(57)【要約】      （修正有）【課題】磁気コア半体同士をガラス融着する際に、融着ガラスとコア半体を構成するコア材との侵食拡散反応を抑制しつつ、ガラス中に泡が発生することを防止する。【解決手段】接合面に金属磁性薄膜５，６が形成されて一対の磁気コア半体Ａ、Ｂを融着するための磁気ヘッド用融着ガラス９であり、ＰｂＯと、ＳｉＯ２と、Ｂ２Ｏ３と、Ｂｉ２Ｏ３と、Ｎａ２Ｏと、ＺｎＯと、７重量％以上の酸化鉄成分とを含み、酸化鉄成分として、ＦｅＯ又はＦｅ３Ｏ４を使用したものである。【選択図】図２
2005220005.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＰｂＯと、ＳｉＯ２と、Ｂ２Ｏ３と、Ｂｉ２Ｏ３と、Ｎａ２Ｏと、ＺｎＯと、７重量％以上の酸化鉄成分とを含む磁気ヘッド用融着ガラスにおいて、
上記酸化鉄成分として、ＦｅＯが使用されていることを特徴とする磁気ヘッド用融着ガラス。
【請求項２】
ＰｂＯと、ＳｉＯ２と、Ｂ２Ｏ３と、Ｂｉ２Ｏ３と、Ｎａ２Ｏと、ＺｎＯと、７重量％以上の酸化鉄成分とを含む磁気ヘッド用融着ガラスにおいて、
上記酸化鉄成分として、Ｆｅ３Ｏ４が使用されていることを特徴とする磁気ヘッド用融着ガラス。
【請求項３】
一対の磁気コア半体の接合面に金属磁性薄膜が形成されてなり、該金属磁性薄膜を介して上記磁気コア半体同士がガラス融着により一体化され作動ギャップが構成されてなる磁気ヘッドにおいて、
上記ガラス融着は、ＰｂＯと、ＳｉＯ２と、Ｂ２Ｏ３と、Ｂｉ２Ｏ３と、Ｎａ２Ｏと、ＺｎＯと、７重量％以上の酸化鉄成分とを含み、上記酸化鉄成分としてＦｅＯが使用される磁気ヘッド用融着ガラスにより行われていることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項４】
一対の磁気コア半体の接合面に金属磁性薄膜が形成されてなり、該金属磁性薄膜を介して上記磁気コア半体同士がガラス融着により一体化され作動ギャップが構成されてなる磁気ヘッドにおいて、
上記ガラス融着は、ＰｂＯと、ＳｉＯ２と、Ｂ２Ｏ３と、Ｂｉ２Ｏ３と、Ｎａ２Ｏと、ＺｎＯと、７重量％以上の酸化鉄成分とを含み、上記酸化鉄成分としてＦｅ３Ｏ４が使用される磁気ヘッド用融着ガラスにより行われていることを特徴とする磁気ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ビデオテープレコーダ等の磁気記録再生装置又はフレキシブルディスク駆動装置或いはハードディスク駆動装置等に搭載される磁気ヘッドを構成する一対の磁気コア半体を融着するために用いられる磁気ヘッド用融着ガラス及びこのガラスを用いて一対の磁気コア半体を融着した磁気ヘッドに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に磁気ヘッドは、図６に示すように、Ｍｎ−Ｚｎフェライト等の酸化物磁性材料よりなる磁気コア半体３１，３１同士を融着ガラス３２を用いて接合一体化することにより構成されている。磁気コア半体３１，３１の突き合わせ部分に形成される磁気ギャップ部３３は、磁気コア半体３１，３１を融着する融着ガラス３２により構成される。
【０００３】
特に、ビデオテープレコーダ等の磁気記録再生装置に搭載される磁気ヘッドでは、耐久性が要求されるため、ギャップ接合は融着ガラスによるガラス接合が望ましいとされている。これは、ガラスが化学的に安定なため有機溶剤による洗浄が可能であること、磁気コア半体同士の強固な接合が得られること等の利点を有するからである。
【０００４】
