(57)【要約】【課題】良好な発光特性を有する蛍光体シートを、簡易かつ低コストに製造する。【解決手段】真空成膜法によって基板に蛍光体層を成膜する蛍光体シートの製造において、気密性を有し、かつ、診断機器と共用のカセッテを用い、カセッテに基板を収容して真空成膜装置に装填し、真空成膜装置において、前記カセッテから基板を取り出して真空成膜法による蛍光体層の成膜を行うことにより、前記課題を解決する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空成膜法によって基板に蛍光体層を成膜する蛍光体シートの製造において、気密性を有し、かつ、診断機器と共用のカセッテを用い、前記カセッテに基板を収容して、このカセッテを真空成膜装置に装填し、真空成膜装置において、前記カセッテから基板を取り出して真空成膜法による蛍光体層の成膜を行い、蛍光体層の成膜を終了した基板を、再度、内部を不活性雰囲気もしくは真空状態とした前記カセッテに収容することを特徴とする蛍光体シートの製造方法。
【請求項２】
前記蛍光体層が蓄積性蛍光体層であり、前記診断機器がコンピューテッドラジオグラフィである請求項１に記載の蛍光体シートの製造方法。
【請求項３】
前記蛍光体層の成膜を終了した後、前記蛍光体層を防湿部材で封止するまでは、前記カセッテに成膜を終了した基板を収容して取り扱う請求項１または２に記載の蛍光体シートの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、蛍光体シート製造の技術分野に属し、詳しくは、吸湿による蛍光体層、特に蓄積性蛍光体層の特性劣化の無い高品質な蓄積性蛍光体シートを、安価かつ簡易に製造できる蛍光体シートの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線、電子線、紫外線等）の照射を受けると、この放射線エネルギーの一部を蓄積し、その後、可視光等の励起光の照射を受けると、蓄積されたエネルギーに応じた輝尽発光を示す蛍光体が知られている。この蛍光体は、蓄積性蛍光体（輝尽性蛍光体）と呼ばれ、医療用途などの各種の用途に利用されている。
【０００３】
一例として、富士写真フイルム社製のデジタルＸ線画像診断システムであるＦＣＲ（Ｆｕｊｉ  Ｃｏｍｐｕｔｅｄ  Ｒａｄｉｏｇｒａｐｈｙ）のように、この蓄積性蛍光体からなる層を有する蓄積性蛍光体シート（輝尽性蛍光体パネルや放射線像変換シートとも呼ばれている  以下、ＩＰとする）を利用するＣＲ（Ｃｏｍｐｕｔｅｄ  Ｒａｄｉｏｇｒａｐｈｙ）が知られている。
ＣＲでは、通常、カセッテと呼ばれる遮光性の専用ケースにＩＰを収容して、人体などの被写体を介してＸ線等を照射することによりＩＰ（その蛍光体層）に被写体の放射線画像を撮影（放射線画像情報を記録）する。撮影後、カセッテを読取装置に装填し、カセッテからＩＰを取り出して、レーザ光等の励起光で２次元的に走査して輝尽発光を生ぜしめ、この輝尽発光光を光電的に読み取って画像信号を得る。次いで、この画像信号に基づいて再生した被写体の放射線画像を、ディスプレイに表示し、および／または、写真感光材料や感熱記録フィルムなどの記録材料等に出力する。
【０００４】
ＩＰは、通常、蓄積性蛍光体の粉末をバインダ等を含む溶媒に分散してなる塗料を調製して、この塗料をガラスや樹脂製のパネル状の支持体に塗布し、乾燥することによって、作成される。
これに対し、特許文献１や特許文献２に示されるように、真空蒸着やスパッタリング等の真空成膜法（気相成膜法）によって、支持体に蓄積性蛍光体層（以下、蛍光体層とする）を形成してなる蛍光体シートも知られている。真空成膜法による蛍光体層は、真空中で形成されるので不純物が少なく、また、蓄積性蛍光体以外のバインダなどの成分が殆ど含まれないので、性能のバラツキが少なく、しかも発光効率が非常に良好であるという、優れた特性を有している。
【０００５】
【特許文献１】
特許第２７８９１９４号公報
【特許文献２】
特開平５−２４９２９９号公報
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
