(57)【要約】【課題】ガス供給設備またはガス使用設備から排気されるガスを効率よく処理または再利用することができるようにするためのガス回収方法およびガス回収装置ならびにガス回収システムを提供する。【解決手段】圧縮機２の排気側を、回収容器Ｔ1 ，Ｔ2 に接続するとともに、上記圧縮機２の吸気側を、ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 またはＰＦＣガス使用設備の排気用配管Ｌ3 に接続し、上記圧縮機２の吸引力を利用して上記排気用配管Ｌ3 のＰＦＣガスを吸い出し、上記回収容器Ｔ1 ，Ｔ2 に回収する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス供給手段またはガス使用手段と、その手段から流出する、回収目的となる主なガスの濃度が５体積％以上のガスを回収する回収手段とを備え、その回収手段に回収容器を設け、上記流出するガスを上記回収容器に回収することを特徴とするガス回収方法。
【請求項２】
ガス供給手段またはガス使用手段と、その手段から流出する、回収目的となる主なガスの濃度が５体積％以上のガスを回収する回収手段とを備え、その回収手段に圧縮機を設け、上記ガスを圧縮して回収容器に回収する際、上記回収手段の圧縮作動時の吸引力を利用して上記手段内のガスを吸い出し、上記回収容器に回収することを特徴とするガス回収方法。
【請求項３】
上記回収目的となる主なガスが、ＣＦ4 ，Ｃ2 Ｆ6 ，Ｃ3 Ｆ8 ，Ｃ4 Ｆ6 ，Ｃ4 Ｆ8 ，Ｃ5 Ｆ8 ，ＣＨＦ3 ，ＣＨ2 Ｆ2 等のパーフルオロ化合物ガス、またはＳＦ6 ガスもしくはＮＦ3 ガスである請求項１または２記載のガス回収方法。
【請求項４】
回収容器を備え、その回収容器が、ガス供給設備またはガス使用設備に設けられている排気用配管に接続されていることを特徴とするガス回収装置。
【請求項５】
圧縮機と、この圧縮機の排気側に接続される回収容器とを備え、上記圧縮機の排気側と回収容器とが接続されており、上記圧縮機の吸気側が、ガス供給設備またはガス使用設備に設けられている排気用配管に接続されていることを特徴とするガス回収装置。
【請求項６】
上記圧縮機が、空気圧作動の往復圧縮機である請求項５記載のガス回収装置。
【請求項７】
上記回収容器よりも上流側に、ガス濃度に対応して流路を切り換える切り換え弁が接続され、この切り換え弁を介して、上記回収容器とガス供給設備またはガス使用設備に設けられている排気用配管とが接続されるようになっており、上記切り換え弁により、ガス濃度が所定値以上の場合には上記回収容器に流し、上記所定値未満の場合には他の流路に流すよう切り換え可能になっている請求項４〜６のいずれか一項に記載のガス回収装置。
【請求項８】
請求項４〜７のいずれか一項に記載のガス回収装置が、ＣＦ4 ，Ｃ2 Ｆ6 ，Ｃ3 Ｆ8 ，Ｃ4 Ｆ6 ，Ｃ4 Ｆ8 ，Ｃ5 Ｆ8 ，ＣＨＦ3 ，ＣＨ2 Ｆ2 等のパーフルオロ化合物ガス、またはＳＦ6 ガスもしくはＮＦ3 ガスを回収するものであるガス回収装置。
【請求項９】
ガス供給設備またはガス使用設備と、請求項４〜８のいずれか一項に記載のガス回収装置とからなることを特徴とするガス回収システム。
【請求項１０】
請求項９記載のガス回収システムが、ＣＦ4 ，Ｃ2 Ｆ6 ，Ｃ3 Ｆ8 ，Ｃ4 Ｆ6 ，Ｃ4 Ｆ8 ，Ｃ5 Ｆ8 ，ＣＨＦ3 ，ＣＨ2 Ｆ2 等のパーフルオロ化合物ガス、またはＳＦ6 ガスもしくはＮＦ3 ガスを回収するものであるガス回収システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パーフルオロ化合物ガス等のガス供給設備またはガス使用設備から排気（流出）されるガスを回収するガス回収方法およびガス回収装置ならびにガス回収システムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、半導体製造でのドライエッチングやＣＶＤでのドライクリーニング等に、ＣＦ4 ，Ｃ2 Ｆ6 ，Ｃ3 Ｆ8 ，Ｃ4 Ｆ6 ，Ｃ4 Ｆ8 ，Ｃ5 Ｆ8 ，ＣＨＦ3 ，ＣＨ2 Ｆ2 等のパーフルオロ化合物（以下、単に「ＰＦＣ」という）ガス，ＳＦ6 ガス，ＮＦ3 ガス等が使用されている。これらＰＦＣガス等は、そのガスを供給するガス供給設備から、配管を通って、ドライエッチング設備やＣＶＤ設備等の、ＰＦＣガス等を使用するガス使用設備に供給される。
