(57)【要約】【課題】膜厚均一性に優れた薄膜を形成可能な回転塗布技術を提供すること。【解決手段】本発明の回転塗布装置１は、平板状の基板４０を着脱可能に支持するとともに前記基板４０を撓ませることにより前記基板４０の一方の主面をその中央部に対応した位置で凸状湾曲面とすることが可能な基板ホルダ５０と、前記基板ホルダ５０を回転させる駆動機構３０と、前記基板ホルダ５０に支持された前記基板４０の前記凸状湾曲面へと塗布液を吐出するノズル６０とを具備したことを特徴とする。【選択図】      図１
2005238068.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板状の基板とその一方の主面上に形成された薄膜とを備えた平面表示装置の製造方法であって、前記基板を撓ませることにより前記主面をその中央部に対応した位置で凸状湾曲面とし、この状態で前記主面上に塗布液を回転塗布してなる塗膜から前記薄膜を形成することを特徴とする平面表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記平面表示装置は液晶表示装置であることを特徴とする請求項１に記載の平面表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記薄膜はカラーフィルタ層を構成している着色層であることを特徴とする請求項２に記載の平面表示装置の製造方法。
【請求項４】
平板状の基板を撓ませることにより前記基板の一方の主面をその中央部に対応した位置で凸状湾曲面とし、この状態で前記主面上に塗布液を回転塗布することを特徴とする回転塗布方法。
【請求項５】
平板状の基板を着脱可能に支持するとともに前記基板を撓ませることにより前記基板の一方の主面をその中央部に対応した位置で凸状湾曲面とすることが可能な基板ホルダと、
前記基板ホルダを回転させる駆動機構と、
前記基板ホルダに支持された前記基板の前記凸状湾曲面へと塗布液を吐出するノズルとを具備したことを特徴とする回転塗布装置。
【請求項６】
前記基板ホルダは前記基板の他方の主面と密着して前記基板を着脱可能に支持する支持面を備え、前記支持面の前記中央部に対応した領域は凸状湾曲面であることを特徴とする請求項５に記載の回転塗布装置。
【請求項７】
前記基板ホルダは支持面を備え、前記支持面は、前記基板の他方の主面の周縁部と密着して前記基板を着脱可能に支持する平坦部と、前記基板の前記他方の主面の中央部を突き上げる複数の突起を有する凸状部とを含んだことを特徴とする請求項５に記載の回転塗布装置。
【請求項８】
前記複数の突起の少なくとも一部の高さを変更可能であることを特徴とする請求項７に記載の回転塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平面表示装置の製造方法、回転塗布方法、及び回転塗布装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
平面表示装置の製造では、成膜工程を数多く行う。例えば、平面表示装置の１つであるアクティブマトリクス駆動方式のフルカラー型液晶表示装置の製造では、薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴという）などのスイッチング素子を構成している構成要素、画素電極、カラーフィルタ層、配向膜を代表とする各種薄膜を形成する。
【０００３】
これらの薄膜の形成には、例えば、気相堆積法、スピンコート（回転塗布）法、ロールコーティング法などを利用することができる。これら薄膜形成法は、形成すべき薄膜などに応じて適宜選択され、比較的厚い薄膜の形成には回転塗布法やロールコーティング法が多用されている。
【０００４】
回転塗布法では、塗布液に作用する遠心力は回転軸からの距離が長いほど大きくなるため、塗膜の厚さが、回転軸の近傍と比較して、回転軸から離れた位置で薄くなることがある。特に、顔料を添加した樹脂を回転塗布する場合には、そのチキソ性に起因して、塗膜の厚さが不均一になり易い。