このような真空成膜法による蛍光体シートの特性を劣化させる要因の１つとして、蛍光体層の吸湿が挙げられる。
蓄積性蛍光体、特に、良好な特性を有する真空成膜法で形成されたアルカリハライド系の蛍光体層は、吸湿性が高く、通常（常温／常湿）の環境下であっても、容易に吸湿する。その結果、輝尽発光特性すなわち感度の低下や、蓄積性蛍光体の結晶性の低下（例えば、アルカリハライド系の蓄積性蛍光体であれば、結晶の柱状性の崩壊）による再生画像の鮮鋭性の低下等を生じてしまう。
【０００７】
このような問題点を解決するために、真空成膜法で蛍光体層を成膜するＩＰの製造では、基板に蛍光体層を成膜した後、ＩＰ（蛍光体層を成膜した基板）をガラス板で挟持して、淵（周辺部）を防湿性を有する樹脂等で封止する等、蛍光体層を防湿性の部材で封止することが行われている。
しかしながら、高品質なＩＰを製造するためには、この封止工程が終了するまでは、湿度をコントロールした環境下でＩＰを扱う必要があり、そのため、封止工程を終了するまでのＩＰの取り扱いが困難で、しかも、製造コストが高くなってしまうという問題点がある。
【０００８】
本発明の目的は、前記従来技術の問題点を解決することにあり、吸湿による蛍光体層、特に、蓄積性蛍光体層の特性低下の無い、高品質な蛍光体シートを低コストかつ簡易に製造きる蛍光体シートの製造方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するために、本発明は、真空成膜法によって基板に蛍光体層を成膜する蛍光体シートの製造において、気密性を有し、かつ、診断機器と共用のカセッテを用い、前記カセッテに基板を収容して、このカセッテを真空成膜装置に装填し、真空成膜装置において、前記カセッテから基板を取り出して真空成膜法による蛍光体層の成膜を行い、蛍光体層の成膜を終了した基板を、再度、内部を不活性雰囲気もしくは真空状態とした前記カセッテに収容することを特徴とする蛍光体シートの製造方法を提供する。
【００１０】
このような本発明の蛍光体シートの製造方法において、前記蛍光体層が蓄積性蛍光体層であり、前記診断機器がコンピューテッドラジオグラフィであるのが好ましく、さらに、前記蛍光体層の成膜を終了した後、前記蛍光体層を防湿部材で封止するまでは、前記カセッテに成膜を終了した基板を収容して取り扱うのが好ましい。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の蛍光体シートの製造方法について、添付の図面に示される好適実施例を基に、詳細に説明する。
【００１２】
本発明の蛍光体シートの製造方法は、基板の表面に、真空成膜法によって蛍光体の層を成膜するものである。
本発明は、各種の蛍光体シートの製造に利用可能であるが、以下の説明は、本発明の効果を良好に発現できる好適な一例として、本発明を、基板表面に蓄積性蛍光体の層（以下、蛍光体層とする）を成膜する、蓄積性蛍光体シート（以下、ＩＰ（Ｉｍａｇｉｎｇ  Ｐｌａｔｅ）  とする）の製造に利用した例で行う。
【００１３】
本発明の製造方法においては、気密性を有すると共にＣＲと共用のカセッテを用い、このカセッテに（成膜）基板を収容して、成膜装置にカセッテを装填し、成膜装置においてカセッテから基板を取り出して蛍光体層を成膜した後に、再度、カセッテ内を不活性雰囲気として蛍光体層を成膜した基板（すなわちＩＰ）を収容する。
このような本発明の製造方法においては、上記条件が満たされていれば、製造する蛍光体シートの構成（層構成など）、蛍光体層の成膜方法、防湿部材による蛍光体層の封止方法、さらには、蛍光体層の成膜前における工程には、限定はなく、基本的に、通常の蛍光体シートの製造と同様に行えばよい。
【００１４】
まず、本発明の製造方法で製造する蛍光体シートにおいて、基板には特に限定はなく、蛍光体シートで使用されている各種のものが利用可能である。
