(57)【要約】【課題】  基材上の相対的に広い面積にパターンを形成できるパターニング装置及びこれを用いたパターニング方法を提供すること。【解決手段】  本発明において、感光剤の塗布されたフレキシブル基材は、供給部から案内部に連続的に供給され、光源から出た光は、前記基材の断面上に照射される。マスクは、前記基板と光源との間に配置され、前記光源から出たビームは、選択的に前記基板の断面を露光させることを特徴とする。【選択図】      図３
2005182007.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光剤が塗布されたフレキシブル基材を連続的に案内する案内部と、
前記基材に塗布された感光剤の断面にビームが照射されるようにする光源と、
前記案内部に案内される基材と光源との間に設けられ、ビームが感光剤に選択的に伝達されるようにするマスクとを備えることを特徴するパターニング装置。
【請求項２】
前記案内部は、前記光源によりビームが照射される間に感光剤の塗布されたフレキシブル基材が通過する曲面を有していることを特徴とする請求項１に記載のパターニング装置。
【請求項３】
前記フレキシブル基材は、前記光源によりビームが照射される間に前記案内部の頂点を通過することを特徴とする請求項２に記載のパターニング装置。
【請求項４】
前記感光剤を備えた前記フレキシブル基材の垂直断面には、それに垂直な前記光源のビームが照射されることを特徴とする請求項１に記載のパターニング装置。
【請求項５】
前記案内部は、円筒状のローラであることを特徴とする請求項１に記載のパターニング装置。
【請求項６】
前記案内部から離隔され、隣接して配置された補助案内部をさらに設け、該補助案内部は、前記案内部により駆動されながら、前記基材を案内することを特徴とする請求項５に記載のパターニング装置。
【請求項７】
前記ローラは、駆動モータにより直接または間接的に駆動され、前記基材の移動方向と同じ方向または反対方向に回転することを特徴とする請求項５に記載のパターニング装置。
【請求項８】
前記案内部に基材を供給する供給部と、
前記案内部を通過することにより、露光された基材を回収する巻取り部とをさらに含み、前記供給部と巻取り部の少なくとも一方は、前記基材の移動のための駆動力を与えることを特徴する請求項１に記載のパターニング装置。
【請求項９】
前記案内部とマスクは、一つのフレームに設けられることを特徴とする請求項１に記載のパターニング装置。
【請求項１０】
前記マスクのアラインメントを調整するためのアラインメント調整部をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載のパターニング装置。
【請求項１１】
前記案内部の位置を調整するための案内部調整部をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載のパターニング装置。
【請求項１２】
前記光源は、Ｘ線を照射することを特徴とする請求項１に記載のパターニング装置。
【請求項１３】
感光剤の塗布されたフレキシブル基材を連続的に供給する供給部と、
前記供給部から供給された基材を連続的に案内する案内部と、
前記基材の断面にビームを照射する光源と、
前記案内部により案内される基材と光源との間に設けられ、ビームが感光剤に選択的に伝達されるようにするマスクと、
前記案内部で露光された基材を回収して巻き取る巻取り部とを含むことを特徴するパターニング装置。
【請求項１４】
前記案内部は、その位置に固定されることを特徴とする請求項１３に記載のパターニング装置。
【請求項１５】
前記基材は、前記案内部の頂点を通過することによって露光されることを特徴とする請求項１３に記載のパターニング装置。
【請求項１６】
前記基材の垂直断面は、前記案内部の頂点を通過することによって露光されることを特徴とする請求項１３に記載のパターニング装置。
【請求項１７】
前記案内部は、前記供給部、少なくとも前記基材が前記案内部に接触される点から前記基材が露光される点まで曲面となっていることを特徴とする請求項１３に記載のパターニング装置。
【請求項１８】
前記案内部は、前記基材が露光される点から前記巻取り部側に前記基材が前記案内部を離れる点までの所定の領域が平面からなることを特徴とする請求項１７に記載のパターニング装置。
