(57)【要約】【課題】反転方式の印刷法を利用して大型サイズの高精細除去版を使用することなく、高精度で塗布液の転写除去を行なえるようにし、大型基板上の広い領域にも高精細なパターンを実現する。【解決手段】画像パターン対応領域とネガパターン対応領域との両者に塗布液を塗布した塗布面に、ネガパターン対応領域に対応した凸部を有する除去版を押圧してネガパターン対応領域の塗布液を転写除去し、塗布面に残った画像パターン対応領域の塗布液を基板に転写して、基板に画像パターンを形成する画像形成装置において、ネガパターンの一部分ごとに対応するパターンの凸部を有する複数の除去版４を備え、それぞれの除去版により塗布液を転写除去する。【選択図】    図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
塗布ローラの周面全体に塗布液を塗布して塗布面を形成する塗布工程と、前記塗布面に対し、画像パターンのネガパターンに対応する凸版である除去版を押圧してこの除去版の凸部に塗布面のネガパターン対応領域から塗布液を転写除去する除去工程と、塗布面に残った画像パターン対応領域の塗布液を基板に転写する転写工程とにより、基板に塗布液からなる画像パターンを形成する画像形成方法において、
前記除去工程は、単一の塗布面に対して除去版によるネガパターン対応領域からの転写除去を、ネガパターンの一部分ごとに分割して順次行なうことを特徴とする画像形成方法。
【請求項２】
上記ネガパターンが、高精度除去部分とこの高精度除去部分以外の非高精度除去部分とに区分され、
上記除去工程は、前記高精度除去部分に対応した高精度除去パターンの凸部を有する高精度除去パターン用除去版による高精度除去工程と、前記非高精度除去部分に対応した非高精度除去パターンの凸部を有する非高精度除去パターン用除去版による非高精度除去工程とからなるものである請求項１に記載の画像形成方法。
【請求項３】
上記高精度除去パターンは主パターンと該主パターンの周辺領域にある周辺パターンとからなり、上記高精度除去パターン用除去版に、前記高精度除去パターンの主パターンに対応する主パターン部分と、高精度除去パターンの周辺パターンに対応する周辺パターン部分とが設けられている請求項２に記載の画像形成方法。
【請求項４】
上記高精度除去パターン用除去版は面分割された複数の子除去版の集合体として設けられ、該子除去版の集合体により上記高精度除去パターンが形成される請求項２に記載の画像形成方法。
【請求項５】
上記高精度除去パターンは主パターンと該主パターンの周辺領域にある周辺パターンとからなり、上記子除去版それぞれに前記高精度除去パターンを面分割してなる主パターン分割部分と周辺パターン分割部分とが設けられている請求項４に記載の画像形成方法。
【請求項６】
上記子除去版をそれぞれ独立に位置調整可能な支持手段で支持し、子除去版相互の位置合わせが可能に設けられている請求項４または５に記載の画像形成方法。
【請求項７】
塗布ローラの周面全体に塗布液が塗布されて塗布面が形成される塗布ローラと、前記塗布ローラの塗布面に対して画像パターンのネガパターン対応領域に対応した凸部を押圧してネガパターン対応領域の塗布液を転写除去する除去版とを備え、塗布面に残った画像パターン対応領域の塗布液を基板に転写して、基板に塗布液からなる画像パターンを形成する構成とした画像形成装置において、
画像パターンのネガパターンの一部分ごとに対応するパターンの凸部を有する複数の除去版を備えていることを特徴とする画像形成装置。
【請求項８】
上記ネガパターンが、高精度除去部分とこの高精度除去部分以外の非高精度除去部分とに区分され、
前記高精度除去部分に対応した高精度除去パターンの凸部を有する高精度除去パターン用除去版と、前記非高精度除去部分に対応した非高精度除去パターンの凸部を有する非高精度除去パターン用除去版とを備える請求項７に記載の画像形成装置。
【請求項９】
上記高精度除去パターンは、主パターンと該主パターンの周辺領域にある周辺パターンとからなり、上記高精度除去パターン用除去版に、前記高精度除去パターンの主パターンに対応する主パターン部分と、高精度除去パターンの周辺パターンに対応する周辺パターン部分とが設けられている請求項８に記載の画像形成装置。
【請求項１０】
