(57)【要約】【課題】  種々の用途のパターン形成体を比較的高い露光感度の下に形成することが容易なフォトマスクを提供する。【解決手段】  光透過性基板の片面に遮光膜パターンが形成され、この遮光膜パターンによって光透過部が画定されているフォトマスクを作製するにあたり、光透過部と平面視上重なるようにして、光触媒とフッ素系化合物とを含有するフッ素含有光触媒活性層を形成することによって、上記課題を解決した。【選択図】  図１ 
2005191180.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性基板の片面に遮光膜パターンが形成され、該遮光膜パターンにより光透過部が画定されているフォトマスクであって、
前記光透過部と平面視上重なるようにして、光触媒とフッ素系化合物とを含有するフッ素含有光触媒活性層が形成されていることを特徴とするフォトマスク。
【請求項２】
前記遮光膜パターンと前記フッ素含有光触媒活性層とが前記光透過性基板の同一面上に形成され、かつ、前記フッ素含有光触媒活性層が前記遮光膜パターンを覆っていることを特徴とする請求項１に記載のフォトマスク。
【請求項３】
光照射により表面の濡れ性を変化させることができる被パターン形成層を用意する準備工程と、前記被パターン形成層を選択的に露光して該被パターン形成層の表面に濡れ性が変化した領域からなるパターンを形成する選択露光工程とを含むパターン形成体の製造方法であって、
前記選択露光工程で、前記請求項１又は２に記載のフォトマスクを前記フッ素含有光触媒活性層が前記被パターン形成層と対向するように配置して、前記被パターン形成層の表面を選択的に露光することを特徴とするパターン形成体の製造方法。
【請求項４】
前記準備工程で、前記被パターン形成層として光照射により表面の性状が疎水性から親水性に変化する層を用意することを特徴とする請求項３に記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項５】
前記被パターン形成層が液晶配向膜であることを特徴とする請求項３又は４に記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項６】
更に、前記選択露光工程で形成した前記パターンの上に機能性部を形成する機能性部形成工程を含むことを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項７】
前記機能性部形成工程で、前記機能性部としてカラーフィルターアレイを形成することを特徴する請求項６に記載のパターン形成体の製造方法。
【請求項８】
前記機能性部形成工程で、前記機能性部としてマイクロレンズアレイを形成することを特徴する請求項６に記載のパターン形成体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスク、及びフォトマスクを用いたパターン形成体の製造方法に関し、更に詳しくは、光触媒を利用したフォトマスク、及び、このフォトマスクを利用したパターン形成体の製造方法に関する。
【０００２】
ここで、本明細書でいう「パターン形成体」とは、表面性状を局所的に変化させることによって形成された所望形状のパターン（潜像）を有する材料層及びこの材料層を備えた部材の総称である。
【背景技術】
【０００３】
今日では、同一の図案、画像、文字、図形、素子、回路パターン等を量産するために、種々のパターニング方法が開発されている。
【０００４】
例えば、平板印刷の原版を作製するための方法の１つとして知られているヒートモード記録法では、ヒートモード記録材料の表面にレーザー光を選択的に照射して、ここに所望形状のパターン（潜像）を形成する。ヒートモード記録材料の表面は撥インク性を有しているが、レーザー光の照射により、インクに対して受容性の高い領域を形成することができる。したがって、ヒートモード記録材料の表面上でレーザー光を走査させて所望パターンを描画することにより、インクに対して受容性の高い領域からなる所望形状のパターン（潜像）を備えた原版が得られる。
【０００５】
ヒートモード記録法は、原版の作製が比較的容易であるという利点を有しているものの、レーザー光の強度の調整や、レーザー光が照射された領域に生じることがある残留物の処理、あるいは、得られる印刷原版の対刷性等の点で、未だ改良の余地がある。
【０００６】
薄膜を高精細にパターニングする方法として知られるフォトリソグラフィー法では、所定形状にパターニングされた遮光膜を有するフォトマスクが原版として利用される。例えば、フォトリソグラフィー法によるパターニング対象物がフォトレジスト膜である場合には、このフォトレジスト膜にフォトマスクを用いて選択的な露光を施した後に現像処理することにより、所望形状にパターニングされたフォトレジスト膜を得ることができる。また、フォトリソグラフィー法によるパターニング対象物が無機膜、あるいはフォトレジスト膜以外の有機膜である場合には、まず、パターニング対象の膜上にフォトレジスト層を形成し、このフォトレジスト層にフォトマスクを用いて選択的な露光を施した後に現像処理して、所望形状にパターニングされたフォトレジスト層を得る。その後、パターニングされたフォトレジスト層をエッチングマスクとして用いてパターニング対象の膜をエッチングしてからエッチングマスクを剥離することにより、所望形状にパターニングされた膜を得ることができる。
【０００７】
フォトリソグラフィー法は、カラーフィルターアレイ、マイクロレンズアレイ、フォトマスクに用いられる遮光膜パターン等、種々の部材の製造過程で利用されているが、パターニング対象物が有機膜及び無機膜のいずれであっても現像工程で必ず廃液が生じ、この廃液の処理が困難である。更に、パターニング対象物が無機膜、あるいはフォトレジスト膜以外の有機膜であった場合には、エッチング工程及びエッチングマスクの剥離工程でも廃液が生じ、これらの廃液についても、その処理が困難である。
【０００８】
近年、有機膜表面に所望形状のパターン（潜像）を簡便に形成する方法として、光触媒を利用したパターニング方法が開発されている。以下、潜像形成の対象とする有機膜を「被パターン形成層」と総称して、この方法を説明する。
【０００９】
例えば、特許文献１には、被パターン形成層に光触媒を含有させ、この被パターン形成層（光触媒含有層）にレーザー光を選択的に照射することにより、又は、フォトマスクを用いて被パターン形成層を選択的に露光することにより、被パターン形成層の表面にパターン（潜像）を形成する方法、又は、被パターン形成層を所望形状にパターニングする方法が記載されている。この特許文献１には、被パターン形成層にフッ素（フルオロアルキル基）を含有させてもよいことが記載されている。
【００１０】
特許文献２には、遮光部を有する被パターン形成層（特性変化層又は濡れ性変化層）が形成されたパターン形成体用基板と、光触媒を含有した層（光触媒含有層）を有する光触媒含有層側基板とを、被パターン形成層と光触媒含有層とが互いに接触するように配置し、この状態でパターン形成体用基板側から露光することにより、被パターン形成層の表面にパターン（潜像）を形成する方法、又は被パターン形成層を所望形状にパターニングする方法が記載されている。この特許文献２には、被パターン形成層にフッ素を含有させることにより所望のパターンを効果的に得られることが記載されている。
【特許文献１】特開平１１−３４４８０４号公報（特許請求の範囲）
【特許文献２】特開２００３−１９５０２９号公報（特許請求の範囲及び第００８６〜０１３３段、特に第０１１６段）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、特許文献１に記載された方法では被パターン形成層に光触媒を含有させるため、この方法で製造されたパターン形成体には、必然的に光触媒が含まれる。パターン形成体に光触媒が含有されていると、その用途によっては光触媒により悪影響が生じることがあるため、この点で、特許文献１に記載された方法には未だ改良の余地がある。
【００１２】
また、特許文献１及び２のいずれに記載された方法も露光感度が比較的低く、この点で、未だ改良の余地がある。被パターン形成層にフッ素を含有させることにより露光感度を向上させることが可能であるが、パターン形成体を連続生産すると露光感度のばらつきが比較的大きくなり、その制御が煩雑になり易い。露光感度のばらつきの一因は、被パターン形成層から発生したフッ素ラジカルが光触媒含有層の表面に付着して次の被パターン形成層のパターニングの際に反応に寄与することにあると考えられる。
【００１３】
本発明は、上述した問題を解決するためになされたものであって、その第１の目的は、種々の用途のパターン形成体を比較的高い露光感度の下に形成することが容易なフォトマスクを提供することにある。
【００１４】
本発明の第２の目的は、種々の用途のパターン形成体を比較的高い露光感度の下に形成することが容易なパターン形成体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上述の第１の目的を達成する本発明のフォトマスクは、光透過性基板の片面に遮光膜パターンが形成され、該遮光膜パターンにより光透過部が画定されているフォトマスクであって、前記光透過部と平面視上重なるようにして、光触媒とフッ素系化合物とを含有するフッ素含有光触媒活性層が形成されていることを特徴とする（以下、このフォトマスクを「フォトマスクＩ」ということがある。）。
