(57)【要約】【課題】記録磁界強度を維持しつつ、サイドフリンジング及び前記第１の方向の記録磁界滲みを低減することのできる磁気ヘッド及びその製造方法を提供する。【解決手段】  前記主磁極層１１０の前記前方部Ｓ１のトレーリング側上面１１０ａのハイト方向（第２の方向）の長さ寸法Ｌ１を前方部Ｓ１のリーディング側下面１１０ｅのハイト方向（第２の方向）の長さ寸法Ｌ２より大きくすることにより、トレーリング側上面１１０ａの発生磁界を相対的に弱めて、トレーリング側のサイドフリンジングや記録磁界の磁界滲みを抑える。一方、リーディング側下面１１０ｅのハイト方向（第２の方向）の長さ寸法Ｌ２を小さくすることにより、リーディング側Ｌからの発生磁界を強めて記録磁界を十分に大きく維持できる。【選択図】図２
2005317144.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体との対向面で、第１の磁性層と第２の磁性層とが膜厚方向に間隔をおいて対向し、前記第１の磁性層と第２の磁性層間にコイル層が形成され、前記第１の磁性層の前面は前記対向面で第１の方向に所定の幅寸法で形成される磁気ヘッドにおいて、
前記第１の磁性層は、前記第１の方向に交差する方向にのびる側面の、前記対向面となす角度が異なる前方部と傾斜部を有し、前記前方部の前記側面の前記対向面となす角度は前記傾斜部の前記側面の前記対向面となす角度より大きくなっており、
前記第１の方向に対する直交方向を第２の方向とし、前記前方部のトレーリング側上面の前記第２の方向の長さ寸法が前記前方部のリーディング側下面の前記第２の方向の長さ寸法より大きいことを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】
前記第１の磁性層の前面は前記対向面に対して平行な平面である請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項３】
前記第１の磁性層の前面は前記対向面に完全に露出している請求項１または２に記載の磁気ヘッド。
【請求項４】
前記第１の磁性層の前記前方部と前記傾斜部は同一平面上に形成されており、前記前方部の前記トレーリング側上面と前記傾斜部の前記トレーリング側上面が同一平面上にある請求項１ないし３のいずれかに記載の磁気ヘッド。
【請求項５】
記録媒体との対向面で、第１の磁性層と第２の磁性層とが膜厚方向に間隔をおいて対向し、前記第１の磁性層と第２の磁性層間にコイル層が形成され、前記第１の磁性層の前面は前記対向面で第１の方向に所定の幅寸法で形成される磁気ヘッドの製造方法において、
前記第１の磁性層を以下の工程を経ることで形成することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法、
（ａ）マスク層に前記第１の磁性層の平面形状の凹部を形成し、この凹部に前記第１の方向と交差する方向にのびる内側面の、前記対向面となす角度が異なる前方部と傾斜部を設け、前記前方部の前記内側面の前記対向面となす角度を前記傾斜部の前記内側面の前記対向面となす角度より大きくし、
さらに、前記第１の方向に対する直交方向を第２の方向とし、前記前方部の内側面の上端の第２の方向の長さ寸法を、前記前方部の内側面の下端の第２の方向の長さ寸法より大きくする工程と、
（ｂ）前記マスク層の凹部内に、前記第１の磁性層をメッキ形成する工程と、
（ｃ）前記マスク層を除去する工程。
【請求項６】
前記（ａ）工程において、前記マスク層をレジストを用いて形成する請求項５に記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記（ａ）工程において、前記マスク層の凹部を露光現像手段を用いて形成し、前記傾斜部を露光するときの照射エネルギーを、前記前方部を露光するときの照射エネルギーよりも強くする請求項５または６に記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項８】
前記露光手段にはＥＢ露光を用いる請求項７に記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項９】
前記（ａ）工程において、前記マスク層を平面上に形成し、前記（ｂ）工程において、前記凹部の前方部内に形成される前記第１磁性層の前記前方部のトレーリング側上面と、前記凹部の傾斜部内に形成される前記第１磁性層の傾斜部のトレーリング側上面を同一平面上に位置させる請求項５ないし８のいずれかに記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１０】
前記（ｃ）工程の後に、
（ｄ）前記第１の磁性層の前記前方部を前記対向面に平行に削り、前記前方部の前記対向面側の前面を前記対向面に対して平行な平面にする工程、
を有する請求項５ないし９のいずれかに記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１１】
前記（ｄ）工程において、前記第１の磁性層の前面を前記対向面に完全に露出させる請求１０に記載の磁気ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、前面が記録媒体との対向面で第１の方向に所定の幅寸法で形成される第１の磁性層を有する磁気ヘッド及びその製造方法に係り、特に記録磁界強度を維持しつつ、サイドフリンジング及び前記第１の方向の記録磁界滲みを低減することのできる磁気ヘッド及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
記録媒体を媒体面の垂直方向に磁化する垂直磁気記録方式の記録用磁気ヘッドは、前面が記録媒体との対向面で第１の方向に所定の幅寸法で形成される第１の磁性層を有している。
【０００３】
図１４は従来の垂直磁気記録方式の記録用磁気ヘッドの概略を示す斜視図である。
