(57)【要約】【課題】表示パネルの研磨処理において、研磨時間を短縮することができ、砥石の局所的な磨耗を防止し、砥石の使用寿命を長くすることができる表示パネルの研磨装置、その研磨方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、及びプラズマ表示装置の製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の表示パネルの研磨装置１０は、複数の砥石２１、２２、２３と、複数の砥石２１、２２、２３を回転させる回転機構と、複数の砥石２１、２２、２３を第一方向Ｘへ移動させる移動機構とを備える。この複数の砥石２１、２２、２３は、第一基板４１と第二基板４２が段差を有するように重ね合わされた表示パネル４０を処理する。その際、複数の砥石２１、２２、２３は、回転機構により回転し、移動機構により第一方向Ｘへ移動することによって、表示パネル４０の第一方向Ｘに沿った複数のエッジ部Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３をそれぞれ研磨する。【選択図】      図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の砥石と、
前記複数の砥石の各々を回転させる回転機構と、
前記複数の砥石を第一方向へ移動させる移動機構と
を具備し、
第一基板と第二基板が段差を有するように重ね合わされた表示パネルを処理する際、
前記複数の砥石のそれぞれは、前記回転機構により回転し、前記移動機構により前記第一方向へ移動することによって、前記表示パネルの前記第一方向に沿った複数のエッジ部のそれぞれを研磨する
表示パネルの研磨装置。
【請求項２】
請求項１において、
前記複数の砥石の各々は、前記表示パネルが配置される面に平行な面で回転する
表示パネルの研磨装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、
前記表示パネルが配置される面を配置面とし、
前記第一基板は、前記第一方向に沿った第一エッジ部と第二エッジ部を、前記複数のエッジ部として有し、
前記第二基板は、前記段差に対応する前記第一方向に沿った第三エッジ部を、前記複数のエッジ部として有し、
前記複数の砥石は、
前記第一エッジ部を研磨する第一砥石と、
前記第二エッジ部を研磨する第二砥石と、
前記第三エッジ部を研磨する第三砥石と
を具備する
表示パネルの研磨装置。
【請求項４】
請求項３において、
前記第一、第二、第三砥石のうち少なくとも一つは、二面の研磨面を備え、
前記二面の研磨面は、前記配置面に平行な面に関し対称に形成された
表示パネルの研磨装置。
【請求項５】
請求項３において、
前記第一砥石は、第一研磨面を備え、
前記第二砥石は、第二研磨面を備え、
前記第三砥石は、第三研磨面と第四研磨面を備え、
前記第一研磨面と前記第二研磨面は、前記配置面に平行な面に関し対称に形成され、
前記第三研磨面と前記第四研磨面は、前記配置面に平行な面に関し対称に形成された
表示パネルの研磨装置。
【請求項６】
請求項３において、
前記第一砥石は、第一研磨面を備え、
前記第二砥石は、第三研磨面と第四研磨面を備え、
前記第三砥石は、第ニ研磨面を備え、
前記第一研磨面と前記第二研磨面は、前記配置面に平行な面に関し対称に形成され、
前記第三研磨面と前記第四研磨面は、前記配置面に平行な面に関し対称に形成された
表示パネルの研磨装置。
【請求項７】
請求項５又は６において、
前記第一、第二、第三、第四研磨面の各々と前記配置面のなす角度は概ね４５度である
表示パネルの研磨装置。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれかにおいて、
前記複数の砥石を移動可能なように支持する砥石ユニットを更に具備する
表示パネルの研磨装置。
【請求項９】
請求項８において、
前記複数の砥石は、前記砥石ユニットの前記第一方向に概ね沿って配列される
表示パネルの研磨装置。
【請求項１０】
請求項９において、
前記表示パネルを処理する際、
前記砥石ユニットは、前記表示パネルを覆うように配置され、
前記複数の砥石は、前記表示パネルを挟むように配置される
表示パネルの研磨装置。
【請求項１１】
請求項８乃至１０のいずれかにおいて、
前記表示パネルを処理する際、
前記砥石ユニットは、前記第一方向に移動する
表示パネルの研磨装置。
【請求項１２】
請求項１乃至１１のいずれかにおいて、
前記表示パネルはプラズマディスプレイパネルである
表示パネルの研磨装置。
【請求項１３】
形状の異なる前面基板と背面基板とを対向配置した表示パネルの研磨方法であって、
前記前面基板と前記背面基板の段差部、及び前記前面基板と前記背面基板の周縁部を同時に研磨する第一研磨工程を含む
表示パネルの研磨方法。
【請求項１４】
請求項１３において、
前記第一研磨工程は、
前記表示パネルの表示面に垂直な方向から見たときの前記表示パネルの対向する２辺に相当する前記前面基板と前記背面基板の前記段差部及び前記周縁部を、前記２辺が延伸する方向に相対的に移動する砥石により同時に研磨する工程である
表示パネルの研磨方法。
【請求項１５】
請求項１４において、
前記２辺の研磨完了後、前記表示パネルを前記表示面に平行な平面内で回転させる工程と、
前記表示パネルの前記表示面に垂直な方向から見たときの前記表示パネルの対向する他の２辺に相当する前記前面基板と前記背面基板の前記段差部及び前記周縁部を、前記他の２辺の延伸する方向に相対的に移動する砥石により同時に研磨する第二研磨工程と
を更に含む
表示パネルの研磨方法。
【請求項１６】
請求項１５において、
前記第一研磨工程と前記第二研磨工程では、前記段差部の研磨用砥石と前記周縁部の研磨用砥石の配列が異なる
表示パネルの研磨方法。
【請求項１７】
表示パネルの端面を、前記表示パネルの表示面に平行な面で回転する砥石により研磨する工程と、
前記表示パネルの表示面に平行な面に垂直な方向に前記砥石を移動する工程と、
前記移動後、前記表示パネル又は前記表示パネルとは異なる表示パネルの端面を、前記表示パネルの表示面に平行な面で回転する砥石により研磨する工程とを有する
表示パネルの研磨方法。
【請求項１８】
第一基板と第二基板が段差を有するように重ね合わされた表示パネルの研磨方法であって、
（ａ）前記表示パネルの第一方向に沿った複数のエッジ部のそれぞれを、回転する複数の砥石を前記第一方向に移動させることによって研磨する工程
を具備する
表示パネルの研磨方法。
【請求項１９】
請求項１８において、
前記複数の砥石は、移動可能なように砥石ユニットにより支持され、
前記（ａ）研磨する工程は、
（ａ−１）前記複数の砥石を、前記第一方向に沿った前記複数のエッジ部に接触させる工程と、
（ａ−２）前記砥石ユニットを、前記第一方向へ移動させる工程と
を具備する
表示パネルの研磨方法。
【請求項２０】
請求項１９において、
前記（ａ−１）接触させる工程は、前記表示パネルが前記複数の砥石によって挟まれるように行われる
表示パネルの研磨方法。
【請求項２１】
請求項１８乃至２０のいずれかにおいて、
（ｂ）前記表示パネルを、前記表示パネルが配置された面内で回転させる工程と、
（ｃ）前記表示パネルの第二方向に沿った複数のエッジ部を、前記第一方向に沿うように整列させる工程と、
