(57)【要約】【課題】収差補正器１２を組み込んだ荷電粒子ビーム装置において、収差補正器１２の調整に用いられる標準試料５が、荷電粒子ビームの照射に伴って徐々に汚染されることによって、収差補正器１２の調整精度が悪くなる。【解決手段】多数の標準試料５を試料ステージ上に用意し、過去の収差補正器１２の調整の回数に基づいて、調整に用いる標準試料を選択するようにする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
集束荷電粒子ビームを二次元的に走査して試料に照射することによって、試料を走査像で観察したり、加工する荷電粒子ビーム装置において、
荷電粒子ビーム装置を構成する光学系の収差を補正する収差補正器と、
前記試料を載置するステージ上の特定の個所に置かれた標準試料と、
荷電粒子ビームを前記標準試料上に集束させる対物レンズと、
前記標準試料から発生した二次電子を検出する二次電子検出器と、
前記二次電子検出器の出力に基づいて収差計算をする収差計算器と、
収差の大きさから前記収差補正器を制御するか否かを判断する補正判断器と、
前記収差補正器または前記対物レンズのレンズ強度を制御するレンズ制御器と、
前記補正判断器の出力に基づいて、ステージ位置を制御するステージ制御器と、を具備したことを特徴とする収差制御装置を備えた荷電粒子ビーム装置。
【請求項２】
前記標準試料は、前記ステージ上に複数取り付けられていることを特徴とする請求項１記載の収差制御装置を備えた荷電粒子ビーム装置。
【請求項３】
複数取り付けられている前記標準試料は、それぞれ前記ステージ上面からの高さが異なることを特徴とする請求項２記載の収差制御装置を備えた荷電粒子ビーム装置。
【請求項４】
前記収差制御装置は、過去に収差補正を行った回数あるいは経歴に基づいて、収差補正を行うための前記標準試料を選択するようにしたことを特徴とする請求項２記載の収差制御装置を備えた荷電粒子ビーム装置。
【請求項５】
前記収差制御装置は、過去に収差補正を行った回数あるいは経歴に基づいて、収差補正を行うための前記標準試料に関する前記ステージ上の領域を選択するようにしたことを特徴とする請求項２記載の収差制御装置を備えた荷電粒子ビーム装置。
【請求項６】
前記収差制御装置は、前記ステージ上の領域を選択するに際して、乱数を用いてランダムに領域を選択するようにしたことを特徴とする請求項５記載の収差制御装置を備えた荷電粒子ビーム装置。
【請求項７】
前記標準試料は、カーボン基板上の金粒子、白金粒子、アルミニウム粒子、ラテックス球、あるいは円、四角形、三角形の繰り返し図形が描画された基板上のパターンであることを特徴とする請求項１乃至６の何れかに記載の収差制御装置を備えた荷電粒子ビーム装置。
【請求項８】
前記カーボン基板上の粒子は、大きさの異なる複数の粒子が混じったもの、あるいは前記描画された基板上のパターンは、大きさの異なるパターン混じったものであることを特徴とする請求項７記載の収差制御装置を備えた荷電粒子ビーム装置。
【請求項９】
前記描画された基板上のパターンは、形の異なるパターン混じったものであることを特徴とする請求項７記載の収差制御装置を備えた荷電粒子ビーム装置。
【請求項１０】
前記収差制御装置は、前記対物レンズのレンズ強度に応じて、高さが異なる前記標準試料から収差補正を行うための標準試料を選択するようにしたことを特徴とする請求項３記載の収差制御装置を備えた荷電粒子ビーム装置。
【請求項１１】
前記ステージ制御器は、選択された前記標準試料の位置が走査像の中心となるように、ステージ位置を制御することを特徴とする請求項１乃至１０の何れかに記載の収差制御装置を備えた荷電粒子ビーム装置。
【請求項１２】
前記補正判断器は、ファジー推論エンジンまたはエキスパートシステムによる推論エンジンが組み込まれ、補正判断を知識ベースに保存されている規則によって、判断することを特徴とする請求項１乃至１１の何れかに記載の収差制御装置を備えた荷電粒子ビーム装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、走査電子顕微鏡等の荷電粒子ビーム装置に関し、詳しくは収差補正器を組み込んだ荷電粒子ビーム装置の収差制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図６に示す走査電子顕微鏡に基づいて、荷電粒子ビーム装置の一例を以下に説明する。
