(57)【要約】【課題】  基板がケース内に収容された場合であっても容易に基板の情報を確認する。【解決手段】  パターンが形成されたパターン面Ｍａを有する。基板Ｍに設けられ、パターンを保護する保護部材１と、保護部材１に設けられ無線により基板Ｍを識別させる識別部３とを有する。【選択図】      図１
2005215508.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターンが形成されたパターン面を有する基板であって、
前記基板に設けられ、前記パターンを保護する保護部材と、
前記保護部材に設けられ無線により前記基板を識別させる識別部とを有することを特徴とする基板。
【請求項２】
パターンが形成されたパターン面を有する基板であって、
前記基板に設けられ、前記パターンを保護する保護部材と、
前記パターン面のうち前記保護部材に囲まれた部分に設けられ、無線により前記基板を識別させる識別部とを有することを特徴とする基板。
【請求項３】
請求項１または２記載の基板において、
前記保護部材は、前記基板に設けられた枠部材を有しており、該枠部材に前記識別部が設けられていることを特徴とする基板。
【請求項４】
導電性のパターンが形成された基板であって、
前記パターンに電気的に接続され、無線により前記基板を識別させる識別部を有することを特徴とする基板。
【請求項５】
パターンが形成されたパターン領域を有する基板であって、
前記パターン領域とは異なる位置に保護材で覆われて設けられ、無線により当該基板を識別させる識別部を有することを特徴とする基板。
【請求項６】
所定の保持部により保持される基板であって、
前記保持部と機械的に非接触の部分に、無線により前記基板を識別させる識別部を有することを特徴とする基板。
【請求項７】
請求項１から６のいずれか一項記載の基板において、
前記識別部は、ＩＣチップであることを特徴とする基板。
【請求項８】
基板を収容する収容部と、前記基板を用いて露光処理を行う露光装置本体とを有する露光装置であって、
前記収容部には、請求項１から７のいずれか一項に記載の基板が収容され、
前記基板の識別部を無線により読み取る読取部とを備えることを特徴とする露光装置。
【請求項９】
請求項８記載の露光装置において、
前記収容部は、第１方向に沿って複数設けられ、
前記読取部と前記複数の収容部とを前記第１方向に相対移動させる駆動装置を有することを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
複数の露光装置が同一のネットワークで接続された露光システムであって、
前記露光装置として請求項８または９記載の露光装置が接続され、
前記読取部で読み取った識別情報を記憶する記憶部と、
前記記憶部に記憶された識別情報を読み出す読出部とを有することを特徴とする露光システム。
【請求項１１】
請求項１０記載の露光システムにおいて、
前記記憶部は前記複数の露光装置のそれぞれに設けられ、
前記読出部は前記ネットワークを介して前記記憶部から前記識別情報を読み出すことを特徴とする露光システム。
【請求項１２】
請求項１０または１１記載の露光システムにおいて、
前記基板を用いて前記露光処理とは異なる処理を施す処理装置が前記ネットワークに接続され、
前記記憶部には、前記識別情報と、該識別情報を有する基板を処理中の前記処理装置の情報とが記憶されることを特徴とする露光システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レチクル等の基板及びこの基板を用いて露光処理を行う露光装置並びに露光システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
レチクル上に描画されたパターンをウエハ上に転写（露光）し大規模集積回路などを製造する半導体露光装置においては、一つの半導体デバイスを完成させるには、一枚のウエハに対して複数のレチクルを交換しながらパターンの焼き付けを行う工程を通常数回〜数十回行っている。
そのため、露光時に使用するレチクルが所定のものかを識別したり、レチクルの製造誤差を管理する必要が生じている。
従来、レチクルを管理する手段としては、レチクル上のクロムパターンの一部にレチクルの製造番号等の属性を示すバーコードのパターンを形成し、このパターンを露光装置内に設けられたバーコードリーダ等を用いて読み込む方法等が採用されていた（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平１１−１８６３５９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
一般的にレチクルを装置に装填する際には、ゴミ付着防止の観点からレチクルケースに収容しておくため、ケース内のレチクルの製造番号を確認するにはケースから一旦取り出し、バーコードリーダで読み取るという作業が必要になってしまう。また、こうした問題を解消するためにケースにバーコードを取り付けるシステムも提供されているが、ケース内に誤ったレチクルを装填してしまった場合、その誤りを判別することは極めて困難である。
【０００４】
