(57)【要約】【課題】二次元配列データの平滑化処理において計算負荷を低減すること。また、二次元配列データの平滑化処理において、平滑化の精度を向上させること。【解決手段】ＴＦＴ基板に電子線を照射し、当該電子線照射によりＴＦＴ基板のピクセルから発生する二次電子を検出することによってＴＦＴアレイを検査するＴＦＴアレイ検査装置において、検査対象領域に二次電子を走査して得られる二次元配列データから低周波成分情報を抽出し、抽出した低周波成分情報を用いてＴＦＴ基板の欠陥情報を求めるデータ処理手段を備える。データ処理手段は、二次元配列データから所定の規則に基づいて定められた空間配列をマスクとして所定個数のデータを選出する標本化処理と、標本化処理により選出したデータを用いて低周波成分情報を抽出するローパスフィルタ処理とを、検査対象領域に対してマスクを順次ずらして行う。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＴＦＴ基板に電子線を照射し、当該電子線照射によりＴＦＴ基板のピクセルから発生する二次電子を検出することによってＴＦＴアレイを検査するＴＦＴアレイ検査装置において、
検査対象領域に前記二次電子を走査して得られる二次元配列データから低周波成分情報を抽出し、当該低周波成分情報を用いてＴＦＴ基板の欠陥情報を求めるデータ処理手段を備え、
前記データ処理手段は、前記二次元配列データから所定の規則に基づいて形成された空間配列をマスクとして所定個数のデータを選出する標本化処理と、
当該標本化処理により選出したデータを用いて低周波成分情報を抽出するローパスフィルタ処理とを、検査対象領域に対して前記マスクを順次ずらして行うことにより、検査対象領域の低周波成分情報を抽出することを特徴とする、ＴＦＴアレイ検査装置。
【請求項２】
前記所定規則は、二次元配列データから一次元配列データを選出する空間配列を定めるものであり、選出するデータの個数を定める個数パラメータと、選出するデータ間の間隔を定めるサンプルレートパラメータとを備えることを特徴とする請求項１に記載のＴＦＴ基板アレイ検査装置。
【請求項３】
選出された一空間配列による標本化処理によって行う低周波成分情報の抽出を一処理段階とし、
前記サンプルレートパラメータの変更により形成される異なる空間配列を用いることにより前記処理段階を多段階で行うことを特徴とする請求項２に記載のＴＦＴアレイ検査装置。
【請求項４】
前記サンプルレートパラメータは２のべき乗であることを特徴とする請求項２又は３に記載のＴＦＴアレイ検査装置。
【請求項５】
前記個数パラメータは奇数であり、前記ローパスフィルタ処理はメディアンフィルタ処理であるとすることを特徴とする請求項２乃至４の何れか一つに記載のＴＦＴアレイ検査装置。
【請求項６】
前記二次元配列データは、各ピクセルの検出信号又は当該検出信号から得られる派生データであり、一ピクセル又は複数ピクセルを単位とすることを特徴とする請求項１乃至５の何れか一つに記載のＴＦＴアレイ検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＴＦＴアレイ検査装置に関し、特に、測定データを用いて欠陥画素を検査するためのデータ処理に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）をアレイ状に配列した構成として例えば液晶基板があり、液晶ディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）等に用いられている。
【０００３】
以下に、ＴＦＴを用いて構成された液晶ディスプレイの構成及び動作について説明する。ＴＦＴを用いて構成された液晶ディスプレイは、ＴＦＴ及びピクセル電極が形成された一方のガラス基板と対向電極が形成された他方のガラス基板との間に液晶を流しこんだ液晶パネルを基本構造とする。
【０００４】
図９は、ＴＦＴ及びピクセル電極が形成されたガラス基板を示す概略図である。図９において、単一のガラス基板１１は、一般の集積回路の製造プロセスにより形成された複数のパネル１２を有し、各パネル１２はマトリックス状に配列された複数のピクセル１３により構成されている。
【０００５】
