(57)【要約】【課題】  耐熱性高分子材料の片面のみを導電性化して、フィルミング化を抑制すると共に耐熱性、耐久性がある電子写真式又はトナージェット式複写機、プリンター、ファックス等に用いられる感光体装置、フルカラー中間転写装置、転写分離装置、搬送装置、帯電装置、現像装置等に使用される、防汚性、耐熱性、耐久性、高強度で継ぎ目の無いチューブ、ベルト又はローラーを安価に得ること。【解決手段】    耐熱性高分子からなる継ぎ目の無いチューブ片面を、Ｎａナフタレン溶液、フッ素ガス、レーザー処理等をして反応活性点を生成させた後、これと容易に反応するシランカップリング基等及びメルカプト基等の金属担持能力を有する材料を反応させ、更に、銅等の金属を担持させることによって、目標とするチューブ、ベルト又はローラーを得た。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
耐熱性高分子材料の片表面に、高分子の物性低下をきたさない方法により水酸基、カルボキシル基及びアミノ基のいずれか又はこれらの組み合わせからなる反応性官能基を導入後、金属捕捉官能基を有する該反応性官能基と化学結合可能な官能基を有する化合物を反応させ、更に、金属捕捉官能基を介して（ａ）硫化銅、（ｂ）硫化銀及び／又は硫化パラジウム、及び／又は（ｃ）Ｂｉ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｖ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｒｂ、Ｌｉ、Ｔｌ、Ｗ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｙ、Ｇｅ、Ｙｂ、Ｌａ、Ｓｍ、Ｂｅ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ｎｄ、Ｃｄ及びＧａの中から選ばれる少なくとも１種の金属硫化物を反応させて得られる、片表面が高導電性の耐熱性高分子材料。
【請求項２】
耐熱性高分子材料の片表面に、高分子の物性低下をきたさない方法により水酸基、カルボキシル基及びアミノ基のいずれか又はこれらの組み合わせからなる反応性官能基を導入後、金属捕捉官能基を有する該反応性官能基と化学結合可能な官能基を有する化合物を反応させ、更に、（ａ）銅塩、（ｂ）銀塩及び／又はパラジウム塩、及び／又は（ｃ）Ｂｉ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｖ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｒｂ、Ｌｉ、Ｔｌ、Ｗ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｙ、Ｇｅ、Ｙｂ、Ｌａ、Ｓｍ、Ｂｅ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ｎｄ、Ｃｄ及びＧａの中から選ばれる少なくとも１種の金属塩及び還元性化合物等を含有する水溶液からなる浴中で加熱処理して得られる、片表面が高導電性の耐熱性高分子材料。
【請求項３】
耐熱性高分子材料の片表面に、高分子の物性低下をきたさない方法により水酸基、カルボキシル基及びアミノ基のいずれか又はこれらの組み合わせからなる反応性官能基を導入後、金属捕捉官能基を有する該反応性官能基と化学結合可能な官能基を有する化合物を反応させて得られる金属補足官能基を有する高分子材料に予め硫化銅を結合させ、更に、（ｂ）銀塩及び／又はパラジウム塩、及び／又は（ｃ）Ｂｉ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｖ、Ｓｉ、Ｓｂ、Ａｌ、Ｍｎ、Ｒｂ、Ｌｉ、Ｔｌ、Ｗ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｙ、Ｇｅ、Ｙｂ、Ｌａ、Ｓｍ、Ｂｅ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｍｇ、Ｎｄ、Ｃｄ及びＧａの中から選ばれる少なくとも１種の金属塩及び還元性化合物等を含有する水溶液からなる浴中で加熱処理して得られる、片表面が高導電性の耐熱性高分子材料。
