(57)【要約】【課題】  振動子の残留振動を検出することでヘッドの吐出異常の原因を特定すること。【解決手段】  材料塗布方法は、吐出部の残留振動を検出して、前記残留振動の少なくとも１つのパラメータの値を導出するステップと、前記少なくとも１つのパラメータの値に基づいて前記ノズルの吐出異常を検出するステップと、前記少なくとも１つのパラメータの値が前記ノズルの吐出異常を示す場合に、前記少なくとも１つのパラメータの値に応じた吐出回復工程を行うステップと、を含んでいる。【選択図】  図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
吐出装置を用いた材料塗布方法であって、
前記吐出装置の吐出部の残留振動を検出して、前記残留振動の少なくとも１つのパラメータの値を導出するステップ（Ａ）と、
前記少なくとも１つのパラメータの値に基づいて前記吐出部の吐出異常を検出するステップ（Ｂ）と、
前記少なくとも１つのパラメータの値が吐出異常を示す場合に、前記少なくとも１つのパラメータの値に応じた吐出回復工程を行うステップ（Ｃ）と、
を含んだ材料塗布方法。
【請求項２】
液状の材料を含むキャビティと、駆動信号に応じて振動する振動子と、前記振動子の振動によって前記液状の材料に与えられる運動エネルギーが所定以上である場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、を有するヘッドを備えた吐出装置を用いた材料塗布方法であって、
前記振動によって生じる残留振動を検出して、前記残留振動の少なくとも１つのパラメータの値を導出するステップ（Ａ）と、
前記少なくとも１つのパラメータの値に基づいて吐出異常を検出するステップ（Ｂ）と、
前記少なくとも１つのパラメータの値が吐出異常を示す場合に、前記少なくとも１つのパラメータの値に応じた吐出回復工程を行うステップ（Ｃ）と、
を含んだ材料塗布方法。
【請求項３】
請求項１または２記載の材料塗布方法であって、
前記複数の吐出回復工程は、前記ノズルの開口部を拭取るワイピング工程、前記ノズルから前記液状の材料を捨て打ちするフラッシング工程、および前記ノズルから前記液状の材料を吸引する吸引工程を含む、
材料塗布方法。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか一つに記載の材料塗布方法であって、
前記吐出装置が、前記パラメータの値を表す信号に応じて、吐出異常の原因と異常度との組を示す複数の診断データを出力する変換部を備えており、
前記ステップ（Ｃ）は、前記パラメータの値を表す信号を前記変換部に与えて、前記複数の診断データを読み出すステップ（Ｃ１）と、前記読み出された前記複数の診断データのうちから、最も高い前記異常度を示す前記診断データを選択するステップ（Ｃ２）と、前記選択された前記診断データが示す前記原因と前記異常度との組に応じて、前記複数の吐出回復工程の内容を選択するステップ（Ｃ３）と含んでいる、
材料塗布方法。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか一つに記載の材料塗布方法であって、
前記吐出装置が、前記パラメータのタイプと値との組を表す信号に応じて、吐出異常の原因と異常度との組を示す複数の診断データを出力する変換部を備えており、
前記ステップ（Ａ）は、複数の前記パラメータのそれぞれの値を導出するステップ（Ａ１）を含み、
前記ステップ（Ｂ）は、前記複数のパラメータのそれぞれの値が、それぞれの許容範囲外にあるか否かを判定して前記吐出異常を検出するステップ（Ｂ１）と、２以上の前記パラメータの値がそれぞれの前記許容範囲外である場合に、それぞれの基準値から最もずれた値を有する前記パラメータを特定するステップ（Ｂ２）と、を含み、
前記ステップ（Ｃ）は、前記特定されたパラメータのタイプと値との組を表す信号を前記変換部に与えて、前記複数の診断データを読み出すステップ（Ｃ１）と、前記読み出された前記複数の診断データのうちから、最も高い前記異常度を示す前記診断データを選択するステップ（Ｃ２）と、前記選択された前記診断データが示す前記原因と前記異常度との組に応じて、前記複数の吐出回復工程の内容を選択するステップ（Ｃ３）と、を含む、
材料塗布方法。
【請求項６】
液状のカラーフィルタ材料を含むキャビティと、駆動信号に応じて振動する振動子と、前記振動子の振動によって前記液状のカラーフィルタ材料に与えられる運動エネルギーが所定以上である場合に前記キャビティ内の前記液状のカラーフィルタ材料を外部に吐出するノズルと、を有するヘッドを備えた吐出装置を用いたカラーフィルタ基板の製造方法であって、
前記振動によって生じる残留振動を検出して、前記残留振動の少なくとも１つのパラメータの値を導出するステップ（Ａ）と、
前記少なくとも１つのパラメータの値に基づいて吐出異常を検出するステップ（Ｂ）と、
前記少なくとも１つのパラメータの値が吐出異常を示す場合に、前記少なくとも１つのパラメータの値に応じた吐出回復工程を行うステップ（Ｃ）と、
を含んだカラーフィルタ基板の製造方法。
【請求項７】
液状の発光材料を含むキャビティと、駆動信号に応じて振動する振動子と、前記振動子の振動によって前記液状の発光材料に与えられる運動エネルギーが所定以上である場合に前記キャビティ内の前記液状の発光材料を外部に吐出するノズルと、を有するヘッドを備えた吐出装置を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、
前記振動によって生じる残留振動を検出して、前記残留振動の少なくとも１つのパラメータの値を導出するステップ（Ａ）と、
前記少なくとも１つのパラメータの値に基づいて吐出異常を検出するステップ（Ｂ）と、
前記少なくとも１つのパラメータの値が吐出異常を示す場合に、前記少なくとも１つのパラメータの値に応じた吐出回復工程を行うステップ（Ｃ）と、
を含んだエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
【請求項８】
液状の蛍光材料を含むキャビティと、駆動信号に応じて振動する振動子と、前記振動子の振動によって前記液状の蛍光材料に与えられる運動エネルギーが所定以上である場合に前記キャビティ内の前記液状の蛍光材料を外部に吐出するノズルと、を有するヘッドを備えた吐出装置を用いたプラズマ表示装置の製造方法であって、
前記振動によって生じる残留振動を検出して、前記残留振動の少なくとも１つのパラメータの値を導出するステップ（Ａ）と、
前記少なくとも１つのパラメータの値に基づいて吐出異常を検出するステップ（Ｂ）と、
前記少なくとも１つのパラメータの値が吐出異常を示す場合に、前記少なくとも１つのパラメータの値に応じた吐出回復工程を行うステップ（Ｃ）と、
を含んだプラズマ表示装置の製造方法。
【請求項９】
吐出装置の検査方法であって、
前記吐出装置の吐出部の残留振動を検出して、前記残留振動の少なくとも１つのパラメータの値を導出するステップ（Ａ）と、
前記少なくとも１つのパラメータの値に基づいて前記吐出部の吐出異常を検出するステップ（Ｂ）と、
前記少なくとも１つのパラメータの値が吐出異常を示す場合に、前記少なくとも１つのパラメータの値に応じて、前記吐出異常の原因と異常度とを判定するステップ（Ｃ）と、
を含んだ検査方法。
【請求項１０】
液状の材料を含むキャビティと、駆動信号に応じて振動する振動子と、前記振動子の振動によって前記液状の材料に与えられる運動エネルギーが所定以上である場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、を有するヘッドを備えた吐出装置の検査方法であって、
前記振動によって生じる残留振動を検出して、前記残留振動の少なくとも１つのパラメータの値を導出するステップ（Ａ）と、
前記少なくとも１つのパラメータの値に基づいて吐出異常を検出するステップ（Ｂ）と、
前記少なくとも１つのパラメータの値が前記吐出異常を示す場合に、前記少なくとも１つのパラメータの値に応じて、前記吐出異常の原因と異常度とを判定するステップ（Ｃ）と、
を含んだ検査方法。
【請求項１１】
液状の材料を含むキャビティと、駆動信号に応じて振動する振動子と、前記振動子の振動によって前記液状の材料に与えられる運動エネルギーが所定以上である場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、を有するヘッドと、
前記振動によって生じる残留振動を検出して、前記残留振動の少なくとも１つのパラメータの値を導出するとともに、前記少なくとも１つのパラメータの値に基づいて前記ノズルの吐出異常を検出する判定部と、
前記パラメータの値が前記ノズルの吐出異常を示す場合に、前記少なくとも１つのパラメータの値に応じた吐出回復工程を行うメンテナンス装置と、
を備えた吐出システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流動性を有する材料を吐出する吐出装置における吐出異常の検査方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルタ、エレクトロルミネッセンス表示装置などの製造に用いられるインクジェット装置が知られている（例えば特許文献１）。一方、インクジェット印刷装置におけるヘッド内に混入した気泡を検出する技術が知られている（例えば特許文献２）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−２２１６１６号公報
【特許文献２】特公昭５８−３０８２８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
インクジェット装置の吐出異常を引き起こす原因は複数ある。具体的には、キャビティ内への気泡の混入、吐出すべき材料の粘性の増加、ノズルプレートへの異物付着、ノズルプレートの侵食、材料の固着によるノズル内径の減少等が、吐出異常を引き起こし得る原因である。ところが、特許文献１に示すような従来の検査方法では、上記複数の原因から実際の原因を特定できない。そして、実際の原因を特定できないので、行われる吐出回復工程が適切でない場合があり、この結果、吐出回復までに時間がかかることがある。
【０００５】
本発明はこのような問題を鑑みてなされたものであり、その目的の一つは、振動子の残留振動からヘッドの吐出異常の原因を特定することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の材料塗布方法は、吐出装置を用いた材料塗布方法であって、前記吐出装置の吐出部の残留振動を検出して、前記残留振動の少なくとも１つのパラメータの値を導出するステップ（Ａ）と、前記少なくとも１つのパラメータの値に基づいて前記吐出部の吐出異常を検出するステップ（Ｂ）と、前記少なくとも１つのパラメータの値が吐出異常を示す場合に、前記少なくとも１つのパラメータの値に応じた吐出回復工程を行うステップ（Ｃ）と、を含んでいる。
【０００７】
また、本発明の材料塗布方法は、液状の材料を含むキャビティと、駆動信号に応じて振動する振動子と、前記振動子の振動によって前記液状の材料に与えられる運動エネルギーが所定以上である場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、を有するヘッドを備えた吐出装置を用いた材料塗布方法である。そして上記材料塗布方法は、前記振動によって生じる残留振動を検出して、前記残留振動の少なくとも１つのパラメータの値を導出するステップ（Ａ）と、前記少なくとも１つのパラメータの値に基づいて吐出異常を検出するステップ（Ｂ）と、前記少なくとも１つのパラメータの値が吐出異常を示す場合に、前記少なくとも１つのパラメータの値に応じた吐出回復工程を行うステップ（Ｃ）と、を含んでいる。
【０００８】
上記構成によって得られる効果の一つは、吐出異常の原因と異常度とに応じた吐出回復工程が行われ得ることである。吐出異常の原因と異常度とは、パラメータに反映されるからである。
【０００９】
本発明のある態様によれば、前記複数の吐出回復工程は、前記ノズルの開口部を拭取るワイピング工程、前記ノズルから前記液状の材料を捨て打ちするフラッシング工程、および前記ノズルから前記液状の材料を吸引する吸引工程を含む。
【００１０】
上記構成によって得られる効果の一つは、吐出異常の原因と異常度とに応じて、適切なワイピング工程、フラッシング工程、吸引工程を行えることである。
【００１１】
本発明の他の態様によれば、前記吐出装置が、前記パラメータの値を表す信号に応じて、吐出異常の原因と異常度との組を示す複数の診断データを出力する変換部を備えている。そして、前記ステップ（Ｃ）は、前記パラメータの値を表す信号を前記変換部に与えて、前記複数の診断データを読み出すステップ（Ｃ１）と、前記読み出された前記複数の診断データのうちから、最も高い前記異常度を示す前記診断データを選択するステップ（Ｃ２）と、前記選択された前記診断データが示す前記原因と前記異常度との組に応じて、前記複数の吐出回復工程の内容を選択するステップ（Ｃ３）と含む。
【００１２】
上記構成によって得られる効果の一つは、吐出異常の原因と異常度との特定がより迅速になることである。
【００１３】
本発明のさらに他の態様によれば、前記吐出装置が、前記パラメータのタイプと値との組を表す信号に応じて、吐出異常の原因と異常度との組を示す複数の診断データを出力する変換部を備えている。そして、前記ステップ（Ａ）は、複数の前記パラメータのそれぞれの値を導出するステップ（Ａ１）を含む。さらに、前記ステップ（Ｂ）は、前記複数のパラメータのそれぞれの値が、それぞれの許容範囲外にあるか否かを判定して前記吐出異常を検出するステップ（Ｂ１）と、２以上の前記パラメータの値がそれぞれの前記許容範囲外である場合に、それぞれの基準値から最もずれた値を有する前記パラメータを特定するステップ（Ｂ２）と、を含む。また、前記ステップ（Ｃ）は、前記特定されたパラメータのタイプと値との組を表す信号を前記変換部に与えて、前記複数の診断データを読み出すステップ（Ｃ１）と、前記読み出された前記複数の診断データのうちから、最も高い前記異常度を示す前記診断データを選択するステップ（Ｃ２）と、前記選択された前記診断データが示す前記原因と前記異常度との組に応じて、前記複数の吐出回復工程の内容を選択するステップ（Ｃ３）と、を含む。
【００１４】
上記構成によって得られる効果の一つは、吐出異常の原因と異常度との特定がより正確になることである。残留振動から複数のパラメータのそれぞれの値を導出するからである。
【００１５】
本発明は種々の態様で実現することが可能であり、例えば、カラーフィルタ基板の製造方法、エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法、プラズマ表示装置の製造方法などの態様で実現できる。
【００１６】
