(57)【要約】【課題】吸収媒体の吸収力を長期で保持する吸収媒体と、流体流を脱酸する方法を特定する。【解決手段】少なくとも１種の脂肪族アミンと少なくとも１種の非ヒドロキノイド系酸化防止剤を含有する吸収媒体を提供する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種の脂肪族アミン及び少なくとも１種の非ヒドロキノイド系酸化防止剤を含有する、流体流の脱酸のための吸収媒体。
【請求項２】
酸素吸収量が酸化防止剤を含有しない比較吸収媒体の酸素吸収量よりも少ない、請求項１記載の吸収媒体。
【請求項３】
少なくとも１種のアルカノールアミンを含有する、請求項１又は２記載の吸収媒体。
【請求項４】
モノエタノールアミン（ＭＥＡ）、メチルアミノプロピルアミン（ＭＡＰＡ）、ピペラジン、ジエタノールアミン（ＤＥＡ）、トリエタノールアミン（ＴＥＡ）、ジエチルエタノールアミン（ＤＥＥＡ）、ジイソプロピルアミン（ＤＩＰＡ）、アミノエトキシエタノール（ＡＥＥ）、ジメチルアミノプロパノール（ＤＩＭＡＰ）及びメチルジエタノールアミン（ＭＤＥＡ）並びにその混合物を含有する、請求項１又は２記載の吸収媒体。
【請求項５】
酸化防止剤が、
アルキル化モノフェノール、
アルキルチオメチルフェノール、
ヒドロキノンモノエーテル及びモノエステル、
トコフェロール、
ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、
アルキリデンビスフェノール、
Ｏ−、Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物、
ヒドロキシベンジル化マロネート、
ヒドロキシベンジル芳香族化合物、
トリアジン化合物、
ベンジルホスホネート、
アシルアミノフェノール、
β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
β−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と一価又は多価アルコールとのエステル、
β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、
アスコルビン酸、
アミン系酸化防止剤、
２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、
２−ヒドロキシベンゾフェノン、
置換されていてよい安息香酸のエステル、
アクリレート、
立体障害アミン、
オキサルアミド、
２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、
ヒドラジン及びヒドラジド、
ホスファイト及びホスホナイト、
ヒドロキシルアミン、
ニトロン、
ニトロキシルフリーラジカル、
ホウ素化合物、
過酸化物分解化合物及び
その混合物から選択される、請求項１から４までのいずれか１項記載の吸収媒体。
【請求項６】
流体流の脱酸のための方法であって、少なくとも１つの吸収段階で流体流を請求項１から５までのいずれか１項記載の吸収媒体と密接に接触させることを特徴とする方法。
【請求項７】
流体流が１〜８０容量％の酸素を含有する、請求項６記載の方法。
【請求項８】
流体流が、
ａ）有機物質の酸化、
ｂ）有機物質を含有する廃棄物の堆肥化又は貯蔵、又は
ｃ）有機物質の細菌的分解
に由来する、請求項７記載の方法。
【請求項９】
吸収媒体を、吸収段階を通過した後に、
ａ）加熱すること、
ｂ）膨張させること、
ｃ）不活性流体でストリッピングすること又は
２種以上のこれらの措置の組み合わせにより再生させ、かつ次いで吸収段階に再循環させる、請求項６から８までのいずれか１項記載の方法。
【請求項１０】
酸化防止剤を周期的に又は連続的に吸収媒体に添加する、請求項６から９までのいずれか１項記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は酸ガスを不純物として含有する流体流を脱酸するための吸収媒体及び該吸収媒体を使用するための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
化学工業の多くのプロセスにおいて、酸ガス、例えばＣＯ２、Ｈ２Ｓ、ＳＯ２、ＣＳ２、ＨＣＮ、ＣＯＳ、ジスルフィド又はメルカプタンを不純物として含有する流体流が生じる。これらの流体流は、例えば気流、例えば天然ガス、合成ガス、精油所ガス又は、有機材料、例えば有機廃棄物、石炭、天然ガス又は石油の酸化において形成されるか、又は有機物質を含有する廃棄物の堆肥化において形成される反応ガスであってよい。
【０００３】
この酸ガスを除去することが種々の理由のために特に重要である。例えば天然ガス中の硫黄化合物の含有量は、天然ガス井で直接的に適当な処理措置によって低減させねばならない。それというのも硫黄化合物は、天然ガスに屡々同伴する水と一緒に腐食作用を示す酸を形成するからである。従って天然ガスをパイプラインで輸送するためには、硫黄不純物を現段階で制限された値に維持せねばならない。該酸ガスは、自然環境を害しうるか、又は天候に影響しうるガスの放出を回避するために有機材料の酸化において形成される反応ガスから除去せねばならない。
【０００４】
工業的規模では、有機塩基、例えばアルカノールアミンの水溶液が吸収媒体として屡々使用される。酸ガスが溶解すると、塩基と酸ガス成分からイオン生成物が形成する。その吸収媒体は、低圧にして膨張させるか、又はストリッピングによって再生させることができ、その際、イオン生成物を該媒体と逆反応させて酸ガスを形成し、かつ／又は酸ガスを蒸気によってストリッピング除去する。再生工程後に吸収媒体は再利用できる。炭化水素ガス流から酸ガス不純物を除去するにあたり使用される有利なアルカノールアミンは、モノエタノールアミン（ＭＥＡ）、ジエタノールアミン（ＤＥＡ）、トリエタノールアミン（ＴＥＡ）、ジエチルエタノールアミン（ＤＥＥＡ）、ジイソプロピルアミン（ＤＩＰＡ）、アミノエトキシエタノール（ＡＥＥ）及びメチルジエタノールアミン（ＭＤＥＡ）を含む。
【０００５】
公知の吸収媒体は、炭化水素流、例えば天然ガスを脱酸するために極めて好適である。酸素含有流体、例えば煙道ガスの処理においてはある問題が生じる。この場合には、吸収媒体の吸収力が長期にわたり損なわれ、そして再生時に完全に回復されない。分子酸素の存在は恐らく吸収媒体中に存在するアミンの酸化分解を招くこととなる。
【０００６】
ＵＳ−Ａ３，１３７，６５４号は、錯化剤、例えばＮ，Ｎ−ジヒドロキシエチルグリシン、Ｎ−ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸ナトリウム塩又はエチレンジアミン四酢酸ナトリウム塩を吸収媒体に添加して、吸収媒体の酸化分解を緩和させることを提案している。
【０００７】
ＵＳ−Ａ４，４４０，７３１号は、５０ｐｐｍのＣｕ２＋イオンを、適宜、ジヒドロキシエチルグリシン、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属過マンガン酸塩又はアンモニウム過マンガン酸塩及び酸化ニッケル及び／又は酸化ビスマスと混合して、安定化のために吸収媒体に添加することを教示している。
【０００８】
酸化防止剤を使用して、無生物の有機材料、例えば成形化合物又は塗料を酸素、光及び／又は熱の作用に対して安定化させることは知られている。酸化防止剤の作用様式は、フリーラジカルに誘導される過酸化反応の伝播段階が、例えばＨ原子を中間体のペルオキシフリーラジカルに転移させることで阻止されるという事実に基づくものである。多くの酸化防止剤は付加的に還元剤として作用する。酸化防止剤を使用して液状吸収媒体を安定化させることは従来述べられていない。それというのも当業者は、吸収媒体と酸素含有液体との緊密かつ激しい接触の場合、すなわち酸化防止剤と酸素との直接的な反応の場合には、酸化防止剤は安定作用を生じずに消費されるものだと予測するからである。
【特許文献１】ＵＳ−Ａ３，１３７，６５４号
