(57)【要約】【課題】  製造が容易であり、誘電体が破損したときに破損部分のみを部分的に交換することが可能な誘電体の分割構造を提供する。【解決手段】  対向する電極の少なくとも一方の電極３０の対向面に配置された第１層の誘電体２０を備える。第１層の誘電体２０は、電極３０の対向面を隙間なく覆うように分割された複数の要素２１〜２４からなる。好ましくは、第１層の誘電体２０の表面に配置された第２層の誘電体１０をさらに備える。第２層の誘電体１０は、第１層の誘電体２０の表面を隙間なく覆うように、かつ隣接する第１層の誘電体２０の要素２１〜２４間の接合部２０ｘ，２０ｙを覆うように分割された複数の要素１１〜１６からなる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向する電極の少なくとも一方の電極の対向面に配置された第１層の誘電体を備え、
該第１層の誘電体は、上記対向面を隙間なく覆うように分割された複数の要素からなることを特徴とする、誘電体の分割構造。
【請求項２】
上記第１層の誘電体の表面に配置された第２層の誘電体をさらに備え、
該第２層の誘電体は、上記表面を隙間なく覆うように、かつ隣接する上記第１層の誘電体の上記要素間の接合部を覆うように分割された複数の要素からなることを特徴とする、請求項１に記載の誘電体の分割構造。
【請求項３】
上記第１層と上記第２層との間において、隣接する上記第１層の誘電体の上記要素間の上記接合部と、隣接する上記第２層の誘電体の上記要素間の接合部とが交差する部分及びその近傍部分に配置された中間部材をさらに備えたことを特徴とする、請求項２に記載の誘電体の分割構造。
【請求項４】
上記第２層の誘電体の上記要素の表面側の周縁の少なくとも一部分を面取りすることにより、上記第２層の誘電体の表面に凹部が形成され、
該凹部に連続して上記第２層の誘電体の上記要素の一部分を切り欠くことにより、上記第２層の誘電体を貫通する貫通穴が形成され、
該貫通穴に連通する連通穴が、上記第１層の誘電体に形成されたことを特徴とする、請求項２又は３に記載の誘電体の分割構造。
【請求項５】
上記対向面は円筒状であり、
上記第１の誘電体及び第２の誘電体の少なくとも一方の上記要素は、周方向に分割され、軸方向両端が固定されたことを特徴とする、請求項１ないし４のいずれか一つに記載の誘電体の分割構造。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は誘電体の分割構造に関し、例えば放電によりプラズマを発生させるための電極に被覆する誘電体に好適な、誘電体の分割構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、大気圧近傍の圧力下で放電プラズマを発生させ、生成された励起活性種を利用して被処理材の表面を処理するプラズマ処理装置において、アーク放電が起きるのを防止するため、対向する金属電極の表面に溶射などの方法により誘電体を被覆したり、電極を板状の誘電体に隣接して配置したりすることが提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【特許文献１】特開平９−９２４９３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかし、いずれの場合も、誘電体が破損したとき、部分的な補修ができない。また、電極が大きくなると、アーク放電が発生しないように、むらなく誘電体を溶射することが難しくなる。また、板状の誘電体は、加工上、大きさに制約がある。また、円筒形状の電極の場合、電極の周囲に配置する薄肉の誘電体を作成することは、非常に困難である。
【０００４】
