(57)【要約】【課題】  金属微粒子の分散が良好な表示装置用の遮光膜、前記遮光膜を作製するための金属微粒子含有組成物及び感光性転写材料、遮光膜の作製方法、並びに表示装置用の基板及びカラーフィルターを提供すること。【解決手段】  高分子バインダー、該高分子バインダー中に分散された金属微粒子、及びイオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物を含有する、基板上に設けられた表示装置用遮光膜、高分子バインダー、金属微粒子、及びイオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物を含有する金属微粒子含有組成物、仮支持体上に高分子バインダー、金属微粒子、及びイオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物を含有し、かつ感光性を有する金属微粒子含有組成物からの感光性遮光性層を形成した感光性転写材料、前記金属微粒子含有組成物又は感光性転写材料を用いる遮光膜の作製方法、前記遮光膜を備えた表示装置用基板及び表示装置用カラーフィルター。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に設けられた表示装置用の遮光膜であって、高分子バインダー、該高分子バインダー中に分散された金属微粒子、及びイオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物を含有する表示装置用遮光膜。
【請求項２】
前記イオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物が、金属微粒子の１質量％以上含まれていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置用遮光膜。
【請求項３】
前記イオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物が、チオール基、チオエーテル基、チオキソ基、アミノ基、又はイミノ基の少なくとも１種を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示装置用遮光膜。
【請求項４】
前記金属微粒子が、ＳＰ値が９．０以上の分散媒中で分散されたものであることを特徴とする請求項１ないし請求項３のいずれか１項に記載の表示装置用遮光膜。
【請求項５】
前記金属微粒子を形成する金属が、銀、金、白金、パラジウム、タングステン及びチタンからなる群より選ばれることを特徴とする請求項１ないし請求項４のいずれか１項に記載の表示装置用遮光膜。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の表示装置用遮光膜を作製するための金属微粒子含有組成物であって、高分子バインダー、金属微粒子、及びイオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物を含有する金属微粒子含有組成物。
【請求項７】
前記金属微粒子含有組成物が感光性を有することを特徴とする請求項６に記載の金属微粒子含有組成物。
【請求項８】
請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の表示装置用遮光膜を作製するための感光性転写材料であって、仮支持体上に高分子バインダー、金属微粒子、及びイオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物を含有し、かつ感光性を有する金属微粒子含有組成物からの感光性遮光性層を形成した感光性転写材料。
【請求項９】
請求項６に記載の金属微粒子含有組成物を基板上に塗設する工程を有することを特徴とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の遮光膜の作製方法。
【請求項１０】
前記金属微粒子含有組成物が感光性を有し、基板上に塗設した金属微粒子含有組成物をパターニングすることを特徴とする請求項９に記載の遮光膜の作製方法。
【請求項１１】
請求項８に記載の感光性転写材料の感光性遮光性層を基板に転写し、基板上の感光性遮光性層をパターニングすることを特徴とする、請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の遮光膜の作製方法。
【請求項１２】
請求項９ないし請求項１１のいずれか１項に記載の作製方法により作製された遮光膜。
【請求項１３】
請求項１ないし請求項５、又は請求項１２のいずれか１項に記載の遮光膜を備えた表示装置用基板。
【請求項１４】
請求項１ないし請求項５、又は請求項１２のいずれか１項に記載の遮光膜を備える表示装置用カラーフィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置など表示装置の内部に設けられた遮光用途の膜（これを以下、「遮光膜」という）に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置用遮光膜は、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置内部に設けられた黒色の縁や画素周囲の格子状やストライプ状の黒色の縁部（いわゆるブラックマトリックス）、さらにＴＦＴ遮光のためのドット状や線状の黒色パターンのことである。
表示装置用遮光膜の例は、光漏れによるコントラスト低下を防止するためにカラーフィルターの赤、青、緑の画素の周囲に形成されるブラックマトリックスである。
他の例は薄膜トランジスター（ＴＦＴ）用いたアクティブマトリックス駆動方式の液晶表示素子において、ＴＦＴの光による電流リークに伴う画質の低下を防ぐためにＴＦＴ上に設ける遮光膜である。これらの遮光膜には通常光学濃度２以上の遮光性が要求される。遮光膜の色調は表示装置の表示品位の点から黒色が好ましい。
【０００３】
従来、高い遮光性を有する表示装置用遮光膜を作製するには、金属を用いることが考えられ、例えば、金属薄膜を蒸着法やスパッタリング法により作製し、該金属薄膜の上にフォトレジストを塗布し、次いで表示装置用遮光膜用パターンをもつフォトマスクを用いてフォトレジスト層を露光現像し、その後露出した金属薄膜をエッチングし、最後に金属薄膜上のレジスト層を剥離することにより形成する方法が挙げられる（例えば、非特許文献１を参照）。
