(57)【要約】【課題】  薄膜で遮光性能が高く、かつ低コストで表示装置用遮光層を作製することができる感光性組成物及び感光性転写材料、さらには、薄膜で遮光性能が高く、かつ低コストで作製しうる表示装置用遮光層の製造方法を提供する。【解決手段】  少なくとも１種の銀沈積核を含有することを特徴とする感光性組成物であり、これを用いて、表示装置用遮光層を得ることができる。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種の銀沈積核を含有することを特徴とする感光性組成物。
【請求項２】
少なくとも１種の銀沈積核、光重合開始剤、光重合性モノマー、及び、バインダーを含有することを特徴とする感光性組成物。
【請求項３】
上記銀沈積核が少なくとも硫化物を含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の感光性組成物。
【請求項４】
支持体に少なくとも感光性銀沈積核含有層を設けた感光性転写材料において、該感光性銀沈積核含有層が、少なくとも１種の銀沈積核、光重合開始剤、光重合性モノマー、及び、バインダーを含有することを特徴とする感光性転写材料。
【請求項５】
請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の感光性組成物もしくは請求項４に記載の感光性転写材料を用いて基板上に形成される感光性銀沈積核含有層を、露光、現像処理した後に、銀を沈積させたことを特徴とする表示装置用遮光層。
【請求項６】
請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の感光性組成物もしくは請求項４に記載の感光性転写材料を用いて基板上に形成される感光性銀沈積核含有層に銀を沈積させた後、露光、現像処理してなることを特徴とする表示装置用遮光層。
【請求項７】
光透過性基板の上に、着色層からなり、互いに異なる色を呈する２以上の画素群を有し、前記画素群を構成する各画素は互いに表示装置用遮光層により離画されているカラーフィルターであって、前記表示装置用遮光層が請求項５又は請求項６に記載の表示装置用遮光層であることを特徴とするカラーフィルター。
【請求項８】
少なくとも１つが光透過性の１対の基板の間にカラーフィルター、液晶層および液晶駆動手段を少なくとも備えた液晶表示素子において、前記カラーフィルターが、請求項７に記載のカラーフィルターであることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項９】
少なくとも１つが光透過性である１対の基板の間にカラーフィルター、液晶層及び液晶駆動手段を備えた液晶表示素子であって、前記液晶駆動手段がアクティブ素子を有し、各アクティブ素子の間に請求項５又は請求項６に記載の表示装置用遮光層が形成されていることを特徴とする液晶表示素子。
【請求項１０】
光透過性基板及び該基板の上に設けられた遮光層を有する表示装置用遮光層付き基板であって、前記遮光層が、請求項５又は請求項６に記載の表示装置用遮光層であることを特徴とする表示装置用遮光層付き基板。
【請求項１１】
光透過性基板上に、少なくとも１種の銀沈積核、光重合開始剤、光重合性モノマー、及び、バインダーを含有する感光性銀沈積核含有層を形成する工程と、該感光性銀沈積核含有層を像様露光し、露光部を光重合させる露光工程と、現像処理液により未露光部を除去し、銀沈積核パターンを形成する工程と、銀沈積核パターンにハロゲン化銀溶剤を含有する銀錯体処理液を適用して銀沈積核上に銀を沈積させ、遮光層を形成する工程とを、有する表示装置用遮光層付き基板の製造方法。
【請求項１２】
光透過性基板上に、少なくとも１種の銀沈積核、光重合開始剤、光重合性モノマー、及び、バインダーを含有する感光性銀沈積核含有層を形成する工程と、銀沈積核パターンにハロゲン化銀溶剤を含有する銀錯体処理液を適用してハロゲン化銀乳剤から銀沈積核上に銀を沈積させ、感光性銀沈積層を形成する工程と、該感光性銀沈積層を像様露光して露光部を光重合させる露光工程と、現像処理液により未露光部を除去し、銀沈積パターンを形成する工程と、を有する表示装置用遮光層付き基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性組成物、感光性転写材料、それを用いて作成された表示装置用遮光層、該表示装置用遮光層を備えるカラーフィルター、液晶表示素子並びに表示装置用遮光層付き基板、及び、該表示装置用遮光層付き基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラー液晶ディスプレー等に用いられるカラーフィルターは、透明基板上に着色画素層（Ｒ、Ｇ、Ｂ）が形成され、そして、Ｒ、Ｇ、Ｂ（赤、緑、青）の各着色画素の間隙には、表示コントラスト向上等の目的で、表示装置用遮光層が形成されている。特に薄膜トランジスター（ＴＦＴ）を用いたアクティブマトリックス駆動方式の液晶表示素子においては、薄膜トランジスターの光による電流リークに伴う画質の低下を防ぐためにも、表示装置用遮光層には高い遮光性が要求される。
表示装置用遮光層の形成方法としては、例えば、クロム等の金属膜を遮光層とする場合には、金属薄膜を蒸着法やスパッタリング法により作製し、該金属薄膜の上にフォトレジストを塗布し、次いで表示装置用遮光層用パターンをもつフォトマスクを用いてフォトレジスト層を露光現像し、その後露出した金属薄膜をエッチングし、最後に金属薄膜上のレジスト層を剥離することにより形成する方法が知られている（例えば、非特許文献１参照）。
【０００３】
この方法は、金属薄膜を用いるため、得られた表示装置用遮光層は膜厚が小さくても高い遮光効果が得られる反面、製造時に、蒸着法やスパッタリング法などに代表される真空成膜工程や液体を用いたエッチング工程が必要となり、コストが高くなるとともに環境に対する負荷も無視できないという問題がある。また、金属膜であるため反射率が高く、強い外光の下では表示コントラストが低いという問題もある。これに対しては低反射クロム膜（金属クロムと酸化クロムの２層からなるもの等）を用いるという手段があるが、更にコストアップとなることは否めない。
【０００４】
また、表示装置用遮光層の他の形成方法として、遮光性顔料、例えばカーボンブラックを含有する感光性樹脂組成物を用いる方法も知られており、具体的には、例えば、透明基板にＲ、Ｇ、Ｂ画素を形成した後、この画素の上にカーボンブラック含有感光性樹脂組成物を塗布し、透明基板のＲ、Ｇ、Ｂ画素非形成面側から全面に露光する、セルフアライメント方式の表示装置用遮光層形成方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
この方法は、前記金属膜のエッチングによる方法に比較して製造コストは低くなるものの、十分な遮光性を得るためには膜厚が厚くなるという問題があり、その結果、表示装置用遮光層とＲ、Ｇ、Ｂ画素との重なり（段差）が生じ、カラーフィルターの平坦性が悪くなって液晶表示素子のセルギャップムラが発生し、色ムラ等の表示不良につながることが懸念される。
【特許文献１】特開昭６２−９３０１号公報
【非特許文献１】共立出版（株）発行「カラーＴＦＴ液晶ディスプレイ」第２１８〜２２０頁（１９９７年４月１０日）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は前記のごとき問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、薄膜で遮光性能が高く、かつ低コストで表示装置用遮光層を作製することができる感光性組成物及び感光性転写材料を提供することにある。また、本発明の他の目的は、薄膜で遮光性能が高く、かつ低コストで作製しうる表示装置用遮光層及びその製造方法を提供することにある。
本発明のさらなる目的は、薄膜で遮光性能が高い前記本発明の表示装置用遮光層が設けられたカラーフィルター及び液晶表示素子、さらには、薄膜で遮光性能が高い表示装置用遮光層付き基板及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題は、以下の表示装置の遮光層作製用感光性組成物及び感光性転写材料、表示装置用遮光層及びその製造方法、カラーフィルター、液晶表示素子並びに表示装置用遮光層付き基板及びその製造方法を提供することにより解決される。
＜１＞  少なくとも１種の銀沈積核を含有することを特徴とする感光性組成物。
＜２＞  少なくとも１種の銀沈積核、光重合開始剤、光重合性モノマー、及び、バインダーを含有することを特徴とする感光性組成物。
＜３＞  上記銀沈積核が少なくとも硫化物を含有することを特徴とする＜１＞又は＜２＞に記載の感光性組成物。
【０００７】
＜４＞  支持体に少なくとも感光性銀沈積核含有層を設けた感光性転写材料において、該感光性銀沈積核含有層が、少なくとも１種の銀沈積核、光重合開始剤、光重合性モノマー、及び、バインダーを含有することを特徴とする感光性転写材料。
＜５＞  前記＜１＞乃至＜３＞のいずれか１に記載の感光性組成物もしくは前記＜４＞に記載の感光性転写材料を用いて基板上に形成される感光性銀沈積核含有層を、露光、現像処理した後に、銀を沈積させたことを特徴とする表示装置用遮光層。
＜６＞  前記＜１＞乃至＜３＞のいずれか１に記載の感光性組成物もしくは前記＜４＞に記載の感光性転写材料を用いて基板上に形成される感光性銀沈積核含有層に銀を沈積させた後、露光、現像処理してなることを特徴とする表示装置用遮光層。
＜７＞  光透過性基板の上に、着色層からなり、互いに異なる色を呈する２以上の画素群を有し、前記画素群を構成する各画素は互いに表示装置用遮光層により離画されているカラーフィルターであって、前記表示装置用遮光層が前記＜６＞に記載の表示装置用遮光層であることを特徴とするカラーフィルター。
＜８＞  少なくとも１つが光透過性の１対の基板の間にカラーフィルター、液晶層および液晶駆動手段を少なくとも備えた液晶表示素子において、前記カラーフィルターが、前記＜６＞に記載のカラーフィルターであることを特徴とする液晶表示素子。
