(57)【要約】      （修正有）【課題】安全で工業化に適した方法により、高収率かつ高い光学純度で、３−ベンザミド−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオン酸に代表される３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸またはその塩を製造する方法を提供する。【解決手段】４段階の工程を経て、下記式に示す光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールを製造し、当該化合物から、さらに、３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸またはその塩を製造する。2005304368.tif 000069（式中、Ｒはアルキル基、アルケニル基等、Ｘは窒素官能基の保護基を、Ｚはアシル基を表す）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（工程１）  下記一般式（１）：
【化１】
2005304368.tif 000043
（式中、Ｒはアルキル基、アルケニル基、アリール基、アリールアルキル基またはアリールチオアルキル基を表す。）
で表される化合物またはその塩を、塩基存在下でアジド化剤と反応させて、下記一般式（２）：
【化２】
2005304368.tif 000044
（式中、Ｒは前記と同義である。）
で表される化合物を得る工程；
（工程２）  上記一般式（２）で表される化合物の窒素官能基を保護して、下記一般式（３）：
【化３】
2005304368.tif 000045
（式中、Ｒは前記と同義であり、Ｘは窒素官能基の保護基を表す。）
で表される化合物を得、次いで、これを分離して下記一般式（３ａ）と（３ｂ）：
【化４】
2005304368.tif 000046
（式中、ＲおよびＸは前記と同義である。）
で表される化合物を得る工程；
（工程３）  上記一般式（３ａ）で表される化合物または上記一般式（３ｂ）で表される化合物を、それぞれ、メタノリシスによる開環反応に供して、下記一般式（４ａ）：
【化５】
2005304368.tif 000047
（式中、ＲおよびＸは前記と同義である。）
で表される化合物または下記一般式（４ｂ）：
【化６】
2005304368.tif 000048
（式中、ＲおよびＸは前記と同義である。）
で表される化合物を得る工程；
（工程４）  上記一般式（４ａ）で表される化合物または上記一般式（４ｂ）で表される化合物を、それぞれ、リパーゼ存在下でトランスエステル化に使用されるアシル化剤と反応させて、下記一般式（５−ＲＲ）と（４−ＳＳ）：
【化７】
2005304368.tif 000049
（式中、ＲおよびＸは前記と同義であり、Ｚはアシル基を表す。）
で表される化合物、または、下記一般式（５−ＲＳ）と（４−ＳＲ）：
【化８】
2005304368.tif 000050
（式中、ＲおよびＸは前記と同義であり、Ｚはアシル基を表す。）
で表される化合物に、それぞれ速度論的に分割する工程；
を包含することを特徴とする、光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法。
【請求項２】
上記一般式（１）におけるＲがフェニル基である、請求項１記載の光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法。
【請求項３】
工程４で使用するリパーゼが、Ｃａｎｄｉｄａ  ａｎｔａｒｃｔｉｃａ  ｌｉｐａｓｅ  ｔｙｐｅＢ（ＣＡＬ−Ｂ）である、請求項１記載の光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法。
【請求項４】
工程４で使用するアシル化剤が、酢酸２−プロペニル、酢酸ビニル、安息香酸ビニル、プロピオン酸ビニルまたはドデカン酸ビニルである、請求項１記載の光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法。
【請求項５】
上記一般式（３）におけるＸがｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ基）である、請求項１記載の光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法。
【請求項６】
（工程５）  さらに、工程４で得られた上記一般式（５−ＲＲ）で表される化合物または、上記一般式（５−ＲＳ）で表される化合物を、それぞれ脱アシル化して、下記一般式（４−ＲＲ）：
【化９】
2005304368.tif 000051
（式中、ＲおよびＸは前記と同義である。）
で表される化合物または、下記一般式（４−ＲＳ）：
【化１０】
2005304368.tif 000052
（式中、ＲおよびＸは前記と同義である。）
で表される化合物を得る工程；
を包含することを特徴とする、請求項１記載の光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法。
【請求項７】
上記一般式（１）で表される化合物またはその塩が、
（工程６）下記一般式（６）：
【化１１】
2005304368.tif 000053
（式中、Ｒは前記と同義である。）
で表される化合物またはその塩を塩基存在下でアクロレインと反応させる工程；
により製造されることを特徴とする、請求項１記載の光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法。
【請求項８】
上記一般式（６）におけるＲがフェニル基である、請求項７記載の光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法。
【請求項９】
上記一般式（１）で表される化合物またはその塩が、
（工程７）下記一般式（７）：
【化１２】
2005304368.tif 000054
（式中、Ｒは前記と同義であり、Ｒ1は炭素数１〜１２のアルキル基、アリル基、メタリル基、クロチル基、シンナミル基、プレニル基、ゲラニル基、ベンジル基、４−メトキシベンジル基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基、２−トリメチルシリルエチル基、メトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、１−エトキシエチル基、２−メトキシエトキシメチル基またはテトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル基を表す。）
で表される化合物を、塩基存在下でアクロレインと反応させて、下記一般式（８）：
【化１３】
2005304368.tif 000055
（式中、ＲおよびＲ1は前記と同義である。）
で表される化合物を得る工程；
（工程８）  上記一般式（８）で表される化合物のエステルを加水分解、加水素分解、またはパラジウム触媒により脱アリル化する工程；
により製造されることを特徴とする、請求項１記載の光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法。
【請求項１０】
（工程４）  下記一般式（４ａ）：
【化１４】
2005304368.tif 000056
（式中、Ｒはアルキル基、アルケニル基、アリール基、アリールアルキル基またはアリールチオアルキル基を表し、Ｘはアミノ基の保護基を表す。）
で表される化合物または下記一般式（４ｂ）：
【化１５】
2005304368.tif 000057
（式中、ＲおよびＸは前記と同義である。）
で表される化合物を、それぞれ、リパーゼ存在下でトランスエステル化に使用されるアシル化剤と反応させて、下記一般式（５−ＲＲ）と（４−ＳＳ）：
【化１６】
2005304368.tif 000058
（式中、ＲおよびＸは前記と同義であり、Ｚはアシル基を表す。）
で表される化合物、または、下記一般式（５−ＲＳ）と（４−ＳＲ）：
【化１７】
2005304368.tif 000059
（式中、ＲおよびＸは前記と同義であり、Ｚはアシル基を表す。）
で表される化合物に、それぞれ速度論的に分割する工程；
を包含することを特徴とする、光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法。
【請求項１１】
上記一般式（４ａ）または（４ｂ）におけるＲがフェニル基である、請求項１０記載の光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法。
【請求項１２】
工程４で使用するリパーゼが、Ｃａｎｄｉｄａ  ａｎｔａｒｃｔｉｃａ  ｌｉｐａｓｅ  ｔｙｐｅＢ（ＣＡＬ−Ｂ）である、請求項１０記載の光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法。
【請求項１３】
工程４で使用するアシル化剤が、酢酸２−プロペニル、酢酸ビニル、安息香酸ビニル、プロピオン酸ビニルまたはドデカン酸ビニルである、請求項１０記載の光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法。
【請求項１４】
上記一般式（４ａ）または（４ｂ）におけるＸがｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ基）である、請求項１０記載の光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法。
【請求項１５】
（工程９）  下記一般式（４）：
【化１８】
2005304368.tif 000060
（式中、Ｒはアルキル基、アルケニル基、アリール基、アリールアルキル基またはアリールチオアルキル基を表し、Ｘはアミノ基の保護基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される化合物の水酸基をベンゾイル化して、下記一般式（９）：
【化１９】
2005304368.tif 000061
（式中、ＲおよびＸは前記と同義であり、Ｂｚはベンゾイル基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される化合物を得る工程；
（工程１０）  上記一般式（９）で表される化合物のアミノ基を脱保護して、下記一般式（１０）：
【化２０】
2005304368.tif 000062
（式中、ＲおよびＢｚは前記と同義であり、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される化合物またはその塩を得る工程；
（工程１１）  上記一般式（１０）で表される化合物またはその塩を塩基で処理して、下記一般式（１１）：
【化２１】
2005304368.tif 000063
（式中、ＲおよびＢｚは前記と同義であり、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される化合物を得る工程；
（工程１２）  上記一般式（１１）で表される化合物の水酸基を保護して、下記一般式（１２）：
【化２２】
2005304368.tif 000064
（式中、ＲおよびＢｚは前記と同義であり、Ｙは水酸基の保護基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される化合物を得る工程；
（工程１３）  上記一般式（１２）で表される化合物のオレフィンを酸化して、下記一般式（１３）：
【化２３】
2005304368.tif 000065
（式中、Ｒ、ＢｚおよびＹは前記と同義であり、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される化合物またはその塩を得る工程；
（工程１４）  上記一般式（１３）で表される化合物またはその塩の水酸基を脱保護して、下記一般式（１４）：
【化２４】
2005304368.tif 000066
（式中、ＲおよびＢｚは前記と同義であり、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される化合物またはその塩を得る工程；
を包含することを特徴とする、３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸またはその塩の製造方法。
【請求項１６】
上記一般式（４）で表される化合物が（３Ｓ，４Ｓ）体であり、得られる上記一般式（１４）の３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸が（２Ｒ，３Ｓ）体である、請求項１５記載の３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸またはその塩の製造方法。
【請求項１７】
上記一般式（４）におけるＲがフェニル基である、請求項１５記載の３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸またはその塩の製造方法。
【請求項１８】
上記一般式（４）におけるＸがｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ基）である、請求項１５記載の３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸またはその塩の製造方法。
【請求項１９】
下記一般式（４’）：
【化２５】
2005304368.tif 000067
（式中、Ｒ’はアルキル基、アルケニル基、アリール基、アリールアルキル基またはアリールチオアルキル基を表すが、フェニル基は除く。Ｘはアミノ基の保護基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オール。
【請求項２０】
上記一般式（４’）におけるＸがｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ基）である、請求項１９記載の４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オール。
【請求項２１】
下記一般式（１４’）：
【化２６】
2005304368.tif 000068
（式中、Ｒ’はアルキル基、アルケニル基、アリール基、アリールアルキル基またはアリールチオアルキル基を表すが、フェニル基は除く。Ｂｚはベンゾイル基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸、またはその塩。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、種々の医薬品合成の中間体として有用な３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸またはその塩の製造方法、およびこの３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸またはその塩を製造する中間体として有用な光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
１，２−アミノアルコールは、スフィンゴシン、スタチン、タキソール側鎖であるフェニリソセリン、アニソマイシン、バラノール、フェブリフジン等の種々の生物活性天然物に見られる構造単位であるとともに、不斉合成におけるキラル補助剤として広く利用されている。この中でも、３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸、特に、（２Ｒ，３Ｓ）−３−ベンザミド−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオン酸は、下記に示すタキソールの側鎖に該当する化合物として非常に重要な化合物である。
【０００３】
【化１】
2005304368.tif 000002
【０００４】
従来、タキソールまたはその類縁体であるタキソテーレの側鎖の合成方法として、例えば以下の方法が提案されている。
【０００５】
１）以下の反応式に示すように、（Ｓ）−（＋）−フェニルグリシンを出発原料として、２位の水酸基が１−エトキシエチル基により保護された、（２Ｒ，３Ｓ）−３−ベンザミド−２−（１−エトキシエトキシ）−３−フェニルプロピオン酸を合成し、当該化合物からタキソールの側鎖となる化合物を合成する（例えば、非特許文献１参照）。
【０００６】
【化２】
2005304368.tif 000003
【０００７】
２）以下の反応式に示すように、Ｎ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル）−ベンジルアミンを出発原料として、２位の水酸基が１−エトキシエチル基により保護された、（２Ｒ，３Ｓ）−３−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−２−（１−エトキシエトキシ）−３−フェニルプロピオン酸を合成し、当該化合物からタキソテーレの側鎖となる化合物を合成する（例えば、非特許文献２参照）。
【０００８】
【化３】
2005304368.tif 000004
【０００９】
しかし、１）の方法では、リチウムアルミニウムヒドリドやグリニア試薬を使用するため危険であり、また工業的には不利な方法である。また、Ｓｗｅｒｎ酸化後のアミノアルデヒドが異性化しやすく、注意深い取り扱いや低温での反応を要する。
【００１０】
また、２）の方法でも、極めて低温で反応を行う必要があり、一般的な製造設備では対応が難しい。また、最終段階での光学分割は合成戦略的にも良い方法とは言えない。
【非特許文献１】「ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー」（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）、１９９１年、第５６巻、Ｎｏ．２４、６９３９−６９４２頁
