(57)【要約】【課題】非磁性基板に金属磁性膜と層間絶縁層からなる多層膜を設け、ギャップを介して突き合わせた磁気ヘッドにおいて、巻線窓部の多層膜が磁気ヘッド作製時のチップスライス工程で欠けや剥離が生じて、ダメージを受け電磁変換特性にばらつきが生じる。【解決手段】非磁性基板に金属磁性膜と非磁性膜とを交互に積層した多層膜を設けた一対のコア半体を、前記多層膜を対向させスペーサーを介して突き合わせた磁気ヘッドであって、前記巻線窓に形成された前記多層膜の表面を低融点ガラスで覆って、チップスライス工程で欠けや剥離が生じないようにする。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
組み合せたとき巻線窓を形成する凹部を少なくとも一方に設けた一対の非磁性基板の少なくとも前記凹部とそれに続く面に、金属磁性膜と非磁性膜とを交互に積層した多層膜をそれぞれ設けた一対のコア半体を、それぞれの多層膜が対向するように組み合わせて接合し、接合部の前記多層膜間に磁気ギャップを形成するためのスペーサを挟んで構成した磁気ヘッドのコアであって、
前記一対のコア半体を組み合わせて一体化したとき形成されるコアの巻線窓の壁面に積層した前記多層膜の表面が、低融点のガラス材で覆われていることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】
巻線窓の壁面に形成された前記多層膜の表面を覆うガラス材の転移点の温度が３００℃から５００℃であることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項３】
組み合せたとき巻線窓を形成する凹部を少なくとも一方に設けた一対の非磁性基板の少なくとも前記凹部とそれに続く面に、金属磁性膜と非磁性膜とを交互に積層した多層膜をそれぞれ設けた一対のコア半体を、それぞれの多層膜が対向するように組み合わせて接合し、接合部の前記多層膜間に磁気ギャップを形成するためのスペーサを挟んで構成した磁気ヘッドのコアであって、
前記一対のコア半体を組み合わせて一体化したとき形成されるコアの巻線窓の壁面に積層した前記多層膜の表面が、薄膜形成プロセスで形成した非磁性膜で覆われていることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項４】
前記非磁性膜は、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）または酸化珪素（ＳｉＯ２）の何れかであることを特徴とする請求項３記載の磁気ヘッド。
【請求項５】
前記非磁性基板が非磁性フェライトであることを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の磁気ヘッド。
【請求項６】
一対の長尺の非磁性基板のそれぞれに、両者を組み合わせたときに巻線窓となる第１の溝を形成する工程、
前記第１の溝の表面および前記一対の非磁性基板の突き合わせ面に、金属磁性膜と非磁性膜を所定の膜厚で交互に積層して多層膜を形成する工程、
前記第１の溝の中に低融点ガラスを充填する工程、
前記充填した低融点ガラスが前記多層膜上に所定の厚みで残るように前記低融点ガラスに第２の溝を形成して一対のヘッドコア半体を形成する工程、
前記一対のヘッドコア半体の突き合わせ面を平坦化する工程、
前記一対のヘッドコア半体をスペーサーを介して突き合わせて加熱処理により接合し、長尺のベッドブロックを形成する工程、及び
前記長尺のヘッドコアを所定の寸法で切断して磁気ヘッドのコアを得るチップスライス工程
を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項７】
一対の長尺の非磁性基板のそれぞれに、両者を組み合わせたときに巻線窓となる第１の溝を形成する工程、
前記第１の溝および前記一対の非磁性基板の突き合わせ面に、金属磁性膜と非磁性膜を所定の膜厚で交互に積層して多層膜を形成する工程、
