(57)【要約】【課題】半導体装置用フォトマスク用ブランクス及びフォトマスク等の薄板状の製品を、１枚づつ、製品の端部にて保持して、搬送、又は保管をするためのフォトマスク収納容器において、フォトマスク用ブランクス及びフォトマスクの製造工程の環境中に存在するケミカル成分が、フォトマスク等基板を収納する収納容器の内部に流入しないフォトマスク収納容器を提供する。【解決手段】収納容器は、本体と蓋体よりなり、本体上に固定した状態で、蓋体を合わせて容器内を密封し、収納するもので、本体の底部には、容器の内部にガスを充填するためのガス供給口と、容器の内部から大気及び充填されたガスを容器の外部に排出するためのガス排気口を具備し、該排気口には、ガス充填時にのみ開き、それ以外のときには閉じている逆止弁が装着されてをり、ガス供給口には、ケミカルフィルタが装着されていることを特徴とするフォトマスク収納容器。【選択図】図１
2005115033.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体装置の製造に用いるフォトマスク用ブランクス及びフォトマスク等の薄板状の製品を、１枚ずつ、製品の端部にて保持して、搬送、又は保管をするためのフォトマスク収納容器において、フォトマスク収納容器は、本体と蓋体よりなり、製品を容器の本体上に固定した状態で、蓋体を合わせて容器内を密封することにより、製品を容器内に収納するものであり、本体の底部には、容器の内部にガスを充填するためのガス供給口と、容器の内部から大気及び充填されたガスを容器の外部に排出するためのガス排気口を具備し、該排気口には、ガス充填時にのみ開き、それ以外のときには閉じている逆止弁が装着されており、ガス供給口には、ケミカルフィルタが装着されていることを特徴とするフォトマスク収納容器。
【請求項２】
前記ケミカルフィルタが、常時開放状態であるガス供給口より容器の内部へ流入する大気中のケミカル成分を吸着される構造であることを特徴とする請求項１記載のフォトマスク収納容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体装置用のフォトマスク、フォトマスク用ブランクス等の薄板状の製品を、保持して、搬送、又は保管をするためのフォトマスク収納容器に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトマスク及びフォトマスク用ブランクスの製造工程は、クリーンルームの環境中、又は製造装置内のワークチャンバー内の環境中で基板が処理し、製造される。前記製造工程は、基板上にレジストを塗布する工程と、レジスト上に描画露光する工程と、現像処理工程及びエッチング処理工程と、レジストを剥膜する工程等複数の工程により構成されている。そのため、製造工程で使用する微量の薬品の成分が浮遊する環境下で、フォトマスク及びフォトマスク用ブランクスを処理し、一時保管することが通常である。前記環境中でフォトマスク及びフォトマスク用ブランクスを保管する場合、環境中に浮遊する種々の薬品の成分に汚染される問題がある。前記薬品の成分、例えば、アンモニア、アミン類等の塩基性物質、又は、ＮＯX及びＳＯXや有機酸等の酸性物質等が、前記基板上にパターン形成の際に使用する化学増幅型レジストや、レジスト塗布された基板表面に付着し、浸透し、レジスト寸法の変化や、レジスト膜の変化を引き起こし、欠陥となってしまう問題がある。
【０００３】
その対策として、窒素等の不活性ガスを充填できるフォトマスク収納容器、例えば、マスク用ＳＭＩＦ−ＰＯＤ（標準機械的インターフエース機構の統一規格のマスク用ボックス）が使用されている。標準機械的インターフエース機構の装置間では、ＳＭＩＦ−ＰＯＤを介して基板を投入及び受取と、ＳＭＩＦ−ＰＯＤによる装置間の移動を行うことが一般的な方法である（特許文献１参照）。
【０００４】
図３は、従来のフォトマスク収納容器の一例の全体図で、（ａ）は、斜視図であり、（ｂ）は側断面図である。図３（ａ）は、マスク用ＳＭＩＦ−ＰＯＤを説明するものであり、本体（１）上に、ガス供給口（２２）と、ガス排出口（２６）とが装備されている。載置台（８）上にはフォトマスク（２０）が収納されている。容器内部はパッキング（９、１９）を介して密封されている。図３（ｂ）では、ガス排出口（２６）は具備した逆止弁（７）により通常時は閉じている。一方ガス供給口（２２）では、常時開放され、外部環境より容器内部へ流入する外気は、具備する除塵フィルタ（４）により浮遊塵のみは除去されるが、ケミカル成分は処理出来ない構造である。
