(57)【要約】【課題】  蒸着マスク及び有機ＥＬ表示デバイスの製造方法に関し、基板構造を変更することなく、開口部等におけるパターン精度の高い蒸着マスク構造を提供する。【解決手段】  平板部材２の一方の主面側に設けた第１の凹部パターン６と、主面の裏面にあたる第２の主面側に設けた第２の凹部パターン７との重なり部分を貫通開口パターン８とするとともに、貫通開口パターン８の形状を、第１の凹部パターン６及び第２の凹部パターン７のいずれとも異なった形状とする。【選択図】          図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板部材の一方の主面側に設けた第１の凹部パターンと、前記主面の裏面にあたる第２の主面側に設けた第２の凹部パターンとの重なり部分を貫通開口パターンとするとともに、前記貫通開口パターンの形状が、前記第１の凹部パターン及び第２の凹部パターンのいずれとも異なった形状であることを特徴とする蒸着マスク。
【請求項２】
上記平板部材が、少なくとも２種類以上のエッチング特性が異なる材料を積層して構成されていることを特徴とする請求項１記載の蒸着マスク。
【請求項３】
上記第２の主面が被蒸着物を成膜する被成膜面に対向する面であり、且つ、上記第２の凹部パターンの深さが、上記第１の凹部パターンの深さより浅いことを特徴とする請求項１または２に記載の蒸着マスク。
【請求項４】
基板の被成膜面上に複数の画素を構成する電極パターン群を形成したのち、前記電極パターン群を構成する個々の電極に対応する有機発光層を、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の蒸着マスクを用いて成膜することを特徴とする有機ＥＬ表示デバイスの製造方法。
【請求項５】
上記蒸着マスクにおける上記第２の凹部パターンを区分する領域を、上記基板の被成膜面の画素間或いは近接する同色画素間のいずれかにおいて前記被成膜面に対して接触させることを特徴とする請求項４記載の有機ＥＬ表示デバイスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は蒸着マスク及び有機ＥＬ表示デバイスの製造方法に関するものであり、特に、パターン精度の高い開口部を有するとともに、蒸着パターンボケを防止するための構成に特徴ある蒸着マスク及び有機ＥＬ表示デバイスの製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話やモバイルＰＣ等の携帯情報機器端末の表示デバイスにおいて、液晶表示装置に代わる表示デバイスとして有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示デバイスが注目を集めている。
【０００３】
この有機ＥＬ表示デバイスにおいては、画素自身がエレクトロルミネッセンス現象を利用した自己発光方式の表示デバイスであるため、透過型液晶表示装置においては必須であったバックライトが不要であるとともに、偏光を利用していないため液晶表示装置に比べて広視野角特性を有するという特長がある。
【０００４】
また、液晶表示装置におけるカラー表示がカラーフィルタを用いる方式であるのに対して、有機ＥＬ表示デバイスにおいては、発光波長の異なる有機材料を用いてＲ，Ｇ，Ｂを自己発光で表示する方式であるためカラーフィルタが不要となり、優れた色再現性を有するという特長がある。
【０００５】
この様な有機ＥＬ表示デバイスにおける表示部、特に、低分子型の有機ＥＬ素子は真空蒸着法によって形成されており、フルカラー表示可能なディスプレイとするには、多数の画素からなる画面領域において、各画素の発光層をＲＧＢ色毎に塗り分けしている。
【０００６】
具体的には、蒸着源と被成膜面の間にメタルマスクを配置し、所定の画素に対応したメタルマスクの開口を蒸着ガスが通過して被成膜面に有機ＥＬ膜からなる発光層が成膜されることになる。
