(57)【要約】【課題】  植物病害に優れた防除効力を有する化合物を提供すること。【解決手段】  式（１）2005082549.tif 000025〔式中、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表すか、あるいはＲ1とＲ2とが一緒になって、トリメチレン基、テトラメチレン基またはＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基を表し、Ｒ3はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、ＺはＺ１またはＺ２2005082549.tif 000026表す。〕で示されるフェニルピリミジン化合物を有効成分とする植物病害防除剤は、植物病害に対して優れた防除効力を有する。【選択図】  なし  【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）
2005082549.tif 000023
〔式中、
Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表すか、
あるいはＲ1とＲ2とが一緒になって、トリメチレン基、テトラメチレン基またはＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基を表し、
Ｒ3はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、
ＺはＺ１またはＺ２
2005082549.tif 000024
表す。〕
で示されるフェニルピリミジン化合物。
【請求項２】
請求項１記載のフェニルピリミジン化合物を有効成分として含有することを特徴とする植物病害防除剤。
【請求項３】
請求項１記載のフェニルピリミジン化合物の有効量を植物または土壌に処理することを特徴とする植物病害の防除方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はフェニルピリジン化合物及びその用途に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、植物病害を防除するために多くの化合物が開発され、それらの化合物を有効成分とする植物病害防除剤が開発されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、優れた植物病害防除効力を有する化合物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者等は優れた植物病害防除効力を有する化合物を見出すべく鋭意検討した結果、下記式（１）で示されるフェニルピリジン化合物が優れた植物病害防除活性を有することを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は式（１）
2005082549.tif 000002
〔式中、
Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表し、
Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基を表すか、
あるいはＲ1とＲ2とが一緒になって、トリメチレン基、テトラメチレン基またはＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基を表し、
Ｒ3はＣ１−Ｃ３アルキル基またはＣ３−Ｃ４アルキニル基を表し、
ＺはＺ１またはＺ２
2005082549.tif 000003
表す。〕で示されるフェニルピリミジン化合物（以下、本発明化合物と記す。）、本発明化合物を有効成分とする植物病害防除剤及び本発明化合物の有効量を植物または土壌に施用することを特徴とする植物病害防除方法を提供する。
【発明の効果】
【０００５】
本発明化合物は優れた植物病害防除効力を有することから、植物病害防除剤の有効成分として有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明において、
Ｒ1で表されるハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられ、Ｃ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、
Ｒ2で表されるハロゲン原子としては、例えば塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子があげられ、Ｃ１−Ｃ３アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、
Ｒ3で表されるＣ１−Ｃ３アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基があげられ、Ｃ３−Ｃ４アルキニル基としては２−プロピニル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基があげられる。
【０００７】
本発明化合物の態様としては、例えば以下の化合物が挙げられる。
式（1-a）または式（1-b）
2005082549.tif 000004
〔式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前記と同じ意味を表す。〕で示されるフェニルピリジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ1が水素原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ1がハロゲン原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ1が塩素原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ1がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ1がメチル基であるフェニルピリミジン化合物；
【０００８】
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ2が水素原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ2がハロゲン原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ2が塩素原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ2がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ2がメチル基であるフェニルピリミジン化合物；
【０００９】
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ1がハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ2がハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であるか、あるいはＲ1とＲ2とが一緒になってトリメチレン基、テトラメチレン基またはＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ1とＲ2とが一緒になってトリメチレン基であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ1とＲ2とが一緒になってテトラメチレン基であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ1とＲ2とが一緒になってＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝ＣＨ基であるフェニルピリミジン化合物；
