(57)【要約】【課題】密封材が活性領域に侵入することを防止すると共に、均一のセルギャップを維持できる平板表示装置の接合構造体、平板表示装置の接合構造体の形成方法、及び平板表示装置を提供する。【解決手段】平板表示装置の上部基板１４と下部基板１２との間に形成されて、２つの基板を密封接合させるものであって、上部基板１４と下部基板１２との端部に沿って互いに所定間隔をおいて並んで配置される同じ高さの外側隔壁１８と内側隔壁１９、及び外側隔壁１８と内側隔壁１９との間の空間に設けられる密封材１６を備える平板表示装置の接合構造体である。【選択図】図３
2005309446.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平板表示装置の上部基板と下部基板との間に形成されて、前記２つの基板を密封接合させる平板表示装置の接合構造体において、
前記上部基板と下部基板との端部に沿って、互いに所定間隔をおいて並んで配置される同じ高さの外側隔壁及び内側隔壁と、
前記外側隔壁と内側隔壁との間の空間に設けられる密封材と、を備えることを特徴とする平板表示装置の接合構造体。
【請求項２】
前記外側隔壁と内側隔壁とは、前記上部基板と下部基板との相互に対向する面のうち、少なくとも一面に形成されることを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置の接合構造体。
【請求項３】
前記外側隔壁は、２列に並んで配列される複数の柱からなり、異なる列に配列される前記柱は、千鳥状に配置されることを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置の接合構造体。
【請求項４】
前記内側隔壁は、２列に並んで配列された複数のバーからなり、異なる列に配列される前記バーは、千鳥状に配置されることを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置の接合構造体。
【請求項５】
前記内側隔壁は、複数の“Ｈ”形状のマイクロビームからなることを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置の接合構造体。
【請求項６】
前記内側隔壁は、１つのビームと、対をなす２つのビームと、が反復して交互に配列されることによって形成されることを特徴とする請求項５に記載の平板表示装置の接合構造体。
【請求項７】
前記内側隔壁は、２列に並んで配列される複数の“Ｕ”形状のマイクロビームからなり、異なる列に配列されるビームは、対向して千鳥状に配置されることを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置の接合構造体。
【請求項８】
前記外側隔壁と内側隔壁とは、前記密封材の熱膨張係数より小さい熱膨張係数と、前記密封材のヤング率より大きいヤング率と、を有する物質からなることを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置の接合構造体。
【請求項９】
前記外側隔壁と内側隔壁とは、シリコン酸化物からなることを特徴とする請求項８に記載の平板表示装置の接合構造体。
【請求項１０】
前記外側隔壁と内側隔壁のそれぞれの高さは、０．０１μｍ〜１００００μｍであることを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置の接合構造体。
【請求項１１】
前記外側隔壁と内側隔壁のそれぞれの幅は、１μｍ〜１００００μｍであることを特徴とする請求項１に記載の平板表示装置の接合構造体。
【請求項１２】
平板表示装置の上部基板と下部基板との間に形成されて、前記２つの基板を密封接合させる平板表示装置の接合構造体の形成方法において、
前記上部基板と下部基板との相互に対向する面のうち、少なくとも一面にシリコン酸化物層を形成する段階と、
前記シリコン酸化物層をパターニングして、前記上部基板と下部基板との端部に沿って、互いに所定間隔をおいて並んで配置される外側隔壁及び内側隔壁を同じ高さに形成する段階と、
