(57)【要約】【課題】干渉計方式でステージの高さの変化を計測すると共に、他の干渉計用の移動鏡等の配置の自由度を高く保つ。【解決手段】ウエハベース１４上に移動自在にウエハステージ１２を載置し、ウエハステージ１２上にＺ軸アクチュエータ１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃを介してウエハＷを保持するウエハテーブル１１を設置し、ウエハＷ上に投影光学系ＰＬを介してレチクルＲのパターンを転写する。ウエハテーブル１１の側面に背面が反射面とされたプリズム２０Ａを設置し、その上に移動鏡２１Ｘを設置する。Ｘ軸レーザ干渉計２３Ｘ及び移動鏡２１Ｘによって、ウエハテーブル１１のＸ方向の位置を計測する。Ｚ軸レーザ干渉計２２Ａ、プリズム２０Ａ、及びプリズム２０Ａで上方に反射されたレーザビームＬＡを入射方向に反射して戻す固定ミラー２４Ａによって、プリズム２０ＡのＺ方向の変位を計測する。【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
物体を移動するためのステージ装置において、
前記物体を保持してガイド面上を少なくとも一方向に移動するステージと、
前記ステージに計測ビームを照射する第１干渉計と、
前記ステージに設けられ、屈折と反射とを用いて前記計測ビームの方向を入射方向と交差する方向に変える屈折光学部材と、
前記屈折光学部材によって方向が変えられた計測ビームを前記屈折光学部材に向けて反射する反射部材とを有することを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記第１干渉計は前記ステージに前記計測ビームとは異なる参照ビームを照射し、
前記ステージは、照射された前記参照ビームを前記第１干渉計に向けて反射する参照部材を備え、
前記第１干渉計の検出結果に基づいて、前記ステージの前記計測ビームの入射方向に交差する方向の変位を求める演算装置を更に有することを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項３】
前記ステージの前記第１干渉計からの計測ビームの光路に沿った方向の位置を検出する第２干渉計と、
前記第１干渉計の検出結果と、前記第２干渉計の検出結果とに基づいて、前記ステージの前記計測ビームの入射方向に交差する方向の変位を求める演算装置とを有することを特徴とする請求項１に記載のステージ装置。
【請求項４】
前記屈折光学部材は、前記計測ビームを屈折させる屈折部と、該屈折部によって屈折した前記計測ビームを反射する反射面とを備え、
前記反射面は前記ガイド面に対して実質的に垂直であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のステージ装置。
【請求項５】
前記屈折光学部材は、前記屈折部の対向する第１面及び第２面が非平行であると共に、前記第１面が前記計測ビームの入射面であり、前記第２面が前記計測ビームの前記反射面となるプリズムであることを特徴とする請求項４に記載のステージ装置。
【請求項６】
第１物体のパターンを投影光学系を介して第２物体上に投影する露光装置において、
前記第１物体又は前記第２物体を保持してガイド面上を少なくとも一方向に移動するステージと、
前記ステージに計測ビームを照射する第１干渉計と、
前記ステージに設けられ、屈折と反射とを用いて前記計測ビームの方向を入射方向と交差する方向に変える屈折光学部材と、
前記屈折光学部材によって方向が変えられた計測ビームを前記屈折光学部材に向けて反射する反射部材とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項７】
前記第１干渉計は前記ステージに前記計測ビームとは異なる参照ビームを照射し、
前記ステージは、照射された前記参照ビームを前記第１干渉計に向けて反射する参照部材を備え、
前記第１干渉計の検出結果に基づいて、前記ステージの前記投影光学系の光軸に沿った方向の変位を求める演算装置を更に有することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項８】
前記ステージの前記第１干渉計からの計測ビームの光路に沿った方向の位置を検出する第２干渉計と、
前記第１干渉計の検出結果と、前記第２干渉計の検出結果とに基づいて、前記ステージの前記投影光学系の光軸に沿った方向の変位を求める演算装置とを有することを特徴とする請求項６に記載の露光装置。
【請求項９】
前記ステージに関して前記第１干渉計、前記屈折光学部材及び前記反射部材にそれぞれ実質的に対称に配置された第３干渉計、第２屈折光学部材及び第２反射部材を更に有し、
前記演算装置は、前記第１干渉計及び前記第３干渉計の検出結果に基づいて、前記ステージの前記投影光学系の光軸に沿った方向の変位を求めることを特徴とする請求項６〜８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１０】
前記露光装置は走査露光型であり、
前記第１干渉計及び前記第３干渉計は、走査露光時の前記第１物体又は前記第２物体の走査方向に直交する方向に沿って前記ステージを挟むように配置されることを特徴とする請求項９に記載の露光装置。
【請求項１１】
前記ステージは、
前記ガイド面上を移動する可動ステージと、
前記第１物体又は前記第２物体を保持すると共に前記屈折光学部材が設けられたテーブルと、
前記可動ステージに対して前記テーブルを前記投影光学系の光軸に沿った方向に駆動する光軸方向駆動装置とを有し、
前記演算装置で求められた前記テーブルの前記投影光学系の光軸に沿った方向の変位に基づいて、前記光軸方向駆動装置を介して前記テーブルを駆動することを特徴とする請求項７〜１０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１２】
前記第１干渉計を含んで前記ステージの６自由度の変位を検出する６軸の干渉計を有することを特徴とする請求項６〜１１のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１３】
請求項６〜１２のいずれか一項に記載の露光装置を用いてデバイスのパターンを基板上に転写する工程を含むデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高さ方向の変位を計測する機構を備えたステージ装置に関し、例えば半導体素子、撮像素子、液晶表示素子、又は薄膜磁気ヘッド等の各種デバイスを製造するためのリソグラフィ工程で使用される露光装置において、マスク又は基板の移動を行うためのオートフォーカス機構付きのステージ系に使用して好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】
半導体素子等を製造するためのリソグラフィ工程は、感光材料の塗布工程、露光工程、現像工程、及びパターン形成工程等を含み、その露光工程において、マスクとしてのレチクルのパターンを基板としてのレジストが塗布されたウエハ（又はガラスプレート等）上の各ショット領域に転写するために、ステッパー等の投影露光装置が使用されている。投影露光装置においては、高解像度を得るために投影光学系の開口数が次第に大きくなり、それに応じて焦点深度は次第に狭くなっている。そこで、ウエハ面（ウエハの表面）を予めテストプリント等によって求められている投影光学系の像面に対して焦点深度の幅内で合わせ込んで露光を行うために、投影露光装置にはオートフォーカス機構が備えられている。従来のオートフォーカス機構は、ウエハ面の像面に対する変位、即ちウエハ面の投影光学系の光軸方向（以下、「Ｚ方向」とも言う）の変位を計測するための斜入射方式のオートフォーカスセンサと、ＸＹステージ上でウエハを保持するウエハテーブルのＺ方向の位置を制御する高さ制御機構とから構成されていた（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
最近は、投影光学系に対する負荷をあまり大きくすることなく、大面積の回路パターンをウエハ上に転写するために、スキャニング・ステッパー等の走査露光型の投影露光装置も使用されている。この走査露光型では、走査露光中に連続してサーボ方式でウエハ面を像面に合わせ込むことが望ましい。ところが、斜入射方式のオートフォーカスセンサは計測周期が１０ｍｓｅｃ（周波数で１００Ｈｚ）程度で応答速度が遅いため、走査露光型の投影露光装置に適用した場合には、高さ制御機構によるウエハの位置の変化に対してＺ方向の変位の計測値が十分に追従できてはいなかった。
【０００４】
