(57)【要約】【課題】放射線照射により硬化する放射性硬化官能基を有する化合物を含有した下塗り層の平滑性を改良することができ、ひいては磁性層の平滑性を向上させることができる。【解決手段】非磁性支持体１２上に磁性層を設けた磁気記録媒体であって、放射線照射により硬化する放射性硬化官能基を有する化合物を含有した下塗り層塗料を塗布コータ１６で支持体１２に塗布した後で硬化させた下塗り層を、非磁性支持体と磁性層との間に設けてなる磁気記録媒体の製造方法において、下塗り層塗料を調液して塗布コータ１６に送液する調液・送液ライン４０では、下塗り層塗料中の前記化合物が重合もしくは凝集しない条件下で該下塗り層塗料をハンドリングする。【選択図】      図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
非磁性支持体上に磁性層を設けた磁気記録媒体であって、放射性硬化官能基を有する化合物を含有した下塗り層塗料を塗布コータで前記支持体に塗布した後で硬化させた下塗り層を、前記非磁性支持体と前記磁性層との間に設けてなる磁気記録媒体の製造方法において、
前記下塗り層塗料を調液して前記塗布コータに送液する調液・送液ラインでは、前記下塗り層塗料中の前記化合物が重合もしくは凝集しない条件下で該下塗り層塗料をハンドリングすることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項２】
非磁性支持体上に非磁性層と磁性層とを設けた磁気記録媒体であって、放射性硬化官能基を有する化合物を含有した下塗り層塗料を塗布コータで前記支持体に塗布した後で硬化させた下塗り層を、前記非磁性支持体と前記非磁性層との間に設けてなる磁気記録媒体の製造方法において、
前記下塗り層塗料を調液して前記塗布コータに送液する調液・送液ラインでは、前記下塗り層塗料中の前記化合物が重合もしくは凝集しない条件下で該下塗り層塗料をハンドリングすることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項３】
前記下塗り層塗料を送液する送液ポンプは、非加圧型及び非高速摺動型の送液ポンプを使用することを特徴とする請求項１又は２の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項４】
前記送液ポンプは、プランジャーポンプ、モーノポンプ、ベローズポンプ、ダイラフラムポンプの何れかであることを特徴とする請求項３の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項５】
前記下塗り層塗料の調液では、複数の原材料を攪拌翼で攪拌混合する際に、攪拌翼先端の周速が２ｍ／秒以下となるようにすることで剪断力を小さくすることを特徴とする請求項１〜４の何れか１の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】
前記調液・送液ラインでの前記下塗り層塗料の液温は２０°Ｃ〜４０°Ｃの範囲であることを特徴とする請求項１〜５の何れか１の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項７】
前記下塗り層塗料には２０Hzを超える振動を与えないことを特徴とする請求項１〜６の何れか１の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７の何れか１の磁気記録媒体の製造方法により製造されたことを特徴とする磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は磁気記録媒体の製造方法及びその製造方法によって製造された磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスクの分野や磁気テープの分野において、近年、記録の大容量化、小型化を達成するために、記録容量の向上が強く要求されている。また、近年ＭＲ（磁気抵抗）を動作原理とする再生ヘッドが提案されている。ＭＲヘッドは誘導型磁気ヘッドに比較して数倍の再生出力が得られ、かつ誘導コイルを用いないため、インピーダンスノイズ等の機器ノイズが大幅に低下し、磁気記録媒体のノイズを下げることで大きなＣＮ比又はＳＮ比を得ることが可能になってきた。換言すれば従来機器ノイズに隠れていた磁気記録媒体ノイズを小さくすれば良好な記録再生が行え、高密度記録特性が飛躍的に向上できることになる。
【０００３】
しかし、ＭＲヘッドは微小な熱の影響を受けてノイズ（サーマルノイズ）を発生するという問題があり、特に、ＭＲヘッドが磁性層表面にある突起に当たるとその影響で突発的に且つ持続してノイズが増大するという問題があり、電磁変換特性が低下してしまう。
【０００４】
このようなサーマルノイズを低減して電磁変換特性を向上させるには、磁性層の表面性を制御して磁気ヘッドと磁性層との間隙損失（スペーシングロス）を軽減することが重要であり、そのためには磁性層表面を如何に平滑化できるかがポンイトになる。特に、記録密度が高くなるに伴って記録波長が小さくなることにより、厚み損失を逃れるために磁性層を薄くする必要があるが、磁性層を薄くすればするほど磁性層を塗布する支持体の表面性が磁性層表面に写り易くなるので、磁性層の表面性に与える影響が大きくなる。
【０００５】
磁性層の表面性を制御する従来の方法としては、例えば、特許文献１及び特許文献２がある。この方法は、平滑な支持体表面を得るために、支持体表面をポリエステルポリウレタン系重合体で被覆する方法である。また、特許文献３には、支持体上に放射線照射により重合する化合物からなる層を設けたものを提案している。
【特許文献１】特許第２９３８５４８号公報
【特許文献２】特許第２９３８５４９号公報
【特許文献３】特公平５−５７６４７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１及び２の方法は、磁性層表面を平滑にするために、塗料の濾過によって異物を除去するようにしているが、濾過では磁性層表面の平滑性を満足するほど十分に異物を除去できないという欠点がある。更には、被覆層の上に磁性層を塗布した際に被覆層から磁性層への溶け出しを避けるには、被覆層として高分子塗料が必要になり、その為に塗料の粘度を上げざるをえない。この結果、塗料が乾燥収縮する過程で被覆層表面が荒れたり突起が形成されたりするので、被覆層自体の平滑化が十分になされず、ひいては満足できるほどの磁性層表面の平滑化を得ることができないという欠点がある。
【０００７】
一方、特許文献３の方法は、放射線照射で重合する化合物からなる塗料を支持体に塗布した後で塗布膜に放射線照射して硬化するので、低分子量の塗料を使用することができ、塗料の粘度を下げることができるので、特許文献１及び２の欠点は解消することができる。しかし、放射線照射で重合する化合物は、放射線以外のエネルギーでも多少なりとも重合して凝集物を生成し易く、塗料の取り扱い次第では磁性層の平滑化を十分に満足させることができない。特に、磁気記録媒体の製造における塗布・乾燥工程は、支持体を搬送させながら塗布及び乾燥を行う連続方式が通常であるため、支持体が搬送中に放射線照射を行う必要があり、長時間の放射線照射には支持体搬送経路に沿った長い照射装置が必要になり設備費及び安全上も不利になる。従って、なるべく短時間の放射線照射で硬化する化合物であることが好ましい。短時間の放射線照射で硬化させるためには、反応性に富んだ化合物を使用することになり、上記したように、放射線以外のエネルギーでも重合してますます凝集物を生成し易くなる。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、放射性硬化官能基を有する化合物を含有した下塗り層の平滑性を改良することができ、ひいては磁性層の平滑性を向上させることができるので、電磁変換特性を安定的に向上することができる磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の請求項１は前記目的を達成するために、非磁性支持体上に磁性層を設けた磁気記録媒体であって、放射性硬化官能基を有する化合物を含有した下塗り層塗料を塗布コータで前記支持体に塗布した後で硬化させた下塗り層を、前記非磁性支持体と前記磁性層との間に設けてなる磁気記録媒体の製造方法において、前記下塗り層塗料を調液して前記塗布コータに送液する調液・送液ラインでは、前記下塗り層塗料中の前記化合物が重合もしくは凝集しない条件下で該下塗り層塗料をハンドリングすることを特徴とする。
【００１０】
また、本発明の請求項２は前記目的を達成するために、非磁性支持体上に非磁性層と磁性層とを設けた磁気記録媒体であって、放射性硬化官能基を有する化合物を含有した下塗り層塗料を塗布コータで前記支持体に塗布した後で硬化させた下塗り層を、前記非磁性支持体と前記非磁性層との間に設けてなる磁気記録媒体の製造方法において、前記下塗り層塗料を調液して前記塗布コータに送液する調液・送液ラインでは、前記下塗り層塗料中の前記化合物が重合もしくは凝集しない条件下で該下塗り層塗料をハンドリングすることを特徴とする。
【００１１】
請求項１は非磁性支持体上に磁性層を設けた磁気記録媒体の場合、請求項２は非磁性支持体上に非磁性層を設けその上に磁性層を設けた磁気記録媒体の場合であり、本発明の基本的な特徴は同様である。
【００１２】
本発明において、放射性硬化官能基を有する化合物を含有した下塗り層塗料は、放射線以外のエネルギーでも多少なりとも反応して一部硬化し、一部硬化して生成された重合物もしくは凝集物（以下、重合物もしくは凝集物を総称して単に凝集物という）が下塗り層表面の平滑性を損なう要因の１つであり、ひいては磁性層表面の平滑性を損なう要因となることから、下塗り層塗料の調液・送液ラインにおけるハンドリングに着目することで、平滑度の高い下塗り層を形成するようにしたものである。
【００１３】
本発明の請求項１又は２によれば、下塗り層塗料を調液して塗布コータに送液する調液・送液ラインでは、下塗り層塗料中の前記化合物が重合もしくは凝集しない条件下、即ち化合物が重合もしくは凝集しない低エネルギー条件下で該下塗り層塗料をハンドリングするようにした。これにより、下塗り層塗料を非磁性支持体に塗布した際に塗布層表面に突起となって現れる凝集物が生成されるのを効果的に抑制できるので、平滑度の高い下塗り層を形成することができ、ひいては磁性層表面の平滑性を向上させることができる。また、下塗り層塗料に放射性硬化官能基を有する化合物を含有させることで、低分子の塗料を使用することができるので、従来の特許文献１のように塗料自体が乾燥収縮する過程で被覆層表面が荒れたり突起が形成されたりするのを防止でき、しかも放射線照射を短時間で行うために反応性に富んだ化合物を使用しても、凝集物の生成が抑制されるので、下塗り層の平滑性を向上することができるので、従来の特許文献２の問題点も解消できる。反応性に富んだ化合物としては、例えばエチレンオキサイド変性ビスフェノールＡのジアクリレートを好ましく使用することができる。
【００１４】
請求項３〜請求項７は、下塗り層塗料中の前記化合物が重合もしくは凝集しない低エネルギー条件を形成するための好ましいハンドリングを列挙したものである。
【００１５】
請求項３は請求項１又は２において、前記下塗り層塗料を送液する送液ポンプは、非加圧型及び非高速摺動型の送液ポンプを使用することを特徴とする。この非加圧型及び非高速摺動型の送液ポンプを使用することで、下塗り層塗料に加わる加圧力や剪断力を小さくできるので、上記化合物が一部硬化して凝集物が生成されるのを効果的に抑制できる。
【００１６】
請求項４は請求項３において、前記送液ポンプは、プランジャーポンプ、モーノポンプ、ベローズポンプ、ダイラフラムポンプの何れかであることを特徴とする。請求項４は非加圧型及び非高速摺動型の送液ポンプの好ましい態様を示したものでる。
【００１７】
請求項５は請求項１〜４において、前記下塗り層塗料の調液では、複数の原材料を攪拌翼で攪拌混合する際に、攪拌翼先端の周速が２ｍ／秒以下となるようにすることで剪断力を小さくすることを特徴とする。下塗り層塗料を調液する際には複数の原材料を攪拌機で混合する必要があるが、この攪拌混合時において、攪拌翼先端の周速を２ｍ／秒以下にして、下塗り層塗料が受ける剪断力を小さくすることで上記化合物が一部硬化して凝集物が生成されるのを効果的に抑制できる。
【００１８】
請求項６は請求項１〜５において、前記調液・送液ラインでの前記下塗り層塗料の液温は２０°Ｃ〜４０°Ｃの範囲であることを特徴とする。下塗り層塗料の液温は２０°Ｃ〜４０°Ｃの範囲にすることで、上記化合物が一部硬化して凝集物が生成されるのを効果的に抑制できる。
【００１９】
