(57)【要約】【課題】      エッチング装置において、均一なエッチングを行うようにする。【解決手段】  搬送方向と直交する向きを有し該搬送方向に沿って等間隔で配設された各ローラー支持軸２０（例えば２０ｂ）に取り付けられた各搬送ローラー２６の上記搬送方向と直交する向きにおける位置に対して、そのローラー支持軸２０の搬送方向側に隣接するローラー支持軸２０（例えば２０ａ）の各搬送ローラー２６の上記搬送方向と直交する向きにおける位置よりも予め設定した向き（例えば矢印ａに示す向き）に予め設定した量Ｘずれるようにする。【選択図】      図１
2005036299.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のローラー支持軸及びそのローラー支持軸の数に対して所定の割合で均等に割り当てられたローラー支持軸非取付部が一定の間隔で搬送方向に沿って配設され、
上記各ローラ支持軸に、複数の搬送ローラーが一定のピッチで取り付けられ、
上記各ローラ支持軸非取付部下に、エッチング液を上向きに噴出するエッチング液噴出部が配置されたエッチング装置であって、
上記各ローラー支持軸の各搬送ローラーの上記搬送方向と直交する向きにおける位置が、その搬送方向側に隣接するローラー支持軸の各搬送ローラーの上記搬送方向と直交する向きにおける位置よりも予め設定した向きに予め設定した量ずれるようにされてなる
ことを特徴とするエッチング装置。
【請求項２】
上記予め設定したずれ量がそのローラーの厚さである
ことを特徴とする請求項１記載のエッチング装置。
【請求項３】
上記各ローラー支持軸取付可能部には、噴出エッチング液が断面形状が略長方形乃至略長蛇円形になるように噴出する複数のエッチング液噴出部が、その略長方形が搬送方向と交差する向きで、且つ被エッチング面上におけるエッチング液被噴出領域が搬送方向に沿って視て互いに重ならず且つ離間しないように、配設されている
ことを特徴とする請求項１又は２記載のエッチング装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、エッチング装置、例えば、金属箔、金属板の一方の表面を選択的に形成した例えばフォトレジスト膜等をマスクとしてエッチングすることにより金属バンプを形成するためのエッチング装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
本願出願人会社は、金属箔、例えば銅箔の一方の表面に形成した金属バンプ、例えば銅バンプを層間接続手段として用い、その金属箔、例えば銅箔の金属バンプ、例えば銅バンプ形成面に層間絶縁膜を該金属バンプによって貫通されるように形成し、その層間絶縁膜の表面に別の金属箔、例えば銅箔を形成し、上記層間絶縁膜の両面の上記金属箔、例えば銅箔を選択的にエッチングすることにより配線膜を形成する配線基板製造技術を開発し、それについて、更にはそれをより発展させた技術について、例えば、特願平１１−２８９２７７号、特願２０００−１４２６５８号等により各種提案を行った。
【０００３】
図３（Ａ）〜（Ｅ）はそのような金属バンプ、例えば銅バンプを層間接続手段として用いた配線基板の製造方法の一例を工程順に示す断面図である。
（Ａ）先ず、三層構造の金属板１００を用意する。該金属板１００は厚さが略１３μｍの第１の銅箔１０２と、厚さが３０〜１６０μｍの第２の銅箔１０４を、エッチングバリアとなる厚さが０．１〜２μｍのニッケル箔１０６を介して積層したものである。
そして、第２の銅箔１０４の表面にバンプ形成用エッチングマスクとなるレジスト膜１０８を選択的に形成する。図３（Ａ）はそのレジスト膜１０８形成後の状態を示す。
【０００４】
（Ｂ）次に、図３（Ｂ）に示すように、上記レジスト膜１０８をマスクとして上記第２の銅箔１０４をエッチングすることにより銅からなる層間接続用のバンプ１１０を形成する。このエッチングにおいて上記ニッケル箔１０６はエッチングバリアとなり、第１の銅箔１０２がエッチングされるのを阻む。
（Ｃ）次に、上記レジスト膜１０８を除去し、その後、上記バンプ１１０をマスクとしてニッケル箔１０６をエッチングする。図３（Ｃ）はそのエッチング除去後の状態を示す。
