(57)【要約】【課題】生体に対して安全で、大型基板にも良好な塗布性を有し、高感度で、十分な現像マージン、高耐溶剤性、高耐熱性および高光透過率を有し、特に層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成に有用な感放射線性樹脂組成物、該組成物から形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズとこれらの形成方法を提供する。【解決手段】感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）感放射線性酸発生剤および（Ｃ）１−メトキシ−２−（２−メトキシプロポキシ）プロパン、プロピオン酸１−メチル−２−メトキシエチル、酢酸２−ｎ−プロポキシプロピル等に代表される有機溶剤を含有する。  層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成方法は、少なくとも、（ｉ）前記組成物の塗膜を基板上に形成する工程、（ii）放射線の露光工程、（iii)現像処理工程および（iv）加熱処理工程を含む。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）感放射線性酸発生剤および（Ｃ）下記式（Ｉ）で表される化合物を含む有機溶剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
【化１】
2005134440.tif 000007
〔式中、ｎは１または２であり、ｎ＝１のとき、（１）Ｒ1 はメチル基またはエチル基を示し、Ｒ2 は炭素数１〜４のアルキル基または−ＣＯ−Ｒ3 （但し、Ｒ3 は炭素数２〜４のアルキル基である。）を示すか、あるいは（２) Ｒ1 はメチルカルボニル基を示し、
Ｒ2 は炭素数３〜４のアルキル基または−ＣＯ−Ｒ4 （但し、Ｒ4 は炭素数１〜４のアルキル基である。）を示すか、あるいは（３）Ｒ1 は炭素数３〜４のアルキル基または
−ＣＯ−Ｒ3 （但し、Ｒ3 は炭素数２〜４のアルキル基である。）を示し、Ｒ2 は炭素数１〜４のアルキル基または−ＣＯ−Ｒ4 （但し、Ｒ4 は炭素数１〜４のアルキル基である。）を示し；ｎ＝２のとき、Ｒ1 およびＲ2 は相互に独立に炭素数１〜４のアルキル基または−ＣＯ−Ｒ4 （但し、Ｒ4 は炭素数１〜４のアルキル基である。）を示す。〕
【請求項２】
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂が（ａ１）カルボキシル基、カルボン酸無水物基およびヒドロキシル基の群から選ばれる少なくとも１種の基を有するラジカル重合性モノマーと（ａ２）エポキシ基を有するラジカル重合性モノマーと（ａ３）他のラジカル重合性モノマーとの共重合体であることを特徴とする、請求項１に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項３】
（Ｂ）感放射線性酸発生剤が１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルを含むことを特徴とする、請求項１または請求項２に記載の感放射線性樹脂組成物。
【請求項４】
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を、請求項１に記載の式（Ｉ）で表される化合物を含む溶媒中における重合により製造し、得られた（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の溶液を（Ｂ）感放射線性酸発生剤と混合する工程を有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物の調製方法。
【請求項５】
請求項１〜３の何れかに記載の感放射線性樹脂組成物からなる層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物。
【請求項６】
請求項５に記載の層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物から形成された層間絶縁膜。
【請求項７】
少なくとも下記（イ）〜（ニ）の工程を含むことを特徴とする層間絶縁膜の形成方法。（イ）請求項５に記載の層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程。
（ロ）該塗膜の少なくとも一部に放射線を露光する工程。
（ハ）露光後の塗膜を現像処理する工程。
（ニ）現像後の塗膜を加熱処理する工程。
【請求項８】
請求項１〜３の何れかに記載の感放射線性樹脂組成物からなるマイクロレンズ形成用感放射線性樹脂組成物。
【請求項９】
請求項８に記載のマイクロレンズ形成用感放射線性樹脂組成物から形成されたマイクロレンズ。
【請求項１０】
少なくとも下記（ホ）〜（チ）の工程を含むことを特徴とするマイクロレンズの形成方法。
（ホ）請求項８に記載のマイクロレンズ形成用感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程。
（ヘ）該塗膜の少なくとも一部に放射線を露光する工程。
（ト）露光後の塗膜を現像処理する工程。
（チ）現像後の塗膜を加熱処理する工程。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、特に層間絶縁膜およびマイクロレンズの形成に有用な感放射線性樹脂組成物、該感放射線性樹脂組成物から形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズ、並びに当該層間絶縁膜および当該マイクロレンズの形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタ（以下、「ＴＦＴ」と記す。）型液晶表示素子、磁気ヘッド素子、集積回路素子、固体撮像素子等の電子部品には、一般に層状に配置される配線の間を絶縁するために層間絶縁膜が設けられている。この層間絶縁膜を形成する材料としては、必要とするパターンを形成するための工程数が少なく、しかも良好な膜厚均一性を有するものが好ましいことから、感放射線性樹脂組成物が幅広く使用されている（例えば、特許文献１および特許文献２参照。）。
前記電子部品のうち、ＴＦＴ型液晶表示素子は、層間絶縁膜の上に透明電極膜を形成し、さらにその上に液晶配向膜を形成する工程を経て製造されるため、層間絶縁膜は、透明電極膜の形成工程において高温条件に晒されたり、電極のパターン形成に使用されるレジストの剥離液に晒されることとなるため、これらに対する十分な耐性が必要となる。
また近年、ＴＦＴ型液晶表示素子においては、大画面化、高輝度化、高精細化、高速応答化、薄型化などがますます進行する動向にあり、層間絶縁膜の形成に用いられる感放射線性樹脂組成物には放射線に対して高感度であることが求められ、また層間絶縁膜には耐熱性、光透過率等の高いことなどが要求される。
【０００３】
また、ファクシミリ、電子複写機、固体撮像素子等のオンチップカラーフィルターの結像光学系あるいは光ファイバコネクタの光学系材料として、３〜１００μｍ程度のレンズ径を有するマイクロレンズや、該マイクロレンズを所定の配列で配置したマイクロレンズアレイが使用されている。
マイクロレンズの形成には、レンズに対応するパターンを形成したのち、加熱してメルトフローさせ、そのままレンズとして利用する方法や、メルトフローさせたレンズパターンをマスクとするドライエッチングにより、下地にレンズ形状を転写させる方法等が採用されており、このレンズパターンの形成にも、感放射線性樹脂組成物が幅広く使用されている（例えば、特許文献３および特許文献４参照。）。
【０００４】
マイクロレンズが形成された素子はその後、配線形成部分であるボンディングパッド上の各種絶縁膜を除去するために、平坦化膜およびエッチングレジスト膜を形成して、所定のマスクを用いて露光し、現像することにより、ボンディングパッド部分のエッチングレジスト膜を除去し、続くエッチングにより平坦化膜や各種絶縁膜を除去してボンディングパッド部分を露出させる工程に供される。そのためマイクロレンズには、平坦化膜およびエッチングレジスト膜の塗膜形成工程およびエッチング工程において、耐溶剤性や耐熱性が必要となる。
そのためマイクロレンズの形成に用いられる感放射線性樹脂組成物には、放射線に対して高感度で、形成されるマイクロレンズが所望の曲率半径を有し高光透過率であるとともに、耐溶剤性や耐熱性が高いことなどが要求される。
【０００５】
また、従来の層間絶縁膜やマイクロレンズは、それらを形成する際の現像時間が最適時間よりわずかでも長くなると、それらと基板との間に現像液が浸透して剥がれが生じやすくなったり、それを回避するために現像時間を厳密に制御する必要があり、製品歩留りや作業性の点で問題があった。
【０００６】
このように、層間絶縁膜やマイクロレンズを感放射線性樹脂組成物から形成するに当たっては、用いられる感放射線性樹脂組成物が放射線に対して高感度であり、かつ層間絶縁膜やマイクロレンズの形成中に現像時間が所定時間より長くなった場合でも基板からの剥がれを生じないよう十分な現像マージンを有することが要求され、また形成される層間絶縁膜には高耐溶剤性、高耐熱性、高光透過率等が要求され、形成されるマイクロレンズには、良好なメルト形状（所望の曲率半径）を示し、高耐溶剤性、高耐熱性、高光透過率等を有することが要求されている。しかし、これらの要求を十分満足する感放射線性樹脂組成物は従来知られていなかった。
さらに、層間絶縁膜やマイクロレンズを形成する基板が大型化するに伴い、その塗布方法も、従来のスピン塗布からスリット塗布、スリットアンドスピン塗布等が主流になってきており、このような動向を反映して、大型基板に対しても良好な塗布性を示し、単なる膜厚均一性に止まらず、基板の端部と中心部との膜厚差を小さくできる材料の開発が強く望まれている。
【０００７】
一方、近年米国において、エチレングリコールエチルエーテルアセテート（ＥＣＡ）の労働作業環境下での濃度規制が行われたのを契機に、感放射線性樹脂組成物に用いる有機溶剤の安全性に対する関心が高まっている。そして、規制による使用禁止ないし当業界の自主規制の対象となっている主な有機溶剤としては、生体内で代謝されてメトキシ酢酸やエトキシ酢酸を生成するものが挙げられ、その代表例はエチレングリコール類、ジエチレングリコール類、トリエチレングリコール類等である。したがって、生体に対して安全な有機溶剤を採用しつつ、層間絶縁膜やマイクロレンズに関する前記諸要求を満たす感放射線性樹脂組成物の開発が急務となっている。
【０００８】
【特許文献１】特開２００１−３５４８２２号公報
【特許文献２】特開２００１−３４３７４３号公報
【特許文献３】特開平６−１８７０２号公報
【特許文献４】特開平６−１３６２３９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は以上のような事情に基づいてなされたものであって、その課題は、生体に対する安全性に問題がなく、しかも大型基板に対しても良好な塗布性を有し、放射線に対して高感度であり、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるように十分な現像マージンを有し、さらには高耐溶剤性、高耐熱性および高光透過率を有する層間絶縁膜を容易に形成でき、また高耐溶剤性、高耐熱性および高光透過率を有し、良好な断面形状と底部寸法を有するマイクロレンズを容易に形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
さらに、本発明の別の課題は、当該感放射線性樹脂組成物から形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズ、並びにこれらの形成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明によると、前記課題は、第一に、
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）感放射線性酸発生剤および（Ｃ）下記式（Ｉ）で表される化合物の群から選ばれる有機溶剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物、によって達成される。
【００１１】
【化１】
2005134440.tif 000002
【００１２】
〔式中、ｎは１または２であり、ｎ＝１のとき、（１）Ｒ1 はメチル基またはエチル基を示し、Ｒ2 は炭素数１〜４のアルキル基または−ＣＯ−Ｒ3 （但し、Ｒ3 は炭素数２〜４のアルキル基である。）を示すか、あるいは（２) Ｒ1 はメチルカルボニル基を示し、
Ｒ2 は炭素数３〜４のアルキル基または−ＣＯ−Ｒ4 （但し、Ｒ4 は炭素数１〜４のアルキル基である。）を示すか、あるいは（３）Ｒ1 は炭素数３〜４のアルキル基または
−ＣＯ−Ｒ3 （但し、Ｒ3 は炭素数２〜４のアルキル基である。）を示し、Ｒ2 は炭素数１〜４のアルキル基または−ＣＯ−Ｒ4 （但し、Ｒ4 は炭素数１〜４のアルキル基である。）を示し；
【００１３】
ｎ＝２のとき、Ｒ1 およびＲ2 は相互に独立に炭素数１〜４のアルキル基または
−ＣＯ−Ｒ4 （但し、Ｒ4 は炭素数１〜４のアルキル基である。）を示す。〕
【００１４】
本発明によると、前記課題は、第二に、
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を、前記式（Ｉ）で表される化合物を含む溶媒中における重合により製造し、得られた（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の溶液を（Ｂ）感放射線性酸発生剤と混合する工程を有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物の調製方法、によって達成される。
【００１５】
本発明によると、前記課題は、第三に、
前記感放射線性樹脂組成物からなる層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物、によって達成される。
【００１６】
本発明によると、前記課題は、第四に、
前記層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物から形成された層間絶縁膜、によって達成される。
【００１７】
本発明によると、前記課題は、第五に、
少なくとも下記（イ）〜（ニ）の工程を含むことを特徴とする層間絶縁膜の形成方法、によって達成される。
（イ）前記層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程。（ロ）該塗膜の少なくとも一部に放射線を露光する工程。
（ハ）露光後の塗膜を現像する工程。
（ニ）現像後の塗膜を加熱する工程。
【００１８】
本発明によると、前記課題は、第六に、
前記感放射線性樹脂組成物からなるマイクロレンズ形成用感放射線性樹脂組成物、によって達成される。
【００１９】
本発明によると、前記課題は、第七に、
前記マイクロレンズ形成用感放射線性樹脂組成物から形成されたマイクロレンズ、によって達成される。
【００２０】
本発明によると、前記課題は、第八に、
少なくとも下記（ホ）〜（チ）の工程を含むことを特徴とするマイクロレンズの形成方法、によって達成される。
（ホ）前記マイクロレンズ形成用感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程。
（ヘ）該塗膜の少なくとも一部に放射線を露光する工程。
（ト）露光後の塗膜を現像する工程。
（チ）現像後の塗膜を加熱する工程。
【００２１】
以下、本発明について詳細に説明する。
感放射線性樹脂組成物
−（Ａ）アルカリ可溶性樹脂−
本発明におけるアルカリ可溶性樹脂としては、アルカリ現像液に可溶で、アルカリ現像液により現像することにより、所定形状の層間絶縁膜およびマイクロレンズを容易に形成できる限り特に限定されるものではなく、付加重合系樹脂、重付加系樹脂、重縮合系樹脂等の何れでもよいが、本発明における好ましいアルカリ可溶性樹脂は、（ａ１）カルボキシル基、カルボン酸無水物基およびヒドロキシル基の群から選ばれる少なくとも１種の基を有するラジカル重合性モノマー（以下、「モノマー（ａ１）」という。）と（ａ２）エポキシ基を有するラジカル重合性モノマー（以下、「モノマー（ａ２）」という。）と（ａ３）他のラジカル重合性モノマー（以下、「モノマー（ａ３）」という。）との共重合体（以下、「共重合体（Ａ）」という。）である。
【００２２】
