(57)【要約】【課題】カラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板作製の工程数を削減し、材料コスト低減するカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートを提供すること。また、廉価なカラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板、その製造方法を提供すること。【解決手段】支持体１４上に光熱変換層１３と、Ｒ、Ｇ、及びＢの有機発光層を少なくとも各１層有するストライプ状の有機材料層３が形成されたこと。有機材料層の巾が、回路基板の電極２の巾の１．１倍以上５．０以下であること。レーザー熱転写ドナーシートが、回路基板に重ね合わされ、レーザー光１７が照射され、有機材料層が電極上に画素状に転写されたカラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体上に光熱変換層と、レッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、及びブルー（Ｂ）の有機発光層を少なくとも各１層有するストライプ状の有機材料層が形成されたことを特徴とするカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシート。
【請求項２】
前記ストライプ状の有機材料層の巾が、ＥＬディスプレイ用回路基板の電極の巾の１．１倍以上５．０以下であることを特徴とする請求項１記載のカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシート。
【請求項３】
請求項１、又は請求項２記載のカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートが、ＥＬディスプレイ用回路基板に重ね合わされ、支持体側からレーザー光が照射され、有機材料層が該ＥＬディスプレイ用回路基板の電極上に画素状に転写されたことを特徴とするカラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板。
【請求項４】
請求項１、又は請求項２記載のカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートを、ＥＬディスプレイ用回路基板に重ね合わせ、支持体側からレーザー光を照射し、有機材料層を該ＥＬディスプレイ用回路基板の電極上に画素状に転写することを特徴とするカラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラー有機ＥＬディスプレイに関するものであり、特に、カラー有機ＥＬディスプレイの製造に用いられる、カラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシート、カラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラー有機ＥＬディスプレイの画素の形成には、マスク蒸着法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。或いは、インクジェット法が提案されている（例えば、特許文献２参照）。しかし、マスク蒸着法やインクジェット法は、大型化への対応が難しい。マスク蒸着法では投入できる基板サイズに限界がある。また、インクジェット法では大型基板への有機ＥＬ素子作製に時間が掛かるといった問題がある。これらの課題を解決する目的で、レーザー熱転写法が検討された。
【０００３】
しかし、従来のＲ、Ｇ、又はＢに発色可能な有機材料層が設けられたレーザー熱転写ドナーシートを用いた画素の形成では、Ｒ、Ｇ、又はＢに発色可能な有機材料層を用いて各色ごとにレーザー熱転写ドナーシートを形成して、各色ごとに転写工程を行なっいる（例えば、特許文献３参照）。
【０００４】
すなわち、従来のレーザー熱転写ドナーシートでは、Ｒ、Ｇ、又はＢに発色可能な有機材料層の各々の材料を異なるシートに設け、各材料ごとに転写工程を繰り返す煩雑さがあった。また、シートのほぼ全面に有機材料層を設けて所望の大きさでの転写を行なうために材料の未使用部分が多かった。
【特許文献１】特開平８−２２７２７６号公報
【特許文献２】特開平１０−１２３７７号公報
【特許文献３】特開２００３−７７６５８号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、カラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板作製の工程数を削減でき、更に、材料コスト低減が可能なカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートを提供することを課題とするものである。
