(57)【要約】      （修正有）【課題】加工性が良好で、均一な屈折率のコア領域を形成することが可能な高分子材料から成る光導波路を提供する。【解決手段】炭素原子含有率が50重量%以下の付加硬化性シリコーン樹脂組成物から成る硬化樹脂10にレーザ光を照射して硬化樹脂内にレーザ光11の集光点13を形成し、その集光点13を移動することによりコア領域作製し、コア領域以外の硬化樹脂10をクラッド領域となすことにより光導波路を作製する。【選択図】図１
2005215500.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
炭素原子含有率が50重量%以下である付加硬化性シリコーン樹脂組成物から成る硬化樹脂の所定の領域にレーザ光を照射することによりコア領域を形成して成ることを特徴とする光導波路。
【請求項２】
上記付加硬化性シリコーン樹脂組成物の炭素原子含有率が20重量%以上であることを特徴とする請求項１に記載の光導波路。
【請求項３】
上記付加硬化性シリコーン樹脂組成物が、
a)R13SiO1/2単位（式中、R1はそれぞれ同一又は異なる、炭素原子数1〜6のアルケニル基又はアルキル基を表す。）及びSiO2単位をそれぞれ繰り返し単位として有する第一オルガノポリシロキサン、又は
R22SiO単位（式中、R2はそれぞれ同一又は異なる、炭素原子数1〜6の一価アルキル基を表す。）及びR3SiO3/2単位（式中、R3は、炭素原子数1〜6のアルケニル基、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基のいずれかを表す。）をそれぞれ繰り返し単位として有する第二オルガノポリシロキサン、又は
R43SiO1/2単位（式中、R4はそれぞれ同一又は異なる、炭素原子数1〜6の一価アルキル基を表す。）、R52SiO単位（式中、R5はそれぞれ同一又は異なる、炭素原子数1〜6のアルケニル基、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基のいずれかを表す。）及びR6SiO3/2単位（式中、R6は、炭素原子数1〜6のアルケニル基、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基のいずれかを表す。）をそれぞれ繰り返し単位として有する第三オルガノポリシロキサンと、
b)一分子中に、アルケニル基が結合したケイ素原子を二以上有する一以上の第四オルガノポリシロキサンと、
c)一般式(1)又は一般式(2)
【化１】
2005215500.tif 000010
（式中、R7はそれぞれ同一又は異なる、炭素原子数1〜6の一価アルキル基を表す。m、n、p及びqはいずれも1以上の整数を表す。）で表される一以上のオルガノハイドロジェンポリシロキサンと
を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の光導波路。
【請求項４】
一般式(1)のm及びnが、3≦(m+n)≦300、[m/(m+n)]＞0.3の関係を有することを特徴とする請求項３に記載の光導波路。
【請求項５】
一般式(2)のp及びqが、3≦(p+q)≦300、[p/(p+q)]＞0.3の関係を有することを特徴とする請求項３に記載の光導波路。
【請求項６】
上記シリコーン樹脂組成物において、第一〜第三のいずれかのオルガノポリシロキサンと第四オルガノポリシロキサンに含まれるアルケニル基のモル数の総和を１としたときに、オルガノハイドロジェンポリシロキサンに含まれるSiH基がモル比にして0.5〜5倍となるように、第一〜第四のオルガノポリシロキサンとオルガノハイドロジェンポリシロキサンが混合されていることを特徴とする請求項３〜５のいずれかに記載の光導波路。
【請求項７】
上記シリコーン樹脂組成物において、第一又は第三のオルガノポリシロキサンと第四オルガノポリシロキサンが、重量比にして3:7〜8:2の割合で混合されていることを特徴とする請求項３〜６のいずれかに記載の光導波路。
【請求項８】
上記シリコーン樹脂組成物において、第二オルガノポリシロキサンと第四オルガノポリシロキサンが、重量比にして3:7〜19:1の割合で混合されていることを特徴とする請求項３〜６のいずれかに記載の光導波路。
【請求項９】
第四オルガノポリシロキサンの25℃における粘度が、100mPa・s以上であることを特徴とする請求項３〜８のいずれかに記載の光導波路。
