(57)【要約】【課題】  視野角特性、光利用効率に優れた透過型スクリーンを提供すること、前記透過型スクリーンに好適に用いることができる拡散部付きレンズ基板を提供すること、また、前記透過型スクリーンを備えたリア型プロジェクタを提供すること。【解決手段】  拡散部付きレンズ基板１は、入射した光を集光する複数個のマイクロレンズ３２を有するマイクロレンズ基板３と、マイクロレンズ３２より光の出射側に形成され、マイクロレンズ３２を透過した光の光路上に開口部４１を有するブラックマトリックス４と、マイクロレンズ３２を透過した光を拡散させる機能を有する拡散部５とを備えている。拡散部５は、開口部４１に対応する部位に凹部５１を有している。【選択図】  図１
2005128352.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
入射した光を集光する複数個のレンズ部を有するレンズ基板と、
前記レンズ部より光の出射側に形成され、前記レンズ部を透過した光の光路上に開口部を有する遮光層と、
前記レンズ部を透過した光を拡散させる機能を有する拡散部とを備えた拡散部付きレンズ基板の製造方法であって、
前記レンズ基板の前記レンズ部が形成された面とは反対の面側に、第１の材料を用いて前記遮光層を形成する工程と、
流動性を有する第２の材料を、少なくとも前記開口部内に充填されるように付与し、固化させるとともに、前記開口部に対応する部位に凹部を形成し、前記拡散部を形成する工程とを有することを特徴とする拡散部付きレンズ基板の製造方法。
【請求項２】
前記遮光層を形成する工程において、
前記レンズ基板の前記レンズ部が形成されている側の面とは反対の面側に、ポジ型のフォトポリマーを含む前記第１の材料を付与し、第１の層を形成した後、
前記レンズ基板のレンズ部が形成された面側から光を入射させ、前記レンズ部により集光された光を、前記第１の層に照射することにより、前記第１の層を露光し、さらに、その後、
前記第１の層のうち、前記集光された光により露光された部位を除去するように現像処理を施す請求項１に記載の拡散部付きレンズ基板の製造方法。
【請求項３】
前記凹部は、湾曲凹面である請求項１または２に記載の拡散部付きレンズ基板の製造方法。
【請求項４】
前記第１の材料の表面張力により、前記凹部を形成する請求項１ないし３のいずれかに記載の拡散部付きレンズ基板の製造方法。
【請求項５】
前記第１の材料の室温付近での粘度は、１０〜１０００ｃｐである請求項１ないし４のいずれかに記載の拡散部付きレンズ基板の製造方法。
【請求項６】
前記第２の材料の室温付近での粘度は、１０〜１０００ｃｐである請求項１ないし５のいずれかに記載の拡散部付きレンズ基板の製造方法。
【請求項７】
前記第２の材料の付与は、スピンコートにより行う請求項１ないし６のいずれかに記載の拡散部付きレンズ基板の製造方法。
【請求項８】
前記遮光層の厚さは、０．０１〜１０μｍである請求項１ないし７のいずれかに記載の拡散部付きレンズ基板の製造方法。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の方法により製造されたことを特徴とする拡散部付きレンズ基板。
【請求項１０】
入射した光を集光する複数個のレンズ部を有するレンズ基板と、
前記レンズ部より光の出射側に形成され、前記レンズ部を透過した光の光路上に開口部を有する遮光層と、
前記レンズ部を透過した光を拡散させる機能を有する拡散部とを備えた拡散部付きレンズ基板であって、
前記拡散部は、光の出射側の面の前記開口部に対応する部位に、凹部を有するものであることを特徴とする拡散部付きレンズ基板。
【請求項１１】
前記凹部の少なくとも一部が、前記開口部の近傍にある状態、または前記開口部内に入り込んだ状態である請求項９または１０に記載の拡散部付きレンズ基板。
【請求項１２】
前記レンズ基板の光の出射側の面から前記遮光層の光の出射側の面までの長さをＬ０［μｍ］、前記凹部の底部における前記拡散部の高さをＬ１［μｍ］としたとき、０．０１≦Ｌ０−Ｌ１≦１０の関係を満足する請求項９ないし１１のいずれかに記載の拡散部付きレンズ基板。
【請求項１３】
前記凹部の深さは、０．０１〜１０μｍである請求項９ないし１２のいずれかに記載の拡散部付きレンズ基板。
【請求項１４】
前記拡散部の、前記開口部に対応する部位における最小厚さは、０．０１〜１０μｍである請求項９ないし１３のいずれかに記載の拡散部付きレンズ基板。
【請求項１５】
前記レンズ部は、マイクロレンズである請求項９ないし１４のいずれかに記載の拡散部付きレンズ基板。
【請求項１６】
前記マイクロレンズの直径は、１０〜５００μｍである請求項９ないし１５のいずれかに記載の拡散部付きレンズ基板。
【請求項１７】
前記レンズ部の曲率半径は、５〜２５０μｍである請求項９ないし１６のいずれかに記載の拡散部付きレンズ基板。
【請求項１８】
請求項９ないし１７のいずれかに記載の拡散部付きレンズ基板を備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項１９】
光の出射側にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された請求項９ないし１７のいずれかに記載の拡散部付きレンズ基板とを備えたことを特徴とする透過型スクリーン。
【請求項２０】
請求項１８または１９に記載の透過型スクリーンを備えたことを特徴とするリア型プロジェクタ。
【請求項２１】
投射光学ユニットと、導光ミラーとを備えた請求項２０に記載のリア型プロジェクタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、拡散部付きレンズ基板の製造方法、拡散部付きレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、リア型プロジェクタは、ホームシアター用モニター、大画面テレビ等に好適なディスプレイとして、需要が高まりつつある。
リア型プロジェクタに用いられる透過型スクリーンには、レンチキュラレンズが一般的に用いられている。しかしながら、このようなリア型プロジェクタでは、左右の視野角が大きいが上下の視野角が小さい（視野角に偏りがある）という問題があった。
このような問題を解決する目的で、レンチキュラレンズに代えてマイクロレンズ（マイクロレンズアレイシート）を用い、さらにマイクロレンズアレイシートの出射面側全面に、反射層と、拡散剤を含有する平板状の拡散層を設けた透過型スクリーン（背面投射型映像表示装置のスクリーン）がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
しかしながら、このような平板状の拡散層を備えた、従来の透過型スクリーンでは、拡散層の厚さが比較的大きい場合には、拡散層に入射した光が高い頻度で拡散剤に衝突することから、拡散層で反射された光の一部が裏面側（入射面側）に戻り、消光してしまう。このため、光利用効率が低いという問題があった。また、このような問題を解消するために拡散層の厚さを小さくすると、拡散層による光の拡散の効果が十分得られず、視野角を十分に大きくするのが困難であった。
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−１２３６２３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、視野角特性、光利用効率に優れた透過型スクリーンを提供すること、前記透過型スクリーンに好適に用いることができる拡散部付きレンズ基板を提供すること、また、前記透過型スクリーンを備えたリア型プロジェクタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
このような目的は、下記の本発明により達成される。
本発明の拡散部付きレンズ基板の製造方法は、入射した光を集光する複数個のレンズ部を有するレンズ基板と、
前記レンズ部より光の出射側に形成され、前記レンズ部を透過した光の光路上に開口部を有する遮光層と、
前記レンズ部を透過した光を拡散させる機能を有する拡散部とを備えた拡散部付きレンズ基板の製造方法であって、
前記レンズ基板の前記レンズ部が形成された面とは反対の面側に、第１の材料を用いて前記遮光層を形成する工程と、
流動性を有する第２の材料を、少なくとも前記開口部内に充填されるように付与し、固化させるとともに、前記開口部に対応する部位に凹部を形成し、前記拡散部を形成する工程とを有することを特徴とする。
これにより、視野角特性、光利用効率に優れた透過型スクリーンの製造に好適に用いることができる拡散部付きレンズ基板を提供することができる。
【０００７】
本発明の拡散部付きレンズ基板の製造方法では、前記遮光層を形成する工程において、
前記レンズ基板の前記レンズ部が形成されている側の面とは反対の面側に、ポジ型のフォトポリマーを含む前記第１の材料を付与し、第１の層を形成した後、
前記レンズ基板のレンズ部が形成された面側から光を入射させ、前記レンズ部により集光された光を、前記第１の層に照射することにより、前記第１の層を露光し、さらに、その後、
前記第１の層のうち、前記集光された光により露光された部位を除去するように現像処理を施すことが好ましい。
これにより、遮光層を容易かつ確実に形成することができるとともに、拡散部を好適な形状の凹部を有するものとして形成することができる。
【０００８】
本発明の拡散部付きレンズ基板の製造方法では、前記凹部は、湾曲凹面であることが好ましい。
これにより、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
本発明の拡散部付きレンズ基板の製造方法では、前記第１の材料の表面張力により、前記凹部を形成することが好ましい。
これにより、形状の信頼性（安定性）に優れた凹部を容易かつ確実に形成することができる。
【０００９】
本発明の拡散部付きレンズ基板の製造方法では、前記第１の材料の室温付近での粘度は、１０〜１０００ｃｐであることが好ましい。