【０００６】
また、上記カラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートを用いた廉価なカラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板、及びその製造方法を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、支持体上に光熱変換層と、レッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、及びブルー（Ｂ）の有機発光層を少なくとも各１層有するストライプ状の有機材料層が形成されたことを特徴とするカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートである。
【０００８】
また、本発明は、上記発明によるカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートにおいて、前記ストライプ状の有機材料層の巾が、ＥＬディスプレイ用回路基板の電極の巾の１．１倍以上５．０以下であることを特徴とするカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートである。
【０００９】
また、本発明は、請求項１、又は請求項２記載のカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートが、ＥＬディスプレイ用回路基板に重ね合わされ、支持体側からレーザー光が照射され、有機材料層が該ＥＬディスプレイ用回路基板の電極上に画素状に転写されたことを特徴とするカラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板である。
【００１０】
また、本発明は、請求項１、又は請求項２記載のカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートを、ＥＬディスプレイ用回路基板に重ね合わせ、支持体側からレーザー光を照射し、有機材料層を該ＥＬディスプレイ用回路基板の電極上に画素状に転写することを特徴とするカラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板の製造方法である。
【発明の効果】
【００１１】
Ｒ、Ｇ、及びＢのストライプ状の有機材料層がフィルム基材上に形成された、カラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートを製造し、ＥＬディスプレイ用回路基板上に各色の有機材料層を転写することで、カラー有機ＥＬディスプレイ用熱転写ドナーシートの製造と転写プロセスを１／３に削減できる。また、材料の使用量も削減できる。よって、転写法を用いたカラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板の作製費用の大幅な削減が可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１２】
以下に本発明によるカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシート、及びカラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板を、その一実施の形態に基づいて説明する。
【００１３】
図１（ａ）は、本発明によるカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートの一実施例の上面からの平面図、（ｂ）は、ストライプ状の有機材料層のストライプに平行な方向の断面図、（ｃ）は、直角方向の断面図である。また、（ｄ）は、カバーフィルム（１５）が貼り合わされた状態での直角方向を拡大して示す断面図である。
【００１４】
図１（ａ）〜（ｃ）に示すように、本発明によるカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートは、支持体としてのフィルム基材（１４）上に、光熱変換層（１３）と、ストライプ状の有機材料層（３）が形成されたものである。また、図２は、上記カラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートを用いて製造された、カラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板の一例における前記ストライプと直角方向の断面図である。
【００１５】
図２に示すように、カラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板は、ＥＬディスプレイ用回路基板（２０）の第一電極（２）上にカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートの有機材料層（３）が画素状に形成され、続いて、その全面に保護層（４）、第二電極（５）が形成されたものである。
