(57)【要約】【課題】  イメージセンサ用カラーフィルタなど微細なパターン形成を要するカラーフィルタに好適に用いることができ、更に、保存安定性に優れた光硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。【解決手段】  少なくとも、アルカリ可溶性樹脂と、染料と、重合性モノマーと、光重合開始剤と、溶剤と、を含む光硬化性組成物であって、アミド系有機溶剤及び水の少なくともいずれかを、構成成分の総質量に対して３〜３０質量％含むことを特徴とする光硬化性組成物並びにこれを用いたカラーフィルタ及びその製造方法である。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも、アルカリ可溶性樹脂と、染料と、重合性モノマーと、光重合開始剤と、溶剤と、を含む光硬化性組成物であって、アミド系有機溶剤及び水の少なくともいずれかを、構成成分の総質量に対して３〜３０質量％含むことを特徴とする光硬化性組成物。
【請求項２】
少なくとも、アルカリ可溶性樹脂と、染料と、重合性モノマーと、光重合開始剤と、溶剤と、を含む光硬化性組成物であって、構成成分の総質量に対する水の含有量が３〜３０質量％であることを特徴とする光硬化性組成物。
【請求項３】
前記染料が、酸性染料であることを特徴とする請求項１又は２に記載の光硬化性組成物。
【請求項４】
前記染料が、２価以上の金属の塩を含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の光硬化性組成物。
【請求項５】
前記溶剤が、アミド系有機溶剤以外の沸点８０℃〜２５０℃の有機溶剤を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光硬化性組成物。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載の光硬化性組成物を用いてなることを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項７】
請求項１〜５のいずれかに記載の光硬化性組成物を基板上に塗布し、フォトリソ法によって、前記基板上に画素を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタ（特に、イメージセンサー（ＣＣＤ、ＣＭＯＳ等）に用いられる微細な着色画像を有するカラーフィルタ）の形成に好適な光硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタ及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示素子やイメージセンサーに用いられるカラーフィルタを作製する方法としては、染色法、印刷法、電着法及び顔料分散法が知られている。
【０００３】
このうち顔料分散法は、顔料を種々の感光性組成物に分散させた着色感放射線性組成物を用いてフォトリソ法によってカラーフィルタを作製する方法である。かかる方法は、顔料を使用しているために得られた塗膜は光や熱等に安定である。また、顔料分散法は、フォトリソ法によってパターニングをおこなうため、位置精度が高く、大画面、高精細カラーディスプレイ用カラーフィルタを作製するのに好適な方法であることから、広く利用されている。
【０００４】
顔料分散法によってカラーフィルタを作製するには、まず、ガラス基板上に感放射線性組成物をスピンコーターやロールコーター等によって塗布・乾燥させ塗膜を形成し、該塗膜をパターン露光し、現像する。次いで、得られたパターンの耐溶剤性及び、耐現像性、耐熱性を高めるために加熱処理（ポストベーク）工程を行って、塗膜の硬化を促進させて、耐久性の高い永久塗膜を得ている。このような工程を経ることによって第２色目以降の工程を安定的に行うことができ、更にこの操作を各色毎に繰り返すことでカラーフィルタを得ることができる。
【０００５】
しかし、従来の顔料分散系では顔料の粒子径が大きく、露光時の紫外線を散乱させるため解像度が向上しないことから、高精細化の要望に応えることは困難であった。また、顔料の粒子径に分布があるため、色むらのない均一な画素を形成するのが難しく、イメージセンサーのように微細パターンが要求される用途の使用には限界があった。
【０００６】
上述の問題を解決する為、従来から染料を用いて画素内の色分布を均一にする例が知られている（例えば、特許文献１参照。）。このように、染料を用いる方法ではイメージセンサー用のカラーフィルタの場合、染色法が主に用いられてきた。しかしながら、染色法は、基板上に感光性組成物を用いたパターンを形成し、このパターンを後から染色する方法であるため、他の方法と比較して染色の度合いをコントロールするのが難しく、工程が複雑である等の問題があった。従って、染色法と該顔料分散法との欠点を解決した、感光性組成物に染料を溶解させたカラーフィルタが検討されてきた。
【０００７】
染料を用いてカラーフィルタを形成する際の重要な課題の一つとしては、染料の耐熱性及び耐光性の向上が挙げられる。染料の耐熱性や耐光性を上げるためには、染料分子同士の結合を強化して結晶全体を安定化させることが有用である。しかし、染料分子間の結合を強化すると、溶剤分子の染料分子間への進入が妨げられ、染料の溶解度が著しく下がってしまう。このため、従来では染料の溶解度を上げるために、溶解力は高いが環境面や安全面の観点から取り扱いの困難な溶剤が使用されていた。
【０００８】
これに対し、溶媒に水又はアルコールを使用した水現像可能な感光性着色組成物が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。かかる感光性組成物は、主に水を溶媒として用いており、環境性が高いとされ、また、染料の溶解性も良好である。しかし、かかる感光性組成物は、水溶性の成分を使用するため、それらの成分が染料の影響で水への溶解性が低下し、現像性が低下するといった問題があった。
【０００９】
一方、着色剤が顔料であり、有機溶媒１００重量部に対して水を５〜１００重量部用いたカラーフィルター形成材料が提案されている（例えば、特許文献３参照。）。しかし、かかるカラーフィルター形成材料は、顔料の分散性及び保存安定性の向上を目的とするものであり、染料の析出防止等を目的とするものではない。
【００１０】
また、アミド系溶剤を含有するフタロシアニン系アニオン性緑色染料水溶液（カラーフィルタ用インク組成物）や、アミド系有機溶剤水溶液に染料を溶解したカラーフィルタ用赤色インク組成物が提案されている（例えば、特許文献４及び５参照。）。これらインク組成物は、染着性及び安定性に優れるとされているものの、染料の析出を十分に抑制することができなかった。また、これらの方法では染料の耐光性、耐熱性にもなお問題があった。
【００１１】
また、水溶性樹脂と共に、溶媒として水又はアルコールを主成分とする着色組成物が提案されている（例えば、特許文献６参照。）。しかし、かかる組成物は水系の組成物であり、同様に染料の析出を十分に抑制することができなかった。
【００１２】
以上のように、染料（特に耐熱性や耐光性の高い染料）を用いて光硬化性組成物を調製した際に、染料の析出を十分に抑制できる光硬化性組成物は未だ提供されていないのが現状である。
【特許文献１】特開平６−７５３７５号公報
【特許文献２】特開２０００−２５８９０８号公報
【特許文献３】特開平９−１７８９２３号公報
【特許文献４】特開平９−２９１２４０号公報
【特許文献５】特開平９−２９１２４１号公報
【特許文献６】特開２０００−１１２１２７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明の主たる目的は、イメージセンサ用カラーフィルタなど微細なパターン形成を要するカラーフィルタに好適に用いることができ、更に、保存安定性に優れた光硬化性組成物の提供にある。
また、他の目的としては、染料を用いた高密度且つ高解像度のカラーフィルタ及びこれを得ることができるカラーフィルタの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
上記本発明の目的を達成するために、本発明者等が鋭意検討を重ねた結果、下記構成の光硬化性組成物が、保存安定性に優れることを見出し、本発明に至った。
【００１５】
＜１＞  少なくとも、アルカリ可溶性樹脂と、染料と、重合性モノマーと、光重合開始剤と、溶剤と、を含む光硬化性組成物であって、アミド系有機溶剤及び水の少なくともいずれかを、構成成分の総質量に対して３〜３０質量％含むことを特徴とする光硬化性組成物である。
【００１６】
＜２＞  少なくとも、アルカリ可溶性樹脂と、染料と、重合性モノマーと、光重合開始剤と、溶剤と、を含む光硬化性組成物であって、構成成分の総質量に対する水の含有量が３〜３０質量％であることを特徴とする光硬化性組成物である。
【００１７】
＜３＞  前記染料が、酸性染料であることを特徴とする上記＜１＞又は＜２＞の光硬化性組成物である。
【００１８】
＜４＞  前記染料が、２価以上の金属の塩を含むことを特徴とする上記＜１＞〜＜３＞のいずれかの光硬化性組成物である。
【００１９】
＜５＞  前記２価以上の金属の塩が、アゾ系及びフタロシアニン系のいずれかの化合物を含むこと特徴とする上記＜４＞の光硬化性組成物である。
【００２０】
＜６＞  前記２価以上の金属の塩が、γ酸−アゾ系化合物及びピラゾロンアゾ系化合物の少なくともいずれかを含むことを特徴とする上記＜４＞又は＜５＞の光硬化性組成物である。
【００２１】
＜７＞  前記２価以上の金属の塩が、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含むことを特徴とする上記＜４＞〜＜６＞の光硬化性組成物である。
【化１】
2005134455.tif 000002
〔式中、Ｒ1は、水素原子、炭素数１〜２１のアルキル基、炭素数１〜２１のアルコキシ基、又は電子吸引性の置換基を表す。Ｒ2は、２価以上の金属原子のカチオンの１価分のカチオンを表す。ｎは０〜５の整数を表す。〕
【００２２】
＜８＞  前記溶剤が、アミド系有機溶剤以外の沸点８０℃〜２５０℃の有機溶剤を含むことを特徴とする上記＜１＞〜＜７＞のいずれかに記載の光硬化性組成物である。
【００２３】
＜９＞  上記＜１＞〜＜８＞の光硬化性組成物を用いてなることを特徴とするカラーフィルタである。
【００２４】
＜１０＞  上記＜１＞〜＜８＞の光硬化性組成物を基板上に塗布し、フォトリソ法によって、前記基板上に画素を形成することを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、イメージセンサ用カラーフィルタなど微細なパターン形成を要するカラーフィルタに好適に用いることができ、且つ、保存安定性に優れた光硬化性組成物の提供することができる。更に、本発明によれば、染料を用いた高密度且つ高解像度のカラーフィルタ、及び、これを得ることができるカラーフィルタの製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明の光硬化性組成物、並びに、カラーフィルタ及びその製造方法について詳述する。
【００２７】
《光硬化性組成物》
本発明の光硬化性組成物は、アルカリ可溶性樹脂と、染料と、重合性モノマーと、光重合開始剤と、溶剤とを含む光硬化性組成物であって、アミド系有機溶剤及び水の少なくともいずれか（好ましくは水）を、構成成分の総質量に対して３〜３０質量％含むことを特徴とする。即ち、本発明の光硬化性組成物は、アミド系有機溶剤及び水のいずれかを、特定量含むことで、染料の析出を抑制し、組成物の保存安定性を向上させることができる。また、本発明の光硬化性組成物は、前記一般式（１）で表される化合物等の耐熱性や耐光性の高い染料を用いた場合であっても、染料の析出を十分に防止することができる。このため、耐熱性や耐光性に優れたカラーフィルタの作製に好適に用いることができる。
【００２８】
ここで、「構成成分の総質量に対して３〜３０質量％」とは、本発明の光硬化性組成物の全体質量に対して３〜３０質量％であること、即ち、本発明の光硬化性組成物を構成する全ての構成成分の総質量に対して３〜３０質量％との意味である。