【０００５】
このような膜厚ムラは、平面表示装置の表示特性に影響を与えることがある。例えば、液晶表示装置のカラーフィルタ層に膜厚ムラを生じた場合には、液晶層の厚さが不均一となり、表示ムラとして視認される可能性がある。特に、大画面の平面表示装置では、膜厚のばらつきが大きくなるため、膜厚ムラが表示特性に与える影響が極めて大きい。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、膜厚均一性に優れた薄膜を形成可能な回転塗布技術を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の第１側面によると、平板状の基板とその一方の主面上に形成された薄膜とを備えた平面表示装置の製造方法であって、前記基板を撓ませることにより前記主面をその中央部に対応した位置で凸状湾曲面とし、この状態で前記主面上に塗布液を回転塗布してなる塗膜から前記薄膜を形成することを特徴とする平面表示装置の製造方法が提供される。
【０００８】
本発明の第２側面によると、平板状の基板を撓ませることにより前記基板の一方の主面をその中央部に対応した位置で凸状湾曲面とし、この状態で前記主面上に塗布液を回転塗布することを特徴とする回転塗布方法が提供される。
【０００９】
本発明の第３側面によると、平板状の基板を着脱可能に支持するとともに前記基板を撓ませることにより前記基板の一方の主面をその中央部に対応した位置で凸状湾曲面とすることが可能な基板ホルダと、前記基板ホルダを回転させる駆動機構と、前記基板ホルダに支持された前記基板の前記凸状湾曲面へと塗布液を吐出するノズルとを具備したことを特徴とする回転塗布装置が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によると、平板状の基板を撓ませて一方の主面を凸状湾曲面とし、この状態で先の主面上に塗布液を回転塗布するため、膜厚均一性に優れた薄膜を形成可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の態様について、図面を参照しながら説明する。なお、各図において、同様または類似の機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
【００１２】
図１は、本発明の一態様に係る回転塗布装置を概略的に示す断面図である。  
この回転塗布装置１は、基盤１０を備えている。基盤１０には、その下面中央部に凹部が設けられており、この凹部に嵌合するように結合部材２０が取り付けられている。
【００１３】
結合部材２０の下面には、駆動機構の少なくとも一部として、モータ３０が取り付けられている。基盤１０及び結合部材２０には略中央に貫通孔が設けられており、モータ３０の回転軸３１はこれら貫通孔に挿入されている。回転軸３１の回転数やその回転動作の始動や停止などの駆動機構の動作は、図示しない制御部により制御される。
【００１４】
回転軸３１の一端は基盤１０の上面から突き出ており、この一端には、平板状の基板４０を着脱可能に支持する基板ホルダ５０が取り付けられている。基板ホルダ５０は、その支持面に、例えば、スピンチャックのように吸引力を利用して基板４０を支持するか、或いは、固定ピンなどの固定部材を利用して基板４０を支持するか、或いは、吸引力と固定部材との双方を利用して基板４０を支持する。基板ホルダ５０に支持された基板４０は、モータ３０を駆動することにより回転する。
【００１５】
基板４０の上方にはノズル６０が配置されている。ノズル６０は、その吐出口を、基板４０から離間させるとともに、基板４０の上面中央部に向けている。ノズル６０は、図示しない塗布液供給源に接続されており、この塗布液供給源から供給される塗布液を基板４０の上面中央部に向けて吐出する。これらノズル６０及び塗布液供給源は、ノズル６０に供給する塗布液の流量の調整を行う流量調整機構（図示せず）及びノズル６０への塗布液の供給／非供給の切り替えなどを行う切替機構（図示せず）とともに、塗布液供給系を構成している。流量調整機構や切替機構の動作は、図示しない制御部により制御される。
