(57)【要約】【課題】プッシャピンの上に可及的に水平に基板を支持するように、プッシャピンを基板の対角線上付近となるようにステージに複数配置し、かつ、固定した位置決め用のガイドが、基板サイズ＋最大公差サイズ＋余裕代の大きさの載置面を区画するように、ステージの四隅に配設されているため、最小公差の基板では、載置面が基板に対して大きくなり、基板の位置決め精度が悪化する。【解決手段】ロボットのハンド３によつて搬送する矩形平板状の基板２を、位置決め用のガイド４を突出固定したステージ１上の該ガイド４によつて区画される載置面１ａに位置決めして載置する基板の位置決め方法であつて、ハンド３によつてステージ１上に搬送してきた基板２に湾曲変形姿勢を与えた後、基板２を次第に下降させ、基板２を載置面１ａに平板状に復元変形させて載置させると共に、載置面１ａに、基板サイズ＋最大公差サイズの大きさを設定する。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロボットのハンド（３）によつて搬送する矩形平板状の基板（２）を、位置決め用のガイド（４）を突出させて固定したステージ（１）上の該ガイド（４）によつて区画される載置面（１ａ）に位置決めして載置する基板の位置決め方法であつて、
ハンド（３）によつてステージ（１）上に搬送してきた基板（２）に湾曲変形姿勢を与えた後、基板（２）を次第に相対下降させ、基板（２）を前記載置面（１ａ）に平板状に復元変形させて載置させ、前記載置面（１ａ）に、基板サイズ＋最大公差サイズの大きさを設定することを特徴とする基板の位置決め方法。
【請求項２】
ロボットのハンド（３）によつて搬送する矩形平板状の基板（２）を、位置決め用のガイド（４）を突出させて固定したステージ（１）上の該ガイド（４）によつて区画される載置面（１ａ）に位置決めして載置する基板の位置決め方法であつて、
ハンド（３）によつてステージ（１）上に搬送してきた基板（２）に湾曲変形姿勢を与えた後、基板（２）を次第に相対下降させ、基板（２）を前記ステージ（１）上の載置面（１ａ）に平板状に復元変形させて載置させると共に、前記基板（２）の湾曲変形姿勢が、基板（２）の全体で上向き凸の姿勢及び下向き凸の姿勢の内のいずれか一方であることを特徴とする基板の位置決め方法。
【請求項３】
前記基板（２）を次第に下降させる際、基板（２）の一辺を対向する他辺よりも先に下降させ、基板（２）の一辺側を対応するガイド（４）に当接させながら平板状に復元変形させることを特徴とする請求項１又は２の基板の位置決め方法。
【請求項４】
ロボットのハンド（３）によつて搬送する矩形平板状の基板（２）を、位置決め用のガイド（４）を突出させて固定したステージ（１）上の該ガイド（４）によつて区画される載置面（１ａ）に位置決めして載置する基板の位置決め装置であつて、
相対突出及び相対没入作動が可能に設けられ、ハンド（３）によつて搬送してきた基板（２）の少なくとも対向する２辺の中央部を結ぶ線上付近を突出作動させた支持手段（６）に支持することにより、基板（２）に湾曲変形姿勢を与える支持手段（６）を設け、
基板（２）が載つた支持手段（６）に没入作動を与えることにより、基板（２）が前記載置面（１ａ）の範囲内で平板状に復元変形し、前記ステージ（１）上の載置面（１ａ）に基板（２）が載置されることを特徴とする基板の位置決め装置。
【請求項５】
前記支持手段（６）の上に載つた基板（２）が、直交する２辺（Ｘ，Ｙ）の一方で全体として凸の湾曲変形姿勢にあることを特徴とする請求項４の基板の位置決め装置。
【請求項６】
前記支持手段（６）の上に載つた基板（２）が、直交する２辺（Ｘ，Ｙ）の両方で全体として凸の湾曲変形姿勢にあることを特徴とする請求項４の基板の位置決め装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板の位置決め方法及びその装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及びその課題】
従来の基板の位置決め装置として、例えば液晶パネルを製造するためのガラス基板の位置決め装置が知られている。この種の基板の位置決め装置は、ロボットのハンドに載せて搬送する矩形平板状の基板を、位置決め用のガイドを設けたステージ上の該ガイドによつて区画される載置面に位置決めして載置するものであり、落とし込み方式と、基準面押付け方式とが一般に知られている。
【０００３】
