(57)【要約】【課題】安価な光導波路およびその製造方法を提供することを目的とするものである。【解決手段】下部クラッド層１１と、この下部クラッド層１１の上に形成され光の伝搬方向に厚さおよび幅方向がテーパ状に変化しているコア１２とからなり、前記コア１２の軟化温度が下部クラッド層１１の軟化温度よりも３０℃以上低い材料とした光導波路であり、下部クラッド層１１の変形を十分小さくしてコア１２を熱プレス加工することができるため、安価な光導波路が提供できる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部クラッド層と、この下部クラッド層上に形成され光の伝搬方向に厚さ方向および幅方向がテーパ状に変化しているコアとからなり、前記コアを軟化温度が下部クラッド層の軟化温度よりも３０℃以上低い材料で構成した光導波路。
【請求項２】
コアの材料をＰ2Ｏ5とフッ素およびアルカリ土類元素成分とし軟化温度を４５０℃以下とした請求項１に記載の光導波路。
【請求項３】
コアとしてＰ2Ｏ5を５〜５０ｍｏｌ％，ＭｇＦ2とＣａＦ2とＳｒＦ2とＢａＦ2とＺｎＦ2との合計を２０〜６０ｍｏｌ％，ＬｉＦとＮａＦとＫＦとの合計を５〜２０ｍｏｌ％からなる材料で構成した請求項１に記載の光導波路。
【請求項４】
下部クラッド層上に光の伝搬方向に厚さ方向および幅方向がテーパ状に変化するようにコアを形成する工程と、このコアおよび前記下部クラッド層を覆うように上部クラッド層を形成する工程とからなり、前記コアを形成する工程を前記下部クラッド層上に平板からなるコアを直接接合により重合して上下一対のテーパ形状および余剰のコアを逃がす溝を設けた金型により前記平板からなるコアを軟化温度以上に加熱してプレス成型する光導波路の製造方法。
【請求項５】
テーパ状に変化するようにコアを形成する工程を厚さ方向のテーパ形状を金型、幅方向のテーパ形状をコア上にレジストパターンまたはマスクパターンを形成してドライエッチングで形成する請求項４に記載の光導波路の製造方法。
【請求項６】
凸版の金型を用いる請求項４に記載の光導波路の製造方法。
【請求項７】
プレス成型により同時に下部クラッド層と平板からなるコアとを接合して光の伝搬方向に厚さ方向および幅方向がテーパ状に変化するコアを成型する請求項４に記載の光導波路の製造方法。
【請求項８】
プレス成型により光の伝搬方向に厚さ方向および幅方向がテーパ状に変化しかつ頂点を有し、この頂点から異なる符号の傾斜となるコアを成型する請求項４に記載の光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光通信などに用いられる光結合デバイスなどの光導波路およびその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、光導波路と光ファイバや発光素子などの結合において、結合損失を小さくし位置合わせのトレランスを大きくするためにレンズやスポットサイズ変換部を用いる方法が知られていた。これはレンズによる集光機能や光導波路の入出力部にテーパ形状を持つスポットサイズ変換機能を利用した構成となっている。
【０００３】
従来の光導波路とその製造方法としては、図１３に示すものがある。
【０００４】
図１３（ａ）〜（ｄ）は従来の光導波路の製造工程を示す断面図である。図１３（ａ）に示されるように基板１の上に下部クラッド層２を成膜し、この下部クラッド層２よりも屈折率の高いコア層３を成膜する。さらにテーパを形成するためにコア層３に一部をエッチングにより段差３ａを形成する。そして図１３（ｂ）に示すように段差３ａが形成されたコア層３の上に滑らかな傾斜形状にするためにコア層３の上に平坦化層４を形成する。この平坦化層４にはスピンオングラスや熱硬化性樹脂や光硬化性樹脂等のエネルギー硬化型ポリマー材を用いてスピンコート等の塗布法による成膜が可能である。さらに図１３（ｃ）に示すように平坦化層４をエッチングにより除去する。このエッチングが進行するに従いコア層３の上面も平坦化層４の形状を転写するようにエッチングされてコア５を形成する。そして図１３（ｄ）に示すようにコア５に比べて屈折率の低い上部クラッド層６をコア５を埋め込むように形成する。