【００１６】
ＥＬディスプレイ用回路基板（２０）は、基板（１）上に、ＴＦＴ（６）、第一電極（２）、平坦化層（１０）が順次に形成されたものである。
【００１７】
以下に、カラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートを構成する各層について詳述する。
（支持体）
本発明の支持体とはフィルム基材であり、透明高分子からなるものを用いることができる。透明高分子としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスルフォン、ポリカーボネート、ポリアクリル、ポリエステル、ポリエチレン、ポリエポキシ、ポリスチレンなどが挙げられ、フィルムの特性から、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネートが最も好ましい。更に、水蒸気バリア性を保つためにバリア膜加工したフィルム基材を
使用するのが好ましい。
（光熱変換層）
光熱変換層とは、光を吸収して高効率で熱を発生させる機能性膜である。このような膜としては、例えば、カーボンブラック、黒鉛、赤外線染料、アルミニウム、その酸化物／硫化物からなる金属膜などが挙げられ、高分子材料に分散し薄膜を形成して用いることができる。また、剥離機能を持たせる剥離層を積層することも可能である。剥離層は光熱変換層が発生する熱を受けて、転写層を剥離させるための層であり、例えば、ポリα−メチルスチレンなどが挙げられる。
（Ｒ、Ｇ、及びＢの有機発光層）
Ｒ、Ｇ、及びＢの有機発光層は、Ｒ、Ｇ、及びＢに発光可能な有機発光材料の塗液を作り、例えば、スピンレスコート法、インクジェット法、ディップコート法、ドクターブレード法、吐出コート法、スプレーコート法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、マイクログラビアコート法等のウェットプロセスで成膜することが可能である。
【００１８】
また、従来の方法で成膜することが可能であり、例えば、真空蒸着法、ＥＢ法、ＭＢＥ法、スパッタリング法等のドライブロセスで成膜することも可能である。但し、レーザー熱転写ドナーシートを製造するコストを考慮すると、スピンレスコート法とインクジェット法を用いる工程が良い。
【００１９】
Ｒ、Ｇ、及びＢに発光可能な有機発光材料の塗液は、少なくとも各有機発光材料を含有した溶液であり、１種類もしくは多種類の有機発光材料を含有していても良い。さらには結着用の樹脂を含有していても良い。また、塗液の塗布性能等の改良剤として、レベリング剤、発光アシスト剤、電荷輸送材料、添加剤等を添加していても良い。
【００２０】
有機発光材料としては、公知の有機ＥＬ素子用の発光材料を使用することができる。
【００２１】
低分子発光材料としては、例えば、４，４'−ビス（２，２'−ジフェニルビニル）−ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）などの芳香族ジメチリデェン化合物、５−メチル−２−［２−［４−（５−メチル−２−ベンゾオキサゾリル）フェニル］ビニル］ベンゾオキサゾールなどのオキサジアゾール化合物、３−（４−ビフェニルイル）−４−フェニル−５−ｔ−ブチルフェニル−１，２，４−トリアゾール（ＴＡＺ）などのトリアゾール誘導体、１，４−ビス（２−メチルスチリル）ベンゼンなどのスチリルベンゼン化合物、チオピラジンジオキシド誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、ジフェノキノン誘導体、フルオレノン誘導体などの蛍光性有機材料、アゾメチン亜鉛錯体、（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム錯体（Ａｌｑ３）などの蛍光性有機金属化合物などを挙げることができる。
【００２２】
結着用樹脂としては、ポリカーボネート、ポリエステルなどを挙げることができる。溶剤としては、上記発光材料を溶解、または、分散できる溶剤であればよく、例えば、純水、メタノール、エタノール、ＴＨＦ、クロロホルム、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなどやこれらの混合溶液を挙げることができる。
【００２３】
