(57)【要約】【課題】小型且つ軽量な構成で、走査線の湾曲を適性に補正可能な光走査装置と、このような光走査装置を備えた画像形成装置を得る。【解決手段】平面鏡１３４は、その厚みが、調整ねじ１５２によって押圧される側からその反対側に向かって漸減されて、断面２次モーメントが主走査方向で非対称とされており、片端部のみ押圧された結果主走査方向に対称に撓む。これにより、断面２次モーメントが均一とされた平面鏡１８４と比較して、走査線（光ビーム）の湾曲を効果的にバランス良く補正でき、しかも、平面鏡１３４の長手方向一端側のみを押圧すればよいので、光走査装置の小型化、軽量化を図ることができる。【選択図】        図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源から射出された光ビームを、回転による偏向反射面の移動によって主走査方向に偏向走査する光偏向器と、
光源からの光ビームを、副走査断面において前記光偏向器の前記偏向反射面に斜めに入射させ、偏向反射面の近傍に副走査方向に結像した焦線を形成する入射光学系と、
前記光偏向器の前記偏向反射面で反射された光ビームを反射又は透過させて被走査面に導く１又は複数の光学部材と、
を備え、
複数の前記光学部材の少なくとも１つが、副走査方向の断面２次モーメントが主走査方向で不均一な不均一光学部材とされると共に、この不均一光学部材の主走査方向一端側からの外力で変形可能とされていることを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
前記不均一光学部材に外力を作用させて変形させる変形手段、
を有することを特徴とする請求項１に記載の光走査装置。
【請求項３】
前記不均一光学部材が、長手方向の押圧力で変形可能とされていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光走査装置。
【請求項４】
前記光偏向器が、複数の光源から射出された複数の光ビームの少なくとも１つを前記偏向反射面に入射可能とされていることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の光走査装置。
【請求項５】
前記不均一光学部材が、副走査方向の断面形状を主走査方向に変化させることで断面２次モーメントを主走査方向で不均一とされていることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載の光走査装置。
【請求項６】
前記不均一光学部材が、
光ビームを反射又は透過させる光学部材本体と、
前記光学部材本体の光ビーム非通過面に貼着され断面２次モーメントを主走査方向で不均一とする貼着部材と、
を備えた構成とされていることを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれかに記載の光走査装置。
【請求項７】
請求項１〜請求項６のいずれかに記載の光走査装置と、
画像情報に応じた光ビームを射出する１又は複数の光源と、
前記光走査装置で偏向走査された光ビームが被走査面上で結像される像担持体と、
を有することを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光走査装置及び画像形成装置に関し、さらに詳しくは、光ビームを画像情報に応じて像担持体上に走査露光することで、画像を形成する画像形成装置と、この画像形成装置に使用される光走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
画像形成装置に使用される光走査装置では、従来から、走査線の湾曲を防止するために、光走査装置内のミラーを撓ませる技術が提案されている。例えば特許文献１では、平面ミラーの両端の調整ねじで平面ミラーを押圧して湾曲させ、直線状に補正できるようにした光学走査装置が記載されている。
【０００３】
しかし、この構成では、ミラーの両端に調整機構（調整ねじ）が必要になるため、光学走査装置自体が大型化してしまう。また、ミラーの両端をバランス良く調整する必要があるため、実際上は適切に調整することが難しい場合がある。
【０００４】
これに対し、特許文献２には、シリンドリカルミラーに変形調整部材を設け、調整部の調整ネジを進退させることで、シリンドリカルミラーを湾曲変形させることが可能な光走査装置が記載されている。この構成では、１箇所の調整ネジでミラーを湾曲させることができため、光走査装置を小型化でき、しかも、両端のバランスをとる必要もない。
【０００５】