モノマー（ａ１）としては、例えば、カルボキシル基および／またはカルボン酸無水物基を有する化合物として、不飽和モノカルボン酸類、不飽和ジカルボン酸類、不飽和ジカルボン酸無水物類、多価カルボン酸のモノ〔（メタ）アクリロイロキシアルキル〕エステル類、両末端にカルボキシル基と水酸基とを有するポリマーのモノ（メタ）アクリル酸エステル類、カルボキシル基を有する不飽和多環式化合物、カルボン酸無水物基を有する不飽和多環式化合物等を挙げることができ、またヒドロキシル基を有する化合物として、ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレート類、ヒドロキシル基を有する不飽和多環式化合物等を挙げることができる。
【００２３】
モノマー（ａ１）のうち、不飽和モノカルボン酸類の具体例としては、（メタ）アクリル酸、クロトン酸等；不飽和ジカルボン酸類の具体例としては、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等；不飽和ジカルボン酸無水物類の具体例としては、前記不飽和ジカルボン酸類の無水物等；多価カルボン酸のモノ〔（メタ）アクリロイロキシアルキル〕エステル類の具体例としては、コハク酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕、フタル酸モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕等；両末端にカルボキシル基とヒドロキシル基を有するポリマーのモノ（メタ）アクリル酸エステル類の具体例としては、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等；カルボキシル基を有する不飽和多環式化合物の具体例としては、５−カルボキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５，６−ジカルボキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−メチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−５−エチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−メチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−カルボキシ−６−エチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン等；カルボン酸無水物基を有する不飽和多環式化合物の具体例としては、５，６−ジカルボキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン無水物等をそれぞれ挙げることができる。
【００２４】
また、ヒドロキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステル類の具体例としては、（メタ）アクリル酸ヒドロキシメチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、モノ〔２−（メタ）アクリロイロキシエチル〕グリコサイド、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシフェニル等；ヒドロキシル基を有する不飽和多環式化合物の具体例としては、５−ヒドロキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５，６−ジヒドロキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−エチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−６−メチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−６−エチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−（２−ヒドロキシエチル）ビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ヒドロキシメチル）ビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５，６−ジ（２−ヒドロキシエチル）ビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチル−５−メチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン等をそれぞれ挙げることができる。
【００２５】
これらのモノマー（ａ１）のうち、モノカルボン酸類、ジカルボン酸無水物類等が好ましく、特に、（メタ）アクリル酸、無水マレイン酸等が共重合反応性、アルカリ現像液に対する溶解性および入手が容易である点から好ましい。
前記モノマー（ａ１）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００２６】
モノマー（ａ２）としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、スチレン類、不飽和エーテル類等を挙げることができる。
モノマー（ａ２）のうち、（メタ）アクリル酸エステル類の具体例としては、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシブチル、（メタ）アクリル酸６，７−エポキシヘプチル、（メタ）アクリル酸２，３−エポキシシクロペンチル、（メタ）アクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸６，７−エポキシヘプチル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル等；スチレン類の具体例としては、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル等；不飽和エーテル類の具体例としては、ビニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル等をそれぞれ挙げることができる。
【００２７】
これらのモノマー（ａ２）のうち、（メタ）アクリル酸エステル類、スチレン類が好ましく、特に、メタクリル酸グリシジル、メタクリル酸６，７−エポキシヘプチル、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル等が、共重合反応性や、得られる層間絶縁膜およびマイクロレンズの耐熱性および表面硬度を高める点から好ましい。
前記モノマー（ａ２）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００２８】
モノマー（ａ３）としては、例えば、（メタ）アクリル酸エステル類、不飽和ジカルボン酸ジエステル類、不飽和多環式化合物、マレイミド化合物、スチレン類、共役ジエン類等を挙げることができる。
【００２９】
モノマー（ａ３）のうち、（メタ）アクリル酸エステル類の具体例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ｉ−デシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ｎ−トリデシル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−メチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカン−８−イル、（メタ）アクリル酸２−（トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカン−８−イルオキシ）エチル、（メタ）アクリル酸イソボロニル等；ジカルボン酸ジエステル類の具体例としては、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジエチル等；
【００３０】
不飽和多環式化合物の具体例としては、ビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−メチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−エチルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−メトキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−エトキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５，６−ジメトキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５，６−ジエトキシビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−ｔ−ブトキシカルボニルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−シクロヘキシルオキシカルボニルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５−フェノキシカルボニルビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５，６−ジ（ｔ−ブトキシカルボニル）ビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、５，６−ジ（シクロヘキシルオキシカルボニル）ビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン等；
【００３１】
マレイミド化合物の具体例としては、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−ベンジルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マレイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マレイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マレイミド等；
スチレン類の具体例としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシスチレン等；
共役ジエン類の具体例としては、１，３−ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン等
をそれぞれ挙げることができる。
さらに、前記以外のモノマー（ａ３）の具体例としては、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）アクリルアミド、、塩化ビニル、塩化ビニリデン、酢酸ビニル等を挙げることができる。
【００３２】
これらのモノマー（ａ３）のうち、メタクリル酸エステル類、不飽和多環式化合物、スチレン類、共役ジエン類等が好ましく、特に、メタクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸２−メチルシクロヘキシル、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカン−８−イル、ビシクロ [２．２．１] ヘプト−２−エン、スチレン、ｐ−メトキシスチレン、１，３−ブタジエン等が共重合反応性およびアルカリ現像液に対する溶解性の点から好ましい。
前記モノマー（ａ３）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００３３】
共重合体（Ａ）において、モノマー（ａ１）に由来する繰り返し単位の含有率は、全繰り返し単位に対して、好ましくは５〜４０重量％、特に好ましくは１０〜３０重量％である。該繰り返し単位の含有率が５重量％未満であると、得られる共重合体が現像時にアルカリ現像液に溶解し難くなる傾向があり、一方４０重量％を超えると、得られる共重合体のアルカリ現像液に対する溶解性が大きくなり過ぎる傾向がある。
【００３４】
また、モノマー（ａ２）に由来する繰り返し単位の含有率は、全繰り返し単位に対して、好ましくは１０〜７０重量％、特に好ましくは２０〜６０重量％である。該繰り返し単位の含有率が１０重量％未満であると、得られる層間絶縁膜やマイクロレンズの耐熱性や表面硬度が低下する傾向があり、一方７０重量％を超えると、組成物の保存安定性が低下する傾向がある。
【００３５】
また、モノマー（ａ３）に由来する繰り返し単位の含有率は、全繰り返し単位に対して、好ましくは１０〜７０重量％、特に好ましくは１５〜５０重量％である。該繰り返し単位の含有率が１０重量％未満であると、組成物の保存安定性が低下する傾向があり、一方７０重量％を超えると、得られる共重合体が現像時にアルカリ現像液に溶解し難くなる傾向がある。
【００３６】
共重合体（Ａ）の好ましい具体例としては、
メタクリル酸／メタクリル酸３，４−エポキシシクロへキシル／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカン−８−イル／スチレン共重合体、
メタクリル酸／アクリル酸３，４−エポキシシクロへキシル／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカン−８−イル／Ｎ−シクロへキシルマレイミド／スチレン共重合体、
メタクリル酸／メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシル／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカン−８−イル／Ｎ−シクロへキシルマレイミド／スチレン共重合体、
メタクリル酸／メタクリル酸３，４−エポキシシクロへキシル／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカン−８−イル／メタクリル酸２−ヒドロキシエチル／スチレン共重合体、
メタクリル酸／メタクリル酸３，４−エポキシシクロへキシル／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカン−８−イル／メタクリル酸ラウリル／スチレン共重合体、メタクリル酸／メタクリル酸３，４−エポキシシクロへキシル／ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル／メタクリル酸ラウリル／メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカン−８−イル／スチレン共重合体
等を挙げることができる。
【００３７】
共重合体（Ａ）のポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、通常、２，０００〜１００，０００、好ましくは５，０００〜５０，０００である。共重合体（Ａ）のＭｗが２，０００未満であると、現像マージンが不十分となったり、現像時に塗膜の残膜率が低下したり、また得られる層間絶縁膜やマイクロレンズのパターン形状や耐熱性等が損なわれたりするおそれがあり、一方１００，０００を超えると、感度が低下したり、パターン形状が損なわれたりするおそれがある。前記のようなＭｗを有する共重合体（Ａ）を用いることにより、現像時に現像残りを生じることなく、容易に所定形状のパターンを形成することができる。
本発明において、共重合体（Ａ）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００３８】
共重合体（Ａ）は、モノマー（ａ１）、モノマー（ａ２）およびモノマー（ａ３）を、溶媒中、重合開始剤の存在下で、ラジカル重合することによって製造することができる。  共重合体（Ａ）を製造する際に用いられる溶媒としては、例えば、後述する有機溶剤（Ｉ）と同様のもののほか、アルコール類、エチレングリコールアルキルエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールアルキルエーテル類、プロピレングリコールモノアルキルエーテル類、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類（但し、アルキル基の炭素数は１または２である。）、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類、他のエーテル類、芳香族炭化水素類、ケトン類、他のエステル類等を挙げることができる。
【００３９】
これらの溶媒のうち、有機溶剤（Ｉ）以外の溶媒の具体例としては、
アルコール類として、メタノール、エタノール等；
エチレングリコールアルキルエーテル類として、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等；
エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類として、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート等；ジエチレングリコールアルキルエーテル類として、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル等；
プロピレングリコールモノアルキルエーテル類として、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等；
【００４０】
プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類（但し、アルキル基の炭素数は１または２である。）として、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート等；
ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル類として、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル等；
【００４１】
他のエーテル類として、テトラヒドロフラン、ジオキサン等；
芳香族炭化水素類として、トルエン、キシレン等；
ケトン類として、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等；
【００４２】
他のエステル類として、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ｎ−プロピル、ヒドロキシ酢酸ｎ−ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ｎ−プロピル、メトキシ酢酸ｎ−ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸ｎ−プロピル、エトキシ酢酸ｎ−ブチル、ｎ−プロポキシ酢酸メチル、ｎ−プロポキシ酢酸エチル、ｎ−プロポキシ酢酸ｎ−プロピル、ｎ−プロポキシ酢酸ｎ−ブチル、ｎ−ブトキシ酢酸メチル、ｎ−ブトキシ酢酸エチル、ｎ−ブトキシ酢酸ｎ−プロピル、ｎ−ブトキシ酢酸ｎ−ブチル、
【００４３】
乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−プロピル、乳酸ｎ−ブチル、３−ヒドロキシプロピオン酸メチル、３−ヒドロキシプロピオン酸エチル、３−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−メトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−エトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−ｎ−ブトキシプロピオン酸メチル、２−ｎ−ブトキシプロピオン酸エチル、２−ｎ−ブトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−ｎ−ブトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−メトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−エトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、３−ｎ−プロポキシプロピオン酸メチル、３−ｎ−プロポキシプロピオン酸エチル、３−プロポキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−プロポキシプロピオン酸ｎ−ブチル、３−ｎ−ブトキシプロピオン酸メチル、３−ｎ−ブトキシプロピオン酸エチル、３−ｎ−ブトキシプロピオン酸ｎ−プロピル、３−ｎ−ブトキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチル酪酸メチル等
をそれぞれ挙げることができる。
【００４４】
これらの溶媒のうち、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールエーテルアセテート類、ジプロピレングリコールジエーテル類、ジプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類等の有機溶剤（Ｉ）や、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、ジエチレングリコールアルキルエーテル類、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類等が好ましく、特に、プロピレングリコールジアルキルエーテル類、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類（但し、アルキル基の炭素数は３または４である。）、プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類（但し、アルキル基の炭素数は１または２である。）等が好ましい。
前記溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００４５】
本発明においては、共重合体（Ａ）を後述する有機溶剤（１）を含む溶媒中における重合により製造し、得られた共重合体（Ａ）の溶液をそのまま感放射線性樹脂組成物の調製に供することが好ましい。また、共重合体（Ａ）を製造する際に有機溶剤（１）以外の溶媒を用いた場合は、重合後に、共重合体（Ａ）を貧溶剤で析出させたのち、有機溶剤（１）に再溶解させて感放射線性樹脂組成物の調製に供する方法；重合後に、有機溶剤（１）で溶剤置換して感放射線性樹脂組成物の調製に供する方法等を採用することができる。
【００４６】
共重合体（Ａ）の製造に用いられる重合開始剤としては、一般にラジカル重合開始剤として知られているものが使用できる。
前記ラジカル重合開始剤としては、例えば、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス−（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス−（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物；ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルペルオキシピバレート、１，１’−ビス−（ｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン等の有機過酸化物；過酸化水素等を挙げることができ、またこれらの過酸化物を還元剤と組み合わせてレドックス型開始剤として用いてもよい。
これらのラジカル重合開始剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００４７】
共重合体（Ａ）の製造する重合に際しては、分子量を調整するために分子量調整剤を使用することができる。
前記分子量調整剤としては、例えば、クロロホルム、四臭化炭素等のハロゲン化炭化水素類；ｎ−ヘキシルメルカプタン、ｎ−オクチルメルカプタン、ｎ−ドデシルメルカプタン、ｔ−ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸等のメルカプタン類；ジメチルキサントゲンスルフィド、ジ−ｉ−プロピルキサントゲンジスルフィド等のキサントゲン類や、ターピノーレン、α−メチルスチレンダイマー等を挙げることができる。
これらの分子量調整剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００４８】
−（Ｂ）感放射線性酸発生剤−
本発明における感放射線性酸発生剤は、放射線の露光により酸を発生する成分（以下、「（Ｂ）酸発生剤」という。）からなる。
（Ｂ）酸発生剤としては、前記特性を有する限り特に限定されるものではないが、本発明における好ましい（Ｂ）酸発生剤は、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルを含むものである。
前記１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルとしては、例えば、フェノール性化合物またはアルコール性化合物（以下、これらの化合物をまとめて「フェノール性化合物等」という。）と、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合物を挙げることができ、該１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとしては、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロリドが好ましい。
【００４９】
フェノール性化合物等としては、例えば、トリヒドロキシベンゾフェノン類、テトラヒドロキシベンゾフェノン類、ペンタヒドロキシベンゾフェノン類、ヘキサヒドロキシベンゾフェノン類、ポリ（ヒドロキシフェニル）アルカン類等を挙げることができる。
これらの化合物の具体例としては、
トリヒドロキシベンゾフェノン類として、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン等；
テトラヒドロキシベンゾフェノン類として、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，３’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’−テトラヒドロキシ−４’−メチルベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシ−３’−メトキシベンゾフェノン等；
【００５０】
ペンタヒドロキシベンゾフェノン類として、２，３，４，２’，６’−ペンタヒドロキシベンゾフェノン等；
ヘキサヒドロキシベンゾフェノン類として、２，４，６，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、３，４，５，３’，４’，５’−ヘキサヒドロキシベンゾフェノン等；
ポリ（ヒドロキシフェニル）アルカン類として、２−メチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４−（４−ヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマン、２−〔ビス｛（５−ｉ−プロピル−４−ヒドロキシ−２−メチル）フェニル｝メチル〕フェノール、１− [１−〔３−｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−４，６−ジヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル] −３− [１−〔３−｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝−４，６−ジヒドロキシフェニル〕−１−メチルエチル] ベンゼン、４，６−ビス〔１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル〕−１，３−ジヒドロキシベンゼンビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、トリ（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，１−トリ（４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン、４、４’− [１−〔４−｛１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル｝フェニル〕エチリデン] ビスフェノール、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール、２，２，４−トリメチル−７，
２’，４’−トリヒドロキシフラバン等
をそれぞれ挙げることができる。
【００５１】
フェノール性化合物等と１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合反応は、無溶媒下または溶媒中、触媒の存在下で実施される。
前記溶媒としては、例えば、ケトン類、環状エーテル類等、より具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソブチルケトン、１，４−ジオキサン、１，３，５−トリオキサン等を挙げることができる。
溶媒を使用する場合、その使用量は、フェノール化合物等と１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの合計１００重量部に対して、好ましくは１００〜５００重量部である。
また、前記触媒としては、塩基性化合物を使用することができる。
前記塩基性化合物としては、例えば、トリエチルアミン、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラメチルアンモニウムブロミド、ピリジン等が好ましい。  触媒の使用量は、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライド１モルに対して、好ましくは１モル以上、さらに好ましくは１．０５〜１．２モルである。
【００５２】
フェノール性化合物等と１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸ハライドとの縮合反応の条件は、反応温度が、好ましくは０〜５０℃、さらに好ましくは０〜４０℃、特に好ましくは１０〜３５℃であり、反応時間が、好ましくは０．５〜１０時間、さらに好ましくは１〜５時間、特に好ましくは１〜３時間である。  縮合反応後、不溶分をろ別したのち、ろ液を大量の０．１〜３．０重量％希塩酸水溶液中に投入して、反応生成物を析出させる。その後、析出物をろ過して、ろ液が中性になるまで水洗したのち、乾燥することにより、１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルを得ることができる。
【００５３】
本発明において、（Ｂ）酸発生剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
（Ｂ）酸発生剤の使用量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、好ましくは５〜１００重量部、さらに好ましくは１０〜５０重量部である。（Ｂ）酸発生剤の使用量が５重量部未満であると、アルカリ現像液に対する露光部分と未露光部分との溶解度の差が小さくなり、パターン形成が困難となったり、得られる層間絶縁膜やマイクロレンズの耐熱性や耐溶剤性が低下するおそれがあり、一方１００重量部を超えると、露光部分のアルカリ現像液への溶解度が低くなり、現像が困難となるおそれがある。
【００５４】
−他の添加剤−
本発明の感放射線性樹脂組成物は、前記（Ａ）アルカリ可溶性樹脂および（Ｂ）酸発生剤を後述する（Ｃ）有機溶剤中に溶解した組成物からなるが、必要に応じて、感熱性酸発生剤、少なくとも１個の重合性不飽和結合を有する重合性化合物（以下、単に「重合性化合物」という。）、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂以外のエポキシ樹脂（以下、「他のエポキシ樹脂」という。）、界面活性剤、密着助剤等の他の添加剤をさらに含有することができる。
【００５５】
前記感熱性酸発生剤は、加熱により酸を発生する成分であり、層間絶縁膜およびマイクロレンズの耐熱性や硬度をさらに向上させる作用を有する成分である。  感熱性酸発生剤としては、例えば、スルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩等のオニウム塩を挙げることができ、好ましくはスルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩である。
【００５６】
前記スルホニウム塩としては、例えば、アルキルスルホニウム塩、ベンジルスルホニウム塩、ジベンジルスルホニウム塩、置換ベンジルスルホニウム塩等を挙げることができ、より具体的には、例えば、
アルキルスルホニウム塩として、４−アセトフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−４−（ベンジルオキシカルボニルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−３−クロロ−４−アセトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等；
