(57)【要約】【課題】  簡単な構造で安価に真空中での高精度な送り機構及び回転機構（気体軸受け）を実現し、ワークディスタンスの短小化に制限を無くして、高分解能化を可能とする。【解決手段】  電子ビーム照射装置において、スライド機構は、気体軸受け部２への圧縮空気の給気によりスライド軸３から浮上させる静圧浮上機能と浮上用の圧縮空気を段階的に真空度が増すように排気する複数段の差動排気機能を有し、スピンドル機構は、真空チャンバー１内においてスライド軸３上に回転機構を司るエアースピンドル４を搭載し、気体軸受け部への圧縮空気の給気によりエアースピンドル４から浮上させる静圧浮上機能と浮上用の圧縮空気を段階的に真空度が増すように排気する複数段の差動排気機能を有する。【選択図】        図１
2005352302.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子ビームコラムが内蔵される真空チャンバーに対してスライド機構によりスライド軸がスライド可能であり、上記真空チャンバー内において上記スライド軸に連結されたスピンドル機構により回転される被照射体に上記電子ビームコラムから電子ビームが照射される電子ビーム照射装置において、
上記スライド機構は、気体軸受け部への圧縮空気の給気により上記スライド軸から浮上させる静圧浮上機能と上記浮上用の圧縮空気を段階的に真空度が増すように排気する複数段の差動排気機能を有し、
上記スピンドル機構は、上記真空チャンバー内において上記スライド軸上に回転機構を司るエアースピンドルを搭載し、気体軸受け部への圧縮空気の給気により上記エアースピンドルから浮上させる静圧浮上機能と上記浮上用の圧縮空気を段階的に真空度が増すように排気する複数段の差動排気機能を有する
ことを特徴とする電子ビーム照射装置。
【請求項２】
請求項１記載の電子ビームが照射される電子ビーム照射装置において、
上記スライド軸は、金属製の丸型中空シャフトであり、上記スライド軸は、上記スピンドル機構における圧縮空気の給気及び排気をすると共に上記エアースピンドルに対する電気配線が可能な中空部を有し、上記スライド軸の上記真空チャンバーと反対側の端部に上記スライド軸をスライド駆動させるアクチュエータを有し、
上記気体軸受け部と上記真空チャンバーは、内側に真空排気すると共に外側に圧縮空気を給気する２重ベローズで結合され、上記２重ベローズは、上記真空チャンバーに対する上記スライド機構の軸方向及び半径方向の力を吸収するように設けられる
ことを特徴とする電子ビーム照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、回転される被照射体に電子ビームコラムから電子ビームが照射される電子ビーム照射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
機械装置に使う送り機構や回転機構には、一般的にすべり（面接触）や転がり（線又は点接触）案内部材が用いられていた。これら案内部材は、構造的に接触による摩擦があるため、サブミクロン以下の位置決めや極低速での一定送り又は回転を行うことは非常に難しいものであった。この摩擦による動力損失は、例えば発熱やそれに伴う軸受けの温度上昇による機能不良を招くことになっていた。
【０００３】
そのため、半導体描画装置（いわゆるステッパー装置等）やディスクの露光装置では従来から摩擦の無い気体軸受けが使われていた。気体軸受けは、潤滑剤として気体を用いるすべり軸受けの一種である。作動原理は油を用いる一般のすべり軸受けと同じで、軸と軸受け間に気体膜があり、軸は気体膜によって支えられ、軸受けとは直接接触しない。そのため、低摩擦（≒０）という特徴があり、非常に制御性が良く、高精度の位置決めが必要な装置に採用されていた。
【０００４】
例えば、再生専用光ディスクの高容量化のカギを握る原盤露光装置は、微細化の要求に対し、露光光源の短波長化で対応してきている。６４０ＭＢ容量のＣＤ(compact disc)ではＡｒイオンガスレーザー（波長：４58ｎｍ）、次いで、４．７ＧＢ容量のＤＶＤ(digital versatile disc)では、クリプトンイオンレーザー（波長：351ｎｍ）であり、最新のＢｌｕ−Ｌａｙディスク（容量約25ＧＢ）では半導体レーザー（波長：266ｎｍ）などが使用されている。これらレーザーは、大気（不活性ガス）雰囲気中での照射が可能である。一方、露光装置は、ディスク原盤上にスパイラル状の溝（パターン）を形成する必要があり、回転機構と１軸の送り機構を持つ。これら送り機構及び回転機構には、高精度位置決めが可能な気体軸受けが使用されている。
