(57)【要約】【課題】  １つの処理ステージでの処理効果が高く、処理の工程長さや処理時間が短縮するようにする。【解決手段】  函１の面に対し、磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行うのに、函１の四周を処理対象面として、処理具１１を移動させて処理するのに、縦方向または横方向に四周の４面同時に行うことにより上記の目的を達成する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
函の面に対し、磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う函の処理方法であって、
函の四周を処理対象面として、処理具を移動させて処理するのに、縦方向または横方向に四周の４面同時に行うことを特徴とする函の処理方法。
【請求項２】
函の面に対し、磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う函の処理方法であって、
函の四周を処理対象面として、処理具を移動させて処理するのに、横方向には四周の４面の隣接する２面ずつに沿った屈曲移動を函の互いに反対の対角位置からそれらに対向する対角位置まで同時に行うことを特徴とする函の処理方法。
【請求項３】
函の面に対し、磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う函の処理方法であって、
函の１つの処理対象面に対し、その表面の凹凸に倣う移動経路を持った処理具の移動を伴い処理することを特徴とする函の処理方法。
【請求項４】
函の面に対し、磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う函の処理方法であって、
函の１つの処理対象面の各部に対し、処理の難易度に応じて処理具の異なった移動またはおよび挙動を伴い処理を行うことを特徴とする函の処理方法。
【請求項５】
処理具の異なった移動は、移動速度、移動回数の少なくとも１つである請求項４に記載の函の処理方法。
【請求項６】
処理具の異なった挙動は、処理対象面への押圧度ないしは押圧代、回転数、回転の向き、の少なくとも１つである請求項４、５のいずれか１項に記載の函の処理方法。
【請求項７】
函を搬入して処理に供し、処理後搬出する処理ステージと、処理ステージに搬入された函の四周の処理対象面に対し、移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う処理具と、処理具を移動させる移動機構と、移動機構の動作を制御する制御手段とを備え、制御手段は移動機構と協働し、函の四周を処理対象面として、縦方向または横方向に4面に対応する処理具を１つの処理ステージにて同時移動させて処理を行うことを
特徴とする函の処理装置。
【請求項８】
函を搬入して処理に供し、処理後搬出する処理ステージと、処理ステージに搬入された函の四周の処理対象面に対し、移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う処理具と、処理具を移動させる移動機構と、移動機構の動作を制御する制御手段とを備え、制御手段は移動機構と協働し、函の四周を処理対象面として、横方向には隣接する２面ずつに対応する処理具を、それら２面ずつに沿うように函の互いに反対の対角位置から
それらに対抗する対角位置まで同時に屈曲移動させて処理を行うことを特徴とする函の処理装置。
【請求項９】
函を搬入して処理に供し、処理後搬出する処理ステージと、処理ステージに搬入された函の処理対象面に対し、移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の剥離、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う処理具と、処理具を移動させる移動機構と、移動機構の動作を制御する制御手段とを備
え、制御手段は移動機構と協働して、処理ステージ上の函の１つの処理対象面の凹凸に倣う移動経路を処理具に与えることを特徴とする函の処理装置。
【請求項１０】
函を搬入して処理に供し、処理後搬出する処理ステージと、処理ステージに搬入された函の処理対象面に対し、移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の剥離、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う処理具と、処理具を移動させる移動機構と、移動機構の動作を制御する制御手段とを備え、制御手段は移動機構と協働して、処理具に処理対象面の各部に対し、処理の難易度に応じて処理具の異なった移動またはおよび挙動を与えることを特徴とする函の処理装置。
【請求項１１】
函を搬入して処理に供し、処理後搬出する処理ステージと、処理ステージに搬入された函の底部にある孔を通じて函に対し進入、退出し、進入によって函を処理ステージ上にクランプし、退出によってクランプの解除および退避を行うクランプ具と、このクランプ具の駆動機構と、処理ステージ上の函の少なくとも１つの処理対象面を、処理具の移動を伴う磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う処理具と、処理具を移動させる移動機構と、前記駆動機構および移動機構の動作を制御する制御手段と、を備え、制御手段は処理ステージに搬入された函をクランプ具によりクランプした後、移動機構を駆動して処理具による処理を行い、処理後クランプ具のクランプ解除と退避を行い、函の搬出が図れるようにすることを特徴とする函の処理装置。
【請求項１２】
前記処理ステージには、函の外面を処理する処理具と、函の内面を処理する処理具とを備えている請求項１１に記載の函の処理装置。
【請求項１３】
函を搬入して処理に供し、処理後搬出する処理ステージと、処理ステージに搬入された函の少なくとも１つの処理対象面に対し、移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う処理具とを備えた函の処理装置におけるクランプ機構であって、
処理ステージ上の函の底部にある孔を通じて進入、退出し、進入によって函を処理ステージ上にクランプし、退出によってクランプの解除および退避を行うクランプ具と、クランプ具を進入、退出させる駆動機構とを備えたことを特徴とする函の処理装置におけるクランプ機構。
【請求項１４】
クランプ具は、定位置にある軸まわりの旋回動作によって進入、退出を行う請求項１３に記載の函の処理装置におけるクランプ機構。
【請求項１５】
クランプ具は、函の底部の相対向し合う２箇所を、その対向方向で見た互いに逆な向きにて進入し、退出する請求項１３、１４のいずれか１項に記載の函の処理装置におけるクランプ機構。
【請求項１６】
クランプ具は、クランプ端に向けた二股形状である請求項１３〜１５のいずれか１項に記載の函の処理装置におけるクランプ機構。
【請求項１７】
函の面に対し、磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う函の処理方法であって、
函の四周を処理対象面として、処理具を移動させて処理するのに、横方向には四周の４面に対する個別の処理具の函まわりの周方向同一向きに沿った移動によって同時に行うことを特徴とする函の処理方法。
【請求項１８】
函を搬入して処理に供し、処理後搬出する処理ステージと、処理ステージに搬入された函の少なくとも四周の４つの処理対象面に対し、横移動を伴い個別に働いて磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う４つの処理具と、これら４つの処理具を対応する処理対象面に沿って移動するようにガイドするガイド手段と、４つの処理具をそれらのガイド手段に沿って往復移動させる移動機構と、移動機構の動作を制御する制御手段とを備え、制御手段は移動機構と協働し、函の四周を処理対象面として、４面に対応する４つの処理具を１つの処理ステージにて同時移動させて処理を行うことを特徴とする函の処理装置。
【請求項１９】
ガイド手段は処理具を函の処理対象面に沿って移動させる直進部と、この直進部の上流側待機位置まで延びて処理具を直進部よりも外側に変位させる退避経路部とを備えた請求項１８に記載の函の処理装置。
【請求項２０】
函を搬入して処理対象面に対し、処理具の移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つの処理に供し、処理後搬出する前後のステージと、それらの１つのステージに搬入された函の四周の４面を処理対象面として前記処理を個別に行う４つの処理具およびこれら処理具を函の四周の４面に沿って縦方向または横方向に同時移動させる移動機構と、別のステージに搬入された函の天面を処理対象面として前記処理を行う処理具およびこの処理具を函の天面に沿って横移動させる移動機構と、これら移動機構の動作を制御して各処理ステージでの処理具による処理を行う制御手段と、を備えたことを特徴とする函の処理装置。
【請求項２１】
処理具は、回転ブラシであり、立毛が放射方向および回転軸方向にほぼ均等に植えられているか、回転軸まわりに断続してまたはおよびスパイラルに植えられている請求項１８〜２０のいずれか１項に記載の函の処理装置。
【請求項２２】
函を搬入して処理対象面に対し、処理具の移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つの処理に供し、処理後搬出する前後のステージと、それらの１つのステージに搬入された函の四周の４面を処理対象面として前記処理を個別に行う４つの処理具、およびこれら処理具を函の四周の４面に沿って縦方向または横方向に同時移動させる移動機構と、別のステージに搬入された函の天面を処理対象面として前記処理を行う処理具、およびこの処理具を函の天面に沿って横移動させる移動機構と、他のステージに搬入された函の中仕切りによるポケットを上下移動により前記処理を行う処理具、およびこの処理具を上下移動させる移動機構と、これら移動機構の動作を制御して各処理ステージでの処理具による処理を行う制御手段と、を備えたことを特徴とする函の処理装置。
【請求項２３】
函を搬入して処理対象面に対し、処理具の移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つの処理に供し、処理後搬出する前後のステージと、それらの１つのステージに搬入された函の四周の４面を処理対象面として前記処理を個別に行う４つの処理具、およびこれら処理具を函の四周の４面に沿って縦方向に同時移動させる移動機構と、別のステージに搬入された函の四周の４面を処理対象面として前記処理を個別に行う４つの処理具、およびこれら処理具を函の四周の４面に沿って横方向に同時移動させる移動機構と、これら移動機構の動作を制御して各処理ステージでの処理具による処理を行う制御手段と、を備えたことを特徴とする函の処理装置。
【請求項２４】
函を搬入して処理対象面に対し、処理具の移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つの処理に供し、処理後搬出する前後のステージと、それらの１つのステージに搬入された函の四周の４面を処理対象面として前記処理を個別に行う４つの処理具、およびこれら処理具を函の四周の４面に沿って縦方向に同時移動させる移動機構と、別のステージに搬入された函の四周の４面を処理対象面として前記処理を個別に行う４つの処理具、およびこれら処理具を函の四周の４面に対して横方向の相対移動を同時にまたは異時に図る相対移動手段と、他のステージに搬入された函の天面を処理対象面として前記処理を行う処理具、およびこの処理具を函の天面に沿って横移動させる移動機構と、これら相対移動手段および移動機構の動作を制御して各処理ステージでの処理具による処理を行う制御手段と、を備えたことを特徴とする函の処理装置。
【請求項２５】