【００１６】
本発明のフォトマスクＩはフッ素含有光触媒活性層を有しているので、被パターン形成層に光触媒を含有させなくても、このフォトマスクＩを用いた選択的な露光により被パターン形成層の表面に所望のパターン（潜像）を形成することが可能である。また、フォトマスクＩを用いた露光時には、光触媒の作用によりフッ素含有光触媒活性層からフッ素ラジカルを発生させることができるので、フッ素ラジカルが発生しない場合に比べて露光感度を高めることができる。更に、理由は定かではないが、パターン形成体を連続生産した場合でも露光感度のばらつきが抑えられる。これらの理由から、本発明のフォトマスクＩによれば、種々の用途のパターン形成体を比較的高い露光感度の下に形成することが容易になる。
【００１７】
本発明のフォトマスクＩにおいては、前記遮光膜パターンと前記フッ素含有光触媒活性層とが前記光透過性基板の同一面上に形成され、かつ、前記フッ素含有光触媒活性層が前記遮光膜パターンを覆っていること、が好ましい（以下、このフォトマスクを「フォトマスクII」ということがある。）。
【００１８】
前述した第２の目的を達成する本発明のパターン形成体の製造方法は、光照射により表面の濡れ性を変化させることができる被パターン形成層を用意する準備工程と、前記被パターン形成層を選択的に露光して該被パターン形成層の表面に濡れ性が変化した領域からなるパターンを形成する選択露光工程とを含むパターン形成体の製造方法であって、前記選択露光工程で、上述した本発明のフォトマスクＩ又はフォトマスクIIを前記フッ素含有光触媒活性層が前記被パターン形成層と対向するように配置して、前記被パターン形成層の表面を選択的に露光することを特徴とする。
【００１９】
本発明のパターン形成体の製造方法によれば、上述した本発明のフォトマスクＩ又はフォトマスクIIを用いて被パターン形成層を選択的に露光してその表面にパターンを形成するので、種々の用途のパターン形成体を比較的高い露光感度の下に形成することが容易になる。
【００２０】
本発明のパターン形成体の製造方法においては、（１）前記準備工程で、前記被パターン形成層として光照射により表面の性状が疎水性から親水性に変化する層を用意すること、（２）前記被パターン形成層が液晶配向膜であること、（３）更に、前記選択露光工程で形成した前記パターンの上に機能性部を形成する機能性部形成工程を含むこと、（４）前記機能性部形成工程で、前記機能性部としてカラーフィルターアレイを形成すること、又は、（５）前記機能性部形成工程で、前記機能性部としてマイクロレンズアレイを形成すること、が好ましい。
【発明の効果】
【００２１】
本発明のフォトマスクによれば、種々の用途のパターン形成体を比較的高い露光感度の下に形成することが容易になるので、所望のパターン形成体の量産が容易になる。
【００２２】
また、本発明のパターン形成体の製造方法によっても、種々の用途のパターン形成体を比較的高い露光感度の下に形成することが容易になるので、所望のパターン形成体の量産が容易になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明のフォトマスク及びパターン形成体の製造方法について、図面を適宜参照しつつ順次説明する。
【００２４】
＜フォトマスク（第１形態）＞
図１（ａ）は、本発明のフォトマスクの基本的な断面構造の一例を示す概略図である。図示のフォトマスク１０では、光透過性基板１の片面に遮光膜パターン３が形成され、この遮光膜パターン３により光透過部５が画定されている。また、遮光膜パターン３を覆うようにして、かつ、各光透過部５と平面視上重なるようにして、フッ素含有光触媒活性層７が形成されている。以下、これらの光透過性基板１、遮光膜パターン３、及びフッ素含有光触媒活性層７について、具体的に説明する。
【００２５】
（１）光透過性基板；
光透過性基板１は、露光に用いられる電磁波（光）の透過率や、前記の電磁波に対する耐光性等に優れていることが好ましく、この光透過性基板１としては、石英ガラス板、ケイ酸ガラス板、高ケイ酸ガラス板、炭化ケイ素膜等のリジット材、又は、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等のフレキシブル材を用いることができる。
【００２６】
（２）遮光膜パターン；
遮光膜パターン３は、露光に用いられる電磁波（光）を遮蔽してフォトマスク１０に所定パターンの光透過部５を画定するものであり、フォトマスク１０を用いた選択的な露光により表面に所望のパターンを形成しようとする被パターン形成層での非露光部に相当する部位に対応して、光透過性基板１に形成される。この遮光膜パターン３により透過光が遮蔽されない領域が、光透過部５となる。
【００２７】
遮光膜パターン３は、例えば、金属クロム等の無機遮光性材料やタングステン等の無機光吸収性材料、あるいは、有機バインダ中にカーボン微粒子、金属酸化物、無機顔料等の遮光性粒子を含有させた複合材料により形成することができ、その全体形状は、被パターンニング層の表面に形成しようとするパターン（潜像）に応じて適宜選定される。
【００２８】
上記の無機遮光性材料又は無機光吸収性材料を用いて遮光膜パターン３を形成しようとする場合には、例えば、これらの材料を用いて膜厚１００〜２００ｎｍ程度の薄膜をスパッタリング法、真空蒸着法等により形成し、この薄膜をフォトリソグラフィー法により所望形状にパターニングして遮光膜パターン３とする。
【００２９】
また、上記の複合材料を用いて遮光膜パターン３を形成しようとする場合には、例えば、有機バインダとしてポリイミド、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール等の樹脂を１種又は２種以上用いてコーティング組成物を調製し、このコーティング組成物を印刷法により所望形状に塗布して遮光膜パターン３とする。あるいは、有機バインダとして感光性樹脂、Ｏ／Ｗ（oil in water）エマルジョン型の樹脂組成物（例えば反応性シリコーンをエマルジョン化したもの）、ゼラチン、カゼイン、セルロース等を用いてコーティング組成物を調製し、このコーティング組成物を印刷法により所望形状に塗布して遮光膜パターン３とする。上記のコーティング組成物により形成した塗膜をフォトリソグラフィー法により所望形状にパターニングして、遮光膜パターン３とすることもできる。
【００３０】
（３）フッ素含有光触媒活性層；
フッ素含有光触媒活性層７は、光触媒とフッ素系化合物とを含有する層であり、フォトマスク１０を用いて被パターンニング層を選択的に露光した際に、被パターン形成層の表面のうちの露光された領域の性状（濡れ性）を変化させる役割を担う。
【００３１】
上記の光触媒としては、１種の光半導体粒子、又は複数種の光半導体粒子の混合物を用いることができる。光半導体の具体例としては、二酸化チタン（ＴｉＯ２ ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２ ）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ３ ）、酸化タングステン（ＷＯ３ ）、酸化ビスマス（Ｂｉ２Ｏ３）、酸化鉄（Ｆｅ２Ｏ３）等が挙げられる。
【００３２】
これらの光半導体の中でも、化学的に安定である、毒性がない、入手が容易である等の観点から、二酸化チタンが好適に使用される。二酸化チタンにはアナターゼ型とルチル型があり、いずれの型の二酸化チタンも使用することができるが、アナターゼ型二酸化チタンを用いる方が好ましい。アナターゼ型二酸化チタン粒子を含有した組成物としては、例えば、塩酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル（石原産業（株）製のＳＴＳ−０２（平均粒径７ｎｍ）や、石原産業（株）製のＳＴ−Ｋ０１）、硝酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル（日産化学（株）製のＴＡ−１５（平均粒径１２ｎｍ））等が挙げられる。これらの組成物は、フッ素含有光触媒含有層７の材料として用いることができる。
【００３３】
光触媒を光励起することにより、光触媒反応を起こすことができる。この光触媒反応は、光触媒として用いた光半導体粒子の粒径がある程度以上小さいと効果的に起こるので、その平均粒径は５〜２０ｎｍとすることが好ましい。光触媒を光励起する励起光の波長は、光触媒として用いた光半導体のバンドギャップエネルギーの大きさに応じて異なる。同一組成の光触媒であっても、量子サイズ効果が発現した光触媒では、量子サイズ効果が発現しない光触媒よりもバンドギャップエネルギーが大きくなるので、励起光の波長は短波長側にシフトする。例えば量子サイズ効果が発現したアナターゼ型二酸化チタンの励起波長は３８０ｎｍ以下にある。
【００３４】
上述した光触媒と共にフッ素含有光触媒活性層を構成するフッ素系化合物は、光触媒反応によりフッ素ラジカルを発生させる。このフッ素系化合物は、光触媒反応によりフッ素ラジカルが生じる化合物であれば特に限定されるものではないが、フッ素系シリコーンであることが好ましく、特にシリコーンのケイ素原子にフルオロアルキル基が結合したフッ素系シリコーンであることが好ましい。フッ素系化合物の中でも、炭素数６〜１８程度のフルオロアルキル基がシリコーンのケイ素原子に結合しているフッ素系化合物は、光触媒と混合して光透過性基板１に塗布することが容易という観点から、特に好ましい。