しかし、この構成では、ミラーの中央部が押圧されるため、設計上走査線の湾曲を走査範囲全域で補正することが難しい。しかも、ミラーに変形調整部材が取り付けられるため、全体として重量が増加し、振動や衝撃に対するミラーの維持性が悪化することがある。
【０００６】
【特許文献１】
特開２００１−１１７０４０号公報
【特許文献２】
特開２００２−３１１３６６号公報
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記事実を考慮し、小型且つ軽量な構成で、走査線の湾曲を適性に補正可能な光走査装置と、このような光走査装置を備えた画像形成装置を得ることを課題とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明では、光源から射出された光ビームを、回転による偏向反射面の移動によって主走査方向に偏向走査する光偏向器と、光源からの光ビームを、副走査断面において前記光偏向器の前記偏向反射面に斜めに入射させ、偏向反射面の近傍に副走査方向に結像した焦線を形成する入射光学系と、前記光偏向器の前記偏向反射面で反射された光ビームを反射又は透過させて被走査面に導く１又は複数の光学部材と、を備え、複数の前記光学部材の少なくとも１つが、副走査方向の断面２次モーメントが主走査方向で不均一な不均一光学部材とされると共に、この不均一光学部材の主走査方向一端側からの外力で変形可能とされていることを特徴とする。
【０００９】
この光走査装置では、光源から射出された光ビーム（光束）が、入射光学系を経て、光偏向器の偏向反射面に入射する。光偏向器の回転による偏向反射面の移動で、光ビームが主走査方向に偏向走査される。この光ビームがさらに光学部材によって反射又は透過されて、被走査面に導かれる。
【００１０】
ここで、光ビームを、副走査断面において光偏向器の偏向反射面に斜めに入射させ、偏向反射面の近傍に副走査方向に結像した焦線を形成する入射光学系、及び、偏向反射面の移動によって主走査方向に偏向走査する光偏向器、を備えた構成では、被走査面上で走査線が湾曲する。本発明では、光学部材の一つが不均一光学部材とされており、この不均一光学部材を変形（湾曲）させて、走査線の湾曲を打ち消すことができる。不均一光学部材は、副走査方向の断面２次モーメントを主走査方向で不均一とされているため、主走査方向一端側からの外力のみでバランス良く湾曲させることができる。１箇所のみで不均一光学部材を湾曲させるので、光走査装置の小型化、軽量化を図ることが可能となる。
【００１１】
なお、不均一光学部材を変形させる外力としては、特に限定されず、請求項２に記載のような変形手段を設ければよい。この外力の種類の限定されないが、たとえば、押圧、引張、曲げ等を挙げることができる。特に請求項３に記載のように、前記不均一光学部材が、長手方向の押圧力で変形可能とされた構成とすることができる。
【００１２】
さらに、光偏向器の偏向反射面に入射される光ビーム（光束）の数も特に限定されないが、請求項４に記載のように、前記光偏向器が、複数の光源から射出された複数の光ビームの少なくとも１つを前記偏向反射面に入射可能とされていると、複数の光ビームで光偏向器を共通化できるので、光走査装置をさらに小型化、軽量化することが可能になる。
【００１３】
光学部材の副走査方向の断面２次モーメントを主走査方向で不均一にするための構成としては、たとえば、請求項５に記載のように、副走査方向の断面形状を主走査方向に変化させてもよいし、請求項６に記載のように、前記不均一光学部材が、光ビームを反射又は透過させる光学部材本体と、前記光学部材本体の光ビーム非通過面に貼着され断面２次モーメントを主走査方向で不均一とする貼着部材と、を備えた構成とされていてもよい。
【００１４】
請求項７に記載の発明では、請求項１〜請求項６のいずれかに記載の光走査装置と、画像情報に応じた光ビームを射出する１又は複数の光源と、前記光走査装置で偏向走査された光ビームが被走査面上で結像される像担持体と、を有することを特徴とする。
【００１５】
このため、小型且つ軽量な構成で、走査線の湾曲を適性に補正し、像担持体上に光ビームを結像させることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
図１には、本発明の第１実施形態の光走査装置１０２と、この光走査装置１０２を備えた画像形成装置１００の概略構成が示されている。この光走査装置１０２は、ブラック（Ｋ）、イエロー（Ｙ）、マゼンタ（Ｍ）、シアン（Ｃ）の４色を重ね合わせて、いわゆるフルカラーの画像を形成するために使用される。
【００１７】
