(57)【要約】【課題】  金属酸化物微粒子の分散安定性に優れ、塗布液の停滞安定性が良好な反射防止フィルム用塗布組成物、該塗布組成物を用いて作製される高い膜強度を有する反射防止フィルム、偏光板及び表示装置を提供すること。【解決手段】  少なくとも（１）平均粒径１０〜２００ｎｍの金属酸化物微粒子、（２）非イオン性の有機分散剤、（３）バインダー及び（４）有機溶剤を含有することを特徴とする反射防止フィルム用塗布組成物。【選択図】        なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも（１）平均粒径１０〜２００ｎｍの金属酸化物微粒子、（２）非イオン性の有機分散剤、（３）バインダー及び（４）有機溶剤を含有することを特徴とする反射防止フィルム用塗布組成物。
【請求項２】
少なくとも（１）平均粒径１０〜２００ｎｍの金属酸化物微粒子、（２）非イオン性の有機分散剤及び（４）有機溶剤を混合して金属酸化物微粒子分散液を調製し、（３）バインダー及び（４）有機溶剤を主成分とするバインダー液と混合して調製することを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム用塗布組成物。
【請求項３】
前記金属酸化物微粒子分散液の金属酸化物微粒子が５〜３０質量％で、有機分散剤が０．５〜２０質量％であることを特徴とする請求項２に記載の反射防止フィルム用塗布組成物。
【請求項４】
前記金属酸化物微粒子が、コア／シェル構造であり、コア部がルチル型酸化チタン微粒子で、シェルの主成分がアルミナ、シリカ及びジルコニアから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム用塗布組成物。
【請求項５】
前記バインダーが、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、ケイ素アルコキシド及びそれらのキレート化合物、分子中に重合可能な不飽和結合を２個以上有するアクリル系樹脂、アクリル樹脂及びメタクリル樹脂から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム用塗布組成物。
【請求項６】
前記バインダーの主成分が、チタンアルコキシド、ケイ素アルコキシド及びそれらのキレート化合物から選ばれる少なくとも１種であり、シランカップリング剤またはチタンカップリング剤を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム用塗布組成物。
【請求項７】
前記有機溶剤が、低級アルコール、ケトンアルコール及びグリコールエーテルから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止フィルム用塗布組成物。
【請求項８】
前記有機分散剤が、非イオン界面活性剤であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の反射防止フィルム用塗布組成物。
【請求項９】
前記非イオン界面活性剤が、ポリエチレンオキサイド鎖を有することを特徴とする請求項８に記載の反射防止フィルム用塗布組成物。
【請求項１０】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の反射防止フィルム用塗布組成物からなることを特徴とする中屈折率層用塗布組成物。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれか１項に記載の反射防止フィルム用塗布組成物からなることを特徴とする高屈折率層用塗布組成物。
【請求項１２】
支持体の少なくとも一方の面に、ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層、またはハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層をこの順に塗布し、積層してなる多層構成の反射防止フィルムにおいて、該中屈折率層の塗布組成物が請求項１０に記載の中屈折率層用塗布組成物であり、該高屈折率層の塗布組成物が請求項１１に記載の高屈折率層用塗布組成物であることを特徴とする反射防止フィルム。
【請求項１３】
請求項１２に記載の反射防止フィルムを有することを特徴とする偏光板。
【請求項１４】
請求項１３に記載の偏光板を有することを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は反射防止フィルム用塗布組成物、中屈折率層用塗布組成物、高屈折率層用塗布組成物、反射防止フィルム、偏光板及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学レンズ、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、液晶表示装置（ＬＣＤ）等の画像表示装置等の分野を中心に、透過率及びコントラストの向上、映り込み低減のために、表面反射を減少させる反射防止技術が従来より提案されている。反射防止技術としては、光学干渉層として屈折率と光学膜厚が適当な値を有する層をいくつか積層することにより、積層体と空気界面における光の反射を減少させることが有効である。
【０００３】
このような反射防止層は、高屈折率材料としてＴｉＯ2、ＺｒＯ2、Ｔａ2Ｏ5等、また低屈折率材料としてＳｉＯ2、ＭｇＦ2等が積層されており、これまでに提案された反射防止層は、乾式製膜方法と塗布式製膜方法により製造されてきている。例えば、前記乾式製膜方法としてはスパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法あるいはＰＶＤ法がある。
【０００４】
一般的に光学的機能の観点では乾式製膜方法の方が優れているが、塗布式製膜方法は製造が容易で低コストであることが可能という利点がある。塗布式製膜方法としては、チタンアルコキシドやシランアルコキシドに代表される金属アルコキシド等を支持体（以下、基材または基材フィルムともいう）の表面に塗布、乾燥、加熱して金属酸化物の層を形成する方法、金属酸化物微粒子と光重合性モノマーの混合物を基材に塗布、乾燥し、ＵＶ照射して層を形成する方法、フッ化ビニリデンやパーフルオロアルキル基を有する光重合性モノマーの光重合物からなる膜を形成する方法等が行われている。
【０００５】
ところで、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示装置ににおいては、表示装置の表面にある反射防止層は保護層としての機能を備える必要がある。
【０００６】
これらの表示装置は、近年カーナビゲーションや携帯電話等多様な環境で使用される機器に搭載されることが多くなり、耐擦過性、耐熱性、耐湿性、耐光性、耐熱ショック性等の各種耐久性が求められている。
【０００７】
このような各種耐久性や保護層としての機能を付与するため、塗布式製膜方法で使用される素材は、ＵＶ（紫外線）や電子線等の活性エネルギー照射や、加熱等により反応し、耐久性を得ることができる反応性素材等が使用される。
【０００８】
しかし、反応性素材を使用する場合、塗布液の停滞により、形成した層の物性変化や形成した膜の均一性等が劣化するという（停滞安定性が悪いともいう）問題点があり、また、金属酸化物微粒子を使用して屈折率調整を行う場合、金属酸化物微粒子は数ｎｍ〜１００ｎｍと非常に小さい粒子の分散安定性が劣化しやすいという問題点があった。
【０００９】
特に、金属酸化物微粒子の塗布液中での分散状態が変化すると、形成された光学干渉層の屈折率の変化や層の表面粗さ等が変化し、結果として反射率が変化しやすくなる傾向がある。
【００１０】
従来、反射防止フィルムの光学干渉層に金属酸化物微粒子をバインダーとともに使用する方法が知られており、特に酸化チタン微粒子は屈折率が高く、特開平１１−３８２０１号、同１１−２９５５０３号、特開２０００−９９０７号、同２０００−９９０８号、同２００２−２７５４３０号、同２００２−２７７６０９号に酸化チタン微粒子を中屈折率層、高屈折率層に使用する技術が開示されている。
【００１１】
反射防止性能、塗布液安定化のために、無機化合物または有機化合物により被覆されたルチル型の酸化チタン微粒子の分散剤としては、アニオン性の極性基を有することが好ましいことが特許文献１、２に記載されている。
【００１２】
しかしながら、本発明者等の検討の結果、上記の技術を用いても、金属酸化物微粒子の分散安定性の向上は実用上十分ではなく、得られた光学干渉層の膜強度は低く、層の屈折率も低いために反射防止性が低く、反射防止フィルムの反射防止性が低く、更に前記反射防止フィルムを用いて作製された表示装置の視認性が低くなる傾向があった。そこで、金属酸化物微粒子の分散安定性向上技術が求められている。
【特許文献１】特開２００２−２７５４３０号公報
【特許文献２】特開２００２−２７７６０９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明の目的は、金属酸化物微粒子の分散安定性に優れ、塗布液の停滞安定性が良好な反射防止フィルム用塗布組成物、該塗布組成物を用いて作製される高い膜強度を有する反射防止フィルム、偏光板及び表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の上記目的は、以下の構成により達成される。
【００１５】
（請求項１）
少なくとも（１）平均粒径１０〜２００ｎｍの金属酸化物微粒子、（２）非イオン性の有機分散剤、（３）バインダー及び（４）有機溶剤を含有することを特徴とする反射防止フィルム用塗布組成物。
【００１６】
（請求項２）
