(57)【要約】【課題】装置構成の複雑化を回避しながら、半導体レーザ素子の発光波長を可及的に安定化できる光源装置を提供する。【解決手段】半導体レーザ素子３１ａと光入射端近くにファイバブラッググレーティングを形成した光ファイバ３２とを備えたレーザモジュールＬＭと、そのレーザモジュールＬＭから離間した状態で前記半導体レーザ素子３１ａ及び前記光ファイバ３２における前記ファイバブラッググレーティングの形成箇所を覆う筒状熱伝導部３３と、その筒状熱伝導部３３を加熱又は冷却するための加熱装置ＨＥ又は冷却装置ＣＥとが設けられた光源装置において、前記筒状熱伝導部３３の一部と前記レーザモジュールＬＭにおける半導体レーザ素子３１ａの設置箇所付近とを熱的に連結するための連結熱伝導部ＨＣが設けられている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体レーザ素子と光入射端近くにファイバブラッググレーティングを形成した光ファイバとを備えたレーザモジュールと、そのレーザモジュールから離間した状態で前記半導体レーザ素子及び前記光ファイバにおける前記ファイバブラッググレーティングの形成箇所を覆う筒状熱伝導部と、その筒状熱伝導部を加熱又は冷却するための加熱装置又は冷却装置とが設けられた光源装置であって、
前記筒状熱伝導部の一部と前記レーザモジュールにおける半導体レーザ素子の設置箇所付近とを熱的に連結するための連結熱伝導部が設けられている光源装置。
【請求項２】
前記連結熱伝導部は、前記筒状熱伝導部における前記半導体レーザ素子側の端部に配置され、
前記加熱装置又は前記冷却装置が、前記筒状熱伝導部における前記半導体レーザ素子側の端部に対して加熱作用又は冷却作用し、その加熱作用又は冷却作用が他端側へと伝えられるように構成されている請求項１記載の光源装置。
【請求項３】
前記光ファイバから出射されたレーザ光の第２高調波を生成する第２高調波発生素子が設けられている請求項１又は２記載の光源装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体レーザ素子と光入射端近くにファイバブラッググレーティングを形成した光ファイバとを備えたレーザモジュールと、そのレーザモジュールから離間した状態で前記半導体レーザ素子及び前記光ファイバにおける前記ファイバブラッググレーティングの形成箇所を覆う筒状熱伝導部と、その筒状熱伝導部を加熱又は冷却するための加熱装置又は冷却装置とが設けられた光源装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
かかる光源装置は、半導体レーザ素子の出射レーザ光を光ファイバにて取り出して、種々の目的の利用に供する装置であり、光ファイバは、それの光入射端に効率良く半導体レーザ素子の出射光が入射されるように適正に位置決めされて、半導体レーザ素子と共にレーザモジュールとしてモジュール化されている。
半導体レーザ素子は、雰囲気温度等の動作条件によって発光波長が大きく変化する特質を有するため、発光波長が安定していることが要求される用途には発光波長を安定化させる機構を組み込んで使用される。
この半導体レーザ素子の発光波長安定化のためには、単に半導体レーザ素子の動作温度を一定温度に制御するだけでは不十分であるため、更に、下記特許文献１に記載のような、光ファイバにファイバブラッググレーティングを形成する技術等と組み合わせて使用される。
ファイバブラッググレーティングは、設定波長の光を選択的に反射する機能を有するため、ファイバグラッググレーティングを半導体レーザ素子の外部ミラーとして作用させると、半導体レーザ素子の発光波長がその選択的に反射される波長に安定化される。
【０００３】
ところで、半導体レーザ素子の発光波長の温度依存性ほどではないが、ファイバブラッググレーティングの特性も温度依存性を有し、ファイバブラッググレーティングの雰囲気温度の変化によって、半導体レーザ素子の発光波長が微妙に変動する。
これは、光ファイバの熱膨張によって、ファイバブラッググレーティングの屈折率変化の周期が変化するためと考えられる。