【特許文献２】ＵＳ−Ａ４，４４０，７３１号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明に基づく対象は、吸収媒体の吸収力を長期で保持する吸収媒体と、流体流を脱酸する方法を特定することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題は、少なくとも１種の脂肪族アミンと少なくとも１種の非ヒドロキノイド系酸化防止剤を含有する吸収媒体によって解決されることが判明した。
【００１１】
更に本発明は、少なくとも１つの吸収工程で流体流を前記の吸収媒体と密接に接触させる、流体流の脱酸のための方法に関する。
【００１２】
本発明の吸収媒体の酸素吸収量は、同一組成であるが、酸化防止剤を含有しない比較吸収媒体のそれより少ない。吸収媒体の“酸素吸収量”とは、吸収媒体との反応によって消費される酸素の容量を意味する。該量は、規定量の吸収媒体と規定量の酸素含有ガスを含有する閉鎖系の等圧条件下での容量の変化、又は閉鎖系の定積条件下での圧力の変化を測定することによって容易に測定できる。好適な試験において、２００時間にわたって、空気を、撹拌により気泡の形で吸収媒体に導入して、２５℃及び１０００ミリバールで試験する。前記の条件下で有利な吸収媒体は、同一組成であるが、酸化防止剤を含有しない比較吸収媒体の酸素吸収量よりも少なくとも５％、有利には少なくとも１０％、特に少なくとも１５％だけ低い酸素吸収量を有する。
【００１３】
“脱酸”は、酸ガス及び／又はその前駆化合物、例えばＣＯ２、Ｈ２Ｓ、ＳＯ２、ＣＳ２、ＨＣＮ、ＣＯＳ、ジスルフィド又はメルカプタンを流体流から完全に又は部分的に除去することを意味する。
【００１４】
吸収媒体及び方法は、例えば１〜８０容量％、通常２〜２０容量％の酸素を含有する酸素含有流体流を脱酸させるために特に適当である。
【００１５】
酸素含有流体流は、一般に以下のように：
ａ）有機物質、例えば煙道ガスの酸化、
ｂ）有機物質を含有する廃棄物の堆肥化及び貯蔵、又は
ｃ）有機物質の細菌的分解
において形成される気流である。
【００１６】
酸化は、火炎を発して実施できる、すなわち慣用の燃焼の形で、又は火炎を発さずに、例えば接触酸化又は部分酸化の形で実施できる。燃焼される有機物質は、慣用には化石燃料、例えば石炭、天然ガス、石油、ガソリン、ディーゼル、ラフィネート又は灯油、バイオディーゼル又は有機物質含分を有する廃棄物である。接触（部分）酸化の開始物質は、例えばメタノール又はメタンであり、これらは反応してギ酸又はホルムアルデヒドを形成しうる。
【００１７】
酸化、堆肥化又は貯蔵される廃棄物は、一般に家庭廃物、プラスチック廃棄物又は包装廃物である。
【００１８】
有機物質は、通常は、慣用の焼却装置で空気を用いて焼却される。有機物質を含有する廃棄物は、一般に廃物埋立地で堆肥化及び貯蔵される。かかる装置の排ガス又は排気を有利には本発明による方法で処理してよい。
【００１９】
細菌的分解のための有機物質は、慣用のきゅう肥、わら、液肥、下水スラッジ、発酵残滓などである。細菌的分解は、例えば慣用のバイオガス装置中で行われる。かかる装置の排気を有利には本発明による方法で処理してよい。
【００２０】
また本願の方法は、燃料電池の排ガス又は有機物質の（部分）酸化に使用される化学合成装置の排ガスを処理するためにも好適である。
【００２１】
更に、本発明による方法は、当然のように未燃化石ガス、例えば天然ガス、例えば炭層ガス、すなわち採収され圧縮された石炭の抽出で生成するガスを処理するために使用することもできる。
【００２２】
一般にこれらの気流は、標準条件下に、５０ｍｇ／ｍ３未満の二酸化硫黄を含有する。
【００２３】
開始ガスは、大気空気の圧力にほぼ相当する圧力、すなわち例えば大気圧を有するか、又は０．２バール以下だけ大気圧と異なる圧力を有してよい。更に開始ガスは、大気圧より高い圧力、例えば２０バール以下の圧力を有してよい。より高い圧力を有する出発ガスは、大気空気の圧力に近い圧力の出発ガスを圧縮することによるか、又は高められた圧力の出発ガスを、例えば圧縮空気を用いて有機物質を酸化させることによって製造することによって形成される。ガスの生じる容積流速は結果として低下し、そして更に除去されるべき酸ガスの分圧は増大し、これは吸収及び生じる再生要件のために有利である。欠点は、まず圧縮における費用（資本経費及び運転費）及び圧縮装置の使用により生じるあらゆる付加的な高い資本経費である。
【００２４】
適当な脂肪族アミンは、流体流の脱酸のために慣用に使用される脂肪族アミン、特に
−  ４〜１２個の炭素原子を有する第一級、第二級又は第三級アミン、
−  ２〜１２個、有利には４〜１２個の炭素原子を有するアルカノールアミン、
−  窒素原子と適宜更なるヘテロ原子、特に酸素又は窒素及びその混合を含有する５員、６員又は７員の飽和環を有する環式アミン
である。
【００２５】
脂肪族アミンは、一般に１０〜７０質量％、有利には２５〜６０質量％の総アミン含量を有する水溶液の形で通常使用される。該溶液は、水に加えて又は水の代わりに、例えばシクロテトラメチレンスルホン（スルホラン）及びその誘導体、脂肪酸アミド（アセチルモルホリン、Ｎ−ホルミルモルホリン）、Ｎ−アルキル化ピロリドン及び相応のピペリドン、例えばＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、プロピレンカーボネート、メタノール、ポリエチレングリコールのジアルキルエーテル及びその混合物から選択される物理溶剤を含有してよい。
【００２６】
有利な吸収媒体は、少なくとも１種のアルカノールアミン、特にモノエタノールアミン（ＭＥＡ）、ジエタノールアミン（ＤＥＡ）、トリエタノールアミン（ＴＥＡ）、ジエチルエタノールアミン（ＤＥＥＡ）、ジイソプロピルアミン（ＤＩＰＡ）、アミノエトキシエタノール（ＡＥＥ）及びメチルジエタノールアミン（ＭＤＥＡ）並びにその混合物を含有する吸収媒体である。
【００２７】
ＵＳ−Ａ４，３３６，２３３号に記載される吸収媒体が殊に定評がある。該吸収媒体は、吸収促進剤又は活性化剤としてのメチルジエタノールアミン（ＭＤＥＡ）及びピペラジンの水溶液（ａＭＤＥＡ（Ｒ）、ＢＡＳＦ ＡＧ、ルートヴィヒスハーフェン）である。そこに記載される洗液は、１．５〜４．５モル／ｌのメチルジエタノールアミン（ＭＤＥＡ）及び０．０５〜０．８モル／ｌ、有利には０．４モル／ｌ以下のピペラジンを含有する。
【００２８】
使用される酸化防止剤はヒドロキノイド構造を有さない、すなわち該酸化防止剤は芳香環に対してｏ−位又はｐ−位に配置される遊離のヒドロキシル基を有さない。特にｏ−ヒドロキノン及びｐ−ヒドロキノン及びその核アルキル化誘導体は不適切であるが、一方でそのモノエーテル又はモノエステルは適切である。
【００２９】
適当な酸化防止剤は、分子酸素によって誘導される過酸化反応の伝播段階を阻止することができる全ての化合物である。かかる化合物は、慣用に、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤又は過酸化物分解剤と呼ばれる。特定の例は以下の化合物であり、これらは個々にも又は２種以上の化合物の混合物としても使用できる：
アルキル化モノフェノール、例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジ−シクロペンチル−４−メチルフェノール、２−（ｏ：−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−オクタデシル−４−メチルフェノール、２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、直鎖状又は側鎖分枝鎖状ノニルフェノール、例えば２，６−ジ−ノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−ウンデシ−１′−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチルヘプタデシ−１′−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メチル−トリデシ−１′−イル）フェノール及びその混合物。