（ｄ）前記第二方向に沿った複数のエッジ部を、前記複数の砥石を用いてそれぞれ研磨する工程と
を更に具備する
表示パネルの研磨方法。
【請求項２２】
請求項２１において、
前記第一方向と前記第二方向は略直角である
表示パネルの研磨方法。
【請求項２３】
請求項２１又は２２において、
前記第一基板は、前記第一方向に沿った第一エッジ部と第二エッジ部を有し、
前記第二基板は、前記段差に対応する前記第一方向に沿った第三エッジ部を有し、
前記第一基板は、前記段差に対応する前記第ニ方向に沿った第四エッジ部を有し、
前記第二基板は、前記第二方向に沿った第五エッジ部と第六エッジ部を有し、
前記複数の砥石は、
第一砥石と、
第二砥石と、
第三砥石とを含み、
前記（ａ）研磨する工程において、
前記第一砥石は、前記第一エッジ部を研磨し、
前記第二砥石は、前記第二エッジ部を研磨し、
前記第三砥石は、前記第三エッジ部を研磨する
表示パネルの研磨方法。
【請求項２４】
請求項２３において、
前記（ｄ）研磨する工程において、
前記第一砥石は、前記第五エッジ部を研磨し、
前記第二砥石は、前記第六エッジ部を研磨し、
前記第三砥石は、前記第四エッジ部を研磨する
表示パネルの研磨方法。
【請求項２５】
請求項２３において、
前記（ｄ）研磨する工程において、
前記第一砥石は、前記第四エッジ部を研磨し、
前記第二砥石は、前記第五エッジ部を研磨し、
前記第三砥石は、前記第六エッジ部を研磨する
表示パネルの研磨方法。
【請求項２６】
請求項１３乃至２５のいずれかに記載の表示パネルの研磨方法を含む
プラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２７】
プラズマディスプレイパネルを製造する第１過程と、
前記プラズマディスプレイパネルを駆動する回路とともに前記プラズマディスプレイパネルを１つのモジュールとして製造する第２過程と、
画像信号のフォーマット変換を行い、前記モジュールに送信するインタフェースを前記モジュールに電気的に接続する第３過程を含む
プラズマ表示装置の製造方法であり、
前記第１過程では請求項２６に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法が実施される
プラズマ表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネルを構成する基板を処理する装置及びその方法に関し、特に表示パネルを構成する基板のエッジ部を研磨する装置及びその方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示パネル、例えばプラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰ；Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌと参照される）を形成するためには、ガラス基板が用いられる。そのＰＤＰの製造工程において、パターニングされた大きなガラス板が分断され、個々のガラス基板が形成される場合がある。分断後のガラス基板のエッジ部（端部）は鋭利になっており、端部欠けの防止、および取り扱い時の安全確保のため、そのエッジ部を研磨する必要がある。
【０００３】
図１は、ＰＤＰを構成する基板のエッジ部を研磨する際の従来の構成を示す平面図である。図１において、エッジ部を研磨する際の、ＰＤＰと研磨用砥石との位置関係が示されている。被研磨部材であるＰＤＰ１は、前面基板２と背面基板３とから構成される。その２枚の基板は、スペーサを介して貼り合わされ、また、その２枚の基板間の領域には希ガスが封入されている。ここで、ＰＤＰ１の周縁部に端子領域が確保されるように、前面基板２と背面基板３は貼り合わされている。すなわち、前面基板２と背面基板３は、大きさが異なる、あるいは形状が異なる。これにより、ＰＤＰ１の４辺には電極端子などを形成するためのマージン構造が確保され、同時に段差構造が形成される。その段差構造に対応するエッジ部を段差部とする。それ以外のエッジ部、つまりＰＤＰ１の最外部に存在するエッジ部を周縁部とする。
【０００４】
ＰＤＰ１は、ロボットハンド等によって研磨装置に移載され、研磨領域のテーブル上にセットされる。ここで、ＰＤＰ１は、研磨領域において位置決めされ、真空吸着機構等でテーブル上に水平に保持される。この後、砥石４を用いることによって、ＰＤＰ１の任意の一辺の研磨が行われる。砥石４が、研磨する辺の延伸方向（図１中のＸ軸方向）に沿って移動できるように、研磨装置はＸ軸移動機構を備える。また、砥石４の上下方向（図１中のＺ軸方向）の位置、及びＰＤＰ１に対する前後方向（図１中のＹ軸方向）の位置を調整できるように、研磨装置は、Ｚ軸移動機構及びＹ軸移動機構をそれぞれ備える。
【０００５】
図２Ａ及び図２Ｂは、図１に示された構成の側面図である。砥石４は、中央研磨面５と上部研磨面６と下部研磨面７を有する。中央研磨面５は、砥石４の側面に谷状に形成され、ＰＤＰ１の周縁部を研磨するのに用いられる。また、上部研磨面６及び下部研磨面７は、砥石４の側面が波状になるように形成されている。この上部研磨面６及び下部研磨面７は、ＰＤＰ１の段差部を研磨するのに用いられる。つまり、砥石４は、様々なエッジ部を研磨できるように一体型の構造を有する（以下、砥石４は、一体型砥石４と参照される）。一体型砥石４の回転軸は、ＰＤＰ１の表示面と垂直な方向に沿い、一体型砥石４は常にその表示面に平行な平面内で回転する。このような一体型砥石４は、例えば特許文献１（図１４又は図１５）に記載されている。
【０００６】
次に、図１、図２Ａ及び図２Ｂを参照して、ＰＤＰ１のエッジ部を研磨するための従来の方法について説明する。まず、図１に示されるように、一体型砥石４が移動する方向（Ｘ軸方向）と研磨対象となる辺が平行になるようにＰＤＰ１が位置決めされる。ＰＤＰ１は、回転可能なテーブル上に真空吸着機構等により水平に保持される。この時、一体型砥石４は、ＰＤＰ１と接触しない位置に退避している。次に、Ｙ軸移動機構とＺ軸移動機構を用い一体型砥石４の位置を調整することによって、図２Ａに示されるように、研磨対象となる前面基板２のエッジ部Ｅ１及びＥ２（ＰＤＰ１の周縁部）と、一体型砥石４の中央研磨面５を接触させる。その後、一体型砥石４を諸条件により決定した設定速度で回転させ、一体型砥石４を図１に示されるようにＸ軸方向に移動させることにより、エッジ部Ｅ１及びＥ２の研磨が行われる。
【０００７】
ＰＤＰ１の周縁部の研磨が完了した後、続けて背面基板３のエッジ部Ｅ３（ＰＤＰ１の段差部）の研磨が行われる。Ｙ軸移動機構とＺ軸移動機構を用い一体型砥石４の位置を調整することによって、図２Ｂに示されるように、研磨対象となる背面基板３のエッジ部Ｅ３と一体型砥石４の上部研磨面６を接触させる。その後、一体型砥石４が前工程と逆方向（−Ｘ軸方向）に移動することによって、エッジ部Ｅ３の研磨が行われる。このように、ＰＤＰ１の一辺における周縁部と段差部を研磨するために、二回の工程を行うことが必要である。
【０００８】
ＰＤＰ１の一辺の周縁部および段差部の研磨が完了した後、ＰＤＰ１を載せたテーブルは９０度回転する。その後、上述の工程と同様に一体型砥石４を移動させることによって、別の一辺に対する周縁部および段差部の研磨が行われる。但しこの時、周縁部は背面基板３に属し、段差部は前面基板２に属する。また、段差部の研磨は、一体型砥石４の下部研磨面７により行われる。以後、同様の動作が繰り返され、１枚のＰＤＰ１のエッジ部の研磨が完了する。
