(57)【要約】【課題】  本発明は、磁気ヘッドのコア形状を小さくし、さらに渦電流損失による高周波特性劣化を防ぎ高周波特性を向上した磁気ヘッド及びその製造方法を提供するものである。【解決手段】  本発明に係る磁気ヘッド１は、１対の磁性コア１１がギャップ材を介して接合され、磁性コア１１が非磁性膜１７と金属磁性膜１６の積層膜２からなり、磁性コア１１に接して記録媒体摺動面５に臨む面を有した非磁性部材１２が磁性コア１１を挟むように配され、磁路が金属磁性膜のみにより形成される磁気ヘッドであって、磁性コアの磁気記録媒体と摺動する面と反対側の部分が非磁性材１４で形成されて成る。【選択図】        図１ 
2005346764.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１対の磁性コアがギャップ材を介して接合され、
前記磁性コアは非磁性膜と金属磁性膜の積層膜からなり、前記磁性コアに接して記録媒体摺動面に臨む面を有した非磁性部材が前記磁性コアを挟むように配され、
磁路が前記金属磁性薄膜のみにより形成される磁気ヘッドであって、
前記磁性コアの磁気記録媒体と摺動する面と反対側の部分が非磁性材で形成されて成る
ことを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項２】
前記磁性コアの媒体摺動方向の両側に非磁性部材が形成されて成る
ことを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項３】
前記磁性コアのコア高さが、巻き線窓の高さ＋（１２０μｍ〜２２０μｍ）であり、かつ巻線窓を挟んで磁気記録媒体と摺動する面と反対側の磁路幅が１００μｍ以上２００μｍ以下であることを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項４】
前記磁性コアのコア高さが、磁路長／３＋（１２０μｍ〜２２０μｍ）であり、かつ巻線窓を挟んで磁気記録媒体と摺動する面と反対側の磁路幅が１００μｍ以上２００μｍ以下であることを特徴とする請求項３記載の磁気ヘッド。
【請求項５】
前記磁性コアの摺動方向の幅が巻き線窓の幅＋（２５０μｍ〜５５０μｍ）であり、かつ巻線窓を挟んで巻線窓の幅方向の各磁路幅が１２５μｍ以上２７５μｍ以下であることを特徴とする請求項３記載の磁気ヘッド。
【請求項６】
前記磁性コアの摺動方向の幅が磁路長／６＋（２５０μｍ〜５５０μｍ）であり、かつ巻線窓を挟んで巻線窓の幅方向の各磁路幅が１２５μｍ以上２７５μｍ以下であることを特徴とする請求項５記載の磁気ヘッド。
【請求項７】
前記磁性コアにコイルが巻回されて成る
ことを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項８】
前記磁性コアにコイルが巻回されて成る
ことを特徴とする請求項２記載の磁気ヘッド。
【請求項９】
前記磁性コアに薄膜コイルが形成されて成る
ことを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッド。
【請求項１０】
前記磁性コアに薄膜コイルが形成されて成る
ことを特徴とする請求項２記載の磁気ヘッド。
【請求項１１】
非磁性膜と金属磁性膜からなる積層膜と、第１の非磁性部材とが積層された第１の磁性コアブロックの両側に第２の非磁性部材を接合して第２の磁性コアブロックを形成する工程と、
前記第２の磁性コアブロックを所要の厚さに切断して前記第１の磁性コアブロックの両側に前記第２の非磁性部材を有する第３の磁性コアブロックを形成する工程と、
前記第３の磁性コアブロックの下部に第３の非磁性部材を接合して第４の磁性コアブロックを形成する工程と、
表面側の前記第１の磁性コアブロックを２分するように前記第４の磁性コアブロックを切断して前記第１の磁性コアブロックの片側と下部とに夫々前記第２の非磁性部材と前記第３の非磁性部材を有する磁性コア半体ブロックを形成する工程と、
前記磁性コア半体ブロックにコイル巻き線溝を形成する工程と、
１対の前記磁性コア半体ブロックをギャップ材を介して突合せて磁気ヘッドブロックを形成し、各ヘッドチップに切断した後、前記コイル巻き線溝にコイルを巻回する工程とを有する
ことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項１２】
非磁性膜と金属磁性膜からなる積層膜と、第１の非磁性部材とが積層された第１の磁性コアブロックの両側に第２の非磁性部材を接合して第２の磁性コアブロックを形成する工程と、
前記第２の磁性コアブロックを所要の厚さに切断して前記第１の磁性コアブロックの両側に前記第２の非磁性部材を有する第３の磁性コアブロックを形成する工程と、
前記第３の磁性コアブロックの下部に第３の非磁性部材を接合して第４の磁性コアブロックを形成する工程と、
表面側の前記第１の磁性コアブロックを２分するように前記第４の磁性コアブロックを切断して前記第１の磁性コアブロックの片側と下部とに夫々前記第２の非磁性部材と前記第３の非磁性部材を有する磁性コア半体ブロックを形成する工程と、
前記磁性コア半体ブロックに薄膜コイルを形成する工程と、
１対の前記薄膜コイルを有する磁性コア半体をギャップ材を介して突合せて磁気ヘッドブロックを形成する工程と、
前記磁気ヘッドブロックを各ヘッドチップに切断する工程とを有する
ことを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録再生装置に備えられる磁気ヘッド、特に積層型磁気ヘッド及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ビデオテープレコーダ（ＶＴＲ）等の磁気記録再生装置では、高画質化を図るため情報信号の短波長記録化が進められている。この短波長記録化に対応して、磁性粉に強磁性体粉末を用いた所謂メタルテープやベースフィルム上に強磁性金属材料を直接被着した蒸着テープ等の高抗磁力磁気記録媒体が使用されるようになってきている。一方、磁気ヘッドの分野においても研究が進められており、このような高抗磁力磁気記録媒体の使用が可能な磁気ヘッド、すなわち、コア材料に金属磁性材料を用いると共に狭トラックを図った磁気ヘッドが開発されている。かかる磁気ヘッドとしては、高透磁率かつ高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を非磁性材料よりなる基板で挟み込んだ所謂、積層型の磁気ヘッドが知られている。