【００１６】
基盤１０の上面には、スピンカップ７０が取り付けられている。スピンカップ７０は、容器７１と傾斜壁７２と排出管７３とで構成されている。
【００１７】
容器７１は、基盤１０上にモータ３０の回転軸３１を取り囲むように配置された環状の底部と、この底部の内周から上方に向けて延在した内壁と、底部の外周から上方に向けて延在した外壁とを含んでいる。容器７１は、基板４０に供給した塗布液のうち基板４０から垂れ落ちたか或いは遠心力により基板４０から振り飛ばされた余剰分を収容する。
【００１８】
傾斜壁７２は、上方から下方に向けて拡径した管状の形状を有しており、その下端は容器７１の外壁上端に連接している。傾斜壁７２は、基板４０に供給した塗布液のうち遠心力により基板４０から振り飛ばされた余剰分を容器７１へと案内する。この傾斜壁７２の上側開口は、基板４０がスピンカップ７０の内側と外側との間を移動できるように、基板４０よりも大きな寸法を有している。
【００１９】
排出管７３は、基盤１０に設けられた貫通孔に挿入されており、一端が容器７１とその底部で接続されるとともに、他端が基盤１０の下面から下方に突き出ている。排出管７３は、容器７１内に収容された塗布液を、その外部へと排出する。
【００２０】
スピンカップ７０内であって基板ホルダ５０の下方には、支持体８１と整流板８２とで構成された整流部材８０が配置されている。
【００２１】
支持体８１は、管状の形状を有しており、モータ３０の回転軸３１を取り囲むとともに、基盤１０の略中央に設けられた貫通孔に挿入されている。この支持体８１の一端は、結合部材２０に取り付けられており、他端は整流板８２を支持している。
【００２２】
整流板８２は、上面が凸面であり且つ中央に貫通孔が設けられた屋根部と、その外周から下方に向けて延在した側壁とを含んでいる。整流板８２の屋根部に設けられた貫通孔には、モータ３０の回転軸３１が挿入されている。整流板８２の側壁は、スピンカップ７０を構成している容器７１の内壁を取り囲んでいる。整流板８２は、基板４０に供給した塗布液のうち基板４０から垂れ落ちたか或いは遠心力により基板４０から振り飛ばされた余剰分を、容器７１内，特には排出管７３との接続部，へと案内する。
【００２３】
図２は、図１の回転塗布装置１で利用可能な基板ホルダ５０の一例を概略的に示す断面図である。
【００２４】
図２に示す基板ホルダ５０は、基板４０の被塗布面の裏面と密着して基板４０を着脱可能に支持する支持面５１を有している。この基板ホルダ５０の支持面５１のうち、基板４０の中央部に対応した領域は凸状の湾曲面５１ａであり、この湾曲面５１ａを取り囲む領域は平坦面５１ｂである。
【００２５】
基板ホルダ５０の支持面５１をこのような形状とすると、平板状の基板４０は、基板４０に作用する重力または基板４０に作用する重力と吸引力とにより、基板ホルダ５０の支持面５１に沿って変形する。すなわち、基板４０は、その中央部が周縁部よりも高くなるように凸状に撓む。その結果、基板４０の被塗布面は、基板４０の中央部に対応した位置で凸状の湾曲面となり、この凸状湾曲面の周囲では平坦面となる。
【００２６】
基板４０の被塗布面をこのような形状とした場合、その凸状湾曲面上では、水平な平坦面上と比較して、塗布液に作用する遠心力のうち、被塗布面に対して接線方向，すなわち塗布液を凸状湾曲面に沿って回転軸から遠ざける方向，の成分がより小さくなる。但し、通常、回転軸近傍で塗布液に作用する遠心力は小さい。また、この凸状湾曲面の実質的に全ての領域上で、塗布液に作用する重力は、被塗布面に対して接線方向，具体的には塗布液を凸状湾曲面に沿って回転軸から遠ざける方向，の成分を持つこととなる。そのため、基板４０の被塗布面中央部を凸状湾曲面とすると、被塗布面中央部が水平な平坦面である場合と比較して、被塗布面中央部において塗布液を凸状湾曲面に沿って回転軸から遠ざけるように作用する力をより大きくすること或いはほぼ同等とすることができる。
