(57)【要約】【課題】誘電体層における残留気泡の発生を抑え、信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを得ることを目的とする。【解決手段】電極１２を被覆する少なくとも２層の誘電体層１４ａ、１４ｂを有するプラズマディスプレイパネルにおいて、それぞれの誘電体層１４ａ、１４ｂは、ｗｔ％で表現して含有量が異なるＭＯ（ＭはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれる少なくとも１種）の誘電体ガラス材料により構成した。具体的には、下層の誘電体層１４ａにおけるＭＯの含有量は、１２ｗｔ％未満であり、上層の誘電体層１４ｂにおけるＭＯの含有量は、下層の誘電体層１４ａより多い１２ｗｔ％以上とした。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極を被覆する少なくとも２層の誘電体層を有したプラズマディスプレイパネルであって、それぞれの誘電体層は、ｗｔ％で表現して含有量が異なるＭＯ（ＭはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれる少なくとも１種）の誘電体ガラス材料により構成したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
上層の誘電体層におけるＭＯの含有量は、下層の誘電体層におけるＭＯの含有量よりも多いことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
上層の誘電体層におけるＭＯの含有量が１２ｗｔ％以上であり、下層の誘電体層における含有量が１２ｗｔ％未満である請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
上層の誘電体層の光透過率が下層の誘電体層の光透過率よりも高く、かつ上層の誘電体層の厚みが下層の誘電体層の厚みの２倍以上である請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネルに関し、特に誘電体層の改良がなされたプラズマディスプレイパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、大画面の高品質テレビへの期待が高まっている。従来から用いられているＣＲＴは解像度・画質の点でプラズマディスプレイや液晶に対して優れているが、奥行なきと重量の点で４０インチ以上の大画面には不向きである。また、液晶は、消費電力が少なく、駆動電圧も低いという優れた性能を有しているが、大画面化や視野角に限界がある。これに対して、プラズマディスプレイは、大画面で狭い奥行なきの実現が可能であり、すでに６０インチクラスの製品が開発されている。
【０００３】
図１は一般的な交流型（ＡＣ型）プラズマディスプレイパネルを示したものである。図１において、１１はフロート法による硼硅酸ナトリウム系ガラスまたは、鉛系ガラスよりなる前面ガラス基板であり、この前面ガラス基板１１上に銀またはＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒからなる面放電用の電極１２とブラックストライプ１３が設けられ、この上をコンデンサの働きをする平均粒径０．１μｍ〜２０μｍのガラス粉末を用いて形成された誘電体層１４ａ、１４ｂと酸化マグネシウム（ＭｇＯ）からなる誘電体保護層１５が覆っている。
【０００４】
２１は背面ガラス基板であり、この背面ガラス基板２１上にアドレス電極２２、誘電体層２３が設けられ、その上に隔壁２４が形成されるとともに、隔壁２４間にＲＧＢの蛍光体層２５、２６、２７が交互に設けられている。
【０００５】
前記前面ガラス基板１１と背面ガラス基板２１とは、前記電極１２とアドレス電極２２が交差するように対向配置するとともに、周辺部をフリットガラスにより封着し、そして隔壁２４により形成される放電空間に放電ガスを封入した構成である（特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−８３５４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
前記誘電体層１４ａ、１４ｂには、高耐電圧および高光透過率を有することを要求されるが、この特性は誘電体層の表面状態、膜欠陥および残留気泡に大きく左右される。
【０００７】
