(57)【要約】【課題】  品質にバラつきの少ない反射体を効率よくローコストに大量生産することが可能な反射体の製造方法を提供する。【解決手段】  反転型（第２の反転型）２３は、例えば厚さ１０ｍｍ程度のシリコンゴムで形成されれば良く、一面に多数の微細な凸部が形成されている。この凸部を基板材料１９のレジスト材１８表面に押し付けることで、レジスト材１８に凹部を形成する。また、反転型２３の裏面側には、表面粗さ数μｍ程度の微細な凹凸２８が形成されている。【選択図】        図５
2005215614.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
一面に多数の凹部が形成された基板と、この基板の一面に成膜された反射膜とを具備してなる反射体の製造装置であって、
前記凹部を反転させた形状の凸部を表面に多数形成した反転型を備え、この反転型を前記基板に押圧して前記基板に前記凹部を形成することを特徴とする反射体の製造装置。
【請求項２】
前記基板は、少なくとも表面に光硬化性または熱硬化性のレジスト層を備えてなることを特徴とする請求項１の反射体の製造装置。
【請求項３】
前記反転型は屈曲可能な樹脂で形成されるとともに、前記反転型の裏面側には前記反転型を支持する台座を備えたことを特徴とする請求項１または２に記載の反射体の製造装置。
【請求項４】
前記反転型は前記台座に対して周縁で気密に接着され、前記反転型を前記基板に押圧する際に、前記反転型と前記台座との間に所定圧力の気体を注入して前記反転型の表面を前記基板に向けて膨出可能であることを特徴とする請求項３に記載の反射体の製造装置。
【請求項５】
前記反転型の裏面には、前記反転型と前記台座とが密着することを防止する手段が形成されていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の反射体の製造装置。
【請求項６】
前記密着防止手段が、前記反転型の裏面又は前記台座の前記反転型に接する面側の少なくとも１方に形成された多数の微細溝である請求項５に記載の反射体の製造装置。
【請求項７】
前記密着防止手段が、前記反転型の裏面又は前記台座の前記反転型に接する面側の少なくとも１方に形成された凹凸粗面である請求項５に記載の反射体の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、多数の凹部が形成された基板と反射膜とからなる反射体の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、携帯電話や携帯用ゲーム機などの携帯電子機器では、そのバッテリ駆動時間が使い勝手に大きく影響するために、消費電力を抑えることができる反射型液晶表示装置を表示部として備えている。反射型液晶表示装置は、その前面から入射する外光を反射するための反射膜を備えており、その形態としては液晶パネルを構成する２枚の基板の間に反射膜を内蔵したものや、透過型の液晶パネルの背面側に半透過膜を備えた反射体を配設したものが知られている。
【０００３】
光を反射させるための反射体としては、表面に多数の凹部を形成した基板の表面に反射膜を成膜した反射体が知られている。こうした反射体は、多数の凹部の作用によって反射面内でムラなく均一な反射光を得ることができる。凹部は、ムラのない均一な反射光を形成するために、反射面内でランダムな形状で形成されるのが好ましい。
【０００４】
こうした反射体の凹部の形成方法としては、例えば、下記特許文献１〜３に記載されている方法が挙げられる。即ち、所定の粒径の微粒子を用いてサンドブラストによって反射体を構成する基材に微細な凹部を多数形成する方法や、反射体を構成する基材にレジスト層を形成し、このレジスト層に凹部に対応するフォトマスクを用いてフォトリソグラフィによって凹部を形成する方法などが知られている。
【特許文献１】特開昭５７−４９９８３号公報
