(57)【要約】【課題】真空槽内の部分表面に付着した蒸着材料の剥離に起因する膜質の劣化を防止する技術を提供する。【解決手段】本発明の有機薄膜形成装置は、真空槽２内に設けられた有機材料用蒸着源を有し、真空槽２内の所定の部位に、溶射により表面処理された剥離防止処理部２０が設けられている。剥離防止処理部２０は、表面粗さＲａが、１０μｍ以上６０μｍ以下である。剥離防止処理部２０は、例えば、アークワイヤー溶射によって表面処理され形成される。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空槽と、前記真空槽内に設けられた有機材料用蒸着源とを有する有機薄膜形成装置であって、
前記真空槽内の所定の部位に、溶射により表面処理された剥離防止処理部が設けられている有機薄膜形成装置。
【請求項２】
前記剥離防止処理部の表面粗さＲａが、１０μｍ以上６０μｍ以下である請求項１記載の有機薄膜形成装置。
【請求項３】
前記剥離防止処理部が、アークワイヤー溶射によって表面処理された請求項１又は２のいずれか１項記載の有機薄膜形成装置。
【請求項４】
前記剥離防止処理部が、前記蒸着源から蒸発される有機材料の蒸気を制御するためのシャッターに設けられている請求項１乃至３のいずれか１項記載の有機薄膜形成装置。
【請求項５】
前記剥離防止処理部が、前記蒸着源から蒸発される有機材料を遮蔽するための防着部材に設けられている請求項１乃至４のいずれか１項記載の有機薄膜形成装置。
【請求項６】
前記剥離防止処理部が、成膜対象物に対して所定のパターンを形成するためのマスクに設けられている請求項１乃至５のいずれか１項記載の有機薄膜形成装置。
【請求項７】
前記剥離防止処理部が、当該真空槽の内壁面に設けられている請求項１乃至６のいずれか１項記載の有機薄膜形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば有機ＥＬ素子の発光層に用いられる有機薄膜を真空蒸着によって形成するための薄膜形成装置に関し、特に、真空槽内の有機材料の付着を防止する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、フルカラーフラットパネルディスプレイ用の素子として、有機ＥＬ素子が注目されている。有機ＥＬ素子は、蛍光性有機化合物を電気的に励起して発光させる自発光型素子で、高輝度、高視野角、面発光、薄型で多色発光が可能であり、しかも数Ｖという低電圧の直流印加で発光する全固体素子で、かつ低温においてもその特性の変化が少ないという特徴を有している。
【０００３】
図３は、従来の有機ＥＬ素子を作成するための薄膜形成装置の概略構成図である。
図３に示すように、この薄膜形成装置１０１にあっては、真空槽１０２の下部に蒸発源１０３が配設されるとともに、この蒸発源１０３の上方に成膜対象物である基板１０４が配置されている。
【０００４】
そして、蒸発源１０３から蒸発される有機材料の蒸気を、マスク１０５を介して基板１０４に蒸着させることによって所定パターンの有機薄膜を形成するようになっている。
【０００５】
ところで、このような薄膜形成装置１０１においては、蒸着源から蒸発する蒸着材料が真空槽１０２内の種々の部材（例えば、マスク１０５やシャッター１０６、１０７等）の表面に付着する。
【０００６】
そして、この付着した蒸着材料がプロセス中に真空槽１０２内の部材表面から剥離し、蒸着材料の蒸気に混入したり基板に付着すると、膜質が劣化するという問題がある。
【０００７】
そこで、従来、真空槽内の部分表面に付着した蒸着材料を変質させないようにして膜質の劣化を防止する技術が提案されている。
【０００８】
【特許文献１】
特開２００２−１９０３８９号
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような従来技術によっても、真空槽内の部分表面に付着した蒸着材料の変質を防止することは困難であり、真空槽内の部分表面に付着した蒸着材料の剥離を防止する技術が求められている。
【００１０】
本発明は、このような従来の技術の課題を解決するためになされたもので、真空槽内の部分表面に付着した蒸着材料の剥離に起因する膜質の劣化を防止する技術を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するためになされた請求項１記載の発明は、真空槽と、前記真空槽内に設けられた有機材料用蒸着源とを有する有機薄膜形成装置であって、前記真空槽内の所定の部位に、溶射により表面処理された剥離防止処理部が設けられているものである。
請求項２記載の発明は、請求項１記載の発明において、前記剥離防止処理部の表面粗さＲａが、１０μｍ以上６０μｍ以下であるものである。
請求項３記載の発明は、請求項１又は２のいずれか１項記載の発明において、前記剥離防止処理部が、アークワイヤー溶射によって表面処理されたものである。
請求項４記載の発明は、請求項１乃至３のいずれか１項記載の発明において、前記剥離防止処理部が、前記蒸着源から蒸発される有機材料の蒸気を制御するためのシャッターに設けられているものである。
請求項５記載の発明は、請求項１乃至４のいずれか１項記載の発明において、前記剥離防止処理部が、前記蒸着源から蒸発される有機材料を遮蔽するための防着部材に設けられているものである。
請求項６記載の発明は、請求項１乃至５のいずれか１項記載の発明において、前記剥離防止処理部が、成膜対象物に対して所定のパターンを形成するためのマスクに設けられているものである。