一方、高分子発光材料としては、ポリ［２，５−ビス−［２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチルアンモニウム）エトキシ］−１，４−フェニル−アルト−１，４−フェニルレン］ジプロマイド（ＰＰＰ−ＮＥｔ３＋）、ポリ（２−デシルオキシ−１，４−フェニレン）ＤＯ−ＰＰＰ、ポリ［５−メトキシ−（２−プロパノキシサルフォニド）−１，４−フェニレンビニレン］（ＭＰＳ−ＰＰＶ）、ポリ［２，５−ビス−（へキシルオキシ）−１，４−フェニレン−（１−シアノビニレン）］（ＣＮ−ＰＰＶ）、ポリ［２−（２'−エチルへキシルオキシ）−５−メトキシ−１，４−フェニレンビニレン］（ＭＥＨ−ＰＰＶ）、（ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン））（ＰＤＡＦ）などを挙げることができ、高分子
発光材料の前駆体としては、例えば、ＰＰＶ前駆体、ＰＮＶ前駆体、ＰＰＰ前駆体などを挙げることができる。
（有機材料層）
有機材料層としては、単層構造でも多層構造でも良く、下記の構成を挙げることができる。
１．有機発光層
２．正孔輸送層／有機発光層
３．有機発光層／電子輸送層
４．正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層
５．正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／電子輸送層
６．正孔注入層／正孔輸送層／有機発光層／ブロッキング層／電子輸送層
（電荷輸送層（正孔注入層、正孔輸送層、および電子輸送層））
正孔注入層、正孔輸送層、および電子輸送層は、１層であっても良いし、多層構造であっても良い。またここで、電荷輸送層は従来の方法で成膜することが可能であり、例えば、電荷輸送材料を直接、真空蒸着法、ＥＢ法、ＭＢＥ法、スパッタリング法等のドライプロセスで成膜することが可能である。
【００２４】
電荷輸送層形成用塗液を用いて、スピンコート法、ディップコート法、ドクターブレード法、吐出コート法、スプレーコート法、インクジェット法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、マイクログラビアコート法等のウェットプロセスで成膜することも可能である。
【００２５】
電荷輸送層形成用塗液は、少なくとも電荷輸送材料を含有した溶液であり、１種或は多種類の電荷輸送材料を含有していても良く、さらに結着用の樹脂を含有していても良い。また、レベリング剤、その他添加剤等を添加していても良い。
【００２６】
ここで電荷輸送材料としては、有機ＥＬ素子用や有機光導電体用の公知の電荷輸送材料が使用できる。
【００２７】
正孔輸送材料としては、無機ｐ型半導体材料、ポルフィリン化合物、Ｎ，Ｎ'−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ'−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＤ）、Ｎ，Ｎ'−ビス−（３−メチルフェニル）一Ｎ，Ｎ'−ビス−（フェニル）−ベンジジン（ＴＰＤ）などに代表される芳香族第三級アミン化合物、キナクリドン化合物、スチリルアミン化合物等の低分子材料、ヒドラゾン化合物、ポリアニリン（ＰＡＮＩ）、３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンサルフォネイト（ＰＥＤＴ／ＰＳＳ）、ポリ［トリフェニルアミン誘導体］（Ｐｏｌｙ−ＴＰＤ）、ポリ（ｐ−ナフタレンビニレン）前駆体（Ｐｒｅ−ＰＮＶ）、ポリ（ｐ−フェニレンビニレン）前駆体（Ｐｒｅ−ＰＰＶ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＣｚ）などの高分子材料、或は高分子材料前駆体などが挙げることができる。
【００２８】
一方、電子輸送材料としては、無機ｎ型半導体材料、アントラキノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、ジフェノキノン誘導体、チオピラジンジオキシド誘導体、トリアゾール誘導体、ナフトキノン誘導体、ベンゾキノン誘導体、フルオレノン誘導体などの低分子材料と、ポリ［オキサジアゾール［（Ｐｏｌｙ−ＯＸＺ）などの高分子材料などとが挙げられる。
【００２９】
結着用樹脂としては、Ｒ、Ｇ、及びＢに発光可能な有機発光材料の塗液と同様に、ポリカーボネート、ポリエステルなどを挙げることができる。溶剤としては、上記発光材料を溶解、または、分散できる溶剤であればよく、例えば、純水、メタノール、エタノール、ＴＨＦ、クロロホルム、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼンなどやこれらの混合溶
液を挙げることができる。。
【００３０】
電荷ブロッキング層は、１層でも多層構造であっても良い。また、電荷ブロッキング層形成用塗液は、少なくとも1種もしくは多種類の電荷ブロッキング材料を含有した溶液であり、さらには結着用の樹脂を含有していても良い。また、レベリング剤などを添加していても良い。
【００３１】
