(57)【要約】【課題】  短時間で、且つ容易に厚さが均一な光透過層を形成することが可能な光ディスクの作製方法及び光ディスク装置を提供する。【解決手段】  光ディスク基板２の情報記録面４Ａに光透過層を均一な厚さに形成する光ディスクの作製方法において、光透過層の形成は、情報記録面を上方に向けて光ディスク基板を回転テーブル３２に固定した後、回転テーブルを回転させながら、情報記録面に紫外線硬化樹脂を滴下して、情報記録面全体が紫外線硬化樹脂で覆う工程と、次に、回転テーブルを回転させながら、紫外線硬化樹脂の厚さを測定する工程と、紫外線硬化樹脂の厚さの測定結果が予め定められた所定の厚さになった場合に、紫外線を照射する作業を内周側から外周側に向かって順次行って、紫外線硬化樹脂を一次硬化して仮硬化させる工程と、次に回転テーブルの回転を停止した後、紫外線硬化樹脂の全面に一次硬化時よりも強い強度の紫外線を照射して二次硬化して完全硬化させる工程とからなる。【選択図】  図１
2005317053.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ディスク基板の情報記録面に光透過層を均一な厚さに形成する光ディスクの作製方法において、
前記光透過層の形成は、
前記情報記録面を上方に向けて前記光ディスク基板を回転テーブルに固定した後、前記回転テーブルを回転させながら、前記情報記録面に紫外線硬化樹脂を滴下して、前記情報記録面全体が前記紫外線硬化樹脂で覆う工程と、
次に、前記回転テーブルを回転させながら、前記紫外線硬化樹脂の厚さを測定する工程と、
前記紫外線硬化樹脂の厚さの測定結果が予め定められた所定の厚さになった場合に、紫外線を照射する作業を内周側から外周側に向かって順次行って、前記紫外線硬化樹脂を一次硬化して仮硬化させる工程と、
次に、前記回転テーブルの回転を停止した後、前記紫外線硬化樹脂の全面に前記一次硬化時よりも強い強度の紫外線を照射して二次硬化して完全硬化させる工程と、
からなることを特徴とする光ディスクの作製方法。
【請求項２】
光ディスク基板の情報記録面に光透過層を均一な厚さに形成する光ディスクの作製方法において、
前記光透過層の形成は、
前記情報記録面を上方に向けて前記光ディスク基板を回転テーブルに固定した後、前記回転テーブルを回転させながら、前記情報記録面に紫外線硬化樹脂を滴下して、前記情報記録面全体が前記紫外線硬化樹脂で覆う工程と、
前記回転テーブルを停止した後、所定の厚さを有する光透過性シートを前記紫外線硬化樹脂上に載置する工程と、
次に、前記回転テーブルを回転させながら、前記紫外線硬化樹脂の厚さを測定する工程と、
前記紫外線硬化樹脂の厚さの測定結果が予め定められた所定の厚さになった場合に、紫外線を照射する作業を内周側から外周側に向かって順次行って、前記紫外線硬化樹脂を一次硬化して仮硬化させる工程と、
次に、前記回転テーブルの回転を停止した後、前記紫外線硬化樹脂の全面に前記一次硬化時よりも強い強度の紫外線を照射して二次硬化して完全硬化させる工程と、
からなることを特徴とする光ディスクの作製方法。
【請求項３】
光ディスク基板の情報記録面に光透過層を均一な厚さに形成する光ディスク装置において、
前記光ディスク基板を載置する回転テーブルと、
前記回転テーブルを回転する回転手段と、
前記回転テーブルに載置された前記光ディスク基板の情報記録面に紫外線硬化樹脂を塗布する樹脂供給手段と、
前記回転テーブルを回転させながら、前記光ディスク基板の情報記録面に塗布された前記紫外線硬化樹脂の厚さを測定する膜厚測定手段と、
前記紫外線硬化樹脂が予め定められた所定の厚さになった場合に、前記紫外線硬化樹脂を硬化させる紫外線照射手段と、
からなることを特徴とする光ディスク装置。
【請求項４】
光ディスク基板の情報記録面に光透過層を均一な厚さに形成する光ディスク装置において、
前記光ディスク基板を載置する回転テーブルと、
前記回転テーブルを回転する回転手段と、
前記回転テーブルに載置された前記光ディスク基板の情報記録面に紫外線硬化樹脂を塗布する樹脂供給手段と、
前記紫外線硬化樹脂上に光透過性シートを載置する載置手段と、
前記回転テーブルを回転させながら、前記光ディスク基板の情報記録面に塗布された前記紫外線硬化樹脂の厚さを測定する膜厚測定手段と、
前記紫外線硬化樹脂が予め定められた所定の厚さになった場合に、前記紫外線硬化樹脂を硬化させる紫外線照射手段と、
