(57)【要約】【課題】基板上の配向膜にラビング処理を行う際、基板にクロスの急激な乱れに起因する帯状のムラ等の配光乱れが発生し難い、かつ高歩留まりにより製造することができる液晶表示装置を提供する。【解決手段】ラビングローラ２により配向膜にラビング処理が施された一対の基板を有する液晶表示装置において、少なくとも１つの基板９上に形成された凹溝２９，１９の、少なくともラビングローラ２の周面２ｂに対向する上縁部２９ａ，１９ａがラビング処理の方向と略直交する直線を有さない曲線形状に形成されていることを特徴とする。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
配向膜が形成された一対の基板を有する液晶表示装置において、
前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の表示領域外に形成された凹溝の前記表示領域側の上縁部が曲線形状に形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記上縁部に、板厚方向に傾斜した面が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記面取り部は、曲面形状を有して形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記面取り部は、鈍角を有して形成されていることを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記基板上に形成された前記凹溝に、前記基板の外部端子電極が配設されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記基板上に形成された前記凹溝に、一対の基板を導通させる導通材が接触する電極が配設されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
一対の基板からなる液晶表示装置の製造方法において、
前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の表示領域外に凹溝を形成する工程と、
前記凹溝の前記表示領域側の上縁部が曲線形状でなるように面取りする工程と、
前記基板に配向膜を形成する工程と
前記ラビングローラを用いて、該ラビングローラが前記基板の外部から前記配向膜に向かって進行して、前記配向膜にラビング処理を施す工程と、
を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
一対の基板からなる液晶表示装置の製造方法において、
前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の表示領域外に凹溝を形成する工程と、
前記凹溝の前記表示領域側の上縁部が曲線形状となるように面取りする工程と、
前記基板に配向膜を形成する工程と
前記ラビングローラを用いて、該ラビングローラの周面が前記面取り部に交差する方向に当接するようラビング処理を施す工程と、
を有することを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記ラビング処理は、前記基板と前記ラビングローラの相対進行方向に対して、前記基板の進行方向と、前記ラビングローラの進行方向を平行にして基板上の配向膜にラビング処理を施す工程であることを特徴とする請求項７または８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記ラビング処理は、前記基板と前記ラビングローラの相対進行方向に対して、前記基板の一辺を特定の角度傾斜させ、前記基板の進行方向と前記ラビングローラの進行方向を平行にして基板上の配向膜にラビング処理を施す工程であることを特徴とする請求項７または８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記ラビング処理は、基板に対するラビングローラの進行方向とラビング方向が異なることを特徴とする請求項７または８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜６の液晶表示装置を用いて形成したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、電子機器に関し、特に液晶表示装置に用いる基板上に形成された溝の形状及び該基板のラビング方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
周知のように、液晶表示装置は、ガラス基板、石英基板等からなる２枚の基板間に液晶を封入して構成されており、一方の基板に、例えば薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor、以下、ＴＦＴと称す)等のスイッチング素子をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能としている。
【０００３】
