(57)【要約】【課題】  表示不良を防止し、長時間駆動後も残像特性の良好な、液晶を配向させる能力を低下させることなく、且つ光および熱に対する電圧保持率の低下が少ない液晶配向膜を形成することができる液晶配向剤を与えること。【解決手段】  テトラカルコキシシランの如き４官能性珪素化合物、トリアルコキシシランの如き３官能性化合物およびアルコキシ基の如き官能基１モル当り０．８〜３．０モルの水との反応生成物ならびにグリコールエーテル系溶媒を含有する液晶配向剤組成物。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ｉ）下記式（１）
Ｓｉ（ＯＲ1）4    ・・・・・・・・・・（１）
ここで、Ｒ1は水素原子、フッ素原子または一価の有機基である、
で表される珪素化合物、下記式（２）
ＲＳｉ（ＯＲ2）3  ・・・・・・・・・・（２）
ここで、Ｒは一価の有機基でありそしてＲ2は水素原子、フッ素原子または一価の有機基である、
で表される珪素化合物および水の反応生成物並びに（ＩＩ）下記式（３）
【化１】
2005250244.tif 000008
ここで、Ｒ3はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基またはｔ−ブチル基であり、ｍは０または１でありそしてｎは１、２または３である、
で表される溶媒を含有することを特徴とする液晶配向剤。
【請求項２】
上記式（２）で表される珪素化合物が、
（Ａ）上記式（２）におけるＲが、アミノ基、グリシドキシ基およびトリフルオロメチルよりなる群から選ばれる置換基で置換されていてもよい、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基またはフェニル基である珪素化合物、および
（Ｂ）上記式（２）におけるＲが、
（ア）炭素数１６以上の直鎖アルキル基、
（イ）置換していてもよく且つ少なくとも１個のノルボルナン環を有する一価の有機基、
（ウ）置換していてもよく且つ少なくとも１個のステロイド骨格を有する一価の有機基、
（エ）フッ素原子、トリフルオロメチル基およびトリフルオロメトキシ基よりなる群から選ばれる置換基を有する芳香環を有し且つ炭素数８以上の一価の有機基、または
（オ）シンナモイル基またはカルコニル基である感光性基、である珪素化合物よりなる群から選ばれる少なくとも１種である請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項３】
上記（イ）置換していてもよく且つ少なくとも１個のノルボルナン環を有する一価の有機基が下記式（４）〜（１６）；
【化２】
2005250244.tif 000009
のそれぞれで表される基のいずれかである請求項２に記載の液晶配向剤。
【請求項４】
上記（ウ）置換していてもよく且つ少なくとも１個のステロイド骨格を有する一価の有機基が下記式（１７）〜（２６）；
【化３】
2005250244.tif 000010
のそれぞれで表される基のいずれかである請求項２に記載の液晶配向剤。
【請求項５】
上記（エ）フッ素原子、トリフルオロメチル基およびトリフルオロメトキシ基よりなる群から選ばれる置換基を有する芳香環を有し且つ炭素数８以上の一価の有機基が下記式（２７）〜（３０）；
【化４】
2005250244.tif 000011
のそれぞれで表される基のいずれかである請求項２に記載の液晶配向剤。
【請求項６】
上記式（２）で表される化合物が珪素化合物（Ａ）と珪素化合物（Ｂ）の組合せである請求項２に記載の液晶配向剤。
【請求項７】
上記式（２）で表される化合物において、式（２）においてＲが感光性基（オ）である化合物が１〜５０モル％を占める請求項１に記載の液晶配向剤。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の液晶配向剤を基板に塗布する工程、および塗布された基板を加熱して塗膜を硬化する工程からなることを特徴とする、液晶配向膜を形成する方法。
【請求項９】
請求項８に記載の液晶配向膜の膜表面にラビング処理を行うことを特徴とする液晶配向角度を制御した液晶配向膜を形成する方法。
【請求項１０】
請求項８に記載の液晶配向膜の膜表面に、Ｘ線および紫外線よりなる群から選ばれる電磁放射線、イオン・ビーム、中性原子ビーム、電子ビーム、分子ビームおよび素粒子ビームよりなる群より選ばれる粒子ビームまたはこれらの電磁放射線と粒子ビームの両方の照射を行うことを特徴とする、液晶配向角度を制御した液晶配向膜を形成する方法。
【請求項１１】
請求項８〜１０のいずれかに記載の方法により製造された液晶配向膜。
【請求項１２】
請求項１１に記載の液晶配向膜を備えることを特徴とする液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶配向剤、液晶配向膜および液晶表示素子に関する。さらに詳しくは、液晶配向性が良好であり、かつ光照射や高温度下といった苛酷な環境下または長時間の駆動後も電圧保持率などの電気特性を損なうことなく、液晶配向状態が良好に保持され、残像現象も生じにくい液晶配向層、それを形成可能な液晶配向剤および液晶表示素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、液晶表示素子としては、透明導電膜が設けられている基板表面にポリアミック酸、ポリイミドなどからなる液晶配向膜を形成して液晶表示素子用基板とし、その２枚を対向配置してその間隙内に正の誘電異方性を有するネマチック型液晶の層を形成してサンドイッチ構造のセルとし、液晶分子の長軸が一方の基板から他方の基板に向かって連続的に９０度捻れるようにした、いわゆるＴＮ型（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）液晶セルを有するＴＮ型液晶表示素子が知られている。また、ＴＮ型液晶表示素子に比して高いコントラスト比を実現できるＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）型液晶表示素子や視角依存性の少ないＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型液晶表示素子、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｌｉｇｎｍｅｎｔ）型液晶表示素子が開発されている。
【０００３】
こうした各種液晶表示素子の動作原理は、透過型と反射型に大別される。
透過型液晶表示素子は、素子駆動時における、素子背面からのバックライト用光源の透過光強度変化を用いて表示を行うものである。反射型液晶表示素子は、バックライト用光源は使用せず、素子駆動時における太陽光など外部からの光の反射光強度変化を用いて表示を行うものであり、透過型に比べ消費電力が少ないため、屋外での使用には特に有利と考えられている。
【０００４】
透過型液晶表示素子では、液晶配向膜はバックライト光源からの光に常にさらされている。特にビジネス用途に加えて近年ホームシアターとしての需要が高まっている液晶プロジェクター用途ではメタルハライドランプなど非常に照射強度の高い光源を用いている。反射型液晶表示素子では、屋外で使用される可能性が大きく、この場合には強い紫外光を含む太陽光が光源となる。また、反射型ではその原理上、素子内を光が通過する距離が透過型に比べ、長くなる。
【０００５】
液晶表示素子の製造工程において、プロセス短縮および歩留まり向上の観点から用いられ始めているのが液晶滴下方式すなわちＯＤＦ（Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ）方式である。ＯＤＦ方式は、あらかじめ熱硬化性のシール剤を用いて組み立てられた空の液晶セルに液晶を注入していく従来法と異なり、液晶配向膜を塗布した片側基板の必要箇所に紫外光硬化性のシール剤を塗布した後、液晶を必要箇所に滴下し、他方の基板を貼り合わせた後に、全面に紫外光を照射してシール剤を硬化させ液晶セルを作製する。この際照射される紫外光は通常１平方センチメートルあたり数ジュール以上と強いものである。すなわち液晶表示素子製造工程において、液晶配向膜は液晶とともにこの強い紫外光にさらされることになる。
【０００６】
透過型液晶表示素子では、強度の強い光照射に伴い、駆動時には液晶表示素子の系自体の温度が上昇することが考えられる。また、液晶表示素子に多用途化に伴い、透過型に加え反射型においても、屋外等での使用や駐車中の自家用自動車内への設置など通常の室温に比べ、高い温度下での使用および設置環境が考えられる。
【０００７】
このように液晶表示素子においては、その高機能化、多用途化などにともなって、光や熱といった苛酷な環境下にさらされた後または長時間駆動された後の液晶配向性や、電圧保持率などの電気特性、あるいは残像特性が、従来よりいっそう優れたものが求められる。
【０００８】
液晶表示素子を構成する液晶配向膜の材料としては、従来より、ポリイミド、ポリアミドおよびポリエステルなどの樹脂が知られている。特にポリイミドは、有機樹脂の中では耐熱性、液晶との親和性、機械的強度などに優れた物性を示すため、多くの液晶表示素子に使用されてきた。
【０００９】
しかしながら、近年の液晶表示素子は、高機能化や多用途化がすすみ、先に述べたように高温環境や光照射といった苛酷な環境に設置され使用される機会が増えており、また、製造工程でのプロセス短縮や歩留まり向上がより一層求められる一方、液晶表示素子にさらなる長寿命化が求められてきている。それに伴い、従来は許容範囲内であった高温環境や光照射に対する耐性が不足であることが原因で生じた表示欠陥や残像が許容されなくなってきた。
