(57)【要約】【課題】  液晶セルが正確に光学的に補償され、かつ薄層化が可能な液晶表示素子を提供する。【解決手段】  一対の基板と、該基板間に挟持された液晶性分子からなる液晶層を含み、かつ、前記液晶性分子が前記基板に対して略垂直な方向に配向している液晶セルを補償する位相差板であり、かつ、光学的に負の屈折率異方性を持ち、前記屈折率異方性の絶対値が０．０６０以上０．０８５以下であり、下記一般式（ａ）で表されるレターデーション値（Ｒｅ値）が−１０〜１０ｎｍであり、さらに、実質的に水平配向している円盤状液晶性化合物を含む位相差板。一般式（ａ）Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（式中、ｎｘは層の面内における遅相軸方向の屈折率、ｎｙはｎｘと直交する方向の面内の屈折率、ｄは膜の厚さ(ｎｍ)である。）【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板と、該基板間に挟持された液晶性分子からなる液晶層を含み、かつ、前記液晶性分子が前記基板に対して略垂直な方向に配向している液晶セルを補償する位相差板であり、かつ、光学的に負の屈折率異方性を持ち、前記屈折率異方性の絶対値が０．０６０以上０．０８５以下であり、下記一般式（ａ）で表されるレターデーション値（Ｒｅ値）が−１０〜１０ｎｍであり、さらに、当該位相差板の板面に実質的に水平配向している円盤状液晶性化合物を含む位相差板。
一般式（ａ）
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（式中、ｎｘは層の面内における遅相軸方向の屈折率、ｎｙはｎｘと直交する方向の面内の屈折率、ｄは膜の厚さ(ｎｍ)である。）
【請求項２】
前記光学異方性層が下記式（ｃ）を満たすことを特徴とする請求項1に記載の位相差板。
一般式（ｃ）
１．０５≦Ｒｅ450／Ｒｅ650≦１．３０
（式中、Ｒｅ450は４５０ｎｍにおけるＲｅ値を、Ｒｅ650は６５０ｎｍにおけるＲｅ値を示す。）
【請求項３】
前記円盤状液晶性化合物が、トリフェニレン液晶性化合物であることを特徴とする請求項１又は２のいずれか１項に記載の位相差板。
【請求項４】
前記円盤状液晶性化合物が、重合性基を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の位相差板。
【請求項５】
少なくとも、液晶セルと、第一の光学異方性層と、第二の光学異方性層とを有し、前記第一の光学異方性層は光学的に二軸であり、前記第二の光学異方性層は請求項１〜４のいずれか１項に記載の位相差板により構成されてなることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項６】
前記第一の光学異方性層がノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子またはポリサルフォンのいずれかからなる高分子フィルムである事を特徴とする請求項５に記載の液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、位相差板及び液晶表示素子に関し、特に、薄くて、視野角特性の優れた垂直配向型液晶表示素子に使用する位相差板及び液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子は、液晶セルおよび偏光板からなる。前記偏光板は保護フィルムおよび偏光膜を有する。そして、偏光板は、例えば、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行い、その両面に保護フィルムを積層して得られる。透過型液晶表示素子では、この偏光板を液晶セルの両側に取り付け、さらには一枚以上の光学補償シートを配置することもある。反射型液晶表示素子では、反射板、液晶セル、一枚以上の光学補償シート、偏光板の順に配置する。液晶セルは、液晶性分子、それを封入するための二枚の基板および液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなる。液晶セルは、液晶性分子の配向状態の違いで、ＯＮ、ＯＦＦ表示を行い、透過および反射型いずれにも適用できる、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＩＰＳ（In-Plane Switching）、ＯＣＢ（Optically Compensatory Bend）、ＶＡ（Vertically Aligned）、ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）のような表示モードが提案されている。
【０００３】
この様なＬＣＤの中でも、高い表示品位が必要な用途については、正の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子を用い、薄膜トタンジスタにより駆動する９０度ねじれネマチック型液晶表示素子（以下、ＴＮモードという）が主に用いられている。しかしながら、ＴＮモードは正面から見た場合には優れた表示特性を有するものの、斜め方向から見た場合にコントラストが低下したり、階調表示で明るさが逆転する階調反転等が起こることにより表示特性が悪くなるという視野角特性を有しており、この改良が強く要望されている。
【０００４】
近年、この視野角特性を改良するＬＣＤの方式として、負の誘電率異方性を有するネマチック液晶分子を用い、電圧を印加しない状態で液晶分子の長軸を基板に略垂直な方向に配向させ、これを薄膜トランジスタにより駆動する垂直配向ネマチック型液晶表示素子（以下、ＶＡモードという）が提案されている（特許文献１参照）。このＶＡモードは、正面から見た場合の表示特性がＴＮモードと同様に優れているのみならず、視野角補償用位相差板を適用することで広い視野角特性を発現する。ＶＡモードでは、フィルム面に垂直な方向に光学軸を有する負の一軸性位相差板を２枚、液晶セルの上下に用いることでより広い視野角特性を得ることができ、このＬＣＤに更に面内のレターデーション値が５０ｎｍである正の屈折率異方性を有する一軸配向性位相差板を用いることで、更により広い視野角特性を実現できることも知られている（非特許文献１参照）。
【０００５】
しかしながら、位相差板の枚数を増やすと生産コストの上昇を伴い、また、多数のフィルムを貼り合わせるために歩留まりの低下を引き起こしやすい。さらに、複数のフィルムを用いるために厚さが増し、表示装置の薄形化に不利となる場合もある。また、延伸フィルムの積層には粘着層を用いるため、温湿度変化により粘着層が収縮してフィルム間の剥離や反りといった不良が発生することがある。
【０００６】
これらを改善する方法として、位相差板の枚数を減らす方法（特許文献２参照）やコレステリック液晶層を用いる方法（特許文献３参照）が開示されている。しかしながら、これらの方法でも、少なくとも複数のフィルムを貼り合わせる必要があり、薄層化、生産コスト低減という点では不十分であった。
【０００７】
また、上記課題を改善する目的で、ディスコティック液晶を用いる方法（特許文献４参照）が提案されている。しかし、この方法では長尺の支持体に連続的に光学異方性層を形成することが困難であり、生産性が劣っていた。さらに、この問題を解決した方法が特許文献５に開示されている（特許文献５参照）。しかし、この場合にも必要な光学特性（特に、Ｒｔｈ値）を得るためには塗布膜厚が厚くなるため、塗布ムラ等の問題が発生していた。
【特許文献１】特開平２−１７６６２５号公報
【特許文献２】特開平１１−９５２０８号公報
【特許文献３】特開平１１−９５２０８号公報
【特許文献４】特開平１１−３５２３２８号公報
【特許文献５】特開２０００−３０３４９３１号公報
【非特許文献１】ＳＩＤ  ９７  ＤＩＧＥＳＴ  ８４５頁〜８４８頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の課題は、液晶セルが正確に光学的に補償され、かつ貼り合わせる枚数を少なくしても対応可能な、すなわち、薄層化が可能な液晶表示素子に使用する位相差板及び液晶表示素子を提供することである。特に、ＶＡモードの液晶表示素子に使用するものを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の目的は、下記（１）〜（８）により達成された。
【００１０】
（１）一対の基板と、該基板間に挟持された液晶性分子からなる液晶層を含み、かつ、前記液晶性分子が前記基板に対して略垂直な方向に配向している液晶セルを補償する位相差板であり、かつ、光学的に負の屈折率異方性を持ち、前記屈折率異方性の絶対値が０．０６０以上０．０８５以下であり、下記一般式（ａ）で表されるレターデーション値（Ｒｅ値）が−１０〜１０ｎｍであり、さらに、当該位相差板の板面に実質的に水平配向している円盤状液晶性化合物を含む位相差板。
一般式（ａ）
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（式中、ｎｘは層の面内における遅相軸方向の屈折率、ｎｙはｎｘと直交する方向の面内の屈折率、ｄは膜の厚さ(ｎｍ)である。）
【００１１】
（２）前記光学異方性層が下記式（ｃ）を満たすことを特徴とする上記（１）に記載の位相差板。
一般式（ｃ）
１．０５≦Ｒｅ450／Ｒｅ650≦１．３０
（式中、Ｒｅ450は４５０ｎｍにおけるＲｅ値を、Ｒｅ650は６５０ｎｍにおけるＲｅ値を示す。）
【００１２】
（３）前記円盤状液晶性化合物が、トリフェニレン液晶性化合物であることを特徴とする上記（１）又は（２）のいずれかに記載の位相差板。
【００１３】
（４）前記円盤状液晶性化合物が、重合性基を有することを特徴とする上記（１）〜（３）のいずれか１に記載の位相差板。
【００１４】
（５）少なくとも、液晶セルと、第一の光学異方性層と、第二の光学異方性層とを有し、前記第一の光学異方性層は光学的に二軸であり、前記第二の光学異方性層は上記（１）〜（４）のいずれか１に記載の位相差板により構成されてなることを特徴とする液晶表示素子。
【００１５】
（６）前記第一の光学異方性層がノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子またはポリサルフォンのいずれかからなる高分子フィルムである事を特徴とする上記（５）に記載の液晶表示素子。
【００１６】
