(57)【要約】【課題】  高度の真空中で使用するような場合においても発塵の問題が小さい超音波アクチュエータを提供する。【解決手段】  チャンバ２５は中央にくぼみ部分を有する直方体形状をしており、可動子２３との間にわずかな隙間を有する。圧子２２と可動子２３との擦れにより発生したパーティクルは、給気口２６から噴出する気体により搬送されて排気口２７に吸収され、排気用の配管を通して系外に排出される。又、排出しきれなかったパーティクルが、チャンバ２５と可動子２３の隙間を通ってチャンバ２５の外部に出ようとしても、溝２９に吸収されている気体と共に溝２９内に吸収され、排気孔３０を通り、排気孔３０に接続されている配管を通って系外に排出される。よって、チャンバ２５の外側に出るパーティクルがほとんど無くなる。【選択図】  図１
2005216983.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
固定子を収納するチャンバを有する超音波アクチュエータであって、前記チャンバは、可動子との間に空隙を有すると共に、その内部に給気口と排気口を有し、かつ、前記チャンバが前記可動子と対面する面には、前記チャンバが前記可動子との間に存在する気体を吸引して排気する吸引排気口が設けられていることを特徴とする超音波アクチュエータ。
【請求項２】
固定子を収納するチャンバを有する超音波アクチュエータであって、前記チャンバは、可動子との間に空隙を有すると共に、その内部にダストを溜め込む機能を有する溜め込み式ポンプ、又は低熱パネルが設けられ、前記チャンバが前記可動子と対面する面には、前記チャンバが前記可動子との間に存在する気体を吸引して排気する吸引排気口が設けられていることを特徴とする超音波アクチュエータ。
【請求項３】
ＥＵＶ光を、円弧状の開口を有する固定ブラインドを介してレチクル面に照射し、当該レチクルに形成されたパターンを投影光学系によりウエハに露光転写するＥＵＶ露光装置であって、レチクルの露光領域を決定するための可動ブラインドを有し、かつ、当該可動ブラインドの開口の大きさが、遮蔽板の位置を変えることにより可変とされているものにおいて、前記遮蔽板の位置を変更するためのアクチュエータとして、請求項１又は請求項２に記載の超音波アクチュエータを使用していることを特徴とするＥＵＶ露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、発塵を防止した超音波アクチュエータ、及びそれを使用したＥＵＶ露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイス等の微細パターンを形成するための、いわゆるリソグラフィ技術においては、現在光露光装置が主流である。光露光装置の中でもスキャン方式のものは、パターン原版（レチクル）を載置するレチクルステージと、パターンが転写される感応基板（ウエハ）を載置するウェハステージとを同期走査しながら、パターンをウエハ上に投影転写（いわゆるスキャン露光）する。このスキャン露光装置では、ウェハステージを移動させて転写すべき露光領域を投影光学系の光軸上に位置決めするステップ動作と、レチクルステージとウェハステージを同期移動させながら走査露光するスキャン動作を繰り返す。
【０００３】
光露光においては、露光光が透過するタイプの透過型レチクルが広く用いられる。照明光学系において、露光光は、ブラインド（成形開口板）内側の開口を通過して整形された後、レチクル上に照射される。そして、露光光は、ほとんど強度損失することなくレチクルを透過し、投影光学系を経てウエハに導かれる。光露光では、露光光はほとんど強度損失することはないので、照明光学系中に相当多数のレンズを配置し得る。そして、照明光学系中にレチクル面と共役な面を設け、その面に露光光束を整形するブラインドを設けることができるので、ブラインドはレチクルステージよりも相当遠方に配置することができる。
【０００４】