【００１０】
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ3がＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ3がメチル基であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ3がエチル基であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ3がＣ３−Ｃ４アルキニル基であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ3が２−プロピニル基であるフェニルピリミジン化合物；
【００１１】
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ1がハロゲン原子であり、Ｒ2が水素原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ1が塩素原子であり、Ｒ2が水素原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ1が臭素原子であり、Ｒ2が水素原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ1がＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ2が水素原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ1がメチル基であり、Ｒ2が水素原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ1がエチル基であり、Ｒ2が水素原子であるフェニルピリミジン化合物；
式（1-a）または式（1-b）において、Ｒ1がハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であり、Ｒ2がハロゲン原子またはＣ１−Ｃ３アルキル基であるフェニルピリミジン化合物。
【００１２】
次に本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、例えば以下の（製造法１）〜（製造法４）により製造することができる。
【００１３】
（製造法１）
式（１）で示される本発明化合物は、式（２）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
2005082549.tif 000005
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＺは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、１，８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕ウンデック−７−エン、１，５−ジアザビシクロ〔４，３，０〕ノン−５−エン等の第３級アミン類及びピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の含窒素芳香族化合物類等があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（２）で示される化合物１モルに対して、式（３）
で示される化合物が通常１〜３モルの割合であり、塩基が通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１）で示される本発明化合物を単離することができる。単離された式（１）で示される本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１４】
（製造法２）
式（１）で示される本発明化合物は、式（４）で示される化合物と式（５）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することもできる。
2005082549.tif 000006
〔式中、Ｌ1は塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＺは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、へプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩及び水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類等があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（４）で示される化合物１モルに対して、式（５）
で示される化合物が通常１〜２モルの割合であり、塩基が通常１〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１）で示される本発明化合物を単離することができる。単離された式（１）で示される本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１５】
（製造法３）
式（１）で示される本発明化合物は、式（６）で示される化合物と式（３）で示される化合物とを、脱水縮合剤の存在下で反応させることにより製造することもできる。
2005082549.tif 000007
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＺは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類、ピリジン、キノリン等の含窒素芳香族化合物及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる脱水縮合剤としては、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（以下、ＷＳＣと記す。）、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミド等のカルボジイミド類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（６）で示される化合物１モルに対して、式（３）
で示される化合物が通常１〜３モルの割合であり、脱水縮合剤が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１４０℃の範囲であり、反応時間は通常０．１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、例えば下記の方法で後処理操作を行うことにより、式（１）で示される本発明化合物を単離することができる。
