(57)【要約】【課題】  表示装置として高品位に画像を表示できるとともに、鏡としても高性能に機能できる有機ＥＬ表示装置および電子機器を提供する。【解決手段】  透明基板１１と、透明基板１１の一方面側に設けられた有機ＥＬ素子１７と、透明基板と有機ＥＬ素子１７との間に設けられた反射膜３１とを有することを特徴とする。【選択図】    図１
2005332616.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板の一方面側に設けられた有機エレクトロルミネッセンス素子と、
前記透明基板と前記有機エレクトロルミネッセンス素子との間に設けられた反射膜とを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項２】
前記反射膜及び前記有機エレクトロルミネッセンス素子によって鏡として機能し、前記有機エレクトロルミネッセンス素子によって表示装置として機能することを特徴とする請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項３】
前記反射膜は、前記有機エレクトロルミネッセンス素子が配置された領域を囲むように配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項４】
前記反射膜は、有機エレクトロルミネッセンス素子が配置された領域を除く殆ど全ての鏡となる領域に配置されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項５】
前記有機エレクトロルミネッセンス素子が前記透明基板側から光を射出するものであることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項６】
前記透明基板上に、前記有機エレクトロルミネッセンス素子に供給する電流を制御する駆動素子が設けられており、
前記反射膜は、前記駆動素子と前記透明基板との間に設けられていることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項７】
前記反射膜は、前記有機エレクトロルミネッセンス素子及び前記駆動素子の配線であることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項８】
前記配線は、複数の直線帯形状の導体が碁盤の目のように配置されており、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記配線によって囲まれる様に配置されていることを特徴とする請求項３から７のいずれか一項に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項９】
前記反射膜は、アルミニウム、銀又はそれらを含む合金からなることを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれか一項に記載の有機ＥＬ表示装置を有することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置および電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶ディスプレイに替わる自発光型ディスプレイとして、有機物を発光材料として用いた有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置が開発されている。この有機ＥＬ表示装置に用いられる有機ＥＬ素子は、発光層となる有機物層が薄く透明性が高いため、背面の電極による反射或いは背面に設置した反射膜による反射で、非発光時には鏡としても機能することが知られている。このため、有機ＥＬを照明として使用し、背面電極を反射部として用いた鏡が提案されている（例えば、特許文献１参照）。また、通常使用時は本来の表示ディスプレイとし、未表示時は鏡として使用できる有機ＥＬ表示装置が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２０００−４１８０７号公報
