(57)【要約】【課題】リソグラフィにおいて使用される光学システムの要求は、例えば非常に寸法の小さい、かつ高精度の構造を提供可能にするため、非常に厳しい。この事実から、そうした高品質の光学システムを提供することが求められているだけでなく、光学システムの使用中、そのような高品質を維持可能にすることも望まれる。【解決手段】リソグラフィ光学システムをここに提示する。光学システムは、それの中に２つの透光窓と少なくとも１つの可動レンズを有したハウジングと、かつ、該ハウジングの外側に配置された少なくとも１つの他の光学素子を配備する。少なくとも１つの他の光学素子をハウジングの外側に配備することにより、該少なくとも１つの他の光学素子によってもたらされる、可動レンズ光学品質への考えられる有害な影響が減じられる。可動レンズを有したハウジングをパージすることが可能であり、また、該ハウジングにリニアモータや、レンズの非接触動作のためのガスベアリングを配備することが可能である。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一チャンバ、第一透光窓、第二透光窓、および、該第一チャンバ内に配置された少なくとも１つの可動レンズとを含んだ第一ハウジングと、
該第一チャンバと連通する少なくとも１つのガス交換開口と、
該第一ハウジングの外側に配置された少なくとも１つの追加の光学素子とを具備するリソグラフィ光学システムにおいて、光路は、該第一透光窓、該第二透光窓、少なくとも１つの該可動レンズ、および少なくとも１つの該追加光学素子によって画定されるリソグラフィ光学システム。
【請求項２】
放射線を受け取り、該放射線を、パターニング装置を照射する放射線のビームに変換するように構成され、配置されることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項３】
放射線のパターン化されたビームを受け取り、該放射線のパターン化ビームを基板に投影するように構成され、配置されることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項４】
少なくとも１つの該追加の光学素子は、ブラインド、フィルタ、ミラー、およびレンズのうちの１つであることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項５】
第一ハウジングの外側に配置される複数の追加の光学素子を具備することを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項６】
上記の可動レンズは、第一チャンバ内にて少なくともその１つが可動である、複数のレンズエレメントから成る複合レンズであることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項７】
少なくとも１つの可動レンズは第一チャンバ内の可動部分であることを特徴とすることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項８】
上記の少なくとも１つの可動レンズは上記の第一チャンバ内の唯一の光学素子であることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項９】
少なくとも１つのガス交換開口に連結した第一ガス交換手段をさらに配備することを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項１０】
上記の第一ガス交換手段は、ポンプ、およびガスを有した容器のうちの少なくとも一方から成ることを特徴とする請求項９に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項１１】
少なくとも１つのガス交換開口はシール可能であることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項１２】
少なくとも１つのガス交換開口はガス供給口およびガス排気口から成ることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項１３】
ガスベアリングが可動レンズに設けられることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項１４】
可動レンズは、加圧ガスによりシリンダ内にて可動のピストンを備えた重力補償装置に連結されることを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項１５】
第二ハウジング内の第二チャンバ、そして第三透光窓および第四透光窓とを有する少なくとも１つの第二ハウジングを配備し、該第二チャンバに少なくとも１つの追加の光学素子のうちの１つを収容することを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項１６】
上記の少なくとも１つの第二ハウジングは、上記の第二チャンバと連通する少なくとも１つのガス交換開口を備えていることを特徴とする請求項１５に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項１７】
上記の少なくとも１つのガス交換開口はシール可能であることを特徴とする請求項１６に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項１８】
上記のガス交換開口に連結する第二ガス交換手段をさらに備えることを特徴とする請求項１６に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項１９】
上記の第一ハウジングは少なくとも１つの第二ハウジングに分離可能なように連結されることを特徴とする請求項１５に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項２０】
上記の第一ハウジングの透光窓の１つと、上記の少なくとも１つの第二ハウジングの透光窓の１つが共通の透光窓を形成することを特徴とする請求項１９に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項２１】
上記の少なくとも１つの可動レンズを動作させるレンズアクチュエータを配備することを特徴とする請求項１に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項２２】
上記のレンズアクチュエータは磁石部分と導体部分を有するリニアモータから成り、上記の可動レンズは該磁石部分と該導体部分の一方に連結されることを特徴とする請求項２１に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項２３】
上記の可動レンズは、上記の第一チャンバに配設された上記の磁石部分に連結し、導体部分は第一ハウジングの外側に配設されることを特徴とする請求項２２に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項２４】
上記の磁石部分および上記の導体部分の少なくとも一方は、気体放出防止コーティングによって被覆されることを特徴とする請求項１８に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項２５】
第一ハウジング内の第一チャンバ、放射線ソース、第一透光窓、第一チャンバ内の少なくとも１つの可動レンズを有した第一ハウジングと、
該第一チャンバと連通する少なくとも１つのガス交換開口と、そして、
該第一ハウジングの外側に配置された少なくとも１つの追加の光学素子とから成るリソグラフィ光学システムにおいて、光路は、該放射線ソース、該少なくとも１つの可動レンズ、該第一透光窓、そして該少なくとも１つの追加の光学素子によって画定されるリソグラフィ光学システム。
【請求項２６】
パターニング装置を照射する放射線のビームを供給するように構成され、配置されていることを特徴とする請求項２５に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項２７】
放射線のビームを供給するように構成された放射線システムを配備するリソグラフィ装置において、該放射線システムは、
第一チャンバ、第一透光窓、第二透光窓、および、該第一チャンバ内に配置された少なくとも１つの可動レンズを含んだ第一ハウジングと、
第一チャンバと連通する少なくとも１つのガス交換開口と、
光路が、該第一透光窓、該第二透光窓、少なくとも１つの該可動レンズ、および少なくとも１つの追加の光学素子によって画定されている第一ハウジングの外側に配置された該少なくとも１つの追加の光学素子と、
該放射線ビームに所望のパターンを与えるパターニング装置を支持するように構成された支持構造と、
基板を保持するように構成された基板ホルダと、
該基板の目標部分に該パターン化ビームを投影するように構成された投影システムとを具備するものであることを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項２８】
上記の光路に関して、上記の光学システムおよび上記の少なくとも１つの追加の光学素子は上記の支持構造と同じ側に配置されることを特徴とする請求項２７に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項２９】
放射線のビームを供給するように構成された放射線システムを配備するリソグラフィ装置において、該放射線システムは、
第一ハウジング内の第一チャンバ、放射線ソース、第一透光窓、および、該第一チャンバ内の少なくとも１つの可動レンズとを含んだ第一ハウジングと、
該第一チャンバと連通する少なくとも１つのガス交換開口と、
光路が、該放射線ソース、少なくとも１つの該可動レンズ、該第一透光窓、および少なくとも１つの該追加光学素子によって画定されている該第一ハウジングの外側に配置された該少なくとも１つの追加の光学素子と、
該放射線ビームに所望のパターンを与えるパターニング装置を支持するように構成された支持構造と、
基板を保持するように構成された基板ホルダと、
該基板の目標部分に該パターン化ビームを投影するように構成された投影システムとを具備するものであることを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項３０】