【００１０】
従って、従来液晶配向膜として広く用いられてきたポリアミック酸やポリイミドといった有機樹脂では光や熱に対する耐性がまだ不十分である。このため、液晶表示素子の面内で均一に液晶を配向させる能力を落とすことなく、加えて光や熱に対する耐性が良好である、新しい材料が求められている。
【００１１】
特開平９−２８１５０２号公報には、テトラエトキシシラン等の４個のアルコキシ基を有する珪素化合物（Ａ）と、オクタデシルトリエトキシシラン等の３個のアルコキシ基を有する珪素化合物（Ｂ）を、アルコール溶媒中、蓚酸触媒下で５０℃〜１８０℃で加熱反応させることにより、（Ａ）と（Ｂ）の共縮合体ポリシロキサン溶液を生成し、この溶液を塗布液として電極基板表面に塗布し、得られた塗膜を８０〜４００℃で熱硬化させてなる垂直配向膜が開示されている。この公報はさらに、その垂直配向膜は垂直配向性、再現性、耐熱性及び均一性に優れ、塗布液としての安定性も優れていることを説明している。
【００１２】
しかし、かかる垂直配向膜、或いはその形成方法も未だ十分ではない。上記特開平９−２８１５０２号に記載の垂直配向膜では、得られる塗膜中に未反応のシロキサン基が残存する恐れがある。未反応のシロキサン基は不安定であり、液晶中に含まれる微量水分や、液晶セルのシール剤を通じて侵入してきた水分によりシロキサン基が加水分解されてアルコール分子を生じ、このアルコール分子が液晶中に拡散して表示不良などを生じさせる原因となる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は以上のような事情に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、加水分解反応を十分に行うことにより、シロキサン基の９９％以上を転化させてかかる表示不良を防止し、長時間駆動後も残像特性の良好な、液晶を配向させる能力を低下させることなく、且つ光および熱に対する電圧保持率の低下が少ない液晶配向膜を形成することができる液晶配向剤を与えることにある。
【００１４】
本発明の他の目的は、本発明の液晶配向剤を用いて上記の如き優れた諸性能を備えた液晶配向膜およびその製造法を提供することにある。
【００１５】
本発明のさらに他の目的は、本発明の液晶配向膜を備えた液晶表示素子を提供することにある。
【００１６】
本発明のさらに他の目的および利点は、以下の説明から明らかになろう。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第１に、（Ｉ）特定の二種のシロキサンと水の反応生成物および（ＩＩ）溶媒、具体的には、（Ｉ）
下記式（１）
Ｓｉ（ＯＲ1）4    ・・・・・・・・・・（１）
【００１８】
ここで、Ｒ1は水素原子、フッ素原子または一価の有機基である、
で表される珪素化合物、下記式（２）
ＲＳｉ（ＯＲ2）3  ・・・・・・・・・・（２）
【００１９】
ここで、Ｒは一価の有機基でありそしてＲ2は水素原子、フッ素原子または一価の有機基である、
で表される珪素化合物および水の反応生成物（以下、「反応生成物（１）」ということがある）並びに（ＩＩ）下記式（３）
【００２０】
【化１】
2005250244.tif 000002
【００２１】
ここで、Ｒ3はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基またはｔ−ブチル基であり、ｍは０または１でありそしてｎは１、２または３である、
で表される溶媒を含有することを特徴とする液晶配向剤によって達成される。
【００２２】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第２に、本発明の液晶配向剤を基板に塗布する工程および塗布された基板を加熱して塗膜を硬化する工程からなることを特徴とする液晶配向膜を形成する方法によって達成される。
【００２３】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、第３に、上記本発明方法によって形成された液晶配向膜によって達成される。
【００２４】
本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、最後に、本発明の液晶配向膜を備えた液晶表示素子によって達成される。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、珪素系材料を用いた液晶配向剤を使用することにより、従来の材料に比べ、光照射や熱処理と行った苛酷な環境下にさらされた後においても、または長時間駆動された後においても、優れた液晶配向性、電圧保持率および残像特性を大きく劣化することのない液晶表示素子の作製が可能となる。
【００２６】
本発明の液晶配向剤を用いて作製された液晶表示素子は、ＴＮ型およびＳＴＮ型液晶表示素子に好適に使用できる以外に、使用する液晶を選択することにより、ＳＨ（Ｓｕｐｅｒ  Ｈｏｍｅｏｔｒｏｐｉｃ）型、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）型、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｌｉｇｎｍｅｎｔ）型、強誘電性および反強誘電性の液晶表示素子などにも好適に使用することができる。
【００２７】
さらに、本発明の液晶配向剤を用いて形成した配向膜を有する液晶表示素子は、液晶の配向性および信頼性に優れ、種々の装置に有効に使用でき、例えば卓上計算機、腕時計、置時計、係数表示板、ワードプロセッサ、パーソナルコンピューター、液晶データプロジェクタ、液晶テレビ、電子ペーパーなどの表示装置に用いられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
［液晶配向剤］
本発明の液晶配向剤は、（Ｉ）反応生成物（１）および（ＩＩ）溶媒を含有する。（Ｉ）反応生成物（１）は、下記式（１）
Ｓｉ（ＯＲ1）4    ・・・・・・・・・・（１）
【００２９】
ここで、Ｒ1は水素原子、フッ素原子または一価の有機基である、
で表される珪素化合物（以下、化合物（１）ということがある）、下記式（２）
ＲＳｉ（ＯＲ2）3  ・・・・・・・・・・（２）
【００３０】
ここで、Ｒは一価の有機基でありそしてＲ2は水素原子、フッ素原子または一価の有機基である、
で表される珪素化合物（以下、化合物（２）ということがある）および水との反応生成物である。
【００３１】
式（１）において、Ｒ1の１価の有機基としては、例えばアルキル基、アリール基、アリル基、アシル基、グリシジル基などを挙げることができる。ここで、アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などが挙げられる。好ましくは炭素数１〜５のアルキル基である。これらのアルキル基は鎖状でも、分岐していてもよく、さらに水素原子がフッ素原子などに置換されていてもよい。アリール基としては、例えばフェニル基、ナフチル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基などを挙げることができる。
【００３２】
アシル基としては、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、プロピオニル基などを挙げることができる。
【００３３】
化合物（１）の具体的な例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラグリシジロキシランなどが挙げられる。これらは、１種あるいは２種以上を一緒に使用してもよい。
【００３４】
式（２）において、Ｒは一価の有機基でありそしてＲ2は水素原子、フッ素原子または一価の有機基である。Ｒ2の一価の有機基としては、Ｒ1と同じものを挙げることができる。
【００３５】
また、Ｒの一価の有機基としては、例えばアミノ基、グリシドキシ基またはトリフルオロメチル基で置換されていてもよい、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基およびフェニル基；炭素数１６以上の直鎖アルキル基；置換していてもよく且つ少なくとも１個のノルボルナン環を有する一価の有機基；置換していてもよく且つ少なくとも１個のステロイド骨格を有する一価の有機基；フッ素原子、トリフルオロメチル基またはトリフルオロメトキシ基を置換基として有する芳香環を有し且つ炭素数８以上の一価の有機基；およびシンナモイル基またはカルコニル基である感光性基等を好ましいものとして挙げることができる。
【００３６】
