(57)【要約】【課題】真空紫外光発生装置の設計、仕様変更を容易にすると同時に、照射強度、照射分布を所期の値に制御できる真空紫外光照射装置を提供する。【解決手段】真空紫外光発生装置１００において、容器１にバリア放電により真空紫外光を生成するエキシマガスを充填する。容器１内には、誘電体２を介して配置された３個以上の電極３を設ける。本発明では、隣り合う電極に高周波高圧電源装置からなる給電装置４を位相非同期に接続する。容器１には、エキシマガス供給口１ａと排出口１ｂを設け、ガスを一定の流速で供給するガスフロー方式を採用する。給電装置４には、各々電源制御装置６を設け、各電源制御装置６をコンピュータ７で制御する。また電源制御装置６ごとに、真空紫外光強度検出器８を設け、その測定値に基づきコンピュータ７により電源制御装置６を介して給電装置４の出力を制御し、所期の出力強度及び分布をリアルタイムで得ることができる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
誘電体バリア放電を行う真空紫外ランプを用いた真空紫外光発生装置において、ひとつの真空紫外ランプ室内に誘電体を介して配置された電極が３個以上あって、各隣り合った電極間に各１個の給電装置を位相非同期で接続したことを特徴とする真空紫外光発生装置。
【請求項２】
誘電体バリア放電を行う真空紫外ランプを用いた真空紫外光発生装置において、ひとつの真空紫外ランプ室内に誘電体を介して配置された電極が３個以上あって、これらの３個以上の電極を２以上のグループに分け、各グループ内の電極間に給電装置を位相非同期で接続したことを特徴とする真空紫外光発生装置。
【請求項３】
誘電体バリア放電を行う真空紫外ランプを用いた真空紫外光発生装置において、ひとつの真空紫外ランプ室内に誘電体を介して配置された電極が３個以上あって、これらの３個以上の電極を２以上のグループに分け、各グループ内の電極間及び各グループ間に給電装置を位相非同期で接続したことを特徴とする真空紫外光発生装置。
【請求項４】
前記複数の電極が誘電体で覆われた誘電体被覆電極と誘電体で覆われていない誘電体無被覆電極とからなり、誘電体被覆電極と誘電体無被覆電極とが交互に配置され、誘電体被覆電極と誘電体無被覆電極間に給電装置を接続したことを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の真空紫外光発生装置。
【請求項５】
前記複数の電極がひとつの誘電体の中に埋め込まれ、該誘電体の少なくとも一部が前記真空紫外ランプ室内に充填されたガスに暴露されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の真空紫外光発生装置。
【請求項６】
前記電極と前記誘電体とが一体となった誘電体電極を用いることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の真空紫外光発生装置。
【請求項７】
前記給電装置が前記電極の両端に接続されていることを特徴とする請求項１に記載の真空紫外光発生装置。
【請求項８】
前記給電装置が、前記誘電体の放電部への供給電力を独立に制御する電源制御装置を備えていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の真空紫外光発生装置。
【請求項９】
前記電源制御装置がコンピュータ制御されていることを特徴とする請求項８に記載の真空紫外光発生装置。
【請求項１０】
コンピュータが前記電源制御装置毎に設けられた真空紫外光強度検出器からの真空紫外光強度の信号を受けて、給電装置毎に供給電力を制御することを特徴とする請求項９記載の真空紫外光発生装置。
【請求項１１】
前記給電装置が、電源の容量が３０ＶＡ〜２００ＶＡの高圧インバータ電源であることを特徴とする請求項１乃至請求項１０のいずれかに記載の真空紫外光発生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空紫外光発生装置に関し、特に大面積照射に適した平面発光型の真空紫外光発生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来技術として、ひとつの真空紫外ランプ室内に誘電体で覆われた多数の電極を配置して、大面積を照射する真空紫外光発生装置では、多数の電極を交互にグループ化し、ひとつの給電装置により給電する方式が一般的に知られている（特許文献１参照。）。一方、独立した個々のランプ毎に給電装置を設けて給電する方式も知られている（特許文献２参照。）。
