(57)【要約】      （修正有） 【課題】保護膜を含むガラス基板の非平坦部における透明電極の物性を、製造段階で検査可能であって、長期信頼性に優れた電気光学装置用基板の検査方法、製造方法、及び電気光学装置、並びに電子機器を提供する。【解決手段】電気光学装置用基板上に形成された透明電極の物性を評価するための電気光学装置用基板の検査方法であって、ガラス基板１３上の表示領域に相当する箇所に形成された保護膜２１５を含むガラス基板上に、透明電極１９を形成する透明電極形成工程と、透明電極に対して、アルカリ溶液９０を使用してアルカリ加速試験を行うとともに、保護膜２１５を含むガラス基板１３の非平坦部８０における、透明電極の物性を評価する評価工程と、を含む。【選択図】図２
2005128081.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学装置用基板上に形成された透明電極の物性を評価するための電気光学装置用基
板の検査方法であって、
ガラス基板上の表示領域に相当する箇所に形成された保護膜を含むガラス基板上に、前
記透明電極を形成する透明電極形成工程と、
前記透明電極に対して、アルカリ溶液を使用してアルカリ加速試験を行うとともに、前
記保護膜を含むガラス基板の非平坦部における、前記透明電極の物性を評価する評価工程
と、
を含むことを特徴とする電気光学装置用基板の検査方法。
【請求項２】
前記評価工程を複数回実施することを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置用基板
の検査方法。
【請求項３】
前記評価工程において、ＪＩＳ  Ｋ５４００に準拠した碁盤目試験を行い、前記透明電
極の物性として、密着性を評価することを特徴とする請求項１又は２に記載の電気光学装
置用基板の検査方法。
【請求項４】
前記透明電極形成工程において、前記保護膜の端部に傾斜部を設けることを特徴とする
請求項１〜３のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の検査方法。
【請求項５】
前記透明電極形成工程において、下地層を介して前記透明電極を形成することを特徴と
する請求項１〜４のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の検査方法。
【請求項６】
前記透明電極形成工程において、前記保護膜を光硬化性アクリル樹脂から構成するとと
もに、前記透明電極を酸化インジウムスズ膜から構成することを特徴とする請求項１〜５
のいずれか一項に記載の電気光学装置用基板の検査方法。
【請求項７】
前記評価工程において、前記アルカリ溶液の成分として水酸化カリウムあるいは水酸化
ナトリウムを使用することを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の電気光学装
置用基板の検査方法。
【請求項８】
前記評価工程において、前記透明電極に対して、前記アルカリ溶液を吹付けるか、ある
いは前記透明電極を、前記アルカリ溶液中に浸漬させることを特徴とする請求項１〜７の
いずれか一項に記載の電気光学装置用基板の検査方法。
【請求項９】
ガラス基板上の表示領域に相当する箇所に保護膜を形成する保護膜形成工程と、当該保
護膜を含むガラス基板上に透明電極を形成する透明電極形成工程と、を含む電気光学装置
用基板の製造方法であって、
前記透明電極に対して、アルカリ溶液を使用してアルカリ加速試験を行うとともに、前
記保護膜を含むガラス基板の非平坦部における、前記透明電極の物性を評価して、当該透
明電極の密着不良を発見するための評価工程をさらに含むことを特徴とする電気光学装置
用基板の製造方法。
【請求項１０】
前記評価工程で得られた透明電極の物性の評価結果を、前記保護膜形成工程及び透明電
極形成工程、あるいはいずれか一方の形成工程の製造条件に、フィードバックさせること
を特徴とする請求項９に記載の電気光学装置用基板の製造方法。
【請求項１１】
前記評価工程を、前記透明電極形成工程に対して並列的に設けるとともに、当該透明電
極形成工程における透明電極が形成された電気光学装置用基板を任意的に採取し、その透
明電極の物性を評価することを特徴とする請求項９または１０に記載の電気光学装置用基
板の製造方法。
【請求項１２】
ガラス基板上の表示領域に相当する箇所に、非平坦部を有する保護膜が形成してあると
ともに、当該保護膜を含むガラス基板上に透明電極が形成してある電気光学装置用基板で
あって、
前記透明電極が、アルカリ溶液を使用したアルカリ加速試験に基づく評価工程における
所定の評価基準を満足していることを特徴とする電気光学装置用基板。
【請求項１３】
請求項１２の電気光学装置用基板を含む電気光学装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の電気光学装置を備えた電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気光学装置用基板の検査方法、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学
装置用基板、及び電気光学装置、並びに電子機器に関する。
特に、電気光学装置用基板の製造段階において、透明電極の物性、例えば、密着性を評
価することにより、電気光学装置用基板の製造条件を適正条件に調整することが可能であ
って、長期信頼性に優れた電気光学装置用基板や電気光学装置を提供することができる電
気光学装置用基板の検査方法、電気光学装置用基板の製造方法、電気光学装置用基板、及
び電気光学装置、並びに電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、液晶表示装置等の電気光学装置に使用される電気光学装置用基板は、ガラス基板
上に形成された、反射膜や、カラーフィルタ、保護膜、透明電極、配向膜等により構成さ
れている。すなわち、反射膜や、カラーフィルタ等が形成されたガラス基板上に、反射膜
の結晶粒子の成長を抑えたり、あるいは、電気光学装置用基板の表面を平坦化したりする
役割を果たす保護膜を形成した後、結晶性あるいは非結晶性の透明電極、及び配向膜が積
層されている。
ここで、保護膜は、反射膜やカラーフィルタ等が形成される表示領域に形成すれば十分
である。そして、電気光学装置用基板や電気光学装置等を薄型化できることからも、当該
表示領域にのみ、選択的に保護膜を形成した電気光学装置用基板が開示されている。より
詳細には、図１１に示すように、一対の電気光学装置用基板３２０、３２１がシール材３
９０を介して貼り合わせられている電気光学装置３９０において、シール枠及びシール枠