図１４に示されるように、垂直磁気記録方式の記録用磁気ヘッドは、記録媒体との対向面側Ｆで、第１の磁性層１（主磁極層）と第２の磁性層２とが膜厚方向に間隔をおいて対向している。第１の磁性層の前面は対向面で第１の方向に所定の幅寸法で形成される。また、図１４には示されていないが、第１の磁性層１（主磁極層）と第２の磁性層２間にコイル層が形成されている。このコイル層に電流が流されることによって発生する誘導磁界が第１の磁性層１（主磁極層）及び第２の磁性層２に誘導され、第１の磁性層の前面から記録用の磁界が記録媒体を媒体面の垂直方向に入射する。記録用の磁界は記録媒体内部を通過して、第２の磁性層２に達する。
【０００４】
図１４に示される磁気ヘッドの第１の磁性層１（主磁極層）では、前方部Ｓ１の側面１ｄが記録媒体との対向面となす角度は傾斜部Ｓ２の側面１ｅが記録媒体との対向面となす角度より大きくなっている。傾斜部Ｓ２の後方には前方部Ｓ１よりも幅広の後方部Ｓ３が形成されている。
【０００５】
第１の磁性層１（主磁極層）の図示下方に磁気ヘッドを搭載するスライダが設けられており、記録媒体は図示下方から上方に向かって進行する。すなわち、図１４では図示下方方向がリーディング側Ｌ、図示上方方向がトレーリング側Ｔである。
【０００６】
前記第１の方向に対する直交方向を第２の方向（図示Ｙ方向）としたとき、この第１の磁性層１（主磁極層）は、前方部Ｓ１のトレーリング側上面１ｂの第２の方向の長さ寸法Ｌ１と前方部Ｓ１のリーディング側下面１ｃの第２の方向の長さ寸法Ｌ２が等しくなっている。
【０００７】
図１５は従来の他の磁気ヘッドの概略を示す斜視図である。この磁気ヘッドも垂直磁気記録方式の記録用ヘッドであり、図１４に示す磁気ヘッドと同様に第１の磁性層３と第２の磁性層２が対向している。この斜視図も第１の磁性層３と第２の磁性層２の間に設けられているコイル層の図示を省略している。
【０００８】
図１５に示される磁気ヘッドでは、第１の磁性層３は、前方部Ｓ１のトレーリング側上面３ｂの第２の方向（図示Ｙ方向）の長さ寸法Ｌ１が前方部Ｓ１のリーディング側下面３ｃの第２の方向の長さ寸法Ｌ２より大きくなっている。
【特許文献１】特開平１１−２５０４１６号公報（第３頁、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
垂直磁気記録方式において、記録媒体上の記録磁化パターンの形成には第１の磁性層１（主磁極層）の前面１ａのトレーリングエッジ側から発生する記録磁界が大きく影響する。
【００１０】
図１６は、図１４に示された磁気ヘッドの第１の磁性層１（主磁極層）及び主磁極層の前面から発生する記録用の磁界の磁界分布と、記録媒体上の記録トラック第２の磁性層２の記録媒体との対向面Ｆの前面周辺の部分拡大側面図とこの磁気ヘッドによって記録された記録トラックの平面図である。
【００１１】
図１６に示されるように、前方部Ｓ１のトレーリング側上面の第２の方向の長さ寸法Ｌ１が前方部Ｓ１のリーディング側下面の第２の方向の長さ寸法Ｌ２に等しいとトレーリング側上面の発生磁界が強くなり、トレーリング側でサイドフリンジングや記録磁界の磁界滲みによる記録媒体上の記録トラック幅が第１の磁性層１（主磁極層）の前面の幅寸法Ｔｗより大きくなってしまい実効的なトラック幅Ｔｖが大きくなるという問題が生じる。また、前方部Ｓ１のトレーリング側上面の第２の方向の長さ寸法Ｌ１と前方部Ｓ１のリーディング側下面Ｌ２の第２の方向の長さ寸法を等しくしたまま、両長さ寸法を大きくすると記録磁界が弱くなる。
【００１２】
図１７は図１５に示された磁気ヘッドの第１の磁性層３及び第２の磁性層２の記録媒体との対向面側Ｆの前面周辺の部分拡大側面図と第１の磁性層３の前面から発生する記録用の磁界の磁界分布と、記録媒体上の記録トラックの平面図である。
【００１３】
図１７に示されるように、前方部Ｓ１のトレーリング側上面３ｂの第２の方向の長さ寸法Ｌ１が前方部Ｓ１のリーディング側下面３ｃの第２の方向の長さ寸法Ｌ２より小さいとトレーリング側上面３ｂの発生磁界が図１６よりもさらに強くなり、トレーリング側でサイドフリンジングや記録磁界の磁界滲みによる実効的なトラック幅がさらに大きくなるという問題が生じる。
【００１４】
図１８は特許文献１に記載された磁気ヘッドの上部磁極層４（主磁極層）と下部磁極５周辺の拡大部分側面図及びの上部磁極４の前面から発生する記録用の磁界の磁界分布である。図１８に示されるように上部磁極４の前面４ａはリーディング側Ｌからトレーリング側Ｔに向かうにしたがって記録媒体から離れる傾斜面または段差面になっている磁気ヘッドが記載されている。特許文献１によると上部磁極４のトレーリング側を記録媒体から遠ざけることによって、上部磁極４のトレーリング側の発生磁界を低減することができるとされている。しかし、図１８に示されるように、上部磁極４の前面から発生する記録用の磁界の磁界分布がギャップ６周辺にのみ集中し、記録媒体に十分な量の記録磁界を供給することが難しくなる。
【００１５】
本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、記録磁界強度を維持しつつ、サイドフリンジング及び前記第１の方向の記録磁界滲みを低減することのできる磁気ヘッド及びその製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明は、記録媒体との対向面で、第１の磁性層と第２の磁性層とが膜厚方向に間隔をおいて対向し、前記第１の磁性層と第２の磁性層間にコイル層が形成され、前記第１の磁性層の前面は前記対向面で第１の方向に所定の幅寸法で形成される磁気ヘッドにおいて、
前記第１の磁性層は、前記第１の方向に交差する方向にのびる側面の、前記対向面となす角度が異なる前方部と傾斜部を有し、前記前方部の前記側面の前記対向面となす角度は前記傾斜部の前記側面の前記対向面となす角度より大きくなっており、
前記第１の方向に対する直交方向を第２の方向とし、前記前方部のトレーリング側上面の前記第２の方向の長さ寸法が前記前方部のリーディング側下面の前記第２の方向の長さ寸法より大きいことを特徴とするものである。
【００１７】
記録媒体上の記録トラックの実効的な幅寸法は第１の磁性層のトレーリング側にサイドフリンジングや記録磁界の磁界滲みが発生すると大きく広がってしまう。
【００１８】
