(57)【要約】      （修正有）【課題】有機電界発光ディスプレイ装置及びこの製造に使われる熱転写用ドナーフィルムを提供する。【解決手段】有機電界発光部から発生された光取出し効率を上昇させるためのフォトニッククリスタル層を備える有機電界発光ディスプレイ装置において、前記フォトニッククリスタル層は、少なくとも一部分が基板上に形成された積層部の一面に密着されるように前記積層部に密接配置されることを特徴とする有機電界発光ディスプレイ装置であり、また前記有機電界発光ディスプレイ装置を製造するのに使われるフォトニッククリスタル層を備える熱転写用ドナーフィルムである。これにより、フォトニッククリスタル層は空間層を排除させて基板上の積層部の一面、すなわち第２電極層、またはパッシベーション層の一面上に密着配置させることによって光取出し効率をさらに改善させると同時に、空間層による製造上の物理的な難点を解消する。【選択図】図３Ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の一面上に形成され、所定のパターンに形成された第１及び第２電極層及び有機電界発光部を含む積層部と、
前記有機電界発光部から発生された光取出し効率を上昇させるためのフォトニッククリスタル層とを備える有機電界発光ディスプレイ装置において、
前記フォトニッククリスタル層は、少なくとも一部分が前記基板上に形成された積層部の一面に密着されるように前記積層部に密接配置されることを特徴とする有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項２】
前記フォトニッククリスタル層は、複数個の突起部を備えることを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項３】
前記突起部は、前記フォトニッククリスタル層の前記積層部に向かった一面上に形成されることを特徴とする請求項２に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項４】
前記突起部は、前記フォトニッククリスタル層の前記積層部から離れた一面上に形成されることを特徴とする請求項２に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項５】
前記突起部間に形成された凹溝部は、真空であることを特徴とする請求項２に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項６】
前記突起部間に形成された凹溝部には、事前設定された気体で充填されていることを特徴とする請求項２に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項７】
前記突起部間に形成された凹溝部には、前記突起部を構成する物質と異なる屈折率を備える物質で充填されることを特徴とする請求項２に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項８】
前記フォトニッククリスタル層は、複数個の貫通孔が形成されたフォトニッククリスタル層であることを特徴とする請求項１に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項９】
前記複数個の貫通孔は、真空であることを特徴とする請求項８に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項１０】
前記複数個の貫通孔は、事前設定された気体で充填されることを特徴とする請求項８に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項１１】
前記複数個の貫通孔には、前記フォトニッククリスタル層を構成する物質と異なる屈折率を備える物質で充填されることを特徴とする請求項８に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項１２】
前記凹溝部に充填される物質は、有機物であることを特徴とする請求項７に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項１３】
前記フォトニッククリスタル層は、無機物より構成されることを特徴とする請求項１２に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項１４】
前記貫通孔に充填される物質は、有機物であることを特徴とする請求項１１に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項１５】
前記フォトニッククリスタル層は、無機物より構成されることを特徴とする請求項１４に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項１６】
前記フォトニッククリスタル層の少なくとも一部と密接する積層部の一面は、前記第２電極であることを特徴とする請求項１〜１５のうちいずれか１項に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項１７】
前記フォトニッククリスタル層は、有機物より構成されることを特徴とする請求項５、６、９及び１０のうちいずれか１項に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項１８】
前記積層部は、前記有機電界発光部を保護するためのパッシベーション層をさらに備え、前記フォトニッククリスタル層の少なくとも一部と密接する積層部の一面は、前記パッシベーション層であることを特徴とする請求項１〜１５のうちいずれか１項に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項１９】
前記フォトニッククリスタル層は、有機物より構成されることを特徴とする請求項１８に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項２０】
前記有機電界発光部の有機発光層には、Ｒ，Ｇ，Ｂそれぞれの副画素グループが形成され、前記フォトニッククリスタル層は、前記副画素のうち少なくとも２つの副画素に対してそれぞれパターン化されるフォトニッククリスタル層であることを特徴とする請求項１〜１５のうちいずれか１項に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項２１】
前記それぞれのＲ，Ｇ，Ｂ副画素グループの副画素のうちいずれか一つ以上の副画素に対するフォトニッククリスタル層の寸法は、一つ以上の他の副画素に対するフォトニッククリスタル層の寸法と異なることを特徴とする請求項２０に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項２２】
基板の一面上に形成され、所定のパターンに形成された第１及び第２電極層及び有機電界発光部を含む積層部と、
前記有機電界発光部から発生された光取出し効率を上昇させるためのフォトニッククリスタル層とを備える有機電界発光ディスプレイ装置において、
前記フォトニッククリスタル層と前記積層部間には前記フォトニッククリスタル層を構成する物質の屈折率と異なる屈折率を有する屈折率層をさらに備えることと、
