(57)【要約】【課題】簡便かつ精度よく溶存窒素濃度が管理された水を製造することができる窒素溶解水の製造装置を提供する。【解決手段】(Ａ)ガス透過性膜によって区画された水室と気室とを備えた膜式ガス溶解装置、(Ｂ)脱酸素された水を該水室に供給する脱酸素水供給管、(Ｃ)該水室からガス溶解水を排出するガス溶解水排出管、(Ｄ)該気室に窒素を供給する窒素供給管、(Ｅ)該気室への窒素供給量を調整する窒素供給量調整手段、及び、(Ｆ)該気室の圧力を測定する圧力計を有し、該圧力計の測定値にもとづいて窒素供給量調整手段により窒素供給量を調整し、該気室の圧力を設定値に維持することを特徴とする窒素溶解水の製造装置。【選択図】図１
2005270793.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(Ａ)ガス透過性膜によって区画された水室と気室とを備えた膜式ガス溶解装置、(Ｂ)脱酸素された水を該水室に供給する脱酸素水供給管、(Ｃ)該水室からガス溶解水を排出するガス溶解水排出管、(Ｄ)該気室に窒素を供給する窒素供給管、(Ｅ)該気室への窒素供給量を調整する窒素供給量調整手段、及び、(Ｆ)該気室の圧力を測定する圧力計を有し、該圧力計の測定値にもとづいて窒素供給量調整手段により窒素供給量を調整し、該気室の圧力を設定値に維持することを特徴とする窒素溶解水の製造装置。
【請求項２】
水が、超純水である請求項１記載の窒素溶解水の製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、窒素溶解水の製造装置に関する。さらに詳しくは、本発明は、簡便かつ精度よく溶存窒素濃度が管理された水を製造することができる窒素溶解水の製造装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板、フォトマスク用石英基板などの電子材料の表面から、微粒子などの異物を除去することは、製品の品質、歩留まりを確保する上で極めて重要である。電子材料などを超音波洗浄する場合、ガスを溶解した洗浄水を用いると、良好な洗浄効果が得られることが分かってきた。一般に、溶存ガス濃度が高いほど望ましいが、過飽和になると過剰な気泡が発生し、それが超音波伝播の妨げになったり、被洗浄物の表面に付着して、洗浄ムラの原因になったりする。振動板を内蔵したノズルを使う場合には、ノズルの内部にガスだまりができ、超音波が水に伝わらないだけでなく、超音波発振部の損傷の原因ともなる。このために、溶存ガス濃度が過飽和にならない範囲での高濃度ガス溶解水が求められるようになってきた。
微粒子の除去には、水素を溶解した洗浄水を用いる超音波洗浄が最も効果的であるが、ガスの取り扱いの容易さから、窒素を溶解した窒素溶解水が使われることも多くなった。超純水への窒素の溶解手段としては、水槽中での窒素バブリングが挙げられる。この手段は非常に簡便であるが、溶存窒素濃度を高い値で精度よく維持することは困難である。さらに、ガス透過性膜モジュールを用いた単純なガス溶解技術もある。ガス透過性膜モジュールを用いると、比較的容易に溶存窒素濃度の高い窒素溶解水を得ることが可能であるが、溶存窒素濃度が一定し、かつ過飽和でない窒素溶解水を安定して製造することは困難であった。
これらに対して、ガス溶解装置に超純水と窒素とを供給し、得られた窒素溶解水の溶存窒素濃度を窒素濃度計で測定し、目標窒素濃度と対比して、供給窒素量を制御する方法が知られている。しかし、従来の窒素濃度計による測定では、計器へのパージガスの供給、試料水の流量調整などの操作条件の設定が面倒であり、また、計器はサンプリング配管を分岐して設置することから面倒で手間がかかり、試料水を常時排水しなければならないので無駄である。
原水中の溶存ガスを脱気処理により完全に除去したのち、ガス透過性膜モジュールを用い、特定のガスを必要量だけ供給して溶解させることにより、原水に所定濃度のガスを溶解した水を、気泡を発生させることなく製造することができる。図３は、従来の窒素溶解水の製造装置の一例の工程系統図である。超純水タンク２５からポンプ２６により送り出された超純水が、膜脱気装置２７において溶存ガスが完全に除去され、膜式ガス溶解装置２８において所定量の窒素が溶解され、所定濃度の窒素溶解水が製造される。
