(57)【要約】      （修正有）【課題】  ボイドを形成することなくディンプルにモールド樹脂を充填でき、モールド樹脂と金属部材との密着性を向上させた樹脂モールド型の半導体装置を提供する。【解決手段】  ディンプル１０がヒートスプレッダ１に形成され、ヒートスプレッダ１上に半導体素子２が載置され、半導体素子２とリードフレーム４，５とが電気的に接続され、ヒートスプレッダ１がモールド樹脂９で封止された樹脂モールド型の半導体装置である。ディンプル１０の側壁は内方に突き出した返り部を有し、ヒートスプレッダ１に設けられた溝部とディンプル１０とは連通されている。ディンプル１０はリードフレーム４，５に形成されても良い。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ディンプルがヒートスプレッダに形成され、該ヒートスプレッダ上に半導体素子が載置され、該半導体素子とリードフレームとが電気的に接続され、該ヒートスプレッダがモールド樹脂で封止された樹脂モールド型の半導体装置であって、
該ディンプルの側壁が内方に突き出した返り部を有し、該ヒートスプレッダに設けられた溝部と該ディンプルとが連通したことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
ディンプルがリードフレームに形成され、該リードフレームと半導体素子が電気的に接続され、該リードフレームがモールド樹脂で封止された樹脂モールド型の半導体装置であって、
該ディンプルの側壁が内方に突き出した返り部を有し、該ヒートスプレッダに設けられた溝部と該ディンプルとが連通したことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
上記溝部が、複数の上記ディンプルの間を連通したことを特徴とする請求項１又は２に記載の半導体装置。
【請求項４】
上記溝部の深さが、上記ディンプルの深さと略同程度であることを特徴とする請求項３に記載の半導体装置。
【請求項５】
複数の上記ディンプルが上記半導体素子の周囲に設けられ、該ディンプルと該ディンプルの間を連通する上記溝部が、該半導体素子を囲むことを特徴とする請求項１に記載の半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、樹脂モールド型の半導体装置に関し、特に、リードフレームやヒートスプレッダ等の金属部材とモールド樹脂との密着性を向上させた半導体装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
樹脂モールド型の半導体装置では、リードフレームやヒートスプレッダ等の金属部材がモールド樹脂で封止される。かかる金属部材とモールド樹脂との密着性を向上させるために、その側壁を逆メサ形状として返り部を設けたディンプルを金属部材の表面に形成し、その中にモールド樹脂を充填して、両者の密着性の向上を図っている（例えば、特許文献１）。
【特許文献１】特開平７−２７３２７０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
金属部材とモールド樹脂との密着性を向上させるためにはディンプルの返り部を大きくするのが有効であるが、一方で、返り部の下方にモールド樹脂が充填されないボイドが形成されやすく、かえって接続強度が低下するという問題があった。
また、かかるボイドの発生を抑えるためには高粘度のモールド樹脂が使用できず、生産性が低下するという問題もあった。
更に、真空状態でトランスファモールドを行なう真空モールドではボイドの発生を抑えられるが、真空装置等が必要となり、製造コストが高くなるという問題もあった。
【０００４】
そこで、本発明は、ボイドを形成することなく、モールド樹脂を返り部の下側に充填でき、モールド樹脂と金属部材との密着性を向上させた樹脂モールド型の半導体装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、ディンプルがヒートスプレッダに形成され、ヒートスプレッダ上に半導体素子が載置され、半導体素子とリードフレームとが電気的に接続され、ヒートスプレッダがモールド樹脂で封止された樹脂モールド型の半導体装置である。ディンプルの側壁は内方に突き出した返り部を有し、ヒートスプレッダに設けられた溝部とディンプルとは連通されている。ディンプルはリードフレームに形成されても良い。
【発明の効果】
【０００６】
本発明にかかる樹脂モールド型の半導体装置では、ボイドを形成することなく金属部材に形成したディンプル中にモールド樹脂を充填でき、金属部材とモールド樹脂との密着性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
