(57)【要約】【課題】基板表面の曲率が大きい場合にも、所望とされる基板表面の分光特性を容易且つ的確に得ることのできるレンズ光学素子を提供する。【解決手段】レンズ光学素子２０の曲面形成された基板表面に、入射光の入射角度の大きい部位ほど、すなわち光軸から離間されるほど、パターンピッチを小さくして微細周期構造２１を形成する。【選択図】      図１１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
曲面形成された基板表面を有するレンズ光学素子であって、
入射波長に対して回折光が発生しない微細な大きさ及びピッチで周期的に形成された微細周期構造を前記曲面形成された基板表面に設けるとともに、前記ピッチを、前記曲面形成された基板表面の部位により可変とした
ことを特徴とするレンズ光学素子。
【請求項２】
前記曲面形成された基板表面にあって入射光の入射角度の小さい部位に比して、同入射角度の大きい部位での前記ピッチが小さくされた請求項１に記載のレンズ光学素子。
【請求項３】
前記曲面形成された基板表面にあって、入射光の光軸から離間されるほど前記ピッチが小さくされた請求項１に記載のレンズ光学素子。
【請求項４】
前記微細周期構造は、入射光の反射抑制機能を有する請求項１〜３のいずれか１項に記載のレンズ光学素子。
【請求項５】
前記微細周期構造は、断面ブレーズ形状に形成されてなる請求項１〜４のいずれか１項に記載のレンズ光学素子。
【請求項６】
当該レンズ光学素子は、光学式データ記録再生装置の光ピックアップに用いられる請求項１〜５のいずれか１項に記載のレンズ光学素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、曲面形成された基板表面を有するレンズ光学素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガラスやプラスチック等で形成された光学素子では、素子と空気との屈折率差のため、その表面を光が通過する際に反射が発生する。そうした表面の光反射を低減するため、光学素子に表面処理を施すことがある。こうした表面処理では、薄い誘電体膜からなり、各々屈折率の異なる複数の層を、真空蒸着等によって光学素子の基板表面に成膜させるようにしている。
【０００３】
また近年には、例えば特許文献１に見られるように、微細周期構造を基板表面に設けることで、反射を低減させる技術も提案されている。微細周期構造を構成する各パターンの間隔（ピッチ）や、その各パターンの大きさを、入射波長以下のサブミクロンオーダーで形成すると、その微細周期構造自体による回折光は発生しないようになる。すなわち、回折については、基板表面を連続した滑らかな面と見なすことができるようになる。ただし、微細周期構造の形成態様に応じて基板表面の反射率特性は変化されることから、このような微細周期構造の形成を通じて基板表面の反射率の低減を図ることができる。
【特許文献１】特開２００２−１８２００３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところが、こうした従来の反射抑制技術を開口率の高いレンズ光学素子に適用する場合には、以下のような問題が発生するため、所望とされる光学素子表面の分光特性を得ることが困難となっている。
【０００５】
レンズ光学素子の曲面形成された基板表面に対して上記のような真空蒸着による薄膜形成を行った場合、平面基板のときとは異なり、膜厚を一定とすることは困難となる。そのため、性能を安定させることは難しく、また製造工程が増えて歩留まりが悪化するため、製造コストの増大を招く要因となってもいる。
【０００６】
また、たとえ膜厚が一定に形成されたとしても、レンズ光学素子の曲面形成された基板表面では、光軸付近に比してその周辺部に向かうほど光の入射角度が大きくなり、薄膜層を通過する際の光路長が長くなってしまう。特に開口率の高いレンズ光学素子では、その基板表面の曲率が大きいため、上記薄膜層通過時の光路長の差が大きくなる。そのため、たとえ光軸付近では所望とされる効果を得られたとしても、周辺部では反射率を有効に低減することができなくなってしまうことがある。
【０００７】
