(57)【要約】【課題】誘電体層を複数の誘電体薄層を積層して形成する場合、焼成処理の回数を増やすことなく必要な膜厚が容易に得られるとともに、膜欠陥の発生を防止する。【解決手段】開示されるＰＤＰの製造方法は、前面基板１と背面基板２とが対向配置されて放電ガス空間３が形成され、前面基板１の内面に走査電極５と維持電極６から成る表示電極が形成され、この表示電極を被覆するように複数の誘電体薄層８Ａ、８Ｂを積層することにより誘電体層８を形成する構成において、上記表示電極を直接に被覆して誘電体層としての膜厚を確保するための膜厚調整層８Ａと、この膜厚調整層８Ａを被覆して誘電体層に生ずる膜欠陥を防止するための膜欠陥防止層８Ｂとを積層することにより上記誘電体薄層８を形成する．【選択図】      図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と第２の基板とが対向配置されて放電ガス空間が形成され、前記第１の基板の前記第２の基板と対向する面に走査電極と維持電極とから成る表示電極と、該表示電極を被覆するための誘電体層とが形成されてなるプラズマディスプレイパネルを製造する方法であって、
樹脂と金属酸化物と溶剤とからなり、かつ樹脂量の重量比が互いに異なる複数のペーストを用意して、これらのペーストを前記表示電極が形成された前記第１の基板上に順次に塗布した後、共通の焼成処理を施して前記誘電体層を形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２】
第１の基板と第２の基板とが対向配置されて放電ガス空間が形成され、前記第１の基板の前記第２の基板と対向する面に走査電極と維持電極から成る表示電極が形成され、該表示電極を被覆するように複数の誘電体薄層を積層することにより誘電体層を形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法であって、
前記複数の誘電体薄層を、前記表示電極を直接に被覆して前記誘電体層としての膜厚を確保するための膜厚調整層と、該膜厚調整層を被覆する膜欠陥防止層とを積層して形成することを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
前記膜厚調整層を、複数の層により形成することを特徴とする請求項２記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項４】
前記膜厚調整層を、樹脂量の重量比が４％以下のペーストを用いて形成することを特徴とする請求項２又は３記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項５】
前記膜厚調整層を、樹脂量の重量比が１〜４％のペーストを用いて形成することを特徴とする請求項４記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
前記膜欠陥防止層を、樹脂量の重量比が４％以上のペーストを用いて形成することを特徴とする請求項２乃至５のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
前記膜欠陥防止層を、樹脂量の重量比が４〜６％のペーストを用いて形成することを特徴とする請求項６記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
前記複数の誘電体薄層をスクリーン印刷法により積層印刷し、各層の印刷工程間に乾燥工程を有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項９】
プラズマディスプレイパネルを製造する第１の工程と、
前記プラズマディスプレイパネルを駆動する回路とともに前記プラズマディスプレイパネルを一つのモジュールとして製造する第２の工程と、
画像信号のフォマット変換を行い、前記ジュールに送信するインターフェースを前記ジュールに電気的に接続する第３の工程と、
を備えるプラズマ表示装置の製造方法であって、
前記第１の工程を、請求項１乃至８のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法を用いて実施することを特徴とするプラズマ表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ：以下、ＰＤＰとも称する）の製造方法及びプラズマ表示装置の製造方法に係り、詳しくは、ＰＤＰの動作中に発生する放電から前面基板の表示電極を保護する誘電体層を複数の層により形成するＰＤＰの製造方法及びプラズマ表示装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、ＰＤＰを主要部として含むプラズマ表示装置は、従来から広く用いられているＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）、あるいは液晶表示装置等のディスプレイ装置と比較して、ちらつきが少なく表示コントラスト比が大きいこと、薄型で大画面が可能であること、応答速度が速いこと等の多くの利点を有しているために、近年コンピュータのような情報処理機器、あるいは平面テレビジョン等のディスプレイ装置として利用されてる。
