(57)【要約】【課題】  エッチング面の表面平滑性の向上、およびエアベアリング面の段差の低減を図ることができる磁気ヘッド用基板材料、磁気ヘッド用基板、ヘッドスライダおよび磁気ヘッド用基板の製造方法を提供すること。【解決手段】  ヘッドスライダ１１に用いられる磁気ヘッド用基板１２は、実質的にＡｌ2Ｏ3を含まずＴｉＣＮを含む焼結体、実質的にＡｌ2Ｏ3を含まずＴｉＣＯＮを含む焼結体、ＴｉＣＮおよび１０重量％以下のＡｌ2Ｏ3を含む焼結体、ＴｉＣＯＮおよび１０重量％以下Ａｌ2Ｏ3を含む焼結体、のうちのいずれかを有している。そして、ヘッドスライダ１１は、この磁気ヘッド用基板１２から形成される基台上に薄膜磁気ヘッド１０が積層された構造を有している。【選択図】  図３
2005182958.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
実質的にＡｌ2Ｏ3を含まず、ＴｉＣＮを含む非磁性材料からなることを特徴とする磁気ヘッド用基板材料。
【請求項２】
実質的にＡｌ2Ｏ3を含まず、ＴｉＣＮとＴｉＯ２とを含む非磁性材料からなることを特徴とする磁気ヘッド用基板材料。
【請求項３】
前記非磁性材料中におけるＴｉＯ２の含有量が３０重量％以下であることを特徴とする請求項２記載の磁気ヘッド用基板材料。
【請求項４】
実質的にＡｌ2Ｏ3を含まず、ＴｉＣＮを含む焼結体を有することを特徴とする磁気ヘッド用基板。
【請求項５】
ＴｉＣＮのＮの組成比が５０％以上９０％以下であることを特徴とする請求項４記載の磁気ヘッド用基板。
【請求項６】
実質的にＡｌ2Ｏ3を含まず、ＴｉＣＯＮを含む焼結体を有することを特徴とする磁気ヘッド用基板。
【請求項７】
ＴｉＣＯＮのＮの組成比が５０％以上９０％以下であることを特徴とする請求項６記載の磁気ヘッド用基板。
【請求項８】
前記焼結体には３０重量％以下の含有量でＴｉＯ２が含まれていることを特徴とする請求項４〜７のいずれか一項記載の磁気ヘッド用基板。
【請求項９】
ＴｉＣＮおよびＡｌ2Ｏ3を含む焼結体を有し、Ａｌ2Ｏ3の含有量は１０重量％以下であることを特徴とする磁気ヘッド用基板。
【請求項１０】
ＴｉＣＯＮおよびＡｌ2Ｏ3を含む焼結体を有し、Ａｌ2Ｏ3の含有量は１０重量％以下であることを特徴とする磁気ヘッド用基板。
【請求項１１】
Ａｌ2Ｏ3の含有量が２重量％であることを特徴とする請求項９または１０記載の磁気ヘッド用基板。
【請求項１２】
実質的にＡｌ2Ｏ3を含まず、ＴｉＣＮを含む焼結体によって構成された基台と、
前記基台上に形成され、記録媒体に対して記録及び／又は再生を行う薄膜磁気ヘッドと、を有することを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項１３】
実質的にＡｌ2Ｏ3を含まず、ＴｉＣＯＮを含む焼結体によって構成された基台と、
前記基台上に形成され、記録媒体に対して記録及び／又は再生を行う薄膜磁気ヘッドと、を有することを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項１４】
前記基台には３０重量％以下の含有量でＴｉＯ２が含まれていることを特徴とする請求項１２または１３記載のヘッドスライダ。
【請求項１５】
ＴｉＣＮおよびＡｌ2Ｏ3を含む焼結体によって構成され、Ａｌ2Ｏ3の含有量が１０重量％以下である基台と、
前記基台上に形成され、記録媒体に対して記録及び／又は再生を行う薄膜磁気ヘッドと、を有することを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項１６】
ＴｉＣＯＮおよびＡｌ2Ｏ3を含む焼結体によって構成され、Ａｌ2Ｏ3の含有量が１０重量％以下である基台と、
前記基台上に形成され、記録媒体に対して記録及び／又は再生を行う薄膜磁気ヘッドと、を有することを特徴とするヘッドスライダ。
【請求項１７】
Ａｌ2Ｏ3の含有量が２重量％であることを特徴とする請求項１５または１６記載のヘッドスライダ。
【請求項１８】
実質的にＡｌ2Ｏ3を含まず、ＴｉＣＮを含む非磁性材料を準備するステップと、
前記非磁性材料を焼結するステップと、を含むことを特徴とする磁気ヘッド用基板の製造方法。