からなることを特徴とする光ディスク装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レーザ光が入射する読み取り面側を薄型化して高記録密度化を可能とする光ディスクに係わり、入射面の光透過層の厚みむらを低減した光ディスクの作製方法及び光ディスク装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光ディスクは高記録密度、大容量、小型化を目指し開発が進められている。光ディスクは、光ディスク基板の表面に微細な凹凸形状からなるピット状、または溝状の情報記録面を有し、この情報記録面内の情報を読み取り面の表面から入射されるレーザ光が情報記録面で反射してくる反射光の光強度の変化として、情報信号を読み出すシステムである。この種の光ディスクの一般的な製造方法は、例えば特許文献１、２、３等において開示されている。そして光ディスクの高記録密度化は、レーザ光の波長を短くすることや、光学ピックアップの記録・再生時用のレーザ光を光ディスク情報記録面に照射するための対物レンズの開口数を大きくして情報記録面における記録・再生光のスポット径を小さくすることで可能ならしめている。
【０００３】
このように、対物レンズの開口数を大きくすると、記録再生用のレーザ光が照射されてこれが通過する光ディスクの入射面から情報記録面までの光透過層の厚みを薄くする必要がある。これは、光学ピックアップの光軸に対してディスクの情報記録面が垂直からずれる角度（チルト角）の許容量が小さくなるためであり、このチルト角が上記光透過層の厚さによる収差や複屈折の影響を受け易いためである。
従って、基板（光透過層）の厚さを薄くして、光学ピックアップの光軸に対して光ディスクの情報記録面が垂直からずれても読み出される情報信号の劣化が少なくなるように、許容されるチルト角をできるだけ大きくなるようにしている。例えば、ＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ  Ｄｉｓｃ）の入射面側の厚さは約１．２ｍｍであるのに対し、記録容量がＣＤの６〜８倍であるＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ  Ｄｉｓｃ）は、ＣＤに比べて開口数の大きな対物レンズを用いているので、許容されるチルト角が小さくなる。そこで読み出し面側の基板厚さを１．２ｍｍから０．６ｍｍへと薄くすることで、ＣＤと同程度のチルト角が許容できるようにしている。
【０００４】
また、最近では次世代型光ディスクとして、ＣＤやＤＶＤと同じ大きさのディスク１面当たりに２０ＧＢ以上の大記録容量を記憶できる光ディスクの要求があり、最近発売になったブルーレイディスク（今後「ＢＤ」とも称す)は波長が４ ０５ｎｍの青色レーザ光と、開口数が０．８５の対物レンズとを用い、読み出し面の基板厚さを０．１ｍｍに設定して２３ＧＢの大記録容量としたシステムである。
上述したＣＤやＤＶＤの光ディスクは、製造工程を簡略化し、かつ高品質な光ディスクを得るために、全て記録再生用のレーザ光の入射面と情報記録面とを、同一基板上に対峙させた形で形成させている。そしてこれらの基板は、一般的には射出成形法を用いて成形されている。しかしながら、入射面側の基板厚さが０．１ｍｍになると、これを射出成形法で製作するには基板が薄すぎて成形が困難であるため、別の作製方法が幾つか提案されている。
【０００５】
その一方法を述べると、従来技術と同じ射出成形法により情報信号の入った光ディスク基板を作製し、この情報信号面上に反射層、上引き層、記録層、下引き層を順次スパッタにより積層した相変化膜を構成し、その上に光ディスク基板と同じ大きさの光透過性シートを、光透過性である紫外線硬化樹脂（以下単に「樹脂」と称す場合もある）を用いてスピンコート法で貼り合せて光透過層を形成した後、光透過性シート側から紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させることで、光ディスク基板と光透過性シートを接着する方法が採用されている（例えば特許文献１、２）。また光透過性シートを用いず、スピンコート法により紫外線硬化樹脂のみで光透過層を形成する方法も知られている。そして、いずれの場合も記録再生用のレーザ光の入射は厚さが０．１ｍｍの光透過層側から行う。この時の光ディスク基板の外径は１２０ｍｍであり、この大きさの光ディスク基板上に従来の射出成形法で情報信号を形成するには、０．６ｍｍ以上の厚さの基板が必要となるため、前記したＢＤのような光ディスクの一工法は、情報信号を形成した基板の厚さより記録再生用のレーザ光を入射する入射面層（光透過層）の方が薄くなる。
