(57)【要約】【課題】ヘッドスライダの浮上変動量を一層小さく抑え得る磁気記録媒体を提供する。【解決手段】磁性材料で基材上に形成された複数種類の凹凸パターンＰ１〜Ｐ５における各凹部内に非磁性材料が埋め込まれてデータトラック領域Ａ１とサーボパターン領域Ａ２とが形成され、サーボパターン領域Ａ２には、製造時に凹凸パターンＰ２〜Ｐ４によってディスクアクセス用の制御信号が記録された複数種類の第１機能領域（プリアンブル領域Ａｐ、アドレス領域Ａａおよびバースト領域Ａｂ）と、各第１機能領域の凹凸パターンＰ２〜Ｐ４とは種類が異なり、かつ領域内の平均高さがデータトラック領域Ａ１の平均高さとほぼ同等となるように凹凸パターンＰ５が形成されて非磁性材料が埋め込まれた第２機能領域（浮上量調整領域Ａｘ）とを備えている。【選択図】図２
2005166141.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁性材料で基材上に形成された複数種類の凹凸パターンにおける各凹部内に非磁性材料が埋め込まれてデータトラック領域とサーボパターン領域とが形成され、
前記サーボパターン領域には、製造時に前記凹凸パターンによってディスクアクセス用の制御信号が記録された複数種類の第１機能領域と、当該各第１機能領域の前記凹凸パターンとは種類が異なり、かつ領域内の平均高さが前記データトラック領域の平均高さとほぼ同等となるように前記凹凸パターンが形成されて前記非磁性材料が埋め込まれた第２機能領域とを備えている磁気記録媒体。
【請求項２】
前記サーボパターン領域には、隣り合う前記第１機能領域の間に前記第２機能領域が形成されている請求項１記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記サーボパターン領域には、少なくともアドレス領域およびバースト領域が前記第１機能領域として形成されると共に、当該アドレス領域および当該バースト領域の少なくとも一方の領域内に前記第２機能領域が形成されている請求項１または２記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記第２機能領域は、前記データトラック領域に形成されている前記凹凸パターンと同種の凹凸パターンが形成されると共に当該凹凸パターンに前記非磁性材料が埋め込まれている請求項１から３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、データトラック領域とサーボパターン領域とが形成された磁気記録媒体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
この種の磁気記録媒体として、磁気ディスク装置１に搭載された磁気ディスク３が特開平１１−１６１９４４号公報に開示されている。この磁気ディスク３は、同公報の図７，８に示すように、ガラス等で形成された基板１３に複数種類の凹凸パターンが形成されると共に、これらの凹凸パターンが磁性膜１４によって覆われている。また、磁気ディスク３には、ヘッドスライダ６の走行方向（すなわち、円周方向）に沿ってデータ記録用の凸部３ａ1 および凹部３ａ2 が形成されたデータゾーン３ａと、凸部３ｂ1 および凹部３ｂ2 によってサーボ信号等の制御信号が記録されたサーボゾーン３ｂとが形成されている。この場合、この種の磁気ディスクでは、凸部に対する凹部の面積比が大きい部位において磁気ディスクに対するヘッドスライダの浮上量が低下する。したがって、この磁気ディスク３では、一般的な磁気ディスク（パターンド媒体）におけるサーボゾーンの凹凸パターンを反転させて凸部３ｂ1 および凹部３ｂ2 を形成することにより、サーボゾーン３ｂにおける凸部３ｂ1 に対する凹部３ｂ2 の面積比を小さくして、浮上量の低下を軽減している。これにより、一般的な磁気ディスクと比較して、データゾーン３ａを通過する際およびサーボゾーン３ｂを通過する際におけるヘッドスライダ６の浮上変動量を小さく抑えることが可能となっている。
