(57)【要約】【課題】  基板の交換時間を短縮してスループットの向上を図る。【解決手段】  軸方向に移動可能な移動テーブル３ｘ上に搭載され、被露光材としての基板Ｗを保持する基板ステージ２と、露光すべきパターンを有するマスクＭを移動テーブル３ｘが所定位置に停止したときに基板Ｗに対向するように保持するマスクステージ５と、マスクＭのパターンを基板Ｗに露光転写すべく露光用の光をマスクＭに向けて照射する照射手段６と備えた近接露光装置において、移動テーブル３ｘの軸方向の移動ストロークを基板Ｗの前記軸方向の寸法より長く、且つ該基板ＷがマスクＭから完全に外れる長さとし、基板ＷがマスクＭから完全に外れた位置で基板ステージ２に対して基板Ｗの搬入、搬出を行う基板交換装置１０を備える。【選択図】      図１
2005352069.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
軸方向に移動可能な移動テーブル上に搭載され、被露光材としての基板を保持する基板ステージと、前記移動テーブルを軸方向に駆動する駆動手段と、該駆動手段を制御する制御手段と、露光すべきパターンを有するマスクを前記基板に対向するように保持するマスクステージと、前記マスクのパターンを前記基板に露光転写すべく露光用の光を前記マスクに向けて照射する照射手段と備えた露光装置において、
前記移動テーブルの軸方向の移動ストロークを前記基板の前記軸方向の寸法より長く、且つ該基板が前記マスクから完全に外れる長さとし、前記基板が前記マスクから完全に外れた位置で前記基板ステージに対して前記基板の搬入、搬出を行う基板交換装置を備えたことを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記移動テーブルの軸方向の位置を検出する第１のセンサと、該移動テーブルの軸方向の位置を前記第１のセンサより低い分解能で検出する第２のセンサとを備え、前記制御手段は、前記第１のセンサ及び前記第２のセンサからの信号を選択すると共に、該選択信号に基づいて前記駆動手段を制御することを特徴とする請求項１に記載した露光装置。
【請求項３】
前記第１のセンサ及び前記第２のセンサの内の少なくとも一方のセンサがリニアスケールであることを特徴とする請求項２に記載した露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイ等の製造工程で用いられ、基板上にマスクのパターンを露光転写するのに好適な露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶ディスプレイ等の製造工程において、ガラス等の基板にカラーフィルタや電極の回路等のパターンを露光転写する工程がある。
露光方式の一例としての近接露光は、被露光材としての基板を近接露光装置の基板ステージ上に保持すると共に、該基板をマスクステージのマスク保持枠に保持されたマスクに接近させて両者のすき間を例えば数１０μｍ〜数１００μｍにし、次いで、マスクの基板から離間する側から照射装置によって露光用の光をマスクに向けて照射することにより該基板上に該マスクに描かれたパターンを露光転写するようにしたものである。なお、他にも投影露光等の方式がある。
【０００３】
ところで、近接露光には、マスクを基板と同じ大きさにして一括で露光する方式があるが、このような方式では、大型基板上にマスクのパターンを露光転写する場合にマスクが大型化し、マスクの撓みによるパターン精度への影響やコスト面等で問題が生じる。
このような事情から、従来においては、大型基板上にマスクのパターンを露光転写する場合には、基板より小さいマスクを用い、基板ステージを搭載した移動テーブルをマスクに対して例えばＸ軸方向にステップ移動させて各ステップ毎にマスクを基板テーブル上の基板に近接配置した状態でパターン露光光を照射し、これにより、マスクに描かれた複数のパターンを基板上に露光転写する、所謂ステップ式の近接露光方式が用いられる場合がある。その他、スキャン方式を組み合わせる等して、大型の基板の露光を行う方式もある。
