(57)【要約】【課題】  薄膜ワークを高加工精度で作成する微細加工方法及びその装置を提供することにある。【解決手段】  イオンビーム１２を照射することでワーク６をスパッタエッチングした後に、走査電子顕微鏡を使用して電子ビーム１６をワーク６の内部に至るように照射する。ワーク６の内部の基準面よりも深い位置に予め設定された基準部分の画像を取得する。ことの繰り返し工程を含み、繰り返し工程で、後続するイオンビーム１２を先行するイオンビーム１２よりも小さい出力で照射する。後続する電子ビーム１６を先行する電子ビーム１６よりも小さい加速電圧で照射する。繰り返し工程を、加速電圧が基準加速電圧に下がるまで行う。基準加速電圧は、電子ビーム１６が、ワーク６の内部を、基準面から基準部分までの距離だけ進入できる最小値である。【選択図】      図２
2005302600.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
予め設定された深さにある基準面で止めるようにワークをスパッタエッチングする微細加工方法であって、
収束イオンビーム法によってイオンビームを照射することで前記ワークをスパッタエッチングした後に、走査電子顕微鏡を使用して電子ビームを前記ワークの内部に至るように照射することで、前記ワークの内部の前記基準面よりも深い位置に予め設定された基準部分の画像を取得すること、
の繰り返し工程を含み、
前記繰り返し工程で、後続する前記イオンビームを先行する前記イオンビームよりも小さい出力で照射し、後続する前記電子ビームを先行する前記電子ビームよりも小さい加速電圧で照射し、
前記繰り返し工程を、前記加速電圧が基準加速電圧に下がるまで行い、
前記基準加速電圧は、前記電子ビームが、前記ワークの内部を、前記基準面から前記基準部分までの距離だけ進入できる最小値である微細加工方法。
【請求項２】
イオンビーム照射ステップを行うことでワークをスパッタエッチングするために、収束イオンビーム法によるイオンビームを照射するイオンビーム照射器と、
前記イオンビームの出力を制御するイオンビーム出力制御部と、
電子ビームを照射する電子ビーム照射器を含み、前記電子ビーム照射器を使用した電子ビーム照射ステップと画像取得ステップとを含む観察ステップを行う走査電子顕微鏡と、
前記電子ビームの加速電圧を制御する電子ビーム加速電圧制御部と、
前記イオンビーム照射ステップと前記観察ステップが交互に繰り返されるように、前記イオンビーム照射器及び前記走査電子顕微鏡を制御する駆動制御部と、
前記画像取得ステップで取得した画像が、前記ワークの内部の予め設定された深さにある基準面よりも深い位置に予め設定された基準部分を表示するか否かについての画像判断を、前記観察ステップ開始後であって前記イオンビーム照射ステップ開始前に行って、画像表示結果又は画像非表示結果を出力する画像判断器と、
前記加速電圧が、前記ワークの内部を前記電子ビームが前記基準面から前記基準部分までの距離だけ進入できる最小値である基準加速電圧以下に到達したか否かについての加速電圧判断を、前記観察ステップ開始後であって前記イオンビーム照射ステップ開始前に行って、加速電圧到達結果又は加速電圧未到達結果を出力する加速電圧判断器と、
中央処理部と、
を有し、
前記中央処理部は、
前記画像表示結果の入力に対応して、前記加速電圧判断器に前記加速電圧判断を行わせ、
前記加速電圧未到達結果の入力に対応して、前記加速電圧判断直後の前記イオンビーム照射ステップで、前記イオンビームの出力が直前の前記イオンビーム照射ステップよりも下がるように前記イオンビーム出力制御部を制御し、前記加速電圧判断直後の前記電子ビーム照射ステップで、前記電子ビームの前記加速電圧が直前の前記電子ビーム照射ステップよりも下がるように前記電子ビーム加速電圧制御部を制御する微細加工装置。
【請求項３】
請求項２記載の微細加工装置において、
前記中央処理部は、前記画像非表示結果の入力に対応して、前記画像判断直後の前記イオンビーム照射ステップで、前記イオンビームの出力が直前の前記イオンビーム照射ステップと同じになるように前記イオンビーム出力制御部を制御する微細加工装置。
【請求項４】
請求項２又は請求項３記載の微細加工装置において、
前記中央処理部は、前記加速電圧到達結果の入力に対応して、前記イオンビーム照射ステップと前記観察ステップの繰り返しを中止するように、前記駆動制御部を制御する微細加工装置。