そこで、ウエハテーブルのＺ方向の変位を高い応答速度で計測するために、ＸＹステージのガイド面に平行にレーザ光を照射し、そのウエハテーブルに設けた傾斜角が４５°のミラーでそのレーザ光を真上に反射し、その上のミラー（固定ミラー）で反射されたレーザ光を参照光と干渉させてＺ方向の変位を計測するようにしたレーザ干渉計方式の計測装置が提案されている（例えば、特許文献２参照）。また、同じくレーザ干渉計方式の計測装置として、そのウエハテーブルに設けるミラーの傾斜角を０°から４５°の範囲として、そのテーブルから斜め方向にレーザ光を反射し、そのレーザ光を斜めに配置された固定ミラーで反射するようにした計測装置も提案されている（例えば、特許文献３参照）。
【０００５】
【特許文献１】
特開平１−２５３６０３号公報
【特許文献２】
特表２００１−５１０５７７号公報
【特許文献３】
特開２０００−４９０６６号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
上記の如く、レーザ干渉計方式のＺ方向の変位の計測装置は、斜入射方式のオートフォーカスセンサに比べて応答速度を速くすることができる。
しかしながら、従来の計測装置のうち、傾斜角が４５°のミラーを用いる方式では、投影光学系の先端部とその真上に反射されたレーザ光を反射して戻す固定ミラーとの機械的な干渉を避けるために、傾斜角が４５°のミラーを常時できるだけ投影光学系の光軸から離れた位置に配置する必要がある。そのため、ウエハテーブルを大型化する必要があり、ひいてはウエハステージが大型化するという不都合があった。
【０００７】
また、傾斜角が０°から４５°のミラーを用いる方式では、その固定ミラーは投影光学系から離れた位置に配置できるため、ウエハテーブルは小型化することができる。これに関して、ウエハステージには通常、そのウエハステージ（ウエハ）のガイド面上の直交する２方向の位置を計測するためのＸ軸及びＹ軸のレーザ干渉計も設けられており、ウエハを保持するウエハテーブルにはそのＸ軸及びＹ軸のレーザ干渉計用の移動鏡も固定されている。ところが、そのＺ方向の変位計測用の傾斜したミラーを更に設ける場合、その傾斜したミラーはＸ軸又はＹ軸の移動鏡の上に積み重ねることになるか、Ｘ軸又はＹ軸の移動鏡の下に配置するかのいずれかとなる。傾斜したミラーを移動鏡の上に積み重ねた場合、その移動鏡は従来よりも下方に配置する必要がある。この結果、その移動鏡の高さはウエハ面から大きく外れるため、いわゆるアッベ誤差が大きくなり、Ｘ軸又はＹ軸の計測精度が低下する恐れがあった。一方、傾斜したミラーを移動鏡の下に配置した場合、反射したレーザ光がケラれるのを避けるため、傾斜したミラーを移動鏡の反射面より張り出して配置する必要がある。その結果、ウエハテーブルの外形がその傾斜したミラーが張り出した分だけ大型化し、傾斜角が０°から４５°の傾斜ミラーを用いてウエハテーブルを小型化した利点が減殺されてしまう。
【０００８】
本発明は斯かる点に鑑み、干渉計方式でステージの高さの変化を計測できると共に、他の干渉計用の移動鏡等の配置の自由度を高くできるステージ技術を提供することを第１の目的とする。
更に本発明は、投影光学系の光軸に沿った方向のステージの変位を干渉計方式で計測できると共に、他の干渉計用の移動鏡等の配置の自由度を高くでき、そのステージを高精度に移動又は位置決めできる露光技術を提供することを第２の目的とする。
更に本発明は、その露光技術を用いて、高精度にデバイスを製造できるデバイス製造技術を提供することをも目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明によるステージ装置は、物体（Ｗ）を移動するためのステージ装置において、その物体を保持してガイド面（１４ａ）上を少なくとも一方向に移動するステージ（１１，１２）と、そのステージに計測ビーム（ＬＡ）を照射する第１干渉計（２２Ａ）と、そのステージに設けられ、屈折と反射とを用いてその計測ビームの方向を入射方向に交差する方向に変える屈折光学部材（２０Ａ）と、その屈折光学部材によって方向が変えられた計測ビームをその屈折光学部材に向けて反射する反射部材（２４Ａ）とを有するものである。
【００１０】
斯かる本発明によれば、例えばその反射部材によって反射されて、その屈折光学部材を経てその第１干渉計に戻される計測ビーム（計測用の光ビーム）と所定の参照ビーム（参照用の光ビーム）との干渉光を検出することによって、そのステージのその計測ビームの入射方向に直交する方向（高さ方向）の変位を干渉計方式で計測できる。この場合、その屈折光学部材からその入射方向に対して例えば斜め上方にその計測ビームを射出できるため、その屈折光学部材上に他の干渉計用の移動鏡等の光学部材が配置されていても、その計測ビームはその光学部材によってけられる恐れがなく、その光学部材の配置の自由度を高くできる。
【００１１】
この場合、一例として、その第１干渉計はそのステージにその計測ビームとは異なる参照ビームを照射し、そのステージは、照射されたその参照ビームをその第１干渉計に向けて反射する参照部材（２１Ｘ）を備え、その第１干渉計の検出結果に基づいて、そのステージのその計測ビームの入射方向に交差する方向の変位を求める演算装置（３７）が更に備えられる。この構成によれば、その第１干渉計によって、そのステージの計測ビームの入射方向に直交する方向の変位（高さの変化）のみを計測できる。
【００１２】
また、別の例として、そのステージのその第１干渉計からの計測ビームの光路に沿った方向の位置を検出する第２干渉計（２３Ｘ）と、その第１干渉計の検出結果と、その第２干渉計の検出結果とに基づいて、そのステージのその計測ビームの入射方向に交差する方向の変位を求める演算装置（３７）とを備えてもよい。例えば参照部材（２７）がその第１干渉計内に配置される場合には、そのステージ（屈折光学部材）がその第１干渉計からの計測ビームの光路に沿った方向に変位しても、その第１干渉計で計測される変位が変化する。そこで、その第１干渉計の計測値をその第２干渉計の計測値で補正することによって、そのステージの高さ方向の変位のみを高精度に計測できる。この場合、例えばその第２干渉計用の移動鏡（２１Ｘ）をその第１干渉計用の屈折光学部材（２０Ａ）上に容易に積み重ねることができると共に、この状態でその第１干渉計の計測ビームがけられることもなく、そのステージが大型化することもない。
【００１３】
また、その屈折光学部材は、その計測ビームを屈折させる屈折部（２０Ａ）と、この屈折部によって屈折したその計測ビームを反射する反射面（２０Ａｂ）とを備え、その反射面はそのガイド面に対して実質的に垂直であることが望ましい。これによって、そのガイド面に垂直な方向の変位を高感度に検出できる。
また、その屈折光学部材は、その屈折部の対向する第１面（２０Ａａ）及び第２面（２０Ａｂ）が非平行であると共に、その第１面がその計測ビームの入射面であり、その第２面がその計測ビームのその反射面となるプリズム（２０Ａ）であることが望ましい。プリズムは屈折光学部材として最も構成が簡単であると共に、上辺の幅が底辺の幅よりも広くなるため、そのプリズム上に他の干渉計用の移動鏡等を安定に設置することができ、そのプリズムがその移動鏡の反射面から外側に張り出すこともない。
【００１４】
また、本発明による露光装置は、第１物体（Ｒ）のパターンを投影光学系（ＰＬ）を介して第２物体（Ｗ）上に投影する露光装置において、その第１物体又はその第２物体を保持してガイド面（１４ａ）上を少なくとも一方向に移動するステージ（１１，１２）と、そのステージに計測ビームを照射する第１干渉計（２２Ａ）と、そのステージに設けられ、屈折と反射とを用いてその計測ビームの方向を入射方向と交差する方向に変える屈折光学部材（２０Ａ）と、その屈折光学部材によって方向が変えられた計測ビームをその屈折光学部材に向けて反射する反射部材（２４Ａ）とを有するものである。
【００１５】
斯かる本発明によれば、例えばその第１干渉計に戻される計測ビームと所定の参照ビームとの干渉光を検出することによって、そのステージのその投影光学系の光軸に沿った方向の変位を干渉計方式で計測できる。この場合、その屈折光学部材からその入射方向に対して例えば斜め上方にその計測ビームを射出できるため、そのステージを大型化することなく、その反射部材をその投影光学系から離れた位置に容易に配置することができる。また、その屈折光学部材上に他の干渉計用の移動鏡等の光学部材を配置できるため、その光学部材の配置の自由度を高くできる。
【００１６】
