(57)【要約】【課題】膜面のひび割れがなく、平滑性に優れ、高いインク吸収速度と吸収容量を有し、高画質で高品質なインクジェット記録用メディアを提供すること。【解決手段】支持体上に、主としてバインダーと微粒子から形成されるインク受容用の空隙層を設けてなるインクジェット記録媒体において、前記支持体は吸水性支持体であり、且つ、前記空隙層は電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物と微粒子を含有する水溶性塗工液を塗布し、電離放射線を照射することにより得られる多孔質層であることを特徴とするインクジェット記録媒体。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に、主としてバインダーと微粒子から形成されるインク受容用の空隙層を設けてなるインクジェット記録媒体において、前記支持体は吸水性支持体であり、且つ、前記空隙層は電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物と微粒子を含有する水溶性塗工液を塗布し、電離放射線を照射することにより得られる多孔質層であることを特徴とするインクジェット記録媒体。
【請求項２】
前記微粒子は平均粒径が３〜４００ｎｍの無機微粒子であることを特徴とする請求項１記載のインクジェット記録媒体。
【請求項３】
前記バインダーに対する前記微粒子の質量比は３〜１５であることを特徴とする請求項１又は２項記載のインクジェット記録媒体。
【請求項４】
前記吸水性支持体は紙であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項記載のインクジェット記録媒体。
【請求項５】
前記紙は重量平均繊維長が０．４〜１．２ｍｍのパルプ繊維を含むことを特徴とする請求項４記載のインクジェット記録媒体。
【請求項６】
前記側鎖に架橋基を有する平均重合度３００以上の高分子化合物は光二量化型の感光性基を有する親水性樹脂であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項記載のインクジェット記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、インクジェット記録媒体に関し、詳しくは、高いインク吸収速度と吸収容量を有し、且つ平滑性に優れた高画質で高品質なインクジェット記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
インクジェット記録方法は、インクの微少液滴を種々の作動原理により飛翔させて記録媒体に付着させ、画像・文字などの記録を行うものであるが、比較的高速、低騒音、多色化が容易である等の利点を有している。現在では、各種プリンター、ファクシミリ、コンピューター端末等、様々な分野に急速に普及している。また、インクジェット記録方法については、一般的には紙面上に記録を行うことがほとんどであるが、その記録原理から紙以外にも様々な物への記録が可能であり、今後その適応範囲は大きく広がっていくものと考えられる。
【０００３】
インクジェット記録方法で使用されるインクジェット記録媒体としては、印字ドットの濃度が高く、色調が明るく鮮やかであること、インクの吸収が早くドットが重なった場合においても、インクが流れ出したり滲んだりしないこと、印字ドットの横方向への拡散が必要以上に大きくなく、且つ周囲がなめらかでぼやけないこと等が一般的には要求されている。
【０００４】
特に、インクジェット記録媒体において、インク吸収速度が遅い場合、２色以上のインク液滴が重なって記録される際に、記録媒体上で液滴がはじき現象を起こしてムラになったり、異なる色の境界領域でお互いの色が滲んだりして画質を大きく低下させやすいために、インクジェット記録媒体としては高いインク吸収性を待たせるようにすることが必要である。
【０００５】
インクジェット記録媒体として従来から種々の記録媒体が用いられている。例えば、普通紙、紙支持体上に親水性バインダーと無機顔料からなる層を塗設した各種の塗工紙（アート紙、コート紙、キャストコート紙等）、更にはこれらの紙、透明または不透明の各種プラスチックフィルム支持体あるいは紙の両面をプラスチック趣旨で被覆した各種の支持体上に記録層としてインク受容層を塗設した記録用紙が広く用いられている。また、このインク受容層を様々な支持体上に塗布し、インク受容層を設けることで様々な媒体へのインクジェットによるプリントが可能となる。最近では紙のように折り曲げの利かないＣＤの表面などにもインク受容層を設け、印刷可能とした家庭用プリンターが開発されている。
【０００６】
上記インク受容層としては、親水性バインダーを主体に構成されるいわゆる膨潤型のインク受容層と、空隙層を持つ空隙型のインク受容層に大きく分けられる。
【０００７】
膨潤型インク受容層の利点は、インク溶媒（水および高沸点有機溶媒）が完全に蒸発した後では非常に高い光沢性と高い最高濃度が得られる点にある。しかし、インク吸収速度が後述する空隙型のインク受容層に比べて遅く、特に高沸点有機溶媒の蒸発が極めて遅いため、印字後しばらくは親水性バインダー中に高沸点有機溶媒が残存して親水性バインダーが膨潤下湿潤状態に長期間置かれることに伴う、べたつきや重ねた場合に画像が乱れるなどの問題がある。
【０００８】
一方、空隙型のインク受容層は高いインク吸収性を示す。このため、膨潤型に比較して、高インク領域における画像のビーンディングが起こりにくく高濃度領域において画質の劣化が少ない。
【０００９】
また、空隙型のインク受容層は、空隙容量がインク量に対して十分あれば空隙構造中に有機溶媒が残存していたとしても、少なくとも表面は印字直後に見かけ上乾いた状態になり、表面に触れたりプリント同士を重ね合わせたりした場合でも画像の乱れが生じにくいという利点がある。
【００１０】
上記の空隙型インク受容層を持つインクジェット記録媒体は、特に、高い光沢性、高インク吸収性、高い濃度が得られる点で優れており、しかも比較的平面性の高い支持体を使用した場合に高い光沢性を持つ。このような空隙構造を有するインク受容層を持つ記録媒体は、近年特に注目されているインクジェット記録の利用分野である写真に近い高品位の画像記録に適している。
【００１１】
しかし、空隙構造を有するインク受容層においてはもともとの皮膜の乾燥容量よりインク吸収量が少ない。例えば、乾燥幕厚が４０μｍである皮膜において、固形分が均一な容積として２２μｍである皮膜を形成するものである場合、空隙量はインクジェット記録媒体１ｍ２当たり０．０００１×（４０−２２）ｃｍ×１００００ｃｍ２＝１８ｍｌしか有さないことになり、記録方式にもよるが最大インク量付近でインク吸収容量が不足しかねない場合が生じ得る。インク吸収容量が不足する場合には溢れ画像品質を大幅に劣化させる。
【００１２】
このような空隙構造を有するインク受容層を非吸水性の支持体上に設けた場合には、多量のインクを十分吸収するためインク受容層の乾燥膜厚を十分に厚くする必要が生じる。この場合、皮膜の特性から皮膜の脆弱性がもたらされ、コスト的にも大きな不利となる。
【００１３】
さらに、画質向上の最大のポイントは、インクのドット一個一個が肉眼で識別できないようにすることである。そのためインクを小液滴化すること、あるいは特にハイライト部でドットの反射濃度を低くし、ドットの識別を困難にするので低染料濃度のインクを併用することなどがポイントとなる。このために打たれるインクの量は増加の傾向にあり、インク吸収容量が不足し溢れることによる画質や乾燥性の低下が見られるようになってきた。このため、空隙型のインク受容層を厚くする必要性が生じるが、インク受容層を厚くすると、クラックが発生しやすくなったり、乾燥能力から塗布スピードを低下したりして製造コストが増大するなどの課題がある。
【００１４】