【００３５】
好適なフッ素系化合物の具体例としては、下記に示すフルオロアルキルシランの加水分解縮合物や、下記に示すフルオロアルキルシランの２種以上の混合物の共加水分解縮合物等、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られたものが挙げられる。
【００３６】
〔フルオロアルキルシラン〕
ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ 、ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ 、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ 、ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ 、（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ 、（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ 、（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ 、ＣＦ３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ 、ＣＦ３（ＣＦ２）３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ 、ＣＦ３（ＣＦ２）５（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ 、ＣＦ３（ＣＦ２）７（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４Ｓｉ（ＯＣＨ３）３ 、ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２ 、ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２ 、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２ 、ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２ 、（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）４ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２ 、（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）６ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２ 、（ＣＦ３）２ＣＦ（ＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２ 、ＣＦ３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２ 、ＣＦ３（ＣＦ２）３（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２ 、ＣＦ３（ＣＦ２）５（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２ 、ＣＦ３（ＣＦ２）７（Ｃ６Ｈ４）Ｃ２Ｈ４ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２ 、ＣＦ３（ＣＦ２）３ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３；ＣＦ３（ＣＦ２）５ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３ 、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３ 、ＣＦ３（ＣＦ２）９ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３ 、及び、ＣＦ３（ＣＦ２）７ＳＯ２Ｎ（Ｃ２Ｈ５）Ｃ２Ｈ４ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３。
【００３７】
フッ素含有光触媒活性層７には、上述の光触媒及びフッ素系化合物の他に、バインダや界面活性剤等の任意成分を適宜含有させることができる。
【００３８】
上記のバインダとしては、光触媒の励起光によって主骨格が分解されないような高い結合エネルギーを有するものが好ましく、例えば後述する被パターン形成層の説明の中で詳述するオルガノポリシロキサンを用いることができる。また、無定形シリカ前駆体をバインダとして用いることもできる。この無定形シリカ前駆体としては、一般式ＳｉＸ４ （式中のＸはハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基、又はアセチル基等）で表されるケイ素化合物、このケイ素化合物の加水分解物であるシラノール、又は、平均分子量３０００以下のポリシロキサンが好ましい。
【００３９】
更に、ポリビニルアルコール、不飽和ポリエステル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジアリルフタレート、エチレンプロピレンジエンターポリマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミド、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリベンズイミダゾール、ポリアクリルニトリル、エピクロルヒドリン、ポリサルファイド、ポリイソプレン、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム等についてのモノマー、オリゴマー、又はプレポリマー等を上記のバインダとして用いることも可能である。
【００４０】
一方、上記の界面活性剤としては、非イオン界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、及び両性界面活性剤のいずれをも用いることができる。非オン界面活性剤の具体例としては、（ｉ）日光ケミカルズ（株）製のＮＩＫＫＯＬ ＢＬ、ＢＣ、ＢＯ、ＢＢの各シリーズ等の炭化水素系界面活性剤、（ii）デュポン社製のＺＯＮＹＬ ＦＳＮ、ＦＳＯ、旭硝子（株）製のサーフロンＳ−１４１、１４５、大日本インキ化学工業（株）製のメガファックＦ−１４１、１４４、ネオス（株）製のフタージェントＦ−２００、Ｆ２５１、ダイキン工業（株）製のユニダインＤＳ−４０１、４０２、スリーエム（株）製のフロラードＦＣ−１７０、１７６等のフッ素系界面活性剤、及び、（iii） シリコーン系非イオン界面活性剤、が挙げられる。
【００４１】
フッ素含有光触媒活性層７における必須成分（光触媒及びフッ素系化合物）の合量は、０．１質量％程度以上、１００質量％以下とすることが好ましく、１質量％程度以上、１００質量％以下とすることが更に好ましい。また、必須成分の合量に占める光触媒の割合は、２０〜４０質量％程度とすることが好ましい。
【００４２】
フッ素含有光触媒活性層７は、上述した成分を溶剤に溶解、分散させてコーティング液を調製し、このコーティング液を光透過性基板１の所定の面上、すなわち、遮光膜パターン３が形成されている面上に塗布して塗膜を形成した後、この塗膜を硬化させることにより得ることができる。フッ素含有光触媒活性層７の膜厚は、遮光膜パターン３を覆うことができる範囲内で適宜選定可能である。
【００４３】
なお、必要に応じて、光透過性基板１とフッ素含有光触媒活性層との密着性を向上させるためにプライマー層を形成することもできる。このプライマー層の材料としては、例えばシラン系又はチタン系のカップリング剤等を用いることができる。
【００４４】
以上説明した構成を有するフォトマスク１０は、フッ素含有光触媒活性層７が被パターン形成層と対向するように配置して使用される。光触媒の励起波長の光又はこの励起波長の光を含む波長域の光をフォトマスク１０を介して被パターン形成層に照射することにより、各光透過部５に存在する光触媒により光触媒反応が起こり、被パターン形成層の表面のうちの露光された領域の性状（濡れ性）が変化する。
【００４５】
このときの光触媒とフッ素系化合物との作用機構は必ずしも明確なものではないが、後述するように、光励起された光触媒の作用によりフッ素系化合物からフッ素ラジカルが生じると共に、空気中の酸素や水の分解が促進されて活性酸素や活性水酸基が生じ、これらが被パターン形成層の化学構造に変化を与える結果として、被パターン形成層の表面のうちの露光された領域の性状（濡れ性）が変化するものと考えられる。
【００４６】