光路に関して、光学システムおよび少なくとも１つの追加の光学素子は支持構造と同じ側に配置されることを特徴とする請求項２９に記載のリソグラフィ光学システム。
【請求項３１】
放射線のビームを供給するように構成された放射線システムを配備するリソグラフィ装置において、該放射線システムは、
該放射線ビームに所望のパターンを与えるパターニング装置を支持するように構成された支持構造と、
基板を保持するように構成された基板ホルダと、
該基板の目標部分に該パターン化ビームを投影するように構成された投影システムとを具備し、該投影システムは、
第一チャンバ、第一透光窓、第二透光窓、および、該第一チャンバ内に配置された少なくとも１つの可動レンズとを含んだ第一ハウジングと、
第一チャンバと連通する少なくとも１つのガス交換開口と、
該第一ハウジングの外側に配置された少なくとも１つの追加の光学素子とを具備し、ここで、光路は、該第一透光窓、該第二透光窓、少なくとも１つの該可動レンズ、および少なくとも１つの該追加光学素子によって画定されるリソグラフィ装置。
【請求項３２】
上記の少なくとも１つの追加の光学素子は、上記の支持構造と上記の基板ホルダ間に配置されることを特徴とする請求項３１に記載のリソグラフィ光学システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、リソグラフィ装置の光学システムと、そしてそのような光学システムを用いるリソグラフィ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
リソグラフィ投影装置は例えば、集積回路（ＩＣ）の製造において使用可能である。そのような場合において、パターニング装置はＩＣの個々の層に対応する所望の回路パターンを生成するために使用される。そして、放射線感光材料（レジスト）の層で被覆された基板（シリコンウェハ）上の目標部分（例えば１つ以上のダイから成る）にこのパターンを結像することが可能である。
【０００３】
一般的に、そのような装置は、放射線の投影ビームを供給する照明システムと、パターニング装置を支持する支持構造と、基板を保持する基板ホルダと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを含む。ここに記載のリソグラフィデバイスに関するさらなる情報は、例えば、米国特許第６，０４６，７９２号から入手可能である。その開示内容を本明細書に援用する。
【０００４】
本明細書において使用する「パターニング装置」なる用語は、入射する放射線ビームに、基板の目標部分に作り出されるべきパターンと一致するパターン化断面を与えるために使用し得る機構に当たるものとして広義に解釈されるべきである。また、「ライトバルブ」なる用語もこうした状況において使用される。一般的に、該パターンは、集積回路や他のデバイス（以下を参照）であるような、デバイスにおいて目標部分に作り出される特別な機能層に相当する。そのようなパターニング手段には以下が含まれる。
【０００５】
マスク：マスクの概念はリソグラフィにおいて周知のものであり、これには、様々なハイブリッドマスクタイプのみならず、バイナリマスク、レベンソンマスク、減衰位相シフトマスクといったようなマスクタイプも含まれる。放射線ビームにこのようなマスクを配置することにより、マスクに照射する放射線の、マスクパターンに従う選択的透過（透過性マスクの場合）や選択的反射（反射性マスクの場合）を可能にする。マスクの場合、その支持構造は一般的に、入射する放射線ビームの所望する位置にマスクを保持しておくことが可能であり、かつ、必要な場合、ビームに対して運動させることの可能なマスクテーブルである。
【０００６】
プログラマブルミラーアレイ：このようなデバイスの一例として、粘弾性制御層および反射面を有するマトリクスアドレス可能面があげられる。こうした装置の基本的原理は、（例えば）反射面のアドレスされた領域は入射光を回折光として反射するが、アドレスされていない領域は入射光を非回折光として反射するといったことである。適切なフィルタを使用することにより、回折光のみを残して上記非回折光を反射ビームからフィルタすることが可能である。この方法において、ビームはマトリクスアドレス可能面のアドレスパターンに従ってパターン形成される。必要とされるマトリクスアドレッシングは適切な電子手段を用いて実行される。このようなミラーアレイに関するより多くの情報は、例えば、米国特許第ＵＳ５，２９６，８９１号および同第ＵＳ５，５２３，１９３号から得ることが出来るので、詳細は当該文献を参照されたい。プログラマブルミラーアレイの場合、上記支持構造は、例えばフレームもしくはテーブルとして具体化され、これは必要に応じて、固定式となるか、もしくは可動式となる。
【０００７】
プログラマブルＬＣＤアレイ：このような構成の例が米国特許第ＵＳ５，２２９，８７２号に開示されているので、詳細は当該文献を参照されたい。上記同様、この場合における支持構造も、例えばフレームもしくはテーブルとして具体化され、これも必要に応じて、固定式となるか、もしくは可動式となる。
【０００８】
簡潔化の目的で、本文の残りを、指摘する特定の箇所において、マスクおよびマスクテーブルを必要とする例に限定して導くものとする。しかし、こうした例において論じられる一般的な原理は、既に述べたようなパターニング装置のより広範な状況において理解されるべきである。
【０００９】
一般的に、シングルウェハは、投影システムを介して１つずつ順次照射される近接目標部分の全体ネットワークを含んでいる。マスクテーブル上のマスクによるパターニングを用いる現在の装置は、異なる２つのタイプのマシンに区分される。一般にウェハステッパと呼ばれる、リソグラフィ投影装置の一タイプでは、全体マスクパターンを目標部分に１回の作動にて露光することによって各目標部分が照射される。ステップアンドスキャン装置と称される別の装置では、所定の基準方向（「スキャニング」方向）にマスクパターンを投影ビーム下で累進的にスキャニングし、これと同時に基板テーブルをこの方向と平行に、あるいは反平行にスキャニングすることにより、各目標部分が照射される。一般的に、投影装置は倍率係数Ｍ（一般的に、＜１）を有することから、基板テーブルが走査される速度Ｖは、マスクテーブルが走査される速度の係数Ｍ倍となる。ここに記載を行ったリソグラフィデバイスに関するさらなる情報は、参考までに記載を行うと、例えば、米国特許第ＵＳ６，０４６，７９２号から得ることが出来る。
【００１０】
リソグラフィ投影装置を使用する製造工程において、パターンは少なくとも部分的に放射線感光材（レジスト）の層で覆われた基板上に像形成される。この像形成ステップに先立ち、基板は、プライミング、レジスト塗布、およびソフトベークといったような各種の工程を経る。露光後、基板は、ポストベーク（ＰＥＢ）、現像、ハードベーク、および像形成フューチャの測定／検査といったような他の工程を通る。この工程の配列は、例えばＩＣといったような素子の個々の層をパターン化するための基準として使用される。このようなパターン形成された層は、それから、全て個々の層を仕上げる目的である、エッチング、イオン注入（ドーピング）、メタライゼーション、酸化、化学機械的研磨等といった種々のプロセスを経る。
【００１１】
数枚の層が必要とされる場合には、全体工程、もしくはその変形をそれぞれの新しい層に繰り返す必要がある。最終的に、素子のアレイが基板（ウェハ）上に形成される。次に、これらの素子はダイシングやソーイングといったような技法で相互より分離される。それから個々の素子は、キャリアに装着されたり、ピンに接続されたりし得る。こうした工程に関するさらなる情報は、１９９７年にマグローヒル出版会社より刊行された、Ｐｅｔｅｒ  ｖａｎ  Ｚａｎｔ著、「マイクロチップ製造：半導体処理に対する実用ガイド」という名称の書籍（“Ｍｉｃｒｏｃｈｉｐ  Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ：Ａ  Ｐｒａｔｉｃａｌ  Ｇｕｉｄｅ  ｔｏ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ”）の第３版、ＩＳＢＮ０−０７−０６７２５０−４に記載されているので詳細は当該文献を参照されたい。この内容をここに引用したものとする。
【００１２】
簡潔化の目的で、これより投影システムを「レンズ」と称するものとする。しかし、この用語は、例えば屈折光学システム、反射光学システム、および反射屈折光学システムを含むさまざまなタイプの投影システムを網羅するものとして広義に解釈されるべきである。放射線システムはまた、放射線の投影ビームの誘導、成形、あるいは制御を行う、こうした設計タイプのいずれかに応じて稼動する構成要素も備えることが出来る。こうした構成要素もまた以降において集約的に、あるいは単独的に「レンズ」と称する。さらに、リソグラフィ装置は２つあるいはそれ以上の基板テーブル（および、あるいは２つもしくはそれ以上のマスクテーブル）を有するタイプのものである。このような「多段」デバイスにおいては、追加のテーブルが並列して使用される。もしくは、１つ以上の他のテーブルが露光に使用されている間に予備工程が１つ以上のテーブルにて実行される。例えば、ツインステージリソグラフィ装置について、米国特許第ＵＳ５，９６９，４４１号および国際特許出願第ＷＯ９８／４０７９１号に記載がなされているので、詳細はこれらの内容を参照されたい。
【００１３】
さらに、リソグラフィ装置は２つあるいはそれ以上の基板テーブル（および、あるいは２つもしくはそれ以上のマスクテーブル）を有するタイプのものである。このような「多段」デバイスにおいては、追加のテーブルが並列して使用される。もしくは、１つ以上の他のテーブルが露光に使用されている間に予備工程が１つ以上のテーブルにて実行される。例えば、ツインステージリソグラフィ装置について、米国特許第ＵＳ５，９６９，４４１号および国際特許出願第ＷＯ９８／４０７９１号を参照されたい。
【００１４】
上記に示したように、リソグラフィ工程の目的の１つは、例えば他の半導体デバイスのトランジスタを製造するための、所望の複雑なパターンを有する基板を提供することである。基板にそのようなパターンを与えるために主に使用される技術の１つにおいては、光放射線およびこの光放射線をコントロールする光学システムを用いる。本出願の状況において、光学（optical）なる用語は、特に約１００ｎｍから約７００ｎｍ間の波長を有する電磁放射線を指す。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
