(57)【要約】【課題】  半導体ウェハの外縁部分付近の膜残存やパーティクル付着を防止でき、なおかつ乾燥時間を短縮できるウェハキャリアを提供する。【解決手段】  ウェハキャリアの左右両側に、従来の板状の側面パネルに替えて棒状のサイドフレーム３ａ、３ｂを設け、更にこのサイドフレーム３ａ、３ｂの少なくとも下側には洗浄液が通過可能な窓９ｂ、９ｄを形成する。ここでサイドフレーム３ａ、３ｂは、ウェハキャリアの内側に当る面に半導体ウェハの外縁部分と嵌合する溝８が設けられており、その下側の面はウェハキャリアの下部開口部５から流入した洗浄液が窓９ｂ、９ｄを通ってキャリア内側から外側に流れる様に外側に向かって傾斜しているものとする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体ウェハを内部に保持し、ウェハ洗浄工程で該半導体ウェハと共に洗浄液に浸されるウェハキャリアにおいて、
対向する両側面に、半導体ウェハを保持するために該半導体ウェハの外縁部が嵌合する溝が設けられたサイドフレームと、その下側あるいは上下に設けられた洗浄液が流通可能な窓とを備え、
ここで、洗浄液が該窓からウェハキャリアの外側に流れ出るように該サイドフレームの下側が傾斜している
ことを特徴とするウェハキャリア。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造ラインのウェハ洗浄工程で使用されるウェハキャリアに関する。
【背景技術】
【０００２】
図４には最も一般的なウェハキャリアの外形を示した。図４のウェハキャリアはおおよそ次のような形状となっている。
正面パネル１１、背面パネル１２および左右の側面パネル１３ａ、１３ｂが内側の空間を取り囲むように四角い筒状を呈し、その上下は上部開口部１４と下部開口部１５によって開口している。側面パネル１３ａ、１３ｂの上側には、それぞれ正面パネル１１、背面パネル１２にその一部がかかるようにフランジ１６ａ、１６ｂが形成されている。正面パネル１１と背面パネル１２の下側は側面パネル１３ａ、１３ｂよりも僅かに長く延在しており、その正面パネル１１と背面パネル１２の延在した下側には、その間を架橋するように２つの板状の脚１７ａ、１７ｂが設けられている。
【０００３】
なお、背面パネル１２は正面パネル１１に比べて上側から中程まで大きく切除されており、内側の空間に収納された半導体ウェハの面を確認出来るようになっている。また側面パネル１３ａ、１３ｂは相当の厚みをもっており、その内側（空間側）には、半導体ウェハを保持するために当該半導体ウェハの外縁部と嵌合する溝１８が所定の間隔で複数本設けられている。つまり半導体ウェハは、左右の側面パネル１３ａ、１３ｂに切られた溝１８によって所定の間隔で配列・保持された状態でウェハキャリアの内側に収納されることになる。
【０００４】
一般的な半導体製造ラインは、半導体ウェハの表面に所定の処理を施した後、処理済の半導体ウェハを洗浄工程に送る。ここで半導体ウェハは、ウェハキャリアの内側に収納された状態でウェハキャリアごと洗浄液に浸される。そして半導体ウェハは、下部開口部１５から上部開口部１４へとウェハキャリアを貫通するように流れる洗浄液によって、その表面を洗浄されることになる。
【０００５】
ここで、図４に示すウェハキャリアは、半導体ウェハを側面パネル１３ａ、１３ｂに設けられた溝８によって保持する訳であるが、このような構造ではウェハキャリアと半導体ウェハとの接触面積が大きくなる。すると、半導体ウェハの溝８と接触する外縁部分及び側面パネル１３ａ、１３ｂ付近の部分は、洗浄時に洗浄液の流れがウェハ中央付近に比べて淀んだ状態となり、ここに除去すべき膜が残存したりパーティクルが付着するなどの問題が有った。また、洗浄後にはイソプロピルアルコール蒸気によって半導体ウェハおよびウェハキャリアを乾燥させるが、図４のような構造のウェハキャリアでは体積及び表面積が大きいため、完全に乾燥させるまで長い時間を必要としていた。
【特許文献１】特開平１０−１８９７０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
このような問題に対し、例えば特許文献１ではウェハキャリアの側面パネルの形状及び構造を改良し、半導体ウェハの外縁部分付近における洗浄液の滞留を改善するような技術が提案されている。しかしこれでも洗浄後の乾燥に長時間を要し、改良の余地が有った。
