(57)【要約】 【課題】  電極材料の浪費を減らし，より微細で精密な電極パターンを形成できるプラズマディスプレイパネルの製造方法等を提供する。【解決手段】  非伝導性暗色ペーストをグラビアの凹溝に充填した後，印刷ブランケットを経て透明電極が形成されている前面基板上に隣接した透明電極間の非放電領域の対応部分に転写させ，再びバス電極ペーストを同じ方法で，透明電極上に転写させた後，これらのパターンを乾燥及び焼成し，その上に誘電層を形成して前面板を完成させる。これを別途に完成した背面板と対向させ，その間に放電ガスを注入し封入することによって完成される。【選択図】      図２
2005166632.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向配置される第１基板及び第２基板と，
前記第２基板に一方向に沿って並んで形成されるアドレス電極と，
前記第１基板と前記第２基板との間の空間に配置され，複数の放電空間を区画する隔壁と，
前記各々の放電空間内に形成される蛍光体層と，及び
前記第１基板に，前記アドレス電極と交差する方向に沿って延在する透明電極，前記透明電極上にこれと並んで形成されるバス電極を含む放電維持電極と，を含み，
前記アドレス電極の延長方向に隣接した放電空間の間に隣接する透明電極間の間隔が非伝導性暗色層で満たされる，
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
前記バス電極は，厚さ方向に所定の曲率を有するように凸形に形成される，ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項３】
前記非伝導性暗色層は，厚さ方向に所定の曲率を有するように凸形に形成される，ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項４】
前記非伝導性暗色層は，前記透明電極と重畳する部分を有するように形成される，ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項５】
前記バス電極は，前記非伝導性暗色層と端部同士が隣接するように形成される，ことを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項６】
前記非伝導性暗色層は，前記バス電極及び前記透明電極と同時に重畳する部分を有するように形成される，ことを特徴とする請求項４に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項７】
前記バス電極は，前記透明電極及び前記非伝導性暗色層上に同時に置かれるように形成される，ことを特徴とする請求項６に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項８】
前記バス電極は，その幅方向の中心を基準として，その中心部は前記透明電極上に位置し電気的に連結されると共に，その周辺部は前記非伝導性暗色層上に位置する，ことを特徴とする請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項９】
前記バス電極は，その延長方向に垂直な平面で切断した断面が略楕円形状に形成される，ことを特徴とする請求項８に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１０】
前記バス電極は，その幅方向の中心を基準として，その一側端が前記透明電極上に形成され，その他側端が前記非伝導性暗色層の透明電極側の周縁上で重畳するように形成される，ことを特徴とする請求項７に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１１】
前記非伝導性暗色層は，前記バス電極を覆うように形成される，ことを特徴とする請求項６に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１２】
前記非伝導性暗色層は，黒色系統で形成される，ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１３】
前記バス電極は，白色系統の電極材料からなる，ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１４】
前記非伝導性暗色層は，オフセット印刷工法により形成される，ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１５】
