(57)【要約】【課題】本発明は、液晶表示装置及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明は、第１、第２、第３、第４のサブ画素領域を有する基板上に位置して、前記第１、第２、第３、第４のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３、第４の開口部を有するブラックマトリックスと；前記第１、第２、第３のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３のカラーフィルターパターンと；前記第１、第２、第３のカラーフィルターパターン上に位置して、前記第４の開口部を埋める第１の平坦化層と；前記第１の平坦化層上に位置する第２の平坦化層を含む液晶表示装置用基板を提供する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１、第２、第３、第４のサブ画素領域を有する基板上に位置して、前記第１、第２、第３、第４のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３、第４の開口部を有するブラックマトリックスと；
前記第１、第２、第３のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３のカラーフィルターパターンと；
前記第１、第２、第３のカラーフィルターパターン上に位置して、前記第４の開口部を埋める第１の平坦化層と；
前記第１の平坦化層上に位置する第２の平坦化層を含む液晶表示装置用基板。
【請求項２】
前記第４の開口部に対応する第１の平坦化層の表面は、第１、第２、第３の開口部に対応する第１の平坦化層の表面より低いことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項３】
第４の開口部に対応する第２の平坦化層の表面は、前記第１、第２、第３の開口部に対応する第２の平坦化層の表面と実質的に同じであることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項４】
前記第１、第２の平坦化層は、透明な有機物質で構成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項５】
前記透明な有機物質は、アクリル系物質であることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項６】
前記第１、第２、第３のカラーフィルターパターン各々は、赤色、緑色、青色のカラー樹脂で構成されることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項７】
第１、第２、第３、第４のサブ画素領域を有する基板上に位置して、前記第１、第２、第３、第４のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３、第４の開口部を有するブラックマトリックスと；
前記第４の開口部に位置する１つ以上の補助パターンと；
前記第１、第２、第３のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３のカラーフィルターパターンと；
前記第１、第２、第３のカラーフィルターパターン上に位置して、前記第４の開口部を埋める平坦化層を含む液晶表示装置用基板。
【請求項８】
前記第４の開口部に対応する平坦化層の表面は、第１、第２、第３の開口部に対応する平坦化層の表面と、実質的に同じであることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項９】
前記補助パターンは、前記ブラックマトリックスと同じ物質で構成されることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項１０】
前記平坦化層は、透明な有機物質で構成されることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項１１】
前記透明な有機物質は、アクリル系物質であることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項１２】
前記第１、第２、第３のカラーフィルターパターン各々は、赤色、緑色、青色のカラー樹脂で構成されることを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項１３】
前記補助パターンの幅は、前記ブラックマトリックスの幅より狭いことを特徴とする請求項７に記載の液晶表示装置用基板。
【請求項１４】
第１、第２、第３、第４のサブ画素領域を有する基板上に、前記第１、第２、第３、第４のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３、第４の開口部を有するブラックマトリックスを形成する段階と；
前記第１、第２、第３のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３のカラーフィルターパターンを形成する段階と；
第１、第２、第３のカラーフィルターパターン上に、前記第４の開口部を埋める第１の平坦化層を形成する段階と；
