(57)【要約】【課題】最低限の搬送装置で、試料（パレット）を精度良くステージ上に搬送することが可能となり、スループットを低下させること無く、且つ装置コストを抑えることが可能な装置を提供する。【解決手段】軸受本体と、この軸受本体に上下方向移動、および水平面内回動ができるように支持されるシャフトと、このシャフトに支持され、かつ複数のアームにより構成されるリンク機構と、このリンク機構に支持され、かつ所定の方向を向いたまま水平の姿勢を保ちながら前記シャフトの回動に伴い直線往復移動する長手のハンドと、このハンドの直線往復移動を案内し、かつハンドの先側が下がるのを支える直線支持ガイドを有する。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸受本体と、この軸受本体に上下方向移動、および水平面内回動ができるように支持されるシャフトと、このシャフトに支持され、かつ複数のアームにより構成されるリンク機構と、このリンク機構に支持され、かつ所定の方向を向いたまま水平の姿勢を保ちながら前記シャフトの回動に伴い直線往復移動する長手のハンドと、このハンドの直線往復移動を案内し、かつハンドの先側が下がるのを支える直線支持ガイドとを有する搬送装置。
【請求項２】
軸受本体と、この軸受本体に上下方向移動、および水平面内回動ができるように支持されるシャフトと、このシャフトに支持され、かつ複数のアームにより構成されるリンク機構と、このリンク機構に支持され、かつ所定の方向を向いたまま水平の姿勢を保ちながら前記シャフトの回動に伴い前後向き直線往復移動ないし横向き直線往復移動する長手のハンドと、前後向きの直線支持ガイドと、横向きの直線支持ガイドを有し、この横向きの直線支持ガイドと前記前後向きの直線支持ガイドが直交するように配置し、一方の直線支持ガイドに他方の直線支持ガイドを摺動自在に支持し、他方の直線支持ガイドに前記長手のハンドを横向き直線往復移動自在に支持したことを特徴とする搬送装置。
【請求項３】
請求項２記載の搬送装置において、
前記直線支持ガイドにリニアスケールを設けた特徴とする搬送装置。
【請求項４】
請求項２記載の搬送装置において、
前記直線支持ガイドにフォトインタラプタ、または接触式センサを設けたことを特徴とする搬送装置。
【請求項５】
請求項２記載の搬送装置において、
前記直線支持ガイドにストッパを設けたことを特徴とする搬送装置。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれか一つに記載された搬送装置を用いて試料、或いはパレットを描画用のステージに搬送することを特徴とする回路パターン製造装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項５のいずれか一つに記載された搬送装置を用いて試料、或いはパレットを検査用のステージに搬送することを特徴する回路パターン検査装置。
【請求項８】
請求項６記載の回路パターン製造装置において、
前記搬送装置が置かれるロードロック室に隣接して設けられ、かつ前記試料又は前記パレットを複数毎収納可能なストッカーを備える待機室と、前記ロードロック室に隣接して設けられ、かつ前記試料又は前記パレットのアライメントが可能なアライメント機構を備えるアライメント室と、前記ロードロック室に隣接して設けられ、かつ前記試料又は前記パレットを大気から真空雰囲気に移送する際に空気の出し入れを行う予備排気室とを有し、
前記待機室、前記アライメント室、ないし前記予備排気室の間での前記試料又は前記パレットの移送を前記搬送装置により行うことを特徴する回路パターン製造装置。
【請求項９】
請求項７記載の回路パターン検査装置において、
前記搬送装置が置かれるロードロック室に隣接して設けられ、かつ前記試料又は前記パレットを複数毎収納可能なストッカーを備える待機室と、前記ロードロック室に隣接して設けられ、かつ前記試料又は前記パレットのアライメントが可能なアライメント機構を備えるアライメント室と、前記ロードロック室に隣接して設けられ、かつ前記試料又は前記パレットを大気から真空雰囲気に移送する際に空気の出し入れを行う予備排気室とを有し、
