(57)【要約】【課題】  腐食性が低く、また空気中での光照射においても低エネルギーで優れた硬化性（表面硬化性、内部硬化性）を発現する高感度なカチオン重合性感光性組成物からなる光透過層を有する光ディスクを提供する。【解決手段】  （ａ）１分子中に少なくとも２個以上のエポキシ基を有する化合物、（ｂ）オルト位にｔ−ブチル基を有しない３核以上から成る多核フェノール、（ｃ）水酸基を有するビニルエーテル化合物、および（ｄ）エネルギー線感受性カチオン重合開始剤を含有することを特徴とするカチオン重合性感光性組成物を用いて、光ディスクの光透過層を形成する。【選択図】  選択図なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過層を通して光により記録又は再生を行う光ディスクにおいて、光透過層が、（ａ）１分子中に少なくとも２個以上のエポキシ基を有する化合物、（ｂ）オルト位にｔ−ブチル基を有しない３核以上から成る多核フェノール、（ｃ）水酸基を有するビニルエーテル化合物、および（ｄ）エネルギー線感受性カチオン重合開始剤を含有することを特徴とするカチオン重合性感光性組成物を硬化させることにより形成されたものであることを特徴とする光ディスク。
【請求項２】
請求項１に記載のカチオン重合性感光性組成物の（ｂ）多核フェノールが、オルト位に炭素数４以上から成るアルキル基またはシクロアルキル基を有しないことを特徴とする光ディスク。
【請求項３】
請求項１または２のいずれか１項に記載のカチオン重合性感光性組成物の（ｂ）多核フェノールが、少なくとも一方のオルト位が無置換であるフェノール部位を、分子中に少なくとも２つ以上有することを特徴とする光ディスク。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載のカチオン重合性感光性組成物の（ｂ）多核フェノールが、下記一般式（１）で示される縮合物のうち、式中ｎ＝１〜５の３核体から７核体を４０質量％以上含有することを特徴とする光ディスク。
【化１】
2005332464.tif 000013
（式中Ｒは、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数５〜１０のシクロアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、アリール基またはアラルキル基を示し、ｍ個のＲは互いに独立でも異なってもよく、ｍは０〜３の整数、ｎは０以上の整数であり、ｍが１以上の場合ＲはＯＨ基のオルト位に位置することはない）
【請求項５】
前記請求項１〜４のいずれか１項に記載のカチオン重合性感光性組成物を用いて塗工層を形成する工程と、該塗工層にエネルギー線照射して前記カチオン重合性感光性組成物を硬化させて光透過層を形成する工程を有することを特徴とする光ディスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光透過層を通して光により情報の記録または再生を行う光ディスク及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
画像、音楽、コンピューターデータ等の多様なデータを記録または再生するための光記録媒体として、ＣＤ（Ｃｏｍｐａｃｔ  Ｄｉｓｋ）、ＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｖｅｒｓａｔａｉｌｅ  Ｄｉｓｋ）などが実用化されている。現在では、記録密度を更に高くして、１枚のディスクに大容量のデータを記録することが望まれており、光ディスクを高密度化させる技術開発が広く進められている。光ディスクの記録密度は、対物レンズの開口数（NA）と光源のレーザー波長という２つのパラメータによってほぼ決まり、光ディスクの高密度化の手法としては光学系の短波長化、高開口数化が一般的に行われている。そして、上記のように短波長化、高開口数化を行うと、光透過層の厚さを薄くする必要性が生じてくる。これは、高開口数化に伴い、ディスクとレーザー光の光軸の傾きに許される角度誤差（チルト・マージン）が狭くなってしまい、光透過層が薄いほどこのチルト・マージンを広げることが可能だからである。このような光ディスクでは、記録層の上に例えばラジカル重合反応により硬化される（メタ）アクリレート系材料を使用した紫外線硬化型樹脂を塗工し、これを光硬化させて光透過層を形成するといった方法等をとっている。
【０００３】
