(57)【要約】【課題】  半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造工程数を少なくするとともに、半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの反射モードと透過モードでの要求される色を得ることができ、且つ、色再現性に優れ、特に、明るい反射表示を可能とする半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタ及び半透過型カラー液晶表示素子を提供する。【解決手段】  透明基板上に凹凸面を形成し、前記凹凸面上に着色層を積層し、前記着色層の表面を研磨することを特徴とする。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に凹凸面を形成し、前記凹凸面上に着色層を積層し、前記着色層の表面を研磨することを特徴とする半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法。
【請求項２】
前記凹凸面の凸面上に形成された前記着色層のみを研磨することを特徴とする請求項１に記載の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法。
【請求項３】
前記透明基板の前記凹凸面の凸面は、透明樹脂層により形成されることを特徴とする請求項１又は２に記載の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】
前記凹凸面の凸面の頂部を、凹凸状に形成することを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】
前記凹凸面の凸面上に完全反射層を積層し、更に、その上に前記着色層を積層することを特徴とする請求項４に記載の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法。
【請求項６】
前記透明基板上に完全反射層と、透明樹脂層とを順に積層し、前記凹凸面の凹面となる部位の前記完全反射層と前記透明樹脂層とを同じ工程において除去して前記凹凸面を形成してから、その上に前記着色層を積層することを特徴とする請求項１に記載の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法。
【請求項７】
前記凹凸面の凹面上の前記着色層の厚みに対して、前記凹凸面の凸面上の前記着色層の厚みが１／４〜３／４となるように研磨すること特徴とする請求項１乃至６のいずれかに記載の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法。
【請求項８】
前記凹凸面の凸面の頂部と凹面の底部との高低差を０．１μｍ〜２．５μｍの範囲で形成し、前記凹凸面の凸面上の前記着色層の厚みを０．１μｍ〜２．５μｍの範囲となるように研磨することを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法。
【請求項９】
前記透明基板上に、ブラックマトリックス層を積層し、その上に前記透明樹脂層を積層することを特徴とする請求項３乃至８のいずれかに記載の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法。
【請求項１０】
請求項１乃至９のいずれかの製造方法により得られた半透過型カラー液晶表示素用のカラーフィルタを備えることを特徴とする半透過型カラー液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法及びこの製造方法により得られたカラーフィルタを備える半透過型カラー液晶表示素子に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半透過型アクティブマトリックス方式のカラー液晶表示素子は、通常、薄膜トランジスタが設けられている基板の内面側に、アルミニウムなどの薄膜からなる反射層を設け、前記基板と液晶層を介して対向する基板の内面側にカラーフィルタを設けて構成されている。
前記カラーフィルタの各画素には、前記反射層により反射された光を透過させる反射領域と、バックライト等の光を透過させる透過領域とが設けられている。
上記構成のカラー液晶表示素子において、反射領域では、光が２度通過するのに対して、透過領域では、光が１度しか通過しないために、これらの領域間でカラーフィルタの要求色と明るさが異なる。