一方、空隙構造を有するインク受容層を吸水性支持体上に設けた場合には、支持体自身が高い吸収容量とインク吸収性を持っており、インクの吸収という観点からは好ましいものであるため、非吸水性の支持体上に設けた場合に比べて、インク受容層の乾燥膜厚を薄くすることができる。
【００１５】
吸水性支持体上に空隙型のインク受容層を設けた場合、特に紙基材について、印字されたインクにより収縮を起こして歪むコックリング現象が生じやすく、印字された部分とされていない部分で平滑性が異なることで画質として好ましくないとされている。また、基材の凹凸に起因して塗工されたインク受容層の平滑性は劣化しやすいことが問題点として挙げられる。
【００１６】
吸水性支持体上に空隙型のインク受容層を設けたときのコックリングに関する解決策として、例えば、耐水化剤及び／又は水溶性高分子及び／又はサイズ剤によりセルロース繊維間結合部保護構造を形成したセルロース繊維を主成分とした電子写真・インクジェット共用紙がある（特許文献１参照）。
【００１７】
製造時の問題点として、支持体が吸水性であるため基材内部へのインク受容層塗工液の浸透が起こり、支持体自身が持つ高い吸収容量とインク吸収性を十分に発現させることができなくなるという点が挙げられる。支持体が紙などの薄い物の場合、塗工液の浸透により、メディア全体がなみうって平滑性を損ない光沢感も失ってしまうという問題が生じる。また、塗工液中のバインダーが支持体中に浸透してしまうことで、乾燥後のインク受容層が弱くなりひび割れの原因となるという問題もある。また、一般にインク受容層に使用する親水性バインダー、例えばゼラチンやポリビニルアルコール等、は、温度を下げてゲル化させる（ゼラチン）か、ホウ素などの架橋剤となる化合物によって粘度を増大させ吹き荒れや塗膜の流れ・ヨリ等を防止した状態で乾燥させ（ポリビニルアルコール）均一な膜を生成させる方法が提唱されている。このため、吸水性支持体上にこれらの方法でインク受容層を形成すると、ゲル化による流動化の抑制や乾燥が完全に進むまでの間に支持体中に塗工液やその溶媒が浸透が進み、高インク吸収性や平滑性を損なってしまう。
【００１８】
製造時の塗工液の吸水性支持体への浸透に関する問題点を解決するため、例えば、紙基材が重量平均繊維長０．４〜１．２ｍｍであるパルプ繊維を含み、インク受容層が平均粒径３〜２００ｎｍである無機微粒子及び親水性バインダーを含むインクジェット記録用紙（特許文献２参照）、水酸基を有する高分子分散剤で乳化重合したエマルジョン樹脂を含む層と、水溶性バインダーと平均粒径３〜２００ｎｍの無機微粒子を含むインク受容層が順次設けられていることを特徴とするインクジェット記録用紙（特許文献３参照）等が知られている。
【００１９】
これらの方法において、吸水性のある程度の良化は達成され、さらに紙基材を限定することで平滑性と印字されたインク溶媒が支持体に吸収された後乾燥することで支持体が収縮して波打ち、シワとなるコックリング耐性を改善した。しかし、これらの方法は構造の複雑化を生み、コストを上不利であるほか、インク吸収性の効果が不十分であったり、ひび割れ改善が充分でないといった問題があることが本発明者らの検討によりわかった。また、塗工液の乾燥時間が長く支持体への塗工液の浸透による紙のゆがみについての問題も起こる場合があることが判明した。
【００２０】
【特許文献１】
特開平１０−４６４９８号公報
【００２１】
【特許文献２】
特許２００２−６７４７４号公報
【００２２】
【特許文献３】
特許２００３−６３１３６号公報
【００２３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、膜面のひび割れがなく、平滑性に優れ、また高いインク吸収速度と吸収容量を有し、高画質で高品質なインクジェット記録用メディアを提供することを目的とする。
【００２４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決は、以下の手段により達成することができる。
【００２５】
（１）  支持体上に、主としてバインダーと微粒子から形成されるインク受容用の空隙層を設けてなるインクジェット記録媒体において、前記支持体は吸水性支持体であり、且つ、前記空隙層は電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物と微粒子を含有する水溶性塗工液を塗布し、電離放射線を照射することにより得られる多孔質層であることを特徴とするインクジェット記録媒体。
【００２６】
（２）  前記微粒子は平均粒径が３〜４００ｎｍの無機微粒子であることを特徴とする（１）記載のインクジェット記録媒体。
【００２７】
（３）  前記バインダーに対する前記微粒子の質量比は３〜１５であることを特徴とする（１）又は（２）項記載のインクジェット記録媒体。
【００２８】
（４）  前記吸水性支持体は紙であることを特徴とする（１）乃至（３）のいずれか１項記載のインクジェット記録媒体。
【００２９】
（５）  前記紙は重量平均繊維長が０．４〜１．２ｍｍのパルプ繊維を含むことを特徴とする（４）記載のインクジェット記録媒体。
【００３０】
（６）  前記側鎖に架橋基を有する平均重合度３００以上の高分子化合物は光二量化型の感光性基を有する親水性樹脂であることを特徴とする（１）乃至（５）のいずれか１項記載のインクジェット記録媒体。
【００３１】
【発明の実施の形態】
本発明に係るインクジェット記録媒体は、吸水性支持体上に電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物と微粒子を主として含有する水溶性塗工液を用い、空隙を有する多孔質なインク受容層を少なくとも一層以上形成したものである。吸水性支持体上にインク受容層を塗膜していることから、不要に膜厚を増大させること無く高いインク吸水性を得ることをができるという特長がある。
【００３２】
本発明に係る電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物は、紫外線、電子線等の電離放射線の照射により、架橋反応を起こして硬化する水溶性の樹脂であり、硬化反応前には水溶性であるが硬化反応後には架橋して分子量が増加することで実質的に非水溶性となり、耐水性の被膜を形成する樹脂である。ここで、耐水性とは例えば８０℃の温水に５分浸漬した場合の質量残存量が８５％以上のものである。ただし、係る樹脂は硬化後もある程度の親水性を有し、十分なインクの親和性を維持するものである。
【００３３】
本発明に係る電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物を親水性バインダーとして用い、また必要に応じてポリビニルアルコール等の架橋基を有さない親水性バインダーを併用し、フィラーとして用いる微粒子と混合し、必要であれば後述する添加剤等を更に混合して水溶性塗工液を調製し、これを吸水性支持体上に塗布して塗膜を形成した直後ないし塗布すると同時に塗膜に紫外線等の電離放射線を照射して、架橋反応を生じさせ、水溶性塗膜の粘度を上昇させ、流動化を防いで（セットさせて）均一な膜を形成させるものである。電離線照射後に塗膜を乾燥させ、吸収性支持体上に均一な空隙を有する多孔質層を形成することができる。
【００３４】
本発明においては、電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物と微粒子を含む水溶性塗工液を、吸水性支持体上に塗布後、これを、電離放射線によって即座に架橋し塗膜の流動性を防ぐことができるうえ、塗布膜をセットさせる等のために低温に維持したり、架橋剤を添加したりする必要が無く、高温で迅速に乾燥させることができ、塗工液の溶媒が浸透していくのを防ぐため、きわめて良い平滑性が得られる。また、支持体上に架橋剤を添加する必要が無いので、ホウ素などの架橋剤を支持体表面に塗布することで、表面近傍で架橋剤の濃度が高くなり高架橋になってしまうことが原因であると考えられるインク受容層のひび割れについても防止できる。
