(57)【要約】【課題】  シリコン基板を有する半導体ブロックの周囲に絶縁層が設けられた半導体装置において、半導体ブロックの周囲に生じるデッドスペースを少なくする。【解決手段】  半導体ブロック１は、ベース板２、半導体構成体３、絶縁層１５、上層絶縁膜１６、上層配線１９を含んで構成されている。Ｗ−ＣＳＰと呼ばれる半導体構成体３は、シリコン基板５、接続パッド６、絶縁膜７を含み、さらに、保護膜９、配線１２、柱状電極１３、封止膜１４を含んで構成されている。そして、半導体ブロック１は下側配線板２１の上面に設けられている。半導体ブロック１の周囲における下側配線板２１の上面には中間配線板２６が設けられている。半導体ブロック１および中間配線板２６の上面には上側配線板３５が設けられている。この場合、半導体ブロック１の周囲には中間配線板２６を設けているので、半導体ブロック１の周囲に生じるデッドスペースを少なくすることができる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ベース板と、前記ベース板上に設けられ、且つ、半導体基板および該半導体基板上に設けられた複数の外部接続用電極を有する半導体構成体と、前記半導体構成体の周囲における前記ベース板上に設けられた絶縁層と、前記半導体構成体および前記絶縁層上に前記半導体構成体の外部接続用電極に接続されて設けられ、接続パッド部を有する上層配線とを備えてなる半導体ブロックと、前記半導体ブロックの周囲に設けられた配線板とを備えていることを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
請求項１に記載の発明において、前記上層配線の接続パッド部は、前記配線板に対応してその上方に配置されていることを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１に記載の発明において、前記配線板は多層配線板からなることを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項１に記載の発明において、前記半導体ブロックおよび前記配線板の一面に一面側配線板が前記半導体ブロックの上層配線の接続パッド部および前記配線板に電気的に接続されて設けられ、前記半導体ブロックおよび前記配線板の他面に他面側配線板が前記配線板に電気的に接続されて設けられていることを特徴とする半導体装置。
【請求項５】
請求項４に記載の発明において、前記一面側配線板の表面に設けられた表面配線の接続パッド部を除く部分を覆うオーバーコート膜を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項６】
請求項５に記載の発明において、前記表面配線の接続パッド部上に半田ボールが設けられていることを特徴とする半導体装置。
【請求項７】
請求項４に記載の発明において、前記他面側配線板の表面に設けられた表面配線の接続パッド部を除く部分を覆うオーバーコート膜を有することを特徴とする半導体装置。
【請求項８】
請求項７に記載の発明において、前記オーバーコート膜の表面に電子部品が前記表面配線の接続パッド部に接続されて設けられていることを特徴とする半導体装置。
【請求項９】
ベース板と、前記ベース板上に設けられ、且つ、半導体基板および該半導体基板上に設けられた複数の外部接続用電極を有する半導体構成体と、前記半導体構成体の周囲における前記ベース板上に設けられた絶縁層と、前記半導体構成体および前記絶縁層上に前記半導体構成体の外部接続用電極に接続されて設けられ、接続パッド部を有する上層配線とを備えてなる複数の半導体ブロックを一面側集合配線板上に相互に離間させて配置し、前記半導体ブロックの周囲における前記一面側集合配線板上に中間集合配線板を前記一面側集合配線板に電気的に接続させて設け、前記半導体ブロックおよび前記中間集合配線板上に他面側集合配線板を前記中間集合配線板に電気的に接続させて設ける工程と、
前記半導体ブロック間における前記各集合配線板を切断して前記半導体ブロックを有する半導体装置を複数個得る工程と、
を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の発明において、前記半導体ブロックおよび前記中間集合配線板上に前記他面側集合配線板を設けるとき、前記他面側集合配線板を前記半導体ブロックの上層配線の接続パッド部に電気的に接続させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１１】