【０００５】
ところで、今後要求される解像度１００ｎｍ以下を実現する露光装置としては、露光光源に電子ビーム（ＥＢ(electron beam)）を用いる方式が有力である。しかし、ＥＢの照射に必要な真空雰囲気中で、気体軸受けをそのまま適用することは難しく、従来はＬＭ(liner mortar)ガイド等の転がり軸受けを使用せざるを得なく、サブミクロン以下の高精度を確保することは困難であった。
【０００６】
この問題を解決する手段として、本出願人は、「電子ビーム照射装置」（特許文献１参照）などの差動静圧浮上パッドを用いた部分真空電子ビーム照射装置において、差動静圧浮上パッドの静圧軸受部に正圧を吸気し、かつ排気真空部を負圧で吸引することにより、原盤（ウェハー）とパッド部は数μｍ程度のスキマを保ちながら非接触で吸着し、パッド内部にいくにしたがい真空度を高くできる方式を提案している。この場合、パッド中心部では電子ビームの照射に差し支えない程度の真空度（１０-４Pa程度）まで到達可能で、このように必要な部分のみを真空下に置く、部分真空方式では、送り機構には気体軸受けが使用可能であり、高精度な位置決めと送り機構が可能な電子ビーム露光装置を実現することができた。
【０００７】
ところで、ＥＢの解像度（＝電子ビーム径）は、数１式で示すように、ワークディスタンス（電子銃の対物レンズとワーク間の距離：ＷＤ）と密接な関係がある。ここで、ＷＤ量は、電子銃の種類によっても変わってくるが、一般的には数ｍｍ〜数十ｍｍ程度の場合が多い。
【０００８】
［数１］
Ｌ∝ｄ    ｄ：電子ビーム径、Ｌ：ワークディスタンス（ＷＤ） 
【０００９】
この関係より、ＥＢの解像度（ビーム径小）を高くするためには、ワークディスタンスを短くしなければならない。しかし、本出願人が開発した部分真空方式の電子ビーム照射装置の場合は、その構造上、電子銃とワークの間に静圧浮上パッドが入り込むため、このワークディスタンスを短くすることには限界がある。更に、このパッド内に差動静圧浮上パッドを用いた電子ビーム照射装置における真空シール方法（特許文献１参照）で提案した真空シールバルブを設ける必要もあるため、現状においては8.5ｍｍのＷＤを採用し、ビーム径としては100ｎｍ以下を実現している。
【００１０】
ところで、最新の光ディスクの開発動向を見ると、半径Φ120ｍｍディスク換算で容量150ＧＢ分のデータを記録することが本出願人の部分真空電子ビーム露光装置で達成されている。この場合、ピットパターンの幅は95ｎｍ、トラックピッチは130ｎｍであり、従来のレーサー光源では達成不可能であるため、電子ビームで露光されている。このように、光ディスクに関しては部分真空で達成している100ｎｍ以下のビーム径（解像度）であれば、当面必要とされる露光プロセスにおいては、何ら問題はないと思われる。
【００１１】
しかしながら、ＥＢはＳＥＭ（電子顕微鏡）として、露光後のパターン形状の観察、長さ測定にも使用されている。この場合、例えば、線幅95ｎｍのパターンを観察するとした場合、最低限必要な精度（解像度）は、その一桁下の高い精度（解像度）が要求される。そのため、ビーム径を数ｎｍに絞り込む必要があり、部分真空方式ではこのＥＢの更なる高解像度化の要求に応えていくことは非常に難しい。ＥＢの高解像度化のひとつの解として、従来より、電子ビーム露光装置において、電子銃、送り機構及び回転機構系、全てを真空チャンバー内に置く全真空方式が考えられ、この全真空方式は、半導体用電子ビーム露光装置では主流となっていた。全真空方式は、電子ビーム径を絞る（解像度ＵＰ）ためにＷＤを何にも制限を受けずに小さくできる反面、精密送り機構及び回転機構を担う気体軸受けを真空中で使用可能とするための技術が難しく、どのメーカーも実現に非常に苦労している。この全真空方式の短所を解決した、高精度送り・回転機構が可能な電子ビーム露光装置の開発が待たれている。
【００１２】