フォトマスク１０はフッ素含有光触媒活性層７を有しているので、被パターン形成層に光触媒を含有させなくても、このフォトマスク１０を用いた選択的な露光により被パターン形成層の表面に親水性領域からなる所望のパターン（潜像）を形成することが可能である。また、フォトマスク１０を用いた露光時には、光触媒の作用によりフッ素含有光触媒活性層７からフッ素ラジカルを発生させることができるので、フッ素ラジカルが発生しない場合に比べて露光感度を高めることができる。更に、理由は定かではないが、パターン形成体を連続生産した場合でも露光感度のばらつきが抑えられる。フォトマスク１０によれば、種々の用途のパターン形成体を比較的高い露光感度の下に形成することが容易になる。パターン形成体の製造方法の詳細については、後述する。
【００４７】
なお、同じフォトマスク１０を用いてパターン形成体を連続生産すると、フッ素含有光触媒活性層７中のフッ素原子が消費されて露光感度が徐々に低下する。露光感度を一定の範囲内に保つという観点からは、フッ素含有光触媒活性層７の材料となるコーティング液を適宜再塗布して、所望膜厚のフッ素含有光触媒活性層７を再形成することが好ましい。
【００４８】
＜フォトマスク（第２形態）＞
図１（ｂ）は、本発明のフォトマスクの基本的な断面構造の他の例を示す概略図である。図示のフォトマスク２０では、光透過性基板１１の片面に遮光膜パターン１３が形成され、この遮光膜パターン１３により光透過部１５が画定されている。また、遮光膜パターン１３が形成されている面と同じ面に、１つの光透過部１５に１つずつフッ素含有光触媒活性層１７が形成されている。光透過部１５と、この光透過部１５に対応するフッ素含有光触媒活性層１７とは、平面視上重なる。
【００４９】
このフォトマスク２０の構成は、遮光膜パターン１３がフッ素含有光触媒活性層１７によって覆われていないという点で、第１形態のフォトマスク１０の構成と異なる。他の構成はフォトマスク１０の構成と同じであり、フォトマスク２０が奏する技術的効果もフォトマスク１０が奏する技術的効果と同様であるので、これらの説明は省略する。
【００５０】
＜フォトマスク（第３形態）＞
図１（ｃ）は、本発明のフォトマスクの基本的な断面構造の更に他の例を示す概略図である。図示のフォトマスク３０では、光透過性基板２１の片面に遮光膜パターン２３が形成され、この遮光膜パターン２３により光透過部２５が画定されている。また、遮光膜パターン２３が形成されている面とは反対側の面全体にフッ素含有光触媒活性層２７が形成されている。各光透過部２５とフッ素含有光触媒活性層２７とは平面視上重なる。
【００５１】
このフォトマスク３０の構成は、遮光膜パターン２３が形成されている面とフッ素含有光触媒活性層２７が形成されている面とが光透過性基板２１において互いに異なるという点で、第１形態のフォトマスク１０の構成と異なる。他の構成はフォトマスク１０の構成と同じであり、フォトマスク３０が奏する技術的効果もフォトマスク１０が奏する技術的効果と同様であるので、これらの説明は省略する。
【００５２】
＜パターン形成体の製造方法＞
本発明のパターン形成体の製造方法は、前述したように、光照射により表面の濡れ性を変化させることができる被パターン形成層を用意する準備工程と、被パターン形成層を選択的に露光して被パターン形成層の表面に濡れ性が変化した領域からなるパターンを形成する選択露光工程とを含み、前記の選択露光工程で、上述した本発明のフォトマスクを用いるものである。また、必要に応じて、選択露光工程で被パターン形成層の表面に形成した前記のパターンの上に、機能性部を形成する機能性部形成工程を更に含むものである。以下、図面を適宜参照しつつ、各工程を説明する。
【００５３】
（１）準備工程；
準備工程で用意する被パターン形成層は、光照射により表面の濡れ性を変化させることができるものであればよいが、光照射により表面の性状を疎水性から親水性に変化させることができるものであることが好ましく、シロキサン結合を有する化合物を含有していることが更に好ましい。
【００５４】
光照射により表面を疎水性から親水性に変化させることができる被パターン形成層の材料としては、一般式ＹｎＳｉＸ（４−ｎ）（式中のＹは、アルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基、又はエポキシ基を示し、Ｘはアルコキシル基、アセチル基、又はハロゲン原子を示す。式中のｎは０〜３の整数である。）で表されるケイ素化合物の加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサン、又は前記の一般式で表される２種以上のケイ素化合物の共加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンが好ましく、特に、炭素数６〜１８程度の長鎖アルキル基を有するオルガノポリシロキサンが好ましい。このようなオルガノポリシロキサンによって被パターン形成層を形成することにより、選択的な露光によって表面の濡れ性を大きく変化させることが容易な被パターン形成層を得ることができる。なお、上記の一般式で記号「Ｙ」により示される基の炭素数は１〜２０の範囲内であることが好ましく、記号「Ｘ」で示されるアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。
【００５５】
上記のオルガノポリシロキサンの原料の具体例としては、（ａ）メチルトリクロルシラン、メチルトリブロムシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリｔ−ブトキシシラン、（ｂ）エチルトリクロルシラン、エチルトリブロムシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリｔ−ブトキシシラン、（ｃ）ｎ−プロピルトリクロルシラン、ｎ−プロピルトリブロムシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリイソプロポキシシラン、ｎ−プロピルトリｔ−ブトキシシラン、（ｄ）ｎ−ヘキシルトリクロルシラン、ｎ−へキシルトリブロムシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリエトキシシラン、ｎ−へキシルトリイソプロポキシシラン、ｎ−へキシルトリｔ−ブトキシシラン、（ｅ）ｎ−デシルトリクロルシラン、ｎ−デシルトリブロムシラン、ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキシシラン、ｎ−デシルトリイソプロポキシシラン、ｎ−デシルトリｔ−ブトキシシラン、（ｆ）ｎ−オクタデシルトリクロルシラン、ｎ−オクタデシルトリブロムシラン、ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリエトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリイソプロポキシシラン、ｎ−オクタデシルトリｔ−ブトキシシラン、（ｇ）フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリｔ−ブトキシシラン、（ｈ）テトラクロルシラン、テトラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン、（ｉ）ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、（ｊ）ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、（ｋ）フェニルメチルジクロルシラン、フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン、（ｌ）トリクロルヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメトキシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリイソプロポキシヒドロシラン、トリｔ−ブトキシヒドロシラン、（ｍ）ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリｔ−ブトキシシラン、（ｎ）トリフルオロプロピルトリクロルシラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリイソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリｔ−ブトキシシラン、（ｏ）γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリｔ−ブトキシシラン、（ｐ） γ−メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリｔ−ブトキシシラン、（ｑ）γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−アミノプロピルトリｔ−ブトキシシラン、（ｒ）γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリｔ−ブトキシシラン、（ｓ）β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン、（ｔ）上記（ａ）〜（ｓ）に示したケイ素化合物についての部分加水分解物、及び、（ｕ）上記（ａ）〜（ｔ）に示したケイ素化合物から選択されたケイ素化合物同士の混合物、等が挙げられる。
【００５６】