【００２７】
さらに、この凸状湾曲面上では、水平な平坦面上と比較して、塗布液に作用する重力のうち、被塗布面に対して法線方向，すなわち塗布液を被塗布面に押し付ける方向，の成分がより小さくなる。しかも、基板４０の被塗布面をこのような形状とした場合、その凸状湾曲面の実質的に全ての領域上で、塗布液に作用する遠心力は、被塗布面に対して法線方向，具体的には塗布液を被塗布面から引き離す方向，の成分を持つこととなる。すなわち、凸状湾曲面上では、水平な平坦面上と比較して、塗布液を被塗布面に押し付ける力が弱められ、そのため、塗布液の移動が生じ易い。
【００２８】
このように、基板４０の被塗布面中央部を凸状湾曲面とすると、基板４０の被塗布面中央部が平坦面である場合と比較して、塗布液の被塗布面中央部から被塗布面周縁部への移動を促進することができる。また、本態様では、基板４０の被塗布面周縁部を平坦面としている。そのため、被塗布面周縁部では、塗布液の半径方向への移動が促進されることはない。それゆえ、本態様によると、膜厚均一性に優れた塗膜を得ることができ、したがって、膜厚均一性に優れた薄膜を形成可能となる。
【００２９】
基板４０の被塗布面のうち、中央部のみを凸状湾曲面とするとともにそれを取り囲む周縁部を平坦面としてもよく、或いは、全体を凸状湾曲面としてもよい。同様に、基板ホルダ５０の支持面のうち、中央部のみを凸状湾曲面とするとともにそれを取り囲む周縁部を平坦面としてもよく、或いは、全体を凸状湾曲面としてもよい。但し、基板４０の被塗布面の全体を凸状湾曲面とする場合、凸状湾曲面に対する法線と水平面とが為す角度が、被塗布面の中央部に比べ、周縁部においてより大きくなるように（より９０°に近くなるように）設計する。
【００３０】
図１に示す回転塗布装置１では、基板ホルダ５０に他の構造を採用することも可能である。  
図３は、図１の回転塗布装置１で利用可能な基板ホルダ５０の他の例を概略的に示す斜視図である。
【００３１】
図３に示す基板ホルダ５０は、平坦面を有するホルダ本体５２と複数の突上部材５３とを備えている。基板ホルダ５０の突上部材５３が設けられた面は、基板４０を着脱可能に支持する支持面を構成しており、この支持面は、ホルダ本体５２の平坦面からなる平坦部と、突上部材５３が形成する複数の突起を有する凸状部とを含んでいる。
【００３２】
具体的には、ホルダ本体５２の平坦部は、基板４０の被塗布面の裏面周縁部と密着して基板４０を着脱可能に支持する。他方、複数の突上部材５３は、基板ホルダ５０の支持面に、基板４０の被塗布面の裏面中央部を突き上げる複数の突起を生じさせている。これら突上部材５３は、ここでは、中央から周縁に向けて突起の高さが順次低くなるように配置されている。
【００３３】
図３に示す基板ホルダ５０の突上部材５３は、図２に示す基板ホルダ５０の凸状湾曲面５１ａと同様の役割を果たす。すなわち、図３に示す基板ホルダ５０は、図２に示す基板ホルダ５０と同様、平板状の基板４０の被塗布面を、基板４０の中央部に対応した位置で凸状の湾曲面とし、この凸状湾曲面の周囲では平坦面とする。そのため、図３に示す基板ホルダ５０を使用した場合も、図２に示す基板ホルダ５０を使用した場合と同様に、膜厚均一性に優れた塗膜を得ることができ、したがって、膜厚均一性に優れた薄膜を形成可能となる。
【００３４】
この基板ホルダ５０において、突上部材５３が基板ホルダ５０の支持面に生じさせている複数の突起の少なくとも一部は、高さを変更可能であってもよい。例えば、突上部材５３をホルダ本体５２から着脱可能とし、ホルダ本体５２に取り付けられている突上部材５３と、それらとは高さの異なる突上部材５３とを交換することにより、複数の突起の少なくとも一部の高さを変更してもよい。或いは、突上部材５３の一端をホルダ本体５２に埋め込み、それらの埋め込み量を調節することにより、複数の突起の少なくとも一部の高さを変更してもよい。
【００３５】