一例として、セルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルムなどのプラスチックフィルム；  石英ガラス、無アルカリガラス、ソーダガラス、耐熱ガラス（パイレックスＴＭ等）などから形成されるガラス板；  アルミニウムシート、鉄シート、銅シート、クロムシートなどの金属シートあるいは金属酸化物の被覆層を有する金属シート；  等が例示される。
【００１５】
本発明の製造方法においては、このような基板の表面に、真空成膜法によって蛍光体層を成膜する。
なお、本発明においては、例えば、基板の表面に輝尽発光光をするための反射膜、あるいはさらに、反射膜の上に反射膜を保護するためのバリア膜等を形成し、その上に、蛍光体層を形成してしてもよい。
【００１６】
蛍光体層を形成する蓄積性蛍光体（輝尽性蛍光体）としては、各種のものが利用可能であるが、一例として、特開昭５７−１４８２８５号公報に開示される、一般式「ＭＩ  Ｘ・ａＭＩＩＸ’２  ・ｂＭＩＩＩ  Ｘ’’３  ：ｃＡ」で示されるアルカリハライド系蓄積性蛍光体が好ましく例示される。
（上記式において、ＭＩ  は、Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，ＲｂおよびＣｓからなる群より選択される少なくとも一種であり、ＭＩＩは、Ｂｅ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎ，Ｃｄ，ＣｕおよびＮｉからなる群より選択される少なくとも一種の二価の金属であり、ＭＩＩＩ  は、Ｓｃ，Ｙ，Ｌａ，Ｃｅ，Ｐｒ，Ｎｄ，Ｐｍ，Ｓｍ，Ｅｕ，Ｇｄ，Ｔｂ，Ｄｙ，Ｈｏ，Ｅｒ，Ｔｍ，Ｙｂ，Ｌｕ，Ａｌ，ＧａおよびＩｎからなる群より選択される少なくとも一種の三価の金属であり、Ｘ、Ｘ’およびＸ’’は、Ｆ，Ｃｌ，ＢｒおよびＩからなる群より選択される少なくとも一種であり、Ａは、Ｅｕ，Ｔｂ，Ｃｅ，Ｔｍ，Ｄｙ，Ｐｒ，Ｈｏ，Ｎｄ，Ｙｂ，Ｅｒ，Ｇｄ，Ｌｕ，Ｓｍ，Ｙ，Ｔｌ，Ｎａ，Ａｇ，Ｃｕ，ＢｉおよびＭｇからなる群より選択される少なくとも一種である。また、０≦ａ＜０．５であり、０≦ｂ＜０．５であり、０≦ｃ＜０．２である。）
【００１７】
また、これ以外にも、米国特許第３，８５９，５２７号明細書や、特開昭５５−１２１４２号、同５５−１２１４４号、同５５−１２１４５号、同昭５７−１４８２８５号、同５６−１１６７７７号、同５８−６９２８１号、同５９−７５２００号等の各公報に開示される蓄積性蛍光体も、好ましく例示される。
【００１８】
特に、輝尽発光特性や再生画像の鮮鋭性、さらに、本発明の効果が好適に発現できる等の点で、前記アルカリハライド系蓄積性蛍光体は好ましく例示され、中でも特に、ＭＩ  が、少なくともＣｓを含み、Ｘが、少なくともＢｒを含み、さらに、Ａが、ＥｕまたはＢｉであるアルカリハライド系蓄積性蛍光体は好ましく、その中でも特に「ＣｓＢｒ：Ｅｕ」が、好ましい。
【００１９】
このような蓄積性蛍光体からなる蛍光体層の成膜方法には、特に限定はなく、真空蒸着、スパッタリング、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）等の各種の真空成膜法が利用可能である。
中でも、生産性等の点で真空蒸着が好ましく、特に、蛍光体（母体）成分の材料と、付活剤（賦活剤：ａｃｔｉｖａｔｏｒ）成分の材料とを別々に加熱蒸発させる、多元の真空蒸着が好ましい。例えば、前記「ＣｓＢｒ：Ｅｕ」の蛍光体層であれば、母体成分の材料として臭化セシウム（ＣｓＢｒ）を、付活剤成分の材料として臭化ユーロピウム（ＥｕＢｒｘ  （ｘは、通常、２〜３））を、それぞれ用いて、別々に加熱蒸発させる、多元の真空蒸着が好ましい。
【００２０】
真空蒸着における加熱方法にも、特に限定はなく、例えば、電子銃等を用いる電子線加熱でも、抵抗加熱でもよい。さらに、多元の真空蒸着を行う場合には、全ての材料を同様の同じ加熱手段（例えば、電子線加熱）で加熱蒸発してもよく、あるいは、母体成分の材料は電子線加熱で、微量である付活剤成分の材料は抵抗加熱で、それぞれ加熱蒸発してもよい。
成膜条件にも、特に限定はなく、利用する成膜方法や形成する蛍光体層の組成等に応じて、適宜、決定すればよい。また成膜中には、基板の加熱等によって、成膜中に、形成された蛍光体層を加熱してもよい。
