(57)【要約】【課題】光学的効率を向上させ、散乱光を低減または実質的に除去するようなシステムおよび方法を提供することである。【解決手段】光源と、瞳定義素子（ＰＤＥ）と、フィールド定義素子（ＦＤＥ）と、光学システムと、パターン発生器とを有するシステムにおいて、  前記光源から放射された光が前記ＰＤＥ、前記ＦＤＥおよび前記光学システムを通過し、照明スポットを形成し、  該照明スポットはパターン発生器の所望の照明エリアだけに実質的に入射し、かつ前記パターン発生器の不所望エリアからは実質的に離れるように指向されように構成する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、瞳定義素子（ＰＤＥ）と、フィールド定義素子（ＦＤＥ）と、光学システムと、パターン発生器とを有するシステムにおいて、
前記光源から放射された光が前記ＰＤＥ、前記ＦＤＥおよび前記光学システムを通過し、照明スポットを形成し、
該照明スポットはパターン発生器の所望の照明エリアだけに実質的に入射し、かつ前記パターン発生器の不所望エリアからは実質的に離れるように指向される、
ことを特徴とするシステム。
【請求項２】
請求項１記載のシステムにおいて、前記ＦＤＥは前記パターン発生器に対して、前記ＰＤＥよりも接近している。
【請求項３】
請求項１記載のシステムにおいて、前記ＰＤＥは前記パターン発生器に対して、前記ＦＤＥよりも接近している。
【請求項４】
請求項１記載のシステムにおいて、前記ＦＤＥと前記ＰＤＥは屈折デバイスである。
【請求項５】
請求項１記載のシステムにおいて、前記ＦＤＥと前記ＰＤＥは回折デバイスである。
【請求項６】
請求項１記載のシステムにおいて、前記光学システムは、前記ＦＤＥに後置された第１の光学エレメントと、前記ＰＤＥに後置された第２の光学エレメントを有する。
【請求項７】
請求項１記載のシステムにおいて、前記パターン発生器は１つまたは複数の反射性パターン発生デバイスを有する。
【請求項８】
請求項１記載のシステムにおいて、前記パターン発生器は１つまたは複数の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）デバイスを有する。
【請求項９】
請求項１記載のシステムにおいて、前記パターン発生器は１つまたは複数のデジタルミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する。
【請求項１０】
請求項１記載のシステムにおいて、前記パターン発生器は１つまたは複数のグレーティングライトバルブデバイスを有する。
【請求項１１】
請求項１記載のシステムにおいて、前記パターン発生器は１つまたは複数のレチクルを有する。
【請求項１２】
請求項１記載のシステムにおいて、前記パターン発生器は１つまたは複数の透過性パターン発生デバイスを有する。
【請求項１３】
請求項１記載のシステムにおいて、前記パターン発生器は１つまたは複数の空間的光変調（ＳＬＭ）デバイスを有する。
【請求項１４】
請求項１記載のシステムにおいて、光源に後置された、光を均一にするエレメントを有する。
【請求項１５】
請求項１４記載のシステムにおいて、光を均一にするエレメントは回折エレメントおよび屈折エレメントの１つである。
【請求項１６】
請求項１記載のシステムにおいて、ＰＤＥは１つまたは複数のＰＤＥを有する。
【請求項１７】
請求項１記載のシステムにおいて、ＦＤＥは１つまたは複数のＦＤＥを有する。
【請求項１８】
光をＰＤＥおよびＦＤＥに通過させ、光ビームを形成し、
前記光ビームをパターン発生器に向かって指向し、
前記通過ステップおよび指向ステップに基づいて、前記パターン発生器の所望の照明エリアだけを実質的に照明し、不所望エリアの照明を回避する、
ことを特徴とする方法。
【請求項１９】
請求項１８記載の方法において、前記通過ステップは、前記ＦＤＥと前記ＰＤＥを使用し前記光ビームとして回折された光を形成するステップを含む。
【請求項２０】
請求項１８記載の方法において、所望の照明エリアから反射された光によりサブストレートにパターンを形成する。
【請求項２１】
請求項１８記載の方法において、所望の照明エリアを透過した光によりサブストレートにパターンを形成する。
【請求項２２】
請求項１８記載の方法において、レチクルまたはコントラストデバイスの１つをパターン発生器として使用する。
【請求項２３】