【０００７】
この場合、メタルマスクを被成膜面に接触させることによって成膜形状の寸法精度を確保しており、この様な工程をＲＧＢ色毎に繰り返して行うことによって所望の発光画素を形成している（例えば、特許文献１参照）。
【０００８】
この時、基板上の被成膜面はメタルマスクとの接触を繰り返すこととなり、前の工程の成膜面上に次の工程で用いるメタルマスクが接触し、前の工程で成膜した有機ＥＬ膜を引っ掻いたり或いは剥離したりする損傷を生じてしまうことになる。
【０００９】
この様な問題を解決するために、被成膜面側、即ち、基板側に突起構造等を設けてメタルマスクと被成膜面が接触しないようにした基板構造が提案されている（例えば、特許文献２乃至４参照）。
【００１０】
或いは、メタルマスクのマスク開口部の端部に、メタルマスクと被蒸着部材の間に一定の間隔を保持できる柱状の突起を少なくとも複数設けることで被成膜面と接触しないようにしたマスク構造が提案されている（例えば、特許文献５参照）。
【特許文献１】特開２００１−１８５３５０号公報
【特許文献２】特開平０８−３１５９８１号公報
【特許文献３】特開平１１−１６７９８７号公報
【特許文献４】特開２００３−０５９６７１号公報
【特許文献５】特開２００３−１２３９６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかし、上述の特許文献２乃至４等の被成膜面に突起構造等を設ける基板構造の場合には、基板上に突起構造を形成するための工程を必要とし、基板の製造単価が高くなるという問題がある。
【００１２】
一方、上述の特許文献５におけるマスク側に突起構造を設ける基板構造の場合には、基板構造を変える必要はないものの、ＲＧＢ色の各色画素が一列に並ぶマトリックス画素構成においては、マスクの開口パターンを単純にストライプ状にすると撓み・歪み等によりマスクの形状保持が困難で各色の塗り分けができないという問題がある。
【００１３】
また、マスクの開口を画素毎に区切ったグリッド状にすると、エッチング製法では開口の角部がＲ形状となり、その面積分だけ画素の発光領域が縮小され開口率を下げてしまうという問題がある。
【００１４】
したがって、本発明は、基板構造を変更することなく、開口部等におけるパターン精度の高い蒸着マスク構造を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
図１は本発明の原理的構成図であり、ここで図１を参照して、本発明における課題を解決するための手段を説明する。
図１参照
上記課題を解決するために、本発明は、蒸着マスク１において、平板部材２の一方の主面側に設けた第１の凹部パターン６と、主面の裏面にあたる第２の主面側に設けた第２の凹部パターン７との重なり部分を貫通開口パターン８とするとともに、貫通開口パターン８の形状が、第１の凹部パターン６及び第２の凹部パターン７のいずれとも異なった形状であることを特徴とする。
【００１６】
この様に、第１の凹部パターン６と第２の凹部パターン７との重なり部分を貫通開口パターン８とすることによって、開口の角部がＲ形状とならない矩形状からなるパターン精度の高い蒸着マスク１を実現することができるとともに、画素面積を最大に確保することができる。
【００１７】
特に、第１の凹部パターン６及び第２の凹部パターン７の少なくとも一方が、ストライプ状パターンとすることによって、画素形成に適した矩形状の貫通開口パターン８を構成することができる。
【００１８】
また、平板部材２を、少なくとも２種類以上のエッチング特性が異なる材料を積層して構成することが望ましく、それによって、第１の凹部パターン６及び第２の凹部パターン７を精度良く形成することができる。
【００１９】