【請求項１０】
炭素原子含有率が50重量%以下である付加硬化性シリコーン樹脂組成物から成る、所定の形状を有する硬化樹脂の所定の領域にレーザ光を照射することにより、レーザ光照射領域の屈折率を変化させてコア領域を形成することを特徴とする光導波路の製造方法。
【請求項１１】
上記コア領域が、硬化樹脂の内部領域にレーザ光を集光照射することにより形成されることを特徴とする請求項１０に記載の光導波路の製造方法。
【請求項１２】
レーザ光の集光点におけるピークパワー強度が105W/cm2以上であることを特徴とする請求項１１に記載の光導波路の製造方法。
【請求項１３】
レーザ光が、繰り返し周波数が500Hz以上のパルスレーザ光であることを特徴とする請求項１０〜１２のいずれかに記載の光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高分子材料を用いて作製される光導波路に関する。
【背景技術】
【０００２】
光通信や光情報処理に用いられる光集積回路や光配線基板等が備える光導波路は、従来は、耐熱性や耐湿性、光通信波長帯における透明性等を考慮して、石英等の無機材料を用いて作製されていた。しかし、無機材料は、薄膜化や大面積化が困難であるという問題を有しているため、薄膜化や大面積化を容易に行うことが可能な高分子材料を用いた光導波路の作製が試みられている。
【０００３】
光導波路は、従来は、高屈折率及び低屈折率の材料を使用してコア領域及びクラッド領域が作製され、フォトリソグラフィーや反応性イオンエッチングにより成形されていた（特許文献１、特許文献２）。
【０００４】
しかし、近年、一種類の高分子材料から成る硬化樹脂の一部の領域にレーザ光を照射して屈折率変化を起こさせ、光導波路を作製する方法が開発されている（特許文献３、特許文献４）。この方法は、レーザ光を照射した領域の高分子材料が高密度化することにより高屈折率化する現象（光誘起屈折率変化）を利用したものであり、レーザ光照射領域がコア領域（高屈折率領域）となり、レーザ光未照射領域がクラッド領域（低屈折率領域）となる。
【０００５】
【特許文献１】特開平９-３２４０５１号公報
【特許文献２】特開２０００-２３００５２号公報
【特許文献３】特開２００２-１４２４６号公報
【特許文献４】特開２００３-１３１０５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
高分子材料を用いてレーザ照射により光導波路を作製した場合、レーザ照射により光導波路中に炭素原子由来のグラファイトが析出し、均一な屈折率を有するコア領域を得ることが困難であった。一方で、グラファイトを析出しにくくするために材料中の炭素原子の含有率を低下させると、材料の加工性が悪くなり、薄膜化や大面積化が困難となっていた。
【０００７】
本発明が解決しようとする課題は、加工性が良好で、均一な屈折率のコア領域を形成することが可能な高分子材料から成る光導波路を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために成された光導波路に係る発明は、
炭素原子含有率が50重量%以下である付加硬化性シリコーン樹脂組成物から成る硬化樹脂の所定の領域にレーザ光を照射することによりコア領域を形成して成ることを特徴とする。
【０００９】
本発明者らは、レーザ照射により光導波路を作製するための高分子材料として、炭素原子含有率を50重量%以下とした付加硬化性シリコーン樹脂組成物が好適であることを見出した。付加硬化性シリコーン樹脂組成物の炭素原子含有率を50重量%以下とすることにより、レーザ照射によるグラファイトの析出が抑制されることとなる。なお、炭素原子含有率は、40重量%以下とするのが望ましく、更に望ましくは30重量%以下とする。また、樹脂の加工性の点から、炭素原子含有率を20重量%以上とするのが望ましい。
【００１０】
本発明に使用される付加硬化性シリコーン樹脂組成物としては、アルケニル基を含むオルガノポリシロキサンとオルガノハイドロジェンポリシロキサン、白金系触媒、付加反応制御剤からなる組成物等が挙げられる。
【００１１】
このような付加硬化性シリコーン樹脂組成物の中でも、
a)R13SiO1/2単位（式中、R1はそれぞれ同一又は異なる、炭素原子数1〜6のアルケニル基又はアルキル基を表す。）及びSiO2単位をそれぞれ繰り返し単位として有する第一オルガノポリシロキサン、又は