前記外側隔壁と内側隔壁との間の空間に密封材を設ける段階と、を含むことを特徴とする平板表示装置の接合構造体の形成方法。
【請求項１３】
前記シリコン酸化物層は、プラズマ化学気相蒸着法により蒸着されたシリコン酸化物層からなることを特徴とする請求項１２に記載の平板表示装置の接合構造体の形成方法。
【請求項１４】
前記外側隔壁と内側隔壁とを形成する段階は、
前記シリコン酸化物層上にフォトレジストを塗布する段階と、
前記外側隔壁と内側隔壁とのパターンを有するフォトマスクを使用して、前記フォトレジストを露光させる段階と、
露光されたフォトレジストを現像して、エッチングマスクを形成する段階と、
前記エッチングマスクを利用して、前記シリコン酸化物層をエッチングする段階と、を含むことを特徴とする請求項１２に記載の平板表示装置の接合構造体の形成方法。
【請求項１５】
前記外側隔壁は、２列に並んで配列される複数の柱からなり、異なる列に配列される前記柱は、千鳥状に配置されることを特徴とする請求項１２に記載の平板表示装置の接合構造体の形成方法。
【請求項１６】
前記内側隔壁は、２列に並んで配列された複数のバーからなり、異なる列に配列される前記バーは、千鳥状に配置されることを特徴とする請求項１２に記載の平板表示装置の接合構造体の形成方法。
【請求項１７】
前記内側隔壁は、複数の“Ｈ”形状のマイクロビームからなることを特徴とする請求項１２に記載の平板表示装置の接合構造体の形成方法。
【請求項１８】
前記内側隔壁は、１つのビームと、対をなす２つのビームと、が反復して交互に配列されることによって形成されることを特徴とする請求項１７に記載の平板表示装置の接合構造体の形成方法。
【請求項１９】
前記内側隔壁は、２列に並んで配列される複数の“Ｕ”形状のマイクロビームからなり、異なる列に配列されるビームは、対向して千鳥状に配置されることを特徴とする請求項１２に記載の平板表示装置の接合構造体の形成方法。
【請求項２０】
互いに所定間隔をおいて対向して配置される上部基板及び下部基板と、前記上部基板と下部基板との間に形成されて、前記２つの基板を密封接合させる平板表示装置の接合構造体と、を有する平板表示装置において、
前記接合構造体は、
前記上部基板と下部基板との端部に沿って、互いに所定間隔をおいて並んで配置される同じ高さの外側隔壁及び内側隔壁と、
前記外側隔壁と内側隔壁との間の空間に設けられる密封材と、を備えることを特徴とする平板表示装置。
【請求項２１】
前記外側隔壁と内側隔壁とは、前記上部基板と下部基板との相互に対向する面のうち、少なくとも一面に形成されることを特徴とする請求項２０に記載の平板表示装置。
【請求項２２】
前記外側隔壁は、２列に並んで配列される複数の柱からなり、異なる列に配列される前記柱は、千鳥状に配置されることを特徴とする請求項２０に記載の平板表示装置。
【請求項２３】
前記内側隔壁は、２列に並んで配列される複数のバーからなり、異なる列に配列される前記バーは、千鳥状に配置されることを特徴とする請求項２０に記載の平板表示装置。
【請求項２４】
前記内側隔壁は、複数の“Ｈ”形状のマイクロビームからなることを特徴とする請求項２０に記載の平板表示装置。
【請求項２５】
前記内側隔壁は、１つのビームと、対をなす２つのビームと、が反復して交互に配列されることによって形成されることを特徴とする請求項２４に記載の平板表示装置。
【請求項２６】
前記内側隔壁は、２列に並んで配列される複数の“Ｕ”形状のマイクロビームからなり、異なる列に配列されるビームは、対向して千鳥状に配置されることを特徴とする請求項２０に記載の平板表示装置。
【請求項２７】
前記外側隔壁と内側隔壁とは、前記密封材の熱膨張係数より小さい熱膨張係数と、前記密封材のヤング率より大きいヤング率と、を有する物質からなることを特徴とする請求項２０に記載の平板表示装置。
【請求項２８】
