(57)【要約】  【課題】水分等に起因する輝尽性蛍光体層の劣化がない、高品位な放射線像変換パネルを提供する。  【解決手段】表面粗さＲａが２０ｎｍ以下の基材を用い、その表面に無機材料層と有機／無機材料複合層とを交互に少なくとも２層形成した防湿層を形成してなる防湿性保護膜で輝尽性蛍光体層を封止することにより、前記課題を解決する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、気相堆積法により形成された輝尽性蛍光体層と、吸湿を防止するために前記輝尽性蛍光体層を封止する防湿性保護膜とを有する放射線像変換パネルであって、
前記防湿性保護膜が、一方の面の算術平均表面粗さＲａが２０ｎｍ以下の基材と、この基材の前記一方の面に形成された防湿層とを有し、かつ、この防湿層が、無機化合物層と有機化合物および無機化合物の複合層とが交互に形成された少なくとも２層を有することを特徴とする放射線像変換パネル。
【請求項２】
前記防湿層において、前記基材の表面に形成される最下層が前記無機化合物層である請求項１に記載の放射線像変換パネル。
【請求項３】
前記防湿層の最上層が無機化合物層であり、前記防湿性保護膜は、この最上層の無機化合物層を前記輝尽性蛍光体層に向けて、前記輝尽性蛍光体層を封止する請求項１または２に記載の放射線像変換パネル。
【請求項４】
前記防湿層が、前記基材の表面に形成される最下層の前記無機化合物層と、この無機化合物層の表面に形成される前記複合層と、前記複合層の表面に形成される前記無機化合物層とを少なくとも有する請求項１〜３のいずれかに記載の放射線像変換パネル。
【請求項５】
前記基材が、基材本体の表面に有機ポリマー層を形成してなるものであり、この有機ポリマー層の表面に前記防湿層の最下層が形成される請求項１〜４のいずれかに記載の放射線像変換パネル。
【請求項６】
前記基材の防湿層形成面と逆面の算術平均表面粗さＲａが２０ｎｍ以上である請求項１〜５いずれかに記載の放射線像変換パネル。
【請求項７】
前記基材の厚さが１０μｍ以下である請求項１〜６のいずれかに記載の放射線像変換パネル。
【請求項８】
前記防湿層の厚さが１μｍ以下である請求項１〜７のいずれかに記載の放射線像変換パネル。
【請求項９】
前記輝尽性蛍光体層が、ＣｓＢｒ：Ｅｕからなるものである請求項１〜８のいずれかに記載の放射線像変換パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、輝尽性蛍光体層によって放射線像を記録／再生する放射線像変換パネルの技術分野に属し、詳しくは、吸湿による輝尽性蛍光体層の特性劣化の極めて少ない、高品質な放射線像変換パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線、電子線、紫外線等）の照射を受けると、この放射線エネルギーの一部を蓄積し、その後、可視光等の励起光の照射を受けると、蓄積されたエネルギーに応じた輝尽発光を示す蛍光体が知られている。この蛍光体は、輝尽性蛍光体（蓄積性蛍光体）と呼ばれ、医療用途などの各種の用途に利用されている。
【０００３】
一例として、この輝尽性蛍光体の膜（輝尽性蛍光体層  以下、蛍光体層とする）を有する放射線像変換パネル（以下、変換パネルとする（輝尽性蛍光体パネル（シート）とも呼ばれている））を利用する、放射線画像情報記録再生システムが知られており、例えば、富士写真フイルム社製のＦＣＲ（Fuji Computed Radiography)等として実用化されている。
このシステムでは、人体などの被写体を介してＸ線等を照射することにより、変換パネル（蛍光体層）に被写体の放射線画像情報を記録する。記録後に、変換パネルを励起光で２次元的に走査して輝尽発光を生ぜしめ、この輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を得、この画像信号に基づいて再生した画像を、ＣＲＴなどの表示装置や、写真感光材料などの記録材料等に、被写体の放射線画像として出力する。
【０００４】
変換パネルは、通常、輝尽性蛍光体の粉末をバインダ等を含む溶媒に分散してなる塗料を調製して、この塗料をガラスや樹脂製のパネル状の支持体に塗布し、乾燥することによって、作成される。
これに対し、特許文献１や特許文献２に示されるように、真空蒸着やスパッタリング等の気相堆積法（真空成膜法）によって、基板に蛍光体層を形成してなる蛍光体パネルも知られている。気相堆積法による蛍光体層は、真空中で形成されるので不純物が少なく、また、輝尽性蛍光体以外のバインダなどの成分が殆ど含まれないので、性能のバラツキが少なく、しかも発光効率が非常に良好であるという、優れた特性を有している。
【０００５】
ところが、このような気相堆積法による蛍光体層、中でも特に、良好な特性を有するアルカリハライド系の輝尽性蛍光体層は、吸湿性が高く、通常（常温／常湿）の環境下であっても、容易に吸湿する。
その結果、輝尽発光特性すなわち感度の低下や、輝尽性蛍光体の結晶性の低下（例えば、柱状構造をもつアルカリハライド系の輝尽性蛍光体であれば、結晶の柱状性の崩壊）による再生画像の鮮鋭性の低下等を生じてしまう。
【０００６】
そのため、変換パネルにおいては、蛍光体層を防湿性の保護膜で覆って封止することにより、吸湿による蛍光体層の劣化を防止することが行われている。
例えば、特許文献３には、輝尽性蛍光体からなる蛍光体層を有する（放射線像）変換パネルにおいて、透明支持体上に透明な無機層と有機層とを交互に少なくとも４層以上積層した、厚さが５０μｍ以下の保護膜（透明保護層）で蛍光体層を覆って封止することにより、蛍光体層の吸湿による劣化を防止した変換パネルが開示されている。
【０００７】
【特許文献１】特許第２７８９１９４号公報
【特許文献２】特開平５−２４９２９９号公報
【特許文献３】特開平５−２４９２９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
前記特許文献３に開示される変換パネルによれば、蛍光体層の吸湿に起因する特性劣化を防止することができる。しかしながら、例えば、高温／多湿のような厳しい条件下に曝された場合や、高画質な放射線画像の再生を長期にわたって要求されるような用途に対しては、未だ、充分な防湿性能を得るには至っていない。
