(57)【要約】      （修正有）【解決手段】一般式（Ｉ）で示される化合物およびその製造方法。2005015443.tif 000023【効果】一般式（Ｉ）で示される化合物は、医薬品、農薬、ハロゲン化銀感光材料、電子写真、染料などの中間体として用いることができ、窒素原子を含有する化合物、例えばスルホンアミド骨格などを有する化合物の中間体として有用である。例えば、プロスタグランジンＥ２（ＰＧＥ２）受容体に結合活性を有する化合物（特にＥＰ１拮抗薬）の中間体として有用である。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
2005015443.tif 000019
（式中、環Ａはアリール基またはその一部もしくは全部が飽和した環、あるいはヘテロ環基を表わし、Ｒ１はアルキル基、トリフルオロメチル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、トリフルオロメトキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、置換カルボニル基、置換スルホニル基、カルバモイル基、置換カルバモイル基、スルファモイル基、置換スルファモイル基、置換カルボニルアミノ基、置換スルホニルアミノ基、アミノ基、モノまたはジ置換アミノ基、シアノ基、ハロゲン原子またはヘテロ環基を表わし、ｘは０または１〜４の整数を表わし（ｘが２〜４の整数を表わすとき、複数のＲ１は同じでも異なってもよく、また隣接する２つのＲ１が連結して環を形成してもよい。）、Ｒ２はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、水酸基、置換カルボニル基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、置換スルホニル基、カルバモイル基、置換カルバモイル基、スルファモイル基、置換スルファモイル基、シアノ基またはヘテロ環基を表わし、ｙは１〜４の整数を表わし（ｙが２〜４の整数を表わすとき、複数のＲ２は同じでも異なっていてもよく、また隣接する２つのＲ２が連結して環を形成してもよい。）、Ｒ３はアミノ基または置換アゾ基を表わす。）
で示される化合物。
【請求項２】
Ｒ３が一般式（ＩＩ）
【化２】
2005015443.tif 000020
（基中、環Ｂはアリール基またはその一部もしくは全部が飽和した環、あるいはヘテロ環基を表わし、Ｒ４はアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、置換カルボニル基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、置換スルホニル基、カルバモイル基、置換カルバモイル基、スルファモイル基、置換スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子あるいはヘテロ環基を表わし、ｚは０または１〜４の整数を表わす（ｚが２〜４の整数を表わすとき、複数のＲ４は同じでも異なってもよく、また隣接する２つのＲ４が連結して環を形成してもよい。）。）で示される置換アゾ基である請求項１記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ３がアミノ基である請求項１記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ１が（ｉ）Ｃ３〜８アルキル基、トリフルオロメチル基、Ｃ２〜８アルコキシ基、トリフルオロメトキシ基、Ｃ１〜８アルキルチオ基、アリールチオ基もしくはヘテロ環基であるか、（ｉｉ）隣接する２つのＲ１がそれらが結合するベンゼン環と一緒になって形成する環がインダン、インデン、テトラヒドロナフタレン、ジヒドロナフタレン、ナフタレン環であるか、（ｉｉｉ）隣接する２つのＲ１が形成する環が５〜６員のヘテロ環基であるか、または（ｉｖ）隣接する２つのＲ１がそれぞれメチル基であり、
Ｒ２がＣ１〜８アルキル基、Ｃ２〜８アルケニル基、Ｃ２〜８アルキニル基、Ｃ１〜８アルコキシ基、置換カルボニル基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、カルバモイル基または置換カルバモイル基であり、Ｒ４がＣ１〜８アルキル基、Ｃ１〜８アルコキシ基、置換カルボニル基、置換スルホニル基、カルバモイル基、置換カルバモイル基、スルファモイル基、置換スルファモイル基、スルホ基またはハロゲン原子である請求項２記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ１が（ｉ）Ｃ３〜８アルキル基、トリフルオロメチル基、Ｃ２〜８アルコキシ基、トリフルオロメトキシ基、Ｃ１〜８アルキルチオ基、アリールチオ基もしくはヘテロ環基であるか、（ｉｉ）隣接する２つのＲ１がそれらが結合するベンゼン環と一緒になって形成する環がインダン、インデン、テトラヒドロナフタレン、ジヒドロナフタレン、ナフタレン環であるか、（ｉｉｉ）隣接する２つのＲ１が形成する環が５〜６員のヘテロ環基であるか、または（ｉｖ）隣接する２つのＲ１がそれぞれメチル基であり、Ｒ２がＣ１〜８アルキル基、Ｃ２〜８アルケニル基、Ｃ２〜８アルキニル基、Ｃ１〜８アルコキシ基、置換カルボニル基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、カルバモイル基または置換カルバモイル基である請求項３記載の化合物。
【請求項６】
環Ａがフェニル基であり、隣接する２つのＲ１がそれらが結合するベンゼン環と一緒になって形成する環がインダンまたはテトラヒドロナフタレン環であるか、隣接する２つのＲ１がそれぞれメチル基であり、Ｒ２がカルボキシル基、またはＣ１〜８アルキルで置換されたオキシカルボニル基であり、環Ｂがフェニル基であり、Ｒ４がＣ１〜８アルキル基、置換スルホニル基、スルファモイル基、置換スルファモイル基、スルホ基またはハロゲン原子である請求項２記載の化合物。
【請求項７】
