(57)【要約】【課題】洗浄ブラシによって基板表面が傷つくのを防止するとともに、基板洗浄効果を上げることができる基板洗浄装置を提供する。【解決手段】基板洗浄装置１は、基板Ｋを水平若しくは傾斜させた状態で支持して、所定の方向に搬送する搬送ローラ１３と、軸中心に回転自在に設けられるとともに、軸が基板Ｋと平行な平面内で基板搬送方向と直交する方向に沿って配設され、基板Ｋの上面又は下面にその全幅に渡って当接する円柱状の洗浄ブラシ１４と、洗浄ブラシ１４をその軸中心に回転させる駆動装置と、基板Ｋの上方又は下方に配設され、洗浄液を洗浄ブラシ１４と基板Ｋとの当接部に向けて吐出する第１ノズル１５と、第１ノズル１５に洗浄液を供給する洗浄液供給装置とを備える。【選択図】図１
2005138053.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を水平若しくは傾斜させた状態で支持して、水平方向に搬送する搬送手段と、
軸中心に回転自在に設けられるとともに、該軸が前記基板と平行な平面内で前記基板搬送方向と直交する方向に沿って配設され、前記基板上面又は下面にその全幅に渡って当接する円柱状の洗浄ブラシと、
前記洗浄ブラシをその軸中心に回転させる駆動手段と、
前記基板の上方又は下方に配設され、洗浄液を前記洗浄ブラシと基板との当接部に向けて吐出する第１吐出手段と、
前記第１吐出手段に前記洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを備えてなることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記洗浄ブラシ及び第１吐出手段の双方よりも前記基板搬送方向下流側で前記基板の上方又は下方に配設され、洗浄液を前記基板に向けて吐出する第２吐出手段を更に備えてなり、
前記洗浄液供給手段は、前記第２吐出手段にも前記洗浄液を供給するように構成されてなることを特徴とする請求項１記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
基板を水平若しくは傾斜させた状態で支持して、水平方向に搬送する搬送手段と、
軸中心に回転自在に設けられるとともに、該軸が前記基板と平行な平面内で前記基板搬送方向と直交する方向に沿って配設された回転軸、及び前記回転軸の外周面に植設された毛材からなり、前記基板上面又は下面にその全幅に渡って当接する円柱状の洗浄ブラシと、
前記回転軸をその軸中心に回転させる駆動手段と、
前記洗浄ブラシに洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを備えて構成される基板洗浄装置であって、
前記回転軸は、一方端側が開口し、他方端側が閉塞された中空状に形成されるとともに、内周面から外周面に開口する複数の貫通孔が全周に渡って形成されてなり、
前記洗浄液供給手段は、前記回転軸の中空部内に前記洗浄液を供給するように構成されてなることを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項４】
前記洗浄液供給手段は、
一方端側が開口し且つ他方端側が閉塞され、下外周面又は上外周面に開口する吐出口を有するとともに、前記洗浄ブラシの回転軸の中空部内に非回転状態で嵌挿される供給管を備え、該供給管の中空部内に前記洗浄液を供給して、前記吐出口を通じて前記回転軸の貫通孔から洗浄液を吐出させるように構成されてなることを特徴とする請求項３記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
前記洗浄ブラシの外周面と所定の間隔を隔てて配設され、該洗浄ブラシを囲むカバー体を、更に備えたことを特徴とする請求項３記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
前記洗浄ブラシよりも前記基板搬送方向下流側で前記基板の上方又は下方に配設され、洗浄液を前記基板に向けて吐出する吐出手段を備えてなり、
