(57)【要約】【課題】  液晶表示装置用基板の所望の位置にスペーサを確実に配置することができる液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置及び転写体を提供することを目的とする。【解決手段】  ２枚の基板間に、液晶を封入してなる液晶表示装置の製造方法であって、２枚の基板間隙を一定に保つスペーサを転写体により液晶表示装置用基板上に配置させるに際し、転写体上に基材粒子の表面に被覆層が化学的に結合された前記スペーサを配置させ、液晶表示装置用基板と前記転写体上の前記スペーサとを接触させた後、前記スペーサを前記転写体側から前記液晶表示装置用基板側に転写させ、前記スペーサを前記液晶表示装置用基板上に配置させる液晶表示装置の製造方法。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
２枚の基板間に、液晶を封入してなる液晶表示装置の製造方法であって、
２枚の基板間隙を一定に保つスペーサを転写体により液晶表示装置用基板上に配置させるに際し、
前記転写体上に基材粒子の表面に被覆層が化学的に結合された前記スペーサを配置させ、
液晶表示装置用基板と前記転写体上の前記スペーサとを接触させた後、
前記スペーサを前記転写体側から前記液晶表示装置用基板側に転写させ、
前記スペーサを前記液晶表示装置用基板上に配置させる
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
液晶表示装置用基板を加熱した状態で転写体上のスペーサに接触させて、前記スペーサの表面を溶融又は軟化させ、前記液晶表示装置用基板に前記スペーサを接着させることにより、前記スペーサを前記転写体側から前記液晶表示装置用基板側に転写させ、前記スペーサを前記液晶表示装置用基板上に配置させることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
表面に凹凸のある転写体上にスペーサを配置させ、前記転写体の凸部に配置させたスペーサのみを前記転写体側から前記液晶表示装置用基板側に転写させることを特徴とする請求項１又は２記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
転写体として空隙をもつ形態のものを用い、まず、前記転写体上にスペーサを付着させ、前記スペーサを前記転写体側から前記液晶表示装置用基板側に転写させることを特徴とする請求項１、２又は３記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
液晶表示装置用基板のブラックマトリックス部分のみにスペーサを転写させることを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
２枚の基板間に、液晶を封入してなる液晶表示装置の製造方法であって、
２枚の基板間隙を一定に保つスペーサを転写体により液晶表示装置用基板上に配置させるに際し、
前記転写体として基板上にパターン状の導電体が形成されたものを用い、
帯電させたスペーサを転写体におけるパターン状の導電体に電圧を印加することにより、前記転写体上に配列させ、
液晶表示装置用基板を加熱した状態で前記転写体上に配列した前記スペーサに接触させて前記スペーサの表面を溶融又は軟化させ、
前記スペーサの溶融又は軟化による付着力の差で、前記転写体側から前記液晶表示装置用基板側に前記スペーサを転写させ、
前記スペーサを前記液晶表示装置用基板のブラックマトリックス直下部分に配置させる
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
請求項１、２、３、４、５又は６記載の液晶表示装置の製造方法により製造されてなることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項８】
請求項１、２、３、４、５又は６記載の液晶表示装置の製造方法に用いられることを特徴とする転写体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置用基板の所望の位置にスペーサを確実に配置することができる液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置及び転写体に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、パソコン、携帯型電子機器等に広く用いられており、例えば、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ−Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｅｒ：薄膜トランジスタ）型液晶表示装置は、一般に、図１６に示されるように、カラーフィルタ、透明電極、配向膜等が形成された基板と、薄膜トランジスタが形成された基板とに液晶を封入させてなるものである。ここで、２枚の基板間隔を規制し、適正な液晶層の厚みを維持しているのがスペーサである。
【０００３】
従来の液晶表示装置の製造方法においては、透明電極が形成された基板上にスペーサをランダムかつ均一に散布するため、図１６に示すように、液晶表示装置の表示部にもスペーサが配置されていた。このような場合、スペーサは一般的に合成樹脂やガラス等から形成されていることから、表示部にスペーサが配置されると消偏作用によりスペーサ部分が光漏れを起こすことがあった。また、スペーサの表面で液晶の配向が乱れることにより光抜けが起こり、コントラストが低下する原因となっていた。このように、スペーサに起因するコントラストの低下は、ＳＴＮ型液晶表示装置の場合でも同様に発生していた。
【０００４】
上述のような問題を解決するためには、カラーフィルタに形成されている遮光膜であるブラックマトリックスの部分にスペーサを配置すればよい。なお、ブラックマトリックスとは、液晶表示装置の表示コントラストの向上のために設けられているものであり、ＴＦＴ型液晶表示装置の場合は、素子等が外光で光誤作動しないように設けられているものである。
【０００５】
液晶表示装置において、ブラックマトリックス部分、即ち、液晶表示装置の表示画素以外の部分にスペーサを配置する技術として、特許文献１には、スペーサ散布時に、ゲート電極及びドレイン電極を同電位に保持する方法が開示されている。また、特許文献２には、スペーサ散布時に配線電極に電圧を印加する方法が開示されており、特許文献３には、配線電極に正の電圧を印加し、スペーサを負に帯電させて乾式で散布する方法が開示されている。
【０００６】
これらの技術は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が配線電極とともに形成された基板を用い、それら配線電極に電圧を印加してスペーサの配置制御を行おうとするものである。しかしながら、薄膜トランジスタが形成された基板に、スペーサの配置制御を行うための電圧を印加すると、その電圧で素子が破壊される場合が多く、歩留まりの低下を招くものであった。
【０００７】
また、薄膜トランジスタが形成された基板に対向する側の基板には、パターンが施されていないベタ電極が形成されている。従って、素子を電圧で破壊するようなことはないが、配線電極が存在しないので、上述したような配線電極に電圧を印加する技術を利用することはできなかった。
【０００８】
一方、ＳＴＮ型液晶表示装置においては、特許文献４には、スペーサ散布時に、スペーサ粒子を正負いずれかに帯電させ、被散布ガラス基板の透明電極に対してスペーサと同極性の電圧を印加する液晶表示装置の製造方法が開示されている。しかしながら、この技術のみでは、安定的なスペーサの配置制御が困難であった。
【０００９】