【請求項５】
請求項４記載の微細加工装置において、
前記中央処理部は、前記加速電圧到達結果の入力に対応して、最終回の前記イオンビーム照射ステップを行って、その後の前記イオンビーム照射ステップ及び前記観察ステップを行わないように前記駆動制御部を制御し、最終回の前記イオンビーム照射ステップでは、前記イオンビームの出力が直前の前記イオンビーム照射ステップよりも下がるように前記イオンビーム出力制御部を制御する微細加工装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細加工方法およびその装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、透過電子顕微鏡のワーク作成の際に収束イオンビーム法を用いる加工方法が主流となっているが、さらに収束イオンビーム法に走査電子顕微鏡をつけた装置により加工を行いながら断面を観察できる方法が注目を集めている。これらの技術においては、透過電子顕微鏡でワークを観察する際に電子線がワークを透過できるように加工幅をできるだけ小さくする必要がある。
【０００３】
透過電子顕微鏡のワークを薄片化するための加工幅を測定する技術として、加工装置の収束イオンビーム法と異なるエネルギー線を加工中のワークに照射することによって、ワークの加工幅を簡単に、かつ精度良く測定できることが知られている。（例えば、特許文献１参照）
【特許文献１】特開平７−２７３０８７号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、透過電子顕微鏡で観察したい基準部分までの距離について明らかにする手法は提供されていない。つまり、透過電子顕微鏡で観察したい基準部分がワークの表面からどのくらいの距離にあるかは、基本的には走査電子顕微鏡で目的の箇所が見えたときであり、その箇所を加工の終点検出としている。
【０００５】
本発明の目的は薄膜ワークを高加工精度で作成する微細加工方法及びその装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
（１）本発明に係る微細加工方法は、予め設定された深さにある基準面で止めるようにワークをスパッタエッチングする微細加工方法であって、
収束イオンビーム法によってイオンビームを照射することで前記ワークをスパッタエッチングした後に、走査電子顕微鏡を使用して電子ビームを前記ワークの内部に至るように照射することで、前記ワークの内部の前記基準面よりも深い位置に予め設定された基準部分の画像を取得すること、
の繰り返し工程を含み、
前記繰り返し工程で、後続する前記イオンビームを先行する前記イオンビームよりも小さい出力で照射し、後続する前記電子ビームを先行する前記電子ビームよりも小さい加速電圧で照射し、
前記繰り返し工程を、前記加速電圧が基準加速電圧に下がるまで行い、
前記基準加速電圧は、前記電子ビームが、前記ワークの内部を、前記基準面から前記基準部分までの距離だけ進入できる最小値である。本発明によれば、基準部分までの距離を走査電子顕微鏡の加速電圧という尺度で測ることができ、基準部分を削りすぎることがなくなる。これにより、薄膜ワークを高加工精度で作成することが可能となる。
（２）本発明に係る微細加工装置は、イオンビーム照射ステップを行うことでワークをスパッタエッチングするために、収束イオンビーム法によるイオンビームを照射するイオンビーム照射器と、
前記イオンビームの出力を制御するイオンビーム出力制御部と、
電子ビームを照射する電子ビーム照射器を含み、前記電子ビーム照射器を使用した電子ビーム照射ステップと画像取得ステップとを含む観察ステップを行う走査電子顕微鏡と、
前記電子ビームの加速電圧を制御する電子ビーム加速電圧制御部と、
前記イオンビーム照射ステップと前記観察ステップが交互に繰り返されるように、前記イオンビーム照射器及び前記走査電子顕微鏡を制御する駆動制御部と、
前記画像取得ステップで取得した画像が、前記ワークの内部の予め設定された深さにある基準面よりも深い位置に予め設定された基準部分を表示するか否かについての画像判断を、前記観察ステップ開始後であって前記イオンビーム照射ステップ開始前に行って、画像表示結果又は画像非表示結果を出力する画像判断器と、