（ｉ）反応混合物に希塩酸等の酸を加えて有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。
（ｉｉ）反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加え、濾過し、濾液を濃縮する方法。
（ｉｉｉ）反応混合物を濾過した後、濾液を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する方法。
単離された式（１）で示される本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１６】
（製造法４）
式（１）で示される本発明化合物は、式（４）で示される化合物と式（７）で示される化合物とを、アゾ化合物及びトリフェニルホスフィンの存在下で反応させることにより製造することもできる。
2005082549.tif 000008
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＺは前記と同じ意味を表す。〕
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、トルエン、ベンゼン等の芳香族炭化水素類、ペンタン、ヘキサン等の脂肪族炭化水素類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられるアゾ化合物としては、例えばジエチルアゾカルボキシレート、ジメチルアゾカルボキシレート及びジイソプロピルアゾカルボキシレートがあげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（４）で示される化合物１モルに対して、式（７）で示される化合物が通常１〜５モルの割合であり、アゾ化合物が通常１〜５モルの割合であり、トリフェニルホスフィンが通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加えて濾過し、濾液を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１）で示される本発明化合物を単離することができる。単離された式（１）で示される本発明化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１７】
本発明化合物の製造中間体の製造について、（中間体製造法）を示す。
（中間体製造法１）
2005082549.tif 000009
〔式中、Ｒ6はＣ１−Ｃ３アルキル基（例えばメチル基、エチル基及びプロピル基）を表し、Ｒ7はＣ１−Ｃ３アルキル基（例えばメチル基、エチル基及びプロピル基）又はベンジル基を表し、Ｌ1は前記と同じ意味を表す。〕
（工程１−１）
式（１３）で示される化合物は、式（１１）で示される化合物と式（１２）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類等があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１１）で示される化合物１モルに対して、式（１２）で示される化合物が通常１〜２モルの割合であり、塩基が通常１〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１３）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１８】
（工程１−２）
式（１５）で示される化合物は、式（１３）で示される化合物と式（１４）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類及びこれらの混合物が用いられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１３）で示される化合物1モルに対して、式（１４）で示される化合物が通常１モル〜過剰量の割合であり、塩基が通常１〜３モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常５０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に酢酸水溶液等の希酸を加えて酸性とした後、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１５）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００１９】
（工程１−３）
式（１７）で示される化合物は、式（１５）で示される化合物と式（１６）で示される化合物とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、無水酢酸等の酸無水物類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる式（１６）で示される化合物の量は、式（１５）で示される化合物1モルに対して、通常1モル〜過剰量の割合である。
該反応の反応温度は、通常５０〜１５０℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１７）で示される化合物を単離することができる。式（１７）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２０】
（工程１−４）
式（１８）で示される化合物は、式（１７）で示される化合物とホルムアミジンまたはその塩酸塩、酢酸塩等の塩とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下、塩基の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、メタノール、エタノール等のアルコール類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類等があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１７）で示される化合物1モルに対して、ホルムアミジンまたはその塩が通常１〜３モルの割合であり、塩基が通常触媒量〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（１８）で示される化合物を単離することができる。単離された式（１８）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２１】
（工程１−５）
式（１９）で示される化合物は、式（１８）で示される化合物を塩基の存在下、水と反応させることにより製造することができる。
該反応は通常水及び有機溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる有機溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物類等があげられる。
反応に用いられる塩基の量は、式（１８）で示される化合物１モルに対して、通常１〜２０モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に塩酸等の酸を加えて酸性とした後、有機溶媒抽出し、乾燥、濃縮する等の後処理操作により、式（１９）で示される化合物を単離することができる。式（１９）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することができる。
