(57)【要約】【課題】ラジカル反応性が高く、高分子化合物の原料として有用な重合性化合物を高純度、高収率で効率よく製造し得る方法を提供する。【解決手段】分子内に少なくとも１つのエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物の製造方法であって、（Ａ）エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸化合物と、（Ｂ）スルホン酸ハライド及びハロゲン化蟻酸エステル化合物から選択される化合物の１種とを反応させて反応生成物を得る工程と、該反応生成物に、（Ｃ）水酸基およびアミノ基のうち少なくとも１種を有する化合物を反応させる工程と、を有することを特徴とする。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
分子内に少なくとも１つのエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物の製造方法であって、
（Ａ）エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸化合物と、（Ｂ）スルホン酸ハライド及びハロゲン化蟻酸エステル化合物から選択される化合物の１種とを反応させて反応生成物を得る工程と、
該反応生成物に、（Ｃ）水酸基およびアミノ基のうち少なくとも１種を有する化合物を反応させる工程と、
を有することを特徴とする重合性化合物の製造方法。
【請求項２】
前記（Ａ）エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸化合物が、エチレン性不飽和結合を有するアクリル酸またはメタクリル酸であることを特徴とする請求項１に記載の重合性化合物の製造方法。
【請求項３】
前記分子内に少なくとも１つのエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物が、（メタ）アクリルアミド誘導体であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の重合性化合物の製造方法。
【請求項４】
前記分子内に少なくとも１つのエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物が、下記式（１）で表される化合物であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の重合性化合物の製造方法。
【化１】
2005047813.tif 000007
前記式（１）中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２は水素原子または一価の有機基を表す。Ａは芳香族基または芳香族へテロ環基を表す。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、重合性化合物の製造方法に関し、詳細には、ラジカル反応活性を有する化合物、あるいは、ビニル系高分子化合物の製造に使用されるモノマーとして有用な、分子内に不飽和二重結合を有する重合性化合物を高収率で製造しうる方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
３次元光造形やホログラフィー、平版印刷版用版材、カラープルーフ、フォトレジスト及びカラーフィルターといった画像形成材料や、インク、塗料、接着剤等の光硬化樹脂材料用途のバインダーとして使われる高分子化合物としては、ビニル系樹脂、中でも（メタ）アクリル系モノマーを重合した高分子化合物が広く利用されている。これら高分子化合物の原料として有用な（メタ）アクリルアミド系モノマーは、高分子化合物の被膜強度を上げたり、現像性を上げる目的で一般的に利用されている（なお、本明細書では、「アクリル、メタクリル」の双方或いはいずれかを指す場合、「（メタ）アクリル」と表記することがある）。
このようなラジカル反応活性が高い（メタ）アクリルアミド系モノマーを合成する方法としては、従来、（メタ）アクリル酸ハライドとアミノ基を有する化合物とを反応させて得る方法が一般に良く知られている。（例えば、特許文献１参照。）しかし、これらの方法は、原料となる（メタ）アクリル酸ハライドが不安定であり分解物等不純物を多く含んでいるため、このような原料を利用することでは目的物質を高収率で得がたく、また、得られた（メタ）アクリルアミド系モノマーが着色するといった問題があった。また、このように着色した重合性化合物を高分子の原料として用いると、得られる高分子化合物の分子量や収率が下がるといった問題もあった。
【０００３】
【特許文献１】
特開平２−８６６号公報
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の技術の欠点を考慮してなされた本発明の目的は、ラジカル反応性が高く、高分子化合物の原料として有用な重合性化合物を高純度、高収率で効率よく製造し得る方法を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、検討の結果、二重結合を有する化合物を、まず、特定のハロゲン化合物と反応させ、得られた反応生成物をアミノ基を有する化合物と反応させることで目的とする重合性化合物が効率良く得られることを見いだし、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の分子内に少なくとも１つのエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物の製造方法は、（Ａ）エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸化合物と、（Ｂ）スルホン酸ハライド及びハロゲン化蟻酸エステル化合物から選択される化合物の１種とを反応させて反応生成物を得る工程と、該反応生成物に、（Ｃ）水酸基およびアミノ基のうち少なくとも１種を有する化合物を反応させる工程と、
を有することを特徴とする。
