(57)【要約】【課題】  製造適性に優れ、且つ、耐久性と導電安定性とに優れた、高精細の導電性パターン、及び、そのような高精細の導電性パターンを製造適性に優れた簡易な工程で製造しうる導電性パターン形成方法を提供する。製造適性に優れ、且つ、耐久性と導電安定性とに優れた導電性パターンを提供する。【解決手段】  基材表面に、光開裂しうる部位を介して、片末端で共有結合により直接結合してなるグラフトポリマー鎖を有する表面グラフト材料を露光し、露光領域において、光開裂しうる部位を開裂させ、グラフトポリマー鎖を除去してグラフトポリマー鎖の存在領域／不存在領域を形成し、該グラフトポリマー鎖の存在領域に導電性材料を付着させてなることを特徴とする。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材表面に、光開裂しうる部位を介して、片末端で共有結合により直接結合してなるグラフトポリマー鎖を有する表面グラフト材料を露光し、露光領域において、光開裂しうる部位を開裂させ、グラフトポリマー鎖を除去してグラフトポリマー鎖の存在領域／不存在領域を形成し、該グラフトポリマー鎖の存在領域に導電性材料を付着させてなる導電性パターン。
【請求項２】
基材表面に、光開裂しうる部位を介して、片末端で共有結合により直接結合してなるグラフトポリマー鎖を有する表面グラフト材料を露光し、
露光領域において、光開裂しうる部位を開裂させてグラフトポリマー鎖を除去し、グラフトポリマー鎖の存在領域／不存在領域を形成した後、
該グラフトポリマー鎖の存在領域に導電性材料を付着させる、導電性パターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は導電性パターンに関し、特に、単一の回路形成からなる配線基板、或いは、広い面積の導電性領域を要する配線基板として好適に用いられる導電性パターンに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、種々の導電性パターンが配線基板として使用されている。これらの導電性パターンの形成方法として代表的なものは、絶縁体上に真空蒸着などの公知の方法により形成された薄膜の導電性材料を設け、それをレジスト処理し、パターン露光により予め作成したレジストの一部を除去し、その後、エッチング処理を行なって所望のパターンを形成するものであり、少なくとも４つの工程を必要とし、ウエットエッチング処理を行う場合には、その廃液の処理工程も必要となるため、複雑な工程をとらざるをえなかった。
また、他のパターン形成方法としては、フォトレジストを用いた導電性パターン形成方法なども知られている。この方法は、フォトレジストポリマーを塗布したり、ドライフィルム上のフォトレジストを貼付した基材を、任意のフォトマスクを介してＵＶ露光し、格子状などのパターンを形成する方法であり、高い導電性を必要とする電磁波シールドの形成に有用である。
近年、マイクロマシンの開発の進行や超ＬＳＩの一層の小型化に伴い、これらの配線構造もナノ単位の微細なものを要求されるようになってきており、従来の金属エッチングでは微細化に限界があり、また、細線部の加工中の断線なども懸念される。このため、配向が制御された緻密なパターンを形成する方法が望まれていた。
【０００３】
一方、近年、ディジタル化されたデーターからマスクなどを介さずに直接、パターン形成する方法が注目され、種々提案されてきている。
このようなデジタル化されたパターン形成方法を利用すれば、微細なパターンが任意に形成されることが期待される。このような方法のひとつとして、自己組織化単分子膜を用いる方法が挙げられる。これは、界面活性分子を含む有機溶剤に基板を浸漬したときに自発的に形成される分子集合体を利用するもので、例えば、有機シラン化合物とＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、基板との組合せや、アルコールやアミンと白金基板との組合せが挙げられ、光リソグラフィー法などによるパターン形成が可能である。このような単分子膜は微細パターンの形成を可能とするが、限られた基板と材料との組み合わせを用いる必要があるために、実際の応用への展開が困難であり、実用に適する微細配線のパターン形成技術は未だ確立されていないのが現状である。
【０００４】
さらに、軽量、フレキシブル、環境対応という観点から導電性ポリマーのパターンを使用した有機トランジスターなどの研究がされてきているが、このような有機材料を用いた支持体の特徴は、軽く、薄く、柔軟性があり、大きな面積の素子を容易に（室温での印刷と同様の技術などで）作成できるところにある。これらの特徴を、新しく開発されつつある有機半導体の、電気特性および光特性と組み合わせることにより、現在の情報技術において、もっとも必要とされている、情報パーソナル化のための技術、たとえば、簡単な情報処理機能と人に優しい入出力機能とを持つウェアラブル携帯端末などを作る技術に、新しい展開を生み出す事が期待できる。
しかし、いずれも耐久性、大面積化、導電安定性、製造適正のなどの実用な観点からは十分なものではなかった。
【０００５】
これを受けて、親水性の高いグラフトポリマーを利用して導電性パターンを形成しようとする提案がなされている。例えば、全面に親水性グラフトポリマーを有する表面に疎水性化合物をパターン状に付着させて親／疎水性パターンを形成し、親水性のグラフト部分に導電性物質を付着させる方法（例えば、特許文献１参照。）、基材全面に親水性グラフトポリマーを形成し、その表面にインクジェットなどの手法をもちいて導電性物質をパターン状に付着させる方法（例えば、特許文献２参照。）、基材表面に局所的にグラフトポリマーを生成させて親水性グラフトポリマーパターンを形成した後、親水性のグラフト部分に導電性ポリマーを付着させる方法（例えば、特許文献３参照。）、などがある。これらはいずれもデジタルデータに基づくパターンが容易に形成しうるという利点を有していたが、パターンの解像度の点でなお改良の余地があった。即ち、前者の２つの技術では、導電性物質をパターン状に付着させる方法において、解像度に限界があった。また、第３の技術は、表面グラフト反応を利用して局所的にグラフトポリマーを生成させるものであるが、グラフトポリマー生成時に基板に結合したグラフトポリマー以外にも、フリーのモノマー同士が重合してなる大量のホモポリマーが副成され、微細パターンの場合には、グラフト生成されたポリマーパターン間に存在するホモポリマーの完全な除去が困難となり、パターンの解像度の点ではなお改良の余地があるものと考えられている。
【特許文献１】特開２００３−３４５０３８公報