特許文献５には、光導電体を利用してスペーサを配列させ、電気的な力で転写させる液晶表示装置の製造方法が開示されている。しかしながら、この方法では、光導電体上のスペーサの帯電が弱まったり、経時的に変化する等の原因で、静電的な力でスペーサを転写させることが困難となり、安定的に連続して転写させることができないことや、光導電体上にスペーサが残存してしまうこと等の問題があった。
【００１０】
特許文献６にも、上述したのと同様に、静電的にスペーサを転写させる液晶表示装置の製造方法が開示されている。しかしながら、この方法でも、静電的な力でスペーサを転写させるため、上述したのと同様の問題があった。
【００１１】
一方、特許文献７には、インクジェット装置のノズルからスペーサ分散液の液滴を吐出して基板上に着弾させるインクジェット法によってスペーサを基板上に配置する方法が開示されている。この方法では、上述の方法のように基板にマスク等を接触させることもなく、任意の位置に任意のパターンでスペーサを配置できる点で有効な方法であるといえる。
【００１２】
しかし、このようなインクジェット法では、液晶表示装置の解像度を向上する（スペーサの配置間隔を狭める）ために、スペーサ分散液の液滴の着弾間隔を狭めると、スペーサ分散液の液滴同士が基板上で合着してしまい、一方、スペーサ分散液の液滴同士が基板上で合着しないようにインクジェットヘッドのノズルの口径を小さくしてスペーサ分散液の液滴１滴あたりの量を減らすと、スペーサ分散液の液滴の着弾位置の精度が悪くなるため、液晶表示装置の解像度を上げることができないという問題があった。
【００１３】
【特許文献１】特開平４−２５６９２５号公報
【特許文献２】特開平５−５３１２１号公報
【特許文献３】特開平５−６１０５２号公報
【特許文献４】特開平４−２０４４１７号公報
【特許文献５】特許第２５３６４５７号明細書
【特許文献６】特開平６−２５８６４７号公報
【特許文献７】特開昭５７−５８１２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上記現状に鑑み、液晶表示装置用基板の所望の位置にスペーサを確実に配置することができる液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置及び転写体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、２枚の基板間に、液晶を封入してなる液晶表示装置の製造方法であって、２枚の基板間隙を一定に保つスペーサを転写体により液晶表示装置用基板上に配置させるに際し、上記転写体上に基材粒子の表面に被覆層が化学的に結合された上記スペーサを配置させ、液晶表示装置用基板と上記転写体上の上記スペーサとを接触させた後、上記スペーサを上記転写体側から上記液晶表示装置用基板側に転写させ、上記スペーサを上記液晶表示装置用基板上に配置させる液晶表示装置の製造方法である。
以下に本発明を詳述する。
【００１６】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、２枚の基板間に、液晶を封入してなる液晶表示装置の製造方法であって、２枚の基板間隙を一定に保つスペーサを転写体により液晶表示装置用基板上に配置させる場合に適用される。
【００１７】
上記液晶表示装置用基板（液晶表示用基板ともいう）としては特に限定されず、例えば、ガラス製基板、樹脂製基板等が挙げられる。また、基板状、フィルム状等の形状も特に限定されない。従って、カラーフィルタを有するコモン電極基板であっても、それに対向するアレイ基板、セグメント基板であってもよい。
【００１８】
本発明の液晶表示装置の製造方法においては、スペーサとして基材粒子の表面に被覆層が化学的に結合されたものを用い、まず、転写体上に上記スペーサを配置させ、液晶表示装置用基板と上記転写体上の上記スペーサとを接触させた後、上記スペーサを上記転写体側から上記液晶表示装置用基板側に転写させ、上記スペーサを液晶表示装置用基板上に配置させる。
【００１９】
本発明に用いるスペーサは、基材粒子の表面に被覆層が化学的に結合されている。上記スペーサは、基材粒子の表面に被覆層が化学的に結合していることから、上記スペーサの基材粒子と被覆層との結合を強固なものとすることができ、これらが容易に剥がれることがない。また、例えば、上記被覆層が熱可塑性樹脂等からなる場合には、加熱等を行うことによりスペーサの表面が溶融又は軟化し、接着性を発現することができる。上記被覆層としては、後述する基材粒子と化学的に結合されたものであれば特に限定されないが、グラフト重合体からなるものであることが好ましい。また、基材粒子の表面に基材粒子よりも充分に小さい被覆微粒子が基材粒子の表面に化学的に結合しているものも用いることができる。
更に、上記スペーサとしては、樹脂に顔料が分散されたものや、染料等により遮光性を付与したものを用いることができる。
【００２０】
上記グラフト重合体からなる被覆層（以下、グラフト重合層ともいう）としては、上記スペーサの基材粒子の表面にグラフト重合により形成されたものであれば、特に限定されず、例えば、炭素数が８〜２２のアルキル基を有する単量体（以下、単量体Ａという）と下記一般式（１）で表される置換基を有する単量体（以下、単量体Ｂという）とを反応させることにより形成されるグラフト重合層等が挙げられる。
【００２１】
【化１】
2005250180.tif 000002
式中、Ｒ１は水素又はメチル基を表し、ｍは１〜１０００の整数を表す。なお、ｍ＋１個のＲ１は同一であっても良く、異なっていても良い。
【００２２】
上記単量体Ａと上記単量体Ｂとを反応させることにより形成されるグラフト重合層としては、例えば、上記単量体Ａとして下記一般式（２）で表される単量体、上記単量体Ｂとして下記一般式（３）で表される単量体を用いて、これらを共重合させることにより、グラフト重合層としたものを用いることができる。
【００２３】
【化２】
2005250180.tif 000003
式中、Ｒ２は炭素数８〜２２のアルキル基を表し、Ｘは、水素又はメチル基を表す。
【００２４】
【化３】
2005250180.tif 000004
式中、Ｒ３は水素又はメチル基を表し、ｍは１〜１０００の整数を表し、なお、Ｘは上記一般式（２）におけるＸと同一である。また、ｍ＋１個のＲ３は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００２５】
上記一般式（２）で表される単量体としては、例えば、ラウリルメタクリレート、セチルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ベヘニルメタクリレート等が挙げられる。これらの単量体は、単独で用いてもよく、２種以上併用してもよい。
【００２６】
上記一般式（３）で表される単量体としては、例えば、メトキシポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらの単量体は、単独で用いてもよく、２種以上併用してもよい。
【００２７】
また、上記単量体Ａと上記単量体Ｂとを反応させることにより形成されるグラフト重合層としては、例えば、上記単量体Ａとして下記一般式（４）で表される単量体、上記単量体Ｂとして下記一般式（５）で表される単量体を用い、これらを共重合させることにより、グラフト重合層としたものを用いることができる。
【００２８】
【化４】
2005250180.tif 000005
式中、Ｒ２は上記一般式（２）におけるＲ２と同一であり、Ｙはカルボキシル基、スルホン酸基、これらのハロゲン化物やこれらの塩、水酸基、アミノ基、メトキシシラン、塩素、グリシジル基又はイソシアネート基を表す。
【００２９】
【化５】
2005250180.tif 000006
式中、Ｒ３及びｍは、一般式（３）におけるＲ３及びｍと同一であり、Ｙは一般式（４）におけるＹと同一である。