この場合、一例として、その第１干渉計はそのステージにその計測ビームとは異なる参照ビームを照射し、そのステージは、照射されたその参照ビームをその第１干渉計に向けて反射する参照部材（２１Ｘ）を備え、その第１干渉計の検出結果に基づいて、そのステージの投影光学系の光軸に沿った方向の変位を求める演算装置（３７）が更に備えられる。この構成によれば、その第１干渉計によって、そのステージの投影光学系の光軸に沿った方向の変位のみを計測できる。
【００１７】
また、別の例として、そのステージのその第１干渉計からの計測ビームの光路に沿った方向の位置を検出する第２干渉計（２３Ｘ）と、その第１干渉計の検出結果と、その第２干渉計の検出結果とに基づいて、そのステージのその投影光学系の光軸に沿った方向の変位を求める演算装置（３７）とが備えられる。例えば参照部材がその第１干渉計内に配置されるときには、そのステージ（屈折光学部材）がその第１干渉計からの計測ビームの光路に沿った方向（投影光学系の光軸に交差する方向）に変位しても、その第１干渉計で計測される変位が変化する。そこで、その第１干渉計の計測値をその第２干渉計の計測値で補正することによって、そのステージのその投影光学系の光軸に沿った方向の変位のみを高精度に計測できる。この場合、その第２干渉計は、例えばそのステージのガイド面に沿った方向の位置を計測するための干渉計で兼用できると共に、その第２干渉計用の移動鏡（２１Ｘ）をその屈折光学部材上に容易に配置できる。この状態でも、そのステージが大型化することはなく、その第２干渉計の計測精度も高く維持できる。
【００１８】
また、そのステージに関してその第１干渉計（２２Ａ）、その屈折光学部材（２０Ａ）及びその反射部材（２４Ａ）にそれぞれ実質的に対称に配置された第３干渉計（２２Ｂ）、第２屈折光学部材（２０Ｂ）及び第２反射部材（２４Ｂ）を更に有し、その演算装置は、その第１干渉計及びその第３干渉計の検出結果に基づいてそのステージのその投影光学系の光軸に沿った方向の変位を求めることが望ましい。この場合、その第１及び第３干渉計の計測値から求めた光軸に沿った方向の変位の加重平均を求めることによって、そのステージの露光中心での光軸に沿った方向の変位を求めることができる。
【００１９】
また、その露光装置が走査露光型である場合、その第１干渉計及びその第３干渉計は、走査露光時のその第１物体又はその第２物体の走査方向に直交する方向（Ｘ方向）に沿ってそのステージを挟むように配置されることが望ましい。この構成によれば、走査露光中に露光中心とその第１及び第２干渉計との間隔が変化しないため、その露光中心の光軸に沿った方向の変位を高速かつ高精度に計測することができ、例えばオートフォーカス方式で第２物体の表面を投影光学系の像面に安定して合わせ込むことができる。
【００２０】
また、そのステージは、そのガイド面上を移動する可動ステージ（１２）と、その第１物体又はその第２物体を保持すると共にその屈折光学部材が設けられたテーブル（１１）と、その可動ステージに対してそのテーブルをその投影光学系の光軸に沿った方向に駆動する光軸方向駆動装置（１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ）とを備え、その演算装置で求められたそのテーブルのその投影光学系の光軸に沿った方向の変位に基づいて、その光軸方向駆動装置を介してそのテーブルを駆動することが望ましい。
【００２１】
この構成によれば、そのステージがガイド面を移動する可動ステージと、投影光学系の光軸に沿った方向に変位するテーブルとに分離されているため、例えばオートフォーカス方式で容易にそのテーブルを駆動することができる。
また、その第１干渉計を含んでそのステージ（又はテーブル）の６自由度の変位を検出する６軸の干渉計（２２Ａ，２２Ｂ（又は２３Ｃ），２３Ｘ，２３Ａ，２３Ｙ，２３Ｂ）を有することが望ましい。これによって、そのステージ（又はテーブル）の全自由度の変位を干渉計方式で高精度に計測できる。
【００２２】
また、本発明のデバイス製造方法は、本発明の露光装置を用いてデバイスのパターン（Ｒ）を基板（Ｗ）上に転写する工程を含むものである。本発明の適用によって、デバイスを高精度に製造することができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施形態の一例につき図１〜図７を参照して説明する。本例は、ステップ・アンド・スキャン方式よりなる走査露光型の投影露光装置のオートフォーカス機構を備えたウエハステージ系に本発明を適用したものである。
図１は、本例の走査露光型の投影露光装置の概略構成を示し、この図１において、不図示の露光光源として例えばＫｒＦ（波長２４７ｎｍ）又はＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）などのエキシマレーザ光源が使用されている。なお、露光光源としては、Ｆ２  レーザ光源（波長１５７ｎｍ）、Ｋｒ２  レーザ光源（波長１４６ｎｍ）、ＹＡＧレーザの高調波発生光源、固体レーザ（半導体レーザなど）の高調波発生装置、又は水銀ランプ（ｉ線等）なども使用することができる。
【００２４】
露光時に不図示の露光光源から発光された露光ビームとしての露光光ＩＬは、コンデンサレンズ１を含む照明光学系を介してマスクとしてのレチクルＲのパターン領域（下面）上の照明領域２Ｒを均一な照度分布で照明する。その照明光学系には、ビーム整形光学系、オプティカル・インテグレータ（ユニフォマイザ又はホモジナイザ）、開口絞り、固定視野絞り、及び可動視野絞り等も含まれている。照明領域２Ｒは、レチクルＲの走査方向に直交する非走査方向に細長いスリット状の領域である。また、その照明光学系は更に気密室としてのサブチャンバ（不図示）に覆われている。露光光ＩＬに対する透過率を高く維持するために、そのサブチャンバ内には、不純物を高度に除去したドライエアー（露光光がＡｒＦエキシマレーザの場合には窒素ガス、ヘリウムガス等も使用される）よりなるパージガスが供給されている。
【００２５】
露光光ＩＬのもとで、レチクルＲの照明領域２Ｒ内のパターンは、両側テレセントリックの投影光学系ＰＬを介して投影倍率β（βは１／４，１／５等）で、フォトレジストが塗布されたウエハＷ上の一つのショット領域ＳＡ上の露光領域２Ｗに投影される。露光領域２Ｗは、照明領域２Ｒと共役なウエハＷの走査方向に直交する非走査方向に細長い形状である。レチクルＲ及びウエハＷはそれぞれ本発明の第１物体及び第２物体に対応している。ウエハＷは、例えば半導体（シリコン等）又はＳＯＩ（ｓｉｌｉｃｏｎ  ｏｎ  ｉｎｓｕｌａｔｏｒ）等の直径が２００〜３００ｍｍ程度の円板状の基板である。露光光ＩＬに対する透過率を高く維持するために、投影光学系ＰＬの鏡筒内にも上記のパージガスが供給されている。また、必要に応じて、レチクルＲを含む空間、及び投影光学系ＰＬとウエハＷとの間の局所的な空間にもそのパージガスが供給されている。また、本例の投影露光装置の機構部（露光光源を除く部分）は、箱状の環境チャンバ（不図示）内に収納され、その環境チャンバ内には不純物を除去して温度及び湿度が制御された空気が供給されている。以下、図１において、投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な平面（ＸＹ平面）内で走査露光時のレチクルＲ及びウエハＷの走査方向に沿ってＹ軸を取り、非走査方向に沿ってＸ軸を取って説明する。本例ではＸＹ平面はほぼ水平面となっている。
【００２６】
先ず、レチクルＲはレチクルステージ３上に吸着保持され、レチクルステージ３はレチクルベース４上でＹ方向に一定速度で移動すると共に、同期誤差を補正するようにＸ方向、Ｙ方向、Ｚ軸の回りの回転方向に微動して、レチクルＲの走査を行う。レチクルステージ３のＸ方向、Ｙ方向の位置、及び回転角は、この上に設けられた移動鏡（不図示）及びレチクルステージ駆動系５の一部であるレーザ干渉計によって計測されている。この計測値及び装置全体の動作を統轄制御する主制御系６（図３参照）からの制御情報に基づいて、レチクルステージ駆動系５はレチクルステージ３の位置及び速度を制御する。レチクルＲの周辺部の上方には、レチクルアライメント用のレチクルアライメント顕微鏡（不図示）が配置されている。
【００２７】
