(57)【要約】【課題】  光学濃度が高く、ＴＦＴ故障がなく、また配向乱れが少ないブラックマトリックスを作製するための遮光性感光樹脂組成物及び感光性転写材料を提供すること、前記組成物及び転写材料を用いて作製したブラックマトリックス（ＢＭ）及びカラーフィルター（ＣＦ）を提供し、さらにＢＭの作製方法を提供すること。【解決手段】  感光性樹脂と、カーボンブラック及び少なくとも１種の顔料を含む着色剤とを含有する、ＴＦＴ素子基板の上にＢＭを形成するための遮光性感光樹脂組成物であって、前記遮光性感光樹脂組成物の総固形分に対する着色剤の含有比率が３０〜４０質量％であり、前記着色剤に対するカーボンブラックの含有比率が１０〜３０質量％であることを特徴とする遮光性感光樹脂組成物、該組成物を用いて作製される転写材料、前記組成物及び転写材料を用いて作製されるＢＭ及びＣＦ、及びＢＭの作製方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性樹脂と、カーボンブラック及び少なくとも１種の顔料を含む着色剤とを含有する、ＴＦＴ素子基板の上にブラックマトリックスを形成するための遮光性感光樹脂組成物であって、前記遮光性感光樹脂組成物の総固形分に対する着色剤の含有比率が３０〜４０質量％であり、かつ前記着色剤に対するカーボンブラックの含有比率が１０〜３０質量％であることを特徴とする遮光性感光樹脂組成物。
【請求項２】
ＴＦＴ素子基板の上にブラックマトリックスを形成するための感光性転写材料であって、仮支持体上に、少なくとも、請求項１に記載の遮光性感光樹脂組成物を塗布して形成する遮光性感光樹脂層を有する感光性転写材料。
【請求項３】
請求項１に記載の遮光性感光樹脂組成物を用いてＴＦＴ素子基板の上に作製された、光学濃度が２以上であり、体積抵抗率が１×１０13Ω・ｃｍ以上であり、かつ膜厚が１．６〜２．２μｍであるブラックマトリックス。
【請求項４】
請求項２の感光性転写材料を用いてＴＦＴ素子基板の上に作製された、光学濃度が２以上であり、体積抵抗率が１×１０13Ω・ｃｍ以上であり、かつ膜厚が１．６〜２．２μｍであるブラックマトリックス。
【請求項５】
請求項２に記載の感光性転写材料をＴＦＴ素子基板の上に遮光性感光樹脂層が接触するように密着させる工程、仮支持体を除去する工程、遮光性感光樹脂層にパターン露光し現像する工程、を有するＴＦＴ素子基板の上にブラックマトリックスを作製する方法。
【請求項６】
ＴＦＴ素子基板の上に形成された、請求項１に記載の遮光性感光樹脂組成物を用いて作製され、光学濃度が２以上であり、体積抵抗率が１×１０13Ω・ｃｍ以上であり、かつ膜厚が１．６〜２．２μｍであるブラックマトリックスと、互いに異なる色を呈する２以上の画素群とを有するカラーフィルター。
【請求項７】
ＴＦＴ素子基板の上に形成された、請求項２に記載の感光性転写材料を用いて作製され、光学濃度が２以上であり、体積抵抗率が１×１０13Ω・ｃｍ以上であり、かつ膜厚が１．６〜２．２μｍであるブラックマトリックスと、互いに異なる色を呈する２以上の画素群とを有するカラーフィルター。
【請求項８】
ＴＦＴ素子基板の上に形成された、請求項２に記載の感光性転写材料を用いて作製され、光学濃度が２以上であり、体積抵抗率が１×１０13Ω・ｃｍ以上であり、かつ膜厚が１．６〜２．２μｍであるブラックマトリックスと、光透過性基板の上に形成された互いに異なる色を呈する２以上の画素群とを有するカラーフィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、遮光性感光樹脂組成物、感光性転写材料、ブラックマトリックス及びその作製方法、並びにカラーフィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
アクティブマトリックス型液晶ディスプレイにおいて、カラーフィルターをＴＦＴ素子基板側に設けたカラーフィルター・オン・アレイ方式（ＣＯＡ方式）、及びブラックマトリックスのみをＴＦＴ素子基板側に設けたブラックマトリックス・オン・アレイ方式（ＢＯＡ方式）は、ＴＦＴアレイの開口率を高め、液晶パネルの輝度を上げる技術として提案されている。
これらの方式においては、ブラックマトリックスがＴＦＴ素子の上に直接載るため、電気回路の短絡（ＴＦＴ故障）を起こさないためには一定以上の体積抵抗率をブラックマトリックスに付与する必要がある。
一定以上の体積抵抗率を付与する手段として、例えば以下の特許文献１には、カーボンブラックのＢＥＴ法比表面積（Ａ）と、ＤＢＰ吸油量（Ｂ）と、揮発分（Ｃ）の関係が次式を満たすようなカーボンブラックを用いることにより体積抵抗率を上げることが記載されている。
（Ａ×Ｂ）1/2／（Ｃ＋１）＜３６
【０００３】
また、一定以上の体積抵抗率を付与する他の手段として、ブラックマトリックスの総固形分に占めるカーボンブラックの比率を抑えることが知られており（例えば以下の特許文献２を参照）、また、遮光用着色剤としてカーボンブラックの他に他の色相の顔料を混合したものを用い、その着色剤に占めるカーボンブラックの比率を一定以下に抑える方法が考えられる。しかしながら、このような方法はブラックマトリックスの光学濃度を下げ本来の機能である遮光性を損なう。遮光性を確保するため、カーボンブラックの比率を下げる一方、ブラックマトリックスの膜厚を大きくすると、ブラックマトリックスとそれ以外の領域（画素領域等）との境目に段差が生じ、その段差により液晶の配向乱れが起こる。したがって、単にカーボンブラックの配合比率を下げるだけでは、光学濃度が高く、ＴＦＴ故障がなく、また液晶の配向乱れが少ない、総合的な特性に優れたブラックマトリックスを得ることはできない。
なお、前記特許文献１には、遮光用着色剤としてカーボンブラックと他の顔料を併用したブラックマトリックスが記載されているが、本発明のごとき構成を備えたブラックマトリックスは記載されていない。
【特許文献１】特開平１０−１１４８７３号公報
【特許文献２】特開２００２−３１１２３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明はこのような状況のもとになされたものであり、その目的は、光学濃度が高く、ＴＦＴ故障がなく、また配向乱れが少ないブラックマトリックスを作製するための遮光性感光樹脂組成物及び感光性転写材料を提供することにあり、また前記遮光性感光樹脂組成物及び感光性転写材料を用いて作製したブラックマトリックス及びカラーフィルターを提供し、さらにブラックマトリックスの作製方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
（１）感光性樹脂と、カーボンブラック及び少なくとも１種の顔料を含む着色剤とを含有する、ＴＦＴ素子基板の上にブラックマトリックスを形成するための遮光性感光樹脂組成物であって、前記遮光性感光樹脂組成物の総固形分に対する着色剤の含有比率が３０〜４０質量％であり、かつ前記着色剤に対するカーボンブラックの含有比率が１０〜３０質量％であることを特徴とする遮光性感光樹脂組成物。
（２）ＴＦＴ素子基板の上にブラックマトリックスを形成するための感光性転写材料であって、仮支持体上に、少なくとも、前記（１）に記載の遮光性感光樹脂組成物を塗布して形成する遮光性感光樹脂層を有する感光性転写材料。
（３）前記（１）に記載の遮光性感光樹脂組成物を用いてＴＦＴ素子基板の上に作製された、光学濃度が２以上であり、体積抵抗率が１×１０13Ω・ｃｍ以上であり、かつ膜厚が１．６〜２．２μｍであるブラックマトリックス。
【０００６】
（４）前記（２）の感光性転写材料を用いてＴＦＴ素子基板の上に作製された、光学濃度が２以上であり、体積抵抗率が１×１０13Ω・ｃｍ以上であり、かつ膜厚が１．６〜２．２μｍであるブラックマトリックス。
（５）前記（２）に記載の感光性転写材料をＴＦＴ素子基板の上に遮光性感光樹脂層が接触するように密着させる工程、仮支持体を除去する工程、遮光性感光樹脂層にパターン露光し現像する工程、を有するＴＦＴ素子基板の上にブラックマトリックスを作製する方法。
【０００７】
（６）ＴＦＴ素子基板の上に形成された、前記（１）に記載の遮光性感光樹脂組成物を用いて作製され、光学濃度が２以上であり、体積抵抗率が１×１０13Ω・ｃｍ以上であり、かつ膜厚が１．６〜２．２μｍであるブラックマトリックスと、互いに異なる色を呈する２以上の画素群とを有するカラーフィルター。
（７）ＴＦＴ素子基板の上に形成された、前記（２）に記載の感光性転写材料を用いて作製され、光学濃度が２以上であり、体積抵抗率が１×１０13Ω・ｃｍ以上であり、かつ膜厚が１．６〜２．２μｍであるブラックマトリックスと、互いに異なる色を呈する２以上の画素群とを有するカラーフィルター。
（８）ＴＦＴ素子基板の上に形成された、前記（２）に記載の感光性転写材料を用いて作製され、光学濃度が２以上であり、体積抵抗率が１×１０13Ω・ｃｍ以上であり、かつ膜厚が１．６〜２．２μｍであるブラックマトリックスと、光透過性基板の上に形成された互いに異なる色を呈する２以上の画素群とを有するカラーフィルター。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の遮光性感光樹脂組成物及び感光性転写材料からは、薄膜にもかかわらず十分な遮光性を有し、体積抵抗率が１×１０13Ω・ｃｍ以上のブラックマトリックスを作製しうる。また、本発明のカラーフィルターは、前記のごときブラックマトリックスを備えているので、ＴＦＴ液晶表示パネルに用いた場合、表示コントラストに優れ、液晶の配向乱れが少なく、かつＴＦＴ故障の発生がない。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
［遮光性感光樹脂組成物］
本発明のＴＦＴ素子基板の上にブラックマトリックスを形成するための遮光性感光樹脂組成物は、感光性樹脂と、カーボンブラック及び少なくとも１種の顔料（カーボンブラック以外の顔料）を含み、前記感光性樹脂組成物の総固形分に対する着色剤の含有比率が３０〜４０質量％であり、前記着色剤に対するカーボンブラックの含有比率が１０〜３０質量％であることを特徴とする。
