(57)【要約】【課題】  支持手段に取り付けられた被洗浄物を洗浄・水切り室等において往復動及び回転させて洗浄して乾燥させるように構成した洗浄装置を提供する。【解決手段】  洗浄装置１を、カセット２０を設置する設置室３、洗浄する洗浄・水切り室８、乾燥させる乾燥室７、並びに、これらと隣接する機械室５とを有し、設置室３等と機械室５との間の壁部に形成されたホルダ移動開口１１を有する筐体２と、機械室から連通孔を通って設置室３内に突出する軸部５４、機械室５内に配設されホルダ移動開口１１に沿って軸部５４を移動させる第１駆動部５２及び軸部５４を回転させる第２駆動部５３、軸部５４の先端に取り付けられてカセット２０を保持するホルダ５１からなるカセット搬送機構５０とで構成し、カセット搬送機構５０で、洗浄・水切り室８内若しくは乾燥室７内でカセットを上下に往復動させるとともに回転させて、カセット２０を洗浄及び乾燥させるように構成する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被洗浄物を設置する設置空間が形成された設置室、前記被洗浄物を洗浄及び水切りする洗浄・水切り空間が形成された洗浄・水切り室、前記被洗浄物を乾燥させる乾燥空間が形成された乾燥室、並びに、前記設置室、前記洗浄・水切り室及び前記乾燥室と隣接する機械室を有し、前記設置室、前記洗浄・水切り室及び前記乾燥室と前記機械室との間の壁部に、前記設置室、前記洗浄・水切り室及び前記乾燥室と前記機械室とを一体に繋ぐ連通孔が形成された筐体と、
前記機械室から前記連通孔を通って前記設置室、前記洗浄・水切り室若しくは前記乾燥室内に突出する軸部、前記機械室内に配設され前記軸部を前記連通孔に沿って移動させる第１駆動手段、前記機械室内に配設され前記軸部を前記軸方向回りに回転させる第２駆動手段、及び、前記軸部の先端に取り付けられ前記設置室、前記洗浄・水切り室若しくは前記乾燥室内に位置して前記被洗浄物を保持する保持部からなる支持手段と、
前記洗浄・水切り室内に設けられ、前記被洗浄物に対して洗浄液を噴射して洗浄する洗浄液噴射手段と、
前記洗浄・水切り室内に設けられ、前記被洗浄物に対してリンス液を噴射して前記被洗浄物に付着した前記洗浄液を洗い流すリンス液噴射手段と、
前記洗浄・水切り室内に設けられ、前記被洗浄物に対して空気を噴射して前記被洗浄物に付着した前記リンス液を吹き飛ばす水切り手段と、
前記乾燥室内に設けられ、前記被洗浄物に対して温風を吹き付けて前記被洗浄物を乾燥させる乾燥手段とを有し、
前記洗浄・水切り室内において、前記被洗浄物を前記第１駆動手段で往復動させるとともに前記第２駆動手段で回転させることにより前記被洗浄物を前記洗浄液噴射手段及び前記リンス液噴射手段で洗浄した後に、前記水切り手段で水切りし、
前記乾燥室内において、前記被洗浄物を前記第２駆動手段で回転させることにより前記被洗浄物を前記乾燥手段で乾燥させることを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】
前記洗浄・水切り室及び前記乾燥室が隣接して形成され、
隣接する前記洗浄・水切り空間及び前記乾燥空間を仕切る壁に形成され、前記支持手段に支持された前記被洗浄物を隣接する前記空間の間で移動させる搬送開口と、
前記搬送開口を塞ぎ、前記被洗浄物が移動するときだけ開放される開閉装置とを有し、
前記洗浄・水切り空間及び前記乾燥空間を分離するように構成されたことを特徴とする請求項１に記載の洗浄装置。
【請求項３】
前記支持手段が、前記軸部に対して前記保持部が着脱自在で、且つ、前記軸部から前記保持部が取り外された状態で、前記軸部の先端からリンス液を噴射可能に構成され、
