(57)【要約】【課題】    小型且つ高効率に水をはじめとする流体の磁気処理を行う磁気式流体処理装置及び方法を提供する。【解決手段】  略扇形の金属板３を挟んで少なくとも一対の磁石２を同極同士が相対するように配置して成る柱体１を、当該金属板３端部が互いに同極且つ同一面内で一定間隔をおいて隣接するように少なくとも２つ以上並立させて流体通路３ｂを形成し、これを流体が流入排出可能な出入り口を有する筐体内に収納し、流体を流体通路３ｂに通過させることで流体に、隣接する金属板３の対がＮ極である場合には互いに向かい合う逆の２方向の磁束を、Ｓ極である場合には互いに離間する逆の２方向の磁束を各々作用させ、磁気処理を行うように構成している。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属板を挟んで少なくとも一対の磁石を同極同士が相対するように配置して成る柱体を、当該金属板端部が互いに同極且つ同一面内で一定間隔をおいて隣接するように少なくとも２つ以上並立させ、これを流体が流入排出可能な出入り口を有する筐体内に収納し、流体を金属板端部間に通過させることで流体に磁気処理を行うことを特徴とする、磁気式流体処理装置。
【請求項２】
金属板を挟んで少なくとも一対の磁石を同極同士が相対するように配置して成る柱体を、当該金属板端部が互いに同極且つ金属板面が柱体軸方向に互いにずれた状態で一定間隔をおいて隣接するように少なくとも２つ以上並立させ、これを流体が流入排出可能な出入り口を有する筐体内に収納し、流体を金属板端部間に通過させることで流体に磁気処理を行うことを特徴とする、磁気式流体処理装置。
【請求項３】
前記柱体は、金属板を挟んで少なくとも一対の磁石の同極同士が相対する構造を複数積層して成ることを特徴とする、請求項１或いは請求項２に記載の磁気式流体処理装置。
【請求項４】
前記筐体はその両端に流体出入り口を各々設けた筒状ケーシングであることを特徴とする、請求項１〜３に記載の磁気式流体処理装置。
【請求項５】
前記各柱体の金属板の軸方向投射形状の合体を、流体通路及び支持構造体分を除き、前記筺体断面形状に略一致させ、金属板間で形成される流体通路が最大限となるようにしたことを特徴とする、請求項１〜４に記載の磁気式流体処理装置。
【請求項６】
前記各柱体の金属板の軸方向投射形状は、円心を各柱体の本数で除した中心角を有する略扇形であり、前記筐体断面形状は円であることを特徴とする、請求項５に記載の磁気式流体処理装置。
【請求項７】
前記各柱体は、その軸方向投射位置が円状となるように配置されることを特徴とする、請求項１〜６記載の磁気式流体処理装置。
【請求項８】
少なくとも３本の前記各柱体は、その軸方向投射位置が円芯に一つ、その円周上に他が各々配置されることを特徴とする、請求項１〜５に記載の磁気式流体処理装置。
【請求項９】
隣接する前記各柱体の金属板間で形成される流体通路は、直線状、曲線状、或いは直線と曲線の組合せの何れかの形状であることを特徴とする、請求項１〜請求項８に記載の磁気式流体処理装置。
【請求項１０】
隣接する前記各柱体の金属板間で形成される流体通路の各層は、各柱体の軸方向投射位置が一致していることを特徴とする請求項１〜請求項９に記載の磁気式流体処理装置。
【請求項１１】
隣接する前記各柱体の金属板間で形成される流体通路各層において、その内の少なくとも１層以上が各柱体の軸方向投射位置が回転方向にずらされ、隣接する一方の金属板と、他方の同極の金属板の上下何れかの層の異極の金属板とがオーバーラップし平行相対する領域で流体通路を形成する、請求項１〜請求項９に記載の磁気式流体処理装置。
【請求項１２】
隣接する前記各柱体の金属板間で形成される流体通路の各層は、各柱体の軸方向投射位置が順次回転方向に一定角度づつずらされた、スパイラル構造であることを特徴とする、請求項１１に記載の磁気式流体処理装置。
【請求項１３】
流体通路を形成する隣接する前記各柱体の金属板端部面は、互いに平行となるようなテーパー面となっていることを特徴とする、請求項１〜請求項１２に記載の磁気式流体処理装置。
【請求項１４】
少なくとも一枚の中間固定板を前記各柱体全てに共通するように、当該各柱体両端間の何れかの磁石間に挟み積層したことを特徴とする、請求項１〜請求項１３に記載の磁気式流体処理装置。
【請求項１５】
前記各柱体に設けられる磁石は円柱形状であることを特徴とする、請求項１〜請求項１４に記載の磁気式流体処理装置。
【請求項１６】
前記各柱体は、積層された前記磁石及び前記金属板に軸方向に貫設された支持構造体としての支持軸によりその両端間を締付け固定されて成ることを特徴とする、請求項１〜請求項１５に記載の磁気式流体処理装置。
【請求項１７】
前記流体は水であることを特徴とする、請求項１〜１６に記載の磁気式流体処理装置。
【請求項１８】
流体に接する前記磁石、前記金属板、前記筐体、支持構造体としての前記支持軸、或いはナット等の構成材は、その表面に保護処理を施したことを特徴とする、請求項１〜請求項１７に記載の磁気式流体処理装置。
【請求項１９】
前記保護処理は、フッ素コーティング、樹脂コーティング、ホーローコーティング或いはメッキの何れかであることを特徴とする、請求項１８に記載の磁気式流体処理装置。
【請求項２０】
金属板を挟んで少なくとも一対の磁石を同極同士が相対するように配置して成る柱体を、当該金属板端部が互いに同極且つ同一面内で一定間隔をおいて隣接するように少なくとも２つ以上並立させ、これを流体が流入排出可能な出入り口を有する筐体内に収納し、流体を金属板端部間に通過させることで流体に磁気処理を行うことを特徴とする、磁気式流体処理方法。
【請求項２１】
金属板を挟んで少なくとも一対の磁石を同極同士が相対するように配置して成る柱体を、当該金属板端部が互いに同極且つ金属板面が柱体軸方向に互いにずれた状態で一定間隔をおいて隣接するように少なくとも２つ以上並立させ、これを流体が流入排出可能な出入り口を有する筐体内に収納し、流体を金属板端部間に通過させることで流体に磁気処理を行うことを特徴とする、磁気式流体処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流体配管の経路に設置し流体の磁気処理を行う、磁気式流体処理装置及び方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から磁力の作用により水を活性化する方法は広く知られている。この方法を利用する装置としては種々提案されている。
