(57)【要約】【課題】  光学式浮上スライダに搭載されている対物レンズを通過したレーザ光を記録膜上に適切に集光することが可能な光ディスク装置、および、当該光ディスク装置に利用することのできる光メディアを、提供すること。【解決手段】  本発明の光ディスク装置Ｘ１は、光メディア１０および光学式浮上スライダ２０を備える。光メディア１０は、記録機能および再生機能を担う記録膜１２、並びに、記録膜１２を覆う保護膜１４を有し、情報記録および／または情報再生の実行時に回転動作を伴う。保護膜１４の厚さは、回転動作における回転中心側から周端側にかけて漸減する。光学式浮上スライダ２０は、記録膜１２上に光を集光するための対物レンズ２２を有し、情報記録および／または情報再生の実行時において、保護膜１４に対向しつつ光メディア１０に対して浮上配置される。【選択図】  図１
2005339688.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光メディアおよび光学式浮上スライダを備えて前記光メディアについて情報記録および／または情報再生を実行するための光ディスク装置であって、
前記光メディアは、記録機能および再生機能を担う記録膜、並びに、当該記録膜を覆う保護膜を有し、前記情報記録および／または前記情報再生の実行時に回転動作を伴い、
前記光学式浮上スライダは、前記記録膜上に光を集光するための対物レンズを有し、前記情報記録および／または前記情報再生の実行時において、前記保護膜に対向しつつ前記光メディアに対して浮上配置され、
前記保護膜の厚さは、前記回転動作における回転中心側から周端側にかけて漸減する、光ディスク装置。
【請求項２】
光磁気記録媒体および光学式浮上スライダを備えて前記光磁気記録媒体について情報記録および情報再生を実行するための光ディスク装置であって、
前記光磁気記録媒体は、記録機能および再生機能を担う記録膜、並びに、当該記録膜を覆う保護膜を有し、前記情報記録および前記情報再生の実行時に回転動作を伴い、
前記光学式浮上スライダは、前記記録膜に対して磁界を印加するための磁界印加手段、および、前記記録膜上に光を集光するための対物レンズを有し、前記情報記録および前記情報再生の実行時において、前記保護膜に対向しつつ前記光磁気記録媒体に対して浮上配置され、
前記保護膜の厚さは、前記回転動作における回転中心側から周端側にかけて漸減する、光ディスク装置。
【請求項３】
前記回転動作の回転速度は一定である、請求項１または２に記載の光ディスク装置。
【請求項４】
記録機能および再生機能を担い且つ情報記録および／または情報再生の実行時に光が照射される記録膜、並びに、当該記録膜を覆う保護膜を有し、前記情報記録および／または前記情報再生の実行時に回転動作を伴う、光メディアであって、
前記保護膜の厚さは、前記回転動作における回転中心側から周端側にかけて漸減する、光メディア。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光ディスクなどの記録媒体と、対物レンズ等を有して当該記録媒体に対して浮上配置され得る光学式浮上スライダとを備える光ディスク装置、および、光ディスク装置の記録媒体として利用することのできる光メディアに関する。
【背景技術】
【０００２】
光学的に情報が読み取られる光メディアの一形態として、光磁気ディスクが知られている。光磁気ディスクは、所定の磁気的構造を有する記録膜を有し、熱磁気的に記録され且つ磁気光学効果を利用して再生される書き換え可能な記録媒体である。光磁気ディスクへの情報記録に際しては、記録用レーザ光を対物レンズにより記録膜上に集光することによって記録膜の所定箇所を昇温させつつ、当該箇所に所定の磁界が印加される。これにより、磁化方向の変化として記録膜内に信号が記録される。また、光磁気ディスクの情報再生に際しては、再生用レーザ光を対物レンズにより記録膜上に集光し、当該記録膜表面にて反射された光の光学特性の変化を検知することによって、記録信号が読み取られる。したがって、光磁気ディスクの記録再生装置には、光源および対物レンズ等を含む所定の光学系や、磁界印加手段としての例えば磁気コイルが必要とされる。
【０００３】
