(57)【要約】【課題】透明性および耐磨耗性に優れ、指先が接触した時の指滑り性に優れ、さらにアンチグレア機能を有し、さらに低コストで製造可能なタッチパネル用ガラスとその製造方法の提供。【解決手段】ガラス基板と、ガラス基板上に形成された透明層とを有するタッチパネル用ガラスであって、透明層の表面における十点平均粗さＲｚが０．５〜６．０μｍであるタッチパネル用ガラス、または算術平均粗さＲａが０．０５〜０．２０μｍであるタッチパネル用ガラス。【選択図】図１
2005038288.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板と、前記ガラス基板上に形成された透明層とを有するタッチパネル用ガラスであって、前記透明層の表面における十点平均粗さＲｚが０．５〜６．０μｍであることを特徴とするタッチパネル用ガラス。
【請求項２】
ガラス基板と、前記ガラス基板上に形成された透明層とを有するタッチパネル用ガラスであって、前記透明層の表面における算術平均粗さＲａが０．０５〜０．２０μｍであることを特徴とするタッチパネル用ガラス。
【請求項３】
前記透明層がシリカ膜である請求項１または２に記載のタッチパネル用ガラス。
【請求項４】
４０〜９０℃に予熱したガラス基板上に、ＳｉＯ２換算で０．５〜７．０質量％のシリカ前駆体を含む塗布液を塗布し、１００〜７００℃で焼成することによりガラス基板上にシリカ膜を形成することを特徴とするタッチパネル用ガラスの製造方法。
【請求項５】
前記シリカ前駆体として、テトラアルコキシシランまたはその部分加水分解物と、テトラアルコキシシラン以外のアルコキシシランまたはその部分加水分解物とを含む請求項４に記載のタッチパネル用ガラスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネルの接触面として用いられるタッチパネル用ガラスおよびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルの機能は、人体の指先または他の物体等の媒体をタッチパネル表面の特定位置に接触させ、その接触位置を検出することにある。接触位置を検出する方法としては、抵抗膜および導電性フィルムを使用する方法と赤外線、超音波または静電容量を使用する方法とに大別されている。
【０００３】
抵抗膜および導電性フィルムを使用する方法では、指先でパネル表面を押すことによりパネルの裏面に形成された抵抗膜が導電性フィルムに接触し、その導電性フィルムの抵抗値が変化することを利用している。小型化、薄型化、かつ低消費電力化が可能である利点がある一方で、応答時間、感度、耐久性等の点で問題があった。さらに抵抗膜を貼り付ける透明基板としてフィルムを用いているため、フィルムの劣化に伴い光の透過率が著しく低下し表示品質が劣化する問題があった（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
これに対し、赤外線を使用する方法では、透明基板上に赤外線を透明基板表面とほぼ平行に通し、指先の接触等で赤外線が遮蔽されることにより位置を検出することを利用している。また、超音波を使用する方法では、表面弾性波を透明基板上に励振させその表面波の伝播特性が指先の接触等によって変化することを利用している。それゆえ、抵抗膜等を形成する必要がなく光の透過率が非常に高くなり、表示品質が劣化せず、応答時間、感度、耐久性等の点も優れている。
【０００５】
タッチパネルに用いられる透明基板上には、従来、蛍光灯の映り込み等によって表示面の映像が見え難くなることを防止するために、アンチグレア（ＡＧ）機能や反射防止（ＡＲ）機能を付加することが行なわれてきた。
【０００６】
ＡＧ機能を付加する方法としては、フッ酸等によるエッチング処理により透明基板表面に凹凸面を形成する方法、表面が凹凸形状をしたプラスチックフィルムを透明基板表面に貼り付ける方法等が知られている。
【０００７】
