(57)【要約】【課題】板状製品、例えば液晶基板やプリント配線基板等の製造ラインに使用する塵埃除去用マットであって、耐熱性及び耐腐食性に優れた塵埃除去用マットを提供する。【解決手段】塵埃除去用マット１０は剛体材料から形成された板状部材１２と、この板状部材１２の少なくとも片側面に形成された軟質材料層１４とから成る。【選択図】        図１
2005057166.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状製品の製造ラインに使用する塵埃除去用マットであって、
剛体材料から形成された板状部材と、
前記板状部材の少なくとも片側面に形成された軟質材料層とから成る塵埃除去マット。
【請求項２】
請求項１に記載の塵埃除去マットにおいて、前記板状部材の両側面に軟質材料層が形成されることを特徴とする塵埃除去マット。
【請求項３】
請求項に記載の塵埃除去マットにおいて、前記板状部材の両側面の軟質材料層が該板状部材を完全に包囲する一体成形包囲体として形成され、この一体成形包囲体が前記板状部材の両側面を実質的に均一な厚さで覆っていることを特徴とする塵埃除去用マット。
【請求項４】
請求項３に記載の塵埃除去用マットにおいて、前記一体成形包囲体がシリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム及び天然ゴムから成る群のうちから選ばれたゴム材料から形成されることを特徴とする塵埃除去用マット。
【請求項５】
請求項３に記載の塵埃除去用マットにおいて、前記一体成形包囲体が軟質樹脂材料から成ることを特徴とする塵埃除去用マット。
【請求項６】
請求項１から５までのいずれか１項に記載の塵埃除去用マットにおいて、前記一体成形包囲体の硬度が15°ないし60°の範囲内であることを特徴とする塵埃除去用マット。
【請求項７】
請求項１から６までのうちのいずれか１項に記載の塵埃除去用マットにおいて、前記板状部材が適当な固体材料から形成されることを特徴とする塵埃除去用マット。
【請求項８】
請求項７に記載の塵埃除去用マットにおいて、前記固体材料がアルミニウム、スチール、ステンレススチール、銅及び真鍮から成る群のうちから選ばれた金属材料であることを特徴とする塵埃除去用マット。
【請求項９】
板状製品の製造ラインに使用する塵埃除去用マットの製造方法であって、
第１の未加硫ゴムシートを成形型の凹部内に導入する段階と、
前記第１の未加硫ゴムシート上にそのサイズよりも小さなサイズの板状部材を設置する段階と、
前記成形型の凹部内に更に第２の未加硫ゴムシートを導入して前記板状部材を第１の未加硫ゴムシートと第２の未加硫ゴムシートとでサンドイッチ状に挟み込む段階と、
前記第１及び第２の未加硫ゴムシートとその間に挟み込まれた前記板状部材とから成る組立体を加圧下で加熱して前記第１及び第２の未加硫ゴムシートを該板状部材に対する一体成形包囲体として成形する段階とから成る製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の製造方法において、前記第１及び第２の未加硫ゴムシートの各々として未加硫シリコーンゴムシートが用いられ、前記一体成形包囲体の成形段階での加圧及び加熱についてはそれぞれ約70から約130kg/cm2の範囲内及び約150から約190℃の範囲内であることを特徴とする製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は板状製品、例えば液晶基板やプリント配線基板等の製造ラインに使用する塵埃除去用マットに関する。
【背景技術】
【０００２】
周知のように、液晶基板やプリント配線基板等の製造では、塵埃等が製品欠陥の原因となるために、その製造ラインはクリーンルーム内に設置されるが、しかし該製造ラインには種々の可動部が含まれ、これら可動部が塵埃の発生源となり得る。例えば、製造ラインには半製品を搬送するためにベルトコンベヤ等の搬送機構が設けられ、このような搬送機構の可動部の摩滅に伴い塵埃等が発生する。従って、液晶基板やプリント配線基板として信頼度の高い製品を得るためには、その製造ラインを定期的に清掃することが必要とされる。
【０００３】
このような製造ラインの清掃については当初人手によって行われていた。例えば、防塵布に洗浄剤を染み込ませて製造ラインを払拭していた。人手による清掃の程度については個人差により異なり、このため人手による清掃を定量的に評価し難いという点が問題となる。そこで、特許文献１に開示されているように、上述したような製造ラインを一様に清掃するために、該製造ラインに塵埃除去用板状マットを液晶基板やプリント配線基板の代わりに通過させることが提案されている。
【０００４】
詳述すると、特許文献１に開示された塵埃除去用板状マットは適当な金属材料或いは適当な硬質高分子材料から作成された硬質状板と、この硬質状板の少なくとも一方の面に粘着層とテープ層とが交互に積層され、その最外層は粘着層とされる。このような塵埃除去用板状マットを製造ラインを通過させることにより、該粘着層でもって製造ラインを清掃することができる。即ち、液晶基板やプリント配線基板のような半製品が製造ラインの通過時に接触させられることとなる表面から塵埃が塵埃除去用板状マットの粘着層によって確実にかつ一様に取り除かれる。清掃後に最外層の粘着層をその直下のテープ層と共に引き剥がすことにより、新たな粘着層が露出させられ、塵埃除去用板状マットを再度使用することができる。
