(57)【要約】【課題】  厚みを均一にすることによって、光学特性の均一性を向上し、且つ、干渉ムラが抑制された光学フィルムを提供する。【解決手段】  基材１を走行させながら、前記基材１上に、非液晶性ポリマーを含み且つ粘度が０．０５Ｐａ・ｓ〜５００Ｐａ・ｓである塗工液３を塗布して、塗膜２を形成し、前記基材の走行方向に沿って前記塗膜２に気体を吹き付けることによって、前記塗膜２を乾燥させ、前記基材１上に光学フィルムを形成する。前記気体の風速は８ｍ／ｓｅｃ〜５０ｍ／ｓｅｃの範囲が好ましく、前記基材の走行方向に対して垂直方向における前記風速のバラツキが、±３０％以下であることが好ましい。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材を走行させながら前記基材上に非液晶性ポリマーを含む塗工液を塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜を乾燥させて、前記基材上に光学フィルムを形成する工程とを含む光学フィルムの製造方法であって、
前記塗工液の粘度が０．０５Ｐａ・ｓ〜５００Ｐａ・ｓであり、
前記乾燥工程が、前記基材の走行方向に沿って、前記塗膜に気体を吹き付ける工程であることを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記気体の風速が８ｍ／ｓｅｃ〜５０ｍ／ｓｅｃの範囲である請求項１記載の製造方法。
【請求項３】
前記基材の走行方向に対して垂直方向における前記風速のバラツキが、±３０％以下である請求項２記載の製造方法。
【請求項４】
前記気体の温度が２０℃〜６０℃の範囲である請求項１〜３のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項５】
前記基材の走行方向に対して垂直な方向における前記温度のバラツキが、±１５％以下である請求項４記載の製造方法。
【請求項６】
前記気体の吹き付け方向が、前記基材表面に対して０度を超え６０度以下の範囲で傾斜した方向である請求項１〜５のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項７】
前記気体の湿度が、２０％〜６０％である請求項１〜６のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項８】
前記塗膜に気体を吹き付ける乾燥工程の後、さらに、加熱処理を施す第２の乾燥工程を含む請求項１〜７のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項９】
前記非液晶性ポリマーが、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドおよびポリエステルイミドからなる群から選択される少なくとも一種のポリマー材料である請求項１〜８のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１０】
前記非液晶性ポリマーの分子量が、５０，０００〜５７０，０００の範囲である請求項１〜９のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１１】
前記塗工液における前記非液晶性ポリマーの濃度（固形分濃度）が、５〜３０重量％の範囲である請求項１〜１０のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１２】
前記乾燥後の塗膜の厚みが、０．２μｍ〜１２μｍの範囲である請求項１〜１１のいずれか一項に記載の製造方法。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれかに記載の製造方法によって得られた光学フィルム。
【請求項１４】
光学補償用である請求項１３記載の光学フィルム。
【請求項１５】
厚みが３０μｍ以下である請求項１３または１４記載の光学フィルム。
【請求項１６】
厚みが０．５μｍ〜１０μｍの範囲である請求項１５記載の光学フィルム。
【請求項１７】
請求項１３〜１６のいずれか一項に記載の光学フィルムを含むことを特徴とする光学部材。
【請求項１８】
さらに、偏光フィルムを含む請求項１７記載の光学部材。
【請求項１９】
請求項１７または請求項１８記載の光学部材を含むことを特徴とする画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルムの製造方法および光学フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、省電力化や省スペース化等の点から、テレビやコンピュータ等の表示装置として、ＬＣＤ（liquid crystal display）が多く採用されている。また、ＬＣＤにおいては、偏光や反射防止等のために、種々の光学（機能）フィルムが用いられており、光学フィルムの高性能化は、ＬＣＤの高性能化において重要である。
【０００３】
このような光学フィルムとしては、従来から、フィルム状の基材表面に光学機能を備えた薄層を形成したものが知られており、例えば、前記基材表面に塗工液を塗布して塗膜を形成し、前記塗膜を乾燥させる薄層コーティング法が広く採用されている（例えば、特許文献１参照）。具体的な薄層コーティング法としては、スロットダイコーターやグラビアコーター等を用いた方法が挙げられる。
【０００４】
そして、近年では、光学機能の高性能化の要望に伴い、光学フィルムの製造において、光学機能を発現することとなる前記塗膜の均一性を向上させることが必須となってきている。例えば、前記塗膜の表面や厚みが不均一であると、表面ムラや厚みムラによる干渉ムラが問題となるからである。このため、コーティング方式の選定のみならず、塗工後の乾燥工程の制御等も重要となってきている（例えば、特許文献２参照）。
【０００５】
そこで、基材上に厚みが均一な塗膜を形成する方法として、例えば、基材を移動させながら、塗工液を塗布して塗膜を形成し、更に、前記塗膜に対して移動方向に沿って気体を吹き付けて、これを乾燥させる方法が開示されている（例えば、特許文献１参照）。この方法では、塗工液が持つ流動性と気体の圧力とによって、塗膜表面の平滑化、厚みの均一化の実現を試みている。
【特許文献１】特開昭６２-１４０６７２２号公報
【特許文献２】特開平８-９４８３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、現状の塗工方法によると、例えば、塗工工程と乾燥工程との間に、前記塗膜において樹脂の流動が生じ、均一な膜厚の塗膜を形成することが困難である。特に、大面積の基材上に、均一な膜厚で塗膜を形成することは極めて困難であり、液晶表示装置をはじめとする各種画像表示装置の大型化への対応が問題となっている。
【０００７】
そこで、本発明の目的は、例えば、塗膜面積が大きい場合であっても、表面（厚み）が均一化され、これに伴い光学特性も均一化され、干渉ムラも抑制された光学フィルム、また、その製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記目的を達成するために、本発明の光学フィルムの製造方法は、基材を走行させながら前記基材上に非液晶性ポリマーを含む塗工液を塗布して塗膜を形成する工程と、前記塗膜を乾燥させて、前記基材上に光学フィルムを形成する工程とを含む光学フィルムの製造方法であって、前記塗工液の粘度が０．０５Ｐａ・ｓ〜５００Ｐａ・ｓであり、前記乾燥工程が、前記基材の走行方向に沿って、前記塗膜に気体を吹き付ける工程であることを特
徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
以上のような本発明の製造方法によれば、塗工液が持つ流動性と、気体の圧力ならびにその方向性とによって、前記塗膜の表面は、従来と比べて平滑化され、その厚みも均一化できる。すなわち、従来の方法によると、形成された塗膜の表面には、例えば、スジ状のムラが見られたが、本発明の製造方法によれば、目視観察した場合に、極めて平滑な表面となっている。これは、従来の方法によると相対的に大きな凹凸が表面に形成されるが、本発明の方法によると、塗膜の表面に形成される凹凸が極めて微細であるためと解される。また、本発明の製造方法によって得られる光学フィルムも、厚みが全体として均一であり、これに伴い光学特性も均一性に優れるものとなる。特に、塗膜面積が大きい場合であっても、十分な均一化が可能となるため、前述のように、各種画像表示装置の大型化の要望にも適用し得る、厚みや光学機能の均一性に優れた光学フィルムを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
本発明の製造方法において、前記塗工液の粘度は、前述のように０．０５Ｐａ・ｓ〜５００Ｐａ・ｓの範囲であればよい。前記粘度が０.０５Ｐａ・ｓ未満であると、基材上に塗布する際に塗工液が飛散して、塗膜の厚みが不均一になるおそれがあり、一方、粘度が５００Ｐａ・ｓを超えると、塗工液が流動し難いために、塗膜表面において、前述のような微細な凹凸の形成が阻害されるという問題がある。前記粘度は、好ましくは０．０７Ｐａ・ｓ〜１０Ｐａ・ｓの範囲であり、特に好ましくは０．０９Ｐａ・ｓ〜０．６Ｐａ・ｓの範囲である。
【００１１】
なお、本発明において、前記塗工液の粘度は、回転式や落球式などの一般的な粘度計を用いて測定することができ、例えば、レオメータ（商品名ＲＳ−１：Ｈｅａｋｅ社製）が使用できる。本発明における塗工液の粘度は、２３℃、剪断速度３００（１／ｓ）で測定した場合の粘度を意味するが、この測定方法は、粘度を特性するためのみに用いられるものであって、本発明の製造方法を何ら制限するものではない。
【００１２】
前記塗工液の粘度は、例えば、前記非液晶性ポリマーの濃度や分子量等によって調整できる。すなわち、非液晶性ポリマー濃度を一定にした場合、非液晶性ポリマーの分子量を相対的に低く設定すれば、それに応じて粘度を低く設定でき、前記分子量を相対的に高く設定すれば、それに応じて粘度を高く設定できる。また、非液晶性ポリマーの分子量を一定にした場合、高濃度にすれば粘度を高く設定でき、低濃度に設定すれば粘度を低く設定できる。
【００１３】
前記塗工液における非液晶性ポリマーの濃度は、特に制限されないが、例えば、固形分濃度が５重量％〜３０重量％の範囲であることが好ましく、より好ましくは６重量％〜２０重量％であり、特に好ましくは８重量％〜１５重量％である。
【００１４】
また、前記非液晶性ポリマーの分子量は、特に制限されないが、前記非液晶性ポリマーの分子量および濃度によって、前記粘度を調整できることから、粘度および濃度に応じて決定することができる。具体的には、重量平均分子量（Ｍｗ）が、１,０００〜１,０００,０００の範囲であることが好ましく、より好ましくは５０，０００〜５７０,０００の範囲である。
【００１５】