しかし、エッチング処理により凹凸を形成する方法は、製法上高価であり、またＡＧ効果の度合も制御しがたい等の問題があった。また、プラスチックフィルムを貼り付ける方法は、プラスチックフィルムの耐摩耗性が低く、今後の需要の増加が見込まれる超音波を使用する方法のタッチパネルには使用しがたい等の問題があった。
【０００８】
そこで、ＡＲ機能を付加するために、微粒子をゾルゲル法による調製後のゾル液に混合し、それを基板上に塗布することにより低反射膜を形成し焼成する方法が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。しかし、上記低反射膜は、多孔質化されているため耐磨耗性が劣る問題があった。
【０００９】
【特許文献１】特開２００２−１９６８７６号公報
【００１０】
【特許文献２】特開平１０−１３３００２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、指滑り性に優れ、ＡＧ機能を有し、かつ透明性に優れ、低コストで製造可能なタッチパネル用ガラスを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
すなわち、本発明は、下記（１）〜（５）を提供する。
（１）ガラス基板と、前記ガラス基板上に形成された透明層とを有するタッチパネル用ガラスであって、前記透明層の表面における十点平均粗さＲｚが０．５〜６．０μｍであることを特徴とするタッチパネル用ガラス。
（２）ガラス基板と、前記ガラス基板上に形成された透明層とを有するタッチパネル用ガラスであって、前記透明層の表面における算術平均粗さＲａが０．０５〜０．２０μｍであることを特徴とするタッチパネル用ガラス。
（３）前記透明層がシリカ膜である請求項１または２に記載のタッチパネル用ガラス。
（４）４０〜９０℃に予熱したガラス基板上に、ＳｉＯ２換算で０．５〜７．０質量％のシリカ前駆体を含む塗布液を塗布し、１００〜７００℃で焼成することによりガラス基板上にシリカ膜を形成することを特徴とするタッチパネル用ガラスの製造方法。
（５）前記シリカ前駆体として、テトラアルコキシシランまたはその部分加水分解物と、テトラアルコキシシラン以外のアルコキシシランまたはその部分加水分解物とを含む請求項４に記載のタッチパネル用ガラスの製造方法。
【発明の効果】
【００１３】
本発明のタッチパネル用ガラスは、指滑り性に優れ、さらにＡＧ機能を有するため有用である。特に、赤外線、超音波または静電容量を利用したタッチパネル用のガラスとして有用である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
本発明のタッチパネル用ガラス（以下、「本発明のガラス」ともいう。）は、ガラス基板と、前記ガラス基板上に形成された透明層とを有するタッチパネル用ガラスであって、前記透明層の表面における十点平均粗さＲｚが０．５〜６．０μｍ、または前記透明層の表面における算術平均粗さＲａが０．０５〜０．２０μｍであるタッチパネル用ガラスである。
【００１５】
以下に、本発明のガラスの構成を示す好適な一例について概略断面図である図１を用いて説明するが、本発明のガラスはこれに限定されない。
【００１６】
図１に示されるように、指先１５の接触による入力が可能な赤外線を使用するタッチパネルは、ガラス基板５とガラス基板５上に形成された透明層３とを有するタッチパネル用ガラス１、ベゼル７・８、レンズ９・１０、発光ダイオード１１、検出回路１３・１４、およびフォトトランジスタ１７により構成されている。発光ダイオード１１から発振された赤外線が、レンズ９により拡大され、タッチパネル用ガラス１の表面とほぼ平行に通され、再びレンズ１０により縮小されフォトトランジスタ１７によって感知される。この表面とほぼ平行に通されている赤外線を指先１５によって遮断することにより、その部分の赤外線がフォトトランジスタ１７により感知されなくなることを利用してパネル上での指先１５の接触位置を検出する。このとき、検出回路１３・１４により、その位置検出の精度を上げることができる。レンズ９・１０、発光ダイオード１１、検出回路１３・１４、およびフォトトランジスタ１７の各構成部品は、ベゼル７・８により保護されている。