【０００３】
ＰＦＣガスを例にとって説明すると、従来のＰＦＣガス供給設備は、例えば、図６に示すものと図７に示すものとがあり、これらは、その排気用配管（排気方法）が異なっている。すなわち、図６に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ1 は、各ＰＦＣガスが充填された開閉弁ＶT0付き供給容器Ｔ0 と、この供給容器Ｔ0 の開閉弁ＶT0に接続され上記ドライエッチング設備等にＰＦＣガスを供給する開閉弁Ｖ1 付き供給配管Ｌ1 とを備えている。そして、パージ用窒素ガスを供給する開閉弁Ｖ2 付きパージ用配管Ｌ2 と、配管内のガスを排気する開閉弁Ｖ3 付き排気用配管Ｌ3 と、配管内の圧力を表示する圧力計（圧力センサ）Ｐ0 とが、それぞれ、上記供給容器Ｔ0 の開閉弁ＶT0と上記供給配管Ｌ1 の開閉弁Ｖ1 との間の配管に接続されており、上記排気用配管Ｌ3 により、直接排気するようになっている。また、図７に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ2 では、開閉弁Ｖ4 付き排気用配管Ｌ4 が上記開閉弁Ｖ3 付き排気用配管Ｌ3 （図６参照）と同様に接続されており、排気が、真空発生用窒素ガス（流れる窒素ガス）によるベンチュリー効果を利用して、配管内のガスを吸い出すことにより行われるようになっている。それ以外の部分は、図６に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ1 と同様となっている。
【０００４】
上記両ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 ，Ｓ2 において、供給容器Ｔ0 内のＰＦＣガスがなくなると、供給容器Ｔ0 を新しいものに交換する必要があるが（供給容器Ｔ0 の交換は、その開閉弁ＶT0とともに行う。以下も同様。）、その際、上記ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 ，Ｓ2 では、上記供給容器Ｔ0 の開閉弁ＶT0と各開閉弁Ｖ1 ，Ｖ2 ，Ｖ3 ，Ｖ4 との間の中間配管内のガスが排気される。このため、ＰＦＣガスが大気放出される。
【０００５】
すなわち、図６に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ1 では、まず、（１）供給容器Ｔ0 を取り外すまでは、中間配管内にＰＦＣガスが充満しているため、そのＰＦＣガスを窒素ガスで置換する。そのために、まず、供給容器Ｔ0 の開閉弁ＶT0を閉じるとともに、各配管Ｌ1 ，Ｌ2 ，Ｌ3 の開閉弁Ｖ1 ，Ｖ2 ，Ｖ3 を閉じた状態にする。この状態では、中間配管内の圧力は、供給容器Ｔ0 内の圧力と略等しくなっている〔通常、０．５〜１．０ＭＰａ（ゲージ圧）程度〕。ついで、排気用配管Ｌ3 の開閉弁Ｖ3 を開け、中間配管内のＰＦＣガスを大気放出する。この開閉弁Ｖ3 は、上記圧力計（圧力センサ）Ｐ0 が大気圧を示すまで開けておく。これにより、中間配管内は、大気圧のＰＦＣガス雰囲気となっている。つぎに、その排気用配管Ｌ3 の開閉弁Ｖ3 を閉じた後、パージ用配管Ｌ2 の開閉弁Ｖ2 を開け、パージ用窒素ガスを中間配管内に供給する〔このパージ用窒素ガスは、通常、０．３〜０．７ＭＰａ（ゲージ圧）程度に設定されている〕。その後、パージ用配管Ｌ2 の開閉弁Ｖ2 を閉じ、中間配管内でＰＦＣガスとパージ用窒素ガスとが拡散するまで時間をおく（通常３０秒間程度）。そして、再度、排気用配管Ｌ3 の開閉弁Ｖ3 を開け、中間配管内のＰＦＣガスとパージ用窒素ガスとの混合ガスを大気放出する。これを、中間配管内のガスが殆ど窒素ガスで置換されるまで繰り返す（通常４０回程度）。その後、供給容器Ｔ0 を中間配管から取り外し、新しい供給容器Ｔ0 と交換する。
【０００６】
