(57)【要約】【課題】Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層に高分子有機材料を使用し、かつ、共通陰極を使用した場合に、簡単な製造方法で製造でき、Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層の全ての発光特性を良好にすることが可能な有機ＥＬ装置および電子機器を提供することを目的とする。【解決手段】陽極１０２と共通陰極１０３との間に、少なくとも発光層を含む機能層が狭持されてなる有機ＥＬ装置１００において、機能層は、各々が高分子有機材料で形成されたＲ，Ｇ，Ｂ発光層１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂと、Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層毎に設けられ、かつ、有機材料で形成されたＲ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層１０８Ｒ，１０８Ｇ，１０８Ｂとを有する。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
陽極と共通陰極との間に、少なくとも発光層を含む機能層が狭持されてなる有機ＥＬ装置において、
前記機能層は、各々が高分子有機材料で形成されたＲ，Ｇ，Ｂ発光層と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層毎に設けられ、かつ、有機材料で形成されたＲ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層と、を有することを特徴とする有機ＥＬ装置。
【請求項２】
前記Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層と前記Ｒ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層とのＬＵＭＯレベルの差は、それぞれ０．２ｅＶ以下であることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項３】
前記Ｒ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層のＨＯＭＯレベルは、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層のＨＯＭＯレベルよりそれぞれ０．３ｅＶ以上高いことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項４】
前記Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層はインクジェット法で形成されことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１つに記載の有機ＥＬ装置。
【請求項５】
前記Ｒ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層は、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層上にそれぞれインクジェット法で形成されることを特徴とする請求項４に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項６】
前記共通陰極は、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層上に蒸着法で形成されることを特徴とする請求項５に記載の有機ＥＬ装置。
【請求項７】
請求項１〜請求項６のいずれか１つに記載の有機ＥＬ装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
有機ＥＬ装置および電子機器に関し、詳細には、発光層に高分子有機材料を使用した有機ＥＬ装置および電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ素子は、薄型、全固体型、面状自発光及び高速応答であるといった特徴を有する発光素子であり、フラットディスプレイパネルやバックライトへの応用が期待されることから、近年各方面で盛んに研究が行われている。以前、有機ＥＬ素子は、無機物を用いた無機ＥＬ素子に比べて素子特性が著しく劣っていたが、１９８７年にコダック社のＴａｎｇらが有機物層を積層構成にする方法を発表してから（非特許文献１）、素子特性が向上し、急速に発展している。また、近年、有機ＥＬ素子をディスプレイパネルに用いた、商品も発売されつつある。有機ＥＬ素子は、有機材料を含む複数の薄膜を第１の電極と第２の電極で挟んだ構造を有しており、２つの電極から注入したキャリヤが有機薄膜中で再結合することにより発光する素子である。
