(57)【要約】【課題】小型の個片処理対象物３を、複数同時に処理を行う処理装置を提供する。【解決手段】複数の処理槽４と、処理対象物３を保持する手段２と、前記処理対象物３を前記処理槽４に搬送する手段１と、作業前に前記処理対象物３を処理槽４に搬送する手順を登録する手段と、前記搬送手順に基づき自動的に処理対象物３を搬送する手段と、任意のタイミングで平行に複数の処理対象物を搬送手順通りに搬送する手段とを有することを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の処理槽と、処理対象物を保持する手段と、前記処理対象物を前記処理槽に搬送する手段を有することを特徴とする処理装置。
【請求項２】
複数の処理槽と、処理対象物を保持する手段と、前記処理対象物を前記処理槽に搬送する手段を有し、前記搬送手段は3軸の自由度を有する搬送アームであることを特徴とする処理装置。
【請求項３】
複数の処理槽と、処理対象物を保持する手段と、前記処理対象物を前記処理槽に搬送する手段と、作業前に前記処理対象物を処理槽に搬送する手順を登録する手段と、前記搬送手順に基づき自動的に処理対象物を搬送する手段を有することを特徴とする処理装置。
【請求項４】
複数の処理槽と、処理対象物を保持する手段と、前記処理対象物を前記処理槽に搬送する手段と、作業前に前記処理対象物を処理槽に搬送する手順を登録する手段と、前記搬送手順に基づき自動的に処理対象物を搬送する手段と、任意のタイミングで平行に複数の処理対象物を搬送手順通りに搬送する手段を有することを特徴とする処理装置。
【請求項５】
処理がめっき処理であることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、小型の個片めっき対象物を複数同時にめっき処理を行うめっき装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、小型の個片めっき対象物に自動でめっきを施す場合には、対象物を搬送する搬送アームがめっき対象物を保持し続けながらめっき処理槽に順番に搬送して処理を施している。
【０００３】
しかしながら、めっきは処理時間が長く、搬送アームがめっき対象物を保持し続けた状態であると、この搬送アームはめっき対象物がめっきを終えるまで他のめっき対象物をめっきすることが出来ないため、複数のめっき対象物をめっきするには相当な時間を要してしまう。大型のめっき対象物を連続でめっきする場合、複数の搬送アームを用意し各搬送アームを処理領域毎に稼動させることで、めっき対象物が処理槽に浸かっているあいだに他のめっき対象物の処理を行うといった方法がある。しかしながら、小型の個片めっき対象物の場合、処理槽が小さいため、搬送アームを複数用意できるような場所が存在しない。
【０００４】
以下に公知文献を示す。
【特許文献１】特許第３２４８７８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、小型の個片処理対象物を複数同時に処理を行う処理装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のめっき装置はこの課題を解決するためになされたもので、請求項１の発明は、
複数の処理槽と、処理対象物を保持する手段と、前記処理対象物を前記処理槽に搬送する手段を有することを特徴とする処理装置としたものである。
【０００７】
本発明の請求項２の発明は、複数の処理槽と、処理対象物を保持する手段と、前記処理対象物を前記処理槽に搬送する手段を有し、前記搬送手段は3軸の自由度を有する搬送アームであることを特徴とする処理装置としたものである。
【０００８】
本発明の請求項３の発明は、複数の処理槽と、処理対象物を保持する手段と、前記処理対象物を前記処理槽に搬送する手段と、作業前に前記処理対象物を処理槽に搬送する手順を登録する手段と、前記搬送手順に基づき自動的に処理対象物を搬送する手段を有することを特徴とする処理装置としたものである。
【０００９】
本発明の請求項４の発明は、複数の処理槽と、処理対象物を保持する手段と、前記処理対象物を前記処理槽に搬送する手段と、作業前に前記処理対象物を処理槽に搬送する手順を登録する手段と、前記搬送手順に基づき自動的に処理対象物を搬送する手段と、任意のタイミングで平行に複数の処理対象物を搬送手順通りに搬送する手段を有することを特徴とする処理装置としたものである。
【００１０】
本発明の請求項５の発明は、処理がめっき処理であることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載の処理装置としたものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明は、以上の構成から、小型の個片処理対象物を複数同時に処理を行う処理装置とすることが出来る。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明を具体化した実施の形態について、図面を参照しつつ詳細に説明する。なお本発明の処理装置として、以下めっき処理を例として最良の実施の形態について説明する。