【０００３】
図１６は、従来の積層型磁気ヘッド（いわゆるラミネートヘッド）を示す。この積層型磁気ヘッド１０１は、閉磁路に構成する一対の磁性コア半体１２３、１２４を非磁性のギャップ材を介して突合せ接合一体化して、磁気ギャップ１０３を形成した磁性コア１３１を有して構成される。各磁性コア半体１２３、１２４は、非磁性ガード材１０９と金属磁性膜１０２とからなり、金属磁性膜１０２を２枚の非磁性ガード材１０９によって挟み込んで形成される。磁性コア半体１２３と磁性コア半体１２４同士の突合せ面には、磁性コア半体１２３と磁性コア半体１２４の夫々の金属磁性膜１０２の端部を突き合わすことで、磁気ギャップ１０３が形成される。磁気ギャップ１０３のトラック幅は、金属磁性膜１０２を挟む２枚の非磁性ガード材１０９が非磁性体であるため、金属磁性膜１０２の膜厚によって規制される。
また、夫々の磁性コア半体１２３、１２４の突合せ面には、磁気ギャップ１０３のデプスDpを規制すると共にコイルを巻回させるための巻き線溝１０６が形成される。磁性コア半体１２３、１２４には、さらにその外側にコイルを巻回させるガイド溝１０７が形成され、その記録媒体摺動面側に記録媒体の当たり幅規制溝１０８が形成される。
【０００４】
上述の磁気ヘッド１０１は、金属磁性膜１０２の膜厚（すなわち磁気ギャップ１０３のトラック幅）を制御することで簡単に狭トラック化が図られ、また、構造的に疑似ギャップも発生しない。さらに金属磁性膜１０２は、金属磁性膜とＳｉＯ２Ａｌ２Ｏ３、Ｓｉ３Ｎ４等の酸化物や窒化物等の如き電気的絶縁膜とを交互に積層させる構造をとることで、渦電流損失を回避することができ高周波帯域での高出力化が望めるなど、種々の利点を有する。
【０００５】
次に上述の従来の積層型磁気ヘッド１０１の製造方法について説明する。
先ず、図１７Ａに示すように、両面が鏡面加工された非磁性材からなる基板１２０を用意する。なお、この基板１２０は便宜的に短冊状に作成されているが実際はこれより大面積である。次に、この基板１２０の片面に磁性コアとなる金属磁性膜１０２をスパッタ等の真空薄膜形成法により形成した後、図１７Ｂに示すように、短冊状に切断して短冊状コア基板１２１を形成する。金属磁性膜としてはＣｏに主としてＺｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｒｕ等の一種または数種添加して構成されたアモルファス材料が選ばれる。なお、上記基板に成膜する金属磁性膜１０２は高周波帯域での渦電流損失を回避させるために金属磁性膜とＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｓｉ３Ｎ４等の酸化物や窒化物等の如き電気的絶縁膜と絶縁層を交互に積層させた所謂積層膜としてもよい。
【０００６】
次に、図１７Ｃに示すように、金属磁性膜の形成された複数の短冊状コア基板１２１を整列させ接合一体化して磁性コア基板１２２を作製する。接合については、予め短冊状コア基板の各接合面に金（Ａｕ） の薄膜をスパッタ等で形成して加圧しながら加熱して拡散接合を行なってもよいし、樹脂で接合してもよい。この磁性コア基板１２２をＡ−Ａ´、Ｂ−Ｂ´、Ｃ−Ｃ´線に沿って切断する。この切断によって図１８Ｄに示すように、互いに略対称な１対の磁性コア半体ブロック１２３Ａ、１２４Ａを作製する。この磁性コア半体ブロック１２３Ａ、１２４Ａの一方の基板１２３Ａの端部を、図１８Ｅに示すように、Ｄ−Ｄ´線、Ｅ−Ｅ´線より切断して、図１８Ｆに示すように、磁性コア半体ブロック１２３Ａは、磁性コア半体ブロック１２４Ａよりも短く形成する。
【０００７】
次に、図１９Ｇに示すように、磁性コア半体ブロック１２３Ａ、１２４Ａの対向面に、その長手方向に沿って伸びる巻き線溝１０６を形成した後、各対向面を鏡面研磨し、ギャップ材となりかつ接合材となる非磁性材を鏡面加工面にスパッタ等の真空薄膜形成法により成膜する。ここでの非磁性材としては低温拡散接合が可能な金（Ａｕ）が使用されている。次に図１９Ｈに示すように、両磁性コア半体ブロック１２３Ａと１２４Ａとを突合せて接合一体化して磁気ヘッドブロック１２５を作製する。この磁気ヘッドブロック１２５の巻き線溝１０６内に、図１９Ｉに示すように、ガラス棒１３２を入れ磁気記録媒体との摺動面１０５側を下となるように配置して熱処理しガラスを巻き線溝１０６上部に充填する。ここでのガラス棒１３２が溶融し充填された後のガラス１０４は半体コア１２３、１２４（図１６参照）の接合補強及び磁気記録媒体との摺動によりヘッドが摩耗した際の強度低下を防止する役割を担う。
【０００８】
次に図２０Ｊに示すように、曲率をもった磁気記録媒体との摺動面１０５を形成する。この際の研磨はギャップデプスＤｐ値をある一定の値とするためにＤｐ寸法をチェックしながら行われる。つまり接合一体化された磁気ヘッドブロック１２５、すなわち、磁性コア半体ブロック１２３Ａ、１２４Ａのうち長い方のブロック１２４Ａの端部Ｍ部が曲率を持った摺動面加工時のマーカー部となる。そして両磁性コア半体ブロック１２３Ａ、１２４Ａの外側に夫々巻線のガイド溝１０７を形成する。さらに磁気記録媒体との接触状態を良好なものとするために、図２０Ｋに示すように、当たり幅規制溝１０８を入れる。次に、図２０Ｌで示すように、磁気ヘッドブロック１２５をＡ−Ａ´線、Ｂ−Ｂ´線、Ｃ−Ｃ´線、Ｄ−Ｄ´線、Ｅ−Ｅ´線、Ｆ−Ｆ´線、Ｇ−Ｇ´線、Ｈ−Ｈ´線、Ｉ−Ｉ´線、Ｊ−Ｊ´線に沿って切断することで、各ヘッドチップ、即ち図１６に示す、磁気ヘッドコアを完成する。
【０００９】
特許文献１は、非磁性基板を両サイドに設ける磁気ヘッドが開示され、特許文献２には、非磁性ガラスを両サイドに設ける磁気ヘッドが開示されている。特許文献３は、薄膜コイルの磁気ヘッドが開示されている。
【００１０】
【特許文献１】特開平６−２７４８１６号公報
【特許文献２】特開２００２−３１２９０７号公報
【特許文献３】特開平６−２５９７１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
上述した積層型磁気ヘッド１０１の場合は、ヘッド幅、ヘッド高さと金属磁性膜１０２による磁性コア１３１の形状が同一となってしまい、再生出力にあまり関与しない外側部分の磁路がインダクタンスを引き上げて悪影響を及ぼしている。このため、ヘッドアンプとの共振点が下がり、高周波領域での使用が制限される。