環Ａがフェニル基であり、隣接する２つのＲ１がそれらが結合するベンゼン環と一緒になって形成する環がインダンまたはテトラヒドロナフタレン環であるか、隣接する２つのＲ１がそれぞれメチル基であり、Ｒ２がカルボキシル基、またはＣ１〜８アルキルで置換されたオキシカルボニル基である請求項３記載の化合物。
【請求項８】
（１）  ２−クロロ−５−［（６−｛［４−（エトキシカルボニル）ベンジル］オキシ｝−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル）ジアゼニル］ベンゼンスルホネート  ナトリウム塩、
（２）  エチル  ４−｛［（６−アミノ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル）オキシ］メチル｝ベンゾエートまたは
（３）４−［（６−｛［４−（エトキシカルボニル）ベンジル］オキシ｝−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル）ジアゼニル］ベンゼンスルホネートナトリウム塩である請求項１記載の化合物。
【請求項９】
一般式（ＩＩＩ）
【化３】
2005015443.tif 000021
（式中、すべての記号は請求項１および２と同じ意味を表わす。）で示される化合物を還元反応に付すことを特徴とする一般式（ＩＶ）
【化４】
2005015443.tif 000022
（式中、すべての記号は請求項１と同じ意味を表わす。）で示される化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、医薬品、農薬、ハロゲン化銀感光材料、電子写真または染料などの分野において中間体として有用な含窒素化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
窒素原子を含有する化合物は医薬品、農薬、ハロゲン化銀感光材料、電子写真または染料などの分野において有用であり、例えば、一般式（Ａ）
【０００３】
【化５】
2005015443.tif 000002
【０００４】
で示される化合物（特許文献１参照）のうちＺ４Ａがスルホニル基を表わす化合物、一般式（Ｂ）
【０００５】
【化６】
2005015443.tif 000003
【０００６】
で示される化合物（特許文献２参照）はともに窒素原子を含有し、医薬品として有用である。
【０００７】
【特許文献１】
国際公開第９８／２７０５３号パンフレット
【特許文献２】
国際公開第００／７２５６４号パンフレット
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は例えば、スルホンアミド骨格を有する化合物をはじめとする医薬品、農薬、ハロゲン化銀感光材料、電子写真、染料などの分野において有用な中間体である含窒素化合物を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、鋭意検討の結果、医薬品、農薬、ハロゲン化銀感光材料、電子写真、染料などの分野において有用な後記一般式（Ｉ）で示される含窒素化合物を得ることに成功し、本発明を完成した。
【００１０】
すなわち、本発明は
（１）  一般式（Ｉ）
【００１１】
【化７】
2005015443.tif 000004
【００１２】
（式中、環Ａはアリール基またはその一部もしくは全部が飽和した環、あるいはヘテロ環基を表わし、Ｒ１はアルキル基、トリフルオロメチル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、トリフルオロメトキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、置換カルボニル基、置換スルホニル基、カルバモイル基、置換カルバモイル基、スルファモイル基、置換スルファモイル基、置換カルボニルアミノ基、置換スルホニルアミノ基、アミノ基、モノまたはジ置換アミノ基、シアノ基、ハロゲン原子またはヘテロ環基を表わし、ｘは０または１〜４の整数を表わし（ｘが２〜４の整数を表わすとき、複数のＲ１は同じでも異なってもよく、また隣接する２つのＲ１が連結して環を形成してもよい。）、Ｒ２はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、水酸基、置換カルボニル基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、置換スルホニル基、カルバモイル基、置換カルバモイル基、スルファモイル基、置換スルファモイル基、シアノ基またはヘテロ環基を表わし、ｙは１〜４の整数を表わし（ｙが２〜４の整数を表わすとき、複数のＲ２は同じでも異なっていてもよく、また隣接する２つのＲ２が連結して環を形成してもよい。）、Ｒ３はアミノ基または置換アゾ基を表わす。）で示される化合物、
（２）  Ｒ３が一般式（ＩＩ）
【００１３】
【化８】
2005015443.tif 000005
【００１４】
（基中、環Ｂはアリール基またはその一部もしくは全部が飽和した環、あるいはヘテロ環基を表わし、Ｒ４はアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、置換カルボニル基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、置換スルホニル基、カルバモイル基、置換カルバモイル基、スルファモイル基、置換スルファモイル基、スルホ基、シアノ基、ハロゲン原子あるいはヘテロ環基を表わし、ｚは０または１〜４の整数を表わす（ｚが２〜４の整数を表わすとき、複数のＲ４は同じでも異なってもよく、また隣接する２つのＲ４が連結して環を形成してもよい。）。）で示される置換アゾ基である、上記（１）記載の化合物、（３）  Ｒ３がアミノ基である上記（１）記載の化合物、
（４）  Ｒ１が（ｉ）Ｃ３〜８アルキル基、トリフルオロメチル基、Ｃ２〜８アルコキシ基、トリフルオロメトキシ基、Ｃ１〜８アルキルチオ基、アリールチオ基もしくはヘテロ環基であるか、（ｉｉ）隣接する２つのＲ１がそれらが結合するベンゼン環と一緒になって形成する環がインダン、インデン、テトラヒドロナフタレン、ジヒドロナフタレン、ナフタレン環であるか、（ｉｉｉ）隣接する２つのＲ１が形成する環が５〜６員のヘテロ環基であるか、または（ｉｖ）隣接する２つのＲ１がそれぞれメチル基であり、