Ｒがアミノ基、グリシドキシ基またはトリフルオロメチル基で置換されていてもよい、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基またはフェニル基である化合物（以下、化合物（Ａ）ということがある）の具体的な例としては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、メチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、メチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリフェノキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、エチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、エチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、エチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、エチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、エチルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ビニルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ビニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ビニルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ビニルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｎ−プロピルトリフェノキシシラン、ｉ−プロピルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｉ−プロピルトリフェノキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｎ−ブチルトリフェノキシシラン、ｓｅｃ−ブチルトリメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−ｉ−トリエトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｎ−プロポキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｎ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｓｅｃ−ブチル−トリフェノキシシラン、ｔ−ブチルトリメトキシシラン、ｔ−ブチルトリエトキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｎ−プロポキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、ｔ−ブチルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、ｔ−ブチルトリフェノキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリ−ｎ−プロポキシシラン、フェニルトリ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、フェニルトリ−ｎ−ブトキシシラン、フェニルトリ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、フェニルトリ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、フェニルトリフェノキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、γ−トリフロロプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。このうち、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシランなどが好ましい。
【００３７】
また、上記式（２）におけるＲが、
（ア）炭素数１６以上の直鎖アルキル基、
（イ）置換していてもよく且つ少なくとも１個のノルボルナン環を有する一価の有機基、
（ウ）置換していてもよく且つ少なくとも１個のステロイド骨格を有する一価の有機基、
（エ）フッ素原子、トリフルオロメチル基およびトリフルオロメトキシ基よりなる群から選ばれる置換基を有する芳香環を有し且つ炭素数８以上の一価の有機基、または
（オ）シンナモイル基またはカルコニル基である感光性基、である化合物（以下、化合物（Ｂ）ということがある）としては、例えばヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘプタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、ノナデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトシキシシラン、ヘプタデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、ノナデシルトリエトキシシランなど（以上、Ｒが（ア）のもの）；
【００３８】
Ｒが下記式（４）〜（１６）から選ばれる構造である化合物（Ｒが（イ）のもの）；
【００３９】
【化２】
2005250244.tif 000003
【００４０】
Ｒが下記式（１７）〜（２６）から選ばれる構造である化合物（Ｒが（ウ）のもの）；
【００４１】
【化３】
2005250244.tif 000004
【００４２】
Ｒが下記式（２７）〜（３０）から選ばれる構造である化合物（Ｒが（エ）のもの）；
【００４３】
【化４】
2005250244.tif 000005
【００４４】
４’−カルコニルトリメトキシシラン、４’−カルコニルトリエトキシシラン、シンナモイルトリメトキシシラン、シンナモイルトリエトキシシラン、シンナモイロキシトリメトキシシラン、シンナモイロキシトリエトキシシラン（以上、Ｒが（オ）のもの）などが挙げられる。
【００４５】
これらは、１種あるいは２種以上を同時に使用してもよい。
【００４６】
化合物（２）としては、上記化合物（Ａ）と上記化合物（Ｂ）の各々から一種以上選ばれる組合せを用いることが好ましい。
化合物（１）と化合物（２）の使用比率としては、化合物（１）と（２）の全体量に対して、好ましくは化合物（２）が１０〜９９モル％であり、より好ましくは５０〜９９モル％である。
【００４７】
反応生成物（１）は、化合物（１）、化合物（２）および水を反応させ、加水分解・部分縮合させることにより得ることができる。化合物（１）および化合物（２）を加水分解、部分縮合させるために、シロキサン結合（式（１）の−ＯＲ1と式（２）の−ＯＲ2の合計）１モル当たり、好ましくは１．０〜１．５モルの水が用いられる。水の量が１．０モル以上であれば、シロキサン結合が未反応のまま残る可能性が低下し、塗膜の均一性が低下する恐れが無く、また、液晶配向剤の保存安定性が低下する恐れが少なくなるので、好ましい。水は、化合物（１）および化合物（２）を溶解させた有機溶剤中に断続的あるいは連続的に添加される。この際反応触媒を用いることができ、用いるときには、触媒を有機溶剤中に予め添加しておいてもよいし、水添加時に水中に溶解あるいは分散させておいてもよい。この際の反応温度としては、好ましくは０〜１００℃、より好ましくは１５〜８０℃である。
【００４８】
化合物（１）および化合物（２）を加水分解、部分縮合させる際の有機溶媒としては、好ましくは、アルコール系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、エステル系溶媒および非プロトン系溶媒の群から選ばれた少なくとも１種が使用できる。
【００４９】
ここで、アルコール系溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、ｉ−ペンタノール、２−メチルブタノール、ｓｅｃ−ペンタノール、ｔ−ペンタノール、３−メトキシブタノール、ｎ−ヘキサノール、２−メチルペンタノール、ｓｅｃ−ヘキサノール、２−エチルブタノール、ｓｅｃ−ヘプタノール、ヘプタノール−３、ｎ−オクタノール、２−エチルヘキサノール、ｓｅｃ−オクタノール、ｎ−ノニルアルコール、２，６−ジメチルヘプタノール−４、ｎ−デカノール、ｓｅｃ−ウンデシルアルコール、トリメチルノニルアルコール、ｓｅｃ−テトラデシルアルコール、ｓｅｃ−ヘプタデシルアルコール、フェノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、３，３，５−トリメチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコールなどのモノアルコール系溶媒；
【００５０】
エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、ペンタンジオール−２，４、２−メチルペンタンジオール−２，４、ヘキサンジオール−２，５、ヘプタンジオール−２，４、２−エチルヘキサンジオール−１，３、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコールなどの多価アルコール系溶媒；
【００５１】
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、エチレングリコールモノ−２−エチルブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテルなどの多価アルコール部分エーテル系溶媒；
などを挙げることができる。
【００５２】
これらのアルコール系溶媒は、１種あるいは２種以上を同時に使用してもよい。
【００５３】