また、真空用スライド装置として、真空チャンバーを貫通するスライド軸と、スライド軸に結合するＸステージ基板と、真空チャンバーの外部においてスライド軸の案内となるエアースライド軸受けと、真空チャンバー内への気体の流入を防止する隔壁と、真空チャンバーの外部にアクチュエータを備え、エアースライド軸受けはスライド軸を浮上させるためのエアーパッドと当気体を排気するための排気溝とを有し、エアースライド軸受けがスライド軸を浮上させた状態で、アクチュエータが駆動棒を介してＸステージ基板を駆動する技術が開示されている（特許文献２参照）。
【特許文献１】特開２００２−２５７９９８号公報
【特許文献２】特開２００１−４４１０７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
上述したように、真空中での、高精度送り機構の構築（例えば気体軸受け（エアースライド）を使用した様な）は、その構造上非常に難しいものがある。そのため、本出願人は、必要な部分のみを真空中に置く部分真空方式を使ったＥＢ露光装置を提案してきたが、ＥＢの高分解能化を進める上で、ワークディスタンスを小さくすることができないという致命的な構造上の問題を抱えていた。
【００１４】
一方で、従来からある電子ビーム露光装置において、電子銃、送り機構系等、全ての構成要素を真空チャンバー内に置く全真空方式では、ＥＢの高分解能化は容易である反面、気体軸受けが簡単には使えなく、使ったとしても非常に高価であった。そのため、送り機構及び回転機構の高精度化が難しく、また装置自体が非常に大きくなるという短所があった。
【００１５】
例えば、光ディスクの電子ビーム露光装置において、原盤を回転するスピンドルモータと移動ステージを、真空中に構成して、スピンドルモータを真空チャンバー外に置き、真空状態を維持するために磁性流体シールを介して、真空チャンバー内のボールネジに回転を伝達し、転がり軸受けを使用した移動ステージを駆動した場合、一部に磁性流体シールを使っているため、摩擦が発生して精度が低下することにより、安定的に高精度な送り回転機構を提供することは難しいという不都合があった。
【００１６】
前述した特許文献２記載のスライド軸は、角型セラミック製の構造体であり、負荷剛性に対しては強い反面、製作が非常に難しく高価という短所がある。
【００１７】
そこで、本発明は、簡単な構造で安価に真空中でのナノメーターオーダーの高精度な送り機構及び回転機構（気体軸受け）を実現することを可能とし、さらに、ワークディスタンスの短小化に制限を無くして、高分解能化を可能とすることを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
上記課題を解決し、本発明の目的を達成するため、本発明の電子ビーム照射装置において、スライド機構は、気体軸受け部への圧縮空気の給気によりスライド軸から浮上させる静圧浮上機能と浮上用の圧縮空気を段階的に真空度が増すように排気する複数段の差動排気機能を有している。
【００１９】
また、スピンドル機構は、真空チャンバー内においてスライド軸上に回転機構を司るエアースピンドルを搭載し、気体軸受け部への圧縮空気の給気によりエアースピンドルから浮上させる静圧浮上機能と浮上用の圧縮空気を段階的に真空度が増すように排気する複数段の差動排気機能を有している。
【００２０】
これにより、スライド機構では、静圧浮上機能により気体軸受け部へ圧縮空気を給気してスライド軸から浮上させると共に、差動排気機能により浮上用の圧縮空気を段階的に真空度が増すように複数段の排気をすることにより、スライド軸とスライド機構との隙間の真空状態を維持することができる。
【００２１】
また、スピンドル機構では、真空チャンバー内においてスライド軸上に回転機構を司るエアースピンドルを搭載し、静圧浮上機能により気体軸受け部への圧縮空気の給気によりエアースピンドルから浮上させると共に、差動排気機能により浮上用の圧縮空気を段階的に真空度が増すように複数段の排気をすることにより、エアースピンドルとスピンドル機構との隙間の真空状態を維持することができる。エアースピンドルは、差動排気機能により、高精度な回転機構（非接触）と真空維持を行うことができる。
【００２２】
これにより、電子銃の高分解能化につながるワークディスタンスの短小化を実現することができる。
