(57)【要約】【課題】パレット上に基板を載せた搬送しながら、基板の確実な洗浄を可能にする。【解決手段】  複数の基板３が載置されたパレット１を搬送する搬送機構２と、前記搬送機構２によって搬送されるパレット１の上方の所定位置において、前記パレット１の搬送方向に交差する方向に揺動しながら、前記基板３に向けて洗浄液を吐出する吹き出し部４と、前記パレット１と前記基板３との間の水分を除去する水切り機構とを具備したことを特徴とする。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板が載置されたパレットを搬送する搬送機構と、
前記搬送機構によって搬送されるパレットの上方の所定位置において、前記パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、前記基板に向けて洗浄液を吐出する吹き出し部と、
前記パレットと前記基板との間の水分を除去する水切り機構とを具備したことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項２】
前記吹き出し部は、前記洗浄液を吐出する複数の開口部を具備し、前記複数の開口部の間隔以上の距離を揺動することを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記水切り機構は、前記搬送機構によって搬送されるパレットの下方の所定位置において、前記パレットに形成された開孔に臨む吸引部と、
前記吸引部を介して前記パレット上への吸引力を発生する吸引手段とを具備したことを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記吸引手段は、前記基板を前記パレットに吸着させる吸着手段を兼ねていることを特徴とする請求項３に記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
前記パレットを更に具備し、
前記パレットは、前記基板が載置される底面と前記基板との間に、前記吸引手段の吸引経路を構成する隙間が形成されていることを特徴とする請求項３に記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
前記吹き出し部は、前記パレットの移動方向の反対方向を頂点とするＶ字形状を有することを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項７】
複数の基板が載置されたパレットを搬送する搬送機構と、
前記搬送機構によって搬送されるパレットの下方の所定位置において、前記パレットに形成された開孔に臨む吸引部と、
前記搬送機構による搬送途中で洗浄液が吹き付けられて洗浄された前記基板に付着した水分を、前記吸引部を介して吸引する吸引手段とを具備したことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項８】
複数の基板が載置されたパレットを搬送する搬送機構と、
前記搬送機構によって搬送されるパレットの上方の所定位置において、前記パレットの移動方向の反対方向を頂点とするＶ字形状を有して、前記パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、前記基板に向けて洗浄液を吐出する吹き出し部とを具備したことを特徴とする基板洗浄装置。
【請求項９】
複数の基板が載置されたパレットを搬送する搬送手順と、
搬送されるパレットの上方の所定位置において、前記パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、前記基板に向けて洗浄液を吐出する吹き出し部によって前記基板を洗浄する洗浄手順と、
前記パレットと前記基板との間の水分の水切りを行う水切り手順とを具備したことを特徴とする基板洗浄方法。
【請求項１０】
電気光学装置用の基板をパレット上に載置する手順と、