少なくとも前記第１の溝の面に所定の厚みの非磁性膜を薄膜プロセスで形成して一対のヘッドコア半体を得る工程、
前記一対のヘッドコア半体の突き合わせ面を平坦化する工程、
前記一対のヘッドコア半体をスペーサーを介して突き合わせて接合し長尺のベッドブロックを形成する工程、及び
前記長尺のヘッドコアを所定の寸法で切断してヘッドのコアを得るチップスライス工程
を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記一対のヘッドコア半体を、磁気ギャップを形成するスペーサーを介して突き合わせて接合した後に、磁気ギャップ部にトラック幅規制溝を形成することを特徴とする請求項６又は７に記載の磁気ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は多量のデータを記録再生する高品位ＶＴＲ（ビデオテープレコーダ）、デジタルＶＴＲおよびデータストリーマー等に適した磁気ヘッドおよびその磁気ヘッドを用いた磁気記録再生装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、ＶＴＲの小型化及び記録密度の高密度化にともなって、広帯域の信号を取り扱う記録再生システムの開発が盛んに進められており、それに応じてより高感度かつ高効率な磁気ヘッドが求められている。磁気ヘッドに対するこの様な要求に対応するために、磁気ヘッドの低インダクタンス化が行われ、また磁気ヘッドの形状の最適化が検討されている。
【０００３】
このような磁気ヘッドの従来例として、特許公報２９５９９０８号及び同２９５９９０９号に示されているものがある。
前記従来例の特許公報２９５９９０８号に示された磁気ヘッドを図１０を参照して説明する。図１０の（ａ）は本従来例の磁気ヘッドのヘッドコア５０の斜視図であり、図１０の（ｂ）は図１０の（ａ）のＸｂ−Ｘｂ断面図である。図１０の（ａ）及び（ｂ）において、ヘッドコア５０は、非磁性基板４２ａ、４２ｂをそれぞれ有する一対のコア半体３９ａ、３９ｂを組み合わせて構成されている。コア半体３９ａ、３９ｂは、組み合わせたとき巻線窓４５を形成する溝４６ａ、４６ｂをそれぞれ有している。それぞれの溝４６ａ、４６ｂには、金属磁性膜４１ａと非磁性膜４１ｂとを交互に積層した多層膜４０ａ、４０ｂが形成されている。コア半体３９ａ、３９ｂは、図の上端部のギャップ部４８においてギャップ材４３を介して対向し、図の下部のバックギャップ部４９においては、それぞれの多層膜４０ａ、４０ｂを接して対向している。この状態でギャップ部４８の近傍を接合ガラス４４で接着してコア半体３９ａ、３９ｂは一体化されている。
【０００４】
本従来例のヘッドコア５０では、ヘッドギャップ部４８及びバックギャップ部４９を含むコア半体３９ａ及び３９ｂの対向面に、金属磁性膜４１ａと非磁性膜４１ｂとを交互に積層した多層膜４０ａ、４０ｂが露出している。
前記従来例のヘッドコア５０を製造するときは、まず図１０の（ｂ）において紙面に垂直な方向に長い長尺の非磁性基板４２ａ、４２ｂに前記の多層膜４０ａ、４０ｂを形成して長尺のコア半体３９ａ、３９ｂを作る。長尺のコア半体３９ａ、３９ｂを図のように対向させて接合ガラス４４で接合した後、図１０の（ｂ）の紙面に平行な面でダイシングソー（円板形の刃物が高速回転する切断装置）によって切断して分割する。これをチップスライス工程という。チップスライス工程によって、接合した長尺のコア半体３９ａ、３９ｂから数１０個のヘッドコア５０が得られる。図１０の（ａ）は上記の切断分割によって得られたヘッドコア５０の１つを示している。ヘッドコア５０の巻線窓４５を通しコイルを巻くことにより、磁気ヘッドが得られる。
【０００５】
【特許文献１】
特許２９５９９０８号公報
【特許文献２】
特許２９５９９０９号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
