(57)【要約】【課題】半径方向に所定の張力を有する保護ダイアフラムを備え且つ十分な耐食性を有する差圧測定装置およびその製造方法を提供する。【解決手段】保護部２ａの保護ダイアフラム３ａの直径を、保護ダイアフラム３ａを挟んでその両側に配置される一対の本体４Ａａおよび４Ｂａの外径より一回り小さくする。一方の本体４Ａａの保護ダイアフラム３ａ側の面に、保護ダイアフラム３ａの直径より幾分大きい直径をもつ座ぐり部を形成し、この座ぐり部内に保護ダイアフラム３ａを隙間ばめし、座ぐり部の外周内面と保護ダイアフラム３ａの外周面とを突合せ溶接する（溶接部９の形成）。次に、本体４Ａａおよび４Ｂａを外周部で溶接し（溶接部１０の形成）、保護ダイアフラム３ａを内包状態にする。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
差圧センサを有する検出部と、検出部を過大差圧から保護するための保護ダイアフラムおよびこの保護ダイアフラムの両側に配置され且つ少なくとも片方は保護ダイアフラムの外周部と溶接されて保護ダイアフラムを気密に保持する一対の保護部本体を有する保護部と、を備えた差圧測定装置であって、
前記一対の保護部本体の内の一方の保護ダイアフラム側の面に形成され且つ保護ダイアフラムの厚さより僅かに浅い深さの座ぐり部内に、前記保護ダイアフラムの外周が隙間ばめされて、保護ダイアフラムの外周部と座ぐり部の外周内面とが突合せ溶接されており、
保護ダイアフラムを突合せ溶接された保護部本体と他方の保護部本体とが、両者の外周部で溶接されている、
ことを特徴とする差圧測定装置。
【請求項２】
請求項１に記載の差圧測定装置の製造方法であって、
前記一対の保護部本体の一方に、保護ダイアフラムの外周を隙間ばめするための保護ダイアフラムの厚さより僅かに浅い深さの座ぐり部を形成する工程と、
この座ぐり部内に保護ダイアフラムの外周を隙間ばめした状態で、保護ダイアフラムの外周部と座ぐり部の外周内面とを突合せ溶接する工程と、
保護ダイアフラムを突合せ溶接された保護部本体および他方の保護部本体を両者の外周部で溶接する工程と、を有する、
ことを特徴とする差圧測定装置の製造方法。
【請求項３】
差圧センサを有する検出部と、検出部を過大差圧から保護するための保護ダイアフラムおよびこの保護ダイアフラムの両側に配置され且つ少なくとも片方は保護ダイアフラムの外周部と溶接されて保護ダイアフラムを気密に保持する一対の保護部本体を有する保護部と、を備えた差圧測定装置であって、
前記一対の保護部本体の内の一方の保護ダイアフラム側の面に形成された保護ダイアフラムと同じ平面形状を有する突出部の前面に、保護ダイアフラムが半径方向に張力を受けた状態で両者の接触している外周部で溶接されており、
一対の保護部本体の他方には、保護ダイアフラムを溶接された突出部が挿入されるための、保護ダイアフラムの厚さも含めた突出部の高さより僅かに浅い深さの座ぐり部を有し、
この座ぐり部内に、保護ダイアフラムを溶接された前記突出部が挿入された状態で、一対の保護部本体が両者の外周部で溶接されている、
ことを特徴とする差圧測定装置。
【請求項４】
請求項３に記載の差圧測定装置の製造方法であって、
前記一対の保護部本体の一方に、保護ダイアフラムと同じ平面形状を有する突出部を形成する工程と、
この突出部の前面に保護ダイアフラムの外周と突出部の外周が一致するように保護ダイアフラムを位置決めし且つ保護ダイアフラムを加熱した状態で、保護ダイアフラムと突出部とを両者が接触している外周部で溶接する工程と、
一対の保護部本体の他方に、保護ダイアフラムを溶接された突出部が挿入されるための、保護ダイアフラムの厚さも含めた突出部の高さより僅かに浅い深さの座ぐり部を形成する工程と、