また、「アミド系有機溶剤及び水の少なくともいずれかを、構成成分の総質量に対して３〜３０質量％含む」とは、アミド系有機溶剤及び水の総量が、光硬化性組成物の構成成分の総質量に対して３〜３０質量％であることを意味する。即ち、アミド系有機溶剤又は水のいずれかを単独で用いた場合には、用いられたアミド系有機溶剤又は水の総量を意味し、アミド系有機溶剤及び水を併用した場合には、併用したアミド系有機溶剤と水との総量を意味する。
【００２９】
（アミド系有機溶剤・水）
上述の通り、本発明の光硬化性組成物は、アミド系有機溶剤及び水の少なくともいずれかを、光硬化性組成物の構成成分の総質量に対して３〜３０質量％含む。上記アミド系有機溶剤又は水のいずれかの含有量、或いは、これらを併用する場合にはその総含有量が、光硬化性組成物の構成成分の総質量に対して３質量％未満であると、光硬化性組成物調製時に染料が析出し、均一な塗膜が形成できない。また、上記含有量が３０質量％をこえると、組成物中の他の成分との相溶が難しくなり、そのため塗布膜形成時に塗布ムラが生じ、同様に均一な塗膜が形成できない。
【００３０】
上記アミド系有機溶剤としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロピオンアミド、Ｎ−メチル−ε−カプロラクタム、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル尿素等の活性水素を有しない化合物が本発明の効果を十分に発揮する点から好ましく、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドが好ましい。
【００３１】
上記水としては、例えば、イオン交換水、蒸留水、限外濾過水等が挙げられ、イオン交換水が好ましい。
【００３２】
上記アミド系有機溶剤及び水の少なくともいずれかとしては、水を単独で用いることが好ましい。アミド系有機溶剤と水とを併用する場合には、その比（アミド系有機溶媒／水）は、４０／６０〜１０／９０が好ましく、５０／５０〜２０／８０が更に好ましい。
【００３３】
（アルカリ可溶性樹脂）
アルカリ可溶性樹脂について説明する。上記アルカリ可溶性樹脂としては、線状有機高分子重合体で、有機溶剤に可溶で、弱アルカリ水溶液で現像できるものが好ましい。このような線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸を有するポリマー、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号の各公報に記載されているようなメタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等があり、また同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体が有用である。この他に水酸基を有するポリマーに酸無水物を付加させたもの等やポリヒドロキシスチレン系樹脂、ポリシロキサン系樹脂、ポリ（２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート）、ポリビニールピロリドンやポリエチレンオキサイド、ポリビニルアルコール、等も有用である。
【００３４】
また上記アルカリ可溶性樹脂は、親水性を有するモノマーを共重合してもよく、例えば、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、２級及び３級のアルキルアクリルアミド、ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリレート、モルホリン（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニルイミダゾール、ビニルトリアゾール、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、分岐又は直鎖のプロピル（メタ）アクリレート、分岐又は直鎖のブチル（メタ）アクリレート、フェノキシヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
その他親水性を有するモノマーとしては、テトラヒドロフルフリル基、燐酸、燐酸エステル、４級アンモニウム塩、エチレンオキシ鎖、プロピレンオキシ鎖、スルホン酸及びその塩、モルホリノエチル基等を含んだモノマー等も有用である。
【００３５】
また、上記分子中に二重結合を有する高分子重合体は、アルカリ可溶性でありエチレン性不飽和結合等の二重結合を有するものであれば用いることができ、例えば、エチレン性不飽和結合を有するポリマー等を挙げることができる。
尚、アルカリ可溶性樹脂中の上記二重結合を有する高分子重合体の含有量は、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がさらに好ましく、３０質量％以上が特に好ましい。上記含有量が、１０質量％未満であると画素のパターンプロファイルが矩形からずれてしまう場合がある。本発明におけるアルカリ可溶性樹脂中の二重結合の含有量は、樹脂１グラム中のミリモル量で表示すると、１〜５ｍｍｏｌ／ｇ、好ましくは１〜４．５ｍｍｏｌ／ｇ、さらに好ましくは１．５〜４．０ｍｍｏｌ／ｇである。
【００３６】
上記エチレン性不飽和性基を含有するポリマーの例を以下に示すが、炭素炭素不飽和結合が含まれていれば下記に限定されない。
エチレン性不飽和性基を含有するポリマーとしては、ＯＨ基を有する例えば２−ヒドロキシエチルアクリレートと、ＣＯＯＨ基を含有する例えばメタクリル酸と、これらと共重合可能なアクリル系若しくはビニル系化合物等のモノマーとの共重合体に、ＯＨ基と反応性を有するエポキシ環と炭素炭素不飽和結合基とを有する化合物（例えばグリシジルアクリレートのような化合物）を反応させて得られる化合物等が使用できる。ＯＨ基との反応ではエポキシ環の他に酸無水物、イソシアネート基を有し、アクリロイル基を有する化合物も使用できる。また特開平６−１０２６６９号、特開平６−１９３８号に開示されるエポキシ環を有する化合物にアクリル酸のような不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物に、飽和若しくは不飽和多塩基酸無水物を反応させて得られる反応物も使用できる。ＣＯＯＨ基のようなアルカリ可溶化基と炭素炭素不飽和基を併せ持つ化合物として例えばダイヤナ−ルＮＲシリーズ（三菱レイヨン（株）製）、Ｐｈｏｔｏｍｅｒ６１７３（ＣＯＯＨ含有Ｐｏｌｙｕｒｅｔｈａｎｅ  ａｃｒｙｌｉｃ  ｏｌｉｇｏｍｅｒ、Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｓｈａｍｒｏｃｋ  Ｃｏ．Ｌｔｄ．，製）、ビスコートＲ−２６４、ＫＳレジスト１０６（いずれも大阪有機化学工業（株）製）、サイクロマーＰシリーズ、プラクセル  ＣＦ２００シリーズ（いずれもダイセル化学工業（株）製）、Ｅｂｅｃｒｙｌ３８００（ダイセルユーシービー（株）製）などが挙げられる。このうち、クロトニル基、アクリル基、メタクリル基、アリル基、プロピルエステル基、ビニルエステル基、及びアリルオキシアルキル基から選ばれる少なくとも１種を側鎖に有する高分子重合体が有用であり、特に、アクリル基、メタクリル基、及びアリル基、から選ばれる少なくとも１種を側鎖に有する高分子重合体が有用である。
【００３７】
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量は、３，０００〜３００，０００が好ましく、５，０００〜１００，０００がさらに好ましく、１０，０００〜８０，０００が特に好ましい。
【００３８】
また、本発明の光硬化性組成物中におけるアルカリ可溶性樹脂の含有量は、０．５〜１５質量％が好ましく、１．０〜１２質量％がさらに好ましい。上記アルカリ可溶性樹脂の含有量が、０．５質量％未満であると現像の進行が遅くなり製造コストの増大を招く可能性がある。また、１５質量％を超えると良好なパターンプロファイルが得られなくなる場合がある。
【００３９】
（染料）
本発明で使用できる染料は、特に制限はなく、従来カラーフィルタ用として公知の染料が使用できる。例えば、特開昭６４−９０４０３号公報、特開昭６４−９１１０２号公報、特開平１−９４３０１号公報、特開平６−１１６１４号公報、特登２５９２２０７号、米国特許第４，８０８，５０１号明細書、米国特許第５，６６７，９２０号明細書、米国特許第５，０５９，５００号明細書、特開平５−３３３２０７号公報、特開平６−３５１８３号公報、特開平６−５１１１５号公報、特開平６−１９４８２８号公報、特開平８−２１１５９９号公報、特開平４−２４９５４９号公報、特開平１０−１２３３１６号公報、特開平１１−３０２２８３号公報、特開平７−２８６１０７号公報、特開２００１−４８２３号公報、特開平−９４８２１号公報、特開平８−１５５２２号公報、特開平８−２９７７１号公報、特開平８−１４６２１５号公報、特開平１１−３４３４３７号公報、特開平８−６２４１６号公報、特開２００２−１４２２０号公報、特開２００２−１４２２１号公報、特開２００２−１４２２２号公報、特開２００２−１４２２３号公報、特開平８−３０２２２４号公報、特開平８−７３７５８号公報、特開平８−１７９１２０号公報、特開平８−１５１５３１号公報等に開示されている色素が使用できる。化学構造としては、ピラゾールアゾ系、アニリノアゾ系、トリフェニルメタン系、アントラキノン系、アンスラピリドン系、ベンジリデン系、オキソノール系、ピラゾロトリアゾールアゾ系、ピリドンアゾ系、シアニン系、フェノチアジン系、ピロロピラゾールアゾメチン系、キサンテン系、フタロシアニン系、ベンゾピラン系、インジゴ系、等の染料が使用できる。
また、水又はアルカリ現像を行うレジスト系の場合、現像によりバインダー及び／又は染料を完全に除去するという観点では、酸性染料及び／又は、その誘導体が好適に使用できる場合がある。
その他、直接染料、塩基性染料、媒染染料、酸性媒染染料、アゾイック染料、分散染料、油溶染料、食品染料、及び／又は、これらの誘導体等も有用に使用することが出来る。
【００４０】
上記染料は、酸性染料であることが好ましく、また、２価以上の金属の塩であることが好ましい。特に、該２価以上の金属の塩は、酸性染料の２価以上の金属の塩であることが好ましい。上記２価以上の金属の塩を用いると、従来に無い高い耐光性と高い耐熱性を同時に満足し、かつ、パターン形成性（現像性）及び液保存性に優れた性能を示すことができる。また、本発明における染料としては、有機溶剤に可溶な有機溶剤可溶性染料であることが好ましい。
【００４１】
上記２価以上の金属の塩は、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、アルミニウム、銅、鉄など２価以上の金属の塩である。また、上記酸性染料の２価以上の金属の塩は、アゾ系及びフタロシアニン系のいずれかの化合物を少なくとも含むことが好ましく、γ酸−アゾ系化合物及びピラゾロンアゾ系化合物のいずれかを含むことが更に好ましい。上記アゾ系又はフタロシアニン系の化合物としては、例えば、芳香族アゾ系化合物、ヘテロ芳香族アゾ系化合物、金属−フタロシアニン化合物等が挙げられる。
【００４２】
上記２価以上の金属の塩は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含むことが好ましい。
【００４３】
【化２】
2005134455.tif 000003
【００４４】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒ1は、水素原子、炭素数１〜２１のアルキル基、炭素数１〜２１のアルコキシ基、又は電子吸引性の置換基を表す。また、Ｒ2は、２価以上の金属原子のカチオンの１価分のカチオンを表す。ｎは０〜５の整数を表す。
【００４５】
上記Ｒ1で表される炭素数１〜２１のアルキル基は置換基を有していてもよく、炭素数１〜１５のアルキル基が更に好ましい。上記Ｒ1で表される炭素数１〜２１のアルキル基としては、直鎖又は分岐又は環状のアルキル基でもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−エイコサニル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−メチルブチル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｔ−アミル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−エチル−２−メチルプロピル基、直鎖又は分岐のヘプチル基、１−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、１，５−ジメチルヘキシル基、ｔ−オクチル基、分岐したノニル基、分岐したデシル基、分岐したウンデシル基、分岐したドデシル基、分岐したトリデシル基、分岐したテトラデシル基、分岐したペンタデシル基、分岐したヘキサデシル基、分岐したヘプタデシル基、分岐したオクタデシル基、直鎖又は分岐のノナデシル基、直鎖又は分岐のエイコサニル基、