ところが、この磁気ヘッドの製造プロセスにおいて、融着ガラスを用いて磁気コア半体同士を接合する際、図７に示すように、融着ガラス３２が磁気コア半体３１，３１を構成するコア材と反応し、融着ガラス３２と磁気コア半体３１，３１の界面が乱れることがある。なお、図７は、磁気ヘッドを磁気記録媒体の摺動面側から見た図である。
【０００５】
また、図８に示すように、磁気コア半体３１，３１の接合面に金属磁性薄膜３４が形成された複合型の磁気ヘッド、すなわちＭＩＧヘッド（メタル・イン・ギャップヘッド）〕において、磁気コア半体３１，３１同士がギャップ材３５を介して融着ガラス３２によりガラス接合された場合には、融着ガラス３２中への金属磁性薄膜３４の金属拡散によってガラスと金属との反応層３６ができ、ガラスの変質によるヒビ割れやガラスの濁りが生ずる。磁気コア半体３１，３１を融着するガラスに濁りが発生すると、ガラスを通して磁気ヘッドに形成される巻線溝の頂点を観察できないため、磁気記録媒体の摺動面から巻線溝の頂点までの距離、即ちデプス長を所要寸法に加工することができなくなるおそれがある。
【０００６】
これに対して、上述のような侵食拡散反応による磁気ヘッドの性能と歩留まりの低下を防止する方法として、例えば特開平１−２８２４８号公報（特許文献１）や特開平１−２０３２４１号公報（特許文献２）に開示されるように、融着ガラスの成分中に酸化鉄Ｆｅ２Ｏ３を含有させる方法が知られている。
【０００７】
ところが、この方法では、融着ガラスとコア材との反応は大幅に改善されるものの、融着後のガラス中に泡が残りやすいという新たな問題が生じている。この泡は、ガラス内部に留まっているだけであれば特に問題とならないが、接合一体化された磁気コアブロックは最終的にヘッド摺動面をデプス長が所要寸法となるまで研削加工するため、ガラス内部にあった泡がヘッド摺動面に現れ、ガラス部の欠けとして残存することが多々ある。このようなガラス部の欠けは、磁気テープ等の磁気記録媒体を傷つけてドロップアウトが発生する等の悪影響を及ぼす。したがって、ガラス中には上述のような泡が皆無であることが望ましい。
【０００８】
特に、上述のような複合型の磁気ヘッドでは、融着ガラスが通常のフェライトヘッド用の融着ガラスよりも、界面の侵食拡散反応を防止するために必要である酸化鉄Ｆｅ２Ｏ３の含有率が大幅に高いため、ガラス中に泡が発生して残存する確率が高い。
【０００９】
【特許文献１】特開平１−２８２４８号公報
【特許文献２】特開平１−２０３２４１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
そこで、本発明は、このような実情に鑑みて提案されたものであって、磁気コア半体同士をガラス融着する際に、融着ガラスとコア材との侵食拡散反応を抑制しつつ、ガラス中に泡が発生することを防止することが可能な磁気ヘッド用融着ガラス及びこのガラスを用いて一対の磁気コア半体を融着した磁気ヘッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上述のような目的を達成するために提案される本発明に係る磁気ヘッド用融着ガラスは、ＰｂＯと、ＳｉＯ２と、Ｂ２Ｏ３と、Ｂｉ２Ｏ３と、Ｎａ２Ｏと、ＺｎＯと、７重量％以上の酸化鉄成分とを含む磁気ヘッド用融着ガラスにおいて、上記酸化鉄成分として、ＦｅＯを使用するようにしたものである。
【００１２】
また、発明に係る磁気ヘッド用融着ガラスは、ＰｂＯと、ＳｉＯ２と、Ｂ２Ｏ３と、Ｂｉ２Ｏ３と、Ｎａ２Ｏと、ＺｎＯと、７重量％以上の酸化鉄成分とを含む磁気ヘッド用融着ガラスにおいて、上記酸化鉄成分として、Ｆｅ３Ｏ４を使用するようにしたものである。
【００１３】