【０００４】
なお、露光終了後は、基板交換装置によって基板ステージから露光後の基板を搬出すると共に、該基板ステージに新たな基板を搬入した後、次の露光を行う。基板の搬入、搬出に用いる基板交換装置としては、例えば直動式のアーム伸縮軸を有するものや、多関節アームによる伸縮軸を有するものが開示されている（例えば特許文献１参照）
【特許文献１】特開２００３−１３６４４２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記従来の露光装置においては、基板ステージの軸方向の移動ストロークは、基板の前記軸方向のサイズより小さく、且つフットプリントの関係でできるだけ短い長さとされているため、基板が大型化すると、基板交換装置の伸縮軸の伸縮量が長くなって基板の搬入、搬出に時間がかかり、装置全体のスループットが低下する問題がある。
特に、多関節アームによる伸縮軸を有する基板交換装置では、伸縮軸の方向に関して高速度を得ることができる区間が限られるため、アームの伸縮動作が遅く、基板の搬入、搬出に時間がかかってしまう。
他の方式の場合も、構造上、基板交換装置は、基板の搬送スピードを上げるのには限界がある。
本発明はこのような不都合を解消するためになされたものであり、基板の交換時間を短縮してスループットの向上を図ることができる露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、請求項１に係る発明は、軸方向に移動可能な移動テーブル上に搭載され、被露光材としての基板を保持する基板ステージと、前記移動テーブルを軸方向に駆動する駆動手段と、該駆動手段を制御する制御手段と、露光すべきパターンを有するマスクを前記基板に対向するように保持するマスクステージと、前記マスクのパターンを前記基板に露光転写すべく露光用の光を前記マスクに向けて照射する照射手段と備えた露光装置において、
前記移動テーブルの軸方向の移動ストロークを前記基板の前記軸方向の寸法より長く、且つ該基板が前記マスクから完全に外れる長さとし、前記基板が前記マスクから完全に外れた位置で前記基板ステージに対して前記基板の搬入、搬出を行う基板交換装置を備えたことを特徴とする。
【０００７】
請求項２に係る発明は、請求項１において、前記移動テーブルの軸方向の位置を検出する第１のセンサと、該移動テーブルの軸方向の位置を前記第１のセンサより低い分解能で検出する第２のセンサとを備え、前記制御手段は、前記第１のセンサ及び前記第２のセンサからの信号を選択すると共に、該選択信号に基づいて前記駆動手段を制御することを特徴とする。
請求項３に係る発明は、請求項２において、前記第１のセンサ及び前記第２のセンサの内の少なくとも一方のセンサがリニアスケールであることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、移動テーブルの軸方向の移動ストロークを基板の前記軸方向の寸法より長く、且つ該基板がマスクから完全に外れる長さとし、基板がマスクから完全に外れた位置で、基板交換装置によって基板ステージから露光後の基板を搬出すると共に、該基板ステージに新たな基板を搬入することにより、基板交換装置による搬入、搬出動作時の基板移動距離を短縮し、その分を移動速度の速い移動テーブルの移動動作に代えることができ、これにより、基板の搬入、搬出にかかる時間が短縮されて、装置全体のスループットの向上を図ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
以下、本発明の実施の形態の一例を図を参照して説明する。図１は本発明の実施の形態の一例である近接露光装置を説明するための平面図、図２は図１の矢印Ａ方向から見た図、図３はリニアモータ部の拡大断面図である。
