(57)【要約】【課題】  純度の高いジアルキルペルオキシドが得られ、かつ収率が高いジアルキルペルオキシドの製造方法を提供する。【解決手段】  脱アルミニウム処理を施したゼオライト触媒の存在下に、アルコール系化合物とヒドロペルオキシド基を有する化合物とを反応させることを特徴とするジアルキルペルオキシドの製造方法。ヒドロペルオキシド基を有する化合物が有機ヒドロペルオキシド化合物であるジアルキルペルオキシドの製造方法。ヒドロペルオキシド基を有する化合物が過酸化水素であるジアルキルペルオキシドの製造方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
脱アルミニウム処理を施したゼオライト触媒の存在下に、アルコール系化合物とヒドロペルオキシド基を有する化合物とを反応させることを特徴とするジアルキルペルオキシドの製造方法。
【請求項２】
ヒドロペルオキシド基を有する化合物が有機ヒドロペルオキシド化合物である請求項１に記載のジアルキルペルオキシドの製造方法。
【請求項３】
ヒドロペルオキシド基を有する化合物が過酸化水素である請求項１に記載のジアルキルペルオキシドの製造方法。
【請求項４】
脱アルミニウム処理を施したゼオライト触媒が、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比が３０〜１５０の範囲にあるゼオライト触媒である請求項１〜３のいずれか１項に記載のジアルキルペルオキシドの製造方法。
【請求項５】
脱アルミニウム処理を施したゼオライト触媒が、塩酸処理にて脱アルミニウム処理したβ型ゼオライト触媒である請求項１〜４のいずれか１項に記載のジアルキルペルオキシドの製造方法。
【請求項６】
反応の形式が、触媒を固定床とし、その固定床に対してアルコール系化合物およびヒドロペルオキシド基を有する化合物を含む混合液を流通反応させる形式である請求項１〜５のいずれか１項に記載のジアルキルペルオキシドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、純度の高いジアルキルペルオキシドが得られ、かつ収率が高いジアルキルペルオキシドの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、アルコール系化合物と有機ヒドロペルオキシド化合物とを反応させるジアルキルペルオキシドの工業的な製造方法において、触媒として硫酸が用いられてきた。しかし、硫酸はステンレス反応器材の腐食を起こすこと、また反応後にそのまま廃液中に残るため、その廃液処理が必要であることが問題となっていた。
近年、これらの問題点を解決する方法としてゼオライト系固体酸触媒などを用いるジアルキルペルオキシドの製造方法が開示された。
例えば、Ｙ型ゼオライト触媒の存在下に、ｔｅｒｔ−ブチルアルコールとｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドとをバッチ反応システムで反応させてジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシドを製造する方法が開示された（特許文献１参照）。
また、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比が２３〜２６であるβ型ゼオライトの存在下に、ｔｅｒｔ−ブチルアルコールとｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシドとをバッチ反応システムで反応させてジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシドを製造する方法が開示された（特許文献２参照）。
しかしながら、これらのゼオライト系固体酸触媒を用いるジアルキルペルオキシドの製造方法はいずれもジアルキルペルオキシドの純度が低く、かつ収率が低いという大きな問題があった。
【特許文献１】特開平７−１４９７１５号公報（第３頁）
【特許文献２】米国特許５４８８１７９号明細書（第６欄）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
本発明の目的は、純度の高いジアルキルペルオキシドが得られ、かつ収率が高いジアルキルペルオキシドの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本発明者らは、前記問題点を解決するべく鋭意検討した結果、触媒として骨格中のアルミニウムを溶出させる処理（以下、単に脱アルミニウム処理と略記する。なお、抜け出たアルミニウムの欠陥はＳｉ−ＯＨの構造になる。）を施したゼオライト触媒を用いることにより、上記の目的が達成されることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【０００５】
第１の発明は、脱アルミニウム処理を施したゼオライト触媒の存在下に、アルコール系化合物とヒドロペルオキシド基を有する化合物とを反応させることを特徴とするジアルキルペルオキシドの製造方法である。
第２の発明は、ヒドロペルオキシド基を有する化合物が有機ヒドロペルオキシド化合物である第１の発明のジアルキルペルオキシドの製造方法である。
【０００６】
第３の発明は、ヒドロペルオキシド基を有する化合物が過酸化水素である第１の発明のジアルキルペルオキシドの製造方法である。
