(57)【要約】【課題】 本発明は、誤放電を防止することによって画質を向上させることができるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関する。【解決手段】 本発明の実施形態によるプラズマディスプレイパネルは、多数の放電セルを有するプラズマディスプレイパネルにおいて、上下部基板の間に放電空間を設ける隔壁と、前記隔壁に形成された低誘電率を有する酸化膜を備えることを特徴とする。本発明の実施形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法は、上下部基板の間に放電空間を設ける隔壁を形成する段階と、前記隔壁に低誘電率を有する酸化膜を形成する段階とを含むことを特徴とする。本発明によるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法によれば誤放電が起きなくなるためプラズマディスプレイパネルの画質が向上される。【選択図】  図１０
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
多数の放電セルを有するプラズマディスプレイパネルにおいて、
上部基板と、
下部基板と、
前記上下部基板の間に放電空間を設ける隔壁と、
前記隔壁に形成された低誘電率を有する酸化膜とを備えることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記酸化膜は、酸化シリコン又は酸化マグネシウムの何れかを含むことを特徴とする、請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記上部基板上に形成された第１電極と、
前記第１電極にかけられるように形成された第２電極とをさらに備えることを特徴とする、請求項１又は２に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記隔壁は、
前記第１及び第２電極と並ぶと共に補助放電空間を含む第１隔壁と、
前記第１隔壁と直交する第２隔壁とを含むことを特徴とする、請求項１乃至３の何れかに記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
上下部基板の間に放電空間を設ける隔壁を形成する段階と、
前記隔壁に低誘電率を有する酸化膜を形成する段階とを含むことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項６】
前記酸化膜は、酸化シリコン又は酸化マグネシウムの何れかを含むことを特徴とする、請求項５に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項７】
前記製造方法は、
前記上部基板上に第１電極を形成する段階と、
前記第１電極にかけられるように第２電極を形成する段階とをさらに含むことを特徴とする、請求項５又は６に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項８】
前記隔壁を形成する段階は、
前記第１及び第２電極と並ぶと共に補助放電空間を含む第１隔壁を形成するとともに、前記第１隔壁と直交する第２隔壁を形成する段階を含むことを特徴とする、請求項５乃至７の何れかに記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関し、より詳細には、誤放電を防止することによって画質を向上させることができるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
最近、陰極線管(Ｃathode Ｒay Ｔube)の短所である重さと嵩を減らすことができる各種平板表示装置が開発されている。このような平板表示装置は、液晶表示装置(Ｌiquid Ｃrystal Ｄisplay :ＬＣＤ)、電界放出表示装置(Ｆield Ｅmission Ｄisplay : ＦＥＤ)、プラズマディスプレイパネル(Ｐlasma Ｄisplay Ｐanel :以下"ＰＤＰ"だと称する)、及びエレクトロルミネッセンス (Ｅlectro-Ｌuminescence : ＥＬ)表示装置などがある。
