(57)【要約】【課題】  化粧品やティッシュペーパー等を良好な状態で保存できる化粧品キャビネットを提供する。【解決手段】  化粧品キャビネット３の収納部６を保冷室８及び温熱乾燥室９を内部に有する断熱箱体１０から構成する。保冷室８及び温熱乾燥室９の間を仕切る断熱仕切壁１１の上面及び下面に第１及び第２の熱伝導板１９，２０を設ける。また、前記断熱仕切壁１１の内部に前記熱伝導板１９，２０と熱的に接触した状態でペルチェ素子からなるサーモモジュール２１を配設する。サーモモジュール２１のペルチェ素子に直流電流を流したとき、第１の熱伝導板１９は冷却され、第２の熱伝導板２０は加熱される。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
仕切壁を介して隣接配置された保冷室及び温熱乾燥室と、
前記仕切壁のうち前記保冷室側の面及び前記温熱乾燥室側の面に設けられた第１及び第２の熱伝導板と、
前記第１及び第２の熱伝導板の間に配置され直流電流が供給されることにより前記第１の熱伝導板を冷却すると共に前記第２の熱伝導板を加熱するペルチェ素子とを備える化粧品キャビネット。
【請求項２】
温熱乾燥室の近傍に設けられ前記温熱乾燥室内を加熱する補助ヒータを備えることを特徴とする請求項１記載の化粧品キャビネット。
【請求項３】
保冷室内の温度を検出する保冷室温度検出手段と、
前記保冷室内の温度が５℃以上２０℃以下となるようにペルチェ素子への直流電流の供給を制御する冷却制御手段とを備えることを特徴とする請求項１または２記載の化粧品キャビネット。
【請求項４】
温熱乾燥室内の温度を検出する温熱乾燥室温度検出手段と、
冷却制御手段は、前記温熱乾燥室内の温度が４５℃を超えると前記ペルチェ素子への直流電流の供給を停止することを特徴とする請求項３記載の化粧品キャビネット。
【請求項５】
温熱乾燥室内の温度を検出する温熱乾燥室温度検出手段と、
室温を検出する室温検出手段と、
前記温熱乾燥室温度検出手段及び前記室温検出手段の検出結果に基づき前記温熱乾燥室内の温度が室温よりも５℃から１０℃高い温度範囲になるように補助ヒータの通電を制御する加熱制御手段を備えることを特徴とする請求項２記載の化粧品キャビネット。
【請求項６】
加熱制御手段は、温熱乾燥室内の温度が４５℃を超えると補助ヒータの通電を停止することを特徴とする請求項５記載の化粧品キャビネット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化粧品や化粧をする際に用いられるティッシュペーパー等の収納部を備えた化粧品キャビネットに関する。
【背景技術】
【０００２】
敏感な肌でも肌荒れを起こし難いアレルギー性の低い化粧品として、合成保存料や防腐剤が添加されていない化粧品が普及する傾向にある。このような化粧品は腐りやすいため、低温保存することが望ましい。また、通常の化粧品であっても例えば収れん化粧水や日焼けを手入れするためのローション等は、冷たくすることで使用感の向上や有効性の向上を図ることができる。
【０００３】
一方、洗面室で化粧をしたいという要望から、最近、化粧品や化粧をする際に用いるティッシュペーパー、綿棒、油取り紙等の収納スペースを備えた所謂「洗面化粧台」が普及している。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところが、洗面室は通常、浴室に隣接しているため、室内温度が比較的高く、多湿である。また、洗面時等に使用される水がティッシュペーパー等に跳ねることもあり、ティッシュペーパー等が湿気を帯びやすい。このため、長期間の保存により化粧品やティッシュペーパー等に黴が生えるおそれがあった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、化粧品やティッシュペーパー等を良好な状態で保存できる化粧品キャビネットを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の化粧品キャビネットは、仕切壁を介して隣接配置された保冷室及び温熱乾燥室と、前記仕切壁のうち前記保冷室側の面及び前記温熱乾燥室側の面に設けられた第１及び第２の熱伝導板と、前記第１及び第２の熱伝導板の間に配置され直流電流が供給されることにより前記第１の熱伝導板を冷却すると共に前記第２の熱伝導板を加熱するペルチェ素子とを備えて構成されている。
【０００６】
上記構成によれば、ペルチェ素子に直流電流を供給すると、その吸熱作用により第１の熱伝導板を介して保冷室が冷却され、前記ペルチェ素子の発熱作用により第２の熱伝導板を介して温熱乾燥室が加熱される。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、保冷室に化粧品を収納することにより前記化粧品を低温保存できる。また、温熱乾燥室にティッシュペーパー等を収納することにより前記ティッシュペーパー等を乾燥状態で保管することができる。
