(57)【要約】【課題】被めっき部品、特に微細な被めっき部品に、めっき膜厚のばらつきの少ないめっきを施すことが可能な振動めっき装置を提供する。【解決手段】  被めっき部品１０及び導通用の導体メディア１９を収容する容器１４の、底面と側面により形成されるコーナ部Ｃ１及びＣ２に、曲率半径Ｒの丸みを付与するとともに、曲率半径Ｒを、被めっき部品１０の長さＬとの比率（Ｌ：Ｒ）において、１：３．０〜１：３５の範囲とする。  コーナ部Ｃ１，Ｃ２を構成する底面が容器１４の底部上面１６ａであり、コーナ部Ｃ１を構成する側面が容器１４の外周壁の内面２６ａであり、コーナ部Ｃ２を構成する側面が容器１４の底部略中央に接続された容器保持部材１５の外周面１５ａである場合において、コーナ部Ｃ１，Ｃ２にＬ：Ｒ＝１：３．０〜１：３５の範囲の丸みを付与するとともに、容器保持部材１５の外径Ａと容器の内径Ｂの比率（Ａ：Ｂ）を１：２〜１：３の範囲とする。【選択図】図１
2005097668.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
振動発生手段と、
被めっき部品及び導通用の導体メディアを収容する容器と、
一部が前記振動発生手段に接続され、他の一部が前記容器に接続されて、前記振動発生手段からの振動を前記容器に伝達するとともに、前記容器を保持する容器保持部材と、
内部にめっき液が入れられるとともに、該めっき液に前記容器が浸漬されるめっき槽と
を具備する振動めっき装置において、
容器内の、被めっき部品及び導体メディアが収容される収容領域を規定する底面と側面により形成されるコーナ部に、曲率半径Ｒの丸みが付与されているとともに、前記曲率半径Ｒが、前記被めっき部品の長さＬとの比率（Ｌ：Ｒ）において、１：３．０〜１：３５の範囲にあること
を特徴とする振動めっき装置。
【請求項２】
コーナ部を構成する前記収容領域の底面が、容器の底部上面であり、
コーナ部を構成する前記収容領域の側面が、容器の外周壁内面及び容器の底部に接続された容器保持部材の外周面であること
を特徴とする請求項１記載の振動めっき装置。
【請求項３】
コーナ部を構成する前記収容領域の底面が、容器の底部上面であり、
コーナ部を構成する前記収容領域の側面が、平面形状が略円形の容器の外周壁内面及び容器の底部略中央に接続された、軸方向に直交する方向の断面形状が略円形の容器保持部材の外周面であり、かつ、
前記容器保持部材の外径Ａと前記容器の内径Ｂの比率（Ａ：Ｂ）が、１：２〜１：３の範囲にあること
を特徴とする請求項１又は２記載の振動めっき装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、めっき装置に関し、詳しくは、例えば、チップ型の積層セラミックコンデンサなどのように、セラミック素子（チップ）の表面に外部電極が形成された電子部品にめっきを施して、外部電極の表面にめっき膜を形成する場合などに用いられる振動めっき装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
チップ型の電子部品の代表的なものの１つに、図３(ａ)，(ｂ)に示すような積層セラミックコンデンサがある。この積層セラミックコンデンサは、複数の内部電極３がセラミック層２を介して互いに対向するように配設され、かつ、その一端側が交互に異なる側の端面に引き出されたセラミック素子１の両端側に、内部電極３と導通するように一対の外部電極４が配設された構造を有している。なお、外部電極４はＡｇ粉末を導電成分とする導電性ペーストを塗布、乾燥、焼成することにより形成されており、外部電極４の表面にはＡｇ電極のはんだくわれを防止するためのＮｉめっき膜５及びはんだ付け性を向上させるためのＳｎめっき膜６が形成されている。
【０００３】
この積層セラミックコンデンサのように、外部電極にめっき膜を形成する方法としては、例えば、以下の(１)〜(３)に説明するような振動めっき装置を用いて外部電極にめっき膜を形成する方法が知られている。
