(57)【要約】【課題】  入射光及び反射光の利用効率の低下を抑える。【解決手段】  一対の電極１９ａ，１９ｂを駆動回路基板３側に設けることで、調光層４に光が透明電極等を通過することなく入射され、調光層４で反射した光が透明電極等を通過することなく出射されることから、調光層４に入射される入射光及び調光層４で反射した反射光の透明電極等による劣化を防止でき、光の利用効率の低下を抑制できる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基板と、
上記第１の基板に対向して配置され、光透過性を有する第２の基板と、
上記第１の基板と上記第２の基板との間に設けられ、液晶材料と三次元網目状構造の透明樹脂とを有する調光層とを備え、
上記第１の基板には、上記調光層に対して電界を印加する一対の電極が設けられていることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項２】
上記一対の電極は、上記調光層に対し、上記調光層の厚み方向と略直交する電界を印加することを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子。
【請求項３】
上記第１の基板には、上記一対の電極を駆動させる駆動素子が設けられていることを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子。
【請求項４】
上記一対の電極は、上記第１の基板の面内方向に複数並設されていることを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子。
【請求項５】
上記第１の基板側には、上記一対の電極の間に凹部が設けられていることを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子。
【請求項６】
第１の基板と、
上記第１の基板に対向して配置され、光透過性を有する第２の基板と、
上記第１の基板と上記第２の基板との間に設けられ、液晶材料と三次元網目状構造の透明樹脂とを有する調光層とを備え、
上記第１の基板及び上記第２の基板には、上記調光層に対して電界を印加する電極がそれぞれ設けられ、
上記調光層は、上記第２の基板と当接する領域を有していることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項７】
上記電極は、上記調光層に対し、上記調光層の厚み方向と略直交する電界を印加することを特徴とする請求項６記載の液晶表示素子。
【請求項８】
上記第１の基板には、上記電極を駆動させる駆動素子が設けられていることを特徴とする請求項６記載の液晶表示素子。
【請求項９】
第１の基板と、この第１の基板に対向して配置され、光透過性を有する第２の基板との間に、液晶材料と三次元網目状構造の透明樹脂とを有する調光層が配設された液晶表示素子の製造方法であって、
上記調光層に対して電界を印加する一対の電極を、上記第１の基板に形成することを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項１０】
上記第１の基板に、上記一対の電極を駆動させる駆動素子を形成することを特徴とする請求項９記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１１】
上記第１の基板に、上記一対の電極を上記第１の基板の面内方向に複数並設することを特徴とする請求項９記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１２】
上記一対の電極の間に、上記第１の基板側に凹む凹部を形成することを特徴とする請求項９記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１３】
第１の基板と、この第１の基板に対向して配置され、光透過性を有する第２の基板との間に、液晶材料と三次元網目状構造の透明樹脂とを有する調光層が配設された液晶表示素子の製造方法であって、
上記第１の基板及び上記第２の基板に、上記調光層に対して電界を印加する電極をそれぞれ形成し、
上記調光層に、上記第２の基板が当接する領域を設けることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項１４】
上記第１の基板に、上記電極を駆動させる駆動素子を形成することを特徴とする請求項１３記載の液晶表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶デバイスとして液晶材料と三次元網目状構造の透明樹脂との複合体であるポリマーネットワーク型液晶を用いた液晶表示素子及びその製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、テレビジョンやコンピュータ等と接続可能な各種ディスプレイにおいて、より軽量で且つ低消費電力である画像装置（表示装置）が求められており、このような要求を満たすフラットディスプレイとして液晶表示素子（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）の研究、開発が盛んに行われている。
【０００３】
一般的な液晶表示素子としては、対向する一対の電極基板の表面でネマチック液晶分子の配列方向を９０°に捻った構造のツイストネマティックモード（ＮＴ：Twist Nematic）を利用した液晶表示素子や、対向する一対の電極基板の表面でネマチック液晶分子の配列方向を１８０°〜３００°に捻った構造のスーパーツイストネマティックモード（ＳＮＴ：Super Twist Nematic）を利用した液晶表示素子等がある。また、これらの液晶表示素子の他に、明るくコントラストの良い、大型で廉価な液晶表示素子として、例えば液晶分子のカプセル化により、ポリマー中に液晶滴を分散させ、そのポリマーをフィルム化させた調光層を有する高分子分散型液晶表示素子（ＰＤＬＣ：Polymer Dispersed Liquid Crystal）等がある（特許文献１及び特許文献２を参照。）。
【０００４】
この高分子分散型液晶表示素子においては、例えばポリビニルアルコール等でカプセル化された液晶分子が薄層中で正の誘電率異方性を有する場合、電界の存在下で液晶分子が電界の方向に配列し、液晶の屈折率ｎ０とポリマーの屈折率ｎｐが等しいときに、透明性を発現する。電界が除かれると、液晶分子はランダム配列に戻り、液晶滴の屈折率がｎ０よりずれるため、液晶滴は、その境界面で光を散乱し、光の透過を遮断するので、薄層体は白濁する。