前記第１の平坦化層上に、第２の平坦化層を形成する段階を含む液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項１５】
前記第４の開口部に対応する第１の平坦化層の表面は、第１、第２、第３の開口部に対応する第１の平坦化層の表面より低いことを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項１６】
前記第４の開口部に対応する第２の平坦化層の表面は、前記第１、第２、第３の開口部に対応する第２の平坦化層の表面と、実質的に同じであることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項１７】
前記第１、第２の平坦化層は、透明な有機物質で構成されることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項１８】
前記透明な有機物質は、アクリル系物質であることを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項１９】
前記第１、第２、第３のカラーフィルターパターン各々は、赤色、緑色、青色のカラー樹脂で構成されることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項２０】
第１、第２、第３、第４のサブ画素領域を有する基板上に、前記第１、第２、第３、第４のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３、第４の開口部を有するブラックマトリックスを形成する段階と；
前記第４の開口部に、１つ以上の補助パターンを形成する段階と；
前記第１、第２、第３のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３のカラーフィルターパターンを形成する段階と；
前記第１、第２、第３のカラーフィルターパターン上に、前記第４の開口部を埋める平坦化層を形成する段階を含む液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項２１】
前記第４の開口部に対応する平坦化層の表面は、前記第１、第２、第３の開口部に対応する平坦化層の表面と、実質的に同じであることを特徴とする請求項２０に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項２２】
前記補助パターンは、前記ブラックマトリックスと同じ物質で構成されることを特徴とする請求項２０に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項２３】
前記平坦化層は、透明な有機物質で構成されることを特徴とする請求項２０に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項２４】
前記透明な有機物質は、アクリル系物質であることを特徴とする請求項２３に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項２５】
前記第１、第２、第３のカラーフィルターパターン各々は、赤色、緑色、青色のカラー樹脂で構成されることを特徴とする請求項２０に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【請求項２６】
前記補助パターンの幅は、前記ブラックマトリックスの幅より狭いことを特徴とする請求項２０に記載の液晶表示装置用基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的な液晶表示装置は、液晶分子の光学的異方性と複屈折の特性を利用して、画像を表現し、電界が印加されると、液晶の配列が異なり、異なった液晶の配列の方向によって、光が透過される特性も異なる。また、液晶表示装置は、電界生成電極が各々形成されている２つの基板を、２つの電極が形成されている面を向かい合うように配置して、両基板間に液晶物質を注入した後、両電極に電圧を印加して生成される電場により液晶分子を動かして、異なる光の透過率により画像を表現する装置である。
【０００３】
図１は、一般的な液晶表示装置を示した図である。
図示したように、液晶表示装置１１は、赤色Ｒ、緑色Ｇ、青色Ｂのカラーフィルターパターン８と、カラーフィルターパターン８間に構成されたブラックマトリックス６と、カラーフィルターパターン８の上部に、蒸着された共通電極１８が形成された上部基板５と、サブ画素領域Ｐが定義され、画素領域Ｐには、画素電極１７とスイッチング素子Ｔが構成されて、サブ画素領域Ｐの周辺へ、アレイ配線が形成された下部基板２２を含み、上部基板５と下部基板２２間には、液晶１４が充填されている。
【０００４】
下部基板２２は、アレイ基板であって、スイッチング素子Ｔである薄膜トランジスタＴがマトリックス状で位置して、多数の薄膜トランジスタＴを交差して通るゲート配線１３とデータ配線１５が形成される。サブ画素領域Ｐは、ゲート配線１３とデータ配線１５が交差して定義される領域であって、サブ画素領域Ｐ上には、画素電極１７が形成される。
【０００５】
画素電極１７は、インジウム−スズ−オキサイドＩＴＯのように、光の透過率が比較的に優れた透明導電性金属を使用する。画素電極１７に連結されたストレージキャパシターＣstがゲート配線１３の上部に構成されて、ストレージキャパシターＣstの第１の電極として、ゲート配線１３の一部を使用して、第２の電極として、データ配線１５と同一層、同一物質で形成されたアイランド状のストレージ電極３０を使用する。ストレージ電極３０は、画素電極１７と接触される。
