(57)【要約】【課題】  液晶表示装置用基板の所望の位置にスペーサを確実に配置することができる液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置及び転写体を提供することを目的とする。【解決手段】  ２枚の基板間に、液晶を封入してなる液晶表示装置の製造方法であって、刺激により気体を発生する転写体上にスペーサを配置させ、液晶表示装置用基板と前記転写体上の前記スペーサとを狭い隙間を空けて対向させるか、又は、接触させた後、前記転写体に刺激を与えることにより、前記転写体を前記スペーサから剥離させ、前記スペーサを液晶表示装置用基板上に配置させる液晶表示装置の製造方法。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
２枚の基板間に、液晶を封入してなる液晶表示装置の製造方法であって、
刺激により気体を発生する転写体上にスペーサを配置させ、
液晶表示装置用基板と前記転写体上の前記スペーサとを狭い隙間を空けて対向させるか、又は、接触させた後、
前記転写体に刺激を与えることにより、前記転写体を前記スペーサから剥離させ、
前記スペーサを液晶表示装置用基板上に配置させる
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
転写体は、少なくともスペーサを配置させる面に刺激により気体を発生する気体発生剤を含有する離型性物質を有し、前記気体発生剤から発生した気体は、前記離型性物質外へ放出されて前記離型性物質が発泡せず、かつ、前記気体発生剤から発生した気体が、前記離型性物質から前記スペーサの少なくとも一部を剥がすことを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
気体発生剤は、粒子として存在していないことを特徴とする請求項１又は２記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
液晶表示装置用基板のブラックマトリックス部分のみにスペーサを転写させることを特徴とする請求項１、２又は３記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
請求項１、２、３又は４記載の液晶表示装置の製造方法により製造されてなることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
請求項１、２、３又は４記載の液晶表示装置の製造方法に用いられることを特徴とする転写体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置用基板の所望の位置にスペーサを確実に配置することができる液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置及び転写体に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、パソコン、携帯型電子機器等に広く用いられており、例えば、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ−Ｆｉｌｍ Ｔｒａｎｓｉｓｔｅｒ：薄膜トランジスタ）型液晶表示装置は、一般に、カラーフィルタ、透明電極、配向膜等が形成された基板と、薄膜トランジスタが形成された基板とに液晶を封入させてなるものである。ここで、２枚の基板間隔を規制し、適正な液晶層の厚みを維持しているのがスペーサである。
【０００３】
従来の液晶表示装置の製造方法においては、透明電極が形成された基板上にスペーサをランダムかつ均一に散布するため、液晶表示装置の表示部にもスペーサが配置されていた。このような場合、スペーサは一般的に合成樹脂やガラス等から形成されていることから、表示部にスペーサが配置されると消偏作用によりスペーサ部分が光漏れを起こすことがあった。また、スペーサの表面で液晶の配向が乱れることにより光抜けが起こり、コントラストが低下する原因となっていた。このように、スペーサに起因するコントラストの低下は、ＳＴＮ型液晶表示装置の場合でも同様に発生していた。
【０００４】
上述のような問題を解決するためには、カラーフィルタに形成されている遮光膜であるブラックマトリックスの部分にスペーサを配置すればよい。なお、ブラックマトリックスとは、液晶表示装置の表示コントラストの向上のために設けられているものであり、ＴＦＴ型液晶表示装置の場合は、素子等が外光で光誤作動しないように設けられているものである。