さらに、成膜速度や蛍光体層の厚さにも特に限定はなく、成膜方法や形成する蛍光体層に応じて、最適な速度や厚さを適宜設定すればよい。
【００２１】
なお、良好な柱状結晶構造を有し、優れた輝尽発光特性を得られる蛍光体層を成膜できる好適な一例として、全ての成膜材料を抵抗加熱で加熱／蒸発させる多元の真空蒸着を利用し、成膜系内（真空チャンバ内）を７×１０−３Ｐａ以下の真空度とした後に、排気状態を維持したままアルゴンガス、ネオンガス、窒素ガス等の不活性ガスを導入して真空系内の真空度を０．０１Ｐａ〜５Ｐａ、好ましくは０．１Ｐａ〜２Ｐａとして、抵抗加熱を用いた真空蒸着による成膜を行う方法が例示される。
【００２２】
図１に、本発明のＩＰの製造方法を実施するＩＰ製造装置の一例を概念的に示す。
図１に示すＩＰ製造装置１０は、抵抗加熱を用いる真空蒸着によって基板Ｓに蛍光体層を成膜するＩＰの製造装置であって、基本的に、カセッテ１２と、真空蒸着装置１４とを有して構成される。
【００２３】
カセッテ１２は、一例として、図２の概念図に示すように、基板Ｓを収容する一部が開放する筐体１６と、筐体１６の開放部を閉塞する開閉自在な蓋体１８とを有して構成される、遮光性を有し、かつ、パッキン等を用いた公知の方法で内部を気密に閉塞可能な容器である。後に詳述するが、このカセッテ１２は、ＣＲにおいてＩＰを収容するカセッテ（例えば、後述する図４に示す、読取装置５０に装填されるカセッテＣ）と共用される。
カセッテ１２の蓋体１８は、閉塞時には不要に開放しないように公知の方法で固定（ロック）され、蓋体１８には、ロック解除用のノブ２０が設けられる。また、ＣＲにおいては、放射線画像を管理するためにＩＰにＩＤ情報等を示すバーコードが付されるが、蓋体１８には、このＩＰのバーコードを読み取るための透明な窓部２２が設けられる。
【００２４】
真空蒸着装置１４は、蛍光体成分の成膜材料と付活剤成分の成膜材料とを別々に加熱蒸発させる二元の真空蒸着によって、基板Ｓに蛍光体層を成膜してＩＰを製造する装置であって、カセッテ１２が装填される装填部２８と、基板Ｓのロード／アンロード機構３０と、真空チャンバ３１と、真空チャンバ３１に配置される基板回転機構３４、蛍光体蒸発部３６、および付活剤蒸発部３８とを有して構成される。
なお、真空蒸着装置１４は、装填部２８およびロード／アンロード機構３０を有する以外は、基本的に、公知の抵抗加熱による二元（多元）の真空蒸着装置である。
【００２５】
蛍光体層を成膜される基板Ｓを収容したカセッテ１２は、蓋体１８側を先にして、真空蒸着装置１４の装填部２８に装填される。装填部２８は、外部に対して気密にカセッテ１２を装填すると共に、気密状態を保ちつつ開閉するシャッタ２８ａを有する。
なお、本発明の製造方法においては、基板Ｓを収容する際にも、カセッテ１２の内部にアルゴンガス等を導入して不活性雰囲気とするのが好ましい。あるいは、基板Ｓを収容したカセッテ１２内を排気して、真空状態として真空蒸着装置１４に装填してもよい。
【００２６】
ロード／アンロード機構３０は、カセッテ１２が所定位置に装填され、装填部２８がカセッテ１２の蓋体１８を開放すると、筐体１６から基板Ｓを取り出して基板保持／回転機構３４（ターンテーブル４２）に装着し、成膜を終了した基板Ｓ（すなわちＩＰ）をターンテーブル４２から取り外し、再度、カセッテ１２に収容するものであり、図３（Ａ）に模式的に示すように、爪部３２ａによって位置を規定して基板Ｓ（成膜後のＩＰ）を載置する２本のアーム３２を利用するものである。
【００２７】
具体的には、図３（Ｂ）に示すように、基板Ｓを収容するカセッテ１２が装填部２８に装填されると、装填部２８がカセッテ１２の蓋体１８を開放し、さらに、シャッタ２８ａを開放する。次いで、ロード／アンロード機構３０がアーム３２をカセッテ１２に向かって移動して、先端部の爪部３２ａを有する領域（以下、載置領域とする）をカセッテ１２内に挿入し、この載置領域のアーム３２上に基板Ｓを載置する。