落とし込み方式は、図３に示すように、ロボットのハンド３に載せて搬送してきた基板２を、ステージ１０上面から突出作動させたプッシャピン１６の上に支持して水平に受け取り、その後、プッシャピン１６に没入作動を与え、ステージ１０の上の四隅に固定された位置決め用のガイド１４によつて区画される載置面１０ａに基板２を載置する。このプッシャピン１６は、基板２の対角線上付近つまり矩形の各頂点付近を支持するように配設されている。
【０００４】
また、基準面押付け方式は、落とし込み方式と同様に基板２をプッシャピン１６を用いてステージ１０上の載置面１０ａに載置した後、図４に示すように、駆動装置１８を含む押し付け機構によつて移動可能なガイド１４ａを移動させ、基板２を押圧し、ステージ１０の上の固定されたガイド１４によつて形成される基準面に押し付ける。
【０００５】
しかしながら、このような従来の基板の位置決め装置にあつては、次のような技術的課題を有している。先ず、プッシャピンの上に可及的に水平に基板を支持するように、ステージに設けるプッシャピンを、基板の各頂点を含んで対角線上付近に位置させて複数配置している（例えば、特開平８−１８１０５４、特開２０００−５３２４６）。
【０００６】
そして、落とし込み方式では、位置決め用のガイドが、基板サイズ＋最大公差サイズ＋余裕代の大きさの載置面を区画するように、ステージの四隅に配設されている。このため、最小公差の基板の場合には、ガイド間の載置面が該基板に対して大きく、基板の載置可能範囲が大きくなり、基板の位置決め精度が悪化する。余裕代は、ロボットのハンドの作動誤差、ハンドへの基板の載置位置誤差等の誤差を吸収するために設定している。
【０００７】
また、基準面押付け方式では、移動可能なガイドを含む押し付け機構によつて基板を押圧移動させ、ステージの上の基準面に基板を押し付けて位置決めを行うため、押し付け機構を備える位置決め装置が必要であり、位置決め装置の構造が複雑化するのみならず、位置決め装置の収容のために大きな空間を要し、ステージの上面位置が高くなると共に、ステージの重量が重くなり、基板及びステージに送りを与える場合には、その送りが不正確になる傾向にある。更に、サイズが大きい基板を取り扱う場合には、ステージの上に全面的に接する基板をステージ上面との間の摩擦力に打ち勝つて移動させるために、押し付け機構を備える位置決め装置が大形化する。
【０００８】
この発明は、上記のような従来の基板の位置決め装置における技術的課題を解決するためになされたもので、基板を湾曲状態でステージの上に降ろし、基板の復元力を利用して位置決めすることにより、ステージ上の載置面に余裕代を設けることなく、最大公差サイズの範囲内に基板の位置決めを行うことができると共に、駆動装置を不要とした構造簡素な位置決め装置を提供することを目的としている。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような従来の技術的課題に鑑みてなされたもので、その構成は、次の通りである。
請求項１の発明は、ロボットのハンド３によつて搬送する矩形平板状の基板２を、位置決め用のガイド４を突出させて固定したステージ１上の該ガイド４によつて区画される載置面１ａに位置決めして載置する基板の位置決め方法であつて、ハンド３によつてステージ１上に搬送してきた基板２に湾曲変形姿勢を与えた後、基板２を次第に相対下降させ、基板２を前記載置面１ａに平板状に復元変形させて載置させ、前記載置面１ａに、基板サイズ＋最大公差サイズの大きさを設定することを特徴とする基板の位置決め方法である。
請求項２の発明は、ロボットのハンド３によつて搬送する矩形平板状の基板２を、位置決め用のガイド４を突出させて固定したステージ１上の該ガイド４によつて区画される載置面１ａに位置決めして載置する基板の位置決め方法であつて、ハンド３によつてステージ１上に搬送してきた基板２に湾曲変形姿勢を与えた後、基板２を次第に相対下降させ、基板２を前記ステージ１上の載置面１ａに平板状に復元変形させて載置させると共に、前記基板２の湾曲変形姿勢が、基板２の全体で上向き凸の姿勢及び下向き凸の姿勢の内のいずれか一方であることを特徴とする基板の位置決め方法である。
請求項３の発明は、前記基板２を次第に下降させる際、基板２の一辺を対向する他辺よりも先に下降させ、基板２の一辺側を対応するガイド４に当接させながら平板状に復元変形させることを特徴とする請求項１又は２の基板の位置決め方法である。
請求項４の発明は、ロボットのハンド３によつて搬送する矩形平板状の基板２を、位置決め用のガイド４を突出させて固定したステージ１上の該ガイド４によつて区画される載置面１ａに位置決めして載置する基板の位置決め装置であつて、相対突出及び相対没入作動が可能に設けられ、ハンド３によつて搬送してきた基板２の少なくとも対向する２辺の中央部を結ぶ線上付近を突出作動させた支持手段６に支持することにより、基板２に湾曲変形姿勢を与える支持手段６を設け、基板２が載つた支持手段６に没入作動を与えることにより、基板２が前記載置面１ａの範囲内で平板状に復元変形し、前記ステージ１上の載置面１ａに基板２が載置されることを特徴とする基板の位置決め装置である。
