(57)【要約】【課題】円筒炉に導入される導入ガスを旋回および拡散し、その導入ガスと燃焼バーナの放射火炎との接触を促進させると共に、前記放射火炎，燃焼ガス火炎，未燃ガスとを拡散し、放射火炎や燃焼ガス火炎と未燃ガスとの接触を促進させることにより、円筒炉内の燃焼効率を向上させる。【解決手段】円筒炉５１の内壁５１ａから該円筒炉５１の径方向へ突出するように、耐火性を有する材料から成り導入ガスを撹拌するための棒状の部材を、その円筒炉５１内における導入ガスの移動経路（例えば、導入ガスが旋回する経路）に対して配置する。円筒炉５１内に導入された導入ガスは単に該円筒炉５１の内壁５１ａに沿って旋回するのではなく、前記ガス撹拌部材１０と衝突して撹拌および拡散されながら旋回する。【選択図】図１
2005030735.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物を間接加熱処理することが可能な熱分解処理装置と、その間接加熱処理によって発生した熱分解ガスを燃焼することが可能な燃焼装置と、を構成したシステムであって、
前記の燃焼装置は、少なくとも内壁の横断面が円状の円筒炉を備え、その炉の軸心における一端側に燃焼バーナおよび他端側に排気口を備え、前記の熱分解ガスを円筒炉の側壁から該円筒炉の軸心偏位方向に導入し旋回して移動させる導入管路を備えた加熱処理システムにおいて、
前記円筒炉の内壁における導入ガスの移動経路に対し、１個以上の棒状のガス撹拌手段を該円筒炉内の空間へ突出して配置したことを特徴とする加熱処理システム。
【請求項２】
前記円筒炉内において、その円筒炉の軸心と交差する方向と略平行に１個以上の棒状の火炎撹拌手段を横断、または円筒炉の内壁から突出するように配置したことを特徴とする請求項１記載の加熱処理システム。
【請求項３】
前記の１個以上のガス撹拌手段にはそれぞれ長さの異なるものを用い、
前記の導入ガスの移動経路における上流側に配置されるガス撹拌手段は、その導入ガスの移動経路における下流側に配置されるガス撹拌手段よりも短いことを特徴とする請求項１または２記載の加熱処理システム。
【請求項４】
前記のガス撹拌手段は、円筒炉の内壁に対して千鳥足状に配置されたことを特徴とする請求項１乃至３記載の加熱処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、加熱処理システムであって、例えば従来は廃棄されている有機性物質、例えば各種汚泥，植物由来の各種廃棄物，プラスチック類を含む石油製品由来の高分子物質を熱分解処理加工により炭化し、その炭化物を有効利用することが可能なシステムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来は廃棄されていた例えば有機性物質（例えば、植物由来の端材物，プラスチック類を含む石油製品由来の高分子物質），無機性物質，各種汚泥（例えば、汚泥，土壌，土砂等）等の各種被処理物は、その各種被処理物を間接加熱処理加工することが可能な装置（以下、熱分解処理装置と称する）により、各種被処理物中に含有する水分や有機系物質を除去し、その間接加熱処理加工で得られた乾燥物，炭化物を有効利用する試みが成されている。
【０００３】
前記の間接加熱処理加工の際に被処理物から発生する水蒸気，乾留ガス等のガス（以下、熱分解ガスと称する）には、有害物質（例えば、ダイオキシン類，硫黄酸化物，窒素酸化物，一酸化炭素等）が含まれていることがある。このため、前記の熱分解ガスを例えば燃焼装置（ガス燃焼炉等）で燃焼（例えば、温度８００℃以上，滞留時間２秒以上で燃焼）して該熱分解ガス中の有害物質を分解（無害化）することにより、その有害物質の大気中への放出を抑制している。
【０００４】