【０００６】
【特許文献１】特開平９−１６１３３３号公報
【特許文献２】特開２０００−３６１３５号公報
【特許文献３】特開２００３−９１８８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、ＢＤのように高記録密度になるとその精度も厳しくなり、特に入射面層である光透過層の厚さむらが大きいとディスク全面に渡って安定した記録再生ができなくなるため、その値はディスク面内の半径２３ｍｍから半径５８．５ｍｍの範囲で４μｍ以下にする必要がある。また上述したスピンコート法で形成された光透過層は、図７に示すようにディスクの内周が薄く外周に行くに従い厚くなる傾向があり、背景技術で述べた工法では厚さむらが４μｍを越てしまう、という問題点があった。
これを解決する方法として特許文献１には紫外線硬化樹脂をスピンコートする際、紫外線スポット光を光ディスク基板の中心側から外周側へ移動させながら照射する方法が開示されている。具体的にはスピンコートがほぼ完了した光ディスク基板を回転させつつ、その内周部に紫外線スポット光を照射することにより内周部の樹脂を硬化させる。これにより硬化が完了した部位の樹脂の移動が規制される。続いて硬化した部位よりも外周部側の部位に紫外線スポット光を照射することにより樹脂を順次硬化させる。このようにスピンコートされた樹脂が外周部に向けて大きく移動する以前に内周部から外周部に向けて紫外線スポット光を順次照射している。
【０００８】
しかしながら、上記スピンコートされる紫外線硬化樹脂は空気雰囲気中では硬化し難いという性質を持つため、樹脂を十分に硬化させるべく同一箇所に紫外線スポット光を長時間にわたり照射させなければならず、その間に照射部位よりも外側の部位の樹脂は更に外側に向けて移動してしまうため、樹脂層の厚さは外周に行くに従って薄くなり、樹脂層の厚みが均一にならなくなってしまう、という問題点がある。
また、スピンコート時の樹脂の流動スピードは樹脂の温度変化に起因する粘度変化により容易に変化するため、雰囲気温度が変化すると樹脂の流動スピードが変化し、そのたびに光ディスク基板の回転条件を最適化する必要が生じるため、厳密に温度管理がされていない環境で使用する場合は非常に多くの手間がかかってしまう。また、そのような手間を省くためには空調設備を完備して雰囲気温度を管理するなど余計なコストがかかってしまう。
本発明は、以上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創案されたものである。本発明の目的は、短時間で、且つ容易に厚さが均一な光透過層を形成することが可能な光ディスクの作製方法及び光ディスク装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に係る発明は、光ディスク基板の情報記録面に光透過層を均一な厚さに形成する光ディスクの作製方法において、前記光透過層の形成は、前記情報記録面を上方に向けて前記光ディスク基板を回転テーブルに固定した後、前記回転テーブルを回転させながら、前記情報記録面に紫外線硬化樹脂を滴下して、前記情報記録面全体が前記紫外線硬化樹脂で覆う工程と、次に、前記回転テーブルを回転させながら、前記紫外線硬化樹脂の厚さを測定する工程と、前記紫外線硬化樹脂の厚さの測定結果が予め定められた所定の厚さになった場合に、紫外線を照射する作業を内周側から外周側に向かって順次行って、前記紫外線硬化樹脂を一次硬化して仮硬化させる工程と、次に、前記回転テーブルの回転を停止した後、前記紫外線硬化樹脂の全面に前記一次硬化時よりも強い強度の紫外線を照射して二次硬化して完全硬化させる工程と、からなることを特徴とする光ディスクの作製方法である。
【００１０】
請求項２に係る発明は、光ディスク基板の情報記録面に光透過層を均一な厚さに形成する光ディスクの作製方法において、前記光透過層の形成は、前記情報記録面を上方に向けて前記光ディスク基板を回転テーブルに固定した後、前記回転テーブルを回転させながら、前記情報記録面に紫外線硬化樹脂を滴下して、前記情報記録面全体が前記紫外線硬化樹脂で覆う工程と、前記回転テーブルを停止した後、所定の厚さを有する光透過性シートを前記紫外線硬化樹脂上に載置する工程と、次に、前記回転テーブルを回転させながら、前記紫外線硬化樹脂の厚さを測定する工程と、前記紫外線硬化樹脂の厚さの測定結果が予め定められた所定の厚さになった場合に、紫外線を照射する作業を内周側から外周側に向かって順次行って、前記紫外線硬化樹脂を一次硬化して仮硬化させる工程と、次に、前記回転テーブルの回転を停止した後、前記紫外線硬化樹脂の全面に前記一次硬化時よりも強い強度の紫外線を照射して二次硬化して完全硬化させる工程と、からなることを特徴とする光ディスクの作製方法である。