特に、平板部材２を、第１の凹部パターン６を設ける第１の平板３と第２の凹部パターン７を設ける第２の平板４と、第１の平板３及び第２の平板４の間に設けられるとともに、第１の平板３及び第２の平板４のいずれともエッチング特性の異なる第３の平板５から構成することが望ましく、それによって、第３の平板５をエッチングストッパーとすることによって、第１の凹部パターン６及び第２の凹部パターン７の深さをエッチング時間に依存することなく、第１の平板３及び第２の平板４の厚さで規定することができる。
【００２０】
また、第２の主面を被蒸着物を成膜する被成膜面１０に対向する面とする場合には、第２の凹部パターン７の深さを、第１の凹部パターン６の深さより浅くすることが望ましく、それによって、堆積させる有機発光層の成膜寸法の精度を高めることができる。
【００２１】
上記の蒸着マスク１を用いて複数の画素を構成する電極パターン群に対して個々の電極に対応する有機発光層を蒸着することにより、開口率が高く且つパターン精度の高い有機ＥＬ表示デバイスを構成することができる。
【００２２】
この場合、蒸着マスク１における第２の凹部パターン７を区分する領域を、基板９の被成膜面１０の画素間或いは近接する同色画素間のいずれかにおいて被成膜面１０に対して接触させることが望ましく、それによって、各発光色の成膜毎に蒸着マスク１の接触を繰り返しても、成膜済みの画素上に蒸着マスク１が接触することがない。
【発明の効果】
【００２３】
本発明においては、蒸着マスクのパターン精度を確保しつつ、基板成膜面の各画素を構成する発光層上に蒸着マスクを直接接触させない構成を実現でき、有機ＥＬ成膜工程中における蒸着マスク接触による素子損傷を防止することができる。
【００２４】
また、このとき必要とする構造物は蒸着マスク側に構成するため、基板側には余分な製造コストが掛からず安価であり、また、ＲＧＢ色発光層用の蒸着マスクの蒸着用開口部は画素毎に独立した孔で構成されるため、蒸着マスクの剛性が高まり、取り扱いが容易になる。
【００２５】
特に、従来、ＲＧＢ色発光層用の蒸着マスクを同色の画素列毎に開口させたストライプ形状では、パターンの形状維持のため蒸着マスク周囲にテンションを加えて溶接固定していたが、このテンション溶接固定の必要がなく、安価に製作することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
本発明は、ＲＧＢ色塗り分けに用いる蒸着マスクを、中間にエッチングストッパーとなるエッチング特性の異なる材料層を挟持した３層構造のマスク材料を表裏面各々にストライプ状の開口パターンを形成し、これらのパターンの互いの開口が重なる部分を蒸着ガスが通過する貫通開口パターンとしたものである。
【００２７】
また、有機ＥＬ表示デバイスの製造方法としては、発光層蒸着工程において、被成膜面と接触する蒸着マスク面のストライプパターンをＲＧＢ色の並び方向に一致させ、開口パターン間に存在するストライプを画素間に接触させるものである。
【実施例１】
【００２８】
ここで、図２及び図３を参照して、本発明の実施例１の蒸着マスクを説明する。
図２参照  
まず、厚さが、例えば、４０μｍの４２アロイ（４２Ｎｉ−Ｆｅ）層１１上に、厚さが、例えば、１μｍのＴｉ層１２及び厚さが、例えば、１０μｍの４２アロイ層１３を順次積層してメタル材を用意する。
【００２９】
次いで、表裏全面にレジスト１４を塗布したのち、４２アロイ層１１に画素の列方向の開口パターンに対応するストライプ状の溝を形成するために幅が、例えば、１００μｍの開口部１５をピッチ３６０μｍで複数形成し、次いで、開口部１５を形成したレジスト１４をマスクとして、塩化第二鉄溶液（液温５０℃、４７ボーメ〔ボーメ比重〕）を用いてエッチングを施すことによって、ストライプ状溝１６を形成する。
【００３０】
この時、蒸着マスク用平板部材におけるＴｉ層１２がエッチングストッパーとして機能するため、Ｔｉ層１２が露出するまでエッチングすることによって、ストライプ状溝１６の深さは、４２アロイ層１１の厚さと同じ４０μｍとなり、Ｔｉ層１２側の幅は１００μｍ程度、レジスト１４側の幅は１８０μｍ程度となる。
