(57)【要約】【課題】  隔壁上端面に塗布された反射輝度抑制層を備えたプラズマディスプレイパネルを提供する。また、隔壁上端面に塗布された反射輝度抑制層を備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。【解決手段】  プラズマディスプレイパネルを、互いに対向配置される第１基板及び第２基板と、前記第１基板に設置されたアドレス電極及び誘電体層と、前記第２基板に設置された放電維持電極及び誘電体層及び保護膜と、前記第１基板及び前記第２基板の間の空間に配置され、複数の放電セルに区画するように前記第１基板に設けられた隔壁と、前記隔壁で区画された放電セル内に設けられた赤色、緑色及び青色蛍光体層と、前記隔壁の上端面に設けられ、カルシウムマグネシウムシリケート系青色蛍光体を含む反射輝度抑制層と、を含む構成とした。このような構成により、隔壁による反射輝度が低減されて品位が向上した。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向配置される第１基板及び第２基板と、
前記第１基板に設置されたアドレス電極及び誘電体層と、
前記第２基板に設置された放電維持電極及び誘電体層及び保護膜と、
前記第１基板及び前記第２基板の間の空間に配置され、複数の放電セルに区画するように前記第１基板に設けられた隔壁と、
前記隔壁で区画された放電セル内に設けられた赤色、緑色及び青色蛍光体層と、
前記隔壁の上端面に設けられ、カルシウムマグネシウムシリケート系青色蛍光体を含む反射輝度抑制層と、
を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記隔壁は、閉鎖型隔壁であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記隔壁の上端面に塗布された反射輝度抑制層は、アドレス電極と交差する方向に形成された横隔壁の上端面にだけ塗布されたことを特徴とする請求項２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記隔壁の上端面に塗布された反射輝度抑制層は、アドレス電極と交差する方向に形成された横隔壁の中で、青色セルの間に位置する横隔壁の上端面にだけ塗布されたことを特徴とする請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記隔壁の上端面に塗布された反射輝度抑制層の厚さは、２乃至２０μｍであることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前記隔壁の上端面に塗布された反射輝度抑制層の厚さは、６乃至２０μｍであることを特徴とする請求項５に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
前記隔壁の上端面に塗布された反射輝度抑制層は、カルシウムマグネシウムシリケート系列青色蛍光体を５０乃至１００重量％に含むことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
前記隔壁の上端面に塗布された反射輝度抑制層は、バリウムマグネシウムアルミネート系列青色蛍光体をさらに含むことを特徴とする請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前記隔壁で区画された放電セル内に形成された青色蛍光体層は、前記隔壁の上端面に塗布された反射輝度抑制層と同一組成を有することを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
アドレス電極と誘電体層が形成された第１基板を用意する工程と、
前記第１基板の前記誘電体層前面に隔壁を形成させる工程と、
前記隔壁で区画された放電セル内には赤色、緑色及び青色蛍光体層を形成させて、前記隔壁上端面には反射輝度抑制層を形成させる工程と、
放電維持電極、誘電体層及び保護膜が形成された第２基板を用意する工程と、
前記第１基板及び前記第２基板を利用してパネルを組立、封着、排気、放電気体注入及びエイジングする工程と、
を含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１１】
前記隔壁を形成させる工程において、隔壁が閉鎖型隔壁であることを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１２】
前記反射輝度抑制層を形成させる工程において、前記反射輝度抑制層をアドレス電極と交差する方向に形成された横隔壁の上端面にだけ形成させることを特徴とする請求項１１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１３】