また、複数の露光装置を備えた露光システムにあっては、ある露光装置のバーコードリーダで一度も読み取られることがなかったレチクルに関しては、他の露光装置でそのレチクルが必要になった際に、露光装置からケースごと取り出し、さらにケースからレチクルを取り出して確認する（読み取る）必要があるが、この作業を行うには露光装置に設けられたレチクルアクセスのための扉を開閉する作業を伴うため、装置の清浄度、ケミカルクリーン上好ましくないという問題も生じてしまう。
【０００５】
本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、基板がケース内に収容された場合であっても容易に基板の情報を確認できる基板及び露光装置並びに露光システムを提供することを目的とする。
また、本発明の別の目的は、複数の露光装置間であっても容易に基板の情報を確認できる露光システムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記の目的を達成するために本発明は、以下の構成を採用している。
本発明の基板は、パターンが形成されたパターン面（Ｍａ）を有する基板（Ｍ）であって、基板（Ｍ）に設けられ、パターンを保護する保護部材（１）と、保護部材（１）に設けられ無線により基板（Ｍ）を識別させる識別部（３）とを有することを特徴とするものである。
【０００７】
従って、本発明の基板では、ケース（５）内に収容された場合であっても、保護部材（１）に設けられた識別部（３）をケース（５）の外から無線で識別することにより、ケースから基板（Ｍ）を取り出すことなく基板（Ｍ）の情報を確認することが可能である。
【０００８】
また、本発明の基板は、パターンが形成されたパターン面（Ｍａ）を有する基板（Ｍ）であって、基板（Ｍ）に設けられ、パターンを保護する保護部材（１）と、パターン面（Ｍａ）のうち保護部材（１）に囲まれた部分に設けられ、無線により基板（Ｍ）を識別させる識別部（３）とを有することを特徴とするものである。
【０００９】
従って、本発明の基板では、ケース内に収容された場合であっても、保護部材（１）に囲まれた部分に設けられた識別部（３）をケース（５）の外から無線で識別することにより、ケースから基板（Ｍ）を取り出すことなく基板（Ｍ）の情報を確認することが可能である。
【００１０】
さらに、本発明の基板は、導電性のパターン（ＳＴ）が形成された基板（Ｍ）であって、パターン（ＳＴ）に電気的に接続され、無線により基板（Ｍ）を識別させる識別部（３）を有することを特徴とするものである。
【００１１】
従って、本発明の基板では、ケース（５）内に収容された場合であっても、識別部（３）をケースの外から無線で識別することにより、ケースから基板（Ｍ）を取り出すことなく基板（Ｍ）の情報を確認することが可能である。また、本発明では、パターン（ＳＴ）がアンテナとして機能するため、無線により識別する際の感度を向上させることが可能になる。
【００１２】
また、本発明の基板は、パターンが形成されたパターン領域（ＰＡ）を有する基板（Ｍ）であって、パターン領域（ＰＡ）とは異なる位置に保護材（７１）で覆われて設けられ、無線により基板（Ｍ）を識別させる識別部（３）を有することを特徴とするものである。
【００１３】
従って、本発明の基板では、ケース内に収容された場合であっても、識別部（３）をケースの外から無線で識別することにより、ケースから基板（Ｍ）を取り出すことなく基板（Ｍ）の情報を確認することが可能である。また、本発明では、識別部（Ｍ）が保護材（７１）で覆われているので、基板（Ｍ）を洗浄した場合でも識別部（３）が損傷・剥離することを防止できる。
【００１４】
そして、本発明の基板は、所定の保持部（２４ａ）により保持される基板（Ｍ）であって、保持部（２４ａ）と機械的に非接触の部分（３ｂ）に、無線により基板（Ｍ）を識別させる識別部（３）を有することを特徴とするものである。
【００１５】
従って、本発明の基板では、ケース内に収容された場合であっても、保持部（２４ａ）と機械的に非接触の部分（３ｂ）に設けられた識別部（３）をケースの外から無線で識別することにより、ケースから基板（Ｍ）を取り出すことなく基板（Ｍ）の情報を確認することが可能である。
【００１６】
一方、本発明の露光装置は、基板（Ｍ）を収容する収容部（５）と、基板（Ｍ）を用いて露光処理を行う露光装置本体（１６）とを有する露光装置（１５）であって、収容部（５）には、請求項１から７のいずれか一項に記載の基板（Ｍ）が収容され、基板（Ｍ）の識別部（３）を無線により読み取る読取部（３７）とを備えることを特徴とするものである。
【００１７】
従って、本発明の露光装置では、基板（Ｍ）を収容部（５）に収容した際や露光処理前に基板（Ｍ）を収容部（５）から取り出す前に、識別部（３）を収容部（５）の外から読取部（３７）が無線で識別することにより、収容部（５）から基板（Ｍ）を取り出すことなく基板（Ｍ）の情報を確認することが可能である。
【００１８】
そして、本発明の露光システムは、複数の露光装置（１５ａ〜１５ｃ）が同一のネットワーク（ＮＷ）で接続された露光システム（ＥＳ）であって、露光装置として請求項８または９記載の露光装置が接続され、読取部（３７ａ〜３７ｇ）で読み取った識別情報を記憶する記憶部（３６ａ〜３６ｇ）と、記憶部（３６ａ〜３６ｇ）に記憶された識別情報を読み出す読出部（Ｈ）とを有することを特徴とするものである。
【００１９】