一方、上述した特許文献１には、微細周期構造による反射抑制技術をレンズ光学素子に適用した構成例が記載されている。ただし微細周期構造の形成された基板表面においても、上記薄膜を形成した場合よりは小さいとはいえ、やはり回折特性の入射角度依存性は存在する。そのため、高開口率のレンズ光学素子では、微細周期構造によっても、その全面での反射率の低減は困難となっている。しかしながら特許文献１には、そうしたレンズ光学素子特有の事情を考慮した具体的な微細周期構造の構成に関しては何ら開示されておらず、微細周期構造による反射抑制技術がレンズ光学素子に適用可能なことの単なる示唆がなされているに過ぎない。このように高開口率のレンズ光学素子に対する微細周期構造による反射抑制技術を実用化するには、未だ解決すべき課題が残されたままとなっている。
【０００８】
本発明の解決しようとする課題は、製造が比較的容易でありながらも、基板表面の曲率が大きい場合にも、的確に所望とされる分光特性を得ることのできるレンズ光学素子を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
以下、上記課題を解決するための手段、及びその作用効果を記載する。
【００１０】
請求項１に記載の発明は、曲面形成された基板表面を有するレンズ光学素子であって、入射波長に対して回折光が発生しない微細な大きさ及びピッチで周期的に形成された微細周期構造を前記曲面形成された基板表面に設けるとともに、前記ピッチを、前記曲面形成された基板表面の部位により可変としたことをその要旨とする。
【００１１】
上記構成では、曲面形成されて、部位により入射角度の異なるレンズ光学素子の基板表面に、部位毎にピッチを変えて微細周期構造が形成される。これにより、入射角度に合わせて各部位の微細周期構造のパターンピッチを最適化することができ、開口率の高い、すなわち曲率の大きいレンズ光学素子でも、所望とされる基板表面の分光特性を的確に得ることができるようになる。また微細周期構造のパターンピッチを不必要な部位まで小さくしないようにしているため、パターンピッチの微細化に伴う生産性の悪化を好適に抑制することができる。
【００１２】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のレンズ光学素子において、前記曲面形成された基板表面にあって入射光の入射角度の小さい部位に比して、同入射角度の大きい部位での前記ピッチを小さくしたことをその要旨とする。
【００１３】
パターンピッチを小さくするほど、微細周期構造の回折特性の入射角度依存性を抑えることができる。よって上記構成のようにピッチの可変設定を行えば、好適な基板表面の分光特性が得られるようになる。
【００１４】
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載のレンズ光学素子において、前記曲面形成された基板表面にあって、入射光の光軸から離間されるほど前記ピッチを小さくしたことをその要旨とする。
【００１５】
レンズ光学素子の基板表面では一般に、入射光の光軸から離間されるほど、入射角度が大きくなる。よって上記構成のようにピッチの可変設定を行えば、入射角度の大きい部位ほどパターンピッチが小さく設定されるようになり、好適な基板表面の分光特性が得られるようになる。
【００１６】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか１項に記載のレンズ光学素子において、前記微細周期構造は、入射光の反射抑制機能を有することをその要旨とする。
【００１７】
上記構成によれば、開口率が高く、曲率の大きい基板表面を有するレンズ光学素子においても、生産性の悪化を抑えつつ、基板表面での反射を的確に抑制することができる。
【００１８】
請求項５に記載の発明は、請求項１〜４のいずれか１項に記載のレンズ光学素子において、前記微細周期構造を、断面ブレーズ形状に形成したことをその要旨とする。
【００１９】
発明者等の調査により、微細周期構造のパターンを断面ブレーズ形状に形成することで、回折特性の入射角度依存性を好適に抑制できることが確認されている。よって上記構成によれば、基板表面の曲率が大きい場合にも、所望とされる基板表面の分光特性をより容易且つ的確に得ることができるようになる。
【００２０】
請求項６に記載の発明は、請求項１〜５のいずれか１項に記載のレンズ光学素子におい