【０００４】
(１)まず、第１の方法は、図４に示すような振動めっき装置を用いてめっきを行う方法である。図４の振動めっき装置は、偏心モーター５１とバネ５２とを備えた振動発生手段５３と、被めっき部品１０と、通電媒介物としての導体メディア（金属球メディア）１９が収容される、少なくとも一部がめっき液を通過させるような材料で構成された容器５４と、下端側が容器５４を保持するとともに、上端側が振動発生手段５３に接続された棒状の容器保持部材５５と、容器５４の底部５６に配設された陰極用電極５７と、陽極用電極５９と、めっき液を収容するめっき槽５８とを備えている。
そして、この振動めっき装置を用い、上記容器５４内に、両端部に外部電極４が配設された多数の被めっき部品（チップ型の積層セラミックコンデンサ）１０と通電媒介物としての導体メディア１９とを収容し、該容器５４をめっき槽５８に浸漬した状態で、振動発生手段５３により容器５４に振動を付与するとともに、陰極用電極５７に通電して積層セラミックコンデンサ１０の外部電極４及び導体メディア１９に電流を流すことにより、図３(ａ)に示すように、Ｎｉめっき膜５及びＳｎめっき膜６などのめっき膜を形成するようにしている。
【０００５】
(２)第２の方法は、図５又は図６に示すような振動めっき装置を用いてめっきを行う方法である。
図５の振動めっき装置は、平面形状が略円形の容器５４の底部５６を、その中央が下向きに突出した形状として、容器５４の底部５６と外周壁６２により形成される容器５４の内側の外周側コーナ部Ｃが鈍角になる（９０゜より大きい角度になる）ようにした振動めっき装置である。但し、図５において図４と同一符号を付した部分は、同一又は相当部分を示している。
また、図６に示す振動めっき装置は、容器５４の底部５６の外周側と中心の略中間の位置を周方向に下方に突出させて断面形状をＷ形状として、各コーナ部Ｃ１，Ｃ２の角度θ１，θ２が鈍角となるようにした振動めっき装置である（例えば特許文献１参照）。但し、図６において図５と同一符号を付した部分は、同一又は相当部分を示している。
なお、図５又は図６の振動めっき装置を用いてめっきを行う場合にも、上記(１)のめっき装置を用いる場合と同様にしてめっきを行い、Ｎｉめっき膜５及びＳｎめっき膜６などのめっき膜を形成する。
【０００６】
(３)第３の方法は、図７に示すように、被めっき部品を十分に撹拌できるように、被めっき部品１０及び通電用メディア（導体メディア）１９とともに、撹拌用のメディア（絶縁物粒体）６３を容器５４に添加して、容器を振動させながらめっきを行う方法であり、ここでは、容器５４の底部５６と外周壁６２により形成される容器５４の内側のコーナ部Ｃ１と、容器５４の底部５６と容器保持部材５５により形成されるコーナ部Ｃ２にＲを付けた構造を有する振動めっき装置が提案されている（特許文献２参照）。
なお、図７において、図４と同一符号を付した部分は、同一又は相当部分を示している。
【０００７】
しかしながら、上記(１)の従来の振動めっき装置においては、被めっき部品１０と導体メディア１９の投入量や振動強度などの条件によっては、容器内において撹拌が均一に行われず、容器５４の底部５６と外周壁６２とのコーナ部Ｃに被めっき部品１０が滞留し、被めっき部品１０どうしや被めっき部品１０と導体メディア１９の合着（くっつき）が発生するという問題点がある。
また、容器５４内の流動についても、回転中心付近（容器保持部材５５の周囲）と外周付近では流動速度が異なるため、容器５４の内部で被めっき部品１０と導体メディア１９の接触状態が異なり、外部電極への通電が不均一になる場合がある。そして、その結果、めっき膜の膜厚にばらつきが生じるという問題点がある。
【０００８】