この方法は、金属薄膜を用いるため、膜厚が小さくても高い遮光効果が得られる反面、蒸着法やスパッタリング法という真空成膜工程やエッチング工程が必要となり、コストが高くなるという問題がある。また、金属膜であるため反射率が高く、強い外光の下では表示コントラストが低いという問題もある。これに対しては低反射クロム膜（金属クロムと酸化クロムの２層からなるもの等)を用いるという手段があるが、更にコストアップとなることは否めない。そして、この方法で最もよく用いられるクロムは、環境負荷が大きいという欠点を有する。
【０００４】
一方、反射率の低い遮光膜を得るためにカーボンブラックを用いて表示装置用遮光膜を形成する技術がある（特許文献１参照）。これは、カーボンブラックを含有する感光性樹脂組成物を基板に塗布して乾燥したものを露光、現像したものである。
しかし、カーボンブラックは、金属微粒子に比べ単位塗布量あたりの光学濃度が低いため、高い遮光性、光学濃度を確保すると必然的に膜厚が大きくなる。表示装置用遮光膜形成後に、赤、青、緑の画素を形成する場合、気泡発生や均一な画素が形成しにくいという欠点があった。
【特許文献１】特開昭６２−９３０１号公報
【非特許文献１】共立出版（株）発行「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ」第２１８〜２２０頁（１９９７年４月１０日）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は前記のごとき問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、金属微粒子の分散が良好な表示装置用の遮光膜、前記遮光膜を作製するための金属微粒子含有組成物及び感光性転写材料、遮光膜の作製方法、並びに表示装置用の基板及びカラーフィルターを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の前記課題は、以下の表示装置用遮光膜、前記遮光膜を作製するための金属微粒子含有組成物及び感光性転写材料、遮光膜の作製方法、並びに表示装置用の基板及びカラーフィルターを提供することにより解決される。
（１）基板上に設けられた表示装置用の遮光膜であって、高分子バインダー、該高分子バインダー中に分散された金属微粒子、及びイオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物を含有する表示装置用遮光膜。
（２）前記イオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物が、金属微粒子の１質量％以上含まれていることを特徴とする前記（１）に記載の表示装置用遮光膜。
（３）前記イオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物が、チオール基、チオエーテル基、チオキソ基、アミノ基、又はイミノ基の少なくとも１種を有することを特徴とする前記（１）又は（２）に記載の表示装置用遮光膜。
（４）前記金属微粒子が、ＳＰ値が９．０以上の分散媒中で分散されたものであることを特徴とする前記（１）ないし（３）のいずれか１に記載の表示装置用遮光膜。
（５）前記金属微粒子を形成する金属が、銀、金、白金、パラジウム、タングステン及びチタンからなる群より選ばれることを特徴とする前記（１）ないし（４）のいずれか１に記載の表示装置用遮光膜。
【０００７】
（６）前記（１）ないし（５）のいずれか１に記載の表示装置用遮光膜を作製するための金属微粒子含有組成物であって、高分子バインダー、金属微粒子、及びイオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物を含有する金属微粒子含有組成物。
（７）前記金属微粒子含有組成物が感光性を有することを特徴とする前記（６）に記載の金属微粒子含有組成物。
【０００８】
（８）前記（１）ないし（５）のいずれか１に記載の表示装置用遮光膜を作製するための感光性転写材料であって、仮支持体上に高分子バインダー、金属微粒子、及びイオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物を含有し、かつ感光性を有する金属微粒子含有組成物からの感光性遮光性層を形成した感光性転写材料。
【０００９】
（９）前記（６）に記載の金属微粒子含有組成物を基板上に塗設する工程を有することを特徴とする前記（１）ないし（５）のいずれか１に記載の遮光膜の作製方法。
（１０）前記金属微粒子含有組成物が感光性を有し、基板上に塗設した金属微粒子含有組成物をパターニングすることを特徴とする前記（９）に記載の遮光膜の作製方法。
（１１）前記（８）に記載の感光性転写材料の感光性遮光性層を基板に転写し、基板上の感光性遮光性層をパターニングすることを特徴とする、前記（１）ないし（５）のいずれか１に記載の遮光膜の作製方法。
【００１０】
（１２）前記（９）ないし（１１）のいずれか１に記載の作製方法により作製された遮光膜。
【００１１】
（１３）前記（１）ないし（５）のいずれか１、前記（５）、又は前記（１２）のいずれか１に記載の遮光膜を備えた表示装置用基板。
（１４）前記（１）ないし（５）のいずれか１、前記（５）、又は前記（１２）のいずれか１に記載の遮光膜を備える表示装置用カラーフィルター。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の金属微粒子含有組成物は特定の化合物を含有しているため、金属微粒子の分散安定性が良好で、塗布液の保存性が高い。また、このような塗布液を用いて遮光膜を作製することにより、遮光膜中での金属微粒子の分散性が良好で、かつ必要な光学濃度を得るための膜厚が薄く、更に色調が優れた遮光膜が得られる。また、本発明の遮光膜は、製造の際の環境に対する負荷も小さい。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１３】
［遮光膜］