【０００３】
【特許文献１】特許第２５４５４８９号公報
【特許文献２】特許第３０５９３４８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１の真空紫外光発生装置では、ひとつの電源から複数の電極に給電している。このように使用電極数にかかわりなく、１個の電源を用いる方式では、大面積平面発光型の真空紫外光発生装置のように使用する電極数が多い場合、大型の高電圧高周波装置を必要とし、製品への組み込みに多大の問題があった。また、電極数の変更、各電極対の仕様、たとえば電極の太さ、電極の間隔、長さなどを設計変更する度に、電源の仕様変更が必要となる。逆にいえば、用途に応じた電極数や各電極の仕様変更に自由度がなく、多様な用途に適用する汎用型の真空紫外光発生装置の製作は実際上困難であった。
【０００５】
さらに、電極形状や電極配置のわずかな差異に基づき、隣り合った電極間の放電に供される電力が不均一になり、その結果、得られる照射強度の分布が不均一になるおそれがある。これを解決する方法として、交互の電極に微小な直列抵抗を接続し、直列抵抗を介して電力を供給し、抵抗値の調節によって放電を均一にする方法は容易に考えられる。しかし、この方法では、抵抗による電力の消費がランプの発光効率を低下するとともに、抵抗からの発熱の問題も生じる。何よりも個々の電極に供給される電力を抵抗で制御して、照射強度を調節することは、きわめて煩雑で実際上困難である。いずれにしても、電極毎に供与電力を制御するのが困難なため、均一な照度分布、所望の照度変化等を自在に得ることができなかった。
【０００６】
一方、特許文献２の真空紫外光発生装置では、独立したランプごとに電源が配置されている。しかし、この方式では、ランプとランプの間に発光がないため、均一な照射強度が得にくい。また、ランプごとの特性のばらつきや経年変化の相違により照射分布に不均一が生じ、そのたびに照射強度分布の調整を強いられる問題があった。
【０００７】
本発明は、前記のごとき課題を解決したもので、設計、仕様変更が自在で、かつ所期の照射強度、照度分布を得ることができる複数の電極を備えた大面積平面照射型の真空紫外光発生装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１発明である真空紫外光発生装置は、誘電体バリア放電を行う真空紫外ランプを用いた真空紫外光発生装置において、ひとつの真空紫外ランプ室内に誘電体を介して配置された電極が３個以上あって、各隣り合った電極間に各１個の給電装置を位相非同期で接続したことを特徴としている。
【０００９】
本発明の第２発明である真空紫外光発生装置は、誘電体バリア放電を行う真空紫外ランプを用いた真空紫外光発生装置において、ひとつの真空紫外ランプ室内に誘電体を介して配置された電極が３個以上あって、これらの３個以上の電極を２以上のグループに分け、各グループ内の電極間に給電装置を位相非同期で接続したことを特徴としている。
【００１０】
本発明の第３発明である真空紫外光発生装置は、誘電体バリア放電を行う真空紫外ランプを用いた真空紫外光発生装置において、ひとつの真空紫外ランプ室内に誘電体を介して配置された電極が３個以上あって、これらの３個以上の電極を２以上のグループに分け、各グループ内の電極間及び各グループ間に給電装置を位相非同期で接続したことを特徴としている。
【００１１】
これらの発明においては、複数の電極を、誘電体で覆われた誘電体被覆電極と誘電体で覆われていない誘電体無被覆電極で構成し、誘電体被覆電極と誘電体無被覆電極とを交互に配置して、誘電体被覆電極と誘電体無被覆電極間に給電装置を接続するようにしてもよい。
【００１２】
これらの発明においては、複数個の電極をひとつの誘電体の中に埋め込み、誘電体の少なくとも一部を真空紫外ランプ室内に充填されたエキシマガスに暴露して、暴露側でのみ平面発光させることもできる。
【００１３】
これらの発明においては、電極と誘電体とが一体となった誘電体電極を用いることもできる。
【００１４】
