(57)【要約】【課題】  本発明の目的は、電子写真画像を形成する際に、高速複写や低温低湿環境下で発生しやすい、感度の低下に原因する画像不良、即ち、反転現像で、べた黒画像部の電位変動による画像濃度の低下や文字細り等の発生による鮮鋭性の低下を防止し、高濃度、高解像性の鮮明な電子写真画像が安定して得られる電子写真感光体、及び該電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジ、画像形成方法、画像形成装置を提供することにある。【解決手段】  下記一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を含有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有することを特徴とする電子写真感光体。  一般式（１）    Ｘ−（ＣＴＭ基）n−Ｙ【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を含有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有することを特徴とする電子写真感光体。
一般式（１）
Ｘ−（ＣＴＭ基）n−Ｙ
上記一般式（１）中、ＣＴＭ基は、電荷輸送性基であり、Ｘ、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基を表す。又、ｎは０〜１０の整数（但し、Ｘ及びＹが共に水素原子又はハロゲン原子の場合はｎは１〜１０の整数）を示す。
【請求項２】
導電性支持体上に電荷発生物質を有する電荷発生層、電荷輸送層を有する電荷輸送層を積層した電子写真感光体において、前記電荷輸送層が、前記一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を含有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有する表面層を有することを特徴とする電子写真感光体。
【請求項３】
一般式（１）のｘ＋ｙが下記の範囲にあることを特徴とする請求項１又は２に記載の電子写真感光体。
３０％≦ｘ＋ｙ≦９９％
【請求項４】
前記混合化合物の重量平均分子量が６５０〜２５００であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
前記混合化合物の重量平均分子量が８００〜２０００であることを特徴とする請求項４に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
前記ｘ＋ｙが下記の範囲にあることを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
４５％≦ｘ＋ｙ≦９０％
【請求項７】
一般式（１）のＣＴＭ基、Ｘ、Ｙが下記一般式Ａの化学構造を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【化１】
2005134514.tif 000074
前記一般式Ａ中、Ａｒ1は１価の置換又は無置換の芳香族基を示し、Ａｒ2は２価の置換、無置換の芳香族基、２価のフラン基又はチオフェン基又は下記一般式（２）を示し、Ｒ1〜Ｒ3は水素原子、置換、無置換のアルキル基、１価の置換、無置換の芳香族基を示し、Ａはトリアリールアミン基を含有する２価の基又は下記一般式（３）の基を示す。但し、Ａｒ1とＲ1は互いに結合して環を形成してもよい。又、複数のＡｒ1、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は互いに異なっていてもよい。ｐ、ｑは各々０又は１の整数を表す。
【化２】
2005134514.tif 000075
一般式（２）中、Ｙは単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−Ｃ（Ｒ4）（Ｒ5）−であり、Ｒ4、Ｒ5は互いに結合していてもよい。
【化３】
2005134514.tif 000076
一般式（３）中、Ｘ1は単結合、アルキレン基、酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｒ6は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換の芳香族基を示す。
【請求項８】
一般式（１）のＣＴＭ基、Ｘ、Ｙが下記一般式Ｂの化学構造を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【化４】
2005134514.tif 000077
前記一般式Ｂ中、Ａｒ1は２価の置換、無置換の芳香族基、２価のフラン基又はチオフェン基、又は前記一般式（２）を示し、Ｒ1〜Ｒ3は水素原子、置換、無置換のアルキル基、１価の置換、無置換の芳香族基を示し、Ａはトリアリールアミン基を含有する２価の基又は前記一般式（３）の基を示し、Ｂは１価の置換又は無置換の芳香族基を示す。但し、複数のＢ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は互いに異なっていてもよい。ｍは各々０又は１の整数を表す。
【請求項９】
前記Ａのトリアリールアミン基を含有する２価の基が、下記一般式（４）の基であることを特徴とする請求項７又は８に記載の電子写真感光体。
【化５】
2005134514.tif 000078
一般式（４）中、Ａｒ3は置換又は無置換の１価の芳香族基を表す。
【請求項１０】
前記Ａｒ3が、下記一般式（５）の基であることを特徴とする請求項９に記載の電子写真感光体。
【化６】
2005134514.tif 000079
一般式（５）中、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示す。但し、Ｒ31及びＲ35の内、少なくとも１つは炭素数１〜４のアルキル基である。
【請求項１１】
前記Ａのトリアリールアミン基を含有する２価の基が、下記一般式（６）の基であることを特徴とする請求項７又は８に記載の電子写真感光体。
【化７】
2005134514.tif 000080
一般式（６）中、Ｘ2は単結合、置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換の２価の芳香族基、Ａｒ4、Ａｒ5は置換又は無置換の１価の芳香族基を示す。
【請求項１２】
前記Ｂが下記一般式（７）で表される基であることを特徴とする請求項８に記載の電子写真感光体。
【化８】
2005134514.tif 000081
一般式（７）中、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示す。ただし、Ｒ41、Ｒ45、Ｒ51、Ｒ55のうち少なくともひとつは炭素数１〜４のアルキル基である。
【請求項１３】
一般式（１）のＣＴＭ基、Ｘ、Ｙが下記一般式Ｃの化学構造を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【化９】
2005134514.tif 000082
前記一般式Ｃ中、Ａｒ1は１価の置換、無置換の芳香族基、Ａｒ2は２価の置換、無置換の芳香族基、２価の複素環基、又は下記一般式（８）を示し、Ｒは置換、無置換のアルキル基、１価の置換、無置換の芳香族基を示す。但し、複数のＡｒ1、Ａｒ2、Ｒは互いに異なっていてもよい。
【化１０】
2005134514.tif 000083
一般式（８）中、Ｙは酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−ＣＨ2−ＣＨ2−である。但しＲ1、Ｒ2は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。
【請求項１４】
前記架橋構造を有するシロキサン系樹脂がシロキサン縮合体成分を含有することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項１５】
前記架橋構造を有するシロキサン系樹脂がシロキサン縮合体成分以外に有機ポリマー成分、酸化防止成分及び電荷輸送性構造成分の少なくとも１つ以上を含有することを特徴とする請求項１４に記載の電子写真感光体。
【請求項１６】
前記架橋構造を有するシロキサン系樹脂がシロキサン縮合体成分、有機ポリマー成分、及び電荷輸送性構造成分を含有することを特徴とする請求項１５に記載の電子写真感光体。
【請求項１７】
前記架橋構造を有するシロキサン系樹脂がシロキサン縮合体成分、有機ポリマー成分、酸化防止成分及び電荷輸送性構造成分を含有することを特徴とする請求項１６に記載の電子写真感光体。
【請求項１８】
前記一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を含有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有する電子写真感光体と該電子写真感光体上を一様に帯電する帯電手段、帯電された電子写真感光体に静電潜像を形成する潜像形成手段、該電子写真感光体上の静電潜像を顕像化する現像手段、該電子写真感光体上に顕像化されたトナー像を転写材上に転写する転写手段、転写後の該電子写真感光体上の電荷を除去する除電手段及び転写後の該電子写真感光体上の残留するトナーを除去するクリーニング手段の少なくとも１つの手段とが一体的に支持され、画像形成装置本体に着脱自在に装着可能であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
【請求項１９】
電子写真感光体上を一様に帯電する帯電手段、帯電された電子写真感光体に静電潜像を形成する潜像形成手段、該電子写真感光体上の静電潜像を顕像化する現像手段、該電子写真感光体上に顕像化されたトナー像を転写材上に転写する転写手段を有する画像形成装置において、該電子写真感光体が前記一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を含有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有することを特徴とする画像形成装置。
【請求項２０】
請求項１９に記載の画像形成装置を用いて電子写真画像を形成することを特徴とする画像形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真方式の画像形成に用いる電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置及び画像形成方法に関し、更に詳しくは、複写機やプリンターの分野で用いられる電子写真方式の画像形成に用いる電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成装置及び画像形成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子写真感光体はセレン系感光体、アモルファスシリコン感光体のような無機感光体に比して素材の選択の幅が広いこと、環境適性に優れていること、生産コストが安いこと等の大きなメリットがあり、近年無機感光体に代わって有機感光体の主流となっている。
【０００３】
一方、近年の電子写真方式の画像形成方法は、パソコンのハードコピー用のプリンターとして、また通常の複写機においても画像処理の容易さや複合機への展開の容易さから、ＬＥＤやレーザを像露光光源とするデジタル方式の画像形成方式が急激に浸透してきた。更に、デジタル画像の精細化を進めて、高画質の電子写真画像を作製する技術が開発されている。例えば、スポット面積の小さいレーザ光で像露光を行い、ドット潜像の密度を上げて、高精細の潜像を形成し、該潜像を小粒径トナーで現像し、高画質の電子写真画像を作製する技術が公開されている。（特許文献１）
このような高画質のデジタル画像の形成に際しては、高感度で且つ温室度環境の変化に対して安定な特性を有する有機感光体が要求される。
【０００４】
従来、前記のような有機感光体の要求を満たすために、有機感光体は、感光層を電荷発生層と電荷輸送層に機能分離した層構成にし、該電荷輸送層に、分子量５００前後の低分子量の電荷輸送物質を多量に含有させた構成にしていた。しかしながら、このような構成の電荷輸送層では、膜質が低下し、表面層の電荷輸送層が異物で汚染されやすい。即ち、感光体周辺に配置された現像手段、転写手段、クリーニング手段等により、感光体表面が紙粉やトナー組成物で汚染されやすく、その結果、ブラックスポット（苺状の斑点画像）や、転写ヌケ等の周期性の画像欠陥が発生しやすい。又、露光工程から現像工程間の時間が短い高速の複写機や低温低湿環境等で、十分な感度が得られず、その結果、ドット画像が忠実に再現されず、細線が切断された画像が発生したりしやすい。
【０００５】
このような課題を解決する方法として、大分子量の電荷輸送物質を用いることが報告されている。例えば、ビススチリルの化学構造を有する分子量１０００以上の電荷輸送物質を含有する有機感光体が報告されている（特許文献２）。しかしながら、これらの電荷輸送物質を電荷輸送層に含有させると、電荷輸送層のバインダー樹脂との相溶性が不十分となりやすく、電荷輸送物質が均一に分散されず、感度が十分にでないと同時に電荷輸送層にクラック等の破断傷が発生しやすい。又、分子量３０００〜５０００の化合物の電荷輸送物質を用いた感光体も報告されているが（特許文献３、４）、この化合物は末端基が封鎖されていないため、残電上昇が起こりやすく、又、バインダー樹脂との相溶性も十分に解決されていない。
【０００６】
又、感光体表面の汚染を防止するために、表面層にフッ素系樹脂粒子を含有させた有機感光体が提案されている（特許文献５）。しかしながら、フッ素系樹脂粒子を含有させた有機感光体は、画像ボケが発生しやすい。又表面層の機械的強度も低下させやすく、前記クリーニング手段等との接触摩擦により、感光体表面が減耗しやすく、必ずしも良好な電子写真画像を提供し得ていない。
【特許文献１】特開２００１−２５５６８５号公報
【特許文献２】特開平３−１４９５６０号公報
【特許文献３】特開平１０−３１０６３５号公報
【特許文献４】特開平５−２５１０２号公報
【特許文献５】特開昭６３−６５４４９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は前記のような課題を解決するために提案されたものであり、その目的とするところは、電子写真画像を形成する際に、高速複写や低温低湿環境下で発生しやすい、感度の低下に原因する画像不良、即ち、反転現像で、べた黒画像部の電位変動による画像濃度の低下や文字細り等の発生による鮮鋭性の低下を防止することであり、又、電子写真感光体の表面汚染により発生しやすいブラックスポットや、転写ヌケ等の周期性の画像欠陥を防止し、又、クラック等の破断傷等の発生を起こさず、高濃度、高解像性の鮮明な電子写真画像が安定して得られる電子写真感光体、及び該電子写真感光体を用いたプロセスカートリッジ、画像形成方法、画像形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者等は鋭意検討の結果、本発明の前記課題を解決するためには、電子写真感光体の電荷輸送層を構成するバインダー樹脂と電荷輸送物質について、詳細な検討を加えた結果、同一の化学構造単位を有し、分子量が異なる化合物の混合物を電荷輸送物質として用いることにより、大分子量の電荷輸送物質を用いても、バインダー樹脂との相溶性が良好であり、且つ高速プロセスでしかも低温低湿環境下での感度の高速応答性が改善され、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有する表面層と組み合わせることにより、感度の高速応答性を維持したまま、感光体表面が汚染されにくく、ブラックスポット、転写ヌケ等の周期性画像欠陥等の発生が防止され、クラック等の破断傷等の発生を起こさず、高濃度、高解像力の鮮明な画像が安定して得られることを見出し、本発明を完成した。
【０００９】
本発明の目的は、下記構成のいずれかを採ることにより達成される。
（請求項１）
下記一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を含有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有することを特徴とする電子写真感光体。
【００１０】
一般式（１）
Ｘ−（ＣＴＭ基）n−Ｙ
上記一般式（１）中、ＣＴＭ基は、電荷輸送性基であり、Ｘ、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基を表す。又、ｎは０〜１０の整数（但し、Ｘ及びＹが共に水素原子又はハロゲン原子の場合はｎは１〜１０の整数）を示す。
（請求項２）
導電性支持体上に電荷発生物質を有する電荷発生層、電荷輸送層を有する電荷輸送層を積層した電子写真感光体において、前記電荷輸送層が、前記一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を含有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有する表面層を有することを特徴とする電子写真感光体。
（請求項３）
一般式（１）のｘ＋ｙが下記の範囲にあることを特徴とする請求項１又は２に記載の電子写真感光体。
【００１１】
３０％≦ｘ＋ｙ≦９９％
（請求項４）
前記混合化合物の重量平均分子量が６５０〜２５００であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
（請求項５）
前記混合化合物の重量平均分子量が８００〜２０００であることを特徴とする請求項４に記載の電子写真感光体。
（請求項６）
前記ｘ＋ｙが下記の範囲にあることを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【００１２】
４５％≦ｘ＋ｙ≦９０％
（請求項７）
一般式（１）のＣＴＭ基、Ｘ、Ｙが下記一般式Ａの化学構造を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【００１３】
【化１】
2005134514.tif 000002
【００１４】
前記一般式Ａ中、Ａｒ1は１価の置換又は無置換の芳香族基を示し、Ａｒ2は２価の置換、無置換の芳香族基、２価のフラン基又はチオフェン基又は下記一般式（２）を示し、Ｒ1〜Ｒ3は水素原子、置換、無置換のアルキル基、１価の置換、無置換の芳香族基を示し、Ａはトリアリールアミン基を含有する２価の基又は下記一般式（３）の基を示す。但し、Ａｒ1とＲ1は互いに結合して環を形成してもよい。又、複数のＡｒ1、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は互いに異なっていてもよい。ｐ、ｑは各々０又は１の整数を表す。
【００１５】
【化２】
2005134514.tif 000003
【００１６】
一般式（２）中、Ｙは単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−Ｃ（Ｒ4）（Ｒ5）−であり、Ｒ4、Ｒ5は互いに結合していてもよい。
【００１７】
【化３】
2005134514.tif 000004
【００１８】
一般式（３）中、Ｘ1は単結合、アルキレン基、酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｒ6は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換の芳香族基を示す。
（請求項８）
一般式（１）のＣＴＭ基、Ｘ、Ｙが下記一般式Ｂの化学構造を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【００１９】
【化４】
2005134514.tif 000005
【００２０】
前記一般式Ｂ中、Ａｒ1は２価の置換、無置換の芳香族基、２価のフラン基又はチオフェン基、又は前記一般式（２）を示し、Ｒ1〜Ｒ3は水素原子、置換、無置換のアルキル基、１価の置換、無置換の芳香族基を示し、Ａはトリアリールアミン基を含有する２価の基又は前記一般式（３）の基を示し、Ｂは１価の置換又は無置換の芳香族基を示す。但し、複数のＢ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は互いに異なっていてもよい。ｍは各々０又は１の整数を表す。
（請求項９）
前記Ａのトリアリールアミン基を含有する２価の基が、下記一般式（４）の基であることを特徴とする請求項７又は８に記載の電子写真感光体。
【００２１】
【化５】
2005134514.tif 000006
【００２２】
一般式（４）中、Ａｒ3は置換又は無置換の１価の芳香族基を表す。
（請求項１０）
前記Ａｒ3が、下記一般式（５）の基であることを特徴とする請求項９に記載の電子写真感光体。
【００２３】
【化６】
2005134514.tif 000007
【００２４】
一般式（５）中、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を示す。但し、Ｒ31及びＲ35の内、少なくとも１つは炭素数１〜４のアルキル基である。
（請求項１１）
前記Ａのトリアリールアミン基を含有する２価の基が、下記一般式（６）の基であることを特徴とする請求項７又は８に記載の電子写真感光体。
【００２５】
【化７】
2005134514.tif 000008
【００２６】
一般式（６）中、Ｘ2は単結合、置換又は無置換のアルキレン基、置換又は無置換の２価の芳香族基、Ａｒ4、Ａｒ5は置換又は無置換の１価の芳香族基を示す。
（請求項１２）
前記Ｂが下記一般式（７）で表される基であることを特徴とする請求項８に記載の電子写真感光体。
【００２７】
【化８】
2005134514.tif 000009
【００２８】
一般式（７）中、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53、Ｒ54、Ｒ55は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を示す。ただし、Ｒ41、Ｒ45、Ｒ51、Ｒ55のうち少なくともひとつは炭素数１〜４のアルキル基である。
（請求項１３）
