(57)【要約】【課題】  より小型かつ高真空の達成が可能なステージ装置を提供することを目的とする。【解決手段】  平面を移動かつ位置決めする装置であり、真空室内に設置された位置決めテーブルと、位置決めテーブルより、真空室外に延びるロッドと、ロッドの進行方向の移動を案内し、かつ固定部材よりロッドの進行方向と直交方向に案内され移動可能な移動体から構成され、真空室外に設置され、ロッドを駆動するリニアモータと、移動体をロッド毎駆動するリニアモータから構成される。本構成により、移動体は全て非接触に保たれており高精度な移動が可能で、真空室を小型化することができ、移動体の案内部及び駆動部を真空容器外に設置しているので案内部の移動等による真空度劣化を最小限に抑制することができる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面を移動かつ位置決めする装置であって、真空室内に設置された位置決めテーブルと、前記位置決めテーブルより、前記真空室壁面に設けられた孔を通じ真空室外に延びるロッドと、前記ロッドの進行方向の移動を案内し、かつ固定部材より前記ロッドの進行方向と直交方向に案内され移動可能な移動体から構成され、真空室外に設置され、前記ロッドを駆動する駆動源と、前記移動体をロッド毎駆動する駆動源から構成されることを特徴とする移動案内装置。
【請求項２】
前記ロッド及び移動体の案内は静圧気体軸受けにより行うことを特徴とする請求項第１項記載の移動案内装置。
【請求項３】
前記ロッドの案内は真空排気溝付き軸受けを用いたことを特徴とする請求項第１及び２項記載の移動案内装置。
【請求項４】
前記移動体の移動方向の垂直方向の案内は固定部材を案内に、予圧機構付きの静圧気体軸受けで行い、前記移動体と前記真空室の間は非接触に保持し、真空排気溝を設けたことを特徴とする請求項第１〜３項記載の移動案内装置。
【請求項５】
前記予圧は永久磁石、電磁石、真空を用いたことを特徴とする請求項第４項記載の移動案内装置。
【請求項６】
前記ロッドの進行方向の案内部材と、前記ロッドの駆動部材の間に配置されロッドに垂直方向の吸着力あるいは斥力発生手段を設けたことを特徴とする請求項１〜４項記載の移動案内装置。
【請求項７】
前記吸着力あるいは斥力は磁気手段により発生し、真空室内の移動体の位置に対応して吸引力を制御することを特徴とする請求項第６項記載の移動案内装置。
【請求項８】
前記吸着力は真空手段により発生し、真空室内の移動体の位置に対応して吸着力を制御することを特徴とする請求項第６項記載の移動案内装置。
【請求項９】
前記移動体の移動方向の垂直方向の案内は固定部材及び真空室壁面を案内に、静圧気体軸受けで行い、前記移動体と前記真空室の間は真空排気溝付きの静圧気体軸受けで行うことを特徴とする請求項第１〜３項記載の移動案内装置。
【請求項１０】
前記駆動源はリニアモータであることを特徴とする第１〜第９項記載の移動案内装置。
【請求項１１】
平面を移動かつ位置決めする装置であり、真空室内に設置された位置決めテーブルと、
前記位置決めテーブルより、前記真空室壁面に設けられた孔を通じ真空室外に延びるロッドと、前記ロッドの進行方向の移動を案内し、かつ前記ロッドの進行方向と直交方向に案内され移動可能な移動体から構成され、真空室外に設置され、前記ロッドを平面に移動させる駆動源から構成されることを特徴とする移動案内装置。
【請求項１２】
前記ロッド及び移動体の案内は静圧気体軸受けにより行うことを特徴とする請求項第１１項記載の移動案内装置。
【請求項１３】
前記ロッドの案内は真空排気溝付き軸受けを用いたことを特徴とする請求項第１１〜１２項記載の移動案内装置。
【請求項１４】
前記移動体の移動方向の垂直方向の案内は固定部材を案内に、予圧機構付きの静圧気体軸受けで行い、前記移動体と前記真空室の間は非接触に保持し、真空排気溝を設けたことを特徴とする請求項第１１〜１３項記載の移動案内装置。
【請求項１５】
前記予圧は永久磁石、電磁石、真空を用いたことを特徴とする請求項第１４項記載の移動案内装置。
【請求項１６】
前記移動体の移動方向の垂直方向の案内は固定部材及び真空室壁面を案内に、静圧気体軸受けで行い、前記移動体と前記真空室の間は真空排気溝付きの静圧気体軸受けで行うことを特徴とする請求項第第１１〜１３項記載の移動案内装置。
