(57)【要約】【課題】記録媒体に対する画像形成処理を効率よく行うことができ、その製造効率の向上が図れる画像形成装置の提供を課題とする。【解決手段】搭載位置で記録媒体２００をステージ部材２０へ搭載して、ステージ部材２０を画像位置検出部１８、画像形成部１６へ通過させつつ、記録媒体２００に画像を形成し、取出位置で画像が形成された記録媒体２００をステージ部材２０から取り出す画像形成装置１０において、ステージ部材２０を３つ以上設けるとともに、１つのステージ部材２０Ａが記録媒体２００Ａを搭載して、画像形成部１６を通過している間に、別のステージ部材２０Ｂが記録媒体２００Ｂを搭載して、画像位置検出部１８を通過し、残りのステージ部材２０Ｃが画像形成部１６及び画像位置検出部１８の下方を取出位置から搭載位置へ移動する上下循環手段を備える。【選択図】      図２
2005024957.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
搭載位置で記録媒体をステージ部材へ搭載して、該ステージ部材を画像位置検出部、画像形成部へ通過させつつ、該記録媒体に画像を形成し、取出位置で画像が形成された記録媒体を該ステージ部材から取り出す画像形成装置であって、
前記ステージ部材が３つ以上設けられるとともに、
１つのステージ部材が記録媒体を搭載して、画像形成部を通過している間に、別のステージ部材が記録媒体を搭載して、画像位置検出部を通過し、残りのステージ部材が画像形成部及び画像位置検出部の下方を前記取出位置から前記搭載位置へ移動する上下循環手段を備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項２】
前記上下循環手段が、
前記ステージ部材を搭載位置から取出位置まで移動可能に支持する上部ガイドレールと、
前記ステージ部材と着脱可能とされ、該ステージ部材を前記上部ガイドレールに沿って搭載位置から取出位置まで移動させる上部搬送手段と、
前記上部ガイドレールの下方に配置され、前記ステージ部材を取出位置から搭載位置まで移動可能に支持する下部ガイドレールと、
前記ステージ部材と着脱可能とされ、該ステージ部材を前記下部ガイドレールに沿って取出位置から搭載位置まで移動させる下部搬送手段と、
前記搭載位置に設けられ、前記下部ガイドレールに沿って移動してきたステージ部材を上昇させて、前記上部ガイドレールへ渡す第１昇降手段と、
前記取出位置に設けられ、前記上部ガイドレールに沿って移動してきたステージ部材を下降させて、前記下部ガイドレールへ渡す第２昇降手段と、
で構成されていることを特徴とする請求項１に記載の画像形成装置。
【請求項３】
前記上部搬送手段が、前記ステージ部材の移動方向両側にそれぞれ設けられたリニア走行体を有し、該リニア走行体に、前記ステージ部材と連結可能な連結部を昇降自在に設けたことを特徴とする請求項２に記載の画像形成装置。
【請求項４】
前記リニア走行体に負圧発生手段からの配管を接続し、前記連結部が前記ステージ部材と連結したときに、該ステージ部材のステージ面からエアーが吸引されるように構成したことを特徴とする請求項３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
少なくとも前記上部ガイドレールが防振手段を介して支持されていることを特徴とする請求項２乃至４の何れかに記載の画像形成装置。
【請求項６】
前記第１昇降手段が、
前記ステージ部材に設けられたガイド溝が係合する切替レールが設けられた第１昇降台と、
前記第１昇降台を下降させたときに、前記切替レールと前記下部ガイドレールとのレベルを合わせ、前記第１昇降台を上昇させたときに、前記切替レールと前記上部ガイドレールとのレベルを合わせる第１昇降部材と、で構成され、
前記第２昇降手段が、
前記ステージ部材に設けられたガイド溝が係合する切替レールが設けられた第２昇降台と、
前記第２昇降台を上昇させたときに、前記切替レールと前記上部ガイドレールとのレベルを合わせ、前記第２昇降台を下降させたときに、前記切替レールと前記下部ガイドレールとのレベルを合わせる第２昇降部材と、で構成されていることを特徴とする請求項２乃至５の何れかに記載の画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、画像情報に応じて変調された光ビーム等により、プリント配線基板等の記録媒体における描画領域を露光して、その描画領域に画像を形成する露光装置等の画像形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、例えばプリント配線基板等に配線パターンを形成するための画像形成装置としてのレーザー露光装置は、画像露光の対象となるプリント配線基板を搬送用ステージ部材に載置し（以下、「ロード」という場合がある）、そのステージ部材を副走査方向へ所定の速度で移動させつつ、所定の読取位置において、ステージ部材上に載置されたプリント配線基板の四隅に設けられた位置合わせ孔（アライメントマーク）をＣＣＤカメラにより撮像するようになっている。そして、その撮像によって得られたプリント配線基板の位置に合わせて、描画座標系中の描画対象領域を座標変換することにより、画像情報に対するアライメント処理を実行するように構成されている。
【０００３】
そして更に、所定の露光位置において、画像情報に基づいて変調され、ポリゴンミラーにより主走査方向へ偏向されたレーザービームがプリント配線基板上に形成された感光性塗膜を走査、露光することにより、画像情報に基づく露光処理、即ちプリント配線基板における所定の領域（描画領域）に配線パターンに対応する画像（潜像）を形成するように構成されている。なお、画像（潜像）が形成されたプリント配線基板は、ステージ部材から取り出され（以下、「アンロード」という場合がある）、プリント配線基板が取り除かれたステージ部材は、初期位置に復帰移動（水平移動）して、次のプリント配線基板を露光する工程に移行するようになっている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
【特許文献１】
特開２０００−３３８４３２公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような方式のレーザー露光装置では、露光済みのプリント配線基板のステージ部材からの取り出し（アンロード）工程、ステージ部材の初期位置への復帰移動工程、未露光プリント配線基板のステージ部材への載置（ロード）工程、読取位置までのステージ部材の移動工程を順にしている間は、プリント配線基板に対して露光処理が行われない。つまり、プリント配線基板への露光処理は、上記工程分の時間を空けて間欠的に行われていたため、製造効率が良好ではなかった。そのため、従来から製造効率を向上させることが課題となっていた。
【０００６】
そこで、本発明は、所定の搬送経路に沿って記録媒体を移動させつつ、その記録媒体に画像を形成する画像形成処理を効率よく行うことができ、画像が形成された記録媒体の製造効率の向上が図れる画像形成装置を得ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明に係る請求項１に記載の画像形成装置は、搭載位置で記録媒体をステージ部材へ搭載して、該ステージ部材を画像位置検出部、画像形成部へ通過させつつ、該記録媒体に画像を形成し、取出位置で画像が形成された記録媒体を該ステージ部材から取り出す画像形成装置であって、前記ステージ部材が３つ以上設けられるとともに、１つのステージ部材が記録媒体を搭載して、画像形成部を通過している間に、別のステージ部材が記録媒体を搭載して、画像位置検出部を通過し、残りのステージ部材が画像形成部及び画像位置検出部の下方を前記取出位置から前記搭載位置へ移動する上下循環手段を備えたことを特徴としている。
【０００８】
請求項１の発明では、上下循環手段により、３つ以上のステージ部材のうち、１つのステージ部材に搭載された記録媒体が画像形成部で画像形成されている間に、別のステージ部材が画像位置検出部を通過し、残りのステージ部材が画像形成部及び画像位置検出部の下方を取出位置から搭載位置へ移動する。つまり、１つのステージ部材に搭載された記録媒体に画像を形成している間に、他のステージ部材に記録媒体を搭載して順次画像形成部へ送り出すことができるので、連続して画像形成処理を実行することができる。したがって、従来の画像形成装置のように、１つのステージ部材が同一面上を往復移動して画像形成する構成に比べ、画像形成処理効率を格段に向上させることができる。
【０００９】
また、請求項２に記載の画像形成装置は、請求項１記載の画像形成装置において、前記上下循環手段が、前記ステージ部材を搭載位置から取出位置まで移動可能に支持する上部ガイドレールと、前記ステージ部材と着脱可能とされ、該ステージ部材を前記上部ガイドレールに沿って搭載位置から取出位置まで移動させる上部搬送手段と、前記上部ガイドレールの下方に配置され、前記ステージ部材を取出位置から搭載位置まで移動可能に支持する下部ガイドレールと、前記ステージ部材と着脱可能とされ、該ステージ部材を前記下部ガイドレールに沿って取出位置から搭載位置まで移動させる下部搬送手段と、前記搭載位置に設けられ、前記下部ガイドレールに沿って移動してきたステージ部材を上昇させて、前記上部ガイドレールへ渡す第１昇降手段と、前記取出位置に設けられ、前記上部ガイドレールに沿って移動してきたステージ部材を下降させて、前記下部ガイドレールへ渡す第２昇降手段と、で構成されていることを特徴としている。
