(57)【要約】【課題】  機能液滴吐出ヘッドの保守に当たり、吐出ノズルに吐出不良が生じた場合にその原因を特定できる描画装置の動作評価方法および描画装置等を提供することを課題とする。【解決手段】  機能液滴吐出ヘッドを駆動させることにより、ワークに機能液滴による描画を行う描画動作と、ヘッド保守手段を用い、機能液滴吐出ヘッドの保守を行う保守動作と、を行う描画装置の動作評価方法において、保守した後の機能液滴吐出ヘッドに所定のテストパターンを描画させる描画工程と、描画したテストパターンを画像認識する画像認識工程と、画像認識に基づいて、描画不良が生じているか否かを判断する描画不良判断工程と、描画不良と判断されたときに、画像認識に基づいて、描画不良の原因が、機能液滴吐出ヘッド自身および保守動作のいずれに起因するかを特定する不良特定工程と、を備えたことを特徴とする。【選択図】  図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークに対して、複数の吐出ノズルを整列させて形成した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、前記機能液滴吐出ヘッドを駆動させることにより、前記吐出ノズルから機能液滴を吐出させて、前記ワークに前記機能液滴による描画を行う描画動作と、ヘッド保守手段を用い、前記機能液滴吐出ヘッドの保守を行う保守動作と、を行う描画装置の動作評価方法において、
保守した後の前記機能液滴吐出ヘッドに所定のテストパターンを描画させる描画工程と、
前記描画工程で描画した前記テストパターンを画像認識する画像認識工程と、
前記画像認識に基づいて、描画不良が生じているか否かを判断する描画不良判断工程と、
前記描画不良と判断されたときに、前記画像認識に基づいて、前記描画不良の原因が、前記機能液滴吐出ヘッド自身および前記保守動作のいずれに起因するかを特定する不良特定工程と、を備えたことを特徴とする描画装置の動作評価方法。
【請求項２】
前記描画不良判断工程は、前記テストパターンを構成する全機能液滴のうち、予め設定された基準条件を満たさない機能液滴が１つでも検出されると、前記描画不良と判断することを特徴とする請求項１に記載の描画装置の動作評価方法。
【請求項３】
前記描画不良判断工程により前記描画不良と判断されたときに、前記機能液滴吐出ヘッドに再度保守動作を行い、
再度保守した後に、前記機能液滴吐出ヘッドに前記テストパターンを再描画させ、
再描画した前記テストパターンを再画像認識し、
再画像認識した前記テストパターンに描画不良が生じているか否かを再度判断する再判断工程をさらに備え、
前記不良特定工程は、前記再判断工程で描画した前記テストパターンが再度描画不良と判断されたときに、前記描画不良の原因を特定することを特徴とする請求項１または２に記載の描画装置の動作評価方法。
【請求項４】
前記不良特定工程は、前記画像認識工程による前記画像認識に基づいて、前記描画不良の原因となった前記機能液滴を吐出した前記吐出ノズルを不良ノズルとして特定する第１不良ノズル特定工程と、
前記再判断工程による前記再画像認識に基づいて、前記不良ノズルを特定する第２不良ノズル特定工程と、
前記第１不良ノズル特定工程および第２不良ノズル特定工程で特定された前記不良ノズルの発生態様を比較して、前記描画不良の原因を前記機能液滴吐出ヘッドおよび前記保守動作のいずれであるかを特定する原因特定工程と、を有することを特徴とする請求項３に記載の描画装置の動作評価方法。
【請求項５】
前記原因特定工程は、前記第１不良ノズル特定工程および第２不良ノズル特定工程で特定された前記不良ノズルの発生態様が同一である場合には、前記描画不良の原因を前記機能液滴吐出ヘッド自身に起因するものと特定することを特徴とする請求項４に記載の描画装置の動作評価方法。
【請求項６】
前記原因特定工程は、前記第１不良ノズル特定工程および第２不良ノズル特定工程における前記不良ノズルの発生態様が異なる場合には、両工程における前記不良ノズルの不良理由が異なるときに、前記描画不良の原因を前記保守動作に起因するものと特定することを特徴とする請求項４または５に記載の描画装置の動作評価方法。
【請求項７】
前記原因特定工程は、前記第１不良ノズル特定工程および第２不良ノズル特定工程における前記不良ノズルの発生態様が異なる場合には、両工程における前記不良ノズルの不良理由が一致しており、かつ前記不良理由が前記機能液滴の着弾位置のずれでないときに、前記描画不良の原因を前記保守動作に起因するものと特定することを特徴とする請求項４ないし６のいずれかに記載の描画装置の動作評価方法。
【請求項８】
前記原因特定工程は、前記第１不良ノズル特定工程および第２不良ノズル特定工程における前記不良ノズルの発生態様が異なる場合には、両工程における前記不良ノズルの不良理由が前記機能液滴の着弾位置のずれで一致しており、かつ前記両工程において前記ずれを生じた全機能液滴のずれ方向が略一致するときに、前記描画不良の原因を前記機能液滴吐出ヘッド自身に起因するものと特定することを特徴とする請求項４ないし７のいずれかに記載の描画装置の動作評価方法。
【請求項９】
前記保守動作は、前記機能液滴吐出ヘッドに形成された吐出ノズルから機能液を吸引する吸引動作と、
前記吸引動作の後、前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面を拭き取る拭取り動作と、で構成されており、
前記描画不良の原因が前記保守動作にあると判断されたときに、不良原因が前記吸引動作および／または前記拭取り動作にあることをさらに特定する不良保守動作特定工程をさらに備えたことを特徴とする請求項１ないし８のいずれかに記載の描画装置の動作評価方法。
【請求項１０】
前記不良保守動作特定工程は、前記テストパターンにドット抜けが生じている場合には、前記吸引動作を前記不良原因として特定することを特徴とする請求項９に記載の描画装置の動作評価方法。
【請求項１１】
前記不良保守動作特定工程は、前記テストパターンを構成する前記機能液滴の着弾径に過小なものが含まれている場合には、前記吸引動作を前記不良原因として特定することを特徴とする請求項９または１０に記載の描画装置の動作評価方法。
【請求項１２】
前記不良保守動作特定工程は、前記テストパターンに前記機能液滴の着弾位置のずれが生じている場合には、前記拭き取り動作を前記不良原因として特定することを特徴とする請求項９ないし１１のいずれかに記載の描画装置の動作評価方法。
【請求項１３】
前記不良保守動作特定工程は、前記テストパターンを構成する前記機能液滴の着弾径に過大なものが含まれている場合には、前記拭き取り動作を前記不良原因として特定することを特徴とする請求項９ないし１２のいずれかに記載の描画装置の動作評価方法。
【請求項１４】
前記不良保守動作特定工程で特定された前記保守動作の動作条件を変更する動作条件変更工程をさらに備えたことを特徴とする請求項９ないし１３のいずれかに記載の描画装置の動作評価方法。
【請求項１５】
ワークに対して、複数の吐出ノズルを整列させて形成した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、前記機能液滴吐出ヘッドを駆動させることにより、前記吐出ノズルから機能液滴を吐出させて、前記ワークに前記機能液滴による描画を行う描画動作と、ヘッド保守手段を用い、前記機能液滴吐出ヘッドの保守を行う保守動作と、を行う描画装置において、
保守した後の前記機能液滴吐出ヘッドに所定のテストパターンを描画させる描画手段と、
描画した前記テストパターンを画像認識する画像認識手段と、
前記画像認識に基づいて、描画不良が生じているか否かを判断する描画不良判断手段と、
前記描画不良と判断されたときに、前記画像認識に基づいて、前記描画不良の原因が、前記機能液滴吐出ヘッド自身および前記保守動作のいずれに起因するかを特定する不良特定手段と、を備えたことを特徴とする描画装置。
【請求項１６】
前記描画不良と判断されたときに、前記機能液滴吐出ヘッドに再度保守動作を行い、再度保守した後に、前記機能液滴吐出ヘッドに前記テストパターンを再描画させ、再描画した前記テストパターンを再画像認識し、再画像認識した前記テストパターンに描画不良が生じているか否かを再度判断する再判断手段をさらに備え、
前記不良特定手段は、前記再判断手段により描画した前記テストパターンが再度描画不良と判断されたときに、前記描画不良の原因を特定することを特徴とする請求項１５に記載の描画装置。
【請求項１７】
前記不良特定手段は、前記画像認識手段による前記画像認識に基づいて、前記描画不良の原因となった前記機能液滴を吐出した前記吐出ノズルを不良ノズルとして特定する第１不良ノズル特定手段と、
前記再判断手段による前記再画像認識に基づいて、前記不良ノズルを特定する第２不良ノズル特定手段と、
前記第１不良ノズル特定手段および第２不良ノズル特定手段で特定された前記不良ノズルの発生態様を比較して、前記描画不良の原因を前記機能液滴吐出ヘッドおよび前記保守動作のいずれであるかを特定する原因特定手段と、を有することを特徴とする請求項１６に記載の描画装置。
【請求項１８】
前記ヘッド保守装置は、前記機能液滴吐出ヘッドに形成された吐出ノズルから機能液を吸引する吸引手段と、
前記吸引動作の後、前記機能液滴吐出ヘッドのノズル面を拭き取る拭取り手段と、で構成されており、
前記描画不良の原因が前記保守動作にあると判断されたときに、不良原因が前記吸引手段および／または前記拭取り手段の前記保守動作にあることをさらに特定する不良保守動作特定手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１５ないし１７のいずれかに記載の描画装置。
【請求項１９】
前記不良保守動作特定手段で特定された前記ヘッド保守手段の保守動作条件を変更する動作条件変更手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１８に記載の描画装置。
【請求項２０】
特定した前記描画不良の原因を表示する不良原因表示手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１５ないし１９のいずれかに記載の描画装置。
【請求項２１】
請求項１ないし１４のいずれかに記載の描画装置の動作評価方法または請求項１５ないし２０のいずれかに記載の描画装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２２】
請求項１ないし１４のいずれかに記載の描画装置の動作評価方法または請求項１５ないし２０のいずれかに記載の描画装置を用い、前記ワーク上に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
【請求項２３】
請求項２１に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項２２に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、機能液滴吐出ヘッドを用いてワークに描画をおこなう描画装置の動作評価方法および描画装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
描画装置は、吐出ノズルを形成した機能液滴吐出ヘッドを備えており、ワークに対して機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながらこれを選択的に吐出駆動することにより、吐出ノズルから微少な機能液滴（ドット）を精度良く吐出させ、ワークに描画を行うようになっている。
【０００３】