【特許文献１】特開平１１−１６１９４４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところが、従来の磁気ディスク３には、以下の問題点がある。すなわち、従来の磁気ディスク３では、凸部３ｂ1 に対する凹部３ｂ2 の面積比を小さくすることによってヘッドスライダ６の浮上変動量を小さく抑えている。この場合、データゾーン３ａとサーボゾーン３ｂとでは、その凹凸パターンの種類が異なっている。このため、通常の磁気ディスクにおけるサーボパターンの凹凸パターンを反転させて凸部３ａ1 に対する凹部３ａ2 の面積比と凸部３ｂ1 に対する凹部３ｂ2 の面積比とを一致させることが非常に困難となっている。したがって、凸部３ｂ1 に対する凹部３ｂ2 の面積比を小さくする従来の磁気ディスク３には、ヘッドスライダ６の浮上変動量を一層小さくするのが困難であるという問題点がある。
【０００４】
一方、発明者は、データトラック領域（データゾーン）およびサーボパターン領域（サーボゾーン）の凹部内に非磁性体を埋め込んで磁気ディスクの表面を平坦化することにより、磁気ディスクの表面に凹部を形成しない構成、または、凹部を極く浅く形成する構成を採用することでヘッドスライダの浮上変動量を一層小さく抑える技術を開発している。具体的には、図１４に示すように、まず、ガラス基材、下地層、軟磁性層および配向層等を積層した積層体２（基材）の上に、データトラック領域Ａ１およびサーボパターン領域Ａ２（図１６参照）を形成するための凹凸パターンＰ１〜Ｐ４を強磁性体１５によって形成する。次に、図１５に示すように、凹凸パターンＰ１〜Ｐ４を覆うようにして非磁性体１６をスパッタリングによって形成する。次いで、図１６に示すように、データトラック領域Ａ１において非磁性体１６から強磁性体１５の表面が露出するまで非磁性体１６をエッチングする。これにより、磁気ディスクの表面が平坦化される。
【０００５】
しかしながら、図１６に示すように、その形成ピッチが凹凸パターンＰ１よりも大きい（凹部の幅が大きい）凹凸パターンＰ２，Ｐ３の部位（プリアンブル領域Ａｐおよびアドレス領域Ａａなど）では、非磁性体１６がデータトラック領域Ａ１よりもエッチングされ易いため、凹凸パターンＰ２，Ｐ３内における非磁性体１６の表面が凹凸パターンＰ１内における非磁性体１６の表面よりも低くなる。したがって、図１７に示すように、プリアンブル領域Ａｐおよびアドレス領域Ａａの積層体２の表面からの平均高さＨ１２がデータトラック領域Ａ１の平均高さＨ１１よりも低くなる結果、プリアンブル領域Ａｐおよびアドレス領域Ａａにおける浮上量がデータトラック領域Ａ１と比較して小さくなる。また、図１６に示すように、その形成ピッチが凹凸パターンＰ１よりも小さい（凹部の幅が小さい）凹凸パターンＰ４の部位（バースト領域Ａｂなど）では、非磁性体１６がデータトラック領域Ａ１よりもエッチングされ難いため、凹凸パターンＰ４の凸部上に非磁性体１６が残留することがある。したがって、図１７に示すように、バースト領域Ａｂの平均高さＨ１３がデータトラック領域Ａ１の平均高さＨ１１よりも高くなる結果、バースト領域Ａｂにおける浮上量がデータトラック領域Ａ１と比較して大きくなる。このように、サーボパターン領域内に、浮上量が小さいプリアンブル領域Ａｐおよびアドレス領域Ａａや、浮上量が大きいバースト領域Ａｂが存在する磁気ディスクでは、磁気ディスクの一回転当たりにおける浮上変動量が大きくなる。なお、サーボパターン領域内に浮上量が小さい領域のみ、または、浮上量が大きい領域のみが存在する場合であっても、磁気ディスクの一回転当たりにおける浮上変動量は大きくなる。
【０００６】