（７）液晶セルと、当該液晶セルを補償する光学異方性層を少なくとも１層有する液晶表示素子において、前記液晶セルは、一対の基板と該基板間に挟持された液晶性分子からなる液晶層とを有し、かつ、前記液晶性分子が前記基板に対して略垂直な方向に配向しており、前記光学異方性層の少なくとも１層は、光学的に負の屈折率異方性を持ち、前記屈折率異方性の絶対値が０．０６０以上０．０８５以下であり、下記一般式（ａ）で表されるレダーデーション値（Ｒｅ値）が−１０〜１０ｎｍであり、かつ、当該位相差板の板面に実質的に水平配向している円盤状液晶性化合物からなることを特徴とする液晶表示素子。
一般式（ａ）
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（式中、ｎｘは層の面内における遅相軸方向の屈折率、ｎｙはｎｘと直交する方向の面内の屈折率、ｄは膜の厚さ(ｎｍ)である。）
【００１７】
（８）液晶セルと、当該液晶セルを補償する第一の光学異方性層及び第二の光学異方性層とを有する液晶表示素子において、前記液晶セルは、一対の基板と該基板間に挟持された液晶性分子からなる液晶層とを有し、かつ、前記液晶性分子が前記基板に対して略垂直な方向に配向しており、前記第一の光学異方性層は、光学的に負の屈折率異方性を持ち、前記屈折率異方性の絶対値が０．０６０以上０．０８５以下であり、下記一般式（ａ）で表されるレダーデーション値（Ｒｅ値）が−１０〜１０ｎｍであり、かつ、当該位相差板の板面に実質的に水平配向している円盤状液晶性化合物からなり、前記第二の光学異方性層は、光学的に二軸であることを特徴とする液晶表示素子。
一般式（ａ）
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（式中、ｎｘは層の面内における遅相軸方向の屈折率、ｎｙはｎｘと直交する方向の面内の屈折率、ｄは膜の厚さ(ｎｍ)である。）
【発明の効果】
【００１８】
本発明の位相差板を利用することにより、従来の液晶表示素子と同じ構成で、液晶セルを光学的に補償することが可能になり、さらに、前記光学異方性層を有する本発明の液晶表示素子は、表示品位のみならず、視野角が著しく改善された。また、従来の液晶表示素子では、光学補償シートを組み込むために、複数の位相差板と偏光板の角度を厳密に調整しながら積層する工程が必要であった。しかしながら、本発明ではかかる工程を経なくてもよく、長尺の支持体に連続的に光学異方性層を形成することが可能となり、さらに塗布時のムラ等の問題のない光学異方性層の形成が可能となった。
【発明の実施の形態】
【００１９】
以下において、本願発明の内容について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
【００２０】
本明細書において、角度について「実質的に」とは、厳密な角度との誤差が±５°未満の範囲内であることを意味する。さらに、厳密な角度との誤差は、４°未満であることが好ましく、３°未満であることがより好ましい。また、屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。なお、本明細書において、「可視光」とは、波長が４００ｎｍ〜７００ｎｍの光ことをいう。さらに屈折率の測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５５０ｎｍでの値である。
【００２１】
本発明でいうＲｅ値とは、下記一般式（ａ）で表されるレターデーション値である。
一般式（ａ）
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
（式中、ｎｘは層の面内における遅相軸方向の屈折率、ｎｙはｎｘと直交する方向の面内の屈折率、ｄは膜の厚さ(ｎｍ)である。）
【００２２】
また、本発明でいうＲｔｈとは、下記一般式（ｂ）で表される厚み方向のレターデーション値である。
一般式（ｂ）
Ｒｔｈ＝（(ｎｘ＋ｎｙ)／２−ｎｚ）×ｄ
（式中、ｎｘは層の面内における遅相軸方向の屈折率、ｎｙはｎｘと直交する方向の面内の屈折率、ｎｚは厚み方向での膜の屈折率、ｄは膜の厚み(ｎｍ)である。）
【００２３】
本発明を具体的に説明する。まず、図１及び２を用いて、本発明の液晶表示素子の一態様について説明する。図１は本発明の液晶表示素子の、図２は本発明で使用可能な偏光板の構成の一例の模式図を示したものである。図１では、電界効果型液晶素子として負の誘電異方性を有するネマチック液晶を用いてアクティブ駆動を行った例である。
【００２４】
［液晶表示素子］  図１において、液晶表示素子は、液晶セル（５〜８）、および液晶セルの両側に配置された一対の偏光板１および１４を有する。偏光板１と液晶セル５〜８との間には、光学異方性層３が、偏光板１４と液晶セル５〜８との間には、光学異方性層１０が配置されている。液晶セルは、上側電極基板５と下側電極基板８と、これらに挟持される液晶分子７とからなる。液晶性分子７は、電極基板５および８の対向面に施されたラビング処理の方向６および９によって、外部電界が印加されていない非駆動状態において、前記基板に対して略垂直な方向に配向するように制御されている。また、上側偏光板１と下側偏光板１４は、その吸収軸２と吸収軸１５とが概略直交するように積層されている。
【００２５】
図２に示す様に、偏光板１および１４は、保護膜１０１および１０５に挟持される偏光膜１０３からなる。偏光板１および１４は、例えば、ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光膜をヨウ素にて染色し、延伸を行うことによって偏光膜１０４を得、その両面に保護膜１０１および１０６を積層して作製することができる。積層の際には、一対の保護膜と偏光膜の合計３枚のフィルムを、ロール・ＴＯ・ロールで貼り合わせると、生産性の点で好ましい。また、ロール・ＴＯ・ロールの積層では、図２に示す様に、保護膜１０１および１０５の遅相軸１０２および１０６と、偏光膜の吸収軸１０４とが平行となる様に容易に積層でき、偏光板の寸法変化やカールの発生が起こりにくく、機械的安定性が高い偏光板となるので好ましい。また、３枚のフィルムからなる少なくとも２つの軸、例えば、一方の保護膜の遅相軸と偏光膜吸収軸、あるいは２枚の保護フィルムの遅相軸などが実質的に平行であれば同じ効果が得られる。
【００２６】
図１において、光学異方性層３は、光学的に一軸または二軸の位相差板によって構成され、特に制限はないが、ノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子またはポリサルフォンまたは、それらポリマーの２種又は３種以上を混合したポリマーなどがあげられる。就中、複屈折特性の制御性や透明性、耐熱性に優れるものが好ましい。また、光学異方性層３は円盤状液晶性化合物からなる光学異方性層１０の厚みを薄くできるため、二軸性であることがさらに好ましい。一方、円盤状液晶性化合物からなる光学異方性層１０は、光学的に負の屈折率異方性を持ち、屈折率異方性の絶対値が０．０６０以上０．０８５以下であり、Ｒｅが−１０〜１０ｎｍであり、実質的に水平配向している円盤状液晶性化合物からなる光学異方性層である。これらの光学異方性層３及び１０は、液晶セルの画像着色を解消し、および視野角の拡大に寄与する。
【００２７】
尚、図１の液晶表示素子では、円盤状液晶性化合物からなる光学異方性層１０を１層のみ用いた例を示したが、光学異方性層１０は２層以上であってもよく、円盤状液晶性化合物以外の高分子との積層でもよい。
【００２８】
図１中、上側を観察者側とすると、図１には、光学異方性層３は、観察者側の偏光板１と観察者側液晶セル用基板５との間に、光学異方性層１０は、背面側の偏光板１４と背面側液晶セル用基板８との間に配置した構成を示したが、光学異方性層３と光学異方性層１０が入れ替わった構成であってもよいし、また、光学異方性層３と１０の双方が、観察者側の偏光板１と観察者側液晶セル用基板５との間に配置されていてもよいし、または背面側の偏光板１４と背面側液晶セル用基板８との間に配置されていてもよい。かかる態様では、光学異方性層１０が、光学異方性層３の支持体を兼ねていてもよい。
【００２９】
また、光学異方性層３は、偏光板１と一体となっていてもよく、偏光板１と一体化した状態で液晶表示素子内に組み込むことができる。例えば、第１の光学異方性層の支持体を、偏光膜の一方の側の保護膜として機能させてもよく、透明保護膜、偏光膜、透明保護膜（透明支持体を兼用）および光学異方性層の順序で積層した一体型偏光板とするのが好ましい。前記一体型偏光板を液晶表示素子内に組み込む場合は、装置の外側（液晶セルから遠い側）から、透明保護膜、偏光膜、透明保護膜（兼透明支持体）および光学異方性層３の順序になるように組み込むのが好ましい。
【００３０】
光学異方性層１０は、本発明の位相差板を用いて形成する。本発明の位相差板を用いた光学異方性層は、上記光学異方性層３と同様に、偏光板１４と一体化した一体型偏光板として液晶表示素子内に組み込むことができる。光学異方性層１０が液晶性化合物からなる態様では、偏光板１４の一方の保護膜が光学異方性層１０の透明支持体を兼ねていてもよい。かかる態様では、透明保護膜、偏光膜、透明保護膜（透明支持体を兼用）および光学異方性層１０の順序で積層した一体型偏光板とし、該一体型偏光板を、外側（液晶セルから遠い側）から、透明保護膜、偏光膜、透明保護膜（兼透明支持体）および光学異方性層１０の順序になるように液晶表示素子内に組み込むのが好ましい。
【００３１】
本発明の液晶表示素子は、上記構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶セルと偏光膜との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、透過型液晶表示素子の態様では、冷あるいは熱陰極蛍光管、発光ダイオード、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することができる。一方、反射型液晶表示素子の態様では、偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セルの背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。さらに、表示装置の１画素内に、透過部と反射部を設けた半透過型も可能である。
【００３２】
本発明の液晶表示素子の種類については特に限定されず、画像直視型、画像投影型および光変調型のいずれの液晶表示素子も含まれる。ＴＦＴやＭＩＭのような３端子または２端子半導体素子を用いたアクティブマトリクス液晶表示素子が本発明では特に有効である。もちろん時分割駆動と呼ばれるＳｕｐｅｒ-Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ型（ＳＴＮ型）に代表されるパッシブマトリクス液晶表示素子でも有効である。