【請求項１７】
前記ロッドの進行方向の案内部材と、前記ロッドの駆動部材の間に配置され、前記ロッドに垂直方向の吸着力あるいは斥力発生手段を設けたことを特徴とする請求項１１〜１５項記載の移動案内装置。
【請求項１８】
前記吸着力あるいは斥力は磁気手段により発生し、真空室内の移動体の位置に対応して吸引力を制御することを特徴とする請求項第１７項記載の移動案内装置。
【請求項１９】
前記吸着力は真空手段により発生し、真空室内の移動体の位置に対応して吸引力を制御することを特徴とする請求項第１７項記載の移動案内装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子線描画装置、精密計測器等非大気雰囲気中で高速移動、精密位置決めを繰り返すあるいは高精度にスキャン移動する移動案内装置及び該装置を用いた露光装置等に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の真空内で移動するステージの構成の一例として特許文献１や特許文献２では、真空室壁を貫通するビームに取り付けられた位置決めステージを真空室外のアクチュエータでビーム方向に駆動し、さらに真空室の両外に取り付けられた真空シールプレートがビームを前記アクチュエータと直交方向に駆動する構成を取っている。また、真空室とシールプレートの間は気体軸受けで支持し真空室内に流入しないよう排気手段を設けていた。
【特許文献１】特開２０００−３３１９３１号公報
【特許文献２】特開２００１−０５２９８８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら上述の構成では、
（１）ビームが真空室の両方から飛び出すので専有面積が大きくなる。
（２）真空室両端にビーム貫通用の孔があり、真空度が劣化する。
（３）真空室壁面が、真空引きにより変形するため両端で精度良く案内することが困難。
（４）シール板と真空室の間に膜等を構成しており摩擦により移動精度が劣化する。
（５）移動時に膜切れ等が発生すると真空度が劣化する。
といった問題が起こる可能性があった。また、特開２０００−０３１００７号公報では真空室外で案内、駆動する方法が提案されているが、
（６）１軸方向のみの移動、案内方法しか開示されていない。
（７）ステージ移動に伴い、案内に加わるモーメント力が変化し、姿勢精度が劣化するが考慮されていない。
等の問題があった。本発明は上記問題点を改良し、より小型かつ高真空の達成が可能なステージ装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００４】
本出願に係わる第１の発明は、真空室内をＸＹ平面内に移動するＸＹ移動テーブルからロッドを真空室外に伸ばし、ロッドの進行方向の案内を真空室外に設けた移動体により行い、前記移動体の案内を真空室外に設けた案内により行う。さらに、ロッドの駆動を定盤上に固定されたアクチュエータにより行い、ロッドの案内を定盤上に固定されたアクチュエータによりロッドごとくどうする。本構成により、
（１）真空室内から伸びるロッドが一方のみ（真空室の開口が片方のみ）のため、真空度劣化を防ぐことができる。
（２）また上記により真空室を小型化するとともに移動体の専有面積を小さくすることができる。
（３）移動体の案内部及び駆動部を真空容器外に設置しているので案内部の移動等による真空度劣化を最小限に抑制することができる。
（４）真空容器を小型化することが可能。
等の特徴がある。
【０００５】
本出願に係わる第２の発明は、ロッド、移動体第の案内全て静圧気体軸受を用いる。
（１）摩擦が存在しないのでヒス等がなく高精度な位置決めが可能。
（２）接触部からの発熱がないので熱変形等が発生せず、この面からも高精度な位置決め位が可能。
（３）また、発塵もなくゴミ回収等の機構が不要で構成が容易、かつコストダウンになる。
（４）グリスアップ等のメンテナンスが不要。
【０００６】
本出願に係わる第３の発明は、ロッドの案内に特開昭６３−１９２８６４号公報に記されている排気構造付の静圧軸受けを用いる。本構成により、
真空度を保ちながら非接触な案内、移動が可能。
