(57)【要約】【課題】酸化チタン光触媒の合成方法を提供する。【解決手段】本方法は、四塩化チタン、或いは硫酸チタンを溶解希釈後、アンモニア水（ＮＨ3）を加えて、ＰＨ＝７．０〜９．０間に調整し、濾過後水洗浄して、過塩素酸などの酸化剤及び無機酸を加え、操作条件を調整して、二酸化チタン光触媒ゲル水溶液を得る。本発明の製品は、操作条件により、濃度が無色〜金黄色を呈し、その触媒含量は、その条件によって決定するが、０．５〜１０％である。【選択図】図１
2005270876.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶型二酸化チタン光触媒の合成方法であって、
（i）チタンの化合物を適当な酸液中で、溶解希釈し、チタン希釈溶液を生成する工程と
、
（ii）中和工程を実行し、所定濃度のアンモニア水を、設定された添加速度に従って、チ
タン希釈液中に加え、PH＝５〜９に調整する工程と、
（iii）洗浄工程を実行し、溶液中で、水酸化チタンを濾過して、ろ過ケーキを得て、該フ
ィルターケーキをろ過する工程と、
（iv）形状転換工程を実行し、前記ろ過ケーキを純水（脱イオン水）と混合し、前記水酸
化チタン溶液を攪拌して、前記水酸化チタンを、脱イオン水で均一に混合し、所定の酸化剤、或いは無機酸を加える工程と、
（v）前記混合溶液を設定された温度、時間に従って形成し、ソルゲルを得る工程と、
（vi）前記ソルゲルは、PH調整／遷移／パッキングを経て、製品となる工程と、から
なることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記チタンの化合物は、四塩化チタン（ＴｉＣｌ4）、及びオキシ硫酸チタン（ＴｉＳＯ4）であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
上記希釈用に適合する酸液は、希塩酸（四塩化チタンシステムに用いる）、或いは、希硫酸（硫酸システムに用いる）から選択され、酸液濃度は０〜４M（モル／リットル）で、希釈後のチタン化合物の濃度は、５〜２０wt／L％で、希釈時の攪拌速度は、３０〜６００rpmで、希釈時の温度は、４〜３０℃で、希釈時の反応時間は１〜４時間であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
上記中和工程で使用されるアンモニア水（水酸化アンモニウム溶液）濃度は１０〜２５％で、アンモニア水の添加速度は毎分１〜３０mlで、PH値に従って適切に調整され、反応は攪拌状態下で中和工程を進行し、攪拌速度は１２０〜１２００rpmで、中和時の温度は４〜３０℃で、中和時の反応時間は、１〜４時間で、アンモニア水の添加は、PH＝５〜９を反応の終点とすることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
上記洗浄工程は、沈殿析出された水酸化チタン（或いは、水酸化物チタン）を濾過洗浄するものであって、濾過手段は脱水機、圧濾機、真空濾過機、或いは遠心分離機等により、濾過後の濾過ケーキは水道水中に入れられ、攪拌されて均等に分散した後、再度濾過され、水道水の使用量は、濾過ケーキ量の３〜２０倍（体積比）で、攪拌速度は１２０〜１２００rpmで、攪拌時間は１０〜１２０分で、濾過洗浄工程は２〜５回繰り返されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記濾過ケーキを脱イオン水中に入れ、攪拌混合後、選定された酸化剤、或いは無機酸を加えて、転化工程を進行するに当たって、転化で使用される酸化剤は、過塩酸、過ヨウ素酸、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ソーダ、硝酸等で、酸化剤の添加量は、１〜２００g／？で、添加で使用される無機酸は、ヨウ化水素、臭化水素、塩酸、過塩酸、硫酸、硝酸、燐酸、過ヨウ素酸等で、無機酸の添加量は１〜１２０ｇ／？で、転化時の温度は１０〜９５℃で、転化時の攪拌速度は、３０〜３００rpmで、転化時間は１０〜１２０分であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