本発明は、かかる課題に鑑みてなされたものであり、ヘッドスライダの浮上変動量を一層小さく抑え得る磁気記録媒体を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成すべく本発明に係る磁気記録媒体は、磁性材料で基材上に形成された複数種類の凹凸パターンにおける各凹部内に非磁性材料が埋め込まれてデータトラック領域とサーボパターン領域とが形成され、前記サーボパターン領域には、製造時に前記凹凸パターンによってディスクアクセス用の制御信号が記録された複数種類の第１機能領域と、当該各第１機能領域の前記凹凸パターンとは種類が異なり、かつ領域内の平均高さが前記データトラック領域の平均高さとほぼ同等となるように前記凹凸パターンが形成されて前記非磁性材料が埋め込まれた第２機能領域とを備えている。なお、本明細書における「平均高さがほぼ同等」とは、一例として、データトラック領域の平均高さとの高低差が±１０％程度の範囲内をいう。
【０００８】
この場合、隣り合う前記第１機能領域の間に前記第２機能領域を形成して前記サーボパターン領域を構成するのが好ましい。
【０００９】
また、少なくともアドレス領域およびバースト領域を前記第１機能領域として形成すると共に、当該アドレス領域および当該バースト領域の少なくとも一方の領域内に前記第２機能領域を形成して前記サーボパターン領域を構成するのが好ましい。
【００１０】
さらに、前記データトラック領域に形成されている前記凹凸パターンと同種の凹凸パターンを形成してその凹凸パターンに前記非磁性材料を埋め込んで前記第２機能領域を形成するのが好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明に係る磁気記録媒体によれば、サーボパターン領域内に第２機能領域を形成したことにより、第２機能領域が形成されていない磁気記録媒体と比較して、データトラック領域、サーボパターン領域およびデータトラック領域の順序で通過（走行）させられるヘッドスライダの実質的な浮上変動量を十分に小さくすることができる。したがって、磁気記録媒体に対する記録データの記録再生時に、ヘッドスライダが磁気記録媒体の表面に接触する事態を回避することができる。
【００１２】
また、本発明に係る磁気記録媒体によれば、隣り合う第１機能領域の間に第２機能領域を形成したことにより、各第１機能領域を複数に分割することなく第２機能領域を形成することができる。したがって、各第１機能領域を構成する凹凸パターンとして、通常のサーボパターン領域内の対応する凹凸パターンと同種のパターンを採用することができるため、第２機能領域を形成するために凹凸パターンの種類を変更する必要がない結果、特殊なサーボ信号検出機能を不要としつつ、トラッキングサーボ制御することができる。
【００１３】
さらに、本発明に係る磁気記録媒体によれば、アドレス領域およびバースト領域の少なくとも一方の領域内に第２機能領域を形成したことにより、上記の磁気記録媒体と同様にして、ヘッドスライダの浮上変動量を十分に小さくすることができる。
【００１４】
また、本発明に係る磁気記録媒体によれば、第２機能領域をデータトラック領域の凹凸パターンと同種の凹凸パターンによって形成することにより、データトラック領域の凹凸パターンと種類が異なる凹凸パターンによって第２機能領域の平均高さをデータトラック領域の平均高さとほぼ同等に構成するのと比較して、確実かつ容易に平均高さをほぼ同等とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、添付図面を参照して、本発明に係る磁気記録媒体の最良の形態について説明する。
【００１６】
図１に示す磁気ディスク１は、本発明に係る磁気記録媒体の一例であって、図示しないスピンドルモータやヘッドスライダ（磁気ヘッド）などと共に筐体内に配設されて磁気ディスク装置を構成する。また、磁気ディスク１は、垂直記録型のディスクリートトラックタイプの磁気記録媒体（パターンド媒体）であって、ガラス基材１１の上に、下地層１２、軟磁性層１３および配向層１４等をこの順序で積層した積層体２（本発明における基材の一例）の上に強磁性体１５（本発明における磁性材料）によって凹凸パターンＰ１〜Ｐ５（本発明における複数種類の凹凸パターンの一例：図２参照）が形成されている。また、凹凸パターンＰ１〜Ｐ５における凹部内には、非磁性体１６（本発明における非磁性材料）が埋め込まれている。なお、磁気ディスク１には、実際には、強磁性体１５および非磁性体１６を覆うようにして保護層や潤滑層が形成されているが、本発明についての理解を容易とするために、これらの図示および説明を省略する。