また、上記(２)の振動めっき装置、すなわち、図５又は図６に示す振動めっき装置を用いる場合には、容器５４の底部５６と外周壁６２から形成されるコーナ部Ｃの角度θを鈍角となるようにしたり（図５）、容器５４の底部５６の外周側と中心の略中間の位置を周方向に下方に突出させて断面形状をＷ形状として、各コーナ部Ｃ１，Ｃ２の角度θ１，θ２が鈍角となるようにしたり（図６）しているので、上記(１)の振動めっき装置を用いる場合に比べて、めっき膜の膜厚ばらつきを改善することが可能になるが、振動強度が不十分である場合には、容器５４内の被めっき部品１０及び導体メディア１９が回転中心付近（容器保持部材５５の周囲）に滞留したり（図５）、底部５６の窪み部分６０に滞留したり（図６）して、撹拌が十分に行われず、被めっき部品１０どうしや、被めっき部品１０と導体メディア１９の合着（くっつき）が発生するという問題点がある。
また、容器５４内の流動についても、回転中心付近（すなわち、容器保持部材５５の外周部近傍）と容器外周壁近傍では流動速度が異なるため、容器５４の内部で被めっき部品１０と導体メディア１９の接触状態が異なり、外部電極４への通電が不均一になる場合がある。そして、その結果、めっき膜の膜厚にばらつきが生じるという問題点がある。
【０００９】
また、上記(３)の振動めっき装置、すなわち、図７に示す振動めっき装置ではＲが形成されているが、これは被めっき部品１０が略直方体であり、コーナ部Ｃ１，Ｃ２にＲがなく直角である場合、コーナ部Ｃ１，Ｃ２に被めっき部品１０が引っ掛かり、それによって多数の被めっき部品１０や導体メディア１９がコーナ部Ｃ１，Ｃ２に滞留することを防止するためである。ところが、このような被めっき部品１０が引っ掛からない程度のＲを設けても流動状態に淀みが生じるため、図７に示すように、撹拌用のメディア６３を加えて、被めっき部品１０と導体メディア１９が周辺部から中央部へ流動する流動層と撹拌用のメディア６３を衝突させることにより、被めっき部品１０や導体メディア１９がコーナ部Ｃ１，Ｃ２に滞留することを抑制している。
【００１０】
しかしながら、撹拌用のメディア６３が大きすぎると、撹拌用のメディア６３が被めっき部品１０や導体メディア１９の流動を阻害することになり、被めっき部品１０や導体メディア１９が滞留するという問題が生じる。逆に撹拌用のメディア６３が小さくなると、撹拌用のメディア６３が被めっき部品１０や導体メディア１９とともに流動するという問題が生じる。したがって、十分な撹拌を行うことができず、被めっき部品どうしあるいは被めっき部品及び導体メディアの合着（くっつき）が発生するという問題が生じることがある。
【特許文献１】特開平２００２−１２９３９３号公報
【特許文献２】特開平５−７０９９９号公報
【００１１】
本発明は、上記問題点を解決するものであり、被めっき部品が小型である場合にも、めっき膜の膜厚ばらつきの少ない、信頼性の高いめっきを施すことが可能な振動めっき装置を提供することを目的とする。
【発明の開示】
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記目的を達成するために、本発明（請求項１）の振動めっき装置は、
振動発生手段と、
被めっき部品及び導通用の導体メディアを収容する容器と、
一部が前記振動発生手段に接続され、他の一部が前記容器に接続されて、前記振動発生手段からの振動を前記容器に伝達するとともに、前記容器を保持する容器保持部材と、
内部にめっき液が入れられるとともに、該めっき液に前記容器が浸漬されるめっき槽と
を具備する振動めっき装置において、
容器内の、被めっき部品及び導体メディアが収容される収容領域を規定する底面と側面により形成されるコーナ部に、曲率半径Ｒの丸みが付与されているとともに、前記曲率半径Ｒが、前記被めっき部品の長さＬとの比率（Ｌ：Ｒ）において、１：３．０〜１：３５の範囲にあること
を特徴としている。
【００１３】
また、請求項２の振動めっき装置は、
コーナ部を構成する前記収容領域の底面が、容器の底部上面であり、
コーナ部を構成する前記収容領域の側面が、容器の外周壁内面及び容器の底部に接続された容器保持部材の外周面であること