【００３０】
アルキルチオメチルフェノール、例えば２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−エチルフェノール、２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェノール。
【００３１】
ヒドロキノンモノエーテル及びモノエステル、例えば４−メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。
【００３２】
トコフェロール、例えばα−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェロール及びその混合物（ビタミンＥ）及びフラボン環の修飾された側鎖を有するビタミンＥ誘導体（例えばＴｏｌｕｘ（Ｒ））。
【００３３】
ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル、例えば２，２′−チオ−ビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−チオ−ビス（４−オクチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′−チオ−ビス（３，６−ジ−ｓ−アミルフェノール）、４，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィド。
【００３４】
アルキリデンビスフェノール、例えば２，２′−メチレン−ビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス［４−メチル−６−（ｏ−メチル−シクロヘキシル）フェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（６−ｔ−ブチル−４−イソブチルフェノール）、２，２′−メチレン−ビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２′−メチレン−ビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４′−メチレン−ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−メチレン−ビス（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス［３，３−ビス（３′−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）ブチレート］、ビス（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルベンジル）−６−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、１，１，５，５−テトラ−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。
【００３５】
Ｏ−、Ｎ−及びＳ−ベンジル化合物、例えば３，５，３′，５′−テトラ−ｔ−ブチル−４，４−ジヒドロキシ−ジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート、トリデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジルメルカプトアセテート、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）アミン、ビス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００３６】
ヒドロキシベンジル化マロネート、例えばジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジ−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル］−２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート。
【００３７】
ヒドロキシベンジル芳香族化合物、例えば１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）フェノール。
【００３８】
トリアジン化合物、例えば２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−シクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート。
【００３９】
ベンジルホスホネート、例えばジメチル２，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジエチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチル−ベンジルホスホネート、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチルエステルのＣａ塩。
【００４０】
アシルアミノフェノール、例えば４−ヒドロキシラウルアニリド、４−ヒドロキシステアルアラニド、Ｎ−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）カルバミン酸オクチルエステル。
【００４１】
β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と、一価又は多価のアルコール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサルアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００４２】
β−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と、一価又は多価のアルコール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−オクタノール、イソオクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサルアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００４３】
β−（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と、一価又は多価のアルコール、例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサルアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００４４】
３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸と、一価又は多価のアルコール、例えばメタノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）オキサルアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタンとのエステル。
【００４５】
β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジド、Ｎ，Ｎ′−ビス［２−（３−［３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル］プロピオニルオキシ）エチル］オキサミド（Ｕｎｉｒｏｙａｌ社のＮａｕｇａｒｄ ＴＭ ＸＬ−１）。
【００４６】
アスコルビン酸（ビタミンＣ）。
【００４７】
