(57)【要約】【課題】水平クロストーク現象が抑制された液晶表示装置を提供する。【解決手段】下部基板１００′上に一方向に複数本のデータライン１２７′が配列される。下部基板１００′上部に下部基板１００′に対向する対向面を有する上部基板５００′が位置する。上部基板５００′の対向面上に複数個の領域５４０′により相互に離隔されたストライプ形態の共通電極５３０′が位置するが、各領域５４０′は下部基板１００′のデータライン１２７′のうち一つに対応する。【選択図】図２
2005134882.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部基板と、
前記下部基板上に配列された複数本のデータラインと、
前記下部基板上部に位置して前記下部基板を向い合う対向面を有する上部基板と、
前記上部基板の対向面上に複数個の領域により相互に離隔されたストライプ形態の共通電極が位置するが、前記各領域は前記下部基板のデータラインのうち一つに対応することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記共通電極には実質的に同一な電圧が印加されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記共通電極は透明導電膜であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記透明導電膜はＩＴＯ膜またはＩＺＯ膜であることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記共通電極はホトリソグラフィを用いて同時に形成されたことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記共通電極の少なくとも一側端部に位置して前記共通電極を相互に連結する共通電極連結部をさらに有することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記共通電極と前記共通電極連結部は透明導電膜であることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記透明導電膜はＩＴＯ膜またはＩＺＯ膜であることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記共通電極と前記共通電極連結部はホトリソグラフィを用いて同時に形成されたことを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記下部基板下部に位置する赤色Ｒ、緑色Ｇ及び青色Ｂのバックライトをさらに有することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
下部基板と、
前記下部基板上に配列された複数本のデータラインと、
前記下部基板上部に位置して前記下部基板を向い合う対向面を有する上部基板と、
前記上部基板の対向面上に複数個の領域により相互に離隔されたストライプ形態の共通電極が位置するが、前記各領域は前記下部基板のデータラインのうち一つに対応して、
前記共通電極の少なくとも一側端部に位置して前記共通電極を相互に連結する共通電極連結部と、
を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１２】
前記共通電極には実質的に同一な電圧が印加されることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記共通電極は透明導電膜であることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記透明導電膜はＩＴＯ膜またはＩＺＯ膜であることを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記共通電極及び前記共通電極連結部は透明導電膜であることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記共通電極と前記共通電極連結部はホトリソグラフィを用いて同時に形成されたことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記下部基板下部に位置する赤色Ｒ、緑色Ｇ及び青色Ｂのバックライトをさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
