(57)【要約】【課題】  水洗等で触媒被毒成分を除去できる再生可能な光触媒フィルターを搭載した大風量処理かつメンテナンス性を向上させた空気浄化システムを提供する。【解決手段】  ガスを加湿するための湿式除塵装置１００と、湿式除塵装置１００で処理されたガス中の成分を光触媒反応によって浄化する光触媒脱臭装置２００と、を備えた空気浄化システムである。光触媒脱臭装置２００の光触媒ユニット２３０は、ガスの流路を形成する処理容器２３１と、処理容器２３１内に配置され、三次元セラミックス多孔質基材に光触媒を担持させて形成された光触媒フィルター２３１ｂと、処理光を光触媒フィルター２３１ｂに対して照射する光源２３１ｃと、光触媒フィルター２３１ｂを洗浄するためのフィルター洗浄液を処理容器２３１ａ内に導入する洗浄液導入部２３１ｅ，２３１ｆと、を備えている。【選択図】  図４
2005205094.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理対象のガス中に含まれる塵を除去するとともに処理対象のガスを加湿するための湿式除塵装置と、該湿式除塵装置で処理されたガス中の成分を光触媒反応によって分解するための光触媒脱臭装置と、を備えた空気浄化システムであって、
前記光触媒脱臭装置は、
前記湿式除塵装置で処理がされたガスを導入するガス導入部と、光触媒反応で処理されたガスを排出するガス排出部と、前記ガス導入部から導入された処理対象のガスが前記ガス排出部に至るまでの間に設けられた光触媒ユニットと、を有して構成され、
前記光触媒ユニットは、
処理対象のガスの流路を形成する処理容器と、該処理容器内に配置され、三次元セラミックス多孔質基材に光触媒を担持させて形成された光触媒フィルターと、光触媒反応を誘起する処理光を前記光触媒フィルターに対して照射する光源と、前記光触媒フィルターを洗浄するためのフィルター洗浄液を前記処理容器内に導入する洗浄液導入部と、を備えていることを特徴とする空気浄化システム。
【請求項２】
前記光源を覆うカバー体を備え、該カバー体が前記処理光を透過する材料で形成されたことを特徴とする請求項１に記載の空気浄化システム。
【請求項３】
前記光源と前記カバー体との間に冷却風を通過させるための通風路を設けたことを特徴とする請求項２に記載の空気浄化システム。
【請求項４】
前記通風路に冷却風を送風する冷却ファンを備えたことを特徴とする請求項３に記載の空気浄化システム。
【請求項５】
前記光源は紫外線を照射するとともに、前記光源が前記光触媒フィルターに対して少なくとも強度が３ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を照射するように前記光触媒フィルター及び前記光源が配置されたことを特徴とする請求項３または請求項４に記載の空気浄化システム。
【請求項６】
前記ガス流路に面する前記処理容器の内壁面に光触媒が配設されていることを特徴とする請求項１ないし請求項５のうちいずれか１つに記載の空気浄化システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は空気浄化システムに係り、特に空気中の臭気物質や有害物質を分解除去する光触媒担持フィルターを搭載した空気浄化システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
分子量が空気の分子量と同等ないしはそれ以上であり、常温において、ある程度の蒸気圧を持つ物質は大気成分や一酸化炭素を除いて臭気を持つと言われている。そのような臭気を除去するにしても、その対象となる空気はタバコ・厨房などの生活臭、生ごみ、下水、トイレ（排泄物）、畜産農業等の自然発生的なものと、各種工場等から排出されるようなガスとその範囲は広い。工場などから排出されるようなガスは悪臭防止法およびＰＲＴＲ法などにより排出規制が設けられ、工場ごとに対策が検討されているケースが多い。ただし、このような場合悪臭とされる原因物質がある程度明確である場合が多く、その原因物質を除去することで対策も立てやすい。これに対し、自然発生的なものに関しては原因物質が多岐に渡っていることが多く単純に除去するのは難しい。
【０００３】
現在行われている脱臭法には、燃焼法、吸着法、洗浄法、生物処理法、オゾン酸化法、触媒酸化法などがあり、対象とする物質の組成や濃度により様々な方法が採用されている。処理法は除去対象となる物質の種類、濃度、温度、湿度、風量によって適する方法が異なり、さらにユーティリティーの有無、設置場所、設置面積、規制値、コスト、廃熱蒸気温水の利用の可否、回収再利用の可否、その他諸条件によって最適な処理方法が異なるので選定を行う際には十分な検討が必要となる。
【０００４】
本発明に係る技術の中心技術である光触媒法も様々な商品が開発、製品化されているが、光触媒フィルターとして使用されているものは、酸化チタンと活性炭等の吸着剤をすき込んだペーパーハニカムタイプが多い。しかしながら、このフィルターは一般家庭レベルの脱臭には十分対応できる性能は有してはいるが、化学工場や病院施設、下水処理場、畜産事業所、ごみ処理場、生ごみ減容機、食品工場などといった業務用の脱臭を目的として使用する際は、多くの場合、現場における臭気の発生量が非常に多いことから、フィルターに担持している活性炭の吸着サイトがすぐに飽和してしまうといった問題点があった。光触媒反応が活性炭の吸着速度に対し同等の速度で反応するのであれば良いのであるが、実際にはそれほど速くはない。また反応速度を向上させる為にフィルターに担持させる酸化チタンの量を増やし表面積を大きくすることが考えられるが、基板が紙である為大幅な増加は期待できない。また、フィルター表面に付着、あるいは吸着された高濃度の有機溶剤等の除去についても、加熱処理による燃焼処理が出来ないため結果的に交換しなくてはならない状況となってしまう。
【０００５】
また、光触媒フィルター劣化の原因には触媒被毒の存在が挙げられる。ＮＯＸ等の窒素酸化物、アンモニア、アミン類などの含窒化合物、ＳＯＸ等の硫黄酸化物、硫化水素、メチルメルカプタン、硫化メチル、二硫化メチルなどの含硫化合物などは、光触媒反応では反応効率が良い反面、反応生成物である硝酸塩や硫酸塩等の物質がフィルター上に触媒被毒として堆積してしまうため、光触媒フィルターの性能劣化の原因となってしまうという問題点があった。
【０００６】
本発明の特許出願人等は、この実用上の問題点を解決した吸着剤・添着剤無配合で、水洗等で被毒成分を除去できる再生可能なフィルター（特許文献１参照）を開発した。
【０００７】
【特許文献１】特開２００３−０５３１９４号公報（第２−５頁、図１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