前記反射輝度抑制層を形成させる工程において、前記反射輝度抑制層をアドレス電極と交差する方向に形成された横隔壁の中で、青色セルの間に位置する横隔壁の上端面にだけ形成させることを特徴とする請求項１２に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１４】
前記反射輝度抑制層を形成させる工程において、前記赤色、緑色及び青色蛍光体層と反射輝度抑制層をディスペンサー法によって塗布することを特徴とする請求項１０に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１５】
前記反射輝度抑制層を形成させる工程において、前記青色蛍光体層は、前記反射輝度抑制層と同一組成を有しながら両層ともにディスペンサー法により塗布することを特徴とする請求項１４に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はプラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関し、特に、隔壁による反射輝度を低減して品位を向上させたプラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネルは、気体放電現象を利用した表示装置である。低気圧状態の気体雰囲気で空間的に分離された二つの電極間に、ある程度以上の電位差が印加されると放電が発生するが、これを気体放電現象という。プラズマ表示装置はこのような気体放電現象を画像表示に応用した平板表示装置である。
【０００３】
現在一般的に用いられているプラズマディスプレイパネルは、絶縁電極型交流放電プラズマディスプレイパネルであって、後面基板上の隔壁で区画された放電セル内に蛍光体層が形成されている。
【０００４】
このようなプラズマディスプレイパネルは、蛍光表示管（ＶＦＤ）や電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）のような、他の平板ディスプレイ装置と同様に、任意の距離をおいて２枚の基板（便宜上第１基板、及び第２基板という）を実質的に平行に配置して構成されている。これらの基板には、周縁に沿って配置される接合材で接合されることによって真空に近い状態の放電セルを形成している。
【０００５】
一般に、プラズマディスプレイパネルに蛍光体を形成する工程としては、スクリーン印刷法が主に適用されているが、高解像度パネルの製造や多面取工法においてはスクリーン印刷法による品質確保が難しい。特に多面取工法の場合、印刷マスクの製作が難しく、マスクの寿命も非常に短いため、使用する資材経費も高くなるのが実情である。
【０００６】
従って、スクリーン印刷法に代替できる方法として、複数の赤色Ｒ、緑色Ｇ、青色Ｂ蛍光体供給ノズルを微細な隔壁の間に配置して、ノズルを通して各蛍光体を噴射するノズル噴射法（以下、ディスペンサー法という）に対する研究が進められている。このディスペンサー法は、スクリーン印刷法と比べて噴射装置の寿命が長く、微細パターンへの適用及び多面取が可能となるので量産性の側面から大きい利点を有する。
【０００７】
ディスペンサー法は、ストライプ形態の隔壁構造を有するパネルに対しては、ラインに沿って不良箇所のない塗布が可能であると評価されているが、各放電セルが隣接セルから完全に遮断される閉鎖型隔壁構造を有するパネルの場合には、隔壁上端面にも蛍光体層が塗布されて存在することになる。特に、青色蛍光体に広く用いられるバリウムアルミニウムマグネシウム系の青色蛍光体は、前から入射する光の反射輝度が高くて、この蛍光体が隔壁上端面に存在する場合、パネル全体の反射輝度を増加させて、表示画面を見え難くする問題がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は前記のような問題点を解決するためのもので、本発明の目的は、隔壁上端面に塗布された反射輝度抑制層を備えたプラズマディスプレイパネルを提供することである。
【０００９】
本発明の他の目的は、隔壁上端面に塗布された反射輝度抑制層を備えたプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は前記目的を達成するために創案されたものであって、本発明の第１の特徴は、プラズマディスプレイパネルであって、構成要素として、（ａ）互いに対向配置される第１基板及び第２基板と、（ｂ）第１基板に設置されたアドレス電極と誘電体層及び第２基板に設置された放電維持電極、誘電体層と保護膜と、（ｃ）第１基板及び第２基板の間の空間に配置され、複数の放電セルに区画するように第１基板に設置された隔壁と、（ｄ）隔壁で区画された放電セル内に形成された赤色、緑色及び青色蛍光体層と、（ｅ）前記隔壁の上端面に形成され、カルシウムマグネシウムシリケート（ＣＭＳ）系列の青色蛍光体を含む反射輝度抑制層を含むことを要旨とする。
【００１１】