これらの発明においては、給電装置が電極の両端に接続されていることが望ましい。
【００１５】
これらの発明においては、各給電装置に、誘電体の放電部への供給電力を独立に制御する電源制御装置を設けておくのが望ましい。
【００１６】
これらの発明において、各電源制御装置はコンピュータで制御するのがさらに望ましい。
【００１７】
これらの発明において、コンピュータは、電源制御装置毎に設けられた真空紫外光強度検出器からの真空紫外光強度の信号を受けて、給電装置毎に供給電力を制御するのが望ましい。
【００１８】
これらの発明において、給電装置として、電源の容量が３０ＶＡ〜２００ＶＡの高圧インバータ電源を使用するのが実用的である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の真空紫外光発生装置によれば、下記の利点が得られる。
（１）設計、仕様変更が自在で、かつ所期の照射強度、照度分布を得ることができる複数の電極を備えた大面積平面照射型の真空紫外光発生装置を実現することができる。
（２）真空紫外光発生装置の電極対数を電源容量に関係なく、使用目的に応じて自在に増減でき、所期の照射面積を簡単に得ることができる。逆に言えば、電源の定格容量に応じて、所期の数の電極を接続できる。
（３）隣り合う電極ごとの電源あるいは電極グループ毎の電源を独立に制御して、発光強度をゼロから最大値まで増減でき、均一な面発光あるいは所期の強度分布を持つ不均一な面発光などを自在に得ることができる。この特性を利用して、大面積を高い精度で均一に照射できるばかりでなく、意識的に不均一な強度分布で被照射物を照射することも可能になる。
（４）電極径、電極間隔、エキシマガス流などによる照度の乱れの補正が容易である。
（５）電源装置を配置した電極対ごとに真空紫外光強度検出器を配置し、その強度信号を電源装置の制御装置にフィードバックして制御することにより、発光強度の安定化及び均一化をはかることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明を実施するための形態を、図１乃至図９を用いて説明する。まず、図１及び図２では、真空紫外光発生装置において、ひとつの容器内に、誘電体で覆われた複数の電極を対向配置した例を示す。図１は、この真空紫外光発生装置１００を模式的に示す平面図であり、図２は図１の正面断面図である。図１、図２に示すように、真空紫外ランプ室として用いる密閉容器１内には、複数の電極３（３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ、３ｆ）が対向配置されている。各電極は誘電体２で覆われている。各隣り合った電極３ａ−３ｂ間（電極３ａと電極３ｂとの間）、電極３ｂ−３ｃ間、電極３ｃ−３ｄ間、電極３ｄ−３ｅ間、電極３ｅ−３ｆ間には、給電装置４が位相非同期で接続されている。この容器１内に、例えば、アルゴンのごときエキシマガスを充填して給電すると、均一な面発光が得られるばかりでなく、電源がひとつの場合と異なり、電源の容量に制限されることなく、所期の数の電極を用いることができる。また、図２に示すように、真空紫外光発生装置１００には、真空紫外光取出し窓５が設けられている。尚、図１及び図２には、図示していないが、後述（図３参照）するように、容器１の一端には、エキシマガス供給口が設けられ、他端にはエキシマガス排出口が設けられており、本発明の真空紫外光発生装置１００は、ガスフロー方式で使用される。
【００２１】
本発明において、容器１には、例えば金属、望ましくはステンレスを用いる。誘電体２には、ガラス、石英、セラミックス、望ましくはセラミックスを用いる。電極３には、金属、望ましくはアルミニウムを用いる。発光種ガスには、希ガス又は窒素、望ましくは希ガスのアルゴンを用いる。給電装置４には、高周波高圧電源装置、例えばネオンサイン用電源や、出力ＡＣ１０ｋＶ、２４ｋＨｚの小型のインバータ高圧電源装置を用いる。真空紫外光取出し窓５には、ＭｇＦ２、ＬｉＦ、ＣａＦ２、石英、サファイア、望ましくはＭｇＦ２を用いる。
【００２２】