【０００９】
【特許文献１】特開平８−１９７４０２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の課題は、表示パネルの研磨処理にかかる時間を短縮することができる表示パネルの研磨装置、その研磨方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、及びプラズマ表示装置の製造方法を提供することにある。
【００１１】
本発明の他の課題は、表示パネルの研磨処理における砥石の局所的な磨耗を防止し、砥石の使用寿命を長くすることができる表示パネルの研磨装置、その研磨方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、及びプラズマ表示装置の製造方法を提供することにある。
【００１２】
本発明の更に他の課題は、表示パネルを研磨する際、その研磨量を安定させることできる表示パネルの研磨装置、その研磨方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、及びプラズマ表示装置の製造方法を提供することにある。
【００１３】
本発明の更に他の課題は、砥石の移動制御機構を簡易にし、表示パネルの研磨処理における砥石の制御性を向上させることができる表示パネルの研磨装置、その研磨方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、及びプラズマ表示装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
以下に、［発明を実施するための最良の形態］で使用される番号・符号を用いて、［課題を解決するための手段］を説明する。これらの番号・符号は、［特許請求の範囲］の記載と［発明を実施するための最良の形態］との対応関係を明らかにするために括弧付きで付加されたものである。ただし、それらの番号・符号を、［特許請求の範囲］に記載されている発明の技術的範囲の解釈に用いてはならない。
【００１５】
本発明の表示パネル（４０）の研磨装置（１０）は、複数の砥石（２１、２２、２３）と、複数の砥石（２１、２２、２３）の各々を回転させる回転機構と、複数の砥石（２１、２２、２３）を第一方向（Ｘ）へ移動させる移動機構とを備える。この複数の砥石（２１、２２、２３）は、第一基板（４１、４２）と第二基板（４１、４２）が段差を有するように重ね合わされた表示パネル（４０）を処理する。その際、複数の砥石（２１、２２、２３）は、回転機構により回転し、移動機構により第一方向（Ｘ）へ移動することによって、表示パネル（４０）の第一方向（Ｘ）に沿った複数のエッジ部（Ｅ１〜Ｅ３、Ｅ４〜Ｅ６）をそれぞれ研磨する。複数の砥石（２１、２２、２３）の各々は、表示パネル（４０）が配置される配置面（ＸＹ）に平行な面で回転する。
【００１６】
第一基板（４１、４２）は、第一方向（Ｘ）に沿った第一エッジ部（Ｅ１、Ｅ５）と第二エッジ部（Ｅ２、Ｅ６）を、複数のエッジ部（Ｅ１〜Ｅ６）として有する。第二基板（４１、４２）は、段差に対応する第一方向（Ｘ）に沿った第三エッジ部（Ｅ３、Ｅ４）を、複数のエッジ部（Ｅ１〜Ｅ６）として有する。この時、複数の砥石（２１、２２、２３）は、第一エッジ部（Ｅ１、Ｅ５）を研磨する第一砥石（２１）と、第二エッジ部（Ｅ２、Ｅ６）を研磨する第二砥石（２２）と、第三エッジ部（Ｅ３、Ｅ４）を研磨する第三砥石（２３）とを備える。
【００１７】
本発明の表示パネル（４０）の研磨装置（１０）において、第一砥石（２１）、第二砥石（２２）、第三砥石（２３）のうち少なくとも一つ（２３）は、二面の研磨面（３３、３４）を備える。この二面の研磨面（３３、３４）は、配置面（ＸＹ）に平行な面に関し対称に形成される。
【００１８】
本発明の表示パネル（４０）の研磨装置（１０）において、第一砥石（２１）は、第一研磨面（３１）を備える。第二砥石（２２）は、第二研磨面（３２）を備える。第三砥石（２３）は、第三研磨面（３３）と第四研磨面（３４）を備える。第一研磨面（３１）と第二研磨面（３２）は、配置面（ＸＹ）に平行な面に関し対称に形成される。第三研磨面（３３）と第四研磨面（３４）は、配置面（ＸＹ）に平行な面に関し対称に形成される。
【００１９】
本発明の表示パネル（４０）の研磨装置（１０）において、第一砥石（２１）は、第一研磨面（３１）を備える。第二砥石（２３）は、第三研磨面（３３）と第四研磨面（３４）を備えてもよい。第三砥石（２２）は、第ニ研磨面（３２）を備える。第一研磨面（３１）と第二研磨面（３２）は、配置面（ＸＹ）に平行な面に関し対称に形成される。第三研磨面（３３）と第四研磨面（３４）は、配置面（ＸＹ）に平行な面に関し対称に形成される。
【００２０】
本発明の表示パネル（４０）の研磨装置（１０）において、第一研磨面（３１）、第二研磨面（３２）、第三研磨面（３３）、第四研磨面（３４）の各々と配置面（ＸＹ）のなす角度は概ね４５度である。
【００２１】
本発明の表示パネル（４０）の研磨装置（１０）は、複数の砥石（２１、２２、２３）を移動可能なように支持する砥石ユニット（１１）を更に備える。この時、複数の砥石（２１、２２、２３）は、砥石ユニット（１１）の第一方向（Ｘ）に概ね沿って配列される。表示パネル（４０）を処理する際、砥石ユニット（１１）は、表示パネル（４０）を覆うように配置される。また、複数の砥石（２１、２２、２３）は、表示パネル（４０）を挟むように配置される。砥石ユニット（１１）は、第一方向（Ｘ）に移動する。
【００２２】
本発明において、表示パネル（４０）はプラズマディスプレイパネル（１３０）であってもよい。
【００２３】
本発明の表示パネル（４０）の研磨方法は、形状の異なる前面基板（４１）と背面基板（４２）とを対向配置した表示パネル（４０）の研磨方法でる。この研磨方法は、前面基板（４１）と背面基板（４２）の段差部（Ｅ３）、及び前面基板（４１）と背面基板（４２）の周縁部（Ｅ１、Ｅ２）を同時に研磨する第一研磨工程を含む。この第一研磨工程は、表示パネル（４０）の表示面（ＸＹ）に垂直な方向から見たときの表示パネル（４０）の対向する２辺に相当する前面基板（４１）と背面基板（４２）の段差部（Ｅ３）及び周縁部（Ｅ１、Ｅ２）を、２辺が延伸する方向（Ｘ）に相対的に移動する砥石（２１、２２、２３）により同時に研磨する工程である。
【００２４】
本発明の表示パネル（４０）の研磨方法は、２辺の研磨完了後、表示パネル（４０）を表示面に平行な平面内（ＸＹ）で回転させる工程と、表示パネル（４０）の表示面に垂直な方向から見たときの表示パネル（４０）の対向する他の２辺に相当する前面基板（４１）と背面基板（４２）の段差部（Ｅ４）及び周縁部（Ｅ５、Ｅ６）を、他の２辺の延伸する方向（Ｘ）に相対的に移動する砥石（２１、２２、２３）により同時に研磨する第二研磨工程とを更に含む。第一研磨工程と第二研磨工程では、段差部（Ｅ３、Ｅ４）の研磨用砥石（２１、２２、２３）と周縁部（Ｅ１、Ｅ２、Ｅ５、Ｅ６）の研磨用砥石（２１、２２、２３）の配列が異なる。
【００２５】