図６Ａ（縦断面図），Ｂ（横断面（Ａ３−Ａ３断面）図），Ｃ（部分断面図）は、熱分解ガスを燃焼するための一般的な燃焼装置（符号５）の概略説明図を示すものである。図６において、符号５１は少なくとも内壁の横断面が略円状（内壁面が湾曲した形状）の筒型の炉（以下、円筒炉と称する）を示すものであり、その円筒炉５１の一端部には燃焼バーナ５２が設けられ、他端部には円筒炉５１内で燃焼され無害化されたガス（以下、排出ガスと称する）を排出するための排気口５３が設けられる。
【０００５】
前記の円筒炉５１においては、例えば図６Ｃに示すように、耐火材等から成る内壁５１ａ，鋼材等から成る外壁５１ｂ，内壁５１ａと外壁５１ｂとの間に介在する断熱材５１ｃ等により構成される。また、前記の燃焼バーナ５２，排気口５３は、一般的に円筒炉５１の軸心上に位置し、その燃焼バーナ５２からの火炎（以下、放射火炎と称する）が前記軸心に沿って排気口５３方向へ放射（例えば、図６Ａ中では点線矢印で示すように放射）される。
【０００６】
符号５４，５５は、前記円筒炉５１内に連通（図６中では、垂直方向（図示上方側）から連通）するように設けられた管路（以下、導入管路と称する）を示すものである。これら導入管路５４，５５からの熱分解ガスの導入方向は、円筒炉５１の軸心と交差しないように偏位（例えば、円筒炉５１の横断面に対し平行に偏位）して設定される。
【０００７】
前記の導入管路５４，５５の導入口５４ａ，５５ａを介して円筒炉５１内に導入された熱分解ガス（以下、導入ガスと称する）は、その円筒炉５１の内壁５１ａ表面に沿って移動（すなわち、旋回；図６Ｂ中の一点鎖線の矢印で示すように移動）し、前記の放射火炎と接触して燃焼された後、排気口５３，排気管５３ａを介して排出される。この排出されるガス（以下、排出ガス）は、必要に応じて例えば熱交換器等により冷却（例えば、図５に示すように熱交換器により冷却）してから大気中に放出される。
【０００８】
前記のように円筒炉の軸心と交差しない方向（以下、軸心偏移方向と称する）に対して導入された導入ガスは、円筒炉の内壁表面に沿って旋回しながら移動し、燃焼バーナの放射火炎と接触して燃焼される。前記の放射火炎と接触せず燃焼されない導入ガス（以下、未燃ガスと称する）が円筒炉内に残存する場合には、少なくとも放射火炎に接触した導入ガスの燃焼によって生じる火炎（以下、燃焼ガス火炎と称する）を円筒炉内の全域に拡散させ、その拡散された燃焼ガス火炎と接触させて燃焼することが好ましい。
【０００９】
しかし、円筒炉における燃焼バーナ（放射火炎の放射方向等），排気口，導入管路（円筒炉内に対する導入ガスの導入方向）等の相互位置関係や、円筒炉内の容積等の要因により、放射火炎と導入ガスとの接触，燃焼ガス火炎と未燃ガスとの混合撹拌が十分には行われず、円筒炉内にて不完全燃焼が起こる恐れがある。
【００１０】
すなわち、一般的な円筒炉は、燃焼バーナと排気口とが該円筒炉の軸心上に位置し、燃焼バーナの放射火炎が単に円筒炉の軸心付近で排気口方向に直進（例えば、排気口方向に吸引されるように直進）するため、円筒炉の内壁表面を旋回する導入ガスが燃焼され難くなると共に、燃焼ガス火炎が十分に拡散されず未燃ガスの燃焼も困難となり、円筒炉内における燃焼効率が低下してしまう可能性があった。
【００１１】
例えば、図６に示したように、熱分解ガスが円筒炉の上方側（天井側）から軸心偏位方向に導入される場合、その導入ガスは燃焼バーナの放射火炎と接触せずに円筒炉内の下方側の内壁（地面側の内壁）にて旋回開始、すなわち放射火炎の下方側を旋回するために、燃焼効率が低下してしまう可能性があった。
【００１２】
また、円筒炉内にて燃焼された後の排出ガスは、熱交換器，バグフィルタ等を介し排気ブロアで吸引することにより大気中に放出されるが、円筒炉内に導入される熱分解ガスの量が変動（すなわち、前工程の熱分解処理加工で発生する熱分解ガス量が変動）すると円筒炉内からの排出ガス量も変動する。
【００１３】