【請求項４】
１８０℃以上の温度での長期使用に耐える、請求項１，２又は３に記載の片表面が高導電性の耐熱性高分子材料。
【請求項５】
耐熱性高分子が、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン〜パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン〜ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン〜エチレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン〜エチレン共重合体、等のハロゲン含有重合体又は共重合体及びこれらのブレンド物、ポリエステル系重合体又は共重合体、ポリブチレンテレフタレート重合体又は共重合体、全芳香族ポリエステル、ポリエーテルサルフォン、ポリアミドイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリイミド、これら高分子のブレンド物である請求項１、２、３又は４に記載の片表面が高導電性の耐熱性高分子材料。
【請求項６】
耐熱性高分子がテトラフルオロエチレン〜パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、炭素粉混練りテトラフルオロエチレン〜パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン〜パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体を主成分とする他のハロゲン重合体又は共重合体のブレンド物である請求項５に記載の片表面が高導電性の耐熱性高分子材料。
【請求項７】
耐熱性高分子材料表面に、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等の反応性官能基を生成させる方法がコロナ放電処理、レーザー処理、紫外線処理、イオンビーム処理、プラズマ処理、金属ナトリウム溶液処理、Ｎａナフタレン溶液処理、電気化学的処理、フッ素ガス処理、表面グラフト反応、炭素混練、反応性官能基を含有するフィラー及び／又は高分子等のいずれか又はこれらの組み合わせである請求項１，２，３、４、５、又は６に記載の片表面が高導電性の耐熱性高分子材料。
【請求項８】
耐熱性高分子材料表面に導入された官能基と化学結合可能な官能基を有する化合物がシラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、エポキシ基含有化合物、酸無水基含有化合物及びイソシアネート基含有化合物等のいずれか又はこれらの組み合わせである請求項１，２，３，４，５、６、又は７に記載の片表面が高導電性の耐熱性高分子材料。
【請求項９】
金属補足官能基がメルカプト基、チオカルボニル基、シアノ基、イソシアナート基、アミノ基、アンモニウム基、ピリジニウム基、アジニル基、カルボキシル基、ベンゾトリアゾール基、トリアジンチオール基、イミン環及び硫黄複素環等のいずれか又はこれらの組み合わせからなる請求項１，２，３，４，５，６、７、又は８に記載の片表面が高導電性の耐熱性高分子材料。
【請求項１０】
還元性化合物がチオ硫酸塩である請求項２，３，４，５，６，７、８又は９に記載の片表面が高導電性の耐熱性高分子材料。
【請求項１１】
高導電性表面と低導電性表面の導電性の差異が少なくとも２倍以上である請求項１、２，３，４，５，６，７、８、９、又は１０に記載の片表面が高導電性の耐熱性高分子材料。
【請求項１２】
継ぎ目の無いチューブ、ベルト又はローラーに用いられる請求項１、２，３，４，５，６，７、８、９、１０、又は１１に記載の片表面が高導電性の耐熱性高分子材料。
