(57)【要約】【課題】  各種活性物質の合成中間体として有用な化合物の提供。【解決手段】  下記一般式で示される鏡像的に純粋な特定のシクロペンタンおよびシクロペンテン−β−アミノ酸【化１】2005187481.tif 000040【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（ＩＶ）
【化１】
2005187481.tif 000035
式中、ＡおよびＬは水素を示すか、あるいはＡおよびＤまたはＥおよびＬは、各々の場合で一緒に二重結合を形成し、ＤおよびＥは同一または異なり、そして水素、ハロゲンもしくはヒドロキシルを表すか、またはハロゲン、ヒドロキシル、フェニル、ベンジルオキシもしくはカルボニル、または各々の場合で最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルコキシ、アシルもしくはアルコキシカルボニル、または式−ＮＲ４Ｒ５（ここで、Ｒ４およびＲ５は同一もしくは異なり、そして水素、フェニルもしくは最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを示す）  の基、から成る同一または異なる置換基により場合によってはモノ−からジ−置換されてもよい最高８個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを表すか、あるいはＤおよびＥは一緒に式
【化２】
2005187481.tif 000036
または＝Ｎ−ＯＨ（ここで、Ｒ６およびＲ７は同一もしくは異なり、そして水素もしくはハロゲン、または各々の場合で最高８個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキル、アルコキシまたはオキシアシルを示すか、またはベンジルもしくはフェニルを示す）の基、を表すか、あるいは、ＤおよびＥは一緒に式＝Ｏまたは＝Ｓの基を表し、
Ｒ１５はシアノ、トリメチルシリル、フェニルまたはトリクロロメチルにより場合によっては置換されてもよい、各々の場合で最高５個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを表すか、またはアルケニルを表し、そして、
Ｖはキラルアミン塩基を表す、
の鏡像異性体的に純粋な化合物。
【請求項２】
キラルアミン塩基がアルカロイドまたはキナアルカロイドであることを特徴とする、請求項１に記載の鏡像異性体的に純粋な化合物。
【請求項３】
キラルアミン塩基がキニン、ヒドロキニン、シンコニジン、エピキニジン、エピシンコニジン、シンコニン、エピシンコニン、エピキニン、ヒドロキニジン、４−クロロベンゾエート−エピキニンまたは４−クロロベンゾエート−エピシンコニンであることを特徴とする、請求項２に記載の鏡像異性体的に純粋な化合物。
【請求項４】
一般式（ＩＶ）
【化３】
2005187481.tif 000037
式中、Ａ、Ｄ、Ｅ、ＬおよびＲ１５が請求項１に記載の意味を有する、
の鏡像異性体的に純粋な化合物。
【請求項５】
式
【化４】
2005187481.tif 000038
の（−）−１，２−シス−２−アミノカルボニル−４−メチレン−シクロペンタン−１−カルボン酸アリルエステル。
【請求項６】
式
【化５】
2005187481.tif 000039
の（−）−シス−２−アミノカルボニル−シクロペンタン−１−カルボン酸アリルエステル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、鏡像異性体的に純粋なシクロペンタン−および−ペンテンβ−アミノ酸に関する。
【背景技術】
【０００２】
メタノールおよび触媒量のキナアルカロイドを用いたプロキラルな酸無水物の不斉開環の原理は周知である（例えば、非特許文献１および非特許文献２参照。および対応する半−エステルは、理論値の３５−６７％の適度に鏡像的過剰率で得られる。
【非特許文献１】Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ  Ｔｒａｎｓ．I，１９８７，１０５３；Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ａｓｙｍｍ．１９９０，５１７
【非特許文献２】Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．１９８５，１７１７−１７１９
【発明の開示】
【０００３】
本発明は、一般式（Ｉ）
【０００４】
【化１】
2005187481.tif 000002
【０００５】
式中、ＡおよびＬは水素を示すか、あるいはＡおよびＤまたはＥおよびＬは、各々の場合で一緒に二重結合を形成し、ＤおよびＥは同一または異なり、そして水素、ハロゲンもしくはヒドロキシルを表すか、またはハロゲン、ヒドロキシル、フェニル、ベンジルオキシもしくはカルボニル、または各々の場合で最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルコキシ、アシルもしくはアルコキシカルボニル、または式−ＮＲ４Ｒ５（ここで、Ｒ４およびＲ５は同一もしくは異なり、そして水素、フェニルもしくは最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを示す）の基、から成る同一または異なる置換基により場合によってはモノ−ないしジ−置換されてもよい最高８個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを表すか、  あるいはＤおよびＥは一緒に式
【０００６】
【化２】
2005187481.tif 000003
【０００７】
または＝Ｎ−ＯＨ（ここで、Ｒ６およびＲ７は同一もしくは異なり、そして水素もしくはハロゲン、または各々の場合で最高８個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキル、アルコキシまたはオキシアシルを表すか、またはベンジルもしくはフェニルを示す）の基、を表すか、あるいは、ＤおよびＥは一緒に式＝Ｏまたは＝Ｓの基を表し、
Ｒ２は水素を表すか、またはアミノ−保護基を表すか、またはヒドロキシルもしくはホルミル、または最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アシル、またはハロゲン、ニトロもしくはシアノ、または最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルから成る同一または異なる置換基で場合によっては最高２回置換されてもよいフェニルもしくはベンゾイルから成る、同一もしくは異なる置換基により場合にってはモノ−ないしジ−置換されてもよい最高８個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを表すか、または、最高８個の炭素原子を有する直鎖−もしくは分枝アシルを表すか、あるいは、場合によっては上記のように置換されてもよいベンゾイルを表すか、あるいは、