前記請求項９に記載の基板洗浄方法を用いて前記パレット上の複数の基板を洗浄・水切りする手順とを具備したことを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶基板のラビング後の洗浄工程等に好適な基板洗浄装置、基板洗浄方法及び電気光学装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、液晶装置は、ガラス基板、石英基板等の２枚の基板間に液晶を封入して構成される。液晶装置の構造としては、基板の表面に画素をマトリクス状に配列させたパッシブ方式のものや、各画素毎にＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）やＴＦＤ（Thin Film Diode：薄膜ダイオード）等の非線形素子を設け、この非線形素子を介して信号電極と画素電極とを接続したアクティブ方式のもの等がある。
【０００３】
アクティブ方式の液晶装置は、一方の基板に、能動素子をマトリクス状に配置し、他方の基板に対向する電極を配置して、両基板間に封止した液晶層の光学特性を画像信号に応じて変化させることで、画像表示を可能にする。
【０００４】
ＴＦＴを配置したＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向配置される対向基板とは、別々に製造される。両基板は、パネル組立工程において高精度に貼り合わされた後、液晶が封入される。
【０００５】
パネル組立工程においては、先ず、各基板工程において夫々製造されたＴＦＴ基板と対向基板との対向面、即ち、対向基板及びＴＦＴ基板の液晶層と接する面上に配向膜が形成され、次いでラビング処理が行われる。次に、一方の基板上の端辺に接着剤となるシール部が形成される。ＴＦＴ基板と対向基板とをシール部を用いて貼り合わせ、アライメントを施しながら圧着硬化させる。シール部の一部には切り欠きが設けられており、この切り欠きを介して液晶を封入する。
【０００６】
配向膜を形成してラビング処理を施すことで、電圧無印加時の液晶分子の配列が決定される。配向膜は、例えばポリイミドを約数十ナノメーターの厚さで塗布することにより形成される。液晶層に対向する両基板の面上に配向膜を形成することで、液晶分子を基板面に沿って配向処理することができる。ラビング処理は、配向膜表面に細かい溝を形成して配向異方性の膜にするものであり、配向膜に一定方向のラビング処理を施すことで、液晶分子の配列を規定することができる。
【０００７】
ところで、このようなラビング処理では、多量の塵埃が発生し、基板表面に付着してしまうことがある。そこで、両基板のラビング処理後に、基板表面に付着した塵埃を除去する洗浄工程が行われる。
【０００８】
ラビング後の洗浄工程としては、バッチ洗浄方式、インラインシャワー洗浄方式、エアーブロー方式及びテープ除塵方式等がある。バッチ洗浄方式は、純水槽に基板を浸漬させ、バブリングや超音波によって洗浄する方法である。インラインシャワー洗浄方式は、基板をコロ搬送により順送りしながら、表裏面に純水シャワーを吹き付けて洗浄する方法である。エアーブロー方式は、フィルターを通してＮ２（窒素）ガスを吹き付けることにより、基板表面をクリーニングする方法である。また、テープ除塵方式は、クリーニング用テープの貼付け及び剥離によって汚染物をテープに転写するクリーニング方法である。
【０００９】
特に、サイズが比較的小さい対向基板の洗浄方法としては、洗浄の容易さ或いは製造効率等の理由から、複数の対向基板をパレットに載置して行うテープ除塵が採用される。なお、基板をパレット上に載せて搬送するものとして特許文献１の装置がある。
【特許文献１】特開２０００−２１４４６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
ところが、テープ除塵においては、クリーニング用テープからの汚染物や粘着物の逆転写による表面汚染の問題があり、更に、テープの貼り付けによってダメージが生じる虞もあるという問題点があった。
【００１１】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、洗浄効率を低下させることなく、複数の基板を同時に且つ確実に洗浄することができる基板洗浄装置、基板洗浄方法及び電気光学装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明に係る基板洗浄装置は、複数の基板が載置されたパレットを搬送する搬送機構と、前記搬送機構によって搬送されるパレットの上方の所定位置において、前記パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、前記基板に向けて洗浄液を吐出する吹き出し部と、前記パレットと前記基板との間の水分を除去する水切り機構とを具備したことを特徴とする。