前記洗浄液供給手段は、前記吐出手段にも前記洗浄液を供給するように構成されてなることを特徴とする請求項３乃至５記載のいずれかの基板洗浄装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体（シリコン）ウエハ，液晶ガラス基板，フォトマスク用ガラス基板，光ディスク用基板などの各種基板を移動させつつ（搬送しつつ）、洗浄ブラシにより洗浄する基板洗浄装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、基板洗浄装置として、図８に示すような構造を備えたものが知られている。この基板洗浄装置１００は、同図８に示すように、閉塞空間を備えた処理チャンバ１０１と、処理チャンバ１０１内に配設され、基板Ｋの下面を水平に支持して当該基板Ｋを水平方向（矢示方向）に搬送する複数の搬送ローラ１０２と、基板Ｋの上側に配設された第１洗浄ブラシ１０３と、第１洗浄ブラシ１０３よりも基板搬送方向上流側で搬送ローラ１０２の上方に配設され、基板Ｋの上面及び第１洗浄ブラシ１０３に向けて洗浄液を吐出する第１ノズル１０４などから構成される（特開２００３−１４５０６０号公報参照）。
【０００３】
また、前記基板洗浄装置１００は、各搬送ローラ１０２の上方にこれらと対向して配設され、基板Ｋの上面に当接する押えローラ１０５と、基板Ｋの下側に配設された第２洗浄ブラシ１０６と、第２洗浄ブラシ１０６よりも基板搬送方向上流側で搬送ローラ１０２の下方に配設され、基板Ｋの下面及び第２洗浄ブラシ１０６に向けて洗浄液を吐出する第２ノズル１０７を備えている。
【０００４】
尚、前記第１洗浄ブラシ１０３及び第１ノズル１０４、並びに前記第２洗浄ブラシ１０６及び第２ノズル１０７は、基板搬送方向に沿ってそれぞれ２組ずつ設けられている。
【０００５】
前記処理チャンバ１０１には、搬入口１０１ａ及び搬出口１０１ｂがそれぞれ形成されており、基板Ｋは、搬送ローラ１０２により搬送されて搬入口１０１ａから処理チャンバ１０１内に搬入され、排出口１０１ｂから処理チャンバ１０１外に搬出される。
【０００６】
前記搬送ローラ１０２及び押えローラ１０５は、軸中心に回転自在に設けられるとともに、基板搬送方向に所定間隔で配置されており、搬送ローラ１０２は、適宜駆動装置（図示せず）によって矢示方向に回転せしめられ、押えローラ１０５は、搬送される基板Ｋの上面に当接してこれを保持するため、矢示方向に回転する。
【０００７】
前記第１洗浄ブラシ１０３及び第２洗浄ブラシ１０６は、円柱状に形成され、これらの軸中心に回転自在に設けられるとともに、当該軸が基板Ｋ表面と平行な平面内（水平面内）で基板搬送方向と直交する方向に沿って配設されており、基板Ｋの上面又は下面にその全幅に渡って当接する。
【０００８】
また、第１洗浄ブラシ１０３及び第２洗浄ブラシ１０６は、基板Ｋとの当接部における回転方向が基板搬送方向と逆方向となるように（即ち、矢示方向に）、適宜駆動装置によって軸中心に回転せしめられる。
【０００９】
前記第１ノズル１０４及び第２ノズル１０７は、洗浄液供給装置（図示せず）に接続した供給管（図示せず）にそれぞれ接続されており、供給管（図示せず）を介して洗浄液供給装置（図示せず）から供給された洗浄液を、基板Ｋの上面及び第１洗浄ブラシ１０３或いは基板Ｋの下面及び第２洗浄ブラシ１０６に向けて吐出する。
【００１０】
このように構成された基板洗浄装置１００によれば、搬送ローラ１０２により搬送されて搬入口１０１ａから処理チャンバ１０１内に搬入された基板Ｋは、同方向に搬送されつつ、第１ノズル１０４から基板Ｋの上面及び第１洗浄ブラシ１０３に向けて、第２ノズル１０７から基板Ｋの下面及び第２洗浄ブラシ１０６に向けて洗浄液が吐出された状態で、基板Ｋの上面及び下面が回転する第１洗浄ブラシ１０３及び第２洗浄ブラシ１０６によってそれぞれ洗浄され、この後、搬出口１０１ｂから処理チャンバ１０１外に搬出される。
【００１１】
尚、洗浄ブラシ１０３，１０６を、基板Ｋとの当接部における回転方向が基板搬送方向と逆方向になるように回転させているので、当該洗浄により不純物を含むようになった洗浄液は、基板Ｋの未洗浄領域側に流動し、洗浄後の領域側には流動しないようになっている。
【００１２】
【特許文献１】特開２００３−１４５０６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
ところが、基板Ｋ表面上の洗浄液は、回転する洗浄ブラシ１０３によって基板搬送方向上流側に向けて流動せしめられるので、上記従来の基板洗浄装置１００のように、洗浄液を基板Ｋ表面上に吐出して滞留させ、基板Ｋとともに洗浄ブラシ１０３側に搬送することで、基板Ｋと洗浄ブラシ１０３との当接部に供給するようにしたのでは、洗浄液は前記当接部に達し難く、このため、当該当接部に十分な洗浄液を供給することができなかった。これにより、洗浄ブラシ１０３によって基板Ｋ表面が傷ついたり、十分な洗浄効果を得ることができないという問題を生じていた。
【００１４】
ところで、本願発明者らは、近年の研究において、エッチング液や洗浄液といった各種の処理流体を基板表面上に供給して基板処理を行う場合、基板を水平面から所定の角度だけ傾斜させると、当該基板処理を効率的に行うことができることを知見するに至った。