【請求項１９】
実質的にＡｌ2Ｏ3を含まず、ＴｉＣＮとＴｉＯ２とを含む非磁性材料を準備するステップと、
前記非磁性材料を焼結するステップと、を含むことを特徴とする磁気ヘッド用基板の製造方法。
【請求項２０】
前記非磁性材料中におけるＴｉＯ２の含有量が３０重量％以下であることを特徴とする請求項１９記載の磁気ヘッド用基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気ヘッド用基板材料、磁気ヘッド用基板、ヘッドスライダおよび磁気ヘッド用基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
薄膜磁気ヘッドが形成されたヘッドスライダは、１９７９年に初めてハードディスク装置に使用されたが、このときのヘッドスライダは一般にミニスライダ（１００％スライダ）と呼ばれている。その後、ヘッドスライダは、ミニスライダの約７０％の大きさのマイクロスライダ（７０％スライダ）を経て、ミニスライダの約７０％の大きさのナノスライダ（５０％スライダ）へと小型化が進められてきた。
【０００３】
このようなヘッドスライダでは、ＣＳＳ（Contact Start and Stop）特性を満足することが要求されていた。すなわち、記録媒体の記録面に対向するエアベアリング面（ＡＢＳ：Air Bearing Surface）と記録媒体とが記録及び／又は再生を行うごとに接触を繰り返すため、十分な耐久性が要求されていた。そのため、従来のヘッドスライダでは、例えば下記特許文献１に記載されているように、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）と炭化チタン（ＴｉＣ）を主成分とする高硬度の材料を用いて磁気ヘッド用基板（以下、基板と略記する。）が形成されていた。
【特許文献１】特開昭５７−８２１７２号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところが、現在では、ミニスライダの約３０％程の大きさのピコスライダ（３０％スライダ）と呼ばれるヘッドスライダが主流となっており、今後、ハードディスク装置の小型化、低コスト化に伴いヘッドスライダは更に小型化され、将来的にはミニスライダの約１０％程の大きさのフェムトスライダ（２０％スライダ）へと移行することが予想されている。
【０００５】
このようなヘッドスライダの小型化に伴い、ヘッドスライダに要求される特性が従来のものとは異なるものに変化している。特にミニスライダのように小型化されたヘッドスライダでは、記録媒体との接触面積もナノスライダより小さくなるため、ＣＳＳ特性がそれほど重要ではなくなり、それよりも、基板に対しイオンミリングや反応性イオンエッチング（ＲＩＥ：Reactive Ion Etching）等（以下、これらを総称して「エッチング」という。）を施したときの表面平滑性の向上すること、およびエアベアリング面を形成する際のラッピング工程において基板と基板上の薄膜積層体との削れ量の違いにより生じるエアベアリング面の段差を低減することの方がより重要となっている。
【０００６】
本発明は、上記従来技術の有する問題に鑑みてなされたものであり、エッチング面の表面平滑性の向上、およびエアベアリング面の段差の低減を図ることができる磁気ヘッド用基板材料、磁気ヘッド用基板、ヘッドスライダおよび磁気ヘッド用基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
磁気ヘッド用基板のエッチング面は、表面の凹凸により表面平滑性が低下する。本発明者等は、磁気ヘッド用基板のエッチング面に凹凸が発生する原因を発見し、その原因を取り除こうとするところから本発明に係る研究が始まっている。そして、本発明者等は、エッチング面の表面平滑性の向上およびエアベアリング面の段差の低減の実現を図るべく、鋭意研究を重ねた結果、磁気ヘッド用基板にＴｉＣＮやＴｉＣＯＮを含ませることによって上記目的が達成されることを見出し、本発明に達した。なお、以下に述べる「実質的にＡｌ2Ｏ3を含まず」とは、Ａｌ2Ｏ3を何らかの意図を持って積極的に含ませた場合を除く意味であって、製造過程において混入する１．０重量％程度のＡｌ2Ｏ3のように偶発的に含まれた微量のＡｌ2Ｏ3は「実質的なＡｌ2Ｏ3」には含まれない。