本発明では前記第１の磁性層の前記前方部のトレーリング側上面の第２の方向の長さ寸法が前方部のリーディング側下面の第２の方向の長さ寸法より大きいので、トレーリング側上面の発生磁界を相対的に弱めて、トレーリング側のサイドフリンジングや記録磁界の磁界滲みを抑えることができる。従って、実効的な記録トラック幅を第１の磁性層の前面の幅寸法と同じかほぼ同じにできる。
【００１９】
一方、リーディング側下面の第２の方向の長さ寸法を小さくすることにより、記録磁界を十分に大きく維持できる。
【００２０】
記録磁界を十分に大きくするために、本発明では前記第１の磁性層の前面は前記対向面に対して平行な平面であることが好ましい。
また、前記第１の磁性層の前面は前記対向面に完全に露出していることが好ましい。
【００２１】
また、本発明では、前記第１の磁性層の前記前方部と前記傾斜部が同一平面上に形成されており、前記前方部のトレーリング側上面と前記傾斜部のトレーリング側上面が同一平面上にあることが好ましい。これによって、第１の磁性層内部の磁束の流れかたをなめらかにして第１の磁性層の前面から発生する記録磁界を大きくできる。
【００２２】
また、本発明は、記録媒体との対向面で、第１の磁性層と第２の磁性層とが膜厚方向に間隔をおいて対向し、前記第１の磁性層と第２の磁性層間にコイル層が形成され、前記第１の磁性層の前面は前記対向面で第１の方向に所定の幅寸法で形成される磁気ヘッドの製造方法において、
前記第１の磁性層を以下の工程を経ることで形成することを特徴とするものである。
【００２３】
（ａ）マスク層に前記第１の磁性層の平面形状の凹部を形成し、この凹部に前記第１の方向と交差する方向にのびる内側面の、前記対向面となす角度が異なる前方部と傾斜部を設け、前記前方部の前記内側面の前記対向面となす角度を前記傾斜部の前記内側面の前記対向面となす角度より大きくし、
さらに、前記第１の方向に対する直交方向を第２の方向とし、前記前方部の内側面の上端の第２の方向の長さ寸法を、前記前方部の内側面の下端の第２の方向の長さ寸法より大きくする工程と、
（ｂ）前記マスク層の凹部内に、前記第１の磁性層をメッキ形成する工程と、
（ｃ）前記マスク層を除去する工程。
【００２４】
本発明の製造方法を用いることにより前記第１の磁性層の前記前方部のトレーリング側上面の第２の方向の長さ寸法が前方部のリーディング側下面の第２の方向の長さ寸法より大きくすることができる。
【００２５】
前記第１の磁性層の前記前方部のトレーリング側上面の第２の方向の長さ寸法が前方部のリーディング側下面の第２の方向の長さ寸法より大きいと、トレーリング側上面の発生磁界を相対的に弱めて、トレーリング側のサイドフリンジングや記録磁界の磁界滲みを抑えることができる。従って、実効的な記録トラック幅を第１の磁性層の前面の幅寸法と同じかほぼ同じにできる。
【００２６】
一方、リーディング側下面の第２の方向の長さ寸法を小さくすることにより、記録磁界を十分に大きく維持できる。
【００２７】
例えば、前記（ａ）工程において、前記マスク層をレジストを用いて形成することができる。
【００２８】
前記（ａ）工程において、前記マスク層に設けられた凹部の前記前方部の内側面上端の第２の方向の長さ寸法を、前記前方部の内側面下端の第２の方向の長さ寸法より大きくする方法としては、例えば、前記マスク層の凹部を露光現像手段を用いて形成し、前記凹部の前記傾斜部を露光するときの照射エネルギーを、前記前方部を露光するときの照射エネルギーよりも強くするという手法がある。
【００２９】
前記露光手段にＥＢ露光を用いると照射エネルギーを連続的に変化させることができるので、前記凹部の前記傾斜部を露光するときの照射エネルギーと前記前方部を露光するときの照射エネルギーの制御が容易になる。
【００３０】
また、本発明では、前記（ａ）工程において、前記マスク層を平面上に形成し、前記（ｂ）工程において、前記凹部の前方部内に形成される前記第１磁性層の前記前方部のトレーリング側上面と、前記凹部の傾斜部内に形成される前記第１磁性層の傾斜部のトレーリング側上面を同一平面上に位置させることが好ましい。
【００３１】
本発明では、前記（ｃ）工程の後に、
（ｄ）前記第１の磁性層の前記前方部を前記対向面に平行に削り、前記前方部の前記対向面側の前面を前記対向面に対して平行な平面にする工程、
を有することが好ましい。これによって前記第１の磁性層の前面を平面にできるので、磁気ヘッドから発生する記録磁界を大きくすることができる。
【００３２】
さらに、前記（ｄ）工程において、前記第１の磁性層の前面を前記対向面に完全に露出させることが好ましい。
【発明の効果】
【００３３】
本発明では前記第１の磁性層の前記前方部のトレーリング側上面の第２の方向の長さ寸法が前方部のリーディング側下面の第２の方向の長さ寸法より大きいので、トレーリング側上面の発生磁界を相対的に弱めて、トレーリング側のサイドフリンジングや記録磁界の磁界滲みを抑えることができる。従って、実効的な記録トラック幅を第１の磁性層の前面の幅寸法と同じかほぼ同じにできる。
【００３４】
一方、リーディング側下面の第２の方向の長さ寸法を小さくすることにより、記録磁界を十分に大きく維持できる。
【００３５】
さらに、本発明では前記第１の磁性層の前面は前記対向面に対して平行な平面にすることで記録磁界を大きくすることができる。
【００３６】
また、本発明では、前記第１の磁性層の前記前方部と前記傾斜部が同一平面上に形成されており、前記前方部の上面と前記傾斜部の上面が同一平面上にあることによって、第１の磁性層内部の磁束の流れかたをなめらかにして第１の磁性層の前面から発生する記録磁界を大きくできる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
図１は本発明の磁気ヘッドの第１の実施の形態の断面図、図２は図１に示された磁気ヘッドの主要部の斜視図、図３は図１に示された磁気ヘッドの正面図、図４は図１に示された磁気ヘッドの平面図である。
【００３８】
図１に示す磁気ヘッドＨ１は、記録媒体Ｍに垂直磁界を与え、記録媒体Ｍのハード膜Ｍａを垂直方向に磁化させる、いわゆる垂直記録磁気ヘッドと呼ばれるものである。
【００３９】
記録媒体Ｍは例えばディスク状であり、その表面に残留磁化の高いハード膜Ｍａが、内方に磁気透過率の高いソフト膜Ｍｂを有しており、ディスクの中心が回転軸中心となって回転させられる。
【００４０】