R22SiO単位（式中、R2はそれぞれ同一又は異なる、炭素原子数1〜6の一価アルキル基を表す。）及びR3SiO3/2単位（式中、R3は、炭素原子数1〜6のアルケニル基、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基のいずれかを表す。）をそれぞれ繰り返し単位として有する第二オルガノポリシロキサン、又は
R43SiO1/2単位（式中、R4はそれぞれ同一又は異なる、炭素原子数1〜6の一価アルキル基を表す。）、R52SiO単位（式中、R5はそれぞれ同一又は異なる、炭素原子数1〜6のアルケニル基、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基のいずれかを表す。）及びR6SiO3/2単位（式中、R6は、炭素原子数1〜6のアルケニル基、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基のいずれかを表す。）をそれぞれ繰り返し単位として有する第三オルガノポリシロキサンと、
b)一分子中に、アルケニル基が結合したケイ素原子を二以上有する一以上の第四オルガノポリシロキサンと、
c)一般式(1)又は一般式(2)
【化２】
2005215500.tif 000003
（式中、R7はそれぞれ同一又は異なる、炭素原子数1〜6の一価アルキル基を表す。m、n、p及びqはいずれも1以上の整数を表す。）で表される一以上のオルガノハイドロジェンポリシロキサンと、を含有するシリコーン樹脂組成物を用いるのが好適である。
【００１２】
上記シリコーン樹脂組成物において、R13SiO1/2単位及びSiO2単位をそれぞれ繰り返し単位として有する第一オルガノポリシロキサンのR13SiO1/2単位のR1は、それぞれ同一又は異なる、炭素原子数1〜6のアルケニル基又はアルキル基を表す。これらの置換基は、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、R1としては、例えば、ビニル基、アリル基、1-ブテニル基といったアルケニル基やメチル基、エチル基、プルピル基、ブチル基、などのアルキル基が挙げられる。クロロメチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基等の、水素原子の一部がハロゲン等に置換された置換基であってもよい。ただし、シリコーン樹脂組成物の炭素原子含有率や合成の容易性、コストの面から、アルケニル基としては、ビニル基が望ましく、アルキル基としては、メチル基とするのが望ましい。また、R1全体として、90%以上（モル比）をメチル基とするのが望ましい。
【００１３】
R22SiO単位及びR3SiO3/2単位をそれぞれ繰り返し単位として有する第二オルガノポリシロキサンのR22SiO単位中のR2は、それぞれ同一又は異なる、炭素原子数1〜6の一価アルキル基を表す。アルキル基には、水素原子の一部がハロゲン等で置換された置換基も含む。なお、シリコーン樹脂組成物の炭素原子含有率や合成の容易性、コストの面から、90%以上（モル比）をメチル基とするのが望ましい。
R3SiO3/2単位中のR3は、炭素原子数1〜6のアルケニル基、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基のいずれかを表す。R3としては、例えば、ビニル基、アリル基、1-ブテニル基、メチル基、エチル基、プルピル基、ブチル基、フェニル基、2-フェニルエチル基、2-フェニルプロピル基等が挙げられる。また、クロロメチル基や3,3,3-トリフルオロプロピル基等の、水素原子の一部がハロゲン等に置換された置換基であってもよい。置換基をアリール基やアラルキル基とすると、合成は容易になるが、アリール基やアラルキル基は炭素原子含有率が高いため、シリコーン樹脂組成物の最終的な炭素原子含有率を十分考慮する必要がある。なお、合成の容易性やコスト面からは、R3をフェニル基及びビニル基として、フェニル基を40〜100%（モル比）、ビニル基を0〜60%（モル比）とするのが望ましい。
また、合成の容易性から、第二オルガノポリシロキサンにおけるR22SiO単位とR3SiO3/2単位のモル比は、0.05＜（R22SiO単位）/（R3SiO3/2単位）＜2とするのが望ましい。
【００１４】