を特徴としている。
【００１４】
また、請求項３の振動めっき装置は、
コーナ部を構成する前記収容領域の底面が、容器の底部上面であり、
コーナ部を構成する前記収容領域の側面が、平面形状が略円形の容器の外周壁内面及び容器の底部略中央に接続された、軸方向に直交する方向の断面形状が略円形の容器保持部材の外周面であり、かつ、
前記容器保持部材の外径Ａと前記容器の内径Ｂの比率（Ａ：Ｂ）が、１：２〜１：３の範囲にあること
を特徴としている。
【発明の効果】
【００１５】
本発明（請求項１）の振動めっき装置は、振動発生手段と、被めっき部品及び導通用の導体メディアを収容する容器と、振動発生手段からの振動を容器に伝達するとともに、容器を保持する容器保持部材と、めっき槽とを備えた振動めっき装置において、容器内の、被めっき部品及び導体メディアが収容される収容領域を規定する底面と側面により形成されるコーナ部に、曲率半径Ｒの丸みを付与するとともに、曲率半径Ｒを、被めっき部品の長さＬとの比率（Ｌ：Ｒ）において、１：３．０〜１：３５の範囲としているので、被めっき部品の寸法が小さい場合にも、被めっき部品が容器のコーナ部に滞留することを抑制、防止し、被めっき部品どうしあるいは被めっき部品及び導体メディアの合着（くっつき）が発生することを防止することが可能になるとともに、安定した撹拌状態を保持して、被めっき部品と導体メディアの接触状態を均一に保ちながらめっきを施すことが可能になるため、被めっき部品に膜厚が均一なめっき膜を確実に形成することが可能になる。
【００１６】
なお、本発明において、コーナ部とは、容器の、被めっき部品及び導体メディアを収容する収容領域を、容器の底面に垂直に切断した場合の、上記収容領域を規定する底面と側面から形成されるコーナ部（立体構造についてみた場合の稜線部）を意味する概念である。
また、上記収容領域を規定する底面とは、通常、容器の底部上面を意味する概念であり、側面とは、容器の外周壁の内側面、及び、例えば、図１に示すように、容器保持部材が容器の底部に接続された構造のものである場合には、容器保持部材の外周面がコーナ部を規定する側面となる。
但し、本発明の振動めっき装置は、コーナ部が、容器の底面と、容器の外周壁の内側面のみから形成されているような構成（底面の外周縁側にのみコーナ部（稜線部）が形成されている構成）を排除するものではない。
【００１７】
また、本発明において、コーナ部に付与する丸みの曲率半径Ｒを、被めっき部品の長さＬとの比率（Ｌ：Ｒ）において、１：３．０〜１：３５の範囲としたのは、被めっき部品の長さＬを１とした場合における曲率半径Ｒの大きさが３．０未満になると、コーナ部で被めっき部品の滞留が生じ、被めっき部品の合着（くっつき）が発生するばかりでなく、被めっき部品と導体メディアの接触状態が不均一になって、形成されるめっき膜の膜厚にばらつきが生じるという問題点があり、また、被めっき部品の長さＬを１とした場合における曲率半径Ｒの大きさが３５を超えた場合には、コーナ部における被めっき部品及び導体メディアの上下方向の流動が速くなりすぎて、被めっき部品と導体メディアの距離が大きくなり、陰極用電極の近傍とコーナ部で、被めっき部品と導体メディアの接触状態に差が生じ、形成されるめっき膜の膜厚にばらつきが生じることによる。
また、本発明において、被めっき部品の大きさに特別の制約はないが、めっき中に被めっき部品の滞留が発生しやすい、長さＬが１．６mm以下、特に、１．０mm以下の小型の被めっき部品にめっきを施すのに適用した場合、従来は膜厚の均一なめっき膜を形成することが困難であった小型の被めっき部品の外部電極などにめっきを施して、均一なめっき膜を形成することが可能になり、特に有意義である。
【００１８】