上記高精度除去パターン用除去版は面分割された複数の子除去版の集合体である請求項８に記載の画像形成装置。
【請求項１１】
上記高精度除去パターンは主パターンと該主パターンの周辺領域にある周辺パターンとからなり、上記子除去版それぞれは、前記高精度除去パターンを面分割してなる主パターン分割部分に対応した凸部と周辺パターン分割部分に対応した凸部とを有している請求項１０に記載の画像形成装置。
【請求項１２】
上記子除去版をそれぞれ独立に位置調整可能な支持手段で支持し、子除去版相互の位置合わせが可能に設けられている請求項１０または１１に記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）用カラーフィルタ（ＣＦ）や有機ＥＬディスプレイなどの電子ディスプレイ用画素パターンを始めとする高精細な画像を印刷方法で形成する方法と装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来よりカラーフィルタの各種製造方法が提案されているように、高精細画像を高精度に形成する手段は各種検討されている。中でも高精細、高品質の画像が印刷法により安定して実現できれば、一般に短い工程でコストダウンが図れるため、高精細の印刷法による画像形成に対する期待が大きい。この印刷法での高精細画像形成方法の有力な提案として、例えば特許文献１、非特許文献１に記載される反転方式の印刷法がある。
これは、シリコン樹脂面にインキを塗布して塗布面を形成する塗布工程と、該塗布面に所定の形状で形成された凸版である除去版を押圧してその除去版の凸部分にインキを転写除去する除去工程と、塗布面に残ったインキを基板に転写する転写工程とからなる方法であり、塗布とインキ転移を独立に制御できるために膜厚均一性が良いこと、糸引き現象が発生しない良好な転移を低印圧で実現するために、高精細で歪みの少ない画像を形成する上で有利であった。
【特許文献１】特開平１１−０５８９２１号公報
【非特許文献１】「Ｅ  Ｅｘｐｒｅｓｓ」  ２００３年１１月１５日号  ｐ５４〜６１
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、上記の反転方式の印刷法において高精細な画像を形成するとはいえ、大型基板上の広い領域に高精細の画像パターンを現実させる場合には、対応する除去版を作製することが極めて難しいという問題があった。すなわち、画像パターンが、その画像パターンの形成に際して高い精度を要求しないパターンのみからなるものであれば、画像の変形量や精度は基板の面積拡大が大きくとも充分許容されるため除去版の絶対位置精度も高度なレベルを必要としないのに対し、高精細なパターンを含む場合、基板の大型化に対応しつつ高精度を保つ必要から除去版の製造と反転印刷の除去・転写工程上の管理とが格段に難しくなる。例えば、基板の大型化に対応して、除去版のサイズも大きくしていくと、高精度の大型刷版を製造することが一般的には必須になる。これは大型の均一素材を準備する必要があるし、版としての加工プロセスもより難しくなる。また、除去から転写に至る工程での歪みも加わると、最終的に反転印刷された画像の精度を保証することが極めて困難になるという問題がある。
そこで本発明は上記事情に鑑み、上記反転方式の印刷法を利用して大型サイズであっても、高精度で塗布液の転写除去を行なえるようにすることを課題とし、大型基板上の広い領域にも高精細なパターンを実現することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
（請求項１の発明）
本発明は上記課題を考慮してなされたもので、塗布ローラの周面全体に塗布液を塗布して塗布面を形成する塗布工程と、前記塗布面に対し、画像パターンのネガパターンに対応する凸版である除去版を押圧してこの除去版の凸部に塗布面のネガパターン対応領域から塗布液を転写除去する除去工程と、塗布面に残った画像パターン対応領域の塗布液を基板に転写する転写工程とにより、基板に塗布液からなる画像パターンを形成する画像形成方法において、前記除去工程は、単一の塗布面に対して除去版によるネガパターン対応領域からの転写除去を、ネガパターンの一部分ごとに分割して順次行なうことを特徴とする画像形成方法を提供して、上記課題を解消するものである。