前記加速電圧が、前記ワークの内部を前記電子ビームが前記基準面から前記基準部分までの距離だけ進入できる最小値である基準加速電圧以下に到達したか否かについての加速電圧判断を、前記観察ステップ開始後であって前記イオンビーム照射ステップ開始前に行って、加速電圧到達結果又は加速電圧未到達結果を出力する加速電圧判断器と、
中央処理部と、
を有し、
前記中央処理部は、
前記画像表示結果の入力に対応して、前記加速電圧判断器に前記加速電圧判断を行わせ、
前記加速電圧未到達結果の入力に対応して、前記加速電圧判断直後の前記イオンビーム照射ステップで、前記イオンビームの出力が直前の前記イオンビーム照射ステップよりも下がるように前記イオンビーム出力制御部を制御し、前記加速電圧判断直後の前記電子ビーム照射ステップで、前記電子ビームの前記加速電圧が直前の前記電子ビーム照射ステップよりも下がるように前記電子ビーム加速電圧制御部を制御する。本発明によれば、基準部分までの距離を走査電子顕微鏡の加速電圧という尺度で測ることができ、基準部分を削りすぎることがなくなる。これにより、薄膜ワークを高加工精度で作成することが可能な微細加工装置を提供することができる。
（３）この微細加工装置は、
前記中央処理部は、前記画像非表示結果の入力に対応して、前記画像判断直後の前記イオンビーム照射ステップで、前記イオンビームの出力が直前の前記イオンビーム照射ステップと同じになるように前記イオンビーム出力制御部を制御してもよい。
（４）この微細加工装置は、
前記中央処理部は、前記加速電圧到達結果の入力に対応して、前記イオンビーム照射ステップと前記観察ステップの繰り返しを中止するように、前記駆動制御部を制御してもよい。
（５）この微細加工装置は、
前記中央処理部は、前記加速電圧到達結果の入力に対応して、最終回の前記イオンビーム照射ステップを行って、その後の前記イオンビーム照射ステップ及び前記観察ステップを行わないように前記駆動制御部を制御し、最終回の前記イオンビーム照射ステップでは、前記イオンビームの出力が直前の前記イオンビーム照射ステップよりも下がるように前記イオンビーム出力制御部を制御してもよい。
【発明を実施するための最良の形態】
【０００７】
以下に、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。図１は、本実施の形態に係る微細加工方法を説明するフローチャートである。図２は、本実施の形態に係る微細加工装置を説明する図である。
【０００８】
本実施の形態に係る微細加工方法は、予め設定された深さにある基準面８（図３参照）で止めるようにワーク（例えば試料又はサンプル）６をスパッタエッチングする方法である。まず、ステップ１００では、収束イオンビーム法のイオンビーム１２を照射することでワーク６をスパッタエッチングするために、イオンビーム１２の出力（電流）をイオンビーム出力制御部１４により高出力（例えば、２００００ｐＡ）に設定する。また、電子ビーム１６の加速電圧を電子ビーム加速電圧制御部１８により高加速電圧（例えば、１５ｋＶ）に設定する。
【０００９】
次に、ステップ１１０では、走査電子顕微鏡の電子ビーム照射器２０を使用して、ステップ１００で設定した加速電圧値の電子ビーム１６をワーク６の内部に至るように照射する。これにより、撮像した画像をＣＲＴ２２に表示し、画像記憶部２４に記憶する。図３は、ワーク６と電子ビーム１６の入射方向の関係を示す。
【００１０】
次に、ステップ１２０では、イオンビーム１２を、イオンビーム照射器２６を用いて、ワーク６に照射させ、イオンビーム１２でワーク６をスパッタエッチングすることによりワーク６の加工を行う。図３は、ワーク６とイオンビーム１２の入射方向の関係を示す。
【００１１】
次に、ステップ１３０では、ステップ１２０でワーク６をスパッタエッチングした後に、電子ビーム１６を、走査電子顕微鏡の電子ビーム照射器２０を使用して、ワーク６の内部に至るように照射する。これにより、撮像した画像をＣＲＴ２２に表示し、画像記憶部２４に記憶する。
【００１２】