【００３５】
本発明に係る電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物は、重合開始剤や重合禁止剤等を必ずしも実質的に使用する必要がなく、また、架橋反応後に未反応遊離基が発生せず、さらに、折り割れやひび割れに強い層を形成することができる。
【００３６】
以下に、本発明に係る電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物について説明する。
【００３７】
このような高分子化合物としては、ポリ酢酸ビニルのケン化物、ポリビニルアセタール、ポリエチレンオキサイド、ポリアルキレンオキサイド、ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、及びこれらの共重合体、並びにこれら親水性樹脂の誘導体に、光二量化型、光分解型、光重合型、光変性型、光解重合型などの変性基により変性したものであるが、中でも光二量化型のものが好ましい。
【００３８】
本発明に係る電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する高分子化合物は、平均重合度が３００以上であることが必要であるが、好ましくは平均重合度が４００以上、より好ましくは１０００以上である。また、その上限については特に制限はないが、概ね５０００程度である。
【００３９】
前記高分子化合物の平均重合度は、側鎖の架橋性基を修飾する前段階の高分子溶液の粘度から粘度平均重合度を決定した。例えば、高分子化合物にポリビニルアルコールを用いる場合、ＪＩＳ  Ｋ−６７２６に示される方法に準じて重合度を決定できる。
【００４０】
光二量化型の変性基としては、ジアゾ基、シンナモイル基、スチリルピリジニウム基、スチリルキノリウム基が挙げられ、好ましく、光二量化後、アニオン染料等の水溶性染料により染色される樹脂が好ましい。このような樹脂としては、たとえば一級アミノ基ないし四級アンモニウム基等のカチオン性基を有する樹脂、たとえば特開昭６２−２８３３３９号、特開平１−１９８６１５号、特開昭６０−２５２３４１号、特開昭５６−６７３０９号、特開昭６０−１２９７４２号等の各公報に記載された感光性樹脂、硬化処理によりアミノ基になるアジド基のような硬化後カチオン性になる樹脂、たとえば特開昭５６−６７３０９号公報等に記載された感光性樹脂があげられる。
【００４１】
具体的には、例えば次のようなものがあげられる。
本発明においては、特開昭５６−６７３０９号公報記載の感光性樹脂が好ましく用いられ、これはポリビニルアルコール構造体中アジド基を有する下記式（Ｉ）
【００４２】
【化１】
2005040955.tif 000002
【００４３】
で表される２−アジド−５−ニトロフェニルカルボニルオキシエチレン構造、又は下記式（ＩＩ）
【００４４】
【化２】
2005040955.tif 000003
【００４５】
で表される４−アジド−３−ニトロフェニルカルボニルオキシエチレン構造を有する樹脂である。
【００４６】
樹脂の具体例は該公報中の実施例１〜２に、樹脂の構成成分及びその使用割合は該公報第２頁に記載されている。
【００４７】
また。特開昭６０−１２９７４２号公報記載の感光性樹脂は、ポリビニルアセタール構造体中にスチリルピリジニウム基又はスチリルキノリニウムを有する下記式（ＩＩＩ）または（ＩＶ）
【００４８】
【化３】
2005040955.tif 000004
【００４９】
で示される構造単位を有するポリビニルアセタール樹脂である。式中、Ｒ１は炭素数１〜４のアルキル基を示し、Ａ−はアニオンを示すが、これらは、ポリビニルアセタールまたは部分鹸化ポリ酢酸ビニルに、ホルミル基を有するスチリルピリジニウム塩またはスチリルキノリニウム塩を作用させて製造した、スチリルピリジニウム構造、或いはスチリルキノリニウム構造を有する構造単位を有するポリビニルアセタール樹脂であり、製造法については特開昭６０−１２９７４２号公報に詳細に記載されており、これを参考に容易に製造できる。
【００５０】
また、下記構造を有するものも好ましい。
【００５１】
【化４】
2005040955.tif 000005
【００５２】
式中Ｒは、フェニレン基である。
さらに、特開２０００−１８１０６２号公報に開示の下記構造を有するものも好ましい。
【００５３】
【化５】
2005040955.tif 000006
【００５４】
Ｒ１＝Ｍｅ、Ｈ
ｎ＝１、２
Ｘ＝−（ＣＨ２）ｍ−ＣＯＯ−、−Ｏ−（ＣＨ２）−ＣＯＯ−、−Ｏ−
Ｙ＝芳香族環または単結合
ｍ＝０〜６までの整数
電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物中における架橋基の割合は、セグメントに対する電離放射線反応架橋基の変性率は、４ｍｏｌ％以下であることが望ましく、より好ましくは０．０１〜１ｍｏｌである。
【００５５】
本発明においては、電離放射線として紫外線を使用する場合、光開始剤や増感剤を添加することが好ましい。これらの化合物は溶媒に溶解、または分散した状態か、もしくは感光性樹脂に対して化学的に結合されていてもよい。
【００５６】
光開始剤、光増感剤については特に制限はなく、従来公知の化合物を用いることができる。
【００５７】
例えば、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ビス−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゾフェノン、ビス−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン類；チオキサトン、２、４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、クロロチオキサントン、イソプロポキシクロロチオキサントン等のチオキサントン類；エチルアントラキノン、ベンズアントラキノン、アミノアントラキノン、クロロアントラキノン等のアントラキノン類；アセトフェノン類；ベンゾインメチルエーテル等のベンゾインエーテル類；２，４，６−トリハロメチルトリアジン類；１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のフェニルケトン類；２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール２量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−フェニルイミダゾール２量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−フェニルイミダゾール２量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２，−ジ（ｐ−メトキシフェニル）−５−フェニルイミダゾール２量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２，４，５−トリアリールイミダゾール２量体等のイミダゾール類；ベンジルジメチルケタール；２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン；２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−１−プロパノン；２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン；１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン；フェナントレンキノン、９，１０−フェナンスレンキノン等のキノン類；メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等ベンゾイン類；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン類；ビスアシルフォスフィンオキサイド等が挙げられ、単独で使用しても混合して使用してもかまわない。
