(57)【要約】【課題】新規除草剤の提供【解決手段】式（１）【化１】2005112840.tif 000043〔式中、Ｒ1はＣ1-3アルキル基等を表し、Ｒ2は水素原子、Ｃ1-3アルキル基等を表し、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ1-3アルキル基等を表し、ＸおよびＹはそれぞれ独立してＣ1-3アルキル基等を表し、Ｚは窒素原子またはメチン基を表す。〕で表されるピラゾールスルホニルウレア化合物または農薬として許容されるその塩、該化合物および塩から選ばれる１種以上を有効成分として含有する農薬、除草剤、ならびに該有効成分を用いるスルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草の防除方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（１）：
【化１】
2005112840.tif 000042
〔式中、Ｒ1はＣ1-3アルキル基、Ｃ1-3ハロアルキル基、Ｃ1-3アルコキシＣ1-3アルキル基、フェニル基またはピリジル基を表し、
Ｒ2は水素原子、Ｃ1-3アルキル基、Ｃ1-3ハロアルキル基、Ｃ1-3アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ1-3アルキル基、Ｃ1-3ハロアルキル基、Ｃ1-3アルコキシ基、Ｃ1-3アルキルチオ基、Ｃ1-3アルコキシＣ1-3アルキル基、Ｃ1-3アルキルチオＣ1-3アルキル基、ホルミル基、（Ｃ1-3アルキル）カルボニル基、（Ｃ1-3アルコキシ）カルボニル基、（Ｃ1-3アルキル）カルボニルオキシ基、ジ（Ｃ1-3アルキル）アミノ基、シアノ基、ニトロ基またはフェニル基を表し、
但し、Ｒ3とＲ4、Ｒ4とＲ5、およびＲ5とＲ6は結合している炭素原子とともに３ないし６員環を構成してもよく、
ＸおよびＹはそれぞれ独立してＣ1-3アルキル基、Ｃ1-3ハロアルキル基、Ｃ1-3アルコキシ基、Ｃ1-3ハロアルコキシ基、ハロゲン原子またはジ（Ｃ1-3アルキル）アミノ基を表し、Ｚは窒素原子またはメチン基を表す。〕で表されるピラゾールスルホニルウレア化合物または農薬として許容されるその塩。
【請求項２】
請求項１記載のピラゾールスルホニルウレア化合物および農薬として許容されるその塩から選ばれる１種以上を有効成分として含有する農薬。
【請求項３】
請求項１記載のピラゾールスルホニルウレア化合物および農薬として許容されるその塩から選ばれる１種以上を有効成分として含有する除草剤。
【請求項４】
請求項１記載のピラゾールスルホニルウレア化合物および農薬として許容されるその塩から選ばれる１種以上を用いるスルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草の防除方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ピラゾールスルホニルウレア化合物およびそれらを有効成分とする農薬、特に除草剤およびこれを用いるスルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草の防除方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ピラゾール環上にヘテロ環が結合したピラゾールスルホニルウレア類が除草活性を有することは、いくつかの特許文献に開示されている（特許文献１ないし１６）。しかしながら、上記明細書にはピラゾール環上にイソオキサゾリン環が結合したピラゾールスルホニルウレア類に関する具体的な開示はない。
【０００３】
また、近年になって、従来のスルホニルウレア系除草剤で防除が困難なスルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草の出現が問題となっており、そのため、高い除草効果を有して、なおかつ抵抗性雑草も効果的に防除しうる除草剤の開発が望まれている。
【特許文献１】特開昭６１−９３１８０号公報
【特許文献２】特開昭６１−１１２０７２号公報
【特許文献３】特開昭６２−３３１７３号公報
【特許文献４】特開昭６２−１９５３７６号公報
【特許文献５】特開昭６３−１８５９０６号公報
【特許文献６】特開平３−４１０７８号公報
【特許文献７】特開昭６２−１２０３８５号公報
【特許文献８】特開昭６２−１５５２７３号公報
【特許文献９】特開昭６２−１７８５８９号公報
【特許文献１０】特開昭６３−２９９０号公報
【特許文献１１】特開昭６３−１４６８７８号公報
【特許文献１２】特開昭６３−２７４８９号公報
【特許文献１３】特開平６−９３１４号公報
【特許文献１４】特開平７−１１８２６９号公報
【特許文献１５】欧州公開特許ＥＰ１７８１０１号公報
【特許文献１６】欧州公開特許ＥＰ１８７４７０号公報号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ピラゾールスルホニルウレア化合物を有効成分とし、優れた効力を有する農薬、特に除草剤およびこれを用いるスルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草の防除方法を提供すること。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本願発明者は上記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、新規なピラゾールスルホニルウレア化合物が除草活性および作物への選択性を有することを見いだし、本発明を完成させた。
【０００６】
すなわち、本発明は、式（１）：
【０００７】
【化１】
2005112840.tif 000002
【０００８】
〔式中、Ｒ1はＣ1-3アルキル基、Ｃ1-3ハロアルキル基、Ｃ1-3アルコキシＣ1-3アルキル基、フェニル基またはピリジル基を表し、
Ｒ2は水素原子、Ｃ1-3アルキル基、Ｃ1-3ハロアルキル基、Ｃ1-3アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6はそれぞれ独立して水素原子、Ｃ1-3アルキル基、Ｃ1-3ハロアルキル基、Ｃ1-3アルコキシ基、Ｃ1-3アルキルチオ基、Ｃ1-3アルコキシＣ1-3アルキル基、Ｃ1-3アルキルチオＣ1-3アルキル基、ホルミル基、（Ｃ1-3アルキル）カルボニル基、（Ｃ1-3アルコキシ）カルボニル基、（Ｃ1-3アルキル）カルボニルオキシ基、ジ（Ｃ1-3アルキル）アミノ基、シアノ基、ニトロ基またはフェニル基を表し、
但し、Ｒ3とＲ4、Ｒ4とＲ5、およびＲ5とＲ6は結合している炭素原子とともに３ないし６員環を構成してもよく、
ＸおよびＹはそれぞれ独立してＣ1-3アルキル基、Ｃ1-3ハロアルキル基、Ｃ1-3アルコキシ基、Ｃ1-3ハロアルコキシ基、ハロゲン原子またはジ（Ｃ1-3アルキル）アミノ基を表し、Ｚは窒素原子またはメチン基を表す。〕で表されるピラゾールスルホニルウレア化合物（以下、「本発明化合物」という）または農薬として許容されるその塩、本発明化合物および農薬として許容されるその塩から選ばれる１種以上を有効成分として含有する農薬、本発明化合物および農薬として許容されるその塩から選ばれる１種以上を有効成分として含有する除草剤、並びに本発明化合物および農薬として許容されるその塩から選ばれる１種以上を用いるスルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草の防除方法である。
【０００９】
また、本発明化合物および農薬として許容されるその塩は、ある種の除草剤との混合剤の形態で使用することにより、その除草剤との相乗的除草効果を奏する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のピラゾールスルホニルウレア化合物は、単に高い除草効果を有するばかりでなく、スルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草に対しても高い除草効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明化合物および本発明化合物の製造中間体の置換基Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｘ、ＹおよびＺを具体的に例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。但し、記号はそれぞれ以下の意味を示す。
【００１２】
Ｍｅ：メチル基、Ｅｔ：エチル基、Ｐｒ−ｎ：ノルマルプロピル基、Ｐｒ−ｉｓｏ：イソプロピル基、Ｐｈ：フェニル基、Ｐｙ：ピリジル基
〔置換基Ｒ1の具体例〕
Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ−ｎ、Ｐｒ−ｉｓｏ、ＣＨ2Ｆ、ＣＨＦ2、ＣＦ3、ＣＨ2ＣＨ2Ｆ、ＣＨ2ＣＨＦ2、ＣＨ2ＣＦ3、ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｆ、ＣＨ2ＣＨ2ＣＨＦ2、ＣＨ2ＣＨ2ＣＦ3、ＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ、ＣＨ2ＣＨ2Ｂｒ、ＣＨ2ＯＭｅ、ＣＨ2ＯＥｔ、ＣＨ2ＯＰｒ−ｎ、ＣＨ2ＯＰｒ−ｉｓｏ、ＣＨ2ＣＨ2ＯＭｅ、ＣＨ2ＣＨ2ＯＥｔ、ＣＨ2ＣＨ2ＯＰｒ−ｎ、ＣＨ2ＣＨ2ＯＰｒ−ｉｓｏ、ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＭｅ、ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＥｔ、ＣＨＭｅＣＨ2ＯＭｅ、ＣＨ2ＣＨＭｅＯＭｅ、Ｐｈ，２−Ｐｙ
〔置換基Ｒ2の具体例〕
Ｈ、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ−ｎ、Ｐｒ−ｉｓｏ、ＣＨ2Ｆ、ＣＨＦ2、ＣＦ3、ＣＨ2ＣＨ2Ｆ、ＣＨ2ＣＨＦ2、ＣＨ2ＣＦ3、ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｆ、ＣＨ2ＣＨ2ＣＨＦ2、ＣＨ2ＣＨ2ＣＦ3、ＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ、ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ−ｎ、ＯＰｒ−ｉｓｏ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ
〔置換基Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6の具体例〕
Ｈ、Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ−ｎ、Ｐｒ−ｉｓｏ、ＣＨ2Ｆ、ＣＨＦ2、ＣＦ3、ＣＨ2Ｃｌ、ＣＨＣｌ2、ＣＣｌ3、ＣＨ2ＣＨ2Ｆ、ＣＨ2ＣＨＦ2、ＣＨ2ＣＦ3、ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｆ、ＣＨ2ＣＨ2ＣＨＦ2、ＣＨ2ＣＨ2ＣＦ3、ＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ、ＣＨ2ＣＨ2Ｂｒ、ＯＭｅ、ＯＥｔ、ＯＰｒ−ｎ、ＯＰｒ−ｉｓｏ、ＳＭｅ、ＳＥｔ、ＳＰｒ−ｎ、ＳＰｒ−ｉｓｏ、ＣＨ2ＯＭｅ、ＣＨ2ＯＥｔ、ＣＨ2ＯＰｒ−ｎ、ＣＨ2ＯＰｒ−ｉｓｏ、ＣＨ2ＣＨ2ＯＭｅ、ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＭｅ、ＣＨＭｅＣＨ2ＯＭｅ、ＣＨ2ＣＨＭｅＯＭｅ、ＣＨ2ＳＭｅ、ＣＨ2ＳＥｔ、ＣＨ2ＳＰｒ−ｎ、ＣＨ2ＳＰｒ−ｉｓｏ、ＣＨ2ＣＨ2ＳＭｅ、ＣＨ2ＣＨ2ＳＥｔ、ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＳＭｅ、ＣＨＭｅＣＨ2ＳＭｅ、ＣＨ2ＣＨＭｅＳＭｅ、ＨＣ（Ｏ）、ＭｅＣ（Ｏ）、ＥｔＣ（Ｏ）、（Ｐｒ−ｎ）Ｃ（Ｏ）、（Ｐｒ−ｉｓｏ）Ｃ（Ｏ）、ＭｅＯＣ（Ｏ）、ＥｔＯＣ（Ｏ）、（Ｐｒ−ｎ）ＯＣ（Ｏ）、（Ｐｒ−ｉｓｏ）ＯＣ（Ｏ）、ＭｅＣ（Ｏ）Ｏ、ＥｔＣ（Ｏ）Ｏ、（Ｐｒ−ｎ）Ｃ（Ｏ）Ｏ、（Ｐｒ−ｉｓｏ）Ｃ（Ｏ）Ｏ、Ｍｅ2Ｎ、Ｅｔ2Ｎ、（Ｐｒ−ｎ）2Ｎ、ＣＮ、ＮＯ2、Ｐｈ