【特許文献２】特開２００３−２３４５６１公報
【特許文献３】特開２００３−１８８４９８公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記従来の技術の欠点を考慮してなされた本発明の目的は、製造適性に優れ、且つ、耐久性と導電安定性とに優れた、高精細の導電性パターンを提供することにある。また、本発明の他の目的は、耐久性と導電安定性とに優れた、高精細の導電性パターンを製造適性に優れた簡易な工程で製造しうる導電性パターン形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者等は鋭意検討の結果、特定の光開裂部位を含む連結部を介して、基材表面に共有結合により直接結合したグラフトポリマーを応用することで上記目的が達成されることを見いだし、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の導電性パターンは、基材表面に、光開裂しうる部位を介して、片末端で共有結合により直接結合してなるグラフトポリマー鎖を有する表面グラフト材料を露光し、露光領域において、光開裂しうる部位を開裂させ、グラフトポリマー鎖を除去してグラフトポリマー鎖の存在領域／不存在領域を形成し、該グラフトポリマー鎖の存在領域に導電性材料を付着させてなることを特徴とする。
また、本発明の請求項２に係る導電性パターン形成方法は、基材表面に、光開裂しうる部位を介して、片末端で共有結合により直接結合してなるグラフトポリマー鎖を有する表面グラフト材料を露光し、露光領域において、光開裂しうる部位を開裂させ、グラフトポリマー鎖を除去してグラフトポリマー鎖の存在領域／不存在領域を形成させた後、該グラフトポリマー鎖の存在領域に導電性材料を付着させる、ことを特徴とする。
【０００８】
本発明の導電性パターンは、基材表面に共有結合により片末端で直接結合してなるグラフトポリマー鎖を有する表面グラフト材料であって、該グラフトポリマー鎖が、光開裂しうる部位を介して基材表面と共有結合してなる表面グラフト材料を用いるものであるが、この表面グラフト材料の調整時に、グラフト反応時に生じる大量のホモポリマーは容易に除去することが可能となり、局所的なグラフト表面（グラフトパターン）形成時において問題となる副成ホモポリマーがグラフトパターンの空隙に存在するといった除去困難性の問題を回避することができる。また、このように全面に形成されたグラフトポリマー鎖は、露光により、光切断部位が開裂し、グラフト鎖が基材と結合するその根本部分から切断されて除去され、グラフトパターンが形成されるが、この書き込みを光照射により行うことで、公知の光学的手段により、所望の微細なパターンが形成できる。
【０００９】
このグラフトポリマー鎖に例えば、親水性基を当初から導入することにより、グラフトポリマー鎖の存在領域は、運動性の高い親水性グラフト鎖が存在する親水性に優れた領域となる。
ここで、選択的にグラフトポリマー鎖中の特定官能基に付着する性質を有する導電性材料を付着させることで、グラフトポリマー鎖の存在領域には導電性材料が付着して導電性領域となり、不存在領域には導電性材料が付着せずに非導電性領域となり、導電性パターン（回路）が形成される。
このときの導電性材料の付着機構には特に制限はなく、例えば、極性基、イオン性基などによるイオン性の吸着、静電気的な吸着・付着、双極子相互作用による吸着・付着など、いずれの機構による付着も本発明に包含される。
本発明に用いられる導電性材料は、上記親水性グラフト鎖が有する官能基とイオン的に強固に付着し、単分子膜或いはポリマー層を形成するため、導電性領域が形成された部分が耐久性及び導電安定性に優れるものと考えられる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の導電性パターンは、製造適性に優れ、高精細であり、且つ、耐久性と導電安定性とに優れるという利点を有する。また、本発明の導電性パターン形成方法は、耐久性と導電安定性とに優れた、高精細の導電性パターンを製造適性に優れた簡易な工程で製造しうるという効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の導電性パターンは、光開裂しうる部位を介して基材表面と共有結合してなる親水性グラフトポリマー鎖が存在する基材表面を、画像様に露光することでグラフトポリマー鎖の存在領域を形成し、該領域に導電性材料を付着させてなることを特徴とする。まず、本発明の導電性パターンに用いられ表面グラフト材料について説明する。
【００１２】
〔表面グラフト材料〕
本発明の導電性パターン材料及び導電性パターン形成方法に用いられる表面グラフト材料は、基材とグラフトポリマー鎖との結合部分に特徴を有するが、このような結合部分を有する表面グラフト生成方法の代表的なものとして、以下の２つの方法が挙げられる。
（１）基材表面を改質する方法
この方法は、まず、基材表面に、末端に開始能を有する特定の連結部位を導入することで基材表面を改質した後、その開始能を有する部分を起点としてグラフトを生成する方法である。
ここでは、グラフトポリマー形成のための後述する特定化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）を導入する起点として基材表面に存在する官能基（以下、Ｚで表す。）を用いる。Ｚは、以下に詳述するが、基材表面に当初より存在する官能基であっても、基材にコロナ放電などの表面処理を行って生成させた官能基であってもよい。この官能基（Ｚ）に、両末端に基材との結合能を有する基材結合基（Ｑ）と、重合開始基（Ｙ）とを有し、該両末端の間に光開裂部位（Ｘ）を有する化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）を、基材結合基（Ｑ）と基材表面の官能基（Ｚ）とを結合させることで導入する。その後、この表面にモノマーなど公知のグラフトポリマー原料を接触させ、導入された化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）の重合開始基（Ｙ）を起点としてグラフトポリマー鎖を生成させ、表面グラフト材料を得る。
【００１３】
（２）特定の連結部位を有するポリマーを使用する方法
末端に基材との結合能を有する特定の連結部位を導入したポリマーを予め作製し、該ポリマーの結合能を用いてグラフトポリマーを基材表面に結合させる方法。