【００１３】
このような構成によれば、パレット上には複数の基板が載置される。搬送機構は、複数の基板が載置されたパレットを搬送する。吹き出し部は、搬送機構によって搬送されるパレットの上方の所定位置において、パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、基板に向けて洗浄液を吐出する。搬送機構によるパレットの搬送と吹き出し部との揺動とによって、吹き出し部から吐出される洗浄液は、十分な強さで且つ基板表面に対して種々の角度から基板表面に吹き付けられることになり、基板表面の異物等の除去効果が高い。これにより、複数の基板を高い洗浄力で同時に洗浄することが可能となる。
【００１４】
また、前記吹き出し部は、前記洗浄液を吐出する複数の開口部を具備し、前記複数の開口部の間隔以上の距離を揺動することを特徴とする。
【００１５】
このような構成によれば、吹き出し部が開口部間隔以上の距離を揺動するので、吹き出し部から吐出される洗浄液は、基板全域に隙間無く吹き付けられることになり、基板の確実な洗浄が可能となる。
【００１６】
また、前記水切り機構は、前記搬送機構によって搬送されるパレットの下方の所定位置において、前記パレットに形成された開孔に臨む吸引部と、前記吸引部を介して前記パレット上への吸引力を発生する吸引手段とを具備したことを特徴とする。
【００１７】
このような構成によれば、吸引部は、搬送機構によって搬送されるパレットの下方の所定位置においてパレットに形成された開孔に臨み、この開孔を介してパレット上面側に吸引力を施す。これにより、複数の基板を載置した状態のパレットを搬送しながら、例えばパレット上の基板に残留する水分を吸引排出することができる。
【００１８】
また、前記吸引手段は、前記基板を前記パレットに吸着させる吸着手段を兼ねていることを特徴とする。
【００１９】
このような構成によれば、吸引手段によって、基板をパレットに吸着させているので、洗浄工程及び乾燥工程等において、基板がパレットから外れてしまうことを防止することができる。
【００２０】
また、前記パレットを更に具備し、前記パレットは、前記基板が載置される底面と前記基板との間に、前記吸引手段の吸引経路を構成する隙間が形成されていることを特徴とする。
【００２１】
このような構成によれば、パレット底面の溝部又は突部によって、パレットと基板との間には隙間が形成されるので、この隙間を介して基板に残留する水分を排出することが容易となる。
【００２２】
また、前記吹き出し部は、前記パレットの移動方向の反対方向を頂点とするＶ字形状を有することを特徴とする。
【００２３】
このような構成によれば、Ｖ字形状の吹き出し部からの洗浄液は、基板の中央から周辺部に向けて流れやすいので、基板表面に異物が残留することを防止して、確実な洗浄が可能となる。
【００２４】
また、本発明に係る基板洗浄装置は、複数の基板が載置されたパレットを搬送する搬送機構と、前記搬送機構によって搬送されるパレットの下方の所定位置において、前記パレットに形成された開孔に臨む吸引部と、前記搬送機構による搬送途中で洗浄液が吹き付けられて洗浄された前記基板に付着した水分を、前記吸引部を介して吸引する吸引手段とを具備したことを特徴とする。
【００２５】
このような構成によれば、複数の基板が載置されたパレットは搬送機構によって搬送される。この搬送機構の搬送途中において、基板は洗浄液が吹き付けられて洗浄される。吸引部は、洗浄後に搬送機構によって搬送されるパレットの下方の所定位置において、パレットに形成された開孔に臨む。吸引手段は、吸引部を介した吸引によって、パレット上の基板に付着した水分を吸引する。これにより、基板裏面側の水分も確実に水切りされる。
【００２６】
