(57)【要約】  特には極端紫外線（ＥＵＶ）領域での半導体リソグラフィにおける投影対物系のためのような、光学画像化システム（１）のための円形形状から逸脱した光学エレメント（１３）を有するような光学ユニット（７）を製造する方法において、支持部（８）が設けられ、該支持部には前記光学システム（１）における調整のための基準面（１０，１４，１５）が設けられ、これら基準面に従い前記光学エレメント（１３）は前記支持部（８）に接続される。次いで、前記光学エレメント（１３）に対して零点（１７）が固定され、該零点は前記光学ユニット（７）の前記光学システム（１）への取り付けの間において該光学システム（１）に固定された零点（１８）に対する基準点を形成する。【選択図】  図２ 
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
特には極端紫外線領域での半導体リソグラフィにおける投影対物系のためのような、光学画像化システム（１）のための円形形状から逸脱した光学エレメント（１３）を有するような光学ユニット（７）を製造する方法において、前記光学ユニットは前記光学システム（１）における調整のための基準面（１０，１４，１５）が設けられた支持部（８）を有し、これら基準面に従い前記光学エレメント（１３）は前記支持部（８）に接続されて前記光学ユニット（７）を形成し、前記光学エレメント（１３）に対して零点（１７）が固定され、該零点は前記光学ユニット（７）の前記光学システム（１）への取り付けの間において該光学システム（１）に固定された零点（１８）に対する基準点を形成することを特徴とする方法。
【請求項２】
ａ）基準平面を形成する少なくとも３つの共面的基準面（１０）と、
ｂ）支持部（８）の前記共面的基準面（１０）に対して或る角度で位置する第１位置決め縁（１４）と、
ｃ）前記第１位置決め縁（１４）に沿う並進移動が防止されるようにする第２位置決め位置（１５）と、
が設けられることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法において、基準平面を形成する前記３つの基準面（１０）が光軸（ｚ軸）に対して垂直に位置することを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項２に記載の方法において、前記第１位置決め縁（１４）が前記基準平面に対して垂直に位置することを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項２に記載の方法において、前記第２位置決め位置（１５）が位置決め縁として構成されることを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項２に記載の方法において、前記基準面（１０）が、前記光学ユニット（７）が前記光学システム（１）に接続される固定面（１０）を同時に形成することを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項２に記載の方法において、前記基準面（１０）が固定面（１０）と同時に加工されることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１に記載の方法において、前記支持部（８）には、前記光学エレメント（１３）から遠い側に下部（２０）が設けられることを特徴とする方法。
【請求項９】
請求項１又は請求項８に記載の方法において、個々の部分（１３，８，２０）が密着により互いに接続されることを特徴とする方法。
【請求項１０】
請求項１又は請求項８に記載の方法において、個々の部分（１３，８，２０）が接着により互いに接続されることを特徴とする方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の方法において、前記光学エレメント（１３）は基体（１２）を備え、該基体には前記支持部（８）に接続するための平らな表面が設けられ、前記基体（１２）上には前記光学エレメント（１３）としてミラーが形成されることを特徴とする方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の方法において、前記ミラー（１３）が自由曲面（非球面）の一部として形成されることを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１又は請求項８に記載の方法において、前記光学ユニット（７）の個々の部分（１３，８，２０）が同一の材料、特に非常に小さな熱膨張の材料から作製されることを特徴とする方法。
【請求項１４】