本発明でいう表示装置用遮光膜とは、液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、ＥＬ表示装置、ＣＲＴ表示装置などの表示装置の内部に設けられた遮光用途の膜をいい、例えば、表示装置の周辺部に設けられる黒色の縁や、画素の周囲に設ける格子状、ストライプ状などの黒色の縁部（いわゆるブラックマトリックス）、ＴＦＴ遮光のためのドット状、線状の黒色パターン等が挙げられる。
本発明の表示装置用遮光膜は、パターン化したもの及びパターン化しないもののいずれも含む。
前記遮光膜は、高分子バインダー、該高分子バインダー中に分散された金属微粒子、及びイオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物を含有する。
【００１４】
（金属微粒子）
本発明においては、「金属」とは、「岩波理化学辞典（第５版）」（１９９８年岩波書店発行）に記載の「金属」（４４４頁）による。
本発明で用いる金属微粒子の金属としては、安全性、環境負荷の観点から、銀、金、白金、パラジウム、タングステン、チタン、銅又はこれらの合金が好ましい。中でも化学的安定性、コストの面から銀が好ましい。
本発明で用いる金属微粒子は、均一な組成でも、不均一な組成でもよい。不均一な組成の例としては、表面に内部と異なる組成のコーティング層を設けたものを挙げることができる。また、本発明で用いる金属微粒子の形状は特に制限はなく、球形、不定形、板状、立方体、正八面体、柱状等の種々の形状のものを使用することができる。
【００１５】
本発明で用いる金属微粒子の平均粒径は、３〜３０００ｎｍが好ましく、特に、６０〜２５０ｎｍが好ましい。平均粒径が１ｎｍ未満であると、吸収波長が短くなり、３０００ｎｍを超えるものは、色味が出たり、光学濃度が低くなることがあり、好ましくない。
金属微粒子の粒径分布については特に制約はない。
【００１６】
本発明で用いる金属微粒子の製造法には特に制限はなく、公知の製造法、例えば、蒸発凝集法、気相還元法等の気相法、液相還元法のような液相法等を採用することができる。詳細には、「超微粒子の技術と応用における最新動向II」（住ベテクノリサーチ（株）発行、２００２年）に記載されている。
また、例えば、銀微粒子（コロイド銀）の場合は、従来から知られている方法、例えば米国特許第２，６８８，６０１号明細書に開示されているゼラチン水溶液中で可溶性銀塩をハイドロキノンによって還元する方法、ドイツ特許第１，０９６，１９３号明細書に記載されている難溶性銀塩をヒドラジンによって還元する方法、米国特許第２，９２１，９１４号明細書に記載されているタンニン酸により銀に還元する方法のごとく銀イオンを溶液中で化学的に還元する方法や、特開平５−１３４３５８号公報に記載されている無電解メッキによって銀粒子を形成する方法、バルク金属をヘリウムなどの不活性ガス中で蒸発させ、溶媒でコールドトラップするガス中蒸発法等の方法を用いることも可能である。
【００１７】
（高分子バインダー）
本発明の遮光膜に含まれる高分子バインダーとしては次のようなものを利用できる。
後述の非感光性の金属微粒子含有組成物を用いて遮光膜を作製する場合には、水溶性高分子バインダーやアルカリ可溶性の高分子バインダーを用いることが好ましい。例えば、ポリビニルアルコール、ゼラチン、メチルセルロース等のセルロース系高分子バインダー、アクリル酸及び／又はメタクリル酸を含み、さらにメチルメタクリレート、エチルアクリレート、ベンジルアクリレート、スチレンなどが共重合した（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリレート系共重合体やスチレン−（メタ）アクリル酸系共重合体が好ましく挙げられる。
アクリル酸及び／又はメタクリル酸を含有しているアルカリ可溶な（メタ）アクリル酸−（メタ）アクリレート系共重合体やスチレン−（メタ）アクリル酸系共重合体を成分とする高分子バインダーはアルカリ現像によりパターニングできるので好ましい。
これらの共重合体中におけるアクリル酸及び／又はメタクリル酸の含量は両者の合計で１０〜６０質量％、より好ましくは２０〜５０質量％の範囲が望ましい。
これらの共重合体の具体例は、ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝（６０／４０）、メチルメタクリレート／スチレン／メタクリル酸＝（１０／６０／３０）、メチルメタクリレート／スチレン／アクリル酸／メタクリル酸＝（２０／５０／１５／１５）、ベンジルメタクリレート／メチルメタクリレート／メタクリル酸＝（４０／３５／３５）、スチレン／アクリル酸／メタクリル酸＝（６０／２０／２０）などがある。ただし（  ）内の数字は質量比を示す。
高分子バインダーは金属微粒子に対して体積比で０．３：１〜１００：１が好ましく、１．５：１〜３０：１の範囲がより好ましい。この比が大きすぎると遮光膜が厚くなり不利であるし、小さすぎると、必要な光学濃度が得られない場合がある。
モノマーは金属微粒子に対して体積比で０．３：１〜１００：１が好ましく、１．５：１〜３０：１の範囲がより好ましい。この比が大きすぎると遮光膜が厚くなり不利であるし、小さすぎると遮光膜の強度が得られない場合がある。
【００１８】
また、後述の感光性の金属微粒子含有組成物を用いて遮光膜を作製する場合には、前記組成物中に光重合可能なモノマー及び／又は又はオリゴマーを含ませ、これらの光重合生成物を高分子バインダーとすることが好ましい。また、これらの光重合可能なモノマー及び／又は又はオリゴマーは熱重合性を有していることが好ましく、この場合、光重合後更に熱処理を行うことにより硬化を一層進めることが可能となる。また、前記のごときアルカリ可溶性のポリマーを前記組成物中に添加しておいてもよい。
前記モノマーとしてエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、１，４−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの多官能アクリルモノマーを用いることが好ましい。これらの多官能モノマーは前述のように光や熱を用いて重合（架橋）できるが、これらの中でも、ビス〔４−〔Ｎ−〔４−（４，６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル〕カルバモイル〕フェニル〕セバケートなどのハロメチル−ｓ−トリアジン系化合物を重合開始剤として用いて光重合するものが好ましい。