本発明の実施の形態の一例である近接露光装置は、図１及び図２に示すように、ベース７上にＸ軸方向に移動可能に設けられたＸ軸移動テーブル３ｘと、Ｘ軸移動テーブル３ｘ上にＹ軸方向に移動可能に設けられたＹ軸移動テーブル３ｙと、Ｙ軸移動テーブル３ｙに搭載され、被露光材としての基板Ｗを保持するワークチャック１を上面に有する基板ステージ２と、基板Ｗより小さいマスクＭを該基板Ｗに対向させた状態でマスク保持枠４を介して保持するマスクステージ５と、マスクＭのパターンを基板Ｗに露光転写すべく露光用の光をマスクＭに向けて照射する照射装置６と、ベース７のＸ軸方向の端部に配置され、基板ステージ２に対して基板Ｗの搬入、搬出を行う基板交換装置１０とを備える。
【００１０】
マスクステージ５には、マスクＭの位置及び姿勢を微調整可能な微動機構が設けられると共に、マスクＭと基板Ｗとの位置ずれ量、或いはマスクＭと基板ステージ２との位置ずれ量を求めるのに用いられる例えばＣＣＤカメラ等の撮像装置が設けられている。そして、撮像装置による撮像結果に基づき、前記微動機構によるマスクＭの位置合わせ（所謂アライメント）が行われる。
Ｘ軸移動テーブル３ｘは、裏面にリニアガイド装置のスライダ２４が取り付けられ、該スライダ２４はベース７上にＸ軸方向に沿って平行に設置された案内レール８に転動体（図示せず）を介して跨架されている。これにより、Ｘ軸移動テーブル３ｘが、案内レール８にＸ軸方向に沿って移動可能に支持されている。
【００１１】
また、この実施の形態では、Ｘ軸移動テーブル３ｘをＸ軸方向に駆動（ステップ移動含む）する駆動手段として、リニアモータ１４を採用している。
このリニアモータ１４は、図３に示すように、ベース７の略中央部にＸ軸方向に沿って形成された溝１５の両側壁のそれぞれに表面の極性がＮ極、Ｓ極…と交互に変わるようにＸ軸方向に沿って並べて取り付けられた複数の永久磁石１６と、Ｘ軸移動テーブル３ｘの裏面にＸ軸方向に沿って設けられた凸条１８の両側面に取り付けられた電機子１７とを備えており、制御装置２０によって電機子１７へ流す電流を適宜制御することにより、Ｘ軸移動テーブル３ｘにＸ軸方向の推力を与え、Ｘ軸方向の位置決めを行うものである。
【００１２】
なお、リニアモータ１４としては、上記の構成に限られず、例えば、溝１５に電機子を、凸条１８に永久磁石を設けるようにしてもよいし、いずれか一方を溝１５上面に、他方を凸条１８の下面に設けてもよい。後者の場合、溝１５又は凸条１８を省いてもよい。
また、Ｘ軸移動テーブル３ｘの駆動手段としては、リニアモータ１４の他に、例えば、ボールねじ装置と該ボールねじ装置のねじ軸を回転駆動するモータとの組合せ、タイミングベルトと駆動用モータとの組合せや、シリンダ装置等を用いることができる。
【００１３】
更に、ベース７上のＹ軸方向の両側には、Ｘ軸移動テーブル３ｘのＸ軸方向の位置を検出する２本のリニアスケール３０，４０を構成する被検出体がＸ軸方向に沿って設けられている。また、図示は省略するが、リニアスケール３０，４０を構成し、Ｘ軸移動テーブル３ｘの位置情報を読み取るセンサ本体は、対応する被検出体に対向してそれぞれＸ軸移動テーブル３ｘの下面に設けられている。
【００１４】
２本のリニアスケール３０，４０の内の一方のリニアスケール（第１のセンサ）３０は、他方のリニアスケール（第２のセンサ）４０より短くされて、主に露光領域で高精度なＸ軸移動テーブル３ｘの位置決めが要求される領域に配置されており、他方のリニアスケール４０は、Ｘ軸移動テーブル３ｘのＸ軸方向の位置を前記リニアスケール３０より低い分解能で検出するもので、ベース７のＸ軸方向の略全長に渡って配置されている。
【００１５】
これらのリニアスケール３０，４０の信号は制御装置２０に出力され、制御装置２０は、Ｘ軸移動テーブル３ｘの高精度の位置決め領域ではリニアスケール３０からの信号を選択して該Ｘ軸移動テーブル３ｘを高精度で位置決めするようにリニアモータ１４を制御し、その他の領域ではリニアスケール３０より分解能の低いリニアスケール４０からの信号を選択してＸ軸移動テーブル３ｘの速度を速くするようにリニアモータ１４を制御する。なお、図１において符号２１はリニアモータの動力線、２２はリニアスケール３０の信号線、２３はリニアスケール４０の信号線である。