R43SiO1/2単位、R52SiO単位、R6SiO3/2単位をそれぞれ繰り返し単位として有する第三オルガノポリシロキサンのR43SiO1/2単位のR4は、それぞれ同一又は異なる、炭素原子数1〜6の一価アルキル基を表す。アルキル基には、水素原子の一部がハロゲン等で置換された置換基も含む。なお、シリコーン樹脂組成物の炭素原子含有率や合成の容易性、コストの面から、90%以上（モル比）をメチル基とするのが望ましい。
R52SiO単位のR5は、それぞれ同一又は異なる、炭素原子数1〜6の一価アルキル基を表す。アルキル基には、水素原子の一部がハロゲン等で置換された置換基も含む。なお、シリコーン樹脂組成物の炭素原子含有率や合成の容易性、コストの面から、90%以上（モル比）をメチル基とするのが望ましい。
R6SiO3/2単位のR6は、炭素原子数1〜6のアルケニル基、アルキル基、アリール基、又はアラルキル基のいずれかを表す。R6としては、例えば、ビニル基、アリル基、1-ブテニル基、メチル基、エチル基、プルピル基、ブチル基、フェニル基、2-フェニルエチル基、2-フェニルプロピル基等が挙げられる。また、クロロメチル基や3,3,3-トリフルオロプロピル基等の、水素原子の一部がハロゲン等に置換された置換基であってもよい。置換基をアリール基やアラルキル基とすると、合成は容易になるが、アリール基やアラルキル基は炭素原子含有率が高いため、シリコーン樹脂組成物の最終的な炭素原子含有率を十分考慮する必要がある。なお、合成の容易性やコスト面からは、R6をフェニル基及びビニル基として、フェニル基を40〜100%（モル比）、ビニル基を0〜60%（モル比）とするのが望ましい。
また、合成の容易性から、第三オルガノポリシロキサンにおけるR43SiO1/2単位とR52SiO単位とR6SiO3/2単位の割合は、R43SiO1/2単位を約0.01〜1%、R52SiO単位を約5〜80%、R6SiO3/2単位を約20〜95%（モル比）とするのが望ましい。
【００１５】
第一〜三のオルガノポリシロキサンのうちのいずれを用いた樹脂組成物とするかは、光導波路の用途によって要求される樹脂の硬さ等に応じて適宜選択する。第一〜三のオルガノポリシロキサンのうち、第一オルガノポリシロキサンを用いた場合に、硬化後の樹脂が最も硬くなり、第三オルガノポリシロキサンを用いた場合に、最も柔軟性に富む樹脂となる。
【００１６】
第四オルガノポリシロキサンは、一分子中に、アルケニル基が結合したケイ素原子を二以上有するポリシロキサンである。ケイ素原子に結合した二のアルケニル基は、分子鎖の末端、途中のいずれの位置に結合していてもよいが、硬化性を考慮すると、分子鎖の両末端のケイ素原子に結合しているのが望ましい。
アルケニル基の構造は、特に問うものではなく、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、例えば、ビニル基、アリル基、1-ブテニル基が挙げられる。ただし、シリコーン樹脂組成物の炭素原子含有率や合成の容易性、コストの面から、ビニル基とするのが望ましい。また、ケイ素原子に結合するアルケニル基以外の置換基の種類は特に問うものではなく、メチル基やエチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ドデシル基等のアルキル基や、クロロメチル基、3,3,3-トリフルオロプロピル基などの水素原子の一部がハロゲン等で置換された置換基であってもよい。なお、シリコーン樹脂組成物の炭素原子含有率や合成の容易性、コストの面から、90%以上（モル比）をメチル基とするのが望ましい。
第四オルガノポリシロキサンは、重合度が20000以下のものが望ましい。また、最終的に未反応の樹脂が硬化させた樹脂中から溶出しないようにするために、25℃における粘度が100mPa・s以上のものが望ましい。
第四オルガノポリシロキサンとして、二以上のオルガノポリシロキサンを混合して使用してもよい。
【００１７】
第一〜三のオルガノポリシロキサンは、主に硬化後の樹脂に硬さを付与するための成分であり、第四オルガノポリシロキサンは、主に硬化樹脂に適度な柔軟性を付与するための成分である。このため、第一オルガノポリシロキサンと第四オルガノポリシロキサンを用いる場合には、これらの樹脂を、重量比にして（第一オルガノポリシロキサン）:（第四オルガノポリシロキサン）=3:7〜8:2の割合で混合するのが望ましい。また、第二オルガノポリシロキサンと第四オルガノポリシロキサンを用いる場合には、（第二オルガノポリシロキサン）:（第四オルガノポリシロキサン）=3:7〜19:1、第三オルガノポリシロキサンと第四オルガノポリシロキサンを用いる場合には、（第三オルガノポリシロキサン）:（第四オルガノポリシロキサン）=3:7〜8:2の割合で混合するのが望ましい。