【特許文献２】特開平６−８２７７１号公報
【特許文献３】特開平４−２１２９３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上述したような反射体の製造方法では、加工工程が多く、かつ時間が掛かるために、多数の反射体をいくつもの製造ラインで大量に製造することが困難であった。また、所定の反射角を得るために凹部の形状、特にその断面形状を所望の傾きで制御して形成することがほとんど不可能であり、高い反射特性を持つ反射体の製造が困難であった。
【０００６】
ことに、液晶表示素子を組み込んだ携帯機器の実使用状態において、所望の反射視角特性を実現するように、反射体の反射特性が（正反射方向に対して）非対称となる受光角度範囲において高くなるようにするためには、反射体の構成要素である微細凹凸断面形状・深さを厳密に制御する必要があり、既存の装置・方法ではほとんど実現不可能であった。
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、品質にバラつきの少ない反射体を効率よくローコストに大量生産することが可能な反射体の製造装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記の目的を達成するために、本発明によれば、一面に多数の凹部が形成された基板と、この基板の一面に成膜された反射膜とを具備してなる反射体の製造装置であって、前記凹部を反転させた形状の凸部を表面に多数形成した反転型を備え、この反転型を前記基板に押圧して前記基板に前記凹部を形成することを特徴とする反射体の製造装置が提供される。
【０００９】
前記基板は、少なくとも表面に光硬化性または熱硬化性のレジスト層を備えていればよい。前記反転型は屈曲可能な樹脂で形成されるとともに、前記反転型の裏面側には前記反転型を支持する台座を備えているのが好ましい。
【００１０】
前記反転型は前記台座に対して周縁で気密に接着され、前記反転型を前記基板に押圧する際に、前記反転型と前記台座との間に所定圧力の気体を注入して前記反転型の表面を前記基板に向けて膨出可能にするのが好ましい。前記反転型の裏面又は前記台座の前記反転型に接する面側の少なくとも１方には、前記反転型と前記台座とが密着するのを防止する手段が形成されているのが好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の反射体の製造方法によれば、凹部を反転させた形状の凸部を表面に多数形成した反転型を用いて、所定の反転型の押圧条件に従って基板に押圧して凹部を形成するので、品質にバラつきの少ない反射体を効率よくローコストに大量生産することが可能な反射体の製造装置を提供できる。
【００１２】
また、反転型を基板に押圧する際に、反転型と台座との間に所定の圧力に制御された気体を注入して反転型の表面を基板に向けて膨出させることにより、凹部を形成した基板に転写ムラや剥離跡が残ってしまうことを防止し、反転型の凸部を忠実に反転させた精密な凹部が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態について、図面を交えて説明する。まず最初に本発明の反射体の製造装置によって製造される反射体の一例について説明する。図１は、反射体の構成の一例を示す部分斜視図であり、図２は、図１に示す反射体の断面模式図であり、図３Ａは、図１に示す反射体に形成された凹部の平面構成図であり、図３Ｂは、図３に示すＧ−Ｇ線に沿う断面構成図である。
【００１４】
図１に示すように、反射体１０は基板１１と、この基板１１の一面１１ａ上に積層されたＡｌやＡｇ等の高反射率の反射膜１２とから概略構成されている。基板１１は、支持層１５と、この支持層１５上に形成されたレジスト層１６とから構成されている。レジスト層１６は、反射膜１２に所定の表面形状、すなわちレジスト層１６の凹部１３に倣った凹部１２ａを与えるもので、一面１１ａに複数の凹部１３が設けられている。