スライダ１０１はＡｌ２Ｏ３・ＴｉＣなどの非磁性材料で形成されており、スライダ１０１の対向面１０１ａが記録媒体Ｍに対向し、記録媒体Ｍが回転すると、表面の空気流によりスライダ１０１が記録媒体Ｍの表面から浮上し、またはスライダ１０１が記録媒体Ｍに摺動する。図１においてスライダ１０１に対する記録媒体Ｍの移動方向はＤ方向である。従って、図示上方向がトレーリング側Ｔであり、図示下方向がリーディング側Ｌである。
【００４１】
スライダ１０１のトレーリング側端面１０１ｂには、Ａｌ２Ｏ３またはＳｉＯ２などの無機材料による非磁性絶縁層１０２が形成されて、この非磁性絶縁層１０２の上に読取り部ＨＲが形成されている。
【００４２】
読取り部ＨＲは下部シールド層１０３と上部シールド層１０６と、下部シールド層１０３と上部シールド層１０６との間の無機絶縁層（ギャップ絶縁層）１０５内に位置する読み取り素子１０４とを有している。読み取り素子１０４は、ＡＭＲ、ＧＭＲ、ＴＭＲなどの磁気抵抗効果素子である。
【００４３】
前記上部シールド層１０６の上には、コイル絶縁下地層１０７を介して、導電性材料で形成された複数本の第１コイル層１０８が形成されている。前記第１コイル層１０８は、例えばＡｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ａｌ，Ｔｉ，ＮｉＰ，Ｍｏ，Ｐｄ，Ｒｈから選ばれる１種、または２種以上の非磁性金属材料からなる。あるいはこれら非磁性金属材料が積層された積層構造であってもよい。
【００４４】
前記第１コイル層１０８の周囲は、Ａｌ２Ｏ３などの無機絶縁材料や、レジストなどの有機絶縁材料で形成されたコイル絶縁層１０９が形成されている。
【００４５】
前記コイル絶縁層１０９の上面１０９ａは平坦化面に形成され、この上面１０９ａの上に、メッキ下地層１３０が形成され、このメッキ下地層１３０の上に、対向面Ｆからハイト方向（第２の方向）に所定長さで形成され、前面１１０ｃのトラック幅方向（図示Ｘ方向；第１の方向）への幅寸法がトラック幅Ｔｗで形成され所定長さＬａで延びている主磁極１１０が形成されている。前記コイル絶縁層１０９の前記上面１０９ａは，本願発明の第１磁性層形成面である。また、前記主磁極１１０は本願発明の第１の磁性層に該当するものであり、強磁性材料で例えばメッキ形成され、Ｎｉ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｆｅ、Ｎｉ−Ｆｅ−Ｃｏなどの飽和磁束密度の高い材料で形成されている。
【００４６】
また、前記主磁極１１０は前方部Ｓ１の基端部１１０ｂからハイト方向（図示Ｙ方向；第２の方向）へトラック幅方向（第１の方向）への幅寸法Ｗ１が前記トラック幅Ｔｗよりも広がって延びる傾斜部Ｓ２と後方部Ｓ３が形成されている。図１に示す前記磁気ヘッドＨ１では、第１の磁性層１１０が、読取り部ＨＲ側に位置する磁性層となる。
【００４７】
前記トラック幅Ｔｗは具体的には０．０１μｍ〜０．５μｍ、前方部Ｓ１のハイト方向への長さ寸法は具体的には０．０１μｍ〜０．５μｍの範囲内で形成される。
【００４８】
また、前記後方部Ｓ３は、トラック幅方向（図示Ｘ方向）への幅寸法Ｗ１が最も広い部分で１μｍ〜１００μｍ程度であり、また前記傾斜部Ｓ２と後方部Ｓ３のハイト方向への長さ寸法Ｌ４は１μｍ〜１００μｍ程度である。
【００４９】
図３は図１の磁気ヘッドＨ１の正面図である。なお、図１は、磁気ヘッドを図２に示される一点鎖線で切断した断面図である。
【００５０】
図３に示すように、対向面Ｆに現れている前記主磁極１１０は、トラック幅方向（図示Ｘ方向）への幅寸法がＴｗとなるように形成されている。
【００５１】
また図３に示すように、前記主磁極１１０の両側方には、第１絶縁材料層１１１、１１１が形成されている。
【００５２】
また、前記第１絶縁材料層１１１，１１１の上面１１１ａ，１１１ａの高さ位置（前記主磁極１１０や前記第１絶縁材料層１１１，１１１の膜厚方向における高さ位置、すなわち図示Ｚ方向における高さ位置）は、前記主磁極１１０のトレーリング側上面１１０ａと同じ高さ位置で形成されている。
【００５３】
本発明では、前記主磁極１１０のトレーリング側上面１１０ａが平坦化面または前記トレーリング側上面１１０ａに下方（図２におけるＺ方向と反対方向）に凹む凹部が生じるディッシング形状になっている。
【００５４】
前記第１絶縁材料層１１１，１１１は、例えばＡｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ａｌ−Ｓｉ−Ｏで形成することができる。
【００５５】
前記主磁極１１０の上と前記第１絶縁材料層１１１，１１１の上には、アルミナまたはＳｉＯ２などの無機材料によって、ギャップ層１１３が形成されている。
【００５６】
図１に示すように、前記ギャップ層１１３上には、コイル絶縁下地層１１４を介して第２コイル層１１５が形成されている。前記第２コイル層１１５は前記第１コイル層１０８と同様に、導電性材料によって複数本形成されている。前記第２コイル層１１５は、例えばＡｕ，Ａｇ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ａｌ，Ｔｉ，ＮｉＰ，Ｍｏ，Ｐｄ，Ｒｈから選ばれる１種、または２種以上の非磁性金属材料からなる。あるいはこれら非磁性金属材料が積層された積層構造であってもよい。
【００５７】
図４に示すように、前記第１コイル層１０８と前記第２コイル層１１５とは、それぞれのトラック幅方向（図示Ｘ方向）における端部１０８ａおよび１１５ａ同士と、１０８ｂおよび１１５ｂ同士が電気的に接続されており、前記第１コイル層１０８と前記第２コイル層１１５とで、前記主磁極１１０を軸にして巻回形成されたトロイダルコイル層１４０が形成されている。
【００５８】
前記第２コイル層１１５の周囲は、Ａｌ２Ｏ３などの無機絶縁材料や、レジストなどの有機絶縁材料で形成されたコイル絶縁層１１６が形成され、このコイル絶縁層１１６の上から前記ギャップ層１１３上にかけて、パーマロイなどの強磁性材料によって、本発明の第２磁性層であるリターンパス層１１７が形成されている。このリターンパス層１１７は第２の磁性層となる。
【００５９】