請求項１８記載の方法において、均一ビームプロファイラを使用して光を形成し、該光はＰＤＥとＦＤＥを通過した光と同じ均一のビームプロフィールを有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン発生器を照明するための照明システムおよび照明方法に関するものであり、より詳細にはリソグラフシステムのパターン発生器を照明するための照明システムおよび照明方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
パターン発生器は光を使用してオブジェクトをパターン化し、またパターンを投影するために種々異なる環境、とりわけリソグラフシステム、テレビジョン、生物医学的システム、生物工学的システム等で使用される。典型的にはレチクル（またはマスク）、空間的光変調器（ＳＬＭ）またはコントラストデバイス（以下、両者ともＳＬＭとして参照する）、デジタルミラーデバイス（ＤＭＤ）、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、グレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）等、または透過性および／または反射性パターンを含む他のエレメントをパターン発生器として使用することができる。
【０００３】
ＳＬＭは、アクティブデバイス（またはピクセル）のｎ×ｍ（ここでｎとｍは１以上の整数）アレイを備えるアクティブエリアを有することができる（例えばＭＤＭ上のミラーアレイ、ＧＬＶ上のグレーティングアレイ、またはＬＣＤ上の反射性／透過性アレイ）。各アクティブデバイスは個別に制御され、アクティブデバイスはＯＮとＯＦＦの間を１つまたは複数の離散的状態を通して変化する。例えばアクティブデバイスがＤＭＤ上のミラーであれば、各ミラーは個別に制御され、これによりミラーは回転またはティルトし、２進位置または多重位置のいずれかに変化する。他の例として、アクティブデバイスがＧＬＶのストリップであれば、ストリップのセットを湾曲または伸長することができ、到来する光ビームを反射または拡散する。
【０００４】
アクティブエリアのアクティブデバイスを制御し、これらが部分的または全面的にＯＮまたはＯＦＦとなるようにすることは公知であり、ここでは詳細に説明しない。典型的には所定の、または所望の露光パターンに基づいて前もって記憶されたアルゴリズムを使用して、アクティブデバイスをＯＮ（または部分的にＯＮ）またはＯＦＦに切り換えることは関連技術で公知である。
【０００５】
図１，２，３は従来のパターン発生器を照明するためのシステム１００，２００，３００をそれぞれ示す。従ってパターン化された光が形成され、パターン発生器に向けられる。公知のように、照明光学系およびオプションとしてのパターン発生器光学系は１つまたは複数の光学素子（例えばレンズ、ミラー等）を含むことができる。１つの構成では、照明光学系はパターン発生器光学系を含むことができる。別の構成では、パターン発生器光学系は別個のエレメントとすることができる。投影システムは通常、パターン発生器からのパターン化された光をサブストレートにフォーカシングする。
【０００６】
図４は従来の照明フィールド４００を示し、この照明フィールドは所望の照明エリア４０４を有するパターン発生器４０２に対するシステム１００，２００および／または３００から得ることができる。各照明エリアはＳＬＭのアクティブエリアまたはレチクル上のパターンの所望部分とすることができる。上に議論したように、各アクティブエリアはアクティブデバイスを含む。図示のように照明フィールド４００は所望の照明エリア４０４を越えて入射する程大きく、パターン発生器４０２より大きい。従って相当の量、たとえば光の約８０〜９０％までが浪費される（すなわちシステム１００，２００，および／または３００の動作中に使用されない）。なぜなら光の総量が所望の照明エリア４０４に入射しないからからである。
【０００７】
パターン発生器またはそのアレイに対する適用例はマスクレスリソグラフである。リソグラフはサブストレートの表面にフューチャを形成するために使用されるプロセスである。このようなサブストレートは、フラットパネルディスプレイ（例えば液晶ディスプレイ）、回路基板、種々の集積回路等の製造で使用されるものを含むことができる。このような適用のためにしばしば使用されるサブストレートは半導体ウェハまたはフラットパネルディスプレイサブストレートである。本明細書では説明のために半導体ウェハの用語を用いるが、当業者であればこの説明を当業者に公知の他の形式のサブストレートに適用できることは理解されよう。