外においては保護膜（平坦化膜）３７５を設けず、シール枠内のみにおいて、反射膜３０
２や、カラーフィルタ３７４を覆うように保護膜３７５、３０３を形成した電気光学装置
用基板３２０、３２１が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開２００２−４９０３３号公報  （図１１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、特許文献１に開示された電気光学装置用基板では、選択的に形成された
保護膜を含むガラス基板上に、透明電極を積層した場合、保護膜の境界部分において、透
明電極と、保護膜との間の密着性が低下しやすいという問題が見られた。すなわち、ガラ
ス基板上において、保護膜が形成されている箇所と、形成されていない箇所とが存在して
おり、その境界付近に非平坦部（傾斜部）が形成されるとともに、形成される透明電極の
結晶状態等が異なるためと思われるが、かかる非平坦部における透明電極へ応力が集中し
やすく、かかる透明電極が剥離したり、断線したりするという問題が見られた。
また、透明電極の結晶状態等は、時間の経過に伴って変化（進行）するという特性があ
り、透明電極の密着不良に関して、初期的には発見できない場合であっても、電気光学装
置や電子機器等に組み込まれて使用された後に、かかる密着不良に起因して、断線や欠落
が生じるという問題が見られた。
一方、このような透明電極の密着不良を、あらかじめ製造段階において発見できるよう
な適当な検査方法が見出されておらず、さらには何ら実施もされていないために、電気光
学装置用基板や電気光学装置等の長期信頼性が乏しいという問題も見られた。
【０００４】
そこで、本発明は、このような問題点を解決するためになされたものであり、製造段階
において、保護膜を含むガラス基板の非平坦部における透明電極の物性を評価して、透明
電極の形成不良の有無を確認可能な検査方法を提供するとともに、かかる物性の評価結果
に基づき、電気光学装置用基板の製造条件等を適宜調整して、電気光学装置や電子機器を
組み立てた場合には、優れた長期信頼性が得られる電気光学装置用基板の検査方法、その
検査方法を含む電気光学装置用基板の製造方法、そのような検査方法の評価基準を満足す
る電気光学装置用基板、及び電気光学装置、並びに電子機器を提供することを目的とする
。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明によれば、電気光学装置用基板上に形成された透明電極の物性を評価するための
電気光学装置用基板の検査方法であって、
ガラス基板上の表示領域に相当する箇所に形成された保護膜を含むガラス基板上に透明
電極を形成する透明電極形成工程と、
透明電極に対して、アルカリ溶液を使用してアルカリ加速試験を行うとともに、保護膜
を含むガラス基板の非平坦部における、透明電極の物性を評価する評価工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置用基板の検査方法が提供され、上述した問題点を解
決することができる。
なお、非平坦部とは、保護膜を含むガラス基板上において、平面的に段差が生じている
部分を意味し、主として、ガラス基板上に選択的に保護膜を形成した場合の、当該保護膜
の端部を含む箇所を指す。
【０００６】
また、本発明の電気光学装置用基板の検査方法を実施するにあたり、評価工程を複数回
実施することが好ましい。
【０００７】
また、本発明の電気光学装置用基板の検査方法を実施するにあたり、評価工程において
、ＪＩＳ  Ｋ５４００に準拠した碁盤目試験を行い、透明電極の物性として、密着性を評
価することが好ましい。
【０００８】
また、本発明の電気光学装置用基板の検査方法を実施するにあたり、透明電極形成工程
において、保護膜の端部に傾斜部を設けることが好ましい。
【０００９】
また、本発明の電気光学装置用基板の検査方法を実施するにあたり、透明電極形成工程
において、下地層を介して透明電極を形成することが好ましい。
【００１０】
また、本発明の電気光学装置用基板の検査方法を実施するにあたり、透明電極形成工程
において、透明電極を酸化インジウムスズ膜から構成するとともに、保護膜を光硬化性ア
クリル樹脂から構成することが好ましい。
【００１１】
また、本発明の電気光学装置用基板の検査方法を実施するにあたり、評価工程において
、アルカリ溶液の成分として水酸化カリウムあるいは水酸化ナトリウムを使用することが
好ましい。
【００１２】
また、本発明の電気光学装置用基板の検査方法を実施するにあたり、評価工程において
、アルカリ溶液を透明電極に対して処理するにあたり、アルカリ溶液を吹付けるか、ある
いはアルカリ溶液中に浸漬させることが好ましい。
【００１３】
また、本発明の別の態様は、ガラス基板上の表示領域に相当する箇所に保護膜を形成す
る保護膜形成工程と、当該保護膜を含むガラス基板上に透明電極を形成する透明電極形成
工程と、を含む電気光学装置用基板の製造方法であって、
透明電極に対して、アルカリ溶液を使用してアルカリ加速試験を行うとともに、保護膜
を含むガラス基板の非平坦部における、透明電極の物性を評価して、当該透明電極の密着
不良を発見するための評価工程をさらに含むことを特徴とする電気光学装置用基板の製造
方法である。
【００１４】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、評価工程で得られ
た透明電極の物性の評価結果を、保護膜形成工程及び透明電極形成工程、あるいはいずれ
か一方の形成工程の製造条件に、フィードバックさせることが好ましい。
【００１５】
また、本発明の電気光学装置用基板の製造方法を実施するにあたり、評価工程を、透明
電極形成工程に対して並列的に設けるとともに、当該透明電極形成工程における透明電極
が形成された電気光学装置用基板を任意的に採取し、その透明電極の物性を評価すること
が好ましい。
【００１６】
また、本発明のさらに別の態様は、ガラス基板上の表示領域に相当する箇所に、非平坦
部を有する保護膜が形成してあるとともに、当該保護膜を含むガラス基板上に透明電極が
形成してある電気光学装置用基板であって、透明電極が、アルカリ溶液を使用したアルカ
リ加速試験に基づく評価工程における所定の評価基準、例えば、ＪＩＳ  Ｋ５４００に準
拠した碁盤目試験の評価基準を満足していることを特徴とする電気光学装置用基板である
。
【００１７】
また、本発明のさらに別の態様は、上述した電気光学装置用基板を含む電気光学装置で
ある。
【００１８】
また、本発明のさらに別の態様は、上述した電気光学装置を備えた電子機器である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下、図面を参照して、本発明の電気光学装置用基板の検査方法、その検査方法を含む
