(57)【要約】【課題】基板表面の洗浄水に無駄なく超音波を伝達し、効率よく洗浄を行うことができる基板洗浄装置（方法）を提供する。【解決手段】洗浄液供給ノズル１０からガラス基板Ｗの搬送方向と反対方向にガラス基板表面に許給された洗浄液は、ガラス基板Ｗの表面を流れ、基板全面に行き渡る。一方、搬送されるガラス基板Ｗの下方に配置される超音波発振ノズル１４からガラス板Ｗに超音波が発振されると、ガラス基板表面に供給された洗浄液に超音波が伝達され、洗浄液が振動し、ガラス基板Ｗの表面が均一に効率よく洗浄される。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の搬送路と、搬送される基板表面に一定方向に流れる洗浄水を供給すべく基板上方に配置される洗浄液供給手段と、基板表面に供給された洗浄水に振動を与えるべく基板下方に配置される超音波発振部材とを備えることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板洗浄装置において、前記搬送路は多数の搬送ローラから構成され、所定の搬送ローラ間に前記超音波発振部材の超音波発振ノズルが臨んでいることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項３】
搬送される基板表面に搬送方向の上流側に向かって流れる洗浄水を供給し、また搬送される基板の下面から超音波発振部材を用いて基板表面に供給された洗浄水に超音波を付与し、洗浄水を振動させて基板表面を洗浄することを特徴とする基板洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガラス基板や半導体ウェーハなどの基板表面を洗浄する装置と洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置に組み込まれるガラス基板にはＴＦＴアレイなどが形成されている。このＴＦＴアレイはガラス基板に半導体集積回路の形成プロセスと同一の方法にて形成される。そして半導体集積回路の形成プロセスにはレジスト膜の形成があり、このレジスト膜はスピンコータなどを用いてガラス基板表面にレジスト液を塗布した後にベークすることで形成される。そして、レジスト液を塗布する前にガラス基板の表面からゴミ、異物を除去しておかなければならない。
【０００３】
洗浄方法としては、洗浄液供給ノズルに超音波素子を組み込んで洗浄水に超音波を与えて基板表面に噴出する方法（特許文献１）、イオン水を基板表面に向けて高圧でジェット噴射する方法（特許文献２）、回転するディスクブラシを基板表面に押し付けて汚れを除去する方法（特許文献３）などが提案されている。
【０００４】
【特許文献】
特許文献１：特開２００１−１７９１９６号公報
特許文献２：特開平１１−３３３３８７号公報
特許文献３：特開２００２−２３３８２９号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
洗浄液供給ノズルに超音波素子を組み込む方式にあっては、洗浄に関与する洗浄水全部に対して超音波素子からの振動が伝達されるわけではないので、１００％の効率で超音波の効力を活かすことができず、また超音波素子の出力を上げ過ぎると洗浄液が逃げた結果、超音波素子が破壊されることもある。
また、イオン水を基板表面に向けて高圧でジェット噴射する方法にあっては、洗浄液が飛散する割合が高く、効率的な洗浄が行えない。
更に、ディスクブラシを基板表面に押し付ける洗浄法は、基板表面を傷つけるおそれがある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決すべく本発明に係る基板洗浄装置は、ローラなどから構成される搬送路の上方に、搬送される基板表面に一定方向に流れる洗浄水を供給する洗浄液供給手段を配置し、また基板表面に供給された洗浄水に振動を与えるべく基板下方に超音波発振部材を配置した。
【０００７】
上記超音波発振部材の超音波発振ノズルは前記搬送ローラ間から基板の下面に向けて超音波を発振し、基板表面に供給された洗浄水に超音波を付与し、洗浄水を振動させて基板表面を洗浄する。
【０００８】