【０００５】
（Ｄ）次に、図３（Ｄ）に示すように、層間絶縁膜となる絶縁シート１１２及び略シート１１２を上記金属板１００のバンプ１１０形成側の面に臨ませる。絶縁シート１１２は例えばポリイミド、液晶ポリマー、或いはＢＣＢフィルム等からなる。
保護シート１１４は配線基板の一部を成すものではなく、次の加圧、加熱による積層工程において金属板１００の表面を保護するために形成されるもので、その積層工程が終わると除去される。
【０００６】
（Ｅ）次に、図示しないクッション材を介して上記絶縁シート１１２及び保護シート１１４を上記金属板１００のバンプ１１０形成側の面に表面に加圧、加熱により積層する。図３（Ｅ）はその積層後の状態を示す。
（Ｆ）次に、上記金属板１００の上記絶縁シート１１２及び保護シート１１４が形成された表面を上記バンプ１１０の表面が露出するまで研磨する。図３（Ｆ）はその研磨後の状態を示す。
【０００７】
（Ｇ）次に、上記保護シート１１４を剥離し、しかる後、図３（Ｇ）に示すように、絶縁シート１１２が積層されバンプ１１０頂面が露出する表面に、第３の銅箔（厚さ数μｍ〜数十μｍ）１１６が臨まされる。
そして、その銅箔１１６がプレスにより積層される。
尚、その後、上記第１の銅箔１０２及び第３の銅箔１１６は選択的エッチングによりパターニングされて配線膜となり、その配線膜間が上記バンプ１１０によって層間接続されるのである。
【０００８】
この図３に示した配線基板製造技術においてエッチング工程（Ｂ）は不可欠である。
ところで、そのエッチングについては種々の試みが成された。その一つは、シート状の被エッチング体である三層構造の金属板１００を多数の搬送ローラーにより上向きで一定方向に搬送することとし、その金属板１００の搬送経路の上側に、下向きにエッチング液を噴出する首振機構付きノズルを複数個配置し、その首振機構により首振り運動しながらエッチング液を噴出するノズルにより、被搬送金属板１００の上側の面にエッチング液を吹き付けるというものである。
【０００９】
しかしながら、このようなエッチング方法によれば、先ず、金属板１００の上面に吹き付けられたエッチング液の逃げが悪く、良好なエッチングができない、という重大な欠点がある。また、首振りされるノズルから噴出される液が一定速度で搬送される金属板１００表面上を走査することになり、その走査により描く軌跡がサイン波（Ｓｉｎ波：正弦波）状になり、エッチングムラが生じるという欠点もあった。
【００１０】
そこで、図４（Ａ）〜（Ｃ）に示すようなエッチング装置が用いられた。図４（Ａ）はエッチング装置の要部を示す斜視図、（Ｂ）は要部を示す平面図、（Ｃ）は要部を示す断面図である。図において、２０は搬送方向と直交する方向に設けられたローラー支持軸で、両端部が図面に現れない部分にて回転可能に支持され、図面に現れない回転機構により一定の回転数で回転させられるようになっている。図面ではローラー支持軸２０が４本しか記載されていないが、数十乃至数千個程度一定間隔で配置されている。但し、一定数、例えば１０或いは数十に１個程度の割合でローラー支持軸２０が取り去られており、２２はその取り去られた部分、即ちローラ支持軸非取付部であり、その部分２２下にノズル２４が配置されている。
【００１１】
このように、ローラ支持軸非取付部２２を設けることは、複数、例えば数十乃至数千個程度のローラー支持軸取付可能部を一定の間隔で搬送方向に沿って配設し、上記複数のローラー支持軸取付可能部を一定数置きにローラ支持軸非取付部とし、上記ローラ支持軸非取付部以外の各ローラー支持軸取付可能部にローラー支持軸２０を設けることにより為し得る。各ローラ支持軸２０には、複数、例えば１０乃至数１０個（図面では３〜４個程度しか記載されていない。）の搬送ローラー２６が等間隔で固定されている。
【００１２】
そして、一つのローラー支持軸２０の各搬送ローラー２６の支持軸２０上の位置と、そのローラー支持軸２０に隣接するローラー支持軸２０の各搬送ローラー２６の支持軸２０上の位置とは、その搬送ローラー２６の配置ピッチの略２分の１ずれるようにされている。
【００１３】
