(57)【要約】【課題】本発明は、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができる、磁気ヘッド用ガラス組成物および磁気ヘッドを提供することを目的とする。【解決手段】本発明の磁気ヘッド用ガラス組成物は、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ2：２〜３０％、Ｂ2Ｏ3：２９〜６８％、ＺｎＯ：８〜４７％、Ａｌ2Ｏ3：０．５〜２１％、Ｒ2Ｏ：１〜２０％、（Ｒ2Ｏ：Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏから選ばれる少なくとも一種）を含有する。【選択図】図１
2005339713.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物基準の質量％表示でＳｉＯ2：２〜３０％、Ｂ2Ｏ3：２９〜６８％、ＺｎＯ：８〜４７％、Ａｌ2Ｏ3：０．５〜２１％、Ｒ2Ｏ：１〜２０％、（Ｒ2Ｏ：Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏから選ばれる少なくとも一種）の組成を含有し、ＰｂＯを含有しないことを特徴とする磁気ヘッド用ガラス組成物。
【請求項２】
少なくとも一方に巻線用溝を設けた一対の磁気コア半体を、対向面をギャップ材として突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、前記一対の磁気コア半体が請求項１に記載の磁気ヘッド用ガラス組成物で接合されていることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項３】
少なくとも一方に巻線用溝を設け、少なくとも一方の磁気ギャップ部に金属磁性膜を形成した一対の磁気コア半体を、対向面をギャップ材として前記磁気ギャップ部を突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、前記一対の磁気コア半体が請求項１に記載の磁気ヘッド用ガラス組成物で接合されていることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項４】
少なくとも一方に巻線用溝を設け、非磁性基板で金属磁性膜を挟み込んでなる一対の磁気コア半体を、非磁性ギャップ材を介して接合した構造を有する磁気ヘッドであって、前記一対の磁気コア半体が請求項１に記載の磁気ヘッド用ガラス組成物接合されていることを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項５】
少なくとも一方に巻線用溝を設け、非磁性基板で金属磁性膜を挟み込んでなる一対の磁気コア半体を、ギャップ材を介して接合した構造を有する磁気ヘッドであって、前記非磁性基板と前記金属磁性膜が請求項１に記載の磁気ヘッド用ガラス組成物で接着されていることを特徴とする磁気ヘッド。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体に対する磁気情報の記録・再生に適した磁気ヘッドに関するものであり、磁気ヘッドを構成する磁気ヘッド用ガラスに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、磁気ヘッドは、磁気特性劣化防止の点で、より低温で磁気ギャップを形成できることが望まれている。
一般に、磁気ヘッドはコイルを巻いたリング状の一対の高透磁率磁性体に非常に狭い隙間（磁気ギャップ）を設けるようにしたものである。この磁気ギャップは、高透磁率磁性体の対向面に非磁性材料（ギャップ材）によって形成し、このギャップ材同士を接合したものである。
【０００３】
また、ビデオテープレコーダー用磁気ヘッドでは、高透磁率磁性体として、Ｍｎ−Ｚｎフェライト等の酸化物材料、Ｍｎ−Ｚｎフェライトやセラミックス等の酸化物材料と金属磁性薄膜が複合されたもの等が、使用されている。また、ギャップ材としては、非磁性金属、金属酸化物、ガラス等が、使用されている。
磁気ギャップ形成の一方法として、高透磁率磁性体表面に、ギャップ材をスパッタまたは、蒸着法で薄膜状に形成して、一対の磁気コア半体とし、さらに、前記一対の磁気コア半体を、ギャップ材同士をつき合わせて接合する方法がある。
【０００４】