従来、このような誘電体層１４ａ、１４ｂを形成する方法として、ガラス粉体成分と樹脂を含む溶剤、可塑剤、分散剤からなるバインダー成分で構成されたペーストをスクリーン印刷法または、スプレー法または、ブレードコータ法またはダイコート法を用いて電極を形成した前面板上に塗布し、乾燥後焼成する方法や、前記ペーストをフィルム上に塗布、且つ乾燥して形成して、電極を形成した前面板に転写し、焼成する方法が知られている。
【０００８】
しかしながら、従来の形成方法および材料は、誘電体層の透明性が低く、膜中に気泡が多く残留し、絶縁破壊が発生する等の欠点があり、高い透明性と高い絶縁耐電圧を有する誘電体層を形成しにくいという課題があった。
【０００９】
本発明はこのような課題に鑑みなされたもので、誘電体層における残留気泡の発生を抑え、信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを得ることを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
この課題を解決するために本発明は、電極を被覆する少なくとも２層の誘電体層を有したプラズマディスプレイパネルであって、それぞれの誘電体層は、ｗｔ％で表現して含有量が異なるＭＯ（ＭはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれる少なくとも１種）の誘電体ガラス材料により構成したことを特徴とする。
【００１１】
また、上層の誘電体層におけるＭＯの含有量は、下層の誘電体層におけるＭＯの含有量よりも多いことを特徴とするもので、具体的には上層の誘電体層におけるＭＯの含有量が１２ｗｔ％以上であり、下層の誘電体層における含有量が１２ｗｔ％以下としたものである。
【００１２】
さらに、上層の誘電体層の光透過率が下層の誘電体層の光透過率よりも高く、かつ上層の誘電体層の厚みが下層の誘電体層の厚みの２倍以上としたものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、高い絶縁耐電圧を有し、かつ非常に高い光透過率を示す誘電体層を得ることができ、信頼性の高いプラズマディスプレイパネルとすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルについて、図面を用いて説明する。
【００１５】
まず、本発明のプラズマディスプレイパネルは、図１に示したように、電極１２を被覆する少なくとも２層の誘電体層１４ａ、１４ｂを有している。そして、それぞれの誘電体層１４ａ、１４ｂは、ｗｔ％で表現して含有量が異なるＭＯ（ＭはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａから選ばれる少なくとも１種）の誘電体ガラス材料により構成したものである。すなわち、下層の誘電体層１４ａにおけるＭＯの含有量は、１２ｗｔ％未満であり、上層の誘電体層１４ｂにおけるＭＯの含有量は、下層の誘電体層１４ａより多い１２ｗｔ％以上としている。
【００１６】
この誘電体層１４ａ、１４ｂは、誘電体ガラス材料のガラス粉体成分と樹脂を含む溶剤からなるバインダー成分とを混合して誘電体ガラスペーストとし、この誘電体ガラスペーストをスクリーン印刷法、スプレー法、ブレードコータ法またはダイコート法にて、電極を形成した前面ガラス基板１１上に塗布し、乾燥後、４５０℃〜６００℃の温度で焼成することにより形成される。また、別の方法としては、前記誘電体ガラスペーストをフィルム上に塗布したシート状誘電体ガラス材料を準備し、そのシート状誘電体ガラス材料を電極を形成した前面ガラス基板１１上に転写し、４５０℃〜６００℃で焼成することにより誘電体層を形成する。
【００１７】
次に、具体的な実施例について、説明する。
【００１８】
まず、誘電体ガラス材料の主要成分としてＰｂＯ、ＢａＯ、ＣａＯを用い、また誘電体ガラスペーストは、ガラス粉体成分と樹脂を含む溶剤からなるバインダー成分で構成し、これらの各種成分を図２に示すような所望の組成となるように配合した後、３本ローラーなどの分散機によって均質に混合分散して作製する。図２は、下層用と上層用の誘電体層における誘電体ガラスの主要成分であるＰｂＯ、ＢａＯ、ＣａＯの含有量を示し、単位はｗｔ％である。
【００１９】
そして、実施例１、２、３、４として、実施例１は下層が下層用１、上層が上層用１の組み合わせのもの、実施例２は下層が下層用１、上層が上層用２の組み合わせのもの、実施例３は下層が下層用２、上層が上層用１の組み合わせのもの、実施例４は下層が下層用２、上層が上層用２の組み合わせのものを用いて、２層からなる誘電体を形成し、光透過率と絶縁体電圧を調べる絶縁破壊テストを行なった。
