(57)【要約】【課題】  剥離による帯電が生じない浮上型の搬送措置および搬送方法であって、局所的な帯電を適切に中和させながらパネルの搬送を行なうことができる搬送装置および搬送方法を提供する。【解決手段】  搬送装置は、基板６を搬送テーブル１から浮上させながら搬送する搬送装置であって、基板６の浮上を制御するガスを噴出するガス噴出孔２を形成する第１のガス管７と、基板６の局部的な帯電電位を検知する帯電検知機構３と、搬送方向に対して、帯電検知機構３の下流に設けられ、基板６の帯電を中和する帯電中和機構４と、帯電検知機構３と帯電中和機構４とに接続され、帯電検知機構３によって検知された基板６の帯電電位に応じたイオンを帯電中和機構４に発生させる制御手段としての制御部５とを備える。【選択図】        図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被搬送体を浮上させながら搬送する搬送装置であって、
被搬送体の浮上を制御するガスを噴出／吸引するガス孔と、
前記被搬送体の局部的な帯電電位を検知する帯電検知機構と、
搬送方向に対して、前記帯電検知機構の下流に設けられ、前記被搬送体の帯電を中和する帯電中和機構と、
前記帯電検知機構と前記帯電中和機構とに接続され、前記帯電検知機構によって検知された前記被搬送体の帯電電位に応じたイオンを前記帯電中和機構に発生させる制御手段とを備えた搬送装置。
【請求項２】
前記帯電検知機構は、テーブルに設置された前記被搬送体に非接触な電位センサを含む、請求項１に記載の搬送装置。
【請求項３】
搬送方向に対して最も下流側に設けられた前記ガス孔または該ガス孔よりも下流側に前記帯電中和機構を設けた、請求項１または請求項２に記載の搬送装置。
【請求項４】
前記帯電中和機構は、
接地電極としてのガス管と、
前記ガス管内に設けられた放電電極と、
前記接地電極と前記放電電極との間に電圧を印加する電圧印加手段とを備えた、請求項１から請求項３のいずれかに記載の搬送装置。
【請求項５】
前記ガス管は、
プラスイオンを発生させるガス管と、
マイナスイオンを発生させるガス管とを含む、請求項４に記載の搬送装置。
【請求項６】
前記帯電中和機構は、紫外線照射手段またはＸ線照射手段を含む、請求項１から請求項３のいずれかに記載の搬送装置。
【請求項７】
前記ガス孔の内壁を接地、または帯電防止膜で覆う、請求項１から請求項６のいずれかに記載の搬送装置。
【請求項８】
ガスを噴出／吸引して被搬送体を浮上させながら搬送する搬送方法であって、
前記被搬送体の局所的な帯電電位を検知する工程と、
前記帯電電位の検知後に該帯電電位に応じたイオンを発生させ、前記イオンを前記被搬送体に接触させて前記被搬送体の帯電を中和する工程とを備えた搬送方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、搬送装置および搬送方法に関し、特に、液晶パネル基板、プラズマディスプレイパネル、およびエレクトロルミネッセンスディスプレイパネルなどのガラス基板や、半導体ウエハなどの基板を搬送する搬送装置および搬送方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、およびエレクトロルミネッセンスディスプレイなどに使用されるパネルにおいては、成膜工程、リソグラフィ工程、エッチング工程、ドーピング工程、配線形成工程などの複雑な製造工程を経た結果、パネル全体に微細配線パターンが形成される。
【０００３】
上記の各工程において、被搬送体としてのパネルはさまざまな要因により帯電する。帯電の形態としては、たとえば帯電した装置テーブルにパネルを接触させる工程などにおいて生じる接触帯電、装置テーブル上からパネルを剥離させる工程などにおいて生じる剥離帯電、および液晶装置のラビング工程などにおいて生じる摩擦帯電などが挙げられる。
【０００４】
上記のような要因により、パネルが帯電することにより、たとえば、ガラス基板上に微細な配線パターンが形成されているＴＦＴ液晶パネルなどにおいて、塵埃などの異物が配線パターン上に付着したり、放電による配線パターンの破壊が生じたりする場合がある。この結果、配線に欠陥が生じる。