函を搬入して処理対象面に対し、処理具の移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つの処理に供し、処理後搬出する前後のステージと、それらの１つのステージに搬入された函の四周の４面を処理対象面として前記処理を個別に行う４つの処理具、およびこれら処理具を函の四周の４面に沿って縦方向に同時移動させる移動機構と、別のステージに搬入された函の四周の４面を処理対象面として前記処理を個別に行う４つの処理具、およびこれら処理具を函の四周の４面に対して横方向の相対移動を同時にまたは異時に図る相対移動手段と、他のステージに搬入された函の天面を処理対象面として前記処理を行う処理具、およびこの処理具を函の天面に沿って横移動させる移動機構と、前記別のステージに搬入された函の中仕切りによるポケットを上下移動により前記処理を行う処理具、およびこの処理具を上下移動させる移動機構と、これら相対移動手段および移動機構の動作を制御して各処理ステージでの処理具による処理を行う制御手段と、これら移動機構の動作を制御して各処理ステージでの処理具による処理を行う制御手段と、を備えたことを特徴とする函の処理装置。
【請求項２６】
函のポケットは平面形状が角型であり、これに相似な角型の処理具を用いる請求項２２、２５のいずれか１項に記載の函の処理装置。
【請求項２７】
今１つの他のステージに搬入される函の中仕切りによるポケットを回転により処理する処理具、およびこの処理具をポケットに出入りさせる移動機構を備え、移動機構は前記制御手段による動作制御によって処理具による処理を行う請求項２１、２４、２５のいずれか１項に記載の函の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、函の凹凸のある面に対し、磨き、粗し（粗くする）、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う函の処理方法、それを適用した函の処理装置および函の処理装置におけるクランプ機構に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ビールびん、酒びんなどのリターナブルなびん類を函に収容して、所定数単位での取り扱いや、出荷元とユーザとの間の通いに供することが古くから行われている。びん類の通いの函の充填びん収容時の負荷は空びん収容時に比し格段に高く、重い。しかし、函はそのような負荷に耐える十分な強度、耐久性を持ちながらも、取り扱いやすさや運搬性の面から、軽量で持ち運びやすく、水が溜まらないといったことが望まれる。そこで、函の多くは樹脂製で、図９、図１０にビールびん用の通いの函１で代表して示すように、取手２、補強リブ３、補強ブリッジ４、通水や軽量化のための透孔５や窓６などを持ったものとなっている。また、中仕切り７を有してびんを個別に収容し保護するポケット８を形成している。
【０００３】
このような函１は地面上や倉庫に放置されたり、野ざらしにされたりし、ゴミや埃、汚れが付着しやすい。また、樹脂製であることにより静電汚れといわれる特殊な汚れも生じる。しかし、飲料などの食品を取り扱うびんを収容しリターナブルな使用に供するのに、それら各種の汚れを落す処理が望まれる。また、充填びんを収容した函１を消費業者や消費者への販売段階で、まとまった取引をする顧客先名や記号などを記した図９に示すような主として紙製のシール９が貼着されることが慣例化しているが、メーカー側に回収し再利用にはそのようなシール９を除去することになる。また、近時では販売店で代金が支払い済みであることを示す図９に示すような支払い済みテープ９ａが函１の天面などに貼着されることもあり、これも残っていると除去対象となる。
【０００４】
汚れや異物を除去する常套手段として、水や洗浄液の噴射によるもの（例えば、特許文献１参照。）、水や洗浄液中で超音波洗浄するもの（例えば、特許文献２参照。）、ブラシにより洗浄液を併用してブラッシングするもの（例えば、特許文献３〜６参照。）がある。
【特許文献１】特開２０００−２６３００４号公報
【特許文献２】特開平０６−３２８０５０号公報
【特許文献３】特開平０９−１７３９９６号公報
【特許文献４】特開２００１−００９４０４号公報
【特許文献５】特開平０７−２１４０２５号公報
【特許文献６】特開平０７−１８５４９２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、このような函類のリターナブルな取り扱い量は膨大な数に及んでいる。従って、汚れや異物を除去する作業は日々大量に行われる必要がある。しかし、特許文献１に記載のもののように洗浄液の噴射によるだけでは勿論、特許文献２に記載のように超音波作用を加えても、函１の表面の頑固な汚れは取れにくい。特に、貼着されたシール類の除去は困難である。洗浄水、洗浄液の圧力や温度を高めても効果は余り上がらないし、設備や省エネなどの面で限界がある。そこで、処理の工程長さや処理時間の延長、処理回数の
増大を図るしかなく、大掛かりなプラントによる長時間稼動となっているのが現状である。
【０００６】
しかも、頑固な汚れやシールの状態や材質は一定せず、その除去にはむらがあり、図９に示すような複雑な形状の函１では除去不良を自動検出し切るのは困難なため、目視に頼ってその残り具合を検査し処理不良な函の次工程への供給を阻止しなければならないし、処理不良の函については人手によって除去してから次工程へ供給することになる。このような現場作業は高温、多湿の環境で行うことになり作業者に酷で対策が必要であるし、省力化の面からも解消が望まれる。
【０００７】
一方、特許文献３〜６に記載のもののように、ブラシと水や洗浄液とによると、ブラシが函の処理面に直接機械的な摩擦作用、掻き取り作用などを働かせながら、水や洗浄液による洗い流し作用、膨潤作用、溶剤作用、界面活性作用などが得られるので、除去効率は比較的高い。しかし、ブラシなどの処理具は、特許文献３〜６に記載されているように、函１の１つの処理対象面に対して相対移動させてその必要範囲、必要域に働かせることになり、複数の面の洗浄を行うのに処理具どうし、およびその移動機構どうしの干渉、処理具およびその移動機構と、函を処理ステージにクランプするクランプ機構との干渉などを避けるために、各面の洗浄を異なった処理ステージにて行ったり、函が移動している間に定位置にあるブラシに接触して洗浄されるようにすることを組み合わせたりしている。これらのため、函の多くの面を洗浄しようとするほど、多くの処理ステージが必要となってプラントが大型化し、設備費がかさむ。また、省スペース化の要求に応えられない。
【０００８】
しかも、ブラシと水や洗浄液との組合せによる高い洗浄効果は、ブラシの機械的な作用が及び、かつ、水や洗浄液がそこに及んでのことであるが、函の形状や面の凹凸の状態によって、水や洗浄液でのその噴射が及びにくかったり、及ばなかったりするし、ブラシの機械的な作用はなおさらである。これらのため、十分な洗浄を達成しようとするほど、洗浄を函の内外全面に及んでいくほど、洗浄回数、洗浄時間の増大が必要となってプラントは、特許文献５に記載されているもののように函の天面の洗浄を残しながらも徒に大型化し、処理時間が長大化する。また、ブラシの機械的作用を高めるにはその回転数を高めることが考えられる。しかし、函の凹凸のある面では凸部との接触による抵抗が大きく、回転速度および洗浄効果に限界があり洗浄時間のさらなる短縮の妨げとなる。
【０００９】
本発明の目的は、１つの処理ステージでの処理効果が高く、処理の工程長さや処理時間が短縮する函の処理方法、それを適用した函の処理装置および函の処理装置におけるクランプ機構を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記のような目的を達成するために、本発明の函の処理方法は、函の面に対し、磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う函の処理方法であって、函の四周を処理対象面として、処理具を移動させて処理するのに、縦方向または横方向に四周の４面同時に行うことを１つの特徴としている。
【００１１】
このような構成では、処理具を縦向きまたは横向きに移動させて函の処理対象面を各種処理するのに、四周の４面に対する処理具の移動方向を縦方向または周方向に一致させられるのを利用して、干渉などの問題なく４面同時移動による処理ができ、１つの処理ステージでの処理効果が高まる。
【００１２】
本発明の函の処理方法は、また、函の面に対し、磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行
う函の処理方法であって、函の四周を処理対象面として、処理具を移動させて処理するのに、横方向には四周の４面の隣接する２面ずつに沿った屈曲移動を函の互いに反対の対角位置からそれらに対向する対角位置まで同時に行うことを他の特徴としている。
【００１３】
このような構成では、処理具を横向きに移動させて函の処理対象面を各種処理するのに、１つの処理具の２面に沿った屈曲移動を利用して、4面の２面ずつを分担して干渉など
の問題なく２面同時での４面処理ができ、１つの処理ステージでの処理効果が高まる。
【００１４】
本発明の函の処理方法は、また、函の面に対し、磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う函の処理方法であって、函の１つの処理対象面に対し、その表面の凹凸に倣う移動経路を持った処理具の移動を伴い処理することを別の特徴としている。
【００１５】
このような構成では、処理具が移動して函の１つの面を処理するのに、処理具をその処理対象面における表面の凹凸に倣う移動経路を持って移動させることにより、処理具の機械的な処理作用が凹部にも及びやすくなる。また、凸部による過剰抵抗を受けないので機械的な処理作用を高めるのに制限を受けにくい。このため、１つの処理ステージでの処理効果が高まる。
【００１６】
本発明の函の処理方法は、また、函の面に対し、磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う函の処理方法であって、函の１つの処理対象面の各部に対し、処理の難易度に応じて処理具の異なった移動またはおよび挙動を伴い処理を行うことを今１つの特徴としている。
【００１７】
このような構成では、処理具の移動により函の１つの面を処理するのに、その面の各部に処理の難易度があっても、それに応じて処理具の移動または挙動を異ならせるので、難度の高い部分での処理を促進することができ、１つの処理ステージでの処理効果が高まる。
【００１８】
ここで、処理具の異なった移動は、移動速度、移動回数の少なくとも１つである、さらなる構成では、
移動速度の低下または移動回数の増大の少なくとも１つによって難度の高い部分への処理を促進でき、１つの処理ステージでの処理効果が高まる。同時に、処理の容易な、あるいは処理の不要な部分への移動速度の増大または移動回数の減少によって全体の処理時間が延長するのを防止できる。
【００１９】
また、処理具の異なった挙動は、処理対象面への押圧度ないしは押圧代、回転数、回転の向き、の少なくとも１つである、さらなる構成では、
押圧度ないしは押圧代、回転数の増大、また、特定の部分の処理に適した回転向きとすることによって、難度の高い部分への処理を促進でき、1つの処理ステージでの処理効果
が高まる。しかも、これによって処理時間が延長することはない。
【００２０】
また、本発明の函の処理装置は、函を搬入して処理に供し、処理後搬出する処理ステージと、処理ステージに搬入された函の四周の処理対象面に対し、移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う処理具と、処理具を移動させる移動機構と、移動機構の動作を制御する制御手段とを備え、制御手段は移動機構と協働し、函の四周を処理対象面として、縦方向または横方向に4面に対応する処理具を１つの処理ステージにて同時移動
