(57)【要約】【課題】  多値画像をより画素サイズの小さい２値画像へ変換する際に、電子写真方式でも再現可能なドット周期とサイズとを確保しつつ、モアレの発生を回避する。【解決手段】  多値画像をより画素サイズの小さい２値画像へ変換する画像処理装置に、注目画素に対応する微画素の塗潰しパターンを、処理済み周辺画素の塗潰しパターンに基づいて判定させ、その注目画素に対応する多値データと所定の閾値との比較結果に応じて、その判定結果を変更させる。そして、その注目画素に対応する微画素を上記多値データと上記決定された塗潰しパターンとに基づいて塗潰して２値化させ、さらに、塗潰された微画素の数を上記多値画像における画素値に換算させ、その注目画素より前の２値化処理で生じた量子化誤差と上記多値データとにより算出された補正画素値と、その換算結果との差で上記量子化誤差値を更新させる。【選択図】      図８
2005277766.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画素値が多値である入力画像を、該入力画像よりも画素サイズが小さい微画素の配列を用いて２値化する画像処理装置において、
処理対象である注目画素に対応する塗潰しパターンを、前記入力画像にて該注目画素の周辺に位置する処理済み画素の塗潰しパターンと、前記注目画素に対応する多値データと所定の閾値との比較結果に基づいて決定するパターン決定手段と、
前記パターン決定手段によって決定された塗潰しパターンにしたがって、前記注目画素に対応する微画素の配列を前記多値データに基づいて塗潰し２値化する２値化手段と、
前記２値化手段により塗潰された微画素の数を前記入力画像における画素値に換算し、前記注目画素より前の２値化処理で生じた量子化誤差と前記多値データとにより算出された補正画素値と、その換算結果との差を前記量子化誤差値として算出する誤差算出手段と
を有することを特徴とする画像処理装置。
【請求項２】
前記２値化手段は、前記多値データに所定の乱数を加算して得られる値に基づいて、前記注目画素に対応する微画素の配列を、前記パターン決定手段によって決定された塗潰しパターンにしたがって塗潰す
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項３】
前記パターン決定手段は、前記多値データに応じて、高濃度域用の塗潰しパターンと、低濃度域用の塗潰しパターンとを使い分ける
ことを特徴とする請求項１に記載の画像処理装置。
【請求項４】
コンピュータ装置に、
画素値が多値である入力画像を、該入力画像よりも画素サイズが小さい微画素の配列を用いて２値化させるプログラムにおいて、
処理対象である注目画素に対応する塗潰しパターンを、前記入力画像にて該注目画素の周辺に位置する処理済み画素の塗潰しパターンと、前記注目画素に対応する多値データと所定の閾値との比較結果に基づいて決定するパターン決定機能と、
前記パターン決定機能によって決定された塗潰しパターンにしたがって前記注目画素に対応する微画素の配列を前記多値データに基づいて塗潰し２値化する２値化機能と、
前記２値化機能により塗潰された微画素の数を前記入力画像における画素値に換算し、前記注目画素より前の２値化処理で生じた量子化誤差と前記多値データとにより算出された補正画素値と、その換算結果との差を前記量子化誤差値として算出する誤差算出機能と
を実現させるプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
画像処理装置およびプログラムに関し、特にレーザービームプリンタや印刷製版機器の分野において、多値で表される入力画像データを、誤差拡散処理を行いながら複数の微画素の２値データで階調表現するための画像処理装置およびプログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザービームプリンタやインクジェットプリンタ、或いは印刷製版機器等の分野においては、色分解された多値画像データの濃度階調を再現する手法として、２値のドットの集まり（クラスタ）の大きさで表現する面積階調法や、２値のドットの粗密で視覚的に濃度階調を表現するストキャスティックハーフトーニング技術がある。