【請求項１９】
前記案内部と前記マスクは、一つのフレームに設けられることを特徴とする請求項１３に記載のパターニング装置。
【請求項２０】
前記マスクのアラインメントを調整するためのアラインメント調整部をさらに含むことを特徴とする請求項１９に記載のパターニング装置。
【請求項２１】
前記案内部の位置を調整するための案内調整部をさらに含むことを特徴とする請求項１９に記載のパターニング装置。
【請求項２２】
表面に感光剤が塗布された基材を供給するステップと、
案内部の曲面部を通過するフレキシブル基材を案内するステップと、
ビームを照射するために光源を動作させるステップと、
マスクを介してビームが通過するステップと、
マスクを通過したビームを基材が案内部の曲面部を通過する間に基材の感光剤に照射するステップとを含むことを特徴するパターニング方法。
【請求項２３】
光が照射された基材を巻取り部に回収するステップをさらに含むことを特徴とする請求項２２に記載のパターニング方法。
【請求項２４】
ビームを感光剤に塗布するステップは、前記フレキシブル基材が案内部の頂点を通過するときに行われることを特徴とする請求項２２に記載のパターニング方法。
【請求項２５】
感光剤の垂直断面と基材が露光され、前記ビームが前記垂直断面にほぼ垂直方向に照射されることを特徴とする請求項２２に記載のパターニング方法。
【請求項２６】
前記マスクは、前記垂直断面に対し平行に設けられることを特徴とする請求項２５に記載のパターニング方法。
【請求項２７】
前記ビームが感光剤に露光される時間や光量は、前記基材が案内されて移動される速度制御装置によって決定されることを特徴とする請求項２２に記載のパターニング方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターニング装置及びこれを用いたパターニング方法に関し、より詳しくは、大面積のディスプレイ用として使用される連続構造のパターンを作製する装置及びこれを用いた連続構造のパターニング方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
本明細書において使用される連続構造のパターンとは、例えば、プラズマディスプレイパネル(ＰＤＰ)の隔壁が挙げられるが、同一断面を有して一方向に長く延びているものをいう。
【０００３】
従来のパターニング方法には、大別して、電子ビームリソグラフィ、フォトリソグラフィ、Ｘ線リソグラフィ法などがある。
【０００４】
電子ビームリソグラフィ法は、電子に反応する感光剤を基材の上面に塗布した後、マスク無しに電子ビームで所定のパターンを直接エッチングする方法である。この方法によれば、電子の波長が短くて、０.２μｍ以下の解像度の高いパターンを形成することができる。
【０００５】
しかし、電子ビームリソグラフィ法は、所定のパターンをエッチングするのに長い時間がかかり、生産性が低下してしまい、形成されるパターンの深さが浅くて、オーバーレイ及びエッチング精度が低下することになる。かつ、電子ビームリソグラフィ法で使用される電子放出装備が高価である。よって、大面積のディスプレイパネル用パターンの作製方法としては適していない。
【０００６】
フォトリソグラフィ法は、基材の上面に感光剤を塗布した後、マスクを載置して紫外線を照射し、所定のパターンを作製する方法である。この方法によれば、紫外線の照射角度によって垂直または傾斜したパターンの形成が可能である。
【０００７】
しかし、フォトリソグラフィ法を用いれば、紫外線固有の回折特性により、厚さが数十μｍ以上の垂直パターンを作製したり、一定の傾斜を持つ傾斜パターンを形成したりするのに問題が生じる。かつ、紫外線は拡散性があり、所定の部分のみを露光できず、線幅が０.２μｍ以下の微細パターンを形成することができない。よって、高集積パターンの形成が不可能であるという欠点がある。
【０００８】
Ｘ線リソグラフィ法も基材の上面に感光剤を塗布した後、マスクを介してＸ線を照射することにより、所定のパターンを作製する方法である。ただし、Ｘ線の波長が短くて、線幅が０.１μｍ以下の微細構造物を形成できるという利点がある。
【０００９】