このようにして供給容器Ｔ0 を交換すると、使い終えた供給容器Ｔ0 を中間配管から取り外した際に、中間配管内に周辺の空気が侵入するため、つぎに、（２）中間配管内を再度、窒素ガスで置換する。そのために、まず、各配管Ｌ1 ，Ｌ2 ，Ｌ3 の開閉弁Ｖ1 ，Ｖ2 ，Ｖ3 を閉じた状態にする。このとき、新しい供給容器Ｔ0 の開閉弁ＶT0は閉じたままにしておく。この状態では、中間配管内の圧力は、大気圧となっている。ついで、上記と同様にして、パージ用配管Ｌ2 の開閉弁Ｖ2 を開け、パージ用窒素ガスを供給した後、その開閉弁Ｖ2 を閉じ、少し時間をおく。そして、排気用配管Ｌ3 の開閉弁Ｖ3 を開け、中間配管内の空気とパージ用窒素ガスとの混合ガスを大気放出する。これを、中間配管内のガスが殆ど窒素ガスで置換されるまで繰り返す（通常４０回程度）。
【０００７】
この状態では、中間配管内が大気圧の略窒素ガス雰囲気となっているため、つぎに、（３）中間配管内の窒素ガスをＰＦＣガスで置換する。そのために、まず、各配管Ｌ1 ，Ｌ2 ，Ｌ3 の開閉弁Ｖ1 ，Ｖ2 ，Ｖ3 を閉じた状態にした後、新しい供給容器Ｔ0 の開閉弁ＶT0を開け、中間配管内にＰＦＣガスを供給する。その後、供給容器Ｔ0 の開閉弁ＶT0を閉じ、中間配管内でＰＦＣガスとパージ用窒素ガスとが拡散するまで時間をおく（通常５〜３０秒間程度）。このＰＦＣガスの供給では、新しい供給容器Ｔ0 からのＰＦＣガスは、通常、１．０〜１０ＭＰａ（ゲージ圧）程度（ＰＦＣガスの種類による）であるため、中間配管内ではＰＦＣガスが短時間で拡散する。そして、排気用配管Ｌ3 の開閉弁Ｖ3 を開け、中間配管内の窒素ガスとＰＦＣガスとの混合ガスを大気放出する。これを、中間配管内のガスが殆どＰＦＣガスで置換されるまで繰り返す（通常５回程度）。この繰り返す回数は、供給容器Ｔ0 のからのＰＦＣガスの圧力が１．０〜１０ＭＰａ（ゲージ圧）程度と非常に高いため、少なくて済む。
【０００８】
このように、上記（１）〜（３）の工程を経ることにより、供給容器Ｔ0 を交換する際には、その交換作業者は、ＰＦＣガスを吸わなくて済み、また、上記ドライエッチング設備等のＰＦＣガス使用設備にＰＦＣガスを供給する際には、中間配管内をＰＦＣガスで充満させることができる。なお、ＰＦＣガスを供給する際には、供給容器Ｔ0 の開閉弁ＶT0を開けるとともに、供給配管Ｌ1 の開閉弁Ｖ1 を開け、それ以外の開閉弁Ｖ2 ，Ｖ3 は閉じた状態にする。
【０００９】
一方、図７に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ2 での排気方法も、同様に、上記（１）〜（３）の工程を経て行われる。この場合、排気用配管Ｌ4 の開閉弁Ｖ4 は、上記開閉弁Ｖ3 （図６参照）と同様に使用される。そして、排気用配管Ｌ4 からの排気に、真空発生用窒素ガス（流れる窒素ガス）を利用するため、排気用配管Ｌ4 から大気放出されるＰＦＣガスには、窒素ガスが多く含まれている。
【００１０】
しかしながら、上記大気放出されるガスに含まれているＰＦＣガスは、大気寿命が長くかつ温暖化係数が大きいことから、今後地球温暖化への影響が出るとの懸念が強まっている。
【００１１】
そこで、ＰＦＣガスを使用する工場等では、場合により、ＰＦＣガスを処理するための処理設備を設け、ＰＦＣガス供給設備の排気用配管Ｌ3 ，Ｌ4 からその処理設備まで配管し、その処理設備でＰＦＣガスの処理を行っている。
【００１２】
上記処理設備でのＰＦＣガスの処理は、例えば、つぎのようにして行われる。すなわち、まず、ＰＦＣガスを高熱により分解した後、水で処理する。このとき、フッ酸が生成される。ついで、そのフッ酸にカルシウム等を加えてフッ化カルシウム等を生成させることにより、フッ酸からフッ素を除去する。そして、生成した上記フッ化カルシウム等は、埋め立て等に使用され、それ以外のものは、必要に応じて適宜に処理した後、河川等に排水される。
【００１３】
また、上記ドライエッチング設備等のＰＦＣガス使用設備から排気されるＰＦＣガスも、場合により、上記処理設備で同様にして処理されるが、回収されることもある。上記ＰＦＣガス使用設備で使用されるＰＦＣガスは、通常、大量の窒素ガス等の希釈ガスにより希釈されて使用されるため、濃度が低く（通常１体積％未満で、高くて３体積％程度）、それを回収する場合は、希釈ガスに富む透過ガスとＰＦＣガスに富む非透過ガスとに分離するガス分離膜を用いて、上記ＰＦＣガスに富む非透過ガスを回収している。このガス分離膜による分離は、通常、複数回行われ、非透過ガスにおけるＰＦＣガスの濃度を高めている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１４】