ケトン系溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、メチル−ｎ−ブチルケトン、ジエチルケトン、メチル−ｉ−ブチルケトン、メチル−ｎ−ペンチルケトン、エチル−ｎ−ブチルケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、ジ−ｉ−ブチルケトン、トリメチルノナノン、シクロヘキサノン、２−ヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、２，４−ペンタンジオン、アセトニルアセトン、アセトフェノン、フェンチョンなどのほか、アセチルアセトン、２，４−ヘキサンジオン、２，４−ヘプタンジオン、３，５−ヘプタンジオン、２，４−オクタンジオン、３，５−オクタンジオン、２，４−ノナンジオン、３，５−ノナンジオン、５−メチル−２，４−ヘキサンジオン、２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオン、１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ−２，４−ヘプタンジオンなどのβ−ジケトン類などが挙げられる。
【００５４】
これらのケトン系溶媒は、１種あるいは２種以上を同時に使用してもよい。
【００５５】
アミド系溶媒としては、例えば、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−エチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−エチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ−ホルミルモルホリン、Ｎ−ホルミルピペリジン、Ｎ−ホルミルピロリジン、Ｎ−アセチルモルホリン、Ｎ−アセチルピペリジン、Ｎ−アセチルピロリジンなどが挙げられる。
【００５６】
これらアミド系溶媒は、１種あるいは２種以上を同時に使用してもよい。
【００５７】
エステル系溶媒としては、例えば、ジエチルカーボネート、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ジエチル、酢酸メチル、酢酸エチル、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ｎ−ペンチル、酢酸ｓｅｃ−ペンチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸メチルペンチル、酢酸２−エチルブチル、酢酸２−エチルヘキシル、酢酸ベンジル、酢酸シクロヘキシル、酢酸メチルシクロヘキシル、酢酸ｎ−ノニル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、酢酸エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノプロピルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノブチルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ酢酸グリコール、酢酸メトキシトリグリコール、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ｎ−ブチル、プロピオン酸ｉ−アミル、シュウ酸ジエチル、シュウ酸ジ−ｎ−ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−ブチル、乳酸ｎ−アミル、マロン酸ジエチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチルなどが挙げられる。
【００５８】
これらエステル系溶媒は、１種あるいは２種以上を同時に使用してもよい。
【００５９】
非プロトン系溶媒としては、例えば、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラエチルスルファミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド、Ｎ−メチルモルホロン、Ｎ−メチルピロール、Ｎ−エチルピロール、Ｎ−メチル−Δ3 −ピロリン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ−エチルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジメチルピペラジン、Ｎ−メチルイミダゾール、Ｎ−メチル−４−ピペリドン、Ｎ−メチル−２−ピペリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン、１，３−ジメチルテトラヒドロ−２（１Ｈ）−ピリミジノンなどを挙げることができる。これらの中では、多価アルコール系溶媒、多価アルコール部分エーテル系溶媒、エステル系溶媒が特に好ましい。
【００６０】
また、化合物（１）および化合物（２）の加水分解、部分縮合反応においては、好ましくは触媒が用いられる。かかる触媒としては、以下の金属キレート化合物、有機酸、無機酸、有機塩基、無機塩基を挙げることができる。
【００６１】
金属キレート化合物としては、例えばトリエトキシ・モノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ−ｎ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナート）チタン、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナート）チタン、ジエトキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｎ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン、ジ−ｔ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）チタン、モノエトキシ・トリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｉ−プロポキシ・トリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｎ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナート）チタン、モノ−ｔ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナート）チタン、テトラキス（アセチルアセトナート）チタン、
【００６２】
トリエトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｎ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チタン、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）チタン、ジエトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｎ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタン、ジ−ｔ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）チタン、モノエトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｉ−プロポキシ・トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｎ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ−ｔ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）チタン、テトラキス（エチルアセトアセテート）チタン、モノ（アセチルアセトナート）トリス（エチルアセトアセテート）チタン、ビス（アセチルアセトナート）ビス（エチルアセトアセテート）チタン、トリス（アセチルアセトナート）モノ（エチルアセトアセテート）チタン等のチタンキレート化合物；
【００６３】
トリエトキシ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジエトキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｎ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、ジ−ｔ−ブトキシ・ビス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノエトキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−ｎ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ・トリス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、テトラキス（アセチルアセトナート）ジルコニウム、
【００６４】
トリエトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｎ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｉ−プロポキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｓｅｃ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリ−ｔ−ブトキシ・モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジエトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｎ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｓｅｃ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ジ−ｔ−ブトキシ・ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノエトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｎ−プロポキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｉ−プロポキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｎ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｓｅｃ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ−ｔ−ブトキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、モノ（アセチルアセトナート）トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ビス（アセチルアセトナート）ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、トリス（アセチルアセトナート）モノ（エチルアセトアセテート）ジルコニウム等のジルコニウムキレート化合物；
【００６５】
トリス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス（エチルアセトアセテート）アルミニウム等のアルミニウムキレート化合物；
などを挙げることができる。
【００６６】
有機酸としては、例えば酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、ペンタン酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、シュウ酸、マレイン酸、メチルマロン酸、アジピン酸、セバシン酸、没食子酸、酪酸、メリット酸、アラキドン酸、ミキミ酸、２−エチルヘキサン酸、オレイン酸、ステアリン酸、リノール酸、リノレイン酸、サリチル酸、安息香酸、ｐ−アミノ安息香酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、マロン酸、スルホン酸、フタル酸、フマル酸、クエン酸、酒石酸等を挙げることができる。
【００６７】
無機酸としては、例えば塩酸、硝酸、硫酸、フッ酸、リン酸等を挙げることができる。
【００６８】
有機塩基としては、例えばピリジン、ピロール、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、ピコリン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ジメチルモノエタノールアミン、モノメチルジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジアザビシクロオクラン、ジアザビシクロノナン、ジアザビシクロウンデセン、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等を挙げることができる。
【００６９】
無機塩基としては、例えばアンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウム、水酸化カルシウム等を挙げることができる。
【００７０】
これら触媒の内、金属キレート化合物、有機酸、無機酸が好ましく、より好ましくはチタンキレート化合物、有機酸を挙げることができる。これらは１種あるいは２種以上を同時に使用してもよい。
【００７１】
上記触媒の使用量は、化合物（１）および化合物（２）の組合せ（完全加水分解縮合物換算）１００重量部に対して、好ましくは、０．００１〜１０重量部、より好ましくは０．００１〜１重量部の範囲である。
【００７２】
本発明の液晶配向剤は、反応生成物（１）を有機溶剤に溶解または分散してなる。
【００７３】
有機溶剤としては、下記式（３）
【００７４】
【化５】
2005250244.tif 000006
【００７５】
ここで、Ｒ3はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基またはｔ−ブチル基であり、ｍは０または１でありそしてｎは１、２または３である、
で表される溶媒が用いられる。
【００７６】
かかる有機溶剤の具体例としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ（ｎ−プロピル）エーテル、プロピレングリコールモノ（ｎ−プロピル）エーテル、エチレングリコールモノ（ｉ−プロピル）エーテル、プロピレングリコールモノ（ｉ−プロピル）エーテル、エチレングリコールモノ（ｎ−ブチル）エーテル、プロピレングリコールモノ（ｎ−ブチル）エーテル、エチレングリコールモノ（ｔ−ブチル）エーテル、プロピレングリコールモノ（ｔ−ブチル）エーテルを挙げることができる。
【００７７】
これらの溶剤は単独または２種類以上を混合して使用される。また、用いる材料を溶解しがたい貧溶剤も、固形分が析出しない範囲の量で併用することが可能である。
【００７８】
かかる貧溶剤の具体例としては例えばｎ−ペンタン、ｉ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｉ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｉ−ヘプタン、２，２，４−トリメチルペンタン、ｎ−オクタン、ｉ−オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、デカン、ジシクロペンタジエン、ベンゼン、トルエン、キシレン、デュレン、インデン、テトラヒドロナフタレン、デカヒドロナフタレン、スクワラン、エチルベンゼン、トリメチルベンゼン、メチルエチルベンゼン、ｎ−プロピルベンセン、ｉ−プロピルベンゼン、ジエチルベンゼン、ｉ−ブチルベンゼン、トリエチルベンゼン、ジ−ｉ−プロピルベンセン、ｎ−アミルナフタレン、トリメチルベンゼン等の炭化水素系溶媒；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、ｉ−ペンタノール、２−メチルブタノール、ｓｅｃ−ペンタノール、ｔ−ペンタノール、３−メトキシブタノール、ｎ−ヘキサノール、２−メチルペンタノール、ｓｅｃ−ヘキサノール、２−エチルブタノール、ｓｅｃ−ヘプタノール、ヘプタノール−３、ｎ−オクタノール、２−エチルヘキサノール、ｓｅｃ−オクタノール、ｎ−ノニルアルコール、２，６−ジメチルヘプタノール−４、ｎ−デカノール、ｓｅｃ−ウンデシルアルコール、トリメチルノニルアルコール、ｓｅｃ−テトラデシルアルコール、ｓｅｃ−ヘプタデシルアルコール、フェノール、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、３，３，５−トリメチルシクロヘキサノール、ベンジルアルコール、フェニルメチルカルビノール、ジアセトンアルコール、クレゾール等のモノアルコール系溶媒；エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−ブチレングリコール、ペンタンジオール−２，４、２−メチルペンタンジオール−２，４、ヘキサンジオール−２，５、ヘプタンジオール−２，４、２−エチルヘキサンジオール−１，３、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、トリプロピレングリコール、グリセリン等の多価アルコール系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−プロピルケトン、メチル−ｎ−ブチルケトン、ジエチルケトン、メチル−ｉ−ブチルケトン、メチル−ｎ−ペンチルケトン、メチルアミルケトン、エチル−ｎ−ブチルケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、ジプロピルケトン、ジ−ｉ−ブチルケトン、トリメチルノナノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、シクロヘプタノン、２，４−ペンタンジオン、アセトニルアセトン、アセトフェノン、フェンチョン等のケトン系溶媒；ジエチルエーテル、ジ−ｉ−プロピルエーテル、ジ−ｎ−プロピルエーテル、ジ−ｎ−ブチルエーテル、ジ−ｎ−ヘキシルエーテル、２−エチルヘキシルエーテル、エチレンオキシド、１，２−プロピレンオキシド、ジオキソラン、４−メチルジオキソラン、ジオキサン、ジメチルジオキサン、フェネトール、ジフェニルエーテルテトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；ジエチルカーボネート、プロピレンカーボネート、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、酢酸メチル、酢酸エチル、��酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｓｅｃ−ブチル、酢酸ｎ−ペンチル、酢酸ｓｅｃ−ペンチル、酢酸３−メトキシブチル、酢酸メチルペンチル、酢酸２−エチルブチル、酢酸２−エチルヘキシル、酢酸ベンジル、酢酸ｎ−ヘキシル、酢酸シクロヘキシル、酢酸オクチル、酢酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸メチルシクロヘキシル、酢酸ｎ−ノニル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、酢酸エチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノプロピルエーテル、酢酸エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノエチルエーテル、酢酸ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノエチルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノプロピルエーテル、酢酸プロピレングリコールモノブチルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジ酢酸グリコール、酢酸メトキシトリグリコール、フェニル酢酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ｎ−プロピル、プロピオン酸イソプロピル、プロピオン酸ｎ−ブチル、プロピオン酸イソブチル、プロピオン酸ｉ−アミル、プロピオン酸ベンジル、プロピオン酸エトキシエチル、シュウ酸ジエチル、シュウ酸ジ−ｎ−ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−プロピル、乳酸イソプロピル、乳酸ｎ−ブチル、乳酸ｎ−アミル、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸ｎ−プロピル、ギ酸イソプロピル、ギ酸ｎ−ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸ｎ−アミル、ギ酸イソアミル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸イソプロピル、酪酸ｎ−ブチル、酪酸イソブチル、マロン酸ジエチル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、ピルビン酸エチル等のエステル系溶媒；Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルプロピオンアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド系溶媒；硫化ジメチル、硫化ジエチル、チオフェン、テトラヒドロチオフェン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、１，３−プロパンスルトン等の含硫黄系溶媒等を挙げることができる。
【００７９】
かかる貧溶媒は、上記式（３）で表される有機溶媒１００重量部に対し、例えば５０重量部以下、好ましくは３０重量部以下で用いられる。
【００８０】
本発明の液晶配向剤には、さらに下記のようなβ−ジケトンを添加してもよい。
【００８１】
アセチルアセトン、２，４−ヘキサンジオン、２，４−ヘプタンジオン、３，５−ヘプタンジオン、２，４−オクタンジオン、３，５−オクタンジオン、２，４−ノナンジオン、３，５−ノナンジオン、５−メチル−２，４−ヘキサンジオン、２，２，６，６−テトラメチル−３，５−ヘプタンジオン、１，１，１，５，５，５−ヘキサフルオロ−２，４−ヘプタンジオン等の１種または２種以上である。
【００８２】
本発明で得られた液晶配向剤には、さらにコロイド状シリカ、コロイド状アルミナ、有機ポリマー、界面活性剤などの成分を添加してもよい。
【００８３】
コロイド状シリカとは、例えば高純度の無水ケイ酸を前記親水性有機溶媒に分散した分散液であり、通常、平均粒径が５〜３０ｍμ、好ましくは１０〜２０ｍμ、固形分濃度が１０〜４０重量％程度のものである。このような、コロイド状シリカとしては、例えば日産化学工業（株）製、メタノールシリカゾルおよびイソプロパノールシリカゾル；触媒化成工業（株）製、オスカルなどが挙げられる。
【００８４】
コロイド状アルミナとしては、日産化学工業（株）製のアルミナゾル５２０、同１００、同２００；川研ファインケミカル（株）製のアルミナクリアーゾル、アルミナゾル１０、同１３２などが挙げられる。
【００８５】
有機ポリマーとしては、例えばポリアルキレンオキサイド構造を有する化合物、糖鎖構造を有する化合物、ビニルアミド系重合体、（メタ）アクリレート化合物、芳香族ビニル化合物、デンドリマー、ポリイミド，ポリアミック酸、ポリアリーレン、ポリアミド、ポリキノキサリン、ポリオキサジアゾール、フッ素系重合体等を挙げることができる。
【００８６】
界面活性剤としては、例えばノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、両性界面活性剤などが挙げられ、さらには、シリコーン系界面活性剤、ポリアルキレンオキシド系界面活性剤、含フッ素界面活性剤等を挙げることができる。
【００８７】
また、本発明の液晶配向剤には、基板表面に対する接着性を向上させる観点から、官能性シラン含有化合物またはエポキシ基含有化合物が含有されていてもよい。かかる官能性シラン含有化合物としては、例えば３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−アミノプロピルトリメトキシシラン、２−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−エトキシカルボニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、Ｎ−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、１０−トリメトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、１０−トリエトキシシリル−１，４，７−トリアザデカン、９−トリメトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、９−トリエトキシシリル−３，６−ジアザノニルアセテート、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ベンジル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−ビス（オキシエチレン）−３−アミノプロピルトリエトキシシランなどを挙げることができる。また、エポキシ基含有化合物としては、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、２，２−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，３，５，６−テトラグリシジル−２，４−ヘキサンジオール、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’，−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタンなどを好ましいものとして挙げることができる。
【００８８】
本発明の液晶配向剤中の反応生成物（１）と溶媒の比率は、粘性、揮発性などを考慮して選択されるが、液晶配向剤中の反応生成物（１）の割合(固形分濃度)が、反応生成物（１）に含まれる珪素原子をＳｉＯ2に換算したＳｉＯ2濃度が、好ましくは０．０１〜７０重量％であり、より好ましくは０．０５〜６０重量％、さらに好ましくは１〜３０重量％となる比率である。本発明の液晶配向剤は、後述するように、好ましくは、例えばロールコーター法、スピンナー法、印刷法などにより基板表面に塗布され、次いでこれを加熱乾燥することにより、液晶配向膜となる塗膜として形成されるが、固形分濃度が０．０１重量％未満である場合には、この塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜を得ることができない場合があり、固形分濃度が７０重量％を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜を得難く、また、液晶配向剤の粘性が増大して塗布特性が劣るものとなる場合がある。
【００８９】
本発明の液晶配向剤中の溶媒（II）の比率は、全溶剤中に占める割合が、好ましくは１〜１００重量％であり、より好ましくは３０〜１００重量％であり、さらに好ましくは７０〜１００重量％である。
【００９０】
本発明の液晶配向剤を用いて、例えば次の方法で液晶表示素子を製造することができる。
【００９１】