【非特許文献２】「ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー」（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）、１９９３年、第５８巻、Ｎｏ．１、２５５−２５７頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、特殊な設備を用いることなく、安全に工業生産でき、高収率かつ高い光学純度で、３−ベンザミド−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオン酸に代表される３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸またはその塩を製造する方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、上記の課題に対して鋭意検討した結果、下記一般式（４ａ）または（４ｂ）：
【００１３】
【化４】
2005304368.tif 000005
【００１４】
（式中、Ｒはアルキル基、アルケニル基、アリール基、アリールアルキル基またはアリールチオアルキル基を表し、Ｘはアミノ基の保護基を表す。）
で表されるｓｙｎ−（±）またはａｎｔｉ−（±）の４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールを特定の酵素存在下でアシル化することにより、個々の光学活性体に速度論的に分割できるという知見を得た。そして、この点に着目して、当該光学活性体を経由する方法を採用することにより、３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸またはその塩を、安全で工業化に適した方法で、高収率かつ高い光学純度で製造できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１５】
即ち、本発明は、
（工程１）  下記一般式（１）：
【００１６】
【化５】
2005304368.tif 000006
【００１７】
（式中、Ｒはアルキル基、アルケニル基、アリール基、アリールアルキル基またはアリールチオアルキル基を表す。）
で表される化合物またはその塩を、塩基存在下でアジド化剤と反応させて、下記一般式（２）：
【００１８】
【化６】
2005304368.tif 000007
【００１９】
（式中、Ｒは前記と同義である。）
で表される化合物を得る工程；
（工程２）  上記一般式（２）で表される化合物の窒素官能基を保護して、下記一般式（３）：
【００２０】
【化７】
2005304368.tif 000008
【００２１】
（式中、Ｒは前記と同義であり、Ｘは窒素官能基の保護基を表す。）
で表される化合物を得、次いで、これを分離して下記一般式（３ａ）と（３ｂ）：
【００２２】
【化８】
2005304368.tif 000009
【００２３】
（式中、ＲおよびＸは前記と同義である。）
で表される化合物を得る工程；
（工程３）  上記一般式（３ａ）で表される化合物または上記一般式（３ｂ）で表される化合物を、それぞれ、メタノリシスによる開環反応に供して、下記一般式（４ａ）：
【００２４】
【化９】
2005304368.tif 000010
【００２５】
（式中、ＲおよびＸは前記と同義である。）
で表される化合物または下記一般式（４ｂ）：
【００２６】
【化１０】
2005304368.tif 000011
【００２７】
（式中、ＲおよびＸは前記と同義である。）
で表される化合物を得る工程；
（工程４）  上記一般式（４ａ）で表される化合物または上記一般式（４ｂ）で表される化合物を、それぞれ、リパーゼ存在下でトランスエステル化に使用されるアシル化剤と反応させて、下記一般式（５−ＲＲ）と（４−ＳＳ）：
【００２８】
【化１１】
2005304368.tif 000012
【００２９】
（式中、ＲおよびＸは前記と同義であり、Ｚはアシル基を表す。）
で表される化合物、または、下記一般式（５−ＲＳ）と（４−ＳＲ）：
【００３０】
【化１２】
2005304368.tif 000013
【００３１】
（式中、ＲおよびＸは前記と同義であり、Ｚはアシル基を表す。）
で表される化合物に、それぞれ速度論的に分割する工程；
を包含する、光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法である。
【００３２】
上記製造方法においては、
（工程５）  さらに、工程４で得られた上記一般式（５−ＲＲ）で表される化合物または、上記一般式（５−ＲＳ）で表される化合物を、それぞれ脱アシル化して、下記一般式（４−ＲＲ）：
【００３３】
【化１３】
2005304368.tif 000014
【００３４】
（式中、ＲおよびＸは前記と同義である。）
で表される化合物または、下記一般式（４−ＲＳ）：
【００３５】
【化１４】
2005304368.tif 000015
【００３６】
（式中、ＲおよびＸは前記と同義である。）
で表される化合物を得る工程；
により、光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールを製造することができる。
【００３７】
また、上記製造方法においては、上記一般式（１）で表される化合物またはその塩は、
（工程６）下記一般式（６）：
【００３８】
【化１５】
2005304368.tif 000016
【００３９】
（式中、Ｒは前記と同義である。）
で表される化合物またはその塩を塩基存在下でアクロレインと反応させる工程；
により製造されてもよく、あるいは、
（工程７）下記一般式（７）：
【００４０】
【化１６】
2005304368.tif 000017
【００４１】
（式中、Ｒは前記と同義であり、Ｒ1は炭素数１〜１２のアルキル基、アリル基、メタリル基、クロチル基、シンナミル基、プレニル基、ゲラニル基、ベンジル基、４−メトキシベンジル基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基、２−トリメチルシリルエチル基、メトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、１−エトキシエチル基、２−メトキシエトキシメチル基またはテトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル基を表す。）
で表される化合物を、塩基存在下でアクロレインと反応させて、下記一般式（８）：
【００４２】
【化１７】
2005304368.tif 000018
【００４３】
（式中、ＲおよびＲ1は前記と同義である。）
で表される化合物を得る工程；
（工程８）  上記一般式（８）で表される化合物のエステルを加水分解、加水素分解、またはパラジウム触媒により脱アリル化する工程；
により製造されてもよい。
【００４４】
また、本発明は、
（工程４）  上記一般式（４ａ）で表される化合物または上記一般式（４ｂ）で表される化合物を、それぞれ、リパーゼ存在下でトランスエステル化に使用されるアシル化剤と反応させて、上記一般式（５−ＲＲ）と（４−ＳＳ）で表される化合物、または、上記一般式（５−ＲＳ）と（４−ＳＲ）で表される化合物に、それぞれ速度論的に分割する工程；
を包含する、光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法である。
【００４５】
また、本発明は、
（工程９）  下記一般式（４）：
【００４６】
【化１８】
2005304368.tif 000019
【００４７】
（式中、Ｒはアルキル基、アルケニル基、アリール基、アリールアルキル基またはアリールチオアルキル基を表し、Ｘはアミノ基の保護基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される化合物の水酸基をベンゾイル化して、下記一般式（９）：
【００４８】
【化１９】
2005304368.tif 000020
【００４９】
（式中、ＲおよびＸは前記と同義であり、Ｂｚはベンゾイル基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される化合物を得る工程；
（工程１０）  上記一般式（９）で表される化合物のアミノ基を脱保護して、下記一般式（１０）：
【００５０】
【化２０】
2005304368.tif 000021
【００５１】
（式中、ＲおよびＢｚは前記と同義であり、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される化合物またはその塩を得る工程；
（工程１１）  上記一般式（１０）で表される化合物またはその塩を塩基で処理して、下記一般式（１１）：
【００５２】
【化２１】
2005304368.tif 000022
【００５３】
（式中、ＲおよびＢｚは前記と同義であり、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される化合物を得る工程；
（工程１２）  上記一般式（１１）で表される化合物の水酸基を保護して、下記一般式（１２）：
【００５４】
【化２２】
2005304368.tif 000023
【００５５】
（式中、ＲおよびＢｚは前記と同義であり、Ｙは水酸基の保護基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される化合物を得る工程；
（工程１３）  上記一般式（１２）で表される化合物のオレフィンを酸化して、下記一般式（１３）：
【００５６】
【化２３】
2005304368.tif 000024
【００５７】
（式中、Ｒ、ＢｚおよびＹは前記と同義であり、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される化合物またはその塩を得る工程；
（工程１４）  上記一般式（１３）で表される化合物またはその塩の水酸基を脱保護して、下記一般式（１４）：
【００５８】
【化２４】
2005304368.tif 000025
【００５９】
（式中、ＲおよびＢｚは前記と同義であり、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される化合物またはその塩を得る工程；
を包含する、３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸またはその塩の製造方法である。
【００６０】
さらに、本発明は、下記一般式（４’）：
【００６１】
【化２５】
2005304368.tif 000026
【００６２】
（式中、Ｒ’はアルキル基、アルケニル基、アリール基、アリールアルキル基またはアリールチオアルキル基を表すが、フェニル基は除く。Ｘはアミノ基の保護基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される、新規な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールである。
【００６３】
さらにまた、本発明は、下記一般式（１４’）：
【００６４】
【化２６】
2005304368.tif 000027
【００６５】
（式中、Ｒ’はアルキル基、アルケニル基、アリール基、アリールアルキル基またはアリールチオアルキル基を表すが、フェニル基は除く。Ｂｚはベンゾイル基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）
で表される、新規な３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸、またはその塩である。
【発明の効果】
【００６６】
本発明の光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールの製造方法では、工程４に示すように、ｓｙｎ−（±）の一般式（４ａ）の化合物またはａｎｔｉ−（±）の一般式（４ｂ）の化合物をリパーゼ存在下でトランスエステル化に使用されるアシル化剤と反応させることにより、３位の炭素原子における立体配置がＲ体の化合物のみを選択的にアシル化する。３位の炭素原子における立体配置がＳ体の化合物はアシル化されないので両者を容易に分離・精製することができるのである。このリパーゼを用いた速度論的分割によれば、３位の水酸基がアシル化された一般式（５−ＲＲ）または（５−ＲＳ）の化合物と、３位の水酸基がアシル化されない一般式（４−ＳＳ）または（４−ＳＲ）の化合物とは、それぞれ５０％近い高収率、かつ、高い光学純度で得られる。
【００６７】
このようにして得られる光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールを用いれば、工程９〜１４により、タキソールの側鎖またはその誘導体である一般式（１４）の化合物またはその塩、即ち、３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸またはその塩を、安全で工業化に適した方法で、高収率かつ高い光学純度で得ることができるのである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００６８】
以下、本発明を詳細に説明する。まず、上記一般式における各記号を以下に説明する。上記一般式（１）〜（１４）、（３ａ）、（３ｂ）、（４ａ）、（４ｂ）、（４−ＲＲ）、（４−ＳＳ）、（４−ＲＳ）、（４−ＳＲ）、（５−ＲＲ）、（５−ＲＳ）におけるＲ、並びに、（４’）および（１４’）のＲ’における「アルキル基」としては、炭素数１〜２０が好ましく、直鎖でも分岐鎖でもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基等が挙げられる。中でも、炭素数２〜１２が特に好ましい。
【００６９】
Ｒ、Ｒ’における「アルケニル基」としては、炭素数１〜２０が好ましく、直鎖でも分岐鎖でもよい。具体的には、ビニル基、１−プロペニル基、２−プロペニル基、３−ブテニル基、４−ペンテニル基、５−ヘキセニル基、６−ヘプテニル基、７−オクテニル基、８−ノネニル基、９−デセニル基、１０−ウンデセニル基、１１−ドデセニル基等が挙げられる。中でも、炭素数２〜１０が特に好ましい。
【００７０】
Ｒ、Ｒ’における「アリール基」としては、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基等が挙げられ、中でも、フェニル基が好ましい。また、本発明においては、「アリール基」には置換されているものも含まれ、その置換基としては、Ｃ1-4アルキル基、アリール基、トリＣ1-4アルキルシリル基、アミノ基、Ｃ1-4アルキルアミノ基、アリールアミノ基、Ｃ1-4アルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基、ニトロ基、カルボキシル基、Ｃ1-4アルコキシカルボニル基、Ｃ1-4アルキルスルホニル基、スルホナート基、ハロゲン基、シアノ基、Ｃ1-4アルコキシル基、ヒドロキシル基等が挙げられる。
【００７１】
Ｒ、Ｒ’における「アリールアルキル基」としては、そのアルキル部としては、直鎖でも分岐鎖でもよく、炭素数は１〜１０、特に１〜５が好ましい。またそのアリール部としては、上記の「アリール基」と同様である。このような「アリールアルキル基」の具体例としては、ベンジル基、フェネチル基、３−フェニルプロピル基、４−フェニルブチル基、５−フェニルペンチル基、６−フェニルヘキシル基等が挙げられる。また、本発明においては、「アリールアルキル基」にはアリール部が置換されているものも含まれ、その置換基としては、Ｃ1-4アルキル基、Ｃ1-4アルコキシ基、ハロゲン基、ニトロ基等が挙げられる。
【００７２】
Ｒ、Ｒ’における「アリールチオアルキル基」としては、そのアルキル部としては、直鎖でも分岐鎖でもよく、炭素数は１〜１０、特に１〜５が好ましい。またそのアリール部としては、上記の「アリール基」と同様である。このような「アリールチオアルキル基」の具体例としては、フェニルチオメチル基、フェニルチオエチル基、フェニルチオプロピル基、フェニルチオブチル基、フェニルチオペンチル基等が挙げられる。また、本発明においては、「アリールチオアルキル基」にはアリール部が置換されているものも含まれ、その置換基としては、Ｃ1-4アルキル基、ニトロ基、スルホナート基、ハロゲン基、Ｃ1-4アルコキシル基、ヒドロキシル基等が挙げられる。
【００７３】
上記一般式（５−ＲＲ）、（５−ＲＳ）におけるＺの「アシル基」としては、炭素数は２〜１２の直鎖または分岐鎖のアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基が挙げられ、特にアセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基、ドデカノイル基が好ましい。
【００７４】
上記一般式（３）、（３ａ）、（３ｂ）、（４）、（４’）、（４ａ）、（４ｂ）、（４−ＲＲ）、（４−ＳＳ）、（４−ＲＳ）、（４−ＳＲ）、（５−ＲＲ）、（５−ＲＳ）、（９）におけるＸの「アミノ基の保護基」、「窒素官能基の保護基」としては、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ基）等の酸による除去が可能な保護基；その他として、ベンジルオキシカルボニル基（Ｃｂｚ基）、３−ニトロ−２−ピリジンスルフェニル基（Ｎｐｙｓ基）、アリルオキシカルボニル基（ａｌｌｏｃ）、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基（Ｔｒｏｃ）、９−フルオレニルメトキシカルボニル基（Ｆｍｏｃ基）、ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メトキシフェニル基等が挙げられる。
【００７５】
上記一般式（１２）、（１３）におけるＹの「水酸基の保護基」としては、テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル基、ベンジル基、４−メトキシフェニル基、メトキシメチル基、トリＣ1-4アルキルシリル基、アセチル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
【００７６】
上記一般式（７）におけるＲ1の「炭素数１〜１２のアルキル基」は、直鎖でも分岐鎖でもよい。具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ドデシル基等が挙げられる。中でも、炭素数１〜４が好ましい。
【００７７】
本発明においては、Ｒとしてはフェニル基が好ましく、Ｘとしてはｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ基）が好ましく、Ｚとしてはアセチル基が好ましく、Ｙとしてはテトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル基が好ましく、Ｒ1としてはメチル基が好ましい。なお、本発明においては、Ｒ’には無置換のフェニル基は除かれる。
