(57)【要約】【課題】凹凸転写性と解像性が両立する拡散反射下地層を形成するための感光性樹脂、感光性エレメント、これを用いた反射型液晶表示装置用拡散反射板、およびその製造方法、ならびにそれを用いた反射型液晶表示装置を提供する。【解決手段】（Ｉ）共重合成分として、不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（ａ）、エポキシ基含有不飽和化合物（ｂ）、を必須成分として得られるアクリル系ポリマ（ｃ）、（ＩＩ）少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、（ＩＩＩ）光重合開始剤、を含有する拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物。前記樹脂組成物が凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に積層されている拡散反射下地層形成用感光性エレメント。前記エレメントを使用した反射型液晶表示装置用核酸反射板。【選択図】          なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ｉ）共重合成分として、不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（ａ）、エポキシ基含有不飽和化合物（ｂ）、を必須成分として得られるアクリル系ポリマ（ｃ）、
（ＩＩ）少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、
（ＩＩＩ）光重合開始剤、
を含有する拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物。
【請求項２】
請求項１記載の感光性樹脂組成物が、凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に積層されている拡散反射下地層形成用感光性エレメント。
【請求項３】
請求項２記載の拡散反射下地層形成用感光性エレメントに、活性光線を照射して露光部を光硬化させた後、仮支持体を剥離し、必要に応じて熱硬化させて凹凸形状を有する拡散反射下地層を形成し、さらに拡散反射下地層上に反射膜を形成した、反射型液晶表示装置用拡散反射板
【請求項４】
凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に請求項１に記載の拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物を積層し、活性光線を照射して露光部を光硬化させた後、仮支持体をはく離、必要に応じて熱硬化させ、所望の凹凸形状を有する拡散反射下地層を形成し、さらに拡散反射下地層上に反射膜を形成する、反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法。
【請求項５】
請求項３記載の反射型液晶表示装置用拡散反射板を用いた反射型液晶表示装置
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置、なかでも反射型液晶表示装置に使用する拡散反射下地層を形成するための感光性樹脂、感光性エレメント、これを用いた反射型液晶表示装置用拡散反射板、およびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶表示装置は、ノート型パソコン、電子手帳、携帯情報端末機、アミューズメント機器、携帯電話機等、あらゆる用途に利用されており、特にこれらのうち、携帯用機器については、バックライトが不要となるため消費電力が小さく、また薄型化や軽量化が可能な観点から、反射型液晶表示装置が多く用いられつつある。
一般に反射型液晶表示装置では、光源として外光の反射を利用しているが、外光をより効率良く利用して明るい表示を得るためには、あらゆる角度からの入射光に対して、表示画面に垂直な方向に散乱する光の強度を増加させる必要がある。
これを実現するための有用な手法として、光を拡散反射し得る凹凸面となるようにした転写フイルムを使用し、転写フイルムの薄膜層の被転写基板への接着面を基板表面に貼り合わせ、仮支持体をはく離して基板に薄膜層を転写し、さらに薄膜層上に金属薄膜を賦与することにより拡散反射板を形成する方法（特許文献１参照）が提案されている。
【０００３】
【特許文献１】特開２０００−４７１９９号
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、この方法で拡散反射板を作製する際には、拡散反射下地層用材料の選定が難しく、従来の方法では歩留まり良く製造できないという問題点があった。それは凹凸転写性と解像性との両立の問題である。
特にこれは、例えば透過モードが付属する反射型液晶表示装置において、拡散反射層の一部を除去してカラーフィルターに膜厚差をつけ、透過モードと反射モードとでの色目を補正する、というように、高精細な寸法で拡散反射層を部分的に除去することが必要となる場合に発生する問題である。
拡散反射板が光を拡散反射し得る凹凸形状を有するよう作製するためには、例えば感光性エレメントにより拡散反射下地層を形成する場合においては、仮支持体の凹凸形状をきちんと再現させるために活性光線を十分照射して光反応を促進させる必要がある。しかし活性光線量が過剰になると、拡散反射層を設けたくない部分がネガマスク等で遮光しているにもかかわらず露光かぶりしてしまい、アルカリ水溶液等の現像液などで除去することができなくなってしまう。また逆に、拡散反射層を設けたくない部分をきちんと除去するために活性光線量を抑制すると、凹凸形状をきちんと再現することができなくなってしまい、凹凸転写性と解像性とを両立させることが困難であった。