また、ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、このＴＦＴ基板に相対して配置される対向基板とは、別々に製造される。ＴＦＴ基板及び対向基板は、例えばガラス又は石英基板上に、所定のパターンを有する半導体薄膜、絶縁性薄膜又は導電性薄膜を積層することによって構成される。層毎に各種膜の成膜工程とフォトリソグラフィ工程を繰り返すことによって、形成されるのである。
【０００４】
このようにして形成されたＴＦＴ基板及び対向基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わされた後、液晶が封入されるようになっている。
【０００５】
このパネル組立工程は、先ず、各基板の製造工程において夫々製造されたＴＦＴ基板と対向基板との液晶層と接する面上に、液晶分子を基板面に沿って配向させるための配向膜を形成する。この配向膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメータの厚さで印刷することにより形成される。
【０００６】
その後、焼成を行い、さらに、電圧無印加時の液晶分子の配列を決定させるためのラビング処理を施す。ラビング処理とは、布等のクロス材で表面が形成されたラビングローラに、基板表面に形成された配向膜を接触させ、直線的に移動させて、基板配向膜表面に細かい溝を形成して配向膜を配向異方性の膜にするものである。このように配向膜に一定方向の溝を形成するラビング処理を施すことにより、液晶分子の配列を規定することができる。
【０００７】
次いで、一方の基板上の周縁に接着剤となるシール部、及びＴＦＴ基板と対向基板とを導通させる導通材を設け、このシール部を用いてＴＦＴ基板と対向基板を貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させ、その後シール部の一部に設けられた切り欠きを介して液晶を封入するといった手法が用いられている。また、この際、前記導通材により、ＴＦＴ基板と対向基板とは、電気的に導通がなされる。
【０００８】
ところで、例えばＴＦＴ基板の表示領域以外の位置には、該ＴＦＴ基板の製造工程において、上層に積層された外部端子電極、あるいは一対の基板を導通させるための電極等を外方に露出するため、凹溝を形成するのが一般的である。
【０００９】
また、表示領域にも、表示不良を解消するため、凹溝を形成し、該溝内に配向膜を形成することにより、液晶分子を常に基板に対し垂直とする技術の提案がなされている（例えば特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平１０−２３２３９９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところで、上述したラビング処理には、図１０に示すように、基板１２０を、該基板１２０とラビングローラ１００の相対進行方向に対して平行に、基板１２０をラビングクロスにより構成されたラビングローラ１００の周面１００ａに当接させる手法、所謂ストレートラビングによる手法がある。
【００１１】
また、図１２に示すように、基板１２０の一辺を特定の角度θ（例えば２°叉は３°）を以って、ラビングローラ１００に当接させる手法も行われている。このように、ある特定の角度を以って基板にラビング処理を行うことにより、このラビング処理後の基板によって構成される液晶表示装置の明視角を最適な方向に設定することができる。
【００１２】
さらに、図１４に示すように、基板１２０を、該基板１２０とラビングローラ１００の相対進行方向に対して一致しない方向に、基板１２０をラビングクロスで構成されたラビングローラ１００の周面１００ａに当接させる、所謂バイアスラビングによる手法も一般的に行われている。
【００１３】
しかしながら、特許文献１に示したように、基板に凹溝を形成し、配向膜に上述した手法によりラビング処理を施すと、ラビングローラが当接する、基板上に形成された凹溝のラビングローラの周面に対向する上縁部９０ａの直線的な形状により、前記ラビングローラの周面に、クロスの毛羽立ち、毛割れ等のクロスの毛流れに乱れが生じる場合がある。
【００１４】
詳しくは、図１０及び図１２の基板においてラビング処理を行った場合は、図１１並びに図１３に示すように、基板１２０の表示領域２００に、外部端子電極８０が配設された凹溝９０のラビングローラ１００の周面に対向する直線的な形状を有する上縁部９０ａが、ラビング処理の際、ラビングローラ１００の周面１００ａに、クロスの毛羽立ち、毛割れ等のクロスの毛流れに乱れを生じさせてしまう。よって、ラビング処理後の基板１２０の表示領域２００上の配向膜に帯状のラビングムラ２００ａが生じてしまう可能性があった。
【００１５】
また、図１４において上述した場合は、図１５に示すように、基板１２０の表示領域２００に、上述した上縁部９０ａ及び、導通材が接触する電極１８０が配設された凹溝１９０のラビングローラ１００の周面に対向する直線的な形状を有する上縁部１９０ａが、ラビング処理の際、ラビングローラ１００の周面１００ａに、クロスの毛羽立ち、毛割れ等のクロスの毛流れに急激な乱れを生じさせてしまう。よって、ラビング処理後の基板１２０の表示領域２００上の配向膜に帯状のムラ２００ａ及び２００ｂが生じ、ラビングムラが生じてしまう可能性があった。