図２に示すように、主磁極１１０の前端面１１０ｃの厚み寸法Ｈｔは、リターンパス層１１７の前端面１１７ａの厚みＨｒよりも小さく、主磁極１１０の前端面１１０ｃのトラック幅方向（図示Ｘ方向）の幅寸法Ｗｔは、リターンパス層１１７の前端面１１７ａの同方向での幅寸法Ｗｒよりも十分に短くなっている。その結果、対向面Ｈ１ａでは、主磁極１１０の前端面１１０ｃの面積が、リターンパス層１１７の前端面１１７ａでの面積よりも十分に小さい。従って、主磁極１１０の前端面１１０ｃに洩れ記録磁界の磁束φが集中し、この集中している磁束φにより前記ハード膜Ｍａが垂直方向へ磁化されて、磁気データが記録される。
【００６０】
前記リターンパス層１１７の前端面１１７ａは、記録媒体との対向面Ｈ１ａに露出している。また、対向面Ｈ１ａよりも奥側で、リターンパス層１１７の接続部１１７ｂと前記主磁極１１０とが接続されている。これにより、主磁極１１０からリターンパス層１１７を通る磁路が形成される。
【００６１】
なお、前記ギャップ層１１３上であって、記録媒体との対向面Ｈ１ａから所定距離離れた位置に、無機または有機材料によってＧｄ決め層１１８が形成されている。記録媒体との対向面Ｈ１ａからＧｄ決め層１１８の前端縁までの距離で、磁気ヘッドＨ１のギャップデプス長が規定される。
【００６２】
前記リターンパス層１１７の前記接続部１１７ｂのハイト方向（図示Ｙ方向）側には、前記第２コイル層１１５から延出されたリード層１１９が、コイル絶縁下地層１１４を介して形成されている。そして、リターンパス層１１７およびリード層１１９が、無機非磁性絶縁材料などで形成された保護層１２０に覆われている。
【００６３】
前記磁気ヘッドＨ１では、リード層１１９を介して前記第１コイル層１０８および第２コイル層１１５に記録電流が与えられると、前記第１コイル層１０８および前記第２コイル層１１５を流れる電流の電流磁界によって前記主磁極１１０および前記リターンパス層１１７に記録磁界が誘導され、前記対向面Ｈ１ａにおいて、主磁極１１０の前端面１１０ｃから記録磁界の磁束φ１が飛び出し、この記録磁界の磁束φ１が記録媒体Ｍのハード膜Ｍａを貫通しソフト膜Ｍｂを通過し、これにより、記録媒体Ｍに記録信号が書き込まれた後、リターンパス層１１７の前端面１１７ａへ前記磁束φ１が戻る。
【００６４】
図２は図１に示された磁気ヘッドの主磁極層１１０とリターンパス層１１７の斜視図である。
【００６５】
図２に示されるように、前記主磁極層１１０の前記前方部Ｓ１の側面１１０ｄと傾斜部Ｓ２の側面１１０ｆは、前記トラック幅方向（第１の方向；図示Ｘ方向）に交差する方向にのびており、前記前方部Ｓ１の前記側面１１０ｄの前記対向面Ｆとなす角度は前記傾斜部Ｓ２の前記側面１１０ｆの前記対向面Ｆとなす角度より大きくなっている。
【００６６】
さらに本発明の磁気ヘッドの特徴として、前記前方部Ｓ１のトレーリング側上面１１０ａのハイト方向（第２の方向）の長さ寸法Ｌ１が前記前方部Ｓ１のリーディング側下面１１０ｅのハイト方向（第２の方向）の長さ寸法Ｌ２より大きくなっている。
【００６７】
図５は、図１ないし４に示された磁気ヘッドの主磁極層（第１の磁性層）１１０及びリターンパス層（第２の磁性層）１１７の記録媒体との対向面側Ｆの前面１１０ｃ周辺の部分拡大側面図Ａと主磁極層１１０の前面１１０ｃから発生する記録用の磁界の磁界分布Ｂと、この磁気ヘッドによって信号が記録された記録媒体上の記録トラックの平面図Ｃである。
【００６８】
記録媒体上の記録トラックの実効的な幅寸法は主磁極層１１０のトレーリング側にサイドフリンジングや記録磁界の磁界滲みが発生すると大きく広がってしまう。
【００６９】
本発明では前記主磁極層１１０の前記前方部Ｓ１のトレーリング側上面１１０ａのハイト方向（第２の方向）の長さ寸法Ｌ１が前方部Ｓ１のリーディング側下面１１０ｅのハイト方向（第２の方向）の長さ寸法Ｌ２より大きいので、トレーリング側上面１１０ａの発生磁界を相対的に弱めて、トレーリング側のサイドフリンジングや記録磁界の磁界滲みを抑えることができる。従って、実効的な記録トラック幅Ｔｖを主磁極層１１０の前面１１０ｃの幅寸法Ｔｗと同じかほぼ同じにできる。
【００７０】
Ｌ２／Ｌ１比によってトレーリング側の磁界強度Ｂｔとリーディング側の磁界強度Ｂｌの比が規定される。Ｌ２／Ｌ１比が大きくなるとトレーリング側の磁界強度Ｂｔが相対的に弱まり、おおよそＬ２／Ｌ１≧３になるとトレーリング側の磁界強度Ｂｔがリーディング側の磁界強度Ｂｌより弱くなる。
【００７１】
一方、リーディング側下面１１０ｅのハイト方向（第２の方向）の長さ寸法Ｌ２を小さくすることにより、リーディング側Ｌからの発生磁界を強めて記録磁界を十分に大きく維持できる。
【００７２】
記録磁界を十分に大きくするために、図１ないし図４に示されるように、前記主磁極層１１０の前面１１０ｃは前記対向面Ｆに対して平行な平面になっている。また、前記主磁極層１１０の前面１１０ｃは前記対向面Ｆに完全に露出している。なお、前記主磁極層１１０の前面１１０ｃは前記対向面Ｆを覆う膜厚０．１μｍ以下の保護膜で覆われていてもよい。
【００７３】
また、図１及び図２に示されるよう、前記主磁極層１１０の前記前方部Ｓ１、前記傾斜部Ｓ２、及び前記後方部Ｓ３は一体に形成された磁性材料層である。また、前記前方部Ｓ１、前記傾斜部Ｓ２はコイル絶縁層１０９の上面１０９ａに形成されているので、両方とも同一平面上に形成されていることになる。さらに、前記前方部Ｓ１のトレーリング側上面１１０ａと前記傾斜部Ｓ２のトレーリング側上面１１０ｇが同一平面上にある。これによって、主磁極層１１０内部の磁束の流れかたをなめらかにして主磁極層１１０の前面１１０ｃから発生する記録磁界を大きくできる。なお、本実施の形態では、主磁極層１１０の前記前方部Ｓ１のトレーリング側上面１１０ａと前記傾斜部Ｓ２のトレーリング側上面１１０ｇに加えて、前記後方部Ｓ３の、前記前方部Ｓ１のトレーリング側上面１１０ａと前記傾斜部Ｓ２のトレーリング側上面１１０ｈも同一平面上にある。
【００７４】
図６は本発明の磁気ヘッドの第２の実施の形態の断面図、図７は図６に示された磁気ヘッドの主要部の斜視図である。
【００７５】
図６および図７図に示す磁気ヘッドＨ２も、記録媒体Ｍに垂直磁界を与え、記録媒体Ｍのハード膜Ｍａを垂直方向に磁化させる、いわゆる垂直記録磁気ヘッドと呼ばれるものである。