次いで、図３（Ｃ）に示すように、ロード／アンロード機構３０は、アーム３２を先と逆方向に移動して、載置領域（基板Ｓ）をターンテーブル４２の下部に移動し、ターンテーブル４２の所定位置に基板Ｓを装填する。なお、アーム３２が装填部２８から退避したら、装填部２８はシャッタ２８ａを閉塞する。
基板Ｓを装填すると、ロード／アンロード機構３０はアーム３２を成膜系内から退避させ、後述するように基板Ｓの表面に蛍光体層の成膜が行われる。
【００２８】
成膜を終了すると、図３（Ｃ）に示すように、ロード／アンロード機構３０はアーム３２の載置領域を、再度、ターンテーブル４２の下部に移動し、成膜を終了した  基板Ｓ（ＩＰ）を取り外してアーム３２に載置し、カセッテ１２方向に移動して、図３（Ｂ）に示すように、再度、カセッテ１２内に収容する。
ロード／アンロード機構３０が、アーム３２を逆方向に移動して装填部２８から退避させると、装填部２８は、シャッタ２８ａを閉塞して、さらに、カセッテ１２の蓋体１８を閉塞する。なお、装填部２８は、蓋体１８を閉塞する前（ＩＰを収容する前でも後でも可）に、カセッテ１２内に窒素ガス、アルゴンガス、ネオンガスなどを充填して、カセッテ１２の内部を不活性（ガス）雰囲気とする。あるいは、カセッテ１２の内部を不活性雰囲気とするのに変えて、内部を真空としてもよい。但し、簡易性の点で不活性雰囲気とする方が有利である。
【００２９】
なお、ＩＰ製造装置１０において、カセッテ１２の蓋体１８の開放／閉塞（開蓋機構）、ターンテーブル４２への基板Ｓの装着／取り外し、カセッテ１２内の不活性雰囲気化などは、特開２００２−２５０９８０号などの各公報に開示される手段、ＦＣＲなどの各種のＣＲシステムで実用されている手段、各種の真空蒸着装置で実用されている基板のロード／アンロード手段、ガス導入などの各種の雰囲気コントロール手段など、公知の方法を利用すればよい。
さらに、カセッテ１２（筐体１６）からの基板Ｓの取り出しおよびカセッテ１２へのＩＰの収容（枚葉機構）も、図示例のようにアーム３２を利用するものにに限定はされず、各種の機構が利用可能である。
【００３０】
真空チャンバ３１は、鉄、ステンレス、アルミニウム等で形成される、真空蒸着装置で利用される公知の真空チャンバ（ベルジャー、真空槽）である。
真空チャンバ３１には、図示しない真空ポンプが接続される。真空ポンプは、油拡散ポンプ等の公知のものを利用すればよく、また、補助として、クライオコイル等を併用してもよい。さらに、真空チャンバ３１は、アルゴンガスや窒素ガス等のガス導入手段を有する。
【００３１】
基板保持／回転機構３４（以下、回転機構３４とする）は、基板Ｓを保持して、所定の速度で回転するものであり、回転駆動源４０ａと係合する回転軸４０と、ターンテーブル４２とから構成される。
ターンテーブル４２は、上側の本体４４と下側（両蒸発部側）のシースヒータ４６とからなる円板で、その中心に、回転軸２８が固定される。ターンテーブル４２は、下面（シースヒータ４６の下面）の所定位置に基板Ｓを保持して、回転駆動源２０ａによって所定速度で回転される。また、シースヒータ４６は、基板Ｓを加熱することにより、基板Ｓおよび成膜された蛍光体層を加熱する。
なお、基板Ｓは、マスクを兼ねるホルダや治具等を用いた公知の方法で、成膜面を下方に向けてターンテーブル４２に保持すればよい。
【００３２】
回転機構３４の下方には、蛍光体蒸発部３６および付活剤蒸発部３８が配置される。
両蒸発部は、共に、成膜材料を収容する真空蒸着加熱源となるルツボ、ルツボに通電する抵抗加熱用電源等を有する、抵抗加熱による真空蒸着装置に配置される公知の成膜材料の加熱／蒸発手段である。なお、ルツボは、ボート型やチムニー型などの公知の抵抗加熱用ルツボでよく、また、抵抗加熱用の電源も、サイリスタ方式や熱電対フィードバック方式等、抵抗加熱装置で用いられる各種の方式が利用可能である。さらに、抵抗加熱を行う際の出力にも特に限定はなく、使用する成膜材料、ルツボの形成材料の抵抗値や発熱量等に応じて、適宜、設定すればよい。
【００３３】