一般式（１）のＣＴＭ基、Ｘ、Ｙが下記一般式Ｃの化学構造を有することを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【００２９】
【化９】
2005134514.tif 000010
【００３０】
前記一般式Ｃ中、Ａｒ1は１価の置換、無置換の芳香族基、Ａｒ2は２価の置換、無置換の芳香族基、２価の複素環基、又は下記一般式（８）を示し、Ｒは置換、無置換のアルキル基、１価の置換、無置換の芳香族基を示す。但し、複数のＡｒ1、Ａｒ2、Ｒは互いに異なっていてもよい。
【００３１】
【化１０】
2005134514.tif 000011
【００３２】
一般式（８）中、Ｙは酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−ＣＨ2−ＣＨ2−である。但しＲ1、Ｒ2は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。
（請求項１４）
前記架橋構造を有するシロキサン系樹脂がシロキサン縮合体成分を含有することを特徴とする請求項１〜１３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
（請求項１５）
前記架橋構造を有するシロキサン系樹脂がシロキサン縮合体成分以外に有機ポリマー成分、酸化防止成分及び電荷輸送性構造成分の少なくとも１つ以上を含有することを特徴とする請求項１４に記載の電子写真感光体。
（請求項１６）
前記架橋構造を有するシロキサン系樹脂がシロキサン縮合体成分、有機ポリマー成分、及び電荷輸送性構造成分を含有することを特徴とする請求項１５に記載の電子写真感光体。
（請求項１７）
前記架橋構造を有するシロキサン系樹脂がシロキサン縮合体成分、有機ポリマー成分、酸化防止成分及び電荷輸送性構造成分を含有することを特徴とする請求項１６に記載の電子写真感光体。
（請求項１８）
前記一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を含有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有する電子写真感光体と該電子写真感光体上を一様に帯電する帯電手段、帯電された電子写真感光体に静電潜像を形成する潜像形成手段、該電子写真感光体上の静電潜像を顕像化する現像手段、該電子写真感光体上に顕像化されたトナー像を転写材上に転写する転写手段、転写後の該電子写真感光体上の電荷を除去する除電手段及び転写後の該電子写真感光体上の残留するトナーを除去するクリーニング手段の少なくとも１つの手段とが一体的に支持され、画像形成装置本体に着脱自在に装着可能であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
（請求項１９）
電子写真感光体上を一様に帯電する帯電手段、帯電された電子写真感光体に静電潜像を形成する潜像形成手段、該電子写真感光体上の静電潜像を顕像化する現像手段、該電子写真感光体上に顕像化されたトナー像を転写材上に転写する転写手段を有する画像形成装置において、該電子写真感光体が前記一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を含有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有することを特徴とする画像形成装置。
（請求項２０）
請求項１９に記載の画像形成装置を用いて電子写真画像を形成することを特徴とする画像形成方法。
【発明の効果】
【００３３】
本発明の電子写真感光体、プロセスカートリッジ、画像形成方法及び画像形成装置を用いることにより、高速且つ低温低湿環境で発生しやすい感度の高速応答性が不十分なために発生する画像不良と高温高湿で発生しやすい各種画像欠陥を防止し、画像濃度、鮮鋭性が良好な電子写真画像を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３４】
以下、本発明について、詳細に説明する。
【００３５】
本発明の電子写真感光体は下記一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を含有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有することを特徴とする。
【００３６】
一般式（１）
Ｘ−（ＣＴＭ基）n−Ｙ
上記一般式（１）中、ＣＴＭ基は、電荷輸送性基であり、Ｘ、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基を表す。又、ｎは０〜１０の整数（但し、Ｘ及びＹが共に水素原子又はハロゲン原子の場合はｎは１〜１０の整数）を示す。
【００３７】
又、本発明に用いられる電子写真感光体は、導電性支持体上に電荷発生物質を有する電荷発生層、電荷輸送層を有する電荷輸送層を積層した電子写真感光体において、前記電荷輸送層が、前記一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を含有し、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有する表面層を有することを特徴とする。
【００３８】
本発明の電子写真感光体は、前記構成を有することにより、高速複写や低温低湿環境下で発生しやすい、感度の低下に原因する文字細り等の鮮鋭性低下を防止でき、前記したブラックスポットや、転写ヌケ等の周期性の画像欠陥の発生もなく、クラック等の破断傷等の発生も起こさず、高濃度、高解像力の鮮明な電子写真画像を作製することができる。
【００３９】
本発明で、前記一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を含有するとは、前記一般式（１）の化合物で且つＣＴＭ基、即ち電荷輸送性基の連鎖構造の数が異なる化合物が混在し（＝ｎを基準とした分布を持つ化合物が混在すること）、該混在化合物（混合化合物）の中で、存在比が最大成分の化合物の組成比（存在比）をｘ、２位の成分の化合物の組成比（存在比）をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下であり、該混合化合物はｎが異なる前記一般式（１）の化合物を少なくとも３種以上含有していることを意味する。このような混合化合物を電荷輸送物質として用いることにより、電荷輸送性が顕著に改善され、高速対応性、低温低湿下等での感度不良を克服でき、溶媒や、バインダー樹脂との相溶性が著しく改善され、且つ架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有する表面層と組み合わせることにより、感度の高速応答性を維持したまま、前記したブラックスポット、転写ヌケ等の周期性画像欠陥等の発生が防止され、クラック等の破断傷等の発生を起こさず、高濃度、高解像力の鮮明な画像を作製できる電子写真感光体が得られる。
【００４０】
前記一般式（１）のＣＴＭ基、即ち電荷輸送性基とは、その化学構造基が電子或いは正孔のドリフト移動度を有する性質を示す基であり、又別の定義としてはＴｉｍｅ−Ｏｆ−Ｆｌｉｇｈｔ法などの電荷輸送性能を検知できる公知の方法により電荷輸送に起因する検出電流が得られる基として定義できる。
【００４１】
前記ＣＴＭ基がそれ自身単独で存在しえない場合は、該ＣＴＭ基の両端に水素原子を付加した一般式（Ｈ（ＣＴＭ基）Ｈ）の化合物が電荷輸送性化合物であればよい。
【００４２】
前記一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物の具体例としては種々の化学構造が考えられるが、本発明では、これら混合化合物が一連の合成法で製造でき、且つ前記本発明の目的を達成できる混合化合物（電荷輸送物質）として、以下に記す一般式Ａ、一般式Ｂ、一般式Ｃの混合化合物を例示する。
【００４３】
一般式Ａの混合化合物は下記の化学構造を有する。
【００４４】
【化１１】
2005134514.tif 000012
【００４５】
前記一般式Ａ中、Ａｒ1は１価の置換又は無置換の芳香族基を示し、Ａｒ2は２価の置換、無置換の芳香族基、２価のフラン基又はチオフェン基又は下記一般式（２）を示し、Ｒ1〜Ｒ3は水素原子、置換、無置換のアルキル基、１価の置換、無置換の芳香族基を示し、Ａはトリアリールアミン基を含有する２価の基又は下記一般式（３）の基を示す。但し、Ａｒ1とＲ1は互いに結合して環を形成してもよい。又、複数のＡｒ1、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は互いに異なっていてもよい。ｐ、ｑは各々０又は１の整数を表す。
【００４６】
【化１２】
2005134514.tif 000013
【００４７】
一般式（２）中、Ｙは単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−Ｃ（Ｒ4）（Ｒ5）−であり、Ｒ4、Ｒ5は互いに結合していてもよい。
【００４８】
【化１３】
2005134514.tif 000014
【００４９】
一般式（３）中、Ｘ1は単結合、アルキレン基、酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｒ6は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換の芳香族基を示す。
【００５０】
一般式Ｂの混合化合物は下記の化学構造を有する。
【００５１】
【化１４】
2005134514.tif 000015
【００５２】
前記一般式Ｂ中、Ａｒ1は２価の置換、無置換の芳香族基、２価のフラン基又はチオフェン基、又は前記一般式（２）を示し、Ｒ1〜Ｒ3は水素原子、置換、無置換のアルキル基、１価の置換、無置換の芳香族基を示し、Ａはトリアリールアミン基を含有する２価の基又は前記一般式（３）の基を示し、Ｂは１価の置換又は無置換の芳香族基を示す。但し、複数のＢ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3は互いに異なっていてもよい。ｍは各々０又は１の整数を表す。
【００５３】
前記一般式Ａ及び一般式Ｂにおいて、トリアリールアミン基を含有する２価の基とは、窒素原子の３価の結合基がそれぞれ、芳香族環と結合した構造を有し、且つ基全体として２価の連結基を有する基を意味する。
【００５４】
前記一般式Ａ及び一般式ＢのＡｒ1の１価の置換又は無置換の芳香族基としては、置換又は無置換のフェニル基、ナフチル基等が好ましく、置換基としては、炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシ基、フェニル基、ハロゲン原子等が好ましい。
Ａｒ2の２価の置換、無置換の芳香族基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基等が好ましく、置換基としては、アルキル基が好ましい。又、２価のフラン基、２価のチオフェン基も好ましい。
【００５５】
Ｒ1〜Ｒ3は水素原子、ハロゲン原子、置換、無置換のアルキル基、アルコキシ基、１価の置換、無置換の芳香族基を示すが、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、アルコキシ基、無置換のフェニル基、ハロゲン又は炭素数１〜４のアルキル基を有するフェニル基等が好ましい。
【００５６】
Ａの２価の基としては、前記一般式（３）の基の他に、トリアリールアミン基を含有する２価の基として前記一般式（４）又は一般式（６）の基が好ましい。
【００５７】
一般式（３）中のＲ6は置換、無置換のアルキル基、置換、無置換の芳香族基を示すが、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基等が挙げられる。
【００５８】
一般式（４）中のＡｒ3は置換又は無置換の１価の芳香族基であるが、好ましくは無置換のフェニル基、炭素数１〜４のアルキル基又はアルコキシ基で置換されたフェニル基が挙げられる。
【００５９】
一般式（６）中のＡｒ4、Ａｒ5は置換又は無置換の１価の芳香族基を示すが、好ましくは無置換のフェニル基、炭素数１〜４のアルキル基又はアルコキシ基で置換されたフェニル基が挙げられる。
【００６０】
以下に、前記一般式Ａ及び一般式Ｂの代表的な化学構造を下記に挙げるが、本発明は下記のそれぞれの化学構造で、ｎが異なる化合物の混合物（混合化合物）を電荷輸送物質として用いることである。又、下記化学構造が同じでも、一般式Ａのｐ又はｑ、或いは一般式Ｂのｍが異なれば、別の混合化合物である。例えば、下記化学構造Ｎｏ．１Ａでもｐ又はｑが０と１では別の混合化合物である。又、ｐ又はｑが同じでも分布が違えば別の混合化合物である。
【００６１】
一般式Ａの具体例
【００６２】
【化１５】
2005134514.tif 000016
【００６３】
【化１６】
2005134514.tif 000017
【００６４】
【化１７】
2005134514.tif 000018
【００６５】
【化１８】
2005134514.tif 000019
【００６６】
【化１９】
2005134514.tif 000020
【００６７】
【化２０】
2005134514.tif 000021
【００６８】
【化２１】
2005134514.tif 000022
【００６９】
【化２２】
2005134514.tif 000023
【００７０】
【化２３】
2005134514.tif 000024
【００７１】
【化２４】
2005134514.tif 000025
【００７２】
【化２５】
2005134514.tif 000026
【００７３】
以上の化合物例は、前記一般式Ａ中の複数のＡｒ1、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3が同一の化学構造例であるが、本発明では、これら複数のＡｒ1、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3が同一でないものも含まれる。例えば、下記のような一般式Ａ′の化学構造例も本発明の一般式（１）の化学構造例として挙げられる。
【００７４】
【化２６】
2005134514.tif 000027
【００７５】
一般式Ａ′中、Ａｒ1、Ａｒ1′は１価の置換又は無置換の芳香族基を示し、Ａｒ2は２価の置換、無置換の芳香族基、フラン基又はチオフェン基又は前記一般式（２）を示し、Ｒ1〜Ｒ3、Ｒ1′〜Ｒ3′は水素原子、置換、無置換のアルキル基、１価の置換、無置換の芳香族基を示し、Ａはトリアリールアミン基を含有する２価の基又は前記一般式（３）の基を示す。但し、Ａｒ1とＲ1、Ａｒ1′とＲ1′は互いに結合して環を形成してもよい。ｐ、ｑは各々０又は１の整数を表す。
【００７６】
前記一般式Ａ′の代表的な化合物の化学構造を下記に挙げる。本発明は各々の化学構造で、ｎを基準とした分布を持ち且つ最大成分の化合物の組成比をｘ、２位の成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を電荷輸送物質として用いることである。
【００７７】
【化２７】
2005134514.tif 000028
【００７８】
【化２８】
2005134514.tif 000029
【００７９】
以下に、本発明の前記混合化合物（一般式Ａ）の合成例を記載する。
【００８０】
以下の合成例では、原材料等を化合物合成の機構（スキーム）中に付した番号を用いて説明する。
【００８１】
合成例（１）；化合物（例示化学構造２１Ａ（ｐ＝ｑ＝０））の合成
【００８２】
【化２９】
2005134514.tif 000030
【００８３】
１００ｍｌの４頭フラスコに窒素導入管、冷却管、温度計、撹拌機を装着し、４（カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド）：１．６８ｇ（０．０１５ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン（以下ＴＨＦ）２０ｍｌを入れ、窒素を導入しながら撹拌した。
１の化合物：２．０６ｇ（０．００６ｍｏｌ）、２の化合物：１．１３ｇ（０．００３ｍｏｌ）及び３の化合物：１．９２ｇ（０．００６３ｍｏｌ）をＴＨＦ２０ｍｌに溶解して４（カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド）／ＴＨＦ混合液に内温４５℃以下に保ちながらゆっくり滴下した。滴下終了後、内温４５〜５０℃を保ちながら５時間反応した。
【００８４】
別の２００ｍｌビーカーに撹拌機を装着し、メタノール２０ｍｌを入れ撹拌した。これに前記５時間反応した反応液を注いだ後、水２０ｍｌを更に注いで、約３０分撹拌しろ過を行った。メタノール／水＝１／１約４０ｍｌにて洗浄し、５０〜６０℃にて一晩乾燥し、粗結晶を得た。
【００８５】
この粗結晶をトルエン３０ｍｌに溶解し、ワコーゲルＢ−０（和光純薬）３ｇを加えて、約３０分撹拌しろ過した。トルエン３０ｍｌにてワコーゲルＢ−０を洗浄し、ロ液及び洗液を濃縮乾固した。これに酢酸エチル１０ｍｌを加え溶解し、メタノール６０ｍｌに滴下して再沈精製を行い、濾別乾燥して例示化学構造２１Ａ（ｐ＝ｑ＝０）の化合物を２．５４ｇ得た。高速液体クロマトグラフィー及び質量分析結果、得られた化合物は、ｎが０〜４の混合物であり、その組成比（高速液体クロマトグラフィーの面積比）はｎ＝０／１／２／３／４＝２５．４／４８．８／１８．１／６．３／１．４であった。
【００８６】
尚、高速液体クロマトグラフィーの測定条件は下記で行なった。
【００８７】
測定器：島津ＬＣ６Ａ（島津製作所製）
カラム：ＣＬＣ−ＯＤＳ（島津製作所製）
検出波長：２９０ｎｍ
移動相：メタノール／テトラヒドロフラン＝３／１の混合溶媒
移動相の流速：約１ｍｌ／ｍｉｎ
尚、本発明の混合化合物の組成比は上記液体クロマトグラフィーによる組成分離後の各成分の面積比（％表示の面積比、合計組成比１００％）で定義する。前記測定条件の内、測定器、カラム、移動相等は混合化合物の分離が明確にでき、且つ本発明と同様の結果が得られるものであれば、他に変更してもよい。
【００８８】
合成例（２）；化合物（例示化学構造２１Ａ（ｐ＝１、ｑ＝０））の合成
【００８９】
【化３０】
2005134514.tif 000031
【００９０】
１００ｍｌの４頭フラスコに窒素導入管、冷却管、温度計、撹拌機を装着し、４（カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド）：１．６８ｇ（０．０１５ｍｏｌ）及びＴＨＦ２０ｍｌを入れ、窒素を導入しながら撹拌した。
１の化合物：２．０６ｇ（０．００６ｍｏｌ）、２の化合物：１．１３ｇ（０．００３ｍｏｌ）及び３の化合物：２．０８ｇ（０．００６３ｍｏｌ）をＴＨＦ２０ｍｌに溶解して４（カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド）／ＴＨＦ混合液に内温４５℃以下に保ちながらゆっくり滴下した。滴下終了後、内温４５〜５０℃を保ちながら５時間反応した。
【００９１】
別に２００ｍｌビーカーに撹拌機を装着し、メタノール２０ｍｌを入れ撹拌した。これに前記５時間反応した反応液を注いだ後、水２０ｍｌを更に注いで、約３０分撹拌しろ過を行った。メタノール／水＝１／１約４０ｍｌにて洗浄し、５０〜６０℃にて一晩乾燥し、粗結晶を得た。
【００９２】
この粗結晶をトルエン３０ｍｌに溶解し、ワコーゲルＢ−０（和光純薬）３ｇを加えて、約３０分撹拌しろ過した。トルエン３０ｍｌにてワコーゲルＢ−０を洗浄し、ロ液及び洗液を濃縮乾固した。これに酢酸エチル１０ｍｌを加え溶解し、メタノール６０ｍｌに滴下して再沈精製を行い、濾別乾燥して例示化学構造２１Ａ（ｐ＝１、ｑ＝０）の化合物を２．７５ｇ得た。前記と同様の高速液体クロマトグラフィー及び質量分析結果、得られた化合物は、ｎが０〜４の混合物であり、その組成比（高速液体クロマトグラフィーの面積比）はｎ＝０／１／２／３／４＝３３．４／４６．８／１５．０／４．０／０．８であった。
【００９３】
合成例（３）；化合物（例示化学構造１４Ａ（ｐ＝１、ｑ＝０））の合成
【００９４】
【化３１】
2005134514.tif 000032
【００９５】
１００ｍｌの４頭フラスコに窒素導入管、冷却管、温度計、撹拌機を装着し、４（カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド）：１．６８ｇ（０．０１５ｍｏｌ）及びＴＨＦ２０ｍｌを入れ、窒素を導入しながら撹拌した。
１の化合物：１．８９ｇ（０．００６ｍｏｌ）、２の化合物：１．１３ｇ（０．００３ｍｏｌ）及び３の化合物：１．６０ｇ（０．００６３ｍｏｌ）をＴＨＦ２０ｍｌに溶解して４（カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド）／ＴＨＦ混合液に内温４５℃以下に保ちながらゆっくり滴下した。滴下終了後、内温４５〜５０℃を保ちながら５時間反応した。
【００９６】
別に２００ｍｌビーカーに撹拌機を装着し、メタノール２０ｍｌを入れ撹拌した。これに前記５時間反応した反応液を注いだ後、水２０ｍｌを更に注いで、約３０分撹拌しろ過を行った。メタノール／水＝１／１約４０ｍｌにて洗浄し、５０〜６０℃にて一晩乾燥し、粗結晶を得た。
【００９７】
この粗結晶をトルエン３０ｍｌに溶解し、ワコーゲルＢ−０（和光純薬）３ｇを加えて、約３０分撹拌しろ過した。トルエン３０ｍｌにてワコーゲルＢ−０を洗浄し、ロ液及び洗液を濃縮乾固した。これに酢酸エチル１０ｍｌを加え溶解し、メタノール６０ｍｌに滴下して再沈精製を行い、濾別乾燥して例示化学構造１４Ａ（ｐ＝１、ｑ＝０）の化合物を２．３２ｇ得た。前記と同様の高速液体クロマトグラフィー及び質量分析結果、得られた化合物は、ｎが０〜４の混合物であり、その組成比（高速液体クロマトグラフィーの面積比）はｎ＝０／１／２／３／４＝３０．１／４５．４／１６．７／６．０／１．８であった。
【００９８】
一般式Ｂの具体例
【００９９】
【化３２】
2005134514.tif 000033
【０１００】
【化３３】
2005134514.tif 000034
【０１０１】
【化３４】
2005134514.tif 000035
【０１０２】
【化３５】
2005134514.tif 000036
【０１０３】
【化３６】
2005134514.tif 000037
【０１０４】
【化３７】
2005134514.tif 000038