【００１７】
また、図２に示すように、磁気ディスク１には、データ記録用の複数のデータ記録用トラックＴ，Ｔ・・（凹凸パターンＰ１）がヘッドスライダの走行方向（同図における左右方向）に沿って同心円状に形成されたデータトラック領域Ａ１と、データ記録用トラックＴに対するトラッキングサーボ制御用のサーボ信号を含む各種制御信号（ディスクアクセス用の制御信号）が磁気ディスク１の製造時に凹凸パターンＰ２，Ｐ３，Ｐ４（Ｐ４ａ〜Ｐ４ｄ）によって形成されたサーボパターン領域Ａ２とが設けられている。また、サーボパターン領域Ａ２には、それぞれが本発明における第１機能領域に相当するプリアンブル領域Ａｐ、アドレス領域Ａａ、およびバースト領域Ａｂ（一例として、第１バースト領域Ａｂ１〜第４バースト領域Ａｂ４）が形成されている。さらに、サーボパターン領域Ａ２には、プリアンブル領域Ａｐとアドレス領域Ａａとの間、およびアドレス領域Ａａと第１バースト領域Ａｂ１との間に、本発明における第２機能領域に相当する浮上量調整領域Ａｘが形成されている。
【００１８】
この場合、プリアンブル領域Ａｐは、ヘッドスライダの走行方向に沿った長さが一例として１８μｍとなるように凹凸パターンＰ２が形成されると共に、凹凸パターンＰ２における凹部内に非磁性体１６が埋め込まれた状態では、図３に示すように、積層体２の表面からの平均高さＨ２がデータトラック領域Ａ１の平均高さＨ１よりも５ｎｍ程度低くなるように形成されている。また、アドレス領域Ａａは、走行方向に沿った長さが一例として１５μｍとなるように凹凸パターンＰ３が形成されると共に、非磁性体１６が埋め込まれた状態では、その平均高さＨ３がデータトラック領域Ａ１の平均高さＨ１よりも１０ｎｍ程度低くなるように形成されている。さらに、バースト領域Ａｂの第１バースト領域Ａｂ１〜第４バースト領域Ａｂ４は、走行方向に沿った長さが一例としてそれぞれ１０μｍとなるように凹凸パターンＰ４ａ〜Ｐ４ｄが形成されると共に、非磁性体１６が埋め込まれた状態では、すべてを平均した平均高さＨ４がデータトラック領域Ａ１の平均高さＨ１よりも５ｎｍ程度高くなるように形成されている。一方、浮上量調整領域Ａｘは、走行方向に沿った長さが一例として３０μｍとなるように、凹凸パターンＰ１と同種の凹凸パターンＰ５（すなわち、データ記録用トラックＴ，Ｔ・・と同種のパターン）が形成されると共に、非磁性体１６が埋め込まれた状態では、その平均高さＨ５がデータトラック領域Ａ１の平均高さＨ１とほぼ同等となるように形成されている。この場合、データトラック領域Ａ１の凹凸パターンＰ１と同種の凹凸パターンＰ５によって浮上量調整領域Ａｘを形成することにより、凹凸パターンＰ１と種類が異なる凹凸パターンによって浮上量調整領域Ａｘの平均高さＨ５をデータトラック領域Ａ１の平均高さＨ１とほぼ同等にするのと比較して、確実かつ容易に平均高さをほぼ同等とすることができる。
【００１９】
この磁気ディスク１の製造に際しては、まず、表面を鏡面加工したガラス基材１１上に、厚み３０〜２００ｎｍ程度の下地層１２と、厚み５０〜３００ｎｍ程度の軟磁性層１３と、厚み３〜３０ｎｍ程度の配向層１４と、厚み１０〜３０ｎｍ程度の強磁性体層と、厚み１０〜５０ｎｍ程度の第１マスク層と、厚み１０〜３０ｎｍ程度の第２マスク層と、厚み３０〜３００ｎｍ程度の第３マスク層とをこの順序でスパッタリングによって形成して、磁気ディスク製造用の中間体（図示せず）を作製する。この場合、強磁性体層については、一例として、Ｃｏ（コバルト）合金を用いて形成する。次に、この中間体における第３マスク層に凹凸パターンＰ１〜Ｐ５の基となる複数種類の凹凸パターンをナノ・インプリント法によって転写する。次いで、転写が完了した中間体を真空槽内に設置して、凹凸パターンにおける凹部底面から第２マスク層が露出するまでプラズマ加工装置によって第３マスク層をプラズマ加工する。