本発明の遮光性感光樹脂組成物を用いることにより遮光性（光学濃度）が高く、ＴＦＴ故障がなく、また液晶の配向乱れが小さいブラックマトリックスを作製することができる。また、本発明の遮光性感光樹脂組成物は適度な着色剤含有量を有しているので、塗布液の経時安定性も大きい。
【００１０】
前記感光性樹脂は少なくともエチレン性不飽和二重結合を有する重合性モノマーを含む。また、前記遮光性感光樹脂組成物はさらにアルカリ可溶性バインダー、光重合開始剤を含むことが好ましく、目的及び必要に応じて、紫外線吸収剤や界面活性剤及びその他の添加剤を含むことができる。
以下、本発明の遮光性感光樹脂組成物の各成分について詳述する。
（着色剤）
＜カーボンブラック＞
本発明において用いるカーボンブラックとしては、ランプブラック、アセチレンブラック、サーマルブラック、チャンネルブラック、ファーネスブラック等のいずれのものも使用可能である。
【００１１】
＜カーボンブラック以外の顔料＞
本発明に用いる着色剤としては、赤色、緑色、青色、黄色、紫色、マゼンタ色、シアン色、黒色等の顔料或いは染料が用いられる。顔料を感光性樹脂層中に均
一に分散させる為に、５μｍ以下の粒径のものが好ましく、粒径が１μｍ以下のものがより好ましく、特に０．５μｍ以下の粒径のものが好ましい。
【００１２】
赤色着色剤としては、モノアゾ系、ディスアゾ系、キサンテン系、アンスラキノン系、ペリレン系、ペリノン系、キナクリドン系及びピランスロン系有機顔料又は無機顔料が好ましく、これらの中でも、アンスラキノン系顔料がより好ましい。
具体的には、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２６、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２７、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２２８、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２４０、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１等が挙げられる。
【００１３】
緑色着色剤としては、トリフェニルメタン系、フタロシアニン系、ニトロソ系、インダミン系、モノアゾ系及びアンスラキノン系の有機顔料又は無機顔料が好ましく、これらの中でも、フタロシアニン系顔料がより好ましい。
具体的には、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６等が挙げられる。
【００１４】
青色着色剤としては、トリフェニルメタン系、フタロシアニン系、アンスラキノン系、トリアリールメタン系、ディスアゾ系及びインジゴイド系の有機顔料又は無機顔料が好ましく、これらの中でも、フタロシアニン系顔料がより好ましい。
具体的には、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６４等が挙げられる。
【００１５】
黄色着色剤としては、としては、モノアゾ系、ディスアゾ系、アンスラキノン系、イソインドリノン系、キノフタロン系、ベンズイミダゾロン系及びジオキシム系の有機顔料又は無機顔料が好ましく、これらの中でも、イソインドリノン系顔料がより好ましい。
具体的には、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー２４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー８６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー９３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１０９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１０、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１１７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１２５、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４７、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１４８、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５３、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１５４、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６６、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１６８等が挙げられる。
【００１６】
紫色着色剤としては、キサンテン系、トリフェニルメタン系、アンスラキノン系、モノアゾ系、ジオキサジン系、キナクリドン系、インジゴイド系及びペリレン系の有機顔料又は無機顔料が好ましく、これらの中でも、ジオキサジン系の顔料がより好ましい。
具体的には、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３０、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット３７、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット４０、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット５０等が挙げられる。
【００１７】
更に、好ましい顔料の具体例として、カーミン６Ｂ（Ｃ．Ｉ．１２４９０）、フタロシアニングリーン（Ｃ．Ｉ．７４２６０）、フタロシアニンブルー（Ｃ．Ｉ．７４１６０）、三菱カーボンブラックＭＡ−１００、ペリレンブラック（ＢＡＳＦ Ｋ００８４、Ｋ００８６）、シアニンブラック、＃１２０１リオノールイエロー（Ｃ．Ｉ．２１０９０）、リオノールイエローＧＲＯ（Ｃ．Ｉ．２１０９０）、シムラ−ファーストイエロー８ＧＦ（Ｃ．Ｉ．２１１０５）、ベンジジンイエロー４Ｔ−５６４Ｄ（Ｃ．Ｉ．２１０９５）、シムラ−ファーストレッド４０１５（Ｃ．Ｉ．１２３５５）、リオノールレッド７Ｂ４４０１（Ｃ．Ｉ．１５８５０）、ファーストゲンブルーＴＧＲ−Ｌ（Ｃ．Ｉ．７４１６０）、リオノールブルーＳＭ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、三菱カーボンブラックＭＡ−１００、三菱カーボンブラック＃４０、ビクトリアピュアブルー（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、オーラミンＯ（Ｃ．Ｉ．４１０００）、カロチンブリリアントフラビン（Ｃ．Ｉ．ベーシック１３）、ローダミン６ＧＣＰ（Ｃ．Ｉ．４５１６０）、ローダミンＢ（Ｃ．Ｉ．４５１７０）、サフラニンＯＫ７０：１００（Ｃ．Ｉ．５０２４０）、エリオグラウシンＸ（Ｃ．Ｉ．４２０８０）、ファーストブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、等を挙げることができる。この他金属粉、白色顔料、蛍光顔料なども用いられる。
【００１８】
本発明の遮光性感光樹脂組成物は、カーボンブラック及びカーボンブラック以外の顔料を組合わせて、色相及び透過率を調整する。
上記のカーボンブラック以外の顔料の中でも、波長３６５ｎｍにおける光透過率を向上させるために、特にＣ．Ｉ．ピグメントブルー６０を使用するのが最も好ましい。
【００１９】
本発明では、これらのカーボンブラック以外の着色剤（顔料）の組合わせや混合比は、その遮光性感光樹脂層が色相的には黒色に等しいか若しくは近く、且つ遮光性感光樹脂層を形成した時に、波長３６５ｎｍにおける光透過率が０．００３〜１．０％であり、波長４３０〜４７０ｎｍ、波長５３０〜５６０ｎｍ及び波長６００〜６３０ｎｍにおける光透過率が何れも０．２％以下になる様に適宜に選択することが好ましい。
【００２０】
上記の波長３６５ｎｍにおける光透過率は、０．００５〜１．０％がより好ましく、特に０．０２〜１．０％が最も好ましい。該光透過率が０．００３％未満であると、波長３６５ｎｍの光で露光しても遮光性感光樹脂層の硬化が不足するため、現像の過程で一部が溶解し、ブラックマトリックスの厚みや光学濃度が不十分となる。一方、該光透過率が１．０％を越えると、ハレーション及びイラジエーションの影響によりブラックマトリックスに必要な解像度が得られない。
【００２１】
また、上記の波長４３０〜４７０ｎｍ、波長５３０〜５６０ｎｍ及び波長６００〜６３０ｎｍにおける光透過率は何れも０．１５％以下であるのが好ましく、特に０．１％以下が最も好ましい。上記各波長領域における光透過率が０．２％を越えると、液晶表示パネルとしてのコントラストが不足してしまう。
【００２２】
前記の「色相的に黒色に等しいか若しくは近くである」ということは、液晶表示パネル等の表示装置に用いられる光源（Ｆ１０光源等）におけるＣＩＥ表色法で定義される無彩色点が黒色であると定義されることを意味し、その無彩色点のｘ、ｙ値からの差である△ｘ、△ｙの値が、△ｘ≦０．１且つ△ｙ≦０．１の範囲にあることと定義される。上記以外の色相では、液晶表示パネルとして黒を表示した時に、黒以外の着色の存在が目視で認識される場合がある。
【００２３】
本発明の遮光性感光樹脂組成物において、カーボンブラック以外の顔料を２種以上組合わせる場合、赤色系と青色系の互いに補色関係にある顔料混合物と黄色系と紫色系の互いに補色関係にある顔料混合物との組合せや、上記の混合物に更に黒色の顔料を加えた組み合わせ等がある。更に、黄色と紫色の補色関係の組み合わせに、青色の顔料、中でも特に、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー６０を加えることも好ましい。