【特許文献２】特開２００３−１７８８６５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記従来の技術では、表示ディスプレイとしての性能向上を図るために、微細な有機ＥＬ素子を多数形成した場合に、有機ＥＬ素子の形成されない領域即ち鏡として機能しない領域の比率が増加する。このため、充分な反射を行うことができず、鏡としての機能が低下する。また、有機ＥＬ素子を多数形成した領域とそうでない領域とを有する場合には、場所により反射率が大きく異なることとなり、鏡としての機能が低下する。さらに、有機ＥＬ素子を駆動する素子を同一基板上に集積した場合には、鏡として機能しない領域の比率がさらに増加し、鏡としての機能がさらに低下する。特に、基板側から光を出射する形式の有機ＥＬ素子を用いる場合にはその影響が顕著となる。
【０００４】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、表示装置として機能するとともに、鏡としても機能する有機ＥＬ表示装置および電子機器を提供することを目的とする。
また、本発明は、表示装置として高品位に画像を表示できるとともに、鏡としても高性能に機能できる有機ＥＬ表示装置および電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明の有機ＥＬ表示装置は、透明基板と、前記透明基板の一方面側に設けられた有機エレクトロルミネッセンス素子と、前記透明基板と前記有機エレクトロルミネッセンス素子との間に設けられた反射膜とを有することを特徴とする。
本発明によれば、本発明にかかる有機ＥＬ表示装置の外から透明基板に入射した光の一部は、その透明基板を透過した後、反射膜に到達して前記反射膜で反射される。また、他の一部は有機ＥＬ素子に到達して、その背面電極で反射される。それらの反射光は、再び透明基板を透過して、出射する。これらにより、本発明の有機ＥＬ表示装置は、鏡として機能することができる。また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、前記有機ＥＬ素子から出射する光により表示装置としても機能することができる。したがって、本発明の有機ＥＬ表示装置は、例えば、有機ＥＬ素子の非点灯時には鏡としての機能を発揮し、有機ＥＬ素子の点灯時には表示パネルとしての機能を発揮することができる。ここで、有機ＥＬ素子の点灯時においては、自発光素子である有機ＥＬ素子に特有の高品位で臨場感のある画像を表示することができる。また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、例えば洗面所又は浴室などに配置されて、通常時は鏡として機能し、緊急時は緊急情報を表示させる装置として機能することもできる。
また、本発明によれば、反射膜が有機ＥＬ素子よりも透明基板側に設けられている。これにより、透明基板側から入射した光が有機ＥＬ素子の周辺の構造によってランダムに散乱されることを回避することができる。したがって、本発明の有機ＥＬ表示装置は、表示機能と鏡としての機能を高度に両立させることができる。
【０００６】
また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、前記反射膜及び前記有機エレクトロルミネッセンス素子によって鏡として機能し、前記有機エレクトロルミネッセンス素子によって表示装置として機能することが好ましい。
【０００７】
また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、前記有機エレクトロルミネッセンス素子が配置された領域を囲むように配置されていることが好ましい。
本発明によれば、例えば各有機ＥＬ素子がマトリクス状に配置されて画素をなし、反射膜は各画素が配置された領域を囲むように配置されている。ここで、画素が配置された領域（発光領域）の一部を反射膜で覆ってもよく、画素領域以外の領域の一部に反射膜を配置してもよい。これらにより、各画素から出射された光の全部又は一部は、反射膜で遮られることなく透明基板を透過して出射する。したがって、本発明の有機ＥＬ表示装置は、簡素な構成としながら、高い表示機能と鏡としての機能を両立させることができる。
【０００８】
また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、前記反射膜が、有機エレクトロルミネッセンス素子が配置された領域を除く殆ど全ての鏡となる領域に配置されていることが好ましい。
本発明によれば、有機ＥＬ素子が配置された領域を除く殆ど全ての鏡となる領域に反射膜が配置されているので、鏡としての機能を高めることができる。したがって、本発明の有機ＥＬ表示装置は、表示機能と鏡としての機能をより高度に両立させることができる。
【０００９】
また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、前記有機エレクトロルミネッセンス素子が前記透明基板側から光を射出するものであることが好ましい。