【００２２】
（工程１−６）
式（２０）で示される化合物は、式（１９）で示される化合物とジフェニルホスホリルアジドとを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は１，１−ジメチルエタノールの存在下で行われる。
反応に用いられる塩基としては、例えばトリエチルアミン等の第３級アミン類があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（１９）で示される化合物１モルに対して、ジフェニルホスホリルアジドが通常１〜３モルの割合であり、塩基が通常１〜３モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常５０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２０）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２０）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２３】
（工程１−７）
式（２１）で示される化合物は、式（２０）で示される化合物を酸の存在下、水と反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常水及び酸を溶媒として行われる。
反応に用いられる酸としては、例えば塩酸等の無機酸類、酢酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類及びこれらの混合物があげられる。
該反応の反応温度は、通常５０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２１）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２１）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２４】
（中間体製造法２）
2005082549.tif 000010
〔式中、Ｒ8はＣ１−Ｃ３アルキル基、Ｃ３−Ｃ４アルキニル基またはベンジル基を表し、Ｒ6及びＬ1は前記と同じ意味を表す。〕
（工程２−１）
式（２３）で示される化合物は、式（２２）で示される化合物と式（１２）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、酢酸ブチル、酢酸エチル等のエステル類、アセトニトリル等のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水素化ナトリウム、水素化カリウム等のアルカリ金属水素化物類等があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（２２）で示される化合物１モルに対して、式（１２）で示される化合物が通常１〜２モルの割合であり、塩基が通常１〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２３）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２３）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２５】
（工程２−２）
式（２５）で示される化合物は、式（２３）で示される化合物と式（２４）で示される化合物とを、塩基の存在下で反応させることにより製造させることができる。
該反応は、溶媒の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、水素化カリウム、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド等があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（２３）で示される化合物１モルに対して、式（２４）で示される化合物が通常１モル〜過剰量の割合であり、塩基が通常１〜５モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に希塩酸等の酸を加えて酸性とした後、有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２５）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２５）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる
【００２６】
（工程２−３）
式（２６）で示される化合物は、式（２５）で示される化合物とメチル化剤とを、塩基の存在下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばテトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の炭酸塩類、水素化ナトリウム等のアルカリ金属水素化物類等があげられる。
反応に用いられるメチル化剤としては、例えばヨウ化メチル、硫酸ジメチルがあげられる。
反応に用いられる試剤の量は式（２５）で示される化合物１モルに対して、メチル化剤が通常１〜２モルの割合であり、塩基が通常１〜２モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常０〜１００℃の範囲であり、反応時間は０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を有機溶媒抽出し、有機層を乾燥、濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（２６）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２６）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２７】
（工程２−４）
式（２７）で示される化合物は、式（２６）で示される化合物とホルムアミジンまたはその塩酸塩、酢酸塩等の塩とを反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下、塩基の存在下または非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド類、メタノール、エタノール等のアルコール類及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられる塩基としては、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム等のアルカリ金属酢酸塩類、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド類等があげられる。
反応に用いられる試剤の量は、式（２６）で示される化合物１モルに対して、ホルムアミジンまたはその塩が通常１〜３モルの割合であり、塩基が触媒量〜３モルの割合である。
