(57)【要約】【課題】  支持体上に天然高分子系バインダー及び合成高分子系バインダーを使用し塗布膜を形成した記録材料から、記録材料用の支持体の原料として再使用出来る状態で生産性、採算性が良い支持体の回収方法の提供。【解決手段】  ポリエステル系樹脂支持体上に少なくとも１層の塗布膜を有する記録材料をアルカリ性処理液により処理し、該記録材料から該塗布膜を分離・除去した後、該ポリエステル系樹脂支持体を回収するポリエステル系樹脂支持体回収方法において、前記記録材料はシート状の形態で、該アルカリ性処理液により処理槽中で１０-5〜１０5／ｓｅｃの剪断速度を掛け塗布膜を除去した後、湿式破砕処理でチップ状にし、洗浄・脱水分離・乾燥工程を経てポリエステル系樹脂支持体を回収することを特徴とするポリエステル系樹脂支持体回収方法。【選択図】        図１
2005264019.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステル系樹脂支持体上に少なくとも１層の塗布膜を有する記録材料をアルカリ性処理液により処理し、該記録材料から該塗布膜を分離・除去した後、該ポリエステル系樹脂支持体を回収するポリエステル系樹脂支持体回収方法において、前記記録材料はシート状の形態で、該アルカリ性処理液により処理槽中で１０-5〜１０5／ｓｅｃの剪断速度を掛け塗布膜を除去した後、湿式破砕処理でチップ状にし、洗浄・脱水分離・乾燥工程を経てポリエステル系樹脂支持体を回収することを特徴とするポリエステル系樹脂支持体回収方法。
【請求項２】
ポリエステル系樹脂支持体上に少なくとも１層の塗布膜を有する記録材料をアルカリ性処理液により処理し、該記録材料から該塗布膜を分離・除去した後、該ポリエステル系樹脂支持体を回収するポリエステル系樹脂支持体回収方法において、前記記録材料はシート状の形態で、該アルカリ性処理液により処理槽中で１０-5〜１０5／ｓｅｃの剪断速度を掛け塗布膜を除去し、洗浄処理を行い、乾燥した後、
破砕処理でチップ状にしてポリエステル系樹脂支持体を回収することを特徴とするポリエステル系樹脂支持体回収方法。
【請求項３】
前記アルカリ性処理液による処理が、濃度が０．０１〜４ｍｏｌ／Ｌの該アルカリ性処理液を使用し、温度７０〜９５℃、時間１０〜１２０ｍｉｎで処理することを特徴とする請求項１又は２に記載のポリエステル系樹脂支持体回収方法。
【請求項４】
前記塗布膜が天然高分子系バインダー又は合成高分子系バインダーを使用していることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載のポリエステル系樹脂支持体回収方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリエステル系樹脂支持体上に少なくとも１層の塗布膜を有する記録材料からポリエステル系樹脂支持体を回収する回収方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ポリエステル系樹脂、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートはその優れた特性によりハロゲン化銀写真感光材料、熱現像写真感光材料、インクジェット記録材料、磁気記録材料等の記録材料の支持体として、及び液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイの各種表示装置に使用する光学フィルムとして情報記録産業界でも広く用いられている。ポリエステル系樹脂支持体を使用した記録材料の一例として写真感光材料の場合について図で概略説明する。
【０００３】
図９は写真感光材料の概略断面図である。
【０００４】
図中、１３は写真感光材料を示す。１３ａはポリエステル系樹脂支持体を示し、１３ｂ、１３ｃは下塗り層を示す。１３ｄは下塗り層１３ｄを介してポリエステル系樹脂支持体１３ａ上に形成された塗布膜の感光層を示し、１３ｅは感光層１３ｄの上に形成された塗布膜の保護層を示す。１３ｆは下塗り層１３ｃを介してポリエステル系樹脂支持体１３ａ上に形成された塗布膜のバッキング層を示す。感光層１３ｄは必要に応じて多層から構成されている場合もあるし、上に保護層を塗設していない場合もある。感光層１３ｄ、保護層１３ｅ及びバッキング層には天然高分子バインダー又は合成高分子バインダーが作製する写真感光材料の種類により選択され使用されている。本発明では、塗布膜とは感光層と、保護層と、バッキング層とを含めた総称を言う。
【０００５】
近年、情報記録産業界は著しい発展を遂げつつあり使用されるポリエステル系樹脂材料も急増しつつある。それに伴い、製造工程において発生する廃棄対象物（例えば、生産端材、製品検査過程で発生する品質不良品等）、使用済み品も多量になりつつある。
【０００６】
これらポリエステル系樹脂材料の屑は殆どが有効利用されることなく埋め立て又は焼却処理で対応しているのが実状であるが、埋め立てでは腐敗消滅することは無く、焼却処理では焼却条件によりダイオキシンの発生を引き起こし、地球環境負荷を大きくする一因にもなっている。又、ポリエステル原料損失という問題点があり、省資源の面からも好ましくない。