前述したような液晶表示装置は、各々の赤色Ｒ、緑色Ｇ、青色Ｂを表示するための赤色Ｒ、緑色Ｇ、青色Ｂのサブ画素が、１つの画素を構成して色を表示する。
【０００６】
図２は、従来のＲＧＢ液晶表示装置用カラーフィルター基板を示した断面図である。
図示したように、従来のＲＧＢ液晶表示装置用カラーフィルター基板には、基板１１０上に、赤色Ｒ、緑色Ｇ、青色Ｂのサブ画素に、各々対応する第１の開口部１２５ａ、第２の開口部１２５ｂ、第３の開口部１２５ｃとがあるブラックマトリックス１２０と、各々の第１の開口部１２５ａ、第２の開口部１２５ｂ、第３の開口部１２５ｃに、赤色Ｒ、緑色Ｇ、青色Ｂのカラーフィルターパターン１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃと、カラーフィルターパターン１３０上に、平坦化層１４０が形成されている。
【０００７】
赤色Ｒ、緑色Ｇ、青色Ｂのカラーフィルターパターン１３０ａ、１３０ｂ、１３０ｃは、各々赤色Ｒ、緑色Ｇ、青色Ｂの色を表示して、カラーフィルターパターン１３０上に形成された平坦化層１４０は、液晶表示装置用基板を平坦化させる。
【０００８】
一方、赤色Ｒ、緑色Ｇ、青色Ｂのサブ画素に、白色Ｗを表示する白色のサブ画素を追加して構成することによって、白色の輝度を高めるＲＧＢＷ液晶表示装置が使用される。
【０００９】
図３は、従来のＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板を示した断面図である。
図示したように、従来のＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板には、白色のサブ画素が追加に構成されることによって、白色のサブ画素を駆動するための白色のカラーフィルターパターン２３０ｄが追加に形成されている。
【００１０】
図４Ａないし図４Ｇは、従来のＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板を製造する方法を示した断面図である。
図４Ａに示したように、基板２００上に、光遮断性物質を塗布して、マスク工程によりパターニングし、第１の開口部、第２の開口部、第３の開口部、第４の開口部２２５ａ、２２５ｂ、２２５ｃ、２２５ｄがあるブラックマトリックス２２０を形成する。第１の開口部、第２の開口部、第３の開口部、第４の開口部２２５ａ、２２５ｂ、２２５ｃ、２２５ｄは、赤色、緑色、青色、白色のサブ画素各々に、対応するように形成されて、ブラックマトリックス２２０は、ゲート配線及びデータ配線のような液晶表示装置内の金属パターンに対応するように形成される。
【００１１】
図４Ｂに示したように、赤色のカラー樹脂２２９を塗布する。赤色のカラー樹脂２２９は、感光性物質で構成される。
【００１２】
図４Ｃに示したように、赤色のカラー樹脂を、マスク工程によってパターニングし、第１の開口部２２５ａに、赤色のカラーフィルターパターン２３０ａを形成する。
【００１３】
図４Ｄに示したように、緑色のカラー樹脂を塗布して、マスク工程によってパターニングし、第２の開口部２２５ｂに、緑色のカラーフィルターパターン２３０ｂを形成する。緑色のカラーフィルターパターン２３０ｂは、赤色のカラーフィルターパターン２３０ａを形成する工程と同じ工程によって行われる。
【００１４】
図４Ｅに示したように、青色のカラー樹脂を塗布して、マスク工程によってパターニングし、第３の開口部２２５ｃに、青色のカラーフィルターパターン２３０ｃを形成する。青色のカラーフィルターパターン３３０ｃも、赤色、緑色のカラーフィルターパターン２３０ａ、２３０ｂを形成する工程と同じ工程によって行われる。
【００１５】
図４Ｆに示したように、白色のカラー樹脂を塗布して、マスク工程によってパターニングし、第４の開口部２２５ｄに、白色のカラーフィルターパターン２３０ｄを形成する。白色のカラーフィルターパターン２３０ｄも、赤色、緑色、青色のカラーフィルターパターン２３０ａ、２３０ｂ、２３０ｃを形成する工程と同じ工程によって行われる。
【００１６】
図４Ｇに示したように、平坦化層２４０をカラーフィルターパターン２３０上に形成する。
【００１７】
前述したような工程によって、白色のカラーフィルターパターンが追加して構成された従来のＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板を形成することができる。ところが、白色のカラーフィルターパターンを追加して構成することによって、白色のカラーフィルターパターンを形成するためのマスク工程が増加され、これによって、材料費が上昇する問題が発生する。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１８】
前述したような問題を解決するための本発明の目的は、白色のカラーフィルターパターンを追加して形成することにより、製造工程数と製造費用を減少させる液晶表示装置及びその製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１９】