しかしながら、上記処理設備でのＰＦＣガスの処理には、大量の水を要し、大量のフッ酸処理が必要となる。このため、生成される上記フッ化カルシウム等も大量となり、その処理にコストがかかる。また、上記のように、ＰＦＣガス使用設備からＰＦＣガスを回収するとてしも、回収するガスのＰＦＣガス濃度を高めるためには、上記ガス分離膜が必要となる。
【００１５】
ところで、最近では環境問題に対する問題意識や法律の関係で、上記のように、ＰＦＣガスを処理する場合、環境問題となるものは自分の工場等内で分解や除害等の処理を行う傾向になりつつある。しかしながら、本発明者の研究では、そのような処理が必ずしも効率のよい処理ではないという知見を得ている。すなわち、ＰＦＣガスを回収し、それを、処理設備を有する施設（除害が専門の工場，ガスの製造から廃棄までが専門のガスメーカー等）で処理する方が処理効率がよい。
【００１６】
また、ＰＦＣガス供給設備から排気されるガスは、ＰＦＣガス濃度が高い状態（５体積％以上）のときが多い。また、上記ドライエッチング設備等のＰＦＣガス使用設備から排気されるガスは、通常、希釈されているため、ＰＦＣガス濃度は低いが、場合によっては（ドライエッチング等に要求される濃度に希釈調節するまでの段階等）、ＰＦＣガス濃度が高い状態（５体積％以上）で排気されるときがある。これらのように、排気されるガスのＰＦＣガス濃度が高い（５体積％以上）場合には、上記処理設備で処理せずに、そのまま回収して再利用することがコストの点から好ましい。ＰＦＣガスは高価だからである。しかしながら、ＰＦＣガス供給設備またはＰＦＣガス使用設備から大気放出されるＰＦＣガスをそのまま回収することは、今まで行われていず、これが技術常識となっていた。
【００１７】
このようなことは、他のガス〔ＳＦ6 ガス，ＮＦ3 ガス，塩素，塩素化合物ガス，フッ素，フッ素化合物ガス（ＨＦ，ＣＯＦ2 等），臭素等の、環境を悪化させるガスや人体に害を及ぼすガス等〕についても言えることである。
【００１８】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、ガス供給設備またはガス使用設備から排気されるガスを効率よく処理または再利用することができるようにするためのガス回収方法およびガス回収装置ならびにガス回収システムの提供をその目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
上記の目的を達成するため、本発明は、ガス供給手段またはガス使用手段と、その手段から流出する、回収目的となる主なガスの濃度が５体積％以上のガスを回収する回収手段とを備え、その回収手段に回収容器を設け、上記流出するガスを上記回収容器に回収するガス回収方法第１の要旨とし、上記回収手段に圧縮機を設け、上記ガスを圧縮して回収容器に回収する際、上記回収手段の圧縮作動時の吸引力を利用して上記手段内のガスを吸い出し、上記回収容器に回収するガス回収方法第２の要旨とする。
【００２０】
また、本発明は、回収容器を備え、その回収容器が、ガス供給設備またはガス使用設備に設けられている排気用配管に接続されているガス回収装置を第３の要旨とし、圧縮機と、この圧縮機の排気側に接続される回収容器とを備え、上記圧縮機の排気側と回収容器とが接続されており、上記圧縮機の吸気側が、ガス供給設備またはガス使用設備に設けられている排気用配管に接続されているガス回収装置を第４の要旨とする。
【００２１】
そして、本発明は、ガス供給設備またはガス使用設備と、上記ガス回収装置とからなるガス回収システム第５の要旨とする。
【００２２】