【００１５】
このような凹部は、例えば塑性変形性の金属・樹脂等の母型材表面に、その先端形状が目的とする反射体の凹部断面形状に対応した加工ツールを深さ及びそのピッチを個々に制御しながらランダムに多数押圧することにより形成し、さらに得られた母型をもとに加工用型を２回反転させたものを用いて形成可能である。
【００１６】
こうした凹部１３によって反射膜１２に凹部１２ａが形成され、反射膜１２にムラの無い均一な反射性を与える。こうした基板１１を構成する支持層１５は、例えばＳｉＯ２ 付きのガラス板或いは高分子フィルム（ＰＥＴ，ポリカーボネート、アクリル、トリアセチルセルロース  等）から構成されれば良く、また、レジスト層１６は紫外線硬化性樹脂から構成されていればよい。こうした基板１１の厚さは、例えば５〜１０００μｍの範囲であれば好ましい。
【００１７】
反射膜１２は、基板の一面１１ａ上に、例えば、ＡｌやＡｇ等の高反射特性の金属を蒸着して形成すればよく、膜厚は０．０５〜０．３μｍの範囲が良く、０．０８〜０．２μｍの範囲が特に好ましい。反射膜１２の膜厚が０．０５μｍ未満だと反射率が低下してしまうので好ましくなく、０．３μｍを超えると必要以上に成膜コストがかかることや、凹部１３によって与えられる凹部１２ａが小さくなってしまうので好ましくない。
【００１８】
凹部１３は、基板１１のレジスト層１６に対して、後ほど詳述する反転型を用いて加熱型押し加工（いわゆるエンボス加工）或いは加熱なしの型押し加工によって形成されたものであり、図１及び図２に示すように、反射膜１２上において、各凹部１３の輪郭１３ｃ同士が相互に接している。この輪郭１３ｃ同士が接する部分は先の尖ったピーク形状に形成され、凹部１３同士の間にある平坦部分１３ｄの領域が少ないのが反射特性上好ましい。すなわち、輪郭１３Ｃ同士が接する部分が尖ったピーク形状にされることで、凹（又は凸）部の断面傾斜角により、反射体に付与される所定の反射視角特性において所望の視角範囲で高くなるように制御されるからである。
【００１９】
また図３に示すように、凹部１３の内面は、例えば、各々半径が異なる２つの球面の一部である第１曲面１３ａと、第２曲面１３ｂとを含んでおり、これらの曲面１３ａ，１３ｂの中心Ｏ１，Ｏ２は凹部１３の最深点Ｏの法線上に配置されている。第１曲面１３ａはＯ１を中心とする半径Ｒ１の球面の一部とされ、第２曲面１３ｂはＯ２を中心とする半径Ｒ２の球面の一部とされている。そして、図３のＡに示す平面図において、凹部１３の最深点Ｏを通過し、Ｇ−Ｇ線に直交する直線Ｈの近傍において第１曲面１３ａと第２曲面１３ｂとが概ね区画されている。凹部１３の深さは例えば０．３〜２．０μｍ程度に形成されればよい。また、隣接する凹部１３は、１μｍ以上３０μｍ以下の範囲内のピッチで不規則にばらついているのが好ましい。
【００２０】
この様にすることで不要なモアレ（反射体のこれら微小な凹凸形状と液晶表示素子の電極あるいはカラーフィルタパターンの規則性とが干渉することで発生する。）あるいは虹状の干渉色の発生を抑えながら、且つ反射視角特性が所望の視角範囲で高くなるように制御された反射体を得ることができる。
【００２１】
図４は、上述したような構成の反射体１０に、図３における図示右側から入射角３０°で光を照射し、受光角を反射面に対する正反射の方向である３０°を中心として±３０°の範囲（０°〜６０°；０°が反射体一面の法線方向に相当）で振って反射体１０の反射率（％）を測定した結果を示すグラフである。
【００２２】