前記軸部の先端に洗浄ノズルを取り付けて、前記第１駆動手段で前記軸部を往復動させるとともに前記第２駆動手段で回転させて前記リンス液を噴射することにより、前記洗浄・水切り空間を形成する前記洗浄・水切り室内若しくは前記乾燥空間を形成する前記乾燥室内を洗浄するように構成されたことを特徴とする請求項１又は２に記載の洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被洗浄物の洗浄を行う洗浄装置に関し、特に、半導体ウエハ、ガラス基板等を収容保持するカセットのような高い清浄度が要求される被洗浄物の洗浄を行う場合に適した洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩや超ＬＳＩ等のような半導体部品の製造工程においては、極微細なダスト（異物）の付着でも不良品の発生や歩留まりの低下に結びつくために、極度に清浄化されたクリーンルーム内で製造が行われる。当然ながら、この製造に用いる装置、部品類も高度な清浄度が要求される。例えば、製造対象となるウエハ、ガラス基板等を収納するカセット等も高い清浄度が要求され、これに応じて使用前に十分な洗浄が行われる。
【０００３】
図１０は、複数のウエハＷを収納保持するウエハカセット２０の一例を示している。このカセット２０は樹脂成形により作られており、保持溝２１にウエハＷを整列保持する。このカセット２０は半導体製造工程等において用いられるため、カセット２０自体も高度な清浄度が要求され、このようなカセット２０を洗浄する洗浄装置が従来から種々実用に供されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−２４９２８９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の洗浄装置においては、カセット２０を搬送する搬送装置を搬送方向に沿って直線上に往復移動させるとともに、その搬送方向と直交する方向に洗浄液等の噴射ノズルを直線上に往復移動させて、カセット２０に洗浄液等を吹き付けて洗浄を行っていたが、カセット２０に付着した異物を効果的に洗浄するためには、このカセット２０に対して洗浄液等を吹き付ける角度を変化させなければならないという課題があった。上述の様に、カセット２０には保持溝２１等が形成されているため、カセット２０に対する洗浄液の噴射角度を変えることにより、各部に直角に洗浄液等を吹き付けることができ、効果的に異物を洗浄することができるからである。この課題は、カセット２に純水を吹き付けて洗浄液等を洗い流したり、空気（温風等）を吹き付けて乾燥させたりする場合にも同様である。
【０００６】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、支持手段に取り付けられた被洗浄物を洗浄・水切り室等において往復動及び回転させて洗浄して乾燥させるように構成した洗浄装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
前記課題を解決するために、本発明に係る洗浄装置は、被洗浄物（例えば、実施形態におけるカセット２０）を設置する設置空間が形成された設置室、被洗浄物を洗浄及び水切りする洗浄・水切り空間が形成された洗浄・水切り室、被洗浄物を乾燥させる乾燥室、並びに、設置室、洗浄・水切り室及び乾燥室と隣接する機械室とを有し、設置室、洗浄・水切り室及び乾燥室と機械室との間の壁部にこの設置室、洗浄・水切り室及び乾燥室と機械室とを一体に繋ぐ連通孔（例えば、実施形態におけるホルダ移動開口１１）が形成された筐体と、機械室から連通孔を通って設置空間、洗浄・水切り空間若しくは乾燥空間内に突出する軸部、機械室内に配設され軸部を連通孔に沿って移動させる第１駆動手段（例えば、実施形態における第１駆動部５２）、機械室内に設置され軸部をこの軸部の軸方向回りに回転させる第２駆動手段（例えば、実施形態における第２駆動部５３）、軸部の先端に取り付けられ設置空間、洗浄・水切り空間若しくは乾燥空間内に位置して被洗浄物を保持する保持部（例えば、実施形態におけるホルダ５１）からなる支持手段（例えば、実施形態におけるカセット搬送機構５０）と、洗浄・水切り室内に設けられ、被洗浄物に対して洗浄液を噴射する洗浄液噴射手段（例えば、実施形態における洗浄液噴射用ノズル１５）と、洗浄・水切り室内に設けられ、リンス液（純水）を噴射して被洗浄物に付着した洗浄液を洗い流すリンス液噴射手段（例えば、実施形態における純水噴射用ノズル１６）と、洗浄・水切り室内に設けられ、噴射して被洗浄物に付着したリンス液を吹き飛ばす水切り手段（例えば、実施形態におけるエアナイフ１７）と、
