(57)【要約】【課題】  優れた耐熱性、光学特性および力学特性を併有する樹脂組成物、前記樹脂組成物を用いた光学フィルム、光学部品、および該樹脂よりなるプラスチックフィルム基板を用いてなるフラットパネルディスプレイの提供。【解決手段】  下記一般式（１）または（２）で表される化学構造をポリマー中に含有させる。    【化１】2005272616.tif 000032    【化２】2005272616.tif 000033【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）または（２）で表される化学構造を繰り返し単位として有することを特徴とする樹脂組成物。
【化１】
2005272616.tif 000029
一般式（１）中、環αは単環式または多環式の環を表し、２つの環αは同一であっても異なっていてもよく、２つの環はスピロ結合によって結合されている。
【化２】
2005272616.tif 000030
一般式（２）中、環βおよび環γは、単環式または多環式の環を表し、２つの環γはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、環β上の１つの４級炭素に連結される。
【請求項２】
下記一般式（３）で表されるジカルボン酸。
【化３】
2005272616.tif 000031
一般式（３）中、Ｒ31〜Ｒ36はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ｍおよびｎはそれぞれ独立に０〜３の整数である。
【請求項３】
請求項２に記載のジカルボン酸またはその誘導体から誘導される請求項１に記載の樹脂組成物。
【請求項４】
請求項１または３に記載の樹脂組成物を用いてなることを特徴とするフィルム。
【請求項５】
請求項１または３に記載の樹脂組成物を用いてなることを特徴とする光学フィルム。
【請求項６】
請求項１または３に記載の樹脂組成物を用いてなることを特徴とする光学部品。
【請求項７】
請求項４または５に記載のフィルムの少なくとも片面側にガスバリア層を設けたことを特徴とするガスバリアフィルム。
【請求項８】
請求項４、５および７のいずれか一項に記載のフィルムの少なくとも片面側に透明導電層を設けたこと特徴とする導電フィルム。
【請求項９】
請求項８に記載の導電フィルムを基板として用いることを特徴とする画像表示装置。
【請求項１０】
請求項８に記載の導電フィルムを基板として用いることを特徴とするフラットパネルディスプレイ。
【請求項１１】
表示デバイスが液晶パネルまたは有機エレクトロルミネッセンスパネルであることを特徴とする請求項１０に記載のフラットパネルディスプレイ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、耐熱性、光学特性および力学特性に優れた新規な樹脂組成物、該樹脂組成物からなるフィルムおよび光学部品、ならびに該フィルムを用いた画像表示素子およびフラットパネルディスプレイに関する。
【背景技術】
【０００２】
無機ガラス材料は、透明性および耐熱性に優れ、かつ光学異方性も小さいことから、透明材料として広く使用されている。しかし、無機ガラスは、比重が大きく、かつ脆いため、成型されたガラス製品は重く、破損しやすい等の欠点を有している。このような欠点から、近年は、無機ガラス材料に代替するプラスチック材料の開発が盛んに行われている。
【０００３】
こうした無機ガラス材料の代替を目的としたプラスチック材料として、例えば、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート等が知られている。これらのプラスチック材料は、軽量で力学特性に優れ、かつ加工性にも優れているため、最近では、例えばレンズやフィルムなどの様々な用途に使用されている。
【０００４】
一方、液晶表示素子等のフラットパネルディスプレイ分野では、耐破損性の向上、軽量化、薄型化のニーズが高まり、ガラス基板からプラスチックフィルム基板に置き換えることが検討されている。プラスチックフィルム基板はフレキシブルな基板となり得るため、携帯電話や、電子手帳、ラップトップ型パソコンなど携帯情報端末などの移動型情報通信機器用表示装置の基板として、利用できるため、特に高いニーズがある。
【０００５】
上記目的に使用される耐熱性プラスチックとしては、これまでに耐熱性の非晶ポリマー、例えば変性ポリカーボネート（変性ＰＣ：例えば、特許文献１参照）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ：例えば、特許文献２参照）、シクロオレフィンコポリマーが（例えば、特許分権３参照）知られている。
しかしながら、これらの耐熱性プラスチックを用いてもプラスチックフィルム基板として十分な耐熱性が得られないという問題があった。すなわち、これらの耐熱性プラスチックを用いたプラスチック基板に導電層を形成させた後、配向膜などを付与するため１５０℃以上の温度に曝した場合、導電性とガスバリア性が大きく低下するという問題があった。また、アクティブマトリクス型画像素子作製時のＴＦＴを設置する際には、更なる耐熱性が要求されるという問題もあった。
【０００６】
さらに、従来のプラスチックフィルム基板は、光学特性の面でガラス基板に劣る。すなわち、ガラスは本質的に光学等方的であるという特性を有するが、プラスチックは、製膜条件と樹脂特有の固有複屈折から、フィルム形状に成形された場合、分子配向に起因する複屈折を発生する。基板として用いられるプラスチックフィルムに複屈折があると、表示の着色・コントラストの低下等、ディスプレイの表示品位の著しい低下をもたらすこととなる。したがって、プラスチックフィルム基板には光学的等方性が要求され、かつ耐熱性を満足することが要求される。
【０００７】
プラスチックフィルム基板における光学特性上の問題を解決する一つの方法として、例えば、前述の特許文献１には、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン（以下ＢＰＦＬという）とビスフェノールＡを共重合したポリカーボネートが記載されている。特許文献１は、負の複屈折を有するＢＰＦＬを用いることによりポリマーとしての複屈折を小さくする技術が記載されている。しかし、特許文献１に記載のポリカーボネートは、低複屈折であるが、耐熱性が不十分であるという欠点があった。また、特許文献４には、スピロビインダンジオールのようなスピロ化合物を用いた低複屈折性ポリカーボネートが記載されている。しかし、特許文献４に記載のポリカーボネートは、低複屈折性ではあるが、力学特性が著しく悪く、成型して得られるフィルムは脆く、実用面では問題があった。
【０００８】
一方、スピロビインダンのようなスピロ構造を持つビスフェノール、フルオレンのようなカルド構造をもつビスフェノールを用いることで耐熱性を向上できることが知られている（例えば、特許文献５〜７）。しかし、従来の方法では、ジカルボン酸は一般的な構造を持つもの（例えばテレフタル酸、イソフタル酸）しか用いられておらず、ポリマー主鎖中にスピロ構造またはカルド構造を最大で５０モル％しか導入することができなかった。
【０００９】
以上のようなことから、高い耐熱性を有し、かつ力学特性や光学特性などの要求性能を十分に満足するプラスチックフィルム基板は未だ見出されておらず、これまでに提案されてきたプラスチック材料の問題点の解決が強く望まれていた。
【特許文献１】特開２０００−２２７６０３号公報（請求項７、［０００９］〜［００１９］）
【特許文献２】特開２０００−２８４７１７号公報（［００１０］、［００２１］〜［００２７］）
【特許文献３】特開２００１−１５０５８４号公報（［００２７］〜［００３９］）
【特許文献４】特開昭６３−３１４２３５号公報（特許請求の範囲）
【特許文献５】特開昭６０−１４４３２６号公報（特許請求の範囲）
【特許文献６】特開昭５７−１９２４３２号公報（請求項１、第８頁実施例６の表）
