(57)【要約】【課題】  ケイ素基含有炭化水素系化合物を、不飽和基を有する炭化水素化合物と水素-ケイ素結合を有するケイ素化合物とのヒドロシリル化反応によって得ようとすると、ヒドロシリル化反応の進行速度が遅くそのため反応時間の長期化や触媒使用量の増大等が必要となり生産性が悪いという課題があった。【解決手段】  不飽和基を有する炭化水素系化合物にヒドロシリル化反応を用いてケイ素基を導入するに当たり、酸素含有化合物存在下でヒドロシリル化反応を行うことを特徴とするケイ素基含有炭化水素系化合物の製造方法により解決する。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
不飽和基を有する炭化水素系化合物にヒドロシリル化反応を用いてケイ素基を導入するに当たり、酸素含有化合物存在下でヒドロシリル化反応を行うことを特徴とするケイ素基含有炭化水素系化合物の製造方法。
【請求項２】
酸素含有化合物がエーテル系化合物であることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
エーテル系化合物がオキシアルキレン系重合体であることを特徴とする請求項２に記載の製造方法。
【請求項４】
オキシアルキレン系重合体が分子中に少なくとも１つの不飽和基を有するオキシアルキレン系重合体または分子中に少なくとも１つの反応性ケイ素基を有するオキシアルキレン系重合体であることを特徴とする請求項３に記載の製造方法。
【請求項５】
オキシアルキレン系重合体が有する不飽和基がアリル基またはメタリル基であることを特徴とする請求項４に記載の製造方法。
【請求項６】
不飽和基を有する炭化水素系化合物の炭素数が６以上である請求項１から５のいずれかに記載の製造方法。
【請求項７】
請求項１から６に記載のいずれかの製造方法で得られた反応性ケイ素基含有炭化水素系化合物を分子中に少なくとも１つの反応性ケイ素基を有する有機重合体に混合することを特徴とする反応性ケイ素基含有炭化水素系化合物と分子中に少なくとも１つの反応性ケイ素基を有する有機重合体を含む硬化性組成物の製造方法。
【請求項８】
不飽和基を有する炭化水素系化合物と不飽和基を有するオキシアルキレン系重合体の混合物に対してヒドロシリル化反応を行い、前記炭化水素系化合物および前記オキシアルキレン系重合体に対して同時にケイ素基を導入することを特徴とする、反応性ケイ素基含有炭化水素系化合物と分子中に少なくとも１つの反応性ケイ素基を有するオキシアルキレン系重合体を含む硬化性組成物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、不飽和基を有する炭化水素系化合物にヒドロシリル化反応を用いてケイ素基を導入するケイ素基含有炭化水素系化合物の製造方法およびそれらを含有する組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、反応性ケイ素基含有オキシアルキレン系重合体に反応性ケイ素基含有炭化水素系化合物を混合して得られる硬化性組成物は知られており、反応性ケイ素基含有炭化水素系化合物を使用しない硬化性組成物に比べ、硬化物の表面特性が改善されて埃や塵が付着しにくいことが知られている（特許文献１）。
【特許文献１】特開平１−１８８５５７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、ケイ素基含有炭化水素系化合物を、不飽和基を有する炭化水素化合物と水素−ケイ素結合を有するケイ素化合物とのヒドロシリル化反応によって得ようとすると、ヒドロシリル化反応の進行速度が遅く、そのため反応時間の長期化や触媒使用量の増大等が必要となり生産性が悪いという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、以下の方法によりヒドロシリル化が速やかに進行することを見出し、本発明を完成するに至った。
（１）不飽和基を有する炭化水素系化合物にヒドロシリル化反応を用いてケイ素基を導入するに当たり、酸素含有化合物存在下でヒドロシリル化反応を行うことを特徴とするケイ素基含有炭化水素系化合物の製造方法。
（２）酸素含有化合物がエーテル系化合物であることを特徴とする（１）に記載の製造方法。
（３）エーテル系化合物がオキシアルキレン系重合体であることを特徴とする（２）に記載の製造方法。
