(57)【要約】【目的】端部付近に欠陥を生じることなくサブトラクティブ加工により所望の障壁を形成する。【構成】ガラス基板２上にペースト層３を形成する。次にライン状マスク４ａと、保護用マスク４ｂとからなるマスク４をペースト層３上に設けて、サブトラクティブ加工を施し、ガラスペースト層３の不要部分を除去する。保護用マスク４ｂはライン状マスク４ｂに直接連結されている。ライン状マスク４ａの端部付近において、欠陥を生じることなく障壁３ａを形成できる。ライン状マスク部４ｂに、このライン状マスク４ｂと直交する直交マスク部を設け、隔壁を井桁状に形成してもよい。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズルを用いて行なわれるガラス基板と隔壁とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
ガラス基板上に隔壁形成用のペーストを塗布し、乾燥させてペースト層を形成する工程と、
このペースト層上に設けられ、隔壁形成用の隔壁マスクと、ノズルの進行方向に対して垂直方向に設けられた隔壁保護用の保護隔壁を形成する保護マスクとからなるマスクを形成する工程と、
マスクにより覆われたペースト層に対してノズルを進行させてサブトラクティブ加工を施す工程とを備え、
保護マスクは隔壁マスク部に直接的に連結されることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
サブトラクティブ加工としてサンドブラストが用いられることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
サブトラクティブ加工として液体ホーニングが用いられることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
隔壁マスクはライン状マスク部からなり、全体としてストライプ状に形成されていることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
隔壁マスクはライン状マスク部と、このライン状マスク部に直交する直交マスク部とを有し、全体として井桁状に形成されていることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
ガラス基板と、
ガラス基板上に形成され互いに平行に延びる複数のライン状隔壁を有する隔壁と、
ガラス基板上に形成された保護隔壁とを備え、
保護隔壁は各ライン状隔壁に直交して延びるとともに、各ライン状隔壁に直接的に連結されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
隔壁はライン状隔壁からなり、全体としてストライプ状に形成されていることを特徴とする請求項６記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
隔壁はライン状隔壁と、このライン状隔壁に直交する直交隔壁とを有し、全体として井桁状に形成されていることを特徴とする請求項６記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す）の製造方法およびプラズマディスプレイパネルに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ＰＤＰの製造方法において、ガラス基板上にガラスペーストをスクリーン印刷によりパターン状に重ねて印刷を行い、このガラスペーストを乾燥、焼成して所望の隔壁を形成している。しかしながらこの方法は工程が複雑であるとともに良好な線幅精度が得られ難い。このため最近では、ガラス基板上にガラスペーストを所定の厚さで塗布して乾燥させることによってガラスペースト層を形成し、その上に耐サブトラクティブ性を有するマスクをパターン状に形成してから、このマスクを介してサンドブラストや液体ホーニングにより所望パターンの隔壁を形成する所謂サブトラクティブ加工法による隔壁の形成方法が提案されている。
【０００３】
この場合、マスクは隔壁形成用のライン状マスクを有するが、このライン状マスクにより形成される隔壁を保護するため保護マスクを設けることも提案されている（例えば特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開平７−４５１９３
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上述のように、隔壁を形成するためのマスクとしてライン状マスクと保護マスクとからなるものが提案されているが、この保護マスクはライン状マスクから離間して設けられているため、保護マスクによっても十分に隔壁を保護することができず、隔壁が過大に研削されて隔壁に欠陥を生じさせることがある。
