(57)【要約】【課題】  光記録媒体の基板の表面状態を十分正確に且つ精度よく分析できる光記録媒体試料の作製方法、光記録媒体試料の分析方法、光記録媒体試料の作製装置及び光記録媒体の製造方法を提供する。【解決手段】  上記課題を解決する光記録媒体試料の作製方法は、基板とその基板の一側に形成された有機色素層とを備える光記録媒体の有機色素層を除去する色素層除去工程と、有機色素層を除去した後の基板の上記一側に支持層を形成することにより中間体試料を得る支持層形成工程と、基板を除去する基板除去工程とを含むものである。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板とその基板の一側に形成された有機色素層と、を備える光記録媒体の前記有機色素層を除去する色素層除去工程と、
前記有機色素層を除去した後の前記基板の前記一側に支持層を形成することにより中間体試料を得る支持層形成工程と、
前記基板を除去する基板除去工程と、
を含むことを特徴とする光記録媒体試料の作製方法。
【請求項２】
前記光記録媒体が、前記基板と前記有機色素層との間に中間層を更に備えることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体試料の作製方法。
【請求項３】
前記光記録媒体が、前記基板と前記有機色素層との間に、光記録媒体に励起光を照射することにより形成された中間層を更に備えることを特徴とする請求項１記載の光記録媒体試料の作製方法。
【請求項４】
前記光記録媒体が、前記有機色素層としてフタロシアニン化合物を含有するものを備えることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の光記録媒体試料の作製方法。
【請求項５】
前記色素除去工程において、前記有機色素層を溶解除去することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の光記録媒体試料の作製方法。
【請求項６】
前記色素除去工程において、クロロホルムを用いて前記有機色素層を溶解除去することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の光記録媒体試料の作製方法。
【請求項７】
前記色素除去工程において、前記基板を溶解せずに前記有機色素層を選択的に溶解可能な液体を用いて前記有機色素層を溶解除去することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光記録媒体試料の作製方法。
【請求項８】
前記色素除去工程において、エタノール及び／又はイソプロピルアルコールを用いて前記有機色素層を溶解除去することを特徴とする請求項７記載の光記録媒体試料の作製方法。
【請求項９】
前記支持層が誘電体材料を含むことを特徴とする請求項１〜８のいずれか一項に記載の光記録媒体試料の作製方法。
【請求項１０】
前記支持層が気相堆積法により形成される層を含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれか一項に記載の光記録媒体試料の作製方法。
【請求項１１】
前記支持層がハードコート層を含むことを特徴とする請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光記録媒体試料の作製方法。
【請求項１２】
前記基板除去工程において、前記基板を溶解除去することを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項に記載の光記録媒体試料の作製方法。
【請求項１３】
前記基板除去工程において、前記基板の前記一側と反対側から前記基板を溶解可能な液体を滴下して前記基板を溶解することを特徴とする請求項１２記載の光記録媒体試料の作製方法。
【請求項１４】
前記基板除去工程において、クロロホルムを用いて前記基板を溶解除去することを特徴とする請求項１２又は１３に記載の光記録媒体試料の作製方法。
【請求項１５】
前記基板除去工程の前に、前記一側と反対側にある前記基板の面を水平方向に対して所定角度傾けた状態で前記中間体試料を配置する中間体試料配置工程を含むことを特徴とする請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の光記録媒体試料の作製方法。
【請求項１６】
前記光記録媒体が、前記基板としてポリカーボネート樹脂を含有するものを備えることを特徴とする請求項１〜１５のいずれか一項に記載の光記録媒体試料の作製方法。
【請求項１７】
ポリカーボネート樹脂を含有する基板と、その基板の一側に形成された、フタロシアニン化合物を含有する有機色素層と、前記基板及び前記有機色素層の間に、光記録媒体に励起光を照射することにより形成された中間層と、を備える光記録媒体の前記有機色素層を、クロロホルム、エタノール及びイソプロピルアルコールからなる群より選ばれる１種以上の溶媒を用いて溶解除去する色素層除去工程と、
前記有機色素層を除去した後の前記基板の前記一側に、誘電体材料を含む支持層を気相堆積法により形成する支持層形成工程と、
前記一側と反対側にある前記基板の面を水平方向に対して所定角度傾けた状態で前記中間体試料を配置する中間体試料配置工程と、
前記基板の前記一側と反対側からクロロホルム水溶液を滴下して前記基板を溶解除去する基板除去工程と、
を含むことを特徴とする光記録媒体試料の作製方法。
【請求項１８】
基板と、その基板の一側に形成された有機色素層と、を備える光記録媒体の前記有機色素層を除去した後に、前記基板の前記一側に支持層を形成し、更に前記基板を除去することにより得られる光記録媒体試料の、前記基板を除去することによって露出された面を分析することを特徴とする光記録媒体試料の分析方法。
【請求項１９】
基板と、その基板の一側に形成された有機色素層と、を備える光記録媒体の前記有機色素層を除去した後に、前記基板の前記一側に支持層を形成することにより得られる中間体試料の前記基板を溶解可能な液体を滴下する滴下部材と、
前記滴下部材から滴下された前記液体が前記基板の前記一側と反対側の表面に接触するように前記光記録媒体を保持する媒体保持部材と、を設けてなることを特徴とする光記録媒体試料の作製装置。
【請求項２０】
前記媒体保持部材が、前記基板の前記表面を水平方向に対して傾けた状態で前記光記録媒体を保持することを特徴とする請求項１９記載の光記録媒体試料の作製装置。
【請求項２１】
基板と、その基板の一側に形成された有機色素層と、を備える光記録媒体の前記有機色素層を除去した後に、前記基板の前記一側に支持層を形成し、更に前記基板を除去することにより得られる光記録媒体試料の、前記基板を除去することによって露出された面を分析する品質管理工程を備えることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【請求項２２】