請求項５の発明は、前記支持手段６の上に載つた基板２が、直交する２辺（Ｘ，Ｙ）の一方で全体として凸の湾曲変形姿勢にあることを特徴とする請求項４の基板の位置決め装置である。
請求項６の発明は、前記支持手段６の上に載つた基板２が、直交する２辺（Ｘ，Ｙ）の両方で全体として凸の湾曲変形姿勢にあることを特徴とする請求項４の基板の位置決め装置である。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の１実施の形態について、従来例と同一機能部分には同一符号を付して説明する。図１は、本発明の１実施の形態に係る基板の位置決め装置を示し、符号１は液晶パネルの製造装置等のステージである。ステージ１は、例えばレーザアニール室内に配置されている。基板２は、例えばロードロック室でロボットの二股状をなすハンド３にほぼ水平に載せ、ステージ１の上方に搬送し、後記するようにステージ１の上に載置した後、ガラス製の正方形を含む矩形平板状の基板２を水平に載置した状態で、ステージ１及び基板２を直交するＸ，Ｙ方向に移動させながら、基板２に次々にアニール処理が施される。以上の構成は、従来例と実質的に異ならない。
【００１１】
ステージ１は、位置決め用の４つのガイド４（４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ）を有すると共に、ステージ１上面から突出及び没入作動が可能な５本のプッシャピンからなる支持手段６を有する。ガイド４は、矩形をなすステージ１の上面の四隅に突出させて固設され、それぞれＬ字ないし鉤形をなす。基板２は、４つのガイド４の内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ，４Ｄによつて区画される載置面１ａの範囲内に位置決めして載置させる。各ガイド４の内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ，４Ｄは、それぞれＸ，Ｙ方向に延在し、矩形平板状の基板２の角部を受け入れる。
【００１２】
支持手段６は、基板２の角部を積極的にたわませるように、基板２の下面を支持する。すなわち、支持手段６は、基板２の四角（各頂点）をたわませるように、中央部の１本の高い支持手段６ａと、基板２の周縁部の各辺の中央部付近を支持する４本の支持手段６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅとを有する。これらの支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅは、図２に示すように下端部が昇降部材７に固着され、基板２の全体に無理な変形のない湾曲変形を与えるように中央部の１本の支持手段６ａが周囲の４本の支持手段６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅよりも長くなつている。中央部の１本の高い支持手段６ａは、基板２の全体的なたわみ変形を促す機能を有する。なお、各支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅは、上半部と下半部とをねじ結合させ、高さ調節自在としてある。
【００１３】
昇降部材７は、昇降装置８によつて昇降駆動される。昇降装置８は、支持手段６に載せてたわんだ基板２の垂下する四角が、ステージ１の上面に接触しない高さ位置を採るように、所定高さにまで上昇させることができる。勿論、５本の支持手段６は、二股のハンド３と干渉しない位置に配置してあり、支持手段６に載せてたわんだ基板２の下方には、ハンド３を出し入れするための適当な大きさの空間を形成させる。なお、支持手段６は、ステージ１上面から相対的に突出及び没入作動が可能に設けられればよく、ステージ１を昇降装置によつて昇降駆動させることもできる。従つて、基板２は、ステージ１上の載置面１ａに相対的に昇降すればよい。
【００１４】
次に、作用について説明する。
ステージ１上に基板２を載せるときは、昇降装置８によつて昇降部材７を下降駆動し、最も高い支持手段６ａが基板２と干渉しない高さになるまで没入させてある。この支持手段６を没入させた状態で、ハンド３にほぼ水平に載せた１枚の基板２をステージ１の上方に搬送する。このとき、ハンド３は、Ｘ方向に水平移動する。ハンド３に載せた基板２がステージ１上方の所定位置に達したなら、昇降装置８によつて昇降部材７を上昇駆動し、支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅをステージ１上面から突き出させる。