従って、本発明の露光システムでは、各露光装置（１５ａ〜１５ｃ）の収容部（５）に収容された基板（Ｍ）の情報を、基板（Ｍ）を収容部（５）から取り出すことなく確認して記憶することができる。そして、本発明では、他の露光装置の収容部に収容された基板（Ｍ）の識別情報をネットワーク（ＮＷ）を介して読み出すことが可能である。
なお、本発明をわかりやすく説明するために、一実施例を表す図面の符号に対応付けて説明したが、本発明が実施例に限定されるものではないことは言うまでもない。
【発明の効果】
【００２０】
本発明では、無線により基板の情報を確認できるので、基板がケースに収容されている場合でも基板をケースから取り出す必要がなくなり生産性が向上するともに、基板の情報確認のために扉を開ける必要がなくなりチャンバ内の清浄度を低下させてしまうことも防止できる。また、本発明では、遠隔配置された露光装置や処理装置に関しても基板の情報及びその所在情報を容易、且つ迅速に確認することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の基板及び露光装置並びに露光システムの実施の形態を、図１ないし図１２を参照して説明する。
ここでは、本発明を基板としてのマスクに適用するものとして、まず基板について説明する。
（第１実施形態）
図１（ａ）は、マスク（レチクル）Ｍの平面図であり、（ｂ）は正面図である。
図１に示すマスクＭは平板状であり、一方の面（パターン面）Ｍａのパターン領域ＰＡには転写すべきパターンが形成される。また、マスクＭには、パターン領域ＰＡ（パターン）を保護する保護部材１が設けられている。
【００２２】
保護部材１は、ペリクルＰＥと、マスクＭに設けられ、ペリクルＰＥをマスクＭに対して所定間隔離して保持するペリクル枠（枠部材）２とから構成されている。
ペリクル枠２は平面視矩形状に形成された金属製部材であり、一方の端部をマスクＭのパターン面Ｍａに取り付けられている。
ペリクルＰＥは、ニトロセルロースあるいはフッ素系樹脂等を主成分とする厚さが１〜２μｍ程度の透明な薄膜であり、ペリクル枠２の他方の端部に隙間無く取り付けられている。そして、マスクＭとペリクルＰＥとペリクル枠２とに囲まれて、空間Ｓが形成されている。
【００２３】
また、本実施の形態では、ペリクル枠２の外側の側面にＩＤタグ（識別部）３が接着剤等により設けられている。ＩＤタグ３は、製造番号等、マスクＭを識別させる情報を記憶するＩＤ用メモリ、通信に必要な制御回路及びアンテナ等を搭載したＩＣチップで構成されている。このＩＤタグ３は、例えばフェライトコアに銅線を巻いたアンテナを有しており、使用する無線電波の周波数に応じて非接触での交信距離が１ｃｍ〜２ｍ程度の距離で非接触での交信が可能なものである。また、ＩＤタグ３としては、電池を内蔵するアクティブタブ型や送られた電波を電力に変換して用いるパッシブタグ型があるが、本実施の形態では、小型化及び電池交換作業（メンテナンス作業）を排除するためにパッシブタグ型を使用している。
【００２４】
そのため、ＩＤタグ３は、交信可能距離に位置する後述するリーダから所定時間、無線で電波を受け、これを電力に変換してＩＣチップを作動させ、メモリに記憶されている情報をリーダに送り返す。すなわち、リーダから無線で電波を送り、ＩＤタグ３から送られたマスクＭの情報を受信することにより、マスクＭを識別することができる。
【００２５】
続いて、上記のマスクＭを用いて露光処理を行う露光装置について説明する。
図２に、本発明に係る露光装置１５の内部構造を示す。
ここに示される装置構成全体は、清浄な雰囲気状態に保持されたチャンバ（図示せず）内に配設されている。
なお、この図において、矢印Ｘ、Ｙ、Ｚで示す方向をそれぞれＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向（鉛直方向）として説明する。
【００２６】
露光装置１５は、露光装置本体１６と、露光時に使用されるマスクＭを複数収納可能なライブラリ１８と、マスク搬送装置（基板搬送装置）１９および図３に示す制御装置ＣＯＮＴとから概略構成されている。
図２に示すように、露光装置本体１６は、図示しない照明光学系と、マスクＭを搭載するマスクステージ２４と、投影光学系２５と、ウエハ２６が載置されるウエハステージ２７とから概略構成されている。
【００２７】
ライブラリ１８は、マスクＭを収容するマスクケース（収容部）５を第１方向であるＺ方向に複数段（図２では６段）着脱自在に保持するものである。マスクケース５は、プラスチック等、無線の電波が透過可能な材料で形成されており、その一端には開閉自在な蓋部５ａが設けられている（図４参照）。
ライブラリ１８の露光装置本体１６と逆側には、マスクケース５内のマスクＭの情報を無線により読み取るためのリーダ（読取部）３７が配設されている。リーダ３７は、ＩＤタグ３と交信するための無線電波を所定時間送り、ＩＤタグ３からの電波を無線で受信するものであって、リーダ駆動アーム（駆動装置）４１に取り付けられており、受信結果を制御装置ＣＯＮＴに出力する構成となっている。リーダ駆動アーム４１は、制御装置ＣＯＮＴの制御の下、ライブラリ１８の近傍に設けられＺ方向に延在するガイド４０に沿って上下方向に移動自在となっている。
【００２８】
ライブラリ１８に対しては、チャンバに設けられた開閉扉２０を開けることにより、マニュアルで脱着可能となっている。開閉扉２０の上端および下端近傍には、該開閉扉２０の開閉状態を検知する開閉扉検知センサ２２，２３が設けられている。