各ピクセル１３は、ピクセル電極１４、蓄積容量１５及びＴＦＴ１６を備える。ピクセル電極４は、光を通す物質、一般的には、ＩＴ０（インジウム・スズ酸化物）を用いて形成される。ピクセル１３の基準電圧が印加されるＣｓ電極（図ではＤで示される）は蓄積容量１５を介して接地され、各ＴＦＴ１６の基準電圧はグランドレベルに設定される。ＴＦＴ１６はスイッチとして機能する。ＴＦＴ１６のゲート電極Ｇにはスイッチング制御のための横列選択信号ＬＲが供給され、ＴＦＴ１６のソース電極Ｓにはデータ信号である縦行選択信号Ｌｃが供給される。
【０００６】
ピクセル１３の駆動時には、ＴＦＴ１６のソース電極Ｓに電圧Ｖｓが印加されているとき（すなわち、縦行選択信号Ｌｃが供給されているとき）、ゲート電極Ｇに電圧ＶＧを印加すると（すなわち、横列選択信号ＬＲを供給すると）、ＴＦＴ１６がオン状態となってドレイン電圧ＶＤが上昇する。このとき、蓄積容量１５はチャージされ、次のリフレッシュサイクルまでドレイン電圧ＶＤを維持する。このプロセスを各ピクセル１３に対して繰り返し行うことにより、２つのガラス基板間の液晶分子配列が制御されて、液晶ディスプレイに二次元画像が表示される。
【０００７】
上記ＴＦＴ及びピクセル電極が形成されたガラス基板（以下「ＴＦＴ基板」という。）の検査においては、電子線の電圧コントラスト技術を用いることによって、非接触で基板上の各ピクセルの状態を判定する方法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。この電圧コントラスト技術を用いたＴＦＴ基板検査方法は、従来の機械的プローブを用いた検査方法に比べてコストが安く、また、光学的検査方法に比べて、検査速度が速いという利点を有する。
【０００８】
図１０は、電圧コントラスト技術を用いたＴＦＴアレイ検査装置を説明するための図である。この検査装置において、検査されるＴＦＴ基板は高真空室内に搬送され、ステージ上に配置された状態で検査される。
【０００９】
図１０において、検査装置は、電子線発生源２１、二次電子検出器２４及びデータ処理手段２５を備える。電子線発生源２１は、ＴＦＴ基板１１の各ピクセル１３に電子線２２を照射する。二次電子検出器２４は、電子線２２をＴＦＴ基板１１の各ピクセル１３に照射して発生した二次電子２３を検出する。また、二次電子検出器２４は、二次電子２３の検出量に基づいてピクセル１３の電圧波形に対応した波形を表わす信号をデータ処理手段（コンピュータシステム等）２５に出力する。データ処理手段２５は、二次電子検出器２４の出力信号を解析して、ピクセルの状態、特に、ピクセルの欠陥の有無や欠陥の内容を検査する。
【００１０】
また、データ処理手段２５は駆動信号供給手段を含むこともでき、ＴＦＴ基板１１の各ピクセル１３を駆動するための駆動信号をライン２６を介して出力する。この駆動信号の供給は、電子線発生源２１による矢印Ｓで示されたＴＦＴ基板１１上への電子線２２の走査と同期して行われる。
【００１１】
データ処理手段では、検査対象であるＴＦＴアレイの画素配列に対応して得られる二次元配列データを取得し、この二次元配列データをデータ処理することによって、欠陥画素の座標特定や欠陥要因の分類等の検査を行っている。（例えば、特許文献２参照）。
【００１２】
このデータ処理には、ローパスフィルタ（Low Pass Filter）処理のアルゴリズムが用いられている。図１１はローパスフィルタ処理のアルゴリズムを説明するための信号図である。なお、図１１（ａ）〜（ｄ）は欠陥がない場合の信号例であり、図１１（ｅ）〜（ｈ）は欠陥がある場合の信号例である。
【００１３】
ローパスフィルタ処理は、例えば、二次元配列データ（図１１（ａ），（ｅ）のＳ0）をローパスフィルタにより欠陥やノイズによる高周波成分を取り除き（図１１（ｂ），（ｆ）のＳM）、元の二次元配列データ（Ｓ0）からこのローパスフィルタ出力（ＳM）を減算して、欠陥やノイズのみを抽出する（図１１（ｃ），（ｇ）のＳ0−ＳM）。この出力をしきい値で２値化することにより欠陥検出を行う（図１１（ｄ），（ｈ））。
【００１４】