【００１５】
支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅの突き出しにより、基板２の中央部が中心位置の１本の支持手段６ａに接触して支持されると共に、基板２の周縁部の各辺の中央部付近が周辺部の支持手段６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅによつて支持される。全ての支持手段６によつて安定的に支持されて受け渡された基板２は、図１に示すように中央部が最も突出して四角が大きくたわんだ全体として上向き凸の姿勢となり、投影面積が縮小している。すなわち、支持手段６に受け取つた基板２は、外形寸法が一時的に小さくなつた状態にあり、Ｘ，Ｙの両方向のステージ１への投影長さが縮小している。このような基板２の自重による弾性的なたわみ変形は、薄く大きな基板２において良好に生じる。
【００１６】
なお、ハンド３に昇降装置を備える場合には、次のようにして基板２を支持手段６に受け渡すことができる。先ず、昇降装置８によつて昇降部材７を上昇駆動し、支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅをステージ１上面から突き出させる。次に、支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅに干渉しない高さとして、ハンド３にほぼ水平に載せた１枚の基板２をステージ１の上方に搬送する。このとき、ハンド３は、Ｘ方向に水平移動する。ハンド３に載せた基板２がステージ１上方の所定位置に達したなら、ハンド３を下降させ、支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅの上に基板２を受け渡す。
【００１７】
基板２が支持手段６に受け渡されたなら、ハンド３を基板２と干渉しない高さとしてステージ１上面に沿つて水平に引出し、引出したハンド３はレーザアニール室の外部に移動させる。ハンド３が基板２の下方から十分に引出されたなら、昇降装置８によつて昇降部材７を下降させ、全ての支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅがステージ１上面から突出しない高さにまで没入させる。
【００１８】
支持手段６の下降により、基板２は、大きく垂下する四角が最初にステージ１の上面に接触した後、各辺の中央部付近を支持する支持手段６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅに支持される箇所がほぼ同時にステージ１の上面に接触し、最後に中央部の１本の支持手段６ａに支持される箇所がステージ１の上面に接触し、全面がステージ１の上面に接触して矩形平板状をなすように弾性的に復元変形する。
【００１９】
このとき、基板２は投影面積が縮小した状態で下降を開始するため、ステージ１の上面の四隅に突設したガイド４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄと干渉することはなく、４つのガイド４の内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ，４Ｄによつて区画される載置面１ａの範囲内に大きく垂下する四角が接触する。基板２の下降により、基板２の四角のいずれか１箇所が早期に対応位置のガイド４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄの内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ，４Ｄと接触した場合には、その後、接触した角部は移動することなく、他の３箇所の角部がステージ１の上面を摺動しながら、自重を受ける基板２が矩形平板状をなすように復元変形する。
【００２０】
このように基板２はステージ１の上に投影面積が縮小した上向き凸の姿勢で下降するため、位置決め用のガイド４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄは、余裕代を与えることなくステージ１の四隅に配設させることができる。すなわち、ステージ１の四隅のガイド４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄは、内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ，４Ｄによつて理論的な基板サイズ＋最大公差サイズを区画するように配設することができ、各種の作動誤差を吸収するために設定する余裕代を与える必要が無くなる。