保護ダイアフラムを溶接された突出部がこの座ぐり部内に挿入された状態で、一対の保護部本体を両者の外周部で溶接する工程と、を有する、
ことを特徴とする差圧測定装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、測定対象となる２箇所の圧力の差を測定する差圧測定技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
差圧測定装置は、化学プラント等の流体配管系における２箇所の圧力差を測定する装置であって、その測定値から流体の流量等が算出される。このため、測定対象となる差圧は小さくても、個々の圧力が大きい場合も多く、配管系の誤操作等によって片方だけに配管系の圧力がかかってしまうと、差圧測定装置は測定対象とする差圧よりはるかに大きい差圧を受けることになる。しかし、測定対象となる差圧が小さく、且つ個々の圧力が大きい場合には、差圧の検出部は、測定対象となる小さな差圧に合わせて設計されるので、誤操作等の異常時に発生する大きな差圧を受け止めることができない。このような異常時に発生する過大差圧を遮断させて、差圧の検出部に過大差圧を印加させないために、保護部が検出部の前段に配備されている。
【０００３】
図７は、このような保護部を備えた従来技術による差圧測定装置の一例の構造を示す断面図である。
この差圧測定装置は、検出部１と保護部２と両者を連結する２つの導圧管１２Ａおよび１２Ｂとで構成されている。
検出部１は、不図示の差圧センサを内蔵し、測定すべき差圧を電気信号に変換して出力する。保護部２は、保護ダイアフラム３と、これの両側に配置されこれの外周部を保持する一対の保護部本体（図７では単に本体と記し、以下では「本体」と略称する）４Ａおよび４Ｂと、これらの受圧側に気密に接合されている一対のシールダイアフラム（図７ではＳＤ）５Ａおよび５Ｂと、で構成されている。
【０００４】
本体４Ａおよび４Ｂのそれぞれには、その中央を貫通してシールダイアフラム５Ａおよび５Ｂからの圧力を伝えるそれぞれの導圧孔４１Ａおよび４１Ｂと、導圧管１２Ａおよび１２Ｂを介して検出部１にそれぞれの圧力を伝えるＬ字形の導圧孔４２Ａおよび４２Ｂと、が形成されている。本体４Ａおよび４Ｂのそれぞれの保護ダイアフラム側の面は、導圧孔４１Ａおよび４１Ｂの中心をそれぞれの中心とする緩やかな擂鉢状に凹み加工されており、それぞれのシールダイアフラム側の面は、シールダイアフラム５Ａおよび５Ｂの形状に合わせて同心円状の波形に加工されている。
保護ダイアフラム３と本体４Ａおよび４Ｂとは、保護ダイアフラム３の外周部で気密に溶接されて（溶接部８）、保護ダイアフラム３と本体４Ａおよび４Ｂの間には、それぞれ保護ダイアフラム室（図７ではＰＤ室）７Ａおよび７Ｂが形成されている。本体４Ａとシールダイアフラム５Ａとの間、および本体４Ｂとシールダイアフラム５Ｂとの間には、それぞれシールダイアフラム室（図７ではＳＤ室）６Ａおよび６Ｂが形成されている。
【０００５】
このようにして形成された、シールダイアフラム室６Ａおよび保護ダイアフラム室７Ａは、導圧孔４１Ａで連通し、且つ保護ダイアフラム室７Ａの外周近傍に開口する導圧孔４２Ａおよび導圧管１２Ａを介して検出部１に連通している。このようにして形成された互いに連通している空間（以下では「高圧側内部空間」という）内には不図示の封入液（例えば、シリコーンオイル）が充填されている。シールダイアフラム室６Ｂおよび保護ダイアフラム室７Ｂも全く同様であって、両者は、導圧孔４１Ｂで連通し、導圧孔４２Ｂおよび導圧管１２Ｂを介して検出部１に連通し、これらで形成される空間（以下では「低圧側内部空間」という）内には不図示の封入液が充填されている。封入液を充填されているこれら２つの空間は保護ダイアフラム３を間に挟んだ状態にあり、保護ダイアフラム３が２つの空間に仕切った状態になっている。