【請求項１３】
電子写真式又はトナージェット式複写機、プリンター、ファックス等に用いられる感光体装置、フルカラー中間転写装置、転写分離装置、搬送装置、帯電装置、現像装置等に使用される請求項１，２，３，４，５，６，７，８、９、１０、１１又は１２に記載の片表面が高導電性の感光性装置等に用いられる耐熱性高分子材料。
【発明の詳細な説明】
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、電子写真式又はトナージェット式複写機、プリンター、ファックス等に用いられる感光体装置、フルカラー中間転写装置、転写分離装置、搬送装置、帯電装置、現像装置等に使用される、片表面が高導電性の感光性装置等に用いられる耐熱性高分子材料に関するものである。
【背景技術】
【０００２】  電子写真式又はトナージェット式複写機、プリンター、ファックス等に用いられる感光体装置、フルカラー中間転写装置、転写分離装置、搬送装置、帯電装置、現像装置等の帯電・現像ロール、トナー規制、更には中間転写チューブ、ローラー又はベルト等には、継ぎ目が無く、感光体等への非汚染性、所定の導電性、摩擦係数、強度、耐熱性等が要求される。【０００３】  例えば、特開昭６０−１０１５７４号公報（特許文献１）には、導電性高分子材料の継ぎ目によりコピー紙上に生じる黒いスジを無くすためのマーカーを設置する方法が記載されている。しかしながら、この方法によってもクリーニング工程において除電を行なっても継ぎ目部の除電が十分にできず、更に、継ぎ目部の段差がクリーニングブレードに引っかかってベルトの走行が不安定になり、継ぎ目での破損が起こる問題点があった。【０００４】  この欠点を解消するために特開昭６４−２６４３９号公報（特許文献２）には、二軸延伸熱可塑性ポリエステル系樹脂からなる円筒状フィルムの内側にポリウレタン、ポリエステルエラストマー等の弾性樹脂層及び軸延伸熱可塑性ポリエステル系樹脂層からなる円筒状フィルムが配設された積層シー厶レスフィルムベルトの表面又は内面に、ポリウレタン等の熱可塑性樹脂に導電性フィラーとしてカーボンブラック、金属粉、カーボン繊維等から選ばれた少なくとも１種を配合した表面固有抵抗値が１０１０Ω・ｃｍ以下のシート状物を接合又はコーティングした導電性高分子材料が示されている。
類似の導電性高分子材料がシームレス電子写真感光体導電性基板として特開平２−２３３７６５号公報（特許文献３）に、又、継ぎ目のない半導電性ベルトとして特開平３−８９３５７号公報（特許文献４）に示されている。
更に、特開平５−２０４２３４号公報（特許文献５）には、導電性スポンジ体層上にポリアミド樹脂チューブからなる安価な現像ローラーが、特開平７−１３４４６７号公報（特許文献６）には、ワックス等の滑剤を含む表面層を具備する帯電部材が開示されている。【０００５】  一方、継ぎ目の無いベルトのトナーのフィルミング現象を防止して画像ズレを防止するために、アセチレンブラックを含有するポリカーボネート、エチレンテトラフルオロエチレン等の導電性高分子材料表面をフッ素系ポリマーでコーティングする技術が特開平７−２８２６６号公報（特許文献７）に開示されている。この中で、フッ素系導電性高分子材料表面をフッ素系ポリマーで被覆する際に、接着性を向上させるためにプラズマ又はコロナ放電処理によりコーティング層の接着性を向上させる技術も開示されている。【０００６】  特開平８−１６０７０１号公報（特許文献８）には、カーボンブラックを分散させた導電性ＮＢＲゴム表面をフッソ系化合物粉体及びフッ素系グラフトポリマーで被覆するローラーが開示されている。しかしながら、塗布等により設けられた表面層は基材との接着性が良好ではなく、耐久性に劣る問題点がある。
この問題点の改良の目的で、特開平５−１７３４０９号公報（特許文献９）及び特開２００２−４０７６０号公報（特許文献１０）には表面をイソシアネート化合物で処理する事により、基材との接着性を改良した技術が開示されている。【０００７】