アミン系酸化防止剤、例えばＮ，Ｎ′−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ジ−ｓ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ'−ジ−（２−ナフチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ｐ−トルエンスルホンアミド）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ'−ジメチル−Ｎ，Ｎ'−ジ−ｓ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−（４−ｔ−オクチルフェニル）−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ′−ジ−ｔ−オクチルジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノイルアミノフェノール、ジ−（４−メトキシフェニル）アミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４′−ジアミノジフェニルメタン、４，４′−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ジ［（２−メチルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ジ−（フェニルアミノ）プロパン、トリルビグアニド、ジ−［４−（１′，３′−ジメチルブチル）フェニル］アミン、ｔ−オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノアルキル化とジアルキル化のｔ−ブチル／ｔ−オクチルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化とジアルキル化のノニルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化とジアルキル化のドデシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化とジアルキル化のイソプロピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化とジアルキル化のｔ−ブチルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジメチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノアルキル化とジアルキル化のｔ−ブチル／ｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、モノアルキル化とジアルキル化のｔ−オクチルフェノチアジンの混合物、Ｎ−アリルフェノチアジン。
【００４８】
２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、例えば２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（５′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−５′−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３′−ｓ−ブチル−５′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−アミル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−５−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−５′−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ドデシル−２′−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３′−ｔ−ブチル−２′−ヒドロキシ−５′−（２−イソオクチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾール、２，２′−メチレン−ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾール−２−イルフェノール］、２−［３−ｔ−ブチル−５′−（２−メトキシカルボニルエチル）−２−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール３００とのエステル交換生成物；
２−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロキシ−、２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−誘導体。
【００４９】
場合により置換された安息香酸のエステル、例えば４−ｔ−ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチレート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−ｔ−ブチルベンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニルエステル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸オクタデシルエステル、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸２−メチル−４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニルエステル。
【００５０】
アクリレート、例えばα−シアノ−β，β−ジフェニルアクリル酸エチルエステル及びイソオクチルエステル、α−カルボメトキシシンナミン酸メチルエステル、α−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナミン酸メチルエステル及びブチルエステル、α−カルボメトキシ−ｐ−メトキシシンナミン酸メチルエステル、Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。
【００５１】
立体障害アミン、例えば２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール、ヘキサメチレンビス−トリアセトンジアミン（ＨＭＢＴＡＤ）、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、ビス−（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、ｎ−ブチル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）エステル、１−ヒドロキシエチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ヒドロキシピペリジン及びコハク酸の縮合生成物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン及び４−ｔ−オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−トリアジンの直鎖状又は環状の縮合生成物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリアセテート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラオエート（butanetetraoate）、１，１′−（１，２−エタンジイル）ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）スクