(57)【要約】【課題】高密度化のための出力向上と同時に耐久性を改良した磁気記録媒体を提供する。【解決手段】非磁性支持体上に実質的に非磁性である下層と強磁性微粉末を結合剤中に分散してなる磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体において、磁性層表面における５ｎｍ以上の突起が５０〜３００個／２００００μｍ２であり、前記磁性層に５０％頻度粒子径（Ｄ５０）が３０〜１５０ｎｍであるダイヤモンド微粒子を含有する磁気記録媒体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体上に実質的に非磁性である下層と強磁性微粉末を結合剤中に分散してなる磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体において、磁性層表面における５ｎｍ以上の突起が５０〜３００個／２００００μｍ２であり、前記磁性層に５０％頻度粒子径（Ｄ５０）が３０〜１５０ｎｍであるダイヤモンド微粒子を含有することを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記ダイヤモンド微粒子の９０％頻度粒子径（Ｄ９０）が５０〜２５０ｎｍであることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体
【請求項３】
前記磁気記録媒体の幅方向のスティフネス（Ｆ（ＴＤ））と長手方向とステフネス（Ｆ（ＭＤ））の比（Ｆ（ＴＤ）／Ｆ（ＭＤ））が０．９以上であることを特徴とする請求項１または２記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高密度記録用磁気記録媒体に関し、特に走行耐久性に優れた磁気記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
最近のＶＴＲやコンピュータードライブでは、高容量化と合わせて、磁気ヘッドに対する磁気記録媒体の相対速度を高速化させて、いわゆる高転送レート化が進展している。高容量化のためには、記録密度の向上が必要で、電磁変換特性の優れた磁気記録媒体が要請されている。また高容量化、高転送レート化のために、テープ送り速度アップや、回転シリンダーを使用したドライブでは回転数やヘッド数を増やして対応しているため、磁気記録媒体の耐久性アップも合わせて進める必要がある。
記録密度の向上のため、微粒子、高抗磁力タイプの強磁性金属微粉末や六方晶系フェライト微粉末が用いられてきている。
さらに、これらの微粒子、高抗磁力タイプの強磁性粉末を用いた磁気テープでは、高記録密度化のため、磁性層を薄層化して磁性層の厚み損失による再生出力の低下を改良することが行われている。例えば、特開平５ー１８２１７８号公報［特許文献１］には支持体上に無機質粉末を含み、結合剤に分散してなる下層非磁性層と該非磁性層が湿潤状態にある内に強磁性粉末を結合剤に分散してなる１．０μｍ以下の厚みの上層磁性層を設けた磁気記録媒体が開示されている。これらの発明をもとにＤＬＴＩＶ、ＤＤＳ３やその後登場したＤＤＳ４、ＬＴＯ、ＳＤＬＴ、ＤＴＦ２等のコンピューター用テープとして、ＤＶＣｐｒｏのような放送用テープとして、上層薄層磁性層、下層非磁性層の構成の磁気テープが使用されている。
前記高容量化、高密度化するためには、更なる磁性層の平滑化や磁気特性の最適化、微粒子磁性体の実用化等が必要であり、あわせて優れた耐久性を付与させることが重要である。
【０００３】
【特許文献１】
特開平５ー１８２１７８号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は高密度化のための出力向上を磁性層表面の平滑化により高密度化が達成できるが、この際、テープ耐久性が著しく劣化するため、その改良を狙ったものである。
【０００５】
【発明が解決するための手段】
本発明は、下記の手段によって達成された。
（１）非磁性支持体上に実質的に非磁性である下層と強磁性微粉末を結合剤中に分散してなる磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体において、磁性層表面における５ｎｍ以上の突起が５０〜３００個／２００００μｍ２であり、前記磁性層に５０％頻度粒子径（Ｄ５０）が３０〜１５０ｎｍ（０．０３〜０．１５μｍ）であるダイヤモンド微粒子を含有することを特徴とする磁気記録媒体。ここで、５０〜３００個は５０個以上３００個以下を意味する。本明細書中ではすべての「〜」は同様に用いる。
（２）前記ダイヤモンド微粒子の９０％頻度粒子径（Ｄ９０）が５０〜２５０ｎｍ（０．０５〜０．２５μｍ）であることを特徴とする（１）記載の磁気記録媒体
（３）前記磁気記録媒体の幅方向のスティフネス（Ｆ（ＴＤ））と長手方向とステフネス（Ｆ（ＭＤ））の比（Ｆ（ＴＤ）／Ｆ（ＭＤ））が０．９以上であることを特徴とする（１）または（２）記載の磁気記録媒体。
（４）前記Ｄ９０−前記Ｄ５０の値が８０ｎｍ以下（好ましくは１０ｎｍ以上、より好ましくは２０ｎｍ以上）であることを特徴とする（１）、（２）また（３）に記載の磁気記録媒体。
【０００６】
【発明の実施の形態】
［磁性層］
本発明の磁気記録媒体では、磁性層の中心面平均表面粗さ（Ｒａ）は３．０ｎｍ以下が好ましい。しかしこの表面粗さの領域では中心面平均表面粗さの指標で表面粗さをコントロールしても必ずしも出力に反映しないことが分かってきた。本発明で鋭意検討したところ、５ｎｍ以上の表面突起をコントロールすることで出力向上を図ることができることが分かった。本発明では、磁性層表面の５ｎｍ以上の表面突起数が５０個〜３００個／２００００μｍ２であることが好ましく、更に好ましくは７０〜２７０個／２００００μｍ２である。５０個／２００００μｍ２以上が摩擦係数の上昇が小さく、走行耐久の点で好ましい。
表面突起数はＺＹＧＯ社製ＮｅｗＶｉｅｗ５０１０（三次元表面構造解析顕微鏡）を用いて、対物レンズ２０倍、ズーム倍率２．０倍、ＨｉｇｈＦｉｌｔｅｒ８３０ｎｍ、ＬｏｗＦｉｌｔｅｒ３０００ｎｍの条件にて、３０μｍ以下の波長成分からなる表面プロファイルにおいて、突起の体積とくぼみの体積が等しくなる面を基準面（＝０）とし、基準面から５ｎｍ離れた基準面と平行な面でスライスし、突起個数をカウントすることにより測定することができる。
【０００７】
上記の微小な表面突起数をコントロールする方法としては、上層磁性層用塗布液の分散強化、下層非磁性用塗布液の分散強化、支持体の突起数低減、下層磁性層の厚味アップ、カレンダー温度、圧力アップ等の方法がある。
表面性以外に出力を決めている要因として、ヘッド当たりがある。ヘッドに対して磁気テープがよく当たるように設計する必要がある。本発明では磁気テープのＴＤ方向のスティフネスＦ（ＴＤ）とＭＤ方向のスティフネスＦ（ＭＤ）の比率を０．９以上（好ましくは０．９５以上）にすることにより、良好なヘッド当たりが得られることが分かった。スティフネスはヤング率と厚味によって決まる。厚味を一定とすると、ヤング率によって決まるが、磁気テープの中で厚味分率の高い支持体のヤング率が支配的である。磁気テープのＴＤ方向のスティフネスＦ（ＴＤ）とＭＤ方向のスティフネスＦ（ＭＤ）の比率を０．９以上にするためには、支持体のＴＤ方向のスティフネスＦ（ＴＤ）とＴＤ方向のスティフネスＦ（ＭＤ）の比率を０．９以上にすれば達成することができる。
以上のようにして表面突起数をコントロールし表面を平滑にし、かつＴＤ方向、ＭＤ方向のスティフネスの比率をコントロールしヘッド当たりを良好にすることにより、出力を向上させることができたが、スチル耐久性（静止画再生耐久性）が著しく低下してしまった。
このスチル耐久性劣化に対して、ダイヤモンド微粒子を磁性層に添加することにより解決できることが分かった。ダイヤモンド微粒子の５０％頻度粒子径（Ｄ５０）は、３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であり、さらには３０以上１４０ｎｍ以下が好ましい。１５０ｎｍ以下が摩耗量が緩和し、ヘッドダメージが小さい点で好ましい。また、３０ｎｍ以上がスチル耐久性への効果が大きく好ましい。同様の理由でダイヤモンド微粒子のＤ（９０）粒径は５０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下が好ましく、さらには５０ｎｍ以上２３０ｎｍ以下が好ましい。
