(57)【要約】【課題】  従来の熱処理装置は炉体の内周の円周方向にヒータがない部分があり、温度制御が悪く、被処理物を均一に加熱することができないという欠点があった。【解決手段】  本発明の熱処理装置は、筒状炉体と、上記筒状炉体の内周面を、波状に上下しながら一周するヒータエレメントの上下に分離した複数段とよりなり、上記複数段のヒータエレメントが端部を介して互いに直列に連結され、上記各ヒータエレメントの上記端部が円周方向に延びその波の高さが上記ヒータエレメントの他の部分の波の高さより小さく、上下に互いに分離して重なるよう配置されている。また、本発明の熱処理装置は、筒状炉体と、上記筒状炉体の内周面を、波状に上下しながら一周するヒータエレメントの上下に分離した複数段とよりなり、上記複数段の１つの上記ヒータエレメントからこれに隣接する他の段の上記ヒータエレメントに移行する移行部分を上記各ヒータエレメントが有し、この移行部分が円周方向に対し斜めに延び、上記各ヒータエレメントの上記移行部分が上下に互いに分離して重なるよう配置されている。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
筒状炉体と、上記筒状炉体の内周面を、波状に上下しながら一周するヒータエレメントの上下に分離した複数段とよりなり、上記複数段のヒータエレメントが端部を介して互いに直列に連結され、上記各ヒータエレメントの上記端部が円周方向に延びその波の高さが上記ヒータエレメントの他の部分の波の高さより小さく、上下に互いに分離して重なるよう配置されていることを特徴とする熱処理装置。
【請求項２】
筒状炉体と、上記筒状炉体の内周面を、波状に上下しながら一周するヒータエレメントの上下に分離した複数段とよりなり、上記複数段の１つの上記ヒータエレメントからこれに隣接する他の段の上記ヒータエレメントに移行する移行部分を上記各ヒータエレメントが有し、この移行部分が円周方向に対し斜めに延び、上記各ヒータエレメントの上記移行部分が上下に互いに分離して重なるよう配置されていることを特徴とする熱処理装置。
【請求項３】
上記端部の波のピッチが上記ヒータエレメントの他の部分の波のピッチより小さいことを特徴とする請求項１記載の熱処理装置。
【請求項４】
上記移行部分の波のピッチが上記ヒータエレメントの他の部分の波のピッチより小さいことを特徴とする請求項２記載の熱処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は熱処理装置、特に半導体ウエハ等を熱処理する装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
図５及び図６は従来の熱処理装置を示し、１は円筒状の炉体、２は上記円筒状の炉体１の内周面を波状にほぼ同じピッチで、同じ高さ（振幅）で上下しながら一周する鉄−クロム系等の金属発熱線３からなる上下に分離した複数段のヒータエレメント、４は上記互いに上下に隣接する各ヒータエレメント２の端部を互いに直列に連結する軸方向に延びる連結部、５は上記直列に連結したヒータエレメント２の両端に夫々設けた、上記炉体１を貫通して外部に突出する電源接続用の端子である。
【０００３】
上記従来の熱処理装置においては、ヒータを例えば上段、中段、下段の複数段のヒータエレメントに分け、各段のヒータエレメントごとに温度コントローラを設け、処理雰囲気中の温度を制御するいわゆるゾーン制御を行い、炉内温度の均一性を得ていた。このような熱処理装置としては特許文献１がある。
【特許文献１】特開２００１−２０８４７８号公報（図３）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
然しながら、上記従来の熱処理装置においては、図５及び図６に示すように、各ヒータエレメント２はこれを連結する連結部４によって円周方向に２分され、炉体１の内周面の円周方向にヒータエレメント２のない部分６ができ、円周方向における温度制御が悪く、被処理物を均一に加熱することができないという欠点があった。
【０００５】
また、上記端子５につながるヒータエレメント箇所は、端子５を介して炉体１外に放熱される熱量が多く、円周方向の温度制御の精度が悪かった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の熱処理装置は、筒状炉体と、上記筒状炉体の内周面を、波状に上下しながら一周するヒータエレメントの上下に分離した複数段とよりなり、上記複数段のヒータエレメントが端部を介して互いに直列に連結され、上記各ヒータエレメントの上記端部が円周方向に延びその波の高さが上記ヒータエレメントの他の部分の波の高さより小さく、上下に互いに分離して重なるよう配置されていることを特徴とする。