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン及び４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの直鎖状又は環状の縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジン及び１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジン及び１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンの縮合生成物、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル−１−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、４−ヘキサデシルオキシ−及び４−ステアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンの混合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン及び４−シクロヘキシルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物、１，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタン及び２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンの縮合生成物及び４−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン（ＣＡＳ登録番号［１３６５０４−９６−６］）；Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ｎ−ドデシルスクシンイミド、２−ウンデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソ−スピロ［４．５］デカン、７，７，９，９−テトラメチル−２−シクロウンデシル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ［４．５］デカン及びエピクロロヒドリンの反応生成物、１，１−ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニル）−２−（４−メトキシフェニル）エテン、Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、４−メトキシメチレンマロン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ヒドロキシピペリジンとのジエステル、ポリ［メチルプロピル−３−オキシ−４−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）］シロキサン、無水マレイン酸α−オレフィンコポリマー及び２，２，６，６−テトラメチル−４−アミノピペリジン又は１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−アミノピペリジンの反応生成物。
【００５２】
オキサルアミド、例えば４，４−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２−ジエトキシオキサニリド、２，２−ジオクチルオキシ−５，５′−ジ−ｔ−ブチルオキサニリド、２，２′−ジドデシルオキシ−５，５′−ジ−ｔ−ブチルオキサニリド、２−エトキシ−２′−エチル−オキサニリド、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサルアミド、２−エトキシ−５−ｔ−ブチル−２−エチル−オキサニリド及びその２−エトキシ−２′−エチル−５，４′−ジ−ｔ−ブチルオキサニリドとの混合物、ｏ−及びｐ−メトキシ二置換オキサニリドの混合物とｏ−及びｐ−エトキシ二置換オキサニリドの混合物。
【００５３】
２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、例えば２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−トリデシルオキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（ドデシルオキシ／トリデシルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロポキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス［２−ヒドロキシ−４−（３−ブトキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル］−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシフェニル）−４−（４−メトキシフェニル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−［３−（２−エチルヘキシル−１−オキシ）−２−ヒドロキシプロピルオキシ］フェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン。
【００５４】
ヒドラジン、例えばＮ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、ビス（ベンジリデン）シュウ酸ジヒドラジド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸ビス−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジピン酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイルシュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイルチオプロピオン酸ジヒドラジド。
【００５５】
ホスファイト及びホスホナイト、例えばトリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリルペンタエリトリトールジホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジイソデシルペンタエリトリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスファイト、ビス（イソデシルオキシ）ペンタエリトリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリトリトールジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４−ビフェニレン−ジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン（dioxaphosphocine）、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−１２−メチル−ジベンゾ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサ−ホスホシン、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスファイト、２，２′，２′′−ニトリロ［トリエチル−トリス（３，３′，５，５′−テトラ−ｔ−ブチル−１，１′−ビフェニル−２，２′−ジイル）ホスファイト］、２−エチルヘキシル（３，３′，５，５′−テトラ−ｔ−ブチル−１，１′−ビフェニル−２，２′−ジイル）ホスファイト。
【００５６】