（４）オキシアルキレン系重合体が分子中に少なくとも１つの不飽和基を有するオキシアルキレン系重合体または分子中に少なくとも１つの反応性ケイ素基を有するオキシアルキレン系重合体であることを特徴とする（３）に記載の製造方法。
（５）オキシアルキレン系重合体が有する不飽和基がアリル基またはメタリル基であることを特徴とする（４）に記載の製造方法。
（６）不飽和基を有する炭化水素系化合物の炭素数が６以上である（１）から（５）のいずれかに記載の製造方法。
（７）（１）から（６）に記載のいずれかの製造方法で得られた反応性ケイ素基含有炭化水素系化合物を分子中に少なくとも１つの反応性ケイ素基を有する有機重合体に混合することを特徴とする反応性ケイ素基含有炭化水素系化合物と分子中に少なくとも１つの反応性ケイ素基を有する有機重合体を含む硬化性組成物の製造方法。
（８）不飽和基を有する炭化水素系化合物と不飽和基を有するオキシアルキレン系重合体の混合物に対してヒドロシリル化反応を行い、前記炭化水素系化合物および前記オキシアルキレン系重合体に対して同時にケイ素基を導入することを特徴とする、反応性ケイ素基含有炭化水素系化合物と分子中に少なくとも１つの反応性ケイ素基を有するオキシアルキレン系重合体を含む硬化性組成物の製造方法。
【発明の効果】
【０００５】
本発明は、不飽和基を有する炭化水素系化合物をヒドロシリル化してケイ素基を導入するに当たり、酸素含有化合物存在下で反応を行うことにより、ケイ素基含有炭化水素化合物を容易に得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明における不飽和基を有する炭化水素系化合物は、特に限定はなく分子中にヒドロシリル化が可能な不飽和基を有している炭化系水素化合物である。
【０００７】
それらの化合物の例としては、α‐オレフィン化合物、両末端に不飽和基を有する炭化水素系ジエン化合物、α‐オレフィンの重合体の末端が不飽和基のもの、ポリイソブテンあるいはポリブタジエンのごとき化合物の末端不飽和基を有するもの等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０００８】
これらの例としては、炭素数が４以上の不飽和基を有する炭化水素系化合物が挙げられ、具体的には１−ブテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、その他炭素数２０以上のα‐オレフィン化合物、１，５‐ヘキサジエン、１，９‐デカジエン、１，１７‐オクタデカジエン等が挙げられる。
【０００９】
また、本発明の製造方法で得られる反応性ケイ素基含有炭化水素系化合物が、分子中に少なくとも１つの反応性ケイ素基を有する有機重合体の可塑剤や反応性希釈剤として良好に機能するためには、不飽和基を有する炭化水素系化合物の炭素数は６以上が好ましく、より好ましくは１０以上、さらに好ましくは１４以上である。炭素数の上限は特にないが、炭素数が多すぎると凝固点が高くなって取り扱いが困難になるため３０以下が好ましく、また、不飽和基を有する炭化水素系化合物の入手性の点で１８以下が好適である。
【００１０】
本発明の酸素含有化合物は、分子中に１つ以上の酸素原子を有する化合物であれば特に限定はない。ヒドロシリル化反応の温度が制限されないように、通常のヒドロシリル化反応温度以上の沸点を有する化合物、オリゴマーあるいはポリマーを使用することが好ましい。通常のヒドロシリル化反応の温度とは、１０〜１５０℃、好ましくは２０〜１２０℃、さらに好ましくは４０〜１００℃である。
【００１１】
本発明では、酸素含有化合物として酸素含有溶剤を使用できる。ただし、メルカプト基、アミノ基、イミノ基、イソシアネート基、水酸基を有する化合物あるいは水等はヒドロシリル化を阻害し、本発明の効果が相殺される虞があるので、酸素含有溶剤としてこれらのヒドロシリル化を阻害する化合物を選択する場合は注意を要する。
【００１２】
本発明に有効な酸素含有溶剤としては、エーテル系、エステル系、ケトン系等の溶剤が挙げられる。具体例としては、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、クラウンエーテル、アセタール等のエーテル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、シクロヘキサノン、アセトフェノン等のケトン系溶剤、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル、γ‐ブチロラクトン、マロン酸ジエチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル等のエステル系溶剤等が挙げられる。
