(57)【要約】【課題】  光ファイバアレイの良好な伝送特性を維持することができる。【解決手段】  光ファイバアレイ１０は、光ファイバ２４を収容する収容溝３４が形成されている基板３０と、収容溝３４に収容された光ファイバ２４を覆う蓋板１２と、光ファイバ２４を収容溝３４に収容した基板３０と蓋板１２とを接合する接着層１６とを備えている。基板３０には、光ファイバ２４を収容する収容溝３４から基板３０の端部までの間に接着層１６が入り込む接着溝３６が形成されている。この接着溝３６は、断面略Ｖ字状に形成し、収容溝３４に略平行に形成されている。また、接着溝３６は、収容溝３４のうち最外部の収容溝３４ａの近傍（接着溝３６ａ）や基板３０の端部の近傍（接着溝３６ｂ）に形成されている。接着溝３６は、収容溝３４のうち最外部の収容溝３４ａから基板３０の端部までの間に少なくとも１つ形成することが好ましく、複数形成してもよい。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバを収容する収容溝が形成されている基板と、
前記収容溝に収容された光ファイバを覆う蓋板と、
前記光ファイバを前記収容溝に収容した前記基板と前記蓋板とを接合する接着層と、
を備え、
前記基板は、前記収容溝のうち最外部の収容溝から該基板の端部までの間に前記接着層が入り込む接着溝が形成されている、
光ファイバアレイ。
【請求項２】
前記接着溝は、断面略Ｖ字状に形成されている、請求項１に記載の光ファイバアレイ。
【請求項３】
前記接着溝は前記収容溝に略平行に形成されている、請求項１又は２に記載の光ファイバアレイ。
【請求項４】
前記接着溝は、前記収容溝のうち最外部の収容溝の近傍に形成されている、請求項１〜３のいずれかに記載の光ファイバアレイ。
【請求項５】
前記接着溝は、前記基板端部の近傍に形成されている、請求項１〜４のいずれかに記載の光ファイバアレイ。
【請求項６】
前記接着溝は、前記収容溝の深さの５％〜２００％の深さで形成されている、請求項１〜５のいずれかに記載の光ファイバアレイ。
【請求項７】
前記接着層は、光硬化性樹脂により形成され、前記基板及び前記蓋板の少なくとも一方は、光を透過可能な材質により形成されている、請求項１〜６のいずれかに記載の光ファイバアレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ファイバアレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、光ファイバアレイとしては、光ファイバを収容する収容溝が形成された基板と光ファイバを覆う蓋板とを接着剤により接合するものにおいて、基板と蓋板との距離などの関係を規定して接着性を高めるものが知られている（例えば、特許文献１参照）。この特許文献１に記載された光ファイバアレイは、最外部の収容溝から基板の端部までの距離と、基板と蓋板との距離Ｙと、収容した光ファイバと収容溝との接点から蓋板までの距離Ｌとを一定の範囲とすることにより接着強度を高めて光ファイバが収容溝の中心位置からずれないようにして光信号の伝送特性の低下を防止する。また、この種の光ファイバアレイとしては、基板と蓋板とを接着する際に接着面を工夫して接着強度を高めるものが知られている（例えば、特許文献２参照）。この特許文献２に記載された光ファイバアレイは、基板に形成された光ファイバを収容する収容溝から基板の端部までの間の表面を粗面に処理して接着面積を大きくして接着性を高めて光信号の伝送特性の低下を防止する。
【特許文献１】特開２００１−３４３５４７号公報