【０００５】
（請求項２の発明）
また、本発明の画像形成方法において、上記ネガパターンが、高精度除去部分とこの高精度除去部分以外の非高精度除去部分とに区分され、上記除去工程は、前記高精度除去部分に対応した高精度除去パターンの凸部を有する高精度除去パターン用除去版による高精度除去工程と、前記非高精度除去部分に対応した非高精度除去パターンの凸部を有する非高精度除去パターン用除去版による非高精度除去工程とからなるものとすることが可能である。
【０００６】
（請求項３の発明）
また、本発明の画像形成方法において、上記高精度除去パターンは主パターンと該主パターンの周辺領域にある周辺パターンとからなり、上記高精度除去パターン用除去版に、前記高精度除去パターンの主パターンに対応する主パターン部分と、高精度除去パターンの周辺パターンに対応する周辺パターン部分とが設けられているものとすることが可能である。
【０００７】
（請求項４の発明）
また、本発明の画像形成方法において、上記高精度除去パターン用除去版は面分割された複数の子除去版の集合体として設けられ、該子除去版の集合体により上記高精度除去パターンが形成されるものとすることが可能である。
【０００８】
（請求項５の発明）
また、本発明の画像形成方法において、上記高精度除去パターンは主パターンと該主パターンの周辺領域にある周辺パターンとからなり、上記子除去版それぞれに前記高精度除去パターンを面分割してなる主パターン分割部分と周辺パターン分割部分とが設けられているものとすることが可能である。
【０００９】
（請求項６の発明）
また、本発明の画像形成方法において、上記子除去版をそれぞれ独立に位置調整可能な支持手段で支持し、子除去版相互の位置合わせが可能に設けられているものとすることが可能である。
【００１０】
（請求項７の発明）
そして、もう一つの発明は、塗布ローラの周面全体に塗布液が塗布されて塗布面が形成される塗布ローラと、前記塗布ローラの塗布面に対して画像パターンのネガパターン対応領域に対応した凸部を押圧してネガパターン対応領域の塗布液を転写除去する除去版とを備え、塗布面に残った画像パターン対応領域の塗布液を基板に転写して、基板に塗布液からなる画像パターンを形成する構成とした画像形成装置において、画像パターンのネガパターンの一部分ごとに対応するパターンの凸部を有する複数の除去版を備えていることを特徴とする画像形成装置であり、この画像形成装置を提供して上記課題を解消するものである。
【００１１】
（請求項８の発明）
また、本発明の画像形成装置において、上記ネガパターンが、高精度除去部分とこの高精度除去部分以外の非高精度除去部分とに区分され、前記高精度除去部分に対応した高精度除去パターンの凸部を有する高精度除去パターン用除去版と、前記非高精度除去部分に対応した非高精度除去パターンの凸部を有する非高精度除去パターン用除去版とを備えるものとすることが可能である。
【００１２】
（請求項９の発明）
また、本発明の画像形成装置において、上記高精度除去パターンは、主パターンと該主パターンの周辺領域にある周辺パターンとからなり、上記高精度除去パターン用除去版に、前記高精度除去パターンの主パターンに対応する主パターン部分と、高精度除去パターンの周辺パターンに対応する周辺パターン部分とが設けられているものとすることが可能である。
【００１３】
（請求項１０の発明）
また、本発明の画像形成装置において、上記高精度除去パターン用除去版は面分割された複数の子除去版の集合体であるものとすることが可能である。
【００１４】
（請求項１１の発明）
また、本発明の画像形成装置において、上記高精度除去パターンは主パターンと該主パターンの周辺領域にある周辺パターンとからなり、上記子除去版それぞれは、前記高精度除去パターンを面分割してなる主パターン分割部分に対応した凸部と周辺パターン分割部分に対応した凸部とを有しているものとすることが可能である。
【００１５】
（請求項１２の発明）
また、本発明の画像形成装置におて、上記子除去版をそれぞれ独立に位置調整可能な支持手段で支持し、子除去版相互の位置合わせが可能に設けられているものとすることが可能である。
【発明の効果】
【００１６】
（請求項１の効果）