【００７８】
一般式（４）、（９）〜（１４）、（１４’）の化合物には、少なくとも２つの不斉炭素原子が存在するが、本発明においては、その立体配置は特に限定されず、光学活性体でもよく、またこれらのいかなる割合の混合物でもよく、またラセミ体でもよい。
【００７９】
本発明においては、光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールは、以下の工程１〜４により製造される。
【００８０】
【化２７】
2005304368.tif 000028
【００８１】
以下に、各工程について説明する。
【００８２】
工程１
この工程では、一般式（１）の化合物またはその塩を塩基存在下でアジド化剤と反応させて、一般式（２）の化合物を得る。この反応ではクルチウス転位が起こった後、分子内で環化が生じる。即ち、一般式（１）の化合物またはその塩におけるカルボキシル基がアジド化され、クルチウス転位によってイソシアナート基となる。そして、そのイソシアナート基のカルボニル炭素に、隣接する水酸基が求核的に攻撃することにより、分子内で環化してオキサゾリジノン環が形成される。
【００８３】
【化２８】
2005304368.tif 000029
【００８４】
この工程で使用するアジド化剤としては、アジ化ナトリウム、ジフェニルホスホリルアジド、４−アセタミドベンゼンスルホニルアジド、４−ドデシルベンゼンスルホニルアジド、トリメチルシリルアジド等が挙げられるが、価格および操作の点から、ジフェニルホスホリルアジド、アジ化ナトリウムが好適に使用される。このアジド化剤の使用量は、一般式（１）の化合物１モルに対して、１．０〜２．０モルが好ましい。
【００８５】
この工程で使用する塩基としては、トリエチルアミン、トリブチルアミン、トリメチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、トリエチレンジアミン、ジメチルアニリン、４−メチルモルホリン等の有機アミンが挙げられるが、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンが好適に使用される。この塩基の使用量は、一般式（１）の化合物１モルに対して、１．０〜２．０モルが好ましい。
【００８６】
この工程で使用する溶媒としては、トルエン、ベンゼン、メシチレン、ニトロベンゼン等の芳香族系；ヘキサン、ジクロロメタン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、アセトニトリル等が挙げられるが、トルエン、ベンゼン、キシレンが好適に使用される。この溶媒の使用量は、一般式（１）の化合物１ｇに対して、１．０〜２０．０ｍｌが好ましい。
【００８７】
反応は、一般式（１）の化合物と塩基を溶媒に加えて攪拌し、これにアジド化剤を添加することにより行われるが、アジド化剤添加時の反応系の温度は−１０〜３０℃であることが好ましい。
【００８８】
アジド化剤の添加後、反応系の温度を室温まで戻すが、クルチウス転位後は、分子内環化を進行させるために、必要に応じて反応系を５０〜１１０℃に加熱してもよく、その時の加熱時間は０．５〜２．０時間が好ましい。
【００８９】
反応終了後、反応系を室温まで冷却し、分液操作等の常法の処理を行うことにより、一般式（２）の化合物を得る。なお、必要に応じて、カラムクロマトグラフィー等の常法の精製を行ってもよい。
【００９０】
工程２
この工程では、一般式（２）の化合物の窒素官能基を保護して一般式（３）の化合物を得、次いで、これを一般式（３ａ）の化合物と（３ｂ）の化合物に分離する。
【００９１】
【化２９】
2005304368.tif 000030
【００９２】
この工程で使用する窒素官能基の保護に使用する試薬としては、例えば、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカルボナート（（Ｂｏｃ）2Ｏ）、ｔｅｒｔ−ブチルアジドホルメート（Ｂｏｃ−Ｎ3）、２−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシイミノ−２−フェニルアセトニトリル（Ｂｏｃ−ＯＮ）、Ｓ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４，６−ジメチル−２−メルカプトピリミジン（Ｂｏｃ−ＳＤＰ）、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルクロリド（Ｂｏｃ−Ｃｌ）、［ｐ−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ）フェニル］ジメチルスルホニウム・メタンスルホン酸塩（Ｂｏｃ−ＯＤＳＰ）等の酸による除去が可能な保護基を形成できるもの；その他、９−フルオレニルメチルクロロホルメート（Ｆｍｏｃ−Ｃｌ）、Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニルオキシ）スクシンイミド（Ｆｍｏｃ−ＯＮＳｕ）、塩化アリルオキシカルボニル（ａｌｌｏｃ−Ｃｌ）、塩化ベンジルオキシカルボニル（Ｃｂｚ−Ｃｌ）、ｐ−（ベンジルオキシカルボニルオキシ）フェニルジメチルスルホニウム・メタンスルホン酸塩（Ｚ−ＯＤＳＰ）、塩化ｐ−メトキシベンジルオキシカルボニル、塩化３−ニトロ−２−ピリジンスルフェニル（Ｎｐｙｓ−Ｃｌ）、塩化２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル（Ｔｒｏｃ−Ｃｌ）、塩化ｐ−メトキシフェニル等が挙げられるが、中でも、酸により除去が可能な保護基を形成できるもの、特に（Ｂｏｃ）2Ｏが好適に使用される。この試薬の使用量は、一般式（２）の化合物１モルに対して、１．０〜１．５モルが好ましい。
【００９３】
この反応は塩基の存在下で行われ、使用する塩基としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ジメチルアニリン、トリブチルアミン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン等の有機アミンが挙げられるが、トリエチルアミンと触媒量の４−ジメチルアミノピリジンの併用が好適である。この塩基の使用量は、一般式（２）の化合物１モルに対して、１．０〜１．５モルが好ましい。
【００９４】
この工程で使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ニトロベンゼンの芳香族系；ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、イソプロピルエーテル、ジオキサン等のエーテル系等が挙げられるが、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフラン、イソプロピルエーテルが好適に使用される。この溶媒の使用量は、一般式（２）の化合物１ｇに対して、１〜２０ｍｌが好ましい。
【００９５】
反応は、一般式（２）の化合物と塩基を溶媒に加えて攪拌し、これに窒素官能基の保護に使用する試薬を添加することにより行われるが、試薬添加時の反応系の温度は０〜４０℃であることが好ましい。また、上記試薬の添加後、反応系の温度を必要に応じて室温まで戻し、１〜５時間反応させてもよい。
【００９６】
反応終了後、分液操作等の常法の処理を行うことにより、一般式（３）の化合物を得る。
【００９７】
次いで、このようにして得られた一般式（３）の化合物を一般式（３ａ）の化合物と（３ｂ）の化合物に分離する。ａｎｔｉ−（±）体の一般式（３ａ）の化合物とｓｙｎ−（±）体の（３ｂ）の化合物とは互いにジアステレオマーの関係にあり、物性（特に極性）が異なるため、これらを分離することが可能である。
【００９８】
この工程で使用する分離方法としては、従来公知の方法が採用され、例えば、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる分離が一般的である。この時の溶離液としては、一般式（３）の化合物のＲにもよるが、ヘキサン−酢酸エチル系、ベンゼン−酢酸エチル系、トルエン−酢酸エチル系、クロロホルム−酢酸エチル系、塩化メチレン−メタノール系等が挙げられ、その比率は、化合物により適宜設定される。また、上記のシリカゲルカラムクロマトグラフィーでは、必要により圧力をかけて行ってもよい。
【００９９】
工程３
この工程では、一般式（３ａ）の化合物をメタノリシスによる開環反応に供して、一般式（４ａ）の化合物を得る。一般式（３ｂ）の化合物についても同様の反応を行なって一般式（４ｂ）の化合物を得る。この反応では、メタノールがオキサゾリジノン環のカルボニルを攻撃することにより開環が生じ、ａｎｔｉ−（±）体の一般式（３ａ）の化合物はｓｙｎ−（±）体の一般式（４ａ）の化合物となり、ｓｙｎ−（±）体の（３ｂ）の化合物はａｎｔｉ−（±）体の一般式（４ｂ）の化合物となる。
【０１００】
【化３０】
2005304368.tif 000031
【０１０１】
この工程で使用するメタノールは溶媒も兼ねるものであり、その使用量は、一般式（３ａ）または（３ｂ）の化合物１ｇに対して、２〜２０ｍｌが好ましい。
【０１０２】
この反応は塩基の存在下で行われ、使用する塩基としては、炭酸セシウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸バリウム等の弱塩基等が挙げられるが、操作性、収率の点から、炭酸セシウム、炭酸バリウムが好適に使用される。この塩基の使用量は、一般式（３ａ）または（３ｂ）１モルに対して、０．０５〜１．０モルが好ましい。
【０１０３】
反応は、一般式（３ａ）または（３ｂ）の化合物と塩基の混合物をメタノール中で攪拌することにより行われるが、反応温度は０〜４０℃であることが好ましく、また、反応時間は１〜２０時間であることが好ましい。
【０１０４】
反応終了後、分液操作等の常法の処理を行うことにより、一般式（４ａ）または（４ｂ）の化合物を得る。なお、必要に応じて、カラムクロマトグラフィー等の常法の精製を行ってもよい。
【０１０５】
工程４
この工程では、ｓｙｎ−（±）体の一般式（４ａ）の化合物を、リパーゼ存在下でトランスエステル化に使用されるアシル化剤と反応させて、速度論的分割により光学活性な一般式（５−ＲＲ）と（４−ＳＳ）の化合物を得る。ａｎｔｉ−（±）の一般式（４ｂ）の化合物についても同様の反応を行い、光学活性な一般式（５−ＲＳ）と（４−ＳＲ）の化合物を得る。この反応では、３位の炭素原子における立体配置がＲ体の化合物のみが選択的にアシル化されるため、３位の炭素原子における立体配置がＳ体の化合物との速度論的分割が可能となり、光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールを得ることができるのである。
【０１０６】
【化３１】
2005304368.tif 000032
【０１０７】
この工程で使用するアシル化剤としては、トランスエステル化に使用されるものあり、例えば、酢酸２−プロペニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、カプリル酸ビニル、カプリン酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ミリスチン酸ビニル、パルミチン酸ビニル、ステアリン酸ビニル、ドデカン酸ビニル、安息香酸ビニル、アジピン酸ジビニル、モノクロロ酢酸ビニル等が挙げられるが、酢酸２−プロペニル、酢酸ビニル、安息香酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ドデカン酸ビニルが好適に使用される。このアシル化剤の使用量は、一般式（４ａ）または（４ｂ）の化合物１モルに対して、２〜１０モルが好ましい。
【０１０８】
この工程で使用するリパーゼとしては、シュードモナス（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ）属、ピシア（Ｐｉｃｈｉａ）属、ロドトルラ（Ｒｈｏｄｏｔｏｒｕｌａ）属、サッカロポリスポラ（Ｓａｃｃｈａｒｏｐｏｌｙｓｐｏｒａ）属、ストレプトミセス（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ）属、アクチノムコール（Ａｃｔｉｎｏｍｕｃｏｒ）属、アスペルギルス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ）属、バチルス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ）属、カンジダ（Ｃａｎｄｉｄａ）属、クラドスポリウム（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍ）属、フザリウム（Ｆｕｓａｒｉｕｍ）属、ゲオトリカム（Ｇｅｏｔｒｉｃｈｕｍ）属、アシネトバクター（Ａｃｉｎｅｔｏｂａｃｔｅｒ）属、ジベレラ（Ｇｉｂｂｅｒｅｌｌａ）属、クルイベロミセス（Ｋｌｕｙｖｅｒｏｍｙｃｅｓ）属、ミクロスポリウム（Ｍｉｃｒｏｓｐｏｒｕｍ）属、ブレビバチルス（Ｂｒｅｖｉｂａｃｉｌｌｕｓ）属、ムコール（Ｍｕｃｏｒ）属、アクチノマドラ（Ａｃｔｉｎｏｍａｄｕｒａ）属、コプリナス（Ｃｏｐｒｉｎｕｓ）属、アガリカス（Ａｇａｒｉｃｕｓ）属、ロドコッカス（Ｒｈｏｄｏｃｏｃｃｕｓ）属、リゾムコール（Ｒｈｉｚｏｍｕｃｏｒ）属、リゾプス（Ｒｈｉｚｏｐｕｓ）属、コモモナス（Ｃｏｍｍｏｍｏｎａｓ）属の生産するもの、および豚の膵臓由来のものが使用され、具体的には、
Ｃｈｉｒａｚｙｍｅ（Ｃａｎｄｉｄａ  ａｎｔａｒｃｔｉｃａ  ｌｉｐａｓｅ  ｔｙｐｅ−Ｂ（ＣＡＬ−Ｂ）  Ｒｏｃｈｅ社製）、
リパーゼＡＫ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ  ｆｌｕｒｅｓｃｅｎｓ  Ａｍａｎｏ社製）
リパーゼＡＹＳ（Ｃａｎｄｉｄａ  ｒｕｇｏｓａ  Ａｍａｎｏ社製）
リパーゼＡ（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ  ｎｉｇｅｒ  Ａｍａｎｏ社製）
プロテアーゼＰＳ（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ  ｍｅｌｌｅｕｓ  Ａｍａｎｏ社製）
リパーゼＭ（Ｍｕｃｏｒ  ｊａｖａｎｉｃｕｓ  Ａｍａｎｏ社製）
リパーゼＧ（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ  ｃａｍｅｍｂｅｒｔｉ  Ａｍａｎｏ社製）
ＰＰＬ（豚膵臓リパーゼ  Ａｒｄｌｉｃｈ社製）
等が挙げられるが、中でも、収率や光学純度の点から、Ｃｈｉｒａｚｙｍｅ（ＣＡＬ−Ｂ）が好適に使用される。このリパーゼの使用量は、一般式（４ａ）または（４ｂ）の化合物１ｇに対して、０．２〜１．０ｇが好ましい。
【０１０９】
この工程で使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、ニトロベンゼン等の芳香族系等が挙げられるが、トルエン、キシレンが好適に使用される。この溶媒の使用量は、一般式（４ａ）または（４ｂ）の化合物、１ｇに対して、５〜３０ｍｌが好ましい。
【０１１０】
反応は、一般式（４ａ）または（４ｂ）の化合物、リパーゼおよびアシル化剤を溶媒中で攪拌することにより行われるが、反応温度は２０〜１００℃であることが好ましく、また、反応時間は２０〜５０時間であることが好ましい。
【０１１１】
反応終了後、濾過によりリパーゼを除去し、分液操作等の常法の処理を行う。その後、カラムクロマトグラフィー等の公知の方法により分離して、一般式（５−ＲＲ）と（４−ＳＳ）の化合物、または一般式（５−ＲＳ）と（４−ＳＲ）の化合物をそれぞれ得る。この工程により、本発明の目的化合物である、光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールとして、一般式（４−ＳＳ）の化合物または一般式（４−ＳＲ）の化合物が得られるが、アシル化された一般式（５−ＲＲ）の化合物または一般式（５−ＲＳ）の化合物は、次の工程５により、本発明の目的化合物とされる。
【０１１２】
工程５
この工程では、工程４で得られた一般式（５−ＲＲ）の化合物または、一般式（５−ＲＳ）の化合物を、それぞれ脱アシル化して、一般式（４−ＲＲ）の化合物または、一般式（４−ＲＳ）の化合物を得る。
【０１１３】
【化３２】
2005304368.tif 000033
【０１１４】
この脱アシル化は塩基で処理することにより行われ、使用する塩基としては、炭酸リチウム、炭酸カリウム、炭酸カルシウム、炭酸ナトリウム、酢酸ナトリウム等が挙げられるが、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムが好適に使用される。この酸の使用量は、一般式（５−ＲＲ）または（５−ＲＳ）１モルに対して、１．０〜２．０モルが好ましい。
【０１１５】
この工程で使用する溶媒としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール系等が挙げられるが、メタノール、エタノールが好適に使用される。この溶媒の使用量は、一般式（５−ＲＲ）または（５−ＲＳ）の化合物１ｇに対して、０．５〜３．０ｍｌが好ましい。
【０１１６】
反応は、一般式（５−ＲＲ）または（５−ＲＳ）の化合物および塩基を溶媒中で攪拌することにより行われるが、反応温度は０〜４０℃であることが好ましく、また、反応時間は０．５〜１０時間であることが好ましい。
【０１１７】
反応終了後、分液操作等の常法の処理を行うことにより、本発明の目的化合物である一般式（４−ＲＲ）または（４−ＲＳ）の化合物を得る。なお、必要に応じて、カラムクロマトグラフィー等の常法の精製を行ってもよい。
【０１１８】
以上のように、工程１〜工程４（必要により工程５も）により、光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールを製造することができるが、工程１の出発原料として使用した一般式（１）の化合物またはその塩は、例えば、以下に示すように、工程６の方法により、あるいは、工程７および工程８の方法により、製造することができる。
【０１１９】
【化３３】
2005304368.tif 000034
【０１２０】
工程６
