(57)【要約】【課題】  工業的に入手の容易な物質を原料として、純度の高い（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドを簡便に、かつ効率良く製造する。【解決手段】  キシレン中において、（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド類を無水酢酸及び酢酸カリウムと反応させ、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を得る。この（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を塩素化剤と反応させ、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドを得、次いで得られた（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドをアンモニアと反応させれば、目的物（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドを高い純度で得ることができる。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式［１］で表される（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド類
【化１】
2005015471.tif 000008
に無水酢酸と金属酢酸塩とを混合して反応させ、式［２］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸
【化２】
2005015471.tif 000009
を得、次いで（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を塩素化剤と反応させ、式［３］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリド
【化３】
2005015471.tif 000010
を得、次いで、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドをアンモニアと反応させることを特徴とする、式［４］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミド
【化４】
2005015471.tif 000011
の製造方法。
（式［１］〜［４］中、ｎは１または２を表す。Ｌは各々独立して、ハロゲン基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基（これらのアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基は、炭素数が１〜２０であり、炭素鎖に分岐を有してもよく、炭素どうしの結合の一部が二重結合になっていてもよい）、またはこれら前記の基が環上に置換基として結合していてもよいアリール基を表す。ｎが１のときｐは０〜４の整数であり、ｎが２のときｐは０〜３の整数である。）
【請求項２】
（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドが３−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドであることを特徴とする、請求項１に記載の、３−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造方法。
【請求項３】
（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドが４−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドであることを特徴とする、請求項１に記載の、４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造方法。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３の何れかにおいて、（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド類に無水酢酸と金属酢酸塩を反応させ、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を得る反応を、キシレン中で行うことを特徴とする、請求項１乃至請求項３の何れかに記載の（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造方法。
【請求項５】
式［１］で表される（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド類
【化５】
2005015471.tif 000012
に無水酢酸と金属酢酸塩とを混合して反応させ、式［２］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸
【化６】
2005015471.tif 000013
を得（第１工程）、次いで（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を塩素化剤と反応させ、式［３］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリド
【化７】
2005015471.tif 000014
を得（第２工程）、次いで、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドをアンモニアと反応させ、式［４］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミド
【化８】
2005015471.tif 000015
を得る（第３工程）方法において、第２工程で得られた反応混合物を減圧脱気操作（エバポレーション）に付するか、該反応混合物に乾燥した不活性ガスを流通した後で、第３工程を行うことを特徴とする、式［４］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造方法。
（式［１］〜［４］中、ｎは１または２を表す。Ｌは各々独立して、ハロゲン基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基（これらのアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基は、炭素数が１〜２０であり、炭素鎖に分岐を有してもよく、炭素どうしの結合の一部が二重結合になっていてもよい）、またはこれら前記の基が環上に置換基として結合していてもよいアリール基を表す。ｎが１のときｐは０〜４の整数であり、ｎが２のときｐは０〜３の整数である。）
【請求項６】
請求項５において、第２工程の反応を溶媒の存在下で行い、かつ第２工程で得られた反応混合物を減圧脱気操作（エバポレーション）に付す際に、反応混合物から（Ａ＋０.１×Ｂ）[ｇ]以上、（Ａ＋０.７×Ｂ）[ｇ]以下の溶媒を留去することを特徴とする、請求項５に記載の（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造方法。
（ここでＡ（ｇ）は、第２工程における塩素化剤の「過剰投入量」であり、Ｂ（ｇ）は第２工程で使用した溶媒を表す。）
【請求項７】
請求項５または請求項６において、（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドが３−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドであることを特徴とする、請求項５または請求項６に記載の（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造方法。
【請求項８】
請求項５または請求項６において、（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドが４−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドであることを特徴とする、請求項５または請求項６に記載の（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造方法。
【請求項９】