しかし、排気ブロアは一般的に一定の吸引力で稼動し、導入ガス量が低下しても円筒炉内からは一定量のガス（導入ガス，排出ガス等）が吸引排気されるため、放射火炎と導入ガスとの接触が減少し、円筒炉内における燃焼ガス火炎の拡散が抑制され該燃焼ガス火炎と未燃ガスとの混合撹拌が減少して、燃焼効率が低下してしまう可能性があった。
【００１４】
燃焼装置における導入ガス等の不完全燃焼を防止する技術として、例えば横断面が略矩形状の箱型の炉（以下、箱型炉と称する）を用い、その箱型炉の対向する一対の内壁に対し、複数の滞留用突条を導入ガスの移動方向（箱型炉内における移動方向）と略直角方向に突出させて配設することにより、導入ガスや未燃ガスを箱型炉内にてある程度滞留させる技術が知られている（例えば、特許文献１）。
【特許文献１】特許第３１２０３３３号公報（段落［０００６］〜［０００９］等）。
【００１５】
前記のように滞留用突条を備えた箱型炉において、その箱型炉内の略中央部に対し赤熱筒を配置することにより、導入ガスや未燃ガスを箱型炉内にてある程度滞留させる技術も知られている（例えば、特許文献２）。
【特許文献２】特開２０００−２７４６２７号公報（特許請求の範囲等）。
【００１６】
また、筒状炉内における導入ガスの導入口に対して、その導入ガスを旋回させるための部材を設け、筒状炉内の排気口付近に格子煉瓦を設けることにより、燃焼ガス火炎を前記格子煉瓦にて反転させ筒状炉内にて乱流を形成する技術が知られている（例えば、特許文献３）。
【特許文献３】特開昭４８−２９０１３号公報（特許請求の範囲，第２図，第３図等）。
【００１７】
また、予熱室，燃焼室を構成した筒状炉において、それら予熱室，燃焼室に導入ガスを予熱するためのバーナ，予熱された導入ガスを着火するためのバーナを備えた技術が知られている（例えば、非特許文献１）。
【非特許文献１】実開昭５７−１９９７２３号公報（実用新案登録請求の範囲，第２図，第３図等）。
【００１８】
さらに、仕切り板を介して垂直方向に複数室仕切られ、その仕切り板に排出ガス用の通過孔が穿設された筒状炉（以下、複数室炉と称する）において、その複数室炉内の火炎，燃焼用空気が旋回するようにし、前記の通過孔に加熱接触部材を設けた技術が知られている（例えば、特許文献４）。
【特許文献４】特開平１１−１３２４２３号公報（特許請求の範囲等）。
【００１９】
さらにまた、筒状炉の導入ガスの導入口に対向した位置に対して、前記導入ガスを反転するための凹部を形成し、凹部により反転した導入ガスに対して撹拌用ガスを噴射させる技術が知られている（例えば、特許文献５）。
【特許文献５】特開２０００−２８１１８号公報（特許請求の範囲等）。
【００２０】
加えて、炉に接続された排出ガス用の煙道において、排出ガスを長時間滞留かつ撹拌するために屈曲状とすると共に、その煙道内部を高温に保つ技術が知られている（例えば、特許文献６）。
【特許文献６】特開平１１−１３２４２３号公報（特許請求の範囲等）。
【００２１】
加えてまた、炉の側壁に偏心送気口を設けることにより、炉内に導入された燃焼用の空気を旋回させる技術が知られている（例えば、特許文献７）。
【特許文献７】特開平１１−５１３０７号公報（特許請求の範囲，段落[０００９]，[００１０]，図１乃至図５等）。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００２２】
前記の各特許文献に示したように、箱型炉，格子煉瓦を用いた炉，予熱室と燃焼室とから成る炉，複数室炉，内部に凹部が形成された炉，煙道を加熱する機構，偏心送気口を備えた炉を構成した従来の燃焼装置は、炉の構造や、炉内における燃焼バーナ（放射火炎の放射方向），排気口，導入ガスの導入口（導入方向）の位置等の複合要因に鑑み、各々最適な構成により炉内の燃焼効率を高め完全燃焼できるように工夫されている。
【００２３】
しかしながら、従来の燃焼装置で利用されている燃焼効率を高める技術は、図６に示したような炉に適用、すなわち少なくとも内壁の横断面形状が略円状の炉であって、熱分解ガスを炉の軸心偏位方向に導入して旋回（すなわち、炉の湾曲した内壁を利用して導入ガスを旋回）させ、その旋回流の軸心付近に対して燃焼バーナの放射火炎が放射される構造の円筒炉に適用することは困難である。