（１）パターニングされた透明導電膜が設けられている基板の一面に、本発明の液晶配向剤を例えばロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法などの方法によって塗布し、次いで、塗布面を加熱することにより塗膜を形成する。塗布および加熱工程の雰囲気は、窒素、ヘリウム、アルゴンなどの不活性ガス中で行うことができ、さらに必要に応じて水素などの還元性ガスを混入した雰囲気で行うことができる。ここに、基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス；ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリメタクリル酸メチル、ポリカーボネートなどのプラスチックからなる透明基板を用いることができる。基板の一面に設けられる透明導電膜としては、酸化スズ（ＳｎＯ2）からなるＮＥＳＡ膜（米国ＰＰＧ社登録商標）、酸化インジウム−酸化スズ（Ｉｎ2Ｏ3−ＳｎＯ2）からなるＩＴＯ膜などを用いることができ、これらの透明導電膜のパターニングには、フォト・エッチング法や予めマスクを用いる方法が用いられる。液晶配向剤の塗布に際しては、基板表面および透明導電膜と塗膜との接着性をさらに良好にするために、基板の該表面に、官能性シラン含有化合物、官能性チタン含有化合物等を予め塗布することもできる。液晶配向剤塗布後の加熱温度は基板材料の変形を発生させない温度であり、好ましくは２０〜３００℃であり、より好ましくは１２０〜３００℃である。加熱処理のための熱源としては、例えば熱風乾燥炉、赤外線加熱炉、ホットプレートなどを挙げることができる。形成される塗膜の膜厚は、好ましくは０．００１〜１μｍであり、より好ましくは０．００５〜０．５μｍである。
【００９２】
（２）また、形成された塗膜表面に対し、表面をラビングすることにより、液晶配向角度を制御することができる。また、電磁放射線や粒子ビームといった表面を衝撃するステップにより、液晶配向角度を制御することもできる。ここで用いる粒子ビームには、イオン・ビーム、中性原子ビーム、電子ビーム、分子ビーム、及び素粒子ビームなどを用いることができる。照射エネルギー、照射角度、照射時間は液晶配向膜種や付与したいプレチルト角の値により適当なものに調節することが可能である。イオン・ビームを用いる場合、イオン・ビームのイオン種としては、窒素、ヘリウム、アルゴン、ネオンなどの不活性ガスのイオン・ビームを用いることが好ましい。また、イオン・ビーム照射時あるいは照射後に、イオン中和のための電子を供給することが好ましい。
【００９３】
イオン・ビームを用い、照射された面に液晶配向能を付与する手法は特開平１１−２７１７７３号公報などに示されている。しかし、同公報においては、液晶配向層を形成する物質として水素化ダイヤモンド状炭素（ＤＬＣ）などの共有結合性材料を用い、化学的気相付着などの非水性気体環境付着法により液晶配向層を形成しており、従来液晶配向層形成の方法として広く用いられているロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法などの塗布工程は対象としていない。本発明では液晶配向剤を溶液の形状で提供するため、スピンナー法、印刷法など従来から液晶配向膜塗布に用いている装置をそのまま利用できる利点がある。
【００９４】
イオン・ビーム法に有効な液晶配向剤の具体例としては、液晶配向剤にポリアミック酸または可溶性ポリイミドを用いる特開平８−３１３９１２号公報、同８−３１３９１３号公報、同８−３１３９１６号公報および同１１−２３７６３８号公報がある。先に述べたように光や熱といった苛酷な環境下にさらされた後または長時間駆動された後の液晶配向性や残像特性に関し、本発明では珪素系材料を用いることで、従来のポリアミック酸または可溶性ポリイミドにない良好な特性を実現した。
【００９５】
電子ビームを用い、照射された面に液晶配向能を付与する手法は特開平０６−１３０３８９号公報などに示されている。しかし、同号においても、液晶配向層を形成する物質として従来のポリアミック酸または可溶性ポリイミドが使用されているため、本発明で開示されているような、光および熱に対する電圧保持率の低下が少ない液晶配向層を形成することは困難である。
【００９６】
分子ビーム、中性原子ビーム、素粒子ビーム、及び電磁放射線を用い、照射された面を配向させる手法は特開平１０−９６９２８号公報などに示されている。しかし、同号においても、液晶配向層を形成する物質として従来のポリイミドが使用されているため、本発明で開示されているような、光および熱に対する電圧保持率の低下が少ない液晶配向層を形成することは困難である。
【００９７】
本発明に記載の液晶配向剤用において、化合物（２）の全体のうち１．０〜５０モル％をＲ2がカルコニル基、シンナモイル基などの感光性基である化合物とすることによって、紫外線などの電磁放射線を照射することにより、液晶配向角度を制御することが出来る。
【００９８】
また、本発明の液晶配向剤により形成された液晶配向膜に、例えば特開平６−２２２３６６号公報や特開平６−２８１９３７号公報に示されているような、紫外線を部分的に照射する方法、あるいは特開平１０−９６９２８号公報に示されているように液晶配向膜表面に、複数のステップにわたり位置選択的にイオンビームを照射する方法、あるいは特開平１１−２４２２２５号公報に示されているような、配向方向を規制する構造物を設けることにより、液晶表示素子の視界特性を改善することが可能である。
【００９９】
（３）上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を２枚作製し、片方の基板の周辺部に適当なパターンに熱硬化性のシール剤を塗布する。それぞれの液晶配向膜における液晶配向の方向が直交または逆平行となるように、２枚の基板を、間隙（セルギャップ）を介して対向配置し、２枚の基板を貼り合わせた後、加熱してシール剤を硬化させる。基板表面およびシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充填し、注入孔を封止して液晶セルを構成する。
【０１００】
この２枚の基板の貼り合わせから液晶注入の工程については液晶滴下方式、すなわちＯＤＦ（Ｏｎｅ  Ｄｒｏｐ  Ｆｉｌｌ）方式を利用することもできる。液晶配向膜を塗布され、上記のように液晶配向能を付与された片側の基板に適当なパターンで紫外線硬化性のシール剤を塗布し、必要箇所に液晶を滴下した後に他方の基板と貼り合わせ、紫外光照射によりシール剤を硬化させる。紫外光照射は全面露光に限らず、マスク露光、スキャン露光など適当な方式を用いることができる。
【０１０１】
そして、液晶セルの外表面、すなわち、液晶セルを構成するそれぞれの基板の他面側に偏光板を、その偏光方向が当該基板の一面に形成された液晶配向膜の液晶配向方向と一致または直交するように貼り合わせることにより、液晶表示素子が得られる。
【０１０２】
液晶としては、ネマティック型液晶およびスメクティック型液晶を挙げることができ、その中でもネマティック型液晶が好ましく、例えばシッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、エステル系液晶、ターフェニル系液晶、ビフェニルシクロヘキサン系液晶、ピリミジン系液晶、ジオキサン系液晶、ビシクロオクタン系液晶、キュバン系液晶などを用いることができる。また、これらの液晶に、例えばコレスチルクロライド、コレステリルノナエート、コレステリルカーボネートなどのコレステリック型液晶や商品名「Ｃ−１５」「ＣＢ−１５」（メルク社製）として販売されているようなカイラル剤などを添加して使用することもできる。さらに、ｐ−デシロキシベンジリデン−ｐ−アミノ−２−メチルブチルシンナメートなどの強誘電性液晶も使用することができる。
【０１０３】
液晶セルの外表面に貼り合わされる偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながら、ヨウ素を吸収させたＨ膜と称される偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板またはＨ膜そのものからなる偏光板を挙げることができる。
【実施例】
【０１０４】
以下本発明を実施例により、さらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらの実施例に何ら制限されるものではない。なお、下記の例中、部は全て重量部である。
【０１０５】
合成例１
メチルトリエトキシシラン１０６．３ｇと、オクタデシルトリエトキシシラン６．８２ｇと、テトラメトキシシラン１２．６７ｇをエチレングリコールモノブチルエーテル２６１．１ｇに溶解させた後、スリーワンモーターで攪拌させ、溶液温度を６０℃に安定させた。次にマレイン酸１．０６ｇを溶解させたイオン交換水４６．８ｇを１時間かけて溶液に添加した。その後、６０℃で４時間反応させ、反応生成物（１）が、ＳｉＯ2濃度で１０重量％となる溶液４３５ｇを得た。この溶液を室温まで冷却した後、５０℃で溶液からメタノール、エタノールの混合溶液をエバポレーションで除去したのち、エチレングリコールモノブチルエーテル６５．３ｇを加えて、孔径０．２μｍのメンブランフィルターでろ過して、液晶配向剤（Ａ）を得た。
【０１０６】
合成例２
メチルトリエトキシシラン１０６．３ｇと、１−トリメチルシリル−３，３−ジフルオロ−４，４−ジメチルノルボルナン６．６４ｇと、テトラメトキシシラン１２．６７ｇをエチレングリコールモノブチルエーテル２６０．８ｇに溶解させた後、スリーワンモーターで攪拌させ、溶液温度を６０℃に安定させた。次にマレイン酸１．０７ｇを溶解させたイオン交換水４７．３ｇを１時間かけて溶液に添加した。その後、６０℃で４時間反応させ、反応生成物（１）が、ＳｉＯ2濃度で１０重量％となる溶液４３０ｇを得た。この溶液を室温まで冷却した後、５０℃で溶液からメタノール、エタノールの混合溶液をエバポレーションで除去したのち、エチレングリコールモノブチルエーテル６５．２ｇを加えて、孔径０．２μｍのメンブランフィルターでろ過して、液晶配向剤（Ｂ）を得た。