本発明においては、ダイヤモンド粒子の粒子径は、積算粒子径分布（篩下分布）におけるｘ％頻度の粒子径をＤ（ｘ）とする。Ｄ（５０）は５０％頻度の粒径（５０％頻度粒径）、Ｄ（９０）は９０％頻度の粒径（９０％頻度粒径）を示す。粒子径は、電子顕微鏡写真から無作為に抽出した粒子の円相当径を少なくとも５００個以上計測して求めることができる。
【０００８】
本発明に使用されるダイヤモンド粒子の配合量は、強磁性粉末に対して０．１〜５．０質量％であり、好ましくは０．５〜３質量％である。該配合量が、０．１質量％未満では、走行耐久性が確保されず、５．０質量％より大きくなるとＳ／Ｎが低下し、ヘッド摩耗が増加する。ダイヤモンドはアルミナ粒子と併用してもよい。併用されるアルミナ粒子の平均粒子径は、５０〜２５０ｎｍで、好ましくは１００〜２５０ｎｍである。また、アルミナの配合量は、強磁性金属粉末に対して好ましくは１〜３０質量％であり、更に好ましくは３〜１５質量％である。該配合量が、１質量％未満では、走行耐久性が確保されず、３０質量％より大きくなるとＳ／Ｎが低下し、ヘッド摩耗が増加する。また、本発明においては、ダイヤモンドとアルミナは、質量比で好ましくはダイヤモンド：アルミナ＝１：０．５〜１：３０、更に好ましくは１：１．５〜１：２０の範囲で添加される。この配合率において、アルミナが少な過ぎても過剰であっても走行耐久性の改善効果が低くなる。
【０００９】
磁性層の厚味は４０ｎｍ〜２００ｎｍが好ましく、６０〜２００ｎｍがより好ましい。適用する記録再生システムに応じて最適な厚味範囲を設定することができる。一般には４０ｎｍ以下になると出力が低下してしまい十分な出力やＣ／Ｎが得られない。一方２００ｎｍ以上だと、ノイズ成分が高くなりＣ／Ｎが劣化してしまう。
本発明での磁性層の平均厚味は以下のようにして求めることできる。透過型電顕用資料作成法として公知である超薄切片法にて磁気記録媒体の厚味方向の超薄切片（約８０ｎｍ厚）試料を作成し、透過型電顕にて超薄切片写真（５００００倍）を撮影する。前記写真の上層表面および上下層界面をフィルムベース上にトレースし、上層表面と上下層界面間を０．０２５μｍ間隔の厚み方向に平行な直線５００本を引き、その長さの平均を磁性層厚みとして求めた。
【００１０】
本発明の磁性層表面突起は、支持体起因の突起と塗布層に関連する突起とによって分類される。通常支持体表面には、微粒子の無機ないし有機フィラーを含有させて微小な突起を形成している。この微小な突起が非磁性下層や磁性層により緩和されつつも磁性層表面に反映して微小な表面突起が形成される。フィラーの粒子サイズを変えることにより、磁性層表面の突起数変化せせることができる。また支持体表面の突起の影響は、塗布層の厚味が厚くすることによって、ベース表面突起の影響が小さくなり磁性層表面の突起は減少させることができる。
【００１１】
塗布層の突起は、上層に含有される磁性体、研磨剤、カーボンブラック、下層に含有される非磁性粉体、研磨剤、カーボンブラック等の無機粉体の粒子サイズ、それらを分散するバインダーや潤滑剤の種類、上層液、下層液を調製するときの混練条件、分散条件、塗布層厚味、塗布乾燥条件、カレンダー条件、磁性層表面の表面処理条件等によってコントロールすることができる。
上記無機粉体の粒子サイズが小さくなると、分散しにくくなり突起を形成しやすい。バインダーとの組み合わせでも分散状態が変化し、突起数が変化する。また混練条件は添加する溶剤量を少なくして強練りすると、混練物の分散が難しく突起数が増える方向であり、溶剤量を増して弱練りにすると突起数が減る方向である。
【００１２】
分散条件としては、分散時間、サンドミル分散に用いる分散メディアの硬度、比重等がある。分散時間が短いと、突起数が増加する。一般には分散時間が長くすることにより突起数を減少させることができるが、場合によっては、分散機や分散メディアの摩耗によるコンタミで粒子の凝集が起こり突起数が増加することもある。
カレンダー条件は、一般には強くする（カレンダ圧力、温度、ロール硬度を高める、スピードを下げる）と突起を少なくすることができる。
【００１３】
磁性層表面処理の方法としては、研磨テープやダイヤモンドホイールを磁性層表面に押しつけて研磨する方法で、研磨テープやダイｙモンドホイールの番手や押しつけ圧をコントロールすることにより、本発明の表面突起をコントロールすることができる。
テープの場合、特開昭６３−２５９８３０号報に開示されている、研磨テープを用いた研磨処理法（ラッピングテープブレード法）、サファイヤブレード法、ダイヤモンドホイール法等があり、これらの方法の選択や、それぞれの処理条件の設定により表面突起をコントロールすることができる。支持体の表面突起や塗布層の突起が多い場合でも、この表面処理を施せば、磁性層表面の突起を減少させることができる。
以上のように磁性層表面の突起をコントロールには、さまざまな方法があり、磁気記録媒体が必要とする性能を得るためには、これらの手法を組み合わせて最適化する必要がある。
【００１４】
［上層磁性層］
本発明の上層磁性層に使用する強磁性粉末としては、α−Ｆｅを主成分とする強磁性金属（好ましくは合金）粉末が好ましい。これらの強磁性粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましく、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌの少なくとも一つを含むことがさらに好ましい。Ｃｏの含有量はＦｅに対して０〜４０原子％が好ましく、さらに好ましくは１５〜３５原子％以下、より好ましくは２０〜３５原子％である。Ｙの含有量は１．５〜１５原子％が好ましく、さらに好ましくは３〜１２原子％である。Ａｌは１．５〜１５原子％が好ましく、さらに好ましくは３〜１２原子％以下である。これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１３号、特公昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５号、特公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８５０９号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１０３０７号、特公昭４６−３９６３９号、米国特許第３０２６２１５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号などに記載されている。
【００１５】
強磁性合金（微）粉末には少量の水酸化物、または酸化物が含まれてもよい。強磁性合金（微）粉末の公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。このようにして得られた強磁性合金粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いることができる。
【００１６】
本発明で用いる強磁性粉末をＢＥＴ法による比表面積（ＳＢＥＴ）で表せば４０〜８０ｍ２／ｇであり、好ましくは４５〜７０ｍ２／ｇである。４０ｍ２／ｇ以下ではノイズが高くなり、８０ｍ２／ｇ以上では表面性が得にくく好ましくない。本発明の磁性層の強磁性粉末の結晶子サイズは８０〜１８０Åであり、好ましくは１００〜１８０Å、更に好ましくは１１０〜１７５Åである。強磁性粉末の平均長軸長は０．０５μｍ以上０．１μｍ以下であり、好ましくは０．０５μｍ以上０．０９μｍ以下である。強磁性粉末の平均針状比は５〜１５が好ましく、さらには６〜１２が好ましい。針状比は透過型電顕によって測定される平均長軸長とＸ線回折によって得られる結晶子サイズとの比によって表される。磁性金属粉末のσｓは７０〜１８０Ａ・ｍ２／ｋｇであり、好ましくは８０〜１７０Ａ・ｍ２／ｋｇである。金属粉末の抗磁力は１１９〜３１８ｋＡ／ｍが好ましく、更に好ましくは１５９〜２７９ｋＡ／ｍ、更に好ましくは１８３〜２３９ｋＡ／ｍである。
【００１７】