前述したような目的を達成するための本発明による液晶表示装置用基板は、第１、第２、第３、第４のサブ画素領域を有する基板上に位置して、前記第１、第２、第３、第４のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３、第４の開口部を有するブラックマトリックスと；前記第１、第２、第３のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３のカラーフィルターパターンと；前記第１、第２、第３のカラーフィルターパターン上に位置して、前記第４の開口部を埋める第１の平坦化層と；前記第１の平坦化層上に位置する第２の平坦化層を含むことを特徴とする。
【００２０】
前記第４の開口部に対応する第１の平坦化層の表面は、第１、第２、第３の開口部に対応する第１の平坦化層の表面より低い。
【００２１】
第４の開口部に対応する第２の平坦化層の表面は、前記第１、第２、第３の開口部に対応する第２の平坦化層の表面と実質的に同じである。
【００２２】
前記第１、第２の平坦化層は、透明な有機物質で構成される。
【００２３】
前記透明な有機物質は、アクリル系物質である。
【００２４】
前記第１、第２、第３のカラーフィルターパターン各々は、赤色、緑色、青色のカラー樹脂で構成される。
【００２５】
また、本発明による液晶表示装置用基板は、第１、第２、第３、第４のサブ画素領域を有する基板上に位置して、前記第１、第２、第３、第４のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３、第４の開口部を有するブラックマトリックスと；前記第４の開口部に位置する１つ以上の補助パターンと；前記第１、第２、第３のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３のカラーフィルターパターンと；前記第１、第２、第３のカラーフィルターパターン上に位置して、前記第４の開口部を埋める平坦化層を含むことを特徴とする。
【００２６】
前記第４の開口部に対応する平坦化層の表面は、第１、第２、第３の開口部に対応する平坦化層の表面と、実質的に同じである。
【００２７】
前記補助パターンは、前記ブラックマトリックスと同じ物質で構成される。
【００２８】
前記平坦化層は、透明な有機物質で構成される。
【００２９】
前記透明な有機物質は、アクリル系物質である。
【００３０】
前記第１、第２、第３のカラーフィルターパターン各々は、赤色、緑色、青色のカラー樹脂で構成される。
【００３１】
前記補助パターンの幅は、前記ブラックマトリックスの幅より狭い。
【００３２】
一方、本発明による液晶表示装置用基板の製造方法は、第１、第２、第３、第４のサブ画素領域を有する基板上に、前記第１、第２、第３、第４のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３、第４の開口部を有するブラックマトリックスを形成する段階と；前記第１、第２、第３のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３のカラーフィルターパターンを形成する段階と；前記第１、第２、第３のカラーフィルターパターン上に、前記第４の開口部を埋める第１の平坦化層を形成する段階と；前記第１の平坦化層上に、第２の平坦化層を形成する段階を含むことを特徴とする。
【００３３】
前記第４の開口部に対応する第１の平坦化層の表面は、第１、第２、第３の開口部に対応する第１の平坦化層の表面より低い。
【００３４】
前記第４の開口部に対応する第２の平坦化層の表面は、前記第１、第２、第３の開口部に対応する第２の平坦化層の表面と、実質的に同じである。
【００３５】
前記第１、第２の平坦化層は、透明な有機物質で構成される。
【００３６】
前記透明な有機物質は、アクリル系物質である。
【００３７】
前記第１、第２、第３のカラーフィルターパターン各々は、赤色、緑色、青色のカラー樹脂で構成される。
【００３８】
また、本発明による液晶表示装置用基板の製造方法は、第１、第２、第３、第４のサブ画素領域を有する基板上に、前記第１、第２、第３、第４のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３、第４の開口部を有するブラックマトリックスを形成する段階と；前記第４の開口部に、１つ以上の補助パターンを形成する段階と；前記第１、第２、第３のサブ画素領域各々に対応する第１、第２、第３のカラーフィルターパターンを形成する段階と；前記第１、第２、第３のカラーフィルターパターン上に、前記第４の開口部を埋める平坦化層を形成する段階を含むことを特徴とする。
【００３９】
前記第４の開口部に対応する平坦化層の表面は、前記第１、第２、第３の開口部に対応する平坦化層の表面と、実質的に同じである。
【００４０】
前記補助パターンは、前記ブラックマトリックスと同じ物質で構成される。
【００４１】
前記平坦化層は、透明な有機物質で構成される。
【００４２】
前記透明な有機物質は、アクリル系物質である。
【００４３】
前記第１、第２、第３のカラーフィルターパターン各々は、赤色、緑色、青色のカラー樹脂で構成される。
【００４４】
前記補助パターンの幅は、前記ブラックマトリックスの幅より狭い。
【００４５】
以下、図面を参照して本発明の実施例を説明する。
【発明の効果】
【００４６】
本発明は、別途の白色のカラーフィルターパターンを形成しないで、平坦化層で白色のカラーフィルターパターンを構成することによって、白色のカラーフィルターパターンを形成するためのマスクの工程数を減少させて、これによって、製造費用を節減させる効果がある。