少なくとも（１）平均粒径１０〜２００ｎｍの金属酸化物微粒子、（２）非イオン性の有機分散剤及び（４）有機溶剤を混合して金属酸化物微粒子分散液を調製し、（３）バインダー及び（４）有機溶剤を主成分とするバインダー液と混合して調製することを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルム用塗布組成物。
【００１７】
（請求項３）
前記金属酸化物微粒子分散液の金属酸化物微粒子が５〜３０質量％で、有機分散剤が０．５〜２０質量％であることを特徴とする請求項２に記載の反射防止フィルム用塗布組成物。
【００１８】
（請求項４）
前記金属酸化物微粒子が、コア／シェル構造であり、コア部がルチル型酸化チタン微粒子で、シェルの主成分がアルミナ、シリカ及びジルコニアから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射防止フィルム用塗布組成物。
【００１９】
（請求項５）
前記バインダーが、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、ケイ素アルコキシド及びそれらのキレート化合物、分子中に重合可能な不飽和結合を２個以上有するアクリル系樹脂、アクリル樹脂及びメタクリル樹脂から選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射防止フィルム用塗布組成物。
【００２０】
（請求項６）
前記バインダーの主成分が、チタンアルコキシド、ケイ素アルコキシド及びそれらのキレート化合物から選ばれる少なくとも１種であり、シランカップリング剤またはチタンカップリング剤を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射防止フィルム用塗布組成物。
【００２１】
（請求項７）
前記有機溶剤が、低級アルコール、ケトンアルコール及びグリコールエーテルから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の反射防止フィルム用塗布組成物。
【００２２】
（請求項８）
前記有機分散剤が、非イオン界面活性剤であることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の反射防止フィルム用塗布組成物。
【００２３】
（請求項９）
前記非イオン界面活性剤が、ポリエチレンオキサイド鎖を有することを特徴とする請求項８に記載の反射防止フィルム用塗布組成物。
【００２４】
（請求項１０）
請求項１〜９のいずれか１項に記載の反射防止フィルム用塗布組成物からなることを特徴とする中屈折率層用塗布組成物。
【００２５】
（請求項１１）
請求項１〜９のいずれか１項に記載の反射防止フィルム用塗布組成物からなることを特徴とする高屈折率層用塗布組成物。
【００２６】
（請求項１２）
支持体の少なくとも一方の面に、ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層、またはハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層をこの順に塗布し、積層してなる多層構成の反射防止フィルムにおいて、該中屈折率層の塗布組成物が請求項１０に記載の中屈折率層用塗布組成物であり、該高屈折率層の塗布組成物が請求項１１に記載の高屈折率層用塗布組成物であることを特徴とする反射防止フィルム。
【００２７】
（請求項１３）
請求項１２に記載の反射防止フィルムを有することを特徴とする偏光板。
【００２８】
（請求項１４）
請求項１３に記載の偏光板を有することを特徴とする表示装置。
【発明の効果】
【００２９】
本発明により、金属酸化物微粒子の分散安定性に優れ、塗布液の停滞安定性が良好な反射防止フィルム用塗布組成物、該塗布組成物を用いて作製される高い膜強度を有する反射防止フィルム、偏光板及び表示装置を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
本発明者は鋭意研究の結果、少なくとも（１）平均粒径１０〜２００ｎｍの金属酸化物微粒子、（２）非イオン性の有機分散剤、（３）バインダー及び（４）有機溶剤を含有する反射防止フィルム用塗布組成物により、金属酸化物微粒子の分散安定性に優れ、塗布液の停滞安定性が良好な反射防止フィルム用塗布組成物が得られることを見出した。また、この反射防止フィルム用塗布組成物を用いることにより、高い膜強度を有する反射防止フィルム、偏光板及び表示装置の作製が可能になった。
【００３１】
以下、本発明に係る各構成要素について説明する。
【００３２】
本発明の反射防止フィルム用組成物について説明する。
【００３３】
本発明に係る反射防止フィルム用組成物は、少なくとも（１）平均粒径１０〜２００ｎｍの金属酸化物微粒子、（２）非イオン性の有機分散剤、（３）バインダー及び（４）有機溶剤を含有することが特徴である。
【００３４】
〔金属酸化物微粒子〕
金属酸化物微粒子の凝集を抑制して塗布液中での分散性を向上させ、かつ、塗布後のと膜の透明性向上の観点から、金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒径は１０〜２００ｎｍの範囲に調整することが必要で、好ましくは５０〜１５０ｎｍであり、最も好ましくは８０〜１３０ｎｍである。
【００３５】
ここで、金属酸化物微粒子の平均粒径は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測してもよいし、動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。
【００３６】
金属酸化物微粒子を構成する金属酸化物の具体例としては、二酸化珪素（シリカ）、酸化アルミニウム（アルミナ）酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化チタン（ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型等）、酸化鉄等が挙げられるが、中でも好ましく用いられるのは酸化チタンである。
【００３７】
本発明に係る金属酸化物微粒子はコア・シェル構造を有することが好ましく、前記コア／シェル構造では、シェルをコアの周りに１層形成させてもよいし、更に複数層のシェルを形成させてもよい。また、コア領域は、シェルにより完全に被覆されていることが好ましいが、部分的に被覆された状態でもよい。
【００３８】
コアは酸化チタン（ルチル型、アナターゼ型、アモルファス型等）、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンをドープした酸化スズ等を用いることができるが、ルチル型のルチル型酸化チタン微粒子を主成分とすることが好ましい。
【００３９】
シェルは金属の酸化物から形成することが好ましく、具体的には、シリカ、酸化アンチモン、酸化錫、ＡＴＯ（アンチモンドープティンオキサイド）、ＰＴＯ（リンをドープしたティンオキサイド）及びＩＴＯ（インジウムティンオキサイド）からなる群から選択される少なくとも１種を用いることができるが、シェルの主成分がアルミナ、シリカ及びジルコニアから選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
【００４０】
コアに対するシェルの被覆量は、金属酸化物微粒子の屈折率を所定の値に調整し、かつ、微粒子の耐光性を向上させる観点から決められる。
【００４１】
金属酸化物微粒子は、液相法または気相法で作製されたものを使用できる。前記金属酸化物微粒子がコア／シェル構造を有する場合、シェルをコアの周りに形成させる手法としては、例えば、米国特許第３，４１０，７０８号、特公昭５８−４７０６１号、米国特許第２，８８５，３６６号、同第３，４３７，５０２号、英国特許第１，１３４，２４９号、米国特許第３，３８３，２３１号、英国特許第２，６２９，９５３号、同第１，３６５，９９９号に記載されている方法等を用いることができる。
【００４２】
本発明においては、金属酸化物微粒子、有機分散剤及び有機溶剤を混合して、金属酸化物微粒子分散液を調製し、バインダーと有機溶剤を主成分とするバインダー液と混合して反射防止フィルム用塗布組成物を調製することが好ましい。
【００４３】
金属酸化物微粒子分散液では、金属酸化物微粒子は５〜３０質量％が好ましく、更に好ましくは１０〜３０質量％であり、後述する有機溶剤は０．５〜２０質量％であることが好ましい。
【００４４】
本発明の反射防止フィルム用組成物においては、上記の金属酸化物からなる、平均粒径０．１５μｍ以下の微粒子を固形分比率で０．１質量％〜９０．０質量％含むことが好ましい。
【００４５】
これらのチタン酸化物を含有する光学干渉層は主に高屈折率層に用いられるが、添加剤の調整等によって中屈折率層とすることもできる。
【００４６】
〔分散剤〕
従来、金属酸化物微粒子の分散にはアニオン性の有機分散剤が用いられているが、本発明においては非イオン性の有機分散剤を用いて金属酸化物微粒子を分散することが特徴である。
【００４７】
非イオン性の有機分散剤は、非イオン性界面活性剤であることがことが好ましい。非イオン性界面活性剤は水に溶けたとき、イオン化しない親水基を持っている界面活性剤で、その構造により、エステル型、エーテル型、エステル・エーテル型及びその他に分類される。本発明においてはイオン化しない親水基として、ポリエチレンオキサイド鎖が好ましい。
【００４８】
エステル型は、グリセリン、ソルビトール、ショ糖等の多価アルコールと脂肪酸がエステル結合した構造を持っており、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、グリセリンエステル、ポリグリセリンエステル、ソルビタンエステル、プロピレングリコールエステル、蔗糖エステル等がある。
【００４９】