【００１９】
（イオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物）
前記イオウ原子及び／又はチッ素原子を１個以上有する化合物を添加することにより、金属微粒子の分散安定性を改良できる。前記化合物が含むイオウ原子又はチッ素原子はどのような形で分子中に入ってもよいが、チオール基、チオエーテル基、チオキソ基、アミノ基、イミノ基の形が好ましい。これらの基は未置換でも良いし、置換された形でもよい。
これらの化合物の好ましい例として、以下のようなものが挙げられる。
【００２０】
【化１】
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【００２１】
さらに、末端ＳＨ基含有ポリビニルアルコール（例えば（株）クラレ製のＭ２０５、Ｍ１１５等）も好ましい。
前記化合物の添加量は金属微粒子の０．１質量％以上が好ましく、より好ましくは０．３〜１００質量％、更に好ましくは３〜３０質量％、特に好ましくは１０〜２０質量％である。また、前記化合物に加え、公知の分散剤、分散安定剤、界面活性剤等を使用してもよい。
【００２２】
（その他の添加剤）
本発明の遮光膜には必要に応じて上記の微粒子以外に次のものを添加してもよい。
（１）顔料
顔料としてはカーボンブラックなどの黒色顔料を用いることができる。顔料の添加量は本発明の微粒子の５０質量％以下が好ましく、特に３０質量％以下が好ましい。顔料の添加量が５０質量％を越えると必要な光学濃度を得るために必要な遮光膜の厚みが増大し、この上に形成する赤、青、緑の画素品位が低下する。
本発明の遮光膜にはさらに色味調整のため、黒色以外に青色その他の顔料を含んでもよい。これらの非黒色顔料の添加量は本発明の微粒子の４０質量％以下、好ましくは２０質量％以下が好ましい。非黒色顔料の添加量が４０質量％を越えると、遮光膜の色味が悪化することがある。
（２）界面活性剤
本発明の遮光膜には、塗布性の改良、微粒子の分散安定性改良などの目的で界面活性剤を添加することができる。界面活性剤としては、ノニオン、アニオン、カチオン界面活性剤を特に制限なく、使用できる。この中では液の安定性の観点からアニオン界面活性剤が特に好ましい。またフッ素系界面活性剤は好ましい界面活性剤である。
界面活性剤の好ましい例としてＣ8Ｆ17ＳＯ2Ｎ（Ｃ2Ｈ5）（Ｃ2Ｈ4Ｏ）14Ｈ、Ｃ8Ｆ17ＳＯ3Ｌｉ、Ｃ7Ｆ15ＣＯＯＮＨ4、Ｃ8Ｆ17ＳＯ2Ｎ（Ｃ2Ｈ5）Ｃ2Ｈ4ＯＰＯ（ＯＨ）2、などがある。更にＦ１１０、Ｆ１１３、Ｆ１２０、Ｆ１５０、Ｆ１７６ＰＦ、Ｆ１７７、Ｆ７８０（いずれも大日本インキ化学工業（株）製、オリゴマータイプフッ素系界面活性剤）などを挙げることができる。
（３）
本発明の遮光膜には更に本発明の微粒子の分散安定性を改良するための高分子分散安定剤を添加してもよい。これらの高分子分散安定剤の例としてはポリビニルアルコール、アクリルアミド／アクリル酸の共重合物、スチレン無水マレイン酸共重合物、ポリアクリル酸ナトリウム、アルギン酸ナトリウムなどがある。
高分子分散安定剤については、例えば「顔料分散技術（技術情報協会（株）１９９９年発行）」に記載されている。
【００２３】
（基板）
本発明に用いられる基板としては表示装置に通常用いられるガラス基板が好ましい。ガラス基板としてはソーダガラス、低アルカリガラス、無アルカリガラス等の公知のガラスを用いたガラス基板を用いることができる。ガラス基板については、例えば「液晶ディスプレイ工学入門（鈴木ハナエ著、日刊工業新聞社発行（１９９８年））」に記載されているものが挙げられる。その他の基板として、シリコンウエハやポリオレフィン系などの透明プラスチックも用いることができる。さらにＴＦＴ基板を用いることもできる。
基板の厚みは０．５〜３ｍｍが好ましく、０．６〜２ｍｍの範囲がより好ましい。
【００２４】
本発明の遮光膜は前述の微粒子が高分子バインダー中に分散した構造をとっている。遮光膜の厚みは、０．０５〜０．５μｍ、より好ましくは０．１〜０．３μｍが望ましい。厚みが０．５μｍを越えると遮光膜を設けた基板の凹凸（遮光膜の設けられた部分と設けられていない部分の格差）が大きくなりすぎ、後工程でＢＲＧの画素をこの上に形成する際不都合が生じる。逆に０．１μｍ未満である必要な光学濃度が得られず表示装置のコントラスト低下などの問題が生じる。
本発明の遮光膜中の微粒子の含有率は体積分率で５〜７０％、より好ましくは１０〜５０％が望ましい。なおここで言う体積分率は遮光膜の全体積に占める本発明の微粒子の全体積の割合である。
体積分率が５％未満では必要な光学を得るために膜厚が１μｍを越えてしまう。逆に体積分率が７０％を越えると微粒子の分散安定性が低下するという問題が生じる。
本発明の遮光膜の光学濃度は２．０以上より好ましくは３．５以上が望ましい。光学濃度が２．０未満であるとコントラスト低下など表示装置の表示品質が低下する。
【００２５】
［金属微粒子含有組成物］
本発明の金属微粒子含有組成物（遮光膜作製用塗布液）は、金属微粒子、及びイオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物を含有し、好ましくは高分子バインダーを含有する。前記組成物には適宜溶媒等が添加される。金属微粒子含有組成物は、非感光性でも感光性でもよい。
＜非感光性の金属微粒子含有組成物＞
本発明において用いる非感光性の金属微粒子含有組成物は、前記のごとき高分子バインダー、金属微粒子及びイオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物を含有し、必要に応じ更に溶媒等を含有する。
溶媒としては、公知の有機溶媒を用いることができる。特に好ましい有機溶媒としては、メチルアルコール、イソプロピルアルコール、ＭＥＫ、酢酸エチル、トルエン等が挙げられる。また、水も溶媒として好ましい。これらの溶媒は必要に応じて混合して用いてもよい。
また、後述のＳＰ値が９．０以上のものを用いることもできる。
【００２６】
＜感光性を有する金属微粒子含有組成物＞