【００３３】
［ＶＡモード液晶セル］  本発明において、液晶セルはＶｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄモード（ＶＡモード）であるのが好ましい。ＶＡモードの液晶セルは、対向面がラビング処理された上下基板の間に誘電異方性が負の液晶性分子を封入してなる。例えば、Δｎ＝０．０８１３、およびΔε＝−４．６程度の液晶分子を用い、液晶分子の配向方向を示すダイレクタ、いわゆるチルト角が約８９°の液晶セルを作製することができる。この時、液晶層の厚さｄは３．５μｍ程度にすることができる。液晶層の厚さｄ（ｎｍ）と、屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄの大きさにより白表示時の明るさが変化する。最大の明るさを得るためには、液晶層の厚さｄは２〜５μｍ（２０００〜５０００ｎｍ）の範囲であるのが好ましく、Δｎは、０．０６０〜０．０８５の範囲である。
【００３４】
ここで、屈折率異方性Δｎは、
Δｎ＝Ｒｔｈ／膜厚（ｎｍ）
で表される。
【００３５】
基板５および基板８の内側には、透明電極（図示せず）が形成されるが、電極に駆動電圧を印加しない非駆動状態では、液晶層中の液晶分子７は、基板面に対して概略垂直に配向し、その結果液晶パネルを通過する光の偏光状態はほとんど変化しない。上記した様に、液晶セルの上側偏光板１の吸収軸２と下側偏光板１４の吸収軸１５とは概略直交になっているので、光は偏光板を通過しない。すなわち、図１の液晶表示素子では、非駆動状態において理想的な黒表示を実現する。これに対し、駆動状態では、液晶分子は基板面に平行な方向に傾斜し、液晶パネルを通過する光はかかる傾斜した液晶分子により偏光状態を変化させ、偏光板を通過する。
【００３６】
図１では上下基板間に電界が印加されるため、電界方向に垂直に液晶分子が応答するような、誘電率異方性が負の液晶材料を使用した例を示した。また電極を一方の基板に配置し、電界が基板面に平行の横方向に印加される場合は、液晶材料は正の誘電率異方性を有するものを使用することができる。なお、ＶＡモードの液晶表示素子では、Ｔｗｉｓｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃモード（ＴＮモード）の液晶表示素子で一般的に使われているカイラル材の添加は、動的応答特性の劣化させるため用いることは少ないが、配向不良を低減するために添加されることもある。
【００３７】
ＶＡモードの特徴は、高速応答であること及びコントラストが高いことである。しかし、コントラストは、正面では高いが斜め方向では低下するという課題がある。黒表示時に液晶性分子は基板面に垂直に配向している。正面から観察すると、液晶分子の複屈折はほとんどないため透過率は低く、高コントラストが得られる。しかし、斜めから観察した場合は液晶性分子に複屈折が生じる。さらに上下の偏光板吸収軸の交差角が、正面では９０°の直交であるが、斜めから見た場合は９０°より大きくなる。この２つの要因のために斜め方向では漏れ光が生じやすくなり、コントラストが低下する傾向にある。本発明では、これを解決するために、光学異方性層３及び１０を少なくとも一層ずつ配置することができる。
【００３８】
ＶＡモードでは、白表示時には液晶性分子が傾斜しているが、傾斜方向とその逆方向では、斜めから観察した時の液晶性分子の複屈折の大きさが異なり、輝度や色調に差が生じる。これを解決するためには、液晶セルをマルチドメインにするのが好ましい。マルチドメインとは、一つの画素中に、配向状態の異なる複数の領域を形成した構造をいう。例えば、マルチドメイン方式のＶＡモードの液晶セルでは、一つの画素中に、電界印加時の液晶性分子の傾斜角が互いに異なる複数の領域が存在する。マルチドメイン方式のＶＡモード液晶セルでは、電界印加による液晶性分子の傾斜角を画素ごとに平均化することができ、そのことによって、視角特性を平均化することができる。一画素内で配向を分割するには、電極にスリットを設けたり、突起を設け、電界方向を変えたり電界密度に偏りを持たせる。全方向に均等な視野角を得るには、この分割数を多くすればよい。
【００３９】
また配向分割の領域境界では、液晶分子が応答しづらい。そのためノーマリーブラック表示では黒表示が維持されるため、輝度低下が問題となる。液晶材料にカイラル剤を添加することは、境界領域を小さくするのに寄与する。
【００４０】
以下、本発明の液晶表示素子に用いられる光学異方性層について、詳細に説明する。本発明において、光学異方性層は、液晶表示素子の画像着色を解消し、および視野角の拡大に寄与する。また、光学異方性層の支持体が偏光板の保護膜を兼ねることによって、または光学異方性層が偏光板の保護膜を兼ねることによって、液晶表示素子の構成部材を減少させることができる。すなわち、かかる態様にすることにより液晶表示素子の薄型化にも寄与する。
【００４１】
本発明では、円盤状化合物からなる光学異方性層と高分子ポリマーからなる光学的に一軸または二軸性の光学異方性層との組合せにより、液晶表示素子の光学特性を格段に向上させることができる。
【００４２】
［円盤状液晶性化合物よりなる光学異方性層］  光学的に負の屈折率異方性を持ち、当該屈折率異方性の絶対値が０．０６０〜０．０８５、好ましくは０．０７０〜０．０８０であり、Ｒｅが−１０〜１０ｎｍ、好ましくは−５〜５ｎｍであり、さらに、実質的に水平配向している円盤状液晶性化合物からなる光学異方性層は長尺の支持体に連続塗布する際に、ムラを発生しにくくするという利点を有する。加えて、光学異方性層が、
下記一般式（ｃ）を満たすことが好ましい。
一般式（ｃ）
１．０５≦Ｒｅ450／Ｒｅ650≦１．３０
（式中、Ｒｅ450は４５０ｎｍにおけるＲｅ値を、Ｒｅ650は６５０ｎｍにおけるＲｅ値を示す。）
より好ましくは、１．０７≦Ｒｅ450／Ｒｅ650≦１．２６である。このような条件を満たすと、可視光全域にわたって液晶表示素子を補償することが可能となる。
【００４３】
本発明において、円盤状液晶性化合物よりなる光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物及び後述する一般式（Ｉ）、（II）、又は（III）で表される化合物の少なくとも一種を含有する。さらに、Rthは好ましくは３０〜３００nm、より好ましくは４０〜２００nmである。
【００４４】
ディスコティック液晶性化合物は、前記一般式（Ｉ）〜（III）で表される化合物の少なくとも一種を併用することによって、ポリマーフィルム面に対して実質的に水平に配向させることができる。実質的に水平とは、ディスコティック液晶性化合物の円盤面と光学異方性層の面との平均角度（平均傾斜角）が０°〜１０°の範囲内であることを意味する。
ディスコティック液晶性化合物は、様々な文献（C. Destrade et al., Mol. Crysr. Liq. Cryst., vol. 71, page 111 (1981) ；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節(1994)；B. Kohne et al., Angew. Chem. Soc. Chem. Comm., page 1794 (1985)；J. Zhang et al., J. Am.Chem. Soc., vol. 116, page 2655 (1994)）に記載されているものを広く採用することができる。ディスコティック液晶性化合物の重合については、例えば、特開平８−２７２８４号公報に記載の方法を採用できる。
【００４５】
ディスコティック液晶性化合物は、重合により固定可能なように、重合性基を有するのが好ましい。例えば、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させた構造が考えられる。また、円盤状コアと重合性基との間に連結基を有する構造がより好ましい。連結基を有する構造を採用すると、重合反応において配向状態を保つことがより容易になる。重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記一般式（VI）で表わされる化合物が好ましい。
一般式（VI）
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）n
（一般式（VI）中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。）
【００４６】
前記式（VI）中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）及び重合性基（Ｐ）は、例えば、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）をそれぞれ、用いることができる。具体的には以下に示すTE-８が挙げられる。
【００４７】
【化１】
2005128050.tif 000002
【００４８】
重合性基を有するディスコティック液晶性化合物の場合も、上述と同様に実質的に水平配向させる。この場合のディスコティック液晶性化合物の具体例としては、国際公開ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の５８頁６行〜６５頁８行に記載されているものも好ましく採用することができる。
【００４９】
[水平配向剤]  光学異方性層を形成するディスコティック液晶性化合物は、下記一般式（Ｉ）〜（III）で表される化合物の少なくとも一種を併用することで、実質的に水平配向させることが出来る。尚、本発明で「水平配向」とは、液晶層の水平面（例えば液晶層が支持体上に形成されている場合は支持体の表面）に対してディスコティック液晶性化合物の長軸方向（すなわち、コアの円盤面）が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、コアの円盤面と水平面とのなす傾斜角が１０度未満の配向を意味するものとする。傾斜角は５度以下が好ましく、３度以下がより好ましく、２度以下がさらに好ましく、１度以下が最も好ましい。前記傾斜角は０度であってもよい。
【００５０】
以下、下記一般式（I）〜（III）について、順に説明する。
【化２】
2005128050.tif 000003
式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は各々独立して、水素原子又は置換基を表し、Ｘ1、Ｘ2及びＸ3は単結合又は二価の連結基を表す。