従って、半導体レーザ素子の発光波長を高精度に安定化させるためには、半導体レーザ素子の温度の安定化のみならず、光ファイバのファイバブラッググレーティングの形成箇所の温度の安定化も必要となる。
【０００４】
半導体レーザ素子及びファイバブラッググレーティングの温度を安定化させるための構成としては、従来、これらが比較的近接して配置されていることもあって、図６に示すように、半導体レーザ素子１０１ａを収納したレーザ筐体１０１及び光ファイバ１０２におけるファイバブラッググレーティングの形成箇所（図６において矢印Ｂにて示す領域）を覆う筒状熱伝導部１０３を備えて、その筒状熱伝導部１０３を支持台１０４を介して加熱装置又は冷却装置（図６では、熱電冷却装置１０５を例示）にて加熱又は冷却する構成が考えられている。筒状熱伝導部１０３及び支持台１０４は、当然に、熱電冷却装置１０５による加熱作用又は冷却作用を効率良く伝達する必要があり、一般的には、アルミニウムあるいは銅等の熱伝導率の高い金属にて形成される。
この構成では、筒状熱伝導部１０３とレーザモジュールＬＭとが接触して、レーザモジュールＬＭに意図しない温度分布が発生してしまうのを防止する等のために、筒状熱伝導部の内面をレーザモジュールから離間させて、狭い領域の恒温槽を形成するのに相当する状態で温度を安定化している。
尚、図６においては、半導体レーザ素子１０１ａ及び光ファイバ１０２を主要部とするレーザモジュールＬＭを、回路基板１０６にて支持しており、この回路基板１０６がレーザモジュールＬＭと支持台１０４の双方に接触しているが、回路基板１０６自体は熱伝導率が低く、熱的にはレーザモジュールＬＭと筒状熱伝導部１０３とを事実上断絶している。
【特許文献１】特開２００３−１８８４６９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記従来構成では、半導体レーザ素子の光出力が速い速度で大きく変動したときに、半導体レーザ素子の発光波長が必ずしも安定せず、安定状態に復帰するまでに比較的長い時間を要する場合があった。
本発明は、かかる実情に鑑みてなされたものであって、その目的は、装置構成の複雑化を回避しながら、半導体レーザ素子の発光波長を可及的に安定化できる光源装置を提供する点にある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本出願の第１の発明は、半導体レーザ素子と光入射端近くにファイバブラッググレーティングを形成した光ファイバとを備えたレーザモジュールと、そのレーザモジュールから離間した状態で前記半導体レーザ素子及び前記光ファイバにおける前記ファイバブラッググレーティングの形成箇所を覆う筒状熱伝導部と、その筒状熱伝導部を加熱又は冷却するための加熱装置又は冷却装置とが設けられた光源装置において、前記筒状熱伝導部の一部と前記レーザモジュールにおける半導体レーザ素子の設置箇所付近とを熱的に連結するための連結熱伝導部が設けられている。
【０００７】
すなわち、半導体レーザ素子の光出力が速い速度で大きく変化した場合、半導体レーザ素子の発熱状態も速い速度で大きく変化して、筒状熱伝導部によって恒温槽に類する温度制御を行う手法のみでは半導体レーザ素子の温度変化に対応できず、半導体レーザ素子の発光波長が比較的長い時間に亘って変動してしまう。
そこで、筒状熱伝導部を備えて、あくまでも恒温槽に類する温度制御を基本としながらも、半導体レーザ素子の存在箇所近くに対して、局所的に、加熱装置又は冷却装置による加熱作用又は冷却作用を積極的に作用させて、半導体レーザ素子の速い発熱状態の変化に対応できるようにしたのである。
しかも、半導体レーザ素子に対して加熱作用又は冷却作用する装置は、筒状熱伝導部の加熱又は冷却のための装置を流用しているので、装置構成の複雑化を回避できる。
【０００８】
又、本出願の第２の発明は、上記第１の発明の構成に加えて、前記連結熱伝導部は、前記筒状熱伝導部における前記半導体レーザ素子側の端部に配置され、前記加熱装置又は前記冷却装置が、前記筒状熱伝導部における前記半導体レーザ素子側の端部に対して加熱作用又は冷却作用し、その加熱作用又は冷却作用が他端側へと伝えられるように構成されている。