【００４６】
シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、シス−ミルタニル基、イソピノカンフェニル基、ノルアダマンチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、１−（１−アダマンチル）エチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、キヌクリジニル基、シクロペンチルエチル基、ビシクロオクチル基が好ましい。
【００４７】
これらの中でも上記Ｒ1で表される炭素数１〜２１のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−メチルブチル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｔ−アミル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−エチル−２−メチルプロピル基、直鎖又は分岐のヘプチル基、１−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、１，５−ジメチルヘキシル基、ｔ−オクチル基、分岐したノニル基、分岐したデシル基、分岐したウンデシル基、分岐したドデシル基、分岐したトリデシル基、分岐したテトラデシル基、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、シス−ミルタニル基、イソピノカンフェニル基、ノルアダマンチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、１−（１−アダマンチル）エチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、キヌクリジニル基、シクロペンチルエチル基、ビシクロオクチル基がより好ましく、これらの中でも更に、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−メチルブチル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｔ−アミル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−エチル−２−メチルプロピル基、直鎖又は分岐のヘプチル基、１−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、１，５−ジメチルヘキシル基、ｔ−オクチル基、分岐したノニル基、分岐したデシル基、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、ノルアダマンチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、１−（１−アダマンチル）エチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、シクロペンチルエチル基、ビシクロオクチル基が特に好ましい。
【００４８】
更に上記の基のうち、耐熱性向上の為には、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−メチルブチル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｔ−アミル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−エチル−２−メチルプロピル基、分岐のヘプチル基、１−メチルヘプチル基、１，５−ジメチルヘキシル基、ｔ−オクチル基、分岐したノニル基、分岐したデシル基、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、ノルアダマンチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、１−（１−アダマンチル）エチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、シクロペンチルエチル基、ビシクロオクチル基等の分岐したアルキル基や環状のアルキル基が特に好ましい。
【００４９】
また、Ｒ1で表されるアルキル基は、エーテル基を含んでいてもよく、例えば、テトラヒドロフルフリル基、テトラヒドロピラニルメチル基、２，５−ジヒドロ−２，５−ジメトキシフルフリル基なども好ましい。
【００５０】
上記Ｒ1で表されるアルキル基は、フッ素で置換されたアルキル基であってもよい。該フッ素で置換されたアルキル基としては、トリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、トリデカフルオロヘキシル基、ペンタデカフルオロヘプチル基、ヘプタデカフルオロオクチル基、トリデカフルオロオクチル基、ノナデカフルオロノニル基、ヘプタデカフルオロデシル基、パーフルオロデシル基が好ましく、この中でも、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、トリデカフルオロヘキシル基、ペンタデカフルオロヘプチル基が更に好ましく、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、トリデカフルオロヘキシル基が特に好ましい。
【００５１】
上記一般式（Ｉ）中、Ｒ1で表される炭素数１〜２１のアルコキシ基は置換基を有していてもよく、炭素数１〜１５のアルコキシ基が更に好ましい。
上記Ｒ1で表される炭素数１〜２１のアルコキシ基としては、上述のＲ1で表されるアルキル基を酸素原子で連結した基（アルキルオキシ基）が好ましい。この中での好ましい範囲も上述のアルキル基の好ましい例と同様である。
【００５２】
一般式（Ｉ）中、Ｒ1で表される電子吸引性の置換基は、電子求引性のものであれば特に限定されない。
上記Ｒ1で表される電子吸引性基としては、「ハメット則  −構造と反応性−」稲本直樹著、丸善（株）等に記載されるハメットのσ値が正の値を有するものであれば限定されない。上記電子求引性基としては、例えば、エチニル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ニトロ基、アセトキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、置換スルホニル基（アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等）、スルファモイル基、アルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基、アシルチオ基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基が好ましく、この中でも、エチニル基、トリフルオロメチル基、シアノ基、アシル基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ニトロ基、アセトキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等、スルファモイル基、置換スルファモイル基（アルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基等）、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基がより好ましく、トリフルオロメチル基、シアノ基、アシル基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ニトロ基、アセトキシ基、アルキルチオ基、アルキルスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基等、スルファモイル基、置換スルファモイル基（アルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基等）、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基が特に好ましい。
【００５３】
これらの電子吸引性基は更に同様の置換基、並びに、アシル基、アシルアミノ基、アシルアミノカルボニルアミノ基、アラルキルアミノカルボニルアミノ基、アリールアミノカルボニルアミノ基、メタクリロイルアミノカルボニルアミノ基、トリフルオロメチル基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基、ヒドロキシ基、ニトロ基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビニル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ビニルオキシ基、フェニルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、フェニル基等で置換されていてもよい。
【００５４】
上記のＲ1で表される電子吸引性の置換基の好ましい例として挙げられる（置換）スルファモイル基としては、下記の一般式（ＩＩ）で表される（置換）スルファモイル基が好ましい。
【００５５】
【化３】
2005134455.tif 000004
〔式中、Ｒ3及びＲ4は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２１のアルキル基、炭素数２〜２１のアルケニル基、炭素数６〜２１のアリール基、又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ3及びＲ4は置換基を有していてもよい。また、Ｒ3，Ｒ4が置換している窒素原子と一緒になって、ヘテロ環を形成してもよい。〕
【００５６】
一般式（ＩＩ）中、Ｒ3及びＲ4で表される炭素数１〜２１のアルキル基は置換基を有していてもよく、炭素数１〜１５のアルキル基であることが好ましい。
上記Ｒ3及びＲ4で表される炭素数１〜２１のアルキル基は、直鎖又は分岐又は環状のアルキル基でもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−エイコサニル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−メチルブチル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｔ−アミル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−エチル−２−メチルプロピル基、直鎖又は分岐のヘプチル基、１−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、１，５−ジメチルヘキシル基、ｔ−オクチル基、分岐したノニル基、分岐したデシル基、分岐したウンデシル基、分岐したドデシル基、分岐したトリデシル基、分岐したテトラデシル基、分岐したペンタデシル基、分岐したヘキサデシル基、分岐したヘプタデシル基、分岐したオクタデシル基、直鎖又は分岐のノナデシル基、直鎖又は分岐のエイコサニル基、
【００５７】
シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、シス−ミルタニル基、イソピノカンフェニル基、ノルアダマンチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、１−（１−アダマンチル）エチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、キヌクリジニル基、シクロペンチルエチル基、ビシクロオクチル基が好ましい。
