(57)【要約】【課題】  高分子基材の表面修飾方法の提供。【解決手段】  高分子基材（例えば、ポリエチレン）の表面修飾方法であって、該基材をフルオロモノマー（例えば、２−（パーフルオロオクチル）エチルメタクリレート）及びラジカル重合開始剤を含有する超臨界状態の流体（例えば、ＣＯ２）の中でフルオロモノマーをラジカル重合させる高分子基材の表面修飾方法。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子基材の表面修飾方法であって、該基材をフルオロモノマー及びラジカル重合開始剤を含有する超臨界状態の流体の中で該フルオロモノマーをラジカル重合させることを特徴とする高分子基材の表面修飾方法。
【請求項２】
前記超臨界状態が、該流体の臨界圧力の１〜５倍の圧力下にある超臨界状態である請求項１に記載の表面修飾法。
【請求項３】
前記フルオロモノマーが、重合性炭素−炭素不飽和結合を有し、かつ該炭素原子の１個以上にフッ素原子、ポリフルオロアルキル基及びポリフルオロアルコキシ基からなる群から選ばれる１種以上が結合したが含フッ素化合物である請求項１又は２に記載の表面修飾方法。
【請求項４】
前記フルオロモノマーが、ポリフルオロアルキルアクリレート又はポリフルオロアルキルメタクリレートである請求項１又は２に記載の表面修飾方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の表面修飾方法で表面修飾された高分子基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高分子基材の表面修飾方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、高分子基材を、各種用途への適合性を向上させる目的で、高分子基材の表面修飾方法が種々提案されている。その具体例として、下記に示す（１）〜（４）の方法等が挙げられる。
【０００３】
すなわち、（１）親水性高分子又は疎水性基を有する親水性高分子を高分子基材表面に塗布する方法、（２）高分子基材をプラズマ処理して、表面に化学活性種を発生させ、種々のモノマーをグラフト重合する方法、（３）高分子基材表面に存在する官能基と、該官能基と反応可能な官能基を有する高分子又はモノマーとを反応させる方法、（４）モノマーとラジカル重合開始剤とを溶解した溶剤を高分子基材表面に塗布し、ついで光や熱等のエネルギーを与えることでラジカルを発生させ高分子表面で重合を行う表面グラフト重合法である。
【０００４】
また、フッ素系高分子材料やフルオロモノマーを用いる方法についても、種々の提案がなされている。例えば下記特許文献１には、エラストマー基材表面にフッ素樹脂溶液を塗布し塗膜を形成する方法が開示されている。
【０００５】
更には、下記特許文献２には、パーオキシドとモノマーとを含有する溶液を高分子基材に接触させた後、該基材を加熱処理し該モノマーを重合させて表面とその近傍の修飾を行う方法が、下記特許文献３には、含フッ素エラストマー基材表面を低温プラズマ処理し、該基材表面に活性点を形成し、ついで末端に水酸基を含有する水溶性シリコーンモノマーをグラフト重合させる方法が開示されている。
【０００６】
また、超臨界状態の流体を媒体として表面修飾する方法として、超臨界二酸化炭素中、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）基材にスチレンと重合開始剤を浸透させ、スチレンを重合させるＦＥＰの表面修飾方法が提案されている（非特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平１１−２５５９２９号公報
【特許文献２】特開平１１−１９９６９１号公報
【特許文献３】特開２００２−３６３３２０号公報
【非特許文献１】Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ、３２巻、２５６２〜２５６８頁、１９９９年