【０００８】
リソグラフでは、ウェハステージに配置されたウェハがパターン発生器またはそのアレイにより形成されたイメージ（またはパターン）に露光される。このイメージはウェハの表面に、リソグラフ装置内に配置された露光光学系によって投影される。露光光学系がリソグラフの場合に使用されるが、種々異なる形式の露光装置を所定の適用に応じて使用することができる。例えばエキシマレーザ、Ｘ線、イオン、電子、またはフォトンリソグラフはそれぞれ異なる露光装置を必要とするが、それらは公知である。フォトリソグラフの例だけをここでは説明のために論議する。
【０００９】
投影されたイメージはウェハ表面に配置された層（例えばフォトレジスト）の特性変化を引き起こす。この変化は、露光中にウェハに投影されたイメージのフューチャに相応する。露光に続いて層をエッチングし、パターン化された層を形成することができる。このパターンは露光中にウェハに投影されたフューチャに相応する。次にこのパターン化された層は、ウェハ内で基礎となる構造層、例えば導電性層、半導電性層、または断熱性層の露光部分を除去するため、またはさらに処理するために使用することができる。このプロセスは他のステップと共に繰り返され、所望のフューチャがウェハの表面または種々の層に形成される。
【００１０】
ステップ・アンド・スキャン技術は、狭いイメージングスロットを有する投影光学系システムと共働する。ウェハ全体をパターン発生器により形成されたイメージにより一度に露光するのではなく、一度には個々のフィールドをウェハ上でスキャンする。このことはウェハを移動し、パターン発生器上のアクティブデバイスを制御することにより実行される。例えばイメージングスロットがスキャン中にフィールド上を移動される。ウェハステージはフィールド露光の間では停止されなければならない。これによりパターン発生器上のアクティブデバイスにより形成されたパターンを露光すべきウェハ表面に多重コピーすることができる。このようにしてウェハに投影されるイメージの品質が最良となる。
【００１１】
レチクル（またはマスク）パターンまたはＳＬＭのアクティブエリア上の所望の照明エリアは通常、パターンまたはアクティブエリアの所望の照明エリアを取り込む表面のサイズよりも実質的に小さい。例えばＳＬＭではアクティブエリアはＳＬＭ表面の１０〜２０％しかなく、ＳＬＭの残りの表面エリアは不活性エリアであり、この不活性エリアはパッケージング、回路等を含むことができる。従ってパターン発生器に向けられる光の相当量はパターンまたはアクティブエリアの所望の照明エリアを照射せず、パターンの不所望のエリアまたは不活性エリアを照射することになる。このことは光の散乱および浪費につながる。散乱光の一部はサブストレートの表面に達することがある。サブストレートに達したこの散乱光はサブストレート上に製造されるデバイスのエラーを引き起こす。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明の課題は、光がパターン発生器の所望の照明エリアに実質的に入射するように光を配向することにより光学的効率を向上させ、光がパターン発生器の不所望エリアに入射することにより生じる散乱光を低減または実質的に除去するようなシステムおよび方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
この課題は、請求項１記載の構成により解決される。
【００１４】
すなわち、光源と、瞳定義素子（ＰＤＥ）と、フィールド定義素子（ＦＤＥ）と、光学システムと、パターン発生器とを有するシステムにおいて、
前記光源から放射された光が前記ＰＤＥ、前記ＦＤＥおよび前記光学システムを通過し、照明スポットを形成し、
該照明スポットはパターン発生器の所望の照明エリアだけに実質的に入射し、かつ前記パターン発生器の不所望エリアからは実質的に離れるように指向されるように構成して解決される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明の実施例では、照明光がパターン発生器の不所望エリアに入射する場合に発生する散乱光の発生を実質的に低減または除去し、光学的効率を実質的に向上させるシステムが得られる。このシステムは、光源、瞳定義素子（ＰＤＥ）、フィールド定義素子（ＦＤＥ）、光学的システム、およびパターン発生器を含む。ＰＤＥとＦＤＥは回折デバイスまたは屈折デバイスである。光源から放射された光はＰＤＥおよびＦＤＥを透過し、整形され、指向化されたビームを形成する。このビームはパターン発生器の１つまたは複数の所望照明エリアに向けられ、パターン発生器の不所望エリアからは実質的に離れるように指向される。