【００２０】
次に、凹部底面から露出している第２マスク層をイオンビームエッチング装置によって除去して第１マスク層を露出させた後に、露出している第１マスク層を反応性イオンエッチング装置によって除去する。次いで、凹部底面から露出している強磁性体層を反応性イオンエッチング装置によって除去して積層体２の上に凹凸パターンＰ１〜Ｐ５を形成した後に、凹凸パターンＰ１〜Ｐ５上に残留している第１マスク層を反応性イオンエッチング装置によって除去する。続いて、凹凸パターンＰ１〜Ｐ５の表面に付着している異物をドライプロセス洗浄手段によって除去する。これにより、中間体に対する加工が完了する。次に、凹凸パターンＰ１〜Ｐ５を覆うようにして非磁性体１６をバイアススパッタリングによって層状に積層する。この場合、非磁性体１６については、一例として、ＳｉＯ２（二酸化珪素）を用いて形成する。次いで、凹凸パターンＰ１の凸部表面（データトラック領域Ａ１における強磁性体１５の表面）が露出するまで、イオンビームエッチングによって非磁性体１６をエッチングする。
【００２１】
この際に、凹凸パターンＰ１よりも形成ピッチが大きい（凹部が広い）凹凸パターンＰ２，Ｐ３では、非磁性体１６がエッチングされ易いため、凹部内の非磁性体１６における表面の高さが凸部の表面（強磁性体１５の表面）の高さよりも低くなる。したがって、図３に示すように、プリアンブル領域Ａｐの平均高さＨ２や、アドレス領域Ａａの平均高さＨ３がデータトラック領域Ａ１の平均高さＨ１よりも低くなる。一方、凹凸パターンＰ１よりも形成ピッチが小さい（凹部が狭い）凹凸パターンＰ４ａ〜Ｐ４ｄでは、非磁性体１６がエッチングされ難いため、凸部を覆うようにして非磁性体１６が残留する。したがって、バースト領域Ａｂの平均高さＨ４がデータトラック領域Ａ１の平均高さＨ１よりも高くなる。また、凹凸パターンＰ１と同種のパターンで構成された凹凸パターンＰ５では、データトラック領域Ａ１と同様にして、凹部内の非磁性体１６における表面の高さが凸部の表面（強磁性体１５の表面）の高さとほぼ等しくなる。したがって、浮上量調整領域Ａｘの平均高さＨ５がデータトラック領域Ａ１の平均高さＨ１とほぼ同等になる。この後、強磁性体１５を覆うようにして保護層および潤滑層を形成して磁気ディスク１の作製を完了する。
【００２２】
この磁気ディスク１では、前述したように、プリアンブル領域Ａｐとアドレス領域Ａａとの間に浮上量調整領域Ａｘが形成されると共に、アドレス領域Ａａとバースト領域Ａｂとの間に浮上量調整領域Ａｘが形成されている。したがって、この磁気ディスク１に対する記録データの記録再生時に、その平均高さＨ２，Ｈ３がデータトラック領域Ａ１の平均高さＨ１よりも低いことに起因してヘッドスライダの浮上量が小さくなるプリアンブル領域Ａｐおよびアドレス領域Ａａにおいても、ヘッドスライダが浮上量調整領域Ａｘを通過する際に僅かに浮上させられる。このため、浮上量調整領域Ａｘが形成されていない磁気ディスクと比較して、データトラック領域Ａ１、プリアンブル領域Ａｐ、浮上量調整領域Ａｘおよびアドレス領域Ａａの順序で通過（走行）させられるヘッドスライダの実質的な浮上変動量が小さくなっている。
【００２３】
この場合、発明者は、上記のアドレス領域Ａａと同種の凹凸パターンを形成したサーボパターン領域Ａ３内に浮上量調整領域Ａｘを形成した各種の試料を作製して浮上変動量を測定し、浮上量調整領域Ａｘの有無およびその長さの違いによる浮上変動量の差異を確認した。具体的には、図４〜８に示すように、サーボパターン領域Ａ３内に浮上量調整領域Ａｘが形成されていない試料と（図４参照）、ヘッドスライダの走行方向に沿った長さが３０μｍ程度の浮上量調整領域Ａｘをサーボパターン領域Ａ３内に形成した試料と（図５参照）、ヘッドスライダの走行方向に沿った長さが６０μｍ程度の浮上量調整領域Ａｘをサーボパターン領域Ａ３内に形成した試料と（図６参照）、ヘッドスライダの走行方向に沿った長さが９０μｍ程度の浮上量調整領域Ａｘをサーボパターン領域Ａ３内に形成した試料と（図７参照）、ヘッドスライダの走行方向に沿った長さが３０μｍ程度の浮上量調整領域Ａｘをサーボパターン領域Ａ３内に２つ形成した試料（図８参照）とを作製して、浮上量調整領域Ａｘの有無と、サーボパターン領域Ａ３に占める面積比の相違とに起因するヘッドスライダの実質的な浮上変動量の差異を測定した。なお、上記の５つの試料では、アドレス領域Ａａに対するデータトラック領域Ａ１および浮上量調整領域Ａｘの高低差Ｈａが一例として１０ｎｍ程度となるように各領域が形成されている。