【０１０５】
【化３８】
2005134514.tif 000039
【０１０６】
【化３９】
2005134514.tif 000040
【０１０７】
以上の化合物例は、前記一般式Ｂ中の複数のＢ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3が同一の化合物例であるが、本発明では、これら複数のＢ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3が同一でないものも含まれる。例えば、下記のような一般式Ｂ′の化合物も本発明の一般式Ｂの化合物として挙げられる。
【０１０８】
【化４０】
2005134514.tif 000041
【０１０９】
一般式Ｂ′中、Ａｒ1は２価の置換、無置換の芳香族基、フラン基又はチオフェン基を示し、Ｒ1〜Ｒ3、Ｒ1′〜Ｒ3′は水素原子、置換、無置換のアルキル基、１価の置換、無置換の芳香族基を示し、Ａはトリアリールアミン基を含有する２価の基又は前記一般式（３）の基を示し、Ｂ、Ｂ′は１価の置換又は無置換の芳香族基を示す。ｍは各々０又は１の整数を表す。
【０１１０】
前記一般式Ｂ′の代表的な化合物の化学構造を下記に挙げる。本発明は各々の化学構造で、ｎを基準とした分布を持ち且つ最大成分の化合物の組成比をｘ、２位の成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を電荷輸送物質として用いることである。
【０１１１】
【化４１】
2005134514.tif 000042
【０１１２】
以下に、本発明の前記混合化合物（一般式Ｂ）の合成例を記載する。
【０１１３】
合成例（４）；化合物（例示化学構造１２Ｂ（ｍ＝０））の合成
【０１１４】
【化４２】
2005134514.tif 000043
【０１１５】
１００ｍｌの４頭フラスコに窒素導入管、冷却管、温度計、撹拌機を装着し、４（カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド）：１．９６ｇ（０．０７５ｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン（以下ＴＨＦ）２０ｍｌを入れ、窒素を導入しながら撹拌した。
【０１１６】
１の化合物：１．０ｇ（０．００３ｍｏｌ）、２の化合物：２．６５ｇ（０．００７ｍｏｌ）及び３の化合物：２．５２ｇ（０．００８ｍｏｌ）をＴＨＦ２０ｍｌに溶解して前記４（カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシ）／ＴＨＦ混合液に内温４５℃以下に保ちながらゆっくり滴下した。滴下終了後、内温４５〜５０℃を保ちながら５時間反応した。
【０１１７】
別に、２００ｍｌビーカーに撹拌機を装着し、メタノール２０ｍｌを入れ撹拌した。これに前記５時間反応した反応液を注いだ後、水２０ｍｌを更に注いで、約３０分撹拌しろ過を行った。メタノール／水＝１／１約４０ｍｌにて洗浄し、５０〜６０℃にて一晩乾燥し、粗結晶を得た。
【０１１８】
この粗結晶をトルエン３０ｍｌに溶解し、ワコーゲルＢ−０（和光純薬）３ｇを加えて、約３０分撹拌しろ過を行った。トルエン３０ｍｌにてワコーゲルＢ−０を洗浄し、ロ液及び洗液を濃縮乾固した。これに酢酸エチル１０ｍｌを加え溶解し、メタノール６０ｍｌに滴下して再沈精製を行い、濾別乾燥して例示化学構造１２Ｂ（ｍ＝０）の化合物を３．２０ｇ得た。
【０１１９】
合成例１Ａと同様の高速液体クロマトグラフィー及び質量分析の結果、得られた化合物はｎ＝０〜５の混合物であり、組成比（高速液体クロマトグラフィーの面積比）はｎ＝０／１／２／３／４＝２４．３／４４．４／２１．５／７．２／２．３／０．３であった。
【０１２０】
尚、高速液体クロマトグラフィーの測定条件は下記で行なった。
【０１２１】
合成例（５）；化合物（例示化学構造１１Ｂ（ｍ＝０））の合成
【０１２２】
【化４３】
2005134514.tif 000044
【０１２３】
１００ｍｌの４頭フラスコに窒素導入管、冷却管、温度計、撹拌機を装着し、４（カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド）：１．９６ｇ（０．０７５ｍｏｌ）及びＴＨＦ２０ｍｌを入れ、窒素を導入しながら撹拌した。
【０１２４】
１の化合物：１．０ｇ（０．００３ｍｏｌ）、２の化合物：２．４６ｇ（０．００７ｍｏｌ）及び３の化合物：２．４１ｇ（０．００８ｍｏｌ）をＴＨＦ２０ｍｌに溶解して４（カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド）／ＴＨＦ混合液に内温４５℃以下に保ちながらゆっくり滴下した。滴下終了後、内温４５〜５０℃を保ちながら５時間反応した。
【０１２５】
別に、２００ｍｌビーカーに撹拌機を装着し、メタノール２０ｍｌを入れ撹拌した。これに反応液を注いだ後、水２０ｍｌを更に注いで、約３０分撹拌しろ過を行った。メタノール／水＝１／１約４０ｍｌにて洗浄し、５０〜６０℃にて一晩乾燥しし、粗結晶を得た。
【０１２６】
この粗結晶をトルエン３０ｍｌに溶解し、ワコーゲルＢ−０（和光純薬）３ｇを加えて、約３０分撹拌しろ過した。トルエン３０ｍｌにてワコーゲルＢ−０を洗浄し、ロ液及び洗液を濃縮乾固した。これに酢酸エチル１０ｍｌを加え溶解し、メタノール６０ｍｌに滴下して再沈精製を行い、濾別乾燥して例示化学構造１１Ｂ（ｍ＝０）の化合物を３．３５ｇ得た。
【０１２７】
前記と同様の高速液体クロマトグラフィー及び質量分析の結果、得られた化合物はｎ＝０〜４の混合物であり、組成比（高速液体クロマトグラフィーの面積比）はｎ＝０／１／２／３／４＝３２．５／４５．０／１６．５／６．２／１．６であった。
【０１２８】
一般式Ｃの混合化合物は下記の化学構造を有する。
【０１２９】
【化４４】
2005134514.tif 000045
【０１３０】
一般式Ｃ中、Ａｒ1は１価の置換、無置換の芳香族基、Ａｒ2は２価の置換、無置換の芳香族基、２価の複素環基、又は前記一般式（８）を示し、Ｒは置換、無置換のアルキル基、１価の置換、無置換の芳香族基を示す。但し、複数のＡｒ1、Ａｒ2、Ｒは互いに異なっていてもよい。
【０１３１】
又、前記一般式（８）中、Ｙは酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ＝ＣＨ−、又は−ＣＨ2−ＣＨ2−である。但しＲ1、Ｒ2は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基である。
【０１３２】
一般式Ｃ中、Ａｒ1は１価の置換、無置換の芳香族基であるが、好ましくは無置換のフェニル基、炭素数１〜４のアルキル基又はアルコキシ基で置換されたフェニル基が挙げられる。
【０１３３】
又、Ａｒ2の２価の置換、無置換の芳香族基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基等が好ましく、置換基としては、アルキル基が好ましい。Ａｒ2の２価の複素環基としては、２価のフラン基、２価のチオフェン基等が好ましい。
【０１３４】
一般式Ｃの具体例
【０１３５】
【化４５】
2005134514.tif 000046
【０１３６】
【化４６】
2005134514.tif 000047
【０１３７】
【化４７】
2005134514.tif 000048
【０１３８】
【化４８】
2005134514.tif 000049
【０１３９】
【化４９】
2005134514.tif 000050
【０１４０】
【化５０】
2005134514.tif 000051
【０１４１】
以下に、本発明の前記混合化合物（一般式Ｃ）の合成例を記載する。
【０１４２】
合成例（６）；化合物（例示化学構造１７Ｃ）の合成
１００ｍｌの４頭フラスコに窒素導入管、冷却管、温度計、撹拌機を装着し、２，４−ジメチルアニリン：４．０８ｇ（０．０４ｍｏｌ）、ヨードベンゼン：４．０８ｇ（０．０２ｍｏｌ）、ｍ−ジヨードベンゼン：９．９ｇ（０．０３ｍｏｌ）、銅粉１．２７ｇ（０．０２ｍｏｌ）、炭酸カリウム１１．０４ｇ（０．０８ｍｏｌ）を入れ、窒素を導入しながら１９０℃にて３０時間反応させた。
反応液を約６０℃まで冷却した後ＴＨＦ２００ｍｌを加えて撹拌し、濾過した。濾液を濃縮してトルエン１００ｍｌに溶解し、ワコーゲルＢ−０（和光純薬）１０ｇを加えて、約３０分撹拌しろ過を行った。トルエン３０ｍｌにてワコーゲルＢ−０を洗浄し、濾液及び洗液を濃縮乾固した。これにＴＨＦ２０ｍｌを加え溶解し、メタノール１２０ｍｌに滴下して再沈精製を行い、濾別乾燥して例示化学構造１７Ｃの化合物を５．１５ｇ得た。
【０１４３】
高速液体クロマトグラフィー及び質量分析の結果、得られた化合物はｎ＝０／１／２／３／４／５／６／７＝２．７／９．０／２４．３／３４．２／２０．１／７．８／１．７／０．２であった。また、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）より求めた重量平均分子量（ポリスチレン換算）Ｍｗは９１０であった。
【０１４４】
合成例（７）；化合物（例示化学構造４８Ｃ）の合成
１００ｍｌの４頭フラスコに窒素導入管、冷却管、温度計、撹拌機を装着し、３，４−ジメチルアニリン：６．０５ｇ（０．０５ｍｏｌ）、ヨードビフェニル：５．６０ｇ（０．０２ｍｏｌ）、ビス（４−ブロモフェニル）エーテル：１３．１１ｇ（０．０４ｍｏｌ）、銅粉１．５９ｇ（０．０２５ｍｏｌ）、炭酸カリウム１３．８ｇ（０．１ｍｏｌ）を入れ、窒素を導入しながら１９０℃にて３０時間反応させた。反応液を約６０℃まで冷却した後ＴＨＦ２００ｍｌを加えて撹拌し、濾過した。濾液を濃縮してトルエン１００ｍｌに溶解し、ワコーゲルＢ−０（和光純薬）１０ｇを加えて、約３０分撹拌しろ過を行った。トルエン３０ｍｌにてワコーゲルＢ−０を洗浄し、濾液及び洗液を濃縮乾固した。これにＴＨＦ２０ｍｌを加え溶解し、メタノール１２０ｍｌに滴下して再沈精製を行い、濾別乾燥して例示化学構造４８Ｃの化合物を１０．５６ｇ得た。
【０１４５】
高速液体クロマトグラフィー及び質量分析の結果、得られた化合物はｎ＝０／１／２／３／４／５／６／７／８＝０．９／３．４／１２．０／２２．８／３１．３／１９．９／６．９／２．５／０．３であった。また、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）より求めた重量平均分子量（ポリスチレン換算）Ｍｗは１６８４であった。
【０１４６】
本発明の前記一般式（１）の構造において、ｎを基準とした分布を持つ化合物を有し、該化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位の成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を含有するが、該ｘ＋ｙは、３０％〜９９％が好ましく、４５％〜９０％がより好ましい。ｘ＋ｙが３０％未満では、ｎの分布が広がりすぎ、分子量が大きくなりやすく、溶媒やバインダー樹脂との溶解性、相溶性が劣化しやすい。一方、９９％より大きい場合も、低分子量の比率が低下した場合は同様に溶媒やバインダー樹脂との溶解性、相溶性が劣化しやすい。
【０１４７】
又、前記一般式において、ｎは０〜１０であるが、ｎが１１以上の成分を含有していてもよい。即ち、ｎが０〜１０の間に、最大成分と２位の成分が存在し、ｘ＋ｙが９９％以下であればよい。
【０１４８】
本発明の前記混合化合物の分子量は平均分子量が６５０〜２５００が好ましく、８００〜２３００がより好ましい。該平均分子量はポリスチレン換算の重量平均分子量で表し、平均分子量が２５００を超えると溶媒溶解性が低下し、電荷輸送層のバインダー樹脂との相溶性が劣化し、その結果電荷輸送物質の分散性が低下し、感度や均一帯電性等の電子写真特性が著しく低下する。一方、６５０未満でも、架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有する表面層と組み合わせると、感度低下が発生しやすく、特に高速応答性が低下しやすい。
【０１４９】
本発明の電子写真感光体は、表面層が架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有することを特徴とする。該表面層としては、その片方が感光体の自由表面を形成する層であれば、電荷輸送層でもよいが、感光層の電荷発生層や電荷輸送層上に架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有する保護層を表面層として設けることがより好ましい。
【０１５０】
又、本発明の有機感光体が導電性支持体上に少なくとも、電荷発生物質を有する電荷発生層、電荷輸送層を有する電荷輸送層及び保護層を有し、該保護層が架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有することが好ましい。
【０１５１】
このような保護層を有し、且つ前記一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を電荷輸送物質として含有する電子写真感光体は、高速複写や低温低湿環境下で発生しやすい、感度の低下に原因する文字細り等の鮮鋭性低下を防止でき、前記したブラックスポットや、転写ヌケ等の周期性の画像欠陥の発生もなく、クラック等の破断傷等の発生も起こさず、高濃度、高解像力の鮮明な電子写真画像を作製することができる。
【０１５２】
ここで、架橋構造を有するシロキサン系樹脂（本発明のシロキサン系樹脂或いは単にシロキサン系樹脂とも云う）とは、予め化学構造単位にシロキサン結合（−ＯＳｉ−）を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーを反応させて（加水分解反応、触媒や架橋剤を加えた反応等を含む）３次元網目構造を形成し、硬化させた樹脂を意味する。即ち、シロキサン結合を有する有機珪素化合物を加水分解反応とその後の脱水縮合によりシロキサン結合を促進させ３次元網目構造を形成させ、その結果生成した架橋構造を有するシロキサン系樹脂を意味する。
【０１５３】
本発明の架橋構造を有するシロキサン系樹脂はいわゆるシロキサン結合で形成された立体的構造体のシロキサン縮合体成分のみからなる樹脂構造でもよいが、シロキサン縮合体成分と該シロキサン縮合体成分以外の化学構造成分を連鎖構造に有する樹脂がより好ましい。例えば、シロキサン縮合体成分以外に、有機ポリマー成分、酸化防止構造成分、電荷輸送性構造成分等を樹脂構造の一部に含有する樹脂が好ましい。以下、本発明の架橋構造を有するシロキサン系樹脂の好ましい形態として、有機ポリマー成分、酸化防止構造成分、シロキサン縮合体成分、及び電荷輸送性構造成分等の構造成分を有するシロキサン系樹脂層（＝架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有する層の意味）を説明する。
【０１５４】
ここで、有機ポリマー成分（有機重合体成分）とは重合体主骨格が有機化合物の繰り返し単位で構成された重合体を云う。例えば、ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等を構成する重合体成分を云う。
【０１５５】
本発明のシロキサン系樹脂はこの有機ポリマー成分が部分構造としてヒンダードアミン、或いはヒンダードフェノール等の酸化防止構造成分を有し、且つシロキサン縮合体成分及び電荷輸送性構造成分と化学的な結合をして、均一化していることが好ましい。ここで化学的な結合とは、化学反応によって生成する共有結合、水素結合、イオン結合を含む。
【０１５６】
ここで、酸化防止構造成分とはオゾン、ＮＯx等の活性ガス、或いは紫外線等の光照射により引き起こされる酸化又は還元耐性を有する基を意味する。
【０１５７】
上記のような樹脂構造は重合反応に関与できる重合性モノマー、酸化防止構造成分を有する重合性モノマー、重合性シラン化合物を用いて酸化防止構造成分を有し且つシリル基を有する有機ポリマーを形成し、その後該有機ポリマーのシリル基に電荷輸送構造を有するシロキサン縮合体を形成することにより達成できる。
【０１５８】
以後、上記有機ポリマー成分にビニル系ポリマー成分を用いて説明する。
【０１５９】
本発明のビニル系ポリマー成分が酸化防止構造成分を有するとはビニル系ポリマー成分がその部分構造として酸化防止機能を有する基を有していることを意味する。本発明で好ましく用いられる酸化防止成分としてはヒンダードアミン基、ヒンダードフェノール基が挙げられる。
【０１６０】
ここで、ヒンダードアミン基とはアミン化合物のアミノ基のＮ原子近傍に立体障害性を有する基及びその誘導体を云う。立体障害性の基としては分岐状アルキル基、炭素数が３以上の基等が好ましい。
【０１６１】
又、ヒンダードフェノール基とはフェノールの水酸基に対しオルト位置に立体障害性を有する基及びその誘導体を云う。（但し、水酸基がアルコキシに変成されていても良い）。立体障害性の基としては分岐アルキル基、或いは炭素数が３以上の基等が好ましい。
【０１６２】
ビニル系ポリマー成分にヒンダードアミン基、或いはヒンダードフェノール基を部分構造として導入するには、ビニル系ポリマー重合時に、炭素−炭素不飽和結合の重合性不飽和基を有するヒンダードアミンモノマー或いはヒンダードフェノールモノマーを共存させ、これらのモノマーを本発明のビニル系ポリマーの重合の進行と共に反応させることにより、ビニル系ポリマー中にヒンダードアミン基或いはヒンダードフェノール基を導入することができる。
【０１６３】
このような重合性不飽和基を有するヒンダードアミンモノマーとしては、重合性不飽和基を含有する立体障害アミンモノマーが好ましく、なかでも重合性不飽和基を含有する立体障害ピペリジン化合物（以下、「ピペリジン系モノマー」ともいう。）が特に好ましい。ピペリジン系モノマーの代表的なものとしては、例えば下記一般式Ｄで表される化合物を挙げることができる。
【０１６４】
【化５１】
2005134514.tif 000052
【０１６５】
一般式Ｄにおいて、Ｒ5は水素原子またはシアノ基を示し、Ｒ6およびＲ7は相互に同一でも異なってもよく、水素原子、メチル基またはエチル基を示し、Ｘは酸素原子またはイミノ基を示し、Ｙは水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基または下記一般式Ｅで表される重合性不飽和基を示す。
【０１６６】
【化５２】
2005134514.tif 000053
【０１６７】
一般式Ｅにおいて、Ｒ8およびＲ9は相互に同一でも異なってもよく、水素原子、メチル基またはエチル基を示す。
【０１６８】
一般式ＤにおけるＸのイミノ基中の水素原子は、置換されても置換されていなくてもよい。また、一般式ＤにおけるＹのうち、炭素数１〜１８のアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基等の直鎖または分岐鎖のアルキル基を挙げることができる。
【０１６９】
上記、一般式Ｄのピペリジン系モノマーのうち、好ましいモノマーは、４−（メタ）アクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−（メタ）アクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−（メタ）アクリロイルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−シアノ−４−（メタ）アクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−シアノ−４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−シアノ−４−（メタ）アクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−シアノ−４−（メタ）アクリロイルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、１−（メタ）アクリロイル−４−（メタ）アクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（メタ）アクリロイル−４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（メタ）アクリロイル−４−シアノ−４−（メタ）アクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−（メタ）アクリロイル−４−シアノ−４−（メタ）アクリロイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−クロトノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−クロトノイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−クロトノイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−クロトノイルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−シアノ−４−クロトノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−シアノ−４−クロトノイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−クロトノイル−４−クロトノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−クロトノイル−４−クロトノイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−クロトノイル−４−シアノ−４−クロトノイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−クロトノイル−４−シアノ−４−クロトノイルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン等であり、なかでも４−（メタ）アクリロイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−（メタ）アクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジンが特に好ましい。