光触媒法の利点として挙げられるものに、無機化合物、有機化合物どちらのガスに対してもある程度オールマイティに分解除去活性を示すという点がある。しかしながら、既存の光触媒技術では悪臭の大風量処理を考えたとき、高いワンパス除去率を達成させるために大量にフィルターを必要とする点、光触媒フィルターの通過速度を落としてゆっくり通過させ反応効率を上げなければならないなどという点が問題となり、どうしても装置が大きくなりすぎる欠点があった。しかも、その心臓部とも言える光触媒フィルター部分に除去性能が不足しているという問題点もさることながら、前述のように触媒被毒成分が堆積した場合、光触媒フィルターを洗浄又は交換しなければならなくなり、そのメンテナンスコストが莫大になってしまうといった問題があった。
【０００９】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであって、水洗等で触媒被毒成分を除去できる再生可能な光触媒フィルターを搭載した大風量処理かつメンテナンス性を向上させた空気浄化システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の空気浄化システムは、処理対象のガス中に含まれる塵を除去するとともに処理対象のガスを加湿するための湿式除塵装置と、該湿式除塵装置で処理されたガス中の成分を光触媒反応によって分解するための光触媒脱臭装置と、を備えた空気浄化システムであって、前記光触媒脱臭装置は、前記湿式除塵装置で処理がされたガスを導入するガス導入部と、光触媒反応で処理されたガスを排出するガス排出部と、前記ガス導入部から導入された処理対象のガスが前記ガス排出部に至るまでの間に設けられた光触媒ユニットと、を有して構成され、前記光触媒ユニットは、処理対象のガスの流路を形成する処理容器と、該処理容器内に配置され、三次元セラミックス多孔質基材に光触媒を担持させて形成された光触媒フィルターと、光触媒反応を誘起する処理光を前記光触媒フィルターに対して照射する光源と、前記光触媒フィルターを洗浄するためのフィルター洗浄液を前記処理容器内に導入する洗浄液導入部と、を備えていることを特徴とする。
【００１１】
請求項１に記載の空気浄化システムによれば、処理対象のガスを加湿する湿式除塵装置を備えることで、光触媒脱臭装置に加湿されたガスを導入することができ、光触媒脱臭装置での光触媒反応を効率化することが可能となる。また、洗浄液導入部を備えているため、処理容器内の光触媒フィルターを洗浄することが可能となる。
【００１２】
請求項２に記載の空気浄化システムは、請求項１に記載の空気浄化システムにおいて、前記光源を覆うカバー体を備え、該カバー体が前記処理光を透過する材料で形成されたことを特徴とする。
このように光源を覆うカバー体を備えることで、光源がフィルター洗浄液にさらされることを防止することが可能となる。
【００１３】
請求項３に記載の空気浄化システムは、請求項２に記載の空気浄化システムにおいて、前記光源と前記カバー体との間に冷却風を通過させるための通風路を設けたことを特徴とする。
このように構成することにより、光源を空冷することが可能となる。
【００１４】
請求項４に記載の空気浄化システムは、請求項３に記載の空気浄化システムにおいて、前記通風路に冷却風を送風する冷却ファンを備えたことを特徴とする。
このように構成することにより、光源をより効果的に空冷することが可能となる。
【００１５】
請求項５に記載の空気浄化システムは、請求項３または請求項４に記載の空気浄化システムにおいて、前記光源は紫外線を照射するとともに、前記光源が前記光触媒フィルターに対して少なくとも強度が３ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を照射するように前記光触媒フィルター及び前記光源が配置されたことを特徴とする。
このように構成することにより、短時間で多量の空気を浄化することが可能となる。
【００１６】
請求項６に記載の空気浄化システムは、請求項１ないし請求項５のうちいずれか１つに記載の空気浄化システムにおいて、前記ガス流路に面する前記処理容器の内壁面に光触媒が配設されていることを特徴とする。
このように構成することにより、処理容器の内壁面にカビや藻が繁殖することを抑えることが可能となる。また、処理容器の内壁面に付着した微量のガス成分を分解することが可能となる。
【発明の効果】
【００１７】
この発明によると、湿式除塵装置で処理されたガス中の成分を光触媒反応によって分解するための光触媒脱臭装置を備え、さらに、光触媒フィルターを洗浄するためのフィルター洗浄液を光触媒脱臭装内に導入する洗浄液導入部を備えているため、本システムが大型のものであっても、効率的に空気の浄化を行うことができるとともに、維持管理費が安価に抑えられる利点がある。このため、化学工場や病院施設、下水処理場、畜産事業所、ごみ処理場、生ゴミ減容機、食品工場等の脱臭等で求められる悪臭ガスの除去に対する環境浄化用の空気浄化システムとして活用が期待される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下に、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、以下に説明する部材，部材の配置等は本発明を限定するものでなく、本発明の趣旨の範囲内で種々改変することができるものである。
【００１９】
図１は、本実施形態の空気浄化システムの全体構成を示す説明図である。図２は、本実施形態のスクラバーの正面図である。図３は、本実施形態の光触媒ユニットの平面図である。図４は、本実施形態の光触媒ユニットの正面図である。図５は、図３のＡ−Ａ断面説明図である。図６は、本実施形態の要部断面説明図である。
【００２０】
本実施形態の空気浄化システムＳは、処理対象のガス中に存在する臭気成分等を分解・除去することで脱臭等を行い、空気の浄化を行うための装置である。本実施形態の空気浄化システムＳを用いて、例えば、アンモニア，硫化水素などの無機化合物、低濃度のアルデヒド類、低濃度のプロピオン酸，ノルマル酪酸などの低級脂肪酸類、高濃度の有機化合物等を含む空気の脱臭浄化を行うことが可能である。
【００２１】
図１に示すように、本実施形態の空気浄化システムＳは、スクラバー１００と、光触媒脱臭装置２００と、吸着フィルターボックス３００と、排風ブロワー４００と、洗浄液供給ポンプ５００とを備える。スクラバー１００は、処理対象のガス中に含まれる塵を除去する処理等を行うものであり、本発明の湿式除塵装置に相当する。光触媒脱臭装置２００は、スクラバー１００で処理されたガス中の成分を光触媒反応によって浄化、すなわち臭気ガスの分解を行うためのものである。吸着フィルターボックス３００は、光触媒脱臭装置２００で浄化されたガス中の成分（光触媒脱臭装置２００で発生した中間性生物や未反応であったガス成分）を吸着して捕集する吸着処理を行うためのものである。本実施形態の空気浄化システムＳは、特に大型の空気浄化システムであって、排風ブロワー４００として、最大風量：１００ｍ３／ｍｉｎのものを用いている。