下部基板と、
前記下部基板上に配列された複数本のデータラインと、
前記下部基板上部に前記下部基板を向い合う対向面を有する上部基板が位置するが、前記下部基板と前記上部基板間にはギャップがあって、
前記上部基板の対向面上に複数個の領域により相互に離隔されたストライプ形態の共通電極が位置するが、前記各領域は前記下部基板のデータラインのうち一つに対応して、
前記下部基板と前記上部基板間のギャップ内に配置された液晶を有することを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１９】
前記各領域の幅は前記対応するデータラインの幅と少なくとも同一であることを特徴とする請求項１８に記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
前記共通電極の少なくとも一側端部に位置して前記共通電極を相互に連結する共通電極連結部をさらに有することを特徴とする請求項１８に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置に係り、特にパターニングされた共通電極を有する液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜トランジスタ液晶表示装置（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ；以下、ＴＦＴ  ＬＣＤと称する）はコントラスト比が大きくて、階調表示や動画像具現に適しており、フールカラー（フルカラー）具現が容易な利点により広く使われている。
【０００３】
このようなＴＦＴ  ＬＣＤのディスプレー面積が大きくなり解像度が高まることによって、クロストーク（ｃｒｏｓｓｔａｌｋ）、フリッカー（ｆｌｉｃｋｅｒ）及び残像（ｒｅｓｉｄｕａｌ  ｉｍａｇｅ）のような画像の劣化問題が徐々に重要になっている。このうち、クロストークはホワイトまたはブラック表示が画面の一部領域で行われる時、その上下または左右に位置する領域の階調が前記ホワイトまたはブラック表示により影響を受けて本来の階調表示とは違った階調を表示するようになることをいう。この時、上下方向に位置する領域でクロストークが発生することを垂直形クロストーク（ｖｅｒｔｉｃａｌ  ｃｒｏｓｓｔａｌｋ）といい、左右方向に位置する領域でクロストークが発生することを水平クロストーク（ｈｏｒｉｚｏｎｔａｌ  ｃｒｏｓｓｔａｌｋ）という。これは大面積ＴＦＴ  ＬＣＤで画像品質を大きく低下させる。
【０００４】
図４は、従来の技術による液晶表示装置で水平クロストーク現象が発生した画面に対する平面図であって、前記画面を表示した液晶表示装置はノーマリホワイト（ｎｏｒｍａｌｙ  ｗｈｉｔｅ）型である。
【０００５】
図４を参照すれば、マトリックス状に配列されたウィンドーＷ１１ないしＷ３３を有する画面が現れる。ウィンドーＷ２２にブラックを周辺ウィンドーＷ１１ないしＷ１３、Ｗ２１、Ｗ２３及びＷ３１ないしＷ３３にグレーを表示するために、前記Ｗ１１、Ｗ１２とＷ１３のスキャンラインが選択されて、前記Ｗ１１、Ｗ１２とＷ１３のデータラインに第１電圧が同一に印加される。続いて、Ｗ２１、Ｗ２２とＷ２３のスキャンラインが選択されて、前記Ｗ２１とＷ２３のデータラインには第１電圧が印加されて、前記Ｗ２２のデータラインには第１電圧より高い第２電圧が印加される。最後に、Ｗ３１、Ｗ３２とＷ３３のスキャンラインが選択されて、前記Ｗ３１、Ｗ３２とＷ３３のデータラインに第１電圧が同一に印加される。一方、前記画面全体に位置した共通電極には実質的に同一な電圧が印加される。
【０００６】
前記データラインの電圧は液晶の劣化を防止するために前記各スキャンラインが選択される時間の間周期的にスイング（ｓｗｉｎｇ）する。これにより前記データラインと前記共通電極間には容量結合（ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  ｃｏｕｐｌｉｎｇ）によるカップリングキャパシター（ｃｏｕｐｌｉｎｇ  ｃａｐａｃｉｔｏｒ）が生成されて、これにより前記共通電極に印加された電圧は歪曲（ｄｉｓｔｏｒｔｉｏｎ）される。ひいては、前記データライン電圧が大きいほど前記スイング幅が大きくなって、前記共通電極に印加された電圧の歪みは大きくなる。