電子材料などの洗浄に用いられる超純水は、脱酸素及び脱二酸化炭素を目的として脱気処理され、溶存ガスが除去されたのち、上部空間が窒素雰囲気に保たれた貯槽に貯留される場合が多い。このような場合には、超純水にある程度の窒素が溶解しているので、脱気処理により溶存窒素を完全に除去したのち、必要量の窒素を供給して溶解させることは、工程が多くなり無駄が多い。このために、簡便かつ精度よく溶存窒素濃度が管理された水を製造することができる手段が求められていた。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明は、簡便かつ精度よく溶存窒素濃度が管理された水を製造することができる窒素溶解水の製造装置を提供することを目的としてなされたものである。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、原水を膜式ガス溶解装置の水室に供給し、気室の圧力を測定して窒素溶解水の所定濃度に対応する設定値との差を自動計算し、気室の圧力が設定値に維持されるように、気室への窒素の供給量を制御することにより、溶存窒素濃度が一定した窒素溶解水を安定して製造し得ることを見いだし、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
（１）(Ａ)ガス透過性膜によって区画された水室と気室とを備えた膜式ガス溶解装置、(Ｂ)脱酸素された水を該水室に供給する脱酸素水供給管、(Ｃ)該水室からガス溶解水を排出するガス溶解水排出管、(Ｄ)該気室に窒素を供給する窒素供給管、(Ｅ)該気室への窒素供給量を調整する窒素供給量調整手段、及び、(Ｆ)該気室の圧力を測定する圧力計を有し、該圧力計の測定値にもとづいて窒素供給量調整手段により窒素供給量を調整し、該気室の圧力を設定値に維持することを特徴とする窒素溶解水の製造装置、及び、
（２）水が、超純水である(１)記載の窒素溶解水の製造装置、
を提供するものである。
【発明の効果】
【０００５】
本発明装置を用いることにより、簡単な短い工程で、窒素を無駄にすることなく、溶存窒素濃度が精度よく管理された窒素溶解水を安定して製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００６】
本発明の窒素溶解水の製造装置は、(Ａ)ガス透過性膜によって区画された水室と気室とを備えた膜式ガス溶解装置、(Ｂ)脱酸素された水を該水室に供給する脱酸素水供給管、(Ｃ)該水室からガス溶解水を排出するガス溶解水排出管、(Ｄ)該気室に窒素を供給する窒素供給管、(Ｅ)該気室への窒素供給量を調整する窒素供給量調整手段、及び、(Ｆ)該気室の圧力を測定する圧力計を有し、該圧力計の測定値にもとづいて窒素供給量調整手段により窒素供給量を調整し、該気室の圧力を設定値に維持する。
図１は、本発明の窒素溶解水の製造装置の一態様の工程系統図である。本態様の装置においては、超純水タンク１に脱酸素された超純水が貯留されている。超純水を脱酸素することにより、洗浄される被洗浄物の表面の酸化を防ぐとともに、水中の生菌の繁殖をも防ぐことができる。脱酸素処理の際には、水中でイオン化し、電気伝導率を高める原因となる二酸化炭素も同時に除去される。脱酸素された超純水を貯留する超純水タンクの上部の空間は、窒素で満たされている。したがって、超純水中にはある程度の量の窒素が溶解しているが、飽和濃度以上の窒素が溶解することはほとんどない。タンク内の超純水の溶存窒素濃度は、タンク内の場所により差があり、超純水のタンク内での滞留時間によっても変動し、ほとんどの場合は管理されていない。
【０００７】