【００７６】
図６および図７に示す磁気ヘッドＨ２は、図１ないし図４に示す前記磁気ヘッドＨ１と同じ構成部分を有しているため、図６および図７に示す磁気ヘッドＨ２でも、図１ないし図４に示す前記磁気ヘッドＨ１と同じ構成部分には同じ符号を付し、その詳しい説明を省略する。
【００７７】
図６に示すように、スライダ１０１のトレーリング側端面１０１ｂに形成された非磁性絶縁層１０２の上に読取り部ＨＲが形成されている。
【００７８】
下部シールド層１０３と上部シールド層１０６と、下部シールド層１０３と上部シールド層１０６との間の無機絶縁層（ギャップ絶縁層）１０５内に位置する読み取り素子１０４とで構成される読取り部ＨＲの上に、記録用の磁気ヘッドＨ２が設けられている。磁気ヘッドＨ２の記録媒体との対向面Ｆは、スライダ１０１の対向面１０１ａとほぼ同一面である。
【００７９】
なお、読取り部ＨＲを設けず、スライダ１０１のトレーリング側端部に垂直磁気記録用の磁気ヘッドＨ２のみを搭載してもよい。
【００８０】
前記上部シールド層１０６の上には、コイル絶縁下地層１０７を介して、導電性材料で形成された複数本の第１コイル層１０８が形成され、前記第１コイル層１０８の周囲は、コイル絶縁層１０９が形成されている。
【００８１】
前記コイル絶縁層１０９の上面１０９ａの上に、対向面Ｆからハイト方向（図示Ｙ方向；第２の方向）に形成されたリターンパス層２１６が形成されている。このリターンパス層２１６はパーマロイなどの強磁性材料によって形成されている。前記リターンパス層２１６は本発明の第２磁性層であり、後記する第１磁性部１６０に対して第２磁性部２６１となるものである。図６に示す磁気ヘッドＨ２では、このリターンパス層２１６によって構成される第２磁性部２６１が読取り部側に位置する磁性部となる。
【００８２】
前記リターンパス層２１６の上面のハイト方向後方（図示Ｙ方向）には、Ｎｉ−Ｆｅなどからなる接続層２２５が形成されている。
【００８３】
前記リターンパス層２１６の上に、コイル絶縁下地層１１４が形成されて、このコイル絶縁下地層１１４の上に第２コイル層１１５が形成されている。
【００８４】
前記第１コイル層１０８と前記第２コイル層１１５とは、それぞれのトラック幅方向（図示Ｘ方向）における端部が電気的に接続されており、前記第１コイル層１０８と前記第２コイル層１１５とで、前記リターンパス層２１６を軸にして巻回形成されたトロイダルコイル層１４０が形成されている。
【００８５】
前記第２コイル層１１５の周囲は、コイル絶縁層１１６が形成され、さらに絶縁層２３０で覆われている。前記絶縁層２３０は無機絶縁材料で形成されることが好ましく、前記無機絶縁材料としては、ＡｌＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ、ＡｌＮ、ＡｌＳｉＮ、ＴｉＮ、ＳｉＮ、Ｓｉ３Ｎ４、ＮｉＯ、ＷＯ、ＷＯ３、ＢＮ、ＣｒＮ、ＳｉＯＮのうち少なくとも１種以上を選択できる。この絶縁層２３０の上面２３０ａは平坦化面となるように加工されている。このような平坦化加工はＣＭＰ技術などを用いて行なわれる。
【００８６】
前記絶縁層２３０の上面２３０ａ上には、ギャップ層１１３、メッキ下地層１３０、主磁極１１０が形成されている。主磁極層１１０は本発明の第１磁性層である。
【００８７】
この主磁極１１０は図１ないし図４に示された第１の実施の形態の磁気ヘッドの主磁極層１１０と同じ材料で同じ形状で形成されている。
【００８８】
図７に示されるように、前記主磁極層１１０の前記前方部Ｓ１の側面１１０ｄと傾斜部Ｓ２の側面１１０ｆは、前記トラック幅方向（第１の方向；図示Ｘ方向）に交差する方向にのびており、前記前方部Ｓ１の前記側面１１０ｄの前記対向面Ｆとなす角度は前記傾斜部Ｓ２の前記側面１１０ｆの前記対向面Ｆとなす角度より大きくなっている。
【００８９】
さらに本発明の磁気ヘッドの特徴として、前記前方部Ｓ１のトレーリング側上面１１０ａのハイト方向（第２の方向；図示Ｙ方向）の長さ寸法Ｌ１が前記前方部Ｓ１のリーディング側下面１１０ｅのハイト方向（第２の方向）の長さ寸法Ｌ２より大きくなっている。
【００９０】
このため、図１ないし図４に示された磁気ヘッドと同様に、トレーリング側上面１１０ａの発生磁界を相対的に弱めて、トレーリング側のサイドフリンジングや記録磁界の磁界滲みを抑えることができる。従って、実効的な記録トラック幅Ｔｖを主磁極層１１０の前面１１０ｃの幅寸法Ｔｗと同じかほぼ同じにできる。
【００９１】
一方、リーディング側下面１１０ｅのハイト方向（第２の方向）の長さ寸法Ｌ２を小さくすることにより、リーディング側Ｌからの発生磁界を強めて記録磁界を十分に大きく維持できる。
【００９２】
本実施の形態でも、記録磁界を十分に大きくするために、前記主磁極層１１０の前面１１０ｃは前記対向面Ｆに対して平行な平面になっている。また、前記主磁極層１１０の前面１１０ｃは前記対向面Ｆに完全に露出している。なお、前記主磁極層１１０の前面１１０ｃは前記対向面Ｆを覆う膜厚０．１μｍ以下の保護膜で覆われていてもよい。
【００９３】
また、前記主磁極層１１０の前記前方部Ｓ１、前記傾斜部Ｓ２、及び前記後方部Ｓ３は一体に形成された磁性材料層である。また、前記前方部Ｓ１、前記傾斜部Ｓ２はギャップ層１１３の上面に形成されているので、両部とも同一平面上に形成されていることになる。さらに、前記前方部Ｓ１のトレーリング側上面１１０ａと前記傾斜部Ｓ２のトレーリング側上面１１０ｇが同一平面上にある。これによって、主磁極層１１０内部の磁束の流れかたをなめらかにして主磁極層１１０の前面１１０ｃから発生する記録磁界を大きくできる。なお、本実施の形態では、主磁極層１１０の前記前方部Ｓ１のトレーリング側上面１１０ａと前記傾斜部Ｓ２のトレーリング側上面１１０ｇに加えて、前記後方部Ｓ３の、前記前方部Ｓ１のトレーリング側上面１１０ａと前記傾斜部Ｓ２のトレーリング側上面１１０ｈも同一平面上にある。
【００９４】
図１ないし図４に示された磁気ヘッドの製造方法に関して主磁極層１１０（第１の磁性層）の製造方法を説明する。
【００９５】