一般式（６）の化合物またはその塩を塩基存在下でアクロレインと反応させて、アルドール反応により一般式（１）の化合物またはその塩を得る。
【０１２１】
この工程で使用するアクロレインの使用量は、一般式（６）の化合物１モルに対して、１．０〜１．５モルが好ましい。
【０１２２】
この工程で使用する塩基としては、リチウムジイソプロピルアミド（ＬＤＡ）、リチウムイソプロピルシクロヘキシルアミド（ＬＩＣＡ）、リチウムテトラメチルピペリジド（ＬＴＭＰ）、リチウムヘキサメチルジシラジド（ＬＨＭＤＳ）等のリチウム化合物、ナトリウムヘキサメチルジシラジド（ＮＨＭＤＳ）、カリウムヘキサメチルジシラジド（ＫＨＭＤＳ）等が挙げられるが、価格および操作性の点から、リチウムジイソプロピルアミドが好適に使用される。この塩基の使用量は、一般式（６）の化合物１モルに対して、１．０〜１．５モルが好ましい。この塩基は、反応系内で調製してもよく、例えば、リチウムジイソプロピルアミドの場合、−７８〜０℃でジイソプロピルアミンにｎ−ブチルリチウムを滴下することにより調製することができる。
【０１２３】
この工程で使用する溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル系；エーテル系と炭化水素系の混合溶媒等が挙げられるが、テトラヒドロフランとヘキサン混合溶媒が好適に使用される。この溶媒の使用量は、一般式（６）の化合物１ｇに対して、１．０〜３．０ｍｌが好ましい。
【０１２４】
反応は、塩基の溶液に一般式（６）の化合物を添加して攪拌し、続いてアクロレインを添加することにより行われる。一般式（６）の化合物添加時の反応系の温度は−９０〜−３０℃であることが好ましく、その後１〜３時間攪拌することが好ましい。また、アクロレイン添加時の反応系の温度は−９０〜−３０℃であることが好ましく、アクロレイン添加後、０．１〜１．０時間攪拌することが好ましい。
【０１２５】
反応終了後、反応混合物を酸性化し、有機溶媒による抽出、分液操作等の常法の処理を行うことにより、一般式（１）の化合物またはその塩を得る。なお、必要に応じて、カラムクロマトグラフィー等の常法の精製を行ってもよい。
【０１２６】
工程７および工程８
工程７では、一般式（７）の化合物を塩基存在下でアクロレインと反応させて、アルドール反応により一般式（８）の化合物を得、次いで、工程８では、この一般式（８）の化合物のエステルを加水分解、加水素分解、またはパラジウム触媒により脱アリル化（Ｒ1＝アリル基の場合）して、一般式（１）の化合物またはその塩を得る。
【０１２７】
工程７の方法は、工程６と同様の方法により行うことができる。工程８の加水分解はアルカリにより行われる。この工程で使用するアルカリとしては、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液等が挙げられるが、水酸化ナトリウム水溶液が好適に使用される。このアルカリの使用量は、一般式（８）の化合物１モルに対して、１．０〜２．０モルが好ましい。
【０１２８】
この工程で使用する溶媒としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等のアルコール系；１，４−ジオキサン等が挙げられるが、メタノール、エタノール、１，４−ジオキサンが好適に使用される。この溶媒の使用量は、一般式（８）の化合物１ｇに対して、０．５〜３．０ｍｌが好ましい。
【０１２９】
反応は、一般式（８）の化合物とアルカリとを溶媒中で攪拌することにより行われるが、反応温度は０〜５０℃であることが好ましく、また、反応時間は０．５〜１２時間が好ましい。
【０１３０】
反応終了後、反応混合物を酸性化し、有機溶媒による抽出、分液操作等の常法の処理を行うことにより、一般式（１）の化合物またはその塩を得る。なお、必要に応じて、カラムクロマトグラフィー等の常法の精製を行ってもよい。
【０１３１】
加水素分解はＰｄ／Ｃ等の触媒下で水素添加することにより行われ、水素の使用量は、一般式（８）の化合物１モルに対して、１．０〜２０．０モルが好ましい。この工程で使用する溶媒としては、加水分解の場合と同様のものおよび酢酸エチル等が例示される。
【０１３２】
反応は、一般式（８）の化合物と触媒を溶媒中で攪拌し、これに水素を吹き込むことにより行われるが、反応温度は０〜５０℃であることが好ましく、また、反応時間は０．５〜１２時間が好ましい。
【０１３３】
反応終了後、触媒をろ別後、有機溶媒による抽出、分液操作等の常法の処理を行うことにより、一般式（１）の化合物またはその塩を得る。なお、必要に応じて、カラムクロマトグラフィー等の常法の精製を行ってもよい。
【０１３４】
また、上記一般式（８）においてＲ1がアリル基である場合、パラジウム触媒による脱アリル化により一般式（１）の化合物またはその塩を得ることもできる。この脱アリル化は、酢酸パラジウム、トリスジベンジリデンアセトンジパラジウム等のパラジウム触媒存在下、ギ酸またはそのアンモニウム塩等の水素源やモルホリン等の求核試薬を用いることにより行われ、触媒の使用量は、一般式（８）の化合物１モルに対して０．０１〜０．２０モルが好ましく、水素源やモルホリン等の求核試薬の使用量は、一般式（８）の化合物１モルに対して１．０〜１．５モルが好ましい。この工程で使用する溶媒としては、テトラヒドロフランや１，４−ジオキサン等が例示される。
【０１３５】
反応は、一般式（８）の化合物と触媒を溶媒中で攪拌し、これに水素源やモルホリン等の求核試薬を加えることにより行われるが、反応温度は０〜８０℃であることが好ましく、また、反応時間は０．５〜１２時間が好ましい。
【０１３６】
反応終了後、触媒をろ別後、有機溶媒による抽出、分液操作等の常法の処理を行うことにより、一般式（１）の化合物またはその塩を得る。なお、必要に応じて、カラムクロマトグラフィー等の常法の精製を行ってもよい。
【０１３７】
工程６または工程７〜８の方法により得られる一般式（１）の化合物またはその塩はａｎｔｉ−（±）体とｓｙｎ−（±）体との混合物であるが、工程６の方法では、一般式（６）のカルボン酸化合物またはその塩のＲがフェニル基の場合、ａｎｔｉ−（±）体の選択性が高く、得られる一般式（１）の化合物またはその塩はａｎｔｉ／ｓｙｎの比率が約１０／１の混合物となる。一方、工程７〜８の方法では、一般式（７）のエステル化合物のＲがフェニル基の場合、得られる一般式（１）の化合物またはその塩はａｎｔｉ／ｓｙｎの比率が約１／１の混合物となる。また、一般式（１）のａｎｔｉ−（±）体は、工程１〜２を経て工程３の開環反応ではｓｙｎ−（±）体となり、このｓｙｎ−（±）体から、工程４により、タキソールの側鎖となる（２Ｒ，３Ｓ）−３−ベンザミド−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオン酸の中間体として有用な、一般式（４−ＳＳ）の化合物（即ち、（３Ｓ，４Ｓ）−４−（Ｎ−保護アミノ）−３−ヒドロキシ−４−フェニル−１−ブテン）が得られる。従って、タキソールの側鎖となる（２Ｒ，３Ｓ）−３−ベンザミド−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオン酸を合成する目的のためには、工程が短いという点および収率が高くなる点から、Ｒがフェニル基である場合の一般式（１）の化合物またはその塩は工程６の方法により製造することが好ましい。
【０１３８】
以上のような方法により製造される光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールから、以下に示す工程９〜１４を経て、タキソールの側鎖またはその誘導体である一般式（１４）の化合物またはその塩、即ち、３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸またはその塩を製造することができる。
【０１３９】
【化３４】
2005304368.tif 000035
【０１４０】
以下に各工程について説明する。
【０１４１】
工程９
この工程では、一般式（４）の化合物の水酸基をベンゾイル化して、一般式（９）の化合物を得る。
【０１４２】
【化３５】
2005304368.tif 000036
【０１４３】
この工程で使用するベンゾイル化剤としては、従来公知のものが使用され、例えば、塩化ベンゾイル、無水安息香酸等が挙げられるが、塩化ベンゾイルが好適に使用される。このベンゾイル化剤の使用量は、一般式（４）の化合物１モルに対して、１．０〜２．０モルが好ましい。
【０１４４】
この反応は塩基の存在下で行われ、使用する塩基としては、ピリジン、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機アミンが挙げられるが、ピリジン、トリエチルアミンが好適である。この塩基の使用量は、一般式（４）の化合物１モルに対して、１．０〜２．０モルが好ましい。
【０１４５】
この工程で使用する溶媒としては、ジクロロメタン等が挙げられるが、上記の塩基としてピリジンを使用する場合にはそれが溶媒を兼ねてもよい。この溶媒の使用量は、一般式（４）の化合物１ｇに対して、１．０〜５．０ｍｌが好ましい。
【０１４６】
反応は、一般式（４）の化合物と塩基を溶媒に加えて攪拌し、これにベンゾイル化剤を添加することにより行われるが、ベンゾイル化剤添加時の反応系の温度は０〜３０℃であることが好ましい。また、ベンゾイル化剤の添加後、反応系の温度を必要に応じて室温まで戻し、１〜１２時間反応させてもよい。
【０１４７】
反応終了後、分液操作等の常法の処理を行うことにより、一般式（９）の化合物を得る。なお、必要に応じて、カラムクロマトグラフィー等の常法の精製を行ってもよい。
【０１４８】
工程１０
この工程では、一般式（９）の化合物のアミノ基を脱保護して、一般式（１０）の化合物またはその塩を得る。
【０１４９】
【化３６】
2005304368.tif 000037
【０１５０】
アミノ基の脱保護剤としては、アミノ基の保護基の種類にもよるが、保護基がＢｏｃ基のような酸による除去が可能な保護基である場合には酸が使用され、具体的には、トリフルオロ酢酸、塩酸、硫酸、臭化水素／酢酸、テトラフルオロホウ酸等が挙げられるが、トリフルオロ酢酸が好適に使用される。この脱保護剤の使用量は、一般式（９）の化合物１モルに対して、１．０〜３．０モルが好ましい。
【０１５１】
この工程で使用する溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の塩素系等が挙げられるが、ジクロロメタンが好適に使用される。この溶媒の使用量は、一般式（９）の化合物１ｇに対して、０．５〜２．０ｍｌが好ましい。
【０１５２】
反応は、一般式（９）の化合物および脱保護剤を溶媒中で攪拌することにより行われるが、反応温度は０〜３０℃であることが好ましく、また、反応時間は０．５〜２時間であることが好ましい。
【０１５３】
反応終了後、過剰の脱保護剤を除去した後、分液操作等の常法の処理を行うことにより、一般式（１０）の化合物またはその塩を得る。なお、必要に応じて、カラムクロマトグラフィー等の常法の精製を行ってもよい。また、過剰の脱保護剤の除去後、常法の処理を行わずにそのまま次の工程１１に供してもよい。
【０１５４】
工程１１
この工程では、一般式（１０）の化合物またはその塩を塩基で処理して、一般式（１１）の化合物を得る。この反応では、水酸基に結合しているベンゾイル基がアミノ基に転位する。
【０１５５】
【化３７】
2005304368.tif 000038
【０１５６】
本発明で使用する塩基としては、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ピリジン、トリエタノールアミン、トリブチルアミン等が挙げられるが、トリエチルアミンが好適に使用される。この塩基の使用量は、一般式（１０）の化合物１モルに対して、１．０〜２．０モルが好ましい。
【０１５７】
この工程で使用する溶媒としては、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキサン等のエーテル系；ベンゼン、トルエン等の炭化水素系；ジクロロメタン等が挙げられるが、テトラヒドロフランが好適に使用される。この溶媒の使用量は、一般式（１０）の化合物１ｇに対して、１．０〜３．０ｍｌが好ましい。
【０１５８】
反応は、一般式（１０）の化合物および塩基を溶媒中で攪拌することにより行われるが、反応温度は０〜５０℃であることが好ましく、また、反応時間は１〜１０時間であることが好ましい。
【０１５９】
反応終了後、分液操作等の常法の処理を行うことにより、一般式（１１）の化合物を得る。なお、必要に応じて、カラムクロマトグラフィー等の常法の精製を行ってもよい。
【０１６０】
工程１２
この工程では、一般式（１１）の化合物の水酸基を保護して、一般式（１２）の化合物を得る。
【０１６１】
【化３８】
2005304368.tif 000039
【０１６２】
水酸基の保護に使用する試薬としては、例えば、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン、塩化ベンジル、塩化４−メトキシフェニル、クロロトリＣ1-4アルキルシラン、クロロメチルメチルエーテル、塩化アセチル、塩化ベンゾイル等が挙げられるが、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランが好適に使用される。この試薬の使用量は、一般式（１１）の化合物１モルに対して、１．０〜２．０モルが好ましい。
【０１６３】
この反応は、反応が進行しやすくなる点から、酸触媒の存在下で行うのがよく、そのような酸触媒としては、ピリジニウムｐ−トルエンスルホナート、ｐ−トルエンスルホン酸、１０−カンファースルホン酸等が好適に使用される。この酸触媒の使用量は、一般式（１１）の化合物１モルに対して、０．１〜１．０モルが好ましい。
【０１６４】
この工程で使用する溶媒としては、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等の塩素系等が挙げられるが、ジクロロメタンが好適に使用される。この溶媒の使用量は、一般式（１１）の化合物１ｇに対して、０．５〜２．０ｍｌが好ましい。
【０１６５】
反応は、一般式（１１）の化合物および水酸基の保護に使用する試薬を、酸触媒の存在下、溶媒中で攪拌することにより行われるが、反応温度は０〜３０℃であることが好ましく、また、反応時間は１〜１２時間であることが好ましい。
【０１６６】
反応終了後、分液操作等の常法の処理を行うことにより、一般式（１２）の化合物を得る。なお、必要に応じて、カラムクロマトグラフィー等の常法の精製を行ってもよい。
【０１６７】
工程１３
この工程では、一般式（１２）の化合物のオレフィンを酸化して、一般式（１３）の化合物またはその塩を得る。
【０１６８】
【化３９】
2005304368.tif 000040
【０１６９】
オレフィン酸化に使用する酸化剤（触媒）としては、例えば、二酸化ルテニウム、四酸化ルテニウム等が挙げられるが、二酸化ルテニウムが好適に使用される。この触媒の使用量は、一般式（１２）の化合物１ｇに対して、０．０１〜０．０５ｇが好ましい。共酸化剤としては過ヨウ素酸ナトリウム、４−メチルモルホリンＮ−オキシド等が挙げられる。共酸化剤の使用量は、一般式（１２）の化合物１モルに対して、１．０〜６．０モルが好ましい。
【０１７０】
また、この酸化反応は緩衝液の存在下で行ってｐＨ５．０〜７．０に保つのがよい。
【０１７１】
この工程で使用する溶媒としては、四塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン等の塩素系；アセトニトリル等が挙げられるが、四塩化炭素とアセトニトリルの混合溶媒が好適に使用される。この溶媒の使用量は、一般式（１２）の化合物１ｇに対して、０．５〜３．０ｍｌが好ましい。
【０１７２】
反応は、一般式（１２）の化合物および共酸化剤を溶媒および緩衝液の混合物に加えて攪拌し、これに触媒を添加して攪拌することにより行われるが、反応温度は０〜３０℃であることが好ましく、また、反応時間は１〜１２時間であることが好ましい。
【０１７３】
反応終了後、分液操作等の常法の処理を行うことにより、一般式（１３）の化合物またはその塩を得る。なお、必要に応じて、カラムクロマトグラフィー等の常法の精製を行ってもよい。
【０１７４】
工程１４
この工程では、一般式（１３）の化合物またはその塩の水酸基を脱保護して、一般式（１４）の化合物またはその塩を得る。
【０１７５】
【化４０】
2005304368.tif 000041
【０１７６】
水酸基の脱保護剤としては、水酸基の保護基の種類にもよるが、保護基がテトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イル基である場合、ｐ−トルエンスルホン酸、ピリジニウムｐ−トルエンスルホナート、１０−カンファースルホン酸、塩酸等が挙げられ、ｐ−トルエンスルホン酸が好適に使用される。この脱保護剤の使用量は、一般式（１３）の化合物１モルに対して、０．０５〜０．３モルが好ましい。
【０１７７】
この工程で使用する溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系等が挙げられるが、メタノール、エタノールが好適に使用される。この溶媒の使用量は、一般式（１３）の化合物１ｇに対して、１．０〜３．０ｍｌが好ましい。
【０１７８】
反応は、一般式（１３）の化合物および脱保護剤を溶媒中で攪拌することにより行われるが、反応温度は０〜４０℃であることが好ましく、また、反応時間は１〜２０時間であることが好ましい。
【０１７９】
反応終了後、分液操作等の常法の処理を行い、必要に応じて、カラムクロマトグラフィー等の常法の精製を行うことにより、一般式（１４）の化合物、即ち、本発明の目的化合物である３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸、またはその塩を得る。
【０１８０】
なお、上記の工程９〜１４においては、各不斉炭素原子における立体配置は工程１４までそのまま保持される。例えば、工程９で（３Ｓ，４Ｓ）の一般式（４）の化合物を使用すると、工程１４では（２Ｒ，３Ｓ）の一般式（１４）の化合物またはその塩が得られるのである。
【０１８１】
このようにして得られる一般式（１４）の化合物のうち、Ｒがフェニル基である化合物は、タキソールの側鎖となる化合物、即ち、（２Ｒ，３Ｓ）−３−ベンザミド−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオン酸である。