前記従来例のヘッドコアでは、前記のチップスライス工程において刃物が切断した切り口の多層膜４０ａ、４０ｂが部分的に欠けたり剥がれたりすることが多い。この欠けや剥がれは肉眼で見える程大きなものもあるが、肉眼では見えないが５０倍から１００倍程度の顕微鏡では見える小さなものが多数ある。多層膜４０ａ、４０ｂに欠けや剥がれが生じると、磁気ヘッドとしての電磁変換特性が悪化することを発明者等は種々の実験によって確認した。多層膜４０ａ、４０ｂの厚さは例えば１０から１００μｍ程度である。このように薄い多層膜４０ａ、４０ｂを非磁性基板４０ａ、４０ｂに設けて磁路を形成する形式の磁気ヘッドでは、前記の欠けや剥がれが電磁変換特性に大きな影響を与えるものと思われる。多層膜４０ａ、４０ｂの欠けや剥がれの発生状況は刃物の回転速度や送り速度など様々な加工条件によって異なる。その欠けやはがれが生じると、後述するように統計的結果として巻線窓４５を通してコイルを巻いて完成した磁気ヘッドにおいて、電磁変換特性の出力レベルのばらつきが生じ、電磁変換特性のそろった磁気ヘッドを安定して製造することが困難であった。
【０００７】
本発明は、優れた電磁変換特性を有するとともに、電磁変換特性にばらつきのない磁気ヘッドを提供することを目的とする。
また本発明は、チップスライス工程において磁性膜に欠けや剥がれが生じるのを防止し、安定した電磁変換特性を有する磁気ヘッドを製造できる磁気ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
本発明は前記の優れた電磁変換特性を有する磁気ヘッドを用いることにより広帯域の信号を高効率で記録再生できる磁気記録再生装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気ヘッドは、組み合せたとき巻線窓を形成する凹部を少なくとも一方に設けた一対の非磁性基板の前記凹部を設けた面に、金属磁性膜と非磁性膜とを交互に積層した多層膜をそれぞれ設けた一対のコア半体を、それぞれの多層膜が対向するように組み合わせて接合し、接合部の前記多層膜間に磁気ギャップを形成するためのスペーサを挟んで構成した磁気ヘッドのコアであって、前記一対のコア半体を組み合わせて一体化したとき形成されるコアの巻線窓の壁面に積層した前記多層膜の表面が低融点のガラス材で覆われていることを特徴とする。
この構成によれば、多層膜が非磁性基板と低融点のガラス材で挟まれているため、コアの製造におけるチップスライス工程で多層膜の欠けや剥がれが生じにくくなる。
【０００９】
本発明の他の観点の磁気ヘッドは、組み合せたとき巻線窓を形成する凹部を少なくとも一方に設けた一対の非磁性基板の前記凹部を設けた面に、金属磁性膜と非磁性膜とを交互に積層した多層膜をそれぞれ設けた一対のコア半体を、それぞれの多層膜が対向するように組み合わせて接合し、接合部の前記多層膜間に磁気ギャップを形成するためのスペーサを挟んで構成した磁気ヘッドのコアであって、前記一対のコア半体を組み合わせて一体化したとき形成されるコアの巻線窓の壁面に積層した前記多層膜の表面が薄膜形成プロセスで形成した非磁性膜で覆われていることを特徴とする。
この構成によれば、多層膜が非磁性基板と非磁性膜で挟まれているので、チップスライス工程において多層膜の欠けや剥がれが生じにくくなる。
【００１０】
本発明の磁気ヘッドの製造方法は、一対の長尺の非磁性基板のそれぞれに、両者を組み合わせたときに巻線窓となる第１の溝を形成する工程、前記第１の溝の表面および前記一対の非磁性基板の突き合わせ面に、金属磁性膜と非磁性膜を所定の膜厚で交互に積層して多層膜を形成する工程、前記第１の溝の中に低融点ガラスを充填する工程、前記充填した低融点ガラスが、前記多層膜上に所定の厚みで残るように前記低融点ガラスに第２の溝を形成して一対のヘッドコア半体を形成する工程、前記一対のヘッドコア半体の突き合わせ面を平坦化する工程、前記一対のヘッドコア半体をスペーサーを介して突き合わせて加熱処理により接合し、長尺のベッドブロックを形成する工程、及び前記長尺のヘッドコアを所定の寸法で切断して磁気ヘッドのコアを得るチップスライス工程を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、多層膜が非磁性基板と低融点のガラス材で挟まれているため、コアの製造におけるチップスライス工程で多層膜の欠けや剥がれが生じにくくなる。