また、変換シート（蛍光体層）の防湿性能を向上するためには、保護膜の厚さを増すのが効果的であるが、その反面、保護膜を厚くすると光学特性も劣化するため、画像の鮮鋭度の低下や濃度ムラの発生などの画質低下が生じる場合が多い。すなわち、薄く、かつ、優れた防湿性能を有する保護膜を備えた変換パネルの出願が望まれている。
【０００９】
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、気相堆積法によって形成した輝尽性蛍光体層を有する放射線像変換パネルにおいて、高温／多湿のような厳しい環境下や、高画質な放射線画像の再生を長期にわたって要求されるような用途であっても、充分な防湿性能を有し、かつ、防湿性保護膜に起因する画像鮮鋭度の低下や画像濃度ムラなどの画質低下の無い、長期にわたって高画質な放射線画像を安定して得ることができる、高品位な放射線像変換パネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために、本発明は、基板と、気相堆積法により形成された輝尽性蛍光体層と、吸湿を防止するために前記輝尽性蛍光体層を封止する防湿性保護膜とを有する放射線像変換パネルであって、前記防湿性保護膜が、一方の面の算術平均表面粗さＲａが２０ｎｍ以下の基材と、この基材の前記一方の面に形成された防湿層とを有し、かつ、この防湿層が、無機化合物層と有機化合物および無機化合物の複合層とが交互に形成された少なくとも２層を有することを特徴とする放射線像変換パネルを提供する。
【００１１】
このような本発明の放射線像変換パネルにおいて、前記防湿層において、前記基材の表面に形成される最下層が前記無機化合物層であるのが好ましく、また、前記防湿層の最上層が無機化合物層であり、前記防湿性保護膜は、この最上層の無機化合物層を前記輝尽性蛍光体層に向けて、前記輝尽性蛍光体層を封止するのが好ましく、さらに、前記防湿層が、前記基材の表面に形成される最下層の前記無機化合物層と、この無機化合物層の表面に形成される前記複合層と、前記複合層の表面に形成される前記無機化合物層とを少なくとも有するのが好ましい。
また、本発明の放射線像変換パネルにおいて、前記基材が、基材本体の表面に有機ポリマー層を形成してなるものであり、この有機ポリマー層の表面に前記防湿層の最下層が形成されるのが好ましく、また、前記基材の防湿層形成面と逆面の算術平均表面粗さＲａが２０ｎｍ以上であるのが好ましく、また、前記基材の厚さが１０μｍ以下であるのが好ましく、また、前記防湿層の厚さが１μｍ以下であるのが好ましく、さらに、前記輝尽性蛍光体層が、ＣｓＢｒ：Ｅｕからなるものであるのが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
上記構成を有する本発明によれば、気相堆積法によって輝尽性蛍光体層を形成してなる放射線像変換パネルにおいて、輝尽性蛍光体層の吸湿を防止する防湿性保護膜として、表面粗さの低い基材を用い、かつ、基材の表面に形成される最下層の無機化合物層、その表面に形成される有機化合物／無機化合物の複合層、および、その表面に形成される無機化合物層の、少なくとも３層を形成してなる防湿層を有する防湿性保護膜を有することにより、表面粗さの低い基材と前記防湿層の優れた防湿効果との相乗効果によって、非常に優れた防湿効果を得ることができ、吸湿による輝尽性蛍光体の劣化を長期にわたって防止することができる。
また、この防湿性保護膜は、薄くても非常に優れた防湿性能を発揮するので、防湿保護膜を厚くすることによる放射線画像の鮮鋭度低下や画像ムラ等の発生も防止できる。従って、本発明によれば、画像ムラ等がなく画像鮮鋭性に優れた、高画質な放射線画像を長期にわたって安定して得られる、高品位な放射線像変換パネルを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
以下、本発明の放射線像変換パネルについて、添付の図面に示される好適実施例を基に詳細に説明する。
【００１４】
図１に、本発明の放射線像変換パネルの一例の概念図を示す。
図示例の放射線像変換パネル１０（以下、変換パネル１０とする）は、基板１２の表面に輝尽性蛍光体層１４を形成して、この輝尽性蛍光体層１４を防湿性保護膜１６で覆って、封止してなるものである。
なお、本発明において、輝尽性蛍光体層１４は、基板１２の表面に形成されるのに限定はされず、例えば、基板１２の表面に、輝尽発光光の反射層、あるいはさらに、この反射層用の保護層を形成して、その上に輝尽性蛍光体層１４を形成してもよい。
【００１５】
本発明の変換パネル１０において、基板１２には、特に限定はななく、変換パネル１０（輝尽性蛍光体パネル）で用いられている各種のものが利用可能である。
一例として、セルロースアセテート、ポリエステル、ポリエチレンテレフタレート、ポリアミド、ポリイミド、トリアセテート、ポリカーボネートなどから形成されるプラスチック板やプラスチックシート（フィルム）；  石英ガラス、無アルカリガラス、ソーダガラス、耐熱ガラス（パイレックスTM等）などから形成されるガラス板やガラスシート；  アルミニウム、鉄、銅、クロムなどの金属類から形成される金属板や金属シート；  このような金属板等の表面に金属酸化物層等の被覆層を形成してなる板やシート；  等が例示される。
また、基板１２の大きさ（面積）や厚さにも特に限定はなく、変換パネル１０の用途等に応じて、適宜、決定すればよい。
【００１６】
本発明の変換パネル１０において、輝尽性蛍光体層１４（以下、蛍光体層１４とする）は、このような基板１２に、気相堆積法によって形成（成膜）されるものである。
【００１７】
変換パネル１０において、蛍光体層１４を形成する輝尽性蛍光体（蓄積性蛍光体）には、特に限定はなく、公知の各種の輝尽性蛍光体が利用可能であるが、一例として、下記の輝尽性蛍光体が好ましく例示される。
【００１８】
米国特許第３，８５９，５２７号明細書に記載されている輝尽性蛍光体である、「ＳｒＳ：Ｃｅ，Ｓｍ」、「ＳｒＳ：Ｅｕ，Ｓｍ」、「ＴｈＯ2 ：Ｅｒ」、および、「Ｌａ2 Ｏ2Ｓ：Ｅｕ，Ｓｍ」。
【００１９】