基板と、その基板の一側に形成された有機色素層と、を備える光記録媒体の前記有機色素層を除去した後に、前記基板の前記一側に支持層を形成し、更に前記基板を除去することにより得られる光記録媒体試料の、前記基板を除去することによって露出された面を分析する品質管理工程を備え、前記品質管理工程の分析結果に基づき光記録媒体の製造条件を調整することを特徴とする光記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光記録媒体試料の作製方法、光記録媒体試料の分析方法、光記録媒体試料の作製装置及び光記録媒体の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＣＤ、ＣＤ−Ｒ、ＣＤ−ＲＷ及びＤＶＤなどの光ディスクを初めとする光記録媒体は、より大容量化されたもしくは書き換え可能な光記録媒体を実現するために、より複雑でより微細な構造を有するものが開発されてきている。具体的には、大容量化された光記録媒体として、いわゆるＢｌｕ−ｒａｙディスクなどが検討されている（非特許文献１〜３参照）。このような光記録媒体は、その構造の複雑さ及び微細さ故に、その製造技術もより高度なものが要求されているので、製品の歩留まりを従来の光記録媒体と同等以上に維持するためには、その品質管理が従来よりも重要な要素となる。
【０００３】
この光記録媒体のうち、通常基板上に有機色素を含有する記録層および反射層等を積層した構造を有する「色素系光記録媒体」は、その基板の積層側の表面形状が光ディスクの特性に影響を与えるため、品質管理において、その表面を十分に正確で且つ優れた精度をもって分析する方法が要求されている。
【０００４】
このような基板の積層側表面の分析方法として知られている方法においては、通常、まず基板上に積層された各層を、最上層から順に粘着テープでの剥離、酸を用いた溶解もしくは減圧下におけるスパッタ粒子等の高速化荷電粒子によるエッチングなどの手段を用いて除去することにより、最終的に基板の積層側表面を露出させる。そして、露出した基板の表面形状を観察したり、層構造を分析したり、もしくは記録マークを測定する。
【非特許文献１】日経エレクトロニクス、日経ＢＰ社、２００３年３月３１日号、第１３５〜１５０頁
【非特許文献２】日経エレクトロニクス、日経ＢＰ社、２００３年５月１２日号、第１１９〜１３３頁
【非特許文献３】日経エレクトロニクス、日経ＢＰ社、２００３年６月９日号、第５７〜６４頁
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、本発明者らは、上記従来の分析方法について詳細に検討したところ、その分析方法を用いると、各層の除去工程を経た後であっても、基板の積層側表面上に、光記録媒体を作製した当初には存在していなかったと考えられる層が残存していることが明らかになった。このように基板表面上に、基板とは異なる層が残存している状態で基板表面の観察等の分析を試みると、例えば基板に形成されたグルーブもしくはランドの状態又は基板の表面粗さを正確に把握することが困難になり、分析精度が低下してしまう。特に、上記基板とは異なる層と密着している基板の表面部分の形状を十分に確認することはできない。
【０００６】
そこで、本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、光記録媒体の基板の表面状態を十分正確に且つ精度よく分析できる光記録媒体試料の作製方法、光記録媒体試料の分析方法、光記録媒体試料の作製装置及び光記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、光記録媒体の基板の積層側表面を直接分析しなくても、その表面状態を把握できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
すなわち、本発明の光記録媒体試料の作製方法は、基板とその基板の一側に形成された有機色素層とを備える光記録媒体の有機色素層を除去する色素層除去工程と、有機色素層を除去した後の基板の上記一側に支持層を形成することにより中間体試料を得る支持層形成工程と、基板を除去する基板除去工程とを含むことを特徴とする。
【０００９】
上述した基板表面に残存している層（以下、「中間層」という。）は、光記録媒体に情報を記録する際にレーザ光線などの励起光を照射することにより生成したものと考えられる。この中間層については、現在のところ、基板との組成の差異を確認することはできるものの、中間層自体が非常に微細な層であるため、その構造、組成、機械的性質、電気的性質、化学的性質などの測定・分析を正確に行うことまではできない。そのため、基板の表面状態を保持したままで、中間層を除去することは現在のところ非常に困難であると考えられる。
【００１０】
しかしながら、本発明の光記録媒体試料の作製方法を用いると、中間層自体を除去する必要はないので、中間層の上記各種物性を把握できなくてもよい。しかも、基板を除去したことにより露出した光記録媒体試料の表面に、基板の表面形状が精度よく且つ正確に転写されているので、得られた光記録媒体試料の表面を分析することにより、基板の表面状態を把握することが可能となる。
【００１１】
特に、光記録媒体にレーザ光線などの励起光を照射することにより情報を記録する際には、このような励起光の照射により得られるピット領域の基板表面に、グルーブ深さ等に比べると微細な凹凸が生成する。本発明によって得られる光記録媒体試料は、このようなピット領域に生成する非常に微細な凹凸についても、精度よく且つ正確に転写されている。
【００１２】
光記録媒体が、有機色素層としてフタロシアニン化合物を含有するものであると、中間層を比較的生成しやすくなるため、本発明の光記録媒体試料の作製方法による上記作用効果を一層発揮することが可能となる。
【００１３】
また、色素除去工程において、有機色素層を溶解除去すると、その有機色素層を効果的且つ確実に除去できる傾向にあるので好ましい。その際、クロロホルムを用いて有機色素層を溶解除去すると、クロロホルムは中間層を溶解しないため、基板の中間層が積層されている部分は溶解されない。したがって、少なくともその基板部分の表面状態を把握することができる。
【００１４】
色素除去工程において、基板を溶解せずに有機色素層を選択的に溶解可能な液体を用いて有機色素層を溶解除去すると、基板の表面形状を維持した状態で、有機色素層を一層容易に除去できるので好ましい。そのような、液体としてはエタノール及び／又はイソプロピルアルコールを用いることができる。
【００１５】
また、支持層が誘電体材料を含むと、その成膜の容易性の観点、基板除去工程において基板のみを比較的容易に除去できる観点及び光記録媒体試料の観察の容易性等の観点から、好ましい。その支持層は、気相堆積法により形成される層を含むと、基板の表面形状をより精度よく且つ正確に転写することができるので、より好ましい。