リソグラフィにおいて使用される光学システムの要求は、例えば非常に寸法の小さい、かつ高精度の構造を提供可能にするため、非常に厳しい。この事実により、そうした高品質の光学システムを提供することが求められているだけでなく、光学システムの使用中、そのような高品質を維持可能にすることも望まれる。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
一般に、従来の照明システムは、レーザ光源、ガスパージシステム、フィルタといったような多数の構成要素、および、ミラー、ブラインド等の光学素子を有する、密閉されたハウジングを含む。しかし、そのような多数の光学素子（一般に光学システムの全光学素子）を１つのハウジング内に密閉することにより、光学素子の１つに関する問題が、他の少なくとも１つの光学素子に影響を与える可能性が大きい。例えば、１つ以上の光学素子がガスを放出する部分を含む場合があり、レンズ、ミラー等のような光学素子の表面にガスが沈着することにより、あるいはそうした表面との作用により、他の光学素子の品質を劣化させるおそれがある可能性がある。特に、可動レンズあるいはズームレンズといったようなレンズはそのような影響に敏感である。
【００１７】
ここで具体化され、広範に詳細記載がなされる本発明の原理において、光学システムに含まれる光学素子の良好な品質を維持することの可能な構成を具備するリソグラフィ光学システムを提供する。一実施形態において、リソグラフィ光学システムは、第一チャンバ、第一透光窓、第二透光窓、および、該第一チャンバ内に配置された少なくとも１つの可動レンズとを含んだ第一ハウジングを配備する。該光学システムはさらに、第一チャンバと連通する少なくとも１つのガス交換第一開口と、第一開口の外側に配置された少なくとも１つの追加の光学素子を具備する。ここで、光路は、第一透光窓、第二透光窓、少なくとも１つの可動レンズ、および少なくとも１つの追加の光学素子によって画定される。
【００１８】
少なくとも１つの追加の光学素子を第一ハウジングの外側に提供することにより、追加の光学素子が、第一チャンバ内の少なくとも１つの可動レンズに影響を与えることはない。追加の光学素子により放出されるガスもしくは他の物質が少なくとも１つの可動レンズに達することはもはやない。１つ以上の追加の素子が１つ以上の追加のハウジングにも配備可能であることを注記する。
【００１９】
特に、光学システムは、放射線を受け取り、該放射線を、パターニング装置を照射する放射線の投影ビームに変換するように構成されている。あるいは、光学システムは、放射線のパターン化されたビームを受け取り、放射線のパターン化されたビームを基板に投影するように構成されている。前者のケースは、光学システムはパターニング装置の前の光路の部分に関連し、後者のケースでは、光学システムはパターニング装置と基板間の光路部分に関連することは理解されよう。「パターニング装置」および「基板」なる用語については以下において説明を行う。要するに、阻害素子あるいは汚染素子はできる限り可動レンズを含んだスペースの外に出されるということである。
【００２０】
有利に、少なくとも１つの追加の光学素子は、ブラインド、フィルタ、ミラー、およびレンズの１つである。これら追加の光学素子は一般に光学システムにおいて使用される。しかし、他のタイプの光学素子が除外されるわけではない。本出願において、ブラインドは、本発明に従い光学システムにより透過される、あるいは放射される光ビームの形状を変えるデバイスと見なされ、かつ、該ブラインドは１つ以上の静止もしくは可動の非透過性ブレードから成る。フィルタは、フィルタに当たる放射線の少なくとも部分に透過性を有するデバイスであり、ミラーおよびレンズはこれら通常の目的を有する。
【００２１】
特に、本発明に従う光学システムの有利な実施形態においては、第一ハウジングの外側に複数の追加の光学素子を具備する。光学システム全体における光学素子が比較的多く第一ハウジングの外側に配備されると、本実施形態は特に有利である。より多くの光学素子が第一チャンバ、第一ハウジングそれぞれから出されることで、少なくとも１つの可動レンズに与える光学素子の影響の変化がより小さくなる。
【００２２】
有利に、可動レンズは、第一チャンバ内におき少なくともその１つが可動である、複数のレンズエレメントから成る複合レンズである。特に、可動レンズはズームレンズである。あるいは、可動レンズは単純なレンズである。例えば少なくとも１つの透光窓をレンズとして用いることが可能であり、それにより連結窓と可動レンズにおいてズーム機能を得る。いずれにしても、ほとんどの場合、可動レンズは複合レンズであって、少なくとも１つのレンズエレメントは、第一ハウジングに対して可動であるか、もしくは少なくとも１つの他のレンズエレメントに対して可動である。そうしたズームレンズはリソグラフィ装置における光学システムの基本部分である。これは倍率係数を決定するのみならず、像の均質性、解像力に関する像の精度、ディストーション等にも影響を与える。これにより、第一チャンバ内の少なくとも１つの可動レンズに取り得る最適な環境を可能にする。
【００２３】
ゆえに、有利な実施形態においては、少なくとも１つの可動レンズは第一チャンバ内の可動部分であることを特徴とする。少なくとも１つの可動レンズが第一チャンバ内における唯一の可動部分であるとすることにより、考えられる汚染の原因を排除する。可動部分は、摩擦等により生じた小さな粒子がチャンバ内に放たれることによって生じるような汚染をもたらし得ることを注記する。あるいは、可動部品は潤滑剤を使用するが、これはさらに小さな粒子を発生させるか、もしくは蒸発した潤滑剤がチャンバ内に放たれる。第一チャンバ内の可動部分として少なくとも１つの可動レンズのみ具備することによって、少なくとも可動部分の数が最小に減じられる。
【００２４】
より有利には、少なくとも１つの可動レンズは第一チャンバ内の唯一の光学素子である。最も好ましい実施形態は、第一チャンバ内に少なくとも１つの可動レンズのみを有する。チャンバ内の光学素子をこれ以上減じることは実際的でないようにおもわれる。考えられる汚染の原因数がこのように減じられる。
【００２５】
クリーンな環境であっても、第一ハウジング、第一チャンバ内のスペースに汚染が入り込むのをいつも避けられるわけではない。ゆえに、有利に、光学システムは、少なくとも１つのガス交換開口に連結した第一ガス交換手段をさらに備える。そのようなガス交換手段は、チャンバ内でガスでパージされるか、もしくはガスが第一チャンバから除去されるのを可能にする。また、第一チャンバの中のガスを交換することによって、あるいは第一チャンバからガスを取り除くことによって、第一チャンバにもたらされる可能性のある汚染のほとんど、もしくは全てが第一チャンバにおいて防ぐことができる。多くの場合これにより、デリケートな材料あるいはコーティングを攻撃する汚染の可能性を減じる。化学作用のない、例えば塵粒の単純な沈着であっても光学品質を劣化することを注記する。第一ガス交換手段によりそうした粒子等を取り除くこともまた光学品質を改善、もしくは維持するのに有効である。
【００２６】
有利に、第一ガス交換手段は、ポンプ、およびガスを有した容器のうちの少なくとも一方から成る。少なくとも１つのガス交換開口に連結したポンプは、場合によって小さな粒子がその中に入り込んだガスを第一チャンバから取り除くために使用される。ポンプは、例えば最初にガスをチャンバ内に送入し、次にポンプ作用を逆にしてガスを取り除くことにより、第一チャンバのパージング、もしくはフラッシングにも使用される。あるいは、第一チャンバは、加圧ガスを有した容器に連結される。第一チャンバの内部ガス圧が大気レベル以上に増され、それにより、容器の除去の後にアクセスガスが第一チャンバから抜け出る。第一チャンバに少なくとも１つの第二ガス交換開口を配設することも可能である。その場合は、加圧ガスを含んだ容器に連結することにより、容器内の過圧により第一チャンバ内に送り込まれたガスは少なくとも１つの第二ガス交換開口を通って抜け出る。実際上、第一チャンバは通気される。あるいは、容器は負圧のガスを有する。その場合、第一チャンバに存在するガスは容器に流れる。しかし、本発明に基づく光学システムとの組合せにおいてガス交換を行う他の方法あるいは装置も可能であることを注記する。
【００２７】
有利に、少なくとも１つのガス交換開口をシールすることが可能である。シール可能な少なくとも１つのガス交換開口を有することにより、かなり気密な第一ハウジングを提供することが可能となる。例えばパージガス環境あるいは真空環境といったような、所望の環境を第一チャンバにもたらした後に少なくとも１つのガス交換開口をシールすることが可能である。これの長所は、第一チャンバ内の考えられうるガス移動だけでなく、ポンプもしくは同様のものから生じる振動等がそれによって防止されることである。これは、光学システムの光学的結像の質を改善するのに有利である。とは言え、連続的もしくは断続的なガス交換がなされる目的に、少なくとも１つのガス交換開口を開口状態にしておくことも可能である。
【００２８】
有利に、そして特に永続的なガス交換を伴う実施形態において、少なくとも１つのガス交換開口はガス供給口およびガス排気口から成る。ガス供給口およびガス排気口を配設することにより、ガス交換回路の設定が可能であり、永続的な、もしくは断続的なガス交換を可能にする。言い換えると、これによりチャンバ内のガス環境状態の連続的な調整を可能にする。複数のガス供給口および／またはガス排気口を配設することも可能であることを注記する。これは乱流やガス速度等を減じる目的に有益である。
【００２９】
有利に、ガスベアリングが可動レンズにもうけられる。ガスベアリングは可動レンズの非接触ベアリングとして具体化される。これにより、他の機構部品による摩擦がなく可動レンズ動作が可能となり、それにより研磨摩擦による小さな粒子の放出を減じる。とは言え、所望の場合、もしくは必要な場合、テフロン（登録商標）にて被覆された滑り軸受け、もしくはスリーブ軸受けといったような他のタイプのベアリングも配設可能である。
【００３０】