また、積層型磁気ヘッド１０１は、渦電流損失を抑えることができ、高周波特性を向上させるために積層型の磁性コアを通常使用している。ところが、この積層型磁気ヘッド（ラミネートヘッド）では、砥石を使ってヘッドチップ切断加工するため磁性膜の引きずりを発生させて積層間が電気的にショートして目的となる渦電流損失抑制を妨げてしまい、高周波特性を劣化させてしまう。
【００１２】
本発明は、上述の点に鑑み、磁気ヘッドのコア形状を小さくし、さらに渦電流損失による高周波特性劣化を防ぎ高周波特性を向上した磁気ヘッド及びその製造方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係る磁気ヘッドは、１対の磁性コアがギャップ材を介して接合され、磁性コアが非磁性膜と金属磁性膜の積層膜からなり、磁性コアに接して記録媒体摺動面に臨む面を有した非磁性部材が磁性コアを挟むように配され、磁路が金属磁性膜のみにより形成される磁気ヘッドであって、磁性コアの磁気記録媒体と摺動する面と反対側の部分が非磁性材で形成されて成る。
【００１４】
本発明に磁気ヘッドでは、非磁性膜と金属磁性膜の積層膜による磁性コアを有し、磁性コアの磁気記録媒体と摺動する面と反対側の部分が非磁性材で形成されるので、磁気ヘッド全体の大きさに比べて磁性コアが小さく形成される。磁性コアが小型化されることにより、磁気ギャップに近い巻線窓の近傍のみに磁性コアが流れ、磁束の損失が限りなく少なくなる。
【００１５】
磁性コアの媒体摺動方向の両側には非磁性部材を形成することが好ましい。
磁性コアの高さは巻き線窓の高さ＋（１２０μｍ〜２２０μｍ）とし、巻線窓を挟んで磁気記録媒体と摺動する面と反対側の磁性コアの磁路幅は１００μｍ以上２００μｍ以下とすることが好ましい。磁性コアの摺動方向の幅は巻き線窓の幅＋（２５０μｍ〜５５０μｍ）とし、巻線窓を挟んで巻線窓の幅方向の各磁路幅は１２５μｍ以上２７５μｍ以下とすることが好ましい。
磁性コアの高さは、磁路長／３＋（１２０μｍ〜２２０μｍ）とし、巻線窓を挟んで磁気記録媒体と摺動する面と反対側の磁性コアの磁路幅は１００μｍ以上２００μｍ以下とすることが好ましい。磁性コアの摺動方向の幅は、磁路長／６＋（２５０μｍ〜５５０μｍ）とし、巻線窓を挟んで巻線窓の幅方向の各磁路幅は１２５μｍ以上２７５μｍ以下とすることが好ましい。
【００１６】
磁気ヘッドは磁性コアにコイルを巻回して構成することができるし、磁気ヘッドは磁性コアに薄膜コイルを形成して構成することもできる。
【００１７】
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、非磁性膜と金属磁性膜からなる積層膜と、第１の非磁性部材とが積層された第１の磁性コアブロックの両側に第２の非磁性部材を接合して第２の磁性コアブロックを形成する工程と、第２の磁性コアブロックを所要の厚さに切断して第１の磁性コアブロックの両側に第２の非磁性部材を有する第３の磁性コアブロックを形成する工程と、第３の磁性コアブロックの下部に第３の非磁性部材を接合して第４の磁性コアブロックを形成する工程と、表面側の第１の磁性コアブロックを２分するように第４の磁性コアブロックを切断して第１の磁性コアブロックの片側と下部とに夫々第２の非磁性部材と第３の非磁性部材を有する磁性コア半体ブロックを形成する工程と、磁性コア半体ブロックにコイル巻線溝を形成する工程と、１対の記磁性コア半体ブロックをギャップ材を介して突合せて磁気ヘッドブロックを形成し、各ヘッドチップに切断した後、コイル巻線溝にコイルを巻回する工程とを有する。
【００１８】
本発明の磁気ヘッドの製造方法では、第２の磁性コアブロックを所要の厚さに切断して非磁性膜と金属磁性膜からなる積層膜を有する第１磁性コアブロックの両側に第２の非磁性部材を接合して第３の磁性コアブロックを形成する工程を有するので、完成後の磁気ヘッドにおいて、積層型の磁性コアの媒体摺動方向の両側に非磁性部材が形成されることになる。第３の磁性コアブロックの下部に第３の非磁性部材を接合して第４の磁性コアブロックを形成する工程を有するので、完成後の磁気ヘッドにおいて、磁性コアの下部、すなわち磁気記録媒体と摺動する面とは反対側の部分に非磁性部材が形成されることになる。さらに、第４の磁性コアブロックを２分割し磁性コア半体ブロックにコイル巻線溝を形成する工程、及びギャプ材を介して両磁性コア半体ブロックを突合せて接合して磁気ヘッドブロックを形成し、各ヘッドチプに切断した後にコイルを巻回する工程を有することにより、磁気ヘッド全体の大きさに比べて磁性コアが小さい磁気ヘッドが製造される。
【００１９】
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法は、非磁性膜と金属磁性膜からなる積層膜と、第１の非磁性部材とが積層された第１の磁性コアブロックの両側に第２の非磁性部材を接合して第２の磁性コアブロックを形成する工程と、第２の磁性コアブロックを所要の厚さに切断して第１の磁性コアブロックの両側に第２の非磁性部材を有する第３の磁性コアブロックを形成する工程と、第３の磁性コアブロックの下部に第３の非磁性部材を接合して第４の磁性コアブロックを形成する工程と、表面側の第１の磁性コアブロックを２分するように第４の磁性コアブロックを切断して第１の磁性コアブロックの片側と下部とに夫々第２の非磁性部材と第３の非磁性部材を有する磁性コア半体ブロックを形成する工程と、磁性コア半体ブロックに薄膜コイルを形成する工程と、１対の薄膜コイルを有する磁性コア半体をギャップ材を介して突合せて磁気ヘッドブロックを形成する工程と、磁気ヘッドブロックを各ヘッドチップに切断する工程とを有する。
【００２０】