【００３１】
次いで、レジスト１４を除去したのち、新たなレジスト１７を表裏全面に塗布し、露光・現像することによって、４２アロイ層１３に画素の行方向の開口パターンに対応するストライプ状の溝を形成するために幅が、例えば、３００μｍの開口部１８をピッチ３６０μｍで複数形成し、次いで、開口部１８を形成したレジスト１７をマスクとして、塩化第二鉄溶液（液温５０℃、４７ボーメ〔ボーメ比重〕）を用いてＴｉ層１２が露出するまでエッチングすることによって、ストライプ状溝１９を形成する。
【００３２】
次いで、レジスト１７を除去したのち、フッ酸溶液に浸漬することによって、露出しているＴｉ層１２をエッチング除去することによって、ストライプ状溝１６とストライプ状溝１９との交差部に貫通した蒸着用開口部２０が形成されて、Ｒ色発光層用の蒸着マスク２２が完成する。
【００３３】
図３参照  
図３は完成した本発明の実施例１の蒸着マスクの構成説明図であり、被成膜面側の４２アロイ層１３のストライプ状溝１９との間には凸部２１が残ることになり、この凸部２１が後述する発光層の形成工程において被成膜基板側に接触した状態で蒸着することになる。
この様な蒸着マスクにおける蒸着用開口部をＲ色用の蒸着用開口部２０に対して、例えば、１２０μｍ、２４０μｍずらすことによって、Ｇ色発光層用の蒸着マスク，Ｂ色発光層用の蒸着マスクとなる。
【００３４】
この本発明の実施例１の蒸着マスクにおいては、３層構造の積層メタル材を用いて中間のＴｉ層１２をエッチングストッパーとしているので、エッチング時間を高精度に制御することなく精度の高い深さの溝を形成することができ、また、互いに直交するストライプ溝１６，１９の交差部を蒸着用開口部２０としているので、蒸着用開口部２０の角部がＲ形状となることがなく、従来のグリッド状マスクよりも開口率を大きくすることができる。
【実施例２】
【００３５】
次に、図４乃至図７を参照して、本発明の実施例２の有機ＥＬ表示デバイスの製造工程を説明する。
図４参照  
まず、厚さが、例えば、０．７ｍｍのガラス基板３１上に、厚さが、例えば、１５０ｎｍのＩＴＯ膜を成膜したのち、通常のフォトエッチング工程によって、幅が、例えば、８０μｍでピッチが１２０μｍの陽極３２を形成する。
この場合のガラス基板３１としては、蒸着マスクに用いる４２アロイにより熱膨張係数の近い無アルカリガラスが望ましい。
【００３６】
次いで、ガラス基板３１の被成膜面に正孔層用蒸着マスク３３を位置合わせするとともに、ガラス基板３１の裏面側からマスク吸着用マグネット３４によって吸着して、正孔層用蒸着マスク３３をガラス基板３１の成膜面に密着させたのち、真空蒸着装置を用いて１０-5〜１０-6Ｐａにおいて厚さが、例えば、１００ｎｍのα−ＮＰＤ（ジフェニルナフチルジアミン）からなる正孔輸送層３５を蒸着する。
なお、正孔輸送層３５は表示面全面に均一に形成する。
【００３７】
次いで、正孔層用蒸着マスク３３を取り外したのち、例えば、Ｒ色用の第１の蒸着マスク２２をその凸部２１が正孔輸送層３５の表面に当接するようにマスク吸着用マグネット３４で密着させたのち、真空蒸着装置を用いて１０-5〜１０-6Ｐａにおいて、厚さが、例えば、５０ｎｍのＲ色発光層３６を形成する。
なお、Ｒ色発光層３６は、例えば、ホストにアルミニウムキノリン錯体（Ａｌｑ３）、ゲストにＤＣＪＴＢ（４−ｄｉｃｙａｎｏｍｅｔｈｙｌｅｎｅ−６−ｃｐ−−ｊｕｌｏｌｉｄｉｎｏｓｔｙｒｙｌ−２−ｔｅｒｔ−ｂｕｔｙｌ−４Ｈ−ｐｙｒａｎ）１％を用いる。
【００３８】
図５参照  
次いで、蒸着マスク２２を取り外したのち、Ｇ色用の第２の蒸着マスク２３をその凸部２４が正孔輸送層３５の表面に当接するようにマスク吸着用マグネット３４で密着させたのち、真空蒸着装置を用いて１０-5〜１０-6Ｐａにおいて、厚さが、例えば、５０ｎｍのＧ色発光層３７をＲ色発光層３６から１２０μｍずれた位置に形成する。