【０００７】
特に、これらポリエステル系樹脂支持体を使用し、塗布膜のバインダーに合成高分子系素材を用いた記録材料に対しては、ポリエステル系樹脂支持体として再使用が出来る状態での回収が困難で、使用済み品及び生産端材については殆どが有効利用されることなく、やむなく、ダイオキシンの発生を抑えるために高温で焼却処理で対応していた。このため、高温の焼却処理に伴い焼却炉の傷みが早く維持費がかかり問題となっている。
【０００８】
これらの問題点を解決するために、ポリエステル系樹脂支持体を使用した記録材料からポリエステル系樹脂支持体を回収する方法が検討されてきた。例えば、塩化ビニリデン、イタコン酸、アクリル酸等の共重合体を下塗り層としたポリエステル系樹脂としてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を使用した支持体を用いた印刷製版フィルムをアルカリ金属塩の水溶液中でカチオン系界面活性剤とともに５０〜９５℃で加熱処理することでＰＥＴを回収する方法が知られている（例えば、特許文献１を参照。）。
【０００９】
下塗り層を有するポリエステル系樹脂支持体及びそれを用いたハロゲン化銀写真感光材料をチップ状に破砕し、界面活性剤（非イオン界面活性剤、陽イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤）を併用し、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを含むアルカリ性処理液で温度７０〜１００℃で撹拌しながら加熱処理することでポリエステル系樹脂支持体（以下、単に支持体ともいう）を回収する方法が知られている（例えば、特許文献２を参照。）。
【００１０】
しかしながら、特許文献１及び特許文献２に記載の回収方法では、支持体上に合成高分子バインダーを使用し、塗布膜を形成した記録材料から支持体を回収した場合、以下に示す問題点が挙げられる。１）塗布膜を有する支持体を、アルカリ性処理液で処理する前に破砕する際、支持体内部の割れ（デラミネーション）が発生し、この割れに剥離した塗布膜及びアルカリ性処理液による処理で発生するスラッジが入り込んだり、再付着した支持体、塗布膜が剥離せず残った支持体、剥離した塗布膜等の混入が生じ、記録材料用の支持体の原料として再使用するには純度的に不十分となり使用出来ないのが現状である。２）支持体内部の割れ（デラミネーション）を抑制させるため、一定の剪断による細断方法でフィルムを微細化するため、高額な細断設備が必要となり、生産性、採算性を著しく落としていた。
【００１１】
特に記録材料用の支持体の原料として再使用する場合、要求される項目としては次の項目が挙げられる。１）性能に悪影響（例えば写真感光材料の場合、カブリ、増感・減感等の感度異常等）を与える不純物の混入がなく、２）物理的特性（色調、分子量分布等）が変化していないこと、３）撮影したときに画像に悪影響を与える異物の混入が無いこと等が挙げられる。
【００１２】
これらの状況から、支持体に天然高分子系バインダー及び合成高分子系バインダーを使用し塗布膜を形成した記録材料から、記録材料用（特に純度的に要求が高い写真感光材料用）の支持体の原料として再使用出来る状態で生産性、採算性が良い支持体の回収方法の開発が望まれている。
【特許文献１】特開平１１−３０２５８０号公報
【特許文献２】特開平８−１４６５６０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明は、上記状況に鑑み成されたものであり、その目的は、支持体上に天然高分子系バインダー及び合成高分子系バインダーを使用し塗布膜を形成した記録材料から、記録材料用の支持体の原料として再使用出来る状態で生産性、採算性が良い支持体の回収方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成された。
【００１５】
（請求項１）
ポリエステル系樹脂支持体上に少なくとも１層の塗布膜を有する記録材料をアルカリ性処理液により処理し、該記録材料から該塗布膜を分離・除去した後、該ポリエステル系樹脂支持体を回収するポリエステル系樹脂支持体回収方法において、前記記録材料はシート状の形態で、該アルカリ性処理液により処理槽中で１０-5〜１０5／ｓｅｃの剪断速度を掛け塗布膜を除去した後、湿式破砕処理でチップ状にし、洗浄・脱水分離・乾燥工程を経てポリエステル系樹脂支持体を回収することを特徴とするポリエステル系樹脂支持体回収方法。
【００１６】
（請求項２）
ポリエステル系樹脂支持体上に少なくとも１層の塗布膜を有する記録材料をアルカリ性処理液により処理し、該記録材料から該塗布膜を分離・除去した後、該ポリエステル系樹脂支持体を回収するポリエステル系樹脂支持体回収方法において、前記記録材料はシート状の形態で、該アルカリ性処理液により処理槽中で１０-5〜１０5／ｓｅｃの剪断速度を掛け塗布膜を除去し、洗浄処理を行い、乾燥した後、