しかし、図７に示すように、基材１とマスク２を平行に固定し、これに対し、Ｘ線を傾斜露光して、傾斜構造のパターン１ａを作製する場合に、以下の問題が発生する。
【００１０】
先ず、マスク２がＸ線に対して傾斜して装着されると、マスク２の吸収体２ｂまでのＸ線の移動距離Ｌ１、Ｌ２の差が生じるから、形状の精度が低下する。このような問題を解決するためには、マスク２を加工しにくい梯形の吸収体で作製する必要がある。かつ、Ｘ線の幅ｄが０でないことから、連続パターンの形成が不可能である。
【００１１】
これだけでなく、図８に示すように、基材１とマスク２を平行に固定し、これに対し、Ｘ線を垂直露光して傾斜構造のパターン１ａを作製する場合に、以下の問題が発生する。
【００１２】
Ｘ線が垂直に基材１の上面に照射される場合、Ｘ線が透過する基材の深さだけ、基材の上面に塗布された感光剤が露光される。よって、基材の厚さに相当する数十乃至数百μｍ厚さのパターン１ａしか形成できない。すなわち、従来の垂直露光法によれば、所定の厚さ以上の３次元傾斜構造物のパターンが連続して得られないという問題があった。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、基材上の相対的に広い面積にパターンを形成できるパターニング装置及びこれを用いたパターニング方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、高集積パターンを作製できるパターニング装置及びこれを用いたパターニング方法を提供することを他の目的とする。
【００１４】
また、本発明は、連続パターンを作製できるパターニング装置及びこれを用いたパターニング方法を提供することをさらに他の目的とする。
また、本発明は、所定の厚さ以上の傾斜構造物のパターンを連続的に作製できるパターニング装置及びこれを用いたパターニング方法を提供することをさらに他の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記の目的を達成するため、本発明によるパターニング装置においては、感光剤が塗布されたフレキシブル基材を連続的に案内する案内部と、前記基材に塗布された感光剤の断面にビームが照射されるようにする光源と、前記案内部に案内される基材と光源との間に設けられ、ビームが選択的に感光剤に伝達されるようにするマスクとを備えることを特徴する。
【００１６】
前記案内部は、前記光源によりビームが照射される間に感光剤の塗布されたフレキシブル基材が通過する曲面を有している。
前記フレキシブル基材は、前記光源によりビームが照射される間に前記案内部の頂点を通過する。
【００１７】
前記感光剤を備えた前記フレキシブル基材の垂直断面には、それに垂直な前記光源のビームが照射される。
前記案内部は、円筒状のローラである。
【００１８】
前記案内部から離隔され、隣接して配置された補助案内部をさらに含み、該補助案内部は、前記案内部により駆動されながら前記基材を案内する。
前記ローラは、駆動モータにより直接または間接的に駆動され、前記基材の移動方向と同じ方向または反対方向に回転する。
【００１９】
前記案内部に基材を供給する供給部と、前記案内部を通過することにより、露光された基材を回収する巻取り部とをさらに含み、前記供給部と巻取り部の少なくとも一方は、前記基材の移動のための駆動力を与えることを特徴する。
【００２０】
前記案内部とマスクは、一つのフレームに設けられる。
前記マスクのアラインメントを調整するためのアラインメント調整部をさらに含む。
前記案内部の位置を調整するための案内調整部がさらに備えられる。
前記光源は、Ｘ線を照射する。
【００２１】
本発明の他の構成によるパターニング装置においては、感光剤の塗布されたフレキシブル基材を連続的に供給する供給部と、前記供給部から供給された基材を連続的に案内する案内部と、前記基材の断面にビームを照射する光源と、前記案内部により案内される基材と光源との間に設けられ、ビームが感光剤に選択的に伝達されるようにするマスクと、前記案内部で露光された基材を回収して巻き取る巻取り部とを含むことを特徴する。
【００２２】
前記案内部は、その位置に固定される。
前記基材は、前記案内部の頂点を通過することによって露光される。
前記基材の垂直断面は、前記案内部の頂点を通過することによって露光される。