前記外側隔壁と内側隔壁とは、シリコン酸化物からなることを特徴とする請求項２７に記載の平板表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、平板表示装置に関し、特に、平板表示装置の上部基板と下部基板とを密封接合させるための接合構造体とその形成方法、及び前記接合構造体を備えた平板表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
平板表示装置としては、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ：ＬＣＤ）、プラズマ表示装置（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ：ＰＤＰ）及び電界放出表示装置（Ｆｉｅｌｄ  Ｅｍｉｓｓｉｏｎ  Ｄｉｓｐｌａｙ：ＦＥＤ）などがあり、最近では、マイクロディスプレイについての関心と共に、シリコン基板上にＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）を形成し、液晶を利用してディスプレイを具現したＬＣＯＳ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｏｎ  Ｓｉｌｉｃｏｎ）技術が新たに脚光を浴びている。
【０００３】
ＬＣＯＳパネルは、マイクロディスプレイであって、液晶のスイッチング特性を利用してディスプレイを具現する。前記ＬＣＯＳパネルは、半導体工程の特性上、各ピクセルの構成要素とスイッチング回路とを高集積に配列して、約１インチの小さな範囲にＸＧＡ（ｅＸｔｅｎｄ  Ｇｒａｐｈｉｃｓ  Ａｒｒａｙ）級以上の高解像度を実現できる。これにより、前記ＬＣＯＳパネルは、光学レンズ系を利用して、ディスプレイの映像を拡大投射するプロジェクションシステムのディスプレイとして主に使われている。前記ＬＣＯＳパネルを利用したプロジェクションシステムで動画を具現するためには、液晶の速い応答時間が必須であり、特に、ＬＣＯＳパネルのセルギャップが小さくなるほど、液晶の応答時間が短縮されることが知られている。したがって、通常のＬＣＯＳパネルでは、できるだけセルギャップを小さく制御して、液晶の応答時間の短縮を図り、通常の液晶ディスプレイが２〜５μｍのセルギャップを有するのと異って、反射型ディスプレイの特性上、ＬＣＯＳパネルは、１〜２μｍ程度の小さいセルギャップを有する。
【０００４】
しかし、液晶のスイッチング特性を利用するのに最も大きいな問題点は、液晶の応答時間を考慮して微小なセルギャップを有するＬＣＯＳパネルを製作する場合、パネルのセルギャップの均一度の差によって、光学的干渉が発生し、パネルの画質不良を引き起こすことである。これは、ＬＣＯＳパネルで、上部基板と下部基板との物性が異なるために、上部基板と下部基板との接合時に、熱的特性の差によって発生する問題であり、また、セルギャップが微小であるために問題となることであり、これを解決するためには、パネルのセルギャップを均一に製作することが非常に重要である。
【０００５】
従来は、ＬＣＯＳパネルのセルギャップを均一に維持するための手段として、活性領域にスペーサを設ける方法、ピクセルとピクセルとの間の領域に柱を立てる方法、または密封材にスペーサを含ませることによって、スペーサによってセルギャップを維持する方法が用いられた。しかしながら、これらの方法は、ＬＣＤとは異なり、ピクセルの大きさが小さいＬＣＯＳパネルでは、さらに他の問題を発生させる。すなわち、スペーサを設ける場合、設けられたスペーサの周囲で液晶の配向が調整され、液晶欠陥によるイメージ損傷が誘発される。また、柱を立てる場合、柱の大きさによってピクセル間の空間が大きくなり、パネルサイズも大きくなり、加えて、柱の周囲で発生する液晶の配向不良によるイメージ損傷が問題になる。また、密封材にスペーサを含ませて、密封材内部のスペーサのみによってセルギャップを維持する場合には、特にＬＣＯＳパネルの上部基板と下部基板との物性値が異なるため、熱的特性による変形を補正し難いので、セルギャップの均一度に差が生じるという問題点がある。
【０００６】