【０００３】
この要求色と明るさを制御して良好なものとするために、従来では、以下に説明する方法によりカラーフィルタを製造していた。
第１の方法としては、カラーフィルタの反射領域となる部分及び透過領域となる部分のそれぞれに対して、ＲＧＢの各着色層を形成する方法がある。この方法では、まず、基板上の反射領域となる部分に、ＲＧＢのうちの１色の感光硬化性の着色樹脂を塗布し、マスク露光を行い、紫外線が照射された部分を硬化させて、アルカリ現像液で現像洗浄して硬化した着色樹脂を残して着色層を形成する。この工程を、残りの２色について繰り返した後、反射領域についてもＲＧＢの各色について同様の工程を繰り返し、合計６工程のフォトリソグラフィ法による工程を繰り返す。更に、着色層の上に、必要に応じて平坦化のための保護膜を積層し、その上にＩＴＯ膜を積層してカラーフィルタとするものである。
【０００４】
また、第２の方法として、カラーフィルタの透過領域となる部分にのみ、ＲＧＢの各着色層を形成する方法がある。この方法では、基板上にＲＧＢのうちの１色の透過光用の着色樹脂を塗布し、フォトリソグラフィ法により露光・現像し、この工程を残りの２色についても繰り返し、その後、形成したＲＧＢの各着色層に対してフォトリソグラフィグラフィ法により、反射領域として任意の面積の開口部を設け、各着色層の上から前記開口部を埋めるために保護膜を積層し、その上からＩＴＯ膜を積層して半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタとするものである。
【０００５】
また、第３の方法として、カラーフィルタの反射領域となる部分に対して透明層を形成してから、反射領域となる部分と透過領域となる部分に対して、ＲＧＢの各着色層を形成する方法がある。この方法では、まず、基板上に透明の感光硬化性樹脂を塗布し、フォトリソグラフィ法により透過領域となる部分の感光硬化性樹脂を除去して反射領域となる部分にのみ透明層を形成する。その後、ＲＧＢのうちの１色の透過光用の着色樹脂を塗布し、フォトリソグラフィ法による露光・現像を行い、透過領域となる部分と反射領域となる部分に着色層を形成し、この工程を残りの２色についても繰り返す。最後に、形成した着色層の上から、透過領域となる部分と反射領域となる部分の段差を埋めるために保護膜を積層し、その上からＩＴＯ膜を積層して半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタとするものである。
【０００６】
しかしながら、第１の方法では、工程数が多くなるという問題がある。また、第２の方法では、開口部を通過する反射光は、着色層を介さないため要求色と明るさが得られないという問題と、開口面積にバラツキが生じるために同色の画素間でも色と明るさにバラツキが生じるという問題がある。また、第３の方法では、透過領域と反射領域の色の調整は、透明層の膜厚と着色層の段差をどれだけ平坦にするかに依存する一方で、前記透明層の上の着色層の膜厚を薄くするには限界があり、また、色と明るさの制御の自由度が少なく所定の色と明るさを得にくいという問題がある。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
そこで、本発明は、上記従来の欠点を解決すべく、半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造工程数を少なくするとともに、半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの反射モードと透過モードでの要求される色を得ることができ、且つ、色再現性に優れ、特に、明るい反射表示を可能とする半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタ及び半透過型カラー液晶表示素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明者等は鋭意検討の結果、下記の通り解決手段を見出した。
即ち、本発明の半透過型カラー液晶表示素用カラーフィルタの製造方法は、請求項１に記載の通り、透明基板上に凹凸面を形成し、前記凹凸面上に着色層を積層し、前記着色層の表面を研磨することを特徴とする。
請求項２に記載の本発明は、請求項１に記載の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法において、前記凹凸面の凸面上に形成された前記着色層のみを研磨することを特徴とする。