本発明は、かかる実情に鑑み、製造が容易であり、誘電体が破損したときに破損部分のみを部分的に交換することが可能な誘電体の分割構造を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上記技術的課題を解決するため、以下のように構成した誘電体の分割構造を提供する。
【０００６】
誘電体の分割構造は、対向する電極の少なくとも一方の電極の対向面に配置された第１層の誘電体を備える。該第１層の誘電体は、上記対向面を隙間なく覆うように分割された複数の要素からなる。
【０００７】
上記構成において、第１層の誘電体の要素は、互いの接合部に隙間が生じないように配置されるので、電極の対向面（すなわち、他方の電極に対向する側の面）が露出しない。これにより、例えば電極間のグロー放電によりプラズマを発生させて被処理材を処理する場合に、処理不良の原因となるアーク放電の発生を防止することができる。
【０００８】
上記構成によれば、第１層の誘電体は複数の要素に分割されているので、一部の要素のみを交換することが可能である。また、第１層の誘電体の要素は、適宜な材料や寸法・形状を選択することにより、加工が容易になる。
【０００９】
好ましくは、上記第１層の誘電体の表面（すなわち、一方の電極の対向面とは反対側の面）に配置された第２層の誘電体をさらに備える。該第２層の誘電体は、上記表面を隙間なく覆うように、かつ隣接する上記第１層の誘電体の上記要素間の接合部を覆うように分割された複数の要素からなる。
【００１０】
上記構成によれば、第１層の誘電体の要素間の接合部は、電極と第１層の誘電体との熱膨張の差などにより、仮に隙間が生じたとしても、第２層の誘電体により覆われているので、電極の対向面が露出することはない。これにより、例えばアーク放電をより確実に防止することができる。
【００１１】
より好ましくは、中間部材をさらに備える。上記中間部材は、上記第１層と上記第２層との間において、隣接する上記第１層の誘電体の上記要素間の上記接合部と、隣接する上記第２層の誘電体の上記要素間の接合部とが交差する部分及びその近傍部分に配置される。
【００１２】
上記構成によれば、第１層の誘電体の要素間の接合部と第２層の誘電体の要素間の接合部とが交差する部分又はその近傍部分で、それぞれの接合部に隙間が生じても、この部分には中間部材が配置されているので、電極の対向面が露出することはない。これにより、例えばアーク放電をより一層、確実に防止することができる。
【００１３】
好ましくは、上記第２層の誘電体の上記要素の表面側（すなわち、第１層の誘電体とは反対側の面）の周縁の少なくとも一部分を面取りすることにより、上記第２層の誘電体の表面に凹部が形成される。該凹部に連続して上記第２層の誘電体の上記要素の一部分を切り欠くことにより、上記第２層の誘電体を貫通する貫通穴が形成される。該貫通穴に連通する連通穴が、上記第１層の誘電体に形成される。
【００１４】
上記構成において、第１層の誘電体の連通穴に適宜な減圧手段を接続し、第１層の誘電体の連通穴、第２層の誘電体の貫通穴を介して、第２層の誘電体の表面に形成された凹部から吸引することにより、第２層の誘電体の表面に被処理材を吸着することが可能である。
【００１５】
上記構成によれば、誘電体の要素に簡単な加工を施すだけで、被処理材を吸着するチャック機構を容易に付加することができる。
【００１６】
以上の各構成において、誘電体を配置する電極の対向面は、平面であっても曲面であってもよい。円筒状のロール電極の場合、例えば以下のように構成する。
【００１７】
上記対向面は円筒状である。上記第１の誘電体及び第２の誘電体の少なくとも一方の上記要素は、周方向に分割され、軸方向両端が固定される。
【００１８】