【特許文献７】特開平３−２８２２２号公報（請求項１）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は従来のプラスチック材料の問題点を解消するためになされたものであり、本発明の目的は、優れた耐熱性、光学特性および力学特性を併有する樹脂組成物を提供することにある。
また、本発明のもう一つの目的は、前記樹脂組成物を用いた光学フィルム、光学部品、および該樹脂よりなるプラスチックフィルム基板を用いてなるフラットパネルディスプレイを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、前記課題を解決するため、プラスチック材料を鋭意検討した結果、スピロ構造またはカルド構造を持つ繰り返し単位を含有することを特徴とするポリマーによって上記の問題が解決でき、かつ得られた樹脂組成物が耐熱性、光学特性、力学物性などをすべて満足することを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１２】
すなわち、本発明の上記の目的は、以下の（１）〜（９）の本発明により達成した。
（１）  下記一般式（１）または（２）で表される化学構造を繰り返し単位として有することを特徴とする樹脂組成物。
【００１３】
【化１】
2005272616.tif 000002
【００１４】
一般式（１）中、環αは単環式または多環式の環を表し、２つの環αは同一であっても異なっていてもよく、２つの環はスピロ結合によって結合される。
【００１５】
【化２】
2005272616.tif 000003
【００１６】
一般式（２）中、環βおよび環γは、単環式または多環式の環を表し、２つの環γはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、環β上の１つの４級炭素に連結される。
（２）  下記一般式（３）で表されるジカルボン酸。
【００１７】
【化３】
2005272616.tif 000004
【００１８】
一般式（３）中、Ｒ31〜Ｒ36はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、ｍおよびｎはそれぞれ独立に０〜３の整数である。
（３）  （２）に記載のジカルボン酸またはその誘導体から誘導される（１）に記載の樹脂組成物。
（４）  （１）または（３）に記載の樹脂組成物を用いてなることを特徴とするフィルム。
（５）  （１）または（３）に記載の樹脂組成物を用いてなることを特徴とする光学フィルム。
（６）  （１）または（３）に記載の樹脂組成物を用いてなることを特徴とする光学部品。
（７）  （４）または（５）に記載のフィルムの少なくとも片側にガスバリア層を設けたことを特徴とするガスバリアフィルム。
（８）  （４）、（５）および（７）のいずれか一項に記載のフィルムの少なくとも片側に透明導電層を設けたこと特徴とする導電フィルム。
（９）  （８）に記載の導電フィルムを基板として用いることを特徴とする画像表示装置。
（１０）  （８）に記載の導電フィルムを基板として用いることを特徴とするフラットパネルディスプレイ。
（１１）  表示デバイスが液晶パネルまたは有機エレクトロルミネッセンスパネルであることを特徴とする（１０）に記載のフラットパネルディスプレイ。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の樹脂組成物は、所定のスピロ構造またはカルド構造を繰り返し単位として含む。これにより本発明によれば、優れた耐熱性、光学特性および力学特性を全て満たす樹脂組成物を提供できる。また、本発明のフィルムおよび光学部品は、前記樹脂組成物を用いるため、本発明によれば、優れた耐熱性、光学特性および力学特性を併有するフィルムを提供できる。また、本発明の画像表示素子およびフラットパネルディスプレイは導電層を有する前記フィルムを用いているため、本発明によれば、高品質の画像表示素子およびフラットパネルディスプレイを提供できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下に本発明の樹脂組成物、光学部品、フィルムおよびフラットパネルディスプレイについて説明する。
なお、本明細書において「〜」は、その前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味として使用される。
【００２１】
［樹脂組成物およびその中間体］
本発明の樹脂組成物は、下記一般式（１）または（２）で表される化学構造を繰り返し単位としてポリマーの主鎖に含有する。
【００２２】
【化４】
2005272616.tif 000005
【００２３】
一般式（１）中、環αは、単環式または多環式の環を表し、２つの環αは同一であっても異なっていてもよく、２つの環はスピロ結合によって結合されている。
【００２４】
【化５】
2005272616.tif 000006
【００２５】
一般式（２）中、環βおよび環γは、単環式または多環式の環を表し、２つの環γはそれぞれ同一であっても異なっていてもよく、環β上の１つの４級炭素に連結されている。
【００２６】
一般式（１）中、環αは単環式または多環式の構造を表すが、多環式構造であることが好ましく、２〜５環であることがより好ましく、２〜３環であることがさらに好ましい。カルボニル基が結合する環の構造は、脂環または芳香環のいずれであってもよいが、芳香環であることが好ましい。
【００２７】
環αは置換基を有していてもよく、好ましい置換基としては、アルキル基（炭素数１〜１０が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基など）、ハロゲン原子（例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など）、アリール基（炭素数６〜２０が好ましく、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基など）、アルコキシ基（炭素数１〜１０が好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基など）、アシル基（炭素数２〜１０が好ましく、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基など）、アシルアミノ基（炭素数１〜１０が好ましく、例えば、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基など）、ニトロ基、シアノ基などが挙げられる。
【００２８】
一般式（１）で表される構造の好ましい例として、一般式（４）で表されるスピロビベンゾフラン構造、一般式（５）で表されるスピロビインダン構造、一般式（６）で表されるスピロビクロマン構造が挙げられる。
【００２９】
【化６】
2005272616.tif 000007
【００３０】
一般式（４）中、Ｒ41〜Ｒ46はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。置換基の例としては、一般式（１）で例示したものが挙げられる。Ｒ41〜Ｒ44は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基であることが好ましく、水素原子がより好ましい。Ｒ45およびＲ46は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、ニトロ基またはシアノ基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基であることがさらに好ましい。ｒおよびｓは、それぞれ０〜３の整数を表し、０〜２の整数であることが好ましい。Ｒ41〜Ｒ46は、連結して環を形成していてもよく、５〜７員環であることが好ましい。カルボニル基が結合する位置は、芳香環のいずれの位置でもよいが、ベンゾフラン骨格の５位または６位であることが好ましい。
【００３１】
【化７】
2005272616.tif 000008
【００３２】