また、本発明の第２の特徴は、プラズマディスプレイパネルの製造方法であって、（Ａ）アドレス電極と誘電体層が形成された第１基板を用意する工程と、（Ｂ）第１基板の誘電体層前面に隔壁を形成させる工程と、（Ｃ）隔壁で区画された放電セル内には赤色、緑色及び青色蛍光体層を形成させて、隔壁上端面には反射輝度抑制層を形成させる工程と、（Ｄ）放電維持電極、誘電体層及び保護膜が形成された第２基板を用意する工程と、（Ｅ）第１基板及び第２基板を利用してパネルを組立、封着、排気、放電気体注入及びエイジングする工程と、を含むことを要旨とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、プラズマディスプレイパネルにおける隔壁による反射輝度が低減されて品位を向上させことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態に係るプラズマディスプレイパネル及びその製造方法の詳細を図面に基づいて説明する。
【００１４】
本発明の実施の形態に係るプラズマディスプレイパネルは、隔壁上端面に、反射輝度抑制層を備えて反射輝度が改善（抑制）されたことを特徴とする。
【００１５】
図１は、本実施の形態に係るプラズマディスプレイパネルを模式的に示した要部分解斜視図である。なお、本発明の内容が、図１の構造だけに限られることはない。
【００１６】
図１に示すように、本実施の形態のプラズマディスプレイパネルは、後面より前方に向かって順次、第１基板１上に一方向（図面のＹ方向）に沿ってアドレス電極３が形成され、アドレス電極３を覆いながら第１基板１の前面に誘電体層５が形成されている。この誘電体層５上に隔壁７が形成され、それぞれの隔壁７の間の放電セルに赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の蛍光体層９が配置され、前記隔壁７の上端面には反射輝度抑制層１９が配置されている。
【００１７】
また、第１基板１に対向する第２基板１１の一面には、前面より後方に向かって順次、上記アドレス電極３に直交する方向（図面のＸ方向）に沿って、対をなす、透明電極１３ａとバス電極１３ｂで構成される放電維持電極１３が、複数対互いに平行をなすように形成されいる。これら放電維持電極１３を覆うように、第２基板１１の全体にわたって透明誘電体層１５と保護膜１７が形成されている。従って、アドレス電極３と放電維持電極１３の交差地点で放電セルを構成する。
【００１８】
このような構成によって、アドレス電極３といずれか一つの放電維持電極１３の間にアドレス電圧Ｖａを印加してアドレス放電を行い、その後、一対の放電維持電極１３ａ、１３ｂの間に維持電圧Ｖｓを印加すれば、維持放電時に発生する紫外線が対応する蛍光体層９を励起させ、透明な前面基板１１を通して可視光を放出する。
【００１９】
本実施の形態に係るプラズマディスプレイパネルは、ストライプ型隔壁または閉鎖型隔壁を含み、この隔壁の上端面にはカルシウムマグネシウムシリケート（ＣＭＳ）系列の青色蛍光体を含む反射輝度抑制層１９が塗布されることにより形成されている。
【００２０】
この反射輝度抑制層１９は、隔壁上端の全面に塗布してもよいし、隔壁上端面の一部にだけ塗布されている構成としてもよい。特に、プラズマディスプレイパネルが閉鎖型隔壁を含む場合には、アドレス電極と交差する方向に形成された横隔壁の上端面にだけ塗布されることもあり、アドレス電極と交差する方向に形成された横隔壁の中で、青色セルの間に位置する横隔壁の上端面にだけ塗布されることもある。
【００２１】
前記隔壁７の上端面に塗布、形成された反射輝度抑制層１９は、２〜２０μｍの厚さを有することが好ましく、６〜２０μｍの厚さを有することがさらに好ましい。反射輝度抑制層１９の厚さが２μｍ未満である場合には、反射輝度改善（低減）効果が微少であり、２０μｍを超える場合には誤放電を発生する心配がある。
【００２２】
また、反射輝度抑制層１９は、５０〜１００重量（質量）％のカルシウムマグネシウムシリケート（ＣＭＳ）系列青色蛍光体を含むことが好ましい。また、前記反射輝度抑制層１９は、バリウムマグネシウムアルミネート（ＢＡＭ）系列青色蛍光体をさらに含んでもよい。なお、カルシウムマグネシウムシリケート系列青色蛍光体の含量が５０重量％未満である場合には、反射輝度改善の効果が微少である。
【００２３】
本発明に係るプラズマディスプレイパネルの製造方法は、（Ａ）アドレス電極と誘電体層が形成された第１基板を用意する工程と、（Ｂ）第１基板の誘電体層前面に隔壁を形成させる工程と、（Ｃ）隔壁で区画された放電セル内には赤色、緑色及び青色蛍光体層を形成させて、隔壁上端面には反射輝度抑制層を形成させる工程と、（Ｄ）放電維持電極、誘電体層及び保護膜が形成された第２基板を用意する工程と、（Ｅ）第１基板及び第２基板を利用してパネルを組立、封着、排気、放電気体注入及びエイジングする工程と、を備えることを特徴とする。これらの工程のうち、（Ａ）、（Ｂ）、（Ｄ）及び（Ｅ）の工程は、通常のプラズマディスプレイパネルの製造方法と同様であるため、詳細な説明は省略し、（Ｃ）の工程での蛍光体層及び反射輝度抑制層の形成工程を主にに説明する。