図１は、従来技術による平板表示装置の部分断面図を示す。下部基板２と上部基板４との間の端部には密封材６が塗布されており、密封材６内部のスペーサ８のみで、下部基板２と上部基板４との間のセルギャップを維持している。図２は、従来技術による平板表示装置の垂直断面図である。平板表示装置の下部基板２と上部基板４との接合時に、セルギャップの均一度に差が生じることが示されている。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明が解決しようとする課題は、上述した従来技術の問題点を改善するためのものであって、密封材が活性領域に侵入することを防止すると共に、均一のセルギャップを維持できる平板表示装置の接合構造体を提供するところにある。
【０００８】
本発明が解決しようとする他の課題は、前記平板表示装置の接合構造体の形成方法を提供するところにある。
【０００９】
本発明が解決しようとするさらに他の課題は、前記接合構造体を備える平板表示装置を提供するところにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
前記課題を解決するための、本発明に係る平板表示装置の接合構造体は、平板表示装置の上部基板と下部基板との間に形成されて、前記２つの基板を密封接合させる平板表示装置の接合構造体において、前記上部基板と下部基板との端部に沿って、互いに所定間隔をおいて並んで配置される同じ高さの外側隔壁及び内側隔壁と、前記外側隔壁と内側隔壁との間の空間に設けられる密封材と、を備える。
【００１１】
そして、前記課題を解決するための、本発明に係る平板表示装置の接合構造体の形成方法は、平板表示装置の上部基板と下部基板との間に形成されて、前記２つの基板を密封接合させる平板表示装置の接合構造体の形成方法において、前記上部基板と下部基板との相互に対向する面のうち、少なくとも一面にシリコン酸化物層を形成する段階と、前記シリコン酸化物層をパターニングして、前記上部基板と下部基板との端部に沿って、互いに所定間隔をおいて並んで配置される外側隔壁と内側隔壁とを同じ高さに形成する段階と、前記外側隔壁と内側隔壁との間の空間に密封材を設ける段階と、を備える。
【００１２】
また、前記課題を解決するための、本発明に係る平板表示装置は、互いに所定間隔をおいて対向して配置される上部基板及び下部基板と、前記上部基板と下部基板との間に形成されて、前記２つの基板を密封接合させる平板表示装置の接合構造体と、を有する平板表示装置において、前記接合構造体は、前記上部基板と下部基板の端部に沿って、互いに所定間隔をおいて並んで配置される同じ高さの外側隔壁及び内側隔壁と、前記外側隔壁と内側隔壁との間の空間に設けられる密封材と、を含む。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の接合構造体を備えた平板表示装置によれば、従来に比べて活性領域の中央部分が０．１μｍ以上補正されて、上部基板と下部基板との間のセルギャップの均一度の偏差が−５〜＋５％以内に改善される。
【００１４】
したがって、平板表示装置の上部基板と下部基板との接合工程時に、スペーサを使用する場合、収率が２０％であったものが、本発明の接合構造体を平板表示装置に適用する場合、収率が７０％以上に向上する。
【００１５】
そして、ＳｉＯ２からなる外側隔壁１８と内側隔壁１９とにより、平板表示装置のセルギャップが均一に維持されうるので、別途のスペーサが必要なくなり、平板表示装置の製造コストが削減されうる。
【００１６】
また、本発明の接合構造体は、密封材が活性領域に侵入することを防止し、液晶注入時に液晶の流れを向上させ、また密封材を加熱封着する熱工程時に、密封材から発生するガスが活性領域に侵入することが防止される。
【００１７】
また、接合構造体の外側隔壁と内側隔壁とを他の多様な形態に変形して実施することによって、上部基板と下部基板とをさらに堅固に支持できるだけでなく、外側隔壁と内側隔壁との間の空間に設けられる密封材が、外側隔壁を越えて外側に抜け出すか、または内側隔壁を越えて活性領域に侵入することをさらに効果的に防止できる。また、密封材を加熱封着する熱工程時に、密封材から発生するガスが外側隔壁を通じて容易に放出されるので、密封材から発生するガスが活性領域に侵入することをさらに効果的に防止できる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