ここで、原料として用いられる（Ａ）エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するアクリル酸またはメタクリル酸であることが好ましい。
また、本発明の重合性化合物の製造方法は、重合性化合物として、（メタ）アクリルアミド誘導体、特に、下記式（１）で表される化合物を製造する際に有用である。
【０００６】
【化２】
2005047813.tif 000002
【０００７】
前記式（１）中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２は水素原子または一価の有機基を表す。Ａは芳香族基または芳香族へテロ環基を表す。
なお、上記式（１）で表される重合性化合物において、Ａで表される芳香族基または芳香族へテロ環基が、少なくとも１つの−ＣＯ−Ｘ−Ｒ３基を有することが好ましい態様である。なお、ここでＸは−Ｏ−または−ＮＲ４−を表し、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子または一価の有機基を表す。
【０００８】
本発明の重合性化合物の製造方法においては、従来の、酸ハライドとアミノ基を有する化合物とを直接反応させる方法ではなく、あらかじめ、エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸化合物と、スルホン酸ハライドおよびハロゲン化蟻酸エステル化合物から選択されるハロゲン化合物とを反応させて、一旦、混合酸無水物を調整した後、該酸無水物を単離することなく、さらに水酸基およびアミノ基のすくなくとも１つを有する化合物と反応させる工程をとるため、不安定な原料物質である（メタ）アクリル酸ハライドを用いることなく製造でき、高収率が達成されたものと考えられる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明の製造方法においては、（Ａ）エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸化合物と、（Ｂ）スルホン酸ハライド及びハロゲン化蟻酸エステル化合物から選択される化合物の１種とを反応させて反応生成物を得る工程、及び、該反応生成物に、（Ｃ）水酸基およびアミノ基のうち少なくとも１種を有する化合物を反応させる工程、の少なくとも２工程を有することを特徴とする。
以下、これらの原料、反応条件について順次説明する。
〔（Ａ）エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸化合物〕
本発明の重合性化合物の製造方法に用いうる（Ａ）エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸化合物としては、具体的には、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸、ｐ−カルボキシルスチレン、ビニル酢酸、フマル酸、及び下記構造で示す化合物などが挙げられ、なかでも、アクリル酸、メタクリル酸が好ましい。
【００１０】
【化３】
2005047813.tif 000003
【００１１】
〔（Ｂ）スルホン酸ハライド及びハロゲン化蟻酸エステル化合物から選択される化合物〕
（Ｂ−１）スルホン酸ハライド
本発明の製造方法に用いうるスルホン酸ハライドとしては、以下の化合物が例として挙げられる。
例えば、メタンスルホニルクロリド、エタンスルホニルクロリド、１−プロパンスルホニルクロリド、イソプロピルスルホニルクロリド、１−オクタンスルホニルクロリド、トリフルオロメタンスルホニルクロリド、トリクロロメタンスルホニルクロリド、カンファースルホニルクロリド、ベンゼンスルホニルクロリド、２−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、メチル２−（クロロスルホニル）ベンゾエ−ト、３−（トリフルオロメチル）ベンゼンスルホニルクロリド、３−ニトロベンゼンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド、４−ｔ−ブチルベンゼンスルホニルクロリド、４−フルオロベンゼンスルホニウムクロリド、４−クロロベンゼンスルホニウムクロリド、４−ブロモベンゼンスルホニウムクロリド、４−ヨードベンゼンスルホニウムクロリド、４−メトキシベンゼンスルホニウムクロリド、４−ニトロベンゼンスルホニウムクロリド、２−メシチレンスルホニルクロリド、２，４，６−トリイソプロピルベンゼンスルホニルクロリド、ペンタフルオロベンゼンスルホニルクロリド、１−ナフタレンスルホニルクロリド等である。
【００１２】
（Ｂ−２）ハロゲン化蟻酸エステル化合物
本発明に用いうるハロゲン化蟻酸エステル化合物としとしては、以下の化合物が例として挙げられる。
例えば、クロロ蟻酸メチル、クロロ蟻酸エチル、クロロ蟻酸２−クロロエチル、クロロ蟻酸プロピル、クロロ蟻酸イソプロピル、クロロ蟻酸ブチル、クロロ蟻酸４−クロロブチル、クロロ蟻酸イソブチル、クロロ蟻酸ヘキシル、クロロ蟻酸２−エチルヘキシル、クロロ蟻酸ビニル、クロロ蟻酸アリル、クロロ蟻酸イソプロペニル等である。
【００１３】
本発明の製造方法においては、前記（Ａ）エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸化合物に（Ｂ）化合物のうち少なくとも１種を反応させて混合酸無水物を得るものであるが、収率の観点からは、（Ｂ−１）スルホン酸ハライドから選択される化合物を反応させることが好ましい。
【００１４】
この第１の工程では、原料である（Ａ）成分に対して（Ｂ）成分を１．０当量以上添加することが好ましく、１．０〜２．５当量の範囲であることがより好ましい。
また、反応溶媒としては、例えば、エチレンジクロリド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、２−メトキシエチルアセテート、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、トルエン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジオキサン、ジエチルエーテル、ｔ−ブチルメチルエーテル、などを用いることができるが、これらの溶媒は単独で用いてもよく、また、２種以上混合して用いてもよい。