式−ＳＯ２Ｒ８（ここで、Ｒ８は最高８個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを示すか、またはべンジルもしくはフェニルを示し、後者の２つの基はハロゲン、ヒドロキシル、ニトロ、シアノ、トリフルオロメチルもしくはトリフルオロメトキシ、または各々の場合で最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキル、アルコキシもしくはアルコキシカルボニル、またはカルボキシル、または上記基−ＮＲ４Ｒ５（ここで、Ｒ４およびＲ５は上記意味を有する）から成る同一、もしくは異なる置換基により場合によっては最高３回置換されてもよい）の基を表すか、あるいはハロゲン、ヒドロキシル、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、各々の場合で最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキル、アシル、アルコキシもしくはアルコキシカルボニル、または式−ＮＲ４Ｒ５もしくは−ＳＯ２Ｒ８（ここで、Ｒ４、Ｒ５およびＲ８は上記意味を有する）の基、から成る同一もしくは異なる置換基により場合によっては最高３回置換されてもよいフェニルを表すか、あるいは
式
【０００８】
【化３】
2005187481.tif 000004
【０００９】
式中、Ｒ９は３−８個の炭素原子を有するシクロアルキル、６−１０個の炭素原子を有するアリールもしくは水素を示すか、または最高８個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを示し、アルキルは場合によっては、シアノ、メチルチオ、ヒドロキシル、メルカプトもしくはグアニジル、または式−ＮＲ１１Ｒ１２（ここで、Ｒ１１およびＲ１２は互いに独立して水素、最高８個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルもしくはフェニルを表し、）もしくはＲ１３−ＯＣ−（ここで、Ｒ１３はヒドロキシル、ベンジルオキシもしくは最高６個の炭素原子を有するアルコキシを示すか、または上記の基−ＮＲ１１Ｒ１２を示すか、またはアルキルは３−８個の炭素原子を有するシクロアルキルにより、または場合によっては続いてヒドロキシル、ハロゲン、ニトロもしくは最高８個の炭素原子を有するアルコキシにより、または基−ＮＲ１１Ｒ１２（ここで、Ｒ１１およびＲ１２は上記意味を有する）により置換される６−１０個の炭素原子を有するアリールにより場合によっては置換されてもよく、そして
Ｒ１０は水素もしくはアミノ−保護基を示す、のアミノ酸残基を示し、
Ｒ３は水素を表すか、または場合によってはフェニルにより置換されてもよい最高８個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを表すか、あるいは
Ｒ２およびＲ３は一緒に式＝ＣＨＲ１４（式中、Ｒ１４は水素、または場合によってはハロゲン、ヒドロキシル、フェニルもしくはカルボキシルにより、または各々の場合で最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルコキシもしくはアルコキシカルボニルにより置換されてもよい最高８個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを示す、）の基を表し、
Ｔは酸素もしくは硫黄原子を表すか、または−ＮＨ基を表し、
Ｒ１は水素を表すか、または最高８個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルもしくはフェニルを表し、後者の基はヒドロキシル、ハロゲン、ニトロ、シアノ、カルボキシル、トリフルオロメチルもしくはトリフルオロメトキシ、直鎖もしくは分枝アルコキシ、そして
フェニルの場合には各々の場合で最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキル、アシルもしくはアルコキシカルボニル、または式−ＮＲ４Ｒ５もしくは−ＳＯ２Ｒ８（式中、Ｒ４、Ｒ５およびＲ８は上記の意味を有する）の基、から成る同一もしくは異なる置換基により最高３回置換されてもよいか、あるいは
Ｔが−ＮＨ基を表す場合には、Ｒ１は式−ＳＯ２Ｒ８（式中、Ｒ８は上記の意味を有する）の基を表す、
の鏡像異性体的に純粋なシクロペンタン−および−ペンテンβ−アミノ酸の、高度に鏡像選択的な製造法であって、一般式（ＩＩ）
【００１０】
【化４】
2005187481.tif 000005
【００１１】
式中、Ａ、Ｄ、ＥおよびＬは上記の意味を有する、のメソ−ジカルボン酸無水物を、
一般式（ＩＩＩ）
Ｒ１５−ＯＨ          （ＩＩＩ）
式中、Ｒ１５は、場合によってはシアノ、トリメチルシリル、フェニルもしくはトリクロロメチルにより置換されてもよい、各々の場合で最高５個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを表すか、またはアルケニルを表す、
のアルコールを用いて、そして鏡像異性体的に純粋な状態で存在する等モル量のキラルアミン塩基の存在下の不活性溶媒中での不斉アルコリシスにより、始めに中間体、一般式（ＩＶ）
【００１２】
【化５】
2005187481.tif 000006
【００１３】
式中、Ａ、Ｄ、Ｅ、ＬおよびＲ１５は上記の意味を有し、そして
Ｖはキラルアミン塩基を表す、
の鏡像異性体的に純粋な塩の段階を介して、一般式（ＩＶａ）
【００１４】
【化６】
2005187481.tif 000007
【００１５】
式中、Ａ、Ｄ、Ｅ、ＬおよびＲ１５は上記の意味を有する、
の鏡像異性体的に純粋な化合物に転化し、続いて遊離カルボン酸官能基の活性化後、液体ＮＨ３を用いた反応により一般式（Ｖ）
【００１６】
【化７】
2005187481.tif 000008
【００１７】
式中、Ａ、Ｄ、Ｅ、ＬおよびＲ１５は上記の意味を有する、
の鏡像異性体的に純粋なアミドを製造し、
更なる工程で、前記生成物を不活性溶媒中で基Ｒ１５の酵素的な、またはＰｄ触媒の存在下での除去により、各々の場合で求核助剤に応じて、一般式（ＶＩ）または（ＶＩａ）
【００１８】
【化８】
2005187481.tif 000009
【００１９】
式中、Ａ、Ｄ、ＥおよびＬは上記の意味を有し、そして