一般式（５）中、Ｒ51〜Ｒ510は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。置換基の例としては、一般式（１）で例示したものが挙げられる。Ｒ51〜Ｒ54は、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基またはハロゲン原子であることが好ましく、アルキル基、ハロゲン原子であることがより好ましい。Ｒ55〜Ｒ58は、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシルアミノ基、ニトロ基、シアノ基またはハロゲン原子であることが好ましく、水素原子、アルキル基またはハロゲン原子であることがより好ましい。ｋおよびｌは、それぞれ０〜３の整数を表し、０〜２の整数であることが好ましい。Ｒ59およびＲ510は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アミド基、ニトロ基またはシアノ基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基であることがより好ましい。Ｒ51〜Ｒ510は、それぞれ互いに結合して、５〜７員環を形成してもよい。カルボニル基が結合する位置は、芳香環のいずれの位置でもよいが、インダン骨格の５位または６位であることが好ましい。
【００３３】
【化８】
2005272616.tif 000009
【００３４】
一般式（６）中、Ｒ61〜Ｒ610は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表す。置換基の例としては、一般式（１）で例示したものが挙げられる。Ｒ61〜Ｒ64は、アルキル基、アリール基またはハロゲン原子であることが好ましい。Ｒ65〜Ｒ68は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアリール基であることが好ましい。ｐおよびｑは、それぞれ０〜３の整数を表し、０〜２の整数であることが好ましい。Ｒ69およびＲ610は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基またはアルコキシ基であることが好ましい。Ｒ61〜Ｒ610は、それぞれ互いに結合して、５〜７員環を形成してもよい。カルボニル基が結合する位置は芳香環のいずれの位置でもよいが、クロマン骨格の６位または７位であることが好ましい。
【００３５】
上記一般式（４）〜（６）の中でも、一般式（４）のスピロビベンゾフラン構造が特に好ましい。
【００３６】
以下に、一般式（１）の具体例を例示するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３７】
【化９】
2005272616.tif 000010
【００３８】
【化１０】
2005272616.tif 000011
【００３９】
【化１１】
2005272616.tif 000012
【００４０】
上記一般式（２）中、環βは単環式または多環式の構造を表すが、単環〜５環であることが好ましく、単環〜４環であることがより好ましく、２〜４環であることがさらに好ましい。環βが多環の場合、少なくとも一つの環は芳香環であることが好ましい。また環γは、単環式または多環式の構造を表すが、多環式構造であることが好ましく、２〜５環であることがより好ましく、２〜３環であることがさらに好ましい。また、カルボニル基が結合する環の構造は脂環であってもよく芳香環であってもよいが、芳香環であることが好ましい。環βおよび環γ上には一般式（１）で示したような置換基を有していてもよい。
【００４１】
一般式（２）の特に好ましい例として、下記一般式（６）で表されるフルオレン構造を特徴とする構造が挙げられる。
【００４２】
【化１２】
2005272616.tif 000013
【００４３】
一般式（７）中、Ｒ71〜Ｒ74は、水素原子または一般式（１）で示した置換基を表す。Ｒ71〜Ｒ74は、水素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシルアミノ基、ニトロ基、シアノ基またはハロゲン原子であることが好ましく、アルキル基、アリール基またはハロゲン原子であることがより好ましい。aおよびｂは、それぞれ０〜４の整数を表す。ｃおよびｄは、それぞれ０〜３の整数を表す。Ｒ71〜Ｒ74はそれぞれ互いに結合して、５〜７員環を構成してもよい。カルボニル基が結合する位置は、芳香環のいずれの位置でもよいが、スピロ炭素のメタ位またはパラ位が好ましい。
【００４４】
以下に、一般式（２）で表される繰り返し単位の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４５】
【化１３】
2005272616.tif 000014
2005272616.tif 000015
2005272616.tif 000016
【００４６】
上記一般式（１）および（２）を繰り返し単位として含むポリマーは、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミド、ポリケトンなど種々の結合様式のうち一種類の結合で連結されたポリマーであってもよく、あるいは複数の組み合わせで連結されたポリマーであってもよい。
【００４７】
本発明の樹脂組成物中に含まれる上記一般式（１）または（２）で表わされる繰り返し単位構造は、５〜１００モル％であることが適当であり、１０〜１００モル％であることが好ましく、２０〜１００モル％であることがさらに好ましい。
【００４８】
以下に一般式（１）〜（２）で表される構造を有するポリマーの好ましい具体例を上げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４９】
【化１４】
2005272616.tif 000017
2005272616.tif 000018
2005272616.tif 000019
【００５０】
本発明で用いられる上記一般式（１）および（２）で表される化学構造を有するポリマーは単独で用いてもよく、複数種混合して用いてもよい。また、ホモポリマーであってもよく、コポリマーであってもよい。コポリマーとする場合、上記一般式（１）および（２）で表される化学構造を繰り返し単位中に含まない公知の繰り返し単位を本発明の効果を損ねない範囲で共重合してもよい。なお、コポリマーとした方が溶解性および透明性が改良される場合が多く、好ましく用いることができる。
【００５１】
本発明の樹脂組成物は、スピロ構造またはカルド構造を持つジカルボン酸またはその誘導体をモノマーとして用いることで合成することができる。ジカルボン酸および誘導体の具体例を以下に示す。
【００５２】
【化１５】
2005272616.tif 000020
【００５３】
上記ジカルボン酸およびその誘導体は、対応する芳香族化合物とジハロゲン化アルキル化合物とを環化重合させることにより得ることができる。
【００５４】
本発明の樹脂組成物は、ガラス転移点温度（Ｔｇ）が２００℃以上であることが好ましく、２２０℃以上であることがより好ましく、２５０℃以上であることがさらに好ましい。
【００５５】
本発明の樹脂組成物の分子量は、重量平均分子量で１０,０００〜３００,０００（ポリスチレン換算）であることが好ましく、２０,０００〜２００,０００であることがさらに好ましく、３０,０００〜１５０,０００であることが最も好ましい。分子量３００００〜３００，０００程度であれば、プラスチックフィルム基板とした場合に十分な機械的強度が得られる。一方、分子量が５００,０００以下であれば合成上分子量をコントロールしやすく、かつ適度な溶液の粘度が得られ、取り扱いが容易であるため好ましい。なお、分子量は対応する粘度を目安にすることもできる。
【００５６】
本発明の樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で他の樹脂を混合することもできる。本発明の樹脂組成物で混合可能な樹脂材料は、熱可塑性であっても硬化性樹脂であってもよい。
【００５７】
本発明の樹脂組成物は、金属の酸化物および／または金属の複合酸化物、ならびにゾルゲル反応により得た金属酸化物を含有することもできる。