本発明は、凹凸転写性と解像性が両立する拡散反射下地層を形成するための感光性樹脂、感光性エレメント、これを用いた反射型液晶表示装置用拡散反射板、およびその製造方法、ならびにそれを用いた反射型液晶表示装置を提供する。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
（１）本発明は、（Ｉ）共重合成分として、不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（ａ）、エポキシ基含有不飽和化合物（ｂ）、を必須成分として得られるアクリル系ポリマ（ｃ）、
（ＩＩ）少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物、
（ＩＩＩ）光重合開始剤、
を含有する拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物に関する。
（２）また、本発明は、（１）記載の感光性樹脂組成物が、凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に積層されている拡散反射下地層形成用感光性エレメントに関する。
（３）また、本発明は、（２）記載の拡散反射下地層形成用感光性エレメントに、活性光線を照射して露光部を光硬化させた後、仮支持体を剥離し、必要に応じて熱硬化させて凹凸形状を有する拡散反射下地層を形成し、さらに拡散反射下地層上に反射膜を形成した、反射型液晶表示装置用拡散反射板に関する。
（４）また、本発明は、凹凸形状を有する仮支持体の凹凸形状面上に（１）に記載の拡散反射下地層形成用感光性樹脂組成物を積層し、活性光線を照射して露光部を光硬化させた後、仮支持体をはく離、必要に応じて熱硬化させ、所望の凹凸形状を有する拡散反射下地層を形成し、さらに拡散反射下地層上に反射膜を形成する、反射型液晶表示装置用拡散反射板の製造方法に関する。
（５）また、本発明は、（３）記載の反射型液晶表示装置用拡散反射板を用いた反射型液晶表示装置に関する。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
【０００７】
本発明における感光性樹脂組成物は、（Ｉ）共重合成分として、不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（ａ）、エポキシ基含有不飽和化合物（ｂ）、を必須成分として得られるアクリル系ポリマ（ｃ）を必須成分として含有する。
【０００８】
不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（ａ）としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、２ーカルボキシエチルメタクリル酸などのモノカルボン酸、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸などのジカルボン、およびこれらジカルボン酸の無水物が挙げられる。これらのうち、アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸などが共重合反応性、および入手が容易である点から好ましく用いられる。これらは単独で用いても、混合して用いてもよい。
【０００９】
これらの不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（ａ）は、好ましくは５〜５０重量部、特に好ましくは１０〜４０重量部含有している。含有量が５重量部未満の場合、現像性が著しく劣る恐れがある。また５０重量部を超えると、感光性樹脂組成物の保存安定性、硬化後の塗膜の耐湿性、耐アルカリ性等が悪くなる。
【００１０】
本発明に使用される、エポキシ基含有不飽和化合物（ｂ）としては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−３，４−エポキシブチル、メタクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、アクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−６，７−エポキシヘプチル、メタクリル酸−β−メチルグリシジル、メタクリル酸−β−エチルグリシジル、メタクリル酸−−プロピルグリシジル、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル等が挙げられ、これらは単独で用いても、混合して用いてもよい。これらの中でも、共重合反応性、凹凸転写性、入手容易性、廉価性の点から、グリシジルメタクリレートが特に好ましい。これらは単独で用いても、混合して用いてもよい。
【００１１】
これらのエポキシ基含有不飽和化合物（ｂ）は、好ましくは３〜５０重量部、特に好ましくは１０〜３０重量部含有している。含有量が５重量部未満の場合、凹凸転写性が十分得られなくなる恐れがあり、また５０重量部を超えると、感光性樹脂組成物の保存安定性が悪くなる恐れがある。
【００１２】
アクリル系ポリマ（ｃ）は、メタクリル酸を必須成分とし、それ以外の共重合成分として、通常公知の、その他のエチレン性不飽和単量体を使用することができる。
【００１３】
アクリル系ポリマ（ｃ）は、不飽和カルボン酸及び／又は不飽和カルボン酸無水物（ａ）、エポキシ基含有不飽和化合物（ｂ）、を必須成分とし、必要に応じてその他のエチレン性不飽和単量体を使用し、例えば、有機溶媒中、重合開始剤の存在下でラジカル重合することにより製造できる。
【００１４】