光磁気ディスクの技術分野においては、高い記録密度を達成し得る記録媒体として、垂直磁気記録方式かつフロントイルミネーション（ＦＩ）方式の光磁気ディスクが注目を集めている。垂直磁気記録方式かつＦＩ方式の光磁気ディスクでは、記録膜内にて情報が記録保持される磁性層（記録層）は垂直磁気異方性を有し、且つ、基板とは反対の側から記録膜に対してレーザ光照射や磁界印加がなされて情報記録や情報再生が実行されるように構成されている。そして、このような光磁気ディスクの記録再生装置では、記録膜上にレーザ光を集光するための対物レンズや、磁界印加手段としての磁気コイルを、光磁気ディスクに対して近接配置するために、当該対物レンズおよび磁気コイルを搭載した浮上スライダが利用される場合がある。そのような記録再生装置は、例えば下記の特許文献１に記載されている。
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−３２４３１７号公報
【０００５】
図８は、光磁気ディスクの記録再生装置の一例である従来の光ディスク装置Ｘ２の概略構成を表す。光ディスク装置Ｘ２は、光磁気ディスク７０と、光学式浮上スライダ８０と、スピンドルモータ９１と、アクチュエータ９２と、サスペンション９３と、ガイドレール９４とを備え、垂直磁気記録方式かつＦＩ方式の光磁気記録媒体を記録および再生するための装置として構成されたものである。
【０００６】
光磁気ディスク７０は、基板７１、記録膜７２、および保護膜７３を含む積層構造を有し、垂直磁気記録方式かつＦＩ方式の光磁気記録媒体として構成されたものである。記録膜７２は、熱磁気的な記録および磁気光学効果を利用した再生という２つの機能を担うことが可能な磁性構造を有し、再生方式に応じた１または２以上の垂直磁化膜、および、必要に応じて設けられる誘電体膜（いわゆるエンハンス層など）よりなり、一の垂直磁化膜により構成される記録層を有する。この記録層には、磁化方向の変化として情報が記録されている。保護膜７３は、記録膜７２を塵埃などから保護するための部位であり、光透過性の樹脂材料よりなる。このような光磁気ディスク７０は、スピンドルモータ９１に支持され、スピンドルモータ９１が一定の回転速度で回転駆動することによって回転動作する。すなわち、光ディスク装置Ｘ２における光磁気ディスク７０は、ＣＡＶ（constant angular velocity1）方式で回転される。
【０００７】
光学式浮上スライダ８０は、スライダボディ８１、対物レンズ８２、および磁気コイル（図示略）を有し、情報記録および情報再生の実行時において、光磁気ディスク７０の保護膜７３に対向して配置される。スライダボディ８１の媒体対向面は、光磁気ディスク７０が回転動作しているときに光磁気ディスク７０ないし保護膜７３と光学式浮上スライダ８０との間にいわゆる気体潤滑膜を生じさせるための湾曲形状（図示略）を有する。対物レンズ８２は、記録用または再生用のレーザ光Ｌを集光するためのものである。磁気コイルは、記録膜７２に所定の磁界を印加するためのものである。このような光学式浮上スライダ８０は、サスペンション９３を介してアクチュエータ９２に連結されている。サスペンション９３は、光学式浮上スライダ８０に対して光磁気ディスク７０に向けて付勢力を作用させる。
【０００８】
アクチュエータ９２は、光磁気ディスク７０の径方向Ｒに延びるガイドレール９４に沿って並進駆動可能に設けられており、光学式浮上スライダ８０を径方向Ｒに沿って変移させることによって当該光学式浮上スライダ８０の位置制御を行うためのものである。また、アクチュエータ９２の内部には、光源（図示略）からのレーザ光Ｌや光磁気ディスク７０からの反射光が通過可能な導光路が確保されており、この導光路内には反射ミラー９２ａが配設されている。
【０００９】
光ディスク装置Ｘ２による情報記録に際しては、光磁気ディスク７０をＣＡＶ方式にて一定速度で回転動作させる。これにより、光磁気ディスク７０と光学式浮上スライダ８０との間に気体潤滑膜が生じ、光学式浮上スライダ８０は、保護膜７３に対向しつつ光磁気ディスク７０に対して浮上配置されることとなる。この状態において、図外の光源から出射された記録用のレーザ光Ｌを対物レンズ８２により記録膜７２上に集光しつつ、磁気コイルにより記録膜７２に所定の磁界を印加する。このようにして、記録膜７２内の記録層に磁化方向の変化として所定の信号を書き込むための情報記録が、実行される。
【００１０】