特開昭５５−１２１４２号公報に開示される、「ＺｎＳ：Ｃｕ，Ｐｂ」、「ＢａＯ・ｘＡｌ2 Ｏ3 ：Ｅｕ（但し、０．８≦ｘ≦１０）」、および、一般式「ＭIIＯ・ｘＳｉＯ2：Ａ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、ＭIIは、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｚｎ，ＣｄおよびＢａからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｃｅ，Ｔｂ，Ｅｕ，Ｔｍ，Ｐｂ，Ｔｌ，ＢｉおよびＭｎからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０．５≦ｘ≦２．５である。）
【００２０】
特開昭５５−１２１４４号公報に開示される、一般式「ＬｎＯＸ：ｘＡ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｌｎは、Ｌａ，Ｙ，ＧｄおよびＬｕからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、ＣｌおよびＢｒの少なくとも一種であり、Ａは、ＣｅおよびＴｂの少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦０．１である。）
【００２１】
特開昭５５−１２１４５号公報に開示される、一般式「（Ｂａ1-x ，Ｍ2+x ）ＦＸ：ｙＡ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｍ2+は、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，ＺｎおよびＣｄからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，ＹｂおよびＥｒからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦０．６であり、０≦ｙ≦０．２である。）
【００２２】
特開昭５７−１４８２８５号公報に開示される、下記のいずれかの輝尽性蛍光体。
すなわち、一般式「ｘＭ3 （ＰＯ4 ）2 ・ＮＸ2：ｙＡ」または「Ｍ3 （ＰＯ4 ）2 ・ｙＡ」で示される輝尽性蛍光体；
（上記式において、ＭおよびＮは、それぞれ、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，ＺｎおよびＣｄからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、Ｆ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，Ｓｂ，Ｔｌ，ＭｎおよびＳｎからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦６、０≦ｙ≦１である。）
【００２３】
一般式「ｎＲｅＸ3 ・ｍＡＸ’2 ：ｘＥｕ」または「ｎＲｅＸ3・ｍＡＸ’2 ：ｘＥｕ，ｙＳｍ」で示される輝尽性蛍光体；
（上記式において、Ｒｅは、Ｌａ，Ｇｄ，ＹおよびＬｕからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｂａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選択される少なくとも一種であり、ＸおよびＸ’は、それぞれ、Ｆ，Ｃｌ，およびＢｒからなる群より選択される少なくとも一種である。また、１×１０-4＜ｘ＜３×１０-1であり、１×１０-4＜ｙ＜１×１０-1であり、さらに、１×１０-3＜ｎ／ｍ＜７×１０-1である。）
【００２４】
および、一般式「ＭI Ｘ・ａＭIIＸ’2 ・ｂＭIIIＸ''3 ：ｃＡ」で示されるアルカリハライド系輝尽性蛍光体。
（上記式において、ＭI は、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種であり、ＭIIは、Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄ，ＣｕおよびＮｉからなる群より選択される少なくとも一種の二価の金属であり、ＭIIIは、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，ＧａおよびＩｎからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ｘ、Ｘ’およびＸ''は、Ｆ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，Ｇｄ，Ｌｕ，Ｓｍ，Ｙ，Ｔｌ，Ｎａ，Ａｇ，Ｃｕ，ＢｉおよびＭｇからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ａ＜０．５であり、０≦ｂ＜０．５であり、０≦ｃ＜０．２である。）
【００２５】
特開昭５６−１１６７７７号公報に開示される、一般式「（Ｂａ1-X ，ＭIIX ）Ｆ2 ・ａＢａＸ2：ｙＥｕ，ｚＡ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、ＭIIは、Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，ＺｎおよびＣｄからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、ＺｒおよびＳｃの少なくとも一種である。また、０．５≦ａ≦１．２５であり、０≦ｘ≦１であり、１×１０-6≦ｙ≦２×１０-1であり、０＜ｚ≦１×１０-2である。）
【００２６】
特開昭５８−６９２８１号公報に開示される、一般式「ＭIII ＯＸ：ｘＣｅ」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、ＭIII は、Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，ＹｂおよびＢｉからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ｘは、ＣｌおよびＢｒの少なくとも一種である。また、０≦ｘ≦０．１である。）
【００２７】
特開昭５８−２０６６７８号公報に開示される、一般式「Ｂａ1-x Ｍa Ｌa ＦＸ：ｙＥｕ2+」で示される輝尽性蛍光体。