本出願に関わる第４の発明は、真空容器外に設置された移動体を定盤に固定されたガイドにより予圧機構付きの静圧空気軸受けで案内する。また、真空室との間は非接触に保持し、移動体と真空容器の間に少なくとも１つの空気回収用ラビリンスを備えた板を設け（ラビリンス、空気回収孔は回収板、真空容器のどちらにあっても可）大気側から真空容器内に流入する気体はラビリンスあるいはラビリンスと対向する部分に設けられた回収孔より真空ポンプに接続して回収する。本構成により、
（１）位置決めテーブルを非接触に駆動することができ高精度な移動が可能。
（２）真空度に影響することなく真空容器外からの駆動が可能。
【０００７】
本出願に関わる第５の発明は、予圧機構として例えば永久磁石、電磁石、真空等を用いる。本構成により非接触に案内、予圧を加えるので、
（１）発塵が無い。
（２）摩擦抵抗が存在しないので高精度な位置決めが可能。
【０００８】
本出願に関わる第６の発明は、移動体を挟みＸＹ移動テーブルと反対側に斥力あるいは吸着力を発生させ、ＸＹ移動テーブルの移動に伴モーメントの変化をキャンセルするよう制御する。本構成により
ＸＹ移動テーブルの位置が変化してもモーメントをキャンセルできるので姿勢精度が変化せず高精度な位置決めが可能、
本出願に関わる第７の発明は、斥力あるいは吸着力発生手段として例えば電磁石等の磁気手段を設け発生力を制御する。本構成により、非接触に保持されているので高精度な位置決めが可能。
【０００９】
本出願に関わる第８の発明は、吸着力発生手段として真空を用い、ＸＹ移動テーブルの位置により真空度を制御して発生力を制御する。本構成によっても第７の発明と同様の効果を得ることができる。
【００１０】
本出願に関わる第９の発明は、真空容器外に設置された移動体の横方向の案内を定盤に固定されたガイド及び真空質壁面に設けた静圧空気軸受けで行い、移動体と真空容器の間に少なくとも１つの空気回収用ラビリンスを備えた板を設け（ラビリンス、空気回収孔は回収板、真空容器のどちらにあっても可）大気側から真空容器内に流入する気体はラビリンスあるいはラビリンスと対向する部分に設けられた回収孔より真空ポンプに接続して回収する。本構成によっても、
（１）移動体は非接触に保たれており高精度な移動が可能。
（２）移動体の真空室側にはラビリンス排気付きの静圧軸受けを採用しているので真空度を落とすことなく高精度な移動が可能。
【００１１】
本出願に関わる第１０の発明は、ロッド及び移動体の駆動を真空室外に固定されたリニアモータで行う。本構成によっても、
（１）移動体は非接触に保たれており高精度な移動が可能。
（２）リニアモータが真空容器外に設置されているので冷却等の構成が容易。
（３）真空室内には最小限の移動体のみが設置されており、高空度が達成可能。
等の特徴がある。
【００１２】
本出願に関わる第１１の発明は、真空室内をＸＹ平面内に移動するＸＹ移動テーブルからロッドを真空室外に伸ばし、ロッドの進行方向の案内を真空室外に設けた移動体により行い、前記移動体の案内を真空室外に設けた案内により行う。さらに、ロッドを定盤上に固定されたアクチュエータによりＸ、Ｙ２方向に駆動する。本構成により第１の発明の効果に加え、
（１）ロッドを直接２方向に駆動するので駆動源を省略できステージ専有面積を小さくすることが可能。
【００１３】
本出願に係わる第１２の発明は、ロッド、移動体第の案内全て静圧気体軸受を用いる。
（１）摩擦擦が存在しないのでヒス等がなく高精度な位置決めが可能。
（２）接触部からの発熱がないので熱変形等が発生せず、この面からも高精度な位置決め位が可能。
（３）また、発塵もなくゴミ回収等の機構が不要で構成が容易、かつコストダウンになる。
（４）グリスアップ等のメンテナンスが不要。
【００１４】
本出願に係わる第１３の発明は、ロッドの案内に例えば特開昭６３−１９２８６４（特登録２５８７２２７）等に記されている排気構造付の静圧軸受けを用いる。本構成により、
（１）真空度を保ちながら非接触な案内、移動が可能。
【００１５】
本出願に関わる第１４の発明は、真空容器外に設置された移動体を定盤に固定されたガイドにより予圧機構付きの静圧空気軸受けで案内する。また、真空室との間は非接触に保持し、移動体と真空容器の間に少なくとも１つの空気回収用ラビリンスを備えた板を設け（ラビリンス、空気回収孔は回収板、真空容器のどちらにあっても可）大気側から真空容器内に流入する気体はラビリンスあるいはラビリンスと対向する部分に設けられた回収孔より真空ポンプに接続して回収する。本構成により、