前記非液晶性ポリマーとしては、例えば、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことから、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアリールエーテルケトン、ポリアミドイミド、ポリエステルイミド等のポリマーが好ましい。これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリアリール
エーテルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ２種以上の混合物として使用してもよい。このようなポリマーの中でも、高透明性、高配向性、高延伸性であることから、ポリイミドが特に好ましい。
【００１６】
前記ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、例えば、特表２０００-５１１２９６号公報に開示された、９,９-ビス(アミノアリール)フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記式（１）に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが使用できる。
【００１７】
【化１】
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【００１８】
前記式（１）中、Ｒ3〜Ｒ6は、水素、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ1〜10アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ1〜10アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、Ｒ3〜Ｒ6は、ハロゲン、フェニル基、１〜４個のハロゲン原子またはＣ1〜10アルキル基で置換されたフェニル基、およびＣ1〜10アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。
【００１９】
前記式（１）中、Ｚは、例えば、Ｃ6〜20の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、または、下記式（２）で表される基である。
【００２０】
【化２】
2005215210.tif 000004
【００２１】
前記式（２）中、Ｚ'は、例えば、共有結合、Ｃ(Ｒ7)2基、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ(Ｃ2Ｈ5)2基、または、ＮＲ8基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。また、ｗは、１から１０までの整数を表す。Ｒ7は、それぞれ独立に、水素またはＣ（Ｒ9）3である。Ｒ8は、水素、炭素原子数１〜約２０のアルキル基、またはＣ6〜20アリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。Ｒ9は、それぞれ独立に、水素、フッ素、または塩素である。
【００２２】
前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレンまたはアントラセンから誘導される４価の基があげられる。また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、Ｃ1〜10のアルキル基、そのフッ素化誘導体、およびＦやＣｌ等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された前記多環式芳香族基があげられる。
【００２３】
この他にも、例えば、特表平８-５１１８１２号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式（３）または（４）で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式（５）で示されるポリイミド等があげられる。なお、下記式（５）のポリイミドは、下記式（３）のホモポリマーの好ましい形態である。
【００２４】
【化３】
2005215210.tif 000005
【００２５】
前記一般式（３）〜（５）中、ＧおよびＧ'は、例えば、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ(ＣＨ3)2基、Ｃ(ＣＦ3)2基、Ｃ(ＣＸ3)2基（ここで、Ｘは、ハロゲンである。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ(ＣＨ2ＣＨ3)2基、および、Ｎ(ＣＨ3)基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表し、それぞれ同一でも異なってもよい。
【００２６】
前記式（３）および式（５）中、Ｌは、置換基であり、ｄおよびｅは、その置換数を表す。Ｌは、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3アルキル基、Ｃ1〜3ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3アルキル基、およびＣ1〜3ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。また、前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素があげられる。ｄは、０から２までの整数であり、ｅは、０から３までの整数である。
【００２７】
前記式（３）〜（５）中、Ｑは置換基であり、ｆはその置換数を表す。Ｑとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、および置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子または基であって、Ｑが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基があげられる。また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基があげられる。ｆは、０から４までの整数であり、ｇおよびｈは、それぞれ０から３および１から３までの整数である。また、ｇおよびｈは、１より大きいことが好ましい。
【００２８】
前記式（４）中、Ｒ10およびＲ11は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、および置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に選択される基である。その中でも、Ｒ10およびＲ11は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
【００２９】
前記式（５）中、Ｍ1およびＭ2は、同一であるかまたは異なり、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3アルキル基、Ｃ1〜3ハロゲン化アルキル基、フェニル基、または、置換フェニル基である。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素があげられる。また、前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3アルキル基、およびＣ1〜3ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基があげられる。
【００３０】
前記式（３）に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記式（６）で表されるもの等があげられる。
【００３１】
【化４】
2005215210.tif 000006
【００３２】
さらに、前記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格（繰り返し単位）以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーがあげられる。
【００３３】
前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物があげられる。前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、２,２'-置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。
【００３４】
前記ピロメリト酸二無水物としては、例えば、ピロメリト酸二無水物、３,６-ジフェニルピロメリト酸二無水物、３,６-ビス(トリフルオロメチル)ピロメリト酸二無水物、３,６-ジブロモピロメリト酸二無水物、３,６-ジクロロピロメリト酸二無水物等があげられる。前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、３,３',４,４'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２,３,３',４'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２,２',３,３'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２,３,６,７-ナフタレン-テトラカルボン酸二無水物、１,２,５,６-ナフタレン-テトラカルボン酸二無水物、２,６-ジクロロ-ナフタレン-１,４,５,８-テトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン-２,３,４,５-テトラカルボン酸二無水物、ピラジン-２,３,５,６-テトラカルボン酸二無水物、ピリジン-２,３,５,６-テトラカルボン酸二無水物等があげられる。前記２,２'-置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、２,２'-ジブロモ-４,４',５,５'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２,２'-ジクロロ-４,４',５,５'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２,２'-ビス(トリフルオロメチル)-４,４',５,５'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等があげられる。
【００３５】
また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、３,３',４,４'-ビ
フェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(２,３-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(２,５,６-トリフルオロ-３,４-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、２,２-ビス(３,４-ジカルボキシフェニル)-１,１,１,３,３,３-ヘキサフルオロプロパン二無水物、４,４'-ビス(３,４-ジカルボキシフェニル)-２,２-ジフェニルプロパン二無水物、ビス(３,４-ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、４,４'-オキシジフタル酸二無水物、ビス(３,４-ジカルボキシフェニル)スルホン酸二無水物、３,３',４,４'-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、４,４'-[４,４'-イソプロピリデン-ジ(ｐ-フェニレンオキシ)]ビス(フタル酸無水物)、Ｎ,Ｎ-(３,４-ジカルボキシフェニル)-Ｎ-メチルアミン二無水物、ビス(３,４-ジカルボキシフェニル)ジエチルシラン二無水物等があげられる。
【００３６】
これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、２,２'-置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、２,２'-ビス(トリハロメチル)-４,４',５,５'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、２,２'-ビス(トリフルオロメチル)-４,４',５,５'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。
【００３７】
前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンがあげられ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、およびその他の芳香族ジアミンがあげられる。
【００３８】
前記ベンゼンジアミンとしては、例えば、ｏ-、ｍ-およびｐ-フェニレンジアミン、２,４-ジアミノトルエン、１,４-ジアミノ-２-メトキシベンゼン、１,４-ジアミノ-２-フェニルベンゼンおよび１,３-ジアミノ-４-クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等があげられる。前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、２,２'-ジアミノベンゾフェノン、および３,３'-ジアミノベンゾフェノン等があげられる。前記ナフタレンジアミンとしては、例えば、１,８-ジアミノナフタレン、および１,５-ジアミノナフタレン等があげられる。前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、２,６-ジアミノピリジン、２,４-ジアミノピリジン、および２,４-ジアミノ-Ｓ-トリアジン等があげられる。
【００３９】
また、前記芳香族ジアミンとしては、これらの他に、４,４'-ジアミノビフェニル、４,４'-ジアミノジフェニルメタン、４,４'-(９-フルオレニリデン)-ジアニリン、２,２'-ビス(トリフルオロメチル)-４,４'-ジアミノビフェニル、３,３'-ジクロロ-４,４'-ジアミノジフェニルメタン、２,２'-ジクロロ-４,４'-ジアミノビフェニル、２,２',５,５'-テトラクロロベンジジン、２,２-ビス(４-アミノフェノキシフェニル)プロパン、２,２-ビス(４-アミノフェニル)プロパン、２,２-ビス(４-アミノフェニル)-１,１,１,３,３,３-ヘキサフルオロプロパン、４,４'-ジアミノジフェニルエーテル、３,４'-ジアミノジフェニルエーテル、１,３-ビス(３-アミノフェノキシ)ベンゼン、１,３-ビス(４-アミノフェノキシ)ベンゼン、１,４-ビス(４-アミノフェノキシ)ベンゼン、４,４'-ビス(４-アミノフェノキシ)ビフェニル、４,４'-ビス(３-アミノフェノキシ)ビフェニル、２,２-ビス[４-(４-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、２,２-ビス[４-(４-アミノフェノキシ)フェニル]-１,１,１,３,３,３-ヘキサフルオロプロパン、４,４'-ジアミノジフェニルチオエーテル、４,４'-ジアミノジフェニルスルホン等があげられる。
【００４０】
前記ポリエーテルケトンとしては、例えば、特開２００１−４９１１０号公報に記載された、下記一般式（７）で表されるポリアリールエーテルケトンがあげられる。
【００４１】
【化５】
2005215210.tif 000007
【００４２】
前記式（７）中、Ｘは、置換基を表し、ｑは、その置換数を表す。Ｘは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、または、ハロゲン化アルコキシ基であり、Ｘが複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。
【００４３】
前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子およびヨウ素原子があげられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。前記低級アルキル基としては、例えば、Ｃ1〜6の直鎖または分岐鎖の低級アルキル基が好ましく、より好ましくはＣ1〜4の直鎖または分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、および、tert-ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基およびエチル基である。前記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の前記低級アルキル基のハロゲン化物があげられる。前記低級アルコキシ基としては、例えば、Ｃ1〜6の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくはＣ1〜4の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、および、tert-ブトキシ基が、さらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基およびエトキシ基である。前記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の前記低級アルコキシ基のハロゲン化物があげられる。
【００４４】
前記式（７）中、ｑは、０から４までの整数である。前記式（７）においては、ｑ＝０であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。
【００４５】
また、前記式（７）中、Ｒ1は、下記式（８）で表される基であり、ｍは、０または１の整数である。
【００４６】
【化６】
2005215210.tif 000008
【００４７】
前記式（８）中、Ｘ’は置換基を表し、例えば、前記式（７）におけるＸと同様である。前記式（８）において、Ｘ'が複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。ｑ'は、前記Ｘ'の置換数を表し、０から４までの整数であって、ｑ'＝０が好ましい。また、ｐは、０または１の整数である。
【００４８】
前記式（８）中、Ｒ2は、２価の芳香族基を表す。この２価の芳香族基としては、例えば、ｏ-、ｍ-もしくはｐ-フェニレン基、または、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、ｏ-、ｍ-もしくはｐ-テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される２価の基等があげられる。これらの２価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基または低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、前記Ｒ2としては、下記式（９）〜（１５）からなる群から選択される芳香族基が好ましい。
【００４９】
【化７】
2005215210.tif 000009
【００５０】
前記式（７）中、前記Ｒ1としては、下記式（１６）で表される基が好ましく、下記式（１６）において、Ｒ2およびｐは前記式（８）と同義である。
【００５１】
【化８】
2005215210.tif 000010
【００５２】
さらに、前記式（７）中、ｎは重合度を表し、例えば、２〜５０００の範囲であり、好ましくは、５〜５００の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合でもよい。
【００５３】
さらに、前記式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、ｐ-テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記一般式（１７）で表すことができる。なお、下記式において、ｎは前記式（７）と同様の重合度を表す。
【００５４】
【化９】
2005215210.tif 000011
【００５５】
前記式（７）で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としては、下記式（１８）〜（２１）で表されるもの等があげられ、下記各式において、ｎは、前記式（７）と同様の重合度を表す。
【００５６】
【化１０】
2005215210.tif 000012
【００５７】
また、これらの他に、前記ポリアミドまたはポリエステルとしては、例えば、特表平１０−５０８０４８号公報に記載されるポリアミドやポリエステルがあげられ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記一般式（２２）で表すことができる。
【００５８】
【化１１】
2005215210.tif 000013
【００５９】
前記式（２２）中、Ｙは、ＯまたはＮＨである。また、Ｅは、例えば、共有結合、Ｃ2アルキレン基、ハロゲン化Ｃ2アルキレン基、ＣＨ2基、Ｃ(ＣＸ3)2基（ここで、Ｘはハロゲンまたは水素である。）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ(Ｒ)2基、および、Ｎ(Ｒ)基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一でもよいし異なってもよい。前記Ｅにおいて、Ｒは、Ｃ1〜3アルキル基およびＣ1〜3ハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基またはＹ基に対してメタ位またはパラ位にある。