描画装置に適用される吐出ノズルは、導入する機能液の特性や気泡の混入等に起因して、吐出不良の原因となる目詰まりを生じ易いため、描画装置では、吐出ノズルの目詰まりを防止して適切な吐出機能を確保すべく、ヘッド保守装置を用いて、描画直前に機能液滴吐出ヘッドに対して保守動作を行っている。具体的には、クリーニングユニットを用いて、機能液滴吐出ヘッドの吐出ノズルから機能液の吸引を行うと共に、ワイピングユニットを用いて、機能液の吸引後に機能液滴吐出ヘッドのノズル面の拭取り（ワイピング）を行うようにしている。さらに、このような保守動作の終了後には、描画装置では、機能液滴吐出ヘッドに検査パターン（テストパターン）を描画させ、これに基づいて吐出ノズルの吐出不良を検出しており、実際の描画を行ったときのドット抜けを防止して、適切な描画結果を得られるようになっている。
【特許文献１】特開２００３−２５１２４３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、吐出ノズルの吐出不良は、上述した機能液の特性や気泡の混入以外に、機能液滴吐出ヘッド自身やヘッド保守装置の不良によっても生じる。また、機能液滴吐出ヘッドに対するヘッド保守装置の保守動作は、本来、機能液滴吐出ヘッドの目詰まりを防止し、その機能回復を図るためのものであるが、保守動作の動作条件によっては、保守動作を行うことによりかえって目詰まり等の吐出不良を誘発し、機能液滴吐出ヘッドに悪影響を及ぼすことがある。したがって、吐出ノズルの吐出不良を防止し、適切な描画結果を得るためには、これら想定される複数の不良原因の中から実際の不良原因を特定すると共に、特定した不良原因に対応した保守を行うことが必要となる。
【０００５】
そこで、本発明は、機能液滴吐出ヘッドの保守に当たり、吐出ノズルに吐出不良が生じた場合にその原因を特定できる描画装置の動作評価方法および描画装置、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置、電子機器を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、ワークに対して、複数の吐出ノズルを整列させて形成した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、機能液滴吐出ヘッドを駆動させることにより、吐出ノズルから機能液滴を吐出させて、ワークに前記機能液滴による描画を行う描画動作と、ヘッド保守手段を用い、機能液滴吐出ヘッドの保守を行う保守動作と、を行う描画装置の動作評価方法において、保守した後の機能液滴吐出ヘッドに所定のテストパターンを描画させる描画工程と、描画したテストパターンを画像認識する画像認識工程と、画像認識に基づいて、描画不良が生じているか否かを判断する描画不良判断工程と、描画不良と判断されたときに、画像認識に基づいて、描画不良の原因が、機能液滴吐出ヘッド自身および保守動作のいずれに起因するかを特定する不良特定工程と、を備えたことを特徴とする。
【０００７】
また、本発明は、ワークに対して、複数の吐出ノズルを整列させて形成した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、機能液滴吐出ヘッドを駆動させることにより、吐出ノズルから機能液滴を吐出させて、ワークに機能液滴による描画を行う描画動作と、ヘッド保守手段を用い、機能液滴吐出ヘッドの保守を行う保守動作と、を行う描画装置において、保守した後の前記機能液滴吐出ヘッドに所定のテストパターンを描画させる描画手段と、描画したテストパターンを画像認識する画像認識手段と、画像認識に基づいて、描画不良が生じているか否かを判断する描画不良判断手段と、描画不良と判断されたときに、画像認識に基づいて、描画不良の原因が、機能液滴吐出ヘッド自身および保守動作のいずれに起因するかを特定する不良特定手段と、を備えたことを特徴とする。
【０００８】
これらの構成によれば、機能液滴吐出ヘッドの保守動作後に描画させたテストパターンに基づいて、機能液滴吐出ヘッドから機能液滴が適切に吐出されているか否かが判断（判定）されるので、保守動作による影響を反映させた状態で、機能液滴吐出ヘッドの吐出不良を判断することができる。すなわち、機能液滴吐出ヘッド自身の状態や機能液滴吐出ヘッドに対する保守動作の影響を複合的に考慮した状態で機能液滴吐出ヘッドの吐出不良を判断することができる。また、テストパターンの画像認識に基づいて、描画不良の原因が機能液滴吐出ヘッド自身および保守動作のいずれに起因するかが特定されるので、特定した不良原因に対応したメンテナンスを行うことにより、速やかに機能液滴吐出ヘッドから機能液滴が適切に吐出される状態に導くことができ、装置のメンテナンス性を向上させることができる。すなわち、機能液滴吐出ヘッドに不良があるにもかかわらず、保守動作に関連したメンテナンスを行うといったことを防止することができる。なお、（描画工程または描画手段による）テストパターンの描画は、機能液滴吐出ヘッドに対する保守が終了した直後に行うことが好ましい。
【０００９】
この場合、描画不良判断工程は、テストパターンを構成する全機能液滴のうち、予め設定された基準条件を満たさない機能液滴が１つでも検出されると、描画不良と判断することが好ましい。
【００１０】
この構成によれば、画像認識に基づいて、基準条件を満たさない機能液滴が１つでも検出されると、描画不良と判断される。これは基準条件を満たさない機能液滴が１つ吐出されても、描画結果に悪影響を及ぼしかねないためである。したがって、基準条件を満たさない機能液滴がたった１つでも検出された場合に、描画不良と判断することにより、極めて精度の良い描画結果を得ることができると共に、製造上の歩留まりを向上させることができる。
【００１１】
この場合、描画不良判断工程により描画不良と判断されたときに、機能液滴吐出ヘッドに再度保守動作を行い、再度保守した後に、機能液滴吐出ヘッドにテストパターンを再描画させ、再描画したテストパターンを再画像認識し、再画像認識したテストパターンに描画不良が生じているか否かを再度判断する再判断工程をさらに備え、不良特定工程は、再判断工程で描画したテストパターンが再度描画不良と判断されたときに、描画不良の原因を特定することが好ましい。
【００１２】
また、この場合、描画不良と判断されたときに、機能液滴吐出ヘッドに再度保守動作を行い、再度保守した後に、機能液滴吐出ヘッドにテストパターンを再描画させ、再描画したテストパターンを再画像認識し、再画像認識したテストパターンに描画不良が生じているか否かを再度判断する再判断手段をさらに備え、不良特定手段は、再判断手段により描画したテストパターンが再度描画不良と判断されたときに、描画不良の原因を特定することが好ましい。なお、テストパターンの再描画は、機能液滴吐出ヘッドに対して再保守した直後に行うことが好ましい。
【００１３】
この構成によれば、一度、描画不良と判断されても、再度テストパターンの描画とこれに基づく判断（判定）が行われるので、誤判断を防止して、より正確に機能液滴吐出ヘッドの吐出不良の判断を行うことができる。すなわち、１回のみ吐出不良が判断される場合には、偶然的に発生する吐出不良（例えば、ワークのセットミス等に起因する吐出不良）と判断される。このように、描画不良の再現性を要求することにより、機能液滴吐出ヘッド自身や保守動作そのものが不良原因である場合に、機能液滴吐出ヘッドの吐出不良が判断される可能性が高くなる。なお、テストパターンとは、その描画結果から、吐出不良を生じた吐出ノズルを不良ノズルとして特定するためのものである。
【００１４】
この場合、不良特定工程は、画像認識工程による画像認識に基づいて、描画不良の原因となった機能液滴を吐出した吐出ノズルを不良ノズルとして特定する第１不良ノズル特定工程と、再判断工程による再画像認識に基づいて、不良ノズルを特定する第２不良ノズル特定工程と、第１不良ノズル特定工程および第２不良ノズル特定工程で特定された不良ノズルの発生態様を比較して、描画不良の原因を機能液滴吐出ヘッドおよび保守動作のいずれであるかを特定する原因特定工程と、を有することが好ましい。
【００１５】
また、この場合、不良特定手段は、画像認識手段による画像認識に基づいて、描画不良の原因となった機能液滴を吐出した吐出ノズルを不良ノズルとして特定する第１不良ノズル特定手段と、再判断手段による再画像認識に基づいて、不良ノズルを特定する第２不良ノズル特定手段と、第１不良ノズル特定手段および第２不良ノズル特定手段で特定された不良ノズルの発生態様を比較して、描画不良の原因を機能液滴吐出ヘッドおよび保守動作のいずれであるかを特定する原因特定手段と、を有することが好ましい。
【００１６】
これらの構成によれば、描画不良の判断のために行った、２回のテストパターンの描画に基づいて得られた不良ノズルの発生態様を比較することにより、描画不良の原因が機能液滴吐出ヘッドおよび保守動作のいずれにあるかを特定することができる。すなわち、描画不良の原因となる不良ノズルの発生態様に着目し、これらを比較することにより、描画不良の傾向を認知することができ、描画不良の原因を特定できるようになっている。
【００１７】
この場合、原因特定工程は、第１不良ノズル特定工程および第２不良ノズル特定工程で特定された不良ノズルの発生態様が同一である場合には、描画不良の原因を機能液滴吐出ヘッド自身に起因するものと特定することが好ましい。
【００１８】
この構成によれば、両工程において、不良ノズルの発生態様が同一である場合には、機能液滴吐出ヘッド自身を描画不良の原因として特定することができる。これは、不良ノズルの発生態様が同一で、描画不良が連続して発生するのは、機能液滴吐出ヘッド自身に不良がある可能性が高いと判断できるためである。逆に言えば、ヘッド保守装置側に不良原因がある場合、不良理由は一致したとしても、不良ノズルとなる吐出ノズルが連続して一致する可能性は低い。なお、不良ノズルの発生態様とは、不良ノズルの発生箇所および不良ノズルと判断させる不良理由を併せた概念である。
【００１９】
この場合、原因特定工程は、第１不良ノズル特定工程および第２不良ノズル特定工程における不良ノズルの発生態様が異なる場合には、両工程における不良ノズルの不良理由が異なるときに、描画不良の原因を保守動作に起因するものと特定することが好ましい。
【００２０】
この構成によれば、第１不良ノズル特定工程および第２不良ノズル特定工程における不良ノズルの発生態様が異なり、かつ両工程における不良理由が異なるときに、描画不良の原因を保守動作に起因するものと特定することができる。これは、保守動作の精度が安定していないために、機能液滴吐出ヘッドに保守をおこなうと、吐出状態が不安定になると考えられるからである。
【００２１】
この場合、原因特定工程は、第１不良ノズル特定工程および第２不良ノズル特定工程における不良ノズルの発生態様が異なる場合には、両工程における不良ノズルの不良理由が一致しており、かつ不良理由が前記機能液滴の着弾位置のずれでないときに、描画不良の原因を保守動作に起因するものと特定することが好ましい。
【００２２】
この構成によれば、第１不良ノズル特定工程および第２不良ノズル特定工程における不良ノズルの発生態様が異なっていても、不良ノズルの不良理由が一致している場合には、原則、描画不良の原因が保守動作に起因するものであると特定することができる。これは、不良理由が変わらない場合、保守動作による機能液滴吐出ヘッドへの保守作用が不十分である可能性が高いからである。なお、機能液滴吐出ヘッドのノズル面の撥液膜が損傷している場合にも、不良ノズルの発生態様が異なり、かつ不良ノズルの不良理由が一致する場合が考えられるので、撥液膜の損傷により生じる着弾位置のずれが生じている場合には、これを除外するようにしている。
【００２３】