【００１０】
請求項２の発明では、上下にそれぞれ上部搬送手段と下部搬送手段を設け、それらによってステージ部材を移動させる構成としたので、ステージ部材自体には自走させるための機構等を備える必要がなく、その構成を簡略化できる。また、上部ガイドレールと下部ガイドレールとが上下に独立に設けられて兼用されていないため、下部ガイドレールに沿って移動中のステージ部材が、上部ガイドレールに沿って移動しつつ記録媒体に画像形成処理が行われているステージ部材に対して振動を伝え難くなっている。このため、画質不良が生じ難い。
【００１１】
そして、請求項３に記載の画像形成装置は、請求項２に記載の画像形成装置において、前記上部搬送手段が、前記ステージ部材の移動方向両側にそれぞれ設けられたリニア走行体を有し、該リニア走行体に、前記ステージ部材と連結可能な連結部を昇降自在に設けたことを特徴としている。
【００１２】
請求項３の発明では、ステージ部材の移動方向両側にリニア走行体を設け、各リニア走行体にステージ部材に連結される連結部を昇降自在に設けたので、１つのステージ部材との連結が解除されたリニア走行体が搭載位置へ復帰移動するときに、その連結部を例えば上方位置に退避させておけば、そのリニア走行体が他のステージ部材に衝突するような不具合がない。また、その連結部は上下方向から、即ち搬送方向と直交する方向からステージ部材に連結されるため、搬送中において、その連結が外れることがない。
【００１３】
更に、請求項４に記載の画像形成装置は、請求項３に記載の画像形成装置において、前記リニア走行体に負圧発生手段からの配管を接続し、前記連結部が前記ステージ部材と連結したときに、該ステージ部材のステージ面からエアーが吸引されるように構成したことを特徴としている。
【００１４】
請求項４の発明では、負圧発生手段からの配管がリニア走行体に接続され、連結部がステージ部材と連結したときに、ステージ部材のステージ面（記録媒体が載置される面）からエアーが吸引される。つまり、ステージ部材に負圧を発生させるための配管が、ステージ部材とは独立して設けられているので、ステージ部材が３つ以上設けられて上下循環移動しても、その配管が絡まったりするような不具合は起きない。
【００１５】
また、請求項５に記載の画像形成装置は、請求項２乃至４の何れかに記載の画像形成装置において、少なくとも前記上部ガイドレールが防振手段を介して支持されていることを特徴としている。
【００１６】
請求項５の発明では、少なくとも上部ガイドレールが防振手段を介して支持されているので、上部ガイドレールに沿って移動しつつ記録媒体に画像形成処理が行われているステージ部材に対し、更に振動を伝え難くできる。このため、画質不良が生じない。
【００１７】
また、請求項６に記載の画像形成装置は、請求項２乃至５の何れかに記載の画像形成装置において、前記第１昇降手段が、前記ステージ部材に設けられたガイド溝が係合する切替レールが設けられた第１昇降台と、前記第１昇降台を下降させたときに、前記切替レールと前記下部ガイドレールとのレベルを合わせ、前記第１昇降台を上昇させたときに、前記切替レールと前記上部ガイドレールとのレベルを合わせる第１昇降部材と、で構成され、前記第２昇降手段が、前記ステージ部材に設けられたガイド溝が係合する切替レールが設けられた第２昇降台と、前記第２昇降台を上昇させたときに、前記切替レールと前記上部ガイドレールとのレベルを合わせ、前記第２昇降台を下降させたときに、前記切替レールと前記下部ガイドレールとのレベルを合わせる第２昇降部材と、で構成されていることを特徴としている。
【００１８】
請求項６の発明では、各ガイド溝と各レールとのレベルを合わせるようにしたので、下部ガイドレールから上部ガイドレールへ、及び上部ガイドレールから下部ガイドレールへのステージ部材の受け渡しが容易にできる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明に係る画像形成装置の一例としてのレーザー露光装置を正面側から見た概略斜視図であり、図２乃至図５は同じく側面側から見た概略斜視図である。本発明に係るレーザー露光装置１０は、プリント配線基板の材料となる薄肉プレート状の基板材料２００を、所定の速度で搬送しながら、画像情報により変調されたレーザービームＢによって露光し、その基板材料２００に、配線パターンに対応する画像（潜像）を形成するものである。そこで、説明の便宜上、図１、図２の矢印Ｘで表す方向を基板材料２００の「搬送方向」とし、それを基準に「上流側」及び「下流側」の表現をする。また、それとは反対方向を基板材料２００の「復帰方向」とする。更に、矢印Ｘと直交する方向を矢印Ｙで表し、レーザー露光装置１０における「幅方向」とする。
【００２０】
［露光装置の概要］
まず、最初に、本発明に係るレーザー露光装置１０の概要を説明する。図２乃至図５で示すように、レーザー露光装置１０は、基板材料２００を表面（上面）に吸着して保持しながら搬送方向へ移動する所定厚さの略矩形平板状ステージ部材２０を３基以上（図示のものは３基）備えている。なお、３基のステージ部材２０は、共に同じ構成であるため、以下、１つをステージ部材２０Ａ、別の１つをステージ部材２０Ｂ、残りの１つをステージ部材２０Ｃとして説明する場合がある。また、基板材料２００も、ステージ部材２０Ａ上に吸着保持されているものを基板材料２００Ａ、ステージ部材２０Ｂ上に吸着保持されているものを基板材料２００Ｂ、ステージ部材２０Ｃ上に吸着保持されているものを基板材料２００Ｃ等として説明する場合がある。
【００２１】
これら３基のステージ部材２０は、それぞれ後述する上部搬送手段３２、３４により搬送方向に移動し、所定の位置（後述する第２昇降台８４Ａ上）で停止した後、下降し、後述する下部搬送手段９２により復帰方向に移動する。そして、所定の位置（後述する第１昇降台８２Ａ上）で停止した後、上昇し、再度搬送方向へ移動するように構成されている。つまり、３基のステージ部材２０は、それぞれ上下に移動して搬送方向及び復帰方向へ移動するという上下循環移動が可能となるように構成されており、上部の搬送経路を移動するときに、吸着保持した基板材料２００が露光され、その基板材料２００が取り除かれた後、下部の復帰経路を移動して元の初期位置（基板材料２００がロードされる搭載位置）に復帰するようになっている。
【００２２】
ステージ部材２０の移動経路（搬送経路及び復帰経路）の下方には基台３０が配置され、その基台３０の幅方向両端で、かつステージ部材２０の移動経路の両側には、正面視略逆「Ｌ」字状の一対の側壁１２、１４が左右対称に立設されている。この一対の側壁１２、１４は、共に同じ構成であるが、ここでは説明の便宜上、搬送方向に向かって左側を側壁１２、右側を側壁１４とする。また、側壁１２、１４の長手方向略中央部には、ステージ部材２０の移動経路を跨ぐように正面視略逆「凹」形状の２個のゲート１６、１８が所定間隔を隔てて（ステージ部材２０の搬送方向に沿った長さ以上離れて）並設されている。
【００２３】
ゲート１６、１８の両下部は、それぞれ側壁１２、１４の上面に固定されており、下流側のゲート１６の上部には複数個の露光ヘッド１００が取り付けられ、上流側のゲート１８の上部には画像位置検出装置１８０を構成する２台のＣＣＤカメラ１８２、１８４が取り付けられている。露光ヘッド１００は、ゲート１６（画像形成部）を通過する基板材料２００に向かってレーザービームＢを照射できるように下向き状態で固定されており、ＣＣＤカメラ１８２、１８４も、ゲート１８（画像位置検出部）を通過する基板材料２００の位置（描画領域）検出用のアライメントマーク（図示省略）を撮像できるように下向き状態で固定されている。
【００２４】
したがって、このレーザー露光装置１０は、主に次のように動作する。まず、基板材料２００Ａは、ステージ部材２０Ａに吸着保持された状態で搬送されながら、ＣＣＤカメラ１８２、１８４によりアライメントマークが撮像されて、その位置（描画領域）が検出される。そして、その検出結果に基づいて、所定の描画領域が露光ヘッド１００により露光される。露光が終了すると、基板材料（プリント配線基板）２００Ａは、ステージ部材２０Ａ上からアンロードされる。一方、このとき、すでにステージ部材２０Ｂは、次の基板材料２００Ｂを吸着保持した状態で搬送され、ＣＣＤカメラ１８２、１８４により位置検出されて露光が開始されている。また、ステージ部材２０Ｃも、更に次の基板材料２００Ｃを吸着保持し、ＣＣＤカメラ１８２、１８４による位置検出への搬送待機状態とされている。
【００２５】
すなわち、先に基板材料（プリント配線基板）がアンロードされたステージ部材２０Ｂは、ステージ部材２０Ａ上の基板材料２００Ａが露光されている間に、そのステージ部材２０Ａの下方を通って初期位置（搭載位置）に復帰移動し、次の基板材料２００Ｂがロードされて、ＣＣＤカメラ１８２、１８４により位置検出される工程まで進むように構成されている。そして、次に基板材料（プリント配線基板）がアンロードされたステージ部材２０Ｃも、ステージ部材２０Ａ上の基板材料２００Ａが露光されている間に、そのステージ部材２０Ａの下方を通って初期位置（搭載位置）に復帰移動し、更に次の基板材料２００Ｃがロードされる工程まで進むように構成されている。
【００２６】