【００３０】
上記一般式（４）で表される単量体としては、例えば、長鎖アルキルカルボン酸、長鎖アルキルスルホン酸、これらのハロゲン化物やこれらの塩；長鎖アルキルアルコール、長鎖アルキルアミン、長鎖アルキルメトキシシラン、長鎖アルキルクロライド、長鎖アルキルブロマイド、長鎖グリシジル、長鎖アルキルイソシアネート等が挙げられる。これらの単量体は、単独で用いられてもよく、２種以上併用されてもよい。
【００３１】
上記一般式（５）で表される単量体としては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、これらの片末端水酸基の水素をメチル基で置換したもの；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、又は、これらの片末端水酸基の水素をメチル基で置換したもの、の片末端水酸基の水素をチオール基、アルデヒド基、メルカプト基、アミノ基等の還元性基で置換したものなどが挙げられる。これらの単量体は、単独で用いられてもよく、２種以上併用されてもよい。
【００３２】
上記スペーサの基材粒子としては、その表面に被覆層と化学的に結合させることができるものであれば、特に限定されないが、上記被覆層が上記グラフト重合体層であって、上記単量体Ａとして、上記一般式（２）で表される単量体を用い、上記単量体Ｂとして、上記一般式（３）で表される単量体を用いる場合は、上記基材粒子として、水酸基、チオール基、アルデヒド基、メルカプト基、アミノ基等の還元性基を表面に有するものを用いることが好ましい。
【００３３】
また、上記被覆層が上記グラフト重合体層であって、上記単量体Ａとして、上記一般式（４）で表される単量体を用い、上記単量体Ｂとして、上記一般式（５）で表される単量体を用いる場合は、上記基材粒子として、ジビニルベンゼン／２−ヒドロキシエチルメタクリレート共重合体、ポリビニルアルコール／ジビニルベンゼン共重合体、ジビニルベンゼン／メタクリル酸共重合体、ジビニルベンゼン／グリシジルメタクリレート共重合体、ジビニルベンゼン／ビニルイソシアネート共重合体等のビニル系共重合体等のビニル系高分子微粒子；ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂の硬化樹脂等の重縮合高分子粒子等からなるものを用いることが好ましい。
【００３４】
上記単量体Ａと上記単量体Ｂとを反応させて、上記基材粒子の表面にグラフト重合層を形成する具体的な方法としては特に限定されず、例えば、単量体Ａとして、上記一般式（２）で表される単量体を用い、単量体Ｂとして、上記一般式（３）で表される単量体を用いる場合は、上記基材粒子に上記一般式（２）で表される単量体と上記一般式（３）で表される単量体とを含浸させた後、セリウム塩、過硫酸塩等の酸化剤を反応させ、上記基材粒子の表面にラジカルを発生させ、上記ラジカルを起点として上記基材粒子の表面にグラフト重合層を形成する方法等を用いることができる。
また、上記単量体Ａとして、上記一般式（４）で表される単量体を用い、上記単量体Ｂとして、上記一般式（５）で表される単量体を用いる場合は、上記基材粒子を溶媒に分散させた後、上記一般式（４）で表される単量体と上記一般式（５）で表される単量体とを溶媒に添加して反応させる方法等を用いることができる。
【００３５】
上記スペーサにおける表面に被覆された被覆層が熱可塑性樹脂からなる場合、上記熱可塑性樹脂としては特に限定されないが、液晶表示装置用基板を加熱して、その温度でスペーサの表面を溶融又は軟化させることが可能となることから、１５０℃以下のガラス転移温度（Ｔｇ）のものであることが好ましい。１５０℃を超えると、その温度では液晶表示装置用基板が膨張するため、位置合わせが行いにくくなることがある。
【００３６】
上記転写体としては特に限定されず、例えば、形状が平板状のものであっても、ロール状のものであってもよい。スペーサを転写させるときには、平板状のものの場合は、転写体と液晶表示装置用基板とを平行に近づけて、液晶表示装置用基板をスペーサの表面に接触させればよいし、ロール状のものの場合は、ロールを回転させながら液晶表示装置用基板の送りスピードをその回転に合わせて、液晶表示装置用基板をスペーサの表面に接触させて行けばよい。
【００３７】
上記転写体上へのスペーサの配置においては、従来の乾式散布装置機等を利用することができる。
乾式散布方式では、圧縮空気や窒素を媒体として、スペーサを配管を経由させて転写体上に散布する。このとき、スペーサは配管壁と接触を繰り返すことにより安定的に帯電する。スペーサの帯電は配管材や配管長、圧縮空気の圧力等により調整することができる。
【００３８】
本発明の液晶表示装置の製造方法では、液晶表示装置用基板を加熱した状態で転写体上のスペーサに接触させて上記スペーサの表面を溶融又は軟化させ、上記液晶表示装置用基板に上記スペーサを接着させることにより、上記スペーサを上記転写体側から上記液晶表示装置用基板側に転写させ、上記スペーサを上記液晶表示装置用基板上に配置させることが好ましい。
このように、加熱によりスペーサを上記液晶表示装置用基板上に転写させる方法について、図１を用いて説明する。
図１に示されるように、転写体上にある表面に熱可塑性樹脂からなる被覆層が化学的に結合されたスペーサに、被覆層のガラス転移温度（Ｔｇ）以上の温度に加熱された液晶表示装置用基板を接触させると、加熱された液晶表示装置用基板に接触した側のスペーサの表面は溶融又は軟化するため、加熱されていない転写体に接触した側よりも接触面積が増加する。そうすると、接触面積が大きい側の接着力が強くなるため、液晶表示装置用基板を引き離すことによりスペーサの転写が行えることとなる。なお、図１において、液晶表示装置用基板及び転写体の上下の位置関係に制限はない。
【００３９】
このような方法により、帯電の減衰等の影響がなく、また、基板上の配線電極にも影響を受けずに安定的にスペーサの転写が行えることとなる。
上述したようにスペーサの転写を行う場合、液晶表示装置用基板をスペーサに接触させる必要があるが、長い時間接触させていると、液晶表示装置用基板の熱が転写体を加熱してしまう場合があり、スペーサの転写効率が悪くなることがある。そのため、転写を行うために液晶表示装置用基板をスペーサに接触させる際には、接触時間が数秒〜数十分であることが好ましい。
【００４０】
また、転写を行うために液晶表示装置用基板をスペーサに接触させる際には、ある程度の力で転写体又は液晶表示装置用基板を押しつけた方がスペーサの転写効率がよくなることもある。
更に、転写体の加熱防止のために冷却を行ってもよい。
【００４１】
転写体側から液晶表示装置用基板側にスペーサを転写させるには、スペーサの表面層（被覆層）を溶融又は軟化させる必要があるため、用いるスペーサの表面に化学的に結合された被覆層のガラス転移温度（Ｔｇ）以上の温度で液晶表示装置用基板を加熱しておく必要があるが、この際、ホットプレートに液晶表示装置用基板を接触させたまま転写を行ってもよいし、前もって液晶表示装置用基板を加熱しておき、基板温度が冷えないうちに転写を行ってもよい。転写される液晶表示装置用基板の加熱を行うにはその他に、オーブンや赤外線加熱等を用いてもよい。
【００４２】
ここで、図２に示されるように、転写体として凹凸のある基板を用いた場合、まず、転写体上にスペーサを均一に配置させ、転写体の凸部に配置されたスペーサのみを転写体側から液晶表示装置用基板側に転写させることが好ましい。この操作により、液晶表示装置用基板に対して転写体の凸部となる位置を決めておけば、スペーサを液晶表示装置用基板上の任意の位置に配置させることができる。
【００４３】