また、本発明において用いられる感光性の金属微粒子含有組成物には、光重合後高分子バインダーを構成する感光性樹脂組成物（前記のごとき光重合性モノマー及び／又はオリゴマーの他、光重合開始剤等を含む）、金属微粒子及びイオウ原子及び／又は窒素原子を１個以上有する化合物が含まれる。感光性樹脂組成物としては前記のごときモノマー及び／又はオリゴマーを含む感光性樹脂組成物の他、特開平１０−１６０９２６号公報の段落0016ないし段落0022及び0029に記載のものを用いうる。更に他の光重合性のモノマーを併用してもよい。
また、前記銀コロイドのように金属微粒子を水分散物として用いる場合には、前記感光性樹脂組成物としては水系のものが必要である。このような感光性樹脂組成物としては特開平８−２７１７２７号公報の段落0015ないし0023に記載のものの他、市販のものとしては例えば、東洋合成工業（株）製の「ＳＰＰ−Ｍ２０」、「ＳＰＰ−Ｈ−１３」等が挙げられる。
【００２７】
＜金属微粒子含有組成物の調製＞
前記金属微粒子含有組成物（感光性、非感光性）を調製するには、金属微粒子、前記化合物、高分子バインダー（感光性樹脂組成物も含む）等の成分を一緒に溶媒中で混合分散して調製してもよいが、あらかじめ、前記化合物を用いて金属微粒子の分散液を調製し、これに、高分子バインダー等を添加混合する方法が好ましい。
金属微粒子分散液調製の際に用いる溶媒は特に制限なく用いられるが、中でもＳＰ値が９．０以上のものが好ましい。「ＳＰ値」は溶解性パラメーターともいわれるもので、凝集エネルギー密度の平方根で表される。本発明においては、ＳＰ値とは、「接着ハンドブック」（日本接着学会編、日刊工業新聞社発行、１９７１年初版発行）の８３８頁記載のものを意味する。
例えば、ｎ−ヘキサン／７．３、トルエン／８．９、酢酸エチル／９．１、メチルエチルケトン／９．３、アセトン／１０．０、エチルアルコール／１２．７、メチルアルコール／１４．５、水／２３．４等である。ここで前記ＳＰ値の単位は「(cal／cm3)1/2」である。
金属微粒子分散液調製の際にＳＰ値が９．０以上のものを用いると、分散性が特に良好となり、また、薄膜でも充分な光学濃度を達成することができる。
【００２８】
金属微粒子分散液は、金属微粒子、前記化合物及び溶媒を含む混合液を、ペイントシェーカー、ボールミル、アイガーミルなどの公知の分散機を用いることにより分散処理することにより調製できる。
金属微粒子含有組成物は、前記のようにして調製した金属微粒子分散液に、バインダー又は感光性組成物等を添加混合することにより調製することができる。
【００２９】
［遮光膜の作製］
本発明の表示装置用遮光膜は、前記の感光性をもたないあるいは感光性を有する金属微粒子含有組成物を基板に塗布・乾燥して遮光膜を作製する方法、又は、仮支持体上に前記の感光性を有する金属微粒子含有組成物を塗布・乾燥して形成する感光性遮光性層を有する感光性転写材料を用い、該感光性遮光性層を基板に転写する方法等により作製することができる。
本発明の遮光膜がパターン化されたものである場合には、前記のごとき方法で作製した遮光膜又は感光性遮光性膜を更にパターニングする。パターニング方法としては露光現像による方法、レーザーの熱により不要部分を除去する方法（アブレーション法）、基板上に設けられた本発明の遮光膜上に感光性レジスト膜を塗布し、これを露光現像でパターニングした後、感光性レジスト膜を除去する方法などがある。本発明ではこれらの方法のいずれも使用できるが次のような方法は工程の簡便さやパターニングの解像度などから好ましい。
（１）基板上に非感光性の金属微粒子含有組成物を塗布乾燥して形成する層（以下、遮光性層ということがある）を形成し、この上にフォトレジストを塗布し、次いで、露光現像によりフォトレジスト層をパターニングした後、フォトレジスト層とともにその下にある遮光性層を溶解除去する方法
（２）基板上に感光性の金属微粒子含有組成物を塗布乾燥して形成する層（以下、感光性遮光性層ということがある）を形成し、感光性遮光性層を露光・現像（非露光部分を除去）してパターニングする方法
（３）仮支持体の上に感光性の金属微粒子含有組成物を塗布乾燥して感光性遮光性層を形成し、次いで感光性遮光性層を基板に転写し、基板上の感光性遮光性層を露光・現像（非露光部分を除去）してパターニングする方法（感光性転写材料を用いる方法）
これらの方法はいずれも蒸着法やスパッタリング法を用いた従来の方法に比べ簡単な工程で遮光膜を形成することができる。特に感光性転写材料を用いる方法は金属微粒子含有組成物を長期間保存する場合に発生する微粒子の凝集が無く、きわめて好ましい方法である。
【００３０】
（基板への塗布方法）
前記の金属微粒子含有組成物の基板又は仮支持体への塗布方法としては特に制限はない。例えば特開平５−２２４０１１記載のスピンコート法、特開平９−３２３４７２記載のダイコート法などを用いることができる。
【００３１】
（露光と現像）
前記の露光と現像は次のように行うことが好ましい。
露光に使用される光源は、前記フォトレジスト層又は感光性遮光性層の感光性に応じて選択される。例えば、超高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、アルゴンレーザー等の公知の光源を使用することができる。特開平６−５９１１９号公報に記載のように、４００ｎｍ以上の波長の光透過率が２％以下である光学フィルター等を併用しても良い。
露光方法は基板全面を１回で露光する一括露光でもよいし、基板を分割して何回かに分けて露光する分割露光でもよい。さらにレーザーを用いて基板表面をスキャンしながら行う露光方法でもよい。
【００３２】
現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液を使用するが、さらに、水と混和性の有機溶剤を少量添加したものを用いても良い。適当なアルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類（例、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（例、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（例、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド）または燐酸三ナトリウムを挙げることができる。アルカリ性物質の濃度は、０．０１質量％〜３０質量％であり、ｐＨは８〜１４が好ましい。本発明の感光性遮光性層の酸化等の性質に応じて例えば、現像液のｐＨ等を変化させて、本発明の膜状脱離による現像を行えるように調整することができる。