このような図４に示すエッチング装置においては、搬送ローラー２６上に被エッチング体である金属板１００を被エッチング面を下向きにして置くと、その金属板が搬送方向ａに沿って搬送される。そして、搬送される過程で、搬送経路の下側において上向きに置かれたノズル２４からエッチング液が上記金属板１００の被エッチング面に噴出され、エッチングされる。エッチング液がエッチングを終えると落下するので、エッチング液だまりが被エッチング面上に生じる虞がない。
【００１４】
また、ノズル２４を首振りするわけではないので、ノズル２４からのエッチング液被噴出領域が金属板１００の被エッチング面上を走査するということがない。従って、走査により描く軌跡がサイン波（Ｓｉｎ波：正弦波）状になり、エッチングムラが生じるという上述した欠点を克服することが可能となった。
その点では図４に示したエッチング装置は優れていると言える。
【特許文献１】特開２００１−３２６４５９号公報
【特許文献２】特開２００２−０４３５０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
ところが、図４に示す従来のエッチング装置には、次のような課題があった。
図４（Ｃ）に示すように、搬送ローラー２６ａ、２６ｂと、被エッチング体である金属板１００の被エッチング面に近い部分との間に影２８ａ、２８ｂが生じ、その部分にエッチング液が当たりにくくなる。これがエッチングムラが生じる一つの大きな原因になり、しかも、そのエッチングムラは、多数の搬送ローラー２６により搬送される各金属板１００の被エッチング面上の幅方向（搬送方向と直交する方向）における同じ位置に生じるので、搬送方向に延びるエッチングムラが生じた。
【００１６】
このようなエッチングムラは無視できないエッチングの不均一の原因となるおそれがあったので問題となっていた。具体的には、６００ｍｍ（長さ）×４００ｍｍ（幅）の大きさのシート状金属板１００にバンプ径が１００μｍのバンプを形成するエッチングをする場合を例に採ると、そのバンプ径に１００±３０〜５０μｍ程度のバラツキが生じた。
【００１７】
本発明は、このような問題を解決するために為されたもので、エッチングムラの発生するおそれのないエッチング装置を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
請求項１のエッチング装置は、複数のローラー支持軸及びそのローラー支持軸の数に対して所定の割合で均等に割り当てられたローラー支持軸非取付部が一定の間隔で搬送方向に沿って配設され、上記各ローラ支持軸に、複数の搬送ローラーが一定のピッチで取り付けられ、上記各ローラ支持軸非取付部下に、エッチング液を上向きに噴出するエッチング液噴出部が配置されたエッチング装置であって、上記各ローラー支持軸の各搬送ローラーの上記搬送方向と直交する向きにおける位置が、その搬送方向側に隣接するローラー支持軸の各搬送ローラーの上記搬送方向と直交する向きにおける位置よりも予め設定した向きに予め設定した量ずれるようにされてなることを特徴とする。
【００１９】
請求項２のエッチング装置は、請求項１記載のエッチング装置において、上記予め設定したずれ量が上記搬送ローラーの厚さであることを特徴とする。
請求項３のエッチング装置は、請求項１又は２記載のエッチング装置において、上記各ローラー支持軸取付可能部には、噴出エッチング液が断面形状が略長方形乃至略長楕円形になるように噴出する複数のエッチング液噴出部が、その略長方形乃至略楕円形の向きが搬送方向と交差し、且つエッチング液被噴出領域が搬送方向に沿って視て互いに重ならず且つ離間しないように、配設されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
請求項１のエッチング装置によれば、各ローラー支持軸の各搬送ローラーの上記搬送方向と直交する向きにおける位置が、その搬送方向側に隣接するローラー支持軸の各ローラーの上記搬送方向と直交する向きにおける位置よりも予め設定した向きに予め設定した量ずれるようにされているので、各エッチング液噴出部により被エッチング面上へ噴出されるエッチング液の各搬送ローラによる影響を均一化することができる。