【００２９】
マスク搬送装置１９は、ライブラリ１８と露光装置本体１６との間でマスクＭを搬送するものであって、マスク搬送部２８とキャリア２９とロード部３０とから構成されている。マスク搬送部２８は、マスクＭをライブラリ１８の所定のマスクケース５に対して搬入、搬出するものであって、Ｚ方向に移動自在な移動体３１と、移動体３１にＹ方向に移動自在に取り付けられるフォーク３２とから構成されている。フォーク３２は、マスクＭを下面から真空吸着するものである。
【００３０】
キャリア２９は、下面に真空吸着穴（図示せず）が設けられており、マスクＭを吸着保持して受渡位置ＣＡ１から位置ＣＡ２との間のＸ方向に移動自在とするものである。
また、キャリア２９には、マスクＭの四辺を基準に二方向から挟み込んで該マスクＭをプリアライメントする機構（図示せず）が設けられている。
【００３１】
ロード部３０は、Ｚ方向に移動自在とされる移動体３３と、移動体３３にＹ方向に移動自在に取り付けられ位置ＣＡ２からマスクステージ２４にマスクＭを搬送するロードアーム３４およびマスクステージ２４から位置ＣＡ２にマスクＭを搬送するアンロードアーム３５とから構成されている。これらロードアーム３４およびアンロードアーム３５は、Ｙ方向については位置ＣＡ２とマスクステージ２４との間を個別に移動可能であり、Ｚ方向については一体的に移動可能である。
また、ロードアーム３４およびアンロードアーム３５には、フォーク３２と同様にマスクＭを吸着保持するための真空吸着穴（図示せず）が設けられている。
上記吸着部１２、真空吸着穴は、真空のＯＮ、ＯＦＦによりマスクＭの吸着保持および解除が可能になっている。
【００３２】
図３は、露光装置１５における制御ブロック図である。
制御装置ＣＯＮＴは、露光装置１５全体を統括的に制御するものであり、特に、露光装置本体１６、マスク搬送部２８、キャリア２９、ロード部３０、リーダ駆動アーム４１の駆動を制御している。また、上述したように、制御装置ＣＯＮＴにはリーダ３７が接続され、リーダ３７が受信したマスクＭの情報が出力される。さらに、制御装置ＣＯＮＴには、露光処理で使用するマスクＭの情報が予め記憶された記憶部３６が接続されており、制御装置ＣＯＮＴは、リーダ３７から出力されたマスクＭの情報をライブラリ１８におけるマスクＭの位置とともに記憶部３６に記憶する構成となっている。
【００３３】
上記の構成の露光装置におけるマスク搬送装置１９およびマスクＭの作用について以下に説明する。
なお、以下の説明においては、マスク搬送部２８、キャリア２９、ロード部３０、リーダ駆動アーム４１の駆動は制御装置ＣＯＮＴの制御下で行われるものとする。
【００３４】
露光時に使用するマスクＭが収納されたマスクケース５を、オペレータまたはロボット等によりチャンバの開閉扉２０を開けてライブラリ１８に装填した場合や、ライブラリ１８に保持されたマスクケース５にマスク搬送装置１９によりマスクケース５の蓋部５ａを介してマスクＭを収容した場合、該当するマスクケース５とリーダ３７が対向するようにリーダ駆動アーム４１が昇降する。
【００３５】
そして、マスクケース５を介してマスクＭと対向状態にあるリーダ３７から無線により電波が送られる。この電波を受けたＩＤタグ３は、製造番号等のマスクＭの情報をリーダ３７に無線で送り返す。リーダ３７は、ＩＤタグ３から送られたマスクＭの情報を制御装置ＣＯＮＴに出力し、制御装置ＣＯＮＴは、出力された情報をマスクＭの位置（マスクケース５の位置）とともに記憶部３６に記憶させる。
このとき、制御装置ＣＯＮＴは、予め記憶部３６に記憶されているマスクＭの位置及びその情報と、リーダ３７から出力されたマスクＭの位置及びその情報とを照合して、これらが合致していなければ警報を発する。
【００３６】
なお、マスクケース５はプラスチック等の電波が透過する材料で形成されているため、リーダ３７とＩＤタグ３とは支障なく無線交信することができる。
また、露光開始前等で複数のマスクケース５（マスクＭ）がライブラリ１８に装填された場合は、リーダ駆動アーム４１を昇降させ、複数のマスクＭに対して上記の無線交信を順次実施することで、各マスクＭの情報をそれぞれ識別して個別に記憶することが可能である。
【００３７】
ライブラリ１８に所定のマスクＭが装填されたことが確認され、露光処理を開始する場合、制御装置ＣＯＮＴはマスク搬送部２８の移動体３１を駆動制御して、露光処理で使用するマスクＭにフォーク３２が対向する位置へＺ方向に移動させる。
そして、フォーク３２を移動体３１に対してＹ方向に移動させてマスクＭを下方から吸着保持させる。この後、フォーク３２が、ライブラリ１８から離間する方向（−Ｙ方向）に移動させることにより、マスクＭがライブラリ１８から引き出される。
マスクＭがライブラリ１８から引き出されると、リーダ３７と当該マスクＭのＩＤタグ３との無線交信ができなくなるため、制御装置ＣＯＮＴは当該マスクＭがライブラリ１８から搬出されたと判断して、記憶部３６に対してマスクＭが使用中（露光中）であることを記憶させる。
【００３８】