【０００５】
液晶表示装置において、ブラックマトリックス部分、即ち、液晶表示装置の表示画素以外の部分にスペーサを配置する技術として、特許文献１には、スペーサ散布時に、ゲート電極及びドレイン電極を同電位に保持する方法が開示されている。また、特許文献２には、スペーサ散布時に配線電極に電圧を印加する方法が開示されており、特許文献３には、配線電極に正の電圧を印加し、スペーサを負に帯電させて乾式で散布する方法が開示されている。
【０００６】
これらの技術は、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が配線電極とともに形成された基板を用い、それら配線電極に電圧を印加してスペーサの配置制御を行おうとするものである。しかしながら、薄膜トランジスタが形成された基板に、スペーサの配置制御を行うための電圧を印加すると、その電圧で素子が破壊される場合が多く、歩留まりの低下を招くものであった。
【０００７】
一方、薄膜トランジスタが形成された基板に対向する側の基板には、パターンが施されていないベタ電極が形成されている。従って、素子を電圧で破壊するようなことはないが、配線電極が存在しないので、上述したような配線電極に電圧を印加する技術を利用することはできなかった。
【０００８】
一方、ＳＴＮ型液晶表示装置においては、特許文献４には、スペーサ散布時に、スペーサ粒子を正負いずれかに帯電させ、被散布ガラス基板の透明電極に対してスペーサと同極性の電圧を印加する液晶表示装置の製造方法が開示されている。しかしながら、この技術のみでは、安定的なスペーサの配置制御が困難であった。
【０００９】
特許文献５には、光導電体を利用してスペーサを配列させ、電気的な力で転写させる液晶表示装置の製造方法が開示されている。しかしながら、この方法では、光導電体上のスペーサの帯電が弱まったり、経時的に変化する等の原因で、静電的な力でスペーサを転写させることが困難となり、安定的に連続して転写させることができないことや、光導電体上にスペーサが残存してしまうこと等の問題があった。
【００１０】
特許文献６にも、上述したのと同様に、静電的にスペーサを転写させる液晶表示装置の製造方法が開示されている。しかしながら、この方法でも、静電的な力でスペーサを転写させるため、上述したのと同様の問題があった。
【００１１】
一方、特許文献７には、インクジェット装置のノズルからスペーサ分散液の液滴を吐出して基板上に着弾させるインクジェット法によってスペーサを基板上に配置する方法が開示されている。この方法では、上述の方法のように基板にマスク等を接触させることもなく、任意の位置に任意のパターンでスペーサを配置できる点で有効な方法であるといえる。
【００１２】
しかし、このようなインクジェット法では、液晶表示装置の解像度を向上する（スペーサの配置間隔を狭める）ために、スペーサ分散液の液滴の着弾間隔を狭めると、スペーサ分散液の液滴同士が基板上で合着してしまい、一方、スペーサ分散液の液滴同士が基板上で合着しないようにインクジェットヘッドのノズルの口径を小さくしてスペーサ分散液の液滴１滴あたりの量を減らすと、スペーサ分散液の液滴の着弾位置の精度が悪くなるため、液晶表示装置の解像度を上げることができないという問題があった。
【００１３】
【特許文献１】特開平４−２５６９２５号公報
【特許文献２】特開平５−５３１２１号公報
【特許文献３】特開平５−６１０５２号公報
【特許文献４】特開平４−２０４４１７号公報
【特許文献５】特許第２５３６４５７号明細書
【特許文献６】特開平６−２５８６４７号公報
【特許文献７】特開昭５７−５８１２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明は、上記現状に鑑み、液晶表示装置用基板の所望の位置にスペーサを確実に配置することができる液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置及び転写体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は、２枚の基板間に、液晶を封入してなる液晶表示装置の製造方法であって、刺激により気体を発生する転写体上にスペーサを配置させ、液晶表示装置用基板と上記転写体上の上記スペーサとを狭い隙間を空けて対向させるか、又は、接触させた後、上記転写体に刺激を与えることにより、上記転写体を上記スペーサから剥離させ、上記スペーサを液晶表示装置用基板上に配置させる液晶表示装置の製造方法である。