【０００５】
上記のような、被搬送体の帯電の問題に対する従来の対策としては、たとえば、特開平６−２４３９８８号公報（従来例１）に開示されるものなどが挙げられる。
【０００６】
従来例１においては、ＴＦＴ基板を載置する導電性材料よりなるテーブルと、該テーブルとアースとを接続するアース線と、テーブルとアースとの間のアース線に設けられたコンデンサと、該コンデンサに蓄えられる電荷に基づきＴＦＴ基板表面に供給するイオン供給量および極性を制御するイオン供給量制御手段とが備えられた静電気中和装置が開示されている。
【０００７】
しかしながら、従来例１においては、イオン供給によって帯電を中和させた後に、パネル（ＴＦＴ基板）をテーブルから剥離させる工程によって再び帯電が生じる（剥離帯電）という問題がある。
【０００８】
これに対し、たとえば、特開２０００−６２９５３号公報（従来例２）においては、搬送面に設けられた溝部と、この溝部内に設置されると共に、気体をイオン化する電磁波を溝部から搬送面上の搬送空間に向けて出力する帯電中和部とを設けた帯電中和装置を備えた浮上搬送装置が開示されている。
【０００９】
従来例２においては、被搬送体はテーブルから浮上して搬送されるため、上記の剥離帯電を生じることはない。
【特許文献１】特開平６−２４３９８８号公報
【特許文献２】特開２０００−６２９５３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、上記の搬送装置においては、以下のような問題があった。
【００１１】
従来例２においては、被搬送体の帯電電位を検知する機構を備えていないため、帯電電位に応じた適切な量のイオンを発生させることができない場合がある。この結果、イオンの発生が少ない場合は、被搬送体の帯電を十分に中和することができない。また、イオンの発生が多い場合は、残留イオンが生じ、かえって被搬送体の帯電の要因となる。
【００１２】
本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、剥離による帯電が生じない浮上型の搬送措置および搬送方法であって、局所的な帯電を適切に中和させながら被搬送体の搬送を行なうことができる搬送装置および搬送方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係る搬送装置は、被搬送体を浮上させながら搬送する搬送装置であって、被搬送体の浮上を制御するガスを噴出／吸引するガス孔と、被搬送体の局部的な帯電電位を検知する帯電検知機構と、搬送方向に対して、帯電検知機構の下流に設けられ、被搬送体の帯電を中和する帯電中和機構と、帯電検知機構と帯電中和機構とに接続され、帯電検知機構によって検知された被搬送体の帯電電位に応じたイオンを帯電中和機構に発生させる制御手段とを備える。
【００１４】
これにより、任意の位置に設置された帯電検知機構によって検知された結果に応じて、帯電中和機構における帯電の中和を行なうことができるので、被搬送体の局所的な帯電を適切に中和させながら被搬送体の搬送を行なうことができる。
【００１５】
帯電検知機構は、テーブルに設置された被搬送体に非接触な電位センサを含むことが好ましい。
【００１６】
被搬送体に非接触な状態で帯電電位の検知を行なうことで、摩擦による新たな帯電を生じされることがない。したがって、より帯電電位の検知をより正確に行なうことができる。
【００１７】
搬送方向に対して最も下流側に設けられたガス孔または該ガス孔よりも下流側に帯電中和機構を設けることが好ましい。
【００１８】
上記ガス孔に接続される配管においては、ガスと管との摩擦によって、被搬送体を浮上させるガスは帯電し、被搬送体を帯電させる要因となっている。これに対し、上記のような構造とすることで、帯電中和機構において被搬送体の帯電が中和された後、ガス孔から噴出されるガスによって新たな帯電が生じることがない。
【００１９】
帯電中和機構は、１つの局面では、接地電極としてのガス管と、ガス管内に設けられた放電電極と、接地電極と放電電極との間に電圧を印加する電圧印加手段とを備えることが好ましい。