上記構成において、円筒状の対向面に沿って配置された誘電体の要素の軸方向両端を固定することにより、電極の周囲に誘電体を簡単に固定することができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、誘電体の分割構造は、製造が容易であり、誘電体が破損したときに破損部分のみを部分的に交換することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
以下、本発明の実施の形態として実施例を、図１〜図１０を参照しながら説明する。
【００２１】
まず、第１実施例の電極ユニット１について、図１〜図３を参照しながら説明する。
【００２２】
図１の平面図及び図２の断面図に示すように、電極ユニット１は、金属の電極３０の周囲がホルダー４０で保持され、電極３０が不図示の他の電極に対向する側の対向面３０ｓすなわち上面３０ｓには、格子状に分割された２層の誘電体１０，２０が積層されるようになっている。
【００２３】
電極３０は、正方形の平板であり、４つの貫通穴３０ａが形成されている。貫通穴３０ａは、図２に示すように、連通する貫通穴２２ａよりも大きく、電極３０の上面３０ｓが露出しないようになっている。
【００２４】
ホルダー４０は、例えば樹脂等の絶縁材料からなる各１対のホルダー部材４１，４２を備える。ホルダー部材４１，４２は、それぞれ、柱状の本体部４１ａ，４２ａと、それに隣接する台形状の突出部４１ｂ，４２ｂとからなる。ホルダー４０は、突出部４１ｂ，４２ｂを内側にして、本体部４１ａ，４２ａが四角形に結合され、図２に示すように、突出部４１ｂ，４２ｂが電極３０の周囲（側面）３０ｂに圧接し、電極３０を保持するようになっている。突出部４１ｂ，４２ｂは本体部４１ａ，４２ａよりも薄く、電極３０の上面３０ｓと突出部４１ｂ，４２ｂの上面４１ｃ，４２ｃとは同一面となり、ホルダー４０の上面４０ｓ側には、電極３０の対向面３０ｓよりも広い空間４０ａが形成される。この空間４０ａ内には、格子状に分割された２層の誘電体１０，２０が、はめ込まれるようになっている。
【００２５】
上層の誘電体１０は、複数の正方形の要素１１〜１６に分割されている。誘電体１０の４分の１を模式的に示した図３（ａ）から明らかなように、誘電体１０は、その表面１０ｓ側、すなわち他の電極に対向する側の周縁に形成された面取り１１ａ，１２ａ，１３ａ，１４ａ，１５ａと、角の切り欠き１２ｂ，１４ｂ，１５ｂ，１６との組み合わせが異なる６種類の要素１１〜１６を有する。第１の要素１１は、表面側の４つの周縁のすべてに面取り１１ａが形成されている。第２の要素１２は、表面側の４つの周縁のすべてに面取り１２ａが形成され、さらに、一つの角に切り欠き１２ｂが形成されている。第３の要素１３は、表面側の４つの周縁のうち、一つだけに面取り１２ａが形成されている。第４の要素１４は、表面側の４つの周縁のうち、一つだけに面取り１４ａが形成され、さらに、面取り１４ａの一端側の一つの角に切り欠き１４ｂが形成されている。第５の要素１５は、表面側の４つの周縁のうち、一つだけに面取り１５ａが形成され、さらに、面取り１５ａの他端側の一つの角に切り欠き１５ｂが形成されている。第６の要素１６は、一つの角に切り欠き１６ｂが形成されている。上層の誘電体１０には、切り欠き１２ｂ，１４ｂ，１５ｂ，１６ｂによって、上層の誘電体１０を貫通する貫通穴１０ａが形成されている。
【００２６】
下層の誘電体２０は、複数の正方形又は長方形の要素２１〜２４に分割されている。誘電体２０の略４分の１を模式的に示した図３（ｂ）から明らかなように、誘電体２０は、４種類の要素２１〜２４を有する。第１の要素２１は、上層の誘電体１０の要素１１〜１６と同じ寸法の正方形形状である。第２の要素２２は、上層の誘電体１０の要素１１〜１６と同じ寸法の正方形形状であり、中央には貫通穴２２ａが形成されている。第３の要素２３は、対向する一対の辺の長さが上層の誘電体１０の要素１１〜１６の半分である細長い長方形形状である。第４の要素２４は、各辺の長さが上層の誘電体１０の要素１１〜１６の半分である正方形形状である。