第４の発明は、脱アルミニウム処理を施したゼオライト触媒が、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比が３０〜１５０の範囲にあるゼオライト触媒である第１〜３の発明のいずれかのジアルキルペルオキシドの製造方法である。
【０００７】
第５の発明は、脱アルミニウム処理を施したゼオライト触媒が、塩酸処理にて脱アルミニウム処理したβ型ゼオライト触媒である第１〜４の発明のいずれかのジアルキルペルオキシドの製造方法である。
第６の発明は、接触反応の形式が、触媒を固定床とし、その固定床に対してアルコール系化合物およびヒドロペルオキシド基を有する化合物を含む混合液を流通反応させる形式である第１〜５の発明のいずれかのジアルキルペルオキシドの製造方法である。
【発明の効果】
【０００８】
第１の発明では、脱アルミニウム処理を施したゼオライト触媒の存在下に、アルコール系化合物とヒドロペルオキシド基を有する化合物とを反応させることで、高純度、高収率にジアルキルペルオキシドを製造することができる。
第２の発明では、第１の発明のヒドロペルオキシド基を有する化合物を有機ヒドロペルオキシド化合物とすることにより、より高純度、高収率にジアルキルペルオキシドを製造することができる。
【０００９】
第３の発明では、第１の発明のヒドロペルオキシド基を有する化合物を過酸化水素とすることにより、より高純度に、低コストでジアルキルペルオキシドを製造することができる。
第４の発明では、第１〜３の発明の脱アルミニウム処理を施したゼオライト触媒を、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比で３０〜１５０の範囲にあるゼオライト触媒とすることにより、より反応効率が高くジアルキルペルオキシドを製造することができる。
【００１０】
第５の発明では、第１〜４の発明の脱アルミニウム処理を施したゼオライト触媒を、塩酸処理にて脱アルミニウム処理したβ型ゼオライト触媒とすることにより、より反応効率が高くジアルキルペルオキシドを製造することができる。
第６の発明では、第１〜５の発明において、反応の形式を、触媒が固定床であり、その固定床に対してアルコール系化合物およびヒドロペルオキシド基を有する化合物を含む混合液を流通反応させる形式とすることにより、生産性が高く、工業的利用価値が高くジアルキルペルオキシドを製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下に、この発明の実施の形態について詳細に説明する。
本発明は、アルコール系化合物とヒドロペルオキシド基を有する化合物とを原料に用い、脱アルミニウム処理を施したゼオライト触媒の存在下に反応させることを特徴とするジアルキルペルオキシドの製造方法である。
【００１２】
本発明において、製造されるジアルキルペルオキシドとは、置換基として芳香族基を有するジアルキルペルオキシドを含めた公知のジアルキルペルオキシドの全てを含んでいる。
その具体例としては、例えば、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシド、ジ（ｔｅｒｔ−アミル）ペルオキシド、ビス（２−メチル−２−ペンチル）ペルオキシド、ビス（３−メチル−３−ペンチル）ペルオキシド、ビス（２，４，４−トリメチル−２−ペンチル）ペルオキシド、ビス（２−シクロヘキシル−２−プロピル）ペルオキシド、ビス（２−（４−メチルシクロヘキシル）−２−プロピル）ペルオキシド、ビス（２−メチル−２−ウンデシル）ペルオキシド、ビス（２−フェニル−２−プロピル）ペルオキシド、ビス（２−（４−メチルフェニル）−２−プロピル）ペルオキシド、ビス（２−（４−イソプロピルフェニル）−２−プロピル）ペルオキシド、ビス（２−（３−クロロフェニル）−２−プロピル）ペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェニル−２−プロピルペルオキド、ｔｅｒｔ−ブチル−２−（４−メチルフェニル）−２−プロピルペルオキド、ｔｅｒｔ−ブチル−２−（４−イソプロピルフェニル）−２−プロピルペルオキド、ｔｅｒｔ−ブチル−２−（３−クロロフェニル）−２−プロピルペルオキド、ｔｅｒｔ−アミル−２−フェニル−２−プロピルペルオキド、２−メチル−２ペンチル−２−フェニル−２−プロピルペルオキド、ｔｅｒｔ−ブチル−２−メチル−２−ペンチルペルオキド、ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチル−３−ペンチルペルオキド、ｔｅｒｔ−ブチル−（２，４，４−トリメチル−２ペンチル）ペルオキシド、ｔｅｒｔ−アミル−２−メチル−２−ペンチルペルオキド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−３−ヘキシン、１，３−ビス（２−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−２−プロピル）ベンゼンおよび１，４−ビス（２−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−２−プロピル）ベンゼンなどが挙げられる。
【００１３】