フォーク３２によってライブラリ１８から引き出されたマスクＭは、移動体３１の駆動により、受渡位置ＣＡ１までＺ方向に移動する。そして、受渡位置ＣＡ１にてフォーク３２の真空吸着が解除されると共に、キャリア２９の真空吸着穴からの真空吸着が作動することにより、マスクＭはマスク搬送部２８からキャリア２９へ受け渡される。受け渡されたマスクＭは、キャリア２９により正確にプリアライメントされた後、キャリア２９と共にロードアーム３４への受渡位置ＣＡ２へＸ方向に移動する。ここで、ロードアーム３４は、退避位置よりＹ方向に前進し、位置ＣＡ２で待機するキャリア２９の直下に移動した後、Ｚ方向に上昇する。そして、ロードアーム３４は、プリアライメントされた状態のまま正確にキャリア２９からマスクＭを真空吸着により受け渡された後に、マスクＭを真空吸着した状態でＹ方向に移動してマスクＭをマスクステージ２４へ搬送する。マスクＭは、マスクステージ２４の保持部２４ａにおいて下面から吸着保持される。
【００３９】
そして、露光装置本体１６において、マスクステージ２４上に載置されたマスクＭは、照明光学系による露光光で照明される。
マスクＭに形成された原画パターンは、投影光学系２５を介してウエハステージ２７上に載置されたウエハ２６に投影転写される。
【００４０】
このマスクＭを用いた露光が完了すると、マスクＭはアンロードアーム３５によってマスクステージ２４から搬出され、上記と逆の手順によりライブラリ１８内に収納される。マスクＭがライブラリ１８に収納されると、リーダ３７との無線交信が可能になるため、制御装置ＣＯＮＴは当該マスクＭがライブラリ１８に搬入されたと判断して、記憶部３６に対してマスクＭを保管中であることを記憶させる。
【００４１】
以上のように、本実施の形態では、保護部材１のペリクル枠２に設けられたＩＤタグ３に対してリーダ３７が無線によりマスクＭの情報を得ることができるので、マスクＭがマスクケース５に収容されている場合でもマスクＭをケース５から取り出すことなく、容易且つ迅速にマスクＭの情報を確認することができるとともに、マスクＭの情報確認のために開閉扉２０を開ける必要がなくなりチャンバ内の清浄度を低下させてしまうことも防止できる。また、本実施の形態では、リーダ駆動アーム４１によりリーダ３７を上下動させることで複数のマスクＭの情報を確認できるので、マスク毎にリーダを設ける場合に比較してコスト削減に寄与することも可能であるとともに、ライブラリ１８のマスク収容可能数の増減にも容易に対応可能である。
【００４２】
（第２実施形態）
続いて、本発明の第２実施形態について図５を参照して説明する。
第２実施形態では、上述した露光装置１５が複数（ここでは３台の露光装置１５ａ〜１５ｃ）接続されてネットワークを構成する露光システムについて説明する。
図５に示す露光システムＥＳは、露光装置１５ａ〜１５ｃ、マスクＭを収容したマスクケース５を複数保管（保管処理）するマスクストッカーＭＳ、マスクＭの表面に異物が付着しているかを検査（検査処理）する異物検査装置６、マスクＭに形成されたパターンの精度（座標精度）を計測（計測処理）するマスクパターン計測装置７、これらの装置間でケース５を介してマスクＭを搬送（搬送処理）するＡＧＶ（Auto Guided Vehicle）等の搬送車８、上記のシステム構成機器を統括的に管理・制御するホスト（読出部）Ｈが同一のネットワークＮＷで接続された構成となっている。
【００４３】
露光装置１５ａから１５ｃには、上述したリーダ３７と同様にマスクＭのＩＤタグ３と無線交信してマスクＭの情報を受信するリーダ３７ａ〜３７ｃと、リーダ３７ａ〜３７ｃが受信した結果をそれぞれ記憶する記憶部３６ａ〜３６ｃとが設けられ、また、マスクストッカーＭＳ、異物検査装置６、マスクパターン計測装置７、搬送車８にも同様の構成を有する読取部としてのリーダ３７ｄ〜３７ｇと記憶部３６ｄ〜３６ｇとがそれぞれ設けられている。
ホストＨは、ネットワークＮＷを介して記憶部３６ａ〜３６ｇにアクセスして、この記憶部３６ａ〜３６ｇに記憶（記録）されている情報を読み出す構成となっている。
【００４４】
本実施の形態では、露光装置１５ａ〜１５ｃ、処理装置であるマスクストッカーＭＳ、異物検査装置６、マスクパターン計測装置７及び搬送車８等にマスクＭが搬入・搬出されると、リーダ３７ａ〜３７ｇで検出されたマスクＭの情報が各処理装置を示すＩＤとともに各記憶部３６ａ〜３６ｇに記憶される。そして、露光システムＥＳにおいて所望のマスクの所在を確認したい場合には、ホストＨを用いて検索を実行する。ホストＨは、ネットワークＮＷ経由で記憶部３６ａ〜３６ｇにアクセスして所望のマスクについて検索する。
【００４５】
この構成では、ホストＨを操作することで遠隔配置された露光装置１５ａ〜１５ｃや処理装置ＭＳ、６〜８で処理されているマスクの情報及びその所在情報を容易、且つ迅速に確認することができる。そのため、マスク情報の確認のために、密封されている箇所を開ける必要がなくなり、清浄度及びケミカルクリーンの環境を維持することができる。また、上記の構成では、電話回線や専用線をネットワークＮＷに接続することにより、国内の遠隔地に複数設置された工場や事業所、さらには国外に展開された工場や事業所で構築された露光システムについてもマスク情報の確認を容易、且つ瞬時に実施することが可能になる。
【００４６】
（第３実施形態）
続いて、本発明の第３実施形態について図６を参照して説明する。
第１実施形態では、マスク毎にマスクケースに収容し、このマスクケースをライブラリに装着する構成としたが、本実施形態では一つの収容部に対して複数のマスクを収容する例について説明する。
【００４７】