【実施例１】
【００４７】
図５は、本発明の実施例１によるＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板を示した断面図である。
図５に示したように、本発明の実施例１によるＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板には、基板３１０上に、開口部３２５があるブラックマトリックス３２０と、開口部３２５各々に対応する赤色、緑色、青色のカラーフィルターパターン３２５ａ、３２５ｂ、３２５ｃと、カラーフィルターパターン３２５上に、第１の平坦化層３４０、第２の平坦化層３５０が形成されている。
【００４８】
ブラックマトリックス３２０は、光遮断性物質で構成されるが、ゲート配線及びデータ配線、薄膜トランジスタのような金属パターンに対応して形成される。液晶表示装置に形成された金属パターンに対応する液晶層は、望むように駆動されなくなって、光漏れを発生させるので、このような光漏れを防ぐために、光遮断性物質で構成されたブラックマトリックス３２０が、金属パターンに対応して形成される。
【００４９】
ブラックマトリックス３２０は、赤色、緑色、青色、白色のサブ画素領域各々に対応する第１の開口部、第２の開口部、第３の開口部、第４の開口部３２５ａ、３２５ｂ、３２５ｃ、３２５を有する。
【００５０】
各々の赤色、緑色、青色のカラーフィルターパターン３３０ａ、３３０ｂ、３３０ｃは、赤色、緑色、青色を表示するための感光性物質で構成される。また、各々の赤色、緑色、青色のカラーフィルターパターン３３０ａ、３３０ｂ、３３０ｃは、赤色、緑色、青色のサブ画素各々に対応する第１の開口部、第２の開口部、第３の開口部３２５ａ、３２５ｂ、３２５ｃ各々に形成される。
【００５１】
第１の平坦化層３４０、第２の平坦化層３５０は、カラーフィルターパターン３３０が形成された液晶表示装置用カラーフィルター基板を、平坦化するための平坦化膜の役割をして、透明な有機物質、例えば、アクリル系物質で構成される。さらに、第４の開口部３２５ｄに位置する第１の平坦化層３４０、第２の平坦化層３５０は、白色のカラーフィルターパターンの役割をする。
【００５２】
第１の平坦化層３４０は、カラーフィルターパターン３３０上に形成されて、第４の開口部３２５ｄを詰める。
【００５３】
第４の開口部３２５ｄを詰める第１の平坦化層３４０の表面は、カラーフィルターパターン３３０上に位置する第１の平坦化層３４０の表面に比べて、基板３１０面を基準に、低い高さ、すなわち、凹された形状になる。
【００５４】
第４の開口部３２５ｄには、別途の白色のカラーフィルターパターンが形成されないので、第１の平坦化層３４０は、そのような構造になる。
【００５５】
第２の平坦化層３５０は、第１の平坦化層３４０上に形成されて、液晶表示装置用カラーフィルター基板を平坦化する。第２の平坦化層３５０は、第１の平坦化層３４０の凹された部分、すなわち、第４の開口部３２５ｄに対応する第１の平坦化層３４０の凹された部分を詰めることによって、液晶表示装置用カラーフィルター基板を平坦化させる。従って、第４の開口部３２５ｄに対応する第２の平坦化層３５０の表面は、カラーフィルターパターン３３０に対応する第２の平坦化層３５０の表面と、実質的に、同じ高さになる。
【００５６】
図６Ａないし図６Ｇは、本発明の実施例１によるＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板を製造する方法を示した断面図である。
【００５７】
図６Ａに示したように、基板３１０上に、光遮断性物質を塗布して、マスク工程によりパターニングし、第１の開口部、第２の開口部、第３の開口部、第４の開口部３２５ａ、３２５ｂ、３２５ｃ、３２５ｄがあるブラックマトリックス３２０を形成する。第１の開口部、第２の開口部、第３の開口部、第４の開口部３２５ａ、３２５ｂ、３２５ｃ、３２５ｄは、赤色、緑色、青色、白色のサブ画素各々に対応するように形成して、ブラックマトリックス３２０は、ゲート配線及びデータ配線のような液晶表示装置内の金属パターンに対応するように形成される。
【００５８】
図６Ｂに示したように、赤色のカラー樹脂３２９を塗布する。赤色のカラー樹脂３２９は、感光性物質で構成される。
【００５９】
図６Ｃに示したように、赤色のカラー樹脂を、マスク工程によってパターニングし、第１の開口部３２５ａに、赤色のカラーフィルターパターン３３０ａを形成する。マスク工程は、露光工程と現像工程によって行われる。
【００６０】
マスク工程と関連して、露光された部分が現像されるポジティブタイプの赤色のカラー樹脂を使用することを例えると、第１の開口部３２５ａに塗布された赤色のカラー樹脂に対しては、光を遮断して露光しなくて、それ以外の部分は、露光する。すなわち、第１の開口部３２５ａに対応して光を遮断する遮断領域があって、第１の開口部以外の部分に対しては、透過領域がある露光マスクを使用して、露光工程を行う。このように露光工程を行った後、現像工程を行うと、第１の開口部３２５ａには、赤色のカラーフィルターパターン３３０ａが形成される。
【００６１】
一方、ネガティブタイプの赤色のカラー樹脂を使用する場合には、露光マスクの遮断領域と透過領域は、ポジティブタイプの赤色のカラー樹脂を使用する場合とは逆にする。
【００６２】