【００１５】
第１の工程における反応は、好ましくは温度条件が−１０℃〜５０℃の範囲、より好ましくは０℃〜２０℃の条件下で、反応時間として１〜２時間程度行われることが好ましい。
【００１６】
（熱重合禁止剤）
本発明の重合性化合物の製造方法では、生成される重合性基の熱的重合反応（ラジカル反応性基の熱的ラジカル反応）を抑制する目的で、熱重合禁止剤を添加することも好ましい態様である。
ここで用いられる適当な熱重合禁止剤としては、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩、２，２，６，６，−テトラメチルピペリジン−１−オキシル−（ＴＥＭＰＯ）、４−ヒドロキシ−ＴＥＭＰＯ−フリーラジカル、３，３，５，５−テトラメチル−１−ピロリン−Ｎ−オキシド、４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−１−オキシル、３−（アミノメチル）−プロキシル−フリーラジカル、３−カルボキシ−プロキシル−フリーラジカル、４−アミノ−ＴＥＭＰＯ−フリーラジカル、４−カルボキシ−ＴＥＭＰＯ−フリーラジカル、チオ硫酸塩化合物、フェロセン化合物、チオール化合物、スルフィド化合物、ジスルフィド化合物、ボレート塩化合物等が挙げられる。
熱重合禁止剤は、反応系中に１０ｐｐｍ〜１０質量％添加するのが一般的である。
【００１７】
本発明の重合性化合物の製造方法においては、（Ａ）エチレン性不飽和結合を有するカルボン酸化合物と、（Ｂ）スルホン酸ハライド又はハロゲン化蟻酸エステル化合物と塩基とを用いて、一旦、混合酸無水物を調整した後、同じ系中において、第２の工程である（Ｃ）水酸基および／またはアミノ基を含有する化合物との反応を実施することが好ましい。
なお、第１の工程で得られた反応生成物と（Ｃ）水酸基および／又はアミノ基を含有する化合物とを反応させる際に、更に塩基を添加してもよい。
【００１８】
本発明の第１の工程、さらに、所望により第２の工程においても用いられる塩基としては、特に限定されるものではないが、アルカリ金属類の水素化物、水酸化物または炭酸塩、有機アミン化合物、金属アルコキシド化合物が好ましい例として挙げられる。
アルカリ金属類の水素化物、水酸化物または、炭酸塩の好ましい例としては、水素化ナトリウム、水素化カルシウム、水素化カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウムなどが挙げられる。
有機アミン化合物の好ましい例としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルメチルアミン、トリブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルシクロヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルジシクロヘキシルアミン、Ｎ−エチルジシクロヘキシルアミン、ピロリジン、１−メチルピロリジン、２，５−ジメチルピロリジン、ピペリジン、１−メチルピペリジン、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、ピペラジン、１，４−ジメチルピペラジン、キヌクリジン、１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］−オクタン、ヘキサメチレンテトラミン、モルホリン、４−メチルモルホリン、ピリジン、ピコリン、４−ジメチルアミノピリジン、ルチジン、１、８−ジアザビシクロ〔５，４，０〕−７−ウンデセン（ＤＢＵ）、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）、ジイソプロピルエチルアミン、Ｓｃｈｉｆｆ塩基などが挙げられる。
金属アルコキシド化合物の好ましい例としては、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムｔ−ブトキシドなどが挙げられる。
これらの塩基は、１種あるいは２種以上の混合であってもよい。また、これらのなかでも、有機アミン化合物が好ましい。
【００１９】
使用される塩基の量は、前記（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、当量以下であってもよく、また当量以上であってもよい。
また、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して過剰の塩基を使用した場合、脱離反応後、余剰の塩基を除去する目的で酸などを添加することも好ましい形態である。酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、臭化水素酸、過塩素酸のような無機酸、酢酸、フルオロ酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸のような有機酸が例として挙げられる。
【００２０】
本発明の製造方法に用いられる（Ｃ）水酸基およびアミノ基のうち少なくとも１種を有する化合物は、分子内に水酸基および／またはアミノ基を有するものであれば特に限定されるものではない。
本発明の製造方法は、一般に反応性が低く、公知の方法では高収率で、且つ、着色のない高純度の化合物を合成することが困難な、芳香族基または芳香族へテロ環基を有する重合性モノマーを製造する方法として好適であり、なかでも、芳香族基または芳香族へテロ環基と直接結合した水酸基および／またはアミノ基を含有する化合物を用いる場合に適している。このような化合物を合成する場合には、（Ｃ）成分として、その構造内に、芳香族基または芳香族へテロ環基と、水酸基およびアミノ基のうち少なくとも１種と、を有する化合物を用いればよい。
【００２１】