また、フルオロアルキル基を有するオルガノポリシロキサンを被パターン形成層の材料として用いることもできる。このオルガノポリシロキサンの具体例としては、フルオロアルキルシランの加水分解縮合物、及び、２種以上のフルオロアルキルシランの共加水分解縮合物が挙げられ、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られたものを使用することができる。
【００５７】
被パターン形成層の材料には、必要に応じて、フッ素含有光触媒活性層の任意成分として既に説明した界面活性剤、モノマー、オリゴマー、又はプレポリマー等を含有させることができる。
【００５８】
被パターン形成層は、自己支持性すなわち単独で取り扱いができる程度の強度を有していてもよいし、自己支持性を有していなくてもよい。被パターン形成層の膜厚は、目的とするパターン形成体の用途等に応じて適宜選定可能であるが、前述した光触媒作用による表面の性状（濡れ性）の変化の速度等の関係から、その膜厚は０．００１〜１μｍ程度とすることが好ましく、特に０．０１〜０．１μｍ程度することが好ましい。被パターン形成層が自己支持性を有していない場合、この被パターン形成層は所望の基材上に形成される。このとき用いる基材について特に制限はないが、被パターン形成層との密着性が良好であるものが好ましい。具体例として、ガラス、セラミック、金属、プラスチック等によって形成されたものや、ガラス、セラミック、金属、プラスチック等によって形成された層を有するものが挙げられる。どのような基材を用いるかは、目的とするパターン形成体の用途等に応じて適宜選定可能である。
【００５９】
被パターン形成層は、例えば、上述した原材料を溶剤中に溶解又は分散させてコーティング組成物を調製し、このコーティング組成物を基材上に塗布して塗膜を形成した後にこの塗膜を乾燥させることにより得ることができる。コーティング組成物の調製に使用する溶剤は、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系有機溶剤が好ましい。コーティング組成物を塗布するにあたっては、スピンコート、スプレーコート、ディッブコート、ロールコート、ビードコート等、種々の塗布方法を適用することができる。コーティング組成物が紫外線硬化型の成分を含有している場合には、塗膜に紫外線を照射して硬化処理を行うことにより、被パターン形成層を形成することができる。
【００６０】
（２）選択露光工程；
選択露光工程では、前述した本発明のフォトマスクを用いて被パターン形成層を選択的に露光して、被パターン形成層の表面に所定のパターン（潜像）を形成する。以下、前述した第１形態の示したフォトマスク１０（図１（ａ）参照）を用いて被パターン形成層を選択的に露光する場合を例にとり、図２（ａ）〜図２（ｃ）を参照しつつ選択露光工程を具体的に説明する。なお、フォトマスク１０については既に説明したので、図２（ａ）及び図２（ｂ）に示したフォトマスク１０の構成部材については、図１（ａ）で用いた参照符号と同じ参照符号を付してその説明を省略する。
【００６１】
まず、図２（ａ）に示すように、フォトマスク１０におけるフッ素含有光触媒活性層７と被パターン形成層４０とが互いに対向するようにして、フォトマスク１０と被パターン形成層４０とを所定の位置にアライメントする。図示の被パターン形成層４０は、基材４５上に形成されている。
【００６２】
フォトマスク１０を被パターン形成層４０上に配置するにあたっては、フォトマスク１０における光透過部５でのフッ素含有光触媒活性層７と、被パターン形成層４０との間隔ｄを、０〜２００μｍ程度の範囲内で選定することが好ましい。この間隔が２００μｍを超えると、露光感度や露光精度（パターニング精度）の低下が大きくなり易い。
【００６３】
フッ素含有光触媒活性層７に含まれるフッ素系化合物及び光触媒それぞれの種類や、光触媒の含有量、あるいは被パターン形成層４０の材質等により異なるが、パターニング精度が高く、かつ、パターン内での濡れ性のムラが小さいパターン形成体を得るという観点からは、間隔ｄを０．２〜２０μｍ程度の範囲内で選定することが好ましい。間隔ｄをこの範囲内で選定した場合には、高い露光感度の下にパターン形成体を得る、換言すれば、比較的短時間の露光処理によりパターン形成体を得ることも容易になる。
【００６４】
次に、図２（ｂ）に示すように、フォトマスク１０の外側から被パターン形成層４０に向けて所望波長又は所望波長域の露光光を照射して、被パターン形成層４０の表面を選択的に露光する。このときの露光光としては、フッ素含有光触媒活性層７に含有されている光触媒の励起波長の光又はこの励起波長の光を含む波長域の光が用いられ、その光源としては、露光光の波長又は波長域に応じて、例えば水銀ランプ、メタルハイドライトランプ、キセノンランプ、エキシマランプ等、種々の人工光源を用いることができる。フォトマスク１０への露光光の入射角は例えば０°とすることができる。この選択的な露光により、フッ素含有光触媒活性層７のうちで光透過部５に位置している領域中の光触媒が励起されて光触媒反応が起こる。なお、図２（ｂ）においては、露光光を複数の矢印で示すと共に、一部の矢印に参照符号「ＵＶ」を付してある。
【００６５】
図２（ｃ）に示すように、上記の光触媒反応により、被パターン形成層４０の表面４０ａのうちで露光された領域の濡れ性が変化して、換言すれば、露光された領域の性状が疎水性から親水性に変化して、親水性領域４０ｂからなるパターン（潜像）４２が被パターン形成層４０の表面４０ａに形成される。これにより、所定のパターン（潜像）が形成された後の被パターン形成層４０である層４０Ａと基材４５とからなるパターン形成体５０が得られる。なお、図２（ｃ）においては、層４０Ａにおける親水性領域４０ｂの場所を判り易くするために、各親水性領域４０ｂに厚みを付けると共にスマッジングを付してある。
【００６６】
上述した光触媒反応の作用機構は必ずしも明確なものではないが、図３（ａ）〜図３（ｂ）に模式的に示す作用機構であるものと考えられる。すなわち、図３（ａ）に示すように、光励起された光触媒の作用によりフッ素含有光触媒活性層７からフッ素ラジカル（Ｆ− ）が生じると共に、空気中の酸素や水の分解が促進されて活性酸素（Ｏ２−）や活性水酸基（−ＯＨ）が生じ、これらが被パターン形成層４０の表面４０ａの側鎖（例えばアルキル側鎖）ＳＣにアタックしてこの側鎖ＳＣの結合を切断する。そして、図３（ｂ）に示すように、側鎖ＳＣが切断された部分に活性酸素等が入れ替わって結合する結果として、ここが親水性領域４０ｂに変化するものと考えられる。
【００６７】
被パターン形成層４０の表面に形成するパターン（潜像）４２での表面自由エネルギーと、パターン４２の周囲の表面４０ａでの表面自由エネルギーは、できるだけ大きく異なっていることが好ましい。前述した材料により被パターン形成層４０を形成した場合には、選択露光工程を行う前の段階での表面４０ａの表面自由エネルギーが２５ｍＮ／ｍ程度以下の被パターン形成層４０を得ることができる。この場合、パターン４２での表面自由エネルギーが３５ｍＮ／ｍ程度以上となるように、選択露光工程での露光エネルギー（照射強度及び照射時間）を選定することが好ましい。
【００６８】
以上説明した準備工程及び選択露光工程を順次行うことにより、パターン形成体を得ることができる。このパターン形成体は、被パターン形成層の材質等に応じて、そのまま最終製品として用いられるか、又は、他のパターン形成体の中間製品として用いられる。選択露光工程まで行うことによって得たパターン形成体を他のパターン形成体の中間製品として用いる場合には、選択露光工程で被パターン形成層の表面に形成したパターン上に機能性部を形成する機能性部形成工程を行うことができる。
【００６９】
ここで、本明細書でいう「機能性部」とは、光学的機能（光選択吸収性、反射性、透光性、偏光性、光選択透過性、非線形光学性、蛍光あるいはりん光等を放射するルミネッセンス性、フォトクロミック性、集光性、光拡散性、遮光性等）、磁気的機能（硬磁性、軟磁性、非磁性、透磁性等）、電気・電子的機能（導電性、絶縁性、圧電性、焦電性、誘電性等）、化学的機能（吸着性、脱着性、触媒性、吸水性、吸油性、イオン伝導性、酸化還元性、電気化学性、エレクトロクロミック性等）、機械的機能（耐摩耗性等）、熱的機能（熱伝導性、断熱性、赤外線放射性等）、生体機能（生体適合性、抗血栓性等）等、所望の機能を担う部材を意味する。
【００７０】
上述した準備工程及び選択露光工程を順次行うことにより最終製品としてのパターン形成体を得ることができるものの１つに、液晶配向用基板がある。以下、この液晶配向用基板について具体的に説明する。
【００７１】
＜パターン形成体（液晶配向用基板）＞
上述した準備工程及び選択露光工程を順次行うことにより最終製品としての液晶配向基板を得る場合、被パターン形成層としては、例えば、負の誘電率異方性を有する液晶を垂直配向させるための垂直配向膜（以下、この垂直配向膜を「ＶＡ用配向膜」と略記する。）が用いられる。
【００７２】
上記のＶＡ用配向膜の表面は疎水性を有しているので、このＶＡ用配向膜の表面に前述した選択露光工程により所望形状の親水性パターンを形成することによって、マルチドメイン方式の液晶表示装置に用いられる配向膜（以下、この配向膜を「ＭＤ用配向膜」と略記する。）を備えた液晶配向用基板板を得ることができる。この場合、ＶＡ用配向膜は、所定の基材上に形成される。したがって、準備工程では、ＶＡ用配向膜を備えた液晶配向用基板を用意する。