また、スライド軸に中空シャフトを使用することで、その内部を通して真空チャンバー内のエアースピンドルへの配線及び配管が可能で、高精度送りに及ぼす配線・配管のストレスの影響を排除できる。
【００２３】
また、真空チャンバー外に出ているスライド軸端をアクチュエータで駆動することで、アクチュエータを真空中に置く場合の影響（発熱、放出ガス、真空チャンバーの大型化）を無くすことができる。
また、高精度送りを実現するために、レーザースケールをスライド軸間の中間に配置することにより、アッベ誤差を排除することができる。
【００２４】
これにより、真空中でのエアースライド及びエアースピンドルの使用による高精度送り機構及び回転機構を可能としたコンパクトな電子ビーム照射による露光装置を実現することができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、全真空タイプの光ディスク用電子ビーム照射による露光装置において、真空チャンバー外に設けたスライド機構のスライド軸に対する気体軸受け部とチャンバー内部に配置したスピンドル機構のエアースピンドルに対する気体軸受け部に差動排気機構を盛り込むことにより、簡単な構造で安価に真空中でのナノメーターオーダーの高精度な送り機構及び回転機構（気体軸受け）を実現することが可能となる。これに加えてさらに、電子銃を全真空チャンバーに直接取り付けることで、ワークディスタンスの短小化に制限が無くなり、高分解能化が可能となる。
【００２６】
また、スライド機構のスライド軸に対する気体軸受け部と真空チャンバーとを２重ベローズで繋ぐことにより、真空チャンバー内の圧力（真空）によって、内外ベローズ間の圧力を制御することで、軸受け部にかかる外力を排除し、常に一定な気体軸受けの浮上量を達成することができ、安定した送りを実現することができる。
【００２７】
また、スライド軸をスライド駆動させるアクチェーエータやレーザースケールを真空チャンバー外に設置することにより、ほぼワークサイズ程度の必要最低限の真空チャンバーを用いることができ、コンパクトな装置を実現することができ、装置の設置面積を小さくすることができ、真空排気に要する時間も短縮することができる。さらに、真空チャンバー外では真空用の特殊仕様（熱対策、表面処理等）が不要となる。このため、従来の部品が使用でき、構造がシンプルで安価に製作可能となる。
【００２８】
また、スライド軸に中空シャフトを使用することにより、真空チャンバー内のエアースピンドルへの配管及び配線を可能とし、配管、配線のストレスレス、組み立て時の作業性の向上を計ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
以下に本発明の実施の形態について、適宜、図面を参照しながら、具体的な例について説明する。
まず、図１に概略の差動排気型スピンドル機構及びスライド機構の全体図を示す。
図１において、真空チャンバー１外側の位置に２個１組として、対向して配置された気体軸受け２は、真空チャンバー１に対して２重ベローズ９で連結されている。２重ベローズ９は、内側に真空排気すると共に外側に圧縮空気を給気する構成のものである。
【００３０】
本実施の形態で採用したスライド軸３は、金属製の丸型中空シャフトで、一般的な規格品も存在する。また、そのスライド軸３に合わせる気体軸受け２の加工についても丸型であるがゆえに、旋盤あるいは安価な工作機械で高精度加工が可能であり、その軸を採用することで非常に安価に簡単に製作が可能となる。
【００３１】
その中空スライド軸３は、数μｍという非常にわずかなギャップを維持した状態で高精度加工された気体軸受け２と組合される。通常このスライド軸と軸受けは２組あるいはそれ以上の複数個で使用され、その軸間に回転用エアースピンドル４が配置され、荷重は均等に複数軸で負担される。スライド軸３は内部が中空構造で、真空チャンバー１外部と繋がっているため、真空チャンバー１内部に配置されたエアースピンドルに対し、容易にエアースピンドル４に対する浮上用圧縮空気を供給及び差動排気するためのチューブを配管し、さらにエアースピンドル４の回転用のスピンドルモータへの電源ケーブルを通し、浮上用圧縮空気及び回転用電源電圧を供給すると共に、差動排気をすることができる。
【００３２】