【０００３】
この中でＰＤＰは、気体放電を利用した表示素子として大型パネルの製作が容易であるという長所がある。 ＰＤＰとしては、図１に示されたように、３電極を有して交流電圧によって駆動される３電極交流面放電型ＰＤＰが代表的である。
図１に示されたＰＤＰの放電セルは、下部基板１８上に形成されるアドレス電極１２Ｘと、上部基板１０上に形成される維持電極対、すなわち走査維持電極１２Ｙ及び共通維持電極１２Ｚとを備える。図１において下部基板１８は９０゜回転して示されたものである。
【０００４】
アドレス電極１２Ｘが形成された下部基板１８上には壁電荷を蓄積するための下部誘電体層２２が形成される。下部誘電体層２２上には隔壁２４が形成され、下部誘電体層２２と隔壁２４との表面には蛍光体２０が塗布される。隔壁２４は放電によって生成された紫外線及び可視光線が隣接した放電セルに漏洩されることを防止する。隔壁２４は、例えば、図２に示すストライプ型隔壁２４、図３に示す格子型隔壁２４によって構成される。蛍光体２０はガス放電時発生された紫外線によって励起され、赤色、緑又は青色の何れかの可視光線を発生するようになる。上下部基板(１０、１８)と隔壁２４との間に設けられた放電空間にはガス放電のための不活性ガスが注入される。
【０００５】
上部基板１０に形成される維持電極対(１２Ｙ、１２Ｚ)は、透明電極１２aとバス電極１２bとからなり、アドレス電極１２Ｘと交差される。
透明電極１２aは、放電セルから供給される光を透過するために透明導電性物質で形成される。バス電極１２bは相対的に高い抵抗性によって低い導電性を有する透明電極１２aの導電性を償う。
【０００６】
維持電極対(１２Ｙ、１２Ｚ)が形成される上部基板１０には、上部誘電体層１４と保護膜１６とが形成される。上部誘電体層１４には放電時発生された壁電荷が蓄積される。保護膜１６はプラズマ放電時発生されたスパッタリングによる上部誘電体層１４の損傷を防止すると共に２次電子の放出效率を高めるようにする。保護膜１６としては、通常、酸化マグネシウム(ＭgＯ)が利用される。
【０００７】
このような構造の放電セルは、アドレス電極１２Ｘと走査維持電極１２Ｙとの間の対向放電によって選択された後、維持電極対(１２Ｙ、１２Ｚ)の間の面放電によって放電を維持するようになる。このような放電セルでは維持放電時発生される紫外線によって蛍光体２０が発光することで可視光がセルの外部に放出されるようになる。この結果、放電セルは放電が維持される期間を調節して階調を表示するようになり、その放電セルがマトリックス形態に配列されたＰＤＰは画像を表示するようになる。
【０００８】
図４〜図７は、従来のＰＤＰの下板の製造方法を段階的に示した断面図である。
先に、下部基板１８上にフォト法、印刷法などを利用して、図４に示されたように、下部基板１８上にアドレス電極１２Ｘが形成される。アドレス電極１２Ｘが形成された下部基板１８上にスクリーンプリンティング(Ｓcreen Ｐrinting)方法を利用してＰbＯ又はnon-ＰbＯガラス微粉末に微粉末状態の酸化物を組成比によって混ぜた混合粉末を有機溶媒と混合して形成されたペースト(Ｐaste)を塗布する。次に、下部基板１８に塗布されたペーストを所定温度で焼成させることで、図５に示されたように、アドレス電極１２Ｘが形成された下部基板１８上に下部誘電体層２２が形成される。
【０００９】
下部誘電体層２２が形成された基板１８上に、図６に示されたように、スクリーンプリンティング、サンドブラスティング(Ｓand Ｂlasting)、プレッシング(Pressing)方法などを利用して隔壁２４が形成される。
次に、隔壁２４と下部誘電体層２２とが形成された基板１８上にスクリーンプリンティング、印刷法などを利用して、図７に示されたように、蛍光体２０が形成される。
【００１０】
このように形成されたＰＤＰの下板は上板とシーリング工程(図示せず)によって合着される。
