(57)【要約】【課題】  良好な感光特性を有し、かつ従来にない柔軟性に富んだ良好な硬化樹脂特性を有する感光性樹脂組成物と、この感光性樹脂組成物を用いることによって良好な硬化樹脂特性を有するパターンの層を、従来の有機溶剤現像ではなく、安価なアルカリ水溶液現像にて行えるパターン形成方法を提供し、さらに、前記良好な硬化樹脂特性をバッファーコート膜、層間絶縁膜等として有する半導体デバイスを提供する。【解決手段】  酸性官能基もしくはその誘導置換基を有する耐熱性重合体またはその前駆体からなるポリマー成分（Ａ）と、主骨格部にアミド結合を有し、かつ光反応により酸を発生する光反応性化合物（Ｂ）と、溶媒（Ｃ）とを含有してなる組成物を、感光性樹脂組成物として用いる。【選択図】      なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸性官能基もしくはその誘導置換基を有する耐熱性重合体またはその前駆体からなるポリマー成分（Ａ）と、主骨格部にアミド結合を有し、かつ光反応により酸を発生する光反応性化合物（Ｂ）と、溶媒（Ｃ）とを含有してなる感光性樹脂組成物。
【請求項２】
前記光反応性化合物（Ｂ）が、光反応によりカルボキシル基を発生させる化合物であることを特徴とする請求項１記載の感光性樹脂組成物。
【請求項３】
前記ポリマー成分（Ａ）を構成する重合体における酸性官能基が、カルボキシル基またはフェノール性水酸基であることを特徴とする請求項１または２記載の感光性樹脂組成物。
【請求項４】
前記ポリマー成分（Ａ）が、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール前駆体もしくはそれらの共重合体、またはそれらの混合物であることを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物を支持基板上に塗布し乾燥する工程と、前記乾燥後の感光性樹脂膜を露光する工程と、前記露光後の感光性樹脂膜をアルカリ水溶液を用いて現像する工程と、前記現像によって得られたパターンを加熱処理する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。
【請求項６】
請求項５に記載の製造法により得られたパターンの層を有してなることを特徴とする電子デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐熱性の感光性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法に関し、さらに、前記組成物を用いて形成したバッファーコート膜、層間絶縁膜等のパターン膜を有する半導体デバイスにも関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体工業にあっては、層間絶縁膜には無機材料が用いられていたが、近年、この層間絶縁材料として、ポリイミド樹脂等のような耐熱性に優れた有機物が、その特性を活かして使用されてきている。
【０００３】
周知のように、半導体集積回路やプリント基板上の回路パターン形成は、基材表面へのレジスト材の造膜、所定箇所への露光、エッチング等により不要箇所の除去、基板表面の洗浄作業等の煩雑で多岐に亘る工程を経てパターン形成が行われる。そのため、かかる分野では、露光、現像によるパターン形成後も必要な部分のレジストを絶縁材料としてそのまま残して用いることができる耐熱感光材料の開発が望まれている。そうした要求に対して、最近では、半導体製造プロセス短縮のために、樹脂自体に感光性を付与することにより、塗布、露光、現像により容易にパターン形成を可能とするに至っている。そのような樹脂としては、感光性ポリイミド、ポリベンゾオキサゾールが主流となりつつある。
【０００４】
前記感光性ポリイミドは、従来、有機溶媒を現像液とし，露光部を不溶化するネガ型が主流であり、例えば、ポリイミド前駆体の酸官能基に対し、感光性基を有する化合物を付加もしくは混合する方法（特許文献１）などが、光架橋反応によりコントラストを作り出すネガ型の感光性ポリイミドとして提案されている。
【０００５】
一方、前記ポリベンゾオキサゾールの使用は、最近、材料コストや環境保全の点からアルカリ水溶液現像の要求が高まって来ていることによるものである。これまでの技術として，感光剤をナフトキノンジアジド化合物として，酸官能基を有するポリベンゾオキサゾール前駆体をベース樹脂にしたもの（特許文献２）などが、提案されている。
【０００６】
しかしながら、こうした感光性樹脂では、現像特性を向上させるためには、溶解性を高めるべく低い分子量にて重合体を作成する必要がある。このように低い分子量の重合体は、硬化しても十分な機械特性が得られず、樹脂としての望ましい特性が失われてしまう。また、感光性樹脂には感光性を付与するために多くの配合物を添加する必要がある。十分な硬化樹脂特性を維持するためにはこれら配合物においても耐熱感光材料としての注意を払う必要があり、添加される組成物としては良好な感光特性ならびに硬化樹脂特性を付与しうる化合物であることが望まれる。この場合に、従来の技術、例えば前述のポリベンゾオキサゾール前駆体をベース樹脂にしたもの（特許文献２）では、芳香族フェノール骨格を有する感光剤を相当量含有するため硬化樹脂特性への影響が懸案され、その骨格構造としては、芳香族、４級炭素のみからなる剛直なものが多く、またその種類は限定的であった。
【０００７】
【特許文献１】特開昭５４−１０９８２８号公報
【特許文献２】特公平１−４６８６２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、前記従来の事情に鑑みてなされたもので、その課題は、良好な感光特性を有し、かつ従来にない柔軟性に富んだ良好な硬化樹脂特性を有する感光性樹脂組成物を提供することにある。
また、本発明の他の課題は、前記良好な硬化樹脂特性を有するパターンの層を、従来の有機溶剤現像ではなく、安価なアルカリ水溶液現像にて行えるパターン形成方法を提供することにある。
さらに、本発明の他の課題は、前記良好な硬化樹脂特性をバッファーコート膜、層間絶縁膜等として有する半導体デバイスを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、前記課題を解決するためになされたもので、その特徴は、次各項のものに要約することができる。
［１］  酸性官能基もしくはその誘導置換基を有する耐熱性重合体またはその前駆体からなるポリマー成分（Ａ）と、主骨格部にアミド結合を有し、かつ光反応により酸を発生する光反応性化合物（Ｂ）と、溶媒（Ｃ）とを含有してなる感光性樹脂組成物。
［２］  前記光反応性化合物（Ｂ）が、光反応によりカルボキシル基を発生させる化合物であることを特徴とする［１］記載の感光性樹脂組成物。
［３］  前記ポリマー成分（Ａ）を構成する重合体における酸性官能基が、カルボキシル基またはフェノール性水酸基であることを特徴とする［１］または［２］記載の感光性樹脂組成物。
［４］  前記ポリマー成分（Ａ）が、ポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール前駆体もしくはそれらの共重合体、またはそれらの混合物であるであることを特徴とする［１］から［３］のいずれか１項に記載の感光性樹脂組成物。
［５］  前記［１］から［４］のいずれかに１項に記載の感光性樹脂組成物を支持基板上に塗布し乾燥する工程と、前記乾燥後の感光性樹脂膜を露光する工程と、前記露光後の感光性樹脂膜をアルカリ水溶液を用いて現像する工程と、前記現像によって得られたパターンを加熱処理する工程とを含むことを特徴とするパターン形成方法。
［６］  前記［５］に記載の製造法により得られたパターンの層を有してなることを特徴とする電子デバイス。
【００１０】
以下、本発明をさらに詳しく説明する。
本発明の感光性樹脂組成物は、前述のように、酸性官能基もしくはその誘導置換基を有する耐熱性重合体またはその前駆体からなるポリマー成分（Ａ）と、主骨格部にアミド結合を有し、かつ光反応により酸を発生する光反応性化合物（Ｂ）と、溶媒（Ｃ）とを必須成分とする。
【００１１】
本発明におけるポリマー成分（Ａ）は、例えば、テトラカルボン酸二無水物、ジカルボン酸またはこれらにさらに酸官能基を有するものと、ジアミンまたはこれにさらに酸官能基を有するものを重合体の主たる原料としたポリイミド前駆体、ポリベンゾオキサゾール前駆体、またはこれらの共重合体、または混合物などを挙げることができる。
【００１２】
前記ポリマー成分（Ａ）の構造としては、例えば、
【化１】
2005134729.tif 000002
（式中、Ｘ1は２〜８価の有機基、Ｙ1は２〜８の有機基、ｐおよびｑは０〜４の清秋、Ｒ１は水素原子または炭素数１〜２０の有機基、ｌおよびｍは０〜２の整数、ｎは２〜１０００の整数、Ｒ1は水素または１価の有機基）で示される繰り返し単位を有するものを挙げることができる。
【００１３】
前記一般式（１）のＸ1を構成する２〜８価の有機基は、テトラカルボン酸二無水物、ジカルボン酸またはこれらにさらに酸官能基を有するものである。
【００１４】
前記テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、２，２−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、１，１−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、１，１−ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）エタン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（２，３−ジカルボキシフェニル）メタン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（４−（４−アミノフェノキシ）フェニル）プロパン、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５，６−ピリジンテトラカルボン酸二無水物、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−テトラフェニルシランテトラカルボン酸二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物、等を挙げることができるが、これらに限定されない。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００１５】