【０００８】
本発明の磁気ヘッド用基板材料は、実質的にＡｌ2Ｏ3を含まず、ＴｉＣＮを含む非磁性材料からなることを特徴とするものである。
【０００９】
本発明によれば、ＴｉＣＮを含んだ非磁性材料を磁気ヘッド用基板材料としたため、この非磁性材料を焼結して得られた磁気ヘッド用基板は、従来のヘッドスライダのようにＴｉＣを含んだ磁気ヘッド用基板材料を用いた場合よりも低硬度なものとなる。したがって、エアベアリング面を形成する際のラッピング工程において、磁気ヘッド用基板の削れ量を磁気ヘッド用基板上の薄膜積層体の削れ量と同程度にすることができるため、エアベアリング面をほぼ平坦にすることができる。
【００１０】
また、従来の磁気ヘッド用基板では、一般にＡｌ2Ｏ3を６０重量％、ＴｉＣを４０重量％として製造されるのが好適とされている。しかし、この基板では単一相の構造とはならず、エッチング面上に構成材料の粒子が浮き出て凹凸が生じてしまうため、エッチング面の表面平滑性の低下を招いていた。本発明の磁気ヘッド用基板材料を用いて製造された磁気ヘッド用基板では、ＴｉＣＮのほぼ単一相で構成されるため、エッチング面上の凹凸が低減され、エッチング面の表面平滑性が向上される。
【００１１】
本発明の磁気ヘッド用基板材料は、実質的にＡｌ2Ｏ3を含まず、ＴｉＣＮとＴｉＯ２とを含む非磁性材料からなることを特徴とするものである。
【００１２】
本発明によれば、ＴｉＣＮと共にＴｉＯ２を含ませたことにより、ＴｉＯ２が焼結助剤として機能するため焼結性が向上する。また、焼結後に得られる磁気ヘッド用基板は、ＴｉＣＯＮを含む焼結体から構成されるため、ＴｉＣを含んだ磁気ヘッド用基板材料を用いた場合よりも低硬度なものとなり、上述した理由によりエアベアリング面をほぼ平坦にすることができる。さらに、焼結して得られた磁気ヘッド用基板は、ＴｉＣＯＮのほぼ単一相の焼結体から構成されるため、構成材料の粒子が浮き出ることにより発生するエッチング面上の凹凸が低減され、エッチング面の表面平滑性が向上される。
【００１３】
この場合、非磁性材料中におけるＴｉＯ２の含有量が３０重量％以下であることが好ましい。これにより、焼結して得られた磁気ヘッド用基板中における、ＴｉＣＮと結合されずに残るＴｉＯ２の粒子の量を低減させることができるため、エッチング面上の凹凸が低減され、エッチング面の表面平滑性をより良好なものにすることができる。
【００１４】
本発明の磁気ヘッド用基板は、実質的にＡｌ2Ｏ3を含まず、ＴｉＣＮを含む焼結体を有することを特徴とするものである。
【００１５】
本発明によれば、ＴｉＣＮを含む焼結体から構成された磁気ヘッド用基板としたため、ＴｉＣを含んだ焼結体から構成された磁気ヘッド用基板よりも低硬度なものとなる。したがって、エアベアリング面を形成する際のラッピング工程において、磁気ヘッド用基板の削れ量を磁気ヘッド用基板上の薄膜積層体の削れ量と同程度にすることができるため、エアベアリング面をほぼ平坦にすることができる。また、本発明の磁気ヘッド用基板では、ＴｉＣＮのほぼ単一相で構成されるため、エッチング面上の凹凸が低減され、エッチング面の表面平滑性が向上される。
【００１６】
この場合、ＴｉＣＮのＮの組成比が５０％以上９０％以下であることが好ましい。これにより、エッチング面の表面平滑性およびエアベアリング面をより最適な状態とすることができる。
【００１７】
本発明の磁気ヘッド用基板は、実質的にＡｌ2Ｏ3を含まず、ＴｉＣＯＮを含む焼結体を有することを特徴とするものである。
【００１８】
本発明によれば、ＴｉＣＯＮを含む焼結体から構成されるため、ＴｉＣを含んだ磁気ヘッド用基板材料を用いた場合よりも低硬度なものとなり、上述した理由によりエアベアリング面をほぼ平坦にすることができる。さらに、ＴｉＣＯＮのほぼ単一相の焼結体から構成されるため、構成材料の粒子が浮き出ることにより発生するエッチング面上の凹凸が低減され、エッチング面の表面平滑性が向上される。
【００１９】