【０００５】
マスク用ＳＭＩＦ−ＰＯＤは、窒素等の不活性ガスが充填出来る構造であり、ガス供給口とガス排出口が設けられている。この収納容器は、完全な密閉型ではないため、ガスの充填時以外では、すなわち、時間の経過につれて収納容器の外気のケミカル成分が容器内部に流入することによって、収納中の基板、例えばレジスト膜等へ悪影響を及ぼす問題がある。ガス供給口、ガス排出口のどちらにも除塵用フィルタは装着されているが、外気環境中のケミカル成分を除去するためのフィルタは装着されていない問題がある（特許文献２参照）。
【０００６】
以下に公知文献を記す。
【特許文献１】特開２００１−４８１５２号公報
【特許文献２】特開２００１−５３１３６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
フォトマスク用ブランクス及びフォトマスクを製造又は保管時に、製造工程の環境中に存在浮遊するケミカル成分が、フォトマスク等基板を収納する収納容器の内部に流入しないフォトマスク収納容器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の請求項１に係る発明は、半導体装置の製造に用いるフォトマスク用ブランクス及びフォトマスク等の薄板状の製品を、１枚ずつ、製品の端部にて保持して、搬送、又は保管をするためのフォトマスク収納容器において、フォトマスク収納容器は、本体と蓋体よりなり、製品を容器の本体上に固定した状態で、蓋体を合わせて容器内を密封することにより、製品を容器内に収納するものであり、本体の底部には、容器の内部にガスを充填するためのガス供給口と、容器の内部から大気及び充填されたガスを容器の外部に排出するためのガス排気口を具備し、該排気口には、ガス充填時にのみ開き、それ以外のときには閉じている逆止弁が装着されており、ガス供給口には、ケミカルフィルタが装着されていることを特徴とするフォトマスク収納容器である。
【０００９】
本発明の請求項２に係る発明は、前記ケミカルフィルタが、常時開放状態であるガス供給口より容器の内部へ流入する大気中のケミカル成分を吸着される構造であることを特徴とする請求項１記載のフォトマスク収納容器である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のフォトマスク収納容器を用いることにより、フォトマスク用ブランクス及びフォトマスクの製造環境において、フォトマスク用ブランクス、又はフォトマスクを収納する容器の内部に、製造環境中のケミカル成分が流入することを防止することが可能となり、その結果、容器内に保管したフォトマスク用ブランクス、又はフォトマスクにレジスト寸法の変化や、レジスト膜の変化が発生せず、欠陥不良の発生を回避することができた。さらに、欠陥不良が大幅に削減されたことにより製造コストの削減ができる効果があった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
本発明のフォトマスク収納容器について、以下に具体的に説明する。図１は、本発明のフォトマスク収納容器一実施例を示す説明図であり、（ａ）は、全体の斜視図で、（ｂ）は側断面図である。
【００１２】
次に、図１（ａ）に示すフォトマスク収納容器では、本体と、蓋体よりなる構造である。本体及び蓋体の接触面は、パッキング材を介して容器内部を密閉する構造である。本体の四隅には載置台（８）が装備されている。載置台（８）上には、フォトマスク（２０）が収納され、蓋体（１０）のピン状の抑え冶具（１８）と前記載置台（８）とで固定されている。このため、保管、又は搬送時でも振動による異物は発生せず、異物付着も起こさずに清浄な状態が維持できる。更に本体及び蓋体のパッキング材（９）により容器の内部環境が密閉状態となっている。容器内部は、ガス供給口（２）より所定の不活性ガスを供給され、同時にガス排出口（６）から逆止弁（７）を介して排出されている。容器内部が所定の不活性ガスのみで充填された後、ガスの供給を停止し、さらに、逆止弁（７）が作動してガス排出口（６）の通気孔（５）が閉まる。フォトマスクを収納した容器内部では、常時、上記の状態で保管使用する。すなわち、ガス供給口（２）は常時、開放状態であり、ガス排出口（６）は常時閉鎖状態となる。容器内部のガス圧は経時により容器内部のガス気圧が低下すると外気を取り込み平均化する。このとき流入する外気は、具備するケミカルフィルタ（３）及び除塵フィルタ（４）によりケミカル成分及び浮遊塵は除去され、容器内部には常時清浄エアーのみ流入されるため、環境による汚染の影響が最小限に抑