本発明の方法によれば、除去工程が、単一の塗布面に対して除去版によるネガパターン対応領域からの転写除去を、ネガパターンの一部分ごとに分割して順次行なうものであるので、形成すべき画像パターンが大型のものであっても、ネガパターンの一部分ごとに対応した複数の除去版を用いればよく、その除去版それぞれを小型のものとすることができる。そして大型除去版自体に生じ易い歪みによる影響を受けずに塗布面から精度よく塗布液を転写除去でき、よって基板に高精度で画像パターンを形成することができるなど、実用性に優れた効果を奏するものである。
【００１７】
（請求項２の効果）
また、本発明の方法において、上記ネガパターンが、高精度除去部分とこの高精度除去部分以外の非高精度除去部分とに区分され、上記除去工程を、前記高精度除去部分に対応した高精度除去パターンの凸部を有する高精度除去パターン用除去版による高精度除去工程と、前記非高精度除去部分に対応した非高精度除去パターンの凸部を有する非高精度除去パターン用除去版による非高精度除去工程とにすることで、その高精度除去工程と非高精度除去工程とのそれぞれの転写除去に係るスピードや時間、温度などの転写除去条件を変えることができ、高精度除去工程と非高精度除去工程とをそれぞれ適した転写除去条件の下で実施することができるようになる。
【００１８】
（請求項３の効果）
また、本発明の方法において、上記高精度除去パターンが主パターンと該主パターンの周辺領域にある周辺パターンとからなり、上記高精度除去パターン用除去版に、前記高精度除去パターンの主パターンに対応する主パターン部分と、高精度除去パターンの周辺パターンに対応する周辺パターン部分とが設けられているものとすることで、高精度除去パターン用除去版をセットするときに周辺パターンが主パターンの位置調整に使用することができ、よって主パターンの正確なセッティングができる。
【００１９】
（請求項４の効果）
また、本発明の方法において、上記高精度除去パターン用除去版を、面分割された複数の子除去版の集合体とし、該子除去版の集合体により上記高精度除去パターンを形成することで、版面積の大きい一つの高精度除去パターン用除去版の作製に比べて版面積の小さい高精度の子除去版の作製が容易であり、高精度除去パターンの凸部を有する除去版をより正確に得ることができる。そして、高精度子除去版の凸部のパターンが高精度子除去版相互で対称関係にあるものであれば、さらに版作製コストを低減させることができるようになる。
【００２０】
（請求項５の効果）
また、本発明の方法において、上記高精度除去パターンを主パターンと該主パターンの周辺領域にある周辺パターンとし、上記子除去版それぞれに前記高精度除去パターンを面分割してなる主パターン分割部分と周辺パターン分割部分とを設けるようにすれば、前記周辺パターンを、子除去版相互の位置間隔の調整に用いることができ、より正確な高精度除去パターンが構成できるようになる。
【００２１】
（請求項６の効果）
また、本発明の方法において、上記子除去版をそれぞれ独立に位置調整可能な支持手段で支持し、子除去版相互の位置合わせが可能に設けられているものとすれば、子除去版自体を直接取り扱うことなく子除去版相互の位置間隔の調整が行なえ、その位置間隔の調整に際して子除去版を直接扱うことによる変形や歪みの発生を未然に防止できる。
【００２２】
（請求項７の効果）
さらに、本発明の装置によれば、ネガパターンの一部分ごとに対応するパターンの凸部を有する複数の除去版を備えているので、形成すべき画像パターンが大型のものであっても、その除去版それぞれを小型のものとすることができる。そして大型除去版自体に生じ易い歪みによる影響を受けずに塗布面から精度よく塗布液を転写除去でき、よって基板に高精度で画像パターンを形成することができる。そして、何れかの除去版に損傷や不具合が生じた場合でも全ネガパターンに対応する全部の除去版を交換する必要はなく、版不良発生時の対処が容易になる。
【００２３】
（請求項８の効果）