この場合、ＴｉＣＯＮのＮの組成比が５０％以上９０％以下であることが好ましい。これにより、エッチング面の表面平滑性およびエアベアリング面をより最適な状態とすることができる。
【００２０】
また、焼結体には３０重量％以下の含有量でＴｉＯ２が含まれていることが好ましい。これにより、磁気ヘッド用基板におけるエッチング面の表面平滑性を良好なものにすることができる。
【００２１】
本発明の磁気ヘッド用基板は、ＴｉＣＮおよびＡｌ2Ｏ3を含む焼結体を有し、Ａｌ2Ｏ3の含有量は１０重量％以下であることを特徴とするものである。
【００２２】
本発明によれば、ＴｉＣＮを含む焼結体から構成された磁気ヘッド用基板としたため、ＴｉＣを含んだ焼結体から構成された磁気ヘッド用基板よりも低硬度なものとなり、エアベアリング面を段差の低減された良好な状態にすることができる。また、Ａｌ2Ｏ3の含有量が１０重量％以下となっていることにより、磁気ヘッド用基板がＴｉＣＮのほぼ単一相の焼結体から構成されるため、エッチング面上の凹凸が低減され、エッチング面の表面平滑性が向上される。
【００２３】
本発明の磁気ヘッド用基板は、ＴｉＣＯＮおよびＡｌ2Ｏ3を含む焼結体を有し、Ａｌ2Ｏ3の含有量は１０重量％以下であることを特徴とするものである。
【００２４】
本発明によれば、ＴｉＣＯＮを含む焼結体から構成された磁気ヘッド用基板としたため、ＴｉＣを含んだ焼結体から構成された磁気ヘッド用基板よりも低硬度なものとなり、エアベアリング面を段差の低減された良好な状態にすることができる。また、Ａｌ2Ｏ3の含有量が１０重量％以下となっていることにより、磁気ヘッド用基板がＴｉＣＯＮのほぼ単一相の焼結体から構成されるため、エッチング面上の凹凸が低減され、エッチング面の表面平滑性が向上される。
【００２５】
また、Ａｌ2Ｏ3の含有量が２重量％であることが好ましい。これにより、ＴｉＣＮまたはＴｉＣＯＮを主体としたほぼ完全な単一相の材料で磁気ヘッド用基板が構成されることとなるため、エッチング面の表面平滑性が更に向上される。
【００２６】
本発明のヘッドスライダは、実質的にＡｌ2Ｏ3を含まず、ＴｉＣＮを含む焼結体によって構成された基台と、基台上に形成され、記録媒体に対して記録及び／又は再生を行う薄膜磁気ヘッドと、を有することを特徴とするものである。
【００２７】
また、本発明のヘッドスライダは、実質的にＡｌ2Ｏ3を含まず、ＴｉＣＯＮを含む焼結体によって構成された基台と、基台上に形成され、記録媒体に対して記録及び／又は再生を行う薄膜磁気ヘッドと、を有することを特徴とするものである。
【００２８】
このような本発明に係るヘッドスライダによれば、ＴｉＣを含んだ焼結体から構成された基台を用いた場合よりも、エッチング面の表面平滑性が向上されていると共に、エアベアリング面が段差の低減されたほぼ平坦な状態とすることができる。
【００２９】
この場合、焼結体には３０重量％以下の含有量でＴｉＯ２が含まれていることが好ましい。これにより、焼結性を良好なものとすることができるので、焼結体の剥離を防止することができる。
【００３０】
本発明のヘッドスライダは、ＴｉＣＮおよびＡｌ2Ｏ3を含む焼結体によって構成され、Ａｌ2Ｏ3の含有量が１０重量％以下である基台と、基台上に形成され、記録媒体に対して記録及び／又は再生を行う薄膜磁気ヘッドと、を有することを特徴とするものである。
【００３１】
また、本発明のヘッドスライダは、ＴｉＣＯＮおよびＡｌ2Ｏ3を含む焼結体によって構成され、Ａｌ2Ｏ3の含有量が１０重量％以下である基台と、基台上に形成され、記録媒体に対して記録及び／又は再生を行う薄膜磁気ヘッドと、を有することを特徴とするものである。
【００３２】
このような本発明に係るヘッドスライダは、ＴｉＣを含んだ焼結体から構成された磁気ヘッド用基板を用いた場合よりも、エッチング面の表面平滑性が向上されていると共に、エアベアリング面を段差の低減されたほぼ平坦な状態とすることができる。
【００３３】
この場合、Ａｌ2Ｏ3の含有量が２重量％であることが好ましい。これにより、ＴｉＣＮまたはＴｉＣＯＮを主体としたほぼ完全な単一相の材料で磁気ヘッド用基板が構成されることとなるため、エッチング面の表面平滑性が更に向上される。