【００２４】
この場合、図４に示す試料では、ヘッドスライダの浮上変動量が３．５ｎｍであるのに対し、図５に示す試料では、浮上変動量が３．３ｎｍであった。したがって、サーボパターン領域Ａ３に浮上量調整領域Ａｘを形成することによって、ヘッドスライダの浮上変動量を０．２ｎｍ小さくすることができる。また、図６，７に示す試料では、それぞれの浮上変動量が１．８ｎｍ、１．５ｎｍであった。したがって、サーボパターン領域Ａ３に占める浮上量調整領域Ａｘの面積比を大きくすることにより、ヘッドスライダの浮上変動量を一層小さくできるのが理解される。さらに、図８に示すように、アドレス領域Ａａを３分割して、その間に２つの浮上量調整領域Ａｘを形成した試料では、その浮上変動量が図６に示す試料と近似しており、２．１ｎｍであった。したがって、浮上量調整領域Ａｘを複数形成したとしても、サーボパターン領域Ａ３に占める浮上量調整領域Ａｘの面積比を同程度とすることによって、ヘッドスライダの浮上変動量を同程度だけ小さくすることができる。
【００２５】
一方、図９，１０に示すように、ヘッドスライダの走行方向に沿った長さが６０μｍ程度でアドレス領域Ａａとの高低差Ｈｂが９．０ｎｍ程度の浮上量調整領域Ａｘを形成した試料と、ヘッドスライダの走行方向に沿った長さが６０μｍ程度でアドレス領域Ａａとの高低差Ｈｃが１１．０ｎｍ程度の浮上量調整領域Ａｘを形成した試料とを作製して、浮上量調整領域Ａｘの平均高さの相違に起因するヘッドスライダの実質的な浮上変動量の差異を測定した。この場合、前述したように、図４に示す試料では、浮上変動量が３．５ｎｍであるのに対し、図９に示す試料では、浮上変動量が２．０ｎｍであり、図１０に示す試料では、浮上変動量が２．１ｎｍであった。したがって、平均高さがデータトラック領域Ａ１の平均高さＨ１と異なる構成であったとしても、ヘッドスライダの浮上変動量を十分に小さくすることができる。なお、発明者は、上記のように、データトラック領域Ａ１の平均高さＨ１との高低差が±１０％程度の範囲内（つまり、本発明におけるほぼ同等の範囲内）となるように浮上量調整領域Ａｘを形成することによってヘッドスライダの浮上変動量を十分に小さくできることを確認している。
【００２６】
このように、この磁気ディスク１によれば、サーボパターン領域Ａ２内に浮上量調整領域Ａｘを形成したことにより、浮上量調整領域Ａｘが形成されていない磁気ディスクと比較して、データトラック領域Ａ１、サーボパターン領域Ａ２およびデータトラック領域Ａ１の順序で通過（走行）させられるヘッドスライダの実質的な浮上変動量を十分に小さくすることができる。これにより、磁気ディスク１に対する記録データの記録再生時に、ヘッドスライダが磁気ディスク１の表面に接触する事態を回避することができる。この場合、プリアンブル領域Ａｐとアドレス領域Ａａとの間、およびアドレス領域Ａａとバースト領域Ａｂとの間に浮上量調整領域Ａｘをそれぞれ形成したことにより、各第１機能領域（この例では、プリアンブル領域Ａｐ、アドレス領域Ａａおよびバースト領域Ａｂ）を複数に分割することなく浮上量調整領域Ａｘを形成することができる。したがって、各第１機能領域を構成する凹凸パターンＰ２，Ｐ３，Ｐ４として、通常のサーボパターン領域内の対応する凹凸パターンと同種のパターンを採用することができるため、浮上量調整領域Ａｘを形成するためにパターンの種類を変更する必要がない結果、特殊なサーボ信号検出機能を不要としつつ、トラッキングサーボ制御することができる。