図６に示すように、本実施の形態における収容部としてのマスクケース５３は、ＳＭＩＦ（Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ  ＩｎｔｅｒＦａｃｅ）型のケースであり、底部側が開口するカバー５４と、この開口を開閉自在とするようにカバー５４に取り付けられた底板５５と、この底板５５の上に配設された保持棚５６とを有して構成される（図６ではカバー５４と底板５５及び保持棚５６とが分離した状態が図示されている）。カバー５４は、不図示のロック機構により底板５５とロック係合可能になっている。保持棚５６には複数段（ここでは６段）の棚が設けられており、この棚にマスクＭを挿入保持可能となっている。なお、ＳＭＩＦ型のケースとしては、図６中、二点鎖線で示すように、１枚のマスクを収納可能なマスクケース５３ａも用いられる。
【００４８】
このマスクケース５３は、図１に示したマスク搬送装置１９の近傍（ライブラリ１８の位置）に設置された収納分離ユニット５７に載置される。
収納分離ユニット５７には、上面にレチクルケース５３を受容保持する取付部５８と、該取付部５８の下方でフォーク３２（図２参照）と対向する位置に空間６２とが設けられている。取付部５８には、底板５５および保持棚５６を空間６２に収納するための開口５９が設けられている。また、取付部５８は、ここに取り付けられたレチクルケース５３のカバー５４と底板５５とのロックを解除する機構（不図示）を有している。また、収納分離ユニット５７には、ボールネジ６０ａ、ボールナット６０ｂ等からなる上下移動機構（駆動装置）６０が設けられており、この上下移動機構６０により、カバー５４とのロックが解除された底板５５および保持棚５６を、移動板６１で支持して空間６２内を上下動させることができる。なお、このとき、カバー５４は、取付部５８に取り付けた状態のまま残される。
【００４９】
そして、移動板６１の上下動に伴う、マスクＭのペリクル枠２に設けられたＩＤタグ３の移動経路近傍には、ＩＤタグ３と無線通信を行うリーダ３７が配設されている。
この場合、移動板６１を下降させながらリーダ３７により順次ＩＤタグ３からマスクＭの情報を読み取ったり、所定のマスクＭのＩＤタグ３がリーダ３７と対向する位置で移動板６１を停止させ当該マスクＭの情報を読み取ることができる（図６では、上から２段目のマスクの情報を読み取る状態を図示している）。
このように、本実施の形態では、ＳＭＩＦ型のマスクケース５３を用いた場合でも、無線交信により、容易、且つ迅速にマスクＭの情報を確認することが可能である。
【００５０】
（マスクＭの他の実施形態）
上記の実施形態では、保護部材１におけるペリクル枠２の外側の側面にＩＤタグ３を設ける構成としたが、他の構成であってもよい。
以下、図７乃至図１０を参照して他の実施形態について説明する。なお、これらの図において、図１に示す第１の実施の形態の構成要素と同一の要素については同一符号を付し、その説明を省略する。
【００５１】
図７に示すマスクＭでは、パターン面Ｍａの中、保護部材１に囲まれた部分にＩＤタグ３が設けられている。また、図８に示すマスクＭでは、保護部材１に囲まれたペリクル枠２の内側の側面にＩＤタグ３が設けられている。
この構成では、上記の実施形態と同様の作用・効果が得られることに加えて、ＩＤタグ３が保護部材１に囲まれているので、マスクＭの洗浄や他の部材との接触等によりＩＤタグ３がマスクＭから離脱・剥離することを防止できる。
なお、この実施形態では、ペリクルＰＥを介して無線交信が可能であるが、無線の感度を向上させるためには、無線電波が透過するプラスチック等によりペリクル枠２を形成することが好ましい。
【００５２】
図９に示すマスクＭにおいては、パターン領域ＰＡの周囲に露光光を遮光するための遮光帯ＳＴがクロム等の導電性材料により導電性パターンとして形成されている。そして、マスクＭのパターン面Ｍａに設けられたＩＤタグ３の内部アンテナは、この遮光帯ＳＴと接続線７０により接続されている。接続線７０は、遮光帯ＳＴと同じクロム等の導電性材料で形成され、遮光帯ＳＴとＩＤタグ３（の内部アンテナ）とを電気的に接続している。なお、配線７０としては、製造を容易にする観点から遮光帯ＳＴと同一工程で形成することが好ましい。
この構成では、上記の実施形態と同様の作用・効果が得られることに加えて、広い面積を有する遮光帯ＳＴがＩＤタグ３のアンテナとして機能することになるので、リーダとの無線交信における感度が向上し、マスクＭの情報をより安定した状況で読み取ることが可能になる。
なお、図９に示すマスクＭにおいては、パターン領域ＰＡを保護する保護部材を設けていないが、保護部材が設けられる構成であっても適用可能である。
【００５３】
図１０に示すマスクＭにおいては、パターン面Ｍａのパターン領域ＰＡとは異なる端縁近傍の位置に保護剤７１に覆われてＩＤタグ３が設けられている。保護剤７１としては、無線電波を透過する、例えばマスクＭの洗浄剤に対して耐性を有するフッ素剤等を用いることができる。
この構成においても、図７及び図８に示したマスクＭと同様に、マスクＭの洗浄等によりＩＤタグ３がマスクＭから離脱・剥離することを防止できる。
なお、図１０に示すマスクＭにおいても、パターン領域ＰＡを保護する保護部材を設けた場合にも適用可能であるが、保護部材を設けない場合は特に洗浄剤による悪影響を回避する観点から、図１０に示す構成が好ましい。
【００５４】