例えば、特許文献１では、図７に示すように磁性を有する金属板１０４を挟んで磁石１０３の同極同士が相対するように配置した多数個の磁石１０３と金属板１０４を直立方向に積層した積層柱を、横方向に隣接する磁石１０３，１０３同士が異極となるように複数個並立させ、横方向に隣接する金属板１０４，１０４の切り口同士が一定間隔を有するように固定して図示しない筒状ケーシング内に収納し、水を当該筒状ケーシングの前後方向に流す構成としている。この構成によれば、水は互いに異極となる隣接する金属板１０４，１０４の切り口間に生ずる磁力線を通過することで水の磁気処理が行われる。
【特許文献１】特許第２９０９８９１号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、前記従来技術では以下の問題があった。
即ち、横方向に隣接する磁石１０３，１０３は全て互いに異極となるように構成されているので、横方向に隣接する金属板１０４，１０４も互いに異極となり、当該両金属板１０４，１０４間を通過する水に対しては、Ｎ極側の金属板１０４からＳ極側の金属板１０４への一方向の磁束しか作用しなかった。この為、水の活性化が十分に行えないという問題があった。
【０００４】
この問題は上記積層柱を長くし、水に対する磁束作用を長時間行わせることである程度解決できるが、その場合、装置自体が大型化してしまい、設置可能な場所が限定されてしまうという新たな問題が生じる。この他、水の流通抵抗が大きくなったり、コストアップに繋がったり、設置工期が長期化する等の問題もあった。
【０００５】
又、前記の通り、横方向に隣接する磁石１０３，１０３は全て互いに異極となるように構成する必要があることから、筒状ケーシング内に例えば円状に設置する前記積層柱の数は、偶数に制限されるという問題もあった。即ち、奇数の積層柱では横方向に隣接する磁石１０３，１０３は互いに異極にはできない。水を活性化させる作用をより高めるためには、水に対する磁束作用を極力増やすことが望ましいが、このように配置に制限があると十分に磁束を作用させれず、やはり活性化が不十分となる可能性があった。
【０００６】
尚、これらの問題は水の場合だけに限らず、例えば石油燃料等の他の流体を活性化する場合においても同様である。
本願発明は以上の問題点に鑑みてなされたものであり、小型且つ高効率に水をはじめとする流体の磁気処理を行う磁気式流体処理装置及び方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記問題を解決する為に請求項１に記載の発明は、金属板を挟んで少なくとも一対の磁石を同極同士が相対するように配置して成る柱体を、当該金属板端部が互いに同極且つ同一面内で一定間隔をおいて隣接するように少なくとも２つ以上並立させ、これを流体が流入排出可能な出入り口を有する筐体内に収納し、流体を金属板端部間に通過させることで流体に磁気処理を行うように構成している。
【０００８】
上記のように構成した請求項１に記載の発明によれば、隣接する金属板端部は互いに同極であるので、当該金属板端部間を通過する流体には互いに逆の２方向の磁束が同時に作用する。即ち、金属板の対がＮ極である場合には、互いに向かい合う逆の２方向に磁束が作用し、金属板の対がＳ極である場合には、互いに離間する逆の２方向に磁束が作用し、流体に対する磁気処理が高効率で行われる。
【０００９】
尚、ここでいう柱体とは、直線状に延びたのもののみならず、湾曲したり、屈曲した状態で延びたようなものも全て含む概念であり、以降に述べる柱体全てに同様である。
請求項２に記載の発明は、金属板を挟んで少なくとも一対の磁石を同極同士が相対するように配置して成る柱体を、当該金属板端部が互いに同極且つ金属板面が柱体軸方向に互いにずれた状態で一定間隔をおいて隣接するように少なくとも２つ以上並立させ、これを流体が流入排出可能な出入り口を有する筐体内に収納し、流体を金属板端部間に通過させることで流体に磁気処理を行うように構成している。
【００１０】
上記のように構成した請求項２に記載の発明によれば、隣接する金属板端部は柱体軸方向にずれた状態で配置されているので、流体の流通抵抗をより低減しつつ、請求項１と同様の作用が得られる。
請求項３に記載の発明は、前記柱体は、金属板を挟んで少なくとも一対の磁石の同極同士が相対する構造を複数積層して成るように構成している。
上記のように構成した請求項３に記載の発明によれば、流体に対し、金属板の対がＮ極である場合の互いに向かい合う逆の２方向の磁束と、金属板の対がＳ極である場合の互いに離間する逆の２方向の磁束とが、積層方向に交互に繰り返し作用することになり、流体に対する磁気処理がより高効率で行われる。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、前記筐体はその両端に流体出入り口を各々設けた筒状ケーシングであるように構成している。
上記のように構成した請求項４に記載の発明によれば、筒状ケーシング内を流れる流体に対して効率良く、請求項１〜請求項３の作用が得られる。
請求項５に記載の発明は、前記各柱体の金属板の軸方向投射形状の合体を、流体通路及び支持構造体分を除き、前記筺体断面形状に略一致させ、金属板間で形成される流体通路が最大限となるように構成している。
上記のように構成した請求項５に記載の発明によれば、流体通路を最大限にできるので、流体の流通抵抗を低減しつつ、流体に対する磁気処理が高効率で行われる。
請求項６に記載の発明は、前記各柱体の金属板の軸方向投射形状は、円心を各柱体の本数で除した中心角を有する略扇形であり、前記筐体断面形状は円であるように構成している。
上記のように構成した請求項６に記載の発明によれば、筐体断面形状が円である場合において、請求項５と同様の作用が得られる。
請求項７に記載の発明は、前記各柱体は、その軸方向投射位置が円状となるように配置されるように構成している。
上記のように構成した請求項７に記載の発明によれば、前記各柱体が円状に配置されるので、小型の装置で流体に対する磁気処理が高効率で行われる。
請求項８に記載の発明は、少なくとも３本の前記各柱体は、その軸方向投射位置が円芯に一つ、その円周上に他が各々配置されるように構成している。
上記のように構成した請求項８に記載の発明によれば、請求項７同様、小型の装置で流体に対する磁気処理が高効率で行われる。