さらに、本発明は、一対の磁気コア半体の接合面に金属磁性薄膜が形成されてなり、該金属磁性薄膜を介して上記磁気コア半体同士がガラス融着により一体化され作動ギャップが構成されてなる磁気ヘッドにおいて、上記ガラス融着を、ＰｂＯと、ＳｉＯ２と、Ｂ２Ｏ３と、Ｂｉ２Ｏ３と、Ｎａ２Ｏと、ＺｎＯと、７重量％以上の酸化鉄成分とを含み、上記酸化鉄成分としてＦｅＯを使用した磁気ヘッド用融着ガラスを用いて行ったものである。
【００１４】
さらにまた、本発明は、一対の磁気コア半体の接合面に金属磁性薄膜が形成されてなり、該金属磁性薄膜を介して上記磁気コア半体同士がガラス融着により一体化され作動ギャップが構成されてなる磁気ヘッドにおいて、上記ガラス融着を、ＰｂＯと、ＳｉＯ２と、Ｂ２Ｏ３と、Ｂｉ２Ｏ３と、Ｎａ２Ｏと、ＺｎＯと、７重量％以上の酸化鉄成分とを含み、上記酸化鉄成分としてＦｅ３Ｏ４を使用した磁気ヘッド用融着ガラスを用いて行ったものである。
【００１５】
ところで、磁気ヘッドを構成する一対の磁気コア半体を融着するガラス融着工程は、不活性ガス雰囲気中で行われる。これにより、磁気コア半体を構成するコア材のフェライト表面にα−ヘマタイトが発生してヘッドの疑似ギャップになったり、或いは磁気コア半体の接合面に金属磁性薄膜が形成されたＭＩＧヘッド（メタル・イン・ギャップヘッド）の金属磁性薄膜が酸化して磁気特性が劣化したりすることが防止される。但し、融着時のガラスの濡れ性が悪い場合は、α−ヘマタイトや酸化の問題が起こらない範囲である数十〜２００ｐｐｍオーダーの酸素分圧の雰囲気中で融着が行われることが好ましい。なお、酸素分圧の許容量は、コア材によって適宜選択される。これにより、磁気コア半体のガラスとの被着表面のごく薄い層が酸化されてガラスの濡れ性（ガラスと被着表面との相性）が改善される。
【００１６】
また、一対の磁気コア半体を融着するために従来用いられている磁気ヘッド用融着ガラス中に含有されているＦｅ２Ｏ３は、鉄イオンとして３価のイオン（Ｆｅ３＋）のみしか有していない。このため、該Ｆｅ２Ｏ３は、２価の鉄イオン（Ｆｅ２＋）を有しているＦｅＯ（Ｆｅ２＋のみ）やＦｅ３Ｏ４（Ｆｅ２＋とＦｅ３＋）と比較して、ガラス中において平衡酸素分圧が高い。したがって、２００ｐｐｍ以下の酸素分圧で５００〜８００℃の加熱を行うガラス融着においては、ガラス中のＦｅ３＋にとって、酸素分圧が低すぎるため、下記（１）式で表される反応、すなわち、酸素分圧を平衡状態に近づけようとする方向の鉄イオンと酸素イオンの電子のやり取りが促進されやすい。
【００１７】
４Ｆｅ３＋  ＋  ２Ｏ２−  →  ４Ｆｅ２＋  ＋Ｏ２↑  ・・・（１）
このため、ガラス中に発生する酸素ガスが融着後のガラス中に残りやすく、泡の発生が多くなる。
【００１８】
これに対して、本発明に係る融着ガラスは、酸化鉄成分としてＦｅＯを使用しているので、ＦｅＯはＦｅ２＋とＯ２−の形でガラス中にとけ込んでいる（鉄イオンの１００％が２価である。）。上述のように、Ｆｅ２＋はＦｅ３＋と比較して平衡酸素分圧が低いため、２００ｐｐｍ以下の酸素分圧で５００〜８００℃の加熱を行うガラス融着の環境下でも、比較的安定していて価数の変化が起こりにくい。したがって、自ら酸素（ガラス中の泡）を生成することはない。
【００１９】
また、Ｆｅ３Ｏ４を使用した場合には、Ｆｅ３Ｏ４はＦｅ２＋とＦｅ３＋とＯ２−の形でガラス中にとけ込んでいて、２価と３価のイオンの両方が存在する。原料投入時で２価と３価が１：２の割合で存在する。このガラスを上述のようなガラス融着の環境下に置いた場合、このガラス中に存在する鉄イオンの２価と３価の割合（原料投入時で２価の酸化鉄の割合が約３３ｍｏｌ％）において酸素分圧の平衡状態が保たれているため、価数の変化が起こり難い。したがって、この場合も自ら酸素（ガラス中の泡）を生成することはない。
【００２０】