【００２０】
なお、比較例１、２、３、４として、比較例１は下層用１のみを用いたもの、比較例２は下層用２のみを用いたもの、比較例３は上層用１のみを用いたもの、比較例４は上層用２のみを用いたもので、２層の誘電体層を前記条件で形成し、実施例と同様の評価を行なった。
【００２１】
透過率は、電極を付けていないガラス基板上に下層用誘電体ペーストをダイコート法で塗布、乾燥し、焼成を行なった後、上層用誘電体ペーストを下層と同様の方法で、膜厚が下層の２倍となるように形成し、誘電体層のみの全光線透過率（％）の測定を行ない、５５０ｎｍ時の値を比較した。その結果を図３に示す。また、図４には、ＭＯの含有量に対する光透過率を実験した結果を示している。
【００２２】
また、絶縁破壊テストは、銀（Ａｇ）電極を形成した４２インチのガラス基板上に、前記と同様の方法で２層の誘電体層を形成し、絶縁破壊テストを行なった。誘電体層の耐電圧テストは、パネルを封着する前に前面パネルを金属板の上に置いてその間に希ガスを通し、電極をプラス、金属板をマイナスとして、ＡＣ電圧を印加して絶縁破壊テストを行なった。テストした総数は、それぞれ１０枚であり、その結果を図５に示す。
【００２３】
図３、図４に示すように、比較例１、２、３、４においては、下層用１、下層用２の誘電体ガラスはＭＯ含有量が１２％未満と少ないため、誘電体層形成時のガラス粉体の結合性が低く、誘電体層が緻密にならないため、誘電体層中に直径１０μｍ以下の微小な泡を多く含み、光を散乱させてしまう結果、光透過率が８３％以下と低くなってしまう。上層用１、上層用２の誘電体ガラスは、ＭＯの含有量が１２％以上と多く含むため、誘電体層形成時のガラス粉体の結合性が高く、誘電体層が緻密になって誘電体層中に前記微小な泡は少ないので光透過率が８３％以上と高くなる。
【００２４】
一方、本発明の実施例１、２、３、４においては、図３に示すように、上層にＭＯの含有量が１２ｗｔ％以上で光透過率が高い誘電体ガラスを用い、下層にＭＯの含有量が１２％未満で光透過率が低い誘電体ガラスを用いても、光透過率が８３％以上が可能になり、パネル輝度を高くすることが可能になる。
【００２５】
次に、絶縁破壊テストの結果について説明すると、銀電極や異物などが原因で直径１０μｍ以上の大きな気泡が発生した際には、誘電体ガラスのＭＯ含有量が１２ｗｔ％以上の場合、膜が緻密となり、気泡が抜けきらずに誘電体層中に大きな気泡が残留する。一方、誘電体ガラスのＭＯ含有量が１２ｗｔ％未満では、膜が緻密ではないために、大きな気泡は誘電体層中には残留しない。この大きな気泡が残留することは誘電体層の絶縁耐電圧性を低減させる原因になるものであり、その結果、図５の比較例１、２、３、４に示すように、上層用のみで誘電体層を形成した場合、絶縁耐電圧性が低減し、下層用のみで誘電体層を形成すると良好な絶縁耐電圧性を有する。
【００２６】
本発明の実施例１、２、３、４においては、図５に示すように、下層にＭＯ含有量が１２ｗｔ％未満で膜が緻密ではない誘電体を用いているため、大きな気泡の残留を抑制するため良好な絶縁耐電圧性を有する。
【００２７】
以上のように本発明によれば、誘電体層が高い絶縁耐電圧を有するとともに、非常に高い光透過率を有しているため、信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを得ることができる。なお、上述の実施例において、各誘電体層の材料、層の厚さの比率、ペースト組成材料、および焼成プロファイル等は、材料の特性に応じて適宜変更することにより、同様の効果が得られる。
【産業上の利用可能性】
【００２８】
以上のように本発明は、信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを得るために極めて有用な発明である。
【図面の簡単な説明】
【００２９】
【図１】本発明を含む一般的なプラズマディスプレイパネルの要部を示す斜視図
【図２】本発明の実施例に用いた誘電体層の組成例を示す説明図
【図３】本発明の効果を説明するための光透過率を調べた結果を示す説明図
【図４】本発明の効果を説明するためのＭＯ含有量と光透過率の関係を示す説明図
【図５】本発明の効果を説明するための絶縁破壊テストの結果を示す説明図
【符号の説明】
【００３０】
１１  前面ガラス基板
１２  電極
１４ａ、１４ｂ  誘電体層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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