【００５８】
これらの中でも、上記Ｒ3及びＲ4で表される炭素数１〜２１のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−メチルブチル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｔ−アミル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−エチル−２−メチルプロピル基、直鎖又は分岐のヘプチル基、１−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、１，５−ジメチルヘキシル基、ｔ−オクチル基、分岐したノニル基、分岐したデシル基、分岐したウンデシル基、分岐したドデシル基、分岐したトリデシル基、分岐したテトラデシル基、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、シス−ミルタニル基、イソピノカンフェニル基、ノルアダマンチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、１−（１−アダマンチル）エチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、キヌクリジニル基、シクロペンチルエチル基、ビシクロオクチル基がより好ましく、更に、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−メチルブチル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｔ−アミル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−エチル−２−メチルプロピル基、直鎖又は分岐のヘプチル基、１−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル基、１，５−ジメチルヘキシル基、ｔ−オクチル基、分岐したノニル基、分岐したデシル基、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、ノルアダマンチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、１−（１−アダマンチル）エチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、シクロペンチルエチル基、ビシクロオクチル基が特に好ましい。
【００５９】
更に、上記の基のうち、耐熱性向上の為には、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、１−メチルブチル基、１−エチルプロピル基、２−メチルブチル基、ｉ−アミル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｔ−アミル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、２−エチルブチル基、２−エチル−２−メチルプロピル基、分岐のヘプチル基、１−メチルヘプチル基、１，５−ジメチルヘキシル基、ｔ−オクチル基、分岐したノニル基、分岐したデシル基、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロヘキシルプロピル基、シクロドデシル基、ノルボルニル基、ボルニル基、ノルアダマンチル基、アダマンチル基、アダマンチルメチル基、１−（１−アダマンチル）エチル基、３，５−ジメチルアダマンチル基、シクロペンチルエチル基、ビシクロオクチル基等の分岐したアルキル基や環状のアルキル基が特に好ましい。
【００６０】
上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ3及びＲ4で表されるアルキル基はフッ素で置換されたアルキル基であってもよい。該フッ素で置換されたアルキル基としては、トリフルオロメチル基、トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、トリデカフルオロヘキシル基、ペンタデカフルオロヘプチル基、ヘプタデカフルオロオクチル基、トリデカフルオロオクチル基、ノナデカフルオロノニル基、ヘプタデカフルオロデシル基、パーフルオロデシル基が好ましく、この中でも、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、トリデカフルオロヘキシル基、ペンタデカフルオロヘプチル基がより好ましく、更には、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、ノナフルオロブチル基、トリデカフルオロヘキシル基が特に好ましい。
【００６１】
上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ3及びＲ4で表される炭素数２〜２１のアルケニル基は置換基を有していてもよく、炭素数２〜１５のアルケニル基が更に好ましい。
上記Ｒ3及びＲ4で表される炭素数２〜２１のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、イソプロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−プロペニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−１−ブテニル基、１，１−ジメチル−３−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、１−エチル−１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、１−ヘプテニル基、２，６−ジメチル−５−ヘプテニル基、９−デセニル基、１−シクロペンテニル基、２−シクロペンテニルメチル基、シクロヘキセニル基、１−メチル−２−シクロヘキセニル基、オクテニル基、シトロネリル基、オレイル基、ゲラニル基、ファーネシル基、２−（１−シクロヘキセニル）エチル基が好ましく、この中でも、ビニル基、イソプロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−プロペニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−１−ブテニル基、１，１−ジメチル−３−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、１−エチル−１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、１−ヘプテニル基、１−シクロペンテニル基、２−シクロペンテニルメチル基、シクロヘキセニル基、１−メチル−２−シクロヘキセニル基がより好ましく、更には、ビニル基、イソプロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−プロペニル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−ブテニル基、３−ブテニル基、１−メチル−１−ブテニル基、１，１−ジメチル−３−ブテニル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、１−エチル−１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、１−シクロペンテニル基、２−シクロペンテニルメチル基、シクロヘキセニル基、１−メチル−２−シクロヘキセニル基が特に好ましい。
【００６２】
Ｒ3及びＲ4で表される炭素数６〜２１のアリール基は、置換基を有していてもよく、炭素数６〜１５のアリール基であることが好ましい。
Ｒ3及びＲ4で表される置換基を有していてもよい炭素数６〜２１のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、アントラセニル基、アンスラキノニル基、ピレニル基等が好ましく、この中でも、フェニル基、ナフチル基、ビフェニレニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、アントラセニル基等がより好ましく、更には、フェニル基、ナフチル基、ビフェニレニル基、フルオレニル基等が特に好ましい。
【００６３】
上記Ｒ3及びＲ4で表される炭素数７〜２１のアラルキル基は、置換基を有していてもよく、炭素数７〜１５のアラルキル基が更に好ましい。
Ｒ3及びＲ4で表される置換基を有していてもよい炭素数７〜２１のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、ジフェニルメチル基、１，２−ジフェニルエチル基、フェニル−シクロペンチルメチル基、α−メチルベンジル基、フェニルエチル基、α−メチル−フェニルエチル基、β−メチル−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、３，３−ジフェニルプロピル基、４−フェニルブチル基、ナフチルメチル基、スチリル基、シンナミル基、フルオレニル基、１−ベンゾシクロブテニル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフチル基、インダニル基、ピペロニル基、ピレンメチル基が好ましく、この中でも、ベンジル基、フェニル−シクロペンチルメチル基、α−メチルベンジル基、フェニルエチル基、α−メチル−フェニルエチル基、β−メチル−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、４−フェニルブチル基、スチリル基、シンナミル基、フルオレニル基、１−ベンゾシクロブテニル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフチル基がより好ましく、更には、ベンジル基、α−メチルベンジル基、フェニルエチル基、α−メチル−フェニルエチル基、β−メチル−フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、スチリル基、シンナミル基、フルオレニル基、１−ベンゾシクロブテニル基、１，２，３，４−テトラヒドロナフチル基が特に好ましい。
【００６４】
これらＲ3及びＲ4で表されるアルキル基、アルケニル基、アリール基及びアラルキル基は、エーテル基を含んでいてもよく、例えば、テトラヒドロフルフリル基、テトラヒドロピラニルメチル基、２，５−ジヒドロ−２，５−ジメトキシフルフリル基なども好ましい。
【００６５】
上記Ｒ3及びＲ4が置換している窒素原子と一緒になって、ヘテロ環を形成する例としては、２−メチルアジリジン環、アゼチジン環、ピロリジン環、３−ピロリン環、ピペリジン環、１，２，３，６−テトラヒドロピリジン環、ヘキサメチレンイミン環、ピペラジン環、１，３，３−トリメチル−６−アザビシクロ［３．２．１］オクタン環、デカヒドロキノリン環、オキサゾリジン環、モルホリン環、チアゾリジン環、チオモルホリン環、インドリン環、イソインドリン環、１，２，３，４−テトラヒドロカルバゾール環、１，２，３，４−テトラヒドロキノリン環、１，２，３，４−テトラヒドロイソキノリン環、イミノジベンジル環、フェノキサジン環、フェノチアジン環、フェナジン環等が好ましく、この中でも、ピロリジン環、３−ピロリン環、ピペリジン環、１，２，３，６−テトラヒドロピリジン環、ヘキサメチレンイミン環、ピペラジン環、デカヒドロキノリン環、オキサゾリジン環、モルホリン環、チアゾリジン環、チオモルホリン環等がより好ましく、更には、ピロリジン環、３−ピロリン環、ピペリジン環、１，２，３，６−テトラヒドロピリジン環、ピペラジン環、デカヒドロキノリン環、オキサゾリジン環、モルホリン環、チアゾリジン環、チオモルホリン環等が特に好ましい。
【００６６】