Ｘはアルカリ金属またはアルカリ土類金属原子、好ましくはナトリウムを表す、
の化合物に転換し、そして最終的にアルカリ金属次亜塩素酸塩またはアルカリ土類金属次亜塩素酸塩をアルカリ金属水酸化物またはアルカリ土類金属水酸化物の水溶液中で使用してホフマン転位を行い（ここで遊離のアミノ官能基は予め溶液中で典型的なアミノ保護基でブロックされ、この保護基は常法に従い保護された化合物の単離後に除去される、それぞれの純粋な鏡像異性体を得ることを特徴とする製造法中で中間的に効果的に製造できる鏡像異性体的に純粋なシクロペンタン−および−ペンテン類、具体的には、上記の一般式（ＩＶ）および（Ｖ）で表される化合物に関する。
＜発明の具体的な記述＞
前記の方法は以下の式による例示によって具体的に説明できる：
【００２０】
【化９】
2005187481.tif 000010
【００２１】
１．）ＣｌＣＯ２ｔＢｕ、Ｎ−エチルモルフォリン
−５℃
２．）ＮＨ３（水）
３．）触媒Ｐｄ（ＰＰｈ３）４
ナトリウム２−エチルヘキサノエート
【００２２】
【化１０】
2005187481.tif 000011
【００２３】
驚くべきことに、前記の方法を行ったとき、一般式（Ｉ）のキラル化合物は、大変高い鏡像異性体的純度と大変良好な収量とが組合わさった洗練された様式で得られる。
【００２４】
上記の従来技術とは対照的に、本発明の方法は等モル量のキラルアミン塩基の存在下でプロキラル無水物を開環する高度に鏡像選択的経路を可能とし、さらに鏡像異性体の富化は、対応するジカルボン酸モノエステル（式ＩＶａ）とキラルアミン塩基の中間体塩との結晶化により行われる。
【００２５】
さらにジカルボン酸モノエステル（式ＩＶａ）は良好な収量かつ高純度な状態で得られる。さらに本発明の方法は、従来技術と対照的に、希釈した酸を用いた抽出によりキラルアミン塩基が完全かつ簡単に回収できるだけでなく、幾分低い鏡像異性体的純度で母液に含まれているジカルボン酸モノエステル（式ＩＶａ）も、対応する無水物に洗練された様式で戻し転化することができる、という事実により区別される。
【００２６】
特に経費という要素の観点からも、本発明の方法のさらなる利点は、全体的な反応工程が大変短く、かつ複雑ではなく、そして大変良好な収量かつ高い鏡像異性体的純度で、様々な中間体を得、そして／または回収することができるということにある。
【００２７】
一般式（ＩＩ）のジカルボン酸無水物の反応に適する溶媒は、反応条件下で変化しないすべての不活性有機溶媒である。これらには、好ましくはジエチルエーテル、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフランもしくはグリコールジメチルエーテルのようなエーテル、またはトルエン、ベンゼン、キシレン、ヘキサン、シクロヘキサンもしくは石油留分のような炭化水素、またはクロロホルムもしくは塩化メチレンのような塩化炭化水素、またはジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドもしくはヘキサメチルリン酸トリアミドのようなアミド、または氷酢酸、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルもしくはピリジンを含む。ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテル、ジオキサン、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテルおよびトルエンが各段階に好適である。
【００２８】
反応温度は比較的広い範囲で可変である。反応は一般的に−６０℃から＋２０℃の間、好ましくは−２０℃から＋２５℃の間で行われる。
【００２９】
反応は大気圧で行うことができるが、加圧または減圧（例えば０．５−８０バール）でも行うことができる。それらは一般的に大気圧で行われる。
【００３０】
本発明の方法に適するアルコール（式ＩＩＩ）は、好ましくは例えばプロパノール、ブタノール、イソプロパノール、エタノール、アリルアルコールまたはシンナミルアルコールのような１級アルコールである。
【００３１】
本発明の方法に適するキラルアミン塩基は、好ましくはアルカロイドおよびキナアルカロイドである。特に例えば、（＋），（−）−キニン、（＋），（−）−ヒドロキニン、（＋），（−）−シンコニジン、（＋），（−）−エピキニジン、（＋），（−）−エピシンコニジン、（＋），（−）−シンコニン、（＋），（−）−エピシンコニン、（＋），（−）−エピキニン、（＋），（−）−ヒドロキニジン、（＋），（−）−４−クロロベンゾエート−エピキニンまたは（＋），（−）−４−クロロベンゾエート−エピシンコニンのようなキナアルカロイドである。（＋），（−）−キニンおよび（＋），（−）−キニジンが特に好ましい。
【００３２】
キラルアミン塩基は、一般式（ＩＩ）のジカルボン酸無水物１モルに基づき等量を使用する。
【００３３】
遊離キラルアミン塩基を回収するために適当な酸の例は、ＨＣｌ、ＨＢｒまたは硫酸のような無機酸である。
【００３４】
酸は一般的に、一般式（ＩＶ）の化合物１モルに基づき、１モルから１０モル、好ましくは１．５モルから４モル量を使用する。
【００３５】
回収は一般的に大気圧で、０℃から＋５０℃、好ましくは２０℃から３０℃の温度範囲で行う。
【００３６】
アミド化は一般的に、不活性溶媒中で塩基および活性化剤の存在下で行う。
【００３７】
これとの関連で適当な溶媒は、示された反応条件下で変化しない不活性な有機溶媒である。これらには、メチル、エチル、イソプロピルもしくはｎ−ブチルアセテートのようなエステル、またはジエチルエーテル、ジオキサン、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、テトラヒドロフランもしくはグリコールジメチルエーテルのようなエーテル、ジクロロメタン、トリクロロメタン、テトラクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、トリクロロエタン、テトラクロロエタンもしくはトリクロロエチレンのようなハロゲン化炭化水素、ベンゼン、キシレン、トルエン、ヘキサン、シクロヘキサンもしくは石油留分のような炭化水素、ニトロメタン、ジメチルホルムアミド、アセトニトリルまたはヘキサメチルリン酸トリアミドが含まれる。溶媒の混合物も使用できる。酢酸メチルが特に好ましい。
【００３８】
アミド化に適する塩基は、Ｎ−エチルモルホリン、Ｎ−メチルモルホリン、ピリジン、トリエチルアミンまたはＮ−メチルピペリジンのような有機アミンである。
【００３９】
アミド化は一般的に−３０℃から＋２０℃、好ましくは−２０℃から０℃の温度範囲で行われる。
【００４０】