前記屈折率層の一面は前記基板上に形成された積層部の一面に密着されるように前記積層部に密接配置されることとを特徴とする有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項２３】
前記フォトニッククリスタル層は、複数個の突起部を備えることを特徴とする請求項２２に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項２４】
前記突起部は、前記屈折率層に向かった一面上に形成されることを特徴とする請求項２３に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項２５】
前記突起部は、前記フォトニッククリスタル層の前記屈折率層から離れた一面上に形成されることを特徴とする請求項２３に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項２６】
前記屈折率層の前記フォトニッククリスタル層に向かった一面上には、前記突起部間に形成された凹溝部と対応する突出部が形成されることを特徴とする請求項２３に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項２７】
前記フォトニッククリスタル層は、複数個の貫通孔が形成されたフォトニッククリスタル層であることを特徴とする請求項２２に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項２８】
前記屈折率層の前記フォトニッククリスタル層に向かった一面上には、前記フォトニッククリスタル層に形成された前記複数個の貫通孔に対応する複数個の突出部が形成されることを特徴とする請求項２７に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項２９】
前記屈折率層は、有機物より構成されることを特徴とする請求項２２〜２８のうちいずれか１項に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項３０】
前記フォトニッククリスタル層は、無機物より構成されることを特徴とする請求項２９に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項３１】
前記屈折率層の一面と密接する積層部の一面は、前記第２電極であることを特徴とする請求項２２ないし２８のうちいずれか１項に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項３２】
前記屈折率層は、有機物より構成されることを特徴とする請求項３１に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項３３】
前記フォトニッククリスタル層は、無機物より構成されることを特徴とする請求項３２に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項３４】
前記積層部は、前記有機電界発光部を保護するためのパッシベーション層をさらに備え、前記屈折率層の一面と密接する積層部の一面は、前記パッシベーション層であることを特徴とする請求項２２ないし２８のうちいずれか１項に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項３５】
前記屈折率層は、有機物より構成されることを特徴とする請求項３４に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項３６】
前記フォトニッククリスタル層は、無機物より構成されることを特徴とする請求項３５に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項３７】
前記有機電界発光部の有機発光層は、Ｒ，Ｇ，Ｂそれぞれの副画素グループを備え、前記フォトニッククリスタル層は、前記副画素のうち少なくとも２つの副画素に対してそれぞれパターン化されるフォトニッククリスタル層であることを特徴とする請求項２２ないし２８のうちいずれか１項に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項３８】
前記それぞれのＲ，Ｇ，Ｂ副画素グループのうちいずれか一つ以上の副画素に対するフォトニッククリスタル層の寸法は、一つ以上の他の副画素に対するフォトニッククリスタル層の寸法と異なることを特徴とする請求項３７に記載の有機電界発光ディスプレイ装置。
【請求項３９】
熱転写用ベースフィルムと、
前記ベースフィルムの一面上に形成された光熱変換層と、
前記光熱変換層上に形成された中間層と、
前記中間層上に形成されたフォトニッククリスタル層とを備えることを特徴とする熱転写用ドナーフィルム。
【請求項４０】
前記フォトニッククリスタル層は、複数個の突起部を備えることを特徴とする請求項３９に記載の熱転写用ドナーフィルム。
【請求項４１】
前記フォトニッククリスタル層は、複数個の貫通孔が形成されたことを特徴とする請求項３９に記載の熱転写用ドナーフィルム。
【請求項４２】
前記フォトニッククリスタル層の前記転写フィルムから離れた一面には、前記フォトニッククリスタル層を構成する物質の屈折率と異なる屈折率を有する物質より構成される屈折率層が形成されたことを特徴とする請求項３９に記載の熱転写用ドナーフィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機電界発光ディスプレイ装置及びこれに使われる熱転写用ドナーフィルムに係り、さらに詳細にはフォトニッククリスタル層を基板上の積層部の一面に密着配置させることによって有機電界発光部からの光取出し効果を改善させる有機電界発光ディスプレイ装置及びこれに使われる熱転写用ドナーフィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機電界発光ディスプレイ装置は、有機物薄膜に正負極を介して注入された電子と正孔とが再結合して励起子を形成し、形成された励起子からのエネルギーにより特定の波長の光が発生する現象を利用する自発光型ディスプレイ装置である。有機電界発光ディスプレイ装置は低電圧で駆動が可能であり、軽量薄型であり、視野角が広いだけでなく、応答速度もまた速いという長所を備える。
【０００３】
このような有機電界発光ディスプレイ装置の有機電界発光部は、基板上に積層式に形成される正極、有機発光層、及び負極より構成される。有機発光層は、正孔と電子とが再結合して励起子を形成して光を発生させる発光層と、発光効率をさらに高めるために正孔と電子とを発光層にさらに円滑に輸送するための負極と発光層間の電子輸送層と、正極と発光層間の正孔輸送層と、正極と正孔輸送層間の正孔注入層と、負極と電子輸送層間の電子注入層とを具備できる。このような有機電界発光部を構成する材料としては、銅フタロシアニン（ＣｕＰｃ）、Ｎ，Ｎ−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ベンジジン（ＮＰＢ）、トリス−８−ヒドロキシキノリン（Ａｌｑ３）などが使われる。
【０００４】