（上記式において、Ｍは、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｌは、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，Ｇａ，ＩｎおよびＴｌからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ｘは、Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種である。また、１×１０-2≦ｘ≦０．５であり、０≦ｙ≦０．１であり、さらに、ａはｘ／２である。）
【００２８】
特開昭５９−７５２００号公報に開示される、一般式「ＭIIＦＸ・ａＭI Ｘ’・ｂＭ’IIＸ''2 ・ｃＭIII Ｘ3 ・ｘＡ：ｙＥｕ2+」で示される輝尽性蛍光体。（上記式においてＭIIは、Ｂａ，ＳｒおよびＣａからなる群より選択される少なくとも１種であり、ＭIは、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ｍ’IIは、ＢｅおよびＭｇの少なくとも一方の二価の金属であり、ＭIIIは、Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ、およびＴｌからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ａは、金属酸化物であり、Ｘ、Ｘ’およびＸ''は、それぞれ、Ｆ，Ｃｌ，Ｂｒ，およびＩからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ａ≦２であり、０≦ｂ≦１×１０-2であり、０≦ｃ≦１×１０-2であり、かつ、ａ＋ｂ＋ｃ≧１０-6であり、さらに、０＜ｘ≦０．５であり、０＜ｙ≦０．２である。）
【００２９】
特に、優れた輝尽発光特性を有し、かつ、本発明の効果が良好に得られる等の点で、特開昭５７−１４８２８５号公報に開示されるアルカリハライド系輝尽性蛍光体は好ましく例示され、中でも特に、ＭI が、少なくともＣｓを含み、Ｘが、少なくともＢｒを含み、さらに、Ａが、ＥｕまたはＢｉであるアルカリハライド系輝尽性蛍光体は好ましく、その中でも特に、一般式「ＣｓＢｒ：Ｅｕ」で示される輝尽性蛍光体が好ましい。
【００３０】
本発明の変換パネル１０において、このような輝尽性蛍光体からなる蛍光体層１４は、真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition)等の各種の気相堆積法（真空成膜法）で形成される。
中でも、生産性等の点で真空蒸着により形成された蛍光体層１４が好ましく、特に、蛍光体成分の材料と、付活剤（賦活剤：activator)成分の材料とを別々に加熱蒸発させる、多元の真空蒸着により形成された蛍光体層１４が好ましい。例えば、前記「ＣｓＢｒ：Ｅｕ」の蛍光体層１４であれば、蛍光体成分の材料として臭化セシウム（ＣｓＢｒ）を、付活剤成分の材料として臭化ユーロピウム（ＥｕＢｒx（ｘは、通常、２〜３））を用い、それぞれを別々に加熱蒸発させる真空蒸着により形成されることが好ましい。
真空蒸着における加熱方法にも、特に限定はなく、例えば、電子銃等を用いる電子線加熱、又は、抵抗加熱で形成されたものでもよい。さらに、多元の真空蒸着による形成される場合には、全ての材料を同様の同じ加熱手段（例えば、電子線加熱）で加熱蒸発してもよく、あるいは、蛍光体成分の材料は電子線加熱で、微量である付活剤成分の材料は抵抗加熱で、それぞれ加熱蒸発して形成されてもよい。
【００３１】
また、蛍光体層１４の形成条件（成膜条件）に藻、特に限定はなく、用いる気相堆積法の種類、使用する成膜材料、加熱手段等に応じて、適宜、決定すればよい。また、基板１２の加熱等によって、成膜中に、形成した蛍光体層１４を３００℃以下、好ましくは２００℃以下で加熱してもよい。
【００３２】
ここで、本発明の変換パネル１０においては、前述した各種の輝尽性蛍光体、特にアルカリハライド系輝尽性蛍光体、中でも特にＣｓＢｒ：Ｅｕからなる蛍光体層１４を真空蒸着によって形成する場合には、一旦、系内を高い真空度に排気した後、アルゴンガスや窒素ガス等を系内に導入して、０．０１〜３Ｐａ程度の中真空度とし、この中真空下で抵抗加熱等によって成膜材料を加熱して真空蒸着を行うのが好ましい。
ＣｓＢｒ：Ｅｕ等のアルカリハライド系の蛍光体層は、柱状結晶構造を有するが、このような中真空下で成膜して得られる蛍光体層１４は、特に良好な柱状の結晶構造を有し、輝尽発光特性や画像の鮮鋭性等の点で好ましい。
【００３３】
蛍光体層１４の厚さにも、特に限定はなく、変換パネル１０の用途や輝尽性蛍光体の種類等に応じて、充分な輝尽発光特性を得られる層厚を、適宜、決定すればよいが、好ましくは、５０〜１５００μｍ、特に２００〜１０００μｍ程度である。
【００３４】
このようにして気相堆積法によって蛍光体層１４を形成したら、良好な輝尽発光特性を発現させるために、加熱処理（アニール）を施すのが好ましい。
蛍光体層１４の加熱処理条件には、特に限定はないが、一例として、窒素雰囲気等の不活性雰囲気下で、５０〜６００℃、特に１００℃〜３００℃で、１０分〜１０時間、特に３０分〜３時間の加熱処理を行うのが好ましい。また、加熱処理は、焼成炉を用いる方法等の公知の方法で実施すればよく、基板１２の加熱手段を有する真空蒸着装置であれば、これを利用して加熱処理を実施してもよい。
【００３５】
本発明の変換パネル１０において、防湿性保護膜１６は、このような蛍光体層１４の吸湿を防止するために、蛍光体層１４を覆って封止するものである。
本発明の変換パネル１０において、防湿性保護膜１６（以下、保護膜１６とする）は、所定の算術平均表面粗さＲａを有する基材２０の表面に、防湿層２２を形成してなるものである。また、防湿層２２は、無機化合物層と無機材料および有機材料の複合層を交互に積層した少なくとも２層を有するものであり、図示例においては、好ましい態様として、防湿層２２は、基材２０の表面に形成される最下層の無機材料層２４、無機材料層２４の表面に形成される有機材料と無機材料との複合層２６、および、複合層２６の表面に形成される無機材料層２８の３層を有する。
【００３６】
本発明の変換パネル１０において、基材２０は、少なくとも防湿層２２を形成する面（以下、この面を表面とする）の算術平均表面粗さＲａ（以下、表面粗さＲａとする）が２０ｎｍ以下のものである。