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかし、上記（１）〜（４）の表面修飾方法は要求特性を充分に満足できる方法ではなかった。例えば、（１）の方法では、基材と塗布して形成された高分子層との密着性が十分得られず剥離しやすいいものとなってしまう。（２）の方法では、プラズマ処理により高分子基材の物性が変化してしまう。（３）の方法では、高分子基材表面の官能基及びそれと反応可能な官能基の種類が限定されてしまう。（４）の方法では、高分子基材に溶剤が浸透するため、基材が膨潤し、変質する等の問題が生じてしまう。
【０００８】
また、上記非特許文献１等に示されている超臨界二酸化炭素を用いるＦＥＰの表面修飾方法では、モノマーとしてフルオロモノマーを用いた記載はなく、フルオロモノマーを用いる適切な表面修飾方法についてはこれまで知られていなかった。
【０００９】
したがって、本発明は、これまでの表面修飾方法の問題点を解決し、高分子基材自体の特性変化を伴わない、該基材表面のフルオロモノマーによる表面修飾法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため、本発明の高分子基材の表面修飾方法は、該基材をフルオロモノマー及びラジカル重合開始剤を含有する超臨界状態の流体の中で該フルオロモノマーをラジカル重合させることを特徴とする。これによれば、超臨界状態の該流体はフルオロモノマー及び高分子基材との親和性に優れることから、フルオロモノマーの高分子基材への浸透が容易となり、高分子基材表面近傍でフルオロモノマーが重合して生成したフルオロポリマーは該基材との密着性に優れたものとなる。
【００１１】
また、本発明においては、前記超臨界状態が、該流体の臨界圧力の１〜５倍の圧力下にある超臨界状態であることが好ましい。これによれば、フルオロモノマーの高分子基材の表面近傍への浸透がより容易となり、また、フルオロモノマーがラジカル重合して得られるフルオロポリマーの重量平均分子量が高く、均一なフルオロポリマー層を形成することができる。
【００１２】
更には、前記フルオロモノマーが、重合性炭素−炭素不飽和結合を有し、かつ該炭素原子の１個以上にフッ素原子、ポリフルオロアルキル基及びポリフルオロアルコキシ基からなる群から選ばれる１種以上が結合した含フッ素化合物、もしくは、ポリフルオロアルキルアクリレート又はポリフルオロアルキルメタクリレートであることが好ましい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の表面修飾方法によれば、高分子基材自体の特性変化を伴わずに、該基材表面のフルオロモノマーにより修飾することができ、高分子基材にフルオロポリマーが有する種々の特性を付与することができる。
【００１４】
また、本発明の表面修飾方法により得られる、フルオロモノマーにより表面修飾された高分子基材は、撥水發油性、耐候性、非粘着性、防汚性、耐薬品性、低摩擦性、耐摩耗性、高絶縁性等に優れることから、化学薬品接触部材、絶縁部材、摺動部材、耐候性フィルム等の用途に適する。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明における超臨界状態の流体は、特に限定されず、フルオロモノマーとの親和性、高分子基材との親和性、臨界温度、臨界圧力の観点より適宜選定される。該流体としては、二酸化炭素、炭素原子数１〜３の飽和フルオロカーボン、炭素原子数１〜３の飽和ハイドロフルオロカーボン、炭素原子数１〜３の飽和ハイドロクロロフルオロカーボン、炭素原子数１〜３の飽和クロロフルオロカーボン等が挙げられる。該流体を用いると、臨界温度及び臨界圧力が比較的低いので工業的に有利であるほか、超臨界状態の該流体はフルオロモノマー及び高分子基材との親和性に優れることから、フルオロモノマーの高分子基材への浸透が容易であり、高分子基材表面近傍でフルオロモノマーが重合して生成したフルオロポリマーは該基材との密着性に優れる。
【００１６】
本発明における流体の超臨界状態は、該流体の臨界圧力の１〜５倍の圧力下にある超臨界状態であることが好ましい。より好ましくは臨界圧力の１〜２倍の圧力下であり、最も好ましくは臨界圧力の１〜１．５倍の圧力下である。この範囲にあると、フルオロモノマーの高分子基材の表面近傍への浸透が容易であり、また、フルオロモノマーがラジカル重合して得られるフルオロポリマーの重量平均分子量が高いうえ、高分子基材表面に均一なフルオロポリマー層が形成される。
