(57)【要約】【課題】製造コストを低減できる蒸着材料パターン形成方法、これを用いた有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造装置及び製造方法を提供する。【解決手段】蒸着材料パターン形成方法は、透光性板及び透光性板の一方の主面に成膜された蒸着材料の薄膜からなる蒸着板を用意し、薄膜に離間して対向した基板に平行な平面内において蒸着板を運動させ、透光性板の他方の主面側からレーザビームを照射し、蒸着材料を蒸発させ基板に成膜する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性板及び前記透光性板の一方の主面に成膜された蒸着材料の薄膜からなる蒸着板を用意し、前記薄膜に離間して対向した基板に平行な平面内において前記蒸着板を運動させ、前記透光性板の他方の主面側からレーザビームを照射し、前記蒸着材料を蒸発させ前記基板に成膜することを特徴とする蒸着材料のパターン形成方法。
【請求項２】
前記蒸着板は円盤形状を有し、その中心軸を中心として回転運動させることを特徴とする請求項１に記載の蒸着材料のパターン形成方法。
【請求項３】
前記蒸着板は帯形状を有し、並進運動させることを特徴とする請求項１に記載の蒸着材料のパターン形成方法。
【請求項４】
透光性板及び前記透光性板の一方の主面に成膜された蒸着材料の薄膜からなりかつ前記透光性板の他方の主面からレーザビームを受けることを特徴とする蒸着円盤。
【請求項５】
透光性板及び前記透光性板の一方の主面に成膜された光熱変換層と、その上に形成された蒸着材料の薄膜からなりかつ前記透光性板の他方の主面からレーザービームを受けることを特徴とする蒸着円盤。
【請求項６】
各々が一対の電極間に挟持されかつ発光層を含む少なくとも１つの有機層からなる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子からなる有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造装置であって、
レーザビームを射出するレーザ射出装置と、
透光性板及び前記透光性板の一方の主面に成膜された蒸着材料の薄膜からなりかつ前記透光性板の他方の主面から前記レーザビームを受ける蒸着円盤と、
前記薄膜と前記基板とを離間して対向せしめるように前記蒸着円盤を支持するとともにその中心軸を中心として前記基板に平行な平面内において回転させる支持機構と、を備えたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造装置。
【請求項７】
前記基板に、前記有機エレクトロルミネッセンス素子に接続される少なくとも１つのアクティブ素子が形成されていることを特徴とする請求項６に記載の製造装置。
【請求項８】
前記レーザ射出装置は重力方向において前記基板の下に配置されることを特徴とする請求項６又は７記載の製造装置。
【請求項９】
前記レーザ射出装置及び前記基板を相対的に平行に移動せしめる並進駆動装置を備えることを特徴とする請求項６〜８のいずれかに記載の製造装置。
【請求項１０】
前記レーザ射出装置を複数備えることを特徴とする請求項６〜９のいずれかに記載の製造装置。
【請求項１１】
前記蒸着材料が有機材料又は電極材料であることを特徴とする請求項６〜１０のいずれかに記載の製造装置。
【請求項１２】
各々が一対の電極間に挟持されかつ発光層を含む少なくとも１つの有機層からなる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子が基板上に配列された有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法であって、
パターン形成すべき基板を配置する第１工程と、
透光性板及び前記透光性板の一方の主面に成膜された蒸着材料の薄膜からなる蒸着円盤を、前記薄膜と前記基板とを離間して対向せしめ、その中心軸を中心として前記基板に平行な平面内において回転させる第２工程と、
前記蒸着円盤の他方の主面上にレーザビームを照射してレーザスポットを形成しかつ前記レーザスポットを前記薄膜上において位置決めする第３工程と