【００２７】
図１及び図２に示すように、電極３０及びホルダー部材４１，４２の突出部４１ｂ，４２ｂの上面３０ｓ，４１ｃ，４２ｃには、下層の誘電体２０の要素２１〜２４が隙間なく配置される。上層の誘電体１０の要素１１〜１６は、下層の誘電体２０の隣接する要素２１〜２４間の接合部２０ｘ，２０ｙを覆うように、半ピッチずらして、下層の誘電体２０の表面２０ｓ（すなわち、電極３０の上面３０ｓとは反対側の面）に積層される。上層の誘電体１０の表面１０ｓは、ホルダー４０の上面４０ｓと同一面となる。
【００２８】
上層の誘電体１０の表面１０ｓには、要素１１〜１５の周縁の面取り１１ａ〜１５ａによって、、図１に示すように、要素１１〜１５の接合部１０ｘ，１０ｙの一部分に沿って、断面Ｖ字状の溝１０ｖが格子状に形成される。この溝１０ｖの四隅には、貫通穴１０ａが形成され、下層の誘電体２０の貫通穴２２ａ、電極３０の貫通穴３０ａを介して、不図示の減圧手段、例えば吸引ポンプに連通するようになっている。これにより、上層の誘電体１０の表面１０ｓに、被処理材を吸着できるようになっている。
【００２９】
誘電体１０，２０の要素１１〜１６，２１〜２４は、適宜に、材料、寸法・形状を選択し、製造することができる。例えば、要素１１〜１６，２１〜２４を焼結により作ると、誘電体を溶射する場合と比べ、空隙をなくすることが容易である。
【００３０】
電極ユニット１は、例えば、プラズマ処理装置に用いることができる。すなわち、電極ユニット１の誘電体１０の表面１０ｓに被処理材を吸着した状態で、他の電極ユニット（図示せず）を対向して配置する。電極ユニット間の空間に処理用ガスを供給し、適宜な電圧を電極ユニットの電極間に印加し、グロー放電によりプラズマを発生させ、被処理材の表面を処理する。例えば、プラスチックフィルム等の被処理材に親水性処理、有機物除去、表面粗化、エッチング、成膜等の表面処理を行う。
【００３１】
次に、第２実施例の電極ユニット１’について、図４〜図６を参照しながら説明する。
【００３２】
第２実施例の電極ユニット１’は、第１実施例と大略同様に構成される。以下では、同じ構成部分には同じ符号を用い、第１実施例との相違点を中心に説明する。
【００３３】
図４〜図６に示すように、電極ユニット１’は、誘電体１０’，２０’の間に中間部材３３を部分的に配置した点が、第１実施例と異なる。
【００３４】
図４の平面図に示すように、中間部材３３は、略正方形形状であり、誘電体１０’の接合部１０ｘ，１０ｙと、誘電体２０’の接合部２０ｘ，２０ｙとが交差する部分及びその近傍部分に、図５の断面図に示すように、誘電体１０’と誘電体２０’との間には挟まれるように配置される。
【００３５】
詳しくは図５の説明図に示すように、上層の誘電体１０’の各要素１１’〜１６’には、それぞれの下面の周縁の中間位置に凹部１１ｓ〜１６ｓが形成されている。下層の誘電体２０’の各要素２１’〜２３’には、それぞれの上面の周縁の中間位置に凹部２１ｓ〜２３ｓが形成されている。中間部材３３は、図４に示すように、上層の誘電体１０’の凹部１１ｓ〜１６ｓと下層の誘電体２０’の凹部２１ｓ〜２３ｓとの間に収納される。
【００３６】
例えば、上層の誘電体１０’は、各要素１１’〜１６’の厚さが０．７５ｍｍ、凹部１１ｓ〜１６ｓの深さが０．２５ｍｍである。下層の誘電体２０’も、各要素２１’〜２４’の厚さが０．７５ｍｍ、凹部２１ｓ〜２３ｓの深さが０．２５ｍｍである。そして、中間部材３３の厚さは、０．５ｍｍである。中間部材３３は、例えばアルミナ板である。