【００３３】
前記の水と混和性のある適当な有機溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドンを挙げることができる。水と混和性の有機溶剤の濃度は、０．１〜３０質量％が一般的である。
【００３４】
現像液には、さらに公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１〜１０質量％が好ましい。
【００３５】
現像液は浴液としても、あるいは噴射液としても用いることができる。感光性遮光性層等の未硬化部分を固形状（好ましくは膜状）で除去するには、現像液中で回転ブラシで擦るか湿潤スポンジで擦るなどの方法、あるいは現像液を噴射した際の噴射圧を利用する方法が好ましい。現像液の温度は、通常室温付近から４０℃の範囲が好ましい。
現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。
【００３６】
現像工程の後、必要に応じて、加熱処理を行ってもよい。この処理により露光により硬化した感光性遮光性層を加熱して硬化を進め耐溶剤性や耐アルカリ性を高めることができる。加熱方法は現像質の基板を電気炉、乾燥器等の中で加熱する方法、赤外線ランプで加熱する方法などを用いることができる。
加熱温度や加熱時間は感光性遮光性層の組成や厚みによるが、１２０〜２５０℃で１０〜３００分間、より好ましくは１８０〜２４０℃で３０〜２００分間の範囲が望ましい。
又、現像工程の後、加熱処理をする前に硬化促進のため露光を行ってもよい。この露光も前述の１回目の露光と同様の方法で行うことができる。
【００３７】
（保護層）
本発明においては、感光性遮光性層の形成後、露光前に感光性遮光性層の上に保護層を設ける工程を入れてもよい。保護層は、露光時に酸素を遮断して、感光性遮光性層の感度を高めるために設ける。このため、酸素遮断性の樹脂、例えばポリビニルアルコールを主体とした層であることが好ましい。なお、この層は、遮光膜形成後は不要であるので、現像により除去する。
【００３８】
［感光性転写材料］
前記（３）の方法で用いる感光性転写材料は、仮支持体に前記の感光性を有する金属微粒子含有組成物を塗布乾燥して得られる感光性遮光性層を設けたものである。また、前記感光性転写材料は、仮支持体と感光性遮光性層との間に熱可塑性樹脂層を設けることが好ましく、更に熱可塑性樹脂層と感光性遮光性層の間にアルカリ可溶性の中間層を設けることが好ましい。
仮支持体は、化学的および熱的に安定であって、また可撓性の物質で構成されることが好ましい。具体的にはテフロン（登録商標）、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等の薄いシートもしくはこれらの積層物が好ましい。また、熱可塑性樹脂層を設ける場合には、これとの剥離性が良好なことが好ましい。支持体の厚さは５〜３００μｍが適当であり、特に２０〜５００μｍが好ましい。
＜熱可塑性樹脂層＞
本発明の熱可塑性樹脂層を構成する樹脂としてはアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエステル、ポリウレタン、ゴム系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂およびこれらの共重合体等をあげる事ができる。本発明の熱可塑性樹脂層を構成する樹脂は、アルカリ可溶である事が必須ではないが、アルカリ可溶である事が望ましい。
【００３９】
熱可塑性樹脂層を構成する樹脂として具体的には、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレン／（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸エステル３元共重合体、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、「プラスチック性能便覧」（日本プラスチックエ業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著  工業調査会発行、１９６８年１０月２５目発行）による有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なもの、などから少なくとも１つが挙げられる。
【００４０】
これらの樹脂は以下のように２種類を混合して用いる事がこのましい。
すなわち、これらの樹脂の中で、重量平均分子量が５万〜５０万で、且つガラス転移温度(Ｔｇ)が０〜１４０℃の範囲〔以下、樹脂（Ａ）ともいう〕で、更に好ましくは重量平均分子量が６万〜２０万で，且つガラス転移温度(Ｔｇ)が３０〜１１０℃の範囲で選択して使用することができる。これらの樹脂の具体例としては、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５５−３８９６１号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭６１−１３４７５６号、特公昭５９一４４６１５号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５４−９９４１８号、特開昭５４−１３７０８５号、特開昭５７−２０７３２号、特開昭５８−９３０４６号、特開昭５９−９７１３５号、特開昭６０−１５９７４３号、ＯＬＳ３５０４２５４号、特開昭６０−２４７６３８号、特開昭６０−２０８７４８号、特開昭６０−２１４３５４号、特開昭６０−２３０１３５号、特開昭６０−２５８５３９号、特開昭６１−１６９８２９号、特開昭６１−２１３２１３号、特開昭６３−１４７１５９号、特開昭６３−２１３８３７号、特開昭６３−２６６４４８号、特開昭６４−５５５５１号、特開昭６４一５５５５０号、特開平２−１９１９５５号、特開平２−１９９４０３号、特開平２−１９９４０４号、特開平２−２０８６０２号、特願平４一３９６５３号の各明細書に記載されているアルカリ水溶液に可溶な樹脂を挙げることができる。特に好ましいのは、特開昭６３−１４７１５９号明細書に記載されたメタクリル酸／２一エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メチルメタクリレート共重合体である。