その他のエチレン性不飽和単量体としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｎ−ヘキシル、アクリル酸２−エチルヘキシル、アクリル酸ラウリル等のアクリル酸アルキルエステル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸イソプロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｎ−ヘキシル、メタクリル酸２−エチルヘキシル、メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸アルキルエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、メタクリル酸アミノメチル、メタクリル酸Ｎ−メチルアミノメチル、メタクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル等のメタクリル酸アミノアルキル、アクリル酸Ｎ−メチルアミノメチル、アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル等のアクリル酸アミノアルキル、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等のスチレン系単量体、酢酸ビニル等が挙げられる。
【００１５】
上記により得られるアクリル系ポリマ（ｃ）の重量平均分子量（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定され、標準ポリスチレンを用いて作成した検量線により換算される）は、耐熱性、耐湿性、塗工性及び溶媒への溶解性等の点から、５，０００〜２００，０００であることが好ましく、２０，０００〜８０，０００であることが特に好ましい。
【００１６】
さらに、上記により得られる不飽和基含有アクリル系ポリマ（ｃ）の酸価は１０〜３００（ＫＯＨｍｇ／ｇ）、好ましくは２０〜２００（ＫＯＨｍｇ／ｇ）であるとよい。酸価が１０（ＫＯＨｍｇ／ｇ）未満の場合、希アルカリ水溶液による現像性が劣る。逆に酸価が３００を越えると、感光性樹脂組成物の保存安定性、硬化後の塗膜の耐湿性、耐アルカリ性等が悪くなる。
【００１７】
（Ｉ）成分の使用量は、（Ｉ）及び（ＩＩ）成分の総量１００重量部に対して、２０〜８０重量部とすることが好ましい。この使用量が２０重量部未満では、塗工性が低下する傾向があり、８０重量部を超えると、耐熱性、光硬化性が低下する傾向がある。
【００１８】
本発明に用いられる（ＩＩ）少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、例えば、多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパン、グリシジル基含有化合物にα、β−不飽和カルボン酸を反応させで得られる化合物、ウレタンモノマー、ノニルフェニルジオキシレン（メタ）アクリレート、γ−クロロ−β−ヒドロキシプロピル−β′−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシエチル−β′−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、β−ヒドロキシプロピル−β′−（メタ）アクリロイルオキシエチル−ｏ−フタレート、（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。
【００１９】
上記多価アルコールにα，β−不飽和カルボン酸を反応させて得られる化合物としては、例えば、エチレン基の数が２〜１４であるポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンテトラエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンペンタエトキシトリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、プロピレン基の数が２〜１４であるポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２０】
上記α，β−不飽和カルボン酸としては、例えば、（メタ）アクリル酸等が拳げられる。
【００２１】
上記２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシポリエトキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシトリエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（ジ（メタ）アクリロキシデカエトキシ）フェニル）等が挙げられ、２，２−ビス（４−（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパンは、ＢＰＥ−５００（新中村化学工業（株）製、商品名）として商業的に入手可能である。
【００２２】
上記グリシジル基含有化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルトリ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシ−プロピルオキシ）フェニル等が拳げられる。
【００２３】