【００１７】
該流体の温度は、該流体の臨界温度より０〜２００℃高い温度が好ましい。より好ましくは、臨界温度より０〜１５０℃高い温度であり、最も好ましくは臨界温度より０〜１００℃高い温度である。この温度範囲超では反応設備が高価になり、この温度範囲未満ではフルオロモノマーの高分子基材表面近傍への浸透が困難になる。この範囲にあると、フルオロモノマーが高分子基材表面近傍への浸透性に優れ、反応設備が安価である。
【００１８】
本発明におけるラジカル重合開始剤としては、超臨界状態の流体と相溶性を有するものであれば、特に限定されず、公知のラジカル重合開始剤が使用できる。具体例としては、アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物、ベンゾイルパーオキシド、ジペンタフルオロプロピオニルパーオキシド等のジアシルパーオキサイド類、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソブチレート等のパーオキシエステル類、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキシド等のハイドロパーオキシド類、パーフルオロプロピオニルパーオキシド、パーフルオロベンゾイルパーオキシド等のパーフルオロパーオキシド類等が挙げられる。
【００１９】
本発明におけるラジカル重合開始剤の使用量は、フルオロモノマーの重合反応に通常の使用量が好ましく、フルオロモノマーの１００質量部に対し、１０−６〜１０質量部が好ましく、１０−５〜２質量部がより好ましい。
【００２０】
本発明におけるフルオロモノマーとしては、ラジカル重合性の炭素−炭素不飽和結合を有する含フッ素化合物が好ましい。フルオロモノマーの具体例としては、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）、クロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）等のパーフルオロオレフィン；パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）（ＰＦＡＶＥ）、パーフルオロ（１，３−ジオキソール）、パーフルオロ（２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール）（ＰＦＤＤ）、パーフルオロ−（２−メチレン−４−メチル−１、３−ジオキソラン）（ＭＭＤ）、パーフルオロブテニルビニルエーテル（ＰＦＢＶＥ）等のパーフルオロビニルエーテル；ビニリデンフルオライド（ＶｄＦ）、トリフルオロエチレン、１，２−ジフルオロエチレン、フッ化ビニル、トリフルオロプロピレン、３，３，３−トリフルオロ−２−トリフルオロメチルプロペン、３，３，３−トリフルオロプロペン、パーフルオロ（ブチル）エチレン（ＰＦＢＥ）等の水素原子含有フルオロオレフィン；１，１−ジヒドロパーフルオロオクチルアクリレート（ＤＰＦＯＡ）、１，１−ジヒドロパーフルオロオクチルメタクリレート（ＤＰＦＯＭＡ）、２−（パーフルオロオクチル）エチルアクリレート（ＰＦＯＥＡ）、２−（パーフルオロオクチル）エチルメタクリレート（ＰＦＯＥＭＡ）、２−（パーフルオロヘキシル）エチルメタクリレート（ＰＦＨＥＭＡ）、２−（パーフルオロブチル）エチルメタクリレート（ＰＦＢＥＭＡ）等のポリフルオロアルキル（メタ）アクリレート；α−フルオロスチレン、β−フルオロスチレン、α，β−ジフルオロスチレン、β，β−ジフルオロスチレン、α，β，β−トリフルオロスチレン、α−トリフルオロメチルスチレン、２，４，６−トリ（トリフルオロメチル）スチレン、２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン、２，３，４，５，６−ペンタフルオロ−α−メチルスチレン、２，３，４，５，６−ペンタフルオロ−β−メチルスチレン等のフルオロスチレン等が挙げられる。
【００２１】
ＰＦＡＶＥとしては、パーフルオロ（メチルビニルエーテル）（ＰＦＭＶＥ）、パーフルオロ（エチルビニルエーテル）（ＰＦＥＶＥ）、パーフルオロ（プロピルビニルエーテル）（ＰＦＰＶＥ）が挙げられる。
【００２２】