依って、従来におけるように、多数の搬送ローラーにより搬送される各被エッチング体の被エッチング面上の幅方向（搬送方向と直交する方向）における同じ位置にエッチングムラが生じて、搬送方向に延びるエッチングムラが生じる虞がなくなる。尚、上記予め設定したずれ量をそのローラーの厚さと等しくするという態様があり得る（請求項２）。
【００２１】
請求項３のエッチング装置によれば、各ローラー支持軸取付可能部には、噴出エッチング液が断面形状が略長方形乃至略長楕円形になるように噴出する複数のエッチング液噴出部が、その略長方形乃至長楕円形の向きが搬送方向と交差し、且つ被エッチング面上におけるエッチング液被噴出領域が搬送方向に沿って視て互いに重ならず且つ離間しないように、配設されているので、搬送される被エッチング体の被エッチング面の搬送方向と直交する方向における長さ（幅）において漏れなくエッチングされるようにエッチング液を噴出し、より均一にエッチング液を照射することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明は、基本的に、各ローラー支持軸の各搬送ローラーの上記搬送方向と直交する向きにおける位置が、その搬送方向側に隣接するローラー支持軸の各ローラーの上記搬送方向と直交する向きにおける位置よりも予め設定した向きに予め設定した量ずれるようにするものであり、予め設定したずれ量をそのローラーの厚さと等しくするというのが好適な一つの態様である。尚、一つのローラー支持軸に固定される搬送ローラーの配置ピッチをＬ、ずれ量をＸとすると、Ｌ／Ｘと同数のローラ支持軸を周期に同じずれ方のもの（謂わばブロック）が繰り返し配置された構成になる。
【００２３】
また、上記各ローラー支持軸取付可能部には、噴出エッチング液が断面形状が略長方形乃至略長楕円形になるように（側方から視て扇状に）噴出する複数のエッチング液噴出部が、その略長方形乃至長楕円形が搬送方向と交差し、且つエッチング液被噴出領域が搬送方向に沿って視て互いに重ならず且つ離間しないように、配設するとよい。
【実施例１】
【００２４】
以下、本発明を図示実施例に従って詳細に説明する。図１は、本発明エッチング装置の第１の実施例を示す平面図である。本実施例は、図４に示した従来のエッチング装置とは、各ローラー支持軸２０に取り付けられた複数の搬送ローラー２６の配置位置に関して大きな違いがあるが、それ以外については共通し、共通する部分については既に説明済みであるので、相違する部分について詳細に説明し、共通する部分の詳細な説明は重複するので省略する。また、図１の図４と共通する部分には共通の符号を付した。
【００２５】
ローラー支持軸２０は、例えば数十〜数百程度、或いは更に多い数千個程度在り、各々、搬送方向と直交する向きで一定間隔で搬送方向に沿って配設されているが、そのうち一定数、例えば１０個置きに一つがローラ支持軸非取付部２２とされ、そこにはローラー支持軸２０が設けられず空きにされ、そのローラ支持軸非取付部２２下には、エッチング液噴出部（ノズル）２４が複数個搬送方向と直交する向きに複数配設されている。
【００２６】
そして、各ローラー支持軸２０に固定されている複数の搬送ローラー２６の配置ピッチＬはエッチング装置全体に渡って一定であるが、隣接するローラー支持軸の各搬送ローラーの上記搬送方向と直交する向きにおける位置に関して次のような特徴がある。
それは、一つのローラー支持軸２０、例えば２０ｂに取り付けられた各搬送ローラー２６に対して、そのローラー支持軸２６ｂの搬送方向側に隣接するローラー支持軸２０、例えば２０ａの各搬送ローラー支持軸２６ａに取り付けられた各搬送ローラー２６の搬送方向と直交する向きにおける位置が予め設定した向き、例えば図１における上側に（図１の矢印ａに示す向きに）予め設定した量、例えば搬送ローラー２６の厚みＸだけずれるようにされてなるということである。この特徴はエッチング装置の全体に及んでいる。
【００２７】
従って、ローラー支持軸２０ｃに着目すると、そのローラー支持軸２０ｃに取り付けられた搬送ローラー２６に対して、ローラー支持軸２０ｂの各搬送ローラー２６の上記搬送方向と直交する向きにおける位置が搬送ローラー２６の厚みＸだけ図１の矢印ａに示す向きにずれているのである。