該反応の反応温度は、通常２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常０．５〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を濃縮し、濾過する等の後処理操作を行うことにより、式（２７）で示される化合物を単離することができる。単離された式（２７）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
【００２８】
（中間体製造法３）
2005082549.tif 000011
〔式中、Ｒ1、Ｒ2及びＺは前記と同じ意味を表す。〕
（工程３−１）
式（３２）で示される化合物は、式（３１）で示される化合物を、パラジウム炭素存在下、水素雰囲気下で反応させることにより製造することができる。
該反応は、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、メタノール、エタノール等のアルコール類、テトラヒドロフラン等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル類、トルエン等の芳香族炭化水素類、水及びこれらの混合物があげられる。
反応に用いられるパラジウム炭素の量は、式（３１）で示される化合物1モルに対して、通常パラジウム炭素に含有されるパラジウムが０．００１〜０．１モルとなる割合である。
該反応の反応温度は、通常２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物に必要に応じて有機溶媒を加え、濾過して、濾液を減圧下濃縮する等の後処理操作を行うことにより、式（３２）で示される化合物を単離することができる。単離された式（３２）で示される化合物は、クロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することができる。
【００２９】
（工程３−２）
式（４）で示される化合物は、（製造法３）に準ずる方法で、式（３）で示される化合物の代わりに式（３２）で示される化合物を用いて反応させることにより製造することができる。
【００３０】
（工程３−３）
式（３３）で示される化合物は、（製造法３）に準ずる方法で、式（３）で示される化合物の代わりに式（３１）で示される化合物を用いて反応させることにより製造することができる。
【００３１】
式（４）で示される化合物は、（中間体製造法３）の（工程３−１）に準ずる方法で、式（３１）で示される化合物の代わりに式（３３）で示される化合物を用いて反応させることにより製造することができる。
【００３２】
（中間体製造法４）
2005082549.tif 000012
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＺは前記と同じ意味を表す。〕
式（３）で示される化合物は（製造法４）に準ずる方法で、式（４）で示される化合物の代わりに式（３２）で示される化合物を用いて反応させることにより製造することができる。
【００３３】
次に、本発明化合物の具体例を以下に示す。
式（1-a）で示される化合物；
2005082549.tif 000013
式（1-b）で示される化合物；
2005082549.tif 000014
上記式（1-a）及び式（1-b）において、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の各置換基の組合せは、以下の（表１）及び（表２）に記載する。
【００３４】
【表１】
2005082549.tif 000015
【００３５】
【表２】
2005082549.tif 000016
【００３６】
本発明化合物が防除効力を有する植物病害としては、例えば藻菌類による植物病害があげられ、具体的には例えば次の病害があげられる。
蔬菜類、ダイコンのべと病（Peronospora brassicae）、ホウレンソウのべと病（Peronospora spinaciae）、タバコのべと病（Peronospora tabacina）、ウリ類のべと病（Pseudoperonospora cubensis）、ブドウのべと病(Plasmopara viticola)、リンゴ、イチゴ、ヤクヨウニンジンの疫病（Phytophthora cactorum）、トマト、キュウリの灰色疫病（Phytophora capsici）、パイナップルの疫病（Phytophthora cinnamomi）、ジャガイモ、トマトの疫病（Phytophthora infestans）、タバコ、ソラマメ、ネギの疫病（Phytophthora nicotianae var. nicotianae）、ホウレンソウの立枯病（Pythium sp.）、キュウリ苗立枯病（Pythium aphanidermatum）、コムギ褐色雪腐病（Pythium sp.）、タバコ苗立枯病（Pythium debaryanum）、ダイズのPythium rot（Pythium aphanidermatum, P. debaryanum, P. irregulare, P. myriotylum, P. ultimum）。
【００３７】
本発明の植物病害防除剤は本発明化合物そのものであってもよいが、通常は固体担体、液体担体、界面活性剤その他の製剤用補助剤と混合し、乳剤、水和剤、顆粒水和剤、フロアブル剤、粉剤、粒剤等に製剤化されている。これらの製剤は本発明化合物を通常０．１〜９０重量％含有する。
製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えばカオリンクレー、アッタパルジャイトクレー、ベントナイト、モンモリロナイト、酸性白土、パイロフィライト、タルク、珪藻土、方解石等の鉱物、トウモロコシ穂軸粉、クルミ殻粉等の天然有機物、尿素等の合成有機物、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム等の塩類、合成含水酸化珪素等の合成無機物等からなる微粉末あるいは粒状物等があげられ、液体担体としては、例えばキシレン、アルキルベンゼン、メチルナフタレン等の芳香族炭化水素類、２−プロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、セロソルブ等のアルコール類、アセトン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、ダイズ油、綿実油等の植物油、石油系脂肪族炭化水素類、エステル類、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、水があげられる。
【００３８】
界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル塩、アルキルアリールスルホン酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテルリン酸エステル塩、リグニンスルホン酸塩、ナフタレンスルホネートホルムアルデヒド重縮合物等の陰イオン界面活性剤及びポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンアルキルポリオキシプロピレンブロックコポリマ−、ソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン界面活性剤があげられる。