電荷ブロッキング材料としては、公知の有機ＥＬ素子用の電荷ブロッキング材料が使用可能であり、２，９−ジメチル−１，１０−フェナントロリンや４，７−ジフェニルー１，１０−フェナントロリンなどが挙げられる。結着用樹脂としては、正孔輸送材料や電子輸送材料と同様に、ポリカーボネート、ポリエステルなどを挙げられる。溶剤としては、上記電荷ブロッキング材料を溶解、または、分散できる溶剤であればよく、純水、メタノール、エタノール、ＴＨＦ、クロロホルム、キシレン、トリメチルベンゼンなどが挙げられる。
【００３２】
支持体上の有機材料層の保護を目的として、水蒸気バリア性を保つためにバリア膜加工したフィルム基材でカバーフィルムとすることが望ましい。このカバーフィルムは転写工程の直前に剥がされる。
【００３３】
また、本発明は、各色のストライプ状の有機材料層の巾が、ＥＬディスプレイ用回路基板の電極の巾の１．１倍以上５．０以下であることを特徴とするものである。
【００３４】
ここで、レーザー熱転写ドナーシートのストライプ状の有機材料層の巾は、各色の有機ＥＬ素子（１１）を各々形成できるに十分な巾を意味する。有機材料層の巾（Ｗ１）が、図２における第一電極（２）の巾（Ｗ２）の１．１倍未満の幅であると有機ＥＬ素子の形成におけるアライメント精度が要求されるため、転写工程でのスループットが低下する。
【００３５】
また、５倍以上の巾であるとレーザー熱転写ドナーシート上に設けられる有機材料層の量が増え、材料コストが嵩む。好ましくは、第一電極（２）の巾（Ｗ２）の１．７倍以上３倍以下にするのが良い。
【００３６】
図３（ａ）〜（ｃ）、及び図４（ａ）〜（ｃ）は、本発明によるカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートを用いて、カラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板を製造する工程の説明図である。
【００３７】
基板上にＴＦＴ、第一電極、及び平坦化層が既に形成されたＥＬディスプレイ用回路基板（２０）に対して、上記のカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートを有機材料層面で貼り合わせ、フィルム基材側からレーザー光を照射する。
【００３８】
この際、有機材料層が第一電極（２）上に、第一電極（２）の画素形状に転写されるように、第一電極を検知しながら、第一電極の画素形状に追従してレーザー光を照射する（図３（ａ）〜（ｃ））。
【００３９】
この転写の際に使用するレーザー（１６）としては、レーザー光の種類や照射される波長を特に限定するものではなく、半導体レーザーやＹＡＧレーザーなどが好ましい。
【００４０】
ここでレーザー熱転写ドナーシート上に形成されたストライプ状の有機材料層の巾（Ｗ１）は、ＥＬディスプレイ用回路基板上の第一電極の巾（Ｗ２）より広いため、検知の精度は厳しくする必要はない。
【００４１】
レーザー光（１７）の照射は、例えば、赤色発光する有機ＥＬ素子の第一電極に追従して、第一電極の画素形状に対応した領域に照射する（図３（ｃ））。次に、隣接する、緑色発光する有機ＥＬ素子の第一電極に追従して、第一電極の画素形状に対応した領域に照射する（図４（ａ））。レーザー（１６）は複数個使用してもよい。
【００４２】
このようにして、順次にレーザー光を照射し、ＥＬディスプレイ用回路基板の全面への照射を終了した時点で、上記カラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートを剥離し、有機材料層（３）をＥＬディスプレイ用回路基板（２０）の第一電極（２）上に画素状に転写する（図４（ｂ））。
【００４３】
有機材料層（３）の転写後に、ＥＬディスプレイ用回路基板（２０）の全面に保護膜（４）を形成する。形成方法としては、スパッタやＣＶＤ等の通常手段が挙げられる。次に、第二電極（５）を形成する（図４（ｃ））。
【００４４】
第二電極としては、従来の電極材料を用いる事が可能で、仕事関数が高い金属（Ａｕ、Ｐｔ、Ｎｉなど）、もしくは、透明電極（ＩＴＯ）、ＳｎＯ2などを用いることができる。また、これらの材料は、ＥＢ、スパッタ、抵抗加熱蒸着法などで形成することが可能である。
【００４５】
尚、保護膜（４）は第二電極を形成した後に形成することも可能である。
【００４６】
図５は、本発明によるカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートが、その有機材料層（３）面をＥＬディスプレイ用回路基板（２０）に合わせて貼り合わされ、レーザー光によって有機材料層が第一電極の画素形状に照射された後に、ＥＬディスプレイ用回路基板（２０）から剥離された時点のカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートの一例を示す平面図である。
【００４７】