【０００６】
この差圧測定装置の動作は次のとおりである。
２箇所の測定位置から導かれた２つの測定圧、すなわち高圧側圧力および低圧側圧力が、それぞれシールダイアフラム５Ａおよび５Ｂに印加されると、シールダイアフラム５Ａに印加された高圧側圧力は、高圧側内部空間内の封入液を媒体にして検出部１の高圧側に伝達され、シールダイアフラム５Ｂに印加された低圧側圧力は、低圧側内部空間内の封入液を媒体にして検出部１の低圧側に伝達されて、両圧力の差が検出部１で測定される。この場合、高圧側圧力と低圧側圧力の差に応じて、保護ダイアフラム３が変位し、その変位に対応してシールダイアフラム５Ａおよび５Ｂも変位する。しかし、正常な差圧値の場合には、保護ダイアフラム３、シールダイアフラム５Ａおよび５Ｂの動きは大きくなくて、それぞれと対向している本体４Ａおよび４Ｂによって制限されることはない。
【０００７】
しかし、高圧側または低圧側から過大圧が作用したり、片側の圧力だけがかかるなどによって、この差圧測定装置に過大差圧が印加された場合には、保護ダイアフラム３の変位が大きくなって、圧力の高い側のシールダイアフラム５Ａまたは５Ｂが、対向する本体４Ａまたは４Ｂの波形表面に接触・着座し、導圧孔４１Ａまたは４１Ｂを塞いで、それ以上の差圧を検出部１に伝播させなくする。すなわち、保護ダイアフラム３の変位に伴うシールダイアフラム５Ａまたは５Ｂの本体４Ａまたは４Ｂへの着座が、検出部１を過大差圧から保護する。このような過大差圧に対する保護機能が確保できるためには、差圧がゼロの状態において、シールダイアフラム室６Ａの体積が保護ダイアフラム室７Ｂの体積より小さく、且つシールダイアフラム室６Ｂの体積が保護ダイアフラム室７Ａの体積より小さいことが必要であり、それら４つの空間の体積はこのように設定されている。例えば、シールダイアフラム室６Ａおよび６Ｂの体積を保護ダイアフラム室７Ａおよび７Ｂの体積の７〜８割としている。
【０００８】
以上で説明したような構造の差圧測定装置は、特許文献１に詳しく開示されている。
【０００９】
【特許文献１】
特開平７−１２８１７０号公報
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】
前項の終段で説明したように、差圧測定装置の従来例においては、過大差圧が印加された場合には、保護ダイアフラム３が変位して、シールダイアフラム５Ａまたは５Ｂを本体４Ａまたは４Ｂへ着座させ、検出部１を過大差圧から保護する。しかし、その過大差圧が除去されたときに、保護ダイアフラム３が完全に初期位置に復帰せず、その結果、差圧測定装置の零点出力に変動を生じる、という問題点がある。
保護ダイアフラム３が過大差圧で変位した後に初期位置まで復帰しない要因の主なものとしては、下記の２つを挙げることができる。
【００１１】
（１）  保護ダイアフラム３の強度不足による保護ダイアフラム３の塑性変形
（２）  保護ダイアフラム３の半径方向の張力不足によって保護ダイアフラム３に残留している湾曲部のバックリング等の不連続変形
（１）の要因に対しては、適切な強度を有する材料の選定や、発生応力を低減させる構造設計等の手段によって、容易に対応することができ、問題はない。しかし、（２）の要因を除去するために保護ダイアフラム３の半径方向に必要な張力を付与することは、従来技術では困難である。なぜなら、図７の構成から明らかなように、保護ダイアフラム３は、その両側を本体４Ａおよび４Ｂで挟まれた状態で、その外周部を両本体４Ａおよび４Ｂと溶接されており、この状態では、溶接時に、保護ダイアフラム３に必要な張力をかけることが困難であるからである。
【００１２】
