(57)【要約】【課題】近接場光を用いて凹凸パターン記録を再生するにあたり、より記録ピットサイズのばらつきが抑制された記録媒体を用いて、信号再生特性の劣化を回避することが可能な信号再生方法を提供する。【解決手段】記録媒体３０の表面に、繰り返し形成された凹凸の一部が欠損されている凹凸パターン４０が情報に対応して形成され、この凹凸パターン４０を、近接場光を用いて再生する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
記録媒体の表面に、繰り返し形成された凹凸の一部が欠損されている凹凸パターンが情報に対応して形成され、
上記凹凸パターンを、近接場光を用いて再生する
ことを特徴とする信号再生方法。
【請求項２】
上記凹凸パターンは、粒子が略均一な密度で配置され、上記粒子の一部が情報に対応して欠損された凹凸パターンとされた
ことを特徴とする請求項１記載の信号再生方法。
【請求項３】
上記凹凸パターンは、粒子が略均一な密度で配置されてその一部が情報に対応して欠損された凹凸パターンが転写形成されて成る凹凸パターンとされた
ことを特徴とする請求項１記載の信号再生方法。
【請求項４】
上記粒子が略均一なサイズの略球状の微粒子である
ことを特徴とする請求項２記載の信号再生方法。
【請求項５】
上記粒子が略均一なサイズの略球状の微粒子である
ことを特徴とする請求項３記載の信号再生方法。
【請求項６】
上記記録媒体の凹凸パターンと、上記記録媒体に近接場光を照射する近接場光レンズとの間の距離の変動を、上記凹凸パターンの再生光とは異なる波長の距離検出用光を用いて検出する
ことを特徴とする請求項１記載の信号再生方法。
【請求項７】
上記記録媒体の凹凸パターンと、上記記録媒体に近接場光を照射する近接場光レンズとの間の距離の変動を、上記凹凸パターンの再生光とは異なる波長の距離検出用光を用いて検出する
ことを特徴とする請求項２記載の信号再生方法。
【請求項８】
上記記録媒体の凹凸パターンと、上記記録媒体に近接場光を照射する近接場光レンズとの間の距離の変動を、上記凹凸パターンの再生光とは異なる波長の距離検出用光を用いて検出する
ことを特徴とする請求項３記載の信号再生方法。
【請求項９】
上記記録媒体の凹凸パターンと、上記記録媒体に近接場光を照射する近接場光レンズとの間の距離の変動を、上記凹凸パターンの再生光とは異なる波長の距離検出用光を用いて検出する
ことを特徴とする請求項４記載の信号再生方法。
【請求項１０】
上記記録媒体の凹凸パターンと、上記記録媒体に近接場光を照射する近接場光レンズとの間の距離の変動を、上記凹凸パターンの再生光とは異なる波長の距離検出用光を用いて検出する
ことを特徴とする請求項５記載の信号再生方法。
【請求項１１】
光源からの光を近接場光として記録媒体に照射する近接場光レンズを有するヘッド部と、
上記ヘッド部と上記記録媒体との相対的な移動を行う移動機構部とを少なくとも有し、
上記近接場光レンズにより上記記録媒体の表面に近接場光を照射して、上記記録媒体上の、繰り返し形成された凹凸の一部が欠損されて成る凹凸パターンが再生される
ことを特徴とする信号再生装置。
【請求項１２】
上記記録媒体に形成された上記凹凸パターンを再生する再生光とは異なる波長の距離検出用光を上記近接場光レンズにより上記記録媒体に照射して、上記記録媒体と上記近接場光レンズとの距離の変動が検出され、
上記検出された信号に基づいて、上記近接場光レンズと上記記録媒体との距離を調整する駆動部により上記距離が調整される
ことを特徴とする請求項１１記載の信号再生装置。
【請求項１３】
上記距離検出用光による上記記録媒体上のスポット径が、再生光による上記記録媒体上のスポット径より大とされて成る
ことを特徴とする請求項１２記載の信号再生装置。
【請求項１４】
基体上に、略規則的な配置とされ、かつ情報に対応して一部の配置が欠損された配置パターンを形成する工程と、
上記配置パターン上に、粒子を配置する工程と、
上記基体上に、上記粒子を覆ってスパッタ層を形成する工程と、
上記スパッタ層上にメッキを施す工程と、
上記メッキ層を上記基体から離型して、スタンパーを形成する工程と、