〔置換基Ｒ3とＲ4、置換基Ｒ4とＲ5および置換基Ｒ5とＲ6が結合している炭素原子とともに３ないし６員環を構成する場合の具体例〕
【００１３】
【化２】
2005112840.tif 000003
【００１４】
〔置換基ＸおよびＹの具体例〕
Ｍｅ、Ｅｔ、Ｐｒ−ｎ、Ｐｒ−ｉｓｏ、ＣＨ2Ｆ、ＣＨＦ2、ＣＦ3、ＣＨ2Ｃｌ、ＣＨＣｌ2、ＣＣｌ3、ＣＨ2ＣＨ2Ｆ、ＣＨ2ＣＨＦ2、ＣＨ2ＣＦ3、ＣＦ2ＣＦ3、ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｆ、ＣＨ2ＣＨ2ＣＨＦ2、ＣＨ2ＣＨ2ＣＦ3、ＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ、ＣＨ2ＣＨ2Ｂｒ、ＯＣＨ2Ｆ、ＯＣＨＦ2、ＯＣＦ3、ＯＣＨ2ＣＨ2Ｆ、ＯＣＨ2ＣＨＦ2、ＯＣＨ2ＣＦ3、ＯＣＦ2ＣＦ3、ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｆ、ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨＦ2、ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＦ3、ＯＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ、ＯＣＨ2ＣＨ2Ｂｒ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、Ｍｅ2Ｎ、Ｅｔ2Ｎ、（Ｐｒ−ｎ）2Ｎ
〔置換基Ｚの具体例〕
Ｎ、ＣＨ
本発明化合物（１）には光学異性体が存在する場合もあり、その光学異性体はすべて本発明化合物に含まれる。
【００１５】
本発明化合物（１）は下記の反応式１ないし３に示す方法により製造できる。
【００１６】
〔反応式１〕
【００１７】
【化３】
2005112840.tif 000004
【００１８】
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同様の意味を表し、Ｒ7はＣ1-3アルキル基またはフェニル基を表す。〕
反応式１はピラゾールスルホンアミド（２）を塩基存在下または非存在下、カーバメート（３）と反応させて本発明化合物（１）を製造する方法を示す。
【００１９】
本反応において、（３）は（２）に対して通常０．５ないし１０倍モル、好ましくは０．９ないし１．１倍モル使用される。
【００２０】
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンおよび１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類、ｎ−ブチルリチウムおよびｓｅｃ−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類があげられる。塩基は（２）に対して通常０ないし１０倍モル、好ましくは０ないし２倍モル使用される。
【００２１】
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、並びにこれらの混合溶媒があげられる。
【００２２】
反応温度は通常−９０ないし２００℃、好ましくは０ないし１２０℃である。
【００２３】
反応時間は通常０．０５ないし１００時間、好ましくは０．５ないし１０時間である。
【００２４】
〔反応式２〕
【００２５】
【化４】
2005112840.tif 000005
【００２６】
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同様の意味を表し、Ｒ8はＣ1-3アルキル基またはフェニル基を表す。〕
反応式２はピラゾールスルホニルカーバメート（４）を塩基存在下または非存在下、式（５）で表されるピリミジンまたはトリアジンと反応させて本発明化合物（１）を製造する方法を示す。
【００２７】
本反応において、（５）は（４）に対して通常０．５ないし１０倍モル、好ましくは０．９ないし１．１倍モル使用される。
【００２８】
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンおよび１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類、ｎ−ブチルリチウムおよびｓｅｃ−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類があげられる。塩基は（４）に対して通常０ないし１０倍モル、好ましくは０ないし２倍モル使用される。
【００２９】
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、並びにこれらの混合溶媒があげられる。
【００３０】
反応温度は通常−９０ないし２００℃、好ましくは０ないし１２０℃である。
【００３１】
反応時間は通常０．０５ないし１００時間、好ましくは０．５ないし１０時間である。
【００３２】
〔反応式３〕
【００３３】
【化５】
2005112840.tif 000006
【００３４】
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｘ、ＹおよびＺは前記と同様の意味を表す。〕
反応式３はピラゾールスルホニルイソシアナート（６）を塩基存在下または非存在下、式（５）で表されるピリミジンまたはトリアジンと反応させて本発明化合物（１）を製造する方法を示す。
【００３５】
本反応において、（５）は（６）に対して通常０．５ないし１０倍モル、好ましくは０．９ないし１．１倍モル使用される。
【００３６】
本反応に使用される塩基としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウムおよび水素化ナトリウム等の無機塩基類、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、トリエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリンおよび１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基類、ｎ−ブチルリチウムおよびｓｅｃ−ブチルリチウム等の有機リチウム類、リチウムジイソプロピルアミドおよびリチウムビス（トリメチルシリル）アミド等の有機リチウムアミド類、並びにナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシドおよびカリウムｔ−ブトキシド等の金属アルコキシド類があげられる。塩基は（３）に対して通常０ないし１０倍モル、好ましくは０ないし２倍モル使用される。
【００３７】
本反応は無溶媒でも進行するが、必要に応じて溶媒を使用できる。溶媒は反応に不活性なものであれば特に制限はないが、例えば、ヘキサン、シクロヘキサン、ベンゼンおよびトルエン等の炭化水素類、四塩化炭素、クロロホルムおよび１，２−ジクロロエタン等のハロゲン系炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサンおよびテトラヒドロフラン等のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン等のケトン類、アセトニトリルおよびプロピオニトリル等のニトリル類、並びにこれらの混合溶媒があげられる。
【００３８】
反応温度は通常−９０ないし２００℃、好ましくは０ないし１２０℃である。
【００３９】
反応時間は通常０．０５ないし１００時間、好ましくは０．５ないし１０時間である。
【００４０】
反応式１で示す方法で用いられるピラゾールスルホンアミド（２）は反応式４ないし６に示す方法で製造できる。
【００４１】
また、反応式２ないし３で示す方法で用いられるピラゾールスホニルカーバメート（４）およびピラゾールスルホニルイソシアナート（６）はピラゾールスルホンアミド（２）を原料として、特開昭５９−２１９２８１号公報および特開昭５５−１３２６６号公報に記載されている方法を参考にして合成できる。
【００４２】
〔反応式４〕
【００４３】
【化６】
2005112840.tif 000007
【００４４】
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は前記と同様の意味を表す。〕
反応式４は、ホルミルピラゾール（７）を酢酸ナトリウム等の塩基存在下、ヒドロキシルアミン塩酸塩と反応させてオキシム（８）に変換し（Ａ工程）、（８）を次亜塩素酸ｔ−ブチルまたはＮ−クロロコハク酸イミド等で塩素化してヒドロキサム酸塩化物（９）とし（Ｂ工程）、炭酸水素ナトリウム等の塩基存在下、（９）とアルケン（１３）を反応させて４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾール（１０）とし（Ｃ工程）、（１０）を水硫化ナトリウムと反応させてメルカプトピラゾール（１１）とし（Ｄ工程）、（１１）を塩素または次亜塩素酸ナトリウム等の塩素化剤と反応させてピラゾールスルホニルクロリド（１２）とし（Ｅ工程）、（１２）をアンモニア水または炭酸アンモニウムと反応させる（Ｆ工程）、ピラゾールスルホンアミド（２）の製造法を示す。
【００４５】
〔反応式５〕
【００４６】
【化７】
2005112840.tif 000008
【００４７】
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は前記と同様の意味を表す。〕
反応式５は、ホルミルピラゾール（７）を水素化ナトリウム等の塩基存在下、ベンジルメルカプタンと反応させてスルフィド（１４）に変換した後（Ｇ工程）、（１４）を酢酸ナトリウム等の塩基存在下、ヒドロキシルアミン塩酸塩と反応させてオキシム（１５）に変換し（Ｈ工程）、（１５）を次亜塩素酸ｔ−ブチルまたはＮ−クロロコハク酸イミド等で塩素化してヒドロキサム酸塩化物（１６）とし（Ｉ工程）、炭酸水素ナトリウム等の塩基存在下、（１６）とアルケン（１３）を反応させて４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾール（１７）とし（Ｊ工程）、（１７）を塩素または次亜塩素酸ナトリウム等の塩素化剤と反応させる（Ｋ工程）、ピラゾールスルホニルクロリド（１２）の製造法を示す。（１２）は反応式４のＦ工程によりピラゾールスルホンアミド（２）に誘導できる。
【００４８】
〔反応式６〕
【００４９】
【化８】
2005112840.tif 000009
【００５０】
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は前記と同様の意味を表す。〕
反応式６は、ホルミルピラゾール（１８）を酢酸ナトリウム等の塩基存在下、ヒドロキシルアミン塩酸塩と反応させてオキシム（１９）に変換し（Ｌ工程）、（１９）を次亜塩素酸ｔ−ブチルまたはＮ−クロロコハク酸イミド等で塩素化してヒドロキサム酸塩化物（２０）とし（Ｍ工程）、炭酸水素ナトリウム等の塩基存在下、（２０）とアルケン（１３）を反応させて４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾール（２１）とし（Ｎ工程）、（２１）のピラゾール環上５位をｎ−ブチルリチウムまたはリチウムジイソプロピルアミド等によりリチオ化後、二酸化硫黄と反応させてピラゾールスルフィン酸リチウム（２２）とし（Ｏ工程）、（２２）をＮ−クロロコハク酸イミドと反応させる（Ｐ工程）、ピラゾールスルホニルクロリド（１２）の製造法を示す。（１２）は反応式４のＦ工程によりピラゾールスルホンアミド（２）に誘導できる。
【００５１】
以上の反応によって得られる目的物は、反応終了後、濾取、抽出、洗浄、カラムクロマトグラフィー、再結晶および蒸留等の操作により、単離および精製することができる。
【００５２】