【０００６】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、隔壁の欠陥を防止して精度の良いプラズマディスプレイパネルを製造することができるプラズマディスプレイパネルの製造方法およびプラズマディスプレイパネルを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ノズルを用いて行なわれるガラス基板と隔壁とを有するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、ガラス基板上に隔壁形成用のペーストを塗布し、乾燥させてペースト層を形成する工程と、このペースト層上に設けられ、少なくとも複数の隔壁形成用のライン状マスク部を有する隔壁マスクと、ノズルの進行方向に対して垂直方向に設けられた隔壁保護用の保護隔壁を形成する保護マスクとからなるマスクを形成する工程と、マスクにより覆われたペースト層に対してノズルを進行させてサブトラクティブ加工を施す工程とを備え、ライン状マスク部は互いに平行に延び、保護マスクは各ライン状マスク部に直交して延びるとともに、各ライン状マスク部に直接的に連結されることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【０００８】
本発明は、サブトラクティブ加工としてサンドブラストが用いられることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【０００９】
本発明は、サブトラクティブ加工として液体ホーニングが用いられることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【００１０】
本発明は、隔壁マスクはライン状マスク部からなり、全体としてストライプ状に形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【００１１】
本発明は、隔壁マスクはライン状マスク部と、このライン状マスク部に直交する直交マスク部とを有し、全体として井桁状に形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【００１２】
本発明は、ガラス基板と、ガラス基板上に形成され互いに平行に延びる複数のライン状隔壁を有する隔壁と、ガラス基板上に形成された保護隔壁とを備え、保護隔壁は各ライン状隔壁に直交して延びるとともに、各ライン状隔壁に直接的に連結されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルである。
【００１３】
本発明は、隔壁はライン状隔壁からなり、全体としてストライプ状に形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【００１４】
本発明は、隔壁はライン状隔壁と、このライン状隔壁に直交する直交隔壁とを有し、全体として井桁状に形成されていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１乃至図５は本発明の実施の形態を示す図である。
【００１６】
まず図２によりプラズマディスプレイパネルの製造方法の概略について述べる。
【００１７】
まず、図２（ａ）に示すように、電極１を形成したガラス基板２の上にブレードコーター或いはスクリーン印刷により膜厚１５０μｍで隔壁用のガラスペーストを塗布して乾燥させることによりガラスペースト層３を形成する。次いでその上にジアゾニウム塩添加ＰＶＡをスピンナー、ローラーコーター、ブレードコーター等で膜厚１０μｍに塗布し、室温で乾燥させてマスク層１４を形成する。そして、図３に示すマスクパターン５を介して図２（ｂ）に示すようにマスク層１４を露光した後、水に１〜２分浸漬してからスプレー現像を行う。露光条件は、３６５ｎｍで測定した時に強度７００μＷ／ｃｍ２、照射量４００ｍＪ／ｃｍ２である。このようにして、図１および図２（ｃ）に示すように、ガラスペースト層３上にライン状マスク４ａと、保護用マスク４ｂとからなるマスク４が形成される。
【００１８】
次に図１（ａ）（ｂ）および図２（ｂ）により、マスク４について更に詳述する。マスク４は、互いに平行に延びる複数のライン状マスク４ａと、各ライン状マスクに直交して延びる保護マスク４ｂとからなっている。また保護マスク４ｂは各ライン状マスク４ａの端部に直接的に連結され、これによりライン状マスク４ａと保護マスク４ｂとは一体に形成される。
【００１９】
このうちライン状マスク４ａは、後述のようにライン状隔壁３ａを形成するものである。また保護マスク４ｂは隔壁３ａが過大に研削されないよう隔壁３ａを保護するものであり、保護マスク４ｂの下方には隔壁３ａに直交して延びる保護隔壁３ｂが形成される。