Ｒ２がＣ１〜８アルキル基、Ｃ２〜８アルケニル基、Ｃ２〜８アルキニル基、Ｃ１〜８アルコキシ基、置換カルボニル基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、カルバモイル基または置換カルバモイル基であり、Ｒ４がＣ１〜８アルキル基、Ｃ１〜８アルコキシ基、置換カルボニル基、置換スルホニル基、カルバモイル基、置換カルバモイル基、スルファモイル基、置換スルファモイル基、スルホ基またはハロゲン原子である上記（２）記載の化合物、
（５）  Ｒ１が（ｉ）Ｃ３〜８アルキル基、トリフルオロメチル基、Ｃ２〜８アルコキシ基、トリフルオロメトキシ基、Ｃ１〜８アルキルチオ基、アリールチオ基もしくはヘテロ環基であるか、（ｉｉ）隣接する２つのＲ１がそれらが結合するベンゼン環と一緒になって形成する環がインダン、インデン、テトラヒドロナフタレン、ジヒドロナフタレン、ナフタレン環であるか、（ｉｉｉ）隣接する２つのＲ１が形成する環が５〜６員のヘテロ環基であるか、または（ｉｖ）隣接する２つのＲ１がそれぞれメチル基であり、Ｒ２がＣ１〜８アルキル基、Ｃ２〜８アルケニル基、Ｃ２〜８アルキニル基、Ｃ１〜８アルコキシ基、置換カルボニル基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、カルバモイル基または置換カルバモイル基である上記（３）記載の化合物、
（６）  環Ａがフェニル基であり、隣接する２つのＲ１がそれらが結合するベンゼン環と一緒になって形成する環がインダンまたはテトラヒドロナフタレン環であるか、隣接する２つのＲ１がそれぞれメチル基であり、Ｒ２がカルボキシル基、またはＣ１〜８アルキルで置換されたオキシカルボニル基であり、環Ｂがフェニル基であり、Ｒ４がＣ１〜８アルキル基、置換スルホニル基、スルファモイル基、置換スルファモイル基、スルホ基またはハロゲン原子である上記（２）記載の化合物、
（７）  環Ａがフェニル基であり、隣接する２つのＲ１がそれらが結合するベンゼン環と一緒になって形成する環がインダンまたはテトラヒドロナフタレン環であるか、隣接する２つのＲ１がそれぞれメチル基であり、Ｒ２がカルボキシル基、またはＣ１〜８アルキルで置換されたオキシカルボニル基である上記（３）記載の化合物、
（８）  ２−クロロ−５−［（６−｛［４−（エトキシカルボニル）ベンジル］オキシ｝−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル）ジアゼニル］ベンゼンスルホン酸  ナトリウム塩、エチル  ４−｛［（６−アミノ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル）オキシ］メチル｝ベンゾエートまたは４−［（６−｛［４−（エトキシカルボニル）ベンジル］オキシ｝−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル）ジアゼニル］ベンゼンスルホン酸  ナトリウム塩である上記（１）記載の化合物、および
（９）  一般式（ＩＩＩ）
【００１５】
【化９】
2005015443.tif 000006
【００１６】
（式中、すべての記号は後記と同じ意味を表わす。）で示される化合物を還元反応に付すことを特徴とする一般式（ＩＶ）
【００１７】
【化１０】
2005015443.tif 000007
【００１８】
（式中、すべての記号は後記と同じ意味を表わす。）で示される化合物の製造方法に関する。
【００１９】
本発明化合物において、環Ａは例えば、フェニル、ナフチルなどのアリール基またはその一部もしくは全部が飽和された環、例えばシクロペンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタンなどのシクロアルカン、シクロヘキセンなどのシクロアルケンなど；フリル、ピロリル、ピペリジル、チエニル、ピリジル、キノリルなどのヘテロ環基を表わす。好ましくはアリールであり、更に好ましくはフェニルである。
【００２０】
Ｒ１、Ｒ２およびＲ４が表わすアルキルとは、例えば、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、イコシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシルなどの直鎖、分岐または環状のＣ１〜２０アルキル基（シクロアルキルによって置換されたアルキルも含む）を表わす。
【００２１】
Ｒ１およびＲ２が表わすアルケニルとは、例えば、ビニル、アリル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル、ヘキサデセニル、ヘプタデセニル、オクタデセニル、ノナデセニル、イコセニル、ヘキサジエニル、ドデカトリエニルなどの直鎖、分岐、または環状のＣ２〜２０アルケニル基を表わす。
【００２２】
Ｒ１およびＲ２が表わすアルキニルとは、例えば、エチニル、ブチニル、ペンチニル、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、ノニニル、シクロオクチニル、シクロノニニル、シクロデシニルなどの直鎖、分岐または環状のＣ２〜２０アルキニル基を表わす。
【００２３】
Ｒ１、Ｒ２およびＲ４が表わすアリールとは、例えば、フェニル、ナフチルなどの５〜１０員の単環式または二環式炭素アリール基を表わす。
【００２４】
Ｒ１、Ｒ２およびＲ４が表わすアルコキシとは、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ドデシルオキシ、オクタデシルオキシなどのＣ１〜２０アルコキシ基を表わす。
【００２５】
Ｒ１、Ｒ２およびＲ４が表わすアリールオキシ基とは、例えば、フェノキシ、ナフチルオキシなどの５〜１０員の単環式または二環式炭素アリールオキシ基を表わす。
【００２６】
Ｒ１が表わすアルキルチオとは、例えば、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、ブチルチオ、ペンチルチオ、ヘキシルチオ、ヘプチルチオ、オクチルチオ、ノニルチオ、デシルチオ、ドデシルチオ、ヘキサデシルチオなどのＣ１〜２０アルキルチオ基を表わす。