これらの中で製造原料調達の容易さの点から、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキド、ジ（ｔ−アミル）ペルオキシド、ビス（２−メチル−２−ペンチル）ペルオキシド、ビス（２，４，４−トリメチル−２−ペンチル）ペルオキシド、ビス（２−シクロヘキシル−２−プロピル）ペルオキシド、ビス（２−フェニル−２−プロピル）ペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェニル−２−プロピルペルオキド、ｔｅｒｔ−アミル−２−フェニル−２−プロピルペルオキド、２−メチル−２−ペンチル−２−フェニル−２−プロピルペルオキド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−３−ヘキシン、１，３−ビス（２−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−２−プロピル）ベンゼンおよび１，４−ビス（２−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−２−プロピル）ベンゼンが好ましい。
【００１４】
前記アルコール系化合物としては、具体的には、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール、２−メチル−２−ペンチルアルコール、２，４，４−トリメチル−２−ペンチルアルコール、２−シクロヘキシル−２−プロピルアルコール、２−メチル−２−ウンデシルアルコール、２−フェニル−２−プロピルアルコール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキシンジオール、１，３−ビス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンおよび１，４−ビス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンなどが挙げられる。
これらの中で、製造原料調達の容易さの点から、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、ｔｅｒｔ−アミルアルコール、２−メチル−２−ペンチルアルコール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオール、２，５−ジメチル−２，５−ヘキシンジオールおよび１，３−ビス（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ベンゼンが好ましい。
【００１５】
本発明で用いられるヒドロペルオキシドを有する化合物としては有機ヒドロペルオキシド化合物と過酸化水素を挙げることができるが、純度の高く、かつ収率が高いジアルキルペルオキシドが得られる点から、有機ヒドロペルオキシド化合物が好ましい。
前記有機ヒドロペルオキシド化合物の具体例としては、例えば、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−アミルヒドロペルオキシド、２−メチル−２−ペンチルヒドロペルオキシド、２，４，４−トリメチル−２−ペンチルヒドロペルオキシド、２−シクロヘキシル−２−プロピルヒドロペルオキシド、２−メチル−２−ウンデシルヒドロペルオキシド、２−フェニル−２−プロピルヒドロペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ヒドロペルオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ヒドロペルオキシ）−３−ヘキシン、１，３−ビス（２−ヒドロペルオキシ−２−プロピル）ベンゼンおよび１，４−ビス（２−ヒドロペルオキシ−２−プロピル）ベンゼンなどが好ましく挙げられる。
【００１６】
これらの中で、製造原料調達の容易さの点から、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド、ｔｅｒｔ−アミルヒドロペルオキシド、２−メチル−２−ペンチルヒドロペルオキシド、２−フェニル−２−プロピルヒドロペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ヒドロペルオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ヒドロペルオキシ）−３−ヘキシンおよび１，３−ビス（２−ヒドロペルオキシ−２−プロピル）ベンゼンが好ましい。
【００１７】
また、有機ヒドロペルオキシド化合物に対するアルコール系化合物の配合比率（アルコール系化合物／有機ヒドロペルオキシド化合物、モル比）は０．５〜４が好ましく、より好ましくは０．８〜２の範囲である。
配合比率が０．５未満では、有機ヒドロペルオキシド化合物に対する収率が低下し、また、配合比率が４を超える場合には過剰分のアルコール系化合物を除去する操作に長時間を要する傾向にある。
【００１８】
アルコール系化合物と有機ヒドロペルオキシド化合物とからなる原料混合液中には、安全性の観点から水分を含有させた方が好ましい。即ち、原料混合液中に占める水の量は、５０重量％以下が好ましく、原料混合液が触媒層に接触する段階で混合液の組成が均一な状態である点から、１〜３０重量％がより好ましい。
原料混合液中に占める水の量が５０重量％を超える場合には、安全性という点では優れるもの製造効率が低下する傾向にある。
【００１９】
過酸化水素をヒドロペルオキシドを有する化合物に用いると、低コストで純度の高いジアルキルペルオキシドを製造することができる。
ここで、本発明で用いられる過酸化水素は安全性の観点から水溶液が好ましく、その濃度は１０〜８０％で、さらに好ましくは３０〜６０％である。