【００６０】
また、前記（２２）中、ＡおよびＡ'は、置換基であり、ｔおよびｚは、それぞれの置換数を表す。また、ｐは、０から３までの整数であり、ｑは、１から３までの整数であり、ｒは、０から３までの整数である。
【００６１】
前記Ａは、例えば、水素、ハロゲン、Ｃ1〜3アルキル基、Ｃ1〜3ハロゲン化アルキル基、ＯＲ（ここで、Ｒは、前記定義のものである。）で表されるアルコキシ基、アリール基
、ハロゲン化等による置換アリール基、Ｃ1〜9アルコキシカルボニル基、Ｃ1〜9アルキルカルボニルオキシ基、Ｃ1〜12アリールオキシカルボニル基、Ｃ1〜12アリールカルボニルオキシ基およびその置換誘導体、Ｃ1〜12アリールカルバモイル基、ならびに、Ｃ1〜12アリールカルボニルアミノ基およびその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記Ａ'は、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3アルキル基、Ｃ1〜3ハロゲン化アルキル基、フェニル基および置換フェニル基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるかまたは異なる。前記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、Ｃ1〜3アルキル基、Ｃ1〜3ハロゲン化アルキル基およびこれらの組み合わせがあげられる。前記ｔは、０から４までの整数であり、前記ｚは、０から３までの整数である。
【００６２】
前記式（２２）で表されるポリアミドまたはポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記一般式（２３）で表されるものが好ましい。
【００６３】
【化１２】
2005215210.tif 000014
【００６４】
前記式（２３）中、Ａ、Ａ'およびＹは、前記式（２２）で定義したものであり、ｖは０から３の整数、好ましくは、０から２の整数である。ｘおよびｙは、それぞれ０または１であるが、共に０であることはない。
【００６５】
前記非液晶性ポリマーの中でも、例えば、前記式（６）のポリイミドを使用する場合、以下のような重合度、分子量、濃度に設定することが好ましい。なお、以下に塗工液の粘度調整の一例を示すが、本発明は、前述のような粘度の塗工液を使用し、且つ、走行する基材上の塗膜に気体を吹き付けること自体が特徴であって、前記粘度の調整自体は、当業者であれば出願時の技術常識に基づいて行うことができる。
【００６６】
前記塗工液は、前記非液晶性ポリマーを溶剤に溶解することによって調製できる。前記溶剤としては、特に制限されず、複屈折材料に応じて適宜選択できるが、例えば、前記非液晶性ポリマーを溶解でき、基材を侵食し難いものが好ましい。例えば、具体的には、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類、フェノール、パラクロロフェノールなどのフェノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１、２‐ジメトキシベンゼンなどの芳香族炭化水素類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２‐ピロリドン、Ｎ‐メチル‐２‐ピロリドンのようなケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、ｔ‐ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２‐メチル‐２，４‐ペンタンジオール等のアルコール系溶剤、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等のアミド系溶剤、アセトニトリル、ブチロニトリル等のニトリル系溶剤、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル系溶剤、二硫化炭素、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、硫酸等が使用できる。また、これらの溶剤は単独でもよいし、二種類以上を混合して使用することもできる。
【００６７】
前記塗工液は、例えば、必要に応じて、さらに界面活性剤、安定剤、可塑剤、金属類等の種々の添加剤を配合してもよい。
【００６８】
次に、本発明の製造方法の一例について、図面を用いて説明する。なお、本発明の製造方法および光学フィルムは、以下の実施の形態に何等限定されるものではなく、要旨を逸脱しない範囲においては種々の態様で実施し得る。
【００６９】
図１は、本発明の製造方法の一例を概略的に示す図である。また、図２（ａ）〜（ｃ）は、図１に示す製造方法の各工程における、基材ならびに塗膜の状態を示す拡大図である。図２（ａ）〜（ｃ）は、それぞれ図１において点線で囲まれた部分（ａ）〜（ｃ）に対応している。なお、図１および図２において、同一箇所には同一符号を付している。
【００７０】
図１に示すように、本発明の製造方法は、例えば、基材１を走行させながら、非液晶性ポリマーを含み且つ粘度が０．０５Ｐａ・ｓ〜５００Ｐａ・ｓである塗工液３を前記基材１上に塗布して塗膜２を形成する工程と、前記基材１の走行方向に沿って前記塗膜に気体を吹き付けることによって、前記塗膜を乾燥させ、前記基材上に光学フィルムを形成する工程とを有している。
【００７１】
具体的には、先ず、ロール７の矢印方向への回転によって、基材１（図２（ａ））を矢印Ａ方向に走行させ、ダイコーター８まで送り、ダイコーター８によって基材１表面に塗工液３を塗布する。これによって、図２（ｂ）に示すように、基材１表面に塗膜２を形成する。なお、基材１としては、特に制限されないが、後述するような各種フィルムが使用できる。
【００７２】
なお、ダイコーター８は、内部に、塗工液３を貯留するポケット８ａを備え、ポケット８ａはスリット８ｂによって外部と通じている。また、ダイコーター８はポンプ（図示せず）を備え、このポンプの稼動によって、ポケット８ａ内の塗工液３をスリット８ｂから外部に押し出し、基材１に塗布する。なお、塗工液３の塗布量は、前記ポンプの吐出量の調節によって行うことができる。
【００７３】
図１の例では、塗工液３の塗工方法として、ダイコーター８を用いたスロットダイ法を採用しているが、本発明はこれに限定されるものではない。前記塗工方法として、前記スロットダイ法の他にも、例えば、リバースグラビアコート法、マイクログラビア法、ディップ法、スピンコート法、刷毛塗り法、ロールコート法、フレキソ印刷法等の従来公知の方法が採用できる。
【００７４】
次工程である乾燥工程前における塗膜の厚みは、特に制限されないが、例えば、１μｍ〜１００μｍの範囲であり、好ましくは１０μｍ〜７０μｍであり、より好ましくは２０μｍ〜５０μｍである。
【００７５】
また、塗工液の塗布は、乾燥後の塗膜の厚みが、３０μｍ以下となるように行うのが好ましい。このように塗布すれば、乾燥前の塗膜において、非液晶性ポリマーの濃度分布の不均一化や、塗工液の対流発生を十分に抑制できる。また、作製する光学フィルムの光学特性の点から、厚みの精度がより一層高いことが望まれるため、塗工液の塗布は、乾燥後の塗膜の厚みが、０．２μｍ〜１２μｍの範囲内となるように行うことが好ましく、より好ましくは０．５μｍ〜１０μｍである。
【００７６】
そして、さらに、ロール５およびロール６の矢印方向への回転により、表面に塗膜２が形成された基材１を、矢印Ｂ、Ｃ方向に走行させ、乾燥区間９へ送る。この乾燥区間９において、基材１上の塗膜２にエアーノズル４によってエアーを吹き付ける。エアーの吹き
付けは、基材１を走行させながら、基材１の走行方向に沿って、すなわち、基材１の走行方向と同方向にエアーが塗膜２上を流れるように行う。このエアーの吹き付けによって、塗膜２に含まれる溶剤が揮発して塗膜２が乾燥し、図２（ｃ）に示すように塗膜２の厚みは減少する。このエアーの吹き付けによって乾燥させた塗膜２を、本発明の光学フィルムとして使用することができる。
【００７７】
このような乾燥工程を施せば、塗膜２表面には、目視によって感知できる大きな凹凸の発生は抑制され、目視では感知しにくい微細な凹凸だけが形成されることになる。この結果、得られる前記基材上の光学フィルムは、全体的に厚みが均一化され、面内における光学特性も均一性に優れるものとなるのである。
【００７８】
前記乾燥工程において、前記塗膜に吹き付ける気体の風速は、例えば、８ｍ／ｓｅｃ〜５０ｍ／ｓｅｃの範囲に設定することが好ましく、より好ましくは９ｍ／ｓｅｃ〜３０ｍ／ｓｅｃの範囲、特に好ましくは１０ｍ／ｓｅｃ〜２０ｍ／ｓｅｃの範囲である。前記風速を８ｍ／ｓｅｃ以上に設定すれば、例えば、塗膜表面に微細な凹凸を十分に形成でき、風速を５０ｍ／ｓｅｃ以下にすれば、前記凹凸が大きくなり、塗膜の膜厚が不均一になることや、塗工した塗工液が飛散することも十分に回避できる。
【００７９】
なお、本発明において、前記風速とは、塗膜表面近傍での風速であり、例えば、塗膜表面から３０ｍｍ以内で測定した風速とする。風速の測定には、例えば、プロペラ式、熱線式などの一般的な風速計を用いることができ、商品名クリモマスター（Ｍｏｄｅ１６５３１：ＫＡＮＯＭＡＸ社製）が使用できる。
【００８０】
また、前記風速は、前述の微細な凹凸を塗膜表面全体に均一に形成するために、基材の走行方向に対して垂直な方向におけるバラツキを、±３０％以下に設定することが好ましく、より好ましくは±２０％以下、特に好ましくは±１５％以下である。
【００８１】
前記気体の温度は、例えば、２０℃〜６０℃に設定することが好ましく、より好ましくは２０℃〜４０℃、特に好ましくは２０℃〜３０℃である。前記温度が２０℃以上であれば、長時間かけることなく塗膜を乾燥でき、また、前記温度が６０℃以下であれば、塗膜における溶剤の蒸発速度が速くなりすぎるおそれがなく、過度の液流動が防止され、表面ムラが防止できる。
【００８２】
また、気体の温度は、基材の走行方向に対して垂直な方向におけるバラツキが、±１５％以下になるように設定することが好ましく、より好ましくは±１０％以下、特に好ましくは±７％以下である。
【００８３】
本発明において、気体の吹き付け方向は、前記基材表面に対して傾斜した方向であることが好ましい。気体の吹き付け角度、すなわち、図１に示す気体の吹き付け方向と基材１の表面とがなす角（傾斜角θ）は、例えば、０度を越え６０度以下の範囲に設定することが好ましく、より好ましくは４０度以下であり、特に好ましくは１０度以下である。前記傾斜角θが６０度以下であれば、基材を十分安定な状態で走行することができる。なお、図１において、気体の吹き付け方向は、エアーノズル４の中心軸方向である。