【０００７】
また、本発明の熱処理装置は、筒状炉体と、上記筒状炉体の内周面を、波状に上下しながら一周するヒータエレメントの上下に分離した複数段とよりなり、上記複数段の１つの上記ヒータエレメントからこれに隣接する他の段の上記ヒータエレメントに移行する移行部分を上記各ヒータエレメントが有し、この移行部分が円周方向に対し斜めに延び、上記各ヒータエレメントの上記移行部分が上下に互いに分離して重なるよう配置されていることを特徴とする。
【０００８】
また、ヒータエレメントの端部又は移行部分の波のピッチは上記ヒータエレメントの他の部分の波のピッチより小さいことを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の熱処理装置によれば、ヒータエレメントの端部の波の高さを小さくし、上下に互いに分離して重なるようにしたので、炉体の内周面の円周方向においてヒータエレメントの欠けた部分ができず、円周方向における温度制御を良くでき、被処理物を均一に加熱できるという大きな利益がある。
【００１０】
また、各ヒータエレメントの移行部分が上下に互いに分離して重なるようにしたので炉体の内周面の円周方向においてヒータエレメントの欠けた部分ができず、円周方向における温度制御を良くでき、被処理物を均一に加熱できる。
【００１１】
また、ヒータエレメントの端部又は移行部分の波の高さならびにピッチを変えることにより、炉体内周のワット密度を調整でき、被処理物を均一に加熱することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下図面によって本発明の実施例を説明する。
【実施例１】
【００１３】
本発明の第１の実施例においては、図１及び図２に示すように、各ヒータエレメント２の円周方向に延びる両端部７の波の高さを夫々ヒータエレメント２の本体部分８の波の高さより小さくし、この小さくなった各ヒータエレメント２の円周方向に延びる両端部７を上下に互いに分離して重なるように配置せしめる。
【００１４】
本発明の熱処理装置の第１実施例においては、各ヒータエレメント２の円周方向に延びる両端部７を上下において重なるように配置したので、炉体１の内周面の円周方向においてヒータエレメントに欠けた部分ができず、円周方向における温度制御を良くでき、被処理物を均一に加熱できるようになる。
【００１５】
なお、端子５に連なる上記ヒータエレメント２の両端部７の波のピッチを上記ヒータエレメント２の本体部分８の波のピッチより小さくし、端子５付近の発熱線３の密度を大きくし、ワット密度を大きくすれば、端子５を介して炉体外に放出される熱量にも拘わらず、被処理物を均一に加熱することができる。
【実施例２】
【００１６】
本発明の第２の実施例においては、図３及び図４に示すように、複数段の１つのヒータエレメント２からこれに隣接する他の段のヒータエレメント２に移行する移行部分９を円周方向に対して斜めに延ばし、この各ヒータエレメント２の上記移行部分９を上下に互いに分離して重なるよう配置せしめ、この結果ヒータが上記炉体１の内周面に渦巻状に巻回されるようにする。
【００１７】
本発明のこの第２の実施例によっても、炉体１の内周面の円周方向においてヒータエレメントに欠けた部分ができず、円周方向における温度制御を良くでき、被処理物を均一に加熱でき、また異なる段のヒータエレメントを連続的に接続することができる。
【００１８】
なお、上記ヒータエレメント２の移行部分９の波のピッチを上記ヒータエレメント２の他の部分の波のピッチより小さくし、端子５付近の発熱線３の密度を大きくし、ワット密度を大きくすれば、端子５を介して炉体外に放出される熱量にも拘わらず、被処理物を均一に加熱することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の熱処理装置の一部を断面とした斜視図である。
【図２】図１に示す熱処理装置のヒータエレメントの一部の拡大展開図である。
【図３】本発明の熱処理装置の他の実施例の一部を断面とした斜視図である。
【図４】図２に示す熱処理装置のヒータエレメントの一部の拡大展開図である。
【図５】従来の熱処理装置の一部を断面とした斜視図である。
【図６】図５に示す熱処理装置のヒータエレメントの一部の拡大展開図である。
【符号の説明】
【００２０】
１  炉体
２  ヒータエレメント
３  金属発熱線
４  連結部
５  端子
６  部分
７  両端部
８  本体部分
９  移行部分
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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