これにより、適度な厚さの遮光層を容易かつ確実に形成することができる。
本発明の拡散部付きレンズ基板の製造方法では、前記第２の材料の室温付近での粘度は、１０〜１０００ｃｐであることが好ましい。
これにより、好適な形状の凹部を有する拡散部を容易かつ確実に形成することができる。
【００１０】
本発明の拡散部付きレンズ基板の製造方法では、前記第２の材料の付与は、スピンコートにより行うことが好ましい。
これにより、好適な形状を有する拡散部をより容易に形成することができる。
本発明の拡散部付きレンズ基板の製造方法では、前記遮光層の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましい。
これにより、好適な形状の凹部を有する拡散部を容易かつ確実に形成することができるとともに、得られる拡散部付きレンズ基板を透過型スクリーンに適用した場合等において、投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００１１】
本発明の拡散部付きレンズ基板は、本発明の方法により製造されたことを特徴とする。
これにより、視野角特性、光利用効率に優れた透過型スクリーンの製造に好適に用いることができる拡散部付きレンズ基板を提供することができる。
本発明の拡散部付きレンズ基板は、入射した光を集光する複数個のレンズ部を有するレンズ基板と、
前記レンズ部より光の出射側に形成され、前記レンズ部を透過した光の光路上に開口部を有する遮光層と、
前記レンズ部を透過した光を拡散させる機能を有する拡散部とを備えた拡散部付きレンズ基板であって、
前記拡散部は、光の出射側の面の前記開口部に対応する部位に、凹部を有するものであることを特徴とする。
これにより、視野角特性、光利用効率に優れた透過型スクリーンの製造に好適に用いることができる拡散部付きレンズ基板を提供することができる。
【００１２】
本発明の拡散部付きレンズ基板では、前記凹部の少なくとも一部が、前記開口部の近傍にある状態、または前記開口部内に入り込んだ状態であることが好ましい。
これにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。
本発明の拡散部付きレンズ基板では、前記レンズ基板の光の出射側の面から前記遮光層の光の出射側の面までの長さをＬ０［μｍ］、前記凹部の底部における前記拡散部の高さをＬ１［μｍ］としたとき、０．０１≦Ｌ０−Ｌ１≦１０の関係を満足することが好ましい。
これにより、視野角特性、光利用効率をさらに優れたものとすることができる。
【００１３】
本発明の拡散部付きレンズ基板では、前記凹部の深さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましい。
これにより、視野角特性、光利用効率をさらに優れたものとすることができる。
本発明の拡散部付きレンズ基板では、前記拡散部の、前記開口部に対応する部位における最小厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましい。
これにより、視野角特性および光利用効率を、ともに優れたものとすることができる。
【００１４】
本発明の拡散部付きレンズ基板では、前記レンズ部は、マイクロレンズであることが好ましい。
これにより、当該拡散部付きレンズ基板を透過型スクリーンに適用した場合等における、視野角特性を特に優れたものとすることができる。より詳しくは、水平方向の視野角とともに、鉛直方向の視野角を大きくすることができる。
【００１５】
本発明の拡散部付きレンズ基板では、前記マイクロレンズの直径は、１０〜５００μｍであることが好ましい。
これにより、当該拡散部付きレンズ基板の生産性を十分に高いものとしつつ、当該拡散部付きレンズ基板を透過型スクリーンに適用した場合等において、十分な解像度を得ることができる。
【００１６】
本発明の拡散部付きレンズ基板では、前記レンズ部の曲率半径は、５〜２５０μｍであることが好ましい。
これにより、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。
本発明の透過型スクリーンは、本発明の拡散部付きレンズ基板を備えたことを特徴とする。
これにより、視野角特性、光利用効率に優れた透過型スクリーンを提供することができる。
【００１７】
本発明の透過型スクリーンは、光の出射側にフレネルレンズが形成されたフレネルレンズ部と、
前記フレネルレンズ部の光の出射側に配置された本発明の拡散部付きレンズ基板とを備えたことを特徴とする。
これにより、視野角特性、光利用効率に優れた透過型スクリーンを提供することができる。
【００１８】
本発明のリア型プロジェクタは、本発明の透過型スクリーンを備えたことを特徴とする。
これにより、視野角特性、光利用効率に優れたリア型プロジェクタを提供することができる。
本発明のリア型プロジェクタでは、投射光学ユニットと、導光ミラーとを備えたことが好ましい。
これにより、視野角特性、光利用効率に優れたリア型プロジェクタを提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、本発明の拡散部付きレンズ基板の製造方法、拡散部付きレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。
まず、本発明の拡散部付きレンズ基板および透過型スクリーンの構成について説明する。
【００２０】
図１は、本発明の拡散部付きレンズ基板の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図、図２は、図１に示す拡散部付きレンズ基板が備えるマイクロレンズ基板の平面図、図３は、図１に示す拡散部付きレンズ基板を備えた本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図１、図３中の左側を「（光の）入射側」、右側を「（光の）出射側」と言う。
【００２１】
拡散部付きレンズ基板１は、後述する透過型スクリーン１０を構成する部材であり、図１に示すように、入射光を集光する機能を有するマイクロレンズ基板（レンズ基板）３と、遮光性を有する材料で構成されたブラックマトリックス（遮光層）４と、入射光を拡散させる機能を有する拡散部５とを有している。
マイクロレンズ基板３は、樹脂層３１と、樹脂層３１の入射側の表面に形成された多数のマイクロレンズ（レンズ部）３２を有している。
【００２２】
樹脂層３１は、主として樹脂材料で構成され、所定の屈折率を有する透明な材料で構成されている。
各マイクロレンズ３２は、入射側に突出した凸レンズとして形成されている。これにより、後述するマイクロレンズ用凹部付き基板７を（型として）用いて、マイクロレンズ基板３を効率よく生産することができる。
【００２３】
マイクロレンズ３２の直径は、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ３２の直径が前記範囲内の値であると、スクリーンに投影される画像において十分な解像度を保持しつつ、拡散部付きレンズ基板１（透過型スクリーン１０）の生産性をさらに高めることができる。なお、マイクロレンズ基板３においては、隣接するマイクロレンズ３２−マイクロレンズ３２間のピッチは、１０〜５００μｍであるのが好ましく、３０〜３００μｍであるのがより好ましく、５０〜１００μｍであるのがさらに好ましい。
【００２４】
また、マイクロレンズ３２の曲率半径は、５〜２５０μｍであるのが好ましく、１５〜１５０μｍであるのがより好ましく、２５〜５０μｍであるのがさらに好ましい。マイクロレンズ３２の曲率半径が前記範囲内の値であると、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。
また、拡散部付きレンズ基板１を構成する複数個のマイクロレンズ３２の曲率半径が、互いにほぼ等しいものであるのが好ましく、拡散部付きレンズ基板１を構成するほぼ全てのマイクロレンズの曲率半径が、互いにほぼ等しいものであるのがより好ましい。これにより、後述するような方法で、開口部４１を有するブラックマトリックス４を、より容易かつ確実に形成することができる。また、各マイクロレンズ３２が、ほぼ等しい曲率半径を有している場合、各マイクロレンズ３２によって集光された光は、ほぼ同一面上で焦点を結ぶ。したがって、露光用光をマイクロレンズの入射側表面に一様に照射することにより、ブラックマトリックス（遮光層）の開口部、および拡散部をほぼ同一の寸法で形成することができる。
【００２５】
また、マイクロレンズ３２の配列方式は、特に限定されず、周期的な配列であっても、光学的にランダムな配列（拡散部付きレンズ基板１（マイクロレンズ基板３）の主面側から平面視したときに、各マイクロレンズ３２が互いにランダムな位置関係となるように配されたもの）であってもよいが、図２に示すようなランダムな配列であるのが好ましい。マイクロレンズ３２をランダムに配列することにより、液晶等のライトバルブやフレネルレンズとの干渉をより効果的に防止することができ、モアレの発生をほぼ完全に無くすことが可能になる。これにより、表示品質の良い優れた透過型スクリーン１０を得ることができる。
【００２６】
また、マイクロレンズ基板３を光の入射面側（図２で示した方向）から平面視したときの、マイクロレンズ３２が形成されている有効領域において、マイクロレンズ（レンズ部）３２が占める面積（投影面積）の割合は、９０〜１００％であるのが好ましく、９７〜１００％であるのがより好ましい。マイクロレンズ３２が占める面積の割合が前記範囲内の値であると、マイクロレンズ３２以外を通過（透過）する直進光を十分に少なくし、光利用効率を十分に高いものとしつつ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。
【００２７】
上述したように、マイクロレンズ基板３の出射側表面には、ブラックマトリックス４と拡散部５が形成されている。