磁気コア半体の接合は、ギャップ材同士が融着する温度で行なわれる。この時、高温で融着を行うと、高透磁率磁性体の特性劣化とギャップ材の変形とが発生し、磁気ヘッド特性が劣化する。そのため、高温による磁気特性劣化の発生を防止する為に、一般に、ギャップ材として図４に示すものがある。図４は従来の磁気ヘッドの磁気ギャップ部分を示す要部拡大図である。図４に示すように、高透磁率磁性体８に少なくとも第一層目に任意の非磁性物質層９、第二層目に低融点のガラス層１０を積層し、ガラス層１０同士を熱融着により接合し、磁気ギャップを形成する方法が用いられている（例えば特許文献１参照）。
この磁気ヘッドに使用されるガラスはＰｂＯ−ＳｉＯ2系、ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＺｎＯ系などが開発されている（例えば特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平９−２１９００９号公報
【特許文献２】特許第３１７３１３４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来のガラスは、低軟化点ガラスであったが、Ｂ2Ｏ3の含有量が少なく、温度にともなう粘性の変化が小さいため、軟化点より遥かに高い温度にしないと接合に必要な粘性まで下がらなかった。このため、接合のための熱処理温度は軟化点より１００〜１５０℃程度高くする必要があり、高温による磁性体の特性劣化が生じるという問題があった。
【０００６】
上述のように、高透磁率磁性体８に少なくとも第一層目に非磁性物質層９、第二層目にガラス層１０を積層し、第二層目のガラス層１０同士を熱融着により接合してなる、磁気ギャップを有する磁気ヘッドにおいて、ガラス層１０に従来のＰｂＯ−ＳｉＯ2系、ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＺｎＯ系のガラスを使用した場合、高い温度で磁気ギャップを形成する必要があり、高温による磁気特性の劣化を生じるという問題があった。
【０００７】
本発明は、かかる従来の実状に鑑みてなされたものであって、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化を防止できる磁気ヘッド用ガラス組成物および磁気ヘッドを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明者はＢ2Ｏ3の酸化物に着目し、鋭意研究の結果、従来のガラスよりＢ2Ｏ3の含有量を多くすることで、温度上昇による粘性の変化を大きくし、軟化点に近い温度で接合に必要な粘性が得られるようになった。このため、熱処理温度は軟化点より３０〜６０℃上げる程度と、低い温度でできるようになり、高温による磁気特性劣化のない、しかも他の特性は同等なガラス組成を見出した。他の特性とは、熱膨張係数、磁性材料との反応性、接合強度である。
【０００９】
本発明の請求項１に対応する発明は、磁気ヘッド用ガラス組成物において、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ2：２〜３０％、Ｂ2Ｏ3：２９〜６８％、ＺｎＯ：８〜４７％、Ａｌ2Ｏ3：０．５〜２１％、Ｒ2Ｏ：１〜２０％、（Ｒ2Ｏ：Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏから選ばれる少なくとも一種）の組成を含有することを特徴とする。
これにより、磁気ギャップを形成する際の高温による磁気特性劣化の発生を防止することができ、しかも接合強度の点で信頼性に優れた磁気ヘッド用ガラス組成物及び磁気ヘッドを提供するものである。
【発明の効果】
【００１０】
以上のように本発明の磁気ヘッド用ガラス組成物は、Ｂ2Ｏ3の含有量を多くし、軟化点に対する熱処理温度を低く抑えることができ、磁気特性の劣化なく磁気ギャップを形成することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
【表１】
2005339713.tif 000003
【００１２】
本発明の磁気ヘッド用ガラス組成物は、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ2：２〜３０％、Ｂ2Ｏ3：２９〜６８％、ＺｎＯ：８〜４７％、Ａｌ2Ｏ3：０．５〜２１％、Ｒ2Ｏ：１〜２０％、（Ｒ2Ｏ：Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏから選ばれる少なくとも一種）の組成を含有することを特徴とするものである。