【０１７０】
又、重合性不飽和基を有するヒンダードフェノールモノマーとしては、重合性不飽和基を含有するヒンダードフェノールモノマーが好ましく、例えば下記のようなモノマーを挙げることができる。即ち、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２−（３，５−ジ−ｓ−プロピル−４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２−（３，５−ジ−ｔ−オクチル−４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２−（３−ｔ−ブチル−５−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）４−ヒドロキシフェニル）エチルアクリレート、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニル（メタ）アクリレート、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（３，５−ジ−ｓ−プロピル−４−ヒドロキシフェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（３，５−ジ−ｔ−オクチル−４−ヒドロキシフェニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（３−ｔ−ブチル−５−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）４−ヒドロキシフェニル）エチル（メタ）アクリレート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオン酸ビニルエステル、３，５−ジ−ｔ−オクチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオン酸ビニルエステル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオン酸−イソプロペニルエステル、３，５−ジ−ｔ−オクチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオン酸−イソプロペニルエステル等が挙げられる。
【０１７１】
又、前記ヒンダードアミン系或いはヒンダードフェノール系の酸化防止成分を有するモノマー（重合性不飽和基を有する化合物）以外のモノマーの例としては、フェニルサリチル酸（メタ）アクリレート、ｔ−ブチルフェニルサリチル酸（メタ）アクリレート等のサリチル酸化合物；２−（メタ）アクリロイルオキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ（メタ）アクリロイルオキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２−（メタ）アクリロイルオキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−〔３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ〕ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−〔３−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ〕ベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；２−〔２’−（メタ）アクリロイルオキシ−５’−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２’−（メタ）アクリロイルオキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２’−（メタ）アクリロイルオキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル〕ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール化合物；２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニル（メタ）アクリレート、１，３−ビス（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）−２−プロピル（メタ）アクリレート、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニル（メタ）アクリレート等を挙げることができる。本発明において、前記酸化防止成分を有するモノマーは、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【０１７２】
本発明の有機感光体の表面層或いは保護層のシロキサン系樹脂はビニル系ポリマー成分とシロキサン縮合体成分を有している。ビニル系ポリマー成分にシロキサン縮合体成分を形成するには、ビニル系ポリマーの重合時に、炭素−炭素不飽和結合の重合性不飽和基を有する下記一般式（９）のシランモノマーを共存させ、これらのモノマーをビニル系ポリマーの重合の進行と共に反応させることにより、ビニル系ポリマー中にシリル基を導入したシリル変性ビニル系ポリマーを形成し、その後、このシリル基にシロキサン縮合体を形成するか、既に形成されたシロキサン縮合体を結合させる。
【０１７３】
【化５３】
2005134514.tif 000054
【０１７４】
一般式（９）において、Ｒ3は水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアラルキル基、Ｒ4は重合性二重結合を有する有機基、Ｘはハロゲン原子、アルコキシ基、アシロキシ基、アミノキシ基、フェノキシ基を示し、ｎは１〜３の整数である。
【０１７５】
又、シロキサン縮合体形成時に反応性電荷輸送性化合物を共存させることにより、シロキサン縮合体中に電荷輸送性構造成分を部分構造として形成することが出来る。
【０１７６】
上記一般式（９）のシランモノマーとしては、シリル基、特に加水分解性を有するシリル基を有し、後述の各種ビニル系モノマーと重合可能なモノマーであれば特に制限されず、例えば、ＣＨ2＝ＣＨＳｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、ＣＨ2＝ＣＨＳｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＨ2＝ＣＨＳｉ（ＣＨ3）Ｃｌ2、ＣＨ2＝ＣＨＳｉＣｌ3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）Ｃｌ2、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＣＨ3）Ｃｌ2、ＣＨ2＝ＣＨＣＯＯ（ＣＨ2）3ＳｉＣｌ3、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＣＨ3）（ＯＣＨ3）2、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＯＣＨ3）3、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯ（ＣＨ2）2Ｓｉ（ＣＨ3）Ｃｌ2、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯ（ＣＨ2）2ＳｉＣｌ3、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯ（ＣＨ2）3Ｓｉ（ＣＨ3）Ｃl2、ＣＨ2＝Ｃ（ＣＨ3）ＣＯＯ（ＣＨ2）3ＳｉＣｌ3、
【０１７７】
【化５４】
2005134514.tif 000055
【０１７８】
等が挙げられる。これらのシランモノマーは単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【０１７９】
ビニル系ポリマーとしては、例えば（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、シクロヘキシル（メタ）アクリレートなどの（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸、イタコン酸、フマル酸などのカルボン酸および無水マレイン酸などの酸無水物；グリシジル（メタ）アクリレートなどのエポキシ化合物；ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、アミノエチルビニルエーテルなどのアミノ化合物；（メタ）アクリルアミド、イタコン酸ジアミド、α−エチルアクリルアミド、クロトンアミド、フマル酸ジアミド、マレイン酸ジアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミドなどのアミド化合物；アクリロニトリル、スチレン、α−メチルスチレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニルなどからなるグループから選ばれる１またはそれ以上のビニル系モノマーを重合または共重合したビニル系ポリマーが好ましい。又、水酸基を含むビニル系モノマー、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシビニルエーテル、Ｎ−メチロールアクリルアミドなども用いることができる。
【０１８０】
ここで、ヒンダードアミン基又はヒンダードフェノール基を有し且つシリル変性された（シリル基を有する）ビニル系ポリマーの合成例を記載する。
【０１８１】
（ビニル系ポリマー溶液Ａの合成例：ヒンダードアミン基を有し且つシリル変性されたビニル系ポリマー溶液）
還流冷却器及び攪拌機を備えた反応容器に、モノマーとしてγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン２５部、４−メタクロイルオキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン１部、メタクリル酸メチル８０部とメタクリル酸２−エチルヘキシル１５部、ｎ−ブチルアクリレート２９部、２−プロパノール１５０部、２−ブタノン５０部及びメタノール２５部を加えて混合した後、攪拌しながら８０℃に加温し、この混合物にアゾビスイソバレロニトリル４部をキシレン１０部に溶解した溶液を３０分間かけて滴下した後、８０℃で５時間反応させて固形分濃度４０％の側鎖にヒンダードアミン基を有し且つシリル基を有するビニル系ポリマー溶液Ａを得た。
【０１８２】
（ビニル系ポリマー溶液Ｂの合成例：ヒンダードフェノール基を有し且つシリル変性されたビニル系ポリマー溶液）
還流冷却器及び攪拌機を備えた反応容器に、モノマーとしてγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン２０部、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート２部、メタクリル酸メチル７０部、ｎ−ブチルアクリレート４０部、アクリル酸５部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１３部、１，１，１−トリメチルアミンメタクリルイミド１部、２−プロパノール１５０部、２−ブタノン５０部及びメタノール２５部を加えて混合した後、攪拌しながら８０℃に加温し、この混合物にアゾビスイソバレロニトリル４部をキシレン１０部に溶解した溶液を３０分間かけて滴下した後、８０℃で５時間反応させて固形分濃度４０％の側鎖にヒンダードフェノール基を有し且つシリル基を有するビニル系ポリマー溶液Ｂを得た。
【０１８３】
（ビニル系ポリマー溶液Ｃの比較合成例：シリル変性されたビニル系ポリマー溶液）
還流冷却器及び攪拌機を備えた反応容器に、モノマーとしてγ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン２５部、メタクリル酸メチル８０部とメタクリル酸２−エチルヘキシル１５部、ｎ−ブチルアクリレート３０部、２−プロパノール１５０部、２−ブタノン５０部及びメタノール２５部を加えて混合した後、攪拌しながら８０℃に加温し、この混合物にアゾビスイソバレロニトリル４部をキシレン１０部に溶解した溶液を３０分間かけて滴下した後、８０℃で５時間反応させて固形分濃度４０％のシリル基を有するビニル系ポリマー溶液Ｃを得た。
【０１８４】
上記合成例Ａ、Ｂに示したように重合性不飽和基を有するヒンダードアミンモノマー、ヒンダードフェノールモノマー、シランモノマー及びビニル系モノマーを共存させ重合することにより、側鎖にヒンダードアミン基或いはヒンダードフェノール基を有し且つシリル基を有するビニル系ポリマーを合成する事が出来る。
【０１８５】
上記シリル変性ビニル系ポリマーの重合度は特に制限されないが、１００〜５００であることが望ましい。
【０１８６】
次に、上記シリル変性ビニルポリマーに電荷輸送構造を有するシロキサン縮合体成分を形成することにより、本発明の樹脂構造を有する樹脂を形成できる。即ち、上記ヒンダードアミン基或いはヒンダードフェノール基を有し且つシリル基を有するビニルポリマーと以下に記すような有機ケイ素化合物を用いて、シリル変性ビニルポリマーのシリル基にシロキサン縮合体成分を形成する。このシロキサン縮合体成分の形成は層形成と同時に行ってもよいが、予め樹脂溶液でシリル基末端にシロキサン縮合体成分を形成して層形成を行ってもよい。
【０１８７】
ここで、「ヒンダードアミン基或いはヒンダードフェノール基を有し」とはヒンダードアミン基或いはヒンダードフェノール基の少なくとも一方を有することを意味し、両方の基を有していても良い。
【０１８８】
又、シロキサン縮合体成分とはシロキサン結合が複数個、三次元的に連なった構造を有し、下記一般式（１０）で示され有機ケイ素化合物の重縮合により得られる樹脂構造を有している。
【０１８９】
一般式（１０）  ＲnＳｉ（Ｚ）4-n
（式中、Ｒは式中のケイ素に炭素が直接結合した形の有機基を表し、Ｚは水酸基又は加水分解性基を表す。ｎは０〜３の整数）
上記一般式（１０）中のＺは加水分解性基であり、メトキシ基、エトキシ基、メチルエチルケトオキシム基、ジエチルアミノ基、アセトキシ基、プロペノキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、メトキシエトキシ基等が挙げられる。Ｒに示されるケイ素に炭素が直接結合した形の有機基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル等のアルキル基、フェニル、トリル、ナフチル、ビフェニル等のアリール基、γ−グリシドキシプロピル、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチル等の含エポキシ基、γ−アクリロキシプロピル、γ−メタアクリロキシプロピルの含（メタ）アクリロイル基、γ−ヒドロキシプロピル、２，３−ジヒドロキシプロピルオキシプロピル等の含水酸基、ビニル、プロペニル等の含ビニル基、γ−メルカプトプロピル等の含メルカプト基、γ−アミノプロピル、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピル等の含アミノ基、γ−クロロプロピル、１，１，１−トリフロオロプロピル、ノナフルオロヘキシル、パーフルオロオクチルエチル等の含ハロゲン基、その他ニトロ、シアノ置換アルキル基等を挙げることができる。Ｒnのｎが２又は３の時はこれら同一ケイ素原子に結合する複数の有機基は互いに同一でも良く、異なっていても良い。
【０１９０】
又、本発明のシロキサン縮合体成分を製造するに際し、前記一般式（１０）で示される有機ケイ素化合物を２種以上用いる場合はそれぞれの有機ケイ素化合物のＲは同一でも良く、異なっていてもよい。
【０１９１】
一般式（１０）で示される有機ケイ素化合物の具体例としては以下のような化合物が挙げられる。
【０１９２】
即ち、ｎが０の化合物例としては、テトラクロロシラン、ジエトキシジクロロシラン、テトラメトキシシラン、フェノキシトリクロロシラン、テトラアセトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラアリロキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラキス（２−メトキシエトキシ）シラン、テトラブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラキス（２−エチルブトキシ）シラン、テトラキス（２−エチルヘキシロキシ）シラン等が挙げられる。
【０１９３】
ｎが１の化合物例としては、トリクロロシラン、クロロメチルトリクロロシラン、メチルトリクロロシラン、１，２−ジブロモエチルトリクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、１，２−ジクロロエチルトリクロロシラン、１−クロロエチルトリクロロシラン、２−クロロエチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリクロロシラン、２−シアノエチルトリクロロシラン、アリルトリクロロシラン、３−ブロモプロピルトリクロロシラン、クロロメチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリクロロシラン、ｎ−プロピルトリクロロシラン、エトキシメチルジクロロシラン、ジメトキシメチルクロロシラン、トリメトキシシラン、３−シアノプロピルトリクロロシラン、ｎ−ブチルトリクロロシラン、イソブチルトリクロロシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、ペンチルトリクロロシラン、トリメトキシビニルシラン、エチルトリメトキシシラン、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルトリクロロシラン、４−クロロフェニルクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、シクロヘキシルトリクロロシラン、ヘキシルトリクロロシラン、トリス（２−クロロエトキシ）シラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、２−シアノエチルトリメトキシシラン、トリエトキシクロロシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、トリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミノエチルアミノメチルトリメトキシシラン、ベンジルトリクロロシラン、ｐ−トリルトリクロロシラン、６−トリクロロシリル−２−ノルボルネン、２−トリクロロシリルノルボルネン、メチルトリアセトキシシラン、ヘプチルトリクロロシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリス（２−アミノエトキシ）シラン、β−フェネチルトリクロロシラン、トリアセトキシビニルシラン、２−（４−シクロヘキシルエチル）トリクロロシラン、エチルトリアセトキシシラン、３−トリフルオロアセトキシプロピルトリメトキシシラン、オクチルトリクロロシラン、トリエトキシビニルシラン、エチルトリエトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノプロピル）トリメトキシシラン、クロロメチルフェニルエチルトリクロロシラン、２−フェニルプロピルトリクロロシラン、４−クロロフェニルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ノニルトリクロロシラン、２−シアノエチルトリエトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、３−アリルチオプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−ブロモプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３−アリルアミノプロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロペノキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、デシルトリクロロシラン、ビス（エチルメチルケトオキシム）メトキシメチルシラ���、３−モルフォリノプロピルトリメトキシシラン、３−ピペラジノプロピルトリメトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリス（２−メトキシエトキシシラン）、２−（２−アミノエチルチオエチル）トリエトキシシラン、３−［２−（２−アミノエチルアミノエチルアミノ）プロピル］トリエトキシシラン、トリス（１−メチルビニロキシ）ビニルシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシルエチル）トリメトキシシラン、トリイソプロポキシビニルシラン、トリス（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、ジイソプロポキシエチルメチルケトオキシムメチルシラン、３−ピペリジノプロピルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、４−クロロフェニルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビス（エチルメチルケトオキシム）メチルイソプロポキシシラン、ビス（エチルメチルケトオキシム）−２−メトキシエトキシメチルシラン、３−（２−メチルピペリジノプロピル）トリメトキシシラン、３−シクロヘキシルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｏ，Ｏ’−ジエチル−Ｓ−（２−トリエトキシシリルエチル）ジチオフォスフェート、ベンジルトリエトキシシラン、６−トリエトキシシリル−２−ノルボルネン、３−ベンジルアミノプロピルトリメトキシシラン、メチルトリス（エチルメチルケトオキシム）シラン、ビス（エチルメチルケトオキシム）ブトキシメチルシラン、メチルトリス（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノキシ）シラン、テトラデシルトリクロロシラン、オクチルトリエトキシシラン、フェニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、３−（ビニルベンジルアミノプロピル）トリメトキシシラン、Ｎ−（３−トリエトキシシリルプロピル）−ｐ−ニトロベンズアミド、３−（ビニルベンジルアミノプロピル）トリエトキシシラン、オクタデシルトリクロロシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ドコシルトリクロロシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、ジメチルオクタデシル−３−トリメトキシルシリルプロピルアンモニウムクロライド、１，２−ビス（メチルジクロロシリル）エタン等が挙げられる。