【００２２】
スクラバー１００と光触媒脱臭装置２００は配管１０で接続され、光触媒脱臭装置２００と吸着フィルターボックス３００は配管２０で接続され、吸着フィルターボックス３００と排風ブロワー４００は配管３０で接続されている。排風ブロワー４００を作動させることで、処理対象のガスが、スクラバー１００、配管１０、光触媒脱臭装置２００、配管２０、吸着フィルターボックス３００、配管３０の順に送られる。
【００２３】
スクラバー１００について説明する。
図２に示すように、スクラバー１００は、除塵処理槽１１０と、貯水槽１２０と、配管１２１と、循環ポンプ１２２と、シャワーノズル１２３と、フィラメント１３０と、ミストセパレータ１４０とを備えている。硬質塩化ビニル（ＰＶＣ）製の除塵処理槽１１０に設けられた原ガス導入口１１１から除塵処理槽１１０内に導入されたガスは、除塵処理槽１１０内を通り抜けて除塵処理ガス排出口１１２から排出される。フィラメント１３０及びミストセパレータ１４０は、除塵処理槽１１０内のガスの流路に設けられる。処理対象のガスは、除塵処理槽１１０を通り抜ける間に、除塵処理槽１１０内に配置された二層のフィラメント１３０と、ミストセパレータ１４０とを通過する。本実施形態では、フィラメント１３０としてプラスティックフィラメントを使用し、ミストセパレータ１４０として繊維強化プラスティック（ＦＲＰ）を使用している。
【００２４】
貯水槽１２０には、除塵液が貯留されている。貯水槽１２０の除塵液は、循環ポンプ１２２によって配管１２１に送られる。配管１２１は貯水槽１２０から除塵処理槽１１０内に向けて配置されている。配管１２１のうち除塵処理槽１１０内に位置する部位に複数のシャワーノズル１２３が設けられている。循環ポンプ１２２によって配管１２１に送られた除塵液は、複数のシャワーノズル１２３からフィラメント１３０に向けて噴射される。本実施形態では、シャワーノズル１２３から除塵液を噴射しながら二層のフィラメント１３０で除塵する。ミストセパレータ１４０では、不要なドレン（水滴）が除去される。
【００２５】
本実施形態の空気浄化システムＳには、このように、シャワーノズル１２３から除塵液を噴射しながらフィラメント１３０で除塵することで、単純に除塵すること以外に、流入するガスに除塵液に溶解する成分が含まれていた場合、その成分を捕集することも出来るという利点がある。すなわち、処理対象のガスの濃度が非常に高い場合には、後に詳述する光触媒脱臭装置２００における光触媒分解だけでは処理対象のガス成分を除去しきれないという問題が生じる場合があるが、スクラバー１００に処理対象のガスを通すことで、光触媒脱臭装置２００の処理負担を軽減できる。
【００２６】
除塵液として水道水を用いれば、水溶性の成分を、ある程度除去することができる。本実施形態では、水道水を貯留した水タンク５０が設けられ、水タンク５０から貯水槽１２０への除塵液（水道水）の供給が行われる。
【００２７】
また、除塵液として水道水とともに、又は水道水の代わりに薬液を用いることで、薬液による脱臭を行うことができ、後に詳述する光触媒脱臭装置２００との相乗効果を期待することができる。例えば、アンモニアやトリメチルアミンのようなアルカリ性の臭気成分が流入してくる場合には、除塵液として硫酸や塩酸溶液を使用し、硫化水素やメチルメルカプタン等の酸性の臭気成分が流入する場合には、除塵液として水酸化ナトリウム溶液を使用することができる。あるいは、除塵液として次亜塩素酸ナトリウム溶液を使用して、アンモニア、トリメチルアミン、硫化水素、メチルメルカプタン、硫化メチル、アセトアルデヒド等の成分を、ある程度中和処理することで、ガス中のこれらの成分の濃度調整を行った後に光触媒脱臭装置２００へ処理対象のガスを導入することもできる。本実施形態では、このようにスクラバー１００と光触媒脱臭装置２００を併用することにより脱臭に対する相乗効果が期待できる。
【００２８】
さらに、本実施形態では、処理対象のガスはスクラバー１００で処理されることで、雰囲気が多湿になる。処理対象のガスが多湿になることが、その後の光触媒脱臭装置２００での光触媒反応の活性に影響する。周知のように、光触媒の表面に吸着水が存在していなければ光触媒反応は進行しにくい。つまり、光触媒への表面吸着水などから生成する水酸ラジカルが反応には不可欠である。そこで、本実施形態では、光触媒脱臭装置２００の前段において、処理対象のガスを除塵する際に、併せて多湿にしている。このようにスクラバー１００で多湿になった処理対象のガスに対しては、後述の特別な場合を除いて、除湿処理を施す必要はない。
【００２９】
また、アンモニアや硫化水素などのように水に溶け易い成分の除去に関しては、先にスクラバー１００で処理することで、これらの成分がガス中の水分にある程度溶解した状態で、処理対象のガスが光触媒脱臭装置２００の光触媒フィルターに接触するので、通常の乾燥状態の場合よりフィルター表面に補足される確率が高くなり、これらの成分の除去率向上を向上させることができる。
【００３０】
さらに、光触媒（酸化チタン）の表面に吸着されにくい成分、例えば硫化水素、一酸化炭素、四フッ化炭素といった成分の除去を考えるときも、湿度１００％を超えない高湿度状態で光触媒反応を起こさせることは非常に効果的である。光触媒反応をより効果的に起こさせるには、処理対象のガスに水（水蒸気）、水素、メタン等を添加することがある。例えば、四フッ化炭素の分解反応においては、酸化反応では標準ギブスエネルギーが正の値となるため反応速度は非常に遅い。このため、水を添加することで標準ギブスエネルギーを負の値の方へシフトさせ、酸化分解反応速度を速めることができる。
【００３１】
ただし、特別な場合として、酸化チタン光触媒の表面に吸着し易い物質を除去しようとしたとき、高湿度条件が反応を阻害するような場合がある。揮発性有機化合物、例えば、ホルムアルデヒドやアセトアルデヒド等のように、光触媒の表面に吸着し易い物質を含むガスを浄化するとき、光触媒フィルター表面に大量に水が吸着・付着していると、光触媒の表面のガスが吸着できるサイトが水に覆われているため反応効率が低下してしまう。従って、処理対象のガス中の成分によって、スクラバー１００の運転をある程度制限する必要もある。例えば、循環ポンプ１２２の運転を取りやめ、または、貯水槽１２０から配管１２１に送る除塵液の量を減らして、処理対象のガスの湿度を下げる。
