(57)【要約】【課題】見栄えの良い刺繍模様と染色模様を布地に形成できる、刺繍・染色システムの提供。【解決手段】前記染色模様と前記刺繍模様との間の相対位置を補正するようにした。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
刺繍機による布地への刺繍模様の形成を、染色装置による前記布地への染色模様の形成の前後に行うようにしてなる刺繍・染色システムにおいて、前記染色模様と前記刺繍模様との間の相対位置を補正するようにした、刺繍・染色システム。
【請求項２】
前記相対位置の補正は、前記布地の縮み量及び縮み方向に依拠して行なわれるようにした、請求項１記載の刺繍・染色システム。
【請求項３】
前記布地の縮み量及び縮み方向は、試し縫いにより、前記刺繍模様の形成の前に得られるようにした、請求項２記載の刺繍・染色システム。
【請求項４】
前記布地の縮み量及び縮み方向は、前記刺繍模様の形成の後、前記布地に揮発性インク若しくは低濃度微量インクによる試験的染色模様（含：アウトラインのみ）を形成し、前記刺繍模様と前記試験的染色模様の比較から得られるようにした、請求項２記載の刺繍・染色システム。
【請求項５】
前記試験的刺繍模様形成前及び前記刺繍模様形成後に、前記布地の上の任意の２点をマーキングについての座標検位を行い、前記２点の座標変移から、補正量を計算し、この補正量に依拠して、前記相対位置の補正を行うようにしてなる、請求項１記載の刺繍・染色システム。
【請求項６】
前記刺繍模様上の任意の２点について、前記刺繍機及び前記染色装置において検位し、前記２点の座標変移から、補正量を計算し、この補正量に依拠して、前記相対位置の補正を行うようにしてなる、請求項１記載の刺繍・染色システム。
【請求項７】
前記刺繍模様上の任意の２点について、前記刺繍機及び前記染色装置において検位し、前記２点の座標変移から、補正量を計算し、この補正量に前記布地の縮み量及び縮み方向を加味して、前記相対位置の補正を行うようにしてなる、請求項７記載の刺繍・染色システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、刺繍・染色システムに関し、染色前若しくは染色後のワークに刺繍を施すようにしてなる、刺繍・染色システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
縫製業界においては、ワーク（主として布地）に刺繍を施すことが出来ると共に、このワークに染色をも行えるようにした刺繍・染色システムが渇望されていた。この渇望を満たすべく、特許文献１は、染色装置を備える刺繍機を提供している。
【０００３】
【特許文献１】
特開平５−２７２０４６号公報  （第１〜４頁、図１〜１０）
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
たしかに、染色装置と刺繍機を一体化して、縫製業界の要望に対して技術的に応えた点は高く評価されるべきが、実用上、問題がある。すなわち、刺繍機で所定模様を布地に形成したあと、同じ布地に所定模様を染色した場合、刺繍により布地が縮み、刺繍模様の位置と染色模様の相対位置がズレ、見栄えが悪くなる蓋然性が高い。
【０００５】
それ故に、本発明は、かような不具合が惹起されない刺繍・染色システムを提供することを、その技術的課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記した課題を解決するために、請求項１において講じた技術的手段は、「刺繍機による布地への刺繍模様への形成を、染色装置による前記布地への染色模様の形成の前後に行うようにしてなる刺繍・染色システムにおいて、前記染色模様と前記刺繍模様との間の相対位置を補正する補正手段を設けた、刺繍・染色システム」を構成したことがある。
【０００７】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面に依拠して、本発明にかかる刺繍・染色システムの実施形態について説明する。
【０００８】
図１及び図２に示すように、刺繍・染色システムＥＢＳは、制御装置１０と、制御装置１０と別体をなすも制御装置１０の統制下にある刺繍機２０と、制御装置１０と別体をなすも制御装置１０の統制下にある染色装置３０とを備える。この刺繍・染色システムＥＢＳにおいては、枠装置４０に展張・保持された布地Ｗに、刺繍機２０による刺繍模様の形成が、染色装置３０による染色模様の形成の前／後になされるようになっている。
【０００９】
布地Ｗへの刺繍の後に、染色を行う場合、刺繍による布地Ｗの縮みを考慮して、染色模様の、刺繍模様に対する相対関係が調整される。すなわち、図３に示すように、破線で示された矩形ＲＡの領域内に振幅量ＬＡのジグザグ模様ＺＡを刺繍で形成する場合、実際は、図３に示すように、布地Ｗが縮んで、振幅量ＬＢのジグザグ模様ＺＢとなるので、つまり、幅方向に（ＬＡ−ＬＢ）だけ模様が縮むので、この方向と縮み量（補正方向と補正量）を考慮して、染色模様の大きさが調整され、ジグザグ模様ＺＢを内接する矩形ＲＢが染色される。
【００１０】