以下に本発明を詳述する。
【００１６】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、２枚の基板間に、液晶を封入してなる液晶表示装置の製造方法であって、２枚の基板間隙を一定に保つスペーサを転写体により液晶表示装置用基板上に配置させる場合に適用される。
【００１７】
本発明の液晶表示装置の製造方法では、まず、刺激により気体を発生する転写体上にスペーサを配置させる。
【００１８】
上記スペーサとしては、刺激を与える前の転写体に付着させることができるものであれば、特に限定されず、例えば、樹脂からなるもの、無機材料からなるもの、樹脂系又は無機系の基材粒子の表面に被覆層が化学的に結合されているもの等が挙げられる。なかでも、樹脂系又は無機系の基材粒子の表面に被覆層が化学的に結合されているものが好ましい。
このようなスペーサは、基材粒子の表面に被覆層が化学的に結合していることから、上記スペーサの基材粒子と被覆層との結合を強固なものとすることができ、これらが容易に剥がれることがない。また、例えば、上記被覆層が熱可塑性樹脂等からなる場合には、加熱等を行うことによりスペーサの表面が溶融又は軟化し、接着性を発現することができる。上記被覆層としては、後述する基材粒子と化学的に結合されたものであれば特に限定されないが、グラフト重合体からなるものであることが好ましい。
また、基材粒子の表面に基材粒子よりも充分に小さい被覆用微粒子が基材粒子の表面に化学的に結合しているものも用いることができる。このようなスペーサは、例えば、加熱することにより溶融して接着性を発現することから、上記転写体に付着させることができ、また、後述する液晶表示装置用基板へ確実に転写することができる。更に、上記スペーサは、樹脂に顔料が分散されたものや、染料等により遮光性を付与したものであってもよい。
【００１９】
上記転写体上にスペーサを配置する際に、液晶表示装置用基板のスペーサを配置したい位置に相当する位置に上記スペーサを配置することにより、上記スペーサを上記液晶表示装置用基板の所望の位置に確実に配置することができる。
このような位置に上記スペーサを配置する方法としては、特に限定されず、例えば、上記転写体の所定の位置に電圧を印加し、帯電させたスペーサを散布することで静電的な力によって所定の位置に配置させる方法等が挙げられる。
【００２０】
上記転写体上にスペーサを配置する際には、従来から用いられている乾式散布装置機等を利用することができる。乾式散布方式では、圧縮空気や窒素を媒体として、スペーサを配管を経由させて転写体上に散布する。このとき、スペーサは配管壁と接触を繰り返すことにより安定的に帯電する。また、スペーサの帯電は配管材や配管長、圧縮空気の圧力等により調整することができる。
【００２１】
上記転写体の形状としては特に限定されず、例えば、形状が平板状であっても、ロール状であってもよい。また、表面形状についても特に限定されず、平滑であってもよく、凹凸が形成されていてもよい。後述する液晶表示装置用基板とスペーサとを狭い隙間を空けて対向させるか、又は、接触させる際において、上記転写体が平板状である場合は、転写体と液晶表示装置用基板とを平行に近づけて、液晶表示装置用基板をスペーサの表面に狭い隙間を空けて対向させるか、又は、接触させればよく、ロール状である場合は、ロールを回転させながら液晶表示装置用基板の送りスピードをその回転に合わせて、液晶表示装置用基板をスペーサの表面に狭い隙間を空けて対向させるか、又は、接触させればよい。
【００２２】
本発明の液晶表示装置の製造方法において、上記転写体は、少なくとも上記スペーサを配置する面に刺激により気体を発生する気体発生剤を含有する離型性物質を有することが好ましい。なお、本明細書において離型性物質とは、自身は粘着性を有さないが、粘着性を有する被着体を比較的容易に剥離することができる性質を有する物質をいう。
上記気体発生剤から気体を発生させる刺激としては特に限定されず、例えば、光、熱、超音波、衝撃等が挙げられる。
【００２３】
上記刺激により気体を発生する気体発生剤としては特に限定されないが、例えば、アゾ化合物、アジド化合物等が好適に用いられる。