前記案内部は、前記供給部、少なくとも前記基材が前記案内部に接触される点から前記基材が露光される点まで曲面となっている。
【００２３】
前記案内部は、前記基材が露光される点から前記巻取り部側に前記基材が前記案内部
を離れる点までの所定の領域は平面に形成される。
前記案内部と前記マスクは、一つのフレームに設けられる。
前記マスクのアラインメントを調整するためのアラインメント調整部をさらに含む。
前記案内部の位置を調整するための案内調整部をさらに含んでいる。
【００２４】
本発明によるパターニング装置を用いたパターニング方法においては、表面に感光剤が塗布された基材を供給するステップと、案内部の曲面部を通過するフレキシブル基材を案内するステップと、ビームを照射するために光源を動作させるステップと、マスクを介してビームが通過するステップと、マスクを通過したビームを基材が案内部の曲面部を通過する間に基材の感光剤に照射するステップとを含むことを特徴する。
【００２５】
光が照射された基材を巻取り部に回収するステップをさらに含む。
ビームを感光剤に塗布するステップは、前記フレキシブル基材が案内部の頂点を通過するときに行われる。
【００２６】
前記感光剤の垂直断面と基材とが露光され、前記ビームが前記垂直断面にほぼ垂直方向に照射される。
前記マスクは、前記垂直断面に対し平行に設けられる。
前記ビームが感光剤に露光される時間や光量は、前記基材が案内されて移動される速度制御装置によって決定される。
【発明の効果】
【００２７】
このような本発明によるパターニング装置及びこれを用いたパターニング方法によれば、所定の断面形状を有するパターンを相対的に広い面積に形成することができ、大面積のディスプレイ用パターンの作製を容易にすることができるという効果がある。
【００２８】
また、本発明は、完成されたパターンを基準としてビームがパターンの上面でない側面から照射されるため、パターンとパターンとの間の間隔を最小化することができ、微細なパターンの作製が可能となる。よって、本発明によれば、高集積のパターンを作製することが可能となるという効果がある。
【００２９】
そして、本発明では、完成されたパターンを基準としてビームがパターンの側面から照射されるため、同じ断面を有するパターンを連続的に作製することが可能となる。よって、パターンの形成のための作業時間が相対的に低減され、生産効率が上昇するという効果が期待できる。
【００３０】
また、本発明では、完成されたパターンを基準としてビームの照射がパターンの側面方向から行われるため、パターンの高さの調節が相対的に容易になる。よって、様々な高さを有するパターンを作製することができ、パターンの上部や下部に同時に光が照射されるため、パターンの上部と下部との露光程度が等しくなり、パターンの幅が一定になるという効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
以下、本発明の好ましい実施の形態を、添付図面に基づいて詳しく説明する。
【００３２】
図１には、本発明の好ましい第１の実施形態を概略的に示しており、図２ａおよび図２ｂには、図１に示された本発明の概念を説明するために、本発明の第１の実施形態の要部を示している。
【００３３】
図示のように、感光剤が表面に塗布されたフレキシブル基材１０が円筒状ローラとしての案内部２０の周りに所定の区間だけ巻き取られて案内される。案内部２０は、駆動モータ３０により回転される。駆動モータ３０の回転軸３２は、案内部２０の回転中心と同心となるように連結されて案内部２０を回転させる。ちなみに、案内部２０の回転方向は、必ずしも基材１０の移動方向となるべきではなく、基材１０の移動方向と反対方向となっても良い。
【００３４】
案内部２０に隣接して案内部２０の法線方向Ｚに平行にマスク４０が設けられる。マスク４０は、後述する光源５０から出たビーム５２が通過する開口部４２と、ビーム５２を吸収する吸収部４４とからなっている。開口部４２は、形成しようとするパターンの断面形状に対応して設けられ、吸収部４４は、開口部４２の周りに垂直な壁を設けている。マスク４０には、開口部４２を選択的に遮蔽するための遮蔽板（図示せず）をさらに備えても良い。
【００３５】