【００４１】
また、上記した種々の樹脂の中から重量平均分子量が３千〜３万で，且つガラス転移温度(Ｔｇ)が３０〜１７０℃の範囲〔以下、樹脂（Ｂ）ともいう〕で、更に好ましくは重量平均分子量が４千〜２万で，且つガラス転移温度(Ｔｇ)が６０〜１４０℃の範囲で選択して使用することができる。好ましい具体例は、上記の特許明細書に記載されているものの中から選ぶことができるが、特に好ましくは、特公昭５５−３８９６１号、特開平５−２４１３４０号明細書に記載のスチレン／（メタ）アクリル酸共重合体が挙げられる。
【００４２】
熱可塑性樹脂層を構成する樹脂（Ａ）の重量平均分子量が５万未満、又はガラス転移温度(Ｔｇ)が０℃未満では、レチキュレーションの発生や、転写中に熱可塑性樹脂が周囲にはみ出して永久支持体を汚染する。樹脂（Ａ）の重量平均分子量が５０万を越え、又はガラス転移温度（Ｔｇ）が１４０℃を越えると、転写時に画素間に気泡が入ったり、熱可塑性樹脂のアルカリ水溶液除去性が低下する。
【００４３】
熱可塑性樹脂の厚みは６μｍ以上が好ましい。この理由としては熱可塑性樹脂の厚みが５μｍ以下であると１μｍ以上の下地の凹凸を完全に吸収することが不可能であるためである。また、上限については、アルカリ水溶液除去性、製造適性から約１００μｍ以下、好ましくは約５０μｍ以下である。
【００４４】
本発明の熱可塑性樹脂層の塗布液としてはこの層を構成する樹脂を溶解する限り特に制限なく使用でき、例えばメチルエチルケトン、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール等を使用できる。
【００４５】
また、熱可塑性樹脂と感光性遮光性層の間に、塗布時の両層の層混合を防止するためのアルカリ可溶な中間層を設けることが好ましい。
（アルカリ可溶な中間層）
中間層を構成する樹脂としてはアルカリ可溶であれば特に制限はない。このような樹脂の例としては、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリルアミド系樹脂、ポリエチレンオキサイド系樹脂、ゼラチン、ビニルエーテル系樹脂、ポリアミド樹脂およびこれらの共重合体を挙げることができる。また、ポリエステルのように通常はアルカリ可溶性でない樹脂にカルボキシル基やスルホン酸基を持つモノマーを共重合してアルカリ可溶性にした樹脂も用いることができる。
これらの中で好ましいものはポリビニルアルコールである。ポリビニルアルコールとしては鹸化度が８０％以上のものが好ましく、８３〜９８％のものがさらに好ましい。
【００４６】
中間層を構成する樹脂は、２種類以上を混合して使用することが好ましく、特にポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンとを混合して使用することが好ましい。両者の質量比はポリビニルピロリドン／ポリビニルアルコール＝１／９９〜７５／２５が好ましく、さらに好ましくは１０／９０〜５０／５０の範囲内である。上記質量比が１／９９未満であると中間層の面状の悪化や、中間層上に塗設する感光性樹脂層との密着不良といった問題が生じる場合がある。また、上記質量比が７５／２５を超えると、中間層の酸素遮断性が低下して感度が低下する場合がある。
【００４７】
中間層の厚みは０．１〜５μｍが好ましく、０．５〜３μｍの範囲内がさらに好ましい。上記厚みが０．１μｍ未満であると酸素遮断性が低下する場合があり、上記厚みが５μｍを超えると現像時の中間層除去時間が増大してしまう。
【００４８】
中間層の塗布溶媒としては上記の樹脂を溶解することができれば特にその他の限定はないが、水を用いるのが好ましく、水に上述の水混和性有機溶剤を混合した混合溶媒も好ましい。中間層の塗布溶媒として好ましい具体例としては、次のようなものがある。水、水／メタノール＝９０／１０、水／メタノール＝７０／３０、水／メタノール＝５５／４５、水／エタノール＝７０／３０、水／１−プロパノール＝７０／３０、水／アセトン＝９０／１０、水／メチルエチルケトン＝９５／５である。これらの比は質量比を表わす。
【００４９】
感光性転写材料は、前記のように本発明の微粒子を含有する塗布液から感光性遮光性層を作製しているため、これからは、薄膜でかつ光学濃度が高い遮光膜を作製することができる。
【００５０】
本発明の感光性転写材料を基板に転写する方法について述べる。転写は感光性遮光性層と基板を密着させてラミネートする方法が好ましい。ラミネートの方法としては従来公知のラミネーター、真空ラミネーターなどを用いることができる。又摩擦性を高めるためオートカットラミネーターを使用することもできる。ラミネートの際の加熱温度は６０〜１５０℃程度、加圧圧力は０．２〜２０ｋｇ／ｃｍ2程度が好ましい。本発明ではラミネートは基板のライン速度、０．０５〜１０ｍ／分程度の範囲で行なうことが好ましい。
ラミネート後、仮支持体を剥離する。
【００５１】
本発明の感光性転写材料は基板へのラミネーションの後、露光と現像を行う。露光と現像については前述の方法を用いることができる。
【００５２】
［表示装置用基板］
本発明の表示装置用基板は、前記のごとき遮光膜を基板に形成したものである。基板は、前記のものが同様に挙げられる。
【００５３】
［表示装置用カラーフィルター］
本発明の表示装置用カラーフィルターの１つの態様は、カラーフィルター基板の上に、前記の遮光膜（ブラックマトリックス）と、互いに異なる色を呈する２以上の画素群（以下、単に「画素群」ということがある。）とを有するものである。カラーフィルター基板としては前記の基板が用いられる。前記のごとき遮光膜を備えるカラーフィルターは、光の利用効率、コントラスト、及び配線の遮蔽性に優れている。
また、本発明の表示装置用カラーフィルターの他の態様は、カラーフィルター基板としてＴＦＴ素子基板を用い、この上に遮光膜と複数の画素群を設けるものである。更に、カラーフィルター基板としてＴＦＴ素子基板を用いる場合の別の態様は、ＴＦＴ素子基板の上にブラックマトリックスのみを形成し、別の光透過性基板の上に画素群を設けるもので、ＴＦＴアレイの開口率が良好である。