上記好ましい態様において好適に用いられる（Ｃ）成分である芳香族基、芳香族へテロ環基と直接結合した水酸基および／またはアミノ基を含有する化合物としては、例えば、フェノール、クレゾール、２−エチルフェノール、２−クロロフェノール、２−エトキシフェノール、３−フルオロフェノール、３−メトキシフェノール、４−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジクロロフェノール、２，４，６−トリメチルフェノール、２，４，５−トリクロロフェノール、ペンタクロロフェノール、１−ナフトール、アニリン、Ｎ−メチルアニリン、トルイジン、２−クロロアニリン、２−アミノフェノール、アニシジン、フェネチジン、３−アミノフェノール、４−イソプロピルアニリン、４−クロロアニリン、３，４−ジクロロアニリン、３，５−ジクロロアニリン、アミノクレゾール、３，５−ジメチルアニリン、２，３，４−トリクロロアニリン、３，４，５−トリメトキシアニリン、４−フェノキシアニリン、１−アミノナフタレン、２−アミノナフタレン、２−ニトロフェノール、２−ニトロアニリン、３−ニトロアニリン、４−ニトロフェノール、３，５−ジニトロアニリン、４−ヒドキシアセトフェノン、４−アミノアセトフェノン、２−ヒドロキシベンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、２−アミノベンゾフェノン、４−アミノベンゾフェノン、
【００２２】
サリチル酸、アントラニル酸、３−アミノ安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸、４−アミノ安息香酸、２−アミノ−３−クロロ安息香酸、５−アミノ−２−クロロ安息香酸、２−アミノ−５−クロロ安息香酸、５−アミノサリチル酸、４−ヒドロキシ安息香酸メチル、４−ヒドロキシ安息香酸エチル、アントラニル酸メチル、２−アミノ安息香酸エチル、３−アミノ安息香酸エチル、４−アミノ安息香酸メチル、４−アミノ安息香酸エチル、２−アミノ−５−クロロ安息香酸メチル、５−アミノイソフタル酸ジエチル、２−アミノ酢酸フェニル、３−アセトアミドフェノール、４−アミノアセトアニリド、サリチルアミド、アントラニルアミド、３−アミノベンズアミド、４−ヒドロキシベンズアミド、４−アミノベンズアミド、４−アミノフタルアミド、アントラニロニトリル、３−アミノベンゾニトリル、４−シアノフェノール、４−アミノベンゾニトリル、４−アミノ−２−クロロベンゾニトリル、２−（フェニルスルホニル）アニリン、スルファニル酸、アニリン−２−スルホン酸、メタニル酸、スルファニルアミド、２−ヒドロキシピリジン、４−ヒドロキシピリジン、２−アミノピリジン、４−アミノピリジン、３−アミノピリジン、２−アミノニコチン酸、２−アミノピリミジン、４−アミノピリミジン、アミノピラジン等が挙げられる。
【００２３】
（Ｃ）成分は、（Ａ）成分に対して０．９当量以上添加することが好ましく、１．０〜１．５当量程度添加することがより好ましい。本発明の製造方法においては、第１の工程の後、得られた混合酸無水物より、目的とする酸無水物を単離することなく、そのまま（Ｃ）成分を添加して第２の工程を行うものであるが、第２の工程の反応条件としては、好ましくは温度条件が−１０℃〜５０℃の範囲、より好ましくは０℃〜２０℃の条件下で、反応時間として１〜２時間程度行われることが好ましい。
なお、前記重合禁止剤は、第１の工程に加え、第２の工程において添加してもよく、また、第１の工程で添加せず、第２の工程のみで添加してもよい。
【００２４】
本発明の重合性高分子化合物の製造方法により得られる、目的の化合物としては、分子内に少なくとも１つのエチレン性不飽和結合を有する化合物であれば、制限はなくいずれの化合物を得る目的においても適用できる。特に、従来技術では困難であったラジカル反応性基を有する重合性化合物、なかでも、先に述べたように、その構造内に芳香族基または芳香族ヘテロ環基を有する重合性化合物の合成に好適である。より具体的には、下記一般式（１）で表される重合性化合物の製造に特に有用である。
【００２５】
【化４】
2005047813.tif 000004
【００２６】
前記式（１）中、Ｒ１は水素原子またはメチル基を表し、Ｒ２は水素原子または一価の有機基を表す。Ａは芳香族基または芳香族へテロ環基を表す。
なお、上記式（１）で表される重合性化合物において、Ａで表される芳香族基または芳香族へテロ環基が、少なくとも１つの−ＣＯ−Ｘ−Ｒ３基を有することが好ましい態様である。なお、ここでＸは−Ｏ−または−ＮＲ４−を表し、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ独立に水素原子または一価の有機基を表す。
【００２７】
Ａで表される芳香族基としては、ベンゼン環、２個から３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものなどが挙げられる。具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
また、この芳香族基は置換基を有していてもよく、そのような置換基を有する芳香族基としては、後述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素原子以外の一価の非金属原子団からなる基を有するものが挙げられる。なお、ここで導入される好ましい置換基の例としては後述のアルキル基、置換アルキル基、及び、置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。
【００２８】
Ａで表される芳香族へテロ環基としては、ピロール環基、フラン環基、チオフェン環基、ベンゾピロール環基、ベンゾフラン環基、ベンゾチオフェン環基、ピラゾール環基、イソキサゾール環基、イソチアゾール環基、インダゾール環基、ベンゾイソキサゾール環基、ベンゾイソチアゾール環基、イミダゾール環基、オキサゾール環基、チアゾール環基、ベンズイミダゾール環基、ベンズオキサゾール環基、ベンゾチアゾール環基、ピリジン環基、キノリン環基、イソキノリン環基、ピリダジン環基、ピリミジン環基、ピラジン環基、フタラジン環基、キナゾリン環基、キノキサリン環基、アシリジン環基、フェナントリジン環基、カルバゾール環基、プリン環基、ピラン環基、ピペリジン環基、ピペラジン環基、モルホリン環基、インドール環基、インドリジン環基、クロメン環基、シンノリン環基、アクリジン環基、フェノチアジン環基、テトラゾール環基、トリアジン環基、等が挙げられる。