破砕処理でチップ状にしてポリエステル系樹脂支持体を回収することを特徴とするポリエステル系樹脂支持体回収方法。
【００１７】
（請求項３）
前記アルカリ性処理液による処理が、濃度が０．０１〜４ｍｏｌ／Ｌの該アルカリ性処理液を使用し、温度７０〜９５℃、時間１０〜１２０ｍｉｎで処理することを特徴とする請求項１又は２に記載のポリエステル系樹脂支持体回収方法。
【００１８】
（請求項４）
前記塗布膜が天然高分子系バインダー又は合成高分子系バインダーを使用していることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載のポリエステル系樹脂支持体回収方法。
【発明の効果】
【００１９】
支持体上に天然高分子系バインダー及び合成高分子系バインダーを使用し塗布膜を形成した記録材料から、記録材料用の支持体の原料として再使用出来る状態で生産性、採算性が良い支持体の回収方法を提供することが出来、記録材料用の支持体の原料として再使用出来る状態で支持体の回収率を大幅に向上できるようになった。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
本発明に係る実施の形態を図１〜図８を参照して説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００２１】
図１は支持体の回収方法の一例を示す模式図である。
【００２２】
図中、１はアルカリ性処理液により処理を行うアルカリ処理部を示す。１０１は、処理槽１０１ａ内に入れられた処理枠１０１ｂ中の支持体上に塗布膜を有するシート状の記録材料１０２を、水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを含むアルカリ性処理液１０３で剪断速度を掛けながら加熱処理し、支持体から塗布膜を剥離する処理装置を示す。処理槽１０１ａには、加熱手段（不図示）と温度保持手段（不図示）とを有している。
【００２３】
１０５は処理槽１０１ａの底部に設けられた曝気装置を示す。曝気装置１０５は処理槽１０１ａの底部に設けられた曝気ノズル１０５ａと、空気を送る配管１０５ｂと、空気を送るポンプ１０５ｃとを有している。処理中に曝気することで塗布膜を有するシート状の記録材料１０２に剪断速度を掛け、これにより塗布膜の除去が容易に行うことが可能となる。
【００２４】
剪断速度を掛ける手段としてはこの他に処理液を高速に移動する手段（超振動発生装置、ジェット水流発生装置等）が挙げられ、処理装置に関しては図３、図４で説明する。シート状の記録材料１０２としては、製造工程において発生する廃棄対象物（例えば、生産端材、製品検査過程で発生する品質不良品等）、使用済み品等が挙げられる。
【００２５】
２はアルカリ処理部で処理が終了し、塗布膜が除去された湿った状態のシート状支持体１０４をチップ状に破砕する破砕処理部を示す。２０１は湿式破砕装置を示し、２０１ａは湿式破砕装置２０１により破砕されたチップ状支持体を示す。チップ状支持体はコンベアベルト２０２で次工程の洗浄部へ移動される。移動手段はコンベアベルトに限らず容器に受けて、手で運ぶことも勿論可能であり、処理量に合わせ適宜選択することが可能である。
【００２６】
湿式破砕装置２０１は市販されているものを使用することが可能である。アルカリ処理部で処理が終了し、湿式破砕装置２０１で破砕する前に水洗処理を行うことも可能である。本図は、水洗しないで処理槽から処理枠を取り出し、処理枠を傾け直接に湿式破砕装置２０１に投入する場合を示している。
【００２７】
チップ状支持体の大きさとしては、外形サイズが０．１〜１００ｍｍの不定形であることが好ましい。外形サイズとは、チップ状支持体の中心（重心）から最も遠い角の頂点までの距離の２倍の長さを言う。外形サイズが０．１ｍｍ未満の場合は、図１に示す回収方法の各送液管の太さによっては、送液管が詰まる危険がある。１００ｍｍを越えた場合も同様に、図１に示す回収方法の各送液管の太さによっては、送液管が詰まる危険がある。又、次工程の洗浄処理で撹拌が充分に出来なくなったり、洗浄が不十分となりチップに付着しているスラッジ、再付着した塗布膜が残る場合がある。
【００２８】
３はチップ状支持体２０１ａを洗浄し、表面に付いているスラッジ、再付着した塗布膜を洗浄する洗浄部を示す。３０１は洗浄装置を示し、洗浄容器３０１ａと、撹拌用のモータ３０１ｂと、攪拌羽根１０１ｃを取り付ける回転軸３０１ｄとを有している。
【００２９】