本発明の表示パネル（４０）の研磨方法は、表示パネル（４０）の端面（Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３）を、表示パネル（４０）の表示面（ＸＹ）に平行な面で回転する砥石（２１、２２、２３）により研磨する工程と、表示パネル（４０）の表示面（ＸＹ）に平行な面に垂直な方向（Ｘ）に砥石（２１、２２、２３）を移動する工程と、移動後、表示パネル（４０）又異なる表示パネル（４０）の端面（Ｅ４、Ｅ５、Ｅ６）を、表示パネル（４０）の表示面（ＸＹ）に平行な面で回転する砥石（２１、２２、２３）により研磨する工程とを有する。
【００２６】
本発明の表示パネル（４０）の研磨方法は、第一基板（４１、４２）と第二基板（４１、４２）が段差を有するように重ね合わされた表示パネル（４０）の研磨方法である。この研磨方法は、（ａ）表示パネル（４０）の第一方向（Ｘ）に沿った複数のエッジ部（Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３）のそれぞれを、回転する複数の砥石（２１、２２、２３）を第一方向（Ｘ）に移動させることによって研磨する工程を備える。
【００２７】
本発明の表示パネル（４０）の研磨方法において、複数の砥石（２１、２２、２３）は、移動可能なように砥石ユニット（１１）により支持される。そして、上記（ａ）研磨する工程は、（ａ−１）複数の砥石（２１、２２、２３）を、第一方向（Ｘ）に沿った複数のエッジ部（Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３）に接触させる工程と、（ａ−２）砥石ユニット（１１）を、第一方向（Ｘ）へ移動させる工程とを具備える。この（ａ−１）接触させる工程は、表示パネル（４０）が複数の砥石（２１、２２、２３）によって挟まれるように行われるのが好適である。
【００２８】
本発明の表示パネル（４０）の研磨方法は、（ｂ）表示パネル（４０）を、表示パネル（４０）が配置された面（ＸＹ）内で回転させる工程と、（ｃ）表示パネル（４０）の第二方向（Ｙ）に沿った複数のエッジ部（Ｅ４、Ｅ５、Ｅ６）を、第一方向（Ｘ）に沿うように整列させる工程と、（ｄ）第二方向（Ｙ）に沿った複数のエッジ部（Ｅ４、Ｅ５、Ｅ６）を、複数の砥石（２１、２２、２３）を用いてそれぞれ研磨する工程とを更に備える。第一方向（Ｘ）と第二方向（Ｙ）は略直角である。
【００２９】
第一基板（４１）は、第一方向（Ｘ）に沿った第一エッジ部（Ｅ１）と第二エッジ部（Ｅ２）を有する。第二基板（４２）は、段差に対応する第一方向（Ｘ）に沿った第三エッジ部（Ｅ３）を有する。第一基板（４１）は、段差に対応する第ニ方向（Ｙ）に沿った第四エッジ部（Ｅ４）を有する。第二基板（４２）は、第二方向（Ｙ）に沿った第五エッジ部（Ｅ５）と第六エッジ部（Ｅ６）を有する。
【００３０】
本発明の表示パネル（４０）の研磨方法において、複数の砥石（２１、２２、２３）は、第一砥石（２１）と、第二砥石（２２）と、第三砥石（２３）とを含む。上記（ａ）研磨する工程において、第一砥石（２１）は、第一エッジ部（Ｅ１）を研磨する。第二砥石（２２、２３）は、第二エッジ部（Ｅ２）を研磨する。第三砥石（２３、２２）は、第三エッジ部（Ｅ３）を研磨する。上記（ｄ）研磨する工程において、第一砥石（２１）は、第五エッジ部（Ｅ５）を研磨する。第二砥石（３２）は、第六エッジ部（Ｅ６）を研磨する。第三砥石（２３）は、第四エッジ部（Ｅ４）を研磨する。第一砥石（２１）は、第四エッジ部（Ｅ４）を研磨してもよい。第二砥石（２３）は、第五エッジ部（Ｅ５）を研磨してもよい。第三砥石（２２）は、第六エッジ部（Ｅ６）を研磨してもよい。
【００３１】
本発明のプラズマディスプレイパネル（１３０）の製造方法は、上記の表示パネル（４０）の研磨方法を含む。
【００３２】
本発明のプラズマ表示装置（１５０）の製造方法は、プラズマディスプレイパネル（１３０）を製造する第１過程と、プラズマディスプレイパネル（１３０）を駆動する回路とともにプラズマディスプレイパネル（１３０）を１つのモジュール（１５２）として製造する第２過程と、画像信号（１６２、１６３）のフォーマット変換を行い、モジュール（１５２）に送信するインタフェース（１５１）をモジュール（１５２）に電気的に接続する第３過程を含む。その製造方法の第１過程では、上記のプラズマディスプレイパネル（１３０）の製造方法が実施される。
【発明の効果】
【００３３】
本発明に係る表示パネルの研磨装置、その研磨方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、及びプラズマ表示装置の製造方法によれば、表示パネルの研磨処理にかかる時間を短縮することができる。
【００３４】
本発明に係る表示パネルの研磨装置、その研磨方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、及びプラズマ表示装置の製造方法によれば、表示パネルの研磨処理における砥石の局所的な磨耗を防止し、砥石の使用寿命を長くすることができる。
【００３５】
本発明に係る表示パネルの研磨装置、その研磨方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、及びプラズマ表示装置の製造方法によれば、表示パネルを研磨する際、その研磨量を安定させることできる。
【００３６】
本発明に係る表示パネルの研磨装置、その研磨方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、及びプラズマ表示装置の製造方法によれば、砥石の移動制御機構を簡易にし、表示パネルの研磨処理における砥石の制御性を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３７】
添付図面を参照して、本発明による表示パネルの研磨装置、表示パネルの研磨方法、プラズマディスプレイパネルの製造方法、及びプラズマ表示装置の製造方法を説明する。
【００３８】
図３は、本発明の実施の形態に係る表示パネルの研磨装置の構成を示す平面図である。図３に示されるように、研磨装置１０は、砥石ユニット１１と複数の砥石２１、２２、２３を備える。その複数の砥石２１、２２、２３は、回転軸棒を介して砥石ユニット１１により支持されており、図中のＹ軸及びＺ軸に沿った方向へ自由に移動できるように構成されている。そのＹ軸及びＺ軸に沿った移動は、図示されないＹ軸移動機構及びＺ軸移動機構により達成される。また、砥石ユニット１１は、図示されないＸ軸移動機構を用いることによって、Ｘ軸に沿った方向へ移動できるように構成されている。ここで、そのＸ軸に沿った移動は、複数の砥石２１、２２、２３を含む全体として行われる。また、そのＸ軸移動機構として、砥石ユニット１１の側部に配設されたレール及び運動部が例示される。
【００３９】
複数の砥石２１、２２、２３は、Ｘ軸方向に概ね沿って配列される。ここで、複数の砥石２１、２２、２３の位置は、後述の研磨工程の際、Ｙ軸及びＺ軸に沿って微妙に調整されるので、複数の砥石２１、２２、２３が完全に一直線に整列しない状況も発生し得る。複数の砥石２１、２２、２３は、等間隔で配置されてもよい。また、図３に示されるように、複数の砥石２１、２２、２３が、Ｘ軸方向に沿う方向に２列にわたって配置されると更に好ましい。この時、被処理体である表示パネルは、後述されるように複数の砥石２１、２２、２３により挟まれるので、１回の研磨工程で表示パネルの対向する２辺を研磨することが可能となる。
【００４０】