強磁性金属粉末の含水率は０．１〜２％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性粉末のｐＨは、用いる結合剤との組合せにより最適化することが好ましい。その範囲は６〜１２であるが、好ましくは７〜１１である。強磁性粉末は必要に応じ、表面処理を行いＡｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などの形になっていてもかまわない。その量は強磁性粉末に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ２以下になり好ましい。強磁性金属粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量（表面の塩基性点の尺度）は１〜１５μｍｏｌ／ｍ２、好ましくは２〜１０μｍｏｌ／ｍ２、さらに好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ２である。ステアリン酸吸着量が多い強磁性金属粉末を使用する時、表面に強く吸着する有機物で表面修飾して磁気記録媒体を作成することが好ましい。強磁性粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に無い方が好ましいが、３００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えることは少ない。また、本発明に用いられる強磁性粉末は空孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さらに好ましくは５容量％以下である。また形状については先に示した粉体の物理的及び磁気特性を満足すれば針状、米粒状、紡錘状のいずれでもかまわない。強磁性粉末自体のＳＦＤ（ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ−ｆｉｅｌｄ  ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）は小さい方が好ましく、０．６以下が好ましい。強磁性粉末のＨｃの分布を小さくする必要がある。尚、ＳＦＤが０．６以下であると、電磁変換特性が良好で、出力が高く、また、磁化反転がシャープでピークシフトも少なくなり、高密度デジタル磁気記録に好適である。Ｈｃの分布を小さくするためには、強磁性金属粉末においてはゲ−タイトの粒度分布を良くする、単分散α−Ｆｅ２Ｏ３を使用する、焼結を防止するなどの方法がある。
【００１８】
本発明の上層に使用されるカ−ボンブラックの例はゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができる。比表面積（ＳＢＥＴ）は５〜５００ｍ２  ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、平均粒（子）径は５ｍμ〜３００ｍμ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０質量％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。本発明に用いられるカ−ボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００、１３００、１０００、９００、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、旭カ−ボン社製、＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃９００、＃１０００＃３０、＃４０、＃１０Ｂ、コンロンビアカ−ボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  １５０、５０、４０、１５などがあげられる。カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカ−ボンブラックは単独、または組合せで使用することができる。
【００１９】
カ−ボンブラックを使用する場合は強磁性粉末に対する量の０．１〜３０質量％で用いることが好ましい。
カ−ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカ−ボンブラックにより異なる。従って本発明に使用されるこれらのカ−ボンブラックは磁性層、下層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。本発明の磁性層で使用できるカ−ボンブラックは例えば「カ−ボンブラック便覧」カ−ボンブラック協会編を参考にすることができる。
【００２０】
［非磁性層］
次に下層に関する詳細な内容について説明する。本発明の下層に用いられる無機粉末は、非磁性粉末であり、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物、等の無機質化合物から選択することができる。無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独または組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。これら非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜０．５μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μｍ〜０．２μｍである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下が好ましく、針状金属酸化物である場合は、長軸長は０．２μｍ以下、好ましくは０．１５μｍ以下、さらに好ましくは０．１μｍ以下のもの適当である。非磁性粉末の針状比は２〜２０、好ましくは３〜１０である。タップ密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁性粉末の含水率は０．１〜５質量％、好ましくは０．２〜３質量％、更に好ましくは０．３〜１．５質量％である。非磁性粉末のｐＨは２〜１１であるが、ｐＨは５．５〜１０の間が特に好ましい。これらは官能基に対する吸着性が高いので、分散がよく、また塗膜の機械的な強度も高い。
【００２１】
非磁性粉末の比表面積は１〜１００ｍ２／ｇ、好ましくは５〜８０ｍ２／ｇ、更に好ましくは１０〜７０ｍ２／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイズは０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。比重は１〜１２、好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。モース硬度は４以上、１０以下のものが好ましい。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μｍｏｌ／ｍ２、好ましくは２〜１５μｍｏｌ／ｍ２、さらに好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ２である。ｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。これらの非磁性粉末の表面は表面処理されてＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｙ２Ｏ３が存在することが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２であるが、更に好ましいのはＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２である。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで処理した後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００２２】
本発明の下層に用いられる非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイトＤＰＮ−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５００ＢＸ、ＤＢＮ−ＳＡ１、ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、αヘマタイトＥ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、Ｅ３０３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイトα−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。
【００２３】
下層にカ−ボンブラックを混合させて公知の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビッカース硬度を得る事ができる。カーボンブラックの種類はゴム用ファ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができる。