【００２１】
例えば、図２に示すように基板２の１辺の長さが１３００ｍｍのとき、基板２の最大たわみ量として２０ｍｍを与えれば、基板２の両側角部はそれぞれ約０．３ｍｍだけ水平方向に縮小した状態で下降する。基板２の最大たわみ量は、中央部の１本の高い支持手段６ａによつて支持される箇所の基板２の高さと最も垂下する四角頂点の高さとの差であり、１０ｍｍ以上、好ましくは２０ｍｍ以上を与える。
【００２２】
このような基板２の自重を受けた復元変形に際し、基板２のステージ１に対する位置のバラツキは、基板２の四角がガイド４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄのいずれかの内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ，４Ｄと接触することによつて余裕代の分だけ減少するが、支持手段６の下降によつて基板２の大きく垂下する四角のいずれか１つが１つのガイド４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄの直角の内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ，４Ｄに接触して位置決めされた後、その位置決め状態のままで基板２が下降し、載置面１ａの対角線と基板２の対角線とが平行にならずに公差する傾向を呈する。すなわち、基板２は、内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ，４Ｄによつて計算上の基板サイズ＋最大公差サイズの大きさの載置面１ａを区画するように配設した４つのガイド４によつて区画される該載置面１ａの範囲に載置されるが、個々の基板２は、最大公差サイズの範囲で回転方向の位置ずれを生じることがある。
【００２３】
この位置ずれの解消のため、支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅを、個別又はグループ毎に下降させ得るように複数の昇降装置８によつて昇降駆動させ、支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅの下降順序を定めて支持手段６に載つた基板２を下降させることができる。すなわち、基板２を当接させるガイド４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄの１直線上の内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ又は４Ｄを決め、その１辺をなす内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ又は４Ｄに近い位置の支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅから下降を開始させることにより、所定のガイド４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄの載置面１ａの１辺をなす内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ又は４Ｄに基板２を当接させて位置決めすることができる。
【００２４】
例えば、２つのガイド４ａ，４ｂのＸ方向に延びて載置面１ａの１辺を形成する内側面４Ａに基板２の１辺を当接させて位置決めする場合には、このガイド４ａ，４ｂの内側面４Ａに近い位置の支持手段６ｂから下降を開始し、基板２にガイド４ａ，４ｂの内側面４Ａに向けて下り傾斜する姿勢を与え、ガイド４ａ，４ｂの内側面４Ａに近い位置の基板２の１辺付近をステージ１上面に最初に接触させれば、平板状に復元しつつ投影面積が拡大しながら下降する基板２の１辺を、常に、所定のガイド４ａ，４ｂの１辺を形成する内側面４Ａに当接させて位置決めすることができる。
【００２５】