また、請求項２の振動めっき装置のように、コーナ部を構成する収容領域の底面が容器の底部上面であり、コーナ部を構成する収容領域の側面が容器の外周壁内面及び容器の底部に接続された容器保持部材の外周面である場合には、収容領域内の容器外周壁近傍及び、収容領域内の容器保持部材の外周部近傍にコーナ部が形成されることになるが、その場合にも、コーナ部に、被めっき部品の長さＬとの比率（Ｌ：Ｒ）において、曲率半径Ｒが１：３．０〜１：３５の範囲の丸みを付与することにより、被めっき部品の寸法が小さい場合にも、被めっき部品が容器のコーナ部に滞留することを抑制、防止し、被めっき部品どうしあるいは被めっき部品及び導体メディアの合着（くっつき）が発生することを防止することが可能になるとともに、安定した撹拌状態を保持して、被めっき部品と導体メディアの接触状態を均一に保ちながらめっきを施すことが可能になるため、被めっき部品に膜厚が均一なめっき膜を確実に形成することが可能になる。
【００１９】
また、請求項３の振動めっき装置のように、コーナ部を構成する収容領域の底面が、容器の底部上面であり、コーナ部を構成する収容領域の側面が、平面形状が略円形の容器の外周壁内面及び容器の底部略中央に接続された、軸方向に直交する方向の断面形状が略円形の容器保持部材の外周面であるような構成の場合にも、コーナ部に、被めっき部品の長さＬとの比率（Ｌ：Ｒ）において、曲率半径Ｒが１：３．０〜１：３５の範囲の丸みを付与するとともに、容器保持部材の外径Ａと容器の内径Ｂの比率（Ａ：Ｂ）を１：２〜１：３の範囲とすることにより、被めっき部品の寸法が小さい場合にも、被めっき部品が容器のコーナ部に滞留することを抑制、防止し、被めっき部品どうしあるいは被めっき部品及び導体メディアの合着（くっつき）が発生することを防止することが可能になるとともに、収納領域内の容器外周壁近傍と、中心寄りの容器保持部材の外周部近傍における流動速度の差を減らし、均一な撹拌状態を保持して、被めっき部品と導体メディアの接触状態を均一に保ちながらめっきを施すことが可能になるため、被めっき部品に膜厚が均一なめっき膜を確実に形成することが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の実施例を示してその特徴とするところをさらに詳しく説明する。
なお、以下の実施例では、図３(ａ)，(ｂ)に示すように、積層セラミックコンデンサとなるセラミック素子１の両端部に、Ａｇを導電成分とする導電性ペーストを塗布、乾燥、焼成することにより形成した外部電極４の表面に、Ｎｉめっき膜５を形成したものを被めっき部品とし、そのＮｉめっき膜５上にＳｎめっきを施して、Ｓｎめっき膜６を形成する場合を例にとって説明する。
【実施例１】
【００２１】
＜振動めっき装置の構成＞
図１は本発明の一実施例にかかる振動めっき装置の構成を示す図である。
この振動めっき装置は、偏心モーター１１とバネ１２などを備えた振動発生手段１３と、被めっき部品１０と、通電媒介物として機能する導体メディア（金属球メディア）１９を収容する、少なくとも一部がめっき液を通過させるような材料（この実施例１では金網）で構成された容器１４と、下端側が容器１４を保持するとともに、上端側が振動発生手段１３に接続された容器保持部材１５と、容器１４の底部１６に配設された陰極用電極１７と、陽極用電極２７と、めっき液を収容するめっき槽１８とを備えている。
【００２２】
なお、容器１４は平面形状が円形で上面側が開口した形状を有している。また、容器保持部材１５は、軸方向に直交する方向の断面形状が略円形で、下端側が容器１４の底部１６の略中央に接続されて容器１４を保持するとともに、振動発生手段１３から容器に振動を伝達する機能を果たすように構成されている。
また、陰極用電極１７は平面形状が略円形で、周方向に複数個配設されている。また、陰極用電極１７には給電線が接続されており、外部電源に接続されている。
【００２３】