請求項５乃至請求項８の何れかにおいて、（トリフルオロメチル）ケイ皮アミド１モルに対して、２．５〜１０モルのアンモニアを添加することによって第３工程を行うことを特徴とする、請求項５乃至請求項８の何れかに記載の（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、医薬・農薬の中間体として、また含フッ素基導入試薬として有用な（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
（トリフルオロメチル）ケイ皮酸の製造方法として、３−（トリフルオロメチル）ブロモベンゼンを原料として、これに酢酸パラジウム、ホスフィン類ならびに塩基の存在下、アクリル酸を作用させ、３−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を得る方法が知られている（非特許文献１）。また、活性の向上した含フッ素パラジウム錯化合物を触媒として（トリフルオロメチル）ブロモベンゼン類、塩基およびアクリル酸を混合し、反応させる方法が知られている（特許文献１）。
【非特許文献１】Ｍｅｔａｌｌｏｏｒｇ．  Ｋｈｉｍ．（１９８９）、ｐ．９１１〜９１４のケミカルアブストラクト（ケミカルアブストラクト、１９８９年、第１１２巻、第１５７７８７号）。
【特許文献１】特開２０００−２２９９１２号公報。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
上記、非特許文献１と特許文献１の方法において原料に用いられる（トリフルオロメチル）ブロモベンゼン類には複数種類の異性体が存在する。これらの異性体の沸点はお互いに近接しているため、特定の異性体を高い純度で単離することが特に困難である。原料中の異性体の反応性は類似しているため、得られる（トリフルオロメチル）ケイ皮酸も、対応する複数の異性体の混合物となる。この混合物の中から、特定の異性体のみを高い純度で得ようとすると、反応後の精製操作に過大な負荷がかかる。
【０００４】
このように得られた（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を塩素化剤で塩素化すると、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドが生成し、続いてこの化合物をアンモニアと反応させると、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドが得られる。しかし、化合物が、上記のように、位置異性体を含んでいると、反応によって得られる化合物も位置異性体の混合物となり、ここから特定の異性体を高純度で単離することには多大な負荷がかかる。
【０００５】
すなわち、純度の高い（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドを工業的に製造するために、入手の容易な化合物を出発原料として、より効率良く製造する手段を見いだすことが必要課題であった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らはかかる問題点に鑑み、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドを工業的に容易に合成する方法につき、鋭意、検討を行った。その結果、式［１］で表される（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド類
【０００７】
【化９】
2005015471.tif 000002
【０００８】
（式［１］中、ｎは１または２を表す。Ｌは各々独立して、ハロゲン基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基（これらのアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基は、炭素数が１〜２０であり、炭素鎖に分岐を有してもよく、炭素どうしの結合の一部が二重結合になっていてもよい）、またはこれら前記の基が環上に置換基として結合していてもよいアリール基を表す。ｎが１のときｐは０〜４の整数であり、ｎが２のときｐは０〜３の整数である。）
が、高純度製品を安価に入手できるキシレンを出発物質とし、これを塩素化してペンタクロロキシレンに変換し、さらにフッ素化して（ジクロロメチル）（トリフルオロメチル）ベンゼンに変換し、さらに加水分解することで、高純度品を容易に得ることができる化合物である点に着目した。そしてこの式［１］で表される化合物に、無水酢酸と金属酢酸塩とを混合して反応させたところ、式［２］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸類
【０００９】
【化１０】
2005015471.tif 000003
【００１０】
（式［１］中、ｎは１または２を表す。Ｌは各々独立して、ハロゲン基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基（これらのアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基は、炭素数が１〜２０であり、炭素鎖に分岐を有してもよく、炭素どうしの結合の一部が二重結合になっていてもよい）、またはこれら前記の基が環上に置換基として結合していてもよいアリール基を表す。ｎが１のときｐは０〜４の整数であり、ｎが２のときｐは０〜３の整数である。）
が高収率で得られ、分離の難しい不純物が生成しないため、反応終了後の精製も容易であることを見いだした（第１工程）。
【００１１】
本発明者らはさらに、このようにして得られた（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を塩素化し、式［３］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリド
【００１２】
【化１１】
2005015471.tif 000004
【００１３】
を得（第２工程）、次いでアンモニアと反応させる（第３工程）と、式［４］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミド
【００１４】
【化１２】
2005015471.tif 000005
【００１５】
（式［２］、［３］、［４］における、ｎおよびＬの意味は、式［１］と同じ）
が、分離の難しい不純物を生じることなく、高い純度で得られることを見いだした。本発明の方法によれば、通常に入手できる化合物を出発原料として、純度９９．９％の（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドを得ることも容易にできる。
【００１６】
なお、本発明による（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドを製造する方法では、第３工程の反応中に着色が起こり、目的物の（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドが着色する場合がある。ところが発明者らは、上記方法において、第２工程と第３工程の間に特定の精製操作を行うことでこの問題が大幅に改善することを見出した。すなわち第２工程で得られた反応混合物に対し、精製操作として、減圧脱気操作か、乾燥した不活性ガスの流通を行った後で、第３工程を行うことにより、式［４］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの着色が解消されることを見出した。なおかつ、この精製操作を行うことにより、目的物の収率も顕著に向上することを見出した。
【００１７】
また、この精製操作を行う場合には、第２工程の反応を、溶媒の存在下で行い、かつ第２工程で得られた反応混合物を減圧脱気操作（エバポレーション）に付す際に、反応混合物から（Ａ＋０.１×Ｂ）[ｇ]以上、（Ａ＋０.７×Ｂ）[ｇ]以下の溶媒を留去することが、操作性から、また得られる目的物の品質面から、特に優れていることを見出した。
【００１８】
このように、本発明者らは、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドを工業的に製造するための優れた方法を見出し、発明を完成した。
【００１９】
本発明に係る反応のスキームを下式（スキーム１）に示す。
【００２０】
【化１３】
2005015471.tif 000006
【００２１】
