(57)【要約】【課題】  電解めっきを施す基板表面に均一な膜厚を形成するめっき方法及びめっき装置を提供する。【解決手段】  めっき槽２の底部２ａに開口部２ｂが設けられ、開口部２ｂにはその周縁に沿ってカソード３が配設されている。めっき装置１の底面より下側に、ウエハホルダ５が上下移動可能に設けられている。めっき槽２の側壁の最下部にはめっき液６の供給口７と排出口８が配設されている。カソード３の対向電極となるアノード１１がアノードボックス９の中に収納され、アノードボックス９がめっき槽２の内部の上方に固定されている。カソード３とアノード１１の間に直流電源が接続されている。めっき槽２の中にはめっき液６に微弱電流を流すための一対の補助電流用電極線１５，１６が配設され、さらにめっき液６を撹拌するためのパドル１０が配置されている。めっき槽２の底部２ａには、ウエハホルダ５の下降中に開口部２ｂの下側位置に対して移動自在な平板１３が配置されている。【選択図】    図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
めっき槽の底面に開口部を設け、該開口部の周縁にカソードを設け、被処理基板を前記開口部に移動自在に配置し、該カソードと対向電極となるアノードを前記めっき槽内に設けためっき装置を用いためっき方法であって、
前記被処理基板を下方向に移動して前記開口部を開く段階と、
前記被処理基板の下降中に、前記開口部と前記被処理基板の間の空間にめっき液の受取り部材を配置する段階とを有するめっき方法。
【請求項２】
めっき液を収容するめっき槽と、
該めっき槽の底面に形成された開口部と、
該開口部の周縁に設けられたカソードと、
前記めっき槽内に前記カソードに対向するように固定されたアノードと、
被処理基板を上下方向に移動して前記開口部を開閉するための移動手段と、
前記開口部の近傍に配置され、前記開口部と前記被処理基板の間の空間にめっき液の受取り部材を移動させるめっき液受取手段とを備えためっき装置。
【請求項３】
前記めっき液受取手段が、
前記受取り部材と、
前記開口部の横側に配置され、前記開口部と前記被処理基板の間の空間に対して前記受取り部材を進退移動させる移動手段とを備えた請求項２に記載のめっき装置。
【請求項４】
前記受取り部材が一枚の板からなる請求項３に記載のめっき装置。
【請求項５】
前記受取り部材が、筒内に巻き入れたり引っ張り出すことが可能なフィルムである請求項３に記載のめっき装置。
【請求項６】
前記受取り部材が複数枚の板からなり、
前記各板に前記移動手段が配設され、
前記移動手段は、前記各板を移動して前記開口部の下側で前記受取り部材を形成する請求項３に記載のめっき装置。
【請求項７】
前記めっき液受取手段が、
前記受取り部材と、
前記開口部の近傍に配置され、前記開口部と前記被処理基板の間の空間に対して前記受取り部材を回転移動させる移動手段とを備えた請求項２に記載のめっき装置。
【請求項８】
前記受取り部材が一枚の円板を二等分した二枚の半円板からなり、前記各半円板に前記移動手段が配設されている請求項７に記載のめっき装置。
【請求項９】
前記めっき槽内に前記めっき液を撹拌する撹拌手段をさらに備えた請求項２から８のいずれかに記載のめっき装置。
【請求項１０】
前記アノードが箱体に収納され、該箱体の前記カソードと対向する面がメッシュ部材で構成されている請求項２から９のいずれかに記載のめっき装置。
【請求項１１】
前記めっき槽に対する前記めっき液の供給および排出と、前記移動手段および前記めっき液受取手段の動作とを制御する制御手段を有し、
前記制御手段が、前記めっき槽内のめっき液を排出し、前記移動手段により前記被処理基板を下方に移動して前記開口部を開いた後、前記めっき液受取手段により前記開口部と前記被処理基板の間の空間に前記受取り部材を移動させるように制御する請求項２から１０のいずれかに記載のめっき装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種電子部品用基板、ＩＣ用ウエハ、薄膜磁気ヘッド用ウエハなどの平板状の基板に電解めっきを施すめっき方法及びめっき装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
