(57)【要約】    【課題】  パターン形状に優れたＰＤＰ部材の製造方法および該製造方法に好適に使用しうる転写フィルムを提供する。    【解決手段】  特定のアルカリ可溶性樹脂と無機粉体とを含有する非感光性層の上に、特定のアルカリ可溶性樹脂と無機粉体とを含有する感光性層またはレジスト層を形成し、露光、現像、焼結処理を行ってＰＤＰ部材を製造する。  また、支持フィルム上に特定のアルカリ可溶性樹脂と無機粉体とを含有する感光性層またはレジスト層を形成し、その形成層の上に、特定のアルカリ可溶性樹脂と無機粉体とを含有する非感光性層を形成することによりＰＤＰ部材製造に好適な転写フィルムを得る。【選択図】  図１
2005216604.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（１）基板上に、無機粉体とアルカリ可溶性樹脂とを含む非感光性層（Ａ１）を形成する工程、
（２）Ａ１層上に、無機粉体とアルカリ可溶性樹脂と感放射線性成分とを含む感光性層（Ｂ１）を形成する工程、
（３）Ｂ１層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
（４）現像処理によりＢ１層のパターンを形成する工程、
（５）Ｂ１層のパターンを介して、現像処理によりＡ１層を選択的に溶解し、Ａ１層のパターンを形成する工程、および
（６）得られたパターンを焼成処理する工程
を含むプラズマディスプレイパネル部材の製造方法であって、
Ａ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量が、Ｂ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量よりも小さいことを特徴とするプラズマディスプレイパネル部材の製造方法。
【請求項２】
Ｂ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量と、Ａ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量との差が５,０００〜６
０,０００であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル部材の
製造方法。
【請求項３】
（１）基板上に、無機粉体とアルカリ可溶性樹脂とを含む非感光性層（Ａ２）を形成する工程、
（２）Ａ２層上に無機粉体とアルカリ可溶性樹脂とを含む非感光性層（Ａ３）を形成する工程、
（３）Ａ３層上にレジスト層を形成する工程、
（４）レジスト層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
（５）現像処理によりレジスト層のパターンを形成する工程、
（６）レジスト層のパターンを介して、現像処理によりＡ３層およびＡ２層を選択的に溶解し、Ａ３層およびＡ２層のパターンを形成する工程、および
（７）得られたパターンを焼成処理する工程
を含むプラズマディスプレイパネル部材の製造方法であって、
Ａ２層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量が、Ａ３層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量よりも小さいことを特徴とするプラズマディスプレイパネル部材の製造方法。
【請求項４】
Ａ３層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量と、Ａ２層に含まれるアルカリ可溶性樹脂とのポリスチレン換算重量平均分子量との差が５,０００〜
６０,０００であることを特徴とする請求項３に記載のプラズマディスプレイパネル部材
の製造方法。
【請求項５】
プラズマディスプレイパネル部材が、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれる少なくとも一種の部材であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル部材の製造方法。
【請求項６】
上記プラズマディスプレイパネル部材が隔壁であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のプラズマディスプレイパネル部材の製造方法。
【請求項７】
支持フィルム上に、無機粉体とアルカリ可溶性樹脂と必要に応じて感光性成分とを含む層が二層以上形成された転写フィルムであって、
該支持フィルム上に形成された任意の一層（Ｉ）中に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量が、該（Ｉ）層上に形成された他の一つの層（ＩＩ）中に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量よりも小さいことを特徴とする転写フィルム。
【請求項８】
支持フィルム上に、
無機粉体とアルカリ可溶性樹脂と感放射線性成分とを含む感光性層（Ｂ１）、および
無機粉体とアルカリ可溶性樹脂とを含む非感光性層（Ａ１）を有する転写フィルムであって、
Ｂ１層の上にＡ１層を有し、
Ａ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量が、Ｂ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量よりも小さいことを特徴とする転写フィルム。
【請求項９】
Ｂ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量と、Ａ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量との差が５,０００〜６
０,０００であることを特徴とする請求項８に記載の転写フィルム。
【請求項１０】
支持フィルム上に、
無機粉体とアルカリ可溶性樹脂とを含む非感光性層（Ａ３）、および
無機粉体とアルカリ可溶性樹脂とを含む非感光性層（Ａ２）を有するフィルムであって、
Ａ３層の上にＡ２層を有し、
Ａ２層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量が、Ａ３層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量よりも小さいことを特徴とする転写フィルム。
【請求項１１】
Ａ３層と支持フィルムとの間にレジスト層を有することを特徴とする請求項１０に記載の転写フィルム。
【請求項１２】
Ａ３層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量と、Ａ２層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量との差が５,０００〜６
０,０００であることを特徴とする請求項１０または１１に記載の転写フィルム。
【請求項１３】
無機粉体がガラス粉末であることを特徴とする請求項７〜１２のいずれかに記載の転写フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はプラズマディスプレイパネル部材の製造方法、および当該製造方法に好適に用いられる転写フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、平板状の蛍光表示体としてプラズマディスプレイが注目されている。図１は交流型のプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」ともいう。）の断面形状を示す模式図である。同図において、１および２は対抗配置されたガラス基板、３は隔壁であり、ガラス基板１、ガラス基板２および隔壁３によりセルが区画形成されている。４はガラス基板１に固定された透明電極、５は透明電極４の抵抗を下げる目的で当該透明電極４上に形成されたバス電極、６はガラス基板２に固定されたアドレス電極、７はセル内に保持された蛍光物質、８は透明電極４およびバス電極５を被覆するようガラス基板１の表面に形成された誘電体層、９はアドレス電極６を被覆するようガラス基板２の表面に形成された誘電体層、１０は例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜である。また、カラーＰＤＰにあっては、コントラストの高い画像を得るため、ガラス基板と誘電体層との間に、カラーフィルター（赤色・緑色・青色）やブラックマトリックスなどを設けることがある。