（１）位置決めテーブルを非接触に駆動することができ高精度な移動が可能。
（２）真空度に影響することなく真空容器外からの駆動が可能。
【００１６】
本出願に関わる第１５の発明は、予圧機構として例えば永久磁石、電磁石、真空等を用いる。本構成により非接触に案内、予圧を加えるので、
（１）発塵が無い。
（２）摩擦抵抗が存在しないので高精度な位置決めが可能。
【００１７】
本出願に関わる第１６の発明は、真空容器外に設置された移動体の横方向の案内を定盤に固定されたガイド及び真空質壁面に設けた静圧空気軸受けで行い、移動体と真空容器の間に少なくとも１つの空気回収用ラビリンスを備えた板を設け（ラビリンス、空気回収孔は回収板、真空容器のどちらにあっても可）大気側から真空容器内に流入する気体はラビリンスあるいはラビリンスと対向する部分に設けられた回収孔より真空ポンプに接続して回収する。本構成によっても、移動動体は非接触に保たれており高精度な移動が可能。
（１）移動体の真空室側にはラビリンス排気付きの静圧軸受けを採用しているので真空度を落とすことなく高精度な移動が可能。
【００１８】
本出願に関わる第１７の発明は、移動体を挟みＸＹ移動テーブルと反対側に斥力あるいは吸着力を発生させ、ＸＹ移動テーブルの移動に伴モーメントの変化をキャンセルするよう制御する。本構成により、
ＸＹ移動テーブルの位置が変化してもモーメントをキャンセルできるので姿勢精度が変化せず高精度な位置決めが可能。
【００１９】
本出願に関わる第１８の発明は、斥力あるいは吸着力発生手段として例えば電磁石等の磁気手段を設け発生力を制御する。本構成により、
非接触に保持されているので高精度な位置決めが可能。
【００２０】
本出願に関わる第１９の発明は、吸着力発生手段として真空を用い、ＸＹ移動テーブルの位置により真空度を制御して発生力を制御する。本構成によっても第１８の発明と同様の効果を得ることができる。
【発明の効果】
【００２１】
以上説明したように本発明によれば、
真空室内に設置された位置決めテーブルと、前記位置決めテーブルより、前記真空室壁面に設けられた孔を通じ真空室外に延びるロッドと、前記ロッドの進行方向の移動を案内し、かつ固定部材より前記ロッドの進行方向と直交方向に案内され移動可能な移動体から構成され、ロッドの案内は真空排気溝付き静圧軸受けで行い給気気体は真空ポンプにより排気し真空室に流入することを防ぐ。さらに移動体の案内は固定定盤上のガイドにより静圧軸受けで行い、移動体と真空容器の間は非接触に保ち、真空排気溝より真空ポンプにより排気し真空室に流入することを防ぐ。さらに駆動は、ロッドを駆動するリニアモータ及び移動体を駆動するリニアモータにより構成される、あるいはロッドをＸＹ平面に駆動する平面モータにより構成される。本構成により、
（１）移動体は全て非接触に保たれており高精度な移動が可能。
（２）また接触部がないので発塵（摩耗）がない。
（３）真空室内から伸びるロッドが一方のみ（真空室の開口が片方のみ）のため、真空度劣化を防ぐことができる。
（４）また上記により真空室を小型化するとともに移動体の専有面積を小さくすることができる。
（５）移動体の案内部及び駆動部を真空容器外に設置しているので案内部の移動等による真空度劣化を最小限に抑制することができる。
（６）真空室の開口部からは排気用ラビリンスを通じ真空ポンプにより真空室外に排気されるので高真空度が達成可能。
（７）移動体を挟みＸＹ移動テーブルと反対側に斥力あるいは吸着力を発生させ、ＸＹ移動テーブルの移動に伴モーメントの変化をキャンセルするよう制御するので姿勢精度も高精度に保つことが可能。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
（実施例１）
図１〜図４は本発明の第１の実施例の概略図である。図１はステージの平面図、図２は図１のＡ−Ａ断面図、図３（ａ）は図１のＢ矢視図であり真空シール部の概略図、図３（ｂ）は図３（ａ）のＣ−Ｃ断面、図４は移動に伴うモーメント補正方法。
【００２３】
図１〜４において、１は真空室、２はＸＹ移動ステージ、３はＸＹ移動ステージから伸びるロッド、４は移動体、５は移動体の案内、６は吸着力あるいは斥力発生機構、７はロッドの案内を行う排気ラビリンス溝付き静圧軸受け、８は移動体の案内を行う予圧機構（不図視）付き静圧軸受け、９は移動体の上下方向を案内する静圧軸受け、１０敗導体の駆動機構、１１はロッドの駆動機構、１２は定盤。