【０００５】
そして、このような高分子分散型液晶表示素子については、例えば特許文献３にエポキシ樹脂中に液晶滴が分散したもの、特許文献４に特殊な紫外線硬化ポリマー中に液晶滴が分散したもの、特許文献５に光硬化性ビニル系化合物と液晶との溶解物において、上記光硬化性ビニル系化合物の光硬化に伴う液晶物質の相分離を利用し調光層を形成させたもの等が提案されている。
【０００６】
しかしながら、この高分子分散型液晶表示素子は、液晶分子がポリマー中に分散しているので電界を印加したときに、ポリマーを介して液晶滴に電界が及ぶことから液晶分子の配列に変化を与えるには高い駆動電圧が必要となり、実用上、例えば液晶分子の配列が変化するときの反応速度が遅い等、種々の障害となる欠点を有している。また、電界を印加したときに、十分な透明性を達成するには液晶の屈折率ｎ０とポリマーの屈折率ｎｐとが近似したものとなるよう、それぞれを適切に選択しなければならないという煩わしさがある。さらに、大面積のデバイスの特徴を生かしてマルチプレックス駆動による大型表示を行うに当たって、それを可能とさせる上で必要な閾値電圧が存在しないので、その実施が困難である。さらにまた、マトリクス表示やセグメント表示方式等に於いても駆動条件の制約が多く用途が大きく制限されるといった不具合もある。
【０００７】
このような問題を解決する液晶表示素子としては、液晶分子の配列に変化を与える駆動電圧を低く抑えることが可能な図１１に示すポリマーネットワーク型液晶（ＰＮＬＣ：Polymer Network Liquid Crystal）表示素子１０１が提案されている（特許文献６を参照。）。
【０００８】
このポリマーネットワーク型液晶表示素子１０１は、互いに対向する一対の透明電極１０２ａがそれぞれ設けられた少なくとも一方が透明な一対の基板１０２間に、液晶材料と、重合可能且つ透明な有機樹脂とからなる調光層形成材料を介在させ、この調光層形成材料に活性光線等を照射して重合性組成物を重合させることにより、液晶材料の連続層中に三次元網目状構造の透明樹脂１０３ｂが形成された、すなわち三次元網目状構造の透明樹脂１０３ｂの網目中に液晶分子１０３ａを介在させた状態の調光層１０３を配設させた構成になっている。
【０００９】
このような構成のポリマーネットワーク型液晶表示素子１０１は、液晶分子１０３ａの配列に変化させるための駆動電圧を調光層１０３に印加していないときには、三次元網目状構造の透明樹脂１０３ｂの配向規制力により、調光層１０３の液晶分子１０３ａが複数で一定の方向に配向したドメインを形成し、各ドメインの液晶の配向方向がランダムであるためにドメイン間の複屈折率が一致しなくなることから、透明な基板１０２側から入射された光を調光層１０３が散乱させて透明な基板１０２側から出射させる、すなわち反射させる。また、ポリマーネットワーク型液晶表示素子１０１は、図１２に示すように、液晶分子１０３ａの配列に変化させるための駆動電圧が一対の透明電極１０２ａに印加されると、一対の透明電極１０２ａ間、すなわち一対の基板１０２間に介在されている調光層４の厚み方向に電界が生じ、調光層１０３の液晶分子１０３ａの配向方向が電界方向になる。これにより、ポリマーネットワーク型液晶表示素子１０１では、電界方向に配向された液晶分子１０３ａ間の複屈折率がマッチングし、透明な基板１０２側から入射された光のうち、一対の透明電極１０２ａに印加された電圧の大きさに応じた光量分だけ調光層１０３を透過する。
【００１０】
このポリマーネットワーク型液晶表示素子では、上述した高分子分散型液晶表示素子等に比べ、液晶分子１０３ａの配列に変化させるための駆動電圧が調光層１０３の液晶分子１０３ａに直接印加されることから、液晶分子１０３ａの配列に変化を与える駆動電圧を低く抑えることができ、且つ液晶分子１０３ａの配列が変化するときの反応速度を早くできる。また、このポリマーネットワーク型液晶表示素子１０１では、調光層１０３における液晶分子１０３ａの配列に変化を与える駆動電圧に明確な閾値電圧を存在させることが可能なことから、マルチプレックス駆動を有効に行える他、マトリクス表示方式やセグメント表示方式にも有効に用いることができる。
【００１１】
しかしながら、ポリマーネットワーク型液晶表示素子１０１においては、調光層１０３を挟持する一対の基板１０２のうち光が入射される側の透明電極１０２ａを光が通過するときに、透明電極１０２ａの光透過率が８５％〜９０％であることから、透明電極１０２ａに吸収されて劣化した光が調光層１０３に入射される。また、ポリマーネットワーク型液晶表示素子１０１においては、調光層１０３が入射された劣化した光を散乱させ、光が入射された側の基板１０２より出射するときに、すなわち調光層１０３に入射された光を反射するときに、出射される光が再び透明電極１０２ａを通過することから、調光層１０３に入射される前の光に対して光量が７２％〜８１％程度にまで劣化した光を出射することになり、光の利用効率が悪くなる。
【００１２】
さらに、ポリマーネットワーク型液晶表示素子１０１を製造する際には、一対の基板１０２それぞれに透明電極１０２ａを形成する必要があることから、製造歩留まりの低下や製造コストが高くなるといった不具合も生じる。さらにまた、ポリマーネットワーク型液晶表示素子１０１では、光が入射される側の透明な基板１０２と調光層１０３との間に透明電極１０２ａが介在されていることから、基板１０２と透明電極１０２ａとの界面及び透明電極１０２ａと調光層１０３との界面において、調光層１０３で反射した光の視認性が低下したり、表示品位が低下したりする。
【００１３】
【特許文献１】特表昭５８−５０１６３１号公報
【特許文献２】米国特許第４４３５０４７号明細書
【特許文献３】特表昭６１−５０２１２８号公報
【特許文献４】特開昭６２−２２３１号公報
【特許文献５】特開昭６３−２７１２３３号公報
【特許文献６】特許第２８５３２４９号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