【０００３】
このプラズマ表示装置は、動作方式により、表示電極が透明誘電体層（以下、単に誘電体層とも称する）で被覆されて間接的に交流放電の状態で動作させるＡＣ型のものと、表示電極が放電空間に露出されて直流放電の状態で動作させるＤＣ型のものとに略大別されるが、特に前者は比較的簡単な構造で上述したような大画面化が容易に実現できるので広く用いられている。そのようなＡＣ型プラズマ表示装置の主要部を構成するＰＤＰは、ガラス等の透明材料から成る前面基板及び背面基板が対向するように配置されて、両基板間にプラズマを発生させる放電ガス空間が形成される基本的な構成を有している。
【０００４】
また、ＡＣ型プラズマ表示装置の中でも、ＰＤＰにおいて、放電セルを形成する一対の基板の内の一方の基板である前面基板の内面（他方の基板と対向して面放電を生ずる面）に、行方向（水平方向）に沿って互いに平行に走査電極と維持電極（共通電極）とから成る一対の行電極である表示電極を配置すると共に、他方の基板である背面基板の内面に、上記行電極と直交するように列方向（垂直方向）に沿ってデータ電極（アドレス電極）から成る列電極を配置した３電極面放電型の構成のものは、前面基板において行われる表示放電時に発生する高エネルギのイオンが背面基板の内面に形成されている蛍光体層を衝撃することがないので、長寿命化が図れるため最も広く採用されている。
【０００５】
上述の３電極面放電型のＡＣ型プラズマ表示装置は、背面基板のデータ電極と前面基板の走査電極との間で表示（発光）すべき放電セル（以下、単にセルとも称する）を選択する書き込み放電を行い、続いて前面基板の走査電極と維持電極との間で選択したセルの面放電による維持放電（表示放電）を行うように構成されている。また、そのようなＰＤＰにおいて、背面基板の内面に赤色、緑色及び青色の各蛍光体層を配置するように構成して多色発光を可能にしたカラープラズマディスプレイ装置が提供されている。
【０００６】
上述したような３電極面放電型のＡＣ型プラズマ表示装置の主要部を構成するＰＤＰが開示されている（例えば、特許文献１参照）。同ＰＤＰ１００は、図９に示すように、前面基板１０１及び背面基板１０２が対向するように配置されて、両基板１０１、１０２間にプラズマを発生させる放電ガス空間１０３が形成される基本的な構成を有している。前面基板１０１は、ガラス等の透明材料から成る第１の絶縁基板１０４と、第１の絶縁基板１０４の内面に行方向（紙面と直交する方向）に沿って互いに平行に形成された走査電極１０５と維持電極（共通電極）１０６とから成る表示電極１０７と、表示電極１０７を被覆するようにそれぞれＰｂＯ（酸化鉛）のような低融点ガラス等から成る下側ガラス層１０８Ａと上側ガラス層１０８Ｂとが積層された誘電体層１０８と、誘電体層１０８を被覆するＭｇＯ（酸化マグネシウム）等から成る保護膜１０９とを備えている。ここで、走査電極１０５及び維持電極１０６はそれぞれＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）等の透明電極１０５Ａ、１０６Ａと、Ａｌ（アルミニウム）、Ｃｕ（銅）、Ａｇ（銀）等の低抵抗の金属材料から成るバス電極（トレース電極）１０５Ｂ、１０６Ｂとにより構成されている。また、誘電体層１０８は表示放電を維持するのに必要な壁電荷を形成し、かつ表示放電時に発生する高エネルギのイオンから表示電極１０７を保護するために形成されている。また、保護膜１０９は上記イオンから誘電体層１０８を保護するために形成されている。
【０００７】
一方、背面基板１０２は、ガラス等の透明材料から成る第２の絶縁基板１１１と、第２の絶縁基板１１１の内面に行方向と直交する列方向に沿って形成されたＡｌ、Ｃｕ、Ａｇ等から成るデータ電極（アドレス電極）１１２と、データ電極１１２を被覆する誘電体層１１３と、放電用ガスの放電により発生する紫外線を可視光に変換する赤色蛍光体層、緑色蛍光体層及び青色蛍光体層に塗り分けられた蛍光体層１１４とを備えている。
【０００８】
次に、図１０を参照して、同ＰＤＰ１００の製造方法を工程順に説明する。
まず、図１０（ａ）に示すように、ガラス等の透明材料から成る第１の絶縁基板１０４を用いてこの内面に電子ビーム蒸着法等によりＩＴＯ等の透明薄膜を成膜した後、フォトリソグラフィ法により所望の形状にパターニングしてそれぞれ透明電極１０５Ａ、１０６Ａを形成するとともに、スクリーン印刷法等によりそれぞれバス電極１０５Ｂ、１０６Ｂを形成して互いに平行に走査電極１０５及び維持電極１０６を形成する。次に、走査電極１０５及び維持電極１０６を含む全面に、軟化点Ｔ１１が例えば５８０℃のＰｂＯを含む低融点ガラスを主成分とするペーストを塗布し、続いて乾燥した後に、焼成点Ｔ２１がＴ１１より低い例えば５５０〜５６０℃で焼成して下側ガラス層１０８Ａを形成する。
【０００９】
次に、図１０（ｂ）に示すように、下側ガラス層１０８Ａの全面に、軟化点Ｔ１２が例えば４７０℃のＰｂＯを含む低融点ガラスを主成分とするペーストを塗布し、乾燥した後に、焼成点Ｔ２２がＴ１２より高くかつ上記Ｔ２１よりも低い例えば５３０℃で焼成して上側ガラス層１０８Ｂを形成する。これにより、下側ガラス層１０８Ａ上に上側ガラス層１０８Ｂが積層された誘電体層１０８を形成する。次に、図１０（ｃ）に示すように、電子ビーム蒸着法等により誘電体層１０８を被覆するようにＭｇＯ等から成る保護膜１０９を形成することにより、前面基板１０１を完成する。