【００２７】
Ｒ１が表わすアリールチオとは、例えば、フェニルチオ、ナフチルチオなどの５〜１０員の単環式または二環式炭素アリールチオ基を表わす。
【００２８】
Ｒ１、Ｒ２およびＲ４が表わす置換カルボニル基とは、例えば、Ｃ２〜２０アシル（例えば、アセチル、プロパノイル、ブタノイル、ペンタノイル、ヘキサノイル、ヘプタノイルなど）、ベンゾイル、ナフトイルなどを表わす。
【００２９】
Ｒ１、Ｒ２およびＲ４が表わす置換スルホニル基とは、例えば、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、ブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル、ヘプチルスルホニル、オクチルスルホニル、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニルなどを表わす。
【００３０】
Ｒ１、Ｒ２およびＲ４が表わす置換カルバモイル基とは、例えば、アルキル、アルケニルおよびアリールから選択される１または２個の基によって置換されたカルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジフェニルカルバモイルなど）などを表わす。
【００３１】
Ｒ１、Ｒ２およびＲ４が表わす置換スルファモイル基とは、例えば、アルキル、アルケニルおよびアリールから選択される１または２個の基によって置換されたスルファモイル基（例えば、Ｎ−フェニルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイルなど）などを表わす。
【００３２】
Ｒ１が表わす置換カルボニルアミノ基とは、例えば、Ｃ２〜２０アシルアミノ（例えばアセチルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルカルボニルアミノ、ｎ−ヘキシルカルボニルアミノなど）、ベンゾイルアミノ、ナフトイルアミノなどを表わす。
【００３３】
Ｒ１が表わす置換スルホニルアミノ基とは、例えば、Ｃ２〜２０アルキルによって置換されたスルホニルアミノ（例えば、メチルスルホニルアミノ、ｔｅｒｔ−ブチルスルホニルアミノ、ｎ−オクチルスルホニルアミノなど）、フェニルスルホニルアミノ、ナフチルスルホニルアミノなどを表わす。
【００３４】
Ｒ１が表わすモノもしくはジ置換アミノ基とは、例えば、アルキル、アルケニルおよびアリールから選択される１または２個の基によって置換されたアミノ基（たとえば、Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−フェニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、エチルメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノなど）などを表わす。
【００３５】
Ｒ１およびＲ４が表わすハロゲン原子とは、例えば、フッ素、塩素、臭素またはヨウ素を表わす。
【００３６】
Ｒ１、Ｒ２およびＲ４が表わすヘテロ環基とは、例えば、５〜１０員の単環式またはニ環式の窒素、酸素および硫黄から選択される１〜４個の原子を含有するヘテロ環基を表わし、例えば、チオフェン、フラン、ピラン、ピリジン、ピロール、ピラジン、アゼピン、アゾシン、アゾニン、アゼシン、オキサゾール、チアゾール、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアゾール、テトラゾール、イミダゾール、ピラゾール、モルホリン、チオモルホリン、ピペリジン、ピペラジン、キノリン、イソキノリン、インドール、イソインドール、キノキサリン、フタラジン、キノリジン、キナゾリン、キノキサリン、ナフチリジン、クロメン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェンなどを表わす。
【００３７】
これらの基は更に置換基を有していてもよく、特に限定されない。置換基としては例えば、置換されてもよいアルキル、置換されてもよいアルケニル、置換されてもよいアルキニル、置換されてもよいフェニル、ハロゲン原子、カルボキシル、置換カルボニル、水酸基、アルコキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、アミノ、モノもしくはジ置換アミノ、メルカプト、アルキルチオ、フェニルチオ、置換されてもよいヘテロ環基などが挙げられるが、必ずしもこれらに限定されない。
【００３８】
上記の置換されてもよいアルキル、置換されてもよいアルケニル、置換されてもよいアルキニル、置換されてもよいフェニル、置換カルボニル、置換されてもよいヘテロ環基の置換基としては、特に限定されないが、例えば、アルキル、アルケニル、アルキニル、フェニル、ピリジル、チエニル、フリル、アルコキシ、フェノキシ、ハロゲン原子、メルカプト、アミノ、カルボキシ、アシルなどが挙げられる。
【００３９】
Ｒ２およびＲ４が表わす置換オキシカルボニル基とは、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−デシルオキシカルボニルなどを表わす。
【００４０】
Ｒ３が表わす置換アゾ基とは、一般式（ＩＩ）
【００４１】
【化１１】
2005015443.tif 000008
【００４２】
（基中、すべての記号は前記と同じ意味を表わす。）で示される基を表わす。
【００４３】
一般式（ＩＩ）で示される基において、環Ｂは例えば、アリール基またはその一部もしくは全部が飽和された環およびヘテロ環基を表わす。アリール基およびヘテロ環基は前記の環Ａと同じ意味を表わす。
【００４４】