上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ3及びＲ4で表されるアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、又はＲ3とＲ4とが置換している窒素原子と一緒になって形成するヘテロ環の置換基としては、アシル基、アシルアミノ基、アシルアミノカルボニルアミノ基、アラルキルアミノカルボニルアミノ基、アリールアミノカルボニルアミノ基、メタクリロイルアミノカルボニルアミノ基、トリフルオロメチル基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基、ヒドロキシ基、ニトロ基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビニル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ビニルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、フェニル基等が好ましく、この中でも、アシル基（特にアセチル基）、アシルアミノ基、トリフルオロメチル基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ビニル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ビニルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、フェニル基等がより好ましく、更には、アシル基（特にアセチル基）、アシルアミノ基、トリフルオロメチル基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、ビニル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ビニルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、フェニル基等が特に好ましい。
また、これらの置換基は更に同様の置換基で置換されていてもよい。
【００６７】
また、特に置換基がヒドロキシ基、アミノ基等の活性水素を有する基である場合は、各種酸クロライド、酸無水物、ハロゲン化物又は各種イソシアネートと反応させて、アセチル基、アシル基、（メタ）アクリロイル基、アルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基（例えば、ブチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基等）、アルキル基、アラルキル基等の基で置換されていてもよい。
【００６８】
また、Ｒ3及びＲ4で表されるアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、又はＲ3とＲ4とが置換している窒素原子と一緒になって形成するヘテロ環は、更に上述のＲ3及びＲ4で表される基で置換されていてもよい。
【００６９】
色価の観点では、Ｒ3及びＲ4で表される基の分子量はＲ3及びＲ4を合わせて５００以下が好ましく、４００以下がより好ましく、３００以下が特に好ましい。
また、Ｒ3及びＲ4の置換基の数は０〜４が好ましく、０〜３がより好ましく、０〜２が特に好ましい。
【００７０】
一般式（Ｉ）中、Ｒ1で表される基の置換基としては、例えば、アシル基、アシルアミノ基、アシルアミノカルボニルアミノ基、アラルキルアミノカルボニルアミノ基、アリールアミノカルボニルアミノ基、メタクリロイルアミノカルボニルアミノ基、トリフルオロメチル基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヨード基、ヒドロキシ基、ニトロ基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビニル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ビニルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、フェニル基等が好ましく、この中でも、アシル基（特にアセチル基）、アシルアミノ基、トリフルオロメチル基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ビニル基、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソプロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ビニルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、フェニル基等がより好ましく、更には、アシル基（特にアセチル基）、アシルアミノ基、トリフルオロメチル基、フルオロ基、クロロ基、ブロモ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、ビニル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ビニルオキシ基、メチルチオ基、エチルチオ基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、アミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、フェニル基等が特に好ましい。
また、これらの置換基は更に同様の置換基で置換されていてもよい。
【００７１】
特に上記一般式（Ｉ）中、Ｒ1で表される基の置換基がヒドロキシ基、アミノ基等の活性水素を有する基である場合は、各種酸クロライド、酸無水物、ハロゲン化物又は各種イソシアネートと反応させて、アセチル基、アシル基、（メタ）アクリロイル基、アルキルアミノカルボニル基、アリールアミノカルボニル基（例えば、ブチルアミノカルボニル基、フェニルアミノカルボニル基等）、アルキル基、アラルキル基等の基で置換されていてもよい。
【００７２】
また、色価の観点では、一般式（Ｉ）においてＲ1で表される基の分子量は７００以下が好ましく、６００以下がより好ましく、５００以下が特に好ましい。
【００７３】
上記一般式（１）におけるＲ2は、２価以上の金属原子のカチオンの１価分のカチオンを表す。上記Ｒ2としては、１／２Ｍｇ+、１／２Ｃａ+、１／２Ｓｒ+，１／２Ｂａ+、１／２Ｚｎ+、１／３Ａｌ+、１／２Ｃｕ+、１／２Ｆｅ+等が好ましく、この中でも、１／２Ｍｇ+、１／２Ｃａ+、１／２Ｂａ+、１／２Ｚｎ+、１／３Ａｌ+、１／２Ｃｕ+、１／２Ｆｅ+等がより好ましく、更には、１／２Ｍｇ+、１／２Ｃａ+、１／２Ｂａ+、１／２Ｚｎ+、１／３Ａｌ+、１／２Ｃｕ+、等が特に好ましい。
【００７４】
一般式（Ｉ）においてｎは、Ｒ1で表される置換基の数を示す。一般式（Ｉ）においてｎは０〜５であり、０〜４が好ましく、０〜３がより好ましく、０〜２が特に好ましい。
【００７５】
一般式（Ｉ）で表される化合物は、Ｒ2に相当する部分が一価の金属カチオン又は含窒素化合物からなるカチオンである化合物と併用してもよい。
その場合、上記化合物の一般式（Ｉ）におけるＲ2に相当する部分は、水素原子、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ａｇ、又は含窒素化合物からなるカチオンが好ましく、この中でも、水素原子、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ａｇ、又は含窒素化合物からなるカチオンがより好ましく、更には、水素原子、Ｎａ、Ａｇ，又は含窒素化合物からなるカチオンが特に好ましい。
【００７６】
上記含窒素化合物としては、有機溶剤や水に対する溶解性、塩形成性、染料の吸光度及び色価や、耐熱性及び耐光性等の全てを考慮して選択される。吸光度及び色価の観点のみで選択すると、上記含窒素化合物はできるだけ分子量の低いものが好ましく、そのなかで、分子量３００以下であることが好ましく、分子量２８０以下であることがより好ましく、分子量２５０以下であることが特に好ましい。
以下に上述の含窒素化合物の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。
【００７７】
【化４】
2005134455.tif 000005
【００７８】
【化５】
2005134455.tif 000006
【００７９】
【化６】
2005134455.tif 000007
【００８０】
【化７】
2005134455.tif 000008
【００８１】
【化８】
2005134455.tif 000009
【００８２】
【化９】
2005134455.tif 000010
【００８３】
【化１０】
2005134455.tif 000011
【００８４】
【化１１】
2005134455.tif 000012
【００８５】
【化１２】
2005134455.tif 000013
【００８６】
【化１３】
2005134455.tif 000014
【００８７】
以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合物の具体例（例示化合物（１）〜（８））を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００８８】
【化１４】
2005134455.tif 000015
【００８９】
【化１５】
2005134455.tif 000016
【００９０】
上記一般式（１）で表される染料は、公知の一般的な方法により合成することができる。以下に上記一般式（１）で表される染料の一般的な合成法について上記例示化合物（１）を例に説明する。但し、本発明はこれに限定されるものではない。
【００９１】
上記例示化合物（１）は、下記のスキーム１に従って製造することができる。
【００９２】
【化１６】
2005134455.tif 000017
【００９３】
まず、上記化合物（Ａ）と、シクロヘキシルメチルブロマイドと、ジメチルフォルムアミド（ＤＭＦ）と、トリエチルアミンとを混合し、５０℃程度で数時間攪拌する。次いで、反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル相を数回水洗する。その後、酢酸エチル相に硫酸マグネシウム及び活性炭を加え、乾燥、脱色した後、濾過し、酢酸エチル相を濃縮し、ヘキサン／酢酸エチルから再結晶することで上記化合物（Ｂ）を得ることができる。
【００９４】
次に、ｏ−ニトロベンゼンスルホニルクロライドとアセトンとを混合して溶解し、上記化合物（Ｂ）を徐々に加える。その後、加温し、２０％炭酸ナトリウム水溶液を滴下した後、一時間程度攪拌し、加温して更に一時間程度攪拌する。攪拌後、反応混合物を水にあけ、酢酸エチルで抽出し、酢酸エチル相を４％硫酸水溶液で洗浄する。更に、酢酸エチル相に硫酸マグネシウム及び活性炭を加え、乾燥、脱色した後、濾過し、酢酸エチル相を濃縮することで上記化合物（Ｃ）を得ることができる。
【００９５】
次に、還元鉄と酢酸と水とを混合し、加熱しながら攪拌し、更に、得られた化合物（Ｃ）のジクロロベンゼン溶液を滴下し、加熱しながら数時間攪拌する。攪拌後、更に炭酸ナトリウムを加え、加熱しながら３０分程度攪拌し、セライトと活性炭とを加え、ろ過した後、有機層を水蒸気蒸留することで上記化合物（Ｄ）を得ることができる。
【００９６】
次に得られた化合物（Ｄ）とテトラエチルアンモニウムクロライドと酢酸と３６％塩酸とを混合し、約０℃に冷却する。冷却後、亜硝酸ナトリウム水溶液を内温５℃以下で維持しながら滴下し、約５〜１０℃に温度を維持しながら攪拌する。
次いで、別途調製したγ酸のアルカリ水溶液に上記の溶液を滴下し、更に４０％酢酸ナトリウム水溶液を滴下した後、約０℃で数時間攪拌する。攪拌後、１０％炭酸ナトリウム水溶液を滴下し一夜攪拌した後、５０％ＮａＯＨ水溶液を滴下して、その後加温しながら一時間程度攪拌し、その後室温まで冷却する。混合物をろ過し、アルカリ性の食塩水で洗浄することで上記化合物（Ｅ）を得ることができる。
【００９７】
次いで、得られた化合物（Ｅ）をＭｅＯＨに溶解し、この溶液に水を添加して攪拌する。攪拌後、ＭｇＳＯ4を添加して更に攪拌し、一晩放置した後、酢酸エチルを添加する。酢酸エチル添加後、ろ過してＭｇＳＯ4を除去し、ＭｅＯＨ溶液を濃縮することで上記例示化合物（１）を得ることができる。
尚、他の例示化合物についても、適宜素材等を選択することによって上述の方法により合成することができる。
【００９８】