上記のような基板の表面にめっき膜を形成するための従来のめっき装置を図１２に示す。この図に示すめっき装置ではウエハホルダ１０４が上昇した状態で、ウエハホルダ１０４上に保持された基板又はウエハ１０３がめっき槽１０１下部の開口部１０１ａを塞ぐとともに、カソード１０２に電気的に接触する。めっき槽１０１にめっき液１０７が収納されていて、めっき槽１０１下部の供給口１０８および排出口１０９から供給および排出可能である。めっき槽１０１内部にアノード１０５がカソード１０２と対向配置されている。
【０００３】
このような状態で直流電源１０６を作動させてアノード１０５とカソード１０２の間に電流を流すことにより、カソード１０３と電気的に接続された基板又はウエハ１０３の表面に対して電解めっきが施される。
【０００４】
めっき処理終了後、直流電源１０６が停止し、めっき槽１０１内のめっき液１０７が排出口１０９から排出される。めっき槽の１０１内のめっき液１０７を排出する間はめっき液１０７に微弱電流を流し、めっき膜が施された基板又はウエハ１０３の表面がめっき液１０７でエッチングされないようにしている。
【０００５】
その後、ウエハホルダ１０４が下降し、めっき膜を成膜した基板又はウエハ１０３がその表面に残っているめっき液を純水で洗い流した後にウエハホルダ１０４から取外される。
【０００６】
しかし、上述した従来例では、めっき液１０７を排出しためっき槽１０１からウエハホルダ１０４を下降させているとき、ウエハホルダ１０４と対向配置されているアノード１０５やカソード１０２の内側縁からめっき液が、基板又はウエハ１０３の表面に成膜しためっき膜に垂れ落ちることがある。基板又はウエハ１０３の表面を洗浄するまでに、基板又はウエハ１０３の表面に成膜しためっき膜にめっき液が付着すると、めっき液が一般に強酸であるため、めっき膜で溶解し膜厚にむらが生じる。
【０００７】
本発明の技術分野では半導体配線パターンの微細化につれてめっき膜はますます薄膜化の傾向にあり、膜厚の管理は大変厳しくなっている。
【０００８】
上記従来例のようなめっき液の垂れ落ちが生じにくい技術として特許文献１に記載のめっき装置がある。図１３は特許文献１に記載のめっき装置を示す断面図である。
【０００９】
このめっき装置では図１３に示すようにめっき槽２０１に常時めっき液２０２が収容されている。めっき槽２０１内には昇降自在に蓋体２０３が備えられ、蓋体２０３の下面にアノード電極２０４が固定されている。めっき槽２０１の底面には開口部２０５が設けられている。開口部２０５の周縁にカソード電極２０８が配設されている。蓋体２０３は、めっき開始前およびめっき終了時に下降して開口部２０５を閉塞する。めっき処理時は、ウエハホルダ２０６の上昇によってウエハ２０７が開口部２０５を閉塞するとともにカソード電極２０８と電気的に接続され、蓋体２０３およ8びアノード電極２０４はめっき槽２０１内を上昇して、所定の高さで水平に回転する。
【００１０】
上記めっき装置ではめっき終了時にはめっき槽２０１の底面の開口部２０５を蓋体２０３で閉塞し、その後ウエハホルダ２０６とともにウエハ２０７を開口部２０５の位置から下降させるので、ウエハ２０７をウエハホルダ２０６から取外すまでにめっき液２０２がアノード電極２０４から垂れ落ちる心配がない。
【特許文献１】特開２００１−１７２７９４号公報（段落番号［0013］〜［0015］、図１〜３参照）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかし、特許文献１に記載のめっき装置では、アノードの表面がめっき装置の外側に露出する状態がある。このとき、めっき液で濡れていたアノード表面に完全に乾いた部分が出来てしまうと、再びめっき液に浸かったときにその乾いた部分がめっき液に溶けにくくなる。その結果アノード表面にめっき液に溶けやすい部分と溶けにくい部分が生じる。
【００１２】
このようにアノード表面に溶け易さのむらが生じると、カソード表面にも電位むらができ、ウエハ表面において均一な膜厚を形成できなくなる。