【０００３】
ＰＤＰ部材である隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックス等の形成方法としては、フォトリソグラフィー法が好適である。ここで、フォトリソグラフィー法とは、無機粉体とビヒクルとを含むペースト状の感光性組成物からなる層を基板等の表面に形成し、これを露光、現像することによりパターンを形成し、次いでこのパターンを焼成して有機物質を除去し無機粉体を焼結させる方法である。特に、感光性組成物からなる層を有する転写フィルムを用いて、基板等の表面に転写することを特徴とするフォトリソグラフィー法は、厚みの均一性に優れた膜が得られるとともに、作業効率が改善されることから非常に好ましい。
【０００４】
上述した方法で、例えば隔壁を形成する場合、焼成工程で有機物質が除去されて膜厚が小さくなるので、転写層は形成すべき隔壁の膜厚の１．３〜２．０倍程度とすることが必要である。例えば、隔壁の膜厚を１００〜１５０μｍとするためには、転写層の厚みを１３０〜３００μｍ程度にする必要がある。ＰＤＰを構成する隔壁は、良好な電気的特性を発現させる観点から、アスペクト比が高く、形状が均一であることが望ましい。しかしながら、転写層の厚みが大きいと、現像の際にパターンの側壁がえぐれた形状になりやすく、パターン形状が均一かつ良好な隔壁が得られにくい。また、現像の際にパターンの側壁がえぐられた状態で焼成処理を行うと、パターンが剥離したり、変形がひどくなったりする場合がある。
【０００５】
このような問題点を解決するため、例えばＰＤＰ用隔壁の製造方法において、隔壁形成用組成物の膜が、現像液に対する溶解性の異なる２以上の隔壁形成用組成物を積層してなる構造を有することを特徴とするＰＤＰ用隔壁の製造方法に関する発明が開示されている（例えば特許文献１参照。）
しかし、上記開示方法では、当該組成物の共重合組成比を変えて溶解性を変化させているにすぎないため、必ずしも溶解性の違いが十分でない場合があり、パターン形状が均一かつ良好な隔壁を得る点ではいまだ問題があった。
【特許文献１】特開平９-９２１３７号公報（第２−１２頁、第３−５図）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、パターン形状に優れたＰＤＰ部材の製造方法および該製造方法に好適に使用しうる転写フィルムを提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第一のＰＤＰ部材の製造方法（以下、「ＰＤＰ部材の製造方法Ｉ」ともいう）は、
（１）基板上に、無機粉体とアルカリ可溶性樹脂とを含む非感光性層（Ａ１）を形成する工程、
（２）Ａ１層上に、無機粉体とアルカリ可溶性樹脂と感放射線性成分とを含む感光性層（Ｂ１）を形成する工程、
（３）Ｂ１層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
（４）現像処理によりＢ１層のパターンを形成する工程、
（５）Ｂ１層のパターンを介して、現像処理によりＡ１層を選択的に溶解し、Ａ１層のパターンを形成する工程、および
（６）得られたパターンを焼成処理する工程
を含むプラズマディスプレイパネル部材の製造方法であって、
Ａ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量が、Ｂ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量よりも小さいことを特徴とする。
【０００８】
本発明の第二のＰＤＰ部材の製造方法（以下、「ＰＤＰ部材の製造方法II」ともいう）は、
（１）基板上に、無機粉体とアルカリ可溶性樹脂とを含む非感光性層（Ａ２）を形成する工程、
（２）Ａ２層上に無機粉体とアルカリ可溶性樹脂とを含む非感光性層（Ａ３）を形成する工程、
（３）Ａ３層上にレジスト層を形成する工程、
（４）レジスト層を露光処理してパターンの潜像を形成する工程、
（５）現像処理によりレジスト層のパターンを形成する工程、
（６）レジスト層のパターンを介して、現像処理によりＡ３層およびＡ２層を選択的に溶解し、Ａ３層およびＡ２層のパターンを形成する工程、および
（７）得られたパターンを焼成処理する工程
を含むプラズマディスプレイパネル部材の製造方法であって、
Ａ２層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量が、Ａ３層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量よりも小さいことを特徴とする。
【０００９】
本発明の転写フィルムは、支持フィルム上に、無機粉体とアルカリ可溶性樹脂と必要に応じて感光性成分を含む層が２層以上形成された多層フィルムであって、
その１つの層（Ｉ）中に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量が、（Ｉ）層の上にある他の一つの層（ＩＩ）中に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量よりも小さいことを特徴とする。
【００１０】
本発明のＰＤＰ部材の製造方法は、隔壁を製造するために特に好ましく用いられる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明のＰＤＰ部材の製造方法によればパターン形状に優れた部材が形成できる。また、本発明の転写フィルムを用いれば、膜厚が均一なＰＤＰ部材を形成でき、また、実質的に工程数が削減されるため作業効率が改善される。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００１３】
＜ＰＤＰ部材の製造方法Ｉ＞
本発明のＰＤＰ部材の製造方法Ｉは、［１］非感光性層（Ａ１）の形成工程、［２］感光性層（Ｂ１）の形成工程、［３］Ｂ１層の露光工程、［４］Ｂ１層およびＡ１層の現像工程および［５］焼成工程を含む。本製造方法Ｉにより、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれる少なくともひとつのＰＤＰ部材を形成することができる。本発明のＰＤＰ部材の製造方法は、隔壁の形成に特に好ましく用いられる。
【００１４】
本発明のＰＤＰ部材の製造方法Ｉは、Ａ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）が、Ｂ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂Ｍｗよりも小さいところに特徴がある。本発明におけるポリスチレン換算重量平均分子量とは、ＧＰＣ測定によるポリスチレン換算の重量平均分子量をいう。
【００１５】
Ａ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のＭｗが、Ｂ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂Ｍｗよりも小さいことにより、Ａ１層はＢ１層よりも現像液に対し溶解しやすくなる。そのため、現像処理の際にパターンの側壁がえぐられにくくなり、パターン形状が優れたＰＤＰ部材を得ることができる。このような本発明の効果をより顕著にするためには、Ｂ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のＭｗと、Ａ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のＭｗとの差が５,０００〜６０,０００であることが好ましく、１０,０００〜４０,０００であることがより好ましい。
【００１６】
以下、本発明の各工程について、隔壁の製造を例にとって説明する。