て、当該レンズ光学素子は、光学式データ記録再生装置の光ピックアップに用いられることをその要旨とする。
【００２１】
近年、光ディスク装置のような光学式データ記録再生装置では、記録媒体の記録密度向上のため、より開口率の高いレンズ光学素子が用いられるようになっている。そのため、製造が容易で、且つ曲率が大きくとも所望とされる基板表面の分光特性が的確に得られるレンズ光学素子を採用することで、その性能及び生産性の向上を図ることができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明のレンズ光学素子によれば、製造が比較的容易でありながらも、基板表面の曲率が大きい場合にも、的確に所望とされる分光特性を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
発明者等は、反射抑制のための微細周期構造における回折特性の入射角度依存性に関しての調査を行っている。ここでは、まずその調査の結果について説明する。
【００２４】
この調査は、図１（ａ）及び（ｂ）にそれぞれ示す断面の形状に形成された２種類の微細周期構造に対して行われている。ここで同図（ａ）に示される微細周期構造は、それを構成する各パターンが、光軸方向に平行な垂直面と同光軸方向に鋭角で交叉する斜面とで形成された断面ブレーズ形状とされている。また同図（ｂ）に示される微細周期構造は、それを構成する各パターンが、光軸方向に鋭角で交叉する２つ斜面にて形成された断面三角形状とされている。上記調査は、微細周期構造のパターン同士の間隔（パターンピッチＰ）及び各パターンの高さＨを同一とした条件で行われている。
【００２５】
なお反射抑制のための微細周期構造としては、他にも、図２（ａ）〜（ｄ）のような断面形状のものも用いられている。これら図１及び図２に示される各微細周期構造はいずれも、入射光の入射角度が０°のときには、図３（ａ）に示すように、高次（＋１次以上、及び−１次以下）の回折光を発生しない０次回折格子となっている。これらのうち、上記調査に用いた上記断面ブレーズ形状及び断面三角形状の微細周期構造は、特に反射抑制効果が高いことが確認されている。しかしながら、入射角度が大きくなると、図３（ｂ）に示すように、透過光において１次回折光が発生してしまう。
【００２６】
図４に、上記調査の結果から得られた、上記断面ブレーズ形状及び断面三角形状の微細周期構造における入射光の入射角度と反射率との関係を示す。同図に示すように、断面ブレーズ形状及び断面三角形状のいずれにおいても、入射角度が約３０°よりも大きくなると急激に反射率が増大する。断面三角形状に比して断面ブレーズ形状の方が、より大きい入射角度まで低い反射率を維持でき、入射角度依存性は低くなっている。
【００２７】
次に、断面ブレーズ形状の微細周期構造において、パターンピッチＰを変えたときの入射角度依存性の変化に関する調査の結果を説明する。
【００２８】
図５〜図８は、それぞれ１５０ｎｍ、２００ｎｍ、２２５ｎｍ、２５０ｎｍのパターンピッチＰとされた微細周期構造について、波長４０５ｎｍの青色レーザーを入射させたときの入射角度と各次回折光の発生率（回折効率）との関係を示している。これらに示されるように、パターンピッチＰが小さいほど、回折性能の入射角度依存性は低くなる。
【００２９】
例えば図５に示すパターンピッチＰ＝１５０ｎｍの場合には、５０°以上の大きい入射角度まで、０次回折の透過光の回折効率がほぼ１．０に保たれており、反射は有効に防止されている。またこの場合、入射角度を大きくしても、高次の回折光は発生しないようになる。
【００３０】
図６に示すパターンピッチＰ＝２００ｎｍの場合、入射角度が３０°を超えると、透過
光において１次回折光が発生するようになる。
【００３１】
図７に示すパターンピッチＰ＝２２５ｎｍの場合、透過光に１次回折光の発生する入射角度の下限が２０°付近まで小さくなる。また入射角度が更に大きくなると（入射角度＞約５０°）、反射光においても１次回折光が発生してしまうようになる。
【００３２】
図８に示すパターンピッチＰ＝２５０ｎｍの場合、透過光に１次回折光の発生する入射角度の下限が更に小さくなり、１０°程度の入射角度でも透過光に１次回折光が発生してしまう。また反射光に１次回折光の発生する入射角度の下限も、上記パターンピッチＰが２２５ｎｍの場合に比して小さくなる。