請求項３に記載の本発明は、請求項１又は２に記載の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法において、前記透明基板の前記凹凸面の凸面は、透明樹脂層により形成されることを特徴とする。
請求項４に記載の本発明は、請求項１乃至３のいずれかに記載の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法において、前記凹凸面の凸面の頂部を、凹凸状に形成することを特徴とする。
請求項５に記載の本発明は、請求項４に記載の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法において、前記凹凸面の凸面上に完全反射層を積層し、更に、その上に前記着色層を積層することを特徴とする。
請求項６に記載の本発明は、請求項１に記載の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法において、前記透明基板上に完全反射層と、透明樹脂層とを順に積層し、前記凹凸面の凹面となる部位の前記完全反射層と前記透明樹脂層とを同じ工程において除去して前記凹凸面を形成してから、その上に前記着色層を積層することを特徴とする。
請求項７に記載の本発明は、請求項１乃至６のいずれかに記載の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法において、前記凹凸面の凹面上の前記着色層の厚みに対して、前記凹凸面の凸面上の前記着色層の厚みが１／４〜３／４となるように研磨すること特徴とする。
請求項８に記載の本発明は、請求項１乃至７のいずれかに記載の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法において、前記凹凸面の凸面の頂部と凹面の底部との高低差を０．１μｍ〜２．５μｍの範囲で形成し、前記凹凸面の凸面上の前記着色層の厚みを０．１μｍ〜２．５μｍの範囲となるように研磨することを特徴とする。
請求項９に記載の本発明は、請求項３乃至８のいずれかに記載の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法において、前記透明基板上に、ブラックマトリックス層を積層し、その上に前記透明樹脂層を積層することを特徴とする。
また、本発明の半透過型カラー液晶表示素子は、請求項１０に記載の通り、請求項１乃至９のいずれかの製造方法により得られた半透過型カラー液晶表示素用のカラーフィルタを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、半透過型カラーフィルタを構成する基板に設けられた凹凸面上に積層された着色層を研磨することにより、凸面上に積層された着色層、即ち、反射領域の着色層の厚みを極めて容易に調整することができる。また、研磨によって着色層を平坦化することにより、平坦化の為の保護膜形成工程を省くことができる。また、凸面に形成された着色層のみを研磨するだけで、半透過型カラーフィルタの表面を平滑にすることができる。
また、本発明によれば、半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造コストを抑えたまま、反射時と透過時のそれぞれで要求される色を得ることができ、且つ、色再現性に優れ、特に明るい反射表示に優れた半透過型カラーフィルタを得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
次に、本発明の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法の実施の形態について説明する。
本発明は、透明基板上に凹凸面を形成し、前記凹凸面上に着色層を積層し、前記着色層の表面を研磨するものである。
【００１１】
前記透明基板としては、例えば、無アルカリガラス板等を使用することができる。
この透明基板上に凹凸面を形成する方法としては特に制限はないが、例えば、ＳｉＯ2、ＴｉＯ2等の無機物質やアクリル系樹脂、エポキシ樹脂等を凹凸状に形成するか、或いは、前記樹脂等を離間して設けることにより凹凸状に形成するか、透明基板自体の表面を加工することにより凹凸面を形成したりする方法が挙げられる。
上記方法において使用される材料の中でも、透明樹脂により前記凹凸面の凸面を形成することが好ましい。これにより、カラーフィルタと対向する基板で反射された光の光路を調整することができるからである。また、前記透明樹脂の中でも感光性アクリル材料を使用することが好ましい。フォトリソグラフィ法により、前記凹凸面の凹面のみを除去して容易に凸面を形成することができるためである。
