(57)【要約】【課題】ガラス基板を把持するためのガラス把持冶具において、小型で、狭い場所でも使用でき、且つ操作の安易なマスク保持冶具を提供することである。またこれにより、フォトマスクの品質を向上させることにある。【解決手段】操作者の手指に脱着することが可能な構造、又は操作者の五本の手指及び掌に脱着する手袋状の構造であって、ガラス基板の端面を挟持することができる形状の複数の凸状の固定部材をその表面に有することを特徴とするガラス把持冶具。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板を把持するためのガラス把持冶具において、操作者の手指に脱着することが可能な構造であって、ガラス基板の端面を挟持することができる形状の複数の凸状の固定部材をその表面に有することを特徴とするガラス把持冶具。
【請求項２】
前記ガラス把持冶具が、操作者の一本の手指に脱着する指サック状の構造であることを特徴とする請求項１記載のガラス把持冶具。
【請求項３】
ガラス基板を把持するためのガラス把持冶具において、操作者の五本の手指及び掌に脱着する手袋状の構造であって、手指の部分にガラス基板の端面を挟持することができる形状の複数の凸状の固定部材をその表面に有することを特徴とするガラス把持冶具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置の製造に用いるフォトマスクを製造する製造工程内でのフォトマスク用ガラス基板の運搬時に用いるガラス把持冶具に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体集積回路の高集積化、動作速度の高速化により、急激にフォトマスクのパターンの微細化が進んでいる。それに沿った形で半導体装置を製造時、光リソグラフィー工程で用いられるフォトマスクに対してもパターンの微細化が求められている。フォトマスクの製造工程は、複数に分割された製造処理、例えばレジスト塗布処理及びパターン描画処理後、現像処理、エッチング処理、レジスト剥膜処理後、最終検査等を経て製造プロセスを終了する。これに伴い、フォトマスクの品質規格上において、以前では問題視されなかった品質管理項目、例えば、より微小形状の欠陥や、より微小形状の付着異物が、前記光リソグラフィー工程において致命的な欠陥と成る可能性が大きくなってきた。その欠陥を発生させる大きな要因の一つがフォトマスクに付着する異物の問題である。
【０００３】
そこで、フォトマスクの製造工程における付着異物を低減することが必要不可欠になってくる。付着異物を低減するためには、製造装置や、製造プロセスにおける技術的な異物排除等の改善はもちろんのこと、その他に、製造場所であるクリーンルームの室内環境の維持改善や、製造工程内でのフォトマスク用ガラス基板又はフォトマスクの運搬、取扱方法といった製造作業方法等の見直しが必要となってきた。特に、製造工程内では、フォトマスクを設備に載置する場合、又は一次保管する場合等での把持方法の見直しが重要な課題となる。前記把持方法では、フォトマスクを直接作業者の手指で行うことが一般的である。
【０００４】
従来、フォトマスクを作業者の手で直接扱う際には、例えばゴム手袋などを装着し端面などに手を添えて掴む作業が多い。しかしながら、たとえ注意して扱ったとしても、指の腹の部分で接触する面積は大きくなってしまう。図４は、従来の手による取扱方法を示す斜視図で、（ａ）は片手によるマスク把持で、（ｂ）は両手によるマスク把持である。マスク（６）端面をゴム手袋（７０）を装着した手を添えて取り扱っている。すなわち、フォトマスクとの接触面積が非常に大きく、接触箇所も複数に抑えられているが個人差が大きい問題点がある。
【０００５】
そのため、接触部を極力低減するため、フォトマスクを取り扱う作業での保持冶具としてハンドラーと呼ばれる冶具がある。冶具は、端面の一部を両外側から挟み込む構造であり、手の力或いはバネなどの力を用いてクランプさせるような機械的接触動作によるものである。フォトマスクとの接触面積も非常に小さく、接触箇所も最低限に抑えられている。これらにより、フォトマスクに手を添えて持つ場合に比べて接触部分の箇所が少なく面積も非常に小さくなり、異物を低減させることができる（特許文献１参照）。