例えば、図２に示されるように、ブラックマトリックス（ＢＭ）と転写体の凸部の位置とを一致させることにより、凹部にあるスペーサは液晶表示装置用基板と接触することができないため、凸部のスペーサをブラックマトリックス（ＢＭ）部分に配置することが可能となる。なお、図２においては、液晶表示装置用基板の電極、カラーフィルタ等は省略されている。
【００４４】
また、転写体として空隙（間隔）をもつ形態のものを用いた場合、まず、転写体上にスペーサを付着させ、転写体側から液晶表示装置用基板側に転写させることが好ましい。この操作により、液晶表示装置用基板に対して転写体の空隙でない部分の位置を決めておけば、スペーサを液晶表示装置用基板上の任意の位置に配置させることができる。上記空隙（間隔）をもつ形態のものとしては特に限定されず、例えば、メッシュ状のもの、複数の線状体等が挙げられる。
【００４５】
例えば、図３に示されるように、メッシュ状の転写体にスペーサを付着させ転写させる場合には、メッシュのピッチをブラックマトリックスのピッチと一致させることにより、スペーサをブラックマトリックス部分に配置させることが可能となる。なお、図３においては、液晶表示装置用基板の電極、カラーフィルタ等は省略されている。
【００４６】
また、例えば、図４に示されるように、複数の線状体である転写体にスペーサを付着させ転写させる場合には、スペーサ径よりも大きな空隙（間隔）で並ぶ複数の線状体を用いてスペーサの散布を行うと、線状体上のみにスペーサを付着させることができる。ここで、複数の線状体のピッチをブラックマトリックスのピッチと一致させることにより、スペーサをブラックマトリックス部分に配置させることが可能となる。なお、図４においては、液晶表示装置用基板の電極、カラーフィルタ等は省略されている。
【００４７】
転写体上にスペーサを配置させる際には、転写体上へのスペーサの配置が一様になるように行うことが好ましいが、従来の乾式散布方式、湿式散布方式等を用いて行ってもよく、また、転写体上にスペーサを一定量乗せ、振動等により均一に広げることにより行ってもよい。更に、篩いの要領で行ってもよい。
【００４８】
転写体として凹凸のある基板を用いる場合も、メッシュ状のもの又は複数の線状体のように空隙（間隙）をもつ形態のものを用いる場合も、例えば、乾式散布方式を用いてスペーサを散布し、散布時のスペーサの帯電極性と逆極性の電圧を転写体に印加する等の方法により転写体上にスペーサを配置させてもよい。
【００４９】
上述したように、スペーサを液晶表示装置用基板上の任意の位置に配置させる場合には、転写体上のスペーサが配置される位置と、液晶表示装置用基板上の任意の位置とを合わせる必要があるが、加熱の影響で液晶表示装置用基板は熱膨張を起こすため、スペーサの配置位置（ピッチ）に補正が必要な場合がある。
【００５０】
スペーサを転写体上に配置させ、加熱された液晶表示装置用基板によりスペーサの表面を溶融又は軟化させることにより、転写体と液晶表示装置用基板とに対するスペーサの付着力に差が生じ、その付着力の差で転写体側から液晶表示装置用基板側にスペーサを転写させるため、安定的にスペーサの転写が行える。また、転写体により転写位置が制御可能なため、スペーサを液晶表示装置の電極パターンに関係なく、任意の位置に確実に配置させることができる。従って、スペーサを画素部から排除することが可能となり、コントラストの高い液晶表示装置がどのタイプの液晶表示装置でも製造することが可能となる。
【００５１】
本発明の液晶表示装置の製造方法の別の態様は、２枚の基板間に、液晶を封入してなる液晶表示装置の製造方法であって、２枚の基板間隙を一定に保つスペーサを転写体により液晶表示装置用基板上に配置させるに際し、上記転写体として基板上にパターン状の導電体が形成されたものを用い、帯電させたスペーサを上記転写体におけるパターン状の導電体に電圧を印加することにより、上記転写体上に配列させ、上記液晶表示装置用基板を加熱した状態で上記転写体上に配列した上記スペーサに接触させて上記スペーサの表面を溶融又は軟化させ、上記スペーサの溶融又は軟化による付着力の差で、上記転写体側から上記液晶表示装置用基板側に上記スペーサを転写させ、上記スペーサを上記液晶表示装置用基板のブラックマトリックス直下部分に配置させる液晶表示装置の製造方法である。
【００５２】
別の態様の本発明の液晶表示装置の製造方法は、２枚の基板間に、液晶を封入してなる液晶表示装置の製造方法であって、２枚の基板間隙を一定に保つスペーサを転写体により液晶表示装置用基板上に配置させる場合に適用される。
上記液晶表示装置用基板としては特に限定されず、例えば、本発明の液晶表示装置の製造方法において説明したものと同様のもの等が挙げられる。
【００５３】
別の態様の本発明の液晶表示装置の製造方法においては、転写体として基板上にパターン状の導電体（電極）が形成されたものを用い、まず、帯電させたスペーサを転写体におけるパターン状の導電体に電圧を印加することにより転写体上に配列させ、液晶表示装置用基板を加熱した状態で転写体上に配列したスペーサに接触させてスペーサの表面を溶融又は軟化させ、スペーサの溶融又は軟化による付着力の差で、転写体側から液晶表示装置用基板側にスペーサを転写させ、スペーサを液晶表示装置用基板のブラックマトリックス直下部分に配置させる。
【００５４】
上記転写体における基板としては、ガラス製基板、樹脂製基板等の絶縁性基板；ステンレス（ＳＵＳ）製基板、アルミニウム（Ａｌ）製基板等の導電性基板を用いることができる。なお、転写体上において電極形状に対応した電場を形成するため、導電性基板を用いる場合には、電極との間に絶縁性の樹脂等を積層する必要がある。これにより、電極に電圧を印加した場合に、電極間で電流がリークするのを防止し、また、電流が基板にリークするのを防止することができる。
【００５５】
上記導電体（電極）としては特に限定されないが、薄膜導電体が好ましい。上記薄膜導電体としては特に限定されず、例えば、ＩＴＯ、金属薄膜等が挙げられる。
上記転写体の形状としては特に限定されず、例えば、上述した本発明の液晶表示装置の製造方法で説明したのと同様に、平板状のものであっても、ロール状のものであってもよい。
【００５６】
ここで、転写体において、スペーサを配列させる場所が電極間である場合には、より転写しやすいように、濡れ性の悪い素材を基板として用いてもよい。また、スペーサを配列させる場所が電極上である場合には、濡れ性の悪い材料で電極上をコーティングしてもよい。
【００５７】
上記スペーサとしては、加熱により表面が溶融又は軟化するものであれば特に限定されないが、上述した本発明の液晶表示装置の製造方法で説明したように、基材粒子と被覆層とが化学的な結合を介して形成されたものであることが好ましい。また、乾式散布方式によりスペーサを帯電させて散布する場合には、スペーサの表面に形成されている被覆層を構成する樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）が室温以上であることが好ましい。
【００５８】
この場合、ガラス転移温度（Ｔｇ）が室温未満であると、スペーサの乾式散布を安定的に行いにくくなり、高い精度での転写体上へのスペーサの配列ができないことがあり、また、転写体にもスペーサが付着することとなるため、スペーサの転写が行いにくくなることがある。
【００５９】
これらの関係から、別の態様の本発明の液晶表示装置の製造方法においても、転写体側から液晶表示装置用基板側にスペーサを転写させるには、用いるスペーサの表面層（被覆層）のガラス転移温度（Ｔｇ）以上の温度で液晶表示装置用基板を加熱しておく必要がある。
転写体上へのスペーサの配列においては、上述した本発明の液晶表示装置の製造方法において説明したのと同様に、従来の乾式散布装置等を利用することができる。
【００６０】