【００１０】
このように、誘電体層１０８を下側ガラス層１０８Ａと上側ガラス層１０８Ｂとの２つの層を積層して形成することにより、誘電体層１０８を単層で形成していた場合に比べて、ガラス材料の焼成時に表示電極１０７とガラス材料とが反応して、耐電圧の原因となる大きな気泡が生じるという問題を解決することができるとされている。
【００１１】
【特許文献１】
特開平７−１０５８５５号公報（第３、４頁、図１、２）
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、特許文献１記載の従来のＰＤＰの製造方法では、誘電体層を複数の層で形成する場合、それぞれの層毎に焼成温度が異なっているので、複数の焼成工程が必要になり、製造コストのアップが避けられない、という問題がある。
すなわち、従来のＰＤＰの製造方法では、まず、前述したように軟化点Ｔ１１を有するＰｂＯを含む低融点ガラスを主成分とする第１のペーストを塗布し、乾燥工程を経た後、焼成点Ｔ２１がＴ１１より低い温度で第１の焼成処理を施して下側ガラス層１０８Ａを形成する。次に、軟化点Ｔ１２（＜Ｔ１１）を有するＰｂＯを含む低融点ガラスを主成分とする第２のペーストを塗布し、乾燥工程を経た後、焼成点Ｔ２２がＴ１２より高くかつ上記Ｔ２１よりも低い温度で第２の焼成処理を施して上側ガラス層１０８Ａを形成する。したがって、第１の焼成処理（焼成点Ｔ２１）と第２の焼成処理（焼成点Ｔ２２）との２回の焼成処理を施しているので、その分製造コストがアップする。
【００１３】
ここで、この発明の発明者は、上述したようなコストアップを避けるために、焼成処理を１回だけ共通に行うようにしたＰＤＰの製造方法を検討した。図７は、第１の検討案による第１の製造方法により製造されたＰＤＰの構成を示す断面図で、誘電体層１０８を３つの層の誘電体薄層１０８Ａ、１０８Ｂ及び１０８Ｃを順次に積層して形成した例を示している。この第１の製造方法では、まず予め形成した走査電極１０５及び維持電極１０６を含む表示電極１０７を覆うように、例えばアクリル樹脂のような樹脂（４．０重量％）と、例えばＰｂＯのような固形分としての低融点ガラス粉末（６５〜７５重量％）と、例えばイソプロピルアルコール（残り）とを含むペーストを、１５０メッシュのナイロン製のスクリーンマスクを用いて塗布した後、１００℃で乾燥する。そして、これらの工程を３回繰り返した後、５００〜５８０℃で焼成して、第１、第２及び第３の誘電体薄層１０８Ａ〜１０８Ｃを順次に積層して、膜厚が略３０μｍの膜厚誘電体層１０８を形成する。
【００１４】
図８は、第２の検討案による第２の製造方法により製造されたＰＤＰの構成を示す断面図で、誘電体層１０８を２つの層の誘電体薄層１０８Ａ及び１０８Ｂを順次に積層して形成した例を示している。この第２の製造方法では、まず予め形成した走査電極１０５及び維持電極１０６を含む表示電極１０７を覆うように、例えばアクリル樹脂のような樹脂（１．０〜２．０重量％）と、例えばＰｂＯのような固形分としての低融点ガラス粉末（７５〜８５重量％）と、例えばイソプロピルアルコール（残り）とを含むのペーストを、１５０メッシュのナイロン製のスクリーンマスクを用いて塗布した後、１００℃で乾燥する工程を２回繰り返した後、５００〜５８０℃で焼成して、第１及び第２の誘電体薄層１０８Ａ及び１０８Ｂを順次に積層して、膜厚が略３０μｍの膜厚の誘電体層１０８を形成する。
【００１５】
しかしながら、上述したように２つの層あるいは３つの層の誘電体薄層を積層して誘電体層を形成する場合、焼成処理を１回だけ行うようにすればコストダウンを図ることが可能になるが、ペーストの成分である樹脂量の重量比が適切でないと、必要な膜厚の誘電体層が得られないだけでなく、形成された誘電体薄層に膜欠陥が発生するようになる。ここで、膜欠陥は、乾燥された下薄層（例えば誘電体薄層１０８Ａ）に対して上薄層（例えば誘電体薄層１０８Ｂ）を形成するためのペーストを塗布した際に、このペースト内の溶剤が下薄層に浸透する結果、そのペーストにより形成される上薄層のレベリング（膜質）が損なわれるために生ずると思われる。このような膜欠陥の発生は、耐電圧の低下や表示点欠陥を引き起こす原因となる。したがって、焼成処理を１回だけ行う特徴を活かした上で、必要な膜厚が容易に得られるとともに膜欠陥の発生を防止するようにして、複数の誘電体薄層を積層して誘電体層を形成することが望まれている。
【００１６】
この発明は、上述の事情に鑑みてなされたもので、誘電体層を複数の誘電体薄層を積層して形成する場合、焼成処理の回数を増やすことなく必要な膜厚が容易に得られるとともに、膜欠陥の発生を防止することができるようにしたプラズマディスプレイパネルの製造方法及びプラズマ表示装置の製造方法を提供することを目的としている。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項１記載の発明は、第１の基板と第２の基板とが対向配置されて放電ガス空間が形成され、上記第１の基板の上記第２の基板と対向する面に走査電極と維持電極とから成る表示電極と、該表示電極を被覆するための誘電体層とが形成されてなるプラズマディスプレイパネルを製造する方法に係り、樹脂と金属酸化物と溶剤とからなり、かつ樹脂量の重量比が互いに異なる複数のペーストを用意して、これらのペーストを上記表示電極が形成された上記第１の基板上に順次に塗布した後、共通の焼成処理を施して上記誘電体層を形成することを特徴としている。