【００２４】
本発明は、前記課題に基づいてなされたものであり、少なくとも内壁の横断面が略円状の炉であって燃焼バーナの放射火炎が炉の軸心に沿って放射される構造の円筒炉において、円筒炉に導入される導入ガスを旋回および拡散し、その導入ガスと燃焼バーナの放射火炎との接触を促進させると共に、前記放射火炎，燃焼ガス火炎，未燃ガスとを拡散し、放射火炎や燃焼ガス火炎と未燃ガスとの接触を促進させることにより、円筒炉内の燃焼効率を向上させる加熱処理システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００２５】
本発明は、前記課題の解決を図るために、請求項１記載の発明は、被処理物（例えば、有機性物質（植物由来の端材物，プラスチック類を含む石油製品由来の高分子物質等），無機性物質，各種汚泥（汚泥，土壌，土砂等））を間接加熱処理することが可能な熱分解処理装置と、その間接加熱処理によって発生した熱分解ガスを燃焼（例えば、温度８００℃以上，滞留時間２秒以上で燃焼）することが可能な燃焼装置と、を構成したシステムであって、前記の燃焼装置が少なくとも内壁の横断面が円状の円筒炉を備え、その炉の軸心における一端側に燃焼バーナおよび他端側に排気口を備え、前記の熱分解ガスを円筒炉の側壁から該円筒炉の軸心偏位方向に導入し旋回して移動させる導入管路を備えた加熱処理システムに関するものである。そして、前記円筒炉の内壁における導入ガスの移動経路（旋回経路）に対し、１個以上（円筒炉内の容積，熱分解ガスの発生量等を考慮して複数個）の棒状のガス撹拌手段（例えば、横断面の形状が略円状，略楕円状，略四角形状，略矩形状，略菱形状等や、燃焼バーナ側または排気口側に傾斜した略矩形状のガス撹拌部材）を該円筒炉内の空間へ突出して配置したことを特徴とする。
【００２６】
請求項２記載の発明は、前記請求項１記載の発明の円筒炉内において、その円筒炉の軸心と交差する方向と略平行に１個以上の棒状の火炎撹拌手段を横断（例えば、放射火炎の位置，燃焼ガス火炎の位置，円筒炉の軸心に沿った位置）、または円筒炉の内壁から突出（例えば、片持ち梁状に突出）するように配置したことを特徴とする。
【００２７】
請求項３記載の発明は、前記請求項１または２記載の発明において、前記の１個以上のガス撹拌手段にはそれぞれ長さの異なるものを用い、前記の導入ガスの移動経路における上流側に配置されるガス撹拌手段は、その導入ガスの移動経路における下流側に配置されるガス撹拌手段よりも短いことを特徴とする。
【００２８】
請求項４記載の発明は、前記請求項１乃至３記載の発明において、前記のガス撹拌手段は、円筒炉の内壁に対して千鳥足状に配置されたことを特徴とする。
【００２９】
本発明のように少なくとも内壁の横断面が略円状の円筒炉内においてガス撹拌手段や火炎撹拌手段を配置したことにより、その円筒炉内に導入される導入ガス，放射火炎，燃焼ガス火炎等が前記の撹拌手段に衝突し、例えば該撹拌手段における排気口側（導入ガス等の通流背部側）に渦が形成され、それら導入ガス，放射火炎，燃焼ガス火炎等は円筒炉内全域にて撹拌されながら拡散する。また、前記の撹拌手段は棒状であるため、前記の導入ガス，放射火炎，燃焼ガス火炎等は、排気口方向への移動が妨げられない。
【００３０】
なお、前記撹拌手段には、耐火性を有するものであれば、種々の材料から成るものを用いて良い。
【発明の効果】
【００３１】
以上示したように本発明によれば、導入ガス，放射火炎，燃焼ガス火炎等が円筒炉内全域にて撹拌されながら拡散するため、放射火炎や燃焼ガス火炎に対する導入ガスや未燃ガスの接触が促進され、円筒炉内における導入ガス等の滞留時間が増加および燃焼効率が向上（すなわち、完全燃焼）する。
【００３２】