乾燥室内に設けられ、乾燥空間にある被洗浄物に対して温風を吹き付けて被洗浄物を乾燥させる乾燥手段（例えば、実施形態におけるホットエアナイフ１４）とから構成される。
【０００８】
そして、洗浄・水切り室内において、被洗浄物を第１駆動手段で往復動させるとともに第２駆動手段で回転させることにより被洗浄物を洗浄液噴射手段及びリンス液噴射手段で洗浄した後に、水切り手段で水切りし、乾燥室内において、被洗浄物を第２駆動手段で回転させることにより被洗浄物を乾燥手段で乾燥させる。
【０００９】
なお、本発明に係る洗浄装置は、洗浄・水切り室及び乾燥室が隣接して形成され、隣接する洗浄・水切り空間及び乾燥空間を仕切るの壁に形成され、支持手段に支持された被洗浄物を隣接する空間の間で移動させる搬送開口（例えば、実施形態における第２搬送開口１２）と、この搬送開口を塞ぎ、被洗浄物が移動するときだけ開放される開閉装置（例えば、実施形態における第２開閉装置１３）とを有し、洗浄・水切り空間及び乾燥空間を分離するように構成することが好ましい。
【００１０】
さらに、本発明に係る洗浄装置は、支持手段が、軸部に対して保持部が着脱自在で、且つ、軸部から保持部が取り外された状態で、軸部の先端からリンス液を噴射可能に構成され、軸部の先端に洗浄ノズルを取り付けて、第１駆動手段で軸部を往復動させるとともに第２駆動手段で回転させてリンス液を噴射することにより、洗浄・水切り空間を形成する洗浄・水切り室内若しくは乾燥空間を形成する乾燥室内を洗浄するように構成することが好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明に係る洗浄装置を以上のように構成することにより、被洗浄物の洗浄・水切り及び乾燥において、噴射される洗浄液、リンス液及び水切り・乾燥のための空気に対して被洗浄物の多くの面を直角に配置することができ、洗浄及び乾燥を確実に行うことができる。また、支持手段の第１駆動手段及び第２駆動手段を設置室等とは分離された機械室内に配設することにより、これらの駆動手段の摩擦により発生する異物が設置室等に入り難くなり、これらの異物による被洗浄物の二次汚染を防止することができる。
【００１２】
また、洗浄・水切り室において洗浄のちに水切りを行うことにより、乾燥室内の湿度の上昇を抑えて確実に被洗浄物を乾燥させることができる。さらに、洗浄・水切り室及び乾燥室を繋ぐ搬送開口を開閉装置で塞いで分離することにより、洗浄・水切り空間内の水分が乾燥空間に入り込むことを防ぎ、乾燥空間の湿度の上昇を抑えて被洗浄物を乾燥させることができる。また、支持手段の軸部の先端からリンス液を噴射するように構成することにより、被洗浄物の洗浄と同様にこの軸部を往復動させるとともに回転させることにより、洗浄・水切り室内を洗浄することができ、本発明に係る洗浄装置における被洗浄物の洗浄の効果を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の好ましい実施形態について図面を参照して説明する。まず、図１及び図２を用いて本発明に係る洗浄装置の構成について説明する。この洗浄装置１は、洗浄対象となるカセット２０をこの洗浄装置１内において保持するホルダ５１に取り付け及び取り外しを行う設置室３と、この設置室３の下方に配設され、カセット２０の洗浄、水切り及び乾燥を行う洗浄作業部４と、設置室３及び洗浄作業部４の側部に並んで形成され、ホルダ５１を設置室３から洗浄作業部４に移動させる駆動部等が収納された機構室５とを有する筐体２から構成される。
【００１４】
設置室３の前面側は開口しており、この開口に左右に外側に観音開きする２枚の搬入扉６，６が取り付けられている。この洗浄装置１で洗浄を行うカセット２０は、この開口部から設置室３内の設置空間３ａに位置するホルダ５１に取り付けられ、また、洗浄後は取り出される。なお、以降の説明ではこの搬入扉６，６の開く方向を前方として説明する。