以下、本発明の望ましい実施形態による平板表示装置の接合構造体とその形成方法、及びそれを備える平板表示装置を、添付された図面を参照して詳細に説明する。
【００１９】
まず、本発明による平板表示装置の接合構造体について説明する。
【００２０】
図３は、本発明の望ましい実施形態による接合構造体の配置形態を示す平板表示装置の平面図であり、図４は、図３に表示されたＡ−Ａ´線に沿う平板表示装置の断面図である。
【００２１】
図３と図４とを参照すれば、本発明による平板表示装置の接合構造体は、平板表示装置の上部基板１４と下部基板１２との間に形成されて、前記２つの基板１２、１４を密封接合させる役割を行う。前記接合構造体は、上部基板１４と下部基板１２の端部に沿って、互いに所定間隔をおいて並んで配置される同じ高さの外側隔壁１８及び内側隔壁１９と、前記外側隔壁１８と内側隔壁１９との間の空間に設けられる密封材１６と、を備える。
【００２２】
前記外側隔壁１８と内側隔壁１９は、それらの間に設けられる前記密封材１６の熱膨張係数より小さい熱膨張係数と、前記密封材１６のヤング率より大きいヤング率とを有する物質からなりうる。例えば、前記外側隔壁１８と内側隔壁１９は、シリコン酸化物、例えばＳｉＯ２からなりうる。
【００２３】
そして、前記外側隔壁１８と内側隔壁１９は、上部基板１４と下部基板１２との間に配置され、上部基板１４と下部基板１２の相互に対向する面のうち、少なくとも一面に形成されうる。具体的に、前記隔壁１８、１９は、下部基板１２の上面に形成されるか、または上部基板１４の底面に形成されうる。また、前記隔壁１８、１９は、上部基板１４と下部基板１２のそれぞれに形成されうる。
【００２４】
前記外側隔壁１８と内側隔壁１９のそれぞれは、０．０１μｍ〜１００００μｍ程度の高さに形成され、特にＬＣＯＳパネルでは、１μｍ程度が望ましい。また、前記外側隔壁１８と内側隔壁１９のそれぞれは、１μｍ〜１００００μｍ程度の幅を有するように形成されうる。特に、ＬＣＯＳパネルでは、外側隔壁１８と内側隔壁１９のそれぞれの幅は、３０μｍ程度が望ましい。
【００２５】
以下では、前述したような構成を有する本発明による接合構造体の形成方法を説明する。
【００２６】
前記接合構造体の形成方法は、例えば下部基板１２上にシリコン酸化物層を形成する段階と、前記シリコン酸化物層をパターニングして、外側隔壁１８と内側隔壁１９とを形成する段階と、前記外側隔壁１８と内側隔壁１９との間の空間に密封材１６を設ける段階と、を含む。
【００２７】
まず、プラズマ化学気相蒸着法（Ｐｌａｓｍａ  Ｅｎｈａｎｃｅｄ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：ＰＥＣＶＤ）を利用して、下部基板１２上に所望の厚さのシリコン酸化物層、例えばＳｉＯ２層を形成する。次いで、このように形成されたＳｉＯ２層上にフォトレジストを塗布した後、ソフトベーキング工程を行う。そして、外側隔壁１８と内側隔壁１９のパターンを有したフォトマスクを使用して、前記フォトレジストを部分的に露光させる。次いで、露光されたフォトレジストを現像すれば、前記ＳｉＯ２層上に、前記パターンでパターニングされたフォトレジストからなるエッチングマスクが形成される。
【００２８】
次いで、前記エッチングマスクを利用してＳｉＯ２層をドライエッチングすれば、前記エッチングマスクにより覆われた部分のＳｉＯ２のみが残って、前記外側隔壁１８と内側隔壁１９とが形成される。
【００２９】
このように形成された外側隔壁１８と内側隔壁１９との間の空間に密封材１６を設ければ、本発明の接合構造体を形成でき、前記の接合構造体を利用して、平板表示装置の上部基板１４と下部基板１２とを密封接着させ、均一のセルギャップを維持できる。
【００３０】