【００１１】
本発明の磁気ヘッドの他の観点の製造方法は、一対の長尺の非磁性基板のそれぞれに、両者を組み合わせたときに巻線窓となる第１の溝を形成する工程、前記第１の溝および前記一対の非磁性基板の突き合わせ面に、金属磁性膜と非磁性膜を所定の膜厚で交互に積層して多層膜を形成する工程、少なくとも前記第１の溝の面に所定の厚みの非磁性膜を薄膜プロセスで形成して一対のヘッドコア半体を得る工程、
前記一対のヘッドコア半体の突き合わせ面を平坦化する工程、前記一対のヘッドコア半体をスペーサーを介して突き合わせて接合し長尺のベッドブロックを形成する工程、及び
前記長尺のヘッドコアを所定の寸法で切断して磁気ヘッドのコアを得るチップスライス工程を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、多層膜が非磁性基板と非磁性膜で挟まれているので、チップスライス工程において多層膜の欠けや剥がれが生じにくくなる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態の磁気ヘッド及び磁気ヘッドの製造方法を図１から図９を参照して説明する。
【００１３】
《実施の形態１》
本発明の実施の形態１の磁気ヘッドのコア５１（以下、ヘッドコア５１という）を図１及び図２を参照して説明する。ヘッドコア５１にコイルを巻くことによって磁気ヘッドが構成される。図１の（ａ）は本発明の実施の形態１のヘッドコア５１の斜視図であり、図１の（ｂ）は、図１の（ａ）のＩｂ−Ｉｂ断面図である。本実施の形態のヘッドコア５１は、２つのコア半体５２ａ、５２ｂを組合わせて構成されている。コア半体５２ａ、５２ｂは、組合わせたときに巻線窓５が形成されるように形成した凹部６ａ、６ｂをそれぞれ有する一対の非磁性基板２ａ、２ｂを有する。非磁性基板２ａ、２ｂの各対向面には、鉄系の金属による金属磁性膜とアルミナからなる非磁性膜とを積層した多層膜１ａ、１ｂが複数層設けられている。多層膜１ａ、１ｂの、金属磁性膜の厚さは０．５μｍ、非磁性膜の厚さは０．０１μｍ程度が好ましい。図１の（ａ）では、多層膜１ａ、１ｂをそれぞれ４つ（４層）図示しているが、実際のコア半体５２ａ、５２ｂでは、多層膜１ａ、１ｂをそれぞれ３０層から８０層設けている。
【００１４】
図１の（ｂ）において、コア半体５２ａ、５２ｂは、上部のギャップ部３においてギャップ部材１３をはさんで対向している。また下部の突き合わせ部８では、コア半体５２ａの多層膜１ａとコア半体５２ｂの多層膜１ｂを一部除去して、両多層膜の端面を接触させている。突き合わせ部８の上端部はバックギャップ部３８といい、多層膜１ａと１ｂとの間に非磁性体のギャップ材をはさんで対向させてもよいが、多層膜１ａ、１ｂが直接接しているのが好ましい。
【００１５】
この状態のコア半体５２ａ、５２ｂが、図１の（ａ）に示すようにヘッドギャップ部３で接して一体になされている。ヘッドギャップ部３では、ギャップ長Ｗｔが所定の寸法（所定のトラック幅）となるように両側部が切削加工され、切削部に接合ガラス４が充填されている。接合ガラス４はギャップ部３近傍の巻線窓５内にも充填されている。巻線窓５の他の部分には、中央部に略円形の空間を形成して、周辺部が巻線窓５の多層膜１ａ、１ｂの面に付着した低融点のガラスによるガラス層７が設けられている。ガラス層７のガラスと接合ガラス４のガラスの材質は通常同じものが用いられる。
【００１６】
図１の（ｂ）に示すように、ギャップ部３では、コア半体５２ａの多層膜１ａの端面とコア半体５２ｂの多層膜１ｂの端面とが約９０°の角度をもって対向しており、所定の磁気抵抗を有する。突き合わせ部８はヘッドギャップ部３よりはるかに長い距離を有しているので、突き合わせ部８の磁気抵抗は十分に低い。コア半体５２ａ、５２ｂのヘッドギャップ部３の外面を同一面に合わせた結果、突き合わせ部８においてコア半体５２ａ、５２ｂの相互の位置が上下に多少ずれたとしても、突き合わせ部８は十分長いので磁路の形成に問題はない。