【００１３】
本実施の形態に係るめっき装置は、図１に示すようにめっき処理槽４を複数並べて配置され、上部に処理物の搬送手段として３軸の自由度を有する搬送アーム１が設置されているめっき装置である。そして、めっき対象物を保持する手段として搬送アーム１の先端にはロボットハンド２が設けられており、搬送アームの稼動領域内でめっき対象物３を掴み保持することができる。
【００１４】
搬送アーム１はコントローラ等で事前に処理槽４の設置位置をティーチングすることが出来るようになっており、この座標値を記憶することで各処理槽にめっき対象物を自動で搬送することが可能となっている。
【００１５】
次に動作の説明を行う。図５は、動作のフローを示した図である。まず、装置の初期設定として各処理槽の座標位置をそれぞれティーチングしておく（Ｓ１）。図２は、この装置が記憶する処理槽の座標値のイメージ図である。座標番号に各処理層の座標値を対応させている。例では、座標番号１にめっき投入位置を、座標番号２にめっき回収位置を設定している。これを装置で記憶する。
次に図３に示すように各処理槽の処理時間（めっき対象物がこの処理槽に浸かっている時間）を処理槽毎に設定する。また、図４に示すように搬送アームをどの順序で動かしてめっき処理を行っていくかをレシピとして登録しておく（Ｓ２）。このとき、必ずレシピの先頭座標はめっき対象物の投入１としておき、レシピの最終座標値はめっき対象物の回収２としておく。この例では、まずめっき対象物を投入してから処理槽(1)、処理槽(3)の順に処理を行っていく設定となっている。最後にめっき対象物の再投入時間を設定する。この時間はめっき対象物を投入してから次のめっき対象物を投入するまでの時間（次バッチ投入時間）を設定する（Ｓ２）。
【００１６】
設定が済んだらめっき処理を開始する。まず、搬送アーム１はレシピ通りにめっき対象物３の投入位置に移動する（Ｓ３）。
ロボットハンド２がめっき対象物３を掴んだら搬送アーム１は処理槽(1)にめっき対象物３を搬送する（Ｓ４）。
処理槽(1)の位置にめっき対象物３が到達したらロボットハンド２はめっき対象物３を放して（Ｓ５）次の搬送動作まで待機状態となる（Ｓ６）。
【００１７】
各処理槽毎に処理タイマーＴｎを設け、ロボットハンド２がめっき対象物３を放したときからタイマーを作動させる。仮に処理槽(1)のタイマーをＴ１とすると、処理タイマーＴ１が［（処理槽(1)処理時間ｔ１）−（搬送アーム１の最大移動時間（アーム稼動範囲の最大距離を移動するのに要する時間））］を超えたときに搬送アーム１を処理槽(1)まで移動し（Ｓ７，Ｓ８，Ｓ９）、Ｔ１＝ｔ１になったときにロボットハンド２はめっき対象物３を処理槽から引き上げ、レシピの次の処理である処理槽(3)へ搬送アーム１は移動して処理槽(3)でめっき対象物３を放す（Ｓ１０、Ｓ１１）。
【００１８】
以上のような操作を行うことによって、めっき対象物をレシピ通りに各処理槽へ搬送し、処理槽に処理時間分だけめっき対象物を漬けておくことが可能になる。以下、この一連の動作をバッチと呼ぶこととする。
【００１９】
最初のバッチがめっき対象物の投入位置でロボットハンド２がめっき対象物を掴んだときから、次バッチ起動タイマーを作動させる（Ｓ１３）。このタイマーが［（次のめっき対象物を投入するまでの時間）−（搬送アーム１の最大移動時間）］になったら搬送アーム１をめっき対象物投入位置まで搬送アーム１を移動し、次めっき対象物投入時間がきたらめっき対象物を掴んで次のバッチを開始する（Ｓ１４）。
【００２０】
複数バッチが起動しているときは各処理タイマーの次動作までの時間が短い順に処理を行っていく。仮にバッチ同士で処理がバッティングするような状態が発生したときは、どの処理同士がバッティングしたかを警告表示するようになっているので、各処理槽の処理時間や次めっき対象物投入時間を調整することでバッティングが起こらないようにすることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】実施の実施の形態例のめっき装置の全体構造の略図である。
【図２】本発明の実施の形態例の処理装置が記憶する処理槽座標値のイメージ図である。
【図３】本発明の実施の形態例に係る処理槽の処理時間を登録するインターフェースのイメージ図である。
【図４】本発明の実施の形態例に係るレシピを登録するインターフェースのイメージ図である。
【図５】本発明の実施の形態例に係る全体のフロー図である。
【符号の説明】
【００２２】
１・・・搬送アーム
２・・・ロボットハンド
３・・・めっき処理対象物
４・・・処理槽
７・・・処理槽処理時間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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