【０１８２】
なお、Ｒがフェニル基以外である場合の一般式（４）の化合物および一般式（１４）の化合物またはその塩、即ち、下記一般式（４’）の化合物である光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オール、並びに下記一般式（１４’）の化合物またはその塩である、３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸またはその塩は、いずれも新規な化合物である。
【０１８３】
【化４１】
2005304368.tif 000042
【０１８４】
（式中、Ｒ’はアルキル基、アルケニル基、アリール基、アリールアルキル基またはアリールチオアルキル基を表すが、フェニル基は除く。Ｘはアミノ基の保護基を表し、Ｂｚはベンゾイル基を表し、＊は不斉炭素原子を表す。）
以下に、実施例を挙げて、本発明をより詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【実施例１】
【０１８５】
一般式（５−ＲＲ）および（４−ＳＳ）におけるＲ＝フェニル基の化合物の合成
（Ｉ）一般式（１）の化合物（Ｒ＝フェニル基）の合成（工程６）
この化合物はＳｙｎｌｅｔｔ、２００２、１６６５頁に記載の方法により合成した。フェニル酢酸（１３．６ｇ，１００ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（４０ｍｌ）溶液を、０℃で攪拌しながら、リチウムジイソプロピルアミド（２１０ｍｌ）のテトラヒドロフラン（１４０ｍｌ）／ヘキサン（１３５ｍｌ）溶液に滴下し、０℃で４５分間攪拌し、その後室温で２時間攪拌した。次いで減圧下で溶媒およびジイソプロピルアミンを留去した後、７０℃で２時間、真空乾燥して、淡黄色の粘性物を得た。この様にして得られたリチウムエノラートをテトラヒドロフラン（１００ｍｌ）に分散し、これに０℃でアクロレイン（８．０２ｍｌ，１２０ｍｍｏｌ）を滴下し、室温で４８時間攪拌した。反応終了後、溶媒を留去し、残渣に氷冷の３Ｎ塩酸（１２０ｍｌ）を添加し、クロロホルムで抽出した。有機層を無水ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧下濃縮して、粘性油状物の３−ヒドロキシ−２−フェニル−４−ペンテン酸を得た（１９．５ｇ，１００ｍｍｏｌ，ａｎｔｉ／ｓｙｎ＝約１０／１）。これを精製することなく、次の工程に供した。
【０１８６】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：３．６８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ），  ４．７０（１Ｈ，ｍ），  ５．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ），  ５．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），  ５．６９（１Ｈ，ｍ），  ７．２６−７．３６（５Ｈ，ｍ）。
【０１８７】
（ＩＩ）一般式（２）の化合物（Ｒ＝フェニル基）の合成（工程１）
３−ヒドロキシ−２−フェニル−４−ペンテン酸（１９．５ｇ，１００ｍｍｏｌ）のトルエン（１２０ｍｌ）溶液にトリエチルアミン（１６．７ｍｌ，１２０ｍｍｏｌ）を加えて攪拌し、０℃でジフェニルホスホリルアジド（２１．２ｍｌ，１２０ｍｍｏｌ）を添加した後、反応系を室温に戻し、１０時間反応を続けた。その後、反応系を８０℃で４０分間加熱した。冷却した後、反応混合物を酢酸エチル（６０ｍｌ）で希釈し、この有機層を水（１００ｍｌ）、１Ｎ塩酸（１００ｍｌ×２）、飽和ＮａＨＣＯ3水溶液（１００ｍｌ）で順次洗浄し、無水ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧下濃縮した。残渣（１５．１ｇ）を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製することにより、ａｎｔｉ（±）−４−フェニル−５−ビニル−２−オキサゾリジノンを得た（１２．８ｇ，分離不可能な副生成物を含む）。これを精製することなく、次の工程に供した。
【０１８８】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：４．６１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），  ４．７１（１Ｈ，ｍ），  ５．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．８Ｈｚ），  ５．３５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１１．４Ｈｚ），  ５．９９（１Ｈ，ｍ），  ６．０５（１Ｈ，ｂｒ），  ７．３３−７．４２（５Ｈ，ｍ）。
【０１８９】
（ＩＩＩ）一般式（３ａ）の化合物（Ｒ＝フェニル基）の合成（工程２）
ａｎｔｉ（±）−４−フェニル−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（１２．８ｇ，分離不可能な副生成物を含む）およびジメチルアミノピリジン（８５５ｍｇ，７．０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）に溶解し、トリエチルアミン（１０．７ｍｌ，７７．０ｍｍｏｌ）を加えて攪拌し、室温でジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカルボナート（（Ｂｏｃ）2Ｏ，１８．３ｍｌ，８４．０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）溶液を滴下して、室温で１．５時間攪拌した。反応混合物をトルエン（５０ｍｌ）で希釈し、この有機層を１Ｎ塩酸（５０ｍｌ×２）、飽和ＮａＨＣＯ3水溶液（５０ｍｌ）で順次洗浄し、無水ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧下濃縮して、粗生成物として固体（１７．１ｇ）を得た。これを中圧シリカゲルカラムクロマトグラフィー（山善、ＳＩ−４０Ｄカラム，トルエン／酢酸エチル＝２０／１〜１０／１〜５／１）で精製することにより、ａｎｔｉ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（１５．５ｇ，５３．７ｍｍｏｌ，３工程での収率５４％）を得た。
【０１９０】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２７（９Ｈ，ｓ），  ４．６７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，６．５Ｈｚ），  ４．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ），  ５．４０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），  ５．４１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），  ５．９６（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，１０．７Ｈｚ，１７．１Ｈｚ），  ６．０５（１Ｈ，ｂｒ），  ７．２４−７．４３（５Ｈ，ｍ）。
【０１９１】
（ＩＶ）一般式（４ａ）の化合物（Ｒ＝フェニル基）の合成（工程３）
ａｎｔｉ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−フェニル−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（８．３７ｇ，２８．９ｍｍｏｌ）に、メタノール（２５ｍｌ）を加えて攪拌し、室温で炭酸セシウム（１．１２ｍｇ，２．８９ｍｍｍｏｌ）を添加して、室温で１２時間反応させた。減圧下でメタノールを留去した後、残渣を酢酸エチル（２０ｍｌ）で希釈し、この有機層を１Ｎ塩酸（２０ｍｌ）、飽和ＮａＨＣＯ3水溶液（２０ｍｌ）で順次洗浄し、無水ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧下濃縮した。残渣（６．６３ｇ）を中圧カラムクロマトグラフィー（山善ＳＩ−４０Ｄカラム、ヘキサン／酢酸エチル＝４／１〜３／１〜２／１）で精製することにより、ｓｙｎ（±）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−４−フェニル−１−ブテンを得た（５．７３ｇ，２１．７ ｍｍｏｌ，７５％）。
【０１９２】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４２（９Ｈ），  ４．４０（１Ｈ，ｂｒ），  ４．７２（１Ｈ，ｂｒ），  ５．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ），  ５．３０（１Ｈ，ｂｒ），  ５．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．０Ｈｚ），  ５．８７（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，１７．１Ｈｚ），  ７．２３−７．３９（５Ｈ）。
【０１９３】
（Ｖ）一般式（５−ＲＲ）および（４−ＳＳ）の化合物（Ｒ＝フェニル基）の合成（工程４）
ｓｙｎ（±）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−４−フェニル−１−ブテン（２．４２ｇ，９．１７ｍｍｏｌ）にトルエン（２７．５ｍｌ）および酢酸２−プロペニル（３．０３ｍｌ，２７．５ｍｍｏｌ）を加えて攪拌し、Ｃａｎｄｉｄａ  ａｎｔａｒｃｔｉｃａ  ｌｉｐａｓｅ  ｔｙｐｅＢ（ＣＡＬ−Ｂ，商品名Ｃｈｉｒａｚｙｍｅ，９１７ｍｇ）を添加して、７０℃で４８時間反応を続けた。ＣＡＬ−Ｂを濾過により除去し、濾液を減圧濃縮して、粗生成物として固体（２．９４ｇ）を得た。これを中圧カラムクロマトグラフィー（山善ＳＩ−４０Ｂカラム、ヘキサン／酢酸エチル＝３／１〜５／２）で精製することにより、（３Ｒ，４Ｒ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−４−フェニル−１−ブテン（一般式（５−ＲＲ）の化合物，１．２７ｇ，４．１５ｍｍｏｌ，４５％，＞９９％ｅｅ）、および（３Ｓ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−４−フェニル−１−ブテン（一般式（４−ＳＳ）の化合物，１．１３ｇ，４．２９ｍｍｏｌ，４７％，＞９９％ｅｅ）をそれぞれ得た。
【０１９４】
（３Ｒ，４Ｒ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−４−フェニル−１−ブテン（一般式（５−ＲＲ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４２（９Ｈ），  ２．０３（３Ｈ，ｓ），  ４．９１（１Ｈ，ｂｒ），  ５．２０（１Ｈ，ｂｒ），  ５．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．６Ｈｚ），  ５．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），  ５．５５（１Ｈ，ｂｒ），  ５．７７（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．９Ｈｚ，１０．６Ｈｚ，１７．１Ｈｚ），  ７．２４−７．３６（５Ｈ）。
【０１９５】
（３Ｓ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−４−フェニル−１−ブテン（一般式（４−ＳＳ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４２（９Ｈ），  ４．４０（１Ｈ，ｂｒ），  ４．７２（１Ｈ，ｂｒ），  ５．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ），  ５．３０（１Ｈ，ｂｒ），  ５．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．０Ｈｚ），  ５．８７（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．３Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，１７．１Ｈｚ），  ７．２３−７．３９（５Ｈ）。
【実施例２】
【０１９６】
（２Ｒ，３Ｓ）−３−ベンザミド−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオン酸の合成（一般式（１４）におけるＲ＝フェニル基の化合物）
（Ｉ）一般式（９）の化合物（Ｒ＝フェニル基）の合成（工程９）
（３Ｓ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−４−フェニル−１−ブテン（３４１ｍｇ，１．２９ｍｍｏｌ）に、ピリジン（３ｍｌ）を加えて攪拌し、室温で塩化ベンゾイル（０．２０ｍｌ，１．７ｍｍｏｌ）を添加して、室温で２時間反応させた。その後、メタノール（０．５ｍｌ）を加えて２０分間攪拌した後、反応混合物をトルエン（２０ｍｌ）で希釈し、この有機層を１Ｎ塩酸（２０ｍｌ×２）、飽和ＮａＨＣＯ3水溶液（２０ｍｌ）で順次洗浄し、無水ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧下濃縮して、粗生成物として油状物（８１５ｍｇ）を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝２０／１〜１５／１）で精製することにより、（３Ｓ，４Ｓ）−３−ベンゾイルオキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−４−フェニル−１−ブテンを得た（４５８ｍｇ，１．２３ｍｍｏｌ，９５％）。
【０１９７】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３４（９Ｈ），  ５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ），  ５．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ），  ５．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．６Ｈｚ），  ５．７５−５．８８（２Ｈ），  ７．２５−７．３６（５Ｈ），  ７．４４（２Ｈ，ｍ），  ７．５７（１Ｈ，ｍ），  ８．０３（２Ｈ，ｍ）。
【０１９８】
（ＩＩ）一般式（１１）の化合物（Ｒ＝フェニル基）の合成（工程１０および１１）
（３Ｓ，４Ｓ）−３−ベンゾイルオキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−４−フェニル−１−ブテン（４５８ｍｇ，１．２３ｍｍｏｌ）を、ジクロロメタン（３．０ｍｌ）に溶解し、トリフルオロ酢酸（１．０ｍｌ）を添加して、室温で３時間攪拌した。減圧下で揮発性物質を留去して、（３Ｓ，４Ｓ）−３−ベンゾイルオキシ−４−アミノ−４−フェニル−１−ブテン・トリフルオロ酢酸塩を得た（５３０ｍｇ）。これをテトラヒドロフラン（３．０ｍｌ）に溶解し、トリエチルアミン（０．８６ｍｌ，６．２ｍｍｏｌ）を添加して、室温で１２時間攪拌した。反応混合物をトルエン（１０ｍｌ）および酢酸エチル（１０ｍｌ）で希釈し、この有機層を１Ｎ塩酸（２０ｍｌ）、飽和ＮａＨＣＯ3水溶液（２０ｍｌ）で順次洗浄し、無水ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧下濃縮して、無色透明固体の（３Ｓ，４Ｓ）−４−ベンザミド−３−ヒドロキシ−４−フェニル−１−ブテンを得た（３１２ｍｇ，１．１７ｍｍｏｌ，９５％）。これを精製することなく、次の工程に供した。
【０１９９】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：４．５８（１Ｈ，ｍ），  ５．２３−５．２８（２Ｈ），  ５．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），  ５．９５（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．０Ｈｚ，１０．６Ｈｚ，１７．１Ｈｚ），  ６．９５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝４．６Ｈｚ），  ７．２７−７．４０（５Ｈ），  ７．４４（２Ｈ，ｍ），  ７．５２（１Ｈ，ｍ），７．８０（２Ｈ，ｍ）。
【０２００】
（ＩＩＩ）一般式（１２）の化合物（Ｒ＝フェニル基）の合成（工程１２）
（３Ｓ，４Ｓ）−４−ベンザミド−３−ヒドロキシ−４−フェニル−１−ブテン（２７５ｍｇ，１．０３ｍｍｏｌ）およびピリジニウムｐ−トルエンスルホナート（２６ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）をジクロロメタン（５．０ｍｌ）に溶解し、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（０．１９ｍｌ，２．１ｍｍｏｌ）を添加して、室温で１２時間攪拌した。反応混合物をトルエン（２０ｍｌ）で希釈し、この有機層を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液（２０ｍｌ）で洗浄し、無水ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧下濃縮して、粗生成物として無色透明固体（４８３ｍｇ）を得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝６／１〜５／１）で精製することにより、（３Ｓ，４Ｓ）−４−ベンザミド−３−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）−４−フェニル−１−ブテンを得た（３４０ｍｇ，０．９７ｍｍｏｌ，９４％）。