【特許文献１】    特開昭６０−１０１５７４号公報
【特許文献２】    特公昭６４−２６４３９号公報
【特許文献３】    特開平２−２３３７６５号公報
【特許文献４】    特開平３−８９３５７号公報
【特許文献５】    特開平５−２０４２３４号公報
【特許文献６】    特開平７−１３４４６７号公報
【特許文献７】    特開平７−２８２６６号公報
【特許文献８】    特開平８−１６０７０１号公報
【特許文献９】    特開平５−１７３４０９号公報
【特許文献１０】    特開２００２−４０７６０号公報
【発明の開示】
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】  耐熱性ポリマーを外層に有するシームレスチューブ、ベルト又はローラーは、トナーのフィルミング現象を防止して、画像のズレを防止する特性を有する。しかしながら、耐熱性ポリマーで表面をコーティングする場合、従来技術の先行文献で示したように接着性を向上させるために種々の方法が採用されている。特に、フッソ系高分子は反応性が低く接着強度を十分向上させることができず、耐久性において十分満足できるものは未だ得られておらず、しかも、安価に製造することができなかった。
本発明者らは、耐熱性ポリマーの片面のみに高導電性を付与したシームレスチューブ、ベルト又はローラーを一体成型加工することにより、トナーのフィルミング現象を防止すると共に、耐熱性、強度、耐久性に優れ、且つ、安価な耐熱性高分子導電性材料の開発を目指した。
【問題を解決する為の手段】
【００１０】  本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究開発を重ねた結果、耐熱性高分子材料に物性低下をきたさない方法で、反応性官能基を導入後、金属捕捉官能基を有する該反応性官能基と化学結合可能な官能基を有する化合物を反応させ、更に、金属を担持させることにより、高分子材料の機械的性質を低下させること無く、耐久性に優れた高導電性を片面に付与できることを見出した。即ち、従来、カーボン等の導電性材料の混合練り以外の方法で、導電性機能を付与できなかった耐熱性高分子材料に耐久性に優れた導電性を片面のみに付与することに成功し、トナーのフィルミング現象を防止して画像のズレを防止することが可能な電子写真式複写機等の感光体装置、転写装置等に用いられる継ぎ目の無いチューブ、ベルト又はローラーに応用可能な片表面が高導電性の耐熱性高分子材料の発明を完成するに至った。
【００１１】  耐熱性高分子として、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン〜パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン〜ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン〜エチレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン〜エチレン共重合体、等のハロゲン含有重合体・共重合体及びこれらのブレンド物、ポリエステル系重合体又は共重合体、ポリブチレンテレフタレート重合体又は共重合体、全芳香族ポリエステル、ポリエーテルサルフォン、ポリアミドイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリエーテルケトン、ポリイミド、又はカーボン等の導電性物質を含むこれら重合体及び共重合体が挙げられる。
中でも成型加工性、耐熱性、防汚性に優れたテトラフルオロエチレン〜パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体又はこれを主成分とするブレンド物が好ましい耐熱性高分子材料として挙げられる。