本発明者らの知見によれば、面発光型の真空紫外光発生装置では、誘電体２の静電容量と放電出力は比例関係にある。したがって、使用する電極３の径が大きいほど電極３の一本あたりの誘電体２の静電容量が大きくなり、大きな放電電力が得られる。用途により異なるので特定はできないが、電極径は一般に１〜３０ｍｍ、望ましくは５〜２０ｍｍが実用範囲である。一方、放電空間の静電容量と電極間の間隔は逆比例関係にある。電極間隔は狭いほど放電空間の静電容量が大きくなり、電極間放電に消費されるエネルギーが増大する。この結果、電極間に存在するエキシマガスに効率よくエネルギーが注入され、発光出力の増加をもたらす。電極間隔は、一般的に２ｍｍ以下、望ましくは１ｍｍ以下が好適である。電極間隔が小さくなると、隣り合った電極３ａ−３ｂ間、３ｂ−３ｃ間、３ｃ−３ｄ間、３ｄ−３ｅ間、３ｅ−３ｆ間のバリア放電は、照射方向に直交した電極間の微小放電が少なくなり、照射方向及び照射方向の反対側に発生する平面放電が大きくなる。この照射方向側平面放電のみを有効利用すれば、面発光全体の発光出力はさらに増大する。また、供給電源周波数と発光出力とは比例関係にあり、周波数が大きいほど発光出力は大きい。用途にもよるが、供給電源周波数は、少なくとも１０ｋＨｚ以上、望ましくは１５ｋＨｚ以上が好適である。
【００２３】
図３は、図１、図２で説明した真空紫外光発生装置の真空紫外ランプ室をガスフロー式にした一例を示す模式図である。図３に示すように、本形態の真空紫外光発生装置１００には、容器１の一端には、エキシマガス供給口１ａが設けられ、他端にはエキシマガス排出口１ｂが設けられている。密閉式容器では、例えばアルゴンエキシマ光による石英誘電体の分解で容器内の酸素やオゾンが蓄積され、真空紫外光を吸収して、時間経過とともに発光出力が減衰することが知られている。本発明者らの知見によれば、ガスフロー式の装置では、例えば大気雰囲気の容器内にアルゴンガスを大気圧、流量５０００ｍｌ／ｍｉｎ程度で流すと、約１０分後には安定した一定の発光出力が得られる。また、この真空紫外光発生装置では、後述の実施例から明らかなように、均一な面発光強度と高い光変換効率を得ることができる。
【００２４】
図４は、給電装置４に電源制御装置６を設けた例を示す模式図である。容器は図示しない。図４に示すように、隣り合った電極３ａ−３ｂ間、３ｂ−３ｃ間、３ｃ−３ｄ間、３ｄ−３ｅ間、３ｅ−３ｆ間に給電装置４を設け、各給電装置４に電源制御装置６を設ける。これにより、各給電装置４を独立に制御することができる。電源制御装置６としては、抵抗変化、インダクタンス変化、電圧変化、電流変化、インバータの周波数変化、スイッチングの点弧角変化などを制御する装置を、単独あるいは組み合わせて用いる。電源制御装置６は、手動でもコンピュータ制御でもよい。
【００２５】
図５は、図４の電源制御装置６をコンピュータ制御する例を示す模式図である。容器は図示しない。図５に示すように、各電源制御装置６はコンピュータ７に接続されている。また、必要に応じて、電源制御装置６毎に真空紫外光強度検出器８を設け、この検出器８の測定値に基づき、コンピュータ７及び電源制御装置６を介して、給電装置４の出力を制御することもできる。コンピュータの利用は、インバータの周波数変化、スイッチングの点弧角変化の制御には、特に好適である。制御手段の選択、操作により、本発明では、各給電装置４に接続された各電極（３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ、３ｆ、３ｇ）の発光強度をゼロから最大値まで可変とすることができ、所期の照射光強度、照射光分布を容易に得ることができる。
【００２６】
図６は、電極の長さと１個の給電装置の容量を勘案して、電極をいくつかのグループに分け、グループ毎に各１個の給電装置を設け、かつ隣り合うグループ間にも、給電装置を配置した例を示す模式図である。容器は、図示しない。図６に示すように、電極３は、電極３ａと電極３ｃ（グループ３ａｃ）、電極３ｂと電極３ｄ（グループ３ｂｄ）、電極３ｅと電極３ｇ（グループ３ｅｇ）、電極３ｆと電極３ｈ（グループ３ｆｈ）にグループ化され、グループ３ａｃとグループ３ｂｄ間及びグループ３ｅｇとグループ３ｆｈ間に給電装置４ａと給電装置４ｂを設けるとともに、給電装置４ａと給電装置４ｂ間、すなわちグループ３ａｃ−３ｂｄ間及びグループ３ｅｇ−３ｆｈ間にも給電装置４ｃが配置されている。この方式により、各電極グループ間に無声放電部ができる。面発光に斑が生じるのを回避するためには、隣り合った電源は隣り合った電極対のうちの一本を共有する形で接続するのが望ましい。いずれにしろ、本発明では、使用する電源の定格容量にあわせて接続する電極数を所期の数に選択できる。