ローパスフィルタの機能的役割は、二次元配列データの平滑化である。この平滑化処理において十分な平滑化精度を得るには、十分に広い領域を着目領域（ＲＯＩ：Region of Intention）を用いる必要がある。広い領域の着目領域について平滑化の処理を行うということは、多数のデータ数について処理を行うことを意味し、計算の負担が大きいことを意味している。
【００１５】
図１２は二次元配列データの平滑化を説明するための図である。図１２（ａ）は検査対象領域の全域を着目領域とする例である。この場合には、検査対象領域の全てのデータについて一度に平滑化処理を行うことになり、大きな計算負荷となる。また、図１２（ｂ）はＭ次の一次元配列を着目領域とし、順に移動させることによって検査対象領域を平滑化する例である。この場合には、十分な平滑化の精度を得るためにＭを大きくとる必要があり、図１２（ａ）の場合よりは計算量は少ないものの、依然としてかなりの計算量を要することになる。
【００１６】
図１２（ｃ）はこのローパスフィルタ処理による周波数特性を概略的に示している。ノイズ分をカットして欠陥検出を行うには、所定のカットオフ周波数の特性（例えば、図１２（ｃ）の周波数特性Ａが必要である。このためには、二次元配列データにおいて広い着目領域を要する。着目領域を狭くすれば計算負荷を減少させることができるが、この場合には所望のカットオフ周波数を得ることが難しくなる。
【００１７】
二次元配列データに含まれるノイズ成分を除去する方法としてメディアンフィルタ処理が知られている。（例えば、特許文献３参照）。図１２（ｂ）の着目領域に対してメディアンフィルタ処理を適用する場合には、各単位領域毎に着目領域内のデータ値を大きさの順に並べ、その中心値で入れ換える処理を繰り返す。
【特許文献１】米国特許第５，９８２，１９０号明細書
【特許文献２】特開平８−８６６３３号公報（段落番号００３３〜００３６）
【特許文献３】特開平１０−１６０６３２号公報（段落番号０００９）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
検査対象となるＴＦＴアレイ基板の大型化、高解像度化が進むに伴って、検査のスループットを増大させることにより、コストを削減しようとする要求が高まっている。
【００１９】
しかしながら、従来のデータ処理方法では、ＴＦＴアレイ基板の大型化、高解像度化による計算量の増加によって計算機の計算負荷が飽和して、要求されるスループットを満足することができないケースが発生するおそれがある。
【００２０】
また、ローパスフィルタ処理により得られる周波数特性は、図１２（ｃ）中の周波数特性Ｂに示すように、カットオフ周波数よりも高い周波数成分の抑制が不十分となり、高周波成分が残る場合がある。このように、ローパスフィルタ処理が不十分な場合には低周波成分情報中にノイズ分が残り、欠陥検査の検査精度が低下するおそれがある。
【００２１】
そこで、本発明は上記課題を解決し、二次元配列データの平滑化処理において、計算負荷を低減することを目的とする。また、計算負荷の低減によって、ＴＦＴアレイ基板の検査のスループットを向上させることを目的とする。
【００２２】
また、二次元配列データの平滑化処理において、平滑化の精度を向上させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００２３】
上記目的を解決するために、本発明は、ＴＦＴ基板に電子線を照射し、当該電子線照射によりＴＦＴ基板のピクセルから発生する二次電子を検出することによってＴＦＴアレイを検査するＴＦＴアレイ検査装置において、検査対象領域に二次電子を走査して得られる二次元配列データから低周波成分情報を抽出し、抽出した低周波成分情報を用いてＴＦＴ基板の欠陥情報を求めるデータ処理手段を備える。
【００２４】
このデータ処理手段は、二次元配列データから所定の規則に基づいて定められた空間配列をマスクとして所定個数のデータを選出する標本化処理と、標本化処理により選出したデータを用いて低周波成分情報を抽出するローパスフィルタ処理とを、検査対象領域に対してマスクを順次ずらして行う。これにより、検査対象領域の低周波成分情報を抽出する。
【００２５】
標本化処理は二次元配列データから所定個数のデータを選出する。このデータ選出では、所定規則で定められる空間配列をマスクとし、このマスクにより二次元配列データの中から空間的に所定の規則の位置関係にあるデータのみを選出し、選出したデータに対してローパスフィルタ処理を行う。これにより、データ処理を行うデータ量を低減する。