本発明は、このような表面の平滑度が非常に高い基材２０に、後述する防湿層３０を組み合わせることにより、透湿度が０．１[g/(m2・day)]以下という防湿性に優れた保護膜１６とすることができ、非常に優れた蛍光体層１４の防湿性を有する変換パネル１０を実現している。
粗さＲａが２０ｎｍを超えると、前述のような高い透湿度を実現することができず、従って、長期にわたって吸湿に起因する蛍光体層１４の劣化を防止した、高品位な変換パネル１０を得ることはできない。
【００３７】
本発明において、より蛍光体層１４の防湿性に優れた変換パネル１０を得られる等の点で、基材２０表面の表面粗さＲａは、好ましくは、１０ｎｍ以下である。
なお、防湿性等の点では、表面粗さＲａが小さいほど有利である反面、一般的に、表面粗さＲａが小さくなるほど、基材２０のコストが高くなるので、要求される防湿性能やコスト等に応じて、適宜、使用する基材２０を選択すればよい。
【００３８】
本発明において、基材２０は、放射線および輝尽発光光の透過が可能で、かつ、少なくとも１面の表面粗さＲａが２０ｎｍ以下であれば、他に限定は無く、各種のものが利用可能である。一例として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリウレタン、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド等からなる各種のプラスチックシート（樹脂フィルム）等が例示される。
【００３９】
また、本発明においては、表面粗さＲａが２０ｎｍ超の樹脂フィルム等の基材本体の表面に、有機ポリマー層などを平滑層として設けることにより、少なくとも１面の表面粗さＲａを２０ｎｍ以下とした基材２０も好適に利用可能である。
さらに、表面粗さＲａが２０ｎｍであれば、前記平滑層が防湿機能を有してもよく、樹脂フィルム等の基材本体の表面（あるいは、前記平滑層の上）に、補助的な防湿層を有するものを基材２０として用いてもよい。
すなわち、本発明の変換パネル１０において、基材２０とは、表面に、無機材料層と複合層とを積層した積層構造の最下層が形成されるものである。従って、図示例のように、無機材料層２４／複合層２６／無機材料層２８を有する場合には、無機材料層と複合層とを交互に積層した構成の最下部となる無機材料層２４が形成される表面を有するものが、本発明における防湿膜１６の基材となる。好ましくは、図示例のように、後述する無機材料層２４／複合層２６／無機材料層２８のサンドイッチ構造の最下部が形成される表面を有するものが、本発明における防湿膜１６の基材となる。
【００４０】
本発明の変換パネル１０において、基材２０の裏面（防湿層２２の形成面の逆面）は、表面粗さＲａが２０ｎｍ以上であるのが好ましい。
保護膜１６を効率良く製造する方法として、長尺な基材２０をローラ等を用いて搬送しつつ、各層を成膜して防湿層２２を形成する方法が例示される。ここで、本発明の変換パネル１０においては、保護膜１６の基材２０表面の表面粗さＲａが低いので、裏面の表面粗さＲａも低いと、スリップ等によって基材２０の搬送（ハンドリング）が安定しない場合がある。基材２０の搬送が不安定であると、防湿層２２の形成が適正に行われずに、目的とする防湿性が得られない可能性がある。
これに対し、基材２０裏面の表面粗さＲａを２０ｎｍ以上とすることにより、ローラ等で搬送しつつ防湿層２２を形成する際においても、基材２０の搬送を安定して行うことができ、すなわち、蛍光体層１４の防湿性に優れた高品位な変換パネル１０を高い生産性で安定して製造することが可能である。
なお、基材２０の裏面の表面粗さＲａの上限には、特に限定は無いが２００ｎｍ以下とするのが好ましい。
【００４１】
本発明の変換パネル１０において、保護膜１６の基材２０の厚さには特に限定はない。なお、基材２０の厚さが厚いほど、蛍光体層１４の防湿性の点では有利であるが、放射線や輝尽発光光の透過性低下や散乱等が多くなり、画像の濃度ムラや鮮鋭度の低下等を生じて、画質的には不利になり、特に、前述のＦＣＲのような医療用途では、問題になる。
以上の点を考慮すると、基材２０の厚さは１０μｍ以下、特に６μｍ以下が好ましい。
【００４２】
図示例の変換パネル１０において、保護膜１６は、このような表面粗さＲａが２０ｎｍ以下の基材２０の表面（前述のように、表面粗さＲａが２０ｎｍ以下の面）に、基材２０の表面に形成される最下層の無機材料層（以下、無機層とする）２４、この無機層２４の表面に形成される有機材料と無機材料との複合層２６、および、この複合層２６の表面に形成される無機層２８の３層からなる防湿層２２を有する。
なお、図１においては最下層の無機層２４が上になっているが、本発明の防湿層２２においては、基材２０に近い方向を下方と呼ぶことにする。従って、基材２０の表面の形成される無機層２４が最下層であり、基材２０から最も離れた無機層２８（すなわち基材２０に対して防湿層２２の最外層）が最上層となる。
【００４３】
無機層２４および無機層２８は、各種の無機材料からなる膜で、防湿性能（保護膜１６の透湿度低下）に大きく寄与する。
無機層２４および無機層２８は、放射線や輝尽発光光が透過可能であれば、各種の無機材料からなる層が利用可能である。
一例として、酸化硅素（ＳｉＯ2）、窒化硅素（Ｓｉ3Ｎ4)、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3)、窒化アルミニウム（ＡｌＮ）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2)、酸化スズ（ＳｎＯ2)、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）等の無機材料からなる膜が例示される。
無機層２４および無機層２８の形成方法にも特に限定はなく、目的とする薄膜が形成できれば、スパッタリング、ＣＶＤ、真空蒸着、ＰＶＤ(Physical Vapor Deposition)、イオンプレーティング法等の各種の成膜手段が利用可能である。
【００４４】
無機層２４および無機層２８の膜厚にも、特に限定はないが、良好な防湿性能が得られる、無機層２４および無機層２８のクラック発生防止、トータルでの防湿層２２の厚膜化回避等の点で、好ましくは、５０〜１００ｎｍである。