図４に示すグラフから明らかなように、上記構成を備えた反射体１０によれば、半径の比較的小さい球面からなる第２曲面１３ｂの傾斜角（例えば図３−Ｂに示す様に、凹部断面を微小区間例えば０．５μｍ程度或いはそれ以下に区切って求めた断面の傾き角）の絶対値が比較的大きいことから、反射光が広角に散乱されて約１５°〜５０°の広い受光角範囲で高い反射率を得ることができる。また、半径が比較的大きい球面からなる第１曲面１３ａにおける反射により、前記第２曲面１３ｂよりも特定方向の狭い範囲に散乱される反射が生じるため、全体として反射率が正反射方向である３０°よりも小さい角度で最大となり、そのピークの近傍における反射率も高くなる。
【００２３】
その結果、反射体１０に入射し反射された光のピークが正反射方向よりも反射体１０の法線方向に近い側にシフトするので、反射体１０正面方向の反射輝度を高めることができる。従って、こうした反射体１０が液晶表示装置の反射層に適用されれば、液晶表示装置の正面方向における反射輝度を向上させることができ、液晶表示装置の観察者方向への輝度を高めることができる。なお、上述の例では凹部の曲面が球面である例で説明したが、傾斜角が制御された球面以外の曲面であっても、同様の効果が得られる。
【００２４】
次に本発明の反射体の製造装置について説明する。図５は、反射体を製造する際に使用する型押し加工機（反射体の製造装置）の一部（加工ヘッド部）を示す断面図である。型押し加工機２０を使用して反射体１０を製造する際には、ＳｉＯ２ 付きのガラス板等で形成された支持層１５上に紫外線硬化性樹脂等からなるレジスト材１８を塗布した基板材料１９を準備して、この基板材料１９を型押し加工機２０にセットする。
【００２５】
型押し加工機２０は、反転型２３と金属（例えばＳＵＳ製）の台座２４とからなる型押しブロック２１と、この型押しブロック２１が取り付けられるＳＵＳ製のベースプレート２２とを備えている。図６は、反転型２３を表面側から見たときの外観斜視図である。反転型２３は、例えば厚さ１０ｍｍ程度のゴム弾性体、例えばニトリル系、ウレタン系、アクリル系、ふっ素系、シリコーン系等から適宜選択されたゴムで形成されれば良く、表面に多数の微細な凸部２５が形成されている。
【００２６】
種々のゴム弾性体に要求される特性としては、レジスト剤あるいはその溶剤への安定性、或いはこれらの材料系との剥離性、小さな重合ひずみ・形状安定性、機械的な変形に対する耐久性または復元性等である。これらの要求を満足するものとしては、ふっ素系あるいはシリコーン系等が好ましく、この中でゴム硬度３０〜６０のものが選択されると良い結果が得られる。硬度が低い場合には、押圧加工直後の基板表面からの剥離時にムラが出やすくなる。また硬度が硬すぎると、押圧加工される凹部の深さが不足して所望の反射特性が得られない。
【００２７】
またゴム厚は、反転型の長さ寸法にも依存するが、反転型寸法が４０〜１００ｍｍでは、通常６ｍｍ〜１５ｍｍとされる。６ｍｍ以下では、押圧時に過剰変形が起きやすくなり、凹部の断面形状が変形したり、押圧加工後基板からの剥離時にムラがでやすく、また型の耐久性も低下する。一方１５ｍｍ以上では、全体の凹部の深さが浅くなったり、型周辺部で特に押圧不足になりやすい。
【００２８】
この凸部２５は、反射体１０に形成する凹部１３を反転させた形状であればよく、基板材料１９のレジスト材１８表面に押し付けることで、レジスト材１８に凹部１３を形成する。なお、凹部１３は、上述のように平面形状や断面形状が制御された直径、深さが異なるものをランダムに配列するのが好ましい。
【００２９】
図７は、反転型２３を裏面側から見たときの外観斜視図である。反転型２３の裏面側には、ブラスト処理等で形成される表面粗さ数μｍ程度の微細な凹凸２８が台座２４に接着される周辺部２７を除いて反転型の内面のほぼ全面に形成されている。こうした凹凸形状は、反転型の成型時にその成型マスタ表面にあらかじめ形成しておくことで簡単に付与可能である。また凹凸２８は、少なくとも、図９に示す通気孔３４の一端に接する部分を中心に形成されていれば良い。
【００３０】