光ディスク装置Ｘ２による情報再生に際しては、光磁気ディスク７０をＣＡＶ方式にて一定速度で回転動作させる。これにより、光磁気ディスク７０と光学式浮上スライダ８０との間に気体潤滑膜が生じ、光学式浮上スライダ８０は、保護膜７３に対向しつつ光磁気ディスク７０に対して浮上配置されることとなる。この状態において、図外の光源から出射された再生用のレーザ光Ｌを対物レンズ８２により記録膜７２上に集光しつつ、記録膜７２の表面にて反射した光の偏光方向を検知する。このようにして、記録膜７２内に記録されている信号を反射光の偏光方向の変化として読み出すための情報再生が、実行される。
【００１１】
光ディスク装置Ｘ２では、光磁気ディスク７０に良好に記録するためには、情報記録の際に、記録用のレーザ光Ｌを記録膜７２上に適切に集光する必要がある。また、光磁気ディスク７０を良好に再生するためには、情報再生の際に、再生用のレーザ光Ｌを記録膜７２上に適切に集光する必要がある。すなわち、光ディスク装置Ｘ２では、良好な記録および再生を達成するためには、情報記録および情報再生を実行する際に、対物レンズ８２を通過することによってレーザ光Ｌにおいて生ずるレーザウエスト、または、その近傍の所定範囲内に、記録膜７２表面が位置する必要がある。しかしながら、光ディスク装置Ｘ２では、光磁気ディスク７０における半径位置（径方向Ｒにおける１次元的な位置）の全体にわたってレーザ光Ｌを記録膜７２上に適切に集光するのが、困難な場合がある。
【００１２】
ＣＡＶ方式で回転する光磁気ディスク７０においては、ディスク周方向の線速度は、光磁気ディスク７０の回転中心軸Ａｘの側から周端側にかけて次第に大きくなる。そのため、情報記録や情報再生の実行時には、光学式浮上スライダ８０が回転中心軸Ａｘから遠いほど、光学式浮上スライダ８０の受ける浮揚力は大きく、従って、図９に示すように、光学式浮上スライダ８０が回転中心軸Ａｘから遠いほど、光磁気ディスク７０ないし保護膜７３の表面からの光学式浮上スライダ８０の浮上距離は長い。図９は、異なる３つの半径位置における光学式浮上スライダ８０の浮上態様について、仮想的に単一の光磁気ディスク７０に対するものとして、表す。
【００１３】
このように、光磁気ディスク７０の径方向Ｒに沿って光学式浮上スライダ８０の浮上距離が変化するため、径方向Ｒのいずれかの位置にてレーザ光Ｌが記録膜７２上に合焦するように（即ち、レーザウエストＷの形成位置と記録膜７２の表面の位置とが一致するように）装置内の光学系（対物レンズ８２を含む）を設定しても、当該位置以外では、レーザウエストＷと記録膜７２表面とは乖離する。加えて、当該位置から遠いほど、乖離の程度は増大する。乖離の程度が一定以上である場合には、記録信号や再生信号において、許容できない劣化が生じてしまう。高記録密度化の観点より、対物レンズ８２については高ＮＡ（開口数）化が望まれるところ、対物レンズ８２のＮＡが高いほど、当該対物レンズ８２の焦点深度が浅く、レーザウエストＷおよび記録膜７２表面の乖離について許容される程度は小さい傾向にある。
【００１４】
光ディスク装置の技術分野においては、上述のような浮上距離変化に追随してレーザウエストＷの形成位置を調節するための焦点補正デバイスが装置内に設けられる場合がある。そのような焦点補正デバイスとしては、光源と対物レンズ８２の間の導光路内に配置されるビームエキスパンダや液晶素子が知られている。しかしながら、光ディスク装置Ｘ２におけるそのような焦点補正デバイスの利用は、装置の大型化および製造コストの上昇を招来するので好ましくない。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
本発明は、このような事情のもとで考え出されたものであって、光学式浮上スライダに搭載されている対物レンズを通過したレーザ光を記録膜上に適切に集光することが可能な光ディスク装置、および当該光ディスク装置に利用することのできる光メディアを、提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明の第１の側面によると、光メディアおよび光学式浮上スライダを備えて光メディアについて情報記録および／または情報再生を実行するための光ディスク装置が提供される。本装置における光メディアは、記録機能および再生機能を担う記録膜、並びに、当該記録膜を覆う保護膜を有し、情報記録および／または情報再生の実行時に回転動作を伴う。保護膜の厚さは、回転動作における回転中心側から周端側にかけて漸減する。また、本装置における光学式浮上スライダは、記録膜上に光を集光するための対物レンズを有し、情報記録および／または情報再生の実行時において、保護膜に対向しつつ光メディアに対して浮上配置される。
