(57)【要約】【課題】  Ｎｂ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｒ含有高耐食ステンレス鋼、あるいは高Ｓｉ、高Ａｌ高耐食ステンレス鋼において、表面光沢の優れた鋼板の製造方法を提供する。また、従来の中性塩電解法よりも優れた表面光沢を得ることのできるステンレス鋼板の製造方法を提供する。【解決手段】  ステンレス鋼を冷間圧延し、酸化性雰囲気中で焼鈍し、焼鈍後の鋼板表面にアルカリを主体とする塩類の水溶液を噴霧することによって鋼板表面のスケール改質を行い、その後中性塩電解にてスケール除去を行うことを特徴とするステンレス鋼板の製造方法である。これにより、中性塩電解法の高速処理というメリットを損なわず、高耐食ステンレス鋼を表面光沢の優れた鋼板とするとともに、中性塩電解時の電流密度を４５ｍＡ／ｃｍ2以下とすることにより、高耐食ステンレス鋼以外の通常のステンレス鋼においても、従来の中性塩電解法よりも良好な表面光沢を実現できる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ステンレス鋼を冷間圧延し、酸化性雰囲気中で焼鈍し、焼鈍後の鋼板表面にアルカリを主体とする塩類の水溶液を噴霧することによって鋼板表面のスケール改質を行い、その後中性塩を主成分とする水溶液電解（以下「中性塩電解」という。）にてスケール除去を行うことを特徴とするステンレス鋼板の製造方法。
【請求項２】
前記スケール除去後に、更に硫酸電解、硝酸電解、硝酸浸漬、フッ化水素酸と硝酸の混酸（以下「フッ硝酸」という。）浸漬のうちの１又は２以上を行うことを特徴とする請求項１に記載のステンレス鋼板の製造方法。
【請求項３】
前記アルカリを主体とする塩類の水溶液を噴霧する際の鋼板温度を２５０〜４５０℃とすることを特徴とする請求項１又は２に記載のステンレス鋼板の製造方法。
【請求項４】
前記中性塩電解時の中性塩のｐＨを３．５以上１２以下とすることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のステンレス鋼板の製造方法。
【請求項５】
ステンレス鋼板は、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｒの１種又は２種以上を含有し、これら元素の合計含有量が０．０５質量％以上であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のステンレス鋼板の製造方法。
【請求項６】
ステンレス鋼板は、Ｓｉ：０．５質量％以上、Ａｌ：０．０３質量％以上の一方又は両方を含有することを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のステンレス鋼板の製造方法。
【請求項７】
前記中性塩電解時の電流密度を４５ｍＡ／ｃｍ2以下とすることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のステンレス鋼板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面光沢に優れるステンレス鋼板、特に表面光沢に優れる高耐食ステンレス鋼板を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ステンレス鋼を冷間圧延した後、焼鈍熱処理が施される。通常は酸化性雰囲気において焼鈍を行う。この際にステンレス鋼板表面に生成する酸化スケールは商品価値を著しく損なうため、焼鈍後にスケール除去を行う必要がある。スケール除去後のステンレス鋼板表面の光沢を良好に保持するためには、スケール除去時にできるかぎりステンレス鋼板表面を侵食しない方法を採用する必要がある。また、スケール除去時の鋼板速度が速いほど、ステンレス鋼板製造能率を高めることができ、好ましい。
【０００３】