そこで本発明は、半導体ウェハの外縁部分付近の膜残存やパーティクル付着を防止でき、なおかつ乾燥時間を短縮できるウェハキャリアを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するための本発明は、半導体ウェハを内部に保持し、ウェハ洗浄工程で半導体ウェハと共に洗浄液に浸されるウェハキャリアにおいて、対向する両側面に、半導体ウェハを保持するために該半導体ウェハの外縁部が嵌合する溝が設けられたサイドフレームと、その下側あるいは上下に設けられた洗浄液が流通可能な窓とを備え、ここで、洗浄液が窓からウェハキャリアの外側に流れ出るようにサイドフレームの下側が傾斜していることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
窓を設けたことにより、半導体ウェハとウェハキャリアの接触面積が小さくなり、また洗浄液が窓を通して流通可能となる。ここで、サイドフレーム下側に設けた傾斜がウェハキャリア内側から外側への洗浄液の流れを作り出し、この窓と傾斜の組み合わせにより、半導体ウェハの外縁部分付近の洗浄が効果的に行われる。このため、半導体ウェハの外縁部分付近の膜残存やパーティクル付着を防止できる。また窓によってウェハキャリアの実質的な体積と表面積が減少するため乾燥時間を短縮することも可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００９】
ウェハキャリアの左右両側に棒状のサイドフレームを設け、更にこのサイドフレームの少なくとも下側には洗浄液が通過可能な窓を形成する。ここでサイドフレームは、ウェハキャリアの内側に当る面に半導体ウェハの外縁部分と嵌合する溝が設けられており、その下側の面はウェハキャリアの下部開口部から流入した洗浄液が窓を通してキャリア内側から外側に流れる様に外側に向かって傾斜させているものとする。
【実施例】
【００１０】
本発明によるウェハキャリアの外形を図１に示した。
図１のウェハキャリアは、正面パネル１、背面パネル２、左右のフランジ６ａ、６ｂおよび脚７ａ、７ｂの形状及び配置位置は従来と同じであるが、左右両側の側面構造が異なっている。すなわち、その左右両側に従来の板状の側面パネル（１３ａ、１３ｂ）に替えて、正面パネル１と背面パネル２の間を架橋する様に棒状のサイドフレーム３ａ、３ｂを設ける。そして、このサイドフレーム３ａの上下に窓９ａ、９ｂを形成し、サイドフレーム３ａの上下には窓９ｃ、９ｄ（９ｄは図１では正面パネル１の影になっている）を形成している。ここで各サイドフレーム３ａ、３ｂは、ウェハキャリアの内側に当る面に所定間隔で溝８が設けられ、さらに下側の面は外側に向かって傾斜させた構造となっている。
【００１１】
このような構造としたウェハキャリアは、各サイドフレーム３ａ、３ｂに設けられた溝８が半導体ウェハの外縁部分と嵌合し、これにより内側空間に収納した半導体ウェハを保持する。そしてウェハキャリアは、洗浄工程において半導体ウェハを収納した状態で図２に示すように洗浄液中に浸される。
ここで、本発明によるウェハキャリアの各サイドフレーム３ａ、３ｂの下側の面は外側に向かって傾斜しているため、図３に示すように、ウェハキャリアの下部開口部５から侵入した洗浄液の一部が窓９ｂ（９ｄ）を通って外側に出ていくようになる。このサイドフレーム３ａの傾斜によって形成された、窓５ｂを通って外側に出ていく洗浄液の流れにより、半導体ウェハの外縁部分も充分に洗浄され得るようになる。
【００１２】
また、見方によっては、本発明によるウェハキャリアは各窓９ａ〜９ｄによって従来の側面パネル（１３ａ、１３ｂ）の大半を切除した構造になっているとも考えられる。このため、ウェハキャリア自身の体積が減少すると共に、ウェハキャリア自身の表面積および半導体ウェハとの接触面積が減少する。これはつまり、乾燥時にウェハキャリアの温度上昇に伴って消費されるカロリーを減少させ、また、洗浄液の付着量を減少させることに繋がる。以上のことから、本発明によればウェハキャリアを迅速に乾燥できるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明によるウェハキャリアの外形を示す斜視図。
【図２】洗浄工程でのウェハキャリアの状態を示す概念図。
【図３】ウェハキャリアの部分断面図。
【図４】従来のウェハキャリアの外形を示す斜視図。
【符号の説明】
【００１４】
１：正面パネル
２：背面パネル
３ａ、３ｂ：サイドフレーム
４：上部開口部
５：下部開口部
６ａ、６ｂ：フランジ
７ａ、７ｂ：脚
８：（複数）溝
９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄ：窓
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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