ゆえに、有害物質（例えば、ダイオキシン類，硫黄酸化物，窒素酸化物，一酸化炭素等）を含んだ熱分解ガスを安全および効率的に燃焼することができ、環境汚染を引き起こすことなく被処理物の資源利用に大きく貢献することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３３】
以下、本発明の実施の形態における加熱処理システムを図面等に基づいて詳細に説明する。なお、図６に示すものと同様なものには同一符号等を用いて、その詳細な説明を省略する。
【００３４】
本実施の形態は、内壁の横断面が略円状の円筒炉を備える燃焼装置を構成した加熱処理システムにおいて、円筒炉内に導入（円筒炉の軸心偏位方向に導入）される導入ガスの移動経路（例えば、導入ガスが旋回する経路）に対し、その円筒炉内の空間に突出するように導入ガス撹拌手段（耐火性を有する撹拌手段；例えば、後述のガス撹拌部材）を配置（必要に応じて複数個配置）したものである。
【００３５】
また、燃焼バーナの放射火炎が放射される位置（例えば、円筒炉の軸心付近）や燃焼ガス火炎の位置（例えば、導入ガスが燃焼して燃焼ガス火炎が発生する位置）等に対し、円筒炉の軸心と交差する方向（例えば、軸心偏位方向，円筒炉の径方向）と略平行に火炎撹拌手段（耐火性を有する撹拌手段；例えば、後述の火炎撹拌部材）を横断、または内壁から突出するように配置（必要に応じて複数個配置）したものである。
【００３６】
前記のガス撹拌手段や火炎撹拌手段に衝突した導入ガス，放射火炎，燃焼ガス火炎等は円筒炉内全域にて撹拌されながら拡散するため、放射火炎や燃焼ガス火炎に対する導入ガスや未燃ガスの接触が促進され、円筒炉内における燃焼効率が向上（すなわち、完全燃焼）する。
【００３７】
図１Ａ（縦断面図），Ｂ（横断面（Ａ１−Ａ１断面）図），Ｃ（内壁の部分概略図）は、本実施の形態の加熱処理システムに用いられる燃焼装置の一例を示す概略説明図である。図１において、符号１０は、耐火性を有する材料から成り導入ガスを撹拌するための棒状の部材（以下、ガス撹拌部材と称する）を示すものであり、円筒炉５１の内壁５１ａから該円筒炉５１の径方向へ突出するように、その円筒炉５１内における導入ガスの移動経路（例えば、導入ガスが旋回する経路）に対して配置される。
【００３８】
図１に示したように構成された円筒炉５１によれば、その円筒炉５１内に導入された導入ガスは単に該円筒炉５１の内壁５１ａに沿って旋回するのではなく、前記ガス撹拌部材１０と衝突して撹拌および拡散されながら旋回する。これにより、放射火炎と導入ガスとの接触，燃焼ガス火炎（または放射火炎）と未燃ガスとの混合撹拌が十分には行われ、円筒炉５１内にて燃焼効率が良好となり、導入ガスまたは未燃ガスの完全燃焼を図ることができる。
【００３９】
なお、導入ガスは円筒炉５１内にて旋回しながら排気口５３方向に移動するため、前記ガス撹拌部材１０は導入管路５４の導入口５４ａ（または導入管路５５の導入口５５ａ）よりも排気口５３側に配置することが好ましい。また、前記ガス撹拌部材１０を複数個配置する場合、それら各ガス撹拌部材１０の径方向の長さは一律でも良いが、その長さの異なるガス撹拌部材１０を複数個用いても良い。
【００４０】
前記のように複数個のガス撹拌部材１０において、円筒炉の径方向に対する長さがそれぞれ異なる場合には、例えば図１Ｂに示すように、円筒炉５１内における導入ガスの上流側には短いもの（図１Ｂ中ではガス撹拌部材１０ａ）を用い、下流側には長いもの（図１Ｂ中ではガス撹拌部材１０ｃ）を用いることにより、導入ガスは移動速度が殆ど低減することなく、円筒炉５１内で撹拌されながら拡散する。また、例えば図１Ｃに示すように、前記の各ガス撹拌部材１０を円筒炉５１の内壁５１ａに対し千鳥足状に配置した場合には、円筒炉５１内にて導入ガスが撹拌され易くなり、より広く拡散する。
【００４１】