このような従来のＰＤＰの上部誘電体層は、リセット放電時壁電荷の形成を容易にするため、Ｐb(鉛)、Ｚr(ジルコニウム)、ＴiＯ３などの誘電率が大きい物質を含み、隔壁もＰb、Ｚr、ＴiＯ３などの誘電率が大きい物質を含む。これによって、リセット放電時上部誘電体層１４だけではなく隔壁２４の側面にも多数の壁電荷が形成される。しかし、ＰＤＰの隔壁に不要な壁電荷が形成され、この壁電荷によって走査維持電極１２Ｙに形成された壁電荷が除去されるため誤放電が頻繁に発生される。
【００１１】
これを詳細に説明すれば、リセット期間の間に走査維持電極１２Ｙと共通維持電極１２Ｚとの間の放電、走査維持電極１２Ｙとアドレス電極１２Ｘとの間の放電が発生される。従って、リセット期間の間に走査維持電極１２Ｙに負極性の壁電荷、共通維持電極１２Ｚに正極性の壁電荷、アドレス電極１２Ｘに正極性の壁電荷が形成される。
ここで、隔壁２４は誘電率が高い物質から形成されているため、リセット期間の間に隔壁２４にも図８に示されたように壁電荷が形成される。この場合、隔壁２４に形成される壁電荷４５は隣接した電極と反対の極性に形成されるため電極の壁電荷５５を相殺させる役割をするようになる。すなわち、隔壁２４に形成される壁電荷４５によって電極に形成される壁電荷５５の量が減少されるようになる。
【００１２】
これによって、リセット期間の間に電極に十分な壁電荷が形成されないことによって不安定なアドレス放電が発生される。従って、図９に示されたように、アドレス放電による光波形(A)が搖れるようになる。これによって、ＰＤＰにおいて誤放電が発生されパネルの画質に影響を与えて画質が低下される問題点がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明の目的は、誤放電を防止することによって画質を向上させることができるＰＤＰ及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の実施形態によるプラズマディスプレイパネルは、多数の放電セルを有するプラズマディスプレイパネルにおいて、上部基板と、下部基板と、上下部基板の間に放電空間を設ける隔壁と、前記隔壁に形成された低誘電率を有する酸化膜を備えることを特徴とする。
前記酸化膜は、酸化シリコン又は酸化マグネシウムの何れかを含むことを特徴とする。
【００１５】
前記上部基板上に形成された第１電極と、前記第１電極にかけられるように形成された第２電極とをさらに備えることを特徴とする。
前記隔壁は、前記第１及び第２電極と並ぶと共に補助放電空間を含む第１隔壁と、前記第１隔壁と直交する第２隔壁とを含むことを特徴とする。
本発明の実施形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法は、上下部基板の間に放電空間を設ける隔壁を形成する段階と、前記隔壁に低誘電率を有する酸化膜を形成する段階とを含むことを特徴とする。
【００１６】
前記酸化膜は、酸化シリコン又は酸化マグネシウムの何れかを含むことを特徴とする。
前記製造方法は、前記上部基板上に第１電極を形成する段階と、前記第１電極にかけられるように第２電極を形成する段階とをさらに含むことを特徴とする。
前記隔壁を形成する段階は、前記第１及び第２電極と並ぶと共に補助放電空間を含む第１隔壁を形成するとともに前記第１隔壁と直交する第２隔壁を形成する段階を含むことを特徴とする。
【００１７】
本発明によるプラズマディスプレイパネル及びその製造方法によれば、誤放電が起きなくなるためプラズマディスプレイパネルの画質が向上される。
【発明の効果】
【００１８】
上述したように、本発明によるＰＤＰ及びその製造方法は、隔壁上に誘電率の小さな酸化膜が形成されることによって隔壁に形成される壁電荷の量が最小化される。また、隔壁に形成された壁電荷によって減少される電極に形成された壁電荷量が補助放電空間によって生成されたプライミング粒子によって補償される。これによって、従来に比べて不安定なアドレス放電によるＰＤＰの誤放電が起きなくなってＰＤＰの画質が向上される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図１０〜図２０を参照して本発明の望ましい実施形態に対して説明する。