上記スタンパーから記録媒体作製用の複製基板を形成する工程とを少なくとも有する
ことを特徴とする記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近接場光を用いて記録媒体の情報信号を再生する信号再生方法及び信号再生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
高記録密度媒体とその記録再生方法を実現する手段として、ソリッドイマージョンレンズ（ＳＩＬ：Solid Immersion Lens）、ソリッドイマージョンミラー（ＳＩＭ：Solid Immersion Mirror）等の近接場光学素子を用いて、表面に凹凸パターンが形成された記録媒体から信号を再生する技術が各種提案されている（例えば特許文献１、２及び３参照。）。
例えばBlu-ray Discにおいては、波長４０５nmの光を開口数（ＮＡ）が０．８５の対物レンズで集光することによって、幅及び長さが１４９ｎｍ程度のパターンを読み取っているのに対し、同じ波長の光をＮＡが１．８の近接場光学レンズで集光する場合は、幅及び長さ共に７０ｎｍ程度のパターンを読み取ることが可能となる。このように、近接場光再生用の光学素子を用いることで、スポットサイズを微小化することができて、高密度大容量記録媒体の読み取りが可能となる。
【０００３】
【特許文献１】特開平１１−３５３４号公報
【特許文献２】特開２００１−１１００７０号公報
【特許文献３】特開平１１−３０５１３２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、記録媒体表面の凹凸パターンを読み取る際に、その再生エラーレートを低く抑えるには、凹凸パターンのサイズ揺らぎをある程度小さくする必要がある。しかしながら、１００ｎｍ未満の微小なサイズを含む凹凸パターン（例えばピットパターン）を電子線リソグラフィー等により作製すると、ピットサイズがばらつき、目的とするサイズから誤差を小さくして形成することは困難である。したがって、従来の方法により１００ｎｍ未満のサイズの凹凸パターンを形成して記録媒体を構成すると、エラーレートの小さい信号を得ることが難しくなり、良好な信号再生特性が得られない。
【０００５】
本発明は、上述したように、高密度記録再生を可能とする近接場光を用いて凹凸パターン記録を再生するにあたり、より記録ピットサイズのばらつきが抑制された記録媒体を用いて、信号再生特性の劣化を回避することが可能な信号再生方法、信号再生装置及び記録媒体の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述の課題を解決するために、本発明による信号再生方法は、記録媒体の表面に、繰り返し形成された凹凸の一部が欠損されている凹凸パターンが情報に対応して形成され、この凹凸パターンを、近接場光を用いて再生することを特徴とする。
また、本発明は、上述の信号再生方法において、凹凸パターンは、粒子が略均一な密度で配置され、粒子の一部が情報に対応して欠損された凹凸パターンとされたことを特徴とする。
更に、本発明は、上述の信号再生方法において、凹凸パターンは、粒子が略均一な密度で配置されてその一部が情報に対応して欠損された凹凸パターンが転写形成されて成る凹凸パターンとされたことを特徴とする。
【０００７】
また、本発明は、上述の信号再生方法において、粒子が略均一なサイズの略球状の微粒子であることを特徴とする。
更に、本発明は、上述の信号再生方法において、記録媒体の凹凸パターンと、記録媒体に近接場光を照射する近接場光レンズとの間の距離の変動を、凹凸パターンの再生光とは異なる波長の距離検出用光を用いて検出することを特徴とする。
【０００８】
また、本発明による信号再生装置は、光源からの光を近接場光として記録媒体に照射する近接場光レンズを有するヘッド部と、このヘッド部と記録媒体との相対的な移動を行う移動機構部とを少なくとも有し、近接場光レンズにより記録媒体の表面に近接場光を照射して、記録媒体上の、繰り返し形成された凹凸の一部が欠損されて成る凹凸パターンが再生されることを特徴とする。