【０１９４】
ｎが２の化合物例としては、クロロメチルメチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、エチルジクロロシラン、メチルビニルジクロロシラン、エチルメチルジクロロシラン、ジメトキシメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、ジビニルジクロロシラン、メチル−３，３，３−トリフルオロプロピルジクロロシラン、アリルメチルジクロロシラン、３−クロロプロピルメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、メチルプロピルジクロロシラン、ジエトキシシラン、３−シアノプロピルメチルジクロロシラン、ブチルメチルジクロロシラン、ビス（２−クロロエトキシ）メチルシラン、ジエトキシメチルシラン、フェニルジクロロシラン、ジアリルジクロロシラン、ジメトキシメチル−３，３，３−トリフルオロプロピルシラン、メチルペンチルジクロロシラン、３−クロロプロピルジメトキシメチルシラン、クロロメチルジエトキシシラン、ジエトキシジメチルシラン、ジメトキシ−３−メルカプトプロピルメチルシラン、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシルメチルジクロロシラン、メチルフェニルジクロロシラン、ジアセトキシメチルビニルシラン、シクロヘキシルメチルジクロロシラン、ヘキシルメチルジクロロシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ヘキシルメチルジクロロシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、フェニルビニルジクロロシラン、６−メチルジクロロシリル−２−ノルボルネン、２−メチルジクロロシリルノルボルネン、３−メタクリロキシプロピルメチルジクロロシラン、ジエトキシジビニルシラン、ヘプチルメチルジクロロシラン、ジブチルジクロロシラン、ジエトキシジエチルシラン、ジメチルジプロポキシシラン、３−アミノプロピルジエトキシメチルシラン、３−（２−アミノエチルアミノプロピル）ジメトキシメチルシラン、アリルフェニルジクロロシラン、３−クロロプロピルフェニルジクロロシラン、メチル−β−フェネチルジクロロシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、２−（４−シクロヘキセニルエチル）メチルジクロロシラン、メチルオクチルジクロロシラン、ジエトキシエチルメチルケトオキシムメチルシラン、２−（２−アミノエチルチオエチル）ジエトキシメチルシラン、Ｏ，Ｏ’−ジエチル−Ｓ−（２−トリメチルシリルエチル）ジチオフォスフェート、Ｏ，Ｏ’−ジエチル−Ｓ−（２−トリメトキシシリルエチル）ジチオフォスフェート、ｔ−ブチルフェニルジクロロシラン、３−メタクリロキシプロピルジメトキシメチルシラン、３−（３−シアノプロピルチオプロピル）ジメトキシメチルシラン、３−（２−アセトキシエチルチオプロピル）ジメトキシメチルシラン、ジメトキシメチル−２−ピペリジノエチルシラン、ジメトキシメチル−３−ピペラジノプロピルシラン、ジブトキシジメチルシラン、ジメトキシ−３−（２−エトキシエチルチオプロピル）メチルシラン、３−ジメチルアミノプロピルジエトキシメチルシラン、ジエチル−２−トリメチルシリルメチルチオエチルフォスファイト、ジエトキシメチルフェニルシラン、デシルメチルジクロロシラン、ビス（エチルメチルケトオキシム）エトキシメチルシラン、ジエトキシ−３−グリシドキシプロピルメチルシラン、３−（３−アセトキシプロピルチオ���プロピルジメトキシメチルシラン、ジメトキシメチル−３−ピペリジノプロピルシラン、ジプロポキシエチルメチルケトオキシムメチルシラン、ジフェニルジクロロシラン、ジフェニルジフルオロシラン、ジフェニルシランジオール、ジヘキシルジクロロシラン、ビス（エチルメチルケトオキシム）メチルプロポキシシラン、ジメトキシメチル−３−（４−メチルピペリジノプロピル）シラン、ドデシルメチルジクロロシラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジメトキシフェニル−２−ピペリジノエトキシシラン、ジメトキシメチル−３−（３−フェノキシプロピルチオプロピル）シラン、ジアセトキシジフェニルシラン、ジエトキシジフェニルシラン、ジエトキシドデシルメチルシラン、メチルオクタデシルジクロロシラン、ジフェニルメトキシ−２−ピペリジノエトキシシラン、ドコシルメチルジクロロシラン、ジエトキシメチルオクタデシルシラン等が挙げられる。
【０１９５】
架橋構造を有するシロキサン縮合体成分の原料として用いられる前記有機ケイ素化合物は、一般にはケイ素原子に結合している加水分解性基の数（４−ｎ）のｎが３のとき、有機ケイ素化合物の高分子化反応は抑制される。ｎが０、１又は２のときは高分子化反応が起こりやすく、特に１或いは０では高度に架橋反応を進めることが可能である。従って、これらをコントロールすることにより得られる塗布層液の保存性や塗布膜の硬度等を制御することが出来る。
【０１９６】
本発明の電荷輸送性構造成分とは電子或いは正孔のドリフト移動度を有する性質を示す構造単位、或いは電荷輸送性化合物残基であり、又別の定義としてはＴｉｍｅ−Ｏｆ−Ｆｌｉｇｈｔ法などの電荷輸送性能を検知できる公知の方法により電荷輸送に起因する検出電流が得られる構造単位、或いは電荷輸送性化合物残基である。
【０１９７】
本発明の樹脂中に電荷輸送性構造成分を導入するには、有機ケイ素化合物と反応性電荷輸送性化合物を用い、シロキサン縮合体中に電荷輸送性構造成分を組み込むことができる。ここで反応性電荷輸送性化合物とは前記有機ケイ素化合物、或いはビニル系ポリマーのシリル基と化学結合可能な反応性基を有する電荷輸送性化合物を意味する。以下、反応性電荷輸送性化合物について説明する。
【０１９８】
前記反応性電荷輸送性化合物としては水酸基、メルカプト基、アミン基、シリル基を有する電荷輸送性化合物等が挙げられる。
【０１９９】
水酸基を有する電荷輸送性化合物は下記一般式（１１）で表される。
【０２００】
一般式（１１）      Ｘ−（Ｒ7−ＯＨ）m
ここにおいて、
Ｘ：電荷輸送性構造基、
Ｒ7：単結合、置換又は無置換のアルキレン基、アリーレン基、
ｍ：１〜５の整数である。
【０２０１】
その中でも代表的なものを挙げれば下記のごときものがある。例えばトリアリールアミン系化合物は、トリフェニルアミン等のトリアリールアミン構造を電荷輸送性構造基＝Ｘとして有し、前記Ｘを構成する炭素原子を介して、又はＸから延長されたアルキレン、アリーレン基を介して水酸基を有する化合物が好ましく用いられる。
【０２０２】
次に、水酸基を有する電荷輸送性化合物の合成例について述べる。
【０２０３】
化合物Ｂ−１の合成
【０２０４】
【化５５】
2005134514.tif 000056
【０２０５】
ステップＡ
温度計、冷却管、撹拌装置、滴下ロートの付いた四頭コルベンに、化合物（１）４９ｇとオキシ塩化リン１８４ｇを入れ加熱溶解した。滴下ロートよりジメチルホルムアミド１１７ｇを徐々に滴下し、その後反応液温を８５〜９５℃に保ち、約１５時間撹拌を行った。次に反応液を大過剰の温水に徐々に注いだ後、撹拌しながらゆっくり冷却した。
【０２０６】
析出した結晶を濾過及び乾燥した後、シリカゲル等により不純物吸着及びアセトニトリルでの再結晶により精製を行って化合物（２）を得た。収量は３０ｇであった。
ステップＢ
化合物（２）３０ｇとエタノール１００ｍｌをコルベンに投入し撹拌した。水素化ホウ素ナトリウム１．９ｇを徐々に添加した後、液温を４０〜６０℃に保ち、約２時間撹拌を行った。次に反応液を約３００ｍｌの水に徐々にあけ、撹拌して結晶を析出させた。濾過後充分水洗して、乾燥し化合物（３）を得た。収量は３０ｇであった。
【０２０７】
メルカプト基を有する電荷輸送性化合物は下記一般式（１２）で表される。
【０２０８】
一般式（１２）      Ｘ−（Ｒ8−ＳＨ）m
ここにおいて、
Ｘ：電荷輸送性構造基、
Ｒ8：単結合、置換又は無置換のアルキレン、アリーレン基、
ｍ：１〜５の整数である。
【０２０９】
アミン基を有する電荷輸送性化合物は下記一般式（１３）で表される。
【０２１０】
一般式（１３）      Ｘ−（Ｒ9−ＮＲ10Ｈ）m
ここにおいて、
Ｘ：電荷輸送性構造基、
Ｒ9：単結合、置換、無置換のアルキレン、置換、無置換のアリーレン基、
Ｒ10：水素原子、置換、無置換のアルキル基、置換、無置換のアリール基、
ｍ：１〜５の整数である。
【０２１１】
アミノ基を有する電荷輸送性化合物の中で、第一級アミン化合物（−ＮＨ2）の場合は２個の水素原子が有機珪素化合物と反応し、シロキサン構造に連結しても良い。第２級アミン化合物（−ＮＨＲ10）の場合は１個の水素原子が有機珪素化合物と反応し、Ｒ10はブランチとして残存する基でも良く、架橋反応を起こす基でも良く、電荷輸送物質を含む基でもよい。
【０２１２】
更に、シリル基を有する電荷輸送性化合物は下記一般式（１４）で表される。
【０２１３】
一般式（１４）
Ｘ−（−Ｒ1−Ｓｉ（Ｒ11）3-a（Ｒ12）a）n
式中、Ｘは電荷輸送性構造基であり、Ｒ11は水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、アリール基を示し、Ｒ12は加水分解性基又は水酸基を示し、Ｒ1は置換若しくは無置換のアルキレン基を示す。ａは１〜３の整数を示し、ｎは整数を示す。
【０２１４】
前記一般式（１１）〜（１４）の代表例を下記に示す。
【０２１５】
【化５６】
2005134514.tif 000057
【０２１６】
【化５７】
2005134514.tif 000058
【０２１７】
【化５８】
2005134514.tif 000059
【０２１８】
【化５９】
2005134514.tif 000060
【０２１９】
本発明の反応性電荷輸送性化合物としては同一分子内に複数の反応性基を有する化合物が好ましい。このことにより、反応性電荷輸送性化合物は有機ケイ素化合物との反応性が向上し、本発明のシロキサン系樹脂層に良好な電荷輸送特性を付与する。
【０２２０】
電荷輸送性構造成分とは前記一般式（１１）〜（１４）中の電荷輸送性構造基Ｘに相当する化学構造成分を示す。電荷輸送性構造基Ｘの具体的な化合物構造としては、例えば正孔輸送型ＣＴＭとしては、キサゾール、オキサジアゾール、チアゾール、トリアゾール、イミダゾール、イミダゾロン、イミダゾリン、ビスイミダゾリジン、スチリル、ヒドラゾン、ベンジジン、ピラゾリン、スチルベン化合物、アミン、オキサゾロン、ベンゾチアゾール、ベンズイミダゾール、キナゾリン、ベンゾフラン、アクリジン、フェナジン、アミノスチルベン、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリ−１−ビニルピレン、ポリ−９−ビニルアントラセンなどの化学構造を有する電荷輸送性構造基が挙げられる。
【０２２１】
一方、電子輸送型ＣＴＭとしては無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ニトロベンゼン、ジニトロベンゼン、トリニトロベンゼン、テトラニトロベンゼン、ニトロベンゾニトリル、ピクリルクロライド、キノンクロルイミド、クロラニル、ブロマニル、ベンゾキノン、ナフトキノン、ジフェノキノン、トロポキノン、アントラキノン、１−クロロアントラキノン、ジニトロアントラキノン、４−ニトロベンゾフェノン、４，４′−ジニトロベンゾフェノン、４−ニトロベンザルマロンジニトリル、α−シアノ−β−（ｐ−シアノフェニル）−２−（ｐ−クロロフェニル）エチレン、２，７−ジニトロフルオレン、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロフルオレノン、９−フルオレニリデンジシアノメチレンマロノニトリル、ポリニトロ−９−フルオロニリデンジシアノメチレンマロノジニトリル、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、３，５−ジニトロ安息香酸、ペンタフルオロ安息香酸、５−ニトロサリチル酸、３，５−ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリット酸などの化学構造を有する電荷輸送性構造基が挙げられる。
【０２２２】
本発明で用いられる反応性電荷輸送性化合物の分子量は７００以下、１００以上が好ましい。７００以下の反応性電荷輸送性化合物を用いることにより、残電上昇が小さく電子写真特性が良好で、且つクリーニング性の優れたシロキサン系樹脂層を形成できる。更に、４５０以下、１００以上の分子量の反応性電荷輸送性化合物が好ましい。
【０２２３】
前記、電荷輸送性能付与基Ｘは上式中では１価の基として示されているが、有機ケイ素化合物、シロキサン縮合体成分と反応させる反応性電荷輸送性化合物が２つ以上の反応性官能基を有している場合は樹脂中で２価以上のクロスリンク基として接合してもよく、単にペンダント基として接合していてもよい。
【０２２４】
本発明のシロキサン系樹脂層は有機ポリマー成分、シロキサン縮合体成分、及び電荷輸送性構造成分、酸化防止構造成分を有する樹脂を含有するが、シロキサン系樹脂層中のこれらの樹脂は相互に化学結合により結合しており、シロキサン系樹脂層全体が架橋構造を有する樹脂構造となっている。
【０２２５】
前記シロキサン系樹脂の有機ポリマー成分とシロキサン縮合体成分の総質量に対する電荷輸送性構造成分の比が１：０．０１〜１０であることが好ましい。電荷輸送性構造成分の質量比が少ないと繰り返し使用時の電子写真特性（帯電、感度、残留電位特性等）が劣化し、一方多いと膜強度が低下する。
【０２２６】
前記シロキサン系樹脂の有機ポリマー成分、シロキサン縮合体成分、電荷輸送性構造成分、及び酸化防止構造成分の質量比は有機ポリマー成分１に対し、シロキサン縮合体成分０．２５〜４、電荷輸送性構造成分０．０２〜５０、酸化防止構造成分０．０１〜１の質量比で構成されていることが好ましい。シロキサン縮合体成分の質量比が少ないと膜強度が低下し、一方多いとクリーニング性が劣化し、ブレードめくれが発生しやすい。又、下層の感光層に対する接着性が悪化する。電荷輸送性構造成分の質量比が少ないと繰り返し使用時の電子写真特性（帯電、感度、残留電位特性等）が劣化し、一方多いと膜強度が低下する。酸化防止構造成分の質量比が少ないと繰り返し使用時の電子写真特性（帯電、感度、残留電位特性等）が劣化し、一方多いと膜強度が低下する。
【０２２７】
本発明の有機感光体の表面層或いは保護層を形成するシロキサン系樹脂層の膜厚は０．０３〜３０μｍ、好ましくは０．０３〜１０μｍ、最も好ましくは０．１〜５μｍであることが望ましい。特に本発明のシロキサン系樹脂層を保護層として用いる場合は保護層の膜厚が０．０３〜１０μｍ、好ましくは０．１〜５μｍであることが望ましい。本発明のシロキサン系樹脂層を保護層をした場合は、保護層の膜厚がこのように比較的厚くても、従来から問題となっていた感度や残留電位等の静電特性を低下させることなく、耐摩耗特性、トナーのクリーニング性能やクリーニングブレードのめくれに対する安定性を向上させることができる。更に高湿環境でも鮮明な画像を得ることが出来る。
【０２２８】
本発明のシロキサン系樹脂層には、本発明の効果を阻害しない範囲内で、金属酸化物粒子が配合されていてよい。金属酸化物粒子を配合することによって本発明のシロキサン系樹脂層の耐摩耗特性をさらに向上させることができ、トナーのクリーニング性能やクリーニングブレードのめくれに対する安定性を向上させることができる。
【０２２９】
前記金属酸化物粒子の一次粒径は５ｎｍ〜５００ｎｍであることが好ましい。これらの金属酸化物粒子は通常は液相法によって合成され、コロイド粒子として得ることができる。金属原子の例としてはＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｕなどが挙げられる。
【０２３０】
又、前記金属酸化物粒子は該粒子表面に前記有機ケイ素化合物と反応性を有する基を有することが好ましい。該反応性を有する基としては、例えば水酸基、アミノ基等が挙げられる。このような反応性基を有する金属酸化物粒子を用いることにより、本発明樹脂のシロキサン縮合成分と該金属酸化物粒子表面が化学結合をした複合化されたシロキサン系樹脂層を形成し、ブレードクリーニング等の擦過に対して摩耗しにくい、電子写真特性の良好なシロキサン系樹脂層を形成することができる。配合量としては、シロキサン系樹脂層全質量の０．１〜３０質量％が好ましい。これらの配合量が３０質量％を越えるとクリーニング性能が劣化し、高湿環境での画像が劣化する。
【０２３１】
また、シロキサン系樹脂層には、有機微粒子等が配合されていてよい。これらを配合することによってシロキサン系樹脂層の表面エネルギーを低下させ、クリーニング特性を向上させることができる。有機微粒子としては、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、アクリル樹脂、オレフィン樹脂等が挙げられ、特に良好なものとしてはポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニルデン等のフッ素樹脂ならびにポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン樹脂が挙げられる。有機微粒子は１種または２種以上混合して用いてもよい。
【０２３２】
有機微粒子の大きさとしては、平均体積粒径あるいは粒子投影像の最大長さとして０．０１〜１．０μｍ、好ましくは０．０１〜０．３μｍであることが望ましい。有機微粒子の配合量は、シロキサン系樹脂層全質量の０．１〜３０質量％が好ましい。これらの配合量が３０質量％を越えると感光体の感度が低下し、繰り返し使用時に、感光体の残留電位が上昇しカブリが生じる。
【０２３３】
また本発明中のシロキサン系樹脂層には樹脂構造成分としての酸化防止構造成分とは別にヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、チオエーテル又はホスファイト部分構造を持つ酸化防止剤を添加することができ、環境変動時の電位安定性・画質の向上に効果的である。
【０２３４】
ヒンダードフェノール構造を持つ酸化防止剤としては、例えば特開平１−１１８１３７号（Ｐ７〜Ｐ１４）記載の化合物が挙げられるが本発明はこれに限定されるものではない。
【０２３５】
ヒンダードアミン構造を持つ酸化防止剤としては、例えば特開平１−１１８１３８号（Ｐ７〜Ｐ９）記載の化合物も挙げられるが本発明はこれに限定されるものではない。
【０２３６】
以下に代表的な酸化防止剤の化合物例を挙げる。
【０２３７】
【化６０】
2005134514.tif 000061
【０２３８】
【化６１】
2005134514.tif 000062
【０２３９】
【化６２】
2005134514.tif 000063
【０２４０】
【化６３】
2005134514.tif 000064
【０２４１】
又、製品化されている酸化防止剤としては以下のような化合物、例えば「イルガノックス１０７６」、「イルガノックス１０１０」、「イルガノックス１０９８」、「イルガノックス２４５」、「イルガノックス１３３０」、「イルガノックス３１１４」、「イルガノックス１０７６」、「３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシビフェニル」以上ヒンダードフェノール系、「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７６５」、「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７７０」、「サノールＬＳ７４４」、「チヌビン１４４」、「チヌビン６２２ＬＤ」、「マークＬＡ５７」、「マークＬＡ６７」、「マークＬＡ６２」、「マークＬＡ６８」、「マークＬＡ６３」以上ヒンダードアミン系、「スミライザーＴＰＳ」、「スミライザーＴＰ−Ｄ」以上チオエーテル系、「マーク２１１２」、「マークＰＥＰ−８」、「マークＰＥＰ−２４Ｇ」、「マークＰＥＰ−３６」、「マーク３２９Ｋ」、「マークＨＰ−１０」以上ホスファイト系が挙げられる。これらの中で特にヒンダードフェノール、ヒンダードアミン系酸化防止剤が好ましい。酸化防止剤の添加量としてはシロキサン系樹脂層固形分の総質量１００部に対し、０．１〜１０質量部を用いることが好ましい。
【０２４２】
次に、前記シロキサン系樹脂層の製造方法について記載する。
【０２４３】
本発明においてシロキサン系樹脂層は前記のようなシロキサン系樹脂層が形成されればいかなる方法によって形成されてよい。以下に、代表的な本発明のシロキサン系樹脂層の製造方法について記載する。
【０２４４】
本発明のシロキサン系樹脂層は酸化防止構造成分を有し且つシリル基を有する有機ポリマーと有機ケイ素化合物と反応性電荷輸送性化合物を含有する塗布液を感光層上に塗布した後、硬化することにより形成することができる。
【０２４５】