アミド化は、一般的に大気圧で行われる。しかし、この工程は減圧または加圧下で行うこともできる（例えば０．５から５バールの範囲）。
【００４１】
適当な活性化剤は、例えばジイソプロピルカルボジイミド、ジシクロヘキシルカルボジイミドまたはＮ−（３−ジメチルアミノプロピル）−Ｎ´−エチルカルボジイミドヒドロクロライドのようなカルボジイミド、またはカルボニルジイミダゾールのようなカルボニル化合物、または２−エチル−５−フェニル−１，２−オキサゾリウム−３−スルホネートもしくはプロパンリン酸無水物のような１，２−オキサゾリウム化合物、またはエチルもしくはイソブチルクロロホーメートのようなアルキルクロロホーメート、またはベンゾトリアゾリルオキシ−トリス−（ジメチルアミノ）ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート、またはＮ，Ｎ−ジフェニルホスホンアミド、またはメタンスルホニルクロライドであり、場合によってはトリエチルアミンまたはＮ−エチルモルホリンまたはＮ−メチルピペリジンのような塩基が存在してもよい。
【００４２】
塩基は一般的に、一般式（ＩＶａ）の化合物１モルに基づき１モルから３モル、好ましくは１モルから１．５モルの量で使用される。
【００４３】
基Ｒ１５は一般的に、例えば上記に挙げた炭化水素、エステルまたはエーテル、特にテトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミドまたは酢酸エチルのような不活性溶媒中で除去される。酢酸エチルが好ましい。
【００４４】
基Ｒ１５の除去のために適当な求核性助剤の例は、カルボン酸およびそのアルカリ金属塩（例えば、ギ酸、酢酸、２−エチルヘキサン酸、ナトリウム２−エチルヘキサノエート）、例えばモルホリン、トリエチルアミン、ピロリジン、ジメチルトリメチルシリルアミン、トリメチルシリルモルホリン、ｎ−ブチルアミン、ジメドン、ジエチルマロン酸ナトリウム、水素化トリブチルチン、Ｎ，Ｎ−ジメチルバルビツール酸またはギ酸アンモニウムのような有機アミンである。２−エチルヘキサン酸および２−エチルヘキサン酸ナトリウムが好ましい。
【００４５】
助剤は一般的に、一般式（Ｖ）の化合物１モルに基づき１モルから２０モル、好ましくは１．１モルから２モルの量で使用される。
【００４６】
本発明の方法と関連して適するＰｄ触媒の例は、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム（Ｏ）（Ｐｄ（ＰＰｈ３）４／ＰＰｈ３、パラジウムジベンジリデンアセトン（Ｐｄ２（ｄｂａ）３）、Ｐｄ２（ｄｂａ）３×ＣＨＣｌ３、Ｐｄ（ｄｂａ）２、ＰｄＣｌ２、Ｐｄ（ＯＡｃ）２、ＰｄＣｌ２（ＰｈＣＮ）２、ＰｄＣｌ２（ＣＨ３ＣＮ）２またはＰｄＣｌ２（ＰＰｈ３）２である。パラジウムジベンジリデンアセトンおよびテトラキストリフェニルホスフィンパラジウムが好ましい。
【００４７】
触媒は一般的に、一般式（Ｖ）の化合物１モルに基づき、０．０００１モルから０．２モル、好ましくは０．００１モルから０．０５モルの量で使用される。
【００４８】
基Ｒ１５の除去は一般的に０℃から６０℃、好ましくは２０℃から３０℃の温度範囲で行われる。
【００４９】
除去は、一般的に大気圧で行われる。しかし、減圧または加圧で処理することもできる（例えば０．５から５バール）。
【００５０】
本発明に関連して、アミノ−保護基はペプチド化学で使用される従来のアミノ−保護基である。
これらには好ましくは：ベンジルオキシカルボニル、３，４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、３，５−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、２，４−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、４−メトキシベンジルオキシカルボニル、４−ニトロベンジルオキシカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、２−ニトロ−４，５−ジメトキシベンジルオキシカルボニル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、アリルオキシカルボニル、ビニルオキシカルボニル、２−ニトロベンジルオキシカルボニル、３，４，５−トリメトキシべンジルオキシカルボニル、フタロイル、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル、２，２，２−トリクロロ−ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、メチルオキシカルボニル、４−ニトロフェノキシカルボニル、Ｎ−フルオレニル−９−メトキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ピバロイル、２−クロロアセチル、２−ブロモアセチル、２，２，２−トリフルオロアセチル、２，２，２−トリクロロアセチル、ベンゾイル、ベンジル、４−クロロベンゾイル、４−ブロモベンゾイル、４−ニトロベンゾイル、フタルイミド、イソバレロイルまたはベンジルオキシメチレン、４−ニトロベンジル、２，４−ジニトロベンジル、４−ニトロフェニルまたは２−ニトロフェニルスルフェニルを含む。Ｆｍｏｃが特に好ましい。
【００５１】
一般式（ＶＩ）または（ＶＩａ）の化合物のホフマン転位は、一般的にアルカリ金属次亜塩素酸塩またはアルカリ土類金属次亜塩素酸塩を、水酸化アルカリ金属または水酸化アルカリ土類金属水溶液中で使用して行う。水酸化カリウム水溶液中の次亜塩素酸カリウムが好ましい。
【００５２】
ホフマン転位は一般的に大気圧で、−１５℃から＋５０℃、好ましくは−１０℃から＋３０℃の温度範囲で行われる。
【００５３】
アミノ−保護基は、上記掲載の溶媒の１つ、好ましくはジオキサン中で、塩基の存在下、そして０℃から６０℃の温度範囲、好ましくは室温および大気圧で、常法により導入される。
【００５４】
適当な塩基は、常用の塩基性化合物である。これらは好ましくは、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムまたは水酸化バリウムのようなアルカリ金属水酸化物およびアルカリ土類金属水酸化物、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムまたは炭酸水素バリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩またはアルカリ土類金属炭酸水素塩、および炭酸ナトリウム、炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩またはアルカリ土類金属炭酸塩、またはアルカリ金属アルコラートを含む。炭酸水素ナトリウムが特に好ましい。