【００２４】
下層のカ−ボンブラックの比表面積（ＳＢＥＴ）は１００〜５００ｍ２／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ２／ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは３０〜４００ｍｌ／１００ｇである。カ−ボンブラックの平均粒（子）径は５ｍμ〜８０ｍμ、好ましく１０〜５０ｍμ、さらに好ましくは１０〜４０ｍμである。カ−ボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。本発明に用いられるカ−ボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製  ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ  ２０００、１３００、１０００、９００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ  ＸＣ−７２、三菱化成工業社製  ＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−２３０、＃４０００、＃４０１０、コンロンビアカ−ボン社製  ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ  ＳＣ、ＲＡＶＥＮ  ８８００、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５００、２１００、２０００、１８００、１５００、１２５５、１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣなどがあげられる。カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カ−ボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対して５０質量％を越えない範囲、非磁性層総質量の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカ−ボンブラックは単独、または組合せで使用することができる。本発明で使用できるカ−ボンブラックは例えば「カ−ボンブラック便覧」（カ−ボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【００２５】
また下層には有機質粉末を目的に応じて、添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記されているようなものが使用できる。
下層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は以下に記載する磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。
【００２６】
［結合剤］
本発明の磁性層、非磁性層、及びバック層のバインダー、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は磁性層、非磁性層、バック層のそれらが共通にそれぞれに適用できる。特に、バインダー量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。
本発明に使用される結合剤としては従来公知の熱可塑系樹脂、熱硬化系樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。
熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜２００，０００、好ましくは１０，０００〜１００，０００、重合度が約５０〜１０００程度のものである。
【００２７】
このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコ−ル、マレイン酸、アクルリ酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセタ−ル、ビニルエ−テル、等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９に詳細に記載されている。
以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアルコ−ル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネ−トを組み合わせたものが挙げられる。
ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエ−テルポリウレタン、ポリエ−テルポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポリエステルポリカ−ボネ−トポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用できる。ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ、−ＳＯ３Ｍ、−ＯＳＯ３Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）２、（以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属塩基）、−ＯＨ、−ＮＲ２、−Ｎ＋Ｒ３（Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、−ＳＨ、−ＣＮ、などから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものを用いることが好ましい。このような極性基の量は１０−１〜１０−８モル／ｇであり、好ましくは１０−２〜１０−６モル／ｇである。
【００２８】
本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例としてはユニオンカ−バイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化社製、ダイフェラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三菱化成社製、ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０などが挙げられる。
本発明の非磁性層、磁性層に用いられる結合剤は非磁性粉末または磁性粉末に対し、５〜５０％の範囲、好ましくは１０〜３０％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０％、ポリウレタン樹脂合を用いる場合は２〜２０％、ポリイソシアネ−トは２〜２０％の範囲でこれらを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンのみまたはポリウレタンとイソシアネートのみを使用することも可能である。本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ましくは０℃〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ２（≒０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ２（≒０．４９〜９８ＭＰａ）が好ましい。
本発明の磁気記録媒体は二層以上からなる。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネ−ト、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ非磁性層、各磁性層とで変えることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各層でバインダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁性層のバインダー量を増量することが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするためには、非磁性層のバインダー量を多くして柔軟性を持たせることができる。