【０００５】
【特許文献１】特開平１０−００８２３７
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、特許文献１に開示されているような塵埃除去用板状マットは耐熱性の点で問題となる。即ち、塵埃除去用板状マットの粘着層に使用される粘着(糊)材料の耐熱温度は精々70℃であり、このため70℃以上を超える処理温度を持つような処理ステーションが製造ラインに含まれる場合には、かかる塵埃除去用板状マットをその製造ラインに使用することはできない。
【０００７】
また、特許文献１に開示されているような塵埃除去用板状マットにおいては、その硬質状板は該塵埃除去用板状マットの縁端面で露出させられるので、該硬質状板を腐食するような処理液を用いる処理ステーションが製造ラインに含まれる場合には、かかる塵埃除去用板状マットをその製造ラインに使用することはできない。
【０００８】
従って、本発明の第１の目的は、板状製品、例えば液晶基板やプリント配線基板等の製造ラインに使用する塵埃除去用マットであって、耐熱性に優れた塵埃除去用マットを提供することである。
【０００９】
また、本発明の第２の目的は、上述したような耐熱性に優れた塵埃除去用板状マットであって、更に耐腐食性を備えた塵埃除去用マットを提供することである。
【００１０】
更に、本発明の第３の目的は、耐熱性及び耐腐食性に優れた塵埃除去用マットを製造するための製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明による塵埃除去用マットは板状製品、例えば液晶基板やプリント配線基板等の製造ラインに使用するもであって、剛体材料から形成された板状部材と、この板状部材の少なくとも片側面に形成された軟質材料層とから成る。塵埃除去マット。好ましくは、板状部材の両側面に軟質材料層が形成され、一層好ましくは、板状部材の両側面の軟質材料層が該板状部材を完全に包囲する一体成形包囲体として形成され、この一体成形包囲体が該板状部材の両側面を実質的に均一な厚さで覆うようにされる。
【００１２】
軟質材料については、好ましくは、シリコーンゴム、ウレタンゴム、フッ素ゴム、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム及び天然ゴムから成る群のうちから選ばれたゴム材料とされ得るが、しかし軟質塩化ビニールのような軟質樹脂材料とされてもよい。また、軟質材料の硬度については、15°ないし60°の範囲内であることが好ましい。
【００１３】
板状部材については、適当な固体材料、例えば金属板材料、硬質樹脂材料、硬質ゴム材料或いは複合板材料から形成され得る。板状部材を金属板材料から形成される場合には、アルミニウム、スチール、ステンレススチール、銅及び真鍮から成る群のうちから選ばれた金属材料とすることが好ましい。
【００１４】
更には、本発明は、板状製品、例えば液晶基板或いはプリント配線基板等の製造ラインに使用する塵埃除去用マットの製造方法にも向けられる。本発明による製造方法は、第１の未加硫ゴムシートを成形型の凹部内に導入する段階と、この第１の未加硫ゴムシート上にそのサイズよりも小さなサイズの板状部材を設置する段階と、成形型の凹部内に更に第２の未加硫ゴムシートを導入して板状部材を第１の未加硫ゴムシートと第２の未加硫ゴムシートとでサンドイッチ状に挟み込む段階と、第１及び第２の未加硫ゴムシートとその間に挟み込まれた板状部材とから成る組立体を加圧下で加熱して第１及び第２の未加硫ゴムシートを該板状部材に対する一体成形包囲体として成形する段階とから成る。
【００１５】
本発明による製造方法においては、好ましくは、第１及び第２の未加硫ゴムシートの各々として未加硫シリコーンゴムシートが用いられ、上述した一体成形包囲体の成形段階での加圧及び加熱がそれぞれ約70から約130kg/cm2範囲内及び約150から約190℃の範囲内とされる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明による塵埃除去用マットが板状製品、例えば液晶基板やプリント配線基板等の製造ラインを通過させられたとき、該塵埃除去用マットの軟質材料層
は静電吸着作用により該製造ラインから塵埃等を吸着するように作用する。このような軟質材料層は従来の粘着層よりは比較的高い耐熱温度を持つ。例えば、軟質材料層がシリコンーンゴムから形成されたとき、その耐熱最高温度は280℃程度となる。かくして、軟質材料層がシリコンーンゴムから成る場合には、280℃程度の高温度の処理ステーションが製造ラインに含まれていても、本発明による塵埃除去用マットを用いて該製造ラインを清掃することが可能である。
【００１７】
