(57)【要約】【課題】角形の基板上に薄膜を形成した後に、基板の周辺部、特に、基板のコーナー部全体に付着した不要な薄膜を、短時間で、きれいに剥離して除去することができる薄膜除去装置を提供する。【解決手段】角形の基板上に薄膜を形成した後に、該形成した薄膜のうち不要な薄膜を剥離して除去する装置であって、少なくとも、前記基板の１つの主面と２つの側面が交わるコーナー部を覆うように配置されるコーナー部用ノズルヘッドを有し、該コーナー部用ノズルヘッドに、前記基板のコーナー部の主面側から薄膜を剥離する剥離液を供給する剥離液供給口と、前記基板のコーナー部の側面側から薄膜を溶解した後の剥離液を吸引して排出する廃液吸引口とを具備するものであることを特徴とする薄膜除去装置。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
角形の基板上に薄膜を形成した後に、該形成した薄膜のうち不要な薄膜を剥離して除去する装置であって、少なくとも、前記基板の１つの主面と２つの側面が交わるコーナー部を覆うように配置されるコーナー部用ノズルヘッドを有し、該コーナー部用ノズルヘッドに、前記基板のコーナー部の主面側から薄膜を剥離する剥離液を供給する剥離液供給口と、前記基板のコーナー部の側面側から薄膜を溶解した後の剥離液を吸引して排出する廃液吸引口とを具備するものであることを特徴とする薄膜除去装置。
【請求項２】
前記コーナー部用ノズルヘッドは、前記基板のコーナー部の２つの側面が交わる部分に近接する部分が円弧状であることを特徴とする請求項１に記載の薄膜除去装置。
【請求項３】
前記コーナー部用ノズルヘッドが、該ノズルヘッドと基板の距離を一定に保つスペーサーを具備するものであることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の薄膜除去装置。
【請求項４】
さらに、少なくとも、前記基板の１つの主面と１つの側面が交わる直線部を覆うように配置される直線部用ノズルヘッドと、該直線部用ヘッドを角形基板の側面に沿って相対的に平行移動する機構とを有し、前記直線部用ノズルヘッドに、剥離液供給口と廃液吸引口とを具備するものであることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の薄膜除去装置。
【請求項５】
前記薄膜が、レジストであることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の薄膜除去装置。
【請求項６】
角形の基板上に薄膜を形成した後に、請求項１乃至請求項５のいずれか１項に記載の薄膜除去装置を用いて、前記形成した薄膜のうち不要な薄膜を剥離して除去することを特徴とする薄膜除去方法。
【請求項７】
前記コーナー部用ノズルヘッドで、基板のコーナー部の不要な薄膜を剥離して除去し、前記直線部用ノズルヘッドで、基板の直線部の不要な薄膜を剥離して除去することを特徴とする請求項６に記載の薄膜除去方法。
【請求項８】
角形の基板上に薄膜を形成した後に、該形成した薄膜のうち不要な薄膜を剥離して除去する方法であって、少なくとも、前記基板の１つの主面と２つの側面が交わるコーナー部では、該コーナー部をコーナー部用ノズルヘッド覆い、前記基板のコーナー部の主面側から薄膜を剥離する剥離液を供給し、前記基板のコーナー部の側面側から剥離液を排出することで、該剥離液をコーナー部の主面側から側面側に流して不要な薄膜を剥離して除去し、前記基板の１つの主面と１つの側面が交わる直線部では、該直線部を直線部用ノズルヘッドで覆い、前記基板に剥離液を供給し、該供給した剥離液を排出することで、前記基板に剥離液を流すとともに、前記直線部用ノズルヘッドを角形基板の側面に沿って相対的に平行移動して不要な薄膜を剥離して除去することを特徴とする薄膜除去方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、角形の基板に、レジスト材料等を塗布して薄膜を形成した後に、該形成した薄膜のうち基板周辺部の不要な薄膜を除去するのに用いる薄膜除去装置及び薄膜除去方法に関する。特に、本発明は、角形の基板のコーナー部に付着した不要な薄膜を除去するのに用いる薄膜除去装置及び薄膜除去方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体製造用マスク用フォトマスクブランクス、液晶パネル基板などは、角形で厚みがあるという特徴がある。現在広く使用されている半導体製造用マスク用フォトマスクブランクスは、主材１５２ｍｍ×１５２ｍｍ×６．３５ｍｍｔの石英ガラス体に、Ｃｒ、ＭｏＳｉ等の遮光膜、位相シフト膜をスパッタリングなどの方法により成膜した基板に、スピン塗布法などによりレジスト材料を塗布して薄膜を形成したものである。そして、この半導体製造用マスク用フォトマスクブランクスに、パターン露光、現像などの手段を経てマスクパターン形成したものを半導体製造用マスクと称する。
【０００３】