反転型２３の周辺部２７の角には逆付防止用のマーク２９が一体に形成されている。こうしたマーク２９は後ほどその構成を詳述する台座２４に対して反転型２３を取り付ける際に、取り付け方向を規制する役割を果たす。この識別マークは、図に示すようなものに限らず、コーナー部の角を落とすものや文字表示等であっても良い。
【００３１】
図８は、台座２４を裏面側から見たときの外観斜視図である。台座２４は、例えば厚み２０ｍｍ程度のステンレスで形成されれば良く、一面の周縁部には一定幅で反転型を接着する接着しろ３１が形成されている。
【００３２】
また、台座２４の一方の周縁には、逆付防止用のマーク４２がそれぞれ形成されている。こうしたマーク４２は、図７に示す反転型２３のマーク２９にそれぞれ係合する。マーク２９と４２とは、反転型２３，台座２４のそれぞれ１方側にだけ形成されているため、反転型２３と台座２４との取り付け可能な方向は１方に規定される。。反射膜１２の凹部１２ａは、一定の規則性をもって反射方向を制御しているので、反転型２３と台座２４との取り付け方向を１方に規制することにより、予め設計した反射角で光を反射する反射体１０を製造することができる。このため、型押しブロック２１の製造時に予め規定した方向以外の向きに反転型２３と台座２４とを係合させてしまうミスを防止することが重要である。
【００３３】
図９は、台座２４を表面側から見たときの外観斜視図である。台座２４の中央には、上面２４ａから反転型２３との対向面（図８参照）まで貫通する通気孔３４が形成されている。また、通気孔３４の左右には、位置決め穴３５およびネジ穴３６がそれぞれ形成されている。
【００３４】
再び図５を参照して、反転型２３の周辺部２７と接着しろ３１との間には接着層３３が形成されている。こうした接着層３３は反転型２３と台座２４とを連結するとともに、反転型２３と台座２４の対向面との隙間を気密に保つ。
【００３５】
ベースプレート２２は、例えば厚さ２０ｍｍ程度の金属板で形成されれば良く、上下動機構（図示せず）に取り付けられて型押しブロック２１を上下動させる。ベースプレート２２には、型押しブロック２１が複数個取り付けられれば良く、それぞれの型押しブロック２１の取り付け位置には、台座２４の位置決め穴３５に嵌合する位置決め突起３７が突設されている。こうした位置決め穴３５と位置決め突起３７との嵌合によって、型押しブロック２１はベースプレート２２の所定位置に位置決めされる。
【００３６】
ベースプレート２２が台座２４の通気孔３４に対応する位置には、通気開口３８が形成され、また、台座２４のネジ穴３６に対応する位置にはネジ開口３９がそれぞれ形成されている。そして、ネジ４１をネジ開口３９を介してネジ穴３６に螺合させることにより、ベースプレート２２に型押しブロック２１が固着される。
【００３７】
一方、通気開口３８には、例えばエアーを供給する場合、コンプレッサ（図示せず）から延びる空気給排気管４２が接続される。こうした空気給排気管４２からは、型押しブロック２１を基板材料１９のレジスト材１８表面に押し付けて凹部を形成する際に圧力制御された空気が送り込まれ、通気孔３４を介して反転型２３と台座２４の対向面との間に空気層を形成する。このように空気層を形成することで、ゴム製の反転型２３が中央部分を中心に僅かに膨らんで、型押しブロック２１を基板材料１９から引き離す際に、レジスト材１８表面に形成された硬化前の凹部の型崩れを防止する。
【００３８】
図１０に示すように、こうした反転型２３と台座２４の対向面との間に空気を送り込む際に、反転型２３の内面に形成された凹凸２８によって、反転型２３の内面が台座２４の対向面に密着するのを防止して、空気が反転型の内面空隙全体に均一・迅速に広がって空気層が形成される。これにより、押圧加工時の加工制御を安定して行うことができる。
【００３９】