本発明の実施の形態において、複数の砥石は、第一形状砥石２１、第二形状砥石２２、第三形状砥石２３を含む。図４Ａ、図４Ｂ、図４Ｃは、第一形状砥石２１、第二形状砥石２２、第三形状砥石２３のそれぞれの構造を示す側面図である。それぞれの砥石は、円盤状の構造を有し、図中のＸＹ面に平行な面に配置される。ここで、ＸＹ面は水平面であってもよい。この時、＋Ｚ軸方向は鉛直上向き方向を指す。
【００４１】
図４Ａに示されるように、第一形状砥石２１は、回転軸ａ１を有し、回転機構（図示されない）によりＸＹ面に平行な面で回転する。第一形状砥石２１は、Ｙ軸とＺ軸に沿う方向に移動可能なように、回転軸ａ１を介して砥石ユニット１１により支持される。また、第一形状砥石２１の側部には、第一研磨面３１が形成されている。その第一研磨面３１は、斜め下方向を向くように形成されており、第一形状砥石２１は、斜め上方向を向く基板のエッジ部を研磨するのに用いられる。エッジ部を均一に研磨するために、第一研磨面３１とＸＹ面のなす角度としては、４５度が好適である。
【００４２】
図４Ｂに示されるように、第ニ形状砥石２２は、回転軸ａ２を有し、回転機構（図示されない）によりＸＹ面に平行な面で回転する。第ニ形状砥石２２は、Ｙ軸とＺ軸に沿う方向に移動可能なように、回転軸ａ２を介して砥石ユニット１１により支持される。また、第ニ形状砥石２２の側部には、第ニ研磨面３２が形成されている。その第ニ研磨面３２は、斜め上方向を向くように形成されており、第ニ形状砥石２２は、斜め下方向を向く基板のエッジ部を研磨するのに用いられる。エッジ部を均一に研磨するために、第ニ研磨面３２とＸＹ面のなす角度としては、４５度が好適である。また、第一研磨面３１と第二研磨面３２は、ＸＹ面に関して対称に形成されることが好適である。
【００４３】
図４Ｃに示されるように、第三形状砥石２３は、回転軸ａ３を有し、回転機構（図示されない）によりＸＹ面に平行な面で回転する。第三形状砥石２３は、Ｙ軸とＺ軸に沿う方向に移動可能なように、回転軸ａ３を介して砥石ユニット１１により支持される。この第三形状砥石２３は、山状あるいは直角に形成された研磨面を有する。すなわち、第三形状砥石２３の側部には、斜め上方向を向く第三研磨面３３と斜め下方向を向く第四研磨面３４が形成されている。つまり、第三形状砥石２３は、斜め上方向または斜め下方向を向く基板のエッジ部を研磨するのに用いられる。エッジ部を均一に研磨するために、第三研磨面３３とＸＹ面、及び第四研磨面３４とＸＹ面のなす角度としては４５度が好適である。また、第三研磨面３３と第四研磨面３４は、ＸＹ面に関して対称に形成されることが好適である。
【００４４】
なお、図３において、第二形状砥石２２は、第一形状砥石２１と第三形状砥石２３の間に配置されているが、その複数の砥石２１、２２、２３の配列順序は任意である。
【００４５】
図５は、本発明に係る実施の形態において、表示パネルのエッジ部を研磨する際の構成を示す平面図である。被研磨部材である表示パネル４０は、前面基板４１と背面基板４２とから構成される。前面基板４１と背面基板４２は、縦横の長さが５００〜１５００ｍｍ程度である長方形状を有する。その２枚の基板は、スペーサを介して貼り合わされ、その２枚の基板間の領域には希ガスが封入されている。
【００４６】
また、図５に示されるように、表示パネル４０の周縁部に端子領域が確保されるように、前面基板４１と背面基板４２は重ね（貼り）合わされている。すなわち、前面基板４１と背面基板４２は、大きさが異なる、あるいは形状が異なる。これにより、表示パネル４０の４辺には電極端子などを形成するためのマージン構造が確保され、同時に段差構造が形成される。その段差構造における段に対応するエッジ部を段差部とする。それ以外のエッジ部、つまり表示パネル４０の最外部に存在するエッジ部を周縁部とする。なお、マージン構造の幅は、例えば６〜８ｍｍ程度である。
【００４７】
このような表示パネル４０が、図５中のＸＹ面に平行に配置される。ここで、研磨工程は、Ｘ軸に沿った複数のエッジ部に対して行われるものとする。図５に示された状態においては、研磨される複数のエッジ部のうち、周縁部は前面基板４１に属し、段差部は背面基板４２に属する。表示パネル４０の他の側面から研磨処理を行う場合は、周縁部が背面基板４２に属し、段差部が前面基板４１に属す。具体的な配置方法として、表示パネル４０は、ロボットハンド等によって研磨作業領域のテーブル上に移送され、研磨される側面がＸ軸に平行になるように位置決めされる。この位置決めは、図示されない外形幅寄せ位置決めまたはマーカー認識アライメント等を用いることにより行われる。表示パネル４０は、回転可能なテーブル上に真空吸着機構等で水平に保持される。
【００４８】
一方、研磨装置１０は、上述のようにＸ軸移動機構を備え、表示パネル４０をセットする際、その表示パネル４０と接触しないようにＸ軸方向の所定の位置に退避している。表示パネル４０のセットが完了した後、研磨装置１０は所定の研磨開始位置へ移動する。この時、図５に示されるように、上述の砥石ユニット１１が表示パネル４０を覆うように配置され、複数の砥石２１、２２、２３が、表示パネル４０のＸ軸に沿う対向する２側面（２辺）を挟むように配置される。砥石は、１辺の研磨に対し、３種類を１組として用いられる。その後、Ｙ軸移動機構とＺ軸移動機構を用いることによって、複数の砥石２１、２２、２３の各々の位置が調整される。
【００４９】
図６Ａは、図５に示された構成の側面図である。斜め下向きの第一研磨面３１が、前面基板４１の斜め上向きのエッジ部Ｅ１（周縁部）に接触するように、第一形状砥石２１は位置調整される。また、斜め上向きの第ニ研磨面３２が、前面基板４１の斜め下向きのエッジ部Ｅ２（周縁部）に接触するように、第ニ形状砥石２２は位置調整される。更に、斜め上向きの第三研磨面３３が、背面基板４２の斜め下向きのエッジ部Ｅ３（段差部）に接触するように、第三形状砥石２３は位置調整される。表示パネル４０の対向するもう一方の側面においても、複数の砥石２１、２２、２３の配置が同様に行われる。
【００５０】
あるいは、複数の砥石２１、２２、２３は、図６Ｂに示されるように配置されてもよい。図６Ｂも、図５に示された構成の側面図である。斜め下向きの第一研磨面３１が、前面基板４１の斜め上向きのエッジ部Ｅ１（周縁部）に接触するように、第一形状砥石２１は位置調整される。また、斜め上向きの第三研磨面３３が、前面基板４１の斜め下向きのエッジ部Ｅ２（周縁部）に接触するように、第三形状砥石２３は位置調整される。更に、斜め上向きの第ニ研磨面３２が、背面基板４２の斜め下向きのエッジ部Ｅ３（段差部）に接触するように、第ニ形状砥石２２は位置調整される。表示パネル４０の対向するもう一方の側面においても、複数の砥石２１、２２、２３の配置が同様に行われる。なお、図６Ａ、図６Ｂは平面図であり、複数の砥石２１、２２、２３の奥行き方向の実際の位置は互いに異なる（図５参照）。
【００５１】
その後、複数の砥石２１、２２、２３を諸条件により決定した設定速度で回転させ、砥石ユニット１１を図５に示されるようにＸ軸方向に移動させることにより、複数のエッジ部Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３の研磨が行われる。すなわち、第一、第二、第三形状砥石２１、２２、２３のそれぞれが、複数のエッジ部Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３（あるいはＥ１、Ｅ３、Ｅ２）のそれぞれを同時に（一回の工程で）研磨する。図５に示されたように、複数の砥石２１、２２、２３が、表示パネル４０の対向する２辺を挟むように配置された場合、その２辺における複数のエッジ部Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３が同時に研磨される。