【００３２】
次に、光触媒脱臭装置２００について説明する。
図１に示すように、本実施形態において、光触媒脱臭装置２００は空気浄化システムＳに二基備えられている。光触媒脱臭装置２００は、ガス導入部２１０と、ガス排出部２２０と、二つの光触媒ユニット２３０，２３０を備えている。光触媒ユニット２３０，２３０は、ガス導入部２１０から導入された処理対象のガスがガス排出部２２０に至るまでの間に設けられている。処理対象のガス、すなわち本実施形態では、スクラバー１００で処理された後のガスは、配管１０に導かれて、光触媒脱臭装置２００のガス導入部２１０へ導入される。ガス導入部２１０は、ガス導入口２１１とガス導入路２１２とを備える。配管１０に連結されたガス導入口２１１から導入されたガスが、ガス導入路２１２に導かれて、二つの光触媒ユニット２３０のうちの一方に進入する。
【００３３】
さらに、処理対象のガスは、その一部または全部が一方の光触媒ユニット２３０で光触媒反応によって分解された後、もう一方の光触媒ユニット２３０に進入する。光触媒ユニット２３０，２３０を通過したガスは、ガス排出部２２０へ導かれる。ガス排出部２２０は、ガス排出路２２２とガス排出口２２１を備える。光触媒ユニット２３０，２３０を通過してきたガスは、ガス排出路２２２に導かれて、ガス排出口２２１から光触媒脱臭装置２００の外へ排出され、配管２０へ吐き出される。なお、ガス排出部２２０には、処理するガスの風量を調整するためにダンパ２２３が設けられている。
【００３４】
図３ないし図６に、本実施形態の光触媒ユニット２３０の構成を示している。図３は光触媒ユニット２３０の平面図であり、図４は光触媒ユニット２３０の正面図である。図５は、図３のＡ−Ａ断面図である。図６は、光触媒ユニットの要部断面図である。
なお、図３，図６中に示した破線の矢印は、冷却風の流れ（送風方向）を示している。また、図５中に示した破線の矢印は、処理対象のガスの流れを示している。
【００３５】
図３ないし図６に示すように、光触媒ユニット２３０は、光触媒処理部２３１と、冷却風導入部２３２と、冷却風送出部２３３とで構成されている。
光触媒処理部２３１は、筒状をした処理容器２３１ａと、処理容器２３１ａの内部に配置された光触媒フィルター２３１ｂ，光源ランプ２３１ｃと、光源カバー２３１ｄと、洗浄液供給管２３１ｅと、洗浄液供給ノズル２３１ｆとを備える。
【００３６】
処理容器２３１ａの材質は、種々考えられるが、例えば、鉄（ＳＳ）,ステンレス（ＳＵＳ），繊維強化プラスティック（ＦＲＰ），硬質塩化ビニル（ＰＶＣ）等が用いられる。処理容器２３１ａは、上下に開口２３１ａ１，２３１ａ２を有しており、下方の開口２３１ａ１から処理対象のガスを取り込み、上方の開口２３１ａ２から処理後のガスを排出する。本実施形態では、二基設けられた光触媒ユニット２３０のうちの下側に位置する一基の下方の開口２３１ａ1が、ガス導入部２１０のガス導入路２１２と連通している。また、二基設けられた光触媒ユニット２３０のうちの下側に位置する一基の上方の開口２３１ａ2が、もう一基の光触媒ユニット２３０の下方の開口２３１ａ１と連結している。また、二基設けられた光触媒ユニット２３０のうちの上側に位置する一基の上方の開口２３１ａ2が、ガス排出部２２０のガス排出路２２２と連通している。このように構成されることで、処理対象のガスがガス導入部２１０，下側の光触媒ユニット２３０，上側の光触媒ユニット２３０，ガス排出部２２０を、この順に通過する。
【００３７】
さらに、本実施形態の光触媒ユニット２３０は、処理容器２３１ａの内壁面に光触媒を配設している。本実施形態では、光触媒として酸化チタンの薄膜を処理容器２３１ａの内壁面にコーティングしている。なお、処理容器２３１ａ内壁面への酸化チタンのコーティングは、金属アルコキシド・二酸化チタン液を塗工した後に乾燥・凝固させた膜を形成することで行っている。
【００３８】
上述のように本実施形態では、スクラバー１００を使用したり、後述のように洗浄液供給管２３１ｅ及び洗浄液供給ノズル２３１ｆを設けて光触媒ユニット２３０内で光触媒フィルター２３１ｂを洗浄したりするため、処理容器２３１ａの内部が多湿である場合が多い。このため、処理容器２３１ａの内壁にカビや藻などが発生する心配がある。そこで、本実施形態では、処理容器２３１ａの内壁面に光触媒をコーティングすることで、カビや藻の繁殖を抑えている。このことは、空気浄化システムＳ全体のメンテナンスを考慮する上で非常に有利となる。また、このように処理容器２３１ａの内壁面に光触媒のコーティングを施すことで、処理容器２３１ａの内壁面に付着した微量のガス成分を分解することが可能となる。
【００３９】
光触媒フィルター２３１ｂは、処理容器２３１ａ内で、上下方向に多層に配置されている。図示の例では、光触媒フィルター２３１ｂが四層であるが、四層に限らずそれよりも多く、または少なく積層してもよい。一層だけにしてもよい。各層の光触媒フィルター２３１ｂは、処理容器２３１ａの内壁面に設けられている棚状の部位に架設される。本実施形態では、複数層の光触媒フィルター２３１ｂが、上下方向に所定間隔をおいて架設されている。処理容器２３１ａの下方の開口２３１ａ１から取り込まれた処理対象のガスは、これらの光触媒フィルター２３１ｂを通過して、処理容器２３１ａの上方の開口２３１ａ2から排出される（図５参照）。
【００４０】
本実施形態の光触媒フィルター２３１ｂは、セラミック質の多孔性基材に、光触媒を担持させたもので形成されている。より詳しくは、炭化珪素質の骨格多孔体にアルミナ質の膜を形成した多孔性基材に、光触媒である酸化チタンを塗工したものである。この多孔性基材は、発泡体に炭化珪素スラリーを含浸させてから乾燥させ、この乾燥後の未焼成の骨格多孔体にアルミナスラリーを塗工して乾燥させた後、これら炭化珪素及びアルミナを同時焼成することで形成する。このように形成した多孔性基材に金属アルコキシド・二酸化チタン液を塗工した後に、乾燥・凝固させた酸化チタン膜を、２５０℃から６００℃の高温で焼成することで、本実施形態の光触媒フィルター２３１ｂを得る。
【００４１】
本実施形態の光触媒フィルター２３１ｂの利点として、以下の点等が挙げられる。
１．セラミック質の多孔性基材がポーラスで骨格の表面積が大きいため自在に酸化チタン量をコントロールできる。
２．触媒被毒の堆積により性能が劣化しても水洗浄により機能を復帰させることができる。
３．セラミック基材が不燃性であるため、光源ランプ２３１ｃとの距離を近づけることができる。
４．空孔率が８０〜９０％と非常に高く通気抵抗が極めて小さい。
５．セラミック質の多孔性基材の骨格がアトランダムに存在するため流体との接触効率が良い。
【００４２】