【００１５】
これは、基板を傾斜させることで、基板表面上に供給された処理流体に下方に流下する液流を強制的に生じさせ、かかる液流によって、基板表面上の処理流体が、継続的に供給される新たな処理流体と順次置換されることになるからである。
【００１６】
したがって、基板を傾斜させた状態で所定の方向に搬送しつつ各種の基板処理を行う一連の工程の中に、洗浄ブラシを用いた洗浄工程が含まれていると、傾斜した基板に対し、上記と同様にしてブラシ洗浄が行われるわけであるが、この場合、基板表面上に供給された洗浄液は、基板の傾斜によって下方に流下するので、基板が水平のときよりも更に当該当接部に洗浄液を十分に供給することができなくなり、上記のような問題がより顕著に現れることになる。
【００１７】
本発明は、以上の実情に鑑みなされたものであって、洗浄ブラシによって基板表面が傷つくのを防止することができるとともに、基板洗浄効果を上げることができる基板洗浄装置の提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
上記目的を達成するための本発明は、基板を水平若しくは傾斜させた状態で支持して、水平方向に搬送する搬送手段と、
軸中心に回転自在に設けられるとともに、該軸が前記基板と平行な平面内で前記基板搬送方向と直交する方向に沿って配設され、前記基板上面又は下面にその全幅に渡って当接する円柱状の洗浄ブラシと、
前記洗浄ブラシをその軸中心に回転させる駆動手段と、
前記基板の上方又は下方に配設され、洗浄液を前記洗浄ブラシと基板との当接部に向けて吐出する第１吐出手段と、
前記第１吐出手段に前記洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを備えてなることを特徴とする基板洗浄装置に係る。
【００１９】
この発明によれば、基板は、搬送手段により、水平若しくは傾斜した状態で支持されて水平方向に搬送され、洗浄ブラシの下側又は上側を通過する。これにより、基板は、その上面又は下面が洗浄ブラシにより洗浄され、当該基板の上面又は下面に付着した不純物が除去される。
【００２０】
このとき、洗浄ブラシは、駆動手段によって軸中心に回転せしめられ、また、基板の上方又は下方に配設された第１吐出手段に洗浄液供給手段から洗浄液が供給されて、当該第１吐出手段から洗浄ブラシと基板との当接部に向けて吐出されている。
【００２１】
前記第１吐出手段からの洗浄液は、前記当接部に向けて吐出されているため、当該当接部に達し易く、これにより、洗浄液が前記当接部に効率的に供給され、基板は、当該当接部に十分な洗浄液が供給された状態で洗浄ブラシによって洗浄されることになる。
【００２２】
尚、基板の上面側については、洗浄ブラシを、基板との当接部における回転方向が基板搬送方向と同方向となるように回転させるとともに、洗浄ブラシよりも基板搬送方向上流側から当接部に向けて洗浄液を吐出させたり、或いは、洗浄ブラシを、基板との当接部における回転方向が基板搬送方向と逆方向となるように回転させるとともに、洗浄ブラシよりも基板搬送方向下流側から当接部に向けて洗浄液を吐出させれば、回転する洗浄ブラシによって当該洗浄液が前記当接部に引き込まれ、洗浄液が効率的に供給される。
【００２３】
一方、洗浄ブラシを、基板との当接部における回転方向が基板搬送方向と逆方向となるように回転させるとともに、洗浄ブラシよりも基板搬送方向上流側から当接部に向けて洗浄液を吐出させたり、或いは、洗浄ブラシを、基板との当接部における回転方向が基板搬送方向と同方向となるように回転させるとともに、洗浄ブラシよりも基板搬送方向下流側から当接部に向けて洗浄液を吐出させれば、当接部に供給された洗浄液は、回転する洗浄ブラシによって当該当接部から基板搬送方向上流側又は下流側に向けて流動せしめられる（排出される）とともに、当接部に向けて吐出される新たな洗浄液によって、当該当接部側に向けても流動せしめられるため、その一部が、前記当接部と、吐出された洗浄液が基板に到達する部分との間に滞留し、かかる態様によっても、洗浄液が効率的に供給される。
【００２４】
また、前記基板洗浄装置は、前記洗浄ブラシ及び第１吐出手段の双方よりも前記基板搬送方向下流側で前記基板の上方又は下方に配設され、洗浄液を前記基板に向けて吐出する第２吐出手段を更に備えるとともに、前記洗浄液供給手段は、前記第２吐出手段にも前記洗浄液を供給するように構成されていても良い。
【００２５】