そして、この振動めっき装置においては、容器１４の底部上面１６ａ、外周壁２６の内面２６ａ、及び容器保持部材１５の外周面１５ａが、被めっき部品１０及び導体メディア１９が収容される収容領域２０を規定しており、容器１４の底部上面１６ａと、外周壁２６の内面２６ａから形成されるコーナ部Ｃ１と、容器１４の底部上面１６ａと、容器保持部材１５の外周面１５ａから形成されるコーナ部Ｃ２には、所定の曲率半径Ｒを有する丸みが付けられている。
【００２４】
容器の内径、容器保持部材の外径、陰極用電極の直径、被めっき部品の寸法及び容器への投入量、導体メディアの直径及び容器への投入量、コーナ部Ｃ１及びＣ２の曲率半径Ｒなどの条件は以下の通りである。
(１)容器の内径            ：１８５mm
(２)容器保持部材の外径    ：４２mm
(３)陰極用電極の直径      ：３０mm
(４)被めっき部品
寸法：長さＬ＝１mm、幅Ｗ＝０．５mm、高さＴ＝０．５mm
投入量                ：１２２ｃｃ
(５)導体メディア
直径                  ：０．７mm
投入量                ：１９１ｃｃ
(６)コーナ部Ｃ１及びＣ２の曲率半径Ｒ：表１に示す通り
【００２５】
＜めっき処理及び評価＞
上記のように構成された振動めっき装置を用い、以下の方法で、被めっき部品（セラミック素子１の両端部に外部電極４を形成し、該外部電極４の表面にＮｉめっき膜５を形成したセラミック素子）１０にめっきを施し、Ｎｉめっき膜５上にＳｎめっき膜６を形成した。
【００２６】
まず、容器１４内に、被めっき部品１０と通電媒介物としての導体メディア（金属球メディア）１９とを投入し、容器１４をめっき槽１８に浸漬した。
それから、この状態で振動発生手段１３から容器１４に振動を印加するとともに、陰極用電極１７に２５．５Ａを通電し、外部電極４及び導体メディア１９に電流を６１分間流すことによりＳｎめっきを行い、Ｓｎめっき膜６を形成した。
【００２７】
そして、形成されたＳｎめっき膜の膜厚（ｎ＝２０）を測定するとともに、Ｓｎめっき膜の膜厚の平均値から、下記の式でＣＶ値を算出した。
ＣＶ値（％）＝平均値／σ×１００
【００２８】
さらに、くっつき（合着）の発生した被めっき部品の量（Ｘ）と、めっきに供した被めっき部品の全体量（Ｙ）から、以下の式により、くっつきの発生率を求めた。
くっつき発生率（％）＝Ｘ／Ｙ×１００
【００２９】
上記のようにして求めた、Ｓｎめっき膜の膜厚、ＣＶ値、くっつきの発生率を表１に示す。
【００３０】
【表１】
2005097668.tif 000003
【００３１】
表１に示すように、容器１４の底部上面１６ａと、外周壁２６の内面２６ａから形成されるコーナ部Ｃ１と、容器１４の底部上面１６ａと、容器保持部材１５の外周面１５ａから形成されるコーナ部Ｃ２の曲率半径Ｒが３mm未満の場合、被めっき部品の合着（くっつき）が発生するが、曲率半径Ｒを３mm〜３５mmの範囲とした場合には、被めっき部品の合着（くっつき）は発生しないことが確認された。これは、コーナ部Ｃ１及びＣ２の曲率半径が３〜３５mmの範囲（すなわち、Ｌ：Ｒ＝１：３．０〜１：３５の範囲）にある場合、コーナ部Ｃ１，Ｃ２において、被めっき部品１０及び導体メディア１９の上下方向への流動が起こりやすくなり、被めっき部品及び導体メディアの滞留が抑制、防止される結果、被めっき部品のくっつきの発生がなくなったものと考えられる。
【００３２】
また、Ｓｎめっき膜厚のＣＶ値は、コーナ部Ｃ１，Ｃ２の曲率半径Ｒが０mmの場合（コーナ部Ｃ１，Ｃ２に丸みを付けていない場合）に１１．３％と最も大きくなり、曲率半径Ｒが大きくなるにつれて改善され、コーナ部Ｃ１及びＣ２の曲率半径が３〜３５mmの範囲（すなわち、Ｌ：Ｒ＝１：３．０〜１：３５の範囲）では、ＣＶ値が８％以下になることが確認された。
【００３３】
しかしながら、曲率半径Ｒが３５mmを超えるとＣＶ値は悪化し、曲率半径Ｒが３６mmでＣＶ値は９．５％になり、曲率半径Ｒが３８mmでは１０．２％となった。これは、コーナ部Ｃ１，Ｃ２での被めっき部品１０及び導体メディア１９の上下方向への流動が速くなりすぎた結果、被めっき部品１０と導体メディア１９の距離が大きくなり、陰極用電極２７の近傍と、コーナ部Ｃ１，Ｃ２において、被めっき部品１０と導体メディア１９の接触状態に差が生じ、外部電極４と導体メディア１９ヘの通電状態が不均一になり、Ｓｎめっき膜厚のＣＶ値が悪化したものと考えられる。