【００５７】
ベンジルスルホニウム塩として、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ベンジル−４−アセトキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート等；
【００５８】
ジベンジルスルホニウム塩として、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジベンジル−４−アセトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−メトキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ジベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等；
【００５９】
置換ベンジルスルホニウム塩として、４−メトキシベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−ニトロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−クロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、４−ニトロベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、３，５−ジクロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、２−クロロベンジル−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等
をそれぞれ挙げることができる。
【００６０】
前記ベンゾチアゾニウム塩の具体例としては、３−ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロホスフェート、３−ベンジルベンゾチアゾニウムテトラフルオロボレート、３−（４−メトキシベンジル）ベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−２−メチルチオベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−５−クロロベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアンチモネート等のベンジルベンゾチアゾニウム塩を挙げることができる。
【００６１】
これらの感熱性酸発生剤のうち、特に、４−アセトキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアルセネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル−４−アセトキシフェニルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジルベンゾチアゾリウムヘキサフルオロアンチモネート等が好ましい。
また、これらの好ましい感熱性酸発生剤の市販品としては、例えば、サンエイドＳＩ−Ｌ８５、同−Ｌ１１０、同−Ｌ１４５、同−Ｌ１５０、同−Ｌ１６０（以上、三新化学工業（株）製）等を挙げることができる。
【００６２】
前記感熱性酸発生剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
感熱性酸発生剤の使用量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、好ましくは２０重量部以下、さらに好ましくは５重量部以下である。感熱性酸発生剤の使用量が２０重量部を超えると、塗膜形成工程において析出物が析出しやすくなり、塗膜形成に支障をきたすおそれがある。
【００６３】
重合性化合物としては、例えば、単官能（メタ）アクリル酸エステル類、２官能（メタ）アクリル酸エステル類、３官能以上の（メタ）アクリル酸エステル類等が好ましい。
前記単官能（メタ）アクリル酸エステル類としては、例えば、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、カルビトール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸イソボロニル、（メタ）アクリル酸３−メトキシブチル、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート等を挙げることができる。
また、これらの単官能（メタ）アクリル酸エステル類の市販品としては、例えば、アロニックスＭ−１０１、同−１１１、同−１１４（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＣ−１１０Ｓ、同−１２０Ｓ（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート１５８、同２３１１（以上、大阪有機化学工業（株）製）等を挙げることができる。
【００６４】
前記２官能（メタ）アクリル酸エステル類としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノキシエタノールフルオレンジ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
また、これらの２官能（メタ）アクリル酸エステル類の市販品としては、例えば、アロニックスＭ−２１０、同−２４０、同−６２００（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＨＤＤＡ、同  ＨＸ−２２０、同  Ｒ−６０４（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート２６０、同３１２、同３３５ＨＰ（以上、大阪有機化学工業（株）製）等を挙げることができる。
【００６５】
前記３官能以上の（メタ）アクリル酸エステル類としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリ（（メタ）アクリロイロキシエチル）フォスフェート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
また、これらの３官能以上の（メタ）アクリル酸エステル類の市販品としては、例えば、アロニックスＭ−３０９、同−４００、同−４０５、同−４５０、同−７１００、同−８０３０、同−８０６０（以上、東亞合成（株）製）、ＫＡＹＡＲＡＤ  ＴＭＰＴＡ、同  ＤＰＨＡ、同  ＤＰＣＡ−２０、同  ＤＰＣＡ−３０、同  ＤＰＣＡ−６０、同  ＤＰＣＡ−１２０（以上、日本化薬（株）製）、ビスコート２９５、同３００、同３６０、同４００、同ＧＰＴ、同３ＰＡ（以上、大阪有機化学工業（株）製）等を挙げることができる。
【００６６】
これらの重合性化合物のうち、３官能以上の（メタ）アクリル酸エステル類が好ましく、特に好ましくはトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等である。
前記重合性化合物は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
重合性化合物の使用量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、好ましくは５０重量部以下、さらに好ましくは３０重量部以下である。重合性化合物の使用量が５０重量部を超えると、塗膜に膜荒れが生じるおそれがある。
本発明の感放射線性樹脂組成物が重合性化合物を含有することにより、得られる層間絶縁膜およびマイクロレンズの耐熱性、表面硬度等をさらに向上させることができる。
【００６７】
他のエポキシ樹脂としては、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂と相溶しうる限り特に限定されるものではないが、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、環状脂肪族エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂、（メタ）アクリル酸グリシジルの共重合体等が好ましく、さらに好ましくはビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂等である。
【００６８】
他のエポキシ樹脂の使用量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、好ましくは３０重量部以下である。他のエポキシ樹脂の使用量が３０重量部を超えると、塗膜の膜厚均一性が不十分となるおそれがある。
本発明の感放射線性樹脂組成物が他のエポキシ樹脂を含有することにより、得られる層間絶縁膜およびマイクロレンズの耐熱性、表面硬度等をさらに向上させることができる。  
【００６９】
前記界面活性剤は、塗布性を向上させる作用を有する成分である。
界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤等が好ましい。
前記フッ素系界面活性剤としては、例えば、１，１，２，２−テトラフロロ−ｎ−オクチル（１，１，２，２−テトラフロロプロピル）エーテル、１，１，２，２−テトラフロロ−ｎ−オクチルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフロロ−ｎ−ブチル）エーテル、ヘキサエチレングリコール（１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロ−ｎ−ペンチル）エーテル、オクタプロピレングリコールジ（１，１，２，２−テトラフロロ−ｎ−ブチル）エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ（１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロ−ｎ−ペンチル）エーテル、パーフロロ−ｎ−ドデシルスルホン酸ナトリウム、１，１，２，２，８，８，９，９，１０，１０−デカフロロ−ｎ−ドデカン、１，１，２，２，３，３−ヘキサフロロ−ｎ−デカンのほか、フロロアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム類；フロロアルキルオキシエチレンエーテル類；フロロアルキルアンモニウムヨージド類、フロロアルキルポリオキシエチレンエーテル類、パーフロロアルキルポリオキシエタノール類；パーフロロアルキルアルコキシレート類；フッ素化アルキルエステル類等を挙げることができる。
【００７０】
また、これらのフッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、ＢＭ−１０００、同−１１００（以上、ＢＭ  Ｃｈｅｍｉｅ社製）、メガファックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１７８、同Ｆ１８３、同Ｆ１９１、同Ｆ４７１（以上、大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ−１７０Ｃ、同−１７１、同−４３０、同−４３１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロンＳ−１１２、同−１１３、同−１３１、同−１４１、同−１４５、同−３８２、サーフロンＳＣ−１０１、同−１０２、同−１０３、同−１０４、同−１０５、同−１０６（以上、旭硝子（株）製）、エフトップＥＦ３０１、同３０３、同３５２（以上、新秋田化成（株）製）、ＳＨ−２８ＰＡ、同−１９０、同−１９３、ＳＺ−６０３２、ＳＦ−８４２８、ＤＣ−５７、同−１９０（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）等を挙げることができる。
【００７１】
前記シリコン系界面活性剤としては、市販品で、例えば、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＤＣ７ＰＡ、同ＳＨ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＦＳ−１２６５−３００（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン（株）製）、ＴＳＦ−４３００、同−４４４０、同−４４４５、同−４４４６、同−４４５２、同−４４６０（以上、ＧＥ東芝シリコン（株）製）等を挙げることができる。
【００７２】
前記ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル類；ポリオキシエチレン−ｎ−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレン−ｎ−ノニルフェニルエーテル等のポリオキシエチレンアリールエーテル類；ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレート等のポリオキシエチレンジアルキルエステル類；（メタ）アクリル酸系共重合体ポリフローＮｏ. ５７、同Ｎｏ. ９５（共栄社化学（株）製）等を挙げることができる。
【００７３】
これらの界面活性剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
界面活性剤の使用量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、好ましくは５重量部以下、さらに好ましくは２重量部以下である。界面活性剤の使用量が５重量部を超えると、塗膜に膜荒れが生じやすくなる傾向がある。
【００７４】
前記接着助剤は、基体との接着性をさらに向上させる作用を有する成分である。
接着助剤としては、例えば、カルボキシル基、メタクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、エポキシ基等の反応性官能基を有する官能性シランカップリング剤が好ましい。
前記官能性シランカップリング剤としては、例えば、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロイロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
接着助剤の使用量は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂１００重量部に対して、好ましくは２０重量部以下、さらに好ましくは１０重量部以下である。接着助剤の使用量が２０重量部を超えると、現像時に現像残りが生じやすくなる傾向がある。
【００７５】
−（Ｃ）有機溶剤−
本発明における有機溶剤は、前記式（Ｉ）で表される化合物（以下、「有機溶剤（Ｉ）」という。）を含むものである。
以下では、有機溶剤（Ｉ）のうち、ｎ＝１のとき、（１）Ｒ1 がメチル基またはエチル基を示し、Ｒ2 が炭素数１〜４のアルキル基または−ＣＯ−Ｒ3 （但し、Ｒ3 は炭素数２〜４のアルキル基である。）を示すものを「有機溶剤（Ｉ−１）」といい、（２) Ｒ1 がメチルカルボニル基を示し、Ｒ2 が炭素数３〜４のアルキル基または−ＣＯ−Ｒ4 （但し、Ｒ4 は炭素数１〜４のアルキル基である。）を示すものを「有機溶剤（１−２）」といい、（３）Ｒ1 が炭素数３〜４のアルキル基または−ＣＯ−Ｒ3 （但し、Ｒ3 は炭素数２〜４のアルキル基である。）を示し、Ｒ2 が炭素数１〜４のアルキル基または−ＣＯ−Ｒ4 （但し、Ｒ4 は炭素数１〜４のアルキル基である。）を示すものを「有機溶剤（Ｉ−３）」といい、ｎ＝２のものを「有機溶剤（１−４）」という。
【００７６】
有機溶剤（Ｉ−１）としては、例えば、
プロピレングリコールジアルキルエーテル類として、１，２−ジメトキシプロパン、１−メトキシ−２−エトキシプロパン、１−メトキシ−２−ｎ−プロポキシプロパン、１−メトキシ−２−ｉ−プロポキシプロパン、１−メトキシ−２−ｎ−ブトキシプロパン、１−メトキシ−２−ｉ−ブトキシプロパン、１−メトキシ−２−ｔ−ブトキシプロパン、
１−エトキシ−２−メトキシプロパン、１，２−ジエトキシプロパン、１−エトキシ−２−ｎ−プロポキシプロパン、１−エトキシ−２−ｉ−プロポキシプロパン、１−エトキシ−２−ｎ−ブトキシプロパン、１−エトキシ−２−ｉ−ブトキシプロパン、１−エトキシ−２−ｔ−ブトキシプロパン等；
【００７７】