【０００３】
図６において、１００は走査電子顕微鏡を構成する電子光学系であって、真空雰囲気中にある。電子銃１０１で発生した電子ビーム１０２は、複数の電子レンズ、例えばコンデンサレンズ１０３などを通って、最終的には対物レンズ１０４で細く集束されて試料１０５上に照射される。試料１０５は、同じく真空雰囲気中にある試料室１１０に設けられている試料ステージ１１１上に載置される。ステージ１１１は、少なくとも水平面上で任意の方向に移動可能で、試料１０５上の所望の場所を電子ビーム１０２の照射下に持ってくるようにできる。更に、電子ビーム１０２は、偏向器１０６によって、二次元的に偏向・走査される。電子ビーム１０２の照射に伴って、試料１０５からは二次電子などが発生し、発生した二次電子は、検出器１０７によって検出される。検出された検出器１０７からの電気信号は、前記走査に同期して掃引されるＣＲＴ１２０上に入力され、二次電子強度を表示することによって、試料１０５の拡大像として、走査電子顕微鏡像（以下単に走査像と呼ぶことがある）を得る。
【０００４】
このような走査電子顕微鏡において、試料１０５上での電子ビーム１０２のビーム径がより細く集束されれば、それだけ分解能の高い走査像を得ることができる。しかし、ビーム径は、走査電子顕微鏡を構成する電子光学系の収差、主に対物レンズ１０４の収差によって、制限されてしまう。そこで、最近では、対物レンズ１０４等の収差を打ち消す収差補正器１３０を組み込み、分解能を向上させることが可能になった。なお、収差補正器１３０は、通常、対物レンズ１０４の上流側に配置される。このような収差補正器１３０においては、収差補正器そのものの構造が極めて複雑なため、高精度な調整が要求される。このため走査電子顕微鏡の観察条件、例えば、対物レンズのフォーカス等を変えただけでも、収差補正器の調整が狂ってしまい、分解能の劣化を招いてしまったりする。そして、このような場合には、公知である調整方法で収差補正器の再調整を行って性能を回復させる。
【０００５】
なお、収差補正器の原理および作用は、例えば非特許文献１に、また、調整方法は、非特許文献２詳しく述べられている。
【０００６】
【非特許文献１】
Ｄｅｓｉｇｎ  ｏｆ  ａ  ｈｉｇｈ−ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ  ｌｏｗ−ｖｏｌｔａｇｅ  ｓｃａｎｎｉｎｇ  ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ，  Ｏｐｔｉｃ．  ８３，  Ｎｏ．  １  （１９８９）  ｐｐ．  ３０−４０
【非特許文献２】
Ａｂｅｒｒａｔｉｏｎ  ｃｏｒｒｅｃｔｉｏｎ  ｉｎ  ａ  ｌｏｗ  ｖｏｌｔａｇｅ  ＳＥＭ  ｂｙ  ａ  ｍｕｌｔｉｐｏｌｅ  ｃｏｒｒｅｃｔｏｒ，  Ｎｕｃｌｅａｒ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  ａｎｄ  Ｍｅｔｈｏｄｓ  ｉｎ  Ｐｈｙｓｉｃｓ  ｒｅｓｅａｒｃｈ，  Ａ３６３  （１９９５）  ｐｐ．  ３１６−３２５
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記の如く、収差補正器１３０の調整が狂ってしまい、分解能の劣化をきたしたときには、予め試料ステージ上の所定の場所に取り付けられている標準試料を電子ビームの照射下に持ってきて、その標準試料が走査像の中心に来るようにした上で、走査像から得られる情報に基づいて、公知の調整方法で収差補正器１３０の再調整を行うことになる。
【０００８】
しかしながら、このような操作を行う場合に、電子ビームの照射によって、標準試料には徐々に汚れが付着し、為に標準試料の形状が変化してしまい、正確な収差の補正値が出せず、性能が回復しなかったり、回復するために、適切な標準試料を探すなど必要なため、従来においては、多大な時間を要した。