【００２４】
上記構成に於いて、静圧軸受け７に給気することによりロッド３は移動体４より浮上しリニアモータ１１によりＸ方向に駆動される。この際、静圧軸受けに給気する気体は図３（ａ）、（ｂ）に示すようにラビリンス溝から少なくとも１つの真空ポンプＰ２１・・・Ｐ２ｎにより排気される。さらに、図４に示すように吸引あるいは斥力発生装置６にＸＹ移動体２に発生するモーメントＭ１×Ｌ１＝Ｍ２×Ｌ２となるような力Ｍ２を発生させる。また、移動体４は静圧軸受け装置９に給気することにより定盤１２（あるいは定盤１２上に固定されたガイド：不図示）より浮上し、予圧機構（不図示）付き静圧軸受け８に給気することにより定盤に固定された固定ガイド５より浮上する。移動体４はリニアモータ１０によりＸＹ移動体２及びロッド３毎Ｙ方向に駆動される。この際、真空容器１と移動体４の間は非接触に保ち、ラビリンス溝から少なくとも１つの真空ポンプＰ１１・・・Ｐ１ｎにより排気される。（予圧機構を設ける代わりに固定ガイド５と真空容器１の間に静圧軸受けを構成し、真空容器１との間の静圧軸受けは真空排気ラビリンス付きの静圧軸受けを用いても良い。）本構成により、
（１）移動体は全て非接触に保たれており高精度な移動が可能。
（２）また接触部がないので発塵（摩耗）がない。
（３）真空室内から伸びるロッドが一方のみ（真空室の開口が片方のみ）のため、真空度劣化を防ぐことができる。
（４）また上記により真空室を小型化するとともに移動体の専有面積を小さくすることができる。
（５）移動体の案内部及び駆動部を真空容器外に設置しているので案内部の移動等による真空度劣化を最小限に抑制することができる。
（６）真空室の開口部からは排気用ラビリンスを通じ真空ポンプにより真空室外に排気されるので高真空度が達成可能。
（７）移動体を挟みＸＹ移動テーブルと反対側に斥力あるいは吸着力を発生させ、ＸＹ移動テーブルの移動に伴モーメントの変化をキャンセルするよう制御するので姿勢精度も高精度に保つことが可能。
等の特徴がある。
【００２５】
（実施例２）
図５に本発明の第２の実施例の上面図を示す。第１の発明と同部品には同番号を付している。
【００２６】
同構成において、平面駆動用モータ１２によりロッド３及びＸＹ移動体２はＸ、Ｙ２方向に直接駆動される。本構成により第１の発明の効果に加え、
（１）アクチュエータ形態をより簡素化できる。
【００２７】
（露光装置の実施形態）
図６は、上記の実施形態のステージ装置を用いた電子ビーム露光装置の概略図を示している。
【００２８】
同図において、ウエハを搭載して位置決めを行うため、上記の実施形態のステージ装置が設けられている。定盤１は、ダンパ１０９３により、床から除振されている。ダンパ１０９３は、受動的でも能動的でもよい。ダンパ１０９３は、例えば、エアばね等を有し、能動的なダンパの場合は、さらにアクチュエータを有する。ＸＹ移動体３は、レーザ干渉計１０９４により位置計測され、この位置計測結果に基づいて所定の位置に位置決めされる。
【００２９】
１０９５は、電子ビーム露光装置の電子光学系である。電子光学系１０９５は、電子ビーム照射装置と、電子レンズとを有する。電子光学系１０９５は、鏡筒定盤１０９６に支持されている。鏡筒定盤１０９６は、ダンパ１０９３に支持され、床から除振されている。鏡筒定盤を支持するダンパも、上述のダンパと同様、受動的でも能動的でもよい。ＸＹ移動体３の位置を計測する上記のレーザ干渉計１０９４は、鏡筒定盤１０９６に設けられている。これにより、ＸＹ移動体３は、鏡筒定盤を基準として、すなわち、電子光学系１０９５を基準として、位置決めされる。
【００３０】
１０９７は、所定の領域を密閉するチャンバーである。ここで、所定の領域については、後述の説明から明らかになる。１０９８は、密閉性を保持し、物体間の相対変位を許容するベローズである。ベローズ１０９８は、チャンバー１０９７と電子光学系１０９５との間、チャンバー１０９７と鏡筒定盤１０９６との間、およびチャンバー１０９７と定盤１との間に設けられている。これにより、チャンバー内の雰囲気Ａは、密閉されている。１０９９は、真空ポンプである。真空ポンプ１０９９が作動し、チャンバー内の雰囲気Ａにある気体が排出され、真空雰囲気となる。ここで、真空雰囲気とは、厳密な真空までをも要求するものではなく、高い減圧雰囲気であれば良いことは、上述したとおりである。