この（２）の方法においては、予め、両末端に基材との結合能を有する基材結合基（Ｑ）と、重合開始基（Ｙ）とを有し、該両末端の間に光開裂部位（Ｘ）を有する化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）の重合開始基（Ｙ）を起点としてグラフトポリマー鎖を生成させたポリマーを作製し、それを用いる。即ち、このような（Ｑ−Ｘ−Ｙ）の末端構造を有するグラフトポリマー鎖を作製し、その後、得られた連結部位を有するポリマーを、その基材結合基（Ｑ）と基材表面に存在する官能基（Ｚ）とを結合させることで連結し、表面グラフト材料を得る。
【００１４】
以下、このような表面グラフト材料を作製するプロセスについて具体的に説明する。
Ｚで表示される基は、基材表面に存在する官能基であり、具体的には、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基などが挙げられる。これらの官能基はシリコン基板、ガラス基板における基材の材質に起因して基材表面にもともと存在しているものでもよく、基材表面にコロナ処理などの表面処理を施すことにより表面に存在させたものであってもよい。
次に、光開裂部位を有する化合物の構造について具体的に説明する。
両末端に基材との結合能を有する基材結合基（Ｑ）と、重合開始基（Ｙ）とを有し、該両末端の間に光開裂部位（Ｘ）を有する化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）のモデルを用いて詳細に説明すれば、一般にＸは、光により開裂しうる一重結合（単結合）を含む部位である。
Ｑは基材表面に存在する官能基Ｚと反応して結合しうる反応性基であり、具体的には、以下に示すような基が挙げられる。
【００１５】
【化１】
2005277213.tif 000002
【００１６】
Ｙは、重合開始基であるが、光開裂部位の特性を効果的に発現させるため、本発明においては光以外の方法で重合を開始する重合開始基を選択する。Ｙとしては熱重合開始部位、もしくは原子移動重合、ＲＡＦＴ重合、イニファータ重合などのリビングラジカル開始部位などの官能基が挙げられ、より具体的には、以下に示す基が挙げられる。
【００１７】
【化２】
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【００１８】
Ｘで表される光開裂部位は、カルボニルのα開裂、β開裂反応、光フリー転位反応、ベンジルエステルの転位反応、フェナシルエステルの開裂反応を利用したものが挙げられ、これらの反応により、光により開裂しうる一重結合（単結合）が切断される。このような反応を利用したものとしては、下記光開裂部位例１〜４が挙げられ、構造中の波線で表示された部分の単結合が開裂する。
またＸの別の例として、スルホンイミド開裂反応、スルホニルエステル開裂反応、Ｎ−ヒドロキシスルホニルエステル開裂反応、αケトスルホネート開裂反応、ケトスルホン開裂反応、などの結合開裂反応を組み込むことにより開裂が可能な部位が挙げられ、この開裂を利用したものとして、下記光開裂部位例５〜１０が挙げられ、構造中の波線で表示された部分の単結合が開裂する。
【００１９】
【化３】
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【００２０】
基材結合基（Ｑ）と、重合開始基（Ｙ）とを有し、該両末端の間に光開裂部位（Ｘ）を有する化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）の具体例〔例示化合物１〜例示化合物１０〕を、各官能基などの反応機構とともに以下に示すが、本発明はこれらに制限されるものではない。
なお、このような化合物は、種々の方法により合成することができる。その一部を示すと、光開裂部位と重合開始部位とを連結させ、最後に基板結合基を連結させる方法、基板結合基と重合開始部位とを連結すると同時に結合部位に光開裂基を導入する方法、基板結合部位と光開裂部位とを結合した後、重合開始部位を結合する方法などがある。
【００２１】
【化４】
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【００２２】
【化５】
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【００２３】
前記（１）の方法では、このような化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）の基材結合基Ｑを基材表面に存在する官能基Ｚと結合させることで基材表面に導入し、その後、公知の方法により、重合開始基Ｙを起点としてグラフトを生成させることで本発明の表面グラフト材料を得ることができる。
例示された如き化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）を基材表面に存在する官能基Ｚに結合させて表面に導入するにあたっては、化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）をトルエン、ヘキサン、アセトンなどの適切な溶媒に溶解又は分散させ、基材表面に接触させる化学吸着法と呼ばれる方法、もしくは、化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）を加熱し、気化させることで基材表面と反応させる気相法と呼ばれる方法などを適用すればよい。なお、気相法を適用するときの加熱温度は５０〜３００℃の範囲が好ましい。また、化学吸着法を適用するとき、溶媒中の化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）の濃度は、０．０１〜１０質量％であることが好ましく、接触させる場合の液温は０〜１００℃、接触時間は、１分間〜５０時間であることが好ましい。
【００２４】
このようにして基材表面に化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）を導入した後、重合開始基Ｙを基点とするグラフトの生成方法としては、例えば、基材上に固定化された化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）を、通常は基材ごと親水性官能基を有するモノマーなどが溶解、分散された分散液に浸漬し、光照射以外によりエネルギーを付与する方法が挙げられ、このエネルギー付与により、重合開始基Ｙが活性化し、液中に存在する重合性基を有する化合物（例えば、親水性モノマー）との間でグラフト化反応が、生起、進行する。
【００２５】