【００２７】
図７は、誘電体で覆われた電極（誘電体被覆電極）と誘電体で覆われていない電極（誘電体無被覆電極）とを交互に配置し、各隣り合う電極間に給電装置を設けた真空紫外光発生装置１０２の一例を示す模式図である。容器は図示しない。図７に示すように、電極３は、例えば隣り合った電極３ａと電極３ｂのうち、電極３ａは誘電体２で被覆されているが、電極３ｂは被覆されていない。以下同様に誘電体被覆電極と誘電体無被覆電極とを交互に配列し、誘電体被覆電極（３ａ、３ｃ、３ｅ、３ｇ）と誘電体無被覆電極（３ｂ、３ｄ、３ｆ）との間に給電装置４を接続する。この場合、誘電体被覆電極の誘電体２が、誘電体被覆電極と誘電体無被覆電極間に介在し、両者間の誘電体として機能しており、要は本発明では、各電極が誘電体で隔絶されていればよい。
【００２８】
図８は、真空紫外光照射側の平面放電のみを利用する真空紫外光発生装置１０３の一例を示す模式図である。図８に示すように、複数の電極３（３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ、３ｆ、３ｇ）は、ひとつの誘電体２内に平行に埋設されている。給電装置４は、各電極間に設ける。この場合、複数の電極３を内蔵した誘電体２は、一方の面だけが容器１内のエキシマガスに暴露されように配置されている。他方の面は、容器外に配置されている。このように構成することにより、複数の電極３は、エキシマガスの存在する容器１内でのみ平面放電Ｄが起こる。エキシマガスに暴露されていない面では、電極間の放電は起こらない。換言すれば、真空紫外光取り出し窓５のある照射側のみで高効率に均一な照射分布が得られる。図示していないが、容器１の外側に当たる電極部分は、必ずしも誘電体２で被覆する必要はない。また、図７に示すように電極が完全に誘電体内に埋め込まれている場合は、図示していないが、上側にもエキシマガス室を設けることにより、誘電体電極２の上側でも平面放電を起こさせ、真空紫外光を得ることができる。
【００２９】
図９は、給電装置が電極の両端に接続されている真空紫外光発生装置１０４の一例を示す模式図である。本発明に使用される真空紫外ランプの電極は太い導体であるので、電気回路としては図９と図１は、全く同一である。しかし、本真空紫外光発生装置の電源は、出力約１０ｋｖの高電圧装置である。電源とランプを接続する銅線は、銅線自体の直径は１ｍｍ以下であるが、絶縁のためビニール等の樹脂で被覆され、外形が約１０ｍｍになる。このように形成された銅線は、硬くて曲がりにくい。この銅線を、図１に示したように一つの電極の同一端に２本ずつ、接続部が露出しないように安全に接続する事は非常に困難である。しかも、隣り合う電極の間隔は、約１０ｍｍと狭い。このため本発明では、図９に示すように、例えば、電極３ｂの一端を給電装置４の一端に銅線９ｂで接続し、電極３ｂの他端を他の給電装置４の端子に銅線９ｃで接続する。この銅線９ｃで電極３ｂと接続された給電装置４の他の端子は、電極３ｂに対向配置された電極３ｃの一端に銅線３ｃで接続される。つまり、電極３ｂの両端が別々の給電装置に銅線９ｂ、９ｃで接続されることになる。このようにして、電極（３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ、３ｅ、３ｆ）と給電装置４を、銅線（９ａ、９ｂ、９ｃ、９ｄ、９ｅ、９ｆ、９ｇ、９ｈ、９ｉ、９ｊ）で接続する。以上のように、給電装置と電極との接続は、異なる給電装置の端子に接続された銅線を、電極の同一端に接続せず、電極の両端に接続するように構成した。このように構成したことにより、高電圧電線の接続を容易にするのみならず、長尺の電極を用いた場合の電極軸方向の放電強度の不均一性を防止することができる。
【００３０】
上記いずれの場合も金属電極と誘電体が一体となった誘電体被覆を有する電極（誘電体電極）を用いることは、電極形状の自由度が増し好適である。このような誘電体電極としては、陽極酸化したアルミニウム電極、金属電極に溶射や蒸着などの手段で誘電体皮膜を形成したものを好適に用いることができる。
【実施例】
【００３１】