すなわち本発明は、式［１］で表される（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド類に無水酢酸と金属酢酸塩とを混合して反応させ、式［２］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を得、次いで（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を塩素化剤と反応させ、式［３］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドを得、次いで、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドをアンモニアと反応させることを特徴とする、式［４］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造方法を提供する。
（式［１］〜［４］中、ｎは１または２を表す。Ｌは各々独立して、ハロゲン基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基（これらのアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基は、炭素数が１〜２０であり、炭素鎖に分岐を有してもよく、炭素どうしの結合の一部が二重結合になっていてもよい）、またはこれら前記の基が環上に置換基として結合していてもよいアリール基を表す。ｎが１のときｐは０〜４の整数であり、ｎが２のときｐは０〜３の整数である。）。
【００２２】
また、本発明は、（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドが３−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドであることを特徴とする、上記の３−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造方法を提供する。
【００２３】
また、本発明は、（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドが４−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドであることを特徴とする、上記の、４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造方法を提供する。
【００２４】
また、本発明は、（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド類に無水酢酸と金属酢酸塩を反応させ、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を得る反応を、キシレン中で行うことを特徴とする、上記の何れかに記載の（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造方法を提供する。
【００２５】
また、本発明は、式［１］で表される（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド類に無水酢酸と金属酢酸塩とを混合して反応させ、式［２］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を得（第１工程）、次いで（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を塩素化剤と反応させ、式［３］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドを得（第２工程）、次いで、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドをアンモニアと反応させ、式［４］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドを得る（第３工程）方法において、第２工程で得られた反応混合物を減圧脱気操作か、該反応混合物に乾燥した不活性ガスを流通した後で、第３工程を行うことを特徴とする、一般式［４］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造方法を提供する。
【００２６】
また、本発明は、上記方法において、第２工程の反応を、溶媒の存在下で行い、かつ第２工程で得られた反応混合物を減圧脱気操作（エバポレーション）に付す際に、反応混合物から（Ａ＋０.１×Ｂ）[ｇ]以上、（Ａ＋０.７×Ｂ）[ｇ]以下の溶媒を留去することを特徴とする、式［４］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００２７】
本発明は、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドを簡便に効率良く製造する手段を提供する。本発明の方法によれば、分離の難しい不純物（特に位置異性体）が反応混合物中に共存せず、着色も生じ難いことから、高純度の目的物を製造する上で特に好適である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明につき、さらに詳細に説明する。本発明は、第１工程〜第３工程の３つの工程によりなる。
第１工程：式［１］で表されるトリフルオロメチルベンズアルデヒド類に無水酢酸と金属酢酸塩とを混合して反応させ、式［２］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を得る工程。
第２工程：式［２］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を塩素化して、式［３］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドに変換する工程。
第３工程：式［３］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドをアンモニアと反応させ、式［４］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドを得る工程。
【００２９】
そして、必要に応じ、第２工程と第３工程の間に、特定の精製操作を行うことによってなる。
【００３０】
本発明の出発原料である式［１］で表される（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド類は、芳香環に１個のアルデヒド基（−ＣＨＯ）と、１個または２個のトリフルオロメチル基を有する化合物である。芳香環上に他の置換基（Ｌ）を有していても良いが、このＬは無水酢酸と金属酢酸塩の共存下で不活性な基に限定され、具体的には各々独立して、ハロゲン（フルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード）基、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基（これらのアルキル基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基は、炭素数が１〜２０（好ましくは１〜１０、さらに好ましくは１〜６）であり、炭素鎖に分岐を有していてもよく、炭素どうしの結合の一部が二重結合になっていてもよい）、またはこれら前記の基が環上に置換基として結合していてもよいアリール基のことである。
【００３１】
式［１］で表される（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド類は具体的には、２−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド、３−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド、４−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド、２，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド、  ２，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド、２，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド、２，６−ビス（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド、３，４−ビス（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド、３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド、２−ニトロ−５−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド、２−メチル−５−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド、２−ブロモ−５−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド、２−メトキシ−４−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド、２−メトキシ−３，５−ビス（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド等が挙げられるが、これらに限定されない。