尚、前記凹凸面の高低差については、特に制限するものではないが、０．１μｍ〜２．５μｍ程度に形成することが好ましい。
【００１２】
前記凹凸面に積層される着色層は、例えば、顔料分散着色樹脂材料等から構成し、前記凹凸面の凹面に埋設されるようにして積層する。
【００１３】
次に、積層された着色層の表面を研磨する方法について説明する。
使用する研磨装置としては、着色層を平面状に研磨できるものであれば特に制限はないが、一例として、ガラス表面を研磨する装置等を使用することができる。このような装置の中でも、透明基板の着色層の全面に対して均一な荷重をかけることができるものが好ましく、更に、透明基板への荷重を均一分散することができる基板上貼り式、ダイヤフラム式、フリーヘッド式等の機構を備えることがより好ましい。また、研磨剤としては、ＣＭＰ（Chemical Mechanical Polishing）に用いられるようなアルミナ、セリウム、シリカ等を砥粒とした研磨剤、或いは、凸面のみを選択的に研磨できるような研磨剤を用いることが好ましい。また、研磨パッドについても凸面を選択的に研磨できるようなパッドを用いることが好ましい。
【００１４】
また、前記凹凸面の凸面の頂部を凹凸状に形成してもよい。これにより、内面拡散方式のカラーフィルタとする場合にも、前記凹凸面の凸面の頂部の凹凸上に積層される着色層の膜厚を容易に調整することができる。前記凹凸面の凸面の頂部を凹凸状に形成する方法としては、例えば、フォトリソグラフィ法、スタンパーによる転写する方法等が挙げられるが、凹凸状に形成できるものであれば特に制限されるものではない。
また、前記凹凸面の凸面上に完全反射層を積層し、更に、その上に着色層を積層してもよい。これにより、前記凸面の頂部に完全反射層を介して積層される着色層の膜厚を容易に調整することができるためである。前記完全反射層は、アルミニウム、アルミニウム合金、銀合金、クロム等の金属を蒸着法やスパッタリング法などによって薄膜状に成膜し、これを公知のフォトリソグラフィグラフィ法を用いてパターニングして得ることができる。
【００１５】
また、更に、前記透明基板上に完全反射層を積層してから、透明樹脂層を積層し、前記凹凸面の凹面となる部位の前記完全反射層と前記透明樹脂層とを同じ工程で除去して前記凹凸面を形成し、その上に着色層を積層するようにしてもよい。前記完全反射層と前記透明樹脂層とを別工程で除去する必要がなくなり、内面拡散効果を有するカラーフィルタを更に少ない工程で製造することができるからである。
【００１６】
また、前記凹凸面の凹面上の着色層の厚みに対して、前記凹凸面の凸面上の着色層の総厚みを１／４〜３／４とすることが好ましく、１／２とすることがより好ましい。これにより、カラーフィルタの対向する基板により反射された反射光と、バックライト等の透過光とのそれぞれの光路長及び光学的屈折率を合わせることができ、結果として、透過光と反射光の透過率と色を合わせることができるからである。
【００１７】
また、研磨をする際に、前記凸面上の着色樹脂層の厚みを０．１〜２．５μｍ程度の膜厚にすることが好ましい。０．１μｍ未満では、所望の色特性が得られず、２．５μｍ超えでは、所望の明るさが得られないからである。尚、前記凹凸面の凹面上の着色層の厚みは、０．５μｍ〜２．５μｍとすることが好ましい。
【００１８】
また、前記透明基板上に、ブラックマトリックス層を積層することが好ましい。得られた半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの着色層のコントラストを向上させることができ、また、ＴＦＴ液晶表示素子の光による誤動作を防ぐことができるからである。尚、ブラックマトリックス層としては、公知のものを使用することができ、一例としては、クロム単層、クロムと酸化クロムの２層、クロムと酸化クロムと酸化クロムの３層、Ｎｉ系合金等が挙げられる。
【００１９】
次に、上記製造方法により得られた半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタにより、半透過型カラー液晶表示素子を製造する方法について説明する。
前記半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの着色層が設けられた側に、透明導電対をマスクスパッタリング法により任意のパターン領域に被着する。その後、透明電極の上にポリイミド樹脂などからなる配向膜を形成し、ラビング処理等を施す。