前記待機室、前記アライメント室、ないし前記予備排気室の間での前記試料又は前記パレットの移送を前記搬送装置により行うことを特徴する回路パターン検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、回路パターンの製造装置または回路パターンの検査装置で使用される高精度な試料の搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ヘッドや半導体装置の回路パターン、半導体装置に回路パターンを形成するマスク、レチクルなどの回路パターンを製造する装置において、これら試料に荷電粒子線を照射して回路パターンを製造または検査することが行われている。このとき、荷電粒子線、なかでも電子線は、真空中で使用されることが必須である。また、光を用いた露光装置においても近年の回路パターンの微細化に伴い、使用できる光源が短波長化し、ＥＵＶ光源においては真空中の露光が必要となってきている。
【０００３】
ここで、ステージ上の試料保持方法について説明する。大気中であれば真空吸着が可能であるが、真空中では不可能である為、機械式、或いは静電吸着方式により試料を保持する。また、異なる試料サイズに対応するには、パレットと呼ばれる試料保持機構に試料を保持し、そのパレットをステージに固定する方法が便利であった。パレットの固定方法については、試料と同様、機械式、或いは静電吸着方式が一般的である。
【０００４】
試料やパレットをステージに搬送する搬送装置として、搬送ロボットが知られている（特許文献１）。搬送ロボットの搬送装置は、軸受本体と、この軸受本体に上下方向移動、および水平面内回動ができるように支持されるシャフトと、このシャフトに支持され、かつ複数のアームにより構成されるリンク機構と、このリンク機構に支持される長手のハンドを有する。
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２８２４２７号公報。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、ステージは試料やパレットを移送する際に、リンク機構の各アーム長およびハンドを長く延ばすと、ハンド等の自重や試料ないしパレットの重さでハンドの先端側が下がるように大きく傾く。このためステージに搬送する試料やパレットの位置決め精度が低下することになる。
【０００７】
本発明は、その位置決め精度低下の問題に対処し、ハンドの先端側が下がるのを抑えて、ステージに搬送する試料やパレットの位置決め精度を向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、軸受本体と、この軸受本体に上下方向移動、および水平面内回動ができるように支持されるシャフトと、このシャフトに支持され、かつ複数のアームにより構成されるリンク機構と、このリンク機構に支持され、かつ所定の方向を向いたまま水平の姿勢を保ちながら前記シャフトの回動に伴い直線往復移動する長手のハンドと、このハンドの直線往復移動を案内し、かつハンドの先側が下がるのを支える直線支持ガイドを有する搬送装置にある。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、直線支持ガイドの支えにより、ハンドの先側が下がるのが抑えられ、ステージに搬送する試料やパレットの位置決め精度を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の実施形態に係る実施例について、図1から図８を引用して説明する。
【００１１】
まず、図1に沿って電子線描画装置の概要から述べる。
【００１２】