なお、Ｇ色発光層３７は、例えば、ホストにアルミニウムキノリン錯体（Ａｌｑ３）、ゲストにジメチルキナクドリン１％を用いる。
【００３９】
次いで、蒸着マスク２３を取り外したのち、Ｂ色用の第３の蒸着マスク２５をその凸部２６が正孔輸送層３５の表面に当接するようにマスク吸着用マグネット３４で密着させたのち、真空蒸着装置を用いて１０-5〜１０-6Ｐａにおいて、厚さが、例えば、５０ｎｍのＢ色発光層３８をＧ色発光層３７から１２０μｍずれた位置に形成する。
なお、Ｂ色発光層３８は、例えば、ホストに４，４’−ビス（９−カルバゾリル）−ビフェニル（ＣＢＰ）、ゲストに１，３，６，８−テトラフェニルピレン１０％を用いる。
【００４０】
図６参照  
図６は、各発光層の蒸着状態を示す分解斜視図であり、ＲＧＢ色発光層の成膜において上に示したように、ガラス基板３１の成膜面に対して発光層用の蒸着マスク２２を配置し、ガラス基板３１の裏面からマスク吸着用マグネット３４によって蒸着マスク２２をガラス基板３１の成膜面に吸着させ、蒸着マスク２２の下方の蒸着源５０から発光色に応じたの蒸着ガス５１を生成し、蒸着マスク２２に設けた蒸着用開口部２０を通過してガラス基板３１上にＲＧＢ色発光層が順次成膜される。
【００４１】
この場合、深さの浅いストライプ状溝１９を形成した側を基板との接触面側として蒸着マスク２２，２３，２５の開口部をより基板成膜面に近接させているので、蒸着パターンボケを抑制することができる。
【００４２】
また、蒸着マスク２２，２３，２５とガラス基板３１との接触部を、蒸着マスク２２，２３，２５の薄い４２アロイ層１３側に残存した凸部２１，２４，２６とし、これら凸部２１，２４，２６の位置を同色画素間とすることで蒸着用開口部２０の外周部が各発光層に直接接触することがなくなり、既に成膜している発光層が損傷することがない。
【００４３】
図７参照  
次いで、蒸着マスク２５を取り外したのち、陰極用蒸着マスク３９を各発光層に当接するように２５をマスク吸着用マグネット３４で密着させたのち、１０-5〜１０-6Ｐａにおいて厚さが、例えば、１００ｎｍのＡｌ−Ｌｉ合金を真空蒸着することによって、陽極３２と直交する方向に伸びるストライプ状の陰極４０を形成する。
【００４４】
次いで、陰極用蒸着マスク３９を取り外したのち、大気圧のＮ2 雰囲気下において、紫外線硬化型接着剤４１を用いてガラスからなる封止板４２を接着することによってガラス基板３１上に成膜した有機ＥＬ膜を外気（水分、酸素）等から保護し、素子劣化を抑制する。
この時、画素を発光させるための陽極３２および陰極４０の配線端子は封止板４２の外に位置する構成とする。
【００４５】
以上の構成において、陽極３２と陰極４０の配線端子を駆動回路に接続し、順次走査駆動方式（パッシブマトリクス駆動）によって画面内の複数ＲＧＢ色画素の発光を制御して画像表示を得る。
詳しくは、陽極側をデータ線、陰極側をスキャン線として、互いに交差する画素において陽極から陰極への正方向に電圧が印加されたとき発光する。
【実施例３】
【００４６】
次に、図８及び図９を参照して、本発明の実施例３の蒸着マスクを説明するが、製造工程自体は上記の実施例１の蒸着マスクと全く同様であるので構成のみを説明する。
図８参照  
図８は本発明の実施例３の蒸着マスクの構成説明図であり、貫通した蒸着用開口部５３を、行毎に１色画素ピッチ分だけずらしたものである。
【００４７】
図９参照  
図９は、各発光層の蒸着状態を示す分解斜視図であり、ＲＧＢ色発光層の成膜において、ガラス基板３１の成膜面に対して発光層用の蒸着マスク５２を配置し、ガラス基板３１の裏面からマスク吸着用マグネット３４によって蒸着マスク５２をガラス基板３１の成膜面に吸着させ、蒸着マスク５２の下方の蒸着源５０から発光色に応じたの蒸着ガス５１を生成し、蒸着マスク５２に設けた蒸着用開口部５３を通過してガラス基板３１上に成膜する。
この場合、結果としてのＲＧＢ色発光画素は図に示すようにデルタ配列で構成したフルカラー表示デバイスとなる。