本発明の検査方法は、吐出装置の検査方法であって、前記吐出装置の吐出部の残留振動を検出して、前記残留振動の少なくとも１つのパラメータの値を導出するステップ（Ａ）と、前記少なくとも１つのパラメータの値に基づいて前記吐出部の吐出異常を検出するステップ（Ｂ）と、前記少なくとも１つのパラメータの値が吐出異常を示す場合に、前記少なくとも１つのパラメータの値に応じて、前記吐出異常の原因と異常度とを判定するステップ（Ｃ）と、を含む。
【００１７】
また、本発明の検査方法は、液状の材料を含むキャビティと、駆動信号に応じて振動する振動子と、前記振動子の振動によって前記液状の材料に与えられる運動エネルギーが所定以上である場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、を有するヘッドを備えた吐出装置の検査方法である。そして、上記検査方法は、前記振動によって生じる残留振動を検出して、前記残留振動の少なくとも１つのパラメータの値を導出するステップ（Ａ）と、前記少なくとも１つのパラメータの値に基づいて吐出異常を検出するステップ（Ｂ）と、前記少なくとも１つのパラメータの値が前記吐出異常を示す場合に、前記少なくとも１つのパラメータの値に応じて、前記吐出異常の原因と異常度とを判定するステップ（Ｃ）と、を含む。
【００１８】
上記構成によって得られる効果の一つは、残留振動を検出することで、吐出異常の原因と異常度とを判定できることである。
【００１９】
本発明の吐出システムは、液状の材料を含むキャビティと、駆動信号に応じて振動する振動子と、前記振動子の振動によって前記液状の材料に与えられる運動エネルギーが所定以上である場合に前記キャビティ内の前記液状の材料を外部に吐出するノズルと、を有するヘッドと、前記振動によって生じる残留振動を検出して、前記残留振動の少なくとも１つのパラメータの値を導出するとともに、前記少なくとも１つのパラメータの値に基づいて前記ノズルの吐出異常を検出する判定部と、前記パラメータの値が前記ノズルの吐出異常を示す場合に、前記少なくとも１つのパラメータの値に応じた吐出回復工程を行うメンテナンス装置と、を備えている。
【００２０】
上記構成によって得られる効果の一つは、吐出異常の原因と異常度に応じた吐出回復工程を行える吐出システムが得られることである。吐出異常の原因と異常度とは、残留振動のパラメータに反映されるからである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
（実施形態１）
（Ａ．吐出装置１００Ｒの全体構成）
図１の吐出装置１００Ｒは、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを保持するタンク１０１Ｒと、チューブ１１０Ｒと、チューブ１１０Ｒを介してタンク１０１Ｒから液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備えた材料塗布装置である。そして、吐出走査部１０２は、グランドステージＧＳと、吐出ヘッド部１０３と、第１位置制御装置１０４と、ステージ１０６と、第２位置制御装置１０８と、制御部１１２と、メンテナンス装置９０と、を備えている。
【００２２】
吐出ヘッド部１０３は、ステージ１０６側に液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する複数のヘッド１１４（図２）を保持している。これら複数のヘッド１１４のそれぞれは、制御部１１２からの信号に応じて、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴を吐出する。そして、タンク１０１Ｒと、吐出ヘッド部１０３における複数のヘッド１１４とは、チューブ１１０Ｒで連結されており、タンク１０１Ｒから複数のヘッド１１４のそれぞれに液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される。
【００２３】
ここで、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒは、本発明の「液状の材料」に対応する。「液状の材料」とは、ヘッド１１４のノズル（後述）から液滴として吐出可能な粘度を有する材料をいう。この場合、材料が水性であると油性であるとを問わない。ノズルから吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。
【００２４】
第１位置制御装置１０４は、制御部１１２からの信号に応じて、吐出ヘッド部１０３をＸ軸方向、およびＸ軸方向に直交するＺ軸方向に沿って移動させる。さらに、第１位置制御装置１０４は、Ｚ軸に平行な軸の回りで吐出ヘッド部１０３を回転させる機能も有する。本実施形態では、Ｚ軸方向は、鉛直方向（つまり重力加速度の方向）に平行な方向である。
【００２５】
具体的には、第１位置制御装置１０４は、Ｘ軸方向に延びる一対のリニアモータと、Ｘ軸方向に延びる一対のＸ軸ガイドレールと、Ｘ軸エアスライダと、キャリッジ回動部と、支持構造体１４と、を備えている。支持構造体１４は、これら一対のリニアモータと、一対のＸ軸ガイドレールと、一対のＸ軸エアスライダと、キャリッジ回動部とを、ステージ１０６からＺ軸方向に所定距離だけ離れた位置に固定している。一方、Ｘ軸エアスライダは、一対のＸ軸ガイドレールに移動可能に支持されている。そして、Ｘ軸エアスライダは、一対のリニアモータの働きによって、一対のＸ軸ガイドレールに沿ってＸ軸方向に移動する。吐出ヘッド部１０３はキャリッジ回動部を介してＸ軸エアスライダと連結されているので、吐出ヘッド部１０３は、Ｘ軸エアスライダとともにＸ軸方向に移動する。なお、吐出ヘッド部１０３は、吐出ヘッド部１０３におけるノズル（後述）がステージ１０６側を向くように、Ｘ軸エアスライダに支持されている。なお、キャリッジ回動部はサーボモータを有しており、吐出ヘッド部１０３をＺ軸に平行な軸の回りで回転させる機能を有する。
【００２６】
第２位置制御装置１０８は、制御部１１２からの信号に応じて、Ｘ軸方向およびＺ軸方向の双方に直交するＹ軸方向に沿ってステージ１０６を移動させる。さらに、第２位置制御装置１０８は、Ｚ軸に平行な軸の回りでステージ１０６を回転させる機能も有する。
【００２７】
具体的には、第２位置制御装置１０８は、Ｙ軸方向に延びる一対のリニアモータと、Ｙ軸方向に延びる一対のＹ軸ガイドレールと、Ｙ軸エアスライダと、支持ベースと、θテーブルと、を備えている。一対のリニアモータおよび一対のＹ軸ガイドレールは、グランドステージＧＳ上に位置している。一方、Ｙ軸エアスライダは、一対のＹ軸ガイドレールに移動可能に支持されている。そして、Ｙ軸エアスライダは、一対のリニアモータの働きによって、一対のＹ軸ガイドレールに沿ってＹ軸方向に移動する。Ｙ軸エアスライダは、支持ベースおよびθテーブルを介してステージ１０６の裏面に連結されているので、ステージ１０６は、Ｙ軸エアスライダとともにＹ軸方向に移動する。なお、θテーブルはモータを有しており、ステージ１０６をＺ軸に平行な軸の回りで回転させる機能を有する。
【００２８】
なお、本明細書では、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８を、「走査部」または「ロボット」とも表記する。
【００２９】
本実施形態におけるＸ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向は、吐出ヘッド部１０３およびステージ１０６のどちらか一方が他方に対して相対移動する方向に一致している。また、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、およびＺ軸方向を規定するＸＹＺ座標系の仮想的な原点は、吐出装置１００Ｒの基準部分に固定されている。本明細書において、Ｘ座標、Ｙ座標、およびＺ座標とは、このようなＸＹＺ座標系における座標である。なお、上記の仮想的な原点は、基準部分だけでなく、ステージ１０６に固定されていてもよいし、吐出ヘッド部１０３に固定されていてもよい。
【００３０】
上述のように、吐出ヘッド部１０３は第１位置制御装置１０４によってＸ軸方向に移動させられる。一方、ステージ１０６は第２位置制御装置１０８によってＹ軸方向に移動させられる。つまり、第１位置制御装置１０４および第２位置制御装置１０８によって、ステージ１０６に対するヘッド１１４の相対位置が変わる。より具体的には、これらの動作によって、吐出ヘッド部１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８（図２）は、ステージ１０６上で位置決めされた基体１０Ａに対して、Ｚ軸方向に所定の距離を保ちながら、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に相対的に移動、すなわち相対的に走査する。ここで、静止した被吐出部に対して吐出ヘッド部１０３がＹ軸方向に移動してもよい。そして吐出ヘッド部１０３がＹ軸方向に沿って所定の２点間を移動する期間内に、静止した被吐出部に対してノズル１１８（図２）から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出してもよい。「相対移動」または「相対走査」とは、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する側と、そこからの吐出物が着弾する側（被吐出部側）の少なくとも一方を他方に対して移動することを含む。
【００３１】
さらに、吐出ヘッド部１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８（図２）が相対移動するとは、ステージ１０６、基体１０Ａ、または被吐出部１８Ｒに対するこれらの相対位置が変わることである。このため、本明細書では、吐出ヘッド部１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８が吐出装置１００Ｒに対して静止して、ステージ１０６のみが移動する場合であっても、吐出ヘッド部１０３、ヘッド１１４、またはノズル１１８が、ステージ１０６、基体、または被吐出部に対して相対移動すると表記する。また、相対走査または相対移動と、材料の吐出と、の組合せを指して「塗布走査」と表記することもある。
【００３２】
吐出ヘッド部１０３およびステージ１０６は上記以外の平行移動および回転の自由度をさらに有している。ただし、本実施形態では、上記自由度以外の自由度に関する記載は説明を平易にする目的で省略されている。
【００３３】
制御部１１２は、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出すべき相対位置を表す吐出データを外部情報処理装置から受け取るように構成されている。制御部１１２の詳細な構成および機能は、後述する。
【００３４】
メンテナンス装置９０は、移動台９１と、吸引ユニット９２と、フラッシングユニット９３と、ワイピングユニット９４とを有している。吸引ユニット９２と、フラッシングユニット９３と、ワイピングユニット９４とは、移動台９１上に位置している。移動台９１は、吸引ユニット９２、フラッシングユニット９３およびワイピングユニット９４のいずれかのユニットが吐出ヘッド部１０３に対面するように、Ｙ軸方向に相対位置を変更して停止する。
【００３５】
吸引ユニット９２は、吐出回復工程制御部１８６（図４）からの信号に応じて、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｒを吸引する。具体的には、吸引ユニット９２がヘッド１１４の底面（ノズル１１８が露出している面）に対面するように、移動台９１が相対移動する。そして、吸引ユニット９２が有する複数の吸引部（不図示）がヘッド１１４に接するように、吸引ユニット９２がＺ軸方向に相対移動する。そして、吸引部とヘッド１１４の底面とを接しさせたままで、吸引ユニット９２は、図示しないポンプによる吸引力を利用して複数のヘッド１１４のノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吸引する。このような吸引によって、ヘッド１１４の吐出異常を解消できる。
【００３６】
複数のヘッド１１４は、吐出回復工程制御部１８６（図４）からの信号に応じて、ヘッド１１４の底面がフラッシングユニット９３に対面する位置で、カラーフィルタ材料１１１Ｒの捨て打ちを行う。具体的には、フラッシングユニット９３がヘッド１１４の底面に対面するように、移動台９１が相対移動する。そして、複数のヘッド１１４は、フラッシングユニット９３に向けて、カラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。このような吐出（捨て打ち）によって、ヘッド１１４の吐出異常を解消できる。
【００３７】
ワイピングユニット９４は、吐出回復工程制御部１８６（図４）からの信号に応じて、ヘッド１１４の底面に露出するノズル１１８の開口部を拭取る。具体的には、ワイピングユニット９４がヘッド１１４の底面に対面するように、移動台９１が相対移動する。そして、ワイピングユニット９４におけるワイパー（不図示）がヘッド１１４のノズル面に接するように、ワイピングユニット９４がＺ軸方向に相対移動する。そして、ワイパーがヘッド１１４の底面を拭取る。このような拭取りによって、ヘッド１１４の吐出異常を解消できる。
【００３８】
（Ｂ．ヘッド）
図２に示すヘッド１１４は、吐出ヘッド部１０３が有する複数のヘッド１１４の一つである。図２は、ステージ１０６側からヘッド１１４を眺めた図であり、ヘッド１１４の底面を示している。ヘッド１１４は、Ｘ軸方向に延びるノズル列１１６を有している。ノズル列１１６は、Ｘ軸方向にほぼ均等に並んだ複数のノズル１１８からなる。これら複数のノズル１１８は、ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰが約７０μｍとなるように配置されている。ここで、「ヘッド１１４のＸ軸方向のノズルピッチＨＸＰ」は、ヘッド１１４におけるノズル１１８のすべてを、Ｘ軸方向に直交する方向からＸ軸上に射像して得られた複数のノズル像間のピッチに相当する。
【００３９】
ノズル列１１６におけるノズル１１８の数は１８０個である。ただし、ノズル列１１６の両端のそれぞれ１０ノズルは「休止ノズル」として設定されている。そして、これら２０個の「休止ノズル」からは液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されない。このため、ヘッド１１４における１８０個のノズル１１８のうち、１６０個のノズル１１８が液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出するノズル１１８として機能する。本明細書では、これら１６０個のノズル１１８を「吐出ノズル１１８Ｔ」と表記することもある。
【００４０】
なお、１つのヘッド１１４におけるノズル１１８の数は、１８０個に限定されない。１つのヘッド１１４に３６０個のノズルが設けられていてもよい。