また、本発明に係る基板洗浄装置は、複数の基板が載置されたパレットを搬送する搬送機構と、前記搬送機構によって搬送されるパレットの上方の所定位置において、前記パレットの移動方向の反対方向を頂点とするＶ字形状を有して、前記パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、前記基板に向けて洗浄液を吐出する吹き出し部とを具備したことを特徴とする。
【００２７】
このような構成によれば、複数の基板はパレットに載置された状態で、搬送機構により搬送される。搬送機構によって搬送されるパレットの上方の所定位置には、パレットの移動方向の反対方向を頂点とするＶ字形状を有する吹き出し部が配置される。吹き出し部は、パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、基板に向けて洗浄液を吐出する。基板の移動及びパレットの揺動によって、基板表面には、十分な強さで且つ種々の角度から洗浄液が吹き付けられる。更に、吹き出し部がＶ字形状を有するので、洗浄液は基板の中央から周辺部に向けて流れやすく、基板表面に異物が残留することを防止して、確実な洗浄が可能となる。
【００２８】
本発明に係る基板洗浄方法は、複数の基板が載置されたパレットを搬送する搬送手順と、搬送されるパレットの上方の所定位置において、前記パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、前記基板に向けて洗浄液を吐出する吹き出し部によって前記基板を洗浄する洗浄手順と、前記パレットと前記基板との間の水分の水切りを行う水切り手順とを具備したことを特徴とする。
【００２９】
このような構成によれば、複数の基板が載置されたパレットは、洗浄手順において吹き出し部の下方を搬送される。洗浄手順においては、吹き出し部は、パレットの搬送方向に交差する方向に揺動しながら、基板に向けて洗浄液を吐出する。これにより、高い洗浄力が得られる。水切り手順では、パレットと基板との間の水分の水切りが行われる。これにより、基板は確実に乾燥されて、水垢等が残ることが防止される。
【００３０】
本発明に係る電気光学装置の製造方法は、電気光学装置用の基板をパレット上に載置する手順と、上記基板洗浄方法を用いて前記パレット上の複数の基板を洗浄・水切りする手順とを具備したことを特徴とする。
【００３１】
このような構成によれば、パレット上に載置された複数の基板は、高い洗浄力で同時に洗浄され、確実に水切り処理が行われる。これにより、表示性能に優れた電気光学装置を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３２】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。図１は本発明の第１の実施の形態に係る基板洗浄装置を示す斜視図である。図２は図１中の吹き出し口を説明するための説明図、図３は基板洗浄装置の全体構成を示す説明図である。図４は本実施の形態における水切り機構を説明するための説明図である。
【００３３】
本実施の形態においては、図３に示すように、パレット１上に複数の基板３を配置した状態で、パレット１を搬送路上で移動させながら、洗浄工程及び乾燥工程を実施するようになっている。
【００３４】
図３（ａ），（ｂ）の洗浄工程においては、吹き出し部としてのシャワーノズル４を用いた洗浄を行う。図１において、搬送路上に搬送機構としての複数の搬送ローラ２が設けられている。搬送ローラ２は、搬送路に固定された図示しない支持部材によって回転軸が支持されて回動する。搬送ローラ２上にはパレット１が載置されるようになっている。パレット１上には、例えば液晶装置に用いられる対向基板等の基板３が複数配置されるようになっている。例えば、パレット１上には基板３のサイズに応じた図示しない溝が形成されており、基板３はこの溝部に底部側が嵌込まれて、パレット１上に固定的に配置される。パレット１が載置された搬送ローラ２が回転することによって、パレット１を基板３と共に搬送路上で移動させることができる。
【００３５】
なお、本実施の形態におけるパレット１は、後述するように、底面に開孔１３（図４参照）が形成されている。また、パレット１の各基板３が配置される部分には、突部又は溝部が形成されて、各基板３は少なくとも一部において、パレット１の底面と隙間を有して配置されるようになっている。また、この隙間とパレット１の底面に設けられた開孔１３とは連通されている。また、パレット１は開孔１３又は図示しない他の開孔を介して、真空吸着されるようになっている。これにより、洗浄工程及び乾燥工程途中において、基板３がパレット１から外れることを防止することができる。