【００２０】
ところで、上記した複数のライン状マスク（ライン状マスク部ともいう）４ａによりストライプ状の隔壁マスクが構成され、この隔壁マスクによってストライプ状の隔壁３ａが形成される。この場合、隔壁マスクをライン状マスク部４ａと、このライン状マスク部に直交する直交マスク部とから井桁状に構成し、この井桁状の隔壁マスクによって井桁状の隔壁３ａを形成してもよい。
【００２１】
各ライン状マスク４ａは、帯状に延びるとともにライン幅５０μｍ、スペース幅７０μｍで形成され、保護マスク４ｂの幅Ｗは０．２ｍｍとなっている。このため隔壁３ａの幅は５０μｍ、保護隔壁３ｂの幅は０．２ｍｍとなる。
【００２２】
なお、マスク４は複数のライン状マスク４ａと、ライン状マスク４ａに連結されライン状隔壁４ａに直交する保護マスク４ｂとからなっているが、さらに保護マスク４ｂに平行する追加マスク４ｃを設けるとともに、この追加マスク４ｃと保護マスク４ｂとを連結マスク４ｄにより連結してもよい。
【００２３】
この場合、図１（ａ）に示すように、保護マスク４ｂと追加マスク４ｃと連結マスク４ｄは井げた状に形成され、ライン状マスク４ａにより形成される隔壁３ａをより確実に保護することができる。
【００２４】
なお、図２（ｃ）は図１（ａ）のＡ−Ａ断面に対応している。
【００２５】
続いて、乾燥工程を経てから、図４（ａ）に示すように、図１（ａ）の矢印方向Ｌに噴射ノズル（図示せず）をスキャンしながらサンドブラスト加工を施す。このようにしてガラスペースト層３の不要部分を除去することができる。このことにより図４（ｂ）に示すようにライン状マスク４ａの下方に隔壁３ａを形成し、保護マスク４ｂの下方に保護隔壁３ｂを形成する（図１（ｂ））。
【００２６】
ここでは、研磨材としてアルミナ＃１０００を用い、噴射圧力３ｋｇｆ／ｃｍ２、ノズルと基板２の距離１８５ｍｍ、スキャン速度３０ｍｍ／ｓｅｃの条件でサンドブラスト加工を行う。
【００２７】
このサンドブラスト加工において、マスク４が保護マスク４ｂを有するためライン状マスク４ａにおける端部付近の下にあるガラスペースト層３が研削されすぎることなく隔壁３ａの良好なエッジ形成が得られる。
【００２８】
本実施の形態において、サブトラクティブ加工としてサンドブラスト加工を用いたが、サブトラクティブ加工として添付ホーニング加工を用いても良い。
【００２９】
次にサンドブラスト加工中の作用について比較例との関係で図５により詳述する。
【００３０】
従来例において、サブトラクティブ加工法によりライン状の隔壁を形成する場合、通常は図５（ａ）に示すように、ガラス基板１１上に隔壁用のガラスペーストを塗布して乾燥させることでガラスペースト層１２を形成し、その上に耐サブトラクティブ性を有するマスク１３をライン状に形成している。しかしながら、このライン状マスク１３を介して図の矢印方向にスキャンしながらサンドブラスト加工を行うと、ライン状マスク１３の端部以外の部分ではガラスペースト層１２が両サイドのみ研削されるのに対し、ライン状マスク１３の端部付近では端面側からも研削される。このため図５（ｂ）に示すように隔壁１２ａの端部付近が逆台形状に研削されることになり、ついには図５（ｃ）に示すようにマスク１３の剥離を起こした状態で研削が進み、隔壁１２ａのこの部分が欠陥になってしまう。
【００３１】
またライン状マスク１３に対して離間して保護マスクを設けた場合でも、サンドブラスト加工中にライン状マスク１３と保護マスクとの間に研磨材が進入するため、図５（ａ）−（ｃ）に示す場合と同様ライン状マスクの端部においてガラスペースト層が過大に研削され、マスクの剥離を生じさせて隔壁に欠陥が生じることがある。
【００３２】
これに対して本願発明によれば保護マスク４ｂはライン状マスク４ａに直接的に連結されているので、ライン状マスク４ａと保護マスク４ｂとの間に研磨材が進入することはない。また保護マスク４ｂが１層で不足の場合は多層にすることでライン状マスク４ａは保護される。同様の効果を得る方法として保護マスク４ｂの幅Ｗを大きくする方法もある。このためライン状マスク４ａの保護マスク４ｂ側の端部においてガラスペースト３が過大に研削されることはなく、これによってマスク４ａが剥離することもない。このため欠陥のない隔壁３ａを得ることができる。
【００３３】
次に保護マスク４ｂの幅Ｗの値について以下説明する。
【００３４】
保護マスク４ｂの幅Ｗは、太ければ太いほど、サンドブラスト時において隔壁３ａを保護することができる。しかしながら、保護マスク４ｂの幅Ｗを大きくすると、隔壁３ａの幅と保護隔壁３ｂの幅との差が大きくなり、焼成時の収縮量の相違によって隔壁の切れが発生する。
【００３５】