【００２４】
上記（Ｃ）工程の蛍光体層形成と反射輝度抑制層形成は、ディスペンサー法によって一つの工程として同時進行が可能で、スクリーン印刷またはディスペンサー法で放電セル内に蛍光体層を形成させた後、再びディスペンサー法で隔壁上端面に反射輝度抑制層を形成させる事もできる。但し、蛍光体層と反射輝度抑制層を同時に形成する場合には、青色蛍光体層の成分と反射輝度抑制層の成分が同一であることが好ましい。
【００２５】
また、反射輝度抑制層は、隔壁上端の全面に形成させることもできれば、隔壁上端面の一部にだけ形成させる事もできる。特に、プラズマディスプレイパネルが閉鎖型隔壁を備える場合には、アドレス電極と交差する方向に形成された横隔壁の上端面にだけ形成させることもできれば、アドレス電極と交差する方向に形成された横隔壁の中でも、青色セルの間に位置する横隔壁の上端面にだけ形成させることもできる。
【００２６】
反射輝度抑制層は、２〜２０μｍの厚さで形成させることが好ましく、６〜２０μｍの厚さで形成させることがさらに好ましい。反射輝度抑制層の厚さを２μｍ未満に形成させた場合には、パネルの反射輝度改善効果が微少であり、２０μｍを超えて形成した場合には、パネルの誤放電を発生する可能性がある。
【００２７】
また、反射輝度抑制層は、５０〜１００重量％のカルシウムマグネシウムシリケート系列青色蛍光体を含むように形成することが好ましい。また、この反射輝度抑制層は、バリウムマグネシウムアルミネート系列青色蛍光体をさらに含む構成としてもよい。なお、カルシウムマグネシウムシリケート系列青色蛍光体の含量が５０重量％未満である場合には、反射輝度改善の効果が微少である。
【００２８】
以下、本発明の好ましい実施例を記載する。但し、下記の実施例は本発明の好ましい一実施例にすぎず、本発明が下記の実施例に限られることではない。
【００２９】
〔実施例〕
（比較例１）
ブチルカルビトールアセテートとテルピネオールの重量比４:６混合溶媒１００重量部に対して、バインダーであるエチルセルロース６重量部を混合してバインダー溶液を製造し、このバインダー溶液１００重量部に対して青色蛍光体であるＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７:Ｅｕ、赤色蛍光体である（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ３:Ｅｕ及び緑色蛍光体であるZｎＳｉＯ４:Ｍｎ４０重量部を各々混合した後、閉鎖型隔壁で区画された第１基板の放電セル内に赤色、緑色及び青色蛍光体をスクリーン印刷法により塗布して蛍光体層を形成した。
【００３０】
放電維持電極、誘電体層及び保護膜が形成された第２基板を用意した後、前記第１基板及び第２基板を利用してパネルを組立、封着、排気、放電気体注入及びエイジングして、プラズマディスプレイパネルを製造した。
【００３１】
（実施例１）
ブチルカルビトールアセテートとテルピネオールの重量比４:６混合溶媒１００重量部に対して、バインダーであるエチルセルロース６重量部を混合してバインダー溶液を製造し、前記バインダー溶液１００重量部に対して青色蛍光体であるＣａＭｇＳｉ２Ｏ６:Ｅｕ、赤色蛍光体である（Ｙ、Ｇｄ）ＢＯ３:Ｅｕ及び緑色蛍光体であるZｎＳｉＯ４:Ｍｎ４０重量部を各々混合した後、閉鎖型隔壁で区画された第１基板の放電セル内部と横隔壁の上端面にディスペンサー法により蛍光体層及び反射輝度抑制層を形成した。
【００３２】
この時、青色蛍光体層と反射輝度抑制層の成分は同一になるようにし、反射輝度抑制層は青色セルの間に位置する横隔壁の上端面にだけ形成させた。前記反射輝度抑制層の厚さは、隔壁上端面を移動する噴射ノズルの移動速度を調節して平均２μｍになるようにした。
【００３３】
放電維持電極、誘電体層及び保護膜が形成された第２基板を用意した後、前記第１基板及び第２基板を利用してパネルを組立、封着、排気、放電気体注入及びエイジングしてプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００３４】
（実施例２）
第１基板の隔壁上端面に４μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００３５】
（実施例３）
第１基板の隔壁上端面に６μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００３６】
（実施例４）
第１基板の隔壁上端面に８μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００３７】
（実施例５）
第１基板の隔壁上端面に１０μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００３８】