前記蒸着円盤を前記基板に対して位置決めする第４工程と、を含み、前記蒸着材料を蒸発させ前記基板に成膜することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法。
【請求項１３】
前記第３工程は、前記レーザスポットを前記蒸着円盤の半径方向において、移動せしめる工程を含むことを特徴とする請求項１２に記載の製造方法。
【請求項１４】
前記第３工程は、前記レーザスポットのフォーカスサーボをなす工程を含むことを特徴とする請求項１２又は１３に記載の製造方法。
【請求項１５】
前記第２工程は、前記蒸着円盤に対する前記レーザスポットが定線速度となるように前記蒸着円盤の回転速度を制御する工程を含むことを特徴とする請求項１２〜１４のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１６】
前記第２工程は、前記蒸着円盤に対する前記レーザスポットの線速度が前記蒸着円盤と前記基板との相対的位置に応じて変化するように前記蒸着円盤の回転速度を制御する工程を含むことを特徴とする請求項１２〜１４のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１７】
前記第４工程は、前記蒸着円盤と前記基板とを相対移動せしめる工程を含むことを特徴とする請求項１２〜１６のいずれか１記載の製造方法。
【請求項１８】
前記レーザビームは重力方向において前記基板の下方から照射されることを特徴とする請求項１２〜１７のいずれかに記載の製造方法。
【請求項１９】
前記蒸着材料が有機材料又は電極材料であることを特徴とする請求項１２〜１８のいずれかに記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、蒸着材料パターンを形成する方法、これに用いられる蒸着円盤、さらには、蒸着材料パターンを形成する方法を利用して、各々が一対の電極間に挟持されかつ発光層を含む少なくとも１つの有機層からなる複数の有機エレクトロルミネッセンス素子からなる有機エレクトロルミネッセンス表示パネルの製造方法及び製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
有機エレクトロルミネッセンス表示パネルは、電流の注入によって発光するエレクトロルミネッセンス（以下、ＥＬという）を呈する有機化合物いわゆる有機ＥＬ材料を利用し、複数の有機ＥＬ素子を所定パターンで基板上に形成したものである。各々の有機ＥＬ素子は、例えば、透明基板上に、陽極の透明電極と、有機ＥＬ材料薄膜からなる発光層を含む１以上の有機層と、陰極の金属電極とが順次積層されて構成される。例えば、有機層は、発光層の単一層、あるいは有機正孔輸送層、発光層及び有機電子輸送層の３層構造、または有機正孔輸送層及び発光層２層構造、さらにこれらの適切な層間に電子或いは正孔の注入層を挿入した積層体などである。
【０００３】
有機ＥＬ表示パネル、例えばマトリクス表示タイプのものは透明導電層を含む行電極と、有機層と、行電極に交差する金属電極層を含む列電極とが順次積層されて構成される。行電極は、各々が帯状に形成されるともに、所定の間隔をおいて互いに平行となるように配列されており、列電極も同様である。このように、マトリクス表示タイプの表示パネルは、複数の行と列の電極の交差点に形成されマトリクス状に配列された複数の有機ＥＬ素子（発光画素）からなる表示領域を有している。表示領域における有機ＥＬ素子の複数を透明基板上にマトリクス状に配置し適宜結線して所定信号で駆動することにより画像表示ができ、さらに、赤Ｒ、緑Ｇ及び青Ｂの３原色発光の有機ＥＬ素子からなる表示領域を形成してフルカラー表示装置を構成することができる。
【０００４】
この有機ＥＬ表示パネルの製造工程において、有機層はウエットプロセスに適さないために、蒸着を用いて成膜されている。