プロピレングリコールアルキルエーテルエステル類として、プロピオン酸１−メチル−２−メトキシエチル、プロピオン酸１−メチル−２−エトキシエチル、酪酸１−メチル−２−メトキシエチル、酪酸１−メチル−２−エトキシエチル、イソ酪酸１−メチル−２−メトキシエチル、イソ酪酸１−メチル−２−エトキシエチル、吉草酸１−メチル−２−メトキシエチル、吉草酸１−メチル−２−エトキシエチル、３−メチル酪酸１−メチル−２−メトキシエチル、３−メチル酪酸１−メチル−２−エトキシエチル、２，２−ジメチルプロピオン酸１−メチル−２−メトキシエチル、２，２−ジメチルプロピオン酸１−メチル−２−エトキシエチル等
をそれぞれ挙げることができる。
【００７８】
有機溶剤（Ｉ−２）としては、例えば、
プロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類として、酢酸２−ｎ−プロポキシプロピル、酢酸２−ｉ−プロポキシプロピル、酢酸２−ｎ−ブトキシプロピル、酢酸２−ｉ−ブトキシプロピル、酢酸２−ｔ−ブトキシプロピル等；
【００７９】
プロピレングリコールジエステル類として、酢酸２−メチルカルボニルオキシプロピル、酢酸２−エチルカルボニルオキシプロピル、酢酸２−ｎ−プロピルカルボニルオキシプロピル、酢酸２−ｉ−プロピルカルボニルオキシプロピル、酢酸２−ｎ−ブチルカルボニルオキシプロピル、酢酸２−ｉ−ブチルカルボニルオキシプロピル、酢酸２−ｔ−ブチルカルボニルオキシプロピル等
をそれぞれ挙げることができる。
【００８０】
有機溶剤（Ｉ−３）としては、例えば、
プロピレングリコールジアルキルエーテル類として、１−ｎ−プロポキシ−２−メトキシプロパン、１−ｎ−プロポキシ−２−エトキシプロパン、１，２−ジ−ｎ−プロポキシプロパン、１−ｎ−プロポキシ−２−ｉ−プロポキシプロパン、１−ｎ−プロポキシ−２−ｎ−ブトキシプロパン、１−ｎ−プロポキシ−２−ｉ−ブトキシプロパン、１−ｎ−プロポキシ−２−ｔ−ブトキシプロパン、
１−ｉ−プロポキシ−２−メトキシプロパン、１−ｉ−プロポキシ−２−エトキシプロパン、１−ｉ−プロポキシ−２−ｎ−プロポキシプロパン、１，２−ジ−ｉ−プロポキシプロパン、１−ｉ−プロポキシ−２−ｎ−ブトキシプロパン、１−ｉ−プロポキシ−２−ｉ−ブトキシプロパン、１−ｉ−プロポキシ−２−ｔ−ブトキシプロパン、
【００８１】
１−ｎ−ブトキシ−２−メトキシプロパン、１−ｎ−ブトキシ−２−エトキシプロパン、１−ｎ−ブトキシ−２−ｎ−プロポキシプロパン、１−ｎ−ブトキシ−２−ｉ−プロポキシプロパン、１，２−ジ−ｎ−ブトキシプロパン、１−ｎ−ブトキシ−２−ｉ−ブトキシプロパン、１−ｎ−ブトキシ−２−ｔ−ブトキシプロパン、
１−ｉ−ブトキシ−２−メトキシプロパン、１−ｉ−ブトキシ−２−エトキシプロパン、１−ｉ−ブトキシ−２−ｎ−プロポキシプロパン、１−ｉ−ブトキシ−２−ｉ−プロポキシプロパン、１−ｉ−ブトキシ−２−ｎ−ブトキシプロパン、１，２−ジ−ｉ−ブトキシプロパン、１−ｉ−ブトキシ−２−ｔ−ブトキシプロパン、
１−ｔ−ブトキシ−２−メトキシプロパン、１−ｔ−ブトキシ−２−エトキシプロパン、１−ｔ−ブトキシ−２−ｎ−プロポキシプロパン、１−ｔ−ブトキシ−２−ｉ−プロポキシプロパン、１−ｔ−ブトキシ−２−ｎ−ブトキシプロパン、１−ｔ−ブトキシ−２−ｉ−ブトキシプロパン、１，２−ジ−ｔ−ブトキシプロパン等；
【００８２】
プロピレングリコールアルキルエーテルエステル類として、
酢酸１−メチル−２−ｎ−プロポキシエチル、酢酸１−メチル−２−ｉ−プロポキシエチル、酢酸１−メチル−２−ｎ−ブトキシエチル、酢酸１−メチル−２−ｉ−ブトキシエチル、酢酸１−メチル−２−ｔ−ブトキシエチル、
プロピオン酸２−メトキシプロピル、プロピオン酸２−エトキシプロピル、プロピオン酸２−ｎ−プロポキシプロピル、プロピオン酸２−ｉ−プロポキシプロピル、プロピオン酸２−ｎ−ブトキシプロピル、プロピオン酸２−ｉ−ブトキシプロピル、プロピオン酸２−ｔ−ブトキシプロピル、
プロピオン酸１−メチル−２−ｎ−プロポキシエチル、プロピオン酸２−ｉ−プロポキシ−１−メチルエチル、プロピオン酸２−ｎ−ブトキシ−１−メチルエチル、プロピオン酸２−ｉ−ブトキシ−１−メチルエチル、プロピオン酸２−ｔ−ブトキシ−１−メチルエチル、
【００８３】
酪酸２−メトキシプロピル、酪酸２−エトキシプロピル、酪酸２−ｎ−プロポキシプロピル、酪酸２−ｉ−プロポキシプロピル、酪酸２−ｎ−ブトキシプロピル、酪酸２−ｉ−ブトキシプロピル、酪酸２−ｔ−ブトキシプロピル、
酪酸１−メチル−２−ｎ−プロポキシエチル、酪酸１−メチル−２−ｉ−プロポキシエチル、酪酸１−メチル−２−ｎ−ブトキシエチル、酪酸１−メチル−２−ｉ−ブトキシエチル、酪酸１−メチル−２−ｔ−ブトキシエチル、
【００８４】
イソ酪酸２−メトキシプロピル、イソ酪酸２−エトキシプロピル、イソ酪酸２−ｎ−プロポキシプロピル、イソ酪酸２−ｉ−プロポキシプロピル、イソ酪酸２−ｎ−ブトキシプロピル、イソ酪酸２−ｉ−ブトキシプロピル、イソ酪酸２−ｔ−ブトキシプロピル、
イソ酪酸１−メチル−２−ｎ−プロポキシエチル、イソ酪酸１−メチル−２−ｉ−プロポキシエチル、イソ酪酸１−メチル−２−ｎ−ブトキシエチル、イソ酪酸１−メチル−２−ｉ−ブトキシエチル、イソ酪酸１−メチル−２−ｔ−ブトキシエチル、
【００８５】
吉草酸２−メトキシプロピル、吉草酸２−エトキシプロピル、吉草酸２−ｎ−プロポキシプロピル、吉草酸２−ｉ−プロポキシプロピル、吉草酸２−ｎ−ブトキシプロピル、吉草酸２−ｉ−ブトキシプロピル、吉草酸２−ｔ−ブトキシプロピル、
吉草酸１−メチル−２−ｎ−プロポキシエチル、吉草酸１−メチル−２−ｉ−プロポキシエチル、吉草酸１−メチル−２−ｎ−ブトキシエチル、吉草酸１−メチル−２−ｉ−ブトキシエチル、吉草酸１−メチル−２−ｔ−ブトキシエチル、
【００８６】
３−メチル酪酸２−メトキシプロピル、３−メチル酪酸２−エトキシプロピル、３−メチル酪酸２−ｎ−プロポキシプロポキシ、３−メチル酪酸２−ｉ−プロポキシプロピル、３−メチル酪酸２−ｎ−ブトキシプロピル、３−メチル酪酸２−ｉ−ブトキシプロピル、３−メチル酪酸２−ｔ−ブトキシプロピル、
３−メチル酪酸１−メチル−２−ｎ−プロポキシエチル、３−メチル酪酸１−メチル−２−ｉ−プロポキシエチル、３−メチル酪酸１−メチル−２−ｎ−ブトキシエチル、３−メチル酪酸１−メチル−２−ｉ−ブトキシエチル、３−メチル酪酸１−メチル−２−ｔ−ブトキシエチル、
【００８７】
２，２−ジメチルプロピオン酸２−メトキシプロピル、２，２−ジメチルプロピオン酸２−エトキシプロピル、２，２−ジメチルプロピオン酸２−ｎ−プロポキシプロピル、２，２−ジメチルプロピオン酸２−ｉ−プロポキシプロピル、２，２−ジメチルプロピオン酸２−ｎ−ブトキシプロピル、２，２−ジメチルプロピオン酸２−ｉ−ブトキシプロピル、２，２−ジメチルプロピオン酸２−ｔ−ブトキシプロピルエステル、
２，２−ジメチルプロピオン酸１−メチル−２−ｎ−プロポキシエチル、２，２−ジメチルプロピオン酸１−メチル−２−ｉ−プロポキシエチル、２，２−ジメチルプロピオン酸１−メチル−２−ｎ−ブトキシエチル、２，２−ジメチルプロピオン酸１−メチル−２−ｉ−ブトキシエチル、２，２−ジメチルプロピオン酸１−メチル−２−ｔ−ブトキシエチル等；
【００８８】
プロピレングリコールジエステル類として、
プロピオン酸２−メチルカルボニルオキシプロピル、プロピオン酸２−エチルカルボニルオキシプロピル、プロピオン酸２−ｎ−プロピルカルボニルオキシプロピル、プロピオン酸２−ｉ−プロピルカルボニルオキシプロピル、プロピオン酸２−ｎ−ブチルカルボニルオキシプロピル、プロピオン酸２−ｉ−ブチルカルボニルオキシプロピル、プロピオン酸２−ｔ−ブチルカルボニルオキシプロピル、
【００８９】
酪酸２−メチルカルボニルオキシプロピル、酪酸２−エチルカルボニルオキシプロピル、酪酸２−ｎ−プロピルカルボニルオキシプロピル、酪酸２−ｉ−プロピルカルボニルオキシプロピル、酪酸２−ｎ−ブチルカルボニルオキシプロピル、酪酸２−ｉ−ブチルカルボニルオキシプロピル、酪酸２−ｔ−ブチルカルボニルオキシプロピル、
イソ酪酸２−メチルカルボニルオキシプロピル、イソ酪酸２−エチルカルボニルオキシプロピル、イソ酪酸２−ｎ−プロピルカルボニルオキシプロピル、イソ酪酸２−ｉ−プロピルカルボニルオキシプロピル、イソ酪酸２−ｎ−ブチルカルボニルオキシプロピル、イソ酪酸２−ｉ−ブチルカルボニルオキシプロピル、イソ酪酸２−ｔ−ブチルカルボニルオキシプロピル、
【００９０】
吉草酸２−メチルカルボニルオキシプロピル、吉草酸２−エチルカルボニルオキシプロピル、吉草酸２−ｎ−プロピルカルボニルオキシプロピル、吉草酸２−ｉ−プロピルカルボニルオキシプロピル、吉草酸２−ｎ−ブチルカルボニルオキシプロピル、吉草酸２−ｉ−ブチルカルボニルオキシプロピル、吉草酸２−ｔ−ブチルカルボニルオキシプロピル、
３−メチル酪酸２−メチルカルボニルオキシプロピル、３−メチル酪酸２−エチルカルボニルオキシプロピル、３−メチル酪酸２−ｎ−プロピルカルボニルオキシプロピル、３−メチル酪酸２−ｉ−プロピルカルボニルオキシプロピル、３−メチル酪酸２−ｎ−ブチルカルボニルオキシプロピル、３−メチル酪酸２−ｉ−ブチルカルボニルオキシプロピル、３−メチル酪酸２−ｔ−ブチルカルボニルオキシプロピル、
【００９１】
２，２−ジメチルプロピオン酸２−メチルカルボニルオキシプロピル、２，２−ジメチルプロピオン酸２−エチルカルボニルオキシプロピル、２，２−ジメチルプロピオン酸２−ｎ−プロピルカルボニルオキシプロピル、２，２−ジメチルプロピオン酸２−ｉ−プロピルカルボニルオキシプロピル、２，２−ジメチルプロピオン酸２−ｎ−ブチルカルボニルオキシプロピル、２，２−ジメチルプロピオン酸２−ｉ−ブチルカルボニルオキシプロピル、２，２−ジメチルプロピオン酸２−ｔ−ブチルカルボニルオキシプロピル等
をそれぞれ挙げることができる。
【００９２】
有機溶剤（１−４) としては、例えば、
ジプロピレングリコールジアルキルエーテル類として、
１−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）−２−メトキシプロパン、１−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）−２−エトキシプロパン、１−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）−２−ｎ−プロポキシプロパン、１−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）−２−ｉ−プロポキシプロパン、１−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）−２−ｎ−ブトキシプロパン、１−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）−２−ｉ−ブトキシプロパン、１−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）−２−ｔ−ブトキシプロパン、
１−エトキシ−２−（２−メトキシプロポキシ）プロパン、１−ｎ−プロポキシ−２−（２−メトキシプロポキシ）プロパン、１−ｉ−プロポキシ−２−（２−メトキシプロポキシ）プロパン、１−ｎ−ブトキシ−２−（２−メトキシプロポキシ）プロパン、１−ｉ−ブトキシ−２−（２−メトキシプロポキシ）プロパン、１−ｔ−ブトキシ−２−（２−メトキシプロポキシ）プロパン、
【００９３】
１−（１−メチル−２−エトキシエトキシ）−２−エトキシプロパン、１−（１−メチル−２−エトキシエトキシ）−２−ｎ−プロポキシプロパン、１−（１−メチル−２−エトキシエトキシ）−２−ｉ−プロポキシプロパン、１−（１−メチル−２−エトキシエトキシ）−２−ｎ−ブトキシプロパン、１−（１−メチル−２−エトキシエトキシ）−２−ｉ−ブトキシプロパン、１−（１−メチル−２−エトキシエトキシ）−２−ｔ−ブトキシプロパン、
１−ｎ−プロポキシ−２−（２−エトキシプロポキシ）プロパン、１−ｉ−プロポキシ−２−（２−エトキシプロポキシ）プロパン、１−ｎ−ブトキシ−２−（２−エトキシプロポキシ）プロパン、１−ｉ−ブトキシ−２−（２−エトキシプロポキシ）プロパン、１−ｔ−ブトキシ−２−（エトキシプロポキシ）プロパン、
【００９４】
１−（１−メチル−２−ｎ−プロポキシエトキシ）−２−ｎ−プロポキシプロパン、１−（１−メチル−２−ｎ−プロポキシエトキシ）−２−ｉ−プロポキシプロパン、１−（１−メチル−２−ｎ−プロポキシエトキシ）−２−ｎ−ブトキシプロパン、１−（１−メチル−２−ｎ−プロポキシエトキシ）−２−ｉ−ブトキシプロパン、１−（１−メチル−２−ｎ−プロポキシエトキシ）−２−ｔ−ブトキシプロパン、
１−ｉ−プロポキシ−２−（２−ｎ−プロポキシプロポキシ）プロパン、１−ｎ−ブトキシ−２−（２−ｎ−プロポキシプロポキシ）プロパン、１−ｉ−ブトキシ−２−（２−ｎ−プロポキシプロポキシ）プロパン、１−ｔ−ブトキシ−２−（２−ｎ−プロポキシプロポキシ）プロパン、
【００９５】
１−（１−メチル−２−ｉ−プロポキシエトキシ）−２−ｉ−プロポキシプロパン、１−（１−メチル−２−ｉ−プロポキシエトキシ）−２−ｎ−ブトキシプロパン、１−（１−メチル−２−ｉ−プロポキシエトキシ）−２−ｉ−ブトキシプロパン、１−（１−メチル−２−ｉ−プロポキシエトキシ）−２−ｔ−ブトキシプロパン、
１−ｎ−ブトキシ−２−（２−ｉ−プロポキシプロポキシ）プロパン、１−ｉ−ブトキシ−２−（２−ｉ−プロポキシプロポキシ）プロパン、１−ｔ−ブトキシ−２−（２−ｉ−プロポキシプロポキシ）プロパン、
【００９６】
１−（１−メチル−２−ｎ−ブトキシエトキシ）−２−ｎ−ブトキシプロパン、１−（１−メチル−２−ｎ−ブトキシエトキシ）−２−ｉ−ブトキシプロパン、１−（１−メチル−２−ｎ−ブトキシエトキシ）−２−ｔ−ブトキシプロパン、１−ｉ−ブトキシ−２−（２−ｎ−ブトキシプロポキシ）プロパン、１−ｔ−ブトキシ−２−（２−ｎ−ブトキシプロポキシ）プロパン、
１−（１−メチル−２−ｉ−ブトキシエトキシ）−２−ｉ−ブトキシプロパン、１−（１−メチル−２−ｉ−ブトキシエトキシ）−２−ｔ−ブトキシプロパン、１−ｔ−ブトキシ−２−（２−ｉ−ブトキシプロポキシ）プロパン、
１−ｔ−ブトキシ−２−（２−ｔ−ブトキシプロポキシ）プロパン等；
【００９７】
ジプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類として、
酢酸２−（２−メトキシプロポキシ）プロピル、酢酸２−（２−エトキシプロポキシ）プロピル、酢酸２−（２−ｎ−プロポキシプロポキシ）プロピル、酢酸２−（２−ｉ−プロポキシプロポキシ）プロピル、酢酸２−（２−ｎ−ブトキシプロポキシ）プロピル、酢酸２−（２−ｉ−ブトキシプロポキシ）プロピル、酢酸２−（２−ｔ−ブトキシプロポキシ）プロピルエステル、
酢酸１−メチル−２−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）エチル、酢酸１−メチル−２−（１−メチル−２−エトキシエトキシ）エチル、酢酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−プロポキシエトキシ）エチル、酢酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−プロポキシエトキシ）エチル、酢酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−ブトキシエトキシ）エチル、酢酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−ブトキシエトキシ）エチル、酢酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｔ−ブトキシエトキシ）エチル、
【００９８】
プロピオン酸２−（２−メトキシプロポキシ）プロピル、プロピオン酸２−（２−エトキシプロポキシ）プロピル、プロピオン酸２−（２−ｎ−プロポキシプロポキシ）プロピル、プロピオン酸２−（２−ｉ−プロポキシプロポキシ）プロピル、プロピオン酸２−（２−ｎ−ブトキシプロポキシ）プロピル、プロピオン酸２−（２−ｉ−ブトキシプロポキシ）プロピル、プロピオン酸２−（２−ｔ−ブトキシプロポキシ）プロピル、
プロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）エチル、プロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−エトキシエトキシ）エチル、プロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−プロポキシエトキシ）エチル、プロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−プロポキシエトキシ）エチル、プロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−ブトキシエトキシ）エチル、プロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−ブトキシエトキシ）エチル、プロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｔ−ブトキシエトキシ）−エチル、