前者の面積階調法としては、規則正しい格子点を起点に画像濃度に応じて微小ドットを着色しながらドットの面積を変調するディザマトリクス（集中ディザ）法が知られている。一方、後者のストキャスティックハーフトーニング技術としては、画素毎に所定の閾値で２値化しながら、２値化誤差を未処理の隣接画素へ拡散させ、マクロ的に濃度情報を保存する“誤差拡散法”が知られている（例えば、非特許文献１参照）。
【０００３】
ディザマトリクス法では、予め設定した閾値と入力画像データの値とを１画素毎に比較しながら２値化処理を行っているため階調特性と分解能とを両立させるには、２値化処理の解像度を十分高くし、あわせてディザマトリクスのサイズも大きくしなければならない。また、網点が規則的に配置されることから２次色、３次色のカラーモアレ、原稿とのモアレといった問題を持っている。
【０００４】
一方、誤差拡散法では、ディザマトリクスのように２値化閾値が画素位置に依存しないため、ドット構造の周期性が低く入力画像データの画像構造に追従しやすいといった特徴や、マクロ的に濃度情報が保存されるといった特徴があり、階調特性と高分解能とを両立させやすく、かつ、モアレ模様の発生を抑止する効果が大きいと言われている。
【０００５】
しかしながら、誤差拡散法においても、特定データが連続して入力された場合には、拡散誤差が周期性を持ち、特定のテクスチャが発生したり、或いはワームノイズと呼ばれる縞状のノイズが混入する、というような課題があった。これらの課題については、従来、拡散誤差に乱数データを付与する技術（例えば、特許文献１参照）や、拡散誤差に乗算する係数を種々の方法で切替える技術（例えば、特許文献２参照）等を用いることによって解決を図ってきた。特に、インクジェットプリンタでは、このような手法と高解像度化により、誤差拡散法を用いて高画質化が図られている。
【０００６】
ところが、誤差拡散法はインクジェットプリンタでは多く用いられ、その階調再現効果を十分に発揮できているが、レーザービームプリンタではあまり使われず、未だにディザマトリクス法やアナログラインスクリーン法が主流となっている。なぜなら、電子写真プロセスでは、感光体のＭＴＦ（Modulation Transfer Function：光学的伝達関数）をはじめ、露光、現像、転写、定着の各プロセスにおいて空間周波数応答が劣化するために、誤差拡散法等で生成された高解像度の微小ドットが細かく配置された画像構造を記録信号として入力しても、再現性がばらついてウォッシュアウトやつぶれが起き、十分な階調再現ができなかったためである。
【０００７】
電子写真プロセスを使うレーザービームプリンタでは、走査ビームの副走査解像度の制約があり、主走査方向についてだけ高解像度化する手法が古くから使われている。この主走査方向についてだけ高解像度化する手法と誤差拡散法とを用いた技術として、電子写真プロセスで再現可能なドットサイズからドット形成が開始されるように条件付けした誤差拡散法と画素クロックに同期した三角波とアナログ信号に変換した画像データとを比較し、ＰＷＭ（Pulse  Wide  Modulation）信号を生成するアナログスクリーンを用いる技術（例えば、特許文献３）や、誤差拡散処理にて決定されたドットサイズを注目画素周辺の濃度によってパルス変調することによって画像を再現する技術（例えば、特許文献４）が提案されている。また、ディザマトリクスの配置に対して、ドットのサイズを誤差拡散法で決定してゆく技術（例えば、特許文献５）も提案されている。
【特許文献１】特公平１−０５８９１５号公報
【特許文献２】特公平６−６６８７３号公報
【特許文献３】特許２６６４１７３号
【特許文献４】特開２０００−１３８８２９号公報
【特許文献５】特許２８７９３４０号公報
【非特許文献１】R.FLOYD&L.STEINBERG,"An Adaptive Algoritm for Spatial GreyScale",SID 75 DIGEST,pp36-37
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、特許文献３に開示された技術では、特定濃度以上では画素単位内のＰＷＭ処理で濃度を再現し誤差値をゼロにしている。このため、特定濃度以上ではラインスクリーン構造となり、誤差拡散処理が為されているハイライト領域との境界で見苦しいテクスチャノイズが発生するといった問題点がある。また、特許文献４に開示された技術では、誤差拡散処理で決定したドットサイズを注目画素周辺の濃度によってパルス変調しているため、拡散させた濃度誤差と再現画像との間に不一致が発生し、トーンジャンプや濃度の逆転が発生する虞があるといった問題点があった。一方、特許文献５に開示された技術では、ディザマトリクスを周期的に多値画像データに当てはめて２値化処理を行うため、精細度が低いといった問題点や、２値化により生成された網点が周期性を有しモアレが発生しやすいといった問題点があった。