請求項９に記載の発明は、隣接する前記各柱体の金属板間で形成される流体通路は、直線状、曲線状、或いは直線と曲線の組合せの何れかの形状であるように構成している。
上記のように構成した請求項９に記載の発明によれば、流体通路を最適化できるので、流体の流通抵抗を低減しつつ、流体に対する磁気処理が高効率で行われる。
請求項１０に記載の発明は、隣接する前記各柱体の金属板間で形成される流体通路の各層は、各柱体の軸方向投射位置が一致しているように構成している。
上記のように構成した請求項１０に記載の発明によれば、流体の流通抵抗を低減しつつ、流体に対する磁気処理が高効率で行われる。
請求項１１に記載の発明は、隣接する前記各柱体の金属板間で形成される流体通路各層において、その内の少なくとも１層以上が各柱体の軸方向投射位置が回転方向にずらされ、隣接する一方の金属板と、他方の同極の金属板の上下何れかの層の異極の金属板とがオーバーラップし平行相対する領域で流体通路を形成するように構成している。
【００１２】
上記のように構成した請求項１１に記載の発明によれば、隣接する金属板端部間のみならず、積層方向の金属板間においても流体通路を形成でき、両方の流体通路で磁気が作用する。よって、大型化することなく、より長く流体に対する磁気処理が行われる。
請求項１２に記載の発明は、隣接する前記各柱体の金属板間で形成される流体通路の各層は、各柱体の軸方向投射位置が順次回転方向に一定角度づつずらされた、スパイラル構造であるように構成している。
上記のように構成した請求項１２に記載の発明によれば、請求項１１同様、隣接する金属板端部間のみならず、積層方向の金属板間においても流体通路を形成でき、両方の流体通路で磁気が作用する。よって、大型化することなく、より長く流体に対する磁気処理が行われる。その上、スパイラル構造であるので、流通抵抗を低減できる。
【００１３】
請求項１３に記載の発明は、流体通路を形成する隣接する前記各柱体の金属板端部面は、互いに平行となるようなテーパー面となっているように構成している。
上記のように構成した請求項１３に記載の発明によれば、大型化することなく、より長く流体に対する磁気処理が行われる。
請求項１４に記載の発明は、少なくとも一枚の中間固定板を前記各柱体全てに共通するように、当該各柱体両端間の何れかの磁石間に挟み積層するように構成している。
上記のように構成した請求項１４に記載の発明によれば、各柱体の組み立て性が向上する。又、柱体の剛性が向上する。
請求項１５に記載の発明は、前記各柱体に設けられる磁石は円柱形状であるように構成している。
上記のように構成した請求項１５に記載の発明によれば、低コストで請求項１〜請求項１４の作用が得られる。
請求項１６に記載の発明は、前記各柱体は、積層された前記磁石及び前記金属板に軸方向に貫設された支持構造体としての支持軸によりその両端間を締付け固定されて成るように構成している。
上記のように構成した請求項１６に記載の発明によれば、各柱体の組み立て性が向上する。又、柱体の剛性が向上する。
請求項１７に記載の発明は、前記流体は水であるように構成している。
上記のように構成した請求項１７に記載の発明によれば、流体が水である場合に請求項１〜請求項１６に記載の作用が得られる。
請求項１８に記載の発明は、流体に接する前記磁石、前記金属板、前記筐体、支持構造体としての前記支持軸、或いはナット等の構成材は、その表面に保護処理を施すように構成している。
上記のように構成した請求項１８に記載の発明によれば、当該保護処理により、磁石、金属板、筐体、支持構造体としての支持軸、或いはナットの表面が流体から保護される為、流体に腐食、侵食されたり、磁石、金属板、或いは筐体表面から流体へ成分が溶出したりすることを防止する。
【００１４】
請求項１９に記載の発明は、前記保護処理は、フッ素コーティング、樹脂コーティング、ホーローコーティング、或いはメッキの何れかであるように構成している。
上記のように構成した請求項１９に記載の発明によれば、フッ素コーティング、樹脂コーティング、ホーローコーティング、或いはメッキの何れかの保護処理により、安価且つ容易に請求項１８の作用が得られる。
請求項２０に記載の発明は、金属板を挟んで少なくとも一対の磁石を同極同士が相対するように配置して成る柱体を、当該金属板端部が互いに同極且つ同一面内で一定間隔をおいて隣接するように少なくとも２つ以上並立させ、これを流体が流入排出可能な出入り口を有する筐体内に収納し、流体を金属板端部間に通過させることで流体に磁気処理を行う磁気式流体処理方法として構成している。
【００１５】
上記のように構成した請求項２０に記載の発明によれば、当該方法で請求項１の作用が得られる。
請求項２１に記載の発明は、金属板を挟んで少なくとも一対の磁石を同極同士が相対するように配置して成る柱体を、当該金属板端部が互いに同極且つ金属板面が柱体軸方向に互いにずれた状態で一定間隔をおいて隣接するように少なくとも２つ以上並立させ、これを流体が流入排出可能な出入り口を有する筐体内に収納し、流体を金属板端部間に通過させることで流体に磁気処理を行う磁気式流体処理方法として構成している。
【００１６】
上記のように構成した請求項２１に記載の発明によれば、当該方法で請求項２の作用が得られる。
【発明の効果】
【００１７】
請求項１に記載の発明によれば、隣接する金属板端部は互いに同極であるので、当該金属板端部間を通過する流体には互いに逆の２方向の磁束が同時に作用する。即ち、金属板の対がＮ極である場合には、互いに向かい合う逆の２方向に磁束が作用し、金属板の対がＳ極である場合には、互いに離間する逆の２方向に磁束が作用するので、従来のＮ極からＳ極への１方向の磁束作用に比べ、小型、低コストで高効率の磁気式流体処理装置を提供することが可能となる。
【００１８】
請求項２に記載の発明によれば、隣接する金属板端部は柱体軸方向にずれた状態で配置されているので、上記請求項１の同一面内に隣接する場合に比べ、両金属板端部間の距離を大きくでき、流体の流通抵抗をより低減することができる。
請求項３に記載の発明によれば、金属板を挟んで少なくとも一対の磁石の同極同士が相対する構造を複数積層するので、流体に対し、金属板の対がＮ極である場合の互いに向かい合う逆の２方向の磁束と、金属板の対がＳ極である場合の互いに離間する逆の２方向の磁束とが、積層方向に交互に繰り返し作用することになり、従来のＮ極からＳ極への１方向の磁束作用に比べ、より一層、小型、低コストで高効率の磁気式流体処理装置を提供することが可能となる。
【００１９】