従来、焼鈍後のスケール除去方法としては、以下の３種類が用いられていた。第１は、フッ硝酸、硫酸電解または硝酸電解の三者の組み合わせで溶解除去する方法である。第２はソルトバス法と呼ばれ、４５０〜５００℃の溶融アルカリ塩槽中に鋼板を浸漬してスケール改質を行い、その後に硝酸又は硫酸電解を行う方法である。第３は、中性塩電解法であり、硫酸ナトリウム等の中性塩水溶液中で電解を行うものである。上記第１の方法が有する、浸漬時間の延長による素地金属の侵食、粒界腐食の進行などの問題を補うものとして、第２のソルトバス法、第３の中性塩電解法が広く使用されるようになった。
【０００４】
ソルトバス法においても、４５０℃を超える溶融アルカリ塩浴中において素地金属の侵食が進行するため、光沢度の高い鋼板を製造することはできない。また、通板速度を上げると溶融アルカリ塩槽からの溶融塩の持ち出し量が増加し、また槽内のスラッジを巻き上げシンクロールによる押し疵を誘発するため、高速通板が困難である。
【０００５】
中性塩電解法は、取り扱いが容易であり、特に中性塩電解の後に酸電解や酸浸漬を行わない場合には、地金をほとんど侵食しないので脱スケール後の鋼板表面光沢度を良好に保持することが可能である。また、特許文献１にも記載の通り脱スケール速度が速いので高速通板が可能であるという特徴を有する。そのため、表面光沢に優れる鋼板を高い生産能率で製造する手段として、中性塩電解法が用いられていた。
【０００６】
しかしながら、中性塩電解法では、高合金系ステンレス鋼（例えば、ＳＵＳ３１０Ｓなど）およびＮｂ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｒの１種以上を含有する高耐食ステンレス鋼あるいは高Ｓｉ、高Ａｌステンレス鋼などの高耐食ステンレス鋼の焼鈍スケールの改質・除去は困難であり、その適用範囲は限られているのが現状である。そのため、中性塩電解＋酸電解（硫酸）や中性塩電解＋酸浸漬（フッ硝酸）の組み合わせが用いられている。この方法では、高合金系や特殊元素添加系の鋼材に対して、下地溶解による肌荒れや色調不良とともに、単純な中性塩電解法なみの高い表面光沢を得ることはできないという問題点を内在している。
【０００７】
特許文献２においては、アルカリ金属水酸化物またはその混合物（以下「アルカリ塩類」という。）の特定濃度の水溶液を準備し、鋼板表面温度をアルカリ塩類の溶融温度より高く、改質が起こる温度であり、さらにライデンフロスト効果が現れる温度より低い温度（好ましくは２３２℃〜３７１℃）に制御した上で鋼板の表面に前記水溶液を噴霧する金属表面のスケール改質方法が記載されている。上記好ましい温度範囲にある金属表面に水溶液を噴霧すると、水溶液の水が蒸発し、アルカリ塩類が溶融し、鋼板表面の酸化物と急速に反応が起き、スケールが改質されるとしている。スケール改質後には、硫酸酸洗と硝酸酸洗、あるいは硫酸酸洗とフッ硝酸酸洗などの仕上げ酸洗が行われる。
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−１５８６９９号公報
【特許文献２】米国特許第６４５０１８３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
高合金系ステンレス鋼（例えばＳＵＳ３１０Ｓなど）およびＮｂ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｒの１種以上を含有する高耐食ステンレス鋼、あるいは高Ｓｉ、高Ａｌステンレス鋼などの高耐食ステンレス鋼については、上記のように中性塩電解法のみでは脱スケールが困難であり、しかも表面光沢の優れた鋼板を製造することができなかった。また、中性塩電解法を通常のステンレス鋼に適用するに際し、地金侵食が少ないといってもわずかな侵食が存在し、光沢の低下が認められる。
【００１０】
本発明は、上記高耐食ステンレス鋼において表面光沢の優れた鋼板の製造方法を提供することを第１の目的とする。また、従来の中性塩電解法よりも優れた表面光沢を得ることのできるステンレス鋼板の製造方法を提供することを第２の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明は、鋼板表面にアルカリを主体とする塩類の水溶液を噴霧するスケール改質方法と中性塩電解法とを組み合わせることにより、中性塩電解法の高速処理というメリットを損なわず、高耐食ステンレス鋼を表面光沢の優れた鋼板とすることを可能とするとともに、高耐食ステンレス鋼以外の通常のステンレス鋼においても、従来の中性塩電解法よりも良好な表面光沢を実現した。