【００９９】
酪酸２−（２−メトキシプロポキシ）プロピル、酪酸２−（２−エトキシプロポキシ）プロピル、酪酸２−（２−ｎ−プロポキシプロポキシ）プロピル、酪酸２−（２−ｉ−プロポキシプロポキシ）プロピル、酪酸２−（２−ｎ−ブトキシプロポキシ）プロピル、酪酸２−（２−ｉ−ブトキシプロポキシ）プロピル、酪酸２−（２−ｔ−ブトキシプロポキシ）プロピル、
酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）エチル、酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−エトキシエトキシ）エチル、酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−プロポキシエトキシ）エチル、酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−プロポキシエトキシ）エチル、酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−ブトキシエトキシ）エチル、酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−ブトキシエトキシ）エチル、酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｔ−ブトキシエトキシ）エチル、
【０１００】
イソ酪酸２−（２−メトキシプロポキシ）プロピル、イソ酪酸２−（２−エトキシプロポキシ）プロピル、イソ酪酸２−（２−ｎ−プロポキシプロポキシ）プロピル、イソ酪酸２−（２−ｉ−プロポキシプロポキシ）プロピル、イソ酪酸２−（２−ｎ−ブトキシプロポキシ）プロピル、イソ酪酸２−（２−ｉ−ブトキシプロポキシ）プロピル、イソ酪酸２−（２−ｔ−ブトキシプロポキシ）プロピル、イソ酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）エチル、イソ酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−エトキシエトキシ）エチル、イソ酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−プロポキシエトキシ）エチル、イソ酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−プロポキシエトキシ）エチル、イソ酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−ブトキシエトキシ）エチル、イソ酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−ブトキシエトキシ）エチル、イソ酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｔ−ブトキシエトキシ）エチル、
【０１０１】
吉草酸２−（２−メトキシプロポキシ）プロピル、吉草酸２−（２−エトキシプロポキシ）プロピル、吉草酸２−（２−ｎ−プロポキシプロポキシ）プロピル、吉草酸２−（２−ｉ−プロポキシプロポキシ）プロピル、吉草酸２−（２−ｎ−ブトキシプロポキシ）プロピル、吉草酸２−（２−ｉ−ブトキシプロポキシ）プロピル、吉草酸２−（２−ｔ−ブトキシプロポキシ）プロピル、
吉草酸１−メチル−２−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）エチル、吉草酸１−メチル−２−（１−メチル−２−エトキシエトキシ）エチル、吉草酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−プロポキシエトキシ）エチル、吉草酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−プロポキシエトキシ）エチル、吉草酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−ブトキシエトキシ）エチル、吉草酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−ブトキシエトキシ）エチル、吉草酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｔ−ブトキシエトキシ）エチル、
【０１０２】
３−メチル酪酸２−（２−メトキシプロポキシ）プロピル、３−メチル酪酸２−（２−エトキシプロポキシ）プロピル、３−メチル酪酸２−（２−ｎ−プロポキシプロポキシ）プロピル、３−メチル酪酸２−（２−ｉ−プロポキシプロポキシ）プロピル、３−メチル酪酸２−（２−ｎ−ブトキシプロポキシ）プロピル、３−メチル酪酸２−（２−ｉ−ブトキシプロポキシ）プロピル、３−メチル酪酸２−（２−ｔ−ブトキシプロポキシ）プロピル、
３−メチル酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）エチル、３−メチル酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−エトキシエトキシ）エチル、３−メチル酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−プロポキシエトキシ）エチル、３−メチル酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−プロポキシエトキシ）エチル、３−メチル酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−ブトキシエトキシ）エチル、３−メチル酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−ブトキシエトキシ）エチル、３−メチル酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｔ−ブトキシエトキシ）エチル、
【０１０３】
２，２−ジメチルプロピオン酸２−（２−メトキシプロポキシ）プロピル、２，２−ジメチルプロピオン酸２−（２−エトキシプロポキシ）プロピル、２，２−ジメチルプロピオン酸２−（２−ｎ−プロポキシプロポキシ）プロピル、２，２−ジメチルプロピオン酸２−（２−ｉ−プロポキシプロポキシ）プロピル、２，２−ジメチルプロピオン酸２−（２−ｎ−ブトキシプロポキシ）プロピル、２，２−ジメチルプロピオン酸２−（２−ｉ−ブトキシプロポキシ）プロピル、２，２，−ジメチルプロピオン酸２−（２−ｔ−ブトキシプロポキシ）プロピル、
２，２−ジメチルプロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）エチル、２，２−ジメチルプロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−エトキシエトキシ）エチル、２，２−ジメチルプロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−プロポキシエトキシ）エチル、２，２−ジメチルプロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−プロポキシエトキシ）エチル、２，２−ジメチルプロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−ブトキシエトキシ）エチル、２，２−ジメチルプロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−ブトキシエトキシ）エチル、２，２−ジメチルプロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｔ−ブトキシエトキシ）エチル等；
【０１０４】
ジプロピレングリコールジエステル類として、
酢酸２−（２−メチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、酢酸２−（２−エチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、酢酸２−（２−ｎ−プロピルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、酢酸２−（２−ｉ−プロピルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、酢酸２−（２−ｎ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、酢酸２−（２−ｉ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、酢酸２−（２−ｔ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、
酢酸１−メチル−２−（１−メチル−２−エチルカルボニルオキシエトキシ）エチル、酢酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−プロピルカルボニルオキシエトキシ）エチル、酢酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−プロピルカルボニルオキシエトキシ）エチル、酢酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−ブチルカルボニルオキシエトキシ）エチル、酢酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−ブチルカルボニルオキシエトキシ）エチル、酢酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｔ−ブチルカルボニルオキシエトキシ）エチル、
【０１０５】
プロピオン酸２−（２−エチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、プロピオン酸２−（２−ｎ−プロピルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、プロピオン酸２−（２−ｉ−プロピルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、プロピオン酸２−（２−ｎ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、プロピオン酸２−（２−ｉ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、プロピオン酸２−（２−ｔ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、
プロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−プロピルカルボニルオキシエトキシ）エチル、プロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−プロピルカルボニルオキシエトキシ）エチル、プロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−ブチルカルボニルオキシエトキシ）エチル、プロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−ブチルカルボニルオキシエトキシ）エチル、プロピオン酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｔ−ブチルカルボニルオキシエトキシ）エチル、
【０１０６】
酪酸２−（２−ｎ−プロピルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、酪酸２−（２−ｉ−プロピルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、酪酸２−（２−ｎ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、酪酸２−（２−ｉ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、酪酸２−（２−ｔ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、
酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−プロピルカルボニルオキシエトキシ）エチル、酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−ブチルカルボニルオキシエトキシ）エチル、酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−ブチルカルボニルオキシエトキシ）エチル、酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｔ−ブチルカルボニルオキシエトキシ）エチル、
【０１０７】
イソ酪酸２−（２−ｉ−プロピルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、イソ酪酸２−（２−ｎ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、イソ酪酸２−（２−ｉ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、イソ酪酸２−（２−ｔ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、
イソ酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｎ−ブチルカルボニルオキシエトキシ）エチル、イソ酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−ブチルカルボニルオキシエトキシ）エチル、イソ酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｔ−ブチルカルボニルオキシエトキシ）エチル、
【０１０８】
吉草酸２−（２−ｎ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、吉草酸２−（２−ｉ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、吉草酸２−（２−ｔ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピルエステル、
吉草酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｉ−ブチルカルボニルオキシエトキシ）エチル、吉草酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｔ−ブチルカルボニルオキシエトキシ）エチル、
３−メチル酪酸２−（２−ｉ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、３−メチル酪酸２−（２−ｔ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピルエステル、
３−メチル酪酸１−メチル−２−（１−メチル−２−ｔ−ブチルカルボニルオキシエトキシ）エチル、
２，２−ジメチルプロピオン酸２−（２−ｔ−ブチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピルエステル等
をそれぞれ挙げることができる。
【０１０９】
これらの有機溶剤（１）のうち、
有機溶剤（１−１）として、１，２−ジエトキシプロパン、１−メトキシ−２−エトキシプロパン、１−メトキシ−２−ｎ−プロポキシプロパン、プロピオン酸１−メチル−２−メトキシエチル、プロピオン酸１−メチル−２−エトキシエチル、酪酸１−メチル−２−メトキシエチル、酪酸１−メチル−２−エトキシエチル等；
【０１１０】
有機溶剤（１−２）として、酢酸２−ｎ−プロポキシプロピル、酢酸２−ｎ−ブトキシプロピル、酢酸２−メチルカルボニルオキシプロピル、酢酸２−エチルカルボニルオキシプロピル等；
【０１１１】
有機溶剤（Ｉ−３）として、１−ｎ−プロポキシ−２−メトキシプロパン、１−ｎ−プロポキシ−２−エトキシプロパン、酢酸１−メチル−２−ｎ−プロポキシエチル、酢酸１−メチル−２−ｎ−ブトキシエチル、プロピオン酸１−メチル−２−ｎ−プロポキシエチル、プロピオン酸１−メチル−２−ｎ−ブトキシエチル、プロピオン酸２−ｎ−プロポキシプロピル、プロピオン酸２−ｎ−ブトキシプロピル、酢酸２−メチルカルボニルオキシプロピル、酢酸２−エチルカルボニルオキシプロピル、プロピオン酸２−メチルカルボニルオキシプロピル、プロピオン酸２−エチルカルボニルオキシプロピル等；