転化後の溶液は、原槽、或いは別途に設置された熟成槽中で、熟成反応を進行し、熟成時の攪拌速度は、３０〜３００rpmで、熟成時の温度は、５０〜９５℃で、熟成時の時間は、４〜２４時間であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記製品は、アプリケーション及び必要に応じて、パッケージされることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、結晶型二酸化チタン光触媒の合成方法に関するものであって、特に、家電／照明／空気洗浄／キッチン道具／サニタリー設備／住宅外壁／家具清掃／車両内装及び廃水／廃気処理システム等に用いられる二酸化チタン（ＴｉＯ2）光触媒の合成方法に関するものである。本発明は、化学処理工程を用いて、ナノスケール（Nano−meter  scale）の二酸化チタンゲル水溶液を合成し、その顆粒は２〜５０nmの範囲で分布し、二酸化チタンの含量は、０．５〜１０％である。
【背景技術】
【０００２】
１９７０年代から、二酸化チタンによる半導体の製造の研究に関する文献が大量に発表されている。その内容は大部分が、現有の化学薬品（特に、二酸化チタン粉体粒子）を材料とし、光化学反応及び半導体反応の研究を模索するもので、結晶構造形態及び粒子の大きさが、その反応の進行と効率に影響することが明らかになっている。文献によると、鋭錐石、或いは、鋭錐石（アナターゼ）／金鉱石構造において、顆粒は３０nm以下が好ましいとされている。しかし、全ての論文中、二酸化チタンの合成方法、及びその製品の規格特性に言及しているものはほとんど無い。１９９０年から、二酸化チタン光触媒は、環境浄化の応用において、注目を浴びている。１９９７年に実用段階に入ったが、研究も、応用技術の開発に集中し、合成方法に関する研究は少ない。しかし、事実上、合成方法は光触媒の処理効果にとって、影響が大変大きいのである。
文献によると、二酸化チタン光触媒の合成方法は、化学合成法により、微粒子状の二酸化チタンを生成することを主としている。二酸化チタンは、多くが、研磨粉砕法（Degussa社で生産されるP−２５触媒による研磨粉砕法）により製造されているが、この方法により製造される二酸化チタンは、粒子の大きさが均一でなく（１０〜５００nm）、また、結晶形態も適合しないので、塗料化粧品／修正液等にしか用いることが出来ず、効果的に光触媒の効果を発揮できているとはいえない。研磨工程は、超音波衝撃による超音波研磨法や、酸性液を加える化学研磨法が導入される等、若干の修正がなされ、粒子の大きさや均一性が改善されたものの、その作用には限界があり、結晶構造の形態には、さほど向上効果が見られない。故に効果には限界があり、製品の応用範囲は変化しない。化学合成法においては、液相合成が主となっている。ある文献では、化学気相蒸着法（Chemical  Vapor  Deposition、CVD）により、二酸化チタン光触媒の皮膜を生成し、その生成物は安定し、純度が高く、触媒効果も明らかである、と記載されているが、製造コストは非常に高く、特定の製品にしか適用することが出来ないため、大量生産に向かない。
【０００３】
液相合成法は、更に、有機溶剤法と水溶液法に分けられ、水溶液法を優先する。有機溶剤法とは、チタンアルコキシド［Ti−oxyalkyl：Ti（OR）］を、異なる溶剤中、異なる加熱条件で、二酸化チタン（粉末、或いは皮膜）を形成する方法であり、これは、日本特開平４−８３５３７号公報で、チタンアルコキシドをグリコール中で加熱する、と開示されている；日本特開平７−１００３７号公報では、チタンアルコキシドをアルコールアミン類中で加熱する等により、二酸化チタンを得ることが出来る、と開示されている。しかし、 チタンアルコキシドの価格は非常に高く、操作も高温、高圧下で施さなければならないため、一般には、工業化学用触媒の生産用にだけ、この方法が使用され、コストを考慮して民生用品にはこの合成方法は用いられない。