上記２価以上の金属の塩は、他の酸性染料、他の酸性染料と金属や含窒素化合物（これらを単に「酸性染料と塩を形成する原子団」という場合がある。）との塩、又は、他の酸性染料の誘導体等と同時に使用してもよい。
【００９９】
〜酸性染料〜
上記酸性染料について説明する。上記酸性染料は、スルホン酸やカルボン酸等の酸性基を有するものであれば特に限定されないが、有機溶剤や現像液に対する溶解性、塩形成性、吸光度、硬化性組成物中の他の成分との相互作用、耐光性、耐熱性等の必要とされる性能の全てを勘案して選択される。
以下に上記酸性染料の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。例えば、ａｃｉｄ  ａｌｉｚａｒｉｎ  ｖｉｏｌｅｔ  Ｎ；
ａｃｉｄ  ｂｌａｃｋ  １，２，２４，４８；
ａｃｉｄ  ｂｌｕｅ  １，７，９，１５，１８，２３，２５，２７，２９，４０，４５，６２，７０，７４，８０，８３，８６，８７，９０，９２，１０３，１１２，１１３，１２０，１２９，１３８，１４７，１５８，１７１，１８２，１９２；
ａｃｉｄ  ｃｈｒｏｍｅ  ｖｉｏｌｅｔ  Ｋ；
ａｃｉｄ  Ｆｕｃｈｓｉｎ；
ａｃｉｄ  ｇｒｅｅｎ  １，３，５，９，１６，２５，２７，５０；
ａｃｉｄ  ｏｒａｎｇｅ  ６，７，８，１０，１２，５０，５１，５２，５６，６３，７４，９５；
ａｃｉｄ  ｒｅｄ  １，４，８，１４，１７，１８，２６，２７，２９，３１，３４，３５，３７，４２，４４，５０，５１，５２，５７，６６，７３，８０，８７，８８，９１，９２，９４，９７，１０３，１１１，１１４，１２９，１３３，１３４，１３８，１４３，１４５，１５０，１５１，１５８，１７６，１８３，１９８，２１１，２１５，２１６，２１７，２４９，２５２，２５７，２６０，２６６，２７４；
ａｃｉｄ  ｖｉｏｌｅｔ  ６Ｂ，７，９，１７，１９；
ａｃｉｄ  ｙｅｌｌｏｗ  １，３，７，９，１１，１７，２３，２５，２９，３４，３６，４２，５４，７２，７３，７６，７９，９８，９９，１１１，１１２，１１４，１１６，１３４，１７２，２２８，３８，６５，２２０，１６９，２４３；
Ｆｏｏｄ  Ｙｅｌｌｏｗ  ３；
及びこれらの染料の誘導体が挙げられる。
【０１００】
これらの中でも上記酸性染料としては、
ａｃｉｄ  ｂｌａｃｋ  ２４；
ａｃｉｄ  ｂｌｕｅ  ２３，２５，２９，６２，８６，８７，９２，１３８，１５８；
ａｃｉｄ  ｏｒａｎｇｅ  ８，５１，５６，７４，６３，７４；
ａｃｉｄ  ｒｅｄ  １，４，８，３４，３７，４２，５２，５７，８０，９７，１１４，１４３，１４５，１５１，１８３，２１７；
ａｃｉｄ  ｖｉｏｌｅｔ  ７；
ａｃｉｄ  ｙｅｌｌｏｗ  １７，２５，２９，３４，４２，７２，７６，９９、１１１，１１２，１１４，１１６，１３４，１７２，２２８，３８，６５，２２０，１６９，２４３等の染料及びこれらの染料の誘導体が好ましい。
【０１０１】
また、上記酸性染料としては、上記で例示した染料以外の、アゾ系、キサンテン系、フタロシアニン系の酸性染料も好ましく、例えば、
Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｂｌｕｅ  ４４，３８，Ｃ．Ｉ．Ｓｏｌｖｅｎｔ  Ｏｒａｎｇｅ４５，Ｒｈｏｄａｍｉｎｅ  Ｂ，  Ｒｈｏｄａｍｉｎｅ  １１０、２，７−Ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅｄｉｓｕｌｆｏｎｉｃ  ａｃｉｄ，３−［（５−ｃｈｌｏｒｏ−２−ｐｈｅｎｏｘｙｐｈｅｎｙｌ）ｈｙｄｒａｚｏｎｏ］−３，４−ｄｉｈｙｄｒｏ−４−ｏｘｏ−５−［（ｐｈｅｎｙｌｓｕｌｆｏｎｙｌ）ａｍｉｎｏ］−，等の酸性染料及びこれらの染料の誘導体も好ましく用いられる。
上記酸性染料の誘導体としては、酸性染料のスルホン酸をスルホン酸アミド、スルホン酸エステルに変換した化合物などを好適に利用できる。
【０１０２】
〜酸性染料と塩を形成する原子団について〜
上記酸性染料と塩を形成する原子団については、酸性染料のアニオンと塩を形成するカチオン性のものであれば特に限定はない。上記原子団としては、例えば、水素原子、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、含窒素化合物からなるカチオン等が挙げられる。
上記酸性染料と対塩を形成する含窒素化合物について説明する。本発明において、酸性染料と塩を形成する含窒素化合物は、有機溶剤や現像液に対する溶解性、塩形成性、染料の吸光度、硬化性組成物中の他の成分との相互作用等の全てを考慮して選択される。吸光度の観点のみで選択すると、できるだけ分子量の低いものが好ましく、そのなかで、分子量２４５以下であることが好ましく、分子量２４０以下であることが更に好ましく、分子量２３０以下であることが特に好ましい。
【０１０３】
また、染料の光褪色防止、耐熱性向上のために、一般に褪色防止剤として知られている含窒素化合物を使用してもよく、この観点では酸価電位がより低い（イオン化ポテンシャルがより小さい）化合物、３級アミン化合物、脂肪族環状アミン化合物、アニリン系化合物、ヒドラジン系化合物等が好ましい。
これら含窒素化合物の好ましい具体例としては、上記で挙げたものと同様である。
【０１０４】
〜酸性染料と塩を形成する原子団と酸性染料との比（ｍ）について〜
酸性染料と塩を形成する原子団／酸性染料の比（以下「ｍ」という。）について説明する。上記ｍは酸性染料分子と対イオンである原子団とのモル比率を決定する値であり、酸性染料原子団の塩形成条件によって自由に選択することができる。具体的には、酸性染料中の酸の官能基数の０≦ｍ≦１０の間の数値であり、有機溶剤や現像液に対する溶解性、塩形成性、吸光度、硬化性組成物中の他の成分との相互作用、耐光性、及び耐熱性など、必要とする性能の優先順位の全てを勘案して選択される。吸光度のみの観点で選択すると、上記ｍは０≦ｍ≦７の間の数値をとることが好ましく、０≦ｍ≦６の間の数値をとることが更に好ましく、０≦ｍ≦５の間の数値をとることが特に好ましい。
【０１０５】
〜使用濃度〜
次に本発明における染料の使用濃度について説明する。本発明の光硬化性組成物の全固形成分に対する本発明における着色剤の使用濃度は、用いる染料等の種類によって異なるが、０．５〜８０質量％が好ましく、０．５〜６０質量％がより好ましく、０．５〜５０質量％が特に好ましい。上記着色剤の使用濃度が０．５〜８０質量％の範囲内にあると、光硬化性組成物の硬化性及び現像性等を良好にすることができる。
【０１０６】
（重合性モノマー）
次に上記重合性モノマーについて説明する。上記重合性モノマーとしては、少なくとも１個の付加重合可能なエチレン基を有する、常圧下で１００℃以上の沸点を持つエチレン性不飽和基を持つ化合物が好ましく、その例としては、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、等の単官能のアクリレートやメタアクリレート；ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（アクリロイロキシエチル）イソシアヌレート、グリセリンやトリメチロールエタン等の多官能アルコールにエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドを付加させた後（メタ）アクリレート化したもの、特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号各公報に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号各公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸との反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタアクリレート及びこれらの混合物をあげることができる。更に、日本接着協会誌Ｖｏｌ．２０、Ｎｏ．７、３００〜３０８頁に光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介されているものが挙げられる。
【０１０７】
上記重合性モノマーの本発明の光硬化性組成物中における含有量は、固形分に対して０．１〜９０質量が好ましく、１．０〜８０質量％がさらに好ましく、２．０〜７０質量％が特に好ましい。
【０１０８】
（光重合開始剤）
次に上記光重合開始剤について説明する。上記光重合開始剤は、上記重合性モノマー及び上記アルカリ可溶性樹脂を重合させられるものであれば特に限定されないが、重合特性、開始効率、吸収波長、入手性、コスト等の観点でトリハロメチルトリアジン系化合物、オキシム系化合物、α−アミノケトン系化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物を含むことが本発明の効果を得るために必須である。
【０１０９】
ハロメチル−ｓ−トリアジン系化合物の光重合開始剤としては、特公昭５９−１２８１号公報に記載のビニル−ハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、特開昭５３−１３３４２８号公報に記載の２−（ナフト−１−イル）−４，６−ビス−ハロメチル−ｓ−トリアジン化合物及び４−（ｐ−アミノフェニル）−２，６−ジ−ハロメチル−ｓ−トリアジン化合物が挙げられる。
【０１１０】
その他としては、みどり化学社製ＴＡＺシリーズ、ＴＡＺ−１０７、ＴＡＺ−１１０、ＴＡＺ−１０４、ＴＡＺ−１０９、ＴＡＺ−１４０、ＴＡＺ−２０４、ＴＡＺ−１１３、ＴＡＺ−１２３、ＴＡＺ−１０４等が挙げられる。
【０１１１】
α−アミノケトン系化合物の光重合開始剤としては、チバガイギー社製イルガキュアシリーズ、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、２−メチル−１−フェニル−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（ヘキシル）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−エチル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１等が挙げられる。
【０１１２】
オキシム系化合物の光重合開始剤としては、特に限定されないが、２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン、１−（４−メチルスルファニル−フェニル）−ブタン−１，２−ブタン  ２−オキシム−Ｏ−アセタート、１−（４−メチルスルファニル−フェニル）−ブタン−１−オンオキシム−Ｏ−アセタート、ヒドロキシイミノ−（４−メチルスルファニル−フェニル）−酢酸エチルエステル−Ｏ−アセタート、ヒドロキシイミノ−（４−メチルスルファニル−フェニル）−酢酸エチルエステル−Ｏ−ベンゾアート等が挙げられる。
【０１１３】
これら光重合開始剤には増感剤や光安定剤を併用することができる。
その具体例として、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン、９−フルオレノン、２−クロロ−９−フルオレノン、２−メチル−９−フルオレノン、９−アントロン、２−ブロモ−９−アントロン、２−エチル−９−アントロン、９，１０−アントラキノン、２−エチル−９，１０−アントラキノン、２−ｔ−ブチル−９，１０−アントラキノン、２，６−ジクロロ−９，１０−アントラキノン、キサントン、２−メチルキサントン、２−メトキシキサントン、２−メトキシキサントン、チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、アクリドン、１０−ブチル−２−クロロアクリドン、ベンジル、ジベンザルアセトン、ｐ−（ジメチルアミノ）フェニルスチリルケトン、ｐ−（ジメチルアミノ）フェニル−ｐ−メチルスチリルケトン、ベンゾフェノン、ｐ−（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン（又はミヒラーケトン）、ｐ−（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾアントロン等や特公昭５１−４８５１６号公報記載のベンゾチアゾール系化合物等や、チヌビン１１３０、同４００等が挙げられる。
【０１１４】