【００１６】
さらに、支持層がハードコート層を含むと、光記録媒体試料の歪みや撓みが少なくなり、基板の表面形状を一層保持することができるので好ましい。
【００１７】
基板除去工程において、基板を溶解除去する方法を採用すると、支持層や中間層を残存した状態で、基板のみをより選択的に除去できるので好ましい。また、基板を溶解して除去する際に支持層を設けていないと、溶解に用いた液体により中間層が剥離除去されてしまう傾向にある。したがって、基板を溶解除去する方法を採用する場合は、支持層を設けることにより、基板表面の形状を一層良好に転写することができる。さらに、色素層を除去することなく、色素層の上記一側から支持層を形成すると、基板の溶解除去の際に色素層が剥離除去されてしまい、基板の表面形状に関する情報が失われる傾向にある。したがって、基板を溶解除去する方法を採用する場合は、色素層を除去した後に支持層を設けることにより、基板の表面形状をより正確に転写された光記録媒体試料を、一層確実に得ることができる。
【００１８】
基板除去工程において、基板を溶解除去する場合、基板の上記一側と反対側から基板を溶解可能な液体を滴下して基板を溶解する、いわゆる「滴下溶解法」を用いると好ましい。この「滴下溶解法」は、装置構成及び作製操作を簡便にすることができると共に、支持層や中間層を損傷させる可能性が低いので、光記録媒体試料を効率よく且つ確実に得ることができる傾向にある。
【００１９】
また、基板を溶解除去する際に、クロロホルムを用いると中間層や支持層を溶解させることなく、基板のみをより選択的に除去できる傾向にあるので好ましい。
【００２０】
さらに、本発明の光記録媒体試料の作製方法は、基板除去工程の前に、上記一側と反対側にある基板の面を水平方向に対して所定角度傾けた状態で中間体試料を配置する中間体試料配置工程を含むと好ましい。このような方法を用いることにより、滴下した液体とその液体により溶解された基板材料は共に光記録媒体試料から流れ落ちるため、改めてそれらを該試料から除去する工程を設ける必要がなくなり、速やかに光記録媒体試料を分析することができる傾向にある。
【００２１】
また、本発明に用いる光記録媒体が、基板としてポリカーボネート樹脂を含有するものを備えると好ましい。
【００２２】
本発明の光記録媒体試料の作製方法は、ポリカーボネート樹脂を含有する基板と、その基板の一側に形成された、フタロシアニン化合物を含有する有機色素層と、基板及び有機色素層の間に、光記録媒体に励起光を照射することにより形成された中間層と、を備える光記録媒体の有機色素層を、クロロホルム、エタノール及びイソプロピルアルコールからなる群より選ばれる１種以上の溶媒を用いて溶解除去する色素層除去工程と、有機色素層を除去した後の基板の上記一側に、誘電体材料を含む支持層を気相堆積法により形成する支持層形成工程と、上記一側と反対側にある基板の面を水平方向に対して所定角度傾けた状態で中間体試料を配置する中間体試料配置工程と、基板の上記一側と反対側からクロロホルム水溶液を滴下して基板を溶解除去する基板除去工程とを含むことを特徴とする。
【００２３】
本発明の光記録媒体試料の分析方法は、基板と、その基板の一側に形成された有機色素層とを備える光記録媒体の有機色素層を除去した後に、基板の上記一側に支持層を形成し、更に基板を除去することにより得られる光記録媒体試料の、基板を除去することによって露出された面を分析することを特徴とする。これにより、特に基板表面の形状を、十分に正確且つ精度よく把握することができる。したがって、この分析方法により得られた結果を利用することにより、一層歩留まりの高い光記録媒体の製造が可能となる。
【００２４】
本発明の光記録媒体試料の作製装置は、基板と、その基板の一側に形成された有機色素層とを備える光記録媒体の有機色素層を除去した後に、基板の上記一側に支持層を形成することにより得られる中間体試料の基板を溶解可能な液体を滴下する滴下部材と、滴下部材から滴下された液体が基板の上記一側と反対側の表面に接触するように光記録媒体を保持する媒体保持部材とを設けてなることを特徴とする。このような光記録媒体試料の作製装置は、上述した光記録媒体試料の作製方法及び該試料の分析方法を有効に実現することができる。さらにこの作製装置の上記媒体保持部材が、基板の表面を水平方向に対して傾けた状態で光記録媒体を保持すると、光記録媒体試料の作製時間をより短縮できる傾向にあるので好ましい。
【００２５】
本発明の光記録媒体の製造方法は、基板と、その基板の一側に形成された有機色素層と、を備える光記録媒体の有機色素層を除去した後に、基板の上記一側に支持層を形成し、更に基板を除去することにより得られる光記録媒体試料の、基板を除去することによって露出された面を分析する品質管理工程を備えることを特徴とする。これにより、従来の製造方法に比べて、製造条件と基板表面の状態との相関性をより詳細に比較検討できるので、光記録媒体製品の歩留を向上させることができる。本発明の光記録媒体の製造方法においては、この品質管理工程の分析結果に基づき光記録媒体の製造条件を調整することもできる。
【発明の効果】
【００２６】
本発明によれば、光記録媒体の基板の表面状態を十分正確に且つ精度よく分析できる光記録媒体の基板の表面状態を十分正確に且つ精度よく分析できる光記録媒体試料の作製方法、光記録媒体試料の分析方法、光記録媒体試料の作製装置及び光記録媒体の製造方法を提供することができる。また、本発明の光記録媒体の製造方法は、従来に比べて光記録媒体製品の歩留を十分に改善することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２７】
以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明するが、本発明は下記実施形態に限定されるものではない。なお、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。更に、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。
【００２８】
まず本実施形態の光記録媒体試料の作製方法にかかる光記録媒体について説明する。本実施形態の光記録媒体試料の作製方法に用いられる光記録媒体は、特に限定されることはない。図１は、その光記録媒体としての光ディスク（ＣＤ−Ｒ）の一例を示す一部切欠斜視図である。また、図２は、図１に示したＣＤ−Ｒである光ディスク１の断面のＲで表される部分領域の拡大斜視図である。
【００２９】
図１に示す光ディスク１は、図２に示すように、基板２２と、保護層２８と、基板２２と保護層２８の間に配置される記録層（有機色素層）２４と、保護層２８及び記録層２４の間に配置される反射層２６とから構成されている。言い換えると、光ディスク１は、基板２２上に、記録層２４と反射層２６と保護層２８とをこの順番に基板２２側から積層して構成されている。