表面グラフト重合のより具体的な態様について説明する。本発明においては、グラフトポリマー鎖に、導電性材料との親和性を有する官能基を有することが必要であるが、以下、導電性材料との親和性を有する官能基の代表的な例である親水性基を有するものを例に挙げて具体的に説明する。
（重合性基を有する親水性モノマー）
本発明において導電性材料付着のためのグラフトポリマー生成に用いられる重合性基を有する親水性モノマー（以下、重合性基含有親水性モノマーと称する。）とは、分子内に、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリル基などのエチレン付加重合性不飽和基が導入され、かつ、親水性官能基を有するモノマーを指す。
親水性官能基としては、カルボン酸基、スルホン酸基、スルフィン酸基、ホスホン酸基、アミノ基およびその塩、アミド基、水酸基、エーテル基、ポリオキシエチレン基などを挙げることができる。
【００２６】
本発明において特に有用な重合性基含有親水性モノマーの具体例としては、次のモノマーを挙げることができる。例えば、（メタ）アクリル酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、イタコン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、アリルアミン若しくはそのハロゲン化水素酸塩、３−ビニルプロピオン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、ビニルスルホン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、スチレンスルホン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、２−スルホエチレン（メタ）アクリレート、３−スルホプロピレン（メタ）アクリレート若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸若しくはそのアルカリ金属塩及びアミン塩、アシッドホスホオキシポリオキシエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート若しくはそれらの塩、２−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート若しくはそのハロゲン化水素酸塩、３−トリメチルアンモニウムプロピル（メタ）アクリレート、３−トリメチルアンモニウムプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピル）アンモニウムクロライド、などを使用することができる。また、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−モノメチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジメチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルアセトアミド、ポリオキシエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートなども有用である。
【００２７】
（重合性基を有する化合物溶液用溶媒）
上述の重合性基を有する化合物を溶解、分散するための溶媒としては、該重合性基を有する化合物や必要に応じて添加される添加剤が溶解可能ならば特に制限はないが、水、水溶性溶剤などの水性溶剤が好ましく、これらの混合物や、溶剤に更に界面活性剤を添加したものなどが好ましい。
水溶性溶剤は、水と任意の割合で混和しうる溶剤を言い、そのような水溶性溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコール、グリセリンの如きアルコール系溶剤、酢酸の如き酸、アセトンの如きケトン系溶剤、ホルムアミドの如きアミド系溶剤、などが挙げられる。
【００２８】
（グラフトポリマーを生成させるためのエネルギー付与）
本発明においては、重合開始基Ｙを含む特定化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）を固定化した基材に重合可能な官能基を有する化合物を接触させる方法として、前記した親水性モノマーなどを溶解、分散してなる溶液中に、基板を浸漬する方法が一般的に用いられるが、導電性パターンの取り扱い性や製造効率の観点からは、重合性の親水性化合物を含有する組成物を主成分とする層を支持体表面に、塗布法により形成することで行ってもよい。このように両者を接触した状態でエネルギーを付与することで、重合開始基Ｙと重合可能な官能基を有する化合物との間で重合反応が生起、進行する。
【００２９】
本発明の方法において、重合開始層にグラフトポリマーを生成させるためのエネルギー付与方法には特に制限はなく、重合開始層中の開始剤を分解、活性化させ得るエネルギーを付与できる方法であれば、サーマルヘッド、ヒーターなどによる加熱重合法、金属錯体を用いた原子移動ラジカル重合法などの方法を使用できるが、コスト、装置の簡易性の観点からは加熱による重合方法が好ましい。より詳細には、加熱重合法としては、アゾ基などの熱分解によるラジカル発生、ニトロオキシムなどの窒素酸化物の熱によるラジカル発生などが挙げられ、電子移動ラジカル重合法としては、コバルト／ポリフィン錯体の熱によるラジカル発生、ヨウ素移動重合、ラフト重合などのように熱により発生したラジカルを反応させてさらにラジカルを発生させる方法などを挙げることができる。これらの方法は福山猛著、「高分子」第４８巻、第４９８頁（１９９９年）に記載され、記載の方法は本発明に適宜、使用することができる。
このようなグラフトポリマー鎖に、親水性や、後述する導電性材料などの物質に対する付着性の機能を付与する場合には、グラフト鎖を生成させるために用いるモノマーに、所望の官能基を有するものを用いればよい。
【００３０】
上述のようにして生成したグラフトポリマーにより形成されるグラフト層の厚さは、０．００１〜１０ｇ／ｍ2の範囲であることが好ましく、０．０１〜５ｇ／ｍ2の範囲であることがより好ましい。
【００３１】
また、前記（２）の方法で用いる特定ポリマーは、前記化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）の重合開始基Ｙを起点として重合反応を生起させ、Ｙを起点としてポリマー鎖を形成し、片末端に基材と結合しうる基材結合基Ｑを有するポリマーを作製し、その後、基材結合基Ｑを基材表面に存在する官能基Ｚと結合させることで表面グラフト材料を得る。