【００３２】
本発明において何れの（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドを原料としても、第１工程によって、当該化合物中のアルデヒド基（−ＣＨＯ）が−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯＨ基に変換され、その他の基は変化を受けない、対応する（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を選択的に得ることができる。得られた（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を塩素化剤と反応させ（第２工程）、次いでアンモニアと反応させる（第３工程）ことにより、該官能基のみが効率的に−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＮＨ2基に変換され、式［４］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドが得られる。
【００３３】
これらの中でも３−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドを原料とすると、最終的に３−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドが得られる。また、４−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドを原料とすれば４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドが得られる。これらのケイ皮酸アミドは、その有用性の特に顕著なことから、特に好ましい例として挙げられる。
【００３４】
まず、本発明の第１工程について説明する。第１工程は、式［１］で表されるトリフルオロメチルベンズアルデヒド類に無水酢酸と金属酢酸塩とを混合し、反応させ、式［２］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を得る工程である。
【００３５】
第１工程に使用する金属酢酸塩としては酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウムなどの汎用の金属酢酸塩が挙げられる。中でも酢酸カリウムは安価であり、取り扱いやすいことから特に好ましい。
【００３６】
各試薬の混合比に特別な制限はないが、各試薬の中では（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドが相対的に高価で、無水酢酸と金属酢酸塩は安価なことから、（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドに対して無水酢酸と金属酢酸塩をやや過剰に用い、（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドの反応転化率を高めるのが好ましい。具体的には（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド１モルに対し、無水酢酸と金属酢酸塩をそれぞれ１〜２モル用いることが好ましい。
【００３７】
第１工程における溶媒には格段の制限はなく、無溶媒でも行うこともできる。しかし原料の（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドが液体であるのに対し、目的物の（トリフルオロメチル）ケイ皮酸は１００℃以下では固体であるから、本反応系では反応の経過と共に系内に固体成分が増大する。したがって本発明の反応は溶媒中で実施する方が好ましい。ここで本発明者らは溶媒として、非水溶性の非プロトン性有機溶媒であって、かつ極性を持つものを用いると、各試薬が溶媒に適度に溶解し、反応が速く円滑に進み、好ましいことを見いだした。具体的にはトルエン、キシレン、エチルベンゼン、トリメチルベンゼン類、ジエチルベンゼン類、メチルシクロヘキサン、１−メチルシクロヘキセン、クロロベンゼン、ブロモベンゼン、塩化ベンジル、ベンゾトリフルオリド、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン類など、本発明の反応条件で分解せず、沸点が概ね７０℃以上２００℃以下の溶媒が取扱いやすい。
【００３８】
特にキシレン中で反応を行うと、反応混合物が着色しにくいため、キシレンを溶媒として使用することが特に好ましい。キシレンに対しては、目的物（トリフルオロメチル）ケイ皮酸類の溶解度が温度に大きく依存し、１００℃以上では高い溶解性を示すが、反応後に冷却すると目的物が析出して、取扱いやすいスラリーを形成するため、精製操作が行いやすいという利点もある。キシレンとは、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、または工業用キシレン（ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレンおよびエチルベンゼンの約２０：４５：２０：１５の混合物）のことで、これらの何れも好適に用いることができる。このうちｏ−キシレン、ｍ−キシレン、および工業用キシレンは０℃付近でも固結することがなく、取扱いやすいので特に好ましい。キシレンを溶媒として用いる場合、その量は（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド１ｋｇに対して、０．４ｋｇ〜５．０ｋｇが好ましく、０．５ｋｇ〜１．５ｋｇが特に好ましい。０．４ｋｇ未満であると、キシレン中に（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドや（トリフルオロメチル）ケイ皮酸が十分に溶解せず、敢えて溶媒を使用する効果が十分に得られないので好ましくない。また５．０ｋｇより多く用いても反応性はほとんど向上せず、経済的に不利であるから好ましくない。
【００３９】
反応温度（内部の液体の温度）は６０℃〜２００℃の範囲であるが、１００℃〜１５０℃が特に好ましい。６０℃未満であると反応が遅く、また溶媒を用いた場合、原料や生成物が十分な溶解性を示さず、取扱いにくく、また溶媒を使用する利点も十分得られないことから好ましくない。一方、２００℃を超えると反応混合物が着色しやすく、副生物も生じやすいから好ましくない。
【００４０】
第１工程は、溶媒の存在下または非存在下で、上記（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド、無水酢酸および金属酢酸塩を混合し、所定の温度で撹拌を継続することにより達せられる。各試薬は一時に混合してもよいが、（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド、無水酢酸または金属酢酸塩のうちの何れか２種の試薬を予め混合した混合物に、残りの１種類の試薬を連続的、あるいは逐次的に添加する方が反応温度の制御がしやすく、好ましい。例えば、反応器にキシレン、無水酢酸、酢酸カリウムの所定量を予め投入し、撹拌しながら所定温度まで加熱した後に、（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドを逐次的あるいは連続的に導入するのは好ましい方法である。
【００４１】