【００１６】
このように、Ｘ軸移動テーブル３ｘの軸方向の位置を検出するリニアスケール（第１のセンサ）３０と、該Ｘ軸移動テーブル３ｘの軸方向の位置をリニアスケール３０より低い分解能で検出するリニアスケール（第２のセンサ）４０とを備え、制御装置（制御手段）２０が、リニアスケール３０及びリニアスケール４０からの信号を選択すると共に、該選択信号に基づいてＸ軸移動テーブル３ｘの駆動手段を制御することで、Ｘ軸移動テーブル３ｘの高精度の位置決め領域ではリニアスケール３０からの信号を選択して該Ｘ軸移動テーブル３ｘの速度を遅くし、その他の領域ではリニアスケール３０より分解能の低いリニアスケール４０からの信号を選択してＸ軸移動テーブル３ｘの速度を速くすることができるので、基板交換位置までのＸ軸移動テーブル３ｘの速度をより高速化することができる。
【００１７】
Ｙ軸移動テーブル３ｙは、裏面にリニアガイド装置のスライダ２４が取り付けられており、該スライダ２４はＸ軸移動テーブル３ｘ上にＹ軸方向に沿って平行に設置された案内レール８に転動体（図示せず）を介して跨架されている。これにより、Ｙ軸移動テーブル３ｙが、Ｘ軸移動テーブル３ｘ上の案内レール８にＹ軸方向に沿って移動可能に支持されている。
【００１８】
また、Ｙ軸移動テーブル３ｙと基板ステージ２との間には、基板ステージ２の単純な上下動作を行うことにより該基板ステージ２を予め設定した位置までマスクＭと基板Ｗとのすき間の計測を行うことなく昇降させる上下粗動装置（図示せず）と、基板ステージ２を上下に微動させてマスクＭと基板Ｗとの対向面間のすき間を所定量に微調整する上下微動装置（図示せず）が設置されている。
【００１９】
Ｙ軸移動テーブル３ｙは、ステップ送り専用のＹ軸駆動制御手段（例えば、ボールねじ装置、該ボールねじ装置のねじ軸を回転駆動するモータ及び該モータを制御する制御装置の組合せや、リニアモータと該リニアモータを制御する制御装置の組合せ等）によってＹ軸方向にステップ移動できるようになっており、これと前記Ｘ軸方向の駆動手段とにより、基板ステージ２上の基板ＷのＸ軸及びＹ軸の２軸のステップ露光を可能にしている。なお、Ｙ軸移動テーブル３ｙのＹ軸方向の位置決め制御のために、リニアスケール３０と同じ分解能のものを使用しており、Ｘ軸移動テーブル３ｘ上のＹ軸方向に沿って被検出体が設けられ、Ｙ軸移動テーブル３ｙの下面にはセンサ本体が設けられている（図示省略）。
【００２０】
ここで、この実施の形態では、Ｘ軸移動テーブル３ｘのＸ軸方向の移動ストロークを基板Ｗの前記Ｘ軸方向の寸法より長く、且つ該基板ＷがマスクＭから完全に外れる長さとし、基板ＷがマスクＭから完全に外れた位置で基板交換装置１０によって基板ステージ２に対して基板Ｗの搬入、搬出を行う。
基板交換装置１０はベース７のＸ軸方向の端部に設置されており、Ｙ軸方向に互いに離間配置された２つのハンド部５０Ｌ，５０Ｒを備えている。ハンド部５０Ｌ，５０Ｒは上面に基板Ｗを吸着保持する把持部を有している。一方、基板ステージ２は、基板Ｗの搬入、搬出時にはワークチャック１のチャック面からピン１ａが突出した状態となるようにしている。そして、ハンド部５０Ｌ，５０Ｒはその先端部が基板ステージ２の複数のピン１ａ間（図２参照）に挿入可能になっている。
【００２１】
ハンド部５０Ｌ，５０Ｒの基板載置面、及びピン１ａの先端にはそれぞれ真空吸着孔が設けられ、基板Ｗを吸着保持可能になっている。それぞれは図示しない吸引ポンプを含む空圧制御機構に接続され、基板Ｗの受け渡しに際し、吸着／解除の制御が可能である。
また、ハンド部５０Ｌ，５０Ｒは独立してＺ軸方向に昇降駆動されると共に、Ｚ軸回りに旋回駆動され、更に、Ｙ軸方向にリニアガイド装置等（例えばモータとボールねじとの組合せ、或いはリニアモータ等の駆動装置を含む）を介して一体移動できるようになっている。
【００２２】
次に、図１を参照して、本実施形態の近接露光装置の作動を説明する。
なお、ここでは、ハンド部５０Ｌを搬出用、ハンド部５０Ｒを搬入用とする。また、基板を搬入、搬出する際には、Ｘ軸移動テーブル３ｘを図１の二点鎖線で示す基板交換位置に位置決めする。