一方、上では、外側隔壁１８と内側隔壁１９とが、下部基板１２の上面に形成されると説明したが、前述したような同一の方法により、上部基板１４の底面に形成されることもあり、また上部基板１４と下部基板１２の両方に形成されることもある。
【００３１】
図５は、本発明による接合構造体が備えられた平板表示装置の垂直断面図を示し、図に示されたように、セルギャップの均一度が向上したことが分かる。平板表示装置の上部基板１４と下部基板１２との密封接合過程には、冷却段階が含まれるが、この際、外側隔壁１８と内側隔壁１９との間の密封材１６が、上部基板１４と下部基板１２とを引っ張ることによって、平板表示装置の活性領域の撓みを補償して、セルギャップの均一度を向上させる。具体的に、本発明によれば、上部基板１４と下部基板１２との間のセルギャップの均一度の偏差が、−５〜＋５％以内に改善される。
【００３２】
したがって、平板表示装置の上部基板１４と下部基板１２との接合工程時に、スペーサを使用する従来の場合には、収率が２０％であったものが、本発明の接合構造体を平板表示装置に使用する場合、収率が７０％以上に向上する。
【００３３】
前述の効果以外にも、本発明の接合構造体によれば、２つの隔壁１８、１９により密封材１６が活性領域に侵入することが防止され、液晶注入時に液晶の流れが向上し、また、密封材１６を加熱封着する熱工程時に、密封材１６から発生するガスが活性領域に侵入することが防止される。
【００３４】
また、本発明によれば、ＳｉＯ２からなる外側隔壁１８と内側隔壁１９とにより、平板表示装置のセルギャップが均一に維持されうるので、別途のスペーサが必要なくなり、平板表示装置の製造コストが削減されうる。
【００３５】
一方、前記の接合構造体の外側隔壁１８と内側隔壁１９とは、下記で説明するように他の多様な形態に変形されうる。
【００３６】
図６ないし図８は、本発明による接合構造体の多様な形態を示す部分平面図である。
【００３７】
図６ないし図８を共に参照すれば、本発明による接合構造体の外側隔壁２８は、２列に並んで配列された複数の柱２８ａ、２８ｂからなりうる。そして、前記外側隔壁２８において、第１列に配列された柱２８ａと第２列に配列された柱２８ｂとは、千鳥状に配置されうる。
【００３８】
本発明による接合構造体の内側隔壁２９、３９、４９は、図示されたように多様な形態からなりうる。まず、図６を参照すれば、内側隔壁２９は、２列に並んで配列された複数のバー２９ａ、２９ｂからなりうる。そして、前記内側隔壁２９において、第１列に配列されたバー２９ａと第２列に配列されたバー２９ｂとは、千鳥状に配置されうる。
【００３９】
次に、図７を参照すれば、内側隔壁３９は、複数の“Ｈ”形状のマイクロビーム３９ａ、３９ｂからなる。具体的に、前記内側隔壁３９は、１つのビーム３９ａと、対をなす２つのビーム３９ｂと、が反復して交互に配列されることによって、形成されうる。
【００４０】
図８に示される内側隔壁４９は、２列に並んで配列された複数の“Ｕ”形状のマイクロビーム４９ａ、４９ｂからなる。そして、第１列に配列されたマイクロビーム４９ａと第２列に配列されたマイクロビーム４９ｂとは、対向して配置され、また千鳥状に配置されうる。
【００４１】
図６ないし図８に示された外側隔壁２８と内側隔壁２９、３９、４９とを有する接合構造体によれば、上部基板１４と下部基板１２とをさらに堅固に支持できるだけでなく、外側隔壁２８と内側隔壁２９、３９、４９との間の空間に設けられる密封材１６が、外側隔壁２８を越えて外側に抜け出すか、または内側隔壁２９、３９、４９を越えて活性領域に侵入することをさらに効果的に防止できる。また、密封材１６を加熱封着する熱工程時に、密封材１６から発生するガスが外側隔壁２８を通じて容易に放出されるので、密封材１６から発生するガスが活性領域に侵入することをさらに効果的に防止できる。
【００４２】
図９は、本発明による接合構造体が適用されたＬＣＯＳパネルの部分断面図である。
【００４３】