【００１７】
［１］非感光性層（Ａ１）の形成工程
この工程では基板上に非感光性層（Ａ１）を形成する。Ａ１層を構成する組成物（以下、「組成物ａ１」ともいう）は、後述する本発明の転写フィルムの構成成分と同じものである。Ａ１層は、スクリーン印刷法、ロール塗布法、回転塗布法、流延塗布法、転写法など種々の方法によって組成物ａ１を塗布した後、塗膜を乾燥することにより形成することができる。また、得られる層の厚み均一性と作業の効率性との観点から、転写フィルムを用いてＡ１層を基板上に形成することもできる。
【００１８】
ここで用いる転写フィルムは、支持フィルムの上にＡ１層が形成されたフィルムである。また、この転写フィルムは、Ａ１層の上に保護フィルムを有していてもよい。ここで用いる支持フィルムは、後述する本発明の転写フィルムの構成成分と同じものである。
【００１９】
転写工程の一例を示せば以下のとおりである。転写フィルムの保護フィルム層を剥離した後、基板の表面に、Ａ１層の表面が当接するように転写フィルムを重ね合わせる。その後、加熱ローラにより熱圧着をし、支持フィルムを剥離除去する。これにより、基板の表面にＡ１層が転写されて密着した状態となる。転写条件としては、加熱ローラの表面温度を８０〜１４０℃、ロール圧を１〜５ｋｇ／ｃｍ2 、移動速度を０．１〜１０．０ｍ／分とすることができる。また、基板は予熱されていてもよく、予熱温度は例えば４０〜１００℃である。
【００２０】
材料層Ａ１の膜厚としては、形成する部材によっても異なるが、隔壁の場合には、通常５０〜１５０μｍ、好ましくは７０〜１２０μｍである。
【００２１】
［２］感光性層（Ｂ１）の形成工程
この工程では、Ａ１層の上に感光性層（Ｂ１）を形成する。Ｂ１層を構成する組成物（以下、「組成物ｂ１」ともいう）は、後述する本発明の転写フィルムの構成成分と同じものである。
【００２２】
Ｂ１層は、Ａ１層と同様の方法により形成することができる。したがって、Ｂ１層は、転写フィルムを用いて、Ａ１層の上に形成してもよい。この方法によれば、厚みの均一性に優れた層を形成することができ、かつ、作業効率が改善される。
【００２３】
Ｂ１層の厚みとしては、形成する部材によっても異なるが、隔壁の場合には、通常５０〜１５０μｍ、好ましくは７０〜１２０μｍである。
【００２４】
工程［１］と工程［２］とは別々に行うことも可能であるが、膜厚均一性、作業効率の改善の観点から、本発明の転写フィルムを用い、工程［１］および工程［２］を一括して行う方法が特に好ましい。
【００２５】
［３］Ｂ１層の露光工程
この工程では、Ａ１層上に形成されたＢ１層の表面に、露光用マスクを介して、紫外線などの放射線を選択的照射（露光）して、Ｂ１層のパターンの潜像を形成する。
【００２６】
放射線照射装置は、特に限定はされないが、一般敵なフォトリソグラフィー法で用いられる紫外線照射装置、または半導体もしくは液晶表示装置を製造する際に用いられる露光装置を用いることができる。
【００２７】
［４］Ｂ１層およびＡ１層の現像工程
この工程では、露光されたＢ１層を現像処理することにより、Ｂ１層のパターンを形成する。そして、形成されたＢ１層のパターンを介して、現像処理によりＡ１層を選択的に溶解し、Ａ１層のパターンを形成する。
【００２８】
現像液の種類・組成・濃度、現像時間、現像温度などの現像条件は、Ｂ１層およびＡ１層における樹脂の種類などに応じて適宜選択することができる。
【００２９】
また、浸漬法、揺動法、シャワー法、スプレー法、パドル法などの種々の現像方法で現像をすることができる。現像装置も特に制限されるものではない。
【００３０】
この現像工程により、Ｂ１層の残留部とＢ１層の除去部とから構成されるＢ１層のパターン（露光用マスクに対応するパターン）が形成される。このパターンは、連続的に現像されるＡ１層のマスクとして作用する。すなわち、Ｂ１層除去部に対応するＡ１層部分が現像液に溶解し選択的に除去される。さらに現像処理を継続すると、Ｂ１層除去部に対応する部分の基板表面が露出する。これにより、Ｂ１層のパターンの下に、Ｂ１層のパターンに対応したＡ１層のパターンが形成される。
【００３１】
［５］焼成処理工程
この工程では、形成されたパターンを有する層を焼成処理する。これにより、層中の有機物質が焼失して、無機物質からなる層が形成され、基板の表面に形成されたＰＤＰ部材を得ることができる。
【００３２】
焼成処理の温度としては、層中の有機物質が焼失する温度であることが必要であり、通常４００〜６００℃である。また、焼成時間は、通常１０〜９０分間である。
【００３３】
＜ＰＤＰ部材の製造方法ＩＩ＞
本発明のＰＤＰ部材の製造方法ＩＩは、［１］非感光性層（Ａ２）の形成工程、［２］非感光性層（Ａ３）の形成工程、［２’］レジスト層の形成工程、［３］レジスト層の露光工程、［４］レジスト層、Ａ３層およびＡ２層の現像工程および［５］焼成工程を含む。本製造方法ＩＩにより、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルターおよびブラックマトリックスから選ばれる少なくともひとつのパネル部材を形成することができる。本発明のＰＤＰ部材の製造方法は、隔壁の形成に特に好ましく用いられる。
【００３４】
ＰＤＰ部材の製造方法ＩＩにおいては、Ａ２層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のＭｗが、Ａ３層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のＭｗよりも小さいところに特徴がある。
【００３５】
Ａ２層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のＭｗが、Ａ３層に含まれるアルカリ可溶性樹脂Ｍｗよりも小さいことにより、Ａ２層はＡ３層よりも現像液に対し溶解しやすくなる。そのため、現像処理の際にパターンの側壁がえぐられにくく、パターン形状が優れたＰＤＰ部材が得られる。このような本発明の効果をより顕著にするためには、Ａ２層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のＭｗと、Ａ３層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のＭｗとの差が５,
０００〜６０,０００であることが好ましく、１０,０００〜４０,０００であることがよ
り好ましい。
【００３６】
上記各工程はそれぞれ、ＰＤＰ部材の製造方法Ｉの各工程に準ずる。また、上記工程［１］、工程［２］および工程［２’］は別々に行うことも可能であるが、膜厚均一性、作業効率の改善の観点から、本発明の転写フィルムを用い、工程［１］、工程［２］および工程［２’］を一括して行う方法が特に好ましい。
【００３７】
以下に、前記ＰＤＰ部材の製造方法ＩおよびＩＩの各工程に用いられる材料、各種条件などについて説明する。
【００３８】
基板
基板材料は、例えばガラス、シリコン、アルミナなどの絶縁性材料である。この基板表面は、必要に応じて、シランカップリング剤などによる薬品処理；プラズマ処理；イオンプレーティング法、スパッタリング法、気相反応法、真空蒸着法などによる薄膜形成処理などの前処理が施されていてもよい。
【００３９】
露光用マスク
露光工程において使用される露光用マスクの露光パターンは、目的によって異なるが、例えば、１０〜５００μｍ幅のストライプが用いられる。
【００４０】
現像液
本発明に用いる現像液は、アルカリ現像液である。アルカリ現像液の有効成分としては、例えば水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素二アンモニウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二ナトリウム、リン酸二水素アンモニウム、リン酸二水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、ケイ酸リチウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、ホウ酸リチウム、ホウ酸ナトリウム、ホウ酸カリウム、アンモニアなどの無機アルカリ性化合物；テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルヒドロキシエチルアンモニウムヒドロキシド、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、エタノールアミンなどの有機アルカリ性化合物などを挙げることができる。