次に、ステップ１４０は、ステップ１３０で取得した画像が、ワーク６の内部の予め設定された深さにある基準面８よりも深い位置に予め設定された基準部分１０を表示するか否かについての画像判断を行う。この画像判断は、観察ステップ１３０開始後であって、次のイオンビーム照射ステップ１２０開始前に行って、画像表示結果又は画像非表示結果を出力する。つまり、初回では、ステップ１１０で取得した画像とステップ１３０で取得した画像とを比較し画像表示結果又は画像非表示結果を出力する。２回目以降は、ステップ１３０で取得する後続する画像と先行する画像とを比較し画像表示結果又は画像非表示結果を出力する。比較方法は、初回又は後続する画像と先行する画像とを比較し、２つの画像の異なる部分を示す先行する画像に対する画像の差画像を抽出する。この差画像を２値化処理し、画像の２値化差画像を得る。この２値化差画像を得ることが画像表示結果になる。また、この２値化差画像が得られない場合、画像非表示結果になる。２値化処理は、数階調の明暗で構成される画像の差画像を、所定のしきい値で白黒に２値化する。しきい値は基準部分１０の材料、さえぎるものの材料、二次電子検出器５４の状態などの条件によって変化する。
【００１３】
次に、ステップ１５０は、ステップ１４０で画像表示結果を出力するまで、ステップ１２０からステップ１４０までの処理を繰り返すための判定処理である。判定内容は、ステップ１４０で画像表示結果を出力する状態を「ＹＥＳ」とする。この場合は、ステップ１６０へ進む。又は、ステップ１４０で画像非表示結果を出力する状態を「ＮＯ」とする。この場合は、ステップ１２０へ進む。この時、画像判断直後のイオンビーム照射ステップ１２０で、イオンビーム１２の出力が直前のイオンビーム照射ステップ１２０と同じになるようにイオンビーム出力制御部１４を制御する。
【００１４】
次に、ステップ１６０は、ステップ１５０で「ＹＥＳ」と判断された場合、ステップ１７０と、ステップ１３０からステップ１５０までの処理工程を、加速電圧が基準加速電圧に下がるまで繰り返すための判定処理である。基準加速電圧は、電子ビーム１６が、ワーク６の内部を、基準面８から基準部分１０までの距離だけ進入できる最小の加速電圧値（例えば、１ｋＶ）である。判定内容は、電子ビーム１６の加速電圧が１ｋＶ以下の状態を「ＹＥＳ」とする。この場合は、ステップ１８０へ進む。又は、電子ビーム１６の加速電圧が１ｋＶ以上の状態を「ＮＯ」とする。この場合は、ステップ１７０へ進む。
【００１５】
次に、ステップ１７０では、ステップ１６０で「ＮＯ」と判断された場合、後続するイオンビーム１２を先行するイオンビーム１２よりも小さい出力で照射するためにイオンビーム出力制御部１４を制御することのよりイオンビーム１２の出力を小さくする。また、後続する電子ビーム１６を先行する電子ビーム１６よりも小さい加速電圧で照射するために電子ビーム加速電圧制御部１８を制御することにより電子ビーム１６の加速電圧を小さくする。例えば、イオンビーム照射器２６で、ワーク６に電流が５０００ｐＡのイオンビーム１２が照射されるようにイオンビーム出力制御部１４を制御し、イオンビーム１２の電流を５０００ｐＡに下げる。また、電子ビーム照射器２０で、ワーク６に加速電圧が３ｋＶで加速された電子ビーム１６が照射されるように電子ビーム加速電圧制御部１８を制御し、電子ビーム１６の加速電圧を３ｋＶに下げる。
【００１６】
次に、ステップ１８０では、ステップ１６０で「ＹＥＳ」と判断された場合、加速電圧到達結果の入力に対応して、イオンビーム照射ステップ１２０と観察ステップ１３０の繰り返しを中止するように、駆動制御部２８を制御する。さらに、最終回のイオンビーム照射ステップ１８０を行って、その後のイオンビーム照射ステップ１２０及び観察ステップ１３０を行わないように駆動制御部２８を制御する。最終回のイオンビーム照射ステップ１８０では、イオンビーム１２の出力が直前のイオンビーム照射ステップ１２０よりも下がるようにイオンビーム出力制御部を制御する。例えば、イオンビーム照射器２６で、ワーク６に電流が５００ｐＡのイオンビーム１２を照射させ、イオンビーム１２でワーク６をスパッタエッチングすることによりワーク６の加工を行う。
【００１７】
図３のようにイオンビーム１２をワーク６に照射し、スパッタエッチングにより、設定された加工量だけ加工される。ワーク６を加工面と反対側からイオンビーム１２を用いて加工すれば、所定の厚さをもつ、基準部分の薄膜ワークが得られる。その反対側からのワーク６の加工は、最初の加工（表側からの加工）と同じ要領で行われる。このようにして得られた薄膜ワークは透過電子顕微鏡などにより観察され、更に必要に応じて分析も行われる。
【００１８】
次に、本実施の形態に係る微細加工方法により薄膜ワークを作成する微細加工装置を説明する。