【００２０】
帯電中和機構におけるガス噴出のためのガス管を接地電極とすることで、ガス管との摩擦によるガスの帯電を防止することができる。したがって、帯電中和機構において、被搬送体に新たな帯電を生じさせることがない。
【００２１】
ガス管は、プラスイオンを発生させるガス管と、マイナスイオンを発生させるガス管とを含むことが好ましい。
【００２２】
帯電中和機構においては、被搬送体の帯電と逆極性のイオンが帯電の中和に寄与する。プラスイオンとマイナスイオンを別個のガス管から発生させることで、この逆極性のイオンを多く発生させることができるので、より効率的に帯電を中和することができる。
【００２３】
帯電中和機構は、他の局面では、紫外線照射手段またはＸ線照射手段を含むものであってもよい。
【００２４】
紫外線照射手段またはＸ線照射手段により、被搬送体付近のガスを励起してイオンを発生させ、該イオンを被搬送体に接触させることができる。この結果、被搬送体の帯電が中和される。
【００２５】
ガス孔の内壁を接地、または帯電防止膜で覆うことが好ましい。
【００２６】
これにより、ガス孔から噴出され、被搬送体の浮上に寄与するガスの帯電を防止することができる。この結果、ガスによる被搬送体の帯電を防止することができる。
【００２７】
本発明に係る搬送方法は、ガスを噴出／吸引して被搬送体を浮上させながら搬送する搬送方法であって、被搬送体の局所的な帯電電位を検知する工程と、帯電電位の検知後に該帯電電位に応じたイオンを発生させ、イオンを被搬送体に接触させて被搬送体の帯電を中和する工程とを備える。
【００２８】
これにより、局所的な帯電電位を検知した結果に応じて、被搬送体の帯電を中和することができるので、被搬送体の局所的な帯電を適切に中和させながら被搬送体の搬送を行なうことができる。
【発明の効果】
【００２９】
本発明によれば、局所的な帯電電位を検知した結果に応じて、被搬送体の帯電を中和することができるので、被搬送体の局所的な帯電を適切に中和させながら被搬送体の搬送を行なうことができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３０】
以下に、本発明に基づく搬送装置および搬送方法の実施の形態について説明する。
【００３１】
（実施の形態１）
図１から図３は、実施の形態１における搬送装置について示した図である。
【００３２】
本発明に係る搬送方法は、ガスを噴出して被搬送体としての基板６を浮上させながら搬送する搬送方法であって、基板６の局所的な帯電電位を検知する工程と、帯電電位の検知後に該帯電電位に応じたイオンを発生させ、イオンを基板６に接触させて基板６の帯電を中和する工程とを備える。
【００３３】
基板６としては、たとえば、液晶ディスプレイパネルなどの薄型ガラス基板や半導体ウエハなどの板状部材が挙げられる。
【００３４】
図１は、本実施の形態に係る搬送装置の断面図である。
【００３５】
本実施の形態に係る搬送装置は、基板６を搬送テーブル１から浮上させながら搬送する搬送装置であって、図１に示すように、基板６の浮上を制御するガスを白矢印の方向に噴出するガス噴出孔２を形成する第１のガス管７と、基板６の局部的な帯電電位を検知する帯電検知機構３と、搬送方向に対して、帯電検知機構３の下流に設けられ、基板６の帯電を中和する帯電中和機構４と、帯電検知機構３と帯電中和機構４とに接続され、帯電検知機構３によって検知された基板６の帯電電位に応じたイオンを帯電中和機構４に発生させる制御手段としての制御部５とを備える。
【００３６】
帯電検知機構３は、搬送テーブル１に設置された基板６に非接触な電位センサ３ａと、電位センサ３ａによって検出された基板６の帯電電位を示すアナログ信号をデジタル信号に変換して、制御部５に向けて出力する信号処理部３ｂとを含む。
【００３７】
電位センサ３ａは、搬送テーブル１上のガス噴出孔２と他のガス噴出孔２との間に、基板６の帯電電位を検出できるように、基板６に近接した位置に設置されている。
【００３８】