【００１３】
さらに、ガラスの粘性や熱膨張係数の調整のために、０〜５％の範囲でＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｒＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、ＭｏＯ3，ＷＯ3、ＴｅＯ2、Ｂｉ2Ｏ3、Ａｇ2Ｏ等を添加することが可能である。そして、上記組成となるように、原料を調合して原料バッチとした。このバッチ原料を白金ルツボに入れ、１１００〜１４００℃の電気炉中で、１〜３時間加熱して溶融させた後、鉄板や金型上に流し出してガラスブロックを得た。このガラスブロックを徐冷した後、切断研磨して所定形状のガラス板、ガラスロッドや角棒に成形する。または徐冷後のガラスブロックを切断した後、リドロー加工して所定形状のガラスロッドや角棒に成形する。
【００１４】
上述のように（表１）は、本発明の請求項１に記載のガラス組成物の一例を示すものである。それぞれの成分の含有量の範囲を上記のように限定した理由は、実施例において詳細に説明する。
なお、以上のガラス組成物における構成成分以外の成分については、本発明の効果を損なわない範囲で、ある種の改質のために添加させることができる。
以下、本発明のガラス組成物の実施の形態について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【００１５】
表１の実施例１に記載してあるように、ＳｉＯ2：１８％、Ｂ2Ｏ3：３８％、ＺｎＯ：１５％、Ａｌ2Ｏ3：１２％、Ｎａ2Ｏ：１７％となるように、原料を調合してバッチ原料とする。このバッチ原料を白金ルツボに入れ１３００℃の電気炉中で２時間加熱溶融させた後、鉄板上に流してガラスブロックを成形し、一晩かけて徐冷した。
このようにして得られたガラスの特性を以下に示すようにして測定した。ガラス転移点及び軟化点…ガラスブロックの一部を切り出し、このガラス塊を１００メッシュ以下の粉末とした。そして、示差熱分析装置を用いて、昇温速度１０℃／ｍｉｎでそれぞれの温度を測定したところ、転移点４７２℃、軟化点５５２℃であった。
【００１６】
熱処理最低温度…鏡面状態に仕上げたフェライト単結晶板の表面に、ガラスをスパッタリングして試験片とし、上記試験片２枚をスパッタリングした面を互いに向き合せて重ねたものを、鋳鉄製のジグに挟み込んで０．４ＭＰａの圧力をかけた状態で、所定温度条件で加熱、冷却した。この時、試験片の加熱到達温度を、軟化点から１０℃間隔で、それぞれ設定した。加熱冷却後に、互いに溶着した２枚の試験片を引き剥がし、光学顕微鏡観察した。ガラスの軟化によって、２枚の試験片にスパッタリングしたガラスの界面が消失していることが認められる最も低い温度を熱処理最低温度とした。その結果、処理最低温度は５９５℃であった。したがって、熱処理温度が７５０℃以下となることから、磁性材料の磁気特性を劣化させることなく封着を行うことができる。
【００１７】
熱膨張係数…ガラスブロックから切り出したものを、５φ×２０ｍｍのサイズに加工し、示差膨張計を用いて昇温速度１０℃／ｍｉｎで、３０〜３００℃までの平均熱膨張係数を測定したところ、９９×１０-7／℃であった。
【００１８】
ガラス安定性…ガラスブロックから切り出したものを、０．５×０．５×３０ｍｍのガラスロッドに成形し、アルミナ基板上に載置した状態で７５０℃・１時間熱処理し、室温まで冷却した後、５０倍の光学顕微鏡でガラス表面を観察した。その結果、結晶の析出は見られなかった。したがって、結晶析出による封着強度の低下ならびに、熱膨張係数の変化を防ぐことができる。このガラス自体は、上記したように、５９５℃程度の熱処理で十分封着することはできるが、本評価では、磁性材料の磁気特性の劣化が生じない限度の高温で評価した。
【００１９】
フェライトとの反応性…ガラスブロックから切り出したものを、３×３×１０ｍｍのサイズに加工し、これを鏡面状態に仕上げた単結晶フェライト上に載置した状態で、軟化点＋１００℃で１時間の熱処理をした。その後、室温まで冷却してから、ガラスとフェライトとの断面を研磨仕上げし、その界面を５００倍の光学顕微鏡で観察した。その結果、フェライト面にガラスとの反応による侵食は生じていなかった。したがって、このガラスを用いて封着を行っても磁性材料の磁気特性の劣化は生じないものである。