ブラックマトリックス４は、遮光性を有する材料で構成され、層状に形成されたものである。このようなブラックマトリックス４を有することにより、当該ブラックマトリックス４に、外光（投影画像を形成する上で好ましくない外光）を吸収させることができ、スクリーンに投影される画像を、コントラストに優れたものとすることができる。
【００２８】
このようなブラックマトリックス４は、各マイクロレンズ３２を透過した光の光路上に開口部４１を有している。これにより、各マイクロレンズ３２で集光された光を、ブラックマトリックス４の開口部４１を通過させて、拡散部５に入射させることができる。
開口部４１の大きさは、特に限定されないが、その直径が、９〜５００μｍであるのが好ましく、９〜４５０μｍであるのがより好ましく、２０〜９０μｍであるのがさらに好ましい。開口部４１の直径がこのような範囲の大きさであると、各マイクロレンズ３２を透過した光を、後述する拡散部５に効率よく入射させることができるとともに、スクリーンに投影される画像を、よりコントラストに優れたものとすることができる。
【００２９】
また、ブラックマトリックス４の厚さ（開口部４１を除く部分の平均厚さ）は、０．０１〜１０μｍであるのが好ましく、０．０１〜５μｍであるのがより好ましく、１〜５μｍであるのがさらに好ましい。ブラックマトリックス４の厚さが前記範囲内の値であると、ブラックマトリックス４としての機能を十分に発揮することができ、例えば、拡散部付きレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０において、投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。また、ブラックマトリックス４の厚さが前記範囲内の値であると、開口部４１内における拡散部５の厚さを十分に大きいものとすることができる。これにより、比較的容易に、開口部４１を除くブラックマトリックス４上に、後述する拡散部５の高さが比較的低い領域、または、拡散部５が形成されていない領域を有するものとすることができる。その結果、拡散部５の機能を十分に発揮させつつ、ブラックマトリックス（遮光層）４の機能をより効果的に発揮させることができ、スクリーンに投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。また、ブラックマトリックス４の厚さが前記範囲内の値であると、後述するような方法により、好適な形状の凹部５１を有する拡散部５を容易かつ確実に形成することができる。
【００３０】
なお、ブラックマトリックス４は、各部位で、均一な組成を有するものであってもよいし、異なる組成を有するものであってもよい。例えば、ブラックマトリックス４は、光の出射側の面付近が遮光性の成分を含む材料（第１の材料）で構成され、それ以外の部位が遮光性の成分を含まない材料（第１の材料）で構成されたものであってもよい。
【００３１】
拡散部５は、入射した光（入射光）を拡散させる機能を有するものである。このような拡散部５を有することにより、視野角特性を優れたものとすることができる。本実施形態では、拡散部５は、光透過性に優れた実質的に透明な材料（例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂等）中に、拡散材が分散した構成になっている。拡散部５が拡散材を含むものであると、入射した光（入射光）を効果的に乱反射させることができ、結果として、拡散部５の光拡散性（光を効率よく拡散させる性質）をさらに優れたものとすることができる。拡散材としては、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂等を用いることができる。拡散材の平均粒径は、特に限定されないが、１〜５０μｍであるのが好ましく、２〜１０μｍであるのがより好ましい。
【００３２】
そして、拡散部５は、少なくともブラックマトリックス４の開口部４１に対応する部分に設けられ、この開口部４１に対応する部分に凹部５１を有している。このように、本発明では、拡散部が凹部を有するものである点に特徴を有する。このような構成により、光の利用効率を十分に高く維持しつつ、視野角特性を特に優れたものとすることができる。より詳しく説明すると、拡散部が、光の出射側の面が平坦なものである場合には、拡散部の厚さを十分に大きくするか、拡散部内における拡散材の含有率を高くしないと、光を十分に拡散させるのが困難であるが、拡散部の厚さを大きくしたり、拡散部内における拡散材の含有率を高くすると、拡散部内において、光（光子）と拡散材とが衝突する確率（頻度）が高くなることにより消光が起こり易く、また、拡散部内に入射した光（光子）が、再び入射側に戻る可能性も高くなるため、光の利用効率が低くなるのに対し、拡散部５が開口部４１に対応する部分に凹部５１を有するものであると、拡散部５内に入射した光（光子）が拡散材と過剰に衝突することにより消光が著しくなったり、マイクロレンズ３２で集光された光（光子）が、再び光の入射側に戻ってくるのを効果的に防止しつつ、拡散部５に入射した光を出射側に効率よく拡散させることができる。その結果、透過型スクリーン１０（拡散部付きレンズ基板１）の視野角特性も優れたものとすることができる。特に、上記のような構成であることにより、拡散部５の厚さが比較的小さい場合であっても、凹部（凹レンズ）による光の拡散効果が得られるため、拡散部５内での消光をより効果的に防止することができる。その結果、視野角特性を特に優れたものとしつつ、光の利用効率をより高いものとすることができる。
【００３３】
凹部５１の形状は、特に限定されないが、湾曲凹面であるのが好ましい。これにより、視野角特性を特に優れたものとすることができる。
凹部５１の深さ（拡散部５の高低差）は、ブラックマトリックス４の厚さ等により異なるが、０．０１〜１０μｍであるのが好ましく、０．１〜９μｍであるのがより好ましく、１〜２．５μｍであるのがさらに好ましい。これにより、視野角特性、光利用効率をさらに優れたものとすることができる。
【００３４】
拡散部５の、開口部４１に対応する部位における最小厚さは、０．０１〜１０μｍであるのが好ましく、０．１〜９μｍであるのがより好ましく、１〜２．５μｍであるのがさらに好ましい。最小厚さが前記下限値未満であると、ブラックマトリックス４の厚さ等によっては、拡散部５で拡散された光（光子）が、ブラックマトリックス４に衝突する確率が高くなる可能性が高くなり、光の利用効率を十分に高くするのが困難になる可能性がある。一方、最小厚さが前記上限値を超えると、拡散材の含有量等によっては、入射光の拡散部５内での消光が著しくなり、光の利用効率を十分に高くするのが困難になる可能性がある。
【００３５】
また、拡散部５は、各マイクロレンズの光軸に対応した部位に凹部５１を有しているのが好ましい。これにより、マイクロレンズ３２で集光された光が、拡散部５によってほぼ等方的に拡散し、良好な視野角特性を得ることができる。
なお、図示の構成では、遮光部５が、マイクロレンズ基板３の光の出射面側の全面に形成されているが、遮光部５は、開口部４１に対応する部位に凹部５１を有するものであれば、いかなる形状のものであってもよい。例えば、ブラックマトリックス４上に拡散部５が形成されていない領域があり、複数個の拡散部５が、ブラックマトリックス４の各開口部４１に対応するように、互いに独立して設けられていてもよい。このように、複数個の拡散部５が互いに独立して設けられていると、光の利用効率を特に優れたものとすることができるとともに、スクリーンに投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。より詳しく説明すると、複数個の拡散部５が互いに独立して設けられていると、拡散部５内に入射した光（光子）が拡散材と過剰に衝突することにより消光が著しくなったり、マイクロレンズ３２で集光された光（光子）が、再び光の入射側に戻ってくるのをより効果的に防止しつつ、拡散部５に入射した光を出射側に拡散させることができる。その結果、光の利用効率を特に優れたものとすることができるとともに、透過型スクリーン１０（拡散部付きレンズ基板１）の視野角特性を優れたものとすることができる。また、複数個の拡散部５が互いに独立して設けられていると、隣接する拡散部５−拡散部５間に、ブラックマトリックス４が、拡散部５に被覆されていない領域を有するものとなる。これにより、ブラックマトリックス（遮光層）４の機能をより効果的に発揮させることができ、スクリーンに投影される画像のコントラストを特に優れたものとすることができる。
【００３６】
マイクロレンズ基板（レンズ基板）３の光の出射側の面からブラックマトリックス（遮光層）４の光の出射側の面までの長さ（ブラックマトリックス４の厚さ）をＬ０［μｍ］、凹部５１の底部における拡散部５の高さをＬ１［μｍ］としたとき、０．０１≦Ｌ０−Ｌ１≦１０の関係を満足するのが好ましく、１≦Ｌ０−Ｌ１≦２．５の関係を満足するのがより好ましい。（Ｌ０−Ｌ１）が前記下限値未満であると、拡散材の含有量等によっては、入射光の拡散部５内での消光が著しくなり、光の利用効率を十分に高くするのが困難になる可能性がある。一方、（Ｌ０−Ｌ１）が前記上限値を超えると、拡散部５で拡散された光（光子）が、ブラックマトリックス４に衝突する確率が高くなる可能性が高くなり、光の利用効率を十分に高くするのが困難になる可能性がある。
【００３７】
また、凹部５１の少なくとも一部は、開口部４１の近傍にある状態、または開口部４１内に入り込んだ状態であるのが好ましい。これにより、拡散部５内での消光をより効果的に抑制することができ、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。
次に、上述したような拡散部付きレンズ基板１を備えた透過型スクリーン１０について説明する。
【００３８】
図３に示すように、透過型スクリーン１０は、フレネルレンズ部２と、前述した拡散部付きレンズ基板１とを備えている。フレネルレンズ部２は、光（画像光）の入射側に設置されており、フレネルレンズ部２を透過した光が、拡散部付きレンズ基板１に入射する構成になっている。