【００１５】
洗浄作業部４の内部には、内部に乾燥空間７ａを形成する乾燥室７と内部に洗浄・水切り空間８ａを形成する洗浄・水切り室８がこの順で上下に隣接して配設されており、乾燥室７の上端部は設置室３の下端部と連結している。この設置室３の下面と乾燥室７の上端面には設置空間３ａと乾燥空間７ａを連通する第１搬送開口９が形成されている。そしてこの第１搬送開口９を開閉するために図２に示すように上方に開く第１開閉装置１０が配設されている。
【００１６】
設置室３、乾燥室７及び洗浄・水切り室８と機械室５とが隣接する壁部の前後方向略中央部には上下に延びて、設置空間３ａ、乾燥空間７ａ及び洗浄・水切り空間８ａと機械室４内とを連通するホルダ移動開口１１が形成されている。
【００１７】
機械室５には、設置空間３ａに位置するホルダ５１を上述のホルダ移動開口１１に沿って上下に移動させるカセット搬送機構５０の駆動部が配設されており、第１駆動部５２と、この第１駆動部５２からホルダ移動開口１１を通って第１駆動部５２の駆動方向と直交する方向（洗浄装置１における左右方向）に延び、設置空間３ａにおいて先端にホルダ５１が取り付けられた軸部５４と、この軸部５４をその軸回りに回転させる第２駆動部５３とから構成される。このため、ホルダ５１及びこのホルダ５１に取り付けられたカセット２０は、第１駆動部５２により配設空間３ａ、乾燥空間７ａ及び洗浄・水切り空間８ａ内を移動可能であり、また、第１駆動部５２で移動された位置で、このカセット２０は第２駆動部５３により回転可能である。
【００１８】
ここで、ホルダ５１について図３を用いて説明する。ホルダ５１は平面視において上下に貫通する開口部５１ｆが形成された略矩形状の枠体５１ａと、この枠体５１ａの側部に取り付けられて、枠体５１ａと軸部５４を繋ぐ支持部材５１ｂと、枠体５１ａの上面側部に対向するように配設され、この枠体５１ａに載置されたカセット２０を挟持して保持する保持部材５１ｃ，５１ｄとから構成される。一方の保持部材５１ｄには弾性部材５１ｅが他方の保持部材５１ｃに向くように配設されており、カセット２０のウエハ挿入口の一端をこの弾性部材５１ｅに押しつけて、他端を保持部材５１ｃに合わせると、弾性部材５１ｅによりウエハ挿入口の他端が保持部材５１ｃに付勢してこのカセット２０が保持される。
【００１９】
なお、枠体５１ａを支持部材５１ｂに接続されたアウタホルダとこのアウタフォルダに着脱可能で開口部５１ｆが形成されたインナフォルダとから構成し、インナフォルダに上述の保持部材５１ｃ，５１ｄを設けることもできる。このような構成によると、サイズの異なるカセット２０に対応した保持部材５１ｃ，５１ｄの取り付け間隔を有するインナフォルダを用意し、洗浄するカセット２０のサイズに応じて適切なインナフォルダを選択してアウタフォルダにとりつけることにより、本実施例に係る洗浄装置１で、異なるサイズのカセット２０の洗浄を行うことができる。
【００２０】
また、このホルダ５１は、図４に示すように、軸部５４を第１駆動部５２に固定されホルダ移動開口１１を通って設置空間３ａに突出する基端部５４ａと、この基端部５４ａに対して回転可能に構成され、第２駆動部５３により回転され、先端に支持部材５１ｂが取り付けられる先端部５４ｂとから構成し、基端部５４ａの外周面にホルダ移動開口１１を挟んで上下に延びる２枚の遮蔽板５５，５６を設けるように構成することもできる。後述するように、カセット２０の洗浄作業においては、洗浄液や純水がカセット２０に吹き付けられるため、遮蔽板５５、５６により、洗浄液や純水がホルダ移動開口１１を通って機械室４内に入るのを防止することができる。
【００２１】
次に、図５及び図６を用いて洗浄作業部４内に配設される乾燥室７及び洗浄・水切り室８について詳細に説明する。乾燥室７と洗浄・水切り室８は上下に隣接しており、隣接する壁部には上下に貫通して乾燥空間７ａと洗浄・水切り空間８ａを連通する第２搬送開口１２が形成されている。そしてこの第２搬送開口１２を開閉するために、図６に示すように下方に観音開きで開閉する第２開閉装置１３，１３が配設されている。