このように、レーザー露光装置１０は、各ステージ部材２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃが上下に循環移動することにより、基板材料２００の位置検出及び露光が順次絶え間なく行われる構成になっており、これによって露光ヘッド１００の稼働率、即ちプリント配線基板の製造効率が向上されるようになっている。以上がレーザー露光装置１０の概要であり、以下、各部の構成について詳細に説明する。
【００２７】
［露光ヘッドの構成］
まず、図９乃至図２１を基に露光ヘッド１００の構成について詳細に説明する。上記したように、露光ヘッド１００は、レーザー露光装置１０の幅方向に架設されたゲート１６の上部に垂設され、その真下の露光位置をステージ部材２０に吸着保持されて搬送されて来た基板材料２００が通過するときに、その基板材料２００の被露光面２０２に対して、上方から画像情報に基づいて変調されたレーザービームＢを照射して露光し、その被露光面２０２にプリント配線基板の配線パターンに対応する画像（潜像）を形成するようになっている。
【００２８】
ここで、基板材料２００の上面部は、感光材料により薄膜状の感光性塗膜が成膜された被露光面２０２となっており、被露光面２０２は潜像（画像）形成後に、エッチング等の所定の処理を受けることにより、潜像に対応する配線パターンが形成されるようになっている。なお、感光性塗膜は、基板材料２００に液状の感光材料を塗布して乾燥硬化させるか、予めフィルム状に成膜された感光材料をラミネートすることによって形成される。
【００２９】
露光ヘッド１００は、図９、図１０で示すように、ｍ行ｎ列（例えば３行５列）の略マトリックス状に複数（例えば１４個）配列されて構成されており、図示のものは、基板材料２００の幅との関係で、３行目には４個の露光ヘッド１００が配置されている。なお、以下、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッドを示す場合は、露光ヘッド１００ｍｎと表記する。
【００３０】
露光ヘッド１００による露光エリア１０２は、副走査方向が短辺となる矩形状とされている。したがって、ステージ部材２０が搬送方向へ移動することにより（露光ヘッド１００が相対的に副走査方向へ移動することにより）、基板材料２００における被露光面２０２上の描画領域２０４には露光ヘッド１００毎に帯状の露光済み領域２０６が順次形成される。なお、以下、ｍ行目のｎ列目に配列された個々の露光ヘッド１００による露光エリア１０２を示す場合は、露光エリア１０２ｍｎと表記する。
【００３１】
また、図１０で示すように、帯状の露光済み領域２０６が副走査方向と直交する方向（主走査方向）に隙間無く並ぶように、ライン状に配列された各行の露光ヘッド１００は、それぞれ配列方向に所定間隔（露光エリアの長辺の自然数倍、本実施形態では２倍）ずらして配置されている。このため、１行目の露光エリア１０２１１と露光エリア１０２１２との間の露光できない部分は、２行目の露光エリア１０２２１と３行目の露光エリア１０２３１とにより露光することができる。
【００３２】
各露光ヘッド１００１１〜１００ｍｎは、図１１で示すように、入射された光ビームを画像情報に応じて各画素毎に変調する空間光変調素子としてのデジタル・マイクロミラー・デバイス（以下、「ＤＭＤ」という）１０６を備えている。ＤＭＤ１０６は、図示するように、ＳＲＡＭセル（メモリーセル）１０８上に、画素（ピクセル）を構成する多数の（例えば６００個×８００個）の微小ミラー（以下、「マイクロミラー」という）１１０が格子状に配列されて一体的に構成されたミラーデバイスであり、マイクロミラー１１０の表面には、反射率が９０％以上となるように、アルミニウム等の反射率の高い材料が蒸着されている。そして、各マイクロミラー１１０は、ヒンジ及びヨークを含む支柱（図示省略）によって支持されている。
【００３３】
したがって、ＤＭＤ１０６のＳＲＡＭセル１０８にデジタル信号が書き込まれると、支柱に支えられたマイクロミラー１１０が、対角線を中心としてＤＭＤ１０６が配置された基部側に対して±α°（例えば±１０°）の範囲で傾けられる。つまり、画像信号に応じてＤＭＤ１０６のマイクロミラー１１０の傾きが制御されることにより、ＤＭＤ１０６に入射された光がそれぞれのマイクロミラー１１０の傾き方向へ反射される。ちなみに、図１２（Ａ）はマイクロミラー１１０がＯＮ状態である＋α°に傾いた状態を示し、図１２（Ｂ）はマイクロミラー１１０がＯＦＦ状態である−α°に傾いた状態を示している。また、ＯＦＦ状態のマイクロミラー１１０により光ビームが反射される方向には、光吸収体（図示省略）が配置されている。
【００３４】
また、ＤＭＤ１０６は、上記したように、マイクロミラー１１０を多数個（例えば８００個）長手方向に配列してなるマイクロミラー列が、多数組（例えば６００組）短手方向に配列されて構成されているが、更にその短手方向の辺（短辺）が副走査方向と所定角度θ（例えば１°〜５°）をなすように、僅かに傾斜させられて配置されている。図１３（Ａ）はＤＭＤ１０６を傾斜させない場合の各マイクロミラー１１０による反射光像（露光ビーム）１０４の走査軌跡を示し、図１３（Ｂ）はＤＭＤ１０６を所定角度θ傾斜させた場合の反射光像（露光ビーム）１０４の走査軌跡を示している。このように、ＤＭＤ１０６を傾斜させると、各マイクロミラー１１０による露光ビームの走査軌跡（走査線）のピッチＰ２が、ＤＭＤ１０６を傾斜させない場合の走査線のピッチＰ１より狭くすることができるので、解像度を大幅に向上させることができる。
【００３５】
そして更に、異なるマイクロミラー列により同じ走査線上が重ねて露光（多重露光）されることになるため、露光位置の微少量をコントロールすることができ、高精細な露光を実現することができる。したがって、主走査方向に配列された複数の露光ヘッド１００間のつなぎ目を微少量の露光位置制御により段差無くつなぐことができる。なお、ＤＭＤ１０６の傾斜角度θは微小であるので、ＤＭＤ１０６を傾斜させた場合の走査幅Ｗ２と、ＤＭＤ１０６を傾斜させない場合の走査幅Ｗ１とは略同一である。また、ＤＭＤ１０６を傾斜させる代わりに、各マイクロミラー列を副走査方向と直交する方向に所定間隔ずらした千鳥状に配置しても、同様の効果が得られることは言うまでもない。
【００３６】
また、露光ヘッド１００を駆動制御する制御装置（図示省略）には、図示しない画像情報処理部とミラー駆動制御部とが組み込まれている。画像情報処理部では、レーザー露光装置１０全体を制御するコントローラー（図示省略）から入力された配線パターンに対応する画像情報に基づいて、各露光ヘッド１００毎にＤＭＤ１０６の制御すべき領域内の各マイクロミラー１１０を駆動制御する制御信号を生成する。そして、ミラー駆動制御部では、画像情報処理部で生成した制御信号に基づいて、各露光ヘッド１００毎にＤＭＤ１０６の各マイクロミラー１１０の角度をＯＮ状態又はＯＦＦ状態に制御するようになっている。
【００３７】
また、図１４で示すように、ＤＭＤ１０６の光入射側には、光ファイバーの出射端部（発光点）が露光エリア１０２の長辺方向と対応する方向に沿って１列に配列されたレーザー出射部１１４を備えたファイバーアレイ光源１１２と、ファイバーアレイ光源１１２から出射されたレーザー光を補正してＤＭＤ１０６上に集光させるレンズ系１２０と、レンズ系１２０を透過したレーザー光をＤＭＤ１０６に向けて反射するミラー１１６とが順に配置されている。そして、ＤＭＤ１０６の光反射側には、ＤＭＤ１０６で反射されたレーザー光を基板材料２００の被露光面２０２上に結像するレンズ系１２２、１２４が、ＤＭＤ１０６と被露光面２０２とが共役な関係となるように配置されている。
【００３８】
レンズ系１２０は、図１５で示すように、ファイバーアレイ光源１１２から出射されたレーザー光を平行光化する１対の組合わせレンズ１２６と、平行光化されたレーザー光の光量分布が均一になるように補正する１対の組合わせレンズ１２８と、光量分布が補正されたレーザー光をＤＭＤ１０６上に集光する集光レンズ１１８とで構成されている。組合わせレンズ１２８は、レーザー出射端の配列方向に対しては、レンズの光軸に近い部分は光束を広げ、光軸から離れた部分は光束を縮め、更に、この配列方向と直交する方向に対しては、光をそのまま通過させる機能を備えており、光量分布が均一となるようにレーザー光を補正するようになっている。
【００３９】
また、ファイバーアレイ光源１１２は、図１６（Ａ）で示すように、複数（例えば６個）のレーザーモジュール１３０を備えており、各レーザーモジュール１３０には、マルチモード光ファイバー１３２の一端が結合されている。マルチモード光ファイバー１３２の他端には、コア径がマルチモード光ファイバー１３２と同一で、かつクラッド径がマルチモード光ファイバー１３２より小さい光ファイバー１３４が結合され、図１６（Ｃ）で示すように、光ファイバー１３４の出射端部（発光点）が副走査方向と直交する主走査方向に沿って１列に配列されることによって、レーザー出射部１１４が構成されている。なお、図１６（Ｄ）で示すように、光ファイバー１３４の出射端部（発光点）を主走査方向に沿って２列に配列することも可能である。
【００４０】
光ファイバー１３４の出射端部は、図１６（Ｂ）で示すように、表面が平坦な２枚の支持板１３６に挟み込まれて固定されている。また、光ファイバー１３４の光出射側には、光ファイバー１３４の端面を保護するために、ガラス等の透明な保護板１３８が配置されている。保護板１３８は、光ファイバー１３４の端面と密着させて配置してもよく、光ファイバー１３４の端面が密封されるように配置してもよい。光ファイバー１３４の出射端部は、光密度が高く、集塵しやすく、劣化しやすいが、保護板１３８を配置することにより、端面への塵埃の付着を防止することができるとともに、劣化を遅らせることができる。