【０２０１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３８−１．８２（６Ｈ），  ３．２５（１．２Ｈ，ｍ），  ３．３２−３．５８（０．８Ｈ，ｍ），  ３．７５−３．９０（１Ｈ，ｍ），  ４．１２（０．４Ｈ，ｍ），  ３．９０−４．０２（１Ｈ，ｍ），  ４．０９−４．４５（１Ｈ，ｍ），  ５．１３（０．６Ｈ，ｍ），  ５．２３−５．３０（２Ｈ，ｍ），  ５．４６（０．４Ｈ，ｍ），  ５．７４（０．６Ｈ，ｍ），  ６．０１（０．４Ｈ，ｍ），  ７．２０−７．５３（９Ｈ），  ７．８１−７．８７（２Ｈ，ｍ）。
【０２０２】
（ＩＶ）一般式（１３）の化合物（Ｒ＝フェニル基）の合成（工程１３）
四塩化炭素（４．０ｍｌ）、アセトニトリル（４．０ｍｌ）およびリン酸緩衝液（ｐＨ６．８，６．０ｍｌ）の混合溶媒に、（３Ｓ，４Ｓ）−４−ベンザミド−３−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）−４−フェニル−１−ブテン（１６７ｍｇ，０．４７５ｍｍｏｌ）を溶解し、過ヨウ素酸ナトリウム（６１０ｍｇ，２．８５ｍｍｏｌ）と二酸化ルテニウム（５ｍｇ）を添加して、室温で５時間攪拌した。反応混合物をトルエン（１５ｍｌ）および酢酸エチル（１５ｍｌ）で希釈し、この有機層を０．５Ｎ塩酸（１０ｍｌ）、飽和食塩水（１０ｍｌ×２）、飽和Ｎａ2Ｓ2Ｏ3水溶液（１０ｍｌ）で順次洗浄し、無水ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧下濃縮して、固体の（２Ｒ，３Ｓ）−３−ベンザミド−３−フェニル−２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）プロピオン酸を得た（１２７ｍｇ，０．３４４ｍｍｏｌ，７２％）。
【０２０３】
（Ｖ）一般式（１４）の化合物（Ｒ＝フェニル基）の合成（工程１４）
（２Ｒ，３Ｓ）−３−ベンザミド−３−フェニル−２−（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）プロピオン酸（１２７ｍｇ，０．３４４ｍｍｏｌ）にメタノール（４．０ｍｌ）を加えて攪拌し、ｐ−トルエンスルホン酸（５ｍｇ）を添加して、室温で８時間反応を続けた。反応混合物をトルエン（３０ｍｌ）で希釈し、０．５Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（５ｍｌ×２）で抽出した。この水層を１Ｎ塩酸で酸性にし、酢酸エチル（１０ｍｌ×２）で抽出し、この有機層を無水ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧下濃縮して、粗生成物として固体を得た（１０４ｍｇ）。これを酢酸エチルで再結晶化することにより、無色透明の針状結晶の（２Ｒ，３Ｓ）−３−ベンザミド−２−ヒドロキシ−３−フェニルプロピオン酸を得た（７９ｍｇ，０．２７７ｍｍｏｌ）。
【０２０４】
ｍｐ．  １７３−１７６℃
［αD25］  −３５．０（ｃ＝０．９５  エタノール）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ6）δ：４．３７（１Ｈ，ｂｒ），  ５．４６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝４．５Ｈｚ，８．９Ｈｚ），  ５．５１（１Ｈ，ｂｒ），  ７．２３（１Ｈ，ｍ），  ７．３１（２Ｈ，ｍ），  ７．４０（２Ｈ，ｍ），  ７．４６−７．５６（３Ｈ，ｍ），  ７．８４（２Ｈ，ｍ），  ８．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．９Ｈｚ）。
【実施例３】
【０２０５】
一般式（５−ＲＲ）、（４−ＳＳ）、（５−ＲＳ）および（４−ＳＲ）におけるＲ＝ベンジル基の化合物の合成
（Ｉ）一般式（１）の化合物（Ｒ＝ベンジル基）の合成（工程７および８）
ジイソプロピルアミン（１５．４ｍｌ，１１０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（７０ｍｌ）に溶解し、この溶液に０℃でｎ−ブチルリチウムヘキサン溶液（１．５６Ｍ，６７．３ｍｌ，１０５ｍｍｏｌ）を添加して１０分間攪拌した。その後、この混合物を−７８℃に冷却し、３−フェニルプロピオン酸メチル（１６．４２ｇ，１００ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）溶液を添加し、−７８℃で１．５時間攪拌した。その後、アクロレイン（８．０２ｍｌ，１２０ｍｍｏｌ）を滴下し、１５分間反応させた。反応混合物を１Ｎ塩酸（３００ｍｌ）とトルエン（１００ｍｌ）の混合物に注ぎ、分液した後、有機層を飽和ＮａＨＣＯ3水溶液（１００ｍｌ）で洗浄し、無水ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧下濃縮して、粗生成物として黄色油状物の２−ベンジル−３−ヒドロキシ−４−ペンテン酸メチルを得た（２２．２ｇ）。これをメタノール（１５０ｍｌ）に溶解し、これに室温で２Ｎ水酸化ナトリウム水溶液（５０ｍｌ）を添加して、２０時間反応を続けた。減圧下でメタノールを留去した後、残渣を水（２００ｍｌ）で希釈し、トルエン（５０ｍｌ×２）で洗浄した。水層を１Ｎ塩酸（１０ｍｌ）で酸性にした後、酢酸エチル（５０ｍｌ×２）で抽出し、有機層を飽和食塩水（３０ｍｌ×２）で洗浄し、無水ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧下濃縮して、２−ベンジル−３−ヒドロキシ−４−ペンテン酸を得た（１７．０ｇ，８２．６ｍｍｏｌ，２工程での収率８３％）。
【０２０６】
（ＩＩ）一般式（２）の化合物（Ｒ＝ベンジル基）の合成（工程１）
２−ベンジル−３−ヒドロキシ−４−ペンテン酸（８．６５ｇ，４１．９ｍｍｏｌ）をトルエン（５０ｍｌ）に溶解し、トリエチルアミン（７．６０ｍｌ，５４．５ｍｍｏｌ）を加えて攪拌し、０℃でジフェニルホスホリルアジド（１０．８ｍｌ，５０．３ｍｍｏｌ）を添加した後、反応系を室温に戻して１０時間反応させた。その後、反応系を８０℃で４０分間加熱した。室温に冷却した後、反応混合物を酢酸エチル（５０ｍｌ）で希釈し、この有機層を水（１００ｍｌ）、１Ｎ塩酸（５０ｍｌ×２）、飽和ＮａＨＣＯ3水溶液（５０ｍｌ）で順次洗浄し、無水ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧下濃縮した。残渣（８．９９ｇ）を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝５／１）で精製することにより、４−ベンジル−５−ビニル−２−オキサゾリジノンを得た（６．５０ｇ，７６％，ａｎｔｉ−（±）：ｓｙｎ−（±）＝約１：１の混合物）。
【０２０７】
（ＩＩＩ）一般式（３ａ）および（３ｂ）の化合物（Ｒ＝ベンジル基）の合成（工程２）
４−ベンジル−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（６．４９ｇ，３１．９ｍｍｏｌ）およびジメチルアミノピリジン（３９１ｍｇ，３．２０ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（３０ｍｌ）に溶解し、トリエチルアミン（４．９０ｍｌ，３５．１ｍｍｏｌ）を加えて攪拌し、室温でジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカルボナート（（Ｂｏｃ）2Ｏ，８．８０ｍｌ，３８．３ｍｍｏｌ）を滴下して、室温で１．５時間反応を続けた。反応混合物をトルエン（３０ｍｌ）で希釈し、この有機層を１Ｎ塩酸（３０ｍｌ×２）、飽和ＮａＨＣＯ3水溶液（３０ｍｌ）で順次洗浄し、無水ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧下濃縮して、粗生成物として固体（９．７９１ｇ）を得た。これを短いシリカゲルカラムクロマトグラフィー（トルエン／酢酸エチル＝１００／１〜５０／１〜２０／１）で精製した後、中圧カラムクロマトグラフィー（山善ＳＩ−４０Ｄカラム、トルエン／酢酸エチル＝２０／１〜１０／１〜５／１）で精製することにより、高極性のｓｙｎ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ベンジル−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ｂ）の化合物，３．９７ｇ，１３．１ｍｍｏｌ．４１％）、低極性のａｎｔｉ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ベンジル−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ａ）の化合物，３．８８ｇ，１２．８ｍｍｏｌ．４０％）をそれぞれ得た。
【０２０８】
ｓｙｎ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ベンジル−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ｂ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４３（９Ｈ，ｓ），  ２．９３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１４．０Ｈｚ），  ２．９７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，１４．０Ｈｚ），  ４．６１（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，５．８Ｈｚ，７．０Ｈｚ），  ５．０２（１Ｈ，ｍ），  ５．３７（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，１０．７Ｈｚ），  ５．５３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ，１７．０Ｈｚ），  ５．７６（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，１０．７Ｈｚ，１７．０Ｈｚ），  ７．１９−７．３１（５Ｈ）。
【０２０９】
ａｎｔｉ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ベンジル−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ａ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．５９（９Ｈ，ｓ），  ２．８４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１３．３Ｈｚ），  ３．３４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．５Ｈｚ，１３．３Ｈｚ），  ４．１７（１Ｈ，ｍ），  ４．６２（１Ｈ，ｍ），  ５．１４−５．１８（２Ｈ），  ５．６１（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１０．３Ｈｚ，１７．１Ｈｚ），  ７．１９−７．３６（５Ｈ）。
【０２１０】
（ＩＶ）一般式（４ａ）および（４ｂ）の化合物（Ｒ＝ベンジル基）の合成（工程３）
ａｎｔｉ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ベンジル−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（３．５６ｇ，１１．７ｍｍｏｌ）をメタノール（２５ｍｌ）に溶解し、炭酸セシウム（３８４ｍｇ，１．１８ｍｍｍｏｌ）を添加して、室温で８時間反応させた。減圧下でメタノールを留去した後、残渣を酢酸エチル（２０ｍｌ）で希釈し、この有機層を１Ｎ塩酸（２０ｍｌ）、飽和ＮａＨＣＯ3水溶液（２０ｍｌ）で順次洗浄し、無水ＭｇＳＯ4で乾燥し、減圧下濃縮した。残渣（３．５５ｇ）を中圧カラムクロマトグラフィー（山善ＳＩ−４０Ｄカラム、ヘキサン／酢酸エチル＝４／１〜３／１〜２／１）で精製することにより、ｓｙｎ（±）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−５−フェニル−１−ペンテンを得た（一般式（４ａ）の化合物，２．６６ｇ，９．５８ｍｍｏｌ，８２％）。
【０２１１】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３９（９Ｈ，ｂｒ），  ２．２３（１Ｈ，ｂｒ），  ２．８０−２．９７（２Ｈ），  ３．８０（１Ｈ，ｂｒ），  ４．１１（１Ｈ，ｂｒ），  ４．７７（１Ｈ，ｂｒ），  ５．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），  ５．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ），  ５．８９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，１０．７Ｈｚ，１６．０Ｈｚ），  ７．２０−７．３２（５Ｈ）。
【０２１２】
同様の方法により、ｓｙｎ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−ベンジル−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（３．９７ｇ，１３．１ｍｍｏｌ）から、ａｎｔｉ（±）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−５−フェニル−１−ペンテン（一般式（４ｂ）の化合物，３．１８ｇ，１１．５ｍｍｏｌ，８７％）を得た。
【０２１３】
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３７（９Ｈ），  ２．７４（１Ｈ，ｍ），  ２．８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１４Ｈｚ），  ２．９５（１Ｈ，ｂｒ），  ３．９８（１Ｈ，ｂｒ），  ４．２４（１Ｈ，ｂｒ），  ４．５７（１Ｈ，ｂｒ），  ５．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），  ５．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），  ５．９４（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１０．７Ｈｚ，１７．１Ｈｚ），  ７．１９−７．３１（５Ｈ）。
【０２１４】
（Ｖ−１）一般式（５−ＲＲ）および（４−ＳＳ）の化合物（Ｒ＝ベンジル基）の合成（工程４）
ｓｙｎ（±）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−５−フェニル−１−ペンテン（１．８０ｇ，６．４９ｍｍｏｌ）をトルエン（２６ｍｌ）に溶解し、酢酸２−プロペニル（２．１４ｍｌ，１９．５ｍｍｏｌ）を加えて攪拌し、Ｃａｎｄｉｄａ  ａｎｔａｒｃｔｉｃａ  ｌｉｐａｓｅ  ｔｙｐｅＢ（ＣＡＬ−Ｂ，商品名Ｃｈｉｒａｚｙｍｅ，６４９ｍｇ）を添加して、室温で４８時間反応を続けた。ＣＡＬ−Ｂを濾過により除去し、濾液を減圧濃縮した。残渣（２．１５ｇ）を中圧カラムクロマトグラフィー（山善ＳＩ−４０Ｂカラム、ヘキサン／酢酸エチル＝５／１〜３／１）で精製することにより、（３Ｒ，４Ｒ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−５−フェニル−１−ペンテン（一般式（５−ＲＲ）の化合物，１．０３５ｇ，３．２４ｍｍｏｌ，４９％，＞９９％ｅｅ）、および（３Ｓ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−５−フェニル−１−ペンテン（一般式（４−ＳＳ）の化合物，０．８２８ｇ，２．９８ｍｍｏｌ，４９％，＞９９％ｅｅ）をそれぞれ得た。
【０２１５】
（３Ｒ，４Ｒ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−５−フェニル−１−ペンテン（一般式（５−ＲＲ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３９（９Ｈ，ｂｒ），  ２．１１（３Ｈ，ｓ），  ２．４０−２．８５（２Ｈ），  ４．０９（１Ｈ，ｍ），  ４．６５（１Ｈ，ｍ），  ５．２０−５．３０（３Ｈ），  ５．７９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．７Ｈｚ，１０Ｈｚ，１７Ｈｚ），  ７．１６−７．３４（５Ｈ）。
【０２１６】
（３Ｓ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−５−フェニル−１−ペンテン（一般式（４−ＳＳ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３９（９Ｈ，ｂｒ），  ２．２３（１Ｈ，ｂｒ），  ２．８０−２．９７（２Ｈ），  ３．８０（１Ｈ，ｂｒ），  ４．１１（１Ｈ，ｂｒ），  ４．７７（１Ｈ，ｂｒ），  ５．１９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），  ５．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１６．０Ｈｚ），  ５．８９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝４．９Ｈｚ，１０．７Ｈｚ，１６．０Ｈｚ），  ７．２０−７．３２（５Ｈ）。
【０２１７】
ＨＰＬＣ分析：
条件：ＣｈｉｒａｌｃｅｌＯＤ−Ｈカラム
ヘキサン／２−プロパノール＝３０／１
流速０．８ｍｌ／ｍｉｎ
２５４ｎｍで検出
（３Ｒ，４Ｒ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−５−フェニル−１−ペンテン（一般式（５−ＲＲ）の化合物）：ｔR＝９．０ｍｉｎ