本発明が解決しようとする問題点は、調光層に入射された光や調光層で反射した光が劣化する点である。また、液晶表示素子を製造する際に、歩留まりが悪くなったり、製造コストが高くなったりする点である。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明に係る液晶表示素子は、第１の基板と、第１の基板に対向して配置され、光透過性を有する第２の基板と、第１の基板と第２の基板との間に設けられ、液晶材料と三次元網目状構造の透明樹脂とを有する調光層とを備え、第１の基板に、調光層に対して電界を印加する一対の電極が設けられていることを特徴としている。
【００１６】
この液晶表示素子では、第１の基板側に調光層に電界を印加する一対の電極が設けられていることから、光透過性を有する第２の基板側からの入射光が電極を通過することなく調光層に入射され、調光層に入射して散乱した反射光が電極を通過させることなく第２の基板側から外部に出射される。したがって、この液晶表示素子では、調光層に入射される入射光、及び入射光が調光層で反射した反射光が電極に吸収又は遮蔽されることなく、光の利用効率の低下を抑制できる。
【００１７】
また、本発明に係る液晶表示素子は、第１の基板と、第１の基板に対向して配置され、光透過性を有する第２の基板と、第１の基板と第２の基板との間に設けられ、液晶材料と三次元網目状構造の透明樹脂とを有する調光層とを備え、第１の基板及び第２の基板には調光層に対して電界を印加する電極がそれぞれ設けられ、調光層が、第２の基板と当接する領域を有していることを特徴としている。
【００１８】
この液晶表示素子では、調光層が第２の基板と当接する領域を有していることから、この領域に光透過性を有する第２の基板側から入射された光は電極を通過することなく調光層に入射され、調光層の第２の基板と当接する領域で反射された光は電極を通過することなく第２の基板側から出射される。したがって、この液晶表示素子では、調光層に入射される入射光、及び入射光が調光層で反射した反射光が電極に吸収又は遮蔽されることなく、光の利用効率の低下を抑制できる。
【００１９】
本発明に係る液晶表示素子の製造方法は、第１の基板と、この第１の基板に対向して配置され、光透過性を有する第２の基板との間に、液晶材料と三次元網目状構造の透明樹脂とを有する調光層が配設された液晶表示素子の製造方法であって、第１の基板に、調光層に対して電界を印加する一対の電極を形成することを特徴としている。
【００２０】
この方法によれば、調光層に光透過性を有する第２の基板側から入射された入射光や、この入射光が調光層で散乱して反射した反射光が、電極に吸収又は遮蔽されることのない光の利用効率の低下が抑えられた液晶表示素子を製造できる。
【００２１】
また、この方法によれば、第１の基板に一対の電極を一括形成できることから、製造工程が簡略かされて製造歩留まりを向上でき、製造コストを抑えることができる。
【００２２】
本発明に係る液晶表示素子の製造方法は、第１の基板と、この第１の基板に対向して配置され、光透過性を有する第２の基板との間に、液晶材料と三次元網目状構造の透明樹脂とを有する調光層が配設された液晶表示素子の製造方法であって、第１の基板及び第２の基板に、調光層に対して電界を印加する電極をそれぞれ形成し、調光層に、第２の基板と当接する領域を設けることを特徴としている。
【００２３】
この方法では、調光層の第２の基板と当接する領域に光透過性を有する第２の基板側から入射された光や、調光層の第２の基板と当接する領域で反射した光が、電極に吸収又は遮蔽されることのない光の利用効率の低下が抑制された液晶表示素子を製造できる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、外部より調光層に入射される入射光や、この入射光が調光層で反射した反射光の利用効率の優れた液晶表示素子を得ることができる。すなわち、調光層で反射した反射光の視認性や、表示品位を向上できる。
【００２５】
また、本発明によれば、一つの基板の主面に、調光層に電界を印加するための一対の電極を一括して形成することで、製造工程が簡略化されることから、製造歩留まりを向上でき且つ製造コストを低減できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明を適用した液晶表示素子及びその製造方法について、図面を参照しながら詳細に説明する。先ず、図１に示す本発明を適用したポリマーネットワーク型液晶表示素子（以下、ＰＮＬＣ［Polymer Network Liquid Crystal］表示素子と記す。）１について説明する。なお、以下では、ＰＮＬＣ表示素子１を画素毎に薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴ［Thin Film Transistor］と記す。）等を備えるアクティブマトリクス型の液晶表示素子として説明する。
【００２７】
このＰＮＬＣ表示素子１は、互いに対向配置された透明基板２及び駆動回路基板３と、これら透明基板２と駆動回路基板３との間に液晶分子４ａ及び網目状透明樹脂４ｂを有する調光層４とを備えている。具体的に、このＰＮＬＣ表示素子１は、液晶デバイスとなる調光層４に光散乱不透明状態と透明状態を利用するポリマーネットワーク型液晶を用いるものである。
【００２８】
透明基板２は、例えばガラス基板やプラスチック基板等、透明であればよく、プラスチックフィルム等、可撓性を有する材料であってもよい。透明基板２は、調光層４の主面に張り合わされるように密着され、調光層４を保護する保護膜としても機能する。
【００２９】
駆動回路基板３は、図２及び図３に示すように、例えばスイッチング素子となるＴＦＴ１１と、調光層４に電界を生じさせるための電力を供給する補助容量であるコンデンサ１２とからなるスイッチング駆動回路１３を、シリコン、ガラス、石英、プラスチック等からなる基板１４上に画素１７ａ毎にマトリクス状に複数配列して形成したものである。また、この基板１４上には、各ＴＦＴ１１のデータ電極と電気的に接続された信号線１５と、各ＴＦＴ１１のゲート電極と電気的に接続された走査線１６とが互いに直交する方向に複数並んで形成されており、これら信号線１５と走査線１６とが交差した近傍が各画素１７ａに対応した表示領域１７となっている。さらに、これら表示領域１７の外側には、各信号線１５に表示電圧を印加する信号ドライバ１８と、各走査線１１に選択パルスを印加する走査ドライバ１９とがロジック部として形成されている。なお、スイッチング駆動回路１３は、調光層４の駆動電圧に対応した耐圧がトランジスタに要求されるため、一般的にロジック部よりも高い耐圧プロセスで作製される。