以下に本発明化合物の合成例を実施例および参考例として具体的に述べるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【実施例】
【００５３】
〔実施例１〕
Ｎ−（（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）アミノカルボニル）−１，３−ジメチル−４−（５，５−ジメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾール−５−スルホンアミド（本発明化合物Ｎｏ．１）の合成
【００５４】
【化９】
2005112840.tif 000010
【００５５】
アセトニトリル（１ｍｌ）に１，３−ジメチル−４−（５，５−ジメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾール−５−スルホンアミド（０．０７０ｇ、０．２６ｍｍｏｌ）とＮ−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）カルバミン酸フェニル（０．０７１ｇ、０．２６ｍｍｏｌ）を溶解し、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（０．０７８ｇ、０．５１ｍｍｏｌ）を加えた。室温にて１時間撹拌後、水（５ｍｌ）を加え、さらに１２％塩酸を加えてｐＨ１に調整し、析出した固体を濾取した。得られた固体を水および石油エーテルで順次洗浄後、乾燥して目的物（０．０７０ｇ）を得た。融点１６０−１６２℃。
〔参考例１〕
１，３−ジメチル−４−（５，５−ジメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾール−５−スルホンアミドの合成
（１）５−ベンジルチオ−４−ホルミル−１，３−ジメチルピラゾールの合成
【００５６】
【化１０】
2005112840.tif 000011
【００５７】
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍｌ）に５−クロロ−４−ホルミル−１，３−ジメチルピラゾール（４．０ｇ、２５ｍｍｏｌ）とベンジルメルカプタン（３．１ｇ、２５ｍｍｏｌ）を溶解し、５℃にて５５％水素化ナトリウム（１．２ｇ、２８ｍｍｏｌ）を加えた。室温にて２時間撹拌後、反応混合物を水（５００ｍｌ）にあけ、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去して得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフイー（溶離液：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／２）で精製して、目的物（３．８ｇ）を得た。油状物質。
（２）５−ベンジルチオ−４−ヒドロキシイミノメチル−１，３−ジメチルピラゾールの合成
【００５８】
【化１１】
2005112840.tif 000012
【００５９】
メタノール（１００ｍｌ）に５−ベンジルチオ−４−ホルミル−１，３−ジメチルピラゾール（３．８ｇ、１５ｍｍｏｌ）を溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩（２．０ｇ、２９ｍｍｏｌ）と酢酸ナトリウム（２．３ｇ、２８ｍｍｏｌ）を加え室温で１８時間撹拌した。減圧下、溶媒溜去し、クロロホルム（１００ｍｌ）を加え、室温にて０．５時間撹拌し、不溶物を濾別した。溶媒溜去して得られた残渣をｎ−ヘキサンで洗浄、乾燥して目的物（４．０ｇ）を得た。無色固体。
（３）５−ベンジルチオ−１，３−ジメチル−４−（５，５−ジメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾールの合成
【００６０】
【化１２】
2005112840.tif 000013
【００６１】
１，２−ジメトキシエタン（３０ｍｌ）に５−ベンジルチオ−４−ヒドロキシイミノメチル−１，３−ジメチルピラゾール（２．１ｇ、８．０ｍｍｏｌ）を溶解し、室温で次亜塩素酸ｔ−ブチル（０．９４ｇ、８．７ｍｍｏｌ）を加え、０．５時間撹拌した。次に、イソブテン（１．３ｇ、２３ｍｍｏｌ）および炭酸水素ナトリウム（４．６ｇ、２３ｍｍｏｌ）を順次加え、室温で１８時間撹拌した。不溶物を濾別後、溶媒溜去し、得られた残渣をシカゲル薄層クロマトグラフィー（展開液：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／３）で精製して、目的物（０．６４ｇ）を得た。油状物質。
（４）１，３−ジメチル−４−（５，５−ジメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾール−５−スルホンアミドの合成
【００６２】
【化１３】
2005112840.tif 000014
【００６３】
クロロホルム（１０ｍｌ）に５−ベンジルチオ−１，３−ジメチル−４−（５，５−ジメチル−４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）ピラゾール（０．６４ｇ、２．０ｍｍｏｌ）を溶解し、水（１０ｍｌ）と３５％塩酸１．１ｇ（１１ｍｍｏｌ）を加え、激しく撹拌しながら８％次亜塩素酸ナトリウム水溶液（５．７ｇ、６．１ｍｍｏｌ）を５℃にて加えた。５℃にて、１時間撹拌後、クロロホルム層を分離し、水層をクロロホルムで抽出した。先に分離したクロロホルム層を合わせて、亜硫酸水素ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄した。得られたクロロホルム溶液を、２８％アンモニア水（０．６２ｇ、１０ｍｍｏｌ）を含むテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）溶液に、５℃にて滴下し、室温で１時間撹拌した。減圧下、溶媒溜去し、残渣に水（１５ｍｌ）と３５％塩酸を加えてｐＨ１に調整後、酢酸エチルにて抽出した。得られた酢酸エチル溶液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去して得られた残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフイー（展開液：酢酸エチル／ｎ−ヘキサン＝１／１）で精製して、目的物（０．０７ｇ）を得た。融点１１３−１１６℃。
〔参考例２〕
４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）−１，３−ジメチルピラゾール−５−スルホンアミドの合成
（１）５−クロロ−４−ヒドロキシイミノメチル−１，３−ジメチルピラゾールの合成
【００６４】
【化１４】
2005112840.tif 000015
【００６５】
エタノール（２００ｍｌ）に５−クロロ−４−ホルミル−１，３−ジメチルピラゾール（１０．０ｇ、６３．１ｍｍｏｌ）を溶解し、ヒドロキシルアミン塩酸塩（４．６ｇ、６５ｍｍｏｌ）と酢酸ナトリウム（５．４ｇ、６６ｍｍｏｌ）を各々、水（２０ｍｌ）に溶解して加え、室温で１時間撹拌した。減圧下、溶媒溜去し、水（１００ｍｌ）を加え、析出した固体を濾取した。得られた固体を水およびｎ−ヘキサンで洗浄後、乾燥して目的物（９．２ｇ）を得た。融点１５３−１５６℃。
（２）５−クロロ−１，３−ジメチルピラゾール−４−ヒドロキサム酸クロリドの合成
【００６６】
【化１５】
2005112840.tif 000016
【００６７】
クロロホルム（４０ｍｌ）に５−クロロ−４−ヒドロキシイミノメチル−１，３−ジメチルピラゾール（２．５ｇ、１４ｍｍｏｌ）を溶解し、室温で次亜塩素酸ｔ−ブチル（１．７ｇ、１６ｍｍｏｌ）を加え、１時間撹拌した。溶媒溜去して得られた残渣をｎ−ヘキサンで洗浄後、乾燥して目的物（２．５ｇ）を得た。融点１５７−１５８℃。
（３）５−クロロ−４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）−１，３−ジメチルピラゾールの合成
【００６８】
【化１６】
2005112840.tif 000017
【００６９】
５−クロロ−１，３−ジメチルピラゾール−４−ヒドロキサム酸クロリド（２．４ｇ、１２ｍｍｏｌ）の１，２−ジメトキシエタン（５０ｍｌ）溶液に、炭酸水素ナトリウム（６．９ｇ、８２ｍｍｏｌ）を加え、室温で激しく撹拌しながら、エチレン（２．１ｇ、７５ｍｍｏｌ）を５時間かけて導入した。不溶物を濾別後、溶媒溜去し、目的物（２．３ｇ）を得た。融点９７−１０３℃。
（４）４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）−５−メルカプト−１，３−ジメチルピラゾールの合成
【００７０】
【化１７】
2005112840.tif 000018
【００７１】
５−クロロ−４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）−１，３−ジメチルピラゾール（２．２ｇ、１１ｍｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（５０ｍｌ）溶液に、７０％水硫化ナトリウム（２．６ｇ、３３ｍｍｏｌ）を加え、８０℃にて６時間撹拌した。室温まで冷却後、水（１００ｍｌ）を加え、ジエチルエーテルで抽出した。次いで、水層に５％塩酸を加えてｐＨ５に調整後、酢酸エチルで抽出した。得られた酢酸エチル溶液を塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥、溶媒留去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離液：酢酸エチル）で精製して目的物（０．６６ｇ）を得た。油状物質。
（５）４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）−１，３−ジメチルピラゾール−５−スルホンアミドの合成
【００７２】
【化１８】
2005112840.tif 000019
【００７３】
４−（４，５−ジヒドロイソオキサゾール−３−イル）−５−メルカプト−１，３−ジメチルピラゾール（０．６６ｇ、３．３ｍｍｏｌ）のクロロホルム（１５ｍｌ）溶液に、水（１５ｍｌ）と３５％塩酸（１．７ｇ、１６ｍｍｏｌ）を加え、激しく撹拌しながら８％次亜塩素酸ナトリウム水溶液（９．３ｇ、１０ｍｍｏｌ）を５℃にて、０．２５時間かけて滴下した。５℃にて、０．５時間撹拌後、クロロホルム層を分離し、さらに水層をクロロホルムで抽出した。先に分離したクロロホルム層と合わせて、亜硫酸水素ナトリウム飽和水溶液および水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒留去した。得られた残渣をテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）に溶解し、５℃で撹拌しながら、２８％アンモニア水（１．０ｇ、１７ｍｍｏｌ）を滴下した。室温で０．５時間撹拌後、減圧下、溶媒溜去した。得られた残渣に水（３０ｍｌ）を加え、濾取、水洗、乾燥して目的物（０．４ｇ）を得た。融点１６８−１７１℃。
【００７４】
前記実施例および参考例と同様の方法を用いることにより合成された化合物の構造式と物性値を、前記実施例および参考例に記載された化合物とともに第１表、第２表および第３表に示す。但し、記号はそれぞれ以下の意味を示す。
ｓ：シングレット、ｄ：ダブレット、ｔ：トリプレット、ｑ：カルテット、ｍ：マルチプレット、ｂｒｓ：ブロードシングレット、Ｊ：カップリング定数。
【００７５】
【化１９】
2005112840.tif 000020
【００７６】
〔第１表〕
【００７７】
【化２０】
2005112840.tif 000021
【００７８】
―――――――――――――――――――――――――
Ｎｏ．          Ｑ              物性値（融点、℃）
―――――――――――――――――――――――――
１            Ｑ１            １６０−１６２
２            Ｑ２            樹脂状物質
３            Ｑ３            １４７−１５０