図１０は、本発明の実施形態によるＰＤＰの放電セルの構造を示す図面である。図１１は、図１０に示された補助放電空間を有する格子型隔壁を示す図面である。
図１０に示されたように、本発明の実施形態によるＰＤＰの放電セルは、下部基板１１８上に形成されるアドレス電極１１２Ｘと、上部基板１１０上に形成される維持電極対、すなわち走査維持電極１１２Ｙ及び共通維持電極１１２Ｚを備える。
【００２０】
アドレス電極１１２Ｘが形成された下部基板１１８上には壁電荷を蓄積するための下部誘電体層１２２が形成される。下部誘電体層１２２上にはバス電極１１２bと重畳される格子型隔壁１２４が形成され、格子型隔壁１２４上には酸化膜１４５が形成され、酸化膜１４５及び隔壁１２４の表面には蛍光体１２０が塗布される。
図１１に示されたように、格子型隔壁１２４は放電によって生成された紫外線及び可視光が隣接した放電セルに漏洩されることを防止する。格子型隔壁１２４は、維持電極対(１１２Ｙ、１１２Ｚ)と並んだ横隔壁１２４aと、維持電極対(１１２Ｙ、１１２Ｚ)と交差する縦隔壁１２４bとからなる。横隔壁１２４ａは、補助放電空間１１５を含む。格子型隔壁１２４の中で、横隔壁１２４aは補助放電空間１１５を挟んで上下に（縦隔壁１２４ｂ方向に沿って）隣接した放電セルを区分するようになり、縦隔壁１２４bは左右に（横隔壁１２４ａ方向に沿って）隣接した放電セルを区分するようになる。
【００２１】
補助放電空間１１５には、アドレス放電時隣接する放電セルの走査維持電極１１２Ｙと共通維持電極１１２Ｚとの間の電圧差によってプライミング粒子が生成され、次に選択される隣接した放電セルに供給される。このプライミング粒子が供給された放電セルにはプライミング效果によって壁電荷が十分に形成されアドレス放電に助けになるようになる。すなわち、従来の隔壁によって相殺された壁電荷の量がプライミング粒子によって補償されることで、従来の不安定なアドレス放電によるＰＤＰの誤放電が起きなくなる。
【００２２】
酸化膜１４５は、誘電率が小さな酸化シリコン(ＳiＯ２)又は酸化マグネシウム(ＭgＯ)の何れかから形成されることによって隔壁１２４の側面に形成される壁電荷の量を最小化する役割をする。これを詳細に説明すれば、誘電率が大きい物質を含む隔壁１２４と誘電率が小さな酸化膜１４５とが直列に連結されている。すなわち、隔壁１２４及び酸化膜１４５が直列に連結されることで隔壁１２４及び酸化膜１４５の総電荷量は減少するようになる。これによって、従来に比べて隔壁１２４に形成される壁電荷の量が著しく減るようになるため電極に形成される壁電荷の減少も最小化される。これで、従来に比べて不安定なアドレス放電によるＰＤＰの誤放電が起きなくなる。
【００２３】
蛍光体１２０はプラズマ放電時発生された紫外線によって励起され、赤色、緑又は青色の何れかの可視光線を発生するようになる。上下部基板(上部基板１１０、下部基板１１８)と隔壁１２４との間に設けられた放電空間にはガス放電のための不活性ガスが注入される。
上部基板１１０上に形成される維持電極対(１１２Ｙ、１１２Ｚ)は、透明電極１１２aとバス電極１１２bとからなり、アドレス電極１１２Ｘと交差される。
【００２４】
透明電極１１２aは放電セルから供給される光を透過するために透明導電性物質で形成される。バス電極１１２bは、透明電極１１２aにかけられるように（端部を覆うように）形成され、相対的に高い抵抗性によって低い導電性を有する透明電極１１２aの導電性を償う。
横隔壁１２４a内に形成された補助放電空間１１５内のバス電極１１２bの間の距離d２は、各放電セル内の対向する距離、すなわち、主放電空間内の透明電極１１２aの間の距離d１より狭く形成される。これは、主放電空間内の透明電極１１２aの間の距離d１より補助放電空間１１５内のバス電極１１２bの間の距離d２を狭く形成することによって、相対的に低い電圧としてプライミング粒子を容易に形成することができるようにするためである。
【００２５】
維持電極対(１１２Ｙ、１１２Ｚ)が形成される上部基板１１０には、上部誘電体層１１４と保護膜１１６とが形成される。上部誘電体層１１４にはプラズマ放電時発生された壁電荷が蓄積される。保護膜１１６はプラズマ放電時発生されたスパッタリングによる上部誘電体層１１４の損傷を防止するとともに２次電子の放出效率を高めるようにする。保護膜１１６としは、通常、酸化マグネシウム(ＭgＯ)が利用される。