【００１３】
これらの中ではエーテル系溶剤が特に好ましい。
【００１４】
これらの溶剤の使用量については特に限定はないが、通常上記炭化水素化合物に１００重量部に対し、０．１重量部から３００重量部の範囲で使用することが好ましく、１重量部から１００重量部の範囲がより好ましい。使用量が０．１重量部より少ない場合は、本発明の効果が得られない場合があり、３００重量部より多く使用する場合は得られた目的の反応性ケイ素基含有炭化水素の濃度が低くなり、また反応性ケイ素基含有炭化水素だけを取り出すときに溶剤の除去が困難になる場合がある。
【００１５】
本発明では、酸素含有化合物としてオキシアルキレン系重合体を使用することができる。オキシアルキレン系重合体の主鎖構造としては、−Ｒ1−Ｏ−で示される構造を繰り返し単位とする重合体であればよく、このとき、Ｒ1は炭素数１から２０のアルキレン基であればよい。また、繰り返し単位の全てが同一である単独重合体であっても良く、２つ以上の種類の繰り返し単位を含む共重合体であっても良い。さらに、主鎖中に分岐構造を有していても良い。
【００１６】
Ｒ1の具体例としては、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−、−ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）ＣＨ2−、−Ｃ（ＣＨ3）2ＣＨ2−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−等が挙げられる。Ｒ1としては特に−ＣＨ（ＣＨ3）ＣＨ2−が好ましい。
【００１７】
これらのオキシアルキレン系重合体の使用量については特に限定はないが、通常上記炭化水素化合物に１００重量部に対し、０．１重量部から３０００重量部の範囲で使用することが好ましく、１重量部から２０００重量部の範囲がより好ましい。使用量が０．１重量部より少ない場合は、本発明の効果が得られない場合がある。
【００１８】
本発明では、オキシアルキレン系重合体として、１分子中に少なくとも１つの不飽和基を有するオキシアルキレン系重合体を使用することができる。不飽和基を有するオキシアルキレン系重合体の例としてはアリル基を有するオキシアルキレン系重合体、メタリル基を有するオキシアルキレン系重合体をあげることができるがこれらに限定する必要はない。しかし、これらの不飽和基を有するオキシアルキレン系重合体を使用した場合は、前記の不飽和基を有する炭化水素系化合物と不飽和基を有するオキシアルキレン系重合体のヒドロシリル化反応を同時に実施することが可能となるので反応性ケイ素基含有炭化水素系化合物と分子中に少なくとも１つの反応性ケイ素基を有する有機重合体を含む硬化性組成物を得る方法として効率が良く好ましい。
【００１９】
分子内に不飽和基を有するオキシアルキレン系重合体の合成方法としては、一般的に知られている方法で問題はなく、例えばポリオキシアルキレングリコールの水酸基末端に不飽和基と不飽和基以外の反応性基を有する化合物を反応させてエーテル結合、エステル結合、ウレタン結合、カーボネート結合等の形成により導入させる方法が挙げられる。
【００２０】
例えば、水酸基末端を有するオキシアルキレン系重合体の末端を不飽和基に変換する場合は、水酸基末端を−ＯＮａや−ＯＫなどのオキシメタル基にした後、一般式（１）：
ＣＨ2＝ＣＨ−Ｒ2−Ｘ          一般式（１）
または一般式（２）：
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ3）−Ｒ2−Ｘ      一般式（２）
（式中、Ｒ2は炭素数１から２０の２価の有機基、Ｒ3は炭素数１０以下の炭化水素基、Ｘはハロゲン原子。）で示される不飽和基含有化合物を反応させる方法が挙げられる。
【００２１】
末端水酸基をオキシメタル基にする方法としては、Ｎａ、Ｋのごときアルカリ金属；ＮａＨのごとき金属水素化物；ＮａＯＣＨ3のごとき金属アルコキシド；ＮａＯＨ、ＫＯＨなどのアルカリ水酸化物などと反応させる方法があげられる。
【００２２】