４            Ｑ４            １８６−１８９
５            Ｑ５            樹脂状物質
６            Ｑ６            １１３−１１５
７            Ｑ７            １５３−１５９
８            Ｑ８            １０３−１０５
９            Ｑ９            １４９−１５２
１０            Ｑ１０          １６６−１６８
１１            Ｑ１１          １３１−１３４
１２            Ｑ１２          １３５−１３７
１３            Ｑ１３          １５２−１５６
―――――――――――――――――――――――――
本発明化合物Ｎｏ．７はジアステレオマーの混合物である。
【００７９】
〔第２表〕
【００８０】
【化２１】
2005112840.tif 000022
【００８１】
――――――――――――――――――――――――――――――
製造中間体Ｎｏ．          Ｑ              物性値（融点、℃）
――――――――――――――――――――――――――――――
製造中間体１              Ｑ１            １１３−１１６
製造中間体２              Ｑ２            樹脂状物質
製造中間体３              Ｑ３            樹脂状物質
製造中間体４              Ｑ４            樹脂状物質
製造中間体５              Ｑ５            樹脂状物質
製造中間体６              Ｑ６            樹脂状物質
製造中間体７              Ｑ７            樹脂状物質
製造中間体８              Ｑ８            樹脂状物質
製造中間体９              Ｑ９            樹脂状物質
製造中間体１０            Ｑ１０          １３１−１３６
製造中間体１１            Ｑ１１          １６８−１７１
製造中間体１２            Ｑ１２          樹脂状物質
製造中間体１３            Ｑ１３          樹脂状物質
――――――――――――――――――――――――――――――
製造中間体Ｎｏ．７はジアステレオマーの混合物である。
【００８２】
〔第３表〕
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
製造中間体Ｎｏ．
プロトン核磁気共鳴ケミカルシフト値（ＣＤＣｌ３中）：δ（ｐｐｍ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
製造中間体１
１．４８（ｓ，６Ｈ），２．２９（ｓ，３Ｈ），
３．０７（ｓ，２Ｈ），４．１０（ｓ，３Ｈ），
６．１６（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体３
１．１６−２．１５（ｍ，８Ｈ），２．２４（ｓ，３Ｈ），
３．３６−３．４６（ｍ，１Ｈ），４．０５（ｓ，３Ｈ），
４．５０−４．６０（ｍ，１Ｈ），６．１０（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体４
１．５０−１．８０（ｍ，５Ｈ），
２．１０−２．２０（ｍ，１Ｈ），２．３０（ｓ，３Ｈ），
４．０７（ｓ，３Ｈ），４．０７−４．１８（ｍ，１Ｈ），                ５．１４−５．２１（ｍ，１Ｈ），６．１２（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体５
１．９１（ｓ，３Ｈ），２．３２（ｓ，３Ｈ），
２．９８（ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，１Ｈ），
３．６５（ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，１Ｈ），４．１０（ｓ，３Ｈ），
５．９２（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体６
１．０１（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），
１．６２−１．８５（ｍ，２Ｈ），２．３３（ｓ，３Ｈ），
２．９２−３．００（ｍ，１Ｈ），
３．３５−３．４４（ｍ，１Ｈ），４．１０（ｓ，３Ｈ），
４．６３−４．７３（ｍ，１Ｈ），６．１０（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体７（ジアステレオマーＡ）
１．００（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），
１．３５（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），２．２６（ｓ，３Ｈ），
３．５３−３．６２（ｍ，１Ｈ），４．０８（ｓ，３Ｈ），
４．７１−４．８０（ｍ，１Ｈ），６．１７（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体７（ジアステレオマーＢ）
１．１５（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），
１．４２（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），２．２５（ｓ，３Ｈ），
３．２３−３．３２（ｍ，１Ｈ），４．０７（ｓ，３Ｈ），
４．３７−４．４５（ｍ，１Ｈ），６．１０（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体８
２．３２（ｓ，３Ｈ），３．２６−３．３６（ｍ，１Ｈ），
３．４５−３．５５（ｍ，１Ｈ），
３．６０−３．７４（ｍ，２Ｈ），４．０８（ｓ，３Ｈ），
４．９４−５．０３（ｍ，１Ｈ），６．１０（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体９
１．５８（ｓ，３Ｈ），２．２６（ｓ，３Ｈ），
３．１０（ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，１Ｈ），
３．４５（ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，１Ｈ），
３．５５−３．６８（ｍ，２Ｈ），４．０４（ｓ，３Ｈ），
６．３４（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体１０
１．６０−１．７０（ｍ，１Ｈ），
１．８２−１．９４（ｍ，１Ｈ），
２．２０−２．３０（ｍ，２Ｈ），
２．３５（ｓ，３Ｈ），２．５０−２．６０（ｍ，２Ｈ），
３．４０（ｓ，２Ｈ），４．１０（ｓ，３Ｈ），
６．１６（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体１１
２．３４（ｓ，３Ｈ），３．３５（ｔ，Ｊ＝１０．１Ｈｚ，２Ｈ），
４．１３（ｓ，３Ｈ），４．４９（ｔ，Ｊ＝１０．１Ｈｚ，２Ｈ），
６．１４（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体１２
１．４２（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，３Ｈ），２．３０（ｓ，３Ｈ），
２．８８−２．９６（ｍ，１Ｈ），３．３９−３．４８（ｍ，１Ｈ）        ４．０８（ｓ，３Ｈ），４．８３−４．９２（ｍ，１Ｈ）,
６．２０（ｂｒｓ，２Ｈ）
製造中間体１３
１．６２（ｓ，３Ｈ），２．３２（ｓ，３Ｈ），
３．０６（ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，１Ｈ），
３．５１（ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，１Ｈ），
３．５７−３．７０（ｍ，２Ｈ），４．１０（ｓ，３Ｈ），
６．０１（ｂｒｓ，２Ｈ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――――
次に、本発明に含まれる化合物の例を、前記実施例で合成した化合物を含め第４表および第５表に示すが、本発明化合物はこれらに限定されるものではない。但し、表中の記号は前記と同様の意味を表す。
【００８３】
〔第４表〕
【００８４】
【化２２】
2005112840.tif 000023
【００８５】
【化２３】
2005112840.tif 000024
【００８６】
【化２４】
2005112840.tif 000025
【００８７】
【化２５】
2005112840.tif 000026
【００８８】
【化２６】
2005112840.tif 000027
【００８９】
【化２７】
2005112840.tif 000028
【００９０】
【化２８】
2005112840.tif 000029
【００９１】
【化２９】
2005112840.tif 000030
【００９２】
【化３０】
2005112840.tif 000031
【００９３】
【化３１】
2005112840.tif 000032
【００９４】
【化３２】
2005112840.tif 000033
【００９５】
【化３３】
2005112840.tif 000034
【００９６】
【化３４】
2005112840.tif 000035
【００９７】
【化３５】
2005112840.tif 000036
【００９８】
―――――――――――――――――――――――――
Ｒ1                         Ｒ2 
―――――――――――――――――――――――――
Ｍｅ                        Ｈ            
Ｍｅ                        Ｍｅ          
Ｍｅ                        Ｅｔ          
Ｍｅ                        Ｐｒ−ｎ      
Ｍｅ                        Ｐｒ−ｉｓｏ  
Ｍｅ                        ＣＨ2Ｆ      
Ｍｅ                        ＣＨＦ2 
Ｍｅ                        ＣＦ3 
Ｍｅ                        ＣＨ2ＣＨ2Ｆ  
Ｍｅ                        ＣＨ2ＣＨＦ2 
Ｍｅ                        ＣＨ2ＣＦ3 
Ｍｅ                        ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｆ  
Ｍｅ                        ＣＨ2ＣＨ2ＣＨＦ2 
Ｍｅ                        ＣＨ2ＣＨ2ＣＦ3 
Ｍｅ                        ＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ    
Ｍｅ                        ＯＭｅ        
Ｍｅ                        ＯＥｔ        
Ｍｅ                        ＯＰｒ−ｎ    
Ｍｅ                        ＯＰｒ−ｉｓｏ    
Ｍｅ                        Ｆ            
Ｍｅ                        Ｃｌ          
Ｍｅ                        Ｂｒ          
Ｍｅ                        Ｉ            