【０１１２】
有機溶剤（Ｉ−４）として、
１−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）−２−メトキシプロパン、１−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）−２−エトキシプロパン、１−（１−メチル−２−エトキシエトキシ）−２−エトキシプロパン、１−エトキシ−２−（２−メトキシプロポキシ）プロパン、酢酸２−（２−メトキシプロポキシ）プロピル、酢酸２−（２−エトキシプロポキシ）プロピル、酢酸２−（２−メチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル、酢酸２−（２−エチルカルボニルオキシプロポキシ）プロピル等
がそれぞれ好ましい。                                                              
【０１１３】
本発明において、有機溶剤（Ｉ）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
有機溶剤（Ｉ）は、生体内で代謝されてメトキシ酢酸やエトキシ酢酸を生成することがなく、安全であるとともに、大型基板に対しても良好な塗布性を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるように十分な現像マージンを有する感放射線性樹脂組成物をもたらすことができる。
【０１１４】
本発明においては、有機溶剤（Ｉ）と共に、他の有機溶剤を併用することができる。
前記他の有機溶剤としては、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂および（Ｂ）酸発生剤並びに場合により添加される他の添加剤を均一に溶解し、各成分と反応しないものが用いられる。  このような他の有機溶剤としては、例えば、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルや、塗膜の膜厚均一性を高める作用を有するものとして、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、エチレングリコールフェニルエーテルアセテート等を挙げることができる。
これらの他の有機溶剤のうち、特に、Ｎ−メチルピロリドン、γ−ブチロラクトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等が好ましい。
前記他の有機溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【０１１５】
本発明の感放射性樹脂組成物において、他の有機溶剤の使用量は、有機溶剤全量に対して、通常、５０重量％以下、好ましくは４０重量％以下、さらに好ましくは３０重量％以下である。他の有機溶剤の使用量が５０重量％を超えると、塗膜の膜厚均一性、感度や残膜率が低下するおそれがある。
【０１１６】
本発明においては、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂を、有機溶剤（Ｉ）を含む溶媒中における重合により製造し、得られた（Ａ）アルカリ可溶性樹脂の溶液を、（Ｂ）感放射線性酸発生剤および場合により使用される他の添加剤と混合する工程を経て、感放射線性樹脂組成物を調製することも好ましい。
【０１１７】
本発明の感放射線性樹脂組成物において、有機溶剤以外の成分（即ち、（Ａ）成分、（Ｂ）成分および場合により配合される他の添加剤の合計）の含有率は、組成物の使用目的や所望の膜厚等に応じて適宜に設定することができるが、通常、５〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％、さらに好ましくは１５〜３５重量％である。
このようにして調製された感放射線性樹脂組成物は、孔径０．２μｍ程度のミリポアフィルタ等を用いてろ過したのち使用に供することもできる。
【０１１８】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、特に、層間絶縁膜あるいはマイクロレンズの形成に極めて有用である。
【０１１９】
層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成方法
次に、本発明の層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物またはマイクロレンズ形成用感放射線性樹脂組成物（以下、これらをまとめて「特定物品形成用感放射線性樹脂組成物」という。）を用いて、本発明の層間絶縁膜あるいはマイクロレンズを形成する方法について述べる。
本発明の層間絶縁膜あるいはマイクロレンズの形成方法は、少なくとも以下（ｉ）〜（iv）の工程を含むものである。
（ｉ）特定物品形成用感放射線性樹脂組成物の塗膜を基板上に形成する工程。
（ii）該塗膜の少なくとも一部に放射線を露光する工程。
（iii)露光後の塗膜を現像処理する工程。
（iv）現像後の塗膜を加熱処理する工程。
【０１２０】
以下、これらの各工程について説明する。
（ｉ）の工程においては、特定物品形成用感放射線性樹脂組成物を基板表面に塗布し、プリベークを行うことにより溶剤を除去して、基板上に塗膜を形成する。
前記基板としては、例えば、ガラス基板、シリコンウエハーや、これらの表面に各種金属層が形成された基板等を挙げることができる。
感放射線性樹脂組成物の塗布方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、スプレー法、ロールコート法、回転塗布法、バー塗布法等の適宜の方法を採用することができる。
プリベークの条件としては、各成分の種類や使用量等によっても異なるが、通常、６０〜１１０℃で３０秒間〜１５分間程度である。
形成される塗膜の膜厚は、プレベーク後の値として、層間絶縁膜を形成する場合には３〜６μｍが好ましく、マイクロレンズを形成する場合には０．５〜３μｍが好ましい。
【０１２１】
前記（ii）の工程においては、形成された塗膜の少なくとも一部に放射線を露光する。  塗膜の一部のみに放射線を露光する際には、所定のパターンを有するマスクを介して露光する。
このときに用いられる放射線としては、例えば、ｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等の紫外線、ＫｒＦエキシマレーザー、ＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線、シンクロトロン放射線等のＸ線、電子線等の荷電粒子線等を使用することができるが、これらのうち紫外線が好ましい。
露光量は、層間絶縁膜を形成する場合５０〜１，５００Ｊ／ｍ2 が好ましく、マイクロレンズを形成する場合５０〜２，０００Ｊ／ｍ2 が好ましい。
【０１２２】
前記（iii)の工程においては、、現像液を用いて現像処理して放射線の露光部分を除去することにより、パターンを形成させる。
現像処理に用いられる現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、アンモニア、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジエチルアミノエタノール、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ〔５．４．０〕−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ〔４．３．０〕−５−ノネン等の水溶液からなるアルカリ現像液を用いることができる。
また、前記アルカリ現像液には、メタノール、エタノール等の水溶性有機溶媒、界面活性剤や各種有機溶媒を添加して使用することができる。
現像方法としては、液盛り法、ディッピング法、揺動浸漬法、シャワー法等の適宜の方法を利用することができる。
現像時間は、感放射線性樹脂組成物の組成によって異なるが、通常、３０〜１２０秒間程度である。
【０１２３】
従来の感放射線性樹脂組成物は、現像時間が最適値から２０〜２５秒程度超過すると、形成したパターンに剥がれが生じるため現像時間を厳密に制御する必要があったが、本発明の特定物品形成用感放射線性樹脂組成物の場合、最適現像時間からの超過時間が３０秒以上となっても、パターンの剥がれを生じることなく所定形状のパターンを形成でき、製品歩留まりが高く、作業性にも優れているという利点を有する。
【０１２４】
前記（ニ）の工程においては、加熱処理に先立って、現像後の塗膜を、例えば流水洗浄等により洗浄したのち、高圧水銀灯等により放射線を塗膜全面に後露光することにより、当該塗膜中に残存する（Ｂ）感放射線性酸発生剤を分解することが好ましい。
その後、この塗膜を、ホットプレート、オーブン等の加熱装置により加熱処理（ポストベーク処理）することにより、当該塗膜を硬化させる。
前記後露光における露光量は、好ましくは２，０００〜５，０００Ｊ／ｍ2 程度である。
この加熱処理において、加熱温度は、通常、１２０〜２５０℃、好ましくは２００〜２４０℃である。また加熱時間は、加熱手段により異なるが、例えばホットプレート上で加熱処理を行う場合には、通常、５〜３０分間であり、オーブン中で加熱処理を行う場合には、通常、３０〜９０分間である。この加熱処理に際しては、２回以上加熱するステップベーク法等を用いることもできる。
【０１２５】
このようにして、目的とする層間絶縁膜あるいはマイクロレンズに対応するパターンを基板表面上に形成することができる。
このような層間絶縁膜あるいはマイクロレンズの形成方法によると、優れた特性を有する層間絶縁膜およびマイクロレンズを高い製品歩留りで容易に形成することができる。
【０１２６】
層間絶縁膜
本発明の層間絶縁膜は、耐溶剤性および耐熱性に優れ、高い光透過率を有しており、ＴＦＴ型液晶表示素子、磁気ヘッド素子、集積回路素子、固体撮像素子等の電子部品の層間絶縁膜として極めて好適に使用することができる。
【０１２７】
マイクロレンズ
本発明のマイクロレンズは、耐溶剤性および耐熱性に優れ、かつ高い光透過率および良好な断面形状と底部寸法を有するものであり、ファクシミリ、電子複写機、固体撮像素子等のオンチップカラーフィルターの結像光学系あるいは光ファイバコネクタ等におけるマイクロレンズやマイクロレンズアレイとして極めて好適に使用することができる。
【発明の効果】
【０１２８】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、生体に対する安全性に問題がなく、しかも大型基板に対しても良好な塗布性を有し、放射線に対して高感度であり、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるように十分な現像マージンを有しており、高耐溶剤性、高耐熱性および高光透過率を有する層間絶縁膜を容易に形成でき、また高耐溶剤性、高耐熱性および高光透過率を有するとともに、良好な断面形状と良好な底部寸法を有するマイクロレンズを容易に形成できるものであり、特に、層間絶縁膜あるいはマイクロレンズの形成に極めて好適に使用することができる。
本発明の層間絶縁膜あるいはマイクロレンズの形成方法によると、前記優れた特性を有する層間絶縁膜あるいはマイクロレンズを高い製品歩留りで作業性よく形成することができる。
【実施例】
【０１２９】
以下に実施例を示して、本発明の実施の形態をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
ここで、部は重量基準である。
共重合体（Ａ）の合成
合成例１
冷却管および攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）１０部および１−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）−２−メトキシプロパン２５０部を仕込み、引き続きメタクリル酸２２部、スチレン５部、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカン−８−イル２８部、メタクリル酸３，４−エポキシシクロへキシル４５部およびα−メチルスチレンダイマー５部を仕込んで窒素置換したのち、ゆるやかに撹拌して、反応溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を保持して４時間重合することにより、共重合体（Ａ）の重合体溶液（固形分濃度＝２９．８重量％）を得た。
この共重合体のＭｗは８，０００であった。この共重合体を共重合体（Ａ-1) とする。  
【０１３０】
合成例２
冷却管および攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２, ４−ジメチルバレロニトリル）７部および１，２−ジエトキシプロパン２００部を仕込み、引き続きメタクリル酸１８部、スチレン５部、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカン−８−イル１７部、メタクリル酸３，４−エポキシシクロヘキシル４０部、Ｎ−シクロへキシルマレイミド２０部およびα−メチルスチレンダイマー３部を仕込んで窒素置換したのち、ゆるやかに撹拌して、反応溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を保持して５時間重合することにより、共重合体（Ａ）の溶液（固形分濃度＝３１．５重量％）を得た。  この共重合体のＭｗは１１，０００であった。この共重合体を共重合体（Ａ-2) とする。
【０１３１】
合成例３
冷却管および攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）６部および１−エトキシ−２−（２−メトキシプロポキシ）プロパン２００部を仕込み、引き続きメタクリル酸１５部、スチレン５部、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカン−８−イル２０部、メタクリル酸３，４−エポキシシクロへキシル４０部、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル２０部およびα−メチルスチレンダイマー３部を仕込んで窒素置換したのち、ゆるやかに撹拌して、反応溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を保持して４．５時間重合することにより、共重合体（Ａ）の溶液（固形分濃度＝３２．７重量％）を得た。
この共重合体のＭｗは１３，０００であった。この共重合体を共重合体（Ａ-3) とする。
【０１３２】
合成例４
冷却管および攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８．５部および１−（１−メチル−２−エトキシエトキシ）−２−エトキシプロパン２２０部を仕込み、引き続きメタクリル酸１５部、スチレン５部、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカン−８−イル３０部、メタクリル酸３，４−エポキシシクロへキシル４０部、メタクリル酸ラウリル１０部およびα−メチルスチレンダイマー３部を仕込んで窒素置換したのち、ゆるやかに撹拌して、反応溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を保持して４．５時間重合することにより、共重合体（Ａ）の溶液（固形分濃度＝３１．５重量％）を得た。
この共重合体のＭｗは８，０００であった。この共重合体を共重合体（Ａ-4) とする。  
【０１３３】
合成例５
冷却管および攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８．５部および１−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）−２−メトキシプロパン２２０部を仕込み、引き続きメタクリル酸１５部、スチレン５部、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカン−８−イル３０部、メタクリル酸３，４−エポキシシクロへキシル２０部、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル２０部、メタクリル酸ラウリル１０部およびα−メチルスチレンダイマー３部を仕込んで窒素置換したのち、ゆるやかに撹拌して、反応溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を保持して４．５時間重合することにより、共重合体（Ａ）の溶液（固形分濃度＝３１．７重量％）を得た。  この共重合体のＭｗは８，５００であった。この共重合体を共重合体（Ａ-5) とする。  