このようにすれば、洗浄ブラシによって基板の上面又は下面から離脱せしめられた不純物を含む洗浄液が、第２吐出手段から吐出される清浄な洗浄液によって、当該基板の上面又は下面から洗い流され、基板をより清浄にすることができる。
【００２６】
また、本発明は、基板を水平若しくは傾斜させた状態で支持して、水平方向に搬送する搬送手段と、
軸中心に回転自在に設けられるとともに、該軸が前記基板と平行な平面内で前記基板搬送方向と直交する方向に沿って配設された回転軸、及び前記回転軸の外周面に植設された毛材からなり、前記基板上面又は下面にその全幅に渡って当接する円柱状の洗浄ブラシと、
前記回転軸をその軸中心に回転させる駆動手段と、
前記洗浄ブラシに洗浄液を供給する洗浄液供給手段とを備えて構成される基板洗浄装置であって、
前記回転軸は、一方端側が開口し、他方端側が閉塞された中空状に形成されるとともに、内周面から外周面に開口する複数の貫通孔が全周に渡って形成されてなり、
前記洗浄液供給手段は、前記回転軸の中空部内に前記洗浄液を供給するように構成されてなることを特徴とする基板洗浄装置に係る。
【００２７】
この発明によれば、上記と同様に、基板は、搬送手段により、水平若しくは傾斜した状態で支持されて水平方向に搬送され、洗浄ブラシの下側又は上側を通過する。これにより、基板は、その上面又は下面が洗浄ブラシにより洗浄され、当該基板の上面又は下面に付着した不純物が除去される。
【００２８】
このとき、洗浄ブラシは、その回転軸が駆動手段によって軸中心に回転せしめられ、また、洗浄液供給手段から回転軸の中空部内に洗浄液が供給される。これにより、当該回転軸の貫通孔から洗浄液が吐出され、基板の上面又は下面側に位置する貫通孔から吐出された洗浄液が、基板との当接部に直接達することになる。
【００２９】
このように、この基板洗浄装置によれば、洗浄液が前記洗浄ブラシの内部側から前記当接部に供給されるので、当該当接部に達し易く、基板は、当接部に供給された十分な洗浄液によって清浄に洗浄される。
【００３０】
また、前記洗浄液供給手段は、一方端側が開口し且つ他方端側が閉塞され、下外周面又は上外周面に開口する吐出口を有するとともに、前記洗浄ブラシの回転軸の中空部内に非回転状態で嵌挿される供給管を備え、該供給管の中空部内に前記洗浄液を供給して、前記吐出口を通じて前記回転軸の貫通孔から洗浄液を吐出させるように構成されていても良い。
【００３１】
この場合、洗浄液は、供給管の中空部内に供給されて、当該供給管の吐出口を通じて前記回転軸の貫通孔から吐出され、基板上面又は下面の前記当接部に供給される。
【００３２】
また、前記洗浄ブラシの外周面と所定の間隔を隔てて配設され、該洗浄ブラシを囲むカバー体を設けても良い。
【００３３】
この場合、回転軸の中空部内に供給され、貫通孔から当該回転軸の周囲に吐出される洗浄液のうち、基板の上面又は下面に向けて吐出されるもの以外ものについては、上記カバー体によって、これが周囲に飛散するのが防止される。
【００３４】
また、前記基板洗浄装置は、前記洗浄ブラシよりも前記基板搬送方向下流側で前記基板の上方又は下方に配設され、洗浄液を前記基板に向けて吐出する吐出手段を備えるとともに、前記洗浄液供給手段は、前記吐出手段にも前記洗浄液を供給するように構成されていも良い。
【００３５】
このようにすれば、上記と同様に、洗浄ブラシによって基板の上面又は下面から離脱せしめられた不純物を含む洗浄液が、吐出手段から吐出される清浄な洗浄液によって、当該基板の上面又は下面から洗い流され、基板をより清浄にすることができる。
【発明の効果】
【００３６】
斯くして、本発明に係る基板洗浄装置によれば、洗浄ブラシが基板の上面又は下面に当接する部分に向けて第１吐出手段から洗浄液を吐出することで、洗浄液を当該当接部に直接供給することができ、当該当接部に十分な洗浄液を供給することができる。そして、このように十分な洗浄液を供給することにより、洗浄ブラシによって基板が傷つくのを防止することができるとともに、洗浄効果を高めることができる。
【００３７】
また、洗浄ブラシの内部側から前記当接部に洗浄液を供給するようにした態様でも、上記と同様に、洗浄液を当該当接部に直接供給することができ、上記と同様の効果を奏することができる。
【００３８】
また、洗浄ブラシによる洗浄後の基板の上面又は下面に洗浄液を吐出するようにすれば、洗浄ブラシによって基板の上面又は下面から離脱せしめられた不純物を含む洗浄液を、新たに供給される清浄な洗浄液によって、当該基板の上面又は下面から洗い流すことができ、基板をより清浄にすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３９】