しかしながらラジカル硬化系には、硬化収縮が大きいという欠点があり、この収縮により光記録媒体全体が反ってしまうという不都合が発生する。この問題を解決する方法として、ラジカル硬化系ではなくカチオン硬化系材料を使うことが挙げられる。エポキシやビニルエーテル、オキセタン等の材料を使用したカチオン硬化系材料は、（ａ）酸素による硬化阻害を受け難いため、表面および薄膜硬化性に優れる（ｂ）硬化収縮が小さい（ｃ）幅広い基材に対し良好な接着性を有する等、ラジカル硬化系に比べ優れた特長を有するものである。実際、カチオン硬化系の光硬化型樹脂を用いて光透過層を形成する試みがなされており（特許文献１参照）、硬化収縮を抑制することが可能となっている。ただし、カチオン硬化系においても欠点があり、光によってのみ硬化させようとした場合、硬化性が不十分であり重合性モノマーやオリゴマーの転化率が向上しないという問題があり、また金属や記録膜を腐食させ易いという欠点もある。こうした課題をも解決したカチオン硬化系材料は開発されていないのが現状であり、事実、上記で引用した特許文献においても、光硬化後更に加熱等を行い硬化を促進させたり、カチオン硬化系材料の強い腐食性のために光透過層をラジカル系硬化膜とカチオン系硬化膜の２層構造にするなどの方法を模索している。他に、光カチオン重合での光硬化性を向上させるため、オキセタニル基とエポキシ基を同一分子内に有する化合物を用いたり（特許文献２参照）、アルミニウムの腐食防止のために保護層を設けたり（特許文献３参照）、腐食を抑制するために防食剤成分を添加する試みがなされているが（特許文献４参照）、優れた光硬化性と低腐食性を兼ね備えたような、光ディスクの光透過層に最適な材料は未だ開発されていない。
【特許文献１】特開平１１−１９１２４０号公報
【特許文献２】特開２００２−２３５０６６号公報
【特許文献３】特開平９−６９２３９号公報
【特許文献４】特開２００２−１４６３３１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、従来のカチオン系の持つ接着性が良好で硬化収縮も小さいといった性能を保持しながら、これまでにない優れた光硬化性かつ低腐食性という性能を有するカチオン系感光性組成物を用いて、光ディスクの光透過層を形成することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者等は、前記課題を解決するため鋭意検討を行った結果、特段の加熱プロセスを用いなくとも優れた光硬化性を有し、低腐食性にも優れるカチオン重合性感光性組成物を見出し、本発明をなすに至った。
すなわち、本発明は、（ａ）１分子中に少なくとも２個以上のエポキシ基を有する化合物、（ｂ）オルト位にｔ−ブチル基を有しない３核以上から成る多核フェノール、（ｃ）水酸基を有するビニルエーテル化合物、および（ｄ）エネルギー線感受性カチオン重合開始剤を含有することを特徴とするカチオン重合性感光性組成物を用いて光透過層を形成し、光ディスクを提供するものである。
【発明の効果】
【０００６】
本発明の感光性組成物は、これまでのエポキシ化合物からなる感光性組成物同様、優れた接着性を示し、硬化収縮も小さいといった性能を保持しながら、これまでにない優れた光硬化性を有し、腐食性も低いといった特長を有する。このことから、この感光性組成物を用いて光ディスクの光透過層を形成することにより、生産性が大幅に向上するだけでなく、反りが発生せず腐食も抑制された良質な光透過層を持った光ディスクを提供することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
本発明について、以下具体的に説明する。本発明の光ディスクおよびその製造方法において用いられるカチオン重合性感光性組成物中の（ａ）１分子中に少なくとも２個以上のエポキシ基を有する化合物としては、この用件を満たすエポキシ化合物であれば特に制限はなく、グリシジルエーテル型エポキシ化合物、脂環式エポキシ化合物等が挙げられる。
【０００８】
グリシジルエーテル型エポキシ化合物の具体例としては、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ化合物、フェノールノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、水添ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加体のジクリシジルエーテル、ビスフェノールＦのアルキレンオキサイド付加体のジクリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡのアルキレンオキサイド付加体のジクリシジルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ブタンジオールジグリシジルエーテル、ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジ及び／又はトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリ及び／又はテトラグリシジルエーテル、ソルビトールヘプタ及び／又はヘキサグリシジルエーテル、レゾルシンジグリシジルエーテル、ジシクロペンタジエン・フェノール付加型グリシジルエーテル、メチレンビス（２，７−ジヒドロキシナフタレン）テトラグリシジルエーテル、１，６−ジヒドロキシナフタレンジグリシジルエーテル等を挙げることができる。