上記した染色模様と刺繍模様との間の相対位置の補正は、補正方向と補正量とを事前に試し縫いを行って、既知のものとした上で行うものであるが、トライ・アンド・エラー方式でも行うことができる。すなわち、まず、図３で示すような刺繍模様ＺＡを形成し、その上に、予め補正した染色模様が形成されるように揮発性インクを噴射する。揮発性インクで形成された染色模様と刺繍模様とを比較して、両者のズレを目測し、その結果を染色模様の大きさの補正にフィードバックさせる。揮発性インクで形成した模様は所定時間経過後に消失するから、この作業は繰り返し行えるので、両者が一致したとき、補正された染色範囲の染色模様を通常のインクを用いて染色を行えば、染色模様と刺繍模様との間の相対位置の補正を行うことができる。
【００１１】
刺繍・染色システムＥＢＳにおいては、枠装置４０に展張・保持された布地Ｗには、刺繍機２０による刺繍模様の形成がなされた後、染色装置３０による染色模様の形成がなされる。その際に、枠装置４０が染色装置３０への装填において位置ズレが惹起される場合があり得る。このような場合を想定した、染色模様と刺繍模様との間の相対位置の補正は、次のように行われる。
【００１２】
（１）まず、布地Ｗを展張・保持した枠装置４０を刺繍機に装填する。
【００１３】
（２）次いで、枠装置４０に展張・保持された布地Ｗ上の、同一直線上に位置する任意の２点ＷＡ・ＷＢの座標（ＸＡ，ＹＡ）・（ＸＢ，ＹＢ）を、制御装置に記憶させる。具体的には、ミシンヘッドを適当な位置に動かし、静止させ、針落ちさせて、この位置を点ＷＡと定め、マーキングする。このとき、点ＷＡの座標（ＸＡ，ＹＡ）は、制御装置にとっては、既知となる。そして、ミシンヘッドをＸ方向に移動させて、適当な位置で止め、針落ちさせ、この位置を点ＷＢと定める。このとき、点ＷＢの座標（ＸＢ，ＹＢ）は、制御装置にとっては、既知となる。
【００１４】
（３）次に、刺繍枠４０を、布地Ｗを展張・保持した状態で、染色装置３０に装填する。
【００１５】
（４）染色装置３０のインクヘッドを移動させ、その噴射口をマーキングした点ＷＡに準させる。このとき、制御装置が認識した座標を（ＸＣ，ＹＣ）とする。更に、インクヘッドを移動させ、その噴射口をマーキングした点ＷＢに準させる。このとき、制御装置が認識した座標を（ＸＤ，ＹＤ）とする。
（５）上記した４つの座標（ＸＡ，ＹＡ）、（ＸＢ，ＹＢ）、（ＸＣ，ＹＣ）及び（ＸＤ，ＹＤ）から、染色装置に装填された枠装置４０の原点に対するズレ（傾きθ及び変移量ＤＰ）が計算できるので、染色模様の染色範囲を、このズレに応じて補正すれば、染色模様と刺繍模様との間の相対位置を適正に調整できる。
【００１６】
尚、この方法を採用する場合、刺繍前に、別の２点（ＸＰ，ＹＰ）（ＸＱ，ＹＱ）をマーキングしておき、この２点（ＸＰ，ＹＰ）（ＸＱ，ＹＱ）と上記２点（ＸＡ，ＹＡ）・（ＸＢ，ＹＢ）とを用いて、縮み方向及び縮み量を計算し、その結果を、上記補正に反映させれば、上記補正は、更に精緻なものとなる。
【００１７】
上記した方法の他、次のよう手順によっても、染色模様と刺繍模様との間の相対位置の補正することが出来る。
【００１８】
（１）まず、布地Ｗを展張・保持した枠装置４０を刺繍機に装填して、図７に示すような刺繍模様ＥＭＢを布地Ｗに施す。
【００１９】
（２）次いで、刺繍枠４０を、布地Ｗを展張・保持した状態で、染色装置３０に装填する。
【００２０】
（３）ディスプレー５０に刺繍模様ＥＭＡを表示して、刺繍模様上の任意の２点ＥＭＸ・ＥＭＹをマウスでクリックして、その座標（ＸＡ，ＹＡ）・（ＸＢ，ＹＢ）を記憶させる。
【００２１】
（４）染色装置３０のインクヘッドを移動させ、その噴射口を実際の刺繍模様ＥＭＢ上の、上記２点ＥＭＸ・ＥＭＹに対応する２点ＦＭＸ・ＦＭＹに照準させ、その座標を夫々（ＸＣ，ＹＣ）・（ＸＤ，ＹＤ）とする。
（５）上記した４つの座標（ＸＡ，ＹＡ）、（ＸＢ，ＹＢ）、（ＸＣ，ＹＣ）及び（ＸＤ，ＹＤ）から、染色装置３０に装填された枠装置４０の原点に対するズレ（傾き及び変移量）が計算できるので、染色模様の染色範囲を、このズレに応じて補正すれば、染色模様と刺繍模様との間の相対位置を適正に調整できる。
【００２２】
尚、上記した２つの方法においては、布地Ｗの染色装置３０へのセットは、枠装置４０を用いなくても良い。
【００２３】
【発明の効果】
上に述べたところ明らかなように、本発明は、刺繍機による布地への刺繍模様への形成を、染色装置による前記布地への染色模様の形成の前後に行うようにしてなる刺繍・染色システムにおいて、前記染色模様と前記刺繍模様との間の相対位置を補正するようにしたので、布地の収縮や布地を展張・保持する枠装置の装填位置のズレに伴う刺繍模様と染色模様の間の相対位置のズレを無くすことができ、実用上多大な効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる刺繍・染色システムの構成を示す概観図である。
【図２】布地を展張・保持した枠装置の断面図である。
【図３】刺繍データに依拠して刺繍された模様を説明する図である。
【図４】実際に刺繍された模様を説明する図である。
【図５】座標変移を測定して、刺繍模様と染色模様の間の相対位置のズレを補正する量を算出する原理を示す図である。
【図６】刺繍データに依拠して刺繍された模様を説明する図である。
【図７】実際に刺繍された模様を説明する図である。
【符号の説明】
１０・・・制御装置
２０・・・刺繍機
３０・・・染色装置
４０・・・枠装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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