この場合、原因特定工程は、第１不良ノズル特定工程および第２不良ノズル特定工程における不良ノズルの発生態様が異なる場合には、両工程における不良ノズルの不良理由が前記機能液滴の着弾位置のずれで一致しており、かつ両工程においてずれを生じた全機能液滴のずれ方向が略一致するときに、描画不良の原因を機能液滴吐出ヘッド自身に起因するものと特定することが好ましい。
【００２４】
この構成によれば、第１不良ノズル特定工程および第２不良ノズル特定工程における不良ノズルの発生態様が異なる場合で、両工程における不良理由が機能液滴の着弾位置のずれ（飛行曲がり）で一致しているときには、ずれを生じた全機能液滴のずれ方向が略一致するときに、描画不良の原因を機能液滴吐出ヘッド自身に起因するものと特定することができる。機能液滴吐出ヘッドのノズル面にメッキされた撥液膜が損傷した場合、特に、撥液膜に、ノズル面のワイピングにより特定方向に傷が付いている場合には、傷の方向に応じて着弾位置のずれは略一定方向となることが多い。一方、保守動作に問題があるときには、着弾位置のずれ方向に規則性は生じにくい。したがって、不良ノズルの発生箇所が異なっていても、これらが吐出した全機能液滴の着弾位置のずれ方向が略一定であるときには、機能液滴吐出ヘッド自身に吐出不良の原因がある可能性が高くなっている。そこで、両工程における不良理由が機能液滴の着弾位置のずれ（飛行曲がり）で一致しており、かつ両工程において、ずれを生じた全機能液滴のずれ方向が略一致するときには、描画不良の原因を機能液滴吐出ヘッド自身に起因するものと判断可能である。
【００２５】
この場合、保守動作は、機能液滴吐出ヘッドに形成された吐出ノズルから機能液を吸引する吸引動作と、吸引動作の後、機能液滴吐出ヘッドのノズル面を拭き取る拭取り動作と、で構成されており、描画不良の原因が保守動作にあると判断されたときに、不良原因が吸引動作および／または拭取り動作にあることをさらに特定する不良保守動作特定工程をさらに備えたことが好ましい。
【００２６】
また、この場合、ヘッド保守装置は、機能液滴吐出ヘッドに形成された吐出ノズルから機能液を吸引する吸引手段と、吸引動作の後、機能液滴吐出ヘッドのノズル面を拭き取る拭取り手段と、で構成されており、描画不良の原因が保守動作にあると判断されたときに、不良原因が吸引手段および／または拭取り手段の保守動作にあることをさらに特定する不良保守動作特定手段をさらに備えたことが好ましい。
【００２７】
これらの構成によれば、保守動作が（吸引手段による）吸引動作および（拭き取り手段による）拭き取り動作から成り立っている場合に、吸引動作および拭き取り動作のいずれが機能液滴吐出ヘッドの不良原因であるかを特定することができる。したがって、よりピンポイントでメンテナンスを行うことができ、装置のメンテナンス性をより向上させることができる。
【００２８】
この場合、不良保守動作特定工程は、テストパターンにドット抜けが生じている場合には、吸引動作を不良原因として特定することが好ましい。また、この場合、不良保守動作特定工程は、テストパターンを構成する機能液滴の着弾径に過小なものが含まれている場合には、吸引動作を不良原因として特定することが好ましい。
【００２９】
この構成によれば、不良ノズルの不良理由から、テストパターンにドット抜けが生じている場合や、機能液滴の着弾径が過小である場合には、吸引動作が不良原因であると特定することができる。これは、機能液滴吐出ヘッドに対する吸引動作が不十分であると、機能液滴吐出ヘッド内から適切に排除されなかった、ヘッド流路内の気泡や、経時的に増粘した機能液が、ドット抜けや着弾径の大きさに影響するからである。
【００３０】
この場合、不良保守動作特定工程は、テストパターンに機能液滴の着弾位置のずれが生じている場合には、拭き取り動作を不良原因として特定することが好ましい。また、この場合、不良保守動作特定工程は、テストパターンを構成する機能液滴の着弾径に過大なものが含まれている場合には、拭き取り動作を不良原因として特定することが好ましい。
【００３１】
この構成によれば、テストパターンに基づいて、機能液滴吐出ヘッドの不良原因が特定され、吐出した機能液滴の飛行曲がりにより、機能液滴の着弾位置のずれが生じている場合や、着弾した機能液滴の着弾径が過大である場合には、拭き取り動作を不良原因として特定することができる。
【００３２】
この場合、不良保守動作特定工程で特定された保守動作の動作条件を変更する動作条件変更工程をさらに備えたことが好ましい。
【００３３】
また、この場合、不良保守動作特定手段で特定されたヘッド保守手段の保守動作条件を変更する動作条件変更手段をさらに備えたことが好ましい。
【００３４】
これらの構成によれば、描画不良の不良原因に対応して、保守動作の動作条件が変更される。具体的には、吸引動作が不良原因として判断されると、吸引動作における吸引条件（例えば、吸引時間や吸引圧力）が変更されるので、吸引動作による不良原因を解消することが可能である。また、拭取り動作が不良原因として判断されると、拭取り動作における拭取り条件（例えば、ノズル面に対する拭取り圧力や、拭取り速度など）を変更することができるので、拭取り動作による不良原因を解消することができる。したがって、機能液滴吐出ヘッドに対して、適切に拭取り動作を行うことが可能となり、機能液滴吐出ヘッドが機能液滴を適切に吐出するよう、これを保守することができる。なお、この場合、動作条件の変更は、制御装置により、自動的に行っても良いし、ユーザの判断に基づいて手動で行うようにしても良い。
【００３５】
この場合、特定した描画不良の原因を表示する不良原因表示手段をさらに備えたことが好ましい。
【００３６】
この構成によれば、機能液滴吐出ヘッドの吐出不良の原因が特定されると、不良原因表示手段によりその原因が表示されるので、ユーザは、不良原因を容易に認識することができ、不良原因を除去するためのメンテナンス性を向上させることができる。
【００３７】
本発明の電気光学装置の製造方法は、上記のいずれかに記載の描画装置の保守方法または上記のいずれかに記載の描画装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。
【００３８】
また、本発明の電気光学装置は、上記のいずれかに記載の描画装置の保守方法または上記のいずれかに記載の描画装置を用い、ワーク上に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。
【００３９】
これらの構成によれば、機能液滴吐出ヘッドの不良原因を特定して、メンテナンス性のよい描画装置の動作評価方法または描画装置を用いて、電気光学装置が製造されるので、製造時のメンテナンスに要する時間を削減して、効率よく製造を行うことができる。なお、電気光学装置（デバイス）としては、液晶表示装置、有機ＥＬ（Electro-Luminescence）装置、電子放出装置、ＰＤＰ（Plasma Display Panel）装置および電気泳動表示装置等が考えられる。なお、電子放出装置は、いわゆるＦＥＤ（Field
Emission Display）装置またはＳＥＤ（Surface-Conduction Electron-Emitter Display）装置を含む概念である。さらに、電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等を包含する装置が考えられる。
【００４０】
本発明の電子機器は、上記に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記に記載の電気光学装置を搭載したことを特徴とする
【００４１】
この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータの他、各種の電気製品がこれに該当する。
【発明の効果】
【００４２】
以上に述べたように、本発明の描画装置の動作評価方法または描画装置によれば、機能液滴吐出ヘッドに描画させたテストパターンに基づいて、機能液滴吐出ヘッドの吐出不良を判断すると共に、吐出不良の原因を特定することができる。したがって、機能液滴吐出ヘッドの吐出不良時には、特定した原因に基づいて、描画装置に適切なメンテナンスを行うことができる。また、機能液滴吐出ヘッドの保守動作を行うことにより、機能液滴吐出ヘッドの機能をかえって害する場合があるが、本発明では、保守した機能液滴吐出ヘッドの吐出状態を判断しているため、機能液滴吐出ヘッドに対し保守動作が悪影響を及ぼしている場合にはこれを検出することができる。したがって、吐出不良の機能液滴吐出ヘッドによるワークへの描画を防止することができ、製造上の歩留まりを向上させることが可能である。さらに、本発明の描画装置の保守方法または描画装置は、保守した機能液滴吐出ヘッドの吐出状態を判断するため、ヘッド保守装置の保守動作が適切に行われているか否かの評価を行う際にも用いることができる。
【００４３】
本発明の電気光学装置の製造方法、電気光学装置、および電子機器は、上記の描画装置を用いているため、効率よくこれらを製造することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４４】
以下、添付した図面を参照しながら、本発明を適用した描画装置について説明する。この描画装置は、いわゆるフラットディスプレイの製造ラインに組み込まれるものであり、機能液滴吐出ヘッドを用いた液滴吐出法により、液晶表示装置のカラーフィルタや有機ＥＬ装置の各画素となる発光素子等を形成するものである。図１は、描画装置の平面模式図である。同図に示すように、描画装置１は、機台２と、機能液滴吐出ヘッド１６を有し、機台２上の全域に広く載置された液滴吐出装置３と、液滴吐出装置３に添設するように機台２上に載置した保守装置４と、を備えている。
【００４５】
また、描画装置１は、描画装置１全体を統括的に制御する制御装置５を備えており、制御装置５による制御を通じて、液滴吐出装置３を用いたワークＷへの描画が行われると共に、保守装置４による液滴吐出装置３（機能液滴吐出ヘッド１６）の保守（メンテナンス）が適宜行われるようになっている。
【００４６】
図１に示すように、液滴吐出装置３は、ワークＷを主走査（Ｘ軸方向に移動）させるＸ軸テーブル１２およびＸ軸テーブル１２に直交するＸ軸テーブル１３から成るＸ・Ｙ移動機構１１と、Ｘ軸テーブル１３に移動自在に取り付けられたメインキャリッジ１４と、メインキャリッジ１４に垂設され、機能液滴吐出ヘッド１６を搭載したヘッドユニット１５と、を有している。そして、液滴吐出装置３は、Ｘ軸テーブル１２による主走査（ワークＷの往復移動）と、機能液滴吐出ヘッド１６を吐出駆動（機能液滴の選択的吐出）と、を同期して行うと共に、Ｘ軸テーブル１３による副走査（ヘッドユニット１５のＹ軸方向への移動）を適宜行うことにより、ワークＷに対する描画を行っている。
【００４７】
Ｘ軸テーブル１２は、Ｘ軸方向の駆動系を構成するＸ軸モータ（図示省略）駆動のＸ軸スライダ２１を有し、これに吸着テーブル２３およびθテーブル２４等から成るセットテーブル２２を移動自在に搭載して構成されている。同様に、Ｘ軸テーブル１３は、Ｙ軸方向の駆動系を構成するＹ軸モータ（図示省略）駆動のＹ軸スライダ２５を有し、これにθ回転機構２６を介してヘッドユニット１５を支持する上記のメインキャリッジ１４を移動自在に搭載して構成されている。
【００４８】
なお、Ｘ軸テーブル１２は、保守装置４とＸ軸方向に相互に平行に配設されており、機台２上に直接支持されている。一方、Ｘ軸テーブル１３は、機台２上に立設した左右一対の支柱２７に支持されており、Ｘ軸テーブル１２および保守装置４を跨ぐようにＹ軸方向に延在している（図１参照）。そして、この液滴吐出装置３では、Ｘ軸テーブル１３とＸ軸テーブル１２とが交わるエリアがワークＷの描画を行う描画エリア３１、Ｘ軸テーブル１３と保守装置４とが交わるエリアが機能液滴吐出ヘッド１６の保守を行う保守エリア３２となっており、Ｘ軸テーブル１３は、ワークＷに描画を行う場合には描画エリア３１に、機能液滴吐出ヘッド１６の保守を行う場合には保守エリア３２に、ヘッドユニット１５を臨ませるようになっている。