なお、スキャン露光に用いる露光光束の整形のためのブラインドの他に、レチクル上の露光領域を制限するためのブラインド（視野絞り）も必要となるが、そのようなブラインドも前記の共役面の近傍に配置することができる。
【０００５】
ところで、近年のデバイスパターンの微細化に伴い、光の回折限界によって制限される投影光学系の解像力をさらに向上させることが望まれている。そこで、軟Ｘ線又はＥＵＶ光（Extreme Ultra Violet光：極端紫外光）と呼ばれる数ｎｍ〜数１０ｎｍの波長のＸ線が注目されており、具体的には１３ｎｍ程度の波長を有するＥＵＶ光を使用したリソグラフィ技術の開発が進められている。この技術は、光露光の延長上にある波長１９０ｎｍ程度の紫外線を用いた光リソグラフィでは実現不可能な、７０ｎｍ以下の解像力を得られる技術として期待されている。ＥＵＶ光露光装置では、レチクルとウエハとを投影光学系に対して相対走査する走査露光方法が採用されることが想定されている。
【０００６】
ＥＵＶ光領域においては、光が透過する有力な物質は存在せず、透過・屈折型の光学系を構成することはできない。そこで、反射型の光学系を用いることとなるが、レチクルも反射型レチクルが用いられる。照明光学系から照射された露光光束は、反射型レチクルに斜めから入射して反射面で反射し、投影光学系を経てウエハに導かれる。ところが、ＥＵＶ光露光で用いられる反射ミラーは、現状では反射率が約７０％と低いため、ミラー枚数が増えると露光光の幾何級数的な強度低下が生じる。したがって、照明光学系中の反射ミラーの枚数は、できる限り少なくしたい。そのため、照明光学系中にレチクル面との共役な面を置く余裕はなく、露光光束を整形するブラインドをレチクルステージの近傍に配置せざるを得ない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本出願人は、前述のような要請に応えるべく、シンプルで実用的なプロキシミティブラインドを有する露光装置の発明を行い、特願２００３−１５２６７１号として特許出願している（先願発明と称する）。これは、原版（レチクル）上に形成したパターンを感応基板（ウエハ）に転写する露光装置であって、前記原版の露光領域を制限する、当該原版の近傍に配置された可動ブラインドを備え、当該可動ブラインドが、協動して矩形の開口を形成する一対のＬ字型のブラインド板と、前記開口の寸法及び／又は位置を変えるために、前記各ブラインド板をそれぞれ独立に駆動するブラインド板駆動手段とを有することを特徴とするものである。
【０００８】
以下、この先願発明の実施の形態を説明する。図３は、ＥＵＶＬ露光装置の一例（４枚投影系）の概略構成を示す図である。図３に示すＥＵＶＬ露光装置は、光源を含む照明系ＩＬを備えている。照明系ＩＬから放射されたＥＵＶ光（一般に波長５〜２０ｎｍが用いられ、具体的には１３ｎｍや１１ｎｍの波長が用いられる）は、折り返しミラー１で反射してレチクル２に照射される。
【０００９】
レチクル２は、レチクルステージ３に保持されている。このレチクルステージ３は、走査方向（Ｙ軸）に１００ｍｍ以上のストロークを持ち、レチクル面内の走査方向と直交する方向（Ｘ軸）に微小ストロークを持ち、光軸方向（Ｚ軸）にも微小ストロークを持っている。ＸＹ方向の位置は図示せぬレーザ干渉計によって高精度にモニタされ、Ｚ方向はレチクルフォーカス送光系４とレチクルフォーカス受光系５からなるレチクルフォーカスセンサでモニタされている。
【００１０】
レチクル２で反射したＥＵＶ光は、図中下側の光学鏡筒１４内に入射する。このＥＵＶ光は、レチクル２に描かれた回路パターンの情報を含んでいる。レチクル２にはＥＵＶ光を反射する多層膜（例えばＭｏ／ＳｉやＭｏ／Ｂｅ）が形成されており、この多層膜の上に吸収層（例えばＮｉやＡｌ）の有無でパターニングされている。
【００１１】