【００３３】
以下に、上記調査の結果をまとめる。
【００３４】
・微細周期構造のパターンピッチを小さくするほど、回折特性の入射角度依存性は小さくなる。例えば波長４０５ｎｍの青色レーザーを使用する場合には、パターンピッチＰを１５０ｎｍ以下とすれば、入射角度が大きくなっても、高次の回折光が発生しないようになる。
【００３５】
・回折特性の入射角度依存性の低減には、微細周期構造のパターン形状を断面ブレーズ形状とすることが望ましい。
【００３６】
こうした調査結果を踏まえれば、曲率の大きい高開口率のレンズ光学素子では、微細周期構造を断面ブレーズ形状とするとともに、そのパターンピッチを十分に小さくすれば良いということになる。しかしながら、微細周期構造のパターンピッチを小さくすれば、その成形に使用される金型の作製が困難となり、また成形に際しての離型性が悪化して生産性が悪化してしまうようになる。
【００３７】
続いて、入射角度による回折特性の変化抑制と生産性の悪化抑制とを両立すべく改善の図られた本発明に係るレンズ光学素子の一実施形態について、図９〜図１２を参照して詳細に説明する。本実施形態では、光ディスク装置等の光学式データ記録再生装置に用いられる光ピックアップの対物レンズに対して、本発明を適用した場合を例に説明する。
【００３８】
図９は、そうした本実施形態の適用される光ピックアップ１０の模式構造を示している。同図に示すようにこの光ピックアップ１０は、本発明の適用される対物レンズ２０に加え、レーザー素子１１、回折格子１２、偏光ビームスプリッタ１３、コリメータレンズ１４、１／４波長板１５、集光レンズ１６及び受光素子１７を備えて構成されている。なお、この光ピックアップ１０は、波長４０５ｎｍの青色レーザーを使用する構成となっている。
【００３９】
レーザー素子１１から照射されたＰ波直線偏光のビームは、回折格子１２にて０次及び±１次の回折光に分離される。Ｐ波の直線偏光を透過し、Ｓ波の直線偏光を反射するよう構成された偏光ビームスプリッタ１３は、この回折格子１２からのビームを透過する。偏光ビームスプリッタ１３を透過したビームは、コリメータレンズ１４にて平行光に変換され、更に１／４波長板１５にて円偏光に変換された後、対物レンズ２０に入射される。対物レンズ２０はこの入射されたビームを集光して光学記録媒体１８上に照射させる。
【００４０】
光学記録媒体１８に照射されたビームは、その信号面又は記録面で反射され、対物レンズ２０を介して上記１／４波長板１５に入射する。ここで１／４波長板１５は、入射したビームを円偏光から直線偏光へと変換する。このときの１／４波長板１５を通過したビームは、往路とは逆位相のＳ波直線偏光となっている。
【００４１】
こうしてＳ波直線偏光に変換されたビームは、コリメータレンズ１４を通過して偏光ビームスプリッタ１３に入射される。このときのＳ波直線偏光となったビームは、偏光ビー
ムスプリッタ１３で、集光レンズ１６側に反射される。そしてその反射されたビームは、集光レンズ１６を通って受光素子１７の受光面に集光される。受光素子１７は受光した光学記録媒体１８からの反射ビームを電気信号に変換して出力する。
【００４２】
図１０（ａ）に対物レンズ２０の平面構造を、図１０（ｂ）に同図（ａ）のＢ−Ｂ線に沿ったその断面構造をそれぞれ示す。これらの図に示されるように、上記光ピックアップ１０に採用される対物レンズ２０の基板表面には、反射抑制のための微細周期構造２１が設けられている。以下、そうした微細周期構造２１の詳細について説明する。
【００４３】
本実施形態の対物レンズ２０では、その表裏の基板表面に、図１（ａ）に示したような断面ブレーズ形状の微細周期構造２１が形成されている。この対物レンズ２０では、微細周期構造２１の高さは基板表面全体で同一とされているが、高さを可変として分校特性を制御することもできる。
【００４４】
これに対して、微細周期構造２１のパターンピッチＰは、図１１に示す基板表面の部位Ｉ〜IV毎に可変とされている。
【００４５】
部位Ｉは、対物レンズ２０の基板表面における光軸付近の入射角度が５°未満となる領域となっている。図１２（ａ）に示すように、この部位Ｉでの微細周期構造２１のパターンピッチＰは、２５０ｎｍに設定されている。
【００４６】