本発明に用いられるポリイソシアネ−トとしては、トリレンジイソシアネ−ト、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−１，５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシアネ−ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタントリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、これらのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネ−ト等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製、コロネートＬ、コロネ−トＨＬ、コロネ−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−トＭＲ、ミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製、タケネ−トＤ−１０２、タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−トＤ−２００、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社製、デスモジュ−ルＬ、デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−ルＮ、デスモジュ−ルＨＬ、等がありこれらを単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで各層とも用いることができる。
本発明に用いられる研磨剤としてはα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイヤモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカ−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモ−ス硬度６以上の公知の材料が単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０質量％以上であれば効果にかわりはない。タップ密度は０．３〜２ｇ／ｍｌ、含水率は０．１〜５質量％、ｐＨは２〜１１、比表面積（ＳＢＥＴ）は１〜３０ｍ２／ｇ、が好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。本発明に用いられる研磨剤の具体的な例としては、住友化学社製、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ−５０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ−６０Ａ、ＨＩＴ−７０、ＨＩＴ−１００、日本化学工業社製、Ｇ５、Ｇ７、Ｓ−１、戸田工業社製、ＴＦ−１００、ＴＦ−１４０などがあげられる。本発明に用いられる研磨剤は磁性層（上下層）、非磁性層で種類、量および組合せを変え、目的に応じて使い分けることはもちろん可能である。これらの研磨剤はあらかじめ結合剤で分散処理したのち磁性塗料中に添加してもかまわない。
【００２９】
本発明において添加剤としては、潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつものが使用できる。二硫化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコ−ンオイル、極性基をもつシリコ−ン、脂肪酸変性シリコ−ン、フッ素含有シリコ−ン、フッ素含有アルコ−ル、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコ−ル、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエ−テル、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ル、（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコ−ル、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコ−ルのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエ−テルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、などが使用できる。
【００３０】
これらの具体例としてはラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、ステアリン酸ブチル、オレイン酸、リノ−ル酸、リノレン酸、エライジン酸、ステアリン酸オクチル、ステアリン酸アミル、ステアリン酸イソオクチル、ミリスチン酸オクチル、ステアリン酸ブトキシエチル、アンヒドロソルビタンモノステアレ−ト、アンヒドロソルビタンジステアレ−ト、アンヒドロソルビタントリステアレ−ト、オレイルアルコ−ル、ラウリルアルコ−ル、があげられる。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用できる。
【００３１】
これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物    等の不純分がふくまれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。
【００３２】
本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面活性剤は下層、磁性上層でその種類、量を必要に応じ使い分けることができる。例えば、下層、磁性上層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を非磁性層で多くして潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。また本発明で用いられる添加剤のすべてまたはその一部は、磁性塗料製造のどの工程で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に強磁性粉末と混合する場合、強磁性粉末と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的が達成される場合がある。また、目的によってはカレンダーした後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。
【００３３】
本発明で使用されるこれら潤滑剤の商品例としては、日本油脂社製、ＮＡＡ−１０２、ＮＡＡ−４１５、ＮＡＡ−３１２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡＡ−１８０、ＮＡＡ−１７４、ＮＡＡ−１７５、ＮＡＡ−２２２、ＮＡＡ−３４、ＮＡＡ−３５、ＮＡＡ−１７１、ＮＡＡ−１２２、ＮＡＡ−１４２、ＮＡＡ−１６０、ＮＡＡ−１７３Ｋ、ヒマシ硬化脂肪酸、ＮＡＡ−４２、ＮＡＡ−４４、カチオンＳＡ、カチオンＭＡ、カチオンＡＢ、カチオンＢＢ、ナイミ−ンＬ−２０１、ナイミ−ンＬ−２０２、ナイミ−ンＳ−２０２、ノニオンＥ−２０８、ノニオンＰ−２０８、ノニオンＳ−２０７、ノニオンＫ−２０４、ノニオンＮＳ−２０２、ノニオンＮＳ−２１０、ノニオンＨＳ−２０６、ノニオンＬ−２、ノニオンＳ−２、ノニオンＳ−４、ノニオンＯ−２、ノニオンＬＰ−２０Ｒ、ノニオンＰＰ−４０Ｒ、ノニオンＳＰ−６０Ｒ、ノニオンＯＰ−８０Ｒ、ノニオンＯＰ−８５Ｒ、ノニオンＬＴ−２２１、ノニオンＳＴ−２２１、ノニオンＯＴ−２２１、モノグリＭＢ、ノニオンＤＳ−６０、アノンＢＦ、アノンＬＧ、ブチルステアレ−ト、ブチルラウレ−ト、エルカ酸、関東化学社製、オレイン酸、竹本油脂社製、ＦＡＬ−２０５、ＦＡＬ−１２３、新日本理化社製、エヌジェルブＬＯ、エヌジョルブＩＰＭ、サンソサイザ−Ｅ４０３０、信越化学社製、ＴＡ−３、ＫＦ−９６、ＫＦ−９６Ｌ、ＫＦ９６Ｈ、ＫＦ４１０、ＫＦ４２０、ＫＦ９６５、ＫＦ５４、ＫＦ５０、ＫＦ５６、ＫＦ９０７、ＫＦ８５１、Ｘ−２２−８１９、Ｘ−２２−８２２、ＫＦ９０５、ＫＦ７００、ＫＦ３９３、ＫＦ−８５７、ＫＦ−８６０、ＫＦ−８６５、Ｘ−２２−９８０、ＫＦ−１０１、ＫＦ−１０２、ＫＦ−１０３、Ｘ−２２−３７１０、Ｘ−２２−３７１５、ＫＦ−９１０、ＫＦ−３９３５、ライオンア−マ−社製、ア−マイドＰ、ア−マイドＣ、ア−モスリップＣＰ、ライオン油脂社製、デュオミンＴＤＯ、日清製油社製、ＢＡ−４１Ｇ、三洋化成社製、プロファン２０１２Ｅ、ニュ−ポ−ルＰＥ６１、イオネットＭＳ−４００、イオネットＭＯ−２００イオネットＤＬ−２００、イオネットＤＳ−３００、イオネットＤＳ−１０００イオネットＤＯ−２００などがあげられる。