光学鏡筒１４内に入射したＥＵＶ光は、第一ミラー６で反射した後、第二ミラー７、第三ミラー８、第四ミラー９と順次反射し、最終的にはウエハ１０に対して垂直に入射する。投影系の縮小倍率は、例えば１／４や１／５である。この図では、ミラーは４枚であるが、Ｎ．Ａ．をより大きくするためには、ミラーを６枚あるいは８枚にすると効果的である。鏡筒１４の近傍には、アライメント用のオフアクシス顕微鏡１５が配置されている。
【００１２】
ウエハ１０は、ウェハステージ１１上に載せられている。ウェハステージ１１は、光軸と直交する面内（ＸＹ平面）を自由に移動することができ、ストロークは例えば３００〜４００ｍｍである。同ウェハステージ１１は、光軸方向（Ｚ軸）にも微小ストロークの上下が可能で、Ｚ方向の位置はウェハオートフォーカス送光系１２とウェハオートフォーカス受光系１３からなるウェハフォーカスセンサでモニタされている。ウェハステージ１１のＸＹ方向の位置は図示せぬレーザ干渉計によって高精度にモニタされている。露光動作において、レチクルステージ３とウェハステージ１１は、投影系の縮小倍率と同じ速度比、すなわち、４：１あるいは５：１で同期走査する。
【００１３】
次に、可動ブラインド装置について説明する。可動ブラインド装置は、前述した図３のレチクルステージ３の下側に配置されており、Ｌ字型ブラインド板１６０、１６１（図５等参照）を駆動させてレチクル２の露光領域を制限する装置である。なお、可動ブラインドの近くに、照明光束の外形を成形する固定ブラインドも設けられているが、その図示は省略する。
【００１４】
まず、図４を参照しつつ、露光装置内における可動ブラインド装置１００の位置関係について説明する。
【００１５】
図４に模式的に示すように、可動ブラインド装置１００は、図３に示す露光装置のボディＢＤ（支持構造体）に支持されたベース１０１上に設けられている。可動ブラインド装置１００の上方には、前述のレチクルステージ３が配置されている。レチクルステージ３は、ボディＢＤ上にエアマウント（振動絶縁手段）９０を介して搭載されている。このエアマウント９０により、レチクルステージ３の移動に伴って生じる振動がボディＢＤに伝わらず、したがって可動ブラインド装置１００が安定して支持されるようになっている。
【００１６】
次に、可動ブラインド装置１００について詳細に説明する。図５に示すように、可動ブラインド装置１００は、円盤状のベース１０１を備えている。このベース１０１は、外周の４箇所の張出部（大張出部１０１ａ・１０１ｂ、小張出部１０１ｃ・１０１ｄ）を有している。ベース１０１の中央には、露光光束を通過させる円形開口１０２が形成されている。なお、図示は省略されているが、ベース１０１上には、Ｌ字型ブラインド板１６０、１６１の位置・姿勢を検出するセンサが載置されている。
【００１７】
図５、図６等に示すように、ベース１０１上面には、Ｙ方向に沿って互いに平行に延びる２本のガイド軸１１１、１１３が取り付けられている。これらのガイド軸１１１、１１３は、ベース１０１の中心を通るベース中心ラインＣを挟んで、ベース中心点について対称に配置されている。各ガイド軸１１１、１１３の両端部には、四角い枠状のガイド枠１２１Ａ・１２１Ｂ、１２３Ａ・１２３Ｂが外嵌している。各ガイド軸１１１、１１３と各ガイド枠１２１Ａ・１２１Ｂ、１２３Ａ・１２３Ｂとの間には、図示せぬリニアガイドが介装されている。各ガイド軸１１１、１１３は、ガイド枠１２１Ａ・１２１Ｂ、１２３Ａ・１２３Ｂ内側に支持されつつ、Ｙ・Ｙ’方向に各々独立に摺動可能である。これらのガイド軸１１１、１１３は、Ｌ字型ブラインド板１６０、１６１の駆動反力を打ち消すカウンタマスの役割を兼ねる。
【００１８】
各ガイド枠１２１Ａ・１２１Ｂ、１２３Ａ・１２３Ｂの側部には、それぞれ突起１２５ａ、１２５ｂ、１２６ａ、１２６ｂが形成されている。ガイド枠１２１Ａの突起１２５ａ及びガイド枠１２３Ａの突起１２６ａは、Ｘ方向に突出しており、ガイド枠１２１Ｂの突起１２５ｂ及びガイド枠１２３Ｂの突起１２６ｂは、Ｘ’方向に突出している。これらの突起１２５ａ、１２５ｂ、１２６ａ、１２６ｂは、それぞれＸ駆動用アクチュエータ１３１Ａ、１３１Ｂ、１３３Ａ、１３３Ｂに接続されている。前述のガイド軸兼カウンタマス１１１、１１３は、両端部のガイド枠１２１Ａ・１２１Ｂ、１２３Ａ・１２３Ｂを介して、Ｘ駆動用アクチュエータ１３１Ａ、１３１Ｂ、１３３Ａ、１３３Ｂによりベース１０１上に支持されている。