フレネルレンズ部２は、出射側表面に、ほぼ同心円状に形成されたプリズム形状のフレネルレンズ２１を有している。このフレネルレンズ部２は、投射レンズ（図示せず）からの画像光を屈折させ、拡散部付きレンズ基板１の主面の垂直方向に平行な平行光Ｌａにするものである。
【００３９】
以上のように構成された透過型スクリーン１０では、投射レンズからの映像光が、フレネルレンズ部２によって屈折し、平行光Ｌａとなる。そして、この平行光Ｌａは、マイクロレンズ基板３の各マイクロレンズ３２によって集光され、ブラックマトリックス４の各開口部４１を通過して、拡散部５に入射する。拡散部５に入射した光は拡散し、観察者に平面画像として観測される。
【００４０】
なお、図１、図３に示す構成では、凹部５１の一部が開口部４１の内部に設けられているが、凹部は、開口部に対応する部位に設けられえていればよく、例えば、図１０に示すように、開口部４１の外部に設けられたものであってもよい。
次に、前述した拡散部付きレンズ基板１の製造方法の一例について説明する。
図４は、マイクロレンズ基板の製造に用いるマイクロレンズ用凹部付き基板（凹部付き基板）を示す模式的な縦断面図、図５は、図４に示すマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。図６〜図８は、図１に示す拡散部付きレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。なお、以下の説明では、図６〜図８中の下側を「（光の）入射側」、上側を「（光の）出射側」と言う。
【００４１】
まず、本発明の拡散部付きレンズ基板の製造方法の説明に先立ち、マイクロレンズ基板の製造に用いることのできるマイクロレンズ用凹部付き基板の構成およびその製造方法について説明する。
図４に示すように、マイクロレンズ用凹部付き基板６は、ランダムに配された複数個の凹部（マイクロレンズ用凹部）６１を有している。
【００４２】
そして、このようなマイクロレンズ用凹部付き基板６を用いることにより、前述したような、マイクロレンズ３２がランダムに配されたマイクロレンズ基板３を得ることができる。
本明細書中において「光学的にランダム」とは、モアレ等の光学的干渉の発生が十分に防止・抑制される程度に、マイクロレンズの配置が不規則で、乱れていることを意味する。
【００４３】
次に、マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法について、図５を参照しながら説明する。なお、実際には基板上に多数のマイクロレンズ用凹部を形成するが、ここでは、説明をわかりやすくするために、その一部分を強調して示した。
まず、マイクロレンズ用凹部付き基板６を製造するに際し、基板７を用意する。
この基板７は、厚さが均一で、たわみや傷のないものが好適に用いられる。また、基板７は、洗浄等により、その表面が清浄化されているものが好ましい。
【００４４】
基板７の材料としてはソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等が挙げられるが、中でも、ソーダガラス、結晶性ガラス（例えば、ネオセラム等）、無アルカリガラスが好ましい。ソーダガラス、結晶性ガラス、無アルカリガラスは、加工が容易であるとともに、比較的安価であり、製造コストの面からも有利である。
【００４５】
＜Ａ１＞図５（ａ）に示すように、用意した基板７の表面に、マスク８を形成する（マスク形成工程）。また、これとともに、基板７の裏面（マスク８を形成する面と反対側の面）に裏面保護膜８９を形成する。もちろん、マスク８および裏面保護膜８９は同時に形成することもできる。
マスク８は、レーザ光の照射等により、後述する初期孔８１を形成することができるとともに、後述するエッチング工程におけるエッチングに対する耐性を有するものが好ましい。換言すれば、マスク８は、エッチングレートが、基板７と略等しいか、または、基板７に比べて小さくなるように構成されるのが好ましい。
【００４６】
かかる観点からは、このマスク８を構成する材料としては、例えばＣｒ、Ａｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｐｔ等の金属やこれらから選択される２種以上を含む合金、前記金属の酸化物（金属酸化物）、シリコン、樹脂等が挙げられる。また、マスク８を、Ｃｒ／Ａｕや酸化Ｃｒ／Ｃｒのように異なる材料からなる複数の層の積層構造としてもよい。
マスク８の形成方法は特に限定されないが、マスク８をＣｒ、Ａｕ等の金属材料（合金を含む）や金属酸化物（例えば酸化Ｃｒ）から構成する場合、マスク８は、例えば、蒸着法やスパッタリング法等により、好適に形成することができる。また、マスク８をシリコンから構成する場合、マスク８は、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法等により、好適に形成することができる。
【００４７】
マスク８が主として酸化ＣｒまたはＣｒで構成されるものである場合、後述する初期孔形成工程において初期孔８１を容易に形成することができるとともに、後述するエッチング工程においては基板７をより確実に保護することができる。また、マスク８が主として酸化ＣｒまたはＣｒで構成されたものであると、例えば、後述するエッチング工程において、エッチング液として一水素二フッ化アンモンを用いることができる。一水素二フッ化アンモンは毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響をより確実に防止することができる。
【００４８】
マスク８の厚さは、マスク８を構成する材料によっても異なるが、０．０１〜２．０μｍ程度が好ましく、０．０３〜０．２μｍ程度がより好ましい。厚さが前記下限値未満であると、後述する初期孔形成工程において形成される初期孔８１の形状が歪んでしまう可能性がある。また、後述するエッチング工程でウェットエッチングを施す際に、基板７のマスクした部分を十分に保護できない可能性がある。一方、上限値を超えると、後述する初期孔形成工程において、貫通する初期孔８１を形成するのが困難になるほか、マスク８の構成材料等によっては、マスク８の内部応力によりマスク８が剥がれ易くなる場合がある。
裏面保護膜８９は、次工程以降で基板７の裏面を保護するためのものである。この裏面保護膜８９により、基板７の裏面の侵食、劣化等が好適に防止される。この裏面保護膜８９は、例えば、マスク８と同様の材料で構成されている。このため、裏面保護膜８９は、マスク８の形成と同時に、マスク８と同様に設けることができる。
【００４９】
＜Ａ２＞次に、図５（ｂ）に示すように、マスク８に、後述するエッチングの際のマスク開口となる、複数個の初期孔８１をランダムに形成する（初期孔形成工程）。
初期孔８１は、いかなる方法で形成されるものであってもよいが、物理的方法またはレーザ光の照射により形成されるのが好ましい。これにより、マイクロレンズ用凹部付き基板を生産性良く製造することができる。特に、大面積のマイクロレンズ用凹部付き基板にも簡単に凹部を形成することができる。
【００５０】
初期孔８１を形成する物理的方法としては、例えば、ショットブラスト、サンドブラスト等のブラスト処理、エッチング、プレス、ドットプリンタ、タッピング、ラビング等の方法が挙げられる。ブラスト処理により初期孔８１を形成する場合、比較的大きい面積（マイクロレンズ３２を形成すべき領域の面積）の基板７でも、より短時間で効率良く、初期孔８１を形成することができる。
【００５１】
また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、使用するレーザ光の種類は、特に限定されないが、ルビーレーザ、半導体レーザ、ＹＡＧレーザ、フェムト秒レーザ、ガラスレーザ、ＹＶＯ４レーザ、Ｎｅ−Ｈｅレーザ、Ａｒレーザ、ＣＯ２レーザ、エキシマレーザ等が挙げられる。また、各レーザのＳＨＧ、ＴＨＧ、ＦＨＧ等の波長を使っても良い。レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、形成される初期孔８１の大きさや、隣接する初期孔８１同士の間隔等を容易かつ精確に制御することができる。また、レーザ光の照射により初期孔８１を形成する場合、その照射条件を制御することにより、後述するような初期凹部７１を形成することなく初期孔８１のみを形成したり、初期孔８１とともに、形状、大きさ、深さのバラツキの小さい初期凹部７１を、容易かつ確実に形成することができる。
【００５２】
形成された初期孔８１は、マスク８の全面に亘って偏りなく形成されているのが好ましい。また、形成された初期孔８１は、後述する工程＜Ａ３＞でウェットエッチングを施した際に、基板７の表面の平らな面がなくなり、ほぼ隙間なく凹部６１が形成される程度に、小さい孔がある程度の間隔で配されているのが好ましい。
具体的には、例えば、形成された初期孔８１の平面視での形状は、略円形であり、その平均径（直径）は、２〜１０μｍであるのが好ましい。また、初期孔８１は、マスク８上に１，０００〜１，０００，０００個／ｃｍ２の割合で形成されているのが好ましく、１０，０００〜５００，０００個／ｃｍ２の割合で形成されているのがより好ましい。なお、初期孔８１の形状は、略円形に限定されないことは言うまでもない。
【００５３】