【００４１】
図３（ａ）および（ｂ）に示すように、それぞれのヘッド１１４は、インクジェットヘッドである。より具体的には、それぞれのヘッド１１４は、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、を備えている。振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、タンク１０１Ｒ（図１）から孔１３１を介して供給される液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが常に充填される液たまり１２９が位置している。
【００４２】
また、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、の間には、複数の隔壁１２２が位置している。そして、振動板１２６と、ノズルプレート１２８と、１対の隔壁１２２と、によって囲まれた部分がキャビティ１２０である。キャビティ１２０はノズル１１８に対応して設けられているため、キャビティ１２０の数とノズル１１８の数とは同じである。キャビティ１２０には、１対の隔壁１２２間に位置する供給口１３０を介して、液たまり１２９から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが供給される。
【００４３】
振動板１２６上には、それぞれのキャビティ１２０に対応して、振動子１２４が位置する。振動子１２４は、ピエゾ素子１２４Ｃと、ピエゾ素子１２４Ｃを挟む１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂと、を含む。この１対の電極１２４Ａ、１２４Ｂの間に駆動電圧を与えることで、ピエゾ素子１２４Ｃが振動する。そして、ピエゾ素子１２４の振動によって、対応するキャビティ１２０内の液状のカラーフィルタ材料に所定値以上の運動エネルギーが与えられる場合には、対応するノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。なお、ノズル１１８からＺ軸方向に液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されるように、ノズル１１８の形状が調整されている。
【００４４】
制御部１１２（図１）は、複数の振動子１２４のそれぞれに互いに独立に信号を与えるように構成されていてもよい。つまり、ノズル１１８から吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積が、制御部１１２からの信号に応じてノズル１１８毎に制御されてもよい。そのような場合には、ノズル１１８のそれぞれから吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積は、０ｐｌ〜４２ｐｌ（ピコリットル）の間で可変にしてもよい。また、制御部１１２は、後述するように、塗布工程の間に吐出動作を行うノズル１１８と、吐出動作を行わないノズル１１８と、を設定することでもできる。
【００４５】
本明細書では、１つのノズル１１８と、ノズル１１８に対応するキャビティ１２０と、キャビティ１２０に対応する振動子１２４と、を含んだ部分を「吐出部１２７」と表記することもある。この表記によれば、１つのヘッド１１４は、ノズル１１８の数と同じ数の吐出部１２７を有する。
【００４６】
吐出部１２７は、ピエゾ素子の代わりに電気熱変換素子を有してもよい。つまり、吐出部１２７は、電気熱変換素子による材料の熱膨張を利用して材料を吐出する構成を有していてもよい。吐出部１２７がピエゾ素子の代わりに電気熱変換素子を有する場合には、吐出部１２７の残留振動を検出するためのピエゾ素子を吐出部１２７の内部に設ければよい。
【００４７】
（Ｃ．制御部）
次に、制御部１１２の構成を説明する。図４に示すように、制御部１１２は、処理部２２０と、走査駆動部２２５と、ヘッド駆動部２２６と、吐出異常検出部２２７と、を備えている。なお、制御部１１２の各構成要素は、図示しないバスを介して電気的に接続されている。
【００４８】
処理部２２０は、吐出処理や吐出異常検出処理などの各種処理を実行するＣＰＵ（Central Processing Unit）２２１と、外部情報処理装置からインターフェイス（ＩＦ）を介して入力される吐出データを格納する不揮発性半導体メモリの一種であるＥＥＰＲＯＭ（Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory）２２２と、後述する吐出異常検出処理等を実行する際に各種データを一時的に格納する、あるいは吐出処理などのプログラムを一時的に展開するＲＡＭ（Random Access Memory）２２３と、各部を制御する制御プログラム等を格納するＲＯＭ２２４とを備えている。
【００４９】
制御部１１２は、処理部２２０において外部情報処理装置から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの液滴の吐出を行うための吐出データを受け取る。吐出データは、基体上のすべての被吐出部の相対位置を表すデータと、すべての被吐出部に液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒを所望の厚さにまで塗布するのに必要となる吐出の回数を示すデータと、休止ノズルを指定するデータと、吐出ノズル１１８Ｔのうち吐出を行うノズルを指定するデータと、吐出ノズル１１８Ｔのうち吐出を行わないノズルを指定するデータと、を含む。吐出データは、ＲＡＭ２２３に格納される。
【００５０】
処理部２２０は、ＲＡＭ２２３に格納された吐出データに基づいて、被吐出部に対するノズル１１８の相対位置を示すデータを走査駆動部２２５に与える。走査駆動部２２５はこのデータと、後述する吐出周期ＥＰ（図５）と、に応じた駆動信号を第２位置制御装置１０８に与える。この結果、被吐出部に対してヘッド１１４が相対走査する。一方、処理部２２０は、ＲＡＭ２２３に記憶された吐出データと、吐出周期ＥＰと、に基づいて、吐出タイミング毎のノズル１１８のオン・オフを指定する選択信号ＳＣ（ｉ）をヘッド駆動部２２６へ与える。ヘッド駆動部２２６は、選択信号ＳＣ（ｉ）に基づいて、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出に必要な吐出信号ＥＳ（ｉ）をヘッド１１４に与える。この結果、ヘッド１１４における対応するノズル１１８から、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが液滴として吐出される。
【００５１】
以上の構成によって、吐出装置１００Ｒは、制御部１１２に与えられた吐出データに応じて、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの塗布走査を行う。
【００５２】
次に制御部１１２におけるヘッド駆動部２２６の構成と機能とを説明する。図５（ａ）に示すように、ヘッド駆動部２２６は、１つのヘッド駆動回路２０３と、切替部２２８と、複数のアナログスイッチＡＳ（ｉ）とを有する。なお、切替部２２８は、処理部２２０からの駆動／検出切替え信号に応じて、複数のアナログスイッチＡＳ（ｉ）に、吐出異常検出部２２７およびヘッド駆動回路２０３のどちらかを電気的に接続する。この切替部２２８については後述する。
【００５３】
図５（ｂ）に示すように、ヘッド駆動回路２０３は駆動信号ＤＳを生成する。駆動信号ＤＳの電位は、基準電位Ｌに対して時間的に変化する。具体的には、駆動信号ＤＳは、吐出周期ＥＰで繰り返される複数の吐出波形Ｐを含む。ここで、吐出波形Ｐは、ノズル１１８から１つの液滴を吐出するために、対応する振動子１２４の一対の電極間に印加されるべき駆動電圧波形に対応する。
【００５４】
駆動信号ＤＳは、アナログスイッチＡＳ（ｉ）のそれぞれの入力端子に供給される。アナログスイッチＡＳ（ｉ）のそれぞれは、吐出部１２７のそれぞれに対応して設けられている。つまり、アナログスイッチＡＳ（ｉ）の数と吐出部１２７の数（つまりノズル１１８の数）とは同じである。
【００５５】
処理部２２０は、ノズル１１８のオン・オフを表す選択信号ＳＣ（ｉ）を、アナログスイッチＡＳ（ｉ）のそれぞれに与える。ここで、選択信号ＳＣ（ｉ）（図５のＳＣ（１）〜ＳＣ（７））は、アナログスイッチＡＳ（ｉ）毎に独立にハイレベルおよびローレベルのどちらかの状態を取り得る。一方、アナログスイッチＡＳ（ｉ）は、駆動信号ＤＳと選択信号ＳＣ（ｉ）とに応じて、振動子１２４の電極１２４Ａに吐出信号ＥＳ（ｉ）（図５のＥＳ（１）〜ＥＳ（７））を供給する。具体的には、選択信号ＳＣ（ｉ）がハイレベルの場合には、アナログスイッチＡＳ（ｉ）は電極１２４Ａに吐出信号ＥＳ（ｉ）として駆動信号ＤＳを伝播する。一方、選択信号ＳＣ（ｉ）がローレベルの場合には、アナログスイッチＡＳ（ｉ）が出力する吐出信号ＥＳ（ｉ）の電位は基準電位Ｌとなる。なお、選択信号ＳＣ（ｉ）のレベルがハイレベルに立ち上がるタイミングは、吐出波形Ｐの先頭のタイミングよりも若干早い。
【００５６】
処理部２２０から供給される選択信号ＳＣ（ｉ）におけるハイレベルの期間の長さは、αまたはβである。ここで、αの長さはβの長さよりも長く、そしてαの長さおよびβの長さは、どちらも吐出周期ＥＰの長さよりも短い。そして、選択信号ＳＣ（ｉ）のレベルがハイレベルに立ちあがるエッジのタイミングは、すべての選択信号ＳＣ（ｉ）間で同期している。
【００５７】
ハイレベルの期間の長さがαである選択信号ＳＣ（ｉ）は、残留振動が検出される振動子１２４に対応する選択信号である。αの長さは、残留振動が減衰する時間を考慮した一定値に設定される。一方、ハイレベルの期間の長さがβである選択信号ＳＣ（ｉ）は、残留振動の検出が行わなれない振動子１２４に対応する選択信号である。βの長さは、１つの吐出波形Ｐが振動子１２４に印加されるのに必要な期間に設定されている。理想的には吐出波形Ｐの長さとβの長さとは同じであればよいが、現実には吐出波形Ｐの長さよりもβの長さがわずかに長い。
【００５８】
本実施形態において、一度の吐出タイミング後に残留振動が検出されるノズル１１８の数は、吐出装置１００Ｒにおいて一つである。具体的には、図５（ｂ）に示すように、ある吐出タイミングに対応して、選択信号ＳＣ（１）は期間αだけハイレベルに維持され、ＳＣ（２）は期間βだけハイレベルに維持され、選択信号ＳＣ（３）はローレベルに維持される。一方、次の吐出タイミングに対応して、選択信号ＳＣ（１）は期間βだけハイレベルに維持され、ＳＣ（２）は期間αだけハイレベルに維持され、ＳＣ（３）はローレベルに維持される。このように、吐出タイミング毎に対応して、複数の選択信号ＳＣ（ｉ）のうち、どれか一つの選択信号ＳＣ（ｉ）が期間αだけハイレベルに設定され、残りの選択信号ＳＣ（ｉ）は期間βだけハイレベルに設定されるか、またはローレベルに維持される。処理部２２０がこのように選択信号ＳＣ（ｉ）を設定することで、吐出装置１００Ｒの吐出タイミングに応じて、残留振動を検出する対象のノズル１１８（吐出部１２７）を変えることができる。
【００５９】
一方、選択手段２２８は、選択信号ＳＣ（ｉ）の立ち上がりエッジのタイミングから期間βの長さだけ、ヘッド駆動回路２０３とアナログスイッチＡＳ（ｉ）とを接続している。したがって、期間β内に複数の吐出部１２７が動作を行う。言い換えると、期間β内に複数の振動子１２４が振動する。期間βが終わると、選択手段２２８は、アナログスイッチＡＳ（ｉ）と吐出異常検出部２２８とを接続する。このため、（α−β）の長さの期間に亘って、対応する一つの振動子１２４の残留振動によって生じる起電圧が吐出異常検出部２２７に供給される。本実施形態では、このような起電圧または起電圧の変化を「残留振動信号」とも表記する。
【００６０】
振動子１２４の電極１２４Ａに駆動信号ＤＳが与えられると、その振動子１２４に対応するノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。なお、それぞれの振動子１２４の電極１２４Ｂには基準電位Ｌが与えられている。
【００６１】
図５（ｂ）に示す例では、２つの吐出信号ＥＳ（１）、ＥＳ（２）のそれぞれにおいて、吐出周期ＥＰの２倍の周期２ＥＰで吐出波形Ｐが現れるように、２つの選択信号ＳＣ（１）、ＳＣ（２）のそれぞれにおいてハイレベルの期間とローレベルの期間とが設定されている。これによって、対応する２つのノズル１１８のそれぞれから、周期２ＥＰで液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。また、これら２つのノズル１１８に対応する振動子１２４のそれぞれには、共通のヘッド駆動回路２０３からの共通の駆動信号ＤＳがパラレルに与えられている。このため、２つのノズル１１８からほぼ同じタイミングで液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出される。
【００６２】
各キャビティ１２０内の液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒと、対応するノズル１１８におけるメニスカスと、対応する振動子１２４とは、吐出波形Ｐ（駆動信号）による吐出動作によって、次の吐出波形Ｐが入力されて再び液状の材料を吐出するまでの間、減衰振動をしている。この減衰振動を、吐出部１２７の残留振動とも称する。吐出部１２７の残留振動は、ノズル１１８の形状、あるいは液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの粘度、キャビティ１２０内（液たまり１２９）の液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの重量等によって決定される固有振動周波数を有するものと想定される。
【００６３】
こうしたヘッド１１４の吐出部１２７のそれぞれにおいて、吐出動作を行ったにもかかわらずノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが正常に吐出されない現象、すなわち液滴の吐出異常、が発生する場合がある。この吐出異常が発生する原因としては、（１）キャビティ１２０内への気泡の混入、（２）ノズル１１８付近での液状の材料の粘度の増加（増粘）、（３）ノズル１１８出口付近への異物付着、および（４）インク固着によるノズル径の変化、等が挙げられる。
【００６４】
この吐出異常が発生すると、その結果としては、典型的にはノズル１１８から液滴が吐出されないこと、すなわち液滴の不吐出現象が現れる。その場合、液状の材料が塗布される基体（ワークとも呼ぶ）に塗布抜けを生じる。また、ノズル１１８から液滴が吐出されても、液滴の量が過少であったり、その液滴の飛行方向がずれたりして適正に着弾しないので、やはり塗布抜けとなって現れる。
【００６５】