【００３０】
基板２２の構成材料は、上記各層を支持し、記録用の光及び再生用の光を透過し得る材料であれば特に限定されない。そのような構成材料としては、例えば、ガラス、或いは樹脂を用いることができる。これらのうち、成形の容易性の観点から樹脂が好ましく用いられる。
【００３１】
このような樹脂としてはポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。これらのなかでも、加工性、光学特性などの点からポリカーボネート樹脂が好ましく用いられる。
【００３２】
この基板２２の記録層２４の形成される側の面には、情報を記録するために必要なトラッキングサーボ用のグルーブ（凹部）１１及びランド（凸部）１２が形成されており、この案内溝構造の形状、溝の深さ及びトラックピッチは、記録再生特性やサーボ信号特性などを含めた総合的な信号品質を考慮して最適化されている。
【００３３】
記録層２４は、記録時に７８０ｎｍ程度の波長を有するレーザ光線などの励起光をＬ１の矢印に示した方向から照射されることにより記録マークが形成される層であり、有機色素材料を含有している。記録マークが形成される原理は以下の通りである。すなわち、記録層２４に記録用の励起光が照射されると、記録層２４がその光線を吸収して加熱される。この加熱によって、記録層２４に含有される有機色素材料が熱分解を起こす。この有機色素材料の熱分解によって、記録層の屈折率が低下する。さらに、励起光の照射に伴う上記加熱により、上述の基板２２が熱変形を起こす。これら有機色素材料の熱分解や基板２２の熱変形によって、各層の膜厚が変化する。記録層の屈折率の低下及び各層の膜厚の変化の結果、光ディスクの反射率が低下するので、励起光照射部分はピットを形成していることとなる。
【００３４】
記録層２４に含有される有機色素材料としては、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、含金属アゾ化合物などが挙げられる。このうち、フタロシアニン化合物としては、例えば、下記一般式（１）で表されるものが挙げられる。なお、式（１）中、ＭはＣｕ、Ｆｅなどの金属を示し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子若しくは１価の有機基を示す。
【化１】
2005166104.tif 000002
【００３５】
次に、本実施形態の光記録媒体試料の作製方法に用いる光記録媒体試料の作製装置（以下、場合によって「作製装置」という。）について説明する。図３はその作製装置の概略斜視図である。この作製装置５０は、滴下部材６０と媒体保持部材７０とを主要な構成とするものであり、滴下溶解法に用いられるものである。
【００３６】
滴下部材６０は、容器部６２とノズル部６４とバルブ部６６とを備える。容器部６２は、その中に、後述する中間体試料１００の基板２２を溶解可能な液体を貯蔵するためのものである。また、ノズル部６４は開口部を形成するものであるが、容器部６２と通じており、容器部６２から送出される上記液体を、その開口部から滴下する役割を果たすために設けられている。さらに、バルブ部６６は、容器部６２とノズル部６４との間に設けられており、このバルブ部６６を開閉することにより、液体の滴下を開始したり停止したりすることができ、また液体の滴下速度を調整する役割をも果たすものである。
【００３７】
滴下部材６０は、後述する媒体保持部材７０に保持された中間体試料１００上に液体を滴下するため、その中間体試料１００より上側にノズル部６４を位置させる必要がある。したがって、通常はスタンド８０などにより、ノズル部６４を中間体試料１００より上側に配置できるよう保持されている。
【００３８】
媒体保持部材７０は、支持台７２と軸７４と液回収部７６とを備える。支持台７２は、中間体試料１００の露出面３を水平方向に対して所定角度傾けた状態（以下、「傾斜状態」という。）で支持するために設けられている。また、軸７４は支持台７２の上面から上方に延びるように設けられている。この軸７４は、中間体試料１００の中央開口部に通すことにより、傾斜状態で支持台７２上に載せられた中間体試料１００が、支持台７２の上面で滑り落ちないようにするためのものである。さらに液回収部７６は、滴下部材６０から滴下された液体とその液体による溶解物を回収するために設けられている。そのため、支持台７２の外周面と液回収部７６の内周面との間には上記液体等を回収できるように隙間が設けられている。
【００３９】
滴下部材６０と媒体保持部材７０とは、滴下部材６０から滴下された液体が中間体試料１００の中央開口部周辺から半径方向外側に向かって流れ落ちるように配置されている。このように配置されることで、中間体試料１００の基板２２に形成された、リードイン領域（トラッキング領域）から記録領域（データ領域）を経てリードアウト領域に至るまでの各領域のグルーブ１１、ランド１２もしくは表面粗さなどの表面状態についての情報を一度に得ることができる傾向にある。このような観点から、滴下部材６０からの液体が、傾斜状態にある中間体試料１００の最も高い位置にある外周端部に滴下されるように滴下部材６０と媒体保持部材７０とが配置されてもよい。この場合、中間体試料１００の基板２２に形成された、リードアウト領域から記録領域を経てリードイン領域に至るまでの各領域の状態についての情報を得ることができる傾向にある。なお、図３は、中間体試料１００を媒体保持部材７０に配置し、且つ液体を滴下部材６０に注入した状態を示している。
【００４０】
次に本実施形態の光記録媒体試料の作製方法について説明する。本実施形態の光記録媒体試料の作製方法は、例えば以下のようにして行われる。
【００４１】
まず、光ディスク１を準備する。この光ディスク１は本実施形態においてはＣＤ−Ｒであるが、ＣＤもしくはＤＶＤなどの再生専用光ディスク、ＤＶＤ−Ｒなどの追記型光ディスク、ＣＤ−ＲＷ、ＤＶＤ−ＲＷなどのその他の書換型光ディスク、又はＢｌｕ−ｒａｙなどの高密度記録用光ディスク、或いは光磁気ディスクであってもよい。
【００４２】
続いて、粘着テープを用いるなどの従来公知の方法を用いて、準備した光ディスク１の接着層４０、保護層２８及び反射層２６を剥離する。
【００４３】
次に、記録層（有機色素層）２４を溶解可能な液体を用いて、記録層２４を溶解除去する（色素層除去工程）。この溶解除去の方法は、上記液体を吹き付けてもよく、又は、霧状の上記液体が存在する雰囲気中に記録層２４を露出した状態にある光ディスク１を配置してもよい。あるいは、上述した作製装置５０を用いて滴下溶解法により記録層２４を除去してもよい。この場合、光ディスク１は記録層が露出されている側を上方に向けて配置される。
【００４４】