【００１７】
ガラス基板としては、無色透明なガラスであれば特に組成等の種類は限定されないが、例えば、無色透明なソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、リチウムアルミノシリケートガラス、石英ガラス、無アルカリガラス、その他の各種ガラスからなる透明ガラス板等を用いることができる。これらのうち、ソーダライムシリケートガラスを用いることが膜密着性の点で好ましい。ガラス基板の可視光透過率は８５％以上であることが、視認性の点で好ましい。
【００１８】
ガラス基板の板厚は０．３〜１０．０ｍｍであることが好ましい。ガラス基板の板厚がこの範囲であると、ガラスの強度、板厚および重量のバランスに優れる。特に好ましくは１．１〜５．０ｍｍである。上記ガラス基板は、特に平面状のものである必要はなく、本発明の効果を奏する範囲において、曲面状や異形状のガラス基板を用いてもよい。
【００１９】
上記透明層としては、屈折率が１．３〜１．５の低屈折率膜が好適に用いられ、具体的には、シリカ膜が好適に例示される。上記透明層は、タッチパネルの機能を阻害しない程度の透明性が要求される。具体的には、透明層を形成したガラス基板の可視光透過率が８５％以上、特に９０％以上であることが好ましい。
【００２０】
また、透明層に帯電防止機能や電磁波遮蔽機能を持たせるために、透明層にＡｇ、Ｒｕ、ＡｇとＰｄとの合金、ＲｕとＡｕとの合金等の金属導電性微粒子やＳｎドープＩｎ２Ｏ３（ＩＴＯ）、ＳｂドープＳｎＯ２（ＡＴＯ）等の酸化物導電性微粒子を含有させることもできる。また、透過率の調整やコントラストの向上のため、有機顔料や染料を含有させることもできる。さらに、撥水性を持たせるための撥水剤、紫外線や赤外線による劣化の防止のためのＴｉＯ２等の紫外線吸収剤や赤外線吸収剤、反射率低減のための低屈折率材料をそれぞれ含有させることもできる。透明層を形成する塗布液に上記添加物を添加することにより、他の塗布液を製造・塗布することなく、１層のみの塗布によって電磁波遮蔽等の機能を付与でき、製造コストを低減できる。
【００２１】
タッチパネル用ガラスは、接触位置を正確に認識する必要があるため、接触したときに滑りすぎず、かつ引っかかりのない性質、つまり指滑り性が要求される。本発明者は、鋭意検討した結果、指滑り性が上記透明層の表面における算術平均粗さＲａおよび十点平均粗さＲｚに関係することを見出し、特にこれらを下記の範囲とすることにより、タッチパネル用ガラス用途としての指滑り性が優れたものになることを見出した。なお、算術平均粗さＲａおよび十点平均粗さＲｚは、ＪＩＳ−Ｂ０６０１（１９９４年）により定義された値である。本発明のタッチパネル用ガラスの透明層の表面における十点平均粗さＲｚは０．５〜６．０μｍ、好ましくは０．５〜２．５μｍであり、算術平均粗さＲａは０．０５〜０．２０μｍ、好ましくは０．０８〜０．２０μｍである。
【００２２】
タッチパネル用ガラスの表面にＡＧ機能を付与するために、ガラス基板表面に光沢を持たせることが好ましい。光沢は、６０°鏡面光沢度を用いて表すことができ、塗布液やガラス基板の予熱温度等を調整することで制御できる。６０°鏡面光沢度とは、ガラス基板表面と垂直な線に対する入射角が６０°の光に対する光沢度を意味し、１０〜９０％であることが好ましい。上記範囲外では、ＡＧ機能が不充分である。特に好ましくは、３０〜７０％である。
【００２３】
透明層としてシリカ膜を形成する場合、塗布液としてシリカの前駆体を含む溶液が用いられ、具体的にはアルコキシシランまたはその部分加水分解物を含む溶液が好ましく用いられる。アルコキシシランまたはその部分加水分解物としては、Ｓｉ（ＯＲ）４（Ｒはアルキル基）で示されるテトラアルコキシシランまたはそれらの部分加水分解物が好ましい。前記テトラアルコキシシランとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン等が例示される。アルコキシシランの部分加水分解物としては、テトラアルコキシシランが部分加水分解してその２〜２０分子が縮重合した低重合体などが挙げられる。テトラアルコキシシランの部分加水分解物の典型例として、エチルシリケート４０（商品名）が挙げられる。このエチルシリケート４０は、（Ｃ２Ｈ５Ｏ）３Ｓｉ（ＯＳｉ（ＯＣ２Ｈ５）２）ｎＯＣ２Ｈ５（ｎの平均値は約５）で示されるテトラエトキシシラン低重合体を主成分とし、ＳｉＯ２の含有量は約４０質量％である。