【０００７】
前記Ｗ１１、Ｗ１２とＷ１３のスキャンラインが選択されて、前記Ｗ１１、Ｗ１２とＷ１３のデータラインに第１電圧が同一に印加されるので前記Ｗ１１、Ｗ１２とＷ１３の共通電極電圧の歪み程度は実質的に同一である。したがって、クロストークは発生しない。同じ理由で前記Ｗ３１、Ｗ３２とＷ３３においてもクロストークは発生しない。しかし、前記Ｗ２１、Ｗ２２とＷ２３の場合、前記Ｗ２２のデータラインに印加される第２電圧は前記Ｗ２１とＷ２３のデータラインに印加される第１電圧に比べて大きいので前記Ｗ２２の共通電極電圧の歪み程度は前記Ｗ２１とＷ２３の共通電極電圧の歪み程度に比べて甚だしい。したがって、相対的に大きく歪曲された前記Ｗ２２の共通電極電圧は前記Ｗ２１とＷ２３の共通電極電圧に影響を与えて前記Ｗ２１とＷ２３の階調表示を変形させる。結果的に前記Ｗ２１とＷ２３には元来表示しようとしたグレーより明るいグレーを表示するようになる。すなわち、水平クロストークを起こす。
【０００８】
前記共通電極が上部基板全体に位置する場合、前記データラインと前記共通電極間のカップリングキャパシターは容易に生成されることができて、ひいては、前記Ｗ２２の共通電極電圧の歪みは前記Ｗ２１とＷ２３の共通電極電圧に容易に影響を及ぼすことができる。したがって、水平クロストークが容易に起こることができる。
【０００９】
このような水平クロストークを解決するために、カラム反転（ｃｏｌｕｍｎｉｎｖｅｒｓｉｏｎ）駆動方式が採択されている。しかし、これは薄膜トランジスタに印加される電圧の水準を高くして消費電力の増加を招くことになる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明が解決しようとする技術的課題は、前記した従来技術の問題点を解決するためのものであって、水平クロストーク現象が抑制された液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
前記技術的課題を達成するために本発明の一側面は液晶表示装置を提供する。前記液晶表示装置は下部基板を備える。前記下部基板上に複数本のデータラインが配列される。前記下部基板上部に前記下部基板を向い合う対向面を有する上部基板が位置する。前記上部基板の対向面上に複数個の領域により相互に離隔されたストライプ形態の共通電極が位置するが、前記各領域は前記下部基板のデータラインのうち一つに対応する。
【００１２】
前記液晶表示装置の駆動において、前記共通電極には実質的に同一な電圧が印加できる。前記共通電極は透明導電膜であることができる。詳細には前記透明導電膜はＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜またはＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）膜であることができる。また、前記共通電極はホトリソグラフィを用いて同時に形成されることができる。
【００１３】
前記液晶表示装置は前記共通電極の少なくとも一側端部に位置して前記共通電極を相互に連結する共通電極連結部をさらに含むことができる。前記共通電極と前記共通電極連結部は透明導電膜であることができる。詳細には前記透明導電膜はＩＴＯ膜またはＩＺＯ膜であることができる。また、前記共通電極と前記共通電極連結部はホトリソグラフィを用いて同時に形成されることができる。前記液晶表示装置は前記下部基板下部に位置する赤色Ｒ、緑色Ｇ及び青色Ｂのバックライトをさらに含むことができる。
【００１４】
前記技術的課題を達成するために本発明の他の一側面は液晶表示装置を提供する。前記液晶表示装置は下部基板を備える。前記下部基板上に複数本のデータラインが配列される。前記下部基板上部に前記下部基板を向い合う対向面を有する上部基板が位置するが、前記下部基板と前記上部基板間にはギャップ（ｇａｐ）がある。前記上部基板の対向面上に複数個の領域により相互に離隔されたストライプ形態の共通電極が位置するが、前記各領域は前記下部基板のデータラインのうち一つに対応する。前記下部基板と前記上部基板間のギャップ内に液晶が配置される。前記各領域の幅は前記対応するデータラインの幅と少なくとも同一であることができる。
【発明の効果】
【００１５】