請求項７は請求項１〜６において、前記下塗り層塗料には２０Hzを超える振動を与えないことを特徴とする。これは上記化合物が２０Hzを超える振動のエネルギーによって硬化し易くなるためで、下塗り層塗料には超音波振動等の振動は与えない方がよい。
【００２０】
本発明の請求項８は前記目的を達成するために、請求項１〜７の何れか１の磁気記録媒体の製造方法により製造されたことを特徴とする磁気記録媒体。
【００２１】
請求項８による磁気記録媒体は、放射性硬化官能基を有する化合物を含有した下塗り層の平滑性が改良され、ひいては磁性層の平滑性が良くなるので、電磁変換特性が安定的に向上する。
【発明の効果】
【００２２】
以上説明したように、本発明の磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体によれば、放射性硬化官能基を有する化合物を含有した下塗り層の平滑性を改良することができ、これにより磁性層の平滑性を向上させることができる。磁性層の平滑性は、電磁変換特性のノイズ成分と密接に関連しており、磁性層の平滑性向上によりノイズ成分を少なくすることができるので、電磁変換特性を安定的に向上することができる。
【００２３】
従って、本発明の製造方法で製造された磁気記録媒体は、ＭＲヘッドを組み合わせた記録再生システムにおいても、電磁変換特性が良好で特に高密度記録領域でのＣＮ比又はＳＮ比を格段に改良することができる
【発明を実施するための最良の形態】
【００２４】
以下、添付図面に従って、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法及び磁気記録媒体の好ましい実施の形態について説明する。
【００２５】
図１は、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法を適用する製造装置１０の一例を示した全体構成図であり、テープ状の磁気記録媒体を製造する製造装置の例である。尚、本実施の形態では、テープ状の磁気記録媒体を製造する製造装置の例で以下説明するが、本発明の磁気記録媒体の製造方法は、磁気ディスクを製造する場合にも適用できる。
【００２６】
図１に示すように、ウエブ状の非磁性支持体１２は、送り出しロール１４から送り出され、その表面に第１のグラビアコータ１６によって、放射性硬化官能基を有する化合物を含有した下塗り層塗料が塗布される。放射性硬化官能基を有する化合物は、放射線、例えば電子線や紫外線などによるエネルギーが与えられると重合乃至架橋して高分子化して硬化する性質を有する化合物を言う。
【００２７】
塗布形成された下塗り層は第１の乾燥装置１７で乾燥された後、放射線照射装置１８によって下塗り層が硬化処理される。放射線照射装置１８による放射線として電子線（ＥＢ）を用いる場合の電子線量は、総量で１Ｍｒａｄ〜２０Ｍｒａｄが好ましく、３〜１０Ｍｒａｄが更に好ましい。放射線として紫外線（ＵＶ）を用いる場合の紫外線量は、１０〜１００ｍＪ／ｃｍ2 が好ましい。電子線及び紫外線の照射装置、照射条件などについては「ＥＢ・ＵＶ硬化技術」（（株）総合技術センター発行）や「低エネルギー電子線照射の応用技術」（２０００、（株）シーエムシー発行）などに記載されている公知の方法を用いることができる。
【００２８】
続いて、硬化された下塗り層の上に、２つのスリットを備えたエクストルージョンコータ２０により、非磁性層塗料と磁性層塗料とが重層同時塗布されて、非磁性層（下層側）と磁性層（上層側）とが形成される。その後、磁性層にＮ極が対向するように配置された一対の永久磁石２２、２２により、非磁性支持体１２の長手方向に磁界が印加され、磁性層中の磁性粉末は、非磁性支持体１２の長手方向に配向される。この長手方向への配向は、磁性粉末の抗磁力の２倍以上で、かつ、１５０００エルステッド以下の磁界の下で行われるのが好ましく、さらに好ましくは、磁性粉末の抗磁力の３倍以上で、かつ、１００００エルステッド以下の磁界により、長手方向への配向が行われる。また、磁性粉末に、磁界が印加される時間は、３ミリ秒乃至１００ミリ秒が好ましく、６ミリ秒乃至１００ミリ秒であることがさらに好ましい。
【００２９】
次いで、第２の乾燥装置２４によって一次的に乾燥され、ソレノイドコイル２６によって、非磁性支持体１２の長手方向に、再度配向処理される。第２の乾燥装置２４による乾燥条件は、磁性層に含まれる全有機溶剤の量を１００重量とした場合、磁性層中の残留溶剤の量が、第２の乾燥装置２４の出口で、未だ湿潤状態、例えば５０ないし９０重量％となるように設定されることが好ましい。また、ソレノイドコイル２６により生成される磁界の強度は、磁性粉末の抗磁力の１倍以上で、かつ、１００００エルステッド以下が好ましく、さらに好ましくは、磁性粉末の抗磁力の１．５倍以上で、かつ、８０００エルステッド以下である。磁性層中の磁性粉末は、一対の永久磁石２２、２２により、いずれも長手方向への配向処理を受けているが、磁性粉末自身の有する磁気的反発力により、長手方向から向きを変えることがある。しかるに、磁性粉末は、ソレノイドコイル２６によって、再度、長手方向に配向されるので、すべての磁性粉末は、非磁性支持体１２の長手方向に配向される。磁気テープの場合はコバルト磁石やソレノイドを用いて長手方向に配向したり、乾燥風の温度、風量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御できるようにすることが好ましく、塗布速度は２０ｍ／分〜１０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい。また、本実施の形態では、永久磁石２２、２２→乾燥装置２４→ソレノイドコイル２６の順に配置したが、乾燥装置２４→永久磁石２２、２２→ソレノイドコイル２６の順に配置してもよい。
【００３０】
こうして磁性層の磁性粉末の配向がなされた後、磁性層及び非磁性層は第３の乾燥装置２８によって最終的に乾燥され、更にカレンダー処理装置３０によってカレンダー処理される。続いて、非磁性支持体１２の裏面に第２のグラビアコータ３２によってバック層塗料が塗布された後、第４の乾燥装置３４によってバック層が乾燥されてから巻取りロール３６に巻き取られる。カレンダー処理装置３０におけるカレンダ処理ロ−ル３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ、３０Ｄ、３０Ｅ、３０Ｆとしては、エポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロ−ルまたは金属ロ−ルで処理するが、特に金属ロ−ル同士で処理することが好ましい。処理温度は、好ましくは５０°Ｃ以上、さらに好ましくは１００°Ｃ以上である。線圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ（≒１９６ｋＮ／ｍ）以上、さらに好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ（≒２９４ｋＮ／ｍ）以上である。
【００３１】
続いて、第２のグラビアコータ３２により非磁性支持体１２の裏面にバック層塗料が塗布された後、バック層が第４の乾燥装置で乾燥された後、巻取りロール３６に巻き取られる。
【００３２】
このようにして製造された磁気記録媒体の原反は、図示しないスリッターによって複数本の磁気テープに裁断された後、例えば不織布とカミソリブレードを磁性層の表面に押し当てるようにしたクリーニング装置でクリーニングされた後、巻取られる。
【００３３】
尚、本発明において、下塗り層及びバック層を塗布する塗布コータとしては、グラビアコータ、ロールコータ、ブレードコータ、スリットを１つ備えたエクストルージョンコータを好適に使用することができ、非磁性層と磁性層との重層同時塗布には支持体加圧型エクストルージョンコータを好適に使用することができる。また、非磁性層と磁性層とは重層同時塗布に限定されるものではなく、先ず非磁性層を塗布して、非磁性層がウエット状態にあるうちに磁性層を塗布する逐次塗布でもよい。また、符号３８は、非磁性支持体１２を所定のテンションで搬送するフィードローラであり、例えば非磁性支持体１２をドラム表面に吸引して搬送するサクションドラム等を使用することができる。
【００３４】
かかる磁気記録媒体の製造装置１０において、下塗り層塗料を調液して第１のグラビアコータ１６（塗布コータ）に送液する調液・送液ライン４０では、下塗り層塗料中の化合物が凝集しない条件下で該下塗り層塗料をハンドリングするように、調液・送液ライン４０が構成される。即ち、下塗り層塗料を調液する調液タンク４２においては、放射性硬化官能基を有する化合物、化合物を溶解する溶媒、その他の結合剤等の原材料は、攪拌翼４４によって攪拌混合されるが、攪拌翼４４の翼先端における周速が２ｍ／秒以下になるようにして液に付与される剪断力が小さくなるようにする。これは、攪拌翼４４の翼４４Ａの先端における周速が２ｍ／秒を超えると、それによる剪断エネルギーで化合物に一部硬化反応が生じてしまい下塗り層塗料中に凝集物が生成され易いためである。また、調液タンク４２から第１のグラビアコータ１６に配管４６を介して送液する送液ポンプ４８は、非加圧型及び非高速摺動型のものを使用することが重要である。非加圧型及び非高速摺動型の送液ポンプ４８としては、プランジャーポンプ、モーノポンプ、ベローズポンプ、ダイラフラムポンプの何れかを好適に使用することができる。これは、加圧型及び高速摺動型の送液ポンプでは、送液ポンプ内で下塗り層塗料に大きな圧縮力及び剪断力が加わるため、それによる圧縮エネルギー及び剪断エネルギーで化合物に一部硬化反応が生じてしまい下塗り層塗料中に凝集物が生成され易いためである。また、調液タンク４２内及び配管４６内での下塗り層塗料の液温は２０°Ｃ〜４０°Ｃの範囲に制御することが重要である。これは、下塗り層塗料の液温が４０°Ｃを超えると、それによる熱エネルギーで化合物に一部硬化反応が生じてしまい下塗り層塗料中に凝集物が生成されてしまうためである。一方、下塗り層塗料の液温が２０°Ｃ未満となり粘度が上昇すると、それだけ調液や送液において大きな剪断エネルギーが下塗り層塗料に加わり、それによる剪断エネルギーで化合物に一部硬化反応が生じてしまい下塗り層塗料中に凝集物が生成され易いためである。調液タンク４２内及び配管４６内での下塗り層塗料の液温は２０°Ｃ〜４０°Ｃの範囲に制御するには、調液タンク４２及び配管４６に保温ジャケット５０を巻いて、保温ジャケット５０に温度調整した媒体を流すか、保温ジャケット５０内に電気コイルを内蔵させて電気的に温度調整するかによって制御することができる。また、保温ジャケット５０以外の方法でもよい。更には、下塗り層塗料の送液中に、超音波発振器やインラインミル等の分散機で分散処理を行うと、そこでもエネルギーを受けて、下塗り層塗料中の化合物が凝集し易くなるので好ましくない。下塗り層塗料の送液中に超音波発振器を設けて下塗り層塗料を分散処理する場合には、２０Hzを超える振動を下塗り層塗料に与えないことが重要である。これらのエネルギーで化合物に一部硬化反応が生じると、結果的に下塗り層表面の荒れや突起の原因となってしまい、安定した平滑面を得ることができなくなり、ひいては磁性層を平滑化することができなくなる。
【００３５】
本発明では、下塗り層塗料を非磁性支持体１２に塗布した際に下塗り層表面に突起となって現れる凝集物が生成されるのを効果的に抑制できるので、平滑度の高い下塗り層を形成することができ、ひいては磁性層表面の平滑性を向上させることができる。また、下塗り層塗料に放射性硬化官能基を有する化合物を含有させることで、低分子量の化合物（分子量が２００〜２０００の範囲であることが好ましい）を使用することができ、下塗り層塗料自体の粘度を下げることができるので、下塗り層塗料が乾燥収縮する過程で下塗り層表面が荒れたり突起が形成されたりするとのを防止できる。また、放射線照射を短時間で行うために反応性に富んだ化合物を使用しても、凝集物の生成が抑制されるので、下塗り層の平滑性を向上することができる。
【００３６】