【００４９】
図１に示すように、ヘッドユニット１５は、ヘッド保持部材（図示省略）を介して機能液滴吐出ヘッド１６を搭載したヘッドプレート４１と、メインキャリッジ１４に着脱可能に構成されたヘッド支持部材４２と、を備えている。なお、メインキャリッジ１４には、ヘッドユニット１５を微少にθ方向に回転させるθ回転機構２６が取り付けられており、ヘッドユニット１５は、θ回転機構２６に支持させたヘッドプレート４１を介してメインキャリッジ１４に支持されている。図示省略したが、ヘッドプレート４１には、配管ジョイントを有するジョイントユニットが配設されている。配管ジョイントの一端は、機能液滴吐出ヘッド１６（配管アダプタ５５）からのヘッド側配管部材（図示省略）が接続され、もう一端は機能液滴吐出ヘッド１６に機能液を供給する機能液供給機構（図示省略）からの装置側配管部材（図示省略）が接続される。
【００５０】
図２に示すように、機能液滴吐出ヘッド１６は、いわゆる２連のものであり、２連の接続針５２を有する機能液導入部５１と、機能液導入部５１に連なる２連のヘッド基板５３と、機能液導入部５１の下方に連なり、内部に機能液で満たされるヘッド内流路が形成されたヘッド本体５４と、を備えている。各接続針５２は、配管アダプタ５５を介して、ヘッド側配管部材に接続されており、機能液滴吐出ヘッド１６は、各接続針５２から機能液の供給を受けるようになっている。ヘッド本体５４は、キャビティ５６（ピエゾ圧電素子）と、ノズル面５８を有するノズルプレート５７と、で構成されている。ノズル面５８の下面には、多数（１８０個）の吐出ノズル５９からなるノズル列が２列形成されている。機能液滴吐出ヘッド１６では、キャビティ５６のポンプ作用により吐出ノズル５９から機能液を吐出する。なお、ノズル面５８には、各吐出ノズル５９から吐出される機能液滴の飛行曲がりを防止するために、撥液処理が為されている。
【００５１】
図示省略したが、液滴吐出装置３は、上記したものの他に、各機能液滴吐出ヘッド１６に機能液が供給する機能液供給機構や、セットテーブル２２にワークＷを吸着セットするための吸着セット機構等を具備している。
【００５２】
図１および図３に示すように、保守装置４は、吸引ユニット７１と、ワイピングユニット７２と、不良検査ユニット７３と、を備えている。これらは、機台２に設置されると共に、Ｘ軸方向に対してスライド自在に構成された移動テーブル７４上に並んで配設されており、機能液滴吐出ヘッド１６の保守を行うときには、各ユニットは、移動テーブル７４を介して適宜保守エリア３２に移動するようになっている。また、移動テーブル７４には、ヘッド観察カメラ７５が上記各ユニットに並設されている。
【００５３】
吸引ユニット７１は、機能液滴吐出ヘッド１６（吐出ノズル５９）を吸引することにより、機能液滴吐出ヘッド１６の吐出ノズル５９から機能液を強制的に排出させるものであり、例えば、新たにヘッドユニット１５に機能液滴吐出ヘッド１６を投入した場合のように機能液の充填を行う場合や、機能液滴吐出ヘッド１６内で増粘した機能液や混入した気泡を除去して、吐出ノズル５９の目詰まりを防止するための吸引（クリーニング）を行う場合に用いられる。
【００５４】
図１および図３に示すように、吸引ユニット７１（吸引手段）は、キャップスタンド８１と、キャップスタンド８１に支持され、機能液滴吐出ヘッド１６のノズル面５８に密着するキャップ８２と、キャップ８２を介して機能液滴吐出ヘッド１６の吸引を行う吸引ポンプ（図示省略）と、キャップ８２と吸引ポンプとを接続する吸引チューブ（図示省略）と、を有している。図示省略したが、キャップスタンド８１には、モータ駆動により、キャップ８２を昇降させるキャップ昇降機構が組み込まれており、保守エリア３２に臨んだヘッドユニット１５の機能液滴吐出ヘッド１６に対して、キャップ８２を離接できるようになっている。そして、機能液滴吐出ヘッド１６の吸引を行う場合には、キャップ昇降機構を駆動して、機能液滴吐出ヘッド１６のノズル面５８にキャップ８２を密着させると共に、吸引ポンプを駆動し、キャップ８２を介して機能液滴吐出ヘッド１６に吸引力を作用させることにより、機能液滴吐出ヘッド１６から機能液を強制的に排出させる。また、図示省略したが、吸引チューブのキャップ８２の下流側（吸引ポンプ側）には、吸引圧力を検出する吸引圧検出センサ、吸引チューブを通過する機能液の有無を検出する液体検出センサが設けられている。
【００５５】
なお、キャップ８２は、機能液滴吐出ヘッド１６の捨て吐出（予備吐出）により吐出された機能液を受けるフラッシングボックスの機能を有しており、ワークＷの交換時のように、ワークＷに対する描画を一時的に停止するときに行う定期フラッシングの機能液を受けるようになっている。この場合、フラッシングされた機能液がキャップ８２外に飛び散ることを防止するため、キャップ昇降機構は、機能液滴吐出ヘッド１６のノズル面５８およびキャップ８２（の上面）が僅かに離間する位置にキャップ８２を支持している。
【００５６】
図１および図３に示すように、ワイピングユニット７２（拭き取り手段）は、ロール状に巻回され、汚れを吸着するワイピングシート９１と、ワイピングシート９１を繰り出しながら巻き取っていく巻取りユニット９２と、繰り出されたワイピングシート９１を機能液滴吐出ヘッド１６のノズル面５８に当接させながら、拭き取っていく拭き取りユニット９３と、ワイピングシート９１に洗浄液を供給する洗浄液供給ユニット９４と、を備えており、ワイピングシート９１は、巻取りユニット９２から拭き取りユニット９３を周回するように架け渡されている。ワイピング動作は、主に、吸引ユニット７１による機能液滴吐出ヘッド１６の吸引に続いて行われるようになっており、機能液滴吐出ヘッド１６のノズル面５８を、洗浄液を含浸したワイピングシート９１で払拭（ワイピング）することにより、ノズル面５８に付着した機能液やごみ等の汚れを除去して、機能液滴吐出ヘッド１６から吐出された機能液滴の飛行曲がり（着弾位置のずれ）等を防止するようになっている。
【００５７】
巻取りユニット９２は、ロール状のワイピングシート９１を装着した繰り出しリール９５と、繰り出されたワイピングシート９１を巻き取る巻取りリール９６と、エンコーダ付きの巻取りモータ（図示省略）と、を有しており、巻取りモータを駆動して、巻取りリール９６を回転させることにより、繰り出しリール９５からワイピングシート９１が繰り出すと共に、エンコーダにより、ワイピングシート９１の巻取り量（または巻取り速度）を検出しながら、巻取りリール９６に繰り出されたワイピングシート９１が巻き取るようになっている。
【００５８】
拭き取りユニット９３は、ワイピングシート９１を介して、機能液滴吐出ヘッド１６のノズル面５８に当接する拭き取りローラ９７と、拭き取りローラ９７を昇降させることにより、拭き取りローラ９７をノズル面５８に対して離接させる昇降機構（図示省略）と、を有している。また、拭き取りユニット９３には、ノズル面５８に対するワイピングシート９１の押圧力を検出するワイピング圧検出センサ（図示省略）が設けられており、ワイピング圧検出センサに基づいて昇降機構による拭き取りローラ９７の昇降を調整すると、ワイピングシート９１の押圧力を調整できるようになっている。なお、本実施形態では、拭き取りローラ９７を昇降することにより、ワイピングシート９１をノズル面５８に当接させているが、ヘッドユニット１５を昇降させる構成としてもよい。
【００５９】
洗浄液供給ユニット９４は、洗浄液タンク（図示省略）と、洗浄液タンクに連通する洗浄液ノズル９８と、洗浄液タンクに貯留する洗浄液を洗浄液ノズル９８から滴下させる洗浄液滴下手段（図示省略）と、を有している。複数の洗浄液ノズル９８は、ワイピングシート９１に臨み、ワイピングシート９１の送り方向と直交するように（すなわち、ワイピングシート９１の幅方向に）、均一に整列して配設されている。洗浄液滴下手段は、洗浄液タンクに圧縮エアーを導入することにより、各洗浄液ノズルからワイピングシート９１に洗浄液を滴下させるものであり、洗浄液タンクに対する圧縮エアーの導入量を調整することにより、洗浄液の滴下量を調整することができるようになっている。
【００６０】
ヘッド観察カメラ７５は、ワイピングユニット７２によるワイピング動作の終了後に、保守エリア３２に臨んで、機能液滴吐出ヘッド１６のノズル面５８を撮像するものである。撮像結果は、制御装置５に送信されると共に画像処理され、ワイピング終了後のノズル面５８の拭き残しを確認できるようになっている。ヘッド観察カメラ７５は、レンズ（図示省略）を上方に（機能液滴吐出ヘッド１６側に）向けたカメラ本体１０１と、カメラ本体１０１を（焦点距離を調整するために）高さ調節可能に支持すると支持スタンド１０２と、を備えている。
【００６１】
図１および図３に示すように、不良検査ユニット７３は、機能液滴吐出ヘッド１６の吸引からワイピングに至る一連の保守動作の後に、機能液滴吐出ヘッド１６に所定のテストパターンを描画させると共に、これを撮像することにより、機能液滴吐出ヘッド１６、吸引ユニット７１、およびワイピングユニット７２の動作不良を検出するためのものであり、テストパターンを描画させる検査用の小型基板１１１を載置（セット）する載置テーブル１１２と、描画したテストパターンを撮像する撮像ユニット１１３と、を備えている。なお、本実施形態では、機能液滴吐出ヘッド１６に直接保守を行う吸引ユニット７１およびワイピングユニット７２を併せて、ヘッド保守装置７０と呼ぶ。
【００６２】
載置テーブル１１２は、移動テーブル７４上に配設されており、移動テーブル７４を介してＸ軸方向に適宜移動する構成となっている。具体的には、載置テーブル１１２は、テストパターンの描画時には、保守エリア３２に移動して小型基板１１１を機能液滴吐出ヘッド１６に臨ませる一方、小型基板１１１の撮像時には、撮像ユニット１１３に臨む撮像エリア１１４まで移動して、小型基板１１１を後述する撮像ユニット１１３のＣＣＤカメラ（対物レンズ）１１５に臨ませるようになっている。
【００６３】
撮像ユニット１１３は、セットした小型基板１１１に臨んでテストパターンを撮像するＣＣＤカメラ１１５と、移動テーブル７４を跨ぐように機台２上に設置され、ＣＣＤカメラ１１５を支持するカメラスタンド１１６と、カメラスタンド１１６に組み込まれ、ＣＣＤカメラ１１５をＹ軸方向に移動させるカメラ移動機構（図示省略）と、撮像のための光を照射する照明（図示省略）と、を有している。図示省略したが、ＣＣＤカメラ１１５は、撮像用の対物レンズや、対物レンズにより結像した機能液滴の画像を電気信号に変換するＣＣＤ撮像素子の他、撮像倍率（視野）を変えるためのカメラズームやカメラズーム用のズームモータなどを具備している。なお、照明は、十分な光量を確保できると共に装置内への熱的影響が少ないＬＥＤアレイで構成することが好ましい。
【００６４】
テストパターンの描画から撮像に至る一連の動作について説明すると、先ず、移動テーブル７４を駆動して、載置テーブル１１２を保守エリア３２に移動させ、小型基板１１１をヘッドユニット１５に臨ませる（図１参照）。そして、小型基板１１１を微少移動させながら、機能液滴吐出ヘッド１６を吐出駆動して機能液滴を吐出させ、小型基板１１１の上面にテストパターンを描画させる。テストパターンは、機能液滴吐出ヘッド１６から吐出された機能液滴を１滴ずつ所定の位置にマトリクス状に着弾させたものであり、機能液滴吐出ヘッド１６の全吐出ノズル５９を用いて描画される。また、テストパターンを構成する各ドット（機能液滴）および機能液滴吐出ヘッド１６の各吐出ノズル５９は関連付けられており、テストパターンにおけるドットの位置から、当該ドットを吐出した吐出ノズル５９を特定できるようになっている。
【００６５】