その他の製剤用補助剤としては、例えばポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン等の水溶性高分子、アラビアガム、アルギン酸及びその塩、ＣＭＣ（カルボキシメチルセルロ−ス）、ザンサンガム等の多糖類、アルミニウムマグネシウムシリケート、アルミナゾル等の無機物、防腐剤、着色剤、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ等の安定化剤があげられる。
【００３９】
本発明の植物病害防除剤は、例えば植物体に処理することにより当該植物を植物病害から保護するために用いられ、また、土壌に処理することにより当該土壌に生育する植物を植物病害から保護するために用いられる。
【００４０】
本発明の植物病害防除剤を植物体に茎葉処理することにより用いる場合または土壌に処理することにより用いる場合、その処理量は、防除対象植物である作物等の種類、防除対象病害の種類、防除対象病害の発生程度、製剤形態、処理時期、気象条件等によって変化させ得るが、１００００ｍ2あたり本発明化合物として通常１〜５０００ｇ、好ましくは５〜１０００ｇである。
【００４１】
乳剤、水和剤、フロアブル剤等は、通常水で希釈して散布することにより処理する。この場合、本発明化合物の濃度は通常０．０００１〜３重量％、好ましくは０．０００５〜１重量％の範囲である。粉剤、粒剤等は通常希釈することなくそのまま処理する。
【００４２】
また、本発明の植物病害防除剤は種子消毒等の処理方法で用いることもできる。その方法としては、例えば本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍとなるように調製した本発明の植物病害防除剤に植物の種子を浸漬する方法、植物の種子に本発明化合物の濃度が１〜１０００ｐｐｍの本発明の植物病害防除剤を噴霧もしくは塗沫する方法及び植物の種子に本発明の植物病害防除剤を粉衣する方法があげられる。
【００４３】
本発明の植物病害防除方法は、通常本発明の植物病害防除剤の有効量を、病害の発生が予測される植物若しくはその植物が生育する土壌に処理する、及び／または病害の発生が確認された植物若しくはその植物が生育する土壌に処理することにより行われる。
【００４４】
本発明の植物病害防除剤は通常、農園芸用植物病害防除剤、即ち畑地、水田、果樹園、茶園、牧草地、芝生地等の植物病害を防除するための植物病害防除剤として用いられる。
本発明の植物病害防除剤剤は他の植物病害防除剤剤、殺虫剤、殺ダニ剤、殺線虫剤、除草剤、植物生長調節剤及び／または肥料と共に用いることもできる。
【００４５】
かかる植物病害防除剤の有効成分としては、例えば、クロロタロニル、フルアジナム、ジクロフルアニド、ホセチル−Ａｌ、環状イミド誘導体（キャプタン、キャプタホール、フォルペット等）、ジチオカーバメート誘導体（マンネブ、マンコゼブ、チラム、ジラム、ジネブ、プロピネブ等）、無機もしくは有機の銅誘導体（塩基性硫酸銅、塩基性塩化銅、水酸化銅、オキシン銅等）、アシルアラニン誘導体（メタラキシル、フララキシル、オフレース、シプロフラン、ベナラキシル、オキサジキシル等）、ストロビルリン系化合物（クレソキシムメチル、アゾキシストロビン、トリフロキシストロビン、ピコキシストロビン、ピラクロストロビン、ジモキシストロビン等）、アニリノピリミジン誘導体（シプロジニル、ピリメタニル、メパニピリム等）、フェニルピロール誘導体（フェンピクロニル、フルジオキソニル等）、イミド誘導体（プロシミドン、イプロジオン、ビンクロゾリン等）、ベンズイミダゾール誘導体（カルベンダジム、ベノミル、チアベンダゾール、チオファネートメチル等）、アミン誘導体（フェンプロピモルフ、トリデモルフ、フェンプロピジン、スピロキサミン等）、アゾール誘導体（プロピコナゾール、トリアジメノール、プロクロラズ、ペンコナゾール、テブコナゾール、フルシラゾール、ジニコナゾール、ブロムコナゾール、エポキシコナゾール、ジフェノコナゾール、シプロコナゾール、メトコナゾール、トリフルミゾール、テトラコナゾール、マイクロブタニル、フェンブコナゾール、ヘキサコナゾール、フルキンコナゾール、トリティコナゾール、ビテルタノール、イマザリル、フルトリアホール等）、シモキサニル、ジメトモルフ、ファモキサドン、フェナミドン、イプロヴァリカルブ、ベンチアバリカルブ、シアゾファミド、ゾキサミド、エタボキサム、ニコビフェン、フェンヘキサミド、キノキシフェン、ジエトフェンカルブ及びアシベンゾラールＳメチルがあげられる。
【実施例】
【００４６】
以下、本発明を製造例及び製剤例等によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例のみに限定されるものではない。
【００４７】
まず、本発明化合物の製造例を示す。
製造例１
４−クロロフェニル酢酸１７０ｍｇ、５−アミノ−４−（３，４−ジメトキシフェニル）ピリミジン２３１ｍｇ、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩２１１ｍｇ及びピリジン１０ｍｌを混合し、１１５℃で１０時間撹拌した。その後、室温付近まで放冷した反応混合物を減圧下濃縮し、水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を水及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をヘキサンで洗浄して、Ｎ−｛４−（３，４−ジメトキシフェニル）ピリミジン−５−イル｝−２−（４−クロロフェニル）アセトアミド（以下、本発明化合物（１）と記す。）２５４ｍｇを得た。
本発明化合物（１）
2005082549.tif 000017
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．７０（２Ｈ，ｓ）、３．８８（３Ｈ，ｓ）、３．９８（３Ｈ，ｓ）、６．５９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ、１．４Ｈｚ）、６．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ）、７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈｚ）、７．１４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．３１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．３９（１Ｈ，ｂｒ）、８．９７（１Ｈ，ｓ）、９．７３（１Ｈ，ｓ）
【００４８】
次に、本発明化合物の製造中間体の製造について参考製造例を示す。
【００４９】
参考製造例１
炭酸ジエチル２１４ｇを約１２５℃にして、金属ナトリウム６．３ｇを徐々に加えた。混合物が均一となるまで攪拌し、ここに（３，４−ジメトキシフェニル）アセトフェノン５０．０ｇと炭酸ジエチル５０ｇとの混合物を徐々に加え、１４０℃で攪拌した。反応混合物を室温付近まで放冷してから、水と酢酸の混合液（水／酢酸＝４／１）を加えて分液し、得られた水層をジエチルエーテルで２回抽出した。有機層を混合して水で３回洗浄した後、得られた有機層を乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、３−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−オキソ−プロピオン酸エチル５５ｇを得た。
３−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−オキソ−プロピオン酸エチル