このことから、融着ガラスに含有させる酸化鉄成分として、２価の酸化鉄を３０ｍｏｌ％以上含む酸化鉄化合物を使用することにより、ガラス融着時におけるガラス中の泡の発生を抑制することができる。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係る融着ガラスを用いることにより、ガラスとコア材との界面の乱れが抑制でき、特に、ＭＩＧヘッドの適用した場合には、ガラス中へ金属磁性薄膜が侵食拡散反応を起こしてガラスの変質によるひび割れやガラスの濁りが生じるのを抑えることができ、さらに、ガラス中に泡が発生することを防止できる。
【００２２】
したがって、本発明を用いて磁気コア半体を融着することにより、磁気コア半体を融着するガラス中の泡が磁気記録媒体の摺動面に現れ、ガラス部の欠けとして残存することを極力防止することができる。この結果、ガラス部の欠けにより磁気テープ等の磁気記録媒体が損傷を受け、記録信号のドロップアウトを発生するようなことを防止できる。
【００２３】
特に、本発明に係る融着ガラスは、酸化鉄成分の含有率が大幅に高いため、ガラスと磁気コア半体との間の界面の侵食拡散反応を一層確実に防止できる。そのため、ＭＩＧヘッドに適用した場合には、磁気コア半体の接合面に形成された金属磁性薄膜が融着ガラス中へ金属拡散してガラスの変質によるヒビ割れやガラスの濁りを一層確実に抑えることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明に係る磁気ヘッド用融着ガラス及びこの融着ガラスを用いて一対の磁気コア半体を融着した磁気ヘッドをさらに具体的に説明する。
【００２５】
まず、本発明に係る磁気ヘッド用融着ガラスを用いて一対の磁気コア半体を融着した磁気ヘッドを説明する。
【００２６】
この磁気ヘッドは、図１に示すように、図１に示すように、一対の磁気コア半体Ａ，Ｂがギャップ材１，２を介して接合され、該磁気コア半体Ａ，Ｂの突き合わせ面に磁気ギャップｇが形成される。
【００２７】
磁気コア半体Ａ，Ｂは、フェライト等の酸化物磁性材料よりなる基板３，４から構成され、各基板３，４の突き合わせ面となる表面にはアモルファス合金等よりなる金属磁性薄膜５，６が形成されている。
【００２８】
基板３，４のうち少なくとも一方には、図示しないコイルを巻回するための巻線溝７が形成されており、この巻線溝７にコイルを巻回することで磁気コア半体Ａ，Ｂからなる閉磁路に信号を供給し、或いは読み取った磁気信号を電気信号として取り出される。巻線溝７は、断面略矩形状をなし、その頂点Ｐと円弧状に研削加工されたこの磁気ヘッドの摺動面Ｃ間の距離、即ちデプス長Ｌが所定寸法となるような位置に設けられている。
【００２９】
これら磁気コア半体Ａ，Ｂは、閉磁路が構成できればよいので、酸化物磁性材料よりなる基板のみであってもよく、さらにはセラミクス等の非磁性材料よりなる基板に上記金属磁性薄膜が被着されたものであってもよい。
【００３０】
金属磁性薄膜５，６としては、アモルファス合金の他に、例えばＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｃｏ系合金、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｓｉ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｓｉ−Ａｌ系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｓｉ系合金等がいずれも使用可能である。さらには、耐食性や耐摩耗性等の一層の向上を図るために、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｅ、Ｎｉ、Ｐｂ、Ｐｔ、Ｈｆ、Ｖ等の少なくとも一種を添加したものであってもよい。