【００２４】
前記感光性樹脂組成物の総固形分に対する着色剤の含有比率は、好ましくは３２〜３８質量％であり、前記着色剤に対するカーボンブラックの含有比率は、好ましくは１５〜２５質量％である。
【００２５】
＜感光性樹脂＞
本発明における感光性樹脂は少なくともエチレン性不飽和二重結合を有する重合性モノマーを含み、該モノマーは分子内に少なくとも１個の付加重合が可能なエチレン性不飽和結合を有し、好ましくは沸点が常圧で１００℃以上のモノマー化合物である。
その具体例としては、例えばポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシドやプロピレンオキシドを付加反応した後で（メタ）アクリレート化したもの；特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号の各公報に記載されているウレタンアクリレート類；特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号の各公報に記載されているポリエステルアクリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アクリレートやメタクリレート等を挙げることができる。
中でも特に、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等を好適な例として挙げられる。
【００２６】
上記エチレン性不飽和二重結合を有する重合性モノマーは、２種以上を混合して使用することもできる。
本発明においては、上記エチレン性不飽和二重結合を有する重合性モノマーの遮光性感光樹脂組成物中の固形分含有量は５〜５０質量％が好ましく、より好ましくは１０〜４０質量％である。該含有量が５質量％未満では光感度や画像の強度が低くなることがあり、一方、該含有量が５０質量％を越えると、感光性樹脂層としての粘着性が過剰になり取扱い作業性が低下することがある。
【００２７】
＜アルカリ可溶性バインダー＞
本発明に用いるアルカリ可溶性バインダーとしては、顔料の分散安定性が良く、重合性モノマー及び光重合開始剤との相溶性が良く、アルカリ現像液に対する溶解性や塗布液調製時の有機溶剤溶解性、強度、軟化温度等が適切であるものが好ましい。
具体的には、側鎖にカルボン酸基を有するポリマー、例えば、特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号等の各明細書に記載されている様なメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等が好適に挙げられる。また、側鎖にカルボン酸基を有するセルローズ誘導体も使用できる。この他に水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも有用である。特に好ましくは、米国特許第４１３９３９１号明細書に記載のベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸の共重合体及びベンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。
【００２８】
以上のものは水不溶性のバインダーであるが、水溶性のアルカリ可溶性バインダーとしては、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキシド、ポリビニルアルコール等を挙げることができる。その他に、種々の特性、例えば硬化膜の強度を改良するために、現像特性等を損なわない範囲でアルカリ不溶のポリマーを併用することができる。この様なポリマーとしては、アルコール可溶性ナイロン又はエポキシ樹脂等が挙げられる。
【００２９】
上記アルカリ可溶性バインダーは、２種以上を併用することもできる。
本発明において、上記アルカリ可溶性バインダーの遮光性感光樹脂組成物における固形分含有量は１０〜９５質量％が好ましく、より好ましくは２０〜９０質量％である。該含有量が１０質量％未満では遮光性感光樹脂層としての粘着性が高過ぎることがあり、一方、該含有量が９５質量％を越えると、露光により形成される画像の強度及び光感応度の点で劣ることがある。
【００３０】
＜光重合開始剤＞
本発明に用いる光重合開始剤としては、可視光線や紫外線、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の放射線の照射（露光）により、後述の重合性モノマーの重合反応を開始させる活性種を発生し得る化合物であり、公知の光重合開始剤若しくは光重合開始剤系の中から適宜に選択することができる。
【００３１】
例えば、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、等を挙げることができる。
【００３２】
具体的には、特開２００１−１１７２３０公報に記載されている、トリハロメチル基が置換したトリハロメチルオキサゾール誘導体又はｓ−トリアジン誘導体、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載のトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載のトリハロメチルオキサジアゾール化合物などのトリハロメチル基含有化合物；
【００３３】
９−フェニルアクリジン、９−ピリジルアクリジン、９−ピラジニルアクリジン、１，２−ビス（９−アクリジニル）エタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン、１，４−ビス（９−アクリジニル）ブタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，６−ビス（９−アクリジニル）ヘキサン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，８−ビス（９−アクリジニル）オクタン、１，９−ビス（９−アクリジニル）ノナン、１，１０−ビス（９−アクリジニル）デカン、１，１１−ビス（９−アクリジニル）ウンデカン、１，１２−ビス（９−アクリジニル）ドデカン等のビス（９−アクリジニル）アルカン、等のアクリジン系化合物；
【００３４】
６−（ｐ−メトキシフェニル）−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジンなどのトリアジン系化合物；そのほか、９，１０−ジメチルベンズフェナジン、ミヒラーズケトン、ベンゾフェノン／ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール／メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン／アミン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾール等が挙げられる。
【００３５】
上記の内、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物から選択される少なくとも１種が好ましく、特に、トリハロメチル基含有化合物及びアクリジン系化合物から選択される少なくとも１種が好ましい。このトリハロメチル基含有化合物とアクリジン系化合物は、汎用性があり且つ安価である点で有用である。
【００３６】
特に好ましいのは、トリハロメチル基含有化合物としては、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾールであり、アクリジン系化合物としては、９−フェニルアクリジンであり、更に、６−〔ｐ−（Ｎ，Ｎ−ビス（エトキシカルボニルメチル）アミノ）フェニル〕−２，４−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（ｐ−ブトキシスチリル）−５−トリクロロメチル−１，３，４−オキサジアゾール等のトリハロメチル基含有化合物、及びミヒラーズケトン、２，２’−ビス（２，４−ジクロロフェニル）−４，４’，５，５’−テトラフェニル−１，２’−ビイミダゾールが挙げられる。
【００３７】
上記光重合開始剤は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
本発明において、上記光重合開始剤の遮光性感光樹脂組成物における固形分含有量は０．１〜２０質量％が好ましく、特に０．５〜１０質量％が好ましい。該含有量が０．１質量％未満であると、感光性樹脂組成物の光硬化の程度及び強度が低いことがあり、該含有量が２０質量％を越えると、形成された画像が脆く下部に削れが生じることがある。
【００３８】
上記光重合開始剤は、水素供与体を併用して構成されてもよい。該水素供与体としては、感度をより良化することができる点で、以下で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。ここでの「水素供与体」とは、露光により前記ビイミダゾール系化合物から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物をいう。
【００３９】
上記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「メルカプタン系水素供与体」という）である。また、上記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を１個以上、好ましくは１〜３個、更に好ましくは１〜２個有する化合物（以下、「アミン系水素供与体」という）である。尚、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有していてもよい。
【００４０】
