(57)【要約】【課題】記録・再生時における照射光を超解像に要求されるビームスポットに安定して集光できる制御性を有し、かつ信頼性、生産性などに問題がなく、高密度の記録・再生が可能な光記録媒体を提供する。【解決手段】基板上に、第一光反射層、屈折率変化材料層、第二光反射層からなる光共振器を構成する各層と、ギャップ層と、記録層とを設け、屈折率変化材料層の厚さ方向の光路長が、記録・再生時における光学系からの照射光による屈折率変化に伴って、照射光の半波長の整数倍となるように構成する。屈折率変化材料層として、Ｃｏ3Ｏ4微結晶を含むナノガラス層を設ける。【選択図】図１  
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に、第一光反射層、屈折率変化材料層、第二光反射層からなる光共振器を構成する各層と、ギャップ層と、記録層とが設けられた光記録媒体であって、
前記屈折率変化材料層の厚さ方向の光路長が、記録・再生時における光学系からの照射光による屈折率変化に伴って、該照射光の半波長の整数倍となるように設定されたことを特徴とする光記録媒体。
【請求項２】
前記屈折率変化材料層がＣｏ3Ｏ4微結晶を含むナノガラスから構成されていることを特徴とする請求項１に記載の光記録媒体。
【請求項３】
前記第一光反射層および第二光反射層がそれぞれ誘電体多層膜から構成され、該各光反射層における反射鏡としての実効厚さと前記屈折率変化材料層の厚さとを加えた光路長が前記照射光の半波長の整数倍であることを特徴とする請求項１または２に記載の光記録媒体。
【請求項４】
前記第一光反射層および第二光反射層がそれぞれ金属の光半透膜から構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の光記録媒体。
【請求項５】
前記屈折率変化材料層の厚さ方向の光路長が、該屈折率変化材料層の全平面領域で前記照射光の半波長の整数倍になる部分と整数倍にならない部分に設定され、その半波長の整数倍になる部分と前記記録層のビット記録部分とが合致するように調整されたことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光記録媒体。
【請求項６】
前記照射光の半波長の整数倍となる部分と合致するように調整されたビット記録部分の面積が、該照射光の集光スポットよりも十分に小さい面積であることを特徴とする請求項５に記載の光記録媒体。
【請求項７】
前記光記録媒体の基板にグルーブが設けられたことを特徴とする請求項５または６に記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、情報処理装置、光ファイルシステムや映像システムの記録装置などに用いられる光記録媒体に関し、特にはエタロン、すなわち光共振器によって照射光を超解像のビームスポットに集光し、高密度の記録・再生を可能とする光記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光記録媒体としてＣＤやＤＶＤなどが実用化されており、さらに高記録密度化が進んでいる。このような高記録密度化への対応技術としては、例えば、短波長レーザ（緑〜青色半導体レーザ等）の適用、あるいは超解像膜を用いることによって発現する超解像効果の利用などが検討され開発が進められている。
従来、超解像膜として、フタロシアニン系の有機薄膜、カルコゲナイド、または化合物半導体微粒子、あるいはサーモクロミック材料や、フォトクロミック材料などが知られているが、信頼性、生産性などの点で難点があった。
【０００３】
一方、照射された光の強度分布に対して光透過率が非線形に変化するガラス、例えば、Ｃｏ3Ｏ4を組成分として含むガラスを超解像膜として記録層上に設けることによって、繰返し読み書きにも劣化しないとされる高密度光記録媒体が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
また、平均直径が１３ｎｍ以下である柱状晶により構成されているＣｏ3Ｏ4等の析出相を含む酸化物からなる、いわゆる温度変化に対して光の屈折率変化量の大きな光機能性薄膜を基板上に有する光機能性素子が提案されている。すなわち、この光機能性薄膜を基板上に設けたＲＯＭ光ディスクにレーザー光を照射して屈折率を変化し、これによってレーザー光の焦点をより小さく絞り、高い密度での記録・再生を可能にすることが示されている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００５】