このような有機電界発光ディスプレイ装置の光効率は有機電界発光部を構成する材料の光電変換効率に依存する内部効率と、有機電界発光ディスプレイ装置を構成するそれぞれの層の物理的数値、すなわち屈折率から起因する外部効率とに分類されるが、外部効率は光取出し効率とも言われる。有機発光層から放出される光がそれぞれの層に対する臨界角以上で出射される場合に界面で反射を起こすようになり、外部に取り出される光が低減されることにより外部効率が低下する。下記の表１は、例えばガラスより形成された透明な基板と、例えばＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）より形成された電極層を経て取り出される光の効率を表示する。光取出し効率は各層の屈折率に対するところから算出される。
【０００５】
【表１】
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【０００６】
前記表１から、電極層と基板との屈折率差によって発光層から発生する光が６０％以上減少するということが分かる。このような光取出し効率の低下を減らすための多様な方案が提示されている。
【０００７】
特許文献１には前述のように有機電界発光表示装置内での光損失を減らすために、基板上に回折格子またはゾーンプレートを形成して有機膜とＩＴＯ電極との界面及びＩＴＯ電極でガイドされる光を回折させる構成が開示されている。
【０００８】
このような有機電界発光表示装置は、基板や微細な電極パターン層の表面に凹凸を形成するか、別途の回折格子を設けなければならないので、製造工程が容易ではなく、さらには生産性の向上を図れなくなる。また、凹凸または回折格子上に有機層を成膜する場合、有機層の表面粗度が大きくなるので、有機電界発光表示装置の漏れ電流が多くなる一方、耐久性及び信頼性が低下する。
【０００９】
また、光取出し率の低下を防止するための従来の有機電界発光装置の一例が特許文献２に開示されている。開示された有機電界発光表示装置は、凸レンズなどの集光性を有する基板を備える。しかし、このような集光のための凸レンズは有機膜の発光による画素が非常に小さいので基板に形成し難い。
【００１０】
特許文献３には透明電極層と発光層とに第１誘電体層を介在させると同時に透明電極層に前記第１誘電体層と透明電極層間の中間の屈折率を有する第２の誘電体層を介在させた有機電界発光表示装置が開示されている。
【００１１】
図１に図示された従来技術による有機電界発光表示装置１は、基板（図示せず）上に形成された２つの電極層２１，２２間に有機発光層３０を備える有機電界発光部が配され、フォトニッククリスタル層４１が形成された封止用基板１０を利用して封止される構造を取るが、前記フォトニッククリスタル層と有機電界発光部間には空間層４０が形成されており、このような空間層は真空であるか、または不活性ガスのような気体で充填されている。
【００１２】
しかし、前記のような技術は、フォトニッククリスタル層４１によって光取出し効率を上昇させるという効果を導き出すが、構造的な問題点、すなわち均一な画面ディスプレイ品質を保持するためには、光が出射される経路に対する構造的な均一性、すなわち空間層４０の間隔が有機電界発光層の光が出射される該当領域に対して均一に保持されねばならないが、前記のような有機電界発光ディスプレイ装置において、空間層４０の厚さ（間隔）は３〜１０μｍ単位であるので物理的にこれを均一に保持し難いという製造上の問題点も伴った。このような問題点は能動駆動型（ＡＭ）有機電界発光ディスプレイ装置についても同一に伴う。
【特許文献１】特開平１１−２８３７５１号公報
【特許文献２】特開昭６３−１７２６９１号公報
【特許文献３】特開平０１−０２９３９４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
本発明の目的は、フォトニッククリスタル層を有機電界発光部の一面に密着形成することにより、さらに改善された光取出し効率を備える有機電界発光ディスプレイ装置及びこれに使われる熱転写用ドナーフィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
前記のような目的を達成するために、本発明の一面によれば、（１）  基板の一面上に形成され、所定のパターンに形成された第１及び第２電極層及び有機電界発光部を含む積層部と、前記有機電界発光部から発生された光取出し効率を上昇させるためのフォトニッククリスタル層とを備える有機電界発光ディスプレイ装置において、前記フォトニッククリスタル層は、少なくとも一部分が前記基板上に形成された積層部の一面に密着されるように前記積層部に密接配置されることを特徴とする有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００１５】
本発明の他の一面によれば、（２）  前記フォトニッククリスタル層は、複数個の突起部を備えることを特徴とする上記（１）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００１６】
本発明のさらに他の一面によれば、（３）  前記突起部は、前記フォトニッククリスタル層の前記積層部に向かった一面上に形成されることを特徴とする上記（２）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００１７】
本発明のさらに他の一面によれば、（４）  前記突起部は、前記フォトニッククリスタル層の前記積層部から離れた一面上に形成されることを特徴とする上記（２）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００１８】
本発明のさらに他の一面によれば、（５）  前記突起部間に形成された凹溝部は、真空であることを特徴とする上記（２）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００１９】
本発明のさらに他の一面によれば、（６）  前記突起部間に形成された凹溝部には、事前設定された気体で充填されていることを特徴とする上記（２）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００２０】
本発明のさらに他の一面によれば、（７）  前記突起部間に形成された凹溝部には、前記突起部を構成する物質と異なる屈折率を備える物質で充填されることを特徴とする上記（２）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００２１】
本発明のさらに他の一面によれば、（８）  前記フォトニッククリスタル層は、複数個の貫通孔が形成されたフォトニッククリスタル層であることを特徴とする上記（１）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００２２】
本発明のさらに他の一面によれば、（９）  前記複数個の貫通孔は、真空であることを特徴とする上記（８）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００２３】
本発明のさらに他の一面によれば、（１０）  前記複数個の貫通孔は、事前設定された気体で充填されることを特徴とする上記（８）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００２４】