上記メルカプタン系水素供与体の具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、２，５−ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾール、２−メルカプト−２，５−ジメチルアミノピリジン、等が挙げられる。これらの内、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に２−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。
【００４１】
上記アミン系水素供与体の具体例としては、４、４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４、４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４−ジエチルアミノアセトフェノン、４−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−４−ジメチルアミノベンゾエート、４−ジメチルアミノ安息香酸、４−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げられる。これらの内、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましく、特に４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンが好ましい。
【００４２】
上記水素供与体は、単独で又は２種以上を混合して使用することができ、形成された画像（画素）が現像時に基板から脱落し難く、且つ強度及び感度も向上させ得る点で、１種以上のメルカプタン系水素供与体と１種以上のアミン系水素供与体とを組合せて使用することが好ましい。
【００４３】
上記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組合せの具体例としては、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等が挙げられる。より好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２−メルカプトベンゾオキサゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンであり、特に好ましい組合せは、２−メルカプトベンゾチアゾール／４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノンである。
【００４４】
上記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体とを組合せた場合の、メルカプタン系水素供与体（Ｍ）とアミン系水素供与体（Ａ）との質量比（Ｍ：Ａ）は、通常１：１〜１：４が好ましく、１：１〜１：３がより好ましい。
該水素供与体の感光性樹脂組成物における含有量としては、感光性樹脂組成物の全固形分（質量）の０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％が特に好ましい。
【００４５】
本発明の遮光性感光樹脂組成物には、更に熱重合防止剤を添加することが好ましい。該熱重合防止剤の具体例としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−メルカプトベンズイミダゾール、フェノチアジン等が挙げられる。
【００４６】
更に、本発明の遮光性感光樹脂組成物には、目的及び必要に応じて、公知の添加剤、例えば可塑剤、界面活性剤、溶剤等を添加することができる。
【００４７】
［感光性転写材料］
本発明の感光性転写材料は、仮支持体上に、少なくとも、前記の遮光性感光樹脂組成物を塗布して形成する遮光性感光樹脂層を有する。また、仮支持体上に熱可塑性樹脂層を設けることが好ましい。前記熱可塑性樹脂層としてはアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂層が好ましい。前記熱可塑性樹脂層への遮光性感光樹脂組成物の塗布は、スピンコーター、バーコーターなどを用いた公知の塗布方法が採用できる。
【００４８】
感光性転写材料の構成として、具体的には、特開平４−２０８９４０号公報に開示された、仮支持体への接着力が小さい分離層及び遮光性感光樹脂層を有する転写材料、特開平５−１７３３２０号公報に開示された、仮支持体上に熱可塑性樹脂層、中間層及び遮光性感光樹脂層を有し、該仮支持体と熱可塑性樹脂層の間の接着力が最も小さい感光性転写材料、特開平５−７２７２４号公報に開示された熱可塑性樹脂層、分離層及び遮光性感光樹脂層を有し、該熱可塑性樹脂層と分離層の間の接着力が最も小さい転写材料、特開平５−８０５０３号公報に開示された仮支持体の上に熱可塑性樹脂層、中間層及び遮光性感光樹脂層を有し、該仮支持体と熱可塑性樹脂層の間の接着力が最も小さい感光性転写材料、等の技術が適用できる。
【００４９】
[アルカリ可溶性の熱可塑性樹脂層]
感光性転写材料には、熱可塑性樹脂層が設けられる。熱可塑性樹脂層は、アルカリ可溶性であって、少なくとも樹脂成分を含んで構成され、該樹脂成分としては、実質的な軟化点が８０℃以下であることが好ましい。
軟化点が８０℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、等が挙げられる。
【００５０】
熱可塑性樹脂層には、上記の熱可塑性樹脂の少なくとも一種を適宜選択して用いることができ、更に全日本プラスチック成形工業連合会編著「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）による、軟化点が約８０℃以下の有機高分子の内アルカリ水溶液に可溶なものを使用することができる。
【００５１】
また、軟化点が８０℃以上の有機高分子物質についても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することで、実質的な軟化点を８０℃以下に下げて用いることもできる。また、これらの有機高分子物質には、仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が８０℃を越えない範囲で、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤或いは界面活性剤、離型剤、等を添加することもできる。
【００５２】
好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェートビフェニルジフェニルフォスフェートを挙げることができる。
【００５３】
本発明において、「アルカリ可溶性」とは、下記のアルカリ物質の水溶液、又はこれに水と混和性のある有機溶媒を混合したものに可溶であることを指す。遮光性感光樹脂層についても同様である。アルカリ性物質、及び水と混和性のある適当な有機溶剤としては、現像液に用いられるものと同様のアルカリ性物質、「水と混和性の有機溶剤」と同様のものを挙げることができる。
【００５４】
熱可塑性樹脂層の厚みは６μｍ以上が好ましい。該厚みが６μｍ未満であると、１μｍ以上の下地の凹凸を完全に吸収することが不可能となることがある。また、上限については、転写の際、遮光性感光樹脂層側に残留した場合の現像性及び製造適性等から約１００μｍ以下、好ましくは約５０μｍ以下である。
【００５５】
仮支持体上に熱可塑性樹脂層を設ける場合、溶液状に調製した熱可塑性樹脂層形成用の塗布液を、スピンコーター、バーコーター等を用いた公知の塗布法を用いて仮支持体上に塗布する等の方法により好適に行える。
【００５６】
[中間層]
感光性転写材料には、中間層を設けることもできる。
中間層には、上記した層を重層塗布する際の混合防止、これらの層の間の密着力の調整、転写の際に遮光性感光樹脂層側に残留して酸素遮断の機能を発揮するもの、等の種々の機能を持たせることができる。例えば、酸素遮断機能を有するものとしては、水またはアルカリ水溶液に分散または溶解し、低い酸素透過性を示すものの中から公知のものを適用できる。特開昭４６−２１２１号や特公昭５６−４０８２４号の各公報に記載の、ポリビニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種の澱粉およびその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、及びこれらの２種以上の組合せ等が挙げられる。
【００５７】
特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの組合せである。ポリビニルアルコールは鹸化率が８０％以上であるものが好ましく、ポリビニルピロリドンの含有量は中間層固形分の１〜７５質量％が好ましく、より好ましくは１〜６０質量％である。
中間層の厚みは、非常に薄く設けられ、約０．１〜５μｍが好ましく、０．５〜２μｍが特に好ましい。
【００５８】
[仮支持体]
仮支持体としては、化学的および熱的に安定であって、可撓性の物質で構成されるものから適宜選択することができる。具体的には、テフロン（Ｒ）、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等、薄いシート若しくはこれらの積層体が好ましい。仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当であり、好ましくは２０〜１５０μｍである。
【００５９】
［ブラックマトリックス及びその作製方法］
本発明の第１のブラックマトリックスは、前記の遮光性感光樹脂組成物を用いてＴＦＴ素子基板の上に作製され（遮光性感光樹脂組成物をＴＦＴ素子基板の上に塗布形成される遮光性感光樹脂層をパターン露光後現像して作製する）、光学濃度が２以上で、体積抵抗率が１×１０13Ω・ｃｍ以上で、かつ膜厚が１．６〜２．２μｍであるブラックマトリックスである。
また、本発明の第２のブラックマトリックスは、前記の感光性転写材料を用いてＴＦＴ素子基板の上に作製され（ＴＦＴ素子基板の上に転写された遮光性感光樹脂層をパターン露光後現像して作製する）、光学濃度が２以上で、体積抵抗率が１×１０13Ω・ｃｍ以上で、かつ膜厚が１．６〜２．２μｍであるブラックマトリックスである。