【００７３】
図４（ａ）は、ＶＡ用配向膜を備えた液晶配向用基板における構成部材の平面配置の一例を示す概略図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）に示したIV−IV線断面の概略図である。図示の液晶配向用基板１２０は、ネガ型液晶（負の誘電率異方性を有する液晶）を用いたアクティブマトリックス駆動方式の垂直配向型液晶表示装置において表示用液晶パネルの表示面側の基板として用いられるものであり、光透過性基板１０１、カラーフィルターアレイ１０３、遮光層（ブラックマトリクス）１０５、透明電極パターン１０７、及びＶＡ用配向膜１０９を有している。
【００７４】
光透過性基板１０１の片面にカラーフィルターアレイ１０３と遮光層１０５とが形成され、これらを覆うようにして透明電極パターン１０７が形成されている。また、この透明電極パターン１０７を覆うようにしてＶＡ用配向膜１０９が形成されている。なお、図４（ａ）においては、カラーフィルターアレイ１０３及び遮光層１０５の配置を判り易くするために、透明電極パターン１０７及び配向膜１０９の図示を省略している。
【００７５】
光透過性基板１０１は、例えばガラスや透明プラスチック等によって形成され、カラーフィルターアレイ１０３は、所望色のカラーフィルターを一定のパターンの下に多数配置することによって形成される。個々のカラーフィルターは、例えば染料又は顔料を含有若しくは分散させた樹脂（カラーレジン）やカラーフィルター用インキによって形成することができる。
【００７６】
図示のカラーフィルターアレイ１０３は、赤色カラーフィルター１０３Ｒ（以下、単に「カラーフィルター１０３Ｒ」という。）と、緑色カラーフィルター１０３Ｇ（以下、単に「カラーフィルター１０３Ｇ」という。）と、青色カラーフィルター１０３Ｂ（以下、単に「カラーフィルター１０３Ｂ」という。）とがストライプ状に配置されたストライプ型のカラーフィルターアレイである。個々のカラーフィルター１０３Ｒ、１０３Ｇ、１０３Ｂが、それぞれ、１つの画素に対応する。１つのカラーフィルター１０３Ｒと、その隣のカラーフィルター１０３Ｇと、その隣のカラーフィルター１０３Ｂとが、１つの絵素を構成する。ストライプ型以外にも、モザイク型、トライアングル型等と称される種々のタイプのカラーフィルターアレイが知られている。
【００７７】
遮光層１０５は、表示用液晶パネルにおける画素間からの光の漏れ（漏れ光）や、アクティブマトリックス駆動方式の表示用液晶パネルにおけるアクティブ素子の光劣化等を防止するために、各カラーフィルター１０３Ｒ、１０３Ｇ、１０３Ｂの周囲に配置される。この遮光層１０５は、例えば、金属クロム薄膜やタングステン薄膜等、遮光性又は光吸収性を有する金属薄膜によって形成することができる。有機材料によって遮光層１０５を形成することも可能である。図示の遮光層１０５は、アクティブ素子の光劣化等を防止するための領域１０５ａを多数有している。
【００７８】
透明電極パターン１０７は、表示用液晶パネル内に縦電界を形成するための電極であり、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化インジウム、酸化インジウム亜鉛（ＩＺＯ）等の透明電極材料によって形成される。図示の透明電極パターン１０７は、表示用液晶パネルにおいて共通電極（コモン電極）として使用されるものであり、その平面視上の形状は四角形である。
【００７９】
ＶＡ用配向膜１０９は、本発明のパターン形成体の製造法でいう被パターン形成層に相当するものであり、前述した選択露光工程を経ることによってＭＤ用配向膜となるものである。必要に応じて、カラーフィルターアレイ１０３及び遮光層１０５を覆うようにして平坦化層を形成し、その上にＶＡ用配向膜１０９を設けることができる。
【００８０】
最終製品としての液晶配向用基板は、上述した液晶配向用基板１２０におけるＶＡ用配向膜１０９の表面に、本発明のフォトマスクを用いた選択的な露光により所望の親水性パターンを形成して、ＶＡ用配向膜１０９をＭＤ用配向膜にすることによって得ることができる。
【００８１】
図５は、図４（ｂ）に示したＶＡ用配向膜１０９の表面に複数の親水性領域を形成することによって得られるＭＤ用配向膜１１９での親水性領域１１９ｂの配置の一例を概略的に示す平面図である。同図には、各親水性領域１１９ｂと画素との相対的な位置関係を判り易くするために、ＭＤ用配向膜１１９の下にある遮光層１０５を隠れ線（破線）で併記してある。
【００８２】
図示のように、ＭＤ用配向膜１１９の表面には、複数の親水性領域１１９ｂが規則的に形成されており、個々の親水性領域１１９ｂの平面視上の形状は、ジグザグに折れ曲がった帯状である。これらの親水性領域１１９ｂ全体としては、１つの親水性領域１１９ｂを繰り返し単位として、この繰り返し単位を表示用液晶パネルでの走査方向Ｄｓ（走査線の延在方向を意味する。）に並列に配置した形状を呈している。個々の親水性領域１１９ｂにおいて隣り合う２つの直線状区間を参照符号Ｓで表すものとすると、これら２つの直線状区間Ｓ、Ｓは、それぞれ、走査方向Ｄｓに隣り合う２つの画素を、平面視上、斜めに横断している。１つの画素には、隣り合う２つの親水性領域１１９ｂ、１１９ｂそれぞれにおける２つの直線状区間Ｓ、Ｓが対応している。互いに連なる２つの直線状区間Ｓ、Ｓ同士がなす角（折れ曲がり角）θは、視角特性に優れた表示用液晶パネルを得るという観点から、９０°程度にすることが好ましい。各親水性領域１１９ｂの周囲は疎水性領域１１９ａとなっている。
【００８３】
個々の親水性領域１１９ｂの線幅は、液晶配向用基板を用いて作製しようとする表示用液晶パネルでのセルギャップ（設計値）を基準にしたときに、前記のセルギャップの値の４倍程度以下とすることが好ましく、２倍程度以下とすることが更に好ましい。また、この線幅は、セルギャップの値程度以上とすることが好ましい。
【００８４】
上述したＭＤ用配向膜１１９を備えた液晶配向用基板は、本発明でいうパターン形成体の１つである。このＭＤ用配向膜を備えた液晶配向用基板は、図４（ｂ）に示したＶＡ用配向膜１０９を本発明のパターン形成体の製造法でいう被パターン形成層として用い、かつ、本発明のフォトマスクにおいて光透過部を親水性領域１１９ｂの配置対応させて形成する以外は、既に説明した本発明のパターン形成体の製造法により得ることができる。
【００８５】
ＭＤ用配向膜１１９を有する液晶配向基板を用いて表示用液晶パネルを形成すると、親水性領域１１９ｂ上の液晶分子、及び親水性領域１１９ｂと疎水性領域１１９ａとの境界近傍の液晶分子が、疎水性領域１１９ａ上の液晶分子よりも傾斜配向し易くなる。すなわち、親水性領域１１９ｂ上の液晶分子、及び親水性領域１１９ｂと疎水性領域１１９ａとの境界近傍の液晶分子は、疎水性領域１１９ａ上の液晶分子に比べて、より低い電圧で傾斜配向を開始する。
【００８６】
親水性領域１１９ｂ上の液晶分子、及び親水性領域１１９ｂと疎水性領域１１９ａとの境界近傍の液晶分子が、疎水性領域１１９ａ上の液晶分子よりも先に傾斜配向すると、局所的な配向歪みが生じる。液晶は弾性体であるので、局所的に配向歪みが生じた場合にはこの歪みを解消して安定を保とうとする。このため、少なくとも疎水性領域１１９ａ上の液晶分子は、中間調表示時に疎水性領域１１９ａと親水性領域１１９ｂとの境界近傍の液晶分子の傾斜配向に倣うようにして傾斜配向する。結果として、個々の画素をマルチドメイン化することが可能になる。
【００８７】
なお、ＭＤ用配向膜における親水性領域の配置及び形状は図５に示した配置及び形状に限定されるものではなく、例えば、（１）表示用液晶パネルにおける個々の画素上での疎水性領域の分布形態が全画素を通じて実質的に一定となる配置及び形状、又は、（２）表示用液晶パネルにおける画素上での疎水性領域の分布形態が複数種となり、かつ、これらの分布形態が画素列方向及び画素行方向の少なくとも一方に実質的に一定の周期で出現する配置及び形状であれば、適宜変更可能である。親水性領域によって画定される個々の疎水性領域の平面視上の形状は、例えば正三角形等の三角形、正方形等の四角形、正六角形等の六角形、円形等とすることができる。例えば、親水性領域の形状を格子状にすれば、個々の疎水性領域の形状を四角形にすることができ、ハニカム状にすれば、個々の疎水性領域の形状を六角形にすることができる。
【００８８】
また、ＭＤ用配向膜を備えた液晶配向用基板は、表示用液晶パネルにおける表示面側の基板として用いられるものに限定されるものではなく、表示用液晶パネルにおける背面側の基板として用いられるものであってもよい。液晶配向用基板の構成は、その用途等に応じて適宜選定可能である。
【００８９】
前述したように、本発明のパターン形成体の製造方法においては、必要に応じて、選択露光工程で被パターン形成層の表面に形成したパターン上に機能性部を形成する機能性部形成工程を行うことができる。この場合、選択露光工程まで行うことによって得られるパターン形成体は、他のパターン形成体を得るための中間製品として用いられる。以下、機能性部の具体例としてブラックマトリクス、カラーフィルターアレイ、及びマイクロレンズアレイを挙げて、任意工程である機能性部形成工程について説明する。
【００９０】
＜機能性部形成工程＞
〔ブラックマトリクス及びカラーフィルターアレイ〕