基板にスピン塗布法などによりレジスト材料を塗布すると、基板の主面だけでなく、側面などの基板周辺部にも薄膜が付着する。この基板の側面などの基板周辺部に付着した薄膜は、マスクパターンの形成の際には不要なものであるばかりか、半導体製造用マスクの製造工程やその間のフォトマスクブランクスの搬送・輸送の際や、搬送ロボットとの接触或いは搬送ケースとの接触などにより剥がれ等を起こし、それがフォトマスクブランクスの主面に付着する場合がある。この付着物は、マスクパターン形成の際、パターン欠陥を引き起こす原因となる可能性が大きく、半導体製造用マスクの品質を著しく低下させてしまう原因になるという問題があった。
【０００４】
この問題を解決するために、予め基板周辺部のレジストを剥離して除去する薄膜除去装置が提案されている（例えば、特許文献１〜３参照。）。これらの薄膜除去装置は、レジストを剥離する剥離液を吐出・排液するノズルヘッドを、基板の側面に沿って相対的に平行移動させながら、基板周辺部の不要な薄膜を除去するものである。これらの薄膜除去装置は、装置構造を比較的単純に構築できるメリットがあった。しかしながら、これらの装置は、基板の直線部分の主面や側面やこれらの間の面取り部分（Ｃ面部）などに付着した不要なレジストを除去するには有効であったが、剥離液を吐出・排液するノズルヘッドが基板の側面に沿って相対的に平行移動するものであるが為に、基板のコーナー部の主面やＣ面部や２つの側面が交わる部分（通常はＲ形状である部分）付近に付着した不要なレジストをきれいに除去しきれないという問題点を抱えていた。
【０００５】
さらに、特許文献２には、コーナー部用ノズルヘッドを備える薄膜除去装置についても開示されている。これは、基板のコーナー部を、コーナー部用ノズルヘッドで覆い、剥離液を基板の第１の側面に供給し、第２の側面から排出しながら、基板のコーナー部の不要なレジストを除去するものである。しかしながら、この装置は、基板のコーナー部の２つの側面が交わる部分（通常はＲ形状である部分）に付着した不要なレジストを除去するのには有効であるが、剥離液を第１の側面から第２の側面に向けて移動させるものであるため、コーナー部の主面やＣ面部付近に付着した不要なレジストを短時間できれいに除去することができないという問題があった。
【０００６】
【特許文献１】特開２００１−２１７１８５号公報
【特許文献２】特開２００３−１０９８９６号公報
【特許文献３】特許第３０１１８０６号明細書
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明はこのような問題に鑑みてなされたもので、角形の基板上に薄膜を形成した後に、基板の周辺部、特に、基板のコーナー部全体に付着した不要な薄膜を、短時間で、きれいに剥離して除去することができる薄膜除去装置及び薄膜除去方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、角形の基板上に薄膜を形成した後に、該形成した薄膜のうち不要な薄膜を剥離して除去する装置であって、少なくとも、前記基板の１つの主面と２つの側面が交わるコーナー部を覆うように配置されるコーナー部用ノズルヘッドを有し、該コーナー部用ノズルヘッドに、前記基板のコーナー部の主面側から薄膜を剥離する剥離液を供給する剥離液供給口と、前記基板のコーナー部の側面側から薄膜を溶解した後の剥離液を吸引して排出する廃液吸引口とを具備するものであることを特徴とする薄膜除去装置を提供する（請求項１）。
【０００９】
このような本発明の薄膜除去装置は、従来の薄膜除去装置では除去するのが困難であった角形の基板のコーナー部全体に付着した不要な薄膜を剥離して除去するのに特に適したものである。すなわち、本発明の薄膜除去装置のコーナー部用ノズルヘッドは、基板のコーナー部を覆い、基板のコーナー部の主面側から薄膜を剥離する剥離液を供給し、基板のコーナー部の側面側から剥離液を排出するように設計されている。そのため、剥離液供給口から供給された剥離液は、基板のコーナー部の主面から、コーナー部のＣ面部を経て、コーナー部の側面へと向かって移動することになり、コーナー部全体に簡単にムラなく剥離液を行き渡らせることができる。これにより、基板のコーナー部の２つの側面が交わる部分に付着した不要な薄膜を簡単かつきれいに剥離除去することができるのは勿論、従来の薄膜除去装置では、除去するのが困難であった、基板のコーナー部の主面や、コーナー部の面取り部付近に付着した不要な薄膜をも簡単かつきれいに剥離除去することができる。
したがって、本発明の薄膜除去装置を用いれば、短時間で、かつきれいに基板のコーナー部全体の不要な薄膜を除去することができる。そして、このようにして得られた薄膜を有する基板は、その後の搬送・輸送等の際に剥れて基板の主面に付着するおそれが不要な薄膜がきれいに除去されており、高品質なものである。
【００１０】
また、本発明の薄膜除去装置では、前記コーナー部用ノズルヘッドは、前記基板のコーナー部の２つの側面が交わる部分に近接する部分が円弧状であるのが好ましい（請求項２）。
【００１１】