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みて為されたものであり、多値画像をその多値画像よりも画素サイズが小さい２値画像に変換する際に、電子写真方式でも再現可能なドットサイズと周期性を確保しつつ、モアレの発生を回避する技術を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するために、本発明は、画素値が多値である入力画像を、該入力画像よりも画素サイズが小さい微画素の配列を用いて２値化する画像処理装置において、処理対象である注目画素に対応する塗潰しパターンを、前記入力画像にて該注目画素の周辺に位置する処理済み画素の塗潰しパターンと、前記注目画素に対応する多値データと所定の閾値との比較結果に基づいて決定するパターン決定手段と、前記パターン決定手段によって決定された塗潰しパターンにしたがって、前記注目画素に対応する微画素の配列を前記多値データに基づいて塗潰し２値化する２値化手段と、前記２値化手段により塗潰された微画素の数を前記入力画像における画素値に換算し、前記注目画素より前の２値化処理で生じた量子化誤差と前記多値データとにより算出された補正画素値と、その換算結果との差を前記量子化誤差値として算出する誤差算出手段とを有することを特徴とする画像処理装置を提供する。
【００１１】
また、上記課題を解決するために、本発明は、コンピュータ装置に、画素値が多値である入力画像を、該入力画像よりも画素サイズが小さい微画素の配列を用いて２値化させるプログラムにおいて、処理対象である注目画素に対応する塗潰しパターンを、前記入力画像にて該注目画素の周辺に位置する処理済み画素の塗潰しパターンと、前記注目画素に対応する多値データと所定の閾値との比較結果に基づいて決定するパターン決定機能と、前記パターン決定機能によって決定された塗潰しパターンにしたがって前記注目画素に対応する微画素の配列を前記多値データに基づいて塗潰し２値化する２値化機能と、前記２値化機能により塗潰された微画素の数を前記入力画像における画素値に換算し、前記注目画素より前の２値化処理で生じた量子化誤差と前記多値データとにより算出された補正画素値と、その換算結果との差を前記量子化誤差値として算出する誤差算出機能とを実現させるプログラムを提供する。
【００１２】
このような画像処理装置およびプログラムによれば、注目画素に対応して塗潰される微画素とその周辺に位置する画素に対応して塗潰される微画素とで網点を形成するように各微画素が塗潰される。このため、例えば、６００ｄｐｉの入力画像を２４００ｄｐｉの２値画像に変換する場合には、互いに隣接する４つの画素に対応する微画素で網点を形成させるようにすれば、ドット周期が３００ｌｐｉになり、電子写真方式でも応答可能なドット周期が確保される。加えて、上記画像処理装置およびプログラムによれば、ドットの出現を注目画素に対応する多値データと所定の閾値とを比較することで、上記網点の出現位置がランダムになる。またさらに、上記画像処理装置およびプログラムによれば、微画素の配列の塗潰しパターンにより、微画素の配置と最小ドットサイズとを決定することが可能になる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、多値画像をその多値画像よりも画素サイズが小さく、解像度が高い２値画像へ変換する際に、電子写真方式でも再現可能なドット周期とサイズとを確保しつつ、モアレの発生を回避することが可能になるといった効果を奏する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１４】
以下、本発明を実施するための最良の形態について図面を参照しつつ説明する。
［Ａ．構成］
（Ａ−１：画像処理装置１の構成）
図１は、本発明に係る画像処理装置１の構成例を示すブロック図である。図１に示されているように、この画像処理装置１は、画像入力部１０と、画像処理部２０と、画像出力部３０とを有している。以下、本実施形態では、解像度が６００ｄｐｉである２５６階調の多値画像を解像度が２４００ｄｐｉである２値画像に変換して出力する場合について説明する。