上述したように本発明によると、データラインと対応する上部基板上の領域に共通電極が位置しないように形成することによって、前記データラインと前記共通電極間の容量結合によるカップリングキャパシターの生成を抑制することができて、これにより共通電極電圧の歪みが緩和されることができる。結果的に水平クロストーク現象を抑制することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１６】
以下、本発明をさらに具体的に説明するために本発明による望ましい実施例を添付した図面を参照してさらに詳細に説明する。図面において、層が他の層または基板"上"にあると言及される場合にそれは他の層または基板上に直接形成されることができたり、またはそれらの間に第３の層が介在することもできる。明細書全体にかけて同一な参照番号は同一な構成要素を示す。
【００１７】
図１は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を説明するための平面図であって、下部基板と上部基板を同時に示した図面である。
【００１８】
図１を参照すれば、下部基板１００上に一方向に複数個（Ｇ１ないしＧｎ）のゲートライン１０６と前記各ゲートライン１０６に交差する複数個（Ｄ１ないしＤｍ）のデータライン１２７が位置する。前記ゲートライン１０６と前記データライン１２７の交差により定義された列Ａ１ないしＡｍと行を有する単位画素領域がマトリックス状で位置する。前記各単位画素領域には画素電極１５０が位置して、また前記ゲートライン１０６の制御によりスイッチングされて前記データライン１２７に印加された電気的信号を前記画素電極１５０に印加する薄膜トランジスタ１３０が位置する。
【００１９】
一方、前記下部基板１００上に前記下部基板１００と向い合う対向面を有する上部基板５００が位置する。前記下部基板１００と前記上部基板５００間にはギャップがある。前記対向面上に複数個の領域５４０により相互に離隔されたストライプ形態の共通電極５３０が位置するが、前記各領域５４０は前記下部基板１００上のデータライン１２７のうち一つに対応する。言い換えれば、前記共通電極５３０は前記下部基板の単位画素領域の列Ａ１ないしＡｍにそれぞれ対応して位置して、前記下部基板１００のデータライン１２７が位置した領域に対応する領域５４０には位置しない。さらにひいては、前記領域５４０の幅は前記データライン１２７の幅Ｗと少なくとも同一であることができる。すなわち、前記領域５４０の幅は前記データライン１２７の幅Ｗと同じであったりそれより大きくありえる。前記共通電極５３０は透明導電膜であることが望ましい。詳細には前記透明導電膜はＩＴＯ膜またはＩＺＯ膜である。
【００２０】
前記下部基板１００と前記上部基板５００間のギャップ内に液晶（図示せず）が位置する。前記各単位画素領域の画素電極１５０、前記画素電極１５０に対向する前記共通電極５３０及びこれら間に介在した液晶は一つの液晶キャパシターを形成する。前記各薄膜トランジスタ１３０と前記各液晶キャパシターは一つの単位画素を形成し、前記単位画素は列Ａ１ないしＡｍと行で配列されて単位画素アレイを形成する。
【００２１】
上述したような液晶表示素子を駆動することにおいて、前記ゲートライン１０６のうちいずれか一つと前記データライン１２７のうちいずれか一つを選択してこれらそれぞれに電圧を印加することによって、特定単位画素を選択する。前記ゲートライン１０６に印加された電圧によってターンオンされた前記薄膜トランジスタ１３０は前記データライン１２７に印加された電圧を前記画素電極１５０に伝達することによって前記画素電極に電圧が印加される。一方、前記画素電極１５０に対向する前記共通電極５３０には共通電圧が印加される。この時、前記画素電極１５０と前記共通電極５３０間に位置する液晶は前記画素電極１５０と前記共通電極５３０、すなわち、前記液晶キャパシターの両端に印加された電圧差により配列を異にし、これにより前記液晶キャパシターを介して透き通る光の透過度が調節される。これで、前記単位画素において階調表示が具現される。
【００２２】