一方、ウエハＷは、ウエハホルダ（不図示）を介してウエハテーブル１１上に吸着保持され、ウエハテーブル１１はそれぞれＺ方向に変位可能な３個のＺ軸アクチュエータ１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ（図３参照）を介してウエハステージ１２上に保持されている。Ｚ軸アクチュエータ１３Ａ〜１３Ｃ（光軸方向駆動装置）は、それぞれ例えばウエハテーブル１１に連結された支点を支持する板ばねと、その支点をＺ方向に駆動するボイスコイルモータ（ＶＣＭ）とを含んで構成されている。そして、Ｚ軸アクチュエータ１３Ａ〜１３Ｃは、図３に示すように、ほぼ正三角形の頂点の位置に配置されており、Ｚ軸アクチュエータ１３Ａ〜１３Ｃを独立に駆動することで、ウエハステージ１２に対するウエハテーブル１１（ウエハＷ）のＺ方向の位置、Ｘ軸の回りの回転角ωＸ（ピッチング）、及びＹ軸の回りの回転角ωＹ（ローリング）よりなる３自由度の相対変位を制御できるように構成されている。本例において、ウエハテーブル１１及びウエハステージ１２（又は更にＺ軸アクチュエータ１３Ａ〜１３Ｃを含む部分）が本発明のステージに対応し、ウエハテーブル１１及びウエハステージ１２がそれぞれ本発明のテーブル及び可動ステージ（又はＸＹステージ）に対応する。
【００２８】
ウエハステージ１２は、定盤よりなるウエハベース１４上の平面度の高いガイド面１４ａ（本例ではほぼ水平面である）上に、例えば真空予圧型気体静圧軸受け装置を介して非接触状態で浮上支持されている。そして、ウエハステージ１２は、ウエハベース１４上にＹ方向に一定速度で移動できると共に、Ｘ方向、Ｙ方向にステップ移動できるように支持されている。具体的に、ウエハベース１４のガイド面上にＹ軸に平行にＹ軸ガイド部材１５が配置され、ウエハステージ１２の底面の凹部がＹ軸ガイド部材１５に沿ってＹ方向に移動できるように載置されている。そして、Ｙ軸ガイド部材１５の両端部は、それぞれウエハベース１４をＹ方向に挟むようにＸ軸に平行に配置された１対のＸ軸ガイド部材１７Ａ及び１７Ｂに沿って、Ｘ方向に移動自在に支持されている。Ｘ軸ガイド部材１７Ａ及び１７Ｂの両端部は、それぞれウエハベース１４に対して支持部材１８Ａ，１９Ａ及び支持部材１８Ｂ等を介して固定されている。
【００２９】
図２は、本例の投影露光装置の一部を切り欠いた正面図であり、この図２において、ウエハベース１４は、３箇所又は４箇所のアクティブ方式の防振台（図２では防振台３４Ａ，３４Ｂのみが表れている）を介して床上に設置されている。また、ウエハベース１４及びこの上のウエハステージ１２、ウエハテーブル１１を覆うように、門型の基準フレーム３１が配置され、基準フレーム３１は３箇所又は４箇所のアクティブ方式の防振台（図２では防振台３２Ａ，３２Ｂのみが表れている）を介して床上に設置されている。そして、基準フレーム３１の中央部の開口にフランジ部３３を介して投影光学系ＰＬが設置されている。そして、図１のレチクルベース４は、基準フレーム３１上に不図示のコラムを介して設置されている。本例では、ウエハステージ１２のＸ方向、Ｙ方向へのステップ移動によって振動が発生し易いウエハベース１４と、投影光学系ＰＬを支持する基準フレーム３１とが互いに独立に支持されているため、投影光学系ＰＬを常に安定に保持することができる。
【００３０】
図１に戻り、ウエハステージ１２の底面に設けられた可動子と、Ｙ軸ガイド部材１５に設けられた固定子とから、Ｙ軸ガイド部材１５に対してウエハステージ１２をＹ方向に駆動するＹ軸リニアモータ１６Ｙが構成されている。そして、Ｙ軸ガイド部材１５の一端に設けられた可動子と、一方のＸ軸ガイド部材１７Ａに設けられた固定子とから、Ｘ軸ガイド部材１７Ａに対してＹ軸ガイド部材１５をＸ方向に駆動する第１のＸ軸リニアモータ１６ＸＡが構成され、Ｙ軸ガイド部材１５の他端に設けられた可動子と、他方のＸ軸ガイド部材１７Ｂに設けられた固定子とから、Ｘ軸ガイド部材１７Ｂに対してＹ軸ガイド部材１５をＸ方向に駆動する第２のＸ軸リニアモータ１６ＸＢが構成されている。Ｙ軸リニアモータ１６Ｙ及び２軸のＸ軸リニアモータ１６ＸＡ，１６ＸＢによって、ウエハベース１４に対するウエハステージ１２のＸ方向の位置、Ｙ方向の位置、及びＺ軸の回りの回転角ωＺ（ヨーイング）よりなる３自由度の相対変位を制御できる。この結果、本例のウエハテーブル１１（ウエハＷ）は、ウエハベース１４に対して、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向の位置、及び回転角ωＸ，ωＹ，ωＺよりなる６自由度で駆動することができる。但し、通常は、２軸のＸ軸リニアモータ１６ＸＡ及び１６ＸＢは、Ｙ軸ガイド部材１５がＹ軸に平行な状態でＸ方向に移動するように駆動される。
【００３１】
ウエハステージ１２、Ｚ軸アクチュエータ１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ、ウエハテーブル１１、Ｙ軸リニアモータ１６Ｙ、及びＸ軸リニアモータ１６ＸＡ，１６ＸＢ等を含んでウエハステージ系が構成されている。そして、本例の３個のＺ軸アクチュエータ１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ、及び３軸のリニアモータ１６Ｙ，１６ＸＡ，１６ＸＢは、図３のウエハステージ駆動系７によって駆動される。このようにウエハステージ駆動系７が６軸の駆動機構の動作を制御するために、本例の投影露光装置には、ウエハテーブル１１（ウエハＷ）のウエハベース１４に対する６自由度の変位（位置及び回転角の変化）を計測するための計測機構が備えられている。
【００３２】
即ち、図１において、ウエハテーブル１１の−Ｘ方向及び＋Ｘ方向の側面の下方に、それぞれ断面形状が上辺の幅が広い台形状でＹ方向に細長いロッド状のプリズム２０Ａ及び２０Ｂ（屈折光学部材）が同じ高さで固定されている。プリズム２０Ａ及び２０Ｂは、ウエハテーブル１１をＸ方向（ウエハＷの非走査方向）に挟むように対称に固定されている。プリズム２０Ａ及び２０Ｂのウエハテーブル１１に対向する面（背面）は、それぞれ例えばクロム等の高反射率の金属膜が蒸着された反射面とされている。また、ウエハテーブル１１の−Ｘ方向の側面に、プリズム２０Ａの上面に接するようにＹ方向に細長いロッド状のＸ軸の移動鏡２１Ｘが固定され、プリズム２０Ａ，２０Ｂの背面の反射面及び移動鏡２１Ｘの表面の反射面はそれぞれＸ軸にほぼ垂直である。また、プリズム２０Ａ，２０Ｂの背面の反射面は投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに平行でもあると共に、ガイド面１４ａに対して実質的に垂直でもある。更に、ウエハテーブル１１の＋Ｙ方向の側面に、Ｘ軸の移動鏡２１Ｘと同じ高さでＸ方向に細長いロッド状のＹ軸の移動鏡２１Ｙが固定され、移動鏡２１Ｙの表面の反射面はＹ軸にほぼ垂直である。
【００３３】
また、ウエハテーブル１１のプリズム２０Ａ及び２０Ｂに対向するようにそれぞれ第１及び第２のＺ軸レーザ干渉計２２Ａ及び２２Ｂ（第１及び第３干渉計）が配置され、Ｘ軸の移動鏡２１Ｘに対向するようにＸ軸のレーザ干渉計２３Ｘ（第２干渉計）及びヨーイング計測用のレーザ干渉計２３ＡがＹ方向に所定間隔で配置されている。また、Ｙ軸の移動鏡２１Ｙに対向するように、Ｙ軸レーザ干渉計２３Ｙ及びピッチング計測用のレーザ干渉計２３ＢがＺ方向に所定間隔で配置されている。これらの６軸のレーザ干渉計２２Ａ，２２Ｂ，２３Ｘ，２３Ａ，２３Ｙ，２３Ｂは全て、図２に示すように投影光学系ＰＬを保持する基準フレーム３１に固定されている。
【００３４】
図１において、Ｚ軸レーザ干渉計２２Ａ及び２２Ｂから射出された計測ビームとしてのレーザビームＬＡ及びＬＢが、それぞれＸ軸に平行に対称にプリズム２０Ａ及び２０Ｂに入射し、プリズム２０Ａ及び２０Ｂの背面の反射面で反射されたレーザビームＬＡ及びＬＢが、それぞれ入射方向に対してほぼ１０°〜５０°程度の角度で斜め上方に向かって固定ミラー２４Ａ及び２４Ｂに垂直に入射する。固定ミラー２４Ａ及び２４Ｂも、図２に示すように投影光学系ＰＬをＸ方向に挟むように基準フレーム３１に固定されている。固定ミラー２４Ａ及び２４Ｂでそれぞれ垂直に入射方向に反射されたレーザビームＬＡ及びＬＢは、プリズム２０Ａ及び２０Ｂに戻り、プリズム２０Ａ及び２０Ｂの背面の反射面で再び反射されたレーザビームＬＡ及びＬＢは、それぞれＸ軸に平行にＺ軸レーザ干渉計２２Ａ及び２２Ｂに戻される。
【００３５】