【００１５】
図１の画像入力部１０は、例えばスキャナや、ネットワークにつながれたＩ／Ｆとプリントジョブを処理する処理装置とであり、処理対象の多値画像を本発明の画像処理部２０へ引渡すものである。本実施形態では、処理対象の多値画像は２５６階調であるから、画像入力部１０は、０から２５５までの整数値のいずれかを画像処理部２０へ引渡す。
【００１６】
画像処理部２０は、後述する誤差拡散処理を行って上記多値画像を上記２値画像へ変換するものである。より詳細に説明すると、画像処理部２０は、図２に示されているように、上記多値画像の各画素毎に上記２値画像を形成する微画素の４×４配列を対応させ、その１６個の微画素のうち、画像入力部１０から引渡された画素値に基づいて算出される数分の微画素を塗潰すことによって、上記多値画像を上記２値画像へ変換するものである。例えば、画像処理部２０は、画像入力部１０から引渡された画素値が０〜１５の範囲の値である場合には、上記１６個の微画素の全てを塗潰さないことで、その濃度を表現し、例えば上記画素値が１６〜３１の範囲の値である場合には、上記１６個の微画素のうち、１つの微画素を塗潰すことで、その濃度を表現する。このように、画像処理部２０は、上記画素値が１６増加する度に塗潰す微画素の数を１つ増加させて、その画素値を２値で表現する。そして、図１に示す画像処理装置１は、画像処理部２０によって変換された２値画像を画像出力部３０によって印刷用紙等の記録材上に電子写真方式などで形成させることによって画像処理を完了する。
【００１７】
図１に示す画像処理装置１が行う誤差拡散処理が従来の誤差拡散処理と異なっている点は、図２に示すように、上記多値画像において互いに隣接する画素Ａ、Ｂ、ＣおよびＤに対応する微画素の配列を各画素に対応する多値データに応じて塗潰す際に、各配列内で塗潰される微画素（以下、ドットとも呼ぶ）が他の配列内で塗潰された微画素と網点を形成するように塗潰す点である（以下では、このようにして集められたドットをクラスタとも呼ぶ。）。本実施形態では、このようにしてクラスタ（すなわち、網点）を形成することにより、そのクラスタの大きさと周期が電子写真方式で再現可能な大きさと周期に維持され、前述した電子写真方式に特有な問題点を解消することが可能になる。なお、本実施形態では、多値画像にて互いに隣接する４つの画素に対応する微画素でクラスタを構成する場合について説明するが、クラスタを構成する画素の数が４に限定されるものではないことは言うまでもない。また、電子写真方式を例として説明するが、印刷においても程度が異なるが、同様の問題があり、画像処理部３０が電子写真方式に限定されるものではないことは言うまでもない。以下では、本発明に係る画像形成装置に特有な誤差拡散処理を実現する画像処理部２０を中心に説明する。
【００１８】
（Ａ−２：画像処理部２０の構成）
図３は、画像処理部２０の構成例を示すブロック図である。図３に示されているように、画像処理部２０は、パターンマッチング部２１０と、多値量子化部２２０と、誤差フィルタ２３０とを有している。
【００１９】
パターンマッチング部２１０は、図１２に示されているように、メモリ２１１と、パターンを決定するパターン決定部２１２と、を含んでおり、前述した画像入力部１０に入力された画素（以下、注目画素）の周辺に位置する処理済み画素（以下、処理済み周辺画素：例えば、図４においては、画素Ｘが注目画素であり、画素Ｋ、Ｌ、ＭおよびＮが周辺処理済み画素である）の塗潰しパターンに基づいてその注目画素の塗潰しパターンを特定するものである。
【００２０】
ここでは、塗潰しパターンを図５に示した４種類として、より詳細に説明する。上記メモリ２１１には、処理済み周辺画素の各々の塗潰しパターンを示すデータが格納されている。このパターンマッチング部２１０のパターン決定部２１２は、上記メモリ２１１の格納内容に基づいて、注目画素が、図２に示す画素Ａ、Ｂ、ＣおよびＤの何れに対応する画素であるかを特定し、その特定結果を、注目画素に対応する多値データと所定の閾値との比較結果に応じて変更し、決定したパターンに応じた信号（以下、パターン信号）を多値量子化部２２０へ出力する。具体的には、パターンマッチング部２１０は、図４の画素Ｋ、Ｌ、ＭおよびＮの塗潰しパターンが何れもパターン５１０と異なっていた場合には、注目画素の塗潰しパターンをパターン５１０と特定する。なお、注目画素が多値画像の１行目或いは１列目に位置する画素である場合には、余白部分を処理済み周辺画素と見なしてその注目画素の塗潰しパターンを特定すれば良いことは言うまでもない。