【０００８】
＜９＞  少なくとも１つが光透過性である１対の基板の間にカラーフィルター、液晶層及び液晶駆動手段を備えた液晶表示素子であって、前記液晶駆動手段がアクティブ素子を有し、各アクティブ素子の間に前記＜６＞に記載の表示装置用遮光層が形成されていることを特徴とする液晶表示素子。
＜１０＞  光透過性基板及び該基板の上に設けられた遮光層を有する表示装置用遮光層付き基板であって、前記遮光層が、前記＜６＞記載の表示装置用遮光層であることを特徴とする表示装置用遮光層付き基板。
＜１１＞  支持体上に、少なくとも１種の銀沈積核、光重合開始剤、光重合性モノマー、及び、バインダーを含有する感光性銀沈積核含有層を形成する工程と、該感光性銀沈積核含有層を像様露光し、露光部を光重合させる露光工程と、現像処理液により未露光部を除去し、銀沈積核パターンを形成する工程と、銀沈積核パターンにハロゲン化銀溶剤を含有する銀錯体処理液を適用して銀沈積核上に銀を沈積させ、遮光層を形成する工程とを、有する表示装置用遮光層付き基板の製造方法。
＜１２＞  光透過性基板上に、少なくとも１種の銀沈積核、光重合開始剤、光重合性モノマー、及び、バインダーを含有する感光性銀沈積核含有層を形成する工程と、銀沈積核パターンにハロゲン化銀溶剤を含有する銀錯体処理液を適用してハロゲン化銀乳剤から銀沈積核上に銀を沈積させ、感光性銀沈積層を形成する工程と、該感光性銀沈積層を像様露光して露光部を光重合させる露光工程と、現像処理液により未露光部を除去し、銀沈積パターンを形成する工程と、を有する表示装置用遮光層付き基板の製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の感光性組成物によれば、薄膜で遮光性能が高く、かつ低コストで表示装置用遮光層を作製することができる。また、この感光性組成物を用いた感光性転写材料を提供することができる。
前記本発明の感光性組成物により得られた本発明の表示装置用遮光層は、薄膜で遮光性能が高いという効果を奏し、本発明の表示装置用遮光層付き基板の製造方法によれば、このような表示装置用遮光層を有する基板を、低コストで、容易に作製しうる。
また、前記本発明の薄膜で遮光性能が高い表示装置用遮光層を設けることで、優れた特性のカラーフィルター及び液晶表示素子、さらには、薄膜で遮光性能が高い表示装置用遮光層付き基板を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
以下、本発明を詳細に説明する。
［表示装置用遮光層作製用感光性組成物］
まず、本発明の感光性組成物について説明する。本発明の感光性組成物は、少なくとも１種の銀沈積核を含有することを特徴とする。また、本発明の第２の態様においては、さらに、光重合開始剤、光重合性モノマー、及び、バインダーを含有することを特徴とし、いずれも、感光性銀沈積核含有層、表示装置用遮光層を形成するための受像層として好適に使用しうる。これらの構成要素について順次説明する。
【００１１】
（銀沈積核）
本発明に使用しうる銀沈積核は写真業界でよく知られているハロゲン化銀乳剤の調製法に準じて行なうことで得られる。原理的にはサルファイドイオン溶液と金属イオン溶液またはそれぞれの単独溶液を反応させることにより硫化物からなる核を調製することができ、このようにして得られた核を本発明に適用しうる。
銀沈積核はハロゲン化銀乳剤層から拡散してきた転写性銀錯塩を現像主薬が還元して銀微粒子を形成する働きを助ける化合物である。銀沈積核の具体例としては、鉄、鉛、亜鉛、ニッケル、スズ、銅、クロム、コバルトなどの重金属や金、銀（コロイド銀を含む）、白金、パラジウムなどの貴金属を挙げることができる。また、貴金属の硫化物やセレン化物、例えば水銀、銅、亜鉛、銀、パラジウムなどの硫化物や鉛、亜鉛、アンチモンなどのセレン化物なども好ましい銀沈積核である。これらのうち、特に、金、白金、パラジウムかこれらの硫化物が好ましい。
【００１２】
銀沈積核を形成するためのサルファイドイオンになりうる化合物としては、例えば、硫化ナトリウム、硫化カリウム等の水溶性の硫化物が好ましいが、アセトン、ジアセトンアルコールあるいはメタノール等の有機溶媒あるいはこれらの有機溶媒と水の混合溶媒に可溶であり、且つ、金属イオンとの間で硫化物を形成しうるイオン含有化合物であってもよい。
パラジウムイオンになりうる化合物としては、例えば、塩化パラジウム酸のナトリウム塩やカリウム塩等の水溶性のパラジウム化合物が好ましいが、アセトン、ジアセトンアルコールあるいはメタノール等の有機溶媒あるいはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒に溶けるパラジウム化合物であってもよい。金イオンになりうる化合物としては例えば塩化金酸やその水溶性塩が好ましいがアセトン、ジアセトンアルコールあるいはメタノール等の有機溶媒あるいはこれらの有機溶媒と水との混合溶媒に溶ける金化合物であってもよい。
【００１３】
硫化パラジウムと硫化金など、複数種の金属を含有する混合核を調製するには、例えば、仕込み壺に予め後述するバインダー溶液とサルファイドイオン溶液とを入れておき、攪拌しながら、パラジウムと金など、混合核を形成するために用いられる複数の金属イオンの混合溶液を添加する方法、仕込み壺に予めバインダー溶液と複数の金属イオンの混合溶液を入れておき、攪拌しながらサルファイドイオン溶液を添加する方法、または仕込み壺に予めバインダー溶液だけを入れておき攪拌しながら複数の金属イオンの混合溶液およびサルファイドイオン溶液を同時に、または時間差をおいて添加する方法などの方法をとればよい。
【００１４】
このようにして得られた銀沈積核は、本発明の感光性組成物に１〜３０質量％含まれることが好ましく、３〜２０質量％の範囲であることがさらに好ましい。なお、この沈積核の定量は、蛍光Ｘ線測定装置、例えば、Ｒｉｇａｋｕ製、Ｘ−ＲＡＹ  ＳＰＥＣＴＲＯＭＥＴＥＲ  ３３７０などを用いて実施することが可能である。
【００１５】
（光重合開始剤）
本発明の感光性組成物は、露光により硬化してパターンを形成するため、露光により開始種を発生しうる光重合開始剤と、該開始種により重合反応を生起して硬化する光重合性モノマーとを含むことが好ましい。
本発明に用いうる光重合開始剤の例としては、米国特許第２３６７６６０号明細書に開示されているビシナルポリケタルドニル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載されているアシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２号明細書に記載のα−炭化水素で置換された芳香族アシロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号及び同第２９５１７５８号の各明細書に記載の多核キノン化合物、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載のトリアリールイミダゾール二量体とｐ−アミノケトンの組合せ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチアゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載されているトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２９７６号明細書に記載されているトリハロメチルオキサジアゾール化合物等が挙げられる。なかでも、特に好ましくはトリハロメチル−ｓ−トリアジン、トリハロメチルオキサジアゾール、トリアリールイミダゾール二量体、ミヒラーズケトン、ベンジルジメチルケタールである。
これらの光重合開始剤は単独で、又は２種以上混合して用いてもよい。
本発明の感光性組成物における光重合開始剤の含有量は、感度や形成される画像強度の観点から、固形分換算で０．５〜２０質量％が好ましく、より好ましくは２〜１５質量％である。
【００１６】
本発明においては、光重合開始剤として、感光性を有する高分子化合物を用いる事もできる。このような感光性高分子化合物としては、高分子化合物の構造中に、感光性基であるシンナモイル基、マレイミド基等を含むものが挙げられる。
具体的には特開平２−１５７７６２号、英国特許第１１１２２７７号、同第１３１３３９０号、同第１３４１００４号、同第１３７７７４７号等に記載の感光性高分子化合物を挙げる事ができる。
このような感光性高分子化合物は、前記光重合開始剤に代えて、又は、それに加えて用いることができる。感光性高分子化合物の感光性組成物中の好ましい添加量は、固形分換算で２０〜８０質量％の範囲である。
【００１７】
（光重合性モノマー）
本発明に好適に用いられる光重合性モノマーとしては、分子中に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基をもち、沸点が常圧で１００℃以上の化合物が挙げられる。
具体的には、例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの単官能アクリレートや単官能メタクリレート；
ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（（メタ）アクリロイルオキシプロピル）エーテル、トリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリ（（メタ）アクリロイルオキシエチル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能アルコールにエチレンオキシドやプロピレンオキシドを付加させた後で（メタ）アクリレート化した物；
【００１８】
特公昭４８−４１７０８号、特公昭５０−６０３４号、特開昭５１−３７１９３号の各公報に記載されているウレタンアクリレート類、特開昭４８−６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０４９０号の各公報に記載されているポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能（メタ）アクリレート；などを挙げることができる。