【０００６】
ハンドラー等の冶具は、フォトマスクを外側から挟み込む構造のものが多く、フォトマスクを保持した時の外形（幅、奥行き、高さ）は、フォトマスクより大きくなってしまう。例えば、工程の製造装置によっては、狭い場所を通してフォトマスクを載置しなくてはならない場合などがあり、フォトマスクをハンドラーで保持したまま載置することが困難な状況がしばしば見受けられる。従来のハンドラー等の冶具の外形を小型化に対応出来ない場合などは手操作で載置することになり、保持の冶具が有効に活用されないことになる。異物付着の問題が再発する。
【０００７】
その他に、ハンドラーの扱いそのものに難しさがある。構造としては、ハンドラーにバネ等を介在させその力によってフォトマスクを挟み込ませるものが多く、フォトマスクをハンドラーから脱着するときは、作業者がバネ力に反発する力をハンドラーへ加えて脱着するものであった（特許文献２参照）。
【０００８】
しかしながら、力を加えるとき、作業者による力の入れ加減には個人差があり、把持時の操作不良によるフォトマスクの落下や、場合によっては脱着時にフォトマスクに衝撃を加える恐れがある。たとえ接触面積が小さくとも衝撃が与えられるようであればやはり異物発生の問題が生じてしまう。ハンドラーは接触面積が小さい利点はあるが、力の加減によっては異物を発生してしまう難しさがある。フォトマスクに衝撃を与えないようにするにはやはり人の手によって丁寧に取り扱われる方が確実性が高い。すなわち、操作の難しさからのフォトマスクの品質面での不安定性に問題がある。
【０００９】
以下に公知文献を記す。
【特許文献１】特開昭６３−２５１１７３号公報
【特許文献２】特開平４−１４４１１７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の目的は、上記問題を解決するため、小型で狭い場所でも使用でき、且つ操作の安易なマスク保持冶具を提供することである。またこれにより、フォトマスクの品質を向上させることにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の請求項１に係る発明は、ガラス基板を把持するためのガラス把持冶具において、操作者の手指に脱着することが可能な構造であって、ガラス基板の端面を挟持することができる形状の複数の凸状の固定部材をその表面に有することを特徴とするガラス把持冶具である。
【００１２】
次に、本発明の請求項２に係る発明は、前記ガラス把持冶具が、操作者の一本の手指に脱着する指サック状の構造であることを特徴とする請求項１記載のガラス把持冶具である。
【００１３】
次に、本発明の請求項３に係る発明は、ガラス基板を把持するためのガラス把持冶具において、操作者の五本の手指及び掌に脱着する手袋状の構造であって、手指の部分にガラス基板の端面を挟持することができる形状の複数の凸状の固定部材をその表面に有することを特徴とするガラス把持冶具である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明により、従来のハンドラーで困難であったような工程の装置へのフォトマスクの載置において、フォトマスクへの接触面積を最小限にすることができ、併せて人の手で保持するためフォトマスクに衝撃等を与えず、より丁寧に取り扱うことで異物発生を抑えることが可能になる。さらに発明により、フォトマスクの品質を向上することができ、併せて収率向上を図ることができる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
本発明を一実施形態に基づいて以下説明する。図１は人の指に冶具を取り付けた状態を示す斜視図である。図１（ａ）に示すように、作業者の指（１）に冶具（２）を取り付け