基板のコーナー部の２つの側面が交わる部分は、通常はＲ形状であるため、コーナー部用ノズルヘッドのこれに近接する部分も、そのＲ形状に合せた形状とするのが望ましい。すなわち、コーナー部用ノズルヘッドのこの部分を、円弧状とすることで、コーナー部用ノズルヘッドは、コーナー部によりフィットした形状となり、コーナー部とコーナー部用ノズルヘッドの距離を一定に保つことができるものとなる。これにより、コーナー部全体によりムラなく剥離液を行き渡らせることができる。したがって、このようなコーナー部用ノズルヘッドを有する薄膜除去装置を用いることで、コーナー部全体の不要な薄膜をよりきれいに剥離除去することができる。
【００１２】
また、本発明の薄膜除去装置では、前記コーナー部用ノズルヘッドが、該ノズルヘッドと基板の距離を一定に保つスペーサーを具備するものであるのが好ましい（請求項３）
【００１３】
このように、コーナー部用ノズルヘッドに、該ノズルヘッドと基板の距離を一定に保つスペーサーがあれば、簡単かつ確実にコーナー部とコーナー部用ノズルヘッドの距離を一定に保つことができる。これにより、廃液吸引口からの排気は安定し、剥離液は、基板のコーナー部の主面から側面へと向って一定方向に流れることができるようになる。したがって、このようなコーナー部用ノズルヘッドを有する薄膜除去装置を用いることで、コーナー部全体にムラなく剥離液を行き渡らせることができ、コーナー部の不要な薄膜を、より確実に短時間できれいに剥離除去することができる。
【００１４】
また、本発明の薄膜除去装置では、さらに、少なくとも、前記基板の１つの主面と１つの側面が交わる直線部を覆うように配置される直線部用ノズルヘッドと、該直線部用ヘッドを角形基板の側面に沿って相対的に平行移動する機構とを有し、前記直線部用ノズルヘッドに、剥離液供給口と廃液吸引口とを具備するのが好ましい（請求項４）。
【００１５】
このように、コーナー部用のノズルヘッドと直線部用ノズルヘッドを有する薄膜除去装置を用いることで、基板のコーナー部、直線部を含めた基板全体の不要な薄膜を、一つの装置で、きれいに剥離除去することができる。
【００１６】
そして、この場合、前記薄膜が、レジストであるのが好ましい（請求項５）。
【００１７】
例えば、フォトマスクブランクスの周辺部の不要なレジストが剥れてフォトマスクブランクスの主面に付着すると、マスクパターン形成の際に、パターン欠陥を引き起こし、半導体製造用マスクの品質を著しく低下させることになる。しかし、本発明の薄膜除去装置を用いれば、フォトマスクブランクスの周辺部、特にはコーナー部に付着した不要なレジストをきれいに除去できるため、そのような問題も起こらず、高品質な半導体製造用マスクを製造することができる。
【００１８】
また、本発明は、角形の基板上に薄膜を形成した後に、前記本発明の薄膜除去装置を用いて、前記形成した薄膜のうち不要な薄膜を剥離して除去することを特徴とする薄膜除去方法を提供する（請求項６）。そして、本発明の薄膜除去方法では、前記コーナー部用ノズルヘッドで、基板のコーナー部の不要な薄膜を剥離して除去し、前記直線部用ノズルヘッドで、基板の直線部の不要な薄膜を剥離して除去することができる（請求項７）。
【００１９】
このような本発明の薄膜除去方法によれば、基板の周辺部、特には基板のコーナー部全体に付着した不要な薄膜を、短時間で、きれいに剥離して除去することができる。
【００２０】
さらに、本発明は、角形の基板上に薄膜を形成した後に、該形成した薄膜のうち不要な薄膜を剥離して除去する方法であって、少なくとも、前記基板の１つの主面と２つの側面が交わるコーナー部では、該コーナー部をコーナー部用ノズルヘッド覆い、前記基板のコーナー部の主面側から薄膜を剥離する剥離液を供給し、前記基板のコーナー部の側面側から剥離液を排出することで、該剥離液をコーナー部の主面側から側面側に流して不要な薄膜を剥離して除去し、前記基板の１つの主面と１つの側面が交わる直線部では、該直線部を直線部用ノズルヘッドで覆い、前記基板に剥離液を供給し、該供給した剥離液を排出することで、前記基板に剥離液を流すとともに、前記直線部用ノズルヘッドを角形基板の側面に沿って相対的に平行移動して不要な薄膜を剥離して除去することを特徴とする薄膜除去方法を提供する（請求項８）。
【００２１】
このような本発明の薄膜除去方法は、特に基板のコーナー部全体に付着した不要な薄膜を剥離して除去するのに適している。すなわち、基板のコーナー部の主面側から剥離液を供給し、その側面側から剥離液を排出するコーナー部用ノズルヘッドを用いるため、基板のコーナー部の２つの側面が交わる部分に付着した不要な薄膜を簡単かつきれいに剥離除去することができるのは勿論、基板のコーナー部の主面や、コーナー部の面取り部付近に付着した不要な薄膜をも簡単かつきれいに剥離除去することができる。そして、このコーナー部用ノズルヘッドと直線部用ノズルヘッドを組み合わせて用いるため、直線部を含む基板周辺部全体の不要な薄膜を、短時間で、きれいに剥離除去することができる。
【発明の効果】
【００２２】
以上説明したように、本発明によれば、基板のコーナー部の主面側から剥離液を供給し、基板のコーナー部の側面側から剥離液を排出するコーナー部用ノズルヘッドを用いることで、基板のコーナー部全体に付着した不要な薄膜を、短時間で、きれいに剥離して除去することが可能となる。そして、これにより、その後の搬送・輸送等の際に剥れて基板の主面に付着する不要な薄膜をなくすことができ、高品質な薄膜を有する基板を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明を実施するための最良の形態を説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