前述のように、図示例のＩＰ製造装置１０は多元の真空蒸着によって蛍光体層を成膜するものである。例えば、前述のＣｓＢｒ：Ｅｕからなる蛍光体層を成膜する際には、蛍光体成分の成膜材料として臭化Ｃｓ（ＣｓＢｒ）を蛍光体蒸発部３６のルツボに収容し、付活剤成分の成膜材料として臭化ユーロピウム（ＥｕＢｒｘ  （ｘは、通常、２〜３））を付活剤蒸発部３８のルツボに収容して、抵抗加熱による加熱／蒸発を行う。
【００３４】
図示例のＩＰ製造装置１０においては、前述のようにしてロード／アンロード機構３０がターンテーブル４２に基板Ｓを装着すると、必要に応じて不活性ガスを導入して、真空チャンバ１２内を所定の真空度として、ターンテーブル４２を所定速度で回転しつつ、蛍光体蒸発部３６および付活剤蒸発部３８で各成膜材料を抵抗加熱して蒸発させ、基板Ｓに蛍光体層の成膜を行う。
成膜を終了すると、前述のように、ロード／アンロード機構３０がＩＰ（蛍光体層を成膜された基板Ｓ）をターンテーブル４２から取り外してカセッテ１２に収容し、かつ、装填部２８が、カセッテ１２の内部を不活性雰囲気として蓋体１８を閉塞する。
【００３５】
この後、例えば、操作者によってカセッテ１２がＩＰ製造装置１０から取り外され、保管場所や次工程に搬送される。なお、カセッテ１２は気密性を有するので、ＩＰ製造装置１０からカセッテ１２を取り外しても、内部（すなわちＩＰの存在環境）は、不活性雰囲気に保たれており、吸湿によるＩＰの劣化を防ぐことができる。
【００３６】
ここで、本発明の製造方法においては、カセッテ１２は、このような蛍光体層の成膜のみに用いられるのではなく、ＣＲにおいてＩＰを収容する、いわゆるＣＲのカセッテとしても用いられる。すなわち、本発明においては、ＣＲとＩＰの製造とで、カセッテを共用する。
【００３７】
富士写真フイルム社製のデジタルＸ線画像診断システムであるＦＣＲ（Ｆｕｊｉ  Ｃｏｍｐｕｔｅｄ  Ｒａｄｉｏｇｒａｐｈｙ）など、各種のＣＲ（コンピューテッドラジオグラフィ（Ｃｏｍｐｕｔｅｄ  Ｒａｄｉｏｇｒａｐｈｙ））においては、適正な放射線画像を得るためには、ＩＰの蛍光体層への不要な放射線エネルギの蓄積記録（いわゆるカブリ）や、放射線画像の撮影によって蛍光体層に蓄積記録した放射線エネルギの不要な励起による放出（不要な輝尽発光）を防止する必要がある。
そのため、ＣＲでは、放射線画像の撮影から放射線画像の読み取りを終了するまで、カセッテと呼ばれる専用の遮光性容器に収容してＩＰを取り扱う（ハンドリングする）システムが多い。
【００３８】
すなわち、ＩＰを所定のカセッテに収容して、カセッテに収容したまま撮影装置の所定位置に装填して、カセッテを介してＩＰに放射線画像の撮影を行う。
撮影を終了したら、ＩＰをカセッテから取り出すことなく、図４に示すようなＩＰ（放射線画像）の読取装置５０の所定位置に、撮影済のＩＰを収容したカセッテ（図中、符号Ｃで示す）を装填する。読取装置５０は、カセッテＣを開放して、例えばフィードローラ（図示省略）を用いる枚葉機構でＩＰを取り出して、搬送ローラ対５２およびベルトコンベア５４によってＩＰを副走査方向（図中矢印ａ方向）に搬送する。
ＩＰを所定の読取位置に搬送した時点で、搬送を続けつつ、ＩＰに励起光を照射して、記録された放射線画像の読み取りを開始する。すなわち、図示例においては、光源５６が出射した励起光Ｌを、ミラー５８で所定方向に反射して、光偏向器６０で副走査方向と直交する主走査方向に偏向し、ｆθレンズ６０を通過させてミラー６４で反射して、ＩＰに入射する。ＩＰの励起光Ｌの入射位置からは、記録された放射線画像に応じた輝尽発光光が生じる。この輝尽発光光を、励起光入射位置の近傍に配置したラインセンサ６６によって光電的に読み取ることにより、ＩＰの放射線画像を読み取る。ここで、励起光Ｌは主走査方向に偏向され、かつ、ＩＰはベルトコンベア５４等によって主走査方向と直交する副走査方向（矢印ａ方向）に搬送されているので、ＩＰは励起光Ｌによって２次元的に全面を走査され、放射線画像を読み取られる。ベルトコンベア５４は、読み取りを終了したＩＰをさらに搬送して、副走査方向の下流に配置される消去光源６８がＩＰに消去光を照射して、残存する放射線画像を消去する。