また、本発明の装置において、上記ネガパターンを、高精度除去部分とこの高精度除去部分以外の非高精度除去部分とに区分し、前記高精度除去部分に対応した高精度除去パターンの凸部を有する高精度除去パターン用除去版と、前記非高精度除去部分に対応した非高精度除去パターンの凸部を有する非高精度除去パターン用除去版とを備えるものとすることで、除去工程を、高精度除去パターン用除去版による転写除去を行なう高精度除去工程と、非高精度除去パターン用除去版による転写除去による非高精度除去工程とに分けることができ、よって、その高精度除去工程と非高精度除去工程とのそれぞれの転写除去に係るスピードや時間、温度などの転写除去条件を変えることができ、高精度除去工程と非高精度除去工程とをそれぞれ適した転写除去条件の下で実施できるようになる。
【００２４】
（請求項９の効果）
また、本発明の装置において、上記高精度除去パターンは、主パターンと該主パターンの周辺領域にある周辺パターンとからなり、上記高精度除去パターン用除去版に、前記高精度除去パターンの主パターンに対応する主パターン部分と、高精度除去パターンの周辺パターンに対応する周辺パターン部分とが設けられているものとすることで、高精度除去パターン用除去版をセットするときに周辺パターンが主パターンの位置調整に使用することができ、よって主パターンの正確なセッティングができる。
【００２５】
（請求項１０の効果）
また、本発明の装置において、上記高精度除去パターン用除去版を面分割された複数の子除去版の集合体とすることで、上述したように版面積の大きい一つの高精度除去パターン用除去版の作製に比べて版面積の小さい高精度の子除去版の作製が容易であり、高精度除去パターンの凸部を有する除去版をより正確に得ることができる。そして、高精度子除去版の凸部のパターンが高精度子除去版相互で対称関係にあるものであれば、さらに版作製コストを低減させることができる。
【００２６】
（請求項１１の効果）
また、本発明において、上記高精度除去パターンを主パターンと該主パターンの周辺領域にある周辺パターンとし、上記子除去版それぞれは、前記高精度除去パターンを面分割してなる主パターン分割部分に対応した凸部と周辺パターン分割部分に対応した凸部とを有しているものとすることで、上述したように前記周辺パターンを、子除去版相互の位置間隔の調整に用いることができ、より正確な高精度除去パターンが構成できる。
【００２７】
（請求項１２の効果）
また、本発明の装置において、上記子除去版をそれぞれ独立に位置調整可能な支持手段で支持し、子除去版相互の位置合わせが可能に設けられているものとすることで、上述したように子除去版自体を直接取り扱うことなく子除去版相互の位置間隔の調整が行なえ、その位置間隔の調整に際して子除去版を直接扱うことによる変形や歪みの発生を未然に防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
つぎに本発明を、液晶ディスプレイ用カラーフィルタを得るための高精細なパターンを四面にして多面付けした構成の画像パターンを形成する例を挙げて説明する。
【００２９】
（画像形成装置の基本構成）
図１から図３は、反転印刷方式によってカラーフィルタの四色（黒、赤、緑、青）パターンを多面付したフィルタパターンをガラス基板上に形成する工程を模式的に表している。図に示された画像形成装置１では、まず、黒（ＢＫ）の画像パターン（ブラックマトリックス）を形成するための塗布版である塗布ローラ２ＢＫ、赤（Ｒ）の画像パターンを形成するための塗布版である塗布ローラ２Ｒ、緑（Ｇ）の画像パターンを形成するための塗布版である塗布ローラ２Ｇ、青（Ｂ）の画像パターンを形成するための塗布版である塗布ローラ２Ｂそれぞれが、塗布液である対応色のインキを受けるための、例えばシリコン樹脂面からなる周面を備え、塗布液供給機構部３でそれぞれの塗布ローラ２ＢＫ、２Ｒ、２Ｇ、２Ｂにインキが膜厚均一にして塗布される。
このように塗布液供給機構部３においては、塗布ローラ２ＢＫ、２Ｒ、２Ｇ、２Ｂそれぞれで、周面における画像パターンに対応する画像パターン対応領域とその画像パターンのネガパターンに対応するネガパターン対応領域との両者にインキを塗布して塗布面を形成している（図１）。
【００３０】