請求項４に記載の発明によれば、筒状ケーシングを用い、容易に請求項１〜請求項３と同様の効果が得られる。
請求項５に記載の発明によれば、流体通路を最大限にできるので、流体の流通抵抗を低減しつつ、流体に対する磁気処理を高効率で行い得る。
請求項６に記載の発明によれば、筐体断面形状が円である場合において、請求項５と同様の効果が得られる。
請求項７及び請求項８に記載の発明によれば、各柱体を高密度で筐体内に配置することができるので、小型の装置で流体に対する磁気処理を高効率で行い得る。
請求項９に記載の発明によれば、流体通路の形状を適宜最適化できるので、流体の流通抵抗を低減しつつ、流体に対する磁気処理を高効率で行い得る。
請求項１０に記載の発明によれば、流体の流通抵抗を低減しつつ、流体に対する磁気処理を高効率で行ない得る。
請求項１１に記載の発明によれば、金属板端部間で形成される流体通路各層において、その内の少なくとも１層以上が各柱体の軸方向投射位置が回転方向にずらされているので、隣接する同極の金属板端部間のみならず、積層方向のオーバーラップする異極の金属板間においても流体通路を形成でき、両方の流体通路で磁気が作用する。よって、大型化することなく、より長く流体に対する磁気処理が行われ、より高い効果が得られる。
【００２０】
請求項１２に記載の発明によれば、流体通路の各層は各柱体の軸方向投射位置が順次回転方向に一定角度づつずらされた、スパイラル構造であるので、請求項１１同様、隣接する同極の金属板端部間のみならず、積層方向のオーバーラップする異極の金属板間においても流体通路を形成でき、両方の流体通路で磁気が作用する。よって、大型化することなく、より長く流体に対する磁気処理が行われ、より高い効果が得られる。その上、スパイラル構造であるので、流通抵抗を低減できる。
【００２１】
請求項１３に記載の発明によれば、前記各柱体の金属板端部面は、互いに平行となるようなテーパー面にしたので、垂直面の場合に比べ作用面を大きくでき、より高い磁気処理を行い得る。更に、上記請求項１１及び請求項１２の回転方向に金属板をずらす構造と併用すれば、流体の流通抵抗を抑制しつつ、一層高い相乗効果が得られる。
【００２２】
請求項１４に記載の発明によれば、各柱体間の磁力の反発による捩れを抑制し、組立て性を向上できる。又、柱体の剛性を向上できる。
請求項１５に記載の発明によれば、前記各柱体に設けられる磁石は単純な円柱形状で加工が容易であるので、低コストで請求項１〜請求項１４の効果が得られる。
請求項１６に記載の発明によれば、確実且つ容易に各柱体の磁石と金属板の積層固定、組立てが行える。又、柱体の剛性を向上できる。
請求項１７に記載の発明によれば、流体が水である場合に請求項１〜請求項１６の効果が得られえる。よって、低コストで高品質の給水が可能となる。
請求項１８に記載の発明によれば、保護処理により、磁石、金属板、筐体、支持構造体としての支持軸、或いはナット等の構成材の表面が流体から保護される為、流体に腐食、侵食されたり、磁石、金属板、或いは筐体表面から流体へ成分が溶出したりすることを防止でき、腐食性の強い流体であっても長期にわたって使用が可能となる。或いは、流体流速の早い配管系への適用であっても、侵食を抑制できる。又、流体が水である場合、磁石、金属板、或いは筐体の成分によらず、飲用、洗顔、入浴等の人体への使用が容易に行える。
【００２３】
請求項１９に記載の発明によれば、フッ素コーティング、樹脂コーティング、ホーローコーティング、或いはメッキの何れかの保護処理により、安価且つ容易に請求項１８の効果が得られる。
請求項２０に記載の発明によれば、当該方法で請求項１の効果が得られる。
請求項２１に記載の発明によれば、当該方法で請求項２の効果が得られる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、本発明を具体化した各実施例について説明する。
【実施例１】
【００２５】
図１に示すように、１つの柱体１は、略円柱形状の磁石２の同極側が金属板３を挟んで互いに相対するように配置した構造を複数積層して構成される。例えば本実施例では、図２の通り、金属板３の枚数で１１段積層してある。前記金属板３は、後述する支持構造体としての支持軸４の貫設される位置を除く形状が例えば約９０°の中心角を有する略扇形であり、各層の金属板３はその柱体１の軸方向投射位置が一致するように配置されている。
【００２６】
本実施例では、前記磁石２の極性配置が同じ前記柱体１を４本、その軸方向投射位置が円状となるように、且つ隣接する各柱体１，１，１，１の各金属板３，３，３，３の半径辺端部が互いに同一面内で一定間隔を保って並行相対すると共に、４つの各金属板３，３，３，３の合体が略円状となるように配置し、放射状の４つの流体通路３ｂを形成する。そして、各柱体１，１，１，１の略中心に各々、支持構造体としての支持軸４，４，４，４を貫設すると同時に、各柱体１，１，１，１の配置円の略中心位置にも支持軸４を併せて配設した上、端部固定板５ａ，５ａで各柱体１，１，１，１の両端間を挟持し、ナット６で締付け固定する。
【００２７】
又、当該柱体１の両端間に積層される磁石２の例えば４−５段目間、及び１０−１１段目間には各々、中間固定板５ｂ，５ｂが挟持されるように配置してある。当該中間固定板５ｂ，５ｂは、各柱体１，１，１，１を組み立てる際、隣接する磁石２，２，２，２が同極同士であるので反発し合い、これによる捩れで作業性が損なわれるのを防止する作用が得られる。同時に、各柱体１，１，１，１の中間部分の剛性を向上させる作用も得られ、特に積層数が多くなる場合に有用である。
【００２８】
前記端部固定板５ａ及び中間固定板５ｂは、金属板３，３端部間で形成する流体通路３ｂへの流体の流通を妨げないように、流体通路に重なる位置を開口加工してある。
上記のように組み立てられた柱体１，１，１，１は、図３に示すような、両端に流体出入り口が設けられた筐体としての筒状ケーシング７内に収納されて磁気式流体処理装置８として構成され、各種配管経路に装着される。そして、一方の流体出入り口から入った流体は、各層の金属板３，３，３，３端部間で形成される流体通路３ｂを通過して後述する磁気作用を受けた後、他方の流体出入り口から排出されることで、流体の磁気処理が行われる。
【００２９】