図１は、全体が１００で表される、本実施の形態にかかる樹脂モールド型半導体装置の断面図である。半導体装置１００は、例えば銅からなるヒートスプレッダ１を含む。ヒートスプレッダ１の上には、ＩＧＢＴ等のパワー半導体チップ２が、はんだ３で接合されている。また、半導体装置１００は、リードフレーム４、５を含む。リードフレーム４は、ヒートスプレッダ１に例えば超音波接合されている。リードフレーム５は、アルミニウムワイヤ６により、パワー半導体チップ２に接続されている。ヒートスプレッダ１は、例えばエポキシ樹脂からなる絶縁シート７の上に搭載されている。絶縁シート７の裏面には、例えば銅からなる保護膜８が設けられている。
【０００８】
ヒートスプレッダ１等は、トランスファモールド法を用いて、例えばエポキシ樹脂からなるモールド樹脂９で封止されている。絶縁シート７と保護膜８もヒートスプレッダ１と同時に封止され、モールド樹脂９の底面に保護膜８が露出した構造となっている。
【０００９】
なお、トランスファモールド法でヒートスプレッダ１を樹脂封止した後に、ヒートスプレッダ１の裏面に絶縁シート７を取り付けることも可能である。
【００１０】
半導体装置１００では、更に、ヒートスプレッダ１の表面に、複数のディンプル１０が設けられている。
図２は、ヒートスプレッダ１上に設けられた複数のディンプル１０の上面図である。また、図３は、図２に含まれる１つのディンプル１０の斜視図であり、図４は、図３をIII−III方向に見た場合の断面図である。。
【００１１】
図２〜４に示すように、ディンプル１０は、第１底部１１と、第１底部１１より深さの深い第２底部１２とを含む。図４に示すように、第１底部１１は逆メサ形状で第２底部１２から立ち上がり、ディンプル１０の側壁から内方に突出した返り部１３を形成している。
また、隣接するディンプル１０の間は、溝部１４により連通されている。溝部１４の深さは、第２底部１２と同程度である。
【００１２】
本実施の形態にかかる半導体装置１００では、ヒートスプレッダ１の表面に、返り部１３を有するディンプル１０が複数個設けられているとともに、隣接するディンプル１０間は溝部１４で接続されている。
かかる構造では、トランスファモールド法でヒートスプレッダ１を樹脂封止する場合、返り部１３の下側にボイド（空気たまり）が発生しても、溝部１４を通ってディンプル１０の外にボイドを逃がすことができる。この結果、返り部１３の下側にも、ボイドを発生させることなくモールド樹脂が充填でき、ヒートスプレッダ１とモールド樹脂９との密着性を向上させることができる。
【００１３】
なお、リードレーム４がヒートスプレッダ１に超音波溶接される場合には、リードフレーム４が、ヒートスプレッダ１の表面に形成されたディンプル１０上に溶接されるのが好ましい。ディンプル１０が形成されたヒートスプレッダ１の表面は、超音波溶接の初期接触面積が小さいため、接続性が向上するためである。
【００１４】
なお、溝部１４の深さは、トランスファモールド法に用いるモールド樹脂の粘度との関係で、返り部１３の下側に発生したボイドを逃がせるような深さであれば、第２底部１２と同程度でなくても良い。
【００１５】
また、ここでは、トランスファモールド法を用いた場合について説明したが、インジェクションモールド法を用いた場合でも同様の効果を得ることが出来る。更に、樹脂のコストが安価であるため、半導体装置１００の低コスト化に寄与することができる。
【００１６】
次に、図５〜７を用いて、本実施の形態にかかるディンプル１０の形成方法について簡単に説明する。なお、図５〜７は、図３のIII−IIIと同じ方向に見た場合の断面図である。
【００１７】
まず、図５に示すように、平坦な表面を有するヒートスプレッダ１を準備する。第１金型５０がヒートスプレッダ１の表面上に配置され、第１金型５０でヒートスプレッダ１をプレスする。
【００１８】
図６に、第１金型５０を用いたプレス加工により形成した凹部１５を示す。凹部１５の底面は第２底面１２となる。
【００１９】
次に、図７に示すように、第１金型５０より幅の広い第２金型５１が、ヒートスプレッダ１に形成された凹部１５上に配置され、第２金型５１でヒートスプレッダ１をプレスする。第２金型５１で形成される凹部の深さは凹部１５より浅く、第２金型５１の底面で、第１底面１１が形成される。
【００２０】
以上の工程により、図４に示すような断面を有するディンプル１０が形成される。図４からわかるように、第２金型５１を用いてプレスする工程で、第１底面１１の端部が内方に突き出る。この結果、第２底面１２から側壁が逆メサ状に立ち上がり、ディンプル１０の側壁から内方に突出した返り部１３が形成される。
【００２１】
かかるディンプル１０を用いることにより、返り部１３の下側にモールド樹脂９が充填され、いわゆるアンカー効果により、ヒートスプレッダ１とモールド樹脂９との密着性が向上する。例えば、半導体装置の使用中や周囲の温度変化により、ヒートスプレッダ１とモールド樹脂９とを剥がすような応力が負荷されても、返り部１３の下側に入り込んだモールド樹脂９により、両者の剥離が防止できる。
【００２２】