（実施例６）
第１基板の隔壁上端面に１２μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００３９】
（実施例７）
第１基板の隔壁上端面に１４μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００４０】
（実施例８）
第１基板の隔壁上端面に１６μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００４１】
（実施例９）
第１基板の隔壁上端面に１８μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００４２】
（実施例１０）
青色蛍光体層及び反射輝度抑制層がＣａＭｇＳｉ２Ｏ６:ＥｕとＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７:Ｅｕの重量比を５:５にした混合物を用い、第１基板の隔壁上端面に２μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００４３】
（実施例１１）
第１基板の隔壁上端面に４μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１０と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００４４】
（実施例１２）
第１基板の隔壁上端面に６μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１０と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００４５】
（実施例１３）
第１基板の隔壁上端面に８μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１０と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００４６】
（実施例１４）
第１基板の隔壁上端面に１０μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１０と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００４７】
（実施例１５）
第１基板の隔壁上端面に１２μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１０と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００４８】
（実施例１６）
第１基板の隔壁上端面に１４μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１０と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００４９】
（実施例１７）
第１基板の隔壁上端面に１６μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１０と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５０】
（実施例１８）
第１基板の隔壁上端面に１８μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１０と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５１】
（実施例１９）
青色蛍光体層及び反射輝度抑制層がＣａＭｇＳｉ２Ｏ６:ＥｕとＢａＭｇＡｌ１０Ｏ１７:Ｅｕの重量比を７:３にした混合物を用い、第１基板の隔壁上端面に２μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５２】
（実施例２０）
第１基板の隔壁上端面に４μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１９と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５３】
（実施例２１）
第１基板の隔壁上端面に６μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１９と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５４】
（実施例２２）
第１基板の隔壁上端面に８μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１９と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５５】