図６Ｄに示したように、緑色のカラー樹脂を塗布して、マスク工程によってパターニングし、第２の開口部３２５ｂに、緑色のカラーフィルターパターン３３０ｂを形成する。緑色のカラーフィルターパターン３３０ｂは、赤色のカラーフィルターパターン３３０ａを形成する工程と同じ工程によって行われる。
【００６３】
図６Ｅに示したように、青色のカラー樹脂を塗布して、マスク工程によってパターニングし、第３の開口部３２５ｃに、青色のカラーフィルターパターン３３０ｃを形成する。青色のカラーフィルターパターン３３０ｃも、赤色、緑色のカラーフィルターパターン３３０ａ、３３０ｂを形成する工程と同じ工程によって行われる。
【００６４】
図６Ｆに示したように、第１の平坦化層３４０を形成する。第１の平坦化層３４０は、カラーフィルターパターン３３０上に形成されて、第４の開口部３２５ｄを詰める。第１の平坦化層３４０は、蒸着後に硬化される。
【００６５】
図６Ｇに示したように、第１の平坦化層３４０上に、第２の平坦化層３５０を形成する。第２の平坦化層３５０は、蒸着後に硬化される。
【００６６】
一方、本発明の実施例１によって形成されたＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板と向かい合う対向基板(アレイ基板)を合着して、両基板間に、液晶層を注入して液晶表示装置を製造する。
【００６７】
前述したように、本発明の実施例１によるＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板は、別途の白色のカラーフィルターパターンを形成しないで、第１の平坦化層、第２の平坦化層を使用して白色のカラーフィルターパターンを構成する。従って、白色のカラーフィルターパターンを形成するためのマスク工程が減少させて、それによる製造費用を節減させる。
【実施例２】
【００６８】
図７は、本発明の実施例２によるＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板を示した断面図である。
図７示された本発明の実施例２のＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板は、白色のサブ画素領域に対応する第４の開口部３２５ｄ内の構造に関する事項を除いては、図５に示された本発明の実施例１のＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板と全体的には類似である。
【００６９】
従って、本発明の実施例２では、本発明の実施例１と類似である事項の説明は省略する。
【００７０】
図７に示したように、本発明の実施例２のＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板には、本発明の実施例１のＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板のように、赤色、緑色、青色のカラーフィルターパターン４３０ａ、４３０ｂ、４３０ｃが形成されている。但し、本発明の実施例２のＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板で、第４の開口部４２５ｄ内には、少なくとも、１つの補助パターン４２２が形成されており、１つの平坦化層４４０が形成されている。
【００７１】
補助パターン４２２は、第４の開口部４２５ｄに形成され、第４の開口部４２５ｄの体積を減少させる。
【００７２】
従って、第４の開口部４２５ｄの内部の体積は、補助パターン４２２によって、第１の開口部、第２の開口部、第３の開口部４２５ａ、４２５ｂ、４２５ｃに比べて、体積が減少して、これによって、１つの平坦化層４４０で、ＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板を平坦させることができる。
【００７３】
第４の開口部４２５ｄの内部を一定部分を埋めるため、補助パターン４２２は、突出された柱のように幅は狭くて、厚さは厚い形状を有することができる。補助パターン４２２は、ブラックマトリックス４２０と同じ物質で構成される。前記補助パターン４２２は、ブラックマトリックス４２０に比べて、薄い幅を有することができる。
【００７４】
従って、第４の開口部４２５ｄに対応する平坦化層４４０の表面と、実質的に、同じ高さになる。
【００７５】
図８Ａないし図８Ｆは、本発明の実施例２によるＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板を製造する方法を示した断面図である。
【００７６】
本発明の実施例２での製造方法は、白色のサブ画素領域に対応する第４の開口部内の構造に関する事項を除いては、本発明の実施例１の製造方法と、全体的に類似である。
従って、本発明の実施例２の製造方法にあっては、本発明の実施例１の製造方法と類似な事項の説明は省略する。
【００７７】
図８Ａに示したように、基板４１０上に、光遮断性物質を塗布して、マスク工程によってパターニングし、基板４１０上に、第１の開口部、第２の開口部、第３の開口部、第４の開口部４２５ａ、４２５ｂ、４２５ｃ、４２５ｄがあるブラックマトリックス４２０と、第４の開口部４２５ｄに、少なくとも、１つの補助パターン４２２を形成する。
【００７８】
第１の開口部、第２の開口部、第３の開口部、第４の開口部４２５ａ、４２５ｂ、４２５ｃ、４２５ｄは、赤色、緑色、青色、白色のサブ画素領域各々に対応するように形成される。