この時、前記上部基板５００上に位置した共通電極５３０すべてには実質的に同一な電圧が印加される。しかし、前記共通電極５３０は前記下部基板１００上の前記データライン１２７が位置した領域に対応する領域には位置しないことで、前記共通電極５３０と前記選択されたデータライン１２７間に容量結合（ｃａｐａｃｉｔｉｖｅｃｏｕｐｌｉｎｇ）の誘導が抑制されると共に、カップリングキャパシター（ｃｏｕｐｌｉｎｇｃａｐａｃｉｔｏｒ；Ｃｄｃ）の生成が抑制される。したがって、前記共通電極電圧の歪みが抑制される。結果的に、特定階調を表示する選択された単位画素における共通電圧歪みによりこれに隣接した左右の単位画素の階調に影響を及ぼす水平クロストーク現象を改善できる。ひいては、特定単位画素で共通電極電圧の歪みが生成されても前記共通電極電圧の歪みは前記特定単位画素の左右に位置した他の単位画素の共通電極に影響を与えるのが難しい。なぜなら、前述したように前記共通電極５３０はそれら間に位置した前記領域５４０により相互に離隔されて位置したためである。したがって、水平クロストークの発生はさらに抑制されることができる。
【００２３】
一方、前記共通電極５３０に同一な電圧を印加することは共通電圧印加回路（図示せず）から前記共通電極５３０それぞれに連結された配線を介して具現されることができる。
【００２４】
図２は、本発明の他の実施形態による液晶表示装置を説明するための平面図であって、下部基板と上部基板を同時に示した図面である。本実施形態における液晶表示装置は前記第１実施形態における液晶表示装置とは共通電極の構造を異にする。したがって、本実施形態の液晶表示装置は後述することを除いては前記第１実施形態の液晶表示装置と実質的に同一である。
【００２５】
図２を参照すれば、下部基板１００上に位置した複数個（Ｇ１′ないしＧｎ′）のゲートライン１０６′と複数個（Ｄ１′ないしＤｍ′）のデータライン１２７′によりマトリックス状の単位画素領域が定義されて、前記各単位画素領域には画素電極１５０′と薄膜トランジスタ１３０′が位置する。
【００２６】
前記下部基板１００′上に前記下部基板１００′と向い合う対向面を有する上部基板５００′が位置する。前記対向面上に複数個の領域５４０′により相互に離隔されたストライプ形態の共通電極５３０′が位置するが、前記各領域５４０′は前記下部基板１００′上のデータライン１２７′に対応する。言い換えれば、前記共通電極５３０′は前記下部基板上の単位画素領域の列Ａ１′ないしＡｍ′にそれぞれ対応して位置し、前記下部基板１００′のデータライン１２７′が位置した領域に対応する領域５４０′には位置しない。さらにひいては、前記領域５４０′の幅は前記データライン１２７′の幅Ｗ′と同じであったりそれより大きくありえる。
【００２７】
前記上部基板５００′の対向面上には前記共通電極５３０′の一端及び／または他端に位置して前記共通電極を相互に連結する共通電極連結部５３５が配置される。前記共通電極連結部５３５と前記共通電極５３０′はすべて透明導電膜であることが望ましい。前記透明導電膜はＩＴＯ膜またはＩＺＯ膜であることが望ましい。
【００２８】
上述したような液晶表示素子の駆動において、前記共通電極５３０′には実質的に同一な電圧が印加されるが、前記共通電極５３０′に同一な電圧を印加することは共通電圧印加回路（図示せず）から共通電極連結部５３５に連結された配線を介して具現されることができる。
【００２９】
図３は、図１の切断線Ｉ−Ｉに沿って取られた液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図である。また、図３は図２の切断線Ｉ′−Ｉ′に沿って取られた液晶表示装置の断面図と実質的に同一である。
【００３０】
図３を参考にすれば、Ａ１ないしＡｍの単位画素領域を有する下部基板１００上に各単位画素領域別にゲート電極１０５を形成して、前記ゲート電極１０５を含んだ基板全面を覆うゲート絶縁膜１１０を形成する。前記ゲート絶縁膜１１０上に前記ゲート電極１０５と対応する半導体層１２０を形成して、前記半導体層１２０の両縁にソース／ドレイン電極１２５、１２６を形成すると同時に前記ソース／ドレイン電極のうちいずれか一つのソース／ドレイン電極１２６に連結されたデータライン１２７を形成する。これで、各単位画素領域に前記ゲート１０５、前記半導体層１２０及び前記ソース／ドレイン電極１２５、１２６を有する薄膜トランジスタ１３０が形成される。続いて、前記ドレイン電極１２５の所定領域を露出させるコンタクトホールを有する保護膜１６０を形成して、前記保護膜１６０上に前記コンタクトホールを介して前記ドレイン電極１２５と接する画素電極１５０を形成する。続いて、前記画素電極１５０を含む下部基板全面に下部配向膜１７０を形成する。