請求項９に記載の発明において、前記複数の半導体ブロックを前記一面側集合配線板上に相互に離間させて配置するとき、前記半導体ブロックの上層配線の接続パッド部を前記一面側集合配線板に電気的に接続させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１２】
請求項９に記載の発明において、前記各集合配線板の絶縁基板は当初半硬化状態の熱硬化性樹脂を含むものからなり、これらの絶縁基板を積層して加熱加圧板を用いた１回の加熱加圧により、前記各絶縁基板中の熱硬化性樹脂を本硬化させることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の発明において、前記中間集合配線板の絶縁基板によって前記半導体ブロックの側面を覆うことを特徴とする半導体装置の製造方法。
【請求項１４】
請求項１２に記載の発明において、前記中間集合配線板は多層配線板からなることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は半導体装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の半導体装置には、シリコン基板のサイズ外にも外部接続用接続端子としての半田ボールを備えるため、上面に複数の接続パッドを有するシリコン基板をベース板の上面に設け、シリコン基板の周囲におけるベース板の上面に絶縁層を設け、シリコン基板および絶縁層の上面に上層絶縁膜を設け、上層絶縁膜の上面に上層配線をシリコン基板の接続パッドに接続させて設け、上層配線の接続パッド部を除く部分を最上層絶縁膜で覆い、上層配線の接続パッド部上に半田ボールを設けたものがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
【特許文献１】特開２００３−２９８００５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、上記従来の半導体装置では、シリコン基板の周囲におけるベース板の上面に設けられた絶縁層は文字通り絶縁層であるため、絶縁層の平面サイズを大きくして全体の平面サイズを大きくする場合、絶縁層が大きなデッドスペースとなってしまうという問題があった。
【０００５】
そこで、この発明は、シリコン基板等の半導体基板の周囲に生じるデッドスペースを少なくすることができる半導体装置およびその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この発明は、上記目的を達成するため、半導体基板および外部接続用電極を有する半導体構成体の周囲に絶縁層が形成されると共にその上面に上層配線を有する半導体ブロックの周囲に配線板を設けたことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【０００７】
この発明によれば、半導体基板および外部接続用電極を有する半導体構成体の周囲に絶縁層が形成されると共にその上面に上層配線を有する半導体ブロックの周囲に配線板を設けているので、半導体基板の周囲に生じるデッドスペースを少なくすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
（第１実施形態）
図１はこの発明の第１実施形態としての半導体装置の断面図を示す。この半導体装置は半導体ブロック１を備えている。半導体ブロック１は、簡単に説明すると、ベース板２、半導体構成体３、絶縁層１５、上層絶縁膜１６、上層配線１９を有している。すなわち、半導体ブロック１は平面方形状のベース板２を備えている。ベース板２は、樹脂、シリコン、セラミックス等の絶縁板であってもよく、また、銅箔等の金属板であってもよく、さらに、後述するプリプレグ材やビルドアップ材であってもよい。
【０００９】
ベース板２の上面には、ベース板２のサイズよりもある程度小さいサイズの平面方形状の半導体構成体３の下面がダイボンド材からなる接着層４を介して接着されている。この場合、半導体構成体３は、後述する配線１２、柱状電極１３、封止膜１４を有しており、一般的にはＣＳＰ(chip size package)と呼ばれるものであり、特に、後述の如く、シリコンウエハ上に配線１２、柱状電極１３、封止膜１４を形成した後、ダイシングにより個々の半導体構成体３を得る方法を採用しているため、特に、ウエハレベルＣＳＰ（Ｗ−ＣＳＰ）とも言われている。以下に、半導体構成体３の構成について説明する。