【００４１】
また、図１６（Ｂ）で示すように、クラッド径が小さい光ファイバー１３４の出射端を隙間なく１列に配列するために、クラッド径が大きい部分で隣接する２本のマルチモード光ファイバー１３２の間にマルチモード光ファイバー１３２を積み重ね、積み重ねられたマルチモード光ファイバー１３２に結合された光ファイバー１３４の出射端が、クラッド径が大きい部分で隣接する２本のマルチモード光ファイバー１３２に結合された２本の光ファイバー１３４の出射端間に挟まれるように配列されている。これは、クラッド径が大きいマルチモード光ファイバー１３２のレーザー光出射側の先端部分に、長さ１〜３０ｃｍのクラッド径が小さい光ファイバー１３４を同軸的に結合する、例えば光ファイバー１３４の入射端面を、マルチモード光ファイバー１３２の出射端面に、両方の中心軸が一致するように融着することにより得ることができる。
【００４２】
なお、マルチモード光ファイバー１３２及び光ファイバー１３４としては、ステップインデックス型光ファイバー、グレーテッドインデックス型光ファイバー、複合型光ファイバーの何れも使用可能であり、図１７で示すように、光ファイバー１３４のコア１３４Ａの径は、マルチモード光ファイバー１３２のコア１３２Ａの径と同じ大きさになっている。すなわち、光ファイバー１３４は、クラッド径＝６０μｍ、コア径＝２５μｍであり、マルチモード光ファイバー１３２は、クラッド径＝１２５μｍ、コア径＝２５μｍである。そして、マルチモード光ファイバー１３２の入射端面コートの透過率が９９．５％以上になっている。
【００４３】
また、図示しないが、長さが短くてクラッド径が大きい光ファイバーに、クラッド径が小さい光ファイバーを融着させた短尺光ファイバーを、フェルールや光コネクター等を介してマルチモード光ファイバー１３２の出射端に結合してもよい。このように、光コネクター等を用いて、短尺光ファイバー（クラッド径が小さい光ファイバー）を、マルチモード光ファイバー１３２に着脱可能に構成すると、クラッド径が小さい光ファイバーが破損した場合等には、その部分の交換が容易にできるようになるので、露光ヘッド１００のメンテナンスに要するコストを低減することができる。なお、以下では、光ファイバー１３４を、マルチモード光ファイバー１３２の出射端部と称する場合がある。
【００４４】
レーザーモジュール１３０は、図１８で示す合波レーザー光源（ファイバー光源）によって構成されている。この合波レーザー光源は、ヒートブロック１４０上に配列固定された複数（例えば７個）のチップ状の横マルチモード、又はシングルモードのＵＶ系半導体レーザーＬＤ１、ＬＤ２、ＬＤ３、ＬＤ４、ＬＤ５、ＬＤ６、ＬＤ７と、ＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７の各々に対応して設けられたコリメーターレンズ１４２、１４４、１４６、１４８、１５０、１５２、１５４と、１つの集光レンズ１５６と、１本のマルチモード光ファイバー１３２とで構成されている。つまり、コリメーターレンズ１４２〜１５４及び集光レンズ１５６によって集光光学系が構成され、その集光光学系とマルチモード光ファイバー１３２とによって合波光学系が構成されている。
【００４５】
したがって、露光ヘッド１００において、ファイバーアレイ光源１１２の合波レーザー光源を構成するＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７の各々から発散光状態で出射したレーザービームＢ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４、Ｂ５、Ｂ６、Ｂ７の各々は、まず、対応するコリメーターレンズ１４２〜１５４によって平行光化される。そして、平行光化されたレーザービームＢ１〜Ｂ７は、集光レンズ１５６によって集光され、マルチモード光ファイバー１３２のコア１３２Ａの入射端面に収束する。
【００４６】
マルチモード光ファイバー１３２のコア１３２Ａの入射端面に収束したレーザービームＢ１〜Ｂ７は、そのコア１３２Ａに入射して光ファイバー内を伝搬し、１本のレーザービームＢに合波される。ＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７は、発振波長及び最大出力がすべて同じであり、このときの結合効率が、例えば８５％であるとすると、ＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７の各出力が３０ｍＷの場合には、出力約１８０ｍＷ（＝３０ｍＷ×０．８５×７）の合波レーザービームＢを得ることができる。
【００４７】
こうして、マルチモード光ファイバー１３２の出射端部に結合された光ファイバー１３４から合波レーザービームＢが出射されるが、例えば図１４、図１６（Ｃ）で示すように、６本の光ファイバー１３４がアレイ状に配列された（高輝度の発光点が主走査方向に沿って１列に配列された）レーザー出射部１１４の場合には、その出力は約１Ｗ（＝１８０ｍＷ×６）の高出力となる。なお、合波レーザー光源を構成するＵＶ系半導体レーザーの個数は７個に限定されるものではない。
【００４８】
また、以上のような合波レーザー光源（ＵＶ系半導体レーザー）は、図１９、図２０で示すように、他の光学要素と共に、上方が開口した箱状のパッケージ１６０内に収納されている。パッケージ１６０は、その開口を閉塞可能なパッケージ蓋１６２を備えており、脱気処理をした後に封止ガスを注入し、パッケージ１６０の開口をパッケージ蓋１６２で閉じることにより、パッケージ１６０とパッケージ蓋１６２とにより形成される閉空間（封止空間）内に、上記の合波レーザー光源が気密封止されるようになっている。
【００４９】
パッケージ１６０の底面にはベース板１６４が固定されており、このベース板１６４の上面には、ヒートブロック１４０と、集光レンズ１５６を保持する集光レンズホルダー１５８と、マルチモード光ファイバー１３２の入射端部を保持するファイバーホルダー１６６とが取り付けられている。マルチモード光ファイバー１３２の出射端部は、パッケージ１６０の壁面に形成された開口からパッケージ１６０外に引き出されている。
【００５０】
また、ヒートブロック１４０の側面にはコリメーターレンズホルダー１６８が取り付けられており、コリメーターレンズ１４２〜１５４が保持されている。パッケージ１６０の横壁面には開口が形成され、この開口を通してＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７に駆動電流を供給する配線１７０がパッケージ１６０外に引き出されている。なお、図１９、図２０においては、図の煩雑化を避けるために、複数のＵＶ系半導体レーザーのうち、ＵＶ系半導体レーザーＬＤ７にのみ符号を付し、複数のコリメーターレンズのうち、コリメーターレンズ１５４にのみ符号を付している。
【００５１】
また、コリメーターレンズ１４２〜１５４の取り付け部分の正面形状を図２１で示す。コリメーターレンズ１４２〜１５４の各々は、非球面を備えた円形レンズの光軸を含む領域を、平行な平面で細長く切り取った形状に形成されている。この細長形状のコリメーターレンズ１４２〜１５４は、例えば樹脂又は光学ガラスをモールド成形することによって得ることができる。そして、コリメーターレンズ１４２〜１５４は、長さ方向がＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７の発光点の配列方向（図の左右方向）と直交するように、かつ発光点の配列方向に密接配置されている。
【００５２】
また、ＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７としては、発光幅が２μｍの活性層を備え、活性層と平行な方向、直角な方向の拡がり角が各々、例えば１０°、３０°の状態で各々レーザービームＢ１〜Ｂ７を発するレーザーが用いられている。これらＵＶ系半導体レーザーＬＤ１〜ＬＤ７は、活性層と平行な方向に発光点が１列に並ぶように配設されている。したがって、各発光点から発せられたレーザービームＢ１〜Ｂ７は、細長形状の各コリメーターレンズ１４２〜１５４に対して、拡がり角度が大きい方向が長さ方向と一致し、拡がり角度が小さい方向が幅方向（長さ方向と直交する方向）と一致する状態で入射することになる。
【００５３】
また、集光レンズ１５６は、非球面を備えた円形レンズの光軸を含む領域を平行な平面で細長く切り取って、コリメーターレンズ１４２〜１５４の配列方向、つまり水平方向に長く、それと直角な方向に短い形状に形成されている。この集光レンズ１５６も、例えば樹脂又は光学ガラスをモールド成形することにより得ることができる。
【００５４】
［画像位置検出装置の構成］
次に、画像位置検出装置１８０について説明をする。画像位置検出装置１８０は、上記したように、レーザー露光装置１０の幅方向に架設されたゲート１８の上部で、かつ露光ヘッド１００よりも上流側に垂設された２台のＣＣＤカメラ１８２、１８４と、図示しないアライメント制御部を含んで構成されている。ＣＣＤカメラ１８２、１８４は、２次元ＣＣＤを撮像素子として備えるとともに、撮像時の光源として１回の発光時間が極めて短いストロボを備えており、このストロボの発光時のみ撮像が可能となるように、各ＣＣＤ素子の受光感度が設定されている。アライメント制御部は、ＣＣＤカメラ１８２、１８４からの画像信号を処理し、各ＣＣＤカメラ１８２、１８４により撮像されたアライメントマークの位置に対応する位置情報を上記コントローラーへ出力するようになっている。