なお、機能液滴吐出ヘッド１６の各吐出ノズル５９から所定の位置に１ドットずつ吐出させたものをテストパターンとしても良いが、吐出した各ドットがそれぞれ異なる位置に着弾するように、各吐出ノズル５９から複数ドットずつ吐出させたものをテストパターンとすることが好ましい。
【００６６】
テストパターンの描画が終了すると、移動テーブル７４を再度駆動して、載置テーブル１１２を撮像エリア１１４に臨ませる（図４参照）。そして、ＣＣＤカメラ１１５により小型基板１１１に描画したテストパターン全体を撮像する。ＣＣＤカメラ１１５の視野が狭く、テストパターン全体を一度に撮像できない場合には、カメラズームにより視野を広げてテストパターン全体を撮像する。または、テストパターンを複数に分割し、カメラ移動機構（および移動テーブル７４）によりＣＣＤカメラ１１５を移動させながら、テストパターンを（分割した）一部分ずつ、複数回に分けて撮像するようにして、テストパターン全体を撮像する。
【００６７】
詳細は後述するが、撮像ユニット１１３（ＣＣＤカメラ）による撮像結果は、制御装置５に送信されて画像認識される。そして、この画像認識に基づいて、機能液滴吐出ヘッド１６が正常に機能液を吐出しているか否かが判断されると共に、機能液滴吐出ヘッド１６の吐出不良時にはその原因が機能液滴吐出ヘッド１６自身に起因するもの、ヘッド保守装置７０自身に起因するもの（その中でも、吸引ユニット７１自身に起因するもの、およびワイピングユニット７２自身に起因するもの）のいずれにあるかが判断されるようになっている。
【００６８】
なお、本実施形態の不良検査ユニット７３は、吐出不良の原因が機能液滴吐出ヘッド１６自身に起因する場合のように、機能液滴吐出ヘッド１６（の各吐出ノズル５９）から吐出される機能液滴の吐出量を補正するときにも使用されるようになっている。各機能液滴の吐出量（体積）は、テストパターンの描画結果に基づいて算出できるようになっており、機能液滴吐出ヘッド１６の各吐出ノズル５９から吐出される機能液滴量のばらつきを算出し、これに基づいて各吐出ノズル５９（ピエゾ圧電素子）の駆動波形を補正することにより、各吐出ノズル５９の吐出量を調整できるようになっている。
【００６９】
具体的には、載置テーブル１１２に専用の小型基板１１１をセットして、機能液滴吐出ヘッド１６の各吐出ノズル５９から機能液滴を吐出させ、テストパターンを描画させる。この場合、小型基板１１１の表面には、着弾した機能液滴が冠球状となり、かつ機能液の種類毎に小型基板１１１と着弾した機能液滴とのなす角、すなわち接触角θが一定となるように特殊加工が施されている。
【００７０】
続いて、描画したテストパターンを撮像して、制御装置５に画像認識させ、着弾した全ドットの着弾径をそれぞれ計測する。次に、小型基板１１１に着弾した各ドットの着弾径および接触角θに基づいて、小型基板１１１に着弾した各機能液滴の体積を算出する。そして、予め規定した基準吐出量からのずれ量に基づいて、基準吐出量から外れる機能液量を吐出した吐出ノズル５９の駆動波形を補正し、機能液滴吐出ヘッド１６の全吐出ノズル５９が基準吐出量を吐出するように調整する。なお、基準吐出量は、全吐出ノズル５９から吐出される機能液滴の吐出量が略一定となるように、機能液滴吐出ヘッド１６の全吐出ノズル５９の平均吐出量としても良いし、設計基準として予め各吐出ノズル毎に定めた値を用いても良い。
【００７１】
また、保守装置４として、上記の各ユニットに加え、描画装置１の稼動停止時に、機能液滴吐出ヘッド１６の乾燥を防止すべくこれを保管するための保管装置や、機能液滴吐出ヘッド１６から吐出された機能液滴の重量を測定する重量測定ユニット等を搭載することが好ましい。
【００７２】
制御装置５は、パソコン等で構成されており、図５に示すように、液滴吐出装置３および保守装置４と接続するためのインタフェース１２１と、一時的に記憶可能な記憶領域を有し、制御処理のための作業領域として使用されるＲＡＭ１２２と、各種記憶領域を有し、制御プログラムや制御データを記憶するＲＯＭ１２３と、液滴吐出装置３や保守装置４からの各種データ（ＣＣＤカメラ１１５からの撮像データや撮像データに基づく各種データを含む）等を記憶すると共に、各種データを処理するためのプログラム等を記憶するハードディスク１２４と、ハードディスク１２４に記憶されたプログラム等に基づいて、各種データを演算処理するＣＰＵ１２５と、これらを互いに接続するバス１２６と、を備えている。また、制御装置５には、キーボードやマウス等の入力装置１２７、各種データやメッセージなどを表示するモニタディスプレイ１２８等が備えられている。
【００７３】
制御装置５では、液滴吐出装置３や保守装置４、入力装置１２７からの各種データを、インタフェース１２１を介して入力すると共に、ハードディスク１２４に記憶された（または、ＣＤ−ＲＯＭドライブ等により順次読み出される）プログラムに従ってＣＰＵ１２５に演算処理させ、その処理結果を、インタフェース１２１を介して液滴吐出装置３や保守装置４等に出力することにより、各種手段を実現できるようになっている。そして、請求項に記載された、画像認識手段、描画不良判断手段、不良特定手段、再判断手段、第１不良ノズル特定手段、第２不良ノズル特定手段、原因特定手段、動作条件変更手段等は、ＣＰＵ１２５の演算処理により制御装置５内で実現される仮想的な手段である。
【００７４】
ところで、機能液滴吐出ヘッド１６の吐出ノズル５９は、目詰まり等に起因して吐出不良を生じ易いため、目詰まりを防止すべく、上述したようにヘッド保守装置７０（吸引ユニット７１およびワイピングユニット７２）を用いて機能液滴吐出ヘッド１６の保守を行うようになっている。しかしながら、吸引ユニット７１およびワイピングユニット７２による保守動作は、その動作条件によってはかえって機能液滴吐出ヘッド１６に悪影響を及ぼす場合がある。また、ノズル面５８にメッキされた撥液膜が損傷した場合のように、機能液滴吐出ヘッド１６自身が不良である場合には、両ユニット７１、７２による保守動作を行っても吐出不良は解消せず、ワークＷに適切な描画を行うことはできない。
【００７５】
このように、ヘッド保守装置７０および機能液滴吐出ヘッド１６の両方が機能液滴吐出ヘッド１６の不良原因になりうるため、機能液滴吐出ヘッド１６の吐出不良を解消するためには、その不良原因を特定し、不良原因に見合ったメンテナンスを行うことが重要である。そこで、本実施形態の描画装置１は、不良検査ユニット７３を備え、保守動作の終了後には、機能液滴吐出ヘッド１６の吐出不良を検出すると共に、その不良原因を特定できるようになっている。
【００７６】
図６を参照して、機能液滴吐出ヘッド１６の吐出不良を検出するための一連の処理について説明する。同図に示すように、機能液滴吐出ヘッド１６に対する吸引ユニット７１およびワイピングユニット７２の保守動作が終了すると（Ｓ１）、小型基板１１１にテストパターンが描画され（Ｓ２：描画工程）、続いて、撮像ユニット１１３によるテストパターンの撮像が行われる（Ｓ３）。撮像されたテストパターンの撮像データは、制御装置５に送信され（Ｓ４）、制御装置５に記憶された所定のプログラムに基づいて、画像認識が為され（Ｓ５：画像認識工程）、不良ノズルが特定される（Ｓ６：第１不良ノズル特定工程）。
【００７７】
続いて、テストパターンが描画不良であるか否かの判定が行われる（描画不良判断工程）。同図に示すように、描画不良の判定（描画不良判断工程）では、不良ノズルとして特定された吐出ノズル５９の有無を確認し（Ｓ７）、不良ノズルが１つも検出されない場合には（Ｓ７：Ｙｅｓ）、描画が適切である、すなわち、機能液滴吐出ヘッド１６に吐出不良がないと判断して処理を終了させる。一方、不良ノズルが１つでも検出された場合には（Ｓ７：Ｎｏ）、機能液滴吐出ヘッド１６の保守動作を実行させると共に、上記の処理を繰り返し（Ｓ２〜Ｓ６：再判断工程および第２不良ノズル特定工程）、再度画像認識に基づいて、不良ノズルの有無を検出する（Ｓ７）。そして、再び不良ノズルが検出された場合（Ｓ８：Ｙｅｓ）、すなわち描画不良と判断された場合には、機能液滴吐出ヘッド１６、少なくとも吸引ユニット７１またはワイピングユニット７２に不良があると判断し（Ｓ９）、不良原因を特定した（Ｓ１０：原因特定工程）後に、一連の処理を終了させる。
【００７８】
このように、一度不良ノズルが検出された後、さらに保守動作を繰り返すことにより、機能液滴吐出ヘッド１６の偶然的な吐出不良を排除し、機能液滴吐出ヘッド１６、吸引ユニット７１、およびワイピングユニット７２のいずれかに不良原因があることについての蓋然性を高めることができる。また、不良原因を特定するためのデータが増えるため、適切な判断を行うことが可能である。なお、本実施形態では、不良ノズルが検出された場合に繰り返す、機能液滴吐出ヘッド１６の保守回数を1回としているが、繰り返し保守回数は任意に設定可能である。また、保守動作を繰り返す場合には、機能液滴吐出ヘッド１６の吸引からワイピングに至る一連の動作を行うようにしても良いが、状況により（画像認識で、ドットの位置ずれのみが検出された場合など）ワイピング動作のみを行うようにしても良い。
【００７９】
ここで、撮像データの画像認識について説明する。画像認識では、基準となる基準テストパターンと実際に描画されたテストパターンとの比較が為され、テストパターンを構成する全ドットについて1個ずつ順番に認識が行われる。先ず、ドット抜けの有無が検出され、ドット抜けが検出されると、そのドット抜けの原因となった吐出ノズル５９を特定して不良ノズルとして記憶する。なお、機能液滴吐出ヘッド１６の各吐出ノズル５９には、固有のノズル番号が付されており、不良ノズルとして吐出ノズル５９を記憶する場合には、ノズル番号が記憶されることはいうまでもない。
【００８０】
一方、ドット抜けが検出されない場合には、小型基板１１１に着弾したドットの着弾径を計測してこれを記憶すると共に、基準位置（基準テストパターンにおけるドットの位置）と実際のドットとの位置ずれ量（吐出した機能液滴の飛行曲がりに起因する）をＸ軸方向およびＹ軸方向について算出して記憶する。また、各ドットについて、基準位置からの位置ずれ方向を特定して記憶する。さらに、記憶した全データに対して、ドットの着弾径および位置ずれ量が予め設定した許容範囲内にあるか否かをチェックし、許容範囲から外れた着弾径または位置ずれ量のドットを吐出した吐出ノズル５９を不良ノズルとして記憶する。
【００８１】
なお、本実施形態では、全ドットについて画像認識を行っているが、予め定められた所定数のドット分についてのみ画像認識を行う（サンプリング）ようにしても良い。これにより、吐出不良の検出精度は若干低下するものの、検査速度を向上させることが可能となり、画像認識の所要時間を削減することが可能である。この場合、画像認識を行うドットは、テストパターンを構成する全ドットからランダムに、かつマトリクス状に整列した行方向および列方向から均一にドットを選択することが好ましい。また、テストパターンの描画に際し、各吐出ノズル５９から複数ドットずつ機能液滴が吐出されている場合には、複数ドットのうち、１ドットでも不良が検出されれば、そのドットを吐出した吐出ノズル５９は不良ノズルとして特定される。
【００８２】
次に、機能液滴吐出ヘッド１６の吐出不良が検出された場合に行われる不良原因の特定方法について図７を参照しながら説明する。説明の便宜のため、ここでは、１回目に描画させたテストパターンを第１テストパターン、再度保守動作を行った後に描画させたテストパターンを第２テストパターンとし、第１テストパターンの画像認識により検出された不良ノズルを第１不良ノズル、第２テストパターンの画像認識により検出された不良ノズルを第２不良ノズルとする。
【００８３】