表面処理を効果的にするために、上記高分子を多層成型して表面を処理効果が容易な高分子材料にすることも重要である。
【００１２】  耐熱性高分子材料に導入する反応性官能基とは、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等である。
更に、金属捕捉官能基とは従来から知られているもので、シアノ基、メルカプト基、チオカルボニル基、アミノ基、イソシアネート基、アンモニウム基、ピリジニウム基、アジニル基、カルボキシル基、ベンゾトリアゾール基、トリアジンチオール基、イミン環及び又は硫黄複素環等を好ましいものとしてあげることができ、中でも、メルカプト基、シアノ基、ピリジニウム基が望ましい。
【００１３】  耐熱性高分子材料に反応性官能基を導入する方法として、コロナ放電処理、レーザー処理、紫外線処理、イオンビーム処理、プラズマ処理、金属ナトリウム溶液処理、Ｎａナフタレン溶液処理、電気化学的処理、フッ素ガス処理及び表面グラフト反応等のいずれか又はこれらの組み合わせを挙げることができ、中でも、レーザー処理、コロナ放電処理、金属ナトリウム溶液処理、及びＮａナフタレン溶液処理等のいずれか又はこれらの組み合わせがフッ素系材料に対しては望ましい。
【００１４】  担持する金属は、（ａ）銅、（ｂ）銀及び又はパラジウム及び又は（ｃ）Ｂｉ，Ｚｎ，Ｉｎ，Ｖ，Ｓｉ，Ｓｂ，Ａｌ，Ｍｎ，Ｒｂ，Ｌｉ，Ｔｌ，Ｗ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｙ，Ｇｅ，Ｙｂ，Ｌａ，Ｓｍ，Ｂｅ，Ｓｎ，Ｚｒ，Ｍｇ，Ｎｄ，Ｃｄ，及びＧａから選ばれる少なくとも１種の金属である。
【発明の効果】
【００１５】  本発明は、表面に活性基が耐熱性高分子材料の片面に種々の方法で水酸基、カルボキシル基、アミノ基等の反応性活性基を導入後、この基と反応性を有すると共に金属補足能を有する化合物を反応させ、更に、金属を担持させる事で、片面のみに高導電性が付与された、一体成型加工された継ぎ目のない熱安定性、耐久性に優れたチューブ、ベルト、ローラーを安価に製造する事を可能にした。
これらは、電子写真式又はトナージェット式複写機、プリンター、ファックス等に用いられる感光体装置、フルカラー中間転写装置、転写分離装置、搬送装置、帯電装置、現像装置等の耐熱性、強度、耐久性、フィルミングを抑制する等の性能を必要とするチューブ、ベルト又はローラーとして使用する事が可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】  本発明は、まず、繰り返し単位鎖中に水酸基、カルボキシル基、アミノ基等の反応性官能基を有しない、耐熱性高分子材料に、その機械的性質を損なうことなく、反応性官能基を表面に導入する。
反応性官能基を表面に導入する方法として、コロナ放電処理、レーザー処理、紫外線処理、イオンビーム処理、プラズマ処理、金属ナトリウム溶液処理、Ｎａナフタレン溶液処理、電気化学的処理、フッ素ガス処理、及び表面グラフト反応等のいずれか又はこれらの組み合わせが挙げられるが、レーザー処理、金属ナトリウム溶液処理、及びＮａナフタレン溶液処理等のいずれか又はこれらの組み合わせが耐熱高分子の中のフッ素系材料に対して好ましく用いられる。
これらの方法で表面に反応性官能基を導入することにより、従来、片面のみに導電性を付与できなかった耐熱性高分子材料に、その機械的性質を低下させること無く、且つ、耐熱性、耐久性に優れた導電性を付与することを可能にした。