【００３１】
これら金属磁性薄膜５，６を基板３，４上に形成する方法としては、例えばスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、クラスター・イオンビーム法等に代表される真空薄膜形成技術が使用可能である。
【００３２】
これら金属磁性薄膜５，６が膜付けされた磁気コア半体Ａ，Ｂの接合面には、金属磁性薄膜と後述の融着ガラス９との反応を防止するためのＳｉＯ２膜１，２がそれぞれ形成されている。ＳｉＯ２膜１，２を成膜する方法としては、例えばスパッタリング法や真空蒸着法等のＰＶＤ法が使用可能であるが、特にこれに限定されるものではない。これらＳｉＯ２膜１，２の膜厚のトータルが該磁気ヘッドの磁気ギャップ長ｇに相当する。
【００３３】
なお、ＳｉＯ２膜１，２は、金属磁性薄膜５，６と密着性が悪い場合には他の非磁性ギャップ材に代えてもよい。或いは、ＳｉＯ２膜１，２を代えずに、ＳｉＯ２膜１，２と金属磁性薄膜５，６との間に更にＳｉＯ２等と相性の良い金属層を介在させてもよい。
【００３４】
また、基板３，４のギャップ形成面の両側面には、トラック幅規制溝８が形成される。したがって、図２に示すように、この磁気ヘッドのトラック幅ｔは、該トラック幅規制溝８に挟まれた部分の基板３又は４の長さとトラック幅規制溝８の内側の表面（基板３，４の側面）に膜付けされた金属磁性薄膜５又は６の膜厚の和に相当する。このトラック幅規制溝８内には、融着ガラス９が充填されており、この融着ガラス９によって磁気コア半体Ａ，Ｂ同士がガラス融着され、接合一体化されるようになされている。
【００３５】
ここで、融着ガラス９として、２価の酸化鉄を３０ｍｏｌ％以上含む酸化鉄化合物を酸化鉄成分として含む融着ガラスが用いられる。これにより、ガラス融着時におけるガラス中の泡の発生が抑えられ、磁気ヘッドと磁気記録媒体との摺接がなされたときに、媒体が損傷することが防止でき、信号のドロップアウトが低下する。
【００３６】
以上のような構成を有する磁気ヘッドは、次のようにして作製した。
【００３７】
即ち、図３に示すように、少なくとも一方に図示しないコイルと巻回するための巻線溝１３とガラス融着用溝１４が互いに平行に形成された一対の略直方体状のコアブロック１１，１２を用意し、これらコアブロック１１，１２の突き合わせ面となる一面に、複数のトラック幅規制溝１５を巻線溝１３及びガラス融着用溝１４の延在する方向（横方向）と直交する方向（縦方向）に設けた。
【００３８】
更に、コアブロック１１，１２の突き合わせ面となる一側面上に金属磁性薄膜１９（Ｆｅ６２．５Ｓｉ１９Ｒｕ８Ｇａ１０．５、数値は原子％を表す。）とＳｉＯ２膜２０（但し、図３及び図４中では省略した。）を形成した。なお、金属磁性薄膜１９は、巻線溝１３，ガラス融着用溝１４及びトラック幅規制溝１５内にも形成されている。
【００３９】
次いで、コアブロック１１，１２の金属磁性薄膜１９が形成された面同士をＳｉＯ２膜２０を介して突き合わせ、各トラック幅ｔが一致するように重ね合わせた。
【００４０】
そして、ガラス融着用溝１４内にロッド状のガラス１６を挿入し、所定の条件にて加熱溶融してガラス融着を行った。
【００４１】
この結果、ガラス棒１６が溶融し、これがトラック幅規制溝１５内に充填され、コアブロック１１，１２がガラス１７により接合一体化されてギャップ接合が行われ、図４に示すようなフェライトブロック１８が得られた。
【００４２】