【０００３】
有機ＥＬ素子は、低分子材料を用いる系と、高分子材料を用いる系がある。一般に、低分子材料を用いる系では蒸着等のドライ法で作製し、他方、高分子材料を用いる系では、インクジェット法等の塗布法が使用される。高分子材料を用いる系の場合には、インクジェット法により赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の光の三原色発光を有する各高分子有機材料を容易にパターニングできるため、簡便にフルカラー有機ＥＬ素子を作製できるという特徴を有している。
【０００４】
このような高分子材料を用いる系においては、Ｒ，Ｇ，Ｂの各発光層上に電流を通じるための陰極として、通常、同じ材料からなる陰極が用いられている。しかしながら、Ｒ，Ｇ，Ｂの各発光層上に共通の陰極を用いた有機ＥＬ素子では、その共通の陰極が全ての発光層に対して、必ずしもその発光特性（高輝度化・高寿命化）を良好にするものではないことが分かってきている。例えば、Ｒ，Ｇの発光層を高輝度に発光させる陰極でも、Ｂ発光層の輝度が不足する場合がある。
【０００５】
かかる課題に対して、例えば、特許文献１の有機ＥＬ装置では、Ｒ発光層とＧ発光層をインクジェット法により成膜した後、Ｂ発光層を、Ｒ発光層およびＧ発光層を含む基板の全面に設け、陰極としてＢ発光層に好適なもの使用している。
【０００６】
しかしながら、上記特許文献１の有機ＥＬ装置では、Ｒ発光層とＧ発光層がＢ発光層の塗布時に相溶しないように、Ｒ発光層とＧ発光層を加熱処理等により不溶化する必要があるため、その材料選択の余地が狭まってしまうという問題がある。また、スピンコート法等で基板上にＢ発光層を形成した場合、画素領域以外の周囲部にもＢ発光層が形成されてしまうため、最終的に封止して装置を完成させた際、周辺部に形成されたＢ発光層によって耐湿性や実装性等の封止性能が損なわれるといった問題がある。さらに、このような問題を回避するために、周辺部に形成されたＢ発光層をエッチング等によって除去することも考えられるが、エッチング等で除去する場合には、除去工程が必要となるため、生産性が低下するという問題が生じる。
【０００７】
また、特許文献２の有機ＥＬ装置では、発光層を含む２層以上積層された有機層のうち、発光層以外の少なくとも１層、好ましくは、電子注入層を、スピンコート法、スプレーコート法、ディップコート法等の塗布法により積層する技術が開示されている。同文献では、Ｒ，Ｇ，Ｂの各発光層に対して共通の電子注入層が形成されるため、全ての画素において電流は等しく発光層に流れる。しかしながら、同文献の塗布法では、画素領域以外の周囲部にも薄膜が成膜されてしまうため、特許文献１と同様に、耐湿性や実装性等の封止性能が損なわれるといった問題がある。
【０００８】
【非特許文献１】Ｃ．Ｗ．Ｔａｎｇ ａｎｄ Ｓ．Ａ．Ｖａｎｓｌｙｋｅ：Ａｐｐｌ．Ｌｅｔｔ．，５１（１９８７）９１３
【特許文献１】特開２００３−２０８２５４号公報
【特許文献２】特開２００３−１４２２６８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層に高分子有機材料を使用し、かつ、共通陰極を使用する場合に、簡単な製造方法で製造でき、Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層の全ての発光特性を良好にすることが可能な有機ＥＬ装置および電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決して、上記目的を達成するために、本発明は、陽極と共通陰極との間に、少なくとも発光層を含む機能層が狭持されてなる有機ＥＬ装置において、前記機能層は、各々が高分子有機材料で形成されたＲ，Ｇ，Ｂ発光層と、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層毎に設けられ、かつ、有機材料で形成されたＲ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層と、を有することを特徴とする。
【００１１】
これにより、共通陰極を使用した場合においても、有機材料で形成されたＲ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層からＲ，Ｇ，Ｂ発光層への電子注入をそれぞれ効率的に行うことができ、また、Ｒ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層電子注入／輸送層で正孔を効果的にブロックしてＲ，Ｇ，Ｂ発光層での正孔−電子の再結合効率の低下を防止することができ、全発光層の発光特性を良好にすることが可能となる。この結果、Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層に高分子有機材料を使用し、かつ、共通陰極を使用した場合に、簡単な製造方法で製造でき、Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層の全ての発光特性を良好にすることが可能な有機ＥＬ装置を提供することができる。