上記のように構成された磁気式流体処理装置８は、隣接する柱体１，１，１，１の磁石２，２，２，２が互いに同極となるように配置されているので、当該各磁石２，２，２，２で挟まれる金属板３，３，３，３同士も互いに同極となるように隣接し、流体通路３ｂを形成することになる。よって、流体が当該流体通路３ｂを通過する際、図４に示すように例えば、金属板３，３，３，３の隣接する対がＮ極である場合には、流体に対し互いに向かい合う逆の２方向に磁束が作用する一方、対がＳ極である場合には、互いに離間する逆の２方向に磁束が作用することになる。即ち、従来技術の隣接する金属板（磁石）が異極同士である場合には、Ｎ極からＳ極への一方向しか磁束が作用しなかったのに対し、本実施例においては、互いに逆の２方向の磁束を同時に作用させることができる。
【００３０】
更に、上下に隣り合う層の金属板３，３は互いに異極となるので、流体通路を流通する流体は、上記の金属板３，３，３，３がＮ極の場合の磁束作用とＳ極の場合の磁束作用とを交互に受けることになる。よって、流体に対する磁束作用を従来技術に比べて極めて大きくすることができ、小型の装置で高い活性化効果を得ることができる。
【００３１】
本実施例の磁気式流体処理装置８を例えば給水配管に装着した場合には、水に対する高い活性化効果が得られ、水による配管内の腐食の進行を止め、或いは防止する。又、付着スケールの溶解、再付着防止効果を得ることができ、安価なランニングコストで長期にわたって高品質の給水を得ることができる。しかも、小型、低コストで設置場所にも制約が少ない。
【００３２】
尚、本願発明は本実施の形態の構成に限定されるものではなく、以下に列記する構成について、適宜変更可能である。
○使用する流体は磁束作用で活性化が可能であれば、特に限定はされない。最も代表的な流体は本実施例にも記載した水であるが、これ以外にも例えば、軽油、ガソリン等の石油燃料が挙げられる。これらを磁束作用で活性化すれば、燃焼時の排気が浄化されたり、燃焼効率が向上したりといった効果が得られる。或いは、化学プラントなどで、反応材料の供給配管に設置すれば、反応収率を向上させるといった効果も得られる。
【００３３】
○柱体において、磁石の同極側が金属板を挟んで互いに相対するように配置した構造の積層数は設置が可能であれば限定はされない。例えば一層のみであっても良いし、１００層以上の多層であっても良い。但し、層数が多いほど磁気作用自体は高くなるが大型化するので、流量、要求される流体品質、コスト、設置スペース等の諸条件を考慮し、最適な層数を適宜設定することが望ましい。
【００３４】
○柱体の設置本数は限定されない。最小構成の２本のみであっても良いし、３本以上設けても良い。但し、本数が多いほど磁気作用自体は高くなるが大型化したり流通抵抗が増大するので、流量、要求される流体品質、コスト、設置スペース等の諸条件を考慮し、最適な本数を適宜設定することが望ましい。
【００３５】
○柱体の配置レイアウトは、本実施例のような軸方向投射位置が円状となるものに限定はされず、隣接する金属板間で磁気作用を奏し得る流体通路が形成できれば、他のあらゆる配置レイアウトが適用可能である。例えば、３本以上の柱体の場合、軸方向投射位置が円芯に一つ、その円周上に他を各々配置するようなレイアウトにしても良い。この他、軸方向投射位置が方形、ひし形、三角形、楕円、渦巻き状等、多種の配置レイアウトが可能である。
【００３６】
○金属板の形状は、隣接する金属板間で磁気作用を奏し得る流体通路が形成できれば、全く限定はされない。例えば、柱体の設置本数が２本であれば、略半円、３本であれば中心角１２０°の略扇形といったように、円心３６０°を柱体本数で除した中心角を有するような略扇形としても良い。又、扇形以外の例えば、方形、ひし形、三角形、円、楕円等、各種形状を個々、或いは組み合わせて適用し、流体通路を形成するようにしても良い。
【００３７】
○又、前記流通経路の幅、即ち隣接相対する金属板端部間距離も、全ての箇所で同じにする構成には限定されず、一つの流通経路内で部分的に変化させても良いし、各流通経路毎で変化させても良い。
○上記のように金属板の形状を変えること、或いは金属板端部間距離を変えることは、金属板端部間で形成される流体通路の形状を変えることにもつながるが、この流体通路の形状も勿論、限定はされない。本実施例では、隣接相対する略扇形の金属板の半径辺端部間で形成される、略放射直線状の流体通路を形成しているが、例えば、当該半径辺を同一方向に湾曲させて、略渦巻き状の流体通路としても良いし、或いは当該半径辺を三角波状とし、略放射状三角波などとしても良い。これらの流通経路形状では、本実施例の放射直線状と比較すると全長及び面積を増加させることができるので、流通抵抗を減らすと同時に、流体への磁束作用を増加させることができる。この他にも、直線状、曲線状、或いは直線と曲線の組合せ等の各種形状が適用可能である。
【００３８】
○磁石の形状も、本実施例の円柱状には限定されず、柱状に積層可能な他のあらゆる形状が適用可能である。
○各金属板の合体の形状は円に限定されず、他のあらゆる形状が適用可能である。例えば、方形、ひし形、三角形、円、楕円等、各種形状を個々、或いは組み合わせた形状としても良い。但し、筐体との隙間から流体が避流しないように、各金属板の合体の形状は当該筐体の断面形状に略一致させることが望ましい。
【００３９】
○流体通路を形成する金属板端部の断面は、単純な垂直面に限定はされず、例えば相対する面を互いに平行となるようなテーパー面としても良い。この場合、磁束が作用する端部面積をより大きくすることができるので、より高い磁束作用が得られる。
○本実施例では、各層の磁石、金属板、或いは金属板間で形成される流体通路は全て同じ厚さ、形状にしているが、これに限定されず、各層毎に異なる厚さ、形状を採用してもよい。例えば、厚さについては、両端近くの層を薄く、中央部分の厚さを厚くしたり、或いは流体入り口側の層を薄く、出口側の層を厚くしたり等、流体に対する磁束作用を層位置によって変化させることが可能である。
【００４０】
○本実施例では、中間固定板を除き、磁石と金属板を交互に積層しているが、これに限定はされず、複数層の磁石毎に金属板を積層するようにしても良い。又、このような磁石と金属板の積層配分は全て同じにする必要は無く、柱体において部分的に変えても良い。
○柱体を構成する磁石及び金属板の積層固定構造は、本実施例に限定はされない。端部固定板及び中間固定板は無くても良いし、支持軸以外の固定方法を採用しても良い。例えば、磁石上下面に凹凸等で構成した係止機構を設け、単に積層するのみで脱着可能に容易に固定するような構造が挙げられる。