インキが塗布されて周面に一様の塗布面を形成した塗布ローラ２ＢＫ、２Ｒ、２Ｇ、２Ｂが一方向（図上、左側）に移動する位置に、前記塗布ローラそれぞれに対応したインキによる画像パターンのネガパターンを転写除去するための除去版４ＢＫ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂを配設してなる塗布液転写除去機構部５が設けられ、この塗布液転写除去機構部５の各除去版４ＢＫ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂに対応する塗布ローラ２ＢＫ、２Ｒ、２Ｇ、２Ｂが転動しながら押圧するように設けられてる。
そしてこの塗布液転写除去機構部５では、塗布ローラ２ＢＫ、２Ｒ、２Ｇ、２Ｂを除去版４ＢＫ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂに押圧することで、前記除去版４ＢＫ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂの凸部に前記ネガパターン対応領域から塗布液を転写除去し、塗布ローラ２ＢＫ、２Ｒ、２Ｇ、２Ｂそれぞれに、上記フィルタパターンを組み合わせ形成する上で必要な各画像パターンを形成する（図２）。
【００３１】
それぞれ画像パターンが形成された塗布ローラ２ＢＫ、２Ｒ、２Ｇ、２Ｂが移動する側にガラス板などの透明板からなる基板６を配置固定した転写機構部７が位置し、この基板６に塗布ローラ２ＢＫ、２Ｒ、２Ｇ、２Ｂから順次画像パターンが転写され、これらが組み合わされて多面付けのフィルタパターンが形成されるようにしている（図３）。
【００３２】
（画像パターン、ネガパターン）
上記画像形成装置１における除去版４ＢＫ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂそれぞれは精細なパターンのある画像パターンを得るために用いられるもので、その画像パターンを精度よく形成するための工夫を本画像形成装置１は備えている。その点を以下に説明する。なお、説明を容易にするために、塗布ローラ２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ中一つの塗布ローラ２Ｒでの単一の塗布面に対応する除去版４Ｒに基づいて説明する。
図４は多面付け構成とし、塗布ローラ２Ｒに形成する赤の画像パターンＰＲを概略的に示していて、塗布ローラ２Ｒでの画像パターン対応領域を平面に展開した状態とするものがこの画像パターンＰＲに一致する。また、図５は画像パターンＰＲのネガパターンＰＲｎであり、塗布ローラ２Ｒにおける前記ネガパターンＰＲｎに対応するネガパターン対応領域を平面に展開した状態とするとこのネガパターンＰＲｎに一致する。
【００３３】
（除去版分割）
本発明において、上記ネガパターンＰＲｎを、ストライプとアライメントマークの反転部分である高精度除去部分ＰＲｎ１（図５において二点鎖線に囲まれた部分）と、この高精度除去部分ＰＲｎ１以外の非高精度除去部分ＰＲｎ２（図５において二点鎖線から外側の部分）とに区分されている。
さらに、本発明において除去版４Ｒは複数からなるものであって、塗布ローラ２Ｒのネガパターン対応領域における上記高精度除去部分ＰＲｎ１のインキを転写除去するための高精度除去パターン用除去版８と、同ネガパターン対応領域における上記非高精度除去部分ＰＲｎ２のインキを転写除去するための非高精度除去パターン用除去版９とからなるものである。
図６に示すごとく前記高精度除去パターン用除去版８は、少なくとも高精度除去部分ＰＲｎ１のインキを転写除去できるように、高精度除去部分ＰＲｎ１に対応してこの高精度除去部分ＰＲｎ１を含む高精度除去パターンＰＲｎ１０（図５においては三点鎖線に囲まれた部分）の配置とした凸部１０を有する。また、前記非高精度除去パターン用除去版９は、少なくとも非高精度除去部分ＰＲｎ２のインキを転写除去できるように、非高精度除去部分ＰＲｎ２に対応してこの非高精度除去部分ＰＲｎ２を含む非高精度除去パターンＰＲｎ２０（図５においては四点鎖線の外側の部分）の配置とした凸部１１を有する。この高精度除去パターンＰＲｎ１０と非高精度除去パターンＰＲｎ２０とは境界部でオーバーラップしていて、以下の転写除去に際してネガパターン対応領域にインキが残存しないようにしている。勿論、高精度除去パターンＰＲｎ１０と非高精度除去パターンＰＲｎ２０との両者はネガパターン中のみに配置されるものである（図５）。
【００３４】
（除去工程）