ＩＰの読み取りおよび消去が終了すると、ベルトコンベア５４および搬送ローラ５２は、ＩＰを副走査方向と逆方向に搬送してカセッテＣ内に戻し、カセッテＣを閉塞する。読み取りを終了したＩＰを収納したカセッテＣは、オペレータによって読取装置５０から取り外され、ＩＰは、カセッテＣに収納されたまま取り扱われ、次の撮影に供される。
【００３９】
前述のように、真空成膜法で成膜される蓄積性蛍光体、特に前述の各種の蓄積性蛍光体、中でも特に前記アルカリハライド系蓄積性蛍光体、その中でも前記ＣｓＢｒ：Ｅｕは、吸湿性が高く、容易に吸湿して特性が劣化してしまう。そのため、通常は、蛍光体層を防湿部材で封止し、水分との接触を防止する。
従って、適正な特性を有するＩＰを製造するためには、蛍光体層を成膜した後、防湿部材で封止するまでの間は、蛍光体層が存在する環境を極低湿度とする必要があり、不活性雰囲気中や真空中でＩＰを取り扱う必要がある。
【００４０】
本発明においては、気密性を有するカセッテを用い、ＣＲにおいてＩＰを収容するカセッテ（すなわち、図４に示すカセッテＣ）と、蛍光体層を成膜される基板Ｓを収容して成膜装置に供給し、かつ、蛍光体層を成膜した後のＩＰを収容するカセッテ（すなわち、図１等のカセッテ１２）とを共用する。
従って、本発明によれば、ＩＰを使用するＣＲにおいて必須の要素であるカセッテを、ＩＰを製造する設備でも利用することにより、ＩＰの製造コストを低減できる。しかも、気密性を有するカセッテを用い、かつ、カセッテ内を不活性雰囲気（もしくは真空）として蛍光体層を成膜したＩＰをカセッテに収容するので、良好な作業性を確保した上で、吸湿による劣化の無い、特性が良好な高品質のＩＰを安定して製造できる。さらに、通常の成膜設備では、大気による真空チャンバ内の汚染防止、雰囲気や真空度を維持した状態での基板の装填や取り外し等を行うために、真空チャンバに連接してサブチャンバを設ける必要があるが、本発明によれば、カセッテをサブチャンバとして作用させることができるので、サブチャンバを不要として設備コストを低減でき、この点でも、ＩＰのコストを低減できる。
【００４１】
ここで、本発明においては、成膜工程のみならず、蛍光体層を成膜した後、蛍光体層を防湿部材で封止するまでは、ＩＰをカセッテ１２に収容して取り扱うのが好ましい。
前述のように、真空成膜による蓄積性蛍光体は吸湿性を有するので、通常は、蛍光体層を成膜した後、防湿部材で封止する。また、真空成膜によるＩＰの製造においては、蛍光体層を形成した後、輝尽発光特性の向上等を目的として、防湿部材による封止に先立ち、蛍光体層の加熱処理（アニール処理）を行うのが好ましい。さらに、適正品質の製品を安定して製造するために、加熱処理工程以降に検査工程を組み込む場合も場合もある。
当然のことであるが、防湿部材で封止するまでは、吸湿による蛍光体層の劣化を生じる可能性がある。しかしながら、気密性を有し、かつ、内部を不活性雰囲気とされたカセッテ１２を用いてＩＰを取り扱うことにより、成膜〜封止終了までの吸湿による蛍光体層の劣化を好適に防止することができる。
【００４２】
この際においては、加熱処理装置や封止装置等の各設備においても、前述のＩＰ製造装置１０のように、カセッテ１２を所定の位置に装填した時点で、自動的に、蓋体１８を開放してＩＰを取り出し、不活性雰囲気で所定の処理を行い、処理後のＩＰを、再度、カセッテ１２に収容して蓋体１８を閉塞するようにするのが好ましい。また、より好ましくは、封止工程よりも前の工程においては、カセッテ１２の内部を不活性雰囲気（あるいは真空）として、処理後のＩＰを収容するのが好ましい。
なお、これらの機構は、先のＩＰ製造装置１０で例示した各種の方法を利用すればよい。
【００４３】
一例として、図５に示す封止装置７０のように、先のＩＰ製造装置１０（成膜装置１４）と同様の蓋体１８の開蓋機構およびシャッタ７２ａを有する装填部７２にカセッテ１２を装填すると、先と同様にして、装填部７２がシャッタ７２ａを開放して、カセッテ１２からＩＰを取り出し、搬送ローラ群７４によって搬送し、次いで、ニップロール７６およびラミネートロール７８によって挟持搬送し、さらに、搬送ローラ群８０によって搬送する。なお、装填部７２を含んで、封止装置７０の内部は、不活性雰囲気となっている。