また、アルコール系化合物と過酸化水素とからなる原料混合液中においても、安全性の観点から水をさらに添加することができる。原料混合液中に占める水の量は、５０重量％以下が好ましく、原料混合液が触媒層に接触する段階で混合液が均一な状態である点から、１〜３０重量％がより好ましい。原料混合液中に占める水の量が５０重量％を超える場合には、安全性という点では優れるもの製造効率が低下する傾向にある。
さらに、過酸化水素に対するアルコール系化合物の配合比率（アルコール系化合物／過酸化水素、モル比）は０．１〜６が好ましく、より好ましくは０．３〜３の範囲である。配合比率が０．１未満では、アルコール系化合物に対する収率が低下し、また、配合比率が６を超える場合には過剰分のアルコール系化合物を除去する操作に長時間を要する傾向がある。
【００２０】
本発明において使用される特定の触媒は、ゼオライト触媒を脱アルミニウム処理を施した、少なくとも部分的に酸型の構造を有するゼオライト触媒である。使用されるゼオライト触媒としては、天然ゼオライトまたは合成ゼオライト、例えば、β型、モルデナイト型、ＭＦＩ型、ＦＡＵ型、Ｙ型、Ｘ型、Ａ型、モンモリロナイト型、フェリエライト型、ＶＦＩ型などが挙げられる。これらの群から選択される１種または２種以上の組み合わせで使用される。
これらの中で、反応を促進する触媒活性の高さの点から、脱アルミニウム処理後のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比が３０〜１５０の範囲であるゼオライト触媒が好ましく、脱アルミニウム処理後のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比が３０〜１５０の範囲であるβ型ゼオライト触媒がより好ましい。
ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比が３０未満の場合や１５０を超える場合のいずれにおいても、触媒活性の低下により、反応効率が低下する傾向にある。
【００２１】
ゼオライト触媒から脱アルミニウム処理をする方法としては、ゼオライト骨格中のアルミニウムを、５００℃以上のスチームにより水酸化アルミニウムとして溶出させる方法や、エチレンジアミン四酢酸などのキレート剤によりキレート化物として溶出させる方法や、硝酸、塩酸、硫酸などの酸によりアルミニウム塩として溶出させる方法などが知られている。
【００２２】
これらの中では、処理時間、処理温度などを設定することにより、溶出させるアルミニウムの量を容易に調製できる点から、酸による処理法が好ましく、塩酸処理法による脱アルミニウム処理の方法が特に好ましい。
塩酸処理法は、ゼオライト触媒を塩酸中で加熱することにより、ゼオライト骨格中のアルミニウムをＡｌＣｌ３として溶出させる処理法であり、塩酸濃度、処理温度、処理時間を調整することで、溶出させるアルミニウムの量を制御することができる。塩酸処理後のゼオライト触媒は、一般にろ過、水洗、乾燥の後、５００℃程度の温度で焼成される。
塩酸濃度、処理温度、処理時間は、ゼオライト触媒の構造により適宜調整されるが、一般に、塩酸濃度は、０．０１〜１．０モル／リットルが好ましく、処理温度は０〜６０℃が好ましく、処理時間は、３０分間〜１０時間が好ましい。
【００２３】
本発明において、アルコール系化合物、ヒドロペルオキシド基を有する化合物などの反応基質はゼオライト触媒と接触し反応する。反応の形式は、バッチ式または流通式のいずれも採用可能であるが、反応基質に対して大量の触媒を接触させて反応効率を向上できる点から、流通式の形式の採用が好ましい。
また、反応装置は触媒と反応基質との接触効率の点から固定床流通装置が特に好ましく使用される。その際、装置の簡便さの点から触媒層の外側に熱交換用のジャケットなどを備えた管型反応器が好適に使用される。
また、流動床流通装置も適宜使用できる。
【００２４】
本発明における反応温度は、０〜１５０℃、好ましくは３０〜１２０℃、より好ましくは５０〜１００℃である。反応温度が０℃未満では触媒活性が低下するため、反応効率が著しく低下し、一方、１５０℃を超える場合にはヒドロペルオキシドを有する化合物および生成したジアルキルペルオキシドが分解を起こす傾向にある。
【実施例】
【００２５】
以下実施例により本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【００２６】
触媒調製例１
ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比が２３．０であるβ型ゼオライト（Ｚｅｏｌｙｓｔ社製）５０ｇを塩酸水溶液（塩酸濃度：０．１２５モル／リットル）２００ｇに浸漬し、室温で６時間緩やかに攪拌することにより脱アルミニウム処理を施した。
脱アルミニウム処理を施されたゼオライトをろ過し、さらにろ液のｐＨが７程度になるまで水洗、ろ過を繰り返した後、硝酸銀水溶液で塩化物が残留していないことを確認した。次に、恒温槽中１００℃で乾燥させた後、マッフル炉にて５００℃で焼成した。
粉末Ｘ線回折（日本電子製装置、型式：ＪＤＸ−８０３０、Ｘ線源：ＣｕＫα、測定範囲：５〜５０°、スキャンスピード：２°／分、以後単に粉末Ｘ線回折と略記する。）により、得られた脱アルミニウム処理を施されたβ型ゼオライトは結晶構造が維持されていることを確認した。