【００１２】
即ち、本発明の要旨とするところは以下の通りである。
（１）ステンレス鋼を冷間圧延し、酸化性雰囲気中で焼鈍し、焼鈍後の鋼板表面にアルカリを主体とする塩類の水溶液を噴霧することによって鋼板表面のスケール改質を行い、その後中性塩を主成分とする水溶液電解（以下「中性塩電解」という。）にてスケール除去を行うことを特徴とするステンレス鋼板の製造方法。
（２）前記スケール除去後に、更に硫酸電解、硝酸電解、硝酸浸漬、フッ化水素酸と硝酸の混酸（以下「フッ硝酸」という。）浸漬のうちの１又は２以上を行うことを特徴とする上記（１）に記載のステンレス鋼板の製造方法。
（３）前記アルカリを主体とする塩類の水溶液を噴霧する際の鋼板温度を２５０〜４５０℃とすることを特徴とする上記（１）又は（２）に記載のステンレス鋼板の製造方法。
（４）前記中性塩電解時の中性塩のｐＨを３．５以上１２以下とすることを特徴とする上記（１）乃至（３）のいずれかに記載のステンレス鋼板の製造方法。
（５）ステンレス鋼板は、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｒの１種又は２種以上を含有し、これら元素の合計含有量が０．０５質量％以上であることを特徴とする上記（１）乃至（４）のいずれかに記載のステンレス鋼板の製造方法。
（６）ステンレス鋼板は、Ｓｉ：０．５質量％以上、Ａｌ：０．０３質量％以上の一方又は両方を含有することを特徴とする上記（１）乃至（５）のいずれかに記載のステンレス鋼板の製造方法。
（７）前記中性塩電解時の電流密度を４５ｍＡ／ｃｍ2以下とすることを特徴とする上記（１）乃至（４）のいずれかに記載のステンレス鋼板の製造方法。
【００１３】
本発明において、「アルカリを主体とする塩類」とは、水酸化カリウムや水酸化ナトリウムなどのアルカリを主体とし、これに必要に応じて過マンガン酸カリウムなどの酸化剤を添加した塩類をいう。もちろん、アルカリのみからなる場合を含む。
【発明の効果】
【００１４】
本発明は、鋼板表面にアルカリを主体とする塩類の水溶液を噴霧するスケール改質方法と中性塩電解法とを組み合わせることにより、中性塩電解法の高速処理というメリットを損なわず、高耐食ステンレス鋼を表面光沢の優れた鋼板とすることを可能とする。また、中性塩電解における電流密度を４５ｍＡ／ｃｍ2以下とすることにより、高耐食ステンレス鋼以外の通常のステンレス鋼においても、従来の中性塩電解法よりも良好な表面光沢を実現した。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明のステンレス鋼板の製造方法について、図１に基づいて説明を行う。
【００１６】
ステンレス鋼を冷間圧延し、冷間圧延を完了したステンレス鋼板はコイルに巻き取られている。このステンレス鋼板のコイルを巻き戻し機１０において巻き戻し、巻き戻された鋼板１は、焼鈍工程２−冷却工程３−スケール改質工程４−中性塩電解工程５を通過し、その後巻き取り機１１において再度コイルに巻き取られる。冷間圧延後に鋼板をコイルに巻き取らず、連続して焼鈍以降の工程をそのまま行うこととしても良い。
【００１７】
鋼板表面にアルカリを主体とする塩類の水溶液を噴霧する本発明のスケール改質方法においては、後で詳述するように、水溶液を噴霧する際の鋼板温度を４５０℃以下の低い温度とすることができる。このような低い温度範囲でスケール改質を行うと、改質中における下地金属の侵食はソルトバス法に比べ極めて少ない。従来のソルトバス法において、４５０℃を超える溶融アルカリ塩浴中において素地金属の侵食が進行することと対照的である。また、アルカリ水溶液噴霧によるスケール改質方法においては、通板速度として６０ｍ／ｍｉｎ以上の高速通板速度を採用することができる。