Ｅｔ                        Ｈ            
Ｅｔ                        Ｍｅ          
Ｅｔ                        Ｅｔ          
Ｅｔ                        ＣＨ2Ｆ      
Ｅｔ                        ＣＨＦ2 
Ｅｔ                        ＣＦ3 
Ｅｔ                        ＯＭｅ        
Ｅｔ                        Ｆ            
Ｅｔ                        Ｃｌ          
Ｅｔ                        Ｂｒ          
Ｅｔ                        Ｉ            
Ｐｒ−ｎ                    Ｈ            
Ｐｒ−ｎ                    Ｍｅ          
Ｐｒ−ｉｓｏ                Ｈ            
Ｐｒ−ｉｓｏ                Ｍｅ          
ＣＨ2Ｆ                     Ｈ            
ＣＨ2Ｆ                     Ｍｅ          
ＣＨ2Ｆ                     ＣＨ2Ｆ      
ＣＨ2Ｆ                     ＣＨＦ2 
ＣＨ2Ｆ                     ＣＦ3 
ＣＨ2Ｆ                     ＯＭｅ        
ＣＨ2Ｆ                     Ｆ            
ＣＨ2Ｆ                     Ｃｌ          
ＣＨ2Ｆ                     Ｂｒ          
ＣＨＦ2                     Ｈ            
ＣＨＦ2                     Ｍｅ          
ＣＨＦ2                     ＣＨ2Ｆ      
ＣＨＦ2                     ＯＭｅ        
ＣＨＦ2                     Ｆ            
ＣＨＦ2                     Ｃｌ          
ＣＨＦ2                     Ｂｒ          
ＣＦ3                       Ｈ            
ＣＦ3                       Ｍｅ          
ＣＦ3                       ＣＨ2Ｆ      
ＣＦ3                       ＯＭｅ        
ＣＦ3                       Ｆ            
ＣＦ3                       Ｃｌ          
ＣＦ3                       Ｂｒ          
ＣＨ2ＣＨ2Ｆ                Ｈ        
ＣＨ2ＣＨ2Ｆ                Ｍｅ      
ＣＨ2ＣＨＦ2                Ｈ        
ＣＨ2ＣＨＦ2                Ｍｅ      
ＣＨ2ＣＦ3                  Ｈ        
ＣＨ2ＣＦ3                  Ｍｅ      
ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｆ           Ｈ      
ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｆ           Ｍｅ    
ＣＨ2ＣＨ2ＣＨＦ2           Ｈ      
ＣＨ2ＣＨ2ＣＨＦ2           Ｍｅ    
ＣＨ2ＣＨ2ＣＦ3             Ｈ      
ＣＨ2ＣＨ2ＣＦ3             Ｍｅ    
ＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ              Ｈ      
ＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ              Ｍｅ    
ＣＨ2ＣＨ2Ｂｒ              Ｈ        
ＣＨ2ＣＨ2Ｂｒ              Ｍｅ      
ＣＨ2ＯＭｅ                 Ｈ        
ＣＨ2ＯＭｅ                 Ｍｅ      
ＣＨ2ＯＭｅ                 Ｅｔ      
ＣＨ2ＯＭｅ                 ＣＨ2Ｆ    
ＣＨ2ＯＭｅ                 ＣＨＦ2 
ＣＨ2ＯＭｅ                 ＣＦ3 
ＣＨ2ＯＭｅ                 ＯＭｅ    
ＣＨ2ＯＭｅ                 Ｆ        
ＣＨ2ＯＭｅ                 Ｃｌ      
ＣＨ2ＯＭｅ                 Ｂｒ      
ＣＨ2ＯＭｅ                 Ｉ        
ＣＨ2ＯＥｔ                 Ｈ          
ＣＨ2ＯＥｔ                 Ｍｅ        
ＣＨ2ＯＰｒ−ｎ             Ｈ        
ＣＨ2ＯＰｒ−ｎ             Ｍｅ      
ＣＨ2ＯＰｒ−ｉｓｏ         Ｈ      
ＣＨ2ＯＰｒ−ｉｓｏ         Ｍｅ    
ＣＨ2ＣＨ2ＯＭｅ            Ｈ      
ＣＨ2ＣＨ2ＯＭｅ            Ｍｅ    
ＣＨ2ＣＨ2ＯＥｔ            Ｈ      
ＣＨ2ＣＨ2ＯＰｒ−ｎ        Ｍｅ  
ＣＨ2ＣＨ2ＯＰｒ−ｉｓｏ    Ｈ      
ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＭｅ       Ｍｅ    
ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＥｔ       Ｈ      
ＣＨＭｅＣＨ2ＯＭｅ         Ｍｅ  
ＣＨ2ＣＨＭｅＯＭｅ         Ｈ      
Ｐｈ                        Ｈ            
Ｐｈ                        Ｍｅ          
Ｐｈ                        Ｅｔ          
Ｐｈ                        ＣＨ2Ｆ      
Ｐｈ                        ＣＨＦ2 
Ｐｈ                        ＣＦ3 
Ｐｈ                        ＯＭｅ        
Ｐｈ                        Ｆ            
Ｐｈ                        Ｃｌ          
Ｐｈ                        Ｂｒ          
Ｐｈ                        Ｉ            
２−Ｐｙ                    Ｈ            
２−Ｐｙ                    Ｍｅ          
２−Ｐｙ                    Ｅｔ          
２−Ｐｙ                    ＣＨ2Ｆ      
２−Ｐｙ                    ＣＨＦ2 
２−Ｐｙ                    ＣＦ3 
２−Ｐｙ                    ＯＭｅ        
２−Ｐｙ                    Ｆ            
２−Ｐｙ                    Ｃｌ          
２−Ｐｙ                    Ｂｒ          
２−Ｐｙ                    Ｉ            
―――――――――――――――――――――――――
〔第５表〕
【００９９】
【化３６】
2005112840.tif 000037
【０１００】
【化３７】
2005112840.tif 000038
【０１０１】
【化３８】
2005112840.tif 000039
【０１０２】
【化３９】
2005112840.tif 000040
【０１０３】
――――――――――――――――――――
Ｘ            Ｙ                    Ｚ
――――――――――――――――――――
Ｍｅ          ＭｅＯ                ＣＨ
Ｍｅ          Ｍｅ                  ＣＨ
ＭｅＯ        ＭｅＯ                Ｎ
Ｍｅ          ＭｅＯ                Ｎ
Ｍｅ          Ｍｅ                  Ｎ
ＣＨＦ2Ｏ     ＣＨＦ2Ｏ             ＣＨ
Ｍｅ          ＣＨＦ2Ｏ             ＣＨ
ＣＨＦ2Ｏ     ＣＨＦ2Ｏ             Ｎ
Ｍｅ          ＣＨＦ2Ｏ             Ｎ
Ｍｅ          Ｅｔ                  ＣＨ
ＭｅＯ        Ｅｔ                  ＣＨ
Ｍｅ          Ｐｒ−ｎ              ＣＨ
Ｍｅ          Ｐｒ−ｉｓｏ          ＣＨ
Ｍｅ          ＣＨ2Ｆ               ＣＨ
ＭｅＯ        ＣＨ2Ｆ               ＣＨ
Ｍｅ          ＣＨＦ2               ＣＨ
ＭｅＯ        ＣＨＦ2               ＣＨ
Ｍｅ          ＣＦ3                 ＣＨ
ＭｅＯ        ＣＦ3                 ＣＨ
Ｍｅ          ＣＦ3                 Ｎ
ＭｅＯ        ＣＦ3                 Ｎ
Ｍｅ          ＣＨ2Ｃｌ             ＣＨ
Ｍｅ          ＣＨＣｌ2             ＣＨ
Ｍｅ          ＣＣｌ3               ＣＨ
Ｍｅ          ＣＨ2ＣＨ2Ｆ          ＣＨ
Ｍｅ          ＣＨ2ＣＨＦ2          ＣＨ
Ｍｅ          ＣＨ2ＣＦ3            ＣＨ
Ｍｅ          ＣＦ2ＣＦ3            ＣＨ
Ｍｅ          ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｆ     ＣＨ
Ｍｅ          ＣＨ2ＣＨ2ＣＨＦ2     ＣＨ
Ｍｅ          ＣＨ2ＣＨ2ＣＦ3       ＣＨ
Ｍｅ          ＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ        ＣＨ
Ｍｅ          ＣＨ2ＣＨ2Ｂｒ        ＣＨ
Ｍｅ          ＯＣＨ2Ｆ             ＣＨ
Ｍｅ          ＯＣＦ3               ＣＨ
Ｍｅ          ＯＣＨ2ＣＨ2Ｆ        ＣＨ
Ｍｅ          ＯＣＨ2ＣＨＦ2        ＣＨ
Ｍｅ          ＯＣＨ2ＣＦ3          ＣＨ