【００１９】
本実施の形態に係る微細加工装置は、予め設定された深さにある基準面８で止めるようにワーク６をスパッタエッチングする装置である。
【００２０】
本実施の形態に係る微細加工装置は、加工室３０を有する。加工室３０は、ワーク６を配置する。
【００２１】
本実施の形態に係る微細加工装置は、イオンビーム照射器２６を有する。イオンビーム照射器２６は、収束イオンビーム法によるイオンビーム１２を照射する。イオンビーム照射器２６は、イオンビーム照射ステップ１２０を行うことでワーク６をスパッタエッチングする。
【００２２】
本実施の形態に係る微細加工装置は、イオンビーム出力制御部１４を有する。イオンビーム出力制御部１４は、イオンビーム照射器２６のイオンビーム１２の出力を制御する。
【００２３】
本実施の形態に係る微細加工装置は、電子ビーム照射器２０を有する。電子ビーム照射器２０は、電子ビーム１６を照射する。電子ビーム照射器２０は、走査電子顕微鏡４に搭載されている。走査電子顕微鏡４は、電子ビーム照射器２０を使用した電子ビーム照射ステップと画像取得ステップとを含む観察ステップ１１０，１３０を行う。
【００２４】
本実施の形態に係る微細加工装置は、電子ビーム加速電圧制御部１８を有する。電子ビーム加速電圧制御部１８は、電子ビーム照射器２０の電子ビーム１６の加速電圧を制御する。
【００２５】
本実施の形態に係る微細加工装置は、駆動制御部２８を有する。駆動制御部２８は、イオンビーム照射ステップ１２０と観察ステップ１３０が交互に繰り返されるように、イオンビーム照射器２６及び走査電子顕微鏡４を制御する。
【００２６】
本実施の形態に係る微細加工装置は、画像判断器３２を有する。画像判断器３２は、画像取得ステップで取得した画像が、ワーク６の内部の予め設定された深さにある基準面８よりも深い位置に予め設定された基準部分１０を表示するか否かについての画像判断を行う。画像判断器３２は、画像判断を観察ステップ１３０開始後であって、次のイオンビーム照射ステップ１２０開始前に行って、画像表示結果又は画像非表示結果を出力する。
【００２７】
本実施の形態に係る微細加工装置は、加速電圧判断器３４を有する。加速電圧判断器３４は、加速電圧が、ワーク６の内部を電子ビーム１６が基準面８から基準部分１０までの距離だけ進入できる最小値である基準加速電圧以下に到達したか否かについての加速電圧判断を行う。加速電圧判断器３４は、加速電圧判断を観察ステップ１３０開始後であって、次のイオンビーム照射ステップ１２０開始前に行って、加速電圧到達結果又は加速電圧未到達結果を出力する。
【００２８】
本実施の形態に係る微細加工装置は、中央処理部３６を有する。中央処理部３６は、画像表示結果の入力に対応して、加速電圧判断器３４に加速電圧判断を行わせる。中央処理部３６は、画像非表示結果の入力に対応して、画像判断直後のイオンビーム照射ステップ１２０で、イオンビーム１２の出力が直前のイオンビーム照射ステップ１２０と同じになるようにイオンビーム出力制御部１４を制御する。中央処理部３６は、加速電圧未到達結果の入力に対応して、加速電圧判断直後のイオンビーム照射ステップ１２０で、イオンビーム１２の出力が直前のイオンビーム照射ステップ１２０よりも下がるようにイオンビーム出力制御部１４を制御する。中央処理部３６は、加速電圧未到達結果の入力に対応して、加速電圧判断直後の電子ビーム照射ステップ１３０で、電子ビーム１６の加速電圧が直前の電子ビーム照射ステップ１３０よりも下がるように電子ビーム加速電圧制御部１８を制御する。中央処理部３６は、加速電圧到達結果の入力に対応して、イオンビーム照射ステップ１２０と観察ステップ１３０の繰り返しを中止するように、駆動制御部２８を制御する。中央処理部３６は、加速電圧到達結果の入力に対応して、最終回のイオンビーム照射ステップ１８０を行って、その後のイオンビーム照射ステップ１２０及び観察ステップ１３０を行わないように駆動制御部２８を制御する。中央処理部３６は、最終回のイオンビーム照射ステップ１８０では、イオンビーム１２の出力が直前のイオンビーム照射ステップ１２０よりも下がるようにイオンビーム出力制御部１４を制御する。
【００２９】