本実施の形態の１のヘッドコア５１は、図２（ａ）に示す面１ｘに設けた凹部６ａ、６ｂの内壁面に形成した多層膜１ａ、１ｂの面がガラス体７によって覆われている点が特徴である。このガラス体７の中央部の円形の孔である巻線窓５にコイルを巻回することにより、磁気ヘッドが構成される。
【００１７】
次に本実施の形態１のヘッドコア５１の製造方法について図２から図４を参照して説明する。
まず、図２の（ａ）に示すように、例えば非磁性フェライト製の一対の長尺の非磁性基板２ａ、２ｂを用意し、後の工程を経て巻線窓となる第１の溝である凹部６ａ、６ｂを切削加工により形成する。次に図２の（ｂ）に示すように、非磁性基板２ａ、２ｂ上に、鉄系の金属磁性膜とアルミナ等の非磁性膜とを交互にスパッタリング法により成膜し、多層膜１ａ、１ｂを形成する。多層膜１ａ、１ｂとして、厚さ０．５μｍの金属磁性膜の上に厚さ０．０１μｍの非磁性膜を形成した積層膜を１組として、例えば４０組積層する。図２の（ｂ）では図を見易くするため、多層膜１ａ、１ｂとして、拡大した積層膜を４組図示している。
【００１８】
次に、図２の（ｃ）に示すように、低融点の棒状のガラス材１７ａ、１７ｂをそれぞれ凹部６ａ、６ｂの中に置き、加熱処理によって溶融させる。その結果図３の（ａ）に示すように凹部６ａ、６ｂにそれぞれガラス材１７ａ、１７ｂが充填される。ガラス材１７ａ、１７ｂは、転移点の温度が３００℃〜５００℃のものが適している。ガラス材１７ａ、１７ｂは図３の（ａ）のように基板２ａ、２ｂの上面から少し盛り上がって充填されるようにガラス材１７ａ、１７ｂの体積を設定しておく。基板２ａ、２ｂの上面からはみ出ている部分のガラス材１７ａ、１７ｂを研磨して除いて平らにした後、例えばダイシングソーを用いて、ガラス材１７ａ、１７ｂに第２の溝１６ａ、１６ｂを形成する。溝１６ａ、１６ｂの深さは多層膜１ａ、１ｂ上に所定の厚みのガラス層が残るように設定する。図３の（ｂ）は溝１６ａ、１６ｂの加工後の斜視図である。次に、図の上側の面９ａ、９ｂを約１０μｍ研磨して除去する。洗浄した後、スパッタ装置で全面に磁気ギャップを形成するための非磁性の層であるギャップ層１３ａ、１４ａ、１３ｂ、１４ｂを成膜する（図３の（ｃ））。ギャップ層１３ａ〜１４ｂはＳｉＯ２等の非磁性膜である。以上の工程により、ヘッドコア半体５２ａ、５２ｂが形成される。
【００１９】
次に図４の（ａ）に示すように、ヘッドコア半体５２ａ、５２ｂを組合わせ、側面から加圧しながら加熱炉中で加熱処理をする。その結果、ガラス材１７ａ、１７ｂは溶融して一体のガラス層７になりヘッド半体５２ａ、５２ｂを接合する。この状態のものをヘッドブロック５５と呼ぶことにする。低融点のガラス材１７ａ、１７ｂが溶融すると、図４の（ｂ）に示すように、表面張力で中央部に略円形のトンネル状の空間ができ、これが巻線窓５となる。
【００２０】
図４の（ｂ）に示すように、ダイシングソーを用いてヘッドブロック５５に所定の間隔でトラック幅規制溝１１を形成する。トラック幅規制溝１１内に低融点の接合ガラス材を置いて加熱する。これにより、接合ガラス材が溶融してトラック幅規制溝１１に接合ガラス４が充填される。次にヘッドブロック５５を斜めに所定のヘッド幅Ｗ１でダイシングソーによって切断し、複数のヘッドコアに分割する（チップスライス工程）。最後に磁気テープ摺動面５６を、図１の（ｂ）に示すように所定の磁気ギャップ深さＧになるように曲面に研磨して図１の（ａ）に示す磁気ヘッドコア５１が完成する。図１の（ｂ）に示すヘッドコア５１の磁気ギャップ部１３では、上記の研磨の工程により、多層膜１ａ、１ｂの端部が磁気ギャップ部１３において所定の角度で対向する状態になる。
【００２１】