【００３６】
なお、洗浄中においては、パレット１の底面と基板３との間の隙間に水が溜まっており、パレット１の底面に設けた開孔からの真空吸着によって、十分な吸着力で基板３をパレット１上に固定的に配置することができる。また、この隙間に水が溜まっていない場合でも、隙間の間隔が比較的小さい場合にはある程度の吸着力が得られる。
【００３７】
本実施の形態においては、搬送路上の所定位置には、パレット１上に隣接してシャワーノズル４が配設されている。シャワーノズル４は先端に吹き出し口６を有しており、図示しない洗浄液収納タンク等から洗浄液等が供給されて、洗浄液等５を吹き出し口６から吹き出すことができるようになっている。洗浄液の吹き出し口６の開口面積を比較的小さく設定することによって、シャワーノズル４は、比較的高い水圧で洗浄液５を基板３表面に吐出することができる。
【００３８】
更に、本実施の形態においては、シャワーノズル４は、洗浄液５を吹き出しながら、パレット１の移動方向に交差する方向、例えば直交する方向に揺動自在である。
【００３９】
図２はシャワーノズル４の吹き出し口６の一例を示している。図２に示すように、シャワーノズル４の先端には複数の吹き出し口６が設けられている。パレット１の揺動は、例えば吹き出し口６相互の間隔以上の移動量に設定される。これにより、シャワーノズル４によって、基板３の全域に洗浄液５を吹き付けることができると共に、基板３の全域のいずれの部分においても、十分な水圧で洗浄液５を吹き付けることができる。
【００４０】
更に、シャワーノズル４と揺動とパレット１の移動とが同時に行われ、シャワーノズル４は、洗浄液等５を十分な強度で基板３表面に吹き付けることができる。また、基板３には、基板３表面に対して種々の角度傾斜した方向からも洗浄液５が吹き付けられることになる。これにより、基板３上の異物等の除去効果が極めて高く、高い洗浄効果を得ることができる。
【００４１】
なお、シャワーノズル４の吹き出し口の個数及び間隔、並びに、シャワーノズル４自体の揺動速度及び距離を適宜設定することによって、洗浄効率を向上させるようになっている。
【００４２】
搬送ローラ１は、洗浄工程終了後のパレット１を、図３（ｃ）に示す乾燥工程の処理位置まで搬送することができる。図３（ｃ）に示す乾燥工程においては、エアーナイフ８を用いた乾燥処理が行われる。
【００４３】
エアーナイフ８は、搬送上のパレット１上方に配置されており、基板３の表面に対して所定角度傾斜したエア吹き出し口を有している。エアナイフ８は、高圧のエアを基板３の表面に、基板３表面に対して所定角度傾斜した方向から吹き付けることができ、これにより、基板３表面の水分を基板３表面から吹き飛ばすことができるようになっている。
【００４４】
更に、本実施の形態においては、図３（ｃ）に示す乾燥工程において、パレット１底面に設けた開孔１３を介して、水分を下方に吸引することができるようになっている。図４は図３（ｃ）に示す乾燥工程における水切り機構を示す説明図である。図４においては、説明を簡略化するために、パレット１が１個の基板３のみを配置するようになっているものとして説明する。
【００４５】
図４においては、パレット１は、底面に開孔１３が形成されている。また、パレット１は、基板３が配置される部分の底面に突部１１が形成されており、基板３はこの突部１１上に配置されることで、基板３底部とパレット１の底面上との間に隙間を有して基板３が配置されることになる。なお、突部１１に代えて、所定形状の溝部を形成することによっても、基板３底部とパレット１の底面上との間に隙間有して基板３を配置することができることは明らかである。
【００４６】
一方、図４では図示しない搬送ローラ２の下方には、回収部１５が図示しない支持部材に支持されて固定配置されている。回収部１５は上面の吸引管部９及び底面の排出口１４のみが開口した筐体である。回収部１５の吸引管部９はパレット１の開孔１３に対応する位置の複数箇所に配列されており、パレット１の移動に応じて、各吸引管部９がパレット１の開孔１３に臨むようになっている。なお、１カ所に吸引管部９を設けた構成であってもよい。