水溶液合成方法は、日本特許、或いは日本発表の公知の方法を主とし、日本特開平７−１７１４０８号公報では、四塩化チタン溶液中に、粘着剤を加えた後、加熱する、と開示されている；或いは、日本特開平６−２９３５１９号公報では、四塩化チタン水溶液を、PH≦３の条件下で加熱し、二酸化チタンのゲルを形成する、と開示されている。この種の方法の最大の欠点は、形成したゲル液中に、大量の塩素イオンが含まれ、ゲルの安定性が悪く、分解沈殿しやすいことである。日本特開平９−７１４１８号公報では、チタンの水酸化物水溶液中、過酸化水素を加え、PH＝６〜８の条件下で低温反応させる、と開示されている；或いは、日本特開昭６２−２５２３１９号公報の、チタンの水酸化物中、過酸化水素を加え、PH−２〜６の条件下で、長時間低温反応させて生じる二酸化チタンゲルは、その顆粒は、ナノスケール（１０nm範囲）であるが、結晶は非結晶態を主とするため、表面処理に用いることは出来るが、光触媒の作用は芳しくない。日本特開平７−２８６１４号公報では、過酸化チタンで加熱、及び特許番号２８５９９３号公報では、水酸化チタン水溶液は、低温下で、過酸化水素水が加えられ、高温度で反応させているが、形成される二酸化チタンゲルは、触媒の作用を有するが、過酸化水素水の特性の制限を受けて、濃度が２％に限られ、使用上不便である。
【０００４】
台湾特許第１３５８９５号の内容は、四塩化チタン水溶液中に、有機酸を加えた後、７０℃以上で加熱反応させて、鋭錐石を形成し、その生成物は、結晶形態、及び顆粒分布が光触媒の要求に符合しているが、溶液中の塩素含量が非常に高く（１０ｇ／？以上）、製品を安定させるのがネックとなる。特許第３４９９８１で開示されているのは、四塩化チタンを、アンモニア水で、PH＝２〜６中で反応させ、沈殿物（水酸化物チタン、或いは水酸化チタン）を濾過、洗浄し、低温（５〜８℃）下で、過酸化水素を加え、長時間低温で攪拌し、得られる非結晶態の二酸化チタンは本案と無関係である。台湾特許第３９３３４２は、硫酸チタンを加熱して、二酸化チタンを形成するもので、更に、硝酸などの単質の酸を加え、残留した硫酸根を洗浄除去すると共に、二酸化チタンを部分溶解して、粒径を小さくするもので、この方法は本案と無関係である。台湾特許第４４３９９２は、二酸化チタンの皮膜の形成方法を開示しているが、ゲルの形成方法ではない。
この他、欧州でも、仏特許２５５１７４３は、アルカリ土族チタン塩酸を形成し、その後の処理用に提供するものが開示されているが、標的が本発明とは異なる。
【特許文献１】特開平４−８３５３７号公報
【特許文献２】特開平６−２９３５１９号公報
【特許文献３】特開平７−１７１４０８号公報
【特許文献４】特開昭６２−２５２３１９号公報
【特許文献５】特開平９−７１４１８号公報で
【特許文献６】特開昭６２−２５２３１９号公報
【特許文献７】特開平７−２８６１４号公報
【特許文献８】特許第２８５９９３号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、水溶液合成法に常有する欠点を改善することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、水溶液合成法に常有する欠点（塩素イオン含量が高い、安定性が悪い、結晶形態が適合しない等）に対し改善を施し、一連の工程により、ナノスケールの光触媒効能を具備する二酸化チタンのゲルを合成する工程は、希釈、中和、洗浄、転化、熟成等の五大ステップが含まれる。
図１及び図２は、本発明の結晶型二酸化チタン光触媒の合成方法を示す図であり、以下の工程からなる。
（i）希釈工程１０：チタンの化合物を適当な酸液中で、溶解希釈する（工程１００）。
（ii）中和工程１２：調整された濃度のアンモニアを、設定された添加速度に従って、含
チタン化合物の希釈液中に加え、PH＝５〜９に調整する（工程１２０）。
（iii）洗浄工程１３：沈殿析出された水酸化チタンを濾過洗浄する（工程１３０）。