Ｍｅ          ＯＣＦ2ＣＦ3          ＣＨ
Ｍｅ          ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｆ   ＣＨ
Ｍｅ          ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨＦ2   ＣＨ
Ｍｅ          ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＦ3     ＣＨ
Ｍｅ          ＯＣＨ2ＣＨ2Ｃｌ      ＣＨ
Ｍｅ          ＯＣＨ2ＣＨ2Ｂｒ      ＣＨ
Ｍｅ          Ｆ                    ＣＨ
ＭｅＯ        Ｆ                    ＣＨ
Ｍｅ          Ｃｌ                  ＣＨ
ＭｅＯ        Ｃｌ                  ＣＨ
ＭｅＯ        Ｂｒ                  ＣＨ
ＭｅＯ        Ｉ                    ＣＨ
Ｍｅ          Ｍｅ2Ｎ               ＣＨ
ＭｅＯ        Ｍｅ2Ｎ               ＣＨ
Ｍｅ          Ｅｔ2Ｎ               ＣＨ
ＭｅＯ        Ｅｔ2Ｎ               ＣＨ
Ｍｅ          Ｍｅ2Ｎ               Ｎ
ＭｅＯ        Ｍｅ2Ｎ               Ｎ
Ｍｅ          Ｅｔ2Ｎ               Ｎ
ＭｅＯ        Ｅｔ2Ｎ               Ｎ
Ｍｅ          （Ｐｒ−ｎ）2Ｎ       ＣＨ
ＭｅＯ        （Ｐｒ−ｎ）2Ｎ       ＣＨ
ＭｅＯ        ＥｔＯ                ＣＨ
ＥｔＯ        ＥｔＯ                ＣＨ
ＭｅＯ        ＥｔＯ                Ｎ
ＥｔＯ        ＥｔＯ                Ｎ
――――――――――――――――――――
本発明化合物の除草剤としての施用薬量は適用場面、施用時期、施用方法、対象雑草および栽培作物等により差異はあるが、一般には有効成分量としてヘクタール（ｈａ）当たり０．００１ないし５０ｋｇ程度、好ましくは０．０１ないし１０ｋｇ程度が適当である。
【０１０４】
本発明化合物は水田用の除草剤として、湛水下の土壌処理および茎葉処理のいずれの処理方法においても使用できる。水田雑草としては、例えば、ヒルムシロ（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎ  ｄｉｓｔｉｎｃｔｕｓ）等に代表されるヒルムシロ科（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎａｃｅａｅ）雑草、ヘラオモダカ（Ａｌｉｓｍａ  ｃａｎａｌｉｃｕｌａｔｕｍ）、ウリカワ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ  ｐｙｇｍａｅａ）およびオモダカ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ  ｔｒｉｆｏｌｉａ）等に代表されるオモダカ科（Ａｌｉｓｍａｔａｃｅａｅ）雑草、アゼガヤ（Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａ  ｃｈｉｎｅｎｓｉｓ）、イヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）およびタイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｏｒｙｚｉｃｏｌａ）等に代表されるイネ科（Ｇｒａｍｉｎｅａｅ）雑草、クログワイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ  ｋｕｒｏｇｕｗａｉ）、ホタルイ（Ｓｃｉｒｐｕｓ  ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）、シズイ（Ｓｃｉｒｐｕｓ  ｎｉｐｐｏｎｉｃｕｓ）、ミズガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｓｅｒｏｔｉｎｕｓ）およびタマガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）等に代表されるカヤツリグサ科（Ｃｙｐｅｒａｃｅａｅ）雑草、ウキクサ（Ｓｐｉｒｏｄｅｌａ  ｐｏｌｙｒｈｉｚａ）およびアオウキクサ（Ｌｅｍｎａ  ｐａｕｃｉｃｏｓｔａｔａ）等に代表されるウキクサ科（Ｌｅｍｎａｃｅａｅ）雑草、イボクサ（Ｍｕｒｄａｎｎｉａ  ｋｅｉｓａｋ）等に代表されるツユクサ科（Ｃｏｍｍｅｌｉｎａｃｅａｅ）雑草、ミズアオイ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ  ｋｏｒｓａｋｏｗｉｉ）およびコナギ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ  ｖａｇｉｎａｌｉｓ）等に代表されるミズアオイ科（Ｐｏｎｔｅｄｅｒｉａｃｅａｅ）雑草、ミゾハコベ（Ｅｌａｔｉｎｅ  ｔｒｉａｎｄｒａ）等に代表されるミゾハコベ科（Ｅｌａｔｉｎａｃｅａｅ）雑草、ヒメミソハギ（Ａｍｍａｎｎｉａ  ｍｕｌｔｉｆｌｏｒａ）およびキカシグサ（Ｒｏｔａｌａ  ｉｎｄｉｃａ）等に代表されるミソハギ科（Ｌｙｔｈｒａｃｅａｅ）雑草、チョウジタデ（Ｌｉｄｗｉｇｉａ  ｅｐｉｌｏｂｉｏｉｄｅｓ）等に代表されるアカバナ科（Ｏｅｎｏｔｈｅｒａｃｅａｅ）雑草、アブノメ（Ｄｏｐａｔｒｉｕｍ  ｊｕｎｃｅｕｍ）、アゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ  ｐｙｘｉｄａｒｉａ）およびアメリカアゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ  ｄｕｂｉａ）等に代表されるゴマノハグサ科（Ｓｃｒｏｐｈｕｌａｒｉａｃｅａｅ）雑草、並びにアメリカセンダングサ（Ｂｉｄｅｎｓ  ｆｒｏｎｄｏｓａ）およびタウコギ（Ｂｉｄｅｎｓ  ｔｒｉｐａｒｔｉｔａ）等に代表されるキク科（Ｃｏｍｐｏｓｉｔａｅ）雑草等があげられる。
【０１０５】
また、従来のスルホニルウレア系除草剤に抵抗性のホタルイ、アゼナおよびキカシグサ等を本発明化合物によって防除することができる。
【０１０６】
また、本発明化合物は、畑地用の除草剤として、土壌処理、土壌混和処理および茎葉処理のいずれの処理方法においても使用でき、水田、畑地および果樹園などの農園芸分野以外に運動場、空地および線路端など非農耕地における各種雑草の防除にも適用することができる。
【０１０７】
本発明化合物は必要に応じて製剤または散布時に他種の除草剤、各種殺虫剤、殺菌剤、植物生長調節剤または共力剤などと混合施用しても良い。
【０１０８】
特に、他の除草剤と混合施用することにより、施用薬量の減少による低コスト化、混合薬剤の相乗作用による殺草スペクトラムの拡大や、より高い殺草効果が期待できる。この際、同時に複数の公知除草剤との組み合わせも可能である。
【０１０９】
本発明化合物と混合使用されるのに好ましい除草剤としては、例えば、ピラゾスルフロンエチル（ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ／一般名）、ベンスルフロンメチル（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ／一般名）、シノスルフロン（ｃｉｎｏｓｕｌｆｕｒｏｎ／一般名）、イマゾスルフロン（ｉｍａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ／一般名）、アジムスルフロン（ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ／一般名）、ハロスルフロンメチル（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ／一般名）、プレチラクロール（ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏｒ／一般名）、エスプロカルブ（ｅｓｐｒｏｃａｒｂ／一般名）、ピラゾレート（ｐｙｒａｚｏｌａｔｅ／一般名）、ピラゾキシフェン（ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅｎ／一般名）、ベンゾフェナップ（ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ／一般名）、ダイムロン（ｄａｉｍｕｒｏｎ／一般名）、ブロモブチド（ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ／一般名）、ナプロアニリド（ｎａｐｒｏａｎｉｌｉｄｅ／一般名）、クロメプロップ（ｃｌｏｍｅｐｒｏｐ／一般名）、ＣＮＰ（一般名）、クロメトキシニル（ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｎｉｌ／一般名）、ビフェノックス（ｂｉｆｅｎｏｘ／一般名）、オキサジアゾン（ｏｘａｄｉａｚｏｎ／一般名）、オキサジアルギル（ｏｘａｄｉａｒｇｙｌ／一般名）、カフェンストロール（ｃａｆｅｎｓｔｒｏｌｅ／一般名）、オキサジクロメホン（ｏｘａｚｉｃｌｏｍｅｆｏｎｅ／一般名）、インダノファン（ｉｎｄａｎｏｆａｎ／一般名）、ペントキサゾン（ｐｅｎｔｏｘａｚｏｎｅ／一般名）、ピリミノバックメチル（ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔｈｙｌ／一般名）、シハロホップブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ／一般名）、フェントラザミド（ｆｅｎｔｒａｚａｍｉｄｅ／一般名）、メフェナセット（ｍｅｆｅｎａｃｅｔ／一般名）、ブタクロール（ｂｕｔａｃｈｌｏｒ／一般名）、ブテナクロール（ｂｕｔｅｎａｃｈｌｏｒ／一般名）、ジチオピル（ｄｉｔｈｉｏｐｙｌ／一般名）、ベンフレセート（ｂｅｎｆｕｒｅｓａｔｅ／一般名）、ピリブチカルブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ／一般名）、ベンチオカーブ（ｂｅｎｔｈｉｏｃａｒｂ／一般名）、ジメピペレート（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ／一般名）、モリネート（ｍｏｌｉｎａｔｅ／一般名）、ブタミフォス（ｂｕｔａｍｉｆｏｓ／一般名）、キンクロラック（ｑｕｉｎｃｌｏｒａｃ／一般名）、シンメスリン（ｃｉｎｍｅｔｈｙｌｉｎ／一般名）、シメトリン（ｓｉｍｅｔｒｙｎ／一般名）、ベンスリド（ｂｅｎｓｕｌｉｄｅ／一般名）、ジメタメトリン（ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ／一般名）、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ、エトベンズアニド（ｅｔｏｂｅｎｚａｎｉｄ）、クミルロン（ｃｕｍｙｌｕｒｏｎ／一般名）、テニルクロール（ｔｈｅｎｙｌｃｈｌｏｒ／一般名）、エトキシスルフロン（ｅｔｈｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ／一般名）、キノクラミン（ｑｕｉｎｏｃｌａｍｉｎｅ／一般名）、ベンゾビシクロン（ｂｅｎｚｏｂｉｃｙｃｌｏｎ／一般名）、ピリフタリド（ｐｙｒｉｆｔａｌｉｄ／一般名），ビスピリバック（ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ）、ＨＳＡ−９６１（試験名）、アニロホス（ａｎｉｌｏｆｏｓ／一般名）、ＯＫ−７０１（試験名）、シクロスルファムロン（ｃｙｃｌｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ／一般名）、ＤＡＳＨ−００１（試験名）、ＡＶＨ−３０１（試験名）ＫＵＨ−０２１（試験名）およびＴＨ−５４７（試験名）等があげられる。