突上部材５３の形状に特に制限はなく、例えば、ピン形状であってもよく、或いは、壁形状であってもよい。例えば、突上部材５３として、内径が互いに異なる複数の円筒を同心状に配置し、それら円筒の高さを内側から外側に向けて順に低くしてもよい。
【００３６】
以上、基板ホルダ５０に採用可能な構造として、図１乃至図３の構造を例示したが、基板ホルダ５０の構造は、図１乃至図３の構造に限定されるものではない。例えば、図３に示す複数の突上部材５３の代わりに、基板ホルダ５０の支持面中央部に図２に示すような凸状湾曲面を提供する１つの部材をホルダ本体５２の平坦面中央部に配置してもよい。
【００３７】
また、図１では、基板ホルダ５０上への基板４０の載置や基板ホルダ５０からの基板４０の取り外しなどを容易にする目的で、基板ホルダ５０の支持面を基板４０よりも小さな寸法としているが、基板ホルダ５０の支持面は、基板４０と等しい寸法であってもよく、或いは、それよりも大きな寸法であってもよい。また、基板ホルダ５０の支持面を基板４０よりも小さな寸法とする場合、基板ホルダ５０の支持面からはみ出た基板４０の周縁部が自重で変形するのを防止するために、例えば、ピンなどの支持部材で、基板ホルダ５０の支持面からはみ出た基板４０の周縁部をその下面側から支持してもよい。
【００３８】
以上説明した回転塗布装置１を使用すると、上記の通り、膜厚均一性に優れた薄膜を形成することができる。したがって、この回転塗布装置１を平面表示装置の製造に使用すると、表示ムラを抑制することができる。例えば、この回転塗布装置１を利用して液晶表示装置のカラーフィルタ層を形成すると、カラーフィルタ層に膜厚ムラを抑制することができる。したがって、液晶層の厚さのバラツキを抑制することができ、カラーフィルタ層の膜厚ムラに起因して表示ムラが視認されるのを防止することができる。すなわち、本態様によると、表示特性に優れた平面表示装置を製造可能となる。
【実施例】
【００３９】
以下、本発明の実施例について説明する。  
（実施例１）
図４は、実施例１で使用した基板ホルダ５０を概略的に示す平面図である。図５は、図４に示す基板ホルダ５０のＶ−Ｖ線に沿った断面図である。図６は、実施例１で作製した液晶表示装置を概略的に示す断面図である。本例では、以下の方法により、図６に示す液晶表示装置を作製した。
【００４０】
まず、透明基板１１１の一主面上に、通常のプロセスにより走査線及び信号線等の配線、ＴＦＴ１１２、絶縁膜１１３、ソース・ドレイン電極１１４、及び絶縁膜１１５などを形成した。ここでは、透明基板１１１として、５５０ｍｍ×６７０ｍｍ×０．７ｍｍのガラス基板を使用した。
【００４１】
次に、図１に示す回転塗布装置１の基板ホルダ５０上に、基板４０として、ガラス基板１１１をその絶縁膜１１５等を形成した面が上方を向くように載置した。ここでは、回転塗布装置１の基板ホルダ５０として、図４及び図５に示すスピンチャックを使用した。なお、このスピンチャック５０は、φ５００ｍｍの円形の支持面を有しており、この支持面には吸着溝５１ｃが設けられている。また、凸状湾曲面５１ａはφ８０ｍｍの円形であり、その平坦面５１ｂを基準とした頂部の高さは１ｍｍである。
【００４２】
次いで、ガラス基板１１１を、その中心がスピンチャック５０の支持面の中心とほぼ一致するように、スピンチャック５０で吸引保持した。また、基板ホルダ５０の支持面からはみ出たガラス基板１１１の周縁部をその下面側からピン（図示せず）で支持し、これにより、基板ホルダ５０の支持面からはみ出たガラス基板１１１の周縁部が自重で変形するのを防止した。
【００４３】
その後、この状態で、スピンチャック５０を４００〜７００ｒｐｍで回転させるとともに、ノズル６０から絶縁膜１１５上へと、粘度５〜３０ｃｐ程度の紫外線硬化型アクリル系緑色レジスト液を吐出した。そして、１５秒間スピンを行った。これにより、絶縁膜１１５に、紫外線硬化型アクリル系緑色レジスト液からなる塗膜を形成した。
【００４４】