ワーク６は、２軸（イオンビーム方向に対して直交しかつ互いに直交するＸ及びＹ）方向に移動可能なワークホルダ３８に装填されている。ワーク６の移動はワーク微動装置４０により行われ、その制御はワーク微動制御部４２により行われる。ワーク６は、図示しないワーク導入系によって加工室３０の内部に搬送され、ワークホルダ３８に装填され、ワークホルダ３８は微細加工装置の筐体に組み込まれたステージ駆動系のワーク微動装置４０によって適宜駆動されるように構成されている。ワーク微動装置４０はワーク微動制御部４２を介して中央処理部３６に接続されている。
【００３０】
収束イオンビーム法によってイオンビーム１２を照射することでワーク６をスパッタエッチングするイオンビーム照射器２６から照射したイオンビーム１２は、コンデンサレンズ４４と絞り４６と対物レンズ４８を通過し、ワーク６上に収束する。ワーク６に照射するイオンビーム１２を偏向し、それによってワーク６を走査する走査コイル５０及びその制御のための偏向信号制御部５２が配されている。走査コイル５０には、加工領域を制御する偏向信号制御部５２が接続されている。偏向信号制御部５２はビーム位置のデータを得るため、中央処理部３６と接続されている。
【００３１】
走査電子顕微鏡４は、電子ビーム照射器２０と、二次電子検出器５４と、信号増幅器５６と、コンデンサレンズ５８と、走査コイル６０と、走査電源６２とを備える。電子ビーム照射器２０は、電子ビーム１６をワーク６の内部に至るように照射する。電子ビーム１６はコンデンサレンズ５８によりワーク６面上にスポット状に収束され、コンデンサレンズ５８及びワーク６の間に配置する電子ビーム１６を偏向させる走査コイル６０によってワーク６面を走査する。走査コイル６０には走査電源６２が接続されている。ワーク６と走査コイル６０の間には、加工室３０の壁面にワーク６を向くように配置され、かつワーク６からの二次電子６４を受けて二次電子６４の電流量を検出する二次電子検出器５４が組み込まれている。二次電子検出器５４は信号増幅器５６を介して中央処理部３６に接続されている。二次電子検出器５４は電子ビーム１６によるワーク６への照射によってワーク６から放出される二次電子６４を検出して、信号増幅器５６がその二次電子信号を増幅し、中央処理部３６へ送る。中央処理部３６は、ＣＲＴ２２に表示すると共に、ワーク６の内部の基準面８よりも深い位置に予め設定された基準部分１０の画像を取得する。
【００３２】
本実施の形態によれば、基準部分までの距離を走査電子顕微鏡の加速電圧という尺度で測ることができ、基準部分を削りすぎることがなくなる。これにより、薄膜ワークを高加工精度で作成することが可能となる。
【００３３】
本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成（例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び結果が同一の構成）を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。さらに、本発明は、実施の形態で説明した技術的事項のいずれかを限定的に除外した内容を含む。あるいは、本発明は、上述した実施の形態から公知技術を限定的に除外した内容を含む。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１】本実施の形態に係る微細加工方法を説明するフローチャートである。
【図２】本実施の形態に係る微細加工装置を説明する図である。
【図３】本実施の形態に係るワークを説明する図である。
【符号の説明】
【００３５】
４…走査電子顕微鏡  ６…ワーク  ８…基準面  １０…基準部分  １２…イオンビーム  １４…イオンビーム出力制御部  １６…電子ビーム  １８…電子ビーム加速電圧制御部  ２０…電子ビーム照射器  ２２…ＣＲＴ  ２４…画像記憶部  ２６…イオンビーム照射器  ２８…駆動制御部  ３０…加工室  ３２…画像判断器  ３４…加速電圧判断器  ３６…中央処理部  ３８…ワークホルダ  ４０…ワーク微動装置  ４２…ワーク微動制御部  ４４…コンデンサレンズ  ４６…絞り  ４８…対物レンズ  ５０…走査コイル  ５２…偏向信号制御部  ５４…二次電子検出器  ５６…信号増幅器  ５８…コンデンサレンズ  ６０…走査コイル  ６２…走査電源  ６４…二次電子  
【図１】
2005302600.tif 000003
【図２】
2005302600.tif 000004
【図３】
2005302600.tif 000005