この場合、前記ペルチェ素子、第１及び第２の熱伝導板を保冷室と温熱乾燥室との間の仕切壁に設けた。このため、保冷室及び温熱乾燥室を設けたことにより化粧品キャビネットの構成が複雑になったり大形化したりすることがない。また、前記ペルチェ素子から保冷室及び温熱乾燥室までの距離が短いため、保冷室を冷却すると共に温熱乾燥室を加熱するために前記ペルチェ素子の吸熱作用及び発熱作用を有効に利用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００８】
以下、本発明を洗面化粧台に適用した一実施例について図面を参照しながら説明する。図１は洗面化粧台１の全体構成を示す図である。この図１に示すように、洗面化粧台１は、洗面設備２とその上に一体的に設置された化粧品キャビネット３とから構成されている。図示しないが、洗面設備２の上面には洗面台及び水栓等が設けられている。また、洗面設備の下部には収納部４が設けられている。
【０００９】
化粧品キャビネット３は、化粧鏡５と、その右部に設けられた収納部６とから構成されている。化粧鏡５の上部には蛍光灯７が配置されている。
図２は収納部６の縦断側面図を示している。図１及び図２に示すように、収納部６は、内部に保冷室８及び温熱乾燥室９を有する断熱箱体１０から構成されている。保冷室８は化粧品を、温熱乾燥室９はティッシュペーパー等を収納するためのものであり、断熱仕切壁１１を挟んで上下に設けられている。保冷室８内には例えば２個の棚板１２が配置されており、その前面には断熱材からなる回動式の扉１３が設けられている。前記扉１３の後面であって保冷室８の前端面と当接する部分には環状のガスケット１４が配置されており、前記扉１３の閉鎖時における保冷室８の密閉性が確保されている。
【００１０】
前記扉１３の前面には化粧鏡１５が取り付けられている。また、化粧鏡１５の後面及び扉１３の後面にはそれぞれ熱伝導板１６，１７が接合されている。そして、扉１３内のうち前記熱伝導板１６，１７の間にはペルチェ素子からなる第１のサーモモジュール１８が前記熱伝導板１６，１７と熱的に接触した状態で配置されている。
一方、断熱仕切壁１１の上面及び下面には第１及び第２の熱伝導板１９，２０が設けられている。そして、前記断熱仕切壁１１の内部には前記熱伝導板１９，２０と熱的に接触した状態でペルチェ素子からなる第２のサーモモジュール２１が配設されている。
【００１１】
ペルチェ素子はｐ形半導体とｎ形半導体との接合対からなり、直流電流を流すことによって両側面が吸熱、発熱する。前記第１及び第２のサーモモジュール１８，２１は、多数個のペルチェ素子を電気的に直列に接続して構成されている。本実施例においては、第１のサーモモジュール１８のペルチェ素子に対して直流電流が流されたとき、熱伝導板１７が冷却され、熱伝導板１６が加熱されるようになっている。また、第２のサーモモジュール２１のペルチェ素子に直流電流が流されたとき、第１の熱伝導板１９が冷却され、第２の熱伝導板２０が加熱されるようになっている。
【００１２】
これに対して、温熱乾燥室９の内部には引き出し式の収納ケース２２が配置されている。前記収納ケース２２の前面には温熱乾燥室９の前部開口を塞ぐ扉２３が一体的に設けられている。前記扉２３の下部には排熱孔２４が設けられている。また、温熱乾燥室９内の下部には補助ヒータ２５が配置されている。
図３は本実施例の化粧品キャビネット３のうち収納部６に関する部分の電気的構成を示す図である。制御部２６は冷却制御手段及び加熱制御手段を構成するものであり、温度センサ２７，２８、室温センサ２９、第１及び第２のサーモモジュール１８，２１、補助ヒータ２５が接続されている。
【００１３】
温度センサ２７は保冷室温度検出手段に相当し、保冷室８内の奥部に配置されている。温度センサ２８は温熱乾燥室温度検出手段に相当し、温熱乾燥室９内の奥部に配置されている。室温センサ２９は室温検出手段に相当し、断熱箱体１０の下部側面に配置されている。
前記制御部２６は温度センサ２７，２８及び室温センサ２９の検出結果に基づきサーモモジュール１８，２１及び補助ヒータ２５を通断電することにより保冷室８及び温熱乾燥室９を所定温度に保持する。
【００１４】
次に本実施例の作用について図４及び図５のフローチャートを参照しながら説明する。図４及び図５は制御部２６が実行する冷却運転及び加熱運転の処理内容を示している。制御部２６は、化粧品キャビネット３に電源が供給されている限り、冷却運転及び加熱運転を実行する。即ち、図４において、制御部２６は温度センサ２７の検出結果に基づき保冷室８の温度が２０℃以上であるか否かを判断する(ステップＳ１)。そして、保冷室８の温度が２０℃以上（ＹＥＳ）であると判断すると、続いて、温度センサ２８の検出結果に基づき温熱乾燥室９の温度が４５℃以上であるか否かを判断する（ステップＳ２）。
【００１５】