【０１１０】
本発明化合物を除草剤として施用するにあたっては、一般には適当な固体担体または液体担体と混合して、更に所望により界面活性剤、浸透剤、展着剤、増粘剤、凍結防止剤、結合剤、固結防止剤または分解防止剤等を添加し、液剤、乳剤、水和剤、ドライフロアブル剤、フロアブル剤、粉剤または粒剤等任意の剤型にて実用に供することができる。
【０１１１】
また、省力化および安全性向上の観点から、上記任意の剤型の製剤を水溶性包装体に封入して供することもできる。
【０１１２】
固体担体としては、例えばカオリナイト、パイロフィライト、セリサイト、タルク、ベントナイト、酸性白土、アタパルジャイト、ゼオライトおよび珪藻土等の天然鉱物質類、炭酸カルシウム、硫酸アンモニウム、硫酸ナトリウムおよび塩化カリウム等の無機塩類、合成珪酸、並びに合成珪酸塩等が挙げられる。
【０１１３】
液体担体としては、例えば水、アルコール類（エチレングリコール、プロピレングリコール、イソプロパノール等）、芳香族炭化水素類（キシレン、アルキルベンゼン、アルキルナフタレン等）、エーテル類（ブチルセロソルブ等）、ケトン類（シクロヘキサノン等）、エステル類（γ−ブチロラクトン等）、酸アミド類（Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−オクチルピロリドン等）および植物油（大豆油、ナタネ油、綿実油、ヒマシ油等）等が挙げられる。
【０１１４】
これら固体および液体担体は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【０１１５】
界面活性剤としては、例えばポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステルおよびポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル等の非イオン性界面活性剤、並びにアルキルベンゼンスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ナフタレンスルホン酸塩、アルキルナフタレンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、アルキルナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物の塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸または燐酸塩、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸または燐酸塩およびアルキルアミン塩等のイオン性界面活性剤が挙げられる。
【０１１６】
これら界面活性剤の含有量は、特に限定されるものではないが、本発明の製剤１００重量部に対し、通常０．０５ないし２０重量部の範囲が望ましい。また、これら界面活性剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【０１１７】
次に本発明化合物を用いる場合の製剤の配合例を示す。但し本発明の配合例は、これらのみに限定されるものではない。なお、以下の配合例において「部」は重量部を意味する。
水和剤
本発明化合物                ０．１ないし８０部
固体担体                    ５ないし９８．９部
界面活性剤                      １ないし１０部
その他                          ０ないし  ５部
その他として、例えば固結防止剤、分解防止剤等があげれらる。
乳  剤
本発明化合物                ０．１ないし３０部
液体担体                      ５５ないし９５部
界面活性剤                  ４．９ないし１５部
フロアブル剤
本発明化合物                ０．１ないし７０部
液体担体                １５ないし９８．８９部
界面活性剤                      １ないし１２部
その他                    ０．０１ないし３０部
その他として、例えば凍結防止剤、増粘剤等が挙げられる。
ドライフロアブル剤
本発明化合物                ０．１ないし９０部
固体担体                    ０ないし９８．９部
界面活性剤                      １ないし２０部
その他                          ０ないし１０部
その他として、例えば結合剤、分解防止剤等が挙げられる。
液  剤
本発明化合物              ０．０１ないし３０部
液体担体                    ０．１ないし５０部
水                      ５０ないし９９．８９部
その他                          ０ないし１０部
その他として、例えば凍結防止剤等、展着剤等が挙げられる。
粒  剤
本発明化合物              ０．０１ないし１０部
固体担体                ９０ないし９９．９９部
その他                          ０ないし１０部
その他として、例えば結合剤、分解防止剤等が挙げられる。
【０１１８】
使用に際しては上記製剤をそのままで、または、水で１ないし１００００倍に希釈して散布する。
【０１１９】
製剤例
次に具体的に本発明化合物を有効成分とする農薬製剤例を示すがこれらのみに限定されるものではない。なお、以下の配合例において「部」は重量部を意味する。
【０１２０】
〔配合例１〕水和剤
本発明化合物  Ｎｏ．１                  ２０部
パイロフィライト                        ７６部
ソルポール５０３９                        ２部
（非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物：東邦化学工業（株）商品名）
カープレックス＃８０                      ２部
（合成含水珪酸：塩野義製薬（株）商品名）
以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
【０１２１】
〔配合例２〕乳  剤
本発明化合物  Ｎｏ．１                    ５部
キシレン                                ７５部
Ｎ−メチルピロリドン                    １５部
ソルポール２６８０                        ５部
（非イオン性界面活性剤とアニオン性界面活性剤との混合物：東邦化学工業（株）商品名）
以上を均一に混合して乳剤とする。
【０１２２】
〔配合例３〕フロアブル剤
本発明化合物  Ｎｏ．１                  ２５部
アグリゾールＳ−７１０                  １０部
（非イオン性界面活性剤：花王（株）商品名）
ルノックス１０００Ｃ                  ０．５部
（アニオン性界面活性剤：東邦化学工業（株）商品名）
キサンタンガム                      ０．０２部
水                                ６４．４８部
以上を均一に混合した後、湿式粉砕してフロアブル剤とする。
【０１２３】
〔配合例４〕ドライフロアブル剤
本発明化合物  Ｎｏ．１                  ７５部
ハイテノールＮＥ−１５                    ５部
（アニオン性界面活性剤：第一工業製薬（株）商品名）
バニレックスＮ                          １０部
（アニオン性界面活性剤：日本製紙（株）商品名）
カープレックス＃８０                    １０部
（合成含水珪酸：塩野義製薬（株）商品名）
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて撹拌混合捏和し、押出式造粒機で造粒し、乾燥してドライフロアブル剤とする。
【０１２４】
〔配合例５〕粒  剤
本発明化合物  Ｎｏ．１                    １部
ベントナイト                            ５５部
タルク                                  ４４部
以上を均一に混合粉砕した後、少量の水を加えて撹拌混合捏和し、押出式造粒機で造粒し、乾燥して粒剤とする。
【０１２５】
次に、本発明化合物の除草剤としての有用性を以下の試験例において具体的に説明する。
【０１２６】
〔試験例１〕湛水条件における雑草発生前処理による除草効果試験
１／３００００アールのスチロールカップに沖積土壌を入れた後、水を入れて混和し、水深４cmの湛水条件とした。ノビエ、ホタルイおよびコナギの種子を上記カップに混播した後、２．５葉期のイネ苗を移植した。播種当日、配合例２に準じて調整した本発明化合物の乳剤を所定の薬量になるように水で希釈し、水面に処理した。カップを２５ないし３０℃の温室内に置いて植物を育成し、薬剤処理３週間後に、各種植物に対する除草効果を下記の判定基準に従い調査した。結果を第６表に示す。
【０１２７】
判定基準
５  …  殺草率  ９０％以上  （ほとんど完全枯死）
４  …  殺草率  ７０％以上９０％未満
３  …  殺草率  ４０％以上７０％未満
２  …  殺草率  ２０％以上４０％未満
１  …  殺草率    ５％以上２０％未満
０  …  殺草率    ５％以下  （ほとんど効力なし）
〔試験例２〕湛水条件における雑草生育期処理による除草効果試験
１／３００００アールのスチロールカップに沖積土壌を入れた後、水を入れて混和し、水深４cmの湛水条件とした。ノビエ、ホタルイおよびコナギの種子を上記カップに混播し、２５ないし３０℃の温室内に置いて植物を育成した。ノビエ、ホタルイおよびコナギが１ないし２葉期に達したとき、配合例２に準じて調整した本発明化合物の乳剤を所定の薬量になるように水で希釈し、水面に処理した。薬剤処理３週間後に、各種植物に対する除草効果を試験例１の判定基準に従って調査した。結果を第７表に示す。
【０１２８】
〔試験例３〕土壌処理による除草効果試験
縦２１cm、横１３cm、深さ７cmのプラスチック製箱に殺菌した洪積土壌を入れ、ノビエ、メヒシバ、エノコログサ、カラスムギ、ブラックグラス、イチビ、ブタクサ、アオゲイトウ、シロザ、イヌタデ、ハコベ、トウモロコシ、ダイズ、イネ、コムギおよびビートの種子をそれぞれスポット状に播種し、約１．５cm覆土した後、配合例２に準じて調整した本発明化合物の乳剤を所定の薬量になるように水で希釈し、土壌表面へ小型スプレーで均一に処理した。薬剤処理３週間後に、各種植物に対する除草効果を試験例１の判定基準に従って調査した。結果を第８表に示す。
【０１２９】
〔試験例４〕茎葉処理による除草効果試験
縦２１cm、横１３cm、深さ７cmのプラスチック製箱に殺菌した洪積土壌を入れ、ノビエ、メヒシバ、エノコログサ、カラスムギ、ブラックグラス、イチビ、ブタクサ、アオゲイトウ、シロザ、イヌタデ、ハコベ、トウモロコシ、ダイズ、イネ、コムギおよびビートの種子をそれぞれスポット状に播種し、約１．５cm覆土した後、２５ないし３０℃の温室内において植物を育成した。１４日間育成したのち，配合例２に準じて調整した本発明化合物の乳剤を所定の薬量になるように水で希釈し、茎葉部へ小型スプレーで均一に処理した。薬剤処理３週間後に、各種植物に対する除草効果を試験例１の判定基準に従って調査した。結果を第９表に示す。
【０１３０】
〔試験例５〕湛水条件における雑草発生前処理によるスルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草に対する除草効果試験（１）
