(57)【要約】【課題】  装置のスループット低下を抑止しかつ処理対象物の異物による汚染を防止する。【解決手段】  処理対象物Ｘを把持あるいは支持するハンド部５１を有しかつ上記処理対象物Ｘを所定のクリーン度を保った処理室２内で処理する処理装置であって、上記ハンド部５１に付着した異物を除去する除去室３及び除去手段を有する。【選択図】          図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理対象物を把持あるいは支持するハンド部を有しかつ前記処理対象物を所定のクリーン度を保った処理室内で処理する処理装置であって、
前記ハンド部に付着した異物を除去する除去室及び除去手段を有することを特徴とする処理装置。
【請求項２】
前記除去室の室圧は、前記処理室の室圧に対して低いことを特徴とする請求項１記載の処理装置。
【請求項３】
前記除去手段は、前記ハンド部を洗浄することによって前記異物を除去するための薬液を有することを特徴とする請求項１または２記載の処理装置。
【請求項４】
前記薬液は、オゾン水であることを特徴とする請求項３記載の処理装置。
【請求項５】
前記除去手段は、前記薬液を前記ハンド部に対して噴出する噴出装置を有することを特徴とする請求項３または４記載の処理装置。
【請求項６】
前記除去手段は、前記噴出装置から噴出された薬液を、フィルタを介して前記噴出装置に再度供給する供給装置を有することを特徴とする請求項５記載の処理装置。
【請求項７】
前記薬液が揮発することによって生成された薬液ガスを分解することによって無害化する分解装置を有することを特徴とする請求項３〜６いずれかに記載の処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理対象物を所定のクリーン度を保った処理室内で処理する処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、処理対象物の汚染を防止するために、所定のクリーン度に保たれた処理室内において、様々な処理対象物に対して所定の処理が施されている。このような処理においては、人間にとって好ましくない環境であったり、処理作業の効率化させるために、人間に代わり機械が作業する場合がある。このような場合には、処理室内に単一あるいは複数の機械を配置し、この機械によって、処理対象物に対して搬送、観察、混合等の所定の処理が施される。
そして、このような処理室及び機械を有する処理装置においては、一般的に、処理室の上方からフィルタを介することによって清浄された空気を処理室の下方に向けて流すことによって、処理室内のクリーン度を保っている。
【０００３】
また、このような処理装置においては、処理室内において発生する異物を除去するための配慮がなされている。例えば、特開平９−３１４４９１号公報には、ハンド部に対して特殊なメッキをすることによって、ハンド部自体から粉塵等が発生することを抑制する技術が開示されている。
【特許文献１】特開平９−３１４４９１号公報
【特許文献２】特開平１１−２０８１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、例えば、処理対象物に異物が付着しており、この処理対象物を処理することによってハンド部に異物が付着する場合、すなわち、ハンド部に外部から異物が付着した場合には、上述のようにハンド部にメッキを施していても対応することができず、次の処理対象物に異物が付着してしまうことが想定される。近年は、異なる人間の細胞を培養する再生医療の分野で処理装置を用いることが検討されており、このような場合では、例えば、ある人間の細胞がウイルスに汚染されているような場合には、異なる人間の細胞がウイルスに汚染されることが懸念される。
【０００５】
このような問題に対して、処理室内を定期的に滅菌ガスによって滅菌処理するという提案がなされているが、そのためには、処理室全体を滅菌ガスによって滅菌処理する必要があり、例えば、１つ処理対象物を処理する度に滅菌処理を行う必要がある場合には、処理装置のスループットが低下するという問題が生じる。
【０００６】
本発明は、上述する問題点に鑑みてなされたもので、装置のスループット低下を抑止しかつ処理対象物の異物による汚染を防止することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明では、第１の手段として、処理対象物を把持あるいは支持するハンド部を有しかつ上記処理対象物を所定のクリーン度を保った処理室内で処理する処理装置であって、上記ハンド部に付着した異物を除去する除去室及び除去手段を有するという構成を採用する。
【０００８】
第２の手段として、上記第１の手段において、上記除去室の室圧は、上記処理室の室圧に対して低いという構成を採用する。
【０００９】
第３の手段として、上記第１または第２の手段において、上記除去手段は、上記ハンド部を洗浄することによって上記異物を除去するための薬液を有するという構成を採用する。
【００１０】
第４の手段として、上記第３の手段において、上記薬液は、オゾン水であるという構成を採用する。
【００１１】
第５の手段として、上記第３または第４の手段において、上記除去手段は、上記薬液を上記ハンド部に対して噴出する噴出装置を有するという構成を採用する。
【００１２】
第６の手段として、上記第５の手段において、上記除去手段は、上記噴出装置から噴出された薬液を、フィルタを介して上記噴出装置に再度供給する供給装置を有するという構成を採用する。
【００１３】