従って、加熱装置又は冷却装置は、前記筒状熱伝導部の端部に集中して加熱作用又は冷却作用するだけで良く、加熱装置又は冷却装置の加熱作用又は冷却作用の伝達経路を簡略化できると共に、半導体レーザ素子の設置箇所に対しては効率良く加熱作用又は冷却作用できるものとなっている。
【０００９】
又、本出願の第３の発明は、上記第１又は第２の発明の構成に加えて、前記光ファイバから出射されたレーザ光の第２高調波を生成する第２高調波発生素子が設けられている。
すなわち、第２高調波発生素子は、第２高調波への変換効率が大きく波長に依存するため、半導体レーザ素子を第２高調波発生素子用の光源とする場合は、半導体レーザ素子の発光波長を高度に安定化することが要求される。
そこで、上述のように半導体レーザ素子及び光ファイバにおけるファイバブラッググレーティングの形成箇所の温度を管理することが特に好適となる。
【発明の効果】
【００１０】
上記第１の発明によれば、恒温槽に類する温度制御を基本としながらも、発熱状態の変化が激しい半導体レーザ素子の存在箇所近くに対しては、局所的に、加熱作用又は冷却作用を積極的に作用させて、半導体レーザ素子の速い発熱状態の変化に対応させることで、半導体レーザ素子の温度を迅速に安定化でき、もって、加熱装置又は冷却装置を兼用することで構成の複雑化を回避しながら、半導体レーザ素子の発光波長を可及的に安定化できる光源装置を提供できるに至った。
又、上記第２の発明によれば、加熱装置又は冷却装置の加熱作用又は冷却作用の伝達経路を簡略化できると共に、半導体レーザ素子の設置箇所に対して効率良く加熱作用又は冷却作用でき、より一層、装置構成の複雑化を回避しながら、半導体レーザ素子の発光波長を可及的に安定化できる光源装置を提供できるものとなった。
又、上記第３の発明によれば、半導体レーザ素子の発光波長を高度に安定化して、高効率で第２高調波を得ることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１１】
以下、本発明の光源装置を写真プリントシステムにおける露光用の光源として備えた場合の実施の形態を図面に基づいて説明する。
本実施の形態で例示する写真プリントシステムＤＰは、いわゆるデジタルミニラボ機として知られているものであり、図５のブロック構成図に示すように、現像処理済みの写真フィルムやメモリーカード，ＭＯあるいはＣＤ−Ｒ等から写真プリントを作製するための画像データを入力する画像入力装置ＩＲと、画像入力装置ＩＲにて入力した画像データに基づいて印画紙２に露光処理する露光・現像装置ＥＰとから構成されている。
【００１２】
〔画像入力装置ＩＲの概略構成〕
画像入力装置ＩＲには、図５に概略的に示すように、写真フィルムの駒画像を読み取るフィルムスキャナ３と、メモリーリーダ，ＭＯドライブ及びＣＤ−Ｒドライブ等を備えた外部入出力装置４と、パーソナルコンピュータにて構成されてフィルムスキャナ３や外部入出力装置４の制御のほか写真プリントシステムＤＰ全体の管理を実行する主制御装置５とが備えられ、更に、主制御装置５には、仕上がりプリント画像をシミュレートしたシミュレート画像や各種の制御用の情報を表示するモニタ５ａと、露光条件の手動設定等や制御情報の入力操作をするための操作卓５ｂとが接続されている。
【００１３】
〔露光・現像装置ＥＰの全体構成〕
露光・現像装置ＥＰは、筐体内部に、画像露光装置ＥＸと、画像露光装置ＥＸにて露光された印画紙２を現像処理する現像処理装置ＰＰと、印画紙マガジン６から引き出された印画紙２を多数の搬送ローラ９等にて現像処理装置ＰＰへ搬送する印画紙搬送系ＰＴとが設けられている。
図示を省略するが、露光・現像装置ＥＰの筐体外部には、現像処理装置ＰＰにて現像処理及び乾燥処理された印画紙２をオーダ毎に分類するためのソータが備えられ、このソータへ印画紙２を搬送するコンベア１０が筐体上面に備えられている。
更に、印画紙搬送系ＰＴの搬送経路の途中には、印画紙マガジン６から引き出された長尺の印画紙２を設定プリントサイズに切断するカッタ１１と、印画紙２の搬送列を複数の搬送列に振り分けるための振り分け装置１２とが備えられている。
【００１４】
〔画像露光装置ＥＸの構成〕