一般式（１）または（２）で示される化合物の具体例としては、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＨ2−Ｃｌ、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＨ2−Ｂｒ、ＣＨ2＝ＣＨ−Ｃ2Ｈ4−Ｃｌ、ＣＨ2＝ＣＨ−Ｃ2Ｈ4−Ｂｒ、ＣＨ2＝ＣＨ−Ｃ3Ｈ6−Ｃｌ、ＣＨ2＝ＣＨ−Ｃ3Ｈ6−Ｂｒ、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＨ2−Ｃｌ、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＨ2−Ｂｒ、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ2ＣＨ3）−ＣＨ2−Ｃｌ、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ2ＣＨ3）−ＣＨ2−Ｂｒ、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）2）−ＣＨ2−Ｃｌ、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ2ＣＨ（ＣＨ3）2）−ＣＨ2−Ｂｒ、等が挙げられ、原料入手性や反応性の点から、ＣＨ2＝ＣＨ−ＣＨ2−Ｃｌ、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＨ2−Ｃｌが好ましい。
【００２３】
（メタ）アリル基の導入方法としては、これ以外にＣＨ2＝ＣＨ−ＣＨ2−基やＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）−ＣＨ2−基等を有するイソシアネート化合物、カルボン酸、エポキシ化合物等を用いて水酸基末端を有するオキシアルキレン系重合体と反応させて得ることができる。
【００２４】
また本発明では、前記オキシアルキレン系重合体として、１分子中に少なくとも１つの反応性ケイ素基を有するオキシアルキレン系重合体が使用できる。このような重合体を用いれば炭化水素系化合物に結合するケイ素基とオキシアルキレン系重合体に結合するケイ素基の種類やシリル化率を任意に変えることができるので好ましい。反応性ケイ素基を有するオキシアルキレン系重合体としては、例えば末端に加水分解性ケイ素基を有するオキシアルキレン系重合体（商品名カネカＭＳポリマー）があげられる。
【００２５】
本発明のヒドロシリル化反応に使用するヒドロシリル基含有化合物を具体的に例示すると、例えば、トリクロルシラン、メチルジクロルシラン、ジメチルクロルシラン、トリメチルシロキシジクロルシラン等のハロゲン化シラン類、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、フェニルジメトキシシラン、１，３，３，５，５，７，７−ヘプタメチル−１,１−ジメトキシテトラシロキサン等のアルコキシシラン類、メチルジアセトキシシラン、トリメチルシロキシメチルアセトキシシラン等のアシロキシシラン類、ビス（ジエチルケトキシメート）トリメチルシロキシシラン等のケトキシメートシラン類、ジメチルシラン、トリメチルシロキシメチルシラン、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、１，３，５−トリメチルシクロトリシロキサン等の分子中にＳｉＨ結合を２個以上有するハイドロシラン類、メチルジ（イソプロペニルオキシ）シラン等のアルケニルオキシシラン類等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【００２６】
これらの化合物のなかでは、得られた反応性ケイ素基含有化合物が空気中の湿気により加水分解し、マイルドに反応する点から、トリメトキシシラン、メチルジメトキシシラン、トリエトキシシラン等のアルコキシシラン類が好ましい。
【００２７】
本発明において、ヒドロシリル化の反応は、例えばVIII族遷移金属触媒等よく知られたヒドロシリル化反応触媒を用いて行うことができる。
【００２８】