【００１７】
このような構成の光ディスク装置においては、光メディアの回転動作の方式として例えばＣＡＶ方式を採用すると、情報記録および／または情報再生の実行時において、光メディアの回転中心から光学式浮上スライダが遠いほど、当該光学式浮上スライダの受ける浮揚力は大きく、光メディアないし保護膜の表面からの光学式浮上スライダの浮上距離は長い。これに対し、本装置における光メディアの保護膜の厚さは、光メディアの回転動作における回転中心側から周端側にかけて漸減する。したがって、本装置においては、光メディアの保護膜の厚さについて、光メディアの回転動作における回転中心側から周端側にかけて、スライダ浮上距離の増大に相応する所定の態様で漸減させておくことにより、情報記録および／または情報再生の実行時において、光学式浮上スライダの対物レンズの光メディア対向面から当該光メディアの記録膜までの光学的距離が、光学式浮上スライダの位置にかかわらず所定範囲内にて一定に維持されるように、構成することができる。
【００１８】
本発明の第２の側面によると、光磁気記録媒体および光学式浮上スライダを備えて光磁気記録媒体について情報記録および情報再生を実行するための光ディスク装置が提供される。本装置における光磁気記録媒体は、記録機能および再生機能を担う記録膜、並びに、当該記録膜を覆う保護膜を有し、情報記録および情報再生の実行時に回転動作を伴う。保護膜の厚さは、回転動作における回転中心側から周端側にかけて漸減する。また、本装置における光学式浮上スライダは、記録膜に対して磁界を印加するための磁界印加手段、および、記録膜上に光を集光するための対物レンズを有し、情報記録および情報再生の実行時において、保護膜に対向しつつ光磁気記録媒体に対して浮上配置される。
【００１９】
このような構成の光ディスク装置においては、光磁気記録媒体の回転動作の方式として例えばＣＡＶ方式を採用すると、情報記録および情報再生の実行時において、光磁気記録媒体の回転中心から光学式浮上スライダが遠いほど、当該光学式浮上スライダの受ける浮揚力は大きく、光磁気記録媒体ないし保護膜の表面からの光学式浮上スライダの浮上距離は長い。これに対し、本装置における光磁気記録媒体の保護膜の厚さは、光磁気記録媒体の回転動作における回転中心側から周端側にかけて漸減する。したがって、本装置においては、光磁気記録媒体の保護膜の厚さについて、光磁気記録媒体の回転動作における回転中心側から周端側にかけて、スライダ浮上距離の増大に相応する所定の態様で漸減させておくことによって、情報記録および情報再生の実行時において、光学式浮上スライダの対物レンズの媒体対向面から当該光磁気記録媒体の記録膜までの光学的距離が、光学式浮上スライダの位置にかかわらず所定範囲内にて一定に維持されるように、構成することができる。
【００２０】
本発明の第１および第２の側面において、好ましくは、光メディアまたは光磁気記録媒体の回転動作の回転速度すなわち角速度は、一定である。角速度一定の回転方式（ＣＡＶ方式）は、光メディアまたは光磁気記録媒体に記録されている情報に対するアクセスを高速化するうえで好適である。
【００２１】
本発明の第３の側面によると光メディアが提供される。この光メディアは、記録膜および保護膜を有する。記録膜は、記録機能および再生機能を担い、且つ、情報記録および／または情報再生の実行時に光が照射される。保護膜は、当該記録膜を覆う。情報記録および／または情報再生の実行時において、本光メディアは回転動作を伴い、保護膜の厚さは、回転動作における回転中心側から周端側にかけて漸減する。このような光メディアは、本発明の第１の側面における光メディアとして利用することができ、或は、本発明の第２の側面における光磁気記録媒体として利用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
図１は、本発明に係る光ディスク装置Ｘ１の概略構成を表す。光ディスク装置Ｘ１は、光磁気ディスク１０と、光学式浮上スライダ２０と、アクチュエータ３０と、固定光学部４０と、制御部５０と、スピンドルモータ６１と、サスペンション６２と、ガイドレール６３とを備える。
【００２３】
光磁気ディスク１０は、図２に示すように、基板１１、記録膜１２、放熱層１３（図１では省略）、および保護膜１４を含む積層構造を有し、垂直磁気記録方式かつＦＩ方式の光磁気記録媒体として構成されたものである。
【００２４】