上記アゾ化合物としては、例えば、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−メチルプロピル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−メチルエチル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−プロピル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−エチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［１，１−ビス（ヒドロキシメチル）−２−ヒドロキシエチル］プロピオンアミド｝、２，２’−アゾビス｛２−メチル−Ｎ−［２−（１−ヒドロキシブチル）］プロピオンアミド｝、２，２’−アゾビス［２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド］、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−プロペニル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス［２−（５−メチル−２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジハイドロクロライド、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジハイドロクロライド、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］ジサルフェイトジハイドロレート、２，２’−アゾビス［２−（３，４，５，６−テトラハイドロピリミジン−２−イル）プロパン］ジハイドロクロライド、２，２’−アゾビス｛２−［１−（２−ヒドロキシエチル）−２−イミダゾリン−２−イル］プロパン｝ジハイドロクロライド、２，２’−アゾビス［２−（２−イミダゾリン−２−イル）プロパン］、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）ジハイドロクロライド、２，２’−アゾビス（２−アミノプロパン）ジハイドロクロライド、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−カルボキシアシル）−２−メチル−プロピオンアミジン］、２，２’−アゾビス｛２−［Ｎ−（２−カルボキシエチル）アミジン］プロパン｝、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミドオキシム）、ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、ジメチル２，２’−アゾビスイソブチレート、４，４’−アゾビス（４−シアンカルボニックアシッド）、４，４’−アゾビス（４−シアノペンタノイックアシッド）、２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）等が挙げられる。
【００２４】
なかでも、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−メチルプロピル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス［Ｎ−（２−メチルエチル）−２−メチルプロピオンアミド］、２，２’−アゾビス（Ｎ−ヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−プロピル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−エチル−２−メチルプロピオンアミド）等の下記一般式（１）で表されるアゾアミド化合物が好ましい。
【００２５】
【化１】
2005250181.tif 000002
【００２６】
式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ低級アルキル基を表し、Ｒ３は、炭素数２以上の飽和アルキル基を表す。なお、Ｒ１とＲ２は、同一であっても、異なっていてもよい。
【００２７】
上記一般式（１）で表されるアゾアミド化合物は、熱分解温度が高いことから、上記離型性物質は、高温での使用及び安定した貯蔵が可能となる。これらのアゾ化合物は、光、熱等による刺激により窒素ガスを発生する。
【００２８】