【０００９】
脂環エポキシ化合物の具体例としては、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、４−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル等が挙げられ、２官能脂環式エポキシ化合物としてはセロキサイド２０２１、２０８０、３０００（ダイセル化学工業社製）、多官能脂環式エポキシ化合物としてはエポリードＧＴ３００、ＧＴ４００（ダイセル化学工業社製）等を用いることができる。このうち、脂環式エポキシ化合物がカチオン重合反応性に優れるため好ましい。これらのエポキシ基を有する化合物は、１種単独あるいは２種以上を組み合わせて使用しても良い。
【００１０】
本発明で用いられる（ｂ）多核フェノールは、オルト位にｔ−ブチル基を有しない、好ましくはオルト位に炭素数４以上から成るアルキル基またはシクロアルキル基を有しない、分子中にフェノール部位を３個（３核）以上からなる多核フェノール化合物であり、ヒンダードフェノール等、一般にラジカル禁止剤や酸化防止剤と呼ばれるフェノール化合物はこれには含まれない。すなわち、本発明の感光性組成物に用いられる多核フェノールは、該フェノール性水酸基が直接光硬化反応に関与するため、反応の阻害因子となる嵩高い置換基がフェノール性水酸基のオルト位に置換したものは好ましくなく、さらには少なくとも一方のオルト位が無置換であるフェノール部位を、分子中に少なくとも２つ以上有することが必要である。
【００１１】
このような多核フェノールとしては、例えば
下記式（２）
【００１２】
【化１】
2005332464.tif 000002
【００１３】
下記式（３）
【００１４】
【化２】
2005332464.tif 000003
【００１５】
下記式（４）
【００１６】
【化３】
2005332464.tif 000004
【００１７】
（式中、Ｒ１は炭素数１〜５のアルキル基およびアルコキシ基を示し、異なるベンゼン環のＲ１は互いに同一でも異なっていてもよく、またｐ個のＲ１は互いに同一でも異なっていてもよい。ｐは０〜４の整数であり、異なるベンゼン環のｐは互いに同一でも異なってもよく、ｑは１〜３の整数であり、異なるベンゼン環のｑは互いに同一でも異なってもよい。但し、Ｒ１が炭素数４または５の場合、Ｒ１はベンゼン環上の水酸基に対しオルト位に位置することはない）、
下記式（５）
【００１８】
【化４】
2005332464.tif 000005
【００１９】
（式中、Ｒ２は炭素数１〜３のアルキル基およびアルコキシ基を示し、異なるベンゼン環のＲ２は互いに同一でも異なっていてもよく、ｐおよびｑは前記と同じ。）、
下記式（６）
【００２０】
【化５】
2005332464.tif 000006
【００２１】
（式中、Ｂは
【００２２】
【化６】
2005332464.tif 000007
【００２３】
【化７】
2005332464.tif 000008
【００２４】
【化８】
2005332464.tif 000009
【００２５】
から選ばれた基であり、Ｒ１およびｐは前記と同じ）、
下記式（７）
【００２６】
【化９】
2005332464.tif 000010
【００２７】
（式中、Ｒ３は炭素数１〜５のアルキル基およびアルコキシ基、炭素数５〜１０のシクロアルキル基、ハロゲン原子、水酸基、アリール基またはアラルキル基を示し、異なるベンゼン環のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよく、またｐ個のＲ３は互いに同一でも異なっていてもよく、ｘは１〜４の整数であり、ｐおよびｑは前記と同じ。）、
および下記一般式（１）で示される縮合物のうち、式中ｎ＝１〜５の３核体から７核体を４０質量％以上含有する多核フェノール等を挙げることができる。
【００２８】
【化１０】
2005332464.tif 000011
【００２９】
（式中Ｒは、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数５〜１０のシクロアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、アリール基またはアラルキル基を示し、異なるベンゼン環のＲは互いに同一でも異なっていてもよく、ｍ個のＲは互いに独立でも異なっていてもよい。また、ｍは０〜３の整数であり、異なるベンゼン環のｍは互いに独立でも異なっていてもよく、ｎは０以上の整数であり、ｍが１以上の場合Ｒはベンゼン環の水酸基に対しオルト位に位置することはない）
【００３０】