記録層２４を溶解除去する際に用いられる液体は、記録層２４に含有される有機色素材料を溶解可能なものであれば、特に限定されることなく用いられる。そのような液体としては極性溶媒が好ましい。より具体的には、記録層２４にフタロシアニン化合物を用いる場合には、例えばエタノール、イソプロピルアルコール、クロロホルムなどが挙げられる。これらのなかでは、基板２２を溶解せず記録層２４のみを選択的に溶解可能なものがより好ましく、例えばエタノール、イソプロピルアルコールなどが挙げられる。
【００４５】
なお、クロロホルムなどは、記録層２４と共に基板２２をも溶解するものであるが、その濃度を適宜調整することにより記録層２４を選択的に溶解可能にできる。また、中間層が存在する場合、中間層はクロロホルムに不溶であるため、少なくとも中間層の下側にある基板の部分は残存する。以上より、クロロホルムなども色素層除去工程に用いることができる。
【００４６】
さらに、記録層２４の除去は通常の剥離などの手段を用いて行われてもよい。
【００４７】
次に、記録層２４を除去した後の基板２２の上側に支持層１０２を形成することにより中間体試料１００を得る（支持層形成工程）。中間体試料１００の一部を図２と同様に示した拡大斜視図を図４に示す。支持層１０２は、後述する基板除去工程により基板を除去して得られた光ディスク試料が歪んだり撓んだりすることを防止するために設けられるものである。したがって、そのような機能を有するものであれば、特に限定なく用いることができる。すなわち、比較的可撓性がある材料を支持層１０２に用いる場合は、その厚さを厚くすればよく、比較的固い材料を用いる場合は、その厚さが薄くてもよい。
【００４８】
構成材料としては、比較的容易に支持層を形成できる観点から、誘電体材料を用いると好ましく、気相堆積法により形成可能なものであるとより好ましい。支持層１０２を気相堆積法を用いて得ることにより、最終的に得られる光ディスク試料における支持層１０２の表面には、基板表面の形状を一層良好に転写した形状が形成される。気相堆積法としては、スパッタリング法や蒸着法等といったＰＶＤ法（物理的気相堆積法）やＣＶＤ法（化学的気相堆積法）を好ましく用いることができる。なお、この支持層を形成する手段として、印刷法などの塗膜法を用いてもよい。
【００４９】
支持層１０２の膜厚は、上述したように、構成材料によっても異なるので一義的には決定できない。例えば、支持層１０２の構成材料としてＺｎＳ−ＳｉＯ２を用いる場合は、その膜厚を５０〜１００ｎｍ程度にすれば、基板表面の形状を転写したままの表面状態を維持できるので好ましい。
【００５０】
続いて、基板２２を除去する（基板除去工程）。本実施形態においては、基板除去手段として滴下溶解法を用いた場合を説明するが、その他の手段であっても基板を中間体試料１００から除去して光ディスク試料を得ることができる方法であれば、特に限定なく用いることができる。
【００５１】
まず、中間体試料１００を、基板２２を上側（滴下部材６０のノズル部６４側）に向けて、その中央開口部に軸７４を通し支持台７２上に設置することにより媒体保持部材７０にセットする（中間体試料設置工程）。この際、支持台７２の上面は水平方向に対し所定角度傾斜しているので、セットされた中間体試料１００も傾斜した状態にある。
【００５２】
所定の傾斜角度は、後述する液体が中間体試料１００上に滴下された後のその液体及びその液体により溶解された基板２２の材料（以下、「基板材料」という。）の流れ落ち具合により決定されるが、その流れ落ち具合を調節するために適宜変更されてもよい。すなわち、その流れ落ち具合が過剰に速いと、滴下した液体の量に対する溶解した基板材料の量が少なくなる、すなわち基板材料の溶解効率が低下する傾向にある。また、流れ落ち具合が過剰に遅いと、時間がかかり過ぎる傾向にあると共に、基板２２の溶解を所望していない部分まで溶解する傾向にある。さらに、溶解した基板材料が滴下位置に残存してしまい、清浄な観察面を得ることができない傾向にある。この傾斜角度の調整は、後述する基板溶解工程の前に行ってもよいし、基板溶解工程中に行ってもよい。また、傾斜角度の調整は、上面の傾斜角度の異なる複数の媒体保持部材７０を適宜選択・交換することにより行ってよく、媒体保持部材７０が上面の傾斜角度を調節する機構を予め有していてその機構を利用して行ってもよい。
【００５３】
次に、滴下部材６０の容器部６２内に液体を適当量注入して準備する。この液体としては、中間体試料１００の基板２２を溶解できる一方で、中間体試料１００の支持層１０２を溶解しないようなものが選択されると好ましい。例えば、基板２２の構成材料がポリカーボネート樹脂であり、支持層１０２の構成材料がＺｎＳ−ＳｉＯ２である場合、ポリカーボネート樹脂を溶かさないアルコール、フッ素アルコール、石油系溶媒もしくはセロソルブ以外の有機溶媒であると好ましく、例えば、クロロホルム、ＴＨＦ、アセトン若しくはＭＥＫなどが挙げられる。
【００５４】
これらのなかで、四塩化炭素を除く塩素系溶剤（クロロホルム、ジクロロメタンなど）を用いるとより好ましい。このような塩素系溶剤は、ポリカーボネート樹脂を比較的速やかに溶解し、しかも支持層１０２の表面形状の破壊を一層抑制することができる傾向にある。
【００５５】
このような液体を用いると支持層１０２の表面形状の破壊を一層抑制することができる傾向にある要因は、現在のところ詳細には明らかにされていないが、本発明者らはその要因の一つを以下のように考えている。基板２２の材料にポリカーボネート樹脂等の樹脂材料を用いた場合、その樹脂を比較的緩やかに溶解するような液体を選択すると、該液体はその基板２２の樹脂を溶解すると共に膨潤させると考えられる。場合によっては、この樹脂の膨潤に起因して、支持層１０２が破壊されると考えられる。一方、基板２２の樹脂材料を比較的速やかに溶解する液体を用いると、その樹脂の膨潤は発生し難くなるため、支持層１０２の表面形状の破壊を一層抑制できる傾向にあると考えられる。但し、要因はこれに限定されない。
【００５６】
次いで、上述した液体を滴下部材６０のノズル部６４から中間体試料１００の基板２２に向けて滴下し、基板２２を溶解することにより、支持層１０２の基板２２との接触面を露出させる（基板溶解工程）。この際の液体の滴下速度は、バルブ部６６を用いて、基板２２の溶解効率、時間及び溶解を所望する部分によって適宜調整することが可能であり、上述した媒体保持部材７０の上面の傾斜角度の調整と共に行ってもよい。なお、滴下速度が大きくなると、液体は流下するようになるが、本明細書においては、その場合でも「滴下する」ということとする。
【００５７】
また、液体を滴下する中間体試料１００上の位置（以下、「滴下位置」という。）は、中間体試料１００の基板２２を溶解できる位置であれば特に限定されることはないが、滴下部材６０から滴下された液体が中間体試料１００の中央開口部周辺に滴下されると好ましい。その中央開口部周辺に滴下された液体は、そこから半径方向外側に向かって流れ落ちていくので、基板２２のリードイン領域から記録領域を経てリードアウト領域に至るまでの各領域に相当する部分を一度に溶解することができる傾向にある。これにより、それらの領域の基板の表面状態の情報を一度に得ることができる傾向にある。