また、無機層２４と無機層２８とは、同じ材料からなる層であっても、異なる材料からなる層であってもよく、さらに、厚さも同じでも異なってもよい。
【００４５】
複合層２６は、各種の無機材料と各種の有機材料との複合材料からなる膜である。
このような複合層２６を有することにより、無機層２４および無機層２８の欠陥を埋めることができ、両無機層の有する防湿性能を、最大限に発現できる。すなわち、本発明の変換パネル１０においては、防湿層２２が、無機層と複合層とを交互に積層してなる少なくとも２層を有し、かつ、粗さＲａが２０ｎｍ以下の基材２０の表面に、この交互積層構造を接して防湿層２２を形成することにより、両者の相乗効果によって、保護膜１６を、透湿度が０．１[g/(m2・day)]以下という非常に防湿性に優れたものとすることができ、このような保護膜１６によって蛍光体層１４を封止することにより、長期にわたって吸湿による蛍光体層１４の劣化を防止できる、高品位な変換パネル１０を実現することができる。特に、図示例のように、少なくとも無機層２４および無機層２８で複合層２６を挟んでなるサンドイッチ構造を有し、かつ、このサンドイッチ構造を基材２０の表面に形成してなる防湿層２２を有することにより、この効果をより好適に得ることができる。
【００４６】
複合層２６は、放射線や輝尽発光光が透過可能であれば、各種の無機材料と有機材料との複合材料からなる層が利用可能である。
無機材料としては、一例として、（ａ）酸化硅素等の前述の無機層を形成する物質であって粉末状としたもの、（ｂ）１種以上の金属アルコキシドおよびその加水分解物、ならびに、（ｃ）塩化錫、のうちの少なくとも１種からなるものが用いられる。他方、有機材料としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）やメチルセルース等の水溶性高分子物質が用いられる。
複合層２６の形成は、上記無機材料と有機材料との混合物を、水溶液あるいは水／アルコール混合溶液とし、これを主剤とするコーティング剤を塗布等することにより行う。具体的な形成方法にも、特に限定はなく、ゾルゲル法、グラビアコーティング、ロールコーティング、ドクターブレードコーティング、ディップコーティング、スライドコーティングおよびエクストルージョンコーティングなどの各種の塗布法、スクリーン印刷法、スプレー法等の各種の成膜手段が利用可能である。
【００４７】
複合層２６の厚さにも、特に限定はないが、良好な防湿性能が得られる、トータルでの防湿層２２の厚膜化回避等の点で、好ましくは、０．３〜１μｍである。
また、複合層２６において、無機材料と有機材料との比率にも特に限定はないが、無機層の欠陥埋め効果が好適に得られる、複合層２６自身が防湿性を発現して防湿層２２全体として複合層２６がバリケード効果を発揮できる等の点で、有機材料の量を１０〜５０重量％、特に、２０〜４０重量％とするのが好ましい。
【００４８】
本発明の変換パネル１０において、保護膜１６の防湿層２２は、無機層と複合層とを交互に積層してなる、少なくとも２層を有するものであれば、層構成は、図示例のような３層構成に限定はされない。
例えば、無機層２４と複合層２６のみを有する２層構成でもよく、あるいは、無機層２８の上に複合層および無機層を形成してなる５層構成の保護層でもよく、また、放射線および輝尽発光光が透過可能であれば、無機層や複合層以外の膜を有してもよい。
【００４９】
なお、本発明の変換パネルにおいては、図示例のように、防湿層２２の最下層は無機層とするのが好ましい。このような構成とすることにより、基材２０と防湿層２２との層間密着性を充分に確保することができ、強度等の点で好ましい。
また、本発明の変換パネルにおいては、図示例のように、防湿層２２の最上層（基材２０と逆側表面）を無機層とし、この無機層を蛍光体層１４側にして保護膜１６によって蛍光体層１４を封止するのが好ましい。このような構成とすることにより、保護膜１６の密着性を確保することができ、強度等の点で好ましい。また、後述するが、本発明においては、強度等の点で、基板１２と保護膜１６のみならず蛍光体層１４と保護膜１６とも接着して、保護膜１６で蛍光体層１４を封止するのが好ましいが、この際において、前記無機材料層を最上層にして蛍光体層１４に向ける構成とすることにより、蛍光体層１４と保護膜１４との層間密着性を充分に確保することができ、強度等の点でより好ましい。
特に、図示例のように、少なくとも無機層２４および無機層２８で複合層２６を挟んでなるサンドイッチ構造を有し、このサンドイッチ構造を基材２０の表面に形成する構成とし、かつ、防湿層２２の最上層を無機材料層とすることにより、非常に優れた防湿性に加え、基材２０および蛍光体層１４との層間密着性も充分に確保することができ、より好ましい変換パネルを実現できる。
【００５０】
ここで、防湿層２２が厚いほど、防湿性の点では有利であるが、濃度ムラなどの画質低下や鮮鋭度の低下等を生じて、画質的には不利になるのは、基材２０と同様である。また、防湿層２２の層数が多くなると、各層の形成時に防湿層２２内にゴミ等の異物が混入する可能性が高くなる。防湿層２２に異物が混入していると、ここが画像欠陥になってしまう。このような画質の劣化や画像欠陥は、前述のＦＣＲのような医療用途では、大きな問題となるのは、前述のとおりである。
以上の点を考慮すると、特に限定はないが、防湿層２２の層数は９層以下、特に５層以下であるのが好ましい。また、同様に、特に限定はないが、防湿層２２の層厚は、１μｍ以下、特に、０．８μｍ以下とするのが好ましい。
【００５１】
このような本発明の変換パネル１０を製造する際には、一例として、基板１２の表面に真空蒸着によって蛍光体層１４を形成する。
他方で、表面の表面粗さＲａが２０ｎｍ以下、裏面の表面粗さＲａが２０ｎｍ以上の基材２０の表面に、例えばスパッタリングによって無機層２４を形成し、次いで、ゾルゲル法によって複合層２６を形成し、さらに、スパッタリングによって無機層２８を形成して、基材２０の表面に３層の防湿層２２を有する保護膜１６を作成する。なお、この防湿層２２の形成の際には、基材２０の四辺に張力を与えることにより、弛みの無い状態として各層を形成するのが好ましい。これにより、基材２０にシワが入ることを防止して、鮮鋭度、画質、防湿性に優れた変換パネル１０を作製することができる。