【００１０】
半導体構成体３は平面方形状のシリコン基板（半導体基板）５を備えている。シリコン基板５の下面はベース板２に接着層４を介して接着されている。シリコン基板５の上面には所定の機能の集積回路（図示せず）が設けられ、上面周辺部にはアルミニウム系金属等からなる複数の接続パッド６が集積回路に接続されて設けられている。接続パッド６の中央部を除くシリコン基板５の上面には酸化シリコン等からなる絶縁膜７が設けられ、接続パッド６の中央部は絶縁膜７に設けられた開口部８を介して露出されている。
【００１１】
絶縁膜７の上面にはエポキシ系樹脂やポリイミド系樹脂等からなる保護膜９が設けられている。この場合、絶縁膜７の開口部８に対応する部分における保護膜９には開口部１０が設けられている。保護膜９の上面には銅等からなる下地金属層１１が設けられている。下地金属層１１の上面全体には銅からなる配線１２が設けられている。下地金属層１１を含む配線１２の一端部は、両開口部８、１０を介して接続パッド６に接続されている。
【００１２】
配線１２の接続パッド部上面には銅からなる柱状電極（外部接続用電極）１３が設けられている。配線１２を含む保護膜９の上面にはエポキシ系樹脂やポリイミド系樹脂等からなる封止膜１４がその上面が柱状電極１３の上面と面一となるように設けられている。このように、Ｗ−ＣＳＰと呼ばれる半導体構成体３は、シリコン基板５、接続パッド６、絶縁膜７を含み、さらに、保護膜９、配線１２、柱状電極１３、封止膜１４を含んで構成されている。
【００１３】
半導体構成体３の周囲におけるベース板２の上面には方形枠状の絶縁層１５がその上面が半導体構成体３の上面とほぼ面一となるように設けられている。絶縁層１５は、例えば、エポキシ系樹脂やポリイミド系樹脂等の熱硬化性樹脂、あるいは、このような熱硬化性樹脂中にガラス繊維やシリカフィラー等の補強材が混入されたものからなっている。
【００１４】
半導体構成体３および絶縁層１５の上面には上層絶縁膜１６がその上面を平坦とされて設けられている。上層絶縁膜１６は、ビルドアップ基板に用いられる、通常、ビルドアップ材と言われるもので、例えば、エポキシ系樹脂やＢＴ樹脂等の熱硬化性樹脂中にガラス繊維やシリカフィラー等の補強材が混入されたものからなっている。柱状電極１３の上面中央部に対応する部分における上層絶縁膜１６には開口部１７が設けられている。
【００１５】
上層絶縁膜１６の上面には銅等からなる上層下地金属層１８が設けられている。上層下地金属層１８の上面全体には銅からなる上層配線１９が設けられている。上層下地金属層１８を含む上層配線１９の一端部は、上層絶縁膜１６の開口部１７を介して柱状電極１３の上面に接続されている。このように、半導体ブロック１は、ベース板２、半導体構成体３、絶縁層１５、上層絶縁膜１６、上層配線１９を含んで構成されている。
【００１６】
そして、半導体ブロック１のベース板２は、平面方形状の下側配線板２１の上面の所定の箇所に固着されている。下側配線板２１は、絶縁基板２２の上面に設けられた上面配線２３と、絶縁基板２２の下面に設けられた下面配線２４とが、絶縁基板２２内に設けられたビア２３を介して接続された構造となっている。この場合、絶縁基板２２は、通常、プリプレグ材と言われるもので、例えば、ガラス布やアラミド繊維等からなる基材にエポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂を含浸させたものからなっているが、ビルドアップ材を用いてもよい。上面配線２３および下面配線２４は銅箔からなっている。ビア２５は金属ペーストや導電性樹脂ペースト等からなっている。
【００１７】
半導体ブロック１の周囲における下側配線板２１の上面には方形枠状の中間配線板２６がその上面が半導体構成体３の上面とほぼ面一となるように設けられている。中間配線板２６は、多層配線板からなり、例えば、第１の絶縁基板２７の上下面に第２、第３の絶縁基板２８、２９が積層され、第２の絶縁基板２８内に設けられたビア３０と、第３の絶縁基板２９内に設けられたビア３１とが、第１の絶縁基板２７内に設けられたビア３２および第１の絶縁基板２７の上下面に設けられた上面配線３３、下面配線３４を介して接続された構造となっている。
【００１８】