なかでも、重合性及び重合後の膜強度の観点から、より好ましい例として、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートを挙げることができる。
本発明の感光性組成物における光重合性モノマーの含有量は、重合後の膜強度及び現像性のバランスの観点から、固形分換算で２０〜８０質量％が好ましく、より好ましくは４０〜６０質量％である。
【００１９】
（バインダー）
本発明の感光性組成物には、膜性向上及び未露光部の除去性向上の観点から、アルカリ可溶性バインダーを含有することが好ましい。
本発明で用いうるアルカリ可溶性バインダーとしては、具体的には、以下の広範な種類の高分子化合物の中から選ばれた化合物を組み合わせて用いることができる。組み合わせることのできる化合物としては、銀沈積核分散性が良好で、且つ、光重合性モノマー、光重合開始剤との相溶性が良く、アルカリ現像液溶解性、有機溶剤溶解性、強度、軟化温度等が適当であるものを、他の併用成分との相関において適宜選択することが好ましい。
【００２０】
このようなアルカリ可溶性バインダーとしては、具体的には、（メタ）アクリル酸と（メタ）アクリル酸エステルとの共重合体、スチレン／無水マレイン酸共重合体、及び該共重合体とアルコール類との反応物などが挙げられ、好ましくは、（メタ）アクリル酸と（メタ）アクリル酸エステルとの共重合体が用いられる。
バインダーの重量平均分子量は、５、０００〜２００、０００の範囲であることが好ましい。
バインダーは複数種を組み合わせて用いてもよいが、感光性組成物におけるバインダーの好ましい含有量は、バインダーの合計量として、全固形分に対して２０〜８０質量％の範囲である。
【００２１】
本発明の感光性組成物には、前記成分に加えて、必要に応じて更に熱重合禁止剤、溶剤、密着促進剤等の各種の成分を添加することができる。
熱重合禁止剤は、感光性成分として前記したような付加重合性不飽和モノマー（本発明の光重合性モノマーに相当する）と光重合開始剤とを組合せを用いる場合に、組成物の保存安定性を増す目的で添加されるものであり、具体例としては、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４'−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２'−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−メルカプトベンズイミダゾール、フェノチアジン等が挙げられる。
【００２２】
［表示装置用遮光層を形成するための受像層作製用感光性転写材料］
次に、本発明の表示装置用遮光層を形成するための受像層（感光性銀沈積核含有層）作製用感光性転写材料について説明する。
支持体上に、前記本発明の感光性組成物からなる受像層を形成することで、受像層作製用感光性転写材料を得ることができる。
本発明におけるこの転写材料とは、支持体上に、少なくともハロゲン化銀を含有する層と、前記感光性組成物により形成された銀沈積核含有層とを順次設けたものであってもよく、また、本発明の転写材料、即ち、支持体上に受像層のみを設けたものを用い、該受像層の表面に、ハロゲン化銀乳剤層を適用して画像形成を形成するものであってもよい。
いずれの転写材料の場合であっても、ガラス基板等の永久支持体に転写して画像形成、即ち、後述する表示装置用遮光層などを形成する場合、受像層上にハロゲン化銀乳剤層が積層されるように設けるのが好ましい。
【００２３】
本発明の転写材料における支持体は、仮支持体として、画像形成時、あるいは画像形成後に取り除かれることが一般的であるが、このような支持体としては、ポリエステル、ポリスチレン等の公知の支持体を用いることができる。なかでも２軸延伸したポリエチレンテレフタレートが、コスト、耐熱性、寸法安定性の観点から好ましい。支持体の厚みは、ラミネーション工程時の加熱に対する形状安定性、寸法安定性及びにコストの観点から、１５〜２００μｍ程度が好ましく、３０〜１５０μｍ程度であることがより好ましい。
また仮支持体には必要に応じて特開平１１−１４９００８号公報に記載されている如き導電性層を設けてもよい。
本発明の表示装置用遮光層の受像層作製用感光性転写材料は、前記したように本発明の感光性組成物を、適切な溶剤に溶解し、支持体（仮支持体であってもよい）上に塗布・乾燥することで表示装置用遮光層作製用の受像層を形成することで得られる。
【００２４】
感光性組成物の塗布に用いうる溶剤の例としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ブタノール，ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、γ−ブチロラクトン、ε−カプロラクタム、ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホルアミド、水等を挙げることができる。これらは単独で、または、目的応じて、二種以上の混合物として使用することができる。
【００２５】
塗布方法には特に制限はなく、公知の方法、例えば、スピナー（スピン方式、スリットアンドスピン方式）、ホワイラー、ローラーコーター、カーテンコーター、ナイフコーター、ワイヤーバーコーター、エクストルーダー（ＦＡＳ方式等）等の塗布機を用いて塗布・乾燥させることにより形成することができる。後述するアルカリ可溶性熱可塑性樹脂の層を設ける場合にも、同様にして層を形成することができる。
受像層の塗布量は目的に応じて適宜選択されるが、一般的には、乾燥後の塗布量で０．２〜２．０μｍであることが好ましい。
【００２６】
本発明の転写材料においては、銀沈積核を含有する受像層の上に、表面の光沢や平滑性の向上、あるいは、銀沈積核含有受像層の傷つき防止を目的として、剥離層あるいは保護層を塗設してもよい。
【００２７】
（熱可塑性樹脂層）
本発明の転写材料においては、支持体と受像層、あるいは、支持体と後述する中間層との間に、熱可塑性樹脂層を設けることが好ましい。
該熱可塑性樹脂層は、支持体表面の凹凸、あるいは、既に形成されている画像などによる凹凸などの下地表面の凹凸を吸収することができる、クッション材としての役割を担うものであり、当該凹凸に応じて変形しうる性質を有している樹脂により形成されることが好ましい。
本発明の熱可塑性樹脂層に用いる好ましい樹脂としては、フェノール樹脂、ポリアミド樹脂、フッ素樹脂、ポリアセタール樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリイミド、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート樹脂、メタクリル樹脂、ポリプロピレン、ポリスチレン、ユリア樹脂、エポキシ樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ＰＲＯ  ＮＯＲＹＬ樹脂などが挙げられ、具体的には、「高分子材料便覧」（コロナ社発行、社団法人高分子学会編集、昭和４８年２月２０日発行）、１０２頁表１・１に記載の樹脂や、１０３頁表ｌ・２に記載の樹脂が挙げられる。
上記樹脂の中でも、本発明の熱可塑性樹脂層には、膜性向上及び、未露光部の除去性向上の観点からアルカリ可溶性熱可塑性樹脂を用いることが好ましく、このような樹脂からなるアルカリ可溶な熱可塑性樹脂層を設けることが好ましい。
【００２８】
該アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層に含まれる樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体とのケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アクリル酸エステル共重合体とのケン化物、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、及び（メタ）アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等との（メタ）アクリル酸エステル共重合体等のケン化物等より選ばれる少なくとも１種であることが好ましいが、さらに「プラスチック性能便覧」（日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発行）に記載の有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものも使用することもできる。また、これらの熱可塑性樹脂のうち、軟化点が８０℃以下のものが好ましい。なお、本明細書においては、アクリル酸及びメタクリル酸の双方あるいはいずれかを「（メタ）アクリル酸」と称することがあり、その誘導体の場合も同様である。
【００２９】
熱可塑性樹脂層の成分としては、前記した樹脂であって、重量平均分子量５万〜５０万（Ｔｇ＝０〜１４０℃）の物性を有するものを選択して用いることが好ましく、重量平均分子量６万〜２０万（Ｔｇ＝３０〜１１０℃）の範囲で選択して使用することがさらに好ましい。
用いうる樹脂の具体例としては、特公昭５４−３４３２７号、特公昭５５−３８９６１号、特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７号、特開昭６１−１３４７５６号、特公昭５９一４４６１５号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５４−９９４１８号、特開昭５４−１３７０８５号、特開昭５７−２０７３２号、特開昭５８−９３０４６号、特開昭５９−９７１３５号、特開昭６０−１５９７４３号、ＯＬＳ３５０４２５４号、特開昭６０−２４７６３８号、特開昭６０−２０８７４８号、特開昭６０−２１４３５４号、特開昭６０−２３０１３５号、特開昭６０−２５８５３９号、特開昭６１−１６９８２９号、特開昭６１−２１３２１３号、特開昭６３−１４７１５９号、特開昭６３−２１３８３７号、特開昭６３−２６６４４８号、特開昭６４−５５５５１号、特開昭６４一５５５５０号、特開平２−１９１９５５号、特開平２−１９９４０３号、特開平２−１９９４０４号、特開平２−２０８６０２号の各公報明細書に記載されているアルカリ水溶液に可溶な樹脂を挙げることができる。特に好ましいのは、特開昭６３−１４７１５９号明細書に記載されたメタクリル酸／２一エチルヘキシルアクリレート／ベンジルメタクリレート／メチルメタクリレート共重合体である。