このように除去版４Ｒは高精度除去パターン用除去版８と非高精度除去パターン用除去版９とからなるものである。そして、塗布ローラ２Ｒからのインキの転写除去は高精度除去パターン用除去版８と非高精度除去パターン用除去版９とのそれぞれで行われるものであって、高精度除去パターン用除去版８の凸部１０により高精度除去パターンＰＲｎ１０でインキをネガパターン対応領域中から除去する高精度除去工程を行ない、つぎに非高精度除去パターン用除去版９の凸部１１により非高精度除去パターンＰＲｎ２０でインキをネガパターン対応領域中から除去する非高精度除去工程を行なう。この二種類の除去工程は逆順も可能である。
分けられた上記除去工程を経ることで塗布ローラ２Ｒのネガパターン対応領域のインキが転写除去されているため、塗布ローラ２Ｒの画像パターン領域のみにインキが残り、赤のインキによる画像パターンＰＲが塗布ローラ２Ｒに形成される。そして、この塗布ローラ２Ｒから基板６に転写することでその基板６に画像パターンＰＲが形成される。
【００３５】
上記除去版４Ｇ、４Ｂにおいて上記除去版４Ｒと同じように分割された高精度除去パターン用除去版と非高精度除去パターン用除去版とからなる構成である。そして、塗布ローラ２Ｇ、２Ｂに対する画像パターンそれぞれの形成も高精度除去工程と非高精度除去工程とを経るものであり、このように転写除去にて形成された緑の画像パターンを塗布ローラ２Ｇから基板６に転写し、また、青の画像パターンを塗布ローラ２Ｂから基板６に転写する。さらに黒の画像パターンの形成にあっても同様である。
【００３６】
（子除去版）
上述した例は、除去版４Ｒを高精度除去パターン用除去版８と非高精度除去パターン用除去版９とに分ける例である。そして、高精度除去パターン用除去版８はさらに分けることが可能であり、その例を以下に示す。
図８に示すように高精度除去パターン用除去版８を面分割された二つの子除去版１３の集合体として設けており、この二つの子除去版１３の集合体における凸部１０により上記高精度除去パターンＰＲｎ１０が形成される。面分割は高精度除去パターンＰＲｎ１０中における面付けパターンのレイアウトに依存しており、図示の例では高精度除去パターンＰＲｎ１０の凸部が位置しない中央で縦割りする面分割を行なっている。
また、高精度除去パターンＰＲｎ１０は、図示されているように画像パターンでのストライプパターン部分を得るための主パターンＰＲｎ１１とこの主パターンＰＲｎ１１の周辺領域に位置しアライメントマークの形成部分である周辺パターンＰＲｎ１２とからなるものである。そして、面分割された子除去版１３それぞれにおいても、前記高精度除去パターンＰＲｎ１０を面分割してなる主パターン分割部分と周辺パターン分割部分とが設けられていて、図示の例においては子除去版１３それぞれに対称位置にしてアライメントマークの形成部分を配置している。
このように上記周辺パターン分割部分は、子除去版１３それぞれの位置制御に利用できるパターンを備えた凸部１０から構成されていて、以下の手段にてこの周辺パターン分割部分での凸部１０を利用して子除去版１３の位置合わせを行なうようにしている。
【００３７】
（位置合わせ）
本画像形成装置１での塗布液転写除去機構部５において上記子除去版１３の集合体として上記高精度除去パターン用除去版８を構成するものの場合、子除去版１３をそれぞれ独立に移動できる支持手段である個別定盤１４で支持し、さらに前記個別定盤１４を位置補正時において共通定盤１５で移動可能に支持する構造としている。このようにして個別定盤１４に支持された各子除去版１３は高精度除去パターンＰＲｎ１０で凸部１０が配列されるように位置を調整する必要がある。そこで塗布液除去機構部５において、前記個別定盤１４それぞれに対応する位置調整手段１６が設けられており、この位置調整手段１６にて子除去版１３それぞれの周辺パターン分割部分の凸部における位置合わせに利用するパターンの位置を読取り、予め入力された設計位置情報と子除去版１３それぞぞれの位置情報との差異に基づいた補正量で個別定盤１４を移動させて子除去版相互の位置合わせを行なうように設けられているものである。このように子除去版１３それぞれを単独で移動できるようにして子除去版相互の位置合わせを行なうようにしているので、高精度除去パターン用除去版８を構成する子除去版１３の数が多い場合でも、高精度除去パターンＰＲｎ１０が容易に得られるようになる。