別の態様の本発明の液晶表示装置の製造方法において、スペーサを転写体により液晶表示装置用基板上に配置させる方法について、図１及び図６を用いて説明する。図６に示されるように、帯電したスペーサを転写体におけるパターン状の導電体に電圧を印加することにより転写体上に配列させ、液晶表示装置用基板を加熱した状態で転写体上に配列したスペーサに接触させる。この操作により、表面に被覆層が化学的に結合されたスペーサであれば、図１に示されるように、上述した本発明の液晶表示装置の製造方法において説明したのと同様にスペーサの転写が行えることとなる。この転写される位置をブラックマトリックスの位置と合わせることにより、スペーサをブラックマトリックス部分へ配置させることができる。
【００６１】
このような方法により、帯電の減衰等の影響がなく、また、基板上の配線電極にも影響を受けずに安定的にスペーサの液晶表示装置用基板上への配置が行えることとなる。
上述したようにスペーサの転写を行う場合、転写を行うために液晶表示装置用基板をスペーサに接触させる際における接触時間等の留意事項は上述した本発明の液晶表示装置の製造方法における場合と同様である。ただし、加熱の影響で液晶表示装置用基板は熱膨張を起こすため、スペーサが転写される位置をブラックマトリックスの位置と合わせるためには、スペーサの配置位置（ピッチ）に補正が必要な場合がある。
【００６２】
ここで、上記転写体は、基板として絶縁体を用い、基板の表面に、パターン状の導電体、又は、パターン状の導電体及び絶縁体を積層してなるものであることが好ましい。この場合に用いる基板としては、絶縁体であれば特に限定されず、ガラス製基板、樹脂製基板等が挙げられる。
【００６３】
このような転写体としては、例えば、図７に示されるように、上層から導電体／絶縁体として形成されている構造のもの、絶縁体／導電体／絶縁体として形成されている構造のもの等が挙げられる。ここで、導電体／絶縁体として形成されている構造のものでは、湿度等の影響で導電体の存在しない領域にも電場が広がり、スペーサの配置が乱れることがある。そこで、更に表層に絶縁膜を設けることにより、湿度等の影響を排除でき、安定的にスペーサの配置が行えるようになる。この場合、表層の絶縁膜は、ポリイミド等の絶縁性の高い材料であることが好ましい。また、表層の絶縁膜の膜厚はできる限り薄いものが好ましい。膜厚が厚すぎると、スペーサの配置に適する電場が乱れてしまうことがある。
【００６４】
この場合には、図７に示されるように、転写体を散布槽内のアースされたステージに設置し、転写体におけるパターン状の導電体にスペーサの帯電極性と同極性の電圧を印加すると、アースされたステージに転写体を乗せることにより導電体の無い領域の電位が下がるため、転写体上にスペーサの配置に適する電場が形成される。
【００６５】
この状態でスペーサの散布を行うと、スペーサは導電体からの斥力を受け、電位の低い導電体の存在しない領域に配列される。
従って、転写体として基板に絶縁体を用いたものを使用してスペーサを散布する場合には、その転写体をアースされたステージに設置する必要がある。
【００６６】
このようにして、図７に示されるように、ブラックマトリックスに相当する位置でブラックマトリックスの幅程度に導電体の存在しない領域が形成されるように転写体におけるパターン状の導電体を形成し、このような転写体におけるパターン状の導電体に対し、スペーサを導電体が存在しない領域に配列させ、液晶表示装置用基板のブラックマトリックスの位置に相当させて転写させることにより、スペーサを液晶表示装置用基板のブラックマトリックス直下部分に配置させることが可能となる。
【００６７】
上述したような導電体が存在しない領域の形状は、四角、丸、多角形等の形状であってもよく、ドットピッチや画素ピッチ、数画素おき、水平方向・垂直方向のどちらか一方向又は両方向、ストライプ状等の形状であってもよいため、任意であり、ブラックマトリックスに相当する位置で、ブラックマトリックスの幅程度であればよい。
【００６８】
転写体におけるパターン状の導電体の構造の一例として、導電体の存在しない領域が長方形、十字の場合を図１３に示す。この場合には、導電体の存在しない領域にスペーサを配列させ、転写体における導電体の存在しない領域と、液晶表示装置用基板におけるブラックマトリックスとの位置を合わせる。なお、図１３では、１ラインのみのスペーサを表記し、その他のラインのスペーサを省略してある。
【００６９】
また、別の一例として、転写体とカラーフィルタ基板とを重ねた場合における転写体におけるパターン状の導電体の存在しない領域と、液晶表示装置用基板におけるブラックマトリックス（ＢＭ）の位置との位置関係を図１４に示す。この場合には、導電体の存在しない領域は任意に形成することができる。これらは、スパッタや蒸着でＩＴＯを形成後、フォトリソグラフィー−エッチング等の公知の方法で作製することができる。
【００７０】
また、転写体は、基板として導電体を用い、基板の表面に、絶縁体及びパターン状の導電体、又は、絶縁体、パターン状の導電体及び絶縁体を積層してなるものであることが好ましい。この場合に用いる基板としては、導電体であれば特に限定されず、ステンレス（ＳＵＳ）製基板、アルミニウム（Ａｌ）製基板等が挙げられる。
【００７１】
このような転写体としては、例えば、図８に示されるように、上層から導電体／絶縁体／導電体として形成されている構造のもの、絶縁体／導電体／絶縁体／導電体として形成されている構造のもの等が挙げられる。
【００７２】
図７に示されるような構造の転写体の場合では、転写体をアースされたステージに設置しないとスペーサの配置に適する電場が形成されないが、図８に示されるような構造の転写体の場合では、転写体における基板の導電体の部分をアースすればスペーサの配置に適する電場が形成されることとなる。
【００７３】
このような構造の転写体を用いれば、例えば、図９に示されるように、転写体における導電体である基板にスペーサの帯電極性と逆極性の電圧を印加し、基板上のパターン状の導電体にスペーサの帯電極性と同極性の電圧を印加すれば、斥力と引力とを利用して、パターン状の導電体の間隙にスペーサを配列させることができる。
このようにして、転写体におけるパターン状の導電体の間隙にスペーサを配列させることができ、この配列部分のピッチをブラックマトリックスに合わせて形成すればよい。
【００７４】
従って、このような転写体におけるパターン状の導電体に対し、スペーサを導電体が存在しない領域に配列させ、液晶表示装置用基板のブラックマトリックスの位置に相当させて転写させることにより、スペーサを液晶表示装置用基板のブラックマトリックス直下部分に配置させることが可能となる。
【００７５】
また、図１５に示されるように、転写体における導電体である基板にスペーサの帯電極性と同極性の電圧を印加し、基板上のパターン状の導電体にスペーサの帯電極性と逆極性の電圧を印加すれば、斥力と引力とを利用して、この場合には、パターン状の導電体上にスペーサを配列させることができる。
このようにして、転写体におけるパターン状の導電体上にスペーサを配列させることができ、この配列部分のピッチをブラックマトリックスに合わせて形成すればよい。
【００７６】
更に、図１５に示される場合と同様に、転写体において、基板上にブラックマトリックスと同一形状の導電体を形成し、転写体における導電体である基板にスペーサの帯電極性と同極性の電圧を印加し、基板上のブラックマトリックスと同一形状の導電体にスペーサの帯電極性と逆極性の電圧を印加すれば、斥力と引力とを利用して、この場合には、ブラックマトリックスと同一形状の導電体上にスペーサを配列させることができる。
【００７７】
従って、このような転写体におけるパターン状の導電体に対し、スペーサをパターン状の導電体が存在する領域に配列させ、液晶表示装置用基板のブラックマトリックスの位置に相当させて転写させることにより、スペーサを液晶表示装置用基板のブラックマトリックス直下部分に配置させることが可能となる。
【００７８】