前述の具体的テトラカルボン酸二無水物のうち、ピロメリット酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，３，３’，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、２，２’，３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン二無水物、Ｎ−（トリメリット酸二無水物）−２，２´−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンが、耐熱性の高い良好な膜物性を得る上で好ましい。
【００１６】
前記ジカルボン酸としては、例えば、３−フルオロイソフタル酸、２−フルオロイソフタル酸、３−フルオロフタル酸、２−フルオロフタル酸、２，４，５，６−テトラフルオロイソフタル酸、３，４，５，６−テトラフルオロフタル酸、４，４’−ヘキサフルオロイソプロピリデンジフェニル−１，１’−ジカルボン酸、パーフルオロスベリン酸、２，２‘−ビス（トリフルオロメチル）−４，４’−ビフェニレンジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、４，４‘−オキシジフェニル−１，１’−ジカルボン酸、等を挙げることができるが、これらに限定されない。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００１７】
前述の具体的ジカルボン酸のうち、テレフタル酸、イソフタル酸、４，４‘−オキシジフェニル−１，１’−ジカルボン酸が耐熱性の高い良好な膜物性を得る上で好ましい。
【００１８】
また、アルカリ溶解性を調整するために、アルカリ溶解性を示す酸官能基を有するジカルボン酸を用いることができる。酸官能基を有するジカルボン酸としては、例えば、Ｎ−（トリメリット酸二無水物）−２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、Ｎ−（トリメリット酸二無水物）−２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、Ｎ−（トリメリット酸二無水物）−４，４’−ジアミノ−３，３’−ジヒドロキシビフェニル、Ｎ−（トリメリット酸二無水物）−２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、Ｎ−（トリメリット酸二無水物）−２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、Ｎ−（トリメリット酸二無水物）−２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、Ｎ−（トリメリット酸二無水物）−２，４−ジアミノフェノール、Ｎ−（トリメリット酸二無水物）−２，５−ジアミノフェノール、Ｎ−（トリメリット酸二無水物）−１，４−ジアミノ−２，５−ジヒドロキシベンゼン、等を挙げることができるが、これらに限定されない。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００１９】
前述の酸官能基を有するジカルボン酸のうち、Ｎ−（トリメリット酸二無水物）−２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、Ｎ−（トリメリット酸二無水物）−２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、Ｎ−（トリメリット酸二無水物）−４，４’−ジアミノ−３，３’−ジヒドロキシビフェニル、Ｎ−（トリメリット酸二無水物）−２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、Ｎ−（トリメリット酸二無水物）−２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、Ｎ−（トリメリット酸二無水物）−２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパンが、耐熱性の高い良好な膜物性を得る上で好ましい。
【００２０】
前記一般式（１）のＹ1を構成する２〜８価の有機基は、ジアミンおよび／または酸官能基を有するジアミンである。
【００２１】
前記ジアミンとしては、例えば、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、１，５−ナフタレンジアミン、２，６−ナフタレンジアミン、ビス（４−アミノフェノキシフェニル）スルホン、ビス（３−アミノフェノキシフェニル）スルホン、ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］エーテル、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジエチル−４，４’−ジアミノビフェニル、  ３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジエチル−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，３，３’−テトラメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’，３，３’−テトラエチル−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジヒドロキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、２，２’−ジ（トリフルオロメチル）−４，４’−ジアミノビフェニル、等を挙げることができるが、これらに限定されない。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００２２】
前記具体的ジアミンのうち、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニルが、耐熱性の高い良好な膜物性を得る上で好ましい。
【００２３】
また、アルカリ溶解性を調整するために、アルカリ溶解性を示す酸官能基を有するジアミンを用いることができる。
このような酸官能基を有するジアミンとしては、例えば、２，４−ジアミノ安息香酸，３，５−ジアミノ安息香酸，３，３´−ジアミノビフェニル−５，５’−ジカルボン酸，４，４’−ジアミノジフェニルエーテル  −５，５´−ジカルボン酸、４，４’−ジアミノジフェニルメタン  −５，５’−ジカルボン酸、４，４’−ジアミノジフェニルスルホン  −５，５’−ジカルボン酸、４，４’−ジアミノジフェニルスルフィド  −５，５’−ジカルボン酸またはそれらの異性体のようにカルボキシル基を１つ以上もつか、あるいは４，４‘−ジアミノ−３，３’−ジヒドロキシビフェニル、２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、オキシビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、２，４−ジアミノフェノール、１，４−ジアミノ−２，５−ジヒドロキシベンゼン、Ｎ，Ｎ’−（４−アミノフェニルカルボニル）−３，３’−ジヒドロキシビフェニル、Ｎ，Ｎ’−（３−アミノフェニルカルボニル）−３，３’−ジヒドロキシビフェニル、Ｎ，Ｎ’−（４−アミノフェニルカルボニル）２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、Ｎ，Ｎ’−（３−アミノフェニルカルボニル）２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、Ｎ，Ｎ’−（４−アミノフェニルカルボニル）２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、Ｎ，Ｎ’−（３−アミノフェニルカルボニル）２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、Ｎ，Ｎ’−（４−アミノフェニルカルボニル）−オキシビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）、Ｎ，Ｎ’−（３−アミノフェニルカルボニル）−オキシビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）、Ｎ，Ｎ’−（４−アミノフェニルカルボニル）−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、Ｎ，Ｎ’−（３−アミノフェニルカルボニル）ービス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、Ｎ，Ｎ’−（４−アミノフェニルカルボニル）ー２，４−ジアミノフェノール、Ｎ，Ｎ’−（３−アミノフェニルカルボニル）ー２，４−ジアミノフェノール、Ｎ，Ｎ’−（４−アミノフェニルカルボニル）ー１，４−ジアミノ−２，５−ジヒドロキシベンゼン、Ｎ，Ｎ’−（３−アミノフェニルカルボニル）−１，４−ジアミノ−２，５−ジヒドロキシベンゼンのようなフェノール基を有するもの、等をあげることができるが、これらに限定されない。これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００２４】