【００５１】
【化３】
2005128050.tif 000004
式中、Ｒは置換基を表し、ｍは０〜５の整数を表す。ｍが２以上の整数を表す場合、複数個のＲは同一でも異なっていてもよい。
【００５２】
【化４】
2005128050.tif 000005
式中、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は各々独立して、水素原子又は置換基を表す。
【００５３】
以下にさらに一般式（I）〜（III）にて表される化合物について詳細に説明する。まず、一般式（I）にて表される化合物について説明する。
Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3で各々表される置換基としては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルケニル基であり、例えば、ビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルキニル基であり、例えば、プロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、例えば、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる）、置換もしくは無置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のアミノ基であり、例えば、無置換アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アニリノ基などが挙げられる）、
【００５４】
アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜４０、より好ましくは炭素数６〜３０、特に好ましくは炭素数６〜２０のアリールオキシ基であり、例えば、フェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のアシル基であり、例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基であり、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基であり、例えば、フェニルオキシカルボニル基などが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルオキシ基であり、例えば、アセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる）、
【００５５】
アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアシルアミノ基であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜４０、より好ましくは炭素数２〜３０、特に好ましくは炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基であり、例えば、メトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜４０、より好ましくは炭素数７〜３０、特に好ましくは炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基であり、例えば、フェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニルアミノ基であり、例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜４０、より好ましくは炭素数０〜３０、特に好ましくは炭素数０〜２０のスルファモイル基であり、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のカルバモイル基であり、例えば、無置換のカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる）、
【００５６】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０であり、例えば、フェニルチオ基などが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルホニル基であり、例えば、メシル基、トシル基などが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のスルフィニル基であり、例えば、メタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のウレイド基であり、例えば、無置換のウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜４０、より好ましくは炭素数１〜３０、特に好ましくは炭素数１〜２０のリン酸アミド基であり、例えば、ジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２のヘテロ環基であり、例えば、窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を有するヘテロ環基であり、例えば、イミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、１，３，５−トリアジル基などが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４のシリル基であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）が含まれる。これらの置換基はさらにこれらの置換基によって置換されていてもよい。また、置換基が二つ以上有する場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに結合して環を形成していてもよい。
【００５７】
Ｒ1、Ｒ2及びＲ3で各々表される置換基としては、好ましくはアルキル基、アリール基、置換もしくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アルキルチオ基又はハロゲン原子である。
【００５８】
Ｘ1、Ｘ2及びＸ3で各々表される二価の連結基は、アルキレン基、アルケニレン基、二価の芳香族基、二価のヘテロ環残基、−ＣＯ−、―ＮＲa−（Ｒaは炭素原子数が１〜５のアルキル基または水素原子）、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−及びそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基は、アルキレン基、フェニル基、−ＣＯ−、−ＮＲa−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基であることがより好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。二価の芳香族基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。アルキレン基、アルケニレン基及び二価の芳香族基は、可能であれば前述のＲ1、Ｒ2及びＲ3の置換基として例示された基（例、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ、アルコキシ基、アシルオキシ基）によって置換されていてもよい。
【００５９】
前記一般式（I）で表される化合物の中でも、下記一般式（Iａ）又は（Iｂ）で表される化合物が特に好ましい。
【００６０】
【化５】
2005128050.tif 000006
式中、Ｒ1a、Ｒ2a及びＲ3aは、各々水素原子又は置換基を表し、Ｘ1a、Ｘ2a及びＸ3aは、各々−ＮＨ−、−Ｏ−又は−Ｓ−を表し、ｍ１ａ、ｍ２ａ及びｍ３ａは、１〜３の整数を表す。
【００６１】
【化６】
2005128050.tif 000007
式中、Ｒｆ1、Ｒｆ2及びＲｆ3は、各々末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｙ1、Ｙ2及びＹ3は、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基を表す。
【００６２】
まず、一般式（Iａ）にて表される化合物について説明する。
Ｒ1a、Ｒ2a及びＲ3aで各々表される置換基は、前記一般式（I）におけるＲ1、Ｒ2及びＲ3と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｒ1a、Ｒ2a及びＲ3aで各々表される置換基としては、特に好ましくは末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルコキシ基である。該アルコキシ基中に含まれるアルキル鎖は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数４〜２０であり、さらに好ましくは炭素数４〜１６であり、特に好ましくは６〜１６である。前記末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルコキシ基は、アルコキシ基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルコキシ基である。アルコキシ基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましく、７０％以上を置換されているのが特に好ましい。以下に、Ｒ1a、Ｒ2a及びＲ3aで表される末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルコキシ基の例を示す。
【００６３】
Ｒ１：ｎ−Ｃ8Ｆ17−Ｏ−
Ｒ２：ｎ−Ｃ6Ｆ13−Ｏ−
Ｒ３：ｎ−Ｃ4Ｆ9−Ｏ−
Ｒ４：ｎ−Ｃ8Ｆ17−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−
Ｒ５：ｎ−Ｃ6Ｆ13−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−
Ｒ６：ｎ−Ｃ4Ｆ9−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−