【００４８】
以上、本発明の各実施例を説明してきたが、本発明は各実施例に記載した条件・構成に限られるものではなく、各種の変更が可能であり、例えば、各実施例に記載した幅、長さ、深さ、厚さ等の数値は記載した数値に限られるものではない。
【００４９】
また、上記の各実施例においては、蒸着マスクを３層構造の積層メタル材によって形成し、表裏の４２アロイを別工程でエッチングしているが、中間にエッチングストッパーとなるＴｉ層を設けているので、レジストの表裏に開口部パターンを形成し、同時にエッチングしても良いものである。
【００５０】
また、上記の各実施例においては、蒸着マスクの表裏を同じ４２アロイとしているが、このような構成に限られるものではなく、互いにエッチング特性の異なる磁性材料で構成しても良いものである。
なお、この場合には、エッチングストッパーとなるＴｉ等の中間層は必ずしも必要ではない。
【００５１】
また、上記の各実施例においては、蒸着マスクを３層構造の積層メタル材によって形成しているが、積層メタル材に限られるものではなく、単一のメタル材を用いても良いものである。
【００５２】
例えば、単一のメタル材に対して両面から所望のパターンをエッチングで形成し、両面のエッチングパターンが重なる部分を貫通孔とすれば良く、この場合、単一メタル材に対して、片面ずつエッチングを施し、エッチング深さをエッチングレートとエッチング時間の制御によって調整して貫通孔を形成すれば良い。
なお、単一のメタル材を用いた場合にも、表裏両面から同時にエッチングを施して貫通孔を形成しても良い。
【００５３】
また、上記の各実施例においては蒸着マスクの主要部を４２アロイで構成しているが、他の組成のアロイでも良く、さらには、他の磁性金属材料を用いても良いものである。
【００５４】
また、上記の各実施例においてはマグネットを用いて蒸着マスクを密着させているため、蒸着マスクの主要部を磁性材料で構成しているが、蒸着マスクを機械的バインディング手段等の磁気手段以外の手段で密着させる場合には、磁性材料である必要はなく、非磁性金属、或いは、セラミックス等の非金属材料で構成しても良いものである。
【００５５】
また、上記の実施例２においては、封止板をガラスで構成しているが、ガラスに限られるものではなく、金属製封止板でも良いし、さらには、プラスチック製封止板を用いても良い。
【００５６】
また、上記の実施例２においては、封止板の接着時に接着硬化に伴う素子劣化を防止するために紫外線硬化型接着剤を用いているが、必ずしも紫外線硬化型接着剤に限られるものではなく、通常の熱硬化型接着剤を用いても良いものである。
【００５７】
また、上記の実施例の蒸着マスクにおいては、有機ＥＬ層の蒸着用を前提として説明しているが、有機ＥＬ層蒸着用に限られるものではなく、各種の矩形状パターンを密接して蒸着する場合に摘要されるものであり、例えば、液晶表示装置のカラーフィルタを蒸着で形成する場合にも摘要されるものである。
【００５８】
また、本発明の実施例においては、ＲＧＢの３つの発光層を交互に成膜してフルカラー表示としているが、フルカラー表示に限られるものではなく、２色の発光層によるカラー表示装置を構成する場合にも適用されるものである。
【００５９】
また、上記の実施例２に示した正孔輸送層、発光材料、及び、電極材料は単なる一例にすぎず、有機ＥＬ表示デバイスにおいて公知の各種の正孔輸送層、発光材料、及び、電極材料を用いても良いことは言うまでもない。
【００６０】
ここで再び図１を参照して、本発明の詳細な特徴を改めて説明する。
再び、図１参照  
（付記１）  平板部材２の一方の主面側に設けた第１の凹部パターン６と、前記主面の裏面にあたる第２の主面側に設けた第２の凹部パターン７との重なり部分を貫通開口パターン８とするとともに、前記貫通開口パターン８の形状が、前記第１の凹部パターン６及び第２の凹部パターン７のいずれとも異なった形状であることを特徴とする蒸着マスク。  （付記２）  上記第１の凹部パターン６及び第２の凹部パターン７の少なくとも一方が、ストライプ状パターンであることを特徴とする付記１記載の蒸着マスク。