【００２２】
乾燥室７内の前後両側部にはホルダ５１に保持されて第１駆動部５２により乾燥空間７ａに移動されたカセット２０に温風を吹き付けるホットエアナイフ１４が配設されている。このホットエアナイフ１４の側面には、図７に示すように多数の小孔１４ａが左右方向に並んで形成されており、ホットエアナイフ１４の内部１４ｃに配設された電気ヒータ１４ｂにより、この内部１４ｃに送り込んだ空気の温度を上げ、小孔１４ａから温風をカセット２０に吹き付けるように構成されている
【００２３】
洗浄・水切り室８内の前側部には上下に並んで前後方向に延びる洗浄液噴射用ノズル１５と純水噴射用ノズル１６が配設されている。この洗浄液噴射用ノズル１５及び純水噴射用ノズル１６には、図８に示すように、左右方向に延びる側面に沿って複数の噴射ノズル１５ａ（１６ａ）が取り付けられており、内部に洗浄液若しくは純水を送り込んでこの噴射ノズル１５ａ（１６ａ）から噴射することにより、第１駆動部５２により洗浄・水切り空間８ａに移動されたカセット２０に吹き付けるように構成されている。なお、この噴射ノズル１５ａ（１６ａ）は、洗浄液による洗浄及び純水による洗浄液の洗い流しを効果的に行うために、洗浄液若しくは純水が上下に扇形に広がって噴射されるように形成されている。
【００２４】
一方、洗浄・水切り室８内の後側部には前後方向に延びる水切り用のエアナイフ１７が配設されている。このエアナイフ１７の左右に延びる側面には、図８に示すように複数の小孔１７ａが形成されている。そのため、このエアナイフ１７内に空気を送り込んで小孔１７ａから噴射することにより、カセット２０に残った水分を吹き飛ばすことができる。なお、このエアナイフ１７から噴射される空気は、水分を吹き飛ばして水切りするために高圧（高速）となるように設定されている。また、
【００２５】
なお、乾燥室７及び洗浄・水切り室８には、図５及び図６等に示すように、前後の側面に形成された排気口に繋がる排気管１９ａ，１９ｂが形成されており、ホットエアナイフ１４若しくはエアナイフ１７から噴射される空気が、この排気管１９ａ，１９ｂにより外部に排出されるように構成されている。
【００２６】
洗浄・水切り室８の底面８ｂは前方から後方に向かって下方に傾斜するように形成されており、洗浄・水切り室８の後下端面には、洗浄に使われた洗浄液や純水が落下してこの底面８ｂに溜まった廃液を外部に排出する排出口１８が形成されている。このとき、図６に示すように、排出口１８が形成された側面にエアナイフ１７を配設することにより、エアナイフ１７から噴射された空気が対向する側面に当たって一部が下方に流れて底面８ｂに沿って流れるため、底面８ｂに落下した水分がこの空気の流れに押されて排出口１８から排出されやすくなる。
【００２７】
この洗浄装置１において、カセット搬送機構５０の上述のホルダ５１は軸部５４から取り外すことが可能なように構成されている。例えば、図９に示すように、基端部５４ａから先端部５４ｂが取り外すことができる。そして、この軸部５４（基端部５４ａ）の内部には流路５７が形成され、この軸部５４（基端部５４ａ）の先端部から純水を噴射可能に構成されている。そのため、ホルダ５１の代わりに洗浄ノズル５８を取り付けて、この洗浄ノズル５８から純水を噴射させて、第１駆動部５２及び第２駆動手段５３で洗浄ノズル５８を上下に往復動させるとともに回転させて乾燥室７や洗浄・水切り室８の内壁に純水を吹き付けて、これらに付着した異物や洗浄液等を洗浄することができる。この洗浄ノズル５８は上述の純水噴射用ノズル１６と同様に扇形に純水が噴射するように構成することができる。
【００２８】
それでは、以上のように構成された洗浄装置１を用いて、カセット２０を洗浄する方法について説明する。上述のように、設置室３の搬入扉６，６を開けて設置空間３ａに位置するホルダ５１にカセット２０を取り付ける。なお、図２に示す通り、ホルダ５１が設置空間３ａ内に位置する場合は、第１開閉装置１０は上方に開いた状態となっている。そして、搬入扉６，６を閉めた後に、洗浄装置１が有する図示しない洗浄開始ボタンを操作してカセット２０の洗浄を開始すると、第１駆動部５２によりホルダ５１が下方に移動し、第１搬送開口９を通って乾燥空間７ａに入り、第１開閉装置１０が閉じられる。さらに、第１駆動部５２によりホルダ５１が下方に移動すると、第２開閉装置１３，１３が開き、第２搬送開口１２を通ってホルダ５１は洗浄・水切り空間８ａに入り、第２開閉装置１３，１３が閉じられる。