前記バス電極は，オフセット印刷工法により形成される，ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル。
【請求項１６】
第１基板上に所定のパターンを有する複数個の透明電極を並べて形成する段階，
非伝導性暗色ペーストを所定のパターンを有するグラビアの凹溝に充填する段階，
前記非伝導性暗色ペーストを前記グラビアの凹溝から印刷ブランケットに転移させる段階，
前記非伝導性暗色ペーストを前記印刷ブランケットから前記隣接した透明電極間の前記第１基板上の非放電領域の対応部分に転写させる段階，
バス電極ペーストを，所定のバス電極パターンを有するグラビアの凹溝に充填する段階，
前記バス電極ペーストを前記グラビアの凹溝から印刷ブランケットに転移させる段階，
前記バス電極ペーストを前記印刷ブランケットから前記第１基板の透明電極上に転写させる段階，
前記第１基板に形成された前記非伝導性暗色ペースト及び前記バス電極ペーストからなるパターンを乾燥及び焼成する段階，
前記第１基板に形成された透明電極，バス電極，及び非伝導性暗色層を覆うように誘電層を形成する段階，及び
前記第１基板に対向する第２基板との間に放電ガスを注入し封入する段階，を含む，ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１７】
前記非伝導性暗色ペーストを，非放電領域に対応する前記第１基板の隣接する透明電極の間が満たされるように形成する，ことを特徴とする請求項１６に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１８】
前記非伝導性暗色ペーストを，前記透明電極の周縁と重畳するように塗布する，ことを特徴とする請求項１７に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項１９】
前記バス電極ペーストを，前記非伝導性暗色ペーストと重畳するように形成する，ことを特徴とする請求項１８に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２０】
前記バス電極ペーストを，前記非伝導性暗色ペースト上に完全に載るように形成する，ことを特徴とする請求項１９に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２１】
前記バス電極ペーストを，その一部は前記非伝導性暗色ペーストの周縁上で重なり，その一部は前記透明電極上で重畳するように形成する，ことを特徴とする請求項１９に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２２】
前記バス電極ペーストを，前記透明電極上で一部重畳する前記非伝導性暗色ペーストの周縁と隣接するように前記透明電極上に形成する，ことを特徴とする請求項１６に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２３】
前記透明電極上にバス電極を形成し，その上に前記バス電極を覆うように前記非伝導性暗色ペーストを形成する，ことを特徴とする請求項１６に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２４】
前記非伝導性暗色ペーストは，黒色系統である，ことを特徴とする請求項１６に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項２５】
前記バス電極ペーストは，白色系統の電極材料である，ことを特徴とする請求項１６に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，プラズマディスプレイパネル及びその製造方法に関し，より詳細には，オフセット印刷工法を利用してパネル基板に電極を形成するパネルの製造方法及び，その方法によって製造されたプラズマディスプレイパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ；以下，ＰＤＰという。）は，プラズマ放電を利用して画像を表示する電子装置である。かかるＰＤＰは，ＰＤＰの放電空間に配置された電極に所定の電圧を印加して，これらの間でプラズマ放電が発生するようにし，このプラズマ放電時に発生する真空紫外線（ＶＵＶ）によって所定のパターンに形成された蛍光体層を励起させて画像を形成する。
【０００３】
このようなプラズマディスプレイパネルは，その構成によって，大略，交流型（ＡＣ