従って反転型の膨出度合いは重要であり、反転型の寸法にも依存するが、例えば長さ４０〜１００ｍｍの反転型では曲率半径で３ｍ〜１０ｍ程度である。（これらの曲率に相当する膨出分の寸法は、上記の反転型寸法の場合には０．１ｍｍ〜１．７ｍｍに相当するが、通常は０．３ｍｍ〜１ｍｍで良い結果が得られる。）この曲率が大きい（１０ｍ以上）と平板押しに近くなり凹部の深さが不足し、反射体としての特性が悪化する。凹部深さを確保しようとすると、押圧メカニズムが大型になって装置コストも多大になる。さらにまた押圧加工後の基板からの剥離時には不均一な剥がしムラも出やすくなる。一方曲率半径が小さい（３ｍ未満）と反転型の中央部と周辺部とで加工された凹部の深さが変わって反射特性にムラを生じる。さらに反転型へのストレスが大きくなり、反転型の耐久性が低下しやすい。
【００４０】
次に、本発明の反射体の製造装置の作用について、レジスト材の表面に凹部を形成する工程を例示して詳述する。図１に示す反射体１０を製造するにあたっては、まず図１１に示すように、表面にレジスト材４５が積層された支持層１５を備えた基板材料４６を型押し加工機２０にセットする。
【００４１】
型押し加工機２０は、型押し時にベースプレート２２に支持された型押しブロック２１を降下させるとともに、台座２４の通気孔３４にコンプレッサ等から圧力制御した空気を送り込む。すると図１２に示すように、反転型２３と台座２４の対向面との間に空気が迅速に広がって、空気層５１が形成される。こうした空気層５１は、中心から周縁に向けて緩やかに傾斜するようにゴム材で形成された反転型２３を基板材料４６方向に膨出させる。
【００４２】
反転型２３は型押しブロック２１の降下によって基板材料４６のレジスト材４５に押し付けられるが、この時、反転型２３は中心から周縁に向けて緩やか膨出しているので、図１２の破線矢印の如く、反転型２３はレジスト材４５との間の空気を周縁に逃がしつつレジスト材４５に押し付けられる。このように、反転型２３を膨出させてからレジスト材４５に押し付ければ、反転型２３とレジスト材４５との間に巻き込み空気を殆どなくすことができる。
【００４３】
反転型の膨出の程度とその速さも、凹凸の平面或いは断面形状に大きく影響するため、得られる反射体の反射視角特性が変化するのみならず、面内の反射特性の不均一さが生じムラが発生する。このような部分的なムラは、反射体の反射率が高くなるよう高反射性金属を積層してありため、極めて目視検出されやすい。
【００４４】
そして、図１３に示すように、レジスト材４５に反転型２３が完全に押し付けられると空気層５１は押圧によって平坦な層になり、反転型２３の表面もほぼ平らな形状になる。これによりレジスト材４５には凸部２５が反転した形状の凹部１３が所望の断面形状が維持されて多数形成される。
【００４５】
この後、図１４に示すように、型押しブロック２１が上昇する際に、空気層５１にかかる押圧力を徐々に低下させるにつれて反転型２３は再び中心から周縁に向けて緩やか膨出しつつ基板材料４６から遠ざかる。このように反転型２３を膨出しつつ基板材料４６から引き離すことで、押圧中心部から周辺に向かって徐々に反転型が引き離されることにより、凹部１３を形成したレジスト材４５に転写ムラや剥離跡が残ってしまうことを防止する。
【００４６】
この時の速度としては、５ｍｍ／ｓｅｃ以下が設定される。これ以上ではムラや剥離跡が残りやすい。（しかしあまり速度が遅いと、加工時間の増大をもたらすので、通常は０．１ｍｍ／ｓｅｃ以上とされる。）基板材料４６のレジスト材４５には反転型２３の凸部２５を忠実に反転させた精密な凹部１３が形成される。
【００４７】
このように、本発明は、母型にその断面形状、深さ、ピッチが１つ１つ制御されて形成された多数の凹部を忠実に広い面積にわたって安定して均一に形成しうる加工装置を与えるものである。特に、目的とする反射特性となるように設計された凹部の断面形状を１つ１つの凹部に関して制御しながら加工できることが最大の特徴である。従来から良く知られている拡散面の形成方法、例えばサンドブラスト処理、フォトリソ法あるいはこれらを組み合わせた加工法では、いずれもその凹部（または凸部）の断面形状、特に隣接した凹部（または凸部）の頂上（または底部）の傾斜角にダレが生じるために、ブロードなガウス分布型の反射特性になるものがほとんどである。