洗浄容器３０１ａでチップ状支持体２０１ａを洗浄するときの固形分濃度としては、０．１〜５０質量％が好ましい。０．１質量％未満の場合は、チップ状支持体が互いに衝突する回数が減少するし、チップ状支持体２０１ａが攪拌羽根１０１ｃと衝突する回数が減少し、チップ状支持体２０１ａに付着しているスラッジ、再付着した塗布膜等が残るチップ状支持体が多くなる場合がある。５０質量％を越える場合は、撹拌が十分に行うことが出来なくなり、チップ状支持体に剪断速度を与えることが無くなるため、チップ状支持体２０１ａに付着しているスラッジ、再付着した塗布膜等が残るチップ状支持体が多くなる場合がある。本発明では、塗布膜が剥離した支持体と一部の塗布膜が残った支持体と、発生したスラッジと、剥離した塗布膜及び発生したスラッジが付着した支持体等とを含めて固形物と言う。洗浄装置３０１はチップ状支持体を効率良く洗浄出来れば装置には特に限定はなく、例えば撹拌機が付いた洗浄槽でもよく、洗浄液をシャワーでかけながら回転可能なメッシュのドラム式容器等でも良い。本図は撹拌機が付いた洗浄槽の場合を示している。洗浄液としては、水、酸性液（希釈した酢酸溶液、硫酸溶液等）を使用することが好ましい。
【００３０】
４は脱水分離部を示す。４０１は衝突型遠心脱水機を示す。衝突型遠心脱水機４０１は市販のものを使用することが可能であり、処理量から適宜大きさを選択することが可能である。
【００３１】
脱水分離部４では、前工程の洗浄液からチップ状支持体を分離する工程である。洗浄容器３０１ａからの固形物を含む洗浄液は、衝突型遠心脱水機４０１の下部から導入される。衝突型遠心脱水機４０１に導入された固形分を含む溶液は互いに衝突しながら上部に移動する間に再付着した塗布膜、スラッジ等が分離し下部４０１ａより排出される。上部４０１ｂからはチップ状支持体が排出される。
【００３２】
この段階で回収されたチップ状支持体は、異物の付着が無く、付着している水分を除去することで記録材料の製造時に使用する支持体と同じ程度となっており、記録材料の支持体に再利用出来る状態となっている。
【００３３】
５は乾燥部を示す。乾燥部５は、脱水分離部４で回収されたチップ状支持体を乾燥する工程である。５０１は乾燥装置を示し、乾燥箱５０１ａと、乾燥風導入口５０１ｂと、乾燥風吹き出し口５０１ｃと、搬送ベルト５０１ｄとを有している。衝突型遠心脱水機４０２の上部４０２ｂから排出されたチップ状支持体は搬送ベルト５０１ｄにより、乾燥箱５０１ａに搬入され乾燥が行われ、チップ状支持体２０１ａが回収される。乾燥装置５０１で乾燥が終了した段階で、記録材料の支持体の原材料に再利用出来る状態の支持体の回収が終了する。乾燥装置５０１は効率良く乾燥出来れば装置には特に限定はなく、例えば乾燥風を吹き付けながら回転可能なメッシュのドラム式容器等でも良い。尚、乾燥終了後のチップ状支持体を必要に応じてメッシュが異なる篩いに掛けてチップ状支持体の大きさを揃えることも可能である。
【００３４】
図１に示される、アルカリ処理部はバッチ処理で行う場合を示しているが、アルカリ処理部を連続的に行う場合については図５に示す。又、アルカリ処理後の破砕処理部、洗浄部、脱水分離部、乾燥部はバッチ処理又は連続処理で行うことも可能であり、状況に応じて適宜選択することが出来る。
【００３５】
図２は支持体の回収方法の他の一例を示す模式図である。
【００３６】
図中、１はアルカリ性処理液により処理を行うアルカリ処理部を示し、図１に示すアルカリ処理部と同じである。６はアルカリ処理部１で処理が終了し、塗布膜が除去されたシート状支持体を洗浄する洗浄部を示す。６０１は洗浄装置を示し、６０１ａは洗浄槽を示し、６０１ｂは洗浄液の導入口を示し、６０１ｃは洗浄液の流出口を示す。洗浄液としては、水、酸性液（希釈した酢酸溶液、硫酸溶液等）を使用することが好ましい。
【００３７】
洗浄槽６０１ａでの洗浄効果を高めるために洗浄槽６０１ａに、アルカリ処理部の処理槽に使用した曝気装置、処理液を高速に移動する手段（超振動発生装置、ジェット水流発生装置等）等を配設することが好ましい。本図の場合は曝気装置を配設した場合を示している。
【００３８】
本図に示す洗浄装置６０１は、アルカリ処理部で処理が終了した後、塗布膜が除去されたシート状支持体１０４が入った状態の処理枠１０２を洗浄槽６０１ａに移動して行うことが好ましい。又、洗浄効率を上げるため処理枠１０２の上部をネットで覆い、洗浄槽６０１ａ中で回転するようにしてもかまわない。
【００３９】
この段階で回収されたシート状支持体は、異物の付着が無く、付着している水分を除去することで記録材料の製造時に使用する支持体と同じ程度となっている。
【００４０】
７は洗浄部６で洗浄が終了したシート状支持体を乾燥する乾燥部を示す。７０１は乾燥装置を示し、７０１ａは乾燥箱を示し、７０１ｂは乾燥風の導入口（排気口）を示し、７０１ｃは乾燥風の排気口（導入口）を示す。乾燥箱７０１ａには洗浄が終了したシート状支持体が入った処理枠１０２をそのまま入れることが作業性の面から好ましい。乾燥風の温度は、乾燥するシート状支持体の種類、厚さ等により適宜調整することが可能である。
【００４１】
乾燥が終了した段階で回収されたシート状支持体は、異物の付着が無く、記録材料の製造時に使用する支持体と同じ程度となっており、記録材料の支持体に再利用出来る状態となっている。
【００４２】
８は乾燥が終了したシート状支持体を再利用し易くするためにチップ状にする破砕処理部を示す。８０１破砕装置を示し、８０３は破砕されたチップ状の支持体し、８０２はチップ状の支持体８０３の移動用のコンベアベルトを示す。移動手段はコンベアベルトに限らず容器に受けて、手で運ぶことも勿論可能であり、処理量に合わせ適宜選択することが可能である。破砕装置８０１は市販されているものを使用することが可能である。チップ状支持体の大きさは再利用に合わせて適宜決めることが可能である。例えば、ペレット化する際のペレタイザーの種類に合わせてチップの大きさを決めることが可能である。