【０００９】
更に、本発明は、上述の信号再生装置において、記録媒体に形成された凹凸パターンを再生する再生光とは異なる波長の距離検出用光を近接場光レンズにより記録媒体に照射して、記録媒体と近接場光レンズとの距離の変動が検出され、検出された信号に基づいて、近接場光レンズと記録媒体との距離を調整する駆動部により距離が調整されることを特徴とする。
また、本発明は、上述の信号再生装置において、距離検出用光による記録媒体上のスポット径が、再生光による記録媒体上のスポット径より大とされて成ることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明による記録媒体の製造方法は、基体上に、略規則的な配置とされ、かつ情報に対応して一部の配置が欠損された配置パターンを形成する工程と、配置パターン上に、粒子を配置する工程と、基体上に、上記粒子を覆ってスパッタ層を形成する工程と、スパッタ層上にメッキを施す工程と、メッキ層を基体から離型して、スタンパーを形成する工程と、スタンパーから記録媒体作製用の複製基板を形成する工程とを少なくとも有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
上述したように、本発明による信号再生方法は、記録媒体の表面に、繰り返し形成された凹凸の一部が欠損されている凹凸パターンが情報に対応して形成され、この凹凸パターンを、近接場光を用いて再生するものであり、これにより良好な信号再生特性をもって従来に比して高密度大容量の記録媒体の再生を行うことができる。
【００１２】
また、本発明において、凹凸パターンとして、粒子が略均一な密度で配置されて繰り返し凹凸が形成され、この粒子の一部が情報に対応して欠損された凹凸パターン、或いはその凹凸パターンを転写複製したパターンを用いることによって、同様に、良好な信号再生特性をもって高密度記録媒体の再生を行うことができる。
【００１３】
なお、本出願人は、特願２００３−３７５９８３号において、微小サイズのピットパターン又はその凹凸が反転したパターンに対応して予め電子線リソグラフィー等により微小孔すなわち粒子の配置パターンを形成し、その表面にサイズが均一化された微粒子を配置する粒子配置構造体及びその製造方法を提案した。この方法によれば、リソグラフィーによって得られた微小孔のサイズに多少のばらつきがあっても、サイズの略揃った微粒子をこれら微小孔に倣って配置させることで、よりサイズのばらつきが抑制された凹凸パターンを得ることが可能となる。
【００１４】
このようにサイズの略揃った粒子を配列して情報を凸または凹ピットパターンとして形成した記録媒体に対し、開口数ＮＡが１より小さい読み取りレンズを用いてこのピットパターンを読み取った場合、粒径が再生用光の波長λに対し最適な信号振幅が得られるピット深さすなわちλ／４からはずれると、十分な信号振幅が得られないことから、粒径が限定されるという問題がある。
これに対し、上述したように、近接場光を用いて再生することによって、波長と粒子の粒径との関係に依存することなく、より良好な再生特性をもって高密度記録の再生を行うことができる。
【００１５】
また、上述の本発明による信号再生方法において、粒子を略均一なサイズの略球状の微粒子とすることによって、凹凸パターンのサイズのばらつきを抑制し、良好な信号再生特性をもって高密度記録媒体の再生を行うことが可能となる。
更に、上述の信号再生方法において、記録媒体の凹凸パターンと、記録媒体に近接場光を照射する近接場光レンズとの間の距離の変動を、凹凸パターンの再生光とは異なる波長の距離検出用光を用いて検出することによって、凹凸パターンによる影響を抑制して、記録媒体と近接場光レンズとの距離制御を精度良く行うことができる。
【００１６】
また、本発明の信号再生装置によれば、近接場光レンズにより記録媒体の表面に近接場光を照射して、記録媒体上の、繰り返し形成された凹凸の一部が欠損されて成る凹凸パターンを再生することにより、良好な信号再生特性をもって従来に比して高密度大容量の記録媒体の再生を行うことができる。
【００１７】