（iv）転化工程１４：洗浄された水酸化チタンを、純水（脱イオン水）中で攪拌混合し、
選定された酸化剤、或いは無機酸を加える（工程１４０）。
（v）熟成工程１５：転化した溶液を設定された温度、時間に従って、熟成させる（工程
１５０）。
（vi）熟成が完了したゲル１６は、PH調整／遷移／パッキングを経て、製品となる（
工程１６０）。
希釈工程において、本発明が使用する原料は、四塩化チタン及び硫酸チタン等で、上述のチタン化合物をPH≦０の酸性水溶液中に溶解し、完全に混合されるまで攪拌し、中和工程を進行する。チタン化合物の含量は、要求により５〜２０％に制御して操作し、操作温度は３０℃以下が望ましい。攪拌速度は３０〜６００rpmである。中和工程は１０〜３０％含量の水酸化アンモニア溶液（アンモニア水）を、設定された添加速度で、PH=５〜９の範囲になるまで、攪拌中のチタン化合物水溶液中に加える。反応工程は、適温に制御し、温度は２０℃以下を確保し、攪拌速度は１２０〜１２００rpmを維持する。中和時、チタン化合物は水溶液状から、水酸化チタン、或いは水酸化物チタンを析出し、白色粉末懸濁物を形成する。中和後、水酸化チタン、或いは水酸化物チタンを濾過して、濾過ケーキを得て、濾過ケーキを水道水、或いは軟水中に放置し、完全に分散するまで攪拌すると共に、一定時間維持した後、濾過する。水道水の濾過ケーキに対する比率は、少なくとも、５倍以上である。上述の攪拌、濾過の洗浄工程は、少なくとも３回以上である。各洗浄工程の攪拌速度は、１２０〜１２０００rpmで、時間は少なくとも１０分以上、３０分が望ましい。使用する濾過設備は脱水機、圧濾機、真空濾過機、或いは遠心分離機等である。
洗浄された濾過ケーキを脱イオン水中に入れ、分散するまで攪拌した後、必要に応じて酸化剤、或いは無機酸を加える。本発明中で使用する酸化剤は、過塩酸、過ヨウ素酸、過マンガン酸カリウム、過マンガン酸ソーダ、硝酸等で、添加濃度は１〜２００g／？で、使用する無機塩は、ヨウ化水素、臭化水素、塩酸、過塩酸、硫酸、硝酸、燐酸、過ヨウ素酸等で、添加量は１〜１２０ml／リットルである。
酸化剤、或いは、無機酸の添加は、二者を全部加えても、一つだけを加えてもよく、必要に応じて決定する。製品が直接スプレイ、或いは表面に用いられる場合、酸化剤の添加を優先的に考慮する。製品が成膜、或いは後続の加工、或いは、高濃度を要求するものに用いられる場合、無機酸、或いは二者を合わせて加える。無機塩の種類の選定は、製品の応用対象（処理される材質）及び環境の考慮によって決定する。酸化剤、或いは無機酸を加えた後の水酸化チタンゲルは、設定された温度及び時間により、転化反応を進行する。本発明において、転化温度は１０〜９５℃（添加物により異なる）、時間は少なくとも１０分以上、攪拌速度は３０〜３００rpmを維持する。
転化後の薬液は、５０〜９５℃の温度に調整され、加温下で、４〜２４時間攪拌する。攪拌速度は３０〜３００rpmで、熟成反応を進行する。熟成後のゲル液は、フィルターにより濾過、パッキング等の工程後、製品となる。
【発明の効果】
【０００７】
本発明は以下のような長所がある。
１．自浄、汚垢除去が発揮される。
２．紫外線の照射と合わせて、殺菌効果が発揮される。
３．  効果的に、清潔、吸着の効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
実施例１：２０リットルの反応槽中に、脱イオン水１０リットルを加え、攪拌速度を３００rpmに設定し、反応槽は氷水浴で温度５〜１０℃に維持し、四塩化チタン（ＴｉＣｌ4）（含量９８％）５００gを取り、定量ポンプで、毎分４ml（４ml／min）の速度で、水を加え続ける。加水終了後、攪拌を２時間継続し（液体が透明になるまで）、その後、２０％濃度のアンモニア水を毎分１０mlの速度で加え、攪拌速度を６００rpmにまで上げると共に、PHの変化を観察する。PHが４．０に達した時、毎分２〜４mlの速度に変更して、PH=７．５〜８．０間になるまで、アンモニア水を加える。