更にまた、図１０に示されるように、転写体におけるパターン状の導電体の構造として、ブラックマトリックスに相当する位置を電気的に他との接続が行われていない領域として導電体（浮き電極）を形成し、その他の領域の導電体（電極）にスペーサの帯電極性と同極性の電圧を印加することにより、図７に示されるのと同様な電場が得られ、電気的に他との接続が行われていない導電体上にスペーサを配置させることができる。
【００７９】
この場合も、転写体が、基板として絶縁体を用い、基板の表面に、パターン状の導電体、又は、パターン状の導電体及び絶縁体を積層してなるものである場合には、転写体をアースされたステージに設置する必要がある。また、転写体が、基板として導電体を用い、基板の表面に、絶縁体及びパターン状の導電体、又は、絶縁体、パターン状の導電体及び絶縁体を積層してなるものである場合には、導電体である基板をアースするか、スペーサの帯電極性と逆極性の電圧を印加してもよい。
【００８０】
従って、転写体におけるパターン状の導電体に対し、スペーサを電気的に他との接続が行われていない導電体上に配列させ、液晶表示装置用基板のブラックマトリックスの位置に相当させて転写させることにより、スペーサを液晶表示装置用基板のブラックマトリックス直下部分に配置させることが可能となる。
【００８１】
また、スペーサの配列の方法としては、転写体におけるパターン状の導電体としてストライプ状の導電体（電極）を基板上に形成し、その並んだ各導電体（電極）に交互に異なる電位を形成してスペーサの配列を行ってもよい。このとき、各導電体（電極）に形成される電位は、スペーサの帯電極性と同極性であっても、異極性であってもよい。
【００８２】
この状態で、例えば、図１１に示されるように、正極性（＋）に帯電したスペーサの散布を行うと、スペーサは低い電位の導電体（電極）の中心に配列させることができる。この場合、ストライプ状の導電体（電極）上に配列されるスペーサの位置をブラックマトリックス部分と一致させればよい。なお、図１１では、異なる電位が＋と−とで示されている。
【００８３】
このようなスペーサの配列の方法は、例えば、図１２に示されるようなパターン状の導電体を用いることにより実現することができる。つまり、ストライプ状の導電体（電極）に＋−の電位を交互に形成した場合、正極性（＋）に帯電したスペーサは＋の電位が形成された導電体（電極）に反発され、−の電位が形成された導電体（電極）に引かれるため、−の電位が形成された導電体（電極）の中心にスペーサを配列させることができる。従って、この配列ピッチをブラックマトリックスのピッチに合わせることにより、スペーサをブラックマトリックス部分に転写させることが可能となる。
【００８４】
別の態様の本発明の液晶表示装置の製造方法においては、転写体として、基板に導電体を用いる場合には、ステージをアースせず、ステージ自体に直接電圧の印加を行って、転写体における導電体である基板に電圧を印加するのと同じ状態をつくり出してもよい。
【００８５】
別の態様の本発明の液晶表示装置の製造方法においては、上述したように、転写体におけるパターン状の導電体に１つ若しくは２つ以上の電位を付与し、及び／又は、転写体における基板が導電体の場合には、基板とパターン状の導電体とに異なる電位を付与することにより、スペーサを転写体上に配列させることができる。
【００８６】
従って、スペーサの帯電極性、転写体におけるパターン状の導電体に付与する電位や、転写体における基板が導電体の場合には、基板とパターン状の導電体とに付与する電位を調整することにより、転写体上において、パターン状の導電体の間隙にスペーサを配列させることもでき、パターン状の導電体上にスペーサを配列させることもできる。
【００８７】
本発明の液晶表示装置の製造方法では、スペーサが基材粒子の表面に被覆層が化学的に結合されていることから、上記基材粒子と被覆層との結合を強固なものとすることができ、これらが容易に剥がれることがない。また、上記スペーサを転写体上に配列させ、液晶表示装置用基板と転写体上のスペーサとを接触させることにより、転写体側から液晶表示装置用基板側にスペーサを転写させるため、スペーサを液晶表示装置の電極パターンに関係なく、任意の位置に確実に配置させることができる。従って、スペーサを画素部から排除することが可能となり、コントラストの高い液晶表示装置がどのタイプの液晶表示装置でも製造可能となる。このような本発明の液晶表示装置の製造方法に用いられる転写体もまた、本発明の１つである。
【００８８】
本発明の液晶表示装置の製造方法によって製造されてなる液晶表示装置は、ブラックマトリックス部分等へのスペーサの配置精度が高いことから、スペーサが画素部から排除され、高いコントラストを有するものである。このような液晶表示装置もまた、本発明の１つである。
【発明の効果】
【００８９】
本発明によれば、液晶表示装置用基板の所望の位置にスペーサを確実に配置することができる液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置及び転写体を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００９０】
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
【００９１】
（実施例１）
まず、転写体として、ガラス基板上にレジストを塗布して、フォトリソグラフィー法により、図５に示したように、高さ１０μｍ、頂上の幅２０μｍの台形状の凹凸をピッチ３００μｍでストライプ状に形成したものを準備した。
液晶表示装置用基板として、ＴＦＴ型液晶表示装置用のコモン導電体基板を準備した。なお、このコモン電極基板において、ブラックマトリックスピッチ（カラーフィルタＲＧＢを一画素としたピッチ）は３００μｍであり、ブラックマトリックスの幅は３０μｍである。
【００９２】
次に、ポリビニルアルコールの３％水溶液８００重量部に、ジビニルベンゼン１００重量部、過酸化ベンゾイル２重量部の混合液を加え、ホモジナイザーにて攪拌して粒度調整を行った。その後、攪拌しながら窒素気流下にて、８０℃まで昇温し、１５時間反応を行った。得られた微粒子を熱イオン交換水及びメタノールにて洗浄後、分級操作を行うことにより基材粒子を作製した。得られた基材粒子は、平均粒径６．０μｍ、ＣＶ値５％であった。
【００９３】
セパラブルフラスコに、イオン交換水１００重量部、アセトン１００重量部、ラウリルメタクリレート５重量部、メトキシポリエチレングリコールモノメタクリレート（平均ＥＯ付加モル数ｍ＝２３）３重量部、及び、得られた基材粒子５重量部を加えて、ソニケーターにより充分分散させた後、均一に攪拌を行った。
次に、窒素ガスを導入し、３０℃にて３時間攪拌を行った。これに、１ｍｏｌ／Ｌの硝酸水溶液を用いて調製した０．１ｍｏｌ／Ｌの硝酸第二セリウムアンモニウム溶液１２．５重量部を添加し５時間反応させた。
反応終了後、反応液を取り出し、孔径３μｍのメンブランフィルターにて粒子と反応液とを濾別した。得られた粒子をエタノール及びアセトンにて充分洗浄し、真空乾燥機にて、減圧乾燥することにより、表面にグラフト重合体からなる被覆層が形成されたスペーサを作製した。
【００９４】
次いで、スペーサの乾式散布装置として、ＤＩＳＰＡ−μＲ（商品名、日清エンジニアリング社製）を用いて、転写体上に得られたスペーサを均一に配置させた。
次に、コモン電極基板を１００℃のホットプレート上で密着させて加熱し、先にスペーサの散布を行った転写体の凸の位置とブラックマトリックス部分との位置合わせを行い、図２の要領で約０．０６ｋｇｆ／ｃｍ2の荷重で１０秒間スペーサに接触させた。
【００９５】
その後、コモン電極基板を引き離した。このスペーサが転写されたコモン電極基板を光学顕微鏡で観察したところ、スペーサはブラックマトリックスの位置に配置されていた。