本発明によれば、有機ＥＬ素子が透明基板側から光を射出する、いわゆるボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置を構成している。ボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置は、外からの光が入射する透明基板側に直接反射膜及び有機ＥＬ素子を形成しているため、平坦性の高い反射面を得ることが可能である。また、前記透明基板と反射面との間に、光を散乱する様な構造を設けることなく構成することが可能である。このため、効率の良い歪みの少ない反射を行うことが出来、鏡として高い機能を得ることが出来る。
【００１０】
また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、前記透明基板上に、前記有機エレクトロルミネッセンス素子に供給する電流を制御する駆動素子が設けられており、前記反射膜は、前記駆動素子と前記透明基板との間に設けられていることが好ましい。
本発明によれば、反射膜が駆動素子よりも透明基板側に配置されている。これにより、透明基板を透過した光であって、反射膜に到達する光、及び反射膜で反射した光が、駆動素子によって遮光又はランダムに散乱されることを回避することができる。したがって、本発明の有機ＥＬ表示装置は、表示機能と鏡機能とをより高度に両立させることができる。ここで、駆動素子としては、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）を用いることが好ましい。また、ボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置では、駆動素子及び配線と、有機ＥＬ素子を重ねて配置することが出来ないため、有機ＥＬ素子の形成されない領域即ち鏡として機能しない領域の比率が増加する。本発明によれば、この有機ＥＬ素子の間の領域も有効に鏡として機能させることが可能であり、鏡としての高い性能を得ることができる。
【００１１】
また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、前記反射膜が、前記透明基板における前記有機エレクトロルミネッセンス素子側の面に直接に設けられていることが好ましい。
本発明によれば、反射膜が透明基板に直接設けられているので、透明基板を透過した光がその透明基板をなす部材以外のものによって遮光又はランダムに散乱されることを回避することができる。したがって、本発明の有機ＥＬ表示装置は、簡便で作り易い構成としながら、表示機能と鏡機能とをより高度に両立させることができる。ここで、透明基板における露出面側（有機ＥＬ素子側とは逆側）の面に設けた場合は、透明基板の厚み（例えばミリメートル・オーダ）が画素領域の大きさ（例えばマイクロメートル・オーダ）と比べて大きいので、画素領域以外の領域に反射膜を配置することが、事実上不可能となる。そこで、本発明は、反射膜が透明基板における有機ＥＬ素子側の面に設けられているので、画素領域以外の領域に反射膜を配置することが簡便にかつ高精度にできる。したがって、本発明は、表示機能と鏡機能とを高度に両立した有機ＥＬ表示装置を低コストで提供することができる。
【００１２】
また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、前記反射膜が、前記有機エレクトロルミネッセンス素子及び前記駆動素子の配線であることが好ましい。前記配線は、複数の直線帯形状の導体が碁盤の目のように配置されており、前記有機エレクトロルミネッセンス素子は、前記配線によって囲まれる様に配置されていることが好ましい。
本発明によれば、例えば、画素毎に設けられている駆動素子に電力を供給する電源線と、その駆動素子を制御する信号を伝送する信号線とを反射膜として機能させることができる。したがって、従来のボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置の課題（開口率の低下）であった非表示エリア（画素領域以外の領域）での配線を、鏡として有効活用することができる。また、配線とは別に反射膜を設ける必要が無いため、有機ＥＬ表示装置を製造する工程数を増やすこと無く、鏡としての機能を向上することが出来る。このため、歩留まり、コスト面で有利である。
【００１３】
また、本発明の有機ＥＬ表示装置は、前記反射膜がアルミニウム、銀又はそれらを含む合金からなることが好ましい。