させて処理を行うことを１つの特徴としている。
【００２１】
このような構成では、函の四周の４面に対応する処理具が縦方向に同時移動できるのを利用して、制御手段が処理具の移動機構と協働し、前記処理具を自動的に縦方向または横方向に同時移動させ、函の四周４面を安定して確実に同時処理することができ、１つの処理ステージでの処理効果が高まる。
【００２２】
本発明の函の処理装置は、また、函を搬入して処理に供し、処理後搬出する処理ステージと、処理ステージに搬入された函の処理対象面に対し、移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う処理具と、処理具を移動させる移動機構と、移動機構の動作を制御する制御手段とを備え、制御手段は移動機構と協働し、函の四周を処理対象面として、横方向には隣接する２面ずつに対応する処理具を、それら2面ずつに沿うように函の互いに反対の対角位置からそれらに対抗する対角位置まで同時に屈曲移動させて処理を行うことを他の特徴としている。
【００２３】
このような構成では、函の四周の４面に対し、２つの処理具を働かせて処理を行うのに、制御手段が前記処理具の移動機構と協働して、１つの処理具の２面に沿った屈曲移動を利用して、4面の２面ずつを分担して干渉などの問題なく２面同時での４面処理が自動的
に安定して確実に達成でき、１つの処理ステージでの処理効果が高まる。
【００２４】
本発明の函の処理装置は、また、函を搬入して処理に供し、処理後搬出する処理ステージと、処理ステージに搬入された函の少なくとも１つの処理対象面に対し、移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の剥離、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う処理具と、処理具を移動させる移動機構と、移動機構の動作を制御する制御手段とを備え、制御手段は移動機構と協働して、処理ステージ上の函の１つの処理対象面の凹凸に倣う移動経路を処理具に与えることを別の特徴としている。
【００２５】
このような構成では、処理具を移動させて函の１つの面を処理するのに、制御手段が前記処理具の移動機構と協働して、その処理具を処理対象面における表面の凹凸に倣う移動経路を持つように自動的に移動させるので、処理具の機械的な処理作用を凹部に及びやすく、しかも、凸部による過剰抵抗を回避して機械的な処理作用を高めるのに制限を受けにくくすることを、安定して確実に達成することができる。このため、１つの処理ステージでの処理効果が高まる。
【００２６】
本発明の函の処理装置は、また、函を搬入して処理に供し、処理後搬出する処理ステージと、処理ステージに搬入された函の少なくとも１つの処理対象面に対し、移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の剥離、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う処理具と、処理具を移動させる移動機構と、移動機構の動作を制御する制御手段とを備え、制御手段は移動機構と協働して、処理具に処理対象面の各部に対し、処理の難易度に応じて処理具の異なった移動またはおよび挙動を与えることを今１つの特徴としている。
【００２７】
このような構成では、処理具の移動により函の１つの面を処理するのに、制御手段が前記処理具の移動機構と協働して、処理対象面の各部に処理の難易度があっても、それに応じて処理具の移動または挙動を自動的に異ならせて、難度の高い部分での処理を安定して確実に促進することができ、１つの処理ステージでの処理効果が高まる。
【００２８】
本発明の函の処理装置は、また、函を搬入して処理に供し、処理後搬出する処理ステージと、処理ステージに搬入された函の底部にある孔を通じて函に対し進入、退出し、進入によって函を処理ステージ上にクランプし、退出によってクランプの解除および退避を行
うクランプ具と、このクランプ具の駆動機構と、処理ステージ上の函の少なくとも１つの処理対象面を、処理具の移動を伴う磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う処理具と、処理具を移動させる移動機構と、前記駆動機構および移動機構の動作を制御する制御手段と、を備え、制御手段は処理ステージに搬入された函をクランプ具によりクランプした後、移動機構を駆動して処理具による処理を行い、処理後クランプ具のクランプ解除と退避を行い、函の搬出が図れるようにすることをさらなる特徴としている。
【００２９】
このような構成では、搬入された処理ステージ上で函の少なくとも１つの面を処理具の移動により処理を行うのに、制御手段が移動機構と協働して処理具を自動的に移動させ、安定して確実に処理を達成することができるのに併せ、制御手段がクランプ具の駆動機構と協働して処理ステージ上に搬入された函に対しその底部の孔を通じ進入させて処理ステージ上に函をクランプし前記処理に供するので、函の四周の内外の周面のどの部分をも開放して処理を邪魔しないようにできる。従って、それらの１つの面はもとより、四周の内外周面の同時処理も行えるようにすることができ、１つの処理ステージでの処理効果が高まる。
【００３０】
そこで、前記処理ステージには、函の外面を処理する処理具と、函の内面を処理する処理具とを備えている、さらなる構成では、
前記クランプ方式の特徴を生かして、函の内外面をそれらの処理具によって同時に処理することを自動的に安定して確実に達成することができる。
【００３１】
ここに、本発明の函の処理装置は、処理ステージ上の函の底部にある孔を通じて進入、退出し、進入によって函を処理ステージ上にクランプし、退出によってクランプの解除および退避を行うクランプ具と、クランプ具を進入、退出させる駆動機構とを備えたことを特徴とするクランプ機構をも提供している。
【００３２】
クランプ具が、定位置にある軸まわりの旋回動作によって進入、退出を行う、さらなる構成では、
クランプ具が函の底部の孔を通じて進入、退出するのに、定位置にある軸を中心とした単純な旋回動作によって確実に達成することができる上、この旋回方向に近い屈曲形状を持つほど函側との干渉域が小さくなって進入、退出に有利になるし、侵入前後でクランプ端の姿勢を進入に有利な上向きとクランプに有利な下向きとに変化させられる。
【００３３】
クランプ具が、函の底部の相対向し合う２箇所を、その対向方向で見た互いに逆な向きにて進入し、退出する、さらなる構成では、
クランプ具による函のクランプが、押し合うか引っ張り合う対称方向にて行えて、処理ステージ上へのクランプと同時に、処理ステージ上で函が位置ずれして処理に影響するのを防止することができる。
【００３４】
クランプ具が、クランプ端に向けた二股形状である、さらなる構成では、
１つのクランプ具によって２箇所をクランプすることになるので、一対のクランプ具にて函の４箇所をクランプして確固に安定させられる。
【００３５】
本発明の函の処理方法は、また、函の面に対し、磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う函の処理方法であって、函の四周を処理対象面として、処理具を移動させて処理するのに、横方向には四周の４面に対する個別の処理具の函まわりの周方向同一向きに沿った移動によって同時に行うことをも、特徴としている。
【００３６】
このような構成では、処理具を横向きに移動させて函の処理対象面を各種処理するのに、四周の４面に対する４つの処理具の移動方向を周方向に一致させられるのを利用して、干渉などの問題なく４面同時移動による処理ができ、１つの処理ステージでの処理効果が高まる。
【００３７】
これを達成する函の処理装置としては、函を搬入して処理に供し、処理後搬出する処理ステージと、処理ステージに搬入された函の少なくとも四周の４つの処理対象面に対し、横移動を伴い個別に働いて磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う４つの処理具と、これら４つの処理具を対応する処理対象面に沿って移動するようにガイドするガイド手段と、４つの処理具をそれらのガイド手段に沿って往復移動させる移動機構と、移動機構の動作を制御する制御手段とを備え、制御手段は移動機構と協働し、函の四周を処理対象面として、４面に対応する４つの処理具を１つの処理ステージにて同時移動させて処理を行うことを特徴とするものでよく、処理具の移動をガイド手段にてガイドすることにより、所定の移動経路にて遊びや逃げなく処理することができる。
【００３８】
ガイド手段は処理具を函の処理対象面に沿って移動させる直進部と、この直進部の上流側待機位置まで延びて処理具を直進部よりも外側に変位させる退避経路部とを備えた、さらなる構成では、
ガイド手段の直進部での処理具のガイドによって、函の面に沿った処理を遊びや逃げなく遂行させるのに併せ、直進部からその上流側に延びる退避経路部による処理具のガイドによって、処理具を函の面に沿う直進部から、上流側に退避し、かつ外側に変位する２つの方向に離して待機させるので、函のステージへの搬入、搬出経路の両側に位置する処理具どうしの間隔をそれら一方の退避分と他方の変位分とで函の搬送幅よりも大きくして函の搬入、搬出を邪魔しないし、退避経路部はその外側への変位分だけそれに対向する隣接ガイド手段の直進部の終端に対する逃げとなって、この終端が互いの干渉なしに、処理具を函の面の端部にまで処理が十分に及ぶ位置まで案内することができるようにする。
【００３９】
本発明の函の処理装置は、また、函を搬入して処理対象面に対し、処理具の移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つの処理に供し、処理後搬出する前後のステージと、それらの１つのステージに搬入された函の四周の４面を処理対象面として前記処理を個別に行う４つの処理具およびこれら処理具を函の四周の４面に沿って縦方向または横方向に同時移動させる移動機構と、別のステージに搬入された函の天面を処理対象面として前記処理を行う処理具およびこの処理具を函の天面に沿って横移動させる移動機構と、これら移動機構の動作を制御して各処理ステージでの処理具による処理を行う制御手段と、を備えたことを別の特徴としている。
【００４０】
このような構成では、函の四周の面の個別処理具の縦または横方向移動による同時処理の特徴を生かして、函の天面を含む底面以外の外面の処理を２つのステージにて達成することができる。
【００４１】
処理具が、回転ブラシであり、立毛が放射方向および回転軸方向にほぼ均等に植えられているか、回転軸まわりに断続してまたはおよびスパイラルに植えられている、さらなる構成では、
処理具の函の処理対象面との相対移動速度およびそれによる処理度を処理具の回転によって高めやすいし、調節しやすく、処理具の移動は処理具による局部的な処理位置を函の処理対象面全域に及ばせるのに好適で、処理具を小さなものにしやすい。処理具は立毛が放射方向および回転軸方向にほぼ均等に植えられたものでもよいが、回転軸まわりに断続して設けられたり、スパイラルに設けられたりしていると、処理具の回転により回転軸方向には函の処理対象面に対してむらなく処理することを確保するのに併せ、回転方向には函の処理対象面に対して定期的に接触、非接触となる断続接触状態を回転軸方向にほぼ均等に得て、函の処理対象面の平面部や段差、凸部に対し繰り返し効果的に働かせて処理することができる。また、そのような断続接触状態は処理具による処理負荷を回転軸方向にほぼ均等に軽減することにもなる。
【００４２】
本発明の函の処理装置は、また、函を搬入して処理対象面に対し、処理具の移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つの処理に供し、処理後搬出する前後のステージと、それらの１つのステージに搬入された函の四周の４面を処理対象面として前記処理を個別に行う４つの処理具、およびこれら処理具を函の四周の４面に沿って縦方向または横方向に同時移動させる移動機構と、別のステージに搬入された函の天面を処理対象面として前記処理を行う処理具、およびこの処理具を函の天面に沿って横移動させる移動機構と、他のステージに搬入された函の中仕切りによるポケットを上下移動により前記処理を行う処理具、およびこの処理具を上下移動させる移動機構と、これら移動機構の動作を制御して各処理ステージでの処理具による処理を行う制御手段と、を備えたことを別の特徴としている。