【００１３】
さらに、特許文献１のめっき装置はアノードを昇降させる構成であるので、装置構成が複雑になる。また、アノードの上昇位置を正確に決めないとめっき処理毎に膜厚が安定しない要因もある。
【００１４】
また、上述したような２つの従来例では電解めっきを実施しているときに固形金属のアノードから金属粒が剥がれ落ちてウエハ表面に付着すると、ウエハ上のめっき膜の品質を劣化させてしまう問題もある。
【００１５】
そこで本発明の目的は、上記従来技術の問題に鑑み、電解めっきを施す基板表面に均一な膜厚を形成するめっき方法及びめっき装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
上記目的を達成するために、本発明は、めっき槽の底面に開口部を設け、該開口部の周縁にカソードを設け、被処理基板を前記開口部に移動自在に配置し、該カソードと対向電極となるアノードを前記めっき槽内に設けためっき装置を用いためっき方法であって、前記被処理基板を下方向に移動して前記開口部を開く段階と、前記被処理基板の下降中に、前記開口部と前記被処理基板の間の空間にめっき液の受取り部材を配置する段階とを有することを特徴とする。
【００１７】
また、本発明のめっき装置は、めっき液を収容するめっき槽と、該めっき槽の底面に形成された開口部と、該開口部の周縁に設けられたカソードと、前記めっき槽内に前記カソードに対向するように固定されたアノードと、被処理基板を上下方向に移動して前記開口部を開閉するための移動手段と、前記開口部の近傍に配置され、前記開口部と前記被処理基板の間の空間にめっき液の受取り部材を移動させるめっき液受取手段とを備えたことを特徴とする。
【００１８】
上記めっき装置は、前記めっき液受取手段が、前記受取り部材と、前記開口部の横側に配置され、前記開口部と前記被処理基板の間の空間に対して前記受取り部材を進退移動させる移動手段とを備えるものが考えられる。
【００１９】
前記受取り部材として一枚の板からなるものや、筒内に巻き入れたり引っ張り出すことが可能なフィルムであるものが適用できる。
【００２０】
また、前記受取り部材が複数枚の板からなり、前記各板に前記移動手段が配設され、前記移動手段は、前記各板を移動して前記開口部の下側で前記受取り部材を形成するものであってもよい。
【００２１】
また、上記めっき装置は、前記めっき液受取手段が、前記受取り部材と、前記開口部の近傍に配置され、前記開口部と前記被処理基板の間の空間に対して前記受取り部材を回転移動させる移動手段とを備えるものであってもよい。
【００２２】
このめっき装置において、前記受取り部材が一枚の円板を二等分した二枚の半円板からなり、前記各半円板に前記移動手段が配設されているものが適用できる。
【００２３】
上記のようなめっき装置は、前記めっき槽内に前記めっき液を撹拌する撹拌手段をさらに備えるものが好ましい。
【００２４】
さらに、前記アノードが箱体に収納され、該箱体の前記カソードと対向する面がメッシュ部材で構成されていることが好ましい。
【００２５】
さらに、前記めっき槽に対する前記めっき液の供給および排出と、前記移動手段および前記めっき液受取手段の動作とを制御する制御手段を有し、
前記制御手段が、前記めっき槽内のめっき液を排出し、前記移動手段により前記被処理基板を下方に移動して前記開口部を開いた後、前記めっき液受取手段により前記開口部の下側に前記受取り部材を移動させるように制御することが好ましい。
【００２６】