エーテル型は、高級アルコールやアルキルフェノール等、水酸基をもつ原料に、主として酸化エチレン（エチレンオキシド）を付加重合して作られ、非イオン性の界面活性剤の代表的なもので、ポリオキシエチレンアルキル及びアルキルフェニルエーテル、アルキルアリルホルムアルデヒド縮合ポリオキシエチレンエーテル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックコポリマー、ポリオキシエチレンポリオキシプロピルアルキルエーテル等がある。
【００５０】
エステル・エーテル型は、脂肪酸や多価アルコール脂肪酸エステルに酸化エチレンを付加したもので、分子中にエステル結合とエーテル結合の両方を持っており、グリセリンエステルのポリオキシエチレンエーテル、ソルビタンエステルのポリオキシエチレンエーテル、ソルビトールエステルのポリオキシエチレンエーテル等がある。
【００５１】
その他の型としては、親油基と親水基がアミド結合で結合した脂肪酸アルカノールアミド、また、糖類（ブドウ糖等）を原料とするアルキルポリグルコシドが挙げられる。
【００５２】
これらの非イオン性界面活性剤は市販されており容易に入手することができ、具体的には、アシルソルビタン、トゥイーン（Ｔｗｅｅｎ）系界面活性剤、トリトン（Ｔｒｉｔｏｎ）系界面活性剤の、Ｔｒｉｔｏｎ  Ｘ−１００、Ｔｒｉｔｏｎ  Ｘ−４５、Ｔｒｉｔｏｎ  Ｘ−１１４。Ｔｒｉｔｏｎ  Ｘ−１０２、Ｔｒｉｔｏｎ  Ｘ−１６５、Ｎｏｎｉｄｅｔ  Ｐ−４０、Ｔｗｅｅｎ２０、Ｔｗｅｅｎ４０、Ｔｗｅｅｎ６０、Ｔｗｅｅｎ８０等が挙げられる。
【００５３】
〔有機溶剤〕
上記分散剤に加えて、金属酸化物微粒子分散液の調製には、メタノール、エタノール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、また、後述する反射防止フィルム用組成物の調製に用いられる各種の有機溶媒も金属酸化物微粒子の分散時に併用して用いることができる。
【００５４】
例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン、アセト酢酸メチル、塩化メチレン、アセトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサノン、蟻酸エチル、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、エチレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、イソプロピルアルコール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール等を挙げることができる。
【００５５】
本発明においては、低級アルコール、ケトンアルコール及びグリコールエーテルから選ばれる有機溶剤がことが好ましい。
【００５６】
これらの溶媒は二種以上を併用してもよい。中でも、塩化メチレン、酢酸メチル、アセトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、プロピレングリコールモノメチルエーテル、イソプロピルアルコール等が好ましい。
【００５７】
〔金属酸化物微粒子分散液の調製〕
分散機は通常の分散機が使用できる。分散機は大きく分けてメディア分散機とメディアレス分散機に分けられる。二酸化珪素微粒子の分散には後者がヘイズが低くなるので好ましい。メディア分散機としてはボールミル、サンドミル、ダイノミル等を挙げることができる。
【００５８】
また、メディアレス分散機として、超音波型、遠心型、高圧型等があるが、本発明においては高圧型が好ましく、高圧分散装置が好ましい。
【００５９】
高圧分散装置は、微粒子と有機溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態等特殊な条件を作り出す装置である。高圧分散装置で処理する場合、例えば、管径１〜２０００μｍの細管中で装置内部の最大圧力条件が９．８ＭＰａ以上であることが好ましい。更に好ましくは１９．６ＭＰａ以上である。またその際、最高到達速度が１００ｍ／秒以上に達するもの、伝熱速度が４２０ｋＪ／ｈｒ以上に達するものが好ましい。
【００６０】
上記のような高圧分散装置にはＭｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ  Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製超高圧ホモジナイザ（商品名マイクロフルイダイザ）あるいはナノマイザ社製ナノマイザがあり、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホモジナイザ、三和機械（株）社製ＵＨＮ−０１等がある。
【００６１】
（コア・シェル構造の元素比率及び元素比率の測定）
本発明に係る金属酸化物微粒子は、コア／シェル構造を有し、コア部がルチル型酸化チタン微粒子で、シェルの主成分がアルミナ、シリカまたはジルコニアであることが好ましい。
【００６２】
ここで、上記の元素分析及び元素比率の測定方法について説明する。金属酸化物粒子の表面、表面近傍並びに粒子内部の元素分析及び元素比率の測定は、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）表面分析装置を用いて測定する。
【００６３】
本発明で用いられるＸＰＳ表面分析装置としては、特に限定なく、いかなる機種も使用することができるが、本実施例においてはＶＧサイエンティフィックス社製ＥＳＣＡＬＡＢ−２００Ｒを用いた。Ｘ線アノードにはＭｇを用い、出力６００Ｗ（加速電圧１５ｋＶ、エミッション電流４０ｍＡ）で測定した。エネルギー分解能は、清浄なＡｇ３ｄ５／２ピークの半値幅で規定したとき、１．５〜１．７ｅＶとなるように設定した。
【００６４】
先ず、結合エネルギー０〜１１００ｅＶの範囲を、データ取り込み間隔１．０ｅＶで測定し、いかなる元素が検出されるかを求めた。
【００６５】
次に、検出された、全ての元素について、データの取り込み間隔を０．２ｅＶとして、その最大強度を与える光電子ピークについてナロースキャンを行い、各元素のスペクトルを測定した。得られたスペクトルは、測定装置、あるいは、コンピューターの違いによる含有率算出結果の違いを生じせしめなくするために、ＶＡＭＡＳ−ＳＣＡ−ＪＡＰＡＮ製のＣＯＭＭＯＮ  ＤＡＴＡ  ＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧ  ＳＹＳＴＥＭ  （Ｖｅｒ．２．３以降が好ましい）上に転送した後、同ソフトで処理を行い、元素組成の値を原子数濃度（ａｔｏｍｉｃ  ｃｏｎｃｅｎｔｒａｔｉｏｎ）として求めた。
【００６６】
定量処理を行う前に、各元素についてＣｏｕｎｔ  Ｓｃａｌｅのキャリブレーションを行い、５ポイントのスムージング処理を行った。定量処理では、バックグラウンドを除去したピークエリア強度（ｃｐｓ＊ｅＶ）を用いた。バックグラウンド処理には、Ｓｈｉｒｌｅｙによる方法を用いた。
【００６７】
Ｓｈｉｒｌｅｙ法については、Ｄ．Ａ．Ｓｈｉｒｌｅｙ，Ｐｈｙｓ．Ｒｅｖ．，Ｂ５，４７０９（１９７２）を参考にすることができる。
【００６８】
〔バインダー〕
金属酸化物微粒子と共に使用されるバインダー成分としては、有機金属化合物、電離放射線硬化型樹脂を用いることができる。
【００６９】
（有機金属化合物）
本発明に用いられる有機金属化合物としては下記式（１）で表される化合物またはそのキレート化合物を用いることができる。
【００７０】
式（１）：ＡnＭＢx-n
式中、Ｍは金属原子、Ａは加水分解可能な官能基または加水分解可能な官能基を有する炭化水素基、Ｂは金属原子Ｍに共有結合またはイオン結合した原子団を表す。ｘは金属原子Ｍの原子価、ｎは２以上でｘ以下の整数を表す。
【００７１】
加水分解可能な官能基Ａとしては、例えば、アルコキシル基、クロル原子等のハロゲン、エステル基、アミド基等が挙げられる。上記式（１）に属する有機金属化合物には、金属原子に直接結合したアルコキシル基を２個以上有するアルコキシド、または、そのキレート化合物が含まれる。好ましい金属化合物としては、屈折率や塗膜強度の補強効果、取り扱い易さ、材料コスト等の観点から、チタンアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド、ケイ素アルコキシドまたはそれらのキレート化合物を挙げることができる。チタンアルコキシドは反応速度が速くて屈折率が高く、取り扱いも容易であるが、光触媒作用があるため大量に添加すると耐光性が劣化する。ジルコニウムアルコキシドは屈折率が高いが白濁しやすいため、塗布する際の露点管理等に注意しなければならない。ケイ素アルコキシドは反応速度が遅く、屈折率も低いが取り扱いが容易で耐光性に優れる。シランカップリング剤は無機微粒子と有機ポリマーの両方と反応することができるため、強靱な塗膜を作ることができる。また、チタンアルコキシドは紫外線硬化樹脂、金属アルコキシドの反応を促進する効果があるため、少量添加するだけでも塗膜の物理的特性を向上させることができる。
【００７２】
チタンアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−プロポキシチタン、テトラ−ｎ−ブトキシチタン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシチタン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシチタン等が挙げられる。
【００７３】
ジルコニウムアルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシジルコニウム、テトラ−ｎ−プロポキシジルコニウム、テトラ−ｎ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシジルコニウム、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシジルコニウム等が挙げられる。
【００７４】
ケイ素アルコキシド及びシランカップリング剤は下記式（２）で表される化合物である。
【００７５】
式（２）：ＲｍＳｉ（ＯＲ′）ｎ
式中、Ｒはアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基）、または、ビニル基、（メタ）アクリロイル基、エポキシ基、アミド基、スルホニル基、水酸基、カルボキシル基、アルコキシル基等の反応性基を表し、Ｒ′はアルキル基（好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基）を表し、ｍ＋ｎは４である。
【００７６】
具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノプロピル）トリメトキシシラン等が挙げられる。
【００７７】
遊離の有機金属化合物に配位させてキレート化合物を形成するのに好ましいキレート化剤としては、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアルカノールアミン類、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、アセチルアセトン、アセト酢酸エチル等であって分子量１万以下のものを挙げることができる。これらのキレート化剤を用いることにより、水分の混入等に対しても安定で、塗膜の補強効果にも優れるキレート化合物を形成できる。
【００７８】
有機金属化合物の添加量は、中屈折率組成物では金属酸化物に換算して５質量％未満であることが好ましく、高屈折率組成物では金属酸化物に換算して２０質量％未満であることが好ましい。
【００７９】
（電離放射線硬化型樹脂）
電離放射線硬化型樹脂は無機微粒子のバインダーとして塗膜の成膜性や物理的特性の向上のために添加される。電離放射線硬化型樹脂としては、紫外線や電子線のような電離放射線の照射により直接、または光重合開始剤の作用を受けて間接的に重合反応を生じる官能基を２個以上有するモノマーまたはオリゴマーを用いることができる。官能基としては（メタ）アクリロイルオキシ基等のような不飽和二重結合を有する基、エポキシ基、シラノール基等が挙げられる。中でも不飽和二重結合を２個以上有するラジカル重合性のモノマーやオリゴマーを好ましく用いることができる。必要に応じて光重合開始剤を組み合わせてもよい。このような化合物としては、例えば多官能アクリレート化合物等が挙げられる。ここで、多官能アクリレート化合物とは、分子中に２個以上のアクリロイルオキシ基及び／またはメタクロイルオキシ基を有する化合物である。
【００８０】
多官能アクリレート化合物のモノマーとしては、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレートが挙げられる。これらの化合物は、それぞれ単独または２種以上を混合して用いられる。また、上記モノマーの２量体、３量体等のオリゴマーであってもよい。また、電離放射線硬化型樹脂は、分子中に水酸基を有することが好ましい。
【００８１】
電離放射線硬化型樹脂の添加量は、中屈折率組成物では５０質量％未満であることが好ましい。
【００８２】
電離放射線硬化型樹脂の硬化促進のために、光重合開始剤を電離放射線硬化型樹脂に対して１０〜３０質量％含有することが好ましい。光重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニウム塩の複塩の一群が特に好ましい。
【００８３】
かかる代表的なものは下記一般式（ａ）で表される化合物である。
【００８４】
一般式（ａ）    〔（Ｒ1）a（Ｒ2）b（Ｒ3）c（Ｒ4）dＺ〕w+〔ＭｅＸv〕w-
式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、ハロゲン（例えばＩ、Ｂｒ、Ｃｌ）、またはＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は同一であっても異なっていてもよい有機の基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜３の整数であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍｅはハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであり、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、ｖはハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。
【００８５】
上記一般式（ａ）の陰イオン〔ＭｅＸv〕w-の具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ4-）、テトラフルオロホスフェート（ＰＦ4-）、テトラフルオロアンチモネート（ＳｂＦ4-）、テトラフルオロアルセネート（ＡｓＦ4-）、テトラクロロアンチモネート（ＳｂＣｌ4-）等を挙げることができる。
【００８６】
また、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン（ＣｌＯ4-）、トリフルオロメチル亜硫酸イオン（ＣＦ3ＳＯ3-）、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳＯ3-）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン等を挙げることができる。
【００８７】
このようなオニウム塩の中でも特に芳香族オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有効であり、中でも特開昭５０−１５１９９６号、同５０−１５８６８０号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開昭５０−１５１９９７号、同５２−３０８９９号、同５９−５５４２０号、同５５−１２５１０５号等に記載のVIＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８号、同５６−１４９４０２号、同５７−１９２４２９号等に記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭４９−１７０４０号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第４，１３９，６５５号等に記載のチオピリリュム塩等が好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化合物系重合開始剤等を挙げることができる。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用することができる。
【００８８】
（アクリル樹脂またはメタクリル樹脂）
中屈折率層の固形分として０．５〜２０質量％のバインダが含まれることが好ましい。バインダとしては、重合可能なビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、イソプロペニル基、エポキシ基、オキセタン環等の重合性基を２つ以上有し、電離放射線照射により架橋構造または網目構造を形成するアクリル樹脂またはメタクリル樹脂が好ましい。これらの化合物はモノマー、オリゴマー、ポリマーを含み、その分子量は１０〜５０万であることが好ましい。重合速度、反応性の点から、これらの活性基のうちアクリロイル基、メタクリロイル基またはエポキシ基が好ましく、多官能モノマーまたはオリゴマーがより好ましい。
【００８９】
アクリルまたはメタクリル樹脂としては、紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂等を挙げることができる。
【００９０】
紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば特開昭５９−１５１１１０号）。
【００９１】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号）。
【００９２】
紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。
【００９３】
紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。
【００９４】
チタン化合物を含む中、高屈折率層には、バインダとしてアルコール溶解性アクリル樹脂も好ましく用いられ、これによって、膜厚むらが少ない中、高屈折率層を得ることができる。具体的には、アルキル（メタ）アクリレート重合体またはアルキル（メタ）アクリレート共重合体、例えばｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート等の共重合体が好ましく用いられるが、共重合成分としてはこれらに限定されるものではない。市販品としては、ダイヤナールＢＲ−５０、ＢＲ−５１、ＢＲ−５２、ＢＲ−６０、ＢＲ−６４、ＢＲ−６５、ＢＲ−７０、ＢＲ−７３、ＢＲ−７５、ＢＲ−７６、ＢＲ−７７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８０、ＢＲ−８２、ＢＲ−８３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８７、ＢＲ−８８、ＢＲ−８９、ＢＲ−９０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９５、ＢＲ−９６、ＢＲ−１００、ＢＲ−１０１、ＢＲ−１０２、ＢＲ−１０５、ＢＲ−１０７、ＢＲ−１０８、ＢＲ−１１２、ＢＲ−１１３、ＢＲ−１１５、ＢＲ−１１６、ＢＲ−１１７、ＢＲ−１１８（以上、三菱レーヨン（株）製）等が使用できる。これらのモノマー成分も中〜高屈折率層用バインダとして添加することができる。バインダの添加比率を変更することによって屈折率を調整することができる。