（３Ｓ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−５−フェニル−１−ペンテン（一般式（４−ＳＳ）の化合物）：ｔR＝１０．１ｍｉｎ。
【０２１８】
（Ｖ−２）一般式（５−ＲＳ）および（４−ＳＲ）の化合物（Ｒ＝ベンジル基）の合成（工程４）
上記の方法と同様にして、ａｎｔｉ（±）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−５−フェニル−１−ペンテン（３．１７ｇ，１１．４ｍｍｏｌ）から、（３Ｒ，４Ｓ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−５−フェニル−１−ペンテン（一般式（５−ＲＳ）の化合物，１．７８ｇ，５．５８ｍｍｏｌ，４９％，＞９９％ｅｅ）、および（３Ｓ，４Ｒ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−５−フェニル−１−ペンテン（一般式（４−ＳＲ）の化合物，１．５５ｇ，５．５９ｍｍｏｌ，４９％，＞９９％ｅｅ）をそれぞれ得た。
【０２１９】
（３Ｒ，４Ｓ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−５−フェニル−１−ペンテン（一般式（５−ＲＳ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３５（９Ｈ，ｂｒ），  ２．１０（３Ｈ，ｓ），  ２．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ，１４．０Ｈｚ），  ２．８８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１４．０Ｈｚ），  ４．００−４．５０（２Ｈ），  ５．２８−５．４０（３Ｈ），  ５．８４（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１０Ｈｚ，１７Ｈｚ），  ７．１７−７．３０（５Ｈ）。
【０２２０】
（３Ｓ，４Ｒ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−５−フェニル−１−ペンテン（一般式（４−ＳＲ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３７（９Ｈ），  ２．７４（１Ｈ，ｍ），  ２．８５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．４Ｈｚ，１４Ｈｚ），  ２．９５（１Ｈ，ｂｒ），  ３．９８（１Ｈ，ｂｒ），  ４．２４（１Ｈ，ｂｒ），  ４．５７（１Ｈ，ｂｒ），  ５．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），  ５．３８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），  ５．９４（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１０．７Ｈｚ，１７．１Ｈｚ），  ７．１９−７．３１（５Ｈ）。
【０２２１】
ＨＰＬＣ分析：
条件：ＣｈｉｒａｌｃｅｌＯＤ−Ｈカラム
ヘキサン／２−プロパノール＝３０／１
流速０．８ｍｌ／ｍｉｎ
２５４ｎｍで検出
（３Ｒ，４Ｓ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−５−フェニル−１−ペンテン（一般式（５−ＲＳ）の化合物）：ｔR＝１２．８ｍｉｎ
（３Ｓ，４Ｒ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−５−フェニル−１−ペンテン（一般式（４−ＳＲ）の化合物）：ｔR＝８．９ｍｉｎ。
【実施例４】
【０２２２】
一般式（５−ＲＲ）、（４−ＳＳ）、（５−ＲＳ）および（４−ＳＲ）におけるＲ＝プロピル基の化合物の合成
実施例３において、３−フェニルプロピオン酸メチルの代わりに吉草酸メチルを出発原料とし、実施例３と同様の方法により、ａｎｔｉ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−プロピル−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ａ）の化合物）を経由して、（３Ｒ，４Ｒ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−１−ヘプテン（一般式（５−ＲＲ）の化合物，４８％，９９％ｅｅ）、および（３Ｓ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−１−ヘプテン（一般式（４−ＳＳ）の化合物，４９％，９７％ｅｅ）をそれぞれ得た。また、ｓｙｎ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−プロピル−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ｂ）の化合物）を経由して、（３Ｒ，４Ｓ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−１−ヘプテン（一般式（５−ＲＳ）の化合物，４７％，＞９９％ｅｅ）、および（３Ｓ，４Ｒ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−１−ヘプテン（一般式（４−ＳＲ）の化合物，４４％，＞９７％ｅｅ）をそれぞれ得た。これらの化合物のＮＭＲデータと共に、一般式（３ａ）、（３ｂ）のＮＭＲデータを以下に示す。
【０２２３】
ａｎｔｉ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−プロピル−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ａ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９８（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），  １．２７−１．４２（２Ｈ，ｍ），  １．５４（９Ｈ，ｓ），  １．７３（１Ｈ，ｍ），  １．８２（１Ｈ，ｍ），  ３．９４（１Ｈ，ｍ），  ４．５６（１Ｈ，ｍ），  ５．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ），  ５．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），  ５．８６（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，１７．１Ｈｚ）。
【０２２４】
ｓｙｎ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−プロピル−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ｂ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），  １．３１−１．３８（２Ｈ，ｍ），  １．５５（９Ｈ，ｓ），  １．５７（１Ｈ，ｍ），  １．７２（１Ｈ，ｍ），  ４．２６（１Ｈ，ｍ），  ４．９６（１Ｈ，ｍ），  ５．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ），  ５．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），  ５．８８（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，１７．１Ｈｚ）。
【０２２５】
（３Ｒ，４Ｒ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−１−ヘプテン（一般式（５−ＲＲ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），  １．３２−１．４６（４Ｈ，ｍ），  １．４４（９Ｈ，ｂｒｓ），  ２．１０（３Ｈ，ｓ），  ３．８１（１Ｈ，ｍ），  ４．４９（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），  ５．２０−５．２９（３Ｈ，ｍ），  ５．８０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，１０．７Ｈｚ，１７．１Ｈｚ）。
【０２２６】
（３Ｓ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−１−ヘプテン（一般式（４−ＳＳ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９３（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），  １．３０−１．５０（４Ｈ，ｍ），  １．４４（９Ｈ，ｂｒｓ），  ２．２３（１Ｈ，ｍ），  ３．５７（１Ｈ，ｍ），  ４．０９（１Ｈ，ｍ），  ４．６０（１Ｈ，ｍ），  ５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ），  ５．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．３Ｈｚ），  ５．９０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１０．４Ｈｚ，１７．３Ｈｚ）。
【０２２７】
（３Ｒ，４Ｓ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−１−ヘプテン（一般式（５−ＲＳ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ），  １．２２−１．５０（４Ｈ，ｍ），  １．４４（９Ｈ，ｂｒｓ），  ２．０８（３Ｈ，ｓ），  ３．８６（１Ｈ，ｍ），  ４．３８（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝９．３Ｈｚ），  ５．２５−５．３２（３Ｈ，ｍ），  ５．７８（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１０．６Ｈｚ，１７．１Ｈｚ）。
【０２２８】
（３Ｓ，４Ｒ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−１−ヘプテン（一般式（４−ＳＲ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：０．９２（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），  １．２６−１．５０（４Ｈ，ｍ），  １．４５（９Ｈ，ｂｒｓ），  ２．９０（１Ｈ，ｍ），  ３．７４（１Ｈ，ｍ），  ４．２０（１Ｈ，ｍ），  ４．５２（１Ｈ，ｍ），  ５．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ），  ５．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．２Ｈｚ），  ５．８５（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，１７．２Ｈｚ）。
【実施例５】
【０２２９】
一般式（５−ＲＲ）、（４−ＳＳ）、（５−ＲＳ）および（４−ＳＲ）におけるＲ＝８−ノネニル基の化合物の合成
実施例３において、３−フェニルプロピオン酸メチルの代わりに１０−ウンデセン酸メチルを出発原料とし、実施例３と同様の方法により、ａｎｔｉ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−（８−ノネニル）−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ａ）の化合物）を経由して、（３Ｒ，４Ｒ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−１，１２−トリデカジエン（一般式（５−ＲＲ）の化合物，４９％，＞９９％ｅｅ）、および（３Ｓ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−１，１２−トリデカジエン（一般式（４−ＳＳ）の化合物，４９％，＞９９％ｅｅ）をそれぞれ得た。また、ｓｙｎ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−（８−ノネニル）−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ｂ）の化合物）を経由して、（３Ｒ，４Ｓ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−１，１２−トリデカジエン（一般式（５−ＲＳ）の化合物，４８％，９７％ｅｅ）、および（３Ｓ，４Ｒ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−１，１２−トリデカジエン（一般式（４−ＳＲ）の化合物，４９％，９９％ｅｅ）をそれぞれ得た。これらの化合物のＮＭＲデータと共に、一般式（３ａ）、（３ｂ）のＮＭＲデータを以下に示す。
【０２３０】
ａｎｔｉ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−（８−ノネニル）−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ａ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２５−１．４０（１０Ｈ，ｍ），  １．５４（９Ｈ，ｓ），  １．７４（１Ｈ，ｍ），  １．８４（１Ｈ，ｍ），  ２．０２−２．０６（２Ｈ，ｍ），  ３．９２（１Ｈ，ｍ），  ４．５５（１Ｈ，ｍ），  ４．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ），  ４．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．０Ｈｚ），  ５．３３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ，１０．７Ｈｚ），  ５．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１７．０Ｈｚ），  ５．７７−５．８９（２Ｈ，ｍ）。
【０２３１】
ｓｙｎ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−（８−ノネニル）−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ｂ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２４−１．３８（１０Ｈ，ｍ），  １．５４（９Ｈ，ｓ），  １．５８（１Ｈ，ｍ），  １．７５（１Ｈ，ｍ），  ２．００−２．０５（２Ｈ，ｍ），  ４．２５（１Ｈ，ｍ），  ４．９１−５．０１（３Ｈ，ｍ），  ５．４５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝０．９Ｈｚ，１０．７Ｈｚ），  ５．４９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝１．０Ｈｚ，１７．１Ｈｚ），  ５．７６−５．９１（２Ｈ，ｍ）。
【０２３２】
（３Ｒ，４Ｒ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−１，１２−ドリデカジエン（一般式（５−ＲＲ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２５−１．５５（１２Ｈ，ｍ），  １．４４（９Ｈ，ｂｒｓ），  ２．０１−２．０４（２Ｈ，ｍ），  ２．０９（３Ｈ，ｓ），  ３．７８（１Ｈ，ｍ），  ４．４８（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ），  ４．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ），  ４．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），  ５．２０−５．２９（３Ｈ，ｍ），  ５．７５−５．８４（２Ｈ，ｍ）。
【０２３３】
（３Ｓ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−１，１２−ドリデカジエン（一般式（４−ＳＳ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２５−１．６８（１２Ｈ，ｍ），  １．４４（９Ｈ，ｂｒｓ），  ２．０１−２．０５（２Ｈ，ｍ），  ２．１９（１Ｈ，ｂｒｓ），  ３．５８（１Ｈ，ｍ），  ４．０９（１Ｈ，ｍ），  ４．６０（１Ｈ，ｍ），  ４．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．２Ｈｚ），  ４．９８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），  ５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），  ５．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），  ５．８０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１０．２Ｈｚ，１７．１Ｈｚ），  ５．９０（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝６．１Ｈｚ，１０．７Ｈｚ，１７．１Ｈｚ）。
【０２３４】