【００８４】
本発明において、前記気体の種類は、特に制限されず、空気（エアー）のほかに、例えば、窒素ガス、アルゴン等の不活性ガスでも良い。
【００８５】
前記気体は、例えば、塗膜の乾燥を促進できることから、乾燥気体であることが好ましい。具体的には、気体の湿度が２０％〜５０％であることが好ましく、より好ましくは２０％〜４０％である。気体の乾燥には、例えば、熱風器、加熱ロール、遠赤外線ヒーター
等の加熱手段を使用してもよく、また、これらの手段によって、気体の温度を前述の範囲に設定することもできる。
【００８６】
本発明の製造方法には、前記塗膜に気体を吹き付けることのみによって前記塗膜を乾燥させ、前記基材上に光学フィルムを形成することもできるが、前記塗膜に気体を吹き付ける乾燥工程（以下、第１の乾燥工程という）の後、さらに、加熱処理を行う第２の乾燥工程を含んでもよい。
【００８７】
この第２の乾燥工程は、例えば、前記基材と塗膜との積層体をオーブン内に入れて行うことができる。この処理条件は特に制限されないが、温度は、例えば、８０℃〜１２０℃の範囲であり、処理時間は、例えば、１分〜５分である。
【００８８】
第２の乾燥工程における前記塗膜の乾燥程度は、特に制限されないが、例えば、以下のような状態になるまで乾燥処理を施すことが好ましい。
【００８９】
また、前記第１の乾燥工程の後、さらに、非液晶性ポリマーの種類に応じて、例えば、熱硬化、ＵＶ硬化等の硬化処理を施してもよいし、光学フィルムの使用形態に応じて、例えば、保護シートによる被覆や、ロールへの巻き取り等を行ってもよい。また、光学フィルムの光学特性、特に屈折率や位相差を変化させるために、さらに、延伸処理や収縮処理を施してもよい。
【００９０】
このような本発明の製造方法によって、基材上に本発明の光学フィルムを形成できる。本発明の光学フィルムは、前記製造方法により、表面の均一性に優れるため、これに伴い光学特性も均一性に優れるため、液晶表示装置をはじめとする各種画像表示装置に有用である。
【００９１】
本発明の光学フィルムにおいて、表面の均一性に優れるとは、例えば、厳密に、平滑面が形成されているという意味ではなく、表面に目視では確認できない程度の微細な凹凸が均一に形成され、目視で確認できる凹凸の形成が抑制された状態を意味する。そして、このように表面の均一性に優れることから、干渉ムラが抑制されているのである。これに対して、従来の製造方法により得られる光学フィルムは、その表面に明らかに目視で確認できる凹凸が形成され、そのために干渉ムラが発生しているのである。
【００９２】
本発明の光学フィルムは、前述のように第１の乾燥工程を施した後の塗膜でもよいし、さらに第２の乾燥工程を施した後の塗膜であってもよい。
【００９３】
前記光学フィルムの厚みは、例えば、３０μｍ以下であり、好ましくは０．１μｍ〜１５μｍであり、より好ましくは０．１μｍ〜１０μｍであり、特に好ましくは０．１μｍ〜５μｍである。
【００９４】
本発明の光学フィルムは、前記非液晶性ポリマーを使用しているため、前述のように基材上の塗膜を乾燥させるのみで、基材の配向性に関係なく、それ自身の性質により光学的に負の一軸性（ｎｘ＞ｎｚ）、（ｎｙ＞ｎｚ）を示す。また、前記乾燥工程の後、前記塗膜に前述のように延伸処理および収縮処理のいずれかを施せば、さらに面内において屈折差が生じるため、光学的二軸性（ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚ）を示す光学フィルムとなる。
【００９５】
前記光学フィルムは、前述のような本発明の製造方法によって基材上に形成した後、例えば、前記基材との積層体として使用してもよいし、前記基材から剥離した単層としても使用できる。また、前記基材（以下、「第１の基材」という）から剥離した後、その光学特性を妨害しない基材（以下、「第２の基材」という）に、接着層を介して、再度積層（
転写）して使用することもできる。
【００９６】
前記フィルムと前記基材との積層体として使用する際には、前記基材は、透光性のプラスチックフィルムであることが好ましい。前記プラスチックフィルムとしては、例えば、ＴＡＣ等のセルロース系、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ（４−メチルペンテン−１）等のポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース系プラスチック、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリノルボルネン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、液晶ポリマー等から形成されるフィルムがあげられる。これらの基材フィルムは、光学的に等方性であっても、異方性であっても差し支えない。これらのプラスチックフィルムの中でも、耐溶剤性や耐熱性の観点から、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートから形成された各フィルムが好ましい。
【００９７】
前述のような透光性基材は、例えば、単層でもよいが、例えば、強度、耐熱性、ポリマーの密着性を向上する点から、異種ポリマーを積層した積層体であってもよい。
【００９８】
また、前記基材は、複屈折による位相差を生じないものでもよいし、例えば、偏光分離層で反射された光の偏光状態の解消を目的として、複屈折による位相差を生じるものであってもよい。このような偏光状態の解消は、光利用効率の向上や、光源光との同一化によって、視覚による色相変化の抑制に友好である。前記複屈折による位相差を生じる透明基板としては、例えば、各種ポリマー製の延伸フィルム等が使用でき、厚み方向の屈折率を制御したものであってもよい。前記制御は、例えば、ポリマーフィルムを熱収縮フィルムと接着して、加熱延伸すること等によって行うことができる。
【００９９】
前記プラスチックフィルムの厚みは、通常、５μｍ〜５００μｍ、好ましくは１０μｍ〜２００μｍであり、好ましくは１５μｍ〜１５０μｍである。前記厚みが５μｍ以上であれば、基板として十分な強度を有するため、例えば、製造時に破断する等の問題の発生を防止できる。
【０１００】
また、前述のように転写を行う場合、前記塗工液を展開する第１の基材は、例えば、その透光性や厚み等には制限されず、耐熱性や強度の点から選択することが好ましい。
【０１０１】
一方、前記第２の基材は、例えば、耐熱性等については制限されず、例えば、透光性基材や、透光性保護フィルム等が好ましく、具体的には、透明なガラスやプラスチックフィルム等があげられる。前記プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオレフィン、トリアセチルセルロース、ノルボルネン系樹脂、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂等のフィルムがあげられる。この他にも、例えば、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムがあげられる。このポリマー材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有す熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物があげられる。前記ポリマーフィルムは、例えば、前記樹脂組成物の押出成形物であってもよい。
【０１０２】
また、前記第２の基板は、例えば、光学的に等方性であってもよいし、用途に応じて光学的異方性であってもよい。このような光学的異方性を有する第２の基板としては、例えば、前記プラスチックフィルムに延伸処理等を施した位相差フィルムや、光散乱性を有する光散乱フィルム、回折能を有する回折フィルム、偏光フィルム等があげられる。
【０１０３】
本発明の光学フィルムは、さらに、その表面に粘着層や接着層が積層されてもよい。このように粘着層等を積層することによって、例えば、偏光板等の他の光学層や、液晶セル等の部材との積層が容易になり、光学フィルムの剥離を防止することができる。
【０１０４】
前記接着層の材料としては、特に制限されないが、例えば、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー系接着剤や、イソシアネート系接着剤、ゴム系接着剤等が使用できる。また、前記粘着層の材料としては、特に制限されないが、例えば、アクリル系、シリコーン系、ポリエステル系、ゴム系等の粘着剤が使用できる。
【０１０５】
つぎに、本発明の光学部材は、前記本発明の光学フィルムを含んでいればその他の構成は何ら制限されず、例えば、前記光学フィルム単独でもよいし、基材との積層体でもよいし、必要に応じて、他の光学機能フィルムと組み合わせた積層体であってもよい。
【０１０６】
前記他の光学機能フィルムとしては、例えば、他の屈折率構造を有する位相差フィルム、液晶フィルム、光散乱フィルム、回折フィルム、偏光フィルム等があげられる。
【０１０７】
本発明の光学部材として、例えば、前記本発明の光学フィルムに加え、さらに偏光フィルムを含む偏光板があげられる。
【０１０８】
前記偏光板は、例えば、偏光フィルム（偏光子）の少なくとも一方の表面に、接着層を介して透明保護層が積層され、前記光学フィルムが、前記保護層上に接着層を介して積層された構造があげられる。前記透明保護層は、前記偏光フィルムの片面のみ、または、両面に積層してもよく、両面に積層する場合には、例えば、同じ種類の透明保護層を使用しても、異なる種類の透明保護層を使用してもよい。また、前記光学フィルムは、偏光フィルムの片面に積層されても両面に積層されてもよく、この積層は前記保護層を介してもよいし、直接であってもよい。また、さらに他の位相差フィルムが積層されてもよい。
【０１０９】
前記偏光フィルムとしては、特に制限されず、例えば、従来公知の方法により、各種フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて染色し、架橋、延伸、乾燥することによって調製したもの等が使用できる。この中でも、自然光を入射させると直線偏光を透過するフィルムが好ましく、光透過率や偏光度に優れるものが好ましい。前記二色性物質を吸着させる各種フィルムとしては、例えば、ＰＶＡ系フィルム、部分ホルマール化ＰＶＡ系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルム等があげられ、これらの他にも、例えば、ＰＶＡの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン配向フィルム等も使用できる。これらの中でも、好ましくはＰＶＡ系フィルムである。また、前記偏光フィルムの厚みは、通常、１μｍ〜８０μｍの範囲であるが、これには限定されない。
【０１１０】