電気光学装置用基板の製造方法、その製造方法により得られた電気光学装置用基板、及び
電気光学装置、並びに電子機器に関する実施形態について具体的に説明する。
ただし、かかる実施形態は、本発明の一態様を示すものであり、この発明を限定するも
のではなく、本発明の範囲内で任意に変更することが可能である。
【００２０】
［第１実施形態］
第１実施形態は、図１〜図２に例示するように、電気光学装置用基板１２上に形成され
た透明電極１９の物性を評価するための電気光学装置用基板１２の検査方法であって、
ガラス基板１３上の表示領域に相当する箇所に形成された保護膜２１５を含むガラス基
板１３上に透明電極１９を形成する透明電極形成工程と、
透明電極１９に対してアルカリ加速試験を行うことにより、保護膜２１５を含むガラス
基板１３の傾斜面でなる非平坦部８０ａ、８０ｂにおける、透明電極１９の物性を評価す
る評価工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置用基板１２の検査方法である。
以下、第１実施形態の電気光学装置用基板の検査方法について、電気光学装置用基板と
してのカラーフィルタ基板（第１の基板）における、保護膜（平坦化膜）を含むガラス基
板（第１のガラス基板）上に対して、透明電極（第１の透明電極）を形成した場合を例に
とって説明する。
【００２１】
１．検査対象
検査対象としてのカラーフィルタ基板１２は、図１（ｄ）に示すように、基本的に、ガ
ラス基板１２と、着色層１６と、保護膜（平坦化膜）２１５と、第１の透明電極１９と、
配向膜２１７と、から構成してあることが好ましい。また、図示しないが、カラーフィル
タ基板１２において、電気絶縁性を向上させるための絶縁層を設けることも好ましい。
また、カラーフィルタ基板１２において、反射機能が必要な場合、例えば、携帯電話等
に使用される半透過反射型の液晶装置においては、ガラス基板１２と、着色層１６との間
に、半透過反射機能を有する反射層２１２を設けることが好ましい。また、かかる反射層
は、基材の表面に独立して形成された複数の凸部を有する第１の反射基部と、その上に形
成された比較的なだらかな表面状態を有する連続層からなる第２の反射基部と、さらにそ
の上に形成された金属薄膜からなる反射膜と、を含むことが好ましい。
【００２２】
また、着色層１６は、通常、透明樹脂中に顔料や染料等の着色材を分散させて所定の色
調を呈するものとされている。着色層の色調の一例としては原色系フィルタとしてＲ（赤
）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の組合せからなるものがあるが、これに限定されるもので
はなく、Ｙ（イエロー）、Ｍ（マゼンダ）、Ｃ（シアン）等の補色系や、その他の種々の
色調で形成することができる。
また、図１（ｄ）に示すように、画素毎に形成された着色層１６の間の画素間領域に、
黒色遮光膜（ブラックマトリクス或いはブラックマスク）１８が形成してあることが好ま
しい。
この黒色遮光膜１８としては、例えば黒色の顔料や染料等の着色材を樹脂その他の基材
中に分散させたものや、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の着色材を共に樹脂その他
の基材中に分散させたものなどを用いることができる。
なお、着色層の配列パターンとして、ストライプ配列や、斜めモザイク配列、あるいは
、デルタ配列等の種々のパターン形状を採用することができる。
【００２３】
また、図１（ｄ）に示すように、保護膜（平坦化膜）２１５の上に、ＩＴＯ（インジウ
ムスズ酸化物）等からなる第１の透明電極１９を形成することが好ましい。かかる第１の
透明電極１９は、ストライプ状であって、それが複数個並列した構成であることが好まし
い。
また、第１の透明電極１９の上には、ポリイミド樹脂等からなる配向膜２１７が形成さ
れていることが好ましい。この理由は、このように配向膜２１７を設けることにより、カ
ラーフィルタ基板１２を液晶表示装置等に使用した場合に、液晶材料の電圧駆動を容易に
実施することができるためである。
【００２４】
２．透明電極形成工程
第１実施形態にかかる透明電極形成工程は、ガラス基板上の表示領域に相当する箇所に
形成された保護膜を含むガラス基板上に、透明電極を形成する工程である。以下、カラー
フィルタ基板（第１の基板）における、保護膜を含む第１のガラス基板上に透明電極を形
成する場合を例に採って、図３（ａ）〜（ｇ）を適宜参照しながら説明する。
【００２５】
まず、図３（ａ）〜（ｂ）に示すように、ガラス基板１３上におけるカラーフィルタ１
６ｒ、１６ｇ、１６ｂ等が形成された領域、すなわち、表示領域に相当する箇所に形成さ
れた保護膜２１５に対して、全面的に透明導電材料からなる透明導電層１９Ｘを形成する
ことが好ましい。
このとき、図３及び図６に示すように、保護膜２１５の端部には傾斜部８０を有するこ
とが好ましい。この理由は、かかる傾斜部を有することにより、保護膜を含むガラス基板
上に透明電極を形成した場合に、保護膜の端部が垂直状となっている場合と比較して、応
力の集中を緩和することができるためである。したがって、断線や欠落等を効果的に防止
することが可能となる。
なお、図６は、図３（ｂ）のＸＸ断面を矢印方向に見た部分垂直断面図である。
また、透明導電材料としては、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）や、ＩＺＯ（インジウ
ム亜鉛酸化物）、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化スズ・酸化アンチモン等を使用することがで
きるが、より低抵抗性を示すことから、ＩＴＯ（インジウムスズ酸化物）を使用すること
が好ましい。この透明導電層は、一例として、スパッタリング法により成膜することがで
きる。
【００２６】
また、透明導電層を積層するにあたり、図３（ｂ）に示すように、Ｔａ２Ｏ５やＳｉＯ
２等からなる下地層８１を形成した後に積層することが好ましい。この理由は、保護膜及
びガラス基板に対する透明導電層の密着性を高めることができるためである。
そして、図３（ｃ）〜（ｇ）に示すように、透明導電層１９Ｘに対して、フォトリソグ
ラフィ技術を用いてパターニングを施し、図１（ｄ）及び図３（ｇ）に示すように、透明
電極（第１の透明電極）１９を形成することが好ましい。具体的には、所定のパターニン
グを施したレジスト材料８６を透明導電層１９Ｘ上に積層した後、レジスト材料８６が被
覆している部分以外の透明導電材料１９Ｘを光硬化させることにより、所定パターンの透