【００３７】
誘電体１０’の接合部１０ｘ，１０ｙと、誘電体２０’の接合部２０ｘ，２０ｙとが交差する部分は、微視的に見ると誘電体１０’，２０’の厚み方向に連続して隙間が形成され、この隙間から電極３０の表面３０ｓが外部に露出するので、アーク放電が生じやすくなる。そこで、この隙間を覆うように、中間部材３３を配置している。これにより、第１実施例よりも一層確実にアーク放電を防止することができる。
【００３８】
次に、第３実施例の電極ユニット２について、図７〜図９を参照しながら説明する。
【００３９】
電極ユニット２は、大略、第１実施例と同様に構成され、電極３０の周囲がホルダー４０で保持される。以下、第１実施例と同様の構成部分には同じ符号を用い、第１実施例との相違点を中心に説明する。
【００４０】
図７の平面図及び図８の断面図に示すように、電極ユニット２は、電極３０の対向面３０ｓすなわち上面３０ｓに、短冊状に分割された２層の誘電体５０，６０が積層されるようになっている。
【００４１】
上層の誘電体５０は、複数の長方形の要素５１〜５３に分割されている。誘電体５０の半分を模式的に示した図９（ａ）から明らかなように、誘電体５０は、表面５０ｓ側の周縁の一部に形成された面取り５１ａ，５２ａ，５３ａと、断面Ｖ字状の溝５２ｂ，５３ｂと、切り欠き５１ｃ，５２ｃとの組み合わせが異なる３種類の要素５１〜５３を有する。第１の要素５１は、表面側の周縁のうち一方の長辺の中間部分に、面取り５１ａが形成され、面取り５１ａの両端には切り欠き５１ｃが形成されている。第２の要素５２は、表面側の４つの周縁のうち両方の長辺の中間部分に面取り５２ａが形成され、一方の面取り５２ａの両端には切り欠き５２ｃが形成されている。第２の要素５２の表面には、面取り５２ａ間を直角に結ぶように、断面Ｖ字状の溝５２ｂが形成されている。第３の要素５３は、表面側の４つの周縁のうち両方の長辺の中間部分に面取り５３ａが形成されている。第３の要素５３の表面には、面取り５３ａ間を直角に結ぶように、断面Ｖ字状の溝５３ｂが形成されている。
【００４２】
下層の誘電体６０は、複数の長方形の要素６１〜６３に分割されている。誘電体６０の略半分を模式的に示した図９（ｂ）から明らかなように、誘電体６０は、３種類の要素６１〜６３を有する。第１の要素６１は、短辺が上層の誘電体５０の要素５１〜５３の半分である細長い長方形形状である。第２の要素６２は、上層の誘電体５０の要素５１〜５３と同じ寸法の長方形形状であり、２つの貫通穴６２ａが形成されている。第３の要素６３は、上層の誘電体５０の要素５１〜５３と同じ寸法の長方形形状である。
【００４３】
図７及び図８に示すように、電極３０及びホルダー部材４１，４２の突出部４１ｂ，４２ｂの上面３０ｓ，４１ｃ，４２ｃには、下層の誘電体６０の要素６１〜６３が隙間なく配置される。下層の誘電体６０の表面６０ｓには、下層の誘電体６０の隣接する要素６１〜６３間の接合部６０ｘを覆うように、上層の誘電体５０の要素５１〜５３が半ピッチずらして積層される。これにより、上層の誘電体５０の要素５１〜５３間の接合部５０ｘは、下層の誘電体６０の接合部６０ｘと重なることはない。上層の誘電体５０の表面５０ｓとホルダー１０の表面１０ｓとは、同一面となる。
【００４４】
第１実施例と同様に、上層の誘電体５０の表面５０ｓには、要素５１〜５３の面取り５１ａ〜５３ａと溝５２ｂ，５３ｂによって、図７に示すように、断面Ｖ字状の溝５０ｖが格子状に形成される。この溝５０ｖの四隅には、切り欠き５１ｃ，５２ｃにより貫通穴５０ａが形成され、下層の誘電体６０の貫通穴６２ａ、電極３０の貫通穴３０ａを介して吸引することにより、上層の誘電体１０の表面１０ｓに被処理材を吸着し、第１実施例と同様に、被処理材の表面を処理することができる。