【００２９】
また、このような芳香族へテロ環基は置換基を有していてもよく、そのような置換基としては、後述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素原子を除く一価の非金属原子団からなる基を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては、後述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。
【００３０】
Ｒ１、およびＲ２は、それぞれ独立に水素または１価の有機基を表す。Ｒ１、Ｒ２が１価の有機基を表すとき、その有機基としては、それぞれ置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基などが挙げられる。
【００３１】
そのようなアルキル基としては炭素原子数が１から２０までの直鎖状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることができ、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基を挙げることができる。これらの中では、炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状、ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキル基がより好ましい。
【００３２】
これらのアルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられる。好ましい例としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ’−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウレイド基、Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、
【００３３】
アリールスルホニル基、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）およびその共役塩基基（スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィイナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスホノ基（−ＰＯ３Ｈ２）およびその共役塩基基（ホスホナト基と称す）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ３（ａｌｋｙｌ）２）「ａｌｋｙｌ＝アルキル基、以下同」、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ３（ａｒｙｌ）２）「ａｒｙｌ＝アリール基、以下同」、アルキルアリールホスホノ基（−ＰＯ３（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノ基（−ＰＯ３（ａｌｋｙｌ））およびその共役塩基基（アルキルホスホナト基と称す）、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ３Ｈ（ａｒｙｌ））およびその共役塩基基（アリールホスホナト基と称す）、ホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３Ｈ２）およびその共役塩基基（ホスホナトオキシ基と称す）、ジアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３Ｈ（ａｌｋｙｌ）２）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３（ａｒｙｌ）２）、アルキルアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３（ａｌｋｙｌ）（ａｒｙｌ））、モノアルキルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３Ｈ（ａｌｋｙｌ））およびその共役塩基基（アルキルホスホナトオキシ基と称す）、モノアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ３Ｈ（ａｒｙｌ））およびその共役塩基基（アリールホスホナトオキシ基と称す）、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、ヘテロ環基、シリル基等が挙げられる。
【００３４】
アルキル基に置換するこれらの置換基におけるアルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が同様に挙げられ、上記置換基におけるアリール基の具体例としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルフェニル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基等を挙げることができる。
【００３５】
またアルキル基に置換する置換基としてのアリール基としては、前記に例示されたアリール基が同様に挙げられ、また、アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基、等が挙げられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられる。
【００３６】