【００３０】
また、熱可塑性樹脂層の成分としては、前述した重量平均分子量５万〜５０万の物性を有する樹脂と、前記した樹脂であって、重量平均分子量３千〜３万（Ｔｇ＝３０〜１７０℃）の物性を有するものとを選択して併用することが好ましく、重量平均分子量４千〜２万（Ｔｇ＝６０〜１４０℃）の範囲で選択して併用することがさらに好ましい。
これらの好ましい具体例は、上記の特許明細書に記載されているものの中から選ぶことができるが、特に好ましくは、特公昭５５−３８９６１号、特開平５−２４１３４０号明細書の各公報に記載のスチレン／（メタ）アクリル酸共重合体が挙げられる。
【００３１】
また、これら熱可塑性樹脂層を構成する有機高分子組成物中には、支持体との接着力を調節するために、各種可塑剤、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤あるいは界面活性剤、離型剤等を加えることが可能である。
好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エポキシ樹脂とポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとの付加反応生成物、有機ジイソシアナートとポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとの付加反応生成物、有機ジイソシアナートとポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートとの付加反応生成物、ビスフェノールＡとポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとの縮合反応生成物等を挙げることができる。
アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層中の可塑剤の量は、該熱可塑性樹脂に対して、２００質量％以下が一般的で、好ましくは２０〜１００質量％である。
アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層の厚みは６μｍ以上が好ましい。熱可塑性樹脂の厚みが６μｍ以上であれば、下地表面の凹凸を完全に吸収することができる。また、上限については、現像性、製造適性から約１００μｍ以下が一般的であり、好ましくは約５０μｍ以下である。
【００３２】
本発明において、熱可塑性樹脂層の溶媒としてはこの層を構成する樹脂を溶解するものであれば特に制限なく使用でき、例えばメチルエチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ｎ−プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
【００３３】
（中間層）
本発明の感光性転写材料においては、支持体と受像層との間に中間層を設けてもよい。この中間層は転写後は、受像層の保護層、即ち、酸素遮断層として機能することが好ましい。
中間層を構成する樹脂としては、アルカリ可溶であれば特に制限はない。樹脂の例としてポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリルアミド系樹脂、ポリエチレンオキサイド系樹脂、ゼラチン、ビニルエーテル系樹脂、ポリアミド樹脂、及びこれらの共重合体を挙げることができる。また、ポリエステルのように通常はアルカリ可溶性でない樹脂にカルボキシル基やスルホン酸基を持つモノマーを共重合した樹脂も用いることができる。
【００３４】
中間層には必要に応じて界面活性剤などの添加剤を添加してもよい。
中間層の厚みは、酸素遮断性と現像時における中間層の除去性のバランスという観点からは、０．１〜５μｍが好ましく、０．５〜３μｍの範囲がより好ましい。
中間層の塗布溶媒としては上記の樹脂が溶解すれば、特にその他の制限はないが、水が好ましい。水に前述の水混和性有機溶剤を混合した混合溶媒も好ましい。好ましい具体例としては次のようなものがある。水、水／メタノール＝９０／１０、水／メタノール＝７０／３０、水／メタノール＝５５／４５、水／エタノール＝７０／３０、水／１−プロパノール＝７０／３０、水／アセトン＝９０／１０、水／メチルエチルケトン＝９５／５（ここで、混合比は質量比を表す。）
【００３５】
本発明の感光性転写材料は、支持体の片側に、銀沈積核を含有する受像層を塗設し、支持体のもう片方の側にはバック層が塗設されていてもよい。さらにアルカリ中和層と中和タイミング層の間に画像安定化のための層、銀沈積核を含有する受像層の上に保護層を塗設してもよい。銀沈積核のバインダーとしては、セルロースエステルが用いられる場合、水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウムの如きアルカリの水溶液、該アルカリの水／アルコール混合溶液あるいは該アルカリのアルコール溶液でセルロースエステルを加水分解して全部または一部分を親水性の再生セルロースにしておくとアルカリ現像液や銀イオン錯体が受像シート中への浸透、拡散が容易になるので好ましい。
【００３６】
本発明で形成された銀画像の保存性を改良するために。銀沈積核含有受像層と支持体との間にハライドイオンを捕獲するための層を塗設してもよく、また例えば特開昭５９−２３１５３７号に記載されている如き画像保存性改良剤を受像層中に含有させてもよい。
【００３７】
（加工方法）
上記のようにして得られた本発明の転写材料は、所望のサイズに裁断されて用いられるが、そのときの加工方法、即ち、加工時の裁断方法には特に制限はなく、公知の方法が適用できる。
【００３８】
〔表示装置用遮光層及びその製造方法〕
前記感光性銀沈積核含有層もしくは感光性銀沈積核含有受像層を像様に露光し、現像することで露光領域のみにパターン上の硬化した銀沈積核含有層もしくは受像層が形成される。
この銀沈積核にハロゲン化銀乳剤を作用させることで、銀が銀沈積核上に沈積し、パターン状の銀沈積核含有層もしくは受像層が発色し、画像形成されて銀沈積層となり、遮光層として機能する。この遮光層領域を表示装置用遮光層として用いることができる。
即ち、前記した本発明の表示装置用遮光層受像層作製用感光性組成物や、該感光性組成物を受像層として用いた本発明の表示装置用遮光層受像層作製用感光性転写材料を用いて遮光層を形成することで本発明の表示装置用遮光層を得ることができる。
本発明の表示装置用遮光層は以下の製造方法により得ることができる。
【００３９】
第１の製造方法は、光透過性基板上に、少なくとも１種の銀沈積核、光重合開始剤、光重合性モノマー、及び、アルカリ可溶性バインダーを含有することを特徴とする銀沈積核含有層を形成する工程と、これを像様露光し、露光部を硬化させる露光工程と、現像処理液により未露光部の画像形成層を除去する現像工程と、銀錯体処理液を適用して銀沈積核上に銀を沈積させる工程と、を経ることで、画像部、即ち、パターン状の遮光層が形成されて表示装置用遮光層となる。
【００４０】
第２の製造方法は、以下の通りである。
光透通性基板上に、少なくとも１稀の銀沈積核、光重合開始剤、光重合性モノマーおよびバインダーを含有する感光性銀沈積核含有層を形成する工程と、ハロゲン化銀溶剤を含有する銀錯体処理液を適用して該銀沈積核上に銀を沈積させる工程と、露光／現像により銀沈積パターンを形成する工程を経ることで、画像部、即ち、パターン状の遮光層が形成されて表示装置用遮光層になる。
【００４１】
〔ハロゲン化銀乳剤〕
ハロゲン化銀乳剤について説明する。ハロゲン化銀乳剤は、支持体上に形成された一種またはそれ以上のハロゲン化銀乳剤を含む感光層を前記受像層に接触させるか、又は、受像層表面にハロゲン化銀乳剤を含む感光性組成物塗布液を塗布することで適用すればよい。
ここで用いられるハロゲン化銀乳剤は、銀塩写真分野で公知のものをいずれも適用できる。ハロゲン化銀としては、高感度の沃臭化銀（ヨード含量１〜１０モル％）が特に好ましい。これらは適当な保護コロイド物質、例えばゼラチン、カゼイン、アルブミン、ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド等に分散されて用いることができる。
このような用途に適当な乳剤はピー、グラフキデ（Ｐ．Ｇｌａｆｋｉｄｅｓ）著シミ・エ・フィジィーク・フォトグラフィーク（Ｃｈｉｍｉｅ  ｅｔ  Ｐｈｙｓｉｑｕｅ  Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｑｕｅ、Ｐａｕｌ  Ｍｏｎｔｅｌ  社刊、１９６７年）、ジー・エフ・ダフィン  （Ｇ．Ｆ．Ｄｕｆｆｉｎ）著、フォトグラフィック・エマルジョン・ケミストリー（Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｅｍｕｌｓｉｏｎ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，Ｔｈｅ  Ｆｏｃａｌ  Ｐｒｅｓｓ  社刊行、１９６６年）、ヴィ・エル・ゼリクマン等（Ｖ．Ｌ．Ｚｅｌｉｋｍａｎ  ｅｔ  ａｌ．）のメーキング・アンド・コーティング・フォトグラフィック・エマルジョン（Ｍａｋｉｎｇ  ａｎｄＣｏａｔｉｎｇ  Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｅｍｕｌｓｉｏｎ，  Ｔｈｅ  Ｆｏｃａｌ  Ｐｒｅｓｓ社刊、１９６４年）等に記載された方法で調製することができる。