なお、上述した複数形態のマスクＭは、マスクステージ２４の保持部２４ａ（図２参照）に接触して保持されるため、マスクＭに取り付けるＩＤタグ３は、図１１に示すように、保持部２４ａと機械的に接触する接触部３ａを除いた非接触の部分３ｂに配置することがマスクステージ２４上にマスクＭを安定して保持するために肝要である。
【００５５】
なお、上記実施の形態におけるペリクルＰＥとしては、上述した材料の他に、マスクＭ及びレンズ系と同材質の蛍石、フッ化マグネシウム、フッ化リチウム等の結晶材料からなるフィルム状部材でもよいし、１００〜３００μｍ程度の厚さを有する石英ガラス（フッ素が均一にドープされた石英等）であってもよい。これらは波長１２０ｎｍ〜１８０ｎｍの真空紫外線光の露光光ＥＬを良好に透過するため好ましい。
【００５６】
また、上記実施の形態では、１つのリーダ３７がＺ方向に移動することで、複数のマスクＭの情報を検出する構成としたが、これに限定されるものではなく、ライブラリ１８に装着可能なマスクケースと同じ数のリーダ３７を各マスクケースの装着位置に対応して配置してもよい。また、第１実施形態では、ライブラリ１８のマスク搬送装置１９と逆側にリーダ３７を配置する構成としたが、マスク搬送装置１９と同じ側に配置してもよい。例えば、マスク搬送装置１９によるマスク搬送経路の途中にもリーダを配設することで、露光装置本体１６に搬送されるマスクＭの情報を再確認することも可能になり、より信頼性を高めることができる。
【００５７】
さらに、上記実施形態では、各マスクＭにＩＤタグ３を一つ設ける構成として説明したが、二つ以上設ける構成としてもよい。この場合、追加したタグには、例えばマスクの使用履歴やパターンの製造誤差等、当該マスクに関する種々の情報を記憶させておくことができる。また、マスクケース５についてもＩＤタグを設けておき、双方のＩＤタグから読み取ったマスク情報を照合して信頼性を向上させることもできる。また、ＩＤタグを読出専用ではなく、読出・書き込みの双方を可能にしておき、ライブラリ１８やＳＭＩＦ用収納分離ユニット５７の近傍にリーダ・ライタを設置しておけば、上記マスクの使用履歴を随時更新することも可能になり汎用性を大きくすることができる。さらに、ＩＤタグ３との無線交信によるマスク情報の取得に加えて、マスクにバーコードを設けておき、双方からマスクの情報を得る構成とすれば、一方が故障した場合でもシステムがダウンしてしまうことを防止でき、また双方から得たマスクの情報を照合することで信頼性を一層高めることも可能になる。
【００５８】
また、上記実施の形態では、露光処理に用いるマスクの情報を確認する場合の例を用いて説明したが、これに限定されるものではなく他の基板、例えばウエハ２６にＩＤタグ３を取付け、ウエハ情報（プロセスに関する情報、アライメントマーク誤差情報、レジスト情報）を確認する構成としてもよい。
【００５９】
なお、上記各実施形態の基板としては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等が適用される。
【００６０】
露光装置１５としては、マスクＭとウエハ２６とを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、マスクＭとウエハ２６とを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、ウエハ２６を順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。また、本発明はウエハ２６上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写するステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。
【００６１】
また、本発明は、特開平１０−１６３０９９号公報、特開平１０−２１４７８３号公報、特表２０００−５０５９５８号公報などに開示されているツインステージ型の露光装置にも適用できる。
【００６２】
露光装置１５の種類としては、ウエハ２６に半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。
【００６３】
また、露光用照明光の光源として、超高圧水銀ランプから発生する輝線（ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０４．７ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ））、ＫｒＦエキシマレーザ（２４８ｎｍ）、ＡｒＦエキシマレーザ（１９３ｎｍ）、Ｆ２レーザ（１５７ｎｍ）のみならず、Ｘ線や電子線などの荷電粒子線を用いることができる。例えば、電子線を用いる場合には電子銃として、熱電子放射型のランタンヘキサボライト（ＬａＢ６）、タンタル（Ｔａ）を用いることができる。さらに、電子線を用いる場合は、マスクＭを用いる構成としてもよいし、マスクＭを用いずに直接ウエハ上にパターンを形成する構成としてもよい。また、ＹＡＧレーザや半導体レーザ等の高周波などを用いてもよい。
【００６４】