【００４３】
このような構成では、函の四周の面の個別処理具の縦方向移動または横方向移動による同時処理と、函の天面の処理具の天面方向の移動による処理とを生かして、函の中仕切りによるポケットの処理具の上下移動による処理を加えた、函の底面を除く外面とポケット形態の内面とを３つのステージにて達成することができる。
【００４４】
本発明の函の処理装置は、また、函を搬入して処理対象面に対し、処理具の移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つの処理に供し、処理後搬出する前後のステージと、それらの１つのステージに搬入された函の四周の４面を処理対象面として前記処理を個別に行う４つの処理具、およびこれら処理具を函の四周の４面に沿って縦方向に同時移動させる移動機構と、別のステージに搬入された函の四周の４面を処理対象面として前記処理を個別に行う４つの処理具、およびこれら処理具を函の四周の４面に対して横方向に同時または異時に相対移動させる相対移動手段と、これら相対移動手段および移動機構の動作を制御して各処理ステージでの処理具による処理を行う制御手段と、を備えたことを別の特徴としている。
【００４５】
このような構成では、函の四周の面の、個別処理具の縦方向移動と個別処理具の横方向移動を含む函との同時または異時の相対移動による２つの処理を、２つのステージにて達成し、函の四周の４面に対し処理具の縦横異なった移動方向での処理を重複させられるので、処理対象面がリブや凹凸による格子状などの縦横特性のある形態の場合に処理機能を隅々まで及ぼしやすい。
【００４６】
本発明の函の処理装置は、また、函を搬入して処理対象面に対し、処理具の移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つの処理に供し、処理後搬出する前後のステージと、それらの１つのステージに搬入された函の四周の４面を処理対象面として前記処理を個別に行う４つの処理具、およびこれら処理具を函の四周の４面に沿って縦方向に同時移動させる移動機構と、別のステージに搬入された函の四周の４面を処理対象面として前記処理を個別に行う４つの処理具、およびこれら処理具を函の四周の４面に対し横方向に同時または異時に相対移動させる相対移動手段と、他のステージに搬入された函の天面を処理対象面として前記処理を行う処理具、およびこの処理具を函の天面に沿って横移動させる移動機構と、これら相対移動手段および移動機構の動作を制御して各処理ステージでの処理具による処理を行う制御手段と、を備えたことを別の特徴としている。
【００４７】
このような構成では、函の四周の面の、個別処理具の縦方向移動と横方向移動による２つの処理による、処理具の縦横異なった移動または相対移動方向での重複処理を生かして、函の天面を含む底面以外の外面の処理を３つのステージにて達成することができる。
【００４８】
本発明の函の処理装置は、また、函を搬入して処理対象面に対し、処理具の移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つの処理に供し、処理後搬出する前後のステージと、それらの１つのステージに搬入された函の四周の４面を処理対象面として前記処理を個別に行う４つの処理具、およびこれら処理具を函の四周の４面に沿って縦方向に同時移動させる移動機構と、別のステージに搬入された函の四周の４面を処理対象面として前記処理を個別に行う４つの処理具、およびこれら処理具を函の四周の４面に対し同時または異時に横方向に相対移動させる相対移動手段と、他のステージに搬入された函の天面を処理対象面として前記処理を行う処理具、およびこの処理具を函の天面に沿って横移動させる移動機構と、前記別のステージに搬入された函の中仕切りによるポケットを上下移動により前記処理を行う処理具、およびこの処理具を上下移動させる移動機構と、これら相対移動手段および移動機構の動作を制御して各処理ステージでの処理具による処理を行う制御手段と、これら移動機構の動作を制御して各処理ステージでの処理具による処理を行う制御手段と、を備えたことを別の特徴としている。
【００４９】
このような構成では、函の四周の面の、個別処理具の縦方向移動と横方向移動による２つの処理による、処理具の縦横異なった移動または相対移動方向での重複処理を生かして、函の天面を含む底面以外の外面の処理を３つのステージにて達成し、しかも、処理具の縦方向移動による四周の４面の同時処理のステージを共用して、従って特別なステージを増やすことなく、函の中仕切りによるポケットの処理具の上下移動による処理をも達成することができ、函の底面を除く外面の縦横異なった向きの重複処理と、天面の処理と、ポケット形態の内面の処理とを３つのステージにて達成することができる。
【００５０】
函のポケットは平面形状が角型であり、これに相似な角型の処理具を用いる、さらなる構成では、
角型のポケットに対してそれに相似な角型の処理具によってその隅々にも処理機能を行き渡らせやすい。
【００５１】
今１つの他のステージに搬入される函の中仕切りによるポケットを回転により処理する処理具、およびこの処理具をポケットに出入りさせる移動機構を備え、移動機構は前記制御手段による動作制御によって処理具による処理を行う、さらなる構成では、
上下移動する処理具と、回転する処理具とによる異なった処理をポケットに対して複合して施すことができ、処理効果が高まる。
【００５２】
本発明のそれ以上の目的および特徴は、以下の詳細な説明および図面の記載によって明らかになる。本発明の各特徴は、可能な限りそれ単独で、あるいは種々な組合せで複合して採用することができる。
【発明の効果】
【００５３】
本発明の函の処理方法および装置の１つの特徴によれば、函の四周の４面に対する処理
具の縦向きなまたは横向きな４面同時移動による処理ができるので、処理ステージの異同に関係なく４面を異時に処理する場合に比し処理工程ないしは処理時間が１／４に短縮する。この結果、１つの処理対象面に対して異時に異なった処理を行うような場合に工程や時間に余裕が得られる。また、他の処理ステージでの処理時間とのバランスを図りながら、シール除去などの難度の高い処理を繰り返し行う時間的な余裕が得られやすい。従って、難度の高い処理に対応しながら処理工程や処理時間の短縮が図れる。
【００５４】
本発明の函の処理方法および装置の他の特徴によれば、１つの処理具の２面に沿った横向きの屈曲移動により、4面の２面ずつを分担して２面同時での４面処理ができるので、
処理ステージの異同に関係なく４面を異時に処理する場合に比し処理工程ないしは処理時間が１／２に短縮する。
【００５５】
本発明の函の処理方法および装置の別の特徴によれば、移動する処理具の機械的な処理作用が凹部にも及びやすく、処理対象面に凹凸があってもむらなく処理しながら、凸部による影響なしに機械的な処理作用を高めて処理時間を短縮することができ、難度の高い処理に好適である。
【００５６】
本発明の函の処理方法および装置の今１つの特徴によれば、処理対象面の各部での処理の難易度に応じた処理具の移動または挙動によって、処理難度の高い部分での処理を促進することができるので、高い難度部分の処理を十分に達成しながらそれによって処理時間が延長するようなことをなくし、また軽減することができる。
【００５７】
ここで、処理具の異なった移動として、移動速度の低下または移動回数の増大の少なくとも１つによって難度の高い部分への処理を促進しながら、難度の低い、処理の不要な部分への移動速度の増大または移動回数の減少によって全体の処理時間が延長するのを防止できる。
【００５８】
また、処理具の異なった挙動としては、押圧度ないしは押圧代、回転数の増大、また、特定の部分の処理に適した回転向きとすることによって、難度の高い部分への処理を促進しながら、これによって処理時間が延長しないようにできる。
【００５９】
本発明の函の処理装置のさらなる特徴によれば、処理ステージ上で函の少なくとも１つの面を処理具の移動により処理を行うのを自動的に安定して確実に達成しながらクランプ具を函の底部の孔を通じ進入させてクランプすることにより函の四周の内外の周面のどの部分をも開放して処理を邪魔せず、それらの１つの面はもとより、四周の内外周面の同時処理も行えるようにすることができ、処理工程、処理時間の短縮化が図れる。
【００６０】
本発明のそれ以上の目的および特徴は、以下の詳細な説明および図面の記載によって明らかになる。本発明の各特徴は、可能な限りそれ単独で、あるいは種々な組合せで複合して採用することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００６１】
本発明の函の処理方法、それを適用した函の処理装置および函の処理装置のクランプ機構に係る最良の実施の形態につき、図１〜図１０を参照しながら詳細に説明し、本発明の理解に供する。以下の説明は本発明の具体例であって、特許請求の範囲の記載を限定するものではない。本実施の形態では既述したビールびんの樹脂ケースである図９、図１０に示すような函１の全面につき、移動する回転ブラシである処理具１１とノズル１２からの水や温水、洗浄液の少なくとも１つとによって、ゴミ、汚れ、貼着されたシールの除去を行う場合の１つの例を示している。
【００６２】
しかし、本発明はこれに限定されるものではなく、基本的には函類全般に適用して有効であるし、処理は函１の面に対し、磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行うものであればよい。これを行う処理具１１としては前記ブラシのほか、移動により目的の処理ができれば他の形態の払拭具、摩擦具などでもよく、材料も天然素材、人工素材を単独または複合して用いた磨き材、粗し材、削り材、摩擦材、払拭材などでよく、素材の形態もフィラメント、糸、織物、編物、紐、シート、パッドなど各種のものを採用することができる。
【００６３】
まず、本発明の函の処理方法の１つの実施の形態につき、図１に示す函の第１の処理装置１００を参照して説明する。本実施の形態の函の処理方法は、函１の面に対し、磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを、函１の四周の４面を処理対象面として、処理具を移動させて処理するのに、縦方向Ｚには同一の処理ステージ１０において四周の４面同時に行う。それには、函１の四周の各面に対応して設けた横長な処理具１１を縦向きに移動させることにより、それらに対応する函１の処理対象面全域を走査して処理を行うことになるが、四周の４面に対する処理具１１の移動方向を一致させられる。このため、干渉などの問題なく処理具１１の４面同時移動による処理ができ、１つの処理ステージでの処理効果が高まる。
【００６４】
具体的には、４面を処理ステージの異同にかかわらず異時に処理する場合に比し、処理工程ないしは処理時間が１／４に短縮する。この結果、函１の１つの処理対象面に対して異時に異なった処理を行うような場合に工程や時間に余裕が得られる。また、他の処理ステージでの処理時間とのバランスを図りながら、シール除去などの難度の高い処理を繰り返し行う時間的な余裕が得られやすい。従って、難度の高い処理に対応しながら処理工程や処理時間の短縮が図れる。
【００６５】
図１に示す例の処理ステージ１０は、図９に示す函１に貼着されたシール９を除去する難度の高い処理に供していて、図５に示すように他の処理ステージ２０、３０での異なった処理との組合せにより、函１の同一面に対する複数の処理、天面、下面を含む全面の処理ができるようにしている。そこで、各処理ステージ２０、３０にて必要な処理が行われている間、処理ステージ１０では函１の四周の４面に対向する処理具１１を往復上下移動させて、処理回数を増やし難度の高いシール９などの除去が十分に達成されるようにすることができる。