従来の真空装置の場合、真空チャンバー内の配管は、放出ガスの問題をクリアするために金属製のフレキシブル材が使われていた。この配管は、継ぎ手部分に溶接による真空シールや、また特殊なシール継ぎ手が必要になっていた。また、スライド送り時の配管抵抗も大きく、配管の曲げ半径によって制御パラメータが変わってくるため、スライド送り時の全ストロークにわたって安定した制御を行うことは困難であった。一方、配線に関しても、絶縁と真空シール機能を合わせ持つハーメチックシール等が必要となっていた。
【００３３】
そこで、本実施の形態のようなスライド軸３のシャフト内に電源ケーブル、チューブの配管を通すことにより、真空チャンバー１内の煩雑な配管及び配線作業や、スライド送り時の配管テンションによる送り精度の悪化を防止して、送り精度を向上させることができる。
【００３４】
また、気体軸受け２は、位置調整機構１０により、真空チャンバー１に対して気体軸受け２の高さ方向の位置、真空チャンバー１の上端面に対する気体軸受け２によりスライド軸３を介して形成されるエアースピンドル４の上端面の角度を示すあおり角度が調整される。
【００３５】
図２に差動排気型エアースライド部の拡大図を示す。
差動排気型エアースライド部を構成する気体軸受け２の基本的な動作は、本出願人が特許文献１記載の部分真空電子ビーム露光装置で提案している静圧浮上パッドと全く同じ原理である。相違点は、静圧浮上パッドが円形平面状で構成され、静圧浮上パッドに対するディスク原盤とのギャップを円形中心に行くに従い高い真空状態に維持するのに対して、気体軸受け２が中空筒状で構成され、気体軸受け２に対するスライド軸３とのギャップを真空チャンバー１側に行くに従い高い真空状態に維持する点である。
【００３６】
図２において、気体軸受け２の多孔質部５に、例えば図示しない圧縮空気用ポンプから圧力0.5MPa程度の圧縮空気を供給することで、気体軸受け２とスライド軸３は数μm程度の隙間を保ち非接触で浮上する。多孔質部５の内側（真空チャンバー１側）には、複数（図２では３段で示す）の溝６、７、８が設けてあり、それぞれが独立して気体軸受け２の外部の図示しない排気用真空ポンプに繋がっている。
【００３７】
これら溝６、７、８は、多孔質部５から漏れこむ浮上用の圧縮空気からの気体を排気することを目的としており、この排気用の溝６、７、８は、真空チャンバー１側に行くに従い溝６、７、８の順で、差動排気の効果で真空度を高く設定することにより、図示しないターボポンプで排気している真空チャンバー１内部の高真空（5×10-3Ｐａ以上）を維持することができる。
【００３８】
一方、気体軸受け２とスライド軸３が常に均一な浮上量にするために、気体軸受け２の下部には、図１に示した位置調整機構１０が設けられる。そのため、気体軸受け２と真空チャンバー１は金属製の柔軟性のある２重ベローズ９により連結され真空シールされている。しかしながら、真空チャンバー１内部が真空状態にある場合、２重ベローズ９の有効断面積×マイナス１気圧のベローズが縮もうとする力が気体軸受け２に生じ、浮上量の不均一、ひいては気体軸受け２とスライド軸３の接触が生じる可能性がある。そのため、この収縮力をキャンセルさせるため、２重ベローズ９の構成とし、内側に真空排気すると共に外側に圧縮空気を給気することにより、気体軸受け２の位置を常に同じ位置となるように制御している。
【００３９】
スライド軸３は内部が中空構造となっているため、１１に示すように、パイプ内部に真空チャンバー１内部からエアースピンドル４に対する浮上用圧縮空気を供給及び差動排気するためのチューブを配管し、さらにエアースピンドル４の回転用スピンドルモータへの電源ケーブルやエンコーダ出力などの配線材を通し、浮上用圧縮空気及び回転用電源電圧を供給すると共に、差動排気をすることができる。
【００４０】
図３に差動排気型エアースピンドル部の拡大図を示す。
差動排気型エアースピンドル部を構成する気体軸受け１２は基本的には、図２で示したエアースライド部の気体軸受け２と同様に構成される。
図３において、給気ポート１３から気体軸受け１２の多孔質部１５に対して、圧縮空気を供給することで、エアースピンドル４は数μｍ程度の隙間を保ち非接触で浮上する。気体軸受け１２の多孔質部１５の上方（真空チャンバー１側）には、複数（図では３段を示す）の溝１７、１８、１９が設けてあり、それぞれが独立してエアースピンドル４外部に中空スライド軸３の内部を通して、図示しない排気用真空ポンプに繋がっている。