【００５８】
特に、水溶性の４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、チオキサントンアンモニウム塩、ベンゾフェノンアンモニウム塩等の水溶性光開始剤が、混合性等に優れ架橋効率の観点から好ましい。
【００５９】
光開始剤の使用量は、光開始剤の種類や架橋基の種類によっても異なるが、概ね電離放射線を照射することにより架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物に対し０．１〜２０％であり、好ましくは０．５〜１０％である。
【００６０】
本発明においては、これらの光開始剤に加え、促進剤等を添加することもできる。これらの例として、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等があげられる。
【００６１】
電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物は、本発明が目的とする諸性能を落とさない限りにおいて、一種類ないしそれ以上の親水性バインダーと混合して使用してもよい。
【００６２】
併用される親水性バインダーとしては、特に制限は無く、従来公知の親水系バインダーを用いることができ、例えば、ゼラチン、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキシド、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール等を用いることができるが、ポリビニルアルコールが特に好ましい。
【００６３】
ポリビニルアルコールは、無機微粒子との相互作用を有しており、無機微粒子に対する保持力が特に高く、更に、吸湿性等の温度依存性が比較的小さなポリマーであり、塗布乾燥時の収縮応力が比較的小さくインクジェット記録媒体という観点から好ましい。これら好ましいポリビニルアルコールとしては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールのほかに、末端をカチオン変性したポリビニルアルコールや、アニオン性基を有するアニオン変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコールも含まれる。
【００６４】
酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールとしては平均重合度が３００以上のものが好ましく用いられ、特に平均重合度が１０００〜５０００のものが好ましく用いられる。ケン化度は７０〜１００％のものが好ましく、８０〜９９．５％のものがより好ましい。
【００６５】
カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭６０−１０４８３号公報に記載されているような、第１〜３級アミノ基や第４級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、これらはカチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。
【００６６】
本発明に係る空隙層の形成に用いられる微粒子としては、無機微粒子や有機微粒子を用いることができるが、特に、小粒径が得られやすく、高光沢を呈しやすく更に高濃度のプリント画像が得られることから、無機微粒子が好ましい。
【００６７】
そのような無機微粒子としては、例えば、軽質炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、カオリン、クレー、タルク、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、水酸化亜鉛、硫化亜鉛、ハイドロタルサイト、珪酸アルミニウム、ケイソウ土、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、コロイダルアルミナ、擬ベーマイト、水酸化アルミニウム、リトポン、ゼオライト、水酸化マグネシウム、などの白色無機顔料を挙げることができる。
【００６８】
本発明においては高品質なプリントを得る観点から、無機微粒子として、アルミナ、擬ベーマイト、コロイダルシリカもしくは気相法により合成されたシリカが好ましく、気相法で合成されたシリカが特に好ましい。この気相法で合成されたシリカは表面がアルミニウムで修飾されたものであっても良い。
【００６９】
上記無機粒子は、一次粒子のままでも、あるいは二次粒子もしくはそれ以上の凝集粒子で多孔質層に存在していても良いが、高い光沢性を得る観点からすると、平均粒径は小さいことが好ましい。さらに、電離放射線の散乱による架橋反応の阻害を防止するという観点から、空隙層中における平均粒径が４００ｎｍ以下であることが好ましく、２００ｎｍ以下であるものが特に好ましく用いられる。粒径の下限は特に限定されないが、無機微粒子の製造上の観点から３ｎｍ以上が好ましい。
【００７０】
上記無機粒子の平均粒径はインク受容層の断面や表面を電子顕微鏡で観察し、１００個の任意の粒子の粒径を求めて、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで、個々の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定した時の直径で表したものである。
【００７１】
本発明に係わるインク受容層の空隙を形成するバインダーに対する微粒子の質量比は２〜３０であることが好ましい。質量比が２以上であれば空隙を形成することが可能であり、質量比の増加に伴いインク吸収速度の向上が可能となる。質量比３０以下であれば、ひび割れが生じにくく良好な空隙層を形成でき好ましい。インク吸収速度とひび割れ両立する観点で、バインダーに対する微粒子の質量比は３〜１５の範囲であることが特に好ましい。
【００７２】
ここで、「バインダーに対する微粒子の質量比」におけるバインダー質量は、インク受容用の空隙層を形成するバインダーの全質量である。インク受容用の空隙層を形成するバインダーが、本発明に係る電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物だけであるときには、その質量であり、その他の親水性バインダーと混合して使用するときには、両者の総質量である。
【００７３】
本発明に係るインク受容用の空隙層を形成する水溶性塗工液中には、目的に応じて各種の添加剤を添加することができる。添加剤としては、例えば、カチオン製媒染剤、架橋剤、界面活性剤（カチオン、ノニオン、アニオン、両性）、白地色調調整剤、蛍光増白剤、防黴剤、粘度調整剤、低沸点有機溶媒、高沸点有機溶媒、ラテックスエマルジョン、退色防止剤、紫外線吸収剤、多価金属化合物（水溶性もしくは非水溶性）、マット剤、シリコンオイル等が挙げられるが、中でもカチオン性媒染剤は、印字後の耐水性や耐湿性を改良するために好ましい。
【００７４】
カチオン性媒染剤としては、第１級〜第３級アミノ基および第四級アンモニウム塩基を有するポリマー媒染剤が用いられるが、径時での変色や耐光性の劣化が少ないこと、染料の媒染能が十分高いことなどから、第４級アンモニウム塩基を有するポリマー媒染剤が好ましい。