ｘは０または１〜４の整数を表わす。ｘが２〜４の整数のとき、複数のＲ１は同じでも異なってもよく、また隣接する２つのＲ１がそれらが結合するベンゼン環と一緒になって環を形成してもよい。かかる環として、例えば、インダン、インデン、テトラヒドロナフタレン、ジヒドロナフタレン、ナフタレンなどの炭素環、インドール、イソインドール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、キノリン、イソキノリン、クロメン、クロマン、ベンゾジオキソール、フタラジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリンなどのヘテロ環などが挙げられる。これらの環は更に置換基を有してもよく、特に限定されない。
【００４５】
ｙは１〜４の整数を表わす。ｙが２〜４の整数のとき、複数のＲ２は同じでも異なってもよく、また隣接する２つのＲ２がそれらが結合するベンゼン環と一緒になって環を形成してもよい。かかる環として、例えば、インダン、インデン、テトラヒドロナフタレン、ジヒドロナフタレン、ナフタレンなどの炭素環、インドール、イソインドール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、キノリン、イソキノリン、クロメン、クロマン、ベンゾジオキソール、フタラジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリンなどのヘテロ環などが挙げられる。これらの環は更に置換基を有してもよく、特に限定されない。
【００４６】
ｚは０または１〜４の整数を表わす。ｚが２〜４の整数のとき、複数のＲ４は同じでも異なってもよく、また隣接する２つのＲ４がそれらが結合するベンゼン環と一緒になって環を形成してもよい。かかる環として、例えば、インダン、インデン、テトラヒドロナフタレン、ジヒドロナフタレン、ナフタレンなどの炭素環、インドール、イソインドール、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン、キノリン、イソキノリン、クロメン、クロマン、ベンゾジオキソール、フタラジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリンなどのヘテロ環などが挙げられる。これらの環は更に置換基を有してもよく、特に限定されない。
【００４７】
本発明化合物中、Ｒ１は好ましくは、（ｉ）Ｃ３〜８アルキル基、トリフルオロメチル基、Ｃ２〜８アルコキシ基、トリフルオロメトキシ基、Ｃ１〜８アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環基であり、（ｉｉ）ｘが２であり、かつ隣接する２つのＲ１がそれらが結合するベンゼン環と一緒になってインダン、インデン、ジヒドロナフタレン、テトラヒドロナフタレン、ナフタレンまたは（ｉｉｉ）５〜６員のヘテロ環を形成するか、（ｉｖ）隣接する２つのＲ１がそれぞれメチル基であることが好ましい。更に好ましくは、ｘが２であり、かつ隣接する２つのＲ１が連結してシクロペンテンまたはシクロヘキセン環を形成し、とりわけシクロペンテン環を形成するか、隣接する２つのＲ１がそれぞれメチル基であることが最も好ましい。
【００４８】
Ｒ２は好ましくは、Ｃ１〜８アルキル基、Ｃ２〜８アルケニル基、Ｃ２〜８アルキニル基、Ｃ１〜８アルコキシ基、置換カルボニル基、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、カルバモイル基または置換カルバモイル基であり、更に好ましくはカルボキシル基、またはＣ１〜８アルキルで置換されたオキシカルボニル基である。
【００４９】
Ｒ３中の環Ｂとして好ましくはアリール基であり、更に好ましくはフェニル基である。
【００５０】
Ｒ３はアミノ基または一般式（ＩＩ）で示される置換アゾ基である。好ましくはアミノ基、またはフェニルアゾ、４−メチルフェニルアゾ、α−ナフチルアゾなどの置換アゾ基である。
【００５１】
Ｒ４は好ましくは、Ｃ１〜８アルキル基、Ｃ１〜８アルコキシ基、置換カルボニル基、置換スルホニル基、カルバモイル基、置換カルバモイル基、スルファモイル基、置換スルファモイル基、スルホ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくはＣ１〜８アルキル基、置換スルホニル基、スルファモイル基、置換スルファモイル基、スルホ基、ハロゲン原子である。
【００５２】
【塩】
一般式（Ｉ）で示される化合物には、公知の方法で変換される塩も含まれる。例えば、基中にカルボキシル基、スルホ基やアミノ基を有する化合物には、その塩も含まれる。
【００５３】
ここで塩としては、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、アミン塩、酸付加塩などが挙げられる。
【００５４】
これらの適当な例としては、例えば、アルカリ金属（例えば、カリウム、ナトリウムなど）の塩、アルカリ土類金属（例えば、カルシウム、マグネシウムなど）の塩、アンモニウム（例えば、テトラメチルアンモニウムなど）の塩、有機アミン（例えば、トリエチルアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、シクロペンチルアミン、ベンジルアミン、フェネチルアミン、ピペリジン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン、リジン、アルギニン、Ｎ−メチル−Ｄ−グルカミンなど）などの塩が挙げられる。
【００５５】
適当な酸付加塩としては、例えば、塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、リン酸塩、硝酸塩などのような無機酸塩、または酢酸塩、乳酸塩、酒石酸塩、安息香酸塩、クエン酸塩、メタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩、イセチオン酸塩、グルクロン酸塩、グルコン酸塩などのような有機酸塩が挙げられる。
【００５６】
また、一般式（Ｉ）で示される化合物およびその塩は、公知の方法により溶媒和物に変換することもできる。適当な溶媒和物として、例えば、水、アルコール系の溶媒（例えば、エタノール、メタノール、ベンジルアルコールなど）、エーテル系の溶媒（例えば、ジエチルエーテル、エチルメチルエーテルなど）、エステル系の溶媒（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、ベンゼン系の溶媒（ベンゼン、トルエン、キシレンなど）、ハロゲン系の溶媒（クロロホルム、ジクロロメタンなど）などとの溶媒和物が挙げられる。