フォトマスクブランクスの周辺部に付着したレジストは、マスクパターン形成工程などの次工程以降で不要なものであるばかりか、検査器を通す際などのロボット等のハンドリングの際やケースに納めて出荷する際に、ハンドリングアームとの接触やケースとの擦れなどが原因で剥がれてフォトマスクブランクスの表面に付着し、半導体製造用マスクの製造歩留まりの低下を招く原因の一つとなっていた。また、半導体製造用マスクのメーカーが、納品されたフォトマスクブランクスを用いて半導体製造用マスクを製造する際には、各種装置でのロボットでのハンドリング時にハンドリングアームと不要なレジストの接触から発塵が生じるケースもあり、不要なレジストの除去は、半導体製造用マスクの品質の維持、歩留まり向上の意味からも重要な工程となっていた。
【００２４】
しかし、前述のように、角形であるフォトマスクブランクスの直線部に付着した不要な薄膜については、ある程度きれいに除去することができる装置が開発されていたものの、コーナー部の主面や面取り部付近を含むコーナー部全体を短時間できれいに除去することのできる装置は未だ開発されていなかった。
【００２５】
そこで、本発明者らは、角形の基板のコーナー部の主面や面取り部付近を含むコーナー部全体の不要な薄膜を短時間できれいに除去することのできる装置を開発すべく鋭意検討を重ねた。その結果、本発明者らは、コーナー部に付着したレジストなどの薄膜の除去に特化したコーナー部用ノズルヘッドを薄膜除去装置に設け、コーナー部の不要な薄膜を除去する際には、剥離液を、従来のように第１の側面から第２の側面に向けて移動させるのではなく、基板のコーナー部の主面から、コーナー部の面取り部（カド部）を経て、コーナー部の側面へと向かって移動させることで、コーナー部の主面やＣ面部やＲ形状部分付近を含むコーナー部全体を短時間できれいに剥離除去することができることに想到し、本発明を完成させた。
【００２６】
すなわち、本発明の薄膜除去装置は、角形の基板上に薄膜を形成した後に、該形成した薄膜のうち不要な薄膜を剥離して除去する装置であって、少なくとも、前記基板の１つの主面と２つの側面が交わるコーナー部を覆うように配置されるコーナー部用ノズルヘッドを有し、該コーナー部用ノズルヘッドに、前記基板のコーナー部の主面側から薄膜を剥離する剥離液を供給する剥離液供給口と、前記基板のコーナー部の側面側から薄膜を溶解した後の剥離液を吸引して排出する廃液吸引口とを具備するものである。
【００２７】
以下、本発明について、半導体製造用マスク用フォトマスクブランクスの周辺部、特にコーナー部の主面、Ｃ面部、Ｒ形状部分付近の不要な薄膜を除去することを例にとり、説明する。尚、半導体製造用マスク用フォトマスクブランクスは、石英ガラス体に、ＣｒやＭｏＳｉ等、及びその酸化膜、窒化膜、炭化膜或いは酸化窒化膜等で遮光膜や位相シフト膜を成膜した基板であり、これにレジストを塗布する。
【００２８】
本発明の薄膜除去装置で用いるコーナー部用ノズルヘッドについて説明する。
本発明では、フォトマスクブランクスのコーナー部の不要なレジストは、図１、２に示すようなコーナー部用ノズルヘッドを設けた薄膜除去装置を用いて行う。図１（ａ）は、コーナー部用ノズルヘッドを横から見た側面図であり、図１（ｂ）は、コーナー部用ノズルヘッドを下から見た背面図である。また、図２は、フォトマスクブランクスのコーナー部を覆うように配置したコーナー部用ノズルヘッドの使用態様を示す斜視図である。
【００２９】
図１、２に示すように、コーナー部用ノズルヘッド１ａは、角形のフォトマスクブランクス２のコーナー部の形状にフィットした形状である。そのため、このコーナー部用ノズルヘッド１ａは、フォトマスクブランクス２のコーナー部の不要なレジストを除去する際には、図２に示すようにコーナー部全体を覆うように配置することができる。本発明では、コーナー部用ノズルヘッド１ａを用い、フォトマスクブランクス２のコーナー部全体を覆うことで、基板の側面に沿って相対的に平行移動する直線部用ノズルヘッドでは、除去しきれないコーナー部全体の不要なレジストを除去する。
【００３０】
また、このコーナー部用ノズルヘッド１ａでは、剥離液供給口３がフォトマスクブランクス２のコーナー部の主面側に設けられ、廃液吸引口４がフォトマスクブランクス２のコーナー部の側面側に設けられている。そのため、剥離液供給口３から供給された剥離液は、フォトマスクブランクス２のコーナー部の主面から、コーナー部の面取り部を経て、コーナー部の側面へと向かって移動することができ、コーナー部全体に簡単にムラなく剥離液を行き渡らせることができる。これにより、フォトマスクブランクス２のコーナー部の２つの側面が交わる部分に付着した不要なレジストを簡単かつきれいに剥離除去することができるのは勿論、従来の薄膜除去装置では、除去するのが困難であった、フォトマスクブランクス２のコーナー部の主面や、コーナー部のＣ面部付近に付着した不要な薄膜をも簡単かつきれいに剥離除去することができる。