【特許文献２】特開平１１−１４２６７３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、接着層を形成する接着剤は、基板や蓋板を形成しているガラスなどに比べ熱膨張係数が大きく、接着層の硬化収縮や温度変化などが生じたときには、接着層と基板とが同じ挙動を示さないため、光ファイバに接着層の動きによる圧縮又は引っ張り応力が働くことになる。このとき、特許文献１に記載された光ファイバアレイでは、基板と蓋板との距離などの関係を規定して基板と蓋板の接着性を高めてはいるものの、基板や蓋板の接着面が鏡面研磨されているため、接着層の硬化収縮や温度変化による膨張・収縮などで接着層に動きが生じたときには、接着性が十分ではなく十分伝送特性を維持することができないことがあった。
【０００４】
また、この特許文献２に記載された光ファイバアレイでは、接着面を粗面として接着面積が大きくなるようにしているため基板と接着層との接着性は高まるものの、接着層の硬化収縮や温度変化による膨張・収縮などで接着層に大きな動きが生じたときには、この接着層の動きを規制しにくく、接着性が十分ではなく十分に伝送特性を維持することができないことがあった。
【０００５】
本発明は、このような課題に鑑みなされたものであり、良好な伝送特性を維持することができる光ファイバアレイを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の光ファイバアレイは、上述の目的を達成するために以下の手段を採った。すなわち、本発明の光ファイバアレイは、
光ファイバを収容する収容溝が形成されている基板と、
前記収容溝に収容された光ファイバを覆う蓋板と、
前記光ファイバを前記収容溝に収容した前記基板と前記蓋板とを接合する接着層と、
を備え、
前記基板は、前記収容溝のうち最外部の収容溝から該基板の端部までの間に前記接着層が入り込む接着溝が形成されているものである。
【０００７】
この光ファイバアレイによれば、収容溝から基板の端部までの間に形成された接着溝に接着層が入り込むため基板と蓋板との接着面積が増加する。また、硬化収縮や熱による膨張・収縮が接着層で起きることがあるが、基板の方が接着層よりも剛性が高いため、接着層が接着溝に入り込み接着層の膨張・収縮により発生する接着層の動きを接着溝の形成面によって規制する。このように、接着性が高まり光ファイバが収容溝でずれないようになるため、良好な伝送特性を維持することができる。
【０００８】
本発明の光ファイバアレイにおいて、接着溝は、特に限定されるものではないが、断面略Ｖ字状に形成することが好ましい。こうすれば、比較的簡単に基板の表面に接着溝を形成することができる。このとき、断面略Ｖ字状に形成された接着溝の形成面と形成面とのなす角度θは、５５°〜９５°であることが好ましく、６５°〜８５°がより好ましく、６０°〜８０°が最も好ましい。この角度θが５５°未満ではＶ字の底の部分まで接着剤が充填されにくくＶ字の底を起点としてクラックや接着層の剥がれが発生することがあり、角度θが９５°を超えると、接着溝の形成面によって接着層の動きを規制しにくくなる。
【０００９】
本発明の光ファイバアレイにおいて、接着溝は、特に限定されるものではないが、光ファイバを収容する収容溝に略平行に形成してもよい。こうすれば、収容溝を形成させる際の走査方向と接着溝を形成させる際の走査方向が略同じとなるため、接着溝を形成しやすい。
【００１０】
本発明の光ファイバアレイにおいて、接着溝は、特に限定されるものではないが、収容溝のうち最外部の収容溝の近傍に形成することが好ましい。こうすれば、接着層の膨張・収縮による応力はこの最外部の収容溝近傍の接着面などに大きくかかることがあるため、この応力を接着溝の形成面が緩和して接着強度を高めやすい。また、接着溝は、基板の端部の近傍に形成することが好ましい。こうすれば、基板の端部では、外境にされているので基板と接着層との間に水分が浸入したりして接着性の低下が起こることがあるため、基板の端部の接着面積を大きくして接着性が高まることにより、良好な伝送特性を維持することができる。