逆に、図４の画素Ｎがパターン５１０で塗潰されていた場合には、パターンマッチング部２１０は、画素Ｘ（すなわち、注目画素）の塗潰しパターンをパターン５２０と特定する。また、図４の画素Ｌがパターン５１０で塗潰されていた場合には、パターンマッチング部２１０は、注目画素の塗潰しパターンをパターン５３０と特定する。そして、図４の画素Ｋがパターン５１０で塗潰されていた場合には、パターンマッチング部２１０は、注目画素の塗潰しパターンをパターン５４０と特定する。このように、塗潰しパターン５２０、５３０および５４０は、図４に示す画素Ｋ、ＬおよびＮの何れかがパターン５１０で塗潰されていることに従属して特定されるものである。一方、パターン５１０は、周辺処理済み画素に対応して塗潰された微画素とは独立に、新たにクラスタを形成することを示す塗潰しパターンである。次に、パターンマッチング部２１０は、特定されたパターンのうち、パターン５１０に対して、注目画素に対応する多値データと所定の閾値との比較結果に応じて、パターン５１０を発生させるか否かを決定する。これにより、新たにクラスタを形成するか否かが決定され、パターン５１０を発生させない場合には、全白を示す信号値である“（０）”のパターン信号を出力する。ここで、所定の閾値としては、周辺画素の多値データから算出した値や多値データに応じた固定値、さらには乱数などや、値ではなく所定のフラグの“０”または“１”によって判定する方法など、公知の手法を利用可能である。なお、本実施形態では、パターンマッチング部２１０は、注目画素の塗潰しパターンをパターン５１０と特定した場合には、信号値が“（１）”であるパターン信号を、パターン５２０と特定した場合には、信号値が“（２）”であるパターン信号を、パターン５３０と特定した場合には、信号値が“（３）”であるパターン信号を、パターン５４０と特定した場合には、信号値が“（４）”であるパターン信号を出力するものとする。
【００２１】
多値量子化部２２０は、パターンマッチング部２１０で決定されたパターン信号に応じたサブマトリクスを格納してあるＲＯＭ（Read Only Memory）と、微画素の配列を塗潰す２値化部と、量子化誤差を算出する誤差演算部などで構成される。２値化部は、パターンマッチング部２１０からのパターン信号の示すサブマトリクスを、上記ＲＯＭから読み出し、サブマトリクスの閾値と注目画素の多値データとを比較し、微画素の配列を塗潰す。誤差演算部は、２値化部にて塗潰された微画素の数を多値画像における画素値に換算し、その換算結果と後述する補正画素値との差を量子化誤差として算出する。この量子化誤差は、誤差フィルタ２３０により後続して処理される画素へ拡散される。なお、上記多値データとしては、注目画素の画素値そのものや、注目画素より前の処理で生じた量子化誤差と注目画素の画素値とを加算して得られる補正画素値などが用いられる。
【００２２】
［Ｂ．動作］
次いで、本実施形態に係る画像処理装置１が行う動作のうち、その特徴を顕著に示す動作について図面を参照しつつ説明する。
【００２３】
画像処理部２０は、画像入力部１０から注目画素の画素値を引渡されると、その注目画素に対応する多値データをパターンマッチング部２１０へ引渡す。また、パターンマッチング部２１０は、メモリ２１１の格納内容を参照し、処理済み周辺画素に対応する塗潰しパターンに基づいて注目画素に対応する微画素の塗潰しパターンを特定し、その特定結果に応じたパターン信号を多値量子化部２２０へ出力する。以下、パターンマッチング部２１０が行う動作について図８に示すフローチャートを参照しつつ説明する。
【００２４】
図８に示されているように、パターンマッチング部２１０は、上記多値データを受け取ると、まず、注目画素が“Ａ”または“Ｄ”の位置か判定する（ステップＳＡ１）。ステップＳＡ１の判定結果が“Ｙｅｓ”である場合には、後述するステップＳＡ２の処理を行い、逆に、ステップＳＡ１の判定結果が“Ｎｏ”である場合には、ステップＳＡ７の処理を行う。
【００２５】
ステップＳＡ１の判定結果が“Ｙｅｓ”である場合に後続して実行されるステップＳＡ２では、上記注目画素に対応した多値データが所定の閾値よりも小さいか否かを判定する。そして、ステップＳＡ２の判定結果が“Ｎｏ”である場合には、後述するステップＳＡ４以降の処理を行う。逆に、ステップＳＡ２の判定結果が“Ｙｅｓ”である場合には、パターンマッチング部２１０は、上記注目画素に対応するパターン信号をパターン（０）、すなわち、微画素を全て塗潰さないパターンに決定する（ステップＳＡ３）。