図６には、吐出部１２７の残留振動が、対応する振動子１２４の電極１２４Ａと１２４Ｂとの間に現れる起電圧で表されている。図６（ａ）は、ノズル１１８から液滴が正常吐出された時の残留振動を示す。図６（ｂ）は、キャビティ１２０内へ気泡が混入した時の残留振動を示す。図６（ｃ）は、ノズル１１８付近で液状の材料が乾燥した時の残留振動を示している。
【００６６】
一般的に減衰波形の数式は、振幅をＸ０、減衰率をσ、角速度をω、位相をφ、定数（オフセット）をα、時間をｔと表記すると、式ｙ（ｔ）＝Ｘ０ｅ−σｔｅｊ（ωｔ＋φ）＋αで表すことができる。また、残留振動成分は、振動子１２４（振動板１２６）の振動、キャビティ１２０内（液たまり１２９）を満たす液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの振動、あるいはノズル１１８のメニスカスの振動などの、さまざまな振動波形が合成された波形であると考えられる。残留振動波形をＹ（ｔ）、各振動成分をｙ１（ｔ）、ｙ２（ｔ）…と表すと、Ｙ（ｔ）＝ｙ１（ｔ）＋ｙ２（ｔ）＋…で表すことができる。
【００６７】
図６（ｂ）に示すように、吐出装置１００Ｒに衝撃などが加わることにより、キャビティ１２０内へ気泡が生じた場合、あるいはキャビティ１２０内へ気泡が混入した場合には、図６（ａ）に示す、液滴が正常吐出された時の残留振動に比較して、残留振動の周波数が高くなると共に、減衰が遅くなる。これは、キャビティ１２０内（液たまり１２９）を満たす液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの重量が気泡の混入した分減ることにより、周波数が高くなると考えられる。また、図６（ｃ）に示すように、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒに含まれる溶媒が気化するなどにより、ノズル１１８付近で液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが乾燥（増粘）した場合には、残留振動の振幅が小さくなると共に、減衰が早くなる。
【００６８】
以上に説明した吐出部１２７の残留振動の変化によって、液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出異常を検出すると共に、液滴吐出異常の原因を特定することができる。
【００６９】
図７を参照して、ヘッド駆動部２２６と吐出異常検出部２２７とをさらに説明する。ヘッド駆動部２２６は、ヘッド駆動回路２０３と、切替部２２８と、複数のアナログスイッチＡＳ（ｉ）と、を有してる。ヘッド駆動回路２０３は、駆動信号ＤＳを生成する。駆動信号ＤＳは、切替部２２８を介して複数のアナログスイッチＡＳ（ｉ）のそれぞれの入力端子に与えられる。複数のアナログスイッチＡＳ（ｉ）のそれぞれは、駆動信号ＤＳと、対応する選択信号ＳＣ（ｉ）とに応じて、対応する振動子１２４に吐出信号ＥＳ（ｉ）を与える。切替部２２８は、処理部２２０からの駆動／検出切替え信号に応じて、アナログスイッチＡＳ（ｉ）を、ヘッド駆動回路２０３および吐出異常検出部２２７におけるノイズフィルタ１８１のどちらかに電気的に接続するスイッチである。
【００７０】
吐出異常検出部２２７は、ノイズフィルタ１８１と、増幅回路１８２と、Ａ／Ｄ変換回路１８３と、デジタルフィルタ１８４と、判定部１８５と、を有している。処理部２２０からの駆動／検出切替え信号がＯＮ状態を示す場合には、切替部２２８は、アナログスイッチＡＳ（ｉ）とヘッド駆動回路２０３との電気的接続を切り離すとともに、アナログスイッチＡＳ（ｉ）とノイズフィルタ１８１とを電気的に接続する。したがって、駆動／検出切替え信号がＯＮ状態を表す場合には、振動子１２４が振動することによって生じる起電圧の時間的変動が、残留振動信号としてノイズフィルタ１８１に供給される。
【００７１】
ノイズフィルタ１８１は残留振動信号からノイズ成分を除去する。増幅回路１８２は、ノイズが除去された残留振動信号を増幅する。Ａ／Ｄ変換回路１８３は増幅回路１８２によって増幅された残留振動信号をデジタル信号に変換する。デジタル化された残留振動信号は、デジタルフィルタ１８４によるフィルタ処理を受けて、判定部１８５に入力する。判定部１８５は、フィルタ処理が施された残留振動信号から、残留振動信号の周波数、減衰率、振幅、位相、およびオフセット（振動中心からのずれ）を導出する。これら周波数、減衰率、振幅、位相、およびオフセットは、１つの振動子１２４の残留振動の周波数、減衰率、振幅、位相、およびオフセットをそれぞれ表す。以下では、残留振動の周波数、減衰率、振幅、位相、およびオフセットのそれぞれを、残留振動のパラメータＰ（ｊ）（ｊは１以上５以下の整数）とも呼ぶ。
【００７２】
判定部１８５は、導出された残留振動の各パラメータＰ（ｊ）のデータに応じて、ノズル１１８の吐出異常の有無を判定する。そして、判定部１８５は、判定結果を表すデータを生成する。
【００７３】
吐出部１２７の残留振動を表す各パラメータを検出する際には、まず切替部２２８がヘッド駆動回路２０３とアナログスイッチＡＳ（ｉ）とを電気的に接続させる。そのうえで、振動板１２６上に配置された振動子１２４（図３）の一対の電極１２４Ａ，１２４Ｂに、ヘッド駆動回路２０３からの駆動信号が、対応するアナログスイッチＡＳ（ｉ）を介して印加される。駆動信号ＤＳの駆動波形が印加された直後に、切替部（スイッチ）２２８には処理部２２０から駆動／検出切替え信号が入力されて、このことによって、ヘッド１１４（振動子１２４）と吐出異常検出部２２７のノイズフィルタ１８１とが電気的に接続される。
【００７４】
切替部２２８には、次の振動子１２４の駆動タイミングに間に合うように、処理部２２０から駆動／検出切替え信号が入力される。このことによって、再びヘッド駆動回路２０３とアナログスイッチＡＳ（ｉ）とが電気的に接続する。
【００７５】
そして、判定部１８５において判定された吐出異常の有無のデータは、処理部２２０のＲＡＭ２２３に格納される。
【００７６】
ところで、キャビティ１２０の吐出ノズル１１８Ｔのメニスカスは、振動板１２６の残留振動に同期して振動する。そして、メニスカスの振動は、ノズル１１８からの液滴Ｄの吐出量に影響を与える。このため、ノズル１１８から液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが一旦吐出された場合には、同じノズル１１８から次の液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒが吐出されるタイミングは、振動板１２６およびメニスカスの残留振動が充分に減衰した後に設定されている。本実施形態では、吐出タイミングと吐出タイミングとの間のこのような待機時間内に残留振動が検出される。
【００７７】
（Ｄ．判定部の構成）
図８に示すように、判定部１８５は、記憶部１９４と、パラメータ導出部１９０と、第１の変換部１９１と、データ選択部１９２と、第２の変換部１９３と、これらを通信可能に接続するバスと、を備えている。
【００７８】
記憶部１９４は、複数のパラメータＰ（ｊ）のそれぞれの基準値を表す基準データＥＡＳ（ｊ）と、複数のパラメータＰ（ｊ）のそれぞれの許容範囲を表す範囲データＥＡ（ｊ）とを記憶している。
【００７９】
パラメータ導出部１９０は、デジタルフィルタが処理した残留振動信号に対して、フーリエ変換やウェーブレット変換などの信号処理を行って、残留振動を表す複数のパラメータＰ（ｊ）のそれぞれの値を導出する。本実施形態では、パラメータＰ（１）、Ｐ（２）、Ｐ（３）、Ｐ（４）、およびＰ（５）はこの順番に、周波数、振幅、位相、減衰率、およびオフセットである。なお、導出するパラメータは１つであってもよい。
【００８０】
さらにパラメータ導出部１９０は、許容範囲外の値を有する１つのパラメータＰ（ｊ）を特定する。ここで、許容範囲外の値を有するパラメータＰ（ｊ）が複数導出されている場合には、対応する基準値からのずれが最も大きいパラメータＰ（ｊ）を特定する。そして判定部は、特定されたパラメータＰ（ｊ）のタイプを識別する識別子と、特定されたパラメータＰ（ｊ）の値と、を表すパラメータ特定信号ＰＳを、第１の変換部１９１に与える。なお、パラメータＰ（ｊ）のタイプは、「周波数」、「振幅」、「位相」、「減衰率」、および「オフセット」のいずれか一つに対応する。
【００８１】
本実施形態では、検出された複数のパラメータＰ（ｊ）の値のいずれもが、それぞれの許容範囲内にあれば、残留振動は正常であることを意味する。複数のパラメータＰ（ｊ）の値の一つでも、対応する許容範囲外にあれば、残留振動に異常があることを意味する。つまり、この場合、吐出異常があることを意味する。
【００８２】
第１の変換部１９１は、パラメータ特定信号ＰＳを受け取る。そして、第１の変換部１９１は、パラメータ特定信号ＰＳが表すパラメータＰ（ｊ）のタイプと、そのパラメータＰ（ｊ）の値とに応じて、複数の診断データＣＤを出力する。複数の診断データＣＤのそれぞれは、複数の吐出異常の原因のそれぞれに対応している。また、複数の診断データＣＤのそれぞれは、対応する原因と、その対応する原因による吐出異常の異常度とを、表している。
【００８３】
図９に示すように、第１の変換部１９１は、パラメータＰ（ｊ）のタイプ毎に、ルックアップテーブルＬＵＴ（ｊ）を有している。本実施形態では、パラメータＰ（ｊ）が５つあるので、ルックアップテーブルＬＵＴ（ｊ）も５つある。なお、「ｊ」は１から５までの整数を表している。
【００８４】
ルックアップテーブルＬＵＴ（ｊ）のそれぞれは、吐出異常をもたらし得る複数の原因のそれぞれについて、パラメータＰ（ｊ）の値に関連付けて異常度を示す数値を記憶している。このような機能を達成するために、ルックアップテーブルＬＵＴ（ｊ）のそれぞれは、１入力１出力のサブルックアップテーブルを複数含んでいる。ここで、サブルックアップテーブルのそれぞれが、それぞれの吐出異常の原因に対応している。本実施形態では吐出異常の原因が５つ想定されているので、１つのルックアップテーブルＬＵＴ（ｊ）内にサブルックアップテーブルが５つある。
【００８５】
サブルックアップテーブルは、パラメータＰ（ｊ）の値に関連付けて、対応する原因に関する異常度を示すデータを記憶している。サブルックアップテーブルのそれぞれは、パラメータＰ（ｊ）の値に応じて、診断データＣＤを出力する。「診断データ」とは、異常度を示すデータに、対応する原因を識別するための識別子が付されたデータである。なお、パラメータＰ（ｊ）の値と、対応する原因の異常度の数値との関係は、実験によって決定されている。
【００８６】
データ選択部１９２は、第１の変換部１９１が出力する複数の診断データＣＤを受け取る。そして、最も高い異常度（最も高い数値）を表す診断データＣＤを特定、すなわち選択する。そして、特定した診断データＣＤを第２の変換部１９３に与える。
【００８７】
第２の変換部１９３は、データ選択部１９２から診断データＣＤを受け取るとともに、診断データＣＤによって表される吐出異常の原因と異常度との組合せに応じて、コマンドＣＣを出力する。このような機能を達成するために、第２の変換部１９３はルックアップテーブルＬＵＴＢを有している。図１０は、ルックアップテーブルＬＵＴＢの構造を模式的に示している。図１０に示すように、ルックアップテーブルＬＵＴＢは、吐出異常の原因と異常度との組合せに関連付けて、吐出回復工程の内容を示すコマンドＣＣを記憶している。例えば、ルックアップテーブルＬＵＴＢは、原因「気泡混入」と異常度「４」との組合せに関連付けて、ノズル１１８からの吸引を１０秒間行い、かつノズル面のワインピング（拭取り）を１回行うことを示すコマンドＣＣを記憶している。また例えば、ルックアップテーブルＬＵＴＢは、原因「気泡混入」と異常度「２」との組合せに関連付けて、フラッシングＡの吐出を２０００発吐出するためのコマンドＣＣを記憶している。さらに例えば、ルックアップテーブルＬＵＴＢは、原因「材料の粘度変化」と異常度「３」との組合せに関連付けて、フラッシングＢの吐出を２０００発吐出するためのコマンドＣＣを記憶している。なお、フラッシングＡとフラッシングＢとでは、１つのノズル１１８からの１回の吐出によって吐出されるカラーフィルタ材料１１１Ｒの体積が異なる。本実施形態では、フラッシングＡによる吐出体積は、フラッシングＢによる吐出体積より多い。
【００８８】
吐出回復工程制御部１８６は、第２の変換部１９３からのコマンドＣＣを受け取る。そして、コマンドＣＣにしたがってメンテナンス装置９０を駆動することで、吐出回復工程を行う。
【００８９】
本実施形態では、吐出異常検出部２２７が吐出装置１００Ｒに設けられている。ただし、吐出異常検出部２２７が、吐出装置１００Ｒと通信可能に接続された外部の制御装置（例えばコンピュータ）に設けられてもよい。このような場合には、外部の吐出異常検出部２２７と吐出装置１００Ｒとを含めて「吐出装置」または「吐出システム」と表記する。
【００９０】
（Ｅ．残留振動を検出するフロー）
まず、ステップＳ０において、パラメータ導出部１９０は処理を開始する。具体的には、ステップＳ０においてパラメータ導出部１９０は、フィルタ処理がほどこされた残留振動信号から５つのパラメータＰ（ｊ）を導出する。そして、図１１に示すように、パラメータ導出部１９０は、ステップＳ２において、記憶部１９４から範囲データＥＡ（ｊ）（ｊは１から５までの整数）を読み出す。そして、導出されたパラメータＰ（ｊ）のそれぞれ値が、対応する範囲データＥＡ（ｊ）が表す許容範囲内にあるか否かを判定する。複数のパラメータＰ（ｊ）のいずれの値も、それぞれの許容範囲内にある場合（ステップＳ２がＹＥＳ）には、処理を終了する（ステップＳ１６）。複数のパラメータＰ（ｊ）のうち１つでも許容範囲外にある場合（ステップＳ２がＮＯ）には、処理はステップＳ６に進む。
【００９１】
本実施形態では、ステップＳ２における判定がＮＯの場合が、残留振動に異常があることを意味する。つまり、吐出異常があることを意味する。
【００９２】
ステップＳ６において、パラメータ導出部１９０は、許容範囲外の値を有するパラメータＰ（ｊ）をすべて特定する。そして、許容範囲外の値を有するパラメータＰ（ｊ）が複数ある場合には、対応する最適値からもっともずれた値を有するパラメータＰ（ｊ）を特定する。そして、パラメータ導出部１９０は、特定されたパラメータＰ（ｊ）を識別する識別子と、特定されたパラメータＰ（ｊ）の値と、を表すパラメータ特定信号ＰＳを、第１の変換部１９１（ルックアップテーブルＬＵＴ（ｊ））に与える。
【００９３】
ステップＳ６の次のステップＳ８において、第１の変換部１９１は、パラメータ特定信号ＰＳが識別するパラメータＰ（ｊ）のタイプと、識別されるパラメータＰ（ｊ）の値とに応じて、吐出異常を引き起こし得る複数の原因のそれぞれについて、それぞれの診断データＣＤを出力する。出力された複数の診断データＣＤは、データ選択部１９２に供給される。ここで、それぞれの診断データＣＤは、対応する原因による吐出異常の異常度を数値で表している。
【００９４】