【００１８】
一般式(1)及び一般式(2)
【化３】
2005215500.tif 000004
で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンのR7は、それぞれ同一又は異なる、炭素原子数1〜6の一価アルキル基を表す。アルキル基には、水素原子の一部がハロゲン等で置換された置換基も含む。なお、シリコーン樹脂組成物の炭素原子含有率や合成の容易性、コストの面から、90%以上（モル比）をメチル基とするのが望ましい。
【００１９】
m、n、p及びqはいずれも1以上の整数を表す。
樹脂の各繰り返し単位の重合度を表すm及びnは、樹脂の硬化性等の点から、3≦(m+n)≦300、[m/(m+n)]＞0.3の関係を満たすようにするのが望ましい。(p+q)の値及びm/(m+n)の値も、同様の理由で、3≦(p+q)≦300、[p/(p+q)]＞0.3の関係を満たすようにするのが望ましい。
【００２０】
なお、本発明においては、一般式(1)又は一般式(2)で表される二以上のオルガノハイドロジェンポリシロキサンを混合して使用してもよい。
【００２１】
上記の樹脂から構成されるシリコーン樹脂組成物の硬化には、第一〜第四のオルガノポリシロキサンが有するアルケニル基と、オルガノハイドロジェンポリシロキサンが有するSi-H基の付加反応を利用する。付加反応により十分な網目構造を形成し、十分な硬さを有する樹脂とするために、シリコーン樹脂組成物において、第一〜第三のいずれかのオルガノポリシロキサンと第四オルガノポリシロキサンに含まれるアルケニル基のモル数の総和を１としたときに、オルガノハイドロジェンポリシロキサンに含まれるSiH基がモル比にして0.5〜5倍、より望ましくは0.8〜4倍となるように、第一〜第四のオルガノポリシロキサンとオルガノハイドロジェンポリシロキサンとを混合するのが望ましい。
【００２２】
上記のシリコーン樹脂組成物には、付加反応を促進するために、白金単体や、塩化白金酸、白金−オレフィン錯体、白金−アルコール錯体、白金配位化合物等の触媒を1〜500ppm程度加える。
【００２３】
また、樹脂組成物に、アセチレン化合物や各種窒素化合物、有機リン化合物、オキシム化合物、有機クロロ化合物等の付加反応制御剤を樹脂の総重量に対して0.01〜1%程度加えるのが望ましい。これにより、室温における付加反応の進行が抑制され、樹脂組成物のシェルライフやポットライフを延長することができる。なお、付加反応抑制剤のシリコーン樹脂組成物への分散性を向上させるために、トルエンやキシレン、イソプレンアルコール等の有機溶剤に付加反応抑制剤を溶解させて使用するとよい。
【００２４】
上記のシリコーン樹脂組成物は、プレス加工や射出成形等を行うことにより、硬化するとともに、所定の形状に成形することができる。スピンコート等の一般的な方法により樹脂組成物をSi等の基板上に塗布した後、加熱により硬化させてもよい。
【００２５】
導波路形状に成形された硬化樹脂には、所定の領域にレーザ光を照射する。これにより、レーザ光を照射した領域の屈折率を変化させる（光誘起屈折率変化）。レーザ光の照射は、図１のように、光源（図示せず）からのレーザ光１１を集光レンズ１２で集光させ、集光点１３が硬化樹脂１０の内部に位置するように調整して、この集光点を連続的に移動させながら行うのが望ましい。
【００２６】
樹脂に照射するレーザ光の強度は、光誘起屈折率変化が起こるエネルギー量のレーザ光が照射されるように、樹脂の種類に応じて適宜設定する必要がある。レーザ光としては、集光点におけるピークパワー強度が105W/cm2程度以上の、繰り返し周波数が500Hz以上のパルスレーザ光を用いるのが望ましく、より望ましくは周波数が1kHz以上のパルスレーザ光を用いる。なお、パルスレーザの繰り返し周波数が低いと、レーザ光が離散的に照射され、光導波路の形成に必要な連続的な屈折率変化が得られない。このため、十分な繰り返し周波数を有するレーザ光を照射しなければならない。
【００２７】