【００１９】
図５の各ガイド枠１２１Ａ・１２１Ｂ、１２３Ａ・１２３Ｂに対応するＸ駆動用アクチュエータ１３１Ａ、１３１Ｂ、１３３Ａ、１３３Ｂの構成は同一であるため、ここでは主にガイド枠１２１ＡとＸ駆動用アクチュエータ１３１Ａとの組を説明する。
【００２０】
図６、図７にわかり易く示すように、Ｘ駆動用アクチュエータ１３１Ａは、枠状のケーシング１３１ａを備えている。ガイド枠１２１Ａの突起１２５ａは、ケーシング１３１ａの内側に挿通されている。なお、突起１２５ａの端部には、抜け止め用フランジ１２５ｆ（図２参照）が設けられている。
【００２１】
Ｘ駆動用アクチュエータ１３１Ａのケーシング１３１ａの内面には、Ｚ軸方向上下それぞれにリニアガイド１３５が設けられており、Ｙ軸方向両側それぞれにインチワーム型の接触式非共振型超音波アクチュエータ１３６が設けられている。インチワーム型の超音波アクチュエータ１３６としては、例えば特開２００３−２４３２８２号公報等に開示されているものと同様のものを用いることができる。図２に示すように、超音波アクチュエータ１３６が作動すると、ガイド枠１２１Ａ（１２１Ｂ）の突起１２５ａ（１２５ｂ）がリニアガイド１３５（図７参照）にガイドされつつＸ・Ｘ’方向に駆動する。これにより、ガイド枠１２１Ａ（１２１Ｂ）に支持されたガイド軸兼カウンタマス１１１が、Ｘ・Ｘ’方向に移動できる。なお、ガイド軸兼カウンタマス１１１と１１３とは、それぞれ独立に移動可能である。
【００２２】
図５、図７に示すように、ガイド軸兼カウンタマス１１１には、Ｙ軸方向に沿う溝１１１ａが形成されている。この溝１１１ａには、ブラインド板駆動スライダ１４１がＹ軸方向にスライド可能に組み付けられている。ガイド軸兼カウンタマス１１１の溝１１１ａの上下面には、インチワーム型の接触式非共振型超音波アクチュエータ（Ｙ駆動用アクチュエータ）１４５が設けられている。インチワーム型の超音波アクチュエータ１４５としては、前述と同様に例えば特開２００３−２４３２８２号公報等に開示されているものと同様のものを用いることができる。この超音波アクチュエータ１４５を駆動することにより、ブラインド板駆動スライダ１４１は、ガイド軸兼カウンタマス１１１の溝１１１ａに沿ってＹ・Ｙ’方向にスライドする。
【００２３】
後述するように、ブラインド板１６０、１６１は軽量であるため駆動推力が小さくてもよく、さらに位置決め精度は比較的緩めで済む（一例で±１μｍ程度）。そこで、この種の超音波アクチュエータ１４５のように、発熱が微小でガイド軸兼カウンタマス１１１との一体化が可能なものが最適である。ただし、超音波アクチュエータは、基本的には共振モードを利用するため、振動外乱を生じる可能性がある。そこで、本実施の形態のように、非共振型（共振を利用しない）のものを用いるものとする。さらには、最近検討されている低脱ガス化等の真空対応型のものであると一層好ましい。
【００２４】
なお、図示はしないが、もう一方のガイド軸兼カウンタマス１１３にも、同様に溝やブラインド板駆動スライダ、超音波アクチュエータが設けられている。これらは、ベース１０１の中心を通るベース中心ラインＣ（図１参照）を挟んで、ベース中心点についてガイド軸兼カウンタマス１１１のものと対称に設けられている。
【００２５】
図６、図７に示すように、ブラインド板駆動スライダ１４１には、枠状のアーム収容部１５１が一体形成されている。このアーム収容部１５１内には、Ｌ字型ブラインド板１６０を支持するアーム１５３の基部１５３ａが収容されている。なお、アーム１５３の基部１５３ａの下端には、抜け止め用フランジ１５３ｆが設けられている。
【００２６】