【００３１】
ここで、薄膜除去装置で用いる剥離液供給・排気システムについて説明する。図４は、薄膜除去装置全体を示す概略図である。この薄膜除去装置において、剥離液供給装置９は、定量ポンプ及びマスフローコントローラで構成される。剥離液供給装置９により供給された剥離液は、剥離液供給側コントロール弁７にて流量を所望の流量にコントロールされ、ノズルヘッド１の剥離液供給口に送られる。そして、ノズルヘッド１の剥離液供給口からフォトマスクブランクス２に供給された剥離液は、不要なレジストを除去した後、ノズルヘッド１の廃液吸引口から吸引して排出される。この剥離液の排出は、エジェクタ排気や真空ポンプなどを利用し、廃液を吸引する廃液吸引装置１０によって行われる。また、廃液吸引装置１０による排気は、排気量を一定に保つ廃液吸引側コントロール弁８によって調整される。この剥離液供給・廃液システムは、コーナー部用ノズルヘッド及び後述の直線部用ノズルヘッドともに共通する構成である。
【００３２】
ここで、図４に示すように、フォトマスクブランクスのコーナー部では、ノズルヘッド１の剥離液供給口と廃液吸引口が塞がらない程度の、ノズルヘッド−フォトマスクブランクス主面間距離１１及びノズルヘッド−フォトマスクブランクス側面間距離１２を保持しつつ、不要なレジストの剥離動作を行う。
【００３３】
このときのノズルヘッド−フォトマスクブランクス主面間距離１１及びノズルヘッド−フォトマスクブランクス側面間距離１２は、いずれも０．１−２．０ｍｍの範囲であるのが望ましく、０．３−１．５ｍｍの範囲であるのがより望ましい。これらの距離１１，１２が、０．１ｍｍ以上あれば、廃液吸引口からの廃液の排出が充分になされ、基板表面側に剥離液がしみ出す恐れも少ない。剥離液が染み出した場合には、露光に必要とされる領域を侵す確率が若干高くなったり、露光されるエリアに影響が無くとも、フォトマスクブランクスの品質(客観的な美観も含む)の若干の低下を招くことになるが、前記距離１１，１２が、０．１ｍｍ以上あればそのような問題が生じる恐れも少ない。また、前記距離１１，１２が、２．０ｍｍ以下であれば、廃液吸引口から空気などの気体を多量に吸引してしまうといった問題が生じる恐れも少なく、剥離性能が十分に保たれる。また、廃液吸引口から空気などの気体を多量に吸引してしまうと、稀にミストが発生し、基板表面を汚してしまい、フォトマスクブランクスの品質を低下させてしまう可能性があるが、前記距離１１，１２が、２．０ｍｍ以下であれば、そのような問題が生じる恐れも少ない。また、ノズルヘッド−フォトマスクブランクス主面間距離１１及びノズルヘッド−フォトマスクブランクス側面間距離１２が、いずれも０．３−１．５ｍｍの範囲であれば、剥離液供給口からの剥離液の供給及び廃液吸引口からの廃液の排出がより安定する。
【００３４】
このように、ノズルヘッドとフォトマスクブランクスの間を所定距離に保つことは、薄膜除去装置の薄膜除去能力を十分に発揮させるための重要な要素である。
そのため、図１に示すコーナー部用ノズルヘッド１ａは、フォトマスクブランクス２のコーナー部の２つの側面が交わる部分に近接する部分が円弧状である。これは、角形のフォトマスクブランクス２のコーナー部の２つの側面が交わる部分は、通常はＲ形状であるため、コーナー部用ノズルヘッド１ａのこれに近接する部分も、そのＲ形状に合せた形状にするのが望ましいからである。すなわち、コーナー部用ノズルヘッド１ａのこの部分を、円弧状とすることで、コーナー部用ノズルヘッドは、ブランクスのコーナー部によりフィットした形状となり、フォトマスクブランクスとの距離を一定に保つことができるのである。これにより、剥離液供給口からの剥離液の供給及び廃液吸引口からの廃液の排出がより安定し、コーナー部全体によりムラなく剥離液を行き渡らせることができる。したがって、このようなコーナー部用ノズルヘッドを有する薄膜除去装置を用いることで、コーナー部全体の不要な薄膜をよりきれいに剥離除去することができる。
【００３５】
また、ノズルヘッドとフォトマスクブランクスの間を所定距離に保つために、コーナー部用ノズルヘッドにスペーサを設けて、機械的にノズルヘッド−フォトマスクブランクス間距離が一定になるような構造体にしたり、或いは、フォトマスクブランクスのエッジ位置を検出して、ノズルヘッド−フォトマスクブランクス間距離を一定に保つようにしても良い。また、コーナー部用ノズルヘッドにスペーサーを設けた上で、フォトマスクブランクスをノズルヘッドに接地させないように端面検知センサを設けても良い。
【００３６】
図１に示したコーナー部用ノズルヘッド１ａは、スペーサー１３を設けることで、ノズルヘッドーフォトマスクブランクス間距離を一定に保つ構造である。そして、このスペーサー１３があれば、簡単かつ確実にコーナー部とコーナー部用ノズルヘッドの距離を一定に保つことができる。これにより、廃液吸引口からの排気は安定し、剥離液は、基板のコーナー部の主面から側面へと向って一定方向に流れることができるようになる。したがって、このようなコーナー部用ノズルヘッドを有する薄膜除去装置を用いることで、コーナー部全体にムラなく剥離液を行き渡らせることができ、コーナー部の不要な薄膜を、より短時間できれいに剥離除去することができる。