【００９５】
アクリル樹脂またはメタクリル樹脂のＴｇ（ガラス転移点）は３０℃以下であることが好ましい。Ｔｇは、Ｒｈｅｏｍｅｔｒｉｃｓ社製のＳＯＬＩＤＳ  ＡＮＡＬＹＺＥＲ−ＲＳＡIIを用いて、周波数（Ｆｒｅｑｅｎｃｙ）を１００ｒａｄ／ｓｅｃ、歪み（ｓｔｒａｉｎ）を８．０×１０-4として測定し、ｔａｎδのピーク値になる温度をガラス転移点（Ｔｇ）として得ることができる。
【００９６】
アクリル樹脂またはメタクリル樹脂の添加量は、中屈折率組成物では１〜２０質量％であることが好ましい。
【００９７】
〔支持体〕
反射防止フィルムの支持体としては、製造が容易であること、反射防止層等との接着性が良好である、光学的に等方性である、光学的に透明であること等が好ましい要件として挙げられる。
【００９８】
上記の性質を有していれば特に限定はないが、例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム，ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルムまたはアクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、セルローストリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンを含む）が好ましく、本発明においては、特にセルローストリアセテートフィルム（例えばコニカタック、製品名ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ２ＭＷ（コニカ（株）製）が好ましく用いられる。）またはセルロースアセテートプロピオネートフィルムが、製造上、コスト面、透明性、等方性、接着性等の観点から好ましく用いられる。
【００９９】
低い反射率の積層体が得られるため、基材としてはセルロースエステルフィルムを用いることが好ましい。セルロースエステルとしては、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく、中でもセルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられる。
【０１００】
特にアセチル基の置換度をＸ、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をＹとしたとき、ＸとＹが下記の範囲にあるセルロースの混合脂肪酸エステルを有する支持体上に高屈折率層及び中屈折率層を設けた低反射フィルムが好ましく用いられる。
【０１０１】
２．３≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
０．１≦Ｙ≦１．２
特に、２．５≦Ｘ＋Ｙ≦２．８５
０．３≦Ｙ≦１．２であることが好ましい。
【０１０２】
本発明に用いられる支持体としてセルロースエステルを用いる場合、セルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ（針葉樹由来、広葉樹由来）、ケナフ等を挙げることができる。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。これらのセルロースエステルは、アシル化剤が酸無水物（無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸）である場合には、酢酸のような有機酸やメチレンクロライド等の有機溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いてセルロース原料と反応させて得ることができる。
【０１０３】
アシル化剤が酸クロライド（ＣＨ3ＣＯＣｌ、Ｃ2Ｈ5ＣＯＣｌ、Ｃ3Ｈ7ＣＯＣｌ）の場合には、触媒としてアミンのような塩基性化合物を用いて反応が行われる。具体的には、特開平１０−４５８０４号に記載の方法等を参考にして合成することができる。また、本発明に用いられるセルロースエステルは各置換度に合わせて上記アシル化剤量を混合して反応させたものであり、セルロースエステルはこれらアシル化剤がセルロース分子の水酸基に反応する。セルロース分子はグルコースユニットが多数連結したものからなっており、グルコースユニットに３個の水酸基がある。この３個の水酸基にアシル基が誘導された数を置換度（モル％）という。例えば、セルローストリアセテートはグルコースユニットの３個の水酸基全てにアセチル基が結合している（実際には２．６〜３．０）。
【０１０４】
本発明に用いられるセルロースエステルとしては、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、またはセルロースアセテートプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他にプロピオネート基またはブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルが特に好ましく用いられる。なお、ブチレートを形成するブチリル基としては、直鎖状でも分岐していてもよい。
【０１０５】
プロピオネート基を置換基として含むセルロースアセテートプロピオネートは耐水性に優れ、液晶画像表示装置用のフィルムとして有用である。
【０１０６】
アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することができる。
【０１０７】
セルロースエステルの数平均分子量は、７０，０００〜２５０，０００が、成型した場合の機械的強度が強く、かつ、適度なドープ粘度となり好ましく、更に好ましくは、８０，０００〜１５０，０００である。
【０１０８】
これらセルロースエステルは一般的に溶液流延製膜法と呼ばれるセルロースエステル溶解液（ドープ）を、例えば、無限に移送する無端の金属ベルトまたは回転する金属ドラムの流延用支持体上に加圧ダイからドープを流延（キャスティング）し製膜する方法で製造されることが好ましい。
【０１０９】
これらドープの調製に用いられる有機溶媒としては、セルロースエステルを溶解でき、かつ、適度な沸点であることが好ましく、例えばメチレンクロライド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等を挙げることができるが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン等が好ましい有機溶媒（即ち、良溶媒）として挙げられる。
【０１１０】
また、溶媒蒸発工程において流延用支持体上に形成されたウェブ（ドープ膜）から溶媒を乾燥させるときに、ウェブ中の発泡を防止する観点から、用いられる有機溶媒の沸点としては、３０〜８０℃が好ましく、例えば、上記記載の良溶媒の沸点は、メチレンクロライド（沸点４０．４℃）、酢酸メチル（沸点５６．３２℃）、アセトン（沸点５６．３℃）、酢酸エチル（沸点７６．８２℃）等である。
【０１１１】
上記記載の良溶媒の中でも溶解性に優れるメチレンクロライド、酢酸メチルが好ましく用いられ、特にメチレンクロライドが全有機溶媒に対して５０質量％以上含まれていることが好ましい。
【０１１２】
上記有機溶媒の他に、０．１〜３０質量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。特に好ましくは５〜３０質量％で前記アルコールが含まれることが好ましい。これらは上記記載のドープを流延用支持体に流延後、溶媒が蒸発を始めアルコールの比率が多くなるとウェブ（ドープ膜）がゲル化し、ウェブを丈夫にし流延用支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。
【０１１３】
炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等を挙げることができる。
【０１１４】
これらの溶媒のうち、ドープの安定性がよく、沸点も比較的低く、乾燥性もよく、かつ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。好ましくは、メチレンクロライド７０〜９５質量％に対してエタノール５〜３０質量％を含む溶媒を用いることが好ましい。メチレンクロライドの代わりに酢酸メチルを用いることもできる。このとき、冷却溶解法によりドープを調製してもよい。
【０１１５】
本発明で用いられるセルロースエステルフィルムは少なくとも幅手方向に延伸されたものが好ましく、特に溶液流延工程で剥離残溶量が３〜４０質量％であるときに幅手方向に１．０１〜１．５倍に延伸されたものであることが好ましい。より好ましくは幅手方向と長手方向に２軸延伸することであり、剥離残溶量が３〜４０質量％であるときに幅手方向及び長手方向に、各々１．０１〜１．５倍に延伸されることが望ましい。こうすることによって、視認性に優れた反射防止フィルムを得ることができる。更に、２軸延伸し、ナーリング加工をすることによって、長尺状低反射フィルムのロール状での保管中の巻き形状の劣化を著しく改善することができる。
【０１１６】
このときの延伸倍率としては１．０１〜１．５倍が好ましく、特に好ましくは、１．０３〜１．４５倍である。
【０１１７】