【００１１】
本発明の光ファイバアレイにおいて、接着溝は、特に限定されるものではないが、収容溝のうち最外部の収容溝から基板の端部までの間に少なくとも１つ形成することが好ましく、複数形成してもよい。接着溝は、１つだけ形成したときでも接着層が接着溝に入り込み接着面積が大きくなると共に接着層の膨張・収縮により発生する接着層の動きを接着溝の形成面によって規制して接着性を高めて良好な伝送特性を維持することができ、接着溝を複数形成したときも接着性を高めて良好な伝送特性を維持することができる。ここで、最外部の収容溝の開口縁から基板の端部までの間の幅を基板端部幅Ｗとし、最外部の収容溝の開口縁から基板の端部までの間に接着溝が複数形成されているときにはそれらの接着溝の幅の和を総接着溝幅Ｇとし、Ｇ／Ｗの値を占有比と規定したときに、占有比Ｇ／Ｗの値は０．０３〜１．０の範囲であることが好ましい。Ｇ／Ｗの値が０．０３未満では、接着溝の形成された領域が小さいため、接着溝の形成面により接着層の動きを規制しにくくなる。
【００１２】
本発明の光ファイバアレイにおいて、接着溝は、収容溝の深さの５％〜２００％の深さで形成することが好ましい。接着溝の深さが収容溝の深さの５％よりも浅いと接着層の動きを規制しにくくなり、接着溝の深さが収容溝の深さの２００％よりも深いと接着層の充填が難しくなることがあり接着性が低下することがある。
【００１３】
本発明の光ファイバアレイにおいて、基板と蓋板を接合する接着層は、基板と蓋板とを接合して光ファイバを固定可能なものであれば特に限定されるものではないが、例えば熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、光硬化性樹脂から選ばれる１種又は２種以上の樹脂が挙げられ、このうち光硬化性樹脂により形成することが好ましい。光硬化性樹脂を用いるときには、基板及び蓋板の少なくとも一方は、光を透過可能な材質により形成されていることが好ましい。こうすれば、光硬化性樹脂を硬化させる際に照射する光が基板及び／又は蓋板を透過し、接着溝によって反射して散乱し硬化度が進んだり硬化状態が均一になり易いため、光硬化性樹脂の接着性を高めることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
次に、本発明を実施するための最良の形態を図面に基づいて説明する。図１は、本実施形態の光ファイバアレイ１０の正面図であり、図２は、光ファイバアレイ１０の端部の部分拡大図であり、図３は、光ファイバアレイ１０の分解斜視図である。光ファイバアレイ１０は、図３に示すように、光ファイバリボン２０から引き出された光ファイバ２４と、光ファイバ２４を収容する収容溝３４が形成されている基板３０と、収容溝３４に収容された光ファイバ２４を覆う蓋板１２と、基板２０と蓋板１２とを接合する接着層１６（図２参照）とを備えている。なお、この光ファイバアレイ１０は、二段に重ねた光ファイバリボン２０から引き出された光ファイバ２４を基板３０と蓋板１２とにより固定するようにしているが（図３参照）、配置の仕方はこれに限定されるものではなく、一段の光ファイバリボン２０や多段の光ファイバリボン２０から引き出された光ファイバ２４を基板３０と蓋板１２とにより固定するようにしてもよい。
【００１５】