前記具体的な酸官能基を有するジアミンのうち、３，５−ジアミノ安息香酸およびフェノール基を有する４，４’−ジアミノ−３，３’−ジヒドロキシビフェニル、２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、オキシビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）、ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、２，４−ジアミノフェノール、１，４−ジアミノ−２，５−ジヒドロキシベンゼン、Ｎ，Ｎ’−（４−アミノフェニルカルボニル）−３，３’−ジヒドロキシビフェニル、Ｎ，Ｎ’−（３−アミノフェニルカルボニル）−３，３’−ジヒドロキシビフェニル、Ｎ，Ｎ’−（４−アミノフェニルカルボニル）２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、Ｎ，Ｎ’−（３−アミノフェニルカルボニル）２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、Ｎ，Ｎ’−（４−アミノフェニルカルボニル）２，２’−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、Ｎ，Ｎ’−（３−アミノフェニルカルボニル）２，２´−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、Ｎ，Ｎ’−（４−アミノフェニルカルボニル）ーオキシビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）、Ｎ，Ｎ’−（３−アミノフェニルカルボニル）ーオキシビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）、Ｎ，Ｎ’−（４−アミノフェニルカルボニル）ービス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、Ｎ，Ｎ’−（３−アミノフェニルカルボニル）ービス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）スルホンが、良好なアルカリ現像特性を得る上で好ましい。
【００２５】
これらテトラカルボン酸二無水物、ジカルボン酸および／または酸官能基を有するジカルボン酸と、ジアミンおよび／または酸官能基を有するジアミンとを重合させることで、前記ポリマー成分（Ａ）の酸性官能基および／またはその誘導置換基を有する耐熱性重合体もしくはその前駆体を得ることができる。例えば、テトラカルボン酸二無水物とジアミンおよび／または酸官能基を有するジアミンとを重合させることで、ポリイミド前駆体を得ることができる。また、活性化エステル化されたジカルボン酸および／または酸官能基を有するジカルボン酸とフェノール酸官能基を有するジアミンを重合させることで、ポリベンゾオキサゾール前駆体を得ることができる。さらに、テトラカルボン酸二無水物、ジカルボン酸および／または活性エステル化された酸官能基を有するジカルボン酸と、ジアミンおよび／または酸官能基を有するジアミンを共重合させることで、ポリイミド／ポリベンゾオキサゾール前駆体の共重合体を得ることができる。
【００２６】
一般式（１）のＲ1に示す有機基のような官能基を部分的に導入することで、現像時の溶解性の制御および／または光反応を利用したパターン加工が可能となる。このような官能基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、シクロプロぺニル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキセニル、ノルボルニル、ノルボルネニル、アダマンチル、ベンジル、ｐ−ニトロベンジル、トリフルオロメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエトキシメチル、ベンゾキシメチル、テトラヒドロピラニル，エトキシテトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニル、２−トリメチルシリルエトキシメチル、トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、３−オキソシクロヘキシル、９−フルオレニルメチル、メチルチオメチル等の基や、アリルアルコール、２−メチル−２−プロペン−１−オル、クロチルアルコール、３−ブテン−１−オル、３−ブテン−２−オル、３−メチル−２−ブテン−１−オル、２−メチル−３−ブテン−１−オル、３−メチル−３−ブテン−１−オル、２−メチル−３−ブテン−２−オル、２−ペンテン−１−オル、４−ペンテン−１−オル、３−ペンテン−２−オル、４−ペンテン−２−オル、１−ペンテン−３−オル、４−メチル−３−ペンテン−１−オル、３−メチル−１−ペンテン−３−オル、２−へキセン−１−オル、３−ヘキセン−１−オル、４−ヘキセン−１−オル、５−ヘキセン−１−オル、１−ヘキセン−３−オル、１−ヘプタン−３−オル、６−メチル−５−ヘプタン−２−オル、１−オクタン−３−オル、シトロネロール、３−ノネン−１−オル、５−デカン−１−オル、９−デカン−１−オル、７−デカン−１−オル、１，４−ペンタジエン−３−オル、２，４−ヘキサジエン−１−オル、１，５−ヘキサジエン−３−オル、１，６−ヘプタジエン−４−オル、２，４−ジメチル−２，６−ヘプタジエン−１−オル、ネロール、ゲラニオール、リナロール、２−シクロヘキセン−１−オル、３−シクロヘキセン−１−メタノール、イソプレゴール、５−ノルボルネン−２−オル、５−ノルボルネン−２−メタノール、エチレングリコールビニルエーテル、１，４−ブタンジオールビニルエーテル、１，６−ヘキサンジオールビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルアクリレート、３−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、４−ヒドロキシブチルメタクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、カプロラクトン２−（メタクリロイロキシ）エチルエステル、ジカプロラクトン２−（メタクリロイロキシ）エチルエステル、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレート等の化合物を、挙げることができる。さらに、Ｘ1またはＹ1に結合するカルボキシル基と反応させて得られる官能基なども用いることができる。しかし、必ずしもここに挙げられたものに限定される訳ではない。これら官能基を部分的に導入することでアルカリ可溶性を制御することもできる。また、重合体の末端が酸性官能基を有する場合には、その重合体に、これら官能基を導入することも可能である。
【００２７】
前述の具体的官能基のうち、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、メトキシエチル、エトキシエチル、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエトキシメチル、テトラヒドロピラニル、エトキシテトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニルが溶解性を良好に制御する上で好ましい。
【００２８】
また、一般式（１）のＲ2に、一般式（１）のＲ1と同種の官能基を導入することで現像時溶解性の制御および／または光反応を利用したパターン加工が可能となる。また、これら官能基を部分的に導入することでアルカリ可溶性を制御することもできる。さらに、重合体の末端が酸性官能基を有する場合には、これら官能基を導入することも可能である。
【００２９】
また、前記ポリマー成分（Ａ）は、その両末端部がアミン官能基および／またはその誘導置換基、あるいは、酸性官能基および／またはその誘導置換基、あるいは、片末端に双方の官能基を１つずつ有するもの、それらの混合物のいずれかである。末端部のアミン官能基が一級アミンである場合には、副反応により感光性樹脂組成物の安定性が劣化するため、アミン官能基上の二つ水素原子のうち少なくとも一つは他原子もしくは他官能基で置換されている方が、感光性樹脂組成物としての安定性を得る上で好ましい。その置換割合は３０％〜１００％の範囲である方が十分な安定性を得る上でより好ましい。
【００３０】
アミン官能基から誘導される窒素上置換基としては、アミド、イミド、カーバメイト、スルホニル、スルフェニル、ホスフィニル、アルキルシリルなどがある。このうちアミド、イミド、カーバメイト、スルホニルがより優れた硬化樹脂性質を得る点で好ましい。
これら置換基は水素または一般式（２）で表される。
【００３１】
【化２】
2005134729.tif 000003
【００３２】
上記一般式（２）において、Ｒ3は１価または２価の有機基であり、炭素原子数は１〜２０のものが好ましい。Ｘ3は酸素、硫黄もしくは窒素原子であり、Ｘ3が酸素原子もしくは硫黄原子の場合はｎ＝１、窒素原子の場合はｎ＝２である。
【００３３】