【００５５】
一方、基板材料２００の被露光面２０２上には、予め配線パターンに対応する潜像が形成される描画領域２０４が設定されており、この描画領域２０４に対応するアライメントマーク（図示省略）が四隅に形成されている。そして、ＣＣＤカメラ１８２、１８４は、その真下の撮像位置（読取位置）を、ステージ部材２０に吸着保持されて所定の速度で搬送されて来る基板材料２００が通過する際に、所定のタイミングでストロボを発光させ、このストロボからの光の反射光を受光することにより、基板材料２００におけるアライメントマークを含む撮像範囲をそれぞれ撮像するようになっている。
【００５６】
アライメントマークは、基板材料２００の被露光面２０２に、円形の貫通孔又は凹部を設けることにより形成されており、これによって、ステージ部材２０上の基板材料２００の位置（描画領域）が検出されるようになっている。なお、ＣＣＤカメラは図示の２台に限定されるものではない。また、ＣＣＤカメラ１８２、１８４は、それぞれ基板材料２００の異なる領域を撮像範囲としている。このため、それぞれのＣＣＤカメラ１８２、１８４は、撮像対象となる基板材料２００に形成されたアライメントマークの位置等に応じて、その位置の調整が可能とされている。なお、アライメントマークは貫通孔や凹部ではなく、基板材料２００の被露光面２０２に予め形成されている配線パターンであるランド等を利用してもよい。
【００５７】
［ステージ部材及び上下循環手段の構成］
次に、ステージ部材２０及びその上下循環手段の構成について、図１乃至図８を基に詳細に説明する。なお、説明の便宜上、ステージ部材２０をステージ部材２０Ａ、ステージ部材２０Ｂ、ステージ部材２０Ｃと区別して説明する場合は、それに合わせて、両方において同等のものをＡ、Ｂ、Ｃの英字を付して区別する場合がある。上記したように、ステージ部材２０は所定厚さの略矩形平板状に形成され、その内部は空洞になっている。そして、その上面（表面）が基板材料２００を載置するための平面状の載置面（ステージ面）２１とされており、この載置面２１には、基板材料２００を負圧によって吸着するためのエアー吸引用の小孔２８が多数穿設されている。
【００５８】
また、ステージ部材２０の側壁１２、１４と対向する両側面部には、後述するリニア走行体３２、３４のジョイント部６２、６４が連結するジョイント部２２、２４が一体的に突設されている。このジョイント部２２、２４は、例えば平面視略「口」字状となる孔部２２Ａ、２４Ａを有する筒状に形成され、ジョイント部２２、２４におけるステージ部材２０側の内面（孔部２２Ａ、２４Ａ内）には、電源ラインが接続される端子（図示省略）か、空気配管と連通する逆止弁付き配管（図示省略）が設けられている。また、ステージ部材２０の下面隅角部近傍には、搬送方向と平行なレール２６がそれぞれ一体的に突設されており、そのレール２６には断面視略逆「凹」形状のガイド溝２６Ａが形成されている。
【００５９】
一方、側壁１２の上面には、搬送方向（復帰方向）と平行に、ボールネジ７２が所定長さ設けられており、そのボールネジ７２の両側に一対のガイドレール７６が側壁１２の全長に亘って設けられている。そして、側壁１４の上面にも、搬送方向（復帰方向）と平行に、ボールネジ７４が所定長さ設けられており、そのボールネジ７４の両側に一対のガイドレール７８が側壁１４の全長に亘って設けられている。そして、ボールネジ７２、７４の上流側（又は下流側でもよいが）の端部には、それぞれ正逆回転可能なモーター７３、７５が取り付けられている。このモーター７３、７５は、図示しない搬送制御部から出力される駆動パルス信号により回転駆動するように構成されており、その搬送制御部は上記コントローラーに接続されている。
【００６０】
また、そのボールネジ７２、７４の両端部近傍は、それぞれ一対の支持部（図示省略）によって支持され、各支持部同士の間のボールネジ７２、７４には、ステージ部材２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃをそれぞれ搬送する上部搬送手段としてのリニア走行体３２、３４が搬送方向及び復帰方向に移動自在に支持されている。すなわち、リニア走行体３２、３４の下面側には、内部にネジ山を有する筒状部材３２Ａ、３４Ａ（図６参照）が一体的に設けられており、この筒状部材３２Ａ、３４Ａにボールネジ７２、７４が螺合した状態で挿通されている。
【００６１】
そして、リニア走行体３２、３４の下面隅角部近傍には、それぞれ搬送方向と平行なレール３６、３８が一体的に突設されており、各レール３６、３８には、断面視略逆「凹」形状のガイド溝３６Ａ、３８Ａが形成されて、それぞれのガイドレール７６、７８に摺動自在に嵌合するようになっている。したがって、上記駆動パルス信号によりモーター７３、７５を駆動し、ボールネジ７２、７４を正逆方向に回転させることにより、リニア走行体３２、３４がガイドレール７６、７８に沿って搬送方向及び復帰方向に所定の速度（例えば露光時にあっては３０ｍｍ／ｓの低速）で移動可能となる構成である。
【００６２】
また、このリニア走行体３２、３４の上面には、上下方向に長いガイド壁４２、４４が一体に立設されており、そのガイド壁４２、４４の内面（ステージ部材２０と対向する面）には、上下方向に一対のガイドレール４６、４８が一体的に、かつ略全長に亘って突設されている。そして、そのガイド壁４２、４４の内面側には、昇降移動自在に構成された支持プレート５２、５４が設けられている。すなわち、この支持プレート５２、５４の外面（ステージ部材２０と対向しない面）で、かつ四隅には、上下方向に長いレール５６、５８がそれぞれ一体的に突設されており、各レール５６、５８には、ガイドレール４６、４８に対して摺動自在に嵌合される断面視略逆「凹」形状のガイド溝５６Ａ、５８Ａが形成されている。
【００６３】
そして、図６、図８で示すように、一対のガイドレール４６、４８の間には、それぞれボールネジ６６、６８が設けられており、そのボールネジ６６、６８が螺合した状態で挿通される、内部にネジ山を有する筒状部材５２Ａ、５４Ａが、各支持プレート５２、５４の外面側中央に一体的に突設されている。そして更に、そのボールネジ６６、６８を正逆両方向に回転駆動可能なモーター６７、６９がガイド壁４２、４４の下端（リニア走行体３２、３４）に取り付けられている。したがって、上記と同様に、駆動パルス信号により、そのモーター６７、６９を駆動し、ボールネジ６６、６８を正逆方向に回転させることにより、支持プレート５２、５４が、ガイドレール４６、４８に沿って上下方向に移動可能となる構成である。
【００６４】
また、この支持プレート５２、５４の内面（ステージ部材２０と対向する面）側略中央には、上記したステージ部材２０のジョイント部２２、２４と連結するジョイント部６２、６４が一体的に突設されている。このジョイント部６２、６４は、孔部２２Ａ、２４Ａに挿入される先端部６２Ａ、６４Ａが下方に向かって９０°曲折された、側面視略「Ｌ」字状に成形されており、少なくともその先端部６２Ａ、６４Ａの形状が、孔部２２Ａ、２４Ａの形状に合致するように、断面視略「口」字状の角柱状に形成されている。なお、孔部２２Ａ、２４Ａの形状は図示のものに限定されるものではなく、その形状が適宜設計変更されれば、それに合わせて先端部６２Ａ、６４Ａの形状も適宜設計変更される。
【００６５】
そして、その先端部６２Ａ、６４Ａが、ジョイント部２２、２４の孔部２２Ａ、２４Ａに上方から挿入されることにより、両者が着脱自在に連結されるようになっている。すなわち、支持プレート５２、５４が昇降移動することにより、両者が連結されたり、その連結が解除されるようになっており、ジョイント部６２、６４とジョイント部２２、２４とは鉛直方向（ジョイント部６２、６４の挿入方向）には着脱自在であるが、水平方向（ジョイント部６２、６４の挿入方向と直交する方向）には着脱不可に構成されている。したがって、その水平方向である搬送方向へステージ部材２０をリニア走行体３２、３４が好適に牽引して移動させることができるため、ステージ部材２０には自走させる機構等を設ける必要がなく、その構成を簡略化することができる。
【００６６】
なお、後述するように、ステージ部材２０との連結が解除されたリニア走行体３２、３４を復帰方向へ移動させるときには、後続するステージ部材２０のジョイント部２２、２４にジョイント部６２、６４が干渉しないように、支持プレート５２、５４を上昇させて、ジョイント部６２、６４を上部位置に退避させる。また、後述するようにステージ部材２０が上昇してきても、ジョイント部６２、６４は常にジョイント部２２、２４の上方に位置するので、邪魔になることはない。
【００６７】
また、このジョイント部６２、６４には、ステージ部材２０に負圧を発生させるための電源ライン又は空気配管を備えたケーブルベア４０、５０が接続されている。すなわち、ステージ部材２０が、エアー吸引用の真空ポンプ等の真空発生装置（図示省略）を具備している場合は、その真空発生装置駆動用の電源ラインを備えたケーブルベア４０、５０であり、真空発生装置を具備していない場合は、別途設置される真空ポンプ等の真空発生装置（図示省略）と接続する空気配管を備えたケーブルベア４０、５０である。
【００６８】