Ｒ７：ｎ−Ｃ8Ｆ17−（ＣＨ2）3−Ｏ−
Ｒ８：ｎ−Ｃ6Ｆ13−（ＣＨ2）3−Ｏ−
Ｒ９：ｎ−Ｃ4Ｆ9−（ＣＨ2）3−Ｏ−
Ｒ１０：Ｈ−（ＣＦ2）8−Ｏ−
Ｒ１１：Ｈ−（ＣＦ2）6−Ｏ−
Ｒ１２：Ｈ−（ＣＦ2）4−Ｏ−
Ｒ１３：Ｈ−（ＣＦ2）8−（ＣＨ2）−Ｏ−
Ｒ１４：Ｈ−（ＣＦ2）6−（ＣＨ2）−Ｏ−
Ｒ１５：Ｈ−（ＣＦ2）4−（ＣＨ2）−Ｏ−
Ｒ１６：Ｈ−（ＣＦ2）8−（ＣＨ2）−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−
Ｒ１７：Ｈ−（ＣＦ2）6−（ＣＨ2）−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−
Ｒ１８：Ｈ−（ＣＦ2）4−（ＣＨ2）−Ｏ−（ＣＨ2）2−Ｏ−
【００６４】
Ｘ1a、Ｘ2a及びＸ3aはそれぞれ、好ましくは、−ＮＨ−又は−Ｏ−を表し、最も好ましくは、−ＮＨ−を表す。ｍ１ａ、ｍ２ａ及びｍ３ａはそれぞれ、好ましくは２である。
【００６５】
次に、一般式（Iｂ）にて表される化合物について説明する。
Ｒｆ1、Ｒｆ2及びＲｆ3で表される末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基は、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、好ましくは炭素数４〜２０であり、さらに好ましくは炭素数４〜１６であり、特に好ましくは６〜１６である。ＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基以外の置換基を有していてもよい。前記末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基は、アルキル基に含まれる水素原子の一部又は全部がフッ素原子で置換されたアルキル基である。アルキル基中の水素原子の５０％以上がフッ素原子で置換されているのが好ましく、６０％以上が置換されているのがより好ましく、７０％以上を置換されているのが特に好ましい。Ｒｆ1、Ｒｆ2及びＲｆ3で表される末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基の例を以下に示す。
【００６６】
Ｒｆ１：ｎ−Ｃ8Ｆ17−
Ｒｆ２：ｎ−Ｃ6Ｆ13−
Ｒｆ３：ｎ−Ｃ4Ｆ9−
Ｒｆ４：ｎ−Ｃ8Ｆ17−（ＣＨ2）2−
Ｒｆ５：ｎ−Ｃ6Ｆ13−（ＣＨ2）2−
Ｒｆ６：ｎ−Ｃ4Ｆ9−（ＣＨ2）2−
Ｒｆ７：Ｈ−（ＣＦ2）8−
Ｒｆ８：Ｈ−（ＣＦ2）6−
Ｒｆ９：Ｈ−（ＣＦ2）4−
Ｒｆ１０：Ｈ−（ＣＦ2）8−（ＣＨ2）−
Ｒｆ１１：Ｈ−（ＣＦ2）6−（ＣＨ2）−
Ｒｆ１２：Ｈ−（ＣＦ2）4−（ＣＨ2）−
【００６７】
Ｙ1、Ｙ2及びＹ3は各々、好ましくは、アルキレン基、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基を表し、特に好ましくは、アルキレン基、−ＮＨ−、−Ｏ−、及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基を表し、最も好ましくは、−ＮＨ−、−Ｏ−又は−ＮＨ（ＣＨ2）r−Ｏ−（ｒは１〜８の整数を表す。最も好ましくは３である。）を表す。
【００６８】
次に、一般式（II）で表される化合物について説明する。
式（II）中、Ｒで表される置換基としては、一般式（I）におけるＲ1、Ｒ2、及びＲ3で表される置換基と同義であり、その好ましい範囲も同一である。ｍは、好ましくは１〜３の整数を表し、特に好ましくは２又は３である。
【００６９】
前記一般式（II）で表される化合物の中でも、下記一般式（IIａ）で表される化合物が特に好ましい。
【００７０】
【化７】
2005128050.tif 000008
式中、Ｒｆ1a、Ｒｆ2a及びＲｆ3aハ各々独立に、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｙ1a、Ｙ2a及びＹ3aは各々独立に、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基を表す。
【００７１】
Ｒｆ1a、Ｒｆ2a及びＲｆ3aで表される末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基としては、前記一般式（Iｂ）におけるＲｆ1、Ｒｆ2及びＲｆ3で表される末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｙ1a、Ｙ2a及びＹ3aとしては、前記一般式（Iｂ）における。Ｙ1、Ｙ2及びＹ3と同義であり、その好ましい範囲も同一である。最も好ましくは、アルキレン基、−Ｏ−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基である。
【００７２】
最後に、一般式（III）にて表される化合物について説明する。
Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9で各々表される置換基としては、一般式（I）におけるＲ1、Ｒ2及びＲ3で表される置換基と同義であり、その好ましい範囲も同一である。
【００７３】
前記一般式（III）で表される化合物の中でも、下記一般式（IIIａ）で表される化合物が特に好ましい。
【００７４】
【化８】
2005128050.tif 000009
式中、Ｒｆ11a、Ｒｆ22a、Ｒｆ33a、Ｒｆ44a、Ｒｆ55a及びＲｆ66aは各々独立して、末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基を表し、Ｙ11a、Ｙ22a、Ｙ33a、Ｙ44a、Ｙ55a及びＹ66aは各々独立して、アルキレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基を表す。
【００７５】
Ｒｆ11a、Ｒｆ22a、Ｒｆ33a、Ｒｆ44a、Ｒｆ55a及びＲｆ66aで各々表される末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基としては、前記一般式（Iｂ）におけるＲｆ1、Ｒｆ2及びＲｆ3で表される末端にＣＦ3基又はＣＦ2Ｈ基を有するアルキル基と同義であり、その好ましい範囲も同一である。Ｙ11a、Ｙ22a、Ｙ33a、Ｙ44a、Ｙ55a及びＹ66aとしては、前記一般式（Iｂ）における。Ｙ1、Ｙ2及びＹ3と同義であり、その好ましい範囲も同一である。最も好ましくは、アルキレン基、−Ｏ−及びそれらの群より選ばれる二価の連結基を少なくとも二つ組み合わせた基である。
【００７６】
前記一般式（I）、（II）又は（III）で表される化合物の具体例を以下に示すが、本発明に用いられる化合物はこれらに限定されるものではない。下記の具体例中、Ｎｏ．Ｉ−１〜３９は一般式（I）、Ｎｏ．Ｉ−４０〜５０は一般式（II）、Ｎｏ．Ｉ−５１〜５９は一般式（III）で表される化合物の例である。
【００７７】
【化９】
2005128050.tif 000010
【００７８】
【化１０】
2005128050.tif 000011
【００７９】
【化１１】
2005128050.tif 000012
【００８０】
【化１２】
2005128050.tif 000013
【００８１】
【化１３】
2005128050.tif 000014
【００８２】
本発明において、前記一般式（Ｉ）〜(III)にて表される化合物の添加量としては、ディスコティック液晶性化合物の量の０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１０質量％がより好ましく、０．１〜５質量％が特に好ましい。なお、前記一般式（Ｉ）〜（III）にて表される化合物は、単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
【００８３】
［液晶性化合物の配向状態の固定化］  １または２以上の光学異方性層を液晶性化合物から形成する場合は、配向させた液晶性化合物を、配向状態を維持して固定化することが好ましい。固定化は、液晶性化合物に導入した重合性基の重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれるが、光重合反応がより好ましい。光重合開始剤としては、例えば、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載に記載のもの）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書に記載のもの）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書に記載のもの）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書に記載のもの）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書に記載のもの）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書に記載のもの）及びオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書に記載のもの）を採用することができる。
【００８４】
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。液晶性化合物の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ2〜５０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。光学異方性層の厚さは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがさらに好ましい。
【００８５】
光学異方性層は、液晶性化合物及び上記の重合開始剤や他の添加剤を含む塗布液を、配向膜の上に塗布して形成するのが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒としては、例えば、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジン）、炭化水素（例えば、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）を採用することができる。この中でも、アルキルハライド及びケトンが好ましい。さらに、二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布液の塗布は、公知の方法（例えば、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）を広く採用することができる。