【００１２】
また、本発明の好ましい態様によれば、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層と前記Ｒ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層とのＬＵＭＯレベルの差は、それぞれ０．２ｅＶ以下であることが望ましい。これにより、Ｒ，Ｇ，Ｂにおいて、電子注入／輸送層から発光層の電子注入障壁を略同じとすることができ、略同じ電子注入効率で電子を注入することが可能となる。
【００１３】
また、本発明の好ましい態様によれば、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層のＨＯＭＯレベルは、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層のＨＯＭＯレベルよりそれぞれ０．３ｅＶ以上高いことが望ましい。これにより、各発光層を通過したホールや励起子を各電子注入／輸送層で効率的にブロックすることができ、正孔−電子の再結合効率の低下を防止することができる。
【００１４】
また、本発明の好ましい態様によれば、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層はインクジェット法で形成することが望ましい。これにより、各発光層の形成材料をそれぞれ所望位置に打ち分けるだけで、蒸着法に比して形成材料を無駄にすることなく、容易に各発光層を形成することができる。
【００１５】
また、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層は、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層上にそれぞれインクジェット法で形成することが望ましい。これにより、各電子注入／輸送層の形成材料をそれぞれ所望位置に打ち分けるだけで、蒸着法に比して形成材料を無駄にすることなく、容易に各電子注入／輸送層を形成することができる。
【００１６】
また、本発明の好ましい態様によれば、前記共通陰極は、前記Ｒ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層上に蒸着法で形成することが望ましい。これにより、Ｒ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層上の全面に簡単に共通電極を形成することができる。
【００１７】
また、本発明の好ましい態様によれば、本発明の有機ＥＬ装置を電子機器に搭載することが望ましい。これにより、Ｒ，Ｇ，Ｂの発光特性が優れた有機ＥＬ装置を搭載した電子機器を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下に、この発明につき図面を参照しつつ詳細に説明する。なお、この実施例によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施例における構成要素には、当業者が容易に想定できるものまたは実質的に同一のものが含まれる。
【実施例１】
【００１９】
図１は、本発明の実施例１に係る有機ＥＬ装置１００の構成を示す要部断面図である。この有機ＥＬ装置１００は、基体１０１上に陽極（第１電極）１０２と、陰極（第２電極）１０３とを有し、これら陽極１０１と陰極１０３との間に、機能層を備えたものである。機能層は、正孔注入／輸送層１０６と、発光層１０７と、および電子注入／輸送層１０８とが積層されて構成される。この有機ＥＬ装置１００は、発光層１０７で発光した光を基体側から出射するボトムエミッション方式となっている。
【００２０】
基体１０１は、ガラス基板等の透明基板（図示せず）上にＴＦＴ素子からなる駆動素子（図示せず）や各種配線等を形成して構成されたもので、これら駆動素子や各種配線の上に絶縁層や平坦化膜を介して陽極１０２を形成したものである。
【００２１】
陽極１０２は、基体１０１上に形成される単一ドット領域毎にパターニングされて形成され、かつ、ＴＦＴ素子からなる駆動素子や前記各種配線等と接続されたもので、本実施例では、ＩＴＯ（Indium  Tin  Oxide）によって形成されている。
【００２２】
陽極１０２の周囲には、単一のドット領域を区画する無機バンク層１０４および有機バンク層１０５が形成されており、これら無機バンク層１０４および有機バンク層１０５に囲まれた凹部には、正孔注入／輸送層１０６、発光層１０７，および電子注入／輸送層１０８が設けられている。