本発明のさらに他の一面によれば、（１１）  前記複数個の貫通孔には、前記フォトニッククリスタル層を構成する物質と異なる屈折率を備える物質で充填されることを特徴とする上記（８）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００２５】
本発明のさらに他の一面によれば、（１２）  前記凹溝部に充填される物質は、有機物であることを特徴とする上記（７）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００２６】
本発明のさらに他の一面によれば、（１３）  前記フォトニッククリスタル層は、無機物より構成されることを特徴とする上記（１２）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００２７】
本発明のさらに他の一面によれば、（１４）  前記貫通孔に充填される物質は、有機物であることを特徴とする上記（１１）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００２８】
本発明のさらに他の一面によれば、（１５）  前記フォトニッククリスタル層は、無機物より構成されることを特徴とする上記（１４）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００２９】
本発明のさらに他の一面によれば、（１６）  前記フォトニッククリスタル層の少なくとも一部と密接する積層部の一面は、前記第２電極であることを特徴とする上記（１）ないし（１５）のうちいずれか１項に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００３０】
本発明のさらに他の一面によれば、（１７）  前記フォトニッククリスタル層は、有機物より構成されることを特徴とする上記（５）、（６）、（９）及び（１０）のうちいずれか１項に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００３１】
本発明のさらに他の一面によれば、（１８）  前記積層部は、前記有機電界発光部を保護するためのパッシベーション層をさらに備え、前記フォトニッククリスタル層の少なくとも一部と密接する積層部の一面は前記パッシベーション層であることを特徴とする上記（１）ないし（１５）のうちいずれか１項に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００３２】
本発明のさらに他の一面によれば、（１９）  前記フォトニッククリスタル層は、有機物より構成されることを特徴とする上記（１８）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００３３】
本発明のさらに他の一面によれば、（２０）  前記有機電界発光部の有機発光層にはＲ，Ｇ，Ｂそれぞれの副画素グループが形成され、前記フォトニッククリスタル層は前記副画素のうち少なくとも２つの副画素に対してそれぞれパターン化されるフォトニッククリスタル層であることを特徴とする上記（１）ないし（１５）のうちいずれか１項に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００３４】
本発明のさらに他の一面によれば、（２１）  前記それぞれのＲ，Ｇ，Ｂ副画素グループの副画素のうちいずれか一つ以上の副画素に対するフォトニッククリスタル層の寸法は、一つ以上の他の副画素に対するフォトニッククリスタル層の寸法と異なることを特徴とする上記（２０）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００３５】
本発明のさらに他の一面によれば、（２２）  基板の一面上に形成され、所定のパターンに形成された第１及び第２電極層及び有機電界発光部を含む積層部と、前記有機電界発光部から発生された光取出し効率を上昇させるためのフォトニッククリスタル層とを備える有機電界発光ディスプレイ装置において、前記フォトニッククリスタル層と前記積層部間には、前記フォトニッククリスタル層を構成する物質の屈折率と異なる屈折率を有する屈折率層をさらに備えることと、前記屈折率層の一面は前記基板上に形成された積層部の一面に密着されるように前記積層部に密接配置されることを特徴とする有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００３６】
本発明のさらに他の一面によれば、（２３）  前記フォトニッククリスタル層は、複数個の突起部を備えることを特徴とする上記（２２）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００３７】
本発明のさらに他の一面によれば、（２４）  前記突起部は、前記屈折率層に向かった一面上に形成されることを特徴とする上記（２３）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００３８】
本発明のさらに他の一面によれば、（２５）  前記突起部は、前記フォトニッククリスタル層の前記屈折率層から離れた（即ち、前記屈折率層を遠ざける）一面上に形成されることを特徴とする上記（２３）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００３９】
本発明のさらに他の一面によれば、（２６）  前記屈折率層の前記フォトニッククリスタル層に向かった一面上には、前記突起部間に形成された凹溝部と対応する突出部が形成されることを特徴とする上記（２３）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００４０】
本発明のさらに他の一面によれば、（２７）  前記フォトニッククリスタル層は、複数個の貫通孔が形成されたフォトニッククリスタル層であることを特徴とする上記（２２）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００４１】
本発明のさらに他の一面によれば、（２８）  前記屈折率層の前記フォトニッククリスタル層に向かった一面上には、前記フォトニッククリスタル層に形成された前記複数個の貫通孔に対応する複数個の突出部が形成されることを特徴とする上記（２７）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００４２】
本発明のさらに他の一面によれば、（２９）  前記屈折率層は、有機物より構成されることを特徴とする上記（２２）ないし（２８）のうちいずれか１項に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００４３】
本発明のさらに他の一面によれば、（３０）  前記フォトニッククリスタル層は、無機物より構成されることを特徴とする上記（２９）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００４４】
本発明のさらに他の一面によれば、（３１）  前記屈折率層の一面と密接する積層部の一面は、前記第２電極であることを特徴とする上記（２２）ないし（２８）のうちいずれか１項に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００４５】