第７の手段として、上記第３〜第６いずれかの手段において、上記薬液が揮発することによって生成された薬液ガスを分解することによって無害化する分解装置を有するという構成を採用する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明に係る処理装置によれば、ハンド部に付着した異物を除去する除去室及び除去手段を有するため、処理室全体の異物の除去工程を有する必要なく、ハンド部のみに対する異物の除去工程だけで、ハンド部に付着する異物の除去を行うことができる。したがって、装置のスループット低下を抑止しかつ処理対象物の異物による汚染を防止することが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１５】
以下、図面を参照して、本発明に係る処理装置の一実施形態について説明する。なお、以下の図面において、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。
【００１６】
（第１実施形態）
図１は、本第１実施形態に係る処理装置１の概略構成図であり、（ａ）が側面図、（ｂ）が平面図である。
本第１実施形態に係る処理装置１は、処理対象物Ｘを搬送（処理）するための装置であり、図１（ａ），（ｂ）に示すように、搬送室２（処理室）内において処理対象物Ｘを支持しながら搬送するハンド部５１を有している。そして、このハンド部５１は、搬送室２内に配置された機構部５２によって操作される。機構部５２は、ハンド部５１全体を図１（ａ）における紙面左右上下方向に移動自在に操作すると共に、ハンド部５１の先端を上下方向に移動自在に操作するものである。
【００１７】
また、本実施形態に係る処理装置１は、搬送室２内に、ハンド部５１に付着した異物を除去するための除去室３が配置されている。図２は、除去室３の概略構成を示しており、図１（ｂ）におけるＡ方向から見た側断面図である。
【００１８】
この図に示すように、除去室３内には薬液であるオゾン水Ｙ（除去手段）が貯留されており、除去室３の壁部３１には、ハンド部５１を除去室３に出入れするための開口部３２が形成されている。なお、ここで言うオゾン水とは、オゾンが溶かし込まれた水である。
また、除去室３の上部には、オゾン水Ｙが揮発することによって発生する気化ガス（薬液ガス）を分解することによって外環境に対して無害化する分解装置４と、当該分解装置によって生成された気化ガスを外部に排気するための排気ファン５が設置されている。そして、当該排気ファン５によって、除去室３の室圧は、搬送室２の室圧に対して低く設定されている。
【００１９】
図１に戻り、搬送室２の上部には、空気清浄機能を有するＨＥＰＡフィルタ６が配置されており、このＨＥＰＡフィルタ６を介して空気が搬送室２内に流入される。また、配管８１は、その一方の端部が搬送室２の上部と接続されており、他方の端部が搬送室３の下部と接続されている。そして、配管８１の途中部位には、搬送室２にＨＥＰＡフィルタ６を介して空気を圧入するブロワ９１が配置されている。この配管８１の途中部位には、配管８３が連結されており、この配管８３の途中部位に配置されたブロワ９３によって、外部から空気が配管８３を介して配管８１に流入される。そして、配管８３におけるブロワ９３の後段には、逆止弁２０が配置されている。また、搬送室２の下部には、配管８５が接続されており、この配管８５を介して搬送室２内の空気の一部が外部に排気される。
【００２０】
次に、このように構成された本第１実施形態に係る処理装置１の動作について説明する。
【００２１】
まず、処理装置１の通常稼動時には、機構部５２によって、ハンド部５１が操作され、このハンド部５１が処理対象物Ｘを支持しながら搬送する。この状態においては、ブロワ９３によって、所定量の空気が外部から配管８３を介して配管８１に供給される。そして、配管８１に供給された空気は、ブロワ９１によって、配管８１内を流され、ＨＥＰＡフィルタ６を介することによって清浄されて搬送室２内に流入する。この搬送室２内に流入した空気は、その一部が配管８５を介して外部に排気されると共に、残りが搬送室２の下部から配管８１に流入し、再びＨＥＰＡフィルタ６を介して搬送室２内に流入される。
【００２２】
ここで、処理装置１の通常稼動時においても、除去室３の排気ファン５は稼動されており、除去室３の室圧は、搬送室２の室圧よりも低く設定されている。このため、処理装置１の通常稼動時において、揮発したオゾン水Ｙは、搬送室２内に流入することがない。そして、揮発したオゾン水Ｙである気化ガスは、分解装置４によって分解されることによって無害化された後、排気ファン５によって不図示の配管を介して搬送室２の外部に排気される。
【００２３】
次に、処理装置１においてハンド部５１に付着した異物を除去する場合には、ハンド部５１が処理対象物Ｘを支持していない状態で機構部５２によって操作され、除去室３の壁部３１に形成された開口部３２を介して除去室３の内部に挿入される。この状態において、機構部５２は、ハンド部５２の先端部が下方に移動するように操作することで、図３に示すように、ハンド部５２の先端部をオゾン水Ｙ中に浸漬する。
【００２４】
このように、ハンド部５２の先端がオゾン水Ｙ中に浸漬されることによって、ハンド部５２の先端に付着した異物が、オゾン水Ｙの強い酸化力によって除去される。その後、機構部５２がハンド部５１を操作し、ハンド部５１を除去室３の外部に搬出する。そして、再び、機構部５２がハンド部５１を操作し、処理装置１の通常稼動が再開される。
【００２５】
このような本第１実施形態に係る処理装置１によれば、処理装置全体を滅菌ガス等による滅菌処理する必要なく、ハンド部５１に付着した異物を除去することができる。このため、装置のスループット低下を抑止することができる。また、例えば、再生医療の分野で、異なる人間の細胞を処理対象物として用いる場合であっても、ハンド部５１に付着する異物を異なる人間の細胞を扱う度に除去することができるため、処理対象物Ｘの異物による汚染を防止することが可能となる。