【００４３】
尚、破砕終了後のチップ状支持体を必要に応じてメッシュが異なる篩いに掛けてチップ状支持体の大きさを揃えることも可能である。図２に示される、支持体の回収方法は各処理をバッチ処理で行う場合を示しているが、連続的に行うことも勿論可能であり、連続的に行う場合については図６に示す。
【００４４】
図３は図１、図２に示す処理槽１０１ａの底部に設けられた曝気ノズルの配設位置を示す概略平面図である。図３の（ａ）は処理槽１０１ａの底部全面に曝気ノズルを配設した状態を示す概略平面図である。図３の（ｂ）は処理槽１０１ａの底部の長辺側に平行に３本の曝気ノズルを配設した状態を示す概略平面図である。図３の（ｃ）は処理槽１０１ａの底部の短辺側に平行に４本の曝気ノズルを配設した状態を示す概略平面図である。尚、本図は曝気ノズルの配設位置を示すため処理枠は省略してある。
【００４５】
図中、１０５ａ１は曝気口を示す。処理槽１０１ａの底部に配設するノズルの数及び曝気口１０５ａ１の数は処理槽１０１ａの大きさ、処理枠の大きさ、処理枠に入れるシート状の記録材料の枚数により適宜変更が可能である。
【００４６】
図４はジェット水流発生装置を配設した場合の図１のアルカリ処理部の処理装置の概略斜視図である。図４の（ａ）は支持体上に塗布膜を有するシート状の記録材料を、アルカリ性処理液で剪断速度を掛けながら加熱処理する状態を示すジェット水流発生装置を配設した場合の処理装置の概略斜視図である。図４の（ｂ）は、支持体上に塗布膜を有するシート状の記録材料を入れる処理枠の概略斜視図である。尚、図２に示されるアルカリ処理部の処理装置も本図と同じであり、同じ処理条件となる。
【００４７】
図中、１０１ｂ１は処理枠１０１ｂの内側を区画１０１ｂ２に分割する仕切板を示す。仕切板により分割される区画１０１ｂ２の数は特に限定はなく、処理量に応じて適宜決めることが可能である。１０１ｂ３は処理枠１０１ｂの各区画に支持体上に塗布膜を有するシート状の記録材料１０２を入れた後、処理槽１０１ａに処理枠１０１ｂを入れる時、及び処理が終了した後、処理槽１０１ａから処理枠１０１ｂを取り出す時に使用する取っ手を示す。
【００４８】
１０１ｃは処理液を高速に移動する手段の一つであるジェット水流発生装置を示す。ジェット水流発生装置１０１ｃ１は、循環用のポンプ１０１ｃ５と、オンラインフィルター１０１ｃ４、貯留タンク１０１ｃ５と、加圧用のポンプ１０１ｃ２と、噴出ノズル１０１ｃ１とを有している。１０１ｃ６は貯留タンク１０１ｃ５に配設された空気抜きを示す。ノズル１０１ｃ１は、処理槽中の処理枠に入っているシート状記録材料の横側にジェット水流を噴出する様に処理槽１０１ａの横側に配設されている。配設位置は処理枠の各区画１０１ｂ２の縦方向に配設され、且つ、隣の区画用のノズルとは交互に配設することが好ましい。
【００４９】
噴出ノズル１０１ｃ１はポンプ１０１ｃ２により加圧された処理液を噴出するため配管１０１ｃ３に繋がっている。各噴出ノズルは全て自動逆洗浄機構を有するオンラインフィルター１０１ｃ４を通してポンプ１０１ｃ２により加圧された処理液をディストリビューター（不図示）を介して供給するようになっている。
【００５０】
使用する噴出ノズルの型式及び配設する数は処理槽の大きさ、処理枠の区画の数等で異なるため使用する処理槽の大きさ、処理枠の区画の数に合わせ適宜決めることが好ましい。
【００５１】
図５は処理液を高速に移動する手段として超振動発生装置を配設した場合の図１のアルカリ処理部の処理装置の概略断面図である。
【００５２】
図中、１０６は超振動発生装置を示し、１０６ａは超振動撹拌機を示し、１０６ｂは振動子を示す。超振動撹拌機としては市販されているものを使用することが可能であり、例えば日本テクノ（株）製  α−５Ｗ型撹拌機、２軸型α−撹拌機、α−６Ｗ型撹拌機等が処理槽の大きさに合わせ使用することが可能である。
【００５３】
次に、本発明に係るアルカリ処理装置の機構及び処理条件に付き説明する。図１〜図５に示される処理槽１０１ａでのアルカリ水溶液１０３による処理は、濃度０．０１〜４ｍｏｌ／Ｌで、１０-5〜１０5／ｓｅｃの剪断速度を掛けながら温度７０〜９５℃、時間１０〜１２０ｍｉｎで行われる。
【００５４】
アルカリ水溶液の濃度が０．０１ｍｏｌ／Ｌ未満の場合は、シート状の記録材料からの塗布膜の剥離がし難くなり、処理時間が長くなること、及び塗布膜の残りが多くなる場合がある。アルカリ水溶液の濃度が４ｍｏｌ／Ｌを越えた場合は、支持体の加水分解が進み、支持体の物理化学特性が変化し、記録材料の原料として再使用が出来なくなる場合がある。
【００５５】
剪断速度が１０-5／ｓｅｃ未満の場合は、塗布膜を剥離するのに十分な剪断力が得られず、塗布膜の剥離が不十分となるため好ましくない。剪断速度が１０5／ｓｅｃを越える場合は、シート状記録材料に掛けられる剪断力が過大となり、支持体が破壊するため好ましくない。