【００４２】
これらのハロゲン化銀乳剤は必要に応じて化学増感、分光増感、強色増感を行なうことができる。
またカブリ防止剤、硬膜剤、現像促進剤、界面活性剤、帯電防止剤、などを添加することもできる。
ハロゲン化銀乳剤は、銀錯体処理液に予め添加しておくか、ゼラチン、ＰＶＡなどのバインダーを用いて銀沈積核含有層の上に塗布しておくことが好ましい。
【００４３】
〔銀錯体処理液〕
本発明の銀錯体処理液に用いられるハロゲン化銀溶剤について述べる。ハロゲン化銀溶剤としては銀塩写真の分野で「定着剤」として使用されるものを使用できる。
具体例としてはチオ硫酸塩、シアン酸塩があり、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸アンモニウム、シアン酸ナトリウムなどを利用できる。また、環式イミドとアンモニア又はアミンの組み合わせ、例えばウラシルとアミンの組み合わせも好ましいハロゲン化銀溶剤である。
本発明の銀錯体処理液はハロゲン化銀溶剤以外に必要に応じてハロゲン化銀現像主薬、アルカリ剤を添加してもよい。
【００４４】
適当なハロゲン化銀現像主薬には少なくとも二つのヒドロキシルおよび／またはアミノ基がベンゼン核のオクトまたはパラ位に置換されているベンゼン誘導体、例えばハイドロキノン、アミドール、メトール、グリシン、ｐ−アミノフェノールおよびピロガロールおよびヒドロキシルアミン類、特に第一級および第二級脂肪族および芳香族Ｎ−置換またはβ−ヒドロキシルアミン類で、これらは水性アルカリに可溶性であり、例えばヒドロキシルアミン、Ｎ−メチルヒドロキシルアミン、Ｎ−エチルヒドロキシルアミンおよび米国特許２，８５７，２７６号に記載されているものおよび同３，２９３，０３４号に記載されている如きＮ−アルコキシアルキル置換ヒドロキシルアミン類が包含される。特開昭４９−８８５２１号に記載されているテトラヒドロフルフリル基をもつヒドロキシルアミン誘導体も用いられる。また西独公開特許（ＯＬＳ）２，００９，０５４号、同２，００９，０５５および同２，００９，０７８号に記載されているアミノレダクトン類や、米国特許４，１２８，４２５号に記載されている複素環アミノレダクトンも用いられる。さらに米国特許３，６１５，４４０号に記載されているテトラアルキルレダクチン酸も用いることができる。
【００４５】
また補助現像剤のフェニドン化合物、ｐ−アミノフェノール化合物およびアスコルビン酸と上記現像剤を併用することができる。適当なハロゲン化銀溶剤には通常の定着剤、例えばナトリウムチオサルフェート、ナトリウムチオシアネート、アンモニウムチオサルフェートおよび米国特許２，５４３，１８１号に記載されているもの、および環式イミドと窒素塩基の組み合わされたもの例えばバルビツレート、またはウラシルとアンモニアまたはアミンと組み合わされたもの、および米国特許２，８５７，２７４号に記載されているような組合せが包含される。
また、上記処理要素にハロゲン化銀を添加し、パターン形成された銀沈積核を現像することができる。
【００４６】
本発明において、銀錯体処理液に用いられるアルカリ剤としては銀錯体処理液のｐＨを増大させる物質であれば特に制限なく使用できるが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。
本発明の銀錯体処理液は０℃から５０℃、より好ましくは５℃から３５℃の範囲で１０秒間から３０分間、より好ましくは１５秒間から１０分間の範囲で処理することが好ましい。
処理温度が低すぎたり処理時間が短すぎると遮光層の光学濃度が不十分になる場合があり、逆に処理温度が高すぎたり処理時間が長すぎると遮光層の色調が悪化したり反射率が増大したりする場合がある。
本発明の銀錯体処理では銀錯体処理液は銀沈積核１ｇあたり銀が１００ｇから１０００００ｇ程度、より好ましくは５００ｇから５０００ｇ程度沈積する量用いることが好ましい。量が少なすぎると遮光層の光学濃度が不十分になる場合があり、量が多すぎるとコストの上から不利である。
【００４７】
本発明の感光性転写材料は、前記のごとき受像層組成物からの感光性遮光層を設けているため、これからは、薄膜でかつ光学濃度が高い遮光層を備えた表示装置用遮光層を作製することができる。
【００４８】
こうして作成される本発明の表示装置用遮光層を構成する遮光層の膜厚は０．２〜１．０μｍ程度、好ましくは０．６μｍ以下である。本発明の表示装置用遮光層における遮光層は隠蔽力の高い銀沈積核を沈積させたものであるため、前記のごとき薄膜でも十分な光学濃度を有する。
【００４９】
このような遮光層を表示装置用遮光層に好適なパターンに形成するには、常法により、表示装置用遮光層用フォトマスクを介してこの受像材料を露光し、その後、現像すればよい。このパターン露光により、発色要素である銀沈積核を含有する表示装置用遮光層受像層作製用感光性組成物からなる受像層の露光部のみが硬化する。
形成されたパターン状の受像層を発色させるには、前記ハロゲン化銀乳剤を適用すればよいが、その方法は任意である。
【００５０】
ハロゲン化銀乳剤を転写法により適用させるには、光透過性基板の上に、ハロゲン化銀乳剤を含む感光性層を有する積層材料を準備し、本発明の感光性組成物からなる受像層を表示装置用遮光層用フォトマスクを介して露光・現像した後に、形成された受像層パターン表面に、感光性層が接触するように配置して積層し、所定時間適用した後、感光性層を剥離して、表示装置用遮光層を形成する方法をとればよい。
また、本発明の感光性組成物からなる転写材料を表示装置用遮光層用フォトマスクを介して露光・現像した後に、受像層パターン表面にハロゲン化銀乳剤を含有させた組成物塗布液を塗布し、所定時間適用した後、塗布液を除去することで、硬化したパターンを発色させて遮光層とし、表示装置用遮光層を得ることもできる。また、表示装置用遮光層用フォトマスクを介して露光した後に、受像層パターン表面にハロゲン化銀乳剤を含有させた現像液を塗布法により適用して、現像と発色とを同時に行うこともできる。
さらに、両者、即ち、転写法と塗布法とを組み合わせて、所望の特性を有する遮光層を形成し、表示装置用遮光層を得ることもできる。
本発明の表示装置用遮光層の製造方法は、煩瑣な工程を行うことを必要とせず、低コストである。
【００５１】
（現像液）
現像工程において用いられるアルカリ水溶液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が好適であるが、さらに水と混和性の有機溶剤を少量添加したものも含まれる。適当なアルカリ性物質はアルカリ金属水酸化物類（例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類（炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アルカリ金属ケイ酸塩類（ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム）アルカリ金属メタケイ酸塩類（メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類（例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド）または燐酸三ナトリウムである。
アルカリ性物質の濃度は、０．０１質量％〜３０質量％であり、ｐＨは８〜１４が好ましい。
また、現像液に前記ハロゲン化銀乳剤を含有させる場合、添加量は、ハロゲン化銀溶解物質１モルに対して、ハロゲン化銀０．３〜３モルの範囲であることが好ましい。
【００５２】
［カラーフィルター］
本発明のカラーフィルターは、光透過性基板の上に、着色層からなり、互いに異なる色を呈する２以上の画素群を有し、前記画素群を構成する各画素は互いに表示装置用遮光層により離画されている構成を有し、該表示装置用遮光層は、本発明の前記表示装置用遮光層作製用受像層組成物又は感光性転写材料を用いて作製された本発明の表示装置用遮光層である。
画素群は２つでも、３つでも４つ以上でもよい。例えば３つの場合は赤（Ｒ）、緑（Ｇ）及び青（Ｂ）の３つの色相が用いられる。赤、緑、青の３種の画素群を配置する場合は、モザイク型、トライアングル型等の配置が好ましく、４種以上の画素群を配置する場合ではどのような配置であってもよい。
【００５３】
カラーフィルターに用いる光透過性基板としては、表面に酸化珪素皮膜を有するソーダガラス板、低膨張ガラス板、ノンアルカリガラス板、石英ガラス板等の公知のガラス板あるいはプラスチックフィルム等が用いられる。
カラーフィルターを作製するには、光透過性の基板に常法により２以上の画素群を形成した後、前記のようにして表示装置用遮光層を形成しても、或いは最初に表示装置用遮光層を形成し、その後２以上の画素群を形成してもよい。
本発明のカラーフィルターは前記のごとき表示装置用遮光層を備えているため、表示コントラストが高く、また、平坦性に優れている。
【００５４】
［液晶表示素子］
本発明の液晶表示素子の１つは、少なくとも１つが光透過性の１対の基板の間にカラーフィルター、液晶層および液晶駆動手段（単純マトリックス駆動方式及びアクティブマトリックス駆動方式を含む）を少なくとも備えたもので、前記カラーフィルターとして、前記のごとき複数の画素群を有し、前記画素群を構成する各画素が、互いに本発明の表示装置用遮光層により離画されているカラーフィルターを用いるものである。
前記カラーフィルターは平坦性が高いため、このカラーフィルターを備える液晶表示素子は、カラーフィルターと基板との間にセルギャップムラが発生せず、色ムラ等の表示不良が発生することがない。
また、このような液晶表示素子の別の態様としては、少なくとも１つが光透過性の１対の基板の間に、カラーフィルター、液晶層および液晶駆動手段を少なくとも備え、前記液晶駆動手段がアクティブ素子（例えばＴＦＴ）を有し、かつ各アクティブ素子の間に本発明の表示装置用遮光層作製用受像層組成物又は感光性転写材料を用いて作製される表示装置用遮光層が形成されているものが挙げられる。
【００５５】
［表示装置用遮光層付き基板］