又、本発明のシロキサン系樹脂層は酸化防止構造成分を有し且つシロキサン縮合体成分を有する有機ポリマーと反応性電荷輸送性化合物を含有する塗布液を感光層上に塗布した後、硬化することによっても形成することができる。
【０２４６】
具体的には、ヒンダードアミン基或いはヒンダードフェノール基を有し且つシリル基を有するビニル系ポリマーを有機ケイ素化合物、反応性電荷輸送性化合物と混合した塗布液を塗布、硬化してもよく、又、ヒンダードアミン基或いはヒンダードフェノール基を有し且つシリル基を有するビニル系ポリマーと有機ケイ素化合物を混合し、予めビニル系ポリマーの側鎖にシロキサン縮合体を形成し、その後有機ケイ素化合物、反応性電荷輸送性化合物と混合した塗布液を塗布、硬化してもよい。
【０２４７】
当該硬化によって、シロキサン縮合体が３次元化され、シロキサン縮合体と側鎖にヒンダードアミン基或いはヒンダードフェノール基を有するビニル系ポリマー、及び反応性電荷輸送性化合物がシリル基や反応性基を介して化学的に結合し、これによって耐摩耗性、感光層との接着性およびクリーニング特性の良好なシロキサン系樹脂層が形成される。
【０２４８】
上記いずれの製造方法でも、原料となる有機ケイ素化合物、シロキサン縮合体、酸化防止構造成分を有し且つシリル基を有するビニル系ポリマー、及び反応性電荷輸送性化合物の塗布液中の質量比は得られる保護層中のビニル系ポリマー成分、シロキサン縮合体成分、電荷輸送性構造成分、酸化防止構造成分の質量比が前記範囲内になるような比率であればよく、例えば、有機ケイ素化合物として一般式（１０）の化合物を用いた場合、有機ケイ素化合物、ヒンダードアミン基或いはヒンダードフェノール基を有し且つシリル基を有するビニル系ポリマー、反応性電荷輸送性化合物の質量比は１００：２５〜４００：１〜１０００の質量比が好ましい。
【０２４９】
尚、実際には有機ケイ素化合物とシリル基を有するビニル系ポリマーとの反応を行うことなく、有機ケイ素化合物と側鎖にヒンダードアミン基及びシリル基を有するビニル系ポリマーとの市販の反応物、例えば、グラスカＨＰＣ７５０６（ＪＳＲ（株）社製：側鎖シリル基アクリル系樹脂）を用い、当該反応物溶液を有機ケイ素化合物及び反応性電荷輸送性化合物と混合し、シロキサン系樹脂層塗布液を作製してもよい。
【０２５０】
有機ケイ素化合物、ヒンダードアミン基或いはヒンダードフェノール基を有し且つシリル基を有するビニル系ポリマー、反応性電荷輸送性化合物の反応を促進するためには、塗布液中、或いは塗布液生成過程で金属キレート化合物を添加することが好ましい。ここで金属キレート化合物は、ジルコニウム、チタンおよびアルミニウムの群から選ばれる金属のキレート化合物である（以下、金属キレート化合物（III）という）。金属キレート化合物（III）は、前記の有機ケイ素化合物とシリル基を有するビニル系ポリマー、反応性電荷輸送性化合物との加水分解および／または部分縮合反応を促進し、３成分の共縮合物の形成を促進する作用をなすものと考えられる。
【０２５１】
このような金属キレート化合物（III）の例としては、一般式（１５）、（１６）、（１７）で表される化合物、あるいはこれらの化合物の部分加水分解物が挙げられる。
【０２５２】
一般式（１５）      Ｚｒ（ＯＲ5）p（Ｒ6ＣＯＣＨＣＯＲ7）4-p
一般式（１６）      Ｔｉ（ＯＲ5）q（Ｒ6ＣＯＣＨＣＯＲ7）4-q
一般式（１７）      Ａｌ（ＯＲ5）r（Ｒ6ＣＯＣＨＣＯＲ7）3-r
一般式（１５）、（１６）、（１７）におけるＲ5およびＲ6は、それぞれ独立に炭素数１〜６の１価の炭化水素基、具体的には、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、フェニル基等を示し、Ｒ7は、Ｒ5およびＲ6と同様の炭素数１〜６の１価の炭化水素基のほか、炭素数１〜１６のアルコキシ基、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ラウリルオキシ基、ステアリルオキシ基等を示す。また、ｐおよびｑは０〜３の整数、ｒは０〜２の整数である。
【０２５３】
このような金属キレート化合物（III）の具体例としては、トリ−ｎ−ブトキシ・エチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム等のジルコニウムキレート化合物；ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウム等のチタンキレート化合物；ジ−ｉ−プロポキシ・エチルアセトアセテートアルミニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・アセチルアセトナートアルミニウム、ｉ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（エチルアセテート）アルミニウム、トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウム等のアルミニウムキレート化合物等が挙げられる。これらの化合物のうち、トリ−ｎ−ブトキシ・エチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・エチルアセトアセテートアルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウムが好ましい。これらの金属キレート化合物（III）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【０２５４】
金属キレート化合物（III）の添加量は、有機ケイ素化合物、シロキサン縮合体、シリル基を有するビニル系ポリマー、及び反応性電荷輸送性化合物等の塗布液固形分（塗布液固形分とは塗布液を乾燥した後、残留する成分）の全質量に対する配合量が０．０１〜２０質量％、好ましくは０．５〜２０質量％となるような量である。金属キレート化合物（III）の量が少なすぎると保護層樹脂の３次元化が達成されないおそれがあり、一方、多すぎると塗液のポットライフが悪化する。
【０２５５】
シロキサン系樹脂層の塗布液を塗布した後の硬化条件は、使用される有機ケイ素化合物の反応性に依存するが、６０〜１５０℃にて３０分〜６時間の乾燥を行わせるのが好ましい。
【０２５６】
これらの硬化反応を促進するためには有機溶媒が存在することが好ましい。ここで使用可能な有機溶媒としては、アルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。有機溶媒の使用量は有機ケイ素化合物に対して限定されるものではなく、使用目的に応じて調製される。
【０２５７】
硬化反応促進させる溶媒としては有機ケイ素化合物、シリル基を有するビニル系ポリマー、反応性基を有する電荷輸送性化合物を均一に溶解させる溶媒が好ましく用いられる。これらの溶媒としてはアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが用いられるが、特に下記に例示ような溶媒が好ましい。
【０２５８】
アルコール系溶媒としては炭素数１〜４のアルコール、即ちメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉｓｏ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールが好ましく用いられる。
【０２５９】
非アルコール系溶媒としてはエチルメチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系の溶媒が好ましく用いられる。
【０２６０】
上記シロキサン系樹脂層塗布液中には、更に、硬化促進剤必要により添加することができる。
【０２６１】
硬化促進剤としては、ナフテン酸、オクチル酸、亜硝酸、亜硫酸、アルミン酸、炭酸などのアルカリ金属塩；水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ性化合物；アルキルチタン酸、リン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、フタル酸などの酸性化合物；エチレンジアミン、ヘキサンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ピペリジン、ピペラジン、メタフェニレンジアミン、エタノールアミン、トリエチルアミン、エポキシ樹脂の硬化剤として用いられる各種変性アミン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アニリノプロピルトリメトキシシランなどのアミン系化合物、（Ｃ4Ｈ9）2Ｓｎ（ＯＣＯＣ11Ｈ23）2、（Ｃ4Ｈ9）2Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣＨ3）2、（Ｃ4Ｈ9）2Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ4Ｈ9）2、（Ｃ8Ｈ17）2Ｓｎ（ＯＣＯＣ11Ｈ23）2、（Ｃ8Ｈ17）2Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣＨ3）2、（Ｃ8Ｈ17）2Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ4Ｈ9）2、（Ｃ8Ｈ17）2Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ8Ｈ17）2、Ｓｎ（ＯＣＯＣＣ8Ｈ17）2、などのカルボン酸型有機スズ化合物；（Ｃ4Ｈ9）2Ｓｎ（ＳＣＨ2ＣＯＯ）2、（Ｃ4Ｈ9）2Ｓｎ（ＳＣＨ2ＣＯＯＣ8Ｈ17）2、（Ｃ8Ｈ17）2Ｓｎ（ＳＣＨ2ＣＯＯ）2、（Ｃ8Ｈ17）2Ｓｎ（ＳＣＨ2ＣＨ2ＣＯＯ）2、（Ｃ8Ｈ17）2Ｓｎ（ＳＣＨ2ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ2Ｓ）2、（Ｃ8Ｈ17）2Ｓｎ（ＳＣＨ2ＣＯＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2ＯＣＯＣＨ2Ｓ）2、（Ｃ8Ｈ17）2Ｓｎ（ＳＣＨ2ＣＯＯＣ8Ｈ17）2、（Ｃ8Ｈ17）2Ｓｎ（ＳＣＨ2ＣＯＯＣ12Ｈ25）2、
【０２６２】
【化６４】
2005134514.tif 000065
【０２６３】
などのメルカプチド型有機スズ化合物；
【０２６４】
【化６５】
2005134514.tif 000066
【０２６５】
などのスルフィド型有機スズ化合物；
（Ｃ4Ｈ9）2ＳｎＯ、（Ｃ8Ｈ17）2ＳｎＯ、（Ｃ4Ｈ9）2ＳｎＯ、（Ｃ8Ｈ17）2ＳｎＯなどの有機スズオキサイドとエチルシリケート、エチルシリケート４０、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フタル酸ジオクチルなどのエステル化合物との反応生成物などの有機スズ化合物などが使用される。
【０２６６】
上記塗布液中の硬化促進剤の添加量は、塗布液固形分（固形分とは塗布液成分中の乾燥後に残留する成分を意味する）１００質量部に対して０．１〜２０質量部、好ましくは０．５〜１００質量部である。これらの量が少なすぎると膜の強度が低下するおそれがあり、一方、多すぎると塗液のポットライフが悪化する。
【０２６７】
又、上記塗布液には前記した金属酸化物粒子、有機微粒子、酸化防止剤を必要に応じて添加し、本発明のシロキサン系樹脂層を作製することが出来る。
【０２６８】
本発明においては、シロキサン系樹脂層塗布液の全固形分濃度を調整し、併せて粘度も調整するために、有機溶媒を使用することができる。このような有機溶媒としては、アルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類等の有機溶剤を使用することが好ましい。前記アルコール類としては、例えば１価または２価のアルコールを挙げることができ、具体的にはメタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ｎ−ヘキシルアルコール、ｎ−オクチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル等を挙げることができる。これらのうち、炭素数１〜８の１価の飽和脂肪族アルコールが好ましい。また、前記芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等を挙げることができ、前記エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサン等を挙げることができ、前記エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、炭酸プロピレン等を挙げることができる。これらの有機溶媒は、単独または２種以上を混合して使用することができる。有機溶媒の添加方法は特に限定されるものではなく、本発明の表面保護液を調製する際および／または調製後の適宜の段階で添加することができる。
【０２６９】
以上のような構成を選択採用することにより、前記した膜物性の電荷輸送層を実現させることができ、このような電荷輸送層を表面層を有する有機感光体は残留トナークリーニング性を改善すると同時に、耐傷性、耐摩耗性を改善し、長期に亘り鮮鋭性が良好な電子写真画像を提供することができる。
【０２７０】
以上、前記一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を含有した電荷輸送層、及び架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有する表面層について説明したが、これら以外の電子写真感光体の層構成特に有機感光体の層構成について下記に記載する。
【０２７１】
本発明で、有機感光体とは電子写真感光体の構成に必要不可欠な電荷発生機能及び電荷輸送機能の少なくとも一方の機能を有機化合物に持たせて構成された電子写真感光体を意味し、公知の有機電荷発生物質又は有機電荷輸送物質から構成された感光体、電荷発生機能と電荷輸送機能を高分子錯体で構成した感光体等公知の有機電子写真感光体を全て含有する。
【０２７２】
以下に本発明に好ましく用いられる有機感光体の構成について記載する。
【０２７３】
導電性支持体
感光体に用いられる導電性支持体としてはシート状、円筒状のどちらを用いても良いが、画像形成装置をコンパクトに設計するためには円筒状導電性支持体の方が好ましい。
【０２７４】
円筒状導電性支持体とは回転することによりエンドレスに画像を形成できるに必要な円筒状の支持体を意味し、真直度で０．１ｍｍ以下、振れ０．１ｍｍ以下の範囲にある導電性の支持体が好ましい。この真直度及び振れの範囲を超えると、良好な画像形成が困難になる。
【０２７５】
導電性の材料としてはアルミニウム、ニッケルなどの金属ドラム、又はアルミニウム、酸化錫、酸化インジュウムなどを蒸着したプラスチックドラム、又は導電性物質を塗布した紙・プラスチックドラムを使用することができる。導電性支持体としては常温で比抵抗１０3Ωｃｍ以下が好ましい。
【０２７６】
本発明で用いられる導電性支持体は、その表面に封孔処理されたアルマイト膜が形成されたものを用いても良い。アルマイト処理は、通常例えばクロム酸、硫酸、シュウ酸、リン酸、硼酸、スルファミン酸等の酸性浴中で行われるが、硫酸中での陽極酸化処理が最も好ましい結果を与える。硫酸中での陽極酸化処理の場合、硫酸濃度は１００〜２００ｇ／Ｌ、アルミニウムイオン濃度は１〜１０ｇ／Ｌ、液温は２０℃前後、印加電圧は約２０Ｖで行うのが好ましいが、これに限定されるものではない。又、陽極酸化被膜の平均膜厚は、通常２０μｍ以下、特に１０μｍ以下が好ましい。
【０２７７】
中間層
本発明においては導電性支持体と感光層の間に、バリヤー機能を備えた中間層を設けることもできる。
【０２７８】
本発明においては導電性支持体と前記感光層のとの接着性改良、或いは該支持体からの電荷注入を防止するために、該支持体と前記感光層の間に中間層（下引層も含む）を設けることもできる。該中間層の材料としては、ポリアミド樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂並びに、これらの樹脂の繰り返し単位のうちの２つ以上を含む共重合体樹脂が挙げられる。これら下引き樹脂の中で繰り返し使用に伴う残留電位増加を小さくできる樹脂としてはポリアミド樹脂が好ましい。又、これら樹脂を用いた中間層の膜厚は０．０１〜０．５μｍが好ましい。
【０２７９】
又、本発明に好ましく用いられる中間層はシランカップリング剤、チタンカップリング剤等の有機金属化合物を熱硬化させた硬化性金属樹脂を用いた中間層が挙げられる。硬化性金属樹脂を用いた中間層の膜厚は、０．１〜２μｍが好ましい。
【０２８０】
又、本発明に好ましく用いられる中間層は無機粒子をバインダー樹脂中に分散した中間層が挙げられる。無機粒子の平均粒径は０．０１〜１μｍが好ましい。特に、表面処理をしたＮ型半導性微粒子をバインダー中に分散した中間層が好ましい。例えばシリカ・アルミナ処理及びシラン化合物で表面処理した平均粒径が０．０１〜１μｍの酸化チタンをポリアミド樹脂中に分散した中間層が挙げられる。このような中間層の膜厚は、１〜２０μｍが好ましい。
【０２８１】
Ｎ型半導性微粒子とは、導電性キャリアを電子とする性質をもつ微粒子を示す。すなわち、導電性キャリアを電子とする性質とは、該Ｎ型半導性微粒子を絶縁性バインダーに含有させることにより、基体からのホール注入を効率的にブロックし、また、感光層からの電子に対してはブロッキング性を示さない性質を有するものをいう。
【０２８２】
ここで、Ｎ型半導性粒子の判別方法について説明する。
【０２８３】
導電性支持体上に膜厚５μｍの中間層（中間層を構成するバインダー樹脂中に粒子を５０質量％分散させた分散液を用いて中間層を形成する）を形成する。該中間層に負極性に帯電させて、光減衰特性を評価する。又、正極性に帯電させて同様に光減衰特性を評価する。
【０２８４】
Ｎ型半導性粒子とは、上記評価で、負極性に帯電させた時の光減衰が正極性に帯電させた時の光減衰よりも大きい場合に、中間層に分散された粒子をＮ型半導性粒子という。
【０２８５】
前記Ｎ型半導性微粒子は、具体的には酸化チタン（ＴｉＯ2）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ2）等の微粒子が挙げられるが、本発明では、特に酸化チタンが好ましく用いられる。
【０２８６】
本発明に用いられるＮ型半導性微粒子の平均粒径は、数平均一次粒径において１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲のものが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ〜２００ｎｍ、特に好ましくは、１５ｎｍ〜５０ｎｍである。
【０２８７】
数平均一次粒径の値が前記範囲内にあるＮ型半導性微粒子を用いた中間層は層内での分散を緻密なものとすることができ、十分な電位安定性、及び黒ポチ発生防止機能を有する。
【０２８８】
前記Ｎ型半導性微粒子の数平均一次粒径は、例えば酸化チタンの場合、透過型電子顕微鏡観察によって１００００倍に拡大し、ランダムに１００個の粒子を一次粒子として観察し、画像解析によりフェレ径の数平均径として測定される。
【０２８９】
本発明に用いられるＮ型半導性微粒子の形状は、樹枝状、針状および粒状等の形状があり、このような形状のＮ型半導性微粒子は、例えば酸化チタン粒子では、結晶型としては、アナターゼ型、ルチル型及びアモルファス型等があるが、いずれの結晶型のものを用いてもよく、また２種以上の結晶型を混合して用いてもよい。その中でもルチル型のものが最も良い。
【０２９０】
Ｎ型半導性微粒子に行われる疎水化表面処理の１つは、複数回の表面処理を行い、かつ該複数回の表面処理の中で、最後の表面処理が反応性有機ケイ素化合物による表面処理を行うものである。また、該複数回の表面処理の中で、少なくとも１回の表面処理がアルミナ、シリカ、及びジルコニアから選ばれる少なくとも１種類以上の表面処理であり、最後に反応性有機ケイ素化合物の表面処理を行うことが好ましい。
【０２９１】
尚、アルミナ処理、シリカ処理、ジルコニア処理とはＮ型半導性微粒子表面にアルミナ、シリカ、或いはジルコニアを析出させる処理を云い、これらの表面に析出したアルミナ、シリカ、ジルコニアにはアルミナ、シリカ、ジルコニアの水和物も含まれる。又、反応性有機ケイ素化合物の表面処理とは、処理液に反応性有機ケイ素化合物を用いることを意味する。
【０２９２】
この様に、酸化チタン粒子の様なＮ型半導性微粒子の表面処理を少なくとも２回以上行うことにより、Ｎ型半導性微粒子表面が均一に表面被覆（処理）され、該表面処理されたＮ型半導性微粒子を中間層に用いると、中間層内における酸化チタン粒子等のＮ型半導性微粒子の分散性が良好で、かつ黒ポチ等の画像欠陥を発生させない良好な感光体を得ることができるのである。
【０２９３】
感光層
本発明の感光体の感光層構成は前記中間層上に電荷発生機能と電荷輸送機能を１つの層に持たせた単層構造の感光層構成でも良いが、より好ましくは感光層の機能を電荷発生層（ＣＧＬ）と電荷輸送層（ＣＴＬ）に分離した構成をとるのがよい。機能を分離した構成を取ることにより繰り返し使用に伴う残留電位増加を小さく制御でき、その他の電子写真特性を目的に合わせて制御しやすい。負帯電用の感光体では中間層の上に電荷発生層（ＣＧＬ）、その上に電荷輸送層（ＣＴＬ）の構成を取ることが好ましい。正帯電用の感光体では前記層構成の順が負帯電用感光体の場合の逆となる。本発明の最も好ましい感光層構成は前記機能分離構造を有する負帯電感光体構成である。
【０２９４】
以下に機能分離負帯電感光体の感光層構成について説明する。
【０２９５】
電荷発生層
電荷発生層には電荷発生物質（ＣＧＭ）を含有する。その他の物質としては必要によりバインダー樹脂、その他添加剤を含有しても良い。
【０２９６】
電荷発生物質（ＣＧＭ）としては公知の電荷発生物質（ＣＧＭ）を用いることができる。例えばフタロシアニン顔料、アゾ顔料、ペリレン顔料、アズレニウム顔料などを用いることができる。これらの中で繰り返し使用に伴う残留電位増加を最も小さくできるＣＧＭは複数の分子間で安定な凝集構造をとりうる結晶構造を有するものであり、具体的には特定の結晶構造を有するフタロシアニン顔料、ペリレン顔料のＣＧＭが挙げられる。例えばＣｕ−Ｋα線に対するブラッグ角２θが２７．２°に最大ピークを有するチタニルフタロシアニン、同２θが１２．４に最大ピークを有するベンズイミダゾールペリレン等のＣＧＭは繰り返し使用に伴う劣化がほとんどなく、残留電位増加小さくすることができる。