図６は、機能性部として形成することができるブラックマトリクス及びカラーフィルターアレイの配置の一例を概略的に示す断面図である。図示のように、ブラックマトリクス１４０及びカラーフィルターアレイ１４５は、いずれも、光透過性基板１３１の片面に下地層１３３を介して形成されている。
【００９１】
透光性基板１３１の片面に下地層１３３が形成された部材１３５は、本発明の製造方法によって製造されたパターン形成体の１つであり、下地層１３３の表面のうちでブラックマトリクス１４０の下地となっている領域及びカラーフィルターアレイ１４５の下地となっている領域のうちの少なくとも一方が、前述した選択露光工程を経ることにより親水性領域となっている。表面を選択的に親水化する前の下地層１３３（以下、「前駆層」という。）が、本発明でいう被パターン形成層に相当する。
【００９２】
また、下地層１３３上に形成されたブラックマトリクス１４０及びカラーフィルターアレイ１４５の少なくとも一方が、前述した機能性部に相当する。ブラックマトリクス１４０及びカラーフィルターアレイ１４５が形成された部材１５０も、本発明の製造方法によって製造されたパターン形成体の１つである。
【００９３】
この部材１５０におけるカラーフィルターアレイ１４５は、所定のパターンで配置された多数の赤色カラーフィルター１４５Ｒによって構成される赤色カラーフィルターアレイと、所定のパターンで配置された多数の青色カラーフィルター１４５Ｇによって構成される青色カラーフィルターアレイと、所定のパターンで配置された多数の緑色カラーフィルター１４５Ｂによって構成される青色カラーフィルターアレイとを所定のパターンで配置したものである。ブラックマトリクス１４０は黒色樹脂により形成されたものであり、カラーフィルターアレイ１４５を構成している個々の赤色カラーフィルター１４５Ｒ、緑色カラーフィルター１４５Ｇ、青色カラーフィルター１４５Ｂを平面視上取り囲むように配置されている。
【００９４】
例えば、前駆層の表面のうちでブラックマトリクス１４０を形成しようとする領域を選択的に露光して親水性領域を形成し、これにより下地層１３３を得る。親水性領域の周囲は疎水性領域となっている。このようにして形成された下地層１３３上に黒色樹脂製のブラックマトリクス１４０を形成するためのコーティング組成物を塗布すると、親水性領域上にのみ、容易に塗膜を形成することができる。ブラックマトリクス１４０は上記の塗膜を硬化させることにより得られるので、目的とする黒色樹脂製のブラックマトリクス１４０を所望の位置に容易に形成することができる。
【００９５】
この場合、ブラックマトリクス１４０の形状に対応して下地層１３３の表面に選択的に形成された親水性領域が、本発明のパターン形成体の製造法でいう「パターン」に相当する。ブラックマトリクス１４０用のコーティング組成物により親水性領域上に塗膜を形成し、この塗膜を硬化させてブラックマトリクス１４０を得る工程が、機能性部形成工程に相当する。
【００９６】
前駆層の表面に親水性領域を形成せずに、従来と同様に金属クロム等の無機材料で前駆層上にブラックマトリクス１４０を形成し、その後、前駆層の表面のうちでカラーフィルターアレイ１４５を形成しようとする領域を選択的に露光してここを親水性領域にしてからカラーフィルターアレイを形成することもできる。この場合、前駆層の選択的な露光及びカラーフィルターアレイの形成は、カラーフィルターアレイ１４５を構成する各色のカラーフィルターアレイ毎に順次行われる。
【００９７】
すなわち、１色目のカラーフィルターアレイの配置に対応させて選択的な露光を行ってからこの色のカラーフィルターアレイを形成し、その後、２色目のカラーフィルターアレイの配置に対応させて選択的な露光を行ってからこの色のカラーフィルターアレイを形成し、最後に、３色目のカラーフィルターアレイの配置に対応させて選択的な露光を行ってからこの色のカラーフィルターアレイを形成する。各色のカラーフィルターアレイは、所定の親水性領域上に例えば印刷法により所望色のカラーフィルター用インキ又はカラーレジンを塗布して塗膜を形成し、この塗膜を硬化させることにより得ることができる。この場合でも、親水性領域上にのみ、上記の塗膜を容易に形成することができるので、目的とする所望色のカラーフィルターアレイを所望の位置に形成することが容易になる。
【００９８】
各色のカラーフィルターアレイを形成するにあたって下地層１３３の表面に選択的に形成される親水性領域が、本発明のパターン形成体の製造法でいう「パターン」に相当する。また、カラーフィルター用インク又はカラーレジンを塗布して塗膜を形成し、この塗膜を硬化させて所望色のカラーフィルターアレイを得る工程が、機能性部形成工程に相当する。
【００９９】
このようにしてカラーフィルターアレイ１４５を形成すると、カラーフィルターアレイ１４５を構成する各色のカラーフィルター１４５Ｒ、１４５Ｇ、１４５Ｂとブラックマトリクス１４０との重なり幅が小さいか、各色のカラーフィルター１４５Ｒ、１４５Ｇ、１４５Ｂとブラックマトリクス１４０との重なりが実質的にないカラーフィルターアレイ１４５を得ることができる。カラーフィルターアレイ１４５における上記の重なり幅が小さいか、又は重なりが実質的にない場合には、その上に平坦性の高い透明電極パターン及び配向膜を形成し易くなるので、セルギャップのムラが小さい表示用液晶パネルを得ることが容易になる。
【０１００】
なお、図６に示した部材１５０を製造するにあたっては、上述のようにして下地層１３３上に黒色樹脂製のブラックマトリクス１４０を形成し、その後、上述のようにしてカラーフィルターアレイ１４５を形成することもできる。この場合には、ブラックマトリクス１４０を形成する工程、及び、カラーフィルターアレイ１４５を形成する工程が、それぞれ、機能性部形成工程に相当する。
【０１０１】
機能性部として形成するカラーフィルターアレイは、フルカラー表示の表示装置に用いられるカラーフィルターアレイに限定されるものではない。本発明のパターン形成体の製造法においては、表示装置又は撮像装置に用いられる種々のカラーフィルターアレイを、機能性部として形成することが可能である。同様のことが、機能性部としてブラックマトリクスを形成する場合にもいえる。例えば、図６に示したブラックマトリクス１４０及びカラーフィルターアレイ１４５を覆うようにして透明電極パターンを形成し、その上に配向膜を設ければ、液晶配向用基板を得ることができる。
【０１０２】
〔マイクロレンズアレイ〕
図７は、機能性部として形成することができるマイクロレンズアレイの一例を概略的に示す断面図である。図示のマイクロレンズアレイ１６８は、多数のマイクロレンズ１６８ａを規則的に配置することにより形成されており、個々のマイクロレンズ１６８ａは光透過性基板１６１の片面に下地層１６３を介して形成されている。
【０１０３】
透光性基板１６１の片面に下地層１６３が形成された部材１６５は、本発明の製造方法により製造されたパターン形成体の１つであり、透光性基板１６１上に下地層１６３を介してマイクロレンズアレイ１６８が形成された部材１７０も、本発明の製造方法により製造されたパターン形成体の１つである。
【０１０４】
下地層１６３の表面のうちでマイクロレンズ１６８ａの下地となっている領域が、親水性領域となっている。親水性領域の周囲は疎水性領域となっている。表面を選択的に親水化する前の下地層１６３（以下、「前駆層」という。）が、本発明でいう被パターン形成層に相当する。
【０１０５】
前駆層の表面のうちでマイクロレンズ１６８ａを形成しようとする各領域を選択的に露光して親水性領域を形成し、これにより下地層１６３を得る。各親水性領域の周囲は疎水性領域となっている。このようにして形成された下地層１６３上にマイクロレンズアレイ１６８を形成するためのコーティング組成物を塗布すると、各親水性領域上にのみ、容易に塗膜を形成することができる。このとき、コーティング組成物を上記の親水性領域に一定量以上塗布すると、周囲が疎水性領域となっていることから、塗布されたコーティング組成物は親水性領域内に止まろうとして、周囲に疎水性領域がない場合に比べて塗膜全体が盛り上がった状態となる。マイクロレンズアレイ１６８は、上記の各塗膜を硬化させることにより得られるので、個々のマイクロレンズ１６８ａを所望の位置に容易に形成することができる。また、コーティング組成物の塗布量を調整することにより、個々のマイクロレンズ１６８ａの焦点距離を制御することが可能である。
【０１０６】
このようにしてマイクロレンズアレイ１６８を形成する場合、マイクロレンズアレイ１６８の形状（個々のマイクロレンズ１６８ａの配置）に対応して下地層１６３の表面に選択的に形成された親水性領域が、本発明のパターン形成体の製造法でいう「パターン」に相当する。マイクロレンズアレイ１６８を形成するためのコーティング組成物により親水性領域上に塗膜を形成し、この塗膜を硬化させてマイクロレンズアレイ１６８を得る工程が、機能性部形成工程に相当する。
【０１０７】
なお、マイクロレンズアレイ１６８を形成するためのコーティング組成物としては、例えば、感光性樹脂組成物や熱硬化性樹脂組成物を用いることができる。また、個々のマイクロレンズ１６８ａの平面視上の形状は、円形、四角形等、マイクロレンズアレイの１６８の用途等に応じて適宜選定される。マイクロレンズアレイは、例えば集光素子、立体表示用素子、光カップリング素子、光拡散素子等として表示装置、撮像装置、光通信装置、光集積回路、画像認識装置等、種々の分野で利用されるものであるので、基材１６１の構成は、マイクロレンズアレイ１６８の用途等に応じて適宜選定される。例えば、表示用液晶パネルにおける背面側の基板にマイクロレンズアレイ設けることにより、バックライトの照度を低くした場合でも、表示が明るく、かつ、鮮明な液晶表示装置を得ることができる。