また、溝部１４も、ディンプル１０と同様に、プレス加工により形成される。プレス加工において、順送金型を用いれば、誤差が数１０μｍ以下の精度で溝部１４の形成が可能となる。
溝部１４の形成は、ディンプル１０のプレス加工と別に行なってもよく、また同時に行なっても良い。
【００２３】
図８は、本実施の形態にかかる半導体装置１００に含まれる他のディンプル２０の断面図である。図８のディンプル２０では、凹部が１つの底部２１を含み、底部２１から側壁が逆メサ状に立ち上がり、内方に突出した返り部２２を形成している。
【００２４】
かかるディンプル２０は、図６のようにプレス加工でヒートスプレッダ１に凹部を形成した後、ヒートスプレッダ１の表面全体を再度プレスすることにより返り部２２を形成して作製する。
【００２５】
ディンプル２０においても、返り部２２の下部にモールド樹脂が充填され、ヒートスプレッダ１とモールド樹脂９との密着性が向上する。
【００２６】
なお、ディンプル１０の構造に対して更にプレス加工を行い、第３底部を有するディンプルとしても良い。かかる構造では、返り部が２段に形成され、ヒートスプレッダ１とモールド樹脂９との密着性を更に向上させることができる。
【００２７】
図９は、本実施の形態にかかるディンプルの他の配置を示す上面図である。図９では、ヒートスプレッダ１の上に載置されたパワー半導体チップ３０を囲むように複数のディンプル１０が設けられている。また、ヒートスプレッダ１には溝部１４が３重に形成され、かかる溝部１４により、隣接するディンプル１０が連通するように接続されている。溝部１４は、パワー半導体チップ３０の各辺に略平行に配置されている。
【００２８】
パワー半導体チップ３０をヒートスプレッダ１にはんだで接合する場合、はんだが周囲に流れることがある。これに対して、パワー半導体チップ３０を囲むように溝部１４を形成すると、溝部１４にはんだが達した場合でも、溝部１４の端部で濡れ角が略９０度となるため、更にはんだが流れるのを防止できる。例え溝部１４にはんだが流れ込んだ場合でも、溝部１４が充填されるまで、溝部１４から外部にはんだは広がらない。
【００２９】
このように、パワー半導体チップ３０を溝部１４で囲むことにより、はんだの広がりを防止できる。図９のように、溝部１４を３重に設けることにより、はんだの広がり防止をより確実にできる。なお、溝部１４は、３重以外の数で設けても構わない。
【００３０】
本実施の形態では、ヒートスプレッダ１にディンプル１０を設ける場合について説明したが、モールド樹脂９で封止される、例えばリードフレームのような他の金属部材にディンプル１０を設けても良い。
【００３１】
また、ヒートスプレッダ１等の金属部材上に形成されるディンプル１０の数や配置は、金属部材とモールド樹脂９との間に必要とされる強度に応じて、適宜選択することができる。
【００３２】
また、ディンプル１０に接続される溝部１４の数は、ディンプル１０の配置等に基づき適宜選択できるが、少なくとも１つの溝部１４がディンプル１０に接続するように設けることにより、ボイドの排除効果を得ることができる。なお、溝部１４は必ずしも複数のディンプル１０間を連通する必要はなく、一端をディンプル１０に接続し、他端にはディンプル１０を設けないことも可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明の実施の形態にかかる半導体装置の断面図である。
【図２】本発明の実施の形態にかかるディンプルの上面図である。
【図３】本発明の実施の形態にかかるディンプルの斜視図である。
【図４】本発明の実施の形態にかかるディンプルの断面図である。
【図５】本発明の実施の形態にかかるディンプルの製造工程の断面図である。
【図６】本発明の実施の形態にかかるディンプルの製造工程の断面図である。
【図７】本発明の実施の形態にかかるディンプルの製造工程の断面図である。
【図８】本発明の実施の形態にかかる他のディンプルの断面図である。
【図９】本発明の実施の形態にかかる他のディンプルの上面図である。
【符号の説明】
【００３４】
１  ヒートスプレッダ、２  パワー半導体チップ、３  はんだ、４、５  リードフレーム、６  アルミニウムワイヤ、７  絶縁シート、８  保護膜、９  モールド樹脂、１０  ディンプル、１１  第１底部、１２  第２底部、１３  返り部、１４  溝部、１５  凹部、１００  半導体装置。
【図１】
2005191178.tif 000003
【図２】
2005191178.tif 000004
【図３】
2005191178.tif 000005
【図４】
2005191178.tif 000006
【図５】
2005191178.tif 000007
【図６】
2005191178.tif 000008
【図７】
2005191178.tif 000009
【図８】
2005191178.tif 000010
【図９】
2005191178.tif 000011