【００１８】
このように下地金属の侵食が少なくかつ通板速度を速くできるアルカリ水溶液噴霧によるスケール改質方法と、同じく下地金属の侵食が少なく通板速度の速い中性塩電解法を組み合わせることにより、強力なスケール除去能力を確保しつつ、スケール除去後の鋼板表面光沢に優れ、かつ高速処理を可能にすることができる。
【００１９】
従来、高耐食性ではない通常のステンレス鋼板について、中性塩電解法によってステンレス鋼板を製造する際においては、もともとの弱いデスケール能力を補うため、中性塩電解における電流密度を６０ｍＡ／ｃｍ2あるいはそれ以上で電解することや、中性塩電解後に硫酸電解やフッ硝酸浸漬処理する必要があった。例えば、ＳＵＳ４３０の場合、中性塩電解法においてもわずかな地金侵食が存在し、光沢の低下が認められていたのは、このように高い電流密度を採用することと、中性塩電解後の硫酸電解が原因であった。
【００２０】
また、高合金系ステンレス鋼（例えばＳＵＳ３１０Ｓなど）およびＮｂ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｒの１種以上を含有する高耐食ステンレス鋼、あるいは高Ｓｉ、高Ａｌステンレス鋼などの高耐食ステンレス鋼は、中性塩電解法に酸電解や酸浸漬を組み合わせてスケール除去が行われているが、表面光沢の優れた鋼板を製造することができなかった。本発明においては、アルカリ水溶液噴霧によるスケール改質手段と改質スケールのみを溶解する中性塩電解法を組み合わせることにより、前述の高耐食ステンレス鋼においても容易にスケール改質がされ、表面品質（光沢度、色調、粗度など）の優れた製品を造り込むことが可能となった。そして、この方法は上述の通りスケール除去後の鋼板表面光沢に優れるので、本発明法によってはじめて、表面光沢に優れた高耐食ステンレス鋼板を通常焼鈍法の下で製造することが可能になった。
【００２１】
本発明においては、中性塩電解の前にアルカリ水溶液噴霧によるスケール改質を行っているので、中性塩電解における電流密度を４５ｍＡ／ｃｍ2以下としても十分にスケール改質と除去を行うことを可能とし中性塩電解時の地金侵食を極限まで低減し、スケール除去後のステンレス鋼板表面光沢を、従来の中性塩電解のみを行う方法に比較して改善することができた。
【００２２】
以下、本発明の各工程について詳細に説明する。
【００２３】
本発明においては、焼鈍方法は酸化性雰囲気中にて行う。通常は重油、天然ガスなどの燃焼雰囲気での焼鈍を選定することが可能である。
【００２４】
焼鈍工程２において焼鈍が完了し、次の冷却工程３で適切な温度に冷却された鋼板が、スケール改質工程４に供給される。ここでは、アルカリを主体とする塩類の水溶液を噴霧ノズル１２から噴霧し、鋼板の表裏面に付着させる。水溶液の液滴を空気と共に噴霧するためのノズルが鋼板１の上方（１２ａ）と下方（１２ｂ）に配置される。鋼板の表面に到達した水溶液の液滴は、その大部分が鋼板表面に被着する。アルカリを主体とする塩類の水溶液が鋼板表面に被着すると、鋼板が有している熱によって水が蒸発し、さらに被着した塩類が溶融する。
【００２５】
鋼板表面にアルカリを主体とする塩類の水溶液を噴霧するときの鋼板温度は、あまりにも低いと、噴霧時の水分気化により鋼板温度がアルカリなどの塩類の溶融温度（凝固開始温度）以下になってしまう。ここまで低い温度でなくとも、スケール改質反応を鋼板表面のいたる場所で均等に進行させるには特定の温度以上の鋼材に対して噴霧を行う必要がある。一方で、板温度が過度に高い場合には、水分の急激な蒸発が起こり鋼板と溶融塩膜の間に蒸気膜が形成され部分的なスケール残りや光沢不良を生じる。また、ここまで鋼板温度が高くない場合でも、高温での噴霧処理は部分的な反応過多をまねき、アルカリ塩の下地金属侵食による光沢不均一を生じる。すなわち、鋼板表面にアルカリを主体とする塩類の水溶液を噴霧するときの鋼板温度は、スケール改質反応が鋼板表面のいたる場所で均等に進行する温度で、かつ下地金属を侵食しない温度範囲に制御する必要がある。具体的には、アルカリ水溶液噴霧時に板温度の低下が生じるので、鋼板温度を２５０〜４５０℃に調整した上で水溶液を噴霧するとよい。より好ましくは２９０〜４００℃とする。