従来の真空蒸着法では、例えば真空蒸着装置を用い、透明基板をチャンバに装填し、有機材料などの蒸着材料をボートに入れて加熱しその蒸気を生成し、金属マスクを介して堆積させ、選択的に基板上に成膜していた。大型透明基板を用いた場合、蒸着工程において、大型マスクを用いなければならない。大型マスクのゆがみ、膨張によって、蒸着材料パターンの形成精度が低下するという問題点があった。また、蒸着時材料はチャンバの壁面及び金属マスクにも附着するため、材料使用効率は３〜５％であり、コストアップの多きな要因になっていた。これらを回避するために、マスクを用いないいわゆるマスクレスの試みがなされている。
【０００５】
例えば、転写板上に電極パターンを形成し、この上に蒸着材料を塗布し、電極パターンに通電することによって、電極パターンの蒸着材料を転写する方法がある（特許文献１参照）。また基板と蒸着板を接触させ、レーザービームをガルバノメーターとｆ−シーターレンズを使って連続走査しながらパターン形成をする方法もある。（特許文献２参照）。
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−３０２７５９号公報。
【０００７】
【特許文献２】特開２００２−１１０３５０号公報。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、
【特許文献１】の技術では、転写板の前処理工程の増加などのコストアップの問題があった。さらに、転写パターン以外に蒸着材料が残るため、蒸着材料の使用効率が悪くなる、成膜するまで時間が掛かるなどの欠点もあった。
【特許文献２】の技術では、基板と蒸着板が１対１対応になっているため、基板大型化時には蒸着基板を製作する際に、大型の蒸着装置が必要になり、設備費の増大に直結する。また、転写する際にもトランスレーションステージ上に蒸着基板と基板が一体になった状態で一方の端面から反対側の端面まで移動するため、基板の２倍以上の大きさの真空チャンバを必要とし、蒸着装置の大型化は避けられない。
【０００９】
そこで、本発明の解決しようとする課題には、マスクレス蒸着を実現し、よってマスクに関わる諸問題を排除し、かつ材料使用効率の大幅な向上を達成すると共に、上記２例のような転写板の前処理工程の複雑化、製造装置の大型化を回避できる蒸着材料パターン形成方法、これに用いられる蒸着円盤、さらには、有機ＥＬ表示パネルの製造装置及び製造方法を提供することが例として挙げられる。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
請求項１記載の蒸着材料のパターン形成方法は、透光性板及び前記透光性板の一方の主面に成膜された蒸着材料の薄膜からなる蒸着板を用意し、前記薄膜に離間して対向した基板に平行な平面内において前記蒸着板を運動させ、前記透光性板の他方の主面側からレーザビームを照射し、前記蒸着材料を蒸発させ前記基板に成膜することを特徴とする。
【００１１】
請求項４記載の蒸着円盤は、透光性板及び前記透光性板の一方の主面に成膜された蒸着材料の薄膜からなりかつ前記透光性板の他方の主面からレーザビームを受けることを特徴とする。
請求項６記載の有機ＥＬ表示パネルの製造装置は、各々が一対の電極間に挟持されかつ発光層を含む少なくとも１つの有機層からなる複数の有機ＥＬ素子からなる有機ＥＬ表示パネルの製造装置であって、
レーザビームを射出するレーザ射出装置と、
透光性板及び前記透光性板の一方の主面に成膜された蒸着材料の薄膜からなりかつ前記透光性板の他方の主面から前記レーザビームを受ける蒸着円盤と、
前記薄膜と前記基板とを離間して対向せしめるように前記蒸着円盤を支持するとともにその中心軸を中心として前記基板に平行な平面内において回転させる支持機構と、を備えたことを特徴とする。
【００１２】
請求項１２の有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、各々が一対の電極間に挟持されかつ発光層を含む少なくとも１つの有機層からなる複数の有機ＥＬ素子が基板上に配列された有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、
パターン形成すべき基板を配置する第１工程と、
透光性板及び前記透光性板の一方の主面に成膜された蒸着材料の薄膜からなる蒸着円盤を、前記薄膜と前記基板とを離間して対向せしめ、その中心軸を中心として前記基板に平行な平面内において回転させる第２工程と、