【００３４】
本発明の磁気ヘッド用基板の製造方法は、実質的にＡｌ2Ｏ3を含まず、ＴｉＣＮを含む非磁性材料を準備するステップと、非磁性材料を焼結するステップと、を含むことを特徴とするものである。
【００３５】
本発明によれば、従来のヘッドスライダのようにＴｉＣを含んだ磁気ヘッド用基板材料から形成された磁気ヘッド用基板よりも低硬度な磁気ヘッド用基板を得ることができる。したがって、エアベアリング面を形成する際のラッピング工程において、基板の削れ量を基板上の薄膜積層体の削れ量と同程度にすることができるため、エアベアリング面をほぼ平坦にすることができる。また、本発明の製造方法によれば、ＴｉＣＮのほぼ単一相で構成された磁気ヘッド用基板を得ることができるため、構成材料の粒子が浮き出ることにより発生するエッチング面上の凹凸が低減され、エッチング面の表面平滑性を向上させることができる。
【００３６】
本発明の磁気ヘッド用基板の製造方法は、実質的にＡｌ2Ｏ3を含まず、ＴｉＣＮとＴｉＯ２とを含む非磁性材料を準備するステップと、非磁性材料を焼結するステップと、を含むことを特徴とするものである。
【００３７】
本発明によれば、ＴｉＣＮと共にＴｉＯ２を含ませたことにより、ＴｉＯ２が焼結助剤として機能するため焼結性を向上させることができる。また、本発明の製造方法により得られる磁気ヘッド用基板は、ＴｉＣＯＮを含む焼結体から構成されるため、ＴｉＣを含んだ磁気ヘッド用基板材料を用いた場合よりも低硬度なものとなる。したがって、エアベアリング面を形成する際のラッピング工程において、基板の削れ量を基板上の薄膜積層体の削れ量と同程度にすることができるため、エアベアリング面をほぼ平坦にすることができる。さらに、ＴｉＣＯＮのほぼ単一相で構成された磁気ヘッド用基板を得ることができるため、構成材料の粒子が浮き出ることにより発生するエッチング面上の凹凸が低減され、エッチング面の表面平滑性を向上させることができる。
【００３８】
この場合、非磁性材料中におけるＴｉＯ２の含有量が３０重量％以下であることが好ましい。これにより、得られた磁気ヘッド用基板中における、ＴｉＣＮと結合されずに残るＴｉＯ２の粒子の量を低減させることができるため、エッチング面の表面平滑性をより良好なものにすることができる。
【発明の効果】
【００３９】
本発明よれば、エッチング面の表面平滑性の向上、およびエアベアリング面の段差の低減を図ることができる磁気ヘッド用基板材料、磁気ヘッド用基板、ヘッドスライダおよび磁気ヘッド用基板の製造方法を提供することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４０】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明において、同一または相当要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
【００４１】
以下に説明する本発明のヘッドスライダ１１は、薄膜磁気ヘッド１０を有し、ハードディスク（記録媒体）を備えたハードディスク装置に搭載されるものである。このハードディスク装置は、高速回転するハードディスクの記録面に、薄膜磁気ヘッド１０によって磁気情報を記録及び再生するようになっている。
【００４２】
図１は、本発明の実施形態に係るヘッドスライダの拡大斜視図である。ヘッドスライダ１１は、略直方体形状をなし、基台１１ａ上に、薄膜磁気ヘッド１０が形成されている。同図における手前側の面は、ハードディスクの記録面に対向する記録媒体対向面であり、エアベアリング面（ＡＢＳ：Air Bearing Surface）Ｓと称される。ハードディスクが回転する際、この回転に伴う空気流によってヘッドスライダ１１が浮上し、エアベアリング面Ｓはハードディスクの記録面から離隔する。薄膜磁気ヘッド１０には記録用パッド１８ａ，１８ｂ及び再生用パッド１９ａ，１９ｂが取り付けられている。このようなヘッドスライダ１１は、ジンバル１２に搭載され、図示しないサスペンションアームに接続されることによりヘッドジンバルアセンブリを構成する。エアベアリング面Ｓには、ＤＬＣ（Diamond Like Carbon）等のコーティングを施してもよい。なお、薄膜磁気ヘッド１０、記録用パッド１８ａ，１８ｂおよび再生用パッド１９ａ，１９ｂは、基台１１ａ上に埋設された状態で形成されるが、認識しやすさを考慮して、図１ではこれらを実線で示している。