例えば、ステップＳ６においてパラメータＰ（１）（周波数）が特定された場合には、パラメータ導出部１９０は、パラメータＰ（１）のタイプと、パラメータＰ（１）の値とを表すパラメータ特定信号ＰＳを第１の変換部１９１に与える。そうすると、ステップＳ８において、第１の変換部１９１における５つのルックアップテーブルＬＵＴ（ｊ）からルックアップテーブル（１）が選択される。そして、パラメータＰ（１）の値（周波数値Ｆａ）に応じて、ルックアップテーブルＬＵＴ（１）は、「気泡混入」の異常度が「４」であることを示す診断データＣＤと、「材料粘度変化」の異常度が「２」であることを示す診断データＣＤと、「ノズルプレート異物付着」の異常度が「３」であることを示す診断データＣＤと、「ノズルプレート侵食」の異常度が「１」であること示す診断データＣＤと、「材料の固着によるノズル径の変化」の異常度が「１」であることを示す診断データＣＤと、「ヘッド故障」の異常度が「１」であることを示す診断データＣＤとを、出力する。ここで、「気泡混入」、「材料粘度変化」、「ノズルプレート異物付着」、「ノズルプレート侵食」、および「材料の固着によるノズル径の変化」のそれぞれが、吐出異常の複数の原因のそれぞれに対応する。
【００９５】
ステップＳ８の次のステップＳ１０において、データ選択部１９２は、複数の診断データＣＤのうち、最も高い異常度（例えば、最も大きい数値）を示す診断データＣＤを選択する。最も高い異常度を示す診断データＣＤを選択することは、吐出異常の実際の原因を推測することに対応する。本実施形態では、「気泡混入」に対応する診断データＣＤが「４」であり、最も高い異常度を示しているので、「気泡混入」に対応する診断データＣＤを選択する。そして、データ選択部１９２は、特定された診断データＣＤをルックアップテーブルＬＵＴＢに与える。
【００９６】
ステップＳ１０の次のステップＳ１２において、ルックアップテーブルＬＵＴＢは、選択された診断データＣＤに応じて、吐出回復工程の内容（対処方法）を示すコマンドＣＣを出力する。本実施形態では、特定された診断データＣＤが、「気泡混入」を識別するとともに異常度「４」を示すので、ルックアップテーブルＬＵＴＢは、ノズル１１８からの吸引を１０秒間行い、かつノズル面の拭取りを１回行うためのコマンドＣＣを出力する。出力されたコマンドＣＣは、吐出回復工程制御部１８６に供給される。
【００９７】
ステップＳ１２の次のステップＳ１４において、吐出回復工程制御部１８６は、ルックアップテーブルＬＵＴＢが出力したコマンドＣＣにしたがって、ノズル１１８からの吸引を１０秒間行い、ワイピングを１回行う。
【００９８】
このように、本実施形態によれば、残留振動を検出することで導出されたパラメータの値に応じて、吐出回復工程の内容が選択される。
【００９９】
（実施形態２）
本発明をカラーフィルタ基板の製造装置に適用した例を説明する。なお、吐出異常検出処理および吐出回復工程は、実施形態１と同様であり説明を省略する。
【０１００】
図１２（ａ）および（ｂ）に示す基体１０Ａは、実施形態２において説明する製造装置１による処理を経て、カラーフィルタ基板１０となる基板である。基体１０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂを有する。
【０１０１】
具体的には、基体１０Ａは、光透過性を有する支持基板１２と、支持基板１２上に形成されたブラックマトリクス１４と、ブラックマトリクス１４上に形成されたバンク１６と、を含む。ブラックマトリクス１４は遮光性を有する材料で形成されている。そして、ブラックマトリクス１４とブラックマトリクス１４上のバンク１６とは、支持基板１２上にマトリクス状の複数の光透過部分、すなわちマトリクス状の複数の画素領域、が規定されるように位置している。
【０１０２】
それぞれの画素領域において、支持基板１２、ブラックマトリクス１４、およびバンク１６で規定される凹部は、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、被吐出部１８Ｂに対応する。被吐出部１８Ｒは、赤の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｇは、緑の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部１８Ｂは、青の波長域の光線のみを透過するフィルタ層１１１ＦＢが形成されるべき領域である。
【０１０３】
図１２（ｂ）に示す基体１０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体１０Ａにおいて、被吐出部１８Ｒ、被吐出部１８Ｇ、および被吐出部１８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部１８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部１８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、そして、被吐出部１８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【０１０４】
被吐出部１８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部１８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔と同じであり、被吐出部１８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔とも同じである。また、被吐出部１８Ｒの平面像は、長辺と短辺とで決まる多角形である。具体的には、被吐出部１８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部１８Ｇおよび被吐出部１８Ｂも被吐出部１８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【０１０５】
図１３に示す製造装置１は、図１０の基体１０Ａの被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂのそれぞれに対して、対応するカラーフィルタ材料を吐出する装置である。具体的には、製造装置１は、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒを塗布する吐出装置１００Ｒと、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを乾燥させる乾燥装置１５０Ｒと、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇを塗布する１００Ｇと、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを乾燥させる乾燥装置１５０Ｇと、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂを塗布する１００Ｂと、被吐出部１８Ｂのカラーフィルタ材料１１１Ｂを乾燥させる乾燥装置１５０Ｂと、カラーフィルタ材料１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂを再度加熱（ポストベーク）するオーブン１６０と、ポストベークされたカラーフィルタ材料１１１Ｒ，１１１Ｇ、１１１Ｂの層の上に保護膜２０を設ける吐出装置１００Ｃと、保護膜２０を乾燥させる乾燥装置１５０Ｃと、乾燥された保護膜２０を再度加熱して硬化する硬化装置１６５と、を備えている。さらに製造装置１は、吐出装置１００Ｒ、乾燥装置１５０Ｒ、吐出装置１００Ｇ、乾燥装置１５０Ｇ、吐出装置１００Ｂ、乾燥装置１５０Ｂ、オーブン１６０、吐出装置１００Ｃ、乾燥装置１５０Ｃ、硬化装置１６５の順番に基体１０Ａを搬送する搬送装置１７０も備えている。搬送装置１７０は、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。
【０１０６】
図１３に示す吐出装置１００Ｒの構成は、実施形態１（図１）で説明した通りである。一方、吐出装置１００Ｇの構成と、吐出装置１００Ｂの構成と、吐出装置１００Ｃの構成とは、いずれも基本的に吐出装置１００Ｒの構造と同じある。ただし、吐出装置１００Ｒにおけるタンク１０１Ｒと、対応するチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｇがカラーフィルタ材料１１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置１００Ｇの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｂがカラーフィルタ材料１１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置１００Ｂの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。さらに、タンク１０１Ｒとチューブ１１０Ｒとの代わりに、吐出装置１００Ｃが保護膜材料用のタンクとチューブとを備える点で吐出装置１００Ｃの構成は吐出装置１００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状のカラーフィルタ材料１１１Ｒ、１１１Ｇ、１１１Ｂは、本発明の液状の材料の一例である。
【０１０７】
吐出装置１００Ｇおよび１００Ｂのそれぞれが行う吐出異常検出処理および吐出回復工程は実施形態１と同様であり、このため説明を省略する。
【０１０８】
以下では、製造装置１によってカラーフィルタ基板１０が得られるまでの一連の工程を説明する。
【０１０９】
まず、以下の手順にしたがって図１２の基体１０Ａを作成する。まず、スパッタ法または蒸着法によって、支持基板１２上に金属薄膜を形成する。その後、フォトリソグラフィー工程によってこの金属薄膜から格子状のブラックマトリクス１４を形成する。ブラックマトリクス１４の材料の例は、金属クロムや酸化クロムである。なお、支持基板１２は、可視光に対して光透過性を有する基板、例えばガラス基板である。続いて、支持基板１２およびブラックマトリクス１４を覆うように、ネガ型の感光性樹脂組成物からなるレジスト層を塗布する。そして、そのレジスト層の上にマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム密着させながら、このレジスト層を露光する。その後、レジスト層の未露光部分をエッチング処理で取り除くことで、バンク１６が得られる。以上の工程によって、基体１０Ａが得られる。
【０１１０】
なお、バンク１６に代えて、樹脂ブラックからなるバンクを用いても良い。その場合は、金属薄膜（ブラックマトリクス１４）は不要となり、バンク層は、１層のみとなる。
【０１１１】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体１０Ａを親液化する。この処理によって、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、で規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における支持基板１２の表面と、ブラックマトリクス１４の表面と、バンク１６の表面と、が親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体１０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部におけるバンク１６の表面がフッ化処理（撥液性に処理）され、このことで、バンク１６の表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた支持基板１２の表面およびブラックマトリクス１４の表面は若干親液性を失うが、それでもこれら表面は親液性を維持する。このように、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂとなる。
【０１１２】
なお、支持基板１２の材質、ブラックマトリクス１４の材質、およびバンク１６の材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、支持基板１２と、ブラックマトリクス１４と、バンク１６と、によって規定された凹部の表面が被吐出部１８Ｒ，１８Ｇ、１８Ｂである。
【０１１３】
被吐出部１８Ｒ、１８Ｇ、１８Ｂが形成された基体１０Ａは、搬送装置１７０によって、吐出装置１００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図１４（ａ）に示すように、吐出装置１００Ｒは、被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｒを吐出する。また、カラーフィルタ材料１１１Ｒの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置１００Ｒにおける複数の吐出部１２７の残留振動が吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０１１４】
基体１０Ａの被吐出部１８Ｒのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｒ上のカラーフィルタ材料１１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｒ上にフィルタ層１１１ＦＲを得る。
【０１１５】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図１４（ｂ）に示すように、吐出装置１００Ｇは、被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｇを吐出する。また、カラーフィルタ材料１１１Ｇの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置１００Ｇにおける複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０１１６】
基体１０Ａの被吐出部１８Ｇのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｇ上のカラーフィルタ材料１１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｇ上にフィルタ層１１１ＦＧを得る。
【０１１７】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図１４（ｃ）に示すように、吐出装置１００Ｂは、被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４からカラーフィルタ材料１１１Ｂを吐出する。また、カラーフィルタ材料１１１Ｂの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置１００Ｂにおける複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０１１８】