反応時間には特別な制限はなく、条件によって最適の反応時間は異なるので、薄相クロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィーなどの方法で反応混合物の組成を測定しながら反応を行い、原料の（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドが十分に減少したことを確認後、終了するのが望ましい。キシレンを使用して１００〜１５０℃で反応を行い、（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドが当初の５％に減少するまで反応を継続する場合、要する時間は典型的には２〜８時間である。
【００４２】
なお、本反応は空気中でも、窒素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性気体中でも行うことができる。これらの気体の共存によって、反応性、着色などの挙動にほとんど差異が見られないので、通常、空気中で行えばよい。
【００４３】
反応終了後の精製操作は通常の方法によればよく、特別な制限はない。しかし本反応系には無水酢酸、金属酢酸塩、副生物である酢酸が共存することから、反応混合物を水洗することが効果的である。この水洗操作は、反応終了時、目的物がキシレン等の非水溶性溶媒中に溶けた状態（概ね８０℃以上の状態）で、水／有機溶媒の不均一溶媒系として行ってもよいし、室温付近まで冷却して目的物を析出させた後、水／固体の不均一系として行ってもよい。水洗は３回以上行うのが効果的であり、そのうちの１回は塩酸等、強酸での洗浄を行うと、金属酢酸塩の除去がより効果的に行える。前者の場合、水相の除去は２相分離によればよく、後者の場合は、吸引ろ過器や遠心分離器を用いたろ過法により、目的物を含む固体を捕集すればよい。なお前者の場合、２相分離後に、得られた有機相を室温付近に冷却すれば、目的物が析出しスラリーが得られるので、これをろ過すれば、目的物を主成分とする固体を捕集することができる。
【００４４】
上記、得られた固体中には、（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドその他の有機性不純物が含まれる。これらを除去するためには、キシレン等の有機溶媒で洗浄するか、再結晶を行えばよい。本反応系では再結晶を行わなくても、吸引ろ過を行いながら、ロート上でキシレン等の溶媒をかけて洗浄するだけでも、９９％の純度を超える（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を得られる場合が多い。
【００４５】
精製操作の終わった固体を減圧乾燥することにより、溶媒または水が除去され、式［２］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸の白色結晶が得られる。
【００４６】
次に、第２工程について説明する。第２工程は、第１工程で得られた（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を塩素化剤によって塩素化し、式［３］で表される、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドを製造する工程である。
【００４７】
本工程は、第１工程で得られた（トリフルオロメチル）ケイ皮酸類を、溶媒の存在下または非存在下、塩素化剤と反応させることにより達する。反応に伴い、塩化水素ガスが理論上、生成物と等しいモル数、副生するため、反応器は開放系にし、発生した塩化水素を中和処理できる設備に接続して行うことが、工業的な実施に際しては求められる。
【００４８】
本工程は、第１工程で得られた反応混合物を直接原料として用いることもできるが、第１工程の反応後に、上述した精製操作に付して、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を単離し、これを原料とした方が、不純物の少ない目的物が製造できるため、好ましい。
【００４９】
第２工程に使用できる塩素化剤としては塩化チオニル（ＳＯＣｌ2）、塩化スルフリル（ＳＯ2Ｃｌ2）、オキシ塩化リン（ＰＯＣｌ3）、二塩化オキサリル｛（ＣＯＣｌ）2｝、三塩化リン（ＰＣｌ3）、五塩化リン（ＰＣｌ5）、ジクロロモノエチルホスフィン｛（Ｃ2Ｈ5）ＰＣｌ2｝など、おおむね１００℃以下で留去可能なものが好適に使用できるが、必ずしもこれらに限定されない。これらの中では塩化チオニルは比較的安価である上、反応性も高いことから、特に好ましい。
【００５０】
（トリフルオロメチル）ケイ皮酸と、塩素化剤の混合比に特別の制限はないが、収率の観点から、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸１モルに対する、塩素化剤中の塩素原子のモル量が２〜３モルであることが好ましく、２．１〜２．５モルであることがさらに好ましい。塩素化剤中の塩素原子が２モルを下回ると、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸が完全に消費されず、収率の低下を招くから、好ましくない。
【００５１】
反応溶媒としては格段の制限は無く、無溶媒でも行うことが出来る。しかし得られる塩素化物は室温で固体の物もあり、溶媒中で実施するのが取り扱いやすく、好ましい。溶媒が有機溶媒であると特に円滑に反応が進行するため、特に好ましい。具体的には非プロトン性のキシレン、トルエン、エチルベンゼンや、エステル類の酢酸エチル、酢酸メチル、塩素系溶媒の塩化メチレン、四塩化炭素など、本発明の反応条件で分解しない溶媒が特に好ましい例として挙げられる。溶媒の量に特別な制限はないが、トリフルオロメチルケイ皮酸誘導体の有機溶媒への溶解性を考慮すると、第２工程の原料であるトリフルオロメチルケイ皮酸１ｇあたり１．５ｇ〜６ｇの範囲であることが好ましく、２〜４ｇの範囲が特に好ましい。
【００５２】
第２工程の反応温度に特別な制限はないが、３０〜２００℃の範囲が好ましく、４０℃〜１００℃が特に好ましい。６０〜８０℃の範囲で行うと、取り扱いやすく、さらに好ましい。３０℃未満であると反応が遅く、一方２００℃を越えると反応混合物が着色しやすく副生物も生じやすいから好ましくない。
【００５３】
各試薬は一時に混合しても良いが、塩素化剤を滴下するなど、各試薬を徐々に混合した方が、反応温度の制御がしやすく、大きな規模で行う場合にはより好ましい。
【００５４】
反応時間に特別な制限は無く、条件によって最適の反応時間は異なるので、ガスクロマトグラフィーなどの方法で反応混合物の組成を測定しながら反応を行い、原料の（トリフルオロメチル）ケイ皮酸が十分に減少したことを確認後、終了するのが好ましい。
【００５５】
本工程の目的物（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドのうち、３−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドは室温で液体、４−（トリフルオロメチル）ケイ非酸クロリドは室温で固体である。（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドの中には固体のものもあるが、これらは有機溶媒に溶けやすく、溶媒を十分に用いた場合には、終始液体の形で取り扱える。
【００５６】
第２工程で得られた（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドを含む反応混合物はそのまま第３工程の原料として使用することができるが、第３工程の前に「精製工程（減圧脱気操作または不活性ガスの流通）」を行うことが特に好ましい。以下、この第２工程と第３工程の間に行われる「精製工程」について説明する。
【００５７】
第２工程で得られた、式［３］で表される（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドを含む反応混合物中には、第２工程を通じて副生した塩酸、亜硫酸ガス等の酸性ガスが残留しており、これらが多く残留した（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドを第３工程の原料に用いると、得られる（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドに着色を生じやすい。又、塩素化剤が残存すると、生じた（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドがさらに脱水を受けた構造の、（トリフルオロメチル）ケイ皮ニトリルが多く副生し、目的物の収率が低下することが明らかとなった。
【００５８】