スパッタ法及びメッキ法を用いて、スライダ１０１上に読取り部ＨＲを形成し、読取り部ＨＲの上にスパッタ法及びメッキ法を用いて、コイル絶縁下地層１０７、第１コイル層１０８、コイル絶縁層１０９を形成する。コイル絶縁層１０９の上面１０９ａは平坦面になっている。
【００９６】
コイル絶縁層１０９の上にメッキ下地層１３０を形成する。前記メッキ下地層１３０をスパッタ法や蒸着法等の既存の方法で形成する。
【００９７】
次に、前記メッキ下地層１３０上にはレジスト層Ｒ（マスク層）を塗布形成する。
さらに、レジスト層Ｒを露光現像して、前記主磁極層（第１の磁性層）１１０の平面形状の凹部３００を形成する。
【００９８】
前記レジスト層Ｒに凹部３００を形成した状態の平面図を図８にしめす。
凹部３００は前方部Ｒ１、傾斜部Ｒ２、後方部Ｒ３からなっている。前方部Ｒ１のトラック幅方向（第１の方向；図示Ｘ方向）と交差する方向にのびる内側面Ｒ１ａが記録媒体との対向面となる面Ｆ１となす角度は、前記傾斜部Ｒ２の内側面Ｒ２ａの前記対向面となる面Ｆ１となす角度より大きくなっている。そして、後方部Ｒ３は前方部Ｒ１よりもトラック幅方向寸法が大きくなっている。
【００９９】
本実施の形態では、前記凹部３００の前記傾斜部Ｒ２を露光するときの照射エネルギーを、前記前方部Ｒ１を露光するときの照射エネルギーよりも強くするという手法をもちいている。
【０１００】
前記露光手段にｉ線露光を用いるときには、前記前方部Ｒ１を露光したのち装置を停止し、照射エネルギーを大きくしてから前記後方部Ｒ２を露光する。
【０１０１】
または、前記露光手段にＥＢ露光を用いると照射エネルギーを連続的に変化させることができるので、前記凹部３００の前記傾斜部Ｒ２を露光するときの照射エネルギーと前記前方部Ｒ１を露光するときの照射エネルギーの制御が容易になる。
【０１０２】
図９はレジスト層Ｒを図８の９−９線で切断し矢印方向から見た断面図であり、図１０はレジスト層Ｒを図８の１０−１０線で切断し矢印方向から見た断面図である。
【０１０３】
すなわち、図９はレジスト層Ｒに形成された凹部３００の前方部Ｒ１の断面形状を示しており、図１０はレジスト層Ｒに形成された凹部３００の傾斜部Ｒ２の断面形状を示している。
【０１０４】
露光の照射エネルギーが小さいと凹部３００のトラック幅方向寸法（第１の方向；図示Ｘ方向）が図示下方向に向かうにつれて狭くなり、露光の照射エネルギーが大きいと凹部３００のトラック幅方向寸法（第１の方向；図示Ｘ方向）が図示下方向に向かうにつれて広くなる。
【０１０５】
本実施の形態では露光の照射エネルギーを調節して、凹部Ｒ３００の前方部Ｒ１の内側面Ｒ１ａ，Ｒ１ａ間のトラック幅方向寸法Ｔ１は上端Ｒ１ｂ，Ｒ１ｂから下端Ｒ１ｃ，Ｒ１ｃまで同じ長さであり、凹部Ｒ３００の前方部Ｒ１の内側面Ｒ１ａ，Ｒ１ａはコイル絶縁層１０９の上面１０９ａに対する垂直面になっている。ただし、凹部Ｒ３００の前方部Ｒ１の内側面Ｒ１ａ，Ｒ１ａは必ずしもコイル絶縁層１０９の上面１０９ａに対する垂直面になっている必要はない。たとえば、互いに対向する一対の内側面Ｒ１ａ，Ｒ１ａ間距離が上端Ｒ１ｂ，Ｒ１ｂから下端Ｒ１ｃ，Ｒ１ｃにいくにしたがって小さくなり、その結果、内側面Ｒ１ａ，Ｒ１ａが点線Ｒ１ｄ，Ｒ１ｄで示される傾斜面になっていてもよい。あるいは、互いに対向する一対の内側面Ｒ１ａ，Ｒ１ａ間距離が上端Ｒ１ｂ，Ｒ１ｂから下端Ｒ１ｃ，Ｒ１ｃにいくにしたがって大きくなり、その結果、内側面Ｒ１ａ，Ｒ１ａが点線点線Ｒ１ｅ，Ｒ１ｅで示される傾斜面になっていてもよい。
【０１０６】
重要なことは、凹部３００の露光時に照射エネルギーを調節して、凹部３００の傾斜部Ｒ２の内側面Ｒ２ａ，Ｒ２ａ間のトラック幅方向寸法Ｔ２を上端Ｒ２ｂ，Ｒ２ｂから下端Ｒ２ｃ，Ｒ２ｃに向かうにつれて大きくすることである。本実施の形態では、凹部３００の傾斜部Ｒ２を露光するときの照射エネルギーを、前方部Ｒ１を露光するときの照射エネルギーよりも強くしている。
【０１０７】
図１１はレジスト層Ｒを図８の１１−１１線で切断し矢印方向から見た断面図である。上述のように凹部３００の傾斜部Ｒ２を露光して現像すると、凹部３００の傾斜部Ｒ２の内側面Ｒ２ａと凹部３００の後方部Ｒ３の後端部Ｒ３ａ間のハイト方向寸法Ｔ３が上側から下側に向かうにつれて大きくなる。このとき、凹部３００の傾斜部Ｒ２の内側面Ｒ２ａは下端Ｒ２ｃから上端Ｒ２ｂに向かうにつれてハイト方向後方（図示Ｙ方向；第２の方向）に向かって傾斜する傾斜面になっている。
【０１０８】
図１２は凹部３００が形成されたレジスト層Ｒの斜視図である。凹部３００の傾斜部Ｒ２の内側面Ｒ２ａが下端Ｒ２ｃから上端Ｒ２ｂに向かうにつれてハイト方向後方（図示Ｙ方向；第２の方向）に向かって傾斜する傾斜面であると、前記前方部Ｒ１の内側面Ｒ１の上端Ｒ１ｂのハイト方向（第２の方向；図示Ｙ方向）の長さ寸法Ｌ３が、内側面Ｒ１ａの下端Ｒ１ｃのハイト方向（第２の方向；図示Ｙ方向）の長さ寸法Ｌ４より大きくなる。
【０１０９】
凹部３００の形成後、凹部３００内に、主磁極層１１０（第１の磁性層）をメッキ形成し、レジスト層Ｒを除去すると図１ないし図４に示された磁気ヘッドの主磁極層１１０が得られる。
【０１１０】
なお、前記凹部３００の前方部Ｒ１内に形成される主磁極層１１０（第１の磁性層）の前記前方部Ｓ１の上面１１０ａと、前記凹部３００の傾斜部Ｒ２内に形成される主磁極層１１０（第１の磁性層）の傾斜部Ｓ２の上面１１０ｇを同一平面上に位置させるようにメッキする。
【０１１１】
さらに、主磁極層１１０（第１の磁性層）の前記前方部Ｓ１を記録媒体との対向面Ｆになる平面に平行に削り、前記前方部Ｓ１の前記対向面Ｆ側の前面を前記対向面Ｆに対して平行な平面にする。これによって主磁極層１１０（第１の磁性層）の前面１１０ｃを平面にできるので、磁気ヘッドから発生する記録磁界を大きくすることができる。このとき、主磁極層１１０（第１の磁性層）の前面を前記対向面Ｆに完全に露出させることが好ましい。
【０１１２】
この様にして得られた主磁極層１１０は、前記前方部Ｓ１のトレーリング側上面１１０ａのハイト方向（第２の方向；図示Ｙ方向）の長さ寸法Ｌ１が前記前方部Ｓ１のリーディング側下面１１０ｅのハイト方向（第２の方向）の長さ寸法Ｌ２より大きくなっている。
【０１１３】