光源ランプ２３１ｃは、本発明の光源に相当する。本実施形態の光源ランプ２３１ｃは、紫外線を照射する直管形のブラックライト（ピーク波長３５２ｎｍ）である。本実施形態では４Ｗ〜４０Ｗのブラックライトを使用する。光触媒フィルター２３１ｂの表面に、できるだけ均一に紫外線を照射するように、各層の光触媒フィルター２３１ｂの上下に複数本の光源ランプ２３１ｃを配置している。なお、図示の例では、最上層の光触媒フィルター２３１ｂに対しては、その下方のみに光源ランプ２３１ｃを備えている例を示しているが、上方にも光源ランプ２３１ｃを備えるように構成してもよい。
【００４３】
上述のように、本実施形態では、セラミック質の多孔性基材に酸化チタンを主成分とした光反応性半導体を被覆した不燃性の光触媒フィルター２３１ｂを用いているため、光触媒フィルター２３１ｂと光源ランプ２３１ｃとの距離を接近させることができる。従来の紙性の光触媒フィルターを用いた場合、光触媒フィルターと光源の距離を７ｃｍ〜１０ｃｍに広げて、紙性の光触媒フィルターが不必要に発熱しないように配慮していた。このため、このときのＵＶ−Ａ（波長３１５ｎｍ〜４００ｎｍ）の紫外線強度は、光触媒フィルターの表面で１〜１．５ｍＷ／ｃｍ２程度と非常に低い値となっていた。
【００４４】
光触媒反応は表面に吸着された物質を光触媒（酸化チタン等）の酸化分解力で分解していく。吸着剤を配合していない光触媒フィルターでは、光触媒表面の持つ吸着力だけで吸着と分解のバランスを取っている。この時、吸着サイトがほぼ飽和した状態（吸着平衡が保たれた状態）で分解反応が進行するのだが、反応速度を向上させるには吸着サイトに空きを持たせることが必要不可欠となる。この光触媒表面の状態は光量により律速となっているので、この時の分解力を司る因子は光量といえる。つまり、光量が強ければ強いほど光触媒反応速度が向上するということである。
【００４５】
本実施形態では、光触媒フィルター２３１ｂと光源ランプ２３１ｃの距離を従来に比べて縮めることで、フィルター表面でのＵＶ−Ａの紫外線強度を３ｍＷ／ｃｍ２以上の領域に引き上げている。すなわち、光触媒フィルター２３１ｂと光源ランプ２３１ｃの距離を１ｃｍ〜５ｃｍとすることで、光触媒フィルター２３１ｂと光源ランプ２３１ｃの高集積化を行い、フィルター表面に３ｍＷ／ｃｍ２以上の強度のＵＶ−Ａの紫外線を照射可能な構成としている。これにより、本実施形態の空気浄化システムＳは、短時間で多量の空気を浄化可能となっている。
【００４６】
上記のように光触媒フィルター２３１ｂと光源ランプ２３１ｃを高集積化することで、光源ランプ２３１ｃ（光源の接点部分や蛍光灯安定器等電気部品等）が不必要に発熱してしまわないように、本実施形態では、後述のように、光源カバー２３１ｄ，冷却風導入部２３２と、冷却風送出部２３３を備える構成としている。
【００４７】
光源カバー２３１ｄは、本発明のカバー体に相当する。光源カバー２３１ｄは、紫外線を透過する素材を円筒状に形成したものである。光源カバー２３１ｄの素材としては光源ランプ２３１ｃが発する紫外線をある程度透過し、かつ後述の光触媒フィルター２３１ｂの洗浄時等に光源ランプ２３１ｃを保護するのに十分な強度を備えるものであれば特に材質は選ばない。望ましくは、光源ランプ２３１ｃが発する紫外線を７０％以上透過するものがよい。円筒状に加工をするなど、様々な形状に加工することを考慮すると、軟質ガラス、高純度石英ガラス、テフロン（登録商標）等のフッ素系樹脂などのように成型しやすいものが望ましい。光源カバー２３１ｄの両端部は、処理容器２３１ａの壁面に設けられた穴に挿入される。そして、処理容器２３１ａの外壁面に固定された固定板５と、Ｏリング６と、固定フランジ７とを用いて、処理容器２３１ａの内外の気密を保った状態で固定される。
【００４８】
光源カバー２３１ｄは、光源ランプ２３１ｃの設置位置に合わせて、複数本設置され、円筒状に形成された光源カバー２３１ｄの筒の内側に、光源ランプ２３１ｃが挿入される。処理容器２３１ａの外壁面に固定された固定板５には、光源ランプに電力を供給する電極ソケット８が固定されている。光源ランプ２３１ｃは、この電極ソケット８に支えられた状態で、光源カバー２３１ｄの筒の内側に設置される。
【００４９】
本実施形態では、光源カバー２３１ｄの両端が開口していて、処理容器２３１ａの外側の空間と、円筒状をした光源カバー２３１ｄの筒の内側とが連通している。また、円筒状の光源カバー２３１ｄの内径を、光源ランプ２３１ｃの外形よりも十分に広く設計している。このような構成によって、処理容器２３１ａの外側の空気が、光源カバー２３１ｄの内壁面と光源ランプ２３１ｃとの間に進入できるようにしているため、光源ランプ２３１ｃを空冷することができる。なお、光源カバー２３１ｄの内壁面と光源ランプ２３１ｃとの間の空間が、本発明の通風路に相当する。
【００５０】
洗浄液供給管２３１ｅ及び洗浄液供給ノズル２３１ｆは、光触媒フィルター２３１ｂを洗浄するためのフィルター洗浄液を、処理容器２３１ａ内に導入するために設けられているものであり、本発明の洗浄液導入部に相当する。本実施形態の洗浄液供給管２３１ｅは、処理容器２３１ａ内に設けられ、光触媒フィルター２３１ｂの上方の位置に網目状に配管されている。洗浄液供給管２３１ｅは管状の部材であり、管の内部にフィルター洗浄液を通す。洗浄液供給ノズル２３１ｆは、洗浄液供給管２３１ｅに連結され、洗浄液供給管２３１ｅ内のフィルター洗浄液を下方へ噴射するものである。洗浄液供給ノズル２３１ｆは、フィルター洗浄液が、下方の光触媒フィルター２３１ｂの表面に均一に噴射されるように、適宜の間隔をおいて複数設置されている。なお、フィルター洗浄液は、洗浄液供給ポンプ５００から洗浄液輸送管５０１を介して送出され、洗浄液輸送管５０１と連結された洗浄液供給管２３１ｅ内に輸送される。本実施形態では、フィルター洗浄液として水道水を用いている。図１に示した例では、水道水を貯留した水タンク５０が設けられ、洗浄液供給ポンプ５００は、水タンク５０の水道水を洗浄液輸送管５０１へ送出する構成である。
【００５１】
なお、本実施形態の洗浄液供給管２３１ｅは、光触媒フィルター２３１ｂの上方の位置に網目状に配管され、洗浄液供給ノズル２３１ｆからフィルター洗浄液を下方へ噴射するものであるが、洗浄液供給管２３１ｅを光触媒フィルター２３１ｂの下方位置にも配管し、洗浄液供給ノズル２３１ｆからフィルター洗浄液を上方へ噴射するように構成してもよい。
【００５２】
光触媒反応で臭気ガスの分解除去をおこなう場合、有機性のガスであれば、基本的に水と二酸化炭素まで酸化する過程をたどるので、光触媒フィルター２３１ｂが被毒等により汚染される心配は少ないが、前述のように、ＮＯＸ等の窒素酸化物、アンモニア、アミン類などの含窒化合物、ＳＯＸ等の硫黄酸化物、硫化水素、メチルメルカプタン、硫化メチル、二硫化メチルなどの含硫化合物などは、光触媒反応においては反応効率が良い反面、反応生成物である硝酸塩や硫酸塩等の物質がフィルター上に触媒被毒として堆積してしまい性能劣化の原因となる。このため、光触媒フィルター２３１ｂを洗浄によりメンテナンスする必要がある。