【００２０】
表１の実施例２〜８に記載してあるように、原料を調合してバッチ原料としたものを白金ルツボで、表１に記載した溶融条件で溶融した後、実施例１と同様に、鉄板上に流し出してガラスブロックを成形後、一晩かけて除冷した。
そして、このガラスブロックから特性評価用のサンプルを上記実施例１と同様に作成し、評価したところ、ガラス転移点は４４３〜５２５℃となっており、軟化点は５１７〜６３０℃となった。熱処理の最低温度は軟化点より３０〜５０℃高い温度であったので、磁性材料の磁気特性を劣化させることなく磁気コア半体の接合ならびに、非磁性基板と金属磁性膜の接着を行うことができる。
また、熱膨張係数は４５〜１２４×１０-7／℃となっており、磁気コア半体の接合ならびに、非磁性基板と金属磁性膜の接着を行うことができる。
【００２１】
ガラス安定性の評価では、すべてのサンプルを５０倍の光学顕微鏡で観察したが、結晶の析出しているものはなかった。したがって、これらのガラスを用いて磁性材料を封着しても封着強度を低下させたり、磁気ヘッドの機能を損なわせたりすることはない。
フェライトとの反応性の評価では、すべてのサンプルのガラスとフェライトとの界面を５００倍の光学顕微鏡で観察したが、フェライト面にガラスとの反応による侵食は生じていなかった。したがって、これらガラスを用いて磁性材料を封着しても磁気特性を劣化させるものではない。
【００２２】
比較例１はＰｂＯ−ＳｉＯ2系ガラスの例でＢ2Ｏ3の含有量が４．５％であり、比較例２はＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3−ＺｎＯ系ガラスでＢ2Ｏ3の含有量が２１％である。この比較例からもわかるように、磁気ヘッド用ガラス組成物でＢ2Ｏ3の含有量が少ないと、温度による粘性の変化が少ないため、熱処理最低温度はガラスの軟化点より１００℃程度と高くしなければならない。
【００２３】
ここで、本発明を構成する各成分の限定理由を以下に示す。Ｂ2Ｏ3はガラス組成物の主要成分であり、温度による粘性の変化を大きくし、軟化点に近い温度で熱処理可能な粘性に下げる効果がある。その含有量は２９〜６８％（以下「％」とは特に断りのない限り「質量％」を意味する）、好ましくは３２〜６７％である。Ｂ2Ｏ3の含有量が６８％を超えるとガラスの軟化温度が高くなり所定の温度での熱処理が困難となる。一方、２９％未満ではガラスが熱処理温度を下げる効果がなくなる。
【００２４】
ＳｉＯ2は、磁性材料との反応を抑える効果と、ガラスの化学耐久性の向上に効果がある。その含有量は２〜３０％、好ましくは、８〜２８％である。ＳｉＯ2含有量が３０％を超えると軟化温度が高くなり所定の温度での熱処理が困難となる。２％未満では磁性材料との反応を抑える効果と、ガラスの化学耐久性の向上に効果がなくなる。また、ガラスが不安定になって結晶化し易くなる。
【００２５】
ＺｎＯは、ガラスの安定化に効果があり、その含有量は８〜４７％、好ましくは８〜４０％である。ＺｎＯの含有量が４７％を超えると結晶化し易くなり安定したガラスが得られなくなる。８％未満ではガラスの安定化に効果がない。
【００２６】
Ａｌ2Ｏ3は、ガラスの化学耐久性の向上と、安定化に効果があり、その含有量は０．５〜２１％、好ましくは１〜１６％である。Ａｌ2Ｏ3の含有量は２１％を超えると軟化温度が高くなり所定の温度での熱処理が困難となる。０．５％未満ではガラスの化学耐久性の向上と、安定化に効果がない。
【００２７】
Ｒ2Ｏ、すなわちＬｉ2Ｏ、Ｎａ2Ｏ、Ｋ2Ｏから選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属酸化物はガラスの軟化温度を下げる効果がある。その含有量はＲ2Ｏ全体で１〜２０％、好ましくは２〜１８％である。Ｒ2Ｏの含有量が２０％を超えると、熱処理時の結晶化傾向が著しく上がり、安定したガラスが得られなくなる。１％未満ではガラスの軟化温度を下げる効果がない。また、Ｌｉ2Ｏの含有量は０〜１５％、好ましくは０〜１０％、Ｎａ2Ｏの含有量は０〜２０％、好ましくは０〜１９％、Ｋ2Ｏの含有量は０〜１５％、好ましくは０〜８％である。各成分の含有量が、上記範囲を超えると安定したガラスが得られなくなる。
【００２８】