VIII族遷移金属触媒としては、白金、ロジウム、コバルト、パラジウム及びニッケル等のVIII族遷移金属元素から選ばれた金属錯体触媒等が有効に使用される。例えば、Ｈ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ2Ｏ、白金−ビニルシロキサン錯体、白金−オレフィン錯体、Ｐｔメタル、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3）3、ＲｈＣｌ3、Ｒｈ／Ａｌ2Ｏ3、ＲｕＣｌ3、ＩｒＣｌ3、ＦｅＣｌ3、ＰｄＣｌ2・２Ｈ2Ｏ、ＮｉＣｌ2等のような化合物が使用できるが、ヒドロシリル化の反応性の点から、Ｈ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ2Ｏ、白金−ビニルシロキサン錯体、白金−オレフィン錯体のいずれかであることが好ましい。特に白金−ビニルシロキサン錯体が、反応誘導期が短いので好ましい。
【００２９】
ヒドロシリル化反応の触媒としては、これら以外にもＡｌＣｌ3、ＴｉＣｌ4等やベンゾイルパーオキサイドなどのラジカル開始剤等も使用することができる。
【００３０】
ヒドロシリル化反応は、重合体が劣化等の好ましくない副反応が起こらない温度であれば、反応速度等の点から好ましい温度を選択すればよいが、通常１０〜１５０℃、好ましくは２０〜１２０℃、さらに好ましくは４０〜１００℃の範囲とするのが好適であり、反応温度の調節、反応系の粘度の調整など必要に応じて、ベンゼン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン、塩化メチレン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の溶剤を用いることができる。
【００３１】
さらにヒドロシリル化反応において前記化合物、重合体、反応溶媒等が酸素により酸化されることを抑制するために、酸化防止剤の存在下でヒドロシリル化反応を行うことができる。
【００３２】
ヒドロシリル化反応によるケイ素基の導入率を測定する方法としては種々の方法が考えられるが、ＮＭＲ測定により反応性ケイ素基の導入された末端と導入されなかった末端の積分値を比較することで正確な値を得ることができる。
【００３３】
前記方法で得られた反応性ケイ素基含有炭化水素化合物あるいは酸素含有化合物との混合物を反応性ケイ素基含有重合体に混合することにより、互いの反応性ケイ素基が反応し架橋構造を取ることで様々な効果を付与することが可能である。例えば、低分子量の反応性ケイ素基含有炭化水素化合物を使用する場合は、混合する側の反応性ケイ素基含有重合体の粘度を低下させ作業性を向上する効果が期待できる。また、反応性可塑剤としての性質を有するのでシーリング剤の可塑剤汚染性を改善する効果が期待できる。また、反応性ケイ素基含有炭化水素化合物あるいは酸素含有化合物との混合物をさらに反応性ケイ素基含有重合体に混合した場合、その組成物の硬化物の表面に埃や塵が付着しにくい効果が期待できる。
【００３４】
本発明の製造方法によって得られるケイ素基含有炭化水素化合物あるいはケイ素基含有炭化水素化合物と酸素含有化合物との混合物は、必要に応じてその他の重合体や充填剤、補強剤、各種添加剤および触媒等を混合することにより、接着剤、塗料、シーリング剤組成物、反応性希釈剤、防水剤、吹き付け剤、型取り用材料、注入型ゴム材料等として有用である。特に作業性のよい低粘度型の接着剤、可塑剤汚染のないシーリング剤組成物、表面に埃や塵が付着しにくいシーリング剤組成物として有用である。
【実施例】
【００３５】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらにより制限を受けるものではない。
【００３６】
（実施例１）
１−オクタデセン１００ｇと末端に反応性ケイ素基を含有するオキシプロピレン系重合体（ＳＡＴ−３５０：鐘淵化学工業（株）製）１００ｇおよびヘキサン４ｇを５００ｍｌの三ツ口フラスコに計量し、真空シール付き攪拌機、三方コックおよび玉栓を取り付けた。これを９０℃に昇温、攪拌し、真空ポンプにより１時間共沸脱水を行った。
【００３７】
その後８０℃にて、白金−１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルジシロキサン錯体（白金換算で３重量％のトルエン溶液）１２．７μｌ滴下し、よく攪拌した。続いてメチルジメトキシシラン４２．２ｇを窒素雰囲気下ゆっくりと滴下し、その後末端の不飽和基が消滅するまで攪拌した。
【００３８】
反応の進行は、1Ｈ−ＮＭＲにより末端不飽和基（４．９ｐｐｍ付近：＝ＣＨ2、５．８ｐｐｍ付近：−ＣＨ＝Ｃ）の減少、消滅および滴下したヒドロシランのヒドロシリル基（Ｓｉ−Ｈ）（４．６ｐｐｍ付近）の減少により確認した。
【００３９】