以下、本発明の具体的な実施形態について添付図面に基づき説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る基板洗浄装置の概略構成を示した断面図であり、図２は、図１における矢示Ａ方向の断面図であり、図３は、図１における矢示Ｂ方向の断面図である。
【００４０】
図１乃至図３に示すように、本例の基板洗浄装置１は、上部が開口し、所定の内容積を有する処理チャンバ１１と、処理チャンバ１１の上部を閉塞する蓋体１２と、処理チャンバ１１内に配設され、基板Ｋの下面を水平に支持して当該基板Ｋを水平方向に（矢示方向に）搬送する複数の搬送ローラ１３と、基板Ｋの上側に配設された洗浄ブラシ１４と、洗浄ブラシ１４よりも基板搬送方向上流側で搬送ローラ１３の上方に配設された複数の第１ノズル１５と、洗浄ブラシ１４よりも基板搬送方向下流側で搬送ローラ１３の上方に配設された複数の第２ノズル１６などから構成される。
【００４１】
前記処理チャンバ１１には、図示しない搬入口及び排出口がそれぞれ形成されており、基板Ｋは、搬入口（図示せず）から当該処理チャンバ１１内に搬入され、搬出口（図示せず）から当該処理チャンバ１１外に搬出される。
【００４２】
前記搬送ローラ１３は、基板搬送方向に所定の間隔で配置され、その回転軸１３ａの両端部が、処理チャンバ１１の内壁に固設された各支持装置１７によって回転自在に支持されている。また、搬送ローラ１３の両側に位置するローラ１３ｂには、その外周面に鍔部１３ｃが形成されており、この鍔部１３ｃによって、基板Ｋが基板搬送方向と直交する方向（図３における矢示方向）に移動するのが防止される。
【００４３】
また、搬送ローラ１３の回転軸１３ａの一方端は、処理チャンバ１１の外壁に配設された駆動装置１８に接続されており、この駆動装置１８によって当該回転軸１３ａがその軸中心に回転せしめられることにより、搬送ローラ１３が回転して基板Ｋを前記基板搬送方向に搬送するようになっている。
【００４４】
前記洗浄ブラシ１４は、円柱状に形成され、回転軸１４ａと、この回転軸１４ａの外周面に植設された毛材１４ｂとからなり、基板Ｋの上面にその全幅に渡って当接している。また、前記回転軸１４ａは、その両端部が、処理チャンバ１１の内壁に固設された各支持装置１９によって回転自在に支持され、その軸線が基板Ｋと平行な平面内（水平面内）で基板搬送方向と直交する方向（図３における矢示方向）に沿って配設されている。
【００４５】
また、洗浄ブラシ１４の回転軸１４ａの一方端は、処理チャンバ１１の外壁に配設された駆動装置２０に接続されており、この駆動装置２０によって当該回転軸１４ａがその軸中心に回転せしめられることにより、洗浄ブラシ１４が回転するようになっている。尚、洗浄ブラシ１４は、基板Ｋとの当接部における回転方向が前記基板搬送方向と逆方向（図１における矢示方向）となるように、その回転軸１４ａが駆動装置２０によって軸中心に回転せしめられる。
【００４６】
前記第１ノズル１５は、洗浄ブラシ１４と基板Ｋ上面との当接部に向けて洗浄液を吐出するように構成されており、搬送ローラ１３の回転軸１３ａと平行に配設された第１供給管２１に固設されている。
【００４７】
前記第１供給管２１は、その両端部が、処理チャンバ１１の内壁に固設された各取付部材２４に取り付けられており、その一方端側には、洗浄液供給装置２２に接続された接続管２３が接続している。
【００４８】
前記第２ノズル１６は、洗浄液をその下方の基板Ｋ上面に向けて吐出するように構成されており、搬送ローラ１３の回転軸１３ａと平行に配設された第２供給管２５に固設されている。
【００４９】
前記第２供給管２５は、第１供給管２１と同様に、その両端部が、処理チャンバ１１の内壁に固設された各取付部材２６に取り付けられており、その一方端側には、洗浄液供給装置２２に接続された接続管２３が接続している。
【００５０】
斯くして、洗浄液は、洗浄液供給装置２２から接続管２３及び第１供給管２１を介して第１ノズル１５に供給され、当該第１ノズル１５から前記当接部に向けて吐出される。また、洗浄液は、洗浄液供給装置２２から接続管２３及び第２供給管２５を介して第２ノズル１６に供給され、当該第２ノズル１６からその下方の基板Ｋ上面に向けて吐出される。
【００５１】
以上のように構成された本例の基板洗浄装置１によれば、まず、基板Ｋが、適宜手段によって処理チャンバ１１の搬入口（図示せず）から当該処理チャンバ１１内に搬入される。搬入された基板Ｋは、搬送ローラ１３により水平方向に搬送され、洗浄ブラシ１４の下側を通過する。これにより、基板Ｋの上面が洗浄ブラシ１４によって洗浄され、当該基板Ｋ上面に付着した不純物が除去される。