【００２６】
所定規則は、二次元配列データから一次元配列データを選出する空間配列を定めるものであり、選出するデータの個数を定める個数パラメータと、選出するデータ間の間隔を定めるサンプルレートパラメータとを備える。
【００２７】
一つの前記空間配列による標本化処理によって行う低周波成分情報の抽出を一段階とし、データ間のサンプルレートパラメータを変えて異なる空間配列により低周波成分情報の抽出を多段階で行う。
【００２８】
サンプルレートパラメータは、二次元配列データから抽出する一次元配列データの空間周波数に影響を与えるパラメータであり、ローパスフィルタ処理のカットオフ周波数は間隔に応じて変化し、例えば、間隔が長くなるほどローパスのカットオフ周波数が低くなる。
【００２９】
本発明のデータ処理手段は、複数のサンプルレートパラメータで定まる複数の空間配列によって一次元配列データを選出することにより、複数の周波数特性を組み合わせた多段のローパスフィルタ処理を行う。通常、一つの空間配列により選出される一次元配列データを用いて得られるローパスフィルタ処理の周波数特性では、カットオフ周波数よりも高い周波数に信号成分が残る。本発明のデータ処理手段によれば、複数の周波数特性を組み合わせることによって、所定のカットオフ周波数よりも高い周波数成分を抑制し、良好なローパスフィルタ処理を行うことができる。
【００３０】
ここで、サンプルレートパラメータは２のべき乗とすることができる。例えば、２の０乗の場合には空間配列は隣接するデータ配列となり、２の１乗の場合には空間配列は１つ置きのデータ配列となり、２の２乗の場合には空間配列は３つ置きのデータ配列となる。
【００３１】
また、選出した一次元配列データを用いて行うローパスフィルタ処理としてメディアンフィルタ処理とすることができる。メディアンフィルタ処理では、データ値を定める位置を中心として複数のデータを選出して大きさの順に並べ、その中間値を当該位置のデータ値として置き換える処理である。このとき、所定規則の個数パラメータは奇数個とする。
【００３２】
また、二次元配列データは、各ピクセルの検出信号又はこの検出信号から得られる派生データである。また、各データは一ピクセルあるいは複数ピクセルを単位とすることができる。
【発明の効果】
【００３３】
本発明によれば、二次元配列データの平滑化処理において、計算負荷を低減することができる。また、計算負荷を低減させることによって、ＴＦＴアレイ基板の検査のスループットを向上させることができる。
【００３４】
また、二次元配列データの平滑化処理において、平滑化の精度を向上させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３５】
以下、本発明の実施の形態について図を参照しながら詳細に説明する。
【００３６】
本発明のＴＦＴアレイ検査装置は、前記図１０に示した構成と同様の構成とすることができ、データ処理手段が行う標本化処理及びローパスフィルタ処理の点で特徴を有する。そこで、以下では、ＴＦＴアレイ検査装置自体の構成の説明は省略し、データ処理手段の処理内容について説明する。
【００３７】
図１は、本発明のＴＦＴアレイ検査装置のデータ処理手段が行うデータ処理を説明するために概略図である。データ処理手段（図１０中の符号２５）は、二次電子検出器（図１０中の符号２４）から得られ検出信号に基づいて二次元配列データ１を形成し、この二次元配列データに対して低周波成分情報３を求めるデータ処理２を行う。
【００３８】
データ処理２により得られた低周波成分情報３を用いて、欠陥画素の座標位置の特定や欠陥要因の特定等の欠陥画素検査４を行い、検査出力情報５を出力する。
【００３９】
図２はローパスフィルタ処理及び欠陥検出のアルゴリズムを説明するための信号図である。なお、図２（ａ）〜（ｆ）は欠陥がない場合の信号例であり、図２（ｇ）〜（ｌ）は欠陥がある場合の信号例である。
【００４０】
データ処理２は、複数段階の処理（第１段処理２−１，第２段処理２−２，…，第Ｎ段処理２−Ｎ）を備え、各段階処理は標本化処理とローパスフィルタ処理から成っている。