保護マスク４ｂの幅Ｗの下限は、サンドブラスト後の隔壁３ａの形状に基づいて定められ、保護マスク４ｂの幅Ｗの上限は焼成後の隔壁３ａの形状に基づいて定められる。
【００３６】
以下の表１に示す実験データに基づいて、保護マスク４ｂの幅Ｗは隔壁３ａの幅×２≦Ｗ≦隔壁３ａの幅×５であることが好ましい。
【００３７】
表１に示す実験データにおいて、隔壁３ａの幅は５０μｍとなっている。
【００３８】
【表１】
2005005039.tif 000003
【００３９】
続いてライン状マスク４ａ及び保護用マスク４ｂを剥離材で除去し、焼成工程を経て図４（ｃ）に示すようにガラス基板１に密着した隔壁３ａを形成する。ここで、保護用マスク４ｂの下にあるガラスペースト層３は保護隔壁３ｂとして残ることになる。
【００４０】
以上のようにして背面板１０を得ることができ、この背面板１０とは別に電極及び蛍光層を有する前面板を準備する。これら背面板と前面板とを組合せることにより、良好なプラズマディスプレイパネルを得ることができる。
【００４１】
本発明において、耐サブトラクティブ性を有するライン状マスク４ａ及び保護用マスク４ｂからなるマスク４を形成するフォトレジストとしては、上記実施例で挙げたものの他に、ＯＳＢＲと称されるネガ型の液体レジストをはじめとして以下に述べる種々の感光性樹脂を使用できる。
【００４２】
たとえば、水溶性樹脂マトリックス及び光重合性多官能モノマーを主成分として含有する感光性樹脂を使用することができる。この水溶性樹脂マトリックスとしては、ポリビニールアルコール−ポリ酢酸ビニル−クロトン酸共重合体の部分ケン化物、ポリビニールアルコール−ポリ酢酸ビニル−メタクリル酸、アルコール可溶性ナイロンを用いることができ、一方、光重合性多官能モノマーとしては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、テトラアクリレート、メタアクリレートを用いることができる。そして、この種の感光性樹脂を使用した場合には、サブトラクティブ加工後、過ヨウ素酸ナトリウム水溶液でマスクを剥離するものである。
【００４３】
また、ポリビニールアルコール、ポリ酢酸ビニルエマルジョン及びジアゾ樹脂を主成分として含有する感光性樹脂、或いは、感光性ポリビニールアルコール、ポリビニールアルコール及びポリ酢酸ビニルエマルジョンを主成分として含有する感光性樹脂を使用することができる。
【００４４】
前者の場合、例えば、ポリビニールアルコールを１０重量部、ポリ酢酸ビニルエマルジョンを固形分５０％で２０〜６０重量部、ジアゾ樹脂を０．５〜１．５重量部の割合で配合したものを用いるとよい。
【００４５】
後者の場合、感光性ポリビニールアルコールとしては、ポリアルコールの水酸基の一部にフォルミルスチリルピリジニウム基（スチルバリゾリウム基）を有するものを用いることができる。そして、これらの感光性樹脂を使用した場合には、サブトラクティブ加工後、次亜塩素酸ソーダ、過ハロゲン酸水溶液でマスク４を剥離するものである。
【００４６】
また、ゼラチン、アクリルアミド誘導体及びレドックス光重合開始剤を主成分として含有する感光性樹脂を使用することができる。このアクリルアミド重合体としては、アクリルアミド又はＮ，Ｎ’−メチレンビスアクリルアミドを用いることができ、レドックス光重合開始剤としては、クエン酸鉄（ＩＩＩ）アンモニウム又はシュウ酸鉄（ＩＩＩ）アンモニウムを用いることができる。そして、この感光性樹脂を使用した場合には、サブトラクティブ加工後、蛋白質分解酵素でマスク４を剥離するものである。
【００４７】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、ライン状マスクと保護マスクとが直接的に連結されているので、サブトラクティブ加工中にライン状マスクの保護マスク側の端部において、隔壁形成用のペースト層が過大に研削されることはない。このため欠陥のない隔壁を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態を示す図であってライン状マスクと保護マスクとからなるマスクを示す図。
【図２】マスクを形成する工程を示す図。
【図３】マスクを形成するためのマスクパターンを示す図。
【図４】隔壁を形成する工程を示す図。
【図５】従来の隔壁を形成する工程を示す図。
【符号の説明】
２  ガラス基板
３  ガラスペースト層
３ａ  隔壁
３ｂ  保護隔壁
４  マスク
４ａ  ライン状マスク
４ｂ  保護用マスク
４ｃ  追加マスク
４ｄ  連結隔壁
５  マスクパターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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