ヒドロキシルアミン、例えばＮ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、水素化獣脂アミン由来のＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミン。
【００５７】
ニトロン、例えばＮ−ベンジル−α−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−α−メチルニトロン、Ｎ−オクチル−α−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−α−ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−α−トリデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル−α−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−α−ヘキサデシルニトロン、水素化獣脂アミンから製造されるＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシルアミンから誘導されるニトロン。
【００５８】
ニトロキシルフリーラジカル、例えば１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール、１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オン、１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イルアセテート、１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル２−エチルヘキサノエート、１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イルステアレート、１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イルベンゾエート、１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル（４−ｔ−ブチル）ベンゾエート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）スクシネート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アジペート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−ｎ−ブチルマロネート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）フタレート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）イソフタレート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）テレフタレート、ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）ヘキサヒドロテレフタレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アジピンアミド、Ｎ−（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）カプロラクタム、Ｎ−（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−イル）ドデシルスクシンイミド、２，４，６−トリス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジン−４−イル）］−ｓ−トリアジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ’−ビス−ホルミル−１，６−ジアミノヘキサン、４，４′−エチレンビス（１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペラジン−３−オン）及びトリス（２，２，６，６−テトラメチル−１−オキシルピペリジン−４−イル）ホスファイト。
【００５９】
過酸化物分解化合物、例えばβ−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリルエステル、ステアリルエステル、ミリスチルエステル又はトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（ｐ−ドデシルメルカプト）プロピオネート。
【００６０】
ホウ素化合物、特にボリン酸及びエステル、例えばジフェニルボリン酸無水物、ジメシチルボリン酸、２−アミノエチルジブチルボリン酸塩、２−アミノエチルジフェニルボリン酸塩、ジエチルメトキシボラン、ジブチルボリルトリフルオロメタンスルホネート、
ボロン酸及びエステル、例えばブチルボロン酸、シクロペンチルボロン酸、フェニルボロン酸（適宜、無水物と混合される）、フェニルボロン酸無水物、４−クロロフェニルボロン酸、４−クロロフェニルボロン酸ジブチルエステル、２，６−ジクロロフェニルボロン酸、４−ブロモフェニルボロン酸（適宜、無水物と混合される）、３−トリフルオロメチルフェニルボロン酸、３，５−ビス（トリフルオロメチル）フェニルボロン酸（適宜、無水物と混合される）、４−メトキシフェニルボロン酸、４−メチルチオフェニルボロン酸、３−（アミノカルボニル）フェニルボロン酸、４−（アミノカルボニル）フェニルボロン酸、４−カルボキシフェニルボロン酸、４−アミノメチルフェニルボロン酸塩酸塩、２−ホルミルフェニルボロン酸（適宜、無水物と混合される）、３−ホルミルフェニルボロン酸、２−［（１，１−ジメチルエトキシ）メチル］フェニルボロン酸、３−アミノフェニルボロン酸（適宜、無水物と混合される）、４−ベンジルオキシフェニルボロン酸、４−ビフェニルボロン酸、４−トリルボロン酸、２，５−ジヘキシル−１，４−フェニレンビスボロン酸、２−チオフェンボロン酸、３−チオフェンボロン酸、（２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾジオキシン−６−イル）ボロン酸、３−ブロモ−２−チエニルボロン酸、４−メトキシ−３−ピリジニルボロン酸、２，４−ビス（１，１−ジメチルエトキシ）−５−ピリミジニルボロン酸、［２，４−ビス（フェニルメトキシ）−５−ピリミジニルボロン酸、４，４，４′，４′，５，５，５′，５′−オクタメチル−２，２′−ビ−ジオキサボロラン、ビス（ピナコラト）ジボロン、ジイソプロポキシメチルボラン、
ホウ酸及びエステル、例えばトリブチルボレート、ホウ酸トリス（メトキシエチル）エステル、ボラックス（及びその水和物）、テトラキス（１−ピラゾリル）ボレート、トリチル（テトラペンタフルオロフェニル）ボレート、ヒドロ−トリス（３−フェニルピラゾール−１−イル）ボレート、カリウムテトラキス（４−クロロフェニル）ボレート、ナトリウムテトラキス（４−フルオロフェニル）ボレート、ナトリウムテトラフェニルボレート、
ボラン、例えば電子供与体とのボラン錯体、例えばボラン−４−メチルモルホリン、ボランジメチルアミン、ボランメチルスルフィド、ボランピリジン、ボランテトラヒドロフラン、ボラントリメチルアミン、ボラン−ｔ−ブチルアミン錯体、トリブチルボラン、トリ−ｓ−ブチルボラン、トリエチルボラン、トリエチルボラン−１，３−ジアミノプロパン錯体、トリメシチルボラン、トリフェニルボラン、トリフェニルボラントリフェニルホスフィン錯体、トリス（４−メトキシフェニル）ボランアンモニア錯体、トリ−４−トリルボラン、トリス（ペンタフルオロフェニル）ボロン、ジエチル（３−ピリジル）ボラン、Ｂ−メトキシジイソピノカンフェニルボラン、（２−ボロフェニル）カルバミン酸Ｃ−（１，１−ジメチルエチル）エステル、（Ｓ，Ｓ）−１，２−ビス［（ｔ−ブチル）メチルホスフィノ］エタン−ビス（ボラン）、１，２−ビス（ｔ−ブチルチオ）エタンボラン、２−（４−ボロフェニル）−４−キノリンカルボン酸、２−（４−ボロフェニル）−６−メチル−４−キノリンカルボン酸、２−ボロ−１Ｈ−ピロール−１−カルボン酸１−（１，１−ジメチルエチル）エステル、２−ボロ−１−ピロリジンカルボン酸１−（１，１−ジメチルエチル）エステル、２−（ジエチルボリル）ピリジン、９−ボラビシクロ−３，３，１−ノナン（ＢＢＮ）、ＢＢＮダイマー、９−メトキシ−９−ボラビシクロ（３．３．１）ノナン、Ｂ−ブロモカテコールボラン；