この場合、第１〜第３の絶縁基板２７〜２９は下側配線板２１の絶縁基板２２と同一の材料であるプリプレグ材またはビルドアップ材からなっている。上面配線３３および下面配線３４は銅箔からなっている。ビア２５は金属ペーストや導電性樹脂ペースト等からなっている。そして、第３の絶縁基板２９のビア３１は下側配線板２１の上面配線２３に接続されている。
【００１９】
半導体ブロック１および中間配線板２６の上面には上側配線板３５が設けられている。上側配線板３５は、絶縁基板３６の上面に設けられた上面配線３７と、絶縁基板３６の下面に設けられた下面配線３８とが、絶縁基板３６内に設けられたビア３９を介して接続された構造となっている。この場合、絶縁基板３６は下側配線板２１の絶縁基板２２と同一の材料であるプリプレグ材またはビルドアップ材からなっている。上面配線３７および下面配線３８は銅箔からなっている。ビア３９は金属ペーストや導電性樹脂ペースト等からなっている。
【００２０】
そして、上側配線板３５の下面配線３８は中間配線板２６の第２の絶縁基板２８のビア３０に接続されている。また、上側配線板３５の上面配線３７下に設けられたビア３９の一部は、下面配線３８に接続されておらず、半導体ブロック１の上層配線１９の接続パッド部に接続されている。
【００２１】
上側配線板３５の上面にはソルダーレジスト等からなる上層オーバーコート膜４０が設けられている。上側配線板３５の上面配線３７の接続パッド部に対応する部分における上層オーバーコート膜４０には開口部４１が設けられている。開口部４１内およびその上方には半田ボール４２が上側配線板３５の上面配線３７の接続パッド部に接続されて設けられている。複数の半田ボール４２は、上層オーバーコート膜４０の上面にマトリクス状に配置されている。
【００２２】
下側配線板２１の下面にはソルダーレジスト等からなる下層オーバーコート膜４３が設けられている。下側配線板２１の下面配線２４の接続パッド部に対応する部分における下層オーバーコート膜４３には開口部４４が設けられている。開口部４１内には金属ペーストや導電性樹脂ペースト等からなる導電接続部４５が設けられている。下層オーバーコート膜４３の下面にはコンデンサや抵抗等からなるチップ部品４６がその両側の電極を導電接続部４５に接続されて設けられている。
【００２３】
ところで、半導体ブロック１において、ベース板２のサイズを半導体構成体３のサイズよりもある程度大きくしているのは、シリコン基板５上の接続パッド６の数の増加に応じて、上層配線１９の接続パッド部の配置領域を半導体構成体３のサイズよりもある程度大きくし、これにより、上層配線１９の接続パッド部のサイズおよびピッチを柱状電極１３のサイズおよびピッチよりも大きくするためである。
【００２４】
このため、マトリクス状に配置された上層配線１９の接続パッド部は、半導体構成体３に対応する領域のみでなく、半導体構成体３の側面の外側に設けられた絶縁層１５に対応する領域上にも配置されている。つまり、マトリクス状に配置された上層配線１９の接続パッド部のうち、少なくとも最外周の接続パッド部は半導体構成体３よりも外側に位置する周囲に配置されている。
【００２５】
また、この半導体装置では、シリコン基板５を有する半導体ブロック１の周囲における下側配線板２１の上面に方形枠状の中間配線板２６を設けているので、全体としての平面サイズをある程度大きくしても、シリコン基板５の周囲に生じるデッドスペースを少なくすることができる。
【００２６】
さらに、この半導体装置では、半導体ブロック１の周囲における下側配線板２１の上面に方形枠状の中間配線板２６を設けているので、中間配線板２６の代わりに単なる絶縁層を設けた場合と比較して、高密度配線構造とすることができる。すなわち、中間配線板２６の代わりに単なる絶縁層を設けた場合には、当該絶縁層にスルーホールを形成して、上側配線板３５と下側配線板２１とをただ単に接続するだけとなり、高密度配線構造とすることはできない。
【００２７】
次に、この半導体装置の製造方法の一例について説明するに、まず、半導体構成体３の製造方法の一例について説明する。この場合、まず、図２に示すように、ウエハ状態のシリコン基板（半導体基板）５上にアルミニウム系金属等からなる接続パッド６、酸化シリコン等からなる絶縁膜７およびエポキシ系樹脂やポリイミド系樹脂等からなる保護膜９が設けられ、接続パッド６の中央部が絶縁膜７および保護膜９に形成された開口部８、１０を介して露出されたものを用意する。上記において、ウエハ状態のシリコン基板５には、各半導体構成体が形成される領域に所定の機能の集積回路が形成され、接続パッド６は、それぞれ、対応する領域に形成された集積回路に電気的に接続されている。