【００４５】
次に、第４実施例の電極ユニット３について、図１０を参照しながら説明する。
【００４６】
第４実施例の電極ユニット３は、第１実施例及び第３実施例と異なり、円筒状の電極９０の対向面９０ｓ、すなわち表面９０ｓに、２層の誘電体７０，８０を備える。
【００４７】
下層の誘電体８０は、断面が円弧状の同一形状の複数の要素８２からなり、電極９０の表面９０ｓに、周方向に分割して隙間なく配置される。上層の誘電体７０も、断面が円弧状の同一形状の複数の要素７２からなり、要素７２は、下層の誘電体８０の隣接する要素８２間の接合部８４に重なるように略半ピッチずらして、下層の誘電体８０の表面８０ｓに、周方向に分割して隙間なく積層される。誘電体７０，８０の要素７２，８２は、湾曲した薄板状の複雑な形状であるが、例えば、焼結により、同一形状のものを多数、容易に作ることができる。
【００４８】
上層の誘電体７０の要素７２も、下層の誘電体８０の要素８２も、周方向には１列に配置され、それぞれの軸方向両端が固定されるようになっている。例えば、電極９０の軸方向両端に隣接して配置された不図示のホルダーによって、軸方向に挟持される。あるいは、軸方向両端部分にベルト状の部材を周方向に巻き、締め付ける。
【００４９】
図示していないが、第３実施例と同様に、誘電体７０に面取りや切り欠きを形成し、誘電体８０に貫通穴を設けるなどして、電極ユニット３の誘電体７０の表面７０ｓに被処理材を吸着するようにしてもよい。また、誘電体７０，８０を軸方向にも分割し、軸方向に複数の要素を配置することも可能である。
【００５０】
電極ユニット３は、軸方向両端を回転自在に支持して、例えばプラズマ処理装置に用いることができる。この場合、電極ユニット３の外周面、すなわち上層の誘電体７０の表面７０ｓに対向して、凹状に湾曲した対向面を有する不図示の他の電極ユニットを、所定間隔を設けて配置し、電極ユニット間の空間にシート状の被処理材５を配置し、電極ユニット３の上層の誘電体７０の表面７０ｓに沿わせる。そして、処理用ガスを電極ユニット間の空間に供給した状態で、適宜な電圧を電極ユニットの電極間に印加し、グロー放電によりプラズマを発生させ、被処理材５の表面を処理する。被処理材５は、矢印４で示すように周方向に移動させながら連続的に処理し、これに伴って、電極ユニット３も矢印６で示すように連れ回る。
【００５１】
以上に説明した電極ユニット１，２，３は、誘電体１０，２０；５０，６０；７０，８０が複数の要素１１〜１６，２１〜２４；５１〜５３，６１〜６３；７２，８２に分割されているので、製造が容易であり、誘電体１０，２０；５０，６０；７０，８０が破損した場合には、誘電体１０，２０；５０，６０；７０，８０の要素１１〜１６，２１〜２４；５１〜５３，６１〜６３；７２，８２のうち、破損したものだけを部分的に交換することが可能である。
【００５２】
電極３０，９０のサイズに応じて、誘電体１０，２０；５０，６０；７０，８０の要素１１〜１６，２１〜２４；５１〜５３，６１〜６３；７２，８２の接合枚数や組み合わせを変えることで、大きさを容易に変更できるので、誘電体によって電極サイズが制約されることは少ない。また、電極サイズにかかわらず、誘電体の部品を共通化することも可能である。
【００５３】
誘電体１０，２０；５０，６０；７０，８０を分割することにより、被処理材を吸着するための溝１０ｖ；５０ｖや貫通穴１０ａ，５０ａを容易に形成することができる。また、円筒状の電極９０など、複雑な形状の電極の表面に誘電体を配置することも容易である。
【００５４】
また、誘電体２０，６０，８０の接合部２０ｘ，２０ｙ；６０ｘ；８４の分割ラインで、電極３０，９０の熱膨張を吸収できる。