【００６６】
このような処理方法を達成するのに、処理ステージ１０での処理装置１００は、図１に示すように  函１を搬入して処理に供し、処理後搬出する処理ステージ１０に搬入された函１の四周の４面の処理対象面に対し、移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う４つの処理具１１と、これら処理具１１を移動させる移動機構１４と、移動機構１４の動作を制御する図５、図６に示す制御手段１５とを備え、制御手段１５は移動機構１４と協働し、函１の四周の４面を処理対象面として、縦方向には4面に対応する処理具１１を
１つの処理ステージ１０にて同時移動させて処理を行うようにしている。これにより、函１の四周の４面に対応する処理具１１が縦方向Ｚに干渉なく同時移動できるのを利用して、制御手段１５が処理具１１の移動機構１４と協働し、前記処理具１１を自動的に縦方向に同時移動させ、函１の四周４面を安定して確実に同時処理することが、自動的に安定して確実に達成することができる。
【００６７】
さらに詳述すると、処理ステージ１０はクランプ具１６およびその駆動機構１８と一体のステージユニット１７をなし、クランプ具１６は処理ステージ１０上に函１が搬入される都度、制御手段１５による駆動機構１８の動作制御にて、処理ステージ１０上の函１を
処理ステージ１０との間でクランプして前記処理に供した後、クランプを解除して函１の搬出が行われ、次の函１が搬入されるようにする。
【００６８】
一方、移動機構１４は、処理ステージ１０の上方に対向する装置本体２３側の天井壁２２に処理ヘッド２１を処理ステージ１０上の離接するＺ方向に昇降できるように支持し、この処理ヘッド２１に函１の四周外４面に横向きに沿う回転ブラシタイプの処理具１１を支持し、処理ヘッド２１の昇降によって各処理具１１が処理ステージ１０上にクランプされた函１の四周の外４面に沿って縦方向に往復移動して前記４面の同時処理を行うようにしている。
【００６９】
移動機構１４は、図１に矢印Ｋで示す函１の搬入、搬出方向で見た前後２箇所に立設した昇降バー２４を介し、天井壁２２に立設したリニアガイド２５、いわゆるＬＭガイドによって処理ヘッド２１を昇降できるように案内し、天井壁２２に設けられた駆動機構２６の昇降動作を受けるようにしてあり、制御手段１５による駆動機構２６の動作制御によってクランプ後の函１に対し所定の処理が行われるようにする。駆動機構２６は、減速機、ブレーキ付きのモータ２７と、これの駆動ギヤ２８から昇降バー２４に設けたラック２４ａに噛み合うピニオンギヤ２９に駆動を伝達するギヤ列３１とで構成されている。従って、制御手段１５はモータ２７を動作制御して処理を開始し、また終了することになる。
【００７０】
処理具１１は回転ブラシタイプであることによって、これを回転駆動することで昇降動作による単純なブラッシングに加え、さらに、高速のブラッシングを行って処理効果を高められるようにしている。また、そのときの処理効果は、移動速度、回転速度、処理具１１の函１の処理対象面への押圧度合、押し付け代、移動回数、つまり、往復移動回数の少なくとも１つによって調節することができる。
【００７１】
このような処理具１１の回転駆動のために、処理ヘッド２１に処理具１１の駆動機構３２を装備しており、制御手段１５は前記処理を行うのに駆動機構３２の動作制御によって、処理具１１の回転開始、回転停止に加え、その回転状態を種々に制御することができる。駆動機構３２は、搬入、搬出方向Ｋで見た前後の処理具１１を駆動する駆動機構３２ａと、左右の処理具１１を駆動する駆動機構３２ｂとに分けて設けることにより、４つの処理具１１への駆動力伝達系を簡略化している。しかし、これに限られることなく、４つの処理具１１に対し１つの駆動機構を設けてもよいし、２つ以外の適数の駆動機構によってもよい。
【００７２】
各駆動機構３２ａ、３２ｂは、ほぼ共通しているので共通の符号を付して説明すると、処理ヘッド２１上に立設したチャンネル型の駆動基板３３をそれぞれ有している。各駆動基板３３の溝内には減速機、ブレーキ付きのモータ３４と駆動スプロケット３５とが上部に、従動スプロケット３６が下部に装備され、駆動スプロケット３５および従動スプロケット３６間がチエン３７によって連結されている。各従動スプロケット３６は、処理ヘッド２１上に装備した駆動伝達機構３８を介して対応する２つずつの処理具１１に駆動を伝達するようにしている。従って、制御手段１５は具体的には処理具１１の回転駆動の制御は２つのモータ３４の動作制御によって行うことになる。
【００７３】
横向きな４つの処理具１１は、それぞれ対応する函１の処理対象面に全幅に働いて、しかも、互いが干渉しないように、前後配置のグループと左右配置のグループとで、上下に高さを変えて支持している。これによって、処理ヘッド２１は一方のグループが函１の処理対象面の全高さ域を移動させ、かつ、他方のグループが函１の処理対象面の全高さ域を移動させる昇降ストロークが必要であって、上側の処理具１１は函１から上方に外れ、下側の処理具１１は函１の下側に外れるタイミングが交互に生じる。処理具１１が下側に外れると、処理ステージ１０上へ函１を搬入し、搬出する左右一対の搬送チエン４６と干渉
する。そこで、処理ステージ１０は函１の四周の外面からはみ出さず、かつ左右の搬送チエン４６間よりも小さな幅に設定しているので、処理具１１と干渉することはない。そこで、ステージユニット１７は図５に示すように基盤４７上にてエアシリンダ４８などのアクチュエータによって昇降できるように支持し、函１を処理具１１、４１により処理する都度、制御手段１５はエアシリンダ４８との協働によりステージユニット１７を上昇させて、処理ステージ１０が函１を搬送チエン４６よりも上の所定位置まで持ち上げるようにしてある。処理後ステージユニット１７は図５に示す待機高さまで下降させて、処理後の函１が搬送チエン４６により搬出され、次の函１が搬入されるようにする。
【００７４】
ここで、クランプ具１６は、処理ステージ１０に搬入された函１の底部にある図４、図１０に示すような孔５を通じて函１に対し図４に示すように進入し、また図１に示すように函１の底部下へ退出し、進入によって函１を図４に示すように処理ステージ１０上にクランプし、退出によってクランプの解除および退避を行うものとしている。そこで、制御手段１５は駆動機構１８を動作制御して、、処理ステージ１０に搬入された函１をクランプ具１６によりクランプした後、移動機構１４を駆動して処理具１１による処理を行い、処理後クランプ具１６のクランプ解除と退避を行い、函１の搬出が図れるようにすることになる。
【００７５】
このように、制御手段１５がクランプ具１６の駆動機構１８と協働して処理ステージ１０上に搬入された函１に対しその底部の孔５を通じ進入させて処理ステージ１０上に函１をクランプし前記処理に供するので、前記したような函１の内外の周面のどの部分をも開放して処理を邪魔しないようにできる。従って、それら各面の１つはもとより、前記した函１の四周の外４面の同時処理のほか、四周の内４面の同時処理も行えるようにすることができ、１つの処理ステージでの処理効果が高まる。
【００７６】
従って、本実施の形態の処理装置１００によれば、処理ステージ１０上で函１の少なくとも１つの面を処理具の移動により処理を行うのを自動的に安定して確実に達成しながらクランプ具１６を函１の底部の孔５を通じ進入させてクランプすることにより函１の四周の内外の周面のどの部分をも開放して処理を邪魔せず、それらの１つの面はもとより、四周の内外周面の同時処理も行えるようにすることができ、処理工程、処理時間の短縮化が図れる。
【００７７】
そこで、前記処理ステージ１０には、図１に示すように函１の外面を処理する処理具１１に加え、さらに、函１の内面を処理する処理具４１を備えている。これにより、前記クランプ方式の特徴を生かして、函１の内外面をそれらの処理具１１、４１によって同時に処理することを自動的に安定して確実に達成することができる。特に、処理具４１は函１の内側の図９に示すような中仕切り７が形成している各ポケット８に対応した個別の各ブラシを配列したもので、処理ヘッド２１の前記のような昇降によって、ポケット８の上では函１の四周の内４面を、ポケット８の部分では函１の四周の内４面を含む、各ポケット８の内周４面をそれぞれブラッシングして処理を行う。これによって、函１の四周の内外４面に加え、さらに、中仕切り７によるポケット８がなす複雑な内周面をも同時に処理することができる。
【００７８】
さらに、クランプ具１６は、定位置にある軸４２まわりの旋回動作によって進入、退出を行うようにしてある。これにより、クランプ具１６が函１の底部の孔５を通じて進入、退出するのに、定位置にある軸４２を中心とした単純な旋回動作によって確実に達成することができる上、この旋回方向に近い図１に示すような屈曲形状を持つほど函１側との干渉域が小さくなって進入、退出に有利になるし、侵入前後でクランプ端１６ａの姿勢を進入に有利な図１に示す上向きとクランプに有利な図４に示す下向きと間で変化させられる。
【００７９】
また、クランプ具１６は図４に示す一方側とこれに対称な図示しない反対側との関係で代表して示すように、函１の底部の相対向し合う２箇所を、その対向方向で見た互いに逆な向きにて進入し、退出するようにしている。これにより、クランプ具１６による函１のクランプが、押し合うか引っ張り合う対称方向にて行えて、処理ステージ上へのクランプと同時に、処理ステージ上で函が位置ずれして処理に影響するのを防止することができる。
【００８０】
さらに、クランプ具１６が、クランプ端１６ａに向けた二股形状としてある。これにより、１つのクランプ具１６によって２箇所をクランプすることになるので、一対のクランプ具１６にて函１の４箇所を２箇所ずつ対称的にクランプして確固に安定させられる。
【００８１】
なお、一対のクランプ具１６はリンク４３によって連結し、１つの駆動源であるアクチュエータとしてのエアシリンダ４４によって双方を同期駆動するようにしている。従って、制御手段１５は、実際にはエアシリンダ４４の動作制御によってクランプ、クランプ解除を行うことになる。
【００８２】
なお、処理具４１は函１のポケット８の数だけ必要である上、函１のポケット８の数とピッチが収容するびんの大きさによって異なるので、その都度取り替える必要がある。また、これとは別に処理具１１は消耗品となることが多いので、交換する必要がある。そこで、多数の処理具４１を交換しやすくするため図１、図７（ａ）、（ｂ）に示すように、一列ずつ、具体的には処理具４１が４つ並ぶ列ずつ、それぞれの支持軸４１ａを介し同一の取り付け板５１に支持し、各取り付け板５１ごとに前記処理ヘッド２１の下面に対し図７（ａ）（ｂ）に示す一対の取り付け具５２に対しねじ５３の操作で個別に着脱できるようにしている。
【００８３】
ここで、函１の四周の外４面の各コーナ部に３本ずつある縦向きのリブ３の内の、左右2本ずつは、それに挟まれる処理対象面を上下に移動する処理具１１の働き域に位置する
が、処理具１１の立毛の回転方向に向いているので、処理具１１の回転を損なわず立毛をそれらの間の縦向きの凹部３ａにスムーズに受け入れる。これによって、処理具１１の機械的な作用が縦向きのリブ３に邪魔されることなく細部にまで十分に及ぶ。これに対し、函１の四周の外4面における上部にある2本のリブが隣接している部分の凹部３ａは狭く、その長て方向に直角な向きに回転する横向きの処理具１１の立毛は及びにくい。そこで、前記の処理具１１を縦向きにして図９に示すように上記したＺ方向と直交するＸ方向に移動させれば、縦向きのリブ３に邪魔されるが横向きのリブ３には邪魔されずに、それらの間の凹部３ａにそれが例え狭くても、処理具１１の機械的な作用を細部にまで十分に及ぼすことができる。従って、図２に示すような別の処理装置２００での処理ステージ２０における処理具１１のＸ方向の移動による処理と組み合わせるのが好適である。