なお上記成分以外にも、ガラスの粘性や熱膨張係数の調整等のために、０〜５％の範囲で、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｒＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、ＭｏＯ3，ＷＯ3、ＴｅＯ2、Ｂｉ2Ｏ3、Ａｇ2Ｏ等を添加することが可能である。
【００２９】
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｒＯ2、Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、ＭｏＯ3，ＷＯ3、ＴｅＯ2、Ｂｉ2Ｏ3、Ａｇ2Ｏなどは５％を超えて含有すると熱処理時に結晶化を起こしやすなる。ＢａＯは５％を超えて含有すると耐水性が悪くなり有害な水溶性ＢａＯが溶出し易くなり好ましくない。Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、ＭｏＯ3，ＷＯ3等の着色する成分は５％を超えて含有すると、ガラスの着色が強くなり、光学顕微鏡等を利用してのギャップ深さの測定が難しくなるため好ましくない。
【００３０】
磁性材料は７５０℃を超える温度になると、磁気特性が劣化するため、低温で熱処理を行うことが必要である。本発明のガラス組成物を磁気ヘッド用材料との接合及び接着に使用する場合、７５０℃以下での熱処理ができるのはもちろんのこと、軟化点＋３０〜５０℃で熱処理することができる。このため磁気特性を劣化することなくギャップの接合や、非磁性基板と金属磁性膜の接着に用いることができる。
【００３１】
本発明のガラス組成物の熱膨張係数は、磁性材料の熱膨張係数に近く、磁性材料と反応せず、さらにガラスが安定で熱処理工程においてガラスが結晶化しない。したがって、このガラス組成物を、例えば、所定の形状、大きさのガラスロッドまたは角棒に成型し、軟化点＋３０〜５０℃の熱処理を行えば、磁気ヘッド用磁性材料の接合及び接着に用いることができる。
【００３２】
なお、以上の磁気ヘッド用ガラス組成物は、バルク、粉末、ファイバーまたは薄膜などの形状にして磁気ヘッドの製造に用いることができる。その他の形状にしてもよい。さらに、これらの磁気ヘッド用ガラス組成物は、ガラス組成物単独からなる材料、またはガラス組成物と他の材料との複合材料として使用することができる。
また、これらの磁気ヘッド用ガラス組成物は、他の材料との複合材料として使用することによって、４５×１０-7〜１２４×１０-7／℃の範囲を超えた熱膨張係数を有する材料として使用することができる。
【００３３】
図１は、本発明の請求項２に記載の磁気ヘッドの一例を示すものであり、少なくとも一方に巻線溝を設けた一対の磁気コア半体３、４、を、磁気ギャップ２を介して突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、一対の磁気コア半体３、４、が、接合ガラス１で接合されているものである。図１の接合ガラス１は、請求項１に示すものである。
【００３４】
以下、本発明の請求項２に記載の磁気ヘッドの実施の形態について説明するが、本発明はこれらによって制限されるものではない。
まず、所定形状に成形したＭｎ−Ｚｎ単結晶フェライト磁性材料にギャップ材として非磁性体にＳｉＯ2、接合ガラス１として実施例１のガラスをスパッタリングし、磁気コア半体３、４を作成した。次に、磁気コア半体３、４を互いに突き合わせ、治具で保持した後、５９５℃で接合する。さらに、外形を所定の寸法、形状に加工し、磁気ヘッドを完成した。
【００３５】
図２は、本発明の請求項３に記載の磁気ヘッドの一例を示すものであり、少なくとも一方に巻線用溝を設け、少なくとも一方の磁気ギャップ部に金属磁性膜５を形成した一対の磁気コア半体３、４を、磁気ギャップ部２を介して突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、一対の磁気コア半体３、４が、接合ガラス１で接合されているものである。図２の接合ガラスは、請求項１に示すものである。
【００３６】
以下、本発明の磁気ヘッドの実施の形態について説明するが、本発明はこれらによって制限されるものではない。
まず、所定形状に成形したＭｎ−Ｚｎ単結晶フェライト磁性材料に、金属磁性膜としてＦｅ−Ｔａ−Ｎ膜を用い、ギャップ材として非磁性体にＳｉＯ2、接合ガラスに実施例１のガラスをスパッタリングし、磁気コア半体３、４を作成した。次に、磁気コア半体３、４を互いに突き合わせ、治具で保持した後、５９５℃で接合する。さらに、外形を所定の寸法、形状に加工し、磁気ヘッドを完成した。