ブラインド板駆動スライダ１４１のアーム収容部１５１の内面には、Ｘ軸方向両側それぞれにリニアガイド１５５が設けられており、Ｙ軸方向両側それぞれにインチワーム型の接触式非共振型超音波アクチュエータ（Ｚ駆動用アクチュエータ）１５６が設けられている。この超音波アクチュエータ１５６は、前述の超音波アクチュエータ１４５と同様のインチワーム型のものである。超音波アクチュエータ１５６が作動すると、アーム１５３の基部１５３ａがリニアガイド１５５にガイドされつつＺ軸方向に駆動する（図７参照）。これにより、Ｌ字型ブラインド板１６０が、リニアガイド１５５に支持されつつＺ・Ｚ’方向に移動できる。
【００２７】
なお、図示はしないが、もう一方のガイド軸兼カウンタマス１１３のブラインド板駆動スライダにも、同様にアームやリニアスライダ、超音波アクチュエータが設けられている。
【００２８】
Ｌ字型ブラインド板１６０（１６１）は、ＸＹ平面に広がるように、アーム１５３の上端部に取り付けられている。図５に示すように、ガイド軸１１１側のＬ字型ブラインド板１６０と、ガイド軸１１３側のＬ字型ブラインド板１６１とは、両者の内側に矩形状の領域が形成可能なように対向配置されている。そして、これら一対のＬ字型ブラインド板１６０、１６１の内側において、露光領域が形成される。
【００２９】
以上説明したように、先願発明においては、Ｌ字型ブラインド板１６０、１６１の駆動に超音波アクチュエータを使用しているが、これは以下のような理由による。すなわち、Ｌ字型ブラインド板１６０、１６１は約１［ｍｍ］程度の薄く軽い羽形状であり、位置精度はミクロンレベルであることから、駆動方式としては、概して可動子が重くなる傾向になる電磁リニアモータよりもむしろ、静電アクチュエータもしくは電歪アクチュエータや磁歪アクチュエータ、超音波アクチュエータが望まれ、また非接触式案内よりも接触式案内で十分である。
【００３０】
このうち、静電アクチュエータは、現実寸法における単位体積（面積）当りの力密度が極端に小さいことから本アプリケーションには不向きである。一方電歪アクチュエータは、駆動条件から速度上限があり、やはり１［ｍ／ｓ］を要求する本アプリケーションには不向きである。磁歪アクチュエータに関しては最近電歪素子よりも歪率の高い超磁歪素子が開発されており、期待が高まるものの応答性やコイル発熱の問題もあり実用化にはまだ至っていない。
【００３１】
このような理由を勘案して、先願発明の実施の形態においては、アクチュエータとして超音波アクチュエータを採用している。
【００３２】
しかしながら、超音波アクチュエータにおいては、固定子に取り付けられた圧子と可動子が擦れ合うため、発塵の問題が避けられない。発塵に対しては、超音波アクチュエータを大気圧中で使用する場合には、超音波アクチュエータ中にパージ用の気体を吹き込み、発生したパーティクルをパージすることによってある程度防ぐことができる。
【００３３】
しかしながら、ＥＵＶ露光装置のように高度の真空中で使用される場合には、気体パージを行うことができず、発塵の問題を十分には解決できていなかった。さらに、ＥＵＶ露光装置のように微細な線幅のパターンの露光を行う場合には、問題となるパーティクルの系も微小なものとなり、直径が数十[ｎｍ]のものが光学系内に入らないようにする必要があるため、超音波アクチュエータには、特に厳しい発塵対策が要求される。
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、高度の真空中で使用するような場合においても発塵の問題が小さい超音波アクチュエータ及びそれを使用したＥＵＶ露光装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００３４】