（３Ｒ，４Ｓ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−１，１２−ドリデカジエン（一般式（５−ＲＳ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２７−１．５５（１２Ｈ，ｍ），  １．４５（９Ｈ，ｂｒｓ），  ２．０１−２．０６（２Ｈ，ｍ），  ２．０８（３Ｈ，ｓ），  ３．８４（１Ｈ，ｍ），  ４．３７（１Ｈ，ｂｒｄ，Ｊ＝９．８Ｈｚ），  ４．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．１Ｈｚ），  ４．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ），  ５．２６−５．３２（３Ｈ，ｍ），  ５．７４−５．８５（２Ｈ，ｍ）。
【０２３５】
（３Ｓ，４Ｒ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−１，１２−ドリデカジエン（一般式（４−ＳＲ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．２６−１．５６（１２Ｈ，ｍ），  １．４５（９Ｈ，ｂｒｓ），  ２．０１−２．０６（２Ｈ，ｍ），  ２．８７（１Ｈ，ｍ），  ３．７２（１Ｈ，ｍ），  ４．２０（１Ｈ，ｍ），  ４．５０（１Ｈ，ｍ），  ４．９３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．１Ｈｚ），  ４．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ），  ５．２３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），  ５．３３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），  ５．７６−５．８８（２Ｈ，ｍ）。
【実施例６】
【０２３６】
一般式（５−ＲＲ）、（４−ＳＳ）、（５−ＲＳ）および（４−ＳＲ）におけるＲ＝２−フェニルチオエチル基の化合物の合成
実施例３において、３−フェニルプロピオン酸メチルの代わりに４−フェニルチオブタン酸メチルを出発原料とし、実施例３と同様の方法により、ａｎｔｉ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−（２−フェニルチオエチル）−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ａ）の化合物）を経由して、（３Ｒ，４Ｒ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−６−フェニルチオ−１−ヘキセン（一般式（５−ＲＲ）の化合物，４４％，＞９９％ｅｅ）、および（３Ｓ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−６−フェニルチオ−１−ヘキセン（一般式（４−ＳＳ）の化合物，４５％，９６％ｅｅ）をそれぞれ得た。また、ｓｙｎ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−（２−フェニルチオエチル）−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ｂ）の化合物）を経由して、（３Ｒ，４Ｓ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−６−フェニルチオ−１−ヘキセン（一般式（５−ＲＳ）の化合物，４７％，９９％ｅｅ）、および（３Ｓ，４Ｒ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−６−フェニルチオ−１−ヘキセン（一般式（４−ＳＲ）の化合物，４６％，＞９９％ｅｅ）をそれぞれ得た。これらの化合物のＮＭＲデータと共に、一般式（３ａ）、（３ｂ）のＮＭＲデータを以下に示す。
【０２３７】
ａｎｔｉ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−（２−フェニルチオエチル）−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ａ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．５０（９Ｈ，ｓ），  ２．０４−２．２０（２Ｈ，ｍ），  ２．９１−２．９９（２Ｈ，ｍ），  ４．０９（１Ｈ，ｍ），  ４．５９（１Ｈ，ｍ），  ５．３４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），  ５．４５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），  ５．８２（１Ｈ，ｍ），  ７．２１−７．３６（５Ｈ）。
【０２３８】
ｓｙｎ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−（２−フェニルチオエチル）−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ｂ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．５１（９Ｈ，ｓ），  １．９５（１Ｈ，ｍ），  ２．０９（１Ｈ，ｍ），  ２．８８−２．９３（２Ｈ，ｍ），  ４．４０（１Ｈ，ｍ），  ４．９７（１Ｈ，ｍ），  ５．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），  ５．５３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），  ５．７９（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１０．７Ｈｚ，１７．１Ｈｚ），  ７．１９−７．３６（５Ｈ）。
【０２３９】
（３Ｒ，４Ｒ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−６−フェニルチオ−１−ヘキセン（一般式（５−ＲＲ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４４（９Ｈ，ｓ），  １．６６（１Ｈ，ｍ），  １．８４（１Ｈ，ｍ），  ２．０６（３Ｈ，ｓ），  ２．９０−３．０１（２Ｈ，ｍ），  ３．９６（１Ｈ，ｍ），  ４．５４（ｂｒｄ，Ｊ＝９．９Ｈｚ），  ５．２１−５．２９（３Ｈ，ｍ），  ５．７６（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１０．６Ｈｚ，１７．０Ｈｚ），  ７．０５（１Ｈ，ｍ），  ７．１５−７．３５（４Ｈ，ｍ）。
【０２４０】
（３Ｓ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−６−フェニルチオ−１−ヘキセン（一般式（４−ＳＳ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４４（９Ｈ，ｂｒｓ），  １．８６（１Ｈ，ｍ），  １．９３（１Ｈ，ｍ），  ２．２３（１Ｈ，ｍ），  ２．９２−３．０６（２Ｈ，ｍ），  ３．７３（１Ｈ，ｍ），  ４．１３（１Ｈ，ｍ），  ４．７０（１Ｈ，ｍ），  ５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ），  ５．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ），  ５．８７（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，１０．４Ｈｚ，１７．４Ｈｚ），  ７．１６（１Ｈ，ｍ），  ７．２６−７．３６（４Ｈ，ｍ）。
【０２４１】
（３Ｒ，４Ｓ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−６−フェニルチオ−１−ヘキセン（一般式（５−ＲＳ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４５（９Ｈ，ｓ），  １．６２（１Ｈ，ｍ），  １．８７（１Ｈ，ｍ），  ２．０６（３Ｈ，ｓ），  ２．９１（３Ｈ，ｓ），  ３．０１（１Ｈ，ｍ），  ４．００（１Ｈ，ｍ），  ４．４８（ｂｒｄ，Ｊ＝９．８Ｈｚ），  ５．２５−５．３０（３Ｈ，ｍ），  ５．７３（１Ｈ，ｍ），  ７．１９（１Ｈ，ｍ），  ７．２６−７．３６（４Ｈ，ｍ）。
【０２４２】
（３Ｓ，４Ｒ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−６−フェニルチオ−１−ヘキセン（一般式（４−ＳＲ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４５（９Ｈ，ｂｒｓ），  １．６７（１Ｈ，ｍ），  １．８５（１Ｈ，ｍ），  ２．５０（１Ｈ，ｍ），  ２．９２（１Ｈ，ｍ），  ３．０３（１Ｈ，ｍ），  ３．８４（１Ｈ，ｍ），  ４．２３（１Ｈ，ｍ），  ４．６９（１Ｈ，ｍ），  ５．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），  ５．３２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．２Ｈｚ），  ５．８１（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１０．７Ｈｚ，１７．２Ｈｚ），  ７．１８（１Ｈ，ｍ），  ７．２６−７．３６（４Ｈ，ｍ）。
【実施例７】
【０２４３】
一般式（５−ＲＲ）、（４−ＳＳ）、（５−ＲＳ）および（４−ＳＲ）におけるＲ＝ｐ−メトキシベンジル基の化合物の合成
実施例３において、３−フェニルプロピオン酸メチルの代わりに３−（４−メトキシフェニル）プロピオン酸メチルを出発原料とし、実施例３と同様の方法により、ａｎｔｉ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−（４−メトキシベンジル）−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ａ）の化合物）を経由して、（３Ｒ，４Ｒ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−５−（４−メトキシフェニル）−１−ペンテン（一般式（５−ＲＲ）の化合物，４６％，９７％ｅｅ）、および（３Ｓ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−５−（４−メトキシフェニル）−１−ペンテン（一般式（４−ＳＳ）の化合物，４３％，＞９９％ｅｅ）をそれぞれ得た。また、ｓｙｎ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−（４−メトキシベンジル）−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ｂ）の化合物）を経由して、（３Ｒ，４Ｓ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−５−（４−メトキシフェニル）−１−ペンテン（一般式（５−ＲＳ）の化合物，４１％，９４％ｅｅ）、および（３Ｓ，４Ｒ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−５−（４−メトキシフェニル）−１−ペンテン（一般式（４−ＳＲ）の化合物，４９％，９８％ｅｅ）をそれぞれ得た。これらの化合物のＮＭＲデータと共に、一般式（３ａ）、（３ｂ）のＮＭＲデータを以下に示す。
【０２４４】
ａｎｔｉ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−（４−メトキシベンジル）−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ａ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．５９（９Ｈ，ｓ），  ２．７９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ，１３．４Ｈｚ），  ３．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝３．４Ｈｚ，１３．４Ｈｚ），  ３．８０（３Ｈ，ｓ），  ４．１２（１Ｈ，ｍ），  ４．６１（１Ｈ，ｍ），  ５．１７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），  ５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．１Ｈｚ），  ５．６３（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１０．７Ｈｚ，１７．１Ｈｚ），  ６．８７（２Ｈ，ｍ），  ７．１１（２Ｈ，ｍ）。
【０２４５】
ｓｙｎ（±）−Ｎ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル−４−（４−メトキシベンジル）−５−ビニル−２−オキサゾリジノン（一般式（３ｂ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４５（９Ｈ，ｓ），  ２．８５−２．９３（２Ｈ，ｍ），  ３．７８（３Ｈ，ｓ），  ４．５５（１Ｈ，ｄｍ），  ５．０１（１Ｈ，ｍ），  ５．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．７Ｈｚ），  ５．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．０Ｈｚ），  ５．７６（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，１０．７Ｈｚ，１７．０Ｈｚ），  ６．８２（２Ｈ，ｍ），  ７．１１（２Ｈ，ｍ）。
【０２４６】
（３Ｒ，４Ｒ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−５−（４−メトキシフェニル）−１−ペンテン（一般式（５−ＲＲ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．４０（９Ｈ，ｂｒｓ），  ２．１１（３Ｈ，ｓ），  ２．７２（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），  ３．７８（３Ｈ，ｓ），  ４．０１（１Ｈ，ｍ），  ４．６５（１Ｈ，ｍ），  ５．２０−５．３０（３Ｈ，ｍ），  ５．７８（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１０．６Ｈｚ，１７．０Ｈｚ），  ７．０５（１Ｈ，ｍ），  ７．１５−７．３５（４Ｈ，ｍ）。
【０２４７】
（３Ｓ，４Ｓ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−５−（４−メトキシフェニル）−１−ペンテン（一般式（４−ＳＳ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３９（９Ｈ，ｂｒｓ），  ２．１８（１Ｈ，ｍ），  ２．７６−２．９１（２Ｈ，ｍ），  ３．７４（１Ｈ，ｍｓ），  ３．７９（３Ｈ，ｓ），  ４．１１（１Ｈ，ｍ），  ４．７６（１Ｈ，ｍ），  ５．１８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ），  ５．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．３Ｈｚ），  ５．９１（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１０．４Ｈｚ，１７．３Ｈｚ），  ６．８３（２Ｈ，ｍ），  ７．１７（２Ｈ，ｍ）。
【０２４８】
（３Ｒ，４Ｓ）−３−アセトキシ−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−５−（４−メトキシフェニル）−１−ペンテン（一般式（５−ＲＳ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３６（９Ｈ，ｂｒｓ），  ２．０９（３Ｈ，ｓ），  ２．６３（１Ｈ，ｍ），  ２．８０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１４．３Ｈｚ），  ３．７８（３Ｈ，ｓ），  ４．１４（１Ｈ，ｍ），  ４．４１（１Ｈ，ｍ），  ５．２６−５．３４（３Ｈ，ｍ），  ５．８２（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝６．５Ｈｚ，１０．７Ｈｚ，１７．１Ｈｚ），  ６．８３（２Ｈ，ｍ），  ７．０９（２Ｈ，ｍ）。
【０２４９】
（３Ｓ，４Ｒ）−４−（ｔｅｒｔ−ブトキシカルバモイル）−３−ヒドロキシ−５−（４−メトキシフェニル）−１−ペンテン（一般式（４−ＳＲ）の化合物）のＮＭＲデータ
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）δ：１．３８（９Ｈ，ｂｒｓ），  ２．６８（１Ｈ，ｍ），  ２．７８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝５．５Ｈｚ，１４．０Ｈｚ），  ２．９６（１Ｈ，ｍ），  ３．７９（３Ｈ，ｓ），  ３．９３（１Ｈ，ｍ），  ４．２２（１Ｈ，ｍ），  ４．５４（１Ｈ，ｍ），  ５．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１０．５Ｈｚ），  ５．３７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１７．４Ｈｚ），  ５．９３（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝５．８Ｈｚ，１０．５Ｈｚ，１７．４Ｈｚ），  ６．８４（２Ｈ，ｍ），  ７．１１（２Ｈ，ｍ）。
【産業上の利用可能性】
【０２５０】
本発明によれば、光学活性な４−（Ｎ−保護アミノ）−１−アルケン−３−オールを、安全で工業化に適した方法で、高収率かつ高い光学純度で製造できる。従って、この製造方法を用いれば、タキソールまたはその誘導体の側鎖である、３−ベンザミド−２−ヒドロキシカルボン酸またはその塩も同様に、安全で工業化に適した方法で、かつ高収率で高い光学純度で製造することができるのである。