【００２４】
上記塗布液中のシリカ前駆体の濃度は、ＳｉＯ２換算で０．５〜７．０質量％であることが、適当な塗布時間により透明膜の表面粗さを適当な値に制御できる点で好ましい。
【００２５】
塗布液の溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられ、具体的には沸点が１２０℃以下の有機溶媒が好ましく用いられる。前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類、酢酸メチル、酢酸エチル等のカルボン酸エステル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類等が挙げられ、１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２６】
また、上記有機溶媒に、沸点が１２０〜１８０℃の中沸点溶媒や沸点が１８０℃超の高沸点溶媒を添加してもよい。この中沸点溶媒や高沸点溶媒を添加することにより、指滑り性に優れ、かつＡＧ機能を有する透明層を形成することが可能となる。中沸点溶媒の添加量は、塗布液中に０．１〜５０質量％であることが好ましく、高沸点溶媒の添加量は、塗布液中に０．１〜３０質量％であることが好ましい。中沸点溶媒および低沸点溶媒の添加量が少なすぎると指滑り性が不充分であり、多すぎると効果的なＡＧ機能が付与しにくくなり好ましくない。中沸点溶媒としてはジアセトンアルコールが、高沸点溶媒としてはエチレングリコール、プロピレンアルコールが例示される。
【００２７】
塗布液中にテトラアルコキシシランまたはそれらの部分加水分解物が含まれている場合、この塗布液中には、シリカ前駆体としてさらにテトラアルコキシシラン以外のアルコキシシラン（「テトラアルコキシシラン以外のアルコキシシラン」を以下、「他のアルコキシシラン」という。）またはその部分加水分解物が含まれていることが好ましい。他のアルコキシシランの具体例としては、ＸｎＳｉ（ＯＲ）４−ｎ（ｎ＝１〜３、Ｒはアルキル基、Ｘはアルコキシ基以外の１価基。）や２量体である（ＲＯ）３−ｍＸｍＳｉ−Ｙ−ＳｉＸｍ（ＯＲ）３−ｍ（ｍ＝０〜２、Ｒはアルキル基、Ｙは２価基（ただし、両結合末端原子は酸素ではない。）。）で示される化合物が例示される。
【００２８】
ここで、１価基Ｘとしては、ビニル基、スチリル基、エポキシ基含有基（３−グリシドキシプロピル基、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル基等）、メタクリロイルオキシ基含有基（３−メタクリロキシプロピル基等）、アクリロキシ基含有基（３−アクリロキシプロピル基等）、ウレイド基含有基（３−ウレイドプロピル基等）、メルカプト基含有基（３−メルカプトプロピル基等）、スルフィド基含有基（ビス（トリエトキシシリルプロピル）テトラスルフィド等）、イソシアネート基含有基（３−イソシアネートプロピル基等）、アルコキシシリル基含有基（トリメトキシシリルヘキシル基等）、アルキル基（メチル基、エチル基等）、アリール基（フェニル基等）が例示される。
【００２９】
また、２価基Ｙとしては、ポリメチレン基（エチレン基、トリメチレン基、ヘキサメチレン基等）、ポリメチレン基の水素をハロゲンで置換したハロゲン化ポリメチレン基、または１価基Ｘの水素を抜き２価基としたものが例示される。
【００３０】
塗布液中の他のアルコキシシランの濃度は、ＳｉＯ２換算で０．０１〜０．５質量％であることが好ましい。０．０１質量％未満では、適当な指滑り性が得られにくく、０．５質量％超では、塗膜の耐磨耗性が不充分になるおそれがある。