上記提案における酸化物層やガラス層、例えば、Ｃｏ3Ｏ4を組成分として含むガラスは、光照射に基づく光強度分布および熱分布によって大きな屈折率および屈折率の分布が得られ、光に対して集光レンズとして働くため、超解像効果が発現する。この超解像効果によって、照射光の集光スポットを縮小することができ、高密度記録が可能となる。
しかし、上記ガラス層はその組成変動によって光吸収率や非線形特性が変化し、ある特定の波長では効果は大きいが、全体的には非線形特性が十分ではないといった課題がある。
したがって、さらに非線形性を向上し、一層の高密度記録を可能とするような技術開発が求められている。
【０００６】
さらに、レンズとファブリ・ペローエタロンを組合せることによって、光学系レンズの焦点作用だけでは達成できない超解像の集光されたビームスポット、すなわち、直径が光波長の数分の１以下である集光スポットを形成する光学解像装置が提案され、このファブリ・ペローエタロンを光ディスク上に設けて多重干渉により、記録用の光ビームを狭窄化することが示されている（例えば、特許文献３参照。）。
【０００７】
しかし、上記集光効果を得るためには、多重反射による無数の大小の円形パターンをファブリ・ペローエタロンの内部に発生させることが求められ、ファブリ・ペローエタロンの厚さを波長オーダーより長くする必要がある。このため必然的に、ファブリ・ペローエタロンの厚さを厚くすることが要求される。
また、この構成の場合、集光スポット付近では光ビームの波面が平面波に近づき、無数の円形断面光の重畳干渉により中心部のみを強化することができず、結局、狭窄化された集光スポット付近でない光ビーム中にエタロンを配置する必要があり、しかも記録層とファブリ・ペローエタロンの距離を小さくしなければならず、その作製は困難であり現実的でないという問題がある。
【０００８】
【特許文献１】特開平１０−３４０４８２号公報
【特許文献２】ＷＯ０１／０２７６８９号公報
【特許文献３】特開平７−４９４６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記従来技術に鑑みてなされたものであり、記録・再生時における照射光を超解像に要求されるビームスポットに安定して集光できる制御性を有し、かつ信頼性、生産性などに問題がなく、高密度の記録・再生が可能な光記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は鋭意検討した結果、光記録媒体の構成層として、基板上に第一光反射層、屈折率変化材料層、第二光反射層からなる光共振器を構成する層を設け、記録・再生時の光照射に伴う刺激、すなわち温度や光強度によってこの屈折率変化材料層の屈折率を変化させて、その厚さ方向の光路長を照射光の半波長の整数倍となるように設定することにより、上記課題が解決されることを見出し本発明に至った。
以下、本発明について具体的に説明する。
【００１１】
すなわち、本発明は、基板上に、第一光反射層、屈折率変化材料層、第二光反射層からなる光共振器を構成する各層と、ギャップ層と、記録層とが設けられた光記録媒体であって、
前記屈折率変化材料層の厚さ方向の光路長が、記録・再生時における光学系からの照射光による屈折率変化に伴って、該照射光の半波長の整数倍となるように設定されたことを特徴とする光記録媒体である。
【００１２】
ここで、前記屈折率変化材料層がＣｏ3Ｏ4微結晶を含むナノガラスから構成されていることが特に好適である。
【００１３】
また、本発明の光記録媒体は、前記第一光反射層および第二光反射層がそれぞれ誘電体多層膜から構成され、該各光反射層における反射鏡としての実効厚さと前記屈折率変化材料層の厚さとを加えた光路長が前記照射光の半波長の整数倍であることが好ましい。
【００１４】
さらに、本発明の光記録媒体は、前記第一光反射層および第二光反射層がそれぞれ金属の光半透膜から構成されていることが好ましい。
【００１５】