この一例のレーザー熱転写ドナーシートは、フィルム基材上にＲ、Ｇ、及びＢのストライプ状の有機材料層が、図５中の左右方向、ストライプの巾方向に繰り返し形成されていたものである。斜線で示す部分（５１）は、転写されずにフィルム基材上に残留している有機材料層を表し、また、斜線のない四角形部分（５２）は、第一電極（２）上に転写された領域を表している。
【００４８】
一方、図６は、従来のレーザー熱転写ドナーシートの一例の平面図であり、同じく、レーザー光によって有機材料層が第一電極の画素形状に照射された後に、ＥＬディスプレイ用回路基板（２０）から剥離された時点のものである。
【００４９】
従来のレーザー熱転写ドナーシートにおいては、Ｒ、Ｇ、又はＢの有機材料層は、各々異なるシート上に形成されていたものである。転写に際しては、各々異なるレーザー熱転写ドナーシート毎に、Ｒ、Ｇ、又はＢの転写を行う。
【００５０】
従って、図６に斜線で示す示すように、転写されずにフィルム基材上に残留している有機材料層（６１）の領域は大きい。図６は、赤色（Ｒ）のレーザー熱転写ドナーシートを示したものであるが、Ｇ、及びＢについても同様である。
【実施例１】
【００５１】
以下に、この発明を実施例により詳細に説明する。但し、この実施例によってこの発明が限定されるものではない。
【００５２】
厚さ約１００μｍポリエチレンテレフタレートの５００ｍｍ幅シートロールをフィルム基材として用いた。このフィルム基材にカーボン微粒子を混合した熱硬化型エポキシ樹脂を硬化後膜厚が約５μｍになるようにコーティングし、キュア処理して光熱変換層とした。次に加熱されることにより容易に剥離する剥離層を乾燥後膜厚が約１μｍになるようにコーティングした。尚、使用したポリエチレンテレフタレートの表面には、水分透過の透過を防止するバリア処理がされていた。
【００５３】
次に、マイクログラビアコ一ターを用いて正孔輸送層形成用塗液を乾燥後膜厚が約２０ｎｍになるように塗布し正孔輸送層を形成した。さらにその上に有機発光層形成用塗液をインクジェットプリンタにて膜厚が約５０ｎｍになるように塗布し、ストライプ状の有機発光層を形成した。尚、Ｒ、Ｇ、及びＢに発光する各有機発光層の巾は１００μｍとした
。
【００５４】
次に、このシートロールを窒素雰囲気中で約１１０℃で１時間加熱し、残留溶媒を除去した。最後に、水分の透過を防止するバリア層と保護基材が有機発光層より剥がし易いように剥離層が形成された２５μｍ膜厚のポリエチレンテレフタレートを保護基材として張り合わせて、レーザー熱転写ドナーシートを作製した。つまり、このレーザー熱転写ドナーシートは、有機材料層として正孔輸送層と、Ｒ、Ｇ、及びＢのストライプ状の有機発光層で構成されている。
【００５５】
上記レーザー熱転写ドナーシートから保護基材のポリエチレンテレフタレートを剥がし、有機ＥＬディスプレイ用回路基板上の３５μｍ幅の第一電極を各発色ストライプが覆い被るようにレーザー熱転写ドナーシートと有機ＥＬディスプレイ用回路基板をセットし、ローラーを用いて約２×１０-3Ｐａに加圧して密着させた後、ＹＡＧレーザーで所望の位置を走査し、有機材料層を各色６６μｍ幅で形成した。そして、レーザー熱転写ドナーシートをＥＬディスプレイ用回路基板から剥離した。
【００５６】
次に、上記有機材料層が転写されたＥＬディスプレイ用回路基板に、ＣＶＤを使用して水分の透過を防止するバリア層約１５０ｎｍを形成した。更に、前記バリア層付ＥＬディスプレイ用回路基板にスパッタを使用して第二電極（透明電極）約５０ｎｍを形成した。
【００５７】
レーザー熱転写ドナーシートの有機発光層を３色のストライプ状の有機発光層に形成したことにより、レーザー熱転写ドナーシートを１ロールにまとめることができた。また、ＥＬディスプレイ用回路基板への有機材料層の転写工程が１回に軽減することができた。更に、有機材料層の廃棄量が軽減できた。
【実施例２】
【００５８】
厚さ約１００μｍポリエチレンテレフタレートの５００ｍｍ幅シートロールをフィルム基材として用いた。このフィルム基材にカーボン微粒子を混合した熱硬化型エポキシ樹脂を硬化後膜厚が約５μｍになるようにコーティングし、キュア処理して光熱変換層とした。次に加熱されることにより容易に剥離する剥離層を乾燥後膜厚が約１μｍになるようにコーティングした。尚、使用したポリエチレンテレフタレートの表面には、水分透過の透過を防止するバリア処理がされていた。
【００５９】
次に、マイクログラビアコ一夕ーを用いて正孔輸送層形成用塗液を乾燥後膜厚が約２０ｎｍになるように塗布し正孔輸送層を形成した。さらにその上に有機発光層形成用塗液をインクジェットプリンタにて膜厚が約５０ｎｍになるように塗布し、ストライプ状の有機発光層を形成した。尚、ＲとＧは各７０μｍ、また、Ｂは１２０μｍのストライプ幅とした。
【００６０】