ここで、ラミネートロール７８には、防湿部材を積層する長尺なラミネートシート８２が巻き掛かっており、ニップロール７６およびラミネートロール７８によって挟持搬送する際に、ＩＰ（蛍光体層）の表面に防湿部材を積層し、全面を封止する。
ＩＰの全面を防湿部材で封止したら、ニップロール７６およびラミネートロール７８による挟持状態を開放して、搬送ローラ群７４および搬送ローラ群８０によって逆方向にＩＰを搬送して、装填部７２において、ＩＰをカセッテ１２内に収容して、シャッタ７２ａを閉塞し、カセッテ１２の蓋体１８を閉塞する。
【００４４】
蛍光体層の加熱処理は、特に限定はないが、５０℃〜６００℃、特に１００℃〜３００℃で、１０分〜１０時間、特に３０分〜３時間行うのが好ましい。
さらに、蛍光体層の封止は、光透過性で、かつ、非透湿性の防湿部材を用い、ＩＰを板状の防湿部材で挟んで淵（周辺部）を防湿性を有する樹脂等で封止する方法、非透湿性のフィルムで蛍光体層を覆う方法等が例示される。防湿部材としては、ガラス板、ポリエチレンテレフタレートやポリカーボネートなどの樹脂フィルム、樹脂フィルムにＳｉＯ２  、Ａｌ２  Ｏ３  、ＳｉＣなどの無機物質を積層したもの等が例示される。
【００４５】
以上、本発明の蛍光体シートの製造方法について説明したが、本発明は上述の例に限定はされず、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、各種の改良や変更を行ってもよいのは、もちろんである。
例えば、図示例は、蓄積性蛍光体シートの製造を行うものであるが、本発明はこれに限定はされず、シンチレータ等の蛍光体層を有する各種の蛍光体シートの製造に利用可能である。また、図示例では、蛍光体シートの製造に用いるカセッテを、ＣＲと共用したが、これ以外にも、製造時に気密性を必要とする診断機器、例えば、カセッテ型のＦＰＤ（フラットパネルディテクタ）について、製造用のカセッテと、ＦＰＤの読取装置用のカセッテを共用するようにしてもよい。
【００４６】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明の蓄積性蛍光体シートの製造方法によれば、吸湿による蓄積性蛍光体層の特性低下の無い、高品質な蓄積性蛍光体シートを低コストかつ簡易に製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の蓄積性蛍光体シートの製造方法を実施するＩＰ製造装置の一例の概念図である。
【図２】本発明の蓄積性蛍光体シートの製造方法に利用されるカセッテの一例の概念図である。
【図３】（Ａ），（Ｂ）および（Ｃ）は、図１に示されるＩＰ製造装置における基板装填／取り外しを説明するための概念図である。
【図４】蓄積性蛍光体シートに撮影された放射線画像を読み取る読取装置の一例の概念図である。
【図５】蓄積性蛍光体シートの製造に利用される封止装置の一例の概念図である。
【符号の説明】
１０  ＩＰ製造装置
１２  カセッテ
１４  成膜装置
１６  筐体
１８  蓋体
２０  ノブ
２２  窓部
２８，７２  装填部
３０  ロード／アンロード機構
３１  真空チャンバ
３２  アーム
３４  （基板保持／）回転機構
３６  蛍光体蒸発部
３８  付活剤蒸発部
４０  回転軸
４２  ターンテーブル
４４  本体
４６  シースヒータ
５０  読取装置
５２  搬送ローラ対
５４  ベルトコンベア
５６  光源
５８，６４  ミラー
６０  光偏向器
６２  ｆθレンズ
６６  ラインセンサ
７０  封止装置
７４，８０  搬送ローラ群
７６  ニップローラ
７８  ラミネートローラ
８２  ラミネートシート
Ｓ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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