【００３１】
真空ポンプによってチャンバー１０９７内の雰囲気Ａが真空雰囲気となると、チャンバーの内外で圧力差が生じるため、チャンバー１０９７が変形する。一方、チャンバー１０９７と電子光学系１０９５との間にはベローズ１０９８が設けられており、ベローズ１０９８は、密閉を保持しつつ両者の相対変位を許容している。これにより、チャンバーの変形の影響が電子光学系１０９５に伝わるのを軽減している。同様に、チャンバー１０９７と鏡筒定盤１０９６との間もベローズ１０９８が設けられており、チャンバーの変形の影響が鏡筒定盤１０９６に伝わるのを軽減し、電子光学系にチャンバーの変形の影響を与えないようにしている。
【００３２】
上記の構成の露光装置により、ステージ装置周辺の雰囲気は、真空雰囲気となる。そして、ステージ装置に用いられている静圧軸受付近の周りも真空雰囲気となる。静圧軸受の周囲が真空雰囲気の場合、静圧軸受に用いる流体を雰囲気中に漏洩するのを防ぐ必要がある。本実施形態の電子ビーム露光装置は、ステージ装置として上記の実施形態で説明したステージ装置を用いているので、静圧軸受からの気体が真空雰囲気中に漏れ出るのを軽減することができる。
【００３３】
（デバイス生産方法の実施形態）
次に上記で説明した電子ビーム露光装置を利用したデバイスの生産方法の実施例を説明する。
【００３４】
図７は、微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１（回路設計）では半導体デバイスの回路設計を行なう。ステップ２（露光制御データ作成）では設計した回路パターンに基づいて露光装置の露光制御データを作成する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコン等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意した露光制御データが入力された露光装置とウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こうした工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷（ステップ７）される。
【００３５】
図８は上記ウエハプロセスの詳細なフローを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステップ１６（露光）では上記説明した露光装置によって回路パターンをウエハに焼付露光する。ステップ１７（現像）では露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となったレジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行なうことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【００３６】
本実施形態の製造方法を用いれば、従来は製造が難しかった高集積度の半導体デバイスを低コストに製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３７】
【図１】第１の実施例の上面図
【図２】第１の実施例のＡ−Ａ断面図
【図３】第１の実施例のＢ矢視図
【図４】第１の実施例のＣ−Ｃ断面図
【図５】第２の実施例の上面図
【図６】電子ビーム露光装置の概略図
【図７】デバイスの生産方法の実施例
【図８】ウエハプロセスのフロー
【符号の説明】
【００３８】
１  真空室、
２  ＸＹ移動ステージ、
３  ロッド
４  移動体、
５  移動体の案内、
６  吸着力あるいは斥力発生機構、
７  排気ラビリンス溝付き静圧軸受
８  予圧機構付き静圧軸受け、
９  静圧軸受け、
１０  移動体用リニアモータ、
１１  ロッド用リニアモータ、
１２  定盤、
１３  平面駆動機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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