【００５８】
同様の観点から、滴下部材６０からの液体が、傾斜状態にある中間体試料１００の最も高い位置にある外周端部に滴下されると好ましい。この部分に滴下された液体は、その外周端部周辺のリードアウト領域から記録領域を経てリードイン領域に至るまでの各領域に相当する基板２２の部分を一度に溶解することができる傾向にある。
【００５９】
さらに、この基板溶解工程においては、基板２２の一部分のみを溶解するように液体を滴下すると好ましい。基板２２を全て溶解すると基板溶解工程に要する時間が長くなる傾向にある。また、基板を完全に溶解除去することにより得られる光記録媒体試料は柔軟性を有し形状が変化しやすいため、取り扱いが困難になる傾向にあり、しかも支持層１０２の表面形状等を分析するには適さない傾向にある。このような観点及び必要な情報を得る観点から、基板面積の１／３を超えない部分を溶解するように液体を滴下するとより好ましい。ただし、試料の保持方法などの条件によってはこの面積を超えて基板を溶解してもよい。
【００６０】
また、液体を滴下する際には、滴下位置を略同じ位置にしたまま基板溶解工程を行うと好ましい。これにより、基板溶解工程の手間をより省略できる傾向にある。しかも、中間体試料１００を傾けた状態で、滴下位置を中間体試料１００の中央開口部周辺もしくは上述した最も高い位置にある外周端部の略同じ位置に滴下すると、手間を省略しつつ、特に必要な情報を得ることができる傾向にあるのでより好ましい。
【００６１】
さらには、上述したように中間体試料１００を傾斜させ、液体の滴下位置を中間体試料１００の中央開口部周辺もしくは最も高い位置にある外周端部の略同じ位置とすると、基板２２のごく一部の半径方向の領域のみを選択的に溶解することができる傾向にある。したがって、手間を省略しつつ、特に必要な情報を得ることができ、しかも、支持層１０２の表面形状を維持することができる傾向にあるので、特に好ましい。
【００６２】
そして、必要に応じて、基板２２を溶解除去した後に、エタノールなどを用いて洗浄することにより、光記録媒体試料としての光ディスク試料１０６が得られる。この光ディスク試料１０６の一部を、図２と同様の部分拡大斜視図であって基板２２の表面形状を転写した側から見た図を図５に示す。この図５においては、支持層の凸部１４は、基板２２のグルーブ１１を転写した部分であり、凹部１３は、基板２２のランド１２を転写した部分となる。
【００６３】
以上説明した本実施形態の光記録媒体試料の作製方法によると、基板２２が溶解除去されたにもかかわらず、後に行われる各種の分析により、光ディスク１の基板２２の表面状態を十分に正確に且つ精度よく分析できる。その要因は現在のところ明らかにされていないが、本発明者らはその要因の１つとして以下のように考えている。ただし要因はこれに限定されない。
【００６４】
すなわち、上述したような光ディスク１において、基板２２の記録層２４側の表面を直接分析するには、基板２２の上記表面の分析すべき部分を完全に露出させる必要がある。しかしながら、従来の方法によって基板２２の表面上に設けられた各層を除去しようとすると、基板２２の積層側表面上に、光ディスク１を作製した当初には存在していなかったと考えられる層（中間層）が残存してしまう。基板２２表面のグルーブ、ランドもしくは粗さは数ｎｍから数μｍオーダーの凹凸を形成しており、僅かでもその中間層が基板２２の表面上に残存していると、その表面の状態を十分正確に且つ精度よく分析することができないと考えられる。
【００６５】
一方、本実施形態の光記録媒体試料の作製方法を用いると、得られる光ディスク試料１０６は、支持層１０２及び中間層の基板２２との接触面を露出させた状態にある。しかも、支持層１０２及び中間層の基板２２との接触面が、その基板２２の支持層側表面のグルーブ、ランドもしくは表面粗さなどのプロファイルを十分に正確に且つ精度よく転写している。これにより、基板２２の表面の形状を直接分析しなくても、支持層１０２及び中間層の表面を分析することにより、基板２２の表面の状態を有効に把握することができる。
【００６６】
本実施形態においては、光ディスク１の基板２２の構成材料が、ポリカーボネート樹脂であるが、本発明に用いられる光ディスク１の基板２２の構成材料はこれに限定されるものではない。例えば、光ディスク１が、基板２２の構成材料をポリカーボネート樹脂以外の材料とする場合であっても、溶媒が、その基板２２を選択的に溶解することができ、支持層１０２を溶解しないように、溶媒と支持層１０２の構成材料との組み合わせを選択すればよい。
【００６７】
次に本実施形態の光記録媒体の分析方法について説明する。この分析方法は、上述した光ディスク試料を作製した後に、得られた光ディスク試料を原子間力顕微鏡観察法（Atomic-Force Microscopy；ＡＦＭ法）及び／又は走査型電子顕微鏡観察法（Scanning Electron Microscopy；ＳＥＭ法）を用いて分析する工程（分析工程）を行うものである。
【００６８】
ＡＦＭ法では、上記作製方法により得られた光ディスク試料の支持層１０２及び中間層の露出した基板２２との接触面（露出面）を、直接、従来の原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて観察する。このＡＦＭ法は、観察対象である支持層１０２及び中間層の表面の垂直方向と面内方向の３次元の原子的分解能を有し、絶縁体、特に表面が酸化された状態の絶縁体表面を比較的高い分解能により観察することができるので、支持層１０２及び中間層の表面形状に関する情報をｎｍオーダーで精度よく得ることが可能となる。
【００６９】
ＳＥＭ法では、上記作製方法により得られた光ディスク試料の支持層１０２及び中間層の露出面上に、必要に応じて金属等の導電体を蒸着などの方法により付与した後、従来の走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて観察する。このＳＥＭ法を用いると、比較的容易に支持層１０２及び中間層の表面形状を３次元的に観察することができ、上述したＡＦＭ法よりも高いオーダー（μｍ〜ｍｍオーダー）での表面の凹凸形状をも観察することができる。なお、場合によっては、支持層１０２及び中間層の上記露出面上に導電体を付与しなくとも、比較的低い加速電圧で電子線を照射したり、若しくは可能な限り微小な電流を用いることにより、その露出面を観察することができる。
【００７０】