【００７５】
電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物は、本発明が目的とする諸性能を落とさない限りにおいて、一種類ないしそれ以上の親水性バインダーと混合して使用してもよいことは、前記した。この場合、親水性バインダーの架橋剤を併用して含有させたり、塗膜形成又は乾燥後にオーバーコートさせることもできる。架橋剤によりインク受容用の空隙層の耐水性がさらに改善され、インクジェット記録時に親水性バインダー膨潤が抑制されるためにインク吸収速度が向上する。
【００７６】
架橋剤としては、従来公知の架橋剤を使用することができる。例えば、無機系架橋剤（例えば、クロム化合物、アルミニウム化合物、ジルコニウム化合物、ホウ酸類など）や有機系化合物（例えば、エポキシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アルデヒド系架橋剤、Ｎ−メチロール系架橋剤、アクリロイル系架橋剤、ビニルスルホン系架橋剤、活性ハロゲン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、エチレンイミド系架橋剤）等を使用することができる。これらの架橋剤は、親水性バインダーに対して、概ね１〜５０質量％であり、好ましくは２〜４０質量％である。
【００７７】
本発明に係る電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物と併用する親水系バインダーがポリビニルアルコール類であり、微粒子がシリカである場合、架橋剤としては、３属、４属元素を含む化合物、特にホウ酸類やアルミニウム化合物、ジルコニウム化合物などの無機系架橋剤およびエポキシ系架橋剤が特に好ましい。
【００７８】
本発明に係るインク受容用の空隙層を形成する水溶性塗工液中に、多価金属化合物を添加することができる。水溶性多価金属化合物としては、例えば、Ｍｇ２＋、Ｃａ２＋、Ｚｎ２＋、Ｚｒ２＋、Ｎｉ２＋、Ａｌ３＋等の硫酸塩、塩化物塩、硝酸塩、酢酸塩等の形で用いることができる。また、塩基性ポリ水酸化アルミニウムや酢酸ジルコニウム等の有機ポリマー化合物も好ましい水溶性多価金属化合物の例に含まれる。これら水溶性多価金属化合物は、一般に、耐光性を向上したり、滲みや耐水性を向上させる機能を有するものが多い。これら水溶性多価金属化合物は、インクジェット記録媒体１ｍ２当たり、概ね０．０５〜２０ｍｍｏｌ、好ましくは１．０〜１０ｍｍｏｌの範囲で用いられる。
【００７９】
次に本発明に係る吸水性支持体について説明する。
一般にインクジェット記録媒体の支持体として吸水性支持体を用いると、吸水により収縮、膨潤等によって大きな変化を起こし、インク受容層のクラックを引き起こすので望ましくない。しかしながら、本発明においてはインク受容用の空隙層を形成する水溶性塗工液のゲル化までが迅速であるため、形状や塗布面の凹凸に依らず一様な厚みの空隙層を形成することができる。
【００８０】
本発明において必要とされる吸水性支持体の吸水量は、インク受容層の膜厚や支持体の厚み、必要とするインク吸収量などによって異なるが、支持体の厚みが１．２ｍｍ以下のものである場合、０．３ｍｇ／ｃｍ２以上が好ましく、１ｍｇ／ｃｍ２以上がより好ましい。
【００８１】
本発明の吸水性支持体の厚さは、１００μｍ以上あることが好ましい。これより薄い場合、支持体自身がインク溶媒を吸収し、記録後のインク溶媒の乾燥により、支持体が波打ち状になってシワが画像状に生じやすくなる。特に好ましくい吸水性支持体の厚さは１５０μｍ以上であり、更に好ましくは２００μｍ以上である。上限については特に制限はないが、取り扱い性の点から概ね５００μｍであるが、吸水性支持体の厚さは４００μｍ以下とすることが特に好ましい。
【００８２】
次に本発明に係る吸収性支持体の素材について説明する。
吸水性支持体としては、吸水性を持つものであれば無機物、有機物を問わない。例として、紙、ポリアクリロニトリル、レーヨン、ナイロン、ポリプロピレン、ポリエステル、ビニロン、ポリエチレン、ポリウレタン、綿、セルロースパルプ等を原料とする不織布；ろ紙、ニトロセルロース、セルロースアセテート、綿ガーゼ、ガラス繊維、その他の化学・天然素材からなる繊維等により構成されたシート状支持体、膨潤型インクジェット受容層等吸水層を有するシート型支持体が挙げられる。形状、厚み等は特に制限されないため、そのほかにも、木材、布、吸水性セラミックス等についても本発明は適用可能である。
【００８３】
これらの中でも紙は基材自身の吸水性が優れ、かつ、コスト的にも優れるために最も好ましい。以下に紙支持体について説明する。耐水処理などが施された吸水性を持たない特殊な紙で無い限り、本発明の効果を得ることができる。
【００８４】
本発明においては、コックリング現象を起こさないという観点から、重量平均長０．４〜１．２ｍｍであるパルプ繊維を含む紙基材が好ましく、より好ましくは重量平均繊維長が０．５〜０．９ｍｍであり、特に好ましくは０．５５〜０．６５ｍｍである。重量平均繊維長は、ＪＡＰＡＮ  ＴＡＰＰＩ紙パルプ試験方法Ｎｏ．５２に準拠して測定した値である。本発明をこの紙基材に適応することでコックリング現象を抑え且つ、塗工液の支持体への浸透を防ぐことができ、平滑性に優れ、安価で高画質特性を有したインクジェット記録媒体を得ることができる。
【００８５】
重量平均繊維長を調整する方法としては、本発明範囲内の繊維長の樹種から製造したパルプを用いる方法と、叩解で繊維長を調整する方法があるが、後者の方が実用的である。叩解に使用される設備としては、ビーター、コニカルリファイナー、ディスクリファイナー等をカッティング叩解が起こりやすい条件に設定して使用することができる。
【００８６】
多孔質基材の原料としては、ＬＢＫＰ、ＮＢＫＰ等の化学パルプ、ＧＰ、ＣＧＰ、ＲＭＰ、ＴＭＰ、ＣＴＭＰ、ＣＭＰ、ＰＧＷ等の機械パルプ、ＤＩＰ等の古紙パルプ、等の木材パルプを主原料としたものが使用可能であるが、広葉樹パルプを使用するのが好ましい。広葉樹パルプとしてはクラフトパルプ、サルファイトパルプ、ケミサーモメカニカルパルプ、ケミメカニカルパルプ等を単独あるいは数種類併用しても良い。また、必要に応じて合成パルプ、合成繊維、無機繊維等の各種繊維状物質も原料として適宜使用することが出来る。
【００８７】
また、不純物の少ない化学パルプ（硫酸塩パルプや亜硫酸パルプ）が好ましく用いられ、漂白処理を行って白色度を向上させたパルプも有用である。白色度の向上の点から、原料であるパルプに過酸化物等による漂白処理が施されるのが好ましい。漂白処理は、パルプを蒸解後、塩素処理、アルカリ処理もしくは抽出あるいは精製、次亜塩素酸塩漂白、二酸化塩素漂白及びそれらの組み合わせ多段漂白処理、さらに必要に応じてハイドロサルファイト、水素化ホウ素ナトリウムなどによる還元漂白の後に、施されるのが好ましい。更に好ましくは、アルカリ性での過酸化物漂白処理は、パルプを蒸解後、従来公知のパルプ漂白処理後に最後のパルプ漂白処理として施されるのがよいが、アルカリ処理もしくは抽出あるいは精製を更に施してもよい。
【００８８】
紙基材中には必要に応じて、サイズ剤、顔料、紙力増強剤、定着剤等、蛍光増白剤、湿潤紙力剤、カチオン化剤等の従来公知の各種添加剤を添加することができる。サイズ剤としては必要に応じて高級脂肪酸、アルキルケテンダイマー、ロジン、パラフィンワックス、アルケニルコハク酸、石油樹脂エマルジョン等のサイズ剤を添加することができる。顔料としては炭酸カルシウム、タルク、酸化チタン、尿素樹脂微粒子等が、紙力増強剤としてはスターチ、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール等が、定着剤としては硫酸バンド、カチオン性高分子電解質等が挙げられるがこれに限定されるものではない。
【００８９】