【０００９】
本発明は、上述した従来技術の問題点を解決し、最適な標準試料を準備し、収差補正器の調整が確実かつ迅速に行える収差制御装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の収差制御装置を備えた荷電粒子ビーム装置は、集束荷電粒子ビームを二次元的に走査して試料に照射することによって、試料を走査像で観察したり、加工する荷電粒子ビーム装置において、
荷電粒子ビーム装置を構成する光学系の収差を補正する収差補正器と、
前記試料を載置するステージ上の特定の個所に置かれた標準試料と、
荷電粒子ビームを前記標準試料上に集束させる対物レンズと、
前記標準試料から発生した二次電子を検出する二次電子検出器と、
前記二次電子検出器の出力に基づいて収差計算をする収差計算器と、
収差の大きさから前記収差補正器を制御するか否かを判断する補正判断器と、
前記収差補正器または前記対物レンズのレンズ強度を制御するレンズ制御器と、
前記補正判断器の出力に基づいて、ステージ位置を制御するステージ制御器と、を具備したことを特徴とする。
【００１１】
更に、前記標準試料は、前記ステージ上に複数取り付けられていて、前記収差制御装置は、過去に収差補正を行った回数あるいは経歴に基づいて、収差補正を行うための前記標準試料を選択するようにしたことを特徴とする。
【００１２】
また更に、複数取り付けられている前記標準試料は、それぞれ前記ステージ上面からの高さが異なるようにして、前記収差制御装置は、前記対物レンズのレンズ強度に応じて、高さが異なる前記標準試料から収差補正を行うための標準試料を選択するようにしたことを特徴とする。
【００１３】
加えて、前記標準試料は、カーボン基板上の金粒子、白金粒子、アルミニウム粒子、ラテックス球、あるいは円、四角形、三角形の繰り返し図形が描画された基板上のパターンであることを特徴とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】
図１は、本発明の構成と動作を説明するための、本発明を組み込んだ走査電子顕微鏡の主要部を示す図である。図１では、図６で説明した電子銃、コンデンサレンズ、偏向器なとは省略している。
【００１５】
図１において、１は電子ビーム、１２は収差補正器、２は対物レンズ、３は試料ステージ、４は観察したり加工を施すべき試料であり、５は収差補正器を調整するための標準試料である。電子ビーム１は対物レンズ２でフォーカスされて、試料４または標準試料５に照射される。なお、本発明における標準試料５は、多数の標準試料からなり、何れを使用するか選択可能になっている。収差補正器１２は、非特許文献１に詳しく述べられているように、複数の多極子で構成されている。６は、電子ビーム１の照射に伴って、試料４あるいは標準試料５から発生した、例えば二次電子７を検出するための二次電子検出器であり、１１は、前記二次電子検出器６からの出力信号を処理するための信号処理器である。通常の試料の観察においては、信号処理器１１からの電気信号を用いて、図６で示したＣＲＴ上で走査像として試料の観察が行われる。
【００１６】
一方、収差補正器１２の調整のための操作においては、電子ビーム１の照射下には標準試料５が置かれ、標準試料５からの二次電子が二次電子検出器６で検出され、信号処理器１１で処理された信号は収差計算器１０に送られ、収差量が計算される。
【００１７】
収差量の計算は、非特許文献２に詳しく述べられているように、標準試料５として例えばラテックス球の如き球状粒子を用い、これを走査像として観察しながら、対物レンズ２や収差補正器１２を構成する各多極子の強度（電磁レンズあるいは磁場型多極子であればその励磁の強度、静電レンズあるいはで静電型多極子であればその印加電圧強度）を加減して、そのとき得られる走査像上の球状粒子のボケの大きさおよび方向に基づいて、どのような収差がどれほどであるかを求める。そして、収差の補正は、前記計算で求めた収差と等しい大きさの逆の収差を収差補正器１２で発生させて、光学系全体として収差をキャンセルする。