【００４１】
○又、中間固定板を設ける場合、その配置位置及び枚数は本実施例に限定はされない。更に、端部固定板と中間固定板は同じ形状でなくても良いし、本実施例の形状に限定もされない。
○筐体は本実施例の筒状ケーシングに限定はされず、各柱体を収納可能で、流体通路を流体が通過できる流体出入り口を有していれば、他のあらゆる形状、大きさの筐体が適用可能である。
○柱体及びそれを収納する筐体は、直線状に延びた形状に限定はされす、例えば湾曲させたり、屈曲させたりした形状であっても良い。この場合の具体的な構造としては、例えば、磁石の形状を単純な円柱ではなく、曲げたい方向に向かうように部分的に厚みに差を持たせた略柱状形状として積層する構造等が挙げられる。この構成によれば、設置位置に制約があるような場合に有用である。
【００４２】
○柱体の両端側に位置する磁石の極性は、Ｓ極、Ｎ極何れであっても良い。
○上記実施例の構成は、磁気流体処理装置としての他、磁気流体処理方法としても適用可能である。
【実施例２】
【００４３】
実施例１では隣接する柱体１，１，１，１の各金属板３，３，３，３は、同一平面内となるように配置していたが、本実施例では、図５に示すように金属板３，３，３，３を柱体の軸方向に互いにずれた状態となるように配置している。
即ち、柱体は、円柱形状で樹脂製のスペーサー９を、一端側の端部固定板と磁石２間と他端側の端部固定板と磁石２間の何れかに、各々一つおきに互い違いで挟持させ、隣接する柱体の金属板３（及び磁石２）同士がその軸方向に当該スペーサー９の厚み分だけずれるように構成してある。このスペーサー９の厚みは、最大で柱体軸方向隣接金属板間の距離（本実施例では磁石２の厚み）未満の範囲で自由に設定し得る。その他の構造については実施例１と同様である。
【００４４】
上記のように組立てられた柱体を筒状ケーシング７内に収納した磁気式流体処理装置８によれば、隣接する金属板３，３，３，３が柱体の軸方向に互いにずれた状態となるように配置しているので、当該金属板３，３，３，３端部間距離が大きくなる。よって、実施例１の作用効果に加え、筒状ケーシング７の断面積が同じでありながら、流体の流通抵抗を低減することができる。
【００４５】
更に、例えば金属板３の軸方向のずれ量を磁石２の厚みの１／２とした場合には、一つの柱体の上下隣接層の金属板３，３間に挟持される磁石中央に相対するように、隣接する柱体の金属板３が位置するような配置となる。従って、同極同士の金属板間と、異極同士の金属板間の両方の磁束作用が同じ強さで働くことになり、より高い磁束作用を得ることができる。
【００４６】
尚、本願発明は本実施の形態の構成に限定されるものではなく、以下に列記する構成について、適宜変更可能である。
○スペーサーの形状、及び材質は、金属板を軸方向にずらすことができれば、限定はされない。
○スペーサーの配置は、柱体の端部側に限定されず、中間部分であっても良い。例えば、中間固定板に隣接して設けても良いし、中間の磁石と金属板間に設けても良い。但しこ
の場合、磁束を遮る材質は使えない。
○金属板を軸方向にずらす方法は、本実施例のスペーサーによる方法に限定されず、他の方法であっても良い。例えば、磁石自体の厚みを層毎に部分的に変える方法や、端部固定板或いは中間固定板自体の厚みを部分的に調整し、スペーサー代わりとする方法等が挙げられる。
【００４７】
○金属板を軸方向にずらすそのずれ量は、最大で柱体軸方向隣接金属板間の距離（本実施例では磁石２の厚み）未満、即ち、隣接する金板同士が従来技術の完全な異極同士とならない範囲内で自由に設定し得る。又、隣接する柱体対全てでずれ量を統一する必要は必ずしも無く、各々異なったずれ量としても良い。更に、一つの柱体内でも、ずれ量を部分的に変えるようにしても良い。この場合、スペーサーを２箇所以上配置する方法等が挙げられる。尚、ずれ量が磁石の厚みの１／２を越えると同極同士の金属板間よりも異極同士の金属板間の距離の方が近くなる為、その磁束作用も同極同士の作用よりも異極同士の作用の方が大きくなるが、それでも同極同士の作用が無くなるわけではなく、異極同士の作用のみの従来技術よりも、流体に対する高い磁束作用が得られる。
【００４８】
○この他、前記した実施例１において列記した限定されない各項目については、金属板位置を軸方向にずらす違いに関連する部分を除き、本実施例においても全て同様であり、記載を省略する。
【実施例３】
【００４９】
実施例１及び実施例２においては、隣接する金属板間で形成される流体通路は、軸方向投射位置において全て同一位置としたが、本実施例においては、流体通路の各層は各柱体の軸方向投射位置が順次回転方向に一定角度づつずらされた、スパイラル構造となるようにしている。
【００５０】
即ち、図６に示すように柱体は、その金属板３，３，３，３が各層毎に順次、例えば１５°づつ時計方向にずらされた位置に配置されている。従って、隣接する各金属板端部間で形成される流体通路は、ちょうどスパイラル構造の如く配置されることになる。尚、各層の磁石２と金属板３を支持固定する図示しない支持軸も、スパイラル状に湾曲して貫設される。
【００５１】
上記のように組立てられた柱体を筒状ケーシング７内に収納した磁気式流体処理装置８によれば、金属板３，３，３，３が各層毎に順次、１５°づつ時計方向にずらされた位置に配置されているので、隣接する金属板３，３，３，３間はその上下層において、ずらされた分だけ、オーバーラップし並行相対する領域が生ずる。この領域は、隣接する金属板の上下層になるので、その極性は互いに異極となる。流体通路はスパイラル構造に配置されるので、流体は当該流体通路である隣接する金属板端部間を通ったのち、上記のオーバーラップした金属板の平行相対領域を通るということを層数分だけ繰り返しながら、スパイラル状に流通することになる。即ち、本実施例においては、流体に作用する磁束作用は、実施例１における隣接する同極同士の金属板端部間に加え、隣接する上下層の異極同士の金属板平行相対間でも得られることになる。従って、実施例１よりも一層、高い流体活性化効果を得ることができる。
【００５２】
尚、本願発明は本実施の形態の構成に限定されるものではなく、以下に列記する構成について、適宜変更可能である。