【００５７】
実施例化合物および以下の化合物が好ましいが、本発明はこれらに限定されない。
【００５８】
【化１２】
2005015443.tif 000009
【００５９】
【化１３】
2005015443.tif 000010
【００６０】
本発明化合物の製造方法について説明する。
【００６１】
本発明化合物は従来から知られている反応を組み合わせて合成することができる。例えば、フェノール化合物にアゾ基を導入後、アルキル化剤を用いて水酸基をアルキルエーテル化することにより製造することができる。この化合物は更に還元してアミノ基に変換することもできる。以下の反応工程式１にその例を示すが、本発明はこれに限定されない。
【００６２】
【化１４】
2005015443.tif 000011
【００６３】
反応工程式１中、Ｑはハロゲン原子またはメシルオキシ基、トシルオキシ基などの脱離基を表わし、その他の記号は前記と同じ意味を表わす。
【００６４】
前記反応工程式１に基づき、まず前記一般式（Ｉ）において、Ｒ３が置換アゾ基である化合物、すなわち反応工程式１における一般式（ＩＩＩ）で示されるアゾ化合物（以下、アゾ化合物と略記する。）の製造方法について説明する。
【００６５】
出発物質である一般式（Ｖ）で示されるフェノール化合物（以下、フェノール化合物と略記する。）は試薬として種々市販されており、また従来から知られている種々の反応（例えば、新実験化学講座，１４巻，５３４〜５６７頁（１９７７年発行）など）によって調製することができる。
【００６６】
まずこのフェノール化合物にアゾ基を導入する場合、従来から知られているジアゾニウム塩を利用する方法（例えば、Ｒ．Ｂ．Ｗａｇｎｅｒ，“Ｓｙｎｔｈｅｔｉｃ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”（１９５３）；Ｋ．Ｓａｕｎｄｅｒｓ，“Ｔｈｅ  Ａｒｏｍａｔｉｃ  Ｄｉａｚｏ  Ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ”（１９４９）；Ｇ．Ｈｉｌｇｅｔａｇ，“Ｐｒｅｐａｒａｔｉｖｅ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”（１９７２）など）が好ましい。この反応では、まず一般式（ＶＩ）で示される化合物（以下、アミノ化合物と略記する。）からジアゾニウム塩を調製する。アミノ化合物の使用量は、基質であるフェノール化合物１モルに対し、０．５〜３．０モル、好ましくは１．０〜２．０モル、より好ましくは１．１〜１．５モルである。この反応で用いる試薬は亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウムなどの亜硝酸塩類、亜硝酸メチル、亜硝酸エチル、亜硝酸イソペンチルなどの亜硝酸エステル類であり、好ましくは亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウムなどの無機塩である。亜硝酸塩類または亜硝酸エステル類の使用量はアミノ化合物１モルに対し、０．５〜５．０モル、好ましくは０．９〜３．０モル、より好ましくは１．０〜１．５モルである。反応温度は−２０〜１００℃、好ましくは−１０〜３０℃、より好ましくは−５〜５℃である。反応時間は通常０．１〜３．０時間であり、おおよそ０．１〜１．０時間で反応が終了する。
【００６７】
次にフェノール化合物とジアゾニウム塩とのカップリング反応を行うが、フェノール化合物を活性化させる必要がある場合は塩基を用いる。塩基としては限定されないが、通常はカリウム  ｔ−ブトキシド、ナトリウム  ｔ−ブトキシド、ナトリウムエトキシドなどの金属アルコキシド、水素化ナトリウム、金属ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムなどの無機塩基、トリエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ピリジンなどの有機塩基などが用いられる。また、これらの２以上を併用してもよい。好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基であり、より好ましくは水酸化ナトリウム、水酸化カリウムである。塩基の使用量はフェノール化合物１モルに対し、０．５〜１０モルであり、好ましくは０．８〜５．０モル、より好ましくは１．０〜２．０モルである。処理時の温度は−２０〜１５０℃であり、好ましくは−５〜１００℃、より好ましくは０〜３０℃である。処理時間は通常０．１〜１．０時間である。
【００６８】
次に、得られたアゾ化合物は、一般式（ＶＩＩＩ）で示されるアルキル化剤を用いてエーテル化することができる。アルキル化剤としては例えば、塩化アルキル、臭化アルキル、ヨウ化アルキルなどのハロゲン化アルキル、スルホン酸エステル、炭酸エステル、カルボン酸エステルなどの活性エステルなどが挙げられ、好ましくはハロゲン化アルキルまたはスルホン酸エステルが挙げられる。アルキル化剤の使用量はアゾ化合物１モルに対し、０．５〜１０．０モル、好ましくは１．０〜５．０モル、より好ましくは１．１〜２．０モルである。
【００６９】
本反応は通常０℃〜１００℃であり、好ましくは１０〜８０℃、より好ましくは３０〜７５℃で行なうことができ、通常０．１〜５．０時間、特に０．５〜３．０時間で反応が終了する。
【００７０】
Ｒ３がアミノ基である化合物、つまり一般式（ＩＶ）で示されるアミノ化合物（以下、アミノ化合物と略記する。）の製造方法について説明する。
【００７１】
アミノ化合物は上記のアゾ化合物を還元することによって得ることができる。本発明では種々の一般的な還元反応を用いることができる。例えば、亜鉛、錫、アルミニウム、鉄などの金属還元剤を用いる方法、ハイドロサルファイトナトリウムなどの硫酸系還元剤を用いる方法、触媒存在下水素による接触還元法、ヒドラジンを用いる還元法などが挙げられるが、好ましくは硫酸系還元剤による還元または水素接触還元であり、最も好ましくは水素接触還元である。