【００１１】
請求項３に係る発明は、光ディスク基板の情報記録面に光透過層を均一な厚さに形成する光ディスク装置において、前記光ディスク基板を載置する回転テーブルと、前記回転テーブルを回転する回転手段と、前記回転テーブルに載置された前記光ディスク基板の情報記録面に紫外線硬化樹脂を塗布する樹脂供給手段と、前記回転テーブルを回転させながら、前記光ディスク基板の情報記録面に塗布された前記紫外線硬化樹脂の厚さを測定する膜厚測定手段と、前記紫外線硬化樹脂が予め定められた所定の厚さになった場合に、前記紫外線硬化樹脂を硬化させる紫外線照射手段と、からなることを特徴とする光ディスク装置である。
【００１２】
請求項４に係る発明は、光ディスク基板の情報記録面に光透過層を均一な厚さに形成する光ディスク装置において、前記光ディスク基板を載置する回転テーブルと、前記回転テーブルを回転する回転手段と、前記回転テーブルに載置された前記光ディスク基板の情報記録面に紫外線硬化樹脂を塗布する樹脂供給手段と、前記紫外線硬化樹脂上に光透過性シートを載置する載置手段と、前記回転テーブルを回転させながら、前記光ディスク基板の情報記録面に塗布された前記紫外線硬化樹脂の厚さを測定する膜厚測定手段と、前記紫外線硬化樹脂が予め定められた所定の厚さになった場合に、前記紫外線硬化樹脂を硬化させる紫外線照射手段と、からなることを特徴とする光ディスク装置である。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の光ディスクの作製方法及びディスク装置によれば、次のように優れた作用効果を発揮することができる。
情報信号の入った基板の情報記録面に紫外線硬化樹脂をスピンコート法により光ディスク基板の全周に塗布して光透過層を形成する工法において、スピンコート中に紫外線スポット光を光ディスク基板の中心側から外周側まで順次照射する際、紫外線硬化樹脂を完全硬化させるのではなく、樹脂の動きを規制できる程度にまでしか硬化させず（仮硬化）、後工程で完全に硬化させるようにしたので、紫外線スポット光を照射している位置よりも外周側の部位の樹脂がスピン中に大きく外周側へ移動することが無くなり、光透過層の厚さを均一化させることができ、例えばこの厚さむらを目的とする４μｍ以下にすることができる。また、紫外線スポット光を当てる時間も短縮することができる。
【００１４】
さらに、紫外線硬化樹脂を用いて光透過性シートを光ディスク基板に貼り合せて光透過層を形成することにより、樹脂は空気に触れないため早く硬化し、また硬化させるべき樹脂の量も大幅に減少することができるため、紫外線スポット光の照射時間を大幅に短縮することができるのみならず、効率よく均一な厚さの光透過層を形成することができる。
また、スピンコート中に紫外線スポット光を光ディスク基板の中心側から外周側まで順次照射する時、光透過層の厚さを測定しながら、その測定結果に基づき紫外線スポット光の移動スピードを制御するようにしたので、光透過層の厚さの均一性をより向上させることができるのみならず、たとえ生産中に樹脂の粘度変化が起きても安定した厚さの光透過層を形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、本発明の好適な実施の形態を添付図面に基づいて説明する。なお、以下に述べる実施の形態は本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。図１は本発明方法により作製される光ディスクを示す断面図、図２は図１中のＡ部の拡大図、図３はスピンコート法で紫外線硬化樹脂のみで光透過層を形成する方法を示す図、図４はスピンコート法で光ディスク基板に光透過性シートを紫外線硬化樹脂を用いて貼り合わせて光透過層を形成する方法を示す図、図５はスピンコート法で光ディスク基板に光透過性シートを紫外線硬化樹脂を用いて貼り合わせた後に光透過性シートを剥がして光透過層を形成する方法を示す図である。
【００１６】
最初に本発明の対象となる高記録密度の光ディスクについて説明する。