上記アジド化合物としては、例えば、３−アジドメチル−３−メチルオキセタン、テレフタルアジド、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルベンズアジド；３−アジドメチル−３−メチルオキセタンを開環重合することにより得られるグリシジルアジドポリマー等のアジド基を有するポリマー等が挙げられる。これらのアジド化合物は、特定の波長の光、熱、超音波及び衝撃等による刺激を与えることにより分解して、窒素ガスを発生する。
【００２９】
これらの気体発生剤のうち、上記アジド化合物は衝撃を与えることによっても容易に分解して窒素ガスを放出することから、取り扱いが困難であるという問題がある。更に、上記アジド化合物は、いったん分解が始まると連鎖反応を起こして爆発的に窒素ガスを放出しその制御ができないことから、爆発的に発生した窒素ガスによって被着体が損傷することがあるという問題もある。このような問題から上記アジド化合物の使用量は限定されるが、限定された使用量では充分な効果が得られないことがある。
【００３０】
一方、上記アゾ化合物は、アジド化合物とは異なり衝撃によっては気体を発生しないことから取り扱いが極めて容易である。また、連鎖反応を起こして爆発的に気体を発生することもないため被着体を損傷することもなく、光の照射を中断すれば気体の発生も中断できることから、用途に合わせた気体放出速度の制御が可能であるという利点もある。従って、上記気体発生剤としては、アゾ化合物を用いることがより好ましい。
【００３１】
上記気体発生剤は、粒子として存在しないことが好ましい。なお、本明細書において、気体発生剤が粒子として存在しないとは、電子顕微鏡により上記離型性物質を観察したときに気体発生剤を確認することができないことを意味する。上記離型性物質中に気体発生剤が粒子として存在すると、気体を発生させる刺激として光を照射したときに粒子の界面で光が散乱して気体発生効率が低くなってしまったり、上記離型性物質を塗膜状にしたときの表面平滑性が悪くなったりすることがある。
【００３２】
上記気体発生剤を粒子として存在しないようにするには、通常、上記離型性物質中に溶解する気体発生剤を選択するが、上記離型性物質中に溶解しない気体発生剤を選択する場合には、例えば、分散機を用いたり、分散剤を併用したりすることにより上記離型性物質中に気体発生剤を微分散させる。上記離型性物質中に気体発生剤を微分散させるためには、気体発生剤は、微小な粒子であることが好ましく、更に、必要に応じてこれらの微粒子は、例えば、分散機や混練装置等を用いてより細かい微粒子とされることがより好ましい。即ち、電子顕微鏡により上記離型性物質を観察したときに気体発生剤を確認することができない状態まで分散させることがより好ましい。
【００３３】
上記離型性物質は、上記気体発生剤から発生した気体は離型性物質外へ放出されることが好ましい。これにより、光や熱等の刺激を与えると気体発生剤から発生した気体が離型性物質からスペーサの付着面の少なくとも一部を剥がすため、容易にスペーサを転写体から剥離することができる。この際、気体発生剤から発生した気体の大部分は離型性物質の外へ放出されることが好ましい。上記気体発生剤から発生した気体の大部分が離型性物質の外へ放出されないと、離型性物質が気体発生剤から発生した気体により全体的に発泡してしまい、スペーサを離型性物質との接触面から浮き上がらせる効果を充分に得ることができず、剥がす際にスペーサに変形や破損を生じさせてしまうことがある。即ち、上記離型性物質は発泡しないことが好ましい。なお、スペーサに変形等を生じさせない程度であれば、気体発生剤から発生した気体の一部が離型性物質中に溶け込んでいたり、気泡として離型性物質中に存在していたりしてもかまわない。
【００３４】
上記離型性物質のバインダーとなる樹脂としては、離型性を有する材料を含有していれば特に限定されないが、離型性が特に良好となることから硬化型シリコーン樹脂が好ましい。かかる樹脂は、硬化型シリコーン樹脂を主成分とするタイプであってもよく、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂等の有機樹脂とのグラフト重合等による変性シリコーンタイプ等であってもよい。
硬化型シリコーン樹脂の種類としては、付加型・縮合型・紫外線硬化型・電子線硬化型・無溶剤型等、いずれの硬化反応タイプでも用いることができる。
【００３５】