基板１１は、光磁気ディスク１０の剛性を確保するための部位であり、図３に表れているようにディスク形状を有する。また、基板１１は、渦巻き状または同心円状のプリグルーブ（図示略）を表面に有する。光磁気ディスク１０では、このプリグルーブを基にランドグルーブ形状（図示略）が形成され、渦巻き状または同心円状のトラックが構成される。また、基板１１は、例えば、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）樹脂、エポキシ樹脂、またはポリオレフィン樹脂よりなる。
【００２５】
記録膜１２は、熱磁気的な記録および磁気光学効果を利用した再生という２つの機能を果たすことが可能な磁性構造を有し、再生方式に応じた１または２以上の磁性層、および、必要に応じて設けられる誘電体層よりなる。
【００２６】
例えば、記録膜１２は、記録機能および再生機能を併有する単一の記録層（磁性層）よりなる。或は、記録膜１２は、相対的に保磁力が大きくて記録機能を担う記録層（磁性層）と、再生用レーザにおけるカー回転角が相対的に大きくて再生機能を担う再生層（磁性層）とからなる、２層構造を有する。或は、記録膜１２は、ＭＳＲ方式、ＭＡＭＭＯＳ方式、またはＤＷＤＤ方式での再生を実現するための、記録層（磁性層）、再生層（磁性層）、およびこれらの間の中間層（磁性層）を含む３層以上の多層構造を有する。記録膜１２のとり得る各磁性構造における各磁性層は、希土類元素と遷移金属とのアモルファス合金よりなり、垂直磁気異方性を有して垂直方向に磁化された垂直磁化膜である。希土類元素としては、Ｔｂ，Ｇｄ，Ｄｙ，Ｎｄ，またはＰｒなどを用いることができる。遷移金属としては、ＦｅやＣｏなどを用いることができる。より具体的には、記録層は、例えば、所定の組成を有するＴｂＦｅＣо，ＤｙＦｅＣо，またはＴｂＤｙＦｅＣоよりなる。再生層を設ける場合、当該再生層は、例えば、所定の組成を有するＧｄＦｅＣо，ＧｄＤｙＦｅＣо，ＧｄＴｂＤｙＦｅＣо，ＮｄＤｙＦｅＣо，ＮｄＧｄＦｅＣо，またはＰｒＤｙＦｅＣоよりなる。中間層を設ける場合、当該中間層は、例えば、所定の組成を有するＧｄＦｅ，ＴｂＦｅ，ＧｄＦｅＣо，ＧｄＤｙＦｅＣо，ＧｄＴｂＤｙＦｅＣо，ＮｄＤｙＦｅＣо，ＮｄＧｄＦｅＣо，またはＰｒＤｙＦｅＣоよりなる。各層の厚さは、記録膜１２に所望される磁性構造に応じて決定される。
【００２７】
また、記録膜１２は、記録膜１２表面での反射光について実質的に大きなカー回転角を得るためのエンハンス層を、保護膜１４との界面において有してもよい。エンハンス層は、例えばＳｉＮよりなり、例えば１０〜１００ｎｍの厚さを有する。
【００２８】
このような記録膜１２は、光磁気ディスク１０の記録面１２’を構成する。記録面１２’は、図３に示すように、同心円状の内縁端１２Ａおよび外縁端１２Ｂを有する。光磁気ディスク１０では、このような記録面１２’において、渦巻き状または同心円状のトラックに沿って所定の情報が記録される。
【００２９】
放熱層１３は、レーザ照射時に記録膜１２などにて発生する熱を効率よく基板１１へ伝えるための部位であり、例えば、Ａｇ，Ａｇ合金（ＡｇＰｄＣｕＳｉ，ＡｇＰｄＣｕなど），Ａｌ合金（ＡｌＴｉ，ＡｌＣｒなど），Ａｕ，またはＰｔなどの高熱伝導材料よりなる。放熱層１３の厚さは例えば１０〜５０ｎｍである。
【００３０】
保護膜１４は、記録膜１２を塵埃などから保護すべく記録膜１２を覆い、光源（図示略）から出射されるレーザ光Ｌに対して充分な透過性を有する樹脂材料よりなる。保護膜１４の厚さは、図１に示すように、記録膜１２（記録面１２’）の内縁端１２Ａから外縁端１２Ｂにかけて漸減する。すなわち、保護膜１４の厚さは、光磁気ディスク１０の回転中心軸Ａｘの側から周端側にかけて漸減する。保護膜１４の厚さの漸減の態様は、後述するように、光磁気ディスク１０の回転動作中における光学式浮上スライダ２０の浮上距離変化に応じて決定される。このような保護膜１４を構成するための樹脂材料としては、例えば、透明な紫外線硬化性樹脂を採用することができる。
【００３１】
光磁気ディスク１０は、スピンドルモータ６１に支持され、スピンドルモータ６１が一定の回転速度で回転駆動することによって回転動作する。すなわち、光ディスク装置Ｘ１における光磁気ディスク１０は、本実施形態ではＣＡＶ方式で回転される。また、スピンドルモータ６１の回転駆動は、制御部５０からの所定の制御信号に基づいて制御される。
【００３２】