【００４８】
この後、凹部１３が形成された基板材料４６に紫外線等の照射してレジスト材４５を硬化させ、さらにアルミニウム等を成膜すれば、図１に示すようなレジスト層１６に微細な凹部１３が形成された反射体１０を得ることができる。
【実施例１】
【００４９】
本発明の効果を検証した。検証にあたっては、図１２に示すように、台座２４の通気孔３４にから空気を送り込み、厚さ約１０ｍｍのシリコーンゴム反転型２３を約０．５ｍｍ膨らませてから型押しブロック２１を降下させ、反転型２３をレジスト材４５に約０．５ｍｍ／ｓｅｃの微速で接触させた後、徐々に荷重をかけた。そして、図１３に示すように、反転型２３をレジスト材４５に単位面積荷重０．８kg/cm２で５０秒間押し付けた。その後、型押しブロック２１を上記と同様の微速で上昇させて反転型２３をレジスト材４５から引き離した。この際、図１４に示すように、反転型２３をレジスト材４５の周縁部から引き離した。こうして得た、凹部１３を形成したレジスト材４５には、図１５に示すように、転写ムラは殆ど見られず均一な加工面が得られた。
【００５０】
この基板を所定の加熱条件（２４０度ｘ約１時間）で処理したのち、アルミ膜を約１５００Å蒸着して反射体基板とし、さらにＣＦ（カラーフィルタ）層を形成した後、ＳＴＮパネルを作製した。
【００５１】
得られたＳＴＮパネルは、パネル全面で均一で高い反射性（反射率４０％）を示すとともに、図４に示すように、パネル法線から１０〜２０度以内に最大の反射輝度が得られた。
【実施例２】
【００５２】
上記と同じ装置を用いて反転型が基板に接触する際の反転型の下降速度を
０．１〜０．５ｍｍ／ｓｅｃの範囲で変えて加工したが、良好な結果が得られた。また、実施例１に示すと同様にＳＴＮパネルを作製し、パネル特性を評価したところ、同様に良好な結果が得られた。こうした結果を表１に示す。
【００５３】
【表１】
2005215614.tif 000003
【実施例３】
【００５４】
厚みを表２のように変化させたシリコーンゴム反転型をセットした上記と同じ装置を用いて微小凹凸形状の加工を行った。いずれも良好な結果が得られたが、特に８ｍｍ〜１２ｍでは良好な結果が得られた。
【００５５】
【表２】
2005215614.tif 000004
【００５６】
（比較例１）
実施例１と同様の寸法の反転型において、その中心部が周辺部に対し約６０μｍあらかじめ膨出したシリコーンからなる型を用いて、レジスト材に凹部を押し付けた。このときの反転型の下降〜押圧〜上昇の条件は実施例１と同様であった。得られた加工表面のほぼ中央部には軽微な線状のムラが発生した。また周辺部には、かすかに細かな不規則な放射状のムラが多数発生していた。
【００５７】
こうして得られた凹凸形状面を所定の加熱条件（２４０度ｘ約１時間）で加熱硬化した後、アルミ膜を約１５００Å蒸着して反射体基板とした。これを用いてＳＴＮパネルを作製したところ、電圧印加しない初期状態において、パネル面内の中央部及び周辺部に線状のムラが顕著に見えた。
【００５８】
（比較例２）
比較例１において、反転型の中央部の膨出量を１０μｍ、３０μｍ、１００μｍ、２００μｍに変えたが、いずれも押圧加工後に線状のムラが発生し、著しく外観を損なう結果となった。
【００５９】
（比較例３）
実施例１と同様の寸法の反転型において、その中心部が膨出しないシリコーンからなる型を用いて、レジスト材に凹部を押し付けた。このときの反転型の下降〜押圧〜上昇の条件は実施例１と同様であった。得られた加工表面のほぼ中央部には表面拡散性のない小さな点（径約３００μｍ）が無数発生した。
【００６０】