【００３０】
また、基板１４上には、図３に示すように、一対の電極２０ａ，２０ｂが、画素毎にマトリクス状に複数配列して形成されている。一対の電極２０ａ，２０ｂは、例えば酸化すず（ＳｎＯ２）と酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）の固溶体物質であるＩＴＯ（Indium-Tin Oxide）等の透明な導電材料によって基板１４の面内方向に並設されている。一対の電極２０ａ，２０ｂのうち一方は、各ＴＦＴ１１を介して信号線１５と電気的に接続される、他方は、コンデンサ１２を介してグランド等に繋がるコモン電極２１に接続される。なお、ここでは、便宜上、電極２０ａが信号線１５に接続され、電極２０ｂがコモン電極２１に接続されるものとして説明する。
【００３１】
そして、一対の電極２０ａ，２０ｂは、信号線１５より供給される電力を液晶分子の配列を変化させるための駆動電圧として、電極２０ａ，２０ｂの間に位置する領域の調光層４に印加する。すなわち、一対の電極２０ａ，２０ｂは、図４に示すように、駆動電圧が供給されることで、調光層４に対して調光層４の厚み方向と略直交方向の電界を印加する。
【００３２】
なお、基板１４上に形成された一対の電極２０ａ，２０ｂの厚みは、５０〜５００ｎｍ程度である。また、ここでは、一対の電極２０ａ，２０ｂを透明電極として説明したが、このことに限定されることはなく、例えばアルミニウム（Ａｌ）、具体的には、ＬＳＩプロセスで配線に用いられる銅（Ｃｕ）やシリコン（Ｓｉ）を数重量％以下だけ添加したアルミニウム（Ａｌ）を主成分とする金属膜等で形成し、調光層４側から入射した光を反射する機能と調光層４に対して駆動電圧を印加する機能とを併せ持たしてもよい。さらには、反射率を上げるため、誘電体ミラーのような多層膜をＡｌ膜上に積層したものであってもよい。
【００３３】
調光層４は、図１に示すように、液晶材料の連続層中に三次元網目状構造の網目状透明樹脂４ｂを形成させた光散乱不透明状態と透明状態を利用する液晶デバイスである。すなわち、調光層４は、網目状透明樹脂４ｂの網目の中に液晶分子４ａを介在させた、いわゆるポリマーネットワーク型液晶である。具体的に、ポリマーネットワーク型液晶は、液晶層中の網目状透明樹脂４ｂにより液晶分子４ａの配列が不規則な状態を誘起して光を散乱させ、紙等に類似した「白さ」を発現させるものであり、この状態に一対の電極２０ａ，２０ｂにより電界を印加すると電界方向に液晶分子４ａが配列して透明になる。そして、ポリマーネットワーク型液晶は、「白さ」と「透明」との状態を表示に利用することで、例えばバックライト、偏光板、配向処理等が不要な液晶デバイスとなり、次世代の省エネルギータイプの携帯機器に適した直視反射型液晶素子である。
【００３４】
ポリマーネットワーク型液晶からなる調光層４は、光散乱不透明状態と透明状態を利用する液晶デバイスを構成する液晶分子４ａと網目状透明樹脂４ｂとが相溶性等の点で好ましい構成になっており、より低い電圧駆動性やより高い抵抗値或いはより高いコントラスト比等の表示特性を向上させ、且つメモリー現象を低減し、白濁性のより均一な表示を達成できる。すなわち、調光層４は、例えばマトリクス表示方式に要求される特性を満たす液晶デバイスである。また、調光層４は、ポリマーネットワーク型液晶として形成される際に、適切な光強度の紫外線等を後述する樹脂材料に照射することで略均一な大きさの網目を有する網目状透明樹脂４ｂが液晶相中に形成されて明確な閾値を有する駆動電圧と急峻性とを備える液晶デバイスとなり、時分割駆動が可能となる。
【００３５】
次に、以上のような構成のＰＮＬＣ表示素子１の製造工程について説明する。なお、以下の製造工程の説明において、例えばコンデンサ１２等、本発明に直接関係しない部分についての説明は省略する。ＰＮＬＣ表示素子１を製造する際は、先ず、駆動回路基板３の基体となる例えばシリコン、ガラス、石英、プラスチック等からなる基板１４の主面上に例えばタンタル、アルミ、クロム等のうち一種又は複数種からなる導電性金属をスパッタリング法等で薄膜形成させ、この金属箔にフォトリソグラフの手法を施して走査線１６やコモン電極２１を形成する。なお、ここでは、基板１４をリジッド基板として説明したが、このことに限定されることはなく、例えば基板１４としてプラスチック等からなる可撓性基板を用いることもできる。
【００３６】
次に、基板１４の主面上には、走査線１６やコモン電極２１が信号線１５と短絡することを防ぐ例えば窒化シリコン等からなる層間絶縁膜２２が走査線１６やコモン電極２１を覆うようにプラズマＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法等により成膜される。
【００３７】
次に、層間絶縁膜２２上の所定の位置、具体的にはマトリクス状に複数配列される各画素１７ａのＴＦＴ１１を配設する位置に、ＴＦＴ１１を構成する例えはプラズマＣＶＤ法により非ドープアモルファスシリコン膜及びｎ＋アモルファスシリコン膜を順次積層させた半導体膜を形成する。
【００３８】
次に、層間絶縁膜２２上には、例えばチタン等の導電性金属をスパッタリング法等で薄膜形成させ、この金属箔にフォトリソグラフの手法を施して走査線１６と略直交する信号線１５を形成する。このとき、ＴＦＴ１１が配設される位置に、すなわち半導体膜の直上には、信号線１５を形成させる導電性金属にフォトリソグラフ法が施されることで、一端が信号線１５と接続され且つ略中央部が分割され下方の半導体膜が露出する信号電極線が信号線１５と同時に形成される。これにより、層間絶縁膜２２上には、半導体膜及び信号電極線によって構成されるＴＦＴ１１が形成される。
【００３９】
次に、層間絶縁膜２２上の各画素１７ａに対応する位置には、信号電極線の他端に接続される電極２０ａ及びコンデンサ１２を介してコモン電極２１に接続される電極２０ｂを、例えばスパッタリング法等で成膜したＩＴＯ膜にフォトリソグラフの手法を施す等して一括して形成する。このようにして形成される一対の電極２０ａ，２０ｂは、画素１７ａ内で基板１４の面内方向に並設された透明電極となる。なお、電極２０ｂは、例えばビアホール等の導電性金属等からなる層間絶縁膜２２を貫通する層間接続体によりコンデンサ１２に接続される。
【００４０】