【００８６】
［配向膜］  液晶性化合物を配向させるために、配向膜を用いることが好ましい。さらに電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により配向機能が生じる配向膜も知られている。配向膜に使用するポリマーの種類は、液晶性化合物の配向（特に平均傾斜角）に応じて決定することができる。例えば、液晶性化合物を水平に配向させるためには配向膜の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セルまたは光学補償シートについての公知の文献に記載されている事項を広く採用することができる。特に、ラビング処理の方向に対して直交する方向に液晶性化合物を配向する場合には、例えば、特開２００２−６２４２７号公報に記載の変性ポリビニルアルコール、特開２００２−９８８３６号公報に記載のアクリル酸系コポリマー、特開２００２−２６８０６８号公報に記載のポリイミド、ポリアミック酸を好ましく用いることができる。いずれの配向膜においても、液晶性化合物と透明支持体の密着性をより良くする目的で、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、側鎖に重合性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向膜を用いることがより好ましく、かかる配向膜としては、例えば、特開平９−１５２５０９号公報に記載されているものが採用できる。
【００８７】
配向膜の厚さは０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。なお、配向膜を用いて液晶性化合物を配向させてから、その配向状態のまま液晶性化合物を固定して光学異方性層を形成し、光学異方性層のみをポリマーフィルム（または透明支持体）上に転写してもよい。
【００８８】
［一軸および二軸の光学異方性層］  本発明に用いる光学的に一軸および二軸の光学異方性層は、高分子が好ましいが希望するフィルムの諸特性が得られるものであれば特に制約はない。特に、二軸性の光学異方性層とすることにより、円盤状液晶性化合物よりなる光学異方性層の膜厚をより薄くすることができるため好ましい。二軸性の光学異方性層とする場合、採用する高分子は、均一な二軸配向が達成できるものであれば特に制限はないが、例えば、ノルボルネン系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリアリレート系高分子、ポリエステル系高分子、ポリサルフォン等の芳香族系高分子、トリアセチルセルロース等、溶液流延法や押出し成形方式等で製膜できるものが挙げられる。二軸性の光学異方性層は、押出し成形方式や流延製膜方式等の適宜な方式で製造したフィルムを、例えばロールによる縦延伸方式、テンターによる横延伸方式や二軸延伸方式などにより、延伸処理することにより形成することができる。延伸温度は、処理対象のフィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）の近傍、就中、Ｔｇ以上〜融点未満が好ましい。
【００８９】
本願発明に用いる光学的に一軸および二軸の光学異方性層のRthの値は、一軸性の場合、好ましくは３０〜７０nmであり、より好ましくは４０〜６０nmであり、二軸性の場合、好ましくは７０〜１３０nmであり、より好ましくは８０〜１２０nmである。
【００９０】
前記のロールによる縦延伸方式では加熱ロールを用いる方法や雰囲気を加熱する方法、それらを併用する方法等の加熱方法を採ることができる。また、テンターによる二軸延伸方式では全テンター方式による同時二軸延伸方法や、ロール・テンター法による逐次二軸延伸方法等の方法を採ることができる。また、配向ムラや位相差ムラの少ないものが好ましい。その厚さは、位相差等により適宜に決定しうるが、一般には薄型化の点より１〜３００μm、就中１０〜２００μm、特に２０〜１５０μmとされる。
【００９１】
上記光学異方性層に採用するノルボルネン系高分子としては、ノルボルネン及びその誘導体、テトラシクロドデセン及びその誘導体、ジシクロペンタジエン及びその誘導体、メタノテトラヒドロフルオレンおよびその誘導体などのノルボルネン系モノマーの主成分とするモノマーの重合体を挙げることができる。例えば、ノルボルネン系モノマーの開環重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、ノルボルネン系モノマーの付加重合体、ノルボルネン系モノマーとこれと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体、及びこれらの水素添加物などが挙げられる。これらの中でも、耐熱性、機械的強度等の観点から、ノルボルネン系モノマーの開環重合体水素化物が最も好ましい。ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィンの重合体又は環状共役ジエンの重合体の分子量は、使用目的に応じて適宜選択される。例を挙げると、シクロヘキサン溶液（重合体樹脂が溶解しない場合はトルエン溶液）のゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレンまたはポリスチレン換算の重量平均分子量で、好ましくは、５，０００〜５００，０００、より好ましくは８，０００〜２００，０００、さらに好ましくは１０，０００〜１００，０００の範囲である。このような平気分子量であるときに、得られる光学異方性層のフィルムの機械的強度や成形加工性が高度にバランスされて好適である。
【００９２】
上記光学異方性層に採用するポリカーボネート系高分子としては、ポリカーボネートおよびその他のポリマーとの混合物があげられる。
【００９３】
上記光学異方性層に採用するポリアリレート系高分子としては、ポリオキシベンゾエート等およびその他のポリマーとの混合物があげられる。
【００９４】
上記光学異方性層に採用するポリエステル系高分子としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリフェニレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン？２．６？ナフタレート等およびその他のポリマーとの混合物があげられる。
【００９５】
上記光学異方性層に採用するポリサルフォン等の芳香族系高分子としては、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリアリルサルフォン等およびその他のポリマーとの混合物があげられる。
【００９６】
本発明の光学異方性層で採用する高分子のガラス転移温度Ｔｇは、使用目的に応じて適宜定められる。当該樹脂のガラス移転温度は、好ましくは７０℃以上、より好ましくは８０℃〜２５０℃、特に好ましくは９０℃〜２００℃の範囲である。この範囲の樹脂を採用すると、耐熱性と成形加工性とが高度にバランスされ好適である。
【００９７】
樹脂をシート又はフィルム状に成形する方法は、例えば、加熱溶融成形法、溶液流延法のいずれも用いることができる。加熱溶融成形法は、さらに詳細に、押出成形法、プレス成形法、インフレーション成形法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法などに分類できるが、これらの方法の中でも、機械的強度、表面精度等に優れたフィルムを得るためには、押出成形法、インフレーション成形法、及びプレス成形法が好ましく、押出成形法が最も好ましい。成形条件は、使用目的や成形方法により適宜選択されるが、加熱溶融成形法による場合は、シリンダー温度が、好ましくは１００〜４００℃、より好ましくは１５０〜３５０℃の範囲で適宜設定される。上記シート又はフィルムの厚みは、好ましくは１０〜３００μｍ、より好ましくは３０〜２００μｍである。
【００９８】
上記シート又はフィルムの延伸は、上記光学異方性層で採用する高分子のガラス転移温度をＴｇとするとき、好ましくは（Ｔｇ−３０）℃〜（Ｔｇ＋６０）℃の温度範囲、より好ましくは（Ｔｇ−１０）℃〜（Ｔｇ＋５０）℃の温度で、少なくとも一方向に、好ましくは１．０１〜２倍の延伸倍率で行う。延伸方向は、シートが押出成形で得られたものである場合には、樹脂の機械的流れ方向（押出方向）であることが好ましい。また、延伸方法は自由収縮一軸延伸法、幅固定一軸延伸法、二軸延伸法などが好ましい。
【００９９】
ここで、延伸の具体的な方法の一例をあげる。
（１）シートを、一定温度に加熱されたロール（加熱ロール）に通して所望の温度に調整する。
（２）次いで、温度を調整したシートを、回転速度の比較的遅い第一ロールから回転速度のより速い第二ロールの順に通過させることにより延伸する。第一ロールの回転速度と第二ロールの回転速度の速度比を制御することにより延伸倍率を１〜４倍の範囲で調整することができる。なお、加熱ロール、第一ロール、及び第二ロールの間に、赤外線ヒータなどを設置して、シートの温度を一定に保持するのが好ましい。
（３）延伸されたフィルムを、冷却ロールに通して冷却する。
（４）冷却された延伸フィルムを巻き取りロールで巻き取って回収する。巻取りによるフィルム同士のブロッキングを防止する目的で、延伸フィルムと同程度の幅のマスキングフィルムを重ねて一緒に巻き取ってもよいし、延伸フィルムの少なくとも一方の端、好ましくは両方の端に、弱い粘着力の幅細のテープ等を貼り付けながら一緒に巻き取ってもよい。
上記方法の工程（１）で、加熱ロールを通過させるシートは、その温度が加熱ロールよりも高い状態、すなわち押出機等によって成形された直後の状態のものであってもよい。また、高い延伸倍率にすることができることから、加熱ロールよりも低い温度のもの、室温（例えば、２５〜３０℃）のものであってもよい。好ましくは、室温のものである。このように低い温度のシートは、シートを成形した後に、一旦冷却し、ロールに巻き取り回収することによって得ることができる。また、延伸速度は、好ましくは５〜１０００ｍｍ／秒、より好ましくは１０〜７５０ｍｍ／秒である。延伸速度が上記範囲にあると、延伸制御が容易となり、さらに表面精度やレターデーションの面内バラツキをより小さくすることが可能となる。
【０１００】