本発明の磁気ヘッドの製造方法では、第２の磁性コアブロックを所要の厚さに切断して非磁性膜と金属磁性膜からなる積層膜を有する第１磁性コアブロックの両側に第２の非磁性部材を接合して第３の磁性コアブロックを形成する工程を有するので、完成後の磁気ヘッドにおいて、積層型の磁性コアの媒体摺動方向の両側に非磁性部材が形成されることになる。第３の磁性コアブロックの下部に第３の非磁性部材を接合して第４の磁性コアブロックを形成する工程を有するので、完成後の磁気ヘッドにおいて、磁性コアの下部、すなわち磁気記録媒体と摺動する面とは反対側の部分に非磁性部材が形成されることになる。さらに、第４の磁性コアブロックを２分割し磁性コア半体ブロックに薄膜コイルを形成する工程、及びギャプ材を介して両磁性コア半体ブロックを突合せて接合して磁気ヘッドブロックを形成し、各ヘッドチプに切断した後にコイルを巻回する工程を有することにより、磁気ヘッド全体の大きさに比べて磁性コアが小さい磁気ヘッドが製造される。薄膜コイルを形成するので、コイル巻回型の磁気ヘッドに比べてさらに磁性コアが小さい磁気ヘッドが製造できる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係る磁気ヘッドによれば、磁気ヘッドとして通常外形を保ちつつ、磁性コアのみを小さくし、磁性コアに流れる磁束の損失を低減することにより、磁気ヘッドのインダクタンスの低下と、再生出力の飛躍的な向上を図ることができる。磁性コアが非磁性膜と金属磁性膜の積層膜で形成されるので、渦電流損失による高周波特性劣化を防ぐことができ、高周波特性の向上を図ることができる。
【００２２】
磁性コアの媒体摺動方向の両側に非磁性部材を形成することにより、磁性コアの更なる小型化を図ることができる。磁性コアの高さを巻き線窓の高さ＋（１２０μｍ〜２２０μｍ）とし、巻線窓を挟んで磁気記録媒体と摺動する面と反対側の磁性コアの磁路幅を１００μｍ以上２００μｍ以下とすることにより、磁性コアのみの小型化を図ることができ、インダクタンスを低下し、再生出力を向上することができる。さらに磁性コアの摺動方向の幅を巻き線窓の幅＋（２５０μｍ〜５５０μｍ）とし、巻線窓を挟んで巻線窓の幅方向の各磁路幅を１２５μｍ以上２７５μｍ以下とすることにより、更なるインダクタンスの低下、再生出力の向上を図ることができる。
磁性コアの高さを磁路長／３＋（１２０μｍ〜２２０μｍ）とし、巻線窓を挟んで磁気記録媒体と摺動する面と反対側の磁性コアの磁路幅を１００μｍ以上２００μｍ以下とすることにより、磁性コアのみの小型化を図ることができ、インダクタンスを低下し、再生出力を向上することができる。さらに磁性コアの摺動方向の幅を磁路長／６＋（２５０μｍ〜５５０μｍ）とし、巻線窓を挟んで巻線窓の幅方向の各磁路幅を１２５μｍ以上２７５μｍ以下とすることにより、更なるインダクタンスの低下、再生出力の向上を図ることができる。
【００２３】
コイルとして薄膜コイルを設けることにより、コイル巻回型の磁気ヘッドに比べてさらに磁性コアの小型化を可能にし、更なるインダクタンスの低下、再生出力の向上を図ることができる。
【００２４】
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法によれば、磁気ヘッドとして通常外形を保ちつつ、磁性コアのみを小さくし、インダクタンスを低下し、再生出力を向上したコイル巻回型の磁気ヘッドを製造することができる。
磁性コアの媒体摺動方向の両側に非磁性材（第２の非磁性部材）の接合、磁性コアの下部に非磁性材（第３の非磁性部材）を接合するので、この接合の際に接合強度を確保するための平坦化鏡面加工を施すことになり、磁性コアである積層膜において金属磁性膜間の引きずりを完全に除去することができる。これにより渦電流損失による高周波特性の劣化を防ぎ、高周波特性の向上した磁気ヘッドを製造することができる。
本製造方法は、磁性コアの媒体摺動方向の両側と下部とに非磁性材を接合することにより、通常外形を保ちつつ磁性コアのみを小型化することにができる製造方法であり、磁性コア形状を一定にしたまま外形寸法を自由に選択することができる。
【００２５】
本発明に係る磁気ヘッドの製造方法によれば、磁気ヘッドとして通常外形を保ちつつ、磁性コアのみを小さくし、インダクタンスを低下し、再生出力を向上した磁気ヘッドを製造することができる。特に薄膜コイルを形成することにより、コイル巻回型の磁気ヘッドに比べて磁性コア形状をさらに小さく形成することが可能になり、更なる高再生出力の磁気ヘッドを製造することができる。
薄膜コイルを形成することにより、コイル巻回工程を省略することができ、製造工程の短縮を図ることができる。
磁性コアの媒体摺動方向の両側に非磁性材（第２の非磁性部材）の接合、磁性コアの下部に非磁性材（第３の非磁性部材）を接合するので、この接合の際に接合強度を確保するための平坦化鏡面加工を施すことになり、磁性コアである積層膜において金属磁性膜間の引きずりを完全に除去することができる。これにより渦電流損失による高周波特性の劣化を防ぎ、高周波特性の向上した磁気ヘッドを製造することができる。
本製造方法は、磁性コアの媒体摺動方向の両側と下部とに非磁性材を接合することにより、通常外形を保ちつつ磁性コアのみを小型化することができる製造方法であり、磁性コア形状を一定にしたまま外形寸法を自由に選択することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
【００２７】
図１は、本発明に係る積層型磁気ヘッドの一実施の形態を示す。
本実施の形態に係る積層型磁気ヘッド（いわゆるラミネートヘッド）１は、磁気ギャップ３が形成された積層型の磁性コア１１を有し、この磁性コア１１の両面、磁気記録媒体の摺動方向の両側及び磁気記録媒体摺動面５とは反対側に夫々非磁性部材１２［１２Ａ、１２Ｂ］、１３［１３Ａ、１３Ｂ］及び１４を接合し、磁性コア１１の巻き線窓６を通してコイル１５を巻回して構成される。即ち、磁性コア１１を挟むように磁気ギャップ幅方向の両側に非磁性部材１２［１２Ａ、１２Ｂ］が接合されると共に、磁性コア１１の磁気記録媒体摺動方向の両側に非磁性部材１３［１３Ａ、１３Ｂ］が接合され、さらに磁性コア１１及び非磁性部材１３［１３Ａ，１３Ｂ］を含む、摺動面５とは反対側の下部に非磁性部材１４が接合される。積層型の磁性コア１１は、後述するように金属磁性膜１６と非磁性膜１７とを交互に複数積層して形成される。磁気ギャップ３は、磁性コア半体の突合せ面に非磁性のギャップスペーサを成膜し、両磁性コア半体をギャップスペーサを介して接合して形成される。ギャップスペーサとしては、例えば低温拡散接合が可能な金（Ａｕ）を使用することができる。巻き線窓６の磁気ギャップ３側には、コア半体間の接合を補強するためのガラス部材４が充填される。磁性コア１１を囲う非磁性部材１２［１２Ａ、１２Ｂ］及び１３［１３Ａ、１３Ｂ］の摺動面５側には、磁気記録媒体の当たり幅を規制するための当たり幅規制溝８が、摺動方向に沿って形成される。当たり幅規制溝８は、摺動面５を挟んで両側に形成される。両側の非磁性部材１３Ａ、１３Ｂの側面には、巻き線窓６に対応する位置にコイル１５のガイド溝７が形成される。