【００５５】
電極同士が直接対向する部位があると、被処理材の処理を劣化させるアーク放電を生じるおそれがあるが、下層の誘電体２０，６０，８０の接合部２０ｘ，２０ｙ；６０ｘ；８４を覆うようにずらして、上層の誘電体１０，５０，７０の要素１１〜１６；５１〜５３；７２を積層することで、下層の誘電体２０，６０，８０の接合部２０ｘ，２０ｙ；６０ｘ；８４に、例えば電極３０，９０と誘電体２０，６０，８０の熱膨張の差により仮に隙間が形成されたとしても、その隙間は上層の誘電体１０，５０，７０で覆われるので、アーク放電を確実の防止することができる。
【００５６】
なお、本発明の誘電体の分割構造は、上記した実施例に限定されるものではなく、種々の態様で実施することができる。
【００５７】
例えば、誘電体は、１層のみとしても、３層以上としてもよい。誘電体は、三角形や多角形、あるいはそれらの組み合わせなど、適宜な形状の複数の要素に分割することができる。また、分割数も適宜に選択することができる。
【００５８】
被処理材を吸着しない場合には、誘電体の面取りや切り欠きを無くすことができる。被処理材を吸着するための溝や穴などの吸引経路は、適宜に形成することができる。例えば、電極を通らないようにしてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５９】
【図１】電極ユニットの表面図である。（第１実施例）
【図２】（ａ）図１の線Ａ−Ａに沿って切断した断面図、（ｂ）図１の線Ｂ−Ｂに沿って切断した断面図である。（第１実施例）
【図３】誘電体の分割の説明図である。（第１実施例）
【図４】電極ユニットの表面図である。（第２実施例）
【図５】（ａ）図１の線Ａ−Ａに沿って切断した断面図、（ｂ）図１の線Ｂ−Ｂに沿って切断した断面図である。（第２実施例）
【図６】誘電体の分割の説明図である。（第２実施例）
【図７】電極ユニットの表面図である。（第３実施例）
【図８】（ａ）図７の線Ａ−Ａに沿って切断した断面図、（ｂ）図７の線Ｂ−Ｂに沿って切断した断面図である。（第３実施例）
【図９】誘電体の分割の説明図である。（第３実施例）
【図１０】円筒状電極ユニットの構成図である。（第４実施例）
【符号の説明】
【００６０】
１０，１０’  上層の誘電体（第２層の誘電体）
１０ａ  貫通穴
１０ｖ  溝（凹部）
１０ｘ，１０ｙ  接合部
１１〜１６，１１’〜１６’  要素
２０，２０’下層の誘電体（第１層の誘電体）
２０ｓ  表面
２０ｘ，２０ｙ  接合部
２１〜２４，２１’〜２４’  要素
２２ａ  貫通穴（連通穴）
３０  電極
３０ｓ  対向面
３３  中間部材
５０  上層の誘電体（第２層の誘電体）
５０ａ  貫通穴
５０ｖ  溝（凹部）
５０ｘ  接合部
５１〜５３  要素
６０  下層の誘電体（第１層の誘電体）
６０ｓ  表面
６０ｘ  接合部
６１〜６３  要素
６２ａ  貫通穴（連通穴）
７０  上層の誘電体（第２層の誘電体）
７２  要素
８０  下層の誘電体（第１層の誘電体）
８２  要素
８４  表面
９０  電極
９０ｓ  対向面
【図３】
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【図９】
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【図１】
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【図２】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図１０】
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