［偏光膜］  次に、本発明の液晶表示素子に用いられる偏光膜について、詳細に説明する。本発明で採用する偏光膜は、特に制限されず、公知のものを広く採用することができる。例えば、ポリビニルアルコールや部分ホルマール化ポリビニルアルコール、エチレン・酢酸ビニル共重合体部分ケン化物等の親水性ポリマーからなるフィルムに、ヨウ素及び／又はアゾ系やアントラキノン系、テトラジン系等の二色性染料などからなる二色性物質を吸着させて、延伸配向処理したもの等を用いることができる。本発明では、特開２００２−１３１５４８号公報に記載の延伸方法を用いることが好ましく、特に、偏光膜の吸収軸が長手方向に対して実質的に直交する、幅方向一軸延伸型テンター延伸機を用いることが好ましい。
【０１０１】
偏光膜は、通常、少なくとも片面が透明保護膜（保護フィルムともいう）によって保護された偏光板として用いられる。透明保護膜の種類は特に限定されず、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースプロピオネート等のセルロースエステル類、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリエステル等を用いることができる。透明保護膜は、通常、ロール形態で供給され、長尺の偏光膜に対して、長手方向が一致するようにして連続して貼り合わされることが好ましい。ここで、透明保護膜の配向軸（遅相軸）はいずれの方向であってもよいが、操作上の簡便性から、透明保護膜の配向軸は、長手方向に平行であることが好ましい。また、透明保護膜の遅相軸（配向軸）と偏光膜の吸収軸（延伸軸）の角度も特に限定的でなく、偏光板の目的に応じて適宜設定できる。
【０１０２】
なお、本発明に好ましく用いられる、前記の幅方向一軸延伸型テンター延伸機を用いて偏光膜を作製した場合には、透明保護膜の遅相軸（配向軸）と偏光膜の吸収軸（延伸軸）は実質的に直交することになる。
【０１０３】
透明保護膜のＲｅ値は、例えば６３２．８ｎｍにおいて１０ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がさらに好ましい。このような低レターデーションの観点から、透明保護膜として使用するポリマーはセルローストリアセテート、ゼオネックス、ゼオノア（共に日本ゼオン（株）製）、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ（株）製）のようなポリオレフィン類が好ましく用いられる。その他、例えば特開平８−１１０４０２号公報又は特開平１１−２９３１１６号公報に記載されているような非複屈折性光学樹脂材料が挙げられる。なお、透明保護膜にセルロースアセテートを用いる場合には、環境の温湿度によるレターデーション変化を小さくおさえる目的から、Ｒｅ、Ｒｔｈは１０ｎｍ未満であることが好ましく、さらに２ｎｍ以下であることが好ましい。
【０１０４】
本発明では、薄型化等を目的に、偏光膜の保護膜のうち一方が、光学異方性層の支持体を兼ねていてもよいし、また光学異方性層そのものであってもよい。光学異方性層と偏光膜は、光学軸のズレ防止やゴミなどの異物の侵入防止などの点から、固着処理されていることが好ましい。その固着積層には例えば透明接着層を介した接着方式などの適宜な方式を適用することができる。その接着剤等の種類について特に限定はなく、構成部材の光学特性の変化防止などの点から、接着処理時の硬化や乾燥の際に高温のプロセスを要しないものが好ましく、長時間の硬化処理や乾燥時間を要しないものが望ましい。このような観点から、親水性ポリマー系接着剤や粘着層が好ましく用いられる。
【０１０５】
前記粘着層の形成には、例えばアクリル系重合体やシリコーン系ポリマー、ポリエステルやポリウレタン、ポリエーテルや合成ゴムなどの適宜なポリマーを用いてなる透明粘着剤を用いることができる。このうち、光学的透明性や粘着特性、耐候性などの点よりアクリル系粘着剤が好ましい。なお粘着層は、液晶セル等の被着体への接着を目的に偏光板の片面又は両面に必要に応じて設けることもできる。その場合、粘着層が表面に露出するときにはそれを実用に供するまでの間、セパレータ等を仮着して粘着層表面の汚染等を防止することが好ましい。
【０１０６】
偏光膜の片面又は両面に、上記の透明保護膜に準じた耐水性等の各種目的の保護膜、表面反射の防止等を目的とした反射防止層又は／及び防眩処理層などの適宜な機能層を形成した偏光板を用いてもよい。前記反射防止層は、例えばフッ素系ポリマーのコート層や多層金属蒸着膜等の光干渉性の膜などとして適宜に形成することができる。また防眩処理層も例えば微粒子含有の樹脂塗工層やエンボス加工、サンドブラスト加工やエッチング加工等の適宜な方式で表面に微細凹凸構造を付与するなどにより表面反射光が拡散する適宜な方式で形成することができる。
【０１０７】
なお前記の微粒子には、例えば平均粒径が０．５〜２０μｍのシリカや酸化カルシウム、アルミナやチタニア、ジルコニアや酸化錫、酸化インジウムや酸化カドミウム、酸化アンチモン等の導電性のこともある無機系微粒子や、ポリメチルメタクリレートやポリウレタの如き適宜なポリマーからなる架橋又は未架橋の有機系微粒子などの適宜なものを１種又は２種以上用いうる。また上記した接着層ないし粘着層は、斯かる微粒子を含有して光拡散性を示すものであってもよい。
【０１０８】
［偏光板の光学性能］  本発明に関連する透明保護膜、偏光膜および透明支持体からなる偏光板の光学的性質及び耐久性（短期、長期での保存性）は、市販のスーパーハイコントラスト品（例えば、株式会社サンリッツ社製ＨＬＣ２−５６１８等）と同等以上の性能を有することが好ましい。具体的には、可視光透過率が４２．５％以上で、偏光度（｛（Ｔｐ−Ｔｃ）／（Ｔｐ＋Ｔｃ）｝1/2  ≧  ０．９９９５（ただし、Ｔｐは平行透過率、Ｔｃは直交透過率）であり、温度６０℃、湿度９０％ＲＨ雰囲気下に５００時間および８０℃、ドライ雰囲気下に５００時間放置した場合のその前後における光透過率の変化率が絶対値に基づいて３％以下、更には１％以下、偏光度の変化率は絶対値に基づいて１％以下、更には０．１％以下であることが好ましい。
【実施例】
【０１０９】
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
【０１１０】
［実施例１］
＜液晶セルの作製＞
（垂直配向液晶セルの作製）  ポリビニルアルコール３重量％水溶液に、オクタデシルジメチルアンモニウムクロライド（カップリング剤）を１重量％添加した。これを、ＩＴＯ電極付きのガラス基板上にスピンコートし、１６０℃で熱処理した後、ラビング処理を施して、垂直配向膜を形成した。ラビング処理は、２枚のガラス基板において反対方向となるように実施した。セルギャップ（ｄ）が約5.0μｍとなるように２枚のガラス基板を向かい合わせた。セルギャップに、エステル系とエタン系を主成分とする液晶性化合物（Δｎ：０．０６）を注入し、垂直配向液晶セルを作製した。Δｎとｄとの積は３００ｎｍであった。
【０１１１】
（セルロースアセテートフイルム（Ａ）の作製）  下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
【０１１２】
【表１】
2005128050.tif 000015
【０１１３】
【化１４】
2005128050.tif 000016
【０１１４】
得られた内層用ドープおよび外層用ドープを、三層共流延ダイを用いて、０℃に冷却したドラム上に流延した。残留溶剤量が７０質量％のフイルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターにて固定して搬送方向のドロー比を１１０％として搬送しながら８０℃で乾燥させ、さらに、残留溶剤量が１０％となったところで、１１０℃で乾燥させた。その後、１４０℃の温度で３０分乾燥し、残留溶剤が０．３質量％のセルロースアセテートフイルム（Ａ）（外層：３μｍ、内層：７４μｍ、外層：３μｍ）を製造した。得られたフイルムの光学特性はＲｅ＝８ｎｍ，  Ｒｔｈ＝８２ｎｍ  であった。
【０１１５】
（セルロースアセテートフィルム（Ａ）の鹸化処理）  上記のセルロースアセテートフィルム（Ａ）を温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて１４ｃｃ／ｍ2で塗布した。そして、１１０℃に加熱したスチーム式遠赤外線ヒーター（（株）ノリタケカンパニー製）の下に１０秒滞留させた後に、同じバーコーターを用いて純水を３ｃｃ／ｍ2塗布した。この時のフィルム温度は４０℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後、７０℃の乾燥ゾーンに２秒滞留させて乾燥した。
【０１１６】
【表２】
2005128050.tif 000017
【０１１７】
（配向膜の形成）  作製したセルロースアセテートフイルム（Ａ）上に、下記の組成の塗布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍｌ／ｍ2塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。
【表３】
2005128050.tif 000018
【０１１８】
【化１５】
2005128050.tif 000019
【０１１９】
（円盤状液晶性化合物よりなる光学異方性層の形成）  上記長尺の支持対上に形成した配向膜上に、＃３のワイヤーバーで下記の組成のディスコティック液晶を含む塗布液を５０ｍ連続塗布した。
【０１２０】
（ディスコティック液晶層の塗液組成)
ディスコティック液晶性化合物ＴＥ−８の（８）（ｍ＝４)             ３２．６質量％
例示化合物Ｉ−６                                                  ０．１５質量％
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                                ３．２質量％
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）                    ０．４質量％
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）              １．１質量％
メチルエチルケトン                                                ６２．０質量％
【０１２１】