特に、ガスベアリングには、第一ガス交換手段に連結するガスサプライがもうけられる。あるいは、少なくとも１つのガス交換開口がガスベアリングにもうけられる。そのような実施形態の長所は、第一チャンバをパージするために使用されるガスがガスベアリングにも使用されることである。これにより、ガスの使用量を減じることが可能となり、光学システムの構成を単純化する。
【００３１】
光学システムの有利な実施形態において、可動レンズは、加圧ガスによりシリンダ内において可動のピストンを備えた重力補償装置に連結される。特にこの場合、可動レンズの動作方向は非水平であり、重力が可動レンズの位置に影響を及ぼす。望ましからざる可動レンズの位置ずれを防止するため、重力補償装置が配備される。これは例えば加圧ガスによりシリンダ内において可動のピストンから成る。ピストンによって可動レンズに及ぶ力が、可動レンズにかかる有効重力をほとんどなくすようにすることにより、その影響を最小限にする。さらに、可動レンズを移動するために必要な力、あるいは、実際、重力補償装置に連結する他の部分は、良好に調整された補償装置の大きさの２オーダまでとかなり小さいことから、アクチュエータはかなり小さく作られる。それにより使用材料を少なくすることができ、これはより少量のガス放出と、コスト低減を意味する。アクチュエータの低出力もまた、アクチュエータのヒートアップ、かつ光学部品を有する環境のヒートアップを意味する。従い熱変形が少なくなる。可動レンズを運動させる手段もまた、可動レンズの配置後、重力によってレンズが移動しないようにすることが可能であることを注記する。
【００３２】
上記の重力補償装置において、例えばピストンがシリンダから離れる位置にて、シリンダは好ましくはラジアルガスベアリングによりシールされる。パージガスは動作部品間における約１０−１５μｍのギャップに放出される。放出されたガスは、動作部品間の摩擦が最小となるようにする。それらの部品がスチールといったような金属から製造されると、気体放出は絶対最小値に減じられる。あるいは、摩擦やガス放出がその利用性を減じるが、Ｏリングといったような他の封止手段が使用される。
【００３３】
本発明に従う光学システムの有利な実施形態は、第二ハウジング内の第二チャンバ、そして第三透光窓および第四透光窓とを有する少なくとも１つの第二ハウジングを配備し、第二チャンバに少なくとも１つの追加の光学素子のうちの１つを収容する。この実施形態において、少なくとも２つのハウジングが配備され、そのそれぞれのチャンバ内に少なくとも１つの追加の光学素子を収容する。１つ以上の第二ハウジングが配設されるケースにおいて、各第二ハウジングはチャンバ等を有することを注記する。この実施形態の長所は、少なくとも１つの追加の光学素子もまた考えられる有害な影響より離されることである。これは、第二チャンバにおける少なくとも１つの追加の光学素子が、例えば水、酸素等にも敏感である場合に特に有利である。第一チャンバ、第二チャンバ等に異なる環境をもたらすことが可能であり、かつ有利であることを注記する。
【００３４】
他の長所は、他のことによるとデリケートな光学素子を妨げる必要なく、光学素子の交換、検査、洗浄等がなされることである。言い換えると、光学システムのモジュラー設定は敏感な部品の所望の保護環境を維持可能にする。原理上、例えば第一ハウジングの外側にある追加の光学素子が交換される等のとき、この長所は本発明に基づく全ての光学システムに当てはまることを注記する。本発明に基づく光学システムが、同様にパージされる、またはパージされない、より大きなハウジングに組み込まれる場合、これは特に当てはまる。よって、ハウジングは敏感な光学素子に負の影響を与えることなく開けられる。
【００３５】
有利に、少なくとも１つの第二ハウジングは、第二チャンバと連通する少なくとも１つのガス交換開口を備え、より有利には、少なくとも１つのガス交換開口はシール可能であり、なおいっそう有利には、光学システムはさらに、ガス交換開口に連結する第二ガス交換手段を備える。原理上、これらの手段は、第二ハウジング内の、すなわち第二チャンバ内のガス雰囲気を調整、あるいは改善する手段を指す。第一チャンバに関して記載を行った全ての長所が第二チャンバに当てはまるだけでなく、さまざまなチャンバにおいて異なるガス雰囲気、純度レベル等を維持することも可能である。これは、異なる物質によって攻撃をうける異なる材料の光学素子に望ましいガス雰囲気の組成に関し有利であるばかりでなく、最も純度の高い、従い最も高価なパージガスを、１つのみ、もしくは選択された数のチャンバに使用する可能性をも提供する。一方、他のチャンバは、純度の低い、かつそれほど高価でないガスによりパージされ、所望の場合、さらなる光学素子は全くパージされない。
【００３６】
有利に、第一ハウジングは少なくとも１つの第二ハウジングに分離可能なように連結される。ハウジングを連結することにより、ハウジング間の最適なアライメントが保証され得る。これは、第一ハウジングおよび第二ハウジングを通過する光路が最適な光学品質を確実にもたらし得るのに有利である。第一ハウジングと第二ハウジングを直線に配置する必要はないことを注記する。また、第一ハウジングより放射される放射線ビームを偏向させるミラーを配備することが可能である。リソグラフィ投影装置あるいは同様のもののセットアップをよりコンパクトにする目的に、これは例えば４５°のミラーである。これについては望ましい実施形態の詳細説明において明らかである。あるいは、第一ハウジングを第二ハウジングに固定連結することも可能である。これは、例えばハウジングの１つ以上がメンテナンス等のための開口を有するとき、最適な位置合わせを可能にするのに有利である。
【００３７】
有利に、第一ハウジングの透光窓の１つと、少なくとも１つの第二ハウジングの透光窓の１つが共通の透光窓を形成する。例えば、第一ハウジングおよび第二ハウジングが直接縦に連結されるような場合、第一ハウジングおよび第二ハウジング間に１つのみの共通の透光窓をもうけることが可能である。これにより、そうした窓１つを省きながらも、依然２つの別々のチャンバを提供し得る。とは言え、それらハウジングに別々の透光窓を設けることも可能である。第一ハウジングおよび第二ハウジングが例えば分離可能に相互連結されている場合には後者が有利であり、これは、例えば別のハウジングを開ける必要なく、１つのハウジングの交換あるいは取り外しを可能にする。あるいは、第一ハウジングを第二ハウジングに固定連結することも可能であり、その場合、別々の第一チャンバと第二チャンバを有する、第一ハウジングと第二ハウジングとを連結した、１つの統合ハウジングを提供することも可能である。そのような第一チャンバ、第二チャンバ、および、場合によってはそれ以上のチャンバは、１つのハウジングのコンパートメントと見なすことができる。
【００３８】
有利に、光学システムはさらに、少なくとも１つの可動レンズを動作させるレンズアクチュエータを配備する。レンズアクチュエータの配備が厳密に必要とされるわけではないが、そうしたレンズアクチュエータを配備することにより、光学システムの光学性能に関する調整をより良好に行うことができる。そのようなレンズアクチュエータは、第一チャンバに別モータや磁気結合等を設けるといった多数の既知の概念に基づいて具体化可能である。
【００３９】
有利に、レンズアクチュエータは磁石部分と導体部分を有するリニアモータから成り、可動レンズは磁石部分か導体部分のいずれかに連結される。このような従来技術において公知のリニアモータは、可動レンズの非接触作動かつ非接触移動の可能性を提供する。これにより、研磨摩擦により、あるいはおそらく必要とされる潤滑剤により生じる粒子をさらに低減する。
【００４０】
さらに有利には、可動レンズは、第一チャンバに配設された磁石部分に連結し、導体部分は第一ハウジングの外側に配設される。この実施形態において、ハウジングは効果的に磁石部分と導体部分間に配置され、ハウジングは壁と見なされる。この壁は好ましくは磁場に伝導性を有し、例えば特定のタイプのステンレス鋼あるいは他の磁気のない金属によって製造される。この実施形態の長所は、導体部分が第一チャンバの外に保持されることである。導体部分は多くの場合、絶縁プラスチックコーティングがなされたワイアあるいは導体から成る。そのようなプラスチックコーティングの多くは、特にレンズのコーティングに非常に有害な柔軟材、特に特定の種類の炭化水素を含む。一般的な炭化水素のレベルを出来るだけ低く保つことが非常に望ましい。さらに、チャンバ内で散乱短波放射線を浴びるプラスチックはかなり早く品質が低下し、分解する。これがケーブルの絶縁特性に影響を与えるのみならず、チャンバ内のガス雰囲気の質にも影響を与える。さらに、可動導体部分に連結したそのようなケーブルは作動中に動く。繰り返される動きによりケーブルの損傷もしくは破壊までもまねく。これは、当然ながら回避されなくてはならない。ゆえに、全てのプラスチック、特に柔軟材を含むものを出来るだけ、光学素子を含むチャンバの外に保持することが有利である。リニアモータの磁石部分は電流源に連結される必要はなく、またたいていはそうしたプラスチックを含まないか、もしくは少なくともそのようなプラスチックを含む必要がないことから、本実施形態はチャンバ内のガス雰囲気の汚染を減じる可能性をさらに提供する。得られる汚染レベル等が満足できるものである場合には、リニアモータの両部分、あるいは全部分をチャンバ内に配備することが依然可能であることを注記する。例えば、改善されたパージングを使用することも可能である。
【００４１】
他の有利な実施形態において、磁石部分および導体部分の少なくとも一方は、気体放出防止コーティングによって被覆される。そのような気体放出防止コーティングは、汚染レベル、特に炭化水素レベルを減じる別の可能性をもたらす。リニアモータの１つ以上の部品、あるいは有利にチャンバ内の他の露出面がそのようなコーティングにより被覆される。コーティングは、金属コーティング、ガラスもしくはガラスのようなコーティング、セラミックコーティング等のような、ほぼ気密の材料から成る。コーティングの厚さは使用される実際の材料によって、３０μｍとまで薄く、ワイア等の十分な可とう性を維持する。他の金属コーティングの例として、例えばリニアモータの磁石部分への、ニッケルコーティングがある。
【００４２】