こうして得られた凹凸形状面を所定の加熱条件（２４０度ｘ約１時間）で加熱硬化した後、アルミ膜を約１５００Å蒸着して反射体基板とした。これを用いてＳＴＮパネルを作製したところ、電圧印加しない初期状態において、パネル面内の中央部には輝点が多数観察された。
【００６１】
（比較例４）
実施例１と同様の基板に対し、平均粒径３３μｍのガラス球を圧搾空気で吹き付けたところ、平均径６〜９μｍ、深さ０．１５〜０．４μｍのランダムな微細な凹部が得られた。また、この凹部の断面形状は、凹凸曲線が滑らかに繋がったものであった。
【００６２】
その後、この基板を洗浄後、表面に厚さ約１５００Åのアルミ膜を成膜し反射体を得た。この反射体の反射特性は、基板法方向に反射輝度の最大値があり、明るさが不足（反射率２０％以下）していた。またこの反射体を実施例１と同様にＳＴＮパネルに組み込んで観察したところ、パネル法線から前後２０°以内で、パネルの輝度が暗く視認性が悪かった。
【００６３】
上述の実施例により、本発明の反射体の製造装置の効果が確認された。これらの実施例では、ＳＴＮ型の反射型ディスプレイに適用した例を取り上げたが、本発明の装置は、ＳＴＮ以外の種々のモードに適用可能であることはあきらかである。例えば、ＴＦＴ等のアクティブ素子駆動のＴＮ、ＯＣＢ、ＶＡ、ＩＰＳ等、コレステリック液晶の相転移型、高分子ネットワーク型素子等。また、反射型のみならず、所定の開口部を反射膜に形成した半透過タイプの表示素子に適用しても良い。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】図１は、一実施形態の反射体の構成の一例を示す部分斜視図である。
【図２】図２は、図１に示す反射体の断面模式図である。
【図３】図３は、図１に示す反射体に形成された凹部の平面構成図である。
【図４】図４は、図３に示すＧ−Ｇ線に沿う断面構成図である。
【図５】図５は、本発明の反射体の製造装置を示す断面図である。
【図６】図６は、反転型を表面側から見たときの外観斜視図である。
【図７】図７は、反転型を裏面側から見たときの外観斜視図である。
【図８】図８は、台座を裏面側から見たときの外観斜視図である。
【図９】図９は、台座を表面側から見たときの外観斜視図である。
【図１０】図１０は、反転型と台座との境界付近を示す拡大断面図である。
【図１１】図１１は、本発明の反射体の製造装置を用いた反射体の製造方法の一工程を示す断面図である。
【図１２】図１２は、本発明の反射体の製造装置を用いた反射体の製造方法の一工程を示す断面図である。
【図１３】図１３は、本発明の反射体の製造装置を用いた反射体の製造方法の一工程を示す断面図である。
【図１４】図１４は、本発明の反射体の製造装置を用いた反射体の製造方法の一工程を示す断面図である。
【図１５】図１５は、本発明の反射体の製造装置の検証結果を示す説明図である。
【符号の説明】
【００６５】
１０  反射体
１１  基板
１２  反射膜
１３  凹部
１６  レジスト層
２３  反転型
２４  台座
２５  凸部
２８  溝又は凹凸
【図１】
2005215614.tif 000005
【図２】
2005215614.tif 000006
【図３】
2005215614.tif 000007
【図４】
2005215614.tif 000008
【図５】
2005215614.tif 000009
【図６】
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【図７】
2005215614.tif 000011
【図８】
2005215614.tif 000012
【図９】
2005215614.tif 000013
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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