【０００５】
これにより下部クラッド層２とコア５と上部クラッド層６で構成される光導波路７が形成される。
【０００６】
なお、この出願の発明に関連する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献１が知られている。
【特許文献１】特開２００２−３０３７５２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記従来の方法は多くの工程が必要であり低コスト化が困難であるという問題点を有していた。
【０００８】
そこで本発明は安価な光結合デバイスとしての光導波路およびその製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために、本発明は以下の構成を有する。
【００１０】
本発明の請求項１に記載の発明は、下部クラッド層と、この下部クラッド層上に形成され光の伝搬方向に厚さ方向および幅方向がテーパ状に変化しているコアとからなり、前記コアの軟化温度が下部クラッド層の軟化温度よりも３０℃以上低い材料とした光導波路であり、下部クラッド層の変形を十分小さくしてコアを熱プレス加工することができるため、安価な光導波路が提供できる。
【００１１】
本発明の請求項２に記載の発明は、コアの材料をＰ2Ｏ5とフッ素およびアルカリ土類元素成分とし軟化温度を４５０℃以下とした請求項１に記載の光導波路であり、融点の低いガラス組成の酸化物であるＰ2Ｏ5を含むことにより、ガラスの耐水性および耐薬品性が向上し、コアの軟化温度を４５０℃以下とすることができ製造温度を低くすることができるため、安価な光導波路が提供できる。
【００１２】
本発明の請求項３に記載の発明は、コアとしてＰ2Ｏ5を５〜５０ｍｏｌ％、ＭｇＦ2とＣａＦ2とＳｒＦ2とＢａＦ2とＺｎＦ2との合計を２０〜６０ｍｏｌ％、ＬｉＦとＮａＦとＫＦとの合計を５〜２０ｍｏｌ％からなる材料で構成した請求項１に記載の光導波路であり、製造温度を低くすることができるため、安価な光導波路が提供できる。
【００１３】
本発明の請求項４に記載の発明は、下部クラッド層上に光の伝搬方向に厚さ方向および幅方向がテーパ状に変化するようにコアを形成する工程と、このコアおよび前記下部クラッド層を覆うように上部クラッド層を形成する工程とからなり、前記コアを形成する工程を前記下部クラッド層上に平板からなるコアを直接接合により重合して上下一対のテーパ形状および余剰のコアを逃がす溝を設けた金型により前記平板からなるコアを軟化温度以上に加熱してプレス成型する構成とした光導波路の製造方法であり、金型に溝を設けて余剰のコアを溝に逃がすことができるため、信頼性および歩留まりが向上できる。
【００１４】
本発明の請求項５に記載の発明は、テーパ状に変化するようにコアを形成する工程を厚さ方向のテーパ形状を金型、幅方向のテーパ形状をコア上にレジストパターンまたはマスクパターンを形成してドライエッチングで形成する請求項４に記載の光導波路の製造方法であり、コアの寸法精度を高めることができる。
【００１５】
本発明の請求項６に記載の発明は、凸版の金型を用いる請求項４に記載の光導波路の製造方法であり、金型が容易に作製でき、コアへのプレス挿入部分を小さくして圧力を低くできるため、安価な光導波路が提供できる。
【００１６】
本発明の請求項７に記載の発明は、プレス成型により同時に下部クラッド層と平板からなるコアとを接合して光の伝搬方向に厚さ方向および幅方向がテーパ状に変化するコアを成型する請求項４に記載の光導波路の製造方法であり、製造時間の短縮化により製造コストが削減でき、安価な光導波路を提供できる。