電位センサ３ａとしては、たとえば、（図１中には図示しない）帯電電位検知用電極を基板６に近接させて設置し、該電極から得られる静電誘導電圧をＦＥＴ（Ｆｉｅｌｄ−Ｅｆｆｅｃｔ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）などの高入力インピーダンスや高増幅率の増幅器により直流増幅する誘導電極形などが挙げられる。
【００３９】
また、帯電中和機構４は、ステンレス鋼などの金属パイプからなる接地電極４ｂとしての第２のガス管８と、第２のガス管８内に設けられた、タングステンなどの金属を石英などの絶縁体で被覆した放電電極４ａと、接地電極４ｂと放電電極４ａとの間にコロナ放電を生じさせるような高電圧を印加する電圧印加手段としての電圧印加部４ｃとを備える。
【００４０】
放電電極４ａは、電圧印加部４ｃと接続され、絶縁体によって接地金属４ｂ内で支持された構造となっている。
【００４１】
基板６の搬送を行なう際は、第１のガス管７に、たとえば窒素、アルゴン、乾燥空気などを含むガスを送り込み、ガス噴出孔２から噴出させることで、基板６を搬送テーブル１から浮上させる。その後、搬送テーブル１の主表面と平行な方向に力を加えることで、基板６は搬送テーブル１から浮上したまま搬送される。
【００４２】
図２は、本実施の形態に係る搬送装置の上面図である。
【００４３】
ガス噴出孔２は、図２に示すように、ほぼ同一径で、かつ規則的な配置で搬送テーブル１全体に複数個配置されている。第１のガス管７より供給されるガスは、ほぼ一定圧力でガス噴出孔２から噴出され、基板６を搬送テーブル１から所定距離浮上させる。
【００４４】
ここで、ガス噴出孔２の直上に基板６が達した場合、直上に基板６がない場合に比べてガス噴出に対する抵抗が増大する。ここで、第１のガス管７内のガス圧が極端に小さいと、直上に基板６があるガス噴出孔２からガスが噴出しにくくなる。したがって、直上に基板６がないガス噴出孔２に流れるガス流量が増大し、直上に基板６があるガス噴出孔２に流れるガス流量は減少する。この結果、基板６を浮上させる機能が低下する。
【００４５】
一方、第１のガス管７内のガス圧を大きくして、ガス噴出孔２に流れるガス流量が極端に大きくなった場合は、基板６が搬送テーブル１から離れすぎることとなり、帯電検知機構３において、基板６の帯電電位を検知することができず、また、帯電中和機構４において基板６をイオンに十分に接触させることができない。
【００４６】
したがって、第１のガス管７内のガス圧を基板６を浮上させる機能が低下しない程度に大きくし、その際、ガス噴出孔２に流れるガス流量が極端に大きくならないように、第１のガス管７の配管抵抗を十分に大きくする必要がある。
【００４７】
図１および図２に示すように、帯電検知中和ユニット９は、帯電検知機構３と帯電中和機構４とを含み、基板６の搬送方向に対して、帯電検知機構３の下流側に帯電中和機構４が備えられる。
【００４８】
ここで、第１のガス管７と第２のガス管８とを別個の管とし、両方のガス管からガスを噴出しているが、第２のガス管８のガス圧力は、第１のガス管７のガス圧力に比べて低く、基板６の浮上に影響を及ぼすものではない。したがって、帯電中和機構４は、搬送テーブル１の任意の位置に設置することができる。
【００４９】
図３は、本実施の形態に係る搬送装置の回路ブロック図である。
【００５０】
帯電検知機構３の電位センサ３ａにおいて、基板６の帯電が検知されると、アナログ信号である帯電検出信号が、電位センサ３ａから信号処理部３ｂに送られる。信号処理部３ｂは、上記のアナログ信号をデジタル信号に変換し、制御部５に送信する。
【００５１】
ここで、基板６の進行速度ｖ（ｍｍ／ｓｅｃ）は一定であり、電位センサ３ａから放電電極４ａまでの距離Ｌ（ｍｍ）は既知である。したがって、基板６のある部分が電位センサ３ａ上を通過してから放電電極４ａ上に達するまでの時間Ｔ（ｓｅｃ）は、
Ｔ（ｓｅｃ）＝Ｌ（ｍｍ）／ｖ（ｍｍ／ｓｅｃ）
により求められる。
【００５２】
一方、帯電中和機構４の放電電極４ａは電圧印加部４ｃに接続されている。該放電電極４ａに電圧を印加すると、接地電極４ｂとしての第２のガス管８との間でコロナ放電が生じる。第２のガス管８には第１のガス管７と同じく、窒素、アルゴン、乾燥空気などを含むガスが送り込まれており、上記のコロナ放電により励起されてイオン化したガスが図１中の黒矢印の方向に噴出され、基板６の表面に吹き付けられる。