【００３７】
尚、図１に示されるコーナー部用ノズルヘッド１ａは、フォトマスクブランクスの側面に対向する部分には、スペーサー１３を設けているものの、フォトマスクブランクスの主面に対向する部分には、スペーサー１３を設けていない。これは、石英ガラス自体の厚さは、フォトマスクブランクスごとに殆ど差が無いので、特別な調整機構を持たない装置構成としても、ノズルヘッド−フォトマスクブランクス間距離を一定に保つことができるからである。すなわち、一般的に、製品であるフォトマスクブランクスの厚さは、規格公差±１００μｍで、実質的には３０μｍ程度のバラツキしか存在していないため、特別な調整機構を持たない装置構成も可能である。もちろん、フォトマスクブランクスの主面に対向する部分にも、スペーサーを設けても良いし、特に、基板の厚さのバラツキが大きい場合などは、基板の厚さを検知し、ノズルヘッド−フォトマスクブランクス間の距離を一定に保つような機構を設けることもできる。
【００３８】
そして、以上のようなコーナー部用ノズルヘッドを備える剥離膜除去装置で、１コーナーずつ不要なレジストを剥離して除去する。すなわち、ある１つのコーナーで薄膜除去処理が終了したら、フォトマスクブランクスを９０度回転させて、その次のコーナーで薄膜除去処理を施し、４コーナー全てについて薄膜除去処理を行う。このとき、不要なレジストの除去処理は、１コーナーにつき１回行うだけでなく、複数回に分けて行っても良い。
【００３９】
尚、図１では、一方の主面用のコーナー部用ノズルヘッドのみが示されているが、通常は、これとは反対側の主面用のコーナー部用ノズルヘッドも組み合わせて用いられる。また、両方の主面について同時に処理できるように、コの字形としたコーナー部用ノズルヘッドを用いても良い。さらに、フォトマスクブランクスを裏返す機構を用いれば、上方のみのノズルヘッドでフォトマスクブランクスの両面の薄膜除去をすることができる。
【００４０】
また、本発明の薄膜除去装置では、さらに、フォトマスクブランクスの１つの主面と１つの側面が交わる直線部を覆うように配置される直線部用ノズルヘッドと、該直線部用ノズルヘッドを角形のフォトマスクブランクスの側面に沿って相対的に平行移動する機構とを有し、前記直線部用ノズルヘッドに、剥離液供給口と廃液吸引口とを具備するのが好ましい。このように、コーナー部用のノズルヘッドと直線部用ノズルヘッドを組み合わせた薄膜除去装置を用いることで、基板のコーナー部、直線部を含めた基板全体の不要な薄膜を、一つの装置で、きれいに剥離除去することができる。
【００４１】
直線部用ノズルヘッドについて図を参照して説明する。図５は、直線部用ノズルヘッドの概略図であり、図６は、直線部用ノズルヘッドとその平行移動機構を示す概略図である。
図５に示すように、この直線部用ノズルヘッド１ｂは、剥離液供給口３がフォトマスクブランクス２の直線部の主面側に設けられ、廃液吸引口４がフォトマスクブランクス２の直線部の側面側に設けられている。そのため、剥離液供給口３から供給された剥離液は、フォトマスクブランクス２の直線部の主面から、直線部のＣ面部を経て、直線部の側面へと向かって移動することができ、これにより不要なレジストを剥離して除去する。
尚、図５では、一方の主面用の直線部用ノズルヘッドのみが示されているが、通常は、これとは反対側の主面用の直線部用ノズルヘッドを組み合わせて用いられる。また、両方の主面について同時に処理できるように、コの字形とした直線部用ノズルヘッドを用いても良い。さらに、フォトマスクブランクスを裏返す機構を用いれば、上方のみのノズルヘッドでフォトマスクブランクスの両面の薄膜除去をすることができる。
【００４２】
そして、図６に示すように、ノズルヘッド保持アーム６で支持される直線部用ノズルヘッド１ｂを、平行移動機構５により、角形のフォトマスクブランクス２の側面に沿って相対的に平行移動させる。このとき、直線部用ノズルヘッド１ｂを平行移動させる機構は、例えば、タイミングベルト及びプーリーにて駆動する方法、或いはボールねじにて駆動する方法とすることができる。これにより、基板の直線部全体の不要な薄膜をきれいに除去することができる。ここでは、ノズルヘッドを平行移動させているが、フォトマスクブランクスを平行移動させるようにしても良い。
【００４３】
そして、フォトマスクブランクスの１つのコーナーから別のコーナーまでの直線部の薄膜除去処理を１単位とし、この処理を各直線部に対し１回又は複数回行うことにより、基板全体の直線部のレジストを剥離することができる。このとき、１つの直線部の薄膜除去処理が終わるごとに基板を９０度回転させて、次の直線部の薄膜除去処理を行うと良い。
【００４４】
尚、フォトマスクブランクスの不要なレジストの除去処理は、コーナー部を先に処理し、直線部を後で処理するようにしても良いし、或いは直線部を先に処理し、コーナー部を後で処理するようにしても良い。また、コーナー部の薄膜除去処理と直線部の薄膜除去処理を複数回行うようにし、これらの処理を交互に行うようにしても良い。