本発明に使用される２官能以上の放射線硬化型化合物としては、アクリル酸エステル類、アクリルアミド類、メタクリル酸エステル類、メタクリル酸アミド類、アリル化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類等を挙げることができる。２官能の放射線硬化型化合物の具体例としては、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ブタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート等に代表される脂肪族ジオールにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたものを用いることができる。また、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリエーテルポリオールに、アクリル酸、メタクリル酸を付加したポリエーテルアクリレート、ポリエーテルメタクリレートや公知の２塩基酸、グリコールから得られたポリエステルポリオールに、アクリル酸、メタクリル酸を付加させたポリエステルアクリレート、ポリエステルメタクリレートも用いることができる。公知のポリオール、ジオールとポリイソシアネートを反応させたポリウレタンにアクリル酸、メタクリル酸を付加させたポリウレタンアクリレート、ポリウレタンメタクリレートを用いてもよい。ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＦやこれらのアルキレンオキサイド付加物にアクリル酸、メタクリル酸を付加させたものや、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡのジアクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性ジアクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変性ジメタクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート等の環状構造を有するものも用いることができる。
【００３７】
３官能の放射線硬化型化合物の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド変成トリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変成トリアクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ヒドロキシピバルアルデヒド変成ジメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールプロパンのアルキレンオキサイド変成トリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキサイド変成トリメタクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ヒドロキシピバルアルデヒド変成ジメチロールプロパントリメタクリレート等を用いることができる。
【００３８】
４官能以上の放射線硬化型化合物の具体例としては、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、プロピオン酸ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、フォスファゼンのアルキレンオキサイド変成ヘキサアクリレート等を用いることができる。
【００３９】
中でも、具体例として好ましいものは、分子量２００〜２０００の２官能のアクリレート化合物であり、更に好ましいものはビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＦやこれらのアルキレンオキサイド付加物にアクリル酸、メタクリル酸を付加させたものである。
【００４０】
本発明に使用される放射線硬化型化合物は、ポリマー型の結合剤と併用されてもよい。併用される結合剤としては、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエステル、ポリウレタン、アクリル系樹脂等の高分子や従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。放射線として、紫外線を用いる場合は、重合開始剤を併用することが好ましい。重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤及び光アミン発生剤等を用いることができる。
【００４１】
光ラジカル重合剤としては、たとえば、ベンジル、ジアセチル等のα−ジケトン類、ベンゾイン等のアシロイン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のアシロインエーテル類、チオキサントン、２, ４−ジエチルチオキサントン、チオキサントン−４−スルホン酸等のチオキサントン類、ベンゾフェノン、４, ４' −ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、４, ４' −ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン等のベンゾフェノン類、ミヒラーケトン類、アセトフェノン、２−（４−トルエンスルホニルオキシ）−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、α, α' −ジメトキシアセトキシベンゾフェノン、２, ２' −ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−メトキシアセトフェノン、２−メチル［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン等のアセトフェノン類、アントラキノン、１, ４−ナフトキノン等のキノン類、フェナシルクロライド、トリハロメチルフェニルスルホン、トリス（トリハロメチル）−ｓ−トリアジン等のハロゲン化合物、アシルホスフィンオキシド類、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド等の過酸化物等が挙げられる。
【００４２】
また光ラジカル重合剤として、たとえばIRGACURE−１８４、同２６１、同３６９、同５００、同６５１、同９０７（チバ−ガイギー社製）、Darocur −１１７３、同１１１６、同２９５９、同１６６４、同４０４３（メルクジャパン社製）、KAYACURE−DETX、同 MBP、同 DMBI 、同 EPA、同 OA （日本化薬（株）製）、VICURE−１０、同５５（STAUFFER Co.LTD 製）、TRIGONALＰ１（AKZO Co.LTD 製）、SANDORAY 1000 （SANDOZ Co.LTD 製）、DEAP（APJOHN Co.LTD 製）、QUANTACURE−PDO 、同 ITX、同 EPD（WARD BLEKINSOP Co.LTD 製）等の市販品を用いることもできる。
【００４３】
また光カチオン重合開始剤としては、ジアゾニウム塩類、トリフェニルスルホニウム塩類、メタロセン化合物類、ジアリールヨードニウム塩類、ニトロベンジルスルホナート類、α−スルホニロキシケトン類、ジフェニルジスルホン類、イミジルスルホナート類が挙げられる。光カチオン重合開始剤として、アデカウルトラセットＰＰ−３３、ＯＰＴＭＥＲＳＰ−１５０、同１７０（旭電化工業（株）製）（ジアゾニウム塩）、ＯＰＴＯＭＥＲＳＰ−１５０、１７０（旭電化工業（株）製）（スルホニウム塩）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ２６１（チバ−ガイギー（株）製）（メタロセン化合物）等の市販品を用いることもできる。
【００４４】
光アミン発生剤としては、ニトロベンジカーバミメート類、イミノスルホナート類が挙げられる。これらの光重合開始剤は、露光条件（たとえば酸素雰囲気下であるか、無酸素雰囲気下であるか）等によって適宜選択され用いられる。またこれらの光重合開始剤は、２種以上組合わせて用いることもできる。
【００４５】
放射線硬化型化合物あるいは更に他の結合剤や光重合開始剤を含む組成物は、それらを溶解する溶媒にて塗料とされるが、その溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、イソホロン、テトラヒドロフラン、等のケトン類、メタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、イソブチルアルコ−ル、イソプロピルアルコール、メチルシクロヘキサノール、などのアルコ−ル類、酢酸メチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソプロピル、乳酸エチル、酢酸グリコ−ル等のエステル類、グリコ−ルジメチルエーテル、グリコールモノエチルエーテル、ジオキサン、などのグリコールエーテル系、ベンゼン、トルエン、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、などの芳香族炭化水素類、メチレンクロライド、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エチレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン、等の塩素化炭化水素類、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ヘキサン等、及び水等が使用できる。これら溶媒は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物、水分等の不純分がふくまれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。これら溶媒の中でも、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール、水、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、酢酸ブチル等の単独または組み合わせが好ましい。
【００４６】
尚、下塗り層用塗料には、所望の表面性を得るためにフィラーを含有させることも可能である。フィラーの最大径は５０ｎｍ以下が好ましい。５０ｎｍを超えるとドロップアウト（ＤＯ）の原因となる場合がある。しかし、このような下塗り層用塗料の組成を変更して本発明の範囲を外れた下塗り層を形成するような塗料を支持体の他方に塗布してバック層などを形成してテープ状磁気記録媒体を形成してもよい。その場合、更にその下塗り層の上に他の組成の層を形成してもよい。
【００４７】
また、下塗り層は磁性層塗料や非磁性層塗料に対して安定であることが望まれる。従って、下塗り層のメチルエチルケトン（ＭＥＫ）／シクロヘキサノン混合溶液（１：１）への溶出量は０．０〜０．４ｍｇ／ｃｍ2 であることが好ましく、０．０〜０．２ｍｇ／ｃｍ2 であることが更に好ましい。
【００４８】
本発明で設けられる磁性層の厚さは０．０２〜０．５μｍが好ましく、０．０５〜０．２μｍが更に好ましい。また、磁性層は、下塗り層上に非磁性粉末と結合剤を含む非磁性層（下層ともいう）を設けた上に設けることが好ましい。非磁性層の厚さは０．５〜３．０μｍが好ましく、更に０．８〜２．０μｍが好ましい。また、磁性層と非磁性層は、非磁性層が湿潤状態の間に磁性層を設けるウェットオンウェット（Ｗ／Ｗ）塗布により設けることが好ましい。
【００４９】
本発明における磁気記録媒体は磁性層と下塗り層との間に非磁性層を設けても良い。非磁性層を塗布後、非磁性層が湿潤状態の内（Ｗ／Ｗ）でも、下層が乾燥した後、ウェットオンドライ（Ｗ／Ｄ）にでも磁性層を設けることが出来る。重層構成で同時、又は逐次湿潤塗布（Ｗ／Ｗ）では磁性層／非磁性層が同時に形成できるため、カレンダー工程などの表面処理工程を有効に活用でき、超薄層でも磁性層の表面粗さを良化できる。磁性層の抗磁力Ｈｃは１６０ｋＡ/ ｍ以上であることが好ましく、強磁性金属粉末ではＢｍは０．２〜０．５Ｔ、六方晶フェライト粉末では０．１〜０．３Ｔであることが好ましい。
【００５０】
磁性層に使用する強磁性粉末としては、特に制限されるべきものではないが、α−Ｆｅを主成分とする強磁性金属粉末、六方晶フェライト粉末が好ましい。これらの強磁性金属粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましく、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌの少なくとも一つを含むことがさらに好ましい。Ｃｏの含有量はＦｅに対して０原子％以上４０原子％以下が好ましく、さらに好ましくは１５原子％以上３５％以下、より好ましくは２０原子％以上３５原子％以下である。Ｙの含有量は１．５原子％以上１２原子％以下が好ましく、さらに好ましくは３原子％以上１０原子％以下、より好ましくは４原子％以上９原子％以下である。Ａｌは１．５原子％以上１２原子％以下が好ましく、さらに好ましくは３原子％以上１０原子％以下、より好ましくは４原子％以上９原子％以下である。これらの強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特公昭４４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１３号、特公昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５５号、特公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８５０９号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１０３０７号、特公昭４６−３９６３９号、米国特許第３０２６２１５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号などに記載されている。