【００２３】
正孔注入／輸送層１０６は、陽極１０２から注入した正孔を発光層１０７に輸送する。正孔注入／輸送層１０９の形成材料としては、特に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液、すなわち、分散媒として、ポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらに、これを水に分散させた分散液が好適に用いられる。
【００２４】
発光層１０７は、発光波長帯域が赤色に対応したＲ発光層１０７Ｒ、発光波長帯域が青色に対応した発光層１０７Ｂ、発光波長帯域が緑色に対応した発光層１０７Ｇからなる。これらＲ発光層１０７Ｒ、Ｂ発光層１０７Ｂ、およびＧ発光層１０７Ｇで１つの画素が構成され、これらが階調して発光することにより、有機ＥＬ装置１００が全体としてフルカラー表示をなすようになっている。
【００２５】
この発光層１０７の材料としては具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などの高分子有機材料が好適に用いられる。
【００２６】
また、これらの高分子有機材料に、ペニレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６，キナクリドン等の低分子有機材料をドープして用いることもできる。
【００２７】
電子注入／輸送層１０８は、Ｒ発光層１０５Ｒ，Ｇ発光層１０５Ｇ、Ｂ発光層１０５Ｂにそれぞれ好適なＲ用電子注入層１０６Ｒ、Ｇ用電子注入層１０６Ｇ、Ｂ用電子注入層１０６Ｂで構成されている。Ｒ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層１０８Ｒ，１０８Ｇ，１０８Ｂは、共通の陰極１０３から注入される電子を、それぞれＲ，Ｇ，Ｂ発光層１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂまで輸送し、また、陽極１０２側から移動してきた正孔・励起子をブロックする機能を有する。この電子注入／輸送層１０８の材料としては、分子量が１０００未満の低分子有機材料または分子量が１０００以上の高分子有機材料を使用することができ、具体的には、Ａｌｑ3，ＢＡｌｑ，ＢＣＰ，ＴＡＺ，ＰＢＤ，ＯＸＤ，ＴＰＯＢ等の有機材料を使用することができる。
【００２８】
陰極１０３は、全ての画素領域を覆うようにして形成されたもので、電子注入／輸送層１０８側から順にＬｉＦ層とＡｌ層とが積層されて形成されたものである。また、陰極１０３上には、封止用基板１１０を基体１０１と接合するための封止層１０９が形成されている。封止層１０９は、熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂で形成されている。封止用基板１１０は、例えばガラス板等からなり、封止層１０９により貼設されている。
【００２９】
上記Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層１０７Ｒ、１０７Ｇ、１０７ＢとＲ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層１０８Ｒ，１０８Ｇ，１０８Ｂ電子注入／輸送層１０８の好適な材料の組み合わせを、表１、表２及び図２を参照して説明する。表１はＲ，Ｇ，Ｂ発光層１０７Ｒ、１０７Ｇ、１０７Ｂで好適に使用可能な高分子有機材料およびその特性、表２はＲ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層１０８Ｒ，１０８Ｇ，１０８Ｂで好適に使用可能な有機材料およびその特性、図２はＲ，Ｇ，Ｂ発光層１０７Ｒ、１０７Ｇ、１０７ＢとＲ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層１０８Ｒ，１０８Ｇ，１０８Ｂのエネルギーダイヤグラムの一例を示している。
【００３０】
【表１】
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【００３１】
【表２】
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【００３２】
【化１】
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【００３３】
【化２】
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【００３４】
【化３】
2005285618.tif 000007
【００３５】
【化４】
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【００３６】
【化５】