前記の第１及び第２のブラックマトリックスは、膜厚が１．６〜２．２μｍと比較的薄いにもかかわらず光学濃度が２以上で十分な遮光性を有し、また体積抵抗率も１×１０13Ω・ｃｍ以上と高くＴＦＴ故障（ショート等）が生ずることがない。さらに膜厚が１．６〜２．２μｍと薄いので段差に基づく液晶の配向乱れも少なく、また遮光性感光樹脂層を露光現像する際に紫外線領域での透過率が悪化することもない。
【００６０】
前記ブラックマトリックス（遮光膜）の厚さが１．６μｍ未満では、遮光膜内の着色剤濃度を高くする必要があり、現像性が悪化する。一方、遮光膜の厚さが２．２μｍを越えると、液晶の配向乱れが起こりやすく、また、現像性及び画像形成再現性の悪化等の問題が発生する。この遮光膜の膜厚は上記の範囲においては任意に設定可能である。特にカラーフィルター作製時には完成品カラーフィルターの平坦性が良好であることが望まれ、従って、この場合にはその他の着色層（赤、青、緑の各着色層等）と同じ膜厚に設定することが望ましい。
【００６１】
第１のブラックマトリックスは、ＴＦＴ素子基板の上に前記遮光性感光樹脂組成物を塗布して遮光性感光樹脂層を形成した後、パターン露光後現像して作製される。
前記塗布は、例えばスピナー、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー等を用いて行われる。また、パターン露光は遮光性感光樹脂層の上に載せたフォトマスクを透して行うなどの方法が採られる。露光光源は遮光性感光樹脂層の感光特性に応じて選択され、例えば超高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、アルゴンレーザー等の公知の光源が使用できる。特許第３３０８０３８号に記載の様に４００ｎｍ以上の波長の光透過率が２％以下である光学フィルター等を併用してもよい。
【００６２】
前記第２のブラックマトリックスは、感光性転写材料をＴＦＴ素子基板の上に遮光性感光樹脂層が接触するように密着させ、次いで仮支持体を除去し、遮光性感光樹脂層にパターン露光し現像することにより作製される。パターン露光及び露光光源は、前記遮光性感光樹脂組成物を用いてブラックマトリックスを作製する方法におけるものが同様に用いられる。
【００６３】
［カラーフィルター及びその作製］
本発明のカラーフィルターの１つの態様は、ＴＦＴ素子基板の上に形成された、遮光性感光樹脂組成物又は感光性転写材料を用いて作製され、光学濃度が２以上であり、体積抵抗率が１×１０13Ω・ｃｍ以上であり、かつ膜厚が１．６〜２．２μｍであるブラックマトリックスと、互いに異なる色を呈する２以上の画素群（以下、単に「画素群」ということがある。）とを有する。本発明のカラーフィルターは、前記のごときブラックマトリックスを備えているので、光の利用効率、コントラスト及び配線の隠蔽性に優れている。  さらに別の態様のカラーフィルターは、ＴＦＴ素子基板の上にブラックマトリックスのみを形成し、他の光透過性基板の上に画素群を設けるものである。この態様のものはＴＦＴアレイの開口率が良好である。
【００６４】
前記の互いに異なる色を呈する２以上の画素群は、画素形成用着色感光樹脂組成物又は画素形成用感光性転写材料の複数種を用いて形成される。画素群を形成した後、熱処理を行なうことが好ましい。
ＴＦＴ素子基板の上にブラックマトリックスと画素群を有するカラーフィルターにおいては、ＴＦＴ素子基板の上に最初にブラックマトリックスを形成し、その後画素群を形成することが好ましい。
本発明の好ましいカラーフィルターの作製方法について説明すると、前記方法は、ＴＦＴ素子基板の上に、前記と同様にして遮光性感光樹脂組成物又は感光性転写材料を用いてブラックマトリックスを作製し、その後画素形成用の着色感光樹脂組成物又は感光性転写材料を用いて着色感光樹脂層を形成し、該層をパターン露光後現像して単色の画素を形成する工程を、画素群の色相の数に応じて繰り返し行う方法である。
また、ブラックマトリックス及び画素群作製時におけるパターン露光は、遮光性感光樹脂層又は着色感光樹脂層の上からフォトマスクを透して行うなどの方法が採られる。
【００６５】
（画素形成用着色感光樹脂組成物）
画素形成用着色感光樹脂組成物は、感光性樹脂、着色剤を少なくとも含み、さらにアルカリ可溶性バインダー、光重合開始剤を含むことが好ましい。感光性樹脂、アルカリ可溶性バインダー、光重合開始剤等は、前記遮光性感光樹脂層に含まれる成分が同様に用いられる。着色剤は、前記の赤色顔料、青色顔料、黄色顔料、緑色顔料等が同様に用いられる。
また、前記着色感光樹脂組成物には紫外線吸収剤、紫外線吸収剤前駆体を添加することが好ましい。
なお、ブラックマトリックスのパターン形状としては、格子状、ストライプ状、島状など、必要に応じいかなる形状をとることもできる。
【００６６】
＜紫外線吸収剤、紫外線吸収剤前駆体＞
紫外線吸収剤としては、下記一般式（Ｉ）で表されるクマリン系化合物を用いることが好ましい。下記一般式（Ｉ）で表されるクマリン系化合物は、光吸収性が良好で、着色感光樹脂組成物の光重合を阻害することがない。
【００６７】
【化１】
2005215150.tif 000002
【００６８】
上記一般式（Ｉ）において、Ｒ1は少なくとも１つのヒドロキシアルキル基で置換されたアミノ基、又は上記一般式（II）で表される基を表す。Ｒ2は水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、又は前記Ｒ1で表される基を表す。ここでＲ2がＲ1で表される少なくとも１つのヒドロキシアルキル基で置換されたアミノ基である場合には、Ｒ1及びＲ2は同一であっても、異なっていてもよい。Ｒ3は置換基を有していてもよいアルキレン基を表す。Ｒ4は水素原子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシアルキル基、アラルキルオキシアルキル基、アリールオキシアルキル基又は、ＨＯ−Ｒ3−で表される基を表す。ここでＲ3及びＲ4は窒素原子を含んだ５員又は６員のヘテロ環を形成していてもよい。
【００６９】
上記紫外線吸収剤の具体例としては、前記一般式（Ｉ）で表されるクマリン系化合物例としては、特開平７−２２５３１３号公報に記載の化合物が挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。
【００７０】
また、着色感光樹脂組成物に含有できる紫外線吸収剤前駆体としては、通常の状態では紫外線吸収能が比較的低いが、加熱処理により紫外線吸収剤としての機能を発揮し得る化合物を指し、下記一般式（III）で表される化合物が好適に挙げられる。
【００７１】
【化２】
2005215150.tif 000003
【００７２】
上記一般式（III）において、Ａは上記一般式（IV）で表される基を表す。上記一般式（IV）中のＲ5は置換又は無置換のアルキルカルボニル基、置換又は無置換のアラルキルカルボニル基、置換又は無置換のアリールカルボニル基、置換又は無置換のアルコキシカルボニル基を表す。一般式（IV）中のＲ6は水素原子、置換又は無置換のアルキルカルボニル基、置換又は無置換のアラルキルカルボニル基、置換又は無置換のアリールカルボニル基、置換又は無置換のアルコキシカルボニル基を表し、Ｒ7は水素原子又は低級アルキル基を表す。
【００７３】
カルボニル基の炭素原子を除き、上記のアルキル基、アラルキル基、アリール基、アルコキシ基としては、炭素数１〜１５の各基が好ましく、炭素数１〜７がより好ましい。上記置換基としては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、低級アルキルオキシ基アリールオキシ基が好ましい。
【００７４】
上記一般式（III）で表される紫外線吸収剤前駆体の具体例としては、特開平９−２５３６０号公報に記載の化合物が挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。
【００７５】
紫外線吸収剤及び紫外線吸収剤前駆体の着色感光樹脂組成物における固形含有量としては、０．１〜３０質量％が好ましく、０．１〜２５質量％がより好ましい。この際、種類の異なる紫外線吸収剤を２種以上混合して使用してもよい。
【００７６】
上記の他、着色感光樹脂組成物には、必要に応じて、更に公知の添加剤、例えば、可塑剤、充填剤、安定化剤、重合禁止剤、界面活性剤、溶剤、密着促進剤等の他の成分を含有させることができる。
【００７７】
例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のいわゆるセロソルブ類、及びこれらの酢酸エステル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル等の酢酸エステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類、エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン等のアルコール類等の溶剤が挙げられる。
【００７８】
また、着色感光樹脂組成物を塗布して形成される着色感光樹脂層は少なくとも１５０℃以下の温度で軟化もしくは粘着性になることが好ましく、熱可塑性であることが好ましい。かかる観点からは、相溶性の可塑剤を添加することで改質することができる。
【００７９】
（画素形成用感光性転写材料）
画素形成用感光性転写材料は、前記のブラックマトリックス形成用の感光性転写材料における遮光性感光樹脂層を、着色感光樹脂層に変更したものを用いることができる。すなわち、仮支持体上にアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂層と、前記着色感光樹脂組成物を塗布して形成される着色感光樹脂層を設けたものを画素形成用感光性転写材料として用いることができる。
【実施例】
【００８０】
以下に、本発明の実施例を説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。なお、以下の実施例において、特に断りのない限り「％」及び「部」はいずれも質量基準である。