本発明者は、先の知見に基づき、ガス供給設備またはガス使用設備から排気されるガスを効率よく処理または再利用することができるようにすべく、そのガスをそのまま回収することを想起し、その回収方法について、鋭意研究を重ねた。その結果、上記ガス供給設備等に設けられている排気用配管に、回収容器を接続すれば、または、圧縮機の吸気側を接続し、その圧縮機の排気側を回収容器に接続するようにすれば、目的とするガスを濃度が比較的高い状態で上記回収容器に回収することができることを見出し、本発明に到達した。
【００２３】
なお、本発明において、回収する「ガス」とは、回収目的となる主なガス（ＰＦＣガス等）だけでなく、そのガスを含有する混合ガスも含む意味である。
【発明の効果】
【００２４】
本発明のガス回収方法およびガス回収装置ならびにガス回収システムによれば、ガス供給設備またはガス使用設備から従来、排気（流出）されていたＰＦＣガス等のガス（回収目的となるＰＦＣガス等の主なガスのガス濃度が５体積％以上のガス）をそのまま回収することができるようになる。このため、従来ガスを大気放出させていた工場等では、大気放出されるＰＦＣガス等を減少させることができ、ＰＦＣガス等による環境悪化等を抑制することができる。さらに、回収したガスを、処理設備を有する施設で処理するようにすれば、効率よく処理することができるようになるとともに、自分の工場等内にその処理設備を設ける必要がなくなり、処理コストを低減させることができる。また、ガスを種類毎に回収するようにすれば、その回収したガスを再利用することができる。
【００２５】
特に、上記回収容器よりも上流側に、ガス濃度に対応して流路を切り換える切り換え弁が接続され、この切り換え弁を介して、上記回収容器とガス供給設備またはガス使用設備に設けられている排気用配管とが接続されるようになっており、上記切り換え弁により、ガス濃度が所定値以上の場合には上記回収容器に流し、上記所定値未満の場合には他の流路に流すよう切り換え可能になっている場合には、ＰＦＣガス等のガス濃度がより高い状態で回収できるようになる。このため、そのＰＦＣガス等のガスを再利用する際に、そのガス濃度を高める作業を削除または軽減することができるようになる。
【００２６】
また、上記圧縮機が、空気圧作動の往復圧縮機である場合には、着火源がなく安全であり、また、圧縮ガス（ＰＦＣガス等）と同等の圧力の駆動用ガス（窒素ガス等）が封入されるため、昇圧段階でＰＦＣガス等の漏洩を殆どなくすことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
つぎに、本発明の実施の形態を図面にもとづいて詳しく説明する。
【００２８】
図１は、本発明の第１の実施の形態を示している。この実施の形態では、図６に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ1 に、ＰＦＣガス回収装置Ｒ1 を取り付けている。このＰＦＣガス回収装置Ｒ1 は、回収するＰＦＣガスが通過する順番に（上流側から順番に）、第１の流路切り換え弁（２つの弁ＶA ，ＶB からなる），圧力計（圧力センサ）Ｐ3 付きタンク１，圧縮機２および回収容器Ｔ1 ，Ｔ2 が直列に接続されたものとなっている。そして、上記第１の流路切り換え弁（弁ＶA ，ＶB ）が、ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 における排気用配管Ｌ3 の排気口に配管で接続されている。この実施の形態では、上記回収容器Ｔ1 ，Ｔ2 が２個（第１回収容器Ｔ1 および第２回収容器Ｔ2 ）並列に接続されており、これら並列配管にそれぞれ、上流側から、第２の流路切り換え弁（２つの弁ＶC ，ＶD からなる）および圧力計（圧力センサ）Ｐ1 ，Ｐ2 が設けられている。なお、図１において、ＶS は、安全弁である。
【００２９】
上記ＰＦＣガス回収装置Ｒ1 は、上記ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 において供給容器Ｔ0 を交換する際に、作動させて、つぎのようにして、上記排気用配管Ｌ3 の排気口を通過するＰＦＣガスを回収する。すなわち、供給容器Ｔ0 を交換する際には、前記背景技術で説明したように、交換作業者がＰＦＣガスを吸わないよう、前記（１）〜（３）の工程を順に行うが、これら各工程において、上記排気用配管Ｌ3 の排気口を通過するＰＦＣガス（ＰＦＣガス濃度が５体積％以上）を回収する。