また、上述の本発明信号再生装置において、凹凸パターンを再生する再生光とは異なる波長の距離検出用光を用いて記録媒体と近接場光レンズとの距離の変動を検出し、これを制御することによって、記録媒体と近接場光レンズとの距離制御を精度良く行うことができる。
また、上述の本発明信号再生装置において、距離検出用光による記録媒体上のスポット径を、再生光による記録媒体上のスポット径より大とすることによって、記録媒体と近接場光レンズとの平均的間隔を検出することができ、より精度良く記録媒体と近接場光レンズとの距離を制御することができる。
【００１８】
また、本発明による記録媒体の製造方法によれば、粒子を基体上に所望のパターンに配置して情報に対応した凹凸パターンを容易に形成することができるとともに、この形状を転写複製した複製基板を形成することによって、良好な再生特性による高密度記録再生が可能な記録媒体を生産性良く製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１９】
以下本発明による信号再生方法、信号再生装置及び記録媒体の製造方法の実施の形態の例を説明するが、本発明は以下の例に限定されるものではなく、種々の変形、変更が可能である。
図１は、本発明による信号再生装置の一例の概略構成図を示す。この例においては、再生光とは異なる波長の近接場光レンズと記録媒体との距離を検出する距離検出用光を用いる場合を示し、例えば波長４０５ｎｍのレーザーより成る第１の光源１を記録媒体３０の記録信号の再生光源として、また例えば波長７８０ｎｍのレーザーより成る第２の光源２１を近接場光レンズ７と記録媒体３０との距離検出用光源として用いることができる。
いずれの光源からの光も、それぞれコリメートレンズ２及び２２、各波長で最適化された偏光ビームスプリッター（ＰＢＳ）３及び２３、４分の１波長板（ＱＷＰ）４及び２４を経てダイクロイックミラー（ＤＣＭ）５で合波され、対物レンズに入射される。
【００２０】
ここで、対物レンズとしては、図１に示すように、例えば開口数ＮＡが０．６程度の非球面モールドレンズ等より成る光学レンズ６と、屈折率が１．５程度以上の例えば石英や硝材等からなる超半球形状のＳＩＬ、またはＳＩＭ等より成る近接場光レンズ７とを組み合わせた２群レンズ構成とすることができ、これら２群レンズが電磁アクチュエーター等のアクチュエーター８に搭載されて、ヘッド部５０が構成される。
記録媒体３０は、例えばディスク状とされて、スピンドルモーターなどの回転手段より成る移動機構部５１によって例えば回転駆動され、図示しないがヘッド部５１を記録媒体３０の表面に沿う方向に移動することによって、記録媒体３０の記録面に光源からの光が走査照射される構成とされる。
【００２１】
そして、対物レンズの先端部から記録媒体３０の凹凸パターンに対応して反射される戻り光は、光学レンズ６、ＤＣＭ５、ＱＷＰ４及び２４、ＰＢＳ３及び２３、集光用のレンズ９、２５を経て、フォトディテクター（ＰＤ）１０及び２６により光量として検出される。
【００２２】
なお、近接場光を用いて再生を行うには、例えばＳＩＬ、ＳＩＭなどの近接場光レンズを、波長の略１／４以下程度の距離をもって記録媒体の信号面から対向させて、このレンズの先端部で全反射臨界角以上となる成分のレンズ先端部からの戻り光量を検出することによって、レンズ先端部と信号面の凹凸による距離の変動に対応して戻り光量が変動することを利用して、凹凸の有無を検出することができ、これにより凹凸パターンの再生を行うことができる。
【００２３】
すなわち、対物レンズを上述したような組み合わせの２群レンズ構成とする場合、その開口数ＮＡはおよそ１．３５となり、入射瞳外周部へ入射する光はＳＩＬ等の近接場光レンズ７の先端部で臨界角以上となる。
そして、記録媒体３０とレンズ７との距離が入射光の波長より十分小さい場合、例えば上述の波長４０５ｎｍに対し１００ｎｍ程度以下の例えば２５ｎｍ程度とされる場合には、ＳＩＬ等の近接場光レンズ７の先端部で臨界角以上となる入射光成分は全反射せず、一部が記録媒体３０とカップリングして、記録媒体２０側へと伝播する。これにより、開口数ＮＡが１より大きな対物レンズが実現される。
【００２４】