光走査装置１０２は、光学箱１０４の略中央に配置された回転多面鏡（光偏向器）１０６を有している。この回転多面鏡１０６を挟んで、２色ずつ、合計で４つの光学系が略対称に配置されており、４つの光源（半導体レーザ１１０）から射出された光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙ、ＬＢ−Ｍ、ＬＢ−Ｃを、回転多面鏡１０６の回転軸Ｃを挟んで回転軸Ｃと直交する両方向から、２組のｆθレンズ１１２、１１４を透過させ、単一の回転多面鏡１０６の対向する２面（偏向反射面１０６Ｍ）に各２本づつ上下方向に角度を異ならせて入射させる。回転多面鏡１０６の回転による偏向反射面１０６Ｍの移動により、光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙ、ＬＢ−Ｍ、ＬＢ−Ｃが偏向走査される。偏向走査後に再びｆθレンズ１１４、１１２を透過した光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙ、ＬＢ−Ｍ、ＬＢ−Ｃを光路分割して４つの感光体ドラム１１６Ｋ、１１６Ｙ、１１６Ｍ、１１６Ｃに導くようになっている。感光体ドラム１１６Ｋ、１１６Ｙ、１１６Ｍ、１１６Ｃ上での光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙ、ＬＢ−Ｍ、ＬＢ−Ｃの主走査方向を矢印Ｍで、副走査方向を矢印Ｓでそれぞれ示す。
【００１８】
なお、回転多面鏡１０６の矢印Ｌ方向側の光学系と矢印Ｒ方向側の光学系とは対称な構成であるため、以下では、主に矢印Ｌ方向側の光路に沿って説明する。
【００１９】
それぞれの光学系を構成する半導体レーザ１１０から出射された発散状態の光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙ、ＬＢ−Ｍ、ＬＢ−Ｃは、カップリングレンズ１１８により緩やかな発散光束とされ、スリット１２０により光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙ、ＬＢ−Ｍ、ＬＢ−Ｃの光束幅を規制されたのち、シリンドリカルレンズ１２２により副走査方向にのみ収束作用を受ける。
【００２０】
次いで、合成ミラー１２４により折り返された光ビームＬＢ−Ｋは、合成ミラー１２４の上部を通過する他の半導体レーザ１１０からの光ビームＬＢ−Ｙ  と、主走査断面でほぼ同一に光路を通る光ビームに合成される。
【００２１】
合成された２本の光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙは、正面入射用の単一の折返ミラー１２６Ａ（なお、回転多面鏡１０６を挟んで反対側には対称的に折返ミラー１２６Ｂが配置されている）により折り返されて、副走査断面で入射角度の異なる２本の光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙとしてｆθレンズ１１２、１１４を透過し、単一の回転多面鏡１０６に入射する。
【００２２】
ここで、回転多面鏡１０６の偏向反射面１０６Ｍ上の２本の光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙの反射位置が、回転軸Ｃと平行方向に離間するように、光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙが入射されている。これに加えて、回転多面鏡１０６への２本の光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙによる副走査方向入射角度も異なっているため、偏向反射面１０６Ｍで反射された光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙは、回転多面鏡１０６から離れるにしたがって光線間隔が広がる２本の光ビームとして偏向される。
【００２３】
この２本の偏向光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙは、各々主走査方向の中心に対し、主走査方向の両端に至る光ビームが、図１の上側、下側に位置する走査線湾曲を持っている。
【００２４】
ｆθレンズ１１４、１１２を透過した２本の光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙは、除々にその副走査方向の光線間隔を広げて進む。光ビームＬＢ−Ｋは、折返ミラー１２７Ａの上部を通過し、その後方に配設された折返ミラー１２８Ａにより、それぞれの光路上に設けられたシリンドリカルミラー１３０Ｋ、１３０Ｙに入射する。
【００２５】