超純水タンク内の超純水は、ポンプ２により脱酸素水供給管３を経由して、ガス透過性膜によって区画された水室と気室とを備えた膜式ガス溶解装置４に送られる。膜式ガス溶解装置には、気室に窒素を供給する窒素供給管５と、気室の圧力を測定する圧力計６が設けられている。膜式ガス溶解装置において、ガス透過性膜を透過して窒素が超純水に溶解し、窒素溶解水がガス溶解水排出管７から排出される。圧力計の測定値は信号として制御器８に送られ、制御器において設定値との差が自動計算され、信号がバルブ９に送られてバルブの開度により窒素供給量が調整され、気室内の圧力が設定値に維持される。すなわち、制御器８とバルブ９が窒素供給量調整手段としてはたらく。
膜式ガス溶解装置の気室が窒素で満たされ、その圧力が標準大気圧である０ｋＰａ(ゲージ圧)であると、窒素溶解水の溶存窒素濃度は飽和濃度となる。例えば、温度２０℃、大気圧１０１.３ｋＰａのときは、窒素１９.０ｍｇ／Ｌを溶解した窒素溶解水が得られる。気室を完全に真空にして、圧力−１０１.３ｋＰａ(ゲージ圧)とすると、水室から排出される水の溶存窒素濃度は０ｍｇ／Ｌとなる。温度ｔ℃における水に対する窒素の飽和溶解度をαtｍｇ／Ｌとすると、膜式ガス溶解装置の気室の圧力を−１０１.３ｋＰａ(ゲージ圧)のｘ倍（０≦ｘ≦１）としたとき、ガス溶解水排出管から排出される窒素溶解水の溶存窒素濃度は、αt(１−ｘ)ｍｇ／Ｌとなる。この関係を利用して、気室の圧力が設定値になるように窒素を供給することにより、所定の溶存窒素濃度の窒素溶解水を製造することができる。  膜式ガス溶解装置の気室の圧力は、窒素を供給する取り合い点より最も遠い位置で測定することが好ましい。
【０００８】
本発明装置によれば、窒素で満たされた膜式ガス溶解装置の気室の圧力を調整して設定値に維持することにより、供給される脱酸素水の溶存窒素濃度が変動しても、常に所定の溶存窒素濃度の窒素溶解水を安定して製造することができる。従来技術である窒素溶解工程の前に脱気処理を行う方法では、原水中に成りゆき任せで溶解している窒素をいったん除去したのち、必要量の窒素を溶解させていた。脱酸素された超純水は、溶存ガスとして窒素のみが成りゆき任せで溶解しているので、これを除去することなく活用することにより、窒素溶解水の製造装置を簡略化し、窒素を無駄なく利用することができる。
本発明の窒素溶解水の製造装置においては、(Ｇ)気室からガスを排出するガス排出管を設けることができる。図１に示す態様においては、膜式ガス溶解装置の気室にガス排出管１０が設けられ、ガス排出管には、バルブ１１とポンプ１２が設けられている。ガス排出管は、本発明装置の運転を開始するに際し、気室に窒素を送り込んで内部の空気を窒素で置換するとき、空気が混合したガスの排出に使用することができる。また、超純水タンクより供給される超純水の溶存窒素濃度よりも、製造する窒素溶解水の溶存窒素濃度が低い場合は、ガス透過性膜を経由して抜き取った窒素の排出に使用することができる。
本発明装置において、超純水タンクより供給される超純水の溶存窒素濃度よりも、製造する窒素溶解水の溶存窒素濃度が低い場合は、膜式ガス溶解装置の気室の圧力は、窒素溶解水を製造すると上昇する。このとき、圧力計６の測定値が信号として制御器８に送られ、制御器において設定値との差が自動計算され、信号がバルブ１１に送られてバルブを開くことより窒素排出量が調整され、気室内の圧力が設定値に維持される。バルブ１１より下流側は、ポンプ１２により大気圧以下に保たれる。
【０００９】
本発明装置により溶存窒素濃度が一定した窒素溶解水を製造するためには、膜式ガス溶解装置の気室の圧力を測定する圧力計を気室に設置するだけでよく、また、圧力計を気室に設置するので試料水を用いる測定の必要がなく、試料水を採取するための分岐管が不要であり、窒素溶解水の製造装置として簡略化することができる。さらに、圧力を測定するのみであるので、濃度計のような煩雑な操作を必要とせず、排水を発生することもない。
本発明装置において、脱酸素された超純水を原水とすると、窒素以外のガスは溶解しておらず、圧力計で測定される圧力は、直ちに窒素溶解水の溶存窒素濃度に対応し、窒素溶解水の溶存窒素濃度を正確に制御することができる。また、膜式ガス溶解装置の気室に供給される窒素は、通常は純度１００体積％のガスであるために、圧力の測定値は溶存窒素濃度に対応することになる。換言すれば、原水に脱酸素された超純水を用い、供給する窒素として純度１００体積％のガスを用いるために、気室の圧力を測定することにより、所定の溶存窒素濃度の窒素溶解水を製造することができる。