各ケーブルベア４０、５０は、リニア走行体３２、３４の移動に追従して変形可能となるように、フレキシブルなチューブ等で構成されており、それぞれ側壁１２、１４の上面に沿うように配置されている。そして、その先端部がリニア走行体３２、３４のジョイント部６２、６４に下流側から（又は上流側からでもよいが）上方に回り込むようにして接続されている（図８参照）。したがって、リニア走行体３２、３４がガイドレール７６、７８に沿って移動すると、各ケーブルベア４０、５０は、その中途部が半円弧状に曲折された状態となって追従する構成である。よって、そのケーブルベア４０、５０が絡まったり、リニア走行体３２、３４の移動を阻害してしまうことがない。
【００６９】
また、ケーブルベア４０、５０が接続されるジョイント部６２、６４は、ケーブルベア４０、５０が電源ラインの場合は、その電源ラインが内設されて、その先端部６２Ａ、６４Ａに接続端子（図示省略）が取り付けられる。そして、この場合には、ジョイント部２２、２４の孔部２２Ａ、２４Ａのステージ部材２０側内面には、その接続端子（プラグ）と接続される端子（図示省略）が設けられる。一方、ケーブルベア４０、５０が空気配管の場合は、その空気配管と連通する空気配管がジョイント部６２、６４に内設又は形成され、その先端部６２Ａ、６４Ａに、開口を有する接続配管（図示省略）が取り付けられる。そして、この場合には、上記孔部２２Ａ、２４Ａのステージ部材２０側内面には、その接続配管が接続される開口を備えた逆止弁付き配管（図示省略）が設けられる。
【００７０】
ここで、ステージ部材２０の両側面部に設ける配管を逆止弁付き配管としたのは、リニア走行体３２、３４のジョイント部６２、６４が、一方のジョイント部２２、２４に連結したときに、他方のジョイント部２２、２４における孔部２２Ａ、２４Ａの内面（配管）から空気を吸引しないように、つまり、小孔２８からの吸引力が低下しないようにするためである。なお、ケーブルベア４０、５０には、電源ラインと空気配管の両方を設けてもよく、この場合は、電源ラインをモーター６７、６９の駆動用として利用することができる。
【００７１】
また、図６、図７で示すように、側壁１２、１４の上部中央で、かつ互いに対向する端面側には、下側が内方側に張り出す段部１２Ａ、１４Ａが所定長さ及び所定幅で形成されており、その段部１２Ａ、１４Ａ上にはそれぞれ防振部材１９０が設けられている。防振部材１９０は、振動を抑制できる弾性体のようなものであれば、どのようなものでもよく、例えば防振ゴム等が採用される。そして、その防振部材１９０上に両端の段部６０Ａが支持された状態とされて、支持台６０が側壁１２、１４間に架設されている。
【００７２】
支持台６０上には、一対の上部ガイドレール７０が支持台６０の長手方向（搬送方向）全長に亘って一体的に突設されており、ステージ部材２０の下面に突設されたレール２６に形成されたガイド溝２６Ａが摺動自在に嵌合されるようになっている。また、基台３０上で、かつ支持台６０の下方には支持台６０と同じ長さの設置台９０が配置されており、その設置台９０上に上部ガイドレール７０と同じ間隔（軌道幅）の一対の下部ガイドレール８０が一体的に、かつ全長に亘って突設されている。
【００７３】
したがって、少なくとも上部ガイドレール７０に沿って移動しているステージ部材２０に対して振動等が伝わり難い構成である。つまり、上部ガイドレール７０を備えた支持台６０は防振部材１９０を介して支持されているので、側壁１２、１４からの振動が伝わり難く、更には、上部ガイドレール７０と下部ガイドレール８０とが上下に独立に設けられて兼用されていないため、例えば下部ガイドレール８０に沿って移動しているステージ部材２０Ｃが、上部ガイドレール７０に沿って移動しているステージ部材２０Ａ、２０Ｂに対して振動等を伝え難い。このため、基板材料２００のアライメント処理中において、位置ずれ（品質不良）が生じたり、露光処理中において、画質不良が生じることがない。
【００７４】
また、設置台９０の上流側と下流側には、それぞれステージ部材２０を昇降移動させる第１昇降機８２と第２昇降機８４が配設されている。これら第１昇降機８２及び第２昇降機８４は共に同じ構成であり、油圧等により所定高さ上下動する第１シリンダー８２Ｂ及び第２シリンダー８４Ｂをそれぞれ備えている。第１シリンダー８２Ｂ及び第２シリンダー８４Ｂの上部には、それぞれ搬送方向（復帰方向）に長い矩形平板状の第１昇降台８２Ａ及び第２昇降台８４Ａが一体的に水平に取り付けられており、その第１昇降台８２Ａ及び第２昇降台８４Ａ上には、下部ガイドレール８０と同じ間隔（軌道幅）の一対の第１切替レール８６及び第２切替レール８８がそれぞれ突設されている。
【００７５】
また、第１昇降台８２Ａ及び第２昇降台８４Ａの搬送方向の長さは、基板材料２００の搬送方向の長さと、第１切替レール８６及び第２切替レール８８が、第１昇降台８２Ａ及び第２昇降台８４Ａが上昇したときには上部ガイドレール７０と連続し、下降したときには下部ガイドレール８０と連続するように、即ち各レールが一体的に繋がるようにすることを考慮して決められる。このように、第１切替レール８６及び第２切替レール８８が、上部ガイドレール７０及び下部ガイドレール８０と連続する（一体的に繋がる）ようになっていると、ステージ部材２０の上部ガイドレール７０及び下部ガイドレール８０への受け渡し（移動）が容易かつスムーズにできる。
【００７６】
なお、これら第１昇降機８２及び第２昇降機８４も防振部材１９２を介して設置台９０に設置されることが望ましい。このような構成にすると、第１昇降台８２Ａ及び第２昇降台８４Ａが昇降移動するときの振動を抑制することができ、上部ガイドレール７０に沿って移動しているステージ部材２０に対し、振動を伝わり難くできる。
【００７７】
また、図６乃至図８で示すように、設置台９０の一側方（図示のものは側壁１４側だが、側壁１２側でもよい）には、ステージ部材２０を初期位置（搭載位置）へ、ある程度の高速で（１つのステージ部材が露光部を移動している間に、他のステージ部材が撮像位置（読取位置）や搭載位置（ロード位置）まで移動可能となるような速度、例えば秒速１ｍ程度で）復帰移動させる下部搬送手段としてのリニア走行体９２と、そのリニア走行体９２を復帰方向（搬送方向）に沿って往復移動させるチェーン又はタイミングベルト９４が配設されている。
【００７８】
リニア走行体９２は側面視略「凹」形状に形成され、その下部に穿設された孔部９２Ｂにロッド９６が遊挿されている。ロッド９６は基台３０の上流側端部近傍と下流側端部近傍にそれぞれ立設された一対の支柱９８に支持されており、支柱９８にはそれぞれプーリー９５が回転可能に支持されている。なお、一方の支柱９８には、それに支持されているプーリー９５を回転駆動させるモーター（図示省略）が配設されている。
【００７９】
そして、この一対のプーリー９５にタイミングベルト９４が巻回されており、リニア走行体９２の外面（側壁１４に対向する面）から延設されている取付板９２Ｃが、このタイミングベルト９４に取り付けられている。これにより、リニア走行体９２はロッド９６に対して摺動自在で、かつタイミングベルト９４と一体に移動可能に支持される構成である。また、このリニア走行体９２には、一方のジョイント部２４が嵌合するジョイント部９２Ａが形成されている。このジョイント部９２Ａは「凹」形状に形成されたリニア走行体９２の窪んでいる部分であって、そのジョイント部９２Ａの形状（窪んでいる部分の形状）がジョイント部２４の外形に合致するようになっている。
【００８０】
したがって、ステージ部材２０が第２昇降機８４により下降してくると、リニア走行体９２のジョイント部９２Ａにジョイント部２４が嵌合する構成であり、両者が嵌合されると、プーリー９５が回転駆動して、タイミングベルト９４が図７で示す矢印Ａ方向へ移動し、ステージ部材２０を第２昇降台８４Ａ上から第１昇降台８２Ａ上へ（取出位置から搭載位置へ）、第２切替レール８８、下部ガイドレール８０、第１切替レール８６に沿って搬送するようになっている。なお、下部搬送手段は、このような構成のものに限定されるものではなく、ある程度の高速（１ｍ／ｓ程度）でステージ部材２０を移動させることができるものであれば、任意に構成して構わない。
【００８１】
［露光装置の動作］
以上のような構成のレーザー露光装置１０において、次にその一連の動作を、図２乃至図５を適宜参照しながら説明する。まず、初期位置（搭載位置）において、第１昇降台８２Ａが第１シリンダー８２Ｂによって上昇位置に待機する。このとき、ステージ部材２０Ａは、第１切替レール８６にガイド溝２６Ａを介して支持されており、第１切替レール８６は上部ガイドレール７０と一体的に繋げられている。すなわち、第１切替レール８８の搬送方向側の端面と、上部ガイドレール７０の復帰方向側の端面とが略隙間なく正対している。
【００８２】
そして、図示しないローダー（基板供給装置）によって、ステージ部材２０Ａの載置面２１Ａ上へ基板材料２００Ａが載置される。このとき、ステージ部材２０Ａには、ケーブルベア５０及びジョイント部６４を介して真空ポンプ等により負圧が供給され、載置面２１Ａに穿設された多数の小孔２８Ａからエアーが吸引されているので、その作用によって基板材料２００Ａが載置面２１Ａ上に密着状態で固定される。そして、ステージ部材２０Ａのジョイント部２４の孔部２４Ａに、側壁１４上におけるリニア走行体３４のジョイント部６４の先端部６４Ａが、支持プレート５４が下降移動することにより挿入されて連結される。
【００８３】