【００１７】
本発明の請求項８に記載の発明は、プレス成型により光の伝搬方向に厚さ方向および幅方向がテーパ状に変化しかつ頂点を有し、この頂点から異なる符号の傾斜となるコアを成型する請求項４に記載の光導波路の製造方法であり、金型によるプレスおよび引き離しを容易にすることができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の光導波路は、下部クラッド層と、この下部クラッド層上に形成され光の伝搬方向に厚さ方向および幅方向がテーパ状に変化しているコアとからなり、前記コアの軟化温度が下部クラッド層の軟化温度よりも３０℃以上低い材料とした光導波路であり、下部クラッド層の変形を十分小さくしてコアを熱プレス加工することができるため、安価な光導波路が提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
（実施の形態１）
以下に本発明の実施の形態１における光導波路とその製造方法について図面を用いて説明する。
【００２０】
図１（ａ）は本発明の実施の形態１における光導波路の構成を示す斜視図、図１（ｂ）は本発明の実施の形態１における光導波路の構成を示す分解斜視図である。
【００２１】
図１（ａ）に示すように下部クラッド層１１の上に形成され光が伝搬方向に厚さ方向および幅方向がテーパ状変化しているコア１２とから構成される。
【００２２】
以下、本発明の光導波路の材料および組成について説明する。
【００２３】
図１（ａ）に示す下部クラッド層１１はＳｉＯ2からなるシリカガラスや多成分ガラスである。多成分ガラスは複数の陽イオン成分を含むガラスである。例えばアルカリ元素成分、アルカリ土類元素成分、または希土類元素成分の少なくとも一つの元素を含有する。フッ素クラウン系ガラスのように多種のアルカリ元素成分とフッ素などの成分を含むものもある。また、下部クラッド層１１の材料としてポリイミド系、エポキシ系、アクリル系などのポリマーも考えられる。
【００２４】
なお、下部クラッド層１１の下部に基板（図示せず）を有する場合がある。この基板はＳｉや多成分ガラスを用いて形成される。基板と下部クラッド層１１の熱膨張系数が異なる場合、熱応力を生じてクラックや剥離が発生することがあるため基板と下部クラッド層１１との熱膨張係数は近い方が望ましく等しいものが良い。なお基板がＳｉの場合、このＳｉを酸化させてＳｉＯ2を形成してこのＳｉＯ2を下部クラッド層１１とする場合もある。基板と下部クラッド層１１が同じ材料であっても良い。
【００２５】
コア１２は多成分ガラスを用いて形成され、下部クラッド層１１よりも僅かに屈折率が大きい材料で構成される。なおコア１２の材料としてポリイミド系、エポキシ系、アクリル系などのポリマーも考えられる。下部クラッド層１１をポリマーで形成した場合、コア１２も同系のポリマーを選択すると信頼性や密着性の観点から好ましい。
【００２６】
図１（ｂ）に示すように下部クラッド層１１の上にコア１２を覆うように上部クラッド層１３を形成して光導波路を形成する。上部クラッド層１３の材料はＳｉＯ2からなるシリカガラスや多成分ガラス、あるいはポリイミド系、エポキシ系、アクリル系などのポリマーが考えられる。上部クラッド層１３はコア１２よりも僅かに屈折率が小さい材料である。上部クラッド層１３は下部クラッド１１と同じ材料でも良い。コア１２の屈折率は下部クラッド層１１の屈折率および上部クラッド層１３の屈折率のどちらよりも大きく、この屈折率の差によって光がコア２に閉じ込められる。
【００２７】
以上のように下部クラッド層１１、コア１２、上部クラッド層１３の材料には多成分ガラスやポリマーが考えられる。多成分ガラスを用いると信頼性の観点等で好ましい。またポリマーを用いると低コスト化が図れ好ましい。