【００５８】
また本発明の樹脂組成物は、無機層状化合物を含有させることもできる。本発明の樹脂組成物に無機層状化合物を添加することにより、熱変形温度が２〜１００℃改善される。また、無機層状化合物を含有する樹脂組成物をプラスチックフィルム基板として使用した場合、ガスバリア性フィルムとしても期待できる。ここで使用される無機層状化合物は、特に限定されるものではないが、膨潤性および／または劈開性を有する粘土鉱物やハイドロタルサイト類化合物およびその類似化合物を好適に用いることができる。
【００５９】
本発明の樹脂組成物は、その他、必要により本発明の効果を損なわない範囲で、可塑剤、染顔料、酸化防止剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、無機微粒子、剥離促進剤、レベリング剤、および潤滑剤などの各種添加剤（樹脂改質剤）を添加してもよい。また、本発明の樹脂をプラスチックフィルム基板として用いる場合には、剥離フィルムや粘着材を付加することもできる。
【００６０】
次に、本発明の樹脂組成物の製造方法について説明する。
本発明の樹脂組成物を形成するために用いるモノマーは、例えば、J. Chem. Soc.誌、４１８〜４２０項（１９６２年）に記載されている方法でスピロ構造やカルド構造を持つ基本骨格の側鎖のアルキル基（例えばメチル基）を酸化することにより合成することができる。
【００６１】
本発明の樹脂組成物は、例えば共立出版の新高分子実験学３に記載された方法により合成することができる。
【００６２】
［光学部品および光学フィルム］
本発明の樹脂組成物は、耐熱性、光学特性、および力学特性等に優れ、透明導電フィルム基板、ＴＦＴ基板、液晶表示用基板、有機ＥＬ表示用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板、フレキシブル回路用基板、光ディスク基板、光導波路、光ファイバー、レンズ、タッチパネルなどの各種の光学部品に好適に用いることができる。
【００６３】
また、本発明の樹脂組成物は、フィルム状またはシート状に成形してフィルムまたは光学フィルムとして用いることができる。フィルム状およびシート状に成形する方法は、公知の方法を採用できるが、溶液流延法、押出成形法（溶融成型法）を用いることが好ましい。
溶液流延法における流延および乾燥方法については、米国特許第２３３６３１０号、米国特許第２３６７６０３号、米国特許第２４９２０７８号、米国特許第２４９２９７７号、米国特許第２４９２９７８号、米国特許第２６０７７０４号、米国特許第２７３９０６９号、米国特許第２７３９０７０号、英国特許第６４０７３１号、英国特許第７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、特公昭４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、特開昭６０−２０３４３０号、特開昭６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。樹脂溶液は、表面温度が３０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましく、特に−１０〜２０℃の金属支持体上で流延することが好ましい。
【００６４】
溶液流延法を用いて本発明のフィルムを製造する製造装置の例としては、特開２００２−１８９１２６号公報の段落[００６１]〜[００６８]に記載された製造装置、図１および２などが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６５】
溶液流延法では、本発明の樹脂組成物を溶媒に溶解する。使用する溶媒は、本発明の樹脂組成物を溶解可能なものであれば特に制限はないが、特に２５℃で固形分濃度１０質量％以上を溶解できる溶媒を用いることが好ましい。また、使用する溶媒の沸点は２００℃以下のものが好ましく、１５０℃以下のものがさらに好ましい。沸点が２００℃以下であれば、溶媒を十分乾燥でき、フィルム中に溶媒が残存しないため好ましい。
【００６６】
このような溶媒としては、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、テトラヒドロフラン、ベンゼン、シクロヘキサン、トルエン、キシレン、１，２−ジクロロエタン、酢酸エチル、アセトン、クロロベンゼン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、メタノール、エタノール等が挙げられるが、本発明ではこれらに限定されるものではない。
【００６７】
上記溶媒は２種以上を混合して用いてもよい。混合溶媒の例としては、塩化メチレンに炭素数１〜５のアルコールを１種ないし数種を混合した溶媒が挙げられる。この場合、アルコールの含有量は、溶媒全体に対して５〜２０質量％であることが好ましい。さらに、炭素数３〜１２のエーテル、ケトンおよびエステルを適宣混合した溶媒が好ましい例として挙げられ、この場合、炭素数１〜５のアルコールを１種ないし数種混合してもよい。また、発明協会公開技報２００１−１７４５号、段落６に記載の有機溶媒の例なども好ましい例として挙げられる。
【００６８】
溶液流延に用いる溶液中における本発明の樹脂組成物の濃度は、５〜６０質量％であることが適当であり、１０〜４０質量％であること好ましく、１０〜３０質量％であることがさらに好ましい。樹脂組成物の濃度が５〜６０質量％であれば、適度な粘度が得られ、厚さの調節が容易であり、かつ良好な製膜性が得られる。
【００６９】
溶液流延する方法は特に限定されないが、例えば、バーコーター、Ｔダイ、バー付きＴダイ、ドクターブレード、ロールコート、ダイコート等を用いて平板またはロール上に流延することができる。
【００７０】
溶媒を乾燥する温度は、使用する溶媒の沸点によって異なるが、２段階に分けて乾燥することが好ましい。第一段階としては３０〜１００℃で溶媒の濃度が１０質量％以下、好ましくは５％質量以下になるまで乾燥し、次いで、第二段階として平板またはロールからフィルムを剥がし、６０℃〜樹脂のＴｇの温度範囲で乾燥することが好ましい。
なお、平板またはロールからフィルムを剥がす場合、第一段階の乾燥終了直後に剥がしても、一旦冷却してから剥がしてもよい。
【００７１】
押出成型法の条件は、一般的な光学樹脂で用いられる条件と同様であり、溶融温度としては、通常１８０〜３５０℃、特に２００〜３００℃の範囲の温度が好ましく使用される。
【００７２】
本発明のフィルムは延伸されていてもよい。延伸によりフィルムの耐折強度など機械的強度が改善され、取扱性が向上する利点がある。特に延伸方向のオリエンテーションリリースストレス（ＡＳＴＭＤ１５０４、以下ＯＲＳと略記する）が０．３〜３ＧＰａであるものは機械的強度が改善され好ましい。ここにいう、ＯＲＳは延伸フィルムまたは延伸シートに内在する、延伸により生じた内部応力である。
【００７３】
延伸は、公知の方法を用いることができ、例えば、本発明の樹脂のＴｇより１０℃高い温度から５０℃高い温度の間で、ロール一軸延伸法、テンター一軸延伸法、同時二軸延伸法、逐次二軸延伸法、インフレーション法により延伸できる。延伸倍率は１．１〜３．５倍、好ましくは１．５〜２．５倍を用いることできる。
【００７４】
本発明のフィルムの厚みは特に限定されないが、３０〜７００μｍであること好ましく、４０〜２００μｍであることがより好ましく、５０〜１５０μｍであることがさらに好ましい。また、いずれの場合もヘイズは３％以下であることが好ましく、２％以下であることがより好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。また、本発明のフィルムの全光透過率は７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましく、９０％以上であることがさらに好ましい。
【００７５】
本発明のフィルム表面には用途に応じて他の層、または他の部品との密着性を高める目的で、フィルム表面上にケン化、コロナ処理、火炎処理、グロー放電処理等の処理を行うことができる。さらに、フィルム表面にアンカー層を設けてもよい。