【００４７】
一方、回収部１５は、排出口１４に図示しない回収ポンプが接続されており、回収ポンプの吸引力によって、図４の矢印に示す水の流れを生じさせるようになっている。即ち、パレット１の開孔１３が吸引管部９に対向することによって、回収ポンプの吸引力によって、パレット１の底面上に残留している水分が、吸引管部９を介して回収部１５に流れ出し、更に、排出口１４を介して外部に排出されるようになっている。
【００４８】
搬送ローラ１は、図３（ｃ）に示す乾燥工程が終了すると、図３（ｄ）に示す乾燥工程の処理位置までパレット１を搬送するようになっている。図３（ｄ）に示す乾燥工程においては、ヒーター１０を用いた乾燥処理が行われる。
【００４９】
次に、このように構成された実施の形態の動作について説明する。
【００５０】
複数の基板３をパレット１に配置し、パレット１を搬送ローラ２上に載置する。搬送ローラ２は、回転することによって、パレット１と共に基板３を搬送路上で搬送する。基板３がシャワーノズル４の吹き出し口６に対向する位置まで搬送されると、図示しないシャワーノズル４の揺動機構によって、シャワーノズル４がパレット１の進行方向に例えば直交する方向に揺動する。
【００５１】
この状態で、図示しない洗浄液収納タンクから洗浄液等５がシャワーノズル４に供給されて、シャワーノズル４は、吹き出し口６から洗浄液等５を吹き出す。シャワーノズル４から吹き出された洗浄液５は、種々の角度でかつ十分な圧力で基板３の表面に吹き出される。基板３が移動しながら、シャワーノズル４が揺動して、洗浄液５を吹き出しているので、基板３の表面には十分な圧力の洗浄液５が、基板表面３の全域にまんべんなく吹き付けられる。これにより、基板３上の異物等は、基板３の表面から確実に剥離し、基板３上を十分な勢いで流れて、洗浄液５と共に基板３の表面から除去される。
【００５２】
搬送ローラ２は、洗浄が終了した基板３をパレット１上に載置した状態で、図３（ｃ）に示す乾燥工程の処理位置に移動させる。図３（ｃ）の乾燥工程においては、エアーナイフ８から十分な圧力のエアが基板３表面に吹き付けられる。これにより、基板３表面の水分は、吹き飛ばされる。
【００５３】
一方、図３（ｃ）の乾燥工程においては、パレット１が搬送されることによって、所定タイミングにおいてパレット１底面の開孔１３が回収部１５の吸引管部９に臨む。回収部１５は、底面に設けられた排出口１４を介した回収ポンプの吸引力によって、吸引管部９側から排出口１４に向けた吸引を行っている。この吸引によって、パレット１底面と基板３との間の水分１６（斜線部）が、パレット１の開孔１３、吸引管部９を介して回収部１５側に排出され、更に、排出口１４を介して回収部１５から外部に排出される。
【００５４】
パレット１の移動に伴って、開孔１３は複数回吸引管部９に臨むことになり、図３（ｃ）に示す乾燥工程において、基板１３の上面及び底面の水分を除去することができる。
【００５５】
最後に、図３（ｄ）に示す乾燥工程において、ヒーター１０による加熱処理が行われ、基板３の水分は確実に除去される。
【００５６】
このように、本実施の形態においては、複数の基板をパレットに配置した状態で、洗浄及び乾燥工程を実施する。この場合において、洗浄工程では、パレットを搬送しながら、シャワーノズルをパレット移動方向に交差する方向に揺動させて洗浄液を基板に吐出しており、極めて高い洗浄効果が得られる。また、乾燥工程では、パレット底面に設けた開孔を利用して、基板裏面側の水分を吸引除去しており、確実な水切りが可能である。これにより、基板は確実に乾燥されて、水垢等が残ることが防止される。こうして、極めて高い洗浄効率を得ながら、複数の基板を同時に且つ確実に洗浄することができる。
【００５７】
図５は本実施の形態の変形例を示す説明図である。図５において図４と同一の構成要素には同一符号を付して説明を省略する。
【００５８】
図５は吸引管部９に代えて吸引管部１７を採用した点が図４と異なる。図４の吸引管部９はパレット１底面の開孔１３と略同じサイズの開口を有している。これに対し、図５の吸引管部１７は、パレット１底面の開孔１３のサイズよりも大きい開口サイズで構成される。
【００５９】