【００１６】
さらに、この表示領域２００にラビングムラを有する基板１２０を使用して構成された液晶表示装置をプロジェクタ等の投影機に用いた場合には、投影された画面に、ラビングムラが写し出されてしまうといった問題があった。
【００１７】
本発明は前記問題に着目してなされたものであり、その目的は、基板上の配向膜にラビング処理を行う際、基板にクロスの急激な乱れに起因する帯状のムラ等の配光乱れが発生し難い、かつ高歩留まりにより製造することができる液晶表示装置、液晶表示装置の製造方法、液晶表示装置を用いた電子機器を提供するにある。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
前記目的を達成するために本発明に係る液晶表示装置は、配向膜が形成された一対の基板を有する液晶表示装置において、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の表示領域外に形成された凹溝の前記表示領域側の上縁部が曲線形状に形成されていることを特徴とする。
【００１９】
本発明の液晶表示装置によれば、ラビング処理の際、ラビングローラが当接する基板上に形成された凹溝のラビングローラの周面に対向する上縁部の形状に起因する、ラビングローラ周面のクロスの毛羽立ち、毛割れ等の乱れを防止することがきる。また、ラビング処理後の基板の表示領域上の配向膜にクロスの乱れに起因する帯状のムラ等の配向乱れが発生し難くなるという効果を有する。
【００２０】
また、前記上縁部に、板厚方向に傾斜した面が形成されていることを特徴とする。
【００２１】
本発明の液晶表示装置によれば、ラビング処理の際、ラビングローラが当接する基板上に形成された凹溝のラビングローラの周面に対向する上縁部に板厚方向に傾斜した面が形成されていることにより、上縁部の形状に起因するラビングローラ周面のクロスの毛羽立ち、毛割れ等の乱れを防止することがきる。また、ラビング処理後の基板の表示領域上の配向膜にクロスの乱れに起因する帯状のムラ等の配向乱れが発生し難くなるという効果を有する。
【００２２】
さらに、前記面取り部は、曲面形状を有して形成されていることを特徴とする。
【００２３】
本発明の液晶表示装置によれば、凹溝の上縁部の面取り部は、曲面形状を有して形成されていることにより、ラビングローラの周面に対して直線を有しないことから、ラビング処理の際、ラビングローラが当接する基板上に形成された凹溝のラビングローラの周面に対向する上縁部の直線形状に起因する、ラビングローラ周面のクロスの毛羽立ち、毛割れ等の乱れを防止することがきる。また、ラビング処理後の基板の表示領域上の配向膜にクロスの乱れに起因する帯状のムラ等の配光乱れが発生し難くなるという効果を有する。
【００２４】
また、前記面取り部は、鈍角を有して形成されていることを特徴とする。
【００２５】
本発明の液晶表示装置によれば、凹溝の上縁部の面取り部は、鈍角を有して形成されていることにより、ラビングローラの周面に対して鋭角を有しないことから、ラビング処理の際、ラビングローラが当接する基板上に形成された凹溝のラビングローラの周面に対向する上縁部の直線形状に起因する、ラビングローラ周面のクロスの毛羽立ち、毛割れ等の乱れを防止することがきる。また、ラビング処理後の基板の表示領域上の配向膜にクロスの乱れに起因する帯状のムラ等の配光乱れが発生し難くなるという効果を有する。
【００２６】
さらに、前記基板上に形成された前記凹溝に、前記基板の外部端子電極が配設されることを特徴とし、また、前記基板上に形成された前記凹溝に、一対の基板を導通させる導通材が接触する電極が配設されることを特徴とする。
【００２７】
本発明の液晶表示装置によれば、ラビング処理の際、ラビングローラの周面が、基板の外部端子電極，導通材が接触する電極に当接することがないため、基板の外部端子電極，導通材が接触する電極の形状に起因するラビングローラ周面のクロスの毛羽立ち、毛割れ等の乱れを防止することがきる。また、ラビング処理後の基板の表示領域上の配向膜にクロスの乱れに起因する帯状のムラ等の配光乱れが発生し難くなるという効果を有する。
【００２８】
本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、一対の基板からなる液晶表示装置の製造方法において、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の表示領域外に凹溝を形成する工程と、前記凹溝の前記表示領域側の上縁部が曲線形状となるように面取りする工程と、前記基板に配向膜を形成する工程と前記ラビングローラを用いて、該ラビングローラが前記基板の外部から前記配向膜に向かって進行して、前記配向膜にラビング処理を施す工程と、を有することを特徴とする。