【００３１】
上記塗布液中に樹脂成分を含んでもよい。樹脂成分とは、有機化合物を主成分とする高分子化合物を意味し、具体的にはアクリル樹脂が例示される。塗布液中に樹脂成分を含ませることにより指滑り性が良好となるが、そのメカニズムは明確ではない。しかし、樹脂成分を含有させることで塗布液中の溶媒が蒸発する速度を調整でき、その結果、塗布液中に含まれるシリカ粒子と樹脂成分とが相互作用することにより指滑り性が発現すると推測している。樹脂成分としてアクリル樹脂を用いる場合、他のアルコキシシランとして３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシランを用いることが塗膜の耐磨耗性と指滑り性の点で特に好ましい。
【００３２】
上記塗布液としては、具体的には、エチレングリコールを１〜２０質量％好ましくは３〜１５質量％、エタノールを５０〜９０質量％、およびイソプロピルアルコールを５〜４０質量％、その他メタノールやメチルエチルケトンを少量の割合で混合した混合溶媒１００ｍｌに対し、テトラエトキシシランまたはその加水分解物をＳｉＯ２換算で０．００２８〜０．１ｍｏｌ、１．６−ビストリメトキシシリルヘキサンを０．００１〜０．０３ｍｏｌ、水をテトラエトキシシランまたはその加水分解物に対し１２〜２４倍ｍｏｌ、塩酸、硫酸、硝酸等の酸を触媒量含有させてなる塗布液が適度なＡＧ機能、ガラスと透明層との密着性および指滑り性の点で好ましく例示される。ＳｉＯ２の含有割合がこの範囲であれば、透明層の形成時間を短縮でき、さらに透明層のＡＧ機能が優れる点で好ましい。また、水の含有割合がこの範囲であれば、形成される透明層の表面の算術平均粗さＲａを上述した０．０５〜０．２０μｍの範囲とできることから好ましい。
【００３３】
透明層の好ましい形成方法は以下のとおりである。ガラス基板を４０〜９０℃の範囲内になるように予熱し、ガラス基板表面に上記塗布液をスプレーで吹き付けて塗布し、塗布後に１００〜７００℃、好ましくは２５０〜３５０℃で５〜６０分、好ましくは１５〜３０分大気中で加熱焼成する。ガラス基板の予熱温度が上記範囲であれば、塗布した塗布液がガラス基板表面上で適当な濡れ状態となるため、ＡＧ機能を有する透明層を形成でき、さらに加熱焼成後に形成されるガラス基板と透明層との密着性が良好となる点で好ましい。また、加熱焼成の温度および加熱時間がこの範囲であれば、ガラス基板と透明層との密着性が良好となり、さらに得られる本発明のタッチパネル用ガラスが実用上充分な耐磨耗性を有することから好ましい。
【００３４】
本発明のタッチパネル用ガラスは、上述した製造方法により透明層を形成したガラス基板をそのまま使用することもできるし、必要に応じて透明層を形成したガラス基板を切断・面取りし、使用することもできる。なお、透明層を形成する前のガラス基板を切断・面取りし、その後透明層を形成してもよい。
【００３５】
本発明のタッチパネル用ガラスは、耐磨耗性に優れ、指滑り性に優れ、さらにＡＧ機能を有するため有用である。これは、多孔質化されていないため耐磨耗性に優れ、また十点平均粗さＲｚまたは算術平均粗さＲａが上述した範囲にあることから、タッチパネルに対して指滑り性が良好、つまり指先が滑りすぎず、かつ引っかかりもなく、さらに光沢が上述した範囲にあり表面がギラつかないためであると考えられる。
【００３６】
本発明のタッチパネル用ガラスは、ガラス基板を用いていることからプラスチックや樹脂フィルム等と比較して耐久性、耐熱性、耐薬品性にも優れ、使用環境における温度の影響を受けず、アルコール洗浄が可能であるという利点を有する。特に、本発明のタッチパネル用ガラスは、赤外線、超音波や静電容量を利用したタッチパネル用のガラスとして有用である。
【実施例】
【００３７】
以下に、実施例（例１）および比較例（例２〜４）を挙げて本発明のタッチパネル用ガラスについて詳細に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。
【００３８】
（塗布液の調整）