同図に示すように、不良原因の特定（原因特定工程）では、先ず、吐出不良検出において、先ず、第１不良ノズルおよび第２不良ノズルの発生態様を比較する（Ｓ１１）。ここでいう不良ノズルの「発生態様」とは、吐出ノズル５９のノズル番号、不良ノズルとして特定された理由（不良理由）を併せて考慮したものであり、Ｓ１１では、第１不良ノズルおよび第２不良ノズルについて、そのノズル番号、および不良理由が比較される。また、各吐出ノズル５９から複数ドットずつ機能液滴を吐出させている場合には、吐出不良の発生時期や発生回数等を併せて比較するようにしても良い。
【００８４】
そして、第１不良ノズルおよび第２不良ノズルの発生態様が異なる場合（Ｓ１１：Ｎｏ）、不良理由が異なる場合（Ｓ１２：Ｎｏ）には、保守動作が安定して行われない、すなわちヘッド保守装置７０が不安定で保守動作精度が悪いために、機能液滴吐出ヘッドの適切な保守が為されないとして、ヘッド保守装置７０自身を機能液滴吐出ヘッド１６の不良原因であると特定する（Ｓ１３）。また、不良ノズルに特定されたノズル番号が異なっても、不良理由が一致する場合（Ｓ１２：Ｙｅｓ）には、保守動作による保守作用が不十分であるために、機能液滴吐出ヘッド１６（吐出ノズル５９）の吐出状態が安定しないと見做して、原則的には、ヘッド保守装置７０の動作条件に機能液滴吐出ヘッド１６の不良原因があると判断する（Ｓ１６）。
【００８５】
機能液滴吐出ヘッド１６のノズル面５８にメッキされた撥液膜が損傷した場合、特にノズル面５８のワイピングによりノズル面５８に一定方向の傷が生じている場合には、ヘッド保守装置７０の動作条件に問題がなくても、不特定の吐出ノズル５９について機能液滴の着弾位置のずれ（飛行曲がり）が生じることがある。この場合、ノズル面５８に付いた傷に合わせて、着弾位置のずれ方向に一定の規則性を生じやすい。そこで、図７に示すように、ヘッド保守装置７０の動作条件に問題があると判断する前に、不良理由として着弾位置のずれが挙げられているかを確認（Ｓ１４）するようになっている。そして、着弾位置のずれが確認されると（Ｓ１４：Ｙｅｓ）、第１および第２不良ノズルの各吐出ノズル５９について着弾位置のずれ方向を認識し（Ｓ１５）、着弾位置のずれ方向が略一致している、すなわち着弾位置のずれ方向におけるばらつきが予め設定された所定の範囲内に収まる場合（Ｓ１５：Ｙｅｓ）には、機能液滴吐出ヘッド１６自身に不良原因があると判断する。なお、着弾位置のずれが確認できない場合（Ｓ１４：Ｎｏ）や、ずれ方向が一定しない場合（Ｓ１５：Ｎｏ）には、ヘッド保守装置７０の動作条件に機能液滴吐出ヘッド１６の不良原因があると判断する（Ｓ１６）。
【００８６】
一方、第１不良ノズルおよび第２不良ノズルの発生態様が同一である場合（Ｓ１１：Ｙｅｓ）には、機能液滴吐出ヘッド１６に不良原因があると判断する（Ｓ１７）。これは、ヘッド保守装置に不良原因があり、保守動作が不適切であると仮定した場合には、描画不良の不良理由が一致しても、不良ノズルの発生箇所が連続して一致する可能性が低いと考えられるためであり、連続して同一の吐出ノズルが不良ノズルとなるのは、機能液滴吐出ヘッド自身の不良に起因する可能性が高いためである。
【００８７】
なお、機能液滴吐出ヘッド１６またはヘッド保守装置７０に不良原因があるかを判断するに当たり、上述したヘッド観察カメラ７５により、ワイピングの終了後に撮像された撮像データに基づいて行う判断を組み込むようにしても良い。この場合、例えば、機能液滴吐出ヘッド１６のノズル面５８に拭き残しがないかを確認し、拭き残しがない場合には機能液滴吐出ヘッド１６に何らかの不良が有ると判断し、拭き残しがある場合には、ヘッド保守装置７０に不良原因があると判断する。
【００８８】
さらに、本実施形態では、ヘッド保守装置７０の保守条件に不良原因があると判断された場合に、上記したテストパターンの画像認識により得たデータに基づいて、ヘッド保守装置７０内における不良原因をさらに特定する（不良保守動作特定工程）と共に、不良原因を解消すべく不良原因に特定されたユニットの保守条件（吸引条件またはワイピング条件）を変更するようになっている。
【００８９】
不良保守動作特定工程では、吸引ユニット７１およびワイピングユニット７２について、不良ノズルの不良理由に基づき、不良原因を順次特定するようになっている。したがって、吸引ユニット７１およびワイピングユニット７２の両方に不良原因がある場合も含め、両ユニットのいずれに不良原因があるかを特定できるようになっている。具体的には、ドット抜けが不良理由である場合、機能液滴吐出ヘッド１６の吸引が十分でないために、吐出ノズル５９にノズル詰まりが解消されていない可能性が高いので、吸引ユニット７１が不良であると判断する。同様に、ドットの着弾径の異常で、ドットの着弾径Ｌｍが許容着弾径Ｌよりも小さい場合には、機能液滴吐出ヘッド１６の吸引が不十分なため、増粘した機能液が排出されていないとして吸引ユニット７１に不良があると判断する。
【００９０】
吸引ユニット７１に不良原因があると判断された場合、吸引ユニット７１の吸引力を増すように吸引条件（例えば、吸引ポンプによる吸引圧力や、吸引ポンプの駆動時間等）に変更が加えられる。そして、ドット抜けが生じている場合には、吸引条件変更Ａが行われ、ドットの着弾径Ｌｍが許容着弾径Ｌよりも小さい場合には、吸引条件変更Ｂが行われる。吸引条件変更Ａでは、吸引条件変更Ｂに比して、吸引力が大きくなるように吸引条件が変更される（動作条件変更工程）。
【００９１】
ドットの飛行曲がりが不良理由である場合、ワイピングによる機能液滴吐出ヘッド１６のノズル面５８の拭き残しが原因であると考えられるため、ワイピングユニット７２を不良原因に特定する。また、ドットの着弾径の異常で、ドットの着弾径Ｌｍが許容着弾径Ｌよりも大きい場合にも、ワイピングユニット７２に不良原因があると判断する。これは、ワイピングシート９１の塗布した洗浄液が、ワイピング時に機能液滴吐出ヘッド１６の吐出ノズル５９に入り込み、吐出ノズル５９内で機能液の濃度が低下したと考えるためである。
【００９２】
ワイピングユニット７２に不良原因があると判断された場合、ワイピングユニット７２のワイピング条件（例えば、ノズル面５８に対するワイピングシート９１の押圧力、ワイピングシート９１の巻取り速度、ワイピング時間、ワイピングシート９１に塗布する洗浄液量等）が変更される。この場合、不良理由の組み合わせに基づいて、適宜ワイピング条件が変更されるようになっている（条件変更工程）。
【００９３】
飛行曲がりのみが不良理由である場合には、ワイピング条件変更Ｂが行われる。ワイピング条件変更Ｂでは、ワイピングシート９１の押付け圧力を増加させる、ワイピング時間を増加させるなどワイピング条件の設定値を増加させることが考えられる。この場合、複数のワイピング条件を変更しても良い。また、ドットの着弾径Ｌｍが許容着弾径Ｌよりも大きい場合には、ワイピング条件変更Ｃが行われる。ワイピング条件変更Ｃでは、ワイピングシート９１に塗布する洗浄液量を減少させたり、ワイピングシート９１の押付け圧力を減少させたりして、吐出ノズル５９に洗浄液が入り込むことを防止する。また、飛行曲がりがあり、かつドットの着弾径Ｌｍが許容着弾径Ｌよりも大きい場合には、ワイピング条件変更Ｃが行われる。ワイピング条件変更Ｃでは、ワイピングシート９１の巻取り速度やワイピング時間を増加させる一方、ワイピングシート９１に塗布する洗浄液量や、ワイピングシート９１の押付け圧力を減少させる。
【００９４】
図８を参照して、ヘッド保守装置７０の不良原因を特定するためのフローについて説明する。同図に示すように、ヘッド保守装置７０の動作条件に不良原因があると特定される（Ｓ１６）と、ドット抜けの有無が確認される（Ｓ３１）。ここで、ドット抜け有りと判断される（Ｓ３１：Ｙｅｓ）と、吸引ユニットに不良原因があると特定され（Ｓ３２）、吸引条件変更Ａが行われる（Ｓ３３）。ドット抜けがないと判断される（Ｓ３１：Ｎｏ）と、ドットの着弾径Ｌｍが許容着弾径Ｌよりも小さいか否かが判断され（Ｓ３４）、ドットの着弾径Ｌｍが許容着弾径Ｌよりも小さい場合（Ｓ３４：Ｙｅｓ）には、吸引ユニットに不良原因があると特定され（Ｓ３５）、吸引条件変更Ｂが行われる（Ｓ３６）。
【００９５】
続いて、飛行曲がりの有無が確認され（Ｓ４１）、飛行曲がり有りと判断される（Ｓ４１：Ｙｅｓ）と、ワイピングユニット７２に不良原因があると判断される（Ｓ４２）。そして、さらに、ドットの着弾径Ｌｍが許容着弾径Ｌよりも大きいか否かが確認され（Ｓ４３）、ドットの着弾径Ｌｍが許容着弾径Ｌよりも大きい場合（Ｓ４３：Ｙｅｓ）には、ワイピング条件変更Ａが行われ（Ｓ４４）、ドットの着弾径Ｌｍが許容着弾径Ｌ以下である場合（Ｓ４３：Ｎｏ）には、ワイピング条件Ｂが行われる（Ｓ４５）。また、飛行曲がりなしと判断される（Ｓ４１：Ｎｏ）と、ドットの着弾径Ｌｍが許容着弾径Ｌよりも大きいか否かが確認され（Ｓ４６）、ドットの着弾径Ｌｍが許容着弾径Ｌよりも大きい場合（Ｓ４６：Ｙｅｓ）には、ワイピングユニット７２に不良原因があると判断される（Ｓ４７）と共に、ワイピング条件変更Ｃが行われる（Ｓ４８）。
【００９６】
なお、保守条件の変更を行った後は、機能液滴吐出ヘッド１６の吐出不良を検出する上記の一連の処理を行い、保守条件の変更により吐出不良が解消したかを確認する。吐出不良が解消しない場合には、予め設定された回数だけ一連の処理を繰り返す。そして、所定回数、一連の処理を繰り返しても、吐出不良が解消しない場合には、モニタディスプレイ１２８にエラー表示を行う。このとき、エラー表示と共に、選択画面を表示させて、保守動作の動作条件を手動で設定する手動変更モードへの切替えを選択できるようにしても良い。
【００９７】
また、本実施形態では、吸引ユニット７１、ワイピングユニット７２の順に不良原因を特定しているが、不良原因特定の順番はこれに限られるものではなく、適宜変更可能である。また、本実施形態では、保守動作の動作条件（吸引ユニット７１による吸引条件やワイピングユニット７２によるワイピング条件）を自動変更する構成となっているが、初めからユーザが手動でこれらを変更するようにしても良い。
【００９８】
また、制御装置５は、各種センサ（例えば、吸引圧検出センサ、ワイピング圧検出センサやモータに付されたエンコーダなど）を通じて、吸引ユニット７１およびワイピングユニット７２の保守動作をモニタリングしており、制御装置５のモニタディスプレイ１２８には、動作状況が示されるようになっている。そして、保守動作実行中に、吸引ユニット７１およびワイピングユニット７２の機械的な故障等により動作異常が生じた場合には、これを検出して、動作異常が生じた旨をモニタディスプレイ１２８に表示させるようになっている。これにより、ユーザは、吸引ユニット７１およびワイピングユニット７２の故障を認識することができ、故障したユニットに対して適切なメンテナンスを行うことが可能である。
【００９９】
また、モニタディスプレイ１２８には、機能液滴吐出ヘッド１６の吐出不良を検出するための一連の処理により特定された不良原因と共に、上記の画像認識により得られた各種データを表示させることが可能である。例えば、不良ノズルに特定された吐出ノズル５９のノズル番号や、テストパターンの描画中に生じたドット抜け数、テストパターンを構成する各ドットの各種データ（位置ずれ量、着弾径の大きさなど）、位置ずれ量の最大値・最小値、着弾径の最大値・最小値を表示させることが可能である。また、不良原因として、特定されたユニット名と共に、その不良理由を併せて表示するようになっている。したがって、保守動作の動作条件を手動で変更するときには、これらのデータや表示を参考にすることができる。
【０１００】
また、制御装置５には、描画装置１を新設した場合のように、新たに保守動作の動作条件を設定するときに、保守動作の動作条件を適切な動作条件に設定するために用いられる保守評価機能が備えられている。保守評価機能は、機能液滴吐出ヘッド１６に対する保守動作の終了後、テストパターンを描画させ、これに基づいて、ヘッド保守装置７０の動作条件を評価するものである。ここでは、機能液滴吐出ヘッド１６が正常に駆動することが前提となっており、テストパターンの画像認識が終了した後は、上記したヘッド保守装置７０の不良原因を特定するためのフローに準じて保守評価が行われる。