画像露光装置ＥＸは、印画紙２に画像を露光形成する露光ユニット１３と、露光ユニット１３を制御する露光制御装置１４とを主要部として構成されている。
〔露光ユニット１３の構成〕
露光ユニット１３は、強度変調されたレーザビームを印画紙２上で走査して、印画紙２上に画像を露光形成するいわゆるレーザビーム露光式を採用しており、その概略構成を図４のブロック構成図に示す。
露光ユニット１３には、赤色光源装置２１と、緑色光源装置２２と、青色光源装置２３と、緑色光源装置２２及び青色光源装置２３から出射したレーザビームを強度変調するための音響光学変調素子２４（以下、「ＡＯＭ素子２４」と略記する）と、レーザビームの光路を屈曲させるミラー２５と、球面レンズ２６と、シリンドリカルレンズ２７と、図示を省略するモータにて回転駆動されるポリゴンミラー２８と、ｆ−θ特性と面倒れ補正機能とを有するレンズ群２９とが備えられている。
【００１５】
〔光源装置２１，２２，２３の構成〕
赤色光源装置２１は、図示を省略するが、赤色半導体レーザ素子と赤色半導体レーザ素子の出射光を集光する集光レンズとが備えられ、緑色光源装置２２及び青色光源装置２３と異なり、半導体レーザ素子の駆動電流を直接変調することによって出射レーザビームを強度変調している。
緑色光源装置２２と青色光源装置２３とは基本的な構成は共通であり、これらの構成を緑色光源装置２２によって代表して説明する。
図２の側面図及び図３の斜視図に示すように、緑色光源装置２２には、近赤外半導体レーザ装置２２ａと、近赤外半導体レーザ装置２２ａの出射レーザ光の第２高調波を生成する第２高調波発生装置２２ｂと、第２高調波発生装置２２ｂの出射光から基本波の波長成分すなわち近赤外半導体レーザ装置２２ａの出射レーザ光の波長成分を吸収除去すると共にビームスプリッタの機能を併せ持つフィルタユニット２２ｃと、フィルタユニット２２ｃを通過した第２高調波のレーザビームをＡＯＭ素子２４の受光開口に集光するための集光レンズユニット２２ｄとが備えられている。
【００１６】
近赤外半導体レーザ装置２２ａには、図１に示すように、半導体レーザ素子３１ａを収納したレーザ筐体３１及び光ファイバ３２を備えたレーザモジュールＬＭと、半導体レーザ素子３１ａ及び光ファイバ３２の光入射端近くを覆う筒状熱伝導部３３と、レーザ筐体３１の電極ピンが接続された回路基板３４と、レーザモジュールＬＭ，筒状熱伝導部３３及び回路基板３４を支持するレーザ支持台３５と、レーザ支持台３５を介して筒状熱伝導部３３を加熱又は冷却する熱電冷却装置３６とが備えられている。
熱電冷却装置３６は、通電方向によって加熱作用と冷却作用とに切り換えられるので、加熱装置ＨＥ及び冷却装置ＣＥの双方の機能を有している。
但し、本実施の形態のように、第２高調波発生素子用の光源として用いるときは、一般に室温よりも高温に設定される場合が多く、加熱装置ＨＥとして機能する場合が多い。
【００１７】
レーザモジュールＬＭに備えられる光ファイバ３２は、それの光入射端が半導体レーザ素子３１ａの光出射端面に対して適正位置に位置するように位置決めされており、光ファイバ３２における光入射端近く（図１において、矢印Ａにて示す領域）にはファイバブラッググレーティングが形成されている。
このファイバブラッググレーティングは、光ファイバ３２のコアの部分において光軸方向に一定周期で屈折率を変化させたものであり、ファイバブラッググレーティングの作用によって半導体レーザ素子３１ａの発光波長及び光出力を安定化している。
光ファイバ３２におけるファイバブラッググレーティングの形成箇所は、上述のように、筒状熱伝導部３３にて覆われて雰囲気温度が安定化されている。
【００１８】
筒状熱伝導部３３は、より具体的には、略円筒形状に形成されており、それの一端がレーザ支持台３５の薄肉部３５ｂに嵌合している。薄肉部３５ｂに嵌合した状態で、筒状熱伝導部３３は、レーザモジュールＬＭから離間した状態となっている。
レーザ支持台３５における薄肉部３５ｂの中央には、レーザ筐体３１の電極ピンを通すための開口３５ａが形成されており、開口３５ａの開口径は、レーザ筐体３１の直径よりも小径となるように設定されている。
従って、レーザ支持台３５の薄肉部３５ｂは、筒状熱伝導部３３及びレーザ筐体３１の双方と接触している。