図１は基板交換装置１０の搬出用ハンド部５０Ｌが待機している状態を示しており、各ハンド部５０Ｌ，５０Ｒは先端部がＸ軸方向を向いて左側のハンド部５０Ｌがベース７のＸ軸方向の端部中央の上方に配置され、右側のハンド部５０Ｒに図示しないプリアライメント装置によりプリアライメントされた新たな基板Ｗがプリアライメント装置から受け渡され、保持されている。このとき、Ｚ軸方向に関しては、ハンド部５０Ｌが下降位置、ハンド部５０Ｒが上昇位置にある。
【００２３】
そして、露光位置での基板Ｗのステップ露光が終了すると、ワークチャック１による基板Ｗの吸着を解除し、代わってピン１ａの先端部で基板Ｗを吸着させた状態でピン１ａを突出させる。この状態でＸ軸移動テーブル３ｘがベース７のＸ軸方向の基板交換装置１０側の端部（図１の二点鎖線で示す基板交換位置）に移動してハンド部５０Ｌが基板ステージ２のワークチャック１のピン１ａ間に挿入され、ハンド部５０Ｌの上方に露光後の基板Ｗが配置される。
【００２４】
このとき、制御装置２０は、リニアスケール３０より分解能の低いリニアスケール４０からの信号を選択してＸ軸移動テーブル３ｘの速度を速くするようにリニアモータ１４を制御するため、Ｘ軸移動テーブル３ｘは高速で基板Ｗの搬入、搬出位置に移動する。
ここで、高速移動可能な基板ステージ２の移動距離を大きくし、ハンド部５０Ｌ，５０ＲのＸ軸方向の移動を不要にしている。
【００２５】
次に、ハンド部５０ＬをＺ軸方向に上昇させてピン１ａに保持された露光後の基板Ｗのハンド部５０Ｌへの受け渡しを行うと共に、ハンド部５０Ｌ，５０Ｒを一体にＹ軸方向の左方に移動させて新たな基板Ｗを保持したハンド部５０Ｒを基板ステージ２のワークチャック１の上方に配置し、この状態でハンド部５０ＲをＺ軸方向に下降させ、ハンド部５０Ｒから基板ステージ２のピン１ａへの基板Ｗの受け渡しを行う。
【００２６】
複数のピン１ａに新たな基板Ｗが保持されると、Ｘ軸移動テーブル３ｘはマスクＭ下方の露光位置までＸ軸方向に沿って移動して基板Ｗの最初の露光エリアをマスクＭに対向配置させ、基板Ｗをワークチャック１により吸着保持させて新たなステップ露光が行われる。なお、この場合も、制御装置２０は、リニアスケール３０より分解能の低いリニアスケール４０からの信号を選択してＸ軸移動テーブル３ｘの速度を速くするようにリニアモータ１４を制御するため、Ｘ軸移動テーブル３ｘは高速で露光位置に移動する。
一方、基板交換装置１０は、各ハンド部５０Ｌ，５０Ｒの旋回、Ｙ軸方向移動、Ｚ軸方向移動を適宜用いて、露光済の基板Ｗの搬出、新たな基板Ｗのハンド部５０Ｒへの受け渡しを行う。
【００２７】
ステップ露光は次の手順で行われる。
まず、基板ステージ２を上昇させてマスクＭに接近させ、マスクＭの基板Ｗ又は基板ステージ２に対する位置ずれ量を撮像装置により求め、マスクＭの微小位置決め（アライメント）を行い、該微小位置決め完了後、露光を行う。最初の露光エリアでの露光が完了したら、基板ステージ２を下降させ、次の露光領域へＸ軸移動テーブル３ｘ又はＹ軸移動テーブル３ｙを駆動手段により駆動することにより、基板ステージ２のステップ送りを行う。以下、マスクＭのアライメント、露光、次の露光領域への基板ステージ２のステップ送りを繰り返す。
【００２８】
ステップ送りでＸ軸移動テーブル３ｘをＸ軸方向に移動させる際には、制御装置２０は、位置決め制御用のリニアスケールとして高分解能のリニアスケール３０を選択して使用する。これにより、高精度な基板ステージ２の位置決めが可能で、マスクＭの位置ずれ補正量を小さく抑えることができ、マスクＭのアライメントに要する時間を短縮できる。
全ての領域の露光を終了したら、上記のように露光済の基板Ｗの搬出、新たな基板Ｗの搬入を行う。使用するリニアスケール４０の分解能としては、Ｘ軸移動テーブル３ｘを高速で移動させ、最初の露光領域へ移動させた際に、基板Ｗ又は基板ステージ２上の基準マークがマスクステージ５上の撮像装置の視野範囲内に納めることができればよい。
【００２９】