シリンドリカルミラー１３０Ｋ、１３０Ｙにより反射された光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙは、それぞれの光路上に独立に設けられた平面鏡１３４Ｋ、１３４Ｙにより折り返されて防塵ガラス１３２Ｋ、１３２Ｙを透過したのち、感光体ドラム１１６Ｋ、１１６Ｙ上にスポット結像される。
【００２６】
ここで、平面鏡１３４Ｋ、１３４Ｙは、後述するように、上記した走査線湾曲を打消す方向に所定量湾曲調整されており、平面鏡１３４Ｋ、１３４Ｙで反射された光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙは感光体ドラム１１６Ｋ、１１６Ｙ上で直線的に走査するように補正される。もちろん、シリンドリカルミラー１３０Ｋ、１３０Ｙを反射面方向または反射面と直交する方向に所定量変形させることでも走査線湾曲を補正することが可能である。
【００２７】
また、２本の光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙの光路は、副走査断面内で回転多面鏡１０６の偏向反射面１０６Ｍと感光体ドラム１１６Ｋ、１１６Ｙとがそれぞれ幾何光学的に共役関係となる面倒れ補正光学系を構成するように配置されている。
【００２８】
なお、双方向走査の対向面側は、回転多面鏡１０６の回転軸Ｃを含み、感光体ドラム１１６Ｋ、１１６Ｙの母線を含む平面に対して面対称の構成となっており、上記した２本の光ビームＬＢ−Ｋ、ＬＢ−Ｙと同様の光路を通る。
【００２９】
但し、本実施形態では、単一の回転多面鏡１０６の対向する２面により偏向走査するため、感光体ドラム１１６の走査方向は双方向を走査する各２本づつ逆向きとなる。このため、これら２本の光ビームに対応する画像データは、走査方向に応じて反転される。
【００３０】
感光体ドラム１１６Ｋ、１１６Ｙ、１１６Ｍ、１１６Ｃの下方には、無端状の転写ベルト（図示省略）が設けられており、感光体ドラム１１６Ｋ、１１６Ｙ、１１６Ｍ、１１６Ｃ上のトナー画像が転写ベルトに順次転写され、４つの色が重ね合わされることで、転写ベルト上にカラー画像が形成される。このカラー画像が用紙に転写され、さらに定着装置（図示省略）によって定着されることで、用紙上に所望のカラー画像を得ることができる。
【００３１】
図２には、本実施形態の平面鏡１３４の湾曲補正機構１３６が示されている。なお、本実施形態の４つの平面鏡１３４Ｋ、１３４Ｙ、１３４Ｍ、１３４Ｃで同一の保持機構とされているため、以下では区別することなく平面鏡１３４の湾曲補正機構１３６として説明する。
【００３２】
平面鏡１３４は、ブラケット１３８を介して光学箱１０４に取り付けられている。
【００３３】
ブラケット１３８には、下方へ延びる厚肉板状のアーム１４０を備えている。ここで、一方のブラケット１３８のアーム１４０と、他方のブラケット１３８のアーム１４０とは互いに平行に配置されている。
【００３４】
アーム１４０には、平面鏡１３４が挿通する略矩形の挿通孔１４２が形成されている。図３にも示すように、平面鏡１３４は、両アーム１４０の挿通孔１４２を挿通しており、端部付近が挿通孔１４２より突出している。
【００３５】
アーム１４０の一方の端面（平面鏡１３４の裏面１３４Ｂ側（反射面１３４Ａ側とは反対面側））には、金属板で形成された金具１４４がねじ１４６で固定されている。
【００３６】
金具１４４は、平面鏡１３４の端部側へ延びる腕部１４８を備えている。腕部１４８は弾性によって、平面鏡１３４を押圧して、アーム１４０に対し固定するようになっている。
【００３７】
一方の腕部１４８の先端側には、ナット１５０が固着されており、このナット１５０に調整ねじ１５２が螺合されている。調整ねじ１５２には、ドライバーで回すための溝１５４が形成されている。ここで、平面鏡１３４は、反射面１３４Ａがアーム１４０の挿通孔１４２の支持突起１４２Ａに当接して支持され、裏面１３４Ｂが２つの調整ねじ１５２の先端に当接して支持される。これに対し、他方の金具１４４の腕部１４８には、ナット１５０が螺合されるネジ孔は形成されておらず、単に腕部１４８の先端部分が平面鏡１３４に接触している。したがって、平面鏡１３４は、長手方向（副走査方向）の一端側でのみ、調整ねじ１５２により厚み方向（長手方向と直交する方向）押圧されて撓み変形される。
【００３８】
図４（Ｃ）に示すように、本実施形態の平面鏡１３４は、その厚みが、調整ねじ１５２によって押圧される側（図４（Ｃ）での左側）からその反対側に向かって漸減されて、断面２次モーメントが主走査方向で非対称とされており、上記したように、片端部のみ押圧された結果主走査方向に対称に撓むようになっている。
【００３９】