【００２８】
次に、図３に示すように、両開口部８、１０を介して露出された接続パッド６の上面を含む保護膜９の上面全体に下地金属層１１を形成する。この場合、下地金属層１１は、無電解メッキにより形成された銅層のみであってもよく、またスパッタにより形成された銅層のみであってもよく、さらにスパッタにより形成されたチタン等の薄膜層上にスパッタにより銅層を形成したものであってもよい。これは、後述する上層下地金属層１８も同様である。
【００２９】
次に、下地金属層１１の上面にメッキレジスト膜５１をパターン形成する。この場合、配線１２形成領域に対応する部分におけるメッキレジスト膜５１には開口部５２が形成されている。次に、下地金属層１１をメッキ電流路として銅の電解メッキを行なうことにより、メッキレジスト膜５１の開口部５２内の下地金属層１１の上面に配線１２を形成する。次に、メッキレジスト膜５１を剥離する。
【００３０】
次に、図４に示すように、配線１２を含む下地金属層１１の上面にメッキレジスト膜５３をパターン形成する。この場合、柱状電極１３形成領域に対応する部分におけるメッキレジスト膜５３には開口部５４が形成されている。次に、下地金属層１１をメッキ電流路として銅の電解メッキを行なうことにより、メッキレジスト膜５３の開口部５４内の配線１２の接続パッド部上面に柱状電極１３を形成する。次に、メッキレジスト膜５３を剥離し、次いで、配線１２をマスクとして下地金属層１１の不要な部分をエッチングして除去すると、図５に示すように、配線１２下にのみ下地金属層１１が残存される。
【００３１】
次に、図６に示すように、スクリーン印刷法、スピンコーティング法、ダイコート法等により、柱状電極１３および配線１２を含む保護膜９の上面全体にエポキシ系樹脂やポリイミド系樹脂等からなる封止膜１４をその厚さが柱状電極１３の高さよりも厚くなるように形成する。したがって、この状態では、柱状電極１３の上面は封止膜１４によって覆われている。
【００３２】
次に、封止膜１４および柱状電極１３の上面側を適宜に研磨し、図７に示すように、柱状電極１３の上面を露出させ、且つ、この露出された柱状電極１３の上面を含む封止膜１４の上面を平坦化する。ここで、柱状電極１３の上面側を適宜に研磨するのは、電解メッキにより形成される柱状電極１３の高さにばらつきがあるため、このばらつきを解消して、柱状電極１３の高さを均一にするためである。
【００３３】
次に、図８に示すように、シリコン基板５の下面全体に接着層４を接着する。接着層４は、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂等のダイボンド材からなるものであり、加熱加圧により、半硬化した状態でシリコン基板５に固着する。次に、シリコン基板５に固着された接着層４をダイシングテープ（図示せず）に貼り付け、図９に示すダイシング工程を経た後に、ダイシングテープから剥がすと、図１に示すように、シリコン基板５の下面に接着層４を有する半導体構成体３が複数個得られる。
【００３４】
このようにして得られた半導体構成体３では、シリコン基板５の下面に接着層４を有するため、ダイシング工程後に各半導体構成体３のシリコン基板５の下面にそれぞれ接着層を設けるといった極めて面倒な作業が不要となる。なお、ダイシング工程後にダイシングテープから剥がす作業は、ダイシング工程後に各半導体構成体３のシリコン基板５の下面にそれぞれ接着層を設ける作業に比べれば、極めて簡単である。
【００３５】
次に、このようにして得られた半導体構成体３を用いて、図１に示す半導体ブロック１を製造する場合の一例について説明する。まず、図１０に示すように、図１に示すベース板２を複数枚採取することができる大きさで、限定する意味ではないが、平面方形状のベース板２を用意する。次に、ベース板２の上面の所定の複数箇所にそれぞれ半導体構成体３のシリコン基板５の下面に接着された接着層４を接着する。ここでの接着は、加熱加圧により、接着層４を本硬化させる。
【００３６】
次に、図１１に示すように、半導体構成体３の周囲におけるベース板２の上面に、例えばスクリーン印刷法やスピンコーティング法等により、絶縁層形成用層１５ａを形成する。絶縁層形成用層１５ａは、例えば、エポキシ系樹脂やポリイミド系樹脂等の熱硬化性樹脂、あるいは、このような熱硬化性樹脂中にガラス繊維やシリカフィラー等の補強材が混入されたものである。
【００３７】