【００２９】
洗浄・水切り空間８ａにカセット２０が入ると、洗浄液噴射用ノズル１５から洗浄液が噴射され、ホルダ５１に保持されたカセット２０に洗浄液が吹き付けられる。このとき、所定の手順に従って、第１駆動部５２によりこの洗浄・水切り空間８ａ内でホルダ５１が上下に往復動され、合わせて、第２駆動部５３によりホルダ５１が回転される。そのため、カセット２０の外周面２３、内周面２２及び内周面２２に形成された保持溝２１の各部に洗浄液が吹き付けられ、付着した異物が洗い流される。なお、上述のようにホルダ５１の枠体５１ａには開口５１ｆが形成されているため、この開口５１ｆを通って、カセット２０の内周面２２等にも洗浄液を吹き付けることができる。
【００３０】
このように、所定の時間、洗浄液噴射用ノズル１５から洗浄液を噴射してカセット２０の洗浄を行うと、洗浄液の噴射は停止し、次に、純水噴射用ノズル１６から純水が噴射され、カセット２０に吹き付けられる。このときも、所定の手順に従って、第１駆動部５２によりこの洗浄・水切り空間８ａ内でホルダ５１が上下に往復動され、合わせて、第２駆動部５３によりホルダ５１が回転される。そのため、カセット２０に付着した洗浄液を純水により効率良く洗い流すことができる。
【００３１】
そして、所定の時間、純水噴射用ノズル１６から純水を噴射してカセット２０に付着した洗浄液を洗い流すと、次に、エアナイフ１７から高圧の空気が噴射されてカセット２０に付着している水分を吹き飛ばす水切りが行われる。このときも、上述と同様に、所定の手順に従って、第１駆動部５２によりこの洗浄・水切り空間８ａ内でホルダ５１が上下に往復動され、合わせて、第２駆動部５３によりホルダ５１が回転され、カセット２０の各部に付着した水分が効率良くに吹き飛ばされる。
【００３２】
以上のように、洗浄・水切り空間８ａにおいてカセット２０の洗浄及び水切りが完了すると、第２開閉装置１３，１３が開き、第１駆動部５２によりホルダ５１が上方へ移動され、第２搬送開口１２を通って、乾燥空間７ａに移動し、第２開閉装置１３，１３が閉じられる。そして、乾燥空間７ａの略中央部で、第２駆動部５３によりホルダ５１が回転され、ホットエアナイフ１４から吹き付けられる温風によりカセット２０に付着した水分が蒸発させられて乾燥される。所定時間、温風が吹き付けられて乾燥が完了すると、第１開閉装置１０が上方に開かれ、第１搬送開口９を取って、第１駆動部５２によりホルダ５１が上方へ移動し、設置空間３ａの所定の位置で停止する。そして、搬入扉６，６を開いて、ホルダ５１から洗浄の完了したカセット２０を取り出し、一連の洗浄作業が完了する。
【００３３】
上述の手順でカセット２０の洗浄を行った後に、ホルダ５１を軸部５４（基端部５４ａ）から取り外して、代わりに洗浄ノズル５８を取り付け、本実施例に係る洗浄装置１が有するセルフクリーンボタンを操作することにより、乾燥室７や洗浄・水切り室８を純水で洗浄することとができる。これにより、これらに付着した異物や洗浄液でその後に洗浄するカセット２０を汚染することを防止することができる。
【００３４】
なお、本実施例に係る洗浄装置１においては、排出口１８から排出される洗浄に使われた洗浄液や純水の廃液中に含まれる異物（コンタミネーション）の個数を計測することにより、カセット２０の洗浄の効果、すなわち、カセット２０の清浄度を測定するように構成されている。
【００３５】