このような状況に鑑み、本発明者らは、第３工程を行う直前に、第２工程で得られた（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドを予め減圧操作などによって酸性ガスおよび塩素化剤を除去することを試みた。この結果、第３工程における着色の問題が著しく改善され、また第３工程における（トリフルオロメチル）ケイ皮ニトリル生成等の副反応も格段に抑えられ、収率を大幅に向上できる、という、重要な知見が得られた。
【００５９】
この酸性ガスおよび塩素化剤の除去操作としては、減圧脱気操作（エバポレーション）が特に好ましい。このエバポレーションをどの程度行うかについて、特別の制限はない。しかし、第２工程における、塩素化剤の「過剰投入量」｛第２工程における、塩素化剤の実際の投入量（ｇ）から、「理論量」（ｇ）を差し引いた値をいう。（ここで「理論量」（ｇ）とは、「（トリフルオロメチル）ケイ皮酸のモル量」×２÷（塩素化剤分子中の塩素原子数）×（塩素化剤の分子量））として算出される重量をいう。｝｝をＡ（ｇ）とするとき、少なくともＡ（ｇ）以上の液体成分が留去される程度に、減圧脱気を継続する必要がある。但し、第２工程で溶媒を使用した場合には、塩素化剤とともに、溶媒の留去も起こるので、これより多量の留去を行った方が良い。具体的には、第２工程において使用した溶媒の量をＢ（ｇ）とするとき、（Ａ＋０．１×Ｂ）［ｇ］以上、（Ａ＋０．７×Ｂ）［ｇ］以下、より好ましくは（Ａ＋０．３×Ｂ）［ｇ］以上、（Ａ＋０．５×Ｂ）［ｇ］以下、の液体が留去されるようにすると良い。この範囲の量の液体を留去する場合において、前述の第３工程におけるアンモニアガスの導入時に反応系内で溶液の固化が起こりにくく、なおかつ対応する（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドを大幅に高い化学純度、収率で得ることができる。なお、（Ａ＋０．７×Ｂ）［ｇ］を上回る量の液体を留去することもできるが、粘度の増大や、固化が起こることがあり、取扱いが難しくなる場合がある。
【００６０】
なお、酸性ガスおよび塩素化剤の除去操作としては、減圧脱気以外にも、乾燥した不活性ガス（窒素ガス、ヘリウムガスなど）を反応系内に流通させることによっても達成でき、この方法によっても、精製操作を行わないときと比べ、第３工程における着色の問題が解決され、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの収率も向上できることを見出した。しかし、通常、この操作を行うためには、反応混合物の全容積以上（好ましくは３倍以上、さらに好ましくは５倍以上）の不活性ガス（常圧換算）の流通が必要である。このため、大きな規模で製造を行う場合には、経済的な理由からは前述のエバポレーションの方が好ましい。
【００６１】
なお、原料の（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドは空気中で、その水分によって徐々に加水分解を受け（トリフルオロメチル）ケイ皮酸に変換する性質を持つ。よって第２工程で得た（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリド（またはその溶液）は空気と長時間接触させずに用いることが重要である。このことを考えると、第３工程の前処理として、酸性ガスを除去するために空気を流通させることや、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドが固体であるときに、これを析出させて溶媒によって洗浄するなどの方法は好ましくない。
【００６２】
第２工程と第３工程の間に行われる上記精製操作は、本発明の対象とする基質の何れにも好ましく適用できる。中でも、結晶性の高い４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドが目的物であるとき、本精製操作による収率改善の効果が特に著しい。他の（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミド（例えば３−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミド）を用いる場合には、収率は４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの場合よりも低いものの、上記精製操作を行うことによる、収率向上と着色改善の効果は見られる。
【００６３】
以下、第３工程の反応について説明する。第３工程は、第２工程で得られた（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドをアンモニアと反応させ、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドを製造する工程である。
【００６４】
本工程に用いるアンモニアとしてはアンモニアガス、アンモニア水等、いずれの形態であっても好適に用いることができる。第３工程の反応は、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリド中の塩素原子１個が（−ＮＨ2）基に置換される反応であるから、反応に必要とされるアンモニアの理論量は１当量である。しかし反応を十分に進行させるためには、反応に伴って副生するＨＣｌを中和し、平衡を生成物側にずらす必要がある。すなわち第３工程の反応は、系内を塩基性に保つ目的で、前記、１当量のアンモニアに加えて、さらに１当量以上の塩基の共存下で行うことが好ましい。
【００６５】
この過剰に加える塩基の種類に特別な制限はなく、特にアンモニアでなくとも、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなども使用できる。しかし、これらの塩基を当初から系内に添加すると、第２工程の反応で副生した（トリフルオロメチル）ケイ皮酸や、前記の「前処理」で除去し切れなかった酸性物質との中和反応が起こりやすく、初期から系内に水を生じ、これが（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドの加水分解を引き起こし、目的物の選択性を低下させる結果となる。
【００６６】
こうしたことから、過剰に加える塩基としてもアンモニアを用いることが特に好ましい。アンモニアも、第２工程の反応で副生した（トリフルオロメチル）ケイ皮酸や、酸性物質との間に中和反応を起こし得るが、それらの中和反応よりも優先して、本工程の目的物である（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドを生成するので、望まれない副反応を最小限に抑えることができる。塩基としてアンモニアのみを使用する場合における、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリド１モルに対するアンモニアのモル量に特別の制限はないが、反応を十分に進行させるためには、上述のとおり、合計２モル以上が求められる。アンモニアを更に過剰に投入することによって後処理工程（後に水を添加した時）で塩基性になり、第３工程の反応で若干副生する（トリフルオロメチル）ケイ皮酸をアンモニウム塩（水溶性塩）として除去することができる。よって、アンモニアは過剰であった方が良い。このことから、アンモニアの量は２．５〜１０モルの範囲が好ましく、３．０〜３．５モルであることがさらに好ましい。アンモニアの量が２モル未満であると、系内が塩基性にならず、反応が完結しにくく、製品中に（トリフルオロメチル）ケイ皮酸が多く残留し、製品の純度低下を招くから、好ましくない。
【００６７】
反応溶媒としては格段の制限は無く、無溶媒でも行うことが出来る。しかし、溶媒中で行う方が反応は円滑に進行する。得られる（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドには室温で固体の物もあり、このような場合には、溶媒中で実施することが特に好ましい。溶媒としては、通常の有機溶媒を挙げることができ、具体的には非プロトン性のキシレン、トルエン、エチルベンゼンや、エステル類の酢酸エチル、酢酸メチル、塩素系溶媒の塩化メチレン、四塩化炭素など、本発明の反応条件で分解しない溶媒が良い。溶媒は、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリド１ｇに対して１ｇ〜１０ｇであることが好ましく、特に好ましい量は２〜４ｇである。溶媒が２０ｇを超えると、生産性が悪いばかりでなく、反応も遅くなることがあり、好ましくない。また上述のように、水が共存すると、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドが加水分解を受けやすく（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を生成するので、水を溶媒とすることは好ましくない。