図１及び図２に示すように、光ディスクＤはポリカーボネート樹脂よりなる光ディスク用基板（以下、単に「基板」とも称す）２を有している。この基板２は樹脂の射出成形により形成され、その表面には螺旋状または同心円状に形成されたピット列、或いは溝列よりなる凹凸部４が形成されており、この凹凸部４の形成されている面が情報記録面４Ａとなっている。この基板２の情報記録面４Ａ上に反射層６、上引き層８、記録層１０、下引き層１２が順次スパッタにより積層されており、その上に光透過層１４が形成されている。上記基板２の情報記録面４Ａ側の内周部には溝１６が形成されており、この溝１６は母型となるスタンパーを射出成形用金型に取り付ける為のホルダーがリング状の凸部になっているため、その凸部が転写して成形されて出来たものである。
【００１７】
上述のように基板２は成形時にスタンパーから転写された螺旋状または同心円状のピット列や、溝列からなる凹凸部４が情報信号として形成されており、この情報記録面４Ａ上に、反射層６としてアルミニウムなどの記録再生レーザ光に対して高い反射率を有する反射膜を形成した場合には、再生専用の光ディスクとなる。更にまた反射層６としては、例えばキサンテン系、トリフェニルメタン系色素など記録再生用のレーザ光の波長を吸収して発熱する材料を用いた場合には、追記型の光ディスクと呼ばれる一度だけ記録できる光ディスクを得ることができる。
【００１８】
また上記反射層６に上記上引き層８を介して積層される記録層１０として、例えばＧｅ−Ｓｂ−Ｔｅ系合金のように結晶状態と非晶質状態とで記録再生用のレーザ光に対して反射率が異なるような材料よりなる相変化型記録膜を用いた場合には、一度だけ記録できる光ディスクや、複数回記録できる光ディスクを得ることができる。更には、上記した構造であって、アルミニウム等よりなる反射層６を有しない構造を用いても、本発明の効果は変わらないことが実験的に確かめられている。更に、情報記録面４Ａ上に磁気光学効果を有する記録磁性層を設けることにより、何度でも書き換え可能な光磁気型ディスクを得ることができる。
更にまた、前記したような記録層１０を１層のみ有する単層構成のみならず、中間層（図示せず）を得て膜構成を対称型にした２層の記録層を有する２層構成にした形態の光ディスクや、カード状をした光カードや、光ディスク等の外径を長方形状に加工した孔のあいたカード等において、本発明は全て適応可能である。
【００１９】
上記光透過層１４は樹脂のスピンコート法により形成され、この光透過層１４の形成方法には、図３のように基板２の情報記録面４Ａ上に紫外線硬化樹脂１８を滴下してこれを全面に広げて紫外線硬化樹脂１８のみで形成する方法と、図４のように基板２上に光透過性シート１０を紫外線硬化樹脂１８で貼り合せる方法とがある。例えばＢＤを例に取ると光透過層１４の厚さは１００μｍであるので、図４に示すように光透過性シート２０を貼り合せる場合には、光透過性シート２０の厚さを９０μｍに設定すれば、樹脂層１８の厚さを１０μｍとする。この光透過性シート２０は打ち抜きにより成形されるが、シート２０の外径が基板２の外径より大きい場合には、このシート２０が剥がれ易くなり、シート２０の内径が基板２の内径より小さいと記録再生した時のフォーカスやトラッキングが悪くなる等の欠点を生じるため、これらの不都合を防止するために、シート２０の外径は基板２の外径より小さく、シート２０の内径は基板２の内径よりも大きく設定することが望ましい。上記光透過性シート２０の材質は、本実施例ではポリカーボネート樹脂を使用しているが、アモルファスポリオレフィンシートやポリエステルシートも適応可能である。
【００２０】
また光透過層１４を紫外線硬化樹脂のみで形成する場合は、図３において説明したように単にスピンコートで樹脂の厚さが１００μｍになるまで樹脂を振り切って形成する方法と、図５に示すように、基板２との間に紫外線硬化樹脂１８を介在させて適当な厚さの光透過性シート２２を貼り合せ、１００μｍの厚さの樹脂層を形成した後に上記光透過性シート２２を剥がして形成する方法があり、本発明はいずれの場合にも適応可能である。
【００２１】
上記した光透過層１４を形成するための光ディスク装置について図６を参照して説明する。図６は本発明の光ディスク装置を示すブロック構成図である。この光ディスク装置３０は、光ディスク用基板２を載置する回転テーブルとしてのターンテーブル３２を有している。このターンテーブル３２は図示しない軸受けを介して回転手段としてのモータ３４に接続されており、回転するようになっている。上記ターンテーブル３２の中心にはピン３６が設置されており、このピン３６の外径と上記基板２の内径とは略同径になっており、またターンテーブル３２の中心と基板２の中心とは同位置になるように構成されている。また上記基板２に光透過性シート２０を貼り合せる際に光透過性シート２０をガイドするためのカラー３８が上記ピン３６の上部外周に設けられているが、このカラー３８の内径とピン３６の外径も略同径になっており、上記ターンテーブル３２の中心とカラー３８の中心も同位置になるように構成されている。ただし、光透過性シート２０を用いずに紫外線硬化樹脂のみで光透過層１４を形成する場合には上記カラー３８は使用しない。