真空ポンプ（図示せず）により真空排気されるカラム１内で発せられた電子線（以下ビームとも呼ぶ）は、試料室2内のステージ３上に静電吸着されたパレット１３上の試料１０に照射される。試料位置はステージ３上のバーミラー１２をレーザ測長することで管理される。レーザは大気中では、空気の揺らぎ及び気圧の変化に影響を受けやすい為、真空中である試料室内壁に干渉計１１を配置している。試料室２は定盤４上に載置され、定盤４は振動絶縁の機能を有するマウント５により支持される。更に、マウント５を保持する本体ベース６は、床７に設置されている。また、試料室２は図示しない真空ポンプにより真空排気され、内部の雰囲気を高真空（例えば１０−４Ｐａ）に保っている。
【００１３】
試料室２に隣接するロードロック室５０には、真空ロボット２０が置かれる。この真空ロボット２０で、試料やパレットが搬送される。予め、ロードロック室５０の真空度を試料室２と同じ程度にしてからゲートバルブ４を開き、試料室２に試料やパレットが搬送される。
【００１４】
電子線描画装置は、超高真空の環境において電子線を発生し、走査することで半導体基盤上、或いはステッパ等の露光装置に用いられるレチクルと呼ばれるガラス基盤上にＬＳＩパターンを形成する。
【００１５】
次に搬送装置（真空ロボット）の動きを図４に沿って述べる。なお、本発明の主要部である直線支持ガイドについては後述する。
【００１６】
図４の（Ａ）−１は、アームおよびハンドを伸ばした状態を上から見た図。図４の（Ａ）−２は、アームおよびハンドを伸ばした状態を正面から見た図。図４の（Ｂ）−１は、アームおよびハンドを畳んだ状態を上から見た図。図４の（Ｂ）−２は、アームおよびハンドを畳んだ状態を正面から見た図。
【００１７】
真空ロボット２０は、軸受本体２１と、この軸受本体２１に上下方向移動、および水平面内回動ができるように支持されるシャフト２２と、このシャフト２２に支持され、かつ複数のアーム（第１のアーム２３、第２のアーム２４）により構成されるリンク機構と、このリンク機構の先端側のアームに支持され、かつ所定の方向を向いたまま水平の姿勢を保ちながら前記シャフトの回動に伴い直線往復移動する長手のハンド２５を有する。
【００１８】
シャフト２２の上下移動運動および回転運動、アームおよびハンド２５の回転運動は、コントローラ２７で駆動制御される。軸受本体２１とコントローラ２７は、通信を可能にする通信ケーブル２８で接続される。前記ハンド２５は水平面内の回転運動、高さ方向の直動運動、及び水辺面内の１方向の直動運動が可能な構成となっている。第１のアーム２３、第２のアーム２４及び各回転部２６により構成される機構部を一般にリンク機構と呼ぶ。尚、上記回転部２６については、ベアリングが内蔵されており、駆動についてはベルト方式が一般的であり、そのベルトは各アーム内に内蔵されて外部から見えない構造となっている。
【００１９】
ベルトは各アームの回転部でギアによって伝達され、本体からハンドまでをベルトとギアによって連結している。更に、第１のアームの回転に伴うハンドの動きが、直線上に動くと同時に、所定の方向に向いたハンドの姿勢が変化せず、移動方向と平行のままの姿勢を保ちながら移動するように、各ギアの比率を割振っている。
【００２０】
また、ハンドの移動距離については軸受本体、或いはシャフトに内蔵される図示しないロータリーエンコーダによって検出され、アームの長さと回転角を基に計算することで管理される。以上の動作によりパレットの昇降、及び下降、移動が比較的広い領域内において可能なことから、ステージ、待機室、或いは予備排気室にパレット搬送に関わるその他のアクチュエータが不要となり、大幅なコスト削減が可能となる。
【００２１】
また、搬送装置の動きについては、アームの移動座標（絶対座標、或いは相対座標）、移動速度、及び移動加速度をコントローラに入力することで制御する（このような入力行為をティーチングとも呼ぶ）。
【００２２】