基板２は、１つの角部のみを早期に下降させて１つのＬ字状のガイド４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄの２辺を形成する内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ，４Ｄに最初に当接させることも可能であるが、基板２の１つの角部を早期に１つのガイド４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄの２辺を形成する内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ，４Ｄに当接させるのでは、基板２の回転方向の位置が不安定になり易い。このため、基板２の対向する２辺の一方側を先に下降させ、他方側の下降を遅らせ、一辺側を対応するガイド４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄの１辺を形成する内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ又は４Ｄに先ず当接させ、Ｘ方向及びＹ方向の内の一方端について正確に位置決めすることが望ましい。
【００２６】
ステージ１上で基板２にアニール処理等を与え、処理の終了した基板２は、ハンド３によつて外部に取り出す。すなわち、昇降装置８によつて昇降部材７を上昇駆動し、支持手段６をステージ１上面から突き出させ、全ての支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅによつて基板２を上昇支持させる。次いで、基板２の下方にハンド３を差し入れた後、昇降装置８によつて昇降部材７を下降駆動することにより、支持手段６上の基板２がハンド３に受け渡される。基板２がハンド３に受け渡されたなら、ハンド３をＸ方向に引出し、引出した基板２は必要に応じてロードロック室等を介して外部に取り出す。ステージ１上には新たな基板２を載せて同様の処理が繰り返される。
【００２７】
なお、ハンド３に昇降装置を備える場合には、次のようにして基板２をハンド３に受け渡すことができる。先ず、昇降装置８によつて昇降部材７を上昇駆動し、支持手段６をステージ１上面から突き出させ、全ての支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅによつて基板２を上昇支持させる。次いで、基板２の下方にハンド３を差し入れた後、ハンド３を上昇させ、支持手段６上の基板２をハンド３に受け渡す。基板２がハンド３に受け渡されたなら、ハンド３をＸ方向に引出し、引出した基板２は必要に応じてロードロック室等を介して外部に取り出す。
【００２８】
ところで、上記１実施の形態にあつては、基板２をステージ１の上方に支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅによつて支持させ、基板２の全体に上向き凸の姿勢を与えたが、基板２の全体に下向き凸の姿勢を与え、上記１実施の形態とほぼ同様の作用を得ることもできる。但し、全ての支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅを同時に下降させるときは、下向き凸の基板２の中央部が先にステージ１の上面に接するようになるため、ステージ１の上面に低摩擦係数の材料を被覆させ、基板２の１辺又は１つの角部がガイド４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄの内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ又は４Ｄのいずれかに当接しながら基板２が容易にステージ１上を摺動するように構成することが望ましい。勿論、上述したように支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅの下降順序を定め、下向き凸の基板２の中央部が早期かつ単独でステージ１の上面に強く接することがないように、基板２を下降させ、基板２の１辺又は１つの角部を早期にガイド４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄの内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ又は４Ｄのいずれかに当接させることもできる。
【００２９】
また、上記１実施の形態にあつては、基板２の四角をたわませるように、中央部の１本の高い支持手段６ａと、基板２の周縁部の各辺の中央部付近を支持する支持手段６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅとを配置し、基板２の投影面積をＸ，Ｙ両方向で縮小させたが、Ｘ方向及びＹ方向のいずれか一方向にのみ投影面積を縮小させることもできる。その場合、基板２の対向する２辺の中央部を結ぶ線上付近、つまりＸ，Ｙ方向のいずれか一方向に延びる直線上に配置する支持手段６ａ，６ｄ，６ｅ又は支持手段６ａ，６ｂ，６ｃの高さを同じ高さにすると共に、残りの支持手段６ｂ，６ｃ又は支持手段６ｄ，６ｅの高さを低く設定する。