このような構成とされた第１実施形態では、調整ねじ１５２のねじ込み量を加減することで、平面鏡１３４を所定量だけ撓ませて、感光体ドラム１１６Ｋ、１１６Ｙ上の走査線の湾曲を補正することができる。図４（Ｄ）には、補正後の光ビームの補正の程度が、像高と走査位置との関係として各色ごとに示されている。このグラフから分かるように、本実施形態では、平面鏡１３４の長手方向一端側のみで撓ませることで、走査線の湾曲を効果的に補正できている。
【００４０】
なお、図４（Ｂ）には比較のために、断面２次モーメントが長手方向で一定とされた平面鏡１８４について、本実施形態と同様に、長手方向一端側でのみ押圧して撓み変形させた場合（図４（Ａ）参照）の、光ビームの補正の程度が示されている。このグラフから分かるように、断面２次モーメントが長手方向で一定とされた平面鏡１８４では、非対称に撓んでしまうため、光ビームの湾曲を本実施形態と同程度に補正できておらず、しかも、光ビームは主走査方向の左右で非対称になっている。
【００４１】
また、図５（Ｂ）にも比較のために、断面２次モーメントが長手方向で一定とされた平面鏡１８４について、長手方向の両端でそれぞれ異なる押圧力で押圧した場合（図５（Ａ）参照）の、光ビームの補正の程度が示されている。この場合でも、平面鏡１８４が非対称に撓み、光ビームの湾曲を良好に補正できておらず、しかも主走査方向で非対称になっていることがグラフから分かる。
【００４２】
図６（Ｂ）にはさらに比較のために、断面２次モーメントが長手方向で一定とされた平面鏡１８４の長手方向両端近傍を支持（固定）し、中央部分を押圧して撓ませた場合（図６（Ａ）参照）の、光ビームの補正の程度が示されている。この場合には、光ビームの湾曲は主走査方向で対称になっているが、主走査方向の全域では光ビームの湾曲を補正できていないことがグラフから分かる。
【００４３】
このように、本実施形態では、図４（Ａ）、図５（Ａ）及び図６（Ａ）のいずれの構成と比較しても、走査線（光ビーム）の湾曲を効果的にバランス良く補正でき、しかも、平面鏡１３４の長手方向一端側のみを押圧すればよいので、光走査装置１０２の小型化、軽量化を図ることができる。
【００４４】
図７には、本発明の第２実施形態の湾曲補正機構１５６が示されている。第２実施形態では、平面鏡１３４をその長手方向に押圧して撓ませるようにしている点が、第１実施形態と異なっているが、それ以外は同一構成とされているので、異なっている点のみ説明する。
【００４５】
第２実施形態では、光学箱１０４の内面に、平面鏡１３４を支持するための一対の支持凹部１０４Ｄが形成されている。平面鏡１３４は支持凹部１０４Ｄに支持された状態で、光学箱１０４に取り付けられた板ばね１５８によって挟持されている。光学箱１０４の一方の側壁には調整ねじ１５２がねじ込まれており、その先端が、平面鏡１３４の長手方向一端面に接触している。したがって、調整ねじ１５２をねじ込むことで、平面鏡１３４を長手方向に押圧して撓ませることができる。
【００４６】
特に、第２実施形態においても第１実施形態と同様に、断面２次モーメントが長手方向で非対称とされた平面鏡１３４を用いているので、図８（Ｂ）に示すように、小さな押圧力で平面鏡１３４を撓ませることができる。これに対し、図８（Ａ）に示すように、断面２次モーメントが長手方向で一定とされた平面鏡１８４では、撓ませるために、より大きな押圧力が必要となる。
【００４７】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明において撓み変形される光学部材（すなわち、副走査方向の断面２次モーメントが主走査方向で不均一な不均一光学部材）としては、平面鏡に限られず、たとえば、シリンドリカルミラー１３０の場合でも、同様の効果を得ることができる。
【００４８】
また、副走査方向の断面２次モーメントを主走査方向で不均一とする具体的構成としても、上記したものに限られず、たとえば、図９に示す各種形状の平面鏡（又はシリンドリカルミラー）とすることが可能である。
【００４９】
図９（Ａ）−１に示す平面鏡１６０では、その幅を変える（長手方向一端から他端に向かって漸減させる）ことで、断面２次モーメントを不均一にしている。
【００５０】
図９（Ａ）−２に示すシリンドリカルミラー１７０では、その幅を変える（長手方向一端から他端に向かって漸減させる）ことで、断面２次モーメントを不均一にしている。
【００５１】
図９（Ｂ）に示す平面鏡１６２では、反射面１６２Ａと直交する長手側端面（図９では上面１６２Ｕ）に、断面２次モーメントが不均一な別部材１６４が貼り付けられている。なお、別部材１６４は、下面１６２Ｌに貼り付けても、あるいは上面１６２Ｕ及び下面１６２Ｌの双方に貼り付けてもよい。別部材１６４の材質も限定されず、平面鏡１３４と同じ材質でも、異なる材質でもよい。
【００５２】