また、マスク８に初期孔８１を形成するとき、図５（ｂ）に示すように、マスク８だけでなく基板７の表面の一部も同時に除去し、初期凹部７１を形成してもよい。これにより、後述するエッチング工程でエッチングを施す際に、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。また、この初期凹部７１の深さの調整により、凹部６１の深さ（レンズの最大厚さ）を調整することもできる。初期凹部７１の深さは、特に限定されないが、５μｍ以下とするのが好ましく、０．１〜０．５μｍ程度とするのがより好ましい。なお、初期孔８１の形成をレーザの照射により行う場合、初期孔８１とともに形成される複数個の初期凹部７１について、深さのバラツキをより確実に小さくすることができる。これにより、マイクロレンズ用凹部付き基板６を構成する各凹部６１の深さのバラツキも小さくなり、最終的に得られるマイクロレンズ基板３の各マイクロレンズ３２の大きさ、形状のバラツキも小さくなる。その結果、各マイクロレンズ３２の直径、焦点距離、レンズ厚さのバラツキを特に小さくさせることができ、後述する工程において、ブラックマトリックス４の開口部４１を好適に形成することができる。
【００５４】
また、形成されたマスク８に対して物理的方法またはレーザ光の照射で初期孔８１を形成するだけでなく、例えば、基板７にマスク８を形成する際に、予め基板７上に所定パターンで異物を配しておき、その上にマスク８を形成することでマスク８に積極的に欠陥を形成し、当該欠陥を初期孔８１としてもよい。
このように、物理的な方法またはレーザ光の照射でマスク８に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合に比べて、簡単かつ安価にマスク８に開口部（初期孔８１）をランダムに形成することができる。また、物理的な方法またはレーザ光の照射によれば、大きな基板に対する処理も容易に行うことができる。
【００５５】
＜Ａ３＞次に、図５（ｃ）に示すように、初期孔８１が形成されたマスク８を用いて基板７にエッチングを施し、基板７上に多数の凹部６１をランダムに形成する（エッチング工程）。
エッチングの方法は、特に限定されず、例えば、ウェットエッチング、ドライエッチング等が挙げられる。以下の説明では、ウェットエッチングを用いる場合を例に挙げて説明する。
【００５６】
初期孔８１が形成されたマスク８で被覆された基板７に対して、エッチング（ウェットエッチング）を施すことにより、図５（ｃ）に示すように、基板７は、マスク８が存在しない部分より食刻され、基板７上に多数の凹部６１が形成される。上述したように、マスク８に形成された初期孔８１がランダムなものであるため、形成される凹部６１は、基板７の表面にランダムに配置されたものとなる。
【００５７】
また、本実施形態では、工程＜Ａ２＞でマスク８に初期孔８１を形成した際に、基板７の表面に初期凹部７１を形成している。これにより、エッチングの際、エッチング液との接触面積が大きくなり、侵食を好適に開始することができる。
また、ウェットエッチング法を用いると、凹部６１を好適に形成できる。そして、エッチング液として、例えば、フッ酸（フッ化水素）を含むエッチング液（フッ酸系エッチング液）を用いると、基板７をより選択的に食刻することができ、凹部６１を好適に形成することができる。
【００５８】
マスク８が主としてＣｒで構成されたものである場合、フッ酸系エッチング液としては、フッ化アンモン溶液（一水素二フッ化アンモニウム溶液）が特に好適である。フッ化アンモン溶液（４ｗｔ％以下）は毒劇物ではないため、作業中の人体や環境への影響を防止することができる。また、エッチング液として、フッ化アンモン溶液を用いる場合、該エッチング液中には、例えば、過酸化水素が含まれていてもよい。これにより、エッチングスピードをより速くすることができる。
また、ウェットエッチングによれば、ドライエッチングに比べて簡単な装置で処理を行うことができ、さらに、一度に多くの基板に対して処理を行うことができる。これにより生産性が向上し、安価にマイクロレンズ用凹部付き基板６を提供することができる。
【００５９】
＜Ａ４＞次に、図５（ｄ）に示すように、マスク８を除去する（マスク除去工程）。また、この際、マスク８の除去とともに、裏面保護膜８９も除去する。
マスク８が主としてＣｒで構成されたものである場合、マスク８の除去は、例えば、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸とを含む混合物を用いたエッチングにより行うことができる。
【００６０】
以上により、図５（ｄ）および図４に示すように、基板７上に多数の凹部６１がランダムに形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板６が得られる。
基板７上にランダムな凹部６１を形成する方法は、特に限定されないが、上述したような方法（物理的方法またはレーザ光の照射によりマスク８に初期孔８１を形成し、その後、そのマスク８を用いてエッチングを行うことにより、基板７上に凹部６１を形成する方法）により形成した場合、以下のような効果が得られる。
【００６１】
すなわち、物理的な方法またはレーザ光の照射によりマスク８に初期孔８１を形成することで、従来のようなフォトリソグラフィ法によってマスクに開口部を形成する場合に比べて簡単かつ安価にマスク８に所定パターンで開口部（初期孔８１）を形成することができる。これにより生産性が向上し、安価にマイクロレンズ用凹部付き基板６を提供することができる。
【００６２】
また、上述したような方法によれば、大型の基板に対する処理も容易に行うことができる。大型の基板を製造する場合に、従来のように複数の基板を貼り合わせる必要がなくなり、貼り合わせの継ぎ目をなくすことができる。これにより高品質の大型マイクロレンズ用凹部付き基板（マイクロレンズ基板）を簡便な方法で安価に製造することができる。
さらに、工程＜Ａ４＞でマスク８を除去した後、基板７上に新しいマスクを形成し、マスク形成−初期孔形成−ウェットエッチング−マスク除去の一連の工程を繰り返して行ってもよい。これにより、凹部６１が緻密に形成されたマイクロレンズ用凹部付き基板６を得ることができる。
次に、本発明の拡散部付きレンズ基板の製造方法の一例として、上述したマイクロレンズ用凹部付き基板６を用いて、拡散部付きレンズ基板１を製造する方法について説明する。
【００６３】
＜Ｂ１＞まず、図６（ａ）に示すように、マイクロレンズ用凹部付き基板６の凹部６１が形成された側の面に、未重合（未硬化）の樹脂３３を付与する。本実施形態では、本工程において、マイクロレンズ用凹部付き基板６の凹部６１が形成されていない領域に、スペーサー９を配しておき、樹脂３３を平板１１で押圧する構成になっている。これにより、形成されるマイクロレンズ基板３の厚さをより確実に制御することができ、最終的に得られる拡散部付きレンズ基板１での、マイクロレンズ３２の焦点の位置を、より確実に制御することができる
本実施形態のように、スペーサー９を用いる場合、スペーサー９の形状は特に限定されないが、略球状、略円柱状であるのが好ましい。スペーサー９がこのような形状のものである場合、その直径は、１０〜３００μｍであるのが好ましく、３０〜２００μｍであるのがより好ましく、３０〜１７０μｍであるのがさらに好ましい。
【００６４】
なお、樹脂３３の付与、平板１１での押圧に先立ち、マイクロレンズ用凹部付き基板６の凹部６１が形成されている側の面や、平板１１の樹脂３３を押圧する側の面に離型剤を塗布しておいてもよい。これにより、後述する工程において、マイクロレンズ用凹部付き基板６や平板１１から、マイクロレンズ基板３を容易かつ確実に分離（剥離）することができる。
【００６５】
＜Ｂ２＞次に、樹脂３３を硬化（重合）させ、その後、平板１１を取り除く（図６（ｂ）参照）。これにより、樹脂層３１と、凹部６１に充填された樹脂で構成され、凸レンズとして機能するマイクロレンズ３２とを備えたマイクロレンズ基板３が得られる。
樹脂３３を硬化（重合）させる方法は、特に限定されず、例えば、紫外線等の光の照射、電子線の照射、加熱等の方法が挙げられる。
【００６６】
＜Ｂ３＞次に、上記のようにして作製されたマイクロレンズ基板３の出射側表面に、ブラックマトリックス４を形成する。
まず、図６（ｃ）に示すように、マイクロレンズ基板３の出射側表面に、ポジ型のフォトポリマーを含み、遮光性を有する第１の材料（遮光層形成用材料）を付与し、第１の層４２を形成する。
第１の材料の室温付近（例えば、２５℃）での粘度は、１０〜１０００ｃｐであるのが好ましく、３０〜４００ｃｐであるのがより好ましい。第１の材料の粘度が前記範囲内の値であると、適度な厚さのブラックマトリックス４を容易かつ確実に形成することができる。
【００６７】
マイクロレンズ基板３表面への第１の材料の付与方法としては、例えば、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法等を用いることができる。また、マイクロレンズ基板３表面への第１の材料の付与は、必要に応じて（例えば、形成すべきブラックマトリックス４の厚さが比較的大きい場合等においては）、複数回繰り返し行ってもよい。
第１の材料は、遮光性を有する樹脂（フォトポリマー）で構成されたものであってもよいし、（遮光性の低い）樹脂材料に、遮光性の成分（材料）が分散または溶解したものであってもよい。第１の材料の付与後（第１の層４２の形成後）、必要に応じて、例えば、プレベーク処理等の熱処理を施してもよい。
【００６８】
＜Ｂ４＞次に、図７（ｄ）に示すように、マイクロレンズ基板３に、入射側表面に対して垂直方向の露光用光Ｌｂを照射する。照射された露光用光Ｌｂは各マイクロレンズ３２を通過することによって集光する。これにより、マイクロレンズ３２の焦点ｆ近傍（入射光Ｌａの光路上）の（集光された光が入射した部位の）第１の層４２が露光され、それ以外の部分の第１の層４２は露光されないか、または露光量が少なくなり、焦点ｆ近傍（入射光Ｌａの光路上）の第１の層４２（ポジ型のフォトポリマー）が選択的に感光する。
【００６９】
その後、現像を行う。ここで、この第１の層４２はポジ型のフォトポリマーを含むものであるので、感光した焦点ｆ近傍（入射光Ｌａの光路上）の第１の層４２が現像により溶解、除去される。その結果、図７（ｅ）に示すように、マイクロレンズ３２の光軸Ｌに対応する部分に開口部４１が形成されたブラックマトリックス４が形成される。現像の方法は、第１の材料の組成（第１の層の構成材料）等により異なるが、例えば、ＫＯＨ水溶液等のアルカリ性溶液を用いて行うことができる。