【００１８】
また、請求項２記載の発明は、第１の基板と第２の基板とが対向配置されて放電ガス空間が形成され、上記第１の基板の上記第２の基板と対向する面に走査電極と維持電極から成る表示電極が形成され、該表示電極を被覆するように複数の誘電体薄層を積層することにより誘電体層を形成するプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、上記複数の誘電体薄層を、上記表示電極を直接に被覆して上記誘電体層としての膜厚を確保するための膜厚調整層と、該膜厚調整層を被覆する膜欠陥防止層とを積層して形成することを特徴としている。
【００１９】
また、請求項３記載の発明は、請求項２記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、上記膜厚調整層を、複数の層により形成することを特徴としている。
【００２０】
また、請求項４記載の発明は、請求項２又は３記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、上記膜厚調整層を、樹脂量の重量比が４％以下のペーストを用いて形成することを特徴としている。
【００２１】
また、請求項５記載の発明は、請求項４記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、上記膜厚調整層を、上記樹脂量の重量比が１〜４％のペーストを用いて形成することを特徴としている。
【００２２】
また、請求項６記載の発明は、請求項２乃至５のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、上記膜欠陥防止層を、樹脂量の重量比が４％以上のペーストを用いて形成することを特徴としている。
【００２３】
また、請求項７記載の発明は、請求項６記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、上記膜欠陥防止層を樹脂量の重量比が４〜６％のペーストを用いて形成することを特徴としている。
【００２４】
また、請求項８記載の発明は、請求項１乃至７のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法に係り、上記複数の誘電体薄層をスクリーン印刷法により積層印刷し、各層の印刷工程間に乾燥工程を有することを特徴としている。
【００２５】
また、請求項９記載の発明は、プラズマ表示装置の製造方法に係り、プラズマディスプレイパネルを製造する第１の工程と、上記プラズマディスプレイパネルを駆動する回路とともに上記プラズマディスプレイパネルを一つのモジュールとして製造する第２の工程と、画像信号のフォマット変換を行い、上記ジュールに送信するインターフェースを上記ジュールに電気的に接続する第３の工程と、
を備えるプラズマ表示装置の製造方法に係り、上記第１の工程を、請求項１乃至８のいずれか１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法を用いて実施することを特徴としている。
【００２６】
【発明の原理】
この発明の発明者は、実験の結果、複数の層を積層して誘電体層を形成する場合、用いるペーストの樹脂量の重量比を、必要な膜厚を得る場合と膜欠陥の発生を防止する場合とでそれぞれ適切な値に選ぶことにより、前述したような目的を達成することができることを見い出した。
図４は、この発明の元となった実験結果１を説明するための図で、（ａ）は膜厚（縦軸）と樹脂量（横軸）との関係を示す図、（ｂ）は欠陥発生数（横軸）と樹脂量（縦軸）との関係を示す図である。図４（ａ）から明らかなように、前述したような組成のペーストにおいて、下層及び上層を形成するためのそれぞれのペーストを変える場合は、各ペーストの樹脂量の重量比（Ｗｅｉｇｈｔ：Ｗｔ％）が略４％以上になると膜厚は飽和状態となって略一定となり、樹脂量の重量比が略４％以下になると、膜厚は徐々に増加している。したがって、必要な膜厚を得る場合には、樹脂量の重量比を略４％以下に選ぶと膜厚調整層としての誘電体薄層を形成できることが理解される。また、図４（ｂ）から明らかなように、膜欠陥の発生を防止する場合には、樹脂量の重量比を略４％以上に選ぶと膜欠陥防止層としの誘電体薄層を形成できることが理解される。
【００２７】
