(57)【要約】【課題】処理室内で基板の上方に気流のよどみが発生するのを防止して、基板の表面の処理むらや汚染を少なくする。【解決手段】処理室１０内で、ローラ４に搭載された基板１が図面奥行き方向へ移動され、ノズル２から基板１の表面へ処理液が供給される。処理室１０の底面には、ローラ４により移動される基板１の左右下方の位置に、排気用通路１２が図面奥行き方向に複数設けられている。排気用通路１２にはミストトラップ２０が接続され、ミストトラップ２０の排気管２２には図示しない排気装置が接続されている。処理室１０内の空気は、排気用通路１２、ミストトラップ２０及び排気管２２を通って、排気装置から外部へ排出される。処理室１０の基板１の表面より低い位置から排気を行うことにより、基板１の表面から下方に向かって気流の流れが生じ、基板１の上方に気流のよどみが発生しない。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理室内に、基板を移動する基板移動手段と、基板の表面へ処理液を供給する処理液供給手段とを備えた基板処理装置において、
前記処理室の基板の表面より低い位置に排気用通路を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記排気用通路を前記処理室の底面に設けたことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
処理液の回収を行う処理液回収用通路を前記処理室の底面に備え、
前記排気用通路を前記処理液回収用通路と別に設けたことを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記排気用通路を処理液の回収を行う処理液回収用通路と共通に設け、
回収された処理液と排出された空気とを分別する手段を備えたことを特徴とする請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記排気用通路を前記処理室の側面に設けたことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項６】
処理室内で基板を移動しながら、基板の表面へ処理液を供給する基板処理方法において、
処理室の基板の表面より低い位置から排気を行うことを特徴とする基板処理方法。
【請求項７】
処理室の底面から排気を行うことを特徴とする請求項６に記載の基板処理方法。
【請求項８】
処理室の底面から処理液の回収と別に排気を行うことを特徴とする請求項７に記載の基板処理方法。
【請求項９】
処理室の底面から処理液の回収と共に排気を行い、回収された処理液と排出された空気とを分別することを特徴とする請求項７に記載の基板処理方法。
【請求項１０】
処理室の側面から排気を行うことを特徴とする請求項６に記載の基板処理方法。
【請求項１１】
請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の基板処理装置を用いて、ウエットプロセスを行うことを特徴とする基板の製造方法。
【請求項１２】
請求項６乃至請求項１０のいずれか１項に記載の基板処理方法を用いて、ウエットプロセスを行うことを特徴とする基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板の表面へ現像液、エッチング液、剥離液、洗浄液等の処理液を供給して、現像、エッチング、剥離、洗浄等の処理を行う基板処理装置、基板処理方法、及びそれらを用いた基板の製造方法に係り、特に大型の基板の処理に好適な基板処理装置、基板処理方法、及びそれらを用いた基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、表示用パネルとして用いられる液晶ディスプレイ装置のＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板やカラーフィルタ基板、プラズマディスプレイパネル用基板、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネル用基板等の製造工程では、基板上に回路パターンやカラーフィルタ等を形成するため、基板の表面へ現像液、エッチング液、剥離液、洗浄液等の処理液を供給して、現像、エッチング、剥離、洗浄等の処理が行われる。一般に、これらの処理を行う工程は、ウエットプロセスと呼ばれている。
【０００３】
ウエットプロセスは、チャンバーと呼ばれる処理室内で、ローラコンベア等の移動手段を用いて基板を移動しながら行われることが多い。処理室内では処理液の蒸気やミストが発生するため、処理室の上部に排気用通路を設けて排気が行われる。排気が行われることによって、処理室から外部に向かって気流の流れが生じ、処理液の蒸気やミストが外部へ排出される。なお、レジスト剥離洗浄装置の排気に関するものとして、特許文献１に記載の技術がある。
【特許文献１】特開２００２−３５３０９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来の排気方法では、近年の表示用パネル等の大型化に伴って処理室が広くなると、排気が十分に行われなくなって、処理室内で基板の上方に気流のよどみが発生していた。このため、処理室内に停滞した処理液の蒸気やミストが基板の表面に付着して、現像、エッチング、剥離、洗浄等の処理が不均一になるという問題があった。また、処理室内に発生した塵埃が基板の表面に付着して、基板の表面が汚染されるという問題があった。