【００４１】
アルカリ現像液は、１種または２種以上の前記アルカリ性化合物を水などに溶解させる
ことにより調整することができる。アルカリ現像液におけるアルカリ性化合物の濃度は、通常０．００１〜１０重量％、好ましくは０．０１〜５重量％である。なお、アルカリ現像液による現像処理がなされた後は、通常、水洗処理が施される。
【００４２】
＜転写フィルム＞
本発明の転写フィルムは、支持フィルム上に無機粉体とアルカリ可溶性樹脂と必要に応じて感光性成分を含む層が２層以上形成された多層フィルムであり、その１つの層（Ｉ）中に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量が、（Ｉ）層の上にある他の一つの層（ＩＩ）中に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量よりも小さい。またこの多層フィルムの上に保護フィルムを有していてもよい。転写フィルムは、支持フィルム上に無機粉体とアルカリ可溶性樹脂と必要に応じて感光性成分を含有する組成物を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部または全部を除去することを繰り返すことにより作製することができる。なお、必要に応じて、支持フィルム上にレジスト組成物を塗布し、塗膜を乾燥してレジスト層を形成し、当該レジスト層上に上記組成物を塗布、乾燥して転写フィルムを作製してもよい。
【００４３】
本発明の好ましい転写フィルムの態様は、下記の通りである。
【００４４】
１．ＰＤＰ部材の製造方法Ｉに好適な転写フィルム
支持フィルム上に、無機粉体とアルカリ可溶性樹脂と感放射線性成分とを含む感光性層（Ｂ１）、および無機粉体とアルカリ可溶性樹脂とを含む非感光性層（Ａ１）を有する転写フィルムであって、Ｂ１層の上にＡ１層を有し、Ｂ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のＭｗがＡ１層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のＭｗよりも小さいことを特徴とする転写フィルム。
【００４５】
２．ＰＤＰ部材の製造方法IIに好適な転写フィルム
支持フィルム上に、無機粉体とアルカリ可溶性樹脂とを含む非感光性層（Ａ３）、および無機粉体とアルカリ可溶性樹脂とを含む非感光性層（Ａ２）を有するフィルムであって、Ａ３層の上にＡ２層を有し、Ａ２層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量が、Ａ３層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量よりも小さいことを特徴とする転写フィルム。また、前記転写フィルムのＡ３層と支持フィルムとの間にレジスト層を有することを特徴とする転写フィルム。
【００４６】
また、支持フィルム上に、レジスト層、無機粉体とアルカリ可溶性樹脂とを含む非感光性層（Ａ３）、および無機粉体とアルカリ可溶性樹脂とを含む非感光性層（Ａ２）を有するフィルムであって、レジスト層の上にＡ３層を有し、かつ、Ａ３層の上にＡ２層を有し、Ａ２層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量が、Ａ３層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量よりも小さいことを特徴とする転写フィルム。
【００４７】
以下、本発明の転写フィルムの各構成要素について具体的に説明する。
【００４８】
支持フィルム
支持フィルムは、耐熱性および耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコータによってペースト状組成物を塗布することができ、隔壁形成材料層をロール状に巻回した状態で保存し、供給することができる。支持フィルムを形成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィルムの厚みは、例えば
２０〜１００μｍである。
【００４９】
なお、支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましい。これにより、前述の転写工程において、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。
【００５０】
Ａ１層
Ａ１層は、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および溶剤を含有してなるペースト状で非感光性の組成物（以下、「組成物ａ１」ともいう）を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部または全部を除去することにより形成することができる。
【００５１】
（１）無機粉体
本発明の組成物ａ１に使用される無機粉体は、形成材料の種類によって異なる。
【００５２】
ＰＤＰの隔壁形成材料に使用される無機粉体としては、ガラス粉末、例えば、低融点ガラスフリットを挙げることができる。このような低融点ガラスフリットとしては、（１）酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、（２）酸化鉛、
酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、（３）酸化鉛、酸化ホウ素
、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（ＰｂＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）、（４）
酸化鉛、酸化亜鉛、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（ＰｂＯ−ＺｎＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）
、（５）酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素系（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2系）、
（６）酸化ビスマス、酸化ホウ素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム系（ Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）などを挙げることができる。また、他の無機粉体、例えばアルミナ粉末を適宜添加しても良い。
【００５３】
ＰＤＰの電極形成材料に使用される無機粉体としては、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｎｉ、Ａｇ−Ｐｄ合金、Ｃｕ、Ｃｒなどの金属粉を挙げることができる。また、透明電極形成材料に使用される無機粉体としては、酸化インジウム、酸化錫、錫含有酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモン含有酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素添加酸化インジウム（ＦＩＯ）、フッ素添加酸化錫（ＦＴＯ）、フッ素添加酸化亜鉛（ＦＺＯ）、ならびに、Ａｌ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｉｎ、ＳｎおよびＴｉから選ばれた一種もしくは二種以上の金属を含む酸化亜鉛などの金属酸化物からなる粉体を挙げることができる。
【００５４】