前記課題を解決するための第１の手段は、固定子を収納するチャンバを有する超音波アクチュエータであって、前記チャンバは、可動子との間に空隙を有すると共に、その内部に給気口と排気口を有し、かつ、前記チャンバが前記可動子と対面する面には、前記チャンバが前記可動子との間に存在する気体を吸引して排気する吸引排気口が設けられていることを特徴とする超音波アクチュエータ（請求項１）である。
【００３５】
本手段においては、固定子と可動子の間の擦れによりパーティクルが発生しても、チャンバ内の給気口より気体を供給し、その気体を排気口から吸引することにより、発生したパーティクルはチャンバ外に出ることがほとんど無く、系外に排出される。又、チャンバが前記可動子と対面する面に設けられた吸引排気口より気体を吸引して系外に排出することにより、チャンバと可動子との間を通って外部に出ようとするパーティクルを、系外に排出することが可能なると共に、本手段が高度の真空中で使用される場合でも、チャンバ外の真空度を高度に保つことができる。
【００３６】
前記課題を解決するための第２の手段は、固定子を収納するチャンバを有する超音波アクチュエータであって、前記チャンバは、可動子との間に空隙を有すると共に、その内部にダストを溜め込む機能を有する溜め込み式ポンプ、又は低熱パネルが設けられ、前記チャンバが前記可動子と対面する面には、前記チャンバが前記可動子との間に存在する気体を吸引して排気する吸引排気口が設けられていることを特徴とする超音波アクチュエータ（請求項２）である。
【００３７】
本手段においては、チャンバ内に設けられた溜め込み式ポンプにより、発生したパーティクルが溜め込まれてたり、低熱パネルに吸着されたりして、チャンバ外に出ることがほとんど無くなる。又、チャンバが前記可動子と対面する面に設けられた吸引排気口より気体を吸引して系外に排出することにより、チャンバと可動子との間を通って外部に出ようとするパーティクルを、系外に排出することが可能なると共に、本手段が高度の真空中で使用される場合でも、チャンバ外の真空度を高度に保つことができる。
【００３８】
前記課題を解決するための第３の手段は、ＥＵＶ光を、円弧状の開口を有する固定ブラインドを介してレチクル面に照射し、当該レチクルに形成されたパターンを投影光学系によりウエハに露光転写するＥＵＶ露光装置であって、レチクルの露光領域を決定するための可動ブラインドを有し、かつ、当該可動ブラインドの開口の大きさが、遮蔽板の位置を変えることにより可変とされているものにおいて、前記遮蔽板の位置を変更するためのアクチュエータとして、前記第１の手段又は第２の手段である超音波アクチュエータを使用していることを特徴とするＥＵＶ露光装置（請求項３）である。
【００３９】
本手段においては、高度の真空中で使用しても発生したパーティクルをチャンバの外部に出しにくい第１の手段又は第２の手段である超音波アクチュエータを使用しているので、レチクル近傍の光学系に異物が付着して露光性能が悪化することを防止することができる。
【発明の効果】
【００４０】
以上説明したように、本発明によれば、高度の真空中で使用するような場合においても発塵の問題が小さい超音波アクチュエータ及びそれを使用したＥＵＶ露光装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４１】
以下、本発明の実施の形態の例を、図を用いて説明する、図１は、本発明の第１の実施の形態である超音波アクチュエータを示す概要図である。図１において（ａ）は可動子を取り除いた平面図（（ｂ）におけるＣ−Ｃ矢視図）、（ｂ）は（ａ）におけるＡ−Ａ端面図、（ｃ）は（ａ）におけるＢ−Ｂ端面図である。
【００４２】
固定子は圧電素子２１と圧子２２からなり、楕円運動を行うことにより可動子２３を駆動する。圧子２２、可動子２３はAlＯ２等のセラミックスからなり、可動子２３を駆動する際の圧子２２と可動子２３の擦れにより、パーティクルが発生する。
【００４３】