マスク４０から所定の距離離れた位置に光源５０が設けられる。光源５０は、パターンの形成のために、感光剤に照射されるビーム５２を供給する。すなわち、光源５０から出たビーム５２は、マスク４０の開口部４２を通過し、案内部２０の周りに巻き取られた基材１０の感光剤に照射される。光源５０は、本実施形態において、直進性が非常に良く、光の拡散が非常に少なく、他の光源に比べて、エネルギーが少なくとも数万倍以上であるＸ線が用いられる。
【００３６】
ここで、図２ａおよび図２ｂを参照して、基材１０の感光剤が露光されることを説明する。先ず、案内部２０の中心を過ぎてＺ軸に平行に基材を切断したとき、案内部２０の頂点に対応する位置に形成されるｙｚ断面を「垂直断面Ｈ」とする。
【００３７】
本発明では、垂直断面Ｈにビーム５２を垂直に照射し、感光剤を露光させる。特に、基材２０を連続して移動させながら、ビーム５２を垂直断面Ｈに継続して照射すると、図２ｂに示すように、ビーム５２が伝達される領域が露光される。
【００３８】
より理論的に説明すれば、露光された垂直断面Ｈが案内部２０の円周に沿って移動すると、次の垂直断面Ｈが案内部２０の頂点ｔに配置されて露光される。本発明では、このように、感光剤を数多くの垂直断面Ｈに分割し、これらの垂直断面Ｈを順次露光させている。
【００３９】
実際には、感光剤部分のうち、露光が開始される部分は、a点であり、基材１０が継続して移送され、案内部の頂点ｔを通過する時点で垂直断面Ｈ全体に露光が行われる。もちろん、頂点ｔを通過した位置までもビーム５２が感光剤を通過できれば、ｂ点が露光が終わる部分となる。
【００４０】
ここで、基材１０の感光剤が露光される時間を計算すると、次の通りである。すなわち、基材１０が案内される案内部２０の半径ｒと、案内部２０が回転した角度(∂)との積で決定される感光剤の移動時間だけ露光される。
一方、マスク４０は、垂直断面Ｈに平行に設けられることが好ましく、マスク４０の開口部４２を通過するビーム５２は、垂直断面Ｈに垂直に入射される必要がある。
【００４１】
次に、図３は、本発明の第２の実施形態を示している。説明の便宜のために、第１の実施形態と同じ構成は、同じ符号を与える。
【００４２】
図示のように、本実施形態においては、基材１０を案内する案内部２０がマスク４０と共にフレーム２０′上に設けられる。案内部２０は、円筒状のローラであって、基材１０が所定の区間だけ接触されて案内される部分である。案内部２０と対応して補助案内部２２がさらに設けられる。補助案内部２２は、案内部２０と連動して基材１０の移動を案内する。
【００４３】
補助案内部２２は、案内部２０と共に回転しながら基材１０が案内部２０の上面に確実に密着して移動されるようにする。すなわち、補助案内部２２は、基材１０が案内部２０の上面から離隔されないようにして、垂直断面Ｈに正確にビーム５２が照射されるようにする。
【００４４】
補助案内部２２は、図示のように、必ずしも案内部２０と隣接して設ける必要はない。例えば、案内部２０を基準として基材１０の供給される側と回収される側とにそれぞれ一つずつ補助案内部２２を設けても良い(このとき、補助案内部２２の基材１０に接触される表面が少なくとも案内部２０の頂点ｔよりも低い位置にあるようにする必要がある)。補助案内部２２が案内部２０からどれほど離れた位置にあるのかと、その設置高さとによって案内部２０に基材１０が接触されて案内される区間が異なることになる。
【００４５】
本実施形態においても、案内部２０が駆動モータにより駆動されても良い。このため、駆動モータは、フレーム２０′の一側に設けても良い。駆動モータを使用する場合、基材１０の移動速度を制御するために、駆動モータの回転速度を制御する駆動制御部を備えても良い。
【００４６】
一方、基材１０の移動のための駆動力を必ずしもフレーム２０′に設けられた駆動モータから供給しなければならないのではない。すなわち、別の駆動源が基材１０の移動のための駆動力を供給し、案内部２０は、単に基材１０が移動される力により回転されながら基材１０の移動を案内する役割のみを行うようにしても良い。これと関連した構成は、以降の供給部６０と巻取り部７０との説明で述べることにする。
【００４７】
案内部２０は、フレーム１２０上にその長手方向、すなわち基材１０が移送される方向に対し、横方向に設置位置が変更されるようにしても良い。このため、フレーム１２０上に案内部制御部２５を設け、これにより、案内部２０が支持されるようにする。