上記のとおりの発明では、被処理基板のめっき処理が終了し、めっき槽内のめっき液が排出される。その後、被処理基板の下方への移動によってめっき槽底面の開口部が開いたら、この開口部の下側にめっき液の受取り部材が移動する。これにより、カソードやめっき槽内のアノードに残っているめっき液がめっき槽底面の開口部を通って垂れ落ちても、そのめっき液の液滴が前記受取り部材に落ちるだけであり、被処理基板上にめっき液は垂れ落ちない。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、被処理基板の下降中、めっき槽底面に形成された開口部とその下側の被処理基板との間の空間にめっき液の受取り部材が移動する構成にしたことにより、被処理基板が下降してめっき槽の開口部が開いているとき、カソードの内側縁やアノードからめっき液が垂れ落ちても、受取り部材上に落ちるだけであり、被処理基板上にめっき液は垂れ落ちない。これにより、被処理基板表面に形成されためっき膜がめっき液滴でエッチングされることが起こらず、均一な厚さのめっき膜が形成された被処理基板を製造することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２８】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
【００２９】
図１は本発明の実施の形態によるめっき装置を示す断面図、図２は図１に示したアノードボックスの透視図、図３は図１に示したカソード周辺の一部を示す拡大図である。
【００３０】
図１及び図２に示すように本実施形態のめっき装置１はめっき槽２を備え、めっき槽２の底部２ａに開口部２ｂが設けられている。開口部２ｂにはその周縁に沿ってカソード３が配設されている。めっき装置１の底面より下側に被処理基板であるウエハ４を保持するウエハホルダ５が設置されている。ウエハホルダ５の下部にはウエハホルダ５を上下方向に移動するエアシリンダやモータなどの不図示の移動手段が取り付けられている。この移動手段は、ウエハホルダ５を上方に移動し、上面に保持されたウエハ４をカソード３に押し付けて電気的に接触させる手段である。
【００３１】
めっき槽２の側壁の最下部には、めっき槽２内にめっき液６を供給する供給口７と、めっき槽２の外に排出する排出口８とが配設されている。
【００３２】
カソード３の対向電極となるアノード１１がアノードボックス９の中に収納され、このアノードボックス９がめっき槽２の内部の上方に固定されている。アノード１１をアノードボックス９内に収納したのは、固形金属（例えばＮｉ）であるアノード１１がめっき液によって溶けた際にアノード１１から微小な金属粒が剥がれ落ちてウエハ４の表面に付着しないようにするためである。上記の金属粒をアノードボックス９の外には出さずめっき液だけをアノードボックス９の中に入れるために、アノードボックス９のカソード３に対向する面がメッシュ部材１２で構成されている。また、アノードボックス９やメッシュ部材１２には強酸のめっき液に腐食しない材質例えばポリプロピレン（ＰＰ）、ガラス、塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン（テフロン：商品名）などを使用する。
【００３３】
カソード３とアノード１１の間に不図示の直流電源が電気的に接続され、カソード３にマイナス電位が印加されアノードボックス９内のアノード１１にプラス電位が印加される。
【００３４】
めっき槽２の中には、めっき液６に微弱電流を流すための一対の補助電流用電極線１５，１６が配設されている。
【００３５】
めっき槽２内にはめっき液６を撹拌するための撹拌手段であるパドル１０が配置され、かつ左右方向に移動自在となっている。このパドル１０の移動によりめっき液６を撹拌することで、カソード３とアノードボックス９のアノード１１との間に流れる電流密度を均一してウエハ４に成膜する膜厚がばらつかないようにする。
【００３６】
めっき装置１の下側で、かつ開口部２ｂの横側の位置に平板１３が配置されており、ウエハホルダ５の下降中に開口部２ｂを通っためっき液滴を受け取るための受取り部材として、開口部２ｂとウエハ４の間の空間に移動自在となっている。但し、この平板１３は開口部２ｂの下側に位置しているとき、平板１３の姿勢は傾いている。このように傾けることにより、平板１３の表面で受け取っためっき液を平板１３の一端部から排出し、ウエハ４の表面に垂らさないようにすることができる。また、平板１３は強酸のめっき液に腐食しない材質例えばポリプロピレン（ＰＰ）、ガラス、塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン（テフロン：商品名）などを使用する。