【００２６】
溶融した塩類は、水酸化ナトリウムや水酸化カリウムなどのアルカリを主体としており、溶融したアルカリがステンレス鋼板表面のスケールと反応し、スケールを水可溶性スケールに改質することができる。
【００２７】
本発明のスケール改質方法において、水溶液として鋼板表面に噴霧されるアルカリを主体とした塩類は、アルカリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物を主成分として、これに酸化剤と添加剤を加えた混合塩を用いることができる。酸化剤としては、Ｃｒ2Ｏ3をＣｒＯ42-に酸化することができる酸化還元電位を有する化合物であればよい。具体的には、過マンガン酸塩、硝酸塩、アルカリ金属過酸化物もしくは酸化物、アルカリ土類金属過酸化物もしくは酸化物が好適である。添加剤は、ハロゲン化物であり、スケール改質反応の触媒的作用を付与するものであり、必要により添加すればよい。具体的な化合物としては、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化鉄などである。また、水溶液の濃度は、３０〜６０質量％が好ましい。濃度が低すぎると、噴霧時に水分が多量に蒸発するため鋼板温度が大きく低下してしまう。逆に、濃度が高いと水溶液の粘性と比重が増しノズルによる均一噴霧や微小粒子生成が困難となる。
【００２８】
鋼板表面におけるアルカリを主体とした塩類の噴霧量は、５〜３０ｍＬ／ｍ2とすると好ましい。噴霧量が少ないと鋼板表面に均一に塗布することが難しくなり、過度の噴霧は板温度の低下をまねく。
【００２９】
アルカリを主体とした塩類を鋼板表面に噴霧するための噴霧ノズル１２としては霧化ノズルを適用し，液と空気との混合割合を体積比で１対１００〜３００程度とし，空気圧力を１〜３ｋｇ／ｃｍ2程度とすると好ましい。
【００３０】
アルカリを主体とした塩類を鋼板表面に噴霧した後、スケール改質を行うための所定の時間経過後、鋼板を水冷あるいは空冷と水冷の組み合わせによって冷却し、水冷時において鋼板表面に付着した塩類を除去する。図１に示す例においては、空冷ノズル１４を用いて鋼板の空冷を行った後、鋼板を水槽１５に浸漬させて水冷及び塩類の除去を行っている。
【００３１】
スケール改質工程４に引き続いて中性塩電解工程５において中性塩電解を行う。本発明においては、ＳＵＳ４３０のように比較的耐食性の低い鋼種では、中性塩電解を行った後には酸電解あるいは酸浸漬処理は行わなくても良いが、必要に応じて行ってもよい。しかし、耐食性の高い鋼種では、必要に応じて、フェライト系ステンレス鋼では硫酸電解、硝酸電解あるいは硝酸浸漬、もしくはこれらの複合処理、オーステナイト系ステンレス鋼では硫酸電解あるいはフッ硝酸浸漬、もしくはこれらの複合処理を実施することができる。処理時間や処理条件は、下地金属の過度の侵食を防止するため、通常の中性塩電解法に比較し、短時間、低温度、低濃度、低電流密度で構わない。
【００３２】
中性塩電解に用いる中性塩としては、Ｎａ2ＳＯ4、ＮａＮＯ3、Ｎａ3ＰＯ4などの水溶液を用いることができる。水溶液のｐＨを３．５以上１２以下の範囲とすれば、中性塩電解を行う際に下地を侵食しないという点で好ましい。
【００３３】
中性塩電解における電流密度を、従来から行われている中性塩電解と同様に電流密度を６０ｍＡ／ｃｍ2あるいはそれ以上とすれば、中性塩電解の前に行うスケール改質とあいまって、高いスケール除去能力を保有することができる。従って、Ｎｂ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｒの１種以上を含有する高耐食ステンレス鋼、あるいは高Ｓｉ、高Ａｌステンレス鋼などの高耐食ステンレス鋼においても、本発明のアルカリ水溶液噴霧によるスケール改質方法と中性塩電解法のみの組み合わせにより、十分にスケールを除去することができる。又、中性塩電解後の酸電解や酸浸漬処理と組み合わせ、その条件を緩和することによりスケール除去後の鋼板表面を極めて光沢に優れた表面とすることができる。