次に、層間絶縁膜２２上には、ＴＦＴ１１や一対の電極２０ａ，２０ｂを覆うように例えばプラズマＣＶＤ法等で窒化シリコンや酸化シリコン等からなるパッシベーション膜を成膜する。このようにして、基板１４上でマトリクス状に複数配列される画素１７ａ毎にＴＦＴ１１や一対の電極２０ａ，２０ｂ等を備える駆動回路基板３が形成される。
【００４１】
次に、駆動回路基板３の一対の電極２０ａ，２０ｂが設けられた主面上には、直径が２０μｍ程度のプラスチック製のビーズ等といったスペーサを介して透明基板２が、基板２，３の主面が対向するように配置する。そして、主面同士が対向する基板２，３の縁端を接着剤等といった封止剤で封止し、基板２，３の間に後の工程で調光層形成材料が注入される空間部を形成する。このとき、基板２，３の間の空間部を封止するで封止剤の一部に調光層形成材料が注入させるための注入口を形成する。なお、空間部は、基板２，３の間隔がスペーサとなるビーズの直径により決定される。そして、この間隔が調光層４の厚みとなる。
【００４２】
次に、基板２，３の間に形成された空間部には、封止剤の一部に設けられた注入口より上述した液晶材料、上述した透明樹脂材料、及び任意成分として重合開始剤等を略均一に分散させた調光層形成材料を注入する。次に、注入口を封止剤と同じ材料で封止し、空間部に注入された調光層形成材料を基板２，３の間に形成された空間部に密封する。
【００４３】
次に、基板２，３の間に形成された空間部に密封された調光層形成材料に例えば紫外線を照射する等、調光層形成材料中の透明樹脂材料を重合させるための重合用エネルギーを供給し、調光層形成材料中の透明樹脂が三次元網目状構造の網目状透明樹脂４ｂになるように重合し、調光層４を形成する。すなわち、基板２，３の間に、液晶デバイスとなる調光層４として液晶材料の連続層中に網目状透明樹脂４ｂが形成された構造のポリマーネットワーク型液晶を形成する。このようにして、マトリクス状に複数配列された画素１７ａを表示領域１７とするＰＮＬＣ表示素子１が製造される。
【００４４】
このように製造されるＰＮＬＣ表示素子１では、画素１７ａ内に配置された一対の電極２０ａ，２０ｂ間に液晶分子４ａの配列を変化させるための駆動電圧が印加されていないとき、三次元網目状構造の網目状透明樹脂４ｂによる配向規制力により、調光層４の液晶分子４ａが複数で一定の方向に配向したドメインを形成し、各ドメインの液晶の配向方向がランダムであるためにドメイン間の複屈折率が一致しなくなることから、透明基板２側からの入射光を調光層４が散乱させて透明基板２側から出射する、すなわち反射する。一方、ＰＮＬＣ表示素子１では、一対の電極２０ａ，２０ｂ間に液晶分子４ａの配列を変化するための駆動電圧を印加したとき、一対の電極２０ａ，２０ｂが駆動回路基板３の基板１４の面内方向に並設されていることから、一対の電極２０ａ，２０ｂの間で調光層４の厚み方向と略直交方向の電界が生じる。これにより、ＰＮＬＣ表示素子１では、一対の電極２０ａ，２０ｂ間に所定の駆動電圧が印加されたときに、調光層４内の液晶分子４ａが形成するドメイン内の液晶の配向方向が電界と同様、調光層４の厚み方向に対して略直交な方向になり、液晶分子４ａが形成するドメイン間の複屈折率の差が小さくなることから、透明基板２側からの入射光が一対の電極２０ａ，２０ｂに印加された電圧値に応じて調光層４を透過する。すなわち、ＰＮＬＣ表示素子１においては、一対の電極２０ａ，２０ｂに印加される駆動電圧が大きいほど、調光層４の光透過性が増すことになる。
【００４５】
このＰＮＬＣ表示素子１では、一対の電極２０ａ，２０ｂにより生じる調光層４の厚み方向と略直交方向の電界で液晶デバイスが駆動されることから、従来のように光が入射される側の基板に透明電極等を形成する必要が無く、透明基板２だけを通過した光が調光層４に入射され、且つ調光層４で反射された光が透明基板２だけを通過して外部に出射される。これにより、ＰＮＬＣ表示素子１では、透明基板２側からの入射光や、この入射光が調光層４で散乱した反射光の利用効率の低下が抑制され、反射光の視認性及び表示品位を向上できる。
【００４６】
このＰＮＬＣ表示素子１では、調光層４に電界を生じさせる一対の電極２０ａ，２０ｂを駆動回路基板３に同じ工程で一括形成できることから、従来のように電界を生じさせるための電極を駆動基板や対向基板等に別々に形成させることなく、製造工程が簡略かされて製造歩留まりを向上でき、製造コストを抑えることができる。
【００４７】
また、ＰＮＬＣ表示素子１では、透明基板２及び駆動回路基板３の基板１４に例えばプラスチック製の可撓性基板を用いることで、素子全体に可撓性を持たせることができる。
【００４８】
ここで、ＰＮＬＣ表示素子１の表示領域１７に透明基板２の主面に対して斜め４５°傾いた方向から白色光を入射させ、調光層４で反射した反射光の光量を透明基板２の主面に対して略平行に受光素子を配置したディテクタで読み取り、入射光の光量に対する反射光の光量、いわゆる反射率の測定した。なお、ここでは、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示すように、基板１４の主面上に並設された一対の電極２０ａ，２０ｂに印加された駆動電圧によって効率よく電界を生じさせるために、一対の電極２０ａ，２０ｂが互いに向き合う方向に基端より複数突出する突起電極を形成させた一対の電極２０ａ，２０ｂを用い、一対の電極２０ａ，２０ｂのうち、一方の突起電極の間に他方の突起電極が配置されるようにした。具体的には、櫛歯状に形成された一対の電極２０ａ，２０ｂを用い、一対の電極２０ａ，２０ｂの櫛歯の部分を並設、すなわち一方の櫛歯の間に他方の櫛歯が配置されるようにし、一対の電極２０ａ，２０ｂの間の距離を近くした。これにより、一対の電極１９ａ，１９ｂには、図５（Ｂ）に示すように、隣り合う櫛歯の間に調光層４の厚み方向と略直交する方向の電界が生じることになり調光層４に効率よく電界を印加できる。
【００４９】
そして、反射率を測定するサンプル１〜サンプル３として、櫛歯の基端より先端までの距離及び櫛歯の幅Ｌを一定にし、隣り合う櫛歯の間隔Ｄを表１に示すように変え、調光層４の厚みを２０μｍとし、一対の電極２０ａ，２０ｂの抵抗を１０Ω／ｃｍ２とし、一対の電極２０ａ，２０ｂの厚みを２００ｎｍとするＰＮＬＣ表示素子１を上述した製造方法と同様の方法で製造した。
【００５０】
【表１】
2005134504.tif 000003
【００５１】
また、サンプル１〜サンプル３と比較するサンプル４として、基板１４の主面上に並設された一対の電極２０ａ，２０ｂの代わりに、従来のように駆動回路基板及び透明基板の対向する主面に画素とほぼ同じ大きさの透明基板を形成させたこと以外はサンプル１〜サンプル３と同様にしたＰＮＬＣ表示素子を製造した。