【００２７】
なお、本発明は、上記の構成に限定されない。例えば、サーボパターン領域Ａ２内の各第１機能領域間に浮上量調整領域Ａｘを形成する例について上記したが、浮上量調整領域Ａｘの形成位置については上記の例に限定されず、例えば、図１１，１２に示す磁気ディスク１Ａのように、アドレス領域Ａａを２分割した第１アドレス領域Ａａ１および第２アドレス領域Ａａ２の間に平均高さＨ５がデータトラック領域Ａ１の平均高さＨ１とほぼ同等の浮上量調整領域Ａｘを形成し、バースト領域Ａｂにおける第２バースト領域Ａｂ２および第３バースト領域Ａｂ３の間に浮上量調整領域Ａｘを形成する構成（第１機能領域内に第２機能領域を形成する構成）を採用することもできる。この構成によれば、平均高さＨ３が低くなるアドレス領域Ａａにおいて、ヘッドスライダが浮上量調整領域Ａｘを通過する際に僅かに浮上させられる。このため、アドレス領域Ａａに浮上量調整領域Ａｘが形成されていない磁気ディスクと比較して、データトラック領域Ａ１、第１アドレス領域Ａａ１、浮上量調整領域Ａｘおよび第２アドレス領域Ａａ２の順序で通過（走行）させられるヘッドスライダの実質的な浮上変動量を小さくすることができる。また、この構成によれば、平均高さＨ４が高くなるバースト領域Ａｂにおいて、ヘッドスライダが浮上量調整領域Ａｘを通過する際に僅かに下降させられる。このため、バースト領域Ａｂに浮上量調整領域Ａｘが形成されていない磁気ディスクと比較して、第１バースト領域Ａｂ１、第２バースト領域Ａｂ２、浮上量調整領域Ａｘ、第３バースト領域Ａｂ３、第４バースト領域Ａｂ４およびデータトラック領域Ａ１の順序で通過（走行）させられるヘッドスライダの実質的な浮上変動量を小さくすることができる。
【００２８】
また、図１３に示す磁気ディスク１Ｂのように、プリアンブル領域Ａｐおよびアドレス領域Ａａの間に浮上量調整領域Ａｘを形成し、バースト領域Ａｂにおける第２バースト領域Ａｂ２および第３バースト領域Ａｂ３の間に浮上量調整領域Ａｘを形成する構成（第１機能領域間および第１機能領域内の双方に第２機能領域を形成する構成）を採用することもできる。この構成においても、上記の磁気ディスク１，１Ａと同様にして、ヘッドスライダの浮上変動量を十分に小さくすることができる。さらに、上記の例では、データトラック領域Ａ１の凹凸パターンＰ１と同種の凹凸パターンＰ５（すなわち、データ記録用トラックＴ，Ｔ・・と同種のパターンを有する凹凸パターン）を形成して浮上量調整領域Ａｘを構成したが、本発明における第２機能領域を形成するための凹凸パターンはこれに限定されない。例えば、その平均高さがデータトラック領域Ａ１の平均高さＨ１とほぼ同等である限り、データトラック領域Ａ１の凹凸パターンＰ１とは種類が異なる凹凸パターンを形成して第２機能領域を形成することができる。
【００２９】
また、浮上量調整領域Ａｘを構成する凹凸パターンに各種記録データを記録できる構成を採用することもできるし、浮上量調整領域Ａｘ用の凹凸パターンによって制御信号とは異なる各種の信号を記録しておく構成を採用することもできる。加えて、上記した各領域の長さやパターンの大小および形成ピッチ等については、任意に規定することができる。この場合、サーボパターン領域の長さに占める第２機能領域の長さが１０％未満のときには、ヘッドスライダの浮上変動量を小さくするのが困難となる。一方、サーボパターン領域の長さに占める第２機能領域の長さが６５％を超えるときには、データトラック領域が狭くなって磁気記録媒体の記録可能容量が小さくなる。したがって、第２機能領域の長さについては、１０％以上６５％以下の範囲内とするのが好ましい。加えて、上記した各例（磁気ディスク１，１Ａ，１Ｂ）では、プリアンブル領域Ａｐおよびアドレス領域Ａａの平均高さＨ２，Ｈ３がデータトラック領域Ａ１の平均高さＨ１よりも低く、バースト領域Ａｂの平均高さＨ４が平均高さＨ１よりも高くなっているが、例えばプリアンブル領域およびアドレス領域の平均高さがデータトラック領域の平均高さよりも高く、バースト領域の平均高さがデータトラック領域の平均高さよりも低い磁気ディスクに対しても、本発明を適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】磁気ディスク１の断面図である。