【００５１】
強磁性粉末には少量の水酸化物、または酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末は公知の製造方法により得られたものを用いることができ、下記の方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方法、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅあるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。このようにして得られた強磁性金属粉末は公知の徐酸化処理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いることができる。
【００５２】
磁性層の強磁性金属粉末をＢＥＴ法による比表面積（ＳBET ）で表せば４５〜８０ｍ2 ／ｇが好ましく、更に好ましくは５０〜７０ｍ2 ／ｇである。４５ｍ2 ／ｇ未満ではノイズが高くなり、８０ｍ2 ／ｇを超えると表面性が得にくく好ましくない。磁性層の強磁性金属粉末の結晶子サイズは８０〜１８０Åが好ましく、更に好ましくは１００〜１８０Å、特に好ましくは１１０〜１７５Åである。強磁性金属粉末の長軸長は０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下が好ましく、更に好ましくは０．０３μｍ以上０．１５μｍ以下であり、特に好ましくは０．０３μｍ以上０．１２μｍ以下である。強磁性金属粉末の針状比は３以上１５以下が好ましく、さらには５以上１２以下が好ましい。強磁性金属粉末の飽和磁化σs は１００〜１８０Ａ・ｍ2 ／ｋｇであり、好ましくは１１０〜１７０Ａ・ｍ2 ／ｋｇ、更に好ましくは１２５〜１６０Ａ・ｍ2 ／ｋｇである。強磁性金属粉末の抗磁力は１６０〜２８０ｋＡ／ｍが好ましく、更に好ましくは１７６〜２４０ｋＡ／ｍである。
【００５３】
強磁性金属粉末の含水率は０．０１〜２％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性金属粉末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性金属粉末のｐＨは、用いる結合剤との組合せにより最適化することが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好ましくは６〜１０である。強磁性金属粉末は必要に応じ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物などで表面処理を施してもかまわない。その量は強磁性金属粉末に対し０．１〜１０％であり表面処理を施すと脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ2 以下になり好ましい。強磁性金属粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に無い方が好ましいが、２００ｐｐｍ以下であれば特に特性に影響を与えることは少ない。また、本発明に用いられる強磁性金属粉末は空孔が少ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さらに好ましくは５容量％以下である。また形状については先に示した粒子サイズについての特性を満足すれば針状、米粒状、紡錘状のいずれでもかまわない。強磁性金属粉末自体のＳＦＤは小さい方が好ましく、０．８以下が好ましい。強磁性金属粉末のＨｃの分布を小さくする必要がある。尚、ＳＦＤが０．８以下であると、電磁変換特性が良好で、出力が高く、また、磁化反転がシャープでピークシフトも少なくなり、高密度デジタル磁気記録に好適である。Ｈｃの分布を小さくするためには、強磁性金属粉末においてはゲ−タイトの粒度分布を良くする、焼結を防止するなどの方法がある。
【００５４】
次に六方晶フェライト粉末について述べる。本発明に用いられる六方晶フェライトとしてバリウムフェライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等がある。具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げられ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ，Ｃｏ，Ｍｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ，Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、ＳｂーＺｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもある。
【００５５】
粒子サイズは六角板径で通常、１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜６０ｎｍであり、特に好ましくは１０〜５０ｎｍである。特にトラック密度を上げるためＭＲヘッドで再生する場合、低ノイズにする必要があり、板径は４０ｎｍ以下が好ましいが、１０ｎｍより小さいと熱揺らぎのため安定な磁化が望めない。１００nmを越えるとノイズが高く、いずれも高密度磁気記録には向かない。板状比（板径／板厚）は１〜１５が望ましい。好ましくは１〜７である。板状比が小さいと磁性層中の充填性は高くなり好ましいが、十分な配向性が得られない。１５より大きいと粒子間のスタッキングによりノイズが大きくなる。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表面積は１０〜１００ｍ2 ／ｇを示す。比表面積は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と符号する。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定する事で比較できる。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均サイズ＝０．１〜２．０である。粒子サイズ分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われている。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する方法等も知られている。磁性体で測定される抗磁力Ｈｃは通常、４０〜４００ｋＡ／ｍ程度まで作成できる。Ｈｃは高い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限される。本発明では磁性体のＨｃは１６０〜３２０ｋＡ／ｍ程度であるが、好ましくは１７６〜２８０ｋＡ／ｍである。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラを越える場合は、１７６ｋＡ／ｍ以上にすることが好ましい。Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御できる。飽和磁化σｓは４０〜８０Ａ・ｍ2 ／ｋｇである。σｓは高い方が好ましいが微粒子になるほど小さくなる傾向がある。σｓ改良のためマグネトプランバイトフェライトにスピネルフェライトを複合すること、含有元素の種類と添加量の選択等が良く知られている。またＷ型六方晶フェライトを用いることも可能である。磁性体を分散する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われている。表面処理材は無機化合物、有機化合物が使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物または水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。量は磁性体に対して０．１〜１０％である。磁性体のｐＨも分散に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１１程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常０．０１〜２．０％が選ばれる。六方晶フェライトの製法としては、（１）酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶化法、（２）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、���生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る水熱反応法、（３）バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１１００°Ｃ以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばない。
【００５６】
本発明における非磁性層は実質的に非磁性であればその構成は制限されるべきものではないが、通常、少なくとも樹脂からなり、好ましくは、粉体、例えば、無機粉末あるいは有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げられる。該無機粉末は、通常、好ましくは非磁性粉末であるが、下層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末も使用され得るものである。
【００５７】
非磁性粉末としては、例えば、金属酸化物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができる。無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単独または組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。これら非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜２μｍが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μｍ〜０．２μｍである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下が好ましく、針状金属酸化物である場合は、長軸長が０．３μｍ以下が好ましく、０．２μｍ以下がさらに好ましい。タップ密度は通常、０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ／ｍｌである。非磁性粉末の含水率は通常、０．１〜５質量％、好ましくは０．２〜３質量％、更に好ましくは０．３〜１．５質量％である。非磁性粉末のｐＨは通常、２〜１１であるが、ｐＨは５．５〜１０の間が特に好ましい。非磁性粉末の比表面積は通常、１〜１００ｍ2 ／ｇ、好ましくは５〜８０ｍ2 ／ｇ、更に好ましくは１０〜７０ｍ2 ／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイズは０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は５〜１００ｍｌ/100ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ/100ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ/100ｇである。比重は１〜１２、好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。モース硬度は４以上、１０以下のものが好ましい。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μｍol／ｍ2 、好ましくは２〜１５μｍol／ｍ2 、さらに好ましくは３〜８μｍol／ｍ2 である。ｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。これらの非磁性粉末の表面には表面処理が施されＡｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＳｎＯ2 、Ｓｂ2 Ｏ3 、ＺｎＯ、Ｙ2 Ｏ3 が存在することが好ましい。特に分散性に好ましいのはＡｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 、ＺｒＯ2 であるが、更に好ましいのはＡｌ2 Ｏ3 、ＳｉＯ2 、ＺｒＯ2 である。これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナを存在させた後にその表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般には好ましい。