前記の画素群は、画素形成用着色感光樹脂組成物又は画素形成用感光性転写材料の複数種を用い、常法により作製することができる。画素群を形成した後、熱処理を行なうことが好ましい。
【実施例】
【００５４】
以下に実施例を示し本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
実施例１〜５
（金属微粒子分散液の調製）
平均粒径３０ｎｍの銀微粒子７．５ｇ、表１に記載の分散媒（水）５０ｍｌ、及び表１に記載の種類及び量の前記化合物を、直径３ｍｍのガラスビーズ３５ｇとともに容量１００ｍｌのガラス瓶に入れて、ペイントシェーカーで２時間分散処理した。
【００５５】
（ブラックマトリックス作製用塗布液）
前記各金属微粒子分散液１０ｇに、ＳＰＰ−Ｈ−１３（東洋合成（株）製感光性樹脂）２ｇを添加して、感光性を有するブラックマトリックス作製用塗布液を調製した。
（ブラックマトリックスの作製）
前記のようにして調製した各ブラックマトリックス作製用塗布液を、各々厚さ１．１ｍｍのガラス基板に塗布し、その後１００℃で５分間乾燥した。塗布膜厚は、乾燥後の膜の光学濃度が３．６になるようにした。
基板の塗布面側から、ブラックマトリックス作製用フォトマスクを介して、超高圧水銀灯を用い５００ｍＪ／ｃｍ2のパターン露光を行った。次に、アルカリ現像処理液ＴＣＤ（富士写真フイルム（株）製）を用いて現像処理（３３℃、２０秒間）してブラックマトリックスを得た。
【００５６】
実施例６〜９
前記化合物と分散媒を表１のように変更する他は、実施例１と同様にして実施例６〜９で用いる銀微粒子分散液を調製した。この銀微粒子分散液４０ｇに下記の感光性組成物を添加してブラックマトリックス作製用塗布液を調製した。
（感光性組成物）
界面活性剤（大日本インキ化学工業（株）製  Ｆ１７６ＰＦ、２０％溶液）  ０．２ｇ
ヒドロキノンモノメチルエーテル                                    ０．００１ｇ
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート                            ０．２８ｇ
ビス［４−［Ｎ−［４−（４,６−ビストリクロロメチル−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル］カルバモイル］フェニル］セバケート                        ０．０５ｇ
【００５７】
また、下記組成の保護層塗布液を調製した。
（保護層塗布液の調製）
ポリビニルアルコール（（株）クラレ製、PVA205）              ３．０ｇ
ポリビニルピロリドン（GAFコーポレーション（株）製、PVP-K30）１．３ｇ
蒸留水                                                    ５０．７ｇ
メチルアルコール                                          ４５．０ｇ
【００５８】
（ブラックマトリックスの作製）
前記のようにして調製したブラックマトリックス作製用塗布液を、厚さ１．１ｍｍのガラス基板に塗布し、その後１００℃で５分間乾燥した。塗布膜厚は、乾燥後の膜の光学濃度が３．６になるようにした。次いで、この上に保護層塗布液をスピンコーターにより乾燥膜厚が１．５μｍになるように塗布し、その後１００℃で５分間乾燥した。
基板の塗布面側から、超高圧水銀灯を用い１００ｍＪ／ｃｍ2のパターン露光を行った。次に、アルカリ現像処理液ＴＣＤ（富士写真フイルム（株）製）を用いて現像処理（３３℃、２０秒間）してブラックマトリックスを得た。
【００５９】
比較例１〜３
前記化合物と分散媒を表１のように変更する他は、実施例１と同様にしてブラックマトリックスを作製した。
【００６０】
［ブラックマトリックスの銀微粒子の分散性及び光学濃度の評価］
表１に、実施例１〜９及び比較例１〜３における銀微粒子の分散性、ブラックマトリックスの膜厚及び色調を示す。
前記銀微粒子の分散性の評価は、銀微粒子分散液を調製後すぐにスピンコーターを用いてガラス基板に塗布し、１００℃で２分間乾燥したものを光学顕微鏡により観察することによって行った。この銀微粒子の分散性の評価により、銀微粒子分散液中及びブラックマトリックス中における銀微粒子の分散性を評価することができる。
分散性の評価は、Ａ〜Ｅまでの５ランクに分類評価した。図１の（Ａ）ないし（Ｅ）で示す写真は、それぞれランクＡ〜Ｅに相当する分散状態を示す。実用上許容されるのはＡランク及びＢランクである。
膜厚は光学濃度３．６を達成するのに必要な膜厚を示す。膜厚の測定は、ブラックマトリックス作製用塗布液をガラス板に塗布した試料に、超高圧水銀灯を用いて塗布面側から１００ｍＪ／ｃｍ2の露光を行い、この試料の露光後の膜厚を触針式表面粗さ計Ｐ−１（TENKOP社製）を用いて測定した。
色調は、ブラックマトリックスを目視により評価した。
【００６１】
【表１】
2005250461.tif 000004
【００６２】
表１及び図１が示すように、本発明の塗布液は特定の化合物を含むため、銀微粒子の分散性が良好であり、得られたブラックマトリックス中の金属微粒子の分散性が良好である。この結果、ブラックマトリックスは薄い膜厚で必要な光学濃度を得ることができる。更に、ブラックマトリックスの色調も黒色であり良好である。
これに対し、本発明の化合物を用いずにブラックマトリックスを作製した比較例１〜３では、ブラックマトリックス中の銀微粒子の分散性が悪いだけでなく、ブラックマトリックスの膜厚も厚く、更に色調も黒色が得られず不良である。
また、ＳＰ値が９．０以上の分散媒を用いて銀微粒子分散液（実施例１〜６）を調製した場合は、ブラックマトリックス中の銀微粒子の分散性が特に良好であり、また、より薄い膜厚で必要な光学濃度を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】銀微粒子の分散状態を示す写真であり、図１（Ａ）ないし図１（Ｅ）はそれぞれランクＡないしＥの分散状態を示す。
【図１】
2005250461.tif 000005