【００５３】
光触媒脱臭装置の規模が小さいものであれば、光触媒フィルター２３１ｂを取り出して逐一洗浄メンテナンスをおこなうことも考えられるが、処理風量を大きくした大型の光触媒脱臭装置の場合には、光触媒フィルター２３１ｂを取り出しての洗浄作業は、面倒であり、作業時間が膨大にかかってしまうという問題が生じる。また、洗浄後のフィルター乾燥についても乾燥機等を使用しない限り、天日干しでは数日要する。
【００５４】
そこで、本実施形態では、光触媒ユニット２３０に洗浄液供給管２３１ｅ及び洗浄液供給ノズル２３１ｆを搭載し、光触媒脱臭装置２００を連続運転させて光触媒フィルター２３１ｂの性能が劣化した際に、光触媒フィルター２３１ｂを光触媒ユニット２３０に搭載したままで光触媒フィルター２３１ｂを洗浄できる構成としている。この構成にしたことで、洗浄メンテナンスに要する時間の短縮が達成される。また、光触媒フィルター２３１ｂを洗浄した後の乾燥に関しても、光源ランプ２３１ｃを点灯させつつ排風ブロワー４００を稼動させて風をフィルター表面にあてることで、光触媒フィルター２３１ｂの乾燥時間を短縮することができる。なお、洗浄頻度、洗浄時間については対象物質や汚染度合によって適時調整するものとする。
【００５５】
さらに、光触媒フィルター２３１ｂの洗浄作業時は処理容器２３１ａ内がフィルター洗浄液で充満されてしまうので、光源ランプ２３１ｃなどの電装部分が処理容器２３１ａ内に剥き出しになっていると電装部分が濡れることで空気浄化システムの故障等の原因となってしまう。この対策として、本実施形態の光触媒ユニット２３０は、上述のように光源ランプ２３１ｃを紫外線透過型の光源カバー２３１ｄの管内に挿入して、光源ランプ２３１ｃが処理容器２３１ａの内部を流れるフィルター洗浄液と接触しないように構成されている。
【００５６】
冷却風導入部２３２及び冷却風送出部２３３は、光源ランプ２３１ｃの効果的な冷却のために設けられている。冷却風導入部２３２は、処理容器２３１ａの外側で、光源カバー２３１ｄの一端側に設置される。冷却風送出部２３３は、処理容器２３１ａを挟んで冷却風導入部２３２と反対側に設置される。
冷却風導入部２３２は、冷却風導入室２３２ａと、冷却ファン２３２ｂで構成される。冷却風導入室２３２ａは、光源カバー２３１ｄの開口に面する空間を囲うケーシングで形成されている。光源カバー２３１ｄの開口が冷却風導入室２３２ａ内を望んだ状態であって、冷却風導入室２３２ａと光源カバー２３１ｄの開口が連通している。冷却ファン２３２ｂは、冷却風導入室２３２ａのケーシングに設置され、付属のモーター（不図示）を作動させることで、光触媒脱臭装置２００の外部から冷却風導入室２３２ａの内部に外気を導入する。
【００５７】
冷却風送出部２３３は、冷却風送出室２３３ａと、冷却ファン２３３ｂで構成される。冷却風送出室２３３ａは、光源カバー２３１ｄの開口に面する空間を囲うケーシングで形成されている。光源カバー２３１ｄの開口が冷却風送出室２３３ａ内を望んだ状態であって、冷却風送出室２３３ａと光源カバー２３１ｄの開口が連通している。冷却ファン２３３ｂは、冷却風送出室２３３ａのケーシングに設置され、付属のモーター（不図示）を作動させることで、冷却風送出室２３３ａの内部から光触媒脱臭装置２００の外部へ空気を排出する。
【００５８】
本実施形態では、冷却ファン２３２ｂ，２３３ｂに付属したモーターを作動させることで、光触媒脱臭装置２００の外部から冷却風導入室２３２ａの内部へ外気が導入され、導入された外気は冷却風導入室２３２ａから光源カバー２３１ｄの開口を介して光源カバー２３１ｄの内壁面と光源ランプ２３１ｃとの間に進入し、さらに、光源カバー２３１ｄの他端の開口を介して冷却風送出室２３３ａへ抜けて、冷却風送出室２３３ａから光触媒脱臭装置２００の外部へ排出される。これにより、冷却ファン２３２ｂ，２３３ｂの送風力によって、光源ランプ２３１ｃを効果的に空冷することができる。
【００５９】
また、本実施形態では、冷却ファン２３２ｂによって、一旦、冷却風導入室２３２ａに外気を送り込み、各光源カバー２３１ｄの開口を臨む冷却風導入室２３２ａを介して各光源カバー２３１ｄ内に冷却風を送り込み、各光源カバー２３１ｄの他端の開口を臨む冷却風送出室２３３ａを介して外部へ送出している。このように構成することによって、各光源カバー２３１ｄに対して略均一に冷却風を送り込むことが可能になり、冷却風導入部２３２，冷却風送出部２３３を設けない場合に比べて、各光源ランプ２３１ｃをより効率的に冷却することが可能となっている。特に、本実施形態では、冷却ファン２３２ｂ，２３３ｂが送風する方向と、各光源カバー２３１ｄの開口が冷却風導入室２３２ａに望む方向とを交差させている。このため、冷却ファン２３２ｂが送風する冷却風が、一部の光源カバー２３１ｄの開口に対してのみに向けられることを回避して、各光源ランプ２３１ｃを均一に、かつ、より効果的に冷却している。
【００６０】
吸着フィルターボックス３００について説明する。
光触媒脱臭装置２００から排気されたガスは、配管２０に導かれて、吸着フィルターボックス３００に導入される。吸着フィルターボックス３００では、光触媒脱臭装置２００で分解出来なかった成分や中間性生物を、吸着剤で吸着除去する。
【００６１】
図１に示したように、吸着フィルターボックス３００は、ケーシング３０１と、ケーシング３０１内に設けられた吸着剤保持壁３０２とを備える。ケーシング３０１には、吸気口３０１ａと排気口３０１ｂが設けられている。吸気口３０１ａは、配管２０と連通し、光触媒脱臭装置２００から排気されたガスが吸気口３０１ａからケーシング３０１内に導入される。排気口３０１ｂは、配管３０と連通し、ケーシング３０１内で処理されたガスが排気口３０１ｂから配管３０へと排出される。配管３０へ排出されたガスは、排風ブロワー４００で空気浄化システムＳの外へ排気される。
【００６２】
吸着剤保持壁３０２によって、ケーシング３０１内には吸着剤充填室３０３が形成される。吸着剤充填室３０３には吸着剤が充填されている。吸着剤としては、例えば、活性炭やシリカゲル、アルミナゲル、モレキュラーシーブ、活性白土、ゼオライト等の物理吸着剤、イオン交換樹脂、酸性ガス吸着剤、アルカリ性ガス吸着剤、中性ガス吸着剤、スルホン化石灰等の化学吸着剤が、用途に応じて選定される。吸着剤保持壁３０２には、ガスを通過させる通気口が形成され、ケーシング３０１内に導入されたガスが、吸着剤充填室３０３を通過して排気されるように、吸着剤保持壁３０２が設置されている。