上記硬化型シリコーン樹脂のうち市販されているものとてしては、信越化学工業社製のＫＳ−７２３Ａ／Ｂ、ＫＳ−７７４、ＫＳ−７７５、ＫＳ−７７８、ＫＳ−７７９Ｈ、ＫＳ−８４７Ｈ、ＫＳ−８５６、Ｘ−６２−２４２２、Ｘ−６２−２４６１、Ｘ−６２−５０３９、Ｘ−６０−５０４０、ダウ・コーニング・アジア社製のＤＫＱ３−２０２、ＤＫＱ３−２０３、ＤＫＱ３−２０４、ＤＫＱ３−２０５、ＤＫＱ３−２１０、東芝シリコーン社製のＹＳＲ−３０２２、ＴＰＲ−６７００、ＴＰＲ−６７２０、ＴＰＲ−６７２１、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製のＳＤ７２２３、ＳＤ７２２６、ＳＤ７２２９、ＬＴＣ７５０Ａ等が挙げられる。更に離型性物質の剥離性等を調整するために、剥離コントロール剤を併用してもよい。
【００３６】
また、上記離型性物質のバインダーとなる樹脂は、例えば、スペーサの性質に応じて適当なものを選択することもできる。例えば、ジメチルポリシロキサンを主成分とする熱硬化性シリコーン樹脂や、シリカ微粉末を含有するジメチルポリシロキサン、親水性を付与するように変性したシリコーン樹脂 （例えば、信越化学社製のＸ−６２−９０２２、ＫＳ−８８１，８８３）等が挙げられる。
これらの樹脂は、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
【００３７】
上記離型性物質は、上記気体発生剤としてアジド化合物又はアゾ化合物等の光による刺激により気体を発生する気体発生剤を用いる場合には、更に光増感剤を含有することが好ましい。上記光増感剤は、上記気体発生剤への光による刺激を増幅する効果を有することから、より少ない光の照射により気体を放出させることができる。また、より広い波長領域の光により気体を放出させることができるので、スペーサがアジド化合物又はアゾ化合物から気体を発生させる波長の光を通過しないものであっても、スペーサ越しに光を照射して気体を発生させることができスペーサの選択の幅が広がる。
上記光増感剤としては特に限定されないが、例えば、チオキサントン増感剤等が好適である。
【００３８】
上記離型性物質を有する転写体としては、例えば、上記離型性物質を含有する層が基材の一方の面にのみ形成されてなるもの、上記離型性物質を含有する層が基材の両面に形成されてなるもの、基材を有しないノンサポートシート（自立シート）等が挙げられる。
【００３９】
上記転写体は、少なくとも片面に複数の層が形成されたものであることが好ましい。この場合、最外層が上記離型性物質を含有する層であり、かつ、その他の層が上記離型性物質を含有しない層であることがより好ましい。これにより、上記気体発生剤から発生した気体は、スペーサとの付着面にのみ放出され、上記転写体の反対側には放出されることがなく、従って、上記転写体上に配置されたスペーサを確実に剥離することができる。
【００４０】
なお、上記転写体において、上記離型性物質を含有する層が上記離型性物質を含有しない層と接する場合には、上記離型性物質を含有する層と上記離型性物質を含有しない層とは、上記離型性物質を含有する層を構成する樹脂成分と異なる組成の樹脂成分からなることが好ましい。これにより、上記離型性物質を含有する層中の気体発生剤が他の離型性物質を含有しない層に移行することを防止することができる。
【００４１】
上記転写体が基材を有する場合、上記基材としては特に限定されないが、上記離型性物質中の気体発生剤から気体を発生させる刺激が光による刺激である場合には、光を透過又は通過するものであることが好ましく、例えば、アクリル、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、塩化ビニル、ＡＢＳ、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチルテレフタレート等のポリエステル、ナイロン、ウレタン、ポリイミド、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニリデン等の透明な樹脂からなるシート、網目状の構造を有するシート、孔が開けられたシート等が挙げられる。また、上記転写体が高温に加熱されることがある場合は、芳香族ポリエステル、ポリエーテルニトリル等の耐熱性樹脂からなるシート、網状の金属シートを埋め込み補強したシート等が好適に用いられる。
これらのシートは、延伸シートであってもよく、２軸延伸シートであることがより好ましい。また、上記基材がポリエステルからなる場合、該ポリエステルは、ホモポリマーであってもよく、第三成分を少量共重合させたものでもよく、また、これらのポリエステルを混合したものであってもよい。なお、上記ポリエステルからなる基材中には必要に応じて、酸化防止剤、熱安定剤、潤滑剤、染料、顔料等を添加することができる。