以下に、前記化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）を出発物質として作製された特定ポリマーの具体例を示す。
【００３２】
【化６】
2005277213.tif 000007
【００３３】
このような特定ポリマーは、末端チオールカルボン酸を連鎖移動剤としてポリマーを合成し、ポリマー末端にカルボキシ基を導入し、それに残りの部分、具体的には光開裂部位と基板結合基に連結させることで得ることができる。また、他の方法として。光開裂部位と基板結合基に連結されたベンジルクロライド基などの末端から原子移動重合を用いて合成することができる。
化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）に連結したポリマーを、基材表面に導入する方法としては、前記化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）を導入するのと同じ、化学吸着法や気相法が挙げられ、なかでも、製造適性の観点から、化学吸着による方法をとることが好ましい。
上述のようにして（２）の方法により形成されるグラフト層の厚さは、０．１ｍｇ／ｍ2〜１０ｇ／ｍ2の範囲であることが好ましく、１ｍｇ／ｍ2〜５ｇ／ｍ2の範囲であることがより好ましい。
【００３４】
このようにして得られた本発明の表面グラフト材料は、いずれの方法で得られたものも、グラフトポリマー鎖が、光開裂部位（Ｘ）を介して基材表面に直接結合しており、Ｘの光開裂部位における所定の単結合を開裂しうる光照射が行われない限り、グラフトポリマー鎖は基材表面に強固に結合している。
グラフトポリマー鎖は、その末端が基材表面に直接化学的に結合し、親水性を示すグラフト部分が実質的に架橋されていない構造を有することが特徴であり、この構造により親水性を発現するグラフト部分の運動性が制限されたり、強固な架橋構造内に埋没されることがなく、高い運動性を保持できる特徴を有する。このため、通常の架橋構造を有する親水性ポリマーに比較して、優れた親水性が発現されるものと考えられる。
このような親水性グラフト鎖の分子量は、Ｍｗ５００〜５００万の範囲であり、好ましい分子量はＭｗ１０００〜１００万の範囲であり、さらに好ましくはＭｗ２０００〜５０万の範囲である。
【００３５】
〔基材（支持体）〕
本態様の導電性パターンに用いられる基材（支持体と称することがある）は、前述の光開裂部位を介して化学的に結合した表面グラフト層と該グラフトポリマー鎖が直接又は幹高分子化合物を介して化学的に結合できるような表面を有するものであり、さらに、本発明における特定化合物（Ｑ−Ｘ−Ｙ）や特定ポリマー（Ｑ−Ｘ−Ｙ−Ｐｏｌｙｍｅｒ）における基板結合基Ｑと反応（結合）しうる官能基Ｚ（例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基など）を有するものである。具体的には、ガラス、シリコン、アルミニウムなどの基材の他、エポキシ、アクリル、ポリイミド、ウレタンなどの有機ポリマーも基材として用いることができる。さらに、有機ポリマー基材の場合には、表面に前記Ｚで表される基を形成するために、グロー処理、プラズマ処理を行うことが好ましい。なお、基材の表面自体がこのような特性を有していてもよく、このような特性を有する中間層を設けて支持体（基材）としてもよい。
【００３６】
〔導電性材料〕
本発明においては、上記で得られたグラフトポリマー鎖の存在領域に導電性材料を付着させることで導電性パターンが得られ、回路が形成される。なお、そのような導電性材料の付着方法としては、
（Ａ）上記グラフトポリマー鎖の存在領域に導電性微粒子を付着させる方法と、
（Ｂ）上記グラフトポリマー鎖の存在領域に導電性ポリマー層を形成する方法と、
が挙げられ、用途に応じて適宜選択して用いることができる。以下、これらの導電性材料の付着方法について詳細に説明する。
【００３７】
（Ａ）導電性微粒子の付着
本発明における導電性材料の付着方法（Ａ）は、以下に説明する導電性微粒子を、上記グラフトポリマー鎖に存在する、導電性材料との親和性を有する官能基に、その極性に応じて、イオン的に付着させる方法である。ここで付着させた分子は単分子膜に近い状態で強固に固定されるため少量でも充分な導電性を有し、微細な回路にも適用し得るという利点を有する。
この方法に適用し得る導電性微粒子としては、導電性を有するものであれば特に制限はなく、公知の導電性材料からなる微粒子を任意に選択して用いることができる。例えば、Ａｕ、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｌ、Ｃｒなどの金属微粒子、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、Ｃｄｏ、ＴｉＯ2、ＣｄＩｎ2Ｏ4、Ｃｄ2ＳｎＯ2、Ｚｎ2ＳｎＯ4、Ｉｎ2Ｏ3−ＺｎＯなどの酸化物半導体微粒子、及びこれらに適合する不純物をドーパントさせた材料を用いた微粒子、ＭｇＩｎＯ、ＣａＧａＯなどのスピネル形化合物微粒子、ＴｉＮ、ＺｒＮ、ＨｆＮなどの導電性窒化物微粒子、ＬａＢなどの導電性ホウ化物微粒子、また、有機材料としては導電性高分子微粒子などが好適なものとして挙げられる。
【００３８】
−親水性化合物結合タイプの親水性基の極性と導電性微粒子との関係−
本発明において得られるグラフトポリマー鎖の存在領域におけるグラフトポリマーがカルボキシル基、スルホン酸基、もしくはホスホン酸基などの如きアニオン性の官能基を有する場合は、パターン部分が選択的に負の電荷を有するようになり、ここに正の電荷を有する（カチオン性の）導電性微粒子を付着させることで導電性の領域（配線）が形成される。
【００３９】
このようなカチオン性の導電性微粒子としては、正電荷を有する金属（酸化物）微粒子などが挙げられる。表面に高密度で正荷電を有する微粒子は、例えば、米澤徹らの方法、すなわち、Ｔ．Ｙｏｎｅｚａｗａ，Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｌｅｔｔｅｒｓ．，１９９９  ｐａｇｅ１０６１，Ｔ．Ｙｏｎｅｚａｗａ，Ｌａｎｇｕｍｕｉｒ  ２０００，ｖｏｌ１６，５２１８および米澤徹，Ｐｏｌｙｍｅｒ  ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊａｐａｎ  ｖｏｌ．４９．２９１１（２０００）に記載された方法にて作成することができる。米澤らは金属−硫黄結合を利用し、正荷電を有する官能基で高密度に化学修飾された金属粒子表面が形成できることを示している。
【００４０】