フルオロモノマーとしては、官能基を含有するフルオロオレフィンも使用できる。官能基含有フルオロオレフィンとしては、化１に示すモノマー等が挙げられる。
【００２３】
【化１】
2005015778.tif 000002
【００２４】
ここで、Ｘ及びＹは水素原子又はフッ素原子で同じでもよく異なっていてもよい、Ｚは−ＣＨ２ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−ＳＯ２Ｆ、−ＣＨ２ＯＣＮ又はＣＨ２ＰＯ３Ｈ、Ｒｆは炭素原子数１〜２０の２価の含フッ素アルキレン基であり、エーテル結合性酸素原子を含有してもよい。
【００２５】
フルオロモノマーとしては、重合性炭素−炭素不飽和結合を有し、かつ該炭素原子の１個以上にフッ素原子、ポリフルオロアルキル基及びポリフルオロアルコキシ基からなる群から選ばれる１種以上が結合したが含フッ素化合物がより好ましい。
【００２６】
また、フルオロモノマーとしては、ポリフルオロアルキルアクリレート又はポリフルオロアルキルメタクリレートがより好ましい。
【００２７】
フルオロモノマーは１種単独で用いてもよく、また、２種以上を併用してもよい。また、炭化水素系モノマーを併用してもよい。
【００２８】
該炭化水素系モノマーとしては、エチレン、プロピレン、ブテン、塩化ビニル等の炭化水素系オレフィン；酢酸ビニル、ブタン酸ビニル、安息香酸ビニル等のビニルエステル；エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、グリシジルビニルエーテル等のビニルエーテル；エチルアクリレート、オクチルメタクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、ステアリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等の（メタ）アクリレート；スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン；無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸等の酸無水物構造を有する重合性不飽和化合物、等が挙げられる。炭化水素モノマーは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２９】
フルオロモノマー及び必要に応じて使用する炭化水素系モノマーの合計の使用量は、超臨界状態の流体の１００質量部に対して０．１〜１００質量部が好ましく、１〜５０質量部がより好ましく、３〜３０質量部が最も好ましい。使用量があまりに少ないと、高分子基材表面に均一なフルオロポリマー層が形成されない。添加量があまりに多いと、フルオロモノマーの転化率が低下する。この範囲にあると、フルオロモノマーが高転化率で重合され、重量平均分子量が高いフルオロポリマー層が高分子基材表面に形成される。
【００３０】
本発明において、フルオロモノマーをラジカル重合するときに、連鎖移動剤を使用することも好ましい。連鎖移動剤を用いると生成するフルオロポリマーの分子量、物理的性質、化学的性質等を制御することができる。連鎖移動剤としては、特に限定されるものではなく、メタノール等のアルコール、エチルメルカプタン、ブチルメルカプタン等のメルカプタン、ヨウ化アルキル、ヨウ化パーフルオロアルキル、臭化アルキル、臭化パーフルオロアルキル、四塩化炭素、クロロホルム、塩化スルフリル等のハロゲン含有化合物、エタン、メチルシクロヘキサン等のアルカン等が挙げられる。連鎖移動剤は、１種単独で用いてもよく、２種類以上を併用してもよい。
【００３１】
連鎖移動剤の使用量は、超臨界状態の流体に対して０．００１質量％〜５０質量％が好ましい。より好ましくは０．００１質量％〜２０質量％である。使用量があまりに少ないと、分子量を調整する機能が発現せず、添加量があまりに多いと生成するのフルオロポリマーの分子量が低くなる。この範囲にあると、強度等の物理的特性に優れる、適切な分子量のフルオロポリマーが得られる。
【００３２】
本発明において、反応に関与しない添加剤を加えてもよい。添加剤としては、パーフルオロヘキサン等のラジカル重合開始剤の溶剤等が挙げられる。
【００３３】