そして、本発明の上記いずれかの光記録媒体において、前記屈折率変化材料層の厚さ方向の光路長が、該屈折率変化材料層の全平面領域で前記照射光の半波長の整数倍になる部分と整数倍にならない部分に設定され、その半波長の整数倍になる部分と前記記録層のビット記録部分とが合致するように調整されていることが好適である。
ここで、前記照射光の半波長の整数倍となる部分と合致するように調整されたビット記録部分の面積が、該照射光の集光スポットよりも十分に小さい面積であることが好ましい。
【００１６】
さらに、本発明の上記いずれかの光記録媒体において、前記光記録媒体の基板にグルーブが設けられていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、第一光反射層、屈折率変化材料層、第二光反射層からなる光共振器によって照射光が制御され、超解像に要求されるビームスポットに安定して集光できるため、高密度光記録媒体の提供が可能となる。本発明の構成による光記録媒体は生産性などに問題がなく実現可能であり、安定性、信頼性も優れている。
特に、屈折率変化材料層を屈折率変化の大きなＣｏ3Ｏ4微結晶を含むナノガラスで構成することによって、光ビームの集光が効果的に行われ、超解像の集光スポットとして適合するように制御されて高密度の記録・再生が好適に達成される。
また、第一光反射層および第二光反射層をそれぞれ誘電体多層膜とすることによって、設計の自由度が広くなり光記録媒体の作製を容易とすることができる。一方、各光反射層を金属の半透膜とすることによって、集光の応答性が良くなる。
さらに、屈折率変化材料層における厚さ方向の光路長が照射光の半波長の整数倍になるように設定した領域と記録層のビット記録部分とが合致するように調整することによって、安定した高密度記録を可能にすることができ、照射光の集光スポットよりも十分に小さいビット記録面積とすることで超解像効果を一層高めることができる。
また、光記録媒体の基板にグルーブを設けることによって、光記録媒体の作製が容易になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の好適な実施の形態について図を参照して説明する。
図１は、本発明を実施するのに好適な光記録媒体の構成の一例を示す概略断面図である。
図１では、基板１上に、第一光反射層２、屈折率変化材料層３、第二光反射層４、ギャップ層５、記録層６が順に積層され光記録媒体が構成されている。照射光は、基板１側から入射される。基板１としては、ガラス、またはポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のポリマー、あるいは誘電体等を用いることができる。
この光記録媒体において、第一光反射層２、屈折率変化材料層３、第二光反射層４は、前記のように光共振器を構成するものであり、この光共振器を設けた構成とすることにより、記録の書き込み、および読み込み時、いわゆる記録・再生時における照射光を制御して超解像に要求されるビームスポットに集光させることができる。
【００１９】
すなわち、上記光共振器としての構成層では、記録・再生時に光学系からの照射光により、屈折率変化材料層３の温度が照射ビームの中心部分から周囲に向かって上昇して部分的に屈折率が増加し、これに伴って光共振器の光路長が変化する。なお、屈折率変化は照射光による温度上昇に限られるものではなく、光強度に基づくファクターも含まれる。
【００２０】
この場合、屈折率変化材料層３の厚さ方向の光路長を、記録・再生時における光学系からの照射光による屈折率変化に伴って、照射光の半波長の整数倍となるように設定することにより、中心部分が光共振器の透過帯域となって光が透過するようになる。ここで、照射光の半波長とは、光源波長、すなわち照射光波長の１/２の波長を示す。
また、温度上昇が十分でない部分は光共振器の透過率が低いため、光ビームが収束したのと同様になり、このような効果によって光が集光して微小領域への超解像の信号書き込み、および読み出しが可能になる。
【００２１】
さらに、温度上昇等に基づく屈折率変化に加えて、第一光反射層、第二光反射層による広い範囲での反射率制御が可能であり、これによって光共振器のフィネス（Ｆ）を高くすることができるため、光の繰り返し干渉によって共振器内の光強度を高めて、さらに超解像の効果を増大させることができる。このため、より安定的に超解像記録の記録・再生が可能になる。