【００５２】
このように、本発明に係る研磨装置１０によれば、表示パネル４０のＸ方向に沿った複数のエッジ部Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３が一回の工程で研磨されるので、研磨処理にかかる時間を短縮することができる。また、複数の砥石２１、２２、２３は、別々に制御して移動させる必要はなく、砥石ユニット１１全体をＸ方向に移動させることにより同一の速度で簡易に移動させることが可能である。つまり、砥石の移動制御機構は簡易になり、また、研磨処理における砥石の制御性は向上する。
【００５３】
続いて、表示パネル４０の残りの２辺に対するエッジ部の研磨が行われる。図７は、本発明に係る実施の形態において、表示パネル４０の残りのエッジ部を研磨する際の構成を示す平面図である。前工程が完了した後、表示パネル４０を載せたテーブルを９０度回転させ、研磨される残りの側面がＸ軸に平行になるように位置決めされる。この位置決めは、図示されない外形幅寄せ位置決めまたはマーカー認識アライメント等を用いることにより行われる。またこの時、研磨装置１０は、回転する表示パネル４０と接触しないようにＸ軸方向の所定の位置に退避している。
【００５４】
図７に示された状態においては、図５に示された状態と逆に、研磨される複数のエッジ部のうち周縁部は背面基板４２に属し、段差部は前面基板４１に属する。この構成に対応するように、複数の砥石２１、２２、２３の配列が変更される。つまり、Ｙ軸移動機構とＺ軸移動機構を用いることによって、複数の砥石２１、２２、２３の各々の位置が再度調整される。
【００５５】
図８Ａは、図７に示された構成の側面図である。斜め下向きの第一研磨面３１が、背面基板４２の斜め上向きのエッジ部Ｅ５（周縁部）に接触するように、第一形状砥石２１は位置調整される。また、斜め上向きの第ニ研磨面３２が、背面基板４２の斜め下向きのエッジ部Ｅ６（周縁部）に接触するように、第ニ形状砥石２２は位置調整される。更に、斜め下向きの第四研磨面３４が、前面基板４１の斜め上向きのエッジ部Ｅ４（段差部）に接触するように、第三形状砥石２３は位置調整される。表示パネル４０の対向するもう一方の側面においても、複数の砥石２１、２２、２３の配置が同様に行われる。
【００５６】
あるいは、複数の砥石２１、２２、２３は、図８Ｂに示されるように配置されてもよい。図８Ｂも、図７に示された構成の側面図である。斜め下向きの第一研磨面３１が、前面基板４１の斜め上向きのエッジ部Ｅ４（段差部）に接触するように、第一形状砥石２１は位置調整される。また、斜め下向きの第四研磨面３４が、背面基板４２の斜め上向きのエッジ部Ｅ５（周縁部）に接触するように、第三形状砥石２３は位置調整される。更に、斜め上向きの第ニ研磨面３２が、背面基板４２の斜め下向きのエッジ部Ｅ６（周縁部）に接触するように、第ニ形状砥石２２は位置調整される。表示パネル４０の対向するもう一方の側面においても、複数の砥石２１、２２、２３の配置が同様に行われる。
【００５７】
つまり、複数の砥石２１、２２、２３は、図６Ａに示された配置から、図８Ａに示された配置に変更されてもよいし、図８Ｂに示された配置に変更されてもよい。あるいは、複数の砥石２１、２２、２３は、図６Ｂに示された配置から、図８Ａに示された配置に変更されてもよいし、図８Ｂに示された配置に変更されてもよい。また、複数の砥石２１、２２、２３の少なくとも一つが、図４Ｃに示された構造を有していればよい。複数の砥石２１、２２、２３は、全て第三形状砥石２３と同様な構造を有していてもよい。このような場合でも、本実施の形態と同様の効果が得られる。
【００５８】
その後、複数の砥石２１、２２、２３を諸条件により決定した設定速度で回転させ、砥石ユニット１１を、図７に示されるように前工程と逆向き（−Ｘ軸方向）に移動させることにより、複数のエッジ部Ｅ４、Ｅ５、Ｅ６の研磨が行われる。すなわち、第一、第二、第三形状砥石２１、２２、２３のそれぞれが、複数のエッジ部Ｅ５、Ｅ６、Ｅ４（あるいはＥ４、Ｅ６、Ｅ５）のそれぞれを同時に（一回の工程で）研磨する。このようにして、一枚の表示パネル４０のエッジ部の研磨が完了する。
【００５９】
まとめると、本発明に係る表示パネルの研磨方法は、以下のステップを備える。
【００６０】
（１）研磨する辺がＸ軸に平行になるように、表示パネル４０をＸＹ面に配置する（図５を参照）。
【００６１】
（２）複数の砥石２１、２２、２３が、表示パネル４０のＸ軸に沿った複数のエッジ部Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３に接触するように、複数の砥石２１、２２、２３の配置をＹ軸移動機構、Ｚ軸移動機構を用いて調整する（図６Ａあるいは図６Ｂを参照）。
【００６２】
（３）砥石ユニット１１をＸ軸方向に移動させ、複数のエッジ部Ｅ１、Ｅ２、Ｅ３を複数の砥石２１、２２、２３によりそれぞれ同時に研磨する（図５を参照）。
【００６３】
（４）研磨装置１０をＸ軸方向に退避させる。
【００６４】
（５）表示パネル４０をＸＹ面内で９０度回転させる（図７を参照）。
【００６５】
（６）複数の砥石２１、２２、２３が、表示パネル４０のＸ軸に沿った複数のエッジ部Ｅ４、Ｅ５、Ｅ６に接触するように、複数の砥石２１、２２、２３の配置をＹ軸移動機構、Ｚ軸移動機構を用いて変更する（図８Ａあるいは図８Ｂを参照）。
【００６６】
（７）砥石ユニット１１を−Ｘ軸方向に移動させ、複数のエッジ部Ｅ４、Ｅ５、Ｅ６を複数の砥石２１、２２、２３によりそれぞれ同時に研磨する（図７を参照）。
【００６７】
（８）一枚の表示パネル４０のエッジ部の研磨が完了する。
【００６８】
以上に説明されたように、本発明に係る表示パネルの研磨装置１０及び研磨方法によれば、複数の砥石２１、２２、２３のそれぞれが、表示パネル４０のＸ方向に沿った複数のエッジ部（Ｅ１〜Ｅ３、Ｅ４〜Ｅ６）のそれぞれを一回の工程で研磨する。また、複数の砥石２１、２２、２３は、砥石ユニット１１に２列にわたって配列され、表示パネル４０のＸ方向に平行な対向する２辺（２側面）のエッジ部を、一回の工程で研磨することが可能である。図１に示された従来例のように、表示パネルの一辺を研磨するのに２回の工程は必要ではない。従って、表示パネル４０の研磨処理にかかる時間が短縮される。
【００６９】
また、複数の砥石２１、２２、２３は、完全には独立せずに、砥石ユニット１１により支持されている。つまり、複数の砥石２１、２２、２３を別々に制御する必要はなく、砥石ユニット１１全体をＸ軸移動機構を用いＸ方向に移動させることによって、複数の砥石２１、２２、２３を同一の速度でＸ方向へ移動させることが可能である。従って、複数の砥石２１、２２、２３の移動制御機構は簡易になり、また、研磨処理における複数の砥石２１、２２、２３の制御性は向上する。
【００７０】
さらに、図２Ａに示された従来技術においては、基板の周縁部Ｅ１、Ｅ２は、一体型砥石４の中央研磨面５の同一のポイントと常に接触する。表示パネル、例えばプラズマディスプレイパネルの研磨工程において、ガラス基板の厚さは約３ｍｍであり、そのガラス基板に対して０．５ｍｍ程度の研磨が行われる。一方、砥石としては、その厚さが５〜１０ｍｍ程度のものが使用される。つまり、従来技術の場合、一体型砥石４は、ガラス基板に対して常に０．５ｍｍ程度の範囲しか接触していない。よって、砥石の磨耗が早くなり、砥石の寿命が短くなる。