［層構成］
本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性支持体が２〜１００μｍ、好ましくは２〜８０μｍである。コンピューターテープの非磁性支持体は、３．０〜１０μｍ（好ましくは、３．０〜９．０μｍ、更に好ましくは、３．０〜８．０μｍ）の範囲の厚さのものが使用される。
非磁性可撓性支持体と非磁性層また磁性層の間に密着性向上のための下塗り層を設けてもかまわない。該下塗層厚みは０．０１〜０．５μｍ、好ましくは０．０２〜０．５μｍである。本発明は通常支持体両面に非磁性層と磁性層を設けてなる両面磁性層ディスク状媒体であっても、片面のみに設けてもかまわない。この場合、帯電防止やカール補正などの効果を出すために非磁性層、磁性層側と反対側にバックコ−ト層を設けてもかまわない。この厚みは０．２〜１．５μｍ、好ましくは０．３〜０．８μｍである。これらの下塗層、バックコ−ト層は公知のものが使用できる。
本発明の磁気記録媒体では、平均磁性層厚みが４０〜２００ｎｍ、好ましくは６０〜２００ｎｍあることが適当である。磁性層は単一層でも、複数でも本発明の目的を達成できる。
本発明になる媒体の下層である非磁性層の厚みは０．０５μｍ以上５．０μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以上３．０μｍ以下、さらに好ましくは０．１μｍ以上２．５μｍ以下である。
【００３４】
［バックコート層］
一般に、コンピュータデータ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテープに比較して、繰り返し走行性が強く要求される。このような高い走行耐久性を維持させるために、バックコート層には、カーボンブラックと無機粉末が含有されていることが好ましい。
カーボンブラックは、平均粒子サイズの異なる二種類のものを組み合わせて使用することが好ましい。この場合、平均粒子サイズが１０〜２０ｍμの微粒子状カーボンブラックと平均粒子サイズが２３０〜３００ｍμの粗粒子状カーボンブラックを組み合わせて使用することが好ましい。一般に、上記のような微粒子状のカーボンブラックの添加により、バックコート層の表面電気抵抗を低く設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録装置によっては、テープの光透過率を利用し、動作の信号に使用しているものが多くあるため、このような場合には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効になる。また微粒子状カーボンブラックは一般に液体潤滑剤の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄与する。一方、粒子サイズが２３０〜３００ｍμの粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機能を有しており、またバック層の表面に微小突起を形成し、接触面積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与する。
【００３５】
微粒子状カーボンブラックの具体的な商品としては、以下のものを挙げることができる。
ＲＡＶＥＮ２０００Ｂ（１８ｍμ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（１７ｍμ）（以上、コロンビアカーボン社製）、ＢＰ８００（１７ｍμ）（キャボット社製）、ＰＲＩＮＮＴＥＸ９０（１４ｍμ）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（１５ｍμ）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５（１６ｍμ）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５（１７ｍμ）（以上、デグサ社製）、＃３９５０（１６ｍμ）（三菱化成工業（株）製）。
また粗粒子カーボンブラックの具体的な商品の例としては、サーマルブラック（２７０ｍμ）（カーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮ  ＭＴＰ（２７５ｍμ）（コロンビアカーボン社製）を挙げることができる。
バックコート層において、平均粒子サイズの異なる二種類のものを使用する場合、１０〜２０ｍμの微粒子状カーボンブラックと２３０〜３００ｍμの粗粒子状カーボンブラックの含有比率（質量比）は、前者：後者＝９８：２〜７５：２５の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、９５：５〜８５：１５の範囲である。
バックコート層中のカーボンブラック（二種類のものを使用する場合には、その全量）の含有量は、結合剤１００質量部に対して、通常３０〜８０質量部の範囲であり、好ましくは、４５〜６５質量部の範囲である。
【００３６】
無機粉末は、硬さの異なる二種類のものを併用することが好ましい。
具体的には、モース硬度３〜４．５の軟質無機粉末とモース硬度５〜９の硬質無機粉末とを使用することが好ましい。
モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末を添加することで、繰り返し走行による摩擦係数の安定化を図ることができる。しかもこの範囲の硬さでは、摺動ガイドポールが削られることもない。またこの無機粉末の平均粒子サイズは、３０〜５０ｍμの範囲にあることが好ましい。
モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末としては、例えば、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、及び酸化亜鉛を挙げることができる。これらは、単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。これらの中では、特に、炭酸カルシウムが好ましい。
バックコート層内の軟質無機粉末の含有量は、カーボンブラック１００質量部に対して１０〜１４０質量部の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、３５〜１００質量部である。
モース硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加することにより、バックコート層の強度が強化され、走行耐久性が向上する。これらの無機粉末をカーボンブラックや前記軟質無機粉末と共に使用すると、繰り返し摺動に対しても劣化が少なく、強いバックコート層となる。またこの無機粉末の添加により、適度の研磨力が付与され、テープガイドポール等への削り屑の付着が低減する。特に軟質無機粉末（中でも、炭酸カルシウム）と併用すると、表面の粗いガイドポールに対しての摺動特性が向上し、バックコート層の摩擦係数の安定化も図ることができる。
硬質無機粉末は、その平均粒子サイズが８０〜２５０ｍμ（更に好ましくは、１００〜２１０ｍμ）の範囲にあることが好ましい。
モース硬度が５〜９の硬質無機質粉末としては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、及び酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３）を挙げることができる。これらの粉末は、それぞれ単独で用いても良いし、あるいは併用しても良い。これらの内では、α−酸化鉄又はα−アルミナが好ましい。硬質無機粉末の含有量は、カーボンブラック１００質量部に対して通常３〜３０質量部であり、好ましくは、３〜２０質量部である。
バックコート層に前記軟質無機粉末と硬質無機粉末とを併用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉末との硬さの差が、２以上（更に好ましくは、２．５以上、特に、３以上）であるように軟質無機粉末と硬質無機粉末とを選択して使用することが好ましい。
【００３７】