図５は、この発明の元となった他の実験結果２を説明するための図で、（ａ）は膜厚（縦軸）と樹脂量（横軸）との関係を示す図、（ｂ）は欠陥発生数（横軸）と樹脂量（縦軸）との関係を示す図である。図５（ａ）から明らかなように、前述したような組成のペーストにおいて、下層を形成するためのペーストの樹脂量の重量比を変える一方、上層を形成するためのペーストの樹脂量の重量比を略一定に選んだ場合は、下層を形成するためのペーストの樹脂量の重量比が略３％以上になると膜厚は飽和状態となって略一定となり、樹脂量の重量比が略３％以下になると、膜厚は徐々に増加している。したがって、必要な膜厚を得る場合には、下層を形成するためのペーストの樹脂量の重量比を略３％以下に選ぶと膜厚調整層としての誘電体薄層を形成できることが理解される。また、図５（ｂ）から明らかなように、膜欠陥の発生を防止する場合には、下層を形成するためのペーストの樹脂量の重量比を１．０〜６．０％の範囲で変えるとともに、上層を形成するためのペーストの樹脂量の重量比を略４．０％に選ぶと膜欠陥はほとんど発生しないことが理解される。このように、樹脂量の重量比が大きいペーストを下層上に塗布して上層を形成することにより、そのペースト内の溶剤が下層に浸透するのを抑制することができると考えられる。この結果、そのペーストにより形成される上層のレベリング（膜質）が損なわれるのを防止でき、上層を膜欠陥防止層として作用させることができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】
以下、上述の各実験結果を基に、図面を参照して、この発明の実施の形態について説明する。説明は実施例を用いて具体的に行う。
◇第１実施例
図１は、この発明の第１実施例であるＰＤＰの製造方法の主要部の構成を工程順に示す工程図、図２は同ＰＤＰの製造方法により製造されたＰＤＰの構成を示す斜視図である。以下、図１を参照して、同ＰＤＰの製造方法の主要部について工程順に説明する。
まず、図１（ａ）に示すように、ガラス等の透明材料から成る第１の絶縁基板４を用いてこの内面に電子ビーム蒸着法等によりＩＴＯ等の透明薄膜を成膜した後、フォトリソグラフィ法により所望の形状にパターニングしてそれぞれ透明電極５Ａ、６Ａを形成するとともに、スクリーン印刷法等によりそれぞれバス電極５Ｂ、６Ｂを形成して互いに平行に走査電極５及び維持電極６を形成する。次に、走査電極５及び維持電極６から成る表示電極を覆うように、前述の実験結果に基いて、例えばアクリル樹脂のような樹脂（略１．０重量％）と、例えばＰｂＯのような固形分としての低融点ガラス粉末（７５〜８５重量％）と、例えばイソプロピルアルコール（残り）とを含む第１のペースト７Ａを、１５０メッシュのナイロン製のスクリーンマスクを用いて塗布した後、１００℃で乾燥する。
【００２９】
次に、図１（ｂ）に示すように、前述の実験結果に基いて、例えばアクリル樹脂のような樹脂（略４．０重量％）と、例えばＰｂＯのような固形分としての低融点ガラス粉末（７５〜８５重量％）と、例えばイソプロピルアルコール（残り）とを含む第２のペースト７Ｂを、１５０メッシュのナイロン製のスクリーンマスクを用いて塗布した後、１００℃で乾燥する。次に、図１（ｃ）に示すように、略５８０℃で焼成して、第１のペースト７Ａに基づいた第１の誘電体薄層（膜厚調整層）８Ａ及び第２のペースト７Ｂに基づいた第２の誘電体薄層（膜欠陥防止層）８Ｂを同時に形成することにより、膜厚が略３０μｍの誘電体層８を形成する。
【００３０】
前述の実験結果に基づいて、上述したように樹脂量の重量比が略１．０％のペーストを用いることにより、図４（ａ）から明らかなように、膜厚が略２０μｍの第１の誘電体薄層（膜厚調整層）８Ａを形成することができ、また上述したように樹脂量の重量比が略４％のペーストを用いることにより、図４（ａ）から明らかなように、膜厚が略１０μｍの第２の誘電体薄層（膜欠陥防止層）８Ｂを形成することができ、合わせて３０μｍの誘電体層８を形成することができる。
【００３１】
次に、図１（ｃ）に示すように、電子ビーム蒸着法等により誘電体層８を被覆するようにＭｇＯ等から成る保護膜９を形成することにより、前面基板１を完成する。次に、図１（ｄ）に示すように、ガラス等の透明材料から成る第２の絶縁基板１１上に列方向に沿って形成されたＡｌ、Ｃｕ、Ａｇ等から成るデータ電極．（アドレス電極）１２と、データ電極１２を被覆する誘電体層１３と、放電用ガスの放電により発生する紫外線を可視光に変換する赤色蛍光体層、緑色蛍光体層及び青色蛍光体層に塗り分けられた蛍光体層１４とを備える背面基板２を用いて、対向配置させた両基板１、２間の放電ガス空間３内にＨｅ（ヘリウム）、Ｎｅ（ネオン）、Ｘｅ（キセノン）等の放電用ガスを単独であるいは混合して充填することにより、ＰＤＰ１０を完成する。
【００３２】
図２は、上述したようにこの例のＰＤＰの製造方法により製造されたＰＤＰの構成を詳細に示す斜視図である。このＰＤＰ１０は、図２に示すように、前面基板１と、背面基板２とが対向するように配置されて、両基板１、２間に放電ガス空間３が形成される基本的な構成を有している。
【００３３】
ここで、前面基板１は、図２に示すように、ガラス等の透明材料から成る第１の絶縁基板４と、第１の絶縁基板４の内面に行方向Ｈに沿って平行に形成されたＩＴＯ等の透明電極５Ａ、６Ａ及びこれら透明電極５Ａ、６Ａの一部にそれぞれ抵抗を小さくするために形成されたＡｌ、Ｃｕ、Ａｇ等から成るバス電極（トレース電極）５Ｂ、６Ｂから成る走査電極５及び維持電極（共通電極）６と、走査電極５及び維持電極６を被覆するＰｂＯのような低融点ガラス等から成る誘電体層８と、誘電体層８を放電から保護するＭｇＯ等から成る保護膜９とを備えている。
【００３４】