光ファイバリボン２０は、一次被覆部２２により被覆した光ファイバ２４を数本束ねて（例えば８本など）二次被覆部２３により被覆したものであり、リボン状に成形されている。光ファイバ２４は、ガラスで構成され光信号を伝送するファイバであり、光信号を伝送するコア２４ａの周りにコア２４ａと屈折率の異なるガラス層であるクラッド２４ｂが形成されている（図２参照）。この一次被覆部２２及び二次被覆部２３は、光ファイバ２４を被覆して保護するものであり、ＵＶアクリル樹脂により形成されている。なお、一次被覆部２２により被覆された光ファイバ２４の直径は約２５０μｍであり、光ファイバ２４の直径は約１２５μｍであり、コア２４ａの直径は約９μｍである。また、ここではリボン状のものを用いたが、光ファイバ２４を引き出すことができるものであれば特に限定されず、例えば多芯ケーブルなどを用いることができる。
【００１６】
基板３０は、光ファイバリボン２０から引き出された光ファイバ２４を固定する部材である。基板３０の材質としては、外形加工をした際に平坦性に優れ形状保持性の高いものであれば特に限定されることはないが、例えば、ガラス、シリコン及びセラミックなどの無機材料や、銅、鉄及びニッケルなどの金属材料や、エンジニアリングプラスチックなどの有機材料などが挙げられ、なかでも熱や湿度によって変形しにくい無機材料が好ましく、ここでは透明なガラスにより形成されている。基板３０の幅は、２〜１５ｍｍ（好ましくは５〜９ｍｍ）の範囲に形成され、基板３０の長さ（光ファイバ２４の軸方向の長さ）は、５〜２０ｍｍ（好ましくは１０〜１５ｍｍ）の範囲に形成され、基板３０の厚さは、０．５〜２．０ｍｍ（好ましくは１．０〜１．５ｍｍ）の範囲に形成されている。この基板３０は、光ファイバリボン２０から引き出された光ファイバ２４を設置するファイバ設置部３１と光ファイバリボン２０を設置するリボン設置部３２とを備える。
【００１７】
ファイバ設置部３１には、光ファイバ２４を収容する収容溝３４及び接着層１６が入り込む接着溝３６が形成されている。収容溝３４は、任意の配列ピッチ、例えば光ファイバ２４の直径と略同じ配列ピッチ（１２７μｍなど）でファイバ設置部３１の上面にリボン設置部３２側から手前側に向かって複数（例えば３２本など）設けられている。この収容溝３４は、光ファイバ２４を十分安定して固定できるように断面Ｖ字状に形成されている。具体的には、光ファイバ２４の直径よりも深い深さ（例えば１５０μｍなど）に形成され、且つ収容溝３４の形成面と形成面との角度θ１（図２参照）が５５°〜９５°の範囲（例えば７０°など）に形成されている。なお、説明の便宜上、最外部の収容溝３４を収容溝３４ａと称することとする。
【００１８】
接着溝３６は、最外部の収容溝３４ａの開口縁から基板３０の端部までの間に形成され接着層１６が入り込む溝である。なお、接着溝３６の形状は接着層１６が入り込むことにより接着面積を向上し接着層１６の膨張・収縮の動きを規制できる形状であれば特に限定されないが、ここでは断面Ｖ字状に形成されている。断面Ｖ字状に形成された接着溝３６の形成面と形成面との角度θ２（図２参照）は、５５°〜９５°であることが好ましく、６５°〜８５°がより好ましく、６０°〜８０°が最も好ましい。この角度θ２が５５°未満ではＶ字の底の部分まで接着剤が充填されにくくＶ字の底を起点としてクラックや接着層１６の剥がれが発生することがあり、角度θ２が９５°を超えると、接着溝３６の形成面によって接着層の動きを規制しにくくなる。ここでは角度θ２は７０°を採用している。この接着溝３６の深さは、収容溝３４の深さの５％以上であり収容溝３４の深さの２００％以下の範囲とすることが好ましく、ここでは、収容溝３４の深さ１５０μｍに対して、接着溝３６は１０μｍ〜３００μｍの範囲の深さに形成されている。接着溝の深さが収容溝の深さの５％よりも浅いと接着層の動きを規制しにくくなり、接着溝の深さが収容溝の深さの２００％よりも深いと接着剤の充填が難しくなることがあり接着性が低下することがある。この接着溝３６は、光ファイバを収容する収容溝３４に平行に形成されている。なお、接着溝３６を形成する方向はこれに特に限定されず、どのような方向に形成させてもよい。