【００３０】
まず、上記（１）の工程は、供給容器Ｔ0 を取り外すまでに行う工程であり、中間配管内に充満しているＰＦＣガスを窒素ガスで置換する工程である。このため、上記排気用配管Ｌ3 の排気口を通過するガスは、始めのうちは、ＰＦＣガス濃度が高いが、徐々に低くなる（窒素ガスが多くなる）。このガスを回収する場合には、まず、上記第１の流路切り換え弁を切り換える（弁ＶA ：開，弁ＶB ：閉）とともに、上記第２の流路切り換え弁を第１回収容器Ｔ1 で回収できるように切り換える（弁ＶC ：開，弁ＶD ：閉）。そして、上記圧縮機２を作動させる。このとき、タンク１に付いている圧力計（圧力センサ）Ｐ3 が、上記ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 の中間配管に付いている圧力計（圧力センサ）Ｐ0 よりも低い値を示すように作動させる。これにより、圧縮機２の作動時の吸引力を利用して上記排気用配管Ｌ3 内のＰＦＣガスを吸い出し、そのＰＦＣガスを第１回収容器Ｔ1 に回収することができるようになる。この回収は、この（１）の工程の全工程で、回収してもよいが、上述したように、この（１）の工程では、ＰＦＣガス濃度が徐々に低くなる（窒素ガスが多くなる）ため、途中で、上記第１の流路切り換え弁を切り換えて（弁ＶA ：閉，弁ＶB ：開）大気放出する等、他の流路に流してもよい。この第１の流路切り換え弁（弁ＶA ，ＶB ）の切り換えのタイミングは、ＰＦＣガス濃度が５体積％未満になった時（繰り返し回数３〜５回程度以降）が好ましい。ＰＦＣガス濃度が低いガスを回収すると、第１回収容器Ｔ1 がすぐに充填され、回収容器Ｔ1 ，Ｔ2 の取り換え（後に説明する）サイクルが短くなるとともに、回収したガスのＰＦＣガス濃度も低くなり、リサイクルの際に再度高濃度にする必要があるからである。なお、上記第１の流路切り換え弁を切り換えて他の流路に流すときは、圧縮機２の作動を停めるとともに、第２の流路切り換え弁の第１回収容器Ｔ1 側を閉じる（弁ＶC ：閉，弁ＶD ：閉）ようにする。
【００３１】
つぎの上記（２）の工程は、ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 の中間配管内を空気から窒素ガスに置換する工程であるため、上記排気用配管Ｌ3 の排気口を通過するガスには、ＰＦＣガスが殆ど含有されていない。このため、上記（１）の工程の後半と同様にして、大気放出する等、他の流路に流すことが好ましい。
【００３２】
最後の上記（３）の工程は、ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 の中間配管内を窒素ガスからＰＦＣガスに置換する工程であり、そのＰＦＣガスは、新しい供給容器Ｔ0 のからのＰＦＣガスであるため、圧力が非常に高い。このため、上記排気用配管Ｌ3 の排気口を通過するガスは、始めから、ＰＦＣガス濃度が高く、徐々に高くなる。このため、この（３）の工程では、全工程で、回収することが好ましい。回収する場合は、上記（１）の工程と同様にして回収する。
【００３３】
このようなＰＦＣガス回収方法により、ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 において供給容器Ｔ0 を交換する毎に、ＰＦＣガスを回収することができる。
【００３４】
そして、第１回収容器Ｔ1 が充填されると〔圧力計（圧力センサ）Ｐ1 の値で判断する〕、その第１回収容器Ｔ1 の開閉弁ＶT1を閉じるとともに、第２の流路切り換え弁を切り換えて（弁ＶC ：閉，弁ＶD ：開）、第２回収容器Ｔ2 で回収されるようにする。そして、その第２回収容器Ｔ2 で回収されている間に、第１回収容器Ｔ1 を取り換えるようにする。そして、第２回収容器Ｔ2 が充填されると〔圧力計（圧力センサ）Ｐ2 の値で判断する〕、その第２回収容器Ｔ2 の開閉弁ＶT２を閉じるとともに、第２の流路切り換え弁を切り換えて（弁ＶC ：開，弁ＶD ：閉）、第１回収容器Ｔ1 で回収されるようにする。これを繰り返して、回収容器Ｔ1 ，Ｔ2 を取り換える。
【００３５】