これらのうち、本発明に用いられる多核フェノールとしては、（ａ）エポキシ化合物や（ｃ）水酸基含有ビニルエーテルとの相溶性および反応性の点から、一般式（１）で示される縮合物のうち、式中ｎ＝１〜５の３核体から７核体を４０質量％以上含有する多核フェノールが好ましい。この多核フェノールにおいて、ｍは０〜３の整数であるが、好ましくは１〜３であり、より好ましくは１である。また、ｍが１〜３の場合、置換基Ｒはベンゼン核の水酸基に対しメタ位またはパラ位に結合しており、さらに好ましくはパラ位に結合したものである。ここでＲは、炭素数１〜５のアルキル基、炭素数５〜１０のシクロアルキル基、炭素数１〜５のアルコキシ基、ハロゲン原子、水酸基、アリール基またはアラルキル基を示し、好ましくは炭素数１〜５のアルキル基、アルコキシ基、炭素数５〜１０のシクロアルキル基、アリール基、アラルキル基である。炭素数１〜５のアルキル基としては、例えば  メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｔ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−アミル基等が挙げられる。炭素数５〜１０のシクロアルキル基としては、炭素数６のシクロヘキシル基が好ましい例として挙げられ、炭素数１〜５のアルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基等が挙げられる。アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられ、アラルキル基としては例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α、α’ジメチルベンジル基等が挙げられる。
【００３１】
この多核フェノールは、Ｒ置換フェノールを、公知の合成方法、すなわち塩酸、シュウ酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の酸触媒存在下、ホルムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、ホルマリン等と０〜１５０℃で数時間から数十時間反応させることにより、ｎが０以上の整数で示される縮合体として得られる。このうち本発明において好ましく用いられるのは、ｎ＝１〜５の３核体から７核体を４０質量％以上含有する多核フェノールであり、好ましくは５０％以上、さらに好ましくは６０％以上含有する多核フェノールである。ｎ＝１〜５の３核体から７核体の含有量が４０質量％より少ない場合、すなわちｎ＝０の２核体が多い場合、硬化性が低下し十分な光感度が得られなくなる。一方、ｎ≧６の８核体以上の縮合体が多い場合、溶液粘度の上昇と共に反応性が低下し、硬化後の皮膜も十分な強度が得られなくなり好ましくない。また、特にｎ≧６の８核体以上の縮合体が多い場合、耐光性が不足し塗膜の黄変が顕著となり好ましくない。
【００３２】
本発明に好適に用いられる多核フェノールは、反応条件にもよるが一般に、用いるＲ置換フェノールまたはフェノールとホルムアルデヒドの比を制御することにより得ることができる。Ｒ置換フェノールがホルムアルデヒドより多いと２核体の含有量が増加し、逆に少ないと８核体以上の含有量が増加する。得られた縮合物が目的とする多核体として得られない場合、蒸留または再沈等の方法により未反応原料、２核体および８核体以上の縮合物を除去する必要がある。この点において新規分子量分布集約型ノボラック樹脂：ＰＡＰＳ（旭有機材工業社製）は、目的とする分子量の縮合体を効率よく得ることが出来ることから、本発明に用いられる多核体フェノールとして好ましい。
【００３３】
本多核フェノールの合成に用いられるＲ置換フェノールの具体的な例としては、フェノール、ｐ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−エチルフェノール、ｍ−エチルフェノール、ｐ−プロピルフェノール、ｍ−プロピルフェノール、ｐ−イソプロピルフェノール、ｍ−イソプロピルフェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、ｍ−ｔ−ブチルフェノール、ｐ−ｓｅｃ−ブチルフェノール、ｍ−ｓｅｃ−ブチルフェノール、ｐ−ｔ−アミルフェノール、ｍ−ｔ−アミルフェノール、ｐ−フェニルフェノール、ｍ−フェニルフェノール、ｐ−クミルフェノール、ｐ−（α−メチルベンジル）フェノール、ｍ−（α−メチルベンジル）フェノール、ｐ−シクロヘキシルフェノール、ｐ−メトキシフェノール、ｍ−メトキシフェノール、ｐ−クロロフェノール、ｍ−クロロフェノール、カテコール、レゾルシノール、ヒドロキノン等が挙げられる。本発明で用いられる多核フェノールは、前記多核フェノールのうち１種類単独あるいは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００３４】