図２に示すように、第１のＺ軸レーザ干渉計２２Ａは、一例として平均波長が６３３ｎｍ程度（Ｈｅ−Ｎｅレーザの場合）で互いに異なる周波数の偏光方向が直交する第１及び第２レーザビームを発生するレーザ光源２５と、そのうちの第１レーザビームをレーザビームＬＡ（計測ビーム）として透過して第２レーザビーム（参照ビーム）を反射する偏光ビームスプリッタ２６と、その第２レーザビームを反射するレトロリフレクタ２７（参照部材）と、反射によって戻されて偏光ビームスプリッタ２６で合成された２つのレーザビームの干渉光を受光する光電センサ２８とを備えている。なお、偏光ビームスプリッタ２６の２つのレーザビームの入射出面にはそれぞれ１／４波長板（不図示）が設けられている。その光電センサ２８の出力信号を不図示のカウンタで計数し、その計数値から不図示の参照用のカウンタの計数値を差し引いて、波長に応じた係数を乗ずることで、一方のプリズム２０Ａ（ウエハテーブル１１の−Ｘ方向の端部）のＺ方向及びＸ方向の変位を１〜０．１ｎｍ程度の分解能で計測することができる（詳細後述）。第２のＺ軸レーザ干渉計２２Ｂも同様に構成されており、Ｚ軸レーザ干渉計２２Ｂによって他方のプリズム２０Ｂ（ウエハテーブル１１の＋Ｘ方向の端部）のＺ方向及びＸ方向の変位を１〜０．１ｎｍ程度の分解能で計測することができる。また、２軸のＺ軸レーザ干渉計２２Ａ及び２２ＢによるＺ方向の変位の計測値の差分を２つのプリズム２０Ａ及び２０Ｂの間隔で除算することにより、ウエハテーブル１１のＹ軸の回りの回転角ωＹ（ローリング）を求めることができる。
【００３６】
なお、本例ではＺ軸レーザ干渉計２２Ａの参照部材としてのレトロリフレクタ２７は、Ｚ軸レーザ干渉計２２Ａ内に設けられているが、その参照部材としてウエハテーブル１１に設けられたＸ軸の移動鏡２１Ｘを用いてもよい。この場合には、プリズム２０ＡがＸ方向に変位してもＺ軸レーザ干渉計２２Ａの計測値が変化しない利点がある。
【００３７】
なお、ウエハテーブル１１がＸ方向に移動すると、プリズム２０Ａ，２０Ｂで反射されるレーザビームＬＡ，ＬＢの位置が斜め方向に変化するため、固定ミラー２４Ａ，２４Ｂの長さは、常にレーザビームＬＡ，ＬＢを反射できる長さに設定されている。この際に、本例ではプリズム２０Ａ，２０ＢからレーザビームＬＡ，ＬＢを斜め上方に反射しているため、ウエハテーブル１１を大型化することなく、投影光学系ＰＬに対して固定ミラー２４Ａ，２４ＢをＸ方向に余裕をもって離して配置することができる。更に、投影光学系ＰＬの先端部によってレーザビームＬＡ，ＬＢが遮光される恐れもない。また、本例の第１のＺ軸レーザ干渉計２２Ａのレーザ光源２５で発生する２つのレーザビームの周波数差は、分解能が０．１ｎｍ程度の場合で１７ＧＨｚ程度である。この結果、Ｚ軸レーザ干渉計２２Ａによって例えば１０ｋＨｚ程度以上の高い応答周波数で、ウエハテーブル１１のＺ方向の変位を計測することができる。これは、第２のＺ軸レーザ干渉計２２Ｂでも同様である。
【００３８】
図１に戻り、Ｘ軸レーザ干渉計２３Ｘ及びヨーイング計測用のレーザ干渉計２３Ａからの計測用のレーザビームがＹ方向の間隔δ１でＸ軸に平行に移動鏡２１Ｘに照射され、レーザ干渉計２３Ｘ及び２３Ａはそれぞれ投影光学系ＰＬの側面近傍に固定された参照鏡（不図示）を基準として移動鏡２１ＸのＸ方向の変位を１〜０．１ｎｍ程度の分解能で計測する。そして、レーザ干渉計２３Ｘ及び２３Ａの計測値の差分を間隔δ１で除算することによって、ウエハテーブル１１のＺ軸の回りの回転角ωＺ（ヨーイング）を求めることができる。これと並行して、Ｙ軸レーザ干渉計２３Ｙ及びピッチング計測用のレーザ干渉計２３Ｂからの計測用のレーザビームがＺ方向の間隔δ２でＹ軸に平行に移動鏡２１Ｙに照射され、レーザ干渉計２３Ｙ及び２３Ｂはそれぞれ投影光学系ＰＬの側面近傍に固定された参照鏡（不図示）を基準として移動鏡２１ＹのＹ方向の変位を１〜０．１ｎｍ程度の分解能で計測する。そして、レーザ干渉計２３Ｙ及び２３Ｂの計測値の差分を間隔δ２で除算することによって、ウエハテーブル１１のＸ軸の回りの回転角ωＸ（ピッチング）を求めることができる。この結果、本例の６軸のレーザ干渉計２２Ａ，２２Ｂ，２３Ｘ，２３Ａ，２３Ｙ，２３Ｂによって、ウエハベース１４に対するウエハテーブル１１のＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向の位置、及び回転角ωＸ，ωＹ，ωＺよりなる６自由度の変位を計測することができる。
【００３９】
この場合、図１において、Ｘ軸レーザ干渉計２３Ｘ及びＹ軸レーザ干渉計２３Ｙからのレーザビームは、それぞれ投影光学系ＰＬの光軸ＡＸ（露光中心）を通過しており、ウエハテーブル１１のヨーイングが発生しても殆どアッベ誤差が発生することがなく、ウエハテーブル１１（ウエハＷ）のＸ方向、Ｙ方向の位置を常に高精度に計測することができる。
【００４０】
また、図２において、最近の投影光学系ＰＬの開口数（ＮＡ）はかなり大きいため、投影光学系ＰＬとウエハＷとの間隔（ワーキングディスタンス）は狭くなっている。そのため、ウエハテーブル１１の側面に固定する移動鏡等の上面の高さは、ほぼウエハＷの表面と同程度か又は僅かに高い程度にする必要がある。
これに関して、本例ではプリズム２０Ａの上部の幅が底部の幅よりも広いため、その上に安定に、かつレーザビームＬＡのケラレの恐れなく、移動鏡２１Ｘを積み重ねることができる。従って、移動鏡２１Ｘの上面を例えばウエハＷの表面よりも僅かに高く設定して、Ｘ軸レーザ干渉計２３Ｘからのレーザビームの高さをほぼウエハＷの表面の高さに合わせることができる。更に、プリズム２０Ａが移動鏡２１Ｘの反射面から外側に張り出すこともない。また、移動鏡２１Ｙに関しては、プリズム等を積み重ねる必要がないため、その上面の高さはウエハＷの表面よりも僅かに高い程度、即ち本例では移動鏡２１Ｘと同じ高さに設定されている。このため、ウエハテーブル１１のローリング及びピッチングが生じても殆どアッベ誤差が発生することがなく、ウエハテーブル１１（ウエハＷ）のＸ方向、Ｙ方向の位置を常に高精度に計測することができる。なお、本例において、移動鏡２１Ｘ及び２１Ｙの上面をウエハＷの表面と同じ高さに設定することも可能である。この場合でも発生するアッベ誤差は僅かであるが、そのアッベ誤差をより完全に補正するためには、レーザ干渉計２３Ｘ，２３Ｙからのレーザビームの高さとウエハＷの表面との高さのずれ（Ｚ方向のずれ）ΔＨを求めておき、ウエハテーブル１１の回転角ωＸ及びωＹ（ｒａｄ）の計測値とその高さのずれΔＨとの積を用いて、レーザ干渉計２３Ｘ及び２３Ｙの計測値を補正すればよい。
【００４１】
また、図１の投影露光装置では、ウエハＷの表面（ウエハ面）の投影光学系ＰＬの像面に対するデフォーカス量を計測するために、投影光学系ＰＬの下部側面にそのウエハ面上の露光領域２Ｗを含む計測領域に３個以上の複数のスリット像を斜めに投影する投射光学系２９Ａと、そのウエハ面からの反射光を受光してそれらのスリット像を再結像して、それらの横ずれ量に応じた検出信号を生成する受光光学系２９Ｂとを含む斜入射方式の多点のオートフォーカスセンサ（２９Ａ，２９Ｂ）が配置されている。なお、斜入射方式の多点のオートフォーカスセンサのより詳細な構成については、例えば特開平１−２５３６０３号公報に開示されている。受光光学系２９Ｂの検出信号は、図３のウエハステージ駆動系７中のデフォーカス量演算部４０に供給される。この場合、例えばウエハＷのＺ方向の位置を種々に変えてテストプリントを行って、露光領域２Ｗ内の３点以上の点でそれぞれベストフォーカス位置を求めることによって、予め上記の複数のスリット像の投影点がそれぞれベストフォーカス位置（像面）にあるときに、対応する検出信号が所定レベル（例えば０）となるように、オフセット調整が行われている。そして、デフォーカス量演算部４０では、その供給された検出信号を用いて、ウエハ面の露光領域２Ｗにおける平均的な面のＺ方向の位置ΔＦＺと、Ｘ軸及びＹ軸の回りの傾斜角ΔωＸ，ΔωＹとを算出する。これらの値ΔＦＺ，ΔωＸ，ΔωＹが、その露光領域２Ｗにおけるウエハ面の像面に対する位置及び傾斜角のデフォーカス量となる。
【００４２】
従って、走査露光中に、オートフォーカス（ここではオートレベリングを含む）方式でウエハ面を投影光学系ＰＬの像面に合わせ込むためには、原理的にはその像面に対するデフォーカス量（ΔＦＺ，ΔωＸ，ΔωＹ）がそれぞれ０になるようにＺ軸アクチュエータ１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃを駆動すればよい。しかしながら、オートフォーカスセンサ（２９Ａ，２９Ｂ）の計測値のサンプリング周期は１０ｍｓｅｃ（周波数で１００Ｈｚ）程度と遅いため、ウエハＷの走査速度をあまり高めることができない。そこで、本例では、オートフォーカスセンサ（２９Ａ，２９Ｂ）の計測値は、像面に対するデフォーカス量を定期的にモニタするために使用して、そのモニタ間の期間中では、応答周波数が１０ｋＨｚ程度以上とほぼ１００倍の上記のＺ軸レーザ干渉計２２Ａ，２２Ｂの計測値を用いてサーボ方式でＺ軸アクチュエータ１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃを駆動するものとする。これによって、ウエハＷの走査速度を速くしても、ウエハ面を像面に高精度に合わせ込むことができ、常に高い解像度でレチクルＲのパターン像をウエハＷ上に露光することができる。