【００５２】
以下に、サンプル１〜サンプル４の反射率の測定結果を図６、図７及び表２に示す。なお、今回の測定では、一対の電極２０ａ，２０ｂに対して駆動電圧を印加しない場合と、一対の電極２０ａ，２０ｂに対して６０Ｈｚ、１０Ｖのパルス交流を駆動電圧として印加した場合について測定した。また、表２には、外光波長５５０ｎｍの反射率を示している。
【００５３】
【表２】
2005134504.tif 000004
【００５４】
図６、図７及び表２に示す評価結果より、駆動回路基板３における基板１４の主面上に一対の電極２０ａ，２０ｂが設けられたサンプル１〜サンプル３では、従来のように駆動回路基板及び透明基板の対向する主面に画素とほぼ同じ大きさの透明基板を形成させたサンプル４に比べ、反射率が大きくなっていることがわかる。
【００５５】
サンプル４では、調光層に入射される光が透明電極を通過するときに吸収されて劣化し、さらに調光層で反射された光が透明電極を通過して出射されることから、反射光も透明電極に吸収されて劣化する。これにより、サンプル４では、入射光及び反射光の利用効率が悪くなり、反射率が小さくなってしまう。
【００５６】
これに対し、サンプル１〜サンプル３では、透明電極２側に調光層４に電界を印加させる電極が設けられていないことから、調光層４に入射される光が例えば透明電極等で吸収されて劣化することがなく、さらには調光層４より反射された光も透明電極を通過することなる出射されることから、入射光及び反射光の利用効率の低下が抑制され、反射率を大きくできる。また、サンプル１〜サンプル３では、隣り合う櫛歯の間隔Ｄが広くなるにつれて反射率が大きくなっている。これは、隣り合う櫛歯の間隔Ｄが広くなるほど一対の電極２０ａ，２０ｂの下層の基板１４の主面が露出する程度が大きくなり、調光層４以外、具体的には基板１４の主面の反射が寄与しているからである。このため、一対の電極２０ａ，２０ｂとして例えば誘電体ミラーのような多層膜をＡｌ膜上に積層させたものを用いることで、さらに反射率を大きくすることができる。
【００５７】
なお、ここでは、サンプル１〜サンプル３に用いた一対の電極２０ａ，２０ｂが櫛歯を基端より相対する電極に向かって略直角に突出している場合について説明したが、このような電極形状に限定されることはなく、図８に示すように、例えば一対の電極２０ａ，２０ｂが櫛歯を基端より相対する電極に向かって斜め方向に突出するような形状であっても同様の作用効果を得ることができる。
【００５８】
以上では、駆動回路基板３において、略平坦な基板１４の主面前面に設けられた層間絶縁膜２２上に一対の電極２０ａ，２０ｂを形成したが、このような形状に限定されることはなく、図９に示すように、例えば一対の電極２０ａ，２０ｂの間に層間絶縁膜２２を形成させない形状にすることで、上述した作用効果の他に、駆動電圧をさらに小さくできる効果が得られる。具体的には、一対の電極２０ａ，２０ｂの間に層間絶縁層２２を形成しないことで一対の電極２０ａ，２０ｂの間に駆動回路基板３側に凹む凹部２３が形成され、この凹部２３にも調光層４が形成されることになる。これにより、ＰＮＬＣ表示素子１では、一対の電極２０ａ，２０ｂを基準に透明基板２側に生じる電界だけでなく、凹部２３内、具体的には一対の電極２０ａ，２０ｂを基準に駆動回路基板３側にも電界を生じさせることができる。したがって、一対の電極２０ａ，２０ｂを基準に透明基板２側及び駆動回路基板３側に生じた調光層４の厚み方向と略直交する電界を調光層４に印加できることから電界の利用効率が向上し、一対の電極２０ａ，２０ｂに印加される駆動電圧を抑えることができる。
【００５９】
また、以上では、駆動回路基板３側に電界を生じさせるための一対の電極２０ａ，２０ｂを形成したが、このことに限定されることはなく、図１０に示すように、例えば一対の電極２０ａ，２０ｂのうち、一方を透明基板２の調光層４と対向する主面に形成させることも可能である。ここでは、便宜上、一対の電極２０ａ，２０ｂのうち駆動回路基板３側に形成されるものを信号線１５に接続される電極２０ａとし、透明基板２側に形成されるものをコモン電極２１に接続される電極２０ｂとして説明する。
【００６０】
この場合、透明基板２側に形成される電極２０ｂは、少なくともＩＴＯ膜等からなる透明電極として形成され、調光層４に入射する光が透明電極によって吸収されることを抑えるために可能な限り小さく、薄く形成することが好ましい。すなわち、このＰＮＬＣ表示素子１では、調光層４に、図１０中破線で囲んだ透明基板２と当接する領域、換言すると透明電極４側に形成された電極２０ｂと対向しない領域Ａを設ける。これにより、ＰＮＬＣ表示素子１では、少なくとも領域Ａに透明基板２側から入射される光は電極２０ｂを通過することなく入射され、領域Ａで反射した光は電極２０ｂを通過することなく外部に出射されることから、領域Ａでは電極２０ｂによる入射光及び反射光の劣化がなく光の利用効率の低下を抑制できる。したがって、ＰＮＬＣ表示素子１においては、透明基板２側にも透明電極を形成した場合、調光層４の透明基板２と当接する領域Ａを画素１７ａに対して極力大きくすることで、入射光や反射光の利用効率の低下が抑えられ、反射光の視認性及び表示品位を向上できる。
【００６１】
次に、以上で説明したＰＮＬＣ表示素子１の調光層４に用いたポリマーネットワーク型液晶を構成する材料やその形成方法等についてさらに詳しく説明する。
【００６２】
ポリマーネットワーク型液晶からなう調光層４において、液晶材料は、単一の液晶性化合物であることを要しないのは勿論で、２種以上の液晶化合物や液晶化合物以外の物質も含んだ混合物であってもよく、通常この技術分野で液晶材料として認識されるものを用い、そのうちの正の誘電率異方性を有するものが好ましい。
【００６３】
液晶分子４ａの状態で調光層４中に介在される液晶材料としては、例えばネマチック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶が挙げられ、これらのうち一種以上を用いるが、特にネマチック液晶を用いることが好ましい。ネマチック液晶としては、当の誘電率異方性をもち誘電率異方性（以下、Δεと記す。）が８以上であり、複屈折率（以下、Δｎと記す。）の大きさが０．１以上であればよく、好ましくはΔεが１０以上で、Δｎは０．２以上のネマチック液晶である。Δｎは白濁性を高めコントラストを大きくし、急峻性を高めるためにはできるだけ大きい方が好ましい。また、液晶分子４ｂの性能を改善するために、上述した液晶材料に、例えばコレステリック液晶、カイラルネマチック液晶、カイラルスメクチック液晶等やカイラル化合物等を一種以上含有させることも可能である。