また、本発明による塵埃除去用マットにおいて、板状部材を覆う軟質材料層が該板状部材を完全に包囲する一体成形包囲体として形成された場合には、該板状部材を腐食するような処理液を用いる処理ステーションが製造ラインに含まれる場合であっても、本発明による塵埃除去用マットを用いて該製造ラインを清掃することが可能である。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１８】
次に、添付図面の図１及び図２を参照して、本発明による塵埃除去用マットの一実施形態について説明する。
【００１９】
先ず、図１を参照すると、本発明による塵埃除去用マットが参照符号１０でもって全体的に示され、図２には図１のII−II線に沿う断面図が示される。双方の図から明らかなように、塵埃除去用マット１０は板状部材１２と、この板状部材１２を完全に包囲する一体成形包囲体１４とから成る。本実施形態では、板状部材１２は0.5mmの厚さを持つアルミニウム板材料から形成され、一体成形包囲体１４はシリコーンゴム材料から形成さる。板状部材１２のそれぞれの側面を覆う一体成形包囲体１２の肉厚は0.5乃至は2mm程度とされ、このため塵埃除去用マット１０の全体的な厚みについては約1.5乃至は約3.0mmとなる。なお、塵埃除去用マット１０の外形寸法については、製造ラインで製造される板状製品（例えば、液晶基板やプリント配線基板等）の寸法にもよるが、一例としては、420mm×620mm程度とされる。
【００２０】
以上で述べた塵埃除去用マット１０については、図３及び図４に示すような成形方法によって成形され得る。
【００２１】
図３に示すように、先ず、成形下型１６が用意され、この成形下型１６には420mm×620mmの寸法を持つ凹部１８が形成される。凹部１８にはその寸法にほぼ一致した第１の未加硫シリコーンゴムシート１４Ａが導入され、次いで該第１の未加硫シリコーンゴムシート１４Ａ上にそのサイズよりも小さなサイズの板状部材１２が設置される。続いて、成形型１６の凹部１８内に更に第２の未加硫シリコーンゴムシート１４Ｂが導入され、これにより板状部材１２が第１の未加硫シリコーンゴムシート１４Ａと第２の未加硫シリコーンゴムシート１４Ｂとでサンドイッチ状に挟み込まれる。なお、第１及び第２の未加硫シリコーンゴムシート１４Ａ及び１４Ｂのそれぞれの厚さは0.5mmよりも厚手でのものとされる。
【００２２】
板状部材１２が第１の及び第２の未加硫シリコーンゴムシート１４Ａ及び１４Ｂ間でサンドイッチ状に挟み込まれた後、図４に示すように、成形下型１６には成形上型２０が組み合わされる。成形上型２０には成形下型１６の凹部１８に嵌合するようになった凸部２２が設けられ、成形下型１６及び成形上型２０が図４に示すように互いに完全に係合させられたとき、板状部材１２と第１の及び第２の未加硫シリコーンゴムシート１４Ａ及び１４Ｂとから成る組立体
には約70から約130kg/cm2の範囲の内圧力が及ぼされ、この状態で成形下型１６及び成形上型２０は約150から約190℃の範囲内の温度まで加熱され、これにより第１の及び第２の未加硫シリコーンゴムシート１４Ａ及び１４Ｂは加硫処理を受けて一体成形包囲体１４として成形される。
【００２３】
以上の実施形態の説明において、塵埃除去用マット１０の外形寸法については例示的に420mm×620mmとされているが、勿論、その外形寸法については塵埃除去用マット１０を使用すべき製造ラインで製造される板状製品、例えば液晶基板やプリント配線基板の外形寸法と実質的に同じものとされる。従って、板状製品の代わりに塵埃除去用マット１０を該製造ライン定期的に通過させることにより、液晶基板やプリント配線基板のような半製品がかかる製造ラインの通過時に接触させられることとなる表面から塵埃が一体成形包囲体１４でもって確実にかつ一様に取り除かれる。
【００２４】
製造ラインを一旦経た塵埃除去用マット１０は適宜クリーニングすることにより再使用することができる。例えば、塵埃除去用マット１０の表面を粘着ローラでもってクリーニングしてもよく、或いは多数の塵埃除去用マット１０を纏めて洗浄してもよい。
【００２５】
上述の好ましい実施形態では、塵埃除去用マットの板状部材は一体成形包囲体１４でもって完全に包囲されるが、板状製品の製造ラインの構成によっては、該板状部材の少なくとも一方の片面に適当な接着手段で軟質材料層を貼り付けた塵埃除去用マットとすることもできる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明による塵埃除去用マットの平面図
【図２】図１の図１のII−II線に沿う断面図
【図３】図１及び図２に示す塵埃除去用マットの製造工程の代表的な段階を示す部分断面図
【図４】図１及び図２に示す塵埃除去用マットの製造工程の代表的な段階であって、図３とは異なる段階を示す部分断面図
【符号の説明】
【００２７】
１０：塵埃除去用マット
１２：板状部材
１４：一体成形包囲体
１６：成形下型
１８：凹部
２０：成形上型
２２：凸部
【図１】
2005057166.tif 000003
【図２】
2005057166.tif 000004
【図３】
2005057166.tif 000005
【図４】
2005057166.tif 000006