耐久性はＪＩＳ−Ｌ−０８４９による試験方法で行なった。【００１７】  次に、上記表面に導入された反応性官能基と化学結合可能な官能基と金属捕捉官能基の両方を有する化合物を反応させる。表面に導入された反応性官能基と化学結合可能な官能基を有する化合物として、シラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、エポキシ基含有化合物、酸無水基含有化合物及びイソシアネート基含有化合物等のいずれか又はこれらの組み合わせが挙げられるが、中でもシラン系カップリング剤が好ましく用いられる。【００１８】  金属捕捉官能基とは、メルカプト基、チオカルボニル基、シアノ基、イソシアナート基、アミノ基、アンモニウム基、ピリジニウム基、アジニル基、カルボキシル基、ベンゾトリアゾール基、トリアジンチオール基、イミン環及び硫黄複素環等のいずれか又はこれらの組み合わせで、中でもメルカプト基、シアノ基、ピリジニウム基が好ましく用いられる。【００１９】  以上の方法により得られた高分子材料に（ａ）銅塩、（ｂ）銀塩及び又はパラジウム塩及び又は（ｃ）Ｂｉ，Ｚｎ，Ｉｎ，Ｖ，Ｓｉ，Ｓｂ，Ａｌ，Ｍｎ，Ｒｂ，Ｌｉ，Ｔｌ，Ｗ，Ｔｉ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｙ，Ｇｅ，Ｙｂ，Ｌａ，Ｓｍ，Ｂｅ，Ｓｎ，Ｚｒ，Ｍｇ，Ｎｄ，Ｃｄ，及びＧａの中から選ばれる少なくとも１種の金属塩を反応させて導電性材料が得られる。【００２０】  金属の担持方法としては種々の方法があるが、第１の方法として銅塩、第２金属塩及び第３金属塩と共に、チオ硫酸塩を含む浴中で加熱処理する方法がある。チオ硫酸塩としては、ナトリウム塩やカリウ厶塩が用いられる。このチオ硫酸塩は、金属塩に対して錯化剤として作用する他、硫化剤としても作用する。金属塩としては、処理浴（水溶液）に可溶性のものであれば任意のものが使用できる。このようなものとしては、例えば、硫酸塩、塩基性硫酸塩、ハロゲン化物、有機酸塩、硝酸塩等がある。更に詳しくは、銅塩としては硫酸第二銅、塩化第二銅、硝酸第二銅、酢酸第二銅が用いられる。銀塩としては、硫酸銀、硝酸銀等が用いられる。パラジウム塩としては、塩化パラジウムが用いられる。【００２１】更に、Ｂｉ塩としてはＢｉ（ＮＯ２）、Ｂｉ２（ＳＯ４）３、（ＢｉＯ）２ＳＯ４等；Ｚｎ塩としては、Ｚｎ（ＮＯ２）２、ＺｎＳＯ４等；Ｉｎ塩としては、ＩｎＣｌ３、Ｉｎ（ＳＯ４）３等；Ｓｉ塩としては、ＳｉＣｌ４、ＳｉＦｅ４等；Ｓｂ塩としては、ＳｂＣｌ４、ＳｂＣｌ３等；Ａｌ塩としては、Ａｌ２Ｏ（ＣＨ３ＯＯ）、ＡｌＣｌ３、Ａｌ（ＮＯ３）３、Ａｌ２（ＳＯ４）３等；Ｍｎ塩としては、ＭｎＣｌ２，Ｍｎ（ＮＯ３）２、ＭｎＳＯ４等；Ｒｂ塩としては、ＣＨ３ＣＯＯＲｂ、ＲｂＣｌＲｂ２ＳＯ４等；Ｌｉ塩としては、ＣＨ３ＣＯＯＬｉ、ＬｉＣｌ，ＬｉＮＯ３、ＬｉＳＯ４等；Ｔｌ塩としては、ＴｌＮＯ３、Ｔｌ２ＳＯ４等；Ｗ塩としては、ＷＣｌ６、ＷＣｌ４等；Ｔｉ塩としては、ＴｉＣｌ４、ＴｉＢｒ４、ＴｉＣ１３等；Ｃｒ塩としては、ＣｒＣｌ３、Ｃｒ（ＮＯ３）３、Ｃｒ２（ＳＯ４）３等；Ｍｏ塩としては、ＭｏＣｌ５、ＭｏＣｌ３、ＭｏＣｌ４等；Ｙ塩としては、ＹＣｌ３、Ｙ（ＮＯ３）３等；Ｇｅ塩としては、ＧｅＣｌ４、ＧｅＦ４等；Ｙｂ塩としては、ＹｂＣｌ３、Ｙ���（ＮＯ３）３等；Ｌａ塩としては、Ｌａ（ＮＯ３）３、ＬａＣｌ３、Ｌａ（ＣＨ３ＣＯＯ）３等；Ｓｍ塩としては、Ｓｍ（ＮＯ３）３、ＳｍＣｌ３等；Ｂｅ塩としては、ＢｅＳＯ４、Ｂｅ（ＮＯ３）２等；Ｓｎ塩としては、ＳｎＣｌ２、ＳｎＣｌ４、ＳｎＳＯ４等；Ｚｒ塩としては、ＺｒＣｌ４、Ｚｒ（ＮＯ３）２、Ｚｒ（ＳＯ４）２等；Ｍｇ塩としては、Ｍｇ（ＣＨ３ＣＯＯ）２、Ｍｇ（ＮＯ３）２、ＭｇＳＯ４等；Ｂａ塩としては、ＢａＣｌ２、Ｂａ（ＣＨ３ＣＯＯ）２、Ｂａ（ＮＯ３）２、ＢａＳＯ４等；Ｎｄ塩としては、ＮｄＣｌ３、Ｎｄ（ＮＯ３）３等；Ｃｄ塩としては、ＣｄＳＯ４、Ｃｄ（ＮＯ３）２等；Ｖ塩としては、ＶＯＳＯ４、ＶＯＣｌ３等；Ｇａ塩としては、Ｇａ（ＮＯ３）３が使用される。【００２２】  処理浴中には、前記チオ硫酸塩および金属塩の他、必要に応じて各種の補助成分、例えば、ＰＨ調節剤としてクエン酸、酒石酸等の有機酸、硫酸、塩酸等の無機酸の他、酢酸ソーダ、第二燐酸ソーダ、重炭酸ソーダ、クエン酸ソーダ等の弱アルカリ性物質が単独又は２種以上組み合わせて使用される。又、還元性条件を保持するため、重炭酸ソーダ、亜硫酸ソーダ、次亜燐酸ソーダ等の弱い還元剤を用いることもできる。