ｔｙｐｅ），直流型（ＤＣ ｔｙｐｅ）及び混合型（Ｈｙｂｒｉｄ ｔｙｐｅ）に分類される。図７は，一般的な交流型プラズマディスプレイパネルを示した分解斜視図である。
【０００４】
従来一般的なＰＤＰ構造は，背面基板１１０上に一方向（図面のｘ軸方向）に沿ってアドレス電極１１２が形成され，このアドレス電極１１２を覆いながら背面基板１１０の全面に誘電層１１３が形成される。この誘電層１１３上に，各アドレス電極１１２の間に配置されるようにストライプパターンの隔壁１１５が形成され，各々の隔壁１１５の間に赤色（Ｒ），緑色（Ｇ），青色（Ｂ）の蛍光体層１１７が形成される。
【０００５】
背面基板１１０に対向する前面基板１００の一面には，アドレス電極１１２と交差する方向（図面のｙ軸方向）に沿って，通常，ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）からなる一対の透明電極１０２ａ，１０３ａと，通常，金属電極材料からなるバス電極１０２ｂ，１０３ｂから構成される放電維持電極１０２，１０３とが形成され，この放電維持電極を覆いながら前面基板１００全体に誘電層１０６とＭｇＯ保護膜１０８が形成される。
【０００６】
背面基板１１０上のアドレス電極１１２と，前面基板１００上の放電維持電極１０２，１０３が交差する地点が，放電セルを構成する部分となる。
【０００７】
アドレス電極１１２と放電維持電極１０２，１０３との間にアドレス電圧（Ｖａ）を印加して，アドレス放電を行い，再び一対の放電維持電極１０２，１０３間に維持電圧（Ｖｓ）を印加して維持放電させる。このとき発生する真空紫外線が該当蛍光体を励起させ，透明な前面基板１００を通じて可視光を放出しながらＰＤＰの画面を実現する。
【０００８】
このような構成の従来のＰＤＰにおいては，バス電極１０２ｂ，１０３ｂは，感光性銀（Ａｇ）ペーストを背面基板１１０の全面に所定の厚さで塗布した後に，乾燥，露光，現象工程を経てパターニングしたり，あるいは感光性銀（Ａｇ）テープを全面に付着した後，露光，現象工程を経てパターニングする，即ち，フォトリソグラフィ（Ｐｈｏｔｏｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）法によって主に形成される。
【０００９】
特に，コントラスト向上のために，バス電極１０２ｂ，１０３ｂを黒色及び白色の２層構造で形成しているが，黒色ペーストと白色ペーストを順次に背面基板の全面に塗布した後に一括露光する方式で，一度にパターニングして形成する。このとき，黒色ペーストで形成される黒色電極層も伝導性を有する物質からなる。
【００１０】
上記方法によってバス電極を形成する場合には，電極の厚さを一定化できるという利点はあるが，図８のように，電極の両側面にエッジカール（ｅｄｇｅｃｕｒｌ:電極焼成時の角部が鋭い形状を有するようになる現象）が生じる，という問題がある。このようなエッジカールは，バス電極上に誘電層が形成される際に，このエッジカールが形成されたバス電極の両側面に誘電層形成物質が位置しながら起泡を発生させる。このような付随的な生成構造は，バス電極が有する耐電圧を低下させる恐れがあり，これによりバス電極が適用された部位の放電セルでは，その放電状態に異常を起こす原因ともなりうる。
【００１１】
一方，非放電領域に対応する前面基板部分には，コントラストの向上のために，図８のように，ブラックストライプ（ｂｌａｃｋ  ｓｔｒｉｐｅ）１２０が形成されている。このようなブラックストライプ１２０は，バス電極１０２，１０３を製作する際に，一緒に製作したり，バス電極１０２，１０３製作後に別途の工程を追加して製作することができる。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
しかしながら，バス電極１０２，１０３製作と同時に製作する場合には，ブラックストライプ１２０は，バス電極１０２，１０３と同一の物質で形成されるので，同様に伝導性を有することになる。このため，隣接した放電セルの隣接する放電維持電極間で短絡を防止するためには，非放電領域全体に形成できないという，問題がある。さらに，伝導性物質を含む場合には，黒色度が低下してコントラストの改善が困難である，という問題がある。
【００１３】
一方，ブラックストライプをバス電極製作の後に別途の工程により製作する場合には，バス電極を形成するために印刷/乾燥/露光/現象/焼成の段階を経てから，ブラックストライプを形成するために，再び印刷/乾燥/露光/現象/焼成の段階を経なければならない。このため，工程が複雑で多くの時間がかかり，量産工程に適しない，という問題がある。