制できる効果がある（図１（ｂ）参照）。
【００１３】
次に、本発明のフォトマスク収納容器による収納の方法を説明する。フォトマスクの収納の手順では、最初に、フォトマスクを収納するフォトマスク収納容器を準備し、前記容器を洗浄等により前準備をした。次に、本体の載置台上にフォトマスクを載置した。次に、蓋体を合体した。フォトマスクは、左右前後方向は前記載置台に具備した保持冶具により固定され、上下方向は蓋体の内部に具備したピン状の抑え冶具により固定した。すなわち、フォトマスクの端部により固定されて収納した。次に、本体と蓋体の接触部近傍を所定の方法で密封梱包した。次に、本体の供給口より窒素ガスを供給し、容器内部を充填しながら、所定の時間が経過後、窒素ガスの充填をとめた。以上の手順で収納作業が完了した。
【００１４】
図２は、本発明のフォトマスク収納容器を説明する部分側断面図で、（ａ）は、本体であり、（ｂ）は蓋体である。図２（ａ）は、本発明のフォトマスク収納容器の本体（１）であり、フォトマスク（２０）の基板を固定する４本の保持冶具を具備した載置台（８）を備えている。該載置台（８）上にフォトマスク（２０）を固定する。本体（１）は、本体の裏面から表面に貫通する通気孔（５）が２箇所に形成され、該通気孔の１つがガス供給口（２）であり、残りがガス排出口（６）として配置されている。前記ガス供給口（２）は、不活性ガスを容器内部に供給する役割を持ち、不活性ガス等の供給口の入口部にはケミカルフィルタ（３）を具備し、ガス供給口の通気口内を通過する外気のエアー、又はガス内のケミカル成分を、ケミカルフィルタで除去する。また、ガス供給口（２）は、常時開放の状態である。従って、外気から容器内部に流入する大気エアーはケミカル成分のないクリーンなエアーが供給される。前記ガス排出口は、ガス充填時初期に、外気と不活性ガスが混交したエアーを容器内部から外部へ排出する役割を持ち、不活性ガス等の排出口の出口部にはガス圧により駆動する逆止弁（７）を具備し、ガス排出口（６）の通気口（５）内を不活性ガスが混交した外気が通過する場合、すなわち、高内圧の場合は開放させ、不活性ガスを停止する場合、すなわち低内圧の場合は閉鎖する。更に、ガス供給口（２）及びガス排出口（６）ともに、除塵フィルタ４）が装備され、容器内に流入する外気及び不活性ガスより浮遊塵を除去する。蓋体と接触する近傍の本体表面では、パッキング材（９）が配置されている。
【００１５】
図２（ｂ）は、本発明のフォトマスク収納容器の蓋体（１０）であり、本体（１）と合体し、容器内部を外力から保護し、且つ密封状態にする役割がある。蓋体（１０）の内側にピン状の抑え冶具（１８）を備えている。
【００１６】
フォトマスク収納容器に用いる材料では、材料表面よりの発塵が無く、熱的及び電気的な性質が安定した熱可塑性プラスチックス、例えばポリカーボネート、ポリアミド等を適宜選択する。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明のフォトマスク収納容器の全体図で、（ａ）は、斜視図であり、（ｂ）は側断面図である。
【図２】本発明のフォトマスク収納容器の部分側断面図で、（ａ）は、本体であり、（ｂ）は蓋体である。
【図３】従来のフォトマスク収納容器の全体図で、（ａ）は、斜視図であり、（ｂ）は側断面図である。
【符号の説明】
【００１８】
１…本体
２…ガス供給口
３…ケミカルフィルタ
４…除塵フィルタ
５…通気孔
６…ガス排出口
７…逆止弁
８…載置台
９…パッキング材
１０…蓋体
１８…ピン状の抑え冶具
２０…フォトマスク
【図１】
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【図２】
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【図３】
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