【００２８】
ここで、磁気ヘッドは、通常の外形、大きさ（幅Ｌ２、高さＨ２）を保ちつつ、磁性コア１１を外形の大きさより小さくなるように形成される。即ち、磁気ヘッド１において、磁気ヘッド全体の記録媒体摺動方向の幅をＬ２、その磁気ヘッド全体の高さをＨ２としたとき、磁性コア１１の記録媒体摺動方向の幅Ｌ１は磁気ヘッド全体の幅Ｌ２より小さく（Ｌ１＜Ｌ２）、また磁性コア１１の高さＨ１は磁気ヘッド全体の高さＨ２より小さく（Ｈ１＜Ｈ２）設定される。例えば、磁性コア１１の幅Ｌ１は、具体的数値で巻き線窓の幅＋（２５０μｍ〜５５０μｍ）の範囲、磁性コア１１の高さＨ１は、具体的数値で巻き線窓の高さ＋（１２０μｍ〜２２０μｍ）の範囲とすることができる。このときの磁性コアの巻線窓を挟んで磁気記録媒体と摺動する面と反対側の磁路幅Ｗ１は１００μｍ以上２００μｍ以下とすることができる（フロントデプスは最大で２０μｍ程度）。
【００２９】
磁性コア幅Ｌ１を磁路長で規定すると次のようになる。例えば、磁路長９００μｍの場合には、巻き線窓の幅１５０μｍ、巻き線高さ（長さ）３００μｍであるので、磁性コア幅Ｌ１の範囲は４００〜７００μｍとなる。巻き線窓の幅と高さはおおよそ１：２の比率とすると、磁路長と巻き線窓の幅の関係はおおよそ、
巻き線窓幅＝（磁路長÷２）÷３＝磁路長／６となる。従って、磁性コア幅＝磁路長／６＋（２５０〜５５０）μｍとなる。この数値範囲の理由は、前述の巻き線幅で規定した場合と同様であるので、重複説明を省略する。
磁性コアの高さＨ１を磁路長で規定すると次のようになる。磁性コア高さ＝フロントデプス（最大２０μｍ）＋巻き線窓高さ＋バックデプスと規定できる。磁場解析シミュレーションからバックデプスが１００μｍあれば十分な磁束が通ることになる。磁性コア高さの最低値は１２０μｍ＋巻き線窓高さとなる。
よって、巻き線窓高さ＝（磁路長／２）×（２／３）とすると、
磁性コア高さ＝磁路長／３＋（１２０μｍ〜２２０μｍ）となる。
例えば磁路長９００μｍの場合には磁性コア高さＨ１は、４２０μｍ〜５２０μｍになる。
【００３０】
このコイル巻回型の磁気ヘッド１の場合、例えば磁性コアの磁路長が９００μｍとすると、磁性コア１１の幅Ｌ１は、９００÷６＋（２５０〜５５０）＝４００〜７００μｍの範囲とすることができる。磁性コア１１の高さＨ１は、９００÷３＋（１２０〜２２０）＝４２０〜５２０μｍの範囲とすることができる。
【００３１】
ここで、磁性コアの高さが巻き線窓の高さ＋１２０μｍ、幅が巻き線窓の幅＋２５０μｍ未満であると、磁性コアの磁気抵抗が高くなり過ぎる。磁性コアの高さ巻き線窓の高さ＋２２０μｍ、幅が巻き線窓の幅＋５５０μｍを越えると、磁気ヘッドのインダクタンスが大きくなり過ぎる。磁性コアの磁路幅が１００μｍ未満であると、磁性コアの磁気抵抗が高くなり過ぎる。
【００３２】
本実施の形態の磁気ヘッド１によれば、従来の磁気ヘッド１０１に比べると、磁気ヘッドの外形、大きさは同じでも（幅Ｌ２、高さＨ２）、磁性コア１１を小さくするので、インダクタンス低下と再生出力の飛躍的な向上を図ることができる。磁性コア１１が金属磁性膜と絶縁膜の積層膜で形成され、後述するように非磁性部材１３［１３Ａ、１３Ｂ］、１４を磁性コア１１に低温金接合する際に、接合強度を確保するために平坦化鏡面加工を施すことで、積層間の引きずりを完全に除去でき、従来型の磁気ヘッドで問題となっている渦電流損失による高周波特性劣化を防ぐことができる。よって、高周波数特性の向上を図ることができる。
【００３３】
次に、上述の磁気ヘッド１の製造方法の実施の形態を図２〜図８を用いて説明する。
先ず、図２Ａに示すように、両面が鏡面加工された非磁性材からなる基板２０を用意する。例えばアルミナ等のセラミック基板を用意する。なお、この基板２０は、便宜的に短冊状に作用したが実際にはこれより大面積に形成されている。
【００３４】
次に、基板２０の片面に磁性コアとなる積層膜（以下、積層磁性膜という）２をスパッタ等の真空薄膜形成法により形成する。この積層磁性膜２は、金属磁性膜１６と非磁性膜１７を交互に積層して形成される。そして、図２Ｂに示すように、積層磁性膜２を成膜した基板２０を短冊状に切断して短冊状コア基板２１を形成する。金属磁性膜１６としては、Ｃｏに主としてＺｒ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｈｆ、Ｍｏ、Ｎｂ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｒｕ等の１種または数種を添加して構成されたアモルファス材料が選ばれる。非磁性膜１７としては、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｓｉ３Ｎ４等の酸化物や窒化物等の如き電気的絶縁膜が選ばれる。
【００３５】
次に、図２Ｃに示すように、積層磁性膜２が形成された複数の短冊状コア基板２１を整列させ接合一体化して磁性コア基板２２を形成する。この場合、例えば接合する夫々の面にＣｒ膜及びＡｕ膜を順次堆積し、Ａｕ膜による低温拡散接合で一体化させることができる。この磁性コア基板２２を短冊状コア基板２１の整列方向に沿い、且つＡ−Ａ´線、Ｂ−Ｂ´線、Ｃ−Ｃ´線に沿って切断する。
これによって、図３Ｄに示すように、複数の短冊状コア基板２１が一体化された所要の幅を有する第１の磁性コアブロック２３が形成される。
【００３６】
次に、図３Ｅに示すように、第１の磁性コアブロック２３の両側面に非磁性基板２４を接合し、図３Ｆに示すように、第２の磁性コアブロック２５を形成する。この接合についても上記と同様、Ａｕ膜による低温拡散接合で一体化させることができる。次に、この第２の磁性コアブロック２５をＤ−Ｄ´線で切断し、第１の磁性コアブロックの両側に非磁性部材２４を有する。第３の磁性コアブロック２６を形成する。
【００３７】
次に、図４Ｇに示すように、第３の磁性コアブロック２６の下部に非磁性基板２７を接合して第４の磁性コアブロック２８を形成する。この接合についても上記と同様、Ａｕ膜による低温拡散接合で一体化させることができる。この第４の磁性コアブロック２８を図４Ｈに示すように、Ｅ−Ｅ´線で分離する。即ち、第１の磁性コアブロック２３の中央から２分するように切断し、図４Ｉに示すように、第１の磁性コアブロック２３の片面と下面に非磁性部材２４及び２７が接合されてなる。略対称な磁性コア半体ブロック２９、３０を形成する。