前記Ｒ3としては、１価の場合は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、シクロプロぺニル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキセニル、ノルボルニル、ノルボルネニル、アダマンチル、ベンジル、ｐ−ニトロベンジル、トリフルオロメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエトキシメチル、ベンゾキシメチル、エトキシテトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニル、２−トリメチルシリルエトキシメチル，トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、３−オキソシクロヘキシル、９−フルオレニルメチル、フェニル、トルイル、キシリル、９，１０−ジヒドロアンスラニル、トリメチルフェニル、ペンタメチルフェニル、ビフェニル、ターフェニル、クォーターフェニル、ジメチルビフェニル、ナフタレニル、メチルナフタレニル、フルオレニル、フルオロフェニル、フルオロビフェニル、イソプロピリデンビフェニル、テトラフルオロイソプロピリデンビフェニル、ベンジルフェニルエーテル、フェニルエーテル、フェノキシトルエイル、メトキシビフェニル、ジメトキシビフェニル、メトキシナフタレニル、ジメトキシナフタレニル、ニトロフェニルなどであり、２価の場合は、メタン、エタン、プロパン、イソプロパン、ジメチルメタン、ブタン、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ノルボルナン、アダマンタン、イソプロピリデンジシクロヘキサン、メトキシメタン、メトキシエタン、エトキシエタン、メトキシエトキシメタン、ベンゾキシメタン、テトラヒドロフラン、ベンゼン、トルエン、クメン、ジフェニルメタン、キシレン、９，１０−ジヒドロアンスラセン、メシチレン、ヘキサメチルベンゼン、ビフェニル、ターフェニル、トリフェニルベンゼン、クォーターフェニル、ジメチルビフェニル、アズレン、ナフタレン、メチルナフタレン、アンスラセン、フルオレン、フルオロベンゼン、フルオロビフェニル、イソプロピリデンビフェニル、テトラフルオロイソプロピリデンビフェニル、アニソール、ベンジルフェニルエーテル、フェニルエーテル、フェノキシトルエン、トリルエーテル、メトキシビフェニル、ジメトキシビフェニル、メトキシナフタレン、ジメトキシナフタレン、ニトロベンゼンなどの、その構造における２つの水素原子部位が水素原子の代わりに結合基となっているものを、挙げることができるが、必ずしもここに挙げられたものに限定されない。
【００３４】
前記末端部における酸性官能基および／またはその誘導置換基としては、前述一般式（１）のＲ1、Ｒ2に示されるものが用いられる。
【００３５】
本発明におけるポリマー成分（Ａ）の分子量は、特に制限されないが、重量平均分子量で、５０００〜８００００であることが好ましい。分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定し、標準ポリスチレン検量線を用いて算出することができる。
【００３６】
本発明に使用される、主骨格部にアミド結合を有し、かつ光反応により酸を発生する光反応性化合物（Ｂ）は、感光剤であり、酸を発生させ、光の照射部のアルカリ水溶液への可溶性を増大させる機能を有するものである。その種類としては、ｏ−キノンジアジド化合物、アリールジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩などが挙げられ、ここに挙げられた化合物に限らず、光により酸を発生する化合物であれば使用できる。
【００３７】
前記ｏ−キノンジアジド化合物は、例えば、ｏ−キノンジアジドスルホニルクロリド類とヒドロキシ化合物、アミノ化合物などとを縮合反応させることで得られる。本発明においては、反応に供されるヒドロキシ化合物、アミノ化合物などは、主骨格部にアミド結合を有するものが良好な硬化樹脂特性を得る上で必要であり、より詳細には、一般式（３）で表されるものが挙げられる。
【００３８】
【化３】
2005134729.tif 000004
（式中、Ｒ4およびＲ5は２価の有機基であり、Ｒ6は水素または１価の有機基である。Ｘ2はｌ＋ｍ＋ｎ価の有機基であり、ｌ＋ｍは１以上であり、ｌ＋ｍ＋ｎは１〜１０、ｌは０〜６、ｍは０〜６、ｎは０〜６の整数である。Ａは酸素原子または窒素原子であり、Ｄは光により酸を発生する官能基を示す。）
【００３９】
一般式（３）中のＸ2としては、脂肪族ではアルキル鎖、シクロペンチル環、シクロヘキシル環、シクロオクチル環、その他ビシクロ環等があり、それらは酸素、硫黄などからなるヘテロ原子を含んでいてもよい。例えば、メタン、エタン、プロパン、イソプロパン、ジメチルメタン、ブタン、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ノルボルナン、アダマンタン、イソプロピリデンジシクロヘキサン、メトキシメタン、メトキシエタン、エトキシエタン、メトキシエトキシメタン、ベンゾキシメタン、テトラヒドロフランなどの構造における、ｌ＋ｍ＋ｎ個の水素原子部位が、水素原子の代わりに結合基となっているものを、挙げることができる。
【００４０】
また、前記一般式（３）中のＸ2として、芳香族では、ベンゼン環、ナフタレン環、等を挙げることができる。これらのうち、耐熱性の点から芳香族である方が好ましい。例えば、ベンゼン、トルエン、クメン、ジフェニルメタン、キシレン、９，１０−ジヒドロアンスラセン、メシチレン、ヘキサメチルベンゼン、ビフェニル、ターフェニル、トリフェニルベンゼン、クォーターフェニル、ジメチルビフェニル、アズレン、ナフタレン、メチルナフタレン、アンスラセン、フルオレン、フルオロベンゼン、フルオロビフェニル、イソプロピリデンビフェニル、テトラフルオロイソプロピリデンビフェニル、アニソール、ベンジルフェニルエーテル、フェニルエーテル、フェノキシトルエン、トリルエーテル、メトキシビフェニル、ジメトキシビフェニル、メトキシナフタレン、ジメトキシナフタレン、ニトロベンゼン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンズアニリド、フェニルスルホン、フラン、チオフェン、ベンジル、ニトロベンジルなどの構造を有する基を挙げることができるが、必ずしもここに挙げられたものに限定されない。これらのうち、ベンゼン、トルエン、ビフェニル、ジメチルビフェニル、フェニルエーテル、ベンゾフェノン、イソプロピリデンビフェニル、テトラフルオロイソプロピリデンビフェニルがより耐熱性の高い良好な膜物性を得る上で好ましい。
【００４１】
前記Ｒ4，Ｒ5はそれぞれ２価の有機基であり、Ｒ6はそれぞれ水素または１価の有機基である。
【００４２】
前記Ｒ4，Ｒ5としては、脂肪族では、アルキル鎖、シクロペンチル環、シクロヘキシル環、シクロオクチル環、その他ビシクロ環等があり、それらは酸素、硫黄などからなるヘテロ原子を含んでいてもよい。例えばメタン、エタン、プロパン、イソプロパン、ジメチルメタン、ブタン、シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ノルボルナン、アダマンタン、イソプロピリデンジシクロヘキサン、メトキシメタン、メトキシエタン、エトキシエタン、メトキシエトキシメタン、ベンゾキシメタン、テトラヒドロフランなどの、２つの水素原子部位が水素原子の代わりに結合基となっているものを、挙げることができる。
【００４３】
さらに、前記Ｒ4，Ｒ5として、芳香族では、ベンゼン環、ナフタレン環等が挙げられる。これらのうち、耐熱性の点から芳香族である方が好ましい。そのような芳香族としては、例えば、ベンゼン、トルエン、クメン、ジフェニルメタン、キシレン、９，１０−ジヒドロアンスラセン、メシチレン、ヘキサメチルベンゼン、ビフェニル、ターフェニル、トリフェニルベンゼン、クォーターフェニル、ジメチルビフェニル、アズレン、ナフタレン、メチルナフタレン、アンスラセン、フルオレン、フルオロベンゼン、フルオロビフェニル、イソプロピリデンビフェニル、テトラフルオロイソプロピリデンビフェニル、アニソール、ベンジルフェニルエーテル、フェニルエーテル、フェノキシトルエン、トリルエーテル、メトキシビフェニル、ジメトキシビフェニル、メトキシナフタレン、ジメトキシナフタレン、ニトロベンゼン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンズアニリド、フェニルスルホン、フラン、チオフェン、ベンジル、ニトロベンジルなどを、挙げることができる。
【００４４】
また、前記Ｒ6は、水素または１価の有機基であるが、その有機基はさらにカルボキシル基、ヒドロキシ基、エステル基、エーテル基、アミド基などの官能基を含んでいてもよい。そのような官能基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、シクロプロぺニル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキセニル、ノルボルニル、ノルボルネニル、アダマンチル、ベンジル、ｐ−ニトロベンジル、トリフルオロメチル、メトキシエチル、エトキシエチル、メトキシメチル、エトキシメチル、メトキシエトキシメチル、ベンゾキシメチル、エトキシテトラヒドロピラニル、テトラヒドロフラニル、２−トリメチルシリルエトキシメチル，トリメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシリル、３−オキソシクロヘキシル、９−フルオレニルメチル、フェニル、トルイル、キシリル、９，１０−ジヒドロアンスラニル、トリメチルフェニル、ペンタメチルフェニル、ビフェニル、ターフェニル、クォーターフェニル、ジメチルビフェニル、ナフタレニル、メチルナフタレニル、フルオレニル、フルオロフェニル、フルオロビフェニル、イソプロピリデンビフェニル、テトラフルオロイソプロピリデンビフェニル、ベンジルフェニルエーテル、フェニルエーテル、フェノキシトルエイル、メトキシビフェニル、ジメトキシビフェニル、メトキシナフタレニル、ジメトキシナフタレニル、ニトロフェニルなどが挙げられる。
【００４５】
前記Ａは酸素原子および／またはNH基である。また、前記Ｄは光により酸を発生する官能基を示す。Ｄとしては、例えば、ｏ−キノンジアジド、アリールジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等の構造を有する基が挙げられる。
【００４６】
前記ｏ−キノンジアジド類としては、例えば、ベンゾキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニル、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニル、ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニル、等を挙げることができるが、必ずしもここに挙げられたものに限定されない。