特には極端紫外線領域での半導体リソグラフィにおける投影対物系のためのような、光学画像化システム（１）のための円形形状から逸脱した光学エレメント（１３）を有するような光学ユニットにおいて、該光学ユニットは前記光学システム（１）に対する調整のための基準面（１０，１４，１５）が設けられた支持部（８）を有し、該支持部（８）は前記光学エレメント（１３）に接続され、前記基準面（１０，１４，１５）は前記光学エレメント（１３）に対する零点に対して参照され、該零点は前記光学ユニット（７）の前記光学システムへの取り付けの間において該光学システム（１）に固定された零点（１８）に対する基準点を形成することを特徴とする光学ユニット。
【請求項１５】
請求項１４に記載の光学ユニットにおいて、前記支持部（８）上に、
ａ）基準平面を形成する少なくとも３つの共面的基準面（１０）と、
ｂ）前記共面的基準面（１０）に対して或る角度で位置する、前記支持部（８）の第１位置決め縁（１４）と、
ｃ）前記第１位置決め縁（１４）に沿う並進移動が防止されるようにする第２位置決め位置（１５）と、
が設けられることを特徴とする光学ユニット。
【請求項１６】
請求項１５に記載の光学ユニットにおいて、基準平面を形成する前記３つの基準面（１０）が光軸（ｚ軸）に対して垂直に位置することを特徴とする光学ユニット。
【請求項１７】
請求項１５に記載の光学ユニットにおいて、前記第１位置決め縁（１４）が前記基準平面に対して垂直に位置することを特徴とする光学ユニット。
【請求項１８】
請求項１５に記載の光学ユニットにおいて、前記第２位置決め位置（１５）が位置決め縁として構成されることを特徴とする光学ユニット。
【請求項１９】
請求項１５に記載の光学ユニットにおいて、前記基準面（１０）が、前記光学ユニット（７）が前記光学システム（１）に接続される固定面（１０）を同時に形成することを特徴とする光学ユニット。
【請求項２０】
請求項１５に記載の光学ユニットにおいて、前記基準面（１０）が固定面（１０）に隣接して位置することを特徴とする光学ユニット。
【請求項２１】
請求項１５に記載の光学ユニットにおいて、前記支持部（８）には、前記光学エレメント（１３）から遠い側に下部（１６）が設けられることを特徴とする光学ユニット。
【請求項２２】
請求項１５又は請求項２１に記載の光学ユニットにおいて、当該光学ユニットの個々の部分（１３，８，２０）が密着により互いに接続されることを特徴とする光学ユニット。
【請求項２３】
請求項１５又は請求項２１に記載の光学ユニットにおいて、当該光学ユニットの個々の部分（１３，８，２０）が接着により互いに接続されることを特徴とする光学ユニット。
【請求項２４】
請求項１５又は請求項２１に記載の光学ユニットにおいて、個々の部分（１３，８，２０）が同一の材料、特に非常に小さな熱膨張の材料から形成されることを特徴とする光学ユニット。
【請求項２５】
請求項１５に記載の光学ユニットにおいて、平らな表面を備える基体（１２）が設けられ、該平らな表面を介して前記基体が前記支持部（８）に接続され、前記基体（１２）が前記光学エレメント（１３）として反射面を有することを特徴とする光学ユニット。
【請求項２６】
請求項２５に記載の光学ユニットにおいて、前記反射面（１３）が前記基体（１２）に多数自由曲面（非球面）として形成されることを特徴とする光学ユニット。
【請求項２７】
請求項２５に記載の光学ユニットにおいて、前記反射面（１３）は、該反射面（１３）が切り抜かれる母材（１５）から形成されることを特徴とする光学ユニット。
【請求項２８】
極端紫外線領域における半導体リソグラフィのための投影対物系であって、円形形状から逸脱した光学エレメント（１３）を備える少なくとも１つの光学ユニットを有し、光学システム（１）における調整のための基準面（１０，１４，１５）が設けられた支持部（８）を有し、前記光学エレメント（１３）は前記支持部（８）に接続されて前記光学ユニット（７）を形成し、前記光学エレメント（１３）に対して零点（１７）が固定され、該零点は前記光学ユニット（７）の当該投影対物系（１）への取り付けの間において該投影対物系（１）に固定された零点（１８）に対する基準点を形成することを特徴とする投影対物系。
【請求項２９】
請求項２８に記載の投影対物系において、
ａ）基準平面を形成する少なくとも３つの共面的基準面（１０）と、
ｂ）前記共面的基準面（１０）に対して或る角度で位置する、前記支持部（８）の第１位置決め縁（１４）と、
ｃ）前記第１位置決め縁（１４）に沿う並進移動が防止されるようにする第２位置決め位置（１５）と、
が設けられることを特徴とする投影対物系。
【請求項３０】
請求項２９に記載の投影対物系において、基準平面を形成する前記３つの基準面（１０）が光軸（ｚ軸）に対して垂直に位置することを特徴とする投影対物系。
【請求項３１】
請求項２９に記載の投影対物系において、前記第１位置決め縁（１４）が前記基準面（１０）に対して垂直に位置することを特徴とする投影対物系。