本発明の表示装置用遮光層付き基板は、光透過性基板の上に設けられた遮光層を有する。この遮光層は銀沈積パターン状に拡散してきた銀錯体が、銀微粒子として沈積するため、受像層の厚み方向により銀微粒子の粒径、アスペクト比及び体積分率などが異なる。それゆえ、粒度分布のシャープな銀微粒子で調製された遮光層と比べ、無彩色に近い純黒色が得られる。さらに厚み方向に深くなるほど銀微粒子の体積分率が小さいため加熱をしても銀微粒子が融着しない。従って遮光層の裏面から観察すると遮光層の色味が純黒に保持されており、表示装置用遮光層として好ましい。
【００５６】
また、本発明の表示装置用遮光層付き基板は、カラーフィルターの作製のために用いることができる。
この表示装置用遮光層付き基板における遮光層の膜厚は０．２〜２．０μｍが好ましく、特に０．２〜０．９μｍが好ましい。本発明の表示装置用遮光層基板における遮光層は銀微粒子を分散させたものであるため、前記のごとき薄膜でも十分な光学濃度を有する。
【実施例】
【００５７】
以下に具体的に実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
（実施例１）
１．受像材料の作製
（感光性銀沈積核含有受像層塗布液の調整）
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体  （モル比＝７３／２７、重量平均分子量＝３万）２４．３ｇを３８０ｇのアセトンとメチルエチルケトン３０８ｇに溶解した液をいれた壺に、５５０ｒｐｍで攪拌しながら０．０７Ｍの硫化ナトリウム・９水塩水  溶液を１６ｍｌとアセトン３６ｍｌの混合液を毎秒１ｍｌの速度で添加した後、２分間そのまま攪拌を続け、次に０．０７０Ｍの四塩化パラジウム・二ナトリウム・３水塩の  水溶液を１６ｍｌとメタノール３６ｍｌの混合液を毎秒１ｍｌの速度で添加した後５分間そのまま攪拌を続けた。これらの操作は２５℃で行なった。
【００５８】
次にベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体（モル比＝７８／２２、重量平均分子量＝４万）１７．３ｇとメトキシプロピレングリコールアセテート  １３２ｇ、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート  ３９．５ｇ、２−トリクロロメチル−５−（Ｐ−スチリルスチリル）−１，３，４−オキサジアゾ−ル  ２．０２ｇ、フェノチアジン  ０．２２２８ｇ、メガファックＦ１７６ＰＦ（大日本インキ化学工業製、フッ素系界面活性剤）  １．１９４ｇを添加して攪拌し、銀沈積核を含有してなる感光性組成物を得、感光性銀沈積核含有受像層塗布液とした。
【００５９】
（感光性銀沈積核含有受像層の形成）
ガラス基板にスピンコーターを用いて膜厚が０．２μｍになるように前記感光性銀沈積核含有受像層塗布液を塗布して１００℃で５分間乾燥し、感光性銀沈積核含有受像層を形成した。次いで、この上にスピンコーターを用いて下記保護層塗布液を乾燥膜厚が１．５μｍになるように塗布して１００℃で５分間乾燥し、感光性銀沈積核含有受像材料を得た。
【００６０】
〔保護層塗布液〕
・ポリビニルアルコール（クラレ（株）製  ＰＶＡ２０５）        ３．０質量部
・ポリビニルピロリドン
（ＧＡＦコーポレーション（株）製  ＰＶＰ−Ｋ３０）        １．３質量部
・蒸留水                                                ５０．７質量部
・メチルアルコール                                      ４５．０質量部
【００６１】
２．表示装置用遮光層の作製
（露光・現像）
前記のようにして得られた受像材料を、表示装置用遮光層用フォトマスクを介して、超高圧水銀灯を用いて塗布面側から、表面エネルギー７０ｍＪ／ｃｍ2で露光を行った。
次いで、現像処理液ＴＣＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）により、３３℃で２０秒間現像処理して水洗し、エアーナイフで水を切って乾燥した。さらに、２４０℃で５０分間熱処理して銀沈積核を含有する受像層のパターン（銀沈積核パターン）を形成した。
【００６２】
〔銀錯体処理液の調製〕
銀錯体処理液は、下記組成のものを調製した。
・４０％水酸化カリウム水溶液                                ３２３ｍｌ
・酸化亜鉛                                                ９．７５ｇ
・Ｎ，Ｎ−ビス−メトキシエチルヒドロキシアミン                ７５ｇ
・トリエタノールアミン水溶液（水６．２部に対して
トリエタノールアミン４．５部）                    １７．１４ｇ
・テトラヒドロピリミジンチオン                              ０．４ｇ
・２，４−ジメルカプトピリミジン                          ０．３５ｇ
・ウラシル                                                    ８０ｇ
・水                                                      １１９３ｇ
【００６３】
この溶液に、さらに、平均粒径１．１μｍの沃臭化銀（ＡｇＩ含量６．０モル％  均一型構造）、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン、下記増感色素Ａ、Ｂ、Ｃを、各々下記塗布量になるように加えて調製した乳剤含有銀錯体処理液を、パターンが形成された銀沈積核含有層の上に乾燥膜厚４０ミクロンの厚みで塗布した。
【００６４】
沃臭化銀、［銀換算２．０］、
４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン［０．０１］、
下記増感色素Ａ［３．２×１０-4］、
下記増感色素Ｂ［３．２×１０-4］、
下記増感色素Ｃ［１．２×１０-4］、
なお、［  ］内の数字は固形分換算塗布量をｇ／ｍ2単位で表したものである。
以上のようにしてガラス基板に感光性銀沈積層、保護層が設けられた試料を作製した。
【００６５】
【化１】
2005309387.tif 000002
【００６６】
塗布した後、４０秒間、２５℃で保持し、銀沈積核上に銀を沈積させた。その後、３０℃の蒸留水で余分な銀錯体処理液を除去して、エアーナイフで水を切って乾燥した。この処理により、未硬化の受像層の除去と、硬化した受像層パターンが黒色に発色することによるパターン状の遮光層の形成とが一工程で行われ、パターン状の遮光層を有する実施例１の表示装置用遮光層を得た。
【００６７】
〔表示装置用遮光層の評価〕
１．膜厚測定
膜厚は次の方法で測定した。受像層を塗布した試料に、超高圧水銀灯を用いて塗布面側から露光エネルギー７０ｍＪ／ｃｍ2の条件で露光を行って受像層を硬化させた。形成された表示装置用遮光層において、受像層形成領域と、未形成領域（支持体のみの領域）との膜厚を、触針式表面粗さ計Ｐ−１（ＴＥＮＫＯＰ社製）を用いて測定し、両者の差をとることで、受像層の厚みを測定した。
２．光学濃度の測定
膜の光学濃度は以下の方法で測定した。ガラス基板上に塗設された銀沈積層に超高圧水銀灯を用いて塗布面側から５００ｍＪ／ｃｍ2の露光を行い、次いでこの光学濃度をマクベス濃度計（マクベス社製ＴＤ−９０４）を用いて測定する（ＯＤ）。別途ガラス基板の光学濃度（ＯＤ0）を同様の方法で測定し、両者の差、即ち、ＯＤからＯＤ0を差し引いた値を膜の光学濃度とする。
【００６８】
３．青、赤、緑色画素の形成と画素の気泡の評価
表示装置用遮光層を形成したガラス基板の上に公開特許公報２００２−３４１１２７号明細書の実施例−１に記載の試料Ｒ１、Ｇ１、Ｂ１を用いて各色の画素を形成した。画素形成の方法についてもこの特許記載の方法を用いた。
表示装置用遮光層の凹凸の上に各色の画素を形成するので、ガラス基板と各色画素の間に気泡が入る場合がある。この気泡発生程度を下記の方法で測定した。
このガラス基板の３色の画素各１００個ずつ、合計３００個の画素について光学顕微鏡を用いて目視で気泡の数を数えた。数が少ないほど良好であると評価する。
【００６９】
４．加熱による表示装置用遮光層の色相変化
表示装置用遮光層を形成したガラス基板を２２０℃で２時間熱処理する前後の表示装置用遮光層色相の変化を目視で評価した。なお、以下の評価において実用上許容されるのはＡ〜Ｃレベルのものである。
全く変化が見られないもの                        Ａ
ごく僅かに金属光沢があるもの                    Ｂ
僅かな金属光沢があるが、実用上許容されるもの    Ｃ
実用使用で障害になる程度に金属光沢があるもの    Ｄ
完全な金属光沢があるもの                        Ｅ
以上の評価結果を表１に示す。
【００７０】
（実施例２〜７）
実施例１において銀沈積核の形成に用いた０．０７０Ｍの四塩化パラジウム・二ナトリウム・３水塩の  水溶液に代えて同濃度の塩化金酸水溶液（実施例２）、塩化第二イリジウム水溶液（実施例３）、塩化第二銅水溶液（実施例４）、塩化白金酸水溶液（実施例５）、二塩化オスミウム水溶液（実施例６）及び硝酸銀水溶液（実施例７）をそれぞれ用いた以外は実施例１と同様にして表示装置用遮光層を形成し、同様の評価を行なった。結果を表１に併記する。
【００７１】
（実施例８〜１１）
実施例１において銀沈積核の形成に用いた０．０７０Ｍの四塩化パラジウム・二ナトリウム・３水塩の水溶液に代えて、同濃度の四塩化パラジウム・二ナトリウム・３水塩水溶液、塩化金酸水溶液、塩化白金酸水溶液、及び硝酸銀水溶液を表１に示す比率で併用した以外は実施例１と同様にして表示装置用遮光層を形成し、同様の評価を行なった。結果を表１に併記する。
【００７２】
（実施例１２）