本発明の（ｃ）水酸基を有するビニルエーテル化合物は、分子中に少なくとも１つ以上の水酸基を有することが特徴であり、従来一般に用いられる水酸基を含有しない２官能以上の多官能ビニルエーテルを併用し硬化性を高めることとは意味合いを異にする。
すなわち、前記多核フェノールと同様、水酸基を光硬化反応に直性関与させることが重要であり、これによりビニルエーテルによる光カチオン重合と協奏的に反応が進行するため、これまで以上に優れた硬化性が発現できたものと考えている。
【００３５】
ここで用いられる水酸基を有するビニルエーテル化合物としては、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、シクロヘキサンジオールモノビニルエーテル、９−ヒドロキシノニルビニルエーテル、プロピレングリコールモノビニルエーテル、ネオペンチルグリコールモノビニルエーテル、グリセロールジビニルエーテル、グリセロールモノビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、トリメチロールプロパンモノビニルエーテル、ペンタエリスリトールモノビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、トリエチレングリコールモノビニルエーテル、テトラエチレングリコールモノビニルエーテル、トリシクロデカンジオールモノビニルエーテル、トリシクロデカンジメタノールモノビニルエーテル等を挙げることができる。
これらのうち、従来単官能ビニルエーテルは、多官能ビニルエーテルに比べ硬化性が低く問題であったが、本発明の感光性組成物においては十分高い硬化性を得ることができるため好ましく用いることが出来る。またこれらの水酸基を有するビニルエーテル化合物は、単独でも２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
【００３６】
本発明で使用する（ｄ）エネルギー線感受性カチオン重合開始剤とは、エネルギー線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出することが可能な化合物であり、特に好ましいものとしては照射によりルイス酸を放出するオニウム塩である。
このようなものとしては、ルイス酸のジアゾニウム塩、ルイス酸のヨードニウム塩、ルイス酸のスルホニウム塩等が挙げられ、これらはカチオン部分がそれぞれ芳香属ジアゾニウム、芳香属ヨードニウム、芳香属スルホニウムであり、アニオン部分がＢＦ４−、ＰＦ６−、ＳｂＦ６−、［ＢＸ４］−（ただし、Ｘは少なくとも２つ以上のフッ素又はトリフルオロメチル基で置換されたフェニル基）等により構成されたオニウム塩である。
【００３７】
具体的には四フッ化ホウ素のフェニルジアゾニウム塩、六フッ化リンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化アンチモンのジフェニルヨードニウム塩、六フッ化ヒ素のトリ−４−メチルフェニルスルホニウム塩、四フッ化アンチモンのトリ−４−メチルフェニルスルホニウム塩、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ素のジフェニルヨードニウム塩、アセチルアセトンアルミニウム塩とオルトニトロベンジルシリルエーテル混合体、フェニルチオピリジウム塩、六フッ化リンアレン−鉄錯体等を挙げることができ、ＣＤ−１０１２（商品名：ＳＡＲＴＯＭＥＲ社製）、ＰＣＩ−０１９、ＰＣＩ−０２１（商品名：日本化薬社製）、オプトマーＳＰ−１５０、オプトマーＳＰ−１７０（商品名：旭電化社製）、ＵＶＩ−６９９０（商品名：ダウケミカル社製）、ＣＰＩ−１００Ｐ、ＣＰＩ−１００Ａ（商品名：サンアプロ社製）、ＴＥＰＢＩ−Ｓ（商品名：日本触媒社製）等を用いることができ、これらは単独でも２種以上を組み合わせて使用することもできる。  
【００３８】
本発明のエネルギー線感受性カチオン重合開始剤には、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン、アントラセン等の光増感剤を併用することもでき、具体的には４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４’−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、９，１０−ジエトキシアントラセン、９，１０−ジブトキシアントラセン等が挙げられる。