照射光の光源波長としては、限定するものではないが、可視光（０．４〜０．６８μｍ付近）から近赤外域（〜１μｍ程度）が好ましく使用することができる。
【００２２】
なお、フィネス（Ｆ）は、下記式で表され、干渉縞のシャープさを表す。
Ｆ＝（ＦＳＲ）／（ＦＷＨＭ）＝［π（Ｒ１×Ｒ２）１／４］÷［１−（Ｒ１×Ｒ２）１／２］
式中、ＦＳＲ：自由スペクトル領域（透過光の隣接したピーク間の周波数間隔）、ＦＷＨＭ：ピークの半値全幅、Ｒ１：第一光反射層の反射率、Ｒ２：第二光反射層の反射率、但し、Ｒ１、Ｒ２は、各層の複数の界面における反射率を、位相を考慮して足し合わせた値である。
【００２３】
本発明における上記屈折率変化材料層３としては、光照射に基づく光強度分布および熱分布により、屈折率差が大きく取れるＣｏ3Ｏ4微結晶を含むナノガラスが特に好ましい。
このナノガラスからなる層は、微結晶のコバルト酸化物と、非晶質のガラス成分であるＳｉ、Ｔｉ、Ａｌ、Ｔｅ、アルカリ土類金属から選ばれる一種以上の酸化物とを含み、コバルト酸化物の微結晶の周りを非晶質のガラス成分が囲んだ構造の薄膜から構成される。
ここで、コバルト酸化物の微結晶は１０ｎｍ程度、あるいはそれよりも小さい結晶であることが好ましい。このような構造のナノガラスは、温度変化に対する屈折率変化が１〜４×１０-4/℃程度と大きく、光照射による温度上昇等により屈折率が大きく変化して増大するため、本発明の光共振器を構成するのに好適な特性を有している。
上記ナノガラスからなる屈折率変化材料層は、所定の酸化物からなる組成分の焼結ターゲットを用意して、プラズマＣＶＤ法などの公知の真空成膜技術によって形成することができる。
【００２４】
なお、屈折率変化材料層に用いられる材料としては、上記コバルト酸化物の代りにＦｅ3Ｏ4微結晶からなる鉄酸化物を含んだナノガラスなどが挙げられる。また、ＣｕＣｌ、ＣｄＳ等の半導体微粒子をガラスなどの分散媒に分散した半導体微粒子ガラスなども挙げられるほか、３次の非線形性が大きく、光強度が強い時に屈折率変化が大きく取れる有機材料（例えば、ポリジアセチレン、ニトロアニリンなど）もしくは有機色素（例えば、シアニン、フタロシアニンなど）が挙げられるが上記Ｃｏ3Ｏ4微結晶を含むナノガラスが好適である。
【００２５】
次に、光共振器を構成する第一光反射層２および第二光反射層４は、誘電体の単層または多層膜、あるいは金属の半透膜により構成される。
金属の半透膜としては、白金、金、銀、アルミニウムなどが適用できる。また、誘電体としては、例えば、ＴｉＯ2、ＳｉＯ2などが適用できるほか、ポリマー等の有機材料も適用できる。
【００２６】
この第一光反射層２、第二光反射層４の屈折率は、単層の場合には屈折率変化材料層３に比べて高くする必要がある。また、誘電体多層膜構成の場合には、屈折率が高い高屈折率材料と屈折率が低い低屈折率材料の組合わせにより、光源波長、すなわち照射光の波長の１/４の光路長差になるような厚さで積層して構成される。
上記高屈折率材料として、例えば、ＺｎＳ、ＴｉＯ2などを用いることができ、低屈折率材料として、例えば、ＭｇＦ2、ＳｉＯ2などを用いることができる。
【００２７】
第一光反射層２、第二光反射層４の反射率としては、５０〜６０％程度でもよいが、これ以上であることが望ましい。
このような反射率の光共振器では、２つの光反射層の中間にある屈折率変化材料層３の厚さと屈折率の積である光路長が、照射光の半波長の整数倍であるとき、透過率が最大になり、整数倍でないときは透過率が低下し反射率が増大する。屈折率が増大したときの光共振器の光路長を、照射光の半波長の整数倍となるように屈折率変化材料層３の層厚を設定しておくと、前記のように光強度の強い集光スポットの中心部のみ光ビームが透過して記録層６に達し、超解像の信号の記録・再生が可能になる。
【００２８】
前記第一光反射層および第二光反射層がそれぞれ誘電体多層膜から構成されている場合には、屈折率変化材料層３の層厚に加えて、各光反射層における反射鏡としての実効厚さに相当する光路長が、照射光の半波長の整数倍になるように調節する必要がある。ここで、各光反射層における反射鏡としての実効厚さとは、反射鏡内にしみ出した光の長さを加えた実効の反射鏡長さを示す。
【００２９】
すなわち、本発明における光共振器を構成する各第一光反射層、屈折率変化材料層、第二光反射層は下記のように構成される。