【００５３】
ここで、第１および第２のガス管７，８に送り込まれるガスは、基板への異物付着を防ぐため、超清浄ガスである必要がある。
【００５４】
電圧印加部４ｃは、交流電圧を印加するものであり、第２のガス管８内のガスはプラスイオンとマイナスイオンとに交互にイオン化される。基板６がプラスに帯電している場合は、交流電圧振幅の負電圧が正電圧より大きくなるようにオフセットしてマイナスイオンをプラスイオンより多く発生させ、マイナスイオンが中和に寄与するようにする。また、基板６がマイナスに帯電している場合は、交流電圧振幅の正電圧が負電圧より大きくなるようにオフセットしてプラスイオンをマイナスイオンより多く発生させ、プラスイオンが中和に寄与するようにする。なお、いずれの局面においても、中和完了後はプラスイオンとマイナスイオンとを同量発生させる。このようにすることで、基板６のもとの帯電と同じ極性のイオンは中和に寄与しない。
【００５５】
また、制御部５には、基板６の帯電電位に対応したイオンを発生させるための印加電圧があらかじめインプットされており、電位センサ３ａによって検知された帯電電位に応じたイオンを、検知からＴ（ｓｅｃ）後に発生させ、基板６の表面に吹き付けることができるように電圧印加部４ｃに信号を送信する。
【００５６】
これにより、帯電検知機構３によって検知された基板６の帯電電位に応じて、帯電中和機構４における帯電の中和を行なうことができ、また、電位センサ３ａと放電電極４ａとの距離、および基板６の搬送速度に応じて電圧印加部４ｃを作動させるタイミングを制御できる。これを所定時間ごとに繰り返し行なうことで、基板６の局所的な帯電を適切に中和し、基板６全体の帯電を取り除きながら該基板６の搬送を行なうことができる。
【００５７】
帯電検知機構３は、基板６に非接触な状態で帯電電位の検知を行なうので、摩擦による新たな帯電を生じされることがなく、帯電電位を正確に検知することができる。
【００５８】
また、帯電中和機構４におけるガス噴出のための第２のガス管８を接地電極とすることで、第２のガス管８との摩擦によるガスの帯電を防止することができる。したがって、帯電中和機構４において、基板６に新たな帯電を生じさせることがない。
【００５９】
なお、帯電検知部３および帯電中和部４からなる帯電検知中和ユニット９は、図２に示すように、基板６の搬送方向に対して直交する方向に等間隔で１列に並び、基板６の両側の端部に達するように配置されている。
【００６０】
これにより、基板６の全体にわたって、基板６の帯電を中和することができる。
【００６１】
ここで、帯電検知中和ユニット９が並ぶ方向は、基板６の搬送方向に直交する方向に限定されるものではなく、搬送方向に対して交差し、かつ、搬送方向に対して基板６の左右両側の端部に達する配列であればよい。
【００６２】
また、帯電検知中和ユニット９の間隔についても、等間隔に限定されるものではなく、様々な配置が可能である。
【００６３】
また、図２においては、帯電検知中和ユニット９は、搬送方向に対して最も下流側に設けられたガス噴出孔２の上流側に設けられているが、より好ましくは、搬送方向に対して最も下流側に設けられたガス噴出孔２または該ガス孔よりも下流側に、帯電中和機構４を含む帯電検知中和ユニット９を設けた構造が考えられる。これにより、基板６をテーブル１から一定距離に保持しながら、帯電検知中和ユニット９によって帯電が中和された後、帯電を中和された部分が、ガス噴出孔２から噴出したガスと再度接触することがなく、帯電を中和する効果をより高めることができる。
【００６４】
また、その他の任意の箇所の第１のガス管７を、第２のガス管８として兼用することができる。
【００６５】
さらに、全ての第１のガス管７を第２のガス管８として兼用し、第２のガス管のみで基板６を浮上させる構造であってもよい。この場合は、第１のガス管７を省略することができるので、ガス供給系を減らして装置を小型化することができる。
【００６６】