【００２２】
上記ターンテーブル３２の上方には、必要時に上記光透過性シート２０を搬送してきて上記基板２上に載置する載置手段４０が設けられる。また、上記ターンテーブル３２の上方には、スライダー４２が設置されており、上記基板２の半径方向に沿って動くように構成されている。このスライダー４２には、紫外線硬化樹脂を供給するための樹脂供給手段としての樹脂供給ノズル４４と、紫外線照射手段としての紫外線スポット光ノズル４６と、樹脂層、すなわち光透過層１４の厚さを測定する膜厚測定手段としての膜厚測定器４８とをそれぞれ搭載しており、上記紫外線スポット光ノズル４６と膜厚測定器４８の位置関係は紫外線スポット光ノズル４６が基板２の内周側になるように隣接して設置されている。
【００２３】
また樹脂供給ノズル４４と紫外線スポット光ノズル４６とは、それぞれ離れて設置してある樹脂供給機本体５０及び紫外線照射機本体５２にそれぞれ接続されている。また、上記モータ３４、スライダー４２、樹脂供給機本体５０、紫外線照射機本体５２、膜厚測定器４８はそれぞれ制御装置５４に接続されており、各々の動作はこの制御装置５４により制御される。この制御装置５４は膜厚測定器４８による測定結果をフィードバックし、紫外線スポット光の半径方向の送り速度を制御出来るようになっている。またこの膜厚測定器４８は必要が無ければ削除することが可能であり、膜厚測定器４８を使わない場合には、スライダー４２に対して一定速度の送りや予め設定したプログラム制御の送り動作が出来るようになっている。
【００２４】
次に本発明方法の一例の動作概要を説明する。
まず表面に凹凸部４（図２参照）が形成されて情報信号の入った基板２の情報記録面４Ａに反射層６、上引き層８、記録層１０、下引き層１２を順次スパッタにより積層した基板２を、その成膜面を上にしてターンテーブル３２上に設定する。この際、ターンテーブル３２の中心に設置したピン３６をガイドとして基板２をターンテーブル３２に吸着装置（図示せず）で減圧固定し、更にピン３６をガイドとして光透過性シート２０をガイドするためのカラー３８を基板２上に載置する。その後、モータ３４を駆動させターンテーブル３２を低速で回転させながら、スライダー４２を駆動させ、紫外線硬化樹脂を滴下する位置まで樹脂供給ノズル４４を動かして樹脂を滴下する。この時、基板２が低速で回転しているため、滴下した樹脂は環状となる。尚、樹脂滴下中にスライダー４２を駆動して樹脂供給ノズル４４を移動することにより、樹脂の滴下範囲を基板の半径方向へ広げることが可能である。次に樹脂滴下後、ターンテーブル３２の回転を止めると共に、樹脂供給ノズル４４を定位置に戻す。
【００２５】
次に、予め内径がカラー３８の外径と略同径になされ、外径が基板２の外径より小さくなるように打ち抜き成形された光透過性シート２０を載置手段４０を用いて上記樹脂上に載置するが、この際、光透過性シート２０の内外周には打ち抜き時に発生したバリが有るので、このバリが基板２とは反対面に来る方向で載置することが望ましい。この光透過性シート２０の載置後に樹脂が適当量延伸したならばターンテーブル３２を高速回転させ、樹脂を基板２の外周端まで全面に行き渡らせると共に、余分な樹脂を振り切りにより取り除く。この樹脂を延伸させる際、基板２の溝１６（図１参照）に樹脂が入り込むと高速回転時に溝１６内の樹脂が溝１６から外に飛び出し、樹脂層の厚みの均一性を乱す可能性が有るので、樹脂が溝１６に入り込まないようにすることが望ましい。この樹脂をスピンで外側へ飛ばしている間にスライダー４２を駆動させ、膜厚測定器４８を樹脂供給部付近に移動させ、膜厚、すなわちここでは光透過性シート２０の厚さと樹脂層の厚さの合計値の測定を開始する。ここで紫外線スポット光ノズル４６は膜厚測定器４８より基板２の内周側に設置されており、基板２の回転中、膜厚が目標とする厚さに達すると制御装置５４からスライダー４２と紫外線照射機本体５２に指令が送られ、紫外線スポット光ノズル４６から紫外線照射を開始し、スライダー４２により基板２の外周へ向けて紫外線スポット光ノズル４６と膜厚測定器４８が移動を開始する。