あるいは、本発明は、リソグラフィ投影装置において使用されるように構成され、配置された光学システムを提供し、該光学システムは、第一チャンバを含む該第一ハウジング、放射線ソース、第一透光窓、第一チャンバと連通する少なくとも１つのガス交換開口、および、第一チャンバ内の少なくとも１つの可動レンズ、第一ハウジングの外側に配備された少なくとも１つの追加の光学素子とから成り、ここで、光路は、少なくとも１つの可動レンズを通過する放射線のソース、第一透光窓、そして少なくとも１つの追加の光学素子によって画定される。この実施形態において、放射線ソースは第一ハウジング内に取り込まれる。
【００４３】
このような構成は、光路の大部分が、既知の特性のガスを含む調整環境に収容されるという長所をもたらす。この実施形態において、放射線がハウジングから出るために１つのみの透光窓を必要とする。当然ながら、複数の放射線のビームを供給する目的に、複数のそうしたような透光窓を配備し得る。さらに、この実施形態は、上に述べたような長所を提供する目的に、技術的に可能であれば、上記全てのフューチャと組合わせることが可能である。
【００４４】
さらに、有利に、上記実施形態の光学システムは、パターニング装置を照射する放射線の投影ビームを供給するように構成され、配置されている。この光学システムは、少なくとも１つの追加の光学素子が、パターニング装置と放射線ソースとの間にある場合に最も有利である。言い換えると、提供されるような光学システムは、パターニング装置の前であって、しかも第一チャンバの外側、すなわち少なくとも１つの可動レンズの保護環境外に配置された少なくとも１つの光学素子を備える。
【００４５】
さらなる態様において、本発明は、放射線の投影ビームを供給するように構成され、配置された放射線システム、所望のパターンに従って投影ビームにパターンを与えるパターニング装置を支持するように構成され、配置された支持構造、基板を保持するように構成され、配置された基板テーブル、および、基板の目標部分にパターン化ビームを投影するように構成され、配置された投影システムとから成り、ここで、放射線システムは本発明に従う光学システムを配備する。特に、放射線システムの光学システムは、ある放射線のソースとパターニング装置間の光学素子から成る。ここで本発明の目的に少なくとも１つの追加の光学素子と称されているそれらの光学素子の少なくとも１つは、少なくとも１つの可動レンズを収容する第一ハウジングの外側に配置される。この構成の長所は光学システムとの関連においてすでに詳述した。そのようなリソグラフィ装置、特にそれの光学システムは、上記に述べたどの有利なフューチャとも組合せ可能であることを注記する。
【００４６】
有利に、放射線システムは、本発明に従うビルトインの放射線ソースを備えた光学システムから成る。上に述べたように、これにより、リソグラフィ投影装置の光路と、しかし光学特性およびパフォーマンスのより優れた調整を可能にする。この実施形態における放射線システムの光学システムでは透光窓を１つのみ備えれば良いが、複数のそうした窓を備えることも可能であることを注記する。
【００４７】
特に、光路に関して、光学システムおよび少なくとも１つの追加の光学素子は支持構造と同じ側に配置される。この実施形態に関して、これは、少なくとも１つの光学素子を、調整環境にある第一ハウジングから出すことであり、それによって本発明による長所を可能にするものであることを再度強調する。反射パターニング装置の場合、考慮されうるパターニング装置の物理的な側ではないことを注記する。むしろ、本発明に基づく光学システムの様々な光学素子によって、本文において考慮される反射パターニング装置における反射ポイントまで、あるいは反射パターニング装置における反射ポイントから、光路の部分が画定される。透過パターニング装置の代替的なケースにおいて、「側」（sides）なる用語はその通常の意味を有する。
【００４８】
本発明の代替的な実施形態において、放射線の投影ビームを供給するように構成され、配置された放射線システム、所望のパターンに従って投影ビームにパターンを与えるパターニング装置を支持するように構成され、配置された支持構造、基板を保持するように構成され、配置された基板テーブル、および、基板の目標部分にパターン化されたビームを投影するように構成され、配置された投影システムとから成るリソグラフィ投影装置が提供され、ここで、投影システムは、放射線のパターン化ビームを受け取り、放射線のパターン化ビームを基板に投影するように構成され、配置された光学システムを具備する。
【００４９】
特に、この光学システムは、パターニング装置によりパターン形成された放射線のビームを受け取り、このパターン化されたビームを基板に投影する投影レンズに関連する。特に、少なくとも１つの追加の光学素子は、支持構造と基板テーブル間に配置される。再度述べると、ここでの論点は、本文でしばしば投影システムと称されている光学システムの少なくとも１つの光学素子は、少なくとも１つの可動レンズの保護環境から出されるということである。本実施形態の状況において「間」（between）なる単語は物理的な位置を指す必要はなく、むしろ放射線ビームに沿うポイントを指し、これは、支持構造あるいはそれに対するパターニング装置と、基板あるいはそのための基板テーブル間であるべきことを注記する。
【００５０】
繰返しとなるが、上記において、本発明は、一般的に、かつ望ましい実施例の形態の両方において説明がなされた。それはハウジング内の少なくとも１つの可動レンズとハウジング外の少なくとも１つの光学素子における分離であり、これが上述の長所をもたらすこととなる。「追加の光学素子」なる用語は、既存の光学素子に対する追加の光学素子を指す必要はなく、正確には、追加の光学素子をハウジング内からハウジングの外側の位置に移すことを指すものであることを注記する。光学システムにおける光学素子、およびそれらの関係をまた別の言い方で説明すると、光学システムは複数の光学素子から成り、少なくともその１つは第一ハウジング内の可動レンズであり、少なくともその１つは第一ハウジング外の光学素子であるということである。
本発明を非限定的実施例を参考として添付図とともに詳細に説明する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５１】
図１は本発明に従う光学システムの第一実施形態を図示したものである。光学システムは参照番号１にて一般的に示されている。光学システム１は、中にチャンバ３を有するハウジング２から成る。可動レンズ７およびブラインド８とともに、第一光学窓４および第二光学窓５は放射線ビーム９の光路を画定する。参照番号６はガス交換開口である。
【００５２】
光学システム１は単純なシステムであるが、本発明の長所をもたらすものである。ハウジング２はボックスあるいはシリンダといった適切な形状をとり得る。これは望ましい材料から成るが、気密で、かつ／またはアウトガス性のよい材料であることが望ましい。後者の特性は、材料より放出される低レベルのガスに関連する。例えば、ステンレス鋼および他の材料、特にニッケルまたは金にて被覆した材料がある。しかし、他の材料が除外されるわけではない。
【００５３】
ハウジング２内のチャンバ３には可動レンズ７が収容されている。チャンバ３内において保護雰囲気が維持されている。これについては以下にて説明を行う。
【００５４】
透光窓４および５は適切な透過性材料から成り、丸あるいは四角といったような適切な形状をとり得る。透過性材料はガラス、雲母、水晶等である。一般に該材料は使用される放射線にトランスペアレントであるべきである。この点において、「光学的」（“optically”）なる用語は、近赤外領域、可視領域、あるいは紫外領域にある波長、特に１００ｎｍから８００ｎｍの波長を有する電磁放射線を指す。
【００５５】
参照番号８はブラインドを示す。このブラインドは所望の寸法の光放射線ビーム９を供給するために使用される。また、ブラインド８は非透過性プレート、可動ブレード等の開口を有する。
【００５６】
可動レンズ７は矢印Ａの方向に移動可能である。代替的あるいは追加的に、可動レンズ７は矢印Ａ方向に垂直な方向に移動可能である。可動レンズ７は、バー、ベアリング、ワイア等の適切な支持構造（図示せず）によって取り付け可能である。
【００５７】
こうしたレンズには、光学品質を改善する目的で、例えば反射防止膜といったようなコーティングが施されることがしばしばある。しかし、多くの場合、そのようなコーティングは、周囲のガスによる化学反応、あるいはより一般的に単に材料および（塵）粒子の沈着といったような、外部からの影響にかなり敏感である。ゆえに、ハウジングにガス交換開口６を設けることが望ましい。このガス交換開口６により所望の特性のガスもしくは混合ガスがチャンバ３に供給される。また、所望のガスあるいは混合ガスを含んだ容器(図示せず)がガス交換開口６に連結される。代替的または追加的に、ポンプがガス交換開口６に連結され、チャンバ３を排気する。
【００５８】
本発明に従った１つのみの、あるいは少なくとも１つの光学システムを提供することも可能であることに注意されたい。例えば、リソグラフィ装置は、ズームレンズを備えた本発明に従う第一光学システム１１、ズームレンズを備えた第二光学システムを配備し、ここで光学システム１１および１２の少なくとも一方（第一システム１１といった）は、可動ブラインド、フィルタ、偏向子、あるいはミラーのうちの少なくとも１つから成る、少なくとも１つの追加の光学素子を具備する。
【００５９】
ここに示す光学システムはリソグラフィ投影装置における使用に適したものである。しかし、他の使用法が排除されるわけではない。例に、エピスコープ、あるいは化学工場といったような攻撃的な環境にて使用される光学装置といった、他の高性能投影装置がある。
【００６０】
図２は、本発明に従うリソグラフィ投影装置の第一実施形態を図示したものである。ここで、参照番号１１は、本発明に従う第一光学システムであり、１２は本発明に従う第二光学システムであり、１３は放射線のソースである。
【００６１】
光学システム１１において、１４は光学フィルタであり、１５は、第一チャンバ１６、第一透光窓１７、第二透光窓１８、第一可動レンズ１９、およびガス交換開口２０を備えた第一ハウジングである。ポンプ２１がガス交換開口２０に連結されている。
【００６２】
偏光子を２２にて示し、２３にて可動ブラインドを示すが、これは非可動であってもよい。パターニング装置２４が光学システム１１と１２間に配置されている。
【００６３】