上記ウレタンモノマーとしては、例えば、β位にＯＨ基を有する（メタ）アクリルモノマーとイソホロンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、２，４−トルエンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート等との付加反応物、トリス（（メタ）アクリロキシテトラエチレングリコールイソシアネート）ヘキサメチレンイソシアヌレート、ＥＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、ＥＯ，ＰＯ変性ウレタンジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。なお、ＥＯはエチレンオキサイドを示し、ＥＯ変性された化合物はエチレンオキサイド基のブロック構造を有する。また、ＰＯはプロピレンオキサイドを示し、ＰＯ変性された化合物はプロピレンオキサイド基のブロック構造を有する。
【００２４】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル等が挙げられる。
これらは単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００２５】
本発明で用いる（ＩＩ）成分の使用量は、（Ｉ）及び（ＩＩ）成分の総量１００重量部に対して、２０〜８０重量部とすることが好ましい。この使用量が２０重量部未満では、光感度が低い傾向があり、８０重量部を超えると、塗膜性が低下する傾向がある。
【００２６】
本発明で用いる（ＩＩＩ）光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ′−テトラメチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ′−テトラエチル−４，４′−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４′−ジメチルアミノベンゾフェノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−プロパノン−１等の芳香族ケトン、２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２ーｔｅｒｔーブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２ーベンズアントラキノン、２，３ーベンズアントラキノン、２ーフェニルアントラキノン、２，３ージフェニルアントラキノン、１ークロロアントラキノン、２ーメチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナンタラキノン、２−メチル１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノン等のキノン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル化合物、ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物、ベンジルジメチルケタール等のベンジル誘導体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９′−アクリジニル）ヘプタン等のアクリジン誘導体、Ｎ−フェニルグリシン、Ｎ−フェニルグリシン誘導体、クマリン系化合物などが挙げられる。また、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つの２，４，５−トリアリールイミダゾールに置換した置換基は同一でも相違していてもよい。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン系化合物と３級アミン化合物とを組み合わせてもよい。また、解像度、密着性及び感度の見地からは、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体がより好ましい。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００２７】
本発明で用いる（ＩＩＩ）成分の使用量は、（Ｉ）及び（ＩＩ）成分の総量１００重量部に対して、０．１〜２０重量部とすることが好ましい。この使用量が０．１重量部未満では、光感度が低い傾向があり、２０重量部を超えると、光透過性、耐熱性が低下する傾向がある。
【００２８】
また、本発明における感光性樹脂組成物には、必要に応じて、シランカップリング剤などの密着性付与剤、レベリング剤、はく離促進剤、可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、酸化防止剤、香料、熱架橋剤などを（Ｉ）成分及び（ＩＩ）成分の総量１００重量部に対して各々０．０１〜２０重量部程度含有することができる。これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用される。
【００２９】
さらに、本発明における感光性樹脂組成物は、必要に応じて、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル等の溶剤又はこれらの混合溶剤に溶解して固形分３０〜６０重量％程度の溶液として塗布することができる。
【００３０】
本発明における凹凸形状を有する仮支持体としては、特に制限なく公知のものを使用することができるが、基板上に感光性エレメントを貼り合わせる点、及び感光性エレメントを貼り付け、光硬化させた後、はく離する点で特に好適であるという理由から、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル等を材質としたフイルムをベースフイルムとして用い、それをサンドブラスト処理等で直接凹凸形状を設けて仮支持体とすることや、前記したベースフイルム上に光硬化性樹脂及びまたは熱硬化樹脂性樹脂を積層して、像状露光や熱成形等により凹凸形状を設けてベースフイルムと合わせて仮支持体とすること等が特に好ましい。
【００３１】