【００４１】
これら溝１７、１８、１９は、気体軸受け１２の多孔質部１５から漏れこむ浮上用の気体を排気することを目的としており、これら排気用の溝１７、１８、１９は、真空チャンバー１側に行くに従い、溝１７、１９、１８の順で、差動排気の効果で真空度を高くでき、これにより、図示しないターボポンプで排気している真空チャンバー１内部の高真空（5×10-3Ｐａ以上）を維持することができる。
【００４２】
スピンドルモータ１４のコイルの磁場を外部に漏らさないようにするため、エンコーダ１４−１を含めた差動排気エアースピンドル部全体は、高透磁率材で作られた専用のボックス２０に収納され、スライド軸３との結合は、例えばOリング１６で真空シールがなされている。そのため、収納専用のボックス２０内は大気雰囲気におくことが可能で、従来使用されていたエアースピンドルをそのまま使用することが可能となった。
【００４３】
図４に本実施の形態が適用される電子ビーム照射装置の構成図を示す。
基本的な差動排気型エアースライド部２５及び差動排気型エアースピンドル部２６の構成は図１、図２及び図３に示したものと同じではあるが、実際の装置構成としては、真空チャンバー１の上部に電子銃２３が設置されている。
【００４４】
差動排気型エアースライド部２５及び差動排気型エアースピンドル部２６の差動排気２７の働きにより、図示しないターボポンプで排気している真空チャンバー１内部の高真空度（5×10-3Ｐａ以上）２８を維持すると共に、差動排気型エアースピンドル部２６を大気雰囲気２９におくことができ、また、３０で示すように、差動排気型エアースライド部２５及び駆動系、真空配管を全て大気雰囲気中に設置可能とすることができる。
【００４５】
この構造では、電子銃２３の先端にある対物レンズをワーク２４に制限なく近づけることができ（WDの短小化）、電子線のビーム径の小径化（高分解能化）が可能となった。これにより、露光パターンの微細化が達成できる。
【００４６】
また、スライド軸３を駆動するアクチュエータとして例えば駆動用ボイスコイルモーター：VCM２１や、高精度位置決めをおこなうためのレーザースケール２２を真空チャンバー１の外部の大気雰囲気中に設置することが可能となるため、エアースピンドルと同様に、従来の技術、部品の流用が可能で、特殊な真空用対策（発熱、放出ガス）が不要で、簡単かつ安価に製作が可能である。
【００４７】
本実施の形態では、図４に示す横方向に移動し、電子銃２３を真空チャンバー１の上側に置く装置構成を取っているが、これにこだわらず、電子銃２３を真空チャンバー１の下側に設置しても構わないし、電子銃２３を真空チャンバー１の横向きに設置してスライド軸３を縦方向に設置しても良い。また例えばスライド軸３を２本使った構成の場合、その軸間の中間位置にレーザースケール２２を置くことで、アッベの原理からくる誤差の影響を排除することが可能で、更なる制御性の向上とｎｍオーダーの高精度位置決めが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００４８】
【図１】差動排気型スピンドル機構及びスライド機構を示す全体図である。
【図２】差動排気型エアースライド部を示す拡大図である。
【図３】差動排気型エアースピンドル部を示す拡大図である。
【図４】電子ビーム照射装置の構成を示す図である。
【符号の説明】
【００４９】
１…真空チャンバー、２…気体軸受け、３…スライド軸、４…エアースピンドル、５…多孔質部、６、７、８…溝、９…２重ベローズ、１０…位置調整機構、１１…パイプ内部に配管・配線材を通す、１２…気体軸受け、１３…給気ポート、１４…スピンドルモータ、１４−１…エンコーダ、１５…多孔質部、１６…Oリング、１７、１８、１９…溝、２０…専用ボックス、２１…駆動用VCM、２２…レーザースケール、２３…電子銃、２４…ワーク、２５…差動排気型エアースライド部、２６…差動排気型エアースピンドル部、２７…差動排気、２８…高真空度（5×10-3Ｐａ以上）、２９…大気雰囲気、３０…駆動系、真空配管を全て大気雰囲気中に設置可能
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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