【００２３】  処理浴中に含まれる銅塩は、被処理物質である高分子材料に対して、２〜３０重量％の割合にするのが良い。第２金属は、銅イオン１モルに対し、金属イオンとして０．００１〜１．０モル、好ましくは０，０１〜０．７モルの割合である。第３金属塩は、銅イオン１モルに対し、金属イオンとして０．０５〜１．０モル好ましくは０．０１〜０．７モルの割合である。チオ硫酸塩は、浴中に含まれる全金属イオンのモル数に対し０．１〜５倍モル、好ましくは０．５〜２．５倍モル更に好ましくは０．７〜１．５倍モル  の割合で用いられる。高分子材料を処理浴中で処理する場合、一般的に、その処理温度は、０〜１００℃好ましくは３５〜８５℃であり、処理時間は０．５〜１００時間、好ましくは２〜８時間である。【００２４】  高分子材料に金属硫化物を結合させる他の方法としては、予め硫化銅を結合させた高分子材料をチオ硫酸塩と第２金属塩と第３金属塩を含む処理浴中で加熱処理する方法がある。この場合、第２金属塩は、硫化銅を含む高分子材料に対して、０．０５〜１０重量％の割合で用いるのが良い。第３金属塩は、硫化銅を含む高分子材料に対して、０．０５〜１０重量％の割合で用いるのが好ましい。チオ硫酸塩は、浴中に含まれる全金属イオンの０．５〜１０倍モルの割合で用いられる。処理温度は２５〜８０℃、好ましくは３５〜６５℃であり、処理時間は０．１〜１０時間好ましくは１〜２時間程度でよい。
【実施例】
【００２５】以下に本発明を実施例により説明する。
【実施例１】
【００２６】  内面をナトリウム・ナフタレン処理したテトラフルオロエチレン〜パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体からなるシームレスチューブ８ｇを非イオン活性剤で洗浄した後、チューブ重量に対して５％のメルカプト基含有シランカップリング剤にて１００℃、６０分処理した後、硫酸第２銅２０％、硝酸銀１％、塩基性硫酸ビスマス０．５％、チオ硫酸ソーダ１８％、無水亜硫酸ソーダ１０％、クエン酸１０％、及び第二リン酸ソーダ１５％を含む浴中で常温から徐々に昇温し、６０℃で３時間反応した後、水洗・乾燥した。
三和電気計器株式会社製ＳＤ−４２０Ｃを用いて、内表面電気抵抗値を測定したところ２６０Ω／平方インチであり、外面は導電性を示さなかった。
導電性皮膜の耐久性試験を、ＪＩＳ−Ｌ−０８４９の摩擦堅牢度試験により行なったところ、表面電気抵抗値に変化は認められなかった。
【比較例１】
【００２７】  ナトリウム・ナフタレンにより内表面処理していないテトラフルオロエチレン〜パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体からなるシームレスチューブを実施例１と同じ方法で導電性処理をしたが、内外表面に導電性を付与できなかった。
【実施例２】
【００２８】  内面をレーザー処理したテトラフルオロエチレン〜パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体からなるシームレスチューブ８ｇを実施例１と同じ方法で導電処理を行なったところ、内面の表面電気抵抗値は３５０Ω／平方インチであり、外面は導電性を示さなかった。
導電性皮膜の耐久性試験を、ＪＩＳ−Ｌ−０８４９の摩擦堅牢度試験により行なったところ、表面電気抵抗値に変化は認められなかった。
【比較例２】
【００２９】  内表面をレーザー処理していないテトラフルオロエチレン〜パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体からなるシームレスチューブを実施例１と同じ方法で導電性処理をしたが、内外表面ともに導電性を付与できなかった。
【実施例３】
【００３０】  テトラフルオロエチレン〜パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体に２０  重量％のカーボンを混練りしたシームレスフィルムを実施例１と同じ方法で導電性処理をした。得られた素材の内表面電気抵抗値は６００Ω／平方インチで、外面は６９ＫΩであった。