以上のようにしてレーザ照射が行われた硬化樹脂には、連続した高屈折率領域が形成される。レーザ光未照射領域の屈折率は変化しないため、樹脂にレーザ光を照射するのみにより、レーザ光照射領域をコア領域、レーザ光未照射領域をクラッド領域とする光導波路を作製することができる。レーザ光の集光点を三次元的に移動させることにより、図２のような、三次元形状を有するコア領域１４と、その周囲のクラッド領域１５から成る、三次元光導波路２０を作製することも可能である。また、このような方法によれば、硬化樹脂の内部に、複数のそれぞれ独立したコア領域を形成することも可能である。
【発明の効果】
【００２８】
本発明に係る高分子光導波路に用いる樹脂組成物は、従来の高分子光導波路に用いられた樹脂とは異なり、レーザ光の照射によっても、炭素原子由来のグラファイトが樹脂中に析出しにくい。このため、均一な屈折率のコア領域を有する、高品質の高分子光導波路を容易に得ることが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下において、Meはメチル基、Viはビニル基、φはフェニル基を表す。
（実施例１）
（Me3SiO1/2単位）/（ViMe2SiO1/2単位）/（SiO2単位）=0.75/0.10/1.00（モル比）（（R13SiO1/2単位）/（SiO2単位）=0.85/1.00）の第一オルガノポリシロキサン（60%トルエン溶液）50g（有効成分換算）と、化学式（１）で表される第四オルガノポリシロキサン50gとを、ゲートミキサ（井上製作所（株）製：プラネタリミキサー）を用いて室温で30分混合した後、50mmHgの減圧条件下、80℃に加熱してトルエンを除去した。その後、この混合物を室温まで冷却し、これに、化学式（２）で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン3.0gと、白金を1%含有する白金−ジビニルテトラメチルジシロキサン錯体のトルエン溶液（白金触媒）0.2gと、１−エチニル−１−シクロヘキサノールの50%トルエン溶液（付加反応抑制剤）0.05gとを順に加え、室温で30分混合することにより、シリコーン樹脂組成物を得た。（炭素原子含有率28.2%）
【化４】
2005215500.tif 000005
【００３０】
（実施例２）
実施例１の第一オルガノポリシロキサンの代わりに、（Me2SiO単位）/（φSiO3/2単位）/（ViSiO3/2単位）=0.50/1.00/0.50（モル比）（（R22SiO単位）/（R3SiO3/2単位）=1.00/3.00）の第二オルガノポリシロキサン（60%トルエン溶液）を用いて、実施例１と同様にしてシリコーン樹脂組成物を得た。なお、本実施例では、第二オルガノポリシロキサン17.8g（有効成分換算）と第四オルガノポリシロキサン82.2gとをまず混合し、これに化学式（３）で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサンを3.0g、白金触媒を0.2g、付加反応抑制剤を0.05g順次混合した。（炭素原子含有率34.5%）
【００３１】
（実施例３）
実施例１の第一オルガノポリシロキサンの代わりに、（Me3SiO1/2単位）/（Me2SiO単位）/（φSiO3/2単位）/（ViSiO3/2単位）=0.5/0.5/1.00/0.50（モル比）（（R43SiO1/2単位）/（R52SiO単位）/（R6SiO3/2単位）=1.00/1.00/3.00）の第三オルガノポリシロキサン（60%トルエン溶液）を用いて、実施例１と同様にしてシリコーン樹脂組成物を得た。なお、本実施例では、第三オルガノポリシロキサン21.6g（有効成分換算）と第四オルガノポリシロキサン78.4gとをまず混合し、これに化学式（３）で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン3.0g、白金触媒0.2g、付加反応抑制剤0.05gを順次混合した。（炭素原子含有率35.0%）
【００３２】
（実施例４）
実施例１の第一オルガノポリシロキサンの代わりに、（Me3SiO1/2単位）/（Me2SiO単位）/（φSiO3/2単位）/（ViSiO3/2単位）=0.5/0.5/1.00/0.50（モル比）（（R43SiO1/2単位）/（R52SiO単位）/（R6SiO3/2単位）=1.00/1.00/3.00）の第三オルガノポリシロキサン（60%トルエン溶液）を、化学式（１）で表される第四オルガノポリシロキサンの代わりに、化学式（３）で表される第四オルガノポリシロキサンを用いて、実施例１と同様にしてシリコーン樹脂組成物を得た。なお、本実施例では、第三オルガノポリシロキサン17.8g（有効成分換算）と化学式（３）の第四オルガノポリシロキサン82.2gとをまず混合し、これに化学式（３）で表されるオルガノハイドロジェンポリシロキサン3.0g、白金触媒0.2g、付加反応抑制剤0.05gを順次混合した。（炭素原子含有率47.4%）