【００３７】
なお、めっき装置１は直流電源や、めっき液６の供給と排出、ウエハホルダ５の移動手段、パドル１０、平板１３などの動作を制御する制御手段（不図示）を備える。
【００３８】
次に、図４〜図７を参照して、上述しためっき装置１によってウエハ４にめっき膜を成膜する手順を説明する。図４〜図７はめっき装置１によってめっき膜を成膜するときの工程図である。
【００３９】
まず、図４に示すようにウエハホルダ５上にウエハ４が不図示の搬送装置によって載置される。その後、ウエハホルダ５が上昇し、図５に示すようにウエハ４がめっき槽２下部のカソード３に電気的に接触して開口部２ｂを塞ぐ。その後、排出口８を閉じた状態で供給口７からめっき液６が供給され、アノードボックス９がめっき液６に浸る。めっき槽２内のめっき液量が一定になったら排出口８を開き、めっき液６の排出量を供給量と同じにする。
【００４０】
次にパドル１０が左右に往復移動してめっき液６が撹拌される。
【００４１】
そして、不図示の直流電源を入れてカソード３とアノードボックス９のアノードとの間に電流を流すことで、カソード３と電気的に接続されたウエハ４の表面に対して電解めっきが実施される。
【００４２】
図６に示すようにめっき処理終了後、不図示の直流電源が停止し、めっき槽２の供給口７が閉じられ、めっき槽２内のめっき液６が排出口８から強制的に吸引、排出される。この吸引排出に伴い、アノードボックス９の中にＮ2ガスを圧送することでアノードボックス９からもめっき液６が排出される。さらに、めっき液６を排出している間は、めっき槽２の底面まで延びている補助電流用電極線１５，１６によってめっき液６に微弱電流が流される。これにより、アノードボックス９よりもめっき液６の液面が下がってアノード１１とカソード３の間に電流を流せない状態になり、ウエハ４の表面に形成されためっき膜がめっき液６によってエッチングされることを防止する。
【００４３】
その後、図７に示すようにウエハホルダ５が下降し、この下降中に平板１３が前方に移動して、開口部２ｂとウエハ４の表面との間の空間に配置される。これにより、アノードボックス９から垂れ落ちて開口部２ｂを通っためっき液の液滴や、カソード３の内側縁から垂れ落ちるめっき液の液滴を平板１３によって受け取ることができる。この結果、ウエハ４の表面にめっき液の液滴が落ちない。
【００４４】
ウエハホルダ５が最下点まで下降したら、めっき膜が成膜されたウエハ４の表面が純水で洗い流され、その後不図示の搬送装置によりウエハホルダ５から取外される。
【００４５】
上述した実施形態では、ウエハホルダ５を下降して開口部２ｂを開いた後、平板１３を開口部２ｂとウエハ４との間の空間に移動する構成をとることで、ウエハホルダ５が下降してめっき槽２の開口部２ｂが開いているとき、カソード３の内側縁やアノードボックス９からめっき液が垂れ落ちても、垂れ落ちためっき液の液滴を平板１３で受け取ることができる。これにより、ウエハ表面へのめっき液滴の付着を防止できる。その結果、ウエハ表面のめっき膜がめっき液滴でエッチングされることで所定の膜厚を損なうという問題が起こらない。
【００４６】
なお、上述した実施形態では、めっき処理終了後にウエハホルダ５を下降することによって開口部２ｂが開いたとき、その開口部２ｂから垂れ落ちるめっき液の液滴を受け取るめっき液受取手段として、平板１３とこれを進退移動させる移動装置（例えばエアシリンダ、モータなど）を用いて構成したが、この構成に限らず、平板を回転移動させる構成であってもよく、また、平板の形状は如何なる形状でも構わない。
【００４７】
また、めっき液の受取り部材には平板１３のような硬質の板部材に限られず、フィルムや布のような軟質部材が使用できるが、フィルムの場合はめっき液に腐食しない材質を使用し、布の場合はめっき液に腐食しない材料を表面にコーティングする必要がある。
【００４８】
さらに、めっき液の受取り部材が一枚の平板１３からなるめっき装置を示したが、この構成に限らず、２枚以上の板でめっき液の受取り部材を構成するめっき装置であってもよい。
【００４９】
上記のようなめっき液の液滴を受け取るめっき液受取手段の変形例１〜３を図８〜図１０を参照して説明する。