【００６４】
具体的に、液晶材料は、以下に示した化合物群から選ばれる１種以上の化合物からなる配合組成物が好ましく、液晶材料の特性、すなわち、液晶の相転移温度、融点、粘度、Δｎ、Δεを考慮し更に重合性組成物等との溶解性等を改善することを目的として適宜選択、配合して用いることができる。液晶材料としては、安息香酸エステル系、シクロヘキシルカルボン酸エステル系、ビフェニル系、ターフェニル系、フェニルシクロヘキサン系、ビフェニルシクロヘキサン系、ピリミジン系、ピリジン系、ジオキサン系、シクロヘキサンシクロヘキサンエステル系、シクロヘキシルエタン系、トラン系、アルケニル系等の各種液晶化合物が使用される。具体的には、例えば４−置換安息香酸４’−置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキサンカルボン酸４’−置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキサンカルボン酸４’−置換ビフェニルエステル、４−（４−置換シクロヘキサンカルボニルオキシ）安息香酸４’−置換フェニルエステル、４−（４−置換シクロヘキシル）安息香酸４’−置換フェニルエステル、４−（４−置換シクロヘキシル）安息香酸４’−置換シクロヘキシルエステル、４−置換４’−置換ビフェニル、４−置換フェニル４’−置換シクロヘキサン、４−置換４”−置換ターフェニル、４−置換ビフェニル４’−置換シクロヘキサン、２−（４−置換フェニル）５−置換ピリミジン等を挙げることができる。
【００６５】
網目状透明樹脂４ｂを形成させる透明樹脂材料としては、例えば重合体形成性モノマー若しくはオリゴマー等、液晶材料の連続層中で三次元網目状構造を形成し、光透過性を示すものを用いる。また、透明樹脂材料には、必要に応じて重合開始剤を含有させる。
【００６６】
重合体形成性モノマーとしては、例えばスチレン、クロロスチレン、α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン等が挙げられ、これらモノマーをメチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、２−エチルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、アルリル、メタリル、グリシジル、２−ヒドロキシエチル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノエチル等のごとき基を有するアクリレート、メタクリレート又はフマレート等といった置換基で置換したもの用いる。
【００６７】
また、重合体形成性モノマーとしては、上述したモノマーを例えばエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、1，3−ブチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン及びペンタエリスリトール等のモノ（メタ）アクリレート又はポリ（メタ）アクリレート等といった置換基で置換したものを用いることができる。さらには、上述したモノマーを例えば酢酸ビニル、酪酸ビニル又は安息香酸ビニル、アクリロニトレル、セチルビニルエーテル、リモネン、シクロヘキセン、ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、２−、３−又は４−ビニルピリジン、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルアクリルアミド又はＮ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド及びそれらのアルキルエーテル化合物、ネオペンチルグリコール１モルに２モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン１モルに３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ１モルに２モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート１モルとフェニルイソシアネート若しくはｎ−ブチルイソシアネート１モルとの反応生成物、ジペンタエリスリトールのポリ（メタ）アクリレート、トリス−（ヒドロキシエチル）−イソシアヌル酸のポリ（メタ）アクリレート、トリス−（ヒドロキシエチル）−りん酸のポリ（メタ）アクリレート、ジ−（ヒドロキシエチル）−ジシクロペンタジエンのモノ（メタ）アクリレート又はジ（メタ）アクリレート等といった置換基で置換したものを用いることができる。
【００６８】
重合体形成性オリゴマーとしては、例えばカプロラクトン変性ヒドロキシピバリン酸、エステルネオペンチルグリコールジアクリレート等を挙げることができる。
【００６９】
必要に応じて含有される重合開始剤としては、例えば２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュア１１７３」）、１−ヒドロキシクロヘキシルフェニルケトン（チバ・ガイギー社製「イルガキュア１８４」）、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン（メルク社製「ダロキュア１１１６」）、ベンジルジメチルケタール（チバ・ガイギー社製「イルガキュア６５１」）、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロパノン−１（チバ・ガイギー社製「イルガキュア９０７」）、2，4−ジエチルチオキサントン（日本化薬社製「カヤキュアＤＥＸＴ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチル（日本化薬社製「カイキュア−ＥＰＡ」）との混合物、イソプロピルチオキサントン（ワードプレキンソップ社製「カンタキュアＩＴＸ」）とｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルとの混合物等が挙げられるが、液状である２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンが液晶材料、高分子形成性モノマー若しくはオリゴマーとの相溶性の面で特に好ましい。