光学式浮上スライダ２０は、図４によく表れているように、スライダボディ２１、対物レンズ２２、および磁気コイル２３を有し、光ディスク装置Ｘ１による情報記録および情報再生の実行時には、光磁気ディスク１０の保護膜１４に対向して配置される。スライダボディ２１の媒体対向面は、所定の湾曲形状を有する。具体的には、回転動作中の光磁気ディスク１０においてスライダボディ２１に対向する箇所の線速度が、即ち、回転動作中の光磁気ディスク１０においてスライダボディ２１に対向する箇所の当該スライダボディ２１に対する相対速度が、所定以上であるときに、光磁気ディスク１０ないし保護膜１４と光学式浮上スライダ２０との間にいわゆる気体潤滑膜を生じさせるための湾曲形状を、スライダボディ２１の媒体対向面は有するのである。対物レンズ２２は、光源からの記録用または再生用のレーザ光Ｌを集光するためのものである。磁気コイル２３は、記録膜１２に所定の磁界を印加するためのものである。このような光学式浮上スライダ２０は、図１に示すように、板バネ状のサスペンション６２を介してアクチュエータ３０に連結されている。サスペンション６２は、光学式浮上スライダ２０に対し、光磁気ディスク１０に向けて付勢力を作用させる。
【００３３】
アクチュエータ３０は、光磁気ディスク１０の径方向Ｒに延びるガイドレール６３に沿って並進駆動可能に設けられており、径方向Ｒに沿って光学式浮上スライダ２０を変移させることによって当該光学式浮上スライダ２０の位置制御を行うためのものである。アクチュエータ３０の並進駆動は、制御部５０からの所定の制御信号に基づいて制御される。また、アクチュエータ３０の内部には、光源（図示略）からのレーザ光Ｌや光磁気ディスク１０からの反射光が通過可能な導光路が確保されており、この導光路内には、例えば図１に示すように、反射ミラー３１が配設されている。
【００３４】
固定光学部４０は、光源、プリズム、および信号検出器など、光磁気記録媒体の記録および再生に必要な所定の光学系を備える。光源としては、例えばレーザダイオードを採用することができる。光源から出射されるレーザ光Ｌの波長は、制御部５０からの所定の制御信号に基づいて切り換えられ得る。プリズムは、光源から出射されたレーザ光Ｌについて、ビーム形状を整形したり、信号検出器への分光を行うためのものである。信号検出器は、光磁気ディスク１０からの反射光を検出して電気信号に変換し、光磁気ディスク１０に記録された情報を当該電気信号から読み取るためのものである。
【００３５】
光ディスク装置Ｘ１では、回転動作中の光磁気ディスク１０において光学式浮上スライダ２０ないしスライダボディ２１に対向する箇所の線速度が所定以上であるとき、光磁気ディスク１０ないし保護膜１４と光学式浮上スライダ２０との間に気体潤滑膜が生じる。すなわち、光学式浮上スライダ２０に対して浮揚力が作用し、その結果、光学式浮上スライダ２０は、例えば図４に示すように、サスペンション６２からの付勢力に抗して光磁気ディスク１０の保護膜１４の表面から浮揚（離隔）し、当該光磁気ディスク１０に対して浮上配置されることとなる。回転動作中の光磁気ディスク１０において光学式浮上スライダ２０に対向する箇所の線速度が大きいほど、光学式浮上スライダ２０に作用する浮揚力は大きく、浮揚力が大きいほど、光学式浮上スライダ２０ないしスライダボディ２１の保護膜１４表面からの浮上距離Ｄ１（対物レンズ２２の頂点を垂直に通過するいわゆる光軸Ｃが通過する箇所における、スライダボディ２１および保護膜１４の間の距離）は大きい。また、一定の回転速度で回転動作する光磁気ディスク１０の表面の線速度は、当該回転動作における回転中心軸Ａｘの側から周端側にかけ次第に大きくなる。したがって、一定の回転速度で回転動作する光磁気ディスク１０に対して光学式浮上スライダ２０が浮上配置されている場合には、当該光学式浮上スライダ２０の浮上距離Ｄ１は、光学式浮上スライダ２０の浮上位置が光磁気ディスク１０の回転中心軸Ａｘから遠いほど、大きい。
【００３６】