【００７０】
また、現像後、必要に応じて、例えば、ポストベーク処理等の熱処理を施してもよい。
上記＜Ｂ３＞、＜Ｂ４＞で説明したような方法を用いることにより、ブラックマトリックス４を容易かつ確実に形成することができる。また、このような方法を用いた場合、露光用光Ｌｂの照射条件（例えば、露光用光Ｌｂの波長分布、照射強度、露光用光Ｌｂとしてレーザ光を用いた場合のビーム径等）を制御することにより、例えば、図１１に示すように、ブラックマトリックス４を、光の出射面側になだらかな曲線部を有するものとして形成することができる。このような形状のブラックマトリックス４が形成されることにより、後述する拡散部５の形成工程（＜Ｂ５＞の工程）において、好適な形状の凹部５１を有する拡散部５を、容易かつ確実に形成することができる。
【００７１】
また、必要に応じて（例えば、形成すべきブラックマトリックス４の厚さが比較的大きい場合等においては）、上記＜Ｂ３＞、＜Ｂ４＞の工程を、順次繰り返し行ってもよい。また、ブラックマトリックス４は遮光性を有するものであればよいので、＜Ｂ３＞、＜Ｂ４＞の工程を順次繰り返し行う場合等においては、例えば、下層側（マイクロレンズ基板３に近い側）の部位を形成する際には、遮光性の成分を含まない材料（第１の材料）を用い、上層側（マイクロレンズ基板３から遠い側）の部位を形成する際に、遮光性の成分を含む材料（第１の材料）を用いるようにしてもよい。
また、ブラックマトリックス４に対して、例えば、親液化処理、疎液化処理等の処理を施してもよい。これにより、ブラックマトリックス４に対する、後述する第２の材料との濡れ性等を調整することができ、好適な形状の凹部５２を容易かつ確実に形成することができる。
【００７２】
＜Ｂ５＞次に、マイクロレンズ基板３のブラックマトリックス４が形成された面側に、拡散部５を形成する。
拡散部５の形成方法は、特に限定されないが、本実施形態では、以下に説明するように、第２の材料の付与から第２の材料の固化の工程において、開口部４１の存在により、自動的に凹部５１が形成されるような方法、特に第２の材料の表面張力により凹部が形成されるような方法を用いる。これにより、形状の信頼性（安定性）に優れた凹部５１を備えた拡散部５を、容易かつ確実に形成することができる。
【００７３】
本実施形態においては、拡散部５の形成は、マイクロレンズ基板３のブラックマトリックス４が形成された面側に、拡散部形成用の第２の材料（拡散部形成用材料）を付与し、その後、これを固化させることにより行う（図７（ｆ）参照）。このような拡散部５の形成は、ブラックマトリックス４の開口部４１に対応する部位に凹部５１が形成されるように行う。
【００７４】
第２の材料としては、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等の樹脂材料中に、拡散材が分散したものを用いることができる。拡散材としては、例えば、微粒子状（ビーズ状）のシリカ、ガラス、樹脂等を用いることができる。拡散材の平均粒径は、特に限定されないが、１〜５０μｍであるのが好ましく、２〜１０μｍであるのがより好ましい。また、第２の材料中には、必要に応じて、溶媒等が含まれていてもよい。
【００７５】
第２の材料の室温付近（例えば、２５℃）での粘度は、１０〜１０００ｃｐであるのが好ましく、３０〜４００ｃｐであるのがより好ましい。第２の材料の粘度が前記範囲内の値であると、好適な形状の凹部５１を有する拡散部５を容易かつ確実に形成することができる。
第２の材料の付与方法としては、例えば、ディップコート、ドクターブレード、スピンコート、刷毛塗り、スプレー塗装、静電塗装、電着塗装、ロールコーター等の各種塗布法等を用いることができるが、この中でも特に、スピンコートが好ましい。第２の材料の付与方法としてスピンコートを適用することにより、好適な形状を有する拡散部をより容易に形成することができる。
【００７６】
＜Ｂ６＞その後、マイクロレンズ用凹部付き基板６を取り外すことにより、拡散部付きレンズ基板１が得られる（図８（ｇ）参照）。このように、マイクロレンズ用凹部付き基板６を取り外すことにより、マイクロレンズ用凹部付き基板６を、拡散部付きレンズ基板１の製造に繰り返し使用することができ、製造コスト面や製造される拡散部付きレンズ基板１の品質の安定性の面から好ましい。
【００７７】
なお、マイクロレンズ用凹部付き基板６は、必ずしも取り外さなくてもよい。言い換えると、透過型スクリーン１０は、マイクロレンズ用凹部付き基板６を備えたものであってもよい。
以上、説明したように、本実施形態の製造方法では、ブラックマトリックスを、フォトポリマーにマイクロレンズによって集光させた露光用光を照射することによって形成するので、開口部４１を有するブラックマトリックス（遮光層）４を効率よく形成することができるとともに、開口部４１を優れた位置精度で選択的に形成する（設ける）ことができる。したがって、得られる拡散部付きレンズ基板１（透過型スクリーン１０）は、視野角特性、光利用効率に優れたものとなる。
【００７８】
以下、前記透過型スクリーンを用いたリア型プロジェクタについて説明する。
図９は、本発明のリア型プロジェクタの構成を模式的に示す図である。
同図に示すように、リア型プロジェクタ３００は、投写光学ユニット３１０と、導光ミラー３２０と、透過型スクリーン１０とが筐体３４０に配置された構成を有している。
そして、このリア型プロジェクタ３００は、その透過型スクリーン１０として、上述した視野角特性、光利用効率に優れた透過型スクリーン１０を用いているので、表示品質の良い優れたリア型プロジェクタとなる。
【００７９】
また、特に、前述した拡散部付きレンズ基板１では、マイクロレンズ３２がランダム（光学的にランダム）に配されているので、リア型プロジェクタ３００では、モアレ等の問題が極めて発生し難い。
以上、本発明の拡散部付きレンズ基板の製造方法、拡散部付きレンズ基板、透過型スクリーンおよびリア型プロジェクタについて、図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【００８０】
例えば、拡散部付きレンズ基板、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する各部は、同様の機能を発揮し得る任意の構成のものと置換することができる。
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ基板（レンズ基板）３として、マイクロレンズ用凹部付き基板６を用いて製造されたものを用いるものとして説明したが、レンズ基板としては、いかなるもの（いかなる方法で製造されたもの）を用いてもよい。
【００８１】
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法の初期孔形成工程において、初期孔８１とともに、基板７に初期凹部７１を形成するものとして説明したが、このような初期凹部７１は形成されなくてもよい。初期孔８１の形成条件（例えば、レーザのエネルギー強度、ビーム径、照射時間等）を適宜調整することにより、所望の形状の初期凹部７１を形成したり、初期凹部７１が形成されないように初期孔８１のみを選択的に形成することができる。
【００８２】
また、前述した実施形態では、マイクロレンズ用凹部付き基板６を、マイクロレンズ基板３に密着させた状態で、ブラックマトリックス（遮光層）４、拡散部５を形成するものとして説明したが、ブラックマトリックス（遮光層）４、拡散部５は、例えば、マイクロレンズ基板３からマイクロレンズ用凹部付き基板６を取り外した状態で形成されるものであってもよい。
【００８３】
また、前述した実施形態では、平面視したときの形状が略円形のマイクロレンズがランダムに配置されたものとして説明したが、マイクロレンズの形状、配置はこのようなものに限定されない。例えば、マイクロレンズは、格子状に配されたものであってもよいし、ハニカム状に形成されたものであってもよい。
また、前述した実施形態では、透過型スクリーンが、拡散部付きレンズ基板とフレネルレンズとを備えるものとして説明したが、本発明の透過型スクリーンは、必ずしも、フレネルレンズを備えたものでなくてもよい。例えば、本発明の透過型スクリーンは、実質的に、本発明の拡散部付きレンズ基板のみで構成されたものであってもよい。
【００８４】
また、前述した実施形態では、レンズ部として、マイクロレンズを備えた構成について説明したが、レンズ部は、これに限定されず、例えば、レンチキュラレンズであってもよい。レンチキュラレンズを使用することにより、レンズ部の形成工程を簡略化することができ、また、透過型スクリーンの生産性を向上させることができる。レンズ部として、レンチキュラレンズを使用する場合、ブラックマトリックスの代わりにストライプ状の遮光層（ブラックストライプ）が形成される。そして、拡散部は、少なくともブラックストライプを構成する各帯間に対応した部分に設けられる。このような構成においても、前記実施形態と同様の作用・効果が得られる。
【００８５】
また、前述した実施形態では、拡散部５の形成後に、マイクロレンズ用凹部付き基板６を取り外すものとして説明したが、マイクロレンズ用凹部付き基板６は、ブラックマトリックス４や拡散部５の形成前に取り除かれるものであってもよいし、マイクロレンズ基板３から取り除かれずに、透過型スクリーン１０に内蔵されるものであってもよい。
また、前述した実施形態では、開口部の存在により自動的に凹部が形成されるような方法として、第２の材料の表面張力により凹部が形成されるような方法を挙げて説明したが、凹部は、例えば、第２の材料の凝集力により形成されるものであってもよい。このような場合、例えば、第２の材料を付与した状態においては、第２の材料で構成された層の表面が平滑であり（開口部に対応する部位に凹部を有さないものであり）、その後、第２の材料を固化することにより、開口部に対応する部位に凹部が形成されるものであってもよい。
【００８６】