接着溝３６を形成させる位置としては、最外部の収容溝３４ａの近傍や基板３０の端部の近傍が好ましい。なお、説明の便宜上、収容溝３４ａの近傍に形成した接着溝３６を接着溝３６ａ、基板３０の端部の近傍に形成した接着溝３６を接着溝３６ｂと称することとする（図１及び図２参照）。ここで、収容溝３４ａの開口縁から基板３０の端部までの間の幅を基板端部幅Ｗとし、収容溝３４ａの開口縁から基板３０の端部までの間に接着溝３６が複数形成されているときにはそれらの接着溝３６の幅の和を総接着溝幅Ｇとし、Ｇ／Ｗの値を占有比と規定する。この占有比Ｇ／Ｗの値は０．０３〜１．０の範囲であることが好ましく、この範囲になるような接着溝３６の数を適宜選択してもよい。Ｇ／Ｗの値が０．０３未満では、接着溝の形成された領域が小さいため、接着溝の形成面により接着層の動きを規制しにくくなる。なお、図１〜３には複数の接着溝３６が連続して形成されているものを示したが、図４に示すように一定の間隔をあけて接着溝３６を形成してもよい。ここで、収容溝３４及び接着溝３６は、例えば溝を形成する方向に溝形成用装置（例えばダイシングソーなど）により基板３０を切削加工して形成することができるし、基板３０にレジスト処理を行ったあとに溝を形成する方向に写真法などでレジストを除去しエッチング処理を行い形成することができる。
【００１９】
リボン設置部３２は、光ファイバリボン２０を載せて固定する部分であり、光ファイバリボン２０から引き出された光ファイバ２４が収容溝３４に入るようにファイバ設置部３１に対して段差となるように形成された部分である。リボン設置部３２の長さ（光ファイバ２４の軸方向の長さ）は、例えば光ファイバリボン２０を安定して戴置させることができるように形成し、用いる光ファイバリボンなどの形状に合わせて適宜決めてもよい。また、リボン設置部３２の深さは、例えば１段目及び２段目の光ファイバリボン２０から引き出される光ファイバ２４の曲がり量が同じになるような範囲で形成されている。
【００２０】
蓋板１２は、収容溝３４に収容された光ファイバ２４を覆う部材である。この蓋板１２は、基板３０と同様の材質で形成することが好ましく、ここでは透明なガラスにより形成されている。この蓋板１２の幅は、基板３０と略同じ幅としてもよいが、基板３０よりも小さい方が好ましい。この蓋板１２の厚さは、基板３０と略同じ厚さに形成され、蓋板１２の長さ（光ファイバ２４の軸方向の長さ）は、２〜１０ｍｍ（好ましくは４〜１０ｍｍ）の範囲に形成されている。基板３０の厚さと蓋板１２の厚さとを略同じとすることにより光ファイバアレイ１０のそりを防止することができる。なお、蓋板１２からリボン設置部３２までの一次被覆部２２が除去された光ファイバ２４は接着層１６を形成する接着剤や他の接着剤などで覆いこれを保護するようにする。
【００２１】
接着層１６は、基板３０と蓋板１２とを接合して光ファイバ２４を固定する層である。接着層１６を形成するものとしては、基板３０と蓋板１２とを接合して光ファイバ２４を固定可能なものであれば特に限定されるものではないが、例えばエポキシ樹脂及びフェノール樹脂などの熱硬化性樹脂や、ポリスルフォン及びポリイミドなどの熱可塑性樹脂、アクリル樹脂及び紫外線硬化樹脂などの光硬化性樹脂から選ばれる１種又は２種以上の樹脂が挙げられるが、ここでは、光硬化性樹脂系の接着剤（ＵＶアクリル樹脂）によって形成されている。この接着層１６は、光ファイバ２４が収容された収容溝３４や接着溝３６に未硬化状態の接着剤を流し込み紫外線を照射することにより接着剤が硬化して形成される。光硬化性樹脂を用いたときには、光硬化性樹脂を硬化させる際に照射する光が接着溝３６によって反射して散乱し硬化状態が均一になり易い。なお、光硬化性樹脂を用いる際には、基板３０や蓋板１２は、光が透過しやすい透明な材質（例えばガラスなど）とすることが好ましい。また、接着層１６は、基板３０や蓋板１２よりも熱膨張係数が１桁以上大きく、温度の影響を受けて膨張・収縮する。