明電極（第１の透明電極）１９を形成することができる。
なお、図１（ｄ）は、図３（ｇ）のＹＹ断面を矢印方向に見た図を示している。
【００２７】
３．評価工程
第１実施形態にかかる評価工程は、図２（ａ）〜（ｃ）に示すように、透明電極１９に
対して、アルカリ溶液を用いたアルカリ加速試験を行うことにより、保護膜（平坦化膜）
２１５を含む第１のガラス基板１３の非平坦部８０における、第１の透明電極１９の物性
、例えば、密着性を検査する工程である。
すなわち、電気光学装置用基板の製造段階において、アルカリ溶液により、例えば、密
着性に乏しい透明電極を、保護膜あるいはガラス基板から強制的に浮かせたり、剥離した
りすることができるためである。したがって、透明電極の形成不良の発見を容易にし、か
かる形成不良が発見された場合には、同様の条件で製造された電気光学装置用基板につい
ては、電気光学装置等に組み入れることを中断することが可能になる。また、電気光学装
置用基板の製造条件にフィードバックし、かかる製造条件を迅速に適正範囲に調整するこ
とができる。
また、保護膜の非平坦部に対応した箇所において、特に透明電極の密着不良や断線が生
じやすいことから、アルカリ溶液を用いたアルカリ加速試験を行うことにより、厳しい条
件で、透明電極の形成状態を評価することができる。したがって、得られる電気光学装置
用基板や電気光学装置等の長期信頼性を著しく高めることができる。
なお、本評価工程は、透明電極となる透明導電層を、保護膜を含むガラス基板上に積層
した後に実施することもでき、また、レジスト剥離を施して、所定のパターンを有する透
明電極を形成した後に実施することも可能である。
以下、透明電極に対するアルカリ加速試験と、透明電極の評価試験とに分けて説明する
。
【００２８】
（１）アルカリ加速試験
（１）−１  概要
アルカリ加速試験は、保護膜を含むガラス基板上に形成された透明電極に対してアルカ
リ溶液を浸透させ、透明電極の特性、例えば、保護膜を含むガラス基板に対する密着性の
評価を、迅速かつ正確に実施するための工程である。すなわち、アルカリ加速試験を行う
ことにより、形成不良等により、密着性に乏しい透明電極を、保護膜あるいはガラス基板
から迅速かつ適確に、浮かせたり、剥離させたりすることができるためである。
ここで、アルカリ加速試験は、上述の透明電極形成工程における透明導電層のレジスト
剥離ラインを利用して、すなわち、再度レジスト剥離ラインに投入して、実施することも
好ましいが、かかるレジスト剥離ラインの一部を分岐させて、アルカリ加速試験用の検査
ラインを設けて実施することも好ましい。
すなわち、アルカリ加速試験の評価工程を、透明電極形成工程に対して並列的に設ける
とともに、当該透明電極形成工程における透明電極が形成された電気光学装置用基板を任
意的に採取し、その透明電極の物性を評価することが好ましい。
この理由は、このように実施することにより、電気光学装置用基板の製造装置や、レジ
スト剥離の際に使用するアルカリ溶液等を、製造工程及び評価工程において併用すること
ができ、迅速かつ効率的にアルカリ加速試験を行うことができるためである。また、製造
中の電気光学装置用基板における透明電極の物性を迅速に検査することができ、即時、製
造条件を調整して、電気光学層装置用基板の歩留まりを向上させることができるためであ
る。
【００２９】
（１）−２  アルカリ成分
アルカリ加速試験に使用するアルカリ溶液の成分としては、水酸化カリウムあるいは水
酸化ナトリウムを使用することが好ましい。すなわち、透明電極形成工程において、透明
電極のレジスト剥離に使用するのと同じアルカリ溶液を使用することが好ましい。
この理由は、このように実施することにより、製造工程におけるレジスト剥離ラインの
一部をそのまま利用して、アルカリ加速試験を実施することが可能となるためである。し
たがって、製造装置とは別の検査装置等を設けることなく、所定のアルカリ加速試験を実
施することができる。
【００３０】
（１）−３  濃度
また、使用するアルカリ溶液に関して、濃度を０．０００１〜０．０１ｇ／リットルの
範囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、アルカリ溶液の濃度が０．０００１ｇ／リットル未満の値になると、迅速
かつ正確に透明電極の形成不良を評価することが困難となる場合があるためである。一方
、アルカリ溶液の濃度が０．０１ｇ／リットルを超えると、形成不良でなく適切な透明電
極まで剥離等させてしまい、結局、透明電極の物性を正確に評価することが困難となる場
合があるためである。
したがって、使用するアルカリ溶液の濃度を０．０００３〜０．００５ｇ／リットルの
範囲内の値とすることがより好ましく、０．０００５〜０．００１ｇ／リットルの範囲内
の値とすることがさらに好ましい。
【００３１】
（１）−４  ｐＨ値
また、使用するアルカリ溶液に関し、ｐＨ値を１０〜１４の範囲内の値とすることが好
ましく、１１〜１３の範囲内の値とすることがより好ましい。
この理由は、アルカリ溶液のｐＨ値が１０未満の値となると、迅速かつ正確に透明電極
の形成不良を評価することが困難となる場合があるためである。一方、アルカリ溶液の濃
度が１４を超えると、形成不良でなく適切な透明電極まで剥離等させてしまい、結局、透
明電極の物性を正確に評価することが困難となる場合があるためである。
【００３２】
（１）−５  処理方法
また、アルカリ溶液を透明電極に対して処理するにあたり、図４（ａ）に示すように、
第１の透明電極１９に対してアルカリ溶液９０を吹付けたり、噴霧したりすることが好ま
しい。
この理由は、このように実施することにより、少量のアルカリ溶液を使用して、透明電
極の所望の箇所に対して適確にアルカリ溶液を浸透させることができるためである。また
、アルカリ加速試験を実施するスペースを大掛かりなものとする必要がなく、省スペース
化を図ることができるためである。したがって、透明電極の密着性等が乏しい場合には、
確実に保護膜あるいはガラス基板から浮かせることが可能になる。
また、アルカリ溶液を透明電極に対して処理するにあたり、図４（ｂ）に示すように、
電気光学装置用基板１２をアルカリ溶液９０中に浸漬することも好ましい。
この理由は、このように実施することにより、透明電極の面積やパターンにかかわらず
、確実に処理することができるためである。したがって、透明電極の密着性等が乏しい場
合に、効率よく保護膜あるいはガラス基板から浮かせることが可能になる。よって、透明
電極の形成不良を、容易に発見することが可能になる。
【００３３】
（１）−６  温度
また、アルカリ加速試験を実施するにあたり、アルカリ溶液の温度を１０〜５０℃の範
囲内の値とすることが好ましい。