１／１００００アールのプラスチック製ポットに沖積土壌を入れた後、水を入れて混和し水深４ｃｍの湛水条件とした。スルホニルウレア系除草剤に抵抗性のホタルイ、コナギおよびアゼナを上記のポットに混播した。また別のポットにスルホニルウレア系除草剤に感受性のホタルイ、コナギおよびアゼナを混播した。播種当日に水面へ有効成分が所定の薬量になるように、配合例１に準じて調製した本発明化合物の水和剤を水で希釈し、水面に処理した。薬剤処理３週間後に、各種植物に対する除草効果を試験例１の判定基準に従って調査した。結果を第１０表に示す。
【０１３１】
〔試験例６〕湛水条件における雑草生育期処理によるスルホニルウレア系除草剤抵抗性雑草に対する除草効果試験
１／１００００アールのプラスチック製ポットに沖積土壌を入れた後、水を入れて混和し水深４cmの湛水条件とした。スルホニルウレア系除草剤に抵抗性のホタルイ，コナギおよびアゼナを上記のポットに混播し、別のポットにスルホニルウレア系除草剤に感受性のホタルイ，コナギおよびアゼナを混播した。２５ないし３０℃の温室内に置いて植物を育成し、ホタルイが１．５葉期、コナギが１葉期，アゼナが子葉期に達したときに、水面へ有効成分が所定の薬量になるように、配合例１に準じて調製した本発明化合物の水和剤を水で希釈し、水面に処理した。薬剤処理４週間後に、各種雑草に対する除草効果を試験例１の判定基準に従って調査した。結果を第１１表に示す。
【０１３２】
なお、第３ないし５表中の記号は以下の意味を表す。
Ａ：ノビエ、Ｂ：ホタルイ、Ｃ：コナギ、D：メヒシバ、E：エノコログサ、F：カラスムギ、G：ブラックグラス、H：イチビ、I：ブタクサ、J：アオゲイトウ、K：シロザ、L：イヌタデ、M：ハコベ、ａ：移植イネ、ｂ：トウモロコシ、ｃ：ダイズ、ｄ：直播イネ、ｅ：コムギ、ｆ：ビート
また、第６ないし１１表中の記号は以下の意味を表す。
Ａ-Ｒ：従来のスルホニルウレア系除草剤に抵抗性のホタルイ、：Ａ-Ｓ：スルホニルウレア系除草剤に感受性のホタルイ、Ｂ-Ｒ：従来のスルホニルウレア系除草剤に抵抗性のコナギ、Ｂ-Ｓ：スルホニルウレア系除草剤に感受性のコナギ、Ｃ-Ｒ：従来のスルホニルウレア系除草剤に抵抗性のアゼナ、Ｃ-Ｓ：スルホニルウレア系除草剤に感受性のアゼナ
また、比較化合物１は次式の化合物を表す。
【０１３３】
【化４０】
2005112840.tif 000041
【０１３４】
比較化合物１は特開昭５９−１２２４８８号公報に記載されている化合物である。
【０１３５】
〔第６表〕
―――――――――――――――――――――――――
化合物      処理薬量    Ａ    Ｂ    Ｃ    ａ
Ｎｏ．    （ｇ／ａ）
―――――――――――――――――――――――――
１      ０．６４    ４    ５    ５    ０
１      ２．５２    ４    ５    ５    ０
２      ０．６４    ０    ３    ３    ０
３      ０．６４    ０    ０    １    ０
４      ０．６４    ４    ４    ５    ０
５      ０．６４    ０    ３    ４    ０
６      ０．６４    ４    ５    ５    ０
７      ０．６４    １    ４    ４    ０
８      ０．６４    ４    ５    ５    ０
９      ０．６４    ４    ５    ５    ０
１０      ０．６４    ４    ５    ５    ０
１１      ０．０４    ３    ５    ５    ０
１２      ０．６４    ４    ５    ５    ０
―――――――――――――――――――――――――
〔第７表〕
―――――――――――――――――――――――――
化合物      処理薬量          Ａ    Ｂ    Ｃ
Ｎｏ．    （ｇ／ａ）
―――――――――――――――――――――――――
１      ０．６４          ４    ５    ５
１      ２．５２          ５    ５    ５
２      ０．６４          ０    ０    １
３      ０．６４          ０    １    ２
４      ０．６４          ３    ４    ４
５      ０．６４          ０    １    ３
６      ０．６４          ４    ５    ５
７      ０．６４          １    ５    ５
８      ０．６４          ５    ５    ５
９      ０．６４          ４    ５    ５
１０      ０．６４          ３    ４    ４
１１      ０．０４          ４    ５    ４
１２      ０．６４          ４    ５    ５
―――――――――――――――――――――――――
〔第８表〕
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
化合物    処理薬量    Ａ Ｄ Ｅ Ｆ Ｇ Ｈ Ｉ Ｊ Ｋ Ｌ Ｍ ｂ ｃ ｄ ｅ ｆ
Ｎｏ．  （ｇ／ａ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
１      １．６      ０ ０ ０ ０ ３ ４ − ４ ３ ５ ４ ０ ２ ０ ０ ５
１      ６．３      ５ ４ ３ ０ ５ ５ − ５ ５ ５ ５ ４ ３ ４ ０ ５
２      １．６      ０ ０ ０ ０ ０ ０ ３ ３ ０ ３ ０ ０ ０ ０ ０ ０
４      １．６      ０ ０ ０ ０ １ ０ ５ ３ ２ ３ ３ ０ １ ０ ０ ４
５      １．６      ０ ０ ０ ０ ０ ０ ３ ２ ０ ３    ０ ０ ０ ０ ３
６      １．６      ３ ３ １ ０ ４ ４ ５ ５ ４ ５ ５ １ １ ０ １ ５
７      １．６      ２ １ ０ ０ ５ ３ ５ ５ ４ ５ ５ ０ ２ ４ ２ ５
８      １．６      １ １ １ ０ ３ ０ ５ ４ ５ ４ ５ ０ ０ ０ ０ ５
９      １．６      ０ ０ ０ ０ ３ ０ ５ ４ ４ ４ ４ ０ ０ ０ ０ ４
１０      １．６      １ ０ ２ ０ ４ ４ ５ ４ ４ ４ ４ １ １ ０ ０ ５
１１      １．６      ５ ５ ５ １ ５ ５ ５ ５ ３ ５ ５ ４ ４ ５ ４ ５
１２      １．６      ５ ４ ５ １ ４ ４ ５ ５ ５ ５ ４ ４ ４ ５ ０ ５
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
〔第８表〕
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
化合物    処理薬量    Ａ Ｄ Ｅ Ｆ Ｇ Ｈ Ｉ Ｊ Ｋ Ｌ Ｍ ｂ ｃ ｄ ｅ ｆ
Ｎｏ．  （ｇ／ａ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
１      １．６      ４ ３ ４ ０ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ０ ０ ５
１      ６．３      ５ ５ ５ １ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ２ １ ５
２      １．６      ０ ０ ０ ０ ０ ５ ４ ０ １ ３ ３ ０ ４ ０ ０ ４
３      １．６      ２ ０ ０ ０ ０ １ ３ ３ ０ ０ ０ ２ ３ ０ ０ ２
４      １．６      ３ ３ ３ １ ４ ４ ４ ４ ２ ４ ３ ４ ４ ２ ０ ５
５      １．６      ０ ０ ０ ０ ０ ３ ４ ４ １ ３ ２ ２ ２ ０ ０ ３
６      １．６      ５ ４ ３ １ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ４ １ ２ ５
７      １．６      ３ ３ ２ ２ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ４ ５
８      １．６      ５ ４ ４ ０ ４ ５ ５ ５ ４ ４    ５ ５ ０ ０ ５
９      １．６      ５ ３ ４ ０ ４ ５ ５ ５ ３ ４    ２ ４ ０ ０ ５
１０      １．６      ３ ３ ３ ０ ３ ５ ４ ４ ５ ５    ３ ４ ０ ０ ５
１１      １．６      ５ ５ ５ ４ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ４ ５ ４ ３ ５
１２      １．６      ５ ５ ５ ０ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ５ ２ ０ ５
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
〔第１０表〕
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化合物Ｎｏ．  処理薬量      Ａ−Ｒ Ａ−Ｓ Ｂ−Ｒ Ｂ−Ｓ Ｃ−Ｒ Ｃ−Ｓ
（ｇ／ａ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
１        ０．０７５      ４     ５     ４     ５     ４     ４
１        ０．３          ５     ５     ５     ５     ４     ５
１        １．２          ５     ５     ５     ５     ５     ５
１１        ０．１５        ５     ５     ５     ５     ５     ５
１２        ０．１５        ５     ５     ５     ５     ５     ５
比較化合物１  ０．０７５      ０     ５     ０     ５     ０     ５
比較化合物１  ０．３          ３     ５     ３     ５     ３     ５
比較化合物１  １・２          ４     ５     ４     ５     ４     ５
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
〔第１１表〕
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
化合物Ｎｏ．  処理薬量      Ａ−Ｒ Ａ−Ｓ Ｂ−Ｒ Ｂ−Ｓ Ｃ−Ｒ Ｃ−Ｓ
（ｇ／ａ）
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
１        ０．０７５      ４     ５     ３     ４     ３     ３
１        ０．３          ５     ５     ５     ５     ３     ４
１        １．２          ５     ５     ５     ５     ５     ５
１１        ０．１５        ５     ５     ５     ５            ５
１２        ０．１５        ５     ５     ５     ５     ４     ５
比較化合物１  ０．０７５      ０     ５     −     ５     ０     ５
比較化合物１  ０．３          ３     ５     ３     ５     ３     ５
比較化合物１  １．２          ４     ５     ４     ５     ４     ５
―――――――――――――――――――――――――――――――――――