【００４１】
各段階処理は、二次元配列データから標本化処理によって一次元配列データを選出し、選出した一次元配列データに対してローパスフィルタ処理を施すことによって、各段階のローパスフィルタ処理を行った二次元配列データを得る。
【００４２】
標本化処理は、所定規則で定められる空間配列をマスクとして、二次元配列データから一次元配列データを選出する処理であり、マスクにより二次元配列データの中から空間的に所定の規則の位置関係にあるデータのみを選出する。また、ローパスフィルタ処理は標本化処理で選出した一次元配列データに含まれる高周波成分を除去して低周波成分情報を抽出する平滑化処理を行う。
【００４３】
例えば、二次元配列データ（図２（ａ），（ｇ）のＳ0）に対して、第１段処理２−１のローパスフィルタ処理を施し、標本化処理で設定されるサンプルレート１で定まる周波数特性の高周波成分を取り除いた二次元配列データ（図２（ｂ），（ｈ）のＳ1）を得る。
【００４４】
次に、第１段処理２-1のローパスフィルタ処理で得た二次元配列データ（図２（ｂ），（ｈ）のＳ1）に対して、第２段処理２-2のローパスフィルタ処理を施し、標本化処理で設定されるサンプルレート２で定まる周波数特性の高周波成分を取り除いた二次元配列データ（図２（ｃ），（ｉ）のＳ2）を得る。
【００４５】
標本化処理のサンプルレートを変えながら同様の処理を繰り返し、第Ｎ−１段処理２-(N-1)のローパスフィルタ処理で得た二次元配列データに対して、第Ｎ段処理２-Nのローパスフィルタ処理を施し、標本化処理で設定されるサンプルレートＮN-1で定まる周波数特性の高周波成分を取り除いた二次元配列データ（図２（ｄ），（ｊ）のＳN）を得る。
【００４６】
欠陥画素検査４は、元の二次元配列データ（Ｓ0）からこのローパスフィルタ出力（ＳN）を減算して、欠陥やノイズのみを抽出し（図２（ｅ），（ｋ）のＳ0−ＳN）、この出力をしきい値で２値化することにより欠陥検出を行い（図２（ｆ），（ｌ））、検査出力情報５を得る。
【００４７】
画素中に欠陥が含まれない場合には、図２（ｅ）に示すように（Ｓ0−ＳN）はしきい値内に収まるため、図２（ｆ）に示すように欠陥は検出されない。一方、画素中に欠陥が含まれる場合には、図２（ｋ）に示すように欠陥箇所において（Ｓ0−ＳN）はしきい値を越え、図２（ｌ）に示すように欠陥が検出される。なお、図２は、二次元配列データ中の一ラインに沿った一次元配列データの信号強度を模式的に表している。
【００４８】
ここで、標本化処理における所定規則は、二次元配列データから一次元配列データを選出する空間配列を定めるものであり、選出するデータの個数を定める個数パラメータと、選出するデータ間の間隔を定めるサンプルレートパラメータとを備える。このサンプルレートパラメータは、二次元配列データから抽出する一次元配列データの空間周波数に影響を与えるパラメータであり、選出するデータ間の間隔に応じてローパスフィルタ処理のカットオフ周波数が変化する。例えば、間隔が長くなればローパスのカットオフ周波数は低くなり、間隔が短くなればローパスのカットオフ周波数が高くなる。
【００４９】
本発明のデータ処理２は、一つの前記空間配列による標本化処理によって行う低周波成分情報の抽出を一段階とし、データ間のサンプルレートパラメータを変えて異なる空間配列によって一次元配列データを選出することにより、複数の周波数特性を組み合わせた多段階のローパスフィルタ処理により低周波成分情報の抽出を行う。
【００５０】
この多段階処理による複数の周波数特性を組み合わせることによって、各段において除去されずに残っている高い周波数成分を除去し、良好なローパスフィルタ処理を行うことができる。
【００５１】
図３は、多段階によるローパスフィルタ処理を説明するための周波数特性の概略図である。図３（ａ）は、サンプルレート１による周波数特性（一点鎖線で表示する特性）とサンプルレート２による周波数特性（長い破線で表示する特性）との関係を示している。サンプルレート１とサンプルレート２の関係を所定の関係に設定することによって、各サンプルレートにおいて残余する高周波成分を補って取り除くことができる。
【００５２】