【００２８】
なおＳｉＯ2からなるシリカガラス系の材料はその屈折率や熱膨張係数といった材料の物性値はシリカガラスの値によりほぼ決定されている。
【００２９】
また、コア１２の物性値を変える場合にはアルカリ元素成分、アルカリ土類元素成分、または希土類元素成分などの元素を含有する多成分ガラスを用いて光導波路を形成することがある。
【００３０】
多成分ガラスで光導波路のコア１２を形成するとガラス組成を適当に変化させることができ、屈折率、熱膨張係数、あるいはガラス転移温度といったガラスの物性値をより広い範囲で変化させることができる。
【００３１】
特に、本発明は多成分ガラスを用いて下部クラッド層１１とコア１２との熱膨張係数をできるだけ等しくし、下部クラッド層１１とコア１２には屈折率差、軟化温度差を設けてガラス組成を設計することが好ましい。
【００３２】
本発明においては光導波路の低コスト化を図るため、厚み方向または厚み方向と幅方向にテーパ化したコア１２の製造工程の一過程には熱プレス加工を利用する。この際、下部クラッド層１１の変形を十分小さくしたまま熱プレス加工を行なうため下部クラッド層１１とコア１２とは軟化温度に３０℃の差を設けている。
【００３３】
また、軟化温度を下げるため多成分ガラスを用いることが好ましい。通常のＳｉＯ2からなるシリカガラスを軟化させて加工する場合には１８００℃以上の高温が必要になる。一方コア１２のガラスの軟化温度を低くすれば低い温度で加工することができる。このような多成分ガラスを用いることにより作製温度を下げることができ低コスト化が図れる。
【００３４】
コア１２を少なくともＳｉＯ2とＢ2Ｏ3とを含有し、Ｎａ2ＯまたはＫ2Ｏを含むガラスとすることにより製造温度をＳｉＯ2からなるシリカガラスよりもかなり低くすることができる。フッ素を含有させるとさらに作製温度を下げることができ、軟化温度を４５０℃以下にすることができる。
【００３５】
このようなガラスとして、例えばＳｉＯ2を４０〜５０ｍｏｌ％，Ｂ2Ｏ3を３０〜４０ｍｏｌ％，Ａｌ2Ｏ3を２〜５ｍｏｌ％、Ｎａ2ＯまたはＫ2Ｏを５〜２０ｍｏｌ％それぞれ含み、酸素の１０〜２０％を２当量のフッ素で置換したものがある。
【００３６】
ガラス組成の酸化物の中でも融点の低いＰ2Ｏ5を用いることによりガラスの耐水性および耐薬品性を劣化させることなくコア１２の軟化温度を低くすることができる。フッ素をさらに含むようにすれば軟化温度をさらに低くすることができる。フッ素を含有したリン酸塩ガラスはＡｌＦ3を含むようにすると耐水性および耐薬品性が向上して好ましい。またアルカリ土類元素成分を少なくとも１種類以上さらに含むようにするとさらに耐水性および耐薬品性が向上して好ましく希土類元素成分を含める場合もある。希土類元素成分としては、例えば吸収の少ないＣｅ2Ｏ3またはＣｅＦ3を用いるのが好ましい。
【００３７】
組成の設計としては、例えばＰ2Ｏ5を５〜５０ｍｏｌ％、ＭｇＦ2とＣａＦ2とＳｒＦ2とＢａＦ2とＺｎＦ2との合計を２０〜６０ｍｏｌ％、ＬｉＦとＮａＦとＫＦとの合計を５〜２０ｍｏｌ％とするガラスが考えられる。
【００３８】
このようなガラスを用いることで軟化温度を４５０℃以下にすることができる。組成を最適化すれば軟化温度を３５０℃以下にすることも可能である。
【００３９】
耐水性および耐薬品性の向上や作製上の容易さ等の観点からはＰ2Ｏ5を３０〜４０ｍｏｌ％、ＡｌＦ3を１０〜２０ｍｏｌ％、ＣａＦ2とＳｒＦ2とＢａＦ2とＺｎＦ2とを各２〜８ｍｏｌ％、ＬｉＦとＫＦとを各１〜７ｍｏｌ％、Ｃｅ2Ｏ3を０．５ｍｏｌ％とするガラスが考えられる。
【００４０】