【００１０】
本発明装置において、原水として使用する脱酸素された超純水の溶存酸素濃度は、１００μｇ／Ｌ以下であることが好ましい。溶存酸素濃度が１００μｇ／Ｌ以下であると、溶存窒素濃度に対応する圧力を測定する上で、溶存酸素濃度は実質的に影響を与えない。超純水製造工程から供給される超純水の溶存酸素濃度が１００μｇ／Ｌ以下であれば、そのまま窒素溶解水の原水として使用することができる。溶存酸素濃度が高い場合には、脱気して酸素を除去することができる。
本発明装置において、膜式ガス溶解装置に供給される超純水が、超純水製造工程又は供給の途中の超純水タンクで窒素でパージされていると、窒素が溶解した超純水が膜式ガス溶解装置に供給されるが、本発明装置では、このあらかじめ溶解している窒素も、そのまま溶存窒素として使用され、不足分の窒素が補充される。
本発明装置に用いるガス透過性膜の材質に特に制限はなく、例えば、ポリプロピレン、ポリ(４−メチルペンテン−１)、ポリ(２,６−ジメチルフェニレンオキシド)、ポリジメチルシロキサン、ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサンブロック共重合体、ポリビニルフェノール−ポリジメチルシロキサン−ポリスルホンブロック共重合体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリイミドなどを挙げることができる。本発明装置においては、腐食性などのない窒素を溶解させるので、ポリプロピレン、ポリ(４−メチルペンテン−１)などのポリオレフィン系のガス透過性膜を好適に用いることができる。本発明装置において、ガス透過性膜の形式に特に制限はなく、例えば、平面膜、管型、スパイラル、中空糸、モノリス型、槽浸漬型、回転円盤膜などを挙げることができる。
【００１１】
本発明装置において、膜式ガス溶解装置への脱酸素水と窒素の供給は、向流方式で行うことが好ましい。すなわち、膜式ガス溶解装置の水室の膜の長さ方向の一端側に超純水を供給し、他端側から窒素溶解水を排出するのに対し、窒素は気室の窒素溶解水排出側から供給し、超純水の供給側から排出することが好ましい。超純水と窒素を向流接触することにより、良好なガス溶解効率を得ることができる。
図２は、本発明の窒素溶解水の製造装置の他の態様の説明図である。本態様においては、膜式ガス溶解装置として中空糸膜式ガス溶解装置１３が用いられ、中空糸膜１４の内側に窒素が供給され、中空糸膜の外側に超純水が供給される。膜式ガス溶解装置の一端にガス供給室１５、他端にガス排出室１６が仕切板１７、１８を介して設けられ、仕切板を貫通して中空糸がガス供給室及びガス排出室に開口している。窒素源１９から流量調節弁２０を経由して、窒素供給管２１がガス供給室に接続されている。また、ガス排出管２２がガス排出室に接続されている。圧力計２３によりガス排出室の圧力が測定され、圧力計の測定値が信号として制御器２４に送られ、制御器において設定値との差が自動計算され、信号が流量調節弁に送られて弁の開度により窒素排出量が調整され、中空糸膜の内側の圧力が設定値に維持される。
【００１２】
本発明装置において、膜式ガス溶解装置の気室に設置する圧力計に特に制限はなく、例えば、Ｕ字管型、単管型、零位法型などの液柱方式の圧力計、プルドン管型、ベローズ型、ダイヤフラム型などの弾性体方式又は力平衡方式の圧力計、単鐘式、複鐘式などの沈鐘方式の圧力計などを挙げることができる。
本発明装置において、窒素供給量調整手段に特に制限はなく、例えば、手動又は自動により、圧力の測定値が所定の溶存窒素濃度に対応する設定値となるように、窒素供給量を調整することができる。自動により窒素供給量を調整する場合は、圧力の測定値を演算装置に入力し、圧力の設定値と比較演算し、その差に相当する信号を窒素供給量調整手段に送り、窒素供給量を調整することができる。窒素供給量の調整手段としては、例えば、窒素供給管又は窒素排出管に設けた流量調整弁などを挙げることができる。手動による場合は、弁の開度を人手によって調整することができる。