次に、半導体構成体３および絶縁層形成用層１５ａの上面に上層絶縁膜形成用シート１６ａを配置する。上層絶縁膜形成用シート１６ａは、限定する意味ではないが、シート状のビルドアップ材が好ましく、このビルドアップ材としては、エポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂中にシリカフィラーを混入させ、熱硬化性樹脂を半硬化状態にしたものがある。なお、上層絶縁膜形成用シート１６ａとして、ガラス布にエポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂を含浸させ、熱硬化性樹脂を半硬化状態にしてシート状となしたプリプレグ材、または、シリカフィラーが混入されない、熱硬化性樹脂のみからなるシート状のものを用いるようにしてもよい。
【００３８】
次に、図１２に示すように、一対の加熱加圧板５５、５６を用いて上下から絶縁層形成用層１５ａおよび上層絶縁膜形成用シート１６ａを加熱加圧する。すると、半導体構成体３の周囲におけるベース板２の上面に絶縁層１５が形成され、半導体構成体３および絶縁層１５の上面に上層絶縁膜１６が形成される。この場合、上層絶縁膜１６上面は、上側の加熱加圧板５５の下面によって押さえ付けられるため、平坦面となる。したがって、上層絶縁膜１６上面を平坦化するための研磨工程は不要である。
【００３９】
次に、図１３に示すように、レーザビームを照射するレーザ加工により、柱状電極１３の上面中央部に対応する部分における上層絶縁膜１６に開口部１７を形成する。次に、必要に応じて、開口部１７内等に発生したエポキシスミア等をデスミア処理により除去する。次に、図１４に示すように、開口部１７を介して露出された柱状電極１３の上面を含む上層絶縁膜１６の上面全体に、銅の無電解メッキにより、上層下地金属層１８を形成する。次に、上層下地金属層１８の上面にメッキレジスト膜５７をパターン形成する。この場合、上層配線１９形成領域に対応する部分におけるメッキレジスト膜５７には開口部５８が形成されている。
【００４０】
次に、上層下地金属層１８をメッキ電流路として銅の電解メッキを行なうことにより、メッキレジスト膜５７の開口部５８内の上層下地金属層１８の上面に上層配線１９を形成する。次に、メッキレジスト膜５７を剥離し、次いで、上層配線１９をマスクとして上層下地金属層１８の不要な部分をエッチングして除去すると、図１５に示すように、上層配線１９下にのみ上層下地金属層１８が残存される。次に、図１６に示すように、互いに隣接する半導体構成体３間において、上層絶縁膜１６、絶縁層１５およびベース板２を切断すると、図１に示す半導体ブロック１が複数個得られる。
【００４１】
次に、このようにして得られた半導体ブロック１を用いて、図１に示す半導体装置を製造する場合の一例について説明する。まず、図１７に示すように、図１に示す下側配線板２１を複数枚採取することができる大きさで、限定する意味ではないが、平面方形状の下側集合配線板２１ａを用意する。また、下側集合配線板２１ａと同じ大きさの上側集合配線板３５ａを用意する。さらに、下側集合配線板２１ａと同じ大きさの中間集合配線板２６ａを形成するための第１〜第３の絶縁基板２７〜２９を用意する。
【００４２】
ここで、各集合配線板２１ａ、２６ａ、３５ａの基本的な構造は同じであるので、代表として、下側集合配線板２１ａの形成方法の一例について説明する。まず、絶縁基板２２として、プリプレグ材またはビルドアップ材を用意する。この場合、絶縁基板２２中のエポキシ系樹脂等の熱硬化性樹脂は半硬化状態となっている。次に、絶縁基板２２に、フォトリソグラフィ技術またはレーザビームを照射するレーザ加工によりビアホールを形成し、ビアホール内に金属ペースト等を充填してビア２５を形成し、絶縁基板２２の上下面に積層された銅箔をパターニングして上面配線２３および下面配線２４を形成する。この場合、ビア２５は、導電材料からなるピンをビアホール内に圧入して形成するようにしてもよい。
【００４３】
他の形成方法として、ビアホールを形成した後に、無電解メッキと電解メッキにより、あるいは、スパッタ法と電解メッキにより、上面配線２３、下面配線２４およびビア２５を形成するようにしてもよい。なお、第１〜第３の絶縁基板２７〜２９の場合には、その後に、パンチングにより、複数の方形状の開口部６１を形成し、平面形状が格子状とされたものとする。
【００４４】