光磁気ディスク１０の保護膜１４の厚さは、このような浮上距離Ｄ１の変化を前提として、ディスクの径方向Ｒにおいて変化するように設定されている。具体的には、光ディスク装置Ｘ１による情報記録および情報再生の実行時において、ＣＡＶ方式にて所定の回転速度で回転動作する光磁気ディスク１０に対して浮上配置されている光学式浮上スライダ２０の対物レンズ２２と光磁気ディスク１０の記録膜１２（記録面１２’）との間の光学的距離Ｄが、光学式浮上スライダ２０の浮上位置（回転中心軸Ａｘからの距離）にかかわらず所定範囲内に維持されるように、保護膜１４の厚さは、図１に示すように記録膜１２の内縁端１２Ａから外縁端１２Ｂにかけて漸減する。光学的距離Ｄは、対物レンズ２２の頂点を垂直に通過するいわゆる光軸Ｃが通過する箇所における、対物レンズ２２および記録膜１２の間の距離であり、下記式（１）により表される。式（１）において、Ｄ１は上述のように所定の浮上距離、Ｎ１は気体潤滑膜（本実施形態では空気）の屈折率、Ｄ２は光軸Ｃが通過する箇所における保護膜１４の厚さ、Ｎ２は保護膜１４の屈折率である。また、Ｄ３およびＮ３は、光軸Ｃが通過する箇所における対物レンズ２２の媒体対向面からスライダボディ２１の媒体対向面までの長さ及び屈折率であって、本実施形態では、光軸Ｃが通過する箇所におけるスライダボディ２１の厚さ及び屈折率である。
【００３７】
【数１】
2005339688.tif 000003
【００３８】
保護膜１４の厚さＤ２は、このような光学的距離Ｄを所定範囲内に維持すべく、径方向Ｒにおいて記録膜１２（記録面１２’）の内縁端１２Ａから外縁端１２Ｂにかけて、浮上距離Ｄ１の変化を補償するように変化しているのである。光学的距離Ｄについての所定範囲とは、光学式浮上スライダ２０の対物レンズ２２を通過して集光されるレーザ光Ｌが、記録面１２’上に充分に小さな照射スポットを形成するうえで光学的距離Ｄに要求される範囲である。例えば、対物レンズ２２における媒体対向面から、当該対物レンズ２２を通過して集光されるレーザ光のレーザウエスト形成位置までの距離が、対物レンズ２２の焦点距離に一致する場合には、光学的距離Ｄについて所定範囲とは、焦点距離をＤｆとすると例えばＤｆ±ｄ／２（ｄは焦点深度）である。
【００３９】
また、本実施形態では、Ｄ３およびＮ３は一定であるので、上記式（１）におけるＤ３×Ｎ３は一定である。したがって、光学的距離Ｄ’（＝Ｄ１×Ｎ１＋Ｄ２×Ｎ２）を想定すると、保護膜１４の厚さＤ２は、このような光学的距離Ｄ’を所定範囲内に維持すべく、径方向Ｒにおいて記録膜１２（記録面１２’）の内縁端１２Ａから外縁端１２Ｂにかけて、浮上距離Ｄ１の変化を補償するように変化していることとなる。
【００４０】
図５は、このような厚さ変化を有する保護膜１４を備える光磁気ディスク１０の製造方法を表す。光磁気ディスク１０の製造においては、まず、図５（ａ）に示すような基板１１を用意する。基板１１は、例えば樹脂射出成形法により形成されたものであり、その所定面にはプリグルーブ（図示略）が形成されている。次に、図５（ｂ）に示すように、基板１１上に放熱層１３および記録膜１２を順次形成する。放熱層１３および記録膜１２は、スパッタリング法により形成することができる。次に、図５（ｃ）に示すように、記録膜１２上に保護膜１４を形成する。
【００４１】
保護膜１４の形成においては、まず、スピンコート法により、所定の紫外線硬化性樹脂を記録膜１２上に塗布する。このとき、諸条件を適宜調整することにより、塗布樹脂の厚さについて、記録膜１２の内縁端１２Ａから外縁端１２Ｂにかけて漸減させる。調整対象の条件としては、紫外線硬化性樹脂の滴下位置および滴下量、並びに、光磁気ディスク１０の回転速度および回転時間などが、挙げられる。この後、紫外線を照射することによって塗布樹脂を硬化させる。
【００４２】
保護膜１４の厚さ変化の変化率は、本実施形態では、図１に示すように一定である。これに代えて、保護膜１４の厚さ変化の変化率の絶対値は、記録膜１２の内縁端１２Ａから外縁端１２Ｂにかけて、例えば図６（ａ）に示すように次第に増大してもよいし、或は、内縁端１２Ａから外縁端１２Ｂにかけて、例えば図６（ｂ）に示すように次第に減少してもよい。
【００４３】
光ディスク装置Ｘ１による情報記録に際しては、光磁気ディスク１０をＣＡＶ方式にて所定の速度で回転動作させる。これにより、光磁気ディスク１０と光学式浮上スライダ２０との間に気体潤滑膜が生じ、光学式浮上スライダ２０は、保護膜１４に対向しつつ光磁気ディスク１０に対して浮上配置されることとなる。この状態において、光源（図示略）から出射された記録用のレーザ光Ｌを対物レンズ２２により記録膜１２上に集光しつつ、磁気コイル２３により記録膜１２に所定の磁界を印加する。このようにして、記録膜１２内の記録層に磁化方向の変化として所定の信号を書き込むための情報記録が、実行される。
【００４４】