【００４５】
また、本発明の薄膜除去装置で使用される剥離液としては、除去する薄膜に応じて決定すればよく、特に限定されないが、フォトマスクブランクス上のフォトレジストを除去する場合であれば、ＰＧＭＥＡ（プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート）、２−ヘプタノン、ジグライム等の有機溶剤を単体或いは混合液として使用することができる。
【実施例】
【００４６】
以下、実施例及び比較例を示して本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
（実施例１）
基板（１５２ｍｍ×１５２ｍｍ×６．３５ｍｍｔ）に、ｉ線用フォトレジスト材料（ＴＨＭＲ−ＩＰ３５００）をスピン塗布法により塗布して、厚さ５０００Åのレジストを有するフォトマスクブランクスを作製した。このレジスト形成直後のフォトマスクブランクスをノマルスキー型微分干渉顕微鏡で観察した写真が図８である。図７は、その観察箇所を示すフォトマスクブランクスの側面図である。図８の（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ、図７の（ａ）〜（ｄ）で示す箇所で観察した写真である。図８を見ると、レジスト形成直後には、フォトマスクブランクス周辺部に不要なレジストが付着している様子が見て取れる。
【００４７】
次に、本発明により、フォトマスクブランクスのコーナー部の薄膜除去処理を行った。このとき、上下２つの主面を同時に処理できるように、図１に示したコーナー部用ノズルヘッド１ａを２つ用いた。また、剥離液として、ＰＧＭＥＡを用いた。そして、１つのコーナー部についてレジストの除去処理が終了したら、フォトマスクブランクスを９０度回転させて、次のコーナー部のレジストの除去処理を行い、これを繰り返すことで、全てのコーナー部についてレジストの除去処理を行った。このとき、４つのコーナー部の全てを処理するのに要した時間は、１分３０秒であった。また、剥離液の供給量は、８ｍｌ／ｍｉｎで、廃液吸引量は、２ｌ／ｍｉｎであった。また、スペーサ１３は、厚さが０．５ｍｍであった。
【００４８】
更にその後、フォトマスクブランクスの直線部の薄膜除去処理を行った。このとき、上下２つの主面を同時に処理できるように、図５に示す直線部用ノズルヘッド１ｂを２つ用いた。そして、図６に示すような平行移動機構５により直線部用ノズルヘッド１ｂを往復動させながら、フォトマスクブランクスの直線部分の薄膜除去処理を行った。この際、１つの直線部につき２往復ずつノズルヘッドを平行移動させた。そして、これにより、基板全体の直線部の薄膜を除去した。４つの直線部の全てを処理するのに要した時間は、５分であった。
【００４９】
したがって、薄膜除去処理工程全体で要した時間は、６分３０秒であった。
図９は、薄膜除去処理後のフォトマスクブランクスをノマルスキー型微分干渉顕微鏡で観察した写真である。図９の（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ、図７の（ａ）〜（ｄ）で示す箇所で観察した写真である。図９を見て明らかなように、直線部はもちろん、コーナー部全体の不要な薄膜についても清浄に剥離除去することが出来た。
【００５０】
（実施例２）
図３に示すコーナー部用ノズルヘッドを用いることを除いては、実施例１と同様に、レジストの塗布、不要なレジストの除去処理を行った。
ここで、図３に示すコーナー部用ノズルヘッド１ａ’は、スペーサーがないことを除いては、図１に示すコーナー部用ノズルヘッド１ａと同様の構造を有する。すなわち、角形のフォトマスクブランクスのコーナー部の形状にフィットした形状であるし、剥離液供給口３がフォトマスクブランクスのコーナー部の主面側に設けられ、廃液吸引口４がフォトマスクブランクス２のコーナー部の側面側に設けられている。
【００５１】
そして、フォトマスクブランクスの４つのコーナー部の全てについて薄膜除去処理をし、実施例１と同等のレベル（図９に示す状態）に仕上げるのに要した時間は、３分００秒であった。また、このときの剥離液の供給量は８ｍｌ／ｍｉｎで、廃液吸引量は、２ｌ／ｍｉｎであった。
このように、実施例１と比較してコーナー部の薄膜除去処理に時間がかかったのは、実施例１では、スペーサーの存在が奏功し、廃液吸引口からの排気が上下からの一定方向で安定して行われたのに対し、実施例２ではスペーサーがないため、四方から無駄な吸引・排気が生じ、そのため充分な時間短縮に至らなかったものと考えられる。ただし、この方式でもコーナー部の薄膜をきれいに除去できることにはかわりがない。
また、直線部の薄膜除去に要した時間は、５分であった。したがって、薄膜除去処理工程全体で要した時間は、８分００秒であった。
【００５２】
（比較例１）
先ず、実施例１と同様に、レジストを有するフォトマスクブランクスを作製した。
その後、上下２つの主面を同時に処理できるように、図５に示す直線部用ノズルヘッド１ｂを２つ用いて薄膜除去処理を行った。しかし、コーナー部用ノズルヘッドは用いなかった。このとき、１つの直線部につき、４往復ずつ直線部用ノズルヘッド１ｂを平行移動させて直線部の薄膜を除去した。そして、４つの直線部の全てを処理するのに要した時間は、１２分であった。