一方、得られるグラフトポリマー鎖の存在領域におけるグラフトポリマーが特開平１０−２９６８９５号公報に記載のアンモニウム基などの如きカチオン性基を有する場合は、パターン部分が選択的に正の電荷を有するようになり、ここに負の電荷を有する導電性微粒子を付着させることで導電性の領域（配線）が形成される。負に帯電した金属粒子としてはクエン酸還元で得られた金もしくは銀粒子を挙げることができる。
【００４１】
本発明に用いられる導電性微粒子の粒径は、０．１ｎｍから１０００ｎｍの範囲であることが好ましく、１ｎｍから１００ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。粒径が０．１ｎｍよりも小さくなると、微粒子同士の表面が連続的に接触してもたらされる導電性が低下する傾向がある。また、１０００ｎｍよりも大きくなると、親水性表面と粒子との密着性が低下し、導電性領域の強度が劣化する傾向がある。
【００４２】
これらの微粒子は、グラフトポリマーの親水性基に付着し得る最大量結合されることが耐久性の点で好ましい。また、導電性確保の観点からは、分散液の分散濃度は、０．００１〜２０重量％程度が好ましい。
【００４３】
導電性微粒子を親水性基などの親和性を有する官能基に付着させる方法としては、表面上に荷電を有する導電性微粒子を溶解又は分散させた液を、像様にグラフトポリマー鎖が形成された基材（支持体）表面に塗布する方法、及び、これらの溶液又は分散液中に、像様にグラフトポリマー鎖が形成された基板を浸漬する方法などが挙げられる。塗布、浸漬のいずれの場合にも、過剰量の導電性微粒子を供給し、親水性基などとの間に十分なイオン結合による導入がなされるために、溶液又は分散液とパターン形成材料表面との接触時間は、１０秒から２４時間程度であることが好ましく、１分から１８０分程度であることがさらに好ましい。
【００４４】
導電性微粒子は１種のみならず、必要に応じて複数種を併用することができる。また、所望の導電性を得るため、予め複数の材料を混合して用いることもできる。
【００４５】
（Ｂ）導電性ポリマー層の形成
本発明における導電性材料の付着方法（Ｂ）は、以下に説明する導電性ポリマーの前駆体である導電性モノマーを、上記親水性表面上の官能基にイオン的に吸着させ、そのまま重合反応を生起させ、高分子層（導電性ポリマー層）を形成する方法である。このようにして得られた導電性ポリマー層は、強固で耐久性に優れ、モノマーの供給速度などの条件を調整することで非常に薄い膜も形成することができ、さらに薄膜であっても均質で、且つ、膜厚が均一であるという利点を有する。
この方法に適用し得る導電性ポリマーとしては、１０-6ｓ・ｃｍ-1以上、好ましくは、１０-1ｓ・ｃｍ-1以上の導電性を有する高分子化合物であれば、いずれのものも使用することができるが、具体的には、例えば、置換および非置換の導電性ポリアニリン、ポリパラフェニレン、ポリパラフェニレンビニレン、ポリチオフェン、ポリフラン、ポリピロール、ポリセレノフェン、ポリイソチアナフテン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアセチレン、ポリピリジルビニレン、ポリアジン等が挙げられる。これらは１種のみを用いてもよく、また、目的に応じて２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、所望の導電性を達成できる範囲であれば、導電性を有しない他のポリマーとの混合物として用いることもできるし、これらのモノマーと導電性を有しない他のモノマーとのコポリマーなども用いることができる。
【００４６】
このような導電性ポリマーを用いて、導電性ポリマー層を形成する方法には特に制限はないが、均一な薄膜を形成し得るという観点からは、以下に述べるような導電性を有するモノマーを用いる方法が好ましい。
まず、前記グラフトパターンが形成された支持体を、過硫酸カリウムや、硫酸鉄（III）などの重合触媒や重合開始能を有する化合物を含有する溶液に浸漬し、この液を撹拌しながら導電性ポリマーを形成し得るモノマー、例えば、３、４−エチレンジオキシチオフェンなどを徐々に滴下する。このようにすると、重合性基を有する親水性ポリマー中の官能基と導電性ポリマーを形成し得るモノマーとが相互作用により強固に吸着すると共に、モノマー同士の重合反応が進行し、支持体上のグラフトポリマー鎖の存在領域に導電性ポリマーの極めて薄い膜が形成され、これが導電性ポリマー層となる。
【００４７】
本発明においては、導電性モノマー自体が親水性領域に存在する官能基と静電気的に、或いは、極性的に相互作用を形成することで強固に付着するため、それらが重合して形成されたポリマー膜は、親水性表面との間に強固な相互作用を形成しており、薄膜であっても、擦りや引っ掻きに対して充分な強度を有するものとなる。
さらに、導電性ポリマーと親水性の官能基とが、陽イオンと陰イオンの関係で吸着するような素材を選択することで、親水性の官能基が導電性ポリマーのカウンターアニオンとして吸着することになり、一種のドープ剤として機能するため、導電性パターンの導電性を一層向上させることができるという効果を得ることもできる。具体的には、例えば、親水性基としてスチレンスルホン酸を、導電性ポリマーの素材としてチオフェンを選択すると、両者の相互作用により、親水性表面と導電性ポリマー層との界面にはカウンターアニオンとしてスルホン酸基（スルホ基）を有するポリチオフェンが存在し、これが導電性ポリマーのドープ剤として機能することになる。
【００４８】
グラフトポリマー鎖の存在領域表面に形成された導電性ポリマー層の膜厚には特に制限はないが、０．０１μｍ〜１０μｍの範囲であることが好ましく、０．１μｍ〜５μｍの範囲であることがより好ましい。導電性ポリマー層の膜厚がこの範囲内であれば、充分な導電性と透明性とを達成することができる。０．０１μｍ以下であると導電性が不充分となる懸念があるため好ましくない。
【００４９】
以上の導電性パターン形成方法で得られた、導電性パターンは、強度と耐久性に優れ、単一の回路形成からなる高精細な配線基板、或いは、広い面積の導電性領域を要する配線基板として、広い用途が期待される。
さらに、支持体にＰＥＴなどの透明フィルムを使用した場合には、パターン形成された透明導電性フィルムとして使用することができる。このような透明導電性フィルムの用途としては、ディスプレイ用透明電極、調光デバイス、太陽電池、タッチパネル、その他の透明導電膜が挙げられるが、ＣＲＴやプラズマディスプレイにつける電磁波シールドフィルターとして特に有用である。このような電磁波シールドフィルターは高い導電性と透明性とを必要とするため、導電性材料を格子状に設けることが好ましい。このような格子線幅は、２０〜１００μｍ、開口部は５０〜６００μｍ程度が好ましい。この格子は必ずしも規則正しく、直線で構成されていなくてもよく、曲線状で構成されていてもよい。