こうして、基板材料２００Ａがステージ部材２０Ａの載置面２１Ａ上に吸着保持され、リニア走行体３４のジョイント部６４がジョイント部２４に連結すると、搬送制御部からの駆動パルス信号によりモーター７５が駆動してボールネジ７４が回転する。すると、リニア走行体３４が、ガイドレール７８に沿って搬送方向へ移動し、ステージ部材２０Ａが第１切替レール８６から上部ガイドレール７０へスムーズに乗り移りつつ搬送方向へ所定の速度で移動する。そして、ゲート１８に垂設されたＣＣＤカメラ１８２、１８４によって、基板材料２００Ａの四隅に設けられたアライメントマークが撮像され、基板材料２００Ａの描画領域２０４の位置が検出される。
【００８４】
すなわち、基板材料２００ＡのアライメントマークがＣＣＤカメラ１８２、１８４の撮像位置（読取位置）に達したら、ストロボを発光させ、ＣＣＤカメラ１８２、１８４によって被露光面２０２におけるアライメントマークを含む撮像領域を撮像する。このとき、ＣＣＤカメラ１８２、１８４により得られた撮像情報はアライメント制御部へ出力される。アライメント制御部は、撮像情報をアライメントマークの走査方向及び幅方向に沿った位置に対応する位置情報に変換し、この位置情報をコントローラーへ出力する。
【００８５】
コントローラーは、アライメント制御部からのアライメントマークの位置情報に基づき、描画領域２０４に対応して設けられたアライメントマークの位置を判断し、このアライメントマークの位置から、描画領域２０４の走査方向及び幅方向に沿った位置と、描画領域２０４の走査方向に対する傾き量をそれぞれ判断する。つまり、コントローラーは、ステージ部材２０Ａ上の基板材料２００Ａの位置を判断するとともに、画像情報に基づいて、基板材料２００Ａにおける各アライメントマークの位置を判断し、その描画領域２０４を判断する。
【００８６】
そして、コントローラーは、描画領域２０４の走査方向に沿った位置に基づいて描画領域２０４に対する露光開始のタイミングを算出するとともに、描画領域２０４の幅方向に沿った位置及び走査方向に対する傾き量に基づいて、配線パターンに対応する画像情報に対する変換処理を実行し、変換処理した画像情報をフレームメモリー内に格納する。ここで、変換処理の内容としては、座標原点を中心として画像情報を回転させる座標変換処理、幅方向に対応する座標軸に沿って画像情報を平行移動させる座標変換処理が含まれる。更に必要に応じて、コントローラーは、描画領域２０４の幅方向及び走査方向に沿った伸長量及び縮長量に対応させて画像情報を伸長又は縮長させる変換処理を実行する。
【００８７】
このようにして得られた変換処理後の画像情報及び描画領域２０４の位置情報は、ステージ部材２０Ａに関連付けられてコントローラーのフレームメモリー内に一時記憶され、基板材料２００Ａがステージ部材２０Ａ上から（レーザー露光装置１０から）次の工程へ搬送するための図示しない搬送装置へ送り出された後に、フレームメモリー内から消去される。
【００８８】
さて、アライメントマークが撮像された基板材料２００Ａは、ステージ部材２０Ａ（リニア走行体３４）が更に搬送方向に移動することにより、ゲート１６に垂設されている露光ヘッド１００の露光位置へ供給される。そして、所定の速度（例えば３０ｍｍ／ｓ）で移動しながら、ＣＣＤカメラ１８２、１８４による撮像を基にアライメント制御部によって位置検出された描画領域２０４が、配線パターンに応じた画像情報に基づいて露光され、基板材料２００Ａの描画領域２０４に配線パターン等の潜像（画像）が形成される。すなわち、基板材料２００Ａがステージ部材２０Ａと共に搬送方向へ移動されることにより、相対的に露光ヘッド１００が復帰方向へ副走査されるので、基板材料２００Ａには各露光ヘッド１００毎に帯状の露光済み領域２０６（図９、図１０参照）が順次形成される。
【００８９】
ここで、その露光処理工程を具体的に説明すると、まず、コントローラーが、ステージ部材２０Ａ上の基板材料２００Ａの位置を判断し、フレームメモリー内に格納された描画領域２０４の位置情報に基づいて、描画領域２０４の先端が露光位置に達するタイミングを判断する。そして、その描画領域２０４の先端が露光位置に達するタイミングに同期して露光開始信号を画像情報処理部へ出力する。これにより、画像情報処理部は、フレームメモリーに記憶された画像情報を複数ライン分ずつ順次読み出し、読み出した画像情報に基づいて各露光ヘッド１００毎に制御信号を生成する。そして、ミラー駆動制御部は、その生成された制御信号に基づいて各露光ヘッド１００毎にＤＭＤ１０６のマイクロミラー１１０の各々をＯＮ状態あるいはＯＦＦ状態に制御する。
【００９０】
こうして、ＤＭＤ１０６のマイクロミラー１１０がＯＮ・ＯＦＦ制御されたら、ファイバーアレイ光源１１２からＤＭＤ１０６にレーザー光が照射され、ＯＮ状態のマイクロミラー１１０に反射されたレーザー光が、レンズ系１２２、１２４により基板材料２００Ａの被露光面２０２上に結像される。つまり、ファイバーアレイ光源１１２から出射されたレーザー光が画素毎にＯＮ・ＯＦＦされて、基板材料２００Ａの描画領域２０４がＤＭＤ１０６の使用画素数と略同数の画素単位（露光エリア）で露光される。
【００９１】
なお、ここで言う画像情報は、画像を構成する各画素の濃度を２値（ドットの記録の有無）で表したデータであり、本実施形態における露光ヘッド１００による露光処理時間は約１５秒となっている。また、上部ガイドレール７０が突設された支持台６０は、防振部材１９０を介して側壁１２、１４に支持され、更に第１昇降機８２及び第２昇降機８４も防振部材１９２を介して設置台９０に配設されているので、ステージ部材２０Ａが上部ガイドレール７０を移動している間に、そのステージ部材２０Ａに対して振動等が伝わり難い。したがって、画質不良等が生じることはない。
【００９２】
一方、第１昇降台８２Ａの第１切替レール８６からステージ部材２０Ａのガイド溝２６Ａが外れたら、第１昇降台８２Ａは第１シリンダー８２Ｂによって下降する。そして、リニア走行体９２によって所定の速度（１ｍ／ｓ）で復帰搬送移動してきたステージ部材２０Ｂが第１昇降台８２Ａ上へ移動する。すなわち、下部ガイドレール８０上から第１昇降台８２Ａ上に乗り移るとともに、所定の位置で停止させられる。
【００９３】
ステージ部材２０Ｂが第１昇降台８２Ａ上に完全に乗り移ったら、第１シリンダー８２Ｂによって第１昇降台８２Ａを上昇させる。そして、上記と同様に次の基板材料２００Ｂを、そのステージ部材２０Ｂの載置面２１Ｂ上に載置し、負圧によって小孔２８Ｂからエアーが吸引されていることによる作用で、その載置面２１Ｂ上に吸着保持させる。
【００９４】
こうして、ステージ部材２０Ｂ上に基板材料２００Ｂが吸着保持されたら、側壁１２上におけるリニア走行体３２の支持プレート５２を下降移動させ、ステージ部材２０Ｂのジョイント部２２の孔部２２Ａに、ジョイント部６２の先端部６２Ａを挿入して連結する。そして、上記と同様に、搬送制御部からの駆動パルス信号によりモーター７３を駆動してボールネジ７２を回転させ、リニア走行体３２を、ガイドレール７６に沿って搬送方向へ移動させる。すなわち、ステージ部材２０Ｂを搬送方向へ（第１切替レール８６から上部ガイドレール７０へ）所定の速度で移動させ、基板材料２００ＢのアライメントマークをＣＣＤカメラ１８２、１８４によって撮像する。
【００９５】
他方、第１昇降台８２Ａの第１切替レール８６からステージ部材２０Ｂのガイド溝２６Ａが外れたら、第１昇降台８２Ａは第１シリンダー８２Ｂによって再び下降する。そして、リニア走行体９２によって所定の速度（１ｍ／ｓ）で復帰搬送移動してきたステージ部材２０Ｃが第１昇降台８２Ａ上へ移動する。すなわち、下部ガイドレール８０上から第１昇降台８２Ａ上に乗り移るとともに、所定の位置で停止させられる。
【００９６】
ステージ部材２０Ｃが第１昇降台８２Ａ上に完全に乗り移ったら、第１シリンダー８２Ｂによって第１昇降台８２Ａを上昇させる。そして、上記と同様に次の基板材料２００Ｃを、そのステージ部材２０Ｃの載置面２１Ｃ上に載置し、負圧によって小孔２８Ｃからエアーが吸引されていることによる作用で、その載置面２１Ｃ上に吸着保持させる。この状態を図２で示す。
【００９７】
この図２で示すように、ステージ部材２０Ａ上の基板材料２００Ａの露光が終了すると、ステージ部材２０Ｂは、すでにＣＣＤカメラ１８２、１８４によって、それに搭載された基板材料２００Ｂのアライメントマークが撮像されて、その描画領域２０４の位置が検出される工程が終了しているので、そのステージ部材２０Ｂ上の基板材料２００Ｂの露光が続いて開始される。つまり、コントローラーは、基板材料２００Ａの描画領域２０４に対する露光を完了すると、この描画領域２０４に対する場合と同様に、変換処理をした画像情報及び位置情報に基づいて、次の基板材料２００Ｂの描画領域２０４に対する露光を実行する。
【００９８】
また、基板材料２００Ａへの露光が終了したステージ部材２０Ａは更にリニア走行体３４によって搬送方向へ搬送され、上部ガイドレール７０上から、第２シリンダー８４Ｂによって上昇位置に待機している第２昇降台８４Ａの第２切替レール８８上へ移動する。なお、このとき、上部ガイドレール７０と第２切替レール８８は一体的に繋げられている、即ち上部ガイドレール７０の搬送方向側の端面と第２切替レール８８の復帰方向側の端面とが略隙間なく正対しているので、ステージ部材２０Ａはスムーズに第２昇降台８４Ａ上に乗り移る。
【００９９】
そして、ステージ部材２０Ａが完全に第２昇降台８４Ａ上に乗り移って停止すると（基板材料２００の取出位置に来ると）、ステージ部材２０Ａへの真空ポンプ等による負圧が解除され、ステージ部材２０Ａの載置面２１Ａ上から基板材料（プリント配線基板）２００Ａが図示しないアンローダー（基板取出装置）によって取り除かれる。こうして、その基板材料（プリント配線基板）２００Ａは、次の工程へ図示しない搬送装置によって搬送される。