【０１０１】
保守評価機能を使用する場合、モニタディスプレイ１２８には、図９に示すような、保守評価画面１３１が表示される。保守評価画面１３１には、吸引ユニット７１の駆動に続き、ワイピングユニット７２を駆動させる連続駆動ボタン１３２、吸引ユニット７１のみを駆動させる吸引駆動ボタン１３３、およびワイピングユニット７２のみを駆動させるワイピング駆動ボタン１３４が設けられており、保守評価画面１３１上からヘッド保守装置７０の駆動を指示できるようになっている。また、保守評価画面１３１には、保守評価における動作状況を示す動作表示ボックス１３５の他、保守動作が良好（ＯＫ）であるか不良（ＮＧ）であるかを表示する評価ボックス１３６が備えられている。評価ボックス１３６は、各不良理由に対して良否を表示する個別評価ボックス１３７と、これに基づいて保守動作全体の良否を表示する全体評価ボックス１３８と、を有しており、全体評価ボックス１３８では、個別評価ボックス１３７が全て良好表示である場合に、良好である旨の表示がなされるようになっている。さらに、保守評価画面１３１には、コメントボックス１３９が設けられており、画像認識により得られた各種データを表示するようになっている。
【０１０２】
次に、本実施形態の描画装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、更にこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板を言う。
【０１０３】
先ず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図１０は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図１１は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ５１）では、図１１（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。
【０１０４】
続いて、バンク形成工程（Ｓ５２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図１１（ｂ）に示すように、基板５０１及びブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図１１（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において液滴吐出ヘッド１０により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。
【０１０５】
以上のブラックマトリクス形成工程及びバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置精度が向上する。
【０１０６】
次に、着色層形成工程（Ｓ５３）では、図１１（ｄ）に示すように、液滴吐出ヘッド１０によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、液滴吐出ヘッド１０を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１０７】
その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ５４）に移り、図１１（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。
【０１０８】
図１０は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図１１に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。
【０１０９】
この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、及び、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。
【０１１０】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図１０において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。
【０１１１】
液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１１２】
通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。
【０１１３】
実施形態の描画装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、液滴吐出ヘッド１０で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を液滴吐出ヘッド１０で行うことも可能である。
【０１１４】
図１１は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。
【０１１５】
カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。
【０１１６】
液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。
【０１１７】
図１０は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。
【０１１８】
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。
【０１１９】
対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１及び信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。
【０１２０】
また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。
【０１２１】
なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。
【０１２２】
次に、図１７は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。
【０１２３】
この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３及び陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２及び基板６０１を透過して観測者側に出射されるとともに、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２及び基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。
【０１２４】
回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａ及びドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。
【０１２５】
また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６及び半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９及びゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。
【０１２６】
そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第1層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。
【０１２７】
このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。
【０１２８】
上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３及び機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、及び、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。
【０１２９】
バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。
【０１３０】
上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層を更に形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成する事も可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。
【０１３１】
発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、又は青色（Ｂ）の何れかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。
【０１３２】
そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。
【０１３３】
陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。
【０１３４】
次に、上記の表示装置６００の製造工程を図１８〜図１８を参照して説明する。
この表示装置６００は、図１８に示すように、バンク部形成工程（Ｓ６１）、表面処理工程（Ｓ６２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ６３）、発光層形成工程（Ｓ６４）、及び対向電極形成工程（Ｓ６５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。
【０１３５】
まず、バンク部形成工程（Ｓ６１）では、図１７に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図１８に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。
【０１３６】
表面処理工程（Ｓ６２）では、親液化処理及び撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａ及び画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓ及び有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば４フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、液滴吐出ヘッド１０を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。
【０１３７】
そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図１に示した描画装置１のセットテーブル２５に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ６３）及び発光層形成工程（Ｓ６４）が行われる。