基体１０Ａの被吐出部１８Ｂのすべてにカラーフィルタ材料１１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置１７０が基体１０Ａを乾燥装置１５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部１８Ｂ上のカラーフィルタ材料１１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部１８Ｂ上にフィルタ層１１１ＦＢを得る。
【０１１９】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを、オーブン１６０内に位置させる。その後、オーブン１６０はフィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢを再加熱（ポストベーク）する。
【０１２０】
次に搬送装置１７０は、基体１０Ａを吐出装置１００Ｃのステージ１０６に位置させる。そして、吐出装置１００Ｃは、フィルタ層１１１ＦＲ、１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆って保護膜２０が形成されるように、液状の保護膜材料を吐出する。フィルタ層１１１ＦＲ，１１１ＦＧ、１１１ＦＢ、およびバンク１６を覆う保護膜２０が形成された後に、搬送装置１７０は基体１０Ａをオーブン１５０Ｃ内に位置させる。そして、オーブン１５０Ｃが保護膜２０を完全に乾燥させた後に、硬化装置１６５が保護膜２０を加熱して完全に硬化することで、基体１０Ａはカラーフィルタ基板１０となる。
【０１２１】
（実施形態３）
次に、本発明をエレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置に適用した例を説明する。なお、吐出異常検出部２２７において行われる吐出異常検出処理および吐出回復工程は実施形態１と同様であり説明を省略する。
【０１２２】
図１５（ａ）および（ｂ）に示す基体３０Ａは、後述する製造装置２（図１６）による処理によって、エレクトロルミネッセンス表示装置３０（例えば有機ＥＬ表示装置）となる基板である。基体３０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂを有する。
【０１２３】
具体的には、基体３０Ａは、支持基板３２と、支持基板３２上に形成された回路素子層３４と、回路素子層３４上に形成された複数の画素電極３６と、複数の画素電極３６の間に形成されたバンク４０と、を有している。支持基板は、可視光に対して光透過性を有する基板であり、例えばガラス基板である。複数の画素電極３６のそれぞれは、可視光に対して光透過性を有する電極であり、例えば、ＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）電極である。また、複数の画素電極３６は、回路素子層３４上にマトリクス状に配置されており、それぞれが画素領域を規定する。そして、バンク４０は、格子状の形状を有しており、複数の画素電極３６のそれぞれを囲む。また、バンク４０は、回路素子層３４上に形成された無機物バンク４０Ａと、無機物バンク４０Ａ上に位置する有機物バンク４０Ｂとからなる。
【０１２４】
回路素子層３４は、支持基板３２上で所定の方向に延びる複数の走査電極と、複数の走査電極を覆うように形成された絶縁膜４２と、絶縁膜４２上に位置するとともに複数の走査電極が延びる方向に対して直交する方向に延びる複数の信号電極と、走査電極および信号電極の交点付近に位置する複数のスイッチング素子４４と、複数のスイッチング素子４４を覆うように形成されたポリイミドなどの層間絶縁膜４５と、を有する層である。それぞれのスイッチング素子４４のゲート電極４４Ｇおよびソース電極４４Ｓは、それぞれ対応する走査電極および対応する信号電極と電気的に接続されている。層間絶縁膜４５上には複数の画素電極３６が位置する。層間絶縁膜４５には、各スイッチング素子４４のドレイン電極４４Ｄに対応する部位にスルーホール４４Ｖが設けられており、このスルーホール４４Ｖを介して、スイッチング素子４４と、対応する画素電極３６と、の間の電気的接続が形成されている。また、バンク４０に対応する位置にそれぞれのスイッチング素子４４が位置している。つまり、図１５（ｂ）の紙面に垂直な方向から観察すると、複数のスイッチング素子４４のそれぞれは、バンク４０に覆われるように位置している。
【０１２５】
基体３０Ａの画素電極３６とバンク４０とで規定される凹部（画素領域の一部）は、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、被吐出部３８Ｂに対応する。被吐出部３８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する発光層２１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部３８Ｂは、青の波長域の光線を発光する発光層２１１ＧＢが形成されるべき領域である。
【０１２６】
図１５（ｂ）に示す基体３０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体３０Ａにおいて、被吐出部３８Ｒ、被吐出部３８Ｇ、および被吐出部３８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部３８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部３８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部３８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【０１２７】
被吐出部３８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部３８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔と同じであり、被吐出部１８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔とも同じである。また、被吐出部３８Ｒの平面像は、長辺と短辺とで決まる矩形である。具体的には、被吐出部３８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部３８Ｇおよび被吐出部３８Ｂも被吐出部３８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【０１２８】
図１６に示す製造装置２は、図１５の基体３０Ａの被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂのそれぞれに対して、対応する発光材料を吐出する装置である。製造装置２は、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒを塗布する吐出装置２００Ｒと、被吐出部３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを乾燥させる乾燥装置２５０Ｒと、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇを塗布する吐出装置２００Ｇと、被吐出部３８Ｇ上の発光材料２１１Ｇを乾燥させる乾燥装置２５０Ｇと、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂを塗布する吐出装置２００Ｂと、被吐出部３８Ｂ上の発光材料Ｂを乾燥させる乾燥装置２５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置２は、吐出装置２００Ｒ、乾燥装置２５０Ｒ、吐出装置２００Ｇ、乾燥装置２５０Ｇ、吐出装置２００Ｂ、乾燥装置２５０Ｂの順番に基体３０Ａを搬送する搬送装置２７０も備えている。搬送装置２７０は、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。
【０１２９】
図１７に示す吐出装置２００Ｒは、液状の発光材料２１１Ｒを保持するタンク２０１Ｒと、チューブ２１０Ｒと、チューブ２１０Ｒを介してタンク２０１Ｒから発光材料２１１Ｒが供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施形態１の吐出走査部１０２の構成と同じである。なお、吐出装置２００Ｒにおいて、実施形態１の構成要素または実施形態２の構成要素と同様な構成要素には同一の参照符号を付けるとともに、重複する説明を省略する。また、吐出装置２００Ｇの構成と吐出装置２００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置２００Ｒの構造と同じある。ただし、タンク２０１Ｒとチューブ２１０Ｒとの代わりに、吐出装置２００Ｇが発光材料２１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置２００Ｇの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク２０１Ｒとチューブ２１０Ｒとの代わりに、吐出装置２００Ｂが発光材料２１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置２００Ｂの構成は吐出装置２００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状の発光材料２１１Ｒ、２１１Ｂ、２１１Ｇは、本発明の液状の材料の一例である。
【０１３０】
製造装置２を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置３０の製造方法を説明する。まず、公知の製膜技術とパターニング技術とを用いて、図１５に示す基体３０Ａを製造する。
【０１３１】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体３０Ａを親液化する。この処理によって、画素電極３６とバンク４０とで規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）における画素電極３６の表面、無機物バンク４０Ａの表面、および有機物バンク４０Ｂの表面が、親液性を呈するようになる。さらに、その後、基体３０Ａに対して、４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理を行う。４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、それぞれの凹部における有機物バンク４０Ｂの表面がフッ化処理（撥液性に処理）されて、このことで有機物バンク４０Ｂの表面が撥液性を呈するようになる。なお、４フッ化メタンを用いたプラズマ処理によって、先に親液性を与えられた画素電極３６の表面および無機物バンク４０Ａの表面は、若干親液性を失うが、それでも親液性を維持する。このように、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面に所定の表面処理が施されることで、凹部の表面が被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂとなる。
【０１３２】
なお、画素電極３６の材質、無機物バンク４０Ａの材質、および有機物バンク４０Ｂの材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性および撥液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、画素電極３６と、バンク４０と、によって規定された凹部の表面は被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂである。
【０１３３】
ここで、表面処理が施された複数の画素電極３６のそれぞれの上に、対応する正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂ（図１８）を形成してもよい。正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂが、画素電極３６と、後述の発光層２１１ＲＦ、２１１ＧＦ、２１１ＢＦと、の間に位置すれば、エレクトロルミネッセンス表示装置の発光効率が高くなる。複数の画素電極３６のそれぞれの上に正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを設ける場合には、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂと、バンク４０と、によって規定された凹部が、被吐出部３８Ｒ、３８Ｇ、３８Ｂに対応する。
【０１３４】
なお、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂ（図１８）をインクジェット法により形成することも可能である。この場合、正孔輸送層３７Ｒ、３７Ｇ、３７Ｂを形成するための材料を含む溶液を各画素領域ごとに所定量塗布し、その後、乾燥させることにより正孔輸送層を形成することができる。
【０１３５】
被吐出部３８Ｒ，３８Ｇ、３８Ｂが形成された基体３０Ａは、搬送装置２７０によって、吐出装置２００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図１８（ａ）に示すように、吐出装置２００Ｒは、被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｒを吐出する。また、発光材料２１１Ｒの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置２００Ｒにおける複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０１３６】
基体３０Ａの被吐出部３８Ｒのすべてに発光材料２１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｒ上の発光材料２１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｒ上に発光層２１１ＦＲを得る。
【０１３７】