【００８４】
このために処理装置２００は、図５、図６に示すように処理装置１００の下流に組み合わせて、同じ函１に対して順時に働くようにしている。処理装置２００は函１の四周の外４面に対して、処理具１１を移動させて働かせるのに、処理具１１の四周４面での動きが２面どうしでしか同時処理できないことに関連して、その構造を簡略化するために、函１の搬送チエン４６による処理ステージ２０への搬入、搬出方向Ｋに平行な端辺側の左右の側面には、ステージ２０前後の左右に位置する４つの定置な処理具１１によって函１が搬送チエン４６によって搬送されるときの相対移動によって、函１の処理対象面に対する処理具１１のＸ方向での移動を図り、函１の前後の処理対象面に対する処理具１１の移動は制御手段１５が移動機構５５と協働して行うようにしている。ここに処理装置２００は処理具１１の函１に対する横方向移動と、相対移動とを異時に複合させて函１の四周４面に対する横方向移動による処理を達成しており、そのための処理具１１と函１との相対移動手段を搬送チエン４６と移動機構５５とがなしていることになる。
【００８５】
移動機構５５は搬送方向Ｋで見た前後一対の搬送方向Ｋとは直角なＸ方向に伸びるスラ
イドガイド５６に沿ってスライドベアリング部５７を介し往復移動するスライド台５８を有し、このスライド台５８に処理具１１を支持し、Ｘ方向に往復移動できるようにしている。処理ステージ２０上に函１が搬入され図１の処理装置１００の場合のクランプ具１６と同じ機構によるクランプが行われる都度、制御手段１５が駆動機構５９を動作制御することにより移動機構５５と協働して、処理具１１を函１の前後の処理対象面に対して搬送方向Ｋに直角なＸ方向、つまり左右方向に往復移動させるようにしている。ここでは、クランプ具１６については、共通する部材には同一の符号を付して示し重複する説明は省略する。
【００８６】
駆動機構５９はスライド台５８上に設けられた減速機、ブレーキ付きのモータ６１と、装置本体６２の天井壁６３上にＸ方向に設けられて、モータ６１に直結されたピニオンギヤ６４と噛み合うラック６５とで構成している。これによって、制御手段１５は実際にはモータ６１の動作制御によって処理具１１を函１の前後の処理対象面に対してＸ方向に往復移動させることになる。この場合の往復移動は原則的に１回としてあり、モータ６１を持ったスライド台５８が装置本体６２に対して自走することになる。
【００８７】
なお、定置な処理具１１は、天井壁６３に取り付けた減速機、ブレーキ付きのモータ６６に直結して回転駆動し、スライド台５８に支持した前後２つの移動型の処理具１１は、スライド台５８上に設けた１つの減速機、ブレーキ付きモータ６７からの駆動力を、モータ６７のから両側に出た出力軸６８によって、その両端のギヤ列６９を介し分岐伝達して回転駆動するようにしてある。また、処理ステージ２０とクランプ具１６とがなすステージユニット７０も、基盤４７上にてエアシリンダ４８などのアクチュエータによって昇降できるように支持し、函１を処理具１１により処理する都度、処理ステージ１０の場合同様に、函１を搬送チエン４６よりも上の所定位置まで持ち上げ。移動型の処理具１１が搬送チエン４６と干渉しない高さにて働くようにしている。
【００８８】
以上において、函１の左右の側面はそれぞれ、それらに対応する前後２つずつの定置な処理具１１によって２回Ｘ方向の移動で処理されることになり、前後の２つの面がそれぞれ、それらに対応する１つの移動型の処理具１１の往復移動によって２回Ｘ方向に移動で処理されるのと一応等価といえる。従って、函１の四周の外４面は処理具１１によるＺ方向の処理と、Ｘ方向の処理とを２つの処理ステージ１０、２０とその直近域で達成される。
【００８９】
処理ステージ２０の後部の定置な処理具１１の直ぐ下流には函１が搬送される経路の上下に横向きに位置した回転ブラシタイプの定置な処理具１１がさらに配置されて、それぞれ個別な減速機、ブレーキ付きのモータ７１、７２によってそれぞれ直結に駆動するようにしてある。これにより、２つの処理ステージ１０、２０のまわりで函１はさらにその天面と底面共に処理具１１の相対移動による処理を受けるようにしている。この結果、図９に示すように函１の天面に貼着された支払い済みテープ９ａが万が一残っているような場合でも除去できる。また、この除去に困難があれば、その度合に応じこの部分への処理効果をシール９の除去の場合のように高めて対応すればよい。
【００９０】
以上において、処理具１１が移動する際に函１の処理対象面が近づいてくる方向に対し、カウンタ方向にて摺擦する回転向きに設定すると、処理対象面との相対速度が増大するのに併せ、処理具１１の立毛は近づいてくる凹部の立ち上がり面の基部によく入り込む。従って、移動型の処理具１１は処理ステージ１０における場合と、処理ステージ２０における場合との違いなく、往動時と復動時との双方で処理具１１の移動方向に対する回転向きが前記カウンタ方向となるように切り替えれば、処理具１１の機械的な作用が凹部の処理具１１のＺ方向両側での立ち上がり面の基部、ないしそれがなしている底部コーナ部に及びやすく、函１の凹凸のある表面の処理効果がさらに高まる。
【００９１】
定置型の処理具１１の場合は、前後の処理具１１の回転向きを逆に設定することによって類似の効果が得られる。函１の天面と底面とを処理する横向きの処理具１１も搬送方向Ｋでみた前後２箇所に配置して２回ずつ処理を行うようにする場合も、前後で回転の向きを逆にすれば同様に処理効果が高まる。また、天面に対しても、前後で複数回数処理すれば天面に貼着され残っていることのある図９に示すような支払い済みテープ９ａを除去するのに好適である。
【００９２】
さらに、本実施の形態では、図５、図６に示すように、処理装置２００の下流にさらに図３に示すような別の処理装置３００を設けている。処理装置３００は処理ステージ３０にクランプ具８０にてクランプした函１の内面を処理ステージ１０での処理具４１とは別の処理具８１によって再度処理をするようにしている。ここでのクランプ具８０は、函１の底部外回りにある図９、図１０に示すリブ３を図３、図５に示すように外側から係合して処理ステージ３０との間でクランプするようにしている。これにより、函１をクランプ具１６によって底部内側をクランプしていた処理ステージ１０、２０での函１内を開放することができ、処理具８１によって内面の前面処理を可能にしている。また、処理具８１はステージ１０での処理具４１の場合と同様に函１の各ポケット８に対応する数だけ設けてある。しかし、ステージ１０での角型ブラシよりなる処理具４１は、函１の内面およびポケット８の内面を昇降する往復移動によって処理するもので、函１の四周の四隅を含む、各ポケット８における四周の四隅に角型ブラシの立毛が集中してよく働き、函１およびポケット８の四周４面の中間部には働きにくい傾向にある。これを別の処理ステージ３０にて補うために、処理具８１は回転ブラシとし、函１の四周の内４面と、各ポケット８の四周の内４面とを昇降しながら回転して処理するようにしてある。これにより、処理具８１の機械的な作用は函１および各ポケット８の四周の四隅部にはおよびにくいが、処理具４１では及びにくい特に各ポケット８の四周の内４面の途中部群によく及ぶので、ステージ１０での処理とで、函１の四周の内４面に加え、処理しにくい各ポケット８の四周の内４面をも効果的に全面処理することができる。
【００９３】
これらのために、処理装置３００は、図３に示すように処理具８１を昇降および回転できるように支持する処理ヘッド８２を有し、移動機構８５によって昇降できるように装置本体８３の天井壁８４に支持している。移動機構８５は図３に矢印Ｋで示す函１の搬入、搬出方向で見た前後２箇所に立設した昇降バー８６を介し、天井壁８４に立設したリニアガイド１８７、いわゆるＬＭガイドによって処理ヘッド８２を昇降できるように案内し、天井壁８４に設けられた駆動機構８７の昇降動作を受けるようにしてあり、制御手段１５による駆動機構８７の動作制御によってクランプ後の函１に対し所定の処理が行われるようにする。駆動機構８７は、減速機、ブレーキ付きのモータ８８と、これの駆動ギヤ８９から昇降バー８６に設けたラック８６ａに噛み合うピニオンギヤ１８９に駆動を伝達するギヤ列９１とで構成されている。従って、制御手段１５はモータ８８を動作制御して処理を開始し、また終了することになる。
【００９４】
処理具８１は回転ブラシタイプであることによって、これを回転駆動することで昇降動作による単純なブラッシングに加え、さらに、高速のブラッシングを行って処理効果を高められるようにしている。また、そのときの処理効果は、移動速度、回転速度、処理具１１の函１の処理対象面への押圧度合、押し付け代、移動回数、つまり、往復移動回数の少なくとも１つによって調節することができる。押圧度合、押し付け代は処理具８１のポケット８および函１の四周の内４面に対する大きさの程度によって設定することができる。
【００９５】
このような処理具８１の回転駆動のために、処理ヘッド８２に処理具８１の駆動機構９２を装備しており、制御手段１５は前記処理を行うのに駆動機構９２の動作制御によって、処理具８１の回転開始、回転停止に加え、その回転状態を種々に制御することができる
。駆動機構９２は処理ヘッド８２に支持した各処理具８１の一列ごとにギヤ列９３を介して駆動を分岐伝達される駆動系９４を処理ヘッド８２上に設けて、これら各駆動系９４の受動スプロケット９５を処理ヘッド８２上の左右一対のスプロケット９６、９７間に張設した駆動チエン９８に噛み合わせ、かつ、この駆動チエン９８に処理ヘッド８２に装備した減速機、ブレーキ付きのモータ９９からの駆動を仲介チエン機構１０１を介して伝達し、各処理具８１を同期駆動できるようにしている。
【００９６】
なお、処理具８１は処理具４１と同様に、函１のポケット８の数だけ必要である上、函１のポケット８の数とピッチが収容するびんの大きさによって異なるので、その都度取り替える必要がある。また、これとは別に処理具８１は消耗品となることが多いので、交換する必要がある。そこで、多数の処理具８１を交換しやすくするため図８（ａ）、（ｂ）に示すように、一列ずつ、具体的には処理具８１が４つ並ぶ列ずつ、それぞれの支持軸８１ａを介し同一の取り付け板１０２に支持し、各取り付け板１０２ごとに前記処理ヘッド８２の下面に対し図８（ａ）（ｂ）に示す一対の取り付け具１０３に対しねじ５３の操作で個別に着脱できるようにしている。
【００９７】
また、図７、図８に例示するように、ポケット８を処理する角型のブラ４１またはおよび回転するブラシ８１に、外方下向きに傾斜して延びる立毛部４１ｂ、８１ｂを持ったものとして、処理を行うことにより、または処理に供することにより、ポケット８の底部をも洗浄することができ、特に、ポケット８の底面と四周面とがなす汚れが付着すると残り易いコーナ部に処理が及びやすくなる。底面全域に対してはそれに対向する立毛部を設ければ対応できる。
【００９８】
ここで、クランプ具８０は、搬送方向Ｋで見た前後２つの軸１０５の回りに図３に実線で示す位置と、仮想線で示す位置との間での旋回によって函１を処理ステージ３０との間で搬送方向Ｋで見た互いに逆な向きから左右２箇所をクランプし、また、そのクランプを解除するものとしてあり、駆動機構１０６によって駆動するようにしてある。そこで、制御手段１５は駆動機構１０６を動作制御して、、処理ステージ３０に搬入された函１をクランプ具８０によりクランプした後、移動機構８５および駆動機構８７を駆動して処理具８１による処理を行い、処理後クランプ具８０のクランプ解除と退避を行い、函１の搬出が図れるようにすることになる。駆動機構１０６は各軸１０５毎に異なったエアシリンダ１０７をアクチュエータとして採用し、前後２つのクランプ具８０を個別に同期駆動するようにしてある。しかし、クランプ具１６の場合のように互いを連結して１つのアクチュエータによって駆動するようにしてもよいのは勿論である。
【００９９】