前記蒸着円盤の他方の主面上にレーザビームを照射してレーザスポットを形成しかつ前記レーザスポットを前記薄膜上において位置決めする第３工程と
前記蒸着円盤を前記基板に対して位置決めする第４工程と、を含み、前記蒸着材料を蒸発させ前記基板に成膜することを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態を図面を参照しつつ説明する。
蒸着材料のパターン形成方法では、図１に示すように、例えばガラス、プラスチックなどからなる円盤形状の透光性板１ａとその一方の主面に成膜された蒸着材料の薄膜１ｂとからなる蒸着板１を用意する。そして、蒸着板１を、パターンを成膜すべき表示パネル用基板３に対して、その薄膜１ｂに離間して対向するように支持し、基板３に平行な平面内において運動、例えばその中心軸を中心として回転運動させ、透光性板１ａの他方の主面側からレーザビーム４を照射し、蒸着材料を昇華・蒸発させ基板に蒸着材料膜１ｃを成膜する。蒸着板１の蒸着円盤は蒸着材料の薄膜が成膜された一方の透光性板主面の反対側の主面からレーザビームを受け、発生する熱によって、蒸着材料を昇華・蒸発させる。表示パネル用基板３、蒸着円盤１及びレーザ射出装置などは、有機ＥＬ表示パネルの製造装置の減圧された真空チャンバ（図示せず）内において支持されている。成膜される蒸着材料膜１ｃの膜厚及び面積は蒸発気体の拡大比率の他、蒸着板との相対運動速度、蒸着材料の薄膜１ｂの膜厚などにより適宜決定され、蒸発気体の放出の拡大の割合はレーザビームにかかる開口数、パワー、相対運動速度などにより適宜決定される。この実施形態によれば、必要最小量の蒸着材料の蒸気放出で、蒸着材料パターンが形成できる。
【００１４】
本発明の蒸着材料のパターン形成方法を、有機ＥＬ表示パネルの製造装置、特に蒸着装置に適用した一例を図２に示す。
基板３は、そのパターンを成膜すべき面を蒸着装置２０上の蒸着円盤１の蒸着材料薄膜に向け、離間して支持部材Ｓを介して載置される。蒸着装置２０には、蒸着円盤１の支持機構を担うスピンドルモータ２１、部分加熱を行うレーザ射出装置２２などが搭載されている。
【００１５】
蒸着円盤１は、例えば直径１２ｃｍ程度で厚さ数ｍｍ程度のガラス又はプラスチックからなる透光性板１ａの一主面に上に、蒸着材料１ｂ例えば、トリス（８−キノリノラト）アルミニウムなどの発光性有機化合物を所定膜厚で真空蒸着して成膜したものである。蒸着材料は有機材料の他に、レーザで蒸発、昇華可能な導電性材料などの電極材料も用いられる。
【００１６】
蒸着円盤１は、蒸着装置２０の筐体に固定されたスピンドルモータ２１に装着され、回転駆動される。レーザ射出装置２２は蒸着円盤１の重力方向下に設けられ、加熱用のレーザ光４を蒸着円盤１へ射出して、その蒸着材料薄膜上にレーザスポットを形成し、蒸着材料薄膜を部分的に蒸発させる。レーザ射出装置２２はさらに蒸着円盤１からの反射光を受光する光検出器を備え、反射光により状態検出がなされる。蒸着装置２０の筐体に固定されたモータ２３により回動される送りネジ２４が蒸着円盤１に平行に設けられており、送りネジ２４に螺合しているレーザ射出装置２２は蒸着円盤半径方向に移動可能である。
【００１７】
レーザ射出装置２２の光検出器はエラー信号生成回路２５、フォーカス制御回路２６及びトラッキング制御回路２７に接続されている。
蒸着円盤１からの反射光を受光したレーザ射出装置２２の光電変換素子において光電変換された電気信号出力が、エラー信号生成回路２５へ入力される。エラー信号生成回路２５では、フォーカスエラー信号及びトラッキングエラー信号が生成される。フォーカスエラー信号はフォーカス制御回路２６へ入力されて、フォーカス制御回路２６がレーザ射出装置２２における対物レンズ用フォーカシングアクチュエータ（図示せず）を駆動する。フォーカシングアクチュエータにより蒸着円盤の主面における垂直方向における対物レンズの移動（対物レンズ−蒸着円盤間距離ｄ１）を制御するレーザスポットのフォーカスサーボが行われる。
【００１８】