上述の溶液を真空濾過機で濾過した後、白色濾過ケーキ（含水酸化チタン）を２００リットルの洗浄槽中に入れ、槽内には、先に、水道水、或いは軟水１００リットル入れられており、攪拌速度は６００rpm、時間は２時間（均等に混合されるまで）で、その後、濾過される。洗浄工程は、３度繰り返され、濾過ケーキを転化、熱化槽に移す。槽中に、先に、２０リットルの脱イオン水を入れ、攪拌速度を３００rpmに維持し、濾過ケーキを加え、１時間攪拌して均一に混合させる。その後、過塩素酸（ＨＣｌＯ4）５０mlを加え、常温下で３０分攪拌する。その後、温度を８０〜９０℃まで上昇させ、攪拌状態６時間後、降温冷却し、PH調整後、パッキングして製品となる。本方法により得られる二酸化チタンゲルは、無色〜黄色透明の水溶液で、PHは５〜９である。二酸化チタンの含量は約１％で、顆粒分布は５〜５０nm、針状〜片状の結晶で、直接、スプレイ処理か、或いは後続の処理により成膜し、洗浄、汚垢除去の作用を発揮する。更に、紫外線の照射により、殺菌の効果も発揮する。
【０００９】
実施例２：処理工程は上述と同様であるが、転化工程は、過塩素酸（ＨＣｌＯ4）に代わって、過マンガン酸カリウム（ＫＭｎＯ4）を７５ｇ加える。操作条件は第一実施例と同様で、得られる二酸化チタンゲルは、黄色透明の水溶液を呈し、PH＝７〜９、二酸化チタン含量は約１％で、顆粒分布は約５〜３０nm、針状〜片状の結晶である。本方法で得られる二酸化チタン中には、適量のマンガン（Mn）を含み、汚垢除去、殺菌作用に強い効果を有するが、マンガンは少量であるため、工業用には適さない。
【００１０】
実施例３：処理工程は第一実施例と同じであるが、四塩化チタンの量を２．５kgに変更し、転化する過塩素酸（ＨＣｌＯ4）を１５０mlに変更し、その他の条件は前と同様である。処理後の二酸化チタン光触媒は第一実施例と同じであるが、ゲル中の二酸化チタンの含量は約５％で、本製品は光触媒含量が多いため、一般の除カビ、汚垢除去、殺菌の効能以外にも、外壁処理、或いはサニタリー設備等への用途がある。
【００１１】
実施例４：２０？の反応槽中、脱イオン水９リットルを加え、攪拌速度は６００rpm、更に、１リットルの硫酸を加え、その後、オキシ硫酸チタン（ＴｉＯＳＯ4）４００gを、上述の攪拌された希硫酸中に分けて入れ、完全に溶解するまで攪拌する（少なくとも２時間以上）。その後、２０％のアンモニア水を、毎分１０mlの速度で加え、その後の工程は、第一実施例と同様である。得られる製品も第一実施例と同じ成分である。
【００１２】
実施例５：処理工程は第一実施例と同じであるが、酸化工程において、過塩素酸を、燐酸（ＨＰＯ4）にし、使用する燐酸量は１００〜１５０mlである。熟成温度は９０〜９５℃に上げ、時間は８〜１２時間で、無色〜黄色の二酸化チタン光触媒の透明ゲルが得られる。その成分と含量は、第一実施例と同じであるが、溶液中の少量の燐酸根が含まれるので、更に効果的に清潔、吸着の効果が得られる。
【００１３】
実施例６：処理工程と操作条件は第一実施例と同じであるが、熟成温度は７０〜８０℃に変更し、反応時間は２４時間に延長され、得られる成分及び効能は第一実施例の二酸化チタン光触媒の透明ゲルと同じである。
【００１４】
実施例７：処理工程と操作条件は第一実施例と同じであるが、転化時に加える過塩素酸を１０mlに変更し、更に、燐酸５０mlを加える。その他の操作は第一実施例と同じである。熟成温度は９０〜９５℃に上がり、反応時間は６時間で、成分と効能が第五実施例と同様の二酸化チタン光触媒の透明ゲルが得られる。
【００１５】
実施例８：処理工程と操作条件は第二実施例と同じであるが、過マンガン酸カリウムの量を８０gにし、更に、燐酸１５０mlを加える。熟成温度は９０〜９５℃に上がり、反応時間は８時間で、成分と効能が第二実施例と同様の二酸化チタン光触媒ゲルが得られる。