一方、置換アルキル基におけるアルキレン基としては前述の炭素数１から２０までのアルキル基上の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基としたものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキレン基を挙げることができる。このような置換基とアルキレン基を組み合わせることで得られる置換アルキル基の、好ましい具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ブトキシメチル基、ｓ−ブトキシブチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、ピリジルメチル基、テトラメチルピペリジニルメチル基、Ｎ−アセチルテトラメチルピペリジニルメチル基、トリメチルシリルメチル基、メトキシエチル基、エチルアミノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルエチル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファモイルオクチル基、ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナトブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナトヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基等を挙げることができる。
【００３７】
アリール基としては、ベンゼン環、２個から３個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成したものを挙げることができ、具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフチル基がより好ましい。
置換アリール基としては、前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素原子以外の一価の非金属原子団からなる基を有するものが用いられる。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における置換基として示したものを挙げることができる。
【００３８】
このような、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファモイルフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニル基、ジエチルホスホノフェニル基、ジフェニルホスホノフェニル基、メチルホスホノフェニル基、メチルホスホナトフェニル基、トリルホスホノフェニル基、トリルホスホナトフェニル基、アリルフェニル基、１−プロペニルメチルフェニル基、２−ブテニルフェニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基等を挙げることができる。
【００３９】
アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、ならびに置換アルキニル基（−Ｃ（Ｒ０２）＝Ｃ（Ｒ０３）（Ｒ０４）、ならびに−Ｃ≡Ｃ（Ｒ０５））としては、Ｒ０２、Ｒ０３、Ｒ０４、Ｒ０５が一価の非金属原子団からなる基のものが使用できる。好ましいＲ０２、Ｒ０３、Ｒ０４、Ｒ０５の例としては、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール基ならびに置換アリール基を挙げることができる。これらの具体例としては、前述の例として示したものを挙げることができる。Ｒ０２、Ｒ０３、Ｒ０４、Ｒ０５のより好ましい基としては、水素原子、ハロゲン原子ならびに炭素原子数１から１０までの直鎖状、分岐状、環状のアルキル基を挙げることができる。
【００４０】
このようなアルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基の好ましい具体例としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基、１−オクテニル基、１−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−１−ブテニル基、２−フェニル−１−エテニル基、２−クロロ−１−エテニル基、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、フェニルエチニル基を挙げることができる。
ヘテロ環基としては、置換アルキル基の置換基として例示したピリジル基等が挙げられる。
【００４１】
上記置換オキシ基（Ｒ０６Ｏ−）としては、Ｒ０６が水素原子を除く一価の非金属原子団からなる基であるものを用いることができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基を挙げることができる。これらにおけるアルキル基、ならびにアリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基ならびに、アリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。また、アシルオキシ基におけるアシル基（Ｒ０７ＣＯ−）としては、Ｒ０７が、先の例として挙げたアルキル基、置換アルキル基、アリール基ならびに置換アリール基のものを挙げることができる。これらの置換基の中では、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリールスルホキシ基がより好ましい。好ましい置換オキシ基の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオキシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メトキシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、メシチルオキシ基、クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキシフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモフェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ナフチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基等が挙げられる。