【００５０】
「変形例１」
図８はめっき液受取手段の変形例をめっき装置底部側から見た図である。この図に示すようにめっき装置１の下側にロールフィルム１４が配置されている。ロールフィルム１４は筒１４ａ内に渦巻きばねを固定した軸を収納し、この軸にフィルム１４ｂの端部を固定して筒１４ａ内にフィルム１４ｂを軸の周りに巻きつけたものである。フィルム１４ｂは前記渦巻きばねのばね力に抗して図８中の矢印方向に引っ張り出すことができる。また、開口部２ｂに対してロールフィルム１４とは反対側に回転駆動装置１７（例えばモータ）が配置されている。
【００５１】
フィルム１４ｂの巻き出し先端にワイヤー１８の一端が接続され、もう一端が回転駆動装置１７の回転軸に巻きつけ可能に接続されている。この構成では、回転駆動装置１７の回転駆動によって回転駆動装置１７の回転軸にワイヤー１８を巻き取ることにより、フィルム１４ｂを筒１４ａから引き出すことができる。
【００５２】
本例のめっき液受取手段を図１のめっき装置１に使用した場合、ウエハホルダ５を下降し始めたら、回転駆動装置１７を駆動することでフィルム１４ｂを筒１４ａから引き出し、開口部２ｂの下側に位置させる。このようにして、開口部２ｂから垂れ落ちるめっき液を受け取り、ウエハ表面へのめっき液の付着を防止する。
【００５３】
なお、フィルム１４ｂを引き出したときはフィルム１４ｂの姿勢が傾いていることが好ましい。この理由は前述した平板１３の例と同じである。
【００５４】
「変形例２」
さらに、図９にめっき液受取手段の変形例として、めっき液の受取り部材が２枚の板からなる構成例を示す。同図（ａ）はめっき液受取手段の変形例をめっき装置底部側から見た図であり、（ｂ）はめっき液受取手段としての２枚の板を突き当てた状態を示した側断面図である。
【００５５】
図９に示す例では、平板１３がガイド部材２２によって開口部２ｂの横側位置から開口部２ｂの下側位置に摺動自在に支持されている。平板１３と対向する位置に平板２０が存在し、ガイド部材２３によって開口部２ｂの横側位置から開口部２ｂの下側位置に摺動自在に支持されている。平板１３，２０はそれぞれ、めっき装置１の下側に固定された駆動装置１９，２１（例えばエアシリンダ）に取り付けられている。この取り付け位置は、駆動装置１９，２１を駆動して平板１３，２０を前進させたときに両方の平板の突当て面１３ａ，２０ａどうしが開口部２ｂの中心付近で突き当たるように設定される。
【００５６】
また、平板１３の突当て面１３ａと平板２０の突当て面２０ａが突き当たった状態で突当て面１３ａ，２０ａどうしの突き当て部分からめっき液が漏れないように、その突き当て部分を覆う覆い板２６が平板２０に設けられている。この覆い板２６は平板２０側でなく、平板１３に設けられていてもよい。
【００５７】
本例のめっき液受取手段を図１のめっき装置１に使用した場合、ウエハホルダ５を下降している間、各駆動装置（不図示）を駆動することにより平板１３，２０を前進させ、突当て面１３ａ，２０ａどうしを開口部２ｂの中心付近で突き当てることで、開口部２ｂから垂れ落ちるめっき液を受け取り、ウエハ表面へのめっき液の付着を防止する。
【００５８】
なお、本例では平板１３，２０どうしを突き当て、平板１３，２０どうしの境目を覆う覆い板２６を設けたが、覆い板２６を設けず平板１３と平板２０を重ねて閉じる構成でもよい。また、平板を例にとって説明したが、V字形またはU字形の板でめっき液受取り手段を構成してもよい。
【００５９】
「変形例３」
さらに、図１０にめっき液受取手段の変形例として、めっき液の受取り部材が２枚の半円板からなり、各半円板を回転させる構成例を示す。
【００６０】
この図に示すようにめっき装置１の下側に、一枚の円板を二等分した半円板２４，２５が配置されており、半円板２４，２５が同じ側にある角部で軸２７によって回転自在に支持されている。各半円板２４，２５にはそれぞれ不図示の駆動装置が取り付けられており、この取り付け位置は、各駆動装置を駆動して半円板２４，２５を互いに近づける方向に軸２７を中心に回転させたときに半円板２４，２５どうしが開口部２ｂの中心付近で突き当たるように設定される。