更に、図７に示した従来例の構造においては、保護ダイアフラム３の外周が表面に出ているが、保護ダイアフラム３は、上述したように、過大差圧を受けた場合にも塑性変形しないことを求められるので、本体４Ａおよび４Ｂより弾性限界の高い材料で作成され、耐食性においては、本体４Ａおよび４Ｂより劣る。その結果として、従来例では十分な耐食性が得られないという問題点をもっている。
この発明の課題は、上記の（２）の要因を除去して安定な特性の差圧測定装置を得るために半径方向に所定の張力を有する保護ダイアフラムを備え且つ十分な耐食性を有する差圧測定装置およびその製造方法を提供することである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明および請求項３の発明は、差圧測定装置の構造に関する発明であり、請求項２の発明および請求項４の発明は、それぞれ請求項１の発明および請求項３の発明に対応した製造方法の発明である。
請求項１の発明は、差圧センサを有する検出部と、検出部を過大差圧から保護するための保護ダイアフラムおよびこの保護ダイアフラムの両側に配置され且つ少なくとも片方は保護ダイアフラムの外周部と溶接されて保護ダイアフラムを保持する一対の本体を有する保護部と、を備えた差圧測定装置であって、前記一対の本体の内の一方の保護ダイアフラム側の面に形成され且つ保護ダイアフラムの厚さより僅かに浅い深さの座ぐり部内に、前記保護ダイアフラムの外周が隙間ばめされて、保護ダイアフラムの外周部と座ぐり部の外周内面とが突合せ溶接されており、保護ダイアフラムを突合せ溶接された本体と他方の本体とが、両者の外周部で溶接されている。
【００１４】
請求項２の発明は、前記一対の本体の一方に、保護ダイアフラムの外周を隙間ばめするための保護ダイアフラムの厚さより僅かに浅い深さの座ぐり部を形成する工程と、この座ぐり部内に保護ダイアフラムの外周を隙間ばめした状態で、保護ダイアフラムの外周部と座ぐり部の外周内面とを突合せ溶接する工程と、保護ダイアフラムを突合せ溶接された本体および他方の本体を両者の外周部で溶接する工程と、を有する。
座ぐり部の内周部と、座ぐり部内に隙間ばめされた保護ダイアフラムの外周部と、が突合せ溶接されると、溶接部が冷却される過程で、溶接部の半径方向の幅に対応した張力が保護ダイアフラムの半径方向に働く。また、保護ダイアフラムは一方の本体の座ぐり部内にあり、一対の本体は両者の外周部で溶接されるので、保護ダイアフラムが差圧測定装置の表面には出ない。
【００１５】
請求項３の発明は、差圧センサを有する検出部と、検出部を過大差圧から保護するための保護ダイアフラムおよびこの保護ダイアフラムの両側に配置され且つ少なくとも片方は保護ダイアフラムの外周部と溶接されて保護ダイアフラムを保持する一対の本体を有する保護部と、を備えた差圧測定装置であって、前記一対の本体の内の一方の保護ダイアフラム側の面に形成された保護ダイアフラムと同じ平面形状を有する突出部の前面に、保護ダイアフラムが半径方向に張力を受けた状態で両者の接触している外周部で溶接されており、一対の本体の他方には、保護ダイアフラムを溶接された突出部が挿入されるための、保護ダイアフラムの厚さも含めた突出部の高さより僅かに浅い深さの座ぐり部を有し、この座ぐり部内に、保護ダイアフラムを溶接された前記突出部が挿入された状態で、一対の本体が両者の外周部で溶接されている。
【００１６】
請求項４の発明は、前記一対の本体の一方に、保護ダイアフラムと同じ平面形状を有する突出部を形成する工程と、この突出部の前面に保護ダイアフラムの外周と突出部の外周が一致するように保護ダイアフラムを位置決めし且つ保護ダイアフラムを加熱した状態で、保護ダイアフラムと突出部とを両者が接触している外周部で溶接する工程と、一対の本体の他方に、保護ダイアフラムを溶接された突出部が挿入されるための保護ダイアフラムの厚さも含めた突出部の高さより僅かに浅い深さの座ぐり部を形成する工程と、保護ダイアフラムを溶接された突出部がこの座ぐり部内に挿入された状態で、一対の本体を両者の外周部で溶接する工程と、を有する。