図２Ａ（縦断面図），Ｂ（横断面（Ａ２−Ａ２断面）図；ガス撹拌部材は図示省略）は、図１に示した燃焼装置の他の例を示す概略説明図である。図２において、符号１１は、耐火性を有する材料から成り放射火炎や燃焼ガス火炎を撹拌するための棒状の部材（以下、火炎撹拌部材と称する）を示すものであり、前記放射火炎または燃焼ガス火炎と交差するように、円筒炉５１の径方向と略平行に横断または軸心偏位置方向に横断して配置される。
【００４２】
図２に示したように構成された円筒炉５１によれば、放射火炎は単に円筒炉５１の軸心に沿って放射されるのではなく、火炎撹拌部材１１と衝突し撹拌および拡散（例えば、円筒炉５１の内壁５１ａ方向に拡散）して放射される。また、燃焼ガス火炎においても、単に排気口５３方向に移動するのではなく、火炎撹拌部材１１と衝突して撹拌および拡散（例えば、円筒炉５１の内壁５１ａ方向に拡散）されて移動する。
【００４３】
これにより、放射火炎と導入ガスとの接触，燃焼ガス火炎（または放射火炎）と未燃ガスとの混合撹拌が十分には行われ、円筒炉内にて燃焼効率が良好となり、導入ガスまたは未燃ガスの完全燃焼を図ることができる。
【００４４】
なお、図２に示した火炎撹拌部材１１においては、例えば図３に示すように、円筒炉５１の内壁５１ａから該円筒炉５１の径方向または軸心偏位方向に対して突出させて、片持ち梁状に配置しても良い。また、図１，図２に示したガス撹拌部材１０や火炎撹拌部材１１の形状においては、横断面（すなわち、導入ガスの旋回経路に交差する方向または円筒炉５１の軸心方向（または、放射火炎等の放射方向）の断面）の形状が略円状で棒状の部材に限られるものではなく、例えば図４Ａ，Ｂに示すように略楕円状，略四角形状，略矩形状，略菱形状や、燃焼バーナ側または排気口側に傾斜した略矩形状であっても良い。
【００４５】
図５は、図１に示した燃焼装置５を備えた加熱処理システムの一例を示す概略説明図である。図５において、乾燥炉３は、回転キルン方式を採用した回転自在の回転炉３１と、その回転炉３１の外周側に形成されたガスダクト（図示省略）を介して導入される熱風ガスにより該回転炉３１を外部から加熱することが可能な外部加熱手段としての加熱ジャケット３２と、前記の回転炉３１を該回転炉３１の両端側にて回転自在に支承する支持ローラ３１０と、前記の回転炉３１を回転駆動する回転駆動源３１１と、を具備して成る。なお、前記の熱風ガスは、熱風炉２４から導入される。
【００４６】
前記の回転炉３１の一端側には、原料（被処理物；例えば、有機性物質の各種廃棄物等）を搬入するための供給口（図示省略）が設けられ、その他端側には排出口（図示省略）が設けられる。また、回転炉３１内部には、搬送物を撹拌搬送するための送り羽根（図示省略）が複数枚具備される。そして、ダクト３０から供給された原料（必要に応じて計量された原料）を前記の供給口側から回転炉３１に導入し、その回転炉３１を回転させることによって、前記の原料を撹拌しながら排出口側へ移送することが可能となる。なお、前記ダクト３０には、原料を投入するホッパー設備３０１が設けられる。
【００４７】
炭化炉２は、乾燥炉３にて乾燥処理された原料を熱分解処理加工する手段であり、回転キルン方式を採用した前記乾燥炉３と同様の構成をなし、回転炉２１，加熱ジャケット２２，ダクト２３，支持ローラ２１０，回転駆動源２１１を備える。
【００４８】
前記の乾燥炉３および炭化炉２は、図示するように、前記乾燥炉３の排出口と炭化炉２の供給口とが連絡するように配置される。この場合、乾燥炉３の排出口と炭化炉２の供給口には、これら排出口と供給口を覆って連通する連絡ダクト２０が設けられる。この連絡ダクト２０には、前記の乾燥炉３内で発生した水蒸気，炭化炉２内で発生した熱分解ガスをそれぞれガス燃焼炉６に移送するための経路（例えば、配管）が接続される。また、連絡ダクト２０内には、乾燥した原料を炭化炉２に誘導するためのガイド２０１が設けられる。
【００４９】