ＰＤＰの抵抗体形成材料に使用される無機粉体としては、ＲｕＯ2の粉体などを挙げる
ことができる。
【００５５】
ＰＤＰの蛍光体形成材料に使用される無機粉体は、赤色用としてはＹ2 Ｏ3 ：Ｅｕ3+、Ｙ2 ＳｉＯ5 ：Ｅｕ3+、Ｙ3 Ａｌ5 Ｏ12：Ｅｕ3+、ＹＶＯ4 ：Ｅｕ3+、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3 ：Ｅｕ3+、Ｚｎ3 （ＰＯ4 ）2 ：Ｍｎなど、緑色用としてはＺｎ2 ＳｉＯ4 ：Ｍｎ、ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｍｎ、ＬａＰＯ4 ：（Ｃｅ，Ｔｂ）、Ｙ3 （Ａｌ，Ｇａ）5 Ｏ12：Ｔｂなど、青色用としてはＹ2 ＳｉＯ5 ：Ｃｅ、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ2+、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ2+、（Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ）10（ＰＯ4 ）6 Ｃｌ2 ：Ｅｕ2+、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ａｇなどが挙げられる。
【００５６】
ＰＤＰ、ＬＣＤ、有機ＥＬ素子などのカラーフィルター形成材料に使用される無機粉体は、赤色用としてはＦｅ2 Ｏ3 など、緑色用としてはＣｒ2 Ｏ3 など、青色用としてはＣｏＯ・Ａｌ2 Ｏ3 などを挙げることができる。
【００５７】
ＰＤＰ、ＬＣＤ、有機ＥＬ素子などのブラックマトリックス形成材料に使用される無機粉体としては、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒなどの金属粉や、ＣｕＯ−Ｃｒ2 Ｏ3 、ＣｕＯ−Ｆｅ2 Ｏ3 −Ｍｎ2 Ｏ3 、ＣｕＯ−Ｃｒ2 Ｏ3 −Ｍｎ2 Ｏ3 、ＣｏＯ−Ｆｅ2 Ｏ3 −Ｃｒ2 Ｏ3 
などの複合酸化物の粉体を挙げることができる。
【００５８】
なお、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックスの形成材料など、低融点ガラスフリット以外の無機粉体を用いる場合には、隔壁形成材料に使用される低融点ガラスフリットを併用しても良い。この場合の低融点ガラスフリットの含有量は、用途によって異なるが、通常、低融点ガラスフリットを含む無機粉体全量１００重量部に対して５０重量部以下である。
【００５９】
（２）アルカリ可溶性樹脂
組成物ａ１に使用されるアルカリ可溶性樹脂としては、種々の樹脂を用いることができる。ここで、「アルカリ可溶性」とは、目的とする現像処理が可能な程度に、前述のアルカリ現像液に溶解する性質をいう。
【００６０】
本発明で用いられるアルカリ可溶性樹脂としては、下記モノマー（イ）から選ばれるモノマーと、モノマー（ロ）および／またはモノマー（ハ）から選ばれるモノマーとの共重合体が好ましい。モノマー（イ）を共重合させることにより、樹脂にアルカリ可溶性を付与することができる。特に好ましいモノマー（イ）としては、アクリル酸、メタクリル酸等が挙げられる。また、モノマー（イ）由来の単位の含有量は、全繰り返し単位中、通常、５〜５０重量％、好ましくは、１０〜４０重量％、特に好ましくは、１５〜３０重量％である。
【００６１】
モノマー（イ）：
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸、コハク酸モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレートなどのカルボキシル基含有モノマー類；
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（α-ヒドロキシメチル）アクリレート
などの水酸基含有モノマー類；
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類などに代表されるアルカリ可溶性官能基含有モノマー類。
【００６２】
モノマー（ロ）：
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸−ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートなどのモノマー（イ）以外の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル系モノマー類；ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類などに代表されるモノマー（イ）と共重合可能なモノマー類。
【００６３】
モノマー（ハ）：
ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の末端に、（メタ）アクリロイル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーなどに代表されるマクロモノマー類。
【００６４】
アルカリ可溶性樹脂の重合は、例えばラジカル重合によって行うことができる。ラジカル重合の開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル等を用いることができる。ラジカル重合の溶媒としては、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル等を用いることができる。重合温度は通常５０〜１００℃で行うことができ、重合時間は通常３０〜６００分である。
【００６５】
アルカリ可溶性樹脂のＭｗは、通常、５，０００〜５００，０００、好ましくは、１０，０００〜２００，０００である。
【００６６】
アルカリ可溶性樹脂のＭｗは、例えば、モノマーと重合開始剤との比で制御することができる。
【００６７】
組成物ａ１におけるアルカリ可溶性樹脂の含有量としては、無機粉体１００重量部に対して、通常１〜５００重量部、好ましくは５〜１００重量部、特に好ましくは１５〜４０重量部である。
【００６８】
（３）溶剤
組成物ａ１を構成する溶剤は、当該組成物ａ１に流動性または可塑性を付与するため、あるいは良好な膜を形成するために含まれる。
【００６９】
組成物ａ１を構成する溶剤としては、特に制限されるものではなく、例えば、エーテル類、エステル類、エーテルエステル類、ケトン類、ケトンエステル類、アミド類、アミドエステル類、ラクタム類、ラクトン類、スルホキシド類、スルホン類、炭化水素類、ハロゲン化炭化水素類などを挙げることができる。
【００７０】
このような溶剤の具体例としては、テトラヒドロフラン、アニソール、ジオキサン、エチレングリコールモノアルキルエーテル類、ジエチレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、酢酸エステル類、ヒドロキシ酢酸エステル類、アルコキシ酢酸エステル類、プロピオン酸エステル類、ヒドロキシプロピオン酸エステル類、アルコキシプロピオン酸エステル類、乳酸エステル類、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類、アルコキシ酢酸エステル類、環式ケトン類、非環式ケトン類、アセト酢酸エステル類、ピルビン酸エステル類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルホルムアミド類、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアセトアミド類、Ｎ−アルキルピロリドン類、γ−ラクトン類、ジアルキルスルホキシド類、ジアルキルスルホン類、ターピネオール、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７１】
組成物ａ１における溶剤の含有量としては、良好な膜形成性（流動性または可塑性）が得られる範囲内において適宜選択することができる。
【００７２】