以上説明した処理装置１００、２００、３００は図５、図６に示すように順次連結されて１つの処理ラインをなし、処理ステージ１０では函１の四周の内外４面とポケット８の四周の内４面の処理と、シール９の除去とを行っている。このため、ノズル１２からは界面活性作用や溶剤作用のある常温以上の洗浄液を噴出するのが好適である。また、処理ステージ２０およびその前後では函１の四周外４面の仕上げ洗浄を行っており、ノズル１２からは界面活性作用のある常温以上の洗浄液を噴射するのが好適である。処理ステージ３０では函１の四周の内４面の仕上げ洗浄をしていて、ノズル１２から界面活性作用のある常温以上の洗浄液を噴出するのが好適である。処理ステージ３０の下流ではすすぎノズル１１５からのすすぎ水を供給してすすぎ仕上げしており、ノズル１１５からは温水を噴射するのが好適である。
【０１００】
このような処理を一連に行うのに制御手段１５は、搬入コンベア１１１によって切り離しストッパ１１２を介し後続から切り離しながら函１を間断的に供給する。供給した函１はその供給タイミングに同期した搬送チエン４６の間欠駆動によって、各処理装置１００、２００、３００における処理ステージ１０、２０、３０へと順次に搬入し、搬入の都度
そこでの処理に所定時間供した後、それを搬出して次へ搬入し、最終の処理ステージ３０ではすすぎノズル１１５によるすすぎ部を経て搬出コンベア１１３へ送り出し、次の工程に送られるようにする。各処理ステージ１０、２０、３０では必要に応じてストッパ１１４を設けて搬入される函１をクランプ前に所定位置に位置決めすると、函１の所定位置へのクランプがトラブルなしに確実におこなわれやすいので好適である。しかし、これに限られることはなく、搬送チエン４６に代えてプッシャタイプの搬入、搬出を行ってもよく、その場合搬入、搬出の速度を高めやすいし、搬入、搬出位置がプッシャの押動終点位置にて精度よい送り着けもできるので、ストッパを省略することができる。なお、制御手段１５はマイクロコンピュータのプログラムに従った動作制御やシーケンサによる動作制御を利用したものとすることができる。
【０１０１】
既述したように、横向きの回転ブラシタイプの処理具１１が函１の四周の図９に示すような外４面のいずれに対してＺ方向に移動する場合、処理対象面に沿った直線移動であると、上部２本近接した水平なリブ３、中段部の１本のリブ３、下段部の１本のリブには強く働き、それらの間の凹部３ａの底部面に働きにくく、間隔の狭いリブ３間の凹部３ａの底部面には特に強く働けない。これは、函１の処理対象面の凹凸形状による機械的な処理のむらを意味する。また、これを処理具１１の回転数や処理対象面への押圧度や押圧代を高めて回避しようとしても、リブ３などの凸部と過剰干渉が原因して回転が阻害されるので限界があり、あまり高められない。従って、処理むらは解消し切れない。処理時間を延長して処理の弱い部分まで十分処理できるようにすることはできても、処理時間が徒に長く掛かったり、凸部の過剰処理による摩耗、摩滅などの問題に繋がる可能性がある。
【０１０２】
そこで、本実施の形態は、また、別の処理方法として、図４（ａ）で代表して示すように函１の１つの処理対象面に対し、その表面の凹凸に倣う移動経路４５を持った処理具１１などの移動を伴い処理する。本例では、図９に示すような函１の四周の外４面をＺ方向に縦移動させる場合を示している。このように、処理具１１が移動して函１の１つの面を処理するのに、処理具１１をその処理対象面における表面の凹凸に倣う移動経路４５を持って移動させることにより、処理具１１の機械的な処理作用が凹部３ａにも及びやすくなる。また、リブ３などの凸部による過剰抵抗を受けないので機械的な処理作用を高めるのに制限を受けにくい。このため、１つの処理ステージでの処理効果が高まる。具体的には、移動する処理具１１の機械的な処理作用が凹部３ａにも及びやすく、処理対象面に凹凸があってもむらなく処理しながら、リブ３などの凸部による影響なしに機械的な処理作用を高めて処理時間を短縮することができ、図４（ａ）に示すように凹部３ａに貼着されたシール９を除去するような難度の高い処理に好適であり、これ単独で、あるいはノズル１２からの洗浄液の供給とで短時間で十分に除去することができる。
【０１０３】
このような方法を達成するのに処理装置１００は図４（ａ）に示すように、処理具１１を処理ヘッド２１に対し長孔１２１により函１の処理対象面と離接する方向の遊びを設けて支持し、ばね１２２によって函１の側に安定するように押圧している。これにより、処理具１１は函１の処理対象面に沿って移動しながら処理するのに、リブ３などが形成する凸部により過剰抵抗を受けるような場合、ばね１２２がそれに打ち負けて処理具１１を後退および退避させ、凹部３ａに対向する位置では負荷が小さくなる分ばね１２２は処理具１１を進出させるので、函１の処理対象面の凹凸に倣う移動経路４５を簡単な機構によって処理具１１に自動的に与えられる。
【０１０４】
もっとも、ばね１２２に代えて、形状記憶合金、圧電素子その他のアクチュエータを用い、それを制御手段１５からのプログラムに従い動作制御して処理具１１を函１の処理対象面の凹凸に倣う移動経路４５を自動的に与えるようにもできる。
【０１０５】
また、このようなアクチュエータによる処理具１１の進退制御によれば、函１の１つの
処理対象面における処理の難度に応じて、処理具１１の押圧度や押圧代を高めて処理を促進することができ、函１の一部の貼着されたシール９を除去するような場合に好適である。また、処理の強弱は既述した処理具１１の回転数の変化、つまり図４（ｄ）にしめすように処理難度の高いところの回転数ＲＮ１をそれよりも処理難度の低いところの回転数ＲＮ０よりも高くすることによっても与えられる。これら処理具１１の押圧度、押圧代、回転数の調節は函１の処理対象面に対する処理時の挙動にあたる。
【０１０６】
これに対し、処理具１１などの函１の１つの処理対象面に対する部分的な処理の難度の違いに対して、処理具１１の移動の状態を調節することによっても対応することができる。処理具１１などの移動の状態は、図４（ｂ）に示すように処理難度の高いところの移動回数Ｎ１をそれよりも処理難度の低いところの移動回数Ｎ０よりも多くしたり、図４（ｃ）に示すように処理難度の高いところの移動速度Ｖ１をそれよりも処理難度の低いところの移動速度Ｖ０よりも遅くしたりすることが考えられる。
【０１０７】
また、処理ステージ２０での函１の四周の外４面に対する処理具１１による処理は、厳密には均等になっていない。つまり、函１の搬送方向Ｋで見た前後の面に対しては、処理具１１が往復移動している。これに対して、函１の左右の面に対しては搬送中の函１に対して定置な処理具１１が接触するだけである。これを解消するには、例えば、処理具１１を縦向きに移動させて函１の処理対象面を各種処理するのに、図９に破線で示すように、四周の４面の隣接する２面ずつに沿った屈曲移動を函１の互いに反対の対角位置からそれらに対向する対角位置まで同時に行えばよい。このように縦向きの１つの処理具の２面に沿った屈曲移動を利用して、4面の２面ずつを分担して干渉などの問題なく２面同時での
４面処理ができ、１つの処理ステージでの処理効果が高まる。
【０１０８】
図１１、図１２は本実施の形態における函の処理方法例として、函１の面に対し、磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを、函１の四周を処理対象面として、処理具１１を移動させて行うのに、横方向に四周の４面同時に行うようにしている。これは、処理具１を横向きに移動させて函の処理対象面を各種処理するのに、四周の４面に対する処理具の移動方向を図１１に示す往方向矢印Ｍまたは復方向矢印Ｎで示す周方向に一致させられるのを利用して、干渉などの問題なく４面同時移動による処理ができ、１つの処理ステージでの処理効果が高まる。移動は周回でもよいが、函１の四周の各辺に対して往復させるのが移動距離が短くなる利点がある。なお、周回させる場合は１つの処理具１１にて全周の処理ができるし、２つ処理具１１にて２辺ずつを分担するＬ字経路での処理もできる。
【０１０９】
これを達成する函の処理装置４００としては、図１１、図１２に示すように函１を搬入して処理に供し、処理後搬出する処理ステージ４０と、処理ステージ４０に搬入された函１の四周の４つの処理対象面に対し、移動を伴い磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う処理具１１と、処理具１１を移動させる移動機構２０１と、移動機構２０１の動作を制御する既述したような制御手段１５とを備え、制御手段１５は移動機構２０１と協働し、函１の四周を処理対象面として、縦方向または横方向に4面に対応する処理具１１を１つの
処理ステージ４０にて同時移動させて処理を行うようにしたもので足りる。これにより、函１の四周の４面に対応する処理具１１横方向でかつ周方向に同時移動できるのを利用して、制御手段１５が処理具１１の移動機構２０１と協働し、前記処理具１１を自動的に横方向に同時移動させ、函１の四周４面を安定して確実に同時処理することができ、１つの処理ステージ４００での処理効果が高まる。
【０１１０】
さらに詳述すると、処理ステージ４０は図示しないが処理ステージのクランプ機構を備え、図１２に示すように函１が搬入される都度、制御手段１５による駆動機構１８の動作
制御にて、処理ステージ１０上の函１を処理ステージ１０との間でクランプして前記処理に供した後、クランプを解除して函１の搬出が行われ、次の函１が搬入されるようにする。
【０１１１】
一方、移動機構２０１は、処理ステージ４０の上方に対向する装置本体２０２側の天井壁２０３に駆動ヘッド２０４を装備し、この駆動ヘッド２０４にて４つの処理具１１を函１の四周の各辺に沿って同時に往復移動さる十字型の駆動アーム２０５を回転できるように支持してある。駆動アーム２０５はその回転軸２０７のクランクアーム２０８と天井壁２０３上の固定具２０６との間に働かせたエアシリンダ２０９の伸縮によってほぼ９０°往復弧回動される。各処理具１１は処理ステージ４０に搬入されてクランプされる函１の4辺に沿って移動できるようにＬＭガイド２１１によって個別に支持されたスライドヘッド２１２上に駆動モータ２１３と共に支持され、駆動モータ２１３に連結されている回転軸２１４が駆動アーム２０５の長孔２０５ａに嵌まり合っている。これによって、駆動アーム２１３が往復弧回動されるとき、各処理具１１は長孔２０５ａと回転軸２１４とを介して移動力を受け、ＬＭガイド２１１にガイドされて函１の各辺に沿って同時に往復移動される。ここに、移動機構２０１は２つの処理具１１を函１の対応する面に同時に横移動させて処理を行う処理具１１と函１との相対移動手段をなしている。
【０１１２】
また、函１の平面が図９、図１０に示すもののように矩形であると、その長辺側の函面を横方向に処理するのに必要な距離と、短辺側の函面を横方向に処理するのに必要な距離とが相違し、既述した移動機構２０１では４つの処理具１１の移動距離が同じになるので、長辺側での処理を完了するには短辺側での横移動が過剰になる。これには、移動機構２０１において長辺側の処理具１１を移動させる長孔２０５ないしはそれに代わるスリット二股部などによる平均回転半径に対して、短辺側の処理具１１を移動させる長孔２０５ａないしはそれに代わるスリットによる平均回転半径を小さくさせると過剰な横移動はなくなるし、これに代えて過剰な横移動を機構上で吸収するようにもできる。処理具１１の過剰な横移動を吸収させるか、長辺側の処理具１１と短辺側の処理具１１との移動機構を個別にして対応することもできる。もっとも、４つの処理具１１の移動機構を個別にすることもできる。しかし、ＬＭガイド２１１どうしの干渉の原因になるなどの問題が生じない限りそのようにする必要はない。図１２に示す例では、駆動アーム２０５の長穴２０５ａによる、函１の短辺側を処理する処理具１１に対する駆動ライン２０５ｂと、函１の長辺側を処理する処理具１１に対する駆動ライン２０５ｂとを９５°をなして交差する関係に設定し、それぞれの駆動ライン２０５ｂ、２０５ｃの同体な９５°の往回転によって各処理具１１が往移動するときの軌跡に函１の四周まわりでずれを持たせ、そのような移動を案内するＬＭガイド２１１どうしの干渉を防止できるようにしている。