【００１４】
したがって，本発明の目的は，オフセット印刷工法を適用して電極を形成することによって電極材料のコストを低減し，より微細で精密な電極パターンを形成することが可能な新規かつ改良されたプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することにある。
【００１５】
また，本発明の他の目的は，オフセット印刷工法で前面基板にバス電極を形成する時に，非放電領域の対応部に非伝導性黒色層を共に形成することにより，簡単な工程でコントラストを改善することが可能な新規かつ改良されたプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することにある。
【００１６】
また，本発明の他の目的は，上記製造方法で製造されるプラズマディスプレイパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
上記課題を解決するため，本発明の第１の観点においては，互いに対向配置される第１基板及び第２基板と，前記第２基板に一方向に沿って並んで形成されるアドレス電極と，前記第１基板と第２基板との間の空間に配置されて複数の放電空間を区画する隔壁と，前記各々の放電空間内に形成される蛍光体層，及び前記第１基板に前記アドレス電極と交差する方向に沿ってのびて形成される透明電極と，前記透明電極上にこれと並んで形成されるバス電極を含む放電維持電極とを含み，前記アドレス電極の延長方向に隣接した放電空間の間に隣接する透明電極間の間隔が非伝導性暗色層によって満たされる，ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルが提供される。
【００１８】
また，バス電極及び非伝導性暗色層は，厚さ方向に所定の曲率を有して凸形に形成される，如く構成することができる。
【００１９】
また，前記非伝導性暗色層は，前記透明電極と重畳する部分を有するように形成される，如く構成するのが好ましい。このとき，前記バス電極は，前記非伝導性暗色層と端部同士隣接するように形成することができ，前記非伝導性暗色層が前記バス電極及び前記透明電極と同時に重畳する部分を有するように形成する，如く構成することもできる。
【００２０】
また，前記バス電極は，前記透明電極と前記非伝導性暗色層上に同時に置かれるように形成する，如く構成することができる。また，前記バス電極は，その幅方向中心を基準として，中心部は前記透明電極上に位置して電気的に連結され，周辺部は前記非伝導性暗色層上に位置するように形成できる。バス電極はその延長方向に垂直な平面で切断した断面が略楕円形状に形成される。
【００２１】
また，バス電極はその幅方向中心を基準として一側端が前記透明電極上に形成され，他側端が前記非伝導性暗色層の透明電極側の周縁上に重畳するように形成される，如く構成することができる。
【００２２】
また，非伝導性暗色層は，前記バス電極を覆うように形成されることができる。前記非伝導性暗色層は，黒色系統で形成される，如く構成するのが好ましく，前記バス電極は白色系統の電極材料からなる，如く構成するのが好ましい。
【００２３】
上記課題を解決するため，本発明の第２の観点においては，第１基板上に所定のパターンを有する複数個の透明電極を並べて形成する段階と，非伝導性暗色ペーストを所定のパターンを有するグラビア（ｇｒａｖｕｒｅ）凹溝に充填する段階と，前記非伝導性暗色ペーストを前記グラビアの凹溝から印刷ブランケットに転移する段階と，前記非伝導性暗色ペーストを前記印刷ブランケットから前記隣接した透明電極の間の前記第１基板上の非放電領域の対応部分に転写する段階と，バス電極ペーストを所定のバス電極パターンを有するグラビアの凹溝に充填する段階と，前記バス電極ペーストを前記グラビアの凹溝から印刷ブランケットに転移する段階と，前記バス電極ペーストを前記印刷ブランケットから前記第１基板の透明電極上に転写する段階と，前記第１基板に形成された前記非伝導性暗色ペーストと前記バス電極ペーストからなるパターンを乾燥・焼成する段階と，前記第１基板に形成された透明電極，バス電極及び非伝導性暗色層を覆うように誘電層を形成する段階，及び前記第１基板に対向する第２基板との間に放電ガスを注入して封入する段階を含む，ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法が提供される。
【００２４】