前記透明保護層としては、特に制限されず、従来公知の透明フィルムを使用できるが、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるものが好ましい。このような透明保護層の材質の具体例としては、トリアセチルセルロール等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等があげられる。また、前記アクリ
ル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等もあげられる。この中でも、偏光特性や耐久性の点から、表面をアルカリ等でケン化処理したＴＡＣフィルムが好ましい。また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムがあげられる。このポリマー材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有す熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチレンマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物があげられる。なお、前記ポリマーフィルムは、例えば、前記樹脂組成物の押出成形物であってもよい。
【０１１１】
前記透明保護層は、例えば、色付きが無いことが好ましい。具体的には、下記式で表されるフィルム厚み方向の位相差値（Rth）が、−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍの範囲であることが好ましく、より好ましくは−８０ｎｍ〜＋６０ｎｍであり、特に好ましくは−７０ｎｍ〜＋４５ｎｍの範囲である。前記位相差値が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍの範囲であれば、十分に保護フィルムに起因する偏光板の着色（光学的な着色）を解消できる。
Ｒｔｈ＝［[（ｎｘ+ｎｙ）/２]-ｎｚ］・ｄ
なお、前記式において、ｎｘ，ｎｙおよびｎｚは、前記透明保護層のＸ軸、Ｙ軸およびＺ軸方向の屈折率を示し、前記Ｘ軸は面内において最大の屈折率を示す軸方向、Ｙ軸は前記面内において前記Ｘ軸に対して垂直な軸方向、Ｚ軸は前記Ｘ軸およびＹ軸に垂直な厚み方向を示し、ｄはその厚みである。
【０１１２】
また、前記透明保護層は、さらに光学補償機能を有するものでもよい。このように光学補償機能を有する透明保護層としては、例えば、液晶セルにおける位相差に基づく視認角の変化が原因である、着色等の防止や、良視認の視野角の拡大等を目的とした公知のものが使用できる。具体的には、例えば、前述した透明樹脂を一軸延伸または二軸延伸した各種延伸フィルムや、液晶ポリマー等の配向フィルム、透明基材上に液晶ポリマー等の配向層を配置した積層体等があげられる。これらの中でも、良視認の広い視野角を達成できることから、前記液晶ポリマーの配向フィルムが好ましく、特に、ディスコチック系やネマチック系の液晶ポリマーの傾斜配向層から構成される光学補償層を、前述のトリアセチルセルロースフィルム等で支持した光学補償位相差板が好ましい。このような光学補償位相差板としては、例えば、富士写真フィルム株式会社製の商品名「ＷＶフィルム」等の市販品があげられる。なお、前記光学補償位相差板は、前記位相差フィルムやトリアセチルセルロースフィルム等のフィルム支持体を２層以上積層させることによって、位相差等の光学特性を制御したもの等でもよい。
【０１１３】
前記透明保護層の厚みは、特に制限されず、例えば、位相差や保護強度等に応じて適宜決定できるが、通常、５００μｍ以下であり、好ましくは５μｍ〜３００μｍ、より好ましくは５μｍ〜１５０μｍの範囲である
前記透明保護層は、例えば、偏光フィルムに前記各種透明樹脂を塗布する方法、前記偏光フィルムに前記透明樹脂製フィルムや前記光学補償位相差板等を積層する方法等の従来公知の方法によって適宜形成でき、また市販品を使用することもできる。
【０１１４】
また、前記透明保護層は、さらに、例えば、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキングの防止や拡散、アンチグレア等を目的とした処理等が施されたものでもよい。前記ハードコート処理とは、偏光板表面の傷付き防止等を目的とし、例えば、前記透明保護層の表面に、硬化型樹脂から構成される、硬度や滑り性に優れた硬化被膜を形成する処理である。前記硬化型樹脂としては、例えば、シリコーン系、ウレタン系、アクリル系、エポキシ系等の紫外線硬化型樹脂等が使用でき、前記処理は、従来公知の方法によって行うことができる。スティッキングの防止は、隣接する層との密着防止を目的とする。前記反射防止処理とは、偏光板表面での外光の反射防止を目的とし、従来公知の反射防止層等の
形成により行うことができる。
【０１１５】
前記アンチグレア処理とは、偏光板表面において外光が反射することによる、偏光板透過光の視認妨害を防止すること等を目的とし、例えば、従来公知の方法によって、前記透明保護層の表面に、微細な凹凸構造を形成することによって行うことができる。このような凹凸構造の形成方法としては、例えば、サンドブラスト法やエンボス加工等による粗面化方式や、前述のような透明樹脂に透明微粒子を配合して前記透明保護層を形成する方式等があげられる。
【０１１６】
前記透明微粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン等があげられ、この他にも導電性を有する無機系微粒子や、架橋または未架橋のポリマー粒状物等から構成される有機系微粒子等を使用することもできる。前記透明微粒子の平均粒径は、特に制限されないが、例えば、０．５μｍ〜２０μｍの範囲である。また、前記透明微粒子の配合割合は、特に制限されないが、一般に、前述のような透明樹脂１００質量部あたり２質量部〜７０質量部の範囲が好ましく、より好ましくは５質量部〜５０質量部の範囲である。
【０１１７】
前記透明微粒子を配合したアンチグレア層は、例えば、透明保護層そのものとして使用することもでき、また、透明保護層表面に塗工層等として形成されてもよい。さらに、前記アンチグレア層は、偏光板透過光を拡散して視角を拡大するための拡散層（視覚補償機能等）を兼ねるものであってもよい。
【０１１８】
なお、前記反射防止層、スティッキング防止層、拡散層、アンチグレア層等は、前記透明保護層とは別個に、例えば、これらの層を設けたシート等から構成される光学層として、偏光板に積層してもよい。
【０１１９】
本発明の光学部材は、さらに、接着剤層および粘着剤層の少なくとも一方を有することが好ましい。これによって、本発明の光学部材と、他の光学層や液晶セル等の他部材との接着が容易になるとともに、本発明の光学部材の剥離を防止することができるからである。したがって、前記接着剤層や粘着剤層は、光学部材の最外層に積層されることが好ましく、また、光学部材の一方の最外層でもよいし、両方の最外層に積層されてもよい。
【０１２０】
前記接着層の材料としては、特に制限されないが、例えば、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製感圧接着剤や、ゴム系感圧接着剤等が使用できる。また、これらの材料に、微粒子を含有させて光拡散性を示す層としてもよい。これらの中でも、例えば、吸湿性や耐熱性に優れる材料が好ましい。このような性質であれば、例えば、液晶表示装置に使用した場合に、吸湿による発泡や剥離、熱膨張差等による光学特性の低下や、液晶セルの反り等を防止でき、高品質で耐久性にも優れる表示装置となる。
【０１２１】
各構成物同士（偏光子、透明保護層等）の積層方法は、特に制限されず、従来公知の方法によって行うことができる。一般には、前述と同様の粘着剤や接着剤等が使用でき、その種類は、前記各構成物の材質等によって適宜決定できる。前記接着剤としては、例えば、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製接着剤や、ゴム系接着剤等があげられる。また、グルタルアルデヒド、メラミン、シュウ酸等のビニルアルコール系ポリマーの水溶性架橋剤等から構成される接着剤等も使用できる。前述のような粘着剤、接着剤は、例えば、湿度や熱の影響によっても剥がれ難く、光透過率や偏光度にも優れる。具体的には、前記偏光子がＰＶＡ系フィルムの場合、例えば、接着処理の安定性等の点から、ＰＶＡ系接着剤が好ましい。これらの接着剤や粘着剤は、例えば、そのまま偏光子や透明保護層の表面に塗布して
もよいし、前記接着剤や粘着剤から構成されたテープやシートのような層を前記表面に配置してもよい。また、例えば、水溶液として調製した場合、必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒を配合してもよい。なお、前記接着剤を塗布する場合は、例えば、前記接着剤水溶液に、さらに、他の添加剤や、酸等の触媒を配合してもよい。このような接着層の厚みは、特に制限されないが、例えば、１ｎｍ〜５００ｎｍであり、好ましくは１０ｎｍ〜３００ｎｍであり、より好ましくは２０ｎｍ〜１００ｎｍである。特に限定されず、例えば、アクリル系ポリマーやビニルアルコール系ポリマー等の接着剤等を使用した従来公知の方法が採用できる。また、湿度や熱等によっても剥がれにくく、光透過率や偏光度に優れる偏光板を形成できることから、さらに、グルタルアルデヒド、メラミン、シュウ酸等のＰＶＡ系ポリマーの水溶性架橋剤を含む接着剤が好ましい。これらの接着剤は、例えば、その水溶液を前記各構成物表面に塗工し、乾燥すること等によって使用できる。前記水溶液には、例えば、必要に応じて、他の添加剤や、酸等の触媒も配合できる。これらの中でも、前記接着剤としては、ＰＶＡフィルムとの接着性に優れる点から、ＰＶＡ系接着剤が好ましい。
【０１２２】
また、本発明の光学フィルムは、前述のような偏光子の他にも、例えば、各種位相差板、拡散制御フィルム、輝度向上フィルム、反射板、半透過反射板、輝度向上フィルム等、液晶表示装置等の形成に使用される従来公知の光学層と組み合わせて使用することもできる。これらの光学層は、一種類でもよいし、二種類以上を併用してもよく、また、一層でもよいし、二層以上を積層してもよい。このような光学層をさらに含む積層偏光板は、例えば、光学補償機能を有する一体型偏光板として使用することが好ましく、例えば、液晶セル表面に配置する等、各種画像表示装置への使用に適している。前記位相差板としては、例えば、ポリマーフィルムを一軸延伸または二軸延伸したもの、Ｚ軸配向処理したもの、液晶性高分子の塗膜等があげられる。前記拡散制御フィルムとしては、例えば、拡散、散乱、屈折を利用したフィルムがあげられ、これらは、例えば、視野角の制御や、解像度に関わるギラツキや散乱光の制御等に使用することができる。前記輝度向上フィルムとしては、例えば、コレステリック液晶の選択反射と１／４波長板（λ／４板）とを用いた輝度向上フィルムや、偏光方向による異方性散乱を利用した散乱フィルム等が使用できる。また、前記光学フィルムは、例えば、ワイヤーグリッド型偏光子と組み合わせることもできる。