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【００３７】
【化６】
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【００３８】
表１に示すように、Ｒ発光層１０７Ｒの材料には、［化１］に示すＰＡＴ（ポリアルキルチオフェンを好適に使用することができる。［化１］に示すＰＡＴは、ピーク波長＝６４０ｎｍ、ＬＵＭＯ＝３．３ｅＶ、ＨＯＭＯ＝５．４ｅＶ、エネルギーギャップＥｇ＝２．１ｅＶとなっている。Ｇ発光層１０７Ｇの材料には、［化２］に示すＰＰＶ（ポリパラフェニレンビニレン）を好適に使用することができる。［化２］に示すＰＰＶは、ピーク波長＝５２０ｎｍ、５５０ｎｍ、ＬＵＭＯ＝３．２ｅＶ、ＨＯＭＯ＝５．６ｅＶ、エネルギーギャップＥｇ＝２．４ｅＶとなっている。Ｂ発光層１０７Ｂの材料には、［化３］に示すＰＤＡＦ（ポリジアルキルフルオレン）を好適に使用することができる。［化３］に示すＰＤＡＦは、ピーク波長＝４８０ｎｍ、ＬＵＭＯ＝２．８ｅＶ、ＨＯＭＯ＝５．７ｅＶ、エネルギーギャップＥｇ＝２．９ｅＶとなっている。
【００３９】
表２に示すように、Ｒ用電子注入／輸送層１０８Ｒの材料には、［化４］に示すＢＡｌｑを好適に使用することができる。［化４］に示すＢＡｌｑはＬＵＭＯ＝３．４ｅＶ、ＨＯＭＯ＝６．３ｅＶ、エネルギーギャップＥｇ＝２．９ｅＶとなっている。Ｇ用電子注入／輸送層１０８Ｇの材料には、［化５］に示すＡｌｑ3を好適に使用することができる。［化５］に示すＡｌｑ3は、ＬＵＭＯ＝３．３ｅＶ、ＨＯＭＯ＝５．９ｅＶ、エネルギーギャップＥｇ＝２．６ｅＶとなっている。Ｂ用電子注入層１０８Ｂの材料には、［化６］に示すＢＣＰ（バソクプロイン）を好適に使用することができる。［化６］に示すＢＣＰは、ＬＵＭＯ＝２．９ｅＶ、ＨＯＭＯ＝６．６ｅＶ、エネルギーギャップＥｇ＝３．７ｅＶとなっている。
【００４０】
図２において、ＬＵＭＯレベルに着目すると、Ｒ発光層１０７Ｒ材料のＰＡＴとＲ用電子注入／輸送層１０８Ｒ材料のＢＡｌｑ、Ｇ発光層１０７Ｇ材料のＰＰＶとＧ用電子注入／輸送層１０８Ｇ材料のＡｌｑ3、およびＢ発光層１０７Ｂ材料のＰＤＡＦとＢ用電子注入／輸送層１０８Ｂ材料のＢＣＰは、いずれもＬＵＭＯレベルの差が０．１ｅＶであり、０．２ｅＶ以下となっている。これにより、電子注入／輸送層から発光層の電子注入障壁を略同じとすることができ、略同じ電子注入効率で電子を注入することが可能となる。
【００４１】
また、ＨＯＭＯレベルに着目すると、Ｒ発光層１０７Ｒ材料のＰＡＴとＲ用電子注入／輸送層１０８Ｒ材料のＢＡｌｑ、Ｇ発光層１０７Ｇ材料のＰＰＶとＧ用電子注入／輸送層１０８Ｇ材料のＡｌｑ3、およびＢ発光層１０７Ｂ材料のＰＤＡＦとＢ用電子注入／輸送層１０８Ｂ材料のＢＣＰにおいては、いずれも電子注入／輸送層のＨＯＭＯレベルが、発光層のＨＯＭＯレベルよりも０．３ｅＶ以上高くなっている。これにより、各発光層を通過したホールや励起子を各電子注入／輸送層で効率的にブロックすることができ、正孔−電子の再結合効率の低下を防止することができる。
【００４２】
上記構成の有機ＥＬ装置１００の製造方法を図３を参照して説明する。図３は、有機ＥＬ装置１００の製造工程を説明するための説明図である。まず、従来と同様にして透明基板上にＴＦＴ素子や各種配線等を形成し、さらに、層間絶縁層や平坦化膜を形成して基体１０１を得る。つぎに、この基体１０１上に蒸着法等によってＩＴＯを成膜し、さらにパターニングすることによって陽極１０２を形成する。
【００４３】
つづいて、陽極１０２の周囲を囲むようにして基体１０１上にＳｉＯ2からなる無機バンク層１０４を形成し、さらに、この無機バンク層１０４上に樹脂からなる有機バンク層１０５を形成し、これにより、図３−１に示すように、陽極１０２上に凹部１２０を形成する。有機バンク層１０５に用いられる材料としては、ポリイミド、アクリル樹脂などが挙げられる。これらの材料に予めフッ素元素を含んだ構造のものを用いても良い。
【００４４】
図３−１に示したような、無機バンク層１０４および有機バンク層１０５で囲まれた凹部１２０を有する基体１０１を、酸素プラズマ−ＣＦ4プラズマ連続処理することにより基体１０１上の塗れ性を制御し、ついで、この凹部１２０内にインクジェット法等の液滴吐出法によって、正孔注入／輸送層１０６を形成する。すなわち、図３−２に示すように液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１３０から正孔注入／輸送層１０６の形成材料１０６ａを凹部１２０内に選択的に吐出し、続いてこれを乾燥・ベイクすることにより、図３−３に示すように、陽極１０２上に正孔注入／輸送層１０６を形成する。
【００４５】