次に、このシートロールを窒素雰囲気中で約１１０℃で１時間加熱し、残留溶媒を除去した。最後に、水分の透過を防止するバリア層と保護基材が有機発光層より剥がし易いように剥離層が形成された２５μｍ膜厚のポリエチレンテレフタレートを保護基材として張り合わせて、レーザー熱転写ドナーシートを作製した。つまり、このレーザー熱転写ドナーシートは、有機材料層として正孔輸送層と有機発光層で構成されている。
【００６１】
上記レーザー熱転写ドナーシートから保護基材のポリエチレンテレフタレートを剥がし、ＥＬディスプレイ用回路基板上の３５μｍ幅の第一電極を各発色ストライプが覆い被るようにレーザー熱転写ドナーシートとＥＬディスプレイ用回路基板をセットし、ローラーを用いて約２×１０-3Ｐａに加圧して密着させた後、ＹＡＧレーザーで所望の位置を走査し、有機材料層をＲとＧは各４０μｍ、また、Ｂは９０μｍで形成した。そしてレーザー熱転写ドナーシートをＥＬディスプレイ用回路基板から剥離した。
【００６２】
次に、上記有機材料層が形成されたＥＬディスプレイ用回路基板に、ＣＶＤを使用して水分の透過を防止するバリア層約１５０ｎｍを形成した。更に、前記バリア層付ＥＬディスプレイ用回路基板にスパッタを使用して第二電極（透明電極）約５０ｎｍを形成した。
【００６３】
レーザー熱転写ドナーシートの有機発色層を３色の異なるストライプ幅の有機発光層に形成したことにより、各色の開口面積の異なるＥＬディスプレイ用回路基板であっても、レーザー熱転写ドナーシートを１ロールにまとめることができた。また、ＥＬディスプレイ用回路基板への有機層の転写工程が１回に軽減することができた。更に、有機材料層の廃棄量が軽減できた。
【実施例３】
【００６４】
厚さ約１００μｍポリエチレンテレフタレートの５００ｍｍ幅シートロールをフィルム基材として用いた。このフィルム基材にカーボン微粒子を混合した熱硬化型エポキシ樹脂を硬化後膜厚が約５μｍになるようにコーティングし、キュア処理して光熱変換層とした。次に加熱されることにより容易に剥離する剥離層を乾燥後膜厚が約１μｍになるようにコーティングした。尚、使用したポリエチレンテレフタレートの表面には、水分透過の透過を防止するバリア処理がされていた。
【００６５】
次に、マイクログラビアコ一ターを用いて正孔輸送層形成用塗液を乾燥後膜厚が約２０ｎｍになるように塗布し正孔輸送層を形成した。さらにその上に赤色の有機発光層形成用塗液をマイクログラビアコ一ターにて膜厚が約５０ｎｍになるように塗布し、シート全面に赤色の有機発光層を均一膜厚で形成した。
【００６６】
次に、上記シートロールを窒素雰囲気中で約１１０℃で１時間加熱し、残留溶媒を除去した。最後に、水分の透過を防止するバリア層と保護基材が有機発光層より剥がし易いように剥離層が形成された２５μｍ膜厚のポリエチレンテレフタレートを保護基材として張り合わせて、レーザー熱転写ドナーシートを作製した。つまり、このレーザー熱転写ドナーシートは、有機材料層として正孔輸送層と赤色の有機発光層で構成されている。
【００６７】
同様に、厚さ約１００μｍポリエチレンテレフタレートの５００ｍｍ幅シートロールをフィルム基材として用いた。このフィルム基材にカーボン微粒子を混合した熱硬化型エポキシ樹脂を硬化後膜厚が約５μｍになるようにコーティングし、キュア処理して光熱変換層とした。次に加熱されることにより容易に剥離する剥離層を乾燥後膜厚が約１μｍになるようにコーティングした。尚、使用したポリエチレンテレフタレートの表面には、水分透過の透過を防止するバリア処理がされていた。
【００６８】
次に、マイクログラビアコ一ターを用いて正孔輸送層形成用塗液を乾燥後膜厚が約２０ｎｍになるように塗布し正孔輸送層を形成した。さらにその上に緑色の有機発光層形成用塗液をマイクログラビアコ一ターにて膜厚が約５０ｎｍになるように塗布し、シート全面に緑色の有機発光層を均一膜厚で形成した。
【００６９】
次に、上記シートロールを窒素雰囲気中で約１１０℃で１時間加熱し、残留溶媒を除去した。最後に、水分の透過を防止するバリア層と保護基材が発光層より剥がし易いように剥離層が形成された２５μｍ膜厚のポリエチレンテレフタレートを保護基材として張り合わせて、レーザー熱転写ドナーシートを作製した。つまり、このレーザー熱転写ドナーシートは、有機材料層として正孔輸送層と緑色の有機発光層で構成されている。
【００７０】
同様に、厚さ約１００μｍポリエチレンテレフタレートの５００ｍｍ幅シートロールをフィルム基材として用いた。このフィルム基材にカーボン微粒子を混合した熱硬化型エポ
キシ樹脂を硬化後膜厚が約５μｍになるようにコーティングし、キュア処理して光熱変換層とした。次に加熱されることにより容易に剥離する剥離層を乾燥後膜厚が約１μｍになるようにコーティングした。尚、使用したポリエチレンテレフタレートの表面には、水分透過の透過を防止するバリア処理がされていた。
【００７１】
次に、マイクログラビアコ一ターを用いて正孔輸送層形成用塗液を乾燥後膜厚が約２０ｎｍになるように塗布し正孔輸送層を形成した。さらにその上に青色の有機発光層形成用塗液をマイクログラビアコ一ターにて膜厚が約５０ｎｍになるように塗布し、シート全面に青色の有機発光層を均一膜厚で形成した。