【００１８】
前記計算結果は、補正判断器１３に送られ、収差補正調整を行うべきかどうかを判断する。補正判断器１３が、収差補正調整を行うべきと判断した場合には、補正判断器１３は、標準試料５の中から適切な標準試料を選択し、その選択の結果に基づいてステージ制御器９を介して、その標準試料の位置にステージ３を駆動する。なお、上記補正判断器１３の判断の仕方については、後に詳しく説明する。更に、補正判断器１３が、収差補正調整を行うべきと判断すると、それに基づいて、レンズ制御器８は、収差計算器１０による計算結果を用いて、収差補正器１２と対物レンズ２を制御する。
【００１９】
そして、更に、上記の収差補正器１２と対物レンズ２との制御の下で、標準試料５からの二次電子を二次電子検出器６で検出し、信号処理器１１で処理した信号を用いて収差計算器１０で再び収差量が計算される。計算結果から補正判断器１３が収差補正調整を行う必要がないと判断すれば、収差の補正は完了する。
【００２０】
次に、収差計算器１０の動作を、図２および図３を用いて詳しく説明する。図３（ｆ）は、標準試料５内の一つの球状粒子試料１４を示す。図２（ａ）は、図３（ｆ）に示す標準試料を用いて、対物レンズ２をオーバーフォーカスの状態にして観察したときの走査像を示し、図２（ｂ）は、対物レンズ２をアンダーフォーカスの状態にして観察したときの走査像を示す。なお、図２（ｃ）は、対物レンズ２がジャストフォーカスの状態で観察したときの走査像を示す。
【００２１】
前記非特許文献２に記載されているように、例えば図３（ｆ）に示す球状粒子試料１４を走査像上で観察して図２（ｃ）の如きジャストフォーカスの像が得られた後、対物レンズ２や収差補正器１２の多極子の強度を加減して、例えば図２（ａ）および図２（ｂ）の如き像になったとする。そこで、ジャストフォーカスの図２（ｃ）の如き像を基準にして、図２（ａ）および図２（ｂ）において、標準試料である球状粒子１４の像のボケの大きさおよびその方向を従来技術である画像処理の手法によって算出する。そして、その結果から、発生している収差の種類と補正すべき量を求める。すなわち、収差計算器１０は、図３（ｆ）に示す球状粒子１４の電子光学上の像面におけるジャストフォーカス像（図２（ｃ））と、図２（ａ）に示す前記像面から上方に像面を動かした場合（オーバーフォーカス）の像に生じる収差と、図２（ｂ）に示す前記像面から下方に像面を動かした場合（アンダーフォーカス）の像に生じる収差とから、発生している収差を計算する。
【００２２】
例えば、図２（ａ）および図２（ｂ）に示すようにｘ方向に着目して、上方右方収差１５と上方左方収差１６と下方右方収差１７と下方左方収差１８とが観察されたとする。それぞれの距離関係を図に示すように、
Ｗｏ：上方収差全幅、Ｗｕ：下方収差全幅、
ｗｏｌ：上方左方収差量、ｗｕｌ：下方左方収差量、
ｗｏｒ：上方右方収差量、ｗｕｒ：下方右方収差量
とし、それぞれを像上から算出する。収差の種類、大きさは次の指標によって定量化できる。
発生収差の相対性：ΔＷ＝Ｗｕ−Ｗｏ
上方発生収差の相対性：Δｗｏ＝ｗｏｒ−ｗｏｌ
下方発生収差の相対性：Δｗｕ＝ｗｕｒ−ｗｕｌ
上記において、例えば、ΔＷは発生収差の相対量を表し、ΔＷ＝０であれば収差は補正されていることを示す。また、Δｗｏ≠０、あるいはΔｗｕ≠０であれば非対称な収差（例えばコマ収差）が発生していることを示す。これらの指標から、収差補正器１２を用いて制御すべき補正量を下記の式（１）から設定できる。
ΔＰｎ，ｘｍ＝ｋ１（ｎ，ｍ）・ΔＷ＋ｋ２（ｎ，ｍ）・Δｗｏ＋ｋ３（ｎ，ｍ）・Δｗｕ        （１）
ｎ：多極子の番号、＝１〜４（段目）
ｍ：多極子の種類、＝１は２極子場、＝２は４極子場、＝３は６極子場、＝４は８極子場
ΔＰｎ，ｘｍ：ｘ方向の収差補正量
ｋ１（ｎ，ｍ）、ｋ２（ｎ，ｍ）、ｋ３（ｎ，ｍ）：ｎ、ｍに依存するパラメーター
上記式（１）において、ΔＰｎ，ｘｍはｘ方向の収差補正量を示すが、同様に、ｙ方向の収差補正量ΔＰｎ，ｙｍも設定できる。
【００２３】
このようにして算出された収差補正量から、補正判断器１３において、収差補正器１２の出力を調節するか否かを、次の式（２）から判断する。