近年、試料の大形化、特にウエハの大口径化（φ２００ｍｍからφ３００ｍｍ）が進み、これに伴いパレットも大形化してきている。パレットが大形化することで質量は増加する為、真空ロボットの搬送質量も増加する。また、試料が大きくなることで、搬送する距離（搬送ストローク）も増加する。上記の事情より、図５の（Ａ）に示すように真空ロボットのハンドの先端が下がる変位量が大きくなり易い。ハンドの変位によりパレットが傾いた状態で、ステージに置かれる場合、初めパレットが片当たりの状態で置かれ、その後完全にハンドから離れるまで、片当たりの状態が除所に変化する為パレットがずれ易く、位置調整が煩雑になる。ハンドの高さ方法の変位量を小さくするには、シャフト、各アーム、ハンド、及びそれらを接続する回転部（ベアリング）の剛性を向上させることが挙げられる。
【００２３】
但し、シャフト、各アーム、及びハンドの剛性向上は比較的容易であるが、回転部（ベアリング）の剛性を向上させるには、ベアリングに与える予圧を大きくすることや、ベアリングのサイズを大きくすることが考えられるが、寿命や可動範囲の点から検討項目が多く、比較的難しい。また、ハンドの移動量については回転系（角度の測定）の測定方法である為、各アーム、及びシャフトの回転角の測定誤差が同じとすると、各アーム長が長くなることでアーム先端の測定誤差は増加し、結果としてストロークが伸びる程、位置決め精度が低下することになるのである。この問題を解決するのが本発明である。
【００２４】
次に本発明の主要部について、図２、図３に沿って説明する。
【００２５】
まず、図２の（Ａ）は、搬送装置（真空ロボット２０）を正面から見た図。図２の（Ｂ）は、搬送装置（真空ロボット２０）を上から見た図。図の（Ｃ）は、搬送装置（真空ロボット２０）を側面から見た図。
【００２６】
真空ロボット２０は、直線支持ガイド３１を有する。この直線支持ガイド３１はハンド２５の直線往復移動を案内し、かつハンド２５の先側が下がるのを支える。
【００２７】
前記ハンド２５は水平面内の回転運動、高さ方向の直動運動、及び水辺面内の１方向の直動運動が可能な構成となっている。ハンド２５は取付け板３４を介して、直線支持ガイド３１が取付けられる。取付け板３４は、例えばＬＭガイド、ボールブッシュ等を介して直線支持ガイド３１に摺動自在に取付けられている。
【００２８】
ハンド２５は、直線支持ガイド３１に沿って直線往復移動する。上記直線支持ガイド３１はガイドベース３０に取付けられており、ガイドベース３０はシャフト２２に支持されている。シャフト２２は軸受本体２１に近く、比較的剛性が高いので、シャフト２２に取付けられた直線支持ガイド３１の剛性も確保できる。
【００２９】
本構成では、直線支持ガイド無しでもハンドは１方向の直動運動が可能である為、直線支持ガイドを取付けることで過拘束となるが、直線支持ガイドの取付け精度を真空ロボット単体における運動精度（直線精度）内に入るように取付ければ問題無い。また、一般にＬＭガイド等の直線支持ガイドの剛性は高い為、ハンドが直線支持ガイドの動きにならい易い。或いは、ハンドは直線支持ガイドのみで拘束するものとし、ハンドに対して動力を伝達しない構成、即ちハンドの回転動力を伝達するベルトを除去した構成にすることで、過拘束を完全に回避できる。
【００３０】
直線支持ガイド３１には測長器としてリニアスケール３２が取付けられており、ハンド２５の移動量が精度良く計測できる。更に、直線支持ガイド３１にはリミットセンサとしてフォトインタラプタ３３が取付けられており、このフォトインタラプタ３３と相対的に移動する遮光板３５が備わる。フォトインタラプタ３３の本センサが作動すると搬送装置の移動を制限する機能（例えばこれ以上１方向に移動できなくするなど）を付加して、インターロック機能を付加している。尚、リミットセンサにはフォトインタラプタに限らず接触式センサなどでも同様の効果が得られる。また、直線支持ガイドの両端にはストッパ３６が取付けられており、ステージ上へのパレット搬送の安全性を向上させている。
【００３１】
本発明の主要部の機能について、図５を引用して更に説明する。
【００３２】
図５の（Ａ）は、直線支持ガイドを備えていない。図５の（Ｂ）は、直線支持ガイドを備えている。
【００３３】
図５の（Ａ）に示すように、直線支持ガイドを備えない場合（従来の搬送装置）は、シャフト、各アーム、及びハンドの回転部やシャフト、各アーム、及びハンド自身の剛性によってアーム先端の変位量（傾き）が決まる。