【００４７】
また、前記アリールジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩などとしては、例えば、ベンゼンジアゾニウム−ｐ−トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウム９，１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホナート、トリス（４−ｔ−ブチルフェニル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、Ｎ−ナフタルイミドトリフルオロメタンスルホナート、ｐ−ニトロベンジル−９，１０−ジメトキシアントラセンー２−スルホナート、４−メトキシ−α―［［［（４−メチルフェニル）スルホニル］オキシ］イミノ］ベンゼンアセトニトリル、２−（２’−フリルエテニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなども併用して使用できるが、必ずしもここに挙げられたものに限定されない。
【００４８】
前記官能基Ｄの導入は、例えば、それに対応するカルボニルクロリド、スルホニウムクロリド化合物などの活性エステル体と前記Ａ部位との縮合反応により導入可能となる。この場合、Ａ部位は例えば活性水素を有した水酸基やアミノ基などである。このようなＤ官能基の導入は部分的であってもよく、その導入率としては、Ａ部位に対して５０〜１００％の範囲が好ましい。また、これらの感光剤は、単独で、または二種類以上を組み合わせて、使用される。
【００４９】
前記光反応性化合物（Ｂ）の使用量は、（Ａ）の重合体成分１００重量部に対して、０．１〜４０重量部配合するのが好ましく、１〜３０重量部配合するのがより好ましい。また、「主骨格部にアミド結合を有し、かつ光反応により酸を発生する光反応性化合物（Ｂ）」は、それ以外の光反応性化合物を部分的に組み合わせて使用することも可能である。その場合、（Ｂ）の量は少なくとも感光剤全体量の５重量％以上であれば好ましく、２０重量％以上であればより好ましい。
【００５０】
本発明における溶媒（Ｃ）としては、ガンマブチロラクトン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−アセチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルトリアミド、ジメチルイミダゾリジノン、Ｎ−アセチル−ε−カプロラクタム等の極性溶媒が好ましく、その他、この極性溶媒以外に、ケトン類、エステル類、ラクトン類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類、例えば、アセトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，４−ジクロロブタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等も使用することができる。これらの有機溶媒は、単独でまたは二種類以上を組み合わせて使用される。ただし、本報の感光性樹脂組成物を溶解するものであれば、特にその種類を限定するものではない。一般に、溶媒は感光性樹脂組成物中４０〜９０重量％使用される。
【００５１】
本発明の感光性樹脂組成物には、上記必須成分以外に、シリコン基板に対する接着性増強の目的で、シランカップリング剤を使用したり、前記一般式（１）中のＹ1部にジアミノシロキサンに由来する残基を持たせることによりベース重合体を変性して使用することも、可能である。
【００５２】
このようなシランカップリング剤としては、反応性の点からアルコキシシラン類が好ましく、例えばビニルトリメトキシシラン、Ｎ―（２−アミノエチル）３−アミノプロピルメチルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ―メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、Ｎ―（１，３−ジメチルブチリデン）−３−（トリエトキシシリル）−１−プロパンアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（３−（トリメトキシシリル）プロピル）エチレンジアミン、Ｎ―（３−トリメトキシシリルプロピル）ピロール、ウレイドプロピルトリメトキシシラン、（３−トリエトキシシリルプロピル）―ｔ−ブチルカルバメート、Ｎ―フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、３―イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、（フルフリルオキシメチル）トリエトキシシラン、等を挙げることができる。
【００５３】
また、本発明の樹脂組成物には、コントラストを高める目的で溶解促進剤を使用することができる。溶解促進剤としては、例えば、酸性官能基を含有する化合物が挙げられる。このような酸性官能基としては、フェノール性水酸基、カルボン酸基、スルホン酸基が好ましい。具体的化合物としては、例えば、メチレンビスフェノール、２，２−メチレンビス（４−メチルフェノール）、４，４−オキシビスフェノール、４，４−（１−メチルエチリデン）ビス（２−メチルフェノール）、４，４−（１−フェニルエチリデン）ビスフェノール、５，５−（１−メチルエチリデン）ビス（１，１−（ビフェニル）−２−オル）、４，４，４−エチリジントリスフェノール、２，６−ビス（（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）メチル）−４−メチルフェノール、４，４−（１−（４−（１−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル）フェニル）エチリデン）ビスフェノール、４，４−スルホニルジフェノール、（２−ヒドロキシー５−メチル）−１，３−ベンゼンジメチロール、３，３−メチレンビス（２−ヒドロキシー５−メチルベンゼンメタノール）、サリチル酸、マロン酸、グルタル酸、２，２−ジメチルグルタル酸、マレイン酸、ジグリコール酸、１，１−シクロブタンジカルボン酸、３，３−テトラメチレングルタル酸、１，３−シクロヘキサンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、１，３−アダマンタンジカルボン酸、１，２−フェニレンジオキシ二酢酸、１，３−フェニレン二酢酸、１，４−フェニレン二酢酸、テレフタル酸、イソフタル酸、４，４‘−オキシジフェニルジカルボン酸、４，４−ビフェニルジカルボン酸、４―ヒドロキシベンゼンスルホン酸、等を挙げることができる。これらの溶解促進剤は、単独でまたは二種類以上を組み合わせて使用される。
【００５４】
また、本発明の樹脂組成物には、目的に応じて付加重合性化合物、溶解阻害剤、安定剤などを配合してもよい。
【００５５】
本発明の感光性樹脂組成物は、浸漬法、スプレー法、スクリーン印刷法、回転塗布法等によって、シリコンウエーハ、金属基板、セラミック基板等の支持基板上に塗布され、溶剤を適度に加熱乾燥することにより粘着性のない塗膜（感光性樹脂膜）とすることができる。この塗膜上に、所望のパターンが描かれたマスクを通して活性光線または化学線を照射して露光することができる。照射する活性光線または化学線としては、超高圧水銀灯を用いるコンタクト／プロキシミテイ露光機、ミラープロジェクション露光機、ｉ線ステッパ、ｇ線ステッパ等の露光装置による活性光線、その他の紫外線、可視光源や、Ｘ線、電子線を用いることができる。この後，必要に応じて露光後加熱（ＰＥＢ；ｐｏｓｔ  ｅｘｐｏｓｕｒｅ  ｂａｋｅ）処理を行い、現像を行うことができる。活性光線を照射後、照射部を現像液で溶解除去することにより、所望のパターンを得ることができる。
【００５６】
前記現像液としては、有機溶媒、アルカリ水溶液が用いられるが、本発明においては、アルカリ水溶液を用いて現像することが、材料コストや環境保全の点で好ましい。
【００５７】
前記有機溶媒現像液としては、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ヘキサメチルリン酸トリアミド、γ−ブチロラクトン、水、或いはアルコール類、ケトン類、エステル類、ラクトン類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、炭化水素類、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、シュウ酸ジエチル、マロン酸ジエチル、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、１，４−ジクロロブタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、等を挙げることができ、これらは、単独でまたは二種類以上を組み合わせて使用される。
【００５８】
前記アルカリ水溶液としては、苛性カリ，苛性ソーダ等のアルカリ金属水酸化物の水溶液，テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド，テトラエチルアンモニウムヒドロキサイド，コリン等の水酸化四級アンモニウム，エタノールアミン，プロピルアミン，エチレンジアミン等のアミン水溶液が用いられる。現像後は必要に応じて水または貧溶媒でリンスが行われる。リンス液としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、メチルセロソルブ、水、等が用いられる。これにより得られたパターンを加熱することにより、感光剤と溶媒を除去した安定な高耐熱性樹脂パターンを得る。
【００５９】