この理由は、このように実施することにより、迅速に透明電極の結晶性等を変化させる
ことができるためである。また、製造装置やアルカリ溶液等の一部を利用して、効率的に
、透明電極の結晶性等を変化させることができるためである。したがって、透明電極の密
着不良を、迅速かつ確実に発見することが可能になる。
よって、アルカリ溶液の温度を１２〜４０℃の範囲内の値とすることがより好ましく、
１５〜３０℃の範囲内の値とすることがさらに好ましい。
なお、透明電極形成工程におけるレジスト現像と同様の温度条件で実施することが好ま
しい。よって、かかるアルカリ溶液の温度を１０〜５０℃の範囲内の値とすることにより
、実際の製造条件とも同一化することができ、評価結果のフィードバックも容易になる。
【００３４】
（１）−７  時間
また、アルカリ加速試験を実施するにあたり、アルカリ溶液による処理時間を４０〜３
００秒の範囲内とすることが好ましい。
この理由は、かかる処理時間が４０秒未満となると、透明電極の密着不良等を適確に測
定できない場合があるためである。一方、かかる処理時間が３００秒を超えると、評価工
程全体として過度に時間を費やしてしまい、効率が低下してしまうためである。
したがって、アルカリ溶液による処理時間を５０〜２４０秒の範囲内とすることがより
好ましく、６０〜１８０秒の範囲内とすることがさらに好ましい。
【００３５】
（１）−８  回数
また、アルカリ加速試験を適当な条件において１回実施するだけで、透明電極の密着不
良等につき、十分評価することができるものの、複数回実施することも好ましい。
この理由は、このように実施することにより、透明電極の密着不良等の度合いに応じて
、迅速かつ効率的にかかる密着不良等を発見することができるためである。
また、アルカリ加速試験を複数回実施する場合において、上述したｐＨ値や、濃度、温
度等の条件を変えることなくそのまま繰り返し実施しても良いが、かかるｐＨ値や、濃度
、温度等の条件を変えた上で、複数回実施することも好ましい。例えば、濃度が異なるア
ルカリ溶液を数種準備しておき、どの段階の濃度で透明電極が剥離したかにより、透明電
極の密着性を客観的に判断することができる。
【００３６】
（２）特性評価
次いで、アルカリ加速試験を実施した透明電極についての特性評価、例えば、アルカリ
溶液によって一部膨潤させた透明電極と、保護膜を含むガラス基板との間の密着性評価を
行う。すなわち、密着性等が乏しい透明電極は、アルカリ加速試験によって、保護膜ある
いはガラス基板から一部浮いたり、剥離しているために、容易に密着不良を発見できる状
態となっている。
そして、かかる密着性等を評価するにあたり、ＪＩＳ  Ｋ５４００に準拠して、碁盤目
試験を実施することが好ましい。具体的には、図２（ｂ）に示すように、保護膜２１５を
含むガラス基板１３上の非平坦部８０に形成された透明電極１９に、１μｍ角の碁盤目を
１００個形成した後、粘着テープ９２を貼付し、次いで、図２（ｃ）に示すように、粘着
テープ９２を引き剥がして、基板上に残存した透明電極１９の碁盤目数を測定することに
より、評価することが好ましい。
この理由は、このように実施することにより、簡易な方法で透明電極の密着性を評価す
ることができるためである。また、密着不良を生じやすい非平坦部において評価すること
により、より厳しい条件での密着性を評価することができるためである。
したがって、かかる碁盤目試験を実施した結果、例えば、基板上に残存した透明電極の
碁盤目数が、１００個中、８０個未満となった場合には、透明電極の密着性を不良と評価
し、同様の条件で製造された電気光学装置用基板を電気光学装置等に組み込むことを中止
することが好ましい。
【００３７】
［第２実施形態］
第２実施形態は、ガラス基板上の表示領域に相当する箇所に保護膜を形成する保護膜形
成工程と、当該保護膜を含むガラス基板上に透明電極を形成する透明電極形成工程と、を
含む電気光学装置用基板の製造方法であって、
透明電極に対して、アルカリ溶液を使用してアルカリ加速試験を行うとともに、保護膜
を含むガラス基板の非平坦部における、透明電極の物性を評価する評価工程をさらに含む
ことを特徴とする電気光学装置用基板の製造方法である。
すなわち、第１実施形態で説明したのと同様の評価工程（評価工程）を含む、電気光学
装置用基板の製造方法である。
以下、第２実施形態の電気光学装置用基板の製造方法として、カラーフィルタ基板の製
造方法を例に採り、図１〜図６を適宜参照して、第１実施形態で既に説明した内容につい
ては適宜省略しながら説明する。
【００３８】
１．全体的構成
（１）前工程
まず、図５に示すように、ガラス基板上にカラーフィルタ等を形成するための前工程（
Ｓ１工程）を実施することが好ましい。具体的には、図１（ａ）に示すように、カラーフ
ィルタ基板における第１のガラス基板１３上の画像表示領域に相当する箇所に、反射層２
１２、着色層１６、及び黒色遮光層（ブラックマトリクス）１８を順次形成することが好
ましい。
ここで、開口部２１２ａを備えた反射層２１２は、蒸着法やスパッタリング法にて金属
材料等を基板上に被着させた後、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングすること
により形成される。また、黒色遮光層（ブラックマトリクス）１８は、顔料や染料等の着
色材を分散させた透明樹脂等からなる感光性樹脂を塗布し、これにパターン露光、現像処
理を順次施すことによって形成する。
また、着色層１６についても、顔料や染料等の着色材を分散させた透明樹脂等からなる
感光性樹脂を、反射層２１２等の上に塗布し、これにパターン露光、現像処理を順次施す
ことによっても形成することができる。
なお、複数の色の着色層１６を配列形成する場合には、色毎に上記工程を繰り返すこと
になる。
【００３９】
（２）保護膜の形成
次いで、図５に示すように、ガラス基板上の表示領域に相当する箇所に保護膜を形成す
るための、保護膜形成工程（Ｓ２工程）を実施することが好ましい。具体的には、まず、
図１（ｂ）に示すように、着色層１６等が形成された第１のガラス基板１３上に、全面的
に透光保護層２１５Ｘを形成する。この透光保護層２１５Ｘは、例えば、アクリル樹脂、
エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フッ素樹脂などで構成することができる。中でも、透明
性に優れるとともに、効率よく硬化させることができることから、光硬化性アクリル樹脂
を使用することが好ましい。
そして、これらの樹脂は流動性を有する未硬化状態で基板上に塗布され、乾燥、光硬化
、熱硬化などの適宜の手段で硬化される。塗布方法としては、スピンコート法や印刷法な
どを用いることができる。
【００４０】