また，前記非伝導性暗色ペーストを，非放電領域に対応する前記第１基板の隣接する透明電極の間が満たされるように形成することができる。このとき，前記非伝導性暗色ペーストを前記透明電極の周縁と重畳するように塗布することができる。
【００２５】
また，前記バス電極ペーストを前記非伝導性暗色ペーストと重畳するように形成することができ，さらに，前記バス電極ペーストが前記非伝導性暗色ペースト上に完全に載るように形成することができる。また，前記バス電極ペーストの一部は，前記非伝導性暗色ペーストの周縁上で重畳し，その一部は前記透明電極上で重畳するように形成することもできる。
【００２６】
また，前記バス電極ペーストを，前記透明電極上で一部重なる前記非伝導性暗色ペーストの周縁と隣接するように前記透明電極上に形成することもできる。また，前記透明電極上にバス電極を形成し，その上に前記バス電極を覆うように前記非伝導性暗色ペーストを形成することもできる。
【００２７】
また，前記非伝導性暗色ペーストは，黒色系統からなるのが好ましく，前記バス電極ペーストは白色系統の電極材料からなるのが好ましい。
【発明の効果】
【００２８】
本発明によるプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば，簡単な工程でコントラスト改善用黒色層及びバス電極を形成することができ，バス電極の一部を黒色電極で形成する必要がないので，より優れた電気伝導率を維持することができる。
【００２９】
また，本発明によるプラズマディスプレイパネルによれば，コントラスト向上のために非伝導性物質を用いるので，十分な黒化度を有することができ，隣接した放電維持電極間の短絡の心配がなく，非放電領域全体に黒色層を形成できるようになり，信頼性のあるコントラスト改善効果を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下に添付図面を参照しながら，本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお，本明細書及び図面において，実質的に同一の機能構成を有する構成要素については，同一の符号を付することにより重複説明を省略する
【００３１】
（第１の実施の形態）
まず，図１に基づいて，第１の実施の形態にかかるプラズマディスプレイパネルの構成を説明する。なお，図１は，本発明の第１の実施の形態にかかるプラズマディスプレイパネルを示した部分分解斜視図である。図２は，第１の実施の形態にかかるプラズマディスプレイパネルの第１基板上に放電維持電極と黒色パターンが共に形成された模様を示した断面図である。
【００３２】
本実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルは，基本的に，第１基板１０と第２基板２０が所定の間隔を置いて互いに対向配置され，両基板１０，２０間の空間には，プラズマ放電を起こせるように複数の放電空間２７が隔壁２５によって区画され，第１基板１０と第２基板２０には，放電維持電極１２，１３，１２’及びアドレス電極２１が各々配置される。放電空間２７の内部には，各々赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）色の蛍光体が塗布されて蛍光体層２９を形成している。
【００３３】
まず，第２基板２０のうちの第１基板１０との対向面上にこの第２基板２０の一方向（図面のｙ軸方向）に沿って複数のアドレス電極２１が形成される。これらアドレス電極２１は，隣接するもの同士所定の間隔を維持しながら互いに並んで形成される。アドレス電極２１が形成される第２基板２０上には，誘電層２３がアドレス電極２１を覆うように形成されている。
【００３４】
第１基板１０に形成される放電維持電極１２，１３，１２’は，アドレス電極２１と交差する方向（図面のｘ軸方向）に沿って複数が互いに並んで形成され，一対が対向する領域の放電空間２７が画素を形成する。これら一対の放電維持電極１２，１３は，各々Ｘ電極（共通電極）とＹ電極（走査電極）の役割をし，各々の放電維持電極１２，１３，１２’は，さらに透明電極１２ａ，１３ａ，１２’ａとバス電極１２ｂ，１３ｂ，１２ｂ’から構成される。このとき，透明電極１２ａ，１３ａ，１２’ａは，ストライプ形に形成されることも，各放電空間２７ごとに別に分離される突出形電極からなることもできる。
【００３５】