【０２９７】
電荷発生層にＣＧＭの分散媒としてバインダーを用いる場合、バインダーとしては公知の樹脂を用いることができるが、最も好ましい樹脂としてはホルマール樹脂、ブチラール樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン変性ブチラール樹脂、フェノキシ樹脂等が挙げられる。バインダー樹脂と電荷発生物質との割合は、バインダー樹脂１００質量部に対し２０〜６００質量部が好ましい。これらの樹脂を用いることにより、繰り返し使用に伴う残留電位増加を最も小さくできる。電荷発生層の膜厚は０．０１μｍ〜２μｍが好ましい。
【０２９８】
電荷輸送層
電荷輸送層には電荷輸送物質（ＣＴＭ）及びＣＴＭを分散し製膜するバインダー樹脂を含有する。その他の物質としては必要により酸化防止剤等の添加剤を含有しても良い。
【０２９９】
電荷輸送物質（ＣＴＭ）としては、前記一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を用いる。又、該混合化合物と共に、例えばトリフェニルアミン誘導体、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ベンジジン化合物、ブタジエン化合物などを併用して用いることができる。これら電荷輸送物質は通常、適当なバインダー樹脂中に溶解して層形成が行われる。
【０３００】
電荷輸送層（ＣＴＬ）に用いられる樹脂としては、例えばポリスチレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂、ポリカーボネート樹脂、シリコーン樹脂、メラミン樹脂並びに、これらの樹脂の繰り返し単位構造のうちの２つ以上を含む共重合体樹脂。又これらの絶縁性樹脂の他、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体が挙げられる。
【０３０１】
これらＣＴＬのバインダーとして最も好ましいものはポリカーボネート樹脂である。ポリカーボネート樹脂はＣＴＭの分散性、電子写真特性を良好にすることにおいて、最も好ましい。バインダー樹脂と電荷輸送物質との割合は、バインダー樹脂１００質量部に対し１０〜２００質量部が好ましい。
【０３０２】
又、電荷輸送層には前記した酸化防止剤を含有させることが好ましい。該酸化防止剤とは、その代表的なものは電子写真感光体中ないしは電子写真感光体表面に存在する自動酸化性物質に対して、光、熱、放電等の条件下で酸素の作用を防止ないし、抑制する性質を有する物質である。
【０３０３】
電荷輸送層は２層以上の層構成にして、表面の電荷輸送層に本発明のシロキサン系樹脂層の構成を持たせてもよい。又、電荷輸送層の膜厚は１０〜４０μｍが好ましい。
【０３０４】
保護層
前記した如く、保護層を架橋構造を有するシロキサン系樹脂層で層形成をし、該保護層を表面層とした電子写真感光体が最も好ましい。
【０３０５】
上記では本発明の最も好ましい感光体の層構成を例示したが、本発明では上記以外の感光体層構成でも良い。
【０３０６】
感光層、中間層、表面層等の層形成に用いられる溶媒又は分散媒としては、ｎ−ブチルアミン、ジエチルアミン、エチレンジアミン、イソプロパノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプロピルケトン、シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジクロロプロパン、１，１，２−トリクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエタン、テトラヒドロフラン、ジオキソラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、ブタノール、イソプロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブ等が挙げられる。本発明はこれらに限定されるものではないが、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、メチルエチルケトン等が好ましく用いられる。また、これらの溶媒は単独或いは２種以上の混合溶媒として用いることもできる。
【０３０７】
又、これらの各層の塗布溶液は塗布工程に入る前に、塗布溶液中の異物や凝集物を除去するために、金属フィルター、メンブランフィルター等で濾過することが好ましい。例えば、日本ポール社製のプリーツタイプ（ＨＤＣ）、デプスタイプ（プロファイル）、セミデプスタイプ（プロファイルスター）等を塗布液の特性に応じて選択し、濾過をすることが好ましい。
【０３０８】
次に有機電子写真感光体を製造するための塗布加工方法としては、浸漬塗布、スプレー塗布、円形量規制型塗布等の塗布加工法が用いられるが、感光層の上層側の塗布加工は下層の膜を極力溶解させないため、又、均一塗布加工を達成するためスプレー塗布又は円形量規制型（円形スライドホッパ型がその代表例）塗布等の塗布加工方法を用いるのが好ましい。なお保護層は前記円形量規制型塗布加工方法を用いるのが最も好ましい。前記円形量規制型塗布については例えば特開昭５８−１８９０６１号公報に詳細に記載されている。
【０３０９】
次に、本発明の電子写真感光体を用いた画像形成方法及び画像形成装置の説明をする。
【０３１０】
図１は本発明の画像形成方法の１例としての画像形成装置の断面構成図である。
【０３１１】
図１に於いて５０は像担持体である感光体ドラム（感光体）で、有機感光層をドラム上に塗布した感光体で、接地されて時計方向に駆動回転される。５２はスコロトロンの帯電器（帯電手段）で、感光体ドラム５０周面に対し一様な帯電をコロナ放電によって与えられる。この帯電器５２による帯電に先だって、前画像形成での感光体の履歴をなくすために発光ダイオード等を用いた帯電前露光部５１による露光を行って感光体周面の除電をしてもよい。
【０３１２】
感光体への一様帯電の後、像露光手段としての像露光器５３により画像信号に基づいた像露光が行われる。この図の像露光器５３は図示しないレーザダイオードを露光光源とする。回転するポリゴンミラー５３１、ｆθレンズ等を経て反射ミラー５３２により光路を曲げられた光により感光体ドラム上の走査がなされ、静電潜像が形成される。
【０３１３】
ここで反転現像プロセスとは帯電器５２により、感光体表面を一様に帯電し、像露光が行われた領域、即ち感光体の露光部電位（露光部領域）を現像工程（手段）により、顕像化する画像形成方法である。一方未露光部電位は現像スリーブ５４１に印加される現像バイアス電位により現像されない。
【０３１４】
その静電潜像は次いで現像手段としての現像器５４で現像される。感光体ドラム５０周縁にはトナーとキャリアとから成る現像剤を内蔵した現像器５４が設けられていて、マグネットを内蔵し現像剤を保持して回転する現像スリーブ５４１によって現像が行われる。現像器５４内部は現像剤攪拌搬送部材５４４、５４３、搬送量規制部材５４２等から構成されており、現像剤は攪拌、搬送されて現像スリーブに供給されるが、その供給量は該搬送量規制部材５４２により制御される。該現像剤の搬送量は適用される電子写真感光体の線速及び現像剤比重によっても異なるが、一般的には２０〜２００ｍｇ／ｃｍ2の範囲である。
【０３１５】
現像剤は、例えば前述のフェライトをコアとしてそのまわりに絶縁性樹脂をコーティングしたキャリアと、前述のスチレンアクリル系樹脂を主材料としてカーボンブラック等の着色剤と荷電制御剤と低分子量ポリオレフィンからなる着色粒子に、シリカ、酸化チタン等を外添したトナーとからなるもので、現像剤は搬送量規制部材によって層厚を規制されて現像域へと搬送され、現像が行われる。この時通常は感光体ドラム５０と現像スリーブ５４１の間に直流バイアス、必要に応じて交流バイアス電圧をかけて現像が行われる。また、現像剤は感光体に対して接触あるいは非接触の状態で現像される。感光体の電位測定は電位センサー５４７を図１のように現像位置上部に設けて行う。
【０３１６】
記録紙Ｐは画像形成後、転写のタイミングの整った時点で給紙ローラー５７の回転作動により転写域へと給紙される。
【０３１７】
転写域においては転写のタイミングに同期して感光体ドラム５０の周面に転写電極（転写手段：転写器）５８が作動し、給紙された記録紙Ｐにトナーと反対極性の帯電を与えてトナーを転写する。
【０３１８】
次いで記録紙Ｐは分離電極（分離器）５９によって除電がなされ、感光体ドラム５０の周面により分離して定着装置６０に搬送され、熱ローラー６０１と圧着ローラー６０２の加熱、加圧によってトナーを溶着したのち排紙ローラー６１を介して装置外部に排出される。なお前記の転写電極５８及び分離電極５９は記録紙Ｐの通過後、一次作動を中止し、次なるトナー像の形成に備える。図１では転写電極５８にコロトロンの転写帯電極を用いている。転写電極の設定条件としては、感光体のプロセススピード（周速）等により異なり一概に規定することはできないが、例えば、転写電流としては＋１００〜＋４００μＡ、転写電圧としては＋５００〜＋２０００Ｖを設定値とすることができる。
【０３１９】
一方記録紙Ｐを分離した後の感光体ドラム５０は、クリーニング器（クリーニング手段）６２のブレード６２１の圧接により残留トナーを除去・清掃し、再び帯電前露光部５１による除電と帯電器５２による帯電を受けて次なる画像形成のプロセスに入る。
【０３２０】
尚、７０は感光体、帯電器、転写器、分離器及びクリーニング器が一体化されている着脱可能なプロセスカートリッジである。
【０３２１】
本発明の電子写真感光体は電子写真複写機、レーザプリンター、ＬＥＤプリンター及び液晶シャッター式プリンター等の電子写真装置一般に適応するが、更に、電子写真技術を応用したディスプレー、記録、軽印刷、製版及びファクシミリ等の装置にも幅広く適用することができる。
【実施例】
【０３２２】
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されない。但し、下記文中の「部」は「質量部」を示す。
【０３２３】
実施例１
下記のごとくして、一般式Ａの混合化合物を含有した感光体を作製した。
感光体１Ａの作製
〈中間層〉
ポリアミド樹脂（アミランＣＭ−８０００：東レ社製）                    ６０部
無機微粒子：酸化チタン（シリカ処理、アルミナ処理、及びメチルハイドロジェンポリシロキサン処理の表面処理を施した数平均一次粒径３５ｍｍの酸化チタン）  １８０部
メタノール                                                        １６００部
１−ブタノール                                                      ４００部
上記成分を混合溶解して中間層塗布液を調製した。この塗布液をの円筒状アルミニウム基体上に浸漬塗布法で塗布し、乾燥後、膜厚１．０μｍの中間層を形成した。
〈電荷発生層〉
チタニルフタロシアニン顔料（Ｃｕ−Ｋα特性Ｘ線回折スペクトルで、ブラッグ角２θの最大ピークが２７．３°の顔料）                                        ６０部
シリコーン樹脂溶液
（ＫＲ５２４０、１５％キシレン−ブタノール溶液：信越化学社製）        ７００部
２−ブタノン                                                      ２０００部
上記成分を混合し、サンドミルを用いて１０時間分散し、電荷発生層塗布液を調製した。この塗布液を前記中間層の上に浸漬塗布法で塗布し、乾燥後、膜厚０．３μｍの電荷発生層を形成した。
〈電荷輸送層〉
電荷輸送物質（合成例（１）の化合物）                                １５０部
バインダー樹脂：ビスフェノールＺ型ポリカーボネート
（ユーピロンＺ３００：三菱ガス化学社製）                          ３００部
酸化防止剤（サノールＬＳ２６２６：三共社製）                        １．７部
テトラヒドロフラン（沸点：６４．５℃）                            ２２００部
上記成分を混合溶解して電荷輸送層塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷発生層の上に浸漬塗布法で塗布し、１００℃４０分間乾燥して、膜厚１９μｍの電荷輸送層を形成した。
【０３２４】
〈保護層Ａ〉
ビニル系ポリマー溶液Ａ                                              １００部
メチルトリメトキシシラン                                              ７０部
ジメチルジメトキシシラン                                              ３０部
ｉ−ブチルアルコール                                                １００部
ブチルセロソルブ                                                      ７５部
ジ−ｉ−プロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム                  １０部
を混合し、よく攪拌した後、攪拌下、純水３０部を滴下し、６０℃で４時間反応させた。次いで室温まで冷却して反応性電荷輸送性化合物（Ｂ−１）５０部及びアルミニウムトリスアセチルアセトネート５部を添加、攪拌し、塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷輸送層の上に円形量規制型塗布装置により保護層を形成し、１２０℃、１時間の加熱硬化を行い、本発明のシロキサン系樹脂層（架橋結合を有するシロキサン系樹脂を含有する層）の保護層Ａ（厚さ３μｍ）を有する感光体１Ａを作製した。
【０３２５】
感光体２Ａ〜１４Ａの作製
感光体１Ａにおいて、電荷発生物質、電荷輸送物質の化合物、化合物の量、電荷輸送層の膜厚、及び保護層を表１のように変更した以外は同様にして感光体２Ａ〜１４Ａを作製した。但し、保護層Ｂ〜Ｈの処方は下記に示した。
【０３２６】
感光体１５Ａの作製
感光体１Ａの作製において、電荷輸送物質（合成例（１）の化合物）を、公知の方法で別途合成した化合物２１Ａ（ｐ＝０、ｑ＝０）のｎ＝０のみの成分（成分純度は９９％より大）の電荷輸送物質に代えた以外は同様にして感光体１５Ａを作製した。
【０３２７】
感光体１６Ａの作製
感光体１の作製において、電荷輸送物質（合成例（１）の化合物）を、合成例（１）の化合物を液体クロマトグラフィーで各成分を分離し、化合物２１Ａ（ｐ＝０、ｑ＝０）のｎ＝３のみの成分（成分純度は９９％より大）の電荷輸送物質に代えた以外は同様にして感光体１６Ａを作製したが、電荷輸送物質がバインダー樹脂と相溶せず析出して、評価できる感光体が得られなかった。
【０３２８】
感光体１７Ａの作製
感光体１において、電荷輸送物質（１）の化合物を、合成例（１）の化合物を液体クロマトグラフィーで各成分を分離し、化合物２１Ａ（ｐ＝０、ｑ＝０）のｎ＝１とｎ＝２の組成比がそれぞれ５０％の混合化合物の電荷輸送物質に代えた以外は同様にして感光体１７Ａを作製した。
【０３２９】
感光体１８Ａの作製
感光体１Ａにおいて、保護層Ａをシロキサン系樹脂を含有しない本発明外の保護層Ｉに代えた以外は同様にして感光体１８Ａを作製した。但し、保護層Ｉの処方は下記に示し、表２にまとめた（溶媒はまとめから除いた）。
【０３３０】
保護層Ｂ〜Ｈ
〈保護層Ｂ〉
感光体１Ａの保護層Ａに用いた塗布液に酸化防止剤（サノールＬＳ２６２６、三共社製）２部を加えた以外は保護層Ａと同様にして、本発明のシロキサン系樹脂層を有する保護層Ｂを作製した。
【０３３１】
〈保護層Ｃ〉
感光体１Ａの保護層Ａに用いた塗布液の反応性電荷輸送性化合物を（Ｂ−１）から（Ｂ−２）に代えた以外は保護層Ａ同様にして、本発明のシロキサン系樹脂層を有する保護層Ｃを作製した。
【０３３２】
〈保護層Ｄ〉
感光体１Ａの保護層Ａに用いた塗布液の反応性電荷輸送性化合物を（Ｂ−１）から（Ｓｉ−１）に代えた以外は保護層Ａと同様にして、本発明のシロキサン系樹脂層を有する保護層Ｄを作製した。
【０３３３】
〈保護層Ｅ〉
感光体１Ａの保護層Ａに用いたビニル系ポリマー溶液Ａの代わりにビニル系ポリマー溶液Ｂを用いた他は保護層Ａと同様にして、本発明のシロキサン系樹脂層を有する保護層Ｅを作製した。
【０３３４】
〈保護層Ｆ〉
ビニル系ポリマー溶液Ａ                                              １００部
メチルトリメトキシシラン                                            １００部
ｉ−ブチルアルコール                                                １００部
ブチルセロソルブ                                                      ７５部
ジ−ｉ−プロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム                  １０部
を混合し、よく攪拌した後、攪拌下、純水３０部を滴下し、６０℃で４時間反応させた。次いで室温まで冷却して反応性電荷輸送性化合物（Ｂ−１）５０部及びチタンキレート（ＴＣ−７５０、松本製薬社製：ジイソプロポキシチタンビスエチルアセトアセテート）５部を添加、攪拌し、塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷輸送層の上に円形量規制型塗布装置により保護層を形成し、１２０℃、１時間の加熱硬化を行い、本発明のシロキサン系樹脂層（厚さ３μｍ）を有する保護層Ｆを作製した。
【０３３５】
〈保護層Ｇ〉
メチルトリメトキシシラン                                            １２０部
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン                            ５０部
ｉ−ブチルアルコール                                                １００部
ブチルセロソルブ                                                      ７５部
ジ−ｉ−プロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム                  １０部
を混合し、よく攪拌した後、攪拌下、純水３０部を滴下し、６０℃で４時間反応させた。次いで室温まで冷却して反応性電荷輸送性化合物（Ｂ−１）５０部及びアルミニウムトリスアセチルアセトネート５部を添加、攪拌し、塗布液液を調製した。この塗布液を前記電荷輸送層の上に円形量規制型塗布装置によりの保護層を形成し、１２０℃、１時間の加熱硬化を行い、本発明のシロキサン系樹脂層（厚さ３μｍ）を有する保護層Ｇを作製した。
【０３３６】
〈保護層Ｈ〉
感光体１Ａの保護層Ａに用いたビニル系ポリマー溶液Ａの代わりにビニル系ポリマー溶液Ｃを用いた他は保護層Ａと同様にして、本発明のシロキサン系樹脂層を有する保護層Ｈを作製した。
【０３３７】
〈保護層Ｉ〉
感光体１Ａの保護層Ａに用いたビニル系ポリマー溶液Ａ（１００部）の代わりにビスフェノールＺ型ポリカーボネート（ユーピロンＺ３００：三菱ガス化学社製：５０部）を用い、メチルトリメトキシシラン（７０部）、ジメチルジメトキシシラン（３０部）を除き、ｉ−ブチルアルコール及びブチルセロソルブをそれぞれ、テトラヒドロフランに変更した以外は同様にして、シロキサン系樹脂層ではない本発明外の保護層Ｉを作製した。表２に各保護層処方の組成をまとめて表にした（溶媒はまとめから除いた）。
【０３３８】
【表１】
2005134514.tif 000067
【０３３９】
表中、Ｙはチタニルフタロシアニン顔料（Ｃｕ−Ｋα特性Ｘ線回折スペクトルで、ブラッグ角２θの最大ピークが２７．３°の顔料）
Ｚはベンズイミダゾールペリレン顔料（Ｃｕ−Ｋα特性Ｘ線回折スペクトルで、ブラッグ角２θの最大ピークが１２．４°の顔料）を示す。
【０３４０】
（ｘ＋ｙ）は、本発明の混合化合物の最大成分の化合物の組成比ｘと２位成分の化合物の組成比ｙの和（％表示）を示す。
【０３４１】
又、電荷輸送物質の連鎖構造ｎの分布（組成比）は高速液体クロマトグラフィーの面積比より求めた。平均分子量Ｍｗはゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）より求めた重量平均分子量（ポリスチレン換算）を示す。
【０３４２】
【表２】
2005134514.tif 000068
【０３４３】
評価
以上のようにして得た感光体１Ａ〜１８Ａを各々コニカ（株）製の反転現像方式デジタル複写機「Ｋｏｎｉｃａ７０８５」（スコロトロン帯電器、半導体レーザ像露光器（波長６８０ｎｍ）、反転現像手段を有するＡ４紙８５枚／分機）に搭載し、下記評価項目について評価した。評価は、評価項目毎に、環境条件（温湿度条件）を変えて行なった。評価は、基本的に画素率が７％の文字画像、ハーフトーン画像、ベタ白画像、ベタ黒画像がそれぞれ１／４等分にあるオリジナル画像をＡ４で１枚間欠モードにて１万枚の複写を行い、評価した。評価結果を表３に示す。
【０３４４】
評価条件
ラインスピード；４２０ｍｍ／秒
像露光から現像位置までの到達時間；０．１０８秒
帯電条件
帯電器；スコロトロン帯電器（負帯電）
帯電電位；−７００Ｖ〜−７５０Ｖ
露光条件
べた黒画像電位を−１００Ｖにする露光量に設定。
【０３４５】
露光ビーム；レーザは６８０ｎｍの半導体レーザを使用
現像条件
現像剤は、フェライトをコアとして絶縁性樹脂をコーティングしたキャリアとスチレンアクリル系樹脂を主材料としてカーボンブラックの着色剤と荷電制御剤と低分子量ポリオレフィンからなる重合法で作製した体積平均粒径５．３μｍの着色粒子に、シリカ、酸化チタンを外添したトナーの現像剤を使用した。