部位IIは、対物レンズ２０の基板表面における上記部位Ｉの外周の、入射角度が５°〜１５°の範囲となる領域となっている。図１２（ｂ）に示すように、この部位IIでの微細周期構造２１のパターンピッチＰは、２２５ｎｍに設定されている。
【００４７】
部位III は、対物レンズ２０の基板表面においる上記部位IIの更に外周の、入射角度が１５°〜３０°の範囲となる領域となっている。図１２（ｃ）に示すように、この部位III での微細周期構造２１のパターンピッチＰは、２００ｎｍに設定されている。
【００４８】
部位IVは、対物レンズ２０の基板表面最外周の入射角度が３０°以上となる領域となっている。図１２（ｄ）に示すように、この部位IVでの微細周期構造２１のパターンピッチＰは、１５０ｎｍに設定されている。
【００４９】
すなわち、この対物レンズ２０では、その曲面形成された基板表面において、入射光の入射角度の小さい部位に比して同入射角度の大きい部位での微細周期構造２１のパターンピッチＰが小さくされている。換言すれば、この対物レンズ２０では、その曲面形成された基板表面において、入射光の光軸から離間されるほど微細周期構造２１のパターンピッチＰが小さくされている。
【００５０】
こうした対物レンズ２０の成形は、樹脂材料の射出成形で行うことも可能ではある。ただし、微細周期構造２１のパターンがある程度よりも細密な場合には、射出成形では基板表面への同パターンの転写率を十分に確保できないこともある。そうした場合には、ＵＶ硬化樹脂材料を使用しての２Ｐ法や熱硬化性樹脂を使用してのヒートブレス法（ホットエンボス法）等で行うことで、パターンの転写率を確保することができる。
【００５１】
以上説明した本実施形態の対物レンズ２０では、入射角度の大きい部位ほど微細周期構造２１のパターンピッチＰが小さくされているため、基板表面の曲率が大きいにも拘わらず、的確に反射を低減することができる。しかも、入射角度が小さく、比較的大きいパターンピッチＰでも十分に反射を低減可能な部位についてまで、不必要にパターンピッチＰを細かくしないようにしていることから、微細なパターンピッチＰで微細周期構造２１の形成される部位を必要最小限に留めることができる。そのため、対物レンズ２０の成型に
使用される金型の加工性の悪化も必要最小限に留められている。
【００５２】
また上記のような部位毎のパターンピッチＰの可変設定により、樹脂硬化後の金型からの離型性の悪化も抑制される。これは、パターンピッチＰが大きくて離型の容易な部位より離型が始まり、その後それがきっかけとなって、パターンピッチＰのより小さい部位でも離型が進むためである。
【００５３】
以上説明した本実施形態によれば、次の効果を奏することができる。
【００５４】
（１）入射角度の大きい部位でも、十分な反射抑制効果が得られる。
【００５５】
（２）金型の加工性や金型からの成型品の離型性の低下を抑え、生産性の悪化を必要最小限に留めることができる。
【００５６】
以上説明した実施形態は、次のように変更して実施することもできる。
【００５７】
・上記実施形態の対物レンズ２０では、微細周期構造２１のパターンピッチＰを部位毎に４段階に変化させるようにしていたが、そうしたパターンピッチＰを変化させる段階の数を適宜変更したり、あるいはパターンピッチＰを連続的に変化させたり、するようにしても良い。
【００５８】
・断面ブレーズ形状の微細周期構造２１のパターン形成態様としては、図１３（ａ）、（ｂ）のいずれの態様としても、同様の作用効果を得ることができる。ちなみに同図（ａ）は、微細周期構造２１を、対物レンズ２０内周側に設けられた光軸に平行な垂直面と、その外周側に設けられた光軸に鋭角にて交差する斜面とで各パターンを構成したものである。同図（ｂ）は、これとは逆に、対物レンズ２０内周側に設けられた光軸に鋭角にて交差する斜面と、その外周側に設けられた光軸に平行な垂直面とで各パターンを構成したものである。
【００５９】
・微細周期構造２１の形成態様としては、図１４（ａ）のように、対物レンズ２０の基板表面にパターンを同心円状に形成したり、同図（ｂ）のように、対物レンズ２０の基板表面にパターンをスパイラル状に形成したりしても良い。また同図（ｃ）のように、略直線状にパターンを形成するようにしても良い。いずれにせよ、光軸から離間されるほど、すなわち入射角度が大きくなるほど、パターンピッチＰが小さくなるように微細周期構造２１を形成すれば、上記（１）、（２）の効果を得ることができる。