本発明では好ましい実施例を前述の通り開示したが、これらは決して本発明に限定するものではなく、当該技術を熟知する者なら誰でも、本発明の精神と領域を脱しない範囲内で各種の変動や潤色を加えることができ、従って本発明明の保護範囲は、特許請求の範囲で指定した内容を基準とする。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の二酸化チタン光触媒の合成方法を示した説明図である。
【図２】本発明の工程図である。
【符号の説明】
【００１７】
１０…希釈工程
１００…チタンの化合物の、適当な酸液中で溶解希釈する。
２…中和工程
１２０…調整された濃度のアンモニア水を設定された添加速度に従って、含チタン化合物の希釈液中に加える。
１３…洗浄工程
１３０…沈殿析出した四塩化チタンを濾過洗浄する。
１４…転化工程
１４０…洗浄された四塩化チタンを純水（脱イオン水）中で、攪拌混合後、選定された酸化剤、或いは無機酸を加える。
１５…熟成工程
１５０…転化を経た溶液を、設定された温度、時間により、熟成する。
１６…熟成が完成したゲル
１６０…PH調整／遷移／パッキングを経て、製品となる。
【図１】
2005270876.tif 000003
【図２】
2005270876.tif 000004
【手続補正書】
【提出日】平成16年12月10日(2004.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
結晶型二酸化チタン光触媒の合成方法であって、
（i）チタンの化合物を適当な酸液中で、溶解希釈し、チタン希釈溶液を生成
する工程と、
（ii）中和工程を実行し、所定濃度のアンモニア水を、設定された添加速度に
従って、チタン希釈液中に加え、PH＝５〜９に調整する工程と、
（iii）洗浄工程を実行し、溶液中で、水酸化チタンを濾過して、ろ過ケーキを
得て、該フィルターケーキをろ過する工程と、
（iv）形状転換工程を実行し、前記ろ過ケーキを純水（脱イオン水）と混合し
、前記水酸化チタン溶液を攪拌して、前記水酸化チタンを、脱イオン水で均一に混合し、所定の酸化剤、或いは無機酸を加える工程と、
（v）前記混合溶液を設定された温度、時間に従って形成し、ソルゲルを得る
工程と、
（vi）前記ソルゲルは、PH調整／遷移／パッキングを経て、製品となる工程と
、からなることを特徴とする方法。
【請求項２】
上記希釈用に適合する酸液は、希塩酸（四塩化チタンシステムに用いる）、或いは、希硫酸（硫酸システムに用いる）から選択され、酸液濃度は０〜４M（モル／リットル）で、希釈後のチタン化合物の濃度は、５〜２０wt／L％で、希釈時の攪拌速度は、３０〜６００rpmで、希釈時の温度は、４〜３０℃で、希釈時の反応時間は１〜４時間であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
上記中和工程で使用されるアンモニア水（水酸化アンモニウム溶液）濃度は１０〜２５％で、アンモニア水の添加速度は毎分１〜３０mlで、PH値に従って適切に調整され、反応は攪拌状態下で中和工程を進行し、攪拌速度は１２０〜１２００rpmで、中和時の温度は４〜３０℃で、中和時の反応時間は、１〜４時間で、アンモニア水の添加は、PH＝５〜９を反応の終点とすることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
上記洗浄工程は、沈殿析出された水酸化チタン（或いは、水酸化物チタン）を濾過洗浄するものであって、濾過手段は脱水機、圧濾機、真空濾過機、或いは遠心分離機等により、濾過後の濾過ケーキは水道水中に入れられ、攪拌されて均等に分散した後、再度濾過され、水道水の使用量は、濾過ケーキ量の３〜２０倍（体積比）で、攪拌速度は１２０〜１２００rpmで、攪拌時間は１０〜１２０分で、濾過洗浄工程は２〜５回繰り返されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
転化後の溶液は、原槽、或いは別途に設置された熟成槽中で、熟成反応を進行し、熟成時の攪拌速度は、３０〜３００rpmで、熟成時の温度は、５０〜９５℃で、熟成時の時間は、４〜２４時間であることを特徴とする請求項１に記載の方法。