【０１２３】
以下に、このような一体型偏光板について説明する。
【０１２４】
まず、反射型偏光板または半透過反射型偏光板の一例について説明する。前記反射型偏光板は、本発明の積層偏光板にさらに反射板が、前記半透過反射型偏光板は、本発明の積層偏光板にさらに半透過反射板が、それぞれ積層されている。
【０１２５】
前記反射型偏光板は、通常、液晶セルの裏側に配置され、視認側（表示側）からの入射光を反射させて表示するタイプの液晶表示装置（反射型液晶表示装置）等に使用できる。このような反射型偏光板は、例えば、バックライト等の光源の内蔵を省略できるため、液晶表示装置の薄型化を可能にする等の利点を有する。
【０１２６】
前記反射型偏光板は、例えば、前記弾性率を示す偏光板の片面に、金属等から構成される反射板を形成する方法等、従来公知の方法によって作製できる。具体的には、例えば、前記偏光板における透明保護層の片面（露出面）を、必要に応じてマット処理し、前記面に、アルミニウム等の反射性金属からなる金属箔や蒸着膜を反射板として形成した反射型偏光板等があげられる。
【０１２７】
また、前述のように各種透明樹脂に微粒子を含有させて表面を微細凹凸構造とした透明保護層の上に、その微細凹凸構造を反映させた反射板を形成した、反射型偏光板等もあげ
られる。その表面が微細凹凸構造である反射板は、例えば、入射光を乱反射により拡散させ、指向性やギラギラした見栄えを防止し、明暗のムラを抑制できるという利点を有する。このような反射板は、例えば、前記透明保護層の凹凸表面に、真空蒸着方式、イオンプレーティング方式、スパッタリング方式等の蒸着方式やメッキ方式等、従来公知の方法により、直接、前記金属箔や金属蒸着膜として形成することができる。
【０１２８】
また、前述のように偏光板の透明保護層に前記反射板を直接形成する方式に代えて、反射板として、前記透明保護フィルムのような適当なフィルムに反射層を設けた反射シート等を使用してもよい。前記反射板における前記反射層は、通常、金属から構成されるため、例えば、酸化による反射率の低下防止、ひいては初期反射率の長期持続や、透明保護層の別途形成を回避する点等から、その使用形態は、前記反射層の反射面が前記フィルムや偏光板等で被覆された状態であることが好ましい。
【０１２９】
一方、前記半透過型偏光板は、前記反射型偏光板において、反射板に代えて、半透過型の反射板を有するものである。前記半透過型反射板としては、例えば、反射層で光を反射し、かつ、光を透過するハーフミラー等があげられる。
【０１３０】
前記半透過型偏光板は、通常、液晶セルの裏側に設けられ、液晶表示装置等を比較的明るい雰囲気で使用する場合には、視認側（表示側）からの入射光を反射して画像を表示し、比較的暗い雰囲気においては、半透過型偏光板のバックサイドに内蔵されているバックライト等の内蔵光源を使用して画像を表示するタイプの液晶表示装置等に使用できる。すなわち、前記半透過型偏光板は、明るい雰囲気下では、バックライト等の光源使用のエネルギーを節約でき、一方、比較的暗い雰囲気下においても、前記内蔵光源を用いて使用できるタイプの液晶表示装置等の形成に有用である。
【０１３１】
つぎに、本発明の積層偏光板に、さらに輝度向上フィルムが積層された偏光板の一例を説明する。
【０１３２】
前記輝度向上フィルムとしては、特に限定されず、例えば、誘電体の多層薄膜や、屈折率異方性が相違する薄膜フィルムの多層積層体のような、所定偏光軸の直線偏光を透過して、他の光は反射する特性を示すもの等が使用できる。このような輝度向上フィルムとしては、例えば、３Ｍ社製の商品名「Ｄ-ＢＥＦ」等があげられる。また、コレステリック液晶層、特にコレステリック液晶ポリマーの配向フィルムや、その配向液晶層をフィルム基材上に支持したもの等が使用できる。これらは、左右一方の円偏光を反射して、他の光は透過する特性を示すものであり、例えば、日東電工社製の商品名「ＰＣＦ３５０」、Ｍｅｒｃｋ社製の商品名「Ｔｒａｎｓｍａｘ」等があげられる。
【０１３３】
以上のような本発明の各種偏光板は、例えば、本発明の積層偏光板と、さらに２層以上の光学層とを積層した光学部材であってもよい。
【０１３４】
このように２層以上の光学層を積層した光学部材は、例えば、液晶表示装置等の製造過程において、順次別個に積層する方式によっても形成できるが、予め積層した光学部材として使用すれば、例えば、品質の安定性や組立作業性等に優れ、液晶表示装置等の製造効率を向上できるという利点がある。なお、積層には、前述と同様に、粘着層等の各種接着手段を用いることができる。
【０１３５】
前述のような各種偏光板は、例えば、液晶セル等の他の部材への積層が容易になることから、さらに粘着剤層や接着剤層を有していることが好ましく、これらは、前記偏光板の片面または両面に配置することができる。前記粘着層の材料としては、特に制限されず、アクリル系ポリマー等の従来公知の材料が使用でき、特に、吸湿による発泡や剥離の防止
、熱膨張差等による光学特性の低下や液晶セルの反り防止、ひいては高品質で耐久性に優れる液晶表示装置の形成性等の点より、例えば、吸湿率が低くて耐熱性に優れる粘着層となることが好ましい。また、微粒子を含有して光拡散性を示す粘着層等でもよい。前記偏光板表面への前記粘着剤層の形成は、例えば、各種粘着材料の溶液または溶融液を、流延や塗工等の展開方式により、前記偏光板の所定の面に直接添加して層を形成する方式や、同様にして後述するセパレータ上に粘着剤層を形成させて、それを前記偏光板の所定面に移着する方式等によって行うことができる。なお、このような層は、偏光板のいずれの表面に形成してもよく、例えば、偏光板における前記位相差板の露出面に形成してもよい。
【０１３６】
このように偏光板に設けた粘着剤層等の表面が露出する場合は、前記粘着層を実用に供するまでの間、汚染防止等を目的として、セパレータによって前記表面をカバーすることが好ましい。このセパレータは、前記透明保護フィルム等のような適当なフィルムに、必要に応じて、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の剥離剤による剥離コートを一層以上設ける方法等によって形成できる。
【０１３７】
前記粘着剤層等は、例えば、単層体でもよいし、積層体でもよい。前記積層体としては、例えば、異なる組成や異なる種類の単層を組み合わせた積層体を使用することもできる。また、前記偏光板の両面に配置する場合は、例えば、それぞれ同じ粘着剤層でもよいし、異なる組成や異なる種類の粘着剤層であってもよい。
【０１３８】
前記粘着剤層の厚みは、例えば、偏光板の構成等に応じて適宜に決定でき、一般には、１μｍ〜５００μｍである。
【０１３９】
前記粘着剤層を形成する粘着剤としては、例えば、光学的透明性に優れ、適度な濡れ性、凝集性や接着性の粘着特性を示すものが好ましい。具体的な例としては、アクリル系ポリマーやシリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、合成ゴム等のポリマーを適宜ベースポリマーとして調製された粘着剤等があげられる。
【０１４０】
前記粘着剤層の粘着特性の制御は、例えば、前記粘着剤層を形成するベースポリマーの組成や分子量、架橋方式、架橋性官能基の含有割合、架橋剤の配合割合等によって、その架橋度や分子量を調節するというような、従来公知の方法によって適宜行うことができる。
【０１４１】
以上のような本発明の光学フィルムや、本発明の光学部材、これを構成する各種光学層（例えば、偏光フィルム、透明保護層、光学層、粘着剤層等）は、例えば、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等の紫外線吸収剤で適宜処理することによって、紫外線吸収能を持たせたものでもよい。
【０１４２】
本発明の光学部材は、前述のように、液晶表示装置等の各種装置の形成に使用することが好ましく、例えば、本発明の光学部材を液晶セルの片側または両側に配置して液晶パネルとし、反射型や半透過型、あるいは透過・反射両用型等の液晶表示装置に用いることができる。
【０１４３】
液晶表示装置を形成する前記液晶セルの種類は、任意で選択でき、例えば、薄膜トランジスタ型に代表されるアクティブマトリクス駆動型のもの、ツイストネマチック型やスーパーツイストネマチック型に代表される単純マトリクス駆動型のもの等、種々のタイプの液晶セルが使用できる。これらの中でも、本発明の光学部材は、特にＴＮ（Twisted Nematic）セル、ＶＡセル、ＯＣＢセルの光学補償に非常に優れているので、これらの液晶セルを備える液晶表示装置に非常に有用である。
【０１４４】
また、前記液晶セルは、通常、対向する液晶セル基板の間隙に液晶が注入された構造であって、前記液晶セル基板としては、特に制限されず、例えば、ガラス基板やプラスチック基板が使用できる。なお、前記プラスチック基板の材質としては、特に制限されず、従来公知の材料があげられる。
【０１４５】
また、液晶セルの両面に偏光板や光学部材を設ける場合、それらは同じ種類のものでもよいし、異なっていてもよい。さらに、液晶表示装置の形成に際しては、例えば、プリズムアレイシートやレンズアレイシート、光拡散板やバックライト等の適当な部品を、適当な位置に１層または２層以上配置することができる。
【０１４６】
さらに、本発明の液晶表示装置は、液晶パネルを含み、前記液晶パネルとして、本発明の液晶パネルを使用する以外は、特に制限されない。光源を含む場合、特に制限されないが、例えば、光のエネルギーが有効に使用できることから、例えば、偏光を出射する平面光源であることが好ましい。
【０１４７】
本発明の液晶表示装置は、視認側の光学フィルム（偏光板）の上に、例えば、さらに拡散板、アンチグレア層、反射防止膜、保護層や保護板を配置したり、または液晶パネルにおける液晶セルと偏光板との間に補償用位相差板等を適宜配置することもできる。
【０１４８】
なお、本発明の光学部材は、前述のような液晶表示装置には限定されず、例えば、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）ディスプレイ、ＰＤＰ、ＦＥＤ等の自発光型表示装置にも使用できる。自発光型フラットディスプレイに使用する場合は、例えば、本発明の光学フィルムの面内位相差値Δｎｄをλ／４にすることで、円偏光を得ることができるため、反射防止フィルターとして利用できる。
【０１４９】
以下に、本発明の光学部材を備えるエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置について説明する。本発明のＥＬ表示装置は、本発明の光学部材を有する表示装置であり、このＥＬ装置は、有機ＥＬおよび無機ＥＬのいずれでもよい。
【０１５０】