【請求項３２】
請求項２９に記載の投影対物系において、前記第２位置決め位置（１５）が位置決め縁として構成されることを特徴とする投影対物系。
【請求項３３】
請求項２８に記載の投影対物系において、前記基準面（１０）は、前記光学ユニット（７）が当該投影対物系に固定される固定面を同時に形成することを特徴とする投影対物系。
【請求項３４】
請求項２８に記載の投影対物系において、前記支持部（８）には、前記光学エレメント（１３）から遠い側に下部（２０）が設けられることを特徴とする投影対物系。
【請求項３５】
請求項２８に記載の投影対物系において、前記光学ユニット（７）の個々の部分（１３，８，２０）が密着又は接着により互いに接続されることを特徴とする投影対物系。
【請求項３６】
請求項２８に記載の投影対物系において、前記光学エレメント（１３）は基体（１２）を備え、該基体が前記支持部（８）に接続されることを特徴とする投影対物系。
【請求項３７】
請求項３６に記載の投影対物系において、前記基体（１２）には前記光学エレメント（１３）として反射面が設けられることを特徴とする投影対物系。
【請求項３８】
請求項３６に記載の投影対物系において、前記基体（１２）には前記支持部（８）に接続するための平らな表面が設けられることを特徴とする投影対物系。
【請求項３９】
請求項２８に記載の投影対物系において、前記基体（１２）はアダプタ（１３）を介して前記支持部（８’）に接続されることを特徴とする投影対物系。
【請求項４０】
請求項３９に記載の投影対物系において、前記支持部（８’）が角柱の形態に設計されることを特徴とする投影対物系。
【請求項４１】
請求項４０に記載の投影対物系において、前記基体（１２）が前記支持部（８’）における切り抜き（２０）に取り付けられることを特徴とする投影対物系。
【請求項４２】
請求項３９及び４１に記載の投影対物系において、前記アダプタ（１９）が、前記基体（１２）の前記光学エレメント（１３）から遠い側に配設されることを特徴とする投影対物系。
【請求項４３】
請求項４２に記載の投影対物系において、前記アダプタ（１９）は、前記支持部（８’）における前記切り抜き（２０）が位置する壁の、前記光学エレメント（１３）から遠い後面に当接することを特徴とする投影対物系。
【請求項４４】
請求項２８ないし４３の何れか一項に記載の投影対物系において、前記光学エレメントが非球面であることを特徴とする投影対物系。
【請求項４５】
請求項２８ないし４３の何れか一項に記載の投影対物系において、前記光学エレメントがプリズム（１３’）であることを特徴とする投影対物系。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学画像化システムのための、特には極端紫外線（ＥＵＶ）領域での半導体リソグラフィにおける投影対物系のための、円形形状から逸脱した光学エレメントを有するような光学ユニットを製造する方法に関する。
【０００２】
また、本発明は光学画像化システムのための光学エレメントを有する光学ユニットにも関する。
【背景技術】
【０００３】
１１ないし１３ｎｍ付近の波長におけるＥＵＶ領域で動作するような、半導体素子を製造するための半導体リソグラフィにおける投影対物系は、光学エレメントに対する極めて高度の要件が課される。これは、例えば第１に製造に対する特定の仕様（仕上げ（fitting）、粗さ）内の有効光学表面に、第２には対物系における非常に正確な取り付け位置に対する後の調整にも当てはまる。これは、特に、上述したような非常に短い波長の場合にレンズの代わりに必要とされるミラーに関係する。有効な光学表面の位置に関する上記後の調整は、この位置が数ミクロン（μ）まで分かることを要するので、当該光学ユニット（例えば、ミラー）上に、次いで取り付けに関する基準面（適宜、零点と称する）を形成するような複数の基準面を設ける必要性がある。斯かる基準面に対する必要な精度仕様を満たすためには、非常に大きな経済的出費が必要となる。上述した問題は、例えば反射エレメント又はプリズムのような円形形状から逸脱した光学エレメントの場合は、なおさら大きくなる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従って、本発明の目的は、特にはミラーのような、円形形状から逸脱した光学エレメントを有するような光学ユニットを製造する方法、及び斯かる方法に従って製造された光学ユニットを提供することにある。上記方法の場合、対物系への取り付けに関する正確な調整及び所要の精度を達成し、又は少ない経費でその様に達成することが可能になる。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明によれば、これは、円形形状から逸脱した光学エレメントに支持部が設けられ、該支持部には前記光学システムに対する調整のための基準面が設けられ、これに従って、上記光学エレメントは前記支持部に接続されて光学ユニットを形成し、該光学エレメントに対して零点が固定され、該零点は前記光学ユニットの前記光学システムへの取り付けの間において該光学システムに固定された零点に対する基準点を形成するような方法により達成される。