本発明においては、さらに精細な１０μｍ以下の線幅のパターンをも形成することができ、このような任意のパターン形状の金属配線或いは金属微粒子付着領域を容易に形成し得るため、目的に応じた種々の設定が可能である。
【実施例】
【００５０】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（合成例１：光開裂型シランカップリング化合物１の合成）
前記例示化合物１の合成は、以下の４つのステップにより行われる。それぞれのステップのスキームを挙げて説明する。
１．ＡＴＲＰ開始剤「ｌ」の合成（エーテル化（Ｗｉｌｌｉａｍｓｏｎ反応）によるオレフィンの導入）
窒素置換した１０００ｍｌ三口フラスコ中に４−ヒドロキシ−４’−（ヒドロキシエトキシ）−２−メチルプロピオフェノン２２．４ｇ（０．１ｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）３００ｇを入れて氷バスで冷却し、撹拌した。そこにＮａＨ（６０〜７２％  ｉｎ  ｏｉｌ）９．７ｇ（０．２４ｍｏｌ）を徐々に加え、全て加え終わったら氷バスを外して２時間撹拌した。再び氷バスで反応溶液を冷却し、ＴＨＦ２５ｇとジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）２５ｇに溶かしたアリルブロミド１３．３ｇ（０．１１ｍｏｌ）の半分量をゆっくり滴下した。残り半分は３０分後に滴下した。滴下後３０分撹拌して氷バスを外し、ＤＭＡｃ３００ｇを１００ｇづつ３回（氷バスを外してから１．５時間後、２．５時間後、４時間後）に分けて加えた。ＤＭＡｃを全量加えてから３時間後に撹拌を止め、終夜静置した。少量のメタノールを反応溶液に加えて未反応のＮａＨを潰した。その反応溶液を水１５００ｍｌに徐々に投入した。溶液中の有機相を酢酸エチルで抽出し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。溶媒を留去して、生成物１ａを含む黄色オイル２７ｇを得た。
合成スキームを以下に示す。
【００５１】
【化７】
2005277213.tif 000008
【００５２】
1Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ  ＣＤＣｌ３）
δ＝１．６４  （ｓ、６Ｈ、−ＣＨ3  ｋ−ＣＨ3  ｌ）、  ３．８（ｔ、Ｊ＝４．５−５．１、２Ｈ、−ＣＨ2  ｅ）、  ４．１（ｄ、Ｊ＝５．７、２Ｈ、−ＣＨ2  ｄ）、  ４．２（ｔ、Ｊ＝４．２−５．４、２Ｈ、−ＣＨ2  ｆ）、  ４．３（ｓ、２Ｈ、−ＯＨｍ）、  ５．２（ｄｄ、ＪＨｂＨｃ＝１０．２−１０．７、Ｊ  ＨａＨｂ＝０．９−１．２、１Ｈ、Ｈｂ．）、  ５．３（ｄｄ、ＪＨａＨｃ＝１７−２２、ＪＨａＨｂ＝０．９−１．２、１Ｈ、Ｈａ．）、  ５．９（ｄｄｄ、ＪＨａＨｃ＝２２−１７、ＪＨｂＨｃ＝１０．２−１０．７、ＪＨｃＨｄ＝５．４−５．７、１Ｈ、Ｈｃ）、  ７．０（ｄｄ、ＪＨｈＨｉ＝７、ＪＨｇＨｊ＝７、ＪＨｇＨｈ＝２、ＪＨｉＨｊ＝２、２Ｈ、Ｈｇ  Ｈｉ）、  ８．１（ｄｄ、ＪＨｈＨｉ＝７、ＪＨｇＨｊ＝７、ＪＨｇＨｈ＝２、ＪＨｉＨｊ＝２、２Ｈ、Ｈｈ  Ｈｊ）
【００５３】
【化８】
2005277213.tif 000009
【００５４】
２．１ｂの合成（保護基を用いた長鎖アルコールの導入）
まず、２００ｍｌのナスフラスコに８−ブロモ−１−オクタノール１４．４ｇ（０．０６９ｍｏｌ）とＴＨＦ１０ｇを入れ、撹拌しながら３、４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン７．３ｇ（０．０８７ｍｏｌ）を滴下した。３０分撹拌を続けて溶液Ａを得た。
次に、３００ｍｌ三口フラスコに１ａを含む黄色オイル１４．５ｇ（０．０５５  ｍｏｌ）とＤＭＡｃ１００ｇを入れて氷バスで冷却しながら撹拌した。ＮａＨ（６０〜７２％  ｉｎ  ｏｉｌ）３．３ｇ（０．０８３ｍｏｌ）を徐々に加えて３０分間撹拌した。先に作っておいた溶液Ａを滴下し、氷バスをウォーターバスに替え５０℃で１．５時間加熱した。少量のメタノールを反応溶液に加えた後、氷水３００ｍｌに徐々に投入した。有機相を酢酸エチルで抽出し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。溶媒を留去して黄色オイルを得た。この黄色オイルをメタノール２００ｍｌに溶かし、少量のｐ−トルエンスルホン酸を加えて７０℃で１時間加熱した。この溶液に水を加え、有機相を酢酸エチルで抽出した。溶媒を留去して生成物１ｂを含む褐色オイル３５．１ｇを得た。
合成スキームを以下に示す。
【００５５】
【化９】
2005277213.tif 000010
【００５６】
３．１ｃの合成（エステル化反応による末端ハロゲンの導入）
塩化カルシウム管を設置した１０００ｍｌ三口フラスコに１ｂを含む褐色オイル２５．５２ｇ（０．０６５ｍｏｌ）、ＴＨＦ２００ｇとピリジン６．１７ｇ（０．０７８ｍｏｌ）を入れて撹拌した。その溶液を氷バスで冷却しブロモイソ酪酸ブロミド１４．９４ｇ（０．０６５ｍｏｌ）を徐々に加えて１５分間撹拌した後、室温に戻して１．５時間撹拌した。反応溶液を水３００ｍｌに投入した。有機相を酢酸エチルで抽出し、塩化ナトリウム水溶液で洗浄した。溶媒を留去して、生成物ＡＭ２５４３ｃを含む褐色オイル４３．９ｇを得た。カラム（充填剤：ワコーゲルＣ−２００、展開溶媒：酢酸エチル／ヘキサン＝１／５）で１ｃを単離した。
合成スキームを以下に示す。
【００５７】
【化１０】
2005277213.tif 000011
【００５８】
1Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ  ＣＤＣｌ3）
δ＝１．２−１．４（ｍｂ、８Ｈ）、  １．５（ｓ、６Ｈ）、  １．７（ｔ、Ｊ＝６．９−７．５、４Ｈ）、  １．９（ｓ、６Ｈ）、  ３．２（ｔ、Ｊ＝６．０−６．９、２Ｈ）、  ３．８（ｔ、Ｊ＝４．８、２Ｈ）、４．１−４．２（ｍ、６Ｈ）、  ５．２  （ｄｄ、  Ｊ＝１．８、Ｊ＝１０．２−１１．４、１Ｈ．）、  ５．３（ｄｄ、Ｊ＝１．８、Ｊ＝１７．１−２２．５、１Ｈ．）、５．９−６．０（ｄｄｄ、Ｊ＝５．４−５．７、Ｊ＝１０．２−１１．４、Ｊ＝１７．１−２２．５、２Ｈ）、  ６．９（ｄ、Ｊ＝９．０、２Ｈ）、  ８．３（ｄ、Ｊ＝９．０、２Ｈ）