【００５６】
処理の温度が７０℃未満の場合は、シート状の記録材料からの塗布膜の剥離がし難くなり、処理時間が長くなること、及び塗布膜の残りが多くなる場合がある。処理の温度が９５℃を越えた場合は、シート状の記録材料に過剰に熱がかかり、ポリエステル樹脂支持体が熱により劣化する場合がある。
【００５７】
処理の時間が１０ｍｉｎ未満の場合は、シート状の記録材料からの塗布膜の剥離が終わらないため、塗布膜の残りが多くなる場合がある。処理の時間が１２０ｍｉｎを越えた場合は、シート状の記録材料のポリエステル樹脂支持体が加水分解により分解し、組成変化が生じる場合がある。
【００５８】
１０-5〜１０5／ｓｅｃの剪断速度を塗布膜を有するシート状の記録材料１０２に掛ける手段としては、図１に示す曝気装置、図４に示すジェット水流発生装置、図５に示す超振動発生装置等が挙げられる。図１に示す曝気装置を使用する時は、処理槽の底部から処理枠の底部全体に気泡が当たる様にし、気泡の径が０．１〜１００ｍｍで、曝気濃度を１〜９０％の条件で行うことで本発明に係る剪断速度を塗布膜を有するシート状の記録材料１０２に掛けることが可能となる。
【００５９】
図４に示すジェット水流発生装置を使用する時は、処理枠の横からジェット水流噴射装置を使用して、ジェット水流速度を１０〜１０5ｍｍ／ｓｅｃの条件で処理枠の横から各区画毎に処理液が高速に移動するようにし、処理槽内の処理液の流速を１０-2〜１０3ｍｍ／ｓｅｃとすることで本発明に係る剪断速度を塗布膜を有するシート状の記録材料１０２に掛けることが可能となる。
【００６０】
図５に示す超振動発生装置を使用する時は、周波数２０〜４０ｋＨｚ、出力０．１〜２０００Ｗの条件で超音波振動を発生させることで処理槽内の処理液に流れが生じ本発明に係る剪断速度を塗布膜を有するシート状の記録材料１０２に掛けることが可能となる。
【００６１】
図１〜図５に示す様に剪断速度を掛けながらアルカリ水溶液による処理をシート状で行うことで次の効果が挙げられる。１）チップ状にすることで発生するヒビ、割れが無いため、処理で発生するスラッジ、剥離した塗布膜の挟み込みがなくなるため後工程の処理が簡素化され、且つ記録材料の支持体の原材料に再利用出来る状態の支持体の回収が容易となる。
【００６２】
２）シート状の記録材料に均一に剪断速度が掛けることが可能となり、シート状の記録材料同士のくっ付きが防止出来るため、塗布膜の部分的な剥離残りが無くなり、後工程の処理が簡素化され、支持体の原材料に再利用出来る状態の支持体の回収が容易となる。
【００６３】
図６は図４に示す処理枠の概略平面図である。
【００６４】
図中、Ｓは区画１０１ｂ２の幅を示す。幅Ｓは０．１〜２０ｃｍが好ましい。区画１０１ｂ２に入れる塗布膜を有するシート状の記録材料の枚数は、区画の幅に対して厚さが１〜９９％になる枚数を入れることが好ましい。厚さが１％未満の場合は、処理中に剪断速度を掛けることで動いてしまい、剪断速度が均等に掛からなくなり、塗布膜の剥離が均一でなくなり剥離しなくなる箇所が発生する場合がある。厚さが９９％を越えた場合は、処理中にシート状の記録材料の区画内での移動が規制されてしまうため、剪断速度が均等に掛からなくなり、塗布膜の剥離が均一でなくなり剥離しなくなる箇所が発生する場合がある。他の符号は図３と同義である。
【００６５】
図７は図１に示すアルカリ処理を連続的に行う場合を示す模式図である。
【００６６】
図中、９はアルカリ処理を行う処理装置を示す。９０１は塗布膜の剥離を行う処理槽を示し、９０２はアルカリ性処理液を示す。９０３は支持体上に塗布膜を有するシート状の記録材料１０２を入れた処理枠１０１ｂを吊し、処理槽９０１中に処理枠１０１ｂを浸漬させるトロリーコンベアを示す。処理槽９０１中に浸漬させる処理枠１０１ｂの数は、処理槽９０１の大きさ、処理量により適宜変更することが可能である。本図は一例として４個を浸漬させる場合を示している。トロリーコンベアの移動速度は処理槽９０１中の処理時間により適宜変更することが可能である。処理槽９０１には図４に示すジェット水流発生装置、図５に示す超振動発生装置、図１〜図３に示す曝気装置を配設することが可能であり、アルカリ性処理液により塗布膜を剥離する処理槽９０１中での処理条件は図１〜図６に示した条件と同じである。処理後は図１に示す湿式破砕処理から順次行うことが可能である。尚、処理後、トロリーコンベアで吊られている状態でシャワーで水洗してから湿式破砕処理を行うことも可能である。
【００６７】
図８は図２に示す回収方法を連続的に行う一例を示す模式図である。
アルカリ性処理液により塗布膜を剥離する処理装置９は図７に示した処理装置と同じであり、処理条件も同じである。処理装置９で処理が終了した後、トロリーコンベアに吊られた処理枠１０１ｂは洗浄部１０で洗浄が行われ、塗布膜が剥離されたシート状支持体に付着しているアルカリ性処理液、スラッジ、剥離した塗布膜等が除去される。洗浄方法は特に限定は無く、例えば水洗槽に浸漬しアルカリ処理時に行った剪断速度を掛けながら行う方法、シャワーを掛けて洗浄する方法等が挙げられる。