【００３０】
例えば、Ｘ方向の直線上に配置する支持手段６ａ，６ｄ，６ｅの高さを同一に高く設定し、他のＹ方向に配置する支持手段６ｂ，６ｃの高さを同一に低く設定すれば、全ての支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅ上に載置支持した基板２に、中心軸線がＸ方向に延在するほぼ円筒形状を与えることができる。このとき、基板２は、Ｙ方向の投影長さを縮小させた全体で上向き凸の姿勢を採る。
【００３１】
これにより、基板２のＹ方向の位置を規制するガイド４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄのＹ方向に対向する内側面４Ａ，４Ｃの間隔つまり載置面１ａの長さを、基板サイズ＋最大公差サイズに設定し、基板２を載置面１ａに載せることができる。この場合、基板２のＸ方向の位置を規制するガイド４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄのＸ方向に対向する内側面４Ｂ，４Ｄの間隔は、基板２のＸ方向への位置ずれを考慮して、従来例と同様に余裕代を与え、理論上の基板サイズ＋最大公差サイズ＋余裕代に設定する。なお、基板２のＸ方向の位置を規制するガイドつまり内側面４Ｂ，４Ｄは、省略することも可能である。
【００３２】
しかして、基板２の少なくとも対向する２辺の中央部を結ぶ線上付近を突出作動させた支持手段６によつて支持させ、基板２に円筒形状を与えることが可能であり、また、基板２の１辺を早期に下降させてガイド４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄの内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ又は４Ｄのいずれかに当接させるときは、ガイド４の内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ，４Ｄを、ステージ１上に少なくとも１箇所設ければよい。内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ又は４Ｄをステージ１上に１つだけ設けるときは、矩形状をなす載置面１ａの１辺が、ガイド４の１つの内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ又は４Ｄによつて区画されるので、１つの内側面４Ａ，４Ｂ，４Ｃ又は４Ｄを有する１つのガイド４は、基板２の１辺の中央部に設けることが望ましい。
【００３３】
基板２が全体として円筒形状をなすとき、支持手段６の上に載つた基板２が、基板２の直交する２辺（Ｘ，Ｙ方向に延びる辺）の一方で湾曲変形状態にある。基板２の少なくとも対向する２辺の中央部を結ぶ線上付近を高く又は低く突出作動させた支持手段６によつて支持し、基板２に円筒形状を与えるとき、基板２は全体で上向き凸又は下向き凸をなす湾曲変形姿勢を採つている。なお、基板２の少なくとも対向する２辺の中央部を結ぶ線上付近を突出作動させた支持手段６に支持し、中央部が最も突出して四角が大きくたわんだ全体として図１に示す上向き凸又は下向き凸の姿勢を与えるとき、支持手段６の上に載つた基板２は、全ての辺（Ｘ，Ｙ方向に延びる全ての辺）で湾曲変形している。
【００３４】
また、矩形平板状の基板２の少なくとも対向する２辺の中央部を結ぶ線上付近を突出作動させた支持手段６ｂ，６ｃ又は６ｄ，６ｅによつて支持することにより、基板２に湾曲変形姿勢を積極的に与えることが可能であるが、ステージ１の収容空間が真空でない場合には、これに代えて、ステージ１の下方からエアーを吹き込んで基板２に湾曲変形を与えることも可能である。エアーの吹き込み位置は、各支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅの付近でよく、基板２を高く維持する箇所に対応する吹出口からエアーを多量又は高圧力で吹き込む。このようなステージ１の吹出口からエアーを吹き出すエアー吹出装置は、支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅと共に、或いは支持手段６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅを省略して装備することができる。このエアー吹出装置も、基板２に湾曲変形姿勢を与える支持手段である。