【００５８】
非磁性粉末の具体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−１００，ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイトＤＰＮ−２５０，ＤＰＮ−２５０ＢＸ，ＤＰＮ−２４５，ＤＰＮ−２７０ＢＸ，ＤＰＮ−５００ＢＸ，ＤＢＮ−ＳＡ１，ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５１Ｂ，ＴＴＯ−５５Ａ，ＴＴＯ−５５Ｂ，ＴＴＯ−５５Ｃ，ＴＴＯ−５５Ｓ，ＴＴＯ−５５Ｄ，ＳＮ−１００、αヘマタイトＥ２７０，Ｅ２７１，Ｅ３００，Ｅ３０３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ，ＳＴＴ−３０Ｄ，ＳＴＴ−３０，ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイトα−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ，ＭＴ−１００Ｔ，ＭＴ−１５０Ｗ，ＭＴ−５００Ｂ，ＭＴ−６００Ｂ，ＭＴ−１００Ｆ，ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５，ＢＦ−１，ＢＦ−１０，ＢＦ−２０，ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ，ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ，ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ，５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。
【００５９】
非磁性層にカーボンブラックを混合させて表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカーボンブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができる。下層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のような特性を最適化すべきであり、併用することでより効果が得られることがある。
【００６０】
非磁性層のカーボンブラックの比表面積は通常、１００〜５００ｍ2 ／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は通常、２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは３０〜４００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブラックの粒子径は通常、５〜８０ｎｍ、好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２０００，１３００，１０００，９００，８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７２、三菱化成工業社製＃３０５０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２３０，＃４０００，＃４０１０、コロンビアンカーボン社製ＣＯＮＤＵＣＴＥＸＳＣ、ＲＡＶＥＮ８８００，８０００，７０００，５７５０，５２５０，３５００，２１００，２０００，１８００，１５００，１２５５，１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣなどがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上記無機質粉末に対して５０質量％を越えない範囲、非磁性層総質量の４０％を越えない範囲で使用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組合せで使用することができる。本発明で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。
【００６１】
また、非磁性層には有機質粉末を目的に応じて、添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記されているようなものが使用できる。下層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加剤、溶剤、分散方法その他は以下に記載する磁性層のそれが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加剤、分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技術が適用できる。
【００６２】
本発明に使用される結合剤としては、従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１, ０００〜２００, ０００、好ましくは１０, ０００〜１００, ０００、重合度が約５０〜１０００程度のものである。
【００６３】
このような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセタール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオールとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細に記載されている。また、公知の放射線硬化型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９に詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシアネートを組み合わせたものがあげられる。
【００６４】
ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポリウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテルポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポリカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用できる。ここに示したすべての結合剤について、より優れた分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯＭ，−ＳＯ3 Ｍ、−ＯＳＯ3 Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 、−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）2 、（以上につきＭは水素原子、またはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ2 、Ｎ+ Ｒ3 （Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加反応で導入したものをもちいることが好ましい。このような極性基の量は１０-1〜１０-8モル／ｇであり、好ましくは１０-2〜１０-6モル／ｇである。
【００６５】
本発明に用いられるこれらの結合剤の具体的な例としてはユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業社製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノックＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０９，７２０９，東洋紡社製バイロンＵＲ８２００，ＵＲ８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、大日精化社製、ダイフェラミン４０２０，５０２０，５１００，５３００，９０２０，９０２２、７０２０，三菱化成社製、ＭＸ５００４，三洋化成社製サンプレンＳＰ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０，Ｆ２１０などがあげられる。
【００６６】
非磁性層、磁性層に用いられる結合剤は非磁性粉末または強磁性粉末に対し、５〜５０質量％の範囲、好ましくは１０〜３０質量％の範囲で用いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０質量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０質量％、ポリイソシアネートは２〜２０質量％の範囲でこれらを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンのみ又はポリウレタンとイソシアネートのみを使用することも可能である。本発明において、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１５０°Ｃ、好ましくは０°Ｃ〜１００°Ｃ、更に好ましくは３０°Ｃ〜９０°Ｃ、破断伸びが１００〜２０００％、破断応力は通常、０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ2 （≒０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ2 （≒０．４９〜９８ＭＰａ）が好ましい。
【００６７】
磁気記録媒体は２層以上から構成され得る。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ非磁性層、磁性層とで変えることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各層で結合剤量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁性層の結合剤量を増量することが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするためには、非磁性層の結合剤量を多くして柔軟性を持たせることができる。
【００６８】
本発明に用いるポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４' −ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、また、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソシアネート等を使用することができる。これらのイソシアネート類の市販されている商品名としては、日本ポリウレタン社製、コロネートＬ、コロネートＨＬ，コロネート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ，ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ−１０２，タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製、デスモジュールＬ，デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ，デスモジュールＨＬ，等がありこれらを単独または硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合せで各層とも用いることができる。
【００６９】