【００７０】
以上のような構成の調光層４は、次のようにして形成される。調光層４を形成する際は、透明基板２の主面と駆動回路基板３の一対の電極２０ａ，２０ｂが形成された主面とを対向させた状態の両基板２，３の間に、上述した液晶材料、上述した透明樹脂材料、及び任意成分として重合開始剤等を略均一に分散させた調光層形成材料を介在させ、この調光層形成材料に重合用エネルギーを供給し、透明樹脂材料を重合し、硬化させることで液晶材料の連続層中に三次元網目状構造の網目状透明樹脂４ｂを形成させた調光層４が形成される。なお、調光層形成材料中の液晶材料の含有量は、６０〜９５重量％の範囲が好ましく、７０〜９０重量％の範囲が特に好ましい。また、調光層形成材料中には、必要に応じて、架橋剤、連鎖移動剤、酸化防止剤、染料、配向材、光安定材等を添加することができる。
【００７１】
調光層形成材料を基板２，３間に介在させるには、この調光層形成材料を基板２，３間に注入しても良いが、透明基板２の主面と駆動回路基板３の一対の電極２０ａ，２０ｂが形成された主面のうち一方の主面に、適当な溶液塗布機やスピンコーター等を用いて調光層形成材料を略均一に塗布し、次いで調光層形成材料が塗布されていない方の基板の主面を塗布面に重ね合せて密着させてもよい。また、一方の基板の主面に調光層形成材料を塗布後、調光層形成材料中の透明樹脂材料を重合し、硬化させて調光層４を形成し、この調光層４に他方の基板を貼り合せる用にしてもよい。この方法の場合、窒素雰囲気下で重合工程を行う等、嫌気性条件下で透明樹脂材料を重合することが好ましい。
【００７２】
透明樹脂材料を重合させる重合用エネルギーとしては、調光層形成材料中の透明樹脂材料を適切に重合させて三次元網目状構造に形成させるものであればよく、例えば紫外線、電子線等の放射線、熱等が挙げられる。
【００７３】
特に、紫外線を基板２，３間に介在している調光層形成材料に透明基板２側から照射させて透明樹脂材料を重合する方法は好適である。紫外線照射による透明樹脂材料の液晶材料中での重合において光照射強度及び照射量も一定の強さ以上を必要とするが、それは透明樹脂材料の反応性及び重合開始剤の種類、濃度によって左右され、適切な光強度の選択により三次元網目状構造の形成及び網目の大きさの略均一化を図ることができる。さらに、紫外線の照射方法として、平面的に略均一な光強度の紫外線を照射することは、基板２，３間に介在する透明樹脂材料に略均一な光強度の紫外線が照射されることから、透明樹脂材料の重合が略均一に進行し、網目の大きさが略均一化にされた網目状透明樹脂４ｂを形成する上で有効である。具体的には、基板２，３の隙間の距離、すなわち形成される調光層４の厚みが５μｍ〜３０μｍの場合、透明基板２側から少なくとも３ｍＷ／ｃｍ２以上の光強度で１０ｍＪ／ｃｍ２以上の照射量の紫外線を５秒〜１０秒程度照射する必要がある。
【００７４】
また、透明樹脂材料を重合する際の温度は、できるだけ低温域の方が好ましい。重合する際の温度が高い場合には、重合する速度が速すぎるため重合度があがらず、調光層４の白濁度が悪く、無電圧状態においても透明となったり、駆動電圧も高くなったりしてしまう。このような不具合を生じる温度とは、例えば液晶材料の相転移点の温度以上である。
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明によれば、以上で説明したアクティブマトリクス型の液晶表示素子の他に、例えば液晶デバイスとしてポリマーネットワーク型液晶を用いたパッシブマトリクス型の液晶表示素子やセグメント型の液晶表示素子等にも利用可能である。また、液晶表示素子を備える装置として例えば広告や時刻等を表示する表示装置、プロジェクション表示装置等にも利用可能である。さらには、例えば薄い、軽い、折り曲げ可能な表示装置、いわゆる電子ペーパー等にも利用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】本発明を適用したポリマーネットワーク型液晶表示素子を模式的に示す図である。
【図２】同ポリマーネットワーク型液晶表示素子の駆動回路基板及びスイッチング駆動回路の構成を示す模式図である。
【図３】同ポリマーネットワーク型液晶表示素子の駆動回路基板を一部透過して示す平面図である。
【図４】同ポリマーネットワーク型液晶表示素子に生じる電界の状態を示す模式図である。
【図５】同ポリマーネットワーク型液晶表示素子の櫛歯状に形成した一対の電極を示しており、同図（Ａ）は平面図、同図（Ｂ）は一対の電極間に生じる電界を模式的に示す図である。
【図６】一対の電極に駆動電圧を印加していないときの調光層の反射率を示した特性図である。
【図７】一対の電極に駆動電圧を１０Ｖ印加したときの調光層の反射率を示した特性図である。
【図８】同ポリマーネットワーク型液晶表示素子の駆動回路基板の他の例を一部透過して示す平面図である。
【図９】同ポリマーネットワーク型液晶表示素子の他の例で生じた電界の状態を示す模式図である。
【図１０】同ポリマーネットワーク型液晶表示素子の他の例を示し、電極間に生じた電界の状態を示す模式図である。
【図１１】従来のポリマーネットワーク型液晶表示素子を模式的に示す図である。
【図１２】同ポリマーネットワーク型液晶表示素子に生じる電界の状態を示す模式図である。
【符号の説明】
【００７７】
１  ポリマーネットワーク型液晶表示素子、２  透明基板、  ３  駆動回路基板、４  調光層、４ａ  液晶分子、４ｂ  網目状透明樹脂、１１  薄膜トランジスタ、１２  コンデンサ、１３  スイッチング駆動回路、１４  基板、１５  信号線、１６  走査線、１７  表示領域、１７ａ  画素、１８  信号ドライバ、１９  走査ドライバ、２０ａ，２０ｂ  電極、２１  コモン電極、２２  層間絶縁膜、２３  凹部
【図１】
2005134504.tif 000005
【図２】
2005134504.tif 000006
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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