第一光反射層：λ／４ｎ1、
（但し、ｎ1は第一光反射層の照射光波長に関する屈折率、誘電体多層膜の場合には高屈折率層と低屈折率層を交互に積層する。）
屈折率変化材料層：λ／２ｎ0、
（但し、ｎ0は屈折率変化材料層の照射光波長に関する屈折率、屈折率変化材料層の屈折率は、照射光による温度上昇に基づいて屈折率が高まった時の値とすることが望ましい。）
第二光反射層：λ／４ｎ2、
（但し、ｎ2は第二光反射層の照射光波長に関する屈折率、誘電体多層膜の場合には高屈折率層と低屈折率層を交互に積層する。）
上記各第一光反射層、屈折率変化材料層、第二光反射層は、それぞれ０．０５〜１μｍ程度の厚さが好ましいが、光吸収係数にも依存するため、屈折率変化材料層は多少厚くても構わない。
【００３０】
したがって、第一光反射層および第二光反射層をそれぞれ誘電体多層膜とした場合、誘電体層の層厚や材料を調整することによって、所望の反射率や熱伝導率に制御することが可能となり、設計の自由度が広くなるとともに、光反射層における反射鏡としての実効厚さと屈折率変化材料層の厚さを加えたものの光路長を照射光の半波長の整数倍とすることによって、本発明の超解像記録・再生が可能な高密度の光記録媒体の作製を容易に実現することができる。
【００３１】
図２に、第一光反射層、第二光反射層を誘電体多層膜構成とした場合の光記録媒体の構成例を示す。
図２において、基板２１上に、高屈折率層２２、低屈折率層２３、屈折率変化材料層２４、低屈折率層２５、高屈折率層２６、ギャップ層２７、記録層２８、反射層２９が順に積層され光記録媒体が構成されている。ここで、高屈折率層２２と低屈折率層２３が第一光反射層を構成し、低屈折率層２５、高屈折率層２６が第二光反射層を構成している。
屈折率変化材料層２４としては、Ｃｏ3Ｏ4微結晶を含むナノガラスにより構成することが特に好ましい。なお、反射層２９は主にサーボ用に設けられたものである。照射光は基板２１側から入射する。
【００３２】
また本発明においては、前記のように、第一光反射層および第二光反射層をそれぞれ金属の光半透膜により構成することができる。このような構成とすると、各光反射層を薄い膜厚で作製することが可能となり、積層構成層全体の厚さを薄くすることができる。さらに、第一光反射層および第二光反射層から屈折率変化材料層への熱伝導性も良好となり、光照射に基づく温度上昇等による屈折率変化が速く、応答性が良くなる。
【００３３】
第一光反射層および第二光反射層が単層である光記録媒体の別の構成例を図３に示す。
図３において、符号３１は基板、３２は第一光反射層、３３は屈折率変化材料層、３４は第二光反射層、３５はギャップ層、３６は記録層、３７は反射層である。
屈折率変化材料層３３としては、Ｃｏ3Ｏ4微結晶を含むナノガラスにより構成することが特に好ましい。なお、反射層３７は主にサーボ用に設けられたものである。照射光は、基板３１側から入射する。
【００３４】
本発明の光記録媒体は、再生専用型、追記可能型、追記・書替可能型などの光ディスクに適用され、使用目的に応じて構成層における記録層の材料を適宜選択することができる。
このような記録層用材料は、光の反射率あるいは吸収率が部分的に異なるように構成できるものであり、相変化材料（例えば、ＧｅＩｎＳｂＴｅなど）、光磁気材料、有機材料（例えば、フタロシアニンなど）、フォトクロミック色素材料、その他の記録可能な材料が適用できる。
記録層は用いる材料によっても異なるが、真空蒸着法やスパッタ法などの公知の真空成膜技術によって形成することができる。例えば、上記相変化材料の場合には、スパッタ装置を用いて形成することもできる。
【００３５】
また、本発明の光記録媒体におけるギャップ層は、例えば、ＳｉＯ2、ＳｉＮ、ＳｉＯなどの透明な材料から構成される層である。
このギャップ層は、記録層の材料を保護したり、あるいは記録層として用いられる材料の屈折率が高い場合に、記録層と第二光反射層の間に低屈折率層として介在させて第二光反射層の反射率を高くすることなどの役割を担っている。ギャップ層も、上記同様に公知の真空成膜技術によって形成することができる。
【００３６】
さらに、本発明の光記録媒体において、屈折率変化材料層の厚さ方向の光路長が、当該屈折率変化材料層の全平面領域で、照射光の半波長の整数倍になる部分と整数倍にならない部分からなるように設定し、照射光の半波長の整数倍になる部分と記録層のビット記録部分とが合致するように調整することによって、ビット記録される部分の面積を制限することができる。