一方，バス電極１２ｂ，１３ｂ，１２’ｂは，透明電極１２ａ，１３ａ，１２’ａ上にこれと並んで形成され，透明電極１２ａ，１３ａ，１２’ａの幅方向中心から一側に偏って形成される。特に，一対の透明電極１２ａ，１３ａが対応しながら放電領域を形成する部分では，  各透明電極１２ａ，１３ａ上に互いに離れていく方向にバス電極１２ｂ，１３ｂが配置される。バス電極１２ｂ，１３ｂ，１２’ｂは，銀（Ａｇ）電極材料で形成されて，白色系統の色合いを帯びるようになり，透明電極１２ａ，１３ａ，１２’ａを形成するＩＴＯ電極の高い抵抗を補償し，放電維持電極上での電圧降下を減らす。
【００３６】
アドレス電極の延長方向（図面のｙ軸方向）に隣接した，互いに異なる放電空間の間に隣接する透明電極１３ａ，１２’ａ間の間隔，即ち，非放電領域に対応する部分（以下，非放電領域という。）には非伝導性黒色層１５が全面に形成される。このような非伝導性黒色層１５は，透明電極１２ａ，１３ａ，１２’ａと重畳する部分を有するように形成され，非放電領域を全て満たして，この非放電領域側に向かっている透明電極の端部と一部重畳する。
【００３７】
このとき，本実施形態にかかるバス電極１２ｂ，１３ｂ，１２’ｂは，透明電極１２ａ，１３ａ，１２’ａと非伝導性黒色層１５上に同時に位置することになる。その幅方向の中心を基準として，その中心部は透明電極１２ａ，１３ａ，１２’ａ上に位置して電気的にこれと連結され，その周辺部は，非伝導性黒色層１５上に位置する形態となる。このため，本実施形態にかかるバス電極１２ｂ，１３ｂ，１２’ｂは，その延長方向に垂直な平面で切断した断面が略楕円形状となり，このような形状のバス電極はオフセット工法を適用して形成することができる。
【００３８】
上記のように，バス電極１２ｂ，１３ｂ，１２’ｂ及び非伝導性黒色層１５を形成する場合には，コントラストを向上させるために非伝導性物質を使用するので，十分な黒色度を有することができる。さらに，隣接した放電維持電極間の短絡の心配がなく，非放電領域全体に黒色層を形成できるようになり，より信頼性の高いコントラスト改善効果を得ることができる。
【００３９】
以下，図３〜図５を参照してオフセット工法を適用してプラズマディスプレイパネルの基板に電極を形成する方法を説明する。
【００４０】
図３ａ〜図３ｅは，オフセット工法により電極印刷する過程を順に示した概念図である。
【００４１】
図３ａに示すように，まず，印刷する電極パターン形状の凹溝を有する凹板３１に電極ペースト３４を充填した後，ブレード３２を利用して凹板３１上にオーバーフローされた電極ペースト３４を除去する。
【００４２】
次に，図３ｂ及び図３ｃに示すように，凹板３１に満たされた電極ペースト３４を印刷ブランケット３５に転移する。このようにして取った電極ペースト３４を，図３ｄ及び図３ｅに示すように，ガラス基板３７に転写する。その後，乾燥及び焼成を経て電極形成工程が完成する。
【００４３】
図４は，グラビアプレート（ｇｒａｖｕｒｅ ｐｌａｔｅ）に凹溝を形成しペーストを満たした後，ガラス基板に転写する過程を簡略に示した概念図である。図５は，グラビアロール（ｇｒａｖｕｒｅ  ｒｏｌｌ）に凹溝を形成しペーストを満たした後，ガラス基板に転写する過程を簡略に示した概念図である。
【００４４】
本実施形態にかかるバス電極パターン及び非伝導性黒色層パターンをグラビアプレート３１またはグラビアロール３９に凹溝によって形成した後，ペーストを入れ，これをブランケット３５に転移して，ガラス基板３７に転写することができる。
【００４５】
本実施形態にかかるプラズマディスプレイパネルの基板上に，バス電極及び非伝導性黒色層を形成するオフセット印刷方法をより詳細に説明する。
【００４６】
まず，第１基板１０上に予め設定されたパターンを有する複数個の透明電極１２ａ，１３ａ，１２’ａを並べて形成する。
【００４７】
次に，非伝導性黒色ペーストを予め設定されたパターンを有するグラビアの凹溝に充填する。このとき，凹溝のパターンは，先に形成された透明電極１２ａ，１３ａ，１２’ａの形状を考慮して非放電領域を満たし，透明電極の端部の一部と重畳するように形成する。また，グラビアの凹溝は，グラビアプレートあるいはグラビアロールに選択的に形成することができる。ペーストを充填した後，上記のように，ブレードでオーバーフローされたペーストを除去する。
【００４８】
次に，グラビアの凹溝に充填された非伝導性黒色ペーストをここから印刷ブランケットに転移させる。その後，非伝導性黒色ペーストを再び印刷ブランケットから第１基板１０上に転写させる。このとき，非伝導性黒色ペーストを第１基板１０上の非放電領域の対応部分に転写させ，透明電極１２ａ，１３ａ，１２’ａと一部分が重畳するように形成することができる。
【００４９】