熱風炉２４は、熱風ガスを供給するための手段であり、熱風ガスを発生させるための燃焼バーナー２４０が備えられている。前記の熱風ガスは、循環ブロア３３によって炭化炉２の加熱ジャケット２２に供給され、回転炉２１を加熱する。その後、前記の炭化炉２の回転炉２１を加熱した熱風ガスは、乾燥炉３の加熱ジャケット３２内に供給され、回転炉３１を加熱する。
【００５０】
なお、前記の加熱ジャケット３２から排出された熱風ガスは排気（例えば、屋外へ排気）されるが、その一部のガスはエゼクタブロア４１，４２を介してエゼクタ４１ａ，４２ａ（導入管路５４，５５に相当）に供給され、燃焼装置５のエゼクタ駆動ガスとしての利用に供される。
【００５１】
また、前記の熱風ガスには、温度調整用の空気が注入され、ガス温度が適宜調整される。例えば、原料が脱水汚泥である場合、原料は乾燥炉３において例えば１５０℃〜３５０℃で間接加熱され、次いで炭化炉２において例えば４５０℃〜６００℃で間接加熱される。このようにして、乾燥炉３内に導入される原料は乾燥処理された後、炭化炉２内にて熱分解処理されて炭化物となる。
【００５２】
燃焼装置５の円筒炉５１内に導入された被処理ガス（熱分解ガス，水蒸気等）は燃焼バーナ５２（または燃焼ガス火炎）によって燃焼（例えば、温度８００℃以上，滞留時間２秒以上で燃焼）されるが、前記熱分解ガス，可燃性成分が十分発生している場合、その発生量に応じて燃焼バーナー５２の燃料の供給を規制することにより適宜制限しても良い。なお、前記の各被処理ガスには、例えば系外から燃焼補助のための空気が適宜導入されるものとする。
【００５３】
熱交換器６は、燃焼装置５にて処理された排出ガスを冷却処理する手段であり、例えば空気を冷却媒体とする気体−気体熱交換方式のものが用いられる。この熱交換器６により、被冷却ガスを例えば２００〜１５０℃程度までに冷却処理するが、前記被冷却ガスには新鮮な空気が適宜供給され、そのガス温度が適切に調整される。そして、冷却されたガスは、バグフィルタ６１に供した後、ブロア６２によって煙突７３から屋外に開放している。なお、本実施の形態においては、熱交換器６にて加熱された空気は、熱風炉２４での熱風ガスとして利用されている。
【００５４】
以上、本発明において、記載された具体例に対してのみ詳細に説明したが、本発明の技術思想の範囲で多彩な変形および修正が可能であることは、当業者にとって明白なことであり、このような変形および修正が特許請求の範囲に属することは当然のことである。
【００５５】
例えば、本実施形態に示した炭化物の生成施設によれば、種々の原料、例えば汚泥由来の物質（下水汚泥，し尿汚泥，生産活動に伴って発生する各種産業汚泥等），植物由来の物質（廃木材，建材等），高分子物質由来の物質（樹脂，ゴム等）や、それら各物質の混合物から炭化物等を得ることができる。
【００５６】
また、乾燥炉，炭化炉，燃焼装置の円筒炉，熱交換器等の各処理温度は、例えば被処理物である原料の種類や量に応じて種々変更することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本実施の形態における加熱処理システムの燃焼装置の一例を示す概略説明図。
【図２】本実施の形態における加熱処理システムの燃焼装置の他の例を示す概略説明図。
【図３】本実施の形態における火炎撹拌手段の配置例を示す概略説明図。
【図４】本実施の形態におけるガス撹拌手段，火炎撹拌手段の形状の一例を示す概略説明図。
【図５】本実施の形態における加熱処理システムの一例を示す概略説明図。
【図６】一般的な加熱処理システムの燃焼装置を示す概略説明図。
【符号の説明】
【００５８】
２…炭化炉
３…乾燥炉
５…燃焼装置
１０…ガス撹拌部材
１１…火炎撹拌部材
５１…円筒炉
５２…燃焼バーナ
５３…排気口
５４，５５…導入管路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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