【００７２】
次に、上記シートロールを窒素雰囲気中で約１１０℃で１時間加熱し、残留溶媒を除去した。最後に、水分の透過を防止するバリア層と保護基材が有機発光層より剥がし易いように剥離層が形成された２５μｍ膜厚のポリエチレンテレフタレートを保護基材として張り合わせて、レーザー熱転写ドナーシートを作製した。つまり、このレーザー熱転写ドナーシートは、有機材料層として正孔輸送層と青色の有機発光層で構成されている。
【００７３】
上記赤色のレーザー熱転写ドナーシートから保護基材のポリエチレンテレフタレートを剥がし、ＥＬディスプレイ用回路基板をセットし、ローラーを用いて約２×１０-3Ｐａに加圧して密着させた後、ＹＡＧレーザーで所望の位置を走査し、青色の有機材料層を６６μｍ幅で形成した。そして、レーザー熱転写ドナーシートをＥＬディスプレイ用回路基板から剥離した。
【００７４】
次に、上記緑色のレーザー熱転写ドナーシートから保護基材のポリエチレンテレフタレートを剥がし、赤色の有機材料層を形成した有機ＥＬディスプレイ用回路基板をセットし、ローラーを用いて約２×１０-3Ｐａに加圧して密着させた後、ＹＡＧレーザーで所望の位置を走査し、緑色の有機材料層を６６μｍ幅で形成した。そして、レーザー熱転写ドナーシートをＥＬディスプレイ用回路基板から剥離した。
【００７５】
次に、上記青色のレーザー熱転写ドナーシートから保護基材のポリエチレンテレフタレートを剥がし、赤色の有機材料層及び緑色の有機材料層を形成したＥＬディスプレイ用回路基板をセットし、ローラーを用いて約２×１０-3Ｐａに加圧して密着させた後、ＹＡＧレーザーで所望の位置を走査し、有機材料層をＢは６６μｍ幅で形成した。そして、レーザー熱転写ドナーシートをＥＬディスプレイ用回路基板から剥離した。
【００７６】
次に、上記有機材料層が形成されたＥＬディスプレイ用回路基板に、ＣＶＤを使用して水分の透過を防止するバリア層約１５０ｎｍを形成した。更に、前記バリア層付ＥＬディスプレイ用回路基板にスパッタを使用して第二電極（透明電極）約５０ｎｍを形成した。
【００７７】
レーザー熱転写ドナーシートを各色で準備し、各色の転写を順次行なって有機材料層に形成したため、使用材料の量、転写プロセスと有機材料層の残量も本発明によるストライプ状のレーザー熱転写ドナーシートに比べコストの高いものとなった。
【図面の簡単な説明】
【００７８】
【図１】（ａ）は、本発明によるカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートの一実施例の上面からの平面図である。
【００７９】
（ｂ）は、有機材料層のストライプと平行方向の断面図である。
【００８０】
（ｃ）は、ストライプと直角方向の断面図である。
【００８１】
（ｄ）は、カバーフィルムが貼り合わされた状態での直角方向を拡大して示す断面図である。
【図２】本発明によるカラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板の一例におけるストライプと直角方向の断面図である。
【図３】（ａ）〜（ｃ）は、本発明によるカラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板を製造する工程の説明図である。
【図４】（ａ）〜（ｃ）は、本発明によるカラー有機ＥＬディスプレイ用回路基板を製造する工程の説明図である。
【図５】本発明によるカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートが、ＥＬディスプレイ用回路基板から剥離された時点のカラー有機ＥＬディスプレイ用レーザー熱転写ドナーシートの一例を示す平面図である。
【図６】従来のレーザー熱転写ドナーシートの有機材料層が、ＥＬディスプレイ用回路基板から剥離された時点の平面図である。
【符号の説明】
【００８２】
１・・・基板
２・・・第一電極
３・・・有機材料層
４・・・保護層
５・・・第二電極
６・・・ＴＦＴ
１０・・・平坦化層
１１・・・有機ＥＬ素子
１３・・・光熱変換層
１４・・・フィルム基材（支持体）
１５・・・カバーフィルム
１６・・・レーザー
１７・・・レーザー光
２０・・・ＥＬディスプレイ用回路基板
５１、６１・・・残留している有機材料層
５２、６２・・・第一電極上に転写された領域
Ｗ１・・・有機材料層の巾
Ｗ２・・・第一電極の巾
【図１】
2005149823.tif 000003
【図２】
2005149823.tif 000004
【図３】
2005149823.tif 000005
【図４】
2005149823.tif 000006
【図５】
2005149823.tif 000007
【図６】
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