レーザ筐体３１、筒状熱伝導部３３及びレーザ支持台３５は、例えばアルミニウム，銅あるいは鉄等の熱伝導の良好な金属にて形成されているので、レーザ支持台３５の薄肉部３５ｂは、筒状熱伝導部３３の一部とレーザモジュールＬＭにおける半導体レーザ素子３１ａの設置箇所付近とを熱的に連結するための連結熱伝導部ＨＣとして機能している。
【００１９】
又、前記連結熱伝導部ＨＣは、筒状熱伝導部３３における半導体レーザ素子３１ａ側の端部に配置され、熱電冷却装置３６が、筒状熱伝導部３３における半導体レーザ素子３１ａ側の端部に対して加熱作用又は冷却作用し、それが他端側へと伝えられるように構成しているので、筒状熱伝導部３３等を支持するレーザ支持台３５がシンプルな形状となっている。
しかも、前記連結熱伝導部ＨＣ（薄肉部３５ｂ）へは的確に加熱作用又は冷却作用することになり、半導体レーザ素子３１ａの発熱状態が急速に大きく変化しても、その変化に対応して、迅速に半導体レーザ素子３１ａの動作温度を安定化できる。
尚、図示を省略するが、前記薄肉部３５ｂのレーザモジュールＬＭ側の面には、熱電冷却装置３６による温度制御を行うための温度検出手段としてサーミスタが備えられている。
【００２０】
第２高調波発生装置２２ｂには、図２及び図３に示すように、細長い薄板状の第２高調波発生素子４１と、光ファイバ３２における第２高調波発生素子４１側の先端近くを保持するフェルール４４と、第２高調波発生素子４１の出射光をコリメートするコリメートレンズ４５と、コリメートレンズ４５を支持するコリメートレンズホルダ４６とが備えられ、フェルール４４，第２高調波発生素子４１及びコリメートレンズホルダ４６を共通の支持台４２にて支持している。
この支持台４２は、更に、熱電冷却装置４３に支持されている。
【００２１】
第２高調波発生素子４１は、光導波路型の第２高調波発生素子であり、図示を省略するが、第２高調波発生素子４１の長手方向全長に亘って形成される光導波路に周期分極反転構造が形成されている。この光導波路の光入射端に光ファイバ３２の光出射端が位置決めされている。
本実施の形態では、第２高調波発生素子４１の基板としてＬｉＮｂＯ３を用いており、光導波路はプロトン交換法等により形成し、周期分極反転構造は、電界印加法あるいはＴｉ拡散法等で周期的に分極を反転させることにより形成する。
【００２２】
フィルタユニット２２ｃは、第２高調波発生素子４１から出射される基本波の波長成分を吸収する赤外光吸収フィルタ５１と、赤外光吸収フィルタ５１を通過した第２高調波の一部を半導体レーザ素子３１ａの出力調整用のフォトダイオード５５に向けて反射するビームスプリッタ５２と、赤外光吸収フィルタ５１及びビームスプリッタ５２を支持するフィルタ支持台５３とが備えられている。
フィルタ支持台５３には、赤外光吸収フィルタ５１を通過した第２高調波をビームスプリッタ５２に向けて通過させる入射側貫通孔５３ａと、ビームスプリッタ５２で反射された第２高調波をフォトダイオード５５へ向けて通過させるための反射側貫通孔５３ｂとが形成されている。
【００２３】
第２高調波発生素子４１から出射されて赤外光吸収フィルタ５１へ入射した基本波及び第２高調波のうち、基本波は、赤外光吸収フィルタ５１の内部を通過する過程で吸収されて、実用上問題のない程度まで減衰し、一方、第２高調波は、赤外光吸収フィルタ５１の内部をほとんど減衰されずに通過してビームスプリッタ５２へ到達し、その一部が反射されてフォトダイオード５５へ向かうと共に、ビームスプリッタ５２を通過した他の部分は集光レンズユニット２２ｄへと向かう。
フォトダイオード５５の検出信号は、図示を省略するＡＰＣ回路へ入力されて、フォトダイオード５５の検出信号が一定値となるように半導体レーザ素子３１ａの駆動電流が調節される。
【００２４】
集光レンズユニット２２ｄには、図２に示すように、集光レンズ６１と、集光レンズ６１を支持するレンズホルダ６２と、レンズホルダ６２を支持するレンズ支持台６３とが備えられ、レンズ支持台６３には、ビームスプリッタ５２を透過した第２高調波を通過させるための貫通孔６３ａが形成されている。
近赤外半導体レーザ装置２２ａ，第２高調波発生装置２２ｂ及びフィルタユニット２２ｃは、支持板６５上に取り付けられ、更に、その支持板６５と集光レンズユニット２２ｄとが基礎支持板６６上に取り付けられている。