そしてこのような構成の対物レンズにおいて再生光の波長に対して収差を最適化し、集光された再生光のスポット径が、記録媒体３０の表面の凹凸パターンサイズより小さい場合には、記録媒体３０と近接場光レンズ７との平均間隔を維持したまま相対的に移動させることで、スポット径内という微小領域内での近接場光レンズ７と記録媒体３０表面との間隔が凹凸パターンに対応して変動する。
このように間隔が変動すると、近接場光レンズへの入射光のうち高ＮＡ成分の記録媒体３０とのカップリング効率が変動し、それに同調して反射光量が変動する。そこで、この反射光量の変動を検出することで記録媒体３０表面の凹凸パターン、つまり記録媒体３０に記録されたデータ情報を読み取ることが可能となり、近接場光による記録再生が実現される。
【００２５】
ここで、本発明においては、記録媒体３０としては、図２にその一例の要部の拡大断面図を示すように、その表面に、繰り返し形成された凹凸の一部が欠損されている凹凸パターン４０が情報に対応して形成される構成として、この凹凸パターン４０を、近接場光を用いて再生する。
図示の例においては、凹凸パターン４０として、略均一なサイズの略球状のアモルファスシリカ等より成る粒子３３が略均一な密度で配置されて繰り返し凹凸が構成され、この粒子３３の一部が情報に対応して欠損され、欠損部３４の有無により情報に対応する凹凸パターン４０が構成された例を示す。
図２に示すように、この場合例えばシリコン等より成る基体３１上に情報に対応して形成された凹部状の配置パターン３２が形成され、この配置パターン３２上に粒子３３が配置された構成とすることができる。すなわち、配置パターン３２が情報に対応して一部が欠損されて形成され、粒子３３の欠損部３４がこれに倣って配置された構成を適用することができる。
なお、図示の例においては、粒子３３を最密に配置した場合であるが、その他略一定の間隔をもって規則的に配置する構成とし、情報に対応して一部の粒子が欠損した凹凸パターンとすることもできる。
【００２６】
また、この凹凸パターンは、このように粒子３３による凹凸パターンを転写して形成されて成る凹凸パターンとして構成することもできる。
これらの凹凸パターンを有する記録媒体の製造方法の一例を、図３Ａ〜Ｆの工程図を参照して説明する。
先ず図３Ａに示すように、シリコン、ガラスなどの基体３１の上に、例えば電子ビームリソグラフィーの適用によって、情報に対応したパターンの配置パターン３２を形成し、その上に、この配置パターン３２の配置に倣って粒子３３を配置する。
この粒子の配置方法としては、例えば本出願人の出願による上記特願２００３−３７５９８３号において説明したように、溶液中に略数十〜１００ｎｍ程度の粒径の略休憩の粒子３３を分散させて、配置パターン３２を予め形成した基体３１を一定時間浸漬させ、所定の速度で引き上げることによって、粒子３３を配置パターン３２に倣って単層に配置させることができる。またこの浸漬及び引き上げを２回以上繰り返すことによって、多層に粒子３３を配置させることもできる。
【００２７】
そして、図３Ｂに示すように、粒子３３の上から全面的にＮｉ等より成るスパッタ層３５をスパッタにより被着形成する。この場合、指向性スパッタを行うことにより、粒子３３の裏側への回り込みは殆ど生じない。
次に、図３Ｃに示すように、Ｎｉ等の電鋳メッキを行って、メッキ層３６を形成する。スパッタ層３５を被着したことによって、メッキ液へ粒子３３が流出することが回避される。そしてこのメッキ層３６から基体３１及び粒子３３を剥離することによって、図３Ｄに示すように、粒子３３の凹凸パターンとは反転するパターンが表面に形成されたスタンパー３７を形成することができる。
【００２８】
そして、図３Ｅに示すように、このスタンパー３７を用いて射出成形法、２Ｐ（Photo-Polymerization）法等によって、複製基板３８を形成する。
図３Ｆに示すように、スタンパー３７から剥離した複製基板３８の表面には、繰り返し凹凸３９の一部が情報に対応して欠損されて欠損部３４が形成された凹凸パターン４０が設けられて成る。