本発明によれば、高反射率材料であるアルミニウム、銀又はそれらを含む合金を用いて、安定して高精度な反射膜を構成することができる。また、これらの材料は、有機ＥＬ素子及び駆動素子を作製する場合に一般的に用いられる材料であり、新たな成膜装置、加工装置を導入すること無く反射膜を作製することができる。
【００１４】
上記目的を達成するために、本発明の電子機器は、前記有機ＥＬ表示装置を有することを特徴とする。
本発明によれば、高品位な表示機能と鏡機能とを有する電子機器を、製造コストを抑えながら提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置について、図面を参照して説明する。
（第１実施形態）
図１は、本発明の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の一部を示す断面図である。すなわち、図１では有機ＥＬ表示装置の１画素分を示している。図２は、図１に示す有機ＥＬ表示装置の非点灯時における正面全体を示す平面図である。図３は図２の拡大図であり、図３（ａ）は平面図であり、図３（ｂ）は断面図である。そして、図３（ｂ）をさらに拡大したものが図１である。
【００１６】
本実施形態の有機ＥＬ表示装置１は、図２に示すように、パネル正面の全体に設けられた長方形状の透明基板１１を有してなる。そして、透明基板１１は、有機ＥＬ素子の非点灯時においてはほとんど前面が鏡となり、点灯時においてはディスプレイとして機能する。ここで、有機ＥＬ素子の点灯状態を制御することなどにより、点灯時においても鏡としての機能を発揮させることもできる。以下、有機ＥＬ表示装置１の具体的な構成について説明する。
【００１７】
図１及び図３に示すように、有機ＥＬ表示装置１は、透明基板１１と、陽極１３と、有機ＥＬ層１７と、陰極１９と、反射膜３１とを有している。ここで、陽極１３、ホール輸送層１６、有機ＥＬ層１７、陰極１９は、透明基板１１の一方面側（図面下側）にこの順序で積層され有機ＥＬ素子２２を成している。そして、有機ＥＬ表示装置１は、有機ＥＬ素子２２から出射された光を陽極１３側（透明基板１１側）から取り出すボトムエミッション型の有機ＥＬ表示装置をなしている。
【００１８】
反射膜３１は、図１及び図３（ｂ）に示すように、透明基板１１の厚み方向で、透明基板１１と有機ＥＬ素子２２との間に設けられている。また、図３（ａ）に示すように、平面的に、有機ＥＬ素子２２がなす発光領域４０（１画素の領域）は、透明基板１１の殆ど全面に分散配置されている。そして、反射膜３１は、平面的に、透明基板１１の発光領域４０を除く殆ど全ての領域に、配置されている。
【００１９】
これらにより、有機ＥＬ表示装置１は、反射膜３１及び有機ＥＬ素子２２によって鏡として機能し、有機ＥＬ素子２２によって表示装置として機能することができる。そして、反射膜３１が発光領域４０以外の全ての領域に配置されているので、有機ＥＬ表示装置１の殆ど全面を鏡として機能させることができる。ここで、発光領域４０の一部と反射膜３１を平面的に重ねて配置してもよい。この場合は有機ＥＬ素子の光の利用効率は低下するが、有機ＥＬ素子周辺の構造での光の散乱を抑えることが可能で、鏡としての機能はより向上させることができる。
【００２０】
次に、図１を参照して、有機ＥＬ表示装置１の構成をさらに詳細に説明する。
有機ＥＬ表示装置１は、封止基板２０を有しており、透明基板１１と封止基板２０とが封止樹脂２１を介して貼り合わされてなるものである。そして、有機ＥＬ素子２２は透明基板１１と封止基板２０の間に封止される構成となっている。ここで、透明基板１１側から出射される光が、表示光Ｌ１又は反射光Ｌ２として用いられる。
【００２１】
また、透明基板１１と封止基板２０との間に空間を設け、封止基板２０の内面に水分や酸素を吸収するゲッター剤を貼着する形式としても良い。このような構成とすると、有機ＥＬ表示装置１の内部に水分や酸素が浸透するのが抑制され、これにより有機ＥＬ表示装置１はその長寿命化が図られたものとなっている。
【００２２】
有機ＥＬ表示装置１は、ボトムエミッション型であり、有機ＥＬ素子２２から出射されて透明基板１１側から出た光を表示光Ｌ１として取り出す構成であるので、透明基板１１の材料は透明又は半透明のものが採用される。透明基板１１の材料としては、例えば、ガラス、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）などが挙げられ、特にガラス基板が好適に用いられる。封止基板２０としては、例えば電気絶縁性を有する板状部材を採用することができる。また、封止樹脂は、例えば熱硬化樹脂或いは紫外線硬化樹脂からなるものであり、特に熱硬化樹脂の一種であるエポキシ樹脂を採用することが好ましい。