また、転写体の凸の位置上のスペーサを光学顕微鏡で観察したところ、ほとんど全てのスペーサが転写され、存在していなかった。
このスペーサが配置されたコモン電極基板を使用して、従来と同様の工程でＴＦＴ型液晶表示装置を製造した。このＴＦＴ型液晶表示装置は、表示画素内にスペーサが存在しないため、コントラストが高く、良好な表示特性を有するものであった。
【００９６】
（実施例２）
実施例１において、転写体として、図４に示したように、線幅３０μｍの針金を３００μｍピッチで複数形成したものを準備した。また、コモン電極基板を１００℃のホットプレート上で密着させて加熱し、約０．０６ｋｇｆ／ｃｍ2の荷重で１０秒間スペーサに接触させる際に、先にスペーサの散布を行った転写体の針金の位置とブラックマトリックス部分の位置合わせを行い、図４の要領でスペーサに接触させたこと以外は同様に操作した。
【００９７】
スペーサが転写されたコモン電極基板を光学顕微鏡で観察したところ、スペーサはブラックマトリックスの位置に配置されていた。
また、転写体の針金上のスペーサを光学顕微鏡で観察したところ、針金の側面に付着したスペーサは若干残っていたが、ほとんど全てのスペーサが転写され、存在していなかった。
このスペーサが配置されたコモン電極基板を使用して、従来と同様の工程でＴＦＴ型液晶表示装置を製造した。このＴＦＴ型液晶表示装置は、表示画素内にスペーサが存在しないため、コントラストが高く、良好な表示特性を有するものであった。                  
【００９８】
（実施例３）
まず、転写体として、ＩＴＯが形成されたガラス基板に、ＩＴＯをフォトリソ法により、図１３に示したような２０μｍ×２７０μｍの長方形のエッチング領域を３００μｍピッチで形成し、更に、基板上にポリイミド樹脂を０．０５μｍ形成したものを準備した。
液晶表示装置用基板として、ＴＦＴ型液晶表示装置用のコモン電極基板を準備した。なお、このコモン電極基板において、ブラックマトリックスピッチ（カラーフィルタＲＧＢを一画素としたピッチ）は３００μｍであり、ブラックマトリックスの幅は２０μｍである。
転写体におけるエッチング領域は、このコモン電極基板と位置合わせを行った場合、ブラックマトリックスの位置と一致するように設計した。
【００９９】
スペーサとして、ミクロパールＡＣ（商品名、積水化学工業社製、粒子径：４．７μｍ）を使用し、スペーサの乾式散布装置として、ＤＩＳＰＡ−μＲ（商品名、日清エンジニアリング社製）を用いた。また、スペーサは、散布する際に正極性（＋）に帯電するように設定した。
転写体を散布装置内のアースされたステージに設置した。
直流電源を使用して、ＩＴＯに＋２．０ｋＶを印加し、この状態を保って、スペーサの散布を行った。
【０１００】
スペーサが散布された転写体を光学顕微鏡で観察したところ、スペーサは転写体におけるエッチング領域に配列されていた。
次に、コモン電極基板を１００℃のホットプレート上に設置して加熱し、先にスペーサの散布を行った転写体上のスペーサの配列位置とブラックマトリックス部分との位置合わせを行い、図６の要領で約０．０６ｋｇｆ／ｃｍ2の荷重で１０秒間スペーサに接触させた。
【０１０１】
その後、コモン電極基板を引き離した。このスペーサが転写されたコモン電極基板を光学顕微鏡で観察したところ、スペーサはブラックマトリックスの位置に配置されていた。
このスペーサが配置されたコモン電極基板を使用して、従来と同様の工程でＴＦＴ型液晶表示装置を製造した。このＴＦＴ型液晶表示装置は、表示画素内にスペーサが存在しないため、コントラストが高く、良好な表示特性を有するものであった。
【０１０２】
（実施例４）
実施例３において、転写体として、電極構造が図１２に示したような櫛形であり、電極がストライプ的に形成されている部分におけるＩＴＯラインの幅を１００μｍ、線間（エッチング領域）を５０μｍで形成したものを準備した。その後、実施例３と同様にポリイミド膜を表面に形成し、転写体を散布装置内のアースされたステージに設置した。
直流電源を２台使用して、櫛形の電極の一方に＋２．２０ｋＶを印加し、もう一方には＋２．００ｋＶを印加し、この状態を保って実施例３と同様に、スペーサの散布を行った。
【０１０３】
スペーサが散布された転写体を光学顕微鏡で観察したところ、スペーサは＋２．００ｋＶを印加したＩＴＯ電極の中心に図１１に示したようにほぼ一列に配列されていた。この配列ピッチは３００μｍであった。
その後、実施例３と同様にスペーサの転写を行った。このスペーサが転写されたコモン電極基板を光学顕微鏡で観察したところ、スペーサはブラックマトリックスの位置に配置されていた。
【０１０４】
（実施例５）
実施例３において、転写体として、エッチングを図１０に示したように他との接続が行われていない電極を形成するように行った。この他との接続が行われていない電極の領域は２０μｍ×２７０μｍであり、線幅１０μｍのエッチングで区画されるようにした。
【０１０５】
この転写体を用い、実施例３と同様に電圧を印加してスペーサの散布を行ったところ、スペーサは転写体における他との接続が行われていない電極領域に配置されていた。
その後、実施例３と同様にスペーサの転写を行った。このスペーサが転写されたコモン電極基板を光学顕微鏡で観察したところ、スペーサはブラックマトリックスの位置に配置されていた。
【０１０６】
（実施例６）
実施例３において、転写体として、図９に示したような構造のものとして、まず、ステンレス（ＳＵＳ）板上にアクリル製の樹脂をコーティングし、ＩＴＯ膜を形成後、エッチングにより、線幅８０μｍ、線間２０μｍ（エッチング領域）のストライプ状の電極を形成したものを準備した。その後、実施例３と同様にポリイミド膜を表面に形成し、転写体を散布装置内の絶縁体とした散布機ステージ上に設置した。
【０１０７】
転写体におけるエッチング領域は、用いたコモン電極基板と位置合わせを行った場合、カラーフィルタＲＧＢの各ドット間のブラックマトリックスのピッチに相当するように設計した。
直流電源を２台使用して、ステンレス（ＳＵＳ）板に−０．８ｋＶを印加し、ＩＴＯ電極には＋１．２ｋＶを印加し、この状態を保って実施例３と同様に、スペーサの散布を行った。
【０１０８】
スペーサが散布された転写体を光学顕微鏡で観察したところ、スペーサはエッチング領域に配列されていた。
その後、実施例３と同様にスペーサの転写を行った。このスペーサが転写されたコモン電極基板を光学顕微鏡で観察したところ、スペーサはブラックマトリックスの位置に配置されていた。
【０１０９】
（実施例７）
実施例３において、転写体として、ＩＴＯパターン形状を、用いる液晶表示装置用基板のブラックマトリックスパターンと同一パターンとしたものを準備した。その後、図１５に示したように、転写体を散布装置内の絶縁されたステンレス（ＳＵＳ）製のステージ上に設置した。
直流電源を２台使用して、ステンレス（ＳＵＳ）製のステージに＋１．５ｋＶを印加し、ＩＴＯ電極には−０．７ｋＶを印加し、この状態を保って実施例３と同様に、スペーサの散布を行った。
【０１１０】
スペーサが散布された転写体を光学顕微鏡で観察したところ、スペーサはブラックマトリックス形状の電極上に配列されていた。
その後、実施例３と同様にスペーサの転写を行った。このスペーサが転写されたコモン電極基板を光学顕微鏡で観察したところ、スペーサはブラックマトリックスの位置に配置されていた。
【産業上の利用可能性】
【０１１１】
本発明によれば、液晶表示装置用基板の所望の位置にスペーサを確実に配置することができる液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置及び転写体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０１１２】