本実施の形態１のヘッドコア５１では、図１の（ｂ）に示すように、溝６ａ、６ｂの面にそれぞれ形成したそれぞれ複数の多層膜１ａ、１ｂの上にガラス層７が設けられている。すなわち複数の多層膜１ａが、非磁性基板２ａとガラス層７によってはさまれており、複数の多層膜１ｂが、非磁性基板２ｂとガラス層７によってはさまれている。これによりチップスライス工程において図４の（ｂ）に示す切断線１００でダイシングソーの回転刃がヘッドブロック５５を切断するとき、多層膜１ａ、１ｂが欠けたり剥がれたりすることがほとんどなくなる。発明者等の観察によれば、肉眼で発見できる程大きな欠けや剥がれは全く見当らなかった。また５０倍から１００倍程度の顕微鏡で見える欠けや剥がれも従来のものに比べると大幅に減少した。
【００２２】
図１０に示す前記従来技術のヘッドコア５０と、その従来技術のヘッドコア５０と全く同じ規格で作った本発明の実施の形態１ヘッドコア５１について、それぞれの特性（再生出力レベル）の比較試験をした。比較試験において、両ヘッドコアに同じ巻回数のコイルを巻いて磁気ヘッドを構成し、所定の記録媒体にあらかじめ記録した磁気情報を再生して再生出力レベル（ｄＢ）を測定して比較した。
図５は比較試験の結果を示すグラフである。図において横軸は相対出力（ｄＢ）を示し、縦軸は個数を示している。相対出力（ｄＢ）は、所定の基準出力（ｄＢ）を相対出力０ｄＢとし、同じロットで製作した本実施の形態１の５０個のヘッドコア５１と、従来技術の５０個のヘッドコア５０を用いた合計１００個の磁気ヘッドについて、出力が基準出力より大きい磁気ヘッドの個数を相対出力０ｄＢの縦線より右側に示し、逆に出力が基準出力より小さい磁気ヘッドの個数を左側に示している。図中「●」は前記従来技術の磁気ヘッドを示し、「○」は本実施の形態１の磁気ヘッドを示している。
【００２３】
図５において、本発明の実施の形態１の磁気ヘッドについては、相対出力０ｄＢのものが６個、同１ｄＢのものが１０個、同２ｄＢのものが１２個、同３ｄＢのものが１０個、同４ｄＢのものが８個、同５ｄＢのものが４個であった。従来技術による対比例の磁気ヘッドについては、相対出力が０ｄＢのものが６個、同１ｄＢのものが５個、同２ｄＢのものが６個、同３ｄＢのものが５個、同４ｄＢのものが４個、同−１ｄＢのものが４個、同−２ｄＢのものが５個、同−３ｄＢのものが６個、同−４ｄＢのものが３個、同−５ｄＢのものが３個、同−６ｄＢのものが２個、同−７ｄＢのものが１個であった。図５の分布図から明らかなように、本実施の形態１の５０個の磁気ヘッドは相対出力が０ｄＢから＋５ｄＢの範囲にあった。これに対して、従来技術の磁気ヘッドは相対出力が＋５ｄＢから−７ｄＢの範囲にあり、本実施の形態の磁気ヘッドの相対出力のばらつきは従来技術の磁気ヘッドの相対出力のばらつきより少ないことが確認できた。また本実施例の磁気ヘッドは、従来技術のものより相対出力が２から３ｄＢ高い値を中心にして分布している。以上のように本発明の本実施の形態１によれば、従来技術の対比例のものに比べて相対出力が２から３ｄＢ高く、かつ相対出力のばらつきの少ない磁気ヘッドを得ることができる。これは本実施の形態の磁気ヘッドでチップスライス工程における多層膜１ａ、１ｂの欠けや剥がれが少ないことによるものであることが確認できた。
【００２４】
《実施の形態２》
本発明の実施の形態２のヘッドコアを図６から図９を参照して説明する。図６の（ａ）は本実施の形態２のヘッドコア６１の斜視図であり、図６の（ｂ）は図６の（ａ）のＶＩｂ−ＶＩｂ断面図である。
図６の（ａ）において、本実施の形態２のヘッドコア６１は、コア半体６０ａ、６０ｂを有している。コア半体６０ａ、６０ｂのそれぞれの非磁性基板２ａ、２ｂ、及び、非磁性基板２ａ、２ｂの凹部６ａ、６ｂに設けた多層膜１ａ、１ｂは、図１に示す前記実施の形態１のものと実質的に同じであるので重複する説明は省略する。
本実施の形態２のコア半体６０ａ、６０ｂでは、前記多層膜１ａ、１ｂの上に非磁性材料による厚い非磁性膜２７ａ、２７ｂが設けられている。非磁性膜２７ａ、２７ｂの厚さは１０μｍから３０μｍの範囲が好ましい。コア半体６０ａと６０ｂは、ギャップ部２３Ａにギャップ部材２３をはさんで接合ガラス２４により一体に接合されている。その他の構成は図１に示す前記実施の形態１のヘッドコアと同じである。