続いて、図５に示すように、このフェライトブロック１８を巻線溝１３とガラス融着用溝１４の間（図５中Ｉ−Ｉ線断面）で切断し、ガラス融着用溝１４が形成された部分２１を除去するとともに、得られる磁気ヘッドの摺動面が形成される面側、すなわち、巻線溝１３の頂点Ｐに近い方の表面側から円筒研磨を行い、得られた面と巻線溝１３の頂点Ｐ間の距離、即ちデプス長Ｌが１５μｍをなるように加工した。
【００４３】
更に、ガラス融着用溝１４が形成された部分２１が除去されたフェライトブロック１８を各トラック幅規制溝１５の略中央部（Ｉ１−Ｉ１、Ｉ２−Ｉ２、Ｉ３−Ｉ３線断面）で切断し、ヘッドチップ２２を得た。
【００４４】
従来例１
ここで、本発明の実施例の説明に先立ち、磁気コア半体同士をガラス融着する際に、下記表１に示す従来用いられている試料１及び試料２に示す組成を有するガラスを融着ガラスとして使用してＭＩＧ（メタル・イン・ギャップ）型の磁気ヘッドを作製し、得られた磁気ヘッドにおける融着ガラス中の泡の発生状況を観察した。
【００４５】
【表１】
2005220005.tif 000003
【００４６】
この結果、融着ガラスとして試料１の組成のガラスを使用した場合には、ガラス中に含まれる酸化鉄成分の働きによりガラスと金属磁性薄膜との界面での侵食拡散反応は抑えられた。なお、これらガラスと金属磁性薄膜との間には、上述のようにＳｉＯ２膜が介在されているが、ＳｉＯ２膜単独では侵食拡散反応の防止効果は殆ど期待することはできない。この場合、ガラス融着後、得られる磁気ヘッドの摺動面が形成される面側（巻線溝１３の頂点Ｐに近い方の表面側）を研削加工し、デプス長が所定寸法となるように加工した際、トラック幅規制溝内の融着ガラス中に存在していた泡が多く現れた。なお、詳細な数値は、後述する
これに対して、融着ガラスとして表１に示す試料２の組成のガラスを使用した場合には、上述のような融着ガラス中の泡の存在は殆ど見られなかったが、融着ガラスと金属磁性薄膜との界面での侵食拡散反応を抑制することができず、磁気ヘッドの性能や歩留まりが低下した。
【００４７】
そこで、この結果に基づき、次のように酸化鉄成分として２価の酸化鉄を３０ｍｏｌ％以上含む酸化鉄化合物を含有したガラスを融着ガラスとして使用して磁気ヘッドを作製した。
【００４８】
実施例１
本実施例では、磁気コア半体同士をガラス融着する際に、試料１の組成のガラス中に含まれるＦｅ２Ｏ３をＦｅＯに置換して秤量したガラス（これを試料３とする。）を融着ガラスとして使用して上述のような手順によりＭＩＧ（メタル・イン・ギャップ）型の磁気ヘッドを作製した。
【００４９】
ここで、コア材との侵食拡散反応の抑制効果は鉄の総イオン数で決まるので、下記（２）式により、ＦｅＯはＦｅ２Ｏ３の２倍のモル数で秤量した。
【００５０】
４ＦｅＯ  ＋  Ｏ２  →  ２Ｆｅ２Ｏ３    ・・・（２）
そして、ガラス融着後、得られる磁気ヘッドの摺動面が形成される面側（巻線溝１３の頂点Ｐに近い方の表面側）から研磨し、デプス長が所定寸法となるように加工して、得られた磁気ヘッドにおけるトラック幅規制溝中の融着ガラス表面に現れた泡（ガラス欠けでもある。）の数を調べた。この結果を下記表２に示す。
【００５１】
なお、表２中、泡の数は、１つのトラック幅規制溝中の融着ガラス中に観察された直径１０μｍ以上の泡の平均個数を表す。また、比較のため、試料１の組成のガラスを用いた磁気ヘッドについても、同様に泡の数を表２に示す。
【００５２】
【表２】
2005220005.tif 000004
【００５３】
表２から明らかなように、融着ガラスが含有する酸化鉄成分の原料として、ＦｅＯのように２価の酸化鉄を３０ｍｏｌ％以上（ここでは、１００ｍｏｌ％）含む酸化鉄化合物を使用することにより、融着ガラスとコア材との侵食拡散反応が抑えられるとともに、該融着ガラス中の泡の発生が著しく少なくなることが分かった。
【００５４】
実施例２