【００３４】
これに対し、図５の（Ｂ）に示すように、直線支持ガイドを備えた場合（本発明の搬送装置）にはアーム先端の変位量（傾き）は、シャフトの回転部とシャフト、直線支持ガイド（ガイドベース含む）、及びハンド自身の剛性で決まる。
【００３５】
一般に、直線支持ガイドの剛性は回転系のガイドよりも剛性が高い為、従来と比べて飛躍的に剛性が向上し、ハンド先端の変位を減少させることが可能となる。つまり、本構成では従来の搬送装置に対して直線支持ガイドを付加するだけで容易に剛性が向上するため、搬送装置のコストが殆ど影響しない。また、今まで使用してきた搬送装置に対しても簡単な加工を施すだけで直線支持ガイドを付加できることから、既存装置の改造も比較的容易である。
【００３６】
前述したように、ハンドの位置はロータリーエンコーダの分解能と各アームの長さにより決定される為、一般的に精度は数十μｍ以上である。本構成では直線支持ガイド３１に取付けられたリニアスケール３２により、ハンド２５先端の移動量を精度良く計測することができる。リニアスケールの分解能は、最近では数ｎｍのものまで存在しており、精度の高い位置決めが必要な装置システムにおいても対応が可能である。例えば、リニアスケールによる計測結果を信号ケーブル３７によってコントローラ２７に取込み、シャフト、及び各アームの動きにフィードバックすることで、パレットの位置決め精度を向上させることが可能となる。また、位置決め精度がもっと粗くても許容可能であれば、リニアスケールを使用せずにフォトインタラプタの信号を使用して、動きを規制すればフォトインタラプタの繰り返し再現精度内でハンドの動きを規制でき、リニアスケール分のコストを削減できる。
【００３７】
無論、上記のようなリニアスケール、フォトインタラプタ等の外部信号を用いなくても、搬送装置内で検出されるハンドの移動距離を位置決めの情報として運用しても、実用上全く問題無い。また、その場合は、ハンドの動きをレーザ測長などで予め精度良く実測して、指令した距離に対する実際の動きの偏差をデータ化し、搬送装置のコントローラに記憶させて補正することでも、ある程度精度の良い位置決めが可能となる。
【００３８】
次に本発明の主要部に関する他の実施例について、図６を引用して説明する。
【００３９】
図６の（Ａ）は、搬送装置（真空ロボット２０）を正面から見た図。図６の（Ｂ）は、搬送装置（真空ロボット２０）を上から見た図。図６の（Ｃ）は、搬送装置（真空ロボット２０）を側面から見た図。
【００４０】
この実施例は、二種の直線支持ガイド（直線支持ガイドＸ３８と直線支持ガイドＹ３９）に有する。直線支持ガイドＸ３８と直線支持ガイドＹ３９は直交するように配置される。平行に置かれた２本の直線支持ガイドＸ３８に直線支持ガイドＹ３９が摺動自在に支持される。ハンド２５は、直線支持ガイドＹ３９に摺動自在に支持される。
【００４１】
直線支持ガイドＸ３８は、前後向きの直線支持ガイド、直線支持ガイドＹ３９を横向きの直線支持ガイドとする。ハンド２５は、所定の方向を向いた姿勢が保たれたまま横向きの直線支持ガイドの長手方向に沿って横方向に平行移動する。またハンド２５は横向きの直線支持ガイドに保持されたまま前後向きの直線支持ガイドの前後方向にも移動する。もちろん、ハンドは前後向きの直線支持ガイドに対する平行状態が保たれたままの移動である。つまり、ハンドは所定の方向の姿勢が保たれたまま縦（前後）横（左右）に移動できるのである。
【００４２】
この実施例の搬送装置の特徴は、ハンド２５の移動が２方向に自由度を持ち、シャフト２２の回転軸に対して放射状の直動運動以外の方向に直動運動が可能なことである。この実施例の搬送装置によれば、図８に示すように、ハンドの動きが平行移動を要すような装置構成においてもハンドの変位量を小さく抑えることができ、より複雑な試料の搬送経路に対しても搬送装置１台で対応可能となる。
【００４３】