【００６８】
反応温度は通常、−１０〜＋２００℃の範囲であるが、１００℃以下が好ましい。１００℃以上であるとアンモニアガスや塩化アンモニウムの飛散が大きい。又、反応混合物が着色しやすく、副生物も生じやすいから好ましくない。
【００６９】
各試薬は一時に混合しても良いが、逐次に、あるいは連続的に混合を行っても良く、通常、その方が反応温度を穏和に制御しやすいので、より好ましい。
【００７０】
反応時間に特別な制限は無く、条件によって最適の反応時間は異なる。反応中、反応液は均一にならない場合もあり反応混合物の組成を正確に測定するのは困難な場合もある。従って反応混合液の一部を採取して、この中に含まれる（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドが十分に減少していることを確認後、終了するのが好ましい。
【００７１】
反応終了後の精製操作は通常の方法によれば良く特別な制限は無い。しかし本反応系には塩化アンモニウム等の無機塩類が共存する事から反応混合物を水洗する事が効果的である。反応中に目的物である（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドが析出し、不均一になることが多いが、水洗操作はそのまま行っても構わない。水洗後の溶液（有機層／水）を冷却すると目的物が十分に析出するので、これを濾過すれば目的物を主成分とする固体を捕集することが出来る。
【００７２】
上記得られた固体中には副生物として（トリフルオロメチル）ケイ皮酸、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸ニトリル、その他の有機不純物が含まれる。これらを除去するためには酢酸エチル等の有機溶媒で洗浄するか再結晶を行うのが、特に効果的である。酢酸エチル等で再結晶しにくい場合は、ヘキサン／イソプロパノール混合溶媒など、極性の低い溶媒を適宜用いると、効果的に再結晶を行うことができる。このような精製手段は当業者が適宜、最適化することができる。
【実施例】
【００７３】
以下に、本発明を実施例を以て説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されない。
【００７４】
［実施例１］３−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸の製造
撹拌器、還流管、滴下ロート、温度計を備えたガラス製の４ツ口フラスコ（１リットル）に酢酸カリウム１１７ｇ（１．２０ｍｏｌ）、無水酢酸１５３ｇ（１．５０ｍｏｌ）および工業用キシレン１４５ｇを投入し、撹拌しながら加熱した。
【００７５】
混合物の内部温度が１２０℃となったら、３−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド（純度９９．１％）１６４ｇ（０．９３４ｍｏｌ）を滴下ロートで３０分間かけて滴下した（その間、反応液の内温は１２０〜１４０℃に維持した）。その後、反応液の内温１３０〜１４０℃にて５時間、撹拌を継続し、反応を終了した。
【００７６】
反応終了後、キシレンを１４４ｇ追加し、撹拌を続けて内部温度を１２０℃に安定させた。続いて水２６ｇを逐次的に添加した。この操作時には発熱が伴うので、撹拌を行いつつ、液の内温を１２０〜１４０℃の範囲に保ちつつ、ゆっくりと行った。水の滴下完了後、放冷して８０℃になった直後に、反応混合物を速やかに２リットルの４ツ口フラスコに移動させた。
【００７７】
この、４口フラスコに移動した混合液に、８０℃の温水を２２９ｇ加え、８０℃で３０分撹拌した後、同温度で３０分静置し、２相分離を行った（水相を廃棄）。次に、得られた有機相に、３５％塩酸３７ｇと、８０℃の温水２１８ｇを添加し、８０℃で３０分撹拌した後、同温度で３０分静置し、２相分離を行った（塩酸相を廃棄）。得られた有機相に、８０℃の温水を２５５ｇ加え８０℃で３０分撹拌した後、同温度で３０分静置し、２相分離を行った（水相を廃棄）。
【００７８】
次いで、得られた有機相を２０℃に冷却し、１２時間撹拌を続けたところ、スラリーが得られた。有機相を５℃に冷却し、さらに１時間撹拌を継続し、スラリーを熟成させた。
【００７９】
続いて得られたスラリーをブフナー式真空ろ過器に注ぎ、固体成分をロート上に捕集した。吸引を行いながら、１０℃に冷やした工業用キシレン９０ｇをこの固体にゆっくりとかけて、洗浄を行った。
【００８０】
捕集された固体を６０℃、１３００〜２６００Ｐａにて、６時間、真空乾燥したところ、白色粉末１２１ｇを得た。ガスクロマトグラフィーおよび液体クロマトグラフィーにより、この固体の組成を分析したところ、どちらの分析手段によっても３−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸の純度は９９．９％であった（０．５６１ｍｏｌ）（単離収率６０．０％）。
【００８１】
［実施例２］４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸の合成
撹拌器、還流管、温度計を備え、試薬を逐次で添加することのできる定量ポンプに接続したステンレス製の反応器（５０リットル）に酢酸カリウム４．７１ｋｇ（４８．１ｍｏｌ）、無水酢酸６．１４ｋｇ（６０．１ｍｏｌ）および工業用キシレン５．８１ｋｇを投入し、撹拌しながら加熱した。混合物の内部温度が１２０℃となったら、４−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒド（純度９９．９％）６．５３ｋｇ（３７．５ｍｏｌ）を定量ポンプを用いて３０分かけて導入した（その間、反応液の内温は１２０〜１４０℃に維持した）。その後、反応液の内温１３０〜１４０℃にて５時間、撹拌を継続し、反応を終了した。
【００８２】
反応終了後、キシレンを５．８９ｋｇ追加し、続いて水１０．４ｋｇを逐次的に添加した。水の滴下完了後、液温を１００〜１３５℃に保ち２時間撹拌を継続した。室温まで放冷したところ次第に固体が析出し、スラリーが形成された。次いで、この混合物に３５％塩酸水溶液を５．０ｋｇ加え、室温で１時間、撹拌を続けた。
【００８３】
この混合物をろ過して固体を捕集した。この固体を８ｋｇの工業用キシレン中に投入し、室温下１時間、撹拌を行った。
【００８４】
次いでこのキシレンとの２相混合物をろ過して、固体を捕集し、１ｋｇのキシレンを少量ずつかけながら洗浄した。得られた固体を２０リットルの温水（８０℃）を加えて、１時間撹拌した後、ろ過し、固体を捕集した。
【００８５】
捕集された固体を６０℃、１３００Ｐａにて、２０時間、真空乾燥したところ、白色粉末５．３０ｋｇを得た。ガスクロマトグラフィーおよび液体クロマトグラフィーにより、この固体の組成を分析したところ、どちらの分析手段によっても４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸の純度は９９．９％であった（２４．４ｍｏｌ）（単離収率６５．０％）。
【００８６】
［実施例３］３−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造
第１工程は３−（トリフルオロメチル）ベンズアルデヒドを原料とした他は、実施例１と規模、操作、条件とも同様に行い、３−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を得た。以下、第２工程、第３工程につき記載する。
【００８７】
攪拌機、還流塔、温度計を備えたガラス製の４ツ口フラスコ(500ml)に酢酸エチル180g、第１工程で得た３−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸８５ｇ (0.3932mol)（1.0eq）、塩化チオニル５３ｇ (0.4232mol) （1.08eq）を添加し、撹拌しながら加熱した。内温（反応器内部の反応液の温度）を60〜70℃に保ち、５時間加熱撹拌を継続した後、反応を終了した。
【００８８】
得られた、３−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドを含む反応混合物の全量をフラスコに仕込み 減圧蒸留を行い、低沸点成分および溶媒を一部(合計72g)除去させた。次に残渣（液体）の全量(0.3932mol：1.0eqとする)を、攪拌機、環流塔、温度計を備えたガラス製の４ツ口フラスコ(500ml)に添加し、撹拌しながら10℃まで冷却した。反応液温度を６０℃以下（１０〜６０℃）に保つように、アンモニアガス２０ｇ(1.17647mol)（3eq）を、徐々に、攪拌しながら添加した。