このように，非伝導性黒色ペーストを塗布してからバス電極ペーストを塗布する。バス電極ペーストを塗布する方法は，非伝導性黒色ペーストを塗布する方法と類似する。即ち，バス電極ペーストを予め設定されたバス電極パターンを有するグラビアの凹溝に充填する。このとき，凹溝のパターンは，先に形成された透明電極１２ａ，１３ａ，１２’ａ及び非伝導性黒色層の形状を考慮して，透明電極１２ａ，１３ａ，１２’ａ上にこれと並ぶように形成する。
【００５０】
特に，本実施形態にかかるバス電極１２ｂ，１３ｂ，１２’ｂを形成するためには，第１基板１０に塗布された非伝導性黒色ペーストの上に，バス電極ペーストが完全に載るように形成するのが好ましい。このとき，非伝導性黒色ペーストは，乾燥前であれば多少流動性があるので，その上に載せられるバス電極ペーストの重量により，バス電極の幅方向の中心を基準として両側に押し出される。したがって，バス電極ペーストは，透明電極と直接接して電気的に互いに連結されることになる。
【００５１】
次に，グラビアの凹溝に充填されたバス電極ペーストをここから印刷ブランケットに転移させる。その後，バス電極ペーストを再び印刷ブランケットから第１基板１０上に転写させる。
【００５２】
次に，上記過程を経て塗布された非導電性黒色ペースト及びバス電極ペーストからなるパターンを乾燥，焼成し，その上に透明電極，バス電極及び非伝導性黒色層を覆うように誘電層を形成しする。その上に再び保護膜を形成して，プラズマディスプレイパネルの前面板を完成する。以上のように，オフセット印刷工法を利用してバス電極及び非伝導性黒色層を形成する場合，簡単な工程によりコントラスト改善用黒色層とバス電極を形成することができ，バス電極の一部を黒色電極で形成する必要がないので，より優れた電気伝導率を維持することができる。この時，バス電極または非伝導性黒色層は，厚さ方向に所定の曲率を有して，凸形に形成される。
【００５３】
このようにして完成された前面板を別途の工程で製作した後面板と互いに対向させ，その間に放電ガスを注入し封入することによりプラズマディスプレイパネルが完成される。
【００５４】
非伝導性黒色層の形成に使用された非伝導性黒色ペーストは，必ずしも黒色に限定されるわけでなく，コントラストの向上に貢献できるようなその他の暗色のペーストで形成される非伝導性暗色層でも良い。また，バス電極の形成に使用されたバス電極ペーストは，通常，銀（Ａｇ）の電極材料のような白色系統の電極材料が使用されるが，導電性が良い材料であれば，必ずしも白色系統でなくても良い。
【００５５】
（第２の実施の形態）
以下，図６に基づいて，本発明の第２の実施の形態について説明する。なお，以下の実施形態においても，全て説明のオフセット印刷工法を適用してバス電極及び非伝導性黒色層を形成することができる。なお，図６は，本発明の第２の実施の形態にかかるプラズマディスプレイパネルの第１基板上に放電維持電極及び黒色パターンが共に形成された模様を示した断面図である。
【００５６】
本実施形態にかかる非伝導性黒色層４５，４５’も，第１の実施の形態と同様に，非放電領域の全面に形成されながら，透明電極４２ａ，４３ａ，４２’ａと重畳する部分を有するように形成され，非放電領域を全て満たし，この非放電領域側に向かっている透明電極の端部と一部重なる。
【００５７】
また，本実施形態にかかるバス電極４２ｂ，４３ｂ，４２’ｂは，第１の実施の形態と同様に，透明電極４２ａ，４３ａ，４２’ａ及び非伝導性黒色層４５の上に同時に置かれる。しかしながら，本実施形態においては，バス電極４２ｂ，４３ｂ，４２’ｂは，その幅方向の中心を基準として，その一側端は透明電極４２ａ，４３ａ，４２’ａ上に位置し電気的にこれと連結され，その他側端は，非伝導性黒色層４５の透明電極側の周縁上に重畳するように形成される。
【００５８】
（第３の実施の形態）
以下，図７に基づいて，本発明の第３の実施の形態について説明する。なお，以下の実施形態においても，全て説明のオフセット印刷工法を適用してバス電極及び非伝導性黒色層を形成することができる。なお，図７は，本発明の第３の実施の形態にかかるプラズマディスプレイパネルの第１基板上に，放電維持電極及び黒色パターンが共に形成された様子を示した断面図である。
【００５９】
本実施形態にかかる非伝導性黒色層５５も，第１実施例と同様に，非放電領域の全面に形成されながら，透明電極５２ａ，５３ａ，５２’ａと重畳する部分を有するように形成され，非放電領域を全て満たし，この非放電領域側に向かっている透明電極の端部と一部重畳する。
【００６０】