【図２】磁気ディスク１における各領域のパターン例を示すパターン図である。
【図３】磁気ディスク１における各領域の平均高さＨ１〜Ｈ５を示す断面図である。
【図４】サーボパターン領域Ａ３内に浮上量調整領域Ａｘが形成されていない試料（従来の磁気ディスク）の断面図である。
【図５】サーボパターン領域Ａ３内に長さが３０μｍでアドレス領域Ａａとの高低差Ｈａが１０ｎｍ程度の浮上量調整領域Ａｘを形成した試料の断面図である。
【図６】サーボパターン領域Ａ３内に長さが６０μｍでアドレス領域Ａａとの高低差Ｈａが１０ｎｍ程度の浮上量調整領域Ａｘを形成した試料の断面図である。
【図７】サーボパターン領域Ａ３内に長さが９０μｍでアドレス領域Ａａとの高低差Ｈａが１０ｎｍ程度の浮上量調整領域Ａｘを形成した試料の断面図である。
【図８】サーボパターン領域Ａ３内に長さが３０μｍでアドレス領域Ａａとの高低差Ｈａが１０ｎｍ程度の浮上量調整領域Ａｘを２つ形成した試料の断面図である。
【図９】サーボパターン領域Ａ３内に長さが６０μｍでアドレス領域Ａａとの高低差Ｈｂが９．０ｎｍ程度の浮上量調整領域Ａｘを形成した試料の断面図である。
【図１０】サーボパターン領域Ａ３内に長さが６０μｍでアドレス領域Ａａとの高低差Ｈｃが１１．０ｎｍ程度の浮上量調整領域Ａｘを形成した試料の断面図である。
【図１１】磁気ディスク１Ａにおける各領域のパターン例を示すパターン図である。
【図１２】磁気ディスク１Ａにおける各領域の平均高さＨ１〜Ｈ５を示す断面図である。
【図１３】磁気ディスク１Ｂにおける各領域のパターン例を示すパターン図である。
【図１４】積層体２の上に強磁性体１５によって凹凸パターンＰ１〜Ｐ４を形成した状態の断面図である。
【図１５】凹凸パターンＰ１〜Ｐ４を覆うようにして非磁性体１６をスパッタリングによって形成した状態の断面図である。
【図１６】非磁性体１６をエッチングした状態の断面図である。
【図１７】発明者が開発している磁気ディスクにおける各領域の平均高さＨ１１〜Ｈ１３を示す断面図である。
【符号の説明】
【００３１】
１，１Ａ，１Ｂ  磁気ディスク
２  積層体
１１  ガラス基材
１６  非磁性体
Ａ１  データトラック領域
Ａ２，Ａ３  サーボパターン領域
Ａａ  アドレス領域
Ａａ１  第１アドレス領域
Ａａ２  第２アドレス領域
Ａｂ  バースト領域
Ａｂ１  第１バースト領域
Ａｂ２  第２バースト領域
Ａｂ３  第３バースト領域
Ａｂ４  第４バースト領域
Ａｐ  プリアンブル領域
Ａｘ  浮上量調整領域
Ｈ１〜Ｈ５  平均高さ
Ｈａ〜Ｈｃ  高低差
Ｔ  データ記録用トラック
Ｐ１〜Ｐ３，Ｐ４ａ〜Ｐ４ｄ，Ｐ５  凹凸パターン
【図１】
2005166141.tif 000003
【図２】
2005166141.tif 000004
【図３】
2005166141.tif 000005
【図４】
2005166141.tif 000006
【図５】
2005166141.tif 000007
【図６】
2005166141.tif 000008
【図７】
2005166141.tif 000009
【図８】
2005166141.tif 000010
【図９】
2005166141.tif 000011
【図１０】
2005166141.tif 000012
【図１１】
2005166141.tif 000013
【図１２】
2005166141.tif 000014
【図１３】
2005166141.tif 000015
【図１４】
2005166141.tif 000016
【図１５】
2005166141.tif 000017
【図１６】
2005166141.tif 000018
【図１７】
2005166141.tif 000019