実施例１において感光性銀沈積核含有受像層を形成させた後、平均粒怪１．１μｍの沃臭化銀（Ａｇｌ含量６．０モル％  均一型構造）、４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３、ａ，７−テトラザインデン、下記増感色素Ａ、Ｂ、Ｃを、各々下記塗布量になるように加えて調製したハロゲン化銀乳剤液を塗布した。
【００７３】
沃臭化銀、［銀換算２．０］、
４−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３、ａ，７−テトラザインデン［０．０１］、
上記増感色素Ａ［３、２×１０-4］、
上記増感色素Ｂ［３．２×１０-4］、
上記増感色素Ｃ［１．２×１０-4］、
ゼラチン      ［２．０］、
なお、［  ］内の数字は固形分換算塗布置をｇ／ｍ2単位で表したものである。
その上に実施例１記載の保護層塗布液を乾燥膜厚が１．５μｍになるように塗布して感光性銀沈積核含有受像材料を形成した。前記のようにして得られた感光性銀沈積核含有受像材料を、表示装置用遮光層用フォトマスクを介して、超高圧水銀灯を用いて塗布面側から、表面エネルギー７０ｍＪ／ｃｍ2で露光を行った。
【００７４】
次に温度１０℃の下記組成の溶液を４０μｍの厚みで塗布し、１０℃で５０秒保持して銀沈積核上に銀を沈積させた。
・４０％水酸化カリウム水溶液                                ３２３ｍｌ
・酸化亜鉛                                                  ９．７５ｇ
・Ｎ，Ｎ−ビス−メトキシエチルヒドロキシアミン                  ７５ｇ
・トリエタノールアミン水溶液                              １７．１４ｇ
（水６．２部に対してトリエタノールアミン４．５部）
・テロラヒドロピリミジンチオン                                ０．４ｇ
・２，４−ジメルカプトピリミジン                            ０．３５ｇ
・ウラシル                                                      ８０ｇ
・水                                                        １１９３ｇ
【００７５】
その後、１０℃の蒸留水で余分な銀錯体処理液とハロゲン化銀乳剤とを除去して、エアーナイフで水を切って乾燥した。さらに、２４０℃で５０分間熱処理してパターン状の表示装置用遮光層を形成した。この表示装置用遮光層の評価を実施例１と同様に行った。
【００７６】
（実施例１３〜２４）
実施例１〜１２において、受像層表面に保護層を形成せず、さらに、露光量を７０ｍＪ／ｃｍ2から５００ｍＪ／ｃｍ2に変更した以外は実施例１と同様にして表示装置用遮光層を形成し、同様の評価を行なった。結果を表１に併記する。
【００７７】
【表１】
2005309387.tif 000003
【００７８】
表１の結果より明らかなように、本発明の表示装置用遮光層は遮光層の厚みが薄いにもかかわらず、光学濃度が高く優れた遮光性を示すことがわかった。また、画素形成時における目視で確認できる気泡の発生が認められず、カラーフィルターの形成にも好適であった。さらに、加熱後の色相の変化がほとんど認められず、熱安定性も高いことから、液晶表示素子に用いる場合にも高い耐久性を発現しうることが明らかであった。
【００７９】
（実施例２５〜３６）
１．転写材料の作製
２軸延伸した７５μｍ厚みのポリエチレンテレフタレート支持体にスライドコーターを用いて厚みが１５μｍになるように下記組成の熱可塑性樹脂層塗布液を塗布して１００℃で５分間乾燥した。次いで、この上に、中間層として前記実施例１において用いた保護層塗布液を乾燥膜厚が１．５μｍになるように塗布して１００℃で５分間乾燥した。
〔熱可塑性樹脂層塗布液〕
・メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／
ベンジルメタクリレート／メタクリル酸＝５４／１２／５／２９の共重合体
（数平均分子量８００００）                                  ５８部
・スチレン／アクリル酸＝７０／３０の共重合体
（数平均分子量７０００）                                    １３６部
・多官能アクリレート
（ＢＰＥ−５００、新中村化学工業（株）製）                    ９０部
・フッ素系界面活性剤
（Ｆ１７６ＰＦ、大日本インキ化学工業（株）製）                １部
・メチルエチルケトン                                        ５４１部
・１−メトキシ−２−プロパノール                              ６３部
・メチルアルコール                                          １１１部
さらに前記中間層上に、実施例１〜１２で用いたのと同様の感光性銀沈積核含有層塗布液を塗布乾燥して、転写材料を作製した。
【００８０】
２．表示装置用遮光層の作製
前記のようにして得られたそれぞれの転写材料とガラス基板を受像層とガラス面が密着するように重ね合わせ、ラミネーターを用いて両者を貼り合わせた。ラミネーション条件は圧力０．８ｋｇ／ｃｍ2、温度１３０℃である。
その後、ポリエチレンテレフタレート支持体を剥離して、ガラス基板上に受像層と中間層とが転写された積層体を得た。この積層体を、表示装置用遮光層用のマスクを介し、超高圧水銀灯を用いて受像層、中間層の形成面側から面上のエネルギーが７０ｍＪ／ｃｍ2となる条件で露光を行い、その後、順次、以下の現像液を用いて現像を行った。
【００８１】
（１）現像処理液ＴＰＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて、３０℃で４０秒間現像処理した。
（２）現像処理液ＴＣＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて、３３℃で２０秒間現像処理した。
（３）現像処理液ＴＳＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて、３３℃で２０秒間現像処理した。
現像処理した後、水洗し、エアーナイフで水を切った。さらに、２４０℃５０分で熱処理して銀沈積核を含有する銀沈積核含有層パターンを形成した。
その後、実施例１同様の方法で、ハロゲン化銀乳剤層の形成、銀錯体処理液浸漬を行い、実施例２５〜３６の遮光層付き基板を得て、実施例１と同様に評価した。結果を下記表２に示す。
【００８２】
【表２】
2005309387.tif 000004
【００８３】
（比較例１）
１．銀微粒子の作製
（Ａ液の調製）
脱灰ゼラチン５０ｇに、蒸留水１９５０ｇを添加し、そして得られた混合物を約４０℃まで加熱してゼラチンを溶解した。これに５％ＮａＯＨ水溶液でｐＨ９．２に調製し、４０℃に保温した。
（Ｂ液の調製）
脱灰ゼラチン１５０ｇに、蒸留水１３５０ｇを添加し、そして得られた混合物を約４０℃まで加熱してゼラチンを溶解した。同様に５％ＮａＯＨ水溶液でｐＨ９．２に調製した。酢酸カルシウム１６．０ｇと蒸留水３２０ｍｌに溶解した硝酸銀１６０ｇを攪拌して溶解し、蒸留水を添加して、最終容積を２０００ｍｌに調整し、４０℃に保温した。
（Ｃ液の調製）
亜硫酸ナトリウム（無水）１１０ｇを蒸留水７００ｍｌに溶解し、これにハイドロキノン８０ｇをメタノール７０ｍｌと水８０ｍｌに溶解したものを混合し、さらに蒸留水を添加して、最終容積を２０００ｍｌに調整し、４０℃に保温した。
【００８４】
Ａ液を急速に攪拌しながらＢ液とＣ液を同時に１０秒かけて添加した。１０分後、無水硫酸ナトリウム１６００ｇを濃塩酸７０ｍｌと蒸留水８０００ｍｌで溶解した溶液を添加して、８０分攪拌させた後、沈降させ、冷却した。上澄みを除去した後、Ｂｒ塩溶液を添加しても沈殿ができなくなるまで、直ちに蒸留水でリンスした。水切り後、４０℃で再溶解した。次いで、生成物（再溶解した溶液）をゲル化温度近くまで冷却し、そして小さな穴を通過させて冷却した水の中へ入れ、それにより非常に微細なヌードルを形成した。
亜硫酸ナトリウム（無水）２０ｇ、ＮａＯＨ  ０．６ｇを蒸留水２０００ｍｌに溶解したもので洗浄し、さらに氷酢酸２０ｇを蒸留水２０００ｍｌに溶解したもので洗浄した。得られた黒色スラリー粒子を、ナイロンメッシュバック中でスラリーを介して水道水を通過させ、約３０分間洗浄水がバックを通過するようにして洗浄し、すべての塩を洗い流した。
ゲルスラリーに分散させた洗浄した黒色銀を、溶融した場合に１．５質量％の濃度の銀を有する黒色銀分散体を得るように、生成物の水分を調整した。
【００８５】
（銀微粒子の作製）
上記の如くして得られた銀分散スラリー５０００ｇに、分散剤（ラピゾールＢ−９０、日本油脂（株）製）２５ｇとパパイン５質量％水溶液１０００ｇを添加し３７℃で２４時間保存した。この液を２０００ｒｐｍで５分間遠心分離し、銀微粒子を沈降させた。上澄みを捨てた後、蒸留水で洗浄して酵素で分解されたゼラチン分解物を除却した。次いで、銀微粒子沈降物をメチルアルコールで洗浄してから乾燥させた。約８５ｇの銀微粒子の凝集物が得られた。この凝集物７３．５ｇとソルスパース２００００（アビシア（株）製  分散剤）１．０５ｇメチルエチルケトン１６．４ｇを混合した。これをビーズ分散機（ジルコニアビーズ０．３ｍｍ）を用いて平均粒径３０ｎｍの銀微粒子分散液Ａ−１を得た。
【００８６】
２．感光層用塗布液の調整
上記のようにして得られた銀微粒子分散液Ａ−１に下記の添加剤を添加して感光性層用塗布液とした。
〔感光性層用塗布液〕
・銀微粒子分散液Ａ−１                                  ４０．０ｇ
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート      ４０．０ｇ
・メチルエチルケトン                                    ３７．６ｇ