前記パターンの加熱温度は、１５０〜５００℃とすることが好ましく、２００〜４００℃とすることが、より好ましい。この加熱温度が、１５０℃未満であると、膜の機械特性および熱特性が低下する傾向があり、５００℃を超えると、膜の機械特性および熱特性が低下する傾向がある。また、この時の加熱時間は、０．０５〜１０時間とすることが好ましい。この加熱時間が、０．０５時間未満であると、膜の機械特性および熱特性が低下する傾向があり、１０時間を超えると、膜の機械特性および熱特性が低下する傾向がある。
【発明の効果】
【００６０】
本発明の感光性樹脂組成物は、感光特性を損なうことなく、かつ、伸び特性に優れるという従来にない良好な硬化樹脂特性を有する。また、本発明のパターン製造法は、多層配線板用の層間絶縁膜や半導体メモリー素子用のα線遮蔽膜、バッファーコート膜などのポリイミドパターン加工を、従来の有機溶剤現像ではなく、安価なアルカリ水溶液現像にて行なうことができる。そのため、本発明の電子デバイスは、信頼性に優れるという特質を持つ。
【発明を実施するための最良の形態】
【００６１】
以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが、以下の実施例は、本発明を好適に説明する例示に過ぎず、なんら本発明を限定するものではない。
【実施例】
【００６２】
（合成例１：ポリマー成分（Ａ）合成例）
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中の１００ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドンと２１．１８ｇ（０．０７２ｍｏｌ）の３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物の撹拌溶液に、１．１ｇ（０．０１８ｍｏｌ）のイソプロピルアルコールを加え、４５℃で一夜撹拌した。この溶液を反応溶液（ａ）と称す。
【００６３】
一方、攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中で、８０ｍｌの乾燥Ｎ−メチルピロリドン中に６．４９ｇ（０．０６ｍｏｌ）のメタフェニレンジアミンおよび０．２５ｇ（０．００１ｍｏｌ）の１，３−ビス（３−アミノプロピル）テトラメチルジシロキサンを添加した溶液を調製した。この調製溶液を溶液（ｂ）と称す。
【００６４】
前記反応溶液（ａ）に前記溶液（ｂ）を１時間にわたり滴下添加し、室温で一夜撹拌した。この溶液を反応溶液（ｃ）と称す。
【００６５】
前記反応溶液（ｃ）に、１００ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドン中に２０．６ｇ（０．１ｍｏｌ）のＮ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミドを溶かしてなる溶液を、１時間にわたり、撹拌しながら、滴下添加した。この反応溶液を反応溶液（ｄ）と称す。この反応溶液（ｄ）に対し、１８ｇ（０．３０ｍｏｌ）のイソプロピルアルコールを加え、５０℃で５時間、そして室温で一夜撹拌した。この反応混合物を５０ｇのアセトンで希釈し、吸引ろ過により不要物を除いたろ過液を２．０Ｌのイオン交換水にて激しく撹拌しながら処理した。
【００６６】
析出した固形物をさらにイオン交換水で洗浄し、ついでメタノールにて洗浄し、ろ過フィルター上で吸引乾燥し、室温にて水分含有率が１．０重量％より少なくなるまで減圧乾燥し、これによりポリマー（Ｐ−１）を得た。このポリマー（Ｐ−１）はポリイミド前駆体であり、その重量平均分子量は２０，６００、分散度は１．５９であった
【００６７】
（合成例２：ポリマー成分（Ａ）合成例）
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中の１００ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドンと２５．８ｇ（０．１ｍｏｌ）の４，４’−オキシビス（カルボキシフェニル）とからなる溶液を０℃に冷却し、この溶液に２３．８ｇ（０．２ｍｏｌ）の塩化チオニルを滴下し、滴下後３０分間撹拌して、反応溶液（Ａ−１）を得た。
【００６８】
次いで、別の攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中に、１００ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドンと、４０．３ｇ（０．１１ｍｏｌ）の２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、１．５８ｇ（０．０２ｍｏｌ）のピリジンとからなる溶液を調製した。この溶液を０℃に冷却し、この溶液に２．０９ｇ（０．０２ｍｏｌ）の塩化シクロプロパンカルボニルを滴下し、滴下後、室温下で３０分間撹拌した。この撹拌溶液に、さらに１５．８２ｇ（０．２ｍｏｌ）のピリジンを添加し、０℃に冷却した後、先ほど得られた反応溶液（Ａ−１）を３０分間かけて滴下し、室温で３０分間撹拌した。
【００６９】
前記撹拌後に得られた反応混合物を２．０Ｌのイオン交換水にて激しく撹拌しながら処理した。析出した固形物をさらにイオン交換水にて洗浄し、ろ過フィルター上で吸引乾燥し、室温にて水分含有率が１．０重量％より少なくなるまで減圧乾燥し、これにより、ポリマー（Ｐ−２）を得た。このポリマー（Ｐ−２）は、ポリイミド前駆体であり、その重量平均分子量は２３，９００、分散度は１．７１であった。
【００７０】
（合成例３：ポリマー成分（Ａ）合成例）
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中に、１００ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドンと１４．８ｇ（０．２ｍｏｌ）のｎ−ブタノールとを入れ、さらに３１．０ｇ（０．１ｍｏｌ）のビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物を加え、７０℃で２４時間攪拌し、エステル物を得た。
【００７１】
前記エステル物の溶液を０℃に冷却し、２３．８ｇ（０．２ｍｏｌ）の塩化チオニルを滴下し、滴下後３０分間撹拌して、反応溶液（Ａ−２）を得た。
【００７２】
次いで、別の攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中に、１００ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドンと、３３．０ｇ（０．０９ｍｏｌ）の２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、１５．８２ｇ（０．２ｍｏｌ）のピリジンとを添加し、攪拌溶解した。この溶液を０℃に冷却し、この溶液に、先ほど得られた反応溶液（Ａ−２）を３０分間かけて滴下し、その後、室温で３０分間撹拌した。
【００７３】
前記撹拌後に得られた反応混合物を２．０Ｌのイオン交換水にて激しく撹拌しながら処理した。析出した固形物をさらにイオン交換水にて洗浄し、ろ過フィルター上で吸引乾燥し、室温にて水分含有率が１．０重量％より少なくなるまで減圧乾燥し、これによりポリマー（Ｐ−３）を得た。このポリマー（Ｐ−３）はポリイミド前駆体であり、その重量平均分子量は２４，１００、分散度は１．６９であった。
【００７４】
（合成例４：ポリマー成分（Ａ）合成例）
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中の１００ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドンと２２．３ｇ（０．０７２ｍｏｌ）のビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エーテル二無水物からなる撹拌溶液（ａ）に、８０ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドン中に１．２ｇ（０．００８ｍｏｌ）の３，５−ジアミノ安息香酸と２６．４ｇ（０．０７２ｍｏｌ）の２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンとを添加してなる溶液（ｂ）を、添加し、室温で一夜撹拌して反応液（ｃ）を得た。その後、この反応溶液（ｃ）に対し、２．４ｇ（０．０１５ｍｏｌ）のフェニルクロロフォーメイトおよび１．２ｇ（０．０１５ｍｏｌ）のピリジンを添加し、室温で３０分間撹拌した。
【００７５】
前記撹拌後に得られた反応混合物を５０ｇのアセトンで希釈し、吸引ろ過により不要物を除いて濾過液を得た。この濾過液を２．０Ｌのイオン交換水にて激しく撹拌しながら処理した。析出した固形物をさらにイオン交換水で洗浄し、ついでメタノールにて洗浄し、濾過フィルター上で吸引乾燥し、室温にて水分含有率が１．０重量％より少なくなるまで減圧乾燥し、これによりポリマー（Ｐ−４）を得た。このポリマー（Ｐ−４）はポリイミド前駆体であり、その重量平均分子量は２２，２００、分散度は１．６０であった。
【００７６】
（合成例５：光反応性化合物（Ｂ）合成例）
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中の３００ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドンと２５．８ｇ（０．１ｍｏｌ）の４，４’−オキシビス（カルボキシフェニル）とからなる溶液を、０℃に冷却し、この溶液に、２３．８ｇ（０．２ｍｏｌ）の塩化チオニルを滴下し、滴下後３０分間撹拌して、反応溶液（ｉ）を得た。
【００７７】
次いで、別の攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中の１００ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドンと３−アミノフェノール２１．８ｇ（０．２ｍｏｌ）からなる溶液を０℃に冷却し、その後、この溶液に、先ほど得られた反応溶液（ｉ）を滴下し、さらに１５．８２ｇ（０．２ｍｏｌ）のピリジンを添加し、室温で３０分間撹拌した。