【００８１】
（実施例１）
−ブラックマトリックス形成用感光性転写材料の作製−
仮支持体として、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートベースフィルムを準備し、該仮支持体上に、下記組成を混合して得た熱可塑性樹脂層用塗布液をスピンコーターにより塗布し、１２０℃のオーブン内で５分間乾燥し、仮支持体上に層厚１５μｍの熱可塑性樹脂層を形成した。
【００８２】
〔熱可塑性樹脂層用塗布液の組成〕
・ベンジルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／メチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体                                  ・・・  ４．５部
（共重合比４．５／１１．７／５５／２８．８
重量平均分子量８００００）
・スチレン／アクリル酸共重合体                          ・・・  １５部
（共重合組成比６０／４０  重量平均分子量８０００）
・２，２−ビス［４−（メタクリロキシポリエトキシ）フェニルプロパン］
・・・  ７部
・Ｆ−１７６ＰＦ（フッ素系界面活性剤、大日本インキ（株）製）
・・・  １．５部
・プロピレングリコールモノメチルエーテル                ・・・  ２８部
・メチルエチルケトン                                    ・・・  ２７部
【００８３】
次に、下記組成を混合して中間層用塗布液を調製し、前記熱可塑性樹脂層上に、スピンコーターにより更に中間層用塗布液を塗布した。その後、１００℃のオーブンで２分間乾燥し、熱可塑性樹脂層上に層厚１．６μｍの中間層を形成した。
〔中間層用塗布液の組成〕
・ポリビニルアルコール（ＰＶＡ−２０５，（株）クラレ製）・・・  １３部
・ポリビニルピロリドン                                  ・・・    ６部
（ＰＶＰ−Ｋ３０，五協産業（株）製）
・メタノール                                            ・・・１７３部
・イオン交換水                                          ・・・２１１部
【００８４】
次に、上記のように熱可塑性樹脂層及び中間層が設けられた仮支持体を用意すると共に、下記組成を混合して、遮光性感光樹脂組成物（遮光性感光樹脂層用塗布液）を調製した。そして、仮支持体上の中間層上に遮光性感光樹脂層用塗布液をスピンコーターにより塗布した。その後、１００℃のオーブンで２分間乾燥し、厚み２．５μｍの遮光性感光樹脂層を形成した。更に、遮光性感光樹脂層上にカバーフィルムとして１２μｍ厚のポリプロピレンフィルムを室温下でラミネートし、仮支持体上に熱可塑性樹脂層、中間層、遮光性感光樹脂層及びカバーフィルムがこの順に積層された本発明の感光性転写材料を得た。
【００８５】
〔遮光性感光樹脂層用塗布液の組成〕
ＣＦＰ−ＦＦ−４４９Ｒ                                              ９．２部
（Ｃ．Ｉ．ＰＲ２５４分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−７７５Ｂ                                              ６．６部
（Ｃ．Ｉ．ＰＢ１５：６分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−２９３Ｙ                                              ５．２部
（Ｃ．Ｉ．ＰＹ１３９分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−８０２Ｖ                                              １．３部
（Ｃ．Ｉ．ＰＶ２３分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−９４９Ｋ                                              ４．５部
（カーボンブラック分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＭＭＰＧ−ＡＣ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）１５．０部
メチルエチルケトン                                                ５２．０部
メガファックＦ−１７６ＰＦ（大日本インキ（株）製）                ０．１５部
ヒドロキノンモノメチルエーテル                                  ０．００２部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                            ５．８部
ビス［４−〔Ｎ−｛４−（４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル｝カルバモイル〕フェニル］セバケート                      ０．２１部
【００８６】
−着色画素形成用感光性転写材料の作製−
上記ブラックマトリックス形成用感光性転写材料の作製において、「遮光性感光樹脂層用塗布液」を、下記の組成の赤色感光性樹脂層用塗布液、緑色感光性樹脂層用塗布液、青色感光性樹脂層用塗布液に変更し、かつ膜厚が３μｍになるようにする他は同様にして、赤色画素形成用、緑色画素形成用、及び青色画素形成用の３種の感光性転写材料を得た。
【００８７】
〔赤色感光性樹脂層用塗布液の組成〕
・ＲＴ−１０７                                    ・・・  ２１．６５部
（Ｃ．Ｉ．ＰＲ２５４分散液  富士フイルムアーチ（株）製）
・ＭＭＰＧ−ＡＣ                                  ・・・  ３１．２０部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
・メチルエチルケトン                              ・・・  ３４．９６部
・界面活性剤                                        ・・・  ０．０６部
（メガファックＦ−１７６ＰＦ、大日本インキ（株）製）
・フェノチアジン                                ・・・  ０．００１２部
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体      ・・・  ４．９７部
（共重合比＝７２／２８、分子量３００００）
・ジぺンタエリスリトールヘキサアクリレート          ・・・  ４．９２部
・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）
−１，３，４−オキサジアゾール                ・・・  ０．３１部
・７−｛〔−４（ジエチルアミノ）−６−（３−ヒドロキシメチル
ピペリジノ）−ｓ−トリアジニル（２）〕−アミノ｝
−３−フェニルクマリン                            ・・・  １．５０部
・２，４，６−トリス〔２，４ビス（メトキシカルボニルオキシ）
フェニル〕−１，３，５−トリアジン        ・・・  ０．３７部
【００８８】
〔緑色感光性樹脂層用塗布液の組成〕
・ＧＴ−２                                        ・・・  １５．８６部
（Ｃ．Ｉ．ＰＧ３６分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
・ＹＴ−１２３                                    ・・・  １１．０６部
（Ｃ．Ｉ．ＰＹ１３８分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
・ＭＭＰＧ−ＡＣ                                  ・・・  １０．２５部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
・メチルエチルケトン                              ・・・  ５１．４９部
・界面活性剤                                        ・・・  ０．１９部
（メガファックＦ−１７６ＰＦ、大日本インキ（株）製）
・フェノチアジン                                  ・・・  ０．００４部
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体      ・・・  ４．４７部
（共重合比＝７２／２８、分子量３００００）
・ジぺンタエリスリトールヘキサアクリレート          ・・・  ５．２７部
・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）
−１，３，４−オキサジアゾール        ・・・  ０．１９３部
・７−｛〔−４（ジエチルアミノ）−６−（３−ヒドロキシメチル
ピぺリジノ）−ｓ−トリアジニル（２）〕−アミノ｝
−３−フェニルクマリン                        ・・・  １．２６部
【００８９】
〔青色感光性樹脂層用塗布液の組成〕
・７０７５Ｍ                                      ・・・  ３２．９３部
（Ｃ．Ｉ．ＰＢ１５：６分散液、御国色素（株）製）
・ＭＭＰＧ−ＡＣ                                    ・・・  ０．６９部