すなわち、ビット記録面積の制限によって、熱分布の非対称性等の原因によって生ずるビット記録の平面形状の変形や広がり等の現象が防止され、信号の記録・再生の効率低下を防ぐことができる。
【００３７】
上記構成において、記録層のビット記録部分の面積が、照射光の集光スポットよりも十分に小さい面積であるように構成すれば、超解像効果をさらに高めて記録・再生の効率を一層高めることができる。
さらに上記構成において、予め凹凸、すなわちグルーブ設けられた基板を用いることができる。すなわち、基板に設けたグルーブを利用してビット記録部分における厚さ方向の光路長を光学系の半波長の整数倍に合わせた部分を作製することができる。このため、光記録媒体の作製がより容易となり、コスト低減が図れる。
【００３８】
基板にグルーブが設けられ、第一光反射層および第二光反射層が単層である本発明の光記録媒体の構成例を図４に示す。
図４において、符号４１は基板、４２は第一光反射層、４３は屈折率変化材料層、４４は第二光反射層、４５はギャップ層、４６は記録層である。
屈折率変化材料層４３としては、Ｃｏ3Ｏ4微結晶を含むナノガラスにより構成することが特に好ましい。照射光は、基板４１側から入射する。
【００３９】
さらに、基板にグルーブが設けられ、第一光反射層および第二光反射層が誘電体多層膜構成とされた本発明の光記録媒体の構成例を図５に示す。
図５において、符号５１は基板、５２は反射層、５３は記録層、５４はギャップ層、５５は高屈折率層、５６は低屈折率層、５７は屈折率変化材料層、５８は低屈折率層、５９は高屈折率層である。
ここで、高屈折率層５９と低屈折率層５８は第一光反射層を構成し、低屈折率層５６と高屈折率層５５は第二光反射層を構成している。
屈折率変化材料層５７としては、Ｃｏ3Ｏ4微結晶を含むナノガラスにより構成することが特に好ましい。反射層５２は主にサーボ用に設けられたものである。照射光は、高屈折率層５９側から入射する。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】本発明を実施するのに好適な光記録媒体の構成の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の光記録媒体における第一光反射層、第二光反射層を誘電体多層膜とした場合の構成を示す概略断面図である。
【図３】本発明の光記録媒体における第一光反射層および第二光反射層が単層である場合の別の構成を示す概略断面図である。
【図４】本発明の光記録媒体において基板にグルーブが設けられ第一光反射層および第二光反射層が単層である場合の構成を示す概略断面図である。
【図５】本発明の光記録媒体において基板にグルーブが設けられ第一光反射層および第二光反射層が誘電体多層膜とされた場合の構成を示す概略断面図である。
【符号の説明】
【００４１】
１  基板
２  第一光反射層
３  屈折率変化材料層
４  第二光反射層
５  ギャップ層
６  記録層
２１  基板
２２  高屈折率層
２３  低屈折率層
２４  屈折率変化材料層
２５  低屈折率層
２６  高屈折率層
２７  ギャップ層
２８  記録層
２９  反射層
３１  基板
３２  第一光反射層
３３  屈折率変化材料層
３４  第二光反射層
３５  ギャップ層
３６  記録層
３７  反射層
４１  基板
４２  第一光反射層
４３  屈折率変化材料層
４４  第二光反射層
４５  ギャップ層
４６  記録層  
４７  反射層
５１  基板
５２  反射層
５３  記録層
５４  ギャップ層
５５  高屈折率層
５６  低屈折率層
５７  屈折率変化材料層
５８  低屈折率層
５９  高屈折率層
【図１】
2005339683.tif 000003
【図２】
2005339683.tif 000004
【図３】
2005339683.tif 000005
【図４】
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【図５】
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