【００７６】
本発明のフィルムは、少なくとも片面側に透明導電層を積層してもよい。透明導電層としては、公知の金属膜、金属酸化物膜等を適用できる。中でも、透明性、導電性、機械的特性に優れた金属酸化物膜を透明導電層とすることが好ましい。金属酸化物膜は、例えば、不純物としてスズ、テルル、カドミウム、モリブテン、タングステン、フッ素、亜鉛、ゲルマニウム等を添加した酸化インジウム、酸化カドミウムまたは酸化スズの金属酸化物膜；不純物としてアルミニウムを添加した酸化亜鉛、酸化チタン等の金属酸化物膜が挙げられる。中でも酸化スズから主としてなり、酸化亜鉛を２〜１５質量％含有した酸化インジウムの薄膜が、透明性、導電性が優れており、好ましく用いられる。
【００７７】
これら透明導電層の成膜方法は、目的の薄膜を形成できる方法であれば、いかなる方法でもよい。例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等の気相中より材料を堆積させて膜形成する気相堆積法などが適しており、特許第３４００３２４号、特開２００２−３２２５６１号、特開２００２−３６１７７４号の各公報記載の方法で成膜することができる。中でも、特に優れた導電性・透明性が得られるという観点から、スパッタリング法が好ましい。
【００７８】
スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、またはプラズマＣＶＤ法の好ましい真空度は０．１３３ｍＰａ〜６．６５Ｐａ、好ましくは０．６６５ｍＰａ〜１．３３Ｐａである。透明導電層を形成する前に、プラズマ処理（逆スパッタ）、またはコロナ処理のように基材フィルムに表面処理を加えることが好ましい。また透明導電層を設けている間に５０〜２００℃に昇温してもよい。
【００７９】
このようにして得られた透明導電層の膜厚は、２０〜５００ｎｍであることが好ましく、５０〜３００ｎｍであることがさらに好ましい。
【００８０】
透明導電層の２５℃６０％ＲＨ(relative humidity)で測定した表面電気抵抗は、０．１〜２００Ω／□であることが好ましく、０．１〜１００Ω／□であることがより好ましく。０．５〜６０Ω／□であることがさらに好ましい。また、透明導電層の光透過性は、８０％以上であることが好ましく、８３％以上であることがより好ましく、８５％以上であることがさらに好ましい。
【００８１】
本発明のフィルムは、ガス透過性を抑制するために、少なくとも片面側にガスバリア層を積層することもできる。好ましいガスバリア層としては、例えば、珪素、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、ジルコニウム、チタン、イットリウムおよびタンタルからなる群から選ばれる１種または２種以上の金属を主成分とする金属酸化物、珪素、アルミニウム、ホウ素の金属窒化物またはこれらの混合物で形成された膜を挙げることができる。この中でも、ガスバリア性、透明性、表面平滑性、屈曲性、膜応力、コスト等の点から珪素原子数に対する酸素原子数の割合が１．５〜２．０の珪素酸化物を主成分とする金属酸化物で形成された膜が良好である。これら無機化合物からなるガスバリア層は、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等の気相中より材料を堆積させて膜形成する気相堆積法により作製できる。中でも、特に優れたガスバリア性が得られるスパッタリング法が好ましい。また透明導電層を設けている間に５０〜２５０℃に昇温してもよい。
【００８２】
上記ガスバリア層の厚みは、１０〜３００ｎｍであることが好ましく、３０〜２００ｎｍであることがさらに好ましい。
【００８３】
上記ガスバリア層は、透明導電層と同じ側、反対側いずれに設けてもよいが、透明電極層とは反対側に設けることが好ましい。
【００８４】
本発明のフィルムのガスバリア性能は、４０℃９０％ＲＨで測定した水蒸気透過度が０．０１〜５g/m2・dayであることが好ましく、０．０３〜３g/m2・dayであることがより好ましく、０．０５〜２g/m2・dayであることがさらに好ましい。また、４０℃９０％ＲＨで測定した酸素透過度は、０．０１〜１ml/m2・day・atmであることが好ましく、０．０１〜０．７ml/m2・day・atmであることがより好ましく、０．０１〜０．５ml/m2・day・atmであることがさらに好ましい。ガスバリア性能が上記範囲内であれば、例えば有機ＥＬやＬＣＤに用いた場合、水蒸気および酸素によるＥＬ素子の劣化を実質的になくすことができるため好ましい。
【００８５】
ガスバリア性能を向上させる目的で、ガスバリア層と隣接して欠陥補償層を形成することが好ましい。欠陥補償層としては、例えば、（１）米国特許第６１７１６６３号明細書、特開２００３−９４５７２号公報記載のようにゾルゲル法を用いて作製した無機酸化物層、（２）米国特許第６４１３６４５号明細書、第６４１６３６４５号明細書に記載の有機物層を用いることができる。これらの欠陥補償層は、真空下で蒸着後、紫外線または電子線で硬化させる方法、または塗布した後、加熱、電子線、紫外線等で硬化させることにより作製することができる。欠陥補償層を塗布方式で作製する場合には、従来の種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることができる。
【００８６】
本発明のフィルムには耐薬品性付与を目的として無機バリア層、有機バリア層、有機−無機ハイブリッドバリア層などを設けてもよい。
【００８７】
［画像表示素子およびフラットパネルディスプレイ］
本発明の光学フィルムは、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）表示素子用基板として用いることができる。ＴＦＴアレイの作製方法は、例えば、特表平１０−５１２１０４号公報に記載された方法等を用いることができる。さらに、これらの基板はカラー表示のためのカラーフィルターを有していてもよい。カラーフィルターは、いかなる方法を用いて作製してもよいが、フォトリソグラフィー手法を用いて作製することが好ましい。
【００８８】
以上説明した本発明の樹脂組成物、およびそれを用いた光学フィルムは、画像表示装置に用いることができる。ここで、画像表示装置は特に限定されず、従来知られているものを挙げることができる。また、本発明の光学フィルムを基板として用いて表示品質に優れたフラットパネルディスプレイを作製できる。フラットパネルディスプレイとしては液晶、プラズマディスプレイ、エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）、蛍光表示管、発光ダイオードなどが挙げられ、これら以外にも従来ガラス基板が用いられてきたディスプレイ方式のガラス基板に代わる基板として用いることができる。さらに、本発明の樹脂および光学フィルムは、フラットパネルディスプレイ以外にも太陽電池、タッチパネルなどの用途にも応用が可能である。タッチパネルは、例えば、特開平５−１２７８２２号公報、特開２００２−４８９１３号公報等に記載のものに応用することができる。
【００８９】
本発明の光学フィルムを基板として液晶表示用途などで使用する場合、光学的均一性を達成するため、本発明の樹脂組成物は非晶性ポリマーであることが好ましい。さらに、レタデーション（Ｒe）、およびその波長分散を制御する目的で、固有複屈折の符号が異なる樹脂を組み合わせたり、波長分散の大きい（あるいは小さい）樹脂を組み合わせたりすることができる。
【００９０】
本発明の光学フィルムは、レターデーション（Ｒe）の制御し、ガス透過性や力学特性を改善する観点からは、異種樹脂組成物を組み合わせて積層等することが好ましい。異種樹脂組成物の好ましい組み合わせは特に制限はなく、前記したいずれの樹脂組成物も使用可能である。
【００９１】