【００６３】
次に、上記構成の光触媒脱臭装置２００や空気浄化システムＳを用いて行った実験例を示す。
【００６４】
（実験例１：汚泥処理施設から発生する悪臭の処理）
実験条件を表１に、実験結果を表２に示す。
【表１】
2005205094.tif 000003
【表２】
2005205094.tif 000004
表２が示す通り、低濃度側まで光触媒の分解は有効であり、またアンモニア、硫化物、有機物を問わずに分解していることから汚泥臭には非常に有効であることが証明された。
【００６５】
（実験例２：生ゴミ減容機から発生する悪臭の処理）
この実験については、プラント用装置の小型版として光触媒脱臭装置の前段に除塵用のスクラバーを用いて実験を行った。実験条件を表３に、実験結果を表４に示す。
【表３】
2005205094.tif 000005
【表４】
2005205094.tif 000006
表４の実験結果が示す通り、低濃度側まで光触媒の分解は有効であり、またアンモニア、硫化物、有機物を問わずに分解していることから腐敗臭には非常に有効であることが証明された。
【００６６】
（実験例３：大型光触媒空気浄化システムの試作）
本実験例で用いた、スクラバー１００，光触媒脱臭装置２００（光触媒ユニット２３０），吸着フィルターボックス３００，排風ブロワー４００は、以下の特徴を備える。
（１）スクラバー１００
循環ポンプ１２２：流量最大３３０Ｌ／ｍｉｎ
（２）光触媒ユニット２３０
幅１，６４０ｍｍ×奥行９２０ｍｍ×高さ７００ｍｍ×４基
（３）吸着フィルターボックス３００
場合により活性炭等吸着剤を搭載する。今回の実験では未搭載
（４）排風ブロワー４００
最大風量：１００ｍ３／ｍｉｎ    
【００６７】
本実験例では、一定濃度のアンモニアガス及びアセトアルデヒドを含む臭気ガスを処理対象のガスとして調整し、排風ブロワー４００を風量５０ｍ３／ｍｉｎにて稼動させ、
（測定点１）スクラバー１００通過前、
（測定点３）光触媒脱臭装置２００通過前、
（測定点３）光触媒脱臭装置２００通過後、
の各点において臭気ガスをテドラーバックに採取した。採取したテドラーバック中のガス濃度を１３１２型マルチガスモニター（ＩＮＯＶＡ社製）にて測定した。なお、スクラバー１００の稼動水準は以下の条件で行った。
・スクラバー１００の出力（循環ポンプ１２２での除塵液の循環水量）：
（稼動水準ａ）０Ｌ／ｍｉｎ…スクラバーの影響を考慮しない（但し貯水槽１２０には除塵液が存在する）。
（稼動水準ｂ）１９８Ｌ／ｍｉｎ…除塵用稼動標準値
（稼動水準ｃ）３１７Ｌ／ｍｉｎ…スクラバー１００の最大出力値
【００６８】
本実験でスクラバー１００の出力（循環ポンプ１２２での除塵液の循環水量）を変化させて実験した理由は次のとおりである。すなわち、アンモニアに対するスクラバーによる水洗法は有効であることが一般的に知られているのだが、空気浄化システムＳの場合でのスクラバーにおいて、どの水量の領域がスクラバー１００の稼働（除塵）に適量であるのかを見定める必要があった。このために、スクラバー１００の出力を変化させた。なお、スクラバー１００内の除塵液は装置内での循環のみであり、外部からの水供給をしないで試験を行った。除塵液は水道水である。
【００６９】
まず、本実験におけるアンモニアの除去性能についてみてみる。
図７に、本実験結果のアンモニア濃度推移を示す。この結果より、どの稼動水準ａ〜ｃにおいてもアンモニアの除去が測定下限値以下まで除去できたことが判る。稼動水準ａにおいてもアンモニア濃度が減衰した理由は、スクラバーに貯蔵している水とガスが若干接触した結果と予測できる。また、稼動水準ｂと稼動水準ｃを比較すると、スクラバー１００の出力に比例してアンモニアの除去量が変化している。このことから、空気浄化システムＳにおけるスクラバー１００は除塵用の位置づけでありながらも、ある程度スクラバー１００によるアンモニアの除去効果が見込めることが判った。このことより、アンモニアを除去するケースにおいては、スクラバーによって光触媒ユニット部への負荷が低減され、空気浄化システムＳの性能維持性が向上すると期待できる。光触媒フィルター２３１ｂの洗浄頻繁を適度に保つためにはスクラバー１００と光触媒脱臭装置２００とのバランスを考慮することで、高い除去率を有し、低いランニングコスト性を有した空気浄化システムＳになり得るものと考えられる。
【００７０】
つづいて、本実験におけるアセトアルデヒドの除去性能についてみてみる。
図８に、本実験結果のアセトアルデヒド濃度推移を示す。この結果より、アセトアルデヒドの除去に関しては、スクラバー１００で若干の除去はされているもののトータルの除去をみると、スクラバーを稼動させない稼動水準ａで効率良く除去できていることが判った。この理由として、高湿度条件下においては、光触媒フィルター２３１ｂ表面に多量の水分が吸着してしまい、本来アセトアルデヒド分子が接触・吸着されるサイトが減少してしまったということが考えられる。アセトアルデヒドが水に対してある程度の溶解性を示すことは良く知られているが、スクラバーの稼動によって光触媒部分の除去率が低下していることから、光触媒分解を効率良く行うには、アンモニア除去の際とは反対にスクラバー部分の稼働率を下げながら運転する必要があるように考えられた。
【００７１】
以上に説明した実施形態は、例えば、以下の（ａ）〜（ｆ）のように、改変することもできる。
（ａ）  上記実施形態では、排風ブロワー４００を最後段（吸着フィルターボックス３００の後）に設けたが、この排風ブロワー４００の位置は状況に応じて定めればよい。例えば、スクラバー１００と光触媒脱臭装置２００の間や、光触媒脱臭装置２００と吸着フィルターボックス３００の間に設けてもよい。
（ｂ）  上記実施形態では、処理対象のガスの除塵を行うために、スクラバー１００を設けていたが、処理対象の除塵を行うためのものとしては、バクフィルター等のろ過式の集塵装置、電気集塵式の集塵装置等を用いることもできる。
（ｃ）  上記実施形態では、一基の光触媒脱臭装置２００に対して、光触媒ユニット２３０を二つ設けているが、光触媒ユニット２３０は二つに限らず、三つ、またはそれ以上の設けてもよい。また、光触媒ユニット２３０を一つだけ設けるようにすることもできる。
【００７２】
（ｄ）  上記実施形態では、処理容器２３１ａの内壁面を光触媒でコーティングしていたが、処理容器２３１ａの内側面に光触媒を配設する手段としては、これに限らず、処理容器２３１ａの内側面に光触媒で表面がコーティングされたパネルやシートを設置するようにしてもよい。