温熱乾燥室９の温度が４５℃よりも低い（Ｓ２にてＮＯ）と判断した場合、制御部２６はサーモモジュール１８，２１の通電を開始する（ステップＳ３）。これにより、熱伝導板１７，１９を介して保冷室８が冷却されると共に熱伝導板２０を介して温熱乾燥室９が加熱される。また、熱伝導板１６を介して化粧鏡１５が加熱され、化粧鏡１５が曇ることが防止される。
【００１６】
これに対して、ステップＳ１にて保冷室８の温度が２０℃よりも低い（ＮＯ）と判断した場合、及びステップＳ２にて温熱乾燥室９の温度が４５℃以上（ＹＥＳ）であると判断した場合は、ステップ１に戻る。
続いて、制御部２６は、温度センサ２７の検出値に基づき保冷室８の温度が５℃以下であるか否か判断する（ステップＳ４）。そして、保冷室８の温度が５℃以下である（ＹＥＳ）と判断すると、第１及び第２のサーモモジュール１８，２１のペルチェ素子への直流電流の供給を停止して冷却運転を終了し（ステップＳ５）、ステップＳ１に戻る。
【００１７】
一方、図５において、制御部２６は、温度センサ２８及び室温センサ２９の検出値に基づき温熱乾燥室９の温度が「室温＋５℃」以下であるか否か判断する（ステップＳ１１）。そして、温熱乾燥室９の温度が「室温＋５℃」以下である（ＹＥＳ）と判断した場合は、更に、温熱乾燥室９の温度が４５℃以上であるか否か判断する（ステップＳ１２）。そして、温熱乾燥室９の温度が４５℃よりも低い（ＮＯ）と判断した場合は、補助ヒータ２５を通電する（ステップＳ１３）。これにより、温熱乾燥室９が加熱される。
【００１８】
これに対して、ステップＳ１１にて温熱乾燥室９の温度が「室温＋５℃」よりも高い（ＹＥＳ）と判断した場合、及びステップＳ１２にて温熱乾燥室９の温度が４５℃以上である（ＹＥＳ）と判断した場合は、ステップＳ１１に戻る。
また、制御部２６は補助ヒータ２５の運転を開始すると、温度センサ２８の出力に基づき温熱乾燥室９の温度を定期的に検出する。そして、温熱乾燥室９の温度が「室温＋１０℃」以上になると（ステップＳ１４にてＹＥＳ）、補助ヒータ２５を断電して加熱運転を終了し（ステップＳ１５）、ステップＳ１１に戻る。
【００１９】
尚、図４及び図５のフローチャートにおいて、温熱乾燥室９の温度が４５℃以上であるときにサーモモジュール１８，２１及び補助ヒータ２５の運転を停止する（ステップＳ２、Ｓ１２）のは、温熱乾燥室９内の物品の品質保持のため、及び安全性を確保するためである。
以上の説明より明らかなように、本実施例によれば、仕切壁１１に配置されたサーモモジュール２１の吸熱作用及び発熱作用により保冷室８及び温熱乾燥室９を効率良く冷却及び加熱することができる。
【００２０】
また、保冷室８の扉１３にもサーモモジュール１８を設けたため、保冷室８を十分に冷却することができる。更に、温熱乾燥室９内の下部に補助ヒータ２５を配置したので、サーモモジュール２１の発熱作用を補うことができ、温熱乾燥室９を十分に加熱することができる。
ところで、本実施例では、温熱乾燥室９の温度を「室温＋５℃」以上「室温＋１０℃」以下になるように構成した。これは、湿度が約１００％の空気を５℃上昇させると、その湿度が７０％台に低下し、１０℃上昇させると５０％台に低下するからである。一般に、湿度が８０％以上になると黴の繁殖が盛んになり、湿度が５０％台のときは黴が殆んど繁殖しない。従って、上記構成によれば、湿度が約１００％となる浴室の近傍に配置される場合でも、温熱乾燥室９の湿度を７０％以下に保持することができ、黴の繁殖を抑えることができる。
【００２１】
尚、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく例えば次のような変形、拡張が可能である。
保冷室８の扉１３に配置されたサーモモジュール１８や温熱乾燥室９の補助ヒータ２５は、例えば比較的湿度や温度が低い場所に化粧品キャビネットが設置される場合は、省略が可能である。
本発明は、洗面台と一体化された構成に限らず、化粧品キャビネット単独の構成にも適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】洗面化粧台の正面図
【図２】収納部の縦断側面図
【図３】収納部の電気的構成を示すブロック図
【図４】冷却運転のフローチャート
【図５】加熱運転のフローチャート
【符号の説明】
【００２３】
図面中、１は洗面化粧台、３は化粧品キャビネット、８は保冷室、９は温熱乾燥室、１１は仕切壁、１９は第１の熱伝導板、２０は第２の熱伝導板、２１はサーモモジュール（ペルチェ素子）、２５は補助ヒータ、２６は制御部（冷却制御手段、加熱制御手段）、２７は温度センサ（保冷室温度検出手段）、２８は温度センサ（温熱乾燥室温度検出手段）、２９は室温センサ（室温検出手段）を示す。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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