【００２２】
このように作製した光ファイバアレイ１０では、図２に示すように、収容溝３４ａから基板３０の端部までの間に形成された接着溝３６に接着層１６が入り込むため基板３０と蓋板１２との接着面積が増加する。また、接着剤の硬化収縮や熱による膨張・収縮が接着層１６で起きることがあるが、基板３０の方が接着層１６よりも剛性が高いため、接着層１６が接着溝３６に入り込み接着層３６の膨張・収縮により発生する接着層１６の動きを接着溝３６の形成面によって規制する。
【００２３】
以上詳述した本実施形態の光ファイバアレイ１０によれば、基板３０と蓋板１２との接着性が高まると共に光ファイバ２４が収容溝３４でずれないようになるため、良好な伝送特性を維持することができる。また、接着溝３６は、断面Ｖ字状であり光ファイバを収容する収容溝３４に平行に形成されているため、比較的簡単に基板３０に形成することができる。更に、接着層１６の膨張・収縮による応力は最外部の収容溝３４の近傍の接着面などに大きくかかることがあるが、収容溝３４ａの近傍に形成された接着溝３６ａの形成面がこの応力を緩和して接着性を高めることができる。更にまた、基板３０の端部に接着溝３６ｂが形成されているため、基板３０の端部の接着面積が大きくなるので基板３０と接着層１６との間への水分の浸入を防止可能となり、接着性を高めることができる。そしてまた、接着溝３６は、収容溝３４の深さの５％〜２００％の深さで形成されているため、接着層１６の動きを規制しやすく、接着性を高めることができる。そして更に、基板３０と蓋板１２とが光の透過性の高いガラスであり、接着層１６を形成する接着剤として光硬化性樹脂を用いたため、光硬化性樹脂を硬化させる際に照射する光が接着溝３６によって反射して散乱し硬化度が進んだり硬化状態が均一になり易く、光硬化性樹脂の接着性を高めることができる。
【実施例】
【００２４】
以下には、種々の条件で作成した光ファイバアレイの実施例及び比較例について説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されることはない。
【００２５】
［実施例１］
基板１０は、硼硅酸ガラスからなる平板から幅９ｍｍ×長さ１２ｍｍ×厚さ１．５ｍｍとなるように切削し、その後部にリボン設置部３２（長さ４ｍｍ）を形成した。次に、ファイバ設置部３１の中心から左右に１６本ずつ（合計３２本）配列ピッチが約１２７μｍの断面Ｖ字状の収容溝３４を形成した。収容溝３４は、θ１が７０°であり、深さは１５０μｍとし、長さ（光ファイバ２４の軸方向の長さ）を蓋板１２の長さと同じとした。形成した収容溝３４は、ファイバ設置部３１の中心から左右に３ｍｍ（合計約６ｍｍ）の範囲に形成した。次に最外部の収容溝３４ａの開口縁から基板１０の端部までの間に接着溝３６を形成した。なお、実施例１では、最外部の収容溝３４ａの近傍にのみ接着溝３６を形成した。つまり、接着溝３６ａを片側１本ずつ（合計２本）形成した。この接着溝３６は、θ２が７０°であり、深さは１０μｍとし、長さ（光ファイバ２４の軸方向の長さ）を蓋板１２の長さと同じとした。また、蓋板１２は、硼硅酸ガラスからなる平板から幅９ｍｍ×長さ５ｍｍ×厚さ１．５ｍｍとなるように切削して作製した。続いて、一次被覆された光ファイバ２４を８本束ねた光ファイバリボン２０を用意した。この光ファイバ２４は、石英ガラスによって形成されたファイバである。光ファイバリボン２０の一次被覆部２２（直径約２５０μｍ）及び二次被覆部２３をストリッパを用いて剥ぎ、光ファイバ２４を引き出した光ファイバリボン２０を４つ作製し、リボン設置部３２に左右、上下に配置して引き出した光ファイバ２４を収容溝３４に収容させた。