【００２６】
ステップＳＡ２の判定結果が“Ｎｏ”である場合に後続して実行されるステップＳＡ４では、パターンマッチング部２１０は、画素位置が“Ａ”であるか否かを判定する。そして、ステップＳＡ４の判定結果が“Ｙｅｓ”である場合には、パターンマッチング部２１０は、上記注目画素に対応するパターン信号をパターン（１）に決定する（ステップＳＡ５）。逆に、ステップＳＡ４の判定結果が“Ｎｏ”である場合には、パターンマッチング部２１０は、上記注目画素に対応するパターン信号をパターン（４）に決定する（ステップＳＡ６）。
【００２７】
ステップＳＡ１の判定結果が“Ｎｏ”である場合に後続して実行されるステップＳＡ７では、パターンマッチング部２１０は、注目画素の位置が“Ｂ”であるか否かを判定する。そして、ステップＳＡ７の判定結果が“Ｙｅｓ”である場合には、パターンマッチング部２１０は、上記注目画素に対応するパターン信号をパターン（２）に決定する（ステップＳＡ８）。逆に、ステップＳＡ７の判定結果が“Ｎｏ”である場合には、パターンマッチング部２１０は、上記注目画素に対応するパターン信号をパターン（３）に決定する（ステップＳＡ９）。そして、パターンマッチング部２１０は、以上に説明したようにして決定したパターン信号を多値量子化部２２０へ引渡すとともに、次画素以降のパターンマッチング処理に用いるパターンとして記憶する（ステップＳＡ１０）。
【００２８】
以上の処理によって、ランダムな配置のクラスタを構成することが可能となるが、例外が生じるケースがある。すなわち、図４の画素Ｋ、Ｌ、ＭおよびＮの塗潰しパターンのうち、画素ＭおよびＮの塗潰しパターンがパターン５１０の場合がある。この場合、図７に示す市松パターン７１０に対応するパターン信号をパターンマッチング部２１０に出力させるようにする。また、注目画素の塗潰しパターンがパターン５４０と特定された際にも、ステップＳＡ２の処理と同様に、注目画素に対応した多値データが所定の閾値よりも小さいか否かを判定することで、図７の市松パターン７２０に対応するパターン信号を出力させるようにすることもできる。
【００２９】
多値量子化部２２０では、パターンマッチング部２１０から出力されたパターン信号に基づいて、ＲＯＭから対応するサブマトリクスが読み出され、このサブマトリクスに含まれている閾値のうち、上記多値データ以下の閾値に該当する微画素の配列が塗潰されることになる。
【００３０】
ここで注目すべき点は、サブマトリクス６３０とサブマトリクス７３０、サブマトリクス６４０とサブマトリクス７４０とを各々比較すると、閾値の配列のみが異なっている点である。このため、サブマトリクス６３０や６４０を用いた場合とサブマトリクス７３０や７４０を用いた場合とでは、上記多値データに対応して塗潰される微画素の個数は変化せず、塗潰される微画素の位置のみが変化する。このサブマトリクス７３０や７４０にしたがって微画素が塗潰されると、その塗潰しパターンは図７の市松パターン７１０や市松パターン７２０に示すようになり、クラスタが分割されることになる。その結果、図９に示すように、生成されるクラスタの位置と周期をランダムにすることが可能になり、精細度が向上しモアレの発生を回避することが可能になるといった効果を奏する。
【００３１】
多値量子化部２２０では、さらに、塗潰した微画素の数を画素値に換算し、その換算結果と前述した補正画素値との差である量子化誤差を誤差フィルタ２３０へ引渡す。このようにして誤差フィルタ２３０に引渡された量子化誤差は、後続の画素を処理する際に拡散され、マクロ的な濃度が保存される。
【００３２】
以上に説明したように、本実施形態に係る画像処理装置１によれば、図５および図７に示すような塗潰しパターンで注目画素に対応する微画素の配列を塗潰すことにより、塗潰される微画素を集めてクラスタを構成し電子写真方式でも再現可能な大きさにすることが可能になる。なお、上述した実施形態では、低濃度域でドットの消失が発生することを回避するために、図５および図７に示す塗潰しパターンを用いて、多値画像において互いに隣接する４つの画素に対応する微画素をクラスタを構成するように塗潰す場合について説明した。これと同様に、高濃度域では、図１０に示す６つの塗潰しパターンと全黒を用いて、塗潰されない微画素でクラスタを構成させ、ドットの潰れによる濃度の再現の悪化を回避することも可能である。また、注目画素の画素値に応じて、図５に示す塗潰しパターンと図１０に示す塗潰しパターンとを切替えて用いるとしても良いことは勿論である。これにより、高濃度域または低濃度域におけるドットの潰れや消失を解消し、濃度の再現性を向上させることが可能になる。