従って、この例では、Ｌ（：搬送ローラー２６のローラー支持軸２０上における配置ピッチ）／Ｘ（：隣接ローラー支持軸２０・２０間の対応搬送ローラー２６・２６相互のずれ量。尚、本例では、Ｘが搬送ローラー２６の厚さと略等しい大きさに設定されている。しかし、絶対にそうしなければならないというわけではない。）の数ローラー支持軸２０を周期として搬送ローラー２６の位置関係が同じになるもの（謂わばＬ／Ｘ個のローラー支持軸２０からなるブロック）が複数個搬送方向に沿って配設されることになる。
【００２８】
従って、このようなエッチング装置によれば、各エッチング液噴出部２４により被エッチング面上へ噴出されるエッチング液の各搬送ローラ２６による影響をその被エッチング面全域において均一化することができる。
依って、従来におけるように、多数の搬送ローラーにより搬送される各被エッチング体の被エッチング面上の幅方向（搬送方向と直交する方向）における同じ位置にエッチングムラが生じて、搬送方向に延びるエッチングムラが生じるという虞がなくなる。
【実施例２】
【００２９】
図２は本発明エッチング装置の第２の実施例の平面図である。
本実施例においては、各ローラー支持軸非取付部２２下の設ける各エッチング液噴出部（ノズル）として、噴出エッチング液が断面形状略長方形に（側方から視て扇状に）なるようにしたもの２４ａを用いた点で第１の実施例と異なっている。しかし、エッチング液噴出部以外の点では、第１の実施例とは異なるところがない。
【００３０】
各エッチング液噴出部２４ａは、それぞれ、側方から視て扇状にエッチング液を噴出し、その噴出エッチング液の断面形状は略長楕円形（或いは略長方形）になる。従って、被エッチング体（例えば金属板１００等）の被エッチング面上におけるエッチング液被噴出領域も当然に長楕円形（或いは略長方形）になり、図２の２５はその被エッチング面上におけるエッチング液被噴出領域を示す。
そして、その長楕円形状（或いは略長方形）の各エッチング液被噴出領域２５が搬送方向に直交する向きに対して適宜の角度（数度〜数十度）傾き、且つ各隣接エッチング液被噴出領域２５・２５が搬送方向に沿って視て互いに重ならず且つ離間しないように、ローラー支持軸非取付部２２下において、各複数のエッチング液噴出部２４ａが配設されているのである。
【００３１】
依って、搬送される被エッチング体の被エッチング面の搬送方向と直交する向きにおける長さ（幅）全域に漏れなくエッチング液を噴出し、被エッチング体の被エッチング面上により均一にエッチング液を照射することができる。
【産業上の利用可能性】
【００３２】
本発明のエッチング装置は、金属箔、金属板の一方の表面を選択的に形成した例えばフォトレジスト膜等をマスクとしてエッチングすることにより金属バンプを形成する［図３（Ｂ）参照］ためのエッチング装置に適するが、利用可能性が必ずしもそれに限定されず、選択的エッチングをするエッチング装置一般に利用可能性がある。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】本発明エッチング装置の第１の実施例の平面図である。
【図２】本発明エッチング装置の第２の実施例の平面図である。
【図３】（Ａ）〜（Ｇ）はエッチング工程を有する配線基板の製造方法（エッチング装置を利用する技術）の一例を工程順に示す断面図である。
【図４】（Ａ）〜（Ｃ）はエッチング装置の一つの従来例の要部を示すもので、（Ａ）はエッチング装置を示す斜視図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は断面図である。
【符号の説明】
【００３４】
２０・・・ローラー支持軸、２２・・・ローラー支持軸非配設部、
２４、２４ａ・・・エッチング液噴出部、２６・・・搬送ローラー、
Ｌ・・・搬送ローラーの配置ピッチ、Ｘ・・・隣接ローラー支持軸の対応搬送ローラーの位置ずれ量（例えば搬送ローラーの幅）。
【図１】
2005036299.tif 000003
【図２】
2005036299.tif 000004
【図３】
2005036299.tif 000005
【図４】
2005036299.tif 000006