磁性層に使用されるカーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック、等を用いることができる。比表面積は５〜５００ｍ2 ／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、粒子径は５ｎｍ〜３００ｎｍ、好ましくは１０〜２５０ｎｍ、更に好ましくは２０〜２００ｎｍである。ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃ、が好ましい。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ２０００、１３００、１０００、９００、９０５、８００，７００、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７２、旭カーボン社製、＃８０、＃６０，＃５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃９００，＃１０００＃３０，＃４０、＃１０Ｂ、コロンビアンカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸＳＣ、ＲＡＶＥＮ１５０、５０，４０，１５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ−Ｐ、日本ＥＣ社製、ケッチェンブラックＥＣ、などがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは単独、または組合せで使用することができる。カーボンブラックを使用する場合は磁性体に対する量の０．１〜３０％でもちいることが好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用されるこれらのカーボンブラックは上層磁性層、下層非磁性層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。磁性層で使用できるカーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」カーボンブラック協会編を参考にすることができる。
【００７０】
本発明に用いられる研磨剤としてはα化率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主としてモース硬度６以上の公知の材料が単独または組合せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは０．０１〜２μｍが好ましく、更に好ましくは０．０５〜１．０μｍ、特に好ましくは０．０５〜０．５μｍの範囲である。特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるには必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果をもたせることも可能である。タップ密度は０．３〜２ｇｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積は１〜３０ｍ2 ／ｇが好ましい。本発明に用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ６０、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ１００、レイノルズ社製、ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、不二見研磨剤社製、ＷＡ１００００、上村工業社製、ＵＢ２０、日本化学工業社製、Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社製、ＴＦ１００、ＴＦ１４０、イビデン社製、ベータランダムウルトラファイン、昭和鉱業社製、Ｂ−３などが挙げられる。これらの研磨剤は必要に応じ非磁性層に添加することもできる。非磁性層に添加することで表面形状を制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりすることができる。これら磁性層、非磁性層の添加する研磨剤の粒径、量はむろん最適値に設定すべきものである。
【００７１】
磁性層と非磁性層に使用される、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分散効果、可塑効果、などをもつものが使用される。二硫化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホスフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール、（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族アミン、などが使用できる。
【００７２】
これらの具体例としては脂肪酸では、カプリン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エライジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキシジエチルステアレート、２ーエチルヘキシルステアレート、２ーオクチルドデシルパルミテート、２ーヘキシルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレート、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリデシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチルグリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレイル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリルアルコール、ラウリルアルコール、などがあげられる。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されている。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわない。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好ましくは１０％以下である。
【００７３】
本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじみ出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエステル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるなど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。一般には潤滑剤の総量として磁性体または非磁性粉末に対し、０．１％〜５０％、好ましくは２％〜２５％の範囲で選択される。
【００７４】
また，本発明で使用される添加剤の全て又はその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより目的が達成される場合がある。また、目的によってはカレンダーした後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。本発明で用いられる有機溶剤は公知のものが使用でき、例えば特開昭６−６８４５３に記載の溶剤を用いることができる。
【００７５】
磁気記録媒体の厚み構成は非磁性支持体が２〜１００μｍ、好ましくは２〜８０μｍである。コンピューターテープの非磁性支持体は、３．０〜６．５μｍ（好ましくは、３．０〜６．０μｍ、更に好ましくは、４．０〜５．５μｍ）の範囲の厚さのものが使用される。
【００７６】
磁気記録媒体の磁性層の厚みは用いるヘッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化されるものである。磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用できる。
【００７７】
非磁性層は実質的に非磁性であればその効果を発揮するものであり、たとえば不純物としてあるいは意図的に少量の磁性体を含んでもよい。実質的に非磁性とは下層の残留磁束密度が０．１Ｔ以下または抗磁力が８ｋＡ／ｍ以下であることを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力をもたないことを示す。
【００７８】
また、一般に、コンピュータデータ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテープに比較して、繰り返し走行性が強く要求される。このような高い走行耐久性を維持させるために、バック層には、カーボンブラックと無機粉末が含有されていることが好ましい。
【００７９】
カーボンブラックは、平均粒子サイズの異なる二種類のものを組み合わせて使用することが好ましい。この場合、平均粒子サイズが１０〜２０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと平均粒子サイズが２３０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックを組み合わせて使用することが好ましい。一般に、上記のような微粒子状のカーボンブラックの添加により、バック層の表面電気抵抗を低く設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録装置によっては、テープの光透過率を利用し、動作の信号に使用しているものが多くあるため、このような場合には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効になる。また微粒子状カーボンブラックは一般に液体潤滑剤の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄与する。一方、粒子サイズが２３０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機能を有しており、またバック層の表面に微小突起を形成し、接触面積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与する。
【００８０】
微粒子状カーボンブラックの具体的な商品としては、以下のものを挙げることができる。ＲＡＶＥＮ２０００Ｂ（１８ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（１７ｎｍ）（以上、コロンビアカーボン社製）、ＢＰ８００（１７ｎｍ）（キャボット社製）、ＰＲＩＮＮＴＥＸ９０（１４ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（１５ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５（１６ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５（１７ｎｍ）（以上、デグサ社製）、＃３９５０（１６ｎｍ）（三菱化成工業（株）製）。
【００８１】
また、粗粒子カーボンブラックの具体的な商品の例としては、サーマルブラック（２７０ｎｍ）（カーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮＭＴＰ（２７５ｎｍ）（コロンビアカーボン社製）を挙げることができる。
【００８２】
バック層において、平均粒子サイズの異なる２種類のものを使用する場合、１０〜２０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと２３０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラックの含有比率（質量比）は、前者：後者＝９８：２〜７５：２５の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、９５：５〜８５：１５の範囲である。
【００８３】
バック層中のカーボンブラック（２種類のものを使用する場合には、その全量）の含有量は、結合剤１００質量部に対して、通常３０〜８０質量部の範囲であり、好ましくは、４５〜６５質量部の範囲である。
【００８４】