次に、上記透明電極が設けられた半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタを、シール材を介して対向する基板と貼り合わせ、パネル構造を構成する。尚、対向する基板の表面上には、金属反射層及び開口部を備えたＴＦＴ、透明電極や配向膜等が形成されている。そして、これらの基板間に分散配置されたスペーサやシール材に混入されたスペーサ等を設けてほぼ規定の基板間隔となるように貼り合わせる。
その後、前記基板間のシール材に設けられた開口部から液晶を注入し、シール材の開口部を紫外線硬化樹脂等の封止材によって閉鎖する。そして、位相差板や偏光板が基板の外面側に貼着等の方法によって取り付け、半透過型カラー液晶表示素子とすることができる。
尚、前記保護膜としては、例えば、感光性アクリル材料等を使用できる。また、透明電極としては、ＩＴＯ等の透明導電体から構成される電極を使用することができる。
上記した半透過型カラー液晶表示素子は、ＴＦＴ液晶表示素子を例に挙げたものであるが、本発明の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタは、ＳＴＮ液晶表示素子にも使用することができる。
【実施例】
【００２０】
以下に、図１及び図２を参照して本発明の半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタの製造方法の実施例を説明する。尚、本発明は、この実施例により限定されるものではない。
まず、図１（ａ）に示すように、厚さ０．７ｍｍ、３７０ｍｍ×４７０ｍｍ角の無アルカリガラス基板１に、ブラックマトリックス用の金属膜２を成膜した。
ブラックマトリックス２は、ガラス基板１側から酸化Ｃｒ膜とＣｒ膜とを順に積層し、光学濃度４．０以上、膜厚０．１７μｍ、反射率（Ｙ値・ガラス面反射率含む）５．７％以下のガラス基板１側が低反射となるものを使用した。
上記のブラックマトリックス２が設けられたガラス基板１を洗浄装置に投入し、アルカリ液とブラシスクラブ洗浄によりパーティクル等を除去した後、スピンコーターでポジ型ノボラック系レジスト材を膜厚１．２μｍ程度で全面に均一に塗布した。塗布後、ホットプレート式ベーク乾燥装置で１２０℃で２分間乾燥し、膜厚を１．１μｍとした。
その後、ガラス基板１をプレート式の装置で冷却し、プロキシミティー方式の露光装置により、石英材のフォトマスクを用いてパターン感光した。使用したフォトマスクには、携帯電話向け半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタパターンとして、対角１．５インチのパネルが１００面レイアウト配置されている。対角１．５インチのパネルには、ＲＧＢの画素が配置することができるように、６８．０μｍ×２２０．０μｍの寸法で画成されている。尚、露光条件は、プロキシミティーギャップを９０μｍで露光量を１００ｍＪとして感光した。
その後、レジスト現像装置で、ＫＯＨ０．５ｗｔ％のアルカリ水溶液をスプレーし、感光したレジストを溶解し、水洗スプレーして、ブラックマトリックス２となる部位のみにレジストパターンを残すようにした。そして、再度、ホットプレート式のベーク乾燥装置により、６０℃で２分間乾燥し、レジストパターン外のブラックマトリックス２用のＣｒ金属膜をウエットエッチング装置によりエッチングした。エッチング液には、硝酸第２セリウムアンモンと過塩素酸の混合薬液を用い、液温２３℃でスプレーエッチング後、水洗スプレーにより薬液をリンスした。その後、ＮａＯＨ２．５ｗｔ％のアルカリ水溶液を使用したレジスト剥離装置により、上記したレジストパターンのレジスト材を、スプレースクラブ剥離後に水洗リンスを実施し、図２にその一部を示すように、ブラックマトリックス２パターンを得た。
【００２１】
次に、ブラックマトリックス２により画成された各画素の反射領域となる部位に、透明有機膜層３を凸状に設けた。透明有機膜の材料としては、固形濃度２７．５％、粘度１０．４ｍＰａ・ｓに調整したレジスト液（ＪＳＲ製ＪＮＰＣ７１）を使用し、洗浄後スピンコーターで現像後２．４μｍになるように全面に塗布した。その後、ブラックマトリックス２が設けられたガラス基板１に対して、アライメントして所定の石英材フォトマスクを使用し、プロキシミティー露光装置で感光した。露光条件は、プロキシミティーギャップを１００μｍで露光量を１００ｍＪとした。
【００２２】