【００３８】
次に、図５Ｊに示すように、一方の磁性コア半体ブロック３０の両側を一部切断して、他方の磁性コア半体ブロック２９より短くした後、半体コアブロック２９、３０の対向面に、その長手方向に沿って伸びる巻き線溝６Ａを形成する。巻き線溝６Ａの形成面、即ち突合せ面を鏡面研磨し、その鏡面加工面にギャップ材かつ接合材となる非磁性材をスパッタ等の真空薄膜形成法により成膜する。ここでの非磁性材としては、低温拡散接合できる金（Ａｕ）が使用される。例えば、下層をＣｒ膜、上層をＡｕ膜とした２層膜を用いることができる。
【００３９】
次に、図５Ｋに示すように、磁性コア半体ブロック２９と３０の積層磁性膜２同士が相対向するように突合せて熱処理を行い接合一体化して磁気ヘッドブロック３１を形成する。
【００４０】
次に、図６Ｌに示すように、接合一体化された磁気ヘッドブロック３１の巻き線溝６Ａにガラス棒４Ａを入れて磁気記録媒体との摺動面５側を下となるように配置して熱処理してガラス４を巻き線溝６Ａ上部に充填する。ガラス４は、磁性コア半体ブロック２９、３０の接合補強及び磁気記録媒体との摺動によりヘッドが摩耗した際の強度低下を防止する役割を担う。
【００４１】
次に、図６Ｍに示すように、磁気ヘッドブロック３１の磁性コアに対応する両側の非磁性材２４にコイルのガイド溝７を形成する。
次に、図７Ｎに示すように、磁気ヘッドブロック３１の磁気記録媒体摺動面側の非磁性材に当たり幅規制溝８を形成する。
【００４２】
次に、図７Ｏに示すように、当たり幅規制溝８の中央をＡ−Ａ´線、Ｂ−Ｂ´線、・・・Ｉ−Ｉ´線、Ｊ−Ｊ´線に沿って切断する。これにより、図８に示すように、磁気ヘッドチップ４１が得られる。その後、巻き線窓６及びガイド溝７にコイル１５を巻回して図１に示す目的の積層型磁気ヘッド１を完成する。
【００４３】
本実施の形態に係る磁気ヘッドの製造方法によれば、第１の磁性コアブロック２３の両側部に非磁性材２４を接合し、所要の厚さで切断して得た第３の磁性コアブロック２６の下部に非磁性材２７を接合することにより、最終的に通常の外形の大きさを保ちつつ、磁性コアのみを小型化することができる。また、コア形状を一定にしたまま外形寸法を自由に選択することができる。従って、インダクタンスが低下し、再生出力が向上した積層型磁気ヘッドを製造することができる。磁性コア１１に両側の非磁性材２４及び下部の非磁性材２７を低温接合する際に、接合強度を確保するために、平坦化鏡面加工施すことにより、積層磁性膜２の積層間の金属磁性膜の引きずりを完全に除去することができる。これにより、従来型で問題となっていた渦電流損失による高周波特性の劣化を防ぐことができる。
【００４４】
図９は、本発明に係る積層磁気ヘッドの他の実施の形態を示す。本実施の形態に係る積層型磁気ヘッド８１は、磁気ギャップ８３を有する積層型の磁性コア８２の両側の面に非磁性部材８４［８４Ａ、８４Ｂ］を接合すると共に、磁性コア８２の下部に非磁性部材８５を接合して構成される。この場合、磁気ヘッド８１の全体の外形、大きさは、通常と同じにし、即ち前述と同様に磁気記録媒体の摺動方向の幅をＬ２、ヘッド高さをＨ２とし、磁性コア８２のみを小さく、即ち摺動方向の幅をＬ２、磁性コア高さをＨ１として構成される。この薄膜コイルを有する磁気ヘッド８１の場合も、上述の実施の形態と同様に、通常の外形、大きさ（幅Ｌ２，高さＨ２）を保ちつつ、磁性コア８２を外形の大きさより小さくなるように形成される。即ち、磁気ヘッド８１において、磁気ヘッド全体の記録媒体摺動方向の幅をＬ２、その磁気ヘッド全体の高さをＨ２としたとき、磁性コア１１の記録媒体摺動方向の幅Ｌ１は磁気ヘッド全体の幅Ｌ２より小さく（Ｌ１＜Ｌ２）、また磁性コア１１の高さＨ１は磁気ヘッド全体の高さＨ２より小さく（Ｈ１＜Ｈ２）設定される。例えば、具体的数値で巻き線窓の幅＋（２５０μｍ〜５５０μｍ）の範囲、磁性コア１１の高さＨ１は、具体的数値で巻き線窓の高さ＋（１２０μｍ〜２２０μｍ）の範囲とすることができる。このときの磁性コアの巻線窓を挟んで磁気記録媒体と摺動する面と反対側の磁路幅Ｗ１は１００μｍ以上２００μｍ以下とすることができる。この場合も、磁性コアの高さが巻き線窓の高さ＋１２０μｍ未満、幅が巻き線窓の幅＋２５０μｍ未満であると、磁性コアの磁気抵抗が高くなり過ぎる。磁性コアの高さが巻き線窓の高さ＋２２０μｍを超えて、幅が巻き線窓の幅＋５５０μｍを越えると、磁気ヘッドのインダクタンスが大きくなり過ぎる。磁性コアの磁路幅が１００μｍ未満であると、磁性コアの磁気抵抗が高くなり過ぎる。その他の構成は前述の図１と同様であるので、対応する部分に同一符号を付して重複説明を省略する。
【００４５】
磁性コア幅Ｌ１及び高さＨ１を磁路長で規定すると、前述と同様に次のようになる。すなわち、磁性コア幅Ｌ１は、磁性コア幅＝磁路長／６＋（２５０〜５５０）μｍとなる。
磁性コア高さＨ１は、磁性コア高さ＝磁路長／３＋（１２０μｍ〜２２０μｍ）となる。この数値範囲の理由は、前述の巻き線幅及び巻き線高さで規定した場合と同様であるので、重複説明を省略する。
【００４６】
本実施の形態に係る積層型磁気ヘッド８１によれば、磁性コア８２の下部に非磁性部材８５が形成され、磁性コア８２が実質的に小さく形成されるので、磁路長が従来型より短くなり、積層型磁気ヘッドにおけるインダクタンスを低減し、再生出力を向上することができる。また、磁性コア８２の金属磁性膜１６の積層間引きずりを完全に除去し、従来型で問題となっていた渦電流損失による高周波特性の劣化を防ぐことができる。
【００４７】
図１０は、図１６の従来型の磁気ヘッド１０１と、図９の磁性コア８２の下部に非磁性部材８５を接合した本発明の磁気ヘッド８１と、図１の磁性コア１１の両側及び下部に非磁性部材１３［１３Ａ、１３Ｂ］及び１４を接合した本発明の磁気ヘッド１とを比較したインダクタンス特性と相対再生出力特性を示す。各試料（磁気ヘッド）は外形、大きさ、巻き線窓、及びコイルの巻き数を夫々同じにした。また、磁気ヘッド８１の磁性コア高さは従来型の磁気ヘッド１０１の１／５とした。磁気ヘッド１の磁性コア高さ及び磁性コア幅は夫々従来型の磁気ヘッド１０１の１／５とした。
図１０において、横軸は、各磁気ヘッド１０１、８１、１を示し、縦軸のうち、左側は棒グラフのインダクタンス［μＨ］、右側は折れ線グラフａの相対再生出力（従来型との比を示す）［ｄＢ］を示す。
