限定されず、溝であっても良い。
【００１５】
欠落部は、有機機能層内において偏在しても良い。例えば、図８に示す如く、有機機能層の形状と一致している表示領域３の中央部に欠落部８が偏在しても良い。かかる構成によれば、封止膜の変形を表示領域の中央部において小とすることができることから、中央部における変形が大である封止膜を成膜した場合においても層間剥離を防止することができる。
【００１６】
変形例として、図９に示す如く、欠落部８が表示領域３の内周部に偏在しても良い。上記の如き欠落部を形成することによって、表示領域の内周部における封止膜の変形を防止することができる。
封止膜が矩形に形成される場合、図１０に示す如く、欠落部８が、封止膜７の角部近傍に偏在しても良い。また、図１１に示す如く、矩形に形成された封止膜７の対角線の近傍において、欠落部８が偏在しても良い。
【００１７】
上記の如く、欠落部を任意の位置に偏在せしめることによって、封止膜の成膜条件などに応じて発生する変形の状態に対応することができる。
なお、上記実施例において、陽極と陰極の位置を入れ替えても良い。すなわち、有機ＥＬ表示パネルは、基板から陰極、有機機能層及び陽極の順に設けられている有機ＥＬ素子を含むこととしても良い。
【００１８】
また、上記実施例において、陽極及び陰極の各々が長手電極片群からなっているもののこれに限定されず、陽極及び陰極の一方が長手電極片群からなっていれば良い。例えば、有機ＥＬ表示パネルは、長手陽極片群とベタ一面に成膜された陰極層とを含むこととしても良い。かかる構成によれば、アクティブ型有機ＥＬ表示パネルを得ることができる。
【００１９】
基板と、前記基板上に形成されている第１電極層と、前記第１電極層を覆う有機機能層と、前記有機機能層上に設けられている第２電極層と、前記第２電極層を覆っている封止膜と、を有する有機エレクトロルミネセンス表示パネルであって、前記有機機能層が欠落部を有することを特徴とする有機エレクトロルミネセンス表示パネルによれば、封止膜と基板との接着を強固にすることができることから、有機機能層が形成されている領域の面積が大であっても、封止膜の変形が発生しにくい故、積層体の層間剥離が発生しない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による有機ＥＬ表示パネルの１部拡大断面図である。
【図２】本発明による有機ＥＬ表示パネルの変形例の１部拡大断面図である。
【図３】本発明による有機ＥＬ表示パネルを示す平面図である。
【図４】本発明による有機ＥＬ表示パネルを示す１部拡大平面図である。
【図５】図４の線ＡＡに沿った１部拡大断面図である。
【図６】図４の線ＢＢに沿った１部拡大断面図である。
【図７】本発明による有機ＥＬ表示パネルの変形例を示す平面図である。
【図８】本発明による有機ＥＬ表示パネルの変形例を示す平面図である。
【図９】本発明による有機ＥＬ表示パネルの変形例を示す平面図である。
【図１０】本発明による有機ＥＬ表示パネルの変形例を示す平面図である。
【図１１】本発明による有機ＥＬ表示パネルの変形例を示す平面図である。
【符号の説明】
１  有機ＥＬ表示パネル
２  基板
３  表示領域
４  陽極ライン
５  有機機能層
６  陰極ライン
７  封止膜
８  欠落部
１１  絶縁層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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