【００３４】
上述のように、表１に示す結果から、この実施例１の振動めっき装置を用いてめっきを行う場合、被めっき部品の長さＬと、コーナ部Ｃ１，Ｃ２の曲率半径Ｒの関係（Ｌ：Ｒ）を、１：３．０〜１：３５の範囲とすることにより、被めっき部品のくっつきを防止して、良品率を向上させることが可能になるとともに、めっき厚の膜厚のばらつきをＣＶ値で８．０％以下に改善できることが確認された。
【実施例２】
【００３５】
＜振動めっき装置の構成＞
図２は、本発明の他の実施例（実施例２）にかかる振動めっき装置の構成を示す図である。この振動めっき装置の基本的な構成は上記実施例１の振動めっき装置と同様であり、図２において図１と同一の符号を付した部分は、同一又は相当部分を示している。
【００３６】
この実施例２の振動めっき装置では、容器保持部材１５の下部の、容器１４内に位置する部分（収容領域２０を規定する側面となる部分）の外径を、容器保持部材１５の他の部分（上部）の外径より大きくして、収容領域２０の幅を狭くして、収容領域２０の容器外周壁近傍の流動速度と、中心寄りの容器保持部材１５の外周部近傍における流動速度の差が小さくなるようにした。
また、コーナ部Ｃ１，Ｃ２の曲率半径Ｒとしては、実施例１で良好な結果が得られた１１mm一定とした。
【００３７】
容器の内径、容器保持部材の外径、陰極用電極の直径、被めっき部品の寸法及び容器への投入量、導体メディアの直径及び容器への投入量、コーナ部Ｃ１及びＣ２の曲率半径Ｒなどの条件は以下の通りである。
(１)容器の内径            ：１６８mm
(２)容器保持部材の外径    ：
４２mm，５６mm，７２mm，８４mm
(３)陰極用電極の直径      ：２０mm
(４)被めっき部品（積層セラミックコンデンサ用セラミック素子）
寸法：長さＬ＝０．６mm、幅Ｗ＝０．３mm、高さＴ＝０．３mm
投入量                ：２４ｃｃ
(５)導体メディア
直径                  ：０．４mm
投入量                ：４８ｃｃ
(６)コーナ部Ｃ１及びＣ２の曲率半径Ｒ：１１mm
【００３８】
＜めっき処理及び評価＞
上述のように構成された振動めっき装置を用い、上記実施例１の場合と同様の方法により被めっき部品にＳｎめっきを行った。
それから、形成されたＳｎめっき膜の膜厚（ｎ＝２０）を測定するとともに、Ｓｎめっき膜の膜厚の平均値から、下記の式でＣＶ値を算出した。
ＣＶ値（％）＝平均値／σ×１００
その結果を表２に示す。
【００３９】
【表２】
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【００４０】
表２に示すように、容器保持部材の外径Ａを４２mmとした場合（すなわち、容器保持部材の外径Ａと容器の内径Ｂの比率（Ａ：Ｂ）を１：４とした場合）、ＣＶ値が他の条件の場合よりも大きく、Ｓｎめっき膜の膜厚のばらつきが大きくなる傾向が認められた。
【００４１】
一方、容器保持部材の外径Ａの値を、Ａ：Ｂの比率が１：３〜１：２の範囲になるような値、すなわち、５６mm（Ａ：Ｂ＝１：３）、７２mm（Ａ：Ｂ＝１：２．３）、８４mm（Ａ：Ｂ＝１：２）とした場合には、ＣＶ値が６％未満と小さく、Ｓｎめっき膜の膜厚のばらつきが小さくなることがわかった。