また、このときの凹凸形状については、外光をより効率良く利用して明るい表示を得るために、垂直な方向に散乱する光の強度を増加させることができるような構造を有するものであれば、特に制限はない。
【００３２】
本発明における感光性樹脂組成物の層を積層する方法としては、公知の方法を用いることができ、例えば、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバーコーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法等が挙げられる。
【００３３】
本発明における、光硬化させるための活性光線としては、カーボンアーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線を有効に放射するものであれば特に制限されない。
【００３４】
本発明においては、アートワークと呼ばれるネガマスクパターンを通して活性光線をパターン状に照射した後、現像液等で現像して未露光部を除去し、部分的に拡散反射層を形成しても良い。
【００３５】
この際、現像液としては、安全かつ安定であり、操作性が良好なものが用いられ、例えば、２０〜５０℃の炭酸ナトリウムの希薄溶液（１〜５重量％水溶液）などが用いられる。
【００３６】
また現像後、熱硬化及び又は架橋反応を促進させ凹凸転写性を良好とすることを目的として、８０〜２５０℃程度で加熱を行うことが特に好適である。
【００３７】
【実施例】
次に本発明を実施例により詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
凹凸形状を有する仮支持体としてサンドブラスト処理を施したポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、表１の配合で調整した感光性樹脂組成物を、このフィルム上にコンマコーターで５μｍの厚さに塗布し、１１０℃の熱風対流式乾燥機で３分間乾燥した後ポリエチレンフィルムを被覆することで、感光性エレメントを作製した。
得られた感光性エレメントのポリエチレンフィルムをはがしながら、厚さ１ｍｍのソーダガラス基板の上に感光性樹脂組成物の層を、ロール温度１２０℃、ロール圧０．４ＭＰａ、速度０．５ｍ／分の条件でラミネートして、ガラス基板上に感光性樹脂組成物の層、仮支持体が積層した基板を作製した。
仮支持体上にネガマスク（部分的に幅３０μｍを遮光するパターン有り）を載置し、仮支持体側から、３ＫＷ超高圧水銀灯（ＨＭＷ−５９０、（株）オーク製作所製）で３０、１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してから、仮支持体を引きはがした。
【表１】感光性樹脂組成物の配合
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（＊）メタクリル酸／グリシジルメタクリレート／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／スチレン共重合体（重量比で２０／２０／３０／１５／１５）を共重合したポリマ（プロピレングリコールモノメチルエーテル溶媒で固形分４０％）；重量平均分子量は３５，０００
【００３８】
比較例１
（Ｉ）成分として、メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸ブチル／スチレン共重合体（重量比で２０／４０／１５／２５）１００重量部とグリシジルメタクリレート１５重量部を開環付加反応させて不飽和基を導入したポリマ（プロピレングリコールモノメチルエーテル溶媒で固形分４２％、重量平均分子量は３７，０００）を用いた以外はすべて実施例１と同様にして感光性樹脂組成物を調整し、これを用いて実施例１と同様の方法により基板を作製し、現像性と凹凸転写性を評価した。
【００３９】
現像性と凹凸転写性の評価
実施例では、活性光線照射後の基板を、３０℃、１重量％炭酸ナトリウム水溶液でスプレー現像を行った後、２３０℃の熱風対流式乾燥機で３０分間熱硬化したところ、３０、１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して作製した基板のいずれも、感光性樹脂層の表面はサンドブラスト加工された凹凸が転写されており、拡散反射特性に優れた凹凸形状であった。
また紫外線照射時にネガマスクで遮光した幅３０μｍのパターンは、１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して作製した基板では露光かぶりしており解像されなかったが、３０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して作製した基板では露光かぶりすることなく解像されていた。
【００４０】
比較例では、１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して作製した基板は、感光性樹脂層の表面はサンドブラスト加工された凹凸が転写されており、拡散反射特性に優れた凹凸形状であったが、紫外線照射時にネガマスクで遮光した幅３０μｍのパターンは、露光かぶりしており解像されなかった。
また、３０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して作製した基板では露光かぶりすることなく解像されていたが、感光性樹脂層の表面は露光不足及び熱反応不足により、サンドブラスト加工された凹凸が転写されていなかった。
【００４１】
【発明の効果】
本発明により、解像性と凹凸転写性に優れた拡散反射板を歩留り良く製造することができる。また、これによりさらに外光をより効率良く利用して明るい表示を得られる信頼性に優れた拡散反射板及び反射型液晶表示装置を歩留り良く製造することができる。