【００４２】
アミド基も含む置換アミノ基（Ｒ０８ＮＨ−、（Ｒ０９）（Ｒ０１０）Ｎ−）としては、Ｒ０８、Ｒ０９、Ｒ０１０が水素原子を除く一価の非金属原子団からなる基のものを使用できる。なおＲ０９とＲ０１０とは結合して環を形成してもよい。置換アミノ基の好ましい例としては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ’−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウレイド基、Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができ、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基おけるアシル基（Ｒ０７ＣＯ−）のＲ０７は前述のとおりである。これらの内、より好ましいものとしては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、アシルアミノ基が挙げられる。好ましい置換アミノ基の具体例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ基、フェニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、アセチルアミノ基等が挙げられる。
【００４３】
置換スルホニル基（Ｒ０１１−ＳＯ２−）としては、Ｒ０１１が一価の非金属原子団からなる基のものを使用できる。より好ましい例としては、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基を挙げることができる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。このような、置換スルホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル基、フェニルスルホニル基、クロロフェニルスルホニル基等が挙げられる。
【００４４】
スルホナト基（−ＳＯ３−）は前述のとおり、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）の共役塩基陰イオン基を意味し、通常は対陽イオンとともに使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジニウム類等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｃａ２＋、Ｚｎ２＋等）が挙げられる。
【００４５】
置換カルボニル基（Ｒ０１３−ＣＯ−）としては、Ｒ０１３が一価の非金属原子団からなる基のものを使用できる。置換カルボニル基の好ましい例としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ’−アリールカルバモイル基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。これらの内、より好ましい置換カルボニル基としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル基が挙げられ、さらにより好ましいものとしては、ホルミル基、アシル基、アルコキシカルボニル基ならびにアリーロキシカルボニル基が挙げられる。好ましい置換カルボニル基の具体例としては、ホルミル基、アセチル基、ベンゾイル基、カルボキシル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、ジメチルアミノフェニルエテニルカルボニル基、メトキシカルボニルメトキシカルボニル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基等が挙げられる。
【００４６】
置換スルフィニル基（Ｒ０１４−ＳＯ−）としてはＲ０１４が一価の非金属原子団からなる基のものを使用できる。好ましい例としては、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール基としては前述のアルキル基、置換アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基として示したものを挙げることができる。これらの内、より好ましい例としてはアルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基が挙げられる。このような置換スルフィニル基の具体例としては、ヘキシルスルフィニル基、ベンジルスルフィニル基、トリルスルフィニル基等が挙げられる。
【００４７】
置換ホスホノ基とはホスホノ基上の水酸基の一つもしくは二つが他の有機オキソ基によって置換されたものを意味し、好ましい例としては、前述のジアルキルホスホノ基、ジアリールホスホノ基、アルキルアリールホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、モノアリールホスホノ基が挙げられる。これらの中ではジアルキルホスホノ基、ならびにジアリールホスホノ基がより好ましい。このような具体例としては、ジエチルホスホノ基、ジブチルホスホノ基、ジフェニルホスホノ基等が挙げられる。
【００４８】
ホスホナト基（−ＰＯ３Ｈ２−、−ＰＯ３Ｈ−）とは前述のとおり、ホスホノ基（−ＰＯ３Ｈ２）の、酸第一解離もしくは、酸第二解離に由来する共役塩基陰イオン基を意味する。通常は対陽イオンと共に使用されるのが好ましい。このような対陽イオンとしては、一般に知られるもの、すなわち、種々のオニウム類（アンモニウム類、スルホニウム類、ホスホニウム類、ヨードニウム類、アジニウム類、等）、ならびに金属イオン類（Ｎａ＋、Ｋ＋、Ｃａ２＋、Ｚｎ２＋等）が挙げられる。
【００４９】