【００２９】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、液晶表示装置に用いる基板上に形成された凹溝の少なくともラビングローラの周面に対向する上縁部が、曲線形状に形成されている基板をラビング処理するため、ラビングローラが当接する基板上に形成された凹溝のラビングローラの周面に対向する上縁部の形状に起因する、ラビングローラ周面のクロスの毛羽立ち、毛割れ等の乱れを防止することがきる。
【００３０】
また、基板の表示領域上の配向膜にクロスの乱れに起因する帯状のムラ等の配光乱れが発生することを防いでラビング処理ができるので、液晶表示装置を高歩留まりにより製造することができるという効果を有する。
【００３１】
本発明に係る液晶表示装置の製造方法は、一対の基板からなる液晶表示装置の製造方法において、前記一対の基板のうち少なくとも一方の基板の表示領域外に凹溝を形成する工程と、前記凹溝の前記表示領域側の上縁部が曲線形状でなるように面取りする工程と、前記基板に配向膜を形成する工程と前記ラビングローラを用いて、該ラビングローラの周面が前記面取り部に交差する方向に当接するようラビング処理を施す工程と、を有することを特徴とする。
【００３２】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、液晶表示装置に用いる基板上に形成された凹溝の少なくともラビングローラの周面に対向する上縁部に、面取り部が形成されている基板をラビング処理するため、基板上に形成された凹溝のラビングローラの周面に対向する上縁部の形状に起因する、ラビングローラ周面のクロスの毛羽立ち、毛割れ等の乱れを防止することができる。
【００３３】
また、基板の表示領域上の配向膜にクロスの乱れに起因する帯状のムラ等の配向乱れが発生することを防いでラビング処理ができるので、液晶表示装置を高歩留まりにより製造することができるという効果を有する。
【００３４】
また、前記ラビング処理は、前記基板と前記ラビングローラの相対進行方向に対して、前記基板の進行方向と、前記ラビングローラの進行方向を平行にして基板上の配向膜にラビング処理を施す工程であることを特徴とする。
【００３５】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、基板とラビングローラの相対進行方向に対して、基板の進行方向と、ラビングローラの進行方向を平行にして、所謂ストレートラビングを用いて基板上の配向膜にラビング処理を施しても、ラビング処理の際、ラビングローラが当接する基板上に形成された凹溝のラビングローラの周面に対向する上縁部の形状に起因する、ラビングローラ周面のクロスの毛羽立ち、毛割れ等の乱れを防止することができる。
【００３６】
また、基板の表示領域上の配向膜にクロスの乱れに起因する帯状のムラ等の配光乱れが発生することを防いでラビング処理ができるので、液晶表示装置を高歩留まりにより製造することができるという効果を有する。
【００３７】
さらに、前記ラビング処理は、前記基板と前記ラビングローラの相対進行方向に対して、前記基板の一辺を特定の角度傾斜させ、前記基板の進行方向と前記ラビングローラの進行方向を平行にして基板上の配向膜にラビング処理を施す工程であることを特徴とする。
【００３８】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、基板とラビングローラの相対進行方向に対して、前記基板の一辺を特定の角度傾斜させ、前記基板の進行方向と前記ラビングローラの進行方向を平行にして基板上の配向膜にラビング処理を施しても、ラビング処理の際、ラビングローラが当接する基板上に形成された凹溝のラビングローラの周面に対向する上縁部の形状に起因する、ラビングローラ周面のクロスの毛羽立ち、毛割れ等の乱れを防止することができる。
【００３９】
また、基板の表示領域上の配向膜にクロスの乱れに起因する帯状のムラ等の配向乱れが発生することを防いでラビング処理ができるので、液晶表示装置を高歩留まりにより製造することができるという効果を有する。
【００４０】
また、前記ラビング処理は、基板に対するラビングローラの進行方向とラビング方向が異なることを特徴とする。
【００４１】
本発明の液晶表示装置の製造方法によれば、バイアスラビングにより基板上の配向膜にラビング処理を施しても、ラビング処理の際、ラビングローラが当接する基板上に形成された凹溝のラビングローラの周面に対向する上縁部の形状に起因する、ラビングローラ周面のクロスの毛羽立ち、毛割れ等の乱れを防止することができる。
【００４２】
また、基板の表示領域上の配向膜にクロスの乱れに起因する帯状のムラ等の配向乱れが発生することを防いでラビング処理ができるので、液晶表示装置を高歩留まりにより製造することができるという効果を有する。
【００４３】
本発明に係る電子機器は、前述の液晶表示装置を用いて形成したことを特徴とする。
【００４４】
本発明の電子機器によれば、電子機器に用いる液晶表示装置の基板上に形成された凹溝の上縁部を直線を有さない形状に、または上縁部に面取り部を形成することにより、基板を確実にラビング処理することができるため、表示ムラのない電子機器を提供することができるという効果を有する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４５】