また、基板６の帯電を検知するタイミングは、すべての電位センサ３ａにおいて同時に行なう場合に限定されるものではなく、個別の電位センサ３ａごとにずらして検知してもよい。さらに、各電位センサ３ａを基板６の搬送方向にずらして配置し、電位センサ３ａにより基板６の帯電を検知するタイミングを全て同時としてもよい。このようにすることで、電圧印加部４ｃが放電電極４ａに電圧を印加するタイミングをずらすことができるので、１つの電圧印加部４ｃによって全ての放電電極４ａに電圧を印加することができる。この結果、装置を小型化することが可能となる。
【００６７】
図４は、本実施の形態に係る搬送装置の変形例を示したものである。
【００６８】
図４においては、帯電検知機構３の下流側に配置される帯電中和機構４は、プラスイオンを発生させる接地電極４ｂとしての第２のガス管８を含むプラスイオン発生部１１と、マイナスイオンを発生させる接地電極４ｂとしての第２のガス管８を含むマイナスイオン発生部１２とを備える。
【００６９】
プラス／マイナスイオン発生部１１，１２とも、第２のガス管８内には、放電電極４ａが備えられ、該放電電極４ａは、それぞれ正電圧印加部１１ａと、負電圧印加部１２ａとに接続されている。制御部５は、正／負電圧印加部１１ａ，１２ａをそれぞれ別個に制御し、放電電極４ａには、正または負の直流電圧が印加される。この結果、プラスイオンとマイナスイオンとが、それぞれ別個の第２のガス管８から供給される。
【００７０】
帯電中和機構４においては、基板６の帯電と逆極性のイオンが帯電の中和に寄与する。プラスイオンとマイナスイオンを別個のガス管から発生させることで、この逆極性のイオンを多く発生させることができるので、より効率的に帯電を中和することができる。
【００７１】
図５は、本実施の形態に係る搬送装置の他の変形例を示したものである。
【００７２】
図５においては、搬送装置は、帯電中和機構としての紫外線照射装置１３を備える。
【００７３】
紫外線照射装置１３により、基板６の表面付近のガスを励起してイオンを発生させ、該イオンを基板６に接触させることができる。この結果、基板６の帯電が中和される。また、紫外線やＸ線の照射時間および照射強度を帯電電位に合わせて調整し、効果的に帯電の中和を行なうことができる。
【００７４】
また、上記の紫外線照射装置１３の代わりに、微弱なＸ線を照射するものを用いてもよい。
【００７５】
第１のガス管７の内壁および搬送テーブル１の表面は接地された良導体薄膜、または帯電防止膜で覆われていることが好ましい。
【００７６】
第１のガス管７の内壁の帯電を防止することにより、第１のガス管７から噴出され、基板６の浮上に寄与するガスの帯電を防止することができる。この結果、基板６を浮上させるためのガスによる基板６の帯電を防止することができる。
【００７７】
また、搬送テーブル１の基板６の接近による帯電を防止することにより、帯電を中和した基板６を、再度帯電させることがない。
【００７８】
本実施の形態においては、以上の構成により、局所的な帯電電位を検知した結果に応じて、被搬送体の帯電を中和することができるので、パネルの局所的な帯電を適切に中和させながらパネルの搬送を行なうことができる。
【００７９】
また、本実施の形態に係る搬送装置は、従来の搬送装置に若干の改良を加えるだけで製作することが可能であり、コストアップさせることなくパネルの帯電を適切に中和することができる。
【００８０】
（実施の形態２）
図６から図８は、実施の形態２における搬送装置について示した図である。
【００８１】
図６は、本実施の形態に係る搬送装置の断面図である。
【００８２】
本実施の形態における搬送装置は、実施の形態１と同様に、被搬送体を浮上させながら搬送する搬送方法に用いる搬送装置であって、図６に示すように、基板６の浮上を制御するガスを白矢印の方向に吸引するガス吸引孔１０を形成する第１のガス管７と、基板６の局部的な帯電電位を検知する帯電検知機構３と、搬送方向に対して、帯電検知機構３の下流に設けられ、基板６を浮上させながら、基板６の帯電を中和するガス噴出帯電中和機構１４と、帯電検知機構３とガス噴出帯電中和機構１４とに接続され、帯電検知機構３によって検知された基板６の帯電電位に応じたイオンをガス噴出帯電中和機構１４に発生させる制御部５とを備える。