次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図１８（ｂ）に示すように、吐出装置２００Ｇは、被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｇを吐出する。また、発光材料２１１Ｇの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置２００Ｇにおける複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０１３８】
基体３０Ａの被吐出部３８Ｇのすべてに発光材料２１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｇ上の発光材料Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｇ上に発光層２１１ＦＧを得る。
【０１３９】
次に搬送装置２７０は、基体３０Ａを吐出装置２００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図１８（ｃ）に示すように、吐出装置２００Ｂは、被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４から発光材料２１１Ｂを吐出する。また、発光材料２１１Ｂの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置２００Ｂにおける複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０１４０】
基体３０Ａの被吐出部３８Ｂのすべてに発光材料２１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置２７０が基体３０Ａを乾燥装置２５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部３８Ｂ上の発光材料２１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部３８Ｂ上に発光層２１１ＦＢを得る。
【０１４１】
図１８（ｄ）に示すように、次に、発光層２１１ＦＲ，２１１ＦＧ、２１１ＦＢ、およびバンク４０を覆うように対向電極４６を設ける。対向電極４６は陰極として機能する。その後、封止基板４８と基体３０Ａとを、互いの周辺部で接着することで、図１８（ｄ）に示すエレクトロルミネッセンス表示装置３０が得られる。なお、封止基板４８と基体３０Ａとの間には不活性ガス４９が封入されている。
【０１４２】
エレクトロルミネッセンス表示装置３０において、発光層２１１ＦＲ、２１１ＦＧ、２１１ＦＢから発光した光は、画素電極３６と、回路素子層３４と、支持基板３２と、を介して射出する。このように回路素子層３４を介して光を射出するエレクトロルミネッセンス表示装置は、ボトムエミッション型の表示装置と呼ばれる。
【０１４３】
（実施形態４）
本発明をプラズマ表示装置の背面基板の製造装置に適用した例を説明する。なお、吐出異常検出部２２７において行われる吐出異常検出処理および吐出回復工程は実施形態１と同様であり説明を省略する。
【０１４４】
図１９（ａ）および（ｂ）に示す基体５０Ａは、後述する製造装置３（図２０）による処理によって、プラズマ表示装置の背面基板５０Ｂとなる基板である。基体５０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂを有する。
【０１４５】
具体的には、基体５０Ａは、支持基板５２と、支持基板５２上にストライプ状に形成された複数のアドレス電極５４と、アドレス電極５４を覆うように形成された誘電体ガラス層５６と、格子状の形状を有するとともに複数の画素領域を規定する隔壁６０と、を含む。複数の画素領域はマトリクス状に位置しており、複数の画素領域が形成するマトリクスの列のそれぞれは、複数のアドレス電極５４のそれぞれに対応する。このような基体５０Ａは、公知のスクリーン印刷技術で形成される。
【０１４６】
基体５０Ａのそれぞれの画素領域において、誘電体ガラス層５６および隔壁６０によって規定される凹部が、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、被吐出部５８Ｂに対応する。被吐出部５８Ｒは、赤の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＲが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｇは、緑の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＧが形成されるべき領域であり、被吐出部５８Ｂは、青の波長域の光線を発光する蛍光層３１１ＦＢが形成されるべき領域である。
【０１４７】
図１９（ｂ）に示す基体５０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂが形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。基体５０Ａにおいて、被吐出部５８Ｒ、被吐出部５８Ｇ、および被吐出部５８Ｂは、Ｙ軸方向にこの順番で周期的に並んでいる。一方、被吐出部５８Ｒ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、また、被吐出部５８Ｇ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでおり、同様に、被吐出部５８Ｂ同士はＸ軸方向に所定の一定間隔をおいて１列に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【０１４８】
被吐出部５８Ｒ同士のＹ軸方向に沿った間隔、すなわちピッチは、ほぼ５６０μｍである。この間隔は、被吐出部５８Ｇ同士のＹ軸方向に沿った間隔と同じであり、被吐出部５８Ｂ同士のＹ軸方向に沿った間隔とも同じである。また、被吐出部５８Ｒの平面像は、長辺と短辺とで決まる矩形である。具体的には、被吐出部５８ＲのＹ軸方向の長さはほぼ１００μｍであり、Ｘ軸方向の長さはほぼ３００μｍである。被吐出部５８Ｇおよび被吐出部５８Ｂも被吐出部５８Ｒと同じ形状・大きさを有している。被吐出部同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、同一色に対応する画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【０１４９】
図２０に示す製造装置３は、図１９の基体５０Ａの被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂのそれぞれに対して、対応する蛍光材料を吐出する装置である。製造装置３は、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒを塗布する吐出装置３００Ｒと、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを乾燥させる乾燥装置３５０Ｒと、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇを塗布する吐出装置３００Ｇと、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料３１１Ｇを乾燥させる乾燥装置３５０Ｇと、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂを塗布する吐出装置３００Ｂと、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料３１１Ｂを乾燥させる乾燥装置３５０Ｂと、を備えている。さらに製造装置３は、吐出装置３００Ｒ、乾燥装置３５０Ｒ、吐出装置３００Ｇ、乾燥装置３５０Ｇ、吐出装置３００Ｂ、乾燥装置３５０Ｂの順番に基体５０Ａを搬送する搬送装置３７０も備えている。搬送装置３７０は、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。
【０１５０】
図２１に示す吐出装置３００Ｒは、液状の蛍光材料３１１Ｒを保持するタンク３０１Ｒと、チューブ３１０Ｒと、チューブ３１０Ｒを介してタンク３０１Ｒからカラーフィルタ材料が供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施形態１の吐出走査部１０２と基本的に同じである。なお、吐出装置３００Ｒにおいて、実施形態１の構成要素または実施形態２の構成要素と同様な構成要素には、同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
【０１５１】
吐出装置３００Ｇの構成と吐出装置３００Ｂの構成とは、どちらも基本的に吐出装置３００Ｒの構造と同じある。ただし、タンク３０１Ｒとチューブ３１０Ｒとの代わりに、吐出装置３００Ｇが蛍光材料３１１Ｇ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置３００Ｇの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。同様に、タンク３０１Ｒとチューブ３１０Ｒとに代えて、吐出装置３００Ｂが蛍光材料３１１Ｂ用のタンクとチューブとを備える点で、吐出装置３００Ｂの構成は吐出装置３００Ｒの構成と異なる。なお、本実施形態における液状の蛍光材料３１１Ｒ、３１１Ｂ、３１１Ｇは、発光材料の一種であり、本発明の液状の材料に対応する。
【０１５２】
製造装置３を用いたプラズマ表示装置の製造方法を説明する。まず、公知のスクリーン印刷技術によって、支持基板５２上に、複数のアドレス電極５４と、誘電体ガラス層５６と、隔壁６０と、を形成して、図１９に示す基体５０Ａを得る。
【０１５３】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体５０Ａを親液化する。この処理によって、隔壁６０および誘電体ガラス層５６によって規定されたそれぞれの凹部（画素領域の一部）の隔壁６０の表面、誘電体ガラス層５６の表面が、親液性を呈し、これらの表面が被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂとなる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、隔壁６０と、誘電体ガラス層５６と、によって規定された凹部の表面は、被吐出部５８Ｒ，５８Ｇ、５８Ｂである。
【０１５４】
被吐出部５８Ｒ、５８Ｇ、５８Ｂが形成された基体５０Ａは、搬送装置３７０によって、吐出装置３００Ｒのステージ１０６に運ばれる。そして、図２２（ａ）に示すように、吐出装置３００Ｒは、被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒの層が形成されるように、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｒを吐出する。また、蛍光材料３１１Ｒの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置３００Ｒにおける複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０１５５】
基体５０Ａの被吐出部５８Ｒのすべてに蛍光材料３１１Ｒの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｒ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｒ上の蛍光材料３１１Ｒを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｒ上に蛍光層３１１ＦＲを得る。
【０１５６】
次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｇのステージ１０６に位置させる。そして、図２２（ｂ）に示すように、吐出装置３００Ｇは、被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成されるように、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｇを吐出する。また、蛍光材料３１１Ｇの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置３００Ｇにおける複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０１５７】
基体５０Ａの被吐出部５８Ｇのすべてに蛍光材料３１１Ｇの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｇ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｇ上の蛍光材料３１１Ｇを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｇ上に蛍光層３１１ＦＧを得る。
【０１５８】
次に搬送装置３７０は、基体５０Ａを吐出装置３００Ｂのステージ１０６に位置させる。そして、図２２（ｃ）に示すように、吐出装置３００Ｂは、被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂの層が形成されるように、ヘッド１１４から蛍光材料３１１Ｂを吐出する。また、蛍光材料３１１Ｂの吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置３００Ｂにおける複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０１５９】
基体５０Ａの被吐出部５８Ｂのすべてに蛍光材料３１１Ｂの層が形成された場合には、搬送装置３７０が基体５０Ａを乾燥装置３５０Ｂ内に位置させる。そして、被吐出部５８Ｂ上の蛍光材料３１１Ｂを完全に乾燥させることで、被吐出部５８Ｂ上に蛍光層３１１ＦＢを得る。
【０１６０】
以上の工程によって、基体５０Ａはプラズマ表示装置の背面基板５０Ｂ（図２３）となる。
【０１６１】
次に図２３に示すように、背面基板５０Ｂと、前面基板５０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせてプラズマ表示装置５０が得られる。前面基板５０Ｃは、ガラス基板６８と、ガラス基板６８上で互いに平行にパターニングされた表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂと、表示電極６６Ａおよび表示スキャン電極６６Ｂとを覆うように形成された誘電体ガラス層６４と、誘電体ガラス層６４上に形成されたＭｇＯ保護層６２と、を有する。背面基板５０Ｂと前面基板５０Ｃとは、背面基板５０Ｂのアドレス電極５４と、前面基板５０Ｃの表示電極６６Ａ・表示スキャン電極６６Ｂとが、互いに直交するように位置合わせされている。各隔壁６０で囲まれるセル（画素領域）には、所定の圧力で放電ガス６９が封入されている。