本発明のさらに他の一面によれば、（３２）  前記屈折率層は、有機物より構成されることを特徴とする上記（３１）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００４６】
本発明のさらに他の一面によれば、（３３）  前記フォトニッククリスタル層は無機物より構成されることを特徴とする上記（３２）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００４７】
本発明のさらに他の一面によれば、（３４）  前記積層部は、前記有機電界発光部を保護するためのパッシベーション層をさらに備え、前記屈折率層の一面と密接する積層部の一面は、前記パッシベーション層であることを特徴とする上記（２２）ないし（２８）のうちいずれか１項に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００４８】
本発明のさらに他の一面によれば、（３５）  前記屈折率層は、有機物より構成されることを特徴とする上記（３４）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００４９】
本発明のさらに他の一面によれば、（３６）  前記フォトニッククリスタル層は、無機物より構成されることを特徴とする上記（３５）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００５０】
本発明のさらに他の一面によれば、（３７）  前記有機電界発光部の有機発光層はＲ，Ｇ，Ｂそれぞれの副画素グループを備え、前記フォトニッククリスタル層は前記副画素のうち少なくとも２つの副画素に対してそれぞれパターン化されるフォトニッククリスタル層であることを特徴とする上記（２２）ないし（２８）のうちいずれか１項に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００５１】
本発明のさらに他の一面によれば、（３８）  前記それぞれのＲ，Ｇ，Ｂ副画素グループのうちいずれか一つ以上の副画素に対するフォトニッククリスタル層の寸法は一つ以上の他の副画素に対するフォトニッククリスタル層の寸法と異なることを特徴とする上記（３７）に記載の有機電界発光ディスプレイ装置を提供する。
【００５２】
本発明のさらに他の一面によれば、（３９）  熱転写用ベースフィルムと、前記ベースフィルムの一面上に形成された光熱変換層と、前記光熱変換層上に形成された中間層と、前記中間層上に形成されたフォトニッククリスタル層とを備えることを特徴とする熱転写用ドナーフィルムを提供する。
【００５３】
本発明のさらに他の一面によれば、（４０）  前記フォトニッククリスタル層は、複数個の突起部を備えることを特徴とする上記（３９）に記載の熱転写用ドナーフィルムを提供する。
【００５４】
本発明のさらに他の一面によれば、（４１）  前記フォトニッククリスタル層は、複数個の貫通孔が形成されたことを特徴とする上記（３９）に記載の熱転写用ドナーフィルムを提供する。
【００５５】
本発明のさらに他の一面によれば、（４２）  前記フォトニッククリスタル層の前記転写フィルムから離れた（即ち、前記前記転写フィルムを遠ざける）一面には、前記フォトニッククリスタル層を構成する物質の屈折率と異なる屈折率を有する物質より構成される屈折率層が形成されたことを特徴とする上記（３９）に記載の熱転写用ドナーフィルムを提供する。
【発明の効果】
【００５６】
本発明による有機電界発光ディスプレイ装置は、有機電界発光部から取り出される光の取出し効率を上昇させるためのフォトニッククリスタル層は空間層を排除させて基板上の積層部の一面、すなわち第２電極層、またはパッシベーション層の一面上に密着配置させることによって光取出し効率をさらに改善させると同時に、空間層による製造上の物理的の難点を解消することもできる。
【００５７】
また、本発明による有機電界発光ディスプレイ装置は、屈折率層を備えるフォトニッククリスタル層を備え、屈折率層と基板上の積層部の一面と密接配置させることによって光取出し効果をさらに増進させることもできる。
【００５８】
そして、本発明による有機電界発光ディスプレイ装置は、Ｒ，Ｇ，Ｂ発光層が形成するＲ，Ｇ，Ｂグループ別に個別的に形成されるフォトニッククリスタル層を備え、発光される光の波長による光取出し効果をさらに増大させられもする。
【００５９】
本発明による前記有機電界発光ディスプレイ装置は、熱転写方法、特に高精細化のためのレーザ熱転写方法を介した精密な製造を可能にすると同時に、従来の有機電界発光ディスプレイ装置製造時に問題になった空間層を保持するのに伴った工程時間などを顕著に減らして生産コストを節減させることもできる。
【００６０】
また、本発明による熱転写用ドナーフィルムは一面にフォトニッククリスタル層を備え、他の一面からレーザを照射される場合、基板上の積層部の一面上にフォトニッククリスタル層を密着形成させうる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００６１】
以下、添付された図面を参照して本発明の望ましい実施例による有機電界発光ディスプレイ装置及び製造方法について説明する。
【００６２】
図２Ａないし図２Ｄには本発明の一実施例による有機電界発光ディスプレイ装置の一断面図が図示されている。本発明の一実施例による有機電界発光ディスプレイ装置は、基板２１０の一面上部に所定のパターンで形成される第１電極層２３０及び第２電極層２５０とそれら間に配される有機電界発光部２４０などを含む基板２１０一面上の積層部と、有機電界発光部からの光取出し効率を上昇させるためのフォトニッククリスタル層２６０とを備える。
【００６３】
第１電極層２３０は正極の役割を行う電極であり、第２電極層２５０は負極の役割を行う電極であり、第１電極層２３０は、例えば真空蒸着またはスパッタリングによって透明な導電性材質のＩＴＯからもなり、第２電極層２５０は、仕事関数の小さいマグネシウム、リチウムまたはアルミニウム、アルミニウム合金、銀、銀合金のような導電性金属からもなりうる。
【００６４】
有機電界発光部２４０は、第１電極層２３０と第２電極層２５０間に配されるが、第１電極層２３０と密接形成される正孔注入層、正孔輸送層、Ｒ，Ｇ，Ｂの発光層、電子注入層より構成されることもあり、追加的に電子輸送層をさらに備えることもある（図４参照）。
【００６５】
本発明の一実施例による有機電界発光ディスプレイ装置のフォトニッククリスタル層２６０の少なくとも一部分は積層部の一面と密着されるように積層部に密接配置される。すなわち、フォトニッククリスタル層２６０と積層部の間にはいかなる空間層も形成されない。
【００６６】
フォトニッククリスタル層２６０は有機物及び無機物など多様な材料より形成されうるが、例えば感光性フォトレジスト（ＰＲ；ＰｈｏｔｏＲｅｓｉｓｔ）または分子量が１００，０００以下である転写可能な透明有機物より構成されることもあり、ＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、Ｓｉ３Ｎ４、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、ＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＭｇＦ２、ＣａＦ２よりなる群から選択された一つ以上の成分より構成されることもある。フォトニッククリスタル層２６０を構成する物質として数平均分子量あるいは重量平均分子量が１００，０００を超える有機物を使用する場合、熱転写過程でフォトニッククリスタル層２６０の一部分が剥がれていく現象、すなわちフォトニッククリスタル層２６０が円滑に剥離できない現象が発生しもする。