【００４３】
図２は、薄膜磁気ヘッド１０におけるエアベアリング面Ｓに対して垂直な方向の概略図である。薄膜磁気ヘッド１０は、基台１１ａ上に複数の薄膜を積層した構造を有し、再生用のＧＭＲ素子（磁気抵抗効果素子；Giant Magneto Resistive）４０を有する再生ヘッド部３０と、書込み用の誘導型の電磁変換素子としての記録ヘッド部６０とを積層した複合型薄膜磁気ヘッドとなっている。ＧＭＲ素子は、磁気抵抗変化率が高い巨大磁気抵抗効果を利用したものである。
【００４４】
記録ヘッド部６０は、いわゆる面内記録方式を採用しており、下部磁極（第１の磁極）６１と、ＧＭＲ素子４０との間に下部磁極６１を挟むとともに下部磁極６１に磁気的に連結された上部磁極（第２の磁極）６４と、一部が下部磁極６１と上部磁極６４との間に位置する薄膜コイル７０とを主として備えている。上部磁極６４は、エアベアリング面Ｓ側に位置する磁極部分層６４ａと、これに接続されると共に薄膜コイル７０の上方を迂回するヨーク部分層６４ｂとから構成されている。
【００４５】
なお、薄膜磁気ヘッドを面内記録方式ではなく、垂直記録方式としてもよい。また、再生ヘッド部において、ＧＭＲ素子の代わりに、異方性磁気抵抗効果を利用するＡＭＲ（Anisotropy Magneto Resistive）素子、トンネル接合で生じる磁気抵抗効果を利用するＴＭＲ（Tunnel-type Magneto Resistive）素子等を利用してもよい。
【００４６】
以上のようなヘッドスライダ１１は、図３に示すようなウェハ状の磁気ヘッド用基板１２上に、再生ヘッド部３０や記録ヘッド部６０を始めとする各種の層を周知の手法によって積層した後、例えば図３中の点線で示したように所定の形状・大きさに切断することにより製造される。基台１１ａは、磁気ヘッド用基板１２が切断された後の状態のものである。
【００４７】
本実施形態では、ＴｉＣＮの原料、またはＴｉＣＮおよびＴｉＯ２の原料を含む磁性材料を用い、以下のようにして磁気ヘッド用基板１２を製造する。すなわち、ＴｉＣＮの原料、またはＴｉＣＮおよびＴｉＯ２の原料の粉末を、ボールミルを用い、例えば、Ａｒ等の雰囲気下で平均粒径が１μｍ以下となるまで粉砕し、磁気ヘッド用基板１２の原料粉末を得る。ＴｉＣＯＮを用いて磁気ヘッド用基板を作製する場合は、ＴｉＣＮとＴｉＯ２の粉末をそれぞれ所望の分量となるように配合し、次にボールミルによりＡｒ等の雰囲気下で混合し、その後、７００℃〜１５００℃で焼成することによりＴｉＣＯＮを作製する。そして、再びボールミルで１μｍ以下となるように粉砕する（例えばＡｒ雰囲気下）。
【００４８】
次に、以上のよう粉砕して得られた原料粉末を所定の寸法を有する金型でプレス成形し、得られた成形体を例えばＮ（窒素）等の非酸化性の雰囲気で予備焼結を行う。そして、予備焼結によりある程度焼結された成形体にＨＩＰ（Hot Isostatic Pressing：熱間静水圧成形）処理を施して組織が理論値近くまで緻密化された焼結体を得る。その後必要に応じて得られた焼結体に焼鈍処理を施すことにより、図３に示すような磁気ヘッド用基板１２が得られる。こうして得られた磁気ヘッド用基板１２は、ＴｉＣを含んだ磁気ヘッド用基板材料を用いた場合よりも低硬度となる。
【００４９】
ところで、ヘッドスライダは、その製造過程で、エアベアリング面Ｓを形成するためのラッピング工程を経る。このラッピング工程では、基台とその上に積層された薄膜磁気ヘッドとを同時に積層方向と交差する方向（図２の矢印Ｘの方向）に研磨する。このとき、磁気ヘッド用基板がＴｉＣを含んだ磁気ヘッド用基板材料を用いて製造されている場合、磁気ヘッド用基板が薄膜磁気ヘッドよりも硬くなるため、ラッピングレートが異なり、削れ量に差がでてしまう。すると、図４に示すように、基台２１よりも薄膜磁気ヘッド１０の方がより多く削れてしまい、エアベアリング面Ｓに段差Ｄが生じてしまう。図４は、エアベアリング面Ｓに対して垂直な方向の概略断面図である。