【実施例】
【００１３】
以下に、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定されるものではない。
実施例１
図１に示す装置を用いて、２０℃において、溶存窒素濃度１２ｍｇ／Ｌの窒素溶解水を製造した。膜式ガス溶解装置は、ポリプロピレン中空糸を備えた、外形寸法が直径１２０ｍｍ、長さ８３５ｍｍの膜モジュールである。
超純水タンク１から、溶存窒素濃度７.６ｍｇ／Ｌの超純水を、ポンプ２により膜式ガス溶解装置４の水室に２０Ｌ／分送り込み、膜式ガス溶解装置の気室の圧力が−３７ｋＰａ(ゲージ圧)になるように圧力計６とバルブ９により窒素の供給量を制御した。窒素の供給量は７０ｍＬ(標準状態)／分となり、膜式ガス溶解装置から流出する窒素溶解水の窒素濃度は１２.０ｍｇ／Ｌであった。膜式ガス溶解装置に供給された窒素７０ｍＬ(標準状態)／分は、超純水２０Ｌ／分の溶存窒素濃度の増加分４.４ｍｇ／Ｌと一致し、膜式ガス溶解装置に供給された窒素が超純水の溶存窒素濃度の増加に費消されたことが確認された。
実施例２
実施例１と同様にして、溶存窒素濃度１５ｇ／Ｌの窒素溶解水を製造した。
膜式ガス溶解装置の気室の圧力が−２１ｋＰａ(ゲージ圧)になるように圧力計６とバルブ９により窒素の供給量を制御した以外は、実施例１と同じ操作を行った。窒素の供給量は１１８ｍＬ(標準状態)／分となり、膜式ガス溶解装置から流出する窒素溶解水の窒素濃度は１５.０ｍｇ／Ｌであった。膜式ガス溶解装置に供給された窒素１１８ｍＬ(標準状態)／分は、超純水２０Ｌ／分の溶存窒素濃度の増加分７.４ｍｇ／Ｌと一致し、膜式ガス溶解装置に供給された窒素が超純水の溶存窒素濃度の増加に費消されたことが確認された。
実施例１及び実施例２の結果から分かるように、２０℃において、膜式ガス溶解装置の気室の圧力が−１０１.３ｋＰａ(ゲージ圧)の０.３７倍又は０.２１倍となるように制御して、気室に窒素を供給することにより、溶存窒素濃度が飽和濃度１９.０ｍｇ／Ｌの０.６３倍又は０.７９倍である窒素溶解水が得られる。したがって、膜式ガス溶解装置の水室に供給される超純水の溶存窒素濃度が変動しても、膜式ガス溶解装置の圧力が設定値になるように制御して膜式ガス溶解装置の気室に窒素を供給することにより、所定の溶存窒素濃度の窒素溶解水を製造することができる。
【産業上の利用可能性】
【００１４】
本発明の窒素溶解水の製造装置を用いることにより、窒素が溶解している超純水を原水として、所定の溶存窒素濃度に対して不足する窒素を溶解し、短い工程で、簡便かつ精度よく溶存窒素濃度が管理された窒素溶解水を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の窒素溶解水の製造装置の一態様の工程系統図である。
【図２】本発明の窒素溶解水の製造装置の他の態様の説明図である。
【図３】従来の窒素溶解水の製造装置の一例の工程系統図である。
【符号の説明】
【００１６】
１  超純水タンク
２  ポンプ
３  脱酸素水供給管
４  膜式ガス溶解装置
５  窒素供給管
６  圧力計
７  ガス溶解水排出管
８  制御器
９  バルブ
１０  ガス排出管
１１  バルブ
１２  ポンプ
１３  中空糸膜式ガス溶解装置
１４  中空糸膜
１５  ガス供給室
１６  ガス排出室
１７  仕切板
１８  仕切板
１９  窒素源
２０  流量調節弁
２１  窒素供給管
２２  ガス排出管
２３  圧力計
２４  制御器
２５  超純水タンク
２６  ポンプ
２７  膜脱気装置
２８  膜式ガス溶解装置
【図１】
2005270793.tif 000003
【図２】
2005270793.tif 000004
【図３】
2005270793.tif 000005