続いて、炭酸ソーダ系の現像液でスプレー現像し、感光したパターン以外の部分をスプレー現像装置で溶解し、本ベーク乾燥装置により２３０℃で６０分焼成した。焼成後の膜厚ｈ3は、１．０μｍであった。
このように反射領域における透明有機膜層３による底上げ構造により、後のＲＧＢの着色樹脂膜の形成に際し、反射領域（凸面）のＲＧＢの着色樹脂膜と透過領域（凹面）のＲＧＢの着色樹脂膜との間に段差が生じ、その後のＲＧＢの着色樹脂膜の研磨工程による反射領域のみのＲＧＢの着色樹脂膜を研摩を容易にすることが可能となる。
次に、透明有機膜層３を形成したガラス基板１にＲＧＢレジスト材料を順番に各画素に積層した。
Ｒレジスト材料としては、固形分濃度１８．７％、粘度４．３ｍＰａ・ｓ、Ｇレジスト材料としては、固形分濃度１９．５％、粘度３．９ｍＰａ・ｓ、Ｂレジスト材料としては固形分濃度１７．９％、粘度４．０ｍＰａ・ｓにそれぞれ調製したレジスト液（日立化成工業製）を使用し、ガラス基板洗浄後スピンコーターで基板全面に塗布した。その後、ガラス基板１とフォトマスクパターンのアライメント露光を行う為に所定の石英材フォトマスクを使用し、プロキシミティー露光装置で感光した。露光条件は、プロキシミティーギャップを１３０μｍで露光量を１００ｍＪとした。続いて、炭酸ソーダ系の現像液でスプレー現像し、感光したパターン以外の部分をスプレー現像装置で溶解し、本ベーク乾燥装置で２３０℃、６０分焼成した。順次Ｒレジストと同じ工程によりＧレジストとＢレジストパターンを形成した。焼成後のＲＧＢ膜厚は、反射領域（凸面）で１．５０μｍ（ｈ1）、透過領域（凹面）で２．０４μｍ（ｈ2）であった。
【００２３】
次に、図１（ｂ）に示すようにＲＧＢの着色樹脂膜を研磨した。
研磨装置として、一般にカラーフィルタ等の表面を研磨する装置を使用した。この装置に、膜形成面を下側にして反対面側を装置に取り付ける上貼り方式の装置で、下側に設けられた研磨定盤には研磨パッドが設けられている。
研磨材は、粒径約７０ｎｍのシリカをＫＯＨ１ｗｔ％以下と水７９〜８０ｗｔ％でスラリー化したものを用いた。研磨条件は、ヘッド回転数３０ｒｐｍ、定盤回転数３０ｒｐｍ、ヘッド揺動速度５ストローク／分、研磨圧力４０ｇ／ｃｍ2とした。この条件で３０秒間研磨をした。
その後、基板に付着したスラリーを除去するためスポンジロール付の洗浄装置で水洗洗浄を実施した。
この研磨により、ＲＧＢの着色樹脂膜の膜厚ｈ'1、ｈ'2は、反射領域（凸面）で０．５７μｍ（ｈ'1）、透過領域（凹面）で１．５２μｍ（ｈ'2）であった。この結果、反射領域（凸面）と透明有機膜層２と積層されたＲＧＢの着色樹脂膜の総膜厚（ｈ'1＋ｈ3）は１．５７μｍとなった。また、凹面に積層された着色樹脂膜の厚みｈ'2に対して、凸面に積層された着色樹脂膜の厚みｈ'1の比（ｈ'1／ｈ'2）は０．３７５であった。
【００２４】
次に、上記半透過型カラー液晶表示素子用のカラーフィルタに対して、対角１．５インチのパネル単位でマスクＩＴＯを成膜した。膜厚は、０．１１５μｍとし、シート抵抗値は２０Ω／１ｃｍ2角程度、透過率は８０％（ａｔ５５０ｎｍ）を得た。成膜方法は、インライン式の真空スパッタリング装置を用いた。その後、透明電極の上にポリイミド樹脂などからなる配向膜を形成し、ラビング処理等を施した。
次に、得られた基板を、シール材及びスペーサを介して、金属反射層及び開口部を備えたＴＦＴ、透明電極並びに配向膜等が形成された他の基板と貼り合わせてから裁断し、対角１．５インチのパネル構造とした。
その後、シール材に設けられた開口部から液晶を注入し、前記開口部を紫外線硬化樹脂等の封止材によって閉鎖し、位相差板や偏光板を両基板の外面側に貼着して半透過型カラー液晶表示素子とした。
【００２５】
上記製造方法では、フォトリソグラフィ法を使用する回数が４回であった。従って、透過領域（凹面）及び反射領域（凸面）のそれぞれに各ＲＧＢの着色樹脂層を６回のフォトリソグラフィ法によって設ける場合に比べて工程数が少なくすることができた。また、カラーフィルタのＮＴＳＣ比は、透過領域（凹面）において８．２％、反射領域（凸面）において２２．４％と色と明るさに優れるものであった。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の製造方法を説明するための模式図
【図２】着色樹脂層のパターンを説明するための平面図
【符号の説明】
【００２７】
１  透明基板
２  ブラックマトリックス
３  透明樹脂層（凸部）
【図１】
2005352073.tif 000003
【図２】
2005352073.tif 000004