【００４３】
図３は、ウエハステージ駆動系７の構成例を示している。なお、ウエハステージ駆動系７の大部分の要素は、コンピュータのソフトウェア上で実行される機能である。図３において、Ｘ軸レーザ干渉計２３Ｘ及びＹ軸レーザ干渉計２３Ｙの計測値Ｘ及びＹは、主制御系６及びリニアモータ駆動部３６に供給されている。また、レーザ干渉計２３Ｘ及び２３Ａの計測値は回転角演算部３５Ａに供給され、回転角演算部３５Ａで求められるウエハテーブル１１の回転角ωＺ（ヨーイング）は主制御系６及びリニアモータ駆動部３６に供給される。リニアモータ駆動部３６は、計測値Ｘ，Ｙ及び回転角ωＺ、並びに主制御系６からの制御情報（ウエハステージ１２の目標速度等）に基づいて、図１のＹ軸リニアモータ１６Ｙ及びＸ軸リニアモータ１６ＸＡ，１６ＸＢを駆動する。
【００４４】
また、レーザ干渉計２３Ｙ及び２３Ｂの計測値は回転角演算部３５Ｂに供給され、回転角演算部３５Ｂで求められるウエハテーブル１１の回転角ωＸ（ピッチング）は第１サーボデータ部３９Ａに供給される。更に、Ｘ軸レーザ干渉計２３Ｘの計測値Ｘ、及び２軸のＺ軸レーザ干渉計２２Ａ，２２Ｂの計測値（図２のプリズム２０Ａ，２０ＢのＸ方向及びＺ方向への変位の関数）は、Ｚ位置演算部３７に供給され、Ｚ位置演算部３７は、それらの計測値に基づいてプリズム２０Ａ及び２０ＢのＺ方向への変位Ｚ１，Ｚ２を求める（詳細後述）。これらの変位Ｚ１，Ｚ２は、加重平均部３８Ａ及び回転角演算部３８Ｂに供給され、加重平均部３８Ａでは、それらの変位Ｚ１及びＺ２の加重平均によってウエハＷの露光中心（光軸ＡＸ）でのＺ方向への変位（これもＺで表す）を算出する。Ｚ位置演算部３７、加重平均部３８Ａ、及び回転角演算部３８Ｂが光軸に沿った方向の変位を求めるための演算装置に対応している。
【００４５】
図２において、プリズム２０Ａ及び２０ＢのＸ方向の間隔ＬＸは予め知られており、Ｘ軸レーザ干渉計２３Ｘの計測値から図３の加重平均部３８Ａは、一方のプリズム２０Ａと光軸ＡＸとのＸ方向の間隔ＬＸ１及び他方のプリズム２０Ｂと光軸ＡＸとのＸ方向の間隔ＬＸ２を求める（ＬＸ＝ＬＸ１＋ＬＸ２）。そして、加重平均部３８Ａは、次のような加重平均によってウエハテーブル１１の露光中心でのＺ方向への変位（Ｚ）を算出する。
【００４６】
2005005329.tif 000003
また、回転角演算部３８Ｂは、次のように変位Ｚ１，Ｚ２の差分を間隔ＬＸで除算して、ウエハテーブル１１のＹ軸の回りの回転角ωＹ（ローリング）（ｒａｄ）を算出する。
【００４７】
ωＹ＝（Ｚ２−Ｚ１）／ＬＸ                …（Ａ２）
このように算出された変位Ｚ及び回転角ωＹはそれぞれ図３の第２及び第３サーボデータ部３９Ｂ及び３９Ｃに供給される。更に、デフォーカス量演算部４０で求められた上記のデフォーカス量（ΔＦＺ，ΔωＸ，ΔωＹ）がそれぞれサーボデータ部３９Ｂ，３９Ａ，３９Ｃのプリセット部に供給され、この供給のタイミングでサーボデータ部３９Ｂ〜３９Ｃの出力データは、それぞれウエハ面のＺ方向へのデフォーカス量ΔＦＺ、Ｘ軸の回りの回転角のデフォーカス量ΔωＸ、及びＹ軸の回りの回転角のデフォーカス量ΔωＹにプリセットされる。その後、サーボデータ部３９Ｂ，３９Ａ，３９Ｃの出力データは、入力される（Ａ１）式の変位Ｚ、回転角ωＸ、及び（Ａ２）式の回転角ωＹの増減に応じて増減する。サーボデータ部３９Ａ〜３９Ｃの出力データはＺ軸アクチュエータ駆動部４１に供給され、Ｚ軸アクチュエータ駆動部４１は、サーボデータ部３９Ａ〜３９Ｃの出力データがそれぞれ０になるようにＺ軸アクチュエータ１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃを駆動する。本例では、図１のオートフォーカスセンサ（２９Ａ，２９Ｂ）、Ｚ軸レーザ干渉計２２Ａ，２２Ｂ、レーザ干渉計２３Ｘ，２３Ｙ，２３Ｂ、プリズム２０Ａ，２０Ｂ、移動鏡２１Ｘ，２１Ｙ、固定ミラー２４Ａ，２４Ｂ、図２のＺ軸アクチュエータ１３Ａ〜１３Ｃ、及び図３のウエハステージ駆動系７より、ウエハステージ系用のオートフォーカス機構が構成されている。
【００４８】
本例の投影露光装置の走査露光時には、図１のスリット状の照明領域２Ｒに露光光ＩＬを照射した状態で、レチクルステージ３及びウエハステージ１２を駆動して、レチクルＲとウエハＷ上の一つのショット領域ＳＡとをＹ方向に同期走査する動作と、ウエハステージ１２を駆動してウエハＷをＸ方向、Ｙ方向にステップ移動する動作とが繰り返される。この動作によって、ステップ・アンド・スキャン方式でウエハＷ上の各ショット領域にレチクルＲのパターン像が露光される。そして、レチクルＲとウエハＷとをＹ方向に同期走査している期間には、上記のようにオートフォーカスセンサ（２９Ａ，２９Ｂ）の計測値と、レーザ干渉計２３Ｙ，２３Ｂ及びＺ軸レーザ干渉計２２Ａ，２２Ｂの計測値とに基づいて、Ｚ軸アクチュエータ１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃをサーボ方式で駆動することによって、ウエハ面が投影光学系ＰＬの像面にオートフォーカス方式で連続して合わせ込まれている。従って、ウエハ面にそれまでのプロセスによって段差等が形成されている場合にも、ウエハ面にレチクルＲのパターン像を常に高い解像度で転写することができる。
【００４９】
この際に、オートフォーカスセンサ（２９Ａ，２９Ｂ）の検出信号を処理する図３のデフォーカス量演算部４０によるデフォーカス量（ΔＦＺ，ΔωＸ，ΔωＹ）の更新は、例えば１００Ｈｚ程度の遅い周波数で行われるのに対して、レーザ干渉計２３Ｙ，２３Ｂ及びＺ軸レーザ干渉計２２Ａ，２２Ｂの計測値に基づく変位Ｚ、及び回転角ωＸ，ωＹ（サーボデータ部３９Ａ，３９Ｂ，３９Ｃの出力データ）の更新は１０ｋＨｚ程度の高い周波数で行われる。従って、Ｚ軸アクチュエータ１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃの動作によるウエハテーブル１１（ウエハＷ）のＺ方向の位置及び回転角ωＸ，ωＹの変化が高い追従速度でフィードバックされるため、オートフォーカス方式で高精度にウエハ面を投影光学系ＰＬの像面に合わせ込んだ状態で、走査露光を行うことができる。
【００５０】
また、本例では、図１に示すように、２台のＺ軸レーザ干渉計２２Ａ及び２２Ｂがウエハテーブル１１（ウエハＷ）を走査露光時の走査方向（Ｙ方向）に直交する非走査方向に挟むように配置されている。従って、走査露光中には、プリズム２０Ａ，２０Ｂが殆どＸ方向に変位することがなく、図２のプリズム２０Ａ及び２０Ｂと露光中心（光軸ＡＸ）との間隔ＬＸ１，ＬＸ２が実質的に変化しないため、（Ａ１）式に基づいて高速かつ高精度にウエハテーブル１１の露光中心でのＺ方向の変位を計測することができる。
【００５１】
次に、図２の第１のＺ軸レーザ干渉計２２Ａによるプリズム２０Ａ（ウエハテーブル１１の端部）のＺ方向の変位の計測原理につき、図４〜図７を参照して説明する。
図４は、図２のプリズム２０Ａを示す拡大図であり、この図４において、プリズム２０Ａの屈折率をｎＧ  、その周囲の気体（本例では空気）の屈折率をｎＡ  とする。また、屈折部としてのプリズム２０Ａの入射面（屈折面）２０Ａａと、その背面の反射面２０Ａｂとがなす角度をプリズムの屈折面の倒れ角θＰ  と呼ぶと、プリズム２０Ａに入射するレーザビームＬＡの入射面２０Ａａでの入射角はθＰ  となる。また、プリズム２０Ａ内でのレーザビームＬＡの入射方向（Ｘ軸）に対する傾き角をｋＰ  として、反射面２０Ａｂで反射されて入射面２０Ａａで再び屈折して外部に射出されるレーザビームＬＡの入射方向に対する傾き角（仰角）をｋとする。このとき、入射面２０ＡａにおけるレーザビームＬＡの入射点Ｐ１及び射出点Ｐ２においてスネルの法則を適用することよって、次の関係が得られる。
【００５２】
ｎＡ  ｓｉｎ  θＰ  ＝ｎＧ  ｓｉｎ（θＰ  −ｋＰ  ）          …（１）
ｎＡ  ｓｉｎ（θＰ  ＋ｋ）＝ｎＧ  ｓｉｎ（θＰ  ＋ｋＰ  ）    …（２）
従って、プリズム２０Ａから屈折、反射、及び屈折によって射出されるレーザビームＬＡの傾き角ｋは、次のように表すことができる。
【００５３】
【数１】
2005005329.tif 000004
【００５４】
レーザビームＬＡの波長を６３３ｎｍ、プリズム２０Ａの光学材料をＢＫ７とすると、プリズム２０Ａの空気に対する相対屈折率ｎＧ  ／ｎＡ  は次のようになる。
ｎＧ  ／ｎＡ  ＝１．５１４