た状態を説明するものである。冶具（２）は、本例では例えば指サックタイプのような指にはめ込む形式の冶具である。冶具（２）の一部に、凸状の固定部材（２０）が設置され、該凸状の固定部材には、フォトマスクを挟み込むための溝（３）と、溝（４）が形成されており、フォトマスクの板厚はここに挟み込まれる。また、前記溝（３，４）の底部にはＯリングのようなゴム環（５）が組み込まれており滑り防止となっている。冶具（２）の材料としてはポリイミド、ジュラコンなど適切である。また、ゴム環（５）としてはバイトン、シリコン系ゴムなども適切である。図１（ｂ）は、凸状の固定部材（２０）の側断面図（図１（ａ）の破線部ｘ−ｘ部）である。図上の溝（４）と溝（３）の間隔はカラス基板の板厚によって固定される。従って、凸状の固定部材（２０）は、前記板厚の種類の数だけ予め準備され、必要に応じて適宜用いる。
【００１６】
次に、図２はフォトマスクを両外側から挟み込んだ時の側面からの状態を示す斜視図である。図２に示すように、フォトマスク等のマスク（６）は、凸状の固定部材（２０）の溝（３）と、溝（４）との間に板厚が挟み込まれ、左右の凸状の固定部材（２０）を人の手指が両外側から挟み込む力を与えて保持している様子である。冶具（２）とマスク（６）とが直接接触する部分はマスク端面の角部であるため、接触面積は非常に小さく異物低減が期待され、ハンドラー同様の効果をもたらしている。
【００１７】
さらには、マスクを挟み込む力は、人が直接伝えており、力の加減調整や丁寧さは冶具に比べて遙かに優れていることが大きな利点である。手指の力による丁寧な力加減とハンドラーの低接触面積の特徴を組み合わせた効果が期待できるものである。以上のような冶具を、マスクを取り扱う時の作業者の個人差に合わせて必要な指に取り付ければ良く、取り付けの数は各作業者で選択可能である。
【００１８】
図３（ａ）〜（ｂ）は、もうひとつの事例を示したものであり、作業時には手袋（７）を装着した状態を示している。手袋（７）の指先には、図２と同様な溝を有した凸状の固定部材（２０）を設置した冶具が予め取り付けられており手袋と一体になっているものである。図３（ａ）は、片方の手指により、マスク（６）を把持する場合である。図３（ａ）に示すように、親指と小指に本発明の凸状の固定部材（２０）を取り付けた手袋（７）を用いてマスク（６）を把持している。マスクは凸状の固定部材（２０）のみと接触しているだけである。図３（ｂ）は両方の手指により、マスク（６）を把持する場合で、マスクの寸法が大きい、すなわち大型のマスクの把持方法に適している。図３（ｂ）に示すように、親指と人差指に本発明の凸状の固定部材（２０）を取り付けた手袋（７）を両方の手指に装着してマスク（６）を把持している。すなわち、マスクとは、凸状の固定部材（２０）のみと接触しているだけである。
【００１９】
この事例の場合では、手袋を片方、又は両方の手指に装着するだけでよく、作業性向上にもつながる。手袋（７）の材料としては、ニトリルゴムや天然ゴム、シリコン系ゴムなどが適切である。
【００２０】
以上のような凸状の固定部材を設置した冶具を用いることで、フォトマスクへ付着する異物を低減することができ、フォトマスクの品質が期待できるほか、冶具自体も低価格で抑えることが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の人の指に冶具を取り付けた状態を示す説明図で、（ａ）は全体の斜視図であり、（ｂ）部分側断面図である。
【図２】本発明のフォトマスクを両外側から挟み込んだ時の側面からの状態を示す説明図である。
【図３】本発明の冶具を取り付けた手袋を装着する手指による取扱方法を示す斜視図で、（ａ）は片手、（ｂ）は両手による方法である。
【図４】従来のゴム手袋を装着する手指による取扱方法を斜視図で、（ａ）は片手、（ｂ）は両手による方法である。
【符号の説明】
【００２２】
１…指
２…冶具
３…溝
４…溝
５…（Ｏリングのような）ゴム環
６…マスク
７…冶具付き手袋
２０…凸状の固定部材
７０…従来のゴム手袋
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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