【００４２】
上記基材の厚さとしては、シートとして製膜可能な厚さであり、可撓性とともに支持体として充分な剛性及び強度を有する厚さであれば特に限定されないが、通常、下限が９μｍ、上限が３００μｍであることが好ましく、下限が１２μｍ、上限が１８８μｍであることがより好ましい。
また、上記基材に高い平滑性が求められる場合には、離型性物質を含有する層より厚いことが好ましい。
【００４３】
上記基材には、プライマー処理が施されていてもよい。
上記プライマー処理としては特に限定されず、例えば、基材の表面にプライマー樹脂を塗布する処理、基材の表面にコロナ処理を施す処理等が挙げられる。
更に、上記基材の表面には、予めプラズマ処理が施されていてもよく、塗布延伸法（インラインコーティング法）により接着層、帯電防止層等の塗布層が設けられていてもよい。
【００４４】
上記転写体において、上記離型性物質を含有する層全体の平均塗工量（乾燥後）の好ましい下限が０．０１ｇ／ｍ２、好ましい上限が２ｇ／ｍ２である。塗工量（乾燥後）が０．０１ｇ／ｍ２未満であると、塗工性の面より安定性に欠け、均一な塗膜を得るのが困難なことがあり、塗工量が２ｇ／ｍ２を超えると、離型性物質を有する層自体の塗膜密着性、硬化性等が低下することがある。より好ましい上限は１．５ｇ／ｍ２である。
【００４５】
上記転写体は、例えば、上記離型性物質を含有する層を、バーコート、グラビアコート、リバースグラビアコート、ダイコート、ドクターブレードコート等、従来公知の塗工方法で塗工することで形成することができる。なかでも上記転写体を低コストで提供できることからバーコート方式、グラビアコート方式、リバースグラビアコート方式が好ましい。
【００４６】
本発明の液晶表示装置の製造方法では、液晶表示装置用基板と上記転写体上の上記スペーサとを狭い隙間を空けて対向させるか、又は、接触させる。なお、ここでいう「狭い隙間を空けて対向させる」とは、転写体に刺激を与え、転写体からスペーサが浮き上がったときに、スペーサと液晶表示装置用基板とが接触し、スペーサを転写することができるように、スペーサと液晶表示装置用基板との間に僅かな隙間を設けておくことをいう。
【００４７】
上記液晶表示装置用基板と上記スペーサとを狭い隙間を空けて対向させるか、又は、接触させる際に、上記液晶表示装置用基板と上記転写体との間で位置合わせを行うことにより、上記スペーサを液晶表示装置用基板上の任意の位置に接触させることができ、例えば、上記スペーサを上記液晶表示装置用基板のブラックマトリックス部分に狭い隙間を空けて対向させるか、又は、接触させることが可能となる。
また、スペーサ表面が加熱によって溶融又は軟化する熱可塑性樹脂からなる場合には、上記液晶表示装置用基板を加熱することにより、上記スペーサを上記液晶表示装置用基板に付着させることができる。
【００４８】
更に、上記液晶表示装置用基板と上記スペーサとを接触させる際には、ある程度の力で転写体又は液晶表示装置用基板を押しつけてもよい。より確実に上記スペーサを上記液晶表示装置用基板に接触させることができることがあるからである。
【００４９】
上記液晶表示装置用基板（液晶表示用基板ともいう）としては特に限定されず、例えば、ガラス製基板、樹脂製基板等が挙げられる。また、基板状、フィルム状等の形状も特に限定されない。従って、カラーフィルタを有するコモン電極基板であっても、それに対向するアレイ基板、セグメント基板であってもよい。
【００５０】
更に、本発明の液晶表示装置の製造方法では、上記転写体に刺激を与えることにより、上記スペーサを上記転写体から剥離させ、上記スペーサを液晶表示装置用基板上に配置させる。
【００５１】
本発明の液晶表示装置の製造方法では、上記転写体に刺激を与えることにより、気体が発生し、該発生した気体により、上記転写体から上記スペーサが浮き上がるため、上記転写体を上記スペーサから容易に剥離させることができ、その結果、上記スペーサを上記液晶表示装置用基板上に容易に配置させることができる。
このような本発明の液晶表示装置の製造方法に用いられる転写体もまた、本発明の１つである。
【００５２】