このような構成によれば、パレット１底面の開孔１３が吸引管部１７の開口部上に位置する期間だけ、パレット１上の水分の吸引が行われることになり、水切りを確実なものとすることができる。
【００６０】
図６は本実施の形態の他の変形例を示す説明図である。図６において図４と同一の構成要素には同一符号を付して説明を省略する。
【００６１】
図６は吸引管部９を省略した回収部１９を採用した点が図４と異なる。図６の回収部１９は、上面開口がパレット１底面のサイズよりも小さいサイズで構成されている。これにより、回収部１９の上面開口が図４の吸引管部９と同様の機能を有する。
【００６２】
このような構成によれば、パレット１底面によって回収部１９の上面開口が閉塞される期間、パレット１上の水分の吸引が行われることになる。比較的長い期間水分の吸引が行われることになり、水切りを確実なものとすることができる。また、回収部１９は、上面から突出した吸引管部を設ける必要がなく、構成を簡略化することができる。
【００６３】
図７は本発明の第２の実施の形態に係る基板洗浄装置を示す説明図である。図７は乾燥工程における水切り機構を説明するためのものであり、洗浄工程及び乾燥工程の他の工程を実施するための他の構成は第１の実施の形態と同様である。
【００６４】
図４の実施の形態においては、パレットに開孔を設け、水分を吸引する回収部によって、パレット上の基板の水切りを行った。これに対し、本実施の形態においては、パレット自体に基板１からの水分の排出機構を設けた例を示している。
【００６５】
図７において、ローラ２３は搬送ベルト２２を搬送して周回させる。搬送ベルト２２上にはパレット２１が配置されるようになっている。パレット２１は複数の基板３を配置可能に構成されている。
【００６６】
本実施の形態においては、パレット２１は、図４のパレット１及び回収部１５とを組み合わせた構成を有しており、基板３の水分を吸引して排出するようになっている。他の構成は第１の実施の形態と同様である。
【００６７】
このように構成された実施の形態においては、パレット２１が基板３表面からの水分を吸引排出することができ、基板３から確実に水分を除去することができる。
【００６８】
他の作用及び効果は第１の実施の形態と同様である。
【００６９】
図８は本発明の第３の実施の形態に係る基板洗浄装置を示す説明図である。図８において図１と同一の構成要素には同一符号を付して説明を省略する。
【００７０】
本実施の形態は、シャワーノズル４に代えてシャワーノズル３１を採用した点が第１の実施の形態と異なる。シャワーノズル３１は、Ｖ字形状の平面形状を有している点がシャワーノズル４と異なる。
【００７１】
このように構成された実施の形態においては、シャワーノズル３１がパレット１の移動方向の反対方向を頂点とするＶ字形状に構成されていることから、基板３表面に向けて吐出される洗浄液は、パレット１が移動することによって、基板３表面を中央から基板外側に向かう方向に流れやすくなる。これにより、基板３表面の異物を基板３の周辺側に除去しやすくなり、基板３表面に異物が残留することを確実に防止することができる。
【００７２】
なお、図８ではＶ字形状の例を説明したが、基板３中央近傍を頂点とする任意の形状を採用することができることは明らかである。
【図面の簡単な説明】
【００７３】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る基板洗浄装置を示す斜視図。
【図２】図１中の吹き出し口を説明するための説明図。
【図３】基板洗浄装置の全体構成を示す説明図。
【図４】本実施の形態における水切り機構を説明するための説明図。
【図５】本実施の形態の変形例を示す説明図。
【図６】本実施の形態の変形例を示す説明図。
【図７】本発明の第２の実施の形態に係る基板洗浄装置を示す説明図。
【図８】本発明の第３の実施の形態に係る基板洗浄装置を示す説明図。
【符号の説明】
【００７４】
１…パレット、２…搬送ローラ、３…基板、４…シャワーノズル、６…吹き出し口。
【図１】
2005238109.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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