本発明において、フルオロモノマーのラジカル重合条件としては、重合温度は該流体の臨界温度より０〜２００℃高い温度が好ましい。より好ましくは、臨界温度より０〜１５０℃高い温度であり、最も好ましくは臨界温度より０〜１００℃高い温度である。重合時間は０．１〜４８時間が好ましく、２〜２４時間がより好ましい。
【００３４】
本発明における高分子基材としては、特に制限なく種々の材料が用いられる。具体例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリメチルメタクリレート等のポリ（メタ）アクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリアミド６、ポリアミド６６、ポリアミド１２等のポリアミド、ポリアラミド、ポリスルホン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド等が挙げられる。
【００３５】
高分子基材の形状としては、種々の形状が制限なく使用できるが、板、フィルム、チューブ、ディスク、コンテナ、円柱、多角柱、円錐、多角錐、球、繊維、中空糸、箱型等が挙げられる。また、それらの形状が組み合わされた複雑で、微細な形状の基材であっても、流体が基材表面の浸透性に優れることから制限なく使用できる。
【００３６】
本発明において、フルオロモノマーにより表面修飾される高分子基材の表面厚さは、１〜５００ｎｍが好ましく、２〜１００ｎｍがより好ましく、５〜５０ｎｍが最も好ましい。表面厚さがこの範囲にあると、高分子基材自体の性質を損なわずに高分子基材表面にフルオロポリマーが有する種々の特性を付与できる。
【００３７】
付与される特性としては、撥水發油性、耐候性、非粘着性、防汚性、耐薬品性、低摩擦性、耐摩耗性、高絶縁性等が挙げられる。
【００３８】
本発明の表面修飾方法により表面修飾された高分子基材が得られる。該表面修飾された高分子基材の用途としては、化学薬品接触部材、絶縁部材、摺動部材、耐候性フィルム、等が挙げられる。
【実施例】
【００３９】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明は該実施例により限定されない。
【００４０】
［実施例１］
ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）基材（縦２．０ｃｍ、横０．５ｃｍ、厚さ０．１ｃｍ）をイソプロピルアルコールに浸漬して１５分間超音波洗浄した。該ＰＭＭＡ基材をよく乾燥させた後、２−（パーフルオロオクチル）エチルメタクリレート（ＰＦＯＥＭＡ）の１．０ｇ及びアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）の９．２ｍｇとともに、内容積１０ｍｌの耐圧反応器に入れ、反応器を密閉した。つぎに、反応器を液体窒素で冷却し、ＰＦＯＥＭＡ及びＡＩＢＮを固化させ、真空ポンプにより反応器を脱気した。ついで、反応器にＣＯ２の１０ｇを仕込み、８０℃に昇温した。このとき、圧力は７．４ＭＰａを示した。温度８０℃で１２時間保持した後、反応器を室温まで冷却し、常圧までパージし、反応器を開放した。得られたＰＭＭＡ基材をＣＦ２ＣｌＣＦ２ＣＨＣｌＦ（以下、ＨＣＦＣ−２２５ｃｂという。）で洗浄し、乾燥した。得られたＰＭＭＡ基材の質量は反応前より２４．２ｍｇ増加した。ＸＰＳ測定によってＰＭＭＡ基材表面にフッ素原子が検出されたことから、表面がＰＦＯＥＭＡポリマーで改質されたことが確認された。
【００４１】
［実施例２］
ＣＯ２の代わりにＣＨＦ３の１０ｇを仕込む以外は実施例１と同様の操作を実施した。８０℃での圧力は６．０ＭＰａであった。温度８０℃で保持した時間は５時間であった。得られたＰＭＭＡ基材の質量は反応前より１２．９ｍｇ増加した。ＸＰＳ測定によってＰＭＭＡ基材表面にフッ素原子が検出されたことから、表面がＰＦＯＥＭＡポリマーで改質されたことが確認された。
【００４２】
［実施例３］