トラッキングエラー信号はトラッキング制御回路２７へ入力されて、トラッキング制御回路２７がレーザ射出装置２２における対物レンズ用トラッキングアクチュエータ（図示せず）を駆動する。トラッキングアクチュエータによりレーザスポットの蒸着円盤半径方向位置の微調すなわちトラッキングサーボが行われる。また、装置には、トラッキングエラー信号を入力とする位置制御回路２８が設けられており、位置制御回路２８ではトラッキングエラー信号の直流成分が検出され、直流レベルに応じた駆動信号が加算器１３を介してモータ２３へ印加される。モータ２３によりレーザ射出装置２２が蒸着円盤半径方向へ移動し、レーザスポットの当該方向位置の粗調が行われる。これら微調及び粗調によってレーザスポットのトラッキング制御がなされる。
【００１９】
また、装置には、モータ駆動回路２９が設けられている。モータ駆動回路２９の駆動出力が加算器ＡＤを介し粗調手段のモータ２３へ供給されている。モータ駆動回路２９はコンソール３１を備えたコントローラ３２に接続され、コントローラ３２により動作制御される。コントローラ３２により、フォーカス制御回路２６、トラッキング制御回路２７及び位置制御回路２８の動作タイミングの制御がなされる。
【００２０】
スピンドルモータ２１はスピンドルモータ制御回路３３に接続され、スピンドルモータ２１には回転数を検出する回転数検出器（図示せず）が設けられている。スピンドルモータ２１の回転数検出出力を用いてスピンドルモータ制御回路３３がスピンドルモータ２１へ駆動信号を供給し、コントローラ３２の制御の下で蒸着円盤１の定線速度制御が行われる。コントローラ３２の制御により、基板３に形成されるパターンの線幅を基板上の位置に応じて蒸着円盤の回転速度を変化させることによって調整することができる。
【００２１】
レーザ測長器３１が蒸着装置２０の筐体に固定されている。レーザ測長器３１は測長用のレーザ光３１ａを射出して基板３上にレーザスポットを形成し、これからの反射光を受光して蒸着装置２０及び基板３間距離の測長がなされる。
基板３からの反射光に基づくレーザ測長器３１内の光電変換素子の出力は第２エラー信号生成回路３４へ入力される。第２エラー信号生成回路３４では、第２フォーカスエラー信号が生成される。第２フォーカスエラー信号は第２フォーカス制御回路３５へ入力されて、これに応じて、第２フォーカス制御回路３５が蒸着装置２０の間隙調整アクチュエータ３６を駆動する。間隙調整アクチュエータ３６により蒸着装置２０（蒸着円盤１）及び基板３間距離ｄ２を所定値に保つ制御するフォーカスサーボ（主面垂直方向の移動）が行われる。
【００２２】
図３に示すように、蒸着装置２０は、基板３に対して所定方向へ並進移動可能となるように並進駆動装置を備えている。すなわち、外部モータ５１により回動される基板３に平行な外部送りネジ５２が設けられており、送りネジ５２に蒸着装置２０の筐体が螺合している。外部モータ５１は第２モータ駆動回路５３（図２）に接続され、これはコントローラ３２により動作制御される。
【００２３】
単一のレーザ射出装置を用い蒸着材料パターン形成が行えるが、複数のレーザ射出装置と蒸着円盤の組を用いて行えば、製造効率が向上する。
有機ＥＬ表示パネルの製造装置を使って蒸着パターン成膜を行う有機ＥＬ多色ディスプレイの表示パネルの製造工程を説明する。
まず、パターン形成すべき基板３を装置の真空チャンバ内に配置する（第１工程）。
【００２４】
蒸着円盤１の薄膜と基板１とを離間して対向せしめ、その中心軸を中心として基板に平行な平面内において回転させる（第２工程）。ここでは、蒸着円盤１に対するレーザスポットが定線速度となるように蒸着円盤１の回転速度を制御することにより、所定幅に保たれたパターンが成膜される。また、蒸着円盤に対するレーザスポットの線速度が蒸着円盤と基板との相対的位置に応じて変化するように蒸着円盤の回転速度を制御することにより、パターン幅に変化を付けることができる。
【００２５】
蒸着円盤の他方の主面上にレーザビームを照射してレーザスポットを形成しかつレーザスポットを薄膜上において位置決めすなわち、フォーカスサーボや、トラッキングサーボや、レーザスポットを蒸着円盤の半径方向における微調及び粗調の移動を行う（第３工程）。
このような有機ＥＬ表示パネルの製造方法によって、各々が一対の電極間に挟持された有機層（発光層を含む）からなる複数の有機ＥＬ素子が基板上に配列できる。