（実施例２３）
第１基板の隔壁上端面に１０μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１９と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５６】
（実施例２４）
第１基板の隔壁上端面に１２μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１９と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５７】
（実施例２５）
第１基板の隔壁上端面に１４μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１９と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５８】
（実施例２６）
第１基板の隔壁上端面に１６μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１９と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００５９】
（実施例２７）
第１基板の隔壁上端面に１８μｍ厚さの反射輝度抑制層を形成したことを除けば、実施例１９と同様な方法でプラズマディスプレイパネルを製造した。
【００６０】
上記した比較例１及び実施例１〜２７によって製造されたプラズマディスプレイパネルの反射輝度を測定した。図２はプラズマディスプレイパネルの反射輝度測定方法を示した模式図であり、具体的な測定方法は次の通りであるまず、プラズマディスプレイパネル２１の電源を切った状態で、図２（ａ）のように、パネルの中央部面上に所定の光反射板２３を付着させて、輝度測定計２５（製造元:（株）トプコン、モデル名:ＢＭ７２５）を光反射板２３の正面に配置し、光反射板２３から反射される反射光２４の輝度が４２ｃｄ/ｍ２になるように輝度測定計２５から照射する入射光２２を調整し、その後、図２（ｂ）に示すように、光反射板２３を除去した状態で同一入射光２２をパネルに照射して、パネルから反射される反射光２６の輝度を測定した。
【００６１】
図３は、比較例１及び実施例１〜９によって製造されたプラズマディスプレイパネルの反射輝度抑制層の厚さの変化による反射輝度を比較したグラフ、  図４は、比較例１及び実施例１０〜１８によって製造されたプラズマディスプレイパネルの反射輝度抑制層の厚さの変化による反射輝度を比較したグラフ、図５は、比較例１及び実施例１９〜２７によって製造されたプラズマディスプレイパネルの反射輝度抑制層の厚さの変化による反射輝度を比較したグラフである。
【００６２】
図３〜図５に示すように、反射輝度抑制層を含む本発明のプラズマディスプレイパネルは、反射輝度が減少する特性を示して、特に反射輝度抑制層の厚さが６μｍ以上に維持される場合に、２０％以上反射輝度が減少することが分かる。
【００６３】
上述した実施の形態の開示の一部をなす論述および図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例および運用技術が明らかとなろう。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】本発明の実施の形態に係るプラズマディスプレイパネルを模式的に示した要部分解斜視図である。
【図２】（ａ）および（ｂ）はプラズマディスプレイパネルの反射輝度測定方法を示した模式図である。。
【図３】比較例１及び実施例１〜９によって製造されたプラズマディスプレイパネルの反射輝度抑制層の厚さの変化による反射輝度を比較したグラフである。
【図４】比較例１及び実施例１０〜１８によって製造されたプラズマディスプレイパネルの反射輝度抑制層の厚さの変化による反射輝度を比較したグラフである。
【図５】比較例１及び実施例１９〜２７によって製造されたプラズマディスプレイパネルの反射輝度抑制層の厚さの変化による反射輝度を比較したグラフである。
【符号の説明】
【００６５】
１  第１基板
３  アドレス電極
５  誘電体層
７  隔壁
９  蛍光体層
１１  第２基板
１３  放電維持電極
１３ａ  透明電極
１３ｂ  バス電極
１５  透明維持電極
１７  保護膜
１９  反射輝度抑制層
２１  プラズマディスプレイパネル
２２  輝度測定計からの入射光
２３  光反射板
２４  光反射板によって反射される反射光
２５  輝度測定計
２６  パネルによって反射される反射光
【図１】
2005332804.tif 000003
【図２】
2005332804.tif 000004
【図３】
2005332804.tif 000005
【図４】
2005332804.tif 000006
【図５】
2005332804.tif 000007