本発明の光硬化性組成物には、以上の光重合開始剤の他に他の公知の光重合開始剤を使用することができる。
具体的には、米国特許第２，３６７，６６０号明細書に開示されているビシナールポリケトルアルドニル化合物、米国特許第２，３６７，６６１号及び第２，３６７，６７０号明細書に開示されているα−カルボニル化合物、米国特許第２，４４８，８２８号明細書に開示されているアシロインエーテル、米国特許第２，７２２，５１２号明細書に開示されているα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３，０４６，１２７号及び第２，９５１，７５８号明細書に開示されている多核キノン化合物、米国特許第３，５４９，３６７号明細書に開示されているトリアリルイミダゾールダイマー／ｐ−アミノフェニルケトンの組合せ、特公昭５１−４８５１６号公報に開示されているベンゾチアゾール系化合物／トリハロメチール−ｓ−トリアジン系化合物等を挙げることができる。
上記光重合開始剤としては、ハロメチルオキサジアゾール化合物、ハロメチル−ｓ−トリアジン化合物から選択された少なくとも一つの活性ハロゲン化合物、３−アリール置換クマリン化合物、ロフィン２量体、ベンゾフェノン化合物、アセトフェノン化合物及びその誘導体、シクロペンタジエン−ベンゼン−鉄錯体及びその塩、オキシム系化合物等が挙げられる。
【０１１５】
またはハロメチルオキサジアゾール等の活性ハロゲン化合物も有効に使用することができ、これらの例としては、特公昭５７−６０９６号公報に記載の２−ハロメチル−５−ビニル−１，３，４−オキサジアゾール化合物等や、２−トリクロロメチル−５−スチリル−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−シアノスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−トリクロロメチル−５−（ｐ−メトキシスチリル）−１，３，４−オキサジアゾール等が挙げられる。
また、上記光重合開始剤としてはＰＡＮＣＨＩＭ社製Ｔシリーズも有効に使用することが可能で、これらの例としては、Ｔ−ＯＭＳ、Ｔ−ＢＭＰ、Ｔ−Ｒ、Ｔ−Ｂ等が挙げられる。
さらに、上記光重合開始剤としてはチバガイギー社製イルガキュアシリーズも有効に使用することが可能であり、これらの例としては、イルガキュア６５１、イルガキュア１８４、イルガキュア５００、イルガキュア１０００、イルガキュア１４９、イルガキュア８１９、イルガキュア２６１、ダロキュアシリーズ、ダロキュア１１７３等が挙げられる。
その他、上記光重合開始剤としては４，４’−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）−１−［４−（フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタンジオン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−４−モルホリノブチロフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−（ｏ−クロルフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（ｐ−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、２−（ｐ−メチルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体、ベンゾインイソプロピルエーテル等も有用に用いられる。
【０１１６】
本発明の光硬化性組成物における上記光重合開始剤の使用量は、上記重合性モノマーの固形分に対し、０．０１質量％〜５０質量％が好ましく、１質量％〜３０質量％がより好ましく、１質量％〜２０質量％が特に好ましい。光重合開始剤の使用量が０．０１質量％より少ないと重合が進み難く、また、５０質量％を超えると重合率は大きくなるが分子量が低くなり膜強度が弱くなる場合がある。
【０１１７】
本発明の光硬化性組成物には以上の他に、更に、熱重合防止剤を加えておくことが好ましく、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−メルカプトベンゾイミダゾール等が有用である。
【０１１８】
（溶剤）
本発明の光硬化性組成物において使用される溶剤は、本発明の光硬化性組成物の溶解性、塗布性を満足すれば基本的に特に限定されないが、特に染料、バインダー（アルカリ可溶性樹脂）の溶解性、塗布性、安全性を考慮して選ばれることが好ましい。
本発明の光硬化性組成物を調製する際に使用することができる溶剤としては、各種の有機溶剤があり、エステル類、例えば酢酸エチル、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、
【０１１９】
３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル等の３−オキシプロピオン酸アルキルエステル類；３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、
【０１２０】
ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル等；エーテル類、例えばジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、
【０１２１】
プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート等；ケトン類、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン等；芳香族炭化水素類、例えばトルエン、キシレン等を挙げることができる。
【０１２２】
これらのうち上記有機溶剤としては、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等がさらに好適である。
【０１２３】
中でも、上記溶剤としては、光硬化性組成物の塗布性の観点から、アミド系有機溶剤以外の有機溶剤として沸点８０℃〜２５０℃の有機溶剤を含むものが好ましい。これは、上記有機溶剤としてアミド系有機溶剤を用いると、単独で若しくは主体的に使用するとフォトリソ法によってカラーフィルターを作製する場合、形成された画素の上に他の色の画素を形成する際に形成された画像を損なう可能性があるためである。また、上記沸点が８０℃〜２５０℃の範囲にあると、溶剤の沸点が低いことによって塗布液の乾燥性が高くなり、均一な塗膜を形成することが困難になったり、溶剤の沸点が高いことによって塗布液の乾燥性が低くなり、乾燥負荷が高まって、工程適性や製造コストが高くなるのを防止することができる。
【０１２４】
上記アミド系有機溶剤以外の有機溶剤溶剤の沸点としては、９０℃〜２３０℃のものが好ましく、１００〜２００℃のものが更に好ましい。また、全溶剤中に占めるアミド系有機溶剤以外の８０℃〜２５０℃の有機溶剤の割合としては、６０〜９６質量％が好ましく、６５〜９５質量％が更に好ましい。
【０１２５】
上記アミド系有機溶剤以外の８０℃〜２５０℃の有機溶剤としては、例えば、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、酢酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、２−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート等が好ましい。
【０１２６】
（その他の添加物）
本発明の光硬化性組成物には、必要に応じて各種添加物、例えば充填剤、上記以外の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤等を配合することかできる。
【０１２７】
これらの添加物の具体例としては、ガラス、アルミナ等の充填剤；ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフロロアルキルアクリレート等の結着樹脂以外の高分子化合物；ノニオン系、カチオン系、アニオン系等の界面活性剤；ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等の密着促進剤；２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール等の酸化防止剤：２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノン等の紫外線吸収剤；及びポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤を挙げることができる。
【０１２８】
また、放射線未照射部のアルカリ溶解性を促進し、本発明の光硬化性組成物について現像性の更なる向上を図る場合には、本発明の光硬化性組成物に有機カルボン酸、好ましくは分子量１０００以下の低分子量有機カルボン酸の添加を行うことができる。具体的には、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸等の脂肪族モノカルボン酸；シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルコハク酸、テトラメチルコハク酸、シトラコン酸等の脂肪族ジカルボン酸；トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸等の脂肪族トリカルボン酸；安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸等の芳香族モノカルボン酸；フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリト酸等の芳香族ポリカルボン酸；フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、マンデル酸、フェニルコハク酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸ベンジル、シンナミリデン酢酸、クマル酸、ウンベル酸等のその他のカルボン酸が挙げられる。
【０１２９】
《カラーフィルタ》
本発明のカラーフィルタは上述の本発明の光硬化性組成物を用いて製造される。本発明のカラーフィルタの製造方法は、本発明の光硬化性組成物を基板上に塗布し、フォトリソ法によって、前記基板上に画素を形成する。具体的には、本発明の光硬化性組成物を基板上に直接又は他の層を介して塗布する塗布工程と、その後乾燥して塗布膜を形成する工程（プリベーク工程）と、前記塗布膜上に、特定のパターンを露光する工程（露光工程）と、露光された前記塗布膜をアルカリ現像液で現像処理する工程（現像工程）と、現像処理された前記塗布膜に加熱処理を施す工程（ポストベーク工程）と、を含むことが好ましく、これらの工程を経ることで着色されたパターンを形成することができる。また、本発明のカラーフィルタの製造方法は、必要により上記レジストパターンを加熱及び露光により硬化する工程を含んでいてもよい。
【０１３０】
上記塗布工程は、本発明の光硬化性組成物を基板上に回転塗布、流延塗布、ロール塗布、スリット塗布等の塗布方式により塗布をおこなって基板上に塗布膜を形成し、その形成されたプリベーク工程で塗布膜を乾燥して感放射線性の光硬化性組成物被膜を形成する。
上記基板としては、例えば液晶表示素子等に用いられるソーダガラス、パイレックス（Ｒ）ガラス、石英ガラス及びこれらに透明導電膜を付着させたものや、撮像素子等に用いられる光電変換素子基板、例えばシリコン基板等や、相補性金属酸化膜半導体（ＣＭＯＳ）等が挙げられる。これらの基板は、各画素を光学的に隔離するブラックマトリックスが形成されている場合もある。
また、これらの基板上に必要により、上部の層との密着改良、物質の拡散防止あるいは基板表面の平坦化の為に、下塗り層を設けてもよい。
【０１３１】
上記露光工程は、基板上に形成された光硬化性組成物被膜に、例えばマスク等を介して特定のパターンを露光する。露光の際に使用される放射線としては、特にｇ線、ｈ線、ｉ線等の紫外線が好ましく用いられる。
【０１３２】