請求項７記載の発明は、請求項１乃至６のいずれか１項記載の発明において、前記剥離防止処理部が、当該真空槽の内壁面に設けられているものである。
【００１２】
本発明の場合、真空槽内の所定の部位に、溶射により表面処理された剥離防止処理部によって有機材料との密着性が向上するため、真空槽内に付着した蒸着材料の剥離を防止することができ、これにより膜質の向上を図ることが可能になる。
【００１３】
また、本発明において、剥離防止処理部の表面粗さＲａを、１０μｍ以上６０μｍ以下となるようにすれば、再現性良く、かつ、容易に剥離防止処理部を形成することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して詳細に説明する。
【００１５】
図１は、本発明の有機薄膜形成装置の実施の形態の概略構成図である。
図１に示すように、本実施の形態の有機薄膜形成装置１は、図示しない真空排気系に接続された真空槽２を有し、この真空槽２の下部には、一対の蒸着源３が設けられている。
【００１６】
これらの蒸着源３には、例えば、有機ＥＬ素子の発光層を形成するための有機材料が収容されるようになっている。
【００１７】
また、各蒸着源３の上方近傍には、各蒸着源３から蒸発される有機材料の蒸気を制御するための第１のシャッター４が設けられている。
【００１８】
一方、真空槽２内の上部には、成膜対象物である基板１０を保持するための基板ホルダー５が設けられている。
【００１９】
そして、基板ホルダー５に保持された基板１０の下方近傍には、基板１０に対して所定のパターンを形成するためのマスク６が設けられている。
【００２０】
さらに、マスク６の下方には、各蒸着源３からの有機材料の蒸気を制御するための第２のシャッター７が設けられている。
【００２１】
さらにまた、本実施の形態においては、蒸着源３と基板ホルダー５との間の空間を取り囲むように防着部材８が設けられている。
【００２２】
本発明においては、真空槽２内に、溶射により表面処理された以下に説明する剥離防止処理部２０が設けられている。
【００２３】
図１に示すように、本実施の形態においては、第１及び第２のシャッター４、７の蒸着源３側の表面４ａ、７ａに、それぞれ剥離防止処理部２０が設けられている。
【００２４】
また、マスク６の蒸着源３側の表面と基板ホルダー５の蒸着源３側の表面６ａ、５ａにも、それぞれ剥離防止処理部２０が設けられている。
【００２５】
さらに、防着部材８の内側の表面８ａにも剥離防止処理部２０が設けられている。
【００２６】
本発明の場合、剥離防止処理部２０の母材の種類は特に限定されることはないが、耐熱性やコストの観点からは、例えばステンレスを用いることが好ましい。
【００２７】
一方、溶射材料は特に限定されることはないが、有機材料との密着性や反応性の観点からは、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、アルミニウム合金等を用いることが好ましい。
【００２８】
また、溶射方法は特に限定されることはなく、例えば、アークワイヤー溶射、フレーム（ガスワイヤー）溶射、プラズマ溶射等を用いることができる。
ただし、コストを抑える観点からは、アークワイヤー溶射、フレーム（ガスワイヤー）溶射を用いることが好ましい。
【００２９】
そして、剥離防止処理部２０の表面粗さＲａは特に限定されることはないが、必要な再現性の確保及び技術的困難性を考慮すると、１０μｍ以上６０μｍ以下とすることが好ましく、より好ましくは１２μｍ以上３５μｍ以下である。
【００３０】
このような構成を有する本実施の形態によれば、真空槽２内に設けた剥離防止処理部２０によって、真空槽２内に付着した蒸着材料の剥離を防止することができ、これにより膜質の向上を図ることができる。
【００３１】
なお、本発明は上述の実施の形態に限られることなく、種々の変更を行うことができる。
例えば、図２に示すように、真空槽２の上面２ａに、上述した剥離防止処理部２０を設けることもできる。
【００３２】
また、上述した部位以外にも、真空槽２内の蒸着材料の付着する可能性のある蒸着源部や種々の部位に、上記剥離防止処理部２０を設けることもできる。
【００３３】
さらに、本発明は、有機ＥＬ素子用の真空蒸着装置のみならず、種々の真空蒸着装置に適用することができる。
【００３４】
ただし、有機ＥＬ素子の発光層に用いられる有機薄膜を真空蒸着によって形成する装置に最も効果的となるものである。
【００３５】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、真空槽内に付着した蒸着材料の剥離を防止することができ、膜質の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の有機薄膜形成装置の実施の形態の概略構成図
【図２】本発明の有機薄膜形成装置の他の実施の形態の概略構成図
【図３】従来の有機ＥＬ素子を作成するための薄膜形成装置の概略構成図
【符号の説明】１…有機薄膜形成装置  ２…真空槽  ３…蒸着源  ４…第１のシャッター  ５…基板ホルダー  ６…マスク  ７…第２のシャッター  １０…基板  ２０…剥離防止処理部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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