組成物ａ１には、任意成分として、可塑剤、現像促進剤、接着助剤、ハレーション防止剤、保存安定剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、フィラー、低融点ガラス等の各種添加剤が含有されていてもよい。
【００７３】
Ｂ１層
Ｂ１層は、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂、溶剤および感光性成分を必須成分として含む、ペースト状で感光性の組成物（以下、「組成物ｂ１」ともいう）を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部又は全部を除去することにより形成することができる。
【００７４】
組成物ｂ１を構成する無機粉体、アルカリ可溶性樹脂、および溶剤は、前記組成物ａ１の構成成分として記載したものと同一のものを用いることができる。また、前述の組成物ａ１における任意成分も、同様に用いることができる。
【００７５】
組成物ｂ１を構成するアルカリ可溶性樹脂のＭｗは、組成物ａ１を構成するアルカリ可溶性樹脂のＭｗよりも大きいことが必要である。また、本発明の効果をより顕著にするた
めには、組成物ｂ１を構成するアルカリ可溶性樹脂のＭｗと組成物ａ１を構成するアルカリ可溶性樹脂のＭｗとの差が５,０００〜６０,０００であることが好ましく、１０,００
０〜４０,０００であることがより好ましい。Ｍｗは、組成物ａ１を構成するアルカリ可
溶性樹脂の場合と同様の方法により、制御することができる。
【００７６】
（１）感光性成分
組成物ｂ１を構成する感光性成分としては、例えば、（イ）多官能性モノマーと放射線重合開始剤との組み合わせ、（ロ）メラミン樹脂と放射線照射により酸を形成する光酸発生剤との組み合わせが好ましく、上記（イ）の組み合わせとしては、多官能性（メタ）アクリレートと放射線重合開始剤との組み合わせが特に好ましい。
【００７７】
感光性成分を構成する多官能性（メタ）アクリレートの具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；
ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；
グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；
３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類などの環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；
ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類などを挙げることができる。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００７８】
また、感光性成分を構成する放射線重合開始剤の具体例としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、カンファーキノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなどのカルボニル化合物；
アゾイソブチロニトリル、４−アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物あるいはアジド化合物；メルカプタンジスルフィドなどの有機硫黄化合物；
ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパーオキシドなどの有機パーオキシド；
１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどのトリハロメタン類；
２，２’−ビス（２−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾール二量体などを挙げることができる。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００７９】
組成物ｂ１における感光性成分の含有量は、無機粉体１００重量部に対して、通常１０〜６０重量部であり、好ましくは２０〜４０重量部である。特に、感光性成分として多官能性モノマーと放射線重合開始剤の組み合わせを用いる場合は、無機粉体１００重量部に
対して、多官能性モノマーは、通常５〜４０重量部、好ましくは１０〜３０重量部であり、放射線重合開始剤は、多官能性モノマー１００重量部に対して、通常１〜２０重量部、好ましくは５〜１５重量部である。
【００８０】
Ａ２層
Ａ２層の組成および形成方法は、Ａ１層の組成および形成方法と同じである。例えば、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および溶剤を含むペースト状で非感光性の組成物を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部又は全部を除去することにより形成することができる。
【００８１】
Ａ２層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のＭｗは、通常５,０００〜５００,０００、好ましくは、１０,０００〜２００,０００である。Ｍｗは、組成物ａ１を構成するアルカリ可溶性樹脂の場合と同様の方法により、制御することができる。
【００８２】
Ａ３層
Ａ３層の組成および形成方法は、Ａ１層の組成および形成方法と同じである。例えば、無機粉体、アルカリ可溶性樹脂および溶剤を含むペースト状で非感光性の組成物を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部又は全部を除去することにより形成することができる。
【００８３】
Ａ３層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のＭｗは、通常５,０００〜５００,０００、好ましくは、１０,０００〜２００,０００である。
【００８４】
Ａ３層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のＭｗは、Ａ２層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のＭｗよりも大きいことが必要である。また、本発明の効果をより顕著にするためには、Ａ３層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のＭｗとＡ２層に含まれるアルカリ可溶性樹脂のＭｗとの差が５,０００〜６０,０００であることが好ましく、１０,０００〜４０,０００であることがより好ましい。Ｍｗは、組成物ａ１を構成するアルカリ可溶性樹脂の場合と同様の方法により、制御することができる。
【００８５】
レジスト層
レジスト層は、アルカリ可溶性樹脂、多官能性モノマー、放射線重合開始剤および溶剤を含むレジスト組成物を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部または全部を除去することにより形成することができる。
【００８６】
レジスト組成物に用いられる各成分は、前記組成物ｂ１の構成成分として記載したものと同一のものを用いることができる。
【００８７】
転写フィルムの形成方法
無機粉体とアルカリ可溶性樹脂と必要に応じて感光性成分とを含有する組成物を塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部または全部を除去することを繰り返すことにより作製することができる。このとき、塗膜の乾燥は一層ずつ行うことが好ましいが、場合によっては積層された塗膜を一度に乾燥してもよい。また、必要に応じて、支持フィルム上にレジスト組成物を塗布し、塗膜を乾燥してレジスト層を形成し、当該レジスト層上に上記組成物を塗布、乾燥して転写フィルムを作製してもよい。
【００８８】
各組成物を塗布する方法は、効率よく、膜厚が均一で厚みのある塗膜が形成できる方法であることが好ましい。例えば、ロールコータによる塗布方法、ドクターブレードによる塗布方法、カーテンコーターによる塗布方法、ワイヤーコーターによる塗布方法を挙げることができる。