また，本実施形態にかかるバス電極５２ｂ，５３ｂ，５２’ｂは，透明電極５２ａ，５３ａ，５２’ａ上にこれと並んで形成されながら，透明電極５２ａ，５３ａ，５２’ａと一部重畳する非伝導性黒色層５５と端部同士が隣接するように形成される。
【００６１】
（第４の実施の形態）
以下，図８に基づいて，本発明の第４の実施の形態について説明する。なお，以下の実施形態においても，全て説明のオフセット印刷工法を適用してバス電極及び非伝導性黒色層を形成することができる。なお，図８は，本発明の第４の実施の形態にかかるプラズマディスプレイパネルの第１基板上に，放電維持電極及び黒色パターンが共に形成された状態を示す断面図である。
【００６２】
本実施形態にかかる非伝導性黒色層６５も，第１の実施の形態と同様に，非放電領域の全面に形成されながら，透明電極６２ａ，６３ａ，６２’ａと重畳する部分を有するように形成される。しかし，本実施形態にかかる非伝導性黒色層６５は，第１の実施の形態と異なり，バス電極６２ｂ，６３ｂ，６２’ｂを覆うように形成される。
【００６３】
そのために，オフセット工法を利用して透明電極６２ａ，６３ａ，６２’ａ上に，まずバス電極ペーストを塗布し，その上に再び非伝導性黒色ペーストを塗布するのが好ましい。
【００６４】
以上，添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について説明したが，本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば，特許請求の範囲に記載された範疇内において，各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり，それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【００６５】
本発明は，プラズマディスプレイパネル及びその製造方法に適用可能であり，より詳細には，オフセット印刷工法を利用してパネル基板に電極を形成するパネルの製造方法及び，その方法によって製造されたプラズマディスプレイパネルに適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００６６】
【図１】本発明の第１の実施の形態にかかるプラズマディスプレイパネルを示した部分分解斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態にかかるプラズマディスプレイパネルの第１基板上に放電維持電極及び黒色パターンが共に形成された様子を示した断面図である。
【図３】オフセット工法により電極印刷する過程を順に示した概念図である。
【図４】グラビアプレートに凹溝を形成してペーストを満たした後，ガラス基板に転写させる過程を簡略に示した概念図である。
【図５】グラビアロールに凹溝を形成してペーストを満たした後，ガラス基板に転写させる過程を簡略に示した概念図である。
【図６】本発明の第２の実施の形態にかかるプラズマディスプレイパネルの第１基板上に放電維持電極及び黒色パターンが共に形成された様子を示した断面図である。
【図７】本発明の第３の実施の形態にかかるプラズマディスプレイパネルの第１基板上に放電維持電極及び黒色パターンが共に形成された様子を示した断面図である。
【図８】本発明の第４の実施の形態にかかるプラズマディスプレイパネルの第１基板上に放電維持電極及び黒色パターンが共に形成された様子を示した断面図である。
【図９】一般的なＡＣプラズマディスプレイパネルを示した分解斜視図である。
【図１０】プラズマディスプレイパネルの前面基板上にバス電極及びブラックストライプが従来フォトリソグラフィ工法で形成された様子を示した断面図である。
【符号の説明】
【００６７】
１０  第１基板
２０  第２基板
２７  放電空間  
１２，１３，１２’  放電維持電極
２１  アドレス電極
２９  蛍光体層
２３  誘電層
１２ａ，１３ａ，１２’ａ  透明電極
１２ｂ，１３ｂ，１２ｂ’  バス電極
３１  グラビアプレート
３５  ブランケット
３９  グラビアロール
３７  ガラス基板
４２ａ，４３ａ，４２’ａ  透明電極
４２ｂ，４３ｂ，４２’ｂ  バス電極
５２ａ，５３ａ，５２’ａ  透明電極
５２ｂ，５３ｂ，５２’ｂ  バス電極
６２ａ，６３ａ，６２’ａ  透明電極
６２ｂ，６３ｂ，６２’ｂ  バス電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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