本発明に係る二軸延伸されたセルロースエステルフィルムは、光透過率が９０％以上、より好ましくは９３％以上の透明支持体であることが好ましい。
【０１１８】
本発明に係るセルロースエステルフィルム支持体は、その厚さが１０〜１００μｍのものが好ましく、透湿性は、２５℃、９０±２％ＲＨにおいて、２００ｇ／ｍ2・２４時間以下であることが好ましく、更に好ましくは、１０〜１８０ｇ／ｍ2・２４時間以下であり、特に好ましくは、１６０ｇ／ｍ2・２４時間以下である。
【０１１９】
特には、膜厚１０〜６０μｍで透湿性が上記範囲内であることが好ましい。
【０１２０】
ここで、支持体の透湿性は、ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に記載の方法に従い、各試料の透湿性を測定した。
【０１２１】
本発明に用いられる支持体にセルロースエステルフィルムを用いる場合、下記のような可塑剤を含有するのが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤等を好ましく用いることができる。
【０１２２】
リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジフェニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸系可塑剤では、トリブチルトリメリテート、トリフェニルトリメリテート、トリエチルトリメリテート等、ピロメリット酸エステル系可塑剤では、テトラブチルピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート、テトラエチルピロメリテート等、グリコレート系可塑剤では、トリアセチン、トリブチリン、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等、クエン酸エステル系可塑剤では、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等を好ましく用いることができる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。
【０１２３】
ポリエステル系可塑剤として脂肪族二塩基酸、脂環式二塩基酸、芳香族二塩基酸等の二塩基酸とグリコールの共重合ポリマーを用いることができる。脂肪族二塩基酸としては特に限定されないが、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、テレフタル酸、１，４−シクロヘキシルジカルボン酸等を用いることができる。グリコールとしては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，４−ブチレングリコール、１，３−ブチレングリコール、１，２−ブチレングリコール等を用いることができる。これらの二塩基酸及びグリコールはそれぞれ単独で用いてもよいし、二種以上混合して用いてもよい。
【０１２４】
特に、特願２０００−３３８８８３記載のエポキシ系化合物、ロジン系化合物、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ケトン樹脂、トルエンスルホンアミド樹脂等の添加物を有するセルロースエステルも好ましく用いられる。
【０１２５】
上記化合物のうち、ＫＥ−６０４とＫＥ−６１０は荒川化学工業（株）からそれぞれ酸価２３７と１７０で市販されている。同じく、荒川化学工業（株）からアビエチン酸、デヒドロアビエチン酸及びパラストリン酸３者の混合物のエステル化物として、ＫＥ−１００及びＫＥ−３５６が、それぞれの酸価は８と０で市販されている。また、アビエチン酸、デヒドロアビエチン酸及びパラストリン酸３者の混合物は、播磨化成（株）からそれぞれの酸価１６７、１６８のＧ−７及びハートールＲ−Ｘで市販されている。
【０１２６】
エポキシ樹脂としては、例えば、アラルダイドＥＰＮ１１７９及びアラルダイドＡＥＲ２６０は旭チバ（株）から市販されている。
【０１２７】
ケトン樹脂としては、例えば、ハイラック１１０及びハイラック１１０Ｈは日立化成（株）から市販されている。
【０１２８】
パラトルエンスルホンアミド樹脂としては、例えば、トップラーとして、フジアミドケミカル（株）から市販されている。
【０１２９】
これらの可塑剤は単独または併用するのが好ましい。
【０１３０】
これらの可塑剤の使用量は、フィルム性能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して１〜２０質量％が好ましく、特に好ましくは、３〜１３質量％である。
【０１３１】
本発明に用いられる支持体には、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
【０１３２】
紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。
【０１３３】
本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等が挙げられるが、これらに限定されない。
【０１３４】
以下に、本発明に係る紫外線吸収剤の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されない。
【０１３５】
ＵＶ−１：２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−２：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−３：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−４：２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−５：２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール
ＵＶ−６：２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）
ＵＶ−７：２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール
ＵＶ−８：２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール（ＴＩＮＵＶＩＮ１７１、Ｃｉｂａ製）
ＵＶ−９：オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（ＴＩＮＵＶＩＮ１０９、Ｃｉｂａ製）
また、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく用いられる。以下にベンゾフェノン系化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されない。
【０１３６】
ＵＶ−１０：２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン
ＵＶ−１１：２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン
ＵＶ−１２：２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン
ＵＶ−１３：ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
【０１３７】
また、特開２００１−１８７８２５に記載されている分配係数が９．２以上の紫外線吸収剤は、支持体の面品質を向上させ、塗布性にも優れている。特に分配係数が１０．１以上の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。
【０１３８】
また、特開平６−１４８４３０号に記載の一般式（１）または一般式（２）、特願２０００−１５６０３９の一般式（３）、（６）、（７）記載の高分子紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポリマー）も好ましく用いられる。高分子紫外線吸収剤としては、ＰＵＶＡ−３０Ｍ（大塚化学（株）製）等が市販されている。
【０１３９】
本発明に用いられる紫外線吸収剤添加液の添加方法としては、下記に記載の方法が挙げられる。
【０１４０】
（添加方法Ａ）
アルコールやメチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶剤に紫外線吸収剤を溶解してから直接ドープ組成中に添加する。
【０１４１】
（添加方法Ｂ）
アルコールやメチレンクロライド、ジオキソラン等の有機溶剤に紫外線吸収剤と少量のセルロースエステルを溶解してからインラインミキサーでドープに添加する。
【０１４２】
本発明においては、添加方法Ｂの方が、紫外線吸収剤の添加量を容易に調整できるため、生産性に優れていて好ましい。
【０１４３】
紫外線吸収剤の使用量は化合物の種類、使用条件等により一様ではないが、通常はセルロースエステルフィルム１ｍ2当り、０．２〜２．０ｇが好ましく、０．４〜１．５ｇがさらに好ましく、０．６〜１．０ｇが特に好ましい。
【０１４４】
（クリアハードコート層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層、反射防止フィルム）
電離放射線硬化物質を含有する塗布液の塗布方法としては、グラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコーター、ロールコーター、リバースコーター、押出コーター、エアードクターコーター等公知の方法を用いることができる。塗布量はウェット膜厚で０．１〜３０μｍが適当で、好ましくは０．５〜１５μｍである。
【０１４５】