【００５３】
図１０は、薄膜除去処理後のフォトマスクブランクスをノマルスキー型微分干渉顕微鏡で観察した写真である。図１０の（ａ）〜（ｄ）は、それぞれ、図７の（ａ）〜（ｄ）で示す箇所で観察した写真である。図１０から判るように、直線部用ノズルヘッドでは、実施例１，２よりもさらに多くの時間を薄膜除去処理に費やしたにもかかわらず、コーナー部の不要なレジストを完全に除去することは出来なかった。
【００５４】
（比較例２）
剥離液供給口がフォトマスクブランクスのコーナー部の第１の側面側に設けられ、廃液吸引口がフォトマスクブランクスのコーナー部の第２の側面側に設けられているコーナー部用ノズルヘッドを用いることを除いては、実施例１と同様に、レジストの塗布、不要なレジストの除去処理を行った。このコーナー部用ノズルヘッドは、剥離液を基板の第１の側面に供給し、第２の側面から排出しながら、基板のコーナー部の不要なレジストを除去することができるものである。
【００５５】
そして、フォトマスクブランクスの４つのコーナー部の全てについて薄膜除去処理を３分００秒間行った。
また、直線部の薄膜除去に要した時間は、５分であった。したがって、薄膜除去処理工程全体では、８分００秒であった。
【００５６】
薄膜除去処理後のフォトマスクブランクスをノマルスキー型微分干渉顕微鏡で観察した。その結果、コーナー部の２つの側面が交わる部分（Ｒ形状部分）に付着した不要なレジストについては除去することができたが、コーナー部の主面やＣ面部付近に付着した不要なレジストについては４コーナー中２コーナーにおいて図１１（ｄ）に示すように完全に除去することができずレジスト残渣１６（主面），１７（Ｃ面）として残留していた。また、主面のレジストの浸食１５も発生していた。
尚、図１１は、フォトマスクブランクスのコーナー部を主面側から観察した写真である。図１１（ａ）は、レジスト形成直後に観察した写真である。また、図１１（ｂ）は、実施例１での、コーナ部及び直線部のレジスト除去処理後に観察した写真である。また、図１１（ｃ）は、比較例２での、コーナー部のレジスト除去処理後に観察した写真であり、図１１（ｄ）は、さらに直線部のレジスト除去処理後に観察した写真である。
そして、本発明者らが、レジスト残渣１６，１７及び浸食１５が発生した原因を調査したところ、比較例２のコーナー部用ノズルヘッドを用いてコーナー部のレジストを除去しようとすると、図１１（ｃ）に示すように側面のレジストが主面側に回り込み、主面側の不要なレジストが分厚くなってしまい（回り込み部１４）、その後の直線部のレジスト除去処理の際にも充分な剥離がなされなかったことが原因であることが判った。一方、実施例１のコーナー部用ノズルヘッドを用いた場合、図１１（ｂ）に示すようにコーナー部の主面やＣ面部付近に付着した不要なレジストがきれいに除去できていることが判る。
【００５７】
尚、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１】本発明のコーナー部用ノズルヘッドの一態様を示す概略図である。（ａ）側面図、（ｂ）背面図。
【図２】本発明のコーナー部用ノズルヘッドの使用態様を示す斜視図である。
【図３】本発明のコーナー部用ノズルヘッドの別の態様を示す概略図である。（ａ）側面図、（ｂ）背面図。
【図４】薄膜除去装置全体を示す概略図である。
【図５】直線部用ノズルヘッドの一態様を示す概略図である。
【図６】直線部用ノズルヘッドとその平行移動機構の一態様を示す概略図である。
【図７】図８〜１０に示す写真の観察箇所を示すフォトマスクブランクスの側面図である。
【図８】レジスト形成直後のフォトマスクブランクスをノマルスキー型微分干渉顕微鏡で観察した写真である。
【図９】薄膜除去処理後のフォトマスクブランクスをノマルスキー型微分干渉顕微鏡で観察した写真である（実施例１）。
【図１０】薄膜除去処理後のフォトマスクブランクスをノマルスキー型微分干渉顕微鏡で観察した写真である（比較例１）。
【図１１】フォトマスクブランクスのコーナー部を主面側から観察した写真である（実施例１、比較例２）。
【符号の説明】
【００５９】
１…ノズルヘッド、  １ａ，１ａ’…コーナー部用ノズルヘッド、
１ｂ…直線部用ノズルヘッド、  ２…フォトマスクブランクス、  ３…剥離液供給口、
４…廃液吸引口、  ５…平行移動機構、  ６…ノズルヘッド保持アーム、
７…剥離液供給側コントロール弁、  ８…廃液吸引側コントロール弁、
９…剥離液供給装置、  １０…廃液吸引装置、
１１…ノズルヘッド−フォトマスクブランクス主面間距離、
１２…ノズルヘッド−フォトマスクブランクス側面間距離、
１３…スペーサー、
１４…レジストの回り込み部、  １５…主面のレジストの浸食、
１６…レジスト残渣（主面）、  １７…レジスト残渣（側面）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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