そして、処理条件と脱アルミニウム処理後のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比をＸＲＦ測定（日本電子製装置、型式：ＪＳＸ−３２０１、管電圧：３０．０ｋＶ、測定法：バルクＦＰ法、ライブタイム：６００秒、以下単にＸＲＦ測定と略記する。）により求めた結果を表１に示した。
【００２７】
【表１】
2005068065.tif 000002
【００２８】
触媒調製例２、３
塩酸濃度、処理温度および処理時間を表１に示すように変更すること以外は触媒調製例１に準じて脱アルミニウム処理を施し、そしてＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比の測定を行った。
また粉末Ｘ線回折により、得られた脱アルミニウム処理を施されたβ型ゼオライトの結晶構造は維持されていることをいずれも確認した。処理条件と脱アルミニウム処理後のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比をＸＲＦ測定により求めた結果を表１に示した。
【００２９】
実施例１
外部にジャケットを備えた内径１０ｍｍのガラス製管型流通反応器に脱アルミニウム処理を施されたβ型ゼオライト（ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比：５０．５、触媒調製例１）で粒径０．５〜１．０ｍｍの顆粒状に成型したもの１０．０ｇを充填した。反応器の外部ジャケットには７５℃の温水を循環させた。
反応器の一方からｔｅｒｔ−ブチルアルコール（和光純薬工業（株）製、試薬特級）とｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド（日本油脂（株）製、商品名：パーブチルＨ−６９、６９重量％水溶液）の原料混合液（ｔｅｒｔ−ブチルアルコール／ｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド＝１．０／１．０（モル比））をポンプにより約２０ｇ／ｈｒの流速で導入した。
定常状態に到達した時点から３時間の間に反応器に供給した原料混合液とゼオライト触媒層を経て流出し回収された反応液の重量を秤量した。この間に供給された原料混合液の重量は５７．３３ｇ、回収された反応液は５５．８９ｇであった。回収された反応液を上層の有機層と下層の水層に分離して、上層部から有機層３８．６７ｇ（粗収量）を得た。
得られた有機層をガスクロマトグラフィー（カラム：信和化工（株）製、商品名：ＨＲ−１、キャリアーガス：Ｈｅ）によって定量分析したところ、有機層中のジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシドとしての純度は９５．１重量％であった。したがって、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシドの収量は３６．７７ｇであり、収率は８９．８％であった。有機層中には未反応のｔｅｒｔ−ブチルアルコール０．６％、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド０．２％が含まれていた。触媒のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比（ＸＲＦ測定）、粗収量（ｇ）、純度（％）および収率（％）についての結果を表２に示した。
【００３０】
【表２】
2005068065.tif 000003
【００３１】
実施例２
触媒として脱アルミニウム処理を施されたβ型ゼオライト（ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比：８７．０、触媒調製例２）を用いること以外は実施例１に準じて実施した。
供給された原料混合液の重量は５７．５１ｇ、回収された反応液は５５．９５ｇであった。回収された反応液を上層の有機層と下層の水層に分離して、上層部から有機層３８．９０ｇを得た。
ガスクロマトグラフィーによる定量分析の結果、有機層中のジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシドとしての純度は９５．８重量％であった。したがって、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシドの収量は３７．２７ｇであり、収率は９０．７％であった。有機層中には未反応のｔｅｒｔ−ブチルアルコール０．４％、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド０．１％が含まれていた。触媒のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比（ＸＲＦ測定）、粗収量（ｇ）、純度（％）および収率（％）を表２に示した。
【００３２】
実施例３
触媒として脱アルミニウム処理を施されたβ型ゼオライト（ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比：９５．７、触媒調製例３）を用いること以外は実施例１に準じて実施した。
供給された原料混合液の重量は５８．２０ｇ、回収された反応液は５６．５７ｇであった。回収された反応液を上層の有機層と下層の水層に分離して、上層部から有機層３９．２２ｇを得た。