【００７２】
水素接触還元は、水素圧が通常１０〜１０００ｋＰａ、好ましくは１００〜５００ｋＰａの範囲で、通常０〜１００℃、好ましくは１０〜８０℃、より好ましくは３０〜７５℃の温度で行うことができる。
【００７３】
接触還元に用いる触媒としては例えばパラジウム、白金、ニッケル、ロジウム、ルテニウム、イリジウムなどが挙げられ、特にニッケルが好ましい。該触媒は担持されていてもいなくてもよいが、担持されている場合、その担体はカーボン、アルミナ、シリカ、珪藻土などが挙げられる。これら触媒の使用量は、基質であるアゾ化合物１モルに対し、３〜３０ｗ／ｗ％であり、好ましくは５〜２０ｗ／ｗ％である。反応時間は通常０．５〜１０時間であり、多くの場合０．５〜３．０時間で反応が終了する。
【００７４】
ヒドラジンを用いる還元法においては、鉄またはニッケルと組み合わせることによって行なうことができる。
【００７５】
また、この還元反応は、目的物であるアミノ化合物まで還元してもよいし、一般式（ＩＸ）
【００７６】
【化１５】
2005015443.tif 000012
【００７７】
（式中、すべての記号は前記と同じ意味を表わす。）で示される化合物を反応中間体として単離してもよい。
【００７８】
本発明の各反応は、溶媒中または無溶媒で行なうことができる。溶媒を用いる場合、具体的には、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼンなどの芳香族炭化水素化合物類；例えば、ピリジン、アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどの極性溶媒；例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの酢酸エステル類；例えば、酢酸、プロピオン酸などの有機酸類；例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｔ−ブタノールなどのアルコール類；例えば、塩酸、硫酸などの無機酸類；水など、極性、非極性溶媒を問わずいずれも利用し得る。好ましくは極性溶媒、有機酸類、アルコール類、無機酸類および水であり、より好ましくはアルコール類、無機酸類および水である。これらの溶媒は単独または２種以上の溶媒を混合して用いることができ、混合使用の際の混合比は任意に定めることができる。反応溶媒の使用量は基質である各々の化合物１モルに対し、通常１００〜２０，０００ｍｌの範囲で用いられ、好ましくは５００〜１０，０００ｍｌ、より好ましくは１，０００〜５，０００ｍｌである。
【００７９】
本発明における各反応によって得られた化合物は、反応終了後、必要に応じて中和、抽出、濃縮、除塵濾過、濾過などにより後処理し、更に必要に応じて再結晶、蒸留、カラムクロマトグラフィーによる精製などを行い目的物を得ることもできるが、この工程においても取り出さず次工程に直接使用することができる。
【００８０】
反応終了後、金属触媒を濾過により除去し、通常では水などの貧溶媒を添加し、目的物を結晶として取り出すことができる。目的物が液体または低融点固体の場合は、濃縮または蒸留で目的物を取り出すこともできる。
【００８１】
【実施例】
以下に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。なお、純度の評価は高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣと略記する。）により、目的物の同定は質量分析計（日本電子製ＤＸ−３０３ＨＦ）を用いて行なった。
実施例１
２−クロロ−５−［（６−｛［４−（エトキシカルボニル）ベンジル］オキシ｝−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル）ジアゼニル］ベンゼンスルホネート  ナトリウム塩（Ｉ−２）の合成
【００８２】
【化１６】
2005015443.tif 000013
【００８３】
２−クロロ−５−アミノベンゼンスルホン酸（４０６．２ｇ）の水（６７５ｍｌ）溶液に塩酸（５８２．９ｇ）を２０℃以下で滴下し、次いで亜硝酸ナトリウム（１４７．８ｇ）の水（５１７ｍｌ）溶液を０〜１０℃で滴下し、混合物を３０分間撹拌し、ジアゾニウム塩溶液を調製した。
【００８４】
２５％水酸化ナトリウム水溶液（１１０３．０ｇ）、５−ヒドロキシインダン（Ｉ−１）（２５０．０ｇ）の水（２，２５０ｍｌ）溶液を１０℃以下に冷却し、ここへ先に調製したジアゾニウム塩溶液を０〜１０℃で滴下し、混合物を３０分間攪拌した。次いで無水炭酸ナトリウム（２９６．２ｇ）およびエタノール（１，０００ｍｌ）を順次添加し、５０℃に昇温した。混合物を１時間攪拌し、そこへ４−ブロモメチル安息香酸エチル（４９８．６ｇ）のアセトニトリル（５００ｍｌ）溶液を添加し、５０〜６０℃で１時間攪拌した。反応混合物を冷却し、１５〜２５℃で１時間晶析した。結晶を濾過し洗浄後５０℃で減圧乾燥し、化合物（Ｉ−２）（８３７．４ｇ；収率８３．７％）を得た。
Ｍａｓｓ  ｐｏｓ．ｍ／ｚ  ５３７［Ｍ＋Ｈ］＋；
ＩＲ  ３４５９（ｍ），１７１３（Ｃ＝Ｏ，  ｓ），１６０９（ｓ），１５７８（ｓ），１４８０（ｓ），１４４７（ｓ），  １４０８（ｓ），  １３７０（ｓ），  １２７７（ｓ），  １２０３（ｓ），  １１３０（ｓ），  １１０７（ｓ），  １０６５（ｓ），  １０１７（ｓ），  ９１５（ｓ），  ８７７（ｓ），  ８２６（ｓ），７５４（ｓ）；
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．３３（ｔ，  Ｊ  ＝  ７．２  Ｈｚ  ３Ｈ），  ２．０４（ｄｔ，  Ｊ  ＝  ７．４Ｈｚ，  Ｊ  ＝  １４．８Ｈｚ，  ２Ｈ），  ２．８５（ｔ，  Ｊ  ＝  ７．４  Ｈｚ，  ２Ｈ），  （ｔ，  Ｊ  ＝  ７．４Ｈｚ，  ２Ｈ），  ４．３３（ｑ，  Ｊ  ＝  ７．２Ｈｚ，  ２Ｈ），  ５．４４（ｓ，  ２Ｈ），  ７．２４（ｓ，  １Ｈ），  ７．５３（ｓ，  １Ｈ），  ７．６１（ｄ，  Ｊ  ＝  ８．３Ｈｚ，  １Ｈ），  ７．６７（ｄ，  Ｊ  ＝  ８．２Ｈｚ，  ２Ｈ），  ７．８１（ｄｄ，  Ｊ  ＝  ２．５  ａｎｄ  ８．３Ｈｚ，  １Ｈ），  ８．０２（ｄ，  Ｊ  ＝  ８．２Ｈｚ，  ２Ｈ），  ８．４２（ｄ，  Ｊ  ＝  ２．５Ｈｚ，  １Ｈ）。