【００２６】
この紫外線が照射されると、照射された部分の樹脂は仮硬化し、遠心力がかかっても外へ流れなくなるため、回転を続けてもその部分の厚さは目標の厚さに維持される。また、紫外線スポット光の照射エネルギーが強すぎる場合には、硬化の跡が残る場合があるので、適切な範囲の照射エネルギー量にする必要がある。そこで膜厚測定器４８は常に膜厚を測定しており、紫外線スポット光による照射を行いながら外周へ向かって進む際、膜厚が目標値より厚くなった場合にはスライダー４２の送りを遅くしたり、或いは止めたりして膜厚の厚い部分の樹脂の延伸を十分に行わせ、目標の厚さに達したら再度送りを速くしたり、或いは開始したりし、基板２の最外周に達するまでこの制御を続行する。
【００２７】
また、目標の膜厚よりも薄くなってしまった場合には、基板２の回転数が速過ぎたり、或いは紫外線スポット光の照度が低すぎる等の動作タイミングの問題なので、制御装置５４から警報を発し、作業者に適切なモータ回転数や紫外線スポット光の照度の変更を促す。このようにして最外周まで紫外線スポット光による照射が完了した時点で基板２の回転を止める。このようにして樹脂を一次硬化して仮硬化したならば、次に、別工程によって全面に強い紫外線を照射させ、樹脂を二次硬化させて完全に硬化させる。
【００２８】
以上のように樹脂層（光透過層）の厚さを検知し、その厚さをコントロールしながら樹脂を硬化させていくので、温度変化による樹脂の粘度変化がおきても、装置で自動的に対応し、光透過層１４の厚さを一定で均一な厚さに維持することが出来る。また、基板２の回転中は樹脂が流れない程度までしか仮硬化させず、完全硬化は別工程により全面一斉に硬化させるようにしたので、樹脂の硬化による跡がつくことがなく、短時間で入射面層である光透過層１４を形成することが出来る。
【００２９】
尚、上述した内容は紫外線スポット光で樹脂を仮硬化させ、且つ高速回転中の厚さを測定し、そのデータを基にスライダー４２の送り速度を制御する動作を説明したが、製造環境の温度が安定しており樹脂の粘度変化が少ない場合は、紫外線スポット光のスライダー４２の送り速度を予め求めておき、一定条件で連続の貼り合わせを行っても光透過層の厚さむらは良好な値を得ることが出来る。
【００３０】
また、光透過性シート２０を用いず、紫外線硬化樹脂のみで光透過層１４を形成する場合は、上記工程からカラー３８と光透過性シート２０を載置する動作を省くのみで、それ以外の動作は同じである。また、光透過性シート２０を貼り合せる際の樹脂層の厚さ設定や、樹脂の種類によっては硬化が早く、紫外線スポット光のみで完全硬化する場合も有り、そのような場合には後工程での紫外線全面照射は必要なくなる。
また図５に示すように、光透過性シート２２を後に除去する製法を用いる場合には、膜厚測定器４８の設定値は、光透過性シート２２の厚さを予め加味した設定値とし、例えば最終的に１００μｍの厚さの光透過層１４を得る場合であって、光透過性シート２２の厚さが５０μｍであるならば、膜厚測定器４８の設定値は１５０μｍとする。そして、樹脂の完全硬化処理後にこの光透過性シート２２を除去する。この場合、光透過性シート２２の剥離を容易化するために、光透過性シート２２の裏面に予め剥離容易化処理を施しておく。
【００３１】
＜実施例＞
以下、具体的数値を上げながら本発明方法を更に詳しく述べる。
射出成形機に取り付けた金型の片面に情報信号の母型となるスタンパーの内周部は、直径が２２ｍｍ付近を凸にしたホルダーで、外周部は吸着によりそれぞれ取り付け、樹脂温度３８０℃で溶融した光ディスク用のポリカーボネート樹脂を金型のキャビティーに入れて冷却した後（金型温度１１５℃）、基板２を金型から取り出し、外径が１２０ｍｍ、内径が１５ｍｍ、厚さが１．１ｍｍ、内周部の情報記録面側に溝（外径が２２ｍｍ、内径が２１ｍｍ、深さが０．２ｍｍ）１６の形成された片面に情報信号の入った光ディスク用基板２を製作した。この基板２の情報記録面４Ａ上に反射層６としてＡｇ合金膜を２００ｎｍ、上引き層８としてＺｎＳｉＯ２ 膜を１０ｎｍ、記録層１０としてＧｅＳｂＴｅ合金膜を１３ｎｍ、下引き層１２としてＺｎＳｉＯ２ 膜を１３ｎｍ、それぞれスパッタにより順次積層した。
【００３２】