なお、上記圧縮機２としては、特に限定されるものではないが、空気圧作動の往復圧縮機２であることが好ましい。この圧縮機２を用いると、可燃性ガスや支燃性ガス等に対して、電気を用いず圧縮を行えるため、着火源がなく安全であるからである。また、電動式の往復圧縮機では、ピストンリングから圧縮ガス（ＰＦＣガス）が少し外部に漏洩するが、上記空気圧作動の往復圧縮機２では、圧縮ガス（ＰＦＣガス）と同等の圧力の駆動用ガス（窒素ガス等）が封入されているため、昇圧段階でＰＦＣガスの漏洩が殆どなくすことができるからでもある。
【００３６】
また、上記実施の形態では、第１の流路切り換え弁（弁ＶA ，ＶB ）をタンク１の上流側に接続したが、他でもよく、例えば、タンク１と圧縮機２との間、または圧縮機２と第２の流路切り換え弁（弁ＶC ，ＶD ）との間等でもよい。また、上記実施の形態では、前記分離膜（希釈ガスに富む透過ガスとＰＦＣガスに富む非透過ガスとに分離するガス分離膜）を用いてもよく、その場合の接続は、例えば、第１の流路切り換え弁（弁ＶA ，ＶB ）の上流側、第１の流路切り換え弁（弁ＶA ，ＶB ）とタンク１との間、タンク１と圧縮機２との間、および圧縮機２と第２の流路切り換え弁（弁ＶC ，ＶD ）との間等の少なくとも１か所に接続される。
【００３７】
また、上記実施の形態において、上記（１）〜（３）の全工程で、ＰＦＣガス濃度に係わらず回収する場合には、図２に示すように、ＰＦＣガス回収装置Ｒ2 には、図１に示す第１の流路切り換え弁（弁ＶA ，ＶB ）を設けなくてもよい。さらに、上記タンク１は、圧縮機２の安定した作動のために設けた方が好ましいが、設けなくても圧縮機２が安定して作動する場合には、図３に示すように、ＰＦＣガス回収装置Ｒ3 には、図２に示すタンク１を設けなくてもよい。この場合、上記タンク１に付いていた圧力計（圧力センサ）Ｐ3 は、圧縮機２の上流側の配管に設ける方が好ましい。さらに、圧縮機２を設けなくても回収容器に回収できる場合には、図３において、圧縮機２をも設けないようにしてもよい（図示せず）。また、図１において、上記第１の流路切り換え弁（弁ＶA ，ＶB ）を残し、上記タンク１を設けないようにしてもよい（図示せず）。
【００３８】
図４は、本発明の第２の実施の形態を示している。この実施の形態では、図７に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ2 に、上記第１の実施の形態と同様にしてＰＦＣガス回収装置Ｒ1 を取り付けている。すなわち、上記第１の流路切り換え弁（弁ＶA ，ＶB ）が、ＰＦＣガス供給設備Ｓ2 における排気用配管Ｌ4 の排気口に配管で接続されている。それ以外の部分は、上記第１の実施の形態と同様である。この実施の形態でも、上記第１の実施の形態と同様にして、ＰＦＣガスを回収することができる。ただし、上記第１の実施の形態と比較すると、回収するＰＦＣガスには、真空発生用窒素ガス（流れる窒素ガス）が多く含まれている（ＰＦＣガス濃度が低い）。
【００３９】
図５は、本発明の第３の実施の形態を示している。この実施の形態では、図７に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ2 において、排気用配管（第１の排気用配管）Ｌ4 の開閉弁Ｖ4 と供給配管Ｌ1 の開閉弁Ｖ1 との間の配管に、図６に示すＰＦＣガス供給設備Ｓ1 における開閉弁Ｖ3 付き排気用配管Ｌ3 と同様の開閉弁Ｖ5 付き排気用配管（第２の排気用配管）Ｌ5 を新たに接続させ、その新たな排気用配管（第２の排気用配管）Ｌ5 に、上記第１の実施の形態と同様のＰＦＣガス回収装置を取り付けている。
【００４０】
そして、この実施の形態でのＰＦＣガス回収方法は、始めから設けられていた排気用配管（第１の排気用配管）Ｌ4 からではなく（開閉弁Ｖ4 は閉じたまま）、新たな排気用配管（第２の排気用配管）Ｌ5 から行うようにすれば、上記第１の実施の形態と同様にして、ＰＦＣガスを回収することができ、上記第２の実施の形態よりも、ＰＦＣガス濃度を高くして回収することができる。なお、上記第１の実施の形態では、上記（１）の工程において、ＰＦＣガス濃度が低くなる（窒素ガスが多くなる）と、上記第１の流路切り換え弁を切り換えて（弁ＶA ：閉，弁ＶB ：開）大気放出する等したが、この第３の実施の形態では、他の方法として、上記第１の流路切り換え弁を設けずに、その替わりに、ＰＦＣガス濃度が低くなる（窒素ガスが多くなる）と、新たな排気用配管（第２の排気用配管）Ｌ5 の開閉弁Ｖ5 を閉じ、始めから設けられていた排気用配管（第１の排気用配管）Ｌ4 の開閉弁Ｖ4 を開き、その排気用配管（第１の排気用配管）Ｌ4 から大気放出してもよい。