これらのＡＦＭ法及びＳＥＭ法を組み合わせて用いることにより、特に、より広範な範囲の支持層１０２及び中間層の表面形状に関する情報を得ることができる。ＡＦＭ法及びＳＥＭ法を組み合わせて表面形状を評価する場合は、例えば、寸法及び寸法公差が明らかな微細形状を有する標準試料をＡＦＭ法及びＳＥＭ法によってそれぞれ観察し、微細形状の寸法を測定し、その結果を比較することによって測定方法の相違から生ずる測定誤差を相殺することが可能となる。上記標準試料としては、例えば、Ｓｉ基板にフォトリソグラフィ技術によって矩形のパターンを形成したＡＦＭ装置用の標準試料等を用いることができる。
【００７１】
以上、本実施形態の光記録媒体試料の作製装置、光記録媒体試料の作製方法及び光記録媒体試料の分析方法について説明したが、本発明の光記録媒体試料の作製装置、光記録媒体試料の作製方法及び光記録媒体試料の分析方法はこれらに限定されるものではない。
【００７２】
例えば、別の実施形態の光記録媒体試料の作製方法において、支持層を溶解せずに基板を選択的に溶解可能な液体を噴射して、光記録媒体に吹き付けることにより基板を溶解してもよい。この作製方法では、光記録媒体試料の作製装置として、またはその作製装置が備える部材として、ディスペンサー等の従来の液体噴射装置を用いることができる。この場合、光記録媒体の液体を吹き付けられる面が垂直方向に平行になるように配置されても、或いは、その面が重力方向に向いた状態で配置されても、基板を溶解することができる。
【００７３】
さらに別の実施形態の光記録媒体試料の作製方法において、基板の支持層側と反対側の面上にハードコートが施されている場合、そのハードコート部分を紙ヤスリによる研磨除去等により取り除いた後に、基板に液体を接触させることも可能である。
【００７４】
また、別の実施形態の光記録媒体試料の分析方法において、支持層にハードコート層を含めてもよい。こうすることにより、光記録媒体試料が、基板の表面形状を転写した支持層表面の状態を一段と良好に維持することができる。このようなハードコート層としては、例えば、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂などを挙げることができる。
【００７５】
さらに別の実施形態の光記録媒体試料の作製方法において、上述したＡＦＭ法及びＳＥＭ法以外の固体表面形状の観察方法、例えば通常の光学顕微鏡観察法、レーザ顕微鏡観察法、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）観察法もしくはエネルギー分散分光法（ＥＤＳ）などを用いることもできる。
【００７６】
さらに、別の実施形態の光記録媒体試料の分析方法において、フーリエ変換赤外分光法（ＦＴ−ＩＲ）、ラマン分光法等の通常大気圧条件下で行われる分析手段を用いてもよく、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、二次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）等の通常減圧条件下で行われる分析手段を用いてもよい。これらの分析手段を用いることにより、中間層の露出面付近の化学組成に関する情報を得ることが可能となる。
【００７７】
また、Ｘ線回折法（ＸＲＤ）により中間層の固体構造に関する情報を得ることができ、蛍光Ｘ線分析法（ＸＲＦ）により中間層の組成に関する情報を得ることができる。さらに、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）もしくは紫外光電子分光法（ＵＰＳ）により、中間層の露出面の原子の結合状態に関する情報を得ることができる。
【００７８】
さらに、上記作製方法により露出した中間層の表面から試料を採取し、その試料を酸、アルカリもしくは有機溶媒により抽出し、或いは、その表面から誘電体材料を直接抽出し、得られた抽出物を誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）を用いた分析手段、イオンクロマトグラフィー（ＩＣ）、液体クロマトグラフィー（ＬＣ）もしくはガスクロマトグラフィー（ＧＣ）等を用いて分析することもできる。
【００７９】
上述した各分析手段は、１種を単独で用いてもよく、或いは２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、スパッタ法等との組み合わせにより、光記録媒体の厚さ方向における化学組成もしくは原子の結合状態等に関する情報を得ることも可能である。この場合、本発明の作製方法により得られる光記録媒体試料は、絶縁体である基板を分析当初から除去しているため、ＡＥＳなどを用いても、絶縁体の帯電に伴うスペクトルピークのシフト、強度の減少もしくはブロードニング又はゴーストピークの発生を抑制することができる傾向にある。
【００８０】
また、上述した各種分析方法及び作製装置は、光ディスクの製造方法において用いられ得る。例えば、一群（１ロット）の光ディスクを製造した後、その一部の光ディスクを任意に抽出し、抽出した光ディスクから上記作製装置を用いて光ディスク試料を作製する。そして、その光ディスク試料を分析することにより、その一群の光ディスクが不良品でないか否かを判断することが可能となる。また、一群の光ディスクを上述した分析方法により検査し、不良品と判断された光ディスクを取り除き、良品の光ディスクのみを次工程に送ることができる。さらに、不良品と判断された光ディスクの製造条件の問題点を特定し、この問題点に基づいて光ディスクの製造工程を改善することもできる。このような光ディスクの製造方法は、不良品を製造した場合の原因調査等に有効な手段となり、光ディスク製品の歩留を高く維持することに寄与できるものである。したがって、上述した光ディスクの製造方法において、上述した作製装置を用いることは、不良品を製造した場合の原因調査等に有効な手段となり、光ディスク製品の歩留を高く維持することに寄与できるものである。
【実施例】
【００８１】
以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００８２】
（ＣＤ−Ｒの作製）
まず、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ）基板を用いて、通常の光ディスクの製造方法により、ＣＤ−Ｒのディスク媒体（以下、「光ディスク」という。）を得た。具体的には、まず、ランド及びグルーブを有する該基板上に、下記式（２）で表されるフタロシアニン化合物を含有する記録層（厚さ：２００ｎｍ）、Ａｌ−Ｃｒ反射層（厚さ：１００ｎｍ）、ＰＣ保護層（厚さ：１０μｍ）を順に積層し、そして、基板側からグルーブ領域にレーザ光線を照射して光ディスクを得た。
【化２】
2005166104.tif 000003
（式中、ＭはＦｅ及びＣｕである。）
【００８３】
（実施例１）
まず、上記光ディスクのＰＣ保護層上に粘着テープを貼り付け、それを引き上げることによりＰＣ保護層を光ディスクから剥離した。同様にして、Ａｌ−Ｃｒ反射層を光ディスクから剥離して、基板と記録層とからなる積層体を得た。
【００８４】