得られた反応物の1Ｈ−ＮＭＲを測定したところ、初期末端不飽和基含有化合物に対し、上記記載の不飽和基を示すピークおよびヒドロシランを示すピークが十分に消滅しており、末端にメチルジメトキシシリル基を有するオクタデカンが得られた。
【００４０】
（実施例２）
１−オクタデセン１００ｇと末端に反応性ケイ素基を含有するオキシプロピレン系重合体（ＳＡＴ−０１０：鐘淵化学工業（株）製）２５ｇおよびヘキサン２ｇを３００ｍｌの三ツ口フラスコに計量し、真空シール付き攪拌機、三方コックおよび玉栓を取り付けた。これを９０℃に昇温、攪拌し、真空ポンプにより１時間共沸脱水を行った。
【００４１】
その後８０℃にて、白金−１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルジシロキサン錯体（白金換算で３重量％のトルエン溶液）１２．６μｌ滴下し、よく攪拌した。続いてメチルジメトキシシラン４２．２ｇを窒素雰囲気下ゆっくりと滴下し、その後末端の不飽和基が消滅するまで攪拌した。
【００４２】
反応の進行は、1Ｈ−ＮＭＲにより末端不飽和基（４．９ｐｐｍ付近：＝ＣＨ2、５．８ｐｐｍ付近：−ＣＨ＝Ｃ）の減少、消滅および滴下したヒドロシランのヒドロシリル基（Ｓｉ−Ｈ）（４．６ｐｐｍ付近）の減少により確認した。
【００４３】
得られた反応物の1Ｈ−ＮＭＲを測定したところ、初期末端不飽和基含有化合物に対し、上記記載の不飽和基を示すピークおよびヒドロシランを示すピークが十分に消滅しており、末端にメチルジメトキシシリル基を有するオクタデカンが得られた。
【００４４】
（実施例３）
１−オクタデセン１００ｇと末端にアリル基を有する数平均分子量３０００のオキシプロピレン系重合体（ＡＬＰ）２５ｇ（末端不飽和基濃度＝０．７１２ｍｍｏｌ／ｇ）およびヘキサン２ｇを３００ｍｌの三ツ口フラスコに計量し、真空シール付き攪拌機、三方コックおよび玉栓を取り付けた。これを９０℃に昇温、攪拌し、真空ポンプにより１時間共沸脱水を行った。
【００４５】
その後８０℃にて、白金−１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルジシロキサン錯体（白金換算で３重量％のトルエン溶液）１５．８μｌ滴下し、よく攪拌した。続いてメチルジメトキシシラン４４．１ｇを窒素雰囲気下ゆっくりと滴下し、その後末端の不飽和基が消滅するまで攪拌した。
【００４６】
反応の進行は、1Ｈ−ＮＭＲにより末端不飽和基（４．９ｐｐｍ付近：＝ＣＨ2、５．８ｐｐｍ付近：−ＣＨ＝Ｃ）、末端アリル基（５．１ｐｐｍと５．２ｐｐｍ付近：＝ＣＨ2、５．９ｐｐｍ付近：−ＣＨ＝Ｃ）の減少、消滅および滴下したヒドロシランのヒドロシリル基（Ｓｉ−Ｈ）（４．６ｐｐｍ付近）の減少により確認した。
【００４７】
得られた反応物の1Ｈ−ＮＭＲを測定したところ、初期末端不飽和基含有化合物に対し、上記記載の不飽和基を示すピークおよびヒドロシランを示すピークが十分に消滅しており、末端にメチルジメトキシシリル基を有するオクタデカンおよび末端にメチルジメトキシシリル基を有するオキシプロピレン系重合体が同時に得られた。
【００４８】
（実施例４）
１−テトラデセン１００ｇと末端に反応性ケイ素基を含有するオキシプロピレン系重合体（ＳＡＴ−３５０：鐘淵化学工業（株）製）９００ｇおよびヘキサン２０ｇを２０００ｍｌの三ツ口フラスコに計量し、真空シール付き攪拌機、三方コックおよび玉栓を取り付けた。これを９０℃に昇温、攪拌し、真空ポンプにより１時間共沸脱水を行った。
【００４９】
その後８０℃にて、白金−１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルジシロキサン錯体（白金換算で３重量％のトルエン溶液）１２．６μｌ滴下し、よく攪拌した。続いてトリエトキシシラン８３．７ｇを窒素雰囲気下ゆっくりと滴下し、その後末端の不飽和基が消滅するまで攪拌した。
【００５０】
反応の進行は、1Ｈ−ＮＭＲにより末端アリル基（４．９ｐｐｍ付近：＝ＣＨ2、５．８ｐｐｍ付近：−ＣＨ＝Ｃ）の減少、消滅および滴下したヒドロシランのヒドロシリル基（Ｓｉ−Ｈ）（４．６ｐｐｍ付近）の減少により確認した。
【００５１】
得られた反応物の1Ｈ−ＮＭＲを測定したところ、初期末端不飽和基含有化合物に対し、上記記載の不飽和基を示すピークおよびヒドロシランを示すピークが十分に消滅しており、末端にトリエトキシシシリル基を有するテトラデカンが得られた。
【００５２】
（実施例５）