投影光学系２５としては、エキシマレーザなどの遠紫外線を用いる場合は硝材として石英や蛍石などの遠紫外線を透過する材料を用い、Ｆ２レーザやＸ線を用いる場合は反射屈折系または屈折系の光学系にし（マスクＭも反射型タイプのものを用いる）、また電子線を用いる場合には光学系として電子レンズ及び偏向器からなる電子光学系を用いればよい。なお、電子線が通過する光路は、真空状態にすることはいうまでもない。また、投影光学系２５を用いることなく、マスクＭとウエハ２６とを密接させてマスクＭのパターンを露光するプロキシミティ露光装置にも適用可能である。
【００６５】
ウエハステージ２７やマスクステージ２４にリニアモータ（USP5,623,853またはUSP5,528,118参照）を用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもよい。また、各ステージＰＳＴ、ＭＳＴは、ガイドに沿って移動するタイプでもよく、ガイドを設けないガイドレスタイプであってもよい。
【００６６】
各ステージ２４、２７の駆動機構としては、二次元に磁石を配置した磁石ユニットと、二次元にコイルを配置した電機子ユニットとを対向させ電磁力により各ステージ２４、２７を駆動する平面モータを用いてもよい。この場合、磁石ユニットと電機子ユニットとのいずれか一方をステージ２４、２７に接続し、磁石ユニットと電機子ユニットとの他方をステージ２４、２７の移動面側に設ければよい。
【００６７】
ウエハステージ２７の移動により発生する反力は、投影光学系２５に伝わらないように、特開平８−１６６４７５号公報（USP 5,528,118）に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。
マスクステージ２４の移動により発生する反力は、投影光学系２５に伝わらないように、特開平８−３３０２２４号公報（USP 5,874,820）に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。また、特開平８−６３２３１号公報（USP 6,255,796）に記載されているように運動量保存則を用いて反力を処理してもよい。
【００６８】
本願実施形態の露光装置１５は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００６９】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図１２に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、前述した実施形態の露光装置１５によりマスクのパターンを基板に露光する露光処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【図面の簡単な説明】
【００７０】
【図１】本発明の実施の形態を示す図であって、ペリクル枠にＩＤタグが設けられた（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。
【図２】本発明に係る露光装置の概略構成図である。
【図３】露光装置における制御ブロック図である。
【図４】ライブラリに配列されたマスクとリーダとの関係を示す図である。
【図５】露光システムのネットワークを示す図である。
【図６】ＳＭＩＦ型のマスクケース及び収納分離ユニットを示す正面図である。
【図７】マスクの他の実施形態を示す（ａ）は平面図、（ｂ）は正面断面図である。
【図８】マスクの他の実施形態を示す（ａ）は平面図、（ｂ）は正面断面図である。
【図９】マスクの他の実施形態を示す（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。
【図１０】マスクの他の実施形態を示す（ａ）は平面図、（ｂ）は正面図である。
【図１１】マスクの他の実施形態を示す（ａ）は平面図、（ｂ）は正面断面図である。
【図１２】半導体デバイスの製造工程の一例を示すフローチャート図である。
【符号の説明】
【００７１】
ＥＳ  露光システム
Ｈ  ホスト（読出部）
Ｍ  マスク（レチクル、基板）
Ｍａ  パターン面
ＭＳ  マスクストッカー（処理装置）
ＰＡ  パターン領域
ＮＷ  ネットワーク
ＳＴ  遮光帯（導電性パターン）
１  保護部材
２  ペリクル枠（枠部材）
３  ＩＤタグ（識別部）
５  マスクケース（収容部）
６  異物検査装置（処理装置）
７  マスクパターン計測装置（処理装置）
８  搬送車（処理装置）
１５、１５ａ〜１５ｃ  露光装置
１６  露光装置本体
２４ａ  保持部
３６、３６ａ〜３６ｇ  記憶部
３７、３７ａ〜３７ｇ  リーダ（読取部）
４１  リーダ駆動アーム（駆動装置）
５３  マスクケース（収容部）
６０  上下移動機構（駆動装置）
７１  保護剤
【図１】
2005215508.tif 000003
【図２】
2005215508.tif 000004
【図３】
2005215508.tif 000005
【図４】
2005215508.tif 000006
【図５】
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【図６】
2005215508.tif 000008
【図７】
2005215508.tif 000009
【図８】
2005215508.tif 000010
【図９】
2005215508.tif 000011
【図１０】
2005215508.tif 000012
【図１１】
2005215508.tif 000013
【図１２】
2005215508.tif 000014