【００１６】
本発明の別の実施例は、光学的効率を実質的に向上させ、照明光がパターン発生器（例えば反射性または透過性レチクルまたはＳＬＭ）と交差する場合に発生する散乱光の発生を実質的に低減または除去する方法を含む。この方法では、光をＰＤＥおよびＦＤＥに通過させ、これにより光ビームを形成し、光学システムを使用して光ビームをパターン発生器に指向し、パターン発生器の所望照明エリアだけを実質的に照明し、パターン発生器の不所望エリアは実質的に照明しない。このことを通過ステップと指向ステップに基づいて行う。
【００１７】
本発明のさらなる実施例および利点、および本発明の種々の実施例の構造と動作を、以下添付図面を参照して詳細に説明する。
【実施例】
【００１８】
特定の構成およびアレンジメントについて説明するが、これは例示目的だけのものであることを理解すべきである。関連技術の当業者であれば本発明の技術思想を逸脱することなしに他の構成およびアレンジメントを使用することができ、本発明を他の適用に使用することができる。
【００１９】
本発明の実施例は、光源と照明光学系を有する照明システムを提供する。この照明システムはパターン発生器を照明するのに使用される。照明光学系は少なくとも２つのデバイスを含む。例えば第１と第２の回折性および／または屈折性デバイスが使用されるなら、１つを瞳定義素子（ＰＤＥ）とし、１つをフィールド定義素子（ＦＤＥ）とすることができる。別の実施例では第３の回折素子または屈折素子を使用して、光を照明システムに均一に入力することができる。２つのデバイスだけが使用される場合、ＰＤＥは所定のプロフィールを有する１つまたは複数の光ビームを形成する。ＦＤＥは所定のプロフィールを有する１つまたは複数の光ビームを指向化し、各指向されたビームが実質的に大きさおよび形状の点でパターン発生器の所望照明エリアに相応するようにする。指向化されたビームは実質的に所望照明エリアだけに入射する。従ってＰＤＥおよびＦＤＥを使用すると、パターン発生器への光入射の光学的効率が上昇し、光がパターン発生器の不所望エリアに入射することにより生じる散乱光が実質的に低減または除去される。
【００２０】
簡潔にするため、パターン発生器として使用されるＳＬＭデバイス（例えばＤＭＤ，ＧＬＶ，ＬＣＤ等）の動作と機能の完全な説明はここでは行わない。例えばアクティブデバイスをアクティブエリアで制御し、これらを部分的にまたは完全にＯＮまたはＯＦＦとすることは公知であるから、ここでは説明しない。典型的には所望の露光パターンに基づいて前もって記憶されたアルゴリズムまたは所定のアルゴリズムがアクティブデバイスをＯＮ（または部分的ＯＮ）およびＯＦＦにするために使用されるが、これも公知である。
【００２１】
照明光学系とパターン発生器光学系は１つまたは複数の光学デバイス、例えばレンズ、ミラー等、または他の当業者には公知の光操作デバイスを含むことができる。
【００２２】
照明光学系
図５は、本発明の実施例による照明光学系５００の素子構成を示す。照明光学系５００はシステム１００，２００，または３００のいずれにも使用することができ、またはパターン発生器を照明するために使用される他のいずれのシステムでも使用することができる。照明光学系５００は整形され、指向化されたビームを形成するために使用することができる。これにより実質的に所望の照明エリア（例えばレチクルのパターンエリアまたはＳＬＭデバイスのアクティブエリア）だけが照明される。照明光学系５００は光学的効率を向上させ、散乱光を低減するために使用することができる。
【００２３】
第１のデバイス５０２（例えば瞳定義素子（ＰＤＥ））が照明光学系５００の瞳面に配置されており、光ビームを光源（図示されていないが図１，２，３と同じ）から受け取る。ＰＤＥ５０２は屈折性（例えばレンズアレイ等）または回折性（例えば回折格子等）の光学的素子を有することができる。ＰＤＥ５０２は光ビームを整形し、これを通過するようにするために使用することができる。例えばＰＤＥ５０２は１つまたは複数の光ビーム５０６に対して光ビームプロフィールを定義するために使用することができる。例えばＰＤＥ５０２はビーム５０６に対して通常のプロフィール、ダイポールプロフィール、クワドロポールプロフィール等のプロフィールを形成するために使用することができる。