以下、図面を参照にして本発明の実施の形態を説明する。尚、本実施の形態では、液晶表示装置は、例えばＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等のアクティブ素子（能動素子）が形成された基板（以下、ＴＦＴ基板と称す）及び該ＴＦＴ基板に対向配置される基板（以下、対向基板と称す）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置を例に挙げて説明する。
【００４６】
先ず、図１を参照して、液晶表示装置の構成について説明する。図１は、本発明の一実施の形態を示す液晶表示装置の概略断面図である。  
同図に示すように、液晶表示装置７０は、ＴＦＴ基板９とそれに対向して設けられる対向基板３との間に液晶５０を封入して構成される。ＴＦＴ基板９の液晶５０と接する面上に、液晶分子をＴＦＴ基板面に沿って配向させるための配向膜９ｈが形成されている。また、対向基板３の液晶５０と接する面上に、液晶分子を対向基板面に沿って配向させるための配向膜３ｈが形成されている。
【００４７】
ＴＦＴ基板９と対向基板３との間に、液晶５０を封入するシール材４１が形成されている。シール材４１は、例えばＴＦＴ基板９の輪郭形状に略一致するように配置され、ＴＦＴ基板９と対向基板３とを相互に固着する。
【００４８】
さらに、ＴＦＴ基板９と対向基板３との間に、ＴＦＴ基板９と対向基板３とを電気的に導通させる導通材６１が形成されている。導通材６１の一端は、ＴＦＴ基板９上のシール材４１のコーナー部の少なくとも１箇所において、形成された凹溝１９により外方に露出した、例えばアルミにより構成された電極６８に当接している。
【００４９】
よって、電極６８の露出した表面は、ＴＦＴ基板９の表面よりも、例えば６００μｍ程、ＴＦＴ基板９の厚さ方向下方に位置している。また、導通材６１の他端は、対向基板３の図示しない共通電極に当接している。
【００５０】
また、ＴＦＴ基板９のシール材４１の外側の領域に、ＴＦＴ基板９に形成された凹溝２９により外方に露出した、例えばアルミにより構成された外部端子電極２８が配設されている。よって、外部端子電極２８の露出した表面は、ＴＦＴ基板９の表面よりも、例えば６００μｍ程、ＴＦＴ基板９の厚さ方向下方に位置している。
【００５１】
次に、このように構成された液晶表示装置７０の基板上に形成された配向膜をラビング処理するラビング装置の構成について図２を用いて説明する。尚、以下の説明においては、ラビング処理は、ＴＦＴ基板９に施す場合を例に挙げて説明する。
【００５２】
図２に、図１の液晶表示装置のＴＦＴ基板上に形成された配向膜をラビング処理するラビング装置の構成の一例を示す。  
図２に示すように、ラビング装置１は、基台４の上面（以下、基準平面と称す）４ａに固定されたラビングローラ２と、ラビング処理の際にＴＦＴ基板（以下、単に基板と称す）９を載置して基準平面４ａ上を移動するパレット５と、このパレット５に載置した基板９上の配向膜９ｈがラビングローラ２の周面２ｂに当接するように、パレット５を基準平面４ａ上においてガイドするガイド６と、ラビングローラ２の回転軸２ｃに回転駆動力を供給するモータ７とにより、その主要部が構成されている。
【００５３】
ラビングローラ２は、布等のクロス材で形成されたローラ周面２ｂを有するローラ部２ａと、回転軸２ｃと、一対の軸受け２ｄとにより、その主要部が構成されており、回転軸２ｃは、一対の軸受け２ｄにより基準平面４ａに平行な平面上に回転自在に軸支されている。一対の軸受け２ｄは、基準平面４ａに対し図示しない高さ調節機構を有しており、ローラ２の高さを任意に調節できるようになっている。
【００５４】
このように構成されたラビングローラ２は、軸受け２ｄで支持された回転軸２ｃを介してモータ７により回転力が供給されることにより、ローラ部２ａの周面２ｂが一方向に、例えば３００ｒｐｍで回転しながら基板９の表面に形成された配向膜９ｈに当接し、基板９の配向膜９ｈ表面に細かい溝を形成して該配向膜９ｈを配向異方性の膜にする。
【００５５】
パレット５は、ラビング処理の際に、パレット５上に基板９を載置して、基準平面４ａ上でガイド６により移動し、このパレット５に載置した基板９をラビングローラ２にそれぞれ当接させるものである。
【００５６】
尚、ガイド６は、図示しないパレット角調節機構を有し、このパレット角調節機構は、ラビング処理時に、ラビングローラ２に対して、基板９の当接角度を可変、固定するものである。
【００５７】
次に、このように構成されたラビング装置１を用いてラビング処理される基板９の形状について図３〜図８を用いて説明する。図３は、図１の基板９の凹溝１９，２９の少なくともラビングローラ２に対向する上縁部をラビング処理の方向と略直交する直線を有さない形状、例えば曲線形状に形成したことを示す概略平面図、図４は、図３の基板９の凹溝１９の少なくともラビングローラ２に対向する上縁部のみを曲線形状に形成したことを示す要部概略平面図である。
【００５８】