上記塗布液が塗布された後、続いて１３０℃の乾燥ゾーンで２分間加熱乾燥され、円盤状化合物を配向させた。次に、UV照射ゾーンにて８０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯を用いて、４秒間ＵＶ照射し円盤状化合物を重合させた。その後、室温まで放冷し、巻き取りを行った。作成した光学異方性層は、光学的に負の屈折率異方性を示し、膜厚０．８２μｍ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅ＝０ｎｍ、Ｒｔｈ＝５０ｎｍであり、Δｎは０．０６１であった。光学異方性層のディスコティック液晶性化合物は±１°の範囲で水平配向していた。
【０１２２】
＜下側偏光板の作製＞  上記のセルロースアセテートフィルム（A）と光学異方性層の積層体及びフジタックＴＤ８０ＵＦを、偏光膜の両面にポリビニルアルコール系接着剤を用いてロールtoロールで貼り付け、一体型偏光板を作製した。各フィルムの積層角度は表示装置を上から見た時の左右の方向を基準（０°）にすると、図２に示すように、偏光膜吸収軸１０４（図１では１５）の軸角度は９０°、保護膜遅相軸１０２及び１０６の角度は９０°に設定した。作製した下側偏光板を、光学異方性層（図１では１０）が上側液晶セル基板（図１では８）に接するように、液晶表示素子に組み込んだ。
【０１２３】
＜上側偏光板の作製＞  保護膜（図２では１０５）として、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ値が３ｎｍ、Ｒｔｈ値が５０ｎｍ）を用いた。また、上側偏光板（図１では１）と上側液晶セル基板（図１では５）との間に、延伸フィルムからなる二軸の位相差板を１枚配置した。このとき、位相差板の面内の遅相軸が上側偏光板の透過軸と一致するように構成した。
【０１２４】
<二軸の位相差板の作成>  上記二軸の位相差板は以下のように作成した。すなわち、ポリカーボネート（分子量１０万）をメチレンクロライドに溶解し２０重量％の溶液を作成した。これをスチールベルト上に流延し乾燥し、厚み斑の小さいフィルムとなし、ベルト面より剥ぎ取った。このフィルムを、ピンテンターで把持し、ピンテンター入り口のフィルム幅方向の端部を、把持幅がフィルム幅とほぼ同じになるようにしてフィルム幅方向両端を把持された状態でフィルムの幅方向に延伸した。その際にフィルム雰囲気温度を１３０℃になるように加熱しピンテンターのフィルム把持幅を段階的に拡大して１．１３倍まで延伸した。延伸終了後のフィルムを把持したままで室温まで冷却した。
【０１２５】
これを更に縦延伸工程に通膜して、延伸倍率を１．０２倍に固定し、延伸温度を１５５℃とした。フィルムを冷却工程で室温まで冷却して二軸フィルムを得た。得られたフィルムの特性値は膜厚９２μｍ、Ｒｅ＝５０ｎｍ、Ｒｔｈ＝９０ｎｍであった。
【０１２６】
＜位相差板の評価および作製した液晶表示素子の漏れ光の測定＞  上記方法により作製した円盤状液晶性化合物よりなる光学異方性層の評価は、配向状態（１m2範囲の１００μｍ以上の欠陥数）及び膜のムラ（三段階：○、△、×）で判断した。また、作製した液晶表示素子の透過率の視野角依存性を測定した。抑角は正面から斜め方向へ１０°毎に８０°まで、方位角は水平右方向（０°）を基準として１０°毎に３６０°まで測定した。黒表示時の輝度は正面方向から抑角が増すにつれ、漏れ光透過率も上昇し、抑角６０°近傍で最大値をとることがわかった。また黒表示透過率が増すことで、コントラストが悪化することもわかった。そこで、正面の黒表示透過率と抑角６０°の漏れ光透過率の最大値で、視野角特性を評価することにした。
【０１２７】
［実施例２，３，４、比較例１，２］  実施例１で用いたディスコティック液晶層の塗布液組成において、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレートの量を表４の如く変更した以外は、実施例１と同様にして光学異方性層を作成した。
【０１２８】
[実施例５、比較例３，４]  実施例１で用いたディスコティック液晶層の塗布液組成において、ディスコティック液晶性化合物を変更し、UV硬化温度を調整することでΔｎを表５の如くした以外は、実施例１と同様にして円盤状液晶性化合物よりなる光学異方性層を作成し、実施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。
【０１２９】
[実施例６]  実施例１において、上側偏光板の位相差板を以下の様に作成した以外は同じように液晶表示素子を作成した。すなわち、上側偏光板の位相差板は、ノルボルネン系樹脂（商品名：ＺＥＯＮＥＸ、日本ゼオン株式会社製）を用いて厚さ１００μｍのノルボルネンフィルムとし、温度１７５℃で、ロール？テンター方式により縦８０％、横１０％の逐次二軸延伸を行い、Ｒｅ＝５０ｎｍ、Ｒｔｈ＝９０ｎｍの二軸フイルムとして得た。
【０１３０】
［実施例７］  実施例１において、ディスコティック液晶層のＲｔｈを110nmとなるように調整した二種類の光学異方性層を実施例１と同様に作成した。また、上側偏光板の作成を以下のように行った。保護膜１０１，１０５として、市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ値が３ｎｍ、Ｒｔｈ値が５０ｎｍ）を用いた。また、上側偏光板と上側液晶セル基板との間に、延伸フィルムからなる一軸の位相差板を１枚配置した。このとき、位相差板の面内の遅相軸が上側偏光板の透過軸と一致するように構成した。
【０１３１】
また、上側偏光板の位相差板は、以下のように作製した。ポリカーボネート（分子量１０万）をメチレンクロライドに溶解し２０重量％の溶液を作成した。これをスチールベルト上に流延し乾燥し、厚み斑の小さいフィルムとなし、ベルト面より剥ぎ取った。このフィルムを、ピンテンターで把持し、ピンテンター入り口のフィルム幅方向の端部を、把持幅がフィルム幅とほぼ同じになるようにしてフィルム幅方向両端を把持された状態でフィルムの幅方向に延伸した。その際にフィルム雰囲気温度を１３０℃になるように加熱しピンテンターのフィルム把持幅を段階的に拡大して１．０２倍まで延伸した。延伸終了後のフィルムを把持したままで室温まで冷却した。得られたフィルムの特性値は膜厚９０μｍ、Ｒｅ＝９５ｎｍ、Ｒｔｈ＝４７ｎｍであった。
【０１３２】
［実施例８]
実施例７において、それぞれ、上側偏光板の位相差板を以下の様に作成した以外は同じように液晶表示素子を作成した。すなわち、上側偏光板の位相差板は、ノルボルネン系樹脂（商品名；ＺＥＯＮＥＸ、日本ゼオン株式会社製）を用いて厚さ１００μｍのノルボルネンフィルムとし、温度１７５℃で、ロール？テンター方式により縦９０％延伸を行い、Ｒｅ＝９５ｎｍ、Ｒｔｈ＝４７ｎｍの一軸フイルムとした。
【０１３３】
［比較例５］  実施例１の下側偏光板の作成において、光学異方性層を形成しない状態でセルロースアセテートフイルム（A）および市販のセルロースアセテートフィルム（商品名：フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ値が３ｎｍ、Ｒｔｈ値が５０ｎｍ）を、偏光膜の両面にポリビニルアルコール系接着剤を用いてロールtoロールで貼り付け、一体型偏光板を作製した。各フィルムの積層角度は表示装置を上から見た時の左右の方向を基準（０°）にすると、図２中、偏光膜吸収軸１０４（図１中、１５）の軸角度は９０°、保護膜遅相軸１０２及び１０６の角度は９０°に設定した。作製した下側偏光板のセルロースアセテートフイルム（Ａ）側に、円盤状液晶性化合物よりなる光学異方性層の代わりに市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製、Ｒｅ値が３ｎｍ、Ｒｔｈ値が５０ｎｍ）をセルロースアセテートフイルム（A）とお互いの遅相軸が直交する状態で粘着剤を用いて張り合わせ、最後に張り合わせたＴＤ８０ＵＦが上側液晶セル基板に接するように、液晶表示素子に組み込んだ。その他の工程はすべて実施例１と同様に行った。
【０１３４】
[ディスコティック液晶よりなる光学異方性層の評価および液晶表示素子の評価]  表４および５における実施例の結果から判るように、屈折率異方性（Δｎ）の絶対値が０．０６０〜０．０８５の場合に面状が良く、欠陥の少ない光学異方性層が得られている。また、Ｒｅ450／Ｒｅ650が１．０５から１．３以内である時に、抑角６０°の透過率が０．１％より小さい値となり、良好な表示特性を示す事が分かる。比較例５では、光学異方性層としてディスコティック液晶ではなくセルロースアセテートフイルムを用いたが、やはりＲｅ450／Ｒｅ650の値が低すぎるため表示特性が悪くなった。また、比較例５ではセルロースアセテートフイルムの遅相軸を偏光板の遅相軸と直交して貼らなければならずロールtoロールの張り付けが出来ずきわめて生産性が悪くなる。また、ディスコティック液晶を用いる場合と比較し、膜厚が厚くなると言う不具合が出た。
【０１３５】
また、表６の中でも、上側偏光板の位相差板を二軸としたもの（実施例１及び６）は、ディスコティック液晶のＲｔｈが低く、膜厚が薄い場合であっても、抑角６０°の透過率が０．１％より小さく、より良好な表示特性を示した。すなわち、本発明は一軸性であっても良好であるが、より好ましくは二軸性の位相差板であることが分かった。
【０１３６】
【表４】
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【０１３７】
【表５】
2005128050.tif 000021
【０１３８】
【表６】
2005128050.tif 000022
【図面の簡単な説明】
【０１３９】
【図１】本発明の液晶表示素子の一例を示す概略図である。
【図２】本発明に使用可能な偏光板の一例を示す概略図である。
【符号の説明】
【０１４０】
１  上側偏光板
２  上側偏光板吸収軸
３  二軸の光学異方性層
４  二軸の光学異方性層遅相軸の方向
５  液晶セル上電極基板
６  上基板配向制御方向
７  液晶性分子
８  液晶セル下電極基板
９  下基板配向制御方向
１０  円盤状液晶性化合物からなる光学異方性層
１４  下側偏光板
１５  下側偏光板吸収軸の方向
１０１  偏光板保護膜
１０２  偏光板保護膜遅相軸の方向
１０３  偏光板偏光膜
１０４  偏光膜吸収軸方向
１０５  偏光板保護膜
１０６  偏光板保護膜遅相軸の方向
【図１】
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【図２】
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