【００８９】
塗膜の乾燥条件は、例えば、５０〜１５０℃で０．５〜３０分間程度であり、乾燥後の
溶剤の残存率（隔壁形成材料層中の含有率）は、通常２重量％以内である。
【００９０】
上記のようにして支持フィルム上に形成される各材料層の厚みとしては、無機粉体の含有量、部材の種類やサイズなどによっても異なるが、例えばＡ１層またはＡ２層の厚みが１０〜１５０μｍ、Ｂ１層またはＡ３層の厚みが１０〜１５０μｍである。また、レジスト層の厚みは、通常、５〜５０μｍとされる。
【００９１】
なお、転写フィルムは表面に保護フィルムを有していてもよいが、このような保護フィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムを挙げることができる。
【００９２】
また、本発明の転写フィルムは、支持フィルム上と保護フィルム上とにそれぞれ組成物を塗布して材料層（またはレジスト層）を形成し、互いの材料層（またはレジスト層）面を重ね合わせて圧着する方法によっても、好適に形成することができる。このような形成方法としては、例えば下記のような例が挙げられる。
１．支持フィルム上にＢ１層を形成し、保護フィルム上にＡ１層を形成して、Ａ１層の面とＢ１層の面とを重ね合わせて圧着する方法。
２．支持フィルム上にレジスト層とＡ３層とを形成し、保護フィルム上にＡ２層を形成して、Ａ３層の面とＡ２層の面とを重ね合わせて圧着する方法。
３．支持フィルム上にレジスト層を形成し、保護フィルム上にＡ２層とＡ３層との積層を形成して、レジスト層の面とＡ３層の面とを重ね合わせて圧着する方法。
【００９３】
［実施例］
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、以下において、「部」および「％」は、それぞれ「重量部」および「重量％」を示す。
【００９４】
また、Ｍｗは、東ソー株式会社製ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（商品名：ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ）により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量である。ＧＰＣ測定条件は以下の通りである。
ＧＰＣカラム：（東ソー製  ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍｎ  ＳｕｐｅｒＨＺ−Ｌ）
溶媒：ＴＨＦ
測定温度：４０℃
〔合成例１〕
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部、ｎ−ブチルメタクリレート７０部、メタクリル酸３０部およびアゾビスイソブチロニトリル２部を、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、室温で均一になるまで攪拌した。次いで、８０℃で３時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後室温まで冷却してポリマー溶液を得た。重合率は９８％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下、「ポリマー（１）」という）のＭｗは、４０，０００であった。
【００９５】
〔合成例２〕
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート２００部、ｎ−ブチルメタクリレート７０部、メタクリル酸３０部およびアゾビスイソブチロニトリル１部をオートクレーブに仕込んだこと以外は合成例１と同様にしてポリマー溶液を得た。重合率は９７％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体（以下、「ポリマー（２）」という）のＭｗは７０，０００であった。
【００９６】
〔調製例１〕
無機粉体としてガラスフリット（Ｂｉ2Ｏ3−Ｂ2Ｏ3−ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3系）１００部
、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（１）３０部、可塑剤としてジ−２−エチルヘキシルアゼレート２部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０部を混練りすることにより、組成物ａ１（以下、「非感光性組成物（ａ−１）」という）を調製した。
【００９７】
〔調製例２〕
無機粉体としてガラスフリット１００部、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（２）３０部、可塑剤としてジ−２−エチルヘキシルアゼレート２部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０部を混練りすることにより、ペースト状の組成物ａ１（以下、「非感光性組成物（ａ−２）」という）を調製した。
【００９８】
〔調製例３〕
無機粉体としてガラスフリット１００部、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（１）３０部、可塑剤としてジ−２−エチルヘキシルアゼレート２部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０部、感放射線性成分としてトリメチロールプロパントリアクリレート１０部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン２部を混練りすることにより、組成物ｂ１（以下、「感光性組成物（ｂ−１）」という）を調製した。
【００９９】
〔調製例４〕
無機粉体としてガラスフリット１００部、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（２）３０部、可塑剤としてジ−２−エチルヘキシルアゼレート２部、溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート５０部、放射線性成分としてトリメチロールプロパントリアクリレート１０部および２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン２部を混練りすることにより、組成物ｂ１（以下、「感光性組成物（ｂ−２）」という）を調製した。
【０１００】
〔調製例５〕
アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（１）１００部、多官能性モノマーとしてトリメチロールプロパントリアクリレート５０部、放射線重合開始剤として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン１５部および溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１５０部を混練りすることにより、レジスト層用の組成物を調製した。
【０１０１】
（現像速度評価方法）
ソーダガラス基板（１５ｃｍ角、厚さ１．１ｍｍ）の表面に、バーコーターを用いて隔壁形成用組成物を塗布し、１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を完全に除去し、厚さ１００μｍの隔壁形成材料層を有する試験片を作製した。
【０１０２】
得られた試験片を０．２重量％の水酸化カリウム水溶液に浸漬し、マグネチックスターラーを用いて溶液の攪拌を行いながら試験片表面を観察した。試験片表面の隔壁形成材料層の溶解により、基板表面の半分が露出した時間を溶解時間として測定し、以下の式により溶解速度を算出した。
【０１０３】
式：溶解速度（μｍ／秒）＝膜厚（μｍ）／溶解時間（秒）
【実施例１】
【０１０４】
（転写フィルムの作製）
得られた感光性組成物（ｂ−２）を、予め離型処理したポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）上
にロールコータにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去して、厚さ１００μｍの感光性層（ｂ）を形成した。次に、非感光性組成物（ａ−１）を、感光性層（ｂ）上にロールコータにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１１０℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去して厚さ１００μｍの非感光性層（ａ）を形成した。これにより、厚さ２００μｍの、二層からなる隔壁形成材料層を形成し、本発明の転写フィルム（以下、「転写フィルム（１）」という）を作製した。
【０１０５】
（ＰＤＰ用隔壁の製造）
〔転写工程〕
６インチパネル用のガラス基板の表面に、非感光性層（ａ）の表面が当接されるように転写フィルム（１）を重ね合わせ、この転写フィルム（１）を加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は、加熱ローラの表面温度を１２０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2 、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。これにより、ガラス基板の表面に転写層が転写されて密着した状態となった。この転写層（非感光性層（ａ）＋感光性層（ｂ））の厚みを測定したところ、２００μｍ±５μｍの範囲にあった。
【０１０６】
〔感光性層（ｂ）の露光工程〕
感光性層（ｂ）に対して、露光用マスク（４０μｍ幅のストライプパターン）を介して、超高圧水銀灯により、ｉ線（波長３６５ｎｍの紫外線）を照射した。照射量は４００ｍＪ／ｃｍ2とした。
【０１０７】
〔現像工程〕
露光工程の終了後感光性層（ｂ）より支持フィルムを剥離除去した後、露光処理された感光性層（ｂ）に対して、０．２重量％の水酸化カリウム水溶液（２５℃）を現像液とするシャワー法による現像処理を行った。これにより、紫外線が照射されていない未硬化の感光性層（ｂ）の部分を除去し、さらにそれをパターンとして連続的に非感光性層（ａ）の現像を行った。次いで超純水による水洗処理および乾燥処理を行った。これにより、隔壁形成用の層のパターンを形成した。
【０１０８】
〔焼成工程〕
パターンが形成された層を有するガラス基板を、焼成炉内で６００℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理した。これにより、ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパネル材料が得られた。
【０１０９】
得られたパネル材料における隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、当該断面形状の底面の幅および高さを測定した。その結果、底面の幅が４０μｍ±３μｍ、高さが２００μｍ±５μｍであり、寸法精度がきわめて高いものであり、かつ隔壁のエッヂがシャープなパターンが形成できたことがわかった。また、残さやパターンの剥がれ、変形は観察されなかった。
【０１１０】
＜比較例１〜３＞
比較例として２層それぞれに用いるポリマーの組み合わせ以外は実施例１と同様にして転写フィルムを製造し、得られた転写フィルムを用いてガラス基板上に隔壁形成用の層を形成し、露光、現像、焼成した。実施例１および比較例１〜３における評価結果を表１に示す。
【０１１１】
【表１】
2005216604.tif 000003
【実施例２】
【０１１２】
（転写フィルムの作製）
得られたレジスト用組成物を、予め離型処理したＰＥＴフィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）上にロールコータにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１００℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去して、厚さ１５μｍのレジスト層を形成した。
【０１１３】
次に、非感光性組成物（ａ−２）を、レジスト層上にロールコータにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１００℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去して厚さ１００μｍの層（ａ’）を形成した。
【０１１４】
さらに、非感光性組成物（ａ−１）を、層（ａ’）上にロールコータにより塗布して塗膜を形成し、形成された塗膜を１００℃で５分間乾燥することにより溶剤を除去して厚さ１００μｍの層（ａ”）を形成した。これにより、厚さ２１５μｍの、三層からなる隔壁形成材料層を形成し、本発明の転写フィルム（以下、「転写フィルム（２）」という）を作製した。
【０１１５】
（ＰＤＰ用隔壁の製造）
〔転写工程〕
６インチパネル用のガラス基板の表面に、層（ａ”）の表面が当接されるように転写フィルム（２）を重ね合わせ、この転写フィルム（２）を加熱ローラにより熱圧着した。圧着条件は実施例１と同じである。これにより、ガラス基板の表面に転写層が転写されて密着した状態となった。この転写層（レジスト層＋（ａ’）＋層（ａ”））の厚みを測定したところ、２１５μｍ±５μｍの範囲にあった。
【０１１６】
〔レジスト層の露光工程〕
レジスト層に対して、露光用マスク（４０μｍ幅のストライプパターン）を介して、超高圧水銀灯により、ｉ線（波長３６５ｎｍの紫外線）を照射した。照射量は４００ｍＪ／ｃｍ2とした。
【０１１７】
〔現像工程〕
露光工程の終了後レジスト層より支持フィルムを剥離除去した後、露光処理されたレジスト層に対して、０．３重量％の水酸化カリウム水溶液２５℃を現像液とするシャワー法による現像処理を行った。これにより、紫外線が照射されていない未硬化のレジスト層の部分を除去し、さらにそれをパターンとして連続的に層（ａ’）および隔壁形成材料層（ａ”）の現像を行った。次いで超純水による水洗処理および乾燥処理を行った。これにより、材料層残留部と材料層除去部とから構成される隔壁形成材料層のパターンを形成した。
【０１１８】
〔焼成工程〕
パターンが形成された層を有するガラス基板を焼成炉内で５６０℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理を行った。これにより、ガラス基板の表面に隔壁が形成されてなるパネル材料が得られた。
【０１１９】
得られたパネル材料における隔壁の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察した。その結果、当該断面形状の底面の幅および高さを測定したところ、底面の幅が４０μｍ±３μｍ、高さが１５０μｍ±３μｍであり、寸法精度がきわめて高いものであり、かつ隔壁のエッヂがシャープなパターンが形成できたことがわかった。また、残さやパターンの剥がれ、変形は観察されなかった。
【０１２０】
＜比較例４〜６＞
比較例として２層にそれぞれ用いるポリマーの組み合わせ以外は実施例２と同様にして転写フィルムを製造し、得られた転写フィルムを用いてガラス基板上に隔壁形成材料層を形成し、露光、現像、焼成した。実施例２および比較例４〜６における評価結果を表２に示す。
【０１２１】
【表２】
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【図面の簡単な説明】
【０１２２】
【図１】一般的なＰＤＰを示す説明用断面図である。
【符号の説明】
【０１２３】
１      ガラス基板
２      ガラス基板
３      隔壁
４      透明電極
５      バス電極
６      アドレス電極
７      蛍光体
８      誘電体層
９      誘電体層
１０    保護膜
【図１】
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