また、図５は、図３の基板９の凹溝２９の少なくともラビングローラ２に対向する上縁部に曲面形状を有する面取り部を形成したことを示す要部概略断面図、図６は、図３の基板９の凹溝２９の少なくともラビングローラ２に対向する上縁部に板厚方向に傾斜した面取り部を形成したことを示す要部部分断面図、図７は、図３の基板９の凹溝１９の上縁部の外周に曲面形状を有する面取り部を形成したことを示す要部概略断面図である。
【００５９】
図３に示すように、外部端子電極２８が配設された基板９に形成された凹溝２９の少なくともラビングローラ２に対向する上縁部（以下、少なくともラビングローラ２に対向する上縁部を顎と称す）２９ａは、ラビング処理の方向と略直交する直線を有さない形状、例えば曲線形状に形成されている。
【００６０】
基板９の凹溝２９の顎２９ａが、曲線形状を有して形成されていると、顎２９ａは、ラビングローラの周面に接する直線を有しないことから、ラビング処理の際、ラビングローラ２が当接する基板９上に形成された凹溝２９のラビングローラ２周面２ｂに対向する顎２９ａの直線形状に起因する、ラビングローラ周面２ｂのクロスの毛羽立ち、毛割れ等の乱れを防止することがきる。
【００６１】
よって、基板９を、該基板９とラビングローラ２の相対進行方向に対して平行に、基板９をラビングローラ２の周面２ｂに当接させる、所謂ストレートラビングを基板９の配向膜９ｈに行ったとしても、ラビング処理後の基板９の表示領域２０上の配向膜９ｈに、図１１に示すような顎２９ａによるクロスの乱れに起因する帯状のラビングムラが発生することを防ぐことができる。
【００６２】
また、ラビング処理後の基板９によって構成される液晶表示装置７０（図１参照）の明視角を最適な方向に設定するため、即ち視野角のコントラストピークを合わせ込むため
基板９の水平叉は垂直方向を特定の角度θ（例えば２°叉は３°）を以って、ラビングローラ２に当接させても、ラビング処理後の基板９の表示領域２０上の配向膜９ｈに、上述した図１３に示すように、顎２９ａによるクロスの乱れに起因する帯状のムラ等の配光乱れが発生し難くなる。
【００６３】
さらに、基板９を、該基板９とラビングローラ２の相対進行方向に対して一致しない方向に、基板９をラビングローラ２の周面２ｂに当接させる、所謂バイアスラビングを基板９の配向膜９ｈに行ったとしても、ラビング処理後の基板９の表示領域２０上の配向膜９ｈに、上述した図１５に示すように、顎２９ａによるクロスの乱れに起因する帯状のラビングムラが発生し難くなる。
【００６４】
このことから、ラビング処理後の基板９を使用して構成された液晶表示装置７０をプロジェクタ等の投影機に用いた場合に、投影された画面に、ラビングムラによる液晶の配向の乱れに起因した模様が写し出されてしまうといったことがない。
【００６５】
尚、顎２９ａに限らず、図４に示すように、電極６８が配設された凹溝１９の少なくともラビングローラ２に対向する顎１９ａのみを曲線形状に形成してもよい。また、図３に示すように、上縁部の外周をラビング処理の方向と略直交する直線を有さない形状、例えば曲線形状で構成された円で形成してもよい。
【００６６】
このことにより、基板９を、該基板９とラビングローラ２の相対進行方向に対して一致しない方向に、基板９をラビングローラ２の周面２ｂに当接させる、所謂バイアスラビングを基板９の配向膜９ｈに行ったとしても、ラビング処理後の基板９の表示領域２０上の配向膜９ｈに、上述した図１５に示すように、顎１９ａによるクロスの乱れに起因する帯状のムラ等の配向乱れが発生し難くなる。
【００６７】
さらに、基板９の凹溝２９の顎２９ａには、図５に示すように、曲面形状を有する面取り部３７を形成してもよい。凹溝２９の顎２９ａに、曲面形状を有する面取り部３７が形成されていることにより、ラビングローラ２の周面２ｂに対して直線を有しないことから、ラビング処理の際、ラビングローラ周面２ｂのクロスの毛羽立ち、毛割れ等の急激な乱れをより効果的に防止することができる。
【００６８】
また、基板９の凹溝２９の顎２９ａには、図６に示すように、鈍角θを有して板厚方向に傾斜した面取り部３７を形成してもよい。凹溝２９の顎２９ａに、鈍角θを有して板厚方向に傾斜した面取り部３７が形成されていることにより、ラビングローラ２の周面２ｂに対して鋭角を有しないことから、ラビング処理の際、ラビングローラ周面２ｂのクロスの毛羽立ち、毛割れ等の急激な乱れをより効果的に防止することができる。
【００６９】
勿論、前記曲面形状または鈍角θを有する面取り部３７は、溝１９の顎１９ａに形成してもよい。また、溝２９の顎２９ａまたは溝１９の顎１９ａを、図３，図４に示すようにラビング処理の方向と略直交する直線を有さない、例えば曲線を有する形状に形成し、さらに図５または図６に示すように、顎２９ａに面取り部３７を形成すると、ラビング処理の際、ラビングローラ周面２ｂのクロスの毛羽立ち、毛割れ等の乱れをより効果的に防止することができる。
【００７０】
尚、面取り部３７は、図７に示すように、凹溝１９の上縁部の外周に形成すれば、顎１９ａのみに面取り部３７を形成するよりも、より一層ラビング処理の際、ラビングローラ周面２ｂのクロスの毛羽立ち、毛割れ等の乱れをより効果的に防止することができる。