｜ΔＰｎ，ｘｍ｜＞ξ（ｎ，ｍ）、あるいは｜ΔＰｎ，ｙｍ｜＞ξ（ｎ，ｍ）        （２）
ここで、ξ（ｎ，ｍ）はｎ、ｍに依存するパラメーターである。式（２）が成立した場合に、収差補正器１２の出力を調節すると判断し、レンズ出力を制御しているレンズ制御器８に指示を出す。同時に、補正判断器１３は、ステージの位置を制御しているステージ制御器９にステージ移動の指示および移動すべき位置を示すｘ、ｙ座標を出力する。前記移動すべき位置を示すｘ、ｙ座標は、標準試料５中の複数の試料の位置の何れかを示している。
【００２４】
ところで、標準試料５には、例えば図３（ｆ）に示すような球状粒子１４があるが、上記収差補正のために、電子ビームを球状粒子１４に照射してその走査像を得る際、電子ビームを照射することに伴って、徐々に球状粒子１４に汚染物質が付着する。このため、正確な収差補正値が得られなくなるので、同じ標準試料を何度も使用し続けることはできない。
【００２５】
そこで、球状粒子１４を、図３（ｂ）のように多数用意し、予め個々の球状粒子１４の座標Ｓ（Ｘ，Ｙ）を、例えば、ステージ制御器９内のメモリに記憶しておき、収差補正のための測定を繰り返し度に、測定に用いる球状粒子１４を次々と替えていくように、ステージ３を移動する。例えば、図５（ａ）に示すように、測定に用いる球状粒子１４の座標をＳ（Ｘ１，Ｙ１）、Ｓ（Ｘ２，Ｙ２）、・・・、Ｓ（Ｘｎ，Ｙｎ）、Ｓ（Ｘｎ＋１，Ｙｎ＋１）、・・・と収差補正のための測定の度に順次移動させる。ここで、（Ｘｎ，Ｙｎ）は、ｎ番目の収差補正のための測定に用いる標準試料の座標を示す。
【００２６】
上記は、個々の球状粒子１４の座標を予め記憶する方式であるが、球状粒子１４の位置の座標そのものではなく、何れかの球状粒子１４が存在するであろうステージ上の範囲のみを予め指定しておき、その範囲内において順次視野を指定する方式でもよい。ただし、この方式では、指定された視野の中央に球状粒子１４があるとは限らないので、球状粒子１４を手動あるいは自動で視野の中央に持ってくるようにする。このようにすれば、多数の球状粒子１４の座標を予め記憶する手間が省ける。
【００２７】
また、上記は、定められた順に標準試料の座標を選択移動させる例であるが、乱数を発生させて、その結果に基づいて確率的に座標を選択し、図５（ｂ）に示すように、ランダムに移動させることもできる。
【００２８】
更にまた、過去に行った収差補正のための測定にどの標準試料を用いたかという経歴あるいは履歴を記憶するメモリを、例えば、ステージ制御器９あるいは補正判断器１３に設けるようにしてもよい。そして測定の度にどの標準試料を用いたか（例えば座標位置）を記憶しておき、これに基づいて、次に用いる標準試料を選択するようにする。こうすれば、汚染物質が付着していないあるいは付着が少ない標準試料で測定することになるので、正確な収差補正値を得ることができる。
【００２９】
また、試料４の高さ（あるいは対物レンズ２と試料４間の距離）に応じて対物レンズ２のフォーカスが変化するから、対物レンズ２の収差が変化する。そこで、収差補正器１２は、試料４の高さに応じて収差補正の条件を設定させる必要がある。従って、本発明の収差制御装置では、試料４の高さに応じた対物レンズ２のレンズ強度（ジャストフォーカス時の対物レンズ２のレンズ強度と上記対物レンズ２と試料４間の距離との間には一定の関係がある）あるいは図示しない試料高さ検出器の出力に応じて、予め設定された複数の試料高さの異なる標準試料を用意した標準試料５の中から、最も試料４の高さに近い標準試料を選択する。
【００３０】
このような場合の標準試料５は、適当な段差を持たせた標準試料取り付け板に標準試料を取り付けてもよいし、平らな標準試料取り付け板に多数の標準試料を乗せその標準試料取り付け板を僅かに傾斜させてステージ３に取り付けることによって、所望の高さの標準試料が特定な部分に多数存在するようにできる。あるいは、ステージ３に別途上下動が可能な機構を設けて、標準試料上での対物レンズ２のジャストフォーカス時のレンズ強度が、試料４の高さのジャストフォーカス時のレンズ強度と等しくなるように、前記上下動を調節することも考えられる。更には、段差を持たせた標準試料と前記上下動を調節する機構とを組み合わせてもよい。