【００４８】
マスク４０は、アラインメント調整部４０′によりフレーム１２０上に支持される。アラインメント調整部４０′は、マスク４０を微細に調整できるように設けられる。アラインメント調整部４０′は、基材１０に塗布された感光剤の垂直断面Ｈに平行にマスク４０を整列させる役割をする。
【００４９】
そして、光源５０をマスク４０に対し整列させることができる構成を備えることも好ましい。すなわち、光源５０から照射される光がマスク４０を介して正確に垂直断面Ｈに入射できるように光源５０の位置を調整するものである。
【００５０】
一方、基材１０を案内部２０に連続的に供給し、露光済みの基材１０を連続的に回収するために次のように構成する。すなわち、ロール状に巻き取られた基材１０を供給部６０に取り付け、これを連続して巻き戻して案内部に供給する。そして、案内部２０で露光された基材を回収するために、巻取り部７０でもロール状に巻き取る。もちろん、露光が行われた後、次の工程に連続的に供給され、パターンの形成が終了した後に、巻取り部７０に巻き取られるように構成されても良い。
【００５１】
このような構成において、巻取り部７０は、基材１０を巻き取るために引っ張る力を発揮すべきである。よって、巻取り部７０が一種の駆動源としての役割をする。もちろん、基材１０を移動するための駆動力を与えるために、別の駆動源を基材１０が移動する経路上に備えても良い。
【００５２】
図４には、本発明の第３の実施形態を示している。本実施形態においても、説明の便宜のために、実施形態と同じ構成については、同じ符号を与える。
【００５３】
本実施形態においては、基材１０を案内する案内部１２０が回転せず、固定されている。案内部１２０は、その頂点ｔを前後に基材１０が接触されて案内される部分のみを曲面で形成すれば良い。よって、案内部１２０は、様々な構成を有するように設計しても良い。
【００５４】
ちなみに、点ａから頂点ｔまでは曲面とすることが好ましく、頂点ｔから点ｂの位置までは平面区間としても良い。頂点ｔから点ｂの位置までを平面区間とし、その区間の長さを調整することにより、感光剤の露光時間を調節することもできる。
そして、図示されていないが、案内部１２０には、補助案内部をさらに備えても良い。補助案内部は、基材１０が案内部１２０に一層密着されて案内されるようにする。
【００５５】
このように、本実施形態においては、案内部１２０が固定されて基材１０の移動を案内する役割のみを行う。このような構成の特性上、本実施形態では、基材１０を移動するための駆動力を、供給部６０と巻取り部７０とで供給するように構成されている。
【００５６】
すなわち、供給部６０では、基材１０が連続的に供給され、巻取り部７０では、基材１０を引っ張って巻き取るように構成される。よって、巻取り部７０が一種の駆動源としての役割をする。もちろん、基材１０を移動するための駆動力を与えるために、別の駆動源を基材１０が移動する経路上に設けても良い。
【００５７】
そして、基材１０の垂直断面Ｈにビーム５２を選択的に照射されるようにするマスク４０が垂直断面Ｈに平行に位置される。マスク４０の構成は、前述の実施形態と同様である。基材１０の感光剤に照射されるビーム５２は、光源５０から供給される。本実施形態においても、マスク４０を整列するための構成を備えても良い。
【００５８】
以下、上記のような構成の本発明によるパターニング装置を使用してパターンを形成することを詳しく説明する。ここでは、図３に示す実施形態を参照して説明する。
【００５９】
表面に感光剤が塗布された基材１０が案内部２０と補助案内部２２との間に連続的に供給される(ステップＳ１)。基材１０は、案内部２０の表面に密着されて移送される。補助案内部２２は、基材１０が案内部２０の表面に密着されるようにする役割をする。
【００６０】
このとき、光源５０から照射されたビーム５２が正確に垂直断面Ｈに伝達されるようにするために、アラインメント調整部４０′を制御し、マスク４０の位置を正確に設定すべきである(ステップＳ２)。もちろん、光源５０の位置もマスク４０または案内部２０に対し正確に設定すべきであろう。
【００６１】