【０１０７】
合成例３
メチルトリエトキシシラン１０６．３ｇと、３−トリメチルシロキシコレスタン５．７９ｇと、テトラメトキシシラン１２．６７ｇをエチレングリコールモノブチルエーテル２６２．２ｇに溶解させた後、スリーワンモーターで攪拌させ、溶液温度を６０℃に安定させた。次にマレイン酸１．０６ｇを溶解させたイオン交換水４６．５ｇを１時間かけて溶液に添加した。その後、６０℃で４時間反応させ、反応生成物（１）が、ＳｉＯ2濃度で１０重量％となる溶液４２０ｇを得た。この溶液を室温まで冷却した後、５０℃で溶液からメタノール、エタノールの混合溶液をエバポレーションで除去したのち、エチレングリコールモノブチルエーテル６５．５ｇを加えて、孔径０．２μｍのメンブランフィルターでろ過して、液晶配向剤（Ｃ）を得た。
【０１０８】
合成例４
メチルトリエトキシシラン９２．９８ｇと、４’−トリメチルシロキシカルコン６．６４ｇと、オクタデシルトリエトキシシラン６．８２ｇと、テトラメトキシシラン１２．６７ｇをエチレングリコールモノブチルエーテル２５９．６ｇに溶解させた後、スリーワンモーターで攪拌させ、溶液温度を６０℃に安定させた。次にマレイン酸１．１２ｇを溶解させたイオン交換水４９．４ｇを１時間かけて溶液に添加した。その後、６０℃で４時間反応させ、反応生成物（１）が、ＳｉＯ2濃度で１０重量％となる溶液４３０ｇを得た。この溶液を室温まで冷却した後、５０℃で溶液からメタノール、エタノールの混合溶液をエバポレーションで除去したのち、エチレングリコールモノブチルエーテル６５．０ｇを加えて、孔径０．２μｍのメンブランフィルターでろ過して、液晶配向剤（Ｄ）を得た。
【０１０９】
比較合成例１
ピロメリット酸二無水物２１８．１ｇ（１．０モル）および４，４’−ジアミノジフェニルメタン１９８．２７ｇ（１．０モル）をＮ−メチル−２−ピロリドン１６００ｇに溶解させ、この溶液を２０℃で６時間反応させた。次いで得られた反応溶液を大過剰のアセトンに注いで反応生成物を沈殿させたのち、反応生成物の分離・洗浄・乾燥を行うことにより、ポリアミック酸重合体４００．３ｇを得た。この重合体をγ−ブチロラクトンに溶解させて、孔径０．２μｍのメンブランフィルターでろ過して、固形分濃度４％の液晶配向剤（Ｅ）を得た。
【０１１０】
［液晶の配向性］
液晶表示素子に電圧をＯＮ・ＯＦＦさせた時の液晶セル中の異常ドメインの有無を顕微鏡で観察し、異常ドメインのない場合を「良好」と判断。液晶表示素子作製直後と、後述する光照射後、熱処理後にそれぞれ調べた。
【０１１１】
［液晶表示素子の残像消去時間］
液晶表示素子に直流３．０Ｖ、交流６．０Ｖ（ピーク−ピーク）を重畳した３０Ｈｚ、３．０Ｖの矩形波を７０℃の環境温度で２０時間印加して液晶表示素子を駆動後、電圧をＯＦＦとし、目視により、残像が消去するまでの時間を測定した。
【０１１２】
［液晶表示素子の電圧保持率］
液晶表示素子に５Ｖの電圧を６０マイクロ秒の印加時間、１６７ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から１６７ミリ秒後の電圧保持率を測定した。測定装置は（株）東陽テクニカ製ＶＨＲ−１を使用し、６０℃で行った。液晶表示素子作製直後と、後述する光照射後、熱処理後にそれぞれ測定した。
【０１１３】
［光照射］
液晶表示素子を作製後、メタルハライドランプを光源として、素子全面に光照射をおこなった。フィルターを使用することで照射波長は３００−４５０ｎｍの波長域とし、照射エネルギーは２Ｊ／ｃｍ2でおこなった。
【０１１４】
［熱処理］
作製した液晶表示素子を１００℃のオーブン中に３週間放置した後、取り出して室温まで徐冷した。
【０１１５】
実施例１
液晶配向剤（Ａ）を、スピンナーを用いてＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面に塗布し、３００℃のホットプレートで３０分間加熱乾燥し、乾燥平均膜厚７００オングストロームの塗膜を形成した。
【０１１６】
上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を２枚作製し、それぞれの基板の外縁部に、酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂系接着剤をスクリーン印刷法により塗布した後、２枚の基板を間隙を介して塗膜面が向かい合うように配置し、外縁部同士を当接させて圧着して接着剤を硬化させた。基板の表面および外縁部の接着剤により区画されたセルギャップ内に、ネガ型ネマティック型液晶を注入充填し、次いで、注入孔をエポキシ系接着剤で封止して垂直配向型液晶表示素子を作製した。
【０１１７】
このようにして得られた作製直後の液晶表示素子について、液晶配向性の観察と、電圧保持率測定をおこなった。また、液晶配向剤（Ａ）を用いて上記のように作製した液晶表示素子を３点用意し、１点を光照射したのち液晶配向性の観察と電圧保持率測定をおこない、別の１点は熱処理したのち液晶配向性の観察と電圧保持率測定をおこない、残りの１点は既述の方法で残像消去時間を測定した。結果は表１の通りである。
【０１１８】
実施例２〜３
合成例２〜３で得られた液晶配向剤を用いて、実施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。得られた液晶表示素子の各々について、実施例１に示したように液晶の配向性、電圧保持率、残像消去時間を評価した。結果は表１の通りである。
【０１１９】
実施例４
液晶配向剤（Ａ）を、スピンナーを用いてＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面に塗布し、３００℃のホットプレートで３０分間加熱乾燥し、乾燥平均膜厚７００オングストロームの塗膜を形成した。
【０１２０】
この塗膜に基板からの角度が４０°となる方向からアルゴンイオンビームを２００Ｖの加速電圧で１０秒間照射した。
【０１２１】
次に一対のイオンビーム処理された液晶挟持基板の液晶配向膜を有するそれぞれの外縁に、直径５．５μｍの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤をスクリーン印刷塗布した後、一対の液晶挟持基板を液晶配向膜面が相対する、しかもイオンビーム照射方向が直交するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化させた。
【０１２２】
次いで液晶注入口より一対の基板間に、ネマティック型液晶（メルク社製、ＭＬＣ−６２２１）を充填した後、アクリル系光硬化接着剤を用いて液晶注入口を封止し、基板の外側の両面に偏光板を、偏光板の偏光方向がそれぞれの基板の液晶配向膜のイオンビーム照射方向と一致するように貼り合わせ、液晶表示素子を作製した。
【０１２３】
このようにして得られた液晶表示素子の各々について、実施例１に示したように液晶の配向性、電圧保持率、残像消去時間を評価した。結果は表１の通りである。
【０１２４】
実施例５〜６
合成例２〜３で得られた液晶配向剤を用いて、実施例４と同様にして液晶表示素子を作製した。得られた液晶表示素子の各々について、実施例１に示したように液晶の配向性、電圧保持率、残像消去時間を評価した。結果は表１の通りである。
【０１２５】
実施例７
液晶配向剤（Ｄ）を、スピンナーを用いてＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面に塗布し、３００℃のホットプレートで３０分間加熱乾燥し、乾燥平均膜厚７００オングストロームの塗膜を形成した。
この塗膜表面に、Ｈｇ−Ｘｅランプを用い、パイレックス（登録商標）ガラス製偏光板ＳＰＦ−５０Ｃ−３２（シグマ光機製）を介することにより３２０ｎｍより短波長の光をカットして、３６５ｎｍの波長を主とする直線偏光を基板面の法線方向から１．０Ｊ／ｃｍ2照射した。
【０１２６】
前記照射処理した液晶配向膜が形成された基板を２枚作製し、それぞれの基板の外縁部に、酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂系接着剤をスクリーン印刷法により塗布した後、２枚の基板を間隙を介して照射した紫外線の偏光面の方向が互いに平行になるように重ね合わせ、外縁部同士を当接させて圧着して接着剤を硬化させた。基板の表面および外縁部の接着剤により区画されたセルギャップ内に、ネマティック型液晶（メルク社製、ＭＬＣ−６２２１）を充填した後、次いで、注入孔をエポキシ系接着剤で封止して液晶表示素子を作製した。
【０１２７】
このようにして得られた液晶表示素子の各々について、実施例１に示したように液晶の配向性、電圧保持率、残像消去時間を評価した。結果は表１の通りである。
【０１２８】
比較実施例１
比較合成例１で得られた液晶配向剤（Ｅ）を、スピンナーを用いてＩＴＯ膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面に塗布し、２００℃のホットプレート上で２０分間乾燥し、乾燥平均膜厚６００オングストロームの塗膜を形成した。
【０１２９】
この塗膜にレーヨン製の布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンにより、ロールの回転数４００ｒｐｍ、ステージの移動速度３０ｍｍ／秒、毛足押し込み長さ０．４ｍｍでラビング処理を行った。このようにして得られた液晶表示素子の各々について、実施例１に示したように液晶の配向性、電圧保持率、残像消去時間を評価した。結果は表１の通りである。
【０１３０】
【表１】
2005250244.tif 000007