また更に、スタンパー３７から複製スタンパー、またこの複製スタンパーが転写された再複製スタンパーなどを形成し、これらから複製基板を形成することもでき、記録媒体としては、図３Ｆに示す粒子の配置パターンに倣った凹凸パターン４０のほか、その反転パターンによる凹凸パターンを設ける構成とすることも可能である。
このようにして、粒子を情報に対応して配置した凹凸パターンを転写して形成した凹凸パターンを有する記録媒体を、生産性良く製造することができる。
この場合、凹凸パターン４０は、粒子３３の粒径を予め揃えておくことによって、凹部の大きさすなわちピットのサイズを略粒子の粒径及びその整数倍に揃えることができるという利点を有する。
【００２９】
なお、記録媒体の基体３１の表面に形成する配置パターン３２は、上述したように、電子線リソグラフィーにより形成することができる。例えば、シリコン等より成る基板３１上に被着した電子線用レジストを所定のパターンに電子線照射したのち、現像してレジストに開口部を設け、このレジストをマスクとして基体３１に反応性イオンエッチング等の異方性エッチングを施すことにより基体３１の表面に微小凹部を形成し、レジストを除去することで基体３１の表面に微小凹部による配置パターン３２を作製することができる。
【００３０】
ところで、上述したように近接場光を用いる凹凸パターンの再生にこの記録媒体を適用するにあたって、凹凸パターンの最小ピットのサイズ（すなわち配置パターンの１粒子に対応する凹部のサイズ）を小さくしていくと、この凹部の周囲の凹凸パターン形状に依存して、凹部自体のサイズが微妙に変化してしまい、結果的に凹凸パターンのサイズにばらつきが生じてしまう。
【００３１】
特に、上述したように近接場光を用いる再生においては、開口数ＮＡを１以上の大なる値とし、これに対応したピットのサイズは高密度記録を達成するためにできるだけ小さくすることが望ましい。例えば、前述の図１において説明した例のように、再生光の波長が４０５ｎｍ程度、開口数ＮＡが１．３５程度とされる場合は、直径１００ｎｍ程度以下のピットを再生することができる。再生光の波長が短いほど、また開口数ＮＡが大きくなるほど、それらに対応して再生可能なピットサイズは縮小し、作製されるピットパターンのサイズを微小化することが望まれる。
【００３２】
ところが、図４Ａに配置パターン３２の一例の一部拡大平面図を示すように、ある凹部に隣接して欠損部（凹部のないパターン）がある場合と全くない場合では、電子線リソグラフィー時の隣接効果によりサイズが１０％程度変化する場合がある。このようにパターンのサイズが変動すると、それ自体を再生すると、時系列として読み取られる信号のジッターが悪化し、エラーレートが増加してしまう。
これに対し、本発明においては、このようにサイズが微妙にばらつく微小凹部の上に、サイズが揃った粒子を選択的に配列させる構成とすることから、その欠損による凹部はほぼ粒径及びその整数倍に揃えられ、凹凸サイズのばらつきが抑制されたパターンとして記録媒体を構成することが可能となる。図４Ｂに粒子３３を配置パターン３２上に配置した一例の拡大平面図を示す。
なお、例えば電子線レジストの膜厚を粒子の粒径に比して薄い膜厚とすることによって、粒子を配置した場合の凹凸の高低のばらつきを抑制することが可能である。
【００３３】
したがって、このようにして形成した記録媒体、或いはその凹凸パターンを転写複製した複製基板を用いて作製した記録媒体を用いることによって、近接場光を用いた高密度記録情報を低いエラーレートで再生することが可能となる。
【００３４】
次に、再び図１を参照して、再生光とは異なる波長の距離検出用光を用いる場合の距離検出方法について説明する。再生光に適応して設計された近接場光レンズに、これとは異なる波長の距離検出用光を入射すると、色収差が発生し、レンズの開口数ＮＡで決まる回折限界まで集光スポット径が小さくなることはない。このスポット径が、例えば図５Ａ及びＢにそれぞれ再生光スポット径４１及び距離検出用光スポット径４２を示すように、距離検出用光スポット４２の方が大きく、また記録媒体３０の表面の凹凸パターンのうち最も大きなパターンより十分大きい場合には、近接場光レンズからの戻り光量として得られるレンズと記録媒体との間隔は、スポット径内でのレンズと記録媒体表面との間隔が平均化されたものとなる。