ガラス基板１１１を基板ホルダ５０から取り外した後、この塗膜を９０℃で３分間、プリベークし、次いで、この塗膜を所定のフォトマスクを介して紫外線で露光した。続いて、この塗膜を現像し、水洗後、さらに２３０℃で１時間、ポストベークすることにより、ストライプ状の緑色着色層１１６Ｇを得た。
【００４５】
次に、紫外線硬化型アクリル系緑色レジスト液の代わりに紫外線硬化型アクリル系青色レジスト液を使用したこと以外は緑色着色層１１６Ｇに関して説明したのと同様の方法により、ストライプ状の青色着色層１１６Ｂを形成した。続いて、紫外線硬化型アクリル系緑色レジスト液の代わりに紫外線硬化型アクリル系赤色レジスト液を使用したこと以外は緑色着色層１１６Ｇに関して説明したのと同様の方法により、ストライプ状の赤色着色層１１６Ｒを形成した。以上のようにして厚さ５μｍのカラーフィルタ層１１６を得た。
【００４６】
これら着色層１１６Ｇ，１１６Ｂ，１１６Ｒの膜厚を、カラーフィルタ層１１６の中心から周縁までの複数位置で測定した。その結果、着色層１１６Ｇ，１１６Ｂ，１１６Ｒの膜厚の最大値と最小値との差は０．１μｍであった。
【００４７】
次いで、紫外線硬化型アクリル系緑色レジスト液の代わりに紫外線硬化型アクリル系黒色レジスト液を使用したこと以外は緑色着色層１１６Ｇに関して説明したのとほぼ同様の方法により、周縁遮光層１１７を形成した。
【００４８】
次に、カラーフィルタ層１１６上に、所定のパターンのマスクを介してＩＴＯ（Indium Tin Oxide）をスパッタリングすることにより画素電極１１８を形成した。その後、画素電極１１８上に熱硬化性樹脂を塗布し、この塗膜を焼成した。さらに、この塗膜にラビング処理を施すことにより配向膜１１９を形成した。以上のようにして、アクティブマトリクス基板１１０を得た。
【００４９】
次に、透明基板１２１として別途用意したガラス基板の一方の主面上に、共通電極１２２として、スパッタリング法を用いてＩＴＯ膜を形成した。続いて、この共通電極１２２上に、アクティブマトリクス基板１１０に関して説明したのと同様の方法により配向膜１２３を形成した。以上のようにして、対向基板１２０を得た。
【００５０】
次に、対向基板１２０の配向膜１２３上に、図示しない粒状スペーサを散布した。次いで、対向基板１２０の配向膜１２３を形成した面の周縁部に、シール剤１３０を塗布した。なお、シール剤１３０の塗布は、液晶材料注入用の注入口が形成されるように行った。続いて、この対向基板１２０とアクティブマトリクス基板１１０とを、それらの配向膜１１９，１２３同士が向き合うように貼り合わせることにより、空状態の液晶セルを形成した。
【００５１】
その後、この液晶セル中に液晶材料を通常の真空注入法により注入して液晶層１４０を形成した。次いで、液晶注入口を紫外線硬化樹脂で封止し、液晶セルの両面に図示しない偏光フィルムを貼り付けることにより図６に示すＴＮ（Twisted Nematic）モードの液晶表示装置１００を完成した。
【００５２】
次に、以上のようにして作製した液晶表示装置１００を実際に駆動して、表示特性を調べた。その結果、表示ムラは視認されず、優れた表示品位を実現することができた。
【００５３】
（実施例２）
図７は、図７は、実施例２で使用した基板ホルダ５０を概略的に示す平面図である。図８は、図７に示す基板ホルダ５０のＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線に沿った断面図である。
【００５４】
この基板ホルダ５０は、スピンチャックであり、φ５００ｍｍの円形の平坦面を有するホルダ本体５２と、突上部材５３であるピンとを備えている。ホルダ本体５２の平坦面には、複数の吸着溝５１ｃが同心状に設けられており、中央部には複数の孔が設けられている。これら孔にはピン５３の一端がそれぞれ嵌め込まれており、ピン５３の他端はホルダ本体５２の平坦面から突き出ている。ピン５３の突出部は、ホルダ本体５２の平坦面中央から周縁に向けて順に低くなっており、ホルダ本体５２の平坦面を基準とした高さの最大値は１ｍｍである。また、これらピン５３を取り囲む最小の円の直径は８０ｍｍである。
【００５５】