【００３３】
［Ｃ．変形］
以上、本発明を実施するための最良の形態について説明した、係る形態を以下に述べるように変形しても良いことは勿論である。
【００３４】
（Ｃ−１：変形例１）
上述した実施形態では、パターンマッチング部２１０での動作で、注目画素に対応する多値データ（注目画素の画素値そのものや前述した補正画素値など）と所定の閾値とを比較（図８：ステップＳＡ２参照）し、処理済み周辺画素の塗潰しパターンに基づいて特定された注目画素の塗潰しパターンを変更するか否かをその比較結果に応じて判定する場合について説明した。しかしながら、上記多値データに所定の乱数または所定のアルゴリズムにしたがって生成される擬似乱数（例えば、Ｍ系列の擬似乱数）を加算して得られる値と上記所定の閾値とを比較して、上記判定を行うとしても勿論良い。このような乱数または擬似乱数を加算することにより、同一のサブマトリクスが周期的に用いられることが回避され、誤差拡散特有のワームの発生を回避することが可能になるといった効果を奏する。また、上記多値データとして、注目画素の画素値と上記補正画素値とを所定の条件で切替えて使い分けるとしても良い。また、多値画像を形成する画素毎に制御フラグを定めておき、その制御フラグに“１”がセットされている場合には、その画素の画素値には拘わりなく、特定の塗潰しパターンを用いるようにするとしても良い。このようにすると、各画素毎にその変換態様を意図的に制御することが可能になる。
【００３５】
（Ｃ−２：変形例２）
上述した実施形態では、多値画像で互いに隣接する４つの画素で２値画像におけるクラスタを構成する場合について説明した。しかしながら、クラスタを構成する画素の数は、４に限定されるものではなく、より大きな値であっても勿論良い。例えば、図１１に示すように、５個の画素でクラスタを構成するとしても良く、また、９個の画素でクラスタを構成するとしても良い。
【００３６】
（Ｃ−３：変形例３）
上述した実施形態では、本発明に係る画像処理装置に特有な誤差拡散処理をハードウェアモジュール（パターンマッチング部、多値量子化部および誤差フィルタ）により実現する場合について説明したが、ソフトウェアモジュールで実現するとしても良いことは勿論である。具体的には、ＣＰＵ（Central Processing Unit）などの制御部に図８に示すフローチャートに示す誤差拡散処理を行わせるプログラムと図６および図７に示すサブマトリクスとをコンピュータ装置に記憶させておくことによって、このコンピュータ装置に上述した実施形態に係る画像処理装置と同一の機能を付与することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明の１実施形態に係る画像処理装置１の構成例を示すブロック図である。
【図２】多値画像の１画素と２値画像の微画素との対応を示す図である。
【図３】同画像処理装置１の画像処理部２０の構成例を示す図である。
【図４】注目画素と処理済み周辺画素の位置関係を示す図である。
【図５】クラスタを構成する画素に対応する微画素の塗潰しパターンの一例を示す図である。
【図６】各塗潰しパターンに対応するサブマトリクスの一例を示す図である。
【図７】市松パターンと市松パターンに対応するサブマトリクスの一例を示す図である。
【図８】同画像処理部２０が行う誤差拡散処理の流れを示すフローチャートである。
【図９】同誤差拡散処理により生成される２値画像の一例を示す図である。
【図１０】高濃度域用の塗潰しパターンの一例である。
【図１１】変形例２に係るクラスタの構成例を示す図である。
【図１２】本発明の１実施形態に係る画像処理装置１のパターンマッチング部２１０の構成例を示す図である。
【符号の説明】
【００３８】
１０…画像入力部、２０…画像処理部、３０…画像出力部、２１０…パターンマッチング部、２２０…多値量子化部、２３０…誤差フィルタ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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