そして、光ファイバ２４を収容させた収容溝３４や接着溝３６などに接着剤を流し込み、蓋板１２により固定した。接着剤は、ＵＶアクリル樹脂を用い、紫外線を照射することにより硬化させた。硬化した接着剤により接着層１６が形成された。最後に基板１０からはみ出た接着層１６や光ファイバ２４を切削又は研磨などして実施例１の光ファイバアレイ１０を得た。なお、切削や溝切などは、ダイアモンドカッタやダイヤモンドソーなどを用いて行った。この実施例１の光ファイバアレイ１０の占有比Ｇ／Ｗ、接着溝深さ、接着溝角度、収容溝深さ、収容溝角度の各数値等をまとめたものを図５の表に示す。なお、この図５の表には後述する実施例２〜８及び比較例１〜３に関する内容もまとめて示す。
【００２６】
［実施例２〜８］
実施例１と同様の蓋板１２、光ファイバ２４、接着剤を用い、図５の表に示した実施例２〜８の条件となる基板１０を作製し、実施例１に示したものと同様の工程を行い、図５の表に示した占有比Ｇ／Ｗ、接着溝深さ、接着溝角度、収容溝深さ、収容溝角度となるような光ファイバアレイ１０をそれぞれ作製し、得られた光ファイバアレイ１０を実施例２〜８とした。なお、全てのサンプルにおいてファイバ設置部３１及びリボン設置部３２の長さは同じとした。また、各実施例のサンプルにおいて占有比Ｇ／Ｗが大きくなるに伴い、接着溝３６の数が多くなるが、接着溝３６ａに隣接するように収容溝３４の開口縁に近い部分から順に接着溝３６を形成させるようにした。
【００２７】
［比較例１〜３］
実施例１と同様の蓋板１２、光ファイバ２４、接着剤を用い、図５の表に示した比較例１〜３の条件となる基板１０を作製し、実施例１に示したものと同様の工程を行い、図５の表に示した占有比Ｇ／Ｗ、接着溝深さ、接着溝角度、収容溝深さ、収容溝角度となるような光ファイバアレイ１０をそれぞれ作製し、得られた光ファイバアレイ１０を比較例１〜３とした。なお、全てのサンプルにおいてファイバ設置部３１及びリボン設置部３２の長さは同じとした。
【００２８】
［煮沸試験］
実施例１〜８及び比較例１〜３の煮沸試験を行った。まず水を沸騰させて、その中に所定時間サンプルを入れ、所定時間（１５ｈ，３６ｈ，６０ｈ）ごとにサンプルの外観を観察した。
【００２９】
［結合損失測定］
実施例１〜８及び比較例１〜３の結合損失測定を行った。測定には、図６に示す調芯装置４０（モリテックス製ＰＡＷ２７８）を用いた。測定方法を説明する。まず、図６（ａ）に示すように、煮沸試験を行う前に同じ光ファイバアレイ１０（例えば実施例１同士）を対向させ、発光部４２に配置した光ファイバアレイ１０から入力電力Ｐ１（１ｍＷ）の光を入力させ、受光部４４に配置した光ファイバアレイ１０から出力させて出力電力Ｐ２を測定し、入力電力Ｐ１及び出力電力Ｐ２から次式（１）を用いて結合損失Ｌを算出した。なお、光ファイバアレイ１０同士の間に１μｍのクリアランスを設け、測定される出力電力Ｐ２が最も大きくなるように光ファイバアレイ１０を位置決めして測定した。ここで算出したものを結合損失の初期値Ｌ１とした。
結合損失Ｌ＝１０・ｌｏｇ（Ｐ１／Ｐ２）…式（１）
【００３０】
次に、出力側の光ファイバアレイ１０を用いて上述した煮沸試験を６０ｈ行い、図６（ｂ）に示すように、発光部４２に配置した煮沸試験を行わない光ファイバアレイ１０から入力電力Ｐ１（１ｍＷ）の光を入力させ、受光部４４に配置した煮沸試験を６０ｈ行った劣化後の光ファイバアレイ１０から出力させ、入力電力Ｐ１及び出力電力Ｐ２から式（１）を用いて光ファイバアレイ１０の劣化後の結合損失Ｌ２を算出した。この初期値Ｌ１と劣化後の値Ｌ２との差分を結合損失値とした。なお、この結合損失値は、０．３ｄＢ以下が好ましく、０．２ｄＢ以下がより好ましい。光ファイバアレイ１０は、光信号を多分岐させるスプリッタなどと接合させることがあるため、０．３ｄＢを超えると各分岐ごとに損失が生まれ全体として結合損失が大きくなりすぎてしまうためである。