【００２３】
そして、透明基板１１と有機ＥＬ素子２２との間には、反射膜３１が設けられている。反射膜３１は、アルミニウム、銀或いはそれらを含む合金などの高反射率の金属材料からなることが好ましい。有機ＥＬ表示装置１の外から透明基板１１に入射した光の一部は、透明基板１１を透過した後、反射膜３１に到達してその反射膜３１で反射される。その反射光は、再び透明基板１１を透過して、有機ＥＬ表示装置１の外に出て反射光Ｌ２となる。この反射光Ｌ２が鏡機能を発揮する光である。
【００２４】
透明基板１１上に反射膜３１を成膜する方法としては、スパッタ法を用いている。スパッタ法は、有機ＥＬ素子の電極或いは駆動素子の配線等を形成するのに一般的に用いられる方法であり、成膜装置や加工装置を共有することが可能である。また、ＣＶＤ法、蒸着法、イオンプレーティング法等、半導体製造工程で用いられる種種の方法を用いることも可能である。さらには、液相法を用いて反射膜３１を形成してもよい。無電解メッキ法を用いた場合、非常に反射率の高い反射膜３１を成膜することが可能である。また、金属微粒子（アルミニウム又は銀など）と溶媒とを混合させた分散液を材料液体として、スピンコート法、スリットコート法、ディップコート法、スプレー法、ロールコート法、カーテンコート法、印刷法、液滴吐出法等を用いて成膜しても良い。印刷法、液滴吐出法を用いた場合には、成膜とパターン形成とを同時に行うことができ、製造工程の簡略化が可能である。
【００２５】
また、透明基板１１における有機ＥＬ素子２２側の面には、全体的に、層間絶縁膜１２が設けられている。層間絶縁膜１２は、例えば２層で構成されているものとする。また、層間絶縁膜１２は、例えば、珪素酸化物、珪素窒化物又は珪素酸窒化物によって構成することができる。このような構造を用いることにより、反射膜３１と陽極１３の短絡による欠陥の発生を防止できる。また、陽極１３、有機ＥＬ素子２２及び陰極１９からなる有機ＥＬ素子がガスバリア性の膜（即ち、層間絶縁膜１２及び封止基板２０）によって包みこまれることとなり、より信頼性の高い有機ＥＬ表示装置を構成することができる。
【００２６】
また、透明基板１１上の反射膜３１と有機ＥＬ素子２２との間には、有機ＥＬ素子２２を駆動する素子であるＴＦＴ１４及び配線１５が設けられている。ここで、ＴＦＴ１４は図１に示すように、２層の層間絶縁膜１２の間に配置されている。ＴＦＴ１４及び配線１５は、平面的な位置関係において、有機ＥＬ素子２２と重ならない様に配置されている。ＴＦＴ１４は、各有機ＥＬ素子２２毎に設けられており、陽極１３を介して有機ＥＬ素子２２に供給する電流を制御している。配線１５は、ＴＦＴ１４に対して電力を供給する電源線と、ＴＦＴ１４に対して駆動及びデータ信号を伝送する信号線とからなる。
【００２７】
また、発光領域４０（図３参照）を囲むように、バンク１８が設けられている。有機ＥＬ素子２２の陰極１９は、複数の有機ＥＬ素子２２及びバンク１８を共通して覆う様に設けられている。そして、陰極１９のさらに外側に封止基板２０が配置されている。
【００２８】
陽極１３は、有機ＥＬ表示装置１がボトムエミッション型であることから透明導電材料によって形成されている。透明導電材料としてはＩＴＯが好適とされるが、これ以外にも、例えば酸化インジウム・酸化亜鉛、酸化スズ、インジウム酸化亜鉛（ＩＺＯ）、インジウム酸化セリウム（ＩＣＯ）、ガリウム酸化亜鉛（ＧＺＯ）等を用いることができる。なお、本実施形態ではＩＴＯを用いるものとする。
【００２９】
ホール輸送層１６は、陽極１３からの正孔を有機ＥＬ層１７に注入／輸送する層膜である。有機ＥＬ層１７は、ホール輸送層１６から注入された正孔と陰極１９から注入された電子とが結合して発光する層膜である。ホール輸送層１６は、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液を塗布後乾燥して、膜化したものが好適に用いられる。
なお、ホール輸送層１６の形成材料としては、前記のものに限定されることなく種々の材料が使用可能である。例えば、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体等を、例えばポリスチレンスルフォン酸等の適宜な分散媒に分散させたものが使用可能である。
【００３０】