次いで、防湿層２２の表面（すなわち、本例においては無機層２８の表面）に接着剤を塗布し、接着剤塗布面を基板１２側に向けて、蛍光体層１４を全面的に覆うように基板１２に保護膜１６を積層し、熱ラミネーションによって両者を接着することにより、蛍光体層１４を保護膜１６で封止して、図１に示すような変換パネル１０を製造する。なお、熱ラミネーションによる両者の接着に先立って、基板１２の加熱等によって接着面を加熱するのも好ましい。
【００５２】
以上の例では、基材２０のみを支持体として防湿層２２を形成して、変換パネル１０を作製したが、本発明は、これに限定はされない。
例えば、ポリエチレン等からなる厚さ１０〜５００μｍ程度の剥離用フィルムを基材２０に張り合わせて張り合わせて貼合せフィルムとし、この貼合せフィルムの基材２０の表面に防湿層２２を形成して保護膜１６を作製し、次いで先と同様に、防湿層２２に接着剤を塗布して保護膜１６を積層／接着することにより蛍光体層１４を保護膜１６（貼合せフィルム）で封止し、最後に、貼合せフィルムから剥離用フィルムを剥離することにより、変換パネル１０を作製する方法も好適である。
この方法によれば、剥離用フィルムの厚さによって、基材２０にシワが入ることを防止でき（このシワとは、マクロなもので表面粗さＲａとは別の属性である）、簡便に、鮮鋭度、画質、防湿性に優れた変換パネル１０を作製することができる。
【００５３】
ここで、保護膜１６は、蛍光体層１４を囲む全周のみを基板１２に接着してもよいが、保護膜１６の浮きを防止できる、強度的に有利である等の点で、蛍光体層１４の表面も保護膜１６と接着するのが好ましい。
また、基板１２に蛍光体層１４を基板面方向で囲む枠体を固定し、この枠体と保護膜１６（あるいはさらに蛍光体層１４）とを接着することにより、保護膜１６で蛍光体層１４を封止する構成も、より好ましい。このような枠体を有することにより、外部からの衝撃等による蛍光体層１４の損傷を防止でき、かつ、保護膜１６による封止の際に、蛍光体層１４の上面と接着面との段差を無くして、より生産性および作業性を向上することができる。なお、この際には、蛍光体層１４の形成は、基板１２に枠体を固定した後に行うのが好ましい。
【００５４】
以上、本発明の放射線像変換パネルについて詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいのは、もちろんである。
【実施例】
【００５５】
以下、本発明の具体的実施例を挙げ、本発明をより詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施例に限定されないのは言うまでもない。
また、以下の実施例および比較例において、基材２０の表面粗さＲａは、いずれも、表面粗さ測定機（（株）小坂研究所製  微細形状測定機ＥＴ４０００Ａ）を用いて、接触法によって測定したものである。
【００５６】
［実施例１］
付活剤の成膜材料として臭化ユーロピウムを、蛍光体の成膜材料として臭化セシウムをそれぞれ用いる二元の真空蒸着によって、基板１２の表面にＣｓＢｒ：Ｅｕからなる蛍光体層１４を成膜した。なお、両成膜材料共に、加熱は、タンタル製のルツボと出力６ｋＷのＤＣ電源とを用いる抵抗加熱装置で行った。
真空蒸着装置の基板ホルダに、面積４５０×４５０ｍｍのアルミニウム製の基板１２をセットし、また、各所定位置に各成膜材料をセットし、さらに、成膜領域が基板１２の中央の４３０×４３０ｍｍとなるように基板１２の表面をマスキングした。その後、真空チャンバを閉塞し、排気を開始した。排気は、ディフュージョンポンプおよびクライオコイルを用いた。
真空度が８×１０-4Ｐａとなった時点で、真空チャンバ内にアルゴンガスを導入して真空度を０．５Ｐａとし、次いで、ＤＣ電源を駆動してルツボに通電して、基板１２の表面に蛍光体層１４の成膜を介した。なお、蛍光体層１４におけるＥｕ／Ｃｓのモル濃度比が０．０１：１で、かつ、成膜速度が８μｍ／ｍｉｎとなるように、両ルツボのＤＣ電源の出力を調整した。また、成膜中は、ハロゲンランプを用いて基板１２表面を加熱した。
蛍光体層１４の膜厚が約７１０μｍとなった時点で、成膜を終了し、真空チャンバから基板１２を取り出した。なお、膜厚は、予め行った実験により制御した。
次いで、成膜を終了した基板１２に、窒素雰囲気下で、温度２００℃で２時間の加熱処理を行った。
【００５７】
他方、厚さが６μｍ、一面（表面）の表面粗さＲａが３ｎｍ、他面（裏面）の表面粗さＲａが２０ｎｍのＰＥＴフィルムを基材２０として、基材２０の四辺に張力を与えて弛みの無い状態とし、その表面（表面粗さＲａ３ｎｍ面）に、スパッタリングによって、無機層２４としてのＳｉＯ２膜をｌ００ｎｍ形成した。
次いで、ＰＶＡとＳｉＯ２との比率（重量比）が１：４となるように、ＰＶＡとＳｉＯ２とを含有する塗料を調整し、この塗料を用いて、無機層２４（ＳｉＯ２膜）の表面にゾルゲル法によって、ＰＶＡとＳｉＯ２とからなる厚さ０．６μｍの複合層２６（ＰＶＡが２０重量％）を無機層２４の上に形成した。
さらに、この複合層２６の表面に、無機層２８としての厚さｌ００ｎｍのＳｉＯ２膜を無機層２４と同様にして形成して、表面粗さＲａが３ｎｍの基材２０の表面に、無機層２４／複合層２６／無機層２８の３層からなる防湿層２２を有する保護膜１６を作製した。
【００５８】
ディスペンサーを用いて、無機層２８の表面に接着剤を塗布し、保護膜１６によって蛍光体層１４の全面を覆うようにして、保護膜１６と基板１４とを積層して、熱ラミネートによって保護膜１６と基板１４とを接着して、保護膜１６によって蛍光体層１４を全面的に封止して、図１に示す変換パネル１０を作製した。
【００５９】
［実施例２］
一面の表面粗さＲａが３０ｎｍ、他面の表面粗さＲａが２０ｎｍの厚さ６μｍのＰＥＴフィルムを用意した。このＰＥＴフィルムの粗さＲａ３０ｎｍの面に、アクリレートポリマー（トリエチレングリコールジアクリレートとエチレングリコールジグリシジルエーテルのメタクリル酸付加物とのモル比８：２の混合物）塗布し、加速電圧１２０ｋＶ、照射線量０．１ｋＧｙの電子線を照射して硬化することにより、厚さ２μｍの有機ポリマー層を形成した。ポリマー層の表面粗さＲａは５ｎｍであった。
この有機ポリマー層を形成したＰＥＴフィルムを基材２０として用い、有機ポリマー層側を表面として、この表面に防湿層２２を形成した以外は、実施例１と全く同様にして変換パネル１０を作製した。
【００６０】