【００２６】
図４は、有機ＥＬ表示パネル製造装置により成膜された有機化合物膜からなる有機層４６の配列を有する有機ＥＬ表示パネル４０を透明基板側から示す部分平面図である。例えば、有機層は、発光層の単一層であるか、あるいは発光層に加えて正孔輸送層、電子輸送層、又は電子注入層若しくは正孔注入層を含んでいる。図示するように、楕円又は長円形の有機層４６のパターンを成膜する場合は、レーザ射出装置２２における光路系にシリンドリカルレンズを入れることにより実現する。有機ＥＬ表示パネル４０の透明基板３上には、インジウム錫酸化物などからなる透明電極４３がストライプ状に予め成膜されている。透明電極４３は、互いに平行な複数のストライプ状に配列されている。透明電極４３上に本発明により有機層パターンのが形成され、その次に、透明電極に交差するストライプ状金属電極４５を設ける。単純マトリクス有機ＥＬ表示パネルを説明したが、その他に、本発明は、例えば複数の有機ＥＬ素子にそれぞれ接続されるＴＦＴなどのアクティブ素子が予め形成された基板を用いて、アクティブマトリクス表示タイプの有機ＥＬ表示パネルの製造にも適用できる。有機ＥＬ表示パネル４０は、ガラス基板３上にマトリクス状に所定周期で配置された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、及び青（Ｂ）の発光部４６（有機ＥＬ素子）によってフルカラー画像表示可能となる。
【００２７】
上記実施例の蒸着材料のパターン形成方法では、透光性板１ａ及び透光性板の一方の主面に成膜された蒸着材料の薄膜１ｂからなる蒸着円盤（図１）を用いたが、図５に示すように、透光性板１ａ及び透光性板の一方の主面に成膜された光熱変換層１ｄと、その上に形成された蒸着材料の薄膜１ｂからなりかつ透光性板の他方の主面からレーザービームを受けるように構成した蒸着円盤によっても、蒸着材料のパターン形成方法が可能である。透光性板１ａ及び蒸着材料の薄膜１ｂ間に配置された光熱変換層１ｄにより、蒸着材料の蒸発又は昇華気体の放出の拡大の割合などが調整できる。
【００２８】
また、蒸着円盤の回転運動を利用する他に、図６に示すように、透光性板１ａ及び蒸着材料の薄膜１ｂからなる蒸着板１をテープ、シート、カードなどの帯形状とし、蒸着板１を基板３に平行な平面内において並進運動させつつ裏側（透光性板側）からレーザビーム照射することによっても、上記実施例同様の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態である有機ＥＬ表示パネルの製造装置の要部を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明の実施形態である有機ＥＬ表示パネルの製造装置を模式的に示す断面図である。
【図３】本発明の実施形態である有機ＥＬ表示パネルの製造装置の部分平面図である。
【図４】フルカラー有機ＥＬ表示パネルの発光画素配列の１例を模式的に示す平面図である。
【図５】本発明の他の実施形態である蒸着材料のパターン形成方法の蒸着円盤及び基板を模式的に示す断面図である。
【図６】本発明の他の実施形態である蒸着材料のパターン形成方法の蒸着板及び基板を模式的に示す断面図である。
【主要部分の符号の説明】
１ａ  透光性板
１ｂ  蒸着材料の薄膜
１  蒸着板
３  基板
４  レーザビーム
１ｃ  蒸着材料膜
２０  蒸着装置
２１  スピンドルモータ
２２  レーザ射出装置
２３  モータ
２４  送りネジ
２５  エラー信号生成回路
２６  フォーカス制御回路
２７  トラッキング制御回路
２８  位置制御回路
３１  コンソール
３２  コントローラ
３３  スピンドルモータ制御回路
３４  第２エラー信号生成回路
３５  第２フォーカス制御回路
３６  間隙調整アクチュエータ
４３  透明電極
４５  金属電極
４６  有機層
５１  外部モータ
５２  外部送りネジ
５３  第２モータ駆動回路
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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