第二光学システム１２は可動ブラインド２５と、そして、チャンバ２７、第三透光窓２８、第四透光窓２９、第二可動レンズ３０、第一ガス交換開口３１、および第二ガス交換開口３２とを備えた第二ハウジング２６から成る。加圧ガスを有するシリンダ３３が第一ガス交換窓３１に連結を行っている。
【００６４】
光学システム１１および１２を通過する放射線によって照射される基板を３４にて示す。第一可動レンズ１９は矢印Ｂにて示された方向に移動可能であり、また、第二可動レンズ３０は矢印Ｃの方向に移動可能である。両方のレンズはズームレンズであり、この場合、少なくとも１つのレンズが他のレンズに対して移動可能である複数のレンズエレメントから成る。すなわち、ズームレンズは、例えば放射線のパターン化されたビームを基板に結像する際、倍率を変えるために使用される。光学システム１１および１２、そしてパターニング装置２４を通過する光路を破線３５により示している。
【００６５】
第一光学システム１１は、第一ハウジング１５、および、この場合はフィルタ１４、偏向子２２、およびブラインド２３の３つである複数の追加光学素子から成る。いかなる正数の追加光学素子も可能であることを注記する。光学素子は、異なる位置における複数のブラインドといったように、本例と共通であるか、あるいは異なる。
【００６６】
追加の光学素子は、光学システムの所望する光学特性によって選択される。これに、例えば、ソース１３の放射線の望ましからざる部分を取り除く目的にフィルタの選択がなされ、放射線の偏光を所望の方向にするために偏向子が使用され、光部分３５に沿ってビームに特定の寸法を与えるためにブラインドが使用される。また、要求に基づいて他の光学素子もまた使用される。この点において、「光学素子」なる用語は、通過するビームに、あるいは、考慮されている光学システムによって反射、もしくは部分的に吸収されるビームに、所望する特定の特性を与える素子として解釈されるべきである。この点に関して、例えば、ビームの部分を反射、または吸収する塵粒は、ビームに所望の特性を与えず、よってこの点から光学素子とは見なされない。
【００６７】
ポンプ２１は第一チャンバ１に連通するガス交換開口２０に連結されている。ポンプ２１によりチャンバ１６内で真空が維持され得る。それにより、例えば可動レンズ１９へのガスによる影響を出来るだけ回避することが可能である。ポンプは真空を作りだすための所望のタイプのポンプであってよいが、ポンプ性能は所望の真空に適合される。
【００６８】
光学システム１１は例えば、この場合ソース１３からの放射線を受け取り、該放射線を、パターニング装置２４を照射する放射線の投影ビームに変換するように構成、かつ配置される。光学システム１１のどの光学素子もソース１３とパターニング装置２４間に配置されるが、可動レンズ１９のみはチャンバ１６内に配置されることを注記する。従い、光学システム１１における他の光学素子１４、２２、２３の、可能性ある有害な影響から可動レンズ１９が最適に保護される。上記において、ソース１３は光学システム１１の部分とは見なされないことを注記する。しかし、代替案において、例えば図３との関連において明らかであるように、ソースは本発明に従う光学システムの部分となり得る。
【００６９】
パターニング装置２４は第一光学システム１１からの放射線ビームに所望のパターンを与える。次に放射線のパターン化されたビームは第二光学システム１２に供給される。
【００７０】
第二光学システム１２には、第二ハウジング２６と、この場合ブラインドである追加の光学素子２５を配備するが、他の光学素子が除外されるわけではない。
【００７１】
第二ハウジング２６は、第二可動レンズ３０を有した第二チャンバ２７をその中に具備する。第二可動レンズ３０はこの場合３つのレンズエレメントから成り、よって複合レンズである。実際に、リソグラフィ装置におけるレンズはしばしば非常に複雑で、かつ大きな複合レンズである。これらのレンズのレンズエレメントはしばしば多重被覆されるが、そのコーティングは、酸素、炭化水素等に非常に敏感である。よって保護することが望ましい。
【００７２】
第一光学システムの第一透光窓１７および第二透光窓１８と同様に、第三透光窓２８および第四透光窓２９は、再度述べると、適切な形状を成し得るとともに、適切とされる光学的に透過可能の材料により製造可能である。
【００７３】
この例において、加圧ガスを含む容器３３はガス交換開口３１に連結されており、一方、ガス交換開口３２は開口状態のままである。加圧ガスはガス交換開口３１を通って容器３３からチャンバ２７内に流れる。ガスはこうしてチャンバ２７と、そして、第二可動レンズ３０のような、それに含まれている全部をパージする。余分なガスは後に第二ガス交換開口３２を通って抜け出る。
【００７４】
第二光学システム１２によって受け取られ、かつこれを通過した放射線のパターン化ビームは、次に基板３４に放射、投影される。基板は放射線に感応する材料から成り、それにより所望のパターンが基板に与えられる。この方法により、従来技術においてそれ自体が公知である方法によって例えば半導体デバイスが製造される。
【００７５】
第二光学システム１２は例えば、放射線のパターン化されたビームを受け取り、放射線のパターン化されたビームを基板３４に投影するように構成、かつ配置される。このようなシステムはしばしば投影システムと称され、図２において詳述したような第一光学システム１１はしばしば照明器もしくは照明システムと称される。
【００７６】
図２におけるリソグラフィ投影装置の図示の設定は透過タイプのものであり、すなわち、一般にその中の光学システムおよびパターニング装置は使用される放射線に対して少なくとも部分的に透過的である。
【００７７】
図３は、本発明に従う、特に反射タイプの１つであるリソグラフィ投影装置の第二実施形態を図示したものである。反射は、透過タイプでなく、反射タイプであるパターニング装置３１９を少なくとも指す。
【００７８】
この第二実施形態に従うリソグラフィ投影装置は、第一テーブル３４０および第二テーブル３４１に加えて第一光学システム３０１および第二光学システム３０２から成る。第一テーブル３４０はパターニング装置３１９を保持し、第二テーブル３４１は基板３３２を保持する。
【００７９】
第一光学システム３０１は本発明に従う光学システムのまた他の実施形態である。該システムは、チャンバ３０４、光源３０５、第一レンズ３０６、第二レンズ３０７、第一可動レンズ３０８、および第一透光窓３０９を配備する第一ハウジング３０３から成る。第一ガス交換開口３１０は第一バルブ３１１によって封止可能であり、排気管３１３を有するポンプ３１２に連結を行う。
【００８０】
第二ガス交換開口３１４は第二バルブ３１５によって封止可能であり、加圧ガスを有する容器３１６に連結を行っている。ビーム３１７は光路も示す。ビーム３１７は、追加の光学素子としての役割を果たす第一ミラー３１８によりパターニング装置３１９に反射する。
【００８１】
パターニング装置３１９は、放射線のパターン化ビーム３２０となったビームを第二ミラー３２１に反射させる。第二ミラー３２１は第二光学システム３０２の追加の光学素子である。
【００８２】
第二光学システム３０２は、第二ミラー３２１に加え、第二チャンバ３２３を有する第二ハウジング３２２、第一透光窓３２４、第二透光窓３２６、第二可動レンズ３２５、第三ガス交換開口３２７、および第四ガス交換開口３２８から成る。調整バルブ３２９は容器３３０と第四ガス交換開口３２８間におけるガス交換を調整する。３３１は第二光学システム３０２において追加の光学素子を構成するブラインドである。
【００８３】
第一光学システム３０１において、第一レンズ３０６、第二レンズ３０７および第一可動レンズ３０８は、その１つの素子が第一ハウジングに対して動作可能な、１つの複合レンズを構成する。
【００８４】
この目的のため、放射線ソース３０５は第一チャンバ３０４内に収容されている。これにより、第一チャンバ３０４内におけるレンズあるいはレンズエレメントのガス環境だけではなく、放射線ソース３０５の、かつ第一チャンバ３０４内の全光路のガス環境を調整可能にする。
【００８５】
その目的において、チャンバ３０４は例えば容器３１６からのガスによりパージされる。さらに、例えば第一チャンバ３０４内のパージガスあるいはもともと存在したガスといったようなガスがポンプ３１２によりチャンバから排出され、排気管３１３を通して抜き出される。第一チャンバ３０４内へのガスの流動を防止する目的に、第一チャンバ３０４は第一バルブ３１１および第二バルブ３１５により密閉される。チャンバ３０４内にガスの流動がないことにより光学システム３０１の光学品質がさらに改善される。
【００８６】
リソグラフィ装置全体が適切な形状とコンパクトさを有する目的に、第一ミラー３１８が使用されて、放射線ビーム３１７をパターニング装置３１９に導く。図３に示したようなリソグラフィ装置はさらに大きいハウジング（図示せず）内にその全体が取り囲まれることを注記する。この大きなハウジングは、例えばダストフリーである保護雰囲気も含み、かつ、窒素、乾燥した空気、ヘリウム、あるいは他の適切なガスといったような不活性ガスを含む。しかし、異なるレベルのガス雰囲気の質を有することも可能であることを注記する。例えば、より大きいハウジングは、特定のレベルまでダストフリーである乾燥した空気雰囲気を有する一方、第一ハウジングは例えば異なるレベルのダストフリーである窒素雰囲気を有し、また、第二ハウジング３２２はヘリウム雰囲気といったようなまた他の雰囲気を有し得る。
【００８７】
図４は、本発明に従う光学システム詳細の断面図である。ここで、４０１は第一チャンバ４０２を有する第一ハウジングを示す。４０３は第一透光窓であり、４０４はレンズホルダ４０５にマウントされた可動レンズである。４０６はリニアモータの磁石部分であり、４０７はモータのコイル部分を示す。重力補償装置は参照番号４１０にて一般的に示されており、ここで４１１はシリンダ４１２内にて可動のピストンを示す。４１３は圧力チャンバを示す。
【００８８】
第一ガスベアリングブロックおよび第二ガスベアリングブロックをそれぞれ参照番号４１４と４１５にて示す。ここに示した詳細は第二光学窓を示したものではなく、追加の光学素子を示したものでもない、しかし本発明に基づく完成した光学システムに存在し得ることを注記する。
【００８９】