【００８３】
図７は、本実施の形態に係る搬送装置の上面図である。
【００８４】
図７に示すように、放電電極４ａおよび設置電極４ｂを含むガス噴出帯電中和機構１４と帯電検知機構３からなる帯電検知中和ユニット９は、基板の全体にわたって配置される。また、ガス吸引孔１０についても同様に基板の全体にわたって配置される。これにより、ガスの噴出と吸引とによる制御が可能となるので、実施の形態１と比較して、基板６の搬送テーブル１からの距離をより一定に保つことができる。
【００８５】
本実施の形態に係る搬送装置の変形例としては、ガス噴出孔とガス吸引孔との両方を備える構造が考えられる。その場合、各々のガス孔を噴出・吸引両用とする構造としてもよいし、ガス噴出孔とガス吸引孔を別々に備える構造としてもよい。
【００８６】
また、図６および図７に示す搬送装置の上下を反転させ、ガス吸引孔１０からガスを吸引して基板６を搬送テーブル１に引きつけながら、搬送テーブル１の下側において基板６を搬送することもできる。その場合は、ガス吸引孔１０のみによって基板６を搬送テーブル１から一定距離に保つことができるので、帯電検知中和ユニット９は搬送テーブル１全体に配置する場合に限定されず、実施の形態１と同様に１列に配置しても、基板６の帯電を中和する機能は損なわれない。
【００８７】
図８は、本実施の形態に係る搬送装置の変形例を示した上面図である。
【００８８】
図８においては、図７における搬送テーブル１をテーブルユニット１５とし、該テーブルユニット１５を並べて配置している。これにより、さらに大型の基板６（たとえば大型液晶パネル基板など）を搬送することができる。
【００８９】
本実施の形態においては、以上の構成により、局所的な帯電電位を検知した結果に応じて、被搬送体の帯電を中和することができるので、パネルの局所的な帯電を適切に中和させながらパネルの搬送を行なうことができる。
【００９０】
また、本実施の形態に係る搬送装置は、従来の搬送装置に若干の改良を加えるだけで製作することが可能であり、コストアップさせることなくパネルの帯電を適切に中和することができる。
【００９１】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、上述した各実施の形態の特徴部分を適宜組み合わせることは、当初から予定されている。また、今回開示された実施の形態は全ての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
【図面の簡単な説明】
【００９２】
【図１】本発明の実施の形態１に係る搬送装置の断面図である。
【図２】本発明の実施の形態１に係る搬送装置の上面図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る搬送装置の回路ブロック図である。
【図４】本発明の実施の形態１に係る搬送装置の変形例の断面図である。
【図５】本発明の実施の形態１に係る搬送装置の他の変形例の断面図である。
【図６】本発明の実施の形態２に係る搬送装置の断面図である。
【図７】本発明の実施の形態２に係る搬送装置の上面図である。
【図８】本発明の実施の形態２に係る搬送装置の変形例の上面図である。
【符号の説明】
【００９３】
１  搬送テーブル、２  ガス噴出孔、３  帯電検知機構、３ａ  電位センサ、３ｂ  信号処理部、４  帯電中和機構、４ａ  放電電極、４ｂ  接地電極、４ｃ  電圧印加部、５  制御部、６  基板、７  第１のガス管、８  第２のガス管、９  帯電検知中和ユニット、１０  ガス吸引孔、１１  プラスイオン発生部、１１ａ  正電圧印加部、１２  マイナスイオン発生部、１２ａ  負電圧印加部、１３  紫外線（微弱Ｘ線）照射装置、１３ａ  駆動部、１４  ガス噴出帯電中和機構、１５  テーブルユニット。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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