導電性皮膜の耐久性試験を、ＪＩＳ−Ｌ−０８４９の摩擦堅牢度試験により行なったところ、内表面電気抵抗値に変化は認められなかった。
【実施例４】
【００３１】  テトラフルオロエチレン〜パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体に２０重量％のカーボンを混練りしたシームレスフィルムを実施例２と同じ方法で導電性処理をした。得られた素材の表面電気抵抗値は４２０Ω／平方インチで、外面は６７ＫΩであった。
導電性皮膜の耐久性試験を、ＪＩＳ−Ｌ−０８４９の摩擦堅牢度試験により行なったところ、表面電気抵抗値に変化は認められなかった。
【比較例３】
【００３２】  テトラフルオロエチレン〜パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体に２０重量％のカーボンを混練りしたシームレスフィルムの表面電気抵抗値は７１ＫΩ／平方インチであった。
【実施例５】
【００３３】  内面をフッ素分圧３０Ｔｏｒｒ．分圧６００Ｔｏｒｒ．の混合ガスで１５０分間処理したポリエステルフィルムからなるシームレスチューブ８ｇを実施例１と同じ方法で導電処理を行なったところ、内面の表面電気抵抗値は１８１Ω／平方インチであり、外面は導電性を示さなかった。
導電性皮膜の耐久性試験を、ＪＩＳ−Ｌ−０８４９の摩擦堅牢度試験により行なったところ、表面電気抵抗値に変化は認められなかった。
【比較例４】
【００３４】  内面をフッ素ガス系で処理していないポリエステルチューブを実施例１と同じ方法で導電処理を行なったところ、内外表面共に導電性を示さなかった。
【実施例６】
【００３５】  内面をフッ素分圧７０Ｔｏｒｒ．分圧６００Ｔｏｒｒ．の混合ガスで３０分間処理したポリアミドイミドからなるシームレスチューブ８ｇを実施例１と同じ方法で導電処理を行なったところ、内面の表面電気抵抗値は２５０Ω／平方インチであり、外面は導電性を示さなかった。
導電性皮膜の耐久性試験を、ＪＩＳ−Ｌ−０８４９の摩擦堅牢度試験により行なったところ、表面電気抵抗値に変化は認められなかった。
【比較例５】
【００３６】  内面をフッ素ガス系で処理していないポリアミドイミドチューブを実施例１と同じ方法で導電処理を行なったところ、内外表面共に導電性を示さなかった。
【実施例７】
【００３７】  内面をフッ素分圧３０Ｔｏｒｒ．分圧６００Ｔｏｒｒ．の混合ガスで３０分間処理したポリエステルからなるシー厶レスチューブ８ｇを実施例１と同じ方法で導電処理を行なったところ、内面の表面電気抵抗値は１１５Ω／平方インチであり、外面は導電性を示さなかった。
導電性皮膜の耐久性試験を、ＪＩＳ−Ｌ−０８４９の摩擦堅牢度試験により行なったところ、表面電気抵抗値に変化は認められなかった。
【比較例６】
内面をフッ素ガス系で処理していないポリエステルチューブを実施例１と同じ方法で導電処理を行なったところ、内外表面共に導電性を示さなかった。
【産業上の利用の可能性】
【００３９】  本発明で得られる片表面に導電性を付与した高分子材料は、電子写真式又はトナージェット式複写機、プリンター、ファックス等に用いられる感光体装置、フルカラー中間転写装置、転写分離装置、搬送装置、帯電装置、現像装置等に利用できる可能性がある。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】断面図  本発明で得られるシームレスベルトの断面構造
【符号の説明】
１．  導電性フィラー含有又は非含有の耐熱性高分子材料シー厶レスベルトの外表面層（非、又は低導電性部）
２．  耐熱性高分子材料表面の活性点と反応し、且つ、金属捕捉能を有する材料層
３．  金属担持層（高導電性部）
【図１】
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