【００５５】
これらの塩基は一般的に、一般式（ＶＩ）の化合物１モルに基づき１モルから２０モル、好ましくは５モルから１０モルの量で使用される。
【００５６】
アミノ−保護基は一般的に、上記掲載の有機アミンを使用して除去される。ピペリジンが好ましい。
【００５７】
塩基は一般的に、保護化合物１モルに基づき１モルから１００モル、好ましくは２０モルから６０モルの量で使用される。
【００５８】
除去は一般的に大気圧で、０℃から６０℃、好ましくは２０℃から３０℃の温度範囲で行われる。
【００５９】
一般式（ＩＩ）の化合物はそれ自体周知であるか、あるいは公開されている方法に従い製造できる。
【００６０】
一般式（ＩＩＩ）のアルコールは周知である。
【００６１】
一般式（ＩＶ）、（ＩＶａ）および（Ｖ）の化合物は新規であり、そして例えば上記のように製造できる。
【００６２】
一般式（ＶＩ）および（ＶＩａ）の化合物のいくつかは周知であり、そのような場合は上記のように製造できる。
【００６３】
本発明の方法は好ましくは、鏡像異性体的に純粋な一般式（Ｉ）の化合物を製造するために使用され、式中、
ＡおよびＬは水素を示し、
ＤおよびＥは同一または異なり、そして水素、フッ素、塩素、臭素、  ベンジルもしくはヒドロキシルを表すか、またはハロゲン、ベンジル  オキシもしくはヒドロキシルにより、各々の場合で最高４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルコキシ、アシルもしくはアルコキシカルボニルにより、または式−ＮＲ４Ｒ５（ここで、Ｒ４およびＲ５は同一もしくは異なり、そして水素または最高４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを表す）の基により場合によっては置換されてもよい最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを表し、あるいはＤおよびＥは一緒に式
【００６４】
【化１１】
2005187481.tif 000012
【００６５】
または＝Ｎ−ＯＨ（ここで、Ｒ６およびＲ７は同一もしくは異なり、そして水素、フッ素、塩素、臭素、または最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを示すか、またはベンジルもしくはフェニルを示す）の基を表すか、あるいは、
ＤおよびＥは一緒に式＝Ｏまたは＝Ｓの基を表し、
Ｒ２は水素を表すか、またはＢｏｃ、ベンジル、ベンジルオキシカルボニル、アリルオキシカルボニルもしくは９−フルオレニルメチルオキシカルボニル（Ｆｍｏｃ）を表すか、あるいはヒドロキシルもしくはホルミルにより、または最高４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アシルにより、または場合によってはハロゲン、ニトロもしくはシアノにより、または最高４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルにより置換されてもよいフェニルもしくはベンゾイルにより、場合によっては置換されてもよい最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを表すか、あるいは、最高６個の炭素原子を有する直鎖−もしくは分枝アシルを表すか、あるいは、場合によっては上記のように置換されてもよいベンゾイルを表すか、あるいは、
式−ＳＯ２Ｒ８（ここで、Ｒ８は最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキル、フェニルもしくはべンジルを示し、後者の基はハロゲン、ヒドロキシル、ニトロ、シアノ、トリフルオロメチルもしくはトリフルオロメトキシ、または各々の場合で最高４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルもしくはアルコキシ、または上記−ＮＲ４Ｒ５（ここで、Ｒ４およびＲ５は上記意味を有する）の基、から成る同一もしくは異なる置換基により、場合によっては最高２回置換されてもよい、
ハロゲン、ヒドロキシル、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、各々の場合で最高４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキル、アシル、アルコキシもしくはアルコキシカルボニル、もしくは式−ＮＲ６Ｒ７もしくは−ＳＯ２Ｒ８  （ここで、Ｒ６およびＲ７は上記意味を有する）の基、から成る同一もしくは異なる置換基により、場合によっては最高２回置換されてもよいフェニルを表すか、あるいは
式
【００６６】
【化１２】
2005187481.tif 000013
【００６７】
（式中、Ｒ９は水素、最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルまたはベンジルを示し、そしてＲ１０は水素、ベルジルオキシ，Ｆｍｏｃまたはｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルを示す）のアミノ酸残基を表す、の基を表し、
Ｒ３は水素を表すか、または最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルまたはベンジルを表すか、あるいは
Ｒ２およびＲ３は一緒に式＝ＣＨＲ１４（ここで、Ｒ１４は水素、またはハロゲンもしくはヒドロキシルにより、または各々の場合で最高４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルコキシもしくはアルコキシカルボニルにより場合によっては置換されてもよい最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを示す）を表し、
Ｔは酸素もしくは硫黄原子を表すか、または−ＮＨ基を表し、
Ｒ１は水素を表すか、または最高６個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルもしくはフェニルを表し、後者の基はヒドロキシル、ハロゲン、ニトロ、シアノ、トリフルオロメチルもしくはトリフルオロメトキシ、各々の場合で最高４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルコキシ、アシルもしくはアルコキシカルボニル、または式−ＮＲ４Ｒ５もしくは−ＳＯ２Ｒ８をあらわし、ここで、Ｒ４、Ｒ５およびＲ８は上記の意味を有する、の基から成る同一もしくは異なる置換基により最高２回置換されてもよく、
