(57)【要約】【課題】  大型で薄型のガラス基板などを搬送する際に、清浄な雰囲気で基板両面を撓むことなく非接触で保持し、両面を同時にウエット処理可能な基板搬送装置を提供する。【解決手段】  矩形状の枠からなるガラス基板保持部１０の内周側に保持されているガラス基板吸着ユニット２０によりガラス基板Ｇの端面または外周縁部を吸着格納してガラス基板Ｇを保持する。よって、ガラス基板Ｇをガラス基板保持部１０に非接触で撓みなく保持でき、搬送ユニット３０ａおよび搬送ガイド３０ｂによりガラス基板保持部１０ごと搬送する。【選択図】  図１Ａ
2005272113.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板形状に対応した正方形状、矩形状または円形状の枠体からなる基板保持部と、
該基板保持部の枠体内周側に配置され、該基板の端面または外周縁部を吸着格納可能とする基板吸着ユニットと、
該基板保持部を、該基板を吸着保持した基板吸着ユニットと共に搬送可能とする搬送ユニットとを備えた基板搬送装置。
【請求項２】
前記基板吸着ユニットは、前記基板保持部の枠体内周側に嵌合する吸着部材を有し、該嵌合部において該吸着部材が該基板保持部に対して基板外側および内側にスライド自在に構成されている請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記基板保持部と吸着部材との嵌合部に、該吸着部材を基板外側または内側に付勢可能とする弾性体が設けられ、該弾性体の両端がそれぞれ該基板保持部と吸着部材にそれぞれ固定されて該基板保持部と吸着部材とが該弾性体によって相互に結合されている請求項２に記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記基板保持部と吸着部材との嵌合部内を給排気するための給排気経路を有し、該給排気経路を介して該嵌合部内が減圧または加圧制御可能とされている請求項２または３に記載の基板搬送装置。
【請求項５】
前記基板吸着ユニットには、前記吸着部材の前記嵌合部側とは反対側の基板側に形成された溝内に、該基板の端面または外周縁部を吸着格納可能とする凹部と、該凹部内を給排気可能とする給排気経路とを有する吸着パッド部材が配置され、該給排気経路によって該凹部内を減圧して該基板が該凹部内に吸着保持可能とされる請求項２〜４のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項６】
前記基板保持部の内部を通るか、または前記基板保持部の表面に接して、前記給排気経路と連通した排気ラインを有する請求項４または５に記載の基板搬送装置。
【請求項７】
前記基板保持部は、前記基板の面を垂直方向にして該基板を保持する請求項１〜６のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項８】
前記搬送ユニットは、前記基板の面に沿った方向が搬送方向となるように、該基板を前記基板吸着ユニットおよび基板保持部と共に搬送する請求項１〜７のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項９】
前記搬送方向が水平方向である請求項８に記載の基板搬送装置。
【請求項１０】
前記搬送ユニットには、前記基板保持部の上方に配置され、該基板保持部の下方に、該基板の面に沿った方向が搬送方向となるように該基板を該基板保持部および前記基板吸着ユニットと共に案内可能とする搬送ガイドが配設されている請求項８または９に記載の基板搬送装置。
【請求項１１】
前記搬送ユニットは、上部連結棒によって前記基板保持部の上部と着脱自在に連結され、前記搬送ガイドは、下部連結棒によって該基板保持部の下部と着脱自在に連結されている請求項１０に記載の基板搬送装置。
【請求項１２】
前記基板保持部に保持される基板面の仮想的な延長面に対して垂直方向に離間して、前記搬送ユニットとして搬送駆動部および搬送レールが配置され、該搬送駆動部が該搬送レール上で駆動可能とされている請求項１〜１１のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項１３】
前記搬送ユニットの上方にフィルタユニットが配設され、搬送中の前記基板の面に沿った方向に平行に、該フィルタユニットを通過した清浄な気体が該基板面側に供給されている請求項１〜１２のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項１４】
前記搬送駆動部と基板保持部間の上方位置でかつ、前記基板保持部の枠面に沿った水平方向に平行に、液体または気体を吐出可能とする一または複数のノズルが配設され、該一または複数のノズルは、該基板保持部の枠面に沿った垂直方向にカーテン状で液体膜または気体膜状に液体または気体を吐出する請求項１２に記載の基板搬送装置。
【請求項１５】
前記一または複数のノズルは、吐出した前記液体または気体により前記搬送駆動部に対して前記基板の両面側をそれぞれ覆う位置にそれぞれ配設されている請求項１４に記載の基板搬送装置。
【請求項１６】
前記基板保持部の枠面に沿った水平方向に平行に一または複数の洗浄液吐出ノズルが配設され、該一または複数の洗浄液吐出ノズルは、前記基板保持部に保持される基板面に洗浄液を吐出可能とする請求項１〜１５のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項１７】
前記洗浄液吐出ノズルは、前記基板保持部の上方位置に配設されている請求項１６に記載の基板搬送装置。
【請求項１８】
前記洗浄液吐出ノズルは、前記基板保持部の上方から下方まで移動可能な移動部に保持されている請求項１６に記載の基板搬送装置。
【請求項１９】
前記洗浄液吐出ノズルは、前記基板の両面側に配設されている請求項１６〜１８のいずれかに記載の基板搬送装置。
【請求項２０】
基板保持部の枠体内周側に該基板保持部に対して基板外側および内側にスライド自在に連結した基板吸着ユニットにより基板各辺の端面または外周縁部をそれぞれ吸着格納し、該基板外側に付勢力を付与して該基板の撓みを取り除きつつ、該基板吸着ユニットにより基板面を非接触で垂直方向に保持した状態で、該基板面に沿った方向に、該基板保持部を、該基板を吸着保持した該基板吸着ユニットと共に搬送する基板搬送方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば液晶テレビジョン装置などの製造において、例えばガラス基板や半導体基板、プラスチック基板などの大型で薄い基板を搬送するために用いられる基板