次に、下側集合配線板２１ａの絶縁基板２２の上面の所定の複数箇所にそれぞれ半導体ブロック１のベース板２の下面を仮圧着する。すなわち、加熱機構付きのボンディングツール（図示せず）を用い、半導体ブロック１を、加熱した状態で一定の圧力をかけながら、半硬化状態の熱硬化性樹脂を含む絶縁基板２２の上面の所定の箇所に仮圧着する。仮圧着条件は、一例として、温度９０〜１３０℃、圧力０．１〜１Ｍｐａである。
【００４５】
次に、半導体ブロック１の周囲における下側集合配線板２１ａの上面に第１〜第３の絶縁基板２７〜２９をピン等で位置決めしながら配置する。この状態では、第１〜第３の絶縁基板２７〜２９の開口部６１のサイズは半導体ブロック１のサイズよりもやや大きくなっているので、第１〜第３の絶縁基板２７〜２９の開口部６１と半導体ブロック１との間には隙間６２が形成されている。また、この状態では、第２の絶縁基板２８の上面は半導体ブロック１の上面よりもある程度高い位置に配置されている。
【００４６】
次に、第２の絶縁基板２８の上面に上側集合配線板３５ａをピン等で位置決めしながら配置する。上記の工程において、下側集合配線板２１ａ上に半導体ブロック１および第１〜第３の絶縁基板２７〜２９を配置する順序は、逆でもよく、先に第１〜第３の絶縁基板２７〜２９を配置した後、この第１〜第３の絶縁基板２７〜２９の各開口部内６１内に半導体ブロック１を配置するようにしてもよい。
【００４７】
次に、図１８に示すように、一対の加熱加圧板６３、６４を用いて上下から下側集合配線板２１ａ、第１〜第３の絶縁基板２７〜２９および上側集合配線板３５ａを加熱加圧する。すると、下側集合配線板２１ａの絶縁基板２２中の熱硬化性樹脂が硬化し、絶縁基板２２の上面に半導体ブロック１のベース板２の下面が固着される。
【００４８】
また、第１〜第３の絶縁基板２７〜２９中の溶融された熱硬化性樹脂が押し出されて、図１７に示す隙間６２に充填され、且つ、同熱硬化性樹脂が硬化し、第１〜第３の絶縁基板２７〜２９が一体化されて、中間集合配線板２６ａが半導体ブロック１の側面および下側集合配線板２１ａの上面に固着されて形成される。さらに、上側集合配線板３５ａの絶縁基板３６中の熱硬化性樹脂が硬化し、上側集合配線板３５ａが半導体ブロック１および中間集合配線板２６ａの上面に固着される。
【００４９】
この状態では、中間集合配線板２６ａにおいて、第２の絶縁基板２８のビア３０と第３の絶縁基板２９のビア３１とは、第１の絶縁基板２７の上面配線３３、ビア３２および下面配線３４を介して接続されている。また、中間集合配線板２６ａの第３の絶縁基板２９のビア３１は下側集合配線板２１ａの上面配線２３に接続されている。また、上側集合配線板３５ａの下面配線３８は中間集合配線板２６ａの第２の絶縁基板２８のビア３０に接続されている。さらに、上側集合配線板３５ａのビア３９の一部は半導体ブロック１の上層配線１９の接続パッド部に接続されている。
【００５０】
このように、一対の加熱加圧板６３、６４を用いた１回の加熱加圧により、下側集合配線板２１ａ、中間集合配線板２６ａおよび上側集合配線板３５ａを一体化し、また、半導体ブロック１を下側集合配線板２１ａの上面に固着させ、さらに、半導体ブロック１の側面および上面を中間集合配線板２６ａおよび上側集合配線板３５ａで覆っているので、製造工程数を少なくすることができる。
【００５１】
次に、図１９に示すように、スクリーン印刷法やスピンコーティング法等により、上側集合配線板３５ａの上面にソルダーレジスト等からなる上層オーバーコート膜４０を形成し、また、下側集合配線板２１ａの下面にソルダーレジスト等からなる下層オーバーコート膜４３を形成する。この場合、上側集合配線板３５ａの上面配線３７の接続パッド部に対応する部分における上層オーバーコート膜４０には開口部４１が形成されている。また、下側集合配線板２１ａの下面配線２４の接続パッド部に対応する部分における下層オーバーコート膜４３には開口部４４が形成されている。
【００５２】
次に、下層オーバーコート膜４３の開口部４４内に金属ペースト等からなる導電接続部４５を下面配線２４の他端部に接続させて形成する。次に、下層オーバーコート膜４３の下面にコンデンサや抵抗等からなるチップ部品４６をその両側の電極を導電接続部４５に接続させて設ける。次に、上層オーバーコート膜４０の開口部４１内およびその上方に半田ボール４２を上面配線３７の接続パッド部に接続させて形成する。次に、互いに隣接する半導体構成体３間において、上層オーバーコート膜４０、上側集合配線板３５ａ、集合中間配線板２６ａ、下側集合配線板２１ａおよび下層オーバーコート膜４３を切断すると、図１に示す半導体装置が複数個得られる。
【００５３】
（第２実施形態）