なお、ＡｌＦ3，ＭｇＦ2，ＣａＦ2，ＳｒＦ2，ＢａＦ2，ＺｎＦ2，ＬｉＦ，ＮａＦ，およびＫＦなどのフッ化物はガラス中で一部酸化して存在する。すなわち陽イオンとしてアルカリ土類元素成分、アルカリ元素成分、希土類元素成分、遷移元素成分を含み、酸素およびフッ素とともにいわゆるネットワーク構造を形成する。ガラス組成の酸化物はＰ2Ｏ5であるが場合によりＳｉＯ2やＢ2Ｏ3を加えることがある。中間酸化物としてＡｌ2Ｏ3を含むと耐水性および耐薬品性が向上するため好ましく、フッ化物のＡｌＦ3を用いることもできる。
【００４１】
フッ素の含有量が多くなると屈折率は低くなり、軟化温度を低くすることができる。しかし溶融法でガラスを製造する場合、フッ素は揮発性が高いため組成ズレ等の問題が発生する場合がある。陽イオンの割合にも依存するがフッ素と酸素の構成比は０．３から３．０の間で設計すると好ましい。ただし場合によりこの範囲外もありうる。例えばフッ素と酸素の構成比が８．０になるような多量のフッ素を含有させたガラスもある。
【００４２】
なお、コア１２はポリイミドやアクリルなどの有機高分子を用いても良く、この場合も作製温度を下げることができる。
【００４３】
次に、本発明の光導波路の構造について説明する。
【００４４】
図２（ａ），（ｂ）は本発明の実施の形態１における光導波路の上面の断面図、図３（ａ），（ｂ）は本発明の実施の形態１における光導波路の側面の断面図である。なおコア１２の断面は必ずしも矩形でなくて良く台形などでも良い。また図２（ａ），（ｂ）においてコア１２は一本しか示していないが複数本形成しても良く、光の伝搬方向にテーパ状に変化するコア１２の形状は直線的でも関数的な曲線でも良い。
【００４５】
コア１２の両端には光入力部の端面および光出力部の端面がある。光入力部の端面近傍に集光手段を備えることにより広範囲の光が集光でき結合効率が高くできると共に光軸調整が簡素化できる。端面に非球面レンズを形成する方法や図３（ｂ）に示すように端面近傍にテーパ状に変化しかつ頂点を有し、この頂点から異なる符号の傾斜となるような形状にする方法などがある。集光手段に例えば光導波路の光入力部の端面を加工して凸レンズ型の非球面レンズや回折レンズを形成すれば収差を小さくすることができる。
【００４６】
図３（ｂ）に示すコア１２の傾斜の異なる先端部１４の角度を１００°程度にすると結合効率が高く、好ましい結果が得られた。また先端はわずかにＲ加工すると結合効率が高まり好ましい結果が得られた。
【００４７】
非球面レンズや回折レンズの形状を形成するには例えば機械加工によって行なう方法や熱プレスによる方法などがある。また集光手段を備える方法についてはレンズを形成する方法の他に例えば屈折率分布を形成する方法がある。屈折率分布を形成するにはイオン交換などの方法がある。
【００４８】
コア１２の光入力部の断面形状と光出力部の断面形状がそれぞれ異なることによって光導波路の光入力部および光出力部でのそれぞれの光のスポットサイズを変化させることができる。すなわち光導波路と接続する光デバイスあるいは光通路などと適切な光のスポットサイズに合わせることができると共に広い範囲の間隔の調整位置に対応できる。これによって光デバイスからの光信号を外部に出力するための光接続において光軸調整が簡易にでき低コスト化が図れる。
【００４９】
また、光導波路の端面に集光手段を設けてこの集光手段により集光した光を端面から所定の位置にコア１２を配置することによりさらに結合効率を高めることができる。
【００５０】
コア１２は光入力部と光出力部を結ぶ光通路の役割を果たすわけであるが、コア１２においてその断面の形状は変化しないほうが好ましい。すなわち任意の２箇所の断面が互いに相似形状であると良い。例えば光入力部の断面と光出力部の断面と光通路の断面の形状はいずれも高さと幅の比が略等しい四角形であるようにすると良く設計が容易になるという観点でも好ましい。
【００５１】