このとき、（１）式から求めた傾き角ｋＰ  を（３）式に代入することによって、射出されるレーザビームＬＡの傾き角ｋは、プリズム２０Ａの屈折面の倒れ角θＰ  の関数として図６のようになる。図６において、横軸は倒れ角θＰ  （ｄｅｇ）、縦軸は傾き角（仰角）ｋ（ｄｅｇ）である。図６の場合、プリズム２０ＡにおけるレーザビームＬＡの臨界角は約６０°であり、プリズム２０Ａの倒れ角θＰ  の調整によるレーザビームＬＡの傾き角ｋの調整可能範囲は０〜６０°程度である。この場合、傾き角ｋが小さい方が、図２から分かるように固定ミラー２４Ａ，２４Ｂを投影光学系ＰＬから離して配置することが可能である。その一方で、傾き角ｋが大きい方が、次に説明するようにプリズム２０ＡのＺ方向の変位に対するレーザビームＬＡの光路長の変化が大きくなって、Ｚ方向の変位の検出感度が向上する。そこで、本例では、一例としてレーザビームＬＡの傾き角ｋをその調整可能範囲の中央である３０°程度に設定する。図６の場合、このときのプリズム２０Ａの倒れ角θＰ  は約２３°である。これによって、固定ミラー２４Ａ，２４Ｂを投影光学系ＰＬから比較的離して配置できると共に、Ｚ方向の変位の検出感度も比較的高く維持される。なお、特に検出感度を高めたい場合には、傾き角ｋを３０〜５０°程度にしてもよく、固定ミラー２４Ａ，２４Ｂを更に投影光学系ＰＬから離したい場合には、傾き角ｋを１０〜３０°程度に設定してもよい。
【００５５】
次に、本例の検出感度について説明する。先ず、図５（Ａ）の位置Ｐ３で示すように、図２のプリズム２０Ａ（屈折面の倒れ角をθＰ  とする）がＺ方向にΔｚだけ変位した場合の、レーザビームＬＡの往路（固定ミラー２４Ａに入射するまでの光路）の光路長の変化ΔＬを計算する。この場合、レーザビームＬＡの光路は２点鎖線で示す光路ＬＡ１に変化する。そして、レーザビームＬＡがプリズム２０Ａに入射する前の光路の長さの変化（Δｚと同じ符号）をΔＬ１とすると、その変化ΔＬ１に基づく光路長の変化ΔＬＭ１は次のようになる。但し、図４と同様に、プリズム２０Ａの屈折率をｎＧ  、その周囲の空気の屈折率をｎＡ  、プリズム２０Ａ内でのレーザビームＬＡの入射方向（Ｘ軸）に対する傾き角をｋＰ  、入射面で再び屈折して外部に射出されるレーザビームＬＡの入射方向に対する傾き角（仰角）をｋとする。
【００５６】
ΔＬＭ１＝ｎＡ  ΔＬ１＝ｎＡ  Δｚ  ｔａｎθＰ              …（４）
次に、プリズム２０Ａ内部でのレーザビームＬＡの光路の長さの変化を−ΔＬ２（Δｚと逆符号）とすると、その変化−ΔＬ２に基づく光路長の変化ΔＬＭ２は次のようになる。
【００５７】
【数２】
2005005329.tif 000005
【００５８】
次に、プリズム２０Ａから射出された後のレーザビームＬＡの光路の変化をΔＬ３（Δｚと同じ符号）とすると、その変化ΔＬ３に基づく光路長の変化ΔＬＭ３は次のようになる。
【００５９】
【数３】
2005005329.tif 000006
【００６０】
上記の光路長の変化ΔＬＭ１，ΔＬＭ２，ΔＬＭ３の和が次のように往路の全光路長の変化ΔＬとなる。
ΔＬ＝ΔＬＭ１＋ΔＬＭ２＋ΔＬＭ３
また、その全光路長の変化ΔＬをＺ方向の変位Δｚで除算した値ΔＬ／Δｚが、図２のＺ軸レーザ干渉計２２Ａのプリズム２０Ａ（ウエハテーブル１１）のＺ方向の変位に対する検出感度となる。その検出感度は（４）〜（６）式を用いると次のように表される。
【００６１】
【数４】
2005005329.tif 000007
【００６２】
実際には、図５（Ａ）の固定ミラー２４Ａで反射された復路のレーザビームＬＡの光路長も同じ量だけ変化するため、検出感度は（７）式の２倍になる。そして、Ｚ軸レーザ干渉計２２Ａによって計測される長さの変化を（７）式の検出感度ΔＬ／Δｚで除算することによって、プリズム２０ＡのＺ方向への変位Ｚ１が求められる。なお、ここではプリズム２０ＡのＸ方向への変位は０であるとしている。この演算は、図３のＺ位置演算部３７において実行される。
【００６３】
図７の曲線は、（７）式、（１）式及び（３）式に基づいて、射出されるレーザビームＬＡの傾き角ｋ（ｄｅｇ）と検出感度ΔＬ／Δｚの絶対値との関係を表している。この場合にも、プリズム２０Ａの空気に対する相対屈折率ｎＧ  ／ｎＡ  を１．５１４としている。図７から分かるように、検出感度ΔＬ／Δｚの絶対値は、傾き角ｋが９０°のときに最大値（＝１）となり、傾き角ｋが小さくなるに従って次第に小さくなる。また、本例のように傾き角ｋを約３０°にしたときの検出感度の絶対値はほぼ０．５となり、Ｚ方向の変位Δｚに対してレーザビームＬＡの往路の光路長の変化がほぼ０．５Δｚとなる。
【００６４】
なお、図２において、Ｚ軸レーザ干渉計２２Ａの参照部材としてＸ軸の移動鏡２１Ｘを用いる場合には、プリズム２０ＡがＸ方向に変位しても、Ｚ軸レーザ干渉計２２Ａの計測値のみを用いて、プリズム２２ＡのＺ方向の変位を正確に計測できる。
これに対して、図２から分かるように、Ｚ軸レーザ干渉計２２Ａ内に参照部材としてのレトロリフレクタ２７を設けた場合には、プリズム２０ＡのＺ方向の変位のみならず、プリズム２０Ａ（ウエハテーブル１１）のＸ方向の変位によっても光路長が変化するため、プリズム２０ＡのＸ方向の変位による光路長の変化分を、Ｘ軸レーザ干渉計２３Ｘによって計測される移動鏡２１Ｘ（ウエハテーブル１１）のＸ方向の変位で補正する必要がある。
【００６５】
図５（Ｂ）は、図２のプリズム２０Ａ（屈折面の倒れ角θＰ  ）がＸ方向にΔｘだけ変位して位置Ｐ４に達した場合に、レーザビームＬＡの光路が２点鎖線で示す光路ＬＡ２に変化した状態を示し、この図５（Ｂ）において、レーザビームＬＡがプリズム２０Ａに入射する前の光路の長さの変化ΔＬ４はΔｘそのものである。また、レーザビームＬＡのプリズム２０Ａ内での光路長は同じであり、プリズム２０Ａから射出されるレーザビームＬＡの光路の長さの変化ΔＬ５は、レーザビームＬＡの傾き角ｋを用いて次のように表すことができる。
【００６６】
ΔＬ５＝Δｘ  ｃｏｓｋ    …（８）
従って、プリズム２０Ａの変位Δｘに伴う、レーザビームＬＡの往路での光路長の変化ΔＬ（Δｘ）は次のようになる。
2005005329.tif 000008
本例では、プリズム２０Ａ（ウエハテーブル１１）のＸ方向への変位Δｘは、図２のＸ軸レーザ干渉計２３Ｘによって常時計測されているため、この計測値（Δｘ）も図３のＺ位置演算部３７に供給されている。そこで、Ｚ位置演算部３７では、Ｚ軸レーザ干渉計２２Ａの計測値から、（９）式に基づいてＸ軸レーザ干渉計２３Ｘの計測値の（１＋  ｃｏｓｋ）倍を差し引いた後の計測値を（７）式の検出感度ΔＬ／Δｚで除算することによって、プリズム２０ＡのＺ方向への変位Ｚ１を求める。これによって、プリズム２０ＡがＸ方向に変位している場合でも、プリズム２０ＡのＺ方向への変位Ｚ１のみを高精度に検出することができる。
【００６７】
また、図２の第２のＺ軸レーザ干渉計２２Ｂにおいても、同様にその計測値から（７）式に基づいてプリズム２０ＢのＺ方向への変位Ｚ２を求めることができる。但し、Ｘ軸レーザ干渉計２３ＸとＺ軸レーザ干渉計２２Ｂとは、レーザビームの光路長の増減が逆であるため、プリズム２０ＢのＸ方向への変位Δｘを補正するためには、Ｚ軸レーザ干渉計２２Ｂの計測値に、Ｘ軸レーザ干渉計２３Ｘの計測値の（１＋  ｃｏｓｋ）倍を加算した後の計測値を（７）式の検出感度ΔＬ／Δｚで除算する必要がある。
【００６８】
次に、本発明の実施形態の他の例につき図８を参照して説明する。本例は、Ｚ軸レーザ干渉計を１台としたものであり、図８において図１に対応する部分には同一符号を付してその詳細説明を省略する。
図８は、本例の投影露光装置の概略構成を示し、この図８において、ウエハテーブル１１の−Ｘ方向の端部にはプリズム２０Ａが固定され、その上にＸ軸の移動鏡２１Ｘが積み重ねるように固定され、ウエハテーブル１１の＋Ｙ方向の端部には移動鏡２１Ｘと同じ高さでＹ軸の移動鏡２１Ｙが固定されている。そして、プリズム２０Ａに対向するようにＺ軸レーザ干渉計２２Ａが配置され、Ｚ軸レーザ干渉計２２Ａから射出された後、プリズム２０Ａで屈折、反射、及び屈折されて斜め上方に射出されたレーザビームＬＡが垂直に入射するように、固定ミラー２４Ａが投影光学系ＰＬから離れて配置されている。固定ミラー２４Ａで反射されたレーザビームＬＡは、入射時の光路を逆に進んでＺ軸レーザ干渉計２２Ａに戻る。
【００６９】