【図１】本発明の液晶表示装置の製造方法において、熱によりスペーサを転写体側から液晶表示装置用基板側に転写させる方法を説明するための概念図である。図１中において、左の図は、転写体上にある表面にグラフト重合体からなる被覆層が形成されたスペーサに、加熱された液晶表示装置用基板を接触させるところを示す概念図であり、中央の図は、加熱された液晶表示装置用基板に接触した側のスペーサの表面が溶融又は軟化し、加熱されていない転写体に接触した側よりも接触面積が増加したところを示す概念図であり、右の図は、接触面積が大きい側の接着力が強くなるため、液晶表示装置用基板を引き離すことにより、転写体側から液晶表示装置用基板側にスペーサが転写されたところを示す概念図である。
【図２】本発明の液晶表示装置の製造方法において、転写体として凹凸のある基板を用い、まず、転写体上にスペーサを均一に配置させ、転写体の凸上のスペーサのみを転写体側から液晶表示装置用基板側に転写することを説明するための概念図である。図２中において、左の図は、凹凸のある基板である転写体上にスペーサが均一に配置されたところを示す概念図であり、右の図は、転写体の凸上のスペーサのみに液晶表示装置用基板のブラックマトリックス（ＢＭ）部分を接触させたところを示す概念図である。
【図３】本発明の液晶表示装置の製造方法において、転写体としてメッシュ状の形態のものを用い、まず、転写体上にスペーサを付着させ、転写体側から液晶表示装置用基板側に転写することを説明するための概念図である。図３中において、上の図は、メッシュ状の形態の転写体上にスペーサが付着されたところを示す概念図であり、下の図は、メッシュのピッチを液晶表示装置用基板のブラックマトリックス（ＢＭ）のピッチと一致させて接触させるところを示す概念図である。
【図４】本発明の液晶表示装置の製造方法において、転写体として複数の線状体を用い、まず、転写体上にスペーサを付着させ、転写体側から液晶表示装置用基板側に転写することを説明するための概念図である。図４中において、上の図は、複数の線状体である転写体上にスペーサが付着されたところを示す概念図であり、中央の図は、スペーサ径よりも大きな空隙（間隔）で並ぶ複数の線状体を用いてスペーサの散布を行うと、線状体上のみにスペーサが付着されることを説明するための概念図であり、下の図は、複数の線状体のピッチを液晶表示装置用基板のブラックマトリックス（ＢＭ）のピッチと一致させて接触させたところを示す概念図である。
【図５】本発明の液晶表示装置の製造方法の実施例において用いられる転写体として、ガラス基板上にレジストを塗布して、フォトリソグラフィー法により、台形状の凹凸をストライプ状に形成したものの概念図である。
【図６】別の態様の本発明の液晶表示装置の製造方法において、スペーサを転写体により液晶表示装置用基板上に配置させる方法を説明するための概念図である。図６中において、左の図は、転写体（基板）上のパターン状の導電体の間隙にスペーサが配列されたところを示す概念図であり、中央の図は、ホットプレート等で加熱された液晶表示装置用基板を転写体上に配列したスペーサに接触させるところを示す概念図であり、右の図は、付着力の差で液晶表示装置用基板にスペーサが転写されたところを示す概念図である。
【図７】別の態様の本発明の液晶表示装置の製造方法における転写体の一例を示した概念図であり、転写体としては、基板として絶縁体を用いたものである。また、この転写体をアースされたステージに設置し、転写体におけるパターン状の導電体（電極）にスペーサの帯電極性と同極性の電圧を印加した場合において、パターン状の導電体（電極）上に形成される電場を説明するための概念図でもある。図７中において、左上の図は、転写体として、上層から導電体／絶縁体（基板）として形成されている構造のものを示す概念図であり、右上の図は、転写体として、上層から絶縁体／導電体／絶縁体（基板）として形成されている構造のものを示す概念図であり、下の図は、上述したように、パターン状の導電体（電極）上に形成された電場を説明するための概念図である。
【図８】別の態様の本発明の液晶表示装置の製造方法における転写体の一例を示した概念図であり、転写体としては、基板として導電体を用いたものである。図８中において、左の図は、転写体として、上層から導電体／絶縁体／導電体（基板）として形成されている構造のものを示す概念図であり、右の図は、転写体として、上層から絶縁体／導電体／絶縁体／導電体（基板）として形成されている構造のものを示す概念図である。
【図９】別の態様の本発明の液晶表示装置の製造方法において、転写体における導電体である基板にスペーサの帯電極性と逆極性の電圧を印加し、転写体におけるパターン状の導電体（電極）にスペーサの帯電極性と同極性の電圧を印加して、斥力と引力とを利用して、パターン状の導電体（電極）の間隙にスペーサを配列させることを説明するための概念図である。
【図１０】別の態様の本発明の液晶表示装置の製造方法において、転写体の構造として、ブラックマトリックス（ＢＭ）に相当する位置を他との接続が行われていない領域とした導電体（浮き電極）と、その他の領域の導電体（電極）とを形成することを説明するための概念図である。
【図１１】別の態様の本発明の液晶表示装置の製造方法において、転写体におけるパターン状の導電体としてストライプ状の導電体（電極）を基板上に形成し、その並んだ各導電体（電極）に交互に異なる電位を形成してスペーサの配列を行うことを説明するための概念図である。
【図１２】別の態様の本発明の液晶表示装置の製造方法において、転写体におけるパターン状の導電体（電極）としてストライプ状の導電体（電極）を基板上に形成し、ストライプ状の導電体（電極）に＋−の電位を交互に形成することを説明するための概念図である。
【図１３】別の態様の本発明の液晶表示装置の製造方法において、転写体におけるパターン状の導電体（電極）の構造の一例として、導電体（電極）の存在しない領域が長方形、十字の場合を説明するための概念図である。図１３中において、上の図は、導電体（電極）の存在しない領域が長方形の場合の転写体を上からみた概念図であり、中央の図は、導電体（電極）の存在しない領域が十字の場合の転写体を上からみた概念図であり、下の図は、液晶表示装置用基板（カラーフィルタ等省略）を横からみた概念図である。また、導電体（電極）の存在しない領域にスペーサを配列させ、転写体における導電体（電極）の存在しない領域と、液晶表示装置用基板におけるブラックマトリックス（ＢＭ）との位置を合わせることを説明するための概念図でもあり、転写体における導電体（電極）の存在しない領域のピッチと液晶表示装置用基板におけるブラックマトリックス（ＢＭ）のピッチとを合わせることを説明するための概念図でもある。
【図１４】別の態様の本発明の液晶表示装置の製造方法において、転写体とカラーフィルタ基板とを重ねた場合における転写体におけるパターン状の導電体（電極）の存在しない領域と、液晶表示装置用基板におけるブラックマトリックス（ＢＭ）の位置との位置関係を説明するための概念図である。また、電極の存在しない領域の形状は任意とすることができることを説明するための概念図でもある。
【図１５】別の態様の本発明の液晶表示装置の製造方法において、転写体における導電体である基板にスペーサの帯電極性と同極性の電圧を印加し、基板上のパターン状の導電体（電極）にスペーサの帯電極性と逆極性の電圧を印加して、斥力と引力とを利用して、パターン状の導電体（電極）上にスペーサを配列させることを説明するための概念図である。また、ステージを電気的に浮いた状態として、ステージ自体に直接に電圧の印加を行った場合を示すための概念図でもある。
【図１６】従来のＴＦＴ型液晶表示装置の断面概念図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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