【０１３４】
合成例６
冷却管および攪拌機を備えたフラスコに、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）８．５部および１−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）−２−メトキシプロパン２２０部を仕込み、引き続きメタクリル酸１５部、スチレン５部、メタクリル酸トリシクロ［５．２．１．０2,6 ］デカン−８−イル３０部、メタクリル酸３，４−エポキシシクロへキシル２０部、メタクリル酸グリシジル２０部、メタクリル酸ラウリル１０部およびα−メチルスチレンダイマー３部を仕込んで窒素置換したのち、ゆるやかに撹拌して、反応溶液の温度を７０℃に上昇させ、この温度を保持して４．５時間重合することにより、共重合体（Ａ）の溶液（固形分濃度＝３１．９重量％）を得た。
この共重合体のＭｗは９，０００であった。この共重合体を共重合体（Ａ-6) とする。  
【０１３５】
（Ｂ）酸発生剤の合成
合成例７
遮光下で、撹拌機、滴下ロートおよび温度計を備えたフラスコに、２−メチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４−（４−ヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマン３６．４１ｇ（１００ミリモル）、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド８５．４９ｇ（３００ミリモル）およびアセトン７３５ミリリットルを仕込んで、均一に溶解させた。その後、この溶液の温度を２０〜３０℃に保持しつつ、トリエチルアミン３３．３７ｇ（３３０ミリモル）を３０分かけて滴下したのち、同温度で２時間反応させた。
反応後、析出物をろ過して除去し、ろ液を大過剰の１重量％塩酸水溶液に投入し、生成物を析出させてろ別して、ろ液が中性になるまで水洗したのち、真空乾燥機中、４０℃で１日乾燥して、２−メチル−２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４−（４−ヒドロキシフェニル）−７−ヒドロキシクロマン（１．０モル）と１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド（３．０モル）との縮合物を得た。この化合物を酸発生剤（Ｂ-1) とする。
合成例７における反応成分の種類と使用量を表１に示す。
【０１３６】
合成例８〜１２
合成例７において、フェノール性化合物等の種類と使用量および１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリドの使用量を表１に示すとおりとした以外は、合成例７と同様にして、酸発生剤（Ｂ-2) 〜（Ｂ-6) を得た。
【０１３７】
【表１】
2005134440.tif 000003
【０１３８】
感放射線性樹脂組成物の調製
実施例１
（Ａ）成分として、合成例１で得た共重合体（Ａ-1) の溶液を、重合体（Ａ-1) １００部（固形分）に相当する量、および酸発生剤（Ｂ-1) ２０部を、プロピオン酸１−メチル−２−メトキシエチルに、固形分濃度が３０重量％となるように溶解したのち、口径０．２μｍのメンブランフィルタでろ過して、感放射線性樹脂組成物（組成物（Ｓ-1) ）を調製した。
組成物（Ｓ-1) の組成を表２に示す。
【０１３９】
実施例２〜１１
実施例１において、（Ａ）成分、（Ｂ）成分および（Ｃ）成分の種類と使用量を表２に示すのとおりとし、実施例７および実施例８では表２に示す他の添加剤を加えた以外は、実施例１と同様にして、感放射線性樹脂組成物（組成物（Ｓ-2) 〜（Ｓ-11)）を調製した。
【０１４０】
表２における（Ｃ）成分および他の添加剤は、下記のとおりである。なお、表２中の実施例７〜１０の（Ｂ）成分および実施例１〜１１の（Ｃ）成分の記載は、それぞれ２種類の化合物を併用したことを示す。
（Ｃ）成分
Ｃ-1：１−（１−メチル−２−メトキシエトキシ）−２−メトキシプロパン
Ｃ-2：１，２−ジエトキシプロパン
Ｃ-3：１−エトキシ−２−（２−メトキシプロポキシ）プロパン
Ｃ-4：１−（１−メチル−２−エトキシエトキシ）−２−エトキシプロパン
Ｃ-5：プロピオン酸１−メチル−２−メトキシエチル
他の添加剤
Ｄ-1：サイメル３００（三井サイアナミッド（株）製）
Ｄ-2：エピコート８２８（油化シェルエポキシ（株）製）
【０１４１】
【表２】
2005134440.tif 000004
【０１４２】
層間絶縁膜としての性能評価
実施例１２〜２２および比較例１
実施例１２〜２２では、前記実施例１〜１１で調製した各組成物を用い、比較例１では、ｍ−クレゾールとｐ−クレゾールとの共重縮合ノボラック樹脂、多価フェノールの１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステルおよび有機溶剤として乳酸エチルと酢酸１−メチル−２−メトキシエチル（即ち、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）との２：１（重量比）混合物を含有する感放射線性樹脂組成物（商品名ＴＦＲ−７９０、東京応化工業（株）製）（組成物（Ｓ-12)）を用いて、以下の手順で層間絶縁膜としての性能評価を行った。
組成物の種類および評価結果を表３に示す。
【０１４３】
−塗布性の評価−
５５０ｍｍ×６５０ｍｍのガラス基板（厚さ０．７ｍｍ）上に、各組成物を、回転速度１，４００ｒｐｍで３０秒間スピンコートしたのち、ホットプレート上で９０℃にて２分間プレベークして、膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。
次いで、この基板の各辺の端部から５ｃｍ以内を除く中央部分の膜厚を測定し、最大膜厚（Ｔｍａｘ）、最小膜厚（Ｔｍｉｎ）および平均膜厚（Ｔａｖｅ）から、下記式により膜厚均一性を算出して塗布性を評価した。
膜厚均一性（％）＝（Ｔｍａｘ−Ｔｍｉｎ）×１００／Ｔａｖｅ
【０１４４】
−感度の評価−
シリコン基板上に、各組成物を、回転速度１，４００ｒｐｍで３０秒間スピンコートしたのち、ホットプレート上で９０℃にて２分間プレベークして、膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。
次いで、得られた各塗膜に所定のパターンを有するパターンマスクを介して、ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（キャノン（株）製超高圧水銀ランプ）を用い、露光時間を変化えて露光したのち、表３または表４に示す現像液濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い２５℃で９０秒間液盛り法により現像した。その後、超純水で１分間流水洗浄を行い、乾燥して、基板上にパターンを形成した。このとき、ライン線幅３．０μｍのライン・アンド・スペース（１０Ｌ１Ｓ）のパターンが完全に解像するために必要な露光量を最適露光量とし、この最適露光量を感度とした。この値が１，０００Ｊ／ｍ2 以下の場合、感度は良好であるといえる。
【０１４５】
−現像マージンの評価−
シリコン基板上に、各組成物を、回転速度１，４００ｒｐｍで３０秒間スピンコートしたのち、ホットプレート上で９０℃にて２分間プレベークして、膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。
次いで、得られた各塗膜にライン線幅３．０μｍのライン・アンド・スペース（１０Ｌ１Ｓ）のパターンを有するマスクを介して、ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（キャノン（株）製超高圧水銀ランプ）を用い、前記「感度の評価」における最適露光量で露光を行ったのち、表３または表４に示す現像液濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い２５℃で９０秒間液盛り法により現像した。その後、超純水で１分間流水洗浄を行い、乾燥して、基板上にパターンを形成した。このとき、ライン線幅が３．０μｍとなるのに必要な現像時間を最適現像時間とし、また最適現像時間を超えてさらに現像を続けた際に、ライン線幅３．０μｍのパターンが剥がれるまでの時間を測定して現像マージンとした。現像マージンが３０秒以上のとき、現像マージンは良好であるといえる。
【０１４６】
−耐溶剤性の評価−
シリコン基板上に、各組成物を、回転速度１，４００ｒｐｍで３０秒間スピンコートしたのち、ホットプレート上で９０℃にて２分間プレベークして、膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。
次いで、得られた各塗膜にＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（キャノン（株）製超高圧水銀ランプ）を用い、積算露光量が３，０００Ｊ／ｍ2 となるように露光したのち、基板をクリーンオーブン内で２２０℃にて１時間加熱処理して硬化膜を得た。その後、得られた各硬化膜の膜厚（Ｔ１）を測定し、また硬化膜が形成された各基板を７０℃に温度制御されたジメチルスルホキシド中に２０分間浸漬したのち、硬化膜の膜厚（ｔ１）を測定し、下記式により、浸漬前後の膜厚変化率を算出して、耐溶剤性を評価した。この値が５％以下のとき、耐溶剤性は良好といえる。
膜厚変化率（％）＝（｜ｔ１−Ｔ１｜×１００）／Ｔ１
なお、耐溶剤性の評価においては、塗膜にパターンを形成する必要がないため、露光処理および現像処理を行わなかった。
【０１４７】
−耐熱性の評価−
前記「耐溶剤性の評価」と同様にして硬化膜を形成して、各硬化膜の膜厚（Ｔ２）を測定した。
また、硬化膜が形成された各基板をクリーンオーブン内で２４０℃にて１時間、追加の加熱処理を行ったのち、硬化膜の膜厚（ｔ２）を測定して、下記式により、追加の加熱処理前後の膜厚変化率を算出して、耐熱性を評価した。この値が５％以下のとき、耐熱性は良好といえる。
膜厚変化率（％）＝（｜ｔ２−Ｔ２｜×１００）／Ｔ２
【０１４８】
−透明性の評価−
前記「耐溶剤性の評価」において、シリコン基板の代わりにガラス基板コーニング７０５９（商品名、ダウ・コーニング社製）」を用いた以外は同様にして、ガラス基板上に硬化膜を形成した。
次いで、硬化膜が形成された各基板の４００〜８００ｎｍの波長範囲における光透過率を、分光光度計「１５０−２０型ダブルビーム」（（株）日立製作所製）」を用いて測定した。この値が９５％以上のとき、透明性は良好といえる。
【０１４９】
【表３】
2005134440.tif 000005
【０１５０】
マイクロレンズとしての性能評価
実施例２３〜３３および比較例２
実施例２３〜３３では、前記実施例１〜１１で調製した各組成物を用い、比較例２では組成物（Ｓ-12)を用いて、前記「層間絶縁膜としての性能評価」と同様にして、塗布性、耐熱性および透明性を評価し、また以下の手順でマイクロレンズとしての性能評価を行った。
各組成物および評価結果を表４に示す。
【０１５１】
−感度の評価−
シリコン基板上に、各組成物を、回転速度１，４００ｒｐｍで３０秒間スピンコートしたのち、ホットプレート上で９０℃にて２分間プレベークして、膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。
次いで、得られた各塗膜に所定のパターンを有するパターンマスクを介して、ＮＳＲ１７５５ｉ７Ａ縮小投影露光機（ＮＡ＝０．５０、λ＝３６５ｎｍ、ニコン（株）製）を用い、露光時間を変化させて露光したのち、表５または表６に示す現像液濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い２５℃で１分間液盛り法により現像した。その後、超純水で１分間流水洗浄を行い、乾燥して、基板上にパターンを形成した。このとき、ライン線幅０．８μｍのライン・アンド・スペ−スパタ−ン（１Ｌ１Ｓ）のスペース線幅が０．８μｍとなるのに必要な露光量を最適露光量とし、この最適露光量を感度とした。この値が２，５００Ｊ／ｍ2 以下の場合、感度が良好であるといえる。
【０１５２】
−現像マージンの評価−
シリコン基板上に、各組成物を、回転速度１，４００ｒｐｍで３０秒間スピンコートしたのち、ホットプレート上で９０℃にて２分間プレベークして、膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。
次いで、得られた各塗膜に所定のパターンを有するパターンマスクを介して、ＮＳＲ１７５５ｉ７Ａ縮小投影露光機（ＮＡ＝０．５０、λ＝３６５ｎｍ、ニコン（株）製）を用い、前記「感度の評価」における最適露光量で露光を行ったのち、表５または表６に示す現像液濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い２５℃で１分間液盛り法により現像した。その後、超純水で１分間流水洗浄を行い、乾燥して、基板上にパターンを形成した。このとき、ライン線幅０．８μｍのライン・アンド・スペ−スパタ−ン（１Ｌ１Ｓ）のスペース線幅が０．８μｍとなるのに必要な現像時間を最適現像時間とし、また最適現像時間を超えてさらに現像を続けた際に、スペース線幅３．０μｍのパターンが剥がれるまでの時間を測定して現像マージンとした。現像マージンが３０秒以上のとき、現像マージンは良好であるといえる。
【０１５３】
−耐溶剤性の評価−
シリコン基板上に、各組成物を、回転速度１，４００ｒｐｍで３０秒間スピンコートしたのち、ホットプレート上で９０℃にて２分間プレベークして、膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。
次いで、得られた各塗膜にＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（キャノン（株）製超高圧水銀ランプ）を用い、積算露光量が３，０００Ｊ／ｍ2 となるように露光したのち、基板をクリーンオーブン内で２２０℃にて１時間加熱して硬化膜を得た。その後、得られた硬化膜の膜厚（Ｔ３）を測定した。また、この硬化膜が形成された基板を５０℃に温度制御されたイソプロピルアルコール中に１０分間浸漬したのち、硬化膜の膜厚（ｔ３）を測定し、下記式により、浸漬前後の膜厚変化率を算出して、耐溶剤性を評価した。この値が５％以下の場合、耐溶剤性は良好といえる。
膜厚変化率（％）＝（｜ｔ３−Ｔ３｜×１００）／Ｔ３
なお、耐溶剤性の評価においては、塗膜にパターンを形成する必要がないため、露光処理および現像処理を行わなかった。
【０１５４】
−マイクロレンズの評価−
シリコン基板上に、各組成物を、回転速度１，４００ｒｐｍで３０秒間スピンコートしたのち、ホットプレート上で９０℃にて２分間プレベークして、膜厚３．０μｍの塗膜を形成した。
次いで、得られた各塗膜に４．０μｍドット・２．０μｍスペ−スパタ−ンを有するパターンマスクを介して、ＮＳＲ１７５５ｉ７Ａ縮小投影露光機（ＮＡ＝０．５０、λ＝３６５ｎｍ、ニコン（株）製）を用い、前記「感度の評価」における最適露光量で露光を行ったのち、表５または表６に示す現像液濃度のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い２５℃で１分間液盛り法により現像した。その後、超純水で１分間流水洗浄を行い、乾燥して、基板上にパターンを形成した。その後、ＰＬＡ−５０１Ｆ露光機（キャノン（株）製超高圧水銀ランプ）を用いて、積算露光量が３，０００Ｊ／ｍ2 となるように露光し、ホットプレート上で加熱温度を変えて１０分間加熱処理を行うことにより、パターンをメルトフローさせたのち、さらに２３０℃にて１０分間加熱処理を行って、マイクロレンズを形成した。このとき、パターンのメルトフローが可能な温度範囲（レンズ形成温度）を測定し、また形成された各マイクロレンズの断面形状を走査型電子顕微鏡により観察して評価し、さらに各マイクロレンズの底部寸法（基板に接する面の直径）を測定した。
マイクロレンズの断面形状は、図１の〔Ａ〕に模式的に例示するように、半凸レンズ状である場合は良好、図１の〔Ｂ〕に模式的に例示するように、底部が流れ過ぎている場合は不良である。また、マイクロレンズの底部寸法は、４．０μｍを超え５．０μｍ未満の場合、良好といえる。底部寸法が５．０μｍ以上になるのは、隣接するレンズ同士が接触する状態であり、好ましくない。
【０１５５】
【表４】
2005134440.tif 000006
【図面の簡単な説明】
【０１５６】
【図１】マイクロレンズの断面形状を例示する模式図である。
【図１】
2005134440.tif 000008