【０００５】
本発明の課題は、処理室内で基板の上方に気流のよどみが発生するのを防止して、基板の表面の処理むらや汚染を少なくすることである。
【０００６】
また、本発明の課題は、表面の処理むらや汚染が少なく品質の高い基板を製造することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の基板処理装置は、処理室内に、基板を移動する基板移動手段と、基板の表面へ処理液を供給する処理液供給手段とを備えた基板処理装置において、処理室の基板の表面より低い位置に排気用通路を備えたものである。
【０００８】
また、本発明の基板処理方法は、処理室内で基板を移動しながら、基板の表面へ処理液を供給する基板処理方法において、処理室の基板の表面より低い位置から排気を行うものである。
【０００９】
従来は、処理室の上部から排気を行っていたため、基板の表面から上方に向かって気流の流れが生じていた。このため、排気が十分に行われないと、基板の上方に気流のよどみが発生していた。本発明では、処理室の基板の表面より低い位置から排気を行うことにより、基板の表面から下方に向かって気流の流れが生じ、基板の上方に気流のよどみが発生しない。
【００１０】
処理室からの排気は、基板の表面より低い位置であれば、処理室の底面から行ってもよく、処理室の側面から行ってもよい。処理室の底面から排気を行うと、装置全体として床面積が小さくて済む。一方、処理室の側面から排気を行うと、排気用通路へ処理液が流れ込むのを防止し、あるいは排気用通路へ流れ込んだ処理液と排出された空気とを分別する必要がない。
【００１１】
さらに、処理室の底面から排気を行う場合、処理液の回収と別に排気を行ってもよく、また処理液の回収と共に排気を行い、回収された処理液と排出された空気とを分別してもよい。処理液の回収と別に排気を行うと、回収された処理液と排出された空気とを分別する必要がない。一方、処理液の回収と共に排気を行い、回収された処理液と排出された空気とを分別すると、排気用通路を処理液回収用通路と別に設ける必要がなく、配管が少なくて済む。
【００１２】
本発明の基板の製造方法は、上記のいずれかの基板処理装置又は基板処理方法を用いて、ウエットプロセスを行うものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の基板処理装置及び基板処理方法によれば、処理室内で基板の上方に気流のよどみが発生するのを防止して、基板の表面の処理むらや汚染を少なくすることができる。
【００１４】
本発明の基板の製造方法によれば、表面の処理むらや汚染が少なく品質の高い基板を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
図１は、本発明の一実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。本実施の形態は、処理液の回収を行う処理液回収用通路を処理室の底面に備え、排気用通路を処理室の底面に処理液回収用通路と別に設けた例を示している。基板処理装置は、ノズル２、ローラ４、スピンドル５、処理室１０、処理液回収用通路１１、排気用通路１２、カバー１３、ミストトラップ２０、排水管２１、及び排気管２２を含んで構成されている。
【００１６】
処理室１０内には、図面横方向に複数のローラ４を取り付けたスピンドル５が、図面奥行き方向に複数設けられている。図示しない駆動機構でスピンドル５を回転させることにより、ローラ４に搭載された基板１が、処理室１０内で図面奥行き方向へ移動される。ローラ４により移動される基板１の上方には、ノズル２が設けられている。ノズル２は、現像液、エッチング液、剥離液、洗浄液等の処理液を、ローラ４により移動される基板１の表面へ供給する。ノズル２から供給された処理液は基板１の表面に均一に広がり、余った処理液は基板１の表面から流れ落ちて処理室１０の底面に溜まる。処理室１０の底面には、処理液回収用通路１１が、図面奥行き方向に複数設けられている。処理室１０の底面に溜まった処理液３は、処理液回収用通路１１に流れ込んで回収される。
【００１７】
処理室１０の底面には、ローラ４により移動される基板１の左右下方の位置に、排気用通路１２が図面奥行き方向に複数設けられている。処理室１０の底面に溜まった処理液３が排気用通路１２へ流れ込まないよう、排気用通路１２の開口は処理室１０の底面より高い位置に設置されている。また、基板１の表面から流れ落ちた処理液が排気用通路１２へ落ち込まないよう、排気用通路１２の開口の上空にはカバー１３が設けられている。
【００１８】
排気用通路１２にはミストトラップ２０が接続され、ミストトラップ２０の排気管２２には図示しない排気装置が接続されている。処理室１０内の空気は、排気用通路１２、ミストトラップ２０及び排気管２２を通って、排気装置から外部へ排出される。このとき、ミストトラップ２０は、排気用通路１２を通った空気中に含まれる処理液のミストを液化して排水管２１から排出し、ミストが除かれ乾いた空気を排気管２２から排出する。