【００４８】
従来型の磁性コアを備えた磁気ヘッドは、インダクタンス約０．５μＨ、相対再生出力は０ｄＢである。ここで、磁気ヘッドの磁性コア形状を磁性コア高さを短くしたコア形状にすることで、インダクタンス約０．３μＨ、相対再生出力を約１，８ｄＢとすることができる（磁気ヘッド８１参照）。さらに、磁気ヘッドの磁性コア形状を磁性コア高さ及び幅を短くしたコア形状にすることで、インダクタンスを約０．２５μＨ、相対再生出力を約２，８ｄＢにすることができる（磁気ヘッド１参照）。すなわち、従来の磁気ヘッド１０１と磁性コア高さ及び幅を短くした磁気ヘッド１と比較すると、インダクタンスは半分に低減でき、相対再生出力＋２，８ｄＢと向上することができる。さらに、磁気ヘッドのコイルの巻き数を増やしてインダクタンスを同等にした場合には、相対再生出力＋６ｄＢ（計算値）となる見込みである。磁性コア形状を小さくすることでインダクタンスを小さくすることができ、さらに相対再生出力を向上させることができる。
【００４９】
磁気ヘッドの小コア化のときに問題となるのは、巻き線窓である。巻き線を行うためには、巻き線窓の大きさがある程度必要であるため、小コア化に限界が生じる。そのため、薄膜コイルをあらかじめ形成することにより、この問題を回避することができる。
【００５０】
図１１は、薄膜コイルを利用した本発明に係る積層型磁気ヘッドのさらに他の実施の形態を示す。本実施の形態に係る積層型磁気ヘッド７１は、図１２Ａ、Ｂに示すように、金属磁性膜１６と非磁性膜１７とを交互に積層し、磁気ギャップ６３を有した積層磁性コア６２を小さく形成し、この積層磁性コア６２の両面、磁気記録媒体の摺動方向の両側、及び磁性コア６２の下部側に夫々非磁性部材７２［７２Ａ、７２Ｂ］、７３［７３Ａ、７３Ｂ］、及び７４を接合して構成される。この磁気ヘッド７１では、図１２Ｂに示すように、磁気ヘッド半体７５（一方のみ示すが、他方の磁気ヘッド半体７６も同様の構成である）の他方の磁気ヘッド半体との突合せ面７５ａに、磁性コア半体６２Ａの磁路を取り巻くように薄膜コイル半体７６ａが形成される。薄膜コイル半体７６ａには内端末７７が形成され、外端末が一方の外部導出端子７８に接続されている。他方の磁気ヘッド半体７６の薄膜コイル半体７６も同様に形成され、その外端末が図１２Ａに示す他方の外部導出端子７９に接続される。薄膜コイル半体７６ａと外部導出端子７８、他方の薄膜コイル半体７６ａと外部導出端子７９は後述するように同時に形成される。両磁気ヘッド半体７５及び７６をギャップ材となる非磁性材を介して接合一体化したとき、薄膜コイル半体７６ａの内端末７７同士が接続されて、１つの薄膜コイル７６が形成される。
【００５１】
本実施の形態の薄膜コイルを利用した積層型磁気ヘッド７１においても、前述の図１の積層型磁気ヘッド１と同様に、磁気ヘッド全体の記録媒体摺動方向の幅をＬ２、その磁気ヘッド全体の高さをＨ２としたとき、磁性コア６２の記録媒体摺動方向の幅Ｌ１は磁気ヘッド全体の幅Ｌ２より小さく（Ｌ１＜Ｌ２）、また磁性コア６２の高さＨ１は磁気ヘッド全体の高さＨ２より小さく（Ｈ１＜Ｈ２）設定される。例えば、磁性コア６２の幅Ｌ１は、具体的数値で巻き線窓の幅＋（２５０μｍ〜５５０μｍ）の範囲、磁性コア６２の高さＨ１は、具体的数値で巻き線窓の高さ＋（１２０μｍ〜２２０μｍ）の範囲とすることができる。このときの磁性コアの巻線窓を挟んで磁気記録媒体と摺動する面と反対側の磁路幅Ｗ１は１００μｍ以上２００μｍ以下とすることができる。
【００５２】
磁性コアＬ１及び高さＨ１を磁路長で規定すると、前述と同様に次のようになる。すなわち、磁性コア幅Ｌ１は、磁性コア幅＝磁路長／６＋（２５０〜５５０）μｍとなる。
磁性コア高さＨ１は、磁性コア高さ＝磁路長／３＋（１２０μｍ〜２２０μｍ）となる。この数値範囲の理由は、前述の巻き線幅及び巻き線高さで規定した場合と同様であるので、重複説明を省略する。
この薄膜コイル型の磁気ヘッド７１の場合、例えば磁性コア６２の磁路長が２５０μｍとすると、磁性コア６２の幅Ｌ１は、２５０÷６＋（２５０〜５５０）≒３００〜６００μｍの範囲とすることができる。磁性コア６２の高さＨ１は、２５０÷３＋（１２０〜２２０）≒２００〜３００μｍの範囲とすることができる。
【００５３】
本実施の形態に係る積層型磁気ヘッド７１によれば、薄膜コイル７６を用いることにより、コイル巻回型に比べてさらに磁性コア６２を小型化することができ、さらに高出力化することができる。巻き線窓８０の更なる小型化により高周波特性を向上することができる。また、コイル巻回工程を省略することができる。そして、本磁気ヘッド７１においても、前述の実施の形態と同様に、磁性コア６２が小型化することにより、積層型磁気ヘッドにおけるインダクタンスの低減を図り、再生出力の飛躍的な向上を図ることができる。また、金属磁性膜１６間の引きずりがなく従来型で問題となった渦電流損失による高周波特性の劣化を防ぐことができる。
【００５４】
ここで、図１５を用いて磁気ヘッドの磁路長（巻き線窓形状）と再生出力の関係を説明する。
縦軸に再生出力［ｄＢｍ］、横軸を磁路長［μｍ］である。直線αは信号周波数が２８ＭＨｚの場合、直線βは信号周波数が４４ＭＨｚの場合、直線γは信号周波数が５６ＭＨｚの場合である。従来型の磁気ヘッド１０１の磁性コアの磁路長の限界は２０００μｍ程度、本発明のコイル巻回型磁気ヘッドの磁性コアの磁路長は９００μｍ程度、本発明の薄型コイル型の磁気ヘッドの磁性コアの磁路長は２５０μｍ程度である。
【００５５】
周波数２８ＭＨｚのとき再生出力は、従来型磁気ヘッドで磁路長が長いＰ１と、磁路長が短い薄膜コイル型磁気ヘッドＰ２を比べても、それ程再生出力は向上しない。
しかし、周波数４４ＭＨｚのとき、磁路長が長いＱ１と比べて、磁路長が短い薄膜コイル型Ｑ２では約＋３ｄＢ再生出力が向上する。さらに、周波数５６ＭＨｚのとき、磁路長が長いＲ１と比べて、磁路長が短い薄膜コイル型Ｒ２では約＋５ｄＢ以上再生出力が向上する。すなわち、高周波領域（４０ＭＨｚ以上）での出力を改善することができる。また、巻き線窓を小型化することにより磁路が短くなるため渦電流損失などの高周波数損失を低減できる。
【００５６】
次に、図１２〜図１４を用いて、上述の薄膜コイルを有する積層型磁気ヘッド７１の製造方法の実施の形態を説明する。なお、本製造方法では、前述の図２Ａ〜図５Ｊまでの工程と同じ工程を有する。但し、符号は一部変更してある。