電離放射線硬化樹脂を含有する塗布液は塗布乾燥された後、電離放射線、特に紫外線等の電離放射線を照射するが、照射時間は０．１秒〜５分がよく、硬化樹脂の硬化効率、作業効率等から０．１秒〜１分がより好ましい。
【０１４６】
作製された電離放射線硬化樹脂層の上には各種の機能を付与するための機能層を形成することができ、例えばブロッキング防止層、防眩層、反射防止層、クリアハード層、帯電防止層、カール防止層、易接着層、配向層、液晶層、光学異方性層、光学補償層等が挙げられる。これらの各種機能を付与するために用いられる塗布液には好ましくは有機溶媒が用いられる。このとき、樹脂フィルムを溶解もしくは膨潤させる性質を有する溶媒を用いることが塗設された層と樹脂フィルムとの密着性に優れるため好ましく用いられる。溶剤としては前述の溶剤が用いられる。
【０１４７】
電離放射線硬化型樹脂を含む層の隣接層には酸化防止剤を含有することが好ましい。
【０１４８】
本発明では、中屈折率層である電離放射線硬化方樹脂層の上に高屈折率層あるいは低屈折率層等の反射防止層を塗設することができ、反射光の色むらが著しく改善された反射防止フィルムが得られたのである。
【０１４９】
本発明の反射防止フィルムの層構成としては、下記の例があげられるが、特にこれらに限定されるものではない。このうち、クリアハードコート層、防眩層、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層のうち中屈折率層を含む少なくとも１層は塗布乾燥の後、電離放射線を照射し硬化する層とすることができる。反射防止層はＴｉやＳｉのどの金属アルコキシドを用いたゾルゲル法で形成してもよく、Ｚｒ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｉｎ等の金属酸化物微粒子とバインダーを含む組成物を塗設してもよい。
【０１５０】
バックコート層／樹脂フィルム／クリアハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
バックコート層／樹脂フィルム／クリアハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
帯電防止層／樹脂フィルム／クリアハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
バックコート層／樹脂フィルム／防眩層／高屈折率層／低屈折率層
バックコート層／樹脂フィルム／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
帯電防止層／樹脂フィルム／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
本発明によって得られた反射防止フィルムは平面性に優れるため、特に液晶表示装置、あるいは有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイの前面に用いられる反射防止フィルムあるいは防眩フィルム、クリアハードコートフィルムとして有用であり、優れた視認性を提供することができ、これらを偏光板保護フィルムとして用いた偏光板あるいは表示装置を提供することができる。
【０１５１】
（偏光板及びそれを用いる画像表示装置）
本発明の偏光板、それを用いた画像表示装置について説明する。本発明の偏光板に用いる偏光子としては、従来公知のものを用いることができる。偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。これらは、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。
【０１５２】
本発明の偏光板は、こうして得られた偏光子と本発明の反射防止フィルムとを貼合して得られる。
【０１５３】
本発明の反射防止フィルムは偏光板保護フィルムとして好ましく用いられ、偏光子の少なくとも片側に積層し、貼合されて偏光板とすることができる。
【０１５４】
本発明の偏光板は、一般的な方法で作製することができる。例えば、本発明の反射防止フィルムをアルカリ処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の両面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。上記記載のアルカリケン化処理とは、このときの水系接着剤の濡れをよくし、接着性を向上させるために、セルロースエステルフィルムを高温の強アルカリ液中に浸ける処理を示す。このとき、反射防止層の表面には再剥離性の保護フィルム（例えばＰＥＴ等のポリエステル樹脂製）を設けることにより、アルカリや汚れから保護することができる。
【０１５５】
本発明の反射防止フィルムを一方の偏光板保護フィルムとして用いた場合、もう一方の偏光板保護フィルムには、光学補償機能を持たせることができる。例えば、直接または配向層を介して、液晶を塗布して配向、固定化した光学異方層（例えばハイブリッド配向で固定化した層）を設け、これを偏光板保護フィルムとして用いて視野角拡大効果を有する偏光板を作製することもできる。
【０１５６】
また、必要に応じて、反射防止層の表面に防汚性を持たせるかあるいは防汚層を設けることができる。防汚層としてはＳｉ系あるいはＦ系の公知の化合物を用いた層が好ましく用いられる。
【０１５７】
反射防止層／セルロースエステルフィルム／偏光子／セルロースエステルフィルム／配向層／光学異方層（液晶セル）
このようにして得られた偏光板は、液晶セルの一方の面もしくは、両面に設けてもよい。本発明の反射防止フィルムは反射防止層が外側を向くように液晶セルに貼りつけ、本発明の画像表示装置が得られる。
【０１５８】
本発明の積層体フィルムを用いることによって、高精細でありながら視認性に優れ耐傷性に優れた画像表示装置を提供することができる。
【実施例】
【０１５９】
以下、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【０１６０】
実施例１
〔バックコート層を有するセルローストリアセテートフィルムの作製〕
膜厚４０、８０μｍのセルローストリアセテート（ＴＡＣ）フィルムに、下記バックコート層組成物をウェット膜厚１４μｍとなるように押し出しコーターで塗布し、８５℃にて乾燥し巻き取り、バックコート層を設けた。
【０１６１】
（バックコート層組成物）
アセトン                                                          ３０質量部
酢酸エチル                                                        ４５質量部
イソプロピルアルコール                                            １０質量部
ジアセチルセルロース                                            ０．６質量部
超微粒子シリカ２％アセトン分散液（日本アエロジル（株）製アエロジル２００Ｖ）
０．２質量部
〔ハードコート層の作製〕
上記バックコート層を有するセルローストリアセテートフィルムの片面に下記ハードコート層組成物を乾燥膜厚３．５μｍとなるように塗布し、８０℃にて１分間乾燥した。次に高圧水銀ランプ（８０Ｗ）にて１５０ｍＪ／ｃｍ2の条件で硬化させた。
【０１６２】
（ハードコート層組成物）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体                  １０８質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体                    ３６質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分          ３６質量部
ジエトキシベンゾフェノン（ＵＶ光重合開始剤）                      １８質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                            ９０質量部
酢酸エチル                                                        ９０質量部
〔反射防止フィルムの作製〕
上記で作製したハードコート層を有するセルローストリアセテートフィルム上に、下記中屈折率層塗布液、高屈折率層塗布液、次いで、低屈折率層塗布液を塗設し、反射防止フィルム１１〜１６を作製した。
【０１６３】
（酸化チタン分散液の調製）
下記組成の酸化チタン分散液１〜６を調製した。平均粒径は、マイクロトラック粒度分布測定装置（ＵＰＡ１５０（日機装社製））により測定した平均粒径を記す。分散機及び分散条件は以下に示す。
【０１６４】
酸化チタン微粒子（コアＴｉ／シェルＳｉ元素比率＝８５／１５）      １５質量部
分散剤（表１参照）                                                  ２質量部
ジアセトンアルコール                                              １７質量部
ｎ−ブタノール                                                    ６６質量部
分散機  ：超音波分散機（日本精機製作所：モデルＵＳ３００）
分散条件：２００μＡ、３０分
平均粒径：１１０ｎｍ
（中屈折率層塗布液の調製）
上記酸化チタン分散液                                              ４７質量部
チタニウムジアセチルアセトナートジ−ｉｓｏ−プロピレート（有機金属化合物）