基材１０が案内部２０により案内されて移送される間に、光源５０からビーム５２を照射する。ビーム５２は、マスク４０の開口部４２を通過して開口部４２に対応する形状で基材１０の感光剤を露光させる(ステップＳ３)。
【００６２】
このように、基材１０が連続的に案内部２０に供給され、光源５０から供給されたビーム５２が継続してマスク４０を通過し、基材１０の垂直断面Ｈに照射されることにより、連続的に感光剤の露光が行われ、連続パターンが形成される。
【００６３】
ここで、感光剤の露光が行われる時間や必要な露光量は、計算によって求められる。もちろん、露光時間や露光量は、使用される感光剤の種類やビーム５２の種類などに応じて異に設定すべきであろう。このような露光時間や露光量は、案内部２０で案内されて移送される基材１０の速度によって制御することができる。
【００６４】
案内部２０で感光剤に露光が行われた基材１０は、巻取り部７０で再びロール状に巻き取られる(ステップＳ４)。もちろん、前述したステップのうち、基材１０の供給や回収及び露光は、一旦作業が進められると、同時にかつ連続的に行われる。
【００６５】
上記のような過程により露光が行われた感光剤にパターンを完成するためには、露光された部分または露光されていない部分の感光剤を除去するなどのいくつかの工程をさらに進めるべきである。
【００６６】
図６ａ〜図６ｃには、本発明の方法により基材１０に形成されたパターン１５の形状を例示的に示している。よって、図６ａ〜図６ｃに示す形状のパターン１５の他にも様々な断面形状を有することを本発明の方法で形成することができる。
【００６７】
以上説明したように、本発明によれば、案内部２０の外周面に沿って頂点ｔを通過するように連続的に供給される基材１０の垂直断面Ｈにビーム５２を垂直露光して様々な断面形状を有するパターンを連続的に作製することを基本的な技術的思想としている。
【００６８】
以上のように、上記実施の形態を参照して詳細に説明され図示されたが、本発明は、これに限定されるものでなく、このような本発明の基本的な技術的思想を逸脱しない範囲内で、当業界の通常の知識を有する者にとっては、他の多くの変更が可能であろう。また、本発明は、添付の特許請求の範囲により解釈されるべきであることは言うまでもない。
【図面の簡単な説明】
【００６９】
【図１】本発明によるパターニング装置の第１の実施形態を示す概略図である。
【図２ａ】本発明の概念を説明するための図１の要部斜視図である。
【図２ｂ】本発明の概念を説明するための図１の要部側面図である。
【図３】本発明の第２の実施形態を示す概略図である。
【図４】本発明の第３の実施形態を示す概略図である。
【図５】本発明によるパターニング方法を示すフローチャートである。
【図６ａ】本発明により作製可能な３次元構造物の第１パターンを示す斜視図である。
【図６ｂ】本発明により作製可能な３次元構造物の第２パターンを示す斜視図である。
【図６ｃ】本発明により作製可能な３次元構造物の第３パターンを示す斜視図である。
【図７】従来の傾斜露光方式によるパターニング過程を示す図である。
【図８】従来の垂直露光方式によるパターニング過程を示す図である。
【符号の説明】
【００７０】
１０    基材
２０、１２０  案内部
２０′  フレーム
２２    補助案内部
３０    駆動モータ
４０    マスク
４０′  アラインメント調整部
４２    開口部
４４    吸収部
５０    光源
５２    ビーム
６０    供給部
７０    巻取り部
【図１】
2005182007.tif 000003
【図２ａ】
2005182007.tif 000004
【図２ｂ】
2005182007.tif 000005
【図３】
2005182007.tif 000006
【図４】
2005182007.tif 000007
【図５】
2005182007.tif 000008
【図６ａ】
2005182007.tif 000009
【図６ｂ】
2005182007.tif 000010
【図６ｃ】
2005182007.tif 000011
【図７】
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【図８】
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