【００２６】
このような構造の放電セルは、アドレス電極１１２Ｘと走査維持電極１１２Ｙとの間の対向放電によって選択された後、維持電極対(１１２Ｙ、１１２Ｚ)の間の面放電によって放電を維持するようになる。このような放電セルでは維持放電時発生される紫外線によって蛍光体１２０が発光されることによって可視光がセルの外部に放出されるようになる。この結果、放電セルは放電が維持される期間を調節して階調を表示するようになり、その放電セルがマトリックス形態に配列されたＰＤＰは画像を表示するようになる。
【００２７】
このように、本発明の実施形態によるＰＤＰは、格子型隔壁１２４aの横隔壁１２４a内に補助放電空間１１５が形成されることによって走査維持電極１１２Ｙと共通維持電極１１２Ｚとの間の電圧差によってプライミング粒子が生成される。このプライミング粒子は次に選択される隣接した放電セルに供給されることで従来の隔壁によって相殺された壁電荷の量がプライミング粒子によって補償される。
【００２８】
また、本発明の実施形態によるＰＤＰは、誘電率が大きい隔壁１２４上に誘電率が小さな酸化膜１４５が形成されることによって隔壁１２４の側面に形成される壁電荷の量を最小化するようになる。
このように、隔壁１２４に形成される壁電荷の量を最小化すると共に補助放電空間１１５に生成されたプライミング粒子が減少された壁電荷の量を償うことによって、従来に比べて、不安定なアドレス放電によるＰＤＰの誤放電が起きなくなる。これによって、誤放電が防止されてＰＤＰの画質を向上させることができる。
【００２９】
図１２〜図１５は、図１０に示されたプラズマディスプレイパネルの上板の製造方法を示す図面である。
先ず、上部基板１１０上に透明伝導性物質が蒸着された後パターニングされることで、図１２に示されたように、透明電極１１２aが形成される。透明電極１１２aが形成された上部基板１１０上にバス電極物質が蒸着された後パターニングされることによって、図１３に示されたように、透明電極１１２aにかけられるようにバス電極１１２bが形成される。バス電極１１２bが形成された上部基板１１０上にスクリーンプリンティングなどの方法で、図１４に示されたように、上部誘電体層１１４が形成される。上部誘電体層１１４上に保護層物質である酸化マグネシウムを塗布して、図１５に示されたように、保護膜１１６が形成される。
【００３０】
図１６〜図２０は、図１０に示されたプラズマディスプレイパネルの下板の製造方法を示す図面である。
先に、下部基板１１８上にフォト法、印刷法などを利用して、図１６に示されたように、下部基板１１８上にアドレス電極１１２Ｘが形成される。アドレス電極１１２Ｘが形成された下部基板１１８上にスクリーンプリンティング方法などを利用してＰbＯ又はnon-ＰbＯガラス微粉末に微粉末状態の酸化物を組成比によって混ぜた混合粉末を有機溶媒と混合して形成されたペーストを塗布する。次に、下部基板１１８に塗布されたペーストを所定温度で焼成させることで、図１７に示されたように、アドレス電極１１２Ｘが形成された下部基板１１８上に下部誘電体層１２２が形成される。
【００３１】
下部誘電体層１２２が形成された基板１１８上にスクリーンプリンティング、サンドブラスティング、プレッシング方法などを利用して、図１８のように補助放電空間１１５を有する格子型隔壁１２４が形成される。
次に、スクリーンプリンティングなどを利用して格子型隔壁１２４上に、図１９に示されたように、各格子型隔壁１２４に酸化シリコン(ＳiＯ２)又は酸化マグネシウム(ＭgＯ)の何れかを含む酸化膜１４５が形成される。
【００３２】
酸化膜１４５が形成された基板１１８上に、図２０に示されたように、スクリーンプリンティングなどを利用して蛍光体２０が形成される。
このように形成されたＰＤＰの下板は上板とシーリング工程(図示せず)によって合着される。