【００７８】
前記撹拌後に得られた反応混合物を２．０Ｌのイオン交換水にて激しく撹拌しながら処理した。析出した固形物をさらにイオン交換水にて洗浄し、ろ過フィルター上で吸引乾燥し、室温にて水分含有率が１．０重量％より少なくなるまで減圧乾燥し、これにより化合物（ii）を得た。
【００７９】
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中に、前記化合物（ii）２２．０ｇ（０．０５ｍｏｌ）と、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリド４８．４ｇ（０．０９ｍｏｌ）と、２００ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドンとからなる溶液を調製した。この溶液に対し、トリエチルアミン  ９．１ｇ（０．０９ｍｏｌ）を冷却下で滴下反応させた。この反応混合物をろ過し、ろ液を２．０ｌのイオン交換水にて激しく撹拌しながら処理した。この処理により析出した固形物をさらにイオン交換水にて洗浄し、ろ過フィルター上で吸引乾燥し、室温にて水分含有率が１．０重量％より少なくなるまで減圧乾燥し、これにより主骨格部にアミド結合を有するオルトキノンジアジド化合物（Ｂ−１：光反応性化合物）を得た。
【００８０】
（合成例６：光反応性化合物（Ｂ）合成例）
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中の１００ｇに、乾燥Ｎ−メチルピロリドンと３−アミノフェノール１０．９ｇ（０．１ｍｏｌ）からなる溶液を調製した。この溶液を０℃に冷却した後、この溶液に１０．１ｇ（０．０５ｍｏｌ）のイソフタル酸クロリドを添加し、さらに４．０ｇ（０．０５ｍｏｌ）のピリジンを添加し、室温で３０分間撹拌した。
【００８１】
前記撹拌により得られた反応混合物を１．０ｌのイオン交換水にて激しく撹拌しながら処理した。析出した固形物をさらにイオン交換水にて洗浄し、ろ過フィルター上で吸引乾燥し、室温にて水分含有率が１．０重量％より少なくなるまで減圧乾燥し、これにより、化合物（iii）を得た。
【００８２】
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中に、前記化合物（iii）１７．４ｇ（０．０５ｍｏｌ）と、ナフトキノン−１，２−ジアジド−４−スルホニルクロリド２４．２ｇ（０．０９ｍｏｌ）と、２００ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドンとからなる溶液を調製した。この溶液に対し、トリエチルアミン  ９．１ｇ（０．０９ｍｏｌ）を冷却下で滴下反応させた。得られた反応混合物をろ過し、ろ液を２．０ｌのイオン交換水にて激しく撹拌しながら処理した。析出した固形物をさらにイオン交換水にて洗浄し、ろ過フィルター上で吸引乾燥し、室温にて水分含有率が１．０重量％より少なくなるまで減圧乾燥し、これにより、主骨格部にアミド結合を有するオルトキノンジアジド化合物（Ｂ−２：光反応性化合物）を得た。
【００８３】
（合成例７：光反応性化合物（Ｂ）合成例）
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中に、１００ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドンと４−アミノフェノール２１．８ｇ（０．２ｍｏｌ）とからなる溶液を調製した。この溶液を０℃に冷却した後、この溶液に、２１．３ｇ（０．１ｍｏｌ）の１，４−シクロヘキシルジカルボン酸クロリドを添加し、さらに１５．８２ｇ（０．２ｍｏｌ）のピリジンを添加し、室温で一晩撹拌した。
【００８４】
前記撹拌により得られた反応混合物を２．０Ｌのイオン交換水にて激しく撹拌しながら処理した。析出した固形物をさらにイオン交換水にて洗浄し、ろ過フィルター上で吸引乾燥し、室温にて水分含有率が１．０重量％より少なくなるまで減圧乾燥し、これにより化合物（iii）を得た。
【００８５】
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中で、前記化合物（iii）１７．７ｇ（０．０５ｍｏｌ）と、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリド２４．２ｇ（０．０９ｍｏｌ）と、１５０ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドンとからなる溶液を調製した。この溶液に対し、トリエチルアミン９．１ｇ（０．０９ｍｏｌ）を冷却下で滴下反応させた。得られた反応混合物をろ過し、ろ液を２．０ｌのイオン交換水にて激しく撹拌しながら処理した。析出した固形物をさらにイオン交換水にて洗浄し、ろ過フィルター上で吸引乾燥し、室温にて水分含有率が１．０重量％より少なくなるまで減圧乾燥し、これにより主骨格部にアミド結合を有するオルトキノンジアジド化合物（Ｂ−３：光反応性化合物）を得た。
【００８６】
（合成例８：光反応性化合物（Ｂ）合成例）
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中に、１００ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドンと３−アミノフェノール２１．８ｇ（０．２ｍｏｌ）とからなる溶液を調製した。この溶液を０℃に冷却した後、この溶液に、１８．６ｇ（０．０７ｍｏｌ）の１，３，５―ベンゼントリカルボニルトリクロライドを添加し、さらに１５．８２ｇ（０．２ｍｏｌ）のピリジンを添加し、室温で一晩撹拌した。
【００８７】
前記撹拌により得られた反応混合物を２．０Ｌのイオン交換水にて激しく撹拌しながら処理した。析出した固形物をさらにイオン交換水にて洗浄し、ろ過フィルター上で吸引乾燥し、室温にて水分含有率が１．０重量％より少なくなるまで減圧乾燥し、これにより、反応物（iv）を得た。
【００８８】
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中に、前記反応物（iv）２４．２ｇ（０．０５ｍｏｌ）と、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリド３７．６ｇ（０．１４ｍｏｌ）と、２００ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドンとからなる溶液を調製した。この溶液に対し、トリエチルアミン１４．２ｇ（０．１４ｍｏｌ）を冷却下で滴下反応させた。得られた反応混合物をろ過し、得られたろ液を２．０ｌのイオン交換水にて激しく撹拌しながら処理した。析出した固形物をさらにイオン交換水にて洗浄し、ろ過フィルター上で吸引乾燥し、室温にて水分含有率が１．０重量％より少なくなるまで減圧乾燥し、これにより主骨格部にアミド結合を有するオルトキノンジアジド化合物（Ｂ−４：光反応性化合物）を得た。
【００８９】
（合成例９：比較光反応性化合物合成例）
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中に、トリス（４−ヒドロキシフェニル）メタン１４．６ｇ（０．０５ｍｏｌ）と、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリド３７．６ｇ（０．１４ｍｏｌ）と、２００ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドンとからなる溶液を調製した。この溶液に対し、トリエチルアミン１４．２ｇ（０．１４ｍｏｌ）を冷却下で滴下反応させた。得られた反応混合物をろ過し、得られたろ液を２．０Ｌのイオン交換水にて激しく撹拌しながら処理した。析出した固形物をさらにイオン交換水にて洗浄し、ろ過フィルター上で吸引乾燥し、室温にて水分含有率が１．０重量％より少なくなるまで減圧乾燥し、これにより主骨格部にアミド結合を持たないオルトキノンジアジド化合物（Ｂ−５：比較光反応性化合物）を得た。
【００９０】
（合成例１０：比較光反応性化合物合成例）
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた密閉反応容器中に、トリス（４−ヒドロキシフェニル）−１−エチル−４−イソプロピルベンゼン２１．１ｇ（０．０５ｍｏｌ）と、ナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルホニルクロリド３７．６ｇ（０．１４ｍｏｌ）と、２００ｇの乾燥Ｎ−メチルピロリドンとからなる溶液を調製した。この溶液に対し、トリエチルアミン１４．２ｇ（０．１４ｍｏｌ）を冷却下で滴下反応させた。得られた反応混合物をろ過し、得られたろ液を２．０ｌのイオン交換水にて激しく撹拌しながら処理した。析出した固形物をさらにイオン交換水にて洗浄し、ろ過フィルター上で吸引乾燥し、室温にて水分含有率が１．０重量％より少なくなるまで減圧乾燥し、これにより主骨格部にアミド結合を持たないオルトキノンジアジド化合物（Ｂ−６：比較光反応性化合物）を得た。
【００９１】
（実施例１）
攪拌機、温度計および窒素導入管を備えた三口フラスコに、前記合成例１で得られたポリマー（Ｐ−１）１０ｇとγ−ブチロラクトン１５ｇを撹拌混合して溶解させた後、さらに前記合成例５で得られた光反応性化合物（Ｂ−１）２．０ｇを加えて、室温下にて、一昼夜撹拌溶解し、その後、フィルタ濾過して感光性樹脂組成物溶液を得た。この溶液を５インチシリコンウエハ上にスピンコートした後に乾燥して、５．０±１．０μｍの塗膜を形成した。その後、この塗膜を、Ｉ線ステッパを用いパターンマスクし、露光量を２００〜１０００ｍＪ／ｃｍ2とし、露光した。これを１時間遮光箱内にて放置した後、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド水溶液を用いてパドル現像した。その結果、その解像度は露光量７８０ｍＪ／ｃｍ2で１０μｍ（最小ライン幅）まで達し、良好なレリーフパターンが得られた。
【００９２】