（ｅ）  上記実施形態では、光触媒フィルター２３１ｂとして、セラミック質の多孔性基材に、酸化チタンを主成分とした光反応性半導体が被覆されたものを用いた。しかし、光触媒フィルター２３１ｂは、これに限らず、酸化チタン以外の光触媒を用いたものであってもよい。例えば、セラミック質の多孔性基材に、
ガリウムリンや、ガリウム砒素や、硫化カドミウム、チタン酸ストロンチウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化タングステン等を被覆したものを用いてもよい。この場合、光源を適宜変更して、光触媒反応が効率的に行われるような波長の光を発するものを用いる。
（ｆ）  上記実施形態では、光源としてブラックライトを用いたが、光源はこれに限定されるものではない。水銀ランプ、キセノンランプ、ケミカルライト、発光ダイオードを光源とすることもできる。また、光源として、鏡等を利用して太陽光を用いるようにてもよい。
【００７３】
以上に説明した実施形態から把握できる請求項に記載した以外の技術的思想として、例えば以下の技術思想（１）〜（６）がある。
【００７４】
（１）  処理対象のガス中の成分を光触媒反応によって分解するための光触媒脱臭装置であって、処理対象のガスを導入するガス導入部と、処理されたガスを排出するガス排出部と、前記ガス導入部から導入された処理対象のガスが前記ガス排出部に至るまでの間に設けられた光触媒ユニットと、を有して構成され、前記光触媒ユニットは、処理対象のガスの流路を形成する処理容器と、該処理容器内に配置され、三次元セラミックス多孔質基材に光触媒を担持させて形成された光触媒フィルターと、光触媒反応を誘起する処理光を前記光触媒フィルターに対して照射する光源と、前記光触媒フィルターを洗浄するためのフィルター洗浄液を前記処理容器内に導入する洗浄液導入部と、を備えていることを特徴とする光触媒脱臭装置。
（２）  前記（１）に記載の光触媒脱臭装置において、前記光源を覆うカバー体を備え、該カバー体が前記処理光を透過する材料で形成されたことを特徴とする光触媒脱臭装置。
（３）  前記（２）に記載の光触媒脱臭装置において、前記光源と前記カバー体との間に冷却風を通過させるための通風路を設けたことを特徴とする光触媒脱臭装置。
（４）  前記（３）に記載の光触媒脱臭装置において、前記通風路に冷却風を送風する冷却ファンを備えたことを特徴とする光触媒脱臭装置。
（５）  前記（３）または（４）に記載の光触媒脱臭装置において、前記光源は紫外線を照射するとともに、前記光源が前記光触媒フィルターに対して少なくとも強度が３ｍＷ／ｃｍ２の紫外線を照射するように前記光触媒フィルター及び前記光源が配置されたことを特徴とする光触媒脱臭装置。
（６）  前記（１）ないし（５）のうちいずれか１つに記載の光触媒脱臭装置において、前記ガス流路に面する前記処理容器の内壁面に光触媒が配設されていることを特徴とする光触媒脱臭装置。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本実施形態の空気浄化システムの全体構成を示す説明図である。
【図２】本実施形態のスクラバーの正面図である。
【図３】本実施形態の光触媒ユニットの平面図である。
【図４】本実施形態の光触媒ユニットの正面図である。
【図５】図３のＡ−Ａ断面説明図である。
【図６】本実施形態の要部断面説明図である。
【図７】実験結果のアンモニア濃度推移を示す。
【図８】実験結果のアセトアルデヒド濃度推移を示す。
【符号の説明】
【００７６】
５                    固定板
６                    Ｏリング
７                    固定フランジ
８                    電極ソケット
１０，２０，３０      配管
５０                  水タンク
１００                スクラバー
１１０                除塵処理槽
１１１                原ガス導入口
１１２                除塵処理ガス排出口
１２０                貯水槽
１２１                配管
１２２                循環ポンプ
１２３                シャワーノズル
１３０                フィラメント
１４０                ミストセパレータ
２００                光触媒脱臭装置
２１０                ガス導入部
２１１                ガス導入口
２１２                ガス導入路
２２０                ガス排出部
２２１                ガス排出口
２２２                ガス排出路
２２３                ダンパ
２３０                光触媒ユニット
２３１                光触媒処理部
２３１ａ              処理容器
２３１ａ１，２３１ａ２  開口
２３１ｂ              光触媒フィルター
２３１ｃ              光源ランプ
２３１ｄ              光源カバー
２３１ｅ              洗浄液供給管
２３１ｆ              洗浄液供給ノズル
２３２                冷却風導入部
２３２ａ              冷却風導入室
２３２ｂ              冷却ファン
２３３                冷却風送出部
２３３ａ              冷却風送出室
２３３ｂ              冷却ファン
３００                  吸着フィルターボックス
３０１                ケーシング
３０１ａ              吸気口
３０１ｂ              排気口
３０２                吸着剤保持壁
３０３                吸着剤充填室
４００                  排風ブロワー
５００                洗浄液供給ポンプ
５０１                洗浄液輸送管
Ｓ                    空気浄化システム
【図１】
2005205094.tif 000007
【図２】
2005205094.tif 000008
【図３】
2005205094.tif 000009
【図４】
2005205094.tif 000010
【図５】
2005205094.tif 000011
【図６】
2005205094.tif 000012
【図７】
2005205094.tif 000013
【図８】
2005205094.tif 000014