有機ＥＬ層１７を形成するための材料としては、蛍光又は燐光を発光することが可能な公知の発光材料が用いられる。また、フルカラー表示を行う場合は、例えば赤、青、緑に相当する発光波長を有する有機ＥＬ素子を形成し、これらの３種類の有機ＥＬ素子を組み合わせて１画素を構成する。各画素の有機ＥＬ素子を階調して発光することにより、有機ＥＬ表示装置１が全体としてフルカラー表示をなすことができる。
【００３１】
有機ＥＬ層１７の形成材料として具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）等のポリシラン系等が好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
【００３２】
なお、赤色の有機ＥＬ層１７の形成材料としてＭＥＨＰＰＶ（ポリ（３−メトキシ６−（３−エチルヘキシル）パラフェニレンビニレン）を、緑色の有機ＥＬ層１７の形成材料としてポリジオクチルフルオレンとＦ８ＢＴ（ジオクチルフルオレンとベンゾチアジアゾールの交互共重合体）の混合物を、青色の有機ＥＬ層１７の形成材料としてポリジオクチルフルオレンを用いてもよい。また、これらの有機ＥＬ層１７については、特にその厚さについては制限がなく、各色毎に好ましい膜厚が調整されている。
【００３３】
陰極１９は、発光領域４０の総面積より広い面積を備え、発光領域４０を覆うように形成されたものである。陰極１９は、例えば、有機ＥＬ層１７上に設けられた低仕事関数の金属からなる第１陰極と、その第１陰極上に設けられて第１陰極を保護する第２陰極とからなるものとする。第１陰極を形成する低仕事関数の金属としては、特に仕事関数が３．０ｅＶ以下の金属であるのが好ましく、具体的にはＣａ（仕事関数；２．６ｅＶ）、Ｓｒ（仕事関数；２．１ｅＶ）、Ｂａ（仕事関数；２．５ｅＶ）が好適に用いられる。第２陰極は、第１陰極を覆って酸素や水分等からこれを保護するとともに、陰極１９全体の導電性を高めるために設けられたものである。この第２陰極の形成材料としては、化学的に安定で比較的仕事関数が低いものであれば特に限定されることなく、任意のもの、例えば金属や合金等が使用可能であり、具体的にはＡｌ（アルミニウム）やＡｇ（銀）等が好適に用いられる。
【００３４】
なお、陰極１９と有機ＥＬ層１７との間に、陰極１９から出される電子を有機ＥＬ層１７に注入／輸送する電子注入層を設けてもよい。電子注入層の材料としては、有機ＥＬ層１７の各種材料に応じて適宜選択される。具体的には、アルカリ金属のフッ化物として、ＬｉＦ（フッ化リチウム）、ＮａＦ（フッ化ナトリウム）、ＫＦ（フッ化カリウム）、ＲｂＦ（フッ化ルビジウム）、ＣｓＦ（フッ化セシウム）等、又はアルカリ金属の酸化物、即ちＬｉ２Ｏ（酸化リチウム）、Ｎａ２Ｏ（酸化ナトリウム）等が電子注入層として好適に用いられる。
【００３５】
これらにより、本実施形態の有機ＥＬ表示装置１によれば、反射膜３１及び有機ＥＬ素子２２により鏡機能を発揮でき、さらに、有機ＥＬ素子２２により高性能なディスプレイ機能（表示パネル機能）を発揮することができる。また、本実施形態の有機ＥＬ表示装置１では、反射膜３１を透明基板１１に直接設けており、透明基板１１と反射膜３１との間に構成部材が全くないので、反射膜３１に入射する光及び反射膜３１の反射光が有機ＥＬ表示装置１の構成部材（透明基板１１を除く）で遮蔽又は散乱されることがない。したがって、有機ＥＬ表示装置１は、高性能な鏡としての機能を発揮することができる。
【００３６】
（第２実施形態）
図４は、本発明の第２実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の一部を示す断面図である。図４は有機ＥＬ表示装置の１画素分を示している。図５は、図４に示す有機ＥＬ表示装置の非点灯時における正面全体を示す平面図である。図６は図５の拡大図であり、図６（ａ）は平面図であり、図６（ｂ）は断面図である。そして、図６（ｂ）をさらに拡大したものが図４である。図４から図６において、図１から図３に示す第１実施形態の有機ＥＬ表示装置１の構成要素と同一のものには同一の符号を付している。
【００３７】
本有機ＥＬ表示装置２における第１実施形態の有機ＥＬ表示装置１との主な相違点は、反射膜３２の機能である。有機ＥＬ表示装置２は、反射膜３２を有している。この反射膜３２は、第１実施形態の有機ＥＬ表示装置１の反射膜３１に対応するものである。ただし反射膜３２は、反射機能を有するのみならず、配線としての機能を有する。すなわち、反射膜３２は、第１実施形態の有機ＥＬ表示装置１における配線１５としても機能する。
【００３８】