次いで、上記透光保護層２１５Ｘに、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングを
施し、図１（ｃ）に示すように、画像表示領域Ａに限定された保護膜（平坦化膜）２１５
を形成する。この工程によって、透光保護層２１５Ｘから画像表示領域Ａ以外の領域、す
なわち、図１（ｃ）に示すシール枠Ｂ及びシール枠の外側に配置される領域Ｃとほぼ同じ
領域上から透光性素材が欠落される。
すなわち、このように画像表示領域にのみ選択的に保護膜（平坦化膜）２１５を形成す
ることにより、電気光学装置において互いに対向する、一対の電気光学装置用基板の間の
セルギャップの均一化を図ることができる。
【００４１】
ここで、第１のガラス基板上に、選択的に保護膜を形成するにあたり、図６に示すよう
に、保護膜２１５の端部に傾斜部８０を設けることが好ましい。
この理由は、保護膜の端部に傾斜部を有することにより、かかる保護膜を含むガラス基
板上に透明電極を形成した場合に、保護膜の端部が垂直状となっている場合と比較して、
応力の集中を緩和することができるためである。したがって、透明電極の密着性等の低下
を防止して、断線や欠落等を効果的に防止することが可能となる。
また、かかる保護膜の端部の傾斜部は、例えば、図１（ｂ）に示すように、ガラス基板
上に前面に積層された透光保護層２１５Ｘに対して、所定形状にパターニングを施したレ
ジスト材料を積層した後、光硬化させることにより、当該光がレジスト材料の下側にも一
部回りこみ、かかる部分の透光保護層が硬化することによって形成することができる。
なお、かかる保護膜２１５の傾斜部８０を含む箇所が、保護膜２１５を含む第１のガラ
ス基板１３における非平坦部となる。
【００４２】
（３）透明電極形成工程
次いで、図５に示すように、透明電極形成工程（Ｓ３工程〜Ｓ１０工程）を実施するこ
とが好ましい。かかる透明電極形成工程については、第１実施形態で既に述べた内容と同
様とすることができるために、具体的な説明は省略するが、おおまかな流れとしては以下
のとおりとなる。
すなわち、まず、図３（ａ）〜（ｂ）に示すように、保護膜２１５を含む第１のガラス
基板１３上に、全面的に透明導電材料からなる透明導電層１９Ｘを形成する（図５におけ
るＳ４工程）。ここで、図３（ｂ）に示すように、透明導電層１９Ｘを積層するにあたり
、あらかじめ、Ｔａ２Ｏ５やＳｉＯ２等からなる下地層８１を形成することも好ましい（
図５におけるＳ３工程）。この理由は、形成される透明導電層１９Ｘの結晶性等を均一化
させて、保護膜及びガラス基板に対する透明導電層の密着性を高めることができるためで
ある。
次いで、図３（ｃ）に示すように、透明導電層１９Ｘ上に所定のレジスト材料８６´を
塗布した後（図５におけるＳ５工程）、図３（ｄ）に示すように、所定のマスクパターン
８７を施した上で露光することにより（Ｓ６工程）、図３（ｅ）に示すように、所定形状
にパターニングされたレジスト材料８６を形成する。そして、図３（ｆ）に示すように、
透明導電材料１９Ｘに対して現像して光硬化させた後（Ｓ７工程）、図３（ｇ）に示すよ
うに、レジスト材料８６をアルカリ溶液（図示せず）により剥離する（Ｓ８工程）。さら
に、再度透明導電材料に対して露光した上で（Ｓ９工程）、現像して光硬化させる（Ｓ１
０）。
このようにして、図３（ｇ）及び図１（ｄ）に示すように、所定パターン（図示せず）
の透明電極（第１の透明電極）１９を形成することが好ましい。
なお、図１（ｄ）は、図３（ｇ）のＹＹ断面を矢印方向に見た断面図である。
【００４３】
（４）後工程
次いで、透明電極等が形成された第１のガラス基板上に対して、ポリイミド樹脂等から
なる配向膜等を形成するための後工程（Ｓ１１工程）を実施することが好ましい。
以上のように、各工程を経て、電気光学装置用基板が製造されることとなる。
【００４４】
２．評価工程（評価工程）
第２実施形態に係る評価工程は、既に第１実施形態で述べた評価工程と同様とすること
ができる。すなわち、アルカリ加速試験を実施するとともに、透明電極の密着性の評価を
行う工程である。
そして、かかる評価工程は、図５に示すように、上述した電気光学装置用基板の製造工
程中の、いずれかの段階において実施することが好ましい。すなわち、製造工程中のいず
れかの段階で、製造途中の電気光学装置用基板の一部を抜き出して、適宜評価工程を実施
することにより、得られた透明電極の物性に対する評価結果を、電気光学装置用基板の製
造条件にフィードバックして、かかる製造条件を適正条件に、適宜調整することができる
ためである。したがって、透明電極の形成不良に起因した断線や欠落が生じる可能性の少
ない電気光学装置用基板を効率的に製造することができる。
【００４５】
ここで、評価工程は、製造工程における各段階においても実施することが可能であるが
、例えば、図５中、評価工程Ａで示すように、所定形状にパターニングされた透明電極を
形成した後に実施することが好ましい。すなわち、透明電極形成工程（Ｓ３〜Ｓ１０）の
最終段階で実施することが好ましい。
この理由は、透明電極を形成し終えた段階で検査することにより、透明電極形成工程に
おける全ての工程を終了した状態での透明電極の密着性を検査（評価）することができる
ために、透明電極の密着性をより正確かつ確実に測定することができるためである。
【００４６】
また、図５中、評価工程ＢあるいはＣで示すように、製造段階の途中段階で実施するこ
とも好ましい。
すなわち、評価工程Ｂでは、透明導電材料をパターニングする際のレジスト材料を剥離
した後（Ｓ８工程後）に実施することにより、透明導電材料を積層した後（Ｓ４工程）、
透明電極のパターニングの条件に起因する、当該透明電極の密着不良を発見することがで
きるためである。したがって、評価工程Ｂの評価結果を、主として、レジスト塗布（Ｓ５
工程）、露光（Ｓ６工程）、現像（Ｓ７工程）、レジスト剥離（Ｓ８工程）における各条
件設定にフィードバックして、適宜調整することが好ましい。
一方、評価工程Ｃでは、保護膜を含むガラス基板上に、透明導電材料を積層した後（Ｓ
４工程後）に実施することにより、透明導電材料の積層段階における透明電極の密着不良
等、すなわち、それ以前の工程に起因する形成不良を発見することができるためである。
したがって、評価工程Ｃの評価結果を、主として、保護膜形成（Ｓ２工程）、下地層形成
（Ｓ３工程）、透明導電材料積層（Ｓ４工程）における各条件設定にフィードバックして
、適宜調整することが好ましい。
そして、これら評価工程Ａ〜Ｃを、複数段階で実施することも好ましい。この理由は、
電気光学装置用基板の製造工程中の各工程において評価工程を実施して、検査結果をフィ
ードバックして、迅速かつ適確に製造条件を調整することにより、透明電極の物性、例え