【００１７】
一方の本体に形成した突出部の前面に保護ダイアフラムを溶接するので、保護ダイアフラムを本体より高い温度に加熱した状態で本体に溶接することが可能となり、保護ダイアフラムに半径方向の張力をかけることができる。また、保護ダイアフラムを溶接された突出部が座ぐり部内に挿入される構造にすることによって、一対の本体を両者の接触している外周部で溶接できるので、保護ダイアフラムが差圧測定装置の表面には出ない。
【００１８】
【発明の実施の形態】
この発明による差圧測定装置は、一対の本体の外径に比べて一回り小さい保護ダイアフラムを使用し、保護ダイアフラムが一対の本体に挟まれて内包される状態になるように、一対の本体のいずれかに溶接され、この状態に合わせて他方の本体が加工されていることが特徴である。保護ダイアフラムを内包状態にすることによって、耐食性に劣る保護ダイアフラムが外面に出なくなって、差圧測定装置の耐食性が向上し、保護ダイアフラムが一対の本体のいずれかに溶接される構造にすることによって、以下の実施例で説明するように、保護ダイアフラムに半径方向の張力をかけることができる。
【００１９】
以下において、この発明による差圧測定装置の実施の形態について実施例を用いてより詳しく説明する。
なお、従来技術と同じ機能の部分については同じ符号を用いる。
〔第１の実施例〕
図１は、この発明による差圧測定装置の第１の実施例の構造を示す断面図であり、図２は、この実施例の製造方法を説明するための溶接前の状態を示す要部拡大断面図であり、図３は、この実施例の要部拡大断面図である。
この実施例の保護ダイアフラム３ａは、一対の本体４Ａａおよび４Ｂａの外径より一回り小さく、本体４Ａａに形成された座ぐり部４３内に隙間ばめされた状態で、座ぐり部４３の外周内面とその外周部とを突合せ溶接されている。すなわち、座ぐり部４３の直径は保護ダイアフラム３ａの直径より幾分大きく、溶接のために座ぐり部４３内にセットされた保護ダイアフラム３ａの周りには、図２に示すように、溶接用隙間１１が存在する。この溶接用隙間１１が電子ビーム溶接やＴｉｇ溶接等で埋められて、座ぐり部４３の外周内面と保護ダイアフラム３ａの外周部とが、図３に示すように、気密に接合される。この溶接部が溶接部９である。
【００２０】
座ぐり部４３の深さは保護ダイアフラム３ａの厚さより僅かに浅く形成される。その理由は、後述する本体４Ａａおよび４Ｂａの溶接時に両者間に荷重をかけ、保護ダイアフラム３ａの外周部を本体４Ａａおよび４Ｂａでしっかりと保持させるためである。
座ぐり部４３の中央部の内面は、保護ダイアフラム室（図１ではＰＤ室）７Ａのために、緩やかな擂鉢状に凹み加工されている。他方の本体４Ｂａの保護ダイアフラム３ａ側の面も、保護ダイアフラム室（図１ではＰＤ室）７Ｂのために、緩やかな擂鉢状に凹み加工されている。
一対の本体４Ａａおよび４Ｂａにはそれぞれに、従来技術と同様に、中央を貫通する導圧孔４１Ａおよび４１Ｂと、導圧管１２Ａおよび１２Ｂに連通する導圧孔４２Ａおよび４２Ｂが形成され、シールダイアフラム（図１ではＳＤ）５Ａおよび５Ｂが接合されていて、シールダイアフラム室（図１ではＳＤ室）６Ａおよび６Ｂが形成されている。
【００２１】
このようにして、シールダイアフラム室６Ａ、保護ダイアフラム室７Ａ、導圧孔４１Ａ、導圧孔４２Ａ、導圧管１２Ａおよび検出部１の高圧側空間からなる高圧側内部空間と、シールダイアフラム室６Ｂ、保護ダイアフラム室７Ｂ、導圧孔４１Ｂ、導圧孔４２Ｂ、導圧管１２Ｂおよび検出部１の低圧側空間からなる低圧側内部空間とが形成され、両空間内には不図示の封入液が充填されている。