あるいはＴが−ＮＨ基を表す場合には、Ｒ１は式−ＳＯ２Ｒ８（ここで、Ｒ８は上記の意味を有する）の基を表す。
【００６８】
前記の方法は特に好ましくは、鏡像異性体的に純粋な一般式（Ｉ）の化合物を製造するために使用され、式中、ＡおよびＬは水素を示すか、あるいはＤおよびＥは同一または異なり、そして水素、フッ素、塩素、臭素、ベンジルもしくはヒドロキシルを表すか、またはヒドロキシルもしくはベンジルオキシにより場合によっては置換されてもよい最高４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを表すか、あるいはＤおよびＥは一緒に式
【００６９】
【化１３】
2005187481.tif 000014
【００７０】
の基または＝Ｎ−ＯＨを表し、ここで、Ｒ６およびＲ７は同一もしくは異なり、そして水素、フッ素、塩素、臭素、または最高４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを示すか、またはフェニルを示す、あるいは、
ＤおよびＥは一緒に式＝Ｏまたは＝Ｓの基を表し、Ｒ２は水素、アリルオキシカルボニル、ベンジル、ＢｏｃもしくはＦｍｏｃを表すか、あるいは最高４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを表すか、または、最高４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アシルを表すか、
あるいは式−ＳＯ２Ｒ８を表し、ここで、Ｒ８は最高４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを示すか、またはフェニルもしくはベンジルを示し、後者の基はヒドロキシル、フッ素、塩素、臭素、ニトロ、シアノ、メチル、エチルもしくはメトキシにより場合によっては置換されてもよいか、あるいは
式
【００７１】
【化１４】
2005187481.tif 000015
【００７２】
式中、Ｒ９は水素、最高４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルもしくはベンジルを示し、そしてＲ１０は水素、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルもしくはＦｍｏｃを示す、のアミノ酸残基を表し、
Ｒ３は水素を表すか、または最高４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを表すか、あるいはＲ２およびＲ３は一緒に式＝ＣＨＲ１４
（ここで、Ｒ１４は水素、または最高４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルを示す）の基を表し、
Ｔは酸素もしくは硫黄原子を表すか、または−ＮＨ基を表し、
Ｒ１は水素を表すか、または最高４個の炭素原子を有する直鎖もしくは分枝アルキルまたはフェニルを表し、後者の基はフッ素、塩素、臭素、ニトロ、シアノ、メトキシもしくはエトキシにより、または式−ＮＲ４Ｒ５もしくは−ＳＯ２Ｒ８を表し、ここで、Ｒ４およびＲ５は同一または異なり、そして水素、メチルまたはエチルを示し、そしてＲ８は上気意味を有する、の基により置換されてもよく、あるいは
Ｔが−ＮＨ基を表す場合には、Ｒ１は式−ＳＯ２Ｒ８（ここで、Ｒ８は上記の意味を有する）の基を表す。
【００７３】
さらに前記の方法は、特に好ましくは、鏡像異性体的に純粋な一般式（Ｉ）の化合物を製造するために使用され、式中、Ａ、Ｄ、ＥおよびＬは水素を表すか、あるいはＡおよびＬは水素を表し、そしてＤおよびＥは一緒に二重結合を形成する。
【００７４】
前記の方法は、高度に鏡像選択的様式で、かつ定量的収量で、鏡像異性体的に純粋な一般式（Ｉ）のシクロペンタン−および−ペンテンβ−アミノ酸を得ることを可能とし、これらの化合物は価値ある殺菌性および抗菌性医薬品を構成する。
【００７５】
以下に、特定の例を挙げながら本発明をより具体的に説明する。
＜例１＞  ４−メチレン−シクロペンタン−１，２−ジカルボン酸
【００７６】
【化１５】
2005187481.tif 000016
【００７７】
２．２２４５ｋｇ（４０モル）の水酸化カリウムを１５．７リットルの水に溶解し、そして溶液を室温に放冷した。２．２２６３ｋｇ（１０モル）のジエチル４−メチレン−１，２−シクロペンタン−ジカルボキシレートを１５．７リットルのエタノール中に溶解し、そして溶液を室温で水酸化カリウム溶液中に入れた。ＲＴで３０分間撹拌した後、５５℃にてロータリーエバポレーターでエタノールを留去した。残る水溶液を５リットルのジエチルエーテルで２回洗浄し、エーテル相を捨て、そして水相を冷却し、そして３リットルの濃塩酸を使用してｐＨ２に調整する。次に混合物を各９リットルの酢酸エチルで３回抽出し、そして酢酸エチル相を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、そしてロータリーエバポレーターで６０℃で濃縮した。
収量：１．６６ｋｇ；理論値の９７．５％
融点：１６５−１７２℃
＜例２＞  ４−メチレン−シクロペンタン−１，２−ジカルボン酸無水物
【００７８】
【化１６】
2005187481.tif 000017
【００７９】
１３２５．６ｇ（７．７９モル）の４−メチレン−１，２−シクロペンタン−ジカルボン酸および６リットルの無水プロピオン酸を、還流下（１６０℃）で７時間加熱する。無水プロピオン酸の一部をロータリーエバポレーターで８０℃にて留去し、そして残渣（２．１６５ｋｇ）を高真空下で蒸留した。
収量：１０１４．９ｇ；理論値の８０．２％
ＧＣ：９３．７％純度
沸点：９７−１００℃（０．５ｍｍＨｇ）
＜例３＞  シクロペンタン−１，２−ジカルボン酸無水物
【００８０】
【化１７】
2005187481.tif 000018
【００８１】
２９．９ｇ（１８９ミリモル）の１，２−シクロペンタン−ジカルボン酸から出発して、製造は例２に同様に実施した。
収量：１７．８ｇ（７７％）
沸点：１４０℃（０．１ミリバール、バルブ管蒸留）
＜例４および５＞  モノアリル（−）−１，２−シス−４−メチレン−シクロペンタン−１，２−ジカルボキシレート、キニン塩
【００８２】
【化１８】
2005187481.tif 000019
【００８３】
モノアリル（−）−１，２−シス−４−メチレン−シクロペンタン−１，２−ジカルボキシレート
【００８４】
【化１９】
2005187481.tif 000020
【００８５】