【００３４】
本発明のアルカリ水溶液噴霧によるスケール改質方法と中性塩電解法のみの組み合わせは、上述の通り高いスケール除去能力を有するので、高耐食ステンレス鋼ではない通常のステンレス鋼板を処理する場合においては、中性塩電解における電流密度を４５ｍＡ／ｃｍ2以下としても十分にスケール除去を行うことが可能になった。そして、電流密度を４５ｍＡ／ｃｍ2以下とすることによって、中性塩電解時の地金侵食を極限まで低減し、スケール除去後のステンレス鋼板表面光沢を極めて良好な状況とすることができる。
【００３５】
更に、本発明は、高合金鋼（ＳＵＳ３１０Ｓなど）およびＮｂ、Ｔｉ、Ｖ、Ｗ、Ｚｒの１種又は２種以上を含有し、これら元素の合計含有量が０．０５質量％以上である高耐食ステンレス鋼およびＳｉ：０．５質量％以上、Ａｌ：０．０３質量％以上の一方又は両方を含有する高耐食ステンレス鋼に優れた効果を発揮することができる。これら元素含有量を有する高耐食ステンレス鋼においては、脱スケール性が良くないため、従来の中性塩電解ではその後に酸電解や酸侵食処理を行っているが良好な表面光沢を実現することができていなかったのに対し、本発明を適用することによって表面光沢を改善することができる。
【実施例】
【００３６】
（実施例１）
表１の鋼種Ａ〜Ｉに示す化学組成を有し、板厚が０．５ｍｍの試験材を用い、各鋼種それぞれ表１に示す焼鈍温度で焼鈍を行った後、表２のＮｏ．１〜１１に示す各種処理条件でスケール除去処理を行った。Ｎｏ．１〜３が本発明例であり、Ｎｏ．４〜１１が比較例である。スケール除去の各処理工程における詳細な処理条件は以下の通りである。
【００３７】
ソルト水溶液スプレーにおいては、水酸化カリウムが２５質量％、水酸化ナトリウムが１５質量％、過マンガン酸カリウムが１質量％の水溶液を用い、噴霧量は２０ｍＬ／ｍ2とした。噴霧後の保温時間は５秒とし保温時間終了後に強制空冷あるいはディップ水洗実施した。噴霧時の板温度は３５０℃である。
【００３８】
ソルト浴浸漬においては、ソルト浴の組成を２８質量％ＮａＮＯ3＋１質量％ＮａＣｌ＋１質量％ＫＯＨ＋残部ＮａＯＨ、ソルト浴温度を４５０℃、有効槽長を７ｍとした。
【００３９】
中性塩電解においては、電解液組成を１５０ｇ／Ｌ  Ｎａ2ＳＯ4（ｐＨ＝６．０）、電流密度を３０ｍＡ／ｃｍ2、アノード電解時間を８秒、カソード電解時間を８秒（交番電解）、有効槽長を３０ｍとした。
【００４０】
フッ硝酸浸漬においては、フッ硝酸液組成をＨＦ＝４０ｇ／Ｌ、ＨＮＯ3＝８０ｇ／Ｌとし、液温度を５０℃、有効槽長を１２ｍとした。
【００４１】
硫酸電解においては、液組成を１００ｇ／Ｌ  Ｈ2ＳＯ4とし、電流密度を６５ｍＡ／ｃｍ2、アノード電解時間を５秒、カソード電解時間を５秒（交番電解）、有効槽長を２０ｍとした。
【００４２】
硝酸電解においては、液組成を１５０ｇ／Ｌ  ＨＮＯ3とし、電流密度を６０ｍＡ／ｃｍ2、アノード電解時間を３秒、カソード電解時間を３秒（交番電解）、有効槽長を２０ｍとした。
【００４３】
通板速度についてはいずれも１０ｍ／ｍｉｎからスタートし、順次通板速度を速めていき、スケール残り、光沢ムラ、ソルト浴に起因するキズ発生、ソルト持ち出し起因の光沢ムラなどで限界と判断される通板速度を把握し、限界通板速度とした。併せて、限界通板速度におけるスケール残りと光沢度を評価した。スケール残りの評価は、スケール残存なしを「○」、一部に薄く斑点状に残存したものを「△」、全面に斑点状に残存したものを「×」とした。鋼板の光沢度は、フェライト系鋼種は酸洗デスケール後に、オーステナイト系鋼種はスキンパス圧延後に、ＪＩＳ  Ｚ  ８７４１に基づいて、板の圧延方向のＧＳ（４５°）を計測した。尚、スケール残りのある条件（×印）では光沢計測を実施しなかった例もある。
【００４４】
【表１】
2005068523.tif 000003
【００４５】
【表２】
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【００４６】