【化５】
2005215500.tif 000006
【００３３】
（樹脂の硬化）
実施例１〜４で調製されたシリコーン組成物を金型に流し込み、金型を閉めた後、熱プレス機により20kgf/cm2の圧力をかけ、150℃に加熱して、15分間放置した。これにより、シリコーン樹脂組成物を成形するとともに硬化させ、厚さ2mmの直方体状の試験片を得た。
【００３４】
（光導波路の形成）
Arレーザ励起のチタンサファイアレーザを用い、パルス幅150フェムト秒、繰り返し周波数200kHz、波長800nm、平均出力100mWのパルスレーザ光を試験片に照射した。光照射の際は、図１のように、光源（図示せず）からのレーザ光１１を集光レンズ１２で集光させ、直径10μmの集光点１３が硬化樹脂（試験片）１０の内部に位置するように調整した後、試験片１０を連続的に移動させた。これにより、試験片１０の内部にコア領域３１を形成し、図３のような光導波路３０を作製した。光導波路３０においては、コア領域３１の周囲の領域がクラッド領域３２となる。
比較のため、厚さ250μmのポリイミドフィルム（炭素原子含有率69.1%）試験片にも同様にレーザ光を照射して、図３のような光導波路を作製した。
【００３５】
（性能評価）
以上のようにして作製された光導波路３０について、形成された導波路の評価、及びレーザー光照射領域（コア領域３１）におけるグラファイト析出の有無についての評価を以下のようにして行った。また、厚さ0.2mmの硬化樹脂に上記と同様にレーザ照射を繰り返し行うことにより、300本のコア領域４１（間隔10μm）を形成した図４のような試験片４０を用いて、屈折率変化の測定を以下のようにして行った。
【００３６】
形成された導波路の評価は、可視光光源から発せられた光を、光導波路３０のコア領域３１の一端から入射させ、他端から出てくる光の光量を測定することにより行った。なお、光量は、以下の表１に記載の基準により評価した。
【表１】
2005215500.tif 000007
【００３７】
グラファイトの析出の有無については、目視及びラマン分光分析により、コア領域３１におけるグラファイトの析出の有無を確認した。なお、グラファイトの析出の有無については、表２に記載の基準により評価した。
【表２】
2005215500.tif 000008
【００３８】
屈折率変化は、薄膜屈折率測定器により、300本のコア領域４１とクラッド領域４２の屈折率をそれぞれ測定し、クラッド領域４２の屈折率に対するコア領域４１の屈折率の変化の割合を平均値として求めた。
【００３９】
評価結果を表３に示す。
【表３】
2005215500.tif 000009
【００４０】
炭素原子含有率が28.2%の実施例１の試験片から作製された光導波路では、屈折率変化は0.6%となった。また、コア領域に入射された光は、コア領域の他端から十分な光量で出射し、光導波路が形成されていることが確認された。グラファイトの析出は確認されなかった。
また、炭素原子含有率が34.5%の実施例２の試験片、炭素原子含有率が35.0%の実施例３の試験片、炭素原子含有率が47.4%の実施例４の試験片を用いた場合も、光導波路が形成され、比較例１の試験片の場合と比較してグラファイトの析出が抑制されていることが確認された。
【図面の簡単な説明】
【００４１】
【図１】硬化樹脂にレーザ光を集光照射している様子を表した図。
【図２】本発明に係る光導波路の概略構成図。
【図３】実施例において作製した光導波路の概略構成図。
【図４】屈折率変化測定用光導波路の概略構成図。
【符号の説明】
【００４２】
１０…硬化樹脂（試験片）
１１…レーザ光
１２…集光レンズ
１３…集光点
１４…コア領域
１５…クラッド領域
２０…光導波路
３０…光導波路
３１…コア領域
３２…クラッド領域
４０…光導波路
４１…コア領域
４２…クラッド領域
【図１】
2005215500.tif 000011
【図２】
2005215500.tif 000012
【図３】
2005215500.tif 000013
【図４】
2005215500.tif 000014