（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）
・メチルエチルケトン                              ・・・  ５２．５０部
・界面活性剤                                        ・・・  ０．１２部
（メガファックＦ−１７６ＰＦ、大日本インキ（株）製）
・フェノチアジン                                  ・・・  ０．０２２部
・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体      ・・・  ８．１０部
（共重合比＝７８／２２、分子量４００００）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート          ・・・  ５．１９部
・２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）
−１，３，４−オキサジアゾール          ・・・  ０．２０部
・２，４，６−トリス（２，４ビス（メトキシカルボニルオキシ）
フェニル〕−１，３，５−トリアジン          ・・・  ０．２５部
【００９０】
−カラーフィルターの作製−
ＴＦＴ素子基板をシランカップリング剤溶液（信越化学（株）製の「ＫＢＭ−６０３」；１％希釈液）に３分間浸漬し、１０秒水洗し、エアガンで水切り後、１１０℃のオーブンで５分間乾燥して、シランカップリング処理ＴＦＴ素子基板を得た。
【００９１】
先ず、ブラックマトリックス形成用の感光性転写材料からカバーフィルムを除去し、この感光性転写材料の遮光性感光樹脂層の表面と、前記ＴＦＴ素子基板の表面とが接するように重ね合わせ、ラミネータ（大成ラミネータ（株）製のファーストラミネーター８Ｂ−５５０−８０）を用いて、２ｋｇ／ｍ2の加圧、１３０℃のローラー温度、０．２ｍ／ｍｉｎの送り条件で貼り合わせた。続いて仮支持体を熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。次に、前記熱可塑性樹脂層の上方にアライナーＭＡＰ−１２００Ｌ（大日本スクリーン（株）製）を用い、ブラックマトリックス作製用フォトマスクを設置し、該マスクを透して超高圧水銀灯（２ｋＷ）により、遮光性感光樹脂層に７０ｍＪ／ｃｍ2の照射エネルギーで露光した。その後、所定の処理液（Ｔ−ＰＤ２：富士写真フイルム（株）製の１０倍希釈液）を用いて、熱可塑性樹脂層および中間層を除去した。その後、所定の処理液（Ｔ−ＣＤ１：富士写真フイルム（株）製の５倍希釈液）にて遮光性感光樹脂層を現像して未露光部分を除去し、更に所定の処理液（Ｔ−ＳＤ１：富士写真フイルム（株）製の１０倍希釈液）にてブラシをかけながら現像残膜を除去し、黒色の遮光性膜を形成した。更に膜の硬化を進めるため、アライナーにて基板の表裏から基板全面を５００ｍＪ／ｃｍ2でポスト露光し、次に２４０℃のオーブンで５０分間焼成してブラックマトリックスを得た。
【００９２】
次に、前記の赤色画素用感光性転写材料からカバーフィルムを除去し、前記ＴＦＴ素子基板のブラックマトリックス形成面と、該感光性転写材料の着色感光樹脂層が接するように重ね合わせ、ラミネータ（大成ラミネータ（株）製のファーストラミネーター８Ｂ−５５０−８０）を用いて、２ｋｇ／ｍ2の加圧、１３０℃のローラー温度、０．２ｍ／ｍｉｎの送り条件で貼り合わせた。続いて仮支持体を、熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。アライナーＭＡＰ−１２００Ｌ（大日本スクリーン（株）製）を用い、赤色画素用フォトマスクを介して、超高圧水銀灯（２ｋＷ）にて、着色感光樹脂層に６０ｃｍの距離から３秒間露光を行った（照射エネルギー：２０ｍＪ／ｃｍ2）。次いで所定の処理液（Ｔ−ＰＤ２：富士写真フイルム（株）製の１０倍希釈液）を用いて、熱可塑性樹脂層および中間層を除去した。その後、所定の処理液（Ｔ−ＣＤ１：富士写真フイルム（株）製の５倍希釈液）にて着色感光樹脂層を現像して未露光部分を除去し、更に所定の処理液（Ｔ−ＳＤ１：富士写真フイルム（株）製の１０倍希釈液）にてブラシをかけながら現像残膜を除去し、赤色画素パターンを得た。更に画素パターンの硬化を進めるため、アライナーにて基板の表裏から基板全面を５００ｍＪ／ｃｍ2でポスト露光し、２２０℃のオーブンで２０分間焼成した。
【００９３】
次いで、緑色画素用感光性転写材料を用い、前記赤色画素パターンを作製するのと同じ方法で緑色画素パターンを作製した。さらに青色画素用感光性転写材料を用い、前記赤色画素パターンを作製するのと同じ方法で青色画素パターンを作製した。
ＴＦＴ素子基板の上にブラックマトリックスと赤色、緑色及び青色の画素群が形成されたカラーフィルターが得られた。
【００９４】
実施例２
実施例１のカラーフィルターの作製において、ＴＦＴ素子基板に、感光性転写材料を用いて遮光性感光樹脂層を転写形成する代わりに、実施例１において調製した遮光性感光樹脂組成物（遮光性感光樹脂層用塗布液）をＴＦＴ素子基板に、エクストルーダー型塗布機で塗布・乾燥することにより遮光性感光樹脂層を形成し、超高圧水銀灯による露光のエネルギーを７００ｍＪ／ｃｍ2とする他は、実施例１と同様にしてカラーフィルターを作製した。
【００９５】
実施例３
実施例１のカラーフィルターの作製において、遮光性感光樹脂層用塗布液の組成を以下のように変更する他は、実施例１と同様にしてカラーフィルターを作製した。
〔遮光性感光樹脂層用塗布液の組成〕
ＣＦＰ−ＦＦ−４４９Ｒ                                              ７．７部
（Ｃ．Ｉ．ＰＲ２５４分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−７７５Ｂ                                              ５．５部
（Ｃ．Ｉ．ＰＢ１５：６分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−２９３Ｙ                                              ４．４部
（Ｃ．Ｉ．ＰＹ１３９分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−８０２Ｖ                                              １．１部
（Ｃ．Ｉ．ＰＶ２３分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−９４９Ｋ                                              ７．３部
（カーボンブラック分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＭＭＰＧ−ＡＣ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）１５．７部
メチルエチルケトン                                                ５２．０部
メガファックＦ−１７６ＰＦ（大日本インキ（株）製）                ０．１５部
ヒドロキノンモノメチルエーテル                                  ０．００２部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                            ５．９部
ビス［４−〔Ｎ−｛４−（４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル｝カルバモイル〕フェニル］セバケート                      ０．２２部
【００９６】
比較例１
実施例１のカラーフィルターの作製において、遮光性感光樹脂層用塗布液の組成を以下のように変更する他は、実施例１と同様にしてカラーフィルターを作製した。
〔遮光性感光樹脂層用塗布液の組成〕
ＣＦＰ−ＦＦ−４４９Ｒ                                            １１．７部
（Ｃ．Ｉ．ＰＲ２５４分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−７７５Ｂ                                              ８．４部
（Ｃ．Ｉ．ＰＢ１５：６分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−２９３Ｙ                                              ６．６部
（Ｃ．Ｉ．ＰＹ１３９分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−８０２Ｖ                                              １．７部
（Ｃ．Ｉ．ＰＶ２３分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−９４９Ｋ                                              ３．７部
（カーボンブラック分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＭＭＰＧ−ＡＣ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）１１．９部
メチルエチルケトン                                                ５２．０部
メガファックＦ−１７６ＰＦ（大日本インキ（株）製）                ０．１５部