７５０ｇ（４．９３モル）の４−メチレン−１，２−シクロペンタン−ジカルボン酸無水物を、３４リットルのジエチルエーテルに溶解し、そして溶液を０℃に冷却する。１．６ｋｇ（４．９モル）の（−）−キニンを加え、混合物を−１０℃に冷却し、５０４．６ｍｌ（７．４モル）のアリルアルコールを加え、そして混合物を−１０℃から−５℃で４時間撹拌し、例４の沈殿を得た。生成物を吸引濾過し、全１０リットルのジエチルエーテルで洗浄し、そして真空乾燥する。２２１７．７ｇの実施例４の化合物を３０リットルの酢酸エチル中に懸濁し、そして１Ｎの塩酸１０リットルで洗浄する。合わせた塩酸相を酢酸エチルで２回洗浄し、そして酢酸エチル相を飽和塩化ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、そして５０℃にてロータリーエバポレーターで濃縮して、８５９．２ｇ（理論値の８３．５％）を得た。
鏡像異性体的過剰率：≧９９％（ＨＰＬＣ、Ｃｈｉｒａｃｅｌ  ＯＤ）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝２．５９−２．９１（４Ｈ）、３．１１−３．２８（２Ｈ）、４．５８（２Ｈ）、４．９４（２Ｈ）；５．１８−５．３７（２Ｈ）；５．８０−５．９７（１Ｈ）。
【００８６】
水性の塩酸相を、２．５Ｍの水酸化ナトリウム溶液を使用してｐＨ９．４に調整し、そして沈殿したキニンを吸引濾過し、水で洗浄し、そして５０℃にて循環式−風乾キャビネット中で乾燥させた。
収量：
融点：１６０−１６２℃
＜例６＞  モノアリル（−）−シス−シクロペンタン−１，２−ジカルボキシレート
【００８７】
【化２０】
2005187481.tif 000021
【００８８】
１３．８ｇ（９８．６ミリモル）の例３の化合物から出発して、製造は例４および５と同様に行った。
収量：１３．０ｇ（６７％）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：１．５６−２．２０（６Ｈ）；３．０３−３．１６（２Ｈ）；４．０８（２Ｈ）；５．６９−５．９０（２Ｈ）；５．８２−６．００（１Ｈ）。
【００８９】
鏡像異性体的過剰率  ｅ．ｅ．：≧９８％（カルボン酸官能基とＬ−フェニルグリシノールのカップリング後にＨＰＬＣにより測定）
表１に掲げた化合物は、例４、５および６の方法に準じて製造する：
【００９０】
【表１】
2005187481.tif 000022
【００９１】
＜例＞１７  アリル（−）−１，２−シス−２−アミノカルボニル−４−メチレン−シクロペンタン−１−カルボキシレート
【００９２】
【化２１】
2005187481.tif 000023
【００９３】
１．１４５ｋｇ（５．４４７モル）のモノアリル（−）−１，２−シス−４−メチレン−１，２−シクロペンタン−ジカルボキシレートを、２５リットルの酢酸エチルに溶解し、７２９ｍｌ（５．７３モル）のＮ−エチル−モルホリンを加え、そして７４３．５ｍｌ（５．７３モル）のイソブチルクロロホーメートを２０分間にわたって−６℃で入れた。混合物を−６℃から−１０℃で１時間撹拌し、そしてこの温度で１２７６ｍｌ（１７．０７モル）の既に冷却した希釈アンモニア水を入れる。混合物をこの温度で１時間撹拌し、希塩酸でｐＨを５に調整し、相分配し、水性相を４リットルの酢酸エチルで洗浄し、そして合わせた酢酸エチル相を３リットルの飽和塩化ナトリウム溶液で２回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させ、ロータリーエバポレーターで濃縮する。４リットルの石油エーテルを加えることにより生成物が晶出し、そして吸引濾過し、４リットルの石油エーテルで撹拌し、吸引濾過し、２リットルの石油エーテルで洗浄し、そして真空乾燥した。
収量：９９６ｇ、理論値の８７．４％
融点：６２℃
＜例１８＞  アリル（−）−シス−２−アミノカルボニル−シクロペンタン−１−カルボキシレート
【００９４】
【化２２】
2005187481.tif 000024
【００９５】
１２．７ｇ（６４ミリモル）の実施例６の化合物から出発して、製造は例１７と同様に実施した。
収量：９．９ｇ（７８％）
融点：３５℃
［α］２０Ｄ＝−１０．４（ｃ＝１．０５、ＣＨＣｌ３）
＜例１９＞  （−）−１，２−シス−２−アミノカルボニル−４−メチレン−シクロペンタン−１−カルボン酸、ナトリウム塩
【００９６】
【化２３】
2005187481.tif 000025
【００９７】
２５８ｇ（１．２３３モル）のアリル（−）−１，２−シス−２−アミノカルボニル−４−メチレン−１，２−シクロペンタンカルボキシレートを、５リットルの酢酸エチルにアルゴン雰囲気下で溶解する。１．７４９モルの２−エチルヘキサン酸、ナトリウム塩（３．１５リットルの酢酸エチル中）、３２．５ｇ（０．１２３モル）のトリフェニルホスフィンおよび７．１ｇ（６．１５ミリモル）のテトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウムの溶液を加え、そして溶液をＲＴで２時間撹拌し、生成物が沈殿する。生成物を抽出するために懸濁液を１０リットルのアセトン中で撹拌し、生成物を吸引濾過し、そして真空乾燥した。
粗収量：２８１．１ｇ：エチルヘキサン酸、ナトリウム塩が混入
１Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ）：δ＝２．５４−２．８２（４Ｈ）；３．０８−３．２５（２Ｈ）；５．０１（２Ｈ）
＜例２０＞  （−）−１，２−シス−２−アミノカルボニル−シクロペンタン−１−カルボン酸、ナトリウム塩
【００９８】
【化２４】
2005187481.tif 000026
【００９９】
９．８５ｇ（５０．０ミリモル）の例１８の化合物から出発して、製造は例１９と同様に実施した。
収量：７．１ｇ（７９％）
１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）：δ＝１．５２−２．１４（６Ｈ）；２．９５−３．１８（２Ｈ）。
＜例２１＞  （−）−１，２−シス−２−アミノカルボニル−４−メチレン−シクロペンタン−１−カルボン酸
【０１００】
【化２５】
2005187481.tif 000027
【０１０１】
１０４．５ｇ（０．５モル）のアリル（−）−１，２−シス−２−アミノカルボニル−４−メチレン−１，２−シクロペンタンカルボキシレートを、１リットルの酢酸および１１９ｍｌ（０．７５モル）の２−エチルヘキサン酸に窒素雰囲気下で溶解した。１３．１ｇ（０．０５モル）のトリフェニルホスフィンおよび３ｇ（０．００５モル）のビス（ジベンジリデンアセトン）パラジウム（０）を加えた後、反応溶液をＲＴで５時間撹拌し、生成物が晶出した。生成物を吸引濾過し、５０ｍｌの酢酸エチルで洗浄し、そして真空乾燥した。
収量：６３．４ｇ（理論値の７５％）