【００３１】
更に、収差計算器１０における収差の算出には、フーリエ変換演算を用いることができる。本技術に関しては、再公表特許ＷＯ０１／５６０５７（Ｍｅｔｈｏｄ  ｆｏｒ  Ｄｅｔｅｃｔｉｎｇ  Ｇｅｏｍｅｔｒｉｃａｌ−Ｏｐｔｉｃａｌ  Ａｂｅｒｒａｔｉｏｎｓ）に詳述されている。本手法によれば、図３（ｆ）に示す球状粒子１４を用いて、図２（ａ）、図２（ｂ）に示す球状粒子１４の特定方向の収差である上方右方収差１５、上方左方収差１６、下方右方収差１７、下方左方収差１８を画像処理技術によって検出する必要はない。つまり、ジャストフォーカス像とオーバーフォーカス像とアンダーフォーカス像とから、任意の方向の収差量および収差の種類を定量的に算出することができる。
【００３２】
フーリエ変換演算を用いる場合の標準試料５は、通常は、図３（ａ）に示すようなカーボン基板上の金粒子あるいは白金粒子あるいはアルミニウム粒子等を用いることができる。更に、図３（ｂ）に示すようなラテックス球が散布されたもの、あるいは、図３（ｃ）に示すような円の繰り返しの図形、図３（ｄ）に示すような四角形の繰り返しの図形、図３（ｅ）に示すような三角形の繰り返しの図形でもよい。
【００３３】
また更に、補正判断器１３において、前述した補正すべきか否かの判断を図４に示すように、知識ベース２０の中に「ｉｆ／ｔｈｅｎ」形式のルールとして保存しておき、公知技術であるエキスパートシステム等の推論エンジン１９を組み込んで、前記判断を木目細かに行うことができる。同様に、前記推論エンジン１９に公知技術であるファジー推論を組み込むことによって、上記判断を行うこともできる。
【００３４】
以上、走査電子顕微鏡を例に本発明を説明したが、本発明による収差制御装置は、収差補正器を組み込んだ走査電子顕微鏡に限定されるものではなく、収差補正器を組み込んだ集束イオンビーム装置（ＦＩＢ装置）など、集束荷電粒子ビームの照射によって試料を観察・加工する全ての荷電粒子ビーム装置に適用できる。
【００３５】
【発明の効果】
以上の如く、本発明による収差制御装置は、標準試料に電子ビーム照射に伴う汚染等があっても、汚染がない標準試料が自動的に選択されるので、収差補正器内の電子ビームアライメント（すなわち、収差補正器１２の調整）精度を向上できる。試料の高さを自動的に検出し、その高さに合った標準試料を選択することによって、収差補正器内の電子ビームアライメント精度を向上できる。試料の選択を自動的に行えるので、オペレータが最適標準試料を選択する必要がなくなり、短時間で収差補正器内の電子ビームアライメントが完了できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の構成と動作を説明するための図である。
【図２】本発明に係る収差の測定を説明するための図である。
【図３】本発明に係る標準試料を説明するための図である。
【図４】本発明に係る補正判断器の他の判断の例を説明する図である。
【図５】本発明に係る標準試料の選択の方法を説明するための図である。
【図６】従来の技術として、収差補正器を組み込んだ走査電子顕微鏡を説明するための図である。
【符号の説明】
１、１０２：電子ビーム
２、１０４：対物レンズ
３、１１１：試料ステージ
４、１０５：試料
５：標準試料
６、１０７：二次電子検出器
７：二次電子
８：レンズ制御器
９：試料ステージ制御器
１０：収差計算器
１１：信号処理器
１２、１３０：収差補正器
１３：収差判断器
１４：球状粒子
１５：上方右方収差
１６：上方左方収差
１７：下方右方収差
１８：下方左方収差
１９：推論エンジン
２０：知識ベース
【図１】
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【図２】
2005038641.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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