吸水性支持体に紙支持体を用いた場合の厚みはコックリングなど平滑性に関する観点から１００μｍ以上、取り扱い性の点から、１ｍｍ以下であることが好ましく、０．４μｍ以下とすることが特に好ましい。
【００９０】
本発明に係る電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物と微粒子を含有する水溶性塗工液を吸水性支持体上に塗布する塗布方法としては、公知の方法から適宜選択して行うことができる。例えば、グラビアコーティング法、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、押出塗布方法、カーテン塗布方法あるいは米国特許２，６８１，２９４号明細書に記載のホッパー法を使用するエクストルージョンコート法が好ましく用いられる。
【００９１】
本発明に係るインク受容用の空隙層の膜厚は、概ね１０〜６０μｍ、好ましくは２０〜５０μｍである。このような厚みに調整するためには、電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物と微粒子を含有する水溶性塗工液のウエット膜厚を４０〜２４０μｍ、好ましくは８０〜２００μｍになるように、水溶性塗工液中の固形分濃度を６〜２５質量％、好ましくは１０〜２０質量％になるように調製すればよい。
【００９２】
水溶性塗工液の溶媒としては、好ましくは水であり、必要に応じて水溶性の有機溶媒を混合することができる。混合することのできる有機溶媒としては、例えば、エタノール、メタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール等の低分子アルコールやグリセリンやジエチレングリコール等のグリコール類などを挙げることができる。
【００９３】
本発明に係る電離放射線としては、例えば電子線、紫外線、α線、β線、γ線、エックス線等が挙げられるが、取り扱いが容易で、工業的にもその利用が普及しているという点から電子線、紫外線が好ましい。
【００９４】
電子線の照射方法としては、例えばスキャニング方式、カーテンビーム方式、ブロードビーム方式などがあるが、処理能力の観点からカーテンビーム方式が好ましい。電子線の加速電圧は、塗膜の比重と膜厚により適時変化させることができるが、２０ｋＶ〜３００ｋＶが適当である。電子線の照射量は０．１〜２０Ｍｒａｄの範囲が好ましい。
【００９５】
紫外線の光源として、例えば数ｍｍＨｇから１０気圧までの動作圧力を有する低圧、中圧、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が用いられる。光源の波長分布という観点で高圧水銀灯、メタルハライドランプが好ましく、メタルハライドランプがより好ましい。また、３００ｎｍ以下の波長光をカットするフィルターをもうけることが好ましい。ランプの出力としては４００Ｗ〜３０ｋＷ、照度としては１０ｍＷ／ｃｍ２〜１Ｗ／ｃｍ２、照射エネルギーとしては０．１ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１ｍＪ／ｃｍ２〜１００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
【００９６】
本発明に係るインク受容用の空隙層は、電離放射線の照射により架橋する架橋基を側鎖に有する平均重合度３００以上の高分子化合物と微粒子を含有する水溶性塗工液を塗布し、電離放射線を照射することにより得られる。電離放射線を照射後の乾燥条件としては温風を吹き付けて行うのが均一な膜面を得る点から好ましい。温風は、乾燥時間という点では高温であるほど好ましいが、ひび割れの点では低温であることが好ましく、２０℃〜８０℃が好ましい。乾燥時間は膜厚にもよるが概ね１０分以下、特に５分以内にするのが好ましい。
【００９７】
本発明に係るインクジェット記録媒体は、必須の構成層としては、インク受容用の空隙層であるが、必要に応じて他の機能層、例えば、光沢発現層等を設けることができる。また、インク受容用の空隙層は、単層であっても多層であっても良く、多層構造の場合には、すべての層を同時に塗布することが製造コストの点から望ましい。
【００９８】
本発明に係るインクジェット記録媒体を用いて画像記録する際には水性インクを用いた記録方法が好ましく用いられ、水性インクとしては水性染料インクであっても水性顔料インクであってもよい。水性染料インク、または水性顔料インクとは、下記着色剤及び液媒体、その他の添加剤を有する記録液体である。
【００９９】
着色剤としてはインクジェットで公知の直接染料、酸性染料、塩基性染料、反応性染料あるいは食品用色素等の水溶性染料、あるいはアゾ顔料、フタロシアニン顔料、染料レーキ等の有機顔料やカーボンブラック等の無機顔料といった水性顔料が使用できる。その他の水性インクの添加剤としては、例えば、水溶性有機溶剤（例えばプロパノール、ヘキサノール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ヘキサンジオール、尿素等）、界面活性剤、水溶性ポリマー、防腐剤、防黴剤、粘度調整剤、ｐＨ調整剤等をあげることができる。
【０１００】
【実施例】
以下に本発明の実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施態様に限定されるものではない。
【０１０１】
（実施例１）
《シリカ分散液の調製》
〈シリカ分散液１の調製〉
アエロジル３００（日本アエロジル（株）製、一次粒子の平均粒径：７ｎｍ）の２３質量％の分散液（ｐＨ２．８、エタノール１質量％含有）４００ｇにカチオン性ポリマーの２８質量％水溶液を４０ｇ、ホウ酸２．１ｇおよびホウ砂１．５ｇを溶解した水溶液６９ｍｌを添加し、ディゾルバーでプレ分散した。このプレ分散液をサンドミル分散機に分散した。分散液の全量を６３０ｍｌに仕上げた後、アドバンテックス東洋社製のＴＣＰ−１０タイプのフィルターを用いてろ過を行い、ほぼ透明な分散液（シリカ分散液１という）を得た。
【０１０２】
シリカ分散液１を希釈して透明な支持体上に塗布し、シリカの平均粒径を電子顕微鏡にて前記の方法により測定した結果、平均粒径は５０ｎｍであった。
【０１０３】
【化６】
2005040955.tif 000007
【０１０４】
〈シリカ分散液２の調製〉
アエロジル３００に代えて、ＮｉｐｇｅｌｌＡＺ２００（日本シリカ工業（株）製、一次粒子の平均粒径１０ｎｍ）を用いた以外はシリカ分散液１の調製と同様にしてシリカ分散液（シリカ分散液２という）を得た。平均粒径は３８０ｎｍであった。
【０１０５】
〈シリカ分散液３の調製〉
シリカ分散液２の調製において、分散時に採取したシリカの平均粒径が４５０ｎｍになった時点で分散を終了した以外は同様にしてシリカ分散液３を得た。平均粒径は４５０ｎｍであった。
【０１０６】
《水溶性塗工液の調製》
〈水溶性塗工液１の調製〉
シリカ分散液１の６１５ｍｌに４０℃で攪拌しながら、スチリルピリジニウム基を側鎖に有する濃度１０％に調整した光架橋性のポリビニルアルコール誘導体水溶液（東洋合成工業社製：ＳＰＰ−ＳＨＲ主鎖ＰＶＡ平均重合度３５００、ケン化度８８％）１３０ｍｌを攪拌しながら徐々に加え、界面活性剤（サポニン）を添加して、全体の液が１０００ｍｌになるように純水を加えて、半透明状の水溶性塗工液を調製した。
【０１０７】
〈水溶性塗工液２の調製〉
シリカ分散液２の６１５ｍｌに４０℃で攪拌しながら、スチリルピリジニウム基を側鎖に有する濃度１０％に調整した光架橋性のポリビニルアルコール誘導体水溶液（東洋合成工業社製：ＳＰＰ−ＳＨＲ主鎖ＰＶＡ、平均重合度３５００、ケン化度８８％）１３０ｍｌを攪拌しながら徐々に加え、界面活性剤（サポニン）を添加して、全体の液が１０００ｍｌになるように純水を加えて、半透明状の水溶性塗工液を調製した。