ここで、誘電体層８は、上述したようなこの例のＰＤＰの製造方法により形成された１の誘電体薄層（膜厚調整層）８Ａと第２の誘電体薄層（膜欠陥防止層）８Ｂとが積層されて形成されている。
【００３５】
一方、背面基板２は、図２に示すように、ガラス等の透明材料から成る第２の絶縁基板１１と、第２の絶縁基板１１の内面に列方向Ｖに沿って形成されたＡｌ、Ｃｕ、Ａｇ等から成るデータ電極１２と、データ電極１２を覆う誘電体層１３と、Ｈｅ、Ｎｅ、Ｘｅ等の放電用ガスが単独であるいは混合して充填される上述放電ガス空間３を確保するとともに、個々の放電セルを区切るために列方向Ｖに沿って形成された低融点ガラス等から成る隔壁１５と、隔壁１５の底面及び壁面を覆う位置に形成された放電用ガスの放電により発生する紫外線を可視光に変換する赤色蛍光体層、緑色蛍光体層及び青色蛍光体層に塗り分けられた蛍光体層１４とを備えている。
【００３６】
このように、この例のＰＤＰの製造方法によれば、前面基板１と背面基板２とが対向配置されて放電ガス空間３が形成され、前面基板１の内面に走査電極５と維持電極６から成る表示電極が形成され、この表示電極を被覆するように複数の誘電体薄層８Ａ、８Ｂを積層することにより誘電体層８を形成する構成において、上記表示電極を直接に被覆して誘電体層としての膜厚を確保するための膜厚調整層８Ａと、この膜厚調整層８Ａを被覆して誘電体層に生ずる膜欠陥を防止するための膜欠陥防止層８Ｂとを積層することにより上記誘電体薄層８を形成するようにしたので、ペーストの成分である樹脂量の重量比をそれぞれ適切に選ぶことにより、膜厚調整層及び膜欠陥防止層に役割を分けて誘電体層を形成することができる。
したがって、誘電体層を複数の誘電体薄層を積層して形成する場合、焼成処理の回数を増やすことなく必要な膜厚が容易に得られるとともに、膜欠陥の発生を防止することができる。
【００３７】
◇第２実施例
図３は、この発明の第２実施例であるＰＤＰの製造方法の主要部の構成を工程順に示す工程図である。この例のＰＤＰの製造方法の構成が、上述した第１実施例の構成と大きく異なるところは、膜厚調整層を複数の誘電体薄層により形成するようにした点である。以下、図３を参照して、同ＰＤＰの製造方法の主要部について工程順に説明する。
まず、図２（ａ）に示すように、ガラス等の透明材料から成る第１の絶縁基板４を用いてこの内面に電子ビーム蒸着法等によりＩＴＯ等の透明薄膜を成膜した後、フォトリソグラフィ法により所望の形状にパターニングしてそれぞれ透明電極５Ａ、６Ａを形成するとともに、スクリーン印刷法等によりそれぞれバス電極５Ｂ、６Ｂを形成して互いに平行に走査電極５及び維持電極６を形成する。次に、走査電極５及び維持電極６から成る表示電極を覆うように、前述の実験結果に基いて、例えばアクリル樹脂のような樹脂（略１．０重量％）と、例えばＰｂＯのような固形分としての低融点ガラス粉末（７５〜８５重量％）と、例えばイソプロピルアルコール（残り）とを含む第１のペースト７ａを、１５０メッシュのナイロン製のスクリーンマスクを用いて塗布した後、１００℃で乾燥する。
【００３８】
次に、図２（ｂ）に示すように、図２（ａ）と同様な成分の第２のペースト７ｂを、１５０メッシュのナイロン製のスクリーンマスクを用いて塗布した後、１００℃で乾燥する。次に、図２（ｃ）に示すように、前述の実験結果に基いて、例えばアクリル樹脂のような樹脂（略４．０重量％）と、例えばＰｂＯのような固形分としての低融点ガラス粉末（７５〜８５重量％）と、例えばイソプロピルアルコール（残り）とを含む第３のペースト７ｃを、１５０メッシュのナイロン製のスクリーンマスクを用いて塗布した後、１００℃で乾燥する。
【００３９】
次に、図２（ｄ）に示すように、略５８０℃で焼成して、第１のペースト７ａに基づいた第１の誘電体薄層（膜厚調整層）８ａ、第２のペースト７ｂに基づいた第２の誘電体薄層（膜厚調整層）８ｂ及び第３のペースト７ｃに基づいた第３の誘電体薄層８ｃを同時に形成することにより、膜厚が略３０μｍの誘電体層８を形成する。次に、電子ビーム蒸着法等により誘電体層８を被覆するようにＭｇＯ等から成る保護膜９を形成することにより、前面基板１を完成する。以下、第１実施例の工程と略同様な工程を繰り返すことにより、ＰＤＰ１０を完成する。
【００４０】
この例のＰＤＰの製造方法によれば、特に膜厚調整層を１回のペースト塗布により必要な膜厚が得られない場合は、同様な成分のペーストを繰り返して塗布することにより、必要な膜厚の膜厚調整層を容易に得ることができる。そして、誘電体層８の最上層には膜欠陥防止層を形成することにより、膜欠陥を防止することができる。
【００４１】
このように、この例の構成によっても、誘電体層を複数の誘電体薄層を積層して形成する場合、焼成回数を増やすことなく必要な膜厚が容易に得られるとともに、膜欠陥の発生を防止することができる。
また、この例の構成によれば、膜厚の増加に適した成分のペーストを繰り返し塗布することにより、必要な膜厚の膜厚調整層を容易に得ることができる。
【００４２】
◇第３実施例
図６は、この発明の第３実施例であるプラズマ表示装置の製造方法により製造されたプラズマ表示装置の構成を示すブロック図である。この例のプラズマ表示装置の製造方法は、第１又は第２実施例のＰＤＰの製造方法により製造されたＰＤＰを用いて構成した点に特徴を有している。