【００５２】
このとき、洗浄ブラシ１４は、基板Ｋとの当接部における回転方向が基板搬送方向と逆方向となるように、その回転軸１４ａが駆動装置２０によって軸中心に回転せしめられている。
【００５３】
また、第１ノズル１５には、洗浄液供給装置２２から接続管２３及び第１供給管２１を介して洗浄液が供給され、当該第１ノズル１５から洗浄ブラシ１４（毛材１４ｂ）と基板Ｋ上面との当接部に向けて吐出されている。一方、第２ノズル１６には、同様に、洗浄液供給装置２２から接続管２３及び第２供給管２５を介して洗浄液が供給され、当該第２ノズル１６からその下方の基板Ｋ上面に向けて吐出されている。
【００５４】
前記第１ノズル１５からの洗浄液は、前記当接部に向けて吐出されているため、当該当接部に達し易く、また、当接部に供給された洗浄液は、回転する洗浄ブラシ１４によって当該当接部から基板搬送方向上流側に向けて流動せしめられる一方、第１ノズル１５から当接部に向けて吐出される新たな洗浄液によって、当該当接部側に向けても流動せしめられるため、その一部が、前記当接部と、第１ノズル１５からの洗浄液が基板Ｋ上面に到達する部分との間に滞留する。
【００５５】
これにより、洗浄液が前記当接部に効率的に供給され、基板Ｋは、当該当接部に十分な洗浄液が供給された状態で洗浄ブラシ１４によって洗浄されることになる。尚、洗浄ブラシ１４の回転速度，毛材１４ｂの植設密度，第１ノズル１５からの洗浄液の吐出流量及び基板Ｋの搬送速度などといった各条件が整っていると、このようにして当接部に供給される洗浄液によって、当該当接部には、５ｍｍ以上の厚さの液溜まりが形成される。
【００５６】
そして、洗浄ブラシ１４の下側を通過した基板Ｋ上面には、第２ノズル１６から洗浄液が供給され、洗浄ブラシ１４によって基板Ｋ上面から離脱せしめられた不純物を含む洗浄液が、第２ノズル１６から吐出される清浄な洗浄液によって、当該基板Ｋ上面から洗い流される。
【００５７】
この後、洗浄ブラシ１４の下側及び第２ノズル１６の下方を基板Ｋ上面の全面が通過した後、適宜手段によって処理チャンバ１１の搬出口（図示せず）から当該処理チャンバ１１外に搬出される。
【００５８】
斯くして、本例の基板洗浄装置１によれば、第１ノズル１５から洗浄ブラシ１４と基板Ｋ上面との当接部に向けて洗浄液を吐出することで、洗浄液を当該当接部に直接供給することができ、当該当接部に十分な洗浄液を供給することができる。これにより、洗浄ブラシ１４によって基板Ｋが傷つくのを防止することができるとともに、洗浄効果を高めることができる。
【００５９】
また、洗浄ブラシ１４によって基板Ｋ上面から離脱せしめられた不純物を含む洗浄液を、第２ノズル１６から吐出される清浄な洗浄液によって、当該基板Ｋ上面から洗い流すようにしているので、基板Ｋをより清浄にすることができる。
【００６０】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明の採り得る具体的な態様は、何らこれに限定されるものではない。
【００６１】
上例では、搬送ローラ１３により、基板Ｋを水平に支持した状態で水平方向に搬送するように構成したが、これに限られるものではなく、図４に示すように、基板Ｋを水平面から所定の角度だけ傾斜させた状態で水平方向に搬送するように構成しても良い。
【００６２】
この場合、搬送ローラ１３は、これによって搬送される基板Ｋが基板搬送方向と直交する方向に水平面から所定の角度θで傾斜するように、その回転軸１３ａが傾斜せしめられて配設される。また、前記洗浄ブラシ１４の回転軸１４ａ，第１供給管２１及び第２供給管２５についても、同様に、前記所定の角度θで傾斜した状態で配設される。
【００６３】
このように基板Ｋを傾斜させると、第１ノズル１５から吐出され、洗浄ブラシ１４の洗浄作用によって不純物を含むようになった洗浄液や、第２ノズル１６から吐出された後洗浄のための洗浄液は、当該基板Ｋの傾斜により下方に流下するため、これらの洗浄液を、基板Ｋ上面から排出し易くすることができる。
【００６４】
また、上例では、第１ノズル１５や第２ノズル１６、洗浄ブラシ１４を基板Ｋの上面側に設けて、当該基板Ｋの上面をブラシ洗浄するように構成したが、これに限られるものではなく、これらを基板Ｋの下面側或いは上下両面側に設けて、当該基板Ｋの下面或いは上下両面をブラシ洗浄するように構成することもできる。
【００６５】