（付記３）  上記平板部材２が、少なくとも２種類以上のエッチング特性が異なる材料を積層して構成されていることを特徴とする付記１または２に記載の蒸着マスク。
（付記４）  上記平板部材２が、上記第１の凹部パターン６を設ける第１の平板３と上記第２の凹部パターン７を設ける第２の平板４と、前記第１の平板３及び第２の平板４の間に設けられるとともに、前記第１の平板３及び第２の平板４のいずれともエッチング特性の異なる第３の平板５から構成されることを特徴とする付記３記載の蒸着マスク。
（付記５）  上記第２の主面が被蒸着物を成膜する被成膜面１０に対向する面であり、且つ、上記第２の凹部パターン７の深さが、上記第１の凹部パターン６の深さより浅いことを特徴とする付記１乃至４のいずれか１に記載の蒸着マスク。
（付記６）  基板９の被成膜面１０上に複数の画素を構成する電極パターン群を形成したのち、前記電極パターン群を構成する個々の電極に対応する有機発光層を、付記１乃至５のいずれか１に記載の蒸着マスク１を用いて成膜することを特徴とする有機ＥＬ表示デバイスの製造方法。
（付記７）  上記蒸着マスク１における上記第２の凹部パターン７を区分する領域を、上記基板９の被成膜面１０の画素間或いは近接する同色画素間のいずれかにおいて前記被成膜面１０に対して接触させることを特徴とする付記６記載の有機ＥＬ表示デバイスの製造方法。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明の活用例としては、有機ＥＬ表示デバイス用が典型的なものであるが、有機ＥＬ表示デバイス用に限られるものではなく、各種の矩形蒸着パターンの形成工程に摘要されるものである。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明の原理的構成の説明図である。
【図２】本発明の実施例１の蒸着マスクの製造工程の説明図である。
【図３】本発明の実施例１の蒸着マスクの構成説明図である。
【図４】本発明の実施例２の有機ＥＬ表示デバイスの途中までの製造工程の説明図である。
【図５】本発明の実施例２の有機ＥＬ表示デバイスの図４以降の途中までの製造工程の説明図である。
【図６】本発明の実施例２における各発光層の蒸着状態を示す分解斜視図である。
【図７】本発明の実施例２の有機ＥＬ表示デバイスの図６以降の製造工程の説明図である。
【図８】本発明の実施例３の蒸着マスクの構成説明図である。
【図９】本発明の実施例３における各発光層の蒸着状態を示す分解斜視図である。
【符号の説明】
【００６３】
１  蒸着マスク
２  平板部材
３  第１の平板
４  第２の平板
５  第３の平板
６  第１の凹部パターン
７  第２の凹部パターン
８  貫通開口パターン
９  基板
１０  被成膜面
１１  ４２アロイ層
１２  Ｔｉ層
１３  ４２アロイ層
１４  レジスト
１５  開口部
１６  ストライプ状溝
１７  レジスト
１８  開口部
１９  ストライプ状溝
２０  蒸着用開口部
２１  凸部
２２  蒸着マスク
２３  蒸着マスク
２４  凸部
２５  蒸着マスク
２６  凸部
３１  ガラス基板
３２  陽極
３３  正孔層用蒸着マスク
３４  マスク吸着用マグネット
３５  正孔輸送層
３６  Ｒ色発光層
３７  Ｇ色発光層
３８  Ｂ色発光層
３９  陰極用蒸着マスク
４０  陰極
４１  紫外線硬化型接着剤
４２  封止板
５０  蒸着源
５１  蒸着ガス
５２  蒸着マスク
５３  蒸着用開口部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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