【００５０】
これに対し、本実施形態に係る上記の磁気ヘッド用基板１２は、ＴｉＣを含んだ磁気ヘッド用基板材料を用いた場合よりも低硬度となるため、磁気ヘッド用基板１２の削れ量を薄膜磁気ヘッド１０とほぼ同程度にすることができるため、図４に示す段差Ｄを低減することができ、エアベアリング面Ｓをほぼ平坦な状態に研磨することができる。
【００５１】
また、磁気ヘッド用基板１２は、ＴｉＣＮまたはＴｉＣＯＮのほぼ単一相で構成されるため、構成材料の粒子が浮き出ることにより発生するエッチング面上の凹凸が低減され、エッチング面の表面平滑性が向上される。
【００５２】
さらに、ＴｉＣＮと共にＴｉＯ２を含ませた場合の磁気ヘッド用基板材料にあっては、ＴｉＯ２が焼結助剤として機能するため焼結性が向上する。また、この磁気ヘッド用基板材料を焼結して得た磁気ヘッド用基板１２は、ＴｉＣＯＮを含む焼結体から構成される。このように、Ｏを含むことによってＴｉＣＮを含む焼結体から構成される磁気ヘッド用基板よりも更に低硬度となる。
【実施例】
【００５３】
以下、実施例及び比較例を挙げ、表１〜表５を参照して本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
【００５４】
本実施例では、構成材料の異なる磁気ヘッド用基板を上述した方法により製造し、それぞれについて、ビッカース硬度（Ｈｖ）、イオンミリング性（エッチング面の表面粗さＲａ）、ＲＩＥ性（エッチング面の表面粗さＲａ）、およびその磁気ヘッド用基板を用いて製造したヘッドスライダのエアベアリング面の段差Ｄを測定した。
【００５５】
まず、比較例１として、従来の主流である６０重量％のＡｌ２Ｏ３と４０重量％のＴｉＣとによって製造された磁気ヘッド用基板について上記各数値を測定した結果を表１に示す。
【００５６】
【表１】
2005182958.tif 000003
【００５７】
次に、実施例１として、本発明に係る、ＴｉＣＯＮと３０重量％のＴｉＯ２とによって形成された磁気ヘッド用基板について上記各数値を測定した結果を表２に示す。表２には、ＴｉＣＯＮのＣＯＮの比率（Ｃ／Ｏ／Ｎ）を変化させたサンプルについて上記各数値を測定した結果を示している。
【００５８】
【表２】
2005182958.tif 000004
【００５９】
表２に示すように、本実施例１では、すべてのサンプルにおいて、ビッカース硬度が比較例１よりも低減されていることが確認された。その結果、エアベリング面の段差Ｄは、いずれのサンプルも比較例１より小さくなっている。これは、ビッカース硬度の低下により、磁気ヘッド用基板の削れ量（ラッピングレート）と磁気ヘッド用基板上の薄膜積層体（薄膜磁気ヘッド）の削れ量との差が縮められたためと推察される。
【００６０】
また、イオンミリング性についても、実施例１のすべてのサンプルにおいて比較例１に比して向上（低減）されていることが確認された。ＲＩＥ性については、Ｃ／Ｏ／Ｎ比が０／０／１０と１／５／４のとき、比較例１と同じ１．０ｎｍとなっているが、それ以外のＣ／Ｏ／Ｎ比では、比較例１よりも低減されていることが確認された。
【００６１】
次に、実施例２として、本発明に係る、ＴｉＣＯＮと１０重量％のＡｌ２Ｏ３とによって形成された磁気ヘッド用基板について上記各数値を測定した結果を表３に示す。表３も同様に、ＴｉＣＯＮのＣＯＮの比率（Ｃ／Ｏ／Ｎ）を変化させたサンプルについて上記各数値を測定した結果を示している。
【００６２】
【表３】
2005182958.tif 000005
【００６３】
表３に示すように、本実施例２においても、すべてのサンプルにおいて、ビッカース硬度が比較例１よりも低減されていることが確認された。その結果、エアベリング面の段差Ｄは、全体的に比較例１より小さくなっていることが確認された。しかし、Ｃ／Ｏ／Ｎ比が０／０／１０と１／５／４のときでは比較例１と同じ６．０ｎｍを示し、Ｃ／Ｏ／Ｎ比が７／０／３のときでは、比較例１に近い値（５．０ｎｍ）を示した。
【００６４】