【００８９】
アンモニアガス添加後、１時間撹拌し、内容液の一部を採取、分析し、原料の３−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドが十分に減少した事を確認後、反応を終了した。
【００９０】
本実施例の目的化合物３−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドは、実施例４の４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドに比較して溶媒への溶解性が高く、反応混合物を０〜５℃に冷却するだけでは析出し難かった。このため、以下のような後処理を行った。
【００９１】
すなわち、反応終了後、水４００ｇを添加し、２５℃で３０分撹拌した後、同温度で３０分静置し、２相分離を行った（水相を廃棄）。次に、得られた有機層から、エバポレーターを用いて溶媒を留去した。残渣（固体）にヘキサン２００ｇ、イソプロパノール４０ｇを添加し６０℃にて溶解後、氷水浴で０〜５℃に冷却したところ、結晶が得られた。この結晶を濾過により捕集した。
【００９２】
得られた結晶をろうと上で吸引操作を行いながら、温水（６０℃）３００ｇで洗浄し、続いて５℃に冷却したヘキサン／ イソプロパノール＝５：１の混合溶媒８０gで洗浄し、固体を捕集した。
【００９３】
捕集された固体を６０℃、１３００Ｐａにて２０時間真空乾燥させたところ、白色粉末４２ｇが得られた。この粉末を、ガスクロマトグラフィー及び液体クロマトグラフィーにより分析したところ、どちらの分析手段によっても３−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの純度は９９．９%であった。第２工程および第３工程を通じての単離収率は４９．７％であった。
【００９４】
［実施例４］４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造
攪拌機、還流塔、温度計を備えたガラス製の４ツ口フラスコ(500ml)に酢酸エチル１８０ｇ、４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸８５ｇ (0.3932mol) （1.0eq）、塩化チオニル ５３ｇ (0.4232mol) （1.08eq）を添加し、撹拌しながら加熱した。内温（反応器内部の反応液の温度）を６０〜７０℃に保ち、５時間加熱撹拌を継続し反応を終了した。
【００９５】
得られた反応混合物の全量をフラスコに仕込み 減圧蒸留を行い、低沸点成分および溶媒を一部(合計７２ｇ)除去させた。次に残渣液体の全量(0.3932mol：1. 0eqとする)を、攪拌機、還流塔、温度計を備えたガラス製の４ツ口フラスコ(500ml)に添加し、撹拌しながら10℃まで冷却した。この状態で、アンモニアガス２０ｇ(1.17647mol)（3eq）を、徐々に、攪拌しながら添加した。アンモニアガスの添加とともに発熱があり、内部温度は最高６０℃まで上昇した。アンモニアガスの添加速度を調節することで、内部温度が６０℃を超えないようにした。
【００９６】
アンモニアガスの添加完了後、さらに１時間撹拌し、内容液の一部を採取、分析し、原料の４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドが十分に減少した事を確認して、反応を終了した。
【００９７】
反応終了後、水４００ｇを添加し、室温で１時間撹拌後５℃まで冷却後、濾過を行い結晶を得た。得られた結晶をろうと上で吸引操作を行いながら、温水（６０℃）３００ｇで洗浄し、続いて５℃に冷却した酢酸エチル８０ｇで洗浄し、固体を捕集した。
【００９８】
捕集された固体を６０℃、１３００Ｐａにて２０時間真空乾燥させたところ、白色粉末７４ｇを得た。この粉末を、ガスクロマトグラフィー及び液体クロマトグラフィーにより分析したところ、どちらの分析手段によっても４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの純度は９９．９%であった（第２工程、第３工程を通じての単離収率＝８７．４％）。結果を表１に示す。
【００９９】
［実施例５］４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造
実施例５では、実施例４よりも大きな規模で製造を行った。４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を原料とし、第３工程の直前において減圧脱気操作や窒素ガス流通を実施しない他は実施例４と操作、条件とも同様に行い、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドを得た。第２工程、第３工程を通じた単離収率は６０．９％であった。結晶は淡黄色であった。結果を表１に示す。
【０１００】
［実施例６］４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造
実施例６も、大きな規模で製造を行った。４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を原料とし、第３工程の直前の減圧脱気操作における溶媒留去の程度も、スケールを大きくした他は、実施例４と操作、条件とも同様に行い、（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドを得た。第２工程、第３工程を通じての収率は８９．６％であり、白色粉末が得られた。
【０１０１】
［実施例７］４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造
実施例７も、大きな規模で製造を行った。４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸を原料とし、第３工程の直前での精製操作としては、乾燥した窒素ガスを流通（バブリング）する方法をとった。
【０１０２】
攪拌機、還流塔、温度計を備えたガラス製の反応器(500L)に酢酸エチル120kg、４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸57kg (0.264kmol) 1.0eq、塩化チオニル(95%純度) 35kg (0.280kmol) 1.06eqを添加し、撹拌しながら加熱した。内温（反応器内部の反応液の温度）を60〜70℃に保ち８時間加熱撹拌を継続し反応を終了した。
【０１０３】
得られた反応混合物を加熱（70〜90℃）攪拌しながら窒素を10L/minで液中へ導入させた。２６時間窒素の導入後、撹拌しながら10℃まで冷却した。反応液温度を60℃以下（１０〜６０℃）に保つように、アンモニアガス13.5kg(0.792kmol)3eqを、徐々に、攪拌しながら添加した。アンモニアガス添加後、1時間撹拌し、内容液の一部を採取、分析し、原料の４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸クロリドが十分に減少した事を確認後、反応を終了した。
【０１０４】
反応終了後、攪拌機、環流塔、温度計を備えたポリ（テトラフルオロエチレン）樹脂製の反応器(1000L)へ反応液を移送した後、水140kgを添加し、撹拌後５℃まで冷却後、遠心分離によって濾過を行い結晶を得た。
【０１０５】
得られた結晶を遠心分離上で、温水（６０℃）120kgで洗浄し、続いて5℃に冷却した酢酸エチル18kgで洗浄し、固体を捕集した。捕集された固体を1000Lのステンレス製振動乾燥機で50℃、２６７０Ｐａにて20時間真空乾燥させたところ、白色粉末49.5kgを得た。この粉末を、ガスクロマトグラフィー及び液体クロマトグラフィーにより分析したところ、どちらの分析手段によっても４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの純度は99.9%であった（単離収率８７．６％）。結果を表１に示す。
【０１０６】
【表１】
2005015471.tif 000007
【０１０７】
このように４−（トリフルオロメチル）ケイ皮酸アミドの製造について、第２工程と第３工程の間に、減圧脱気操作もしくは、窒素流通を行った場合（実施例４，６，７）、収率に顕著な向上が認められ、かつ白色の良好な結晶が製造できることがわかる。