図２０はこの発明の第２実施形態としての半導体装置の断面図を示す。この半導体装置において、図１に示す場合と大きく異なる点は、半導体ブロック１は、上層配線１９を含む上層絶縁膜１６の上面にソルダーレジスト等からなる上層オーバーコート膜７１が設けられ、上層配線１９の接続パッド部に対応する部分における上層オーバーコート膜７１に開口部７２が設けられ、開口部７２内に金属ペースト等からなる導電接続部７３が上層配線１９の接続パッド部に接続されて設けられた構造となっている点である。そして、上側配線板３５の下面配線３８は半導体ブロック１の導電接続部７３に接続されている。
【００５４】
この半導体装置を製造する場合には、図１７に示すような工程において、図２１に示すように、図２０に示す場合と上下を逆にして、半導体ブロック１の導電接続部７３を上側配線板３５の下面配線３８に接続することにより、半導体ブロック１を上側配線板３５の上面に配置し、半導体ブロック１の周囲における上側集合配線板３５ａの上面に第１〜第３の絶縁基板２７〜２９を配置し、第３の絶縁基板２９の上面に下側集合配線板２１ａを配置する。
【００５５】
（その他の実施形態）
上記実施形態では、中間配線板２６として、多層配線板を用い、例えば、プリプレグ材からなる第１〜第３の絶縁基板２７〜２９を積層してなるものを用いた場合について説明したが、これに限らず、例えば、スルーホールメッキ導通部を有する両面配線構造のものを用いてもよい。
【００５６】
また、上記実施形態では、半導体構成体３として、外部接続用電極としての柱状電極１３を有するものとしたが、これに限らず、柱状電極を有せず、外部接続用電極としての接続パッド部を有する配線１２を有するものであってもよく、また、柱状電極および配線を有せず、外部接続用電極としての接続パッド６を有するものであってもよい。また、上記実施形態では、半導体ブロック１の上層配線を１層とした場合について説明したが、これに限らず、２層以上としてもよい。
【００５７】
また、上記実施形態では、互いに隣接する半導体構成体３間において切断したが、これに限らず、２個またはそれ以上の半導体構成体３を１組として切断するようにしてもよい。この場合、複数で１組の半導体構成体３は同種、異種のいずれであってもよい。
【００５８】
また、上記実施形態では、電子部品として、チップ部品４６を搭載しているが、これに限らず、ベアチップやＣＳＰ等からなる半導体構成体を搭載するようにしてもよい。また、チップ部品を搭載する場合でも、半導体構成体を搭載する場合でも、導電接続部４５の代わりに、半田ボールを用いるようにしてもよい。また、図２０に示す導電接続部７３の代わりに、半田ボールを用いるようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】この発明の第１実施形態としての半導体装置の断面図。
【図２】図１に示す半導体構成体の製造に際し、当初用意したものの断面図。
【図３】図２に続く工程の断面図。
【図４】図３に続く工程の断面図。
【図５】図４に続く工程の断面図。
【図６】図５に続く工程の断面図。
【図７】図６に続く工程の断面図。
【図８】図７に続く工程の断面図。
【図９】図８に続く工程の断面図。
【図１０】図９に続く工程の断面図。
【図１１】図１０に続く工程の断面図。
【図１２】図１１に続く工程の断面図。
【図１３】図１２に続く工程の断面図。
【図１４】図１３に続く工程の断面図。
【図１５】図１４に続く工程の断面図。
【図１６】図１５に続く工程の断面図。
【図１７】図１６に続く工程の断面図。
【図１８】図１７に続く工程の断面図。
【図１９】図１８に続く工程の断面図。
【図２０】この発明の第２実施形態としての半導体装置の断面図。
【図２１】図２０に示す半導体構成体の製造に際し、所定の工程の断面図。
【符号の説明】
【００６０】
１  半導体ブロック
２  ベース板
３  半導体構成体
５  シリコン基板
６  接続パッド
１２  配線
１３  柱状電極
１４  封止膜
１５  絶縁層
１６  上層絶縁膜
１９  上層配線
２１  下側配線板
２６  中間配線板
３５  上側配線板
４０  上層オーバーコート膜
４２  半田ボール
４３  下層オーバーコート膜
４６  チップ部品
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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