【０００６】
本発明によれば、零点は、ユーザにより固定される位置において、円形形状から逸脱する光学エレメント上の“何処か”に、例えばミラーの非球面又は非球面状表面の中央に固定される。この場合、前記基準面は該零点に対して参照され、この場合に得られる値も、例えば対物系等の光学システムにおける取り付けのために対応して与えられる。このようにして、例えば非球面状表面等のような光学エレメントが当該光学システムにおける他の零点に正確に関係付けられることが可能になる。
【０００７】
本発明の本質的なフィーチャの一つは、上記光学ユニットが、光学エレメント及び支持部と共に１つの部品から一体構造的に製造されるのではなく、少なくとも２つの部分等の複数の部分、特には前記支持部及び実際の光学エレメントを有するという事実に存在する。ここで、上記光学エレメントも、同様に、例えば所謂母材から形成される非球面の形態のミラーのような、円形形状から逸脱した実際の光学エレメントが構築されるような基体から形成することができる。
【０００８】
上記光学ユニットは複数の個々の部品に分割されるので、個々の部品は、その都度、所要の高精度で、且つ適切なら所要の基準面を伴って別個に製造することができる。
【０００９】
本発明の１つの非常に有利な設計においては、下記の基準面、即ち：
ａ）基準平面を形成する少なくとも３つの共面的基準面、
ｂ）前記支持部の上記共面的基準面に対して或る角度で位置する第１位置決め縁、及び
ｃ）上記第１位置決め縁に沿う並進移動が防止されるようにする第２位置決め位置、
を設けることができる。
【００１０】
第１ステップにおいて、基準平面が上記の少なくとも３つの共面的基準面により固定され、該基準平面を介して、もし適切なら、後に前記光学システムとの又は該光学システムにおける固定を行うことができる。この基準平面は、有利には、例えばミラー等の実際の光学エレメントが固定されるのと同一の平面とする。これは、例えば、対応して高精度の表面に対する密着（wringing）により実施することができる。上記基準平面はｚ軸（光軸）に対して垂直に位置することができる。
【００１１】
好ましくは上記の共面的固定面に対して垂直に位置する上記第１位置決め縁は、これら共面的固定面により形成される基準平面上での回転を排除し、及び／又は該基準平面上の位置を固定する効果を有する。
【００１２】
この場合、好ましくは同様に位置決め縁であるような上記第２位置決め位置は、上記第１位置決め縁に沿う並進移動が最後のステップにおいて防止されるという効果を有する。このようにして、上記光学エレメントの位置は、上記基準面に対して且つ光学エレメントの零点に対して正確に固定される。
【００１３】
本発明の更なる有利な改良例及び発展例は、残りの従属請求項から、及び図面を参照して説明する下記の実施例から明らかとなる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
光学システムとして、図１に示す投影対物系１は、ＥＵＶ領域での半導体リソグラフィにより半導体素子を製造するために設けられている。露光は、例えばプラズマ源２のような光源によりなされ、該光源は露光ビーム４を、照明系３を介してマスク（レチクル）５上に伝達する。マスク５には、上記ビームを対物系１を通過した後対応する縮尺でウェファ６上に結像させるような構造が形成されている。露光ビーム４は、ウェファ６に当たる前に当該投影対物系１において光学ユニットとしての複数のミラー７を介して既知の方法で反射される。円形形状から逸脱した上記ミラー７は、例えばネジによる（図２における孔を参照）等の詳細には図示されていない方法により支持部８を介して当該対物系１のハウジングに各々接続される。支持部８には、この目的のために、３つの固定区域９が設けられ、これら固定区域は周にわたって分散されるように配置されると共に、各々、固定面１０を有している。固定区域９の固定面１０は、同時に基準面をも形成すると共に、この目的のために互いに共面的である（即ち、同じ平面内に位置する）。この平面は、同時に、支持部８の高い精度で形成された平らな表面１１でもある。該支持部８の平らな表面１１上には、反射面１３が支持部８から離れた側に形成されるような基体１２が配置されている。該基体１２の下側も対応する高精度で形成され、その結果として、該基体は支持部８に密着（wringing）により接続することができる。