【０１０８】
〈水溶性塗工液３の調製〉
シリカ分散液３の６１５ｍｌに４０℃で攪拌しながら、スチリルピリジニウム基を側鎖に有する濃度１０％に調整した光架橋性のポリビニルアルコール誘導体水溶液（東洋合成工業社製：ＳＰＰ−ＳＨＲ主鎖ＰＶＡ、平均重合度３５００、ケン化度８８％）１３０ｍｌを攪拌しながら徐々に加え、界面活性剤（サポニン）を添加して、全体の液が１０００ｍｌになるように純水を加えて、半透明状の水溶性塗工液を調製した。
【０１０９】
〈水溶性塗工液４の調製〉
シリカ分散液１の６１５ｍｌに４０℃で攪拌しながら、スチリルピリジニウム基を側鎖に有する濃度１０％に調整した光架橋性のポリビニルアルコール誘導体水溶液（東洋合成工業社製：ＳＰＰ−ＳＨＲ主鎖ＰＶＡ、平均重合度３５００、ケン化度８８％）１３０ｍｌを攪拌しながら徐々に加え、界面活性剤（サポニン）を添加して、全体の液が１０００ｍｌになるように純水を加えて、半透明状の水溶性塗工液を調製した。
【０１１０】
〈水溶性塗工液５の調製〉
酸処理ゼラチン（等電点＝７．８）４２ｇ、サポニン（５質量％水溶液）２５ｍｌ、ＤＩＤＰ分散液４０ｍｌ、酸化チタン分散液４０ｍｌを純水中に加え１０００ｍｌとした。
【０１１１】
ＤＩＤＰ分散液；ジイソデシルフタレート（３ｇ）と蛍光増白剤−１（０．１５ｇ）を酢酸エチル８ｍｌに加熱溶解し、酸処理ゼラチンを８％とサポニンを２％含有する水溶液２０ｍｌに混合し、乳化分散してから全量４０ｍｌに仕上げたもの。
【０１１２】
酸化チタン分散液；ＫＲ３１０（チタン工業株式会社製）の１２ｇを純水３０ｍｌに加え高圧ホモジナイザーを用いて１０，０００回転で５分間分散した後、全量を４０ｍｌに仕上げたもの。
【０１１３】
【化７】
2005040955.tif 000008
【０１１４】
《吸水性支持体の作製》
カナダ標準濾水度が３３０ｍｌまで叩解した広葉樹晒亜硫酸パルプ（ＬＢＫＰ）７０質量部、カナダ標準濾水度が２８０ｍｌまで叩解した針葉樹晒亜硫酸パルプ（ＬＢＫＰ）２５質量部、カナダ標準濾水度が２８０ｍｌまで叩解した広葉樹グラフトパルプ（ＬＢＫＰ）５質量部を混合し、ダブルディスクリファイナーにより重量平均繊維長０．６５ｍｍ、１．５０ｍｍとなるパルプを得た。叩解パルプそれぞれ１００部に対しカチオン化澱粉を２．０部、サイズ剤としてアルキルケテンダイマー樹脂を０．４部、アニオン性ポリアクリルアミド樹脂０．１部、ポリアミドポリアミンエピクロールヒドリン樹脂０．７部を添加し、苛性ソーダでｐＨ７．５に調整した後、長網抄紙機で重量平均繊維長０．３ｍｍのパルプについては秤量１０６ｇ、厚さ２００μｍの原紙Ａ、重量平均繊維長０．６５ｍｍのパルプについては秤量２１２ｇ、厚さ２００μｍの原紙Ｂを得た。
【０１１５】
《インクジェット記録媒体の作製》
〈インクジェット記録媒体１の作製〉（本発明試料１）
水溶性塗工液１を、原紙Ａの片面にバーコーターにより湿潤膜厚１５５μｍで塗布し、その後３６５ｎｍに主波長を持つメタルハライドランプで、エネルギー量で４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、その後６０℃の熱風型オーブンで乾燥させてインクジェット記録媒体１を得た。
【０１１６】
〈インクジェット記録媒体２の作製〉（本発明試料２）
水溶性塗工液２を、原紙Ａの片面にバーコーターにより湿潤膜厚１５５μｍで塗布し、その後３６５ｎｍに主波長を持つメタルハライドランプで、エネルギー量で４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、その後６０℃の熱風型オーブンで乾燥させてインクジェット記録媒体２を得た。
【０１１７】
〈インクジェット記録媒体３の作製〉（本発明試料３）
水溶性塗工液３を、原紙Ａの片面にバーコーターにより湿潤膜厚１５５μｍで塗布し、その後３６５ｎｍに主波長を持つメタルハライドランプで、エネルギー量で４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、その後６０℃の熱風型オーブンで乾燥させてインクジェット記録媒体３を得た。
【０１１８】
〈インクジェット記録媒体４の作製〉（本発明試料４）
水溶性塗工液１を、原紙Ｂの片面にバーコーターにより湿潤膜厚１５５μｍで塗布し、その後３６５ｎｍに主波長を持つメタルハライドランプで、エネルギー量で４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、その後６０℃の熱風型オーブンで乾燥させてインクジェット記録媒体４を得た。
【０１１９】
〈インクジェット記録媒体５の作製〉（本発明試料５）
水溶性塗工液２を、原紙Ｂの片面にバーコーターにより湿潤膜厚１５５μｍで塗布し、その後３６５ｎｍに主波長を持つメタルハライドランプで、エネルギー量で４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、その後６０℃の熱風型オーブンで乾燥させてインクジェット記録媒体５を得た。
【０１２０】
〈インクジェット記録媒体６の作製〉（本発明試料６）
水溶性塗工液３を、原紙Ｂの片面にバーコーターにより湿潤膜厚１５５μｍで塗布し、その後３６５ｎｍに主波長を持つメタルハライドランプで、エネルギー量で４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、その後６０℃の熱風型オーブンで乾燥させてインクジェット記録媒体６を得た。
【０１２１】
〈インクジェット記録媒体７の作製〉（比較試料１）
原紙Ａの片面に乾燥後の質量が１ｍ２当り１．０ｇとなるようホウ砂の水溶液を塗布し、乾燥した後、水溶性塗工液４をバーコーターにより湿潤膜厚１５５μｍとなるよう塗布し、その後６０℃の熱風型オーブンで乾燥させてインクジェット記録媒体７を得た。
【０１２２】
〈インクジェット記録媒体８の作製〉（比較試料２）
原紙Ｂについてインクジェット記録媒体７と同様の処理を行いインクジェット記録媒体８を得た。
【０１２３】
〈インクジェット記録媒体９の作製〉（比較試料３）
原紙Ａの片面に乾燥後の質量が１ｍ２当り５．０ｇとなるよう水溶性塗工液５を４０℃で塗布、乾燥し非多孔質中間層を形成した後、水溶性塗工液４をバーコーターにより湿潤膜厚１５５μｍとなるよう塗布し、その後６０℃の熱風型オーブンで乾燥させてインクジェット記録媒体９を得た。
【０１２４】
〈インクジェット記録媒体１０の作製〉（比較試料４）
原紙Ｂについてインクジェット記録媒体９と同様の処理を行いインクジェット記録媒体１０を得た。
【０１２５】
《特性評価》
以上により得られた各記インクジェット記録媒体について、まだら、膜面のひび割れ、および支持体のうねりに対する評価を行った。
【０１２６】
〈まだらの評価〉
セイコーエプソン社製のインクジェットプリンター、ＰＭ７５０Ｃを使用して、マゼンタのベタ印字を行い、画像部分のマダラ発生を目視評価した。インク吸収速度が遅い場合、マダラ発生が多くなる。評価ランクは以下のように行った。
【０１２７】
◎；まったくムラが無い
○；良く観察すると若干のムラが見られるレベル
△；ムラがベタ印字では見られるレベル
×；ムラが多く画像レベルで問題である
〈膜面のひび割れの評価〉
印字前の膜面のひび割れについて、以下のような基準で目視で評価を行った。
【０１２８】
◎；殆どひびは入っておらず平滑である
○；若干のひびが見られるが許容されるレベル
△；膜面にひびが多く見られるレベル
×；ひびが多く製品として許容されないレベル
〈支持体のうねりの評価〉
塗工液浸透による印字前の支持体のうねりについて、以下のような基準で目視で評価を行った。
【０１２９】
◎；まったくうねりも見られず平滑である
○；長期の波うちが若干見られるが製品として問題のないレベル
△；はっきりとした支持体のうねりが確認できるレベル
×；うねりがひどく使用上問題のあるレベル