【００３５】
ステージ１の下方からエアーを吹き込んで基板２に湾曲変形を与えるときは、基板２の水平方向の位置を安定化させる手段を設けることが望まれる。基板２の水平方向位置の安定化手段としては、ステージ１にエアー吹出ラインを基板２の外縁に沿わせて形成し、エアー吹出ラインから吹き出すエアーによつて基板２の水平方向の移動を規制したり、ハンド３の出し入れ部を切除して位置決め用のガイド４を矩形に配置し、矩形に配置したガイド４内に偏在させて吹き出したエアーにより、ガイド４に囲まれた空間内において基板２に湾曲変形を与えたりすることが、採用できる。また、ハンド３は、吹き出すエアーを可及的に遮断しない形状とするために、垂直板形状にすることが望ましい。
【００３６】
また、エアー吹出装置の複数の吹出口から吹き出すエアーの量又は圧力を変化させて基板２を下降させることにより、基板２に下り傾斜する姿勢を与え、基板２をいずれかの所定のガイド４に当接させながら平板状に復元変形させ、ステージ１上の載置面１ａに基板２を載置させることもできる。
【００３７】
なお、矩形平板状の基板２は、ロボットのハンド３に載せて搬送し、位置決め用のガイド４を少なくとも１個突設したステージ１上のガイド４によつて少なくとも１辺が区画される載置面１ａに位置決めして載置するものであればよく、ガラス製の基板の他、プリント基板等であつてもよい。
【００３８】
【発明の効果】
以上の説明によつて理解されるように、本発明に係る基板の位置決め方法及びその装置によれば、次の効果を奏することができる。
請求項１に係る発明によれば、基板を当接させるガイドを固定して設け、該ガイドによつて区画される載置面に、理論上の基板サイズ＋最大公差サイズの大きさを設定し、各種の作動誤差を許容するために設定していた余裕代を省略することができるため、小さく狭い載置面に基板を載置することが可能になる。その結果、基板を正確にステージ上に位置決めすることができ、次々に載せる基板に正確かつ均一な処理を与えることが可能になつた。
【００３９】
請求項２に係る発明によれば、基板の湾曲変形姿勢が、基板の全体で上向き凸の姿勢及び下向き凸の姿勢の内のいずれか一方であるので、基板に投影面積を縮小させた湾曲変形姿勢を無理なく効果的に与えることができる。その結果、基板を正確にステージ上に位置決めし、次々にステージ上に載せる基板に正確かつ均一な処理を与えることが可能になつた。
【００４０】
請求項３に係る発明によれば、基板を次第に下降させる際、基板の一辺を対向する他辺よりも先に下降させ、基板の一側辺を対応するガイドに当接させながら平板状に復元変形させるので、所定の対応するガイドに常に基板の一側辺を当接させた状態で、次々にステージ上に載せる基板に正確な位置決め状態を与えることができる。
【００４１】
請求項４に係る発明によれば、位置決め用のガイドを突出させて固設したステージの上に基板を位置決めして載置する際、相対突出作動させた支持手段の上に湾曲変形姿勢を与えて基板を受け取り、その後、支持手段に相対没入作動を与えることにより、基板が投影面積を拡大させながら相対下降して平板状に復元変形し、ガイドによつて区画されるステージ上の載置面に基板が載置される。このため、基準面押付け方式のように別途の駆動装置を設けることなく、基板をステージ上に公差範囲内で正確に位置決め載置させることができる。
【００４２】
これにより、ステージ上のガイドによつて区画される載置面に余裕代を与える必要がなく、基板を正確に位置決めさせ、各基板に正確かつ均一な処理を与えることが可能になつた。
【００４３】
加えて、従来の落とし込み方式の基板の位置決め装置と同様の一連の簡素な動作によつて基板を受渡し、正確な位置決めを行うが可能であるので、時間当たりの基板の処理量を減少させることがない。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の１実施の形態に係る基板の位置決め装置を示す斜視図。
【図２】同じく図１のＩＩ方向矢視図。
【図３】従来の落とし込み方式に係る基板の位置決め装置を示す斜視図。
【図４】従来の基準面押付け方式に係る基板の位置決め装置を示す斜視図。
【符号の説明】
１：ステージ、１ａ：載置面、２：基板、３：ハンド、４（４ａ，４ｂ，４ｃ，４ｄ）：ガイド、４Ａ，４Ｂ，４Ｃ，４Ｄ：ガイドの内側面、６（６ａ，６ｂ，６ｃ，６ｄ，６ｅ）：支持手段。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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