【００３１】
一方、上部基板５００を準備して、前記上部基板５００上に遮光膜５１０を形成する。前記遮光膜５１０は前記下部基板１００の前記薄膜トランジスタ１３０、前記データライン１２７及び前記ゲートライン（図１または図２の１０６）が形成された領域に対応して位置するように形成される。前記遮光膜５１０が形成された上部基板５００前面を覆う絶縁膜５２０を形成する。続いて、前記絶縁膜５２０が形成された基板全面にかけて透明電極膜を積層する。前記透明電極膜はＩＴＯまたはＩＺＯであることがある。前記積層された透明電極膜をホトリソグラフィ工程を用いてパターニングすることによって、前記上部基板５００上に複数個の領域５４０により相互に離隔されたストライプ形態の共通電極５３０を形成する。前記領域５４０は前記下部基板１００上のデータライン１２７が形成された領域に対応して形成される。言い換えれば、前記共通電極５３０は前記下部基板上の単位画素領域の列Ａ１ないしＡｍにそれぞれ対応して位置するように形成するが、前記下部基板１００上のデータライン１２７が形成された領域に対応する領域５４０には形成しない。さらにひいては、前記領域５４０の幅は前記データラインの幅Ｗと同じであったり大きく形成することができる。続いて、前記共通電極５３０上に上部配向膜５５０を形成する。
【００３２】
続いて、前記下部基板１００と前記上部基板５００が一定ギャップを維持するようにして合着して、前記下部基板１００と前記上部基板５００間のギャップ内に液晶６００を注入する。
【００３３】
前記液晶表示装置はカラーイメージを表示するために前記下部基板１００下部に前記各単位画素別にＲ、Ｇ、Ｂバックライト７００が配列される構造を有することができる。このような液晶表示装置をフィールド順次駆動方式液晶表示装置という。これは一つの単位画素に位置した液晶を介してＲ、Ｇ、ＢバックライトからＲ、Ｇ、Ｂ三原色の光を時分割的に順次ディスプレーすることで、目の残像効果を利用してカラーイメージをディスプレーする。これとは違って、前記液晶表示装置は前記絶縁膜５２０下部の遮光膜５１０上に各単位画素別に配置されたＲ、Ｇ、Ｂカラーフィルター層（図示せず）をさらに備えてカラーイメージを具現することができる。
【００３４】
一方、図２の液晶表示装置は前記図３を参照して叙述された前記図１の液晶表示装置の製造方法と実質的に同一な方法により製造されることができる。付加的に、上部基板５００′上に積層された透明電極膜をホトリソグラフィ工程を用いてパターニングすることにおいて、共通電極５３０′と共通電極連結部５３５を同時に形成することが望ましい。
【００３５】
上述したように本発明によると、データラインと対応する上部基板上の領域に共通電極が位置しないように形成することによって、前記データラインと前記共通電極間の容量結合によるカップリングキャパシターの生成を抑制することができて、これにより共通電極電圧の歪みが緩和されることができる。結果的に水平クロストーク現象を抑制することができる。
【００３６】
前記では本発明の望ましい実施形態を参照しながら説明したが、該技術分野の熟練された当業者は特許請求の範囲に記載された本発明の思想及び領域から外れない範囲内で本発明を多様に修正及び変更させることができることを理解できることである。
【産業上の利用可能性】
【００３７】
本発明は液晶表示装置に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】本発明の第１実施形態による液晶表示装置を説明するための平面図であって、下部基板と上部基板を同時に示した図面である。
【図２】本発明の第２実施形態による液晶表示装置を説明するための平面図であって、下部基板と上部基板を同時に示した図面である。
【図３】図１の切断線Ｉ−Ｉに沿って取られた液晶表示装置の製造方法を説明するための断面図である。
【図４】従来技術による液晶表示装置で水平クロストーク現象が発生した画面に対する平面図である。
【符号の説明】
【００３９】
１００：下部基板
１３０：薄膜トランジスタ
１５０：画素電極
１２７：データライン
５００：上部基板
５３０：共通電極
【図１】
2005134882.tif 000003
【図２】
2005134882.tif 000004
【図３】
2005134882.tif 000005
【図４】
2005134882.tif 000006