また、Ｘ軸の移動鏡２１Ｘに対向するようにＸ軸レーザ干渉計２３Ｘ、ヨーイング計測用のレーザ干渉計２３Ａ、及びローリング計測用のレーザ干渉計２３Ｃが配置され、レーザ干渉計２３Ｘ及び２３ＡからはＹ方向に間隔δ１でレーザビームが移動鏡２１Ｘに照射され、レーザ干渉計２３ＣからはＸ軸レーザ干渉計２３Ｘから射出されるレーザビームに対してＺ方向に間隔δ３で、Ｘ軸に平行に計測用のレーザビームが移動鏡２１Ｘに照射されている。レーザ干渉計２３Ｃは、移動鏡２１Ｘで反射されたレーザビームを不図示の投影光学系ＰＬの側面の参照鏡で反射されたレーザビームと干渉させることによって、移動鏡２１ＸのＸ方向への変位を１〜０．１ｎｍ程度の分解能で計測する。レーザ干渉計２３Ｘ及び２３Ａも同様に移動鏡２１ＸのＸ方向への変位を１〜０．１ｎｍ程度の分解能で計測し、それらの計測値の差分を間隔δ１で除算することによって、ウエハテーブル１１のＺ軸の回りの回転角ωＺ（ヨーイング）が求められる。更に本例では、Ｘ軸レーザ干渉計２３Ｘの計測値とレーザ干渉計２３Ｃの計測値との差分を間隔δ３で除算することによって、ウエハテーブル１１（ウエハＷ）のＹ軸の回りの回転角ωＹ（ローリング）を求める。
【００７０】
また、Ｙ軸の移動鏡２１Ｙに対向するようにＹ軸レーザ干渉計２３Ｙ及びピッチング計測用のレーザ干渉計２３Ｂが配置され、レーザ干渉計２３Ｙ及び２３ＢからはＺ方向に間隔δ２でレーザビームが移動鏡２１Ｙに照射される。レーザ干渉計２３Ｙ及び２３Ｂは移動鏡２１ＹのＹ方向への変位を１〜０．１ｎｍ程度の分解能で計測する。それらの計測値の差分を間隔δ２で除算することによって、ウエハテーブル１１のＸ軸の回りの回転角ωＸ（ピッチング）が求められる。本例では、図１の実施形態で設けられていた第２のＺ軸レーザ干渉計２２Ｂ及びこれに付随するプリズムや固定ミラーは設けられていない。これ以外の構成は、第１の実施形態と同様である。
【００７１】
本例においては、５軸のレーザ干渉計２３Ｘ，２３Ｙ，２３Ａ，２３Ｂ，及び２３Ｃによって、ウエハベース１４に対するウエハテーブル１１（ウエハＷ）のＸ方向、Ｙ方向の位置、及び回転角ωＸ，ωＹ，ωＺよりなる５自由度の変位が計測されている。また、Ｚ軸レーザ干渉計２２Ａの計測値から、Ｘ軸レーザ干渉計２３Ｘで計測されるプリズム２０ＡのＸ方向への変位に基づく計測値を差し引いた計測値を、上記の（７）式の検出感度で除算することによって、プリズム２０Ａ（ウエハテーブル１１）のＺ方向への変位Ｚ１を求めることができる。この場合、より正確に露光中心（光軸ＡＸ）におけるウエハテーブル１１のＺ方向への変位（これもＺとする）を求めるには、上記の回転角ωＹと図２のプリズム２０Ａと光軸ＡＸとのＸ方向の間隔ＬＸ１とを用いて、次のような補正計算を行えばよい。
【００７２】
Ｚ＝Ｚ１＋ＬＸ１・ωＹ    …（１０）
このように本例においても、ウエハテーブル１１の６自由度の変位を計測することができる。
また、本例のＺ軸レーザ干渉計２２Ａも、ウエハテーブル１１（ウエハＷ）に対して非走査方向（Ｘ方向）からＺ方向の変位を計測している。そのため、走査露光中にはプリズム２０ＡはＸ方向には殆ど変位しないため、（１０）式中の間隔ＬＸ１もほぼ一定である。従って、高速かつ高精度にウエハテーブル１１の露光中心でのＺ方向の変位を計測できる。
【００７３】
なお、上記の実施形態では、反射光学部材としてプリズム２０Ａ，２０Ｂが使用されているが、反射光学部材としては、プリズム（屈折部材）とミラー（反射部材）とを組み合わせた光学系なども使用することができる。
また、上記の実施形態では、ウエハステージ１２（ウエハテーブル１１）の投影光学系ＰＬの光軸に沿った方向（Ｚ方向）の変位を計測するために本発明を適用しているが、本発明は、例えば図１のレチクルステージ３（レチクルＲ）の投影光学系ＰＬの光軸に沿った方向の変位を計測する場合にも適用することができる。
【００７４】
なお、上記の実施の形態の投影露光装置は、複数のレンズから構成される照明光学系、投影光学系を露光装置本体に組み込み光学調整をして、多数の機械部品からなるレチクルステージやウエハステージを露光装置本体に取り付けて配線や配管を接続し、更に総合調整（電気調整、動作確認等）をすることにより製造することができる。なお、その投影露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【００７５】
また、上記の実施の形態の投影露光装置を用いて半導体デバイスを製造する場合、この半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行うステップ、このステップに基づいてレチクルを製造するステップ、シリコン材料からウエハを形成するステップ、上記の実施の形態の投影露光装置によりアライメントを行ってレチクルのパターンをウエハに露光するステップ、エッチング等の回路パターンを形成するステップ、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、及び検査ステップ等を経て製造される。
【００７６】
なお、本発明は、走査露光型の投影露光装置のみならず、一括露光型の投影露光装置において、ウエハステージ（ウエハ）やレチクルステージ（レチクル）の投影光学系の光軸に沿った方向への変位を計測する場合にも同様に適用することができる。また、本発明の露光装置の用途としては半導体デバイス製造用の露光装置に限定されることなく、例えば、角型のガラスプレートに形成される液晶表示素子、若しくはプラズマディスプレイ等のディスプレイ装置用の露光装置や、撮像素子（ＣＣＤ等）、マイクロマシーン、薄膜磁気ヘッド、及びＤＮＡチップ等の各種デバイスを製造するための露光装置にも広く適用できる。更に、本発明は、各種デバイスのマスクパターンが形成されたマスク（フォトマスク、レチクル等）をフォトリソグフィ工程を用いて製造する際の、露光工程（露光装置）にも適用することができる。
【００７７】
なお、本発明は上述の実施の形態に限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取り得ることは勿論である。
【００７８】
【発明の効果】
本発明によれば、光ビームの入射方向に交差する方向（高さ方向）、又は投影光学系の光軸に沿った方向のステージの変位を干渉計方式で計測することができる。また、屈折光学部材の上に他の移動鏡等の光学部材を配置しても、その光学部材による屈折光学部材からの光ビームのケラレの恐れがないため、その光学部材の配置の自由度を高くすることができる。
【００７９】
また、投影光学系を備えた場合には、ステージを大型化することなく、光ビームを反射するための反射部材をその投影光学系から容易に離して配置することができる。
また、本発明の露光装置において、光軸方向駆動装置を有する場合には、干渉計方式で計測されるテーブルの投影光学系の光軸に沿った方向の変位に基づいて、例えばオートフォーカス方式でそのテーブルの位置を制御することによって、第１物体のパターン像を高精度に第２物体上に転写できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態の一例の投影露光装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】図１の投影露光装置を示す一部を切り欠いた正面図である。
【図３】図１の投影露光装置のステージ駆動系の構成を示すブロック図である。
【図４】図２のプリズム２０Ａを示す拡大図である。
【図５】（Ａ）はプリズム２０ＡをＺ方向に変位させた場合を示す図、（Ｂ）はプリズム２０ＡをＸ方向に変位させた場合を示す図である。
【図６】図４におけるプリズム２０Ａの屈折面の倒れ角とプリズム２０Ａから射出されるレーザビームの傾き角との関係の一例を示す図である。
【図７】図５（Ａ）におけるレーザビームの傾き角とＺ方向への変位の検出感度との関係の一例を示す図である。
【図８】本発明の実施形態の他の例の投影露光装置の概略構成を示す斜視図である。
【符号の説明】
Ｒ…レチクル、ＰＬ…投影光学系、Ｗ…ウエハ、６…主制御系、７…ウエハステージ駆動系、１１…ウエハテーブル、１２…ウエハステージ、１３Ａ〜１３Ｃ…Ｚ軸アクチュエータ、１４…ウエハベース、２０Ａ，２０Ｂ…プリズム、２１Ｘ，２１Ｙ…移動鏡、２２Ａ，２２Ｂ…Ｚ軸レーザ干渉計、２３Ｘ…Ｘ軸レーザ干渉計、２３Ｙ…Ｙ軸レーザ干渉計、２４Ａ，２４Ｂ…固定ミラー、３１…基準フレーム
【図１】
2005005329.tif 000009
【図２】
2005005329.tif 000010
【図３】
2005005329.tif 000011
【図４】
2005005329.tif 000012
【図５】
2005005329.tif 000013
【図６】
2005005329.tif 000014
【図７】
2005005329.tif 000015
【図８】
2005005329.tif 000016