【０１１３】
さらに、図１３〜図１５に示す処理装置５００は函１の天面を処理具１１によって処理する場合の１つの例を示している。この処理装置５００は図１３、図１４に示すように搬送チエン４６によって函１が搬入され、搬出される処理ステージ５０１と、この処理ステージ５０１に搬入された函１の天面を処理対象面として磨き、粗し、削り、印刷の除去、貼着物の除去、ゴミの除去、汚れの除去、洗い、を始めとする各種処理の少なくとも１つを行う処理具１１と、この処理具１１を函１の天面に沿って横移動，特に往復横移動させる移動機構５０２とを備え、図５、図６の例、図１６の例、図１７の例で示す前記制御手段１５を共用するなどして移動機構５０２の動作を制御して各処理ステージでの処理具１１による処理を行うようにしている。これにより、函１の天面に残っている図９に示すような支払い済みテープ９ａなどをより確実に除去できるようにする。従って、図１６の処理ライン例、図１７に示す処理ライン例のように、図１１、図１２に示す例の場合を含んで他の処理装置１００、２００、３００、４００などの必要なものと処理ラインを組み、函１を搬送チエン４６の前記した間欠駆動にて函１がそれぞれの処理ステーションに停止する間の時間を利用して処理する場合に有効である。処理装置２００との組合せにおいて処理装置５００は、図１６の例、図１７の例の処理装置２００のような函１の天面を処理するように配した１本の処理具１１と併用してもよいが、それに代えて用いることもできる。
【０１１４】
処理装置５００は図１３〜図１５に示すように、回転ブラシである処理具１１をスライド台５０３に２つの昇降シリンダ５０４、５０５により昇降できるようにした昇降枠５０６の下端部に支持し、スライド台５０３を移動機構５０２によって処理具１１を伴い搬入、搬出方向Ｋに往復横移動させて函１の天面を処理するようにしている。スライド台５０３は処理装置５００のフレーム５０７上のＬＭガイド５０８ａ、チャンネルガイド５０８ｂによって往復移動できるように支持、案内するようにしてある。移動機構５０２はスライド台５０３上に搭載したモータ５０９によって駆動するピニオン５１１をフレーム５０７上のラック５１２に噛み合わせてなり、ピニオン５１１をモータ５０９によって正逆駆動してスライド台５０３を昇降枠５０６および処理具１１を伴い往復移動させる。
【０１１５】
処理装置５００は、また、前記往復移動する処理具１１による処理のため図１６の例、図１７の例のように、処理ステージ３０と同様なクランプ具８０を処理ステージ５０１に有し、函１の底部外回りにある図９、図１０に示すリブ３を図３、図５に示すように外側から係合して処理ステージ５０１との間でクランプするようにしている。しかし、函１の天面を開放すればよいので、図１、図２に示すようなクランプ具１６を採用することもできる。昇降枠５０６に支持した処理具１１を回転させる駆動機構５１０は、昇降枠５０６上のモータ５１３の回転をスプロケット５１４ａ、５１４ｂとチエン５１５によって処理具１１に伝達するようにしている。なお、昇降枠５０６はスライド台５０３から垂下させたガイドレール５１７によって昇降動作を案内されるようにしている。
【０１１６】
一方、びんビール用の函１の大きさは、例えば、大瓶用で４４５ｍｍ×３６４ｍｍ×３０５ｍｍ、中瓶用で４４５ｍｍ×３６４ｍｍ×２７５ｍｍ、小瓶用で２４５ｍｍ×３６４ｍｍ×２５５ｍｍ、スタイニー用で４４５ｍｍ×３６４ｍｍ×２５５ｍｍとなっており、高さ寸法が３種類であることに対応して、昇降シリンダ５０４、５０５双方の収縮によって処理具１１を箱の最大高さ３０５ｍｍに対応するの高さとし、昇降シリンダ５０４、５０５の一方の伸長によって処理具１１を函１の中間高さ２７５ｍｍに対応する高さとし、昇降シリンダ５０４、５０５双方の伸長によって処理具１１を函１の最少高さ２５５ｍｍに対応する高さとするようにしている。これにより処理具１１の高さ制御が正確に、かつ容易に行える。
【０１１７】
さらに、先の処理装置１００、２００、３００、４００での処理具１１、８１が、立毛を放射方向および回転軸方向にほぼ均等に植えた回転ブラシを用いているのに対し、本例での回転ブラシである処理具１１は図１３に示すように、立毛を回転軸まわりにスパイラルに植えた回転ブラシを用いている。これによって、処理具１１の回転により回転軸方向には函１の処理対象面に対してむらなく処理することを確保するのに併せ、回転方向には函１の処理対象面に対して定期的に接触、非接触となる断続接触状態を回転軸方向にほぼ均等に得て、函１の処理対象面の平面部や段差、凸部に対し繰り返し効果的に働かせて処理することができ、支払い済みテープ９ａを剥離するような場合に有効である。また、そのような断続接触状態は処理具１１による処理負荷を回転軸方向にほぼ均等に軽減することにもなる。このような処理具１１は先の処理装置１００、２００、３００、４００における処理具１１、８１に適用しても同様に有効であるし、処理装置１００での処理具４１においても有効である。また、回転ブラシである処理具１１、８１はスパイラルな植毛に代えて、またはそれとともに、立毛が回転方向に断続するものでも同様な作用効果が得られる。上下移動する処理具４１では軸方向に断続するものとして同様な作用効果が得られる。
【０１１８】
ここで、図１６に示す処理ライン例では、処理装置１００、２００、３００、５００を順次連結したものとし、図１７に示す処理ライン例では、処理装置１００、２００、５００を順次連結したものとしている。しかし、どのように組み合わせるかは自由であり、必要に応じ連結すればよい。この場合、図５、図６に示す処理ライン、図１６に示す処理ライン、図１７に示す処理ラインにおける処理装置２００を、図１１、図１２に示すような函１の四周の４面に対応する個別の処理具１１が横方向移動して、その４面を同時に処理する処理装置４００に置き換えることもできる。このようにすると、函１の四周の面の、個別処理具１１の縦方向移動と横方向移動による２つの同時処理を、２つのステージにて達成し、函１の四周の４面に対し処理具１１の縦横異なった移動方向での処理を重複させられるので、処理対象面がリブや凹凸による格子状などの縦横特性のある形態の場合に処理機能を隅々まで及ぼしやすい。
【０１１９】
また、図１６、図１７の各処理ライン例では、ステージ２０の下流直ぐの左右に設けた回転ブラシよりなる処理具１１を、実線と仮想線で示すように前後一対配してあり、上流側の処理具１１は搬送される函１の函面に対し逆方向に回転させ、下流側の処理具１１は搬送される函１の函面に対して順方向に回転させるようにしている。これは函１の側面に補強リブ３による凹凸３ａがあることに対応したもので、順方向回転の処理具１１は凹部３ａ内の搬送方向下流側の隅部に対して上流側からブラッシング作用を及ぼし、逆方向回転の処理具１１は凹部３ａ内の搬送方向上流側の隅部に対して下流側からブラッシング作用を及ぼすことになり、そのブラッシング作用力は搬送される函面との相対速度に比例する。従って、順方向回転の処理具１１は周速が函１の搬送速度を上回る必要がある。逆方向回転の処理具１１は停止していてもよいが、逆方向の回転速度を持つほどブラッシング作用力が高まり順方向回転の処理具１１を併用しながらも、函１の凹凸による隅部などへの付着異物を最終的に除去するのに好適である。
【０１２０】
図１８に示す処理装置４００は、既述した図１１、図１２に示す処理装置４００が処理具１１の横方向移動を案内するガイド手段として採用にしているＬＭガイド２１１の変形例として、一部屈曲したガイド５２１を採用している。ガイド５２１ａは処理具１１を函１の処理対象面に沿って移動させる直進部５２１ａと、この直進部５２１ａの上流側待機位置まで延びて処理具１１を直進部５２１ａよりも外側に変位させる退避経路部５２１ｂとを備えている。これにより、ガイド５２１の直進部５２１ａでの処理具１１の案内によって、函１の面に沿った処理を図１８に仮想線で示すように遊びや逃げなく遂行させられる。これに併せ、直進部５２１ａからその上流側に延びる退避経路部５２１ｂによる処理具１１の案内によって、処理具１１を函１の面に沿う直進部５２１ａから、上流側に退避し、かつ外側に変位する２つの方向に離して待機させる。この結果、函１のステージ４０への搬入、搬出経路の両側に位置する処理具１１どうしの間隔をそれら一方の退避分と他方の変位分とで函１の搬送幅よりも大きくして函１の搬入、搬出を邪魔しないし、退避経路部５２１ｂはその外側への変位分だけそれに対向する隣接ガイド５２１の直進部５２１ａの終端５２１ａ１に対する逃げとなって、この終端５２１ａ１が互いの干渉なしに、処理具１１を函１の面の端部にまで処理が十分に及ぶ位置まで案内することができるようになる。
【０１２１】
なお、前記待機位置側である直進部５２１ａ上流の退避経路部５２１ｂに代えて、図１８に仮想線で示すように直進部５２１ａの下流側となる終端部を処理具１１を対向する他のガイド５２１の退避側端部に対して退避させる退避経路５２１ａ２とすることもできる。また、図１１、図１２における長穴２０５ａはスリットや二股部に変更することができるし、これらに代えて図１２に示した駆動ライン２０５ｂ、２０５ｃに倣った十字レールを９５°範囲で往復弧回動させて、各処理具１１に設けたローラ対などの従動部を応動させても処理具１１を同様に駆動することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１２２】
リターナブルなびんを収容して流通に供する通い函などに適用するもので、産業上利用できるのは勿論、省スペース、省エネ、省力化に有効である。
【図面の簡単な説明】
【０１２３】
【図１】本発明の実施の形態に係る１つの処理装置を示す斜視図。
【図２】本発明の実施の形態に係る他の処理装置を示す斜視図。
【図３】本発明の実施の形態に係る別の処理装置を示す斜視図。
【図４】図１の処理装置の場合で代表して示す処理具の動作状態例を示し、（ａ）は処理対象面の凹凸に倣う移動経路を持つようにした例、（ｂ）は処理難度に応じて移動回数を変えた例、（ｃ）は処理難度に応じて移動速度を変えた例、（ｄ）は処理難度に応じて回転数を変えた例を示す説明図である。
【図５】図１〜図３の処理装置を含む処理ライン例を示す側面図。
【図６】図５に示す処理ラインの平面図。
【図７】図１の処理装置の処理具の処理ヘッドへの支持状態を示し、（ａ）は側面図、（ｂ）は正面図。
【図８】図３の処理装置の処理具の処理ヘッドへの支持状態を示し、（ａ）は側面図、（ｂ）は正面図。
【図９】ビールびんを収容する函の上方から見た斜視図。
【図１０】図９の函の底部を裏面から見た斜視図。
【図１１】本発明の実施の形態に係る今１つの処理装置を示す斜視図。
【図１２】図１１の装置での処理ステージと函と処理具との関係を示す平面図。
【図１３】本発明の実施の形態に係るさらに別の処理装置を示す斜視図。
【図１４】図１３の装置の側面図。
【図１５】図１３の装置の平面図。
【図１６】図１３の処理装置を組み込んだ処理ラインの１つの例を示す側面図。
【図１７】図１３の処理装置を組み込んだ処理ラインの他の例を示す側面図。
【図１８】図１１、図１２の処理装置における処理具ガイド手段の変形例を示す概略平面図。
【符号の説明】
【０１２４】
１  函
３  リブ
３ａ  凹部
５  孔
９  シール
１０、２０、３０、４０、５０１  処理ステージ
１１、４１、８１  処理具
１２、１１５  ノズル
１４、５５、２０１、５０２  移動機構
１５  制御手段
１６、８０  クランプ具
１６ａ  クランプ端
１８、２６、３２、５９、１０６、５１０  駆動機構
４２  軸
４６  搬送チエン
１００、２００、３００、４００、５００  処理装置
５２１  ガイド
５２１ａ  直進部
５２１ｂ  退避経路部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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