【００１９】
図２は、本発明の他の実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。本実施の形態は、排気用通路を処理液の回収を行う処理液回収用通路と共通に設け、回収された処理液と排出された空気とを分別する分別槽を備えた例を示している。基板処理装置は、ノズル２、ローラ４、スピンドル５、処理室１０、処理液回収／排気用通路１４、分別槽３０、処理液回収管３１、ミストトラップ４０、排水管４１、及び排気管４２を含んで構成されている。ノズル２、ローラ４、スピンドル５は、図１に示した実施の形態と同様である。
【００２０】
処理室１０の底面には、ローラ４により移動される基板１の左右下方の位置に、処理液回収／排気用通路１４が図面奥行き方向に複数設けられている。処理液回収／排気用通路１４は、内部の断面積が大きく構成されている。処理室１０の底面に溜まった処理液３は、処理液回収／排気用通路１４を通り、分別槽３０へ流れ込む。このとき、処理液３は処理液回収／排気用通路１４の内部の側面を伝って流れ、処理液回収／排気用通路１４の内部には空洞が形成される。分別槽３０へ流れ込んだ処理液は、分別槽３０の底面に設けられた処理液回収管３１から回収される。
【００２１】
分別槽３０の側面の上部にはミストトラップ４０が接続され、ミストトラップ４０の排気管４２には図示しない排気装置が接続されている。処理室１０内の空気は、処理液回収／排気用通路１４の内部に形成された空洞を通り、処理液と共に分別槽３０へ排出される。そして、分別槽３０で処理液と分別され、ミストトラップ４０及び排気管４２を通って、排気装置から外部へ排出される。このとき、ミストトラップ４０は、分別槽３０内の空気中に含まれる処理液のミストを液化して排水管４１から排出し、ミストが除かれ乾いた空気を排気管４２から排出する。
【００２２】
図３は、本発明のさらに他の実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。本実施の形態は、排気用通路を処理室の側面に設けた例を示している。処理室１０の側面には、ローラ４により移動される基板１の表面より低い位置に、排気用通路１５が図面奥行き方向に複数設けられている。基板１の表面から流れ落ちた処理液が排気用通路１５へ落ち込まないよう、排気用通路１５の開口は下方に向いて設置されており、図１に示した実施の形態のようなカバーは必要ない。その他の構成は、図１に示した実施の形態と同様である。
【００２３】
以上説明した実施の形態によれば、処理室１０の基板１の表面より低い位置から排気を行うことにより、基板１の表面から下方に向かって気流の流れが生じ、基板１の上方に気流のよどみが発生しない。従って、処理液の蒸気やミストが基板の表面に付着して発生する処理むらや、処理室内に発生した塵埃が基板の表面に付着して発生する汚染を少なくすることができる。
【００２４】
図１及び図２に示した実施の形態によれば、処理室１０の底面から排気を行うため、装置全体として床面積が小さくて済む。一方、図３に示した実施の形態によれば、処理室１０の側面から排気を行うため、排気用通路へ処理液が流れ込むのを防止し、あるいは排気用通路へ流れ込んだ処理液と排出された空気とを分別する必要がない。
【００２５】
さらに、図１に示した実施の形態によれば、処理液の回収と別に排気を行うため、回収された処理液と排出された空気とを分別する必要がない。一方、図２に示した実施の形態によれば、処理液の回収と共に排気を行い、回収された処理液と排出された空気とを分別するため、排気用通路を処理液回収用通路と別に設ける必要がなく、配管が少なくて済む。
【００２６】
本発明を用いてウエットプロセスを行うことにより、表面の処理むらや汚染が少なく品質の高い基板を製造することができる。
【００２７】
本発明は、表示用パネルの基板に限らず、処理室内での気流のよどみが問題となる各種の基板の処理に適用される。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の一実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の他の実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。
【図３】本発明のさらに他の実施の形態による基板処理装置の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
【００２９】
１  基板
２  ノズル
３  処理液
４  ローラ
５  スピンドル
１０  処理室
１１  処理液回収用通路
１２，１５  排気用通路
１３  カバー
１４  処理液回収／排気用通路
２０，４０  ミストトラップ
２１，４１  排水管
２２，４２  排気管
３０  分別槽
３１  処理液回収管
【図１】
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【図２】
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【図３】
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