この搬送装置の構成では、予備排気室Ａ５１より試料をロードし、予備排気室Ｂ５２より試料をアンロードする構成となっている。また、この搬送装置の構成ではパレットはステージ上に固定されており、試料のみで搬送を行う。これにあっては、大気中に図示しない試料のアライメント機構があり、事前にアライメントされた試料を予備排気室Ａ５４に搬入し、予備排気した後、真空ロボット２０によりステージ上に搭載する。
【００４４】
また、試料の描画中、新たな試料を予備排気室Ａ５４に搬送して、予備排気を行い、描画後は予備排気室Ｂ５５に描画済み試料を搬出して、事前に予備排気された新たな試料をステージに搭載することでスループットの向上が図れる。尚、本構成においても真空中における試料の搬送に関わるアクチュエータは真空ロボット２０のみであり、コストを抑えることができる。
【００４５】
上述した二つの実施例（図２、図６に示す実施例）の構成では、搬送装置（真空ロボット）１台で、真空中の試料搬送が可能となり、その他試料搬送に関わるアクチュエータが不要であることから大幅に搬送装置のコストを抑えることができる。但し、全ての搬送を１台で行わなくても、少なくてもステージ上に試料、或いはパレットを搭載する作業を本搬送装置により行えば、本搬送装置の効果は発揮される。
【００４６】
また、試料の搬送に関わる調整は、搬送ロボットにおける各座標のティーチング作業で殆ど賄うことができる為、調整時間短縮に繋がる。更には、搬送装置単体の開発では、ハンド、及びシャフトの形状変更と、直線支持ガイドの追加のみである為、開発コストを小さく抑えることができる。また、既存の搬送装置を改造することも比較的容易であることから、低コストで既納品の改造が可能である。
【００４７】
尚、搬送装置の搬送対象は、試料を搭載したパレット、或いは試料単体のどちらでも同様の効果が得られる。更に、搬送装置における搬送系のレイアウト（ロードロック室、予備排気室、アライメント室、待機室等）は、実施例において一例を述べたに過ぎず、他のレイアウトにした場合についても同様の効果を期待できる。
【００４８】
この搬送装置は、電子線描画装置に代表される回路パターンの製造装置、或いはＳＥＭ等に代表される回路パターンの検査装置に適用すれば、最低限の搬送装置で、試料（パレット）を精度良くステージ上に搬送することが可能となり、スループットを低下させること無く、且つ装置コストを抑えることが可能となる。
【００４９】
次に図7に沿って試料の搬送経路について説明する。
【００５０】
始めに予備排気室５１にはパレット１３が準備されており、ゲートバルブ４２を開いて、試料を図示しない大気中のロボットによって、パレット１３上に搬送する。次にパレット１３に具備されている図示しない試料固定機構、及び図示しないアース機構を動作させて試料を固定すると共に、電子線による試料のチャージアップ防止の為に接地を図る。
【００５１】
ゲートバルブ４２を閉じて、真空引きを開始し、ロードロック室５０と同程度の真空度に到達したら、ゲートバルブ４１を開き、真空ロボット２０により試料を搭載したパレット１３をロードロック室５０に搬入する。ゲートバルブ４１を閉じると、連続的に真空引きされているロードロック室５０の真空度は向上し、試料室２の真空度と同程度になる。  その後、ゲートバルブ４０を開き、ステージ３上にパレット１３を搭載し、ゲートバルブ４０を閉じて、計測系による試料位置の校正を行い、描画に移行する。
【００５２】
またロードロック室５０に隣接する待機室５２を有する。この待機室５２はパレットが複数枚収納できる。描画時間中に別の試料を別のパレットに搭載し、待機室５２内のストッカー５７に収納し、描画が終了したらステージ上のパレット１３を待機室５２内のストッカー５７に収納し、新たな試料を搭載したパレットをステージ上に搬送することで、直ちに次の試料の処理を実施することができる。
【００５３】