本例では、図７及び図８に示す基板ホルダ５０を使用したこと以外は、実施例１で説明したのと同様の方法により、図６に示す液晶表示装置１００を作製した。なお、本例でも、実施例１と同様、着色層１１６Ｇ，１１６Ｂ，１１６Ｒを形成するための回転塗布を行う際、基板ホルダ５０の支持面からはみ出たガラス基板１１１の周縁部をその下面側からピン（図示せず）で支持し、これにより、基板ホルダ５０の支持面からはみ出たガラス基板１１１の周縁部が自重で変形するのを防止した。
【００５６】
本例でも、着色層１１６Ｇ，１１６Ｂ，１１６Ｒの膜厚を、カラーフィルタ層１１６の中心から周縁までの複数位置で測定した。その結果、着色層１１６Ｇ，１１６Ｂ，１１６Ｒの膜厚の最大値と最小値との差は０．１５μｍであった。
【００５７】
また、先の方法により作製した液晶表示装置１００を実際に駆動して、表示特性を調べた。その結果、表示ムラは視認されず、優れた表示品位を実現することができた。
【００５８】
（比較例）
本例では、図４及び図５に示す基板ホルダ５０の代わりに一般的な基板ホルダを使用したこと以外は実施例１で説明したのと同様の方法により、図６に示す液晶表示装置１００を作製した。すなわち、本例では、支持面中央部に凸状湾曲面５１ａが設けられていない，すなわち支持面中央部が平坦面である，こと以外は実施例１で使用したのと同様の構造を有する基板ホルダ５０を使用した。なお、本例でも、実施例１と同様、着色層１１６Ｇ，１１６Ｂ，１１６Ｒを形成するための回転塗布を行う際、基板ホルダ５０の支持面からはみ出たガラス基板１１１の周縁部をその下面側からピン（図示せず）で支持し、これにより、基板ホルダ５０の支持面からはみ出たガラス基板１１１の周縁部が自重で変形するのを防止した。
【００５９】
本例でも、着色層１１６Ｇ，１１６Ｂ，１１６Ｒの膜厚を、カラーフィルタ層１１６の中心から周縁までの複数位置で測定した。その結果、着色層１１６Ｇ，１１６Ｂ，１１６Ｒの膜厚の最大値と最小値との差は０．５５μｍであった。
【００６０】
また、先の方法により作製した液晶表示装置１００を実際に駆動して、表示特性を調べた。その結果、表示ムラが視認され、優れた表示品位を実現することができなかった。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の一態様に係る回転塗布装置を概略的に示す断面図。
【図２】図１の回転塗布装置で利用可能な基板ホルダの一例を概略的に示す断面図。
【図３】図１の回転塗布装置で利用可能な基板ホルダの他の例を概略的に示す斜視図。
【図４】実施例１で使用した基板ホルダを概略的に示す平面図。
【図５】図４に示す基板ホルダのＶ−Ｖ線に沿った断面図。
【図６】実施例１で作製した液晶表示装置を概略的に示す断面図。
【図７】実施例２で使用した基板ホルダを概略的に示す平面図。
【図８】図７に示す基板ホルダのＶＩＩＩ−ＶＩＩＩ線に沿った断面図。
【符号の説明】
【００６２】
１…回転塗布装置、１０…基盤、２０…結合部材、３０…モータ、３１…回転軸、４０…基板、５０…基板ホルダ、５１…支持面、５１ａ…凸状湾曲面、５１ｂ…平坦面、５１ｃ…吸着溝、５２…ホルダ本体、５３…突上部材、６０…ノズル、７０…スピンカップ、７１…容器、７２…傾斜壁、７３…排出管、８０…整流部材、８１…支持体、８２…整流板、１００…液晶表示装置、１１０…アクティブマトリクス基板、１１１…透明基板、１１２…ＴＦＴ、１１３…絶縁膜、１１４…ソース・ドレイン電極、１１５…絶縁膜、１１６…カラーフィルタ層、１１６Ｇ…緑色着色層、１１６Ｂ…青色着色層、１１６Ｒ…赤色着色層、１１７…周縁遮光層、１１８…画素電極、１１９…配向膜、１２０…対向基板、１２１…透明基板、１２２…共通電極、１２３…配向膜、１３０…シール剤、１４０…液晶層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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