【００１５】
勿論、上記基準面が同時に固定面をも形成することは必須ではない。必要なら、これらは他の位置に一緒に基準平面を形成することもできる。しかしながら、この場合、上記基準面は有利には固定面１０と一緒に加工（process）されるべきである。この目的のため、基準面１０は固定面１０と可能な限り直に隣接して位置すべきである。
【００１６】
基体１２に反射面１３（非球面の）を形成する代わりに、自由曲面として、基体１２上に配置された別の反射面１３を設けることもできる。この場合、当該非球面の下側が、基体１２への接続がなされるような対応して高精度の平らな表面を有する又は斯かる表面が付与されることが保証されるべきである。
【００１７】
個々の楕円の軸外しセグメントの代わりに、反射面１３の上側（特に非球面）は、図４から分かるように、母材１５から形成することができる。この目的のため、必要な軸外しセグメントは、母材１５から反射面１３として切り出され、これらセグメントの下側は密着のために対応して処理される。この形成方法の利点は、特に、製造にとり重要な“オーバーフロー”１６が当該光学面上に本来的に存在し得る点にある。このことは、有効な光学面の形成のために、９mmにも達し得るような如何なる研磨オーバーフローも確保する必要がないことを意味する。従って、ミラー１３は更に一層小型な態様で形成することができ、かくして、一般的に厳しい取り付け空間を、より最適な態様で利用することができる。
【００１８】
支持部８上の基準面は、当該反射面、即ち非球面１３の位置を決定するように作用する。前述したように、ここでは、最初の基準平面は３つの共面的な固定面１０により形成される。軸（例えばｘ軸）に対する当該基準表面における位置は、当該支持部８の長い辺により形成される第１位置決め縁１４により決定される。
【００１９】
該位置決め縁１４に沿う並進移動は防止され、及び／又は当該支持部８の最後の自由度が、位置決め縁１４に対して或る角度で位置するような位置決め縁１５の形態の更なる第２位置決め位置により決定される。
【００２０】
当該系は、上述した基準面、特に固定面１０並びに２つの位置決め縁１４及び１５の補助により調整することができる。この目的のために、零点１７が例えば非球面１３の中央に固定され、これにより該非球面の上記基準面に対する位置は既知となる。この場合、これらから得られる値は、当該光学エレメントを該系内に取り付けるために光学ユニットとしての支持部８を介して対物系１に渡されるが、この零点は、対応する方法で事前に同様に自由に固定することが可能な当該対物系内の零点１８に対して固定される。対物系における零点１８は、例えば当該対物系１のハウジングの内側の特定の位置に、又はそれ以外では光軸上の他の位置に配置することができる。
【００２１】
これの結果は、製造の間において事前に固定された零点１７を備える光学エレメント（この場合は、非球面１３）を、当該対物系における零点１８に参照させるということであり、その結果、対応した正確な調整が可能になるのみならず、取り外し及び後の再取り付けの場合において正確な再現性が達成される。
【００２２】
対物系１に取り付けるために、３つの基準面を簡単な方法で支持部８と接触させるために使用し、かくして適宜正確に調整することが可能になる。
【００２３】
安定性の理由で、下部２０を支持部８の当該光学エレメントから遠い側に配設することができる。また、このようにして、光学エレメントにおける例えば被覆により発生する応力を最小化することもできる。下部２０は、同様に、支持部８に密着により接続することもできる。勿論、これは、支持部８及び下部２０の互いに対面する表面が、対応した高精度で形成されることを要する。
【００２４】
当該光学ユニットの全ての部分（従って、非球面１３、支持部８及び下部２０からなることができる）は、有利には、同一の材料から形成される。例えばZerodurが、当該光学エレメント用の材料として適している。何故なら、この材料は非常に小さな熱膨張係数を有しているからである。同様に、ＵＬＥ（コーニング社の）も好適である。
【００２５】
光学ユニットを製造する２つの方法を、以下に本質的に例示として説明する。
【００２６】
第１ステップにおいて、支持部８が作製される。次いで、基体１２が作製され、その後、該基体２が上記支持部８に接続される。次いで、実際の光学エレメント１３の表面（反射面又は非球面）が基体１２上で加工される。
【００２７】
第２方法においては、第１ステップにおいて同様に支持部８が作製される。次いで、母材１５が作製され、適切に加工される。この場合、楕円の所望の軸外れセグメントに従って母材１５から加工形成された後、反射面１３が切り出される。次いで、基体１２又は支持部８が、楕円の上記切り出された軸セグメントに接続される。
【００２８】