【００６８】
洗浄が終了した後、トロリーコンベアに吊られた処理枠１０１ｂは乾燥部１１で乾燥が行われ、乾燥が終了した後、処理枠１０１ｂはトロリーコンベアから外され、シート状支持体が処理枠１０１ｂから取り出され破砕処理部１２でチップ状に破砕される。
【００６９】
本図に示す様な連続式の回収方法又は図２に示すバッチ式の回収方法の何れかを採用して支持体を回収しても、回収された支持体の品質は変わらず、支持体の原材料に再利用出来る状態の支持体の回収が可能である。
【００７０】
図１〜図８に示す回収方法により、塗布膜を有するシート状の記録材料から塗布膜を剥離し支持体の原材料に再利用出来る状態の支持体の回収を行うことで次の効果が挙げられる。１）塗布膜をアルカリ性処理液で処理し剥離する際、シート状で行うため、チップ状にすることで発生するヒビ、割れが無いため、処理で発生するスラッジ、剥離した塗布膜の挟み込みがなくなるため後工程の処理が簡素化され、且つ記録材料の支持体の原材料に再利用出来る状態の支持体の回収が容易となる。
【００７１】
２）シート状の記録材料に均一に剪断速度が掛けることが可能となり、シート状の記録材料同士のくっ付きが防止出来るため、塗布膜の部分的な剥離残りが無くなり、後工程の処理が簡素化され、支持体の原材料に再利用出来る状態の支持体の回収が容易となる。
【００７２】
３）塗布膜の剥離が終了した後にチップ状に破砕するため、破砕時の支持体内部の割れ（デラミネーション）を気にすることが不要のため、特別の破砕機を使用することがなくなり生産性、採算性が向上した。
【００７３】
本発明に係る支持体としては特に限定はなく、例えば特開２０００−２０６６４６、同２００１−２９０２４３、同２００２−９９０６３、同２００２−１１６３２０、同２００２−１３１８７２、同２００２−２５０９９０、同２００３−１７７４等に記載のものが挙げられる。
【００７４】
本発明に係る、支持体を用いた記録材料としては、天然高分子バインダー及び合成高分子バインダーを使用して塗布膜を形成した記録材料のいずれも対象とすることが可能である。天然高分子バインダーを用いた記録材料としては、例えば医療用、印刷用、一般用のハロゲン化銀写真感光材料が挙げられる。合成高分子バインダーを用いた記録材料としては、熱現像感光材料、放射線画像変換シート等が挙げられる。特に、特開平９−２９２６７１号、同９−３０４８７０号、同９−３０４８７１号、同９−３０４８７２号、同１０−３１２８２号、特開平１０−６２８９８号、特開平１１−２９５８４４号、特開平１１−３５２６２７号に開示されている熱現像感光材料が好ましい。
【００７５】
本発明において、支持体上に形成される塗布膜に用いる透明又は半透明の天然高分子、合成高分子バインダーとしては次のものが挙げられる。天然高分子バインダーとしては例えば：ゼラチン、アラビアゴム、カゼイン、デンプン等が挙げられる。合成高分子バインダーとしては例えば：ポリビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリメチルメタクリル酸、ポリ塩化ビニル、ポリメタクリル酸、スチレン−無水マレイン酸共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリビニルアセタール類（例えば、ポリビニルホルマール及びポリビニルブチラール）、ポリエステル類、ポリウレタン類、フェノキシ樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリエポキシド類、ポリカーボネート類、ポリビニルアセテート、セルロースエステル類、ポリアミド類が広く用いられる。
【００７６】
塗布膜に用いるバインダーとしては、疎水性樹脂及び親水性樹脂のいずれでもよく、それぞれの適性に応じて使い分けられる。
【００７７】
好ましい疎水性樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、セルロースアセテート樹脂、セルロースアセテートブチレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂等が挙げられる。
以下、実施例を挙げて本発明の具体的な効果を示すが、本発明の態様はこれに限定されるものではない。
【実施例】
【００７８】
実施例１
（記録材料の準備）
記録材料として、コニカミノルタエムジー（株）製ＳＤ−Ｐ（熱現像感光材料）の半切サイズを使用した。尚、支持体の厚さは２００μｍである。
【００７９】
（処理枠の準備）
図３に示す各区画の幅が１０ｃｍ、区画の数が６区画を有する処理枠を準備した。
【００８０】
〈支持体の回収〉
図１に示す方法に従って順次処理を行った。
【００８１】
（アルカリ性処理液による処理）