そして、反射膜３２は、図６（ａ）に示すように、複数の直線帯形状の導体である信号線３２ａ及び電源線３２ｂからなる。電源線３２ｂは画素毎に設けられているＴＦＴ１４’に電力を供給する配線である。信号線３２ａはＴＦＴ１４’を制御する信号を伝送する配線である。そして、信号線３２ａ及び電源線３２ｂは、碁盤の目のように配置されている。有機ＥＬ表示装置２の発光領域４０は、平面的に信号線３２ａ及び電源線３２ｂによって囲まれる様に配置されている。換言すれば、反射膜３２（すなわち信号線３２ａ及び電源線３２ｂ）は有機ＥＬ素子が形成されていない領域を覆う様に配置されている。また、反射膜３２は、アルミニウム又は銀のような高反射率の材料からなる。
【００３９】
層間絶縁膜１２’、陽極１３’及びＴＦＴ１４’については有機ＥＬ表示装置１と本質的な相違はなく、対応する各構成要素はそれぞれ同様な機能を有する。有機ＥＬ表示装置２における上記以外の構成も、第１実施形態の有機ＥＬ表示装置１と同様である。図４に示すように、有機ＥＬ表示装置２において、有機ＥＬ素子２２から出射される光が表示光Ｌ１１となり、反射膜３２で反射された光が反射光Ｌ１２となる。
【００４０】
これらにより、本実施形態の有機ＥＬ表示装置２は、ボトムエミッション型有機ＥＬ表示装置の課題（開口率の低下）であった非表示エリアでの配線を、鏡として有効活用することができる。また、配線とは別に反射膜を設ける必要が無いため、有機ＥＬ表示装置の製造工程数を増やすこと無く、鏡としての機能を向上させることができる。
【００４１】
また、有機ＥＬ表示装置２は、第１実施形態と同様に、反射膜３２を透明基板１１に直接設けており、透明基板１１と反射膜３２との間に構成部材が全くないので、反射膜３２に入射する光及び反射膜３２の反射光が有機ＥＬ表示装置２の構成部材（透明基板１１を除く）で遮蔽又は散乱されることがない。したがって、有機ＥＬ表示装置２は、反射膜３２によって、高性能な鏡機能を発揮することができる。
【００４２】
図７は、本実施形態に係る有機ＥＬ表示装置２の等価回路を示す模式図である。
有機ＥＬ表示装置２は、複数の走査線１０１と、各走査線１０１に対して直角に交差する方向に延びる複数の信号線１０２と、各信号線１０２に並列に延びる複数の電源線１０３とからなる配線構成を有し、走査線１０１と信号線１０２との各交点付近に画素Ｘを形成したものである。ここで、走査線１０１（及び／又は信号線１０２）が図６における信号線３２ａに相当する。また、電源線１０２が図６における電源線３２ｂに相当する。
【００４３】
信号線１０２には、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン及びアナログスイッチを備えるデータ線駆動回路１００が接続されている。また、走査線１０１には、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査線駆動回路８０が接続されている。さらに、各画素Ｘには、走査線１０１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用ＴＦＴ１４ｂと、このスイッチング用ＴＦＴ１４ｂを介して信号線１０２から共有される画素信号を保持する保持容量１４ｃと、該保持容量１４ｃによって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用ＴＦＴ１４ａと、この駆動用ＴＦＴ１４ａを介して電源線１０３に電気的に接続したときに当該電源線１０３から駆動電流が流れ込む陽極１３’と、この陽極１３’と陰極１９との間に挟み込まれた電気光学層Ｅとが設けられている。ここで、各画素Ｘが図６における有機ＥＬ素子２２に相当する。また、駆動用ＴＦＴ１４ａ及びスイッチング用ＴＦＴ１４ｂが図４におけるＴＦＴ１４’に相当する。また、電気光学層Ｅが図４における有機ＥＬ層１７に相当する。そして、このような陽極１３’と陰極１９と電気光学層Ｅとにより、発光素子、すなわち有機ＥＬ素子が構成されている。
【００４４】
この有機ＥＬ表示装置２によれば、走査線１０１が駆動されてスイッチング用ＴＦＴ１４ｂがオン状態になると、そのときの信号線１０２の電位が保持容量１４ｃに保持され、該保持容量１４ｃの状態に応じて、駆動用ＴＦＴ１４ａのオン・オフ状態が決まる。そして、駆動用ＴＦＴ１４ａのチャネルを介して、電源線１０３から陽極１３’に電流が流れ、さらに電気光学層Ｅを介して陰極１９に電流が流れる。電気光学層Ｅは、これを流れる電流量に応じて発光する。
【００４５】
（電子機器）
次に上記実施形態の有機ＥＬ表示装置を用いて構成された電子機器について説明する。