【０１３８】
図１７に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ６３）では、液滴吐出ヘッド１０から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図１８に示すように、乾燥処理及び熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入/輸送層６１７ａを形成する。
【０１３９】
次に発光層形成工程（Ｓ６４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒ならびに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。
【０１４０】
そして次に、図１７に示すように、各色のうちの何れか（図１７の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。
【０１４１】
その後、乾燥工程等を行う事により、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図１８に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。
【０１４２】
同様に、液滴吐出ヘッド１０を用い、図１７に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）及び緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決める事も可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライブ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。
【０１４３】
以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａ及び発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ６５）に移行する。
【０１４４】
対向電極形成工程（Ｓ６５）では、図１８に示すように、発光層６１７ｂ及び有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ２、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。
【０１４５】
このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。
【０１４６】
次に、図１７は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、及びこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。
【０１４７】
第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。
【０１４８】
放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。
【０１４９】
第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、及びＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１５０】
本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、及び蛍光体７０９を、図１に示した描画装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を描画装置１のセットテーブル２５に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、液滴吐出ヘッド１０により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、又はニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。
【０１５１】
補充対象となる全てのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。
【０１５２】
ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１及び蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を液滴吐出ヘッド１０から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。
【０１５３】
次に、図１８は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、及びこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。
【０１５４】
第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。
【０１５５】
第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の何れかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。
【０１５６】
そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。
【０１５７】
この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、描画装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、描画装置１を用いて形成することができる。
【０１５８】
第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図１７（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図１７（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（描画装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（描画装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。
【０１５９】
また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した描画装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【０１６０】
【図１】本発明の実施形態に係る描画装置の平面模式図である。
【図２】機能液滴吐出ヘッドの外観斜視図である。
【図３】保守装置の説明図であり、移動テーブル廻りの右側面図である。
【図４】不良検査ユニットの説明図であり、載置テーブルを撮像ユニットに臨ませたときの描画装置の平面模式図である。
【図５】制御装置の説明図である。
【図６】機能液滴吐出ヘッドの吐出不良（描画不良）を検出するための一連の処理について示したフローチャートである。
【図７】描画不良の原因を特定するための一連の処理について示したフローチャートである。
【図８】描画不良の原因がヘッド保守装置の保守動作であると特定されたときに行われる一連の処理について示したフローチャートである。
【図９】本実施形態の保守評価画面を例示した説明図である。
【図１０】カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。
【図１１】（ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。
【図１２】本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１３】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１４】本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。
【図１５】有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。
【図１６】有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。
【図１７】無機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１８】有機物バンク層の形成を説明する工程図である。
【図１９】正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２０】正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２１】青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。
【図２２】青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２３】各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。
【図２４】陰極の形成を説明する工程図である。
【図２５】プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。
【図２６】電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。
【図２７】表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。
【符号の説明】
【０１６１】
１  描画装置                          ５  制御装置
１６  機能液滴吐出ヘッド              ５８  ノズル面
５９  吐出ノズル                      ７１  吸引ユニット
７０  ヘッド保守装置                  ７２  ワイピングユニット
７３  不良検査ユニット              １１１  載置テーブル
１１３  撮像ユニット                  １１５  ＣＣＤカメラ
１２８  モニタディスプレイ
【図１】
2005118672.tif 000003
【図２】
2005118672.tif 000004
【図３】
2005118672.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
2005118672.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
2005118672.tif 000012
【図１１】
2005118672.tif 000013
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
2005118672.tif 000017
【図１６】
2005118672.tif 000018
【図１７】
2005118672.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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