この場合、基板Ｋの下面側については、第１ノズル１５は、洗浄ブラシ１４よりも基板搬送方向上流側で、搬送ローラ１３により搬送される基板Ｋの下方に配設されて、洗浄ブラシ１４と基板Ｋ下面との当接部に向けて洗浄液を吐出するように構成され、第２ノズル１６は、洗浄ブラシ１４よりも基板搬送方向下流側で、搬送ローラ１３により搬送される基板Ｋの下方に配設されて、洗浄液を基板Ｋ下面に向けて吐出するように構成され、洗浄ブラシ１４は、基板Ｋの下側に配設されて、基板Ｋの下面にその全幅に渡って当接するように構成される。
【００６６】
また、上例では、洗浄ブラシ１４を、基板Ｋとの当接部における回転方向が基板搬送方向と逆方向となるように回転させたが、基板搬送方向と同方向に回転させるようにしても良い。
【００６７】
このようにすれば、第１ノズル１５から当接部に向けて吐出された洗浄液は、当該当接部に直接到達するとともに、回転する洗浄ブラシ１４によって当該当接部に引き込まれる。したがって、このようにしても、洗浄液が前記当接部に効率的に供給され、基板Ｋは、当該当接部に十分な洗浄液が供給された状態で洗浄ブラシ１４によって洗浄されることになる。
【００６８】
また、この場合において、第２ノズル１６を、洗浄ブラシ１４よりも基板搬送方向下流側であり、且つ当該洗浄ブラシ１４の近傍に配置すれば、第１ノズル１５から吐出され、洗浄ブラシ１４によって当接部に引き込まれた後、当該当接部から基板搬送方向下流側に流動せしめられる（排出される）洗浄液が、第２ノズル１６から吐出される洗浄液によってせき止められるので、第１ノズル１５からの洗浄液の一部は、当接部と、第２ノズル１６から吐出された洗浄液が基板Ｋ上面に到達する部分との間に滞留せしめられ、これにより、より効率的に洗浄液が当接部に供給される。
【００６９】
尚、洗浄ブラシ１４と第２ノズル１６との間の基板Ｋ上方にエアナイフを設けて、これから基板Ｋ上面に向けて空気を吹き付けるようにしたり、洗浄ブラシ１４と第２ノズル１６との間に、基板Ｋ上面から所定間隔を隔てて邪魔板を配設したりしても、当接部から排出される洗浄液をせき止めて滞留させることができるので、上記と同様の効果を得ることができる。
【００７０】
更に、上例では、第１ノズル１５を、洗浄ブラシ１４よりも基板搬送方向上流側に設けたが、これに限られるものではなく、洗浄ブラシ１４よりも基板搬送方向下流側であって、第２ノズル１６よりも基板搬送方向上流側に設けても良い。
【００７１】
また、前記洗浄ブラシ１４，第１ノズル１５及び第１供給管２１に代えて、図５及び図６に示すような洗浄ブラシ５０を設けるように構成することもできる。
【００７２】
この場合、前記洗浄ブラシ５０は、一方端側が開口し、他方端側が閉塞された中空状に形成され、内周面から外周面に開口する複数の貫通孔５１ａが全周に渡って形成された回転軸５１と、この回転軸５１の外周面に植設された毛材５２とからなり、基板Ｋの上面にその全幅に渡って当接するように配置される。
【００７３】
前記回転軸５１は、軸中心に回転自在に支持され、その軸線が基板Ｋと平行な平面内で基板搬送方向と直交する方向に沿って配設されており、適宜駆動装置によって、洗浄ブラシ５０の、基板Ｋとの当接部における回転方向が基板搬送方向と逆方向となるように、軸中心に回転せしめられる。
【００７４】
また、前記回転軸５１の中空部内には、一方端側が開口し且つ他方端側が閉塞され、下外周面に開口する吐出口５３ａを有する供給管５３が非回転状態で嵌挿されており、この供給管５３の一方端側には、洗浄液供給装置２２に接続した適宜配管が接続されている。
【００７５】
尚、回転軸５１及び供給管５３の配設関係は、特に図示はしないが、例えば、供給管５３の両端部を非回転に処理チャンバ１１の内壁に固設し、この供給管５３に軸受を介して回転軸５１を軸中心に回転自在に支持させるようにしたり、回転軸５１の両端部を軸中心に回転自在に処理チャンバ１１の内壁に支持させ、この回転軸５１の中空部内に供給管５３を非回転に嵌挿するようにすれば良い。
【００７６】
この洗浄ブラシ５０によれば、適宜駆動装置によって回転軸５１がその軸中心に回転せしめられることで当該洗浄ブラシ５０が所定の方向に回転せしめられ、また、洗浄液供給装置２２から供給管５３に供給された洗浄液は、吐出口５３ａから流出した後、回転する回転軸５１の基板Ｋ上面側の各貫通孔５１ａを通って流出する。このようにして、洗浄液が洗浄ブラシ５０の内部側から基板Ｋ上面、即ち、洗浄ブラシ５０（毛材５２）と基板Ｋ上面との当接部に供給される。
【００７７】
洗浄液は、洗浄ブラシ５０の内部側から前記当接部に供給されているため、当該当接部に達し易く、上記と同様に、洗浄液が前記当接部に効率的に供給され、基板Ｋは、当該当接部に十分な洗浄液が供給された状態で洗浄ブラシ５０によって洗浄されることになる。
【００７８】