【００６１】
本例のめっき液受取手段を図１のめっき装置１に使用した場合、ウエハホルダ５を下降している間、各駆動装置（不図示）を駆動して半円板２４，２５どうしを開口部２ｂの中心付近で突き当てて一枚の円板の状態にすることで、開口部２ｂから垂れ落ちるめっき液を受け取り、ウエハ表面へのめっき液の付着を防止する。
【００６２】
「変形例４」
さらに、図１１にめっき液受取手段の変形例として、めっき液の受取り部材が、複数枚の板（図１１には３枚で示す。）を組み合わせたドーム形の構成例を示す。図１１の（ａ）はドーム形のめっき液受取部材の斜視図、（ｂ）はめっき液受取部材を開いた状態での平面図、（ｃ）は（ａ）のＡ−Ａ断面図である。
【００６３】
図１１に示すめっき液受取り部材２８は３枚の扇状板２８ａ，２８ｂ，２８ｃがこの順番に上に重ねて組み付けられ、かつ、扇状板２８ｃの下側にある扇状板２８ａ，２８ｂを不図示の駆動装置により回転軸２９を中心に回転移動させることによって同図（ａ）に示すようにドーム形になるものである。
【００６４】
めっき液受取り部材２８を図１のめっき装置１に使用した場合、ウエハホルダ５を下降している間、めっき液受取り部材２８をめっき装置１の下側に開口部２ｂに対向させ、駆動装置（不図示）によって扇状板２８ａ，２８ｂ，２８ｃを回転させてドーム形にすることで、開口部２ｂから垂れ落ちるめっき液を受け取り、ウエハ表面へのめっき液の付着を防止する。
【図面の簡単な説明】
【００６５】
【図１】本発明の実施の形態によるめっき装置を示す断面図である。
【図２】図１に示したアノードボックスの透視図である。
【図３】図１に示したカソード周辺の一部を示す拡大図である。
【図４】図１に示しためっき装置によるめっき処理の手順を説明するための工程図である。
【図５】図１に示しためっき装置によるめっき処理の手順を説明するための工程図である。
【図６】図１に示しためっき装置によるめっき処理の手順を説明するための工程図である。
【図７】図１に示しためっき装置によるめっき処理の手順を説明するための工程図である。
【図８】図１に示しためっき装置のめっき液受取手段の変形例をめっき装置底部側から見た図である。
【図９】図１に示しためっき装置のめっき液受取手段の変形例として、めっき液の受取り部材が２枚の平板からなる構成例を示す図である。
【図１０】図１に示しためっき装置のめっき液受取手段の変形例として、めっき液の受取り部材が２枚の半円板からなり、各半円板を回転させる構成例を示す図である。
【図１１】図１に示しためっき装置のめっき液受取手段の変形例として、めっき液の受取り部材がドーム形である構成を示す図である。
【図１２】従来のめっき装置を示す断面図である。
【図１３】特許文献１に記載のめっき装置を示す断面図である。
【符号の説明】
【００６６】
１    めっき装置
２    めっき槽
２ａ    底部
２ｂ    開口部
３    カソード
４    ウエハ
５    ウエハホルダ
６    めっき液
７    供給口
８    排出口
９    アノードボックス
１０    パドル
１１    アノード
１２    メッシュ部材
１３    平板
１３ａ    突当て面
１４    ロールフィルム
１４ａ    筒
１４ｂ    フィルム
１５，１６    補助電流用電極線
１７    回転駆動装置
１８    ワイヤー
１９，２１    駆動装置
２０    平板
２０ａ    突当て面
２２，２３    ガイド部材
２４，２５    半円板
２６    覆い板
２７    軸
２８    めっき液受取り部材
２８ａ，２８ｂ，２８ｃ    扇状板
２９    回転軸
【図１】
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【図２】
2005200741.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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