３質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（バインダー）            ５０質量部
イルガキュア１８４（光重合開始剤）                                  ３質量部
γ−メタクリロキシプロピルメトキシシラン（シランカップリング剤）  １０質量部
ポリ−ｎ−ブチルメタクリレート（バインダー）                        ５質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）              ７２０質量部
イソプロピルアルコール                                        １４７０質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）                                    ２５０質量部
（高屈折率層塗布液の調製）
上記酸化チタン分散液                                              ７０質量部
テトラ（ｎ）ブトキシキチタン                                    １．５質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学社製：ＫＢＭ５０３）
３質量部
直鎖ジメチルシリコーン−ＥＯブロックコポリマー（日本ユニカー製：ＦＺ−２２０７）                                                                ０．２質量部
イソプロピルアルコール                                          ５５５質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）              ２７８質量部
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）                                      ９３質量部
（テトラエトキシシラン加水分解物Ａの調製）
テトラエトキシシラン５８０ｇとエタノール１１４４ｇを混合し、これにクエン酸水溶液（クエン酸１水和物５．４ｇを水２７２ｇに溶解したもの）を添加した後に、室温（２５℃）にて１時間攪拌することでテトラエトキシシラン加水分解物Ａを調製した。
【０１６５】
（低屈折率層塗布液の調製）
プロピレングリコールモノメチルエーテル                          ３０３質量部
イソプロピルアルコール                                          ３０５質量部
上記テトラエトキシシラン加水分解物Ａ                            １３９質量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学社製：ＫＢＭ５０３）
１．６質量部
１０％ＦＺ−２２０７、プロピレングリコールモノメチルエーテル溶液（日本ユニカー社製）                                                            １．３質量部
上記バックコート層を有するセルローストリアセテートフィルム上に、表１記載の中屈折率層塗布液を押し出しコーターで塗布し、８０℃で５分間乾燥させ、厚さが７８ｎｍとなるように中屈折率層を設けた。
【０１６６】
前記の中屈折率層上に、表１記載の高屈折率層塗布液を押し出しコーターで塗布し、８０℃で５分間乾燥させ、厚さが６６ｎｍとなるように高屈折率層を設けた。
【０１６７】
前記の高屈折率層上に、下記の低屈折率層塗布液を押し出しコーターで塗布し、８０℃で５分間乾燥させた後、更に１２０℃で５分間熱硬化させ、さらに紫外線を照射して硬化させ、厚さ９５ｎｍとなるように低屈折率層を設け、反射防止フィルム１１〜１６を得た。
【０１６８】
〔評価〕
作製した反射防止フィルムについて下記方法により評価した。評価の結果を表１に示す。
【０１６９】
（ＳＷ耐性）
作製直後の反射防止フィルム（即日）と、２３℃、５５％ＲＨの環境下で２週間保存した反射防止フィルム（２週間）に、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、＃００００のスチールウール（ＳＷ）に２００ｇ／ｃｍ2の荷重をかけ、１０往復したときの１ｃｍ幅当たりの傷の本数を測定した。なお、傷の本数は荷重をかけた部分の中で最も傷の本数の多い所で測定する。１０本／ｃｍ以下であれば実用上問題ないが、５本／ｃｍ以下が好ましく、３本／ｃｍ以下が更に好ましい。
【０１７０】
【表１】
2005272755.tif 000002
【０１７１】
表１から、比較と比べて本発明の試料は、ＳＷ耐性が良好であることが明らかである。
【０１７２】
実施例２
実施例１の反射防止フィルム３の作製において、酸化チタン分散液のチタン微粒子及び有機分散剤の添加量（質量％）を表２のように変え、この酸化チタン分散液を用いる中屈折率層塗布液及び高屈折率層塗布液の有機溶剤量を調整して、中屈折率層塗布液及び高屈折率層塗布液中の酸化チタン濃度を実施例１の反射防止フィルム３と同じになるようにした他は同様にして反射防止フィルム２１〜２８を作製した。
【０１７３】
作製した反射防止フィルムについて実施例１と同様にＳＷ耐性を評価した。評価の結果を表２に示す。
【０１７４】
【表２】
2005272755.tif 000003
【０１７５】
表２から、酸化チタン分散液のチタン微粒子及び有機分散剤の添加量（質量％）が特定の範囲にある試料は、ＳＷ耐性が良好であることが明らかである。
【０１７６】
実施例３
実施例１で作製した反射防止フィルムを用いて下記のようにして偏光板を作製し、それらの偏光板を液晶表示パネル（画像表示装置）に組み込み、視認性を評価した。
【０１７７】
下記の方法に従って、反射防止フィルムと該フィルムに支持体として用いられているセルローストリアセテートフィルム各々１枚を偏光板保護フィルムとして用いて本発明の偏光板を作製した。
【０１７８】
（ａ）偏光膜の作製
厚さ１２０μｍの長尺のポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇの比率からなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇの比率からなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し長尺の偏光膜を得た。
【０１７９】
（ｂ）偏光板の作製
次いで、下記工程１〜５に従って、偏光膜と偏光板用保護フィルムとを貼り合わせて偏光板を作製した。
【０１８０】
工程１：セルローストリアセテートフィルムと反射防止フィルムを２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に６０℃で９０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。反射防止フィルムの反射防止層を設けた面にはあらかじめ剥離性の保護フィルム（ＰＥＴ製）を張り付けて保護した。
【０１８１】
同様にセルローストリアセテートフィルムを２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に６０℃で９０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。
【０１８２】
工程２：前述の偏光膜を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒間浸漬した。
【０１８３】
工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く取り除き、それを工程１でアルカリ処理したセルローストリアセテートフィルムと反射防止フィルムで挟み込んで、積層配置した。
【０１８４】
工程４：２つの回転するローラにて２０〜３０Ｎ／ｃｍ2の圧力で約２ｍ／ｍｉｎの速度で張り合わせた。このとき気泡が入らないように注意して実施した。
【０１８５】
工程５：８０℃の乾燥機中にて工程４で作製した試料を２分間乾燥処理し、本発明の偏光板を作製した。
【０１８６】
市販の液晶表示パネル（ＮＥＣ製  カラー液晶ディスプレイ  ＭｕｌｔｉＳｙｎｃ  ＬＣＤ１５２５Ｊ：型名  ＬＡ−１５２９ＨＭ）の最表面の偏光板を注意深く剥離し、ここに偏光方向を合わせた本発明の偏光板を張り付けた。
【０１８７】
上記のようにして得られた液晶パネルを床から８０ｃｍの高さの机上に配置し、床から３ｍの高さの天井部に昼色光直管蛍光灯（ＦＬＲ４０Ｓ・Ｄ／Ｍ−Ｘ  松下電器産業（株）製）４０Ｗ×２本を１セットとして１．５ｍ間隔で１０セット配置した。このとき評価者が液晶パネル表示面正面にいるときに、評価者の頭上より後方に向けて天井部に前記蛍光灯がくるように配置した。液晶パネルは机に対する垂直方向から２５°傾けて蛍光灯が写り込むようにして画面の見易さ（視認性）を下記のようにランク評価した。
【０１８８】
Ａ：最も近い蛍光灯の移りこみから気にならず、フォントの大きさ８以下の文字もはっきりと読める
Ｂ：近くの蛍光灯の写りこみはやや気になるが、遠くは気にならず、フォントの大きさ８以下の文字もなんとかと読める
Ｃ：遠くの蛍光灯の写りこみも気になり、フォントの大きさ８以下の文字を読むのは困難である
Ｄ：蛍光灯の写りこみがかなり気になり、写り込みの部分はフォントの大きさ８以下の文字を読むことはできない
評価の結果、本発明の試料はＢ以上であり、比較試料より良好であった。