この例のプラズマ表示装置６０は、図６に示すように、モジュール構造を有するものとして設計されており、具体的には、アナログインターフェース（以下、ＩＦ）２０とＰＤＰモジュール３０とにより構成されている。
【００４３】
アナログＩＦ２０は、図６に示すように、クロマ・デコータを備えるＹ／Ｃ分離回路２１と、Ａ／Ｄ変換回路２２と、ＰＬＬ回路を備える同期信号制御回路２３と、画像フォーマット変換回路２４と、逆γ（ガンマ）変換回路２５と、システム・コントロール回路２６と、ＰＬＥ制御回路２７と、から構成されている。
【００４４】
概略的には、アナログＩＦ２０は、受信したアナログ映像信号をディジタル映像信号に変換した後、そのディジタル映像信号をＰＤＰモジュール３０に供給する。例えばテレビチューナーから発信されたアナログ映像信号はＹ／Ｃ分離回路２１においてＲＧＢの各色の輝度信号に分解された後、Ａ／Ｄ変換回路２２においてディジタル信号に変換される。その後、ＰＤＰモジュール３０の画素構成と映像信号の画素構成が異なる場合には、画像フォーマット変換回路２４において必要な画像フォーマットの変換が行われる。ＰＤＰの入力信号に対する表示輝度の特性は線形的に比例するが、通常の映像信号はＣＲＴの特性に合わせて、予め補正（γ変換）されている。このため、Ａ／Ｄ変換回路２２において映像信号のＡ／Ｄ変換を行った後、逆γ変換回路２５において、映像信号に対して逆γ変換を施し、線形特性に復元されたディジタル映像信号を生成する。このディジタル映像信号はＲＧＢ映像信号としてＰＤＰモジュール３０に出力される。
【００４５】
アナログ映像信号には、Ａ／Ｄ変換用のサンプリングクロック及びデータクロック信号が含まれていないため、同期信号制御回路２３に内蔵されているＰＬＬ回路が、アナログ映像信号と同時に供給される水平同期信号を基準として、サンプリングクロック及びデータクロック信号を生成し、ＰＤＰモジュール３０に出力する。アナログＩＦ２０のＰＬＥ制御回路２７は輝度制御を行う。具体的には、平均輝度レベルが所定値以下である場合には表示輝度を上昇させ、平均輝度レベルが所定値を越える場合には表示輝度を低下させる。
【００４６】
システム・コントロール回路２６は、各種制御信号をＰＤＰモジュール３０に対して出力する。ＰＤＰモジュール３０は、さらに、ディジタル信号処理・制御回路３１と、パネル部３２と、ＤＣ／ＤＣコンバータを内蔵するモジュール内電源回路３３と、から構成されている。ディジタル信号処理・制御回路３１は、入力ＩＦ信号処理回路３４と、フレームメモリ３５と、メモリ制御回路３６と、ドライバ制御回路３７と、から構成されている。
【００４７】
例えば、入力ＩＦ信号処理回路３４に入力された映像信号の平均輝度レベルは入力ＩＦ信号処理回路３４内の入力信号平均輝度レベル演算回路（図示せず）により計算され、例えば、５ビットデータとして出力される。また、ＰＬＥ制御回路２７は、平均輝度レベルに応じてＰＬＥ制御データを設定し、入力ＩＦ信号処理回路３４内の輝度レベル制御回路（図示せず）に入力する。
【００４８】
ディジタル信号処理・制御回路３１は、入力ＩＦ信号処理回路３４において、これらの各種信号を処理した後、制御回路をパネル部３２に送信する。同時に、メモリ制御回路３６及びドライバ制御回路３７はメモリ制御回路及びドライバ制御信号をパネル部３２に送信する。
【００４９】
パネル部３２は、第１又は第２実施例により製造されたＰＤＰ７０と、走査電極を駆動する走査ドライバ３８と、データ電極を駆動するデータドライバ３９と、ＰＤＰ７０及び走査ドライバ３８にパルス電圧を供給する高圧パルス回路４０と、高圧パルス回路４０からの余剰電力を回収する電力回収回路４１と、から構成されている。
【００５０】
ＰＤＰ７０は、例えば１３６５個×７６８個に配列された画素を有するものとして構成されている。ＰＤＰ７０においては、走査ドライバ３８が走査電極を制御し、データドライバ３９がデータ電極を制御することにより、これらの画素のうちの所定の画素の点灯又は非点灯が制御され、所望の表示が行われる。
なお、ロジック用電源がディジタル信号処理・制御回路３１及びパネル部３２にロジック用電力を供給している。さらに、モジュール内電源回路３３は、表示用電源から直流電力を供給され、この直流電力の電圧を所定の電圧に変換した後、パネル部３２に供給している。
【００５１】
以下、この例のプラズマ表示装置６０の製造方法を概略的に説明する。
まず、第１又は第２実施例により製造したＰＤＰ７０と、走査ドライバ３８と、データドライバ３９と、高圧パルス回路４０と、電力回収回路４１とを一基板上に配置し、パネル部３２を形成する。さらに、パネル部３２とは別個にディジタル信号処理・ディジタル回路３１を形成する。
【００５２】
このようにして形成されたパネル部３２及びディジタル信号処理・制御回路３１とモジュール内電源回路３３とを一つのモジュールとして組み立て、ＰＤＰモジュール３０を形成する。さらに、ＰＤＰモジュール３０とは別個にアナログＩＦ２０を形成する。
このように、ＰＤＰモジュール３０をアナログＩＦ２０とをそれぞれ別個に形成した後、双方を電気的に接続することにより、図６に示したプラズマ表示装置６０が完成する。
【００５３】