＜例２２＞  （−）−１，２−シス−２−アミノ−４−メチレン−シクロペンタンカルボン酸の水溶液
【０１０２】
【化２６】
2005187481.tif 000028
【０１０３】
８１７ｇ（４．２７モル）の（−）−１，２−シス−２−アミノカルボニル−４−メチレン−１，２−シクロペンタンカルボン酸、ナトリウム塩を０℃で、４７８．４５ｇ（８．５４モル）の水酸化カリウム溶液（９リットルの水中）に加えた。３．１２リットルの２．５モル次亜塩素酸カリウム溶液を加え、そして混合物をこの温度で一晩撹拌する。溶液を５Ｎ  塩酸でｐＨ２に調整し、ジエチルエーテルで４回洗浄し、そして水性相を５Ｎの水酸化ナトリウム溶液でｐＨ６．９に調整し、そして多孔質珪藻土上で吸引濾過した。
＜例２３＞  （−）−１，２−シス−２−アミノ−シクロペンタン−１−カルボン酸の水溶液
【０１０４】
【化２７】
2005187481.tif 000029
【０１０５】
７．０ｇ（３９．０ミリモル）の実施例２０の化合物から出発して、製造は例２２と同様に実施した。
＜例２４＞  （−）−１，２−シス−２−Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−アミノ−４−メチレン−１−シクロペンタンカルボン酸
【０１０６】
【化２８】
2005187481.tif 000030
【０１０７】
２．２１ｋｇ（２６．３４モル）の炭酸水素ナトリウムを２１．１８リットル（約３．７モル）の（−）−１，２−シス−２−アミノ−４−メチレン−シクロペンタンカルボン酸水溶液に加え、そして混合物をＲＴで１５分間撹拌した。１．０２ｋｇ（３．０１モル）のＮ−（９−フルオレニルメトキシカルボニルオキシ）−スクシンイミド溶液（５．４リットルのジオキサン中）を入れ、そして混合物をＲＴで５時間撹拌した。溶液を濾過、そして２０リットルのジエチルエーテルで洗浄し、有機相を希釈した炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、そして水性の塩基性生成物相をＲＴで希釈した次亜塩素酸を使用してｐＨ２に調整する。混合物をジエチルエーテルで数回洗浄し、そして合わせた有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥させ、ロータリーエバポレーターで濃縮し、油状物質を得た。
収量：１．４７ｋｇ；理論値の１０４．６％
［α］２０Ｄ＝−１８．８（ｃ＝１、ＭｅＯＨ）
融点：１３７℃
鏡像異性体的過剰率  ｅ．ｅ：＞９９％（ＨＰＬＣ、Ｃｈｉｒａｌｐａｋ  ＡＳ）
＜例２５＞  （−）−１，２−シス−２−（ｔｅｒｔ−ブチルオキシカルボニル）アミノ−シクロペンタン−１−カルボン酸
【０１０８】
【化２８】
2005187481.tif 000031
【０１０９】
例２３の化合物の水溶液を中和するために、１５ｇの炭酸ナトリウム（ｐＨ＝９．８）および２００ｍｌのジオキサンを加えた。９．２ｇ（４２ミリモル）のジ−ｔｅｒｔ−ブチルジカーボネートを０℃で加え、そして混合物を０℃で１０分間、そして室温で２０時間撹拌した。反応混合物を希塩酸でｐＨ２に調整し、そして２００ｍｌの酢酸エチルで３回抽出する。合わせた有機相を飽和ＮａＣｌ溶液で洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４上で乾燥させ、そしてロータリーエバポレーターで濃縮する。残渣を溶出液としてジクロロメタン／メタノール（２０：１）を用いてシリカゲルでクロマトグラフィーを行った（Ｒｆ＝０．３５）。
収量：７．３４ｇ（８２％）
［α］２０Ｄ＝−３５．０（ｃ＝１．２、ＣＨＣｌ３）
＜例２６＞  （−）−１，２−シス−２−アミノ−４−メチレン−シクロペンタンカルボン酸
【０１１０】
【化３０】
2005187481.tif 000032
【０１１１】
１．４７ｋｇ（３．７６モル）の（−）−１，２−シス−２−Ｎ−（９−フルオレニルメトキシカルボニル）−アミノ−４−メチレン−１−シクロペンタンカルボン酸懸濁液（１３リットルのピペリジン中）を、室温で３時間、清澄溶液が形成するまで撹拌し、その後８リットルのピペリジンを蒸気ジェット真空下（６０℃の浴温度）で蒸留し、１０リットルのジエチルエーテルを加え、そして混合物を一晩、ロータリーエバポレーター中で撹拌した。懸濁液を完全に開口型ドラムに移し、１０リットルのジエチルエーテルを加え、混合物を２時間撹拌し、そして生成物を吸引濾過した。吸引フィルター上で固体を３回、各３リットルのジエチルエーテルで撹拌し、吸引乾燥させ、そして室温で３時間、高真空下の五酸化リン上で乾燥させて３７７ｇの遊離アミノ酸を得た。生成物を６．６リットルのエタノール／水（９：１）に溶解し、清澄溶液を得、そして一晩晶出させる。生成物を濾過し、０．２リットルの９５％エタノールで洗浄し、そして真空中、五酸化リン上で乾燥させた。
収量：２１４．５ｇ
濾液をロータリーエバポレーターで濃縮し、そして上記のようにエタノール／水（９：１）から晶出した。
全収量：３３３．２ｇ、理論値の６３％
融点：２２２℃
［α］２０Ｄ＝−３１．６（ｃ＝１、Ｈ２Ｏ）
＜例２７＞  （−）−１，２−シス−２−アミノ−４−メチレン−シクロペンタンカルボン酸塩化物
【０１１２】
【化３１】
2005187481.tif 000033
【０１１３】
３４１．７ｇ（２．４２モル）の（−）−１，２−シス−２−アミノ−４−メチレン−シクロペンタンカルボン酸を、８リットルの二重蒸留水に溶解し、溶液を焼結ガラス吸引フィルターを通して吸引濾過し、そして吸引フィルターを０．２リットルの二重蒸留水で洗浄する。２．４２ｍｌの１Ｎ  塩酸をロータリーエバポレーターフラスコ中の溶液に加え、溶液を濃縮して結晶化が起こるまで残りの溶媒を除去し（６５℃の浴）、２リットルの二重蒸留水を加えたとき；混合物が濃縮乾固し、そして残渣を続いて４０℃で３０分間乾燥させた。これを次に高真空で８４時間、五酸化リン上で、そして２４時間、水酸化カリウム上で乾燥させた。
収量：４２１．１ｇ；理論値の９７．７％
［α］２０Ｄ＝−１１．６（ｃ＝１、Ｈ２Ｏ）
＜例２８＞  （−）−１，２−シス−２−アミノ−シクロペンタン−１−カルボン酸塩化物
【０１１４】
【化３２】
2005187481.tif 000034
【０１１５】
例２５の化合物の溶液（３．９０ｇ、１７．０ミリモル）（ジオキサン中３０ｍｌの４Ｎ  ＨＣｌ）を、室温で２時間撹拌した。沈殿する生成物を吸引濾過し、ジオキサンおよびエーテルで洗浄し、そして高真空下で１５時間乾燥した。収量：２．３９ｇ（８４％）
［α］２０Ｄ＝−５．７（ｃ＝０．９９、Ｈ２Ｏ）
鏡像異性体的過剰率  ｅ．ｅ．：≧９５％（ＨＰＬＣ、Ｎ−Ｆｍｏｃ−保護化合物の転換後のＣｈｉｒａｌｐａｋ  ＡＳ）