【００２４】
光学デバイス５０７（例えば１つまたは複数の光学エレメント）はビーム５０６を第２のデバイス５０８（例えばフィールド定義素子（ＦＤＥ））に指向する。ＦＤＥ５０８は屈折性（例えばレンズアレイ等）または回折性（例えば回折格子等）の光学エレメントとすることができ、この光学エレメントは照明光学系５００のフィールド面に配置される。ＦＤＥ５０８は１つまたは複数の光ビーム５１０を形成するのに使用することができ、この光ビーム５１０はビーム５０６’の形状を維持するが、パターン発生器（図示せず）の特定のエリアに光学デバイス５１２を介して指向されている。
【００２５】
ＰＤＥ５０２とＦＤＥ５０８は特定の光学系または照明光学系５００に示されているが、照明経路におけるそれらの順番は入れ替えることができ、それも本発明の枠内である。
【００２６】
第１と第２の回折デバイス５０２および５０８はそれぞれ１つ以上の回折性または屈折性の光学エレメントを含むことができる。例えば回折性光学エレメントを使用する実施例では、第１の回折デバイス５０２は、ＰＤＥの前方に配置された均一ビームプロファイリング（ＵＢＰ）回折光学エレメントを含むことができる。
【００２７】
Ｕ．Ｓ．Ｓｅｒ．Ｎｏ．１０／２７０５５６（米国特許出願公開２００３／００７６６７９Ａ１（以下‘６７９ＰＰＡ）の図２ａに示された別の光学システムも本願の参考文献とする。‘６７９ＰＰＡは光学システム２００を示し、この光学システムは光を整形し、指向するために使用することができる。‘６７９ＰＰＡの図２ａのシステム２００は第１の回折アレイまたはフィールドアレイ２１０と、第２の回折アレイまたは瞳アレイ２１２と、光軸２０９に沿って第１の回折アレイ２１０と第２の回折アレイ２１２の間の光路に配置されたコンデンサシステム２２０を有する。第１の回折アレイ２１０は、調整された光１０３を照明システム２００に入力するために空間的および時間的コヒーレンス処理を施すのに使用することができる。第２の回折アレイ２１２は瞳として動作することができ、光の規模を変化することができる。また‘６７９ＰＰＡの図５ａ，５ｂ，６ａ，および６ｂとそれらの説明は例として回折デバイスを示し、この回折デバイスは第１と第２の回折アレイ２１０と２１２に使用することができる。
【００２８】
照明光学系５００（または‘６７９ＰＰＡの光学システム２００）は、ＰＤＥ５０２および／またはＦＤＥ５０８（または‘６７９ＰＰＡのＰＤＥ２１０とＦＤＥ２１２）が容易に他のＰＤＥおよびＦＤＥにより置換（交換）されるように構成することができる。このことにより照明光学系５００（‘６７９ＰＰＡの光学システム２００）を十分にフレキシブルに構成することができ、所望の数、位置および／または大きさの指向ビーム５１０を形成することができる。このことはパターン発生器の特定の所望照明エリアに対して有利である。例えばパターン発生器は複数のＳＬＭおよび複数のＳＬＭの所定のセットだけを含むことができ、これにより所望の照明エリアを形成する。この場合、特別のＰＤＥ５０２とＦＤＥ５０８を照明光学系５００に挿入し、所望のパターンを形成することができる。別の例として、ＰＤＥとＦＤＥの交換可能性によって、照明光学系５００を含むシステムを高解像度モードと低解像度モードとの間で切り換えることができ、所要のスループットに適合することができる。
【００２９】
照明光学系を通る光路の例
図６は、本発明の実施例による図５の照明光学系５００を通る光路の一部を示す。同様の光路を‘６７９ＰＰＡの光学システム２００に形成することができる。
【００３０】
光ビーム５０６’はＦＤＥ５０８に入射し、ビーム５１０−ｎを形成する。図６のビーム５１０の数は例としてだけ示されている。パターン発生器６０２が複数の所望の照明エリア６０６を含んでいれば、ビーム５１０の数はそれぞれこの数を反映することとなる。ＦＤＥ５０８が回折格子であれば、ビーム５１０は回折されたビームの所望の次数とすることができる。
【００３１】
光学デバイス５１２に入射するビーム５１０はこの個所では６０４−ｎである。指向されたビーム５１０’−ｎは光学デバイス５１２を出射し、照明スポット６０８をパターン発生器６０２のそれぞれ所望の照明エリア６０６上に形成する。従って照明光学系５００を使用することにより、光源からの光５０２は整形され、各照明スポット６０８に指向され、表面６１０の小さな部分だけを、しかし所望照明エリア６０６のすべてをカバーする。このことが図７にもっともよく示されている。