【０１０８】
＜他の形態＞
前述した選択露光工程まで行うことによって得たパターン形成体は、例えば無電解めっき膜からなる所望パターンの機能性部を形成するための中間製品として用いることができる。
【０１０９】
無電解めっき膜からなる所望パターンの機能性部を形成する場合、選択露光工程まで行うことによって得たパターン形成体の表面には親水性領域が所定パターンで形成されているので、無電解めっきにより薄膜を形成する際の前処理液を親水性領域上にのみ容易に塗布することができる。その結果として、親水性領域上にのみ、所望の無電解めっき膜を形成することが容易になる。この方法によれば、機能性部として例えば回路パターンを形成することができる。
【０１１０】
また、選択露光工程まで行うことによって得たパターン形成体は、親水性領域上での蒸着膜の付着強度と疎水性領域上での蒸着膜の付着強度との差を利用して、蒸着膜からなる所望パターンの機能性部を形成するための中間製品として用いることもできる。
【０１１１】
蒸着膜からなる所望パターンの機能性部を形成する場合、まず、選択露光工程まで行うことによって得たパターン形成体の表面に形成されているパターン（潜像）を覆うようにして、物理気相成長（ＰＶＤ）法や化学気相成長（ＣＶＤ）法等により蒸着膜を成膜する。その後、この蒸着膜全体に粘着フィルム等を一旦貼り付け、貼り付けた粘着フィルム等を引き剥がす。このとき、親水性領域上での蒸着膜の付着強度が疎水性領域上での蒸着膜の付着強度に比べて高いことから、疎水性領域上においてのみ、粘着フィルム等と一緒に蒸着膜を剥離させることができる。結果として、親水性領域の形状に対応した形状の蒸着膜パターンからなる機能性部を形成することができる。この方法によっても、機能性部として例えば回路パターンを形成することができる。
【実施例】
【０１１２】
＜実施例１＞
まず、厚さ約０．２２５ｍｍ（０．０９インチ）の石英ガラス基板を用意した。また、アナターゼ型酸化チタン微粒子の分散液（石原産業社製のＳＴ−Ｋ０３（商品名））にフッ素系シリコーン（東芝シリコーン社製のＴＳＬ８２２３）を１ｗｔ％添加して、フッ素含有光触媒活性層を形成するためのコーティング組成物を調製した。
【０１１３】
次に、上記の石英ガラス基板の片面に上記のコーティング組成物をスピンコートして、膜厚が０．５μｍの塗膜を形成した。この後、前記の塗膜を１５０℃で１０分間乾燥させて、膜厚０．５μｍのフッ素含有光触媒活性層を得た。以下、このフッ素含有光触媒層が形成された石英ガラス基板を「マスクブランク」という。
【０１１４】
マスクブランクの作製とは別に、アルキル系シリコーン（信越化学工業社製のＬＳ２８２０と東芝シリコーン社製のＴＳＬ８１１４との０．３：１（質量比）混合物を用意し、このアルキル系シリコーンを無アルカリガラス基板の片面にスピンコートして、膜厚が７０ｎｍの塗膜を形成した。この後、前記の塗膜を１５０℃で１０分間乾燥させて、膜厚７０ｎｍの被パターン形成層を得た。この被パターン形成層の表面の性状は、疎水性である。同様にして、計６つの被パターン形成層を得た。
【０１１５】
次に、前述したマスクブランクを介して、各被パターン形成層の表面を２００〜３７０ｎｍの波長域の紫外線により露光した。このとき、マスクブランクは、フッ素含有光触媒活性層と被パターン形成層とが互いに対向するようにして、被パターン形成層上に配置した。また、フッ素含有光触媒活性層と被パターン形成層との間隔は、約２０μｍとした。露光量は、被パターン形成層毎に、０ｍＪ／ｃｍ２ 、７０ｍＪ／ｃｍ２ 、１４０ｍＪ／ｃｍ２ 、２８０ｍＪ／ｃｍ２ 、５６０ｍＪ／ｃｍ２ 、又は８４０ｍＪ／ｃｍ２ とし、マスクブランクへの露光光の入射角は、いずれの被パターン形成層を露光する場合も、０°とした。
【０１１６】
露光後の各被パターン形成層（露光量が０ｍＪ／ｃｍ２ のものを含む。）の表面自由エネルギーを、次のようにして求めた。すなわち、各被パターン形成層上に表面自由エネルギーが既知である複数種の液体を滴下し、それらの接触角を接触角測定器（協和界面科学社製のＣＡ−Ｚ型）により測定して、下記の式（Ｉ）及び式（II）から上記の表面自由エネルギーを求めた。このようにして求めた表面自由エネルギーと露光量との関係を図８に示す。
【０１１７】
【数１】
2005191180.tif 000003
【０１１８】
【数２】
2005191180.tif 000004
【０１１９】
＜比較例１＞
実施例１で用いたフッ素系シリコーンに代えてフッ素を含有していないシリコーン（信越化学工業社製のＬＳ５２５８）を用いてマスクブランクを作製し、このマスクブランクを用いて実施例１と同じ条件の下に計６つの被パターン形成層を選択的に露光（露光量が０ｍＪ／ｃｍ２ のものを含む。）した。そして、露光後の被パターン形成層の表面自由エネルギーを実施例１と同じ条件の下に測定した。結果を図８に併記する。
【０１２０】
＜比較例２＞
実施例１で用いたフッ素系シリコーンに代えてフッ素を含有していないシリコーン（信越化学工業社製のＬＳ２８２０）を用いてマスクブランクを作製し、このマスクブランクを用いて実施例１と同じ条件の下に計６つの被パターン形成層を選択的に露光（露光量が０ｍＪ／ｃｍ２ のものを含む。）した。そして、露光後の被パターン形成層の表面自由エネルギーを実施例１と同じ条件の下に測定した。結果を図８に併記する。
【０１２１】
＜評価＞
図８から明らかなように、実施例１で作製したマスクブランクを用いた場合には、比較例１又は比較例２で作製したマスクブランクを用いた場合に比べて、同じ露光量の下に露光しても被パターン形成層の表面自由エネルギーが大きくなる。また、被パターン形成層の表面自由エネルギーを同じ値にするのに要する露光量が少ない。
【０１２２】
実施例１で作製したものはマスクブランクあってフォトマスクではないが、このマスクブランクに所定形状の遮光膜パターンを設けることにより、例えば図１（ｃ）に示す構造のフォトマスクを得ることができる。そして、このフォトマスクを用いて被パターン形成層を選択的に露光した場合でも、図８に示した結果と同様の結果が得られ、所望のパターン形成体を比較的高い露光感度の下に形成することが容易になると考えられる。また、フォトマスクの構造を図１（ａ）又は図１（ｂ）に示す構造にしても、同様の結果が得られるものと考えられる。
【図面の簡単な説明】
【０１２３】
【図１】図１（ａ）は、本発明のフォトマスクの基本的な断面構造の一例を示す概略図であり、図１（ｂ）は、本発明のフォトマスクの基本的な断面構造の他の例を示す概略図であり、図１（ｃ）は、本発明のフォトマスクの基本的な断面構造の更に他の例を示す概略図である。
【図２】図２（ａ）〜図２（ｃ）は、それぞれ、本発明のパターン成形体の製造方法において行われる選択露光工程を説明するための工程図である。
【図３】図３（ａ）〜図３（ｂ）は、それぞれ、光触媒反応の作用機構を説明するための模式図である。
【図４】図４（ａ）は、垂直配向膜を備えた液晶配向用基板における構成部材の平面配置の一例を示す概略図であり、図４（ｂ）は、図４（ａ）に示したIV−IV線断面の概略図である。
【図５】図４（ｂ）に示した垂直配向膜の表面に複数の親水性領域を形成することによって得られる、マルチドメイン方式の液晶表示装置に用いられる配向膜での親水性領域の配置の一例を概略的に示す平面図である。
【図６】本発明のパターン形成体の製造方法での任意工程である機能性部形成工程において機能性部として形成することができるブラックマトリクス及びカラーフィルターアレイの配置の一例を概略的に示す断面図である。
【図７】本発明のパターン形成体の製造方法での任意工程である機能性部形成工程において機能性部として形成することができるマイクロレンズアレイの一例を概略的に示す断面図である。
【図８】実施例、比較例１、及び比較例２でそれぞれ製造したマスクパターンを用いて被パターン形成層を露光したときの、露光後の被パターン形成層の表面自由エネルギーと露光量との関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【０１２４】
１、１１、２１  光透過性基板
３、１３、２３  遮光膜パターン
５、１５、２５  光透過部
７、１７、２７  フッ素含有光触媒活性層
１０、２０、３０  フォトマスク
４０  被パターン形成層
４０ａ  疎水施領域
４０ｂ  親水性領域
５０、１３５、１５０、１６５、１７０  パターン形成体
１１９  マルチドメイン方式の液晶表示装置に用いられる配向膜
１１９ａ  疎水性領域
１１９ｂ  親水性領域
１４０  ブラックマトリクス
１４５  カラーフィルターアレイ
１６８  マイクロレンズアレイ
【図１】
2005191180.tif 000005
【図２】
2005191180.tif 000006
【図３】
2005191180.tif 000007
【図４】
2005191180.tif 000008
【図５】
2005191180.tif 000009
【図６】
2005191180.tif 000010
【図７】
2005191180.tif 000011
【図８】
2005191180.tif 000012