本発明の液晶表示装置の製造方法では、転写体上にスペーサを配置する際に、液晶表示装置用基板におけるスペーサの配置位置を制御できることから、液晶表示装置の電極パターンに関係なく、スペーサを液晶表示装置用基板の任意の位置に確実に配置させることができる。従って、スペーサを画素部から排除することが可能となり、コントラストの高い液晶表示装置が、どのタイプの液晶表示装置でも製造することが可能となる。
【００５３】
本発明の液晶表示装置の製造方法によって製造されてなる液晶表示装置は、ブラックマトリックス部分等へのスペーサの配置精度が高いことから、スペーサが画素部から排除され、高いコントラストを有するものである。このような液晶表示装置もまた、本発明の１つである。
【発明の効果】
【００５４】
本発明によれば、液晶表示装置用基板の所望の位置にスペーサを確実に配置することができる液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置及び転写体を提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００５５】
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
【００５６】
（実施例１）
まず、転写体として、ＩＴＯが形成されたガラス基板に、ＩＴＯをフォトリソグラフィー法により、図１に示したような２０μｍ×２７０μｍの長方形のエッチング領域を３００μｍピッチで形成し、更に、基板上にジメチルポリシロキサン系のシリコーン樹脂液 （信越化学工業社製、ＫＳ−７１７）１００重量部と２，２’−アゾビス−（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）１００重量部とを溶解させたメチルエチルケトン（ＭＥＫ）溶液をバーコーターで塗布し、６０℃に加熱して、膜厚０．００９μｍの離型剤層を形成したものを準備した。
【００５７】
スペーサとして、ミクロパールＡＣ（商品名、積水化学工業社製、粒子径：４．７μｍ）を使用し、スペーサの乾式散布装置として、ＤＩＳＰＡ−μＲ（商品名、日清エンジニアリング社製）を用いた。また、スペーサは、散布する際に正極性（＋）に帯電するように設定した。
転写体を散布装置内のアースされたステージに設置した。
直流電源を使用して、ＩＴＯに＋２．０ｋＶを印加し、この状態を保って、スペーサの散布を行った。
【００５８】
その後、転写体に超高圧水銀灯を用いて、３６５ｎｍの紫外線を転写体への照射強度が４０ｍＷ／ｃｍ２となるよう照度を調節して照射した。
次に、コモン導電体基板を固定し、転写体を剥離した。なお、転写体は、発生した気体により、簡単にスペーサから剥離することができた。
このスペーサが配置されたコモン電極基板を光学顕微鏡で観察したところ、スペーサはブラックマトリックスの位置に配置されていた。また、このスペーサが配置されたコモン電極基板を使用して、従来と同様の工程でＴＦＴ型液晶表示装置を製造した。このＴＦＴ型液晶表示装置は、表示画素内にスペーサが存在しないため、コントラストが高く、良好な表示特性を有するものであった。
【産業上の利用可能性】
【００５９】
本発明によれば、液晶表示装置用基板の所望の位置にスペーサを確実に配置することができる液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置及び転写体を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００６０】
【図１】本発明の液晶表示装置の製造方法において、転写体におけるパターン状の導電体（電極）の構造の一例として、導電体（電極）の存在しない領域が長方形、十字の場合を説明するための概念図である。図１中において、上の図は、導電体（電極）の存在しない領域が長方形の場合の転写体を上からみた概念図であり、中央の図は、導電体（電極）の存在しない領域が十字の場合の転写体を上からみた概念図であり、下の図は、液晶表示装置用基板（カラーフィルタ等省略）を横からみた概念図である。また、導電体（電極）の存在しない領域にスペーサを配列させ、転写体における導電体（電極）の存在しない領域と、液晶表示装置用基板におけるブラックマトリックス（ＢＭ）との位置を合わせることを説明するための概念図でもあり、転写体における導電体（電極）の存在しない領域のピッチと液晶表示装置用基板におけるブラックマトリックス（ＢＭ）のピッチとを合わせることを説明するための概念図でもある。
【図１】
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