【００４１】
なお、上記各実施の形態では、ＰＦＣガス回収装置Ｒ1 〜Ｒ3 を、ＰＦＣガス供給設備Ｓ1 ，Ｓ2 に取り付けたが、ドライエッチング設備等のＰＦＣガス使用設備に、同様にして取り付けてもよい（図示せず）。そして、ＰＦＣガス使用設備の排気用配管からＰＦＣガス濃度が高い状態（ＰＦＣガス濃度が５体積％以上）で排気されるときに、上記各実施の形態と同様にして、ＰＦＣガスを回収するようにする。
【００４２】
また、上記では、回収目的となる主なガスがＰＦＣガスである場合について説明したが、そのようなガスは、他でもよく、例えば、ＳＦ6 ガス，ＮＦ3 ガス，塩素，塩素化合物ガス，フッ素，フッ素化合物ガス（ＨＦ，ＣＯＦ2 等），臭素等の、環境を悪化させるガスや人体に害を及ぼすガス等があげられ、上記と同様にして回収することができる。
【００４３】
つぎに、実施例について説明する。
【実施例】
【００４４】
図１に示すＰＦＣガス回収装置を用いて、つぎのようにして、ＣＦ4 ガスを回収した。すなわち、まず、そのＰＦＣガス回収装置内の第１の流路切り換え弁以降のタンク（ステンレス製、低圧仕様、容量２０リットル），圧縮機（フジキン製、ＭＧＳ−Ａ−２０ＳＥＰ：高圧仕様、空気圧作動の往復圧縮機），配管の各内部に、予め、大気圧のＣＦ4 ガスを封入しておいた。そして、第１の流路切り換え弁から、大気圧の下で１リットル／分のＣＦ4 ガスを４４３分間連続して供給するとともに、圧縮機を作動させ、第１回収容器（マンガン鋼製、容量４７．１リットル）にＣＦ4 ガスを回収した。この回収において、第１回収容器の内部圧力は、回収開始時は０．０５ＭＰａ（ゲージ圧）であり、回収終了時は０．９０ＭＰａ（ゲージ圧）であった。なお、各圧力計（圧力センサ）は、歪みゲージ式圧力スイッチを用い、第２の流路切り換え弁は、高圧仕様の空気作動方式弁を用いた。また、安全弁は、ステンレス製のばね式安全弁とし、噴出圧力を１ＭＰａ（ゲージ圧）に設定した。
【００４５】
すなわち、供給したＣＦ4 ガスの全量は、下記の式（１）から、４４３．０リットルであり、回収したＣＦ4 ガスの全量は、大気圧換算で、下記の式（２）から、４４２．２リットルである。したがって、回収率は、下記の式（３）から、９９．８％となり、実際に回収できていることがわかる。
【００４６】
【数１】
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【００４７】
【数２】
2005188717.tif 000004
【００４８】
【数３】
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【図面の簡単な説明】
【００４９】
【図１】本発明のガス回収方法およびガス回収装置ならびにガス回収システムの第１の実施の形態を示す説明図である。
【図２】上記ガス回収方法およびガス回収装置ならびにガス回収システムの変形例を示す説明図である。
【図３】上記ガス回収方法およびガス回収装置ならびにガス回収システムの他の変形例を示す説明図である。
【図４】本発明のガス回収方法およびガス回収装置ならびにガス回収システムの第２の実施の形態を示す説明図である。
【図５】本発明のガス回収方法およびガス回収装置ならびにガス回収システムの第３の実施の形態を示す説明図である。
【図６】ＰＦＣガス供給設備を示す説明図である。
【図７】他のＰＦＣガス供給設備を示す説明図である。
【符号の説明】
【００５０】
２  圧縮機
Ｌ3   排気用配管
Ｓ1   ＰＦＣガス供給設備
Ｔ1 ，Ｔ2   回収容器
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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