即ち、予備排気室５１、及びロードロック室５０の真空度が向上するまでの時間を節約することで、スループットの向上が図れる。描画後の試料は、前述した搬送経路の逆となり、一旦待機室５２内のストッカー５７に収納された描画済みの試料を搭載したパレットは、次の試料がステージに搬送されてゲートバルブ４０が閉じた後、ゲートバルブ４１が開き、真空ロボット２０により予備排気室５１に搬入され、ゲートバルブ４１を閉じる。予備排気室５１内で大気圧まで戻された後、ゲートバルブ４２を開き、図示しないアース機構、及び試料固定機構を開放して、図示しない大気中のロボットにより大気中に搬送される。
【００５４】
また、予備排気室５１、待機室５２、及びロードロック室５０が搬送系として構成される他、ロードロック室５０と隣接する位置にアライメント機構が収まるアライメント室５３を設けてある。アライメント機構は、パレットに対する試料の回転量を検出する図示しない検出器と、その検出結果を基にパレットごと試料を回して回転量が仕様内に入るようにする回転機構５６からなる。検出器は光学式のものを想定してあり、大気中で一般的に使用しているものと機能は同じである。
【００５５】
このアライメント室にパレットを搬入し、試料の回転を取除き、ステージに搬入することで、ステージ上での試料の回転量を管理することが可能である。尚、パレットごと回転させて試料の回転を補正した後、ステージ上にパレットを搭載する為、ステージ上でのパレット固定方式は載置された状態のまま固定可能な静電吸着方式が適している。
【００５６】
また、ステージ上においても試料室に図示しない検出器が実装され、試料の回転量を測定して、描画時にその回転量を基に補正を行う。しかし電子線の制御を行う図示しない制御系のハード的な制約、或いは、制御系で取り扱うデータのソフト的な制約によっては、補正可能な回転量に制限があると共に、補正量が小さい方が精度の良い描画が可能となる場合がある。
【００５７】
もし、ステージ上での試料回転量が大きすぎた場合は、試料を搬出し、アライメントし直す必要があり、スループットの低下に繋がる。ステージ上への試料搬入直前にアラメントを行うことで、アライメント後の試料のずれを極力押えることができるが、このような装置構成を行うには、搬送装置の正確な試料搬送精度が必須であり、第１の実施例で示した搬送装置を適用することで、搬送精度が向上し、スループットの低下を回避することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明の実施形態に係わる実施例で、電子線描画装置の概略を示す図。
【図２】本発明の実施形態に係わる実施例で、搬送装置を示す図。
【図３】本発明の実施形態に係わる実施例で、搬送装置を示す斜視図。
【図４】本発明の実施形態に係わる実施例で、搬送装置の動きを示す図。
【図５】本発明の実施形態に係わる実施例で、本発明の主要部の機能について従来のものと比べて示す図。
【図６】本発明の実施形態に係わる他の実施例で、搬送装置を示す図。
【図７】本発明の実施形態に係わる実施例で、試料の搬送経路を示す図。
【図８】本発明の実施形態に係わる他の実施例で、試料の搬送経路を示す図。
【符号の説明】
【００５９】
１…カラム、２…試料室、３…ステージ、４…定盤、５…マウント、６…本体ベース、７…床、１０…試料、１１…干渉計、１２…バーミラー、１３…パレット、２０…真空ロボット、２１…本体、２２…シャフト、２３…第１のアーム、２４…第２のアーム、２５…ハンド、２６…回転部、２７…コントローラ、２８…通信ケーブル、２９…荷重、３０…ガイドベース、３１…直線支持ガイド、３２…リニアスケール、３３…フォトインタラプタ、３４…取付け板、３５…遮光板、３６…ストッパ、３７…信号ケーブル、３８…直線支持ガイドＸ、３９…直線支持ガイドＹ、４０…ゲートバルブＡ、４１…ゲートバルブＢ、４２…ゲートバルブＣ、４３…ゲートバルブＤ、４４…ゲートバルブＥ、５０…ロードロック室、５１…予備排気室、５２…待機室、５３…アライメント室、５４…予備排気室Ａ、５５…予備排気室Ｂ、５６…回転機構。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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