【０１００】
一方、基板材料２００Ａが取り除かれた第２昇降台８４Ａ上のステージ部材２０Ａは、第２シリンダー８４Ｂによって下降し、リニア走行体３４のジョイント部６４がジョイント部２４から外される。そして、ジョイント部６４が外されたリニア走行体３４は、モーター７５がボールネジ７４を搬送時とは反対の方向に回転駆動することにより、元の位置（初期位置）へガイドレール７８に沿ってある程度の高速で側壁１４上を復帰移動させられる。
【０１０１】
なお、リニア走行体３４を復帰移動させる前に、モーター６９を回転駆動してボールネジ６８を回転させ、支持プレート５４を上昇させて、ジョイント部６４を上部位置に退避させる。これにより、リニア走行体３４はステージ部材２０Ｂ、２０Ｃのジョイント部２４と干渉せずに移動できる。つまり、側壁１４上を移動するリニア走行体３４が、ステージ部材２０Ｂ、２０Ｃと衝突するような不具合は起きない。また、ケーブルベア５０も側壁１４上を反転した状態で、リニア走行体３４に追従移動するだけなので、絡まったりすることがない。
【０１０２】
こうして、リニア走行体３４が搭載位置まで復帰移動したら、支持プレート５４を下降移動させ、その搭載位置で待機しているステージ部材２０Ｃのジョイント部２４に、ジョイント部６４を連結する。そして、上記と同様に、搬送制御部からの駆動パルス信号によりモーター７５を駆動してボールネジ７４を回転させ、リニア走行体３４を、ガイドレール７８に沿って搬送方向へ移動させる。すなわち、ステージ部材２０Ｃを搬送方向へ（第１切替レール８６から上部ガイドレール７０へ）所定の速度で移動させ、基板材料２００ＣのアライメントマークをＣＣＤカメラ１８２、１８４によって撮像する。この状態を図３で示す。
【０１０３】
他方、ステージ部材２０Ａが載置された状態で最下部まで下降した第２昇降台８４Ａでは、その第２切替レール８８が設置台９０上の下部ガイドレール８０と一体的に繋げられる。すなわち、第２切替レール８８の復帰方向側の端面と、下部ガイドレール８０の搬送方向側の端面とが略隙間なく正対する。そして、リニア走行体９２のジョイント部９２Ａにジョイント部２４が嵌合し、タイミングベルト９４が走行することにより、リニア走行体９２が復帰方向へ移動する。これにより、ステージ部材２０Ａが第２昇降台８４Ａの第２切替レール８８上から下部ガイドレール８０上にスムーズに送り出される。なお、ステージ部材２０Ａが下部ガイドレール８０上へ送り出されると、第２昇降台８４Ａは直ちに上昇し、次のステージ部材２０Ｂを受け入れられるように上昇位置にて待機する。
【０１０４】
こうして、下部ガイドレール８０上に送り出されたステージ部材２０Ａは、そのリニア走行体９２によって高速（例えば１ｍ／ｓ）で復帰方向へ移動させられ、下部ガイドレール８０上から、下降位置にて待機している第１昇降台８２Ａの第１切替レール８６上へ、上記ステージ部材２０Ｂ、２０Ｃと同様にして移動させられる。なお、このときも、下部ガイドレール８０と第１切替レール８６は一体的に繋げられている、即ち下部ガイドレール８０の復帰方向側の端面と第１切替レール８６の搬送方向側の端面とが略隙間なく正対しているので、ステージ部材２０Ａはスムーズに第１昇降台８２Ａ上に乗り移る。
【０１０５】
ステージ部材２０Ａが完全に第１昇降台８２Ａ上に載置されたら、第１シリンダー８２Ｂによって第１昇降台８２Ａが上昇するが、この上昇移動に伴って、リニア走行体９２のジョイント部９２Ａからジョイント部２４が外される。そして、その上昇位置にて、次の基板材料２００Ｄがステージ部材２０Ａの載置面２１Ａ上に載置され、負圧により吸着保持される。この状態を図４で示す。
【０１０６】
一方、基板材料２００Ｂへの露光が終了したステージ部材２０Ｂは更にリニア走行体３２によって搬送方向へ搬送され、上部ガイドレール７０上から、第２シリンダー８４Ｂによって上昇位置に待機している第２昇降台８４Ａの第２切替レール８８上へ移動する。この状態を図５で示す。そして、ステージ部材２０Ｂが完全に第２昇降台８４Ａ上に乗り移って停止すると（基板材料２００の取出位置に来ると）、ステージ部材２０Ｂへの真空ポンプ等による負圧が解除され、ステージ部材２０Ｂの載置面２１Ｂ上から基板材料（プリント配線基板）２００Ｂが図示しないアンローダー（基板取出装置）によって取り除かれて、次の工程へ図示しない搬送装置によって搬送される。
【０１０７】
その後、第２昇降台８４Ａが下降し、リニア走行体３２のジョイント部６２が、ステージ部材２０Ｂのジョイント部２２から外れたら、ジョイント部６２は、支持プレート５２によって上昇位置に退避し、リニア走行体３２が側壁１２上を復帰移動する。そして、搭載位置にて待機しているステージ部材２０Ａのジョイント部２２に、そのジョイント部６２を連結し、ステージ部材２０Ａを所定の速度で搬送方向へ移動させて、上記動作を繰り返し行う。なお、ステージ部材２０Ｂ、２０Ｃも、ステージ部材２０Ａと同様に復帰動作をし、次の新たな基板材料が、その載置面２１Ｂ、２１Ｃに載置されて、上記動作を繰り返し行うものである。
【０１０８】
以上のように、このレーザー露光装置１０では、上記した動作を各ステージ部材２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃが繰り返し行うことにより、絶え間なく（時間間隔を空けることなく）露光処理が行われるようになっており、露光ヘッド１００の稼働率が向上されるようになっている。したがって、プリント配線基板の製造効率を向上させることができる。なお、ステージ部材２０の数量は図示の３基に限定されるものではなく、３基以上設けて上下循環移動させれば、より一層プリント配線基板の製造効率を向上させることができることは言うまでもない。
【０１０９】
また、上記実施形態では、本発明に係る画像形成装置の一例として、プリント配線基板の素材となる基板材料２００を露光するレーザー露光装置１０について説明をしたが、本発明に係る画像形成装置は、基板材料２００を露光するレーザー露光装置１０に限定されるものではなく、ＰＳ板、ＣＴ刷板等の感光性印刷板、感光紙等の感光材料を露光する露光装置等にも適用できる。また、これらを露光するための光ビームとしては、レーザービーム以外に可視光線、Ｘ線等も用いることができる。更に、本発明に係る画像形成装置は、インクジェット方式の画像形成装置にも適用できる。
【０１１０】
【発明の効果】
本発明によれば、記録媒体を移動させつつ、その記録媒体に対して画像を形成する画像形成処理を効率よく行うことができる。したがって、その製造効率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係るレーザー露光装置の構成を示す概略斜視図
【図２】本発明に係るレーザー露光装置の構成を示す概略斜視図
【図３】本発明に係るレーザー露光装置の構成を示す概略斜視図
【図４】本発明に係るレーザー露光装置の構成を示す概略斜視図
【図５】本発明に係るレーザー露光装置の構成を示す概略斜視図
【図６】本発明に係るレーザー露光装置の構成を示す概略正面図
【図７】本発明に係るレーザー露光装置の構成を示す概略側面図
【図８】本発明に係るレーザー露光装置の構成を示す概略拡大斜視図
【図９】露光ヘッドを示す概略斜視図
【図１０】（Ａ）基板材料に形成される露光済み領域を示す説明図
（Ｂ）露光ヘッドによる露光エリアの配列を示す説明図
【図１１】デジタル・マイクロミラー・デバイス（ＤＭＤ）の構成を示す部分拡大図
【図１２】（Ａ）ＤＭＤの動作を説明するための説明図
（Ｂ）ＤＭＤの動作を説明するための説明図
【図１３】（Ａ）ＤＭＤを傾斜配置しない場合の露光ビームの走査線を示す概略平面図
（Ｂ）ＤＭＤを傾斜配置する場合の露光ビームの走査線を示す概略平面図
【図１４】露光ヘッドの構成を示す概略斜視図
【図１５】（Ａ）露光ヘッドの構成を示す光軸に沿った副走査方向の概略断面図
（Ｂ）（Ａ）の概略側面図
【図１６】（Ａ）ファイバーアレイ光源の構成を示す概略斜視図
（Ｂ）（Ａ）の部分拡大図
（Ｃ）レーザー出射部における発光点の配列を示す説明図
（Ｄ）レーザー出射部における発光点の配列を示す説明図
【図１７】マルチモード光ファイバーの構成を示す説明図
【図１８】合波レーザー光源の構成を示す概略平面図
【図１９】レーザーモジュールの構成を示す概略平面図
【図２０】レーザーモジュールの構成を示す概略側面図
【図２１】レーザーモジュールの構成を示す概略正面図
【符号の説明】
１０  レーザー露光装置（画像形成装置）
１２、１４  側壁
１６  ゲート（画像形成部）
１８  ゲート（画像位置検出部）
２０  ステージ部材
２１  載置面（ステージ面）
２２、２４  ジョイント部
３２、３４  リニア走行体（上部搬送手段）
４０、５０  ケーブルベア（配管）
６２、６４  ジョイント部（連結部）
７０  上部ガイドレール
８０  下部ガイドレール
８２  第１昇降機（第１昇降手段）
８２Ａ  第１昇降台
８２Ｂ  第１シリンダー（第１昇降部材）
８４  第２昇降機（第２昇降手段）
８４Ａ  第２昇降台
８４Ｂ  第２シリンダー（第２昇降部材）
９２  リニア走行体（下部搬送手段）
１００  露光ヘッド
１８２、１８４  ＣＣＤカメラ
１９０  防振部材（防振手段）
２００  基板材料（記録媒体）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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