上述したように、本発明によるＰＤＰ及びその製造方法は、格子型隔壁上に誘電率の小さな酸化膜が形成されることによって隔壁に形成される壁電荷の量が最小化される。また、隔壁に形成された壁電荷によって減少される電極に形成された壁電荷量が補助放電空間によって生成されたプライミング粒子によって補償される。これによって、従来に比べて不安定なアドレス放電によるＰＤＰの誤放電が起きなくなってＰＤＰの画質が向上される。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】通常の３電極交流型の従来のプラズマディスプレイパネルを示す断面図である。
【図２】従来のプラズマディスプレイパネルのストライプ型隔壁を示す図面である。
【図３】従来のプラズマディスプレイパネルの格子型隔壁を示す図面である。
【図４】従来のプラズマディスプレイパネルの下板の製造工程においてアドレス電極の形成を示す図面である。
【図５】従来のプラズマディスプレイパネルの下板の製造工程において下部誘電体層の形成を示す図面である。
【図６】従来のプラズマディスプレイパネルの下板の製造工程において隔壁の形成を示す図面である。
【図７】従来のプラズマディスプレイパネルの下板の製造工程において蛍光体の形成を示す図面である。
【図８】従来のプラズマディスプレイパネルの隔壁に形成された壁電荷を示す図面である。
【図９】図８に示された隔壁に形成された壁電荷によって発生される光波形の搖れを示す図面である。
【図１０】本発明の実施形態によるプラズマディスプレイパネルの放電セルの構造を示した断面図である。
【図１１】図１０に示された補助放電空間を有する格子型隔壁を示す図面である。
【図１２】図１０に示されたプラズマディスプレイパネルの上板の製造方法において透明電極の形成を示す図面である。
【図１３】図１０に示されたプラズマディスプレイパネルの上板の製造方法においてバス電極の形成を示す図面である。
【図１４】図１０に示されたプラズマディスプレイパネルの上板の製造方法において上部誘電体層の形成を示す図面である。
【図１５】図１０に示されたプラズマディスプレイパネルの上板の製造方法において保護膜の形成を示す図面である。
【図１６】図１０に示されたプラズマディスプレイパネルの下板の製造方法においてアドレス電極の形成を示す図面である。
【図１７】図１０に示されたプラズマディスプレイパネルの下板の製造方法において下部誘電体層の形成を示す図面である。
【図１８】図１０に示されたプラズマディスプレイパネルの下板の製造方法において格子型隔壁の形成を示す図面である。
【図１９】図１０に示されたプラズマディスプレイパネルの下板の製造方法において酸化膜の形成を示す図面である。
【図２０】図１０に示されたプラズマディスプレイパネルの下板の製造方法において蛍光体の形成を示す図面である。
【符号の説明】
【００３４】
１０、１１０  上部基板
１８、１１８  下部基板
１２Ｘ、１１２Ｘ  アドレス電極
１２Ｙ、１１２Ｙ  走査維持電極
１２Ｚ、１１２Ｚ  共通維持電極
１２a、１１２a  透明電極
１２b、１１２b  バス電極
１４、１１４  上部誘電体層
１６、１１６  保護膜
２０、１２０  蛍光体
２２、１２２  下部誘電体層
２４、１２４  隔壁
４５  壁電荷
１１５  補助放電空間
１２４a  横隔壁
１２４b  縦隔壁
１４５  酸化膜
【図１】
2005038856.tif 000003
【図２】
2005038856.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2005038856.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
2005038856.tif 000013
【図１２】
2005038856.tif 000014
【図１３】
2005038856.tif 000015
【図１４】
2005038856.tif 000016
【図１５】
2005038856.tif 000017
【図１６】
2005038856.tif 000018
【図１７】
2005038856.tif 000019
【図１８】
2005038856.tif 000020
【図１９】
2005038856.tif 000021
【図２０】
2005038856.tif 000022