各鋼種毎に、各種スケール除去条件によってスケール除去を行った結果を表３〜表６に示す。表３は高耐食ステンレス鋼ではない通常のステンレス鋼板における評価結果であり、表４〜表６は高耐食ステンレス鋼板における評価結果である。通板速度については、５０ｍ／ｍｉｎ超を合格とした。光沢度については、フェライト系鋼種では７５０以上を合格、８００以上であればより良好とし、オーステナイト系鋼種では３４０〜３６０を合格とした。本発明範囲から外れる数値については表中にてアンダーラインを付している。
【００４７】
【表３】
2005068523.tif 000005
【００４８】
【表４】
2005068523.tif 000006
【００４９】
【表５】
2005068523.tif 000007
【００５０】
【表６】
2005068523.tif 000008
【００５１】
本発明例であるスケール除去処理条件Ｎｏ．１〜３においては、鋼種Ａ〜Ｉのいずれの鋼種においても、高い限界通板速度を実現し、スケール残りが発生せずに良好であり、良好な光沢度を得ることができた。
【００５２】
比較例であるスケール除去処理条件Ｎｏ．４〜１１においては、いずれも限界通板速度が目標に達せず、鋼種によっては最低通板速度である１０ｍ／ｍｉｎにおいてスケール除去が不良であった。光沢度についても、光沢度が目標に達しないかあるいは本発明例に比較して低い光沢度であった。
【００５３】
（実施例２）
表２に示すスケール除去条件のうちＮｏ．１、２、３の条件について、表１に示す鋼種のうち鋼種Ａ、Ｃ、Ｇ、Ｈのスケール除去を行うに際し、ソルト水溶液噴霧時の板温度を２２０〜５００℃で変化させ、スケール除去後のスケール残り状況及び光沢度の評価を行った。スケール残り評価条件及び光沢度評価条件については上記実施例１と同様である。下記実施例３、４についても同様である。
【００５４】
結果を表７に示す。いずれの鋼種においても、ソルト水溶液噴霧時の板温度が２５０〜４５０℃の範囲において良好なスケール除去状況と良好な光沢度を実現することができた。
【００５５】
【表７】
2005068523.tif 000009
【００５６】
（実施例３）
表２に示すスケール除去条件のうちＮｏ．１、２、３の条件について、表１に示す鋼種のうち鋼種Ａ、Ｃ、Ｇ、Ｈのスケール除去を行うに際し、中性塩電解液のｐＨを１．０〜１３．０の間で変化させ、スケール除去後のスケール残り状況及び光沢度の評価を行った。中性塩電解液として０．１ｍｏｌ／Ｌ  Ｎａ2ＳＯ4にＨ2ＳＯ4もしくはＮａＯＨを加えて調合することによりｐＨの調整を行った。
【００５７】
結果を表８に示す。いずれの鋼種においても、中性塩電解液のｐＨが３．５〜１２．０の範囲において良好なスケール除去状況と良好な光沢度を実現することができた。
【００５８】
【表８】
2005068523.tif 000010
【００５９】
（実施例４）
表２に示すスケール除去条件のうちＮｏ．１、２、３の条件について、表１に示す鋼種のうち鋼種Ａ、Ｃ、Ｇ、Ｈのスケール除去を行うに際し、中性塩電解時の電流密度を２０〜１００ｍＡ／ｃｍ2の間で変化させ、スケール除去後のスケール残り状況及び光沢度の評価を行った。
【００６０】
結果を表９に示す。いずれの鋼種においても、中性塩電解時の電流密度が２０〜４５ｍＡ／ｃｍ2の間で良好なスケール除去状況と良好な光沢度を実現することができた。
【００６１】
【表９】
2005068523.tif 000011
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明のステンレス鋼製造工程を示す概略図である。
【符号の説明】
【００６３】
１  鋼板
２  焼鈍工程
３  冷却工程
４  スケール改質工程
５  中性塩電解工程
６  硫酸電解工程
６’硝酸電解工程
７  フッ硝酸浸漬工程
８  水洗工程
１０  巻き戻し機
１１  巻き取り機
１２  噴霧ノズル
１４  空冷ノズル
１５  水槽
【図１】
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