なお、○と◎が本発明において許容できるレベルである。
【０１３０】
結果を表１に示す。
【０１３１】
【表１】
2005040955.tif 000009
【０１３２】
表１の結果から、本発明に係るインクジェット記録媒体は、まだら、膜面のひび割れ、および支持体のうねりに対する評価の全てに亘って、許容できるレベルであることがわかる。
【０１３３】
（実施例２）
〈水溶性塗工液６の調製〉
特開２０００−１８１０６２号公報を参考にして、平均重合度３００、ケン化度８８％のポリビニルアルコールにｐ−（３−メタクリロキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）ベンズアルデヒドを反応させ、架橋基変性率１ｍｏｌ％、濃度１０％の光架橋性のポリビニルアルコール誘導体の水溶液を作製した。
【０１３４】
シリカ分散液１の６１５ｍｌに４０℃で攪拌しながら、光架橋性のポリビニルアルコール誘導体の水溶液１６０ｍｌを攪拌しながら徐々に加え、光重合開始剤（日本化薬製カヤキュアＱＴＸ、チバ・スペシャリティケミカルズ製イルガキュア２９５９）０．８ｇおよび界面活性剤（サポニン）を添加して、全体の液が１０００ｍｌになるように純水を加えて、半透明状の水溶性塗工液を得た。
【０１３５】
〈インクジェット記録媒体１１の作製〉（本発明試料７）
上記調製した水溶性塗工液６を、原紙Ｂの片面にバーコーターにより湿潤膜厚１５５μｍで塗布し、その後３６５ｎｍに主波長を持つメタルハライドランプで、エネルギー量で４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、その後６０℃の熱風型オーブンで乾燥させてインクジェット記録媒体１１を得た。
【０１３６】
〈水溶性塗工液７の調製〉
特開２０００−１８１０６２号公報を参考にして、平均重合度２５０、ケン化度８８％のポリビニルアルコールにｐ−（３−メタクリロキシ−２−ヒドロキシプロピルオキシ）ベンズアルデヒドを反応させ、架橋基変性率１ｍｏｌ％、濃度１０％の光架橋性のポリビニルアルコール誘導体の水溶液を作製した。
【０１３７】
シリカ分散液１の６１５ｍｌに４０℃で攪拌しながら、光架橋性のポリビニルアルコール誘導体の水溶液１６０ｍｌを攪拌しながら徐々に加え、光重合開始剤（日本化薬製カヤキュアＱＴＸ、チバ・スペシャリティケミカルズ製イルガキュア２９５９）０．８ｇおよび界面活性剤（サポニン）を添加して、全体の液が１０００ｍｌになるように純水を加えて、半透明状の水溶性塗工液を得た。
【０１３８】
〈インクジェット記録媒体１２の作製〉（比較試料５）
上記調製した水溶性塗工液７を、原紙Ｂの片面にバーコーターにより湿潤膜厚１５５μｍで塗布し、その後３６５ｎｍに主波長を持つメタルハライドランプで、エネルギー量で４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、その後６０℃の熱風型オーブンで乾燥させてインクジェット記録媒体を得た。
【０１３９】
各試料について実施例１と同様の評価を行った。結果を表２に示す。
【０１４０】
【表２】
2005040955.tif 000010
【０１４１】
表２の結果から、本発明に係るインクジェット記録媒体は、まだら、膜面のひび割れ、および支持体のうねりに対する評価の全てに亘って、許容できるレベルであることがわかる。
【０１４２】
（実施例３）
〈水溶性塗工液８の調製〉
シリカ分散液１の６１５ｍｌに４０℃で攪拌しながら、スチリルピリジニウム基を側鎖に有する濃度１０％に調整した光架橋性のポリビニルアルコール誘導体水溶液（東洋合成工業社製：ＳＰＰ−ＳＨＲ主鎖ＰＶＡ、平均重合度３５００、ケン化度８８％）４００ｍｌを攪拌しながら徐々に加え、界面活性剤（サポニン）を添加して、全体の液が１０００ｍｌになるように純水を加えて、半透明状の水溶性塗工液を得た。
【０１４３】
〈インクジェット記録媒体１３の作製〉（本発明試料８）
上記調製した水溶性塗工液８を、原紙Ｂの片面にバーコーターにより湿潤膜厚１５５μｍで塗布し、その後３６５ｎｍに主波長を持つメタルハライドランプで、エネルギー量で４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、その後６０℃の熱風型オーブンで乾燥させてインクジェット記録媒体を得た。
【０１４４】
〈水溶性塗工液９の調製〉
シリカ分散液１の６１５ｍｌに４０℃で攪拌しながら、スチリルピリジニウム基を側鎖に有する濃度１０％に調整した光架橋性のポリビニルアルコール誘導体水溶液（東洋合成工業社製：ＳＰＰ−ＳＨＲ主鎖ＰＶＡ、平均重合度３５００、ケン化度８８％）３００ｍｌを攪拌しながら徐々に加え、界面活性剤（サポニン）を添加して、全体の液が１０００ｍｌになるように純水を加えて、半透明状の水溶性塗工液を得た。
【０１４５】
〈インクジェット記録媒体１４の作製〉（本発明試料９）
上記調製した水溶性塗工液９を、原紙Ｂの片面にバーコーターにより湿潤膜厚１５５μｍで塗布し、その後３６５ｎｍに主波長を持つメタルハライドランプで、エネルギー量で４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、その後６０℃の熱風型オーブンで乾燥させてインクジェット記録媒体を得た。
【０１４６】
〈水溶性塗工液１０の調製〉
シリカ分散液１の６１５ｍｌに４０℃で攪拌しながら、スチリルピリジニウム基を側鎖に有する濃度１０％に調整した光架橋性のポリビニルアルコール誘導体水溶液（東洋合成工業社製：ＳＰＰ−ＳＨＲ主鎖ＰＶＡ、平均重合度３５００、ケン化度８８％）７０ｍｌを攪拌しながら徐々に加え、界面活性剤（サポニン）を添加して、全体の液が１０００ｍｌになるように純水を加えて、半透明状の水溶性塗工液を得た。
【０１４７】
〈インクジェット記録媒体１５の作製〉（本発明試料１０）
上記調製した水溶性塗工液１０を、原紙Ｂの片面にバーコーターにより湿潤膜厚１５５μｍで塗布し、その後３６５ｎｍに主波長を持つメタルハライドランプで、エネルギー量で４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、その後６０℃の熱風型オーブンで乾燥させてインクジェット記録媒体を得た。
【０１４８】
〈水溶性塗工液１１の調製〉
シリカ分散液１の６１５ｍｌに４０℃で攪拌しながら、スチリルピリジニウム基を側鎖に有する濃度１０％に調整した光架橋性のポリビニルアルコール誘導体水溶液（東洋合成工業社製：ＳＰＰ−ＳＨＲ主鎖ＰＶＡ、平均重合度３５００、ケン化度８８％）６０ｍｌを攪拌しながら徐々に加え、界面活性剤（サポニン）を添加して、全体の液が１０００ｍｌになるように純水を加えて、半透明状の水溶性塗工液を得た。
【０１４９】
〈インクジェット記録媒体１６の作製〉（本発明試料１１）
上記調製した水溶性塗工液１１を、原紙Ｂの片面にバーコーターにより湿潤膜厚１５５μｍで塗布し、その後３６５ｎｍに主波長を持つメタルハライドランプで、エネルギー量で４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射し、その後６０℃の熱風型オーブンで乾燥させてインクジェット記録媒体を得た。
【０１５０】
以上、バインダーに対する微粒子の質量比を変えた各試料について実施例１と同様の評価を行った。結果を表３に示す。
【０１５１】
【表３】
2005040955.tif 000011
【０１５２】
表３の結果から、本発明に係るインクジェット記録媒体は、まだら、膜面のひび割れ、および支持体のうねりに対する評価の全てに亘って、許容できるレベルであることがわかる。
【０１５３】
【発明の効果】
本発明により、膜面のひび割れがなく、平滑性に優れ、また高いインク吸収速度と吸収容量を有し、高画質で高品質なインクジェット記録用メディアを提供することができた。