このため、図１ないし図４に示された磁気ヘッドと同様に、トレーリング側上面１１０ａの発生磁界を相対的に弱めて、トレーリング側のサイドフリンジングや記録磁界の磁界滲みを抑えることができる。従って、実効的な記録トラック幅Ｔｖを主磁極層１１０の前面１１０ｃの幅寸法Ｔｗと同じかほぼ同じにできる。
【０１１４】
一方、リーディング側下面１１０ｅのハイト方向（第２の方向）の長さ寸法Ｌ２を小さくすることにより、リーディング側Ｌからの発生磁界を強めて記録磁界を十分に大きく維持できる。
【実施例１】
【０１１５】
図１３は本発明の図１ないし図４に示される実施例の磁気ヘッドと図１４に示された比較例の磁気ヘッドの隣接トラック消去時の主トラックの残留信号率を比較したグラフである。ここで、前記実施例は主磁極層１１０の前記前方部Ｓ１のトレーリング側上面１１０ａのハイト方向（第２の方向）の長さ寸法Ｌ１（＝０．２μｍ）がリーディング側下面１１０ｅのハイト方向（第２の方向）の長さ寸法Ｌ２（＝０．１５μｍ）より大きくなっている。
【０１１６】
一方、前記比較例１及び比較例２は、主磁極層１の前記前方部Ｓ１のトレーリング側上面１ｂのハイト方向（第２の方向）の長さ寸法Ｌ１とリーディング側下面１ｃのハイト方向（第２の方向）の長さ寸法Ｌ２が等しくされている。比較例１はＬ１＝Ｌ２＝０．１５μｍであり、比較例２はＬ１＝Ｌ２＝０．２μｍである。
また、実施例および比較例ともに、主磁極層の膜厚を０．２５μｍとした。
【０１１７】
図１３の縦軸に示す残留信号率（％）は、記録媒体に記録磁界（電流値４５ｍＡ、周波数６０ｋＦＣＩ）を与えて記録トラックを形成した後、記録トラックの側方に消去磁界（電流値４５ｍＡ、周波数６５ｋＦＣＩ）を与えて消去トラックを形成したときの、前記記録トラックの残留信号率（％）を測定したものである。前記記録トラックの残留信号率（％）は隣接トラック消去時の主磁極層からのサイドフリンジングや記録滲みが小さいほど１００％に近くなるので、磁気ヘッドの主磁極層のサイドフリンジング特性を示す指標になる。
【０１１８】
横軸は、記録トラックの中心と消去トラックの中心間の間隔を「隣接トラックのＯｆｆｓｅｔ幅」とし、これを光学的トラック幅Ｔｗで除算して規格化したものである。また、記録媒体の保磁力（Ｈｃ）を４５００（Ｏｅ）とし、消去を５０００回行った。
【０１１９】
図１３に示すように、実施例１は比較例１よりも残留信号率が大きく、前記前方部Ｓ１のトレーリング側上面１１０ａのハイト方向の長さ寸法をリーディング側下面１１０ｅのハイト方向長さ寸法よりも大きくすることで主磁極層からのサイドフリンジングや記録滲みが小さくなることがわかる。
【０１２０】
また、実施例と比較例２は同等の残留信号率を示す。なお、実施例の磁気ヘッドの発生磁界（記録磁界）は比較例２の磁気ヘッドよりも大きいことが確認されている。すなわち、本発明を用いると記録用磁気ヘッドの記録磁界を大きくすることと、サイドフリンジングや記録滲みを小さくすることとの両立を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【０１２１】
【図１】本発明の磁気ヘッドの第１の実施の形態の断面図、
【図２】図１に示された磁気ヘッドの主要部の斜視図、
【図３】図１に示された磁気ヘッドの正面図、
【図４】図１に示された磁気ヘッドの平面図、
【図５】図１ないし４に示された磁気ヘッドの主磁極層（第１の磁性層）１１０及びリターンパス層（第２の磁性層）１１７の記録媒体との対向面側Ｆの前面１１０ｃ周辺の部分拡大側面図Ａと主磁極層１１０の前面１１０ｃから発生する記録用の磁界の磁界分布Ｂと、この磁気ヘッドによって信号が記録された記録媒体上の記録トラックの平面図Ｃ、
【図６】本発明の磁気ヘッドの第２の実施の形態の断面図、
【図７】図６に示された磁気ヘッドの主要部の斜視図、
【図８】レジスト層Ｒに凹部３００を形成した状態の平面図、
【図９】レジスト層Ｒを図８の９−９線で切断し矢印方向から見た断面図、
【図１０】レジスト層Ｒを図８の１０−１０線で切断し矢印方向から見た断面図、
【図１１】レジスト層Ｒを図８の１１−１１線で切断し矢印方向から見た断面図、
【図１２】凹部３００が形成されたレジスト層Ｒの斜視図、
【図１３】隣接トラック消去を行なったときの主トラックの残留信号率をしめすグラフ、
【図１４】従来の垂直磁気記録方式の記録用磁気ヘッドの概略を示す斜視図、
【図１５】従来の垂直磁気記録方式の記録用磁気ヘッドの概略を示す斜視図、
【図１６】図１４に示された磁気ヘッドの第１の磁性層１（主磁極層）及び主磁極層の前面から発生する記録用の磁界の磁界分布と、記録媒体上の記録トラック第２の磁性層２の記録媒体との対向面側Ｆの前面周辺の部分拡大側面図と記録トラックの平面図
【図１７】図１５に示された磁気ヘッドの第１の磁性層３（主磁極層）及び主磁極層の前面から発生する記録用の磁界の磁界分布と、記録媒体上の記録トラック第２の磁性層２の記録媒体との対向面側Ｆの前面周辺の部分拡大側面図と記録トラックの平面図、
【図１８】特許文献１に記載された磁気ヘッドの上部磁極層４（主磁極層）と下部磁極５周辺の拡大部分側面図及びの上部磁極４の前面から発生する記録用の磁界の磁界分布、
【符号の説明】
【０１２２】
１０８  第１コイル層
１０９  コイル絶縁層
１０９ａ  上面（第１磁性層形成面）
１１０  主磁極（第１磁性層）
１１０ａ  トレーリング側上面
１１０ｃ  前面
１１０ｄ  側面
１１０ｅ  リーディング側下面
１１０ｆ  側面
１１５  第２コイル層
１１７  リターンパス層
１４０  トロイダルコイル層
３００  凹部
Ｒ  レジスト層
【図１】
2005317144.tif 000003
【図２】
2005317144.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
2005317144.tif 000015
【図１４】
2005317144.tif 000016
【図１５】
2005317144.tif 000017
【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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