光ディスク装置Ｘ１による情報再生に際しては、光磁気ディスク１０をＣＡＶ方式にて所定の速度で回転動作させる。これにより、光磁気ディスク１０と光学式浮上スライダ２０との間に気体潤滑膜が生じ、光学式浮上スライダ２０は、保護膜１４に対向しつつ光磁気ディスク１０に対して浮上配置されることとなる。この状態において、図外の光源（図示略）から出射された再生用のレーザ光Ｌを対物レンズ２２により記録膜１２上に集光しつつ、記録膜１２の表面にて反射した光の偏光方向を検知する。このようにして、記録膜１２内に記録されている信号を反射光偏光方向の変化として読み出すための情報再生が、実行される。
【００４５】
光ディスク装置Ｘ１においては、情報記録および情報再生の実行時において、光磁気ディスク１０の回転中心軸Ａｘから光学式浮上スライダ２０が遠いほど、当該光学式浮上スライダの受ける浮揚力は大きく、光磁気ディスク１０ないし保護膜１４の表面からの光学式浮上スライダ２０の浮上距離Ｄ１は大きい。一方、光ディスク装置Ｘ１においては、ＣＡＶ方式にて所定の回転速度で回転動作する光磁気ディスク１０に対して浮上配置されている光学式浮上スライダ２０の対物レンズ２２と光磁気ディスク１０の記録膜１２（記録面１２’）との間の光学的距離Ｄが、光学式浮上スライダ２０の浮上位置（回転中心軸Ａｘからの距離）にかかわらず、所定範囲内に維持されるように、保護膜１４の厚さは、記録膜１２の内縁端１２Ａから外縁端１２Ｂにかけて漸減する。したがって、光ディスク装置Ｘ１においては、レーザ光Ｌのレーザウエスト形成位置を補正するためのデバイスを別途設けずとも、図７に示すように、光学式浮上スライダ２０の浮上位置（回転中心軸Ａｘからの距離）にかかわらず、レーザ光Ｌを記録膜１２上に適切に集光することが可能なのである（図７は、異なる３つの半径位置における光学式浮上スライダ２０の浮上態様について、仮想的に単一の光磁気ディスク１０に対するものとして表す）。すなわち、光ディスク装置Ｘ１においては、焦点補正デバイスを別途設けずとも、レーザウエストＷの形成位置と記録膜１２表面の位置とを、適切に、一致ないし略一致させることが可能なのである。このような光ディスク装置Ｘ１は、装置の軽量化や製造コストの低減を図るうえで好適である。
【００４６】
本発明に係る光ディスク装置Ｘ１においては、光磁気ディスク１０に代えて、例えば相変化記録方式の他の光メディアを記録媒体として採用することができる。他の光メディアを採用する場合、固定光学部４０は、当該他の光メディアについて情報記録や情報再生を実行するための構成を具備することとなる。
【図面の簡単な説明】
【００４７】
【図１】本発明に係る光ディスク装置の概略構成図である。
【図２】本発明の光ディスク装置における光磁気ディスクの積層構成の一例を表す。
【図３】本発明の光ディスク装置における光磁気ディスクおよびこれに浮上配置されている光学式浮上スライダを表す平面図である。
【図４】本発明の光ディスク装置において光磁気ディスクに対して光学式浮上スライダが浮上配置されている状態を表す断面図である。
【図５】本発明に係る光磁気ディスクの製造方法を表す。
【図６】保護膜の厚さ変化の例を表す。
【図７】本発明の光ディスク装置における光学式浮上スライダの浮上態様を表す。
【図８】従来の光ディスク装置の概略構成図である。
【図９】図８の光ディスク装置における光学式浮上スライダの浮上態様を表す。
【符号の説明】
【００４８】
Ｘ１，Ｘ２      光ディスク装置
１０，７０      光磁気ディスク
１２，７２      記録膜
１４，７３      保護膜
２０，８０      光学式浮上スライダ
２１，８１      スライダボディ
２２，８２      対物レンズ
２３      磁気コイル
３０，９２      アクチュエータ
４０      固定光学部
５０      制御部
６１，９１      スピンドルモータ
６２，９３      サスペンション
６３,９４      ガイドレール
【図１】
2005339688.tif 000004
【図２】
2005339688.tif 000005
【図３】
2005339688.tif 000006
【図４】
2005339688.tif 000007
【図５】
2005339688.tif 000008
【図６】
2005339688.tif 000009
【図７】
2005339688.tif 000010
【図８】
2005339688.tif 000011
【図９】
2005339688.tif 000012