ヒドロキノンモノメチルエーテル                                  ０．００１部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                            ３．８部
ビス［４−〔Ｎ−｛４−（４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル｝カルバモイル〕フェニル］セバケート                      ０．１４部
【００９７】
比較例２
実施例１のカラーフィルターの作製において、遮光性感光樹脂層用塗布液の組成を以下のように変更する他は、実施例１と同様にしてカラーフィルターを作製した。
〔遮光性感光樹脂層用塗布液の組成〕
ＣＦＰ−ＦＦ−４４９Ｒ                                              ６．６部
（Ｃ．Ｉ．ＰＲ２５４分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−７７５Ｂ                                              ４．７部
（Ｃ．Ｉ．ＰＢ１５：６分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−２９３Ｙ                                              ３．８部
（Ｃ．Ｉ．ＰＹ１３９分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−８０２Ｖ                                              １．０部
（Ｃ．Ｉ．ＰＶ２３分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−９４９Ｋ                                              ３．４部
（カーボンブラック分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＭＭＰＧ−ＡＣ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）１５．１部
メチルエチルケトン                                                ５２．０部
メガファックＦ−１７６ＰＦ（大日本インキ（株）製）                ０．１５部
ヒドロキノンモノメチルエーテル                                  ０．００３部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                            ６．５部
ビス［４−〔Ｎ−｛４−（４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル｝カルバモイル〕フェニル］セバケート                      ０．２５部
【００９８】
比較例３
実施例１のカラーフィルターの作製において、遮光性感光樹脂層用塗布液の組成を以下のように変更する他は、実施例１と同様にしてカラーフィルターを作製した。
〔遮光性感光樹脂層用塗布液の組成〕
ＣＦＰ−ＦＦ−４４９Ｒ                                              ５．４部
（Ｃ．Ｉ．ＰＲ２５４分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−７７５Ｂ                                              ３．９部
（Ｃ．Ｉ．ＰＢ１５：６分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−２９３Ｙ                                              ３．１部
（Ｃ．Ｉ．ＰＹ１３９分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−８０２Ｖ                                              ０．８部
（Ｃ．Ｉ．ＰＶ２３分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−９４９Ｋ                                            １１．６部
（カーボンブラック分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＭＭＰＧ−ＡＣ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）１６．９部
メチルエチルケトン                                                ５２．０部
メガファックＦ−１７６ＰＦ（大日本インキ（株）製）                ０．１５部
ヒドロキノンモノメチルエーテル                                  ０．００２部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                            ６．１部
ビス［４−〔Ｎ−｛４−（４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル｝カルバモイル〕フェニル］セバケート                      ０．２３部
【００９９】
比較例４
実施例３のカラーフィルターの作製において、ブラックマトリックスの厚さを表１に示すように２．４μｍに変更する他は、実施例３と同様にしてカラーフィルターを作製した。
ＣＦＰ−ＦＦ−４４９Ｒ                                            １０．０部
（Ｃ．Ｉ．ＰＲ２５４分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−７７５Ｂ                                              ７．２部
（Ｃ．Ｉ．ＰＢ１５：６分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−２９３Ｙ                                              ５．７部
（Ｃ．Ｉ．ＰＹ１３９分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−８０２Ｖ                                              １．５部
（Ｃ．Ｉ．ＰＶ２３分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＣＦＰ−ＦＦ−９４９Ｋ                                              ２．２部
（カーボンブラック分散液、富士フイルムアーチ（株）製）
ＭＭＰＧ−ＡＣ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）１４．４部
メチルエチルケトン                                                ５２．０部
メガファックＦ−１７６ＰＦ（大日本インキ（株）製）                ０．１５部
ヒドロキノンモノメチルエーテル                                  ０．００２部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                            ５．８部
ビス［４−〔Ｎ−｛４−（４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル｝カルバモイル〕フェニル］セバケート                      ０．２１部
【０１００】
＜評価＞
実施例１〜３及び比較例１〜４において作製されたカラーフィルターの遮光性画像部分（ブラックマトリックス部分）について、光学濃度、膜厚、体積抵抗率を以下のように測定、評価した。表１に、光学濃度、膜厚、体積抵抗率の測定結果に加え、遮光性感光樹脂組成物の総固形分に対する着色剤の含有比率、及び着色剤に対するカーボンブラックの含有比率を示す。
１．光学濃度
光学濃度は、顕微分光測光装置ＯＳＰ−ＳＰ１００（オリンパス製）により測定した。なお、光学濃度の値が２．０以上であれば、実用上問題のないレベルの光学濃度であるといえる。
２．膜厚（μｍ）
ブラックマトリックスの膜厚（μｍ）は、微細形状測定測定器Ｐ−１０型（ケーエルエー・テンコール社製）により測定した。なお、膜厚が２．０μｍ以下であれば、配向乱れは実用上問題のないレベルであるといえる。
３．体積抵抗率（Ω・ｃｍ）
全面にＩＴＯ電極を設けたガラス基板（１００ｍｍ×１００ｍｍ×１．１ｍｍ）のＩＴＯ形成面に、ブラックマトリックス形成用の感光性転写材料をラミネートした後露光・現像し、全面にブラックマトリックスを形成した。このサンプルの体積抵抗率をＪＩＳ  Ｋ６９１１に準拠した方法で超高抵抗計Ｒ８３４０Ａ（アドバンテスト社製）により測定した。
【０１０１】
【表１】
2005215150.tif 000004
【０１０２】
表１が示すように、実施例１ないし３のブラックマトリックスは比較的薄い膜厚であるにもかかわらず光学濃度が高く、また体積抵抗率も高い。このため、実施例１〜３のカラーフィルターを用いて組み上げた液晶パネルは、ブラックマトリックス部の遮光性が良好で、配向乱れがなく、かつＴＦＴ故障の発生も少ないという結果が得られた。
これに対し、比較例１ないし４のブラックマトリックスは光学濃度、膜厚及び体積抵抗率に関する特性をすべて満足するものはなく、遮光性、配向乱れ、ＴＦＴ故障のすべてに良好な液晶パネルは得られなかった。