本発明の光学フィルムを反射型液晶表示装置に用いる場合は、下から順に、下基板、反射電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、透明電極、上基板、λ／４板、および偏光膜の構成を有することが好ましい。このうち本発明の光学フィルムは、透明電極および／または上基板として用いることができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を反射電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に形成することが好ましい。
【００９２】
本発明の光学フィルムを透過型液晶表示装置に用いる場合は、下から順に、バックライト、偏光板、λ／４板、下透明電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、上透明電極、上基板、λ／４板、および偏光膜の構成を有することが好ましい。このうち本発明の光学フィルムは上透明電極および／または上基板として用いることができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を下透明電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。
【００９３】
液晶セルは特に限定されないが、ＴＮ(Twisted Nematic)、ＩＰＳ(In-P1ane Switching)、ＦＬＣ(Ferroelectric Liquid Crysta1)、ＡＦＬＣ(Anti-ferroelectric Liquid Crystal)、ＯＣＢ(Optica1ly Compensatory Bend)、ＳＴＮ(Supper Twisted Nematic)、ＶＡ(Vertically Aligned)、およびＨＡＮ(Hybrid Aligned Nematic)のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明の光学フィルムは、表示モードの液晶表示装置に用いることも有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置に用いても有効である。
【００９４】
液晶セルおよび液晶表示装置は、特開平２−１７６６２５号公報、特公平７−６９５３６号公報、ＭＶＡ(SID97,Digest of tech. Papers(予稿集)28(1997)845、SID99, Digest of tech. Papers(予稿集)30(1999)206）、特開平１１−２５８６０５号公報、ＳＵＲＶＡＩＶＡＬ(月刊ディスプレイ、第６巻、第３号(1999)14)、ＰＶＡ(Asia Display 98,Proc.of the-18th-Inter. Display res. Conf.(予稿集)(1998)383)、Para-A(LCD/PDP International 99)、ＤＤＶＡ(SID98, Digest of tech. Papers(予稿集)29(1998)838)、ＥＯＣ(SID98, Digest of tech. Papers(予稿集)29(1998)319)、ＰＳＨＡ(SID98, Digest of tech. Papers(予稿集)29(1998)1081)、ＲＦＦＭＨ(Asia Display 98, Proc. of the-18th-Inter. Display res. Conf. (予稿集)(1998)375)、ＨＭＤ(SID98, Digest of tech. Papers (予稿集)29(1998)702)、特開平１０−１２３４７８号公報、国際公開Ｗ０９８／４８３２０号公報、特許第３０２２４７７号公報、および国際公開ＷＯ００／６５３８４号公報等に記載されている。
【００９５】
本発明の光学フィルムは、有機ＥＬ表示用途に使用できる。有機ＥＬ表示素子としての具体的な層構成としては、陽極／発光層／透明陰極、陽極／発光層／電子輸送層／透明陰極、陽極／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／透明陰極、陽極／正孔輸送層／発光層／透明陰極、陽極／発光層／電子輸送層／電子注入層／透明陰極、陽極／正孔注入層／正孔輸送層／発光層／電子輸送層／電子注入層／透明陰極等が挙げられる。
【００９６】
本発明の光学フィルムが使用できる有機ＥＬ素子は、前記陽極と前記陰極との間に直流（必要に応じて交流成分を含んでもよい）電圧（通常２〜４０Ｖ）、または直流電流を印加することにより、発光を得ることができる。これら発光素子の駆動については、例えば、特開平２−１４８６８７号、同６−３０１３５５号、同５−２９０８０号、同７−１３４５５８号、同８−２３４６８５号、同８−２４１０４７号等の各公報、米国特許５８２８４２９号、同６０２３３０８号の各明細書、日本特許第２７８４６１５号公報、等に記載の方法を利用することができる。
【００９７】
有機ＥＬのフルカラー表示方式としては、カラーフィルター方式、３色独立発光方式、色変換方式などいずれの方式を用いてもよい。
【実施例】
【００９８】
以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【００９９】
１．特性値の測定方法
（１）重量平均分子量
東ソー（株）製のＨＬＣ−８１２０ＧＰＣを用いて、テトラヒドロフランもしくはＤＭＦを溶媒とするポリスチレン換算ＧＰＣ測定によりポリスチレンの分子量標準品と比較して重量平均分子量を求めた。
（２）ガラス転移温度（Ｔｇ）
セイコー（株）製、ＤＳＣ６２００を用いて、ＤＳＣ法（窒素中、昇温温度１０℃／分）によりＴｇを測定した。
（３）フィルム基板の厚さ
アンリツ（株）製、Ｋ４０２Ｂを用いて、ダイヤル式厚さゲージによりフィルム基板の厚さを測定した。
（４）レタデーション（Ｒe）
フィルム面内方向、波長６３２．８ｎｍにおける値を自動複屈折計（王子計測機器（株）製、KOBRA-21ADH）を用いて測定し、以下の式よりレタデーションを算出した。
レタデーション＝｜ｎＭＤ−ｎＴＤ｜×ｄ
ｎＭＤ：フィルム幅方向の屈折率、ｎＴＤ：フィルム長手方向の屈折率、ｄ：厚み
（５）フィルム基板の光線透過率
波長５５０ｎｍにおける光線透過率を分光光度計（島津製作所(株)製、分光光度計ＵＶ−３１００ＰＣ）を用いてフィルム基板の光線透過率を測定した。
（６）フィルム基板の力学特性
フィルムサンプル（１．０ｃｍ×５．０ｃｍ片）を作製し、引張速度３ｍｍ／分の条件下、テンシロン（東洋ボールドウィン（株）製、テンシロン  ＲＴＭ−２５）を用いて引張弾性率を測定した。測定は３サンプル行い、その平均値を求めることにより評価した（サンプルは２５℃、ＲＨ６０％で一晩放置後使用。チャック間距離３ｃｍ）。
【０１００】
（実施例１）
＜モノマーＭ−１の合成＞
モノマーＭ−１は、以下に示すルートに従って合成した。
【０１０１】
【化１６】
2005272616.tif 000021
【０１０２】
Ｔ−１の２１６.３ｇ（２．０ｍｏｌ）とＴ−２の６３．５ｇ（０．５０ｍｏｌ）をジクロロエタン７００ｍｌに溶解させ、濃硫酸５６．２ｍｌを室温にて内温が３０℃を超えないようにゆっくりと滴下した。６時間反応後、ジクロロエタン層を減圧下留去し、酢酸エチルを加えて水洗した。硫酸マグネシウムにて乾燥したのち、減圧下留去にて酢酸エチルを除去し、ＤＭＦを１４００ｍｌ加えて溶解させた。ここへ炭酸カリウム２０７．３ｇを加え、室温にて一昼夜攪拌し反応させた。反応系を水に投入し、酢酸エチルで抽出し、水洗、乾燥を行った後、アセトニトリルから再結晶することにより６７ｇのＴ−４を得た（収率５３％）。
【０１０３】
次いで、Ｔ−４の６０ｇを酢酸３Ｌに溶解し、水を２Ｌ加えた。室温で濃硫酸３３０ｍｌを加えたのち、酸化クロム１０８ｇを加え、リフラックスで２４時間反応させた。室温まで冷却した後、反応液を氷水１０Ｌに投入し、結晶をろ過した。結晶をアルカリ水溶液に溶解させ、これを酸性にすることで結晶を析出させた。ろ過後、メタノールで洗浄、乾燥することにより２４．６ｇのＭ−１を得た（収率３３％）。
得られたＭ−１をＭＮＲで分析したところ、以下のピークが観察された。
＜１Ｈ ＮＭＲ(DMSO-d6)＞
4.75(1H,d)、4.92(1H,d)、7.05(1H,d)、7.55(1H,s)、7.86(1H,d)、12.65(1H)