図９（Ｃ）に示す平面鏡１６６では、裏面１６６Ｂ（反射面の反対側の面）に、断面２次モーメントが不均一な別部材１６８が貼り付けられている。この構成においても、別部材１６８の材質は限定されず、平面鏡１６６と同じ材質でも、異なる材質でもよい。
【００５３】
図９（Ｄ）に示すシリンドリカルミラー１７２では、その厚みを変える（長手方向一端から他端に向かって漸減させる）ことで、断面２次モーメントを不均一にしている。
【００５４】
図９（Ｅ）−１に示すシリンドリカルミラー１７４では、その厚みを、長手方向中央で薄く、両端に向かって厚くすることで、特に、長手方向に押圧されたときに変形しやすくしている。
【００５５】
図９（Ｅ）−２に示すシリンドリカルミラー１７６では、その幅を、長手方向中央で薄く、両端に向かって厚くすることで、特に、長手方向に押圧されたときに変形しやすくしている。
【００５６】
図９（Ｆ）に示すシリンドリカルミラー（又はレンズ）１７８では、材質が樹脂の場合において、リブ高さを、長手方向中央で低く、両端に向かって高くすることで、特に、長手方向に押圧されたときに変形しやすくしている。
【００５７】
【発明の効果】
本発明は上記構成としたので、小型且つ軽量な構成で、走査線の湾曲を適性に補正できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態の光走査装置及び画像形成装置の概略構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の第１実施形態の光走査装置における平面鏡の湾曲補正機構を示す斜視図である。
【図３】本発明の第１実施形態の光走査装置における平面鏡の湾曲補正機構を拡大して示す断面図である。
【図４】（Ａ）は断面２次モーメントが均一とされた平面鏡の長手方向一端側のみを押圧した状態の概念図、（Ｂ）はこの平面鏡の撓み変形後の光ビームの湾曲補正を示すグラフ、（Ｃ）は第１実施形態のた平面鏡の長手方向一端側のみを押圧した状態の概念図、（Ｂ）はこの平面鏡の撓み変形後の光ビームの湾曲補正を示すグラフ、である。
【図５】（Ａ）は断面２次モーメントが均一とされた平面鏡を長手方向両端で異なる押圧力で押圧した状態の概念図、（Ｂ）はこの平面鏡の撓み変形後の光ビームの湾曲補正を示すグラフ、である。
【図６】（Ａ）は断面２次モーメントが均一とされた平面鏡を長手方向中央押圧力で押圧した状態の概念図、（Ｂ）はこの平面鏡の撓み変形後の光ビームの湾曲補正を示すグラフ、である。
【図７】本発明の第２実施形態の光走査装置における平面鏡の湾曲補正機構を示す断面図である。
【図８】平面鏡を長手方向に沿って押圧した場合の湾曲の程度を示す概念図であり、（Ａ）断面２次モーメントが均一とされた平面鏡の場合、（Ｂ）は第２実施形態の平面鏡の場合である。
【図９】（Ａ）〜（Ｆ）はそれぞれ、本発明に適用可能な平面鏡，シリンドリカルレンズ又はシリンドリカルミラーの各種形状を示す斜視図である。
【符号の説明】
１００    画像形成装置
１０２    光走査装置
１０４    光学箱
１０６    回転多面鏡（光偏向器）
１０６Ｍ  偏向反射面
１１０    半導体レーザ（光源）
１１２    ｆθレンズ（入射光学系、光学部材）
１１４    ｆθレンズ（入射光学系、光学部材）
１１６    感光体ドラム（像担持体）
１１８    カップリングレンズ（入射光学系）
１２０    スリット（入射光学系）
１２２    シリンドリカルレンズ（入射光学系）
１２４    合成ミラー（入射光学系）
１２６Ａ  折返ミラー（入射光学系）
１２７Ａ  折返ミラー（光学部材）
１２８Ａ  折返ミラー（光学部材）
１３０    シリンドリカルミラー（光学部材）
１３４    平面鏡（光学部材、不均一光学部材）
１３６    湾曲補正機構
１５６    湾曲補正機構
１６０    平面鏡（光学部材、不均一光学部材）
１６２    平面鏡（光学部材本体、不均一光学部材）
１６４    別部材（貼着部材）
１６６    平面鏡（光学部材本体、不均一光学部材）
１６８    別部材（貼着部材）
１７０    シリンドリカルミラー（光学部材、不均一光学部材）
１７２    シリンドリカルミラー（光学部材、不均一光学部材）
１７４    シリンドリカルミラー（光学部材、不均一光学部材）
１７６    シリンドリカルミラー（光学部材、不均一光学部材）
１７８    シリンドリカルミラーまたはレンズ（光学部材、不均一光学部材）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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