【００７１】
また、図８に示すように、例えば電極６８が、基板９よりも厚さ方向に凸状に突出して形成されていたとしても、突出した電極６８の上縁部に面取り部１３７を形成すれば、上述した本実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【００７２】
次に、このように構成された基板９のラビング方法について図９を用いて説明する。図９は、図１の基板の製造方法、詳しくはラビング方法を示したフローチャートである。  
図９に示すように、先ず、ステップＳ１において、各製造工程において製造された基板９に凹溝２９及び凹溝１９が、例えばエッチングにより形成される。その後、凹溝２９及び凹溝１９の顎２９ａ及び顎１９ａが、ラビング処理の方向と略直交する直線を有さない形状、例えば曲線形状に形成される場合は、ステップＳ２において、基板９に形成された凹溝２９及び溝１９の顎２９ａ及び顎１９ａが、曲線形状に形成された後（この工程をＡ工程と称す）、ステップＳ６に移行する。
【００７３】
ステップＳ１に戻って、少なくともラビングローラ２に対向する顎２９ａ及び顎１９ａに、例えば曲面形状に面取り部３７が形成されるのであれば、ステップＳ３において、溝２９及び溝１９の顎２９ａ及び顎１９ａに、面取り部３７が、例えばグラインダにより形成され（この工程をＢ工程と称す）、その後ステップＳ６に移行する。
【００７４】
ステップＳ１に戻って、凹溝２９及び凹溝１９の顎２９ａ及び顎１９ａが、曲線形状に形成され、かつ、顎２９ａ及び顎１９ａに、面取り部３７が形成されるのであれば、ステップＳ４において、顎２９ａ及び顎１９ａが、曲線形状にＡ工程にて形成された後、ステップＳ５において、顎２９ａ及び顎１９ａに、面取り部３７がＢ工程にて形成された後、ステップＳ６に移行する。
【００７５】
ステップＳ６では、顎２９ａ及び顎１９ａが曲線形状に形成された、及び／または顎２９ａ及び顎１９ａに面取り部３７が形成された基板９上の表示領域２０上に、配向膜９ｈが形成される。
【００７６】
その後、配向膜９ｈが形成された基板９がパレット５（図１参照）上に載置され、配向膜９ｈにラビング処理が施されるが、ストレートラビングが施されるのであれば、ステップＳ７に移行し、ストレートラビングにより、配向膜９ｈにラビング処理が施され、その後リターンする。
【００７７】
基板９の水平叉は垂直方向を特定の角度θ（例えば２°叉は３°）を以って、ラビングローラ２に当接させて配向膜９ｈにラビング処理が施されるのであれば、ステップＳ８に移行し、基板９の水平叉は垂直方向を特定の角度θを以って、ラビングローラ２に当接させて配向膜９ｈにラビング処理が施され、その後リターンする。
【００７８】
バイアスラビング処理が施されるのであれば、ステップＳ９に移行し、バイアスラビングにより、配向膜９ｈにラビング処理が施され、その後リターンする。
【００７９】
尚、ステップＳ７〜Ｓ９においては、ラビング処理は、顎２９ａ及び顎１９ａが、曲線形状に形成された場合は、ラビングローラ２を用いて、該ラビングローラ２の周面２ａが凹溝２９，１９に当接するようラビング処理が施される。
【００８０】
また、顎２９ａ及び顎１９ａに、面取り部３７が形成された場合は、ラビングローラ２を用いて、該ラビングローラ２の周面２ａが面取り部３７に交差する方向に当接するようラビング処理が施される。
【００８１】
このような方法により、基板９は、ラビング処理されることから、ラビングローラ２が当接する基板９上に形成された凹溝２９，１９のラビングローラの周面２ｂに対向する上縁部の形状に起因する、ラビングローラ周面２ｂのクロスの毛羽立ち、毛割れ等の乱れを防止することがきる。
【００８２】
また、基板９の表示領域２０上の配向膜９ｈにクロスの乱れに起因する帯状のムラ等の配光乱れが発生することを防いでラビング処理ができるので、液晶表示装置７０を高歩留まりにより製造することができる。
【００８３】
さらに、ラビング処理後の基板９を使用して構成された液晶表示装置７０をプロジェクタ等の投影機に用いた場合に、ラビングムラに起因する表示不良が発生するのを防ぐことができる。よって、液晶表示装置７０を高歩留まりにより製造することができる。
【００８４】
尚、本実施の形態においては、基板９の上縁部の面取り部３７は、グラインダにより形成されると示したが、これに限らず、上述した形状に加工できるのであれば、エッチングにより形成しても良い。
【００８５】
また、ＴＦＴ基板９に形成された凹溝は、外部端子電極２８、または導通材６１が当接する電極６８を外方に露出するために形成されると示したが、これに限らず、表示用端子、製造工程中の位置合わせに用いるアライメントマークを外方に露出させるために形成された凹溝に適用しても良い。
【００８６】
勿論、上述した範囲に限らず、例えば基板の表示領域、またはそれ以外の領域であっても、基板に形成される全ての凹溝に適用しても良いことは云うまでもない。基板の表示領域に溝を形成する場合は、基板に形成される配向膜の顎部も、ラビング処理の方向と略直交する直線を有さない形状に形成される、及び／または配向膜に面取り部が形成されるため、ラビング処理の際、配向膜の不要な削れが発生するのを防ぐことができる。