そして、例えば受光手段２６で検出したレンズと記録媒体との間隔に対応する戻り光量から、ギャップ制御部２７において制御量を検出し、ギャップ制御信号Ｓｇを電磁アクチュエーター等より成るアクチュエーター８に出力し、このアクチュエーター８によって対物レンズすなわち光学レンズ６及び近接場光レンズ７を駆動し、この戻り光量が一定となるように制御することにより、近接場光レンズ７と記録媒体３０の表面との平均間隔が略一定に調整されることとなる。
【００３５】
このように、再生光とは異なる波長の距離検出用光を用いてレンズと記録媒体との間の距離を制御することによって、図６に示すように、例えば粒子が配列された凹凸パターンの上を再生光が矢印ａ１、ａ２で示す方向に走査される間、粒子の有無による凹凸にも、配列された粒子自体の繰り返し凹凸にも殆ど影響されずにレンズと記録媒体表面との平均的な間隔を確実に検出することができて、凹凸パターン自体との距離を変動させることなく、精度良く距離制御を行うことが可能となる。
【００３６】
以上説明したように、本発明によれば、繰り返し凹凸の一部が欠損された凹凸パターンとして記録された記録媒体の情報を、近接場光を用いて再生することによって、高記録密度大容量の記録媒体に対してエラーレートの低い良好な再生特性を実現することができる。
なお、本発明は、上述した実施の形態の例に限定されることなく、その他、再生光及び距離検出用光の波長、近接場光レンズの材料構成、記録媒体の形状、材料構成を変更するなど、本発明構成を逸脱しない範囲において、種々の変形、変更が可能であることはいうまでもない。
また、例えば上述したように距離検出用光を再生光とは異なる波長とする他、偏光方向の違いにより間隔制御用の戻り光量を分離して間隔を検出する方法、また記録媒体表面から反射された戻り光と対物レンズで反射された戻り光とを干渉させて、この干渉光により間隔を検出する方法を適用することもでき、レンズと記録媒体表面との間隔制御について、またその他の光学部品の利用態様などにおいて種々の方法を採用することも可能であり、その場合においても、本発明を適用することによって、同様に低いエラーレートによる再生が可能であり、高密度記録媒体に対する良好な再生特性を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】本発明による信号再生装置の一例の概略構成図である。
【図２】本発明による信号再生方法に用いる記録媒体の一例の要部の拡大断面図である。
【図３】Ａは本発明による記録媒体の製造方法の一例の一工程図である。Ｂは本発明による記録媒体の製造方法の一例の一工程図である。Ｃは本発明による記録媒体の製造方法の一例の一工程図である。Ｄは本発明による記録媒体の製造方法の一例の一工程図である。Ｅは本発明による記録媒体の製造方法の一例の一工程図である。Ｅは本発明による記録媒体の製造方法の一例の一工程図である。
【図４】Ａは電子線リソグラフィーの一例の一工程図である。Ｂは電子線リソグラフィーの一例の一工程図である。
【図５】Ａは再生光スポットの一例の平面図、Ｂは距離検出用スポットの一例の平面図である。
【図６】記録媒体の一例の要部の拡大平面図である。
【符号の説明】
【００３８】
１．第１の光源、２．コリメートレンズ、３．偏光ビームスプリッター、４．１／４波長板、５．ダイクロイックミラー、６．光学レンズ、７．近接場光レンズ、８．アクチュエーター、９．レンズ、１０．受光手段、２１．第２の光源、２２．レンズ、２３．偏光ビームスプリッター、２４．１／４波長板、２５．レンズ、２６．受光手段、３１．基体、３２．配置パターン、３３．粒子、３４．欠損、３５．スパッタ層、３６．メッキ層、３７．スタンパー、３８．複製基板、３９．凹凸、４０．凹凸パターン、４１．再生用スポット、４２、距離検出用スポット
【図１】
2005339629.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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