これは、従来の振動めっき装置に用いられている容器のように、コーナ部に丸みが付与されていない場合や、適切な曲率半径を有する丸みが付与されていない場合には、被めっき部品と導体メディアの角速度が収容領域の中心付近（すなわち、容器保持部材の外周部近傍）では大きく、収容領域の外周付近では小さいため、中心付近と外周付近において、被めっき部品と導体メディアの接触状態に差異が生じ、めっき状態にばらつきが生じるのに対して、外径Ａを、容器の内径Ｂとの関係において、Ａ：Ｂ＝１：３〜１：２の範囲とした場合、すなわち、５６mm（Ａ：Ｂ＝１：３）、７２mm（Ａ：Ｂ＝１：２．３）、８４mm（Ａ：Ｂ＝１：２）とした場合には、容器の中心付近と外周縁近傍における、被めっき部品と導体メディアの角速度の差が小さくなるとともに、被めっき部品と導体メディアの接触時間（通電時間）の差が小さくなる結果、Ｓｎめっき膜の膜厚のばらつきが小さくなったものと考えられる。
【００４２】
なお、容器保持部材の外径Ａが８５mm以上になると陰極用電極が設置できなくなるため、この実施例２では評価していないが、容器の収容領域が減少し、効率が低下すること、膜厚ばらつきが悪化する場合もありうることなどを考慮すれば、あまり好ましくない結果となるものと考えられる。
【００４３】
上記実施例１及び２では、セラミック素子１の両端部に形成された外部電極４の表面にＮｉめっき膜５を形成した状態のものを被めっき部品とし、Ｎｉめっき膜５上にＳｎめっきを施す場合を例にとって説明したが、めっきすべき対象となる金属の種類（実施例１，２ではＮｉ）や、めっきすべき金属（この実施例１，２ではＳｎ）の種類には、特に制約はなく、例えば、Ａｇ電極上にＮｉめっきを施す場合、Ｎｉめっき膜上にはんだめっきを施す場合など、種々の条件下でめっきを行う場合に広く本発明を適用することが可能である。
【００４４】
また、本発明は、その他の点においても上記実施例に限定されるものではなく、振動発生手段の具体的な構成、容器の具体的な形状や陰極用電極の配設態様、容器保持部材の形状や構造、めっき槽の構成などに関し、発明の範囲内において、種々の応用、変形を加えることが可能である。
【産業上の利用可能性】
【００４５】
本発明の振動めっき装置を用いることにより、被めっき部品の寸法が小さい場合にも、被めっき部品が容器のコーナ部に滞留することを防止して、被めっき部品どうしあるいは被めっき部品と導体メディアの合着（くっつき）を防止することが可能になるとともに、被めっき部品と導体メディアの接触状態を安定させて、被めっき部品に膜厚が均一なめっき膜を形成することが可能になる。したがって、本発明は、めっき膜を備えた外部電極を有する電子部品の製造技術などの分野に広く用いることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００４６】
【図１】本発明の一実施例にかかる振動めっき装置の概略構成を示す図である。
【図２】本発明の他の実施例にかかる振動めっき装置の概略構成を示す図である。
【図３】被めっき部品である積層セラミックコンデンサを示す図であって、(ａ)は断面図、(ｂ)は斜視図である。
【図４】従来のめっき装置を示す図である。
【図５】従来の他のめっき装置を示す図である。
【図６】従来のさらに他のめっき装置の要部を示す図である。
【図７】従来のさらに他のめっき装置の要部を示す図である。
【符号の説明】
【００４７】
１      セラミック素子
２      セラミック層
３      内部電極
４      外部電極
５      Ｎｉめっき膜
６      Ｓｎめっき膜
１０    被めっき部品
１１    偏心モーター
１２    バネ
１３    振動発生手段
１４    容器
１５    容器保持部材
１５ａ  容器保持部材の外周面
１６    容器の底部
１６ａ  容器の底部上面
１７    陰極用電極
１８    めっき槽
１９    導体メディア
２０    収容領域
２６    容器の外周壁
２６ａ  外周壁の内面
２７    陽極用電極
Ｃ１，Ｃ２  コーナ部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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