また、この例においても、洗浄ブラシ５０は、基板Ｋの上側ではなく、下側に配設されて、基板Ｋの下面をブラシ洗浄するように構成されていても良い。この場合、洗浄ブラシ５０は、基板Ｋの下面にその全幅に渡って当接し、その回転軸５１の中空部内には、上外周面に開口した吐出口５３ａを有する供給管５３が非回転状態で嵌挿される。そして、供給管５３内に供給された洗浄液は、吐出口５３ａから流出した後、回転する回転軸５１の基板Ｋ下面側の各貫通孔５１ａを通って流出し、洗浄ブラシ５０と基板Ｋ下面との当接部に供給される。
【００７９】
また、更に、前記洗浄ブラシ１４，第１ノズル１５及び第１供給管２１に代えて、図７に示すような洗浄ブラシ６０を設けるように構成しても良い。
【００８０】
この場合、前記洗浄ブラシ６０は、前記洗浄ブラシ５０と同様に、一方端側が開口し、他方端側が閉塞された中空状に形成され、内周面から外周面に開口する複数の貫通孔６１ａが全周に渡って形成された回転軸６１と、この回転軸６１の外周面に植設された毛材６２とからなり、基板Ｋの上面にその全幅に渡って当接するように配置される。
【００８１】
前記回転軸６１は、軸中心に回転自在に支持され、その軸線が基板Ｋと平行な平面内で基板搬送方向と直交する方向に沿って配設されており、適宜駆動装置によって、洗浄ブラシ６０の、基板Ｋとの当接部における回転方向が基板搬送方向と逆方向となるように、軸中心に回転せしめられる。
【００８２】
また、前記回転軸６１の一方端側には、洗浄液供給装置２２に接続した適宜配管が接続され、洗浄ブラシ６０の外周面と所定の間隔を隔てた位置には、当該洗浄ブラシ６０を囲むカバー体６３が配設される。
【００８３】
この洗浄ブラシ６０によれば、適宜駆動装置によって回転軸６１がその軸中心に回転せしめられることで当該洗浄ブラシ６０が所定方向に回転せしめられ、また、洗浄液供給装置２２から回転軸６１の中空部内に供給された洗浄液は、各貫通孔６１ａから周囲に流出する。このとき、回転する回転軸６１の基板Ｋ上面側の各貫通孔６１ａから流出した洗浄液は、洗浄ブラシ６０（毛材６２）と基板Ｋ上面との当接部に供給され、当該回転軸６１の他の部分の各貫通孔６１ａから流出した洗浄液は、周囲に飛散するのがカバー体６３によって防止されて、当該カバー体６３の洗浄ブラシ６０との対向面を伝って基板Ｋ上面（前記当接部）に集積される。これにより、前記洗浄ブラシ５０の場合と同様の効果を得ることができる。
【００８４】
尚、前記回転軸５１，６１には、上記のように、管状の部材に複数の貫通孔５１ａ，６１ａを形成したものを用いることができる他、例えば、セラミックの焼結体など、各種の多孔質体を用いても良い。この場合、多孔質体に形成された空隙から洗浄液が基板Ｋ上面に供給される。
【００８５】
また、洗浄ブラシ５０，６０の回転方向は、特に限定されず、基板Ｋとの当接部における回転方向が基板搬送方向と逆方向であっても、同方向であっても良く、また、上記のように、第２ノズル１６やエアナイフ、邪魔板などにより、洗浄ブラシ５０，６０によって当接部から排出された洗浄液をせき止めて滞留させるように構成しても良い。
【００８６】
また、前記洗浄液には、洗浄水を含む各種の洗浄液を用いることができる。
【図面の簡単な説明】
【００８７】
【図１】本発明の一実施形態に係る基板洗浄装置の概略構成を示した断面図である。
【図２】図１における矢示Ａ方向の断面図である。
【図３】図１における矢示Ｂ方向の断面図である。
【図４】本発明の他の実施形態に係る基板洗浄装置の概略構成を示した断面図である。
【図５】本発明の他の実施形態に係る基板洗浄装置の概略構成を示した断面図である。
【図６】本発明の他の実施形態に係る洗浄ブラシなどの概略構成を示した断面図である。
【図７】本発明の他の実施形態に係る洗浄ブラシなどの概略構成を示した断面図である。
【図８】従来例に係る基板洗浄装置の概略構成を示した断面図である。
【符号の説明】
【００８８】
１    基板洗浄装置
１１  処理チャンバ
１２  蓋体
１３  搬送ローラ
１４  洗浄ブラシ
１５  第１ノズル
１６  第２ノズル
１８  駆動装置
２０  駆動装置
２１  第１供給管
２２  洗浄液供給装置
２５  第２供給管
Ｋ    基板
【図１】
2005138053.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
2005138053.tif 000008
【図７】
2005138053.tif 000009
【図８】
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