例えば数μ〜数十ミクロン程度の分解能のものをリニアスケール４０として用いることで、容易に１ｍ／ｓ程度の送り速度が得られ、且つ後のアライメント工程に支障をきたさずに済む。一方、リニアスケール３０としては、例えば０．１ミクロンの分解能のものを用い、高精度のステップ送りを行う。これらの条件は制御装置等の性能に合わせて適宜定めればよい。
【００３０】
このようにこの実施の形態では、Ｘ軸移動テーブル３ｘのＸ軸方向の移動ストロークを基板Ｗの前記Ｘ軸方向の寸法より長く、且つ該基板ＷがマスクＭから完全に外れる長さとし、基板ＷがマスクＭから完全に外れた位置で、基板交換装置１０によって基板ステージ２から露光後の基板Ｗを搬出すると共に、該基板ステージ２に新たな基板Ｗを搬入するようにしているので、従来の基板交換装置の速度の遅い伸縮軸の伸縮動作を移動速度の速いＸ軸移動テーブル３ｘの移動動作に代えることができ、これにより、基板Ｗの搬入、搬出にかかる時間が短縮されて、装置全体のスループットの向上を図ることができる。
【００３１】
また、Ｘ軸移動テーブル３ｘのＸ軸方向の位置を検出するリニアスケール３０と、該Ｘ軸移動テーブル３ｘのＸ軸方向の位置をリニアスケール３０より低い分解能で検出するリニアスケール４０とを備え、制御装置２０が、リニアスケール３０及びリニアスケール４０からの信号を選択すると共に、該選択信号に基づいてリニアモータ１４を制御することで、Ｘ軸移動テーブル３ｘの高精度の位置決め領域ではリニアスケール３０からの信号を選択して該Ｘ軸移動テーブル３ｘの高精度なステップ送りを可能とし、その他の領域ではリニアスケール３０より分解能の低いリニアスケール４０からの信号を選択してＸ軸移動テーブル３ｘの速度を速くしているので、基板交換位置までのＸ軸移動テーブル３ｘの速度をより高速化することができ、これにより、基板Ｗの搬入、搬出にかかる時間の更なる短縮化を図ることができる。
【００３２】
なお、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において適宜変更可能である。
例えば、上記実施の形態では、Ｘ軸移動テーブル３ｘのＸ軸方向の位置を検出する第１のセンサ及び第２のセンサ共にリニアスケールを採用した場合を例に採ったが、これに限定されず、Ｘ軸移動テーブル３ｘの駆動手段としてボールねじ装置と回転モータとの組合せを採用した場合には、第１のセンサ及び第２のセンサの内のいずれかを回転モータの回転速度を検出するレゾルバやロータリーエンコーダ等として、該検出信号からＸ軸移動テーブル３ｘの位置を検出するようにしてもよい。
【００３３】
また、本発明では、基板交換装置による基板の搬送距離を最小限にすることが可能なので、基板交換装置を多関節アーム式としてもスループット低下の割合は小さくて済む。従って、基板交換装置として多関節アーム式を用いてもよい。
更に、上記実施の形態では、２軸（Ｘ軸、Ｙ軸）のステップ露光を例に採ったが、１軸（Ｘ軸）ステップ露光等にも本発明を適用可能である。
更に、上記実施の形態では、近接露光方式の露光装置を例に採ったが、これに限定されず、投影露光等の他の方式の露光装置に本発明を適用してもよい。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の実施の形態の一例である近接露光装置を説明するための平面図である。
【図２】図１の矢印Ａ方向から見た図である。
【図３】リニアモータ部の拡大断面図である。
【符号の説明】
【００３５】
Ｗ  基板
Ｍ  マスク
２  基板ステージ
３ｘ  Ｘ軸移動テーブル
４  マスク保持枠
５  マスクステージ
６  照射装置（照射手段）
１０  基板交換装置
１４  リニアモータ（駆動手段）
２０  制御装置（制御手段）
３０  リニアスケール（第１のセンサ）
４０  リニアスケール（第２のセンサ）
【図１】
2005352069.tif 000003
【図２】
2005352069.tif 000004
【図３】
2005352069.tif 000005