【０１０４】
（実施例２）
＜モノマーＭ−２の合成＞
モノマーＭ−２は、以下に示すルートに従って合成した。
【０１０５】
【化１７】
2005272616.tif 000022
【０１０６】
Ｍ−１の２４ｇをトルエン１００ｍｌに分散させ、塩化チオニル１２．３ｍｌを加えた後、ＤＭＦを０．１ｍｌ添加した。この混合物を７０℃にて６時間反応させた。トルエンおよび塩化チオニルを減圧下留去し、トルエンから再結晶、乾燥することで、２５ｇのＭ−２を得た（収率９３％）。
得られたＭ−２をＭＮＲで分析したところ、以下のピークが観察された。
＜１Ｈ  ＮＭＲ（CDCl3＞
4.75(2H,d)、4.87(2H,d)、7.02(2H,d)、7.78(2H,s)、8.13(2H,d)
【０１０７】
（実施例３）
＜モノマーＭ−４の合成＞
モノマーＭ−４は、以下に示すルートに従って合成した。
【０１０８】
【化１８】
2005272616.tif 000023
【０１０９】
Ｍ−３はJ. Chem. Soc.誌、４１８〜４２０項（１９６２年）に記載の方法で合成した。また、酸クロライドＭ−４はＭ−２と同様の方法により合成した。
得られたＭ−４をＭＮＲで分析したところ、以下のピークが観察された。
＜１Ｈ  ＮＭＲ（CDCl3)＞
1.29(6H,s)、1.35（6H,s）、2.50(2H,d)、2.66(2H,d)、7.42(2H,d)、7.57(2H,d)、8.22(2H,d-d)
【０１１０】
（実施例４）
＜モノマーＭ−６の合成＞
モノマーＭ−６は、以下に示すルートに従って合成した。
【０１１１】
【化１９】
2005272616.tif 000024
【０１１２】
Ｍ−５はＪＦＥケミカル（株）より購入した。酸クロライドＭ−６はＭ−２と同様の方法により合成した。
得られたＭ−６をＭＮＲで分析したところ、以下のピークが観察された。
＜１Ｈ  ＮＭＲ（CDCl3）＞
7.30(8H)、7.43(2H)、7.81(2H)、8.00(4H)
【０１１３】
（実施例５）  例示化合物（Ｐ−１）の作製
６，６’−ジヒドロキシ−３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインダン６１．７ｇ（２００ｍｍｏｌ）、テトラブチルアンモニウムクロライド２．７８ｇ（１０ｍｍｏｌ）、ハイドロサルファイトナトリウム０．６ｇ、ジクロロメタン３７５ｍｌおよび水７５０ｍｌを攪拌装置を備えた反応容器中に投入し、窒素気流下、水浴中で３００ｒｐｍの攪拌速度で撹拌した。この中へ、Ｍ−２の６９．８ｇ（２００ｍｍｏｌ）をジクロロメタン２５０ｍｌに溶解させた溶液と、２Ｍ（２Ｎ）のＮａＯＨ水溶液２１０ｍｌとを滴下装置を用いて１時間かけて滴下した。５時間後、ジクロロメタン３００ｍｌを添加して有機相を分離した。さらに１２Ｍ（１２Ｎ）塩酸水２．０ｍｌを水１Ｌで希釈した溶液を添加して有機相を洗浄した。さらに水７５０ｍｌで２回洗浄した後、分離した有機相にジクロロメタン３００ｍｌを添加して希釈した後、激しく撹拌した７．５Ｌのメタノール中に１時間かけて投入した。
得られた白色沈殿を濾取し、４０℃で１２時間加熱乾燥した後、７０℃減圧下で３時間乾燥し、９３．５ｇの例示化合物Ｐ−１を得た。
得られた例示化合物Ｐ−１の分子量をＧＰＣ（ＴＨＦ溶媒）で測定した結果、重量平均分子量１５０，０００であった。また、ＤＳＣで測定したＴｇは３３５℃であった。
【０１１４】
（実施例６）  例示化合物（Ｐ−２）の作製
モノマーとしてＭ−２と５，５’−ジヒドロキシ−３，３’−スピロビベンゾフランを用いて、実施例５と同様の方法により例示化合物Ｐ−２を合成した。
得られた例示化合物Ｐ−２の分子量をＧＰＣ（ＴＨＦ溶媒）で測定した結果、重量平均分子量１２０，０００であった。また、ＤＳＣで測定したＴｇは３３０℃であった。
【０１１５】
（実施例７）  例示化合物（Ｐ−３）の作製
モノマーとしてＭ−２と９，９−ビス（４−ヒドロキシ）−フルオレンを用いて、実施例５と同様の方法により例示化合物Ｐ−３を合成した。
得られた例示化合物Ｐ−３の分子量をＧＰＣ（ＴＨＦ溶媒）で測定した結果、重量平均分子量１１０，０００であった。また、ＤＳＣで測定したＴｇは３４０℃であった。
【０１１６】
（実施例８）  例示化合物（Ｐ−９）の作製
９，９−ビス（４−アミノフェニル）−フルオレン６９．７ｇ（２００ｍｍｏｌ）をジメチルアセトアミド４００ｍｌに溶解させ、これをドライアイス／アセトン浴にて凍結させた。ここへＭ−２の６９．８ｇ（２００ｍｍｏｌ）を投入し、氷浴に移して５時間攪拌した。メタノール１０Ｌに投入し、ポリマーを析出させ、これを沸騰メタノール中で攪拌したのち、真空乾燥することで、例示化合物Ｐ−９を得た。
得られた例示化合物Ｐ−９の分子量をＧＰＣ（ＤＭＡｃ溶媒）で測定した結果、重量平均分子量１００，０００であった。また、ＤＳＣで測定したＴｇは３８１℃であった。
【０１１７】
（実施例９）  例示化合物（Ｐ−２７）の作製
モノマーとしてＭ−６と９，９−ビス（４−ヒドロキシ）−フルオレンを用いて、実施例５と同様の方法により例示化合物Ｐ−２７を合成した。
得られた例示化合物Ｐ−２７の分子量をＧＰＣ（ＴＨＦ溶媒）で測定した結果、重量平均分子量１００，０００であった。また、ＤＳＣで測定したＴｇは３８３℃であった。
【０１１８】
（実施例１０）  例示化合物（Ｐ−３０）の作製
モノマーとしてＭ−６と５，５’−ジヒドロキシ−３，３’−スピロビベンゾフランを用いて、実施例５と同様の方法により例示化合物Ｐ−３０を合成した。
得られた例示化合物Ｐ−３０の分子量をＧＰＣ（ＴＨＦ溶媒）で測定した結果、重量平均分子量１０５，０００であった。また、ＤＳＣで測定したＴｇは３４２℃であった。
【０１１９】
（実施例１１）  例示化合物（Ｐ−３４）の作製
モノマーとしてＭ−６とテレフタル酸ジクロライド（モル比１：１の混合物）および９，９−ビス（４−ヒドロキシ）−フルオレンを用いて、実施例５と同様の方法により例示化合物Ｐ−３４を合成した。
得られた例示化合物Ｐ−３４の分子量をＧＰＣ（ＴＨＦ溶媒）で測定した結果、重量平均分子量９０，０００であった。また、ＤＳＣで測定したＴｇは３５０℃であった。
【０１２０】
（実施例１２）  例示化合物（Ｐ−３７）の作製
モノマーとしてＭ−６と９，９−ビス（４−アミノフェニル）−フルオレンを用いて、実施例８と同様の方法にて例示化合物Ｐ−３７を合成した。
得られた例示化合物Ｐ−３７の分子量をＧＰＣ（ＤＭＡｃ溶媒）で測定した結果、重量平均分子量８０，０００であった。また、ＤＳＣで測定したＴｇは４００℃まで観測されなかったことから、Ｐ−３７のＴｇは４００℃を超えると考えられる。
【０１２１】
（比較例１）
以下に示す方法により下記ポリアリレート（ＩＮＤ−１）を得た。
【０１２２】
【化２０】
2005272616.tif 000025
【０１２３】
モノマーとしてテレフタル酸ジクロライドとイソフタル酸ジクロライド（モル比１：１の混合物）および６，６’−ジヒドロキシ−３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインダンを用いて、実施例５と同様の方法にてＩＮＤ−１を合成した。
得られた化合物ＩＮＤ−１の分子量をＧＰＣ（ＴＨＦ溶媒）で測定した結果、重量平均分子量９０，０００であった。また、ＤＳＣで測定したＴｇは２８２℃であった。
【０１２４】
（比較例２）
以下に示す方法により下記ポリアリレート（ＦＬ−１）を得た。
【０１２５】
【化２１】
2005272616.tif 000026
【０１２６】
モノマーとしてテレフタル酸ジクロライドとイソフタル酸ジクロライド（モル比１：１の混合物）および９，９−ビス（４−ヒドロキシ）−フルオレンを用いて、実施例５と同様の方法により例示化合物ＦＬ−１を合成した。
得られた化合物ＦＬ−１の分子量をＧＰＣ（ＴＨＦ溶媒）で測定した結果、重量平均分子量１００，０００であった。また、ＤＳＣで測定したＴｇは３２４℃であった。
【０１２７】
（実施例１３）  本発明の光学フィルムの作製