【００２５】
本実施の形態２のヘッドコア６１の製造方法を図７及び図８を参照して説明する。
図７の（ａ）に示すように、非磁性フェライトの一対の非磁性基板２ａ、２ｂを用意し、それぞれに後の工程で巻線窓を形成する凹部６ａ、６ｂを形成する。図７の（ｂ）に示すように、非磁性基板２ａ、２ｂの、凹部６ａ、６ｂを含む上面に、鉄系の金属磁性膜とアルミナの非磁性膜をスパッタリング法により交互に成膜して多層膜１ａ、１ｂをそれぞれ形成する。上記の金属磁性膜の厚さは０．４μｍであり、非磁性膜は０．０１μｍであり、この構成の多層膜１ａ、１ｂを５０組積層している。
【００２６】
次に図７の（ｃ）に示すように、多層膜１ａ、１ｂの上に、それぞれ厚さ１０μｍのアルミナ膜による非磁性膜２７ａ、２７ｂをスパッタリング法で形成し、コア半体６０ａ、６０ｂが得られる。非磁性膜２７ａ、２７ｂは酸化珪素の膜でもよい。
図８の（ａ）に示すように、コア半体６０ａの突き合わせ面２９ａ、３０ａ、及びコア半体６０ｂの突き合わせ面２９ｂ、３０ｂを研磨して、非磁性膜２７ａ、２７ｂ及び上部の多層膜１ａ、１ｂを除去する。その結果、非磁性膜２７ａ、２７ｂは凹部６ａ、６ｂの内壁面に形成されている多層膜１ａ、１ｂの上にのみ残る。この工程を終了したコア半体６０ａ、６０ｂを洗浄した後、突き合わせ面３０ａ、３０ｂに非磁性材であるＳｉＯ２のスパッタリングにより厚さ０．１μｍのギャップ材２３ａ、２３ｂを成膜する。ギャップ材２３ａ、２３ｂはいずれか一方のみでもよい。
【００２７】
図８の（ｂ）に示すように、突き合わせ面３０ａと３０ｂを対向させかつ突き合わせ面２９ａと２９ｂを対向させて、コア半体６０ａと６０ｂを組合わせる。組合わせた結果できた巻線窓２５内に棒状の接合ガラス２４を挿入して上下を反転し、側面から加圧しつつ加熱処理をする。この加熱処理によりコア半体６０ａ、６０ｂは接着され、ヘッドブロック６５が得られる。
図８の（ｃ）に示すように、ダイシングソーを用いてヘッドブロック６５にトラック幅規制溝３１を形成する。そしてトラック幅規制溝３１に低融点の接合ガラス材を置いて加熱すると、接合ガラスが溶融する。これによりトラック幅規制溝３１に接合ガラス３４が充填される。次にヘッドブロック６５をチップスライス工程で所定のヘッド幅Ｗ２の切断線１００で切断し、複数のヘッドコア６１に分離する。更に、磁気テープ摺動面５６を研磨して、図６の（ｂ）に示すように、所定の曲率半径の曲面にするとともに、所定の磁気ギャップ深さＧになるようにする。ヘッドギャップ部２３では、多層膜１ａ、１ｂのそれぞれの端面が約９０度の角度で対向している。
【００２８】
本実施の形態２のヘッドコア６１では、多層膜１ａが非磁性基板２ａと非磁性膜２７ａによって挟まれており、多層膜１ｂが非磁性基板２ｂと非磁性膜２７ｂによって挟まれている。この構成により、ヘッドブロック６５をチップスライス工程によって切断するとき、多層膜１ａ、１ｂに欠けや剥がれが生じにくい。本実施の形態２のヘッドコア６１の多層膜１ａ、１ｂを見視及び顕微鏡により観察したところ、前記実施の形態１のヘッドコア５１と同じように欠けや剥がれが少なかった。
実施の形態１のヘッドコア５１では、多層膜１ａ、１ｂの上にガラス層７を設けているので、図３の（ａ）に示すガラス棒材１７ａ、１７ｂの加熱溶融工程、及び図３の（ｂ）に示す溝１６ａ、１６ｂの形成工程を必要とする。本実施の形態２では多層膜１ａ、１ｂの上に非磁性膜２７ａ、２７ｂを形成すればよいので、前記実施の形態１より製造工程が簡略化される。
本実施の形態２の製造方法により得られた同一ロットの５０個のヘッドコア６１の巻線窓２５にコイルを巻いた磁気ヘッドと、図１０に示す前記従来技術の５０個のヘッドコア５０を用いた磁気ヘッドとを比較した結果を図９に示す。図９において、「●」は前記図５の「●」と同じであり、従来技術の磁気ヘッドを示す。図９の「○」は本実施の形態２の磁気ヘッドを示している。横軸の相対出力（ｄＢ）は、所定の基準出力（ｄＢ）を相対出力０ｄＢとしたときの磁気ヘッドの出力（ｄＢ）を表している。縦軸は磁気ヘッドの個数である。