次いで上記剥離処理により得られた積層体を、図３に示す光記録媒体試料の作製装置における媒体保持部材７０の支持台７２上に、記録層側が滴下部材６０側に対向するように配置した。なお、滴下部材として分液ロートを用いた。
【００８５】
次いで、液体としてエタノールを、バルブ部６６が閉止状態にある滴下部材６０の容器部６２内に適当量注入した。
【００８６】
続いて、滴下速度が１〜４滴／秒となるようにバルブ部６６を開放し、積層体の中央開口部周辺に向けたエタノールの滴下を行い、記録層を溶解除去し、ＰＣ基板の表面から溶解した記録層を洗い流し、主に基板を含む中間体（以下、「中間体１」という。）を得た。
【００８７】
次に、中間体１の記録層を除去した側の表面上にＺｎＳ−ＳｉＯ２からなる誘電体層（厚さ：１００ｎｍ）をスパッタ法により形成した。さらに、光ディスク試料をより固くするために、誘電体層上にハードコート層（材料：紫外線硬化樹脂としてメタアクリレート、厚さ：１００μｍ）を設けることにより、支持層を形成した中間体試料（以下、「中間体２」という。）を得た。
【００８８】
次いで、中間体２を、図３に示す光記録媒体試料の作製装置における媒体保持部材７０の支持台７２上に、基板側が滴下部材６０側に対向するように配置した。なお、滴下部材として分液ロートを用いた。続いて、液体としてクロロホルムを、バルブ部６６が閉止状態にある滴下部材６０の容器部６２内に適当量注入した。
【００８９】
続いて、滴下速度が１〜４滴／秒となるようにバルブ部６６を開放し、積層体の中央開口部周辺に向けてクロロホルムの滴下を開始した。なおクロロホルムの滴下中は滴下する位置を変化させなかった。滴下中は、中間体２の滴下位置から半径方向外側に向かって、徐々に基板が溶解されていくことを確認した。
【００９０】
そして、基板が光ディスクの外周端部まで溶解し、支持層の基板との接触面が露出したところで、クロロホルムの滴下を終了して実施例１の光ディスク試料を得た。
【００９１】
この実施例１の光ディスク試料の支持層の露出した基板との接触面（露出面）を、ＡＦＭを用いて観察した。その観察結果の画像を図６に示す。凸領域（白色もしくはそれに近い部分）、すなわち基板のグルーブと接触していた部分、及び、凹領域（黒色もしくはそれに近い部分）、すなわち基板のランドと接触していた部分が確認された。また、凸領域にはレーザ光線を照射することにより形成された凹みが確認できた。この凹みの深さをＡＦＭ法を用いて測定したところ、上記凸領域の高さに対して７〜８％であることが確認された。
【００９２】
また、上記凹み部分の元素分析をＩＣＰ−ＭＳを用いて行ったところ、ＰＣと同様に炭素、水素、酸素が確認されたほか、フタロシアニン化合物に含まれる金属であるＦｅ及びＣｕが検出された。
【００９３】
（比較例１）
まず、上記光ディスクのＰＣ保護層上に粘着テープを貼り付け、それを引き上げることによりＰＣ保護層を光ディスクから剥離した。同様にして、Ａｌ−Ｃｒ反射層を光ディスクから剥離して、基板と記録層とからなる積層体を得た。
【００９４】
次いで上記剥離処理により得られた積層体を、図３に示す光記録媒体試料の作製装置における媒体保持部材７０の支持台７２上に、記録層側が滴下部材６０側に対向するように配置した。なお、滴下部材として分液ロートを用いた。
【００９５】
次いで、液体としてエタノールを、バルブ部６６が閉止状態にある滴下部材６０の容器部６２内に適当量注入した。
【００９６】
続いて、滴下速度が１〜４滴／秒となるようにバルブ部６６を開放し、積層体の中央開口部周辺に向けてエタノールの滴下を行い、記録層を溶解除去し、ＰＣ基板の表面から溶解した記録層を洗い流し、比較例１に係る光ディスク試料を得た。
【００９７】
この比較例１の光ディスク試料の記録層を除去した側の露出面を、ＡＦＭを用いて観察した。その観察結果の画像を図７に示す。基板のランドに相当する凸領域（白色もしくはそれに近い部分）、及び、基板のグルーブに相当する凹領域（黒色もしくはそれに近い部分）が確認された。また、凹領域にはレーザ光線を照射することにより形成された突出部が確認できた。この突出部の高さをＡＦＭ法を用いて測定したところ、上記凹領域の深さに対して３０〜５０％であることが確認された。
【００９８】
また、上記突出部の元素分析をＩＣＰ−ＭＳを用いて行ったところ、実施例１の凹み部分と同様に炭素、水素、酸素が確認されたほか、フタロシアニン化合物に含まれる金属であるＦｅ及びＣｕが検出された。
【００９９】
ここで、実施例及び比較例から示唆されピットを形成した上記光ディスクの要部を表した模式平面図を図８示し、図８に表した光ディスクの模式端面図を図９、１０に示す。図８は、符号１５に示す部分（ピット）に励起光が照射されたことを示している。図９の端面図に示すように、ピット１５では、記録層２４や基板２２が変形していると共に、中間層２３が生成していると考えられる。そして、比較例１では、この中間層２３の表面形状は確認できるが、その下側に存在する基板２２の表面形状は確認できなかったものと推察される。一方、実施例１では、中間層２３の基板２２との接触面に転写された基板２２の表面形状が確認できたことが分かる。
【図面の簡単な説明】
【０１００】
【図１】本発明の光記録媒体試料の作製方法に用いる光ディスクの一例を示す一部切欠斜視図である。
【図２】図１に示した光ディスクの断面のＲで表される部分領域の拡大斜視図である。
【図３】本発明の光記録媒体試料の作製装置の好適な一実施形態を示す概略斜視図である。
【図４】本発明の光記録媒体試料の作製方法の途中段階で得られる中間体試料の部分拡大斜視図である。
【図５】本発明の光記録媒体試料の作製方法により得られる光記録媒体試料の部分拡大斜視図である。
【図６】実施例に係る光ディスク試料のＡＦＭ画像である。
【図７】比較例に係る光ディスク試料のＡＦＭ画像である。
【図８】実施例に係るピットを形成した光ディスクの要部を表した模式平面図である。
【図９】図８の光ディスクのＩ−Ｉ線に沿う端面の要部を示す模式端面図である。
【図１０】図８の光ディスクのＩＩ−ＩＩ線に沿う端面の要部を示す模式端面図である。
【符号の説明】
【０１０１】
５０…作製装置、６０…滴下部材、６２…容器部、６４…ノズル部、６６…バルブ部、７０…媒体保持部材、７２…支持台、７４…軸、７６…液回収部、８０…スタンド。
【図１】
2005166104.tif 000004
【図２】
2005166104.tif 000005
【図３】
2005166104.tif 000006
【図４】
2005166104.tif 000007
【図５】
2005166104.tif 000008
【図６】
2005166104.tif 000009
【図７】
2005166104.tif 000010
【図８】
2005166104.tif 000011
【図９】
2005166104.tif 000012
【図１０】
2005166104.tif 000013