準備したシート状の記録材料を処理枠の各区画の幅に対して５０％になるように入れた後、濃度１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液１００Ｌのアルカリ性処理液が入っている処理槽に浸漬し、表１に示す様に剪断速度を変化た処理条件で行った。尚、アルカリ性処理液の温度は９０℃、時間は６０ｍｉｎとし、剪断速度は曝気の気泡の径と曝気濃度を変えることで調整した。
【００８２】
【表１】
2005264019.tif 000003
【００８３】
（処理済みアルカリ性処理液から支持体の回収）
アルカリ性処理液による処理が終了した後、処理枠を取り出しシャワーで洗浄し、図１に示す湿式破砕機で外形サイズが０．１〜１００ｍｍの不定形のチップ状に破砕し、洗浄、脱水・乾燥を行い試料を作製し１０１〜１０７とした。尚、チップ状支持対体の洗浄は固形分濃度を２０質量％として３０ｍｉｎ、撹拌羽根の周速度２０ｍ／ｓｅｃで行った。
【００８４】
（評価）
得られた各試料１０１〜１０７に付き、分子量測定、着色度測定、異物付着観察を行い、以下に示す評価ランクに従って評価した結果を表２に示す。尚、分子量測定は柴山科学機械製作所製粘度測定器ＳＳ−２７０ＬＣ−１を用いて測定し、得られた粘度から換算した。着色度測定は、各試料を使用し、日精樹脂工業（株）製射出成型機ＡＵ３Ｅを用いて、厚さ０．５ｍｍのプレートを作製した。それぞれのプレートを（株）日立製作所製分光光度計Ｕ−３２１０を用いて測定した。
【００８５】
分子量の評価ランク
○：基準試料に対する差が１０％未満
△：基準試料に対する差が１０〜３０％未満
×：基準試料に対する差が３０％以上
尚、評価に使用した基準試料には、製膜直後の支持体を使用した。
【００８６】
着色度の評価ランク
○：基準試料に対する差が３％未満
△：基準試料に対する差が３〜５％未満
×：基準試料に対する差が５％以上
尚、評価に使用した基準試料には、製膜直後の支持体を細断し、各試料と同様に日精樹脂工業（株）製射出成型機ＡＵ３Ｅを用いて、厚さ０．５ｍｍのプレートを作製した物を使用した。
【００８７】
異物付着観察
各試料１０１〜１０７につき、各１０ｇを任意サンプリングし、目視により異物付着の有無を確認した。
【００８８】
異物付着の評価ランク
○：回収した支持体の全てに異物付着が認められない
△：回収した支持体の１枚に直径０．１ｍｍ程度の大きさの異物が１〜４個付着している
×：回収した支持体の１枚に直径０．１ｍｍ程度の大きさの異物が５個以上付着している
【００８９】
【表２】
2005264019.tif 000004
【００９０】
本発明の有効性が確認された。
【００９１】
実施例２
実施例１の試料１０４を作製する際、処理枠の区画に入れるシート状記録材料の枚数（処理枠の区画の幅に対するシート状記録材料の厚さの比率（％）として表示）を表３に示す様に変えた他は全て同じ条件で処理し支持体の回収を行い試料を作製し２０１〜２０７とした。得られた各試料２０１〜２０７に付き実施例１と同じ評価項目を同じ方法で行い、同じ評価ランクで評価した結果を表３に示す。
【００９２】
【表３】
2005264019.tif 000005
【００９３】
本発明の有効性が確認された。
【図面の簡単な説明】
【００９４】
【図１】支持体の回収方法の一例を示す模式図である。
【図２】支持体の回収方法の他の一例を示す模式図である。
【図３】図１、図２に示す処理槽１０１ａの底部に設けられた曝気ノズルの配設位置を示す概略平面図である。
【図４】ジェット水流発生装置を配設した場合の図１のアルカリ処理部の処理装置の概略斜視図である。
【図５】処理液を高速に移動する手段として超振動発生装置を配設した場合の図１のアルカリ処理部の処理装置の概略断面図である。
【図６】図４に示す処理枠の概略平面図である。
【図７】図１に示すアルカリ処理を連続的に行う場合を示す模式図である。
【図８】図２に示す回収方法を連続的に行う一例を示す模式図である。
【図９】写真感光材料の概略断面図である。
【符号の説明】
【００９５】
１  アルカリ処理部
１０１、９  処理装置
１０１ａ  処理槽
１０１ｂ  処理枠
１０１ｂ２  区画
１０１ｃ  ジェット水流発生装置
１０１ｃ１  噴出ノズル
１０２  記録材料
１０５  曝気装置
１０５ａ  曝気ノズル
１０６  超振動発生装置
１０６ａ  超振動撹拌機
２、８、１２  破砕処理部
２０１  湿式破砕装置
２０１ａ  チップ状支持体
３、６、１０  洗浄部
３０１  洗浄装置
３０１ａ  洗浄容器
４  脱水分離部
４０１  衝突型遠心脱水機
５、７、１１  乾燥部
５０１ａ、７０１ａ  乾燥箱
６０１  洗浄装置
９０３  トロリーコンベア
１３  写真感光材料
【図１】
2005264019.tif 000006
【図２】
2005264019.tif 000007
【図３】
2005264019.tif 000008
【図４】
2005264019.tif 000009
【図５】
2005264019.tif 000010
【図６】
2005264019.tif 000011
【図７】
2005264019.tif 000012
【図８】
2005264019.tif 000013
【図９】
2005264019.tif 000014