また、前述した実施形態では、第２の材料の固化により、凹部を有する拡散部が形成されるものとして説明したが、例えば、凹部は、第２の材料の固化後、その固化物（拡散部）の一部を除去することにより形成されるものであってもよい。このような場合、固化物（拡散部）の一部を除去する方法としては、例えば、レーザの照射、研削、研磨等の物理的（機械的）な方法、エッチング等の化学的な方法等が挙げられる。
【００８７】
また、前述した実施形態では、拡散部が拡散材を含む材料で構成されたものとして説明したが、拡散部中には、拡散材が含まれていなくてもよい。このような場合であっても、凹部を有することによる光拡散性が十分に発揮され、優れた視野角特性が得られる。また、このような場合、拡散材による消光が発生し得ないので、光の利用効率を特に優れたものとすることができる。
【００８８】
また、前述した実施形態では、拡散部付きレンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタを構成する部材であるものとして説明したが、本発明の拡散部付きレンズ基板は、透過型スクリーン、リア型プロジェクタに適用されるものに限定されず、いかなる用途のものであってもよい。
【実施例】
【００８９】
（実施例１）
以下のように、マイクロレンズ用の凹部を備えたマイクロレンズ用凹部付き基板を製造し、このマイクロレンズ用凹部付き基板を用いてマイクロレンズ基板を製造した。
まず、基板として、１．２ｍ×０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板を用意した。
【００９０】
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、厚さ０．０３μｍのＣｒ膜を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、Ｃｒ膜のマスクおよび裏面保護膜を形成した。
【００９１】
次に、マスクに対してレーザ加工を行い、マスクの中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の初期孔を形成した。
なお、レーザ加工は、ＹＡＧレーザを用いて、エネルギー強度１ｍＷ、ビーム径３μｍ、照射時間６０×１０−９秒という条件で行った。
これにより、マスクの上記範囲全面に亘って、ランダムなパターンで初期孔が形成された。初期孔の平均径は５μｍであった。
【００９２】
また、この際、ソーダガラス基板の表面に深さ０．１μｍの凹部および変質層（化学的に変質した領域、または微小の亀裂、欠損を生じた領域）も形成した。
次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に多数の凹部を形成した。形成された多数の凹部は、互いにほぼ同一の曲率半径（３５μｍ）を有するものであった。
【００９３】
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は５時間とした。
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
【００９４】
これにより、ソーダガラス基板上に、マイクロレンズ用の多数の凹部がランダムに形成されたウエハー状のマイクロレンズ用凹部付き基板を得た。得られた凹部付き基板を平面視したときに、凹部が形成されている有効領域において、凹部が占める面積の割合が５０％であった。また、マイクロレンズ用凹部付き基板の任意の近接した２点間（凹部−凹部間）の距離を多数とり、それらから標準偏差を求めた。このようにして求められた標準偏差は、それらの平均の９０％であった。
【００９５】
次に、上記のようにして得られたマイクロレンズ用凹部付き基板の凹部が形成された側の面に、離型剤（ＧＦ−６１１０）を付与し、さらに、未重合（未硬化）の紫外線硬化性樹脂（Ｖ−２４０３（新日鐵化学株式会社製））を付与した。この際、前記面のマイクロレンズ用凹部付き基板の凹部が形成されていない領域（非有効レンズ領域）に、略球形状のスペーサー（直径１５０μｍ）を配しておいた。
【００９６】
次に、無アルカリガラスで構成された平板で、前記紫外線硬化性樹脂を押圧した。この際、平板と紫外線硬化性樹脂との間に、空気が侵入しないようにした。また、平板としては、紫外線硬化性樹脂を押圧する側の面に離型剤（ＧＦ−６１１０）が塗布されたものを用いた。
その後、平板上から、１００００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射することにより、紫外線硬化性樹脂を硬化させ、マイクロレンズ基板を得た。得られたマイクロレンズ基板（硬化後の樹脂）の屈折率は、１．５であった。また、得られたマイクロレンズ基板の樹脂層の厚さは４０μｍ、マイクロレンズの曲率半径は３５μｍ、マイクロレンズの直径は７０μｍであった。また、得られたマイクロレンズ基板を平面視したときに、マイクロレンズが形成されている有効領域において、マイクロレンズが占める面積（投影面積）の割合は１００％であった。
【００９７】
次に、平板を取り除いた。
次に、マイクロレンズ基板の出射側（マイクロレンズが形成されている面とは反対側の面）表面に、遮光性材料（カーボンブラック）と、ポジ型のフォトポリマー（ＰＣ４０５Ｇ：ＪＳＲ株式会社製）とを含む第１の材料を、ロールコーターにより付与することにより、第１の層を形成した。第１の材料の２５℃における粘度は、１００ｃｐであった。また、第１の材料中における遮光性材料の含有量は、５０ｗｔ％であった。
【００９８】
次に、９０℃×３０分のプレベーク処理を施した。
次に、マイクロレンズ用凹部付き基板の凹部が形成されている側の面とは反対側の面から、８０ｍＪ/ｃｍ２の平行光としての紫外線を照射した。これにより、照射した紫外線は、各マイクロレンズで集光され、各マイクロレンズの焦点ｆ近傍の第１の層（フォトポリマー）を選択的に露光した。
【００９９】
その後、０．５ｗｔ％のＫＯＨ水溶液を用いて、４０秒の現像処理を施した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行い、さらに、２００℃×３０分のポストベーク処理を施した。これにより、各マイクロレンズに対応した開口部を有するブラックマトリックスが形成された。形成されたブラックマトリックスの厚さ（Ｌ０）は５μｍ、開口部の直径は３０μｍであった。
【０１００】
次に、ブラックマトリックスが形成された側の面の全体に、拡散材（直径５μｍのシリカビーズ）と、ＣＳＰ−Ｓ０２５（フジフイルムアーチ株式会社製）とを含む第２の材料をスピンコートにより付与した。第２の材料の２５℃における粘度は、１００ｃｐであった。また、第２の材料中における光拡散材の含有量は、２５ｗｔ％であった。
その後、２００℃×６０分の熱処理を施すことにより、第２の材料を硬化させ、ブラックマトリックスの開口部に対応する部位に凹部を有する拡散部を形成した。凹部の深さは、２μｍ、開口部に対応する部位での最小厚さ（Ｌ１）は、２μｍであった。
その後、マイクロレンズ用凹部付き基板を取り外すことにより、拡散部付きレンズ基板を得た。
以上のようにして製造された拡散部付きレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、図３に示すような透過型スクリーンを得た。
【０１０１】
（実施例２）
マスクおよび裏面保護膜を、酸化Ｃｒ膜として形成した以外は、前記実施例１と同様にして透過型スクリーンを製造した。なお、マスク、裏面保護膜は、スパッタリング法を用いて形成した。酸化Ｃｒ膜の厚さは０．０３μｍであった。
（実施例３）
マスクおよび裏面保護膜を、Ｃｒ／酸化Ｃｒの積層体（Ｃｒの外表面側に酸化Ｃｒが積層された積層体）として形成した以外は、前記実施例１と同様にして透過型スクリーンを製造した。なお、マスク、裏面保護膜は、スパッタリング法を用いて形成した。Ｃｒ層の厚さは０．０２μｍ、酸化Ｃｒ層の厚さは０．０２μｍであった。
【０１０２】
（実施例４）
マスクおよび裏面保護膜を、酸化Ｃｒ／Ｃｒの積層体（酸化Ｃｒの外表面側にＣｒが積層された積層体）として形成した以外は、前記実施例１と同様にして透過型スクリーンを製造した。なお、マスク、裏面保護膜は、スパッタリング法を用いて形成した。酸化Ｃｒ層の厚さは０．０２μｍ、Ｃｒ層の厚さは０．０２μｍであった。
【０１０３】
（実施例５〜８）
第１の材料中における溶媒（ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）の含有率、第２の材料中における溶媒（ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテ−ト）の含有率を変更することにより、第１の材料の２５℃での粘度、第２の材料の２５℃での粘度が表１に示すような値となるように、それぞれ、調整した以外は、前記実施例１と同様にして透過型スクリーンを製造した。
【０１０４】
（比較例１）
前記実施例１において製造したマイクロレンズ用凹部付き基板を用いて、前記と同様の方法でマイクロレンズ基板を作製した。
次に、紫外線硬化性樹脂の押圧に用いた平板を取り除き、露出したマイクロレンズ基板の表面に、遮光性材料としてのカーボンブラックが、ＰＣ−４０３（ＪＳＲ株式会社）中に分散した組成物をロールコーターにより付与し、その後、９０℃×３０分の熱処理を施すことにより、前記組成物を硬化させ、遮光性の被膜（遮光性被膜）を形成した。
【０１０５】
その後、フォトリソグラフィ法を用いた（マイクロレンズ基板の遮光性被膜が形成された側の面から所定パターンの光を照射することによる）マスクの形成、エッチングを施し、その後、２００℃×６０分の熱処理を施し、前記組成物を硬化することにより、前記被膜の各マイクロレンズに対応する部位に開口部を有するブラックマトリックスを形成した。形成されたブラックマトリックスの厚さは０．０２μｍ、開口部の直径は４５μｍであった。
【０１０６】