また、イオンミリング性については、Ｃ／Ｏ／Ｎ比が７／０／３のとき、比較例１と同じ１．２ｎｍを示し、Ｃ／Ｏ／Ｎ比が１／５／４のときでは、比較例１に近い値（１．０ｎｍ）を示すことが確認された。それ以外のＣ／Ｏ／Ｎ比では、１．０ｎｍ以下となった。
【００６５】
ＲＩＥ性については、Ｃ／Ｏ／Ｎ比が１／５／４のとき、比較例１より大きい１．５ｎｍを示し、Ｃ／Ｏ／Ｎ比が０／０／１０と７／０／３のとき、比較例１と同じ１．０ｎｍを示したが、それ以外のＣ／Ｏ／Ｎ比では、１．０ｎｍ以下を示し、比較例１よりも低減されていることが確認された。
【００６６】
次に、比較例２として、ＴｉＣＯＮと２０重量％のＡｌ２Ｏ３とによって形成された磁気ヘッド用基板について上記各数値を測定した結果を表４に示す。表４では、Ｃ／Ｏ／Ｎ比が１／０／９であるＴｉＣＯＮについて上記各数値を測定した結果を示している。
【００６７】
【表４】
2005182958.tif 000006
【００６８】
表４に示すように、本比較例２では、ビッカース硬度が比較例１の１／３程度にまで低下しており、段差Ｄが比較例１よりも大きな値（７．０ｎｍ）となった。これは、ビッカース硬度が低下しすぎたために、磁気ヘッド用基板の削れ量（ラッピングレート）が磁気ヘッド用基板上の薄膜積層体（薄膜磁気ヘッド）の削れ量を上回ってしまったためと推察される。
【００６９】
また、イオンミリング性では１．５ｎｍを示し、ＲＩＥ性では１．８ｎｍを示しており、共に比較例１よりも悪化した結果となった。これは、Ａｌ２Ｏ３の割合が多いために、エッチング面上に浮き上がるＡｌ２Ｏ３粒子が多くなり、エッチング面に凹凸が多く形成されるためと推察される。
【００７０】
次に、比較例３として、ＴｉＣＯＮと１５重量％のＡｌ２Ｏ３とによって形成された磁気ヘッド用基板について上記各数値を測定した結果を表５に示す。表５においても、Ｃ／Ｏ／Ｎ比が１／０／９であるＴｉＣＯＮについて上記各数値を測定した結果を示す。
【００７１】
【表５】
2005182958.tif 000007
【００７２】
本比較例３では、表５に示すように、ビッカース硬度が９５０ｎｍと比較例１の半分以下となり、段差Ｄが５．０となった。磁気ヘッド用基板の削れ量と磁気ヘッド用基板上の薄膜積層体（薄膜磁気ヘッド）との削れ量の差を十分に近づけられるほどのビッカース硬度を有するには至らなかったためと推察される。
【００７３】
また、イオンミリング性では１．５ｎｍを示し、ＲＩＥ性では１．８ｎｍを示し、共に比較例１よりも悪化した。これは、本比較例３は、上記比較例２よりもＡｌ２Ｏ３の割合を低下されてはいるが十分ではなく、エッチング面上に浮き上がるＡｌ２Ｏ３粒子が依然多いためと推察される。
【００７４】
以上のように、本発明に係る磁気ヘッド用基板では、イオンミリング性、ＲＩＥ性およびその磁気ヘッド用基板を用いて製造したヘッドスライダのエアベアリング面の段差Ｄが、従来の主流であるＡｌ２Ｏ３（６０重量％）とＴｉＣ（４０重量％）とから形成される磁気ヘッド用基板に比べ向上することが確認された。また、Ｎの組成比が５０％〜９０％であるとき、イオンミリング性、ＲＩＥ性および段差Ｄのすべてがバランスよく向上されることが確認された。
【００７５】
なお、上記表２〜表６において、Ｏの組成比が０となっているサンプルがあるが、これは、Ｏの組成比が１％未満となっているためである。また、原料の粉砕・混合工程に使用されるボールミルにより、実施例１，２共に１重量％以下のＡｌ２Ｏ３が混入されている。
【図面の簡単な説明】
【００７６】
【図１】本発明の実施形態に係るヘッドスライダの拡大斜視図である。
【図２】薄膜磁気ヘッドにおけるエアベアリング面に対して垂直な方向の概略図である。
【図３】本発明の実施形態に係る磁気ヘッド基板を示す斜視図である。
【図４】エアベアリング面に対して垂直な方向の概略断面図である。
【符号の説明】
【００７７】
１０…薄膜磁気ヘッド、１１…ヘッドスライダ、１１ａ…基台、１２…磁気ヘッド用基板、Ｄ…段差、Ｓ…エアベアリング面。
【図１】
2005182958.tif 000008
【図２】
2005182958.tif 000009
【図３】
2005182958.tif 000010
【図４】
2005182958.tif 000011