【００７１】
しかしながら、本発明の研磨装置１０及び研磨方法によれば、複数の砥石２１、２２、２３は、それぞれ別々に形成されており、砥石の厚さの範囲内で基板のエッジ部（Ｅ１〜Ｅ６）との接触位置を自由に変えることが可能である。つまり、砥石の研磨面（３１〜３４）と基板のエッジ部（Ｅ１〜Ｅ６）が接触する位置を、毎回変更することが可能である。例えば、第一形状砥石２１は、Ｙ軸移動機構及びＺ軸移動機構を用いて位置を微調整することによって、基板のエッジ部（Ｅ１〜Ｅ６）のいずれかと、第一研磨面３１の違うポイントで毎回接触すること可能である。従って、表示パネルの研磨処理における砥石の局所的な磨耗が防止される。また、砥石の磨耗量を均一にすることで、砥石の使用寿命を長くすることが可能である。更に、研磨面の局所的な変形が防止され、研磨処理におけるエッジ部の研磨量を安定させることが可能となる。
【００７２】
また、複数の砥石２１、２２、２３と表示パネルが配置される面（ＸＹ面）のなす角は、４５度であることが好適である（図６Ａ、図６Ｂ、図８Ａ、図８Ｂ参照）。この時、研磨処理におけるエッジ部の研磨が均一に行われる。また、砥石の局所的な磨耗を防止するために砥石の位置を微調整する際、Ｙ軸移動機構及びＺ軸移動機構による移動量の比率を、簡易な１対１とすることが可能となる。
【００７３】
以上のような表示パネルの研磨装置１０及び研磨方法は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ；Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）やプラズマ表示装置、プラズマテレビに適用することが可能である。
【００７４】
図９は、本発明に係る研磨方法により処理されたプラズマディスプレイパネル１３０を例示している。プラズマディスプレイパネル１３０は、正面構造板１３１（前面基板４１）と背面構造板１３２（背面基板４２）とから形成されている。正面構造板１３１は、第１透明ガラス基板１３３と、第１透明ガラス基板１３３の背面側に接合する透明誘電体層１３４と、透明誘電体層１３４の背面側に接合する表面保護層１３５とから形成されている。第１透明ガラス基板１３３と透明誘電体層１３４との間には、走査電極１３６と維持電極１３７とが配置されている。走査電極１３６と維持電極１３７は、互いに平行に配置されている。走査電極１３６と維持電極１３７とは、それぞれに、透明電極とバス電極とから形成されている。透明誘電体層１３４は、走査電極１３６と維持電極１３７を被覆している。
【００７５】
背面構造板１３２は、第２透明ガラス基板１３８と、第２透明ガラス基板１３８の正面側に接合する白色誘電体層１３９と、白色誘電体層１３９の正面側に接合する複数条の隔壁１４１とから形成されている。隔壁１４１は、表示セルを区画している。第２透明ガラス基板１３８と白色誘電体層１３９との間には、データ電極１４２が配置されている。データ電極１４２は、走査電極１３６と維持電極１３７とに直交している。白色誘電体層１３９は、データ電極１４２を被覆している。隔壁１４１の側面と白色誘電体層１３９の正面側表面には、放電ガスの放電により発生する紫外線を可視光に変換する蛍光体層１４３が形成されている。蛍光体層１４３には、セル毎に３原色Ｒ，Ｇ，Ｂに塗り分けられている。
【００７６】
正面構造板１３１と背面構造板１３２は、正面構造板１３１と背面構造板１３２との間に隙間が与えられて互いに固着して組立られる。その隙間の幅は、１００μｍの程度に設計される。正面構造板１３１と背面構造板１３２の側面周辺は、封着材料で密封封止されて、その隙間は密閉空間に形成される。その密閉空間には、ヘリウム、ネオン、キセノン、又は、これらを含む混合ガスが封入される。背面構造板１３２には、第２透明ガラス基板１３８を貫通し密閉空間で開口する通気管（図示されず）が通されている。その通気管の外側端開口は、排気・ガス充填装置（図示されず）に接続され、空気その他のガスがその開口から吸引されて排気された後にその開口から既述のガスが既述の密閉空間に注入され、その開口はその注入の後に加熱手段によりチップオンされてその開口端部が閉塞され、注入された既述のガスは密閉空間に密封的に充填される。
【００７７】
図１０は、図９に対応して既述されるように組み立てられるプラズマディスプレイパネル１３０を含むプラズマ表示装置１５０を示している。プラズマ表示装置１５０は、モジュール化されている。モジュール化されたプラズマ表示装置１５０は、アナログインタフェース１５１と、プラズマディスプレイパネルモジュール１５２とから形成されている。
【００７８】
アナログインタフェース１５１は、クロマ・デコーダを備えるＹ／Ｃ分離回路１５３と、Ａ／Ｄ変換回路１５４と、画像フォーマット変換回路１５５と、ＰＬＬ回路１５６を備える同期信号制御回路１５７と、逆γ変換回路１５８と、システムコントロール回路１５９と、ＰＬＥ制御回路１６１とから形成されている。アナログインタフェース１５１は、受信したアナログ映像信号（アナログＲＧＢ信号１６２とアナログ映像信号１６３）をディジタル映像信号に変換した後に、そのディジタル映像信号１６４をプラズマディスプレイパネルモジュール１５２に対して出力する。より詳しくは、ＴＶチューナーから発信されたアナログ映像信号１６３は、Ｙ／Ｃ分離回路１５３でＲＧＢの各色の輝度信号に分解された後に、Ａ／Ｄ変換回路１５４でディジタル信号１６４に変換される。ディジタル信号１６４は、プラズマディスプレイパネルモジュール１５２の画素構成とアナログ映像信号１６３の画素構成が異なる場合には、画像フォーマット変換回路１５５で適正な画像フォーマットに変換される。
【００７９】
アナログ映像信号１６３には、Ａ／Ｄ変換用のサンプリングクロックとデータクロック信号は含まれていない。同期信号制御回路１５７に含まれているＰＬＬ回路１５６は、アナログ映像信号１６３と同時に供給される水平同期信号が基準にされて、サンプリングクロック１６５とデータクロック信号１６６を生成する。サンプリングクロック１６５とデータクロック信号１６６は、アナログインタフェース１５１から出力されてプラズマディスプレイパネルモジュール１５２に入力される。ＰＬＥ制御回路１６１は、平均輝度レベルが所定値以下である場合には表示輝度を上昇させ、平均輝度レベルが所定値以上である場合には表示輝度を低下させる。システムコントロール回路１５９は、各種の制御信号１６７を生成する。制御信号１６７は、アナログインタフェース１５１から出力されてプラズマディスプレイパネルモジュール１５２に入力される。
【００８０】
プラズマディスプレイパネルモジュール１５２は、ディジタル信号処理・制御回路１６８と、パネル部位１６９と、ＤＣ／ＤＣコンバータを内蔵するモジュール内電源回路１７１とから形成されている。パネル部位１６９は、既述のプラズマディスプレイパネル１３０を含んでいる。ディジタル信号処理・制御回路１６８は、入力インタフェース信号処理回路１７２と、フレームメモリ１７３と、メモリ制御回路１７４と、ドライバ制御回路１７５とから形成されている。入力インタフェース信号処理回路１７２にアナログインタフェース１５１から入力されるディジタル映像信号１６４の平均輝度レベルは、入力インタフェース信号処理回路１７２の中の入力信号平均輝度レベル演算回路（図示されず）により計算されて、適正ビット（例示：５ビット）のデータとして出力される。アナログインタフェース１５１により平均輝度レベルに対応して設定されるＰＬＥ制御データ１７６は、入力インタフェース信号処理回路１７２中の輝度レベル制御回路（図示されず）に入力される。