つづいて、インクジェット法等の液滴吐出法によって、凹部１２０内の正孔注入／輸送層１０６上に発光層１０７を形成する。すなわち、図３−４に示すように液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１３０から発光層１０７の形成材料１０７ａを凹部１２０内の正孔注入／輸送層１０６上に選択的に吐出し、続いてこれを乾燥・ベイクすることにより、図３−５に示すように、正孔注入／輸送層１０６上に発光層１０７を形成する。この発光層１０７の形成にあたっては、Ｒ発光層１０７Ｒ、Ｇ発光層１０７Ｇ、Ｂ発光層１０７Ｂをそれぞれ作り分ける必要があるが、液滴吐出法によれば、各発光層の形成材料をそれぞれ所望位置に打ち分けるだけで、容易に発光層を形成することができる。
【００４６】
インクジェット法等の液滴吐出法によって、各発光層１０７上に各電子注入／輸送層１０８を形成する。すなわち、図３−６に示すように液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）１３０から電子輸送層１０８の形成材料１０８ａを凹部１２０内の発光層１０７上に選択的に吐出し、続いてこれを乾燥・ベイクすることにより、図３−７に示すように、発光層１０７上に電子注入／輸送層１０８を形成する。この電子注入／輸送層１０８の形成にあたっては、Ｒ用電子注入／輸送層１０８Ｒ、Ｇ用電子注入／輸送層層１０８Ｇ、Ｂ用電子注入層１０８Ｂをそれぞれ作り分ける必要があるが、液滴吐出法によれば、各電子注入／輸送層の形成材料をそれぞれ所望位置に打ち分けるだけで、容易に電子注入／輸送層を形成することができる。なお、ここでは、液滴吐出法によって、Ｒ用電子注入／輸送層１０８Ｒ、Ｇ用電子注入／輸送層１０８Ｇ、Ｂ用電子注入／輸送層１０８Ｂを成膜することとしたが、真空蒸着等の蒸着法で成膜することにしても良い。
【００４７】
この後、ドライプロセスで、陰極１０３を形成する。まず、蒸着法等によって電子注入／輸送層１０８および有機バンク層１０５上の全面に、ＬｉＦを成膜し、さらにこの上にＡｌ（アルミニウム）を成膜することにより、ＬｉＦ／Ａｌの積層構造からなる陰極１０３を形成する。
【００４８】
その後、陰極１０３上に、熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂からなる接着剤を塗布して封止層１０９を形成した後、封止用基板１１０を重ね、加熱または紫外線照射して、封止層１０９を硬化させて、封止用基板１１０と基材１０１を接合する。このようにして、図１に示す有機ＥＬ装置１００が製造される。
【００４９】
本実施例によれば、高分子有機材料で形成されたＲ，Ｇ，Ｂ発光層１０７Ｒ，Ｇ，Ｂ上に、それぞれ好適なＲ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層１０８Ｒ，１０８Ｇ，１０８Ｂを形成しているので、共通陰極を使用した場合においても、有機材料で形成されたＲ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層からＲ，Ｇ，Ｂ発光層への電子注入をそれぞれ効率的に行うことができ、また、Ｒ，Ｇ，Ｂ用電子注入／輸送層電子注入／輸送層で正孔を効果的にブロックしてＲ，Ｇ，Ｂ発光層での正孔−電子の再結合効率の低下を防止することができ、全発光層の発光特性を良好にすることが可能となる。また、本実施例によれば、Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層１０７Ｒ，１０７Ｇ，１０７Ｂ上に直接、陰極１０３を形成していないので、陰極により発光が消光したり、ホールが突き抜けて再結合効率が下がるといったロスがなく、初期特性や寿命特性を向上させることができる。付言すると、本実施例では、各発光層毎に最適な電子注入／輸送層を形成しているので、各発光層に対して共通の電子注入／輸送層を形成する構成に比して、格段に全発光層の発光特性、初期特性、寿命特性を格段に向上させることができる。この結果、Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層に高分子有機材料を使用し、かつ、共通陰極を使用した場合に、簡単な製造方法で製造でき、Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層の全ての発光特性を良好にすることが可能な有機ＥＬ装置を提供することができる。
【００５０】
なお、上記した実施例では、電子注入／輸送層１０８を単層構造としたが複数の層で構成することにしても良い。また、上記実施例では、ボトムエミッション方式の有機ＥＬ装置について説明したが、トップエミッション方式にしても良い。
【００５１】
（電子機器への適用例）