ジアザボリニン、例えば１−ブチル−１，２−ジヒドロチエノ［３，２−Ｄ］［１，２，３］ジアザボリニン、１−メチル−１，２−ジヒドロチエノ［２，３−Ｄ］［１，２，３］ジアザボリニン、２−フェニル−２，３−ジヒドロ−１，３，２−ベンゾジアザボリニン−４（１Ｈ）−チオン、４−（ヒドロキシ（オキシド）アミノ）チエノ［２，３−Ｄ］［１，２，３］ジアザボリニン−１（２Ｈ）−オール、４−メチルチエノ［３，２−Ｄ］［１，２，３］ジアザボリニン−１（２Ｈ）−オール、ジベンゾ［Ｃ，Ｅ］［１，２］アザボリニン−６（５Ｈ）−オール、チエノ［３，４−Ｄ］［１，２，３］ジアザボリニン−１（２Ｈ）−オール、フェニル−ジオキサボリナン、トリメチルボロキシン、
ボロカン、例えば２−（３−クロロフェニル）−６−メチル［１，３，６，２］ジオキサアザボロカン、２−（３−フルオロフェニル）−６−メチル−［１，３，６，２］ジオキサアザボロカン、２−（４−クロロフェニル）−６−メチル−［１，３，６，２］ジオキサアザボロカン、２−（４−フルオロフェニル）−６−メチル［１，３，６，２］ジオキサアザボロカン、２，２′−（１，３−プロパンジイルビス（オキシ））ビス−１，３，２−ジオキサボリナン、２，２−ジフェニル−１−オキサ−３−オキソニア−２−ボラタ−ナフタレン［（２−ヒドロキシベンズアルデヒダト−Ｏ，Ｏ′）ジフェニルボロン、６−メチル−２−ｍ−トリル−［１，３，６，２］ジオキサアザボロカン、６−メチル−２−ｐ−トリル−［１，３，６，２］ジオキサアザボロカン；
二ヘテロ原子ボロール、例えば２−フェニル−１，３，２−ベンゾジアザボロール、２−フェニル−１，３，２−ベンゾジオキサボロール、２−（４−メチルフェニル）−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−１，３，２−ベンゾジアザボロール、プロピルベンゾジオキサボロール。
【００６１】
ボラジン、例えば２，４，６−トリエチルボラジン、２，４，６−トリフェニルボラジン。
【００６２】
これらのうち、過酸化物分解活性を有する化合物、特にホスファイト、ホスホナイト及びホウ素化合物が有利である。
【００６３】
酸化防止剤又は酸化防止剤の組み合わせは吸収媒体に、一般に２０ｐｐｍ〜５質量％の量で、通常は５０ｐｐｍ〜１．５質量％の量で、有利には１００ｐｐｍ〜１質量％の量で添加される。
【００６４】
脱酸法の連続作業において、吸収媒体循環にある酸化防止剤は徐々に消費される。従って、酸化防止剤を吸収媒体に周期的又は連続的に添加して、吸収媒体循環において効果的な酸化防止剤の濃度を維持することが有利である。酸化防止剤はそれ自体で又は適当な溶剤中の酸化防止剤の溶液として添加してよい。また酸化防止剤は、脱酸される流体流及び／又は酸ガスを介して排出される損失を補うために連続的に供給される吸収媒体容量によって導入してもよい。吸収媒体循環において酸化防止剤の分解生成物の濃度の増大を回避するために、循環にある吸収媒体の一部を連続的又は周期的に排出させ、かつ／又は分解生成物を連続的に、例えば濾過、相分離、ストリッピング、イオン交換処理又は他の適当な工程によって除去することが適当なこともある。
【００６５】
本発明による方法を実施するために適当な装置は、少なくとも１つのスクラバ塔、例えば不規則充填塔、規則充填塔、段塔及び／又は他の吸収装置、例えば膜接触器、半径流スクラバ、ジェットスクラバ、ベンチュリスクラバ及び回転噴霧スクラバを含む。流体流は、吸収媒体で、有利にはスクラバ塔中で向流において処理される。該流体は、一般に下方領域に供給され、そして吸収媒体は塔の上方領域に供給される。
【００６６】
吸収媒体の温度は、吸収段階において、一般に約４０〜１００℃であり、塔を使用する場合には、例えば塔の頂部で４０〜７０℃であり、かつ塔の底部で５０〜１００℃である。吸収段階における全圧は、一般に約０．５〜２０バール、有利には約０．７〜１２バール、特に有利には０．７〜６バールである。殊に有利には圧力は大気圧又は大気圧から０．２バール以下だけ異なる圧力である。酸ガス成分が少ない、すなわちこれらの成分が減損された生成物ガス（付随ガス）及び酸ガス成分で負荷された吸収媒体が得られる。
【００６７】
本発明による方法は、１つ以上の、特に２つの連続的吸収段階を含んでよい。吸収は、複数の連続的な下位段階で実施してよく、その際、酸ガス成分を含有する粗製ガスを各下位段階においてその都度、吸収媒体の下位流と接触させる。粗製ガスと接触される吸収媒体は既に部分的に酸ガスで負荷されていてよい、すなわち、例えば後続の吸収段階から最初の吸収段階に再循環された吸収媒体又は部分的に再生された吸収媒体であってよい。２段階吸収の作業に関しては、文献ＥＰ−Ａ０１５９４９５号、ＥＰ−Ａ０２０１９０４３４号、ＥＰ−Ａ０３５９９９１号及びＷＯ００１００２７１号を参照をもって開示されたものとする。
【００６８】
有利な実施態様によれば、本発明による方法は、酸ガスを含有する流体をまず第一の吸収段階において吸収媒体で４０〜１００℃、有利には５０〜９０℃、特に６０〜９０℃の温度で処理する方法で実施される。酸ガスが減損された流体を次いで第二の吸収段階において吸収媒体で３０〜９０℃、有利には４０〜８０℃、特に５０〜８０℃の温度で処理する。ここでの温度は第一の吸収段階よりも５〜２０℃低い。
【００６９】
酸ガス成分は、酸ガス成分で負荷された吸収媒体から慣用の様式（以下に引用する文献と同様に）で再生段階において遊離させることができ、その際、再生された吸収媒体が得られる。再生段階において、吸収媒体の負荷物は低減され、そして結果として生じる再生された吸収媒体を有利には次いで吸収段階に再循環させる。
【００７０】
一般に再生段階は、負荷された吸収媒体を、吸収段階の実施で普及している高圧から、より低い圧力へと圧力膨張させることを少なくとも１回含む。圧力膨張は、例えばスロットル弁及び／又は膨張タービンによって実施できる。膨張段階を用いる再生は、例えば文献ＵＳ４，５３７，７５３号及びＵＳ４，５５３，９８４号に記載されている。
【００７１】
酸ガス成分は、再生段階で、例えば膨張塔、例えば垂直又は水平に取り付けられたフラッシュ室において、又は内部構造物を備えた向流塔において遊離されてよい。複数の膨張塔を連結し、そこで種々の圧力で再生を実施してよい。例えば再生を、吸収段階における酸ガス成分の分圧より一般に約１．５バール高い高圧で予備膨張塔において実施し、そして低圧、例えば１〜２バール（絶対圧）で主要膨張塔において実施してよい。二段階以上の膨張段階を用いる再生は、文献ＵＳ４，５３７，７５３号、ＵＳ４，５５３，９８４号、ＥＰ−Ａ０１５９４９５号、ＥＰ−Ａ０２０２６００号、ＥＰ−Ａ０１９０４３４号及びＥＰ−Ａ０１２１１０９号に記載されている。
【００７２】
また最後の膨張段階を、ＥＰ−Ａ０１５９４９５号、ＥＰ−Ａ０２０２６００号、ＥＰ−Ａ０１９０４３４号及びＥＰ−Ａ０１２１１０９号（ＵＳ４，５５１，１５８号）に記載のように、例えば蒸気エゼクタにより、適宜、機械的真空発生装置と組み合わせて発生された真空下に実施してもよい。
【００７３】
ここで本発明を付随する図面及び以下の実施例に基づきより詳細に説明する。
【００７４】