設計例として、例えば光入力部の断面と光出力部の断面は断面積が４倍以上異なるようにするとスポットサイズの変換もその断面積が４倍以上異なるようにでき、光入力部の断面積は３００μｍ2以上７００μｍ2以下、光出力部の断面積は５０μｍ2以上１２０μｍ2以下であるようにした例もある。
【００５２】
（実施の形態２）
以下に本発明の実施の形態２における光導波路とその製造方法についての図面を用いて説明する。
【００５３】
図４（ａ），（ｂ）〜図７（ａ），（ｂ）は本発明の実施の形態２における光導波路の製造工程を示す上面図および断面図である。
【００５４】
図４（ａ），（ｂ）に示すように下部クラッド層１１の上に平板からなるコア１２を形成する。ＣＶＤ、スパッタリングなどの成膜法により形成する方法や直接接合を利用する方法などがある。なお下部クラッド層１１は基板（図示せず）上に形成する場合もある。
【００５５】
本発明は少なくとも数十μｍ以上の厚さをもつ平板からなるコア１２を熱プレスによりプレス成形する。このような厚さをもつ平板からなるコア１２を形成するには直接接合を利用すると成膜する方法に比べて製造時間が短縮化され、製造コストが削減されるため好ましい。
【００５６】
直接接合により誘電体や半導体などの結晶材料やガラス材料などの種々の材料からなる基板どうしを接合することができる。熱膨張係数を略等しくすることにより異なる種類の基板間を接合することができる。光導波路素子と光学素子や電子素子を一体として集積化することも可能となる。
【００５７】
次に、図５（ａ），（ｂ）に示すように下部クラッド層１１の上のコア１２を上下一対の型間に配置して軟化温度以上に加熱して圧力を加えると変形する。このようにプレス成形することにより厚さが徐々に変化するテーパ形状のコア１２に形成し、テーパ状のコア１２を得る。通常はガラスの軟化温度以上に加熱する必要があるため金型は金属製を用いることが望ましい。
【００５８】
そして、フォトリソグラフィーを利用することにより、厚さ方向にテーパ形状のコア１２の上にレジストパターンまたはマスクパターンを形成する。さらに図６（ａ），（ｂ）に示すようにドライエッチングにより光導波路の幅方向にテーパ形状のコア１２のパターニングを行い、ドライエッチングにより厚み方向および幅方向にテーパ形状のコア１２が得られる。このようにフォトリソグラフィーとドライエッチングの工程をプレス成形後にすることによりコア１２の幅方向の精度を高めることができる。
【００５９】
そして、図７（ａ），（ｂ）に示すようにレジストパターンまたはマスクパターンなどを除去して下部クラッド層１１およびコア１２を埋め込むように上部クラッド層１３を形成する。ＣＶＤ、スパッタリングなどの成膜法により形成する方法、流動性を有する材料をかぶせる方法、ゾルゲル法などのように溶液から固体を形成する方法などが考えられる。
【００６０】
なお、空気を上部クラッド層１３とみなせる場合がある。ガラスを加熱して軟化させプレスして接着させる方法もある。この場合、コア１２と上部クラッド層１３の熱膨張係数が近いほうが望ましく等しいものが良い。
【００６１】
次に、本発明の他の光導波路の製造工程について図面を用いて説明する。
【００６２】
図８（ａ），（ｂ）〜図１１（ａ），（ｂ）は本発明の実施の形態２における光導波路の製造工程を示す上面図および断面図である。
【００６３】
図８（ａ），（ｂ）に示すように下部クラッド層１１を用意し、図９（ａ），（ｂ）に示すようにこの下部クラッド層１１の上に平板からなるコア１２を配置し、これらを上下一対の金型（図示せず）間に配置して軟化温度以上に熱を加えて圧力を加え変形させる。
【００６４】
そして、図１０（ａ），（ｂ）に示すようにプレス成形することにより厚さ方向および幅方向が徐々に変化しているテーパ形状のコア１２に形成すると同時に下部クラッド層１１と平板からなるコア１２とを接合させ、下部クラッド層１１の上に厚さ方向のテーパ形状のコア１２を得る。下部クラッド層１１と平板からなるコア１２との接合と同時に厚さ方向および幅方向にテーパ形状とするコア１２を形成することができるため、製造時間が短縮化され、製造コストが削減されるため安価な光導波路を提供できる。