【００６７】
フォトニッククリスタル層２６０は多様な形態で形成できるが、図２Ａに図示されたようにフォトニッククリスタル層２６０の一面上に突起部２６１が形成されることもある。突起部２６１は積層部に向かった（対向する側の）一面上に形成されることもあり、図示されていないが積層部から離れた（対向する面の反対側の）一面上に形成されることもある。図２Ａに図示されたように、突起部２６１が積層部に向かった一面上に形成される場合、フォトニッククリスタル層２６０の少なくとも一部分、すなわち突起部２６１は第２電極層２５０の一面と密着される。
【００６８】
フォトニッククリスタル層２６０が突起部２６１を備える場合、複数の突起部２６１間には凹溝部２６２が形成されるが、このような凹溝部２６２は真空状態に保持されることもあり、図２Ｂに図示されたように、事前設定された気体、例えばＮｅ、Ｈｅのような不活性気体で充填されることもあるが、このような同一層内に異種状態及び／または異種物質を交差配置することにより、フォトニッククリスタル層の回折効果を出させることもできる。
【００６９】
また、回折効果を増大させるためのフォトニッククリスタル層２６０の他の一例として、図２Ｄに図示されたように、フォトニッククリスタル層２６０の突起部２６１によって形成された凹溝部２６２にはフォトニッククリスタル層２６０を構成する物質、すなわち突起部２６１を構成する物質の屈折率と異なる屈折率を有する物質が充填されもする。このような物質は有機物である場合もあり、ＳｉＮｘ、ＴｉＯ２のような無機物である場合もあるなど多様に選択されうる。凹溝部２６２に充填された物質が積層部の一面、例えば第２電極層２５０と密接する場合には、それら接触面間の接触力を高めるために凹溝部２６２充填物質で有機物を使用することが望ましく、このとき有機物の凹溝部とフォトニッククリスタル層間の接触力を向上させるために、フォトニッククリスタル層２６０を無機物より構成することがさらに望ましくもある。
【００７０】
本発明によるフォトニッククリスタル層のさらに他の一例として、図２Ｃに図示されたように、フォトニッククリスタル層２６０’は複数個の貫通孔２６２’が形成されたドット形式のフォトニッククリスタル層でもありうる。このような貫通孔２６２’は一定の間隔を保持して配列されることが望ましいが、フォトニッククリスタル層２６０’が積層部の一面、例えば第２電極層２５０の一面と密接配置される場合、貫通孔２６２’は真空状態に保持されることもあり、事前設定された気体、例えばＮｅ、Ｈｅのような不活性気体で充填されもする。
【００７１】
また、図面に図示されていないが、図２Ｄに図示されたところと類似し、回折効果を増大させるためのフォトニッククリスタル層のさらに他の一例として、フォトニッククリスタル層２６０’の貫通孔２６２’にはフォトニッククリスタル層２６０’を構成する物質の屈折率と異なる屈折率を有する物質が充填されもする。このような物質は多様に選択されうるが、有機物である場合もあり、ＳｉＮｘ、ＴｉＯ２のような無機物である場合もある。貫通孔２６２’に充填された物質も積層部の一面、例えば第２電極層２５０と密接になるので、それら接触面間の接触力を高めるために貫通孔２６２’の充填物質として有機物を使用することが望ましく、このとき有機物の凹溝部とフォトニッククリスタル層間の接触力を向上させるためにフォトニッククリスタル層２６０’を有機物より構成することがさらに望ましくもある。
【００７２】
前記の本発明による一実施例は受動駆動型（ＰＭ）有機電界発光ディスプレイ装置だけではなく、ＡＭ有機電界発光ディスプレイ装置にも同一に適用できる。
【００７３】
図３Ａ及び図３Ｂには、本発明のさらに他の一実施例として、製作段階によるＡＭ有機電界発光ディスプレイ装置３００の部分断面図が図示されている。有機電界発光ディスプレイ装置３００の基板３１０の一面上には、バッファ層３１１が形成され、バッファ層３１１の上部には画素を生成するための画素形成部と、画素形成部を駆動させるための薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）とキャパシタとより形成された駆動部が配される。
【００７４】
バッファ層３１１はプラズマ補強気相蒸着（ＰＥＣＶＤ）方式でＳｉＯ２のような材料より構成されうるが、これに限定されるものではない。駆動部は薄膜トランジスタとキャパシタとを備える。薄膜トランジスタは、バッファ層３１１の一面にパターン化されて配列され、ゲート絶縁層３２２によって埋め込まれるｐ型またはｎ型半導体層３２１と、ｐ型またはｎ型半導体層３２１の上部のゲート絶縁層３２２の一面上に第１絶縁層３２４によって埋め込まれるゲート電極層３２３と、第１絶縁層３２４とゲート絶縁層３２２とを貫通して形成されたコンタクトホール３２５ａを介して半導体層３２１と疎通（接触）されるように、第１絶縁層３２４上部に形成されたドレーン電極３２５及びソース電極３２６より構成される。キャパシタ３２７は、ソース電極３２６から延びる第１補助電極３２７ａと、第１絶縁層３２４によって埋め込まれて第１補助電極３２７ａと対応するようにゲート絶縁層３２２の一面上に配される第２補助電極３２７ｂとより構成される。薄膜トランジスタとキャパシタとを埋め込むように、すなわちドレーン電極３２５及びソース電極３２６、そして第１補助電極３２７ａを埋め込むように第２絶縁層３２８が形成される。
【００７５】
駆動部の上端には画素を生成するための画素形成部が形成される。有機電界発光部は、ドレーン電極３２５、ソース電極３２６及び第１絶縁層３２４を埋め込む第２絶縁層３２８の上部に形成された正極としての第１電極層３３１及び負極としての第２電極層３４３と、そして第１電極層３３１及び第２電極層３４３間に配設された有機電界発光部３４２を備えるが、本一実施例は有機電界発光部３４２が透湿されて劣化されることを防止して保護するためのパッシベーション層３４４をさらに備える。第１電極層３３１は第２絶縁層３２８に形成された貫通孔を介してドレーン電極３２５の一端と疎通（接触）される導電性連結部３３１ａをさらに備える。
【００７６】
図３Ａを参照すれば、有機電界発光ディスプレイ装置を製造する本発明の一実施例による方法は、基板３１０の一面上に前記のように駆動部と画素領域とを積層形成することによって始まる。
【００７７】