次に、ブラックマトリックスが形成された側の面の全体に、拡散材（直径５μｍのシリカビーズ）がＣＳＰ−Ｓ０２５中に分散した組成物をロールコーターにより付与し、その後、２００℃×６０分の熱処理を施すことにより、前記組成物を硬化させ、層状の拡散部を形成した。形成された拡散部（光拡散層）の厚さは３０μｍであった。このようにして形成された拡散部は、開口部に対応する部位に凹部を有するものではなかった。
その後、マイクロレンズ用凹部付き基板を取り外すことにより、拡散部付きレンズ基板を得た。
以上のようにして製造された拡散部付きレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、透過型スクリーンを得た。
【０１０７】
（比較例２）
まず、基板として、１．２ｍ×０．７ｍ角、厚さ４．８ｍｍのソーダガラス基板を用意した。
このソーダガラス基板を、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む洗浄液に浸漬して６μｍエッチングを行い、その表面を清浄化した。
【０１０８】
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
次に、このソーダガラス基板上に、スパッタリング法にて、厚さ０．０３μｍのＣｒ膜を形成した。すなわち、ソーダガラス基板の表面に、Ｃｒ膜のマスクおよび裏面保護膜を形成した。
次に、マスクに対してレーザ加工を行い、マスクの中央部１１３ｃｍ×６５ｃｍの範囲に多数の直線状の溝（孔）を、互いに平行になるように形成した。隣接する溝−溝間のピッチは、７０μｍであった。
【０１０９】
なお、レーザ加工は、ＹＡＧレーザを用いて、エネルギー強度１ｍＷ、ビーム径３μｍ、照射時間６０×１０−９秒という条件で行った。次に、ソーダガラス基板にウェットエッチングを施し、ソーダガラス基板上に溝状の凹部を形成した。形成された凹部は、互いにほぼ同一の曲率半径（３５μｍ）を有するものであった。
なお、ウェットエッチングは、エッチング液として、４ｗｔ％の一水素二フッ化アンモニウムと、８ｗｔ％の過酸化水素とを含む水溶液を用い、浸漬時間は５時間とした。
【０１１０】
次に、硝酸第二セリウムアンモニウムと過塩素酸との混合物を用いてエッチングすることにより、マスクおよび裏面保護膜を除去した。
その後、純水洗浄およびＮ２ガスを用いた乾燥（純水の除去）を行った。
これにより、ソーダガラス基板上に、レンチキュラレンズ用の多数の凹部（溝部）が形成されたウエハー状のレンチキュラレンズ用凹部付き基板を得た。
【０１１１】
次に、上記のようにして得られたレンチキュラレンズ用凹部付き基板の凹部が形成された側の面に、離型剤（ＧＦ−６１１０）を付与し、さらに、未重合（未硬化）の紫外線硬化性樹脂（Ｖ−２４０３（新日鐵化学株式会社製））を付与した。この際、前記面のレンチキュラレンズ用凹部付き基板の凹部が形成されていない領域に、略球形状のスペーサー（直径３０μｍ）を配しておいた。
【０１１２】
次に、無アルカリガラスで構成された平板で、前記紫外線硬化性樹脂を押圧した。この際、平板と紫外線硬化性樹脂との間に、空気が侵入しないようにした。また、平板としては、紫外線硬化性樹脂を押圧する側の面に離型剤（ＧＦ−６１１０）が塗布されたものを用いた。
その後、平板上から、１００００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射することにより、紫外線硬化性樹脂を硬化させ、レンチキュラレンズ基板を得た。得られたレンチキュラレンズ基板（硬化後の樹脂）の屈折率は、１．５であった。また、得られたレンチキュラレンズ基板の樹脂層の厚さは１５０μｍ、レンチキュラレンズの曲率半径は３５μｍであった。
【０１１３】
次に、紫外線硬化性樹脂の押圧に用いた平板を取り除き、露出したレンチキュラレンズ基板の表面（レンチキュラレンズが形成されている側の面）に、遮光性材料としてのカーボンブラックが、ＰＣ−４０３（ＪＳＲ株式会社）中に分散した組成物をロールコーターにより付与し、その後、２００℃×６０分の熱処理を施すことにより、前記組成物を硬化させ、遮光性の被膜（遮光性被膜）を形成した。
【０１１４】
その後、フォトリソグラフィ法を用いた（レンチキュラレンズ基板の遮光性被膜が形成された側の面から所定パターンの光を照射することによる）マスクの形成、エッチングを施すことにより、前記被膜の各レンチキュラレンズに対応する部位に開口部を有するブラックストライプ（遮光層）を形成した。形成されたブラックストライプの厚さは０．０２μｍ、開口部の幅は３５μｍであった。
【０１１５】
次に、ブラックストライプが形成された側の面の全体に、拡散材（直径５μｍのシリカビーズ）がＣＳＰ−Ｓ０２５（フジフイルムアーチ株式会社製）中に分散した組成物をロールコーターにより付与し、その後、２００℃×６０分の熱処理を施すことにより、前記組成物を硬化させ、層状の拡散部を形成した。形成された拡散部（光拡散層）の厚さは３０μｍであった。このようにして形成された拡散部は、開口部に対応する部位に凹部を有するものではなかった。
【０１１６】
その後、レンチキュラレンズ用凹部付き基板を取り外すことにより、拡散部付きレンズ基板を得た。
以上のようにして製造された拡散部付きレンズ基板と、押出成形により作製したフレネルレンズ部とを組み立てることにより、透過型スクリーンを得た。
前記各実施例、各比較例についての、拡散部付きレンズ基板の製造条件、拡散部付きレンズ基板の構成を表１にまとめて示す。
【０１１７】
【表１】
2005128352.tif 000003
【０１１８】
［リア型プロジェクタの作製および評価］
前記実施例１〜８および比較例１、２の透過型スクリーンを用いて、図９に示すようなリア型プロジェクタを、それぞれ作製した。
得られたリア型プロジェクタの透過型スクリーンにサンプル画像を表示させた状態で、鉛直方向および水平方向での視野角の測定を行った。
【０１１９】
視野角の測定は、変角光度計（ゴニオフォトメータ）で、５度間隔で測定するという条件で行った。
その結果、実施例１で得られた透過型スクリーンを備えたリア型プロジェクタでは、鉛直方向の視野角（光量が半分になる角度）が２０°、水平方向の視野角が２５°と、優れた視野角特性を有することが確認された。また、このリア型プロジェクタでは、明るい画像が表示され、モアレの発生は認められなかった。また、実施例２〜８で得られた透過型スクリーンを備えたリア型プロジェクタについても同様の結果（鉛直方向の視野角：２０〜３０°、水平方向の視野角：２５〜３５°）が得られた。
【０１２０】
これに対し、各比較例の透過型スクリーンを備えたリア型プロジェクタでは、満足な特性が得られなかった。
すなわち、比較例１で得られた透過型スクリーンを備えたリア型プロジェクタでは、鉛直方向の視野角が１５°、水平方向の視野角が２０°であり、比較例２で得られた透過型スクリーンを備えたリア型プロジェクタでは、鉛直方向の視野角が１０°と、視野角特性に劣っていた。
また、実施例１〜８は、製造コストの面でも、比較例１、２に比べて優れていた。
【図面の簡単な説明】
【０１２１】
【図１】本発明の拡散部付きレンズ基板の好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図２】図１に示す拡散部付きレンズ基板が備えるマイクロレンズ基板の平面図である。
【図３】図１に示す拡散部付きレンズ基板を備えた本発明の透過型スクリーンの好適な実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図４】マイクロレンズ基板の製造に用いるマイクロレンズ用凹部付き基板を示す模式的な縦断面図である。
【図５】図４に示すマイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を示す模式的な縦断面図である。
【図６】図１に示す拡散部付きレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図７】図１に示す拡散部付きレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図８】図１に示す拡散部付きレンズ基板の製造方法の一例を示す模式的な縦断面図である。
【図９】本発明の透過型スクリーンを適用したリア型プロジェクタを模式的に示す図である。
【図１０】本発明の透過型スクリーン（拡散部付きレンズ基板）の他の実施形態を示す模式的な縦断面図である。
【図１１】拡散部付きレンズ基板を構成するブラックマトリックスの形状を説明するための模式的な縦断面図である。
【符号の説明】
【０１２２】
１……拡散部付きレンズ基板  ２……フレネルレンズ部  ２１……フレネルレンズ  ３……マイクロレンズ基板（レンズ基板）  ３１……樹脂層  ３２……マイクロレンズ（レンズ部）  ３３……樹脂  ４……ブラックマトリックス（遮光層）  ４１……開口部  ４２……第１の層  ５……拡散部  ５１……凹部  ６……マイクロレンズ用凹部付き基板  ６１……凹部  ７……基板  ７１……初期凹部  ８……マスク  ８１……初期孔  ８９……裏面保護膜  ９……スペーサー  １０……透過型スクリーン  １１……平板  ３００……リア型プロジェクタ  ３１０……投写光学ユニット  ３２０……導光ミラー  ３４０……筐体
【図１】
2005128352.tif 000004
【図２】
2005128352.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
2005128352.tif 000008
【図６】
2005128352.tif 000009
【図７】
2005128352.tif 000010
【図８】
2005128352.tif 000011
【図９】
2005128352.tif 000012
【図１０】
2005128352.tif 000013
【図１１】
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