また、前記感光性樹脂組成物溶液を５インチシリコンウエハ上にスピンコートした後に乾燥して１５．０±１．０μｍの塗膜を形成した。その後、コンタクトアライナーを用いパターンマスクし、１０００ｍＪ／ｃｍ2の露光量にて露光した。これを１時間遮光箱内にて放置した後、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド水溶液を用いてパドル現像して１０ｍｍ×８０ｍｍの短冊状のパターンを得た。このウエハを窒素置換されたオーブンにて３００℃１時間硬化ベークし、硬化膜を得た。フッ酸水溶液を用い、短冊状の薄膜をシリコンウエハより剥離し、乾燥した後、オートグラフを用い伸び率を測定した。この結果、伸び率は２６％であった。
【００９３】
（実施例２）
配合物として、前記合成例２で得られたポリマー（Ｐ−２）１０ｇと、γ−ブチロラクトン１５ｇと、前記合成例５で得られた光反応性化合物（Ｂ−１）１．０ｇとを用い、それ以外は、実施例１と全く同様に処理してレリーフパターン形成を行った。その結果、得られたパターンの解像度は露光量４８０ｍＪ／ｃｍ2で１０μｍ（最小ライン幅）まで達し、良好なレリーフパターンが得られた。また、実施例１と同様な処理をして得られた短冊状の薄膜の伸び率を、オートグラフを用いて測定した。この結果、伸び率は３４％であった。
【００９４】
（実施例３）
配合物として、前記合成例２で得られたポリマー（Ｐ−２）１０ｇと、γ−ブチロラクトン１５ｇと、前記合成例６で得られた光反応性化合物（Ｂ−２）１．０ｇとを用い、それ以外は、実施例１と全く同様に処理してレリーフパターン形成を行った。その結果、得られたパターンの解像度は露光量５５０ｍＪ／ｃｍ2で１０μｍ（最小ライン幅）まで達し、良好なレリーフパターンが得られた。また、実施例１と同様な処理をして得られた短冊状の薄膜の伸び率を、オートグラフを用いて、測定した。この結果、伸び率は３２％であった。
【００９５】
（実施例４）
配合物として、前記合成例２で得られたポリマー（Ｐ−２）１０ｇと、γ−ブチロラクトン１５ｇと、前記合成例８で得られた光反応性化合物（Ｂ−４）１．０ｇとを用い、それ以外は、実施例１と全く同様に処理してレリーフパターン形成を行った。その結果、得られたパターンの解像度は露光量４４０ｍＪ／ｃｍ2で１０μｍ（最小ライン幅）まで達し、良好なレリーフパターンが得られた。また、実施例１と同様な処理をして得られた短冊状の薄膜の伸び率を、オートグラフを用いて、測定した。この結果、伸び率は３８％であった。
【００９６】
（実施例５）
配合物として、前記合成例２で得られたポリマー（Ｐ−２）１０ｇと、γ−ブチロラクトン１５ｇと、合成例５で得られた光反応性化合物（Ｂ−１）０．７５ｇと、前記合成例１０で得られた光反応性化合物（Ｂ−６）０．２５ｇとを用い、それ以外は、実施例１と全く同様に処理してレリーフパターン形成を行った。その結果、得られたパターンの解像度は露光量５１０ｍＪ／ｃｍ2で１０μｍ（最小ライン幅）まで達し、良好なレリーフパターンが得られた。また、実施例１と同様な処理をして得られた短冊状の薄膜の伸び率を、オートグラフを用いて、測定した。この結果、伸び率は２６％であった。
【００９７】
（実施例６）
配合物として、前記合成例３で得られたポリマー（Ｐ−３）１０ｇと、γブチロラクトン１５ｇと、前記合成例５で得られた光反応性化合物（Ｂ−１）１．０ｇとを用い、それ以外は、実施例１と全く同様に処理してレリーフパターン形成を行った。その結果、得られたパターンの解像度は露光量５００ｍＪ／ｃｍ2で１０μｍ（最小ライン幅）まで達し、良好なレリーフパターンが得られた。また、実施例１と同様な処理をして得られた短冊状の薄膜の伸び率を、オートグラフを用いて、測定した。この結果、伸び率は３０％であった。
【００９８】
（実施例７）
配合物として、前記合成例３で得られたポリマー（Ｐ−３）１０ｇと、γブチロラクトン１５ｇと、前記合成例７で得られた光反応性化合物（Ｂ−３）１．０ｇとを用い、それ以外は、実施例１と全く同様に処理してレリーフパターン形成を行った。その結果、得られたパターンの解像度は露光量４８０ｍＪ／ｃｍ2で１０μｍ（最小ライン幅）まで達し、良好なレリーフパターンが得られた。また、実施例１と同様な処理をして得られた短冊状の薄膜の伸び率を、オートグラフを用いて、測定した。この結果、伸び率は２４％であった。
【００９９】
（実施例８）
配合物として、前記合成例３で得られたポリマー（Ｐ−３）１０ｇと、γ−ブチロラクトン１５ｇと、前記合成例６で得られた光反応性化合物（Ｂ−２）０．５０ｇと、前記合成例９で得られた比較光反応性化合物（Ｂ−６）０．５０ｇとを用い、それ以外は、実施例１と全く同様に処理してレリーフパターン形成を行った。その結果、得られたパターンの解像度は露光量５４０ｍＪ／ｃｍ2で１０μｍ（最小ライン幅）まで達し、良好なレリーフパターンが得られた。また、実施例１と同様な処理をして得られた短冊状の薄膜の伸び率を、オートグラフを用いて、測定した。この結果、伸び率は２９％であった。
【０１００】
（実施例９）
配合物として、前記合成例４で得られたポリマー（Ｐ−４）１０ｇと、γ−ブチロラクトン１５ｇと、前記合成例５で得られた光反応性化合物（Ｂ−１）１．０ｇとを用い、それ以外は、実施例１と全く同様に処理してレリーフパターン形成を行った。その結果、得られたパターンの解像度は露光量６００ｍＪ／ｃｍ2で１５μｍ（最小ライン幅）まで達し、良好なレリーフパターンが得られた。また、実施例１と同様な処理をして得られた短冊状の薄膜の伸び率を、オートグラフを用いて、測定した。この結果、伸び率は２７％であった。
【０１０１】
（実施例１０）
配合物として、前記合成例４で得られたポリマー（Ｐ−４）１０ｇと、γ−ブチロラクトン１５ｇと、前記合成例６で得られた光反応性化合物（Ｂ−２）１．０ｇとを用い、それ以外は、実施例１と全く同様に処理してレリーフパターン形成を行った。その結果、得られたパターンの解像度は露光量６００ｍＪ／ｃｍ2で１５μｍ（最小ライン幅）まで達し、良好なレリーフパターンが得られた。また、実施例１と同様な処理をして得られた短冊状の薄膜の伸び率を、オートグラフを用いて、測定した。この結果、伸び率は３１％であった。
【０１０２】
（比較例１）
配合物として、前記合成例１で得られたポリマー（Ｐ−１）１０ｇと、γ−ブチロラクトン１５ｇと、前記合成例９で得られた比較光反応性化合物（Ｂ−５）２．０ｇとを用い、それ以外は、実施例１と全く同様に処理してレリーフパターン形成を行った。その結果、得られたパターンの解像度は露光量８００ｍＪ／ｃｍ2で１０μｍ（最小ライン幅）まで達し、良好なレリーフパターンが得られた。しかし、実施例１と同様な処理をして得られた短冊状の薄膜の伸び率をオートグラフを用いて測定したところ、伸び率は１０％であった。
【０１０３】
（比較例２）
配合物として、前記合成例２で得られたポリマー（Ｐ−２）１０ｇと、γ−ブチロラクトン１５ｇと、前記合成例１０で得られた比較光反応性化合物（Ｂ−６）１．０ｇとを用い、それ以外は、実施例１と全く同様に処理してレリーフパターン形成を行った。その結果、得られたパターンの解像度は露光量５７０ｍＪ／ｃｍ2で１０μｍ（最小ライン幅）まで達し、良好なレリーフパターンが得られた。しかし、実施例１と同様な処理をして得られた短冊状の薄膜の伸び率をオートグラフを用いて測定したところ、伸び率は１５％であった。
【０１０４】
（比較例３）
配合物として、前記合成例３で得られたポリマー（Ｐ−３）１０ｇと、γ−ブチロラクトン１５ｇと、前記合成例９で得られた比較光反応性化合物（Ｂ−５）１．０ｇとを用い、それ以外は、実施例１と全く同様に処理してレリーフパターン形成を行った。その結果、得られたパターンの解像度は露光量５５０ｍＪ／ｃｍ2で１０μｍ（最小ライン幅）まで達し、良好なレリーフパターンが得られた。しかし、実施例１と同様な処理をして得られた短冊状の薄膜の伸び率をオートグラフを用いて測定したところ、伸び率は８％であった。
【０１０５】
（比較例４）
配合物として，前記合成例３で得られたポリマー（Ｐ−３）１０ｇと、γ−ブチロラクトン１５ｇと、前記合成例１０で得られた比較光反応性化合物（Ｂ−６）１．０ｇとを用い、それ以外は、実施例１と全く同様に処理してレリーフパターン形成を行った。その結果、得られたパターンの解像度は露光量５７０ｍＪ／ｃｍ2で１０μｍ（最小ライン幅）まで達し、良好なレリーフパターンが得られた。しかし、実施例１と同様な処理をして得られた短冊状の薄膜の伸び率をオートグラフを用いて測定したところ、伸び率は７％であった。
【０１０６】
（比較例５）
配合物として、前記合成例４で得られたポリマー（Ｐ−４）１０ｇと、γ−ブチロラクトン１５ｇと、前記合成例１０で得られた比較光反応性化合物（Ｂ−６）１．０ｇとを用い、それ以外は、実施例１と全く同様に処理してレリーフパターン形成を行った。その結果、得られたパターンの解像度は露光量６５０ｍＪ／ｃｍ2で１５μｍ（最小ライン幅）まで達し、良好なレリーフパターンが得られた。しかし、実施例１と同様な処理をして得られた短冊状の薄膜の伸び率をオートグラフを用いて測定したところ、伸び率は１２％であった。
【０１０７】
以上の実施例および比較例における感光性重合体（ポリマー成分）と感光剤（光反応性化合物）との組み合わせ構成と、得られた感光性樹脂組成物の感光特性、伸び率の測定結果を、表１に示す。
【０１０８】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【０１０９】
以上説明したように、本発明の感光性樹脂組成物は、良好な感光特性を有し、かつ伸び特性に優れるという従来にない良好な硬化樹脂特性を有している。また、この感光性樹脂組成物を使用することにより、本発明のレリーフパターン形成方法は、伸び特性に優れたパターン層を、従来の有機溶剤現像ではなく、安価なアルカリ水溶液現像にて形成することができる。これら感光性樹脂組成物、およびレリーフパターン形成方法により、本発明の半導体デバイスは、パターン形状が良好で、伸び特性に優れたバッファーコート膜、層間絶縁膜等のパターン膜を有することができ、高い信頼性を発揮することができる。