【００８７】
また、ＴＦＴ基板９上に形成された配向膜９ｈにラビング処理をする例を示したが、対向基板３に凹溝を形成すれば、対向基板３上に形成された配向膜３ｈにラビング処理を施しても本実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【００８８】
さらに、基板９上に形成された配向膜９ｈをラビング処理する際、パレット５上に基板９を載置して、基準平面４ａ上でガイド６により移動し、このパレット５に載置した基板９をラビングローラ２に当接させることにより配向膜９ｈにラビング処理を行うと示したが、これに限らず、基板９に対し、ラビングローラ２を移動させることにより、基板９上の配向膜９ｈにラビング処理を施しても良いことは勿論である。
【００８９】
また、パレット５には、複数の基板を戴置して、該複数の基板上に形成された配向膜にラビング処理を行ってもよい。
【００９０】
本実施の形態に適用される液晶表示装置には、例えばＴＦＴ素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置を例に挙げて示したが、これに限らず、ＴＦＤ（薄膜ダイオード）等のアクティブ素子（能動素子）を用いたアクティブマトリクス方式の液晶表示装置に適用しても良い。
【００９１】
また、本発明に係る液晶表示装置が適用できる電子機器としては、例えば、携帯電話機、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）と呼ばれる携帯型情報機器や携帯型パーソナルコンピュータ、パーソナルコンピュータ、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、液晶テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、ＰＯＳ端末機等、液晶表示装置を用いる機器が挙げられる。
【００９２】
よって、このような電子機器に本実施の形態を適用すれば、表示ムラが発生し難い液晶表示装置により構成された電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００９３】
【図１】本発明の一実施の形態を示す液晶表示装置の概略断面図。
【図２】図１中の液晶表示装置のＴＦＴ基板上に形成された配向膜をラビング処理するラビング装置の要部の構成の一例を示した概略斜視図。
【図３】図１中のＴＦＴ基板の凹状の外部端子用の凹溝の少なくともラビングローラに対向する上縁部を曲線形状に形成したことを示す概略平面図。
【図４】図３中のＴＦＴ基板の導通材用の凹溝の少なくともラビングローラに対向する上縁部のみを曲線形状に形成したことを示す要部概略平面図。
【図５】図３中のＴＦＴ基板の凹状の外部端子用の凹溝の少なくともラビングローラに対向する上縁部に曲面形状を有する面取り部を形成したことを示す要部概略断面図。
【図６】図３中のＴＦＴ基板の凹状の外部端子用の凹溝の少なくともラビングローラに対向する上縁部に板厚方向に傾斜した面取り部を形成したことを示す要部部分断面図。
【図７】図３中のＴＦＴ基板の凹状の導電材用の凹溝の上縁部の外周に曲面形状を有する面取り部を形成したことを示す要部概略断面図。
【図８】図５の面取り部を凸上の電極に形成した変形例を示す部分概略断面図。
【図９】図１の液晶表示装置のＴＦＴ基板のラビング方法を示したフローチャート。
【図１０】図１の液晶表示装置に用いる基板に、ストレートラビングを施す例を示す要部概略平面図。
【図１１】図１０のストレートラビングの結果、基板の表示領域にラビングムラが発生したことを示す要部概略平面図。
【図１２】図１の液晶表示装置に用いる基板に、ＴＦＴ基板の水平叉は垂直方向を特定の角度θを以って、ラビングローラに当接させて配向膜にラビング処理を施す例を示す要部概略平面図。
【図１３】図１２の角度を以ったラビングの結果、基板の表示領域にラビングムラが発生したことを示す要部概略平面図。
【図１４】図１の液晶表示装置に用いる基板に、バイアスラビングを施す例を示す要部概略平面図。
【図１５】図１４のバイアスラビングの結果、基板の表示領域にラビングムラが発生したことを示す要部概略平面図。
【符号の説明】
【００９４】
２…ラビングローラ、２ｂ…ローラ周面、３…対向基板、３ｈ…配向膜、９…ＴＦＴ基板、９ｈ…配向膜、１９…凹溝、１９ａ…顎部（ラビングローラの周面に対向する上縁部）、２９…顎部（ラビングローラの周面に対向する上縁部）、２９…凹溝、３７…面取り部、２８…外部端子用電極、６８…導通材が接触する電極、７０…液晶表示装置。
【図１】
2005250237.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2005250237.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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