【００３２】
図７は照明エリア６０８を示す。ＦＤＥ５０８と光学デバイス５１２を使用することにより、照明スポット６０８は実質的に所望の照明エリア６０６だけに入射し、表面６１０の小さな（所望の）部分だけをカバーする。パターン発生器６０２に対してＳＬＭを使用する例では、本発明の照明光学系５００を使用すれば、照明光率を約８０〜９０％のレンジにまで向上させることができる。
【００３３】
従って照明光学系５００（または‘６７９ＰＰＡのシステム２００）を使用することにより、各所望の照明エリア６０６における光強度が上昇し、その際に光源の電力を増大する必要はない。照明光学系５００（または‘６７９ＰＰＡのシステム２００）はさらに、表面６１０からの散乱光を低減または実質的に除去する。このことは製造されたデバイスにおける散乱光によるエラーを低減または実質的に除去する。
【００３４】
照明スポット６０８が所定の形状に図示されているが、照明スポット６０８は任意の形状とすることができる。この形状は上に述べたようにＦＤＥ５０８に基づくことができる。
【００３５】
照明システムの適用例
照明システム５００（または‘６７９ＰＰＡのシステム２００）とパターン発生器６０２を使用する適用例の１つはマスクレスリソグラフシステム８００であり、これを以下に説明する。しかし上に述べたような他のシステムも照明システム５００をパターン発生器６０２の照明のために使用することができる。
【００３６】
図８は、例としてのリソグラフシステム８００（例えばレチクルまたはマスクレスリソグラフシステム）を示し、このリソグラフシステムは本発明の実施例による照明光学系５００と投影光学系８５０を有する。光源（図示せず）からの光５０４はＰＤＥ５０２により整形され、整形されたビーム５０６を形成する。整形されたビーム５０６はＦＤＥ５０８に光学デバイス５０７（例えば集束レンズ等）を使用してフォーカシングされる。ＦＤＥ５０８により指向化されたビーム５１０は、パターン発生器６０２の所望照明エリア６０６に、光学デバイス５１２（例えば集束レンズ等）を使用してフォーカシングされる。反射されたビーム８５２は光学デバイス８５４により指向され、ビーム８５２’としてアパーチャ８５６を通過する。この光ビーム８５２’は次に光学デバイス８５８によりサブストレート８６０（例えばウェハ、フラットパネルディスプレイ、または受け取ったパターンを保持するいずれかの物質）にフォーカシングされ、サブストレート８６０の感光性表面にパターンを形成する。
【００３７】
反射性のパターン発生器６０２が図示されているが、透過性のパターン発生器を使用することもできることは当業者には自明である。
【００３８】
実施例では、パターン発生器内およびパターン発生器のアレイ内でのパターン発生器間で照明を均一にするため、パターン発生器により較正されたシステムと方法が使用される。
【００３９】
別の実施例ではＦＤＥが、アレイ内のパターン発生器ごとの相対的光量を調整するように構成されている。例えばＦＤＥの下流側でフィルタ（例えばニュートラルフィルタ）の直列体を使用して、パターン発生器ごとの相対的光量を調整することができる。
【００４０】
パターン発生器イメージの切り替えを実行する実施例では、rollofプロフィールが必要となる。実施例ではrollofプロフィールはＦＤＥにより発生される。別の実施例では、rollofプロフィールはＦＤＥより前で発生され、ＦＤＥはこのrollofプロフィールの複製に使用される。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】パターン発生器を照明するためのシステムのブロック回路図を示す。
【図２】パターン発生器を照明するためのシステムのブロック回路図を示す。
【図３】パターン発生器を照明するためのシステムのブロック回路図を示す。
【図４】照明すべきパターン発生器エリアのアレイを示す。
【図５】本発明の実施例による照明光学系の構成を示す。
【図６】本発明の実施例による、回折デバイスまたは屈折デバイスからパターン発生器への光路を示す。
【図７】本発明の実施例によるパターン発生器上の照明パターンを示す。
【図８】本発明の実施例による照明システムを使用するシステムを例として示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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