本発明の感光性組成物には、水酸基を含有しない多官能ビニルエーテルを併用することも可能である。これらのものとしては、例えばエチレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、シクロヘキサンジオールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、グリセロールトリビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル等を挙げることができる。
【００３９】
この他、硬化性や硬化時の膜物性に悪影響を及ぼさない程度にカチオン重合性を示す他の化合物を添加することができる。これらの化合物としては、例えば前記以外の低分子量のエポキシ化合物は希釈剤として用いることでき、またオキセタン等の環状エーテル化合物や環状ラクトン化合物、環状アセタール化合物、環状チオエーテル化合物、スピロオルソエステル化合物、等が挙げられる。また従来用いられる、エチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多価アルコールを、硬化性を損なわない範囲で用いることもできる。
【００４０】
本発明の感光性組成物には、さらに必要に応じて（メタ）アクリレートモノマー類やオリゴマー類、および光ラジカル開始剤、消泡剤、レベリング剤、重合禁止剤、ワックス類、酸化防止剤、非反応性ポリマー、微粒子無機フィラー、シランカップリング剤、光安定剤、紫外線吸収剤、帯電防止剤、スリップ剤、腐食防止剤等を添加することもできる。腐食防止剤としては、例えば、イオン交換体、多価カルボン酸、ヒドロキシカルボン酸、有機錫化合物、スルフィド化合物等が挙げられる。
【００４１】
次に、本発明において用いられる感光性組成物中の各成分の組成割合について説明する。なお、以下に示される部はすべて重量部を表す。
感光性組成物において（ｂ）多核フェノール中のフェノール性水酸基の官能基濃度（多価フェノール化合物のモル数×１分子中の水酸基数と定義する）と、（ｃ）ビニルエーテル化合物中の水酸基の官能基濃度（水酸基を有するビニルエーテル化合物のモル数×１分子中の水酸基数と定義する）を加えた値は、エポキシ基の官能基濃度（エポキシ化合物のモル数×１分子中のエポキシ基数と定義する）以下であることが重要である。これは、組成物中のエポキシ基に比べビニルエーテル化合物中の水酸基およびフェノール性水酸基が過剰に存在すると、硬化後の膜の親水性が高くなり過ぎ耐水性が不足する等、硬化膜特性が不十分となるためである。実際の配合割合としてはそれぞれの化合物の分子量にもよるが、一般に（ａ）１分子中に少なくとも２個以上のエポキシ基を有する化合物４０〜９９部に対し、（ｂ）多核フェノールと（ｃ）水酸基を有するビニルエーテル化合物を合わせたものが１〜６０部であることが好ましい。このうち、（ｂ）多核フェノールと（ｃ）水酸基を有するビニルエーテル化合物の配合割合は、両者の合計を１００部とした時、（ｂ）多核フェノールが０．０１〜５０部に対し、（ｄ）水酸基を有するビニルエーテル化合物が５０〜９９．９９部である。多核フェノールは極少量でもその添加効果は大きく、０．０１部からの使用が可能であり、上限が５０部である。多核フェノールがこれより多くなると相対的に水酸基を有するビニルエーテル化合物の含有量が低下し、十分な硬化性が得られなくなる。
【００４２】
本発明の感光性組成物における（ｄ）エネルギー線感受性カチオン重合開始剤の含有量は、前記（ａ）＋（ｂ）＋（ｃ）を１００部とした場合、０．１〜１０部が好ましく、さらに好ましくは０．２〜５重量部である。１０部より多い場合、高価な開始剤を過剰に使用することになることから経済的に望ましくないだけでなく、光線透過率が低下し膜底部の硬化が不足するため好ましくない。また０．１部より少ない場合、エネルギー線照射により発生する活性カチオン物質の量が不足し、十分な硬化性が得られなくなる。
【００４３】
次に、本発明の光ディスクの製造方法としては、例えば以下のような方法を挙げることができる。本発明の感光性組成物を、スピンコート法やスクリーン印刷法等の方法により記録層上に塗工した後、エネルギー線照射により塗工層を硬化させて光透過層を形成し、光ディスクを得る方法。また、２枚の基材を用意して、本発明の感光性組成物を一方の基材上に滴下、或いは塗工し、もう１枚の基材を重ね合わせ、必要に応じてスピンコート法等により組成物を均一に延ばした後、エネルギー線照射により硬化させて光ディスクを得る方法。或いは、２枚の基材を用意して、本発明の感光性組成物を一方の基材上に滴下或いは塗工した後、エネルギー線を照射し、もう１枚の基材を貼り合わせてから必要に応じてスピンコート法等により組成物を均一に延ばして、光ディスクを得る方法等がある。
【００４４】
本発明の感光性組成物を硬化させるのに使用できる光源としては、所定の作業時間内で硬化させることができるものであれば特に制限はなく、通常、紫外線、可視光線の波長の光を照射できるものであり、例えば低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライド灯、無電極放電ランプ等が挙げられる。