メタノール１ｇ、エタノール６８．３ｇ、メチルエチルケトン１ｇ、イソプロピルアルコール８ｇ、エチレングリコール７ｇ、水７ｇ、６１％硝酸１．１ｇの混合溶媒に対し、テトラエトキシシラン（商品名：エチルシリケート４０、多摩化学工業社製）を６ｇ、１，６−ビストリメトキシシリルヘキサン０．６ｇを混合し、撹拌して塗布液を得た。塗布液中のシリカ分は、ＳｉＯ２換算で、２．６質量％（１，６−ビストリメトキシシリルヘキサン由来のシリカ分は０．２質量％）であった。
【００３９】
（例１）
塗布液５０ｍｌを、７０℃の面温になるように予熱したソーダライムシリケートガラス（面積：０．１ｍ２、厚さ：２．７ｍｍ）からなるガラス基板の表面にスプレーで吹き付けて塗布した後、３００℃で３０分間、大気中で加熱焼成することによりシリカ膜（屈折率＝１．４）を形成し、タッチパネル用ガラスを得た。
【００４０】
（例２）
ガラス基板を９５℃の面温となるように予熱した以外は、例１と同様に処理してタッチパネル用ガラスを得た。
【００４１】
（例３）
ガラス基板を３５℃の面温となるように予熱した以外は、例１と同様に処理してタッチパネル用ガラスを得た。
【００４２】
（例４）
ガラス基板そのものをタッチパネル用ガラスとして用いた。
【００４３】
得られたタッチパネル用ガラスおよびガラス基板の表面粗さ（算術平均粗さＲａおよび十点平均粗さＲｚ）、指滑り性、６０°鏡面光沢度、可視光透過率を測定し、評価した。結果を表１に示す。また、表面粗さ、指滑り性、６０°鏡面光沢度および可視光透過率は下記の方法で測定した。
【００４４】
（表面粗さ）
ＪＩＳ−Ｂ０６０１（１９９４年）に記載の方法により、表面粗さ（算術平均粗さＲａおよび十点平均粗さＲｚ）を測定した。表面粗さの測定は、表面粗さ測定機（サーフコム１４００Ｄ：東京精密社製）を用いて、スキャン長さ＝５．０ｍｍ、カットオフ値＝０．８ｍｍ、触針＝５μｍＲ、４ｍＮの測定条件下で、任意の４つの測定点で測定し、平均を算出した。
【００４５】
（指滑り性）
指滑り性は、次に示す官能試験を行い評価した。すなわち、各例１〜４までのタッチパネル用ガラスの表面を、乾燥した人差し指で軽く滑らせ、滑りすぎず、かつ引っかかりがなく移動が可能であったかどうかを５段階（１〜５点）で評価した。評価は、１０人の被験者の平均値が３．５以上であれば○とし、１．５以上３．５未満であれば△とし、１．５未満であれば×とした。
【００４６】
（６０°鏡面光沢度）
ＪＩＳ−Ｚ８７４１（１９９７年）に記載の方法により、鏡面光沢度測定機（デジタル変角光沢計ＵＧＶ−５Ｋ、およびＳＭカラーコンピューターＳＭ−５、いずれもスガ試験機社製）を用いて、ガラス基板の裏面に黒色塗料を塗り裏面の反射防止処理を行なった上で、試料の中心点の６０°鏡面光沢度を測定した。
【００４７】
（可視光透過率）
ＪＩＳ−Ｒ３１０６（１９９８年）に記載の方法により、分光光度計（ＵＶ−３１００ＰＣ、島津製作所製）を用い、試料の中心部の可視光透過率を測定した。
【００４８】
【表１】
2005038288.tif 000003
【００４９】
表１に示す結果から、算術平均粗さＲａおよび十点平均粗さＲｚを適当な範囲とすることにより、指滑り性が良好な値となっていることが分かる。また、本発明のタッチパネル用ガラスは、６０°鏡面光沢度が適当な範囲となっているため充分なＡＧ機能を有し、可視光透過率が高く透明性に優れることが分かる。
【産業上の利用可能性】
【００５０】
本発明のタッチパネル用ガラスは、透明性および指滑り性に優れ、さらにＡＧ機能を有し、特に、赤外線、超音波または静電容量を利用したタッチパネル用のガラスとして有用である。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】タッチパネル装置の一例を示す概略断面図。
【符号の説明】
【００５２】
１：タッチパネル用ガラス
３：透明層
５：ガラス基板
７、８：ベゼル
９、１０：レンズ
１１：発光ダイオード
１３、１４：検出回路
１５：指先
１７：フォトトランジスタ
【図１】
2005038288.tif 000004