近年、ＥＬ表示装置においても、黒状態における電極からの反射防止として、例えば、偏光子や偏光板等の光学フィルムをλ／４板とともに使用することが提案されている。本発明の光学部材は、特に、ＥＬ層から、直線偏光、円偏光もしくは楕円偏光のいずれかの偏光が発光されている場合、あるいは、正面方向に自然光を発光していても、斜め方向の出射光が部分偏光している場合等に、非常に有用である。
【０１５１】
まずここで、一般的な有機ＥＬ表示装置について説明する。前記有機ＥＬ表示装置は、一般に、透明基板上に、透明電極、有機発光層および金属電極がこの順序で積層された発光体（有機ＥＬ発光体）を有している。前記有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えば、トリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層とアントラセン等の蛍光性有機固体からなる発光層との積層体や、このような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層との積層体や、また、前記正孔注入層と発光層と電子注入層との積層体等、種々の組み合わせがあげられる。
【０１５２】
そして、このような有機ＥＬ表示装置は、前記陽極と陰極とに電圧を印加することによって、前記有機発光層に正孔と電子とが注入され、前記正孔と電子とが再結合することによって生じるエネルギーが、蛍光物質を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。前記正孔と電子との再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、電流と発光強度とは、印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。
【０１５３】
前記有機ＥＬ表示装置においては、前記有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明であることが必要なため、通常、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の透明導電体で形成された透明電極が陽極として使用される。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に、仕事関数の小さな物質を用いることが重要であり、通常、Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉ等の金属電極が使用される。
【０１５４】
このような構成の有機ＥＬ表示装置において、前記有機発光層は、例えば、厚み１０ｎｍ程度の極めて薄い膜で形成されることが好ましい。これは、前記有機発光層においても、透明電極と同様に、光をほぼ完全に透過させるためである。その結果、非発光時に、前記透明基板の表面から入射して、前記透明電極と有機発光層とを透過して前記金属電極で反射した光が、再び前記透明基板の表面側へ出る。このため、外部から視認した際に、有機ＥＬ表示装置の表示面が鏡面のように見えるのである。
【０１５５】
本発明の有機ＥＬ表示装置は、例えば、前記有機発光層の表面側に透明電極を備え、前記有機発光層の裏面側に金属電極を備えた前記有機ＥＬ発光体を含む有機ＥＬ表示装置において、前記透明電極の表面に、本発明の光学部材（偏光板等）が配置されることが好ましく、さらにλ／４板を偏光板とＥＬ素子との間に配置することが好ましい。このように、本発明の光学部材を配置することによって、外界の反射を抑え、視認性向上が可能であるという効果を示す有機ＥＬ表示装置となる。また、前記透明電極と光学部材との間に、さらに位相差板が配置されることが好ましい。
【０１５６】
前記位相差板および光学フィルム（偏光板等）は、例えば、外部から入射して前記金属電極で反射してきた光を偏光する作用を有するため、その偏光作用によって前記金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相差板として１／４波長板を使用し、かつ、前記偏光板と前記位相差板との偏光方向のなす角をπ／４に調整すれば、前記金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。すなわち、この有機ＥＬ表示装置に入射する外部光は、前記偏光板によって直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は、前記位相差板によって、一般に楕円偏光となるが、特に前記位相差板が１／４波長板であり、しかも前記角がπ／４の場合には、円偏光となる。
【０１５７】
この円偏光は、例えば、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び、有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、前記位相差板で再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、前記偏光板の偏光方向と直交しているため、前記偏光板を透過できず、その結果、前述のように、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができるのである。
【実施例１】
【０１５８】
厚みが７５μｍのポリエチレン（ＰＥＴ）フィルムを基材として用い、図１に示すダイコーターによって塗工液の塗布を行った。前記塗工液は、下記式（６）に示すポリイミド（分子量Ｍｗ１４０，０００）を、固形分濃度１０重量％となるように溶媒メチルイソブチルケトンに溶解して、粘度０．２Ｐａ・ｓとなるように調整した。なお、前記塗工液は、塗工直後の塗膜の厚みが３０μｍとなるように塗布し、前記基材の走行速度は６ｍ／ｓｅｃに設定した。
【０１５９】
次に、前記基材１を走行させた状態で、傾斜角度θを５度に設定したエアーノズル４から、基材１上の塗膜２に向けて、風速１５ｍ／ｓｅｃ、温度２５℃のエアーを３秒間吹き付けた。この際、前記エアーの湿度は５０％に設定した。また、塗膜のエアーが吹き付けられる部分において、前記基材の走行方向に対して垂直方向の風速バラツキは±２０％（±３ｍ／ｓ）以下、温度のバラツキは±８％（±２℃）以下に設定した。
【０１６０】
その後、塗膜２の形成された基材１をオーブンに入れ、１２０℃で３分間加熱し、前記塗膜中の溶媒を蒸発させることによって、基材上に光学フィルムを形成した。
【０１６１】
（比較例１）
下記式（６）に示すポリイミド（分子量Ｍｗ５０，０００）を用い、塗工液の粘度を０．０１８Ｐａ・ｓに調整した以外は、実施例１と同様の条件で光学フィルムを形成した。（比較例２）
エアーノズルからのエアーの吹き付けを行わない以外は、前記実施例１と同様の条件で光学フィルムを形成した。
【実施例２】
【０１６２】
エアーの風速を６０ｍ／ｍｉｎ、風速バラツキを±２５％（±１５ｍ／ｓ）以下に設定した以外は、前記実施例１と同様の条件で光学フィルムを形成した。
【実施例３】
【０１６３】
エアーの温度を６５℃、そのバラツキを±７．７％（±５℃）以下に設定した以外は、実施例１と同様の条件で光学フィルムを形成した。
【０１６４】
実施例１〜３および比較例１、２のフィルムについて、干渉ムラを目視で観察した。これらの結果を図３、図４および図５に示す。図３は、実施例１の光学フィルムの写真、図４は実施例２の光学フィルムの写真、図５は比較例２の光学フィルムの写真である。なお、実施例３の光学フィルムは、前記実施例２（図４）と同じ外観が確認された。
【０１６５】
図３および図４に示すように、実施例１〜実施例３の光学フィルムは、干渉ムラは見られず、外観に優れており、実施例１の光学フィルムは特に外観に優れていた。これに対して、比較例１は、基材の走行中に塗工液が飛び散り、外観評価が出来なかった。また、比較例２の光学フィルムは、図５に示すように、ＭＤ方向に連続的なスジ状のムラが見られた。実施例１においては、塗工液の粘度を０.０５Ｐａ・ｓ〜５００Ｐａ・ｓの範囲に設定し、且つ、エアーを吹き付けることによって、目視できない程度の微細な凹凸が塗膜表面に均一に形成され、前記塗膜の厚みが均一になり、結果としてムラの発生が抑制されたと考えられる。比較例２については、ＭＤ方向に連続的なスジ状のムラが多数見られ、実用上問題があった。
【０１６６】
また、実施例１の光学フィルムおよび比較例２の光学フィルムについて、商品名ＵＳＢ2000-FLG Spectrofluorometer（オーシャンオプティック社製）と光源（商品名Tungsten Halogen Source LS-1）を用いて、膜厚を測定した。製造した光学フィルムの幅方向の長さ（走行方向と垂直方向の長さ）は１２５０ｍｍであり、その中心を原点（０ｍｍ）として、幅方向の一端に向かって２５０ｍｍの距離まで、１ｍｍのピッチで厚みを測定した。この結果を図６に示す。図６のグラフは、光学フィルムの原点（０ｍｍ）から幅方向における測定点までの距離（０〜２５０ｍｍ）と、各測定点における厚み（ｎｍ）との関係を示したグラフであり、太線が実施例１、細線が比較例２の結果である。
【０１６７】
図６からわかるように、実施例１の光学フィルムと比較例２の光学フィルムは、厚みのふり幅は同程度であるものの、厚みが変動するピッチが、比較例２に比べて実施例１は極めて短いことがわかる。つまり、実施例１によれば、光学フィルムの表面に形成された凹凸が、極めて微細であるため、目視観察した際に、干渉ムラがみられず、表面の均一性に優れた結果が得られたといえる。これに対して比較例２は、凹凸の間隔が大きいため、凹凸形状が原因となって、目視観察した際に、スジ状の干渉ムラが見られたのである。
【産業上の利用可能性】
【０１６８】
このように、本発明の製造方法によれば、基材上に形成する光学フィルムの厚みを均一にすることができるため、得られる光学フィルムは均一性に優れた光学特性を示し、各種画像表示装置に有用といえる。
【図面の簡単な説明】
【０１６９】
【図１】図１は、本発明におけるフィルムの製造方法の一例を示す概略図である。
【図２】図２は、図１に示す製造方法の各工程における、基材および塗膜の状態を示す拡大図であり、図２（ａ）〜（ｃ）はそれぞれ図１における（ａ）〜（ｃ）の部分に対応している。
【図３】本発明の実施例における光学フィルムの写真である。
【図４】本発明のその他の実施例における光学フィルムの写真である。
【図５】比較例における光学フィルムの写真である。
【図６】前記実施例の光学フィルムについて、幅方向における厚みの変化を示すグラフである。
【符号の説明】
【０１７０】
１    基材
２    塗膜
３    塗工液
４    エアーノズル
５、６、７    ロール
８    ダイコーター
８ａ  ポケット
８ｂ  スリット
９    乾燥区間
Ａ、Ｂ、Ｃ    走行方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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