一方、フォトニッククリスタル層を備える熱転写ドナーフィルムを準備する。本発明による熱転写方法に使われる転写用ドナーフィルムは、転写用ベース基板３７２の一面上に光熱変換層３７１と、フォトニッククリスタル層３６０とが順次に形成されることによってなる。転写用ベース基板３７２は多種の高分子材料より構成された高分子フィルムからもなりうるが、このような高分子フィルムは、例えばポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリアクリル、ポリエポシキ、ポリエチレン、ポリスチレンのような高分子材料より構成されることもある。転写用ベース基板３７２上には光熱変換層３７１が形成された後、フォトニッククリスタル層３６０が順次に積層形成される。光熱変換層３７１はレーザ照射光の光エネルギーを熱エネルギーに変化させる役割を行うが、光熱変換層３７１の材料としてはカーボンブラック、黒鉛のような高分子材料だけではなく、アルミニウムまたはアルミニウム酸化物のような金属材料が使われることもある。本発明の一実施例を示す図面には図示されていないが、光熱変換層３７１の一面にはアクリルなどよりなる光熱変換層３７１を保護するための別途のインターレイヤ層または光熱変換層３７１と転写される部分の円滑な剥離及び光熱変換層３７１物質の転写防止のための剥離層がさらに備わることもある。図３Ａで、フォトニッククリスタル層３６０は光熱変換層３７１に密接配置されるが、数μｍの厚さで有機物またはＳｉＯｘ、ＳｉＮｘ、Ｓｉ３Ｎ４、ＴｉＯ２、ＭｇＯ、ＺｎＯ、Ａｌ２Ｏ３、ＳｎＯ２、Ｉｎ２Ｏ３、ＭｇＦ２、ＣａＦ２からなる群から選択された一つ以上の無機物より構成されることもある。フォトニッククリスタル層３６０は、例えばＮｉメッキを利用したフォトニッククリスタルモールドなどを利用して熱圧着させることによって形成されうる。フォトニッククリスタル層３６０は突出された複数の突起部を備えることもあるので、複数の突起部は基板３１０に向かう（対向する）こともあり、フォトニッククリスタル層３６０は複数の貫通孔が形成された薄膜である場合もあり、それら突起部が形成する凹溝部または貫通孔は真空に保持されるか、不活性気体のような事前設定された気体で充填されるか、またはフォトニッククリスタル層３６０を形成する物質の屈折率と異なる屈折率を備える物質が充填されもする（図３Ｃないし図３Ｄ参照）。また、突起部３６１とフォトニッククリスタル層３６０とは個別の異なる材料で、または同じ材料で形成されることもある。前記熱転写ドナーフィルムは本発明を説明するための一例であり、本発明によるフォトニッククリスタル層を備える範囲で多様な変形例を考慮できる。
【００７８】
フォトニッククリスタル層３６０が熱転写ドナーフィルムに形成された後には、例えば有機物またはＳｉＮｘ、ＴｉＯ２のような無機物のうちの一つ以上の材料または有機物より構成される屈折率層３５０がさらに形成されることもある。また、表面粗度の不均一による今後の積層部一面との接触不良を防止するために形成された屈折率層３５０に対して平坦化過程がさらに実施されることもある。屈折率層３５０は突起部３６１によって形成された凹溝部の位置に対応する突出部３５１を備えることもあるので、フォトニッククリスタル層３６０が基板３１０に向けた一面上に突起部３６１を備える場合に突出部３５１は突起部３６１によって形成された凹溝部と噛み合う構造を取ることもある。突起部はこのような類型に限定されず、突起部３６１はフォトニッククリスタル層の屈折率層３５０を遠ざける側面（フォトニッククリスタル層の屈折率層と対向する面と反対側の面；即ち、フォトニッククリスタル層の屈折率層から離れた側面）に形成されることもある。また図示されていないが、フォトニッククリスタル層が複数個の貫通孔を備えるドット型である場合、フォトニッククリスタル層に向かった一面上に形成された突出部は貫通孔に噛み合う構造を取ることもある。回折効果を増大させるために、そして同じ要素で形成される場合に発生するおそれのある欠陥（デフェクト；ｄｅｆｅｃｔ）の増大を防止するために、フォトニッククリスタル層３６０と密接形成される屈折率層３５０はフォトニッククリスタル層３６０を構成する要素と異なる要素で形成し、フォトニッククリスタル層３６０の屈折率と屈折率層３５０の屈折率とを互いに異ならせることが望ましい。
【００７９】
フォトニッククリスタル層３６０を備える熱転写用ドナーフィルムを準備した後、フォトニッククリスタル層３６０を積層部上部に転写させるために、転写用ベース基板３７２の積層された一面を基板３１０上の積層された一面と対面するように、転写用ベース基板３７２を基板３１０の上部に近接配置させる。
【００８０】
一方、転写用ベース基板に熱を提供する方法として、ヒットバー、電子誘導加熱、超音波摩擦加熱、そしてランプまたはレーザのような光源を利用する方法などのように多様な方法が使われることもあるので、望みの局所部位の正確な転写のために光源を使用することが望ましく、高細化のためにレーザ光線を使用することがさらに望ましい。本発明による、熱転写過程の一例として、図示されていない光エネルギー装置、例えばレーザ照射装置を利用して転写用ベース基板３７２の違った一面上の望みの領域に対してレーザ光線を照射する。照射されたレーザ光線は透明な転写用ベース基板３７２を通過してカーボンブラック層のような光熱変換層３７１にエネルギーを伝達する。光熱変換層３７１は照射されたレーザ光線の光エネルギーを熱エネルギーに変換させることにより、光熱変換層３７１の異なった一面上に形成されたフォトニッククリスタル層３６０を光熱変換層３７１から剥離させる。図３Ｂに図示されたように、剥離されたフォトクリスタル層３６０及び屈折率層３５０は隣接した基板３１０上に積層された積層部としての画素領域一面、すなわちパッシベーション層３４４の一面に密着転写され、フォトニッククリスタル層３６０と基板３１０上の積層部の一面、すなわちパッシベーション層３４４間にはいかなる空間層も形成されない。また、例えばパッシベーション層３４４がＳｉＯ２、ＳｉＮｘなどの無機物からなる場合にパッシベーション層３４４との接着力を向上保持するために、屈折率層３５０を有機物で形成することが望ましく、このときフォトニッククリスタル層３６０も無機物より形成されることがさらに望ましい。
【００８１】
図３Ａ及び図３Ｂに図示された有機電界発光ディスプレイ装置は一実施例を図示したものであり、基板３１０に積層された積層部の一面は多様な層になりうる。すなわち、図３Ｃに図示されたように、フォトニッククリスタル層３６０の一面上には屈折率層が備わらずに、フォトニッククリスタル層３６０の少なくとも一部分が直接パッシベーション層３４４に密着配置されることもあるので、突起部３６１によって形成された凹溝部３６２は真空状態に保持されるか、事前設定された気体が充填されるか、またはフォトニッククリスタル層３６０を構成する物質の屈折率と異なる屈折率を有する物質で充填されもする（図３Ｄ参照）。また、図示されていないが、フォトニッククリスタル層３６０の少なくとも一部分が直接パッシベーション層３４４に密着配置されるフォトニッククリスタル層は複数の貫通孔が形成されたドット型フォトニッククリスタル層でもありうるが、貫通孔は真空状態に保持されるか、事前設定された気体が充填されるかまたはフォトニッククリスタル層３６０を構成する物質の屈折率と異なる屈折率を有する物質で充填されもする。
【００８２】