2005082549.tif 000018
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．３９（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、３．８７〜３．９４（８Ｈ，m）、４．３６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ）、６．８９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ）、７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ）、７．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８，２Ｈｚ）
【００５０】
参考製造例２
無水酢酸６７ｇに３−（３，４−ジメトキシフェニル）−３−オキソ−プロピオン酸エチル５５ｇとオルトギ酸エチル４９ｇとを加え、１２０℃で２時間、１４０℃で５時間攪拌した。その後、減圧下濃縮して２−（３，４−ジメトキシフェニルベンゾイル）−３−エトキシアクリル酸エチル６４ｇを粗生成物として得た。
２−（３，４−ジメトキシフェニルベンゾイル）−３−エトキシアクリル酸エチル
2005082549.tif 000019
【００５１】
参考製造例３
エタノール５０ｍｌに参考製造例２の２−（３，４−ジメトキシフェニルベンゾイル）−３−エトキシアクリル酸エチル１０ｇとホルムアミジン酢酸塩４．１ｇとを混合し、ここにナトリウムエトキシド（重量％；２０％）のエタノール溶液を加えて５０℃で４時間攪拌した。その後、反応混合物を減圧下濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−エトキシカルボニル−４−（３，４−ジメトキシフェニル）ピリミジン４．７ｇを得た。
５−エトキシカルボニル−４−（３，４−ジメトキシフェニル）ピリミジン
2005082549.tif 000020
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ(ppm)：１．２２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、３．９５（６Ｈ，ｓ）、４．２９（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ）、６．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．２０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．３Ｈｚ）、７．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、８．９９（１Ｈ，ｓ）、９．２６（１Ｈ，ｓ）
【００５２】
参考製造例４
テトラヒドロフラン２０ｍｌに５−エトキシカルボニル−４−（３，４−ジメトキシフェニル）ピリミジン２．６ｇと水酸化カリウム水溶液（３ｍｏｌ／ｌ）５ｍｌとを加え、４時間加熱還流した。室温付近まで放冷してから反応混合物を希塩酸で酸性にして、酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮して４−（３，４−ジメトキシフェニル）ピリミジン−５−カルボン酸１．４ｇを得た。
４−（３，４−ジメトキシフェニル）ピリミジン−５−カルボン酸
2005082549.tif 000021
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6，ＴＭＳ）δ(ppm)：３．７９（３Ｈ，ｓ）、３．８２（３Ｈ，ｓ）、７．０７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）、７．２６−７．３３（２Ｈ，ｍ）、８．９６（１Ｈ，ｓ）、９．２５（１Ｈ，ｓ）
【００５３】
参考製造例５
１，１−ジメチルエタノール２０ｍｌに４−（３，４−ジメトキシフェニル）ピリミジン−５−カルボン酸１．４ｇ、トリエチルアミン０．８１ｇ及びジフェニルホスホリルアジド１．８ｇを加え、６時間加熱還流した。室温付近まで放冷した反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を減圧下濃縮した。残渣にトリフルオロ酢酸５ｍｌ、酢酸２０ｍｌ及び水５ｍｌを混合し、６０℃で１時間攪拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を乾燥し、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、５−アミノ−４−（３，４−ジメトキシフェニル）ピリミジン０．６０ｇを得た。
５−アミノ−４−（３，４−ジメトキシフェニル）ピリミジン
2005082549.tif 000022
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）δ(ppm)：３．９３（６Ｈ，ｓ）、４．１０（２Ｈ，ｓ）、６．９６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ）、７．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ）、７．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，８．３Ｈｚ）、８．２０（１Ｈ，ｓ）、８．６７（１Ｈ，ｓ）
【００５４】
次に製剤例を示す。なお、部は重量部を表す。
製剤例１
本発明化合物（１）５０部、リグニンスルホン酸カルシウム３部、ラウリル硫酸マグネシウム２部及び合成含水酸化珪素４５部をよく粉砕混合することにより、水和剤を得る。
【００５５】
製剤例２
本発明化合物（１）２０部とソルビタントリオレエ−ト１．５部とを、ポリビニルアルコール２部を含む水溶液２８．５部と混合し、湿式粉砕法で微粉砕した後、この中に、キサンタンガム０．０５部及びアルミニウムマグネシウムシリケート０．１部を含む水溶液４０部を加え、さらにプロピレングリコール１０部を加えて攪拌混合し、フロアブル製剤を得る。
【００５６】
製剤例３
本発明化合物（１）２部、カオリンクレー８８部及びタルク１０部をよく粉砕混合することにより、粉剤を得る。
【００５７】
製剤例４
本発明化合物（１）５部、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエ−テル１４部、ドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部及びキシレン７５部をよく混合することにより、乳剤を得る。
【００５８】
製剤例５
本発明化合物（１）２部、合成含水酸化珪素１部、リグニンスルホン酸カルシウム２部、ベントナイト３０部及びカオリンクレー６５部をよく粉砕混合した後、水を加えてよく練り合せ、造粒乾燥することにより、粒剤を得る。
【００５９】
製剤例６
本発明化合物（１）１０部；ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部；及び水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、フロアブル製剤を得る。