【００６０】
・微細周期構造２１のパターン形状として、上記断面ブレーズ形状以外にも、図１（ｂ）に示した断面三角形状、或いは図２（ａ）〜（ｄ）に示した各形状等、適宜な形状を採用することもできる。そうした場合にも、部位毎の入射角度に合わせて所望とされる分光特性が得られるように、適宜パターンピッチＰを可変設定することで、上記（１）、（２）の効果を同様に得ることができる。
【００６１】
・上記のような微細周期構造を構成するパターンが基板表面上に筋状に延伸して形成された１次元構造だけでなく、微細な凹凸パターンを基板表面上に２次元的に配置した２次元構造の微細周期構造を採用することもできる。例えば図１５には、各パターン２２が円錐形状に形成された２次元構造の微細周期構造の構成例が示されている。この場合にも、入射角度の小さい部位では、同図（ａ）のように比較的大きいパターンピッチＰ１でパターン２２を形成し、光軸から離間され、入射角度が大きい部位となるに従って、同図（ｂ）、同図（ｃ）のように順次パターンピッチを小さくすることで（Ｐ１＞Ｐ２＞Ｐ３）、上記（１）、（２）の効果を同様に得ることができる。
【００６２】
・本発明は、光ディスク装置のような光学式データ記録再生装置の光ピックアップにおける対物レンズ以外のレンズ光学素子にも同様に採用することができる。
【００６３】
・本発明は、例えば凹レンズ、円筒レンズといった凸レンズ以外のレンズ光学素子にも同様に採用することができる。例えば図１６には、本発明を円筒レンズとして具体化した構成例が示されている。この構成例においても、光軸から離間されて入射角度が大きくなる部位ほど、微細周期構造のパターンピッチが小さくされている。
【００６４】
・なお回折格子等の反射抑制以外の目的で、曲面形成されたレンズ光学素子の基板表面に設けられる微細周期構造においても、部位毎の入射角度の違いにより、等ピッチでパターンを形成した場合には、所望とされる回折特性が得られなくなることがある。そうした場合、各部位の入射角度に合わせて微細周期構造のパターンピッチを可変設定することで、所望とされる基板表面の分光特性が得られるようになる。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】（ａ）、（ｂ）微細周期構造のパターン形状例を各示す断面図。
【図２】（ａ）〜（ｄ）同じく微細周期構造のパターン形状例を各示す断面図。
【図３】（ａ）入射角度０°のとき及び（ｂ）入射角度が大のときの入射光の回折態様を各示す図。
【図４】断面ブレーズ形状及び断面三角形状の各微細周期構造について入射角度と反射率との関係を示すグラフ。
【図５】パターンピッチ１５０ｎｍ時の入射角度と各回折光の回折効率との関係を示すグラフ。
【図６】パターンピッチ２００ｎｍ時の入射角度と各回折光の回折効率との関係を示すグラフ。
【図７】パターンピッチ２２５ｎｍ時の入射角度と各回折光の回折効率との関係を示すグラフ。
【図８】パターンピッチ２５０ｎｍ時の入射角度と各回折光の回折効率との関係を示すグラフ。
【図９】本発明の一実施形態の適用される光ピックアップの構成を示す模式図。
【図１０】本発明の一実施形態に係る対物レンズの（ａ）平面図及び（ｂ）断面図。
【図１１】同対物レンズの拡大断面図。
【図１２】（ａ）〜（ｄ）同対物レンズの各部位での微細周期構造の形成態様をそれぞれ示す図。
【図１３】（ａ）、（ｂ）微細周期構造のパターン形状の構成例をそれぞれ示す図。
【図１４】（ａ）〜（ｃ）同じく微細周期構造のパターン形状の構成例をそれぞれ示す図。
【図１５】（ａ）〜（ｃ）２次元構造の微細周期構造への本発明の適用例における各部位での微細周期構造の形成態様をそれぞれ示す図。
【図１６】本発明の円筒レンズに対する適用例の斜視図。
【符号の説明】
【００６６】
１０…光ピックアップ、１１…レーザー素子、１２…回折格子、１３…偏光ビームスプリッタ、１４…コリメータレンズ、１５…１／４波長板、１６…集光レンズ、１７…受光素子、２０…対物レンズ、２１，２２…微細周期構造。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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