１−オクタデセン１００ｇとジオキサン２０ｇおよびヘキサン４ｇを５００ｍｌの三ツ口フラスコに計量し、真空シール付き攪拌機、三方コックおよび玉栓を取り付け、８０℃にて軽く減圧して共沸脱水した後、白金−１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルジシロキサン錯体（白金換算で３重量％のトルエン溶液）１２．７μｌ滴下し、よく攪拌した。続いてメチルジメトキシシラン４２．２ｇを窒素雰囲気下ゆっくりと滴下し、その後末端の不飽和基が消滅するまで攪拌した。
【００５３】
反応の進行は、1Ｈ−ＮＭＲにより末端不飽和基（４．９ｐｐｍ付近：＝ＣＨ2、５．８ｐｐｍ付近：−ＣＨ＝Ｃ）の減少、消滅および滴下したヒドロシランのヒドロシリル基（Ｓｉ−Ｈ）（４．６ｐｐｍ付近）の減少により確認した。
【００５４】
得られた反応物の1Ｈ−ＮＭＲを測定したところ、初期末端不飽和基含有化合物に対し、上記記載の不飽和基を示すピークおよびヒドロシランを示すピークが十分に消滅しており、末端にメチルジメトキシシリル基を有するオクタデカンが得られた。
【００５５】
（比較例１）
１−オクタデセン１００ｇおよびヘキサン２ｇを３００ｍｌの三ツ口フラスコに計量し、真空シール付き攪拌機、三方コックおよび玉栓を取り付けた。これを９０℃に昇温、攪拌し、真空ポンプにより１時間共沸脱水を行った。
【００５６】
その後８０℃にて、白金−１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルジシロキサン錯体（白金換算で３重量％のトルエン溶液）１２．７μｌ滴下し、よく攪拌した。続いてメチルジメトキシシラン４２．１ｇを窒素雰囲気下ゆっくりと滴下し、その後末端の不飽和基が消滅するまで攪拌した。
【００５７】
反応の進行は、1Ｈ−ＮＭＲにより末端不飽和基（４．９ｐｐｍ付近：＝ＣＨ2、５．８ｐｐｍ付近：−ＣＨ＝Ｃ）の減少、消滅および滴下したヒドロシランのヒドロシリル基（Ｓｉ−Ｈ）（４．６ｐｐｍ付近）の減少により確認した。
【００５８】
反応物の1Ｈ−ＮＭＲを測定したところ、初期末端不飽和基含有化合物に対し、上記記載の不飽和基を示すピークおよびヒドロシランを示すピークが反応後２時間では十分に消滅していなかったため、更に白金−１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルジシロキサン錯体（白金換算で３重量％のトルエン溶液）１２．７μｌを３回、計３８．１μｌを滴下し反応を完結させ、末端にメチルジメトキシシリル基を有するオクタデカンを得た。
【００５９】
（比較例２）
１−テトラデセン１００ｇおよびヘキサン２ｇを３００ｍｌの三ツ口フラスコに計量し、真空シール付き攪拌機、三方コックおよび玉栓を取り付けた。これを９０℃に昇温、攪拌し、真空ポンプにより１時間共沸脱水を行った。
【００６０】
その後８０にて、白金−１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルジシロキサン錯体（白金換算で３重量％のトルエン溶液）１２．７μｌ滴下し、よく攪拌した。続いてトリエトキシシラン８３．７ｇを窒素雰囲気下ゆっくりと滴下し、その後末端の不飽和基が消滅するまで攪拌した。
【００６１】
反応の進行は、1Ｈ−ＮＭＲにより末端不飽和基（４．９ｐｐｍ付近：＝ＣＨ2、５．８ｐｐｍ付近：−ＣＨ＝Ｃ）の減少、消滅および滴下したヒドロシランのヒドロシリル基（Ｓｉ−Ｈ）のピーク（４．６ｐｐｍ付近）の減少により確認した。
【００６２】
反応物の1Ｈ−ＮＭＲを測定したところ、初期末端不飽和基含有化合物に対し、上記記載の不飽和基を示すピークおよびヒドロシランを示すピークが反応後２時間では十分に消滅していなかったため、更に白金−１，１，３，３−テトラメチル−１，３−ジビニルジシロキサン錯体（白金換算で３重量％のトルエン溶液）１２．７μｌを３回、計３８．１μｌを滴下し反応を完結させ、末端にトリエトキシシリル基を有するテトラデカンを得た。
【００６３】
実施例１〜５、比較例１、２の測定結果を表１に示す。
【００６４】
【表１】
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以上の結果より、不飽和基を有する炭化水素系化合物をヒドロシリル化してケイ素基を導入するに当たり、オキシアルキレン系重合体やエーテル系溶剤のような酸素含有化合物存在下で反応を行うことにより、ケイ素基含有炭化水素化合物を容易に得ることが判明した。