○金属板の位置をずらす量は、本実施例の１５°に限定はされず、上下層の流体通路が層間の磁石で妨げられない範囲で他の角度であっても良い。又、ずれ量、及びずれ方向を全ての層で同じにする必要はなく、層毎に自由に変更可能である。但し、ずれ量を大きくすればそれだけ隣接する金属板の上下層間のオーバーラップする領域は増える為、磁束作用を大きくすることができるが、流体の流通抵抗が増加する為、流量、要求される流体品質、コスト、設置スペース等の諸条件を考慮し、最適なずれ量を適宜設定することが望ましい。
【００５３】
○金属板の位置をずらす方向は時計方向、反時計方向の何れであっても良い。又、全ての層で同一方向にずらす必要は必ずしも無く、層毎でずらす方向を変えても良い。この場合、流体通路はスパイラル構造とはならず、流通抵抗が増加するが、磁束作用は上記同様に得られる。
【００５４】
○実施例１の列記項目で前述した、流体通路を形成する金属板端部の断面が、単純な垂直面に限定はされず、相対する面を互いに平行となるようなテーパー面とする構成において、当該テーパー角を本実施例における金属板の位置のずらし量と一致させ適用することで、流体の流通抵抗を低減でき、特に有効である。勿論、前述同様、磁束が作用する端部面積をより大きくすることができ、より高い磁束作用が得られるという作用効果も変わらない。
【００５５】
○実施例２の隣接する金属板を軸方向にずらす構成と本実施例の構成とを組み合わせても良い。更に、上記の金属基板端部の断面をテーパー面とする構成を付加しても良い。これらによれば、より一層、高い磁束作用と流通抵抗の低減が図れる。
○この他、前記した実施例１において列記した限定されない各項目については、金属板位置を回転方向にずらす違いに関連する部分を除き、本実施例においても全て同様であり、記載を省略する。
【実施例４】
【００５６】
上記した通り、本願発明における磁気式流体処理装置は、水は勿論のこと、磁束作用で活性化が可能なあらゆる流体に適用可能である。それら流体の中には酸性度の強いものや、流体内に固形物が混在したもの等があり、その種類は多岐にわたる。又、流通速度の速い流体もある。上記各実施例に記載した磁気式流体処理装置はひとたび配管系統に装着されると、その装置内に構成される磁石、金属板、筐体、支持構造体としての支持軸、或いはナット等が、これら種々の流体に対し長期にわたって、晒されることとなる。しかも、当該流体は処理の性質上、静態ではなく流速を有している。従って、酸性度の強い流体であれば強い腐食性を有するし、固形物が混在した流体、或いは流速の速い流体であれば、強い侵食性を有することとなり、上記各構成物の材料成分が流体内に浸出混入したり、構成物自体の形状が変形して機能の低下を招くおそれがあった。これを防止するためには、構成物を例えばチタンのような耐食性の強い材料とすれば解決できるが、こうした材料は高価であるという問題があった。
【００５７】
これを解決する為、本実施例においては、前述した実施例１〜実施例３における磁気式流体処理装置の流体に接する磁石、金属板、筐体、支持構造体としての支持軸、或いはナット等の構成材の表面に、保護処理を施すようにしている。保護処理としては、例えばフッ素コーティング、樹脂コーティング、ホーローコーティング、或いはメッキ等が挙げられる。
【００５８】
フッ素コーティングとしては、例えば米デュポン社の登録商標であるテフロン加工が広く知られている。このテフロン加工による保護処理を行う具体的な方法は、テフロンを溶解状態で（通常摂氏４００度）吹き付け加工を行う。吹き付け加工は、例えば片面ずつ順次吹き付けたり、網上に載置して吹き付けたり、或いは吊下して吹き付けたりと様々である。
【００５９】
樹脂コーティングとしては例えば、アクリル系、エポキシ系、ビニルエステル系、ポリウレタン系各樹脂材料等が挙げられる。これらの樹脂コーティングを行う具体的な方法は、ディップ式、吹き付け式、印刷式、刷毛塗り式等、種々の方法が挙げられる。
ホーローコーティングとしては例えば、酸化ジルコニウム等から成る釉薬を用いる例が挙げられる。コーティングする具体的な方法としては、上記同様ディップ式、吹き付け式、印刷式、刷毛塗り式等、種々の方法が挙げられる。
メッキとしては例えば、ニッケルメッキ、亜鉛メッキ、錫メッキ等が挙げられる。メッキの具体的方法としては、電解メッキ、無電解メッキ等の一般的な方法が適用できる。
以上のように、本実施例の磁気式流体処理装置は、流体に接する磁石、金属板、筐体、支持構造体としての支持軸、或いはナット等の構成材の表面に保護処理を施すことにより、腐食性や浸食性の強い流体が流れる配管系に配置しても長期にわたる耐食性が得られるので、各材料成分の流体への溶出を防ぎ、低コストで高い流体品質を維持しつつ、実施例１〜実施例３と同様の作用効果が得られる。特に、流体が飲料系給水配管に設置される場合、磁石、金属板、筐体、支持構造体としての支持軸、或いはナット等の構成材の成分によらず、高い水質を保つことができるので、飲用、洗顔、入浴等の人体への使用が容易に行え、好適である。
【００６０】
尚、本願発明は本実施の形態の構成に限定されるものではなく、以下に列記する構成について、適宜変更可能である。
○保護処理は、上記したフッ素コーティング、樹脂コーティング、ホーローコーティング、或いはメッキに限定はされず、流体に対する耐食性を向上できる他の保護処理であっても良い。例えば、ショットピーリング、シンタリング等による表面改質を行ったり、ＣＶＤによる保護膜の製膜を図ったり等が挙げられる。
【００６１】
○保護処理の厚みは特に限定されない。必要とされる耐食性の程度、コスト、流体の種類や、流速等の諸条件に応じて適宜設定し得る。又、場所毎、或いは部材毎に厚みを変更しても良い。更に、連続的に厚みを除変させても良い。
○保護処理を施す場所や面積は限定されない。例えば、流体に接する磁石、金属板、筐体、支持構造体としての支持軸、或いはナット等の構成材全面に施しても良いし、或いは特に流体からの影響の受け易い金属板端部周辺に限定的に施しても良い。
○保護処理は、流体に接する磁石、金属板、筐体、支持構造体としての支持軸、或いはナット等の構成材の全てに同じ処理を施す必要は必ずしも無く、場所毎、或いは部材毎に異なる複数種類の保護処理を施しても良い。例えば、特に流体からの影響の受け易い金属板端部周辺には特に耐食性の強い処理を、他の箇所には耐食性はやや劣るがコストのより安い処理を施す事が挙げられる。或いは、材料形状に応じて処理し易い方法を選択的に施す事が挙げられる。
【００６２】