【００３８】
上記実施形態については四面に多面付けした構成を示したが、勿論、例えば図１０のように十字のパターンを一面付けする形態も取り得る。
この場合、十字を含む高精度除去部分ＰＲｎ１と十字を含まない非高精度除去部分ＰＲｎ２とを予め領域分割する（図１０（イ））。そして、高精度除去部分ＰＲｎ１と非高精度除去部分ＰＲｎ２の境界をオーバーラップするように高精度除去パターンＰＲｎ１０と非高精度除去パターンＰＲｎ２０を設定する（図１０（ロ））。
そして上述したように前記高精度除去パターンＰＲｎ１０の配置とした凸部を有する高精度除去パターン用除去版と、前記非高精度除去パターンＰＲｎ２０の配置とした凸部を有する非高精度除去パターン用除去版とを用いて転写除去するものであって、高精度除去パターン用除去版の凸部により高精度除去パターンＰＲｎ１０で塗布ローラのインキをネガパターン対応領域中から除去する高精度除去工程を行ない、つぎに非高精度除去パターン用除去版の凸部により非高精度除去パターンＰＲｎ２０でインキをネガパターン対応領域中から除去する非高精度除去工程を行なう（この二種類の除去工程は逆順も可能である）。
分けられた上記除去工程を経ることで塗布ローラのネガパターン対応領域のインキが転写除去されているため、塗布ローラの画像パターン領域のみにインキが残り、インキによる画像パターン（即ち、十字のパターン）が塗布ローラに形成される。そして、この塗布ローラから基板に転写することで基板に十字の画像パターンが形成できる。
【００３９】
上記実施の形態は液晶ディスプレイ用のカラーフィルタを得る例を示し、塗布液をインキとして説明しているが、本発明はこれに限定されるものではなく、それぞれのパターンが有色発光する物質を選択した塗布液でもよい。即ち、色ごとに組み合わせる複数の画像パターンを構成する材料がＥＬ材料であってもよい。また、本発明での塗布液が発色するものに限定されるものではなく、それぞれのパターン（組み合わせパターンとしたときの各パターン）が異なる機能を有する複数の物質であってもよい。また、基板はガラス板などの剛性板に限られず、フィルムなどのフレキシブルなものであってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】画像形成装置による塗布液供給を示す説明図である。
【図２】画像形成装置による塗布液の転写除去を示す説明図である。
【図３】画像形成装置による転写を示す説明図である。
【図４】画像パターンを示す説明図である。
【図５】画像パターンのネガパターンを示す説明図である。
【図６】本発明に係る一実施例における高精度除去パターン用除去版での高精度除去パターンを示す説明図である。
【図７】本発明に係る一実施例における非高精度除去パターン用除去版での非高精度除去パターンを示す説明図である。
【図８】他の実施の例における高精度除去パターン用除去版の子除去版による高精度除去パターンを示す説明図である。
【図９】他の実施の例における子除去版の位置合わせを示す説明図である。
【図１０】一面付けの例を示すもので、（イ）はネガパターンを高精度除去部分と非高精度除去部分とに領域分離した状態を示す説明図、（ロ）は高精度除去パターンと非高精度除去パターンとを示す説明図である。
【符号の説明】
【００４１】
１…画像形成装置
２ＢＫ、２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ…塗布ローラ
４ＢＫ、４Ｒ、４Ｇ、４Ｂ…除去版
５…塗布液転写除去機構部
６…基板
７…転写機構部
８…高精度除去パターン用除去版
９…非高精度除去パターン用除去版
１３…子除去版
１４…個別定盤
１６…位置調整手段
ＰＲ…Ｒ画像パターン
ＰＲｎ…Ｒ画像パターンのネガパターン
ＰＲｎ１…高精度除去部分
ＰＲｎ１０…高精度除去パターン
ＰＲｎ２…非高精度除去部分
ＰＲｎ２０…非高精度除去パターン
ＰＲｎ１１…主パターン
ＰＲｎ１２…周辺パターン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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