ば、透明電極の密着性に優れた電気光学装置用基板を効率よく製造することができるため
である。
【００４７】
［第３実施形態］
第３実施形態は、第２実施形態の電気光学装置用基板の製造方法により得られた電気光
学装置用基板を含む電気光学装置である。すなわち、ガラス基板上の表示領域に相当する
箇所に、非平坦部を有する保護膜が形成してあるとともに、当該保護膜を含むガラス基板
上に透明電極が形成してある電気光学装置用基板であって、透明電極が、アルカリ溶液を
使用したアルカリ加速試験に基づく評価工程における所定の評価基準を満足した電気光学
装置用基板を含む電気光学装置である。
以下、本実施形態の電気光学装置について、液晶パネルと、バックライトと、を含む液
晶装置を例に採って、図７〜図９を適宜参照しながら、以下説明する。
なお、カラーフィルタ基板については、上述したとおりであるため、ここでの説明は省
略する。
【００４８】
（１）基本的構成
図７及び図８に示すように、液晶装置を構成する液晶パネル２００は、ガラス板や合成
樹脂板等からなる透明な第１のガラス基板１３を基体とするカラーフィルタ基板１２と、
これに対向して、実質的に同様の構成を有する第２のガラス基板２７を基体とする対向基
板１４とが、接着剤等のシール材２３０を介して貼り合わせられて構成されていることが
好ましい。そして、カラーフィルタ基板１２と、対向基板１４とが形成する空間であって
、シール材２３０の内側部分に対して、開口部２３０ａを介して液晶２３２を注入した後
、封止材２３１にて封止されてなるセル構造を備えていることが好ましい。
すなわち、図８の液晶パネル２００の概略断面図に示すように、カラーフィルタ基板１
２と対向基板１４との間に、液晶２３２が充填されていることが好ましい。
また、図７に示される液晶装置を構成する液晶パネル２００は、図示しないもののバッ
クライトやフロントライト等の照明装置やケース体などを、必要に応じて、適宜取付ける
ことが好ましい。
【００４９】
また、図８に示すように、第２のガラス基板２７の内面（第１のガラス基板１３に対向
する表面）上に、マトリクス状の第２の透明電極２０を形成し、第１のガラス基板１３の
内面（第２のガラス基板２７に対向する表面）上には、複数のストライプ状の第１の透明
電極１９を形成することが好ましい。
また、第２の透明電極２０を、二端子型非線形素子としてのＴＦＤ３１を介して電気配
線２６に対して導電接続するとともに、もう一方の第１の透明電極１９を、電気配線２６
´に対して導電接続することが好ましい。
そして、第２の透明電極２０と、第１の透明電極１９とその交差領域がマトリクス状に
配列された多数の画素を構成し、これら多数の画素の配列が、全体として液晶表示領域Ａ
を構成することになる。
【００５０】
また、図８に示すように、第２のガラス基板２７は、第１のガラス基板１３の外形より
も外側に張り出してなる基板張出部１４Ｔを有し、この基板張出部１４Ｔ上には、電気配
線（データ電極）２６、電気配線２６´、及び、独立して形成された複数の配線パターン
からなる入力端子部２１９が形成されていることが好ましい。
そして、基板張出部１４Ｔ上には、これら配線２６、２６´及び入力端子部２１９に対
して導電接続されるように、駆動回路等を内蔵した半導体素子や、フレキシブル配線基板
が実装されることとなる。
【００５１】
（２）対向基板
また、図８に示すように、カラーフィルタ基板１２と対向する対向基板１４は、ガラス
等からなる第２のガラス基板２７上に、第１の基板と同様の第２の透明電極２０、ＳｉＯ
２やＴｉＯ２などからなる硬質保護膜２２３や配向膜２２４を順次積層させたものである
ことが好ましい。
なお、第１実施形態及び第２実施形態では、カラーフィルタ基板を例に採って説明して
いるが、対向基板における保護膜を含むガラス基板上に透明電極を形成した場合であって
も、同様の方法で透明電極の密着性の検査方法及び当該検査方法を含む製造方法を実施す
ることができる。
【００５２】
また、対向基板上には、ＴＦＤ素子や、ＴＦＴ素子等の非線形素子が形成されているこ
とが好ましい。例えば、図９に例示するようなＴＦＤ素子３１ａ、３１ｂは、素子第１電
極（第１金属膜）２４、絶縁膜２３、及び素子第２電極（第２金属膜）２２、２５からな
るサンドイッチ構成を有することが好ましい。ここで、第１金属膜２４や第２金属膜２２
、２５としては、タンタル（Ｔａ）、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）や、クロム
（Ｃｒ）等が挙げられる。また、絶縁膜２３としては、このような金属材料を陽極酸化さ
せて構成してあることが好ましい。例えば、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５）、酸化アルミニ
ウム（Ａｌ２Ｏ３）等が具体的に挙げられる。そして、正負方向のダイオードスイッチン
グ特性を示し、しきい値以上の電圧が、第１金属膜２４及び第２金属膜２５の両端子間に
印加されると導通状態となるアクティブ素子である。
なお、この液晶パネル２００の例では、着色層を第１の基板に設けてあるが、着色層を
、かかる対向基板１４の第２のガラス基板２７上に設けることも好ましい。
【００５３】
（３）位相差板及び偏光板
液晶パネル２００において、図８に示すように、第１のガラス基板１３の外面の所定位
置に、位相差板（１／４波長板）２４０及び偏光板２４１が配置されていることが好まし
い。そして、第２のガラス基板２７の外面においても、鮮明な画像表示が認識できるよう
に、位相差板（１／４波長板）２５０及び偏光板２５１が配置されていることが好ましい
。
【００５４】
すなわち、以上のようにして構成された、本実施形態の電気光学装置としての液晶装置
は、構成する第１及び第２の基板の製造段階において、透明電極の物性、例えば、密着性
をアルカリ加速試験により評価して、密着性に優れた透明電極を備えた第１及び第２の基
板のみを使用して製造してあるために、透明電極での断線や欠落等が生じる可能性が少な
くなっている。したがって、長期間の使用に対する電気光学装置の信頼性を著しく高める
ことが可能になる。
【００５５】
［第４実施形態］
本発明に係る第４実施形態としての電子機器について、上述した電気光学装置用基板の
検査方法を含む電気光学装置の製造方法により得られた電気光学装置を、電子機器におけ
る表示装置として用いた場合について具体的に説明する。
図１０は、本実施形態の電子機器の全体構成を示す概略構成図である。この電子機器は
、図１０に示すように、液晶パネル２００と、これを制御するための制御手段１２００と
を有している。また、図１０中では、液晶パネル２００を、パネル構造体２００Ａと、半