本実施の形態においては、図１２Ａ（図５Ｊと同じ工程）に示すように、一方の磁性コア半体ブロック５０の両側を一部切断して、他方の磁性コア半体ブロック４９より短くした後、磁性コア半体ブロック４９及び５０の対向面に、その長手方向に沿って伸びるコイルの巻き線溝４６Ａを形成する。巻き線溝４６Ａの形成面を鏡面研磨し、その鏡面加工面にギャップ材かつ接合材となる非磁性材をスパッタ等の真空薄膜形成法により成膜する。ここでの非磁性材としては、低温拡散接合できる金（Ａｕ）が使用される。
【００５７】
以下の工程図では両磁性コア半体ブロック４９、５０基に同じ加工をおこなうので、一方のみの磁性コア半体ブロック４９についてのみ説明する。
次に、図１２Ｂに示すように、巻き線溝４６Ａを非磁性材（例えばアルミナ）５２で埋める。
【００５８】
次に、図１３Ｃに示すように、磁性コア半体ブロック４９の突合せ面において、コイルを形成する部分に凹部５４とを形成すると共に、外部導出端子を形成する部分に端子溝５３を形成する。次いで、図１３Ｄに示すように、凹部５４内と端子溝５３内を含む全面に下地メッキ層５５を形成する。例えば、下地メッキとして銅などを用いることができる。
【００５９】
次に、図１４Ｅに示すように、下地メッキ層５５上にレジストマスクを用いて凹部５４内に薄膜コイル半体のパターン５７を端子溝５３内に外部導出端子７８を夫々メッキにより形成する。内端７７は薄膜コイル半体パターン５７の中央に臨み、外端は外部導出端子７８に一体に形成される。
【００６０】
次に、図１４Ｆに示すように、レジストマスクを除去した後、さらに、浅いエッチングで下地メッキ層５５を除去することで、薄膜コイルパターン５９及び外部導出端子７８が形成される。
【００６１】
以下は図示しないが、薄膜コイルパターン及び外部導出端子を形成した略対称な磁性コア半体ブロック４９、５０を突合せて熱処理を行い低温拡散接合で接合一体化する。この際、十分な接合強度を確保するために接合面は平坦化しなければならない。接合面は鏡面平坦加工を従来型と同等の形状に加工する。一体化した磁気ヘッドブロックを所要の厚さのヘッドチップ毎に切断する。これにより、図１１に示す目的の薄型コイル内蔵の磁気ヘッド７１を得る。
【００６２】
本実施の形態に係る磁気ヘッド７１の製造方法によれば、薄膜コイル５９を一体に形成することにより、より小型化された積層型磁気ヘッドを作製することができる。また、巻き線工程を廃止することができ、工程短縮を図ることができる。その他、前述の製法と同様の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】本発明に係る磁気ヘッドの一実施の形態の斜視図である。
【図２】Ａ〜Ｃ  本発明に係る磁気ヘッドの一実施の形態の工程図（その１）である。
【図３】Ｄ〜Ｆ  本発明に係る磁気ヘッドの一実施の形態の工程図（その２）である。
【図４】Ｇ〜Ｉ  本発明に係る磁気ヘッドの一実施の形態の工程図（その３）である。
【図５】Ｊ〜Ｋ  本発明に係る磁気ヘッドの一実施の形態の工程図（その４）である。
【図６】Ｌ〜Ｍ  本発明に係る磁気ヘッドの一実施の形態の工程図（その５）である。
【図７】Ｎ〜Ｏ  本発明に係る磁気ヘッドの一実施の形態の工程図（その６）である。
【図８】本発明に係る磁気ヘッドの一実施の形態の完成図である。
【図９】本発明に係る磁気ヘッドの他の実施の形態の完成図である。
【図１０】従来と本発明を比較したインダクタンス特性と相対再生出力特性を示す。
【図１１】Ａ  本発明に係る磁気ヘッドのさらに他の実施の形態の斜視図である。              Ｂ  図１１Ａを切断した斜視図である。
【図１２】Ａ〜Ｂ  本発明に係る磁気ヘッドのさらに他の実施の形態の工程図（その１）である。
【図１３】Ｃ〜Ｄ  本発明に係る磁気ヘッドのさらに他の実施の形態の工程図（その２）である。
【図１４】Ｅ〜Ｆ  本発明に係る磁気ヘッドのさらに他の実施の形態の工程図（その３）である。
【図１５】磁気ヘッドの磁路長（巻き線窓形状）と再生出力の関係を示すグラフである。
【図１６】従来の磁気ヘッドの斜視図である。
【図１７】Ａ〜Ｃ  従来の磁気ヘッドの工程図（その１）である。
【図１８】Ｄ〜Ｆ  従来の磁気ヘッドの工程図（その２）である。
【図１９】Ｇ〜Ｉ  従来の磁気ヘッドの工程図（その３）である。
【図２０】Ｊ〜Ｌ  従来の磁気ヘッドの工程図（その４）である。
【符号の説明】
【００６４】
１・・磁気ヘッド、２・・積層磁性膜、３・・磁気ギャップ、４・・ガラス、４Ａ・・ガラス棒、５・・磁気記録媒体摺動面、６・・巻き線窓、６Ａ・・巻き線溝、７・・ガイド溝、８・・当たり幅規制溝、９・・、１１・・磁性コア、１２［１２Ａ、１２Ｂ］、１３［１３Ａ、１３Ｂ］、１４・・非磁性部材、１５・・コイル、１６・・金属磁性膜、１７・・非磁性膜、２０・・基板、２１・・短冊状コア基板、２２・・磁性コア基板、２３・・第１の磁性コアブロック、２４、２７・・非磁性基板、２５・・第２の磁性コアブロック、２６・・第３の磁性コアブロック、２８・・第４の磁性コアブロック、２９、３０・・磁性コア半体ブロック、３１・・磁気ヘッドブロック、４１・・磁気ヘッドチップ、４６Ａ・・巻き線溝、４９、５０・・磁性コア半体ブロック、５２・・非磁性材、５３・・端子溝、５４・・凹部、５５・・下地メッキ層、５７・・薄膜コイルのパターン、５９・・薄膜コイルパターン、７１・・磁気ヘッド、７７・・内端、７８・・外部導出端子、８１・・磁気ヘッド、８２・・磁性コア、８３・・磁気ギャップ、８４［８４Ａ、８４Ｂ］、８５・・非磁性部材、１０１・・磁気ヘッド、１０２・・金属磁性膜、１０３・・磁気ギャップ、１０４・・ガラス、１０５・・摺動面、１０６・・巻き線溝、１０７・・ガイド溝、１０８・・当たり幅規制溝、１０９・・非磁性ガード材、１２０・・基板、１２１・・短冊状コア基板、１２２・・磁性コア基板、１２３、１２４・・磁性コア半体、１２３Ａ、１２４Ａ・・磁性コア半体ブロック、１２５・・磁気ヘッドブロック、１３１・・磁性コア、１３２・・ガラス棒
【図１】
2005346764.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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