以上、緑色光源装置２２の構成として説明したが、上述のように、青色光源装置２３の構成要素は緑色光源装置２２の構成要素と共通であり、使用する半導体レーザ素子の発振波長や、第２高調波発生素子の周期分極反転構造の周期等の、光の波長に関する部分が異なる。
【００２５】
〔露光制御装置１４の構成〕
露光制御装置１４には、図４に概略的に示すように、上記構成の露光ユニット１３を制御するために、画像入力装置ＩＲから入力される赤色，緑色及び青色夫々の露光用画像データを露光ユニット１３の露光特性を考慮した画像データに補正するルックアップテーブル７１と、ルックアップテーブル７１にて補正された画像データを赤色，緑色及び青色の各色毎に記憶する画像データメモリ７２と、赤色，緑色及び青色の各色毎に備えられて画像データメモリ７２の出力データをＤ／Ａ変換するＤ／Ａコンバータ７３と、緑色及び青色についてＤ／Ａコンバータ７３からの入力信号に応じて変調されたＡＯＭ素子２４の駆動信号を生成するＡＯＭ制御回路７４と、赤色についてＤ／Ａコンバータ７３からの入力信号に応じて赤色光源装置２１の半導体レーザ素子の駆動電流を変調するＬＤ駆動回路７５とが備えられている。
【００２６】
オペレータが、フィルムスキャナ３あるいは外部入出力装置４からプリント対象の画像データを入力すると、適宜に画像処理等が施され、画像処理後の露光用画像データがルックアップテーブル７１へ送信される。
画像入力装置ＩＲから入力された赤色，緑色及び青色の露光用画像データに基づいて、ＡＯＭ素子２４及びＬＤ駆動回路７５にて強度変調された赤色，緑色及び青色のレーザビームは、各光学部品を通過してポリゴンミラー２８の反射面に照射され、回転駆動されているポリゴンミラー２８の反射面で反射されたレーザビームは、レンズ群２９によって印画紙２上に集光される。レーザビームの走査方向（主走査方向）は印画紙２の搬送方向（副走査方向）と直交しており、レーザビームの走査と印画紙２の搬送移動によって、印画紙２上にプリントする画像が潜像として形成される。これが現像処理装置ＰＰで現像処理されて写真プリントとして仕上がる。
【００２７】
〔別実施形態〕
以下、本発明の別実施形態を列記する。
（１）上記実施の形態では、連結熱伝導部ＨＣをレーザ支持台３５の一部として形成し、筒状熱伝導部３３をレーザ支持台３５と別体に構成する場合を例示しているが、連結熱伝導部ＨＣをレーザ支持台３５と別体に構成しても良いし、更には、連結熱伝導部ＨＣ及び筒状熱伝導部３３をレーザ支持台３５と一体形成して構成しても良い。
（２）上記実施の形態では、筒状熱伝導部３３を加熱又は冷却するために熱電冷却装置３６を備えて、加熱及び冷却の双方が可能な場合を例示しているが、これらのうちのいずれか一方の機能のみを有する加熱装置ＨＥあるいは冷却装置ＣＥを備えるように構成しても良い。
（３）上記実施の形態では、筒状熱伝導部３３を略円筒状に形成する場合を例示しているが、例えば角筒状に形成する等、具体的な形状は種々に変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の実施の形態にかかる要部側面図
【図２】本発明の実施の形態にかかる光源装置の側面図
【図３】本発明の実施の形態にかかる光源装置の斜視図
【図４】本発明の実施の形態にかかる画像露光装置の概略構成図
【図５】本発明の実施の形態にかかる写真プリントシステムの概略構成図
【図６】従来技術にかかる要部側面図
【符号の説明】
【００２９】
ＣＥ    冷却装置
ＨＣ    連結熱伝導部
ＨＥ    加熱装置
ＬＭ    レーザモジュール
３１ａ  半導体レーザ素子
３２    光ファイバ
３３    筒状熱伝導部
４１    第２高調波発生素子
【図１】
2005302793.tif 000003
【図２】
2005302793.tif 000004
【図３】
2005302793.tif 000005
【図４】
2005302793.tif 000006
【図５】
2005302793.tif 000007
【図６】
2005302793.tif 000008