更に、実施例２では、磁気コア半体同士をガラス融着する際に、試料１の組成のガラス中に含まれるＦｅ２Ｏ３をＦｅ３Ｏ４に置換して秤量したガラス（これを試料４とする。）を融着ガラスとして使用して上述のような手順によりＭＩＧ（メタル・イン・ギャップ）型の磁気ヘッドを作製した。
【００５５】
ここで、コア材との侵食拡散反応の抑制効果は鉄の総イオン数で決まるので、下記（３）式により、Ｆｅ３Ｏ４はＦｅ２Ｏ３の２／３倍のモル数で秤量した。
【００５６】
４Ｆｅ３Ｏ４  ＋  Ｏ２  →  ６Ｆｅ２Ｏ３    ・・・（３）
そして、ガラス融着後、得られる磁気ヘッドの摺動面が形成される面側（巻線溝１３の頂点Ｐに近い方の表面側）から研磨し、記デプス長が所定寸法となるように加工して、得られた磁気ヘッドにおけるトラック幅規制溝中の融着ガラス表面に現れた泡（ガラス欠けでもある。）の数を調べた。この結果を上記表２に併せて示す。
【００５７】
表２に示すように、融着ガラスが含有する酸化鉄成分の原料として、Ｆｅ３Ｏ４のように２価の酸化鉄を３０ｍｏｌ％以上、ここでは、約３３ｍｏｌ％含む酸化鉄化合物を使用することにより、融着ガラスとコア材との侵食拡散反応が抑えられるとともに、該融着ガラス中の泡の発生が著しく少なくなることが分かった。
【００５８】
なお、ここでは、泡の個数で調べたが、実際には試料１の泡の方が、試料３や試料４の泡よりも体積が大きいので、体積比では更に差が大きくなる。
【００５９】
また、上述のような融着ガラス中の泡は皆無であることが好ましいが、各磁気ヘッドにおいて許容できるガラス欠け部分の面積や個数があり、ヘッドの実用性や歩留まりを考慮すると、融着ガラスに含有させる酸化鉄成分として、２価の酸化鉄を３０ｍｏｌ％以上含む酸化鉄化合物としてＦｅＯやＦｅ３Ｏ４を使用したガラスは、泡の防止において有利であることが分かった。
【００６０】
本実施例では、上述のようなＭＩＧ型の磁気ヘッドに適用した例を挙げて説明したが、この他フェライトヘッドに適用してもガラスとコア材との界面が乱れることがなく、ガラス中の泡の発生を防止することができ、上述と同様の効果を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明に係る磁気ヘッドの一例を示す斜視図である。
【図２】本発明に係る磁気ヘッドを磁気記録媒体の摺動面側から見た平面図である。
【図３】本発明に係る磁気ヘッドの製造工程を説明する図であり、ガラス棒を融着用ガラス溝に挿入する工程を示す斜視図である。
【図４】ガラス融着後のフェライトブロックを示す斜視図である。
【図５】デプス長を所定寸法に研削加工する工程及びヘッドチップへの切断工程を示す要部拡大斜視図である。
【図６】従来の磁気ヘッドの一例を示す斜視図である。
【図７】従来のＭＩＧ型の磁気ヘッドにおいて融着ガラスとコア材が反応した状態を模式的に示す平面図である。
【図８】従来のＭＩＧ型の磁気ヘッドにおいて融着ガラスと金属磁性薄膜が反応した状態を模式的に示す平面図である。
【符号の説明】
【００６２】
Ａ，Ｂ  磁気コア半体、  １，２  ＳｉＯ２膜、  ３，４  基板、  ５，６  金属磁性薄膜、  ７  巻線溝、  ８  トラック幅規制溝、  ９  融着ガラス
【図１】
2005220005.tif 000005
【図２】
2005220005.tif 000006
【図３】
2005220005.tif 000007
【図４】
2005220005.tif 000008
【図５】
2005220005.tif 000009
【図６】
2005220005.tif 000010
【図７】
2005220005.tif 000011
【図８】
2005220005.tif 000012