図３（ｂ）は、さらにサンプルレート３による周波数特性（短い破線で表示する特性）とサンプルレート４による周波数特性（実線で表示する特性）とを加えた状態を示している。このように、複数の異なるサンプルレートによる標本化によって選出したデータを用いてローパスフィルタ処理することにより、各サンプルレートに残余する高周波成分を互いに補って取り除いて、カットオフ周波数以下の高周波数成分を好適に取り除くことができる。
【００５３】
以下、データ処理の一例として、メディアンフィルタ処理による例を説明する。
【００５４】
ここで、標本化は、検査対象領域の中から個数パラメータで定まる個数のデータを所定の空間配列に従って選出することにより行う。ここで、空間配列は検査対象領域から着目領域を抽出するマスクの役を成す。ここで、標本化の空間配列の規定を、各段階毎にデータ間の間隔を所定の倍数で拡大するものとする。図４〜図６に示す例は、所定倍数として２の倍数とした例である。
【００５５】
なお、ここでは、個数パラメータとして５を設定して５次（５点入力）の一次元配列データを選出する場合について説明する。また、各点のデータは、ＴＦＴアレイの一画素を一単位として設定しても、あるいは複数画素を一単位として設定してもよい。また、各データは二次電子検出器の検出信号のデータとする他、この検出信号を信号処理して得られる派生データとしてもよい。
【００５６】
図４は第１段のローパスフィルタ処理を示している。この第１段のローパスフィルタ処理は２の０乗（＝１）で定まる間隔をデータ間隔としており、直線上で互いに隣接した５点の一次元配列データを選出する。
【００５７】
メディアンフィルタ処理では、メディアンフィルタ処理を行う座標位置（図４中の黒で示す部分）を中心にその両側に隣接する５点のデータ値を選出することにより標本化を行う。次に、選出したデータのデータ値を大きさの順に並べ、中央の値を当該座標位置のデータ値として置き換えることによりローパスフィルタ処理を行う。
【００５８】
この標本化とローパスフィルタの処理を図４（ａ）〜図４（ｄ）のように座標位置を順に移動させながら検査対象領域の全て繰り返すことによって、第１段のローパスフィルタ処理が行われる。なお、図４では標本化処理の一部のみを示している。
【００５９】
図４（ｅ）は、第１段のローパスフィルタ処理による周波数特性の概略を示している。この周波数特性のカットオフ周波数は、サンプルレートであるデータ間隔で定まる。
【００６０】
図５は第２段のローパスフィルタ処理を示している。この第２段のローパスフィルタ処理は２の１乗（＝２）で定まる間隔をデータ間隔としており、直線上で互いに一単位座標を飛ばして、１つ置きに連続する５点の一次元配列データを選出する。
【００６１】
メディアンフィルタ処理では、メディアンフィルタ処理を行う座標位置（図５中の黒で示す部分）を中心にその両側に隣接する５点のデータ値を選出することにより標本化を行う。次に、選出したデータのデータ値を大きさの順に並べ、中央の値を当該座標位置のデータ値として置き換えることによりローパスフィルタ処理を行う。
【００６２】
この標本化とローパスフィルタの処理を図５（ａ）〜図５（ｄ）のように座標位置を順に移動させながら検査対象領域の全て繰り返すことによって、第２段のローパスフィルタ処理が行われる。なお、図５では標本化処理の一部のみを示している。
【００６３】
図５（ｅ）は、第２段のローパスフィルタ処理による周波数特性の概略を示している。この周波数特性のカットオフ周波数は、サンプルレートであるデータ間隔で定まる。
【００６４】
図６は第３段のローパスフィルタ処理を示している。この第３段のローパスフィルタ処理は２の２乗（＝４）で定まる間隔をデータ間隔としており、直線上で互いに３単位座標を飛ばして、３つ置きに連続する５点の一次元配列データを選出する。
【００６５】
メディアンフィルタ処理では、メディアンフィルタ処理を行う座標位置（図６中の黒で示す部分）を中心にその両側に隣接する５点のデータ値を選出することにより標本化を行う。次に、選出したデータのデータ値を大きさの順に並べ、中央の値を当該座標位置のデータ値として置き換えることによりローパスフィルタ処理を行う。
【００６６】