圧電素子２１はチャンバ２５に取り付けられている。チャンバ２５は中央にくぼみ部分を有する直方体形状をしており、可動子２３との間にわずかな隙間を有する。チャンバ２５の内部には給気口２６と排気口２７が設けられており、給気口２６に外部から供給された気体が、排気口２７に吸収され、外部に排気される。なお、図示していないが、給気口２６と排気口２７には配管が接続されており、気体はこの配管管を通して系外から給気され、系外に排出される。
【００４４】
又、チャンバ２５の可動子２３に対する面には、溝２９が設けられおり、溝２９は２箇所で排気孔３０につながっている。この排気孔３０は、（ｃ）に示すようにチャンバ２５中を通って、図示しない配管につながっており、この配管の先には真空ポンプが接続されている。よって、チャンバ２５と可動子２３の間にある気体は、溝２９に吸引され、排気孔３０を通って系外に排出される。溝２９が吸引排気口に相当する。
【００４５】
以上のような構成とすることにより、圧子２２と可動子２３との擦れにより発生したパーティクルは、給気口２６から噴出する気体により搬送されて排気口２７に吸収され、排気用の配管を通して系外に排出される。又、排出しきれなかったパーティクルが、チャンバ２５と可動子２３の隙間を通ってチャンバ２５の外部に出ようとしても、溝２９に吸収されている気体と共に溝２９内に吸収され、排気孔３０を通り、排気孔３０に接続されている配管を通って系外に排出される。よって、チャンバ２５の外側に出るパーティクルがほとんど無くなる。
【００４６】
図２は、本発明の第２の実施の形態である超音波アクチュエータを示す概要図である。図１において（ａ）は可動子を取り除いた平面図（（ｂ）におけるＣ−Ｃ矢視図）、（ｂ）は（ａ）におけるＡ−Ａ端面図、（ｃ）は（ａ）におけるＢ−Ｂ端面図である。
【００４７】
図２に示す第２の実施の形態は、図１に示す第１の実施の形態とは、給気口２６と排気口２７の代わりにイオンポンプ３１が設けられている点のみであるので、図１に示す実施の形態の構成要素と同じ構成要素には同じ符号を付してその説明を省略し、第１の実施の形態と異なる部分のみを説明する。
【００４８】
イオンポンプ３１は溜め込み式ポンプとも言われ、分子レベルの塵を回収するために使用されるものであり、パーティクルをイオン化し、ローレンツ力により吸収して溜め込むものである。よって、この場合には、外部から気体を給気したり、外部へ気体を排気したりすることなく、チャンバ２５内のパーティクルを回収して、チャンバ２５の外に出ないようにすることができる。
【００４９】
イオンポンプ３１の代わりに、クライオパネル等の低熱パネルを設け、熱泳動力によりパーティクルを吸着するようにしてもよい。
【００５０】
以上説明した、本発明の第１の実施の形態、第２の実施の形態である超音波アクチュエータは、真空中でもその作用効果を発揮するので、図６、図７に示される、超音波アクチュエータ１３６、１４５、１５６として用いるのに好適である。
【図面の簡単な説明】
【００５１】
【図１】本発明の第１の実施の形態である超音波アクチュエータを示す概要図である。
【図２】本発明の第２の実施の形態である超音波アクチュエータを示す概要図である。
【図３】ＥＵＶＬ露光装置の一例（４枚投影系）の概略構成を示す図である。
【図４】ＥＵＶ露光装置内における可動ブラインド装置付近の構成を示す図である。
【図５】可動ブラインドの構成を示す図である。
【図６】可動ブラインドの駆動機構を示す概略図である。
【図７】可動ブラインドの駆動機構を示す概略図である。
【符号の説明】
【００５２】
２１…圧電素子、２２…圧子、２３…可動子、２５…チャンバ、２６…給気口、２７…排気口、２９…溝、３０…排気孔、３１…イオンポンプ
【図１】
2005216983.tif 000003
【図２】
2005216983.tif 000004
【図３】
2005216983.tif 000005
【図４】
2005216983.tif 000006
【図５】
2005216983.tif 000007
【図６】
2005216983.tif 000008
【図７】
2005216983.tif 000009