無機粉末は、硬さの異なる二種類のものを併用することが好ましい。具体的には、モース硬度３〜４．５の軟質無機粉末とモース硬度５〜９の硬質無機粉末とを使用することが好ましい。モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末を添加することで、繰り返し走行による摩擦係数の安定化を図ることができる。しかもこの範囲の硬さでは、摺動ガイドポールが削られることもない。またこの無機粉末の平均粒子サイズは、３０〜５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。
【００８５】
モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末としては、例えば、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、珪酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、及び酸化亜鉛を挙げることができる。これらは、単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用することができる。
【００８６】
バック層内の軟質無機粉末の含有量は、カーボンブラック１００質量部に対して１０〜１４０質量部の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、３５〜１００質量部である。
【００８７】
モース硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加することにより、バック層の強度が強化され、走行耐久性が向上する。これらの無機粉末をカーボンブラックや前記軟質無機粉末と共に使用すると、繰り返し摺動に対しても劣化が少なく、強いバック層となる。またこの無機粉末の添加により、適度の研磨力が付与され、テープガイドポール等への削り屑の付着が低減する。特に軟質無機粉末と併用すると、表面の粗いガイドポールに対しての摺動特性が向上し、バック層の摩擦係数の安定化も図ることができる。
【００８８】
硬質無機粉末は、その平均粒子サイズが８０〜２５０ｎｍ（更に好ましくは、１００〜２１０ｎｍ）の範囲にあることが好ましい。
【００８９】
モース硬度が５〜９の硬質無機質粉末としては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、及び酸化クロム（Ｃｒ2 Ｏ3 ）を挙げることができる。これらの粉末は、それぞれ単独で用いても良いし、あるいは併用しても良い。これらの内では、α−酸化鉄又はα−アルミナが好ましい。硬質無機粉末の含有量は、カーボンブラック１００質量部に対して通常３〜３０質量部であり、好ましくは、３〜２０質量部である。
【００９０】
バック層に前記軟質無機粉末と硬質無機粉末とを併用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉末との硬さの差が、２以上（更に好ましくは、２．５以上、特に、３以上）であるように軟質無機粉末と硬質無機粉末とを選択して使用することが好ましい。
【００９１】
バック層には、前記それぞれ特定の平均粒子サイズを有するモース硬度の異なる二種類の無機粉末と、前記平均粒子サイズの異なる二種類のカーボンブラックとが含有されていることが好ましい。
【００９２】
バック層には、潤滑剤を含有させることができる。潤滑剤は、前述した非磁性層、あるいは磁性層に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から適宜選択して使用できる。バック層において、潤滑剤は、結合剤１００質量部に対して通常１〜５質量部の範囲で添加される。
【００９３】
本発明において、下塗り層が設けられる非磁性支持体は、特に制限されるべきものではないが、実質的に非磁性で可撓性のものが好ましい。本発明に用いられる可撓性支持体としてはポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、芳香族ポリアミド又は脂肪族ポリアミド、ポリベンゾオキサゾ−ルなどの公知のフィルムが使用できる。ポリエチレンナフタレート、ポリアミドなどの高強度支持体を用いることが好ましい。また必要に応じ、磁性面とベ−ス面の表面粗さを変えるため特開平３−２２４１２７に示されるような積層タイプの支持体を用いることもできる。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっても良い。また支持体としてアルミまたはガラス基板を適用することも可能である。
【００９４】
本発明に使用する非磁性支持体として、ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄで測定した中心面平均表面粗さＲａは８．０ｎｍ程度以下のものが好ましい。本発明は下塗り層によりＲａを低く設定できるので、比較的Ｒａの大きなものでも十分対処でき、コスト的に有利である。これらの非磁性支持体は、０．５μｍ以上の粗大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に添加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロールされるものである。これらのフィラーとしては一例としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機粉末があげられる。支持体の最大高さＲｍａｘは１μｍ以下、十点平均粗さＲｚは０．５μｍ以下、中心面山高さＲｐは０．５μｍ以下、中心面谷深さＲｖは０．５μｍ以下、中心面面積率Ｓｒは１０％以上、９０％以下、平均波長λａは５μｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。所望の電磁変換特性と耐久性を得るため、これら支持体の表面突起分布をフィラーにより任意にコントロールできるものであり、０．０１〜１μｍの大きさのもの各々を０．１ｍｍ2 あたり０〜２０００個の範囲でコントロールすることができる。本発明に用いられる支持体のＦ−５値は好ましくは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ2 （≒４９〜４９０ＭＰａ）、また、支持体の１００°Ｃ３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０°Ｃ３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。破断強度は５〜１００Ｋｇ／ｍｍ2 （≒４９〜９８０ＭＰａ）、弾性率は１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2 （≒０．９８〜１９．６ＧＰａ）が好ましい。温度膨張係数は１０-4〜１０-8／°Ｃであり、好ましくは１０-5〜１０-6／°Ｃである。湿度膨張係数は１０-4／ＲＨ％以下であり、好ましくは１０-5／ＲＨ％以下である。これらの熱特性、寸法特性、機械強度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼ等しいことが好ましい。
【００９５】
本発明における磁気記録媒体の磁性層の飽和磁束密度は強磁性金属微粉末を用いた場合０．２〜０．５Ｔ、六方晶フェライトを用いた場合は０．１〜０．３Ｔである。抗磁力Ｈｃは通常、１２０〜４００ｋＡ／ｍであるが、好ましくは１３６〜２４０ｋＡ／ｍである。抗磁力の分布は狭い方が好ましく、ＳＦＤ（スイッチング・フィールド・ディストリビューション）およびＳＦＤｒは０．６以下が好ましい。磁気テープの場合、角型比は０．７以上、好ましくは０．８以上である。
【００９６】
磁気記録媒体のヘッドに対する摩擦係数は温度−１０〜４０°Ｃ、湿度０〜９５％の範囲において通常０．５以下、好ましくは０．３以下、表面固有抵抗は好ましくは磁性面１０4 〜１０12オ−ム／ｓｑ、帯電位は−５００Ｖ〜＋５００Ｖが好ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾性率は面内各方向で好ましくは１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2 （≒９８０〜１９６００Ｎ／ｍｍ2 ）、破断強度は好ましくは１０〜７０Ｋｇ／ｍｍ2 （≒９８〜６８６Ｎ／ｍｍ2 ）、磁気記録媒体の弾性率は面内各方向で好ましくは１００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ2 （≒９８０〜１４７００Ｎ／ｍｍ2 ）、残留のびは好ましくは０．５％以下、１００°Ｃ以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下である。磁性層のガラス転移温度（１１０Hzで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０°Ｃ以上１２０°Ｃ以下が好ましく、下層のそれは０°Ｃ〜１００°Ｃが好ましい。損失弾性率は１×１０３〜８×１０４Ｎ／ｃｍ2 の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着故障が発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体の面内各方向で１０％以内でほぼ等しいことが好ましい。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ2 以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ2 以下である。塗布層が有する空隙率は下層、上層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるディスク媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好ましいことが多い。
【００９７】
磁性層の中心面平均表面粗さＲａはＷＹＣＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄを用いて約２５０μｍ×２５０μｍの面積での測定で好ましくは４．０ｎｍ以下、更に好ましくは３．８ｎｍ以下、特にに好ましくは３．５ｎｍ以下である。磁性層の最大高さＲｍａｘは０．５μｍ以下、十点平均粗さＲｚは０．３μｍ以下、中心面山高さＲｐは０．３μｍ以下、中心面谷深さＲｖは０．３μｍ以下、中心面面積率Ｓｒは２０％以上、８０％以下、平均波長λａは５μｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。磁性層の表面突起は０．０１〜１μｍの大きさのものを０〜２０００個の範囲で任意に設定することが可能であり、これにより電磁変換特性、摩擦係数を最適化することが好ましい。これらは支持体のフィラ−による表面性のコントロールや磁性層に添加する粉体の粒径と量、カレンダー処理のロール表面形状などで容易にコントロールすることができる。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ましい。
【００９８】
磁気記録媒体で非磁性層と磁性層を有する場合、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができるのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。
【実施例】
【００９９】
以下、本発明の具体的実施例を磁気テープの作成の例で説明するが、本発明はこれに限定されるべきものではない。
【０１００】
［１］塗料の作成
（下塗り層塗料の組成）
・エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡのジアクリレート        ２０重量部
・メチルエチルケトン                                            ８０重量部
（磁性層塗料の組成）
・強磁性金属粉末                                              １００重量部
組成：Ｃｏ／Ｆｅ＝２１原子％、Ａｌ／Ｆｅ＝７原子％、Ｙ／Ｆｅ＝５原子％        平均長軸長：０．０６μｍ、平均針状比：６Ｈｃ：２３１０Ｏｅ（１８５ｋＡ          ／ｍ）、σｓ：１３７Ａ・ｍ2 ／ｋｇ
・塩化ビニル系共重合体                                          １２重量部
・ポリウレタン樹脂                                                ３重量部
・α−アルミナ                                                    ２重量部