差圧測定器としての動作は従来技術と全く同じなので、その説明は省略する。
この実施例の製造方法が従来技術と異なる点は、本体４Ａａに座ぐり部４３を形成する工程が追加されること、保護ダイアフラム３ａの溶接工程が、保護ダイアフラム３ａを本体４Ａａの座ぐり部４３内に溶接用隙間１１をもつ隙間ばめ状態でしっかりと保持しながら、座ぐり部４３の外周内面と保護ダイアフラム３ａの外周部とを突合せ溶接する工程になること、および、本体４Ａａおよび４Ｂａを両者の外周部で直接溶接することである。したがって、溶接工程が２回になり、突合せ溶接で溶接部９が形成され、本体４Ａａおよび４Ｂａの溶接で溶接部１０が形成される。
【００２２】
座ぐり部４３の外周内面と保護ダイアフラム３ａの外周部との溶接用隙間１１を突合せ溶接することによって、溶接後の冷却過程における溶接部９の収縮で保護ダイアフラム３ａに半径方向の張力が発生する。この張力によって、保護ダイアフラム３ａの状態が安定し、過大差圧を受けても零点が変動することがなくなる。
参考までに、数値例を以下に示す。
本体４Ａａおよび４Ｂａの直径  ：５２ｍｍ
保護ダイアフラム３ａの直径  ：４５ｍｍ
保護ダイアフラム３ａの厚さ  ：  ０．７ｍｍ
座ぐり部４３の深さ          ：  ０．６５ｍｍ
溶接用隙間１１の間隔        ：  ０．０３ｍｍ
〔第２の実施例〕
図４はこの実施例の構造を示す断面図であり、図５はこの実施例の製造方法を説明するための溶接前の状態を示す要部拡大断面図であり、図６はこの実施例の要部拡大断面図である。
【００２３】
この実施例の保護ダイアフラム３ａは、第１の実施例と同様に、一対の本体４Ａｂおよび４Ｂｂの外径より一回り小さく、一方の本体４Ａｂに形成され且つ保護ダイアフラム３ａの直径と同じ直径をもつ突出部４４の前面にその外周部で電子ビーム溶接やＴｉｇ溶接等によって気密に接合されている。この溶接部が溶接部９ａである。この溶接時に、図５に示すように、保護ダイアフラム３ａ上に加熱治具１３が載せられて、保護ダイアフラム３ａの温度を突出部４４の温度より高くする。
他方の本体４Ｂｂには、保護ダイアフラム３ａを溶接された突出部４４が挿入される座ぐり部４５が形成されている。この座ぐり部４５の深さは、保護ダイアフラム３ａの厚さを含む突出部４４の高さより僅かに浅く形成される。その理由は、後述する本体４Ａｂおよび４Ｂｂの溶接時に両者間に荷重をかけ、保護ダイアフラム３ａの外周部を本体４Ａｂおよび４Ｂｂでしっかりと保持させるためである。
【００２４】
突出部４４の前面は、保護ダイアフラム室（図４ではＰＤ室）７Ａのために、緩やかな擂鉢状に凹み加工されている。他方の本体４Ｂｂの座ぐり部の内面も、保護ダイアフラム室（図４ではＰＤ室）７Ｂのために、緩やかな擂鉢状に凹み加工されている。
高圧側内部空間および低圧側内部空間に関しては、第１の実施例と全く同じであるので、その説明は省略する。
この実施例の製造方法が従来技術と異なる点は、本体４Ａｂに突出部４４を形成する工程が追加されること、保護ダイアフラム３ａの溶接工程が、図５に示すように保護ダイアフラム３ａを加熱治具１３で加熱しながら、保護ダイアフラム３ａを本体４Ａｂの突出部４４の前面に両者の外周部で溶接する工程になること、保護ダイアフラム３ａを溶接された突出部４４を挿入する座ぐり部４５を本体４Ａｂに形成する工程が追加されること、および、本体４Ａｂおよび４Ｂｂを両者の外周部で直接溶接することである。したがって、突出部４４への保護ダイアフラム３ａの溶接で溶接部９ａが形成され、本体４Ａｂおよび４Ｂｂの溶接で溶接部１０ａが形成される。
【００２５】