実施例５〜１２および比較例１、２で作製した樹脂組成物を塩化メチレンまたはＤＭＡｃに溶解して、１５〜２５質量％の溶液を調製した。この溶液を５μｍのフィルターを通してろ過した後、ドクターブレードを用いてガラス基板上に流延した。流延後、塩化メチレンの場合は温度８０℃で２時間加えて１００℃で４時間、ＤＭＡｃを用いた場合は、１００℃で２時間、加えて１５０℃で４時間加熱乾燥させた後、フィルムをガラス基板より剥離し、フィルムＦ−１〜Ｆ−１０を作製した。得られたフィルムＦ−１〜Ｆ−１０の熱物性、光学物性および力学物性をそれぞれ評価した。結果を表１に示す。
【０１２８】
【表１】
2005272616.tif 000027
【０１２９】
表１より、本発明のフィルムＦ−１０１〜１０８は、比較例Ｆ−１０９および比較例Ｆ−１１０と比較すると、Ｒｅが小さく、低複屈折性を有していることが分かる。また本発明のフィルムは、比較例Ｆ−１０９および比較例Ｆ−１１０と比較すると、Ｔｇも向上していることが分かる。また、フィルムの引張弾性率は、Ｆ−１０１〜１０８において１５００ＭＰa以上を有しており、実用上問題ないレベルである。
以上の結果より、本発明のフィルムＦ−１０１〜１０８は良好な力学物性、ガラス転移温度を有し、かつ、低い複屈折を達成していることが分かる。
【０１３０】
（実施例１４）  本発明のフラットパネルディスプレイの作製および評価（ＴＮ型液晶表示装置）
１．ガスバリア層の形成
上記のフィルムＦ−１０１〜Ｆ−１１０の両面にＤＣマグネトロンスパッタリング法により、Ｓｉ０2をターゲットとし５００Ｐａの真空下で、Ａｒ雰囲気下、出力５ｋＷでスパッタリングした。得られたガスバリア層の膜厚は６０ｎｍであった。
【０１３１】
２．透明導電層の形成
ガスバリア層を設置したフィルムＦ−１０１〜Ｆ−１１０を１００℃に加熱しながら、ＩＴＯ（Ｉｎ2Ｏ3９５質量％、Ｓｎ０2５質量％）をターゲットとしＤＣマグネトロンスパッタリング法により、０．６６５Ｐａの真空下で、Ａｒ雰囲気下、出力５ｋＷで１４０ｎｍの厚みのＩＴＯ膜からなる透明導電層を片面に設けた。
【０１３２】
３．透明導電層付光学フィルムの加熱処理
上記で得られた透明導電層を設置したフィルムＦ−１０１〜Ｆ−１１０をＴＦＴ設置を想定して３００℃で１時間の加熱処理を行った。
なお、フィルムＦ−１０９はこの加熱処理により形状が著しく変化したため、さらなる評価は行なわなかった。
【０１３３】
４．円偏光膜の作製
本発明のフィルム基板Ｆ−１０１〜Ｆ−１０８および比較例フィルム基板Ｆ−１１０の透明導電層の反対側に、特開２０００−８２６７０５号公報、特開２００２−１３１５４９号公報に記載のλ／４板を積層し、さらにその上に特開２００２−８６５５５４号公報に記載の偏光板を積層し円偏光板を形成した。なお、偏光膜の透過軸とλ／４板の遅相軸との角度は４５°となるように配置した。
【０１３４】
５．ＴＮ型液晶表示装置の作製
本発明のフィルム基板Ｆ−１０１〜Ｆ−１０８および比較例フィルム基板Ｆ−１１０、並びに微細な凹凸が形成されたアルミニウム反射電極を設けたガラス基板の透明導電層（ＩＴＯ）側に、それぞれポリイミド配向膜（ＳＥ-７９９２、日産化学（株）製）を形成し、２００℃で３０分熱処理した。本発明のフィルム基板Ｆ−１０１〜Ｆ−１０８を用いたものは、抵抗値の増加とガス透過性の増加は全く見られなかった。これに対し、比較例フィルム基板Ｆ−１０９を用いたものは抵抗値およびガス透過性が２倍以上に増大した。
さらに、ラビング処理を行った後、１．７μｍのスペーサーを介して、二枚の基板（ガラス基板とプラスチック基板）を配向膜が向かい合うように重ねた。二つの配向膜のラビング方向は、１１０゜の角度で交差するように、基板の向きを調節した。基板の間隙に、液晶（ＭＬＣ-６２５２、メルク社製）を注入し、液晶層を形成した。このようにして、ツイスト角が７０゜、Δｎｄの値が２６９ｎｍのＴＮ型液晶セルを作製した。
さらに、フィルム基板のＩＴＯと反対面に上記λ／４板、偏光板を積層し反射型液晶表示装置を作製した。
本発明のフィルム基板Ｆ−１０１〜Ｆ−１０８を用いたものは良好な画像が得られた。一方、比較例フィルム基板Ｆ−１０９を用いたものは、ガスバリア性の低下に起因する黒点故障（画層部に細かな黒い点となり画像が表示されない）や、導電層の割れに起因する色ずれが発生した。
【０１３５】
（実施例１５）  本発明のフラットパネルディスプレイの作製および評価（有機ＥＬ表示装置）
【０１３６】
上記で加熱処理を行った透明導電層を形成した光学フィルムの透明電極層より、アルミニウムのリード線を結線し、積層構造体を形成した。透明電極の表面に、ポリエチレンジオキシチオフェン・ポリスチレンスルホン酸の水性分散液（BAYER社製、Baytron P：固形分1.3質量％）をスピンコートした後、１５０℃で２時間真空乾燥し、厚さ１００ｎｍのホール輸送性有機薄膜層を形成した。これを基板Ｘとした。
一方、厚さ１８８μｍのポリエーテルスルホン（住友ベークライト（株）製スミライトＦＳ−１３００）からなる仮支持体の片面上に、下記組成を有する発光性有機薄膜層用塗布液を、スピンコーターを用いて塗布し、室温で乾燥することにより、厚さ１３ｎｍの発光性有機薄膜層を仮支持体上に形成した。これを転写材料Ｙとした。
【０１３７】
ポリビニルカルバゾール（Mw=63000、アルドリッチ社製）：          ４０質量部
トリス(２−フェニルピリジン)イリジウム錯体(オルトメタル化錯体)：  １質量部
ジクロロエタン：                                            ３２００質量部
【０１３８】
基板Ｘの有機薄膜層の上面に転写材料Ｙの発光性有機薄膜層側を重ね、一対の熱ローラーを用い１６０℃、０．３ＭＰａ、０．０５ｍ／ｍｉｎで加熱・加圧し、仮支持体を引き剥がすことにより、基板Ｘの上面に発光性有機薄膜層を形成した。これを基板ＸＹとした。
【０１３９】
また、２５ｍｍ角に裁断した厚さ５０μｍのポリイミドフィルム（UPILEX-50S、宇部興産製）片面上に、パターニングした蒸着用のマスク（発光面積が５ｍｍ×５ｍｍとなるマスク）を設置し、約０．１ｍＰａの減圧雰囲気中でＡｌを蒸着し、膜厚０．３μｍの電極を形成した。Ａｌ2Ｏ3ターゲットを用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリングにより、Ａｌ2Ｏ3をＡｌ層と同パターンで蒸着し、膜厚３ｎｍとした。Ａｌ電極よりアルミニウムのリード線を結線し、積層構造体を形成した。得られた積層構造体の上に下記組成を有する電子輸送性有機薄膜層用塗布液をスピンコーター塗布機を用いて塗布し、８０℃で２時間真空乾燥することにより、厚さ１５ｎｍの電子輸送性有機薄膜層をＬｉＦ上に形成した。これを基板Ｚとした。
【０１４０】
ポリビニルブチラール２０００Ｌ（Ｍｗ＝2000、電気化学工業社製）： １０質量部
１−ブタノール：                                             ３５００質量部
下記構造を有する電子輸送性化合物：                               ２０質量部
【０１４１】
【化２２】
2005272616.tif 000028
【０１４２】
基板ＸＹと基板Ｚを用い、電極同士が発光性有機薄膜層を挟んで対面するように重ね合せ、一対の熱ローラーを用い１６０℃、０．３ＭＰａ、０．０５ｍ／ｍｉｎで加熱・加圧し、貼り合せ、有機ＥＬ素子試料２０１〜２０８および２１０を得た。
【０１４３】
得られた有機ＥＬ素子試料２０１〜２０８および２１０をソースメジャーユニット２４００型（東洋テクニカ（株）製）を用いて、直流電圧を有機ＥＬ素子に印加した。本発明の試料２０１〜２０８は、発光することを確認した。一方、比較試料２１０は一瞬発光したもののすぐに発光しなくなった。
【産業上の利用可能性】
【０１４４】
本発明の樹脂は、耐熱性、光学特性、力学特性等に優れているため、透明導電フィルム基板、ＴＦＴ基板、液晶表示用基板、有機ＥＬ表示用基板、電子ペーパー用基板、太陽電池用基板、光ディスク基板などの光学フィルム、光導波路、光ファイバー、レンズ、タッチパネルなどの光学部品およびフラットパネルディスプレイなどに利用できる。