・フッ素系界面活性剤                                      ０．２ｇ
（大日本インキ化学工業製、Ｆ１７６ＰＦ（２０％））
・ヒドロキノンモノメチルエーテル                          ０．００１ｇ
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（銀微粒子の感光層中の体積分率が０．１２６になるよう添加）
・ビス［４−［Ｎ−［４−（４、６−ビストリクロロメチル
−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル］カルバモイル］
フェニル］セバケート                                  ０．１ｇ
【００８７】
３．保護層塗布液の調製
前記実施例１において用いたのと同様の保護層塗布液を調整した。
４．感光材料の作製
ガラス基板にスピンコーターを用いて前記感光性層用塗布液を、光学濃度が４．０になるように塗布して１００℃で５分間乾燥した。次いで、この上にスピンコーターを用いて前記保護層塗布液を乾燥膜厚が１．５μｍになるように塗布して１００℃で５分間乾燥した。
５．表示装置用遮光層の作製
表示装置用遮光層用マスクを介し、超高圧水銀灯を用いて塗布面側から面上のエネルギーが７０ｍＪ／ｃｍ2となる条件で露光を行った。次いで、以下の条件で順次現像処理を行って表示装置用遮光層を得た。
（１）現像処理液ＴＣＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３３℃で２０秒間現像処理した。
（２）現像処理液ＴＳＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３３℃で２０秒間現像処理した。
【００８８】
〔表示装置用遮光層の評価〕
実施例１におけるのと同様にして表示装置用遮光層を評価した。結果を表２に併記する。特に、熱処理前後の表示装置用遮光層色相の変化の結果は、前記の評価基準によれば、完全な金属光沢を示すＥランクとなり、実用不可であった。
また、膜厚測定の結果は、０．１１μｍであった。
【００８９】
（比較例２）
１．感光転写材料の作製
２軸延伸した７５μｍ厚みのポリエチレンテレフタレート支持体にスライドコーターを用いて厚みが１５μｍになるように前記実施例２３において用いたのと同様の熱可塑性樹脂層塗布液を塗布して１００℃で５分間乾燥した。次いで、この上に実施例２５と同様の中間層塗布液を乾燥膜厚が１．５μｍになるように塗布して１００℃で５分間乾燥した。さらに比較例１で用いたのと同様の感光性層用塗布液を塗布乾燥して、感光転写材料を作製した。
【００９０】
２．表示装置用遮光層の作成
この感光転写材料とガラス基板を感光性層とガラス面とが密着するように重ね合わせ、上記実施例２５において用いたのと同様のラミネーターを用いて両者を貼り合わせた。ラミネーション条件は圧力０．８ｋｇ／ｃｍ2、温度１３０℃である。
その後ポリエチレンテレフタレート支持体を剥離した。表示装置用遮光層用マスクを介し、超高圧水銀灯を用いて塗布面側から面上のエネルギーが７０ｍＪ／ｃｍ2となる条件で露光を行った。次いで、以下の条件で、順次、現像処理を行った後水洗し、エアーナイフで水を切って表示装置用遮光層を得た。
（１）現像処理液ＴＰＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３０℃で４０秒間現像処理した。
（２）現像処理液ＴＣＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３３℃で２０秒間現像処理した。
（３）現像処理液ＴＳＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３３℃で２０秒間現像処理した。
【００９１】
〔表示装置用遮光層の評価〕
実施例１におけるのと同様にして表示装置用遮光層を評価した。結果を表２に併記する。特に、熱処理前後の表示装置用遮光層色相の変化の結果は、前記の評価基準によれば、完全な金属光沢を示すＥランクとなり、実用不可であった。
また、膜厚測定の結果は、０．１１μｍであった。
【００９２】
（比較例３）
１．レジスト塗布液の調製
ガラス基板上に下記黒色レジスト塗布液を光学濃度（ＯＤ）が４．０になるように塗布し、１００℃で５分乾燥した。この上に中間層塗布液を乾燥膜厚が１．５μｍになるように塗布して１００℃で５分間乾燥した。なお、保護層塗布液は、実施例１と共通である。
黒色レジスト塗布液：
・ＣＦＰ−ＦＦ−７７５Ｂ（Ｃ．Ｉ．ＰＢ１５：６分散液
富士フイルムオーリン（株）製）                  ４．５０部
・ＣＦＰ−ＦＦ−２９３Ｙ（Ｃ．Ｉ．ＰＹ１３９分散液
富士フイルムオーリン（株）製）                  ３．３７部
・ＣＦＰ−ＦＦ−８０２Ｖ（Ｃ．Ｉ．ＰＶ２３分散液
富士フイルムオーリン（株）製）                  ４．１６部
・ＣＦＰ−ＦＦ−９４９Ｋ（カーボンブラック分散液
富士フイルムオーリン（株）製）                １１．９  部
・ＭＭＰＧ−ＡＣ（プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート）              １８．９部
・メチルエチルケトン                            ５２．０部
・ヒドロキノンモノメチルエーテル                ０．００２２部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート      ４．８５部
・ビス〔４−〔Ｎ−〔４−（４，６−ビストリクロロメチル
−ｓ−トリアジン−２−イル）フェニル〕
カルバモイル〕フェニル〕セバケート          ０．２３８部
・下記の共重合体
（メチルイソブチルケトン３０質量％溶液）    ０．０６５部
【００９３】
【化２】
2005309387.tif 000005
【００９４】
２．表示装置用遮光層の作製
前記黒色レジスト用塗布液を塗布した感光材料を、表示装置用遮光層用マスクを介し、超高圧水銀灯を用いて塗布面側から面上のエネルギーが７０ｍＪ／ｃｍ2となる条件で露光を行った。次いで、以下の条件で順次現像処理を行った後水洗し、エアーナイフで水を切って表示装置用遮光層を得た。
（１）現像処理液ＴＣＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３３℃で２０秒間現像処理した。
（２）現像処理液ＴＳＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３３℃で２０秒間現像処理した。
【００９５】
〔表示装置用遮光層の評価〕
実施例１におけるのと同様にして表示装置用遮光層を評価した。結果を表２に併記する。膜厚測定の結果は、２．３５μｍであった。このように厚い遮光層であったため、「青、赤、緑色画素の形成と画素の気泡の評価」においては、目視で確認しうる気泡の数を数えたところ、５０個以上であり、カラーフィルターとしては実用不可であった。
【００９６】
（比較例４）
１．感光転写材料の作製
２軸延伸した７５μｍ厚みのポリエチレンテレフタレート支持体にスライドコーターを用いて厚みが１５μｍになるように前記実施例２３において用いたのと同様の熱可塑性樹脂層塗布液を塗布して１００℃で５分間乾燥した。次いで、この上に実施例２５と同様の中間層塗布液を乾燥膜厚が１．５μｍになるように塗布して１００℃で５分間乾燥した。さらに比較例３で用いたのと同様の黒色レジスト用塗布液を塗布乾燥して、感光転写材料を作製した。
【００９７】
２．表示装置用遮光層の作成
この感光転写材料とガラス基板を感光性層とガラス面とが密着するように重ね合わせ、上記実施例２５において用いたのと同様のラミネーターを用いて両者を貼り合わせた。ラミネーション条件は圧力０．８ｋｇ／ｃｍ2、温度１３０℃である。
その後ポリエチレンテレフタレート支持体を剥離した。表示装置用遮光層用マスクを介し、超高圧水銀灯を用いて塗布面側から面上のエネルギーが７０ｍＪ／ｃｍ2となる条件で露光を行った。次いで、以下の条件で順次現像処理を行った後水洗し、エアーナイフで水を切って表示装置用遮光層を得た。
【００９８】
（１）現像処理液ＴＰＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３０℃で４０秒間現像処理した。
（２）現像処理液ＴＣＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３３℃で２０秒間現像処理した。
（３）現像処理液ＴＳＤ（富士写真フイルム（株）製  アルカリ現像液）を用いて３３℃で２０秒間現像処理した。
【００９９】
〔表示装置用遮光層の評価〕
実施例１におけるのと同様にして表示装置用遮光層を評価した。結果を表２に併記する。膜厚測定の結果は、２．３５μｍであった。このように厚い遮光層であったため、「青、赤、緑色画素の形成と画素の気泡の評価」においては、目視で確認しうる気泡を数を数えたところ、５０個以上であり、カラーフィルターとしては実用不可であった。
【０１００】
前記実施例１〜３６及び比較例１〜４の評価結果より、本発明の感光性組成物により作製した表示装置用遮光層は、塗布法で形成したもの、転写法で形成したものともに、薄層でも高い光学濃度を示し、且つ、加熱後の色相変化もなく、画素を形成してカラーフィルターを形成する場合にも、気泡の発生が抑制され、光学素子やカラーフィルターへ好適に使用できることがわかった。
一方、従来の銀微粒子を分散させた遮光層を有する比較例１、２の表示装置用遮光層は、遮光性に優れるものの、加熱処理後に光沢の変化が著しいことから表示装置用遮光層としては実用に適さないことがわかった。また、黒色レジスト用塗布液を用いて作製した比較例３、４の表示装置用遮光層は、遮光層の膜厚が厚く、画素を形成する際の気泡の発生が著しく、カラーフィルター用の表示装置用遮光層に適さないことがわかった。