ガスクロマトグラフィーによる定量分析の結果、有機層中のジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシドとしての純度は９５．５重量％であった。したがって、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシドの収量は３７．４５ｇであり、収率は９０．１％であった。有機層中には未反応のｔｅｒｔ−ブチルアルコール０．６％、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド０．２％が含まれていた。触媒のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比（ＸＲＦ測定）、粗収量（ｇ）、純度（％）および収率（％）についての結果を表２に示した。
【００３３】
実施例４
原料として、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール（和光純薬工業（株）製、試薬特級）と過酸化水素（６０％水溶液）の混合液（ｔｅｒｔ−ブチルアルコール／過酸化水素＝１．０／１．０（モル比））を約１６ｇ／ｈｒの流速で供給すること以外は実施例１に準じて実施した。
供給された原料混合液の重量は４７．６２ｇ、回収された反応液は４６．５２ｇであった。回収された反応液を上層の有機層と下層の水層に分離して、上層部から有機層２３．４７ｇを得た。
ガスクロマトグラフィーによる定量分析の結果、有機層中のジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシドとしての純度は９３．７重量％であった。したがって、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシドの収量は２１．９９ｇであり、収率は８２．６％であった。有機層中には未反応のｔｅｒｔ−ブチルアルコール０．２％および副産物としてのｔｅｒｔ−ブチルヒドロペルオキシド２．３％が含まれていた。触媒のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比（ＸＲＦ測定）、粗収量（ｇ）、純度（％）および収率（％）についての結果を表２に示した。
【００３４】
比較例１
触媒としてＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比が２３．０であるβ型ゼオライト（脱アルミニウムの処理が施されていないもの）を用いること以外は実施例１に準じて実施した。
供給された原料混合液の重量は５８．０３ｇ、回収された反応液は５６．８１ｇであった。回収された反応液を上層の有機層と下層の水層に分離して、上層部から有機層４３．０７ｇを得た。
ガスクロマトグラフィーによる定量分析の結果、有機層中のジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシドとしての純度は２５．１重量％であった。したがって、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシドの収量は１０．８１ｇであり、収率は２６．１％であった。有機層中には未反応のｔｅｒｔ−ブチルアルコール３１．５％、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド２０．９％が含まれていた。触媒のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比（ＸＲＦ測定）、粗収量（ｇ）、純度（％）および収率（％）についての結果を表２に示した。
【００３５】
比較例２
触媒としてＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比が５０．０であるβ型ゼオライト（ズードケミー製、脱アルミニウムの処理が施されていないもの）を用いること以外は実施例１に準じて実施した。
供給された原料混合液の重量は５７．８９ｇ、回収された反応液は５４．９８ｇであった。回収された反応液を上層の有機層と下層の水層に分離して、上層部から有機層３７．５２ｇを得た。
ガスクロマトグラフィーによる定量分析の結果、有機層中のジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシドとしての純度は７０．２重量％であった。したがって、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）ペルオキシドの収量は２６．３４ｇであり、収率は６３．７％であった。有機層中には未反応のｔｅｒｔ−ブチルアルコール１３．４％、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド６．８％が含まれていた。触媒のＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比（ＸＲＦ測定）、粗収量（ｇ）、純度（％）および収率（％）についての結果を表２に示した。
【００３６】
実施例１〜４から、本発明の方法に従ってジアルキルペルオキシドを製造すれば、高純度のジアルキルペルオキシドを高収率で合成できることが明らかとなった。
それに対して、脱アルミニウム処理を施す前のゼオライト触媒を使用した場合（比較例１）は、得られるジアルキルペルオキシドは純度、収率ともに低い結果となることが明らかとなった。
また、実施例１と比較例２との比較から、ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３のモル比が同一の場合、脱アルミニウム処理を施したゼオライト触媒は未処理のゼオライト触媒より高活性であることが明らかとなった。