本実施例では、図１に示す形態の真空紫外光発生装置１００において、図３に示す形態の容器１を用いた。容器１は、ステンレス製で、大きさは２００ｘ２００ｘ１００ｍｍとした。容器１の上部両側に直径１０ｍｍφのガス供給口１ａとガス排出口１ｂを設けた。容器１の下面には、ＭｇＦ２製の直径１００ｍｍΦの真空紫外光取出し窓５を設けた。容器１内には、直径１０ｍｍΦ、長さ２６５ｍｍのアルミニウム製電極３を、内径１０ｍｍ、外形１５ｍｍの石英管からなる誘電体２で覆い、５本平行に配設した。電極間の距離は、誘電体外表面間で５ｍｍとした。電極間には、給電装置４を接続した。給電装置４には、入力電圧１００Ｖ、電源容量１００ＶＡ、出力ＡＣ１０ｋｖの小型の高圧インバータ電源装置（長野愛知電機株式会社製商品名ＡＮ−１０）を用いた。この装置により下記の条件で真空紫外光を発生させた。尚、高圧インバータ電源としては、電源の容量が、３０ＶＡ〜２００ＶＡのものであればよい。
・印加電圧：６ｋＶ
・電源周波数：２４ｋＨｚ
・使用エキシマガス：アルゴン
・エキシマガス供給量：大気圧、５，０００ｍｌ／ｍｉｎ
・測定位置：電極から４０ｍｍ
・測定機器：較正済真空紫外用フォトダイオード
・測定範囲：８２ｘ１８０ｍｍ発光面のうち、ダイオード可動範囲Φ８０ｍｍ
【００３２】
前記条件で測定した結果、面発光強度の均一性は約±１．２％であった。放電電力は、放電電力測定回路（図示せず）により見積もり、オシロスコープ上に印加電圧とのリサージュ図形を描いて、その平行四辺形の面積から見積もった結果１０９Ｗであった。距離１１０ｍｍ離れた位置での照射強度は５６５μＷ／ｃｍ３であった。またこの照射強度から発光体の全放射出力を算出した結果、２．４Ｗを得、これらの値から光変換効率を算出したところ、その効率は約２．２％であった。これは、従来の約２倍強の高い光変換効率にあたる。このことから本発明の給電方式によれば、きわめて高強度かつ均一な面発光真空紫外光が得られることが判明した。
【産業上の利用可能性】
【００３３】
本発明の真空紫外光発生装置は、被照射物を大面積にわたり照射するもの、例えばフィルムの表面改質や、大面積半導体ウエハや、ＩＣチップの洗浄や、ウエハの酸化皮膜除去への適用など、種々の洗浄装置、殺菌装置、塗料、樹脂の硬化装置に広く適用できる。また電極平行配置型以外の同軸型電極でも、複数の電極対を用いるものであれば、例えばオゾン発生装置の電極用電源装置にも適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本発明の真空紫外光発生装置を模式的に示す平面図である。
【図２】図１の正面断面図である。
【図３】図１のランプ室をエキシマガス放流方式にした例を示す正面断面図である。
【図４】図１の給電装置ごとに電源制御装置を配置した模式図である。
【図５】図４の電源制御装置をコンピュータで制御するようにした模式図である。
【図６】本発明の真空紫外光発生装置の異なった実施形態を示す模式図である。
【図７】本発明の真空紫外光発生装置の異なった電極構造を示す模式図である。
【図８】本発明の真空紫外光発生装置において、電極を誘電体に埋め込んだ方式を示す模式図である。
【図９】本発明の真空紫外光発生装置において、給電装置と電極との接続を示す模式図である。
【符号の説明】
【００３５】
１          容器
１ａ        ガス供給口
１ｂ        ガス排出口
２          誘電体
３          電極
３ａ、３ｂ  電極
３ｃ、３ｄ  電極
３ｅ、３ｆ  電極
３ｇ、３ｈ  電極
４          給電装置
５          真空紫外光取り出し窓
６          電源制御装置
７          コンピュータ
８          真空紫外光強度検出器
９ａ、９ｂ  銅線
９ｃ、９ｄ  銅線
９ｅ、９ｆ  銅線
９ｇ、９ｈ  銅線
９ｉ、９ｊ  銅線
１００          真空紫外光発生装置
１０１          真空紫外光発生装置
１０２          真空紫外光発生装置
１０３          真空紫外光発生装置
１０４          真空紫外光発生装置
Ｄ          平面放電
【図１】
2005216565.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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