【００３１】
［実験結果］
実施例１〜８及び比較例１〜３の煮沸試験結果及び結合損失測定結果を図７の表に示す。煮沸試験結果において、○は基板３０と蓋板１２との剥がれがみられなかった良好な状態であり、×は基板３０と蓋板１２との剥がれが発生した状態を示している。まず、接着溝３６の深さが１０μｍであり占有比Ｇ／Ｗを変化させた実施例１〜５及び比較例１に注目すると、煮沸試験結果より、接着溝３６を形成しない比較例１では３６ｈで剥がれが生じたが、実施例１〜５では剥がれが生じなかった。この結果から、基板３０の収容溝３４のうち最外部の収容溝３４から基板３０の端部までの間に接着溝３６を少なくとも１つ形成すれば、基板３０と蓋板１２との接着性が高まることがわかった。また、結合損失の測定結果より、基板３０の収容溝３４のうち最外部の収容溝３４から基板３０の端部までの間に接着溝３６を少なくとも１つ形成すれば、光ファイバ２４が収容溝３４でずれないようになり、結合損失が大きくならず、良好な伝送特性を維持することができるとわかった。
【００３２】
次に、占有比Ｇ／Ｗを０．７とし、接着溝３６の深さを変化させた実施例４，６〜８及び比較例２〜３に注目すると、煮沸試験結果より、接着溝３６の深さが７μｍでは３６ｈで剥がれが生じ、接着溝３６の深さが４５０μｍでは６０ｈで剥がれが観察されたが、実施例４，６〜８では６０ｈでも剥がれが観察されなかった。比較例２では、接着溝３６の深さが浅いため接着層１６の動きを規制しにくくなり、十分な接着性が得られないことがわかった。また、比較例３では、測定後の基板３０にそりが見られ、接着溝３６の底で剥離が生じていた。よって、接着溝３６の深さが収容溝３４の深さの２００％を超えると接着溝３６に接着剤が充填しにくくなることがあり接着性が低下することがわかった。収容溝３４の深さと接着溝３６の深さとの関係から考察すると、接着溝３６の深さは、収容溝３４の深さに対して５％〜２００％の範囲としたときに良好な伝送特性を維持することができるとわかった。また、基板３０と蓋板１２との接着性の向上は、基板３０と蓋板１２とが光の透過性の高いガラスであり、ＵＶアクリル樹脂を硬化させる際に照射する光が接着溝３６によって反射して散乱し接着剤の硬化度が進んだり硬化状態が均一になりやすいことが寄与していると推察された。また、接着剤の硬化度が進んだり硬化状態が均一になるため、接着層１６の熱膨張係数が小さくなり接着層１６の動きが少なくなることも寄与していると推察された。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本実施形態の光ファイバアレイ１０の正面図である。
【図２】本実施形態の光ファイバアレイ１０の端部の部分拡大図である。
【図３】本実施形態の光ファイバアレイ１０の分解斜視図である。
【図４】本実施形態の光ファイバアレイ５０の端部の部分拡大図である。
【図５】実施例及び比較例の作製条件をまとめた表である。
【図６】調芯装置４０の説明図である。
【図７】実施例及び比較例の測定結果をまとめた表である。
【符号の説明】
【００３４】
１０  光ファイバアレイ、１２  蓋板、１６  接着層、２０  光ファイバリボン、２２  一次被覆部、２３  二次被覆部、２４  光ファイバ、２４ａ  コア、２４ｂ  クラッド、３０  基板、３１  ファイバ設置部、３２  リボン設置部、３４，３４ａ  収容溝、３６，３６ａ，３６ｂ  接着溝、４０  調芯装置、４２  発光部、４４  受光部、５０  光ファイバアレイ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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