図５は、前側端面上に光学エレメント１３が配設された円柱状基体１２を有するような光学ユニットの実施例を部分断面図として示している。
【００２９】
支持部８’への接続の目的で、基体１２にはアダプタ１９が設けられ、該アダプタは基体１２に前記光学エレメント１３から遠い側の端面に接続されている。基体１２は支持体８’の切り抜き２０内に取り付けられるが、この場合の支持体８’は図６の斜視図から分かるように三角柱の形態を有している。基体１２を備えるアダプタ１９は、支持体８’上の互いに直角に配置された２つの側面の一方上に位置する。これは、アダプタ１２が取り付けられた切り抜き２０を備える側面である。勿論、切り抜き２０は円形である必要はない。むしろ、該切り抜きは基体１２の断面に適合されるべきであり、該基体も、勿論、同様に円柱である必要はなく、例えば長方形形状を有することができる。
【００３０】
光学エレメント１３は、例えば図４に示す母材１５から形成されるような、例えば非球面のものとすることができる。
【００３１】
同様に、図５に点線で示すように基体１２の前側側面上にプリズム１３’を光学エレメントとして配設することもできる。
【００３２】
図５による実施例の狙いは、当該光学系の零点１８に対する光学エレメント１３の零点１７の角度誤差を１０角度秒未満、好ましくは３角度秒未満に維持することにあり、ここでも、零点１７は光学エレメント１３上で任意に選択された零点であり、“１８”は光学系１に任意に固定された零点である。この様にして、光学エレメント１３の取り付けに際して正確且つ再現可能な作業が再度達成される。
【００３３】
アダプタ１９は基体１２及び支持部８’に例えば密着により接続される。基体１２、アダプタ１９及び支持部８’を備える図５の光学ユニットは、光学エレメントとして反射面１３を備える図１ないし３の実施例と同様の態様で基準面を有する。しかしながら、これらは明瞭化の理由で図示されていない。
【００３４】
支持部８’は、第１ステップにおいて、以下に例示として示す製造方法により作製され、この場合において、角度誤差はγ＜３”（角度秒）、好ましくは＜１角度秒とすべきである。また、平面度誤差は＜１０ミクロン（μ）、好ましくは＜１ミクロンとすべきである。ここで、上記角度γは三角柱状支持体８’の直角（direct
angularity）の角度である。次いで、平行平面アダプタ１９が作製され、その後に基体１２が、例えば密着により、アダプタ１９に、且つ、同時に支持体８’にも接続される。
【００３５】
必要なら、当該光学ユニットの個々の部品は、例えば接着による等の他の方法でも相互接続することができる。しかしながら、一般的には、接着応力が生じるのを防止するために密着が好まれる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】図１は、光学エレメントとして複数のミラーを有する投影対物系の概念図である。
【図２】図２は、支持部を有する光学ユニットとしてのミラーの上面図を示す。
【図３】図３は、図２のミラーの側面図を示す。
【図４】図４は、母材の上面図を示す。
【図５】図５は、角柱を有する光学ユニットの部分断面図を示す。
【図６】図６は、図５の角柱からなる支持体の斜視図を示す。
【符号の説明】
【００３７】
１  光学画像化システム（投影対物系）
２  プラズマ源
３  照明系
４  露光ビーム
５  マスク
６  ウェファ
７  光学ユニット（ミラー）
８、８’支持部
９  固定区域
１０  基準面、固定面
１１  平らな表面
１２  基体
１３  光学エレメント（反射面）
１４  位置決め縁
１５  位置決め縁
１７  零点
１８  零点
１９  アダプタ
２０  切り抜き
【図１】
2005191579.tif 000003
【図２】
2005191579.tif 000004
【図３】
2005191579.tif 000005
【図４】
2005191579.tif 000006
【図５】
2005191579.tif 000007
【図６】
2005191579.tif 000008
【手続補正書】
【提出日】平成17年2月3日(2005.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、
ａ）基準平面を形成する少なくとも３つの共面的基準面（１０）と、
ｂ）支持部（８）の前記共面的基準面（１０）に対して或る角度で位置する第１位置決め縁（１４）と、
ｃ）前記第１位置決め縁（１４）に沿う並進移動が防止されるようにする第２位置決め位置（１５）と、
が設けられることを特徴とする方法。
【外国語明細書】
2005191579.tif 000009
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