バックコート層には、前記それぞれ特定の平均粒子サイズを有するモース硬度の異なる二種類の無機粉末と、前記平均粒子サイズの異なる二種類のカーボンブラックとが含有されていることが好ましい。特に、この組み合わせにおいて、軟質無機粉末として炭酸カルシウムが含有されていることが好ましい。
バックコート層には、潤滑剤を含有させることができる。潤滑剤は、前述した非磁性層、あるいは磁性層に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から適宜選択して使用できる。バックコート層において、潤滑剤は、結合剤１００質量部に対して通常１〜５質量部の範囲で添加される。
【００３８】
〔非磁性可撓性支持体〕
本発明の磁気記録媒体の厚み構成は非磁性支持体は２〜１００μｍ、好ましくは２〜８０μｍである。本発明に用いられる非磁性可撓性支持体はポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレー等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロ−ストリアセテ−ト、ポリカ−ボネ−ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、アラミド、芳香族ポリアミドなどの公知のフィルムが使用できる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっても良い。
本発明の目的を達成するには、非磁性支持体として表面の粗さ形状が必要に応じて支持体に添加されるフィラ−の大きさと量により自由にコントロ−ルされるものである。これらのフィラ−としては一例としてはＣａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機微粉末があげられる。支持体の最大高さＳＲｍａｘは１μｍ以下、十点平均粗さＳＲｚは０．５μｍ以下、中心面山高さはＳＲｐは０．５μｍ以下、中心面谷深さＳＲｖは０．５μｍ以下、中心面面積率ＳＳｒ  は１０％以上、９０％以下、平均波長Ｓλａは５μｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るため、これら支持体表面に微小な突起を形成させる必要があり、通常平均粒径０．０１〜０．２μｍのフィラーを０〜２００００個／ｍｍ２の範囲で支持体を形成する樹脂に添加し分散させるでコントロ−ルすることができる。この場合粒径分布中の粗大粒子や、凝集した粒子が通常存在するために、それによって形成される粗大突起が存在する。本発明では高さが０．２７３μｍ以上の突起が１００個／１００ｃｍ２以下、さらには８０個／１００ｃｍ２以下が好ましく、５０個／１００ｃｍ２以下が一層好ましい。
本発明に用いられる非磁性支持体のＭＤ方向のヤング率、ＴＤ方向のヤング率は共に５Ｇｐａ以上、好ましくはくは６Ｇｐａ以上、であり、ＴＤ方向のヤング率がＭＤ方向のヤング率より大きいことが好ましい。また、支持体の１００℃３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。破断強度は５〜１００Ｋｇ／ｍｍ２（≒４９〜９８０ＭＰａ）、弾性率は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ２（≒０．９８〜１９．６ＧＰａ）が好ましい。温度膨張係数は１０−４〜１０−８／℃であり、好ましくは１０−５〜１０−６／℃である。湿度膨張係数は１０−４／ＲＨ％以下であり、好ましくは１０−５／ＲＨ％以下である。これらの熱特性、寸法特性、機械強度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼで等しいことが好ましい。
【００３９】
〔磁気記録媒体の製造方法〕
本発明の磁気記録媒体は、各層を形成するための塗料を塗布・乾燥等することで製造することができる。塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する強磁性粉末、結合剤、カ−ボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後に粘度調整をするための混合工程で分割して投入してもよい。
【００４０】
本発明の磁気記録媒体の製造方法で用いられる有機溶媒は、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチルアルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等のものが使用できる。これら有機溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。本発明で用いる有機溶媒は磁性層と非磁性層でその種類は同じであることが好ましい。その添加量は変えてもかまわない。非磁性層に表面張力の高い溶媒（シクロヘキサノン、ジオキサンなど）を用い塗布の安定性をあげる、具体的には上層溶剤組成の算術平均値が下層溶剤組成の算術平均値を下回らないことが肝要である。分散性を向上させるためにはある程度極性が強い方が好ましく、溶剤組成の内、誘電率が１５以上の溶剤が５０％以上含まれることが好ましい。また、溶解パラメ−タは８〜１１であることが好ましい。
【００４１】
本発明の磁気記録媒体を製造するためには、従来の公知の製造技術のを一部の工程としてを用いることができることはもちろんであるが、混練工程では連続ニ−ダや加圧ニ−ダなど強い混練力をもつものを使用することにより、高い残留磁束密度（Ｂｒ）を有する磁気記録媒体を得ることもできる。連続ニ−ダまたは加圧ニ−ダを用いる場合は強磁性粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０％以上が好ましい）および強磁性粉末１００質量部に対し１５〜５００質量部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３８号公報、特開昭６４−７９２７４号公報に記載されている。また、下層非磁性層液を調整する場合には高比重の分散メディアを用いることが望ましく、ジルコニアビーズが好適である。
【００４２】
非磁性可撓性支持体上に非磁性粉末と結合剤を含有する非磁性層形成用塗布液及び強磁性粉末と結合剤とを含む磁性層形成用塗布液を、非磁性層の上に磁性層が形成されるように非磁性可撓性支持体上に同時または逐次に塗布し、塗布層が湿潤状態にあるうちにスムージング処理と磁場配向とを行う方法を用いることができる。
【００４３】
上記のような重層構成の磁気記録媒体を塗布する装置、方法としては、例えば、以下のような方法及び装置を挙げることができる。
１．磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状態のうちに特公平１−４６１８６号公報や特開昭６０−２３８１７９号公報、特開平２−２６５６７２号公報に開示されている支持体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布する。
２．特開昭６３−８８０８０号公報、特開平２−１７９７１号公報、特開平２−２６５６７２号公報に開示されているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する。
３．特開平２−１７４９６５号公報に開示されているバックアップロール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほぼ同時に塗布する。
【００４４】
なお、磁性粒子の凝集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するため、特開昭６２−９５１７４号公報や特開平１−２３６９６８号公報に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布液の粘度については、特開平３−８４７１号公報に開示されている数値範囲を満足することが適当である。
さらに、スムージング処理は、例えば、ステンレス板をウエブ上の塗布層表面に当てて行うことができるが、これ以外に、特公昭６０−５７３８７号公報に記載されているような固体スムーザーによる方法、静止しているか、又はウェブ走行方向と逆方向に回転しているロッドで塗布液を掻き落とし計量する方法、塗布液膜の表面にフレキシブルなシートを面接触させて平滑化する方法等を採用することもできる。