実施例２
エチル  ４−｛［（６−アミノ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル）オキシ］メチル｝ベンゾエート（Ｉ−３）の合成
【００８５】
【化１７】
2005015443.tif 000014
【００８６】
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２５０ｍｌ）、実施例１で製造した５−｛５−［４−（エトキシカルボニル）ベンジルオキシ］インダン−６−イル｝アゾ−２−クロロベンゼンスルホン酸ナトリウム（Ｉ−２）（８９．５ｇ）およびラネーニッケル（１２．５ｇ）をオートクレーブに加え、窒素で３回、次いで水素で３回置換し、水素の内圧を０．４ＭＰａに調整した。容器を４０℃に昇温し、水素の減少が認められなくなってから更に１時間反応に付した。反応終了後、触媒を濾別し、濾過残渣をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（８４ｍｌ）で洗浄し、水（１６７ｍｌ）で３０分間晶析後、濾過、洗浄して４０℃で減圧乾燥し、化合物（Ｉ−３）（４２．０ｇ）を得た。ＨＰＬＣによる純度は９８．５％であった。
Ｍａｓｓ  ｐｏｓ．ｍ／ｚ  ３１１［Ｍ＋Ｈ］＋；
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．４０（ｔ，  Ｊ  ＝  ７．２  Ｈｚ，  ３Ｈ），  ２．０１（ｄｔ，  Ｊ  ＝  ７．２Ｈｚ，  Ｊ  ＝  １４．８Ｈｚ，  ２Ｈ），  ２．７９（ｔ，  Ｊ  ＝  ７．６  Ｈｚ，  ４Ｈ），  ３．７２（ｖ，  ２Ｈ），  ４．３８（ｑ，  Ｊ  ＝  ７．２Ｈｚ，  ２Ｈ），  ５．１２（ｓ，  ２Ｈ），６．６５（ｓ，  １Ｈ），  ６．７１（ｓ，  １Ｈ），  ７．５０（ｄ，  Ｊ  ＝  ８．４Ｈｚ，  ２Ｈ），  ８．０５（ｄ，  Ｊ  ＝  ８．０Ｈｚ，  ２Ｈ）。
【００８７】
実施例１と同様の方法で以下のａ〜ｆの化合物を合成することができる。これらの構造を表１に示す。
【００８８】
【化１８】
2005015443.tif 000015
実施例３  ４−［（６−｛［４−（エトキシカルボニル）ベンジル］オキシ｝−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル）ジアゼニル］ベンゼンスルホネート  ナトリウム塩（Ｉ−４）の合成
【００８９】
【化１９】
2005015443.tif 000016
【００９０】
水（１８５ｍｌ）、スルファニル酸（６７．８ｇ）および２５％水酸化ナトリウム水溶液（６６．０ｇ）の混合物を５分間攪拌し、そこへ塩酸（８２．５ｇ）を滴下し、さらに亜硝酸ナトリウム（２８．３ｇ）の水（７４．５ｍｌ）溶液を、３℃以下の温度で滴下し、３０分間撹拌し、ジアゾニウム塩溶液を調製した。
【００９１】
０℃以下に冷却した５−ヒドロキシインダン（５０ｇ）の水（２５０ｍｌ）溶液に水酸化カリウム（１０４．５ｇ）の水（８５ｍｌ）溶液を添加し、５℃以下に冷却した。これに、先に調製したジアゾニウム塩溶液を０〜１０℃で滴下し、３０分間攪拌した。そこへ塩酸（１４１．０ｇ）を滴下し、３℃以下まで冷却して、１時間晶析した。結晶を濾過し洗浄した後、４０℃で減圧乾燥した。残渣のうち３０ｇをエタノール（１５０ｍｌ）、炭酸カリウム（２８．７ｇ）、４−ブロモメチル安息香酸エチル（２２．９ｇ）および水（１５０ｍｌ）と混合し、４５〜５０℃で２時間反応し、０℃まで冷却して、３０分間晶析した。結晶を濾過し洗浄後、４０℃で減圧乾燥し、化合物（Ｉ−４）（３５．９ｇ）を得た。
Ｍａｓｓ  ｐｏｓ．ｍ／ｚ  ５０３［Ｍ＋Ｈ］＋；
１Ｈ  ＮＭＲ  （ＤＭＳＯ−ｄ６）：δ  １．３３  （ｔ，  Ｊ  ＝  ７．２Ｈｚ，  ３Ｈ），  ２．０４  （ｄｔ，  Ｊ  ＝  ７．２Ｈｚ，  Ｊ  ＝  １４．８Ｈｚ，  ２Ｈ），  ２．８５  （ｔ，  Ｊ  ＝  ７．２Ｈｚ  ２Ｈ），  ２．８９  （ｔ，  Ｊ  ＝  ７．２Ｈｚ  ２Ｈ），  ４．３２  （ｑ，  Ｊ  ＝  ６．８Ｈｚ，  ２Ｈ），  ５．４４  （ｓ，  ２Ｈ），  ７．２２  （ｓ，  １Ｈ），  ７．５１  （ｓ，  １Ｈ），  ７．６６  （ｄ，  Ｊ  ＝  ８．４Ｈｚ，  ２Ｈ），  ７．７９  （ｄ，  Ｊ  ＝  ６．８Ｈｚ，  ４Ｈ），  ８．００  （ｄ，  Ｊ  ＝  ７．６Ｈｚ，  ２Ｈ）。
実施例４  エチル  ４−｛［（６−アミノ−２，３−ジヒドロ−１Ｈ−インデン−５−イル）オキシ］メチル｝ベンゾエート（Ｉ−３）の合成
【００９２】
【化２０】
2005015443.tif 000017
【００９３】
実施例３で製造した化合物（Ｉ―４）（１．９ｇ）、水（２０ｍｌ）およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（２０ｍｌ）の混合物に７０℃でハイドロサルファイトナトリウム（４．０ｇ）を添加し、１５分間攪拌した。反応混合物を２０℃に冷却し、水（３０ｍｌ）を滴下して３０分間晶析し、結晶を洗浄後、４０℃で減圧乾燥して化合物（Ｉ−３）（０．８６ｇ）を得た。
【００９４】
【発明の効果】
本発明化合物を提供することにより、医薬品、農薬、ハロゲン化銀感光材料、電子写真、染料、各種添加剤など幅広い分野での有用中間体としての活用が期待できる。
【００９５】
例えば、化合物（Ｉ−３）を用いて前記一般式（Ｂ）で示される化合物のうち、例えば以下の一般式（Ｂ−１）で示される化合物は以下の反応工程式２に示される方法によって製造することができる。もちろん、一般式（Ｂ）中のＲ３ＢやＲ４Ｂは一般式（Ｂ−１）の化合物のようなシクロペンテン環に限定されず、その他の基を有する化合物も同様に製造することができる。
【００９６】
【化２１】
2005015443.tif 000018
【００９７】