【００２６】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る処理装置について、図４を参照して説明する。なお、本第２実施形態に係る処理装置の説明において、上記第１実施形態に係る処理装置１と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。
【００２７】
図４は、本第２実施形態に係る処理装置が有する除去室７の模式図である。この図に示すように、本第２実施形態に係る処理装置が有する除去室７の上部及び下部には、オゾン水Ｙを噴出するための噴出ノズル１０が複数配列されている。そして、除去室７の外部には、この噴出ノズル１０にオゾン水Ｙを供給するためのオゾン水供給装置１１が配置されており、このオゾン水供給装置１１と各噴出ノズル１０とは、配管８６によって接続されている。なお、本発明における噴出装置は、本第２実施形態において、オゾン水供給装置１及び噴出ノズル１０を備えて構成されている。
【００２８】
このような本第２実施形態に係る処理装置においても、オゾン水Ｙが噴出ノズル１０を介してハンド部５１に吹付けられることによって、ハンド部５１に付着した異物が除去されるため、上記第１実施形態において示した処理装置１と同様の効果を奏することができる。
【００２９】
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態に係る処理装置について、図５を参照して説明する。なお、本第３実施形態に係る処理装置の説明において、上記第２実施形態と同様の部分については、その説明を省略あるいは簡略化する。
【００３０】
図５は、本第３実施形態に係る処理装置が有する除去室８の模式図である。この図に示すように、本第３実施形態に係る処理装置が有する除去室８の下部には、噴出ノズル１０から噴出された後、除去室８内に溜まったオゾン水Ｙをフィルタ１２を介してオゾン水供給装置１１に再び供給するためのポンプ１３（供給装置）が接続されている。
【００３１】
このような本第３実施形態に係る処理装置においても、上記第１及び第２実施形態と同様の効果を奏すると共に、オゾン水Ｙを再利用することが可能となる。
【００３２】
以上、添付図面を参照しながら本発明に係る処理装置の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されないことは言うまでもない。上述した実施形態において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。
【００３３】
例えば、上記実施形態において、ハンド部５１は、処理対象物Ｘを支持するためのものであるとした。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、ハンド部５１が処理対象物Ｘを把持するアームを有するものであっても良い。
【００３４】
また、上記実施形態において、処理装置は処理対象物Ｘを搬送するための装置として説明した。しかしながら、これに限定されるものではなく、本発明の処理装置は、例えば、処理対象物Ｘを観察（処理）したり、処理対象物Ｘ同士を混合（処理）したりするための装置であっても良い。なお、この場合には、搬送室２の代わりに、例えば、観察室や混合室が配置されることとなる。
【００３５】
また、上記実施形態において、ハンド部５１に付着した異物をオゾン水Ｙによって除去した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、異物がウイルス等である場合には、ＵＶ、レーザ、電子線等を用いてハンド部５１に付着した異物を除去しても良い。なお、これらＵＶ、レーザ、電子線等を用いる場合には、ハンド部５１全体にＵＶ、レーザ、電子線等が照射されるような構成とすることが好ましい。また、加熱による殺菌や、水を介してハンド部５１に高電界を印加することによる殺菌等を用いても良い。
【００３６】
また、上記第１実施形態において、ハンド部５１をオゾン水Ｙに浸漬することのみによって、ハンド部５１に付着した異物を除去した。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば、オゾン水Ｙに超音波を与えたり、オゾン水Ｙに流れを持たせたり、またはオゾン水Ｙに気泡を発生させたりすることによって、効率的にハンド部５１に付着した異物を除去するようにしても良い。
【００３７】
また、オゾン水Ｙによってハンド部５１に付着した異物を除去している最中に、オゾン水ＹにＵＶを照射して、オゾン水Ｙの酸化力を強化させても良い。
【００３８】
また、除去室に乾燥機能を与え、オゾン水Ｙによって異物が除去されたハンド部５１を乾燥させても良い。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】本発明の第１実施形態に係る処理装置１の概略構成図である。
【図２】除去室３の概略構成図である。
【図３】本発明の第１実施形態に係る処理装置１の動作を説明するための図である。
【図４】本発明の第２実施形態に係る処理装置の除去室７の模式図である。
【図５】本発明の第３実施形態に係る処理装置の除去室８の模式図である。
【符号の説明】
【００４０】
１……処理装置
２……搬送室（処理室）
３……除去室
４……分解装置
５……排気ファン
５１……ハンド部
５２……機構部
１０……噴出ノズル
Ｘ……処理対象物
Ｙ……オゾン水（薬液）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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