また、磁場配向には、１０００Ｇ以上のソレノイドと２０００Ｇ以上のコバルト磁石を同極対向で併用することが好ましい。また、ディスク媒体として本発明を適用する場合はむしろ配向をランダマイズするような配向法が必要である。
【００４５】
さらに、カレンダ処理ロ−ルとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロ−ルを使用することができる。また、金属ロ−ル同志で処理することも出来る。処理温度は、好ましくは７０℃以上、さらに好ましくは８０℃以上であることが適当である。線圧力は、好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ、さらに好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ以上であることが適当である。本発明の磁気記録媒体の磁性層面およびその反対面のＳＵＳ４２０Ｊに対する摩擦係数は好ましくは０．５以下、さらに０．３以下、表面固有抵抗は好ましくは１０４〜１０１２オ−ム／ｓｑ、磁性層の０．５％伸びでの弾性率は走行方向、幅方向とも好ましくは１００〜２０００ｋｇ／ｍｍ２（≒０．９８〜１９．６ＧＰａ）、破断強度は好ましくは１〜３０ｋｇ／ｃｍ２（≒０．０９８〜２．９４ＭＰａ）、磁気記録媒体の弾性率は走行方向、長い方向とも好ましくは１００〜１５００ｋｇ／ｍｍ２（≒４９〜７３５ＭＰａ）、残留のびは好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下であることがそれぞれ適当である。磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層のそれは０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は１×１０８〜８×１０９ｄｙｎｅ／ｃｍ２の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が出やすい。
【００４６】
磁性層中に含まれる残留溶媒は、好ましくは１００ｍｇ／ｍ２以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ２以下であることが適当である。磁性層が有する空隙率は下層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以下であることが適当である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるデータ記録用磁気記録媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。本発明の磁気記録媒体の磁気特性は磁場３９８ｋＡ／ｍ（５ＫＯｅ）で測定した場合、テ−プ走行方向の角形比は０．７０以上であり、好ましくは０．８０以上さらに好ましくは０．９０以上であることが適当である。
テ−プ走行方向に直角な二つの方向の角型比は走行方向の角型比の８０％以下となることが好ましい。磁性層のＳＦＤ（Ｓｗｉｃｈｉｎｇ  Ｆｉｅｌｄ  Ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）は０．６以下であることが好ましい。
【００４７】
本発明の磁気記録媒体は下層と上層磁性層を有するが、目的に応じ下層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に下層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。２層以上の磁性層にそれぞれどのような物理特性をもたらすかは、公知の磁性層重層に関する技術を参考にすることができる。例えば上層磁性層のＨｃを下層のＨｃより高くすることは特公昭３７−２２１８号公報、特開昭５８−５６２２８号公報等を初め多くの発明があるが、本発明のように磁性層を薄層にすることにより、より高いＨｃの磁性層でも記録が可能になる。
【００４８】
【実施例】
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【００４９】
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【００５０】
上記上層用、下層用塗料組成それぞれについて、顔料、ポリ塩化ビニル、フェニルホスホン酸と処方量の５０％の各溶剤をニーダーで混練した後、ポリウレタン樹脂と残りの成分を加えてサンドミルで分散した。得られた分散液にポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製コロネートＬ）を上層用塗布液には１部、下層用塗布液には３部を加え、さらにそれぞれにメチルエチルケトン、シクロヘキサノン混合溶媒４０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、上層形成用塗料Ａおよび下層形成用塗料Ｂの塗布液をそれぞれ調製した。得られた上層用塗布液Ａ、下層用塗布液Ｂを用い、厚さ７．５μｍのＰＥＮフィルム上に乾燥後の下層厚さが所定の厚味（表１）になるように、さらにその上に乾燥後の厚さ（０．１５μｍ）となるように、同時重層塗布を行い、塗布層がまだ湿潤状態にあるうちに４７８ｋＡ／ｍ（６０００エルステッド）の磁力を持つコバルト磁石と４７８ｋＡ／ｍ（６０００エルステッド）の磁力を持つソレノイドにより配向処理を行った。実施例１、２、４〜６、比較例２、３には支持体Ｘ、実施例３には支持体Ｙ、比較例１には支持体Ｚ（表３）を用いた。
上下層塗布層を乾燥させた後、上下層塗布層と反対側の支持体面に、乾燥後のバック層厚が０．５μｍになるよう、以下に示すバック層用塗料Ｃを塗布した。乾燥後、７段のカレンダーで温度８０℃、スピード２００ｍ／ｍｉｎで処理を行い、平滑化処理を施した。
【００５１】
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【００５２】
このようにしてできた磁気テープ原反を、７０℃で４８時間加熱することにより、ポリイソシアネート化合物を硬化させた。
次いでの原反ロールから、原反両サイドの耳部を除去しながら１／２インチ幅にスリットした。
【００５３】
（１）５ｎｍ以上突起数
表面突起数はＺＹＧＯ社製ＮｅｗＶｉｅｗ５０１０（三次元表面構造解析顕微鏡）を用いて、対物レンズ２０倍、ズーム倍率２．０倍、ＨｉｇｈＦｉｌｔｅｒ８３０ｎｍ、ＬｏｗＦｉｌｔｅｒ３０００ｎｍの条件にて、３０μｍ以下の波長成分からなる表面プロファイルにおいて、突起の体積とくぼみの体積が等しくなる面を基準面（＝０）とし、基準面から５ｎｍ離れた基準面と平行な面でスライスし、突起個数をカウントした。
【００５４】
（２）スチル耐久性
ＳＯＮＹ製ＨＤＣＡＭ  ＨＤＷ−５００（温度５℃１０％）にて、スチル状態にし、再生出力が初期値から−６ｄＢとなるまでの時間を測定し、比較例１の時間を１としたときの相対値で示した。
【００５５】
（３）再生出力
ＳＯＮＹ製ＨＤＣＡＭ  ＨＤＷ−５００を用いて、最適記録電流における出力を測定し、比較例１を０ｄＢとしたときの相対値で示した。
【００５６】
東洋精機製ループスチフネステスターを用いて、幅８ミリ、長さ５０ミリの試料をＦ（ＭＤ）用及びＦ（ＴＤ）用に切り出してこれを円環として、内径方向に変位速度３．５ｍｍ／秒で変位５ｍを与えるのに要する各力をｍｇでＦ（ＭＤ）、Ｆ（ＴＤ）を求めスチフネス比率Ｆ（ＭＤ）／Ｆ（ＴＤ）を求めた。
測定した結果を表１に示す。
【００５７】
【表１】
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【００５８】
【表２】
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【００５９】
【表３】
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【００６０】
上記の結果より、本発明の実施例は比較例に比べて、ヘッド摩耗が少なく、またスチル耐久性が優れていることが明らかである。
【発明の効果】
本発明は非磁性支持体上に実質的に非磁性である下層と強磁性微粉末を結合剤中に分散してなる磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体において、磁性層表面における５ｎｍ以上の突起が５０〜３００個／２００００μｍ２であり、前記磁性層に５０％頻度粒子径が３０〜１５０ｎｍ（０．０３〜０．１５μｍ）であるダイヤモンド微粒子を含有することにより、高出力でスチル耐久性に優れる磁気記録媒体を得るものである。