【００３７】
このようにして得られた磁気ヘッドの磁気コア半体３、４の接合強度を確認するため、以下に示すように測定した。
接合強度・・・三点曲げ法により測定した。磁気ヘッドの中央部を１ｍｍの間隔で水平に二点支持し、支持二点間の中央に上部からロードセルにより１ｍｍ／ｍｉｎの速度で荷重を印加し、磁気ヘッドが破断した荷重から強度を算出した。磁気ヘッド１２個の測定値の中で最大値と最小値を除いた１０個の測定値の平均値を磁気ヘッドの接合強度としたところ、２１４ＭＰａとなった。
【００３８】
図３は、本発明の請求項４または、請求項５に記載の磁気ヘッドの一例を示すものであり、少なくとも一方に巻線用溝を設け、非磁性基板６で金属磁性膜５を挟み込み、少なくとも一方の前記非磁性基板６と金属磁性膜５を接着ガラス７で接着した一対の磁気コア半体３、４を、磁気ギャップ２を介して突き合わせ、接合した構造を有する磁気ヘッドであって、一対の磁気コア半体３、４が、接合ガラス１で接合されているものである。本発明の請求項４に記載の磁気ヘッドにおいて、図３の接合ガラス１は、請求項１に示すものである。また、本発明の請求項５に記載の磁気ヘッドにおいて、図３の接着ガラス７は、請求項１に示すものである。
【００３９】
以下、本発明の請求項５に記載の磁気ヘッドの実施の形態について説明するが、本発明はこれらによって制限されるものではない。
まず、鏡面に仕上げたＴｉ−Ｍｇ−Ｎｉ焼結体基板６に、Ｃｏ−Ｎｂ−Ｔａ−Ｚｒ膜５をスパッタリングで成膜し、さらに連続して接着ガラス７として実施例８のガラスを同様にスパッタリングで成膜した。
【００４０】
この金属磁性膜６と接着ガラス７等をスパッタしたＴｉ−Ｍｇ−Ｎｉ焼結基板６と、何も成膜されていないＴｉ−Ｍｇ−Ｎｉ焼結体基板を重ね合わせ加圧保持し、６６５℃接着し、非磁性基板６で金属磁性膜５を挟み込みこんだ構造にした。
【００４１】
さらに、上記のように積層接着した基板材料のブロックに、ギャップ材として非磁性体層としてＳｉＯ2、接合ガラス１として実施例１のガラスをスパッタリングした後、機械加工により成型し磁気コア半体３、４を作成した。次に、磁気コア半体３、４を互いに突き合わせ、治具で保持した後、５９５℃で接合する。さらに、外形を所定の寸法、形状に加工し、磁気ヘッドを完成した。
【００４２】
以上のような本実施の形態の磁気ヘッドは、いずれも封着時の熱処理工程において結晶化しにくく、ガラス安定性に優れた本発明の磁気ヘッド用ガラス組成物を使用しているので、電磁変換特性に優れた磁気ヘッドとして供給することができる。また、接合強度においては（表１）に示すように従来と同等である。
【００４３】
なお、以上の磁気ヘッドにおける、高透磁率磁性材料および磁気ギャップ材料には、基本的に従来からの材料を用いることができる。また、本発明における磁気ヘッド用ガラス組成物は、以上の磁気ヘッド以外の構造を有する磁気ヘッドにも使用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明のガラス組成物は、セラミック、ガラス及び金属などの各種材料の接着材料、封着材料、被覆材料、または種々の機能を有するペースト材料として、電子機器用の各種部品をはじめ、あらゆる用途において従来使用されていたガラス材料に代えて使用することができる。例えば、各種ＬＣＲ部品、半導体パッケージ、その他の電子部品、ＣＲＴ、蛍光表示管、プラズマディスプレイパネルなどの表示デバイスに使用することができる。さらに照明用の管球製品、ホーロー製品及び陶磁器製品などにおいても使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
【図１】本発明の実施の形態による磁気ヘッドの概略を示す斜視図
【図２】本発明の実施の形態による磁気ヘッドの概略を示す斜視図
【図３】本発明の実施の形態による磁気ヘッドの概略を示す斜視図
【図４】従来の磁気ヘッドの磁気ギャップ部分を示す要部拡大図
【符号の説明】
【００４６】
１  接合ガラス
２  磁気ギャップ
３  磁気コア半体
４  磁気コア半体
５  金属磁性膜
６  非磁性基板
７  接着ガラス
８  高透磁率磁性体
９  非磁性体層
１０  ガラス層
【図１】
2005339713.tif 000004
【図４】
2005339713.tif 000005
【図２】
2005339713.tif 000006
【図３】
2005339713.tif 000007