前記の本発明に基づいて、本発明によるさらに他の一実施例が図４に図示されている。基板４１０の上部に第１電極層４２１が配設されており、その上には正孔注入層４２２、正孔輸送層４２３、Ｒ，Ｇ，Ｂの発光層４２５ａ，４２５ｂ，４２５ｃ及び電子輸送層４２４を備える有機電界発光部と、第２電極層４２６とが配設される。その上に、パッシベーション層４３０が有機電界発光部を保護するために形成されることもある。そして、その上部にはパッシベーション層４３０と密着配置されたフォトニッククリスタル層４５０ａ，４５０ｂ，４５０ｃが形成されるが、フォトニッククリスタル層４５０とパッシベーション層４３０間には屈折率層４４０が形成されることもある。Ｒ，Ｇ，Ｂの発光層４２５ａ，ｂ，ｃから発光される光の波長が色合い別に異なるために、さらに効果的な回折効果を導き出すためには個々の光の波長に対する個別的なフォトニッククリスタル層４５０ａ，ｂ，ｃを備えることが望ましい。従って、パッシベーション層４３０の上部に形成されたフォトニッククリスタル層４５０ａ，ｂ，ｃは発光層４２５ａ，ｂ，ｃの種類、すなわちＲ，Ｇ，Ｂそれぞれの色合いより構成される副画素グループによって個別的にパターン化されることもある。Ｒ色に該当する副画素グループ、Ｇ色に該当する副画素グループ、そしてＢ色に該当する副画素グループ別にそれぞれパターン化されることもある。また、個々の副画素グループに対するフォトニッククリスタル層４５０ａ，ｂ，ｃ（更には、該尾フォトニッククリスタル層４５０ａ，ｂ，ｃに対する各屈折率層）は、他の副画素グループのフォトニッククリスタル層（更には、他の副画素グループのフォトニッククリスタル層に対する屈折率層）の形状、すなわち寸法と異なる寸法を有することもあり、同一グループ内のいずれか一つ以上の副画素に対するフォトニッククリスタル層（更には、該フォトニッククリスタル層に対する屈折率層）は、他の一つ以上の副画素に対するフォトニッククリスタル層（更には、該フォトニッククリスタル層に対する屈折率層）と異なる形状及び寸法を有することもある。
【００８３】
一方、前記のように、図２Ａないし図４を参照すれば、本発明による光熱変換層を備える熱転写用ドナーフィルムはフォトニッククリスタル層をさらに備え、フォトニッククリスタル層は複数個の突起部を備えることもあり、複数個の貫通孔が形成されることもあり、フォトニッククリスタル層の光熱変換層を遠ざける一面上（フォトニッククリスタル層の光熱変換層と対向する面と反対側の一面上；即ち、フォトニッククリスタル層の光熱変換層から離れた一面上）にはフォトニッククリスタル層を構成する物質の屈折率と異なる屈折率を有する物質からなる屈折率層をさらに備えることもある。また、熱転写用ドナーフィルムに形成されたフォトニッククリスタル層は複数個のグループで形成でき、それぞれのグループのフォトニッククリスタル層の寸法は他のグループのフォトニッククリスタル層の寸法と異なりうる。
【００８４】
前記の実施例は、ＰＭまたはＡＭ有機電界発光ディスプレイ装置について記述されたが、これは説明のためのものであって本発明はいずれか１類型に限定されることはない。
本発明は図面に図示された一実施例を参考に記述されたが、これは例示的なものに過ぎず、本技術分野で当業者ならば、これから多様な変形及び均等な他の実施例が可能であるという点が理解されるであろう。従って、本発明の保護範囲は特許請求範囲の技術的思想により決まるものである。
【産業上の利用可能性】
【００８５】
本発明の有機電界発光ディスプレイ装置及びこの製造に使われる熱転写用ドナーフィルムは、例えばフラットパネルディスプレイ（ＦＰＤ）に効果的に適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８６】
【図１】フォトクリスタル層を備える有機電界発光ディスプレイ装置の部分断面図である。
【図２Ａ】図２Ａは本発明の一実施例によるフォトクリスタル層を備える有機電界発光ディスプレイ装置の部分断面図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは本発明の一実施例によるフォトクリスタル層を備える有機電界発光ディスプレイ装置の部分断面図である。
【図２Ｃ】図２Ｃは本発明の一実施例によるフォトクリスタル層を備える有機電界発光ディスプレイ装置の部分断面図である。
【図２Ｄ】図２Ｄは本発明の一実施例によるフォトクリスタル層を備える有機電界発光ディスプレイ装置の部分断面図である。
【図３Ａ】図３Ａは本発明の一実施例によるフォトクリスタル層を備える有機電界発光ディスプレイ装置の部分断面図である。
【図３Ｂ】図３Ｂは本発明の一実施例によるフォトクリスタル層を備える有機電界発光ディスプレイ装置の部分断面図である。
【図３Ｃ】図３Ｃは本発明の他の一実施例によるフォトクリスタル層を備える有機電界発光ディスプレイ装置の部分断面図である。
【図３Ｄ】図３Ｄは本発明の他の一実施例によるフォトクリスタル層を備える有機電界発光ディスプレイ装置の部分断面図である。
【図４】本発明のさらに他の一実施例によるＲ、Ｇ、Ｂ副画素別にパターン化されたフォトニッククリスタル層を備える有機電界発光ディスプレイ装置の部分断面図である。
【符号の説明】
【００８７】
１    有機電界発光表示装置、
１０    封止用基板、
２１、２２    電極層、
３０    有機発光層、
４０    空間層、
４１    フォトニッククリスタル層、
２１０    基板、
２３０    第１電極層、
２４０    有機電界発光部、
２５０    第２電極層、
２６０    フォトニッククリスタル層、
２６０’    フォトニッククリスタル層、
２６１    突起部、
２６２    凹溝部、
２６２’    貫通孔、
３００    能動駆動型（ＡＭ）有機電界発光ディスプレイ装置、
３１０    基板、
３１１    バッファ層、
３２１    ｐ型またはｎ型半導体層、
３２２    ゲート絶縁層、
３２３    ゲート電極層、
３２４    第１絶縁層、
３２５    ドレーン電極、
３２５ａ    コンタクトホール、
３２６    ソース電極、
３２７    キャパシタ、
３２７ａ    第１補助電極、
３２７ｂ    第２補助電極、
３２８    第２絶縁層、
３３１    第１電極層、
３３１ａ    導電性連結部、
３４２    有機電界発光部、
３４３    第２電極層、
３４４    パッシベーション層、
３５０    屈折率層、
３５１    突出部、
３６０    フォトニッククリスタル層、
３６１    突起部、
３６２    凹溝部、
３７１    光熱変換層、
３７２    転写用ベース基板、
４１０    基板、
４２１    第１電極層、
４２２    正孔注入層、
４２３    正孔輸送層、
４２４    電子輸送層、
４２５ａ    Ｒ（レッド；赤色）の発光層、
４２５ｂ    Ｇ（グリーン；緑色）の発光層、
４２５ｃ    Ｂ（ブルー；青色）の発光層、
４２６    第２電極層、
４３０    パッシベーション層、
４４０    屈折率層、
４５０ａ、４５０ｂ、４５０ｃ    フォトニッククリスタル層。
【図１】
2005166635.tif 000004
【図２Ａ】
2005166635.tif 000005
【図２Ｂ】
2005166635.tif 000006
【図２Ｃ】
2005166635.tif 000007
【図２Ｄ】
2005166635.tif 000008
【図３Ａ】
2005166635.tif 000009
【図３Ｂ】
2005166635.tif 000010
【図３Ｃ】
2005166635.tif 000011
【図３Ｄ】
2005166635.tif 000012
【図４】
2005166635.tif 000013