ここに示したような可動レンズ４０４はレンズホルダ４０５にマウントされている。レンズホルダ４０５は可動ピストン４１１に連結されている。このピストン４１１は矢印Ａにて示した方向にシリンダ４１２内にて動作可能である。この動作は、ピストン４１１とシリンダ４１２間にての圧力チャンバ４１３の圧力を変えることによってもたらされる。この圧力変化は、加圧手段（図示せず）によってガスを圧力チャンバ４１３内に／から送出入することで調整される。それは例えば、また有利に、圧力チャンバ４１３を加圧するパージガスを使用する可能性もある。シリンダ４１２とピストン４１１間にてチャンバ４０２に漏出するガスが汚染問題を生じることはない。
【００９０】
上述のような重力補償装置は、例えば可動レンズ４０４、レンズホルダ４０５、ピストン４１１、およびリニアモータの磁石部分４０６といった可動システムの重力を補償する機能を有する。ガス圧力の生成とシリンダ４１２内のピストン４１１の断面領域が可動システムの重力とほぼ等しくなるように、圧力チャンバ４１３内のガス圧力を調整することにより、システムが重力の影響により下方移動することはない。これにより、リニアモータに要求される力と、よって、リニアモータの寸法、すなわち磁石部分４０６およびコイル部分４０７をより小型化することができる。ここでリニアモータをごく一般的にのみ示していることを注記する。この場合において、磁石部分４０６をレンズホルダ４０５に取り付けているが、コイル部分４０７をレンズホルダに取り付けることも可能である。しかし、しばしば導体は、ガスを放出する材料を含んだプラスチックに埋め込みされるか、あるいはそれによって被覆され、チャンバ４０２内の光学素子に影響を与えることから、コイル部分４０７をハウジング４０１の外側に配置することも有利である。
【００９１】
第一ガスベアリングブロック４１４および第二ガスベアリングブロック４１５から成る、可動レンズの非接触ガイドを行うガスベアリングを示す。ここでガスベアリングもまさに図式的にのみ示しており、レンズホルダ４０５に連結するガスベアリングブロック４１４が第二ガスベアリングブロック４１５よりも大きくなっているが、逆のケースが排除されるわけでなく、それもかなり頻繁にありうることを注記する。
【００９２】
図５は、本発明に従う光学システムの実施形態の詳細を示したものである。特にハウジングを示している。ハウジング５０１はその中にチャンバ５０２を有する。第一透光素子および第二透光素子をそれぞれ５０３、５０４にて示す。５０５は可動レンズを、５０６はレンズフレーム構成を示す。５０７は第一ガスベアリングブロックを、５０８は第二ガスベアリングブロックを示し、５１０はこれらの間の第一ギャップであり、５０９はガスサプライを示す。
【００９３】
参照番号５１１はリニアモータの磁石部分を示し、５１２はリニアモータの導体部分を示し、これらの間に第二ギャップ５１３がある。５１４は、この場合可調整電源５１６に接続するケーブル５１５を介して作動可能な導体部分５１２における導体を示す。
【００９４】
図５において、レンズの非接触ガイド機構の実施形態とともに、レンズアクチュエータの第一実施形態を示している。このケースにおいて、非接触ガイド機構はガスベアリング５０７、５０８から成る。ガスベアリングは第一ガスベアリングブロック５０７、および第二ガスベアリングブロック５０８から成る。ガスサプライ５０９に連結した第一ガスベアリングブロックは、ここには詳細を示しておらないが、１つ以上のガス流出口から成る。このガスは、第一ガスベアリングブロックと第二ガスベアリングブロックとの間の、例えば１０−２０μｍの比較的小さい第一ギャップ５１０に流出する。第二ガスベアリングブロック５０８は、ガス流出口を有する第一ガスベアリングブロック５０７よりも大きいことを注記する。
【００９５】
移動質量が小さくなるため、通常これは逆である。しかし、重力補償設計において、これは大きな要素ではないが、ここに示すような設定はある特定の長所を有する。例えば、ガスサプライのない大きな可動の第二ガスベアリングブロックと連結した、ガス排出口を有する小さな固定配置された第一ガスベアリングブロックには、フレキシブルでなくてはならないガス供給管を必要としない。このような管はほとんどプラスチックにより製造され、もう一度述べると、チャンバにＵＶ劣化やガス放出に関する問題がもたらされる。チャンバの外側に保持される、ガスサプライを有する静止ガスベアリングブロックのみを提供することにより、そのような問題は避けられる。ガスベアリングはそれ自体が従来技術において周知であり、当業者においては容易にガスベアリングを具体化出来るため、ここではさらに詳細には論じない。
【００９６】
さらに、いわゆるリニアモータの形態のレンズアクチュエータを示す。ここで図示のリニアモータは、磁石部分５１１と導体部分５１２から成り、これらの間にギャップ５３０を有する。導体部分５１２は複数の導体５１４から成る。その数は２から２０といったような自然数であって、その数が多いと可動レンズ５０５の位置合わせ調整がより正確になされるが、より複雑ともなる。
【００９７】
導体５１４は可調整電源５１６により、例えばケーブル５１５を介して調整可能である。電源５１６は所望の導体５１４を励起する。
【００９８】
レンズアクチュエータの例として本提示のリニアモータは、チャンバ５０２内に配置されている。レンズフレーム５０６を介して磁石部分５１１に連結した可動レンズ５０５を動作させる目的に、１つ以上の導体５１４が適切に励起される。磁石部分５１１の磁界と、ローレンツ力として周知の導体５１４を通る電流間の相互作用により、磁石部分５１１と、よって可動レンズ５０５を所望の位置に配置させる。
【００９９】
ここに示すレンズアクチュエータは、可動レンズ５０５の「モータ」の一例にすぎない。主に、電気モータ、加圧可能ガスシリンダ等のタイプといったような他の実施形態もまた可能である。しかし、リニアモータは非接触モータであって、何らかのタイプの潤滑剤を必要とせず、高い精度を提供し得るといった長所を有する。潤滑剤を要せず、かつ動作部品間の摩擦がないことによって、チャンバ５０２内のガス雰囲気が良好に調整され、研磨摩擦に起因する小粒子の発生がないように保つ。
【０１００】
さらに、導体部分５１２および／または磁石部分５１１はしばしば、導体５１４を取り囲む、エポキシ樹脂あるいは他のプラスチックといったような、ガスを放出する材料から成る。しばしばプラスチックは、特にワイアを覆うプラスチックには柔軟材を含む。こうしたプラスチックはガスを放出し、容認し難いほど高いレベルの炭化水素あるいは他のガスを生じる可能性がある。よって、磁石部分５１１および導体部分５１２の少なくとも一方を少なくとも部分的にコーティングによってカバーし、カバーされた部分のガス放出をほとんど回避する。有利には、コーティングはガラス、もしくはガラスのような材料から成る。しかし、薄い金属層といったような代案が除外されるわけではない。金属層は電磁界の変化によって渦電流を生じさせる。従い、比較的伝導性の低い金属もしくは合金を選択することが有利である。
【０１０１】
本提示の実施形態において、レンズはリニアモータの磁石部分に連結を行っている。しかし、レンズをリニアモータの導体部分に連結させることも可能である。また、本提示の実施形態において、第一光透過性素子５０３および第二光透過性素子５０４はレンズである。従い、これらの素子５０３および５０４は窓としての機能のみならず、光学素子として、それを通過する放射線ビームの所望の特性を変える素子として機能する。代替案にて、光透過性素子５０３および５０４の一方のみがレンズとして具体化され、他方は単なる窓として、すなわち透明な材料の平行面スラブとして具体化される。
【０１０２】
図６Ａおよび６Ｂはリニアモータの２つの詳細を示したものである。図６Ａにおいて、６０１はハウジングであり、６０２はリニアモータの磁石部分を一般的に示しており、６１０はリニアモータの導体部分を一般的に示している。
【０１０３】
磁石部分６０２において、６０３は磁石６０４が固定取付けされたフレームである。６０５は保護コーティングである。導体部分６１０において、６１１は、絶縁材料６１２に埋め込まれる導体を示し、６１３は保護コーティングを示す。６１４は導体６１１に連結を行ったケーブルであり、６１５は可動部分（図示せず）に連結を行った構造を示す。６２０は導体部分６１０とハウジング６０１間のギャップを示す。
【０１０４】
図６Ａに示した実施形態において、磁石部分６０２および導体部分６１０はハウジング６０１によって分離されている。それにより、導体部分６１０および同スペースにある全部から、磁石部分６０２の負の影響を出来るだけ遠ざける可能性をもたらす。実際に、例えば、図面においてはハウジング６０１の左に存在するようにみえるハウジング６０１内のチャンバ（図示せず）に導体部分６１０が配置される可能性がある。
【０１０５】
よって、導体部分６１０に連結を行った可動レンズあるいは他の光学素子は磁石部分６０２の有害な影響から保護される。磁石部分と導体部分の位置を逆にして、チャンバ内に配置される磁石部分６０２に可動レンズ等を連結することも可能であることを注記する。この後者の実施形態では、導体部分の有害な影響をできる限り回避可能にする。
【０１０６】
実際、導体部分６１０はしばしば、エポキシ樹脂あるいは何らか他のプラスチック材料であるような絶縁材料に埋め込まれる。さらに、可動部分が、それもまた可動である導体部分６１０に連結する場合、導体６１１に連結を行う電気ケーブル６１４は可とう性がある。この目的において、ケーブルはしばしば絶縁で、可とう性のあるコーティングにより被覆される。そうしたようなコーティングはたいがい柔軟材で処理されたプラスチックから成る。柔軟材、あるいはプラスチックそれ自身がその環境にガスを放出することがしばしばある。可動レンズあるいは同様のものを含んだチャンバがその環境である場合、容認し難いほど高いレベルの炭化水素あるいは他のガスが生じる可能性がある。
【０１０７】
そのような場合、チャンバに磁石部分６０２を収容し、これを可動部分に連結させ、一方、導体部分６１０およびプラスチックはチャンバの外に収容することが有利である。
【０１０８】
導体部分６１１をそれほど摩擦なく動作させるため、導体部分６１０とハウジング６０１間に（エアー）ギャップ６２０がある。導体部分６１０と磁石部分６０２間の連結を最大にする目的に、エアーギャップ６２０は出来るだけ小さいことが有利である。磁石部分６０２と導体部分６１０間の距離はこの場合常に、「真空ギャップ」でもあるエアーギャップ６２０の幅とハウジング６０１の厚さであることに注意されたい。これらの間にギャップをもたせず、磁石をハウジング６０１に直接的にマウントすることも可能であることを注記する。