基材として、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）基材（縦０．６ｃｍ、横０．６ｃｍ、厚さ０．３ｃｍ）を用い、ＡＩＢＮの０．６ｍｇを使用する以外は、実施例1と同様の操作を実施した。８０℃での圧力は７．４ＭＰａを示した。８０℃で保持した時間は１２時間であった。得られたＨＤＰＥ基材の質量は反応前後で変化しなかったが、基材表面にフッ素原子が検出された。また、基材表面をエッチングすることにより、表面より約２０ｎｍの深さまでフッ素原子が検出され、ＰＦＯＥＭＡポリマーで表面修飾されていることが確認された。得られたＨＤＰＥ基材表面と水との接触角を自動接触角計により測定したところ、１２７度であり、高い撥水性を示した。なお、原料のＨＤＰＥの接触角は８７度であった。
【００４３】
［実施例４］
基材として、実施例３のＨＤＰＥ基材を用い、ＣＯ２の１５ｇを仕込み、ＡＩＢＮの０．６ｍｇを使用する以外は、実施例1と同様の操作を実施した。８０℃での圧力は２０ＭＰａを示した。８０℃で保持した時間は１６時間であった。得られたＨＤＰＥ基材の質量は反応前後で変化しなかったが、基材表面にフッ素原子が検出された。また、基材表面をエッチングすることにより、表面より約２０ｎｍの深さまでフッ素原子が検出され、ＰＦＯＥＭＡポリマーで表面修飾されていることが確認された。ＨＤＰＥ基材表面と水との接触角は、１１０度であり、ポリテトラフルオロエチレンと同等の撥水性を示した。
【００４４】
[実施例５]
ポリカーボネート（ＰＣ）基材（縦０．５ｃｍ、横０．５ｃｍ、厚さ０．１ｃｍ）をイソプロピルアルコールに浸漬し、１５分間超音波洗浄した。該ＰＣ基材をよく乾燥させた後、テトラフルオロエチレン（以下、ＴＦＥという。）０．６ｇ及びＡＩＢＮ４．９ｍｇとともに、内容積１０ｍｌの耐圧反応器に入れ、反応器を密閉した。つぎに、反応器を液体窒素で冷却し、ＴＦＥ及びＡＩＢＮを固化させ、真空ポンプにより反応器を脱気した。ついで、反応器にＣＯ２の１０ｇを仕込み、８０℃に昇温した。このとき、圧力は７．６ＭＰａを示した。温度８０℃で１２時間保持した後、反応器を室温まで冷却し、常圧までパージし、反応器を開放した。得られたＰＣ基材をＨＣＦＣ−２２５ｃｂで洗浄し、乾燥した。ＸＰＳ測定によってＰＣ基材表面にフッ素原子が検出されたことから、表面がポリテトラフルオロエチレン（以下、ＰＴＦＥという）で改質されたことが確認された。また、表面修飾したＰＣ基材表面と水との接触角は、１０１度、ｎ−ヘキサデカンとの接触角は３９度であり、ＰＴＦＥ同等の高い撥水撥油性を示した。
【００４５】
[実施例６]
ＣＯ２の代わりにＣＨＦ３の１０ｇを仕込み、温度４０℃、圧力５．０ＭＰａで３時間維持したのち、反応器を８０℃に昇温させる以外は実施例５と同様の操作を実施した。なお、８０℃での圧力は５．９ＭＰａを示した。また、温度８０℃で保持した時間は６時間であった。
【００４６】
得られたＰＣ基材は、ＸＰＳ測定によってフッ素原子が検出されたことから、表面がＰＴＦＥで改質されたことが確認された。また、得られたＰＣ基材表面と水との接触角は、１１３度、ｎ−ヘキサデカンとの接触角は４６度であり、ＰＴＦＥ同等の高い撥水撥油性を示した。
【００４７】
［比較例１］
実施例３で用いたＨＤＰＥ基材をイソプロピルアルコールに浸漬し、１５分間超音波洗浄した。該ＨＤＰＥ基材をよく乾燥させた後、数平均分子量１０万のポリ２−（パーフルオロオクチル）エチルメタクリレートの１．０ｇとともに内容積１０ｍｌの耐圧反応器に入れ、反応器を密閉した。ついで、真空ポンプにより反応器を脱気した後、ＣＯ２の１０ｇを仕込み、８０℃に昇温した。このとき、圧力は７．４ＭＰａを示した。８０℃で１６時間保持した後、反応器を室温まで冷却し、常圧までパージし、反応器を開放した。得られたＨＤＰＥ基材をＨＣＦＣ−２２５ｃｂで洗浄し、乾燥した。ＨＤＰＥ基材の質量は反応前後で変化しなかった。ＸＰＳ測定によって該ＨＤＰＥ基材表面にフッ素原子が検出されたが、得られたＨＤＰＥ基材表面と水との接触角は８６度であった。この接触角は、反応前のＨＤＰＥ基材と同等であり、表面修飾は不充分であった。
【産業上の利用可能性】
【００４８】
本発明の表面修飾方法によれば、高分子基材自体の特性変化を伴わずに、該基材表面のフルオロモノマーにより修飾することができる。また、本発明の表面修飾方法により得られる、フルオロモノマーにより表面修飾された高分子基材は、撥水發油性、耐候性、非粘着性、防汚性、耐薬品性、低摩擦性、耐摩耗性、高絶縁性等に優れることから、化学薬品接触部材、絶縁部材、摺動部材、耐候性フィルム等の用途として好適である。