このように、プラズマ表示装置６０をモジュール化することにより、プラズマ表示装置を構成する他の構成部品とは別個に独立にプラズマ表示装置６０を製造することが可能となり、例えば、プラズマ表示装置６０が故障した場合には、ＰＤＰモジュール３０毎交換することにより、補修の簡素化及び短時間化を図ることができる。
【００５４】
このように、この例のプラズマ表示装置の製造方法によれば、プラズマ表示装置６０をモジュール化することにより、故障したような場合に、ＰＤＰモジュール３０毎交換することにより、補修の簡素化及び短時間化を図ることができる。
【００５５】
以上、この発明の実施例を図面により詳述してきたが、具体的な構成はこの実施例に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があってもこの発明に含まれる。例えば、実施例で前面基板に形成する誘電体層の膜厚は一例を示したものであり、この例に限らず必要な任意の膜厚に形成することができる。また、第２実施例では２回のペースト塗布により必要な膜厚の膜厚調整層を形成する例で説明したが、この例に限らず３回以上のペースト塗布により必要な膜厚の膜厚調整層を形成するようにしてもよい。また、ペーストに含まれる樹脂材料としはアクリル樹脂を用いた例で説明したが、これに限らず、結着樹脂として知られているものであれば、その他の樹脂を用いるようにしてもよい。
【００５６】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、第１の基板と第２の基板とが対向配置されて放電ガス空間が形成され、第１の基板の第２の基板と対向する面に走査電極と維持電極から成る表示電極が形成され、表示電極を被覆するように複数の誘電体薄層を積層することにより誘電体層を形成する構成において、複数の誘電体薄層を、表示電極を直接に被覆して誘電体層としての膜厚を確保するための膜厚調整層と、膜厚調整層を被覆する膜欠陥防止層とを積層して形成するようにしたので、ペーストの成分である樹脂量の重量比を適切に選ぶことにより、膜厚調整層及び膜欠陥防止層に役割を分けて誘電体層を形成することができる。
したがって、誘電体層を複数の層を積層して形成する場合、焼成回数を増やすことなく必要な膜厚が容易に得られるとともに、膜欠陥の発生を防止することができる。
また、この発明のプラズマ表示装置の製造方法によれば、プラズマ表示装置をモジュール化することにより、部品交換の必要性が生じた場合には、モジュール毎交換することにより、補修の簡素化及び短時間化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１実施例であるＰＤＰの製造方法の主要部の構成を工程順に示す工程図である。
【図２】同ＰＤＰの製造方法により製造されたＰＤＰの構成を示す斜視図である。
【図３】この発明の第２実施例であるＰＤＰの製造方法の主要部の構成を工程順に示す工程図である。
【図４】この発明の元となった実験結果を説明するための図で、（ａ）は膜厚（縦軸）と樹脂量（横軸）との関係を示す図、（ｂ）は欠陥発生数（横軸）と樹脂量（縦軸）との関係を示す図である。
【図５】この発明の元となった他の実験結果を説明するための図で、（ａ）は膜厚（縦軸）と樹脂量（横軸）との関係を示す図、（ｂ）は欠陥発生数（横軸）と樹脂量（縦軸）との関係を示す図である。
【図６】この発明の第３実施例であるプラズマ表示装置の製造方法により製造されたプラズマ表示装置の構成を示すブロック図である。
【図７】この発明の背景を説明するためのＰＤＰの構成を示す断面図である。
【図８】この発明の他の背景を説明するためのＰＤＰの構成を示す断面図である。
【図９】従来のプラズマ表示装置の主要部を構成するＰＤＰの構成を示す断面図である。
【図１０】同ＰＤＰの製造方法の主要部の構成を工程順に示す工程図である。
【符号の説明】
１      前面基板
２      背面基板
３      放電ガス空間
４、１１      絶縁基板
５      走査電極
６      維持電極
５Ａ、６Ａ      透明電極
５Ｂ、６Ｂ      維持電極
７Ａ、７Ｂ、７ａ〜７ｃ      ペースト
８      誘電体層
８Ａ〜８Ｃ、８ａ〜８ｃ      誘電体薄層
９      保護膜
１０      プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
１２      データ電極（アドレス電極）
１３      誘電体層
１４      蛍光体層
１５      隔壁
２０      アナログインターフェース（ＩＦ）
３０      プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）モジュール
３１      ディジタル信号処理・制御回路
３２      パネル部
６０      プラズマ表示装置
７０      プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2005005147.tif 000010
【図９】
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【図１０】
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