次にターンテーブル３２の中心に設けた外径１５ｍｍのピン３６をガイドとして、この基板２の成膜面を上にしてターンテーブル３２上に載置し、図示しない減圧吸着により基板２を固定し、更に内径が１５ｍｍ、外径が２０ｍｍのカラー３８を、ピン３６をガイドとして基板２上に載置した。その後、基板２を７０ｒｐｍで回転させ、また樹脂供給ノズル４４を基板２上に移動させて、樹脂供給ノズル４４より紫外線硬化樹脂（大日本インキ社製ＥＸ８２０６：２５℃時の粘度６５ｍＰａ・ｓ）を滴下させて基板２上の円周方向に行き渡らせた。その後、基板２の回転を停止して樹脂供給ノズル４４を元に戻した後、光透過性シート２０として外径が１１９ｍｍ、内径が２０ｍｍに予め加工された厚さが９５μｍの光透過性であるポリカーボネートシートを上記カラー３８をガイドとして紫外線硬化樹脂上に落下させ、表面張力により紫外線硬化樹脂が適当量延伸した後、ターンテーブル３２を４０００ｒｐｍの高速回転で３０秒間回転させ、樹脂を基板２の外周に行き渡らせると共に、余分な樹脂を振り切りにより取り除いた。
【００３３】
またターンテーブル３２の高速回転と同時にスライダー４２を駆動させ、膜厚測定器（キーエンス社製レーザー変位計ＬＴ−８０２０型）４８を樹脂供給部付近に移動させ、膜厚の測定を開始した。この膜厚測定器４８のデータが１００μｍ＋αμｍになったならば紫外線スポット光（浜松ホトニクス社製ＵＶスポットランプＬ８３３３型）をＯＮにして照射を開始した。尚、上記”α”に関しては、膜厚を測定した後にその場所を硬化させると、測定値よりも薄くなるので、その値を考慮した値でターンテーブルの回転やスライダーの送り速度、紫外線スポット光の光量等の条件を設定しなければならず、ここではα値を１μｍとして膜厚測定器４８が１０１μｍとなるような条件でスライダー４２の送り速度をコントロールした。
【００３４】
そして、上記紫外線スポット光の照射と、同時にスライダー４２を駆動させ紫外線スポット光の移動も開始した。この紫外線スポット光のエネルギー量は６５ｍＪ／ｃｍ２ （波長３５０ｎｍ時）一定で行い、膜厚測定器４８のデータの結果をスライダー４２の送り速度にフィートバックをかけながら基板２の内周から基板２の外周に向けて紫外線スポット光を移動させて樹脂を仮硬化させた。この間の送り速度は３ｍｍ／ｓ〜５ｍｍ／ｓであった。その後、紫外線硬化樹脂により一体となった基板２と光透過性シート２０としてのポリカーボネートシートを紫外線照射装置（紫外線ランプ）下に設けたターンテーブル上に移動させ、ターンテーブルを２４０ｒｐｍで回転させながら強い紫外線をポリカーボネートシート側から照射して紫外線硬化樹脂を完全に硬化させて紫外線硬化樹脂の層が５μｍ（光透過層：１００μｍ）の光ディスクを得た。この時の樹脂の最内周の直径は２２．５ｍｍであった。尚、紫外線硬化樹脂を完全硬化させる時の基板２と紫外線ランプ間の距離は１５０ｍｍとなるように構成した。また、この時の樹脂の完全硬化に使ったエネルギーは２６０ｍＪ／ｃｍ２ で行った。上記の条件で１００枚の貼り合わせ板を作製し、光透過層の厚さをレーザ変位計（キーエンス社製）で測定した結果、厚さの平均値は９９．９μｍ、標準偏差は０．０８μｍ、面内の厚さむらの平均値は１．５μｍ、標準偏差は０．１μｍとなり、良好な結果を得ることができた。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】本発明方法により作製される光ディスクを示す断面図である。
【図２】図１中のＡ部を示す拡大図である。
【図３】スピンコート法で紫外線硬化樹脂のみで光透過層を形成する方法を示す図である。
【図４】スピンコート法で光ディスク基板に光透過性シートを紫外線硬化樹脂を用いて貼り合わせて光透過層を形成する方法を示す図である。
【図５】スピンコート法で光ディスク基板に光透過性シートを紫外線硬化樹脂を用いて貼り合わせた後に光透過性シートを剥がして光透過層を形成する方法を示す図である。
【図６】本発明の光ディスク装置を示すブロック構成図である。
【図７】ディスクの半径と光透過層の厚さとの関係を示すグラフである。
【符号の説明】
【００３６】
２…光ディスク用基板（基板）、４…凹凸部、４Ａ…情報記録面、６…反射層、８…上引き層、１０…記録層、１２…下引き層、１４…光透過層、２０…光透過性シート、３０…光ディスク装置、３２…ターンテーブル（回転テーブル）、３４…モータ（回転手段）、４０…載置手段、４４…樹脂供給ノズル（樹脂供給手段）、４６…紫外線スポット光ノズル（紫外線照射手段）、４８…膜厚測定器（膜厚測定手段）、Ｄ…光ディスク。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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