○保護処理の層数は一層に限定はされず、場所や部材に応じて層数を変更可能である。例えば、特に流体からの影響の受け易い金属板端部周辺には特に耐食性が強くなるように複数層処理を、他の箇所には単層処理を施す事等が挙げられる。又、全ての層に同じ処理を施す必要は必ずしも無く、各層で異なる処理を行うようにしても良い。例えば、母材側に密着性を高めるためのプライマー層を設け、上層に保護本体層を設けるような構造が挙げられる。
【００６３】
○保護処理が複数層の場合、各層厚が同じである必要は必ずしも無く、各層で異なるように設定しても良い。
○保護処理は、流体に接する磁石、金属板、筐体、支持構造体としての支持軸、或いはナット等の構成材単体に個別で行うことの他、これら構成材を組み立てた後の状態で一体的に行っても良い。
○この他、前記した実施例１において列記した限定されない各項目については、保護処理の有無の違いに関連する部分を除き、本実施例においても全て同様であり、記載を省略する。
以下に、「特許請求の範囲」に記載した以外で、以上に記載した各実施例から把握できる発明（技術的思想）を記載する。
（１）前記各柱体は、２枚の端部固定板を当該各柱体全てに共通するように、両端に各々配置し、積層された前記磁石及び前記金属板を前記支持軸により当該端部固定板間で締付け固定されて成ることを特徴とする、請求項１６に記載の磁気式流体処理装置。
（２）前記各柱体は、両端間の何れかの層の位置にスペーサーを配置することで、隣接する金属板面を柱体軸方向に互いにずれた状態にすることを特徴とする、請求項２に記載の磁気式流体処理装置。
（３）前記各柱体は、前記中間固定板或いは前記端部固定板の少なくとも一方の厚みを部分的に異ならせることで、隣接する金属板面を柱体軸方向に互いにずれた状態にすることを特徴とする、（１）或いは請求項１４に記載の磁気式流体処理装置。
（４）前記各柱体は、前記磁石の厚みを層毎に部分的に変えることで、隣接する金属板面を柱体軸方向に互いにずれた状態にすることを特徴とする、請求項２に記載の磁気式流体処理装置。
（５）隣接する金属板面の柱体軸方向の前記ずれ量は、最大で柱体軸方向隣接金属板間距離未満の範囲で設定することを特徴とする、請求項２、（２）、（３）、或いは（４）に記載の磁気式流体処理装置。
（６）前記流体は石油燃料であるか、或いは化学プラント反応材料であることを特徴とする、請求項１〜請求項２１、或いは（１）〜（５）に記載の磁気式流体処理装置。
（７）前記流体通路は略放射状、或いは略渦巻き状であることを特徴とする、請求項９に記載の磁気式流体処理装置。
（８）前記磁石、前記金属板、前記中間固定板、或いは前記端部固定板は、相互に脱着可能な係止機構を介して積層されることを特徴とする、請求項１〜請求項２１、或いは（１）〜（７）に記載の磁気式流体処理装置。
（９）前記中間固定板及び前記端部固定板は、前記流体通路に相対する位置が開口していることを特徴とする、（１）或いは請求項１４に記載の磁気式流体処理装置。
（１０）前記金属板と、隣接しずらされた同極の金属板間で形成される流体通路で作用する同極逆方向の２つの磁束と、金属板と、隣接しずらされた同極の金属板の反ずらし側隣接層の異極の金属板間で形成される流体通路で作用する異極同方向の１つの磁束の両方で流体に磁気処理を行うことを特徴とする、請求項２、（２）〜（５）に記載の磁気式流体処理装置。
【００６４】
（１１）前記金属板と、隣接する同極の金属板間で形成される流体通路で作用する同極逆方向の２つの磁束と、金属板と、隣接する同極の金属板の上下何れかの層の回転方向に一定角度ずらされた異極の金属板間のオーバーラップし平行相対する領域で形成される流体通路で作用する異極同方向の１つの磁束の両方で流体に磁気処理を行うことを特徴とする、請求項１１に記載の磁気式流体処理装置。
【００６５】
（１２）前記テーパー面の角度を、金属板間で形成される流体通路の各層を各柱体の軸方向投射位置において回転方向にずらされる角度と一致させることを特徴とする、請求項１１或いは請求項１２に記載の磁気式流体処理装置。
（１３）前記磁石の厚みを部分的に変えて柱体を所望の方向に屈曲させると共に、当該方向に屈曲させた筐体内に収納したことを特徴とする、請求項１〜請求項１４、請求項１６〜請求項２１、及び（１）〜（１２）に記載の磁気式流体処理装置。
（１４）前記保護処理は、流体に接する磁石、金属板、筐体、支持構造体としての支持軸、或いはナット等の構成材の内、流通負荷の大きい部位にのみ選択的に施したことを特徴とする、請求項１８或いは請求項１９に記載の磁気式流体処理装置。
（１５）前記保護処理は、流体に接する磁石、金属板、筐体、支持構造体としての支持軸、或いはナット等の構成材の内、流通負荷の大きい部位には耐食性を優先した処理を、それ以外の部位にはコストを優先した処理を、各々選択的に施したことを特徴とする、請求項１８或いは請求項１９に記載の磁気式流体処理装置。
【００６６】
（１６）流通負荷の大きい前記部位は、流体通路を構成する金属板端部であることを特徴とする、（１４）或いは（１５）に記載の磁気式流体処理装置。
（１７）前記保護処理は、ショットピーリングやシンタリングによる表面改質、或いはＣＶＤによる耐食製膜であることを特徴とする、請求項１８、（１４）〜（１６）に記載の磁気式流体処理装置。
（１８）前記保護処理は、流体に接する磁石、金属板、筐体、支持構造体としての支持軸、或いはナット等の構成材を組み立てた後に一体的に行うことを特徴とする、請求項１８、請求項１９、或いは（１７）に記載の磁気式流体処理装置。
【産業上の利用可能性】
【００６７】
本願発明における磁気式流体処理装置及び方法は、流体が水の場合は勿論のこと、例えば軽油、ガソリン等の石油燃料や、化学プラントにおける供給反応材料等、磁束作用での活性化効果の得られる他の幅広い流体に適用できる。
【図面の簡単な説明】
【００６８】
【図１】実施例１を説明する部分斜視図
【図２】実施例１を説明する斜視図
【図３】実施例１〜実施例３を説明する斜視図
【図４】実施例１を説明する部分側面図
【図５】実施例２を説明する部分側面図
【図６】実施例３を説明する部分斜視図
【図７】背景技術の特許文献を説明する斜視図
【符号の説明】
【００６９】
１  柱体
２  磁石
３  金属板
３ｂ  流体通路
４  支持構造体としての支持軸
５ｂ  中間固定板
７  筐体としての筒状ケーシング
８  磁気式流体処理装置
【図１】
2005138047.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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