突出部４４の前面に保護ダイアフラム３ａを加熱しながら溶接することによって、溶接後の冷却過程において保護ダイアフラム３ａに半径方向の張力が発生し、保護ダイアフラム３ａの状態が安定し、過大差圧を受けても零点が変動することがなくなる。
参考までに、数値例を以下に示す。
本体４Ａｂおよび４Ｂｂの直径    ：５２ｍｍ
保護ダイアフラム３ａの直径    ：４５ｍｍ
保護ダイアフラム３ａの厚さ    ：  ０．７ｍｍ
突出部４４の高さ              ：  ３ｍｍ
座ぐり部４５の深さ            ：  ３．６５ｍｍ
保護ダイアフラム３ａの加熱温度：７０℃（突出部４４より５０℃高くする）なお、以上の実施例で座ぐり部４３や突出部４４や座ぐり部４５を形成した本体を、他方の本体に変更することも可能である。
【００２６】
【発明の効果】
請求項１の発明および請求項２の発明においては、座ぐり部内に保護ダイアフラムの外周を隙間ばめした状態で、座ぐり部の内周部と保護ダイアフラムの外周部とを突合せ溶接するので、溶接部が冷却される過程で、溶接部の半径方向の幅に対応した張力が保護ダイアフラムの半径方向に働く。また、保護ダイアフラムは一方の本体の座ぐり部内にあり、一対の本体は両者の外周部で溶接されるので、保護ダイアフラムが差圧測定装置の表面には出ない。
したがって、これらの発明によれば、半径方向に所定の張力を有する保護ダイアフラムを備え且つ十分な耐食性を有する差圧測定装置またはその製造方法を提供することができる。
【００２７】
請求項３の発明および請求項４の発明においては、一方の本体に形成した突出部の前面に保護ダイアフラムを溶接するので、保護ダイアフラムを本体より高い温度に加熱した状態で本体に溶接することが可能となり、保護ダイアフラムに半径方向の張力をかけることができる。また、保護ダイアフラムを溶接された突出部が座ぐり部内に挿入される構造にすることによって、一対の本体を両者の外周部で溶接できるので、保護ダイアフラムが差圧測定装置の表面には出ない。
したがって、これらの発明によれば、請求項１の発明および請求項２の発明と同様に、半径方向に所定の張力を有する保護ダイアフラムを備え且つ十分な耐食性を有する差圧測定装置またはその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明による差圧測定装置の第１の実施例の構造を示す断面図
【図２】第１の実施例の製造方法を説明するための溶接前状態を示す要部拡大断面図
【図３】第１の実施例の要部拡大断面図
【図４】第２の実施例の構造を示す断面図
【図５】第２の実施例の製造方法を説明するための溶接前状態を示す要部拡大断面図
【図６】第２の実施例の要部拡大断面図
【図７】従来技術による差圧測定装置の一例の構造を示す断面図
【符号の説明】
１    検出部
２、２ａ、２ｂ    保護部
３、３ａ    保護ダイアフラム（ＰＤ）
４Ａ、４Ｂ、４Ａａ、４Ｂａ、４Ａｂ、４Ｂｂ    本体
４１Ａ、４１Ｂ、４２Ａ、４２Ｂ  導圧孔            ４３  座ぐり部
４４  突出部                              ４５  座ぐり部
５Ａ、５Ｂ    シールダイアフラム（ＳＤ）
６Ａ、６Ｂ    シールダイアフラム室（ＳＤ室）
７Ａ、７Ｂ    保護ダイアフラム室（ＰＤ室）
８、９、９ａ、１０、１０ａ    溶接部
１１    溶接用隙間
１２Ａ、１２Ｂ    導圧管
１３    加熱治具
【図１】
2005024382.tif 000003
【図２】
2005024382.tif 000004
【図３】
2005024382.tif 000005
【図４】
2005024382.tif 000006
【図５】
2005024382.tif 000007
【図６】
2005024382.tif 000008
【図７】
2005024382.tif 000009