【００６５】
図１１（ａ），（ｂ）については、図７（ａ），（ｂ）と同様であり説明を省略する。
【００６６】
以下、平板からなるコア１２をプレス成形してテーパ形状に形成する際に用いる金型について説明する。
【００６７】
図１２（ａ）〜（ｃ）は本発明の光導波路を形成する金型の一例を示す断面図である。
【００６８】
図１２（ａ）に示すようにテーパ形状のコア１２を形成する金型１５を凸形状としている。この凸形状の金型１５は容易に作製でき、コアへのプレス挿入部分を小さくして圧力を低くできるため、安価な光導波路が提供できる。
【００６９】
図１２（ｂ）は端面近傍にテーパ状に変化しかつ頂点を有し、この頂点から異なる符号の傾斜となるような形状になるようにプレス成形するための金型１５を示している。これにより厚み方向のテーパを作製すると同時にコア２の端面に集光機能を形成することができる。さらに製造時の金型１５のプレスおよび引き離しを容易にすることができる。すなわちコア１２の端面はプレスする方向と平行になっているためこの面の面積は小さいほうが好ましい。
【００７０】
光導波路はウェハ（図示せず）上に形成する。すなわちフォトリソグラフィーのプロセスなどにおいてはウェハで一括形成する。プレス成形によって平板からなるコア１２にテーパ形状を設ける際には図１２（ｃ）に示すような余分なコア１２を逃がす溝１６を設けた金型１５を用いると好ましい。これによってプレスの際に余剰のコア層の成分を溝に逃がすことができるため効率の高いプレス成形が可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明にかかる光導波路およびその製造方法は、下部クラッド層の変形を十分小さくしたままコアを熱プレス加工することができるという効果を有し、光通信などに用いられる光導波路においてスポットサイズ変換部を有する光導波路として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００７２】
【図１】（ａ）本発明の実施の形態１における光導波路の構成を示す斜視図、（ｂ）本発明の実施の形態１における光導波路の構成を示す分解斜視図
【図２】（ａ），（ｂ）本発明の実施の形態１における光導波路の上面の断面図
【図３】（ａ），（ｂ）本発明の実施の形態１における光導波路の側面の断面図
【図４】（ａ），（ｂ）本発明の実施の形態２における光導波路の製造工程を示す上面図および側面図
【図５】（ａ），（ｂ）本発明の実施の形態２における光導波路の製造工程を示す上面図および断面図
【図６】（ａ），（ｂ）本発明の実施の形態２における光導波路の製造工程を示す上面図および断面図
【図７】（ａ），（ｂ）本発明の実施の形態２における光導波路の製造工程を示す上面図および断面図
【図８】（ａ），（ｂ）本発明の実施の形態２における光導波路の製造工程を示す上面図および断面図
【図９】（ａ），（ｂ）同上面図と断面図
【図１０】（ａ），（ｂ）同上面図と断面図
【図１１】（ａ），（ｂ）同上面図と断面図
【図１２】（ａ）〜（ｃ）本発明の光導波路を形成する金型の一例を示す断面図
【図１３】（ａ）〜（ｄ）従来の光導波路の製造工程を示す断面図
【符号の説明】
【００７３】
１１  下部クラッド層
１２  コア
１３  上部クラッド層
１４  先端部
１５  金型
１６  溝
【図１】
2005055576.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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