［比較例１］
基材２０として、一面の表面粗さＲａが３０ｎｍ、他面の表面粗さＲａが２０ｎｍの厚さ６μｍのＰＥＴフィルムを用い、表面粗さＲａが３０ｎｍの面を表面として、この表面に防湿層２２を形成した以外は、実施例１と全く同様にして変換パネル１０を作製した。
【００６１】
［実施例３］
複合層２６の厚さを０．３μｍとし、さらに、無機層２８の上に厚さを０．３μｍとした以外は複合層２６と同様にして複合層を形成し、さらにその上に、無機層２４と全く同様にして厚さ１００ｎｍのＳｉＯ２膜を無機層として形成した以外は、実施例１と全く同様にして、放射線像変換パネルを作製した。
すなわち、この放射線像変換パネルの防湿性保護膜の保護層は、無機層／複合層／無機層／複合層／無機層の５層構成で、厚さが０．９μｍである。
【００６２】
［実施例４］
実施例２と同様の基材２０（表面粗さＲａ３０ｎｍ面に有機ポリマー層を形成して、表面の表面粗さＲａを５ｎｍとした基材）を用いた以外は、実施例３と全く同様にして、放射線像変換パネルを作製した。
すなわち、この放射線像変換パネルも、実施例３と同様、５層構成で厚さが０．９μｍの保護層を有する防湿性保護膜を有している。
【００６３】
［比較例２］
基材２０として一面の表面粗さＲａが３０ｎｍ、他面の表面粗さＲａが２０ｎｍの厚さ６μｍのＰＥＴフィルムを用い、表面粗さＲａが３０ｎｍの面を表面として、この面に保護層を形成した以外は、実施例３と全く同様にして、放射線像変換パネルを作製した。
すなわち、この放射線像変換パネルも、実施例３と同様、５層構成で厚さが０．９μｍの保護層を有する防湿性保護膜を有している。
【００６４】
［比較例３］
防湿層を無機層（厚さ１００ｎｍ）のみとした以外は、前記実施例１と全く同様にして、放射線像変換パネルを作製した。
【００６５】
［透湿度の測定］
１０×１０ｃｍの開口を有する容器に塩化カルシウムを入れ、その開口を各実施例および比較例の（防湿性）保護膜を用いて封止した。
恒温槽を用いて、各容器を４０℃で９０％ＲＨの環境下に２週間放置した後、各容器の塩化カルシウムの吸湿量を電子天秤（メトラートレド社製  ＡＢ３０４−Ｓ）で測定し、透湿度([g/(m2・day)])を算出した。
【００６６】
各実施例および比較例の、基材２０の厚さ［μｍ］、基材２０の表面／裏面の粗さＲａ［ｎｍ］、（有機）ポリマー層の有無、防湿層の層構成、および、透湿度[g/(m2・day)]を、下記表１に示す。
【００６７】
【表１】
2005315786.tif 000003
【００６８】
［鮮鋭度評価］
作製した（放射線像）変換パネルの表面にＭＴＦ測定用のチャートを載置し、全面に８０ｋｖｐ（１０ｍＲ相当）のＸ線を照射した後、放射線画像情報読取装置（富士フイルム社製  VELOCITY)で読み取り、ＭＴＦ（１サイクル／ｍｍ）を算出した。
保護膜を有さない放射線像変換パネルのＭＴＦを１００とする相対値によって、各変換パネルのＭＴＦを評価した。また、ＭＴＦの評価は、恒温槽を用いて３０℃で９０％ＲＨの環境下に３０日間放置する前と後とで行った。
結果を下記表２に示す。なお、表２おいて、ＭＴＦの評価は、「放置前／放置後」である。
【００６９】
［画質評価］
作製した（放射線像）変換パネルの全面に８０ｋｖｐ（１０ｍＲ相当）のＸ線を照射した後、放射線画像情報読取装置（富士フイルム社製  VELOCITY)で読み取った。
読み取った画像を可視像として出力し、目視により画質を評価した。
評価は、画像にムラや欠陥が観察されない場合を「Ａ」、画像に若干のムラや欠陥は観察されるが、診断上問題とならない場合を「Ｂ」、画像に診断上問題となるムラや欠陥が観察される場合を「Ｃ」とした。この画質の評価も恒温槽を用いて３０℃で９０％ＲＨの環境下に３０日間放置する前後で行った。
結果を表２に併記する。なお、表２において、画質の評価は、「放置前／放置後」である。
【００７０】
［発光量］
作製した（放射線像）変換パネルに８０ｋｖｐ（１０ｍＲ相当）のＸ線を照射した後、放射線画像情報読取装置（富士フイルム社製  VELOCITY)を用いて、６６０ｎｍの励起光を照射して読み取りを行うことで、輝尽発光光の発光量を測定した。
この発光量測定を、恒温槽を用いて３０℃で９０％ＲＨの環境下に３０日間放置する前と後とで行い、発光量の変化を見た。発光量の低下が医療診断上で特に問題にならない１０％以下のものを「○」、同問題となる１０％超のものを「×」で示す。
結果を表２に併記する。
【００７１】
［総合判定］
鮮鋭度評価における相対ＭＴＦが何れも９０以上、画像評価がいずれもＡまたはＢ、発光量が○の全てを満たすものを「○」と評価し、それ以外のものは、診断上問題があるとして「×」と評価した。
結果を表２に併記する。
【００７２】
【表２】
2005315786.tif 000004
【００７３】
表１および表２に示すように、保護膜の基材の表面粗さＲａが大きい比較例１および２、保護膜の防湿層が無機層のみである比較例３は、いずれも防湿性が不十分であり、高温／多湿下に放置した後に鮮鋭度、画質、および輝尽発光の発光量が共に低下して、診断上問題が生じる可能性が高い。
これに対して、保護膜１６の基材２０の粗さＲａが２０ｎｍ以下で、かつ、無機層２４／複合層２６／無機層２８のサンドイッチ構造の防湿層２２を有する本発明の変換パネルは、いずれも、高温多湿下に放置後であっても、優れた鮮鋭度、画質、輝尽発光の発光量を有し、正確な診断が可能な高画質な放射線画像を得ることができる。
また、保護膜１６が３層の防湿層２２を有する実施例１および実施例２は、鮮鋭度や画質に特に優れ、また、保護膜１６が防湿層が５層の実施例３および実施例４は、蛍光体層１４の防湿性に特に優れる。すなわち、本発明によれば、防湿層の層数などを選択することにより、変換パネルに要求される特性に応じた高品位な放射線像変換パネルを得ることができる。
以上の結果より、本発明の効果は明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明の放射線像変換パネルの一例の概略断面図である。
【符号の説明】
【００７５】
１０  （放射線像）変換パネル
１２  基板
１４  （輝尽性）蛍光体層
１６  防湿性保護膜
２０  基材
２２  防湿層
２４，２８  無機（材料）層
２６  複合層
【図１】
2005315786.tif 000005