本実施例に係る洗浄装置１を以上のように構成することにより、洗浄・水切り空間８ａ内で、第１駆動部５２及び第２駆動部５３によりホルダ５１（カセット２０）を上下に往復動させるとともに回転させることにより、カセット２０の各部に洗浄液や純水を吹き付けることができ、また、多くの部分に直角に洗浄液や純水を吹き付けることができるため、カセット２０に付着した異物、及び、洗浄に使用した洗浄液を確実に取り除くことができる。同様に、乾燥空間７ａでホルダ５１（カセット２０）を回転させることにより、効率よくカセット２０を乾燥させることができる。このとき、洗浄・水切り空間８ａにおいて、エアナイフ１７でカセット２０の水切りをしておくことにより、乾燥空間７ａの湿度上昇を抑え、カセット２０を効率よく乾燥させることができる。さらに、乾燥空間７ａと洗浄・水切り空間８ａを第２開閉装置１３で分離することにより、カセット２０の洗浄後の洗浄・水切り空間８ａの水分が乾燥空間７ａに入り込むことを防止することができるため、乾燥空間７ａの湿度が上昇することを防止し、カセット２０を効率よく乾燥させることができる。
【００３６】
また、カセット搬送機構５０のうち、第１駆動部５２及び第２駆動部５３を、設置室３、乾燥室７及び洗浄・水切り室８から隔離した機械室４内に配設することにより、この第１及び第２駆動部５２，５３が駆動するときに摩擦により発生する異物がカセット２０に付着する虞が無くなるため、これらの駆動部５２，５３によるカセット２０の２次汚染を防止することができる。このとき、機械室４には内部の空気を排出する図示しない排気管が接続されており、上述の乾燥室７及び洗浄・水切り室８に繋がる排気管１９ａ，１９ｂと繋がっている。そのため、乾燥室７若しくは洗浄・水切り室８においてホットエアナイフ１４若しくはエアナイフ１７を使用したときは、乾燥空間７ａ若しくは洗浄・水切り空間８ｂから排出された排気管１９ａ，１９ｂの空気の流れにより機械室４内は負圧となり、機械室４内にある異物は外部に排出される。またホットエアナイフ１４若しくはエアナイフ１７から噴射される空気のため、乾燥室７若しくは洗浄・水切り室８内の圧力の方が機械室４内の圧力よりも高くなるため、ホルダ移動開口１１を通って機械室４に空気は流れ、機械室４内の異物は乾燥室７若しくは洗浄・水切り室８に流れ込むことはない。
【００３７】
なお、以上の実施例においては設置室３、乾燥室７及び洗浄・水切り室８を上下に並んで構成した場合について説明したが、本発明がこの構成に限定されることはなく、左右に並んで構成することも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明に係る洗浄装置の全体を示す正面図である。
【図２】本発明に係る洗浄装置の全体を示す側面図である。
【図３】カセットを保持するホルダを示す図であり、（Ａ）は平面図であり、（Ｂ）は側面図である。
【図４】カセット搬送機構の要部を示す図であり、（Ａ）は正面図であり、（Ｂ）は側面図である。
【図５】乾燥室及び洗浄・水切り室を示す正面図である。
【図６】乾燥室及び洗浄・水切り室を示す側面図である。
【図７】ホットエアナイフの正面図である。
【図８】図６のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ断面図である。
【図９】カセット搬送機構に洗浄ノズルを取り付けた場合の側面図である。
【図１０】ウエハ及びウエハカセットを示す斜視図である。
【符号の説明】
【００３９】
１  洗浄装置
２  筐体
３  設置室
３ａ  設置空間
５  機械室
７  乾燥室
７ａ  乾燥空間
８  洗浄・水切り室
８ａ  洗浄・水切り空間
１１  ホルダ移動開口
１２  第２搬送開口（搬送開口）
１３  第２開閉装置（開閉装置）
１４  ホットエアナイフ（乾燥手段）
１５  洗浄液噴射用ノズル（洗浄液噴射手段）
１６  純水噴射用ノズル（リンス液噴射手段）
１７  エアナイフ（水切り手段）
２０  ウエハカセット（被洗浄物）
５０  カセット搬送機構（支持手段）
５１  ホルダ（保持部）
５２  第１駆動部（第１駆動手段）
５３  第２駆動部（第２駆動手段）
５４  軸部
５８  洗浄ノズル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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