【０１６２】
（実施形態５）
電子放出素子を備えた画像表示装置の製造装置に本発明が適用された例を説明する。なお、吐出異常検出部２２７において行われる吐出異常検出処理および吐出回復工程は実施形態１と同様であり説明を省略する。
【０１６３】
図２４（ａ）および（ｂ）に示す基体７０Ａは、後述する製造装置４（図２５）による処理によって、画像表示装置の電子源基板７０Ｂとなる基板である。基体７０Ａは、マトリクス状に配置された複数の被吐出部７８を有する。
【０１６４】
具体的には、基体７０Ａは、基体７２と、基体７２上に位置するナトリウム拡散防止層７４と、ナトリウム拡散防止層７４上に位置する複数の素子電極７６Ａ、７６Ｂと、複数の素子電極７６Ａ上に位置する複数の金属配線７９Ａと、複数の素子電極７６Ｂ上に位置する複数の金属配線７９Ｂと、を備えている。複数の金属配線７９ＡのそれぞれはＹ軸方向に延びる形状を有する。一方、複数の金属配線７９ＢのそれぞれはＸ軸方向に延びる形状を有する。金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとの間には絶縁膜７５が形成されているので、金属配線７９Ａと金属配線７９Ｂとは電気的に絶縁されている。
【０１６５】
１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを含む部分は１つの画素領域に対応する。１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂは、互いに所定の間隔だけ離れてナトリウム拡散防止層７４上で対向している。ある画素領域に対応する素子電極７６Ａは、対応する金属配線７９Ａと電気的に接続されている。また、その画素領域に対応する素子電極７６Ｂは、対応する金属配線７９Ｂと電気的に接続されている。なお、本明細書では、基体７２とナトリウム拡散防止層７４とを合わせた部分を支持基板と表記することもある。
【０１６６】
基体７０Ａのそれぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４とが、被吐出部７８に対応する。より具体的には、被吐出部７８は、導電性薄膜４１１Ｆ（図２８）が形成されるべき領域であり、導電性薄膜４１１Ｆは、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａ，７６Ｂの間のギャップとを覆うように形成される。図２４（ｂ）において点線で示すように、本実施形態における被吐出部７８の平面形状は円形である。このように、本発明の被吐出部の平面形状は、Ｘ座標範囲とＹ座標範囲とで決まる円形でも構わない。
【０１６７】
図２４（ｂ）に示す基体７０Ａは、Ｘ軸方向とＹ軸方向との双方に平行な仮想平面上に位置している。そして、複数の被吐出部７８が形成するマトリクスの行方向および列方向は、それぞれＸ軸方向およびＹ軸方向と平行である。つまり、基体７０Ａにおいて、複数の被吐出部７８は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に並んでいる。なお、Ｘ軸方向およびＹ軸方向は互いに直交する。
【０１６８】
被吐出部７８同士のＹ軸方向に沿った間隔、すなわちピッチは、ほぼ１９０μｍである。また、被吐出部７８ＲのＸ軸方向の長さ（Ｘ座標範囲の長さ）はほぼ１００μｍであり、Ｙ軸方向の長さ（Ｙ座標範囲の長さ）もほぼ１００μｍである。被吐出部７８同士の上記間隔および被吐出部の上記大きさは、４０インチ程度の大きさのハイビジョンテレビにおいて、画素領域同士の間隔や大きさに対応する。
【０１６９】
図２５に示す製造装置４は、図２４の基体７０Ａの被吐出部７８のそれぞれに対して、導電性薄膜材料４１１を吐出する装置である。具体的には、製造装置４は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１を塗布する吐出装置４００と、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を乾燥させる乾燥装置４５０と、を備えている。さらに製造装置４は、吐出装置４００、乾燥装置４５０の順番に基体７０Ａを搬送する搬送装置４７０も備えている。搬送装置４７０は、フォーク部と、フォーク部を上下移動させる駆動部と、自走部と、を備えている。
【０１７０】
図２６に示す吐出装置４００は、液状の導電性薄膜材料４１１を保持するタンク４０１と、チューブ４１０と、チューブ４１０を介してタンク４０１から導電性薄膜材料が供給される吐出走査部１０２と、を備える。吐出走査部１０２の構成は、実施形態１の吐出走査部１０２の構成と基本的に同じである。なお、吐出装置４００の構成要素のうち、実施形態１の構成要素まはた実施形態２の構成要素と同様の構成要素には、同じ参照符号を付して、説明を省略する。
【０１７１】
本実施形態では、液状の導電性薄膜材料４１１は有機パラジウム溶液である。そして、本実施形態における液状の導電性薄膜材料４１１は、本発明の液状の材料の一例である。
【０１７２】
製造装置４を用いた画像表示装置の製造方法を説明する。まず、ソーダガラスなどから形成された基体７２上に、ＳｉＯ２を主成分とするナトリウム拡散防止層７４を形成する。具体的には、スパッタ法を用いて基体７２上に厚さ１μｍのＳｉＯ２膜を形成することによってナトリウム拡散防止層７４を得る。次に、ナトリウム拡散防止層７４上に、スパッタ法または真空蒸着法によって厚さ５ｎｍのチタニウム層を形成する。そして、フォトリソグラフィー技術およびエッチング技術を用いて、そのチタニウム層から、互いに所定の距離だけ離れて位置する１対の素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂを複数対形成する。
【０１７３】
その後、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ａ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｙ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ａを形成する。次に、スクリーン印刷技術を用いて、各金属配線７９Ａの一部分にガラスペーストを塗布して焼成することで、絶縁膜７５を形成する。そして、スクリーン印刷技術を用いて、ナトリウム拡散防止層７４および複数の素子電極７６Ｂ上にＡｇペーストを塗布して焼成することで、Ｘ軸方向に延びる複数の金属配線７９Ｂを形成する。なお、金属配線７９Ｂを作製する場合には、金属配線７９Ｂが絶縁膜７５を介して金属配線７９Ａと交差するようにＡｇペーストを塗布する。以上のような工程によって、図２４に示す基体７０Ａを得る。
【０１７４】
次に、大気圧下の酸素プラズマ処理によって、基体７０Ａを親液化する。この処理によって、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出した支持基板の表面とは、親液化される。そして、これらの表面が被吐出部７８となる。なお、材質によっては、上記のような表面処理を行わなくても、所望の親液性を呈する表面が得られることもある。そのような場合には、上記表面処理を施さなくても、素子電極７６Ａの表面の一部と、素子電極７６Ｂの表面の一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間で露出したナトリウム拡散防止層７４の表面とは、被吐出部７８となる。
【０１７５】
被吐出部７８が形成された基体７０Ａは、搬送装置４７０によって、吐出装置４００のステージ１０６に運ばれる。そして、図２７に示すように、吐出装置４００は、被吐出部７８のすべてに導電性薄膜４１１Ｆが形成されるように、ヘッド１１４から導電性薄膜材料４１１を吐出する。また、導電性薄膜材料４１１の吐出を行う際に、実施形態１で説明したように、吐出装置４００における複数の吐出部１２７の残留振動が、吐出異常検出部２２７によって検査される。
【０１７６】
本実施形態では、被吐出部７８上に着弾した導電性薄膜材料４１１の液滴の直径が６０μｍから８０μｍの範囲となるように、制御部１１２はヘッド１１４に信号を与える。基体７０Ａの被吐出部７８のすべてに導電性薄膜材料４１１の層が形成された場合には、搬送装置４７０が基体７０Ａを乾燥装置４５０内に位置させる。そして、被吐出部７８上の導電性薄膜材料４１１を完全に乾燥させることで、被吐出部７８上に酸化パラジウムを主成分とする導電性薄膜４１１Ｆを得る。このように、それぞれの画素領域において、素子電極７６Ａの一部と、素子電極７６Ｂの一部と、素子電極７６Ａと素子電極７６Ｂとの間に露出したナトリウム拡散防止層７４と、を覆う導電性薄膜４１１Ｆが形成される。
【０１７７】
次に素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間に、パルス状の所定の電圧を印加することで、導電性薄膜４１１Ｆの一部分に電子放出部４１１Ｄを形成する。なお、素子電極７６Ａおよび素子電極７６Ｂとの間の電圧の印加を、有機物雰囲気下および真空条件下でもそれぞれ行うことが好ましい。そうすれば、電子放出部４１１Ｄからの電子放出効率がより高くなるからである。素子電極７６Ａと、対応する素子電極７６Ｂと、電子放出部４１１Ｄが設けられた導電性薄膜４１１Ｆと、は電子放出素子である。また、それぞれの電子放出素子は、それぞれの画素領域に対応する。
【０１７８】
以上の工程によって、図２８に示すように、基体７０Ａは電子源基板７０Ｂとなる。
【０１７９】
次に図２９に示すように、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃと、を公知の方法によって貼り合わせて画像表示装置７０が得られる。前面基板７０Ｃは、ガラス基板８２と、ガラス基板８２上にマトリクス状に位置する複数の蛍光部８４と、複数の蛍光部８４を覆うメタルプレート８６と、を有する。メタルプレート８６は、電子放出部４１１Ｄからの電子ビームを加速するための電極として機能する。電子源基板７０Ｂと前面基板７０Ｃとは、複数の電子放出素子のそれぞれが、複数の蛍光部８４のそれぞれに対向するように、位置合わせされている。また、電子源基板７０Ｂと、前面基板７０Ｃとの間は、真空状態に保たれている。
【０１８０】
なお、上記の電子放出素子を備えた画像表示装置７０は、ＳＥＤ（Surface-Conduction Electron-Emitter Display）またはＦＥＤ（Field Emission Display）と呼ばれることもある。また、本明細書では、液晶表示装置、エレクトロルミネッセンス表示装置、プラズマ表示装置、電子放出素子を利用した画像表示装置など、を「電気光学装置」と表記することもある。ここで、本明細書でいう「電気光学装置」とは、複屈折性の変化や、旋光性の変化や、光散乱性の変化などの光学的特性の変化（いわゆる電気光学効果）を利用する装置に限定されず、信号電圧の印加に応じて光を射出、透過、または反射する装置全般を意味する。
【図面の簡単な説明】
【０１８１】
【図１】実施形態１の吐出装置を示す模式図。
【図２】実施形態１のヘッドにおけるノズルの配置を示す模式図。
【図３】（ａ）および（ｂ）は実施形態１のヘッドにおける吐出部を示す模式図。
【図４】実施形態１の吐出装置における制御部の機能ブロック図。
【図５】（ａ）は実施形態１のヘッド駆動部の回路図であり、（ｂ）はヘッド駆動部の動作を説明するタイミングチャート。
【図６】実施形態１の振動子の残留振動を示す概略グラフ。
【図７】実施形態１の吐出異常検出部の機能ブロック図。
【図８】実施形態１の判定部の機能ブロック図。
【図９】実施形態１の第１の変換部を説明する模式図。
【図１０】実施形態１の第２の変換部を説明する概念図。
【図１１】実施形態１の吐出異常検出工程および吐出回復工程のフローチャート。
【図１２】（ａ）は実施形態２の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態２の基体の上面を示す模式図。
【図１３】実施形態２のカラーフィルタ製造装置を示す模式図。
【図１４】実施形態２のカラーフィルタ基板の製造方法を示す模式図。
【図１５】（ａ）は実施形態３の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態３の基体の平面を示す模式図。
【図１６】実施形態３のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造装置の一部を示す模式図。
【図１７】実施形態３の吐出装置を示す模式図。
【図１８】（ａ）〜（ｄ）は実施形態３のエレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を示す模式図。
【図１９】（ａ）は実施形態４の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態４の基体の平面を示す模式図。
【図２０】実施形態４のプラズマ表示装置の製造装置の一部を示す模式図。
【図２１】実施形態４の吐出装置を示す模式図。
【図２２】（ａ）〜（ｃ）は実施形態４のプラズマ表示装置の製造方法の一部を示す模式図。
【図２３】実施形態４の製造方法によって製造されるプラズマ表示装置の断面を示す模式図。
【図２４】（ａ）は実施形態５の基体の断面を示す模式図であり、（ｂ）は実施形態５の基体の上面を示す模式図。
【図２５】実施形態５の画像表示装置の製造装置を示す模式図。
【図２６】実施形態５の吐出装置を示す模式図。
【図２７】実施形態５の画像表示装置の製造方法を示す模式図。
【図２８】実施形態５の画像表示装置の製造方法を示す模式図。
【図２９】実施形態５の画像表示装置の製造方法を示す模式図。
【符号の説明】
【０１８２】
１８５…判定部、１８６…吐出回復工程制御部、１９０…パラメータ導出部、１９１…第１の変換部、１９２…データ選択部、１９３…第２の変換部、１９４…記憶部。
【図１】
2005238159.tif 000003
【図２】
2005238159.tif 000004
【図３】
2005238159.tif 000005
【図４】
2005238159.tif 000006
【図５】
2005238159.tif 000007
【図６】
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【図７】
2005238159.tif 000009
【図８】
2005238159.tif 000010
【図９】
2005238159.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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