なお、硬化を促進するために、上記方法で得られたディスクを恒温槽、赤外線ヒーター等で加温しても良い。
光透過層の層厚は、所望とする光ディスクの特性や用途によって設定され、硬化処理前の塗工層の層厚は、所望とする光透過層の層厚に応じて設定すればよい。光透過層の層厚としては、例えば３〜２００μｍとすることができる。
【実施例】
【００４５】
本発明を実施例に基づいて説明する。なお、感光性組成物を用いて光透過層を形成する工程は、製造される光ディスクの信頼性を決める重要な工程であることから、実施例においては、本発明のカチオン重合性感光性組成物の光硬化特性および硬化後の接着性、腐食性を評価することで、製造される光ディスクの評価に代えるものとする。
実施例中の「部」は重量部を、％は質量％を意味する。また、本発明の感光性組成物の光硬化性および硬化物の特性評価は、以下の方法で行った。
＜光硬化性および硬化膜の特性評価＞
（１）転化率：ＩＲスペクトルのエポキシ基およびビニル基に基づくピーク強度の減衰から転化率を算出した。
（２）接着強度：感光性組成物を３０ｍｍ×５ｍｍ、厚さ約１０μｍでＳＵＳ／ガラス間にはさみ、光照射により接着させた後、ＲＴＣ−１２１０Ａ引張り試験機（（株）Ａ＆Ｄ社製）により引張り速度５ｍｍ／ｍｉｎで測定した。
（３）腐食性：アルミニウム薄膜付きシリコンウェハー上で硬化した被膜（厚さ約１０μｍ）を、温度９０℃、湿度８０％条件下にて１００時間放置した後、アルミニウムの表面状態を目視にて観察した。
【００４６】
［実施例１］
（ａ）１分子中に少なくとも２個以上のエポキシ基を有する化合物として、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート７２部、（ｂ）多核フェノールとして、４核フェノールであるＭＴＰＣ（本州化学工業社製）９部、（ｃ）水酸基を有するビニルエーテル化合物として、ヒドロキシブチルビニルエーテル１５部、（ｄ）エネルギー線感受性カチオン重合開始剤としてスルホニウムＰＦ６塩型のＣＰＩ−１００Ｐ（商品名：サンアプロ社製）４部を十分混合することにより透明な感光性組成物を得た。このようにして得られた感光性組成物の特性を評価するために、バーコーターを用い膜厚１０μｍになるように塗工した後、４００Ｗ高圧水銀灯露光機（セン特殊光源（株）社製）で５００ｍＪ／ｃｍ２露光し、光硬化性（転化率）および硬化膜の接着強度の評価を行った。なお、腐食性評価用の硬化膜作成においては、３０００ｍＪ／ｃｍ２露光を行った。結果を表１に示す。
【００４７】
［実施例２］
（ｂ）多核フェノールとして、ｐ−イソプロピルフェノールノボラック樹脂（３核体〜７核体の含有率が６４％）９部および（ｃ）水酸基を有するビニルエーテル化合物として、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル１５部を用いる以外は実施例１と同様にして感光性組成物を得、特性評価を行った。結果を表１に示す。
【００４８】
［比較例１］
（ａ）として３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートの９６部、および（ｄ）としてＣＰＩ−１００Ｐの４部から成るエポキシ樹脂のみで構成される感光性組成物を得た。この組成物の性能評価結果を表１に示す。
【００４９】
［比較例２］
（ａ）として３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートの７６部、（ｃ）としてトリエチレングリコールジビニルエーテル２０部、および（ｄ）としてＣＰＩ−１００Ｐの４部から成るエポキシ樹脂とビニルエーテルから構成される感光性組成物を得た。この組成物の性能評価結果を表１に示す。
以上の結果から、本発明に係わるカチオン重合性感光性組成物は、比較例に示されるエポキシ樹脂単独あるいはエポキシ樹脂／ビニルエーテル化合物から成る従来のカチオン型感光性組成物に比べ優れた硬化性（転化率）を有し、また十分な接着性と低い腐食性を示すことがわかる。このことから、本発明に係わるカチオン重合性感光性組成物を用いて光透過層を形成される光ディスクは、本感光性組成物の優れた硬化性から高い生産性が期待でき、且つ得られる接着性と低腐食性が従来に比べ優れていることから、製品寿命の大幅な改善が期待でき、これまで以上に信頼性の高い光ディスクの提供を可能とするものである。
【００５０】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【００５１】
本発明の感光性組成物は、これまでのエポキシ化合物からなる感光性組成物同様、高い透明性及び硬化収縮も小さいといった性能を保持しながら、優れた硬化性と接着性、そして腐食性が低いというこれまでにない性質を持っていることから、光ディスクの光透過層の分野で好適に利用できる。