上記現像工程は、露光された塗布膜をアルカリ現像液で現像処理する工程である。上記アルカリ現像液としては、本発明の光硬化性組成物を溶解、且つ、露光部（放射線照射部）を溶解しないものであればいかなるものも用いることができる。具体的には種々の有機溶剤の組合せやアルカリ性の水溶液を用いることができる。
上記有機溶剤としては、本発明の光硬化性組成物を調製する際に使用される前述の溶剤が挙げられる。
【０１３３】
また、上記アルカリ性の水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム，硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ−〔５．４．０〕−７−ウンデセン等が挙げられる。
【０１３４】
本発明に用いられるアルカリ現像液は、アルカリ濃度を好ましくはｐＨ１１〜１３、さらに好ましくはｐＨ１１．５〜１２．５となるように調整したアルカリ性水溶液を使用することが好ましい。上記アルカリ濃度がｐＨ１３を超えると、パターンの荒れや剥離、残膜率の低下が生じる場合があり、ｐＨが１１未満の場合は、現像速度が遅くなったり、残渣の発生がみられる場合がある。
上記現像工程は、このようなアルカリ性水溶液からなる現像液により現像処理を行う。現像方法には、例えばディップ法、スプレー法、パドル法等があり、温度は１５〜４０℃でおこなうことが好ましい。また、現像後は一般に流水にて洗浄を行う。
【０１３５】
さらに、本発明のカラーフィルタの製造方法は、現像後の塗布膜を十分に硬化させるために、ポストベーク工程において加熱処理が施される。上記加熱工程における加熱温度は、１００〜３００℃が好ましく、１５０〜２５０℃がさらに好ましい。また、加熱時間は、１０分〜１時間程度が好ましく、５分〜３０分程度がさらに好ましい。
本発明のカラーフィルタの製造方法は、上記ポストベーク工程の前に、現像されたカラーフィルタ画素パターン全面に紫外線等の放射線を照射することによって、形成された各画素の硬化をさらに促進させるポストキュア工程を施してもよい。上記ポストキュア工程によれば、ポストベーク工程における画素パターンのプロファイルの崩れを防止することができる。特に、本発明のように着色剤が染料である場合には、着色剤が顔料である場合に比べて、ポストベーク工程でのパターンプロファイルの崩れが問題になりやすい。このため、ポストキュア工程は、着色剤として染料を用いたイメージセンサ用カラーフィルタ等の作製にとって有効な工程である。
【０１３６】
本発明のカラーフィルタは、ＣＣＤ等のイメージセンサーに用いられ、特に１００万画素を超えるような高解像度のＣＣＤ素子やＣＭＯＳ素子等に好適である。本発明のカラーフィルタは、例えばＣＣＤを構成する各画素の受光部と集光するためのマイクロレンズとの間に配置されるカラーフィルタとして用いることができる。
【実施例】
【０１３７】
本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り以下の実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は質量基準である。
【０１３８】
［実施例１］
１）光硬化性組成物の調製
下記組成を混合して溶解し、光硬化性組成物を調製した。
〈組成〉
・溶剤                                                        ７６０部
エチルラクテート
・アルカリ可溶性樹脂                                            ５９部
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体  （６０／４０共重合比、酸価１００ｍｇＫＯＨ／ｇ  平均分子量３０，０００）
・重合性モノマー                                                ８８部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製）
・光重合開始剤                                                  １３部
トリクロロトリアジン系化合物（ＴＡＺ−１０７：みどり化学（株）製）
・染料                                                          ４０部
Ａｃｉｄ  ｒｅｄ  ５７（Ｍｇ塩：上記例示化合物（１））
・イオン交換水                                                  ４０部
【０１３９】
２）下塗り層付シリコンウエハー基板の作製
下塗り用樹脂ＣＴ２０００Ｌ（富士フイルムアーチ（株）製）を、１０ｃｍ×１０ｃｍのガラス板１７３７（コーニング社製）上に乾燥膜厚が２μｍになるように塗布し、オーブン中で２２０℃×１ｈｒ加熱乾燥させて下塗り層付ガラス板を得た。
【０１４０】
３）光硬化性塗布膜の露光・現像
上記１）で得られた光硬化性組成物を、上記２）で得られた下塗り層付ガラス板の下塗り層上に塗布し光硬化性塗布膜を形成した。該光硬化性塗布膜は、ホットプレートにより１００℃×１２０ｓｅｃで加熱処理（プリベーク）して、乾燥膜厚が１μｍになるようにした。
【０１４１】
次いで、プロキシ露光機（ウシオ電機（株）製）を使用して８００ｍＪ／ｃｍ2の露光量で照射した。露光後、現像液ＣＤ−２０００（富士フイルムアーチ（株）製）を２０質量％の濃度になるように水で希釈して使用して現像し、イオン交換水にて現像液を洗い流し、ホットプレートによって２００℃×５ｍｉｎで加熱処理を行い試験片を得た。
【０１４２】
〔評価〕
（１）外観観察
（ｉ）組成物中の析出物
上記１）で得られた光硬化性組成物を内容量３０ｍｌの円筒形ガラス試料ビンに半分（約１５ｍｌ）ほど注入し、５分間静置した。その後、ガラス試料ビンを逆さまにし、ガラス試料ビンの内壁を肉眼で観察して、析出物の付着状態を評価した。この際、析出物の発生が全く認められなかった場合を「○」、析出物が認められた場合を「×」と評価した。結果を下記表１に示す。
【０１４３】
（ｉｉ）塗布膜の均一性
厚さ１．１ｍｍのソーダガラス基板上に、１０００ｒｐｍの条件で上記１）で得られた光硬化性組成物を、スピンコーターを用いて塗布した。塗布後、表面温度１００℃のホットプレート上で約２分間プリベークして塗膜を乾燥し、その表面の均一性を目視により評価した。この際、乾燥塗膜表面に斑状の塗布ムラや、異物や、はじきの存在が認められなかった場合を「○」、認められた場合を「×」と評価した。
【０１４４】
（２）耐熱性
上記４）で得られた試験片をホットプレートＬＷＢ−０３（リソテックジャパン（株）製）を用いて２００℃×１ｈｒの条件で加熱した。加熱前後の色濃度（Ｅ*ａｂ）をＭＣＰＤ−２０００（大塚電子（株）製）を用いて測定し、色差ΔＥ*ａｂを算出した。結果を表１に示す。
【０１４５】
（３）耐光性
上記４）で得られた試験片にＵＶカットフィルターＣ−９７０−Ｉ（（株）キング製作所）を貼り付け、スーパーキセノンフェードメーターＳＸ７５Ｆ（スガ試験機（株）製）を用いて２００万ｌｘ・ｈｒの条件で光を照射した。光照射前後の色濃度（Ｅ*ａｂ）をＭＣＰＤ−２０００（大塚電子（株）製）を用いて測定し、色差ΔＥ*ａｂを算出した。結果を表１に示す。
【０１４６】
［実施例２］
実施例１における１）光硬化性組成物の調製において、エチルラクテートの添加量を７６８部に変更し、更に、イオン交換水の添加量を３２部に変更した以外は実施例１と同様にして光硬化性組成物を調製し、試験片を作製して、同様の評価を行った。結果を下記表１に示す。
【０１４７】
［実施例３］
実施例１における１）光硬化性組成物の調製において、エチルラクテートの添加量を５２０部に変更し、更に、イオン交換水の添加量を２８０部に変更した以外は実施例１と同様にして光硬化性組成物を調製し、試験片を作製して、同様の評価を行った。結果を下記表１に示す。
【０１４８】
［実施例４］
実施例１における１）光硬化性組成物の調製において、イオン交換水の代わりにＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドを４０部添加した以外は実施例１と同様にして光硬化性組成物を調製し、試験片を作製して、同様の評価を行った。結果を下記表１に示す。
【０１４９】
［比較例１］
実施例１における１）光硬化性組成物の調製において、エチルラクテートの添加量を７７５部に変更し、更に、イオン交換水の添加量を２５部に変更した以外は実施例１と同様にして光硬化性組成物を調製し、試験片を作製して、同様の評価を行った。結果を下記表１に示す。
尚、比較例１においては、光硬化性組成物中に染料の析出によると認められる異物が多く認められ、試験片作製の際に均一な塗膜を形成することができなかった。このため、安定した測定結果を得ることができず、耐熱性及び耐光性に関して評価をすることができなかった。
【０１５０】
［比較例２］
実施例１における１）光硬化性組成物の調製において、エチルラクテートの添加量を４５０部に変更し、更に、イオン交換水の添加量を３５０部に変更した以外は実施例１と同様にして光硬化性組成物を調製し、試験片を作製して、同様の評価を行った。結果を下記表１に示す。
尚、比較例２においては、試験片作製の際に塗布ムラが多く発生し、均一な塗膜を形成することができなかった。このため、安定した測定結果を得ることができず、耐熱性及び耐光性に関して評価をすることができなかった。
【０１５１】
［比較例３］
実施例１における１）光硬化性組成物の調製において、下記の組成で光硬化性組成物を調製した以外は実施例１と同様にして、試験片を作製し、同様の評価を行った。結果を下記表１に示す。
【０１５２】
〈組成〉
・溶剤                                                        ８００部
エチルラクテート
・アルカリ可溶性樹脂                                            ５９部
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体  （６０／４０共重合比、酸価１００ｍｇＫＯＨ／ｇ  平均分子量３０，０００）
・重合性モノマー                                                ８８部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬（株）製）
・光重合開始剤                                                  １３部
トリクロロトリアジン系化合物（ＴＡＺ−１０７：みどり化学（株）製）
・染料                                                          ４０部
Ａｃｉｄ  ｒｅｄ  ５７（Ｎａ塩）
【０１５３】
［比較例４］
実施例１における１）光硬化性組成物の調製において、イオン交換水の代わりにイソプロピルアルコールを４０部添加した以外は実施例１と同様にして光硬化性組成物を調製し、試験片を作製して、同様の評価を行った。結果を下記表１に示す。
【０１５４】
［比較例５］
実施例１における１）光硬化性組成物の調製において、イオン交換水の代わりにｎ−ブチルアルコールを４０部添加した以外は実施例１と同様にして光硬化性組成物を調製し、試験片を作製して、同様の評価を行った。結果を下記表１に示す。
【０１５５】
［比較例６］
実施例１における１）光硬化性組成物の調製において、イオン交換水の代わりにポリエチレングリコールを４０部添加した以外は実施例１と同様にして光硬化性組成物を調製し、試験片を作製して、同様の評価を行った。結果を下記表１に示す。
【０１５６】
【表１】
2005134455.tif 000018
【０１５７】
表１に示すように、実施例１〜４では、光硬化性組成物に析出物の発生は認められず、塗膜が均一であり、且つ、熱や光によって褪色しない耐熱性及び耐光性に優れた光硬化性組成物を得ることができた。
これに対し、比較例１及び２では、試験片作製の際に均一な塗布膜を得ることができなかった。また、比較例３は、耐熱性及び耐光性が著しく劣っていた。
また、比較例４〜比較例６では、イオン交換水に代えて水と相溶性のある有機溶剤を使用したが、染料の析出物が見られ、塗布膜の均一性も悪く、耐熱性や耐光性を評価できる試験片を得ることができなかった。