つぎに、本発明に係る有機ＥＬ装置を適用可能な電子機器の具体例について図４を参照して説明する。図４−１は、本発明に係る有機ＥＬ装置を可搬型のパーソナルコンピュータ（いわゆるノート型パソコン）２００の表示部に適用した例を示す斜視図である。同図に示すように、パーソナルコンピュータ２００は、キーボード２０１を備えた本体部２０２と、本発明に係る有機ＥＬ装置を適用した表示部２０３とを備えている。図４−２は、本発明に係る有機ＥＬ装置を携帯電話機３００の表示部に適用した例を示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機３００は、複数の操作ボタン３０１のほか、受話口３０２、送話口３０３とともに、本発明に係る有機ＥＬ装置を適用した表示部３０４を備えている。
【００５２】
本発明に係る有機ＥＬ装置は、上述した携帯電話機やノートパソコン以外にも、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）と呼ばれる携帯型情報機器、パーソナルコンピュータ、ワークステーション、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、およびＰＯＳ端末機などの電子機器に広く適用することができる。
【産業上の利用可能性】
【００５３】
本発明の有機ＥＬ装置は、有機ＥＬ表示装置、エレクトロミック調光ガラス、電子ペーパー、照明装置、およびプリンタヘッド等に広く利用可能である。また、本発明に係る電子機器は、携帯電話機、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）と呼ばれる携帯型情報機器、携帯型パーソナルコンピュータ、パーソナルコンピュータ、ワークステーション、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデオカメラ、テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、テレビ電話機、およびＰＯＳ端末機などの電子機器に広く利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００５４】
【図１】実施例に係る有機ＥＬ装置の構成を示す要部断面図。
【図２】電子注入／輸送層と発光層のエネルギーダイヤグラムの一例を示す図。
【図３−１】実施例に係る有機ＥＬ装置の製造工程を説明するための説明図。
【図３−２】実施例に係る有機ＥＬ装置の製造工程を説明するための説明図。
【図３−３】実施例に係る有機ＥＬ装置の製造工程を説明するための説明図。
【図３−４】実施例に係る有機ＥＬ装置の製造工程を説明するための説明図。
【図３−５】実施例に係る有機ＥＬ装置の製造工程を説明するための説明図。
【図３−６】実施例に係る有機ＥＬ装置の製造工程を説明するための説明図。
【図３−７】実施例に係る有機ＥＬ装置の製造工程を説明するための説明図。
【図４−１】実施例に係る有機ＥＬ装置を備えたパソコンの斜視図。
【図４−２】実施例に係る有機ＥＬ装置を備えた携帯電話機の斜視図。
【符号の説明】
【００５５】
１００  有機ＥＬ装置、１０１  基体、１０２  陽極（第１電極）、１０３  陰極（第２電極）、１０４  無機バンク層、１０５  有機バンク層、１０６  正孔注入／輸送層、１０７  は発光層、１０８  電子注入／輸送層、１０９  封止層、１１０封止用基板、２００  コンピュータ、２０１  キーボード、２０２  本体部、２０３  表示部、３００  携帯電話機、３０１  操作ボタン、３０２  受話口、３０３  送話口、３０４  表示部
【図１】
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【図２】
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【図３−１】
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【図３−２】
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【図３−３】
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【図３−４】
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【図３−５】
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【図３−６】
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【図３−７】
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【図４−１】
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【図４−２】
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