図８（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図８（ａ）において、符号６００は携帯電話本体を示し、符号６０１は上記実施形態の有機ＥＬ表示装置からなる表示部を示している。図８（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図８（ｂ）において、符号７００は情報処理装置、符号７０１はキーボードなどの入力部、符号７０２は上記実施形態の有機ＥＬ表示装置からなる表示部、符号７０３は情報処理装置本体を示している。図８（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図８（ｃ）において、符号８００は時計本体を示し、符号８０１は上記実施形態の有機ＥＬ表示装置からなる表示部を示している。
【００４６】
図８に示す電子機器は、上記実施形態の有機ＥＬ表示装置を備えているので、高品位に画像又は各種情報などを表示できるのみならず、高品位な鏡機能を発揮することができる。例えば、図８（ａ）に示す携帯電話は、表示部６０１において高品位な各種画像（動画を含む）を表示でき、非点灯時においては表示部６０１を「コンパクト（手鏡）」として用いることができる。また、図８（ｂ）に示す携帯型情報処理装置７００は、表示部７０２において高品位な各種画像（動画を含む）を表示でき、非点灯時においては表示部７０２を鏡として用いることができる。また、図８（ｃ）に示す腕時計型電子機器は、表示部８０１において高品位な各種画像（動画を含む）を表示でき、非点灯時においては表示部８０１を「コンパクト（手鏡）」として用いることができる。
【００４７】
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能であり、実施形態で挙げた具体的な材料や層構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。
【００４８】
例えば、上記実施形態の有機ＥＬ表示装置１，２は、洗面所又は浴室などに配置されて通常時は鏡として機能し、緊急時は緊急情報を表示させる装置として機能するように、用いられることができる。
【００４９】
また、本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、点灯時においてディスプレイ機能を発揮し、非点灯時において鏡機能を発揮する形態に限定されるものではなく、点灯時においてディスプレイ機能を発揮させつつ鏡機能を発揮させることもできる。例えば、本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、表示画面全体における一部領域にのみ情報又は画像を表示させ、表示画面の他の領域で鏡機能を発揮させることができる。また、本発明に係る有機ＥＬ表示装置は、表示画面全体において低輝度（又は低発光量）で所望の画像を表示させつつ、その表示画面全体において鏡機能を発揮させることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】本発明の第１実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の一部を示す断面図である。
【図２】図１に示す有機ＥＬ表示装置の正面全体を示す平面図である。
【図３】図２に示す有機ＥＬ表示装置についての拡大平面図と拡大断面図である。
【図４】本発明の第２実施形態に係る有機ＥＬ表示装置の一部を示す断面図である。
【図５】図４に示す有機ＥＬ表示装置の正面全体を示す平面図である。
【図６】図５に示す有機ＥＬ表示装置についての拡大平面図と拡大断面図である。
【図７】図６に示す有機ＥＬ表示装置の等価回路を示す模式図である。
【図８】本発明の実施形態に係る電子機器を示す斜視図である。
【符号の説明】
【００５１】
１，２…有機ＥＬ表示装置、１１…透明基板、１２，１２’…層間絶縁膜、１３，１３’…陽極、１４，１４’…ＴＦＴ、１５…配線、１６…ホール輸送層、１７…有機ＥＬ層、１８…バンク、１９…陰極、２０…封止基板、２１…封止樹脂、２２…有機ＥＬ素子、３１，３２…反射膜、３２ａ…信号線、３２ｂ…電源線、４０…発光領域（１画素の領域）、Ｌ１，Ｌ１１…表示光、Ｌ２，Ｌ１２…反射光
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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