【００２９】
図９において、本実施の形態２の磁気ヘッドについては、相対出力０ｄＢのものが７個、同１ｄＢのものが８個、同２ｄＢのものが１３個、同３ｄＢのものが１２個、同４ｄＢのものが７個、同５ｄＢのものが３個であった。本実施の形態２の５０個の磁気ヘッドは、相対出力が０ｄＢから＋５ｄＢの範囲にあり、従来技術の磁気ヘッドに比べて相対出力のばらつきが少ないことが確認できた。また本実施の形態２の磁気ヘッドは、従来技術のものより相対出力が２から８ｄＢ高い値を中心にして分布している。
【００３０】
実施の形態１では多層膜１ａ、１ｂの金属磁性膜の厚みを０．５μｍとし、実施の形態２では同０．４μｍとしたが、金属磁性膜の厚みは上記の各数値に限定されるものではなく、本発明の磁気ヘッドで記録再生を行う信号の最短記録波長より小さい値に設定するのが望ましい。
実施の形態１及び２においては、非磁性基板として非磁性フェライト基板を用いた例について示したが、チタン酸カルシウム系、チタン酸マグネシウム系の非磁性セラミック基板を用いても良い。
本実施の形態１及び２において、バックギャップ８の接着強度を向上させるために、バックギャップ部８の１部に溝を形成して溝の中に接合ガラスを配置して加熱接着してもよい。
【００３１】
【発明の効果】
以上の各実施例で詳細に説明したように、本発明によれば、多層膜の表面を低融点ガラス又は非磁性材料で覆い保護することにより、チップスライス工程において多層膜へ与える欠けや剥がれなどのダメージを低減することが出来る。これによって、電磁変換特性のばらつきが少ないとともに、高感度の磁気ヘッドを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は本発明の実施の形態１の磁気ヘッドのヘッドコアの斜視図
（ｂ）は同（ａ）のＩｂ−Ｉｂ断面図
【図２】（ａ）から（ｃ）は本発明の実施の形態１の磁気ヘッドの製造方法の各工程を示す斜視図
【図３】（ａ）から（ｃ）は本発明の実施の形態１の磁気ヘッド製造方法の図２の工程に続く工程を示す斜視図
【図４】（ａ）及び（ｂ）は本発明の実施の形態１の磁気ヘッドの製造方法の図３の工程に続く工程を示す斜視図
【図５】本発明の実施の形態１の磁気ヘッドと従来技術の磁気ヘッドと比較結果の相対出力と個数を示すグラフ
【図６】（ａ）は本発明の実施の形態２の磁気ヘッドのヘッドコアの斜視図
（ｂ）は同（ａ）のＶＩｂ−ＶＩｂ断面図
【図７】（ａ）から（ｃ）は本発明の実施の形態２の磁気ヘッドの製造方法の各工程を示す斜視図
【図８】（ａ）から（ｃ）は本発明の実施の形態２の磁気ヘッド製造方法の図７の工程に続く工程を示す斜視図
【図９】本発明の実施の形態２の磁気ヘッドと従来技術の磁気ヘッドと比較結果の相対出力と個数を示すグラフ
【図１０】（ａ）は従来例の磁気ヘッドの斜視図
（ｂ）は同（ａ）のＸｂ−Ｘｂ断面図
【符号の説明】
１ａ、１ｂ          多層膜
２ａ、２ｂ          非磁性基板
３、２３Ａ          磁気ギャップ
４、２４            接合ガラス
５、２５            巻線窓
６ａ、６ｂ          凹部
７                  低融点ガラス
９ａ、９ｂ          面
１３ａ、１３ｂ、１４ａ、１４ｂ    ギャップ層
１７ａ、１７ｂ      ガラス材
２７ａ、２７ｂ      非磁性膜
５１、６１          コア
５２ａ、５２ｂ、６０ａ、６０ｂ    コア半体
Ｇ                  ギャップ深さ
Ｗｔ                ギャップ長
Ｗ１、Ｗ２          トラック溝幅
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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