上記の洗浄装置（方法）によれば、基板表面の洗浄水に無駄なく超音波を伝達することができ、効率よく洗浄を行うことができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。図１は本発明に係る基板洗浄装置の側面図、図２は同基板洗浄装置の平面図、図３は図１のＡ−Ａ線拡大断面図、図４は図３のＢ−Ｂ線断面図、図５は図１の要部拡大図、図６は図５のＣ−Ｃ方向矢視図である。
【００１０】
基板洗浄装置はトンネル状をなす搬送路１を備えている。この搬送路１は左右の壁体２，２と、壁体２，２の上端から斜め上方に向かって取付けられた左右の天板３，３と、底板４からなり、左右の天板３，３間は開放され、底板４にはドレーン穴５が設けられている。
【００１１】
前記壁体２，２間には搬送ローラ６…が等間隔で架け渡され、これら搬送ローラ６…をモータ７によって回転せしめることで、ガラス基板Ｗが搬送される。
【００１２】
また、搬送路１内の上部には洗浄液供給手段８を配置している。洗浄液供給手段８は搬送方向と直交する方向に、下方が開放された３個のボックス９を連設してなり、各ボックス９内には４本の洗浄液供給ノズル１０を配置している。洗浄液供給ノズル１０の本数は任意であり、ガラス基板Ｗの寸法によって増減可能である。必要な場合には図４に示すように補助洗浄ノズル１１を洗浄液供給ノズル１０の前後に配置してもよい。
【００１３】
一方、搬送路１内の下部には超音波発振部材１２を配置している。超音波発振部材１２はボックス状本体１３と、この本体１３に取付けられた超音波発振ノズル１４からなり、超音波発振ノズル１４を前記搬送ローラ６…間に臨ませている。
【００１４】
前記超音波発振部材１２は前記洗浄液供給手段８と同様に、搬送方向と直交する方向に３個配設されている。このように、洗浄液供給手段８及び超音波発振部材１２を幅方向に複数配置しているのは、メンテナンスや故障に対する対応が容易、基板の寸法に合わせて増減できる、製作も簡単になるなどの理由による。
【００１５】
洗浄液は水素水、オゾン水、アルカリイオン水等がよく、さらに温度を４０〜５０℃にすると分子の動きが速くなり活性化して洗浄効率が上がる。超音波出力は２８ｋＨｚ〜１ＭＨｚ（好ましくは４５ｋＨｚ〜１００ｋＨｚ）である。
【００１６】
また、前記超音波発振ノズル１４の上端部は搬送ローラ６の上端よりも若干低く設定されている。このようにすることによって、搬送されるガラス基板Ｗ下面に超音波発振ノズル１４の上端部が接近し、ガラス基板に効率よく超音波を伝達することができる。
【００１７】
以上において、洗浄液供給ノズル１０から一定方向、即ち、ガラス基板Ｗの搬送方向と反対方向にガラス基板表面に洗浄液が供給される。すると洗浄液はガラス基板Ｗの表面を流れ、基板全面に行き渡る。一方、搬送されるガラス基板Ｗの下方に配置される超音波発振ノズル１４からガラス板Ｗに超音波が発振されると、ガラス基板表面に供給された洗浄液に超音波が伝達され、洗浄液が振動し、ガラス基板Ｗの表面を均一に効率よく洗浄する。
【００１８】
【発明の効果】
以上に説明したように本発明によれば、搬送されるガラス基板などの基板下方に超音波発振部材を配置し、基板表面に供給された洗浄水に超音波による振動を伝達するようにしたので、洗浄に関与する洗浄水のみが超音波によって振動し、基板表面にない洗浄水には超音波は伝達されないので、洗浄効率が大幅に向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る基板洗浄装置の側面図
【図２】同基板洗浄装置の平面図
【図３】図１のＡ−Ａ線拡大断面図
【図４】図３のＢ−Ｂ線断面図
【図５】図１の要部拡大図
【図６】図５のＣ−Ｃ方向矢視図
【符号の説明】
１…基板の搬送路、２…搬送路の壁体、３…搬送路の天板、４…搬送路の底板、５…ドレーン穴、６…搬送ローラ、７…モータ、８…洗浄液供給手段、９…洗浄液供給手段のボックス、１０，１１…洗浄液供給ノズル、１２…超音波発振部材、１３…超音波発振部材のボックス状本体、１４…超音波発振ノズル、Ｗ…基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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