【０３４６】
転写条件
転写極；コロナ帯電方式（正帯電）
分離条件
分離爪ユニットの分離手段を用いた
クリーニング条件
クリーニング部に硬度７０°、反発弾性６５％、厚さ２（ｍｍ）、自由長９ｍｍのクリーニングブレードをカウンター方向に線圧１８（ｇ／ｃｍ）となるように重り荷重方式で当接した。
【０３４７】
評価項目及び評価方法
低温低湿（１０℃２０％ＲＨ）環境下での高速応答性（べた黒画像部の電位変化）
低温低湿（１０℃２０％ＲＨ）環境下で、画素率が７％の文字画像、ハーフトーン画像、ベタ白画像、ベタ黒画像がそれぞれ１／４等分にあるオリジナル画像をＡ４で１枚間欠モードにて１万枚の複写を行い、初期と１万枚後の現像位置でのべた黒画像部の電位変化（｜ΔＶ｜）を評価した。｜ΔＶ｜が小さい方が低温低湿（１０℃２０％ＲＨ）環境下での高速応答性が優れている。
【０３４８】
◎；べた黒画像部の電位変化｜ΔＶ｜が５０Ｖ未満（良好）
○；べた黒画像部の電位変化｜ΔＶ｜が５０Ｖ〜１５０Ｖ（実用上問題なし）
×；べた黒画像部の電位変化｜ΔＶ｜が１５０Ｖより大きい（実用上問題有り）
文字細り（低温低湿（１０℃２０％ＲＨ）の環境下）
０．１ｍｍ、０．２ｍｍ幅の線画像が印刷されたオリジナル画像を複写し、評価した。
【０３４９】
◎；複写画像の線幅がオリジナル画像の線幅の７５％以上で再現されている（良好）
○；複写画像の線幅がオリジナル画像の線幅の４０％〜７４％で再現されている（実用上問題ないレベル）
×；複写画像の線幅がオリジナル画像の線幅の３９％以下、又は線幅が切断されている（実用上問題となるレベル）
ブラックスポット（高温高湿（３０℃８０％ＲＨ））
ハーフトーン画像上のブラックスポット（苺状のスポット画像）の発生状況を下記の基準で判定した。
【０３５０】
◎；感光体上にブラックスポットの発生核がみられず、ハーフトーン画像にもブラックスポットの発生なし（良好）
○；感光体上にブラックスポットの発生核がみられるが、ハーフトーン画像にはブラックスポットの発生なし（実用上問題なし）
×；感光体上にブラックスポットの発生核がみられ、ハーフトーン画像にもブラックスポットが発生している（実用上問題有り）
周期性の画像欠陥（高温高湿（３０℃８０％ＲＨ）
周期性が感光体の周期と一致し、目視できる白ヌケ、黒ポチ、筋状の画像欠陥が、Ａ４サイズ当たり何個あるかで判定した。
【０３５１】
◎；０．４ｍｍ以上の画像欠陥の頻度：全ての複写画像が５個／Ａ４以下（良好）
○；０．４ｍｍ以上の画像欠陥の頻度：６個／Ａ４以上、１０個／Ａ４以下が１枚以上発生（実用上問題なし）
×；０．４ｍｍ以上の画像欠陥の頻度：１１個／Ａ４以上が１枚以上発生（実用上問題有り）
クラック
上記デジタル複写機Ｋｏｎｉｃａ７０８５を３０℃、８０％ＲＨの環境下で、感光体を搭載したまま、電源をｏｆｆにし、２日間放置した。感光体周辺の部材はこの間動作を停止しているだけの状態、即ち、クリーニングブレード、現像剤搬送体等の部材は、感光体に当接したままにした。その後、感光体の表面を観察し、クラックの発生の有無を観察した。又、画像評価も行い、クラック発生に伴う筋状の画像欠陥の発生の有無も評価した。
【０３５２】
◎；１００本の感光体を評価し、クラックの発生も、筋状の画像欠陥の発生もなし（良好））
○；１００本の感光体を評価し、微細なクラックの発生はあるが、筋状の画像欠陥の発生はない（実用上問題ないレベル）
×；１００本の感光体を評価し、クラックの発生と筋状の画像欠陥の発生が見られる（実用上問題となるレベル）
画像濃度（低温低湿（１０℃２０％ＲＨ））
べた黒部の画像濃度はマクベス社製ＲＤ−９１８を使用し反射濃度で測定した。相対濃度（複写していないＡ４紙の濃度を０．００とする）で評価した
◎；１．２以上（良好）
○；１．２未満〜０．８（実用上問題ないレベル）
×；０．８未満（実用上問題となるレベル）
鮮鋭性
画像の鮮鋭性は、低温低湿（１０℃２０％ＲＨ）、高温高湿（３０℃８０％ＲＨ）の両環境において画像を出し、文字潰れで評価した。３ポイント、５ポイントの文字画像を形成し、下記の判断基準で評価した。
【０３５３】
◎；３ポイント、５ポイントとも明瞭であり、容易に判読可能
○；３ポイントは一部判読不能、５ポイントは明瞭であり、容易に判読可能
×；３ポイントは殆ど判読不能、５ポイントも一部あるいは全部が判読不能
【０３５４】
【表３】
2005134514.tif 000069
【０３５５】
表３より、電荷輸送層に一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を電荷輸送物質として用い、保護層に架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有させた感光体１Ａ〜１４Ａは、低温低湿（１０℃２０％ＲＨ）環境下での高速応答性（べた黒画像部の電位変化が小さい）が優れ、このため低温低湿下の文字細りもなく、しかも、ブッラクスポット、周期性画像欠陥、クラック等の発生もなく、画像濃度、鮮鋭性に優れた特性を示している。一方、電荷輸送層にｎ＝０の低分子量の化合物の電荷輸送物質を用いた感光体１５Ａは低温低湿（１０℃２０％ＲＨ）環境下での高速応答性が劣り、文字細りを発生しており、画像濃度、鮮鋭性が低下している。又、ｎ＝３の高分子量の化合物の電荷輸送物質を用いた感光体１６Ａの場合は、バインダー樹脂との溶解不良で、感度等もほとんどなく、評価に値しなかった。又、化合物２１Ａ（ｐ＝０、ｑ＝０）のｎ＝１とｎ＝２の組成比をそれぞれ５０％の混合化合物を電荷輸送物質として用いた感光体１７Ａも電荷輸送物質のバインダー樹脂との溶解性が不十分なため、べた黒画像部の電位変化が大きく、クラックも発生し、画像濃度、鮮鋭性が低下している。又、保護層が本発明外の感光体１８Ａもべた黒画像部の電位変化が大きく、ブッラクスポット、周期性画像欠陥も発生し、画像濃度、鮮鋭性も低下している。
【０３５６】
実施例２
下記のごとくして、一般式Ｂの混合化合物を含有した感光体を作製した。
感光体１Ｂの作製
〈中間層〉
ポリアミド樹脂（アミランＣＭ−８０００：東レ社製）                    ６０部
無機微粒子：酸化チタン（シリカ処理、アルミナ処理、及びメチルハイドロジェンポリシロキサン処理の表面処理を施した数平均一次粒径３５ｍｍの酸化チタン）  １８０部
メタノール                                                        １６００部
１−ブタノール                                                      ４００部
上記成分を混合溶解して中間層塗布液を調製した。この塗布液をの円筒状アルミニウム基体上に浸漬塗布法で塗布し、乾燥後、膜厚１．０μｍの中間層を形成した。
〈電荷発生層〉
チタニルフタロシアニン顔料（Ｃｕ−Ｋα特性Ｘ線回折スペクトルで、ブラッグ角２θの最大ピークが２７．３°の顔料）                                        ６０部
シリコーン樹脂溶液
（ＫＲ５２４０、１５％キシレン−ブタノール溶液：信越化学社製）    ７００部
２−ブタノン                                                      ２０００部
上記成分を混合し、サンドミルを用いて１０時間分散し、電荷発生層塗布液を調製した。この塗布液を前記中間層の上に浸漬塗布法で塗布し、乾燥後、膜厚０．３μｍの電荷発生層を形成した。
〈電荷輸送層〉
電荷輸送物質（合成例（４）の化合物）                                １５０部
バインダー樹脂：ビスフェノールＺ型ポリカーボネート
（ユーピロンＺ３００：三菱ガス化学社製）                            ３００部
酸化防止剤（サノールＬＳ２６２６：三共社製）                        １．７部
テトラヒドロフラン（沸点：６４．５℃）                            ２２００部
上記成分を混合溶解して電荷輸送層塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷発生層の上に浸漬塗布法で塗布し、１００℃４０分間乾燥して、膜厚１９μｍの電荷輸送層を形成した。
【０３５７】
〈保護層Ａ〉
ビニル系ポリマー溶液Ａ                                              １００部
メチルトリメトキシシラン                                              ７０部
ジメチルジメトキシシラン                                              ３０部
ｉ−ブチルアルコール                                                １００部
ブチルセロソルブ                                                      ７５部
ジ−ｉ−プロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム                  １０部
を混合し、よく攪拌した後、攪拌下、純水３０部を滴下し、６０℃で４時間反応させた。次いで室温まで冷却して反応性電荷輸送性化合物（Ｂ−１）５０部及びアルミニウムトリスアセチルアセトネート５部を添加、攪拌し、塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷輸送層の上に円形量規制型塗布装置により保護層を形成し、１２０℃、１時間の加熱硬化を行い、本発明のシロキサン系樹脂層（架橋結合を有するシロキサン系樹脂を含有する層）の保護層Ａ（厚さ３μｍ）を有する感光体１Ｂを作製した。
【０３５８】
感光体２Ｂ〜１４Ｂの作製
感光体１Ｂにおいて、電荷発生物質、電荷輸送物質の化合物、化合物の量、電荷輸送層の膜厚、及び保護層を表４のように変更した以外は同様にして感光体２Ｂ〜１４Ｂを作製した。但し、保護層Ｂ〜Ｈの処方は前記と同じ（表２）。
【０３５９】
感光体１５Ｂの作製
感光体１Ｂの作製において、電荷輸送物質（合成例（５）の化合物）を、公知の方法で別途合成した化合物１１Ｂ（ｍ＝０）のｎ＝０のみの成分（成分純度は９９％より大）の電荷輸送物質に代えた以外は同様にして感光体１５Ｂを作製した。
【０３６０】
感光体１６Ｂの作製
感光体１Ｂの作製において、電荷輸送物質（合成例（５）の化合物）を、合成例（５）の化合物を液体クロマトグラフィーで各成分を分離し、化合物１１Ｂ（ｍ＝０）のｎ＝３のみの成分（成分純度は９９％より大）の電荷輸送物質に代えた以外は同様にして感光体１６Ｂを作製したが、電荷輸送物質がバインダー樹脂と相溶せず析出して、評価できる感光体が得られなかった。
【０３６１】
感光体１７Ｂの作製
感光体１Ｂの作製において、電荷輸送物質（合成例（５）の化合物）を、合成例（５）の化合物を液体クロマトグラフィーで各成分を分離し、化合物１１Ｂ（ｍ＝０）のｎ＝２とｎ＝３の組成比がそれぞれ５０％の混合化合物の電荷輸送物質に代えて用いた以外は同様にして感光体１７Ｂを作製した。
【０３６２】
感光体１８Ｂの作製
感光体１Ｂにおいて、保護層Ａをシロキサン系樹脂を含有しない本発明外の保護層Ｉに代えた以外は同様にして感光体１８Ｂを作製した。但し、保護層Ｉの処方は前記と同じ。
【０３６３】
【表４】
2005134514.tif 000070
【０３６４】
表中、Ｙ及びＺは表１と同じ。
【０３６５】
（ｘ＋ｙ）も表１に同じ。
【０３６６】
又、電荷輸送物質の連鎖構造ｎの分布（組成比）は高速液体クロマトグラフィーの面積比より求めた。平均分子量Ｍｗはゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）より求めた重量平均分子量（ポリスチレン換算）を示す。
【０３６７】
評価
以上のようにして得た感光体１Ｂ〜１８Ｂを各々コニカ（株）製の反転現像方式デジタル複写機「Ｋｏｎｉｃａ７０８５」（スコロトロン帯電器、半導体レーザ像露光器（波長６８０ｎｍ）、反転現像手段を有するＡ４紙８５枚／分機）に搭載し、実施例１と同様に評価した。評価結果を表５に示す。
【０３６８】
【表５】
2005134514.tif 000071
【０３６９】
表５より、電荷輸送層に一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を電荷輸送物質として用い、保護層に架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有させた感光体１Ｂ〜１４Ｂは、低温低湿（１０℃２０％ＲＨ）環境下での高速応答性（べた黒画像部の電位変化が小さい）が優れ、このため低温低湿下の文字細りもなく、しかも、ブッラクスポット、周期性画像欠陥、クラック等の発生もなく、画像濃度、鮮鋭性に優れた特性を示している。一方、電荷輸送層にｎ＝０の低分子量の化合物の電荷輸送物質を用いた感光体１５Ｂは低温低湿（１０℃２０％ＲＨ）環境下での高速応答性が劣り、文字細りを発生しており、画像濃度、鮮鋭性が低下している。又、電荷輸送層にｎ＝３の高分子量の化合物の電荷輸送物質を用いた感光体１６Ｂの場合は、バインダー樹脂との溶解不良で、感度等もほとんどなく、評価に値しなかった。又、化合物１１Ｂ（ｍ＝０）のｎ＝２とｎ＝３の組成比をそれぞれ５０％の混合化合物を電荷輸送物質として用いた感光体１７Ｂも電荷輸送物質のバインダー樹脂との溶解性が不十分なため、べた黒画像部の電位変化が大きく、クラックも発生し、画像濃度、鮮鋭性が低下している。又、保護層が本発明外の感光体１８Ｂもべた黒画像部の電位変化が大きく、ブッラクスポット、周期性画像欠陥も発生し、画像濃度、鮮鋭性も低下している。
【０３７０】
実施例３
下記のごとくして、一般式Ｃの混合化合物を含有した感光体を作製した。
感光体１Ｃの作製
〈中間層〉
ポリアミド樹脂（アミランＣＭ−８０００：東レ社製）                    ６０部
無機微粒子：酸化チタン（シリカ処理、アルミナ処理、及びメチルハイドロジェンポリシロキサン処理の表面処理を施した数平均一次粒径３５ｍｍの酸化チタン）  １８０部
メタノール                                                        １６００部
１−ブタノール                                                      ４００部
上記成分を混合溶解して中間層塗布液を調製した。この塗布液をの円筒状アルミニウム基体上に浸漬塗布法で塗布し、乾燥後、膜厚１．０μｍの中間層を形成した。
〈電荷発生層〉
チタニルフタロシアニン顔料（Ｃｕ−Ｋα特性Ｘ線回折スペクトルで、ブラッグ角２θの最大ピークが２７．３°の顔料）                                        ６０部
シリコーン樹脂溶液
（ＫＲ５２４０、１５％キシレン−ブタノール溶液：信越化学社製）        ７００部
２−ブタノン                                                      ２０００部
上記成分を混合し、サンドミルを用いて１０時間分散し、電荷発生層塗布液を調製した。この塗布液を前記中間層の上に浸漬塗布法で塗布し、乾燥後、膜厚０．３μｍの電荷発生層を形成した。
〈電荷輸送層〉
電荷輸送物質（合成例（６）の化合物）                                １５０部
バインダー樹脂：ビスフェノールＺ型ポリカーボネート
（ユーピロンＺ３００：三菱ガス化学社製）                          ３００部
酸化防止剤（サノールＬＳ２６２６：三共社製）                        １．７部
テトラヒドロフラン（沸点：６４．５℃）                            ２２００部
上記成分を混合溶解して電荷輸送層塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷発生層の上に浸漬塗布法で塗布し、１００℃４０分間乾燥して、膜厚１９μｍの電荷輸送層を形成した。
【０３７１】
〈保護層Ａ〉
ビニル系ポリマー溶液Ａ                                              １００部
メチルトリメトキシシラン                                              ７０部
ジメチルジメトキシシラン                                              ３０部
ｉ−ブチルアルコール                                                １００部
ブチルセロソルブ                                                      ７５部
ジ−ｉ−プロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム                  １０部
を混合し、よく攪拌した後、攪拌下、純水３０部を滴下し、６０℃で４時間反応させた。次いで室温まで冷却して反応性電荷輸送性化合物（Ｂ−１）５０部及びアルミニウムトリスアセチルアセトネート５部を添加、攪拌し、塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷輸送層の上に円形量規制型塗布装置により保護層を形成し、１２０℃、１時間の加熱硬化を行い、本発明のシロキサン系樹脂層（架橋結合を有するシロキサン系樹脂を含有する層）の保護層Ａ（厚さ３μｍ）を有する感光体１Ｃを作製した。
【０３７２】
感光体２Ｃの作製
感光体１Ｃにおいて、電荷輸送物質の化合物を合成例（６）の化合物から合成例（７）の化合物に変更した以外は同様にして感光体２Ｃを作製した。
【０３７３】
感光体３Ｃ〜１０Ｃの作製
感光体１Ｃの作製において、電荷発生物質、電荷輸送物質の化合物、化合物の量、電荷輸送層の膜厚及び保護層を表６のように変更した以外は同様にして感光体３Ｃ〜１０Ｃを作製した。
【０３７４】
感光体１１Ｃの作製
感光体１Ｃの作製において、電荷輸送物質（合成例（６）の化合物）を、公知の方法で別途合成した化合物、化学構造１７Ｃのｎ＝０のみの成分（成分純度は９９％より大）の電荷輸送物質に代えて用いた以外は同様にして感光体１１Ｃを作製した。
【０３７５】
感光体１２Ｃの作製
感光体１Ｃの作製において、電荷輸送物質（合成例（６）の化合物）を、合成例（６）の化合物をカラムクロマトグラフィーで各成分を分離し、化学構造１７Ｃのｎ＝５のみの成分（成分純度は９９％より大）の電荷輸送物質に代えて用いた以外は同様にして感光体１２Ｃを作製したが、電荷輸送物質がバインダー樹脂と相溶せず析出して、評価できる感光体が得られなかった。
【０３７６】
感光体１３Ｃの作製
感光体１Ｃの作製において、電荷輸送物質（合成例（６）の化合物）を、合成例（６）の化合物を液体クロマトグラフィーで各成分を分離し、化学構造１７Ｃのｎ＝４とｎ＝５の組成比がそれぞれ５０％の混合化合物の電荷輸送物質に代えて用いた以外は同様にして感光体１３Ｃを作製した。
【０３７７】
感光体１４Ｃの作製
感光体１Ｃにおいて、保護層Ａをシロキサン系樹脂を含有しない本発明外の保護層Ｉに代えた以外は同様にして感光体１４Ｃを作製した。但し、保護層Ｉの処方は前記と同じ。
【０３７８】
【表６】
2005134514.tif 000072
【０３７９】
表中、Ｙ及びＺは表１と同じ。
【０３８０】
（ｘ＋ｙ）も表１に同じ。
【０３８１】
又、電荷輸送物質の連鎖構造ｎの分布（組成比）は高速液体クロマトグラフィーの面積比より求めた。平均分子量Ｍｗはゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）より求めた重量平均分子量（ポリスチレン換算）を示す。
【０３８２】
評価
以上のようにして得た感光体１Ｃ〜１４Ｃを各々コニカ（株）製の反転現像方式デジタル複写機「Ｋｏｎｉｃａ７０８５」（スコロトロン帯電器、半導体レーザ像露光器（波長６８０ｎｍ）、反転現像手段を有するＡ４紙８５枚／分機）に搭載し、実施例１と同様に評価した。評価結果を表７に示す。
【０３８３】
【表７】
2005134514.tif 000073
【０３８４】
表７より、電荷輸送層に一般式（１）の化学構造を有し、ｎを基準とした分布を持つ混合化合物の最大成分の化合物の組成比をｘ、２位成分の化合物の組成比をｙとすると、ｘ＋ｙが９９％以下の混合化合物を電荷輸送物質として用い、保護層に架橋構造を有するシロキサン系樹脂を含有させた感光体１Ｃ〜１０Ｃは、低温低湿（１０℃２０％ＲＨ）環境下での高速応答性（べた黒画像部の電位変化が小さい）が優れ、このため低温低湿下の文字細りもなく、しかも、ブッラクスポット、周期性画像欠陥、クラック等の発生もなく、画像濃度、鮮鋭性に優れた特性を示している。一方、電荷輸送層にｎ＝１の低分子量の化合物の電荷輸送物質を用いた感光体１１Ｃは低温低湿（１０℃２０％ＲＨ）環境下での高速応答性が劣り、文字細りを発生しており、画像濃度、鮮鋭性も低下している。又、電荷輸送層にｎ＝５高分子量の化合物の電荷輸送物質を用いた感光体１２Ｃの場合は、バインダー樹脂との溶解不良で、感度等もほとんどなく、評価に値しなかった。又、化学構造１７Ｃのｎ＝４とｎ＝５の組成比をそれぞれ５０％の混合化合物を電荷輸送物質として用いた感光体１３Ｃも電荷輸送物質のバインダー樹脂との溶解性が不十分なため、べた黒画像部の電位変化が大きく、クラックも発生し、画像濃度、鮮鋭性も低下している。又、保護層が本発明外の感光体１４Ｃもべた黒画像部の電位変化が大きく、ブッラクスポット、周期性画像欠陥も発生し、画像濃度、鮮鋭性が低下している。
【図面の簡単な説明】
【０３８５】
【図１】本発明の画像形成方法の１例としての画像形成装置の断面構成図である。
【符号の説明】
【０３８６】
５０  感光体ドラム（感光体）
５１  帯電前露光部
５２  帯電器
５３  像露光器
５４  現像器
５４１  現像スリーブ
５４３、５４４  現像剤攪拌搬送部材
５４７  電位センサー
５７  給紙ローラー
５８  転写電極
５９  分離電極（分離器）
６０  定着装置
６１  排紙ローラー
６２  クリーニング器
７０  プロセスカートリッジ
【図１】
2005134514.tif 000084