図９を参照すれば、ＬＣＯＳパネルは、スイッチング回路である複数の半導体集積回路１１０を備える半導体基板１００、半導体基板１００に対向配置される透明基板１４０、半導体基板１００と透明基板１４０との間に位置する液晶層１１２、半導体基板１００と透明基板１４０の端部に沿って、互いに所定間隔をおいて並んで配置される外側隔壁１３８と内側隔壁１３９、及び前記外側隔壁と内側隔壁との間の空間に設けられた密封材１３６を備える接合構造体を含む。
【００４４】
前記液晶層１１２と対向する透明基板１４０の一面には、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）のような透明な導電性物質からなる透明電極１１４が形成され、透明基板１４０と対向する半導体基板１００の一面には、各画素別にアルミニウム膜のような反射電極１１６が形成され、前記透明電極１１４と反射電極１１６とが組み合わせられて画素を構成しつつ、それぞれは共通電極と画素電極として機能する。この際、各透明電極１１４と反射電極１１６の表面には、図示していない配向膜が形成されて、液晶分子を一定方向に配向させており、前記ＬＣＯＳパネルにおいては、外側隔壁１３８と内側隔壁１３９、及び前記外側隔壁と内側隔壁との間の空間に設けられた密封材１３６を備える接合構造体により、約１μｍのセルギャップが維持される。
【００４５】
特に、反射電極１１６は、各画素別に提供された半導体集積回路１１０と電気的に接続されるが、さらに具体的に、半導体集積回路１１０は、半導体基板１００内に形成されるソース１１８とドレイン１２０、及びそれらを介して位置するゲート電極１２２を含む。
【００４６】
前記ドレイン１２０は、連結電極１２４により反射電極１１６と電気的に接続され、ゲート電極１２２と隣り合うようにキャパシタ１２６が配置され、前記ゲート電極１２２、連結電極１２４及びキャパシタ１２６は、絶縁層１２８により相互に接触しないように分離される。
【００４７】
前述した構成の半導体集積回路１１０が、対応する反射電極１１６にスイッチング信号を印加すれば、反射電極１１６は、透明電極１１４と共に液晶分子を再配列して、画素別に光透過率を変化させることによって、所定の映像を具現する。
【００４８】
前述した説明で多くの事項が具体的に記載されているが、それらは、発明の範囲を限定するものではなく、望ましい実施形態の例示として解釈されねばならない。例えば、本発明の接合構造体は、当業者であれば、図９に示したＬＣＯＳパネル以外の他の平板表示装置にも適用できる。したがって、本発明の範囲は、説明された実施形態によって決まるものではなく、特許請求の範囲に記載された技術的思想により決まらねばならない。
【産業上の利用可能性】
【００４９】
本発明は、ＬＣＤ、ＰＤＰ及びＦＥＤなどのような平板表示装置に好適に用いられる。
【図面の簡単な説明】
【００５０】
【図１】従来技術による平板表示装置の部分断面図である。
【図２】従来技術による平板表示装置の垂直断面図である。
【図３】本発明の望ましい実施形態による接合構造体の配置形態を示す平板表示装置の平面図である。
【図４】図３に表示されたＡ−Ａ´線に沿う平板表示装置の断面図である。
【図５】本発明による接合構造体が備えられた平板表示装置の垂直断面図である。
【図６】本発明による接合構造体の多様な形態を示す部分平面図である。
【図７】本発明による接合構造体の多様な形態を示す部分平面図である。
【図８】本発明による接合構造体の多様な形態を示す部分平面図である。
【図９】本発明による接合構造体が適用されたＬＣＯＳパネルの部分断面図である。
【符号の説明】
【００５１】
１２    下部基板、
１４    上部基板、
１６    密封材、
１８    外側隔壁、
１９    内側隔壁。
【図１】
2005309446.tif 000003
【図２】
2005309446.tif 000004
【図３】
2005309446.tif 000005
【図４】
2005309446.tif 000006
【図５】
2005309446.tif 000007
【図６】
2005309446.tif 000008
【図７】
2005309446.tif 000009
【図８】
2005309446.tif 000010
【図９】
2005309446.tif 000011