【００５９】
４．目的物１の合成（ハイドロシリル化反応）
塩化カルシウム管を設置した５０ｍｌ三口フラスコに１ｃを４．５ｇ（８．３１×１０-3ｍｏｌ）入れ、Ｓｐｅｉｒ  ｃａｔａｌｙｓｔ  （Ｈ2ＰｔＣｌ4・６Ｈ2Ｏ／２−ＰｒＯＨ  ０．１Ｍ）を１滴加えて撹拌した。反応溶液を氷バスで冷却し、トリクロロシラン（９８％）を２．４ｇ（１７．４６×１０-3ｍｏｌ）滴下した。滴下後室温に戻して１時間後に反応が終了した。減圧下で１００度に加熱して過剰のトリクロロシランを除去し、目的物１を得た。
合成スキームを以下に示す。
【００６０】
【化１１】
2005277213.tif 000012
【００６１】
1Ｈ  ＮＭＲ（３００ＭＨｚ  ＣＤＣｌ3）
δ＝１．２−１．４（ｍｂ、２０Ｈ）、  １．５（ｓ、６Ｈ）、  １．９（ｓ、６Ｈ）、  ３．２（ｔ、Ｊ＝６．９、２Ｈ）、  ３．６（ｔ、Ｊ＝６．９、２Ｈ）、  ４．２（ｍ、４Ｈ）、  ６．９（ｄ、Ｊ＝９．３、２Ｈ）、  ８．３（ｄ、Ｊ＝９．３、２Ｈ：）
【００６２】
〔実施例１〕
（グラフト基板Ａ（アクリル酸グラフト）の合成）
ピランハ溶液（硫酸／過酸化水素（３０ｗｔ％）の１／１ｖｏｌ混合液）を用いて洗浄したシリコン基板をアルゴン下、開始剤基を有するシランカップリング剤（前記合成例１で得られた例示化合物１）の１．１質量％脱水トルエン溶液に終夜浸漬することにより、シリコン基板上に開始剤を固定化した。次に、この開始剤を固定化した基板を、セパラブルフラスコに入れ、Ａｒ気流下、塩化銅（Ｉ）、２、２’−ビピリジルを触媒としてアクリル酸Ｎａの水溶液に浸漬、攪拌後、一晩放置することによりグラフト基板Ａを得た。膜厚をエリプソメトリーで測定したところ１００ｎｍであった。
【００６３】
（グラフトパターンＡ（アクリル酸グラフトパターン）の作成）
グラフト化したシリコン基板Ａを石英板に形成されたマスクパターン（ＮＣ−１、凸版印刷社製）に密着させ、ＵＶ露光機（ウシオ電機社製、ＵＶＬ−４００１−Ｎ、高圧水銀灯）を用いて２０分間照射した。そののち、純水で洗浄し、グラフトパターンＡを得た。
【００６４】
（パターンの確認）
前記グラフトパターンＡを、原子間顕微鏡ＡＦＭ（ナノピクス１０００、セイコーインスツルメンツ社製、ＤＦＭカンチレバー使用）で観察した。その結果パターンＡでは線幅８μｍ、空隙幅８μｍが交互に存在するパターンが形成されていることが確認された。このグラフトポリマー鎖の形成領域が親水性領域となる。
【００６５】
（導電性材料の付着）
次に、グラフトパターンＡを、以下のようにして得られた正電荷を有するＡｇ粒子分散液中に浸漬し、その後、流水で表面を十分洗浄して余分な微粒子分散液を除去し、グラフトポリマー鎖形成領域のみにＡｇ粒子が付着した導電性パターン１を得た。
＜Ａｇ粒子分散液の調製＞
過塩素酸銀のエタノール溶液（５ｍＭ）５０ｍｌにビス（１，１−トリメチルアンモニウムデカノイルアミノエチル）ジスルフィド３ｇを加え、激しく撹拌しながら水素化ホウ素ナトリウム溶液（０．４Ｍ）３０ｍｌをゆっくり滴下してイオンを還元し、４級アンモニウムで被覆された銀粒子の分散液を得た。この銀粒子のサイズを電子顕微鏡で測定したところ、平均粒径は５ｎｍであった。
【００６６】
導電微粒子を付着させた導電性パターン１の表面を透過型電子顕微鏡（ＪＥＯＬ  ＪＥＭ−２００ＣＸ）にて１０万倍で観察したところ、いずれの表面においても、先に確認されたグラフトポリマー鎖の生成領域のみに付着したＡｇ微粒子に起因する緻密な凹凸形状が形成されていることが確認された。また、導電性パターンは、線幅８μｍ／空隙幅８μｍの微細な配線であることが確認された。
【００６７】
〔導電安定性の評価〕
得られたＡｇ微粒子のパターン部分の表面導電性をＬＯＲＥＳＴＡ−ＦＰ（三菱化学（株）製）を用いて四探針法により測定したところ、１０Ω／□を示した。また、パターン形成されたフィルム全面の透過率を測定したところ５８％であった。このことから、透明性が高く、導電性に優れた導電性パターンが形成されていることがわかる。
【００６８】
〔耐磨耗性の評価〕
導電微粒子を付着させた導電性パターン１の表面を水で湿らせた布（ＢＥＭＣＯＴ、旭化成工業社製）を用いて手で往復３０回こすった。こすった後に、前記と同様にして透過型電子顕微鏡（ＪＥＯＬ  ＪＥＭ−２００ＣＸ）にて、その表面を１０万倍で観察したところ、こすり処理を行なう前と同様、未露光部領域のみに微粒子に起因する緻密な凹凸形状が観察され、表面の緻密な凹凸形状がこすりにより損なわれなかったことが確認された。
【００６９】
（実施例２）
実施例１で作製したグラフトパターンＡを、アントラキノン−２−スルホン酸ナトリウム・一水和物１．２３ｇ、５−スルフォサチリチル酸ナトリウム・水和物７．２０ｇ、及び、三塩化鉄・６水和物４．３８ｇと１２５ｍｌの水とからなる溶液に浸漬し、撹拌しながらピロール０．７５ｍｌと水１２５ｍｌの溶液を加えた。一時間後、該フィルムを取り出し、水洗し、次にアセトンで洗浄することで、該フィルムの表面にポリピロール層が形成された実施例２の導電性パターン２を得た。導電性パターン２の表面を実施例１と同様に透過型電子顕微鏡にて観察したところ、導電性パターン２は、線幅８μｍ／空隙幅８μｍの微細な配線であることが確認された。
【００７０】
〔評価〕
得られた導電性パターン２を、実施例１と同様の方法で導電安定性の評価及び耐磨耗性の評価を行った。
導電安定性の評価では、導電性ポリマー層部分の表面導電性は１００Ω／□を示し、導電性に優れた導電性パターンが形成されていることが分かった。
耐磨耗性の評価では、こすりの後も未露光部領域のみに導電性ポリマーによると考えられる樹脂膜の存在が観察され、剥離なども見られなかったことから、ポリマー層がこすりにより損なわれなかったことが確認された。
以上、実施例によれば、本発明の導電性パターンは、導電性材料として導電性微粒子または導電性ポリマーのいずれを用いた場合でも、導電性と、耐磨耗性が容易に得られることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明により得られる導電性パターンは、精細なパターン形成が可能で、導電性、耐久性に優れた金属微粒子分散層が所望の微細なパターン状に形成されうるため、金属配線材料や電磁波シールドの如く、高い導電性と任意の高精細なパターン形成を必要とする材料、例えば、マイクロマシンや超ＬＳＩなどの回路形成を含む回路形成用途への適用、ＣＲＴやプラズマディスプレイにつける電磁波シールドフィルター、ディスプレイ用透明電極、調光デバイス、太陽電池、タッチパネルその他の透明導電膜などの広範な用途に適用できる。