この標本化とローパスフィルタの処理を図６（ａ）〜図６（ｄ）のように座標位置を順に移動させながら検査対象領域の全て繰り返すことによって、第３段のローパスフィルタ処理が行われる。なお、図６では標本化処理の一部のみを示している。
【００６７】
図６（ｅ）は、第３段のローパスフィルタ処理による周波数特性の概略を示している。この周波数特性のカットオフ周波数は、サンプルレートであるデータ間隔で定まる。
【００６８】
前記の各段の処理を２のＮ乗で定まる間隔をデータ間隔として同様に繰り返すことによって着目領域を拡大することができ、順に１，２，４，８，１６，３２となり、第７段では２の７乗（＝６４）となる。この第７段では、抽出比率が６４点に１点まで拡大することになる。このときの着目領域は、６４×（５−１）＋１＝２５７単位となる。
【００６９】
したがって、５次（５点入力）のメディアンフィルタ処理を７回重ねることによって、２５７次の着目領域のメディアンフィルタ処理で得られるのと同等のローパスフィルタ効果を得ることができる。
【００７０】
各段での処理は、５点のメディアンフィルタ処理であるため、演算の負荷を極めて少なくすることができ、演算処理に要する時間を削減することができ、高速演算に好適な構成である。
【００７１】
図７は、図４〜図６の周波数特性を重ねて示した図である。ローパスフィルタ処理を多段に重ねることによって各段での高周波数部分での特性を補うことができる。図８は、Ｎ＝７として１段から７段までの周波数特性のシミュレーション例である。なお、図８において横軸は対数表示した正規化した周波数を表し、縦軸はフィルタの減衰特性をデシベル（ｄＢ）の信号強度（パワー）で示している。各段でのカットオフ周波数は１段から順に低い周波数に変移し、高周波数部分では互いローパスフィルタ特性を補っている。
【００７２】
なお、上記例では、標本化の規則を２のべき乗で定まるデータ間隔により定めているが、この規則は各段階で求められる周波数特性に応じて定めることができる。
【００７３】
例えば、メディアンフィルタ処理以外の平滑化処理を行う場合には、その平滑化処理の手法によってローパスフィルタ特性が変わる可能性があるため、各段階でのローパスフィルタ特性を補うように標本化の規則を設定する。
【産業上の利用可能性】
【００７４】
本発明の標本化とローパスフィルタ処理との多段の組み合わせは、ＴＦＴアレイ検査に限らず、画像処理一般のローパスフィルタ処理、ＣＣＤカメラの撮像画素の検査等に適用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００７５】
【図１】本発明のＴＦＴアレイ検査装置のデータ処理手段が行うデータ処理を説明するために概略図である。
【図２】本発明のローパスフィルタ処理及び欠陥検出のアルゴリズムを説明するための信号図である。
【図３】本発明の多段階によるローパスフィルタ処理を説明するための周波数特性の概略図である。
【図４】本発明による第１段のローパスフィルタ処理を説明するための図である。
【図５】本発明による第２段のローパスフィルタ処理を説明するための図である。
【図６】本発明による第３段のローパスフィルタ処理を説明するための図である。
【図７】本発明の周波数特性を重ねて示した図である。
【図８】本発明の周波数特性のシミュレーション例である。
【図９】ＴＦＴ及びピクセル電極が形成されたガラス基板を示す概略図である。
【図１０】電圧コントラスト技術を用いたＴＦＴアレイ検査装置を説明するための図である。
【図１１】ローパスフィルタ処理のアルゴリズムを説明するための信号図である。
【図１２】二次元配列データの平滑化を説明するための図である。
【符号の説明】
【００７６】
１…二次元配列データ、２…データ処理、２−１…第１段処理、２−２…第２段処理、２−３…第３段処理、３…低周波成分情報、４…欠陥画素検査、５…検査出力情報、１１…ガラス基板、１２…パネル、１３…ピクセルは、１４…ピクセル電極、１５…蓄積容量、１６…ＴＦＴ、２１…電子線発生源、２２…電子線、２３…二次電子、２４…二次電子検出器、２５…信号解析器、２６…ライン。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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