導体素子（ＩＣチップ）等で構成される駆動回路２００Ｂと、に概念的に分けて描いてあ
る。また、制御手段１２００は、表示情報出力源１２１０と、表示処理回路１２２０と、
電源回路１２３０と、タイミングジェネレータ１２４０とを有することが好ましい。
また、表示情報出力源１２１０は、ＲＯＭ（Read Only Memory）やＲＡＭ（Ran dom Ac
cess Memory）等からなるメモリと、磁気記録ディスクや光記録ディスク等からなるスト
レージユニットと、デジタル画像信号を同調出力する同調回路とを備え、タイミングジェ
ネレータ１２４０によって生成された各種のクロック信号に基づいて、所定フォーマット
の画像信号等の形で表示情報を表示情報処理回路１２２０に供給するように構成されてい
ることが好ましい。
【００５６】
また、表示情報処理回路１２２０は、シリアル−パラレル変換回路、増幅・反転回路、
ローテーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周知の各種回路を備え、入力し
た表示情報の処理を実行して、その画像情報をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路２００
Ｂへ供給することが好ましい。そして、駆動回路２００Ｂは、走査線駆動回路、データ線
駆動回路及び検査回路を含むことが好ましい。また、電源回路１２３０は、上述の各構成
要素にそれぞれ所定の電圧を供給する機能を有している。
そして、本実施形態の電子機器であれば、透明電極の物性が不適と判断されなかった電
気光学装置用基板を使用しているために、長期にわたって、断線や欠落等の心配が少なく
、信頼性を著しく高めることが可能になる。
【００５７】
さらに、本発明の電気光学装置及び電子機器は、上述の図示例にのみ限定されるもので
はなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である
。例えば、上記各実施形態に示す液晶パネルは単純マトリクス型の構造を備えているが、
ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（薄膜ダイオード）等のアクティブ素子（能動素子
）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置にも適用することができる。
また、上記実施形態の液晶パネルは所謂ＣＯＧタイプの構造を有しているが、半導体素
子（ＩＣチップ）を直接実装する構造ではない液晶パネル、例えば液晶パネルにフレキシ
ブル配線基板やＴＡＢ基板を接続するように構成されたものであっても構わない。
【産業上の利用可能性】
【００５８】
以上説明したように、本発明の電気光学装置用基板の検査方法によれば、所定の評価工
程を含むことにより、電気光学装置用基板の製造段階において、透明電極と、保護膜を含
むガラス基板との間の密着性等を、迅速かつ適確に評価できるようになった。したがって
、透明電極が形成不良と評価された場合には、迅速に電気光学装置用基板の製造条件を調
整することができ、その結果、電気光学装置用基板の歩留まりを著しく高めることができ
るようになった。
また、かかる検査方法によれば、電気光学装置用基板の製造段階において、あらかじめ
透明電極の形成不良を発見することができるために、得られる電気光学装置用基板の信頼
性を高めることができ、結果として、それが組み込まれる電気光学装置あるいは電子機器
の信頼性を高めることができるようになった。
したがって、電気光学装置としての液晶表示装置を適用可能な電子機器としての、パー
ソナルコンピュータや、携帯電話機、その他、液晶テレビ、ビューファインダ型・モニタ
直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電気泳動装置、電
子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、ＰＯＳ端末、タッ
チパネルを備えた電子機器、電子放出素子（ＦＥＤ:Field Emission DisplayやＳＣＥＥ
Ｄ：Surface-Conduction Electron-Emitter Display）などに使用される電気光学装置用
基板の検査方法や、これらの製造方法に用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】（ａ）〜（ｄ）は、第１実施形態の電気光学装置用基板の検査方法にかかる製造工程を説明するために供する図である。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は、第１実施形態の電気光学装置用基板の検査方法にかかる評価工程を説明するために供する図である。
【図３】（ａ）〜（ｇ）は、透明電極の形成方法を説明するために供する図である。
【図４】（ａ）〜（ｂ）は、アルカリ溶液の浸透方法を図である。
【図５】第２実施形態に係る電気光学装置用基板の製造方法にかかる製造工程を説明するために供する図である。
【図６】保護膜の端部付近の垂直断面図である。
【図７】第３実施形態に係る液晶パネルの斜視図である。
【図８】第３実施形態に係る液晶パネルの概略断面図である。
【図９】（ａ）〜（ｂ）は、ＴＦＤ素子を説明するために供する図である。
【図１０】第４実施形態に係る電子機器における構成ブロックを示す概略構成図である。
【図１１】従来の電気光学装置用基板を説明するための断面図である。
【符号の説明】
【００６０】
１２：第１の基板、１３：第１のガラス基板、１４：第２の基板、１８：ブラックマトリ
クス、１９：第１の透明電極（走査電極）、２０：第２の透明電極（画素電極）、２２・
２５：素子第２電極（第２金属膜）、２３：絶縁膜、２４：素子第１電極（第１金属膜）
、２６：電気配線（データ電極）、２７：第２のガラス基板、３１ａ：第１のＴＦＤ素子
、３１ｂ：第２のＴＦＤ素子、８０：非平坦部（傾斜部）、８１：下地層（ＳｉＯ2）、
９０：アルカリ溶液、９２：粘着テープ、２００：液晶パネル、２１５：保護膜
【図１】
2005128081.tif 000003
【図２】
2005128081.tif 000004
【図３】
2005128081.tif 000005
【図４】
2005128081.tif 000006
【図５】
2005128081.tif 000007
【図６】
2005128081.tif 000008
【図７】
2005128081.tif 000009
【図８】
2005128081.tif 000010
【図９】
2005128081.tif 000011
【図１０】
2005128081.tif 000012
【図１１】
2005128081.tif 000013