【００８１】
ディジタル信号処理・制御回路１６８は、入力インタフェース信号処理回路１７２で既述の信号を処理してその処理後制御信号１７７をパネル部位１６９に対して送信する。メモリ制御回路１７４とドライバ制御回路１７５とは、処理後制御信号１７７の送信と同時に、それぞれにメモリ制御信号１７８とドライバ制御信号１７９とを生成してパネル部位１６９に送信する。
【００８２】
パネル部位１６９は、プラズマディスプレイパネル１３０と、走査電極１３６（図９参照）を駆動する走査ドライバ（パネル部位１６９に同体に実装されている）１８１と、データ電極１４２（図９参照）を駆動するデータドライバ１８２（パネル部位１６９に同体に実装されている）とから形成されている。パネル部位１６９は、更に、プラズマディスプレイパネル１３０と走査ドライバ１８１とデータドライバ１８２とにパルス電圧を供給する高圧パルス回路１８３を備えている。高圧パルス回路１８３は、パネル部位１６９の一部分としてパネル部位１６９の複数部位に配置されて実装されている。
【００８３】
プラズマディスプレイパネル１３０は、１３６５（個）×７６８（個）に配列される１３６５×７６８個の画素を有している。プラズマディスプレイパネル１３０では、走査ドライバ１８１が走査電極１３６を制御しデータドライバ１８２がデータ電極１４２を制御することにより、その個数の画素のうちの所定の画素の点灯又は非点灯の制御を実行して規定の表示を実行する。
【００８４】
ロジック電源（図示されず）は、電力入力端子１８４を介して、ディジタル信号処理・制御回路１６８とパネル部位１６９にロジック電力を供給する。モジュール内電源回路１７１は、表示用電源（図示されず）から他の電力入力端子１８５を介して直流電源を供給され、その直流電力の電圧を所定の電圧に変換して、パネル部位１６９に供給している。
【００８５】
プラズマディスプレイパネル１３０と走査ドライバ１８１とデータドライバ１８２と高圧パルス回路１８３とは、電力回収回路１８６とともに、パネル部位１６９の本体を構成する１枚の基板に配置されて実装されている。パネル部位１６９は、その本体とプラズマディスプレイパネル１３０と走査ドライバ１８１とデータドライバ１８２と高圧パルス回路１８３と電力回収回路１８６とを一体的に構成している。ディジタル信号処理・制御回路１６８は、パネル部位１６９から分離され機械的には独立して形成されている。
【００８６】
モジュール内電源回路１７１は、ディジタル信号処理・制御回路１６８とパネル部位１６９とから分離され機械的には独立して形成されている。ディジタル信号処理・制御回路１６８とパネル部位１６９とモジュール内電源回路１７１とは、１つのモジュールとして組み立てられている。プラズマディスプレイパネルモジュール１５２は、このように組み立てられる１つのモジュールを形成している。アナログインタフェース１５１は、プラズマディスプレイパネルモジュール１５２から分離され機械的には独立して形成されている。プラズマディスプレイパネルモジュール１５２は、制御信号１６７とディジタル映像信号１６４とサンプリングクロック１６５とデータクロック信号１６６とＰＬＥ制御データ１７６とその他の信号を送信する電気配線により電気的にアナログインタフェース１５１に接続されている。
【００８７】
アナログインタフェース１５１とプラズマディスプレイパネルモジュール１５２とが別個に形成された後に、アナログインタフェース１５１とプラズマディスプレイパネルモジュール１５２とがプラズマディスプレイ装置１５０の筐体の中に組み込まれて固定的に支持されてプラズマ表示装置１５０が組み立てられる。このようにモジュール化されるプラズマ表示装置１５０は、アナログインタフェース１５１とプラズマディスプレイパネルモジュール１５２をその他の機器部分とは別個に製造することができる。このため、プラズマ表示装置１５０が故障した場合には、故障しているプラズマ表示装置１５０のプラズマディスプレイパネルモジュール１５２をそっくりそのままに新しい他のプラズマ表示装置１５０と取り換えることにより、プラズマ表示装置１５０の補修を簡素化して、その補修時間を短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【００８８】
【図１】図１は、表示パネルのエッジ部を研磨する際の従来の構成を示す平面図である。
【図２Ａ】図２Ａは、表示パネルのエッジ部を研磨する際の従来の構成を示す側面図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、表示パネルのエッジ部を研磨する際の従来の構成を示す側面図である。
【図３】図３は、本発明の実施の形態に係る、表示パネルの研磨装置の構成を示す平面図である。
【図４Ａ】図４Ａは、本発明の実施の形態に係る、砥石の構造を示す側面図である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、本発明の実施の形態に係る、砥石の構造を示す側面図である。
【図４Ｃ】図４Ｃは、本発明の実施の形態に係る、砥石の構造を示す側面図である。
【図５】図５は、本発明の実施の形態に係る、表示パネルのエッジ部を研磨する際の構成を示す平面図である。
【図６Ａ】図６Ａは、本発明の実施の形態に係る、表示パネルのエッジ部を研磨する際の構成を示す側面図である。
【図６Ｂ】図６Ｂは、本発明の実施の形態に係る、表示パネルのエッジ部を研磨する際の構成を示す側面図である。
【図７】図７は、本発明の実施の形態に係る、表示パネルのエッジ部を研磨する際の構成を示す平面図である。
【図８Ａ】図８Ａは、本発明の実施の形態に係る、表示パネルのエッジ部を研磨する際の構成を示す側面図である。
【図８Ｂ】図８Ｂは、本発明の実施の形態に係る、表示パネルのエッジ部を研磨する際の構成を示す側面図である。
【図９】図９は、プラズマディスプレイパネルの構成を示す斜視図である。
【図１０】図１０は、プラズマ表示装置の回路構成を示す概略図である。
【符号の説明】
【００８９】
１０    研磨装置
１１    砥石ユニット
２１    第一形状砥石
２２    第二形状砥石
２３    第三形状砥石
３１    第一研磨面
３２    第二研磨面
３３    第三研磨面
３４    第四研磨面
４０    表示パネル
４１    前面基板
４２    背面基板
【図１】
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【図２Ａ】
2005138213.tif 000004
【図２Ｂ】
2005138213.tif 000005
【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図９】
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【図１０】
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