・カ−ボンブラック                                                １重量部
・ブチルステアレート                                              １重量部
・ステアリン酸                                                    ５重量部
・メチルエチルケトン                                          １００重量部
・シクロヘキサノン                                              ２０重量部
・トルエン                                                      ６０重量部
（非磁性層塗料の組成）
・非磁性粉末ＴｉＯ2 結晶系ルチル                                ８０重量部
平均粒子径：３６ｎｍ、ＳBET ：４０ｍ2 ／ｇ、ｐＨ：７、ＴｉＯ2 含有量９０％以上、ＤＢＰ吸油量２７〜３８ｍｌ／１００ｇ
・カ−ボンブラック                                              ２０重量部
・塩化ビニル共重合体                                            １２重量部
・ポリウレタン樹脂                                                ５重量部
・フェニルホスホン酸                                              ４重量部
・ブチルステアレート                                              １重量部
・ステアリン酸                                                    ３重量部
・メチルエチルケトン                                          ２５０重量部
・シクロヘキサン                                                ５０重量部
［２］磁気テープ試料の作成
上記組成の下塗り層塗料を調液タンク４２で調液してグラビアコータ１６に送液する調液・送液ライン４０における下塗り層塗料のハンドリング条件を表１のように試験１〜試験１３の１３試験区とした。そして、１３試験区のハンドリング条件で作成した下塗り層塗料について、厚さ４．４μｍの非磁性のアラミド支持体１２（商品名：ミクトロン）の表面に厚み０．５μｍになるように塗布し、下塗り層を第１の乾燥装置１７で乾燥した後、放射線照射装置１８により電子線を照射して下塗り層を硬化した。その後、非磁性支持体１２を巻き取ることなく、エクストルージョンコータ２０により下塗り層の上に非磁性層と磁性層とを次のように重層同時塗布した。
【０１０１】
即ち、上記の磁性層塗料及び非磁性層塗料について、各成分をニーダで混練したのち、サンドミルを用いて４時間分散させた。得られた分散液にポリイソシアネートを非磁性層塗料には２．５重量部、磁性層塗料には３重量部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン４０重量部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗料をそれぞれ調製した。
【０１０２】
そして、得られた非磁性層塗料を乾燥後の下層の厚さが１．７μｍになるように更にその上に磁性層の厚さが０．１５μｍになるように、２つのスリットを備えたエキストルージョンコータ２０で上記の如く形成した下塗り層の上に同時重層塗布を行い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに０．６Ｔの磁力を持つ永久磁石（コバルト磁石）２２と０．６Ｔの磁力を持つソレノイドコイル２６により配向させた。乾燥後、金属ロールのみから構成される７段のカレンダー処理装置３０で処理した。
【０１０３】
その後、第２のグラビアコータ３２で厚み０．５μｍのバック層（カ−ボンブラック平均粒子サイズ：１７ｎｍ１００重量部、炭酸カルシウム平均粒子サイズ：４０ｎｍ８０重量部、αアルミナ平均粒子サイズ：２００ｎｍ５重量部をニトロセルロ−ス樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネ−トに分散）を塗布した後、第４の乾燥装置３４でバック層を乾燥し、巻取りロール３６に巻き取った。これにより、磁気記録媒体の原反を製造した。
【０１０４】
製造した磁気記録媒体の原反をスリッタで３．８ｍｍの幅にスリットして磁気テープを作成し、この磁気テープにテープクリ−ニング装置の不織布とカミソリブレードを押し当てることにより磁性層の表面のクリーニングを行い、磁気テープ試料を得た。
【０１０５】
【表１】
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【０１０６】
試験１のハンドリング条件は、調液タンク４２での調液操作において、翼径が２０ｃｍのパドル型の攪拌翼を６０ｒｐｍで回転させて翼先端の周速を１．２５ｍ／秒（周速２ｍ／秒以下を満たす）にすると共に、４０°Ｃ（液温度２０〜４０°Ｃの範囲を満たす）の液温度で１０分間攪拌混合した。また、調液タンク４２からグラビアコータ１６への下塗り層塗料の送液操作において、非加圧型及び非高速摺動型のダイアフラムポンプで液温３５°Ｃ（液温度２０〜４０°Ｃの範囲を満たす）で送液すると共に送液中の分散処理は行わなかった。
【０１０７】
試験２のハンドリング条件は、試験１のダイヤフラム形式を非加圧型及び非高速摺動型のモーノポンプに変更したものである。
【０１０８】
試験３のハンドリング条件は、調液タンク４２での調液操作において、翼径が１０ｃｍのディゾルバー型の攪拌翼を１２００ｒｐｍで回転させて翼先端の周速を１２．６ｍ／秒（周速２ｍ／秒以下を超える）にすると共に、４０°Ｃ（液温度２０〜４０°Ｃの範囲を満たす）の液温度で１０分間攪拌混合した。送液操作は試験１と同様である。
【０１０９】
試験４のハンドリング条件は、試験３におけるディゾルバー型の攪拌翼を６００ｒｐｍで回転させて翼先端の周速を６．３ｍ／秒（周速２ｍ／秒以下を超える）にした以外は試験３と同様である。
【０１１０】
試験５のハンドリング条件は、試験３におけるディゾルバー型の攪拌翼を２００ｒｐｍで回転させて翼先端の周速を２．１ｍ／秒（周速２ｍ／秒以下を超える）にした以外は試験３と同様である。
【０１１１】
試験６のハンドリング条件は、試験５の攪拌時間を１０分から２０分にした以外は試験５と同様である。
【０１１２】
試験７のハンドリング条件は、試験１の調液操作における液温度を４６°Ｃ（液温度２０〜４０°Ｃの範囲を超える）にした以外は試験１と同様である。
【０１１３】
試験８のハンドリング条件は、試験１の送液操作における送液ポンプを、非加圧型及び非高速摺動型のダイアフラムポンプから加圧型及び高速摺動型のギアポンプに変更した以外は試験１と同様である。
【０１１４】
試験９のハンドリング条件は、試験１の送液操作における送液ポンプを、非加圧型及び非高速摺動型のダイアフラムポンプから加圧型及び高速摺動型のキャンドポンプに変更した以外は試験１と同様である。
【０１１５】
試験１０のハンドリング条件は、試験１の送液操作における下塗り層塗料の送液中にインラインミルで分散処理した以外は試験１と同様である。
【０１１６】
試験１１のハンドリング条件は、試験１の送液操作における下塗り層塗料の送液中に振動数が３０Hzの超音波発振器で分散処理した以外は試験１と同様である。
【０１１７】
試験１２のハンドリング条件は、試験１の送液操作における液温度を３５°Ｃから４５°Ｃ（液温度２０〜４０°Ｃの範囲を超える）にした以外は試験１と同様である。
【０１１８】
試験１３のハンドリング条件は、調液タンク４２での調液操作において、翼径が２０ｃｍのパドル型の攪拌翼を１００ｒｐｍで回転させて翼先端の周速を２．１ｍ／秒（周速２ｍ／秒以下を超える）にすると共に、４５°Ｃ（液温度２０〜４０°Ｃの範囲を超える）の液温度で１０分間攪拌混合した。また、調液タンク４２からグラビアコータ１６への下塗り層塗料の送液操作において、加圧型及び高速摺動型のギアポンプで液温４５°Ｃ（液温度２０〜４０°Ｃの範囲を超える）で送液すると共に送液中にインラインミルで分散処理を行った。
【０１１９】
（評価結果）
表１に示した試験区１〜１３のハンドリング条件を経て非磁性支持体１２に塗布形成された下塗り層、及び最終的に製造された磁気テープ試料について、下塗り層の表面粗さＲａ及び標準偏差、下塗り層のＰＮ及び標準偏差、磁気テープのＣＮ比（ｄＢ）を評価した。また、各評価の評価方法は次の通りである。
【０１２０】
(1) 下塗り層のＲａは、ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄで２５０μｍ角を測定した中心面平均粗さＲａを５回測定し、その平均及び標準偏差を算出した。
【０１２１】
(2) 下塗り層のＰＮ（２０ｎｍ以上）は、デジタルインスツルメンツ社のナノスコープ３（ＡＭＦ：原子間力顕微鏡）を用いて稜角７０°の四角錘のＳｉＮの探針を使って、３０μｍ平方角（９００μｍ2 ) の中の、突起を５回測定し、その平均及び標準偏差を算出した。ＰＮ（２０ｎｍ以上）とは、この基準面以上の高さが２０ｎｍ以上である突起の３０μｍ角当り（９００μｍ2 ) の総数で突起密度を示し、ＰＮ（２０ｎｍ以上）が小さいければ小さい程好ましい。
【０１２２】
(3) ＣＮ比（テープ）は、記録ヘッド（ＭＩＧ、ギャップ０．１５μｍ、１．８Ｔ）再生用ＭＲヘッドをドラムテスターに取り付けて測定した。ヘッドメディア相対速度１〜３ｍ／分、ノイズは変調ノイズを測定した。尚、面記録密度は、０．５７Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ2 （トラックピッチ：６．８μｍ、ビット長：０．１６５μｍ）とした。また、試験１のＣＮ比を０．０ｄＢとして、これを基準として他の試験区における磁気テープのＣＮ比を評価した。
【０１２３】
評価結果を表２に示した。
【０１２４】
【表２】
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【０１２５】
尚、試験５、６は目視による確認でも原材料の混合ができる程に調液タンク４２内の液が流動していなかったので、その下塗り塗布液での塗布は行わなかった。従って、磁気テープの製造はしなかった。
【０１２６】
表２の評価結果から分かるように、調液操作において攪拌翼先端の周速を２ｍ／秒以下にする第１の条件、送液操作において非加圧型及び非高速摺動型の送液ポンプを使用する第２の条件、送液中に２０Hz以上の振動による分散処理を行わない第３の条件、調液及び送液操作における液温を２０〜４０°Ｃの範囲にする第４の条件の全てを満足する試験１及び２は、下塗り層の表面粗さＲａ及びＰＮが小さく、磁気テープのＣＮ比も他の試験区より良い結果であった。下塗り層の表面粗さＲａ及びＰＮだけを見ると、他の試験区でも同じ結果のものもあるが、試験１及び２は標準偏差の点で他の試験区よりも顕著改良された。
【０１２７】
また、上記した第１の条件〜第４の条件のうちの何れかを満足しない試験３〜試験１２は、試験１及び２よりも劣る結果となるが、それでも第１の条件〜第４の条件の全てを満足しない試験１３に比べて良い結果となった。このことから、第１の条件〜第４の条件のそれぞれが下塗り層の平滑化に寄与しており、第１の条件〜第４の条件の条件を全て満足することが最も好ましいことが分かった。
【図面の簡単な説明】
【０１２８】
【図１】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法を適用する製造装置の一例を示した全体構成図
【符号の説明】
【０１２９】
１０…磁気記録媒体の製造装置、１２…非磁性支持体、１４…送り出しロール、１６…第１のグラビアコータ、１７…第１の乾燥装置、１８…放射線照射装置、２０…エクストルージョンコータ、２２…永久磁石（コバルド磁石）、２４…第２の乾燥装置、２６…ソレノイドコイル、２８…第３の乾燥装置、３０…カレンダー処置装置、３２…第２のグラビアコータ、３４…第４の乾燥装置、３６…巻取りロール、３８…フィードローラ、４０…調液・送液ライン、４２…調液タンク、４４…攪拌翼、４４Ａ…翼（羽根）、４６…配管、４８…送液ポンプ、５０…保温ジャケット
【図１】
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