図１は、吸収段階を単一段階で実施し、そして膨張段階を二段階で実施する装置を図示するものである。出発ガス（以下で供給ガスとも呼ぶ）を吸収装置２の下方領域に導管１を介して供給する。吸収装置２は、物質移動と熱交換を行うために不規則充填物で充填された塔である。酸ガスの残余が少ない再生された吸収媒体である吸収媒体を導管３を介して吸収装置２の頂部に供給ガスに対して向流で適用する。酸ガスが減損されたガスを吸収装置２から上方向（導管４）で排出する。酸ガスで負荷された吸収媒体を吸収装置２から底部で導管５を介して排出させ、そして該吸収装置に供給される粗製ガスのＣＯ２分圧より高い圧力で一般に作動する高圧膨張塔６の上方領域に通す。吸収媒体を一般に慣用の装置、例えばレベル調節弁、水車又は逆転ポンプを用いて膨張させる。膨張の間に、溶解された非酸ガスの大部分と小割合の酸ガスが遊離される。これらのガスを上方向で、高圧膨張塔６から導管７から排出する。
【００７５】
依然として大部分の酸ガスで負荷されている吸収媒体を高圧膨張塔から導管８を介して排出させ、そして熱交換器９中で加熱し、そこで小部分の酸ガスを遊離してよい。加熱された吸収媒体を、高い表面積を達成し、ひいてはＣＯ２の遊離及び平衡の確立を行うために不規則充填物を備えている低圧膨張塔１０の上方領域に導入する。低圧膨張塔１０において、殆どの部分のＣＯ２及びＨ２Ｓが実質的に完全にフラッシングによって遊離される。該吸収媒体をこのようにして同時に再生及び冷却させる。低圧膨張塔１０の頂部において、還流冷却器１１を回収容器１２と一緒に提供して、遊離された酸ガスを冷却し、そして一部の蒸気を凝縮させる。大部分の酸ガスは還流冷却器１１から導管１３を介して排出される。該凝縮物をポンプ１４によって低圧膨張塔１０の頂部に戻す。依然として小割合のＣＯ２を含有する再生された吸収媒体は、低圧膨張塔１０から底部で導管１５を介して排出され、そしてこれはポンプ１６によって導管３を介して吸収装置２の頂部に適用される。導管１７を介して新鮮な水を供給して、ガスと一緒に排出された水を補ってよい。
【００７６】
図２は、本発明による方法を実施するための、二段階吸収装置及び二段階膨張を使用する装置を図示するものである。該吸収装置は粗製吸収装置１及び純粋吸収装置２を有する。供給ガスを導管３を介して粗製吸収装置１の底部領域に供給し、そして導管４を介して粗製吸収装置１の頂部に適用され、そして依然として若干の酸ガスを含有する再生された吸収媒体で向流において処理する。再生された吸収媒体を純粋吸収装置２の頂部に導管５を介して適用するが、その再生された吸収媒体は実質的にもはや酸ガスを含有しない。両者の吸収装置部は、物質移動と粗製ガス及び吸収媒体の間の熱交換を行うために規則充填物を含有する。処理されたガスを純粋吸収装置２から上方向（導管６）で排出する。酸ガスで負荷された吸収媒体を粗製吸収装置１の底部で排出させ、そしてそれを導管７を介して高圧膨張塔８の上方領域に供給する。該膨張塔８は規則充填物を備えており、そして吸収装置と後続の低圧膨張塔１１との圧力の間の圧力で作業する。酸ガスで負荷された吸収媒体は、慣用の装置、例えばレベル調節弁、水車又は逆転ポンプを用いて膨張される。高圧膨張において、溶解された非酸ガスの大部分と小部分の酸ガスが遊離される。これらのガスを上方向で、高圧膨張塔８から導管９を介して排出する。
【００７７】
依然として大部分の酸ガスで負荷されている吸収媒体は高圧膨張塔８から導管１０を介して排出され、そしてこれは低圧膨張塔１１の上方領域に供給され、そこで非常に多量のＣＯ２及びＨ２Ｓがフラッシングによって遊離される。吸収媒体はこのようにして再生させる。低圧膨張塔１１は、熱交換及び物質移動のために高い表面積を提供するために規則充填物を備えている。低圧膨張塔１１の頂部において、還流冷却器１２を凝縮物容器１３と一緒に提供して、低圧膨張塔１１から上方向で排出する酸ガスを冷却し、そして一部の蒸気を凝縮させる。大部分の酸ガスを含有する未凝縮のガスを導管１４を介して排出させる。凝縮物容器１３からの凝縮物をポンプ１５を介して低圧膨張塔１１の頂部に適用する。
【００７８】
依然として一部の酸ガスを含有する部分的に再生された吸収媒体は、低圧膨張塔１１から底部において導管１６を介して排出され、そして２つの下位流に分離される。より多い下位流をポンプ１７及び導管４を介して粗製吸収装置１の頂部に適用するが、一方でより少ない部分を導管１８を介してポンプ１９によって送り、熱交換器２０中で加熱する。加熱された吸収媒体を次いで、規則充填物を備えたストリッパ２１の上方領域に供給する。ストリッパ２１において、大部分の吸収されたＣＯ２及びＨ２Ｓを、リボイラ２２で発生し、ストリッパ２１の下方領域に供給される蒸気によってストリッピングする。ストリッパ２１から底部で導管２３を介して排出される吸収媒体は僅かな酸ガス残留含分を有するに過ぎない。それを熱交換器２０に導通し、その際、低圧膨張塔１１からの部分的に再生された吸収媒体を加熱する。冷却された、再生吸収媒体をポンプ２４によって熱交換器２５を通して純粋吸収装置２の頂部に戻す。導管２６を介して新鮮な水を純粋吸収装置２の頂部に提供して、ガス流を介して排出された水と交換してよい。ストリッパ２１から上方向で排出するガスを導管２７を介して低圧膨張塔１１の底部領域に供給する。
【実施例】
【００７９】
実施例１
この実施例においては、供試の吸収媒体において通気の前後に音速を測定する。媒体中の音速は媒体の密度及び圧縮性に依存する。媒体の化学組成の変化は、通常、音速の著しい変化と随行する。従って音速の変化は通気時の吸収媒体の分解の指標である。音速は、超音波測定区分を含んだ試料中に浸される超音波プローブを用いて測定した。
【００８０】
撹拌槽において、モノエタノールアミンを１００℃で装入し、そして供試の酸化防止剤と混合した。該試料を５０ｐｐｍのシュウ酸鉄（ＩＩ）と混合して、製造条件の故に又は鉄含有プラント成分の腐食のため工業プラント中で吸収媒体中に存在する微量の鉄イオンをシミュレートした。この温度で、ｍｌ／分の空気を吸収媒体に導通させた。音速は、１０時間後、２０時間後、３０時間後、４０時間後、５０時間後及び６０時間後に測定した。結果を第１表に示す。
【００８１】
第１表
【００８２】
【表１】
2005254233.tif 000002
【００８３】
表から１−オキシル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−オール（ＨＯ−ＴＥＭＰＯ）又はジフェニルボリン酸無水物を添加することにより、６０時間後に酸化防止剤を含有しない対照と比較して小さな変化が生じること見出すことができる。ヒドロキノンを含有する試料は音速の多大な変化を示し、すなわち対照よりもより大きな程度の化学的分解を示した。
【００８４】
実施例２
等圧酸素吸収量の測定
３０ｍｌのＮ−メチルピロリドン中のエタノールアミン（２０ミリモル）、ピペラジン（０．４ミリモル）及びシュウ酸鉄（ＩＩ）（０．００２ミリモル）の溶液を供試の酸化防止剤（０．１ミリモル）と混合し、そして閉鎖された装置中で室温において３００ｒｐｍで撹拌した。引き続きガス容量の低減を、装着された水充填式滴定ビュレットを用いて行った。容量変化を時間の関数としてプロットした。４２００分後の容量変化を第２表に記す。
【００８５】
第２表
【００８６】
【表２】
2005254233.tif 000003
【００８７】
この表は、種々の化学構造の酸化防止剤は核アルキル化ヒドロキノン誘導体であるトリメチルヒドロキノンを除いて吸収媒体の酸素吸収量を低減させるために適当であることを示している。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】図１は、吸収段階を単一段階で実施し、そして膨張段階を二段階で実施する装置を図示するものである
【図２】図２は、本発明による方法を実施するための、二段階吸収装置及び二段階膨張を使用する装置を図示するものである
【符号の説明】
【００８９】
１、３、４、５、７、８、１３、１５、１７、１８、２３、２６、２７  導管、  ２  吸収装置、  ６  高圧膨張塔、  ９、２０、２５  熱交換器、  １０  低圧膨張塔、  １１  還流冷却器、  １２  回収容器、  １４、１６、１９、２４  ポンプ、  ２１  ストリッパ、  ２２  リボイラ
【図１】
2005254233.tif 000004
【図２】
2005254233.tif 000005