置換ホスホナト基とは前述の置換ホスホノ基の内、水酸基を一つ有機オキソ基に置換したものの共役塩基陰イオン基であり、具体例としては、前述のモノアルキルホスホノ基（−ＰＯ３Ｈ（ａｌｋｙｌ））、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ３Ｈ（ａｒｙｌ））の共役塩基が挙げられる。
【００５０】
次に、前記一般式（１）で表される重合性化合物のさらに好ましい態様について述べれば、Ａで表される芳香族基または芳香族へテロ環基が、少なくとも１つの−ＣＯ−Ｘ−Ｒ３基を有する化合物が挙げられる。なお、ここでＸは−Ｏ−または−Ｎ（Ｒ４）−を表し、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ独立に水素原子または一価の有機基を表す。
【００５１】
ここで、上記好ましい態様におけるＲ３、およびＲ４はそれぞれ独立に、水素原子または一価の置換基を表し、そのような一価の置換基としては、前記一般式（１）におけるＲ１、Ｒ２と同義である。
特に、Ｒ３としては、それぞれ置換基を有してもよいアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、ヘテロ環基であることが好ましい。
【００５２】
（重合性化合物）
本発明の方法により得られた重合性化合物は、ラジカル反応性に優れ、また、これを原料モノマーとして得られた高分子化合物は、皮膜形成性に優れ、平版印刷版原版の画像形成材料などの調製に好適に利用できる。
【００５３】
【実施例】
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明がこれらにより限定されるものではない。
〔実施例１：ｐ−メトキシカルボニルフェニルメタクリルアミドの合成〕
２Ｌ三つ口フラスコに、メタンスルホン酸クロリド〔（Ｂ−１）成分〕  １３７．５ｇ、アセトン  ３００ｍｌを入れ、液温  ２℃に冷却した。メタクリル酸〔（Ａ）成分〕  １０３．３ｇ、ジイソプロピルエチルアミン〔塩基〕  １５５．１ｇ、ｐ−メトキシフェノール〔熱重合禁止剤〕  ０．１５ｇのアセトン  ３００ｍｌ溶液を液温  １０℃以下を保つ速度で滴下した。滴下終了後、更に１時間反応させた〔第１の工程〕。
その後、ｐ−アミノ安息香酸メチル〔（Ｃ）成分〕  １２０．９ｇを液温  １５℃以下を保つ速度で加えた後、ジイソプロピルアミン〔塩基〕  １１３．７ｇを液温１５℃以下を保つ速度で滴下した。滴下終了後、液温２５まで上昇させ、１時間反応させた。炭酸水素ナトリウム  １０．１ｇの水  ２００ｍｌ溶液を加え、更に１時間攪拌した〔第２の工程〕。水  ６．０Ｌに投入し、析出物を濾取、乾燥後、白色粉末状のｐ−メトキシカルボニルフェニルメタクリルアミド〔下記構造の重合性化合物〕  １４０．３ｇを得た。収率は８０％であった。ｐ−メトキシカルボニルフェニルメタクリルアミドであることは、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、質量分析スペクトルにより確認した。
【００５４】
【化５】
2005047813.tif 000005
【００５５】
〔実施例２：ｐ−エトキシカルボニルフェニルメタクリルアミドの合成〕
２００ｍｌフラスコに、メタクリル酸〔（Ａ）成分〕  １０．５ｇ、ｐ−メトキシフェノール  ０．０１ｇ、アセトン  ６１ｍｌを入れ、液温  ２℃に冷却した。メタンスルホン酸クロリド〔（Ｂ−１）成分〕  １４．０ｇを液温  １０℃以下を保つ速度で滴下し、１時間反応させた。
ｐ−アミノ安息香酸エチル〔（Ｃ）成分〕  １０．０ｇ、ジイソプロピルエチルアミン〔塩基〕  ８．７ｇのアセトン１８ｍｌ溶液を液温  １０℃以下を保つ速度で滴下した。滴下終了後、液温を２５℃まで上昇させ、更に２時間反応させた。
水  ２０ｍｌを加え、１時間攪拌した後に、水  ７９０ｍｌへ投入し、析出物を濾取、乾燥後、白色粉末状のｐ−エトキシカルボニルフェニルメタクリルアミド〔下記構造の重合性化合物〕  １２．０ｇを得た。収率は８３％であった。ｐ−エトキシカルボニルフェニルメタクリルアミドであることは、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、質量分析スペクトルにより確認した。
【００５６】
【化６】
2005047813.tif 000006
【００５７】
〔比較例１：ｐ−メトキシカルボニルフェニルメタクリルアミドの合成〕
２Ｌ三つ口フラスコに、トリエチルアミン  １２１．４ｇ、ｐ−アミノ安息香酸メチル  １２０．９ｇ、ｐ−メトキシフェノール  ０．１５ｇ、アセトン６００ｍｌを入れ、液温  ２℃に冷却した。メタクリル酸クロリド１２５．４ｇを、液温  １０℃以下を保つ速度で滴下した。滴下終了後、液温２５℃まで上昇させ、３時間反応させた。炭酸水素ナトリウム  １０．１ｇの水  ２００ｍｌ溶液を加え、更に１時間攪拌した。水  ６．０Ｌに投入し、析出物を濾取、乾燥後、褐色粉末状のｐ−メトキシカルボニルフェニルメタクリルアミド  ８７．７ｇを得た。収率は５０％であった。ｐ−メトキシカルボニルフェニルメタクリルアミドであることは、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、質量分析スペクトルから確認した。
【００５８】
このように、本発明の方法である実施例１及び２の方法によれば、分子内に少なくとも１つのエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物が、高純度、高収率で容易に得られることが分かった。一方、実施例１におけるのと同じ重合性化合物を公知の方法により合成した比較例１では、目的の化合物が得られるものの収率が低く、また、不純物の影響で褐色に着色した化合物が生成された。
【００５９】
【発明の効果】
本発明によれば、高分子化合物など合成に適用しうるラジカル反応性の高い、分子内に少なくとも１つのエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物を高純度、高収率で製造し得る方法を提供することができる。