【００７９】
図８Ｂないし図８Ｅに示したように、実施例１と類似な方法によって、赤色、緑色、青色のカラーフィルターパターン４３０ａ、４３０ｂ、４３０ｃを、第１の開口部、第２の開口部、第３の開口部４２５ａ、４２５ｂ、４２５ｃに各々形成する。
【００８０】
図８Ｆに示したように、平坦化層４４０を形成する。平坦化層４４０は、カラーフィルターパターン４３０上に形成されて、第４の開口部４２５ｄを埋める。
【００８１】
前述したような工程を行うと、本発明の実施例２によるＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板が形成される。
【００８２】
前述したように、本発明の実施例２によるＲＧＢＷ液晶表示装置用アレイ基板は、別途の白色のカラーフィルターパターンを形成しないで、白色のサブ画素に対応する開口部に突出部を形成する。これによって、１つの平坦化層を使用して、カラーフィルターパターンが形成された基板面を、平坦化することができる。
【００８３】
従って、白色のカラーフィルターパターンを形成するためのマスク工程を減少させて、製造費用を節減できる。
【図面の簡単な説明】
【００８４】
【図１】一般的な液晶表示装置を示した図である。
【図２】従来のＲＧＢ液晶表示装置用カラーフィルター基板を示した断面図である。
【図３】従来のＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板を示した断面図である。
【図４Ａ】従来のＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板を製造する方法を示した断面図である。
【図４Ｂ】図４Ａに続く製造工程を示す断面図である。
【図４Ｃ】図４Ｂに続く製造工程を示す断面図である。
【図４Ｄ】図４Ｃに続く製造工程を示す断面図である。
【図４Ｅ】図４Ｄに続く製造工程を示す断面図である。
【図４Ｆ】図４Ｅに続く製造工程を示す断面図である。
【図４Ｇ】図４Ｆに続く製造工程を示す断面図である。
【図５】本発明の実施例１によるＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板を示した断面図である。
【図６Ａ】本発明の実施例１によるＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板を製造する方法を示した断面図である。
【図６Ｂ】図６Ａに続く製造工程を示す断面図である。
【図６Ｃ】図６Ｂに続く製造工程を示す断面図である。
【図６Ｄ】図６Ｃに続く製造工程を示す断面図である。
【図６Ｅ】図６Ｄに続く製造工程を示す断面図である。
【図６Ｆ】図６Ｅに続く製造工程を示す断面図である。
【図６Ｇ】図６Ｆに続く製造工程を示す断面図である。
【図７】本発明の実施例２によるＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板を示した断面図である。
【図８Ａ】本発明の実施例２によるＲＧＢＷ液晶表示装置用カラーフィルター基板を製造する方法を示した断面図である。
【図８Ｂ】図８Ａに続く製造工程を示す断面図である。
【図８Ｃ】図８Ｂに続く製造工程を示す断面図である。
【図８Ｄ】図８Ｃに続く製造工程を示す断面図である。
【図８Ｅ】図８Ｄに続く製造工程を示す断面図である。
【図８Ｆ】図８Ｅに続く製造工程を示す断面図である。
【符号の説明】
【００８５】
３１０：基板                
３２０：ブラックマトリックス
３２５：開口部               
３３０：カラーフィルターパターン
３４０：平坦化層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図４Ｃ】
2005182067.tif 000008
【図４Ｄ】
2005182067.tif 000009
【図４Ｅ】
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【図４Ｆ】
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【図４Ｇ】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図６Ｄ】
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【図６Ｅ】
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【図６Ｆ】
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【図６Ｇ】
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【図７】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図８Ｄ】
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【図８Ｅ】
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【図８Ｆ】
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