【０１０９】
図６Ｂは、リニアモータの別形を示したものであり、同様の部分は同一の参照番号にて示している。提示の実施形態において、この場合は被覆されていない磁石６０４と、導体部分の導体６１１との間の距離はかなり小さくなる。この場合、該距離はギャップ６２０の幅と、ただ１つの保護コーティング６１３の厚さに等しい。そのようなコーティングは、例えば１から５０マイクロメータ間のオーダの非常に薄いものであることから、もしくは当然コーティング６１３の材料によってはより厚いものとなるが、磁石６０４と導体６１１間の連結はかなり良好となる。それにより、導体６１１においてより少ない電流の使用でよくなり、よって、より小型のリニアモータを、とりわけ少電力を可能にする。この少電力により、リニアモータの部品、よって周囲部品のヒートアップがいっそう少なくなる。特にリソグラフィ装置においては、様々な素子のヒートアップ、関連した膨張、およびディストーションが出来るだけ低く保たれなくてはならないことから、これは光学システムにとって非常に有利である。
【０１１０】
図７は、本発明の光学システムに従う別の実施形態である。ここで、７０１は光電磁放射線のソースであり、７０２はリフレクタであり、７０３は光電磁放射線の放射ビームである。７０４は、第一コンデンサレンズ７０５および第二コンデンサレンズ７０６それぞれを有するコンデンサハウジングを示す。７０７は、チャンバ７０８、第一透光窓７０９、第二透光窓７１０、可動レンズ７１１、およびガス交換開口７１２を有する第二ハウジングである。７１３は、第三透光窓７１４、第二透光窓７１５、およびミラー７１６を有する第三ハウジングを示す。７１７は可動ブラインドを示す。
【０１１１】
放射線のソース７０１は、水銀ランプ、エキシマレーザ等の何れか適切なソースである。７０２はパラボラのような適切なリフレクタである。レーザの場合、そのような外部リフレクタ７０２は必要ではないことを注記する。所望の場合、オプショナルのリフレクタ７０２と連結した放射線ソース７０１が放射線ビーム７０３を放射する。
【０１１２】
２つのコンデンサレンズ７０５および７０６を有するハウジング７０４は、例えばビームに所望の開始の寸法を与える機能を有する。これは特にレーザビームである場合に有用である。ここで、レンズ７０５および７０６の最適なセットはビームエキスパンダとして機能する。
【０１１３】
図７の第二ハウジング７０７は図１の第一ハウジングと一致する。よってここでは繰り返しては論じない。しかし、この場合第二ハウジング７０７はガス交換開口を有する唯一のハウジングであることを注記する。他のハウジング７０４および７１３は完全に密閉されているが、これは必須ではない。
【０１１４】
第三ハウジング７１３は、ミラー７１６とともに、２つの透光窓７１４および７１５から成る。ミラーは、例えば特定のガスあるいは塵の有害な影響からも保護されなくてはならないものである。従い、ミラーをハウジング内に、この場合、第三ハウジング７１３内に収容することが有利である。例として、ダイクロイックミラーのような特定の波長の帯域のみを反射するミラーである。
【０１１５】
参照番号７１７は、この場合は可動ブラインドの形態の、追加の光学素子を示す。可動ブラインド７１７は本提示の光学システムから出射されるビームの最終寸法を与える役割を有する。可動ブラインドは光学的にトランスペアレントな材料から成る必要はなく、実際にしばしば不透明な材料から成ることから、たいがいはこの部分を保護環境に収容する必要はない。さらに、ブラインド７１７は可動であることから、これらは潤滑剤を必要とする。潤滑剤は、例えば可動レンズ７１１あるいはミラー７１６といったような敏感な光学部品にはあまり望ましいものではなく、従い、そのような敏感な素子を含んだチャンバの外側に配置することが望ましい。
【０１１６】
図８は、本発明に従う光学システムの部分の他の実施形態を示したものである。この図面と次の図面において、明瞭化のため追加の光学素子を取り除く。図８において、８０１は、第一チャンバ８０２、第一透光窓８０３、第二透光窓８０４、フィルタ８０５、および第一ガス交換開口８０６を有する第一ハウジングを示す。８０７は、第二チャンバ８０８、第三透光窓８０９、第二透光窓８１０、可動レンズ８１１、および第二ガス交換開口８１２を有する第二ハウジングを示す。
【０１１７】
第一ハウジング８０１および第二ハウジング８０７は、セパレータエレメント８１４によって分けられる連結壁８１３により連結されている。第一ハウジング８０１および第二ハウジング８０７、そしてその全素子は上記にて論じた実施形態における同様の素子と一致する。従いここではそれについての論議を省略する。ここで１つ注目されるべきことは、ガス交換開口８０６および８１２に連結される１つ以上のポンプといったような活性ガス交換素子をここでは示しておらないが、そうした素子が第一チャンバ８０２と第二チャンバ８０８に異なる雰囲気をもたらし得るということである。
【０１１８】
第一ハウジング８０１および第二ハウジング８０７は連結壁８１３により連結され、これらはセパレータ手段８１４によって分けられる。セパレータ手段８１４は、スクリューおよびボルト、磁気クロージャ等といったような、壁の連結部分に適した何れかの手段である。この実施形態の長所は、個別のハウジングが提供され、それらが互いに連結可能であり、それによって、ハウジング８０１および８０８を通過する光路の正確な位置合わせが可能となり、一方でハウジングを分離する可能性も存在することである。これにより、他の１つ以上のハウジングから、１つのハウジングと、よって、それの中の１つ以上の光学素子を単独で交換する可能性をもたらす。本実施形態においてはハウジングを２つのみ示しているが、このようにしていくつのハウジングであっても連結可能であることを注記する。
【０１１９】
図９は、本発明に従う光学システムの部分のまた別の実施形態を示したものである。ここで、９０１は、第一チャンバ９０２、第二チャンバ９０３、および第三チャンバ９０４を有するハウジングを一般的に示している。第一、第二、第三、および第四透光窓をそれぞれ参照番号９０５、９０６、９０７、および９０８にて示す。
【０１２０】
フィルタを９０９にて、可動レンズを９１０にて、偏光子を９１１にて、そしてミラーを９１２にて示す。第一から第六ガス交換開口を９１３、９１５、・・・、９２３にて示す。第一から第三ガスシリンダをそれぞれ９１４、９１８、９２２にて示し、第一ポンプから第三ポンプをそれぞれ９１６、９２０、９２４にて示す。
【０１２１】
提示のハウジング９０１は３つのチャンバ９０２−９０４から成る。これらはコンパートメントとも称される。チャンバすなわちコンパートメントのそれぞれは、フィルタ、可動レンズ、偏光子、およびミラーといったような、１つ以上の光学素子を含む。チャンバは透光窓を介して光学的にシールされ、連結される。例えば、第一チャンバ９０２は透光窓９０６を介して第二チャンバ９０３に光学的に連結している。この場合、窓９０６は２つの機能、すなわち、第一チャンバ９０２に対する窓としての機能と第二チャンバ９０３に対する窓としての機能を有する。同様のことが透光窓９０７にも当てはまる。チャンバ数はこの場合３である。しかし、２、４あるいはそれ以上といった他の所望する数も可能である。
【０１２２】
本提示の実施形態において、どのチャンバもそれ自身のガス交換手段（ガスシリンダおよびポンプ）を備えているが、これは必須ではない。２つ以上のチャンバのガス交換開口を連結する一方、１つ以上のチャンバを完全に密閉するか、もしくは１つ以上のバルブ等によって密閉可能にするといったこともあり得る。２つ以上のチャンバに別々のガス交換手段が存在することの長所は、そうしたチャンバに、異なるガスあるいは異なる圧力レベルのガスといったような、最適な雰囲気をもたらし得るということである。例えば、第一チャンバ９０２はドライエアーによりパージされ、第二チャンバ９０３は窒素によってパージされるといったことが考えられる。さらに、また例示としてのみ述べると、第三チャンバは高真空に保たれる。ガスおよび／またはガス圧力のタイプの選択はチャンバ内の１つ以上の光学素子の特性により判断され、その選択は当業者にとって困難を伴うものではない。
【０１２３】
以上、本発明の実施形態を詳細に説明したが、本発明の範囲を逸脱することなく他の方法でも具体化できることは理解されよう。このように、本詳細説明は本発明を制限する意図ではない。本発明の構成、作用、および動作について、本提示の詳細記載の水準を前提に、本実施形態の修正および変形が可能であるという理解に基づいて詳細説明を行った。よって、前述の詳細説明は決して本発明を制限する意味でも、それを意図するものでもない。正確には添付の請求項によって本発明の範囲が明確にされる。
【図面の簡単な説明】
【０１２４】
【図１】本発明に基づく光学システムの第一実施形態を図示したものである。
【図２】本発明に基づくリソグラフィ投影装置の第一実施形態を図示したものである。
【図３】本発明に基づく、特に反射タイプの１つである、リソグラフィ投影装置の第二実施形態を図示したものである。
【図４】本発明に基づく光学システムの詳細の断面図である。
【図５】本発明に基づく光学システムの実施形態の詳細図である。
【図６Ａ】リニアモータの２つの詳細図である。
【図６Ｂ】リニアモータの２つの詳細図である。
【図７】本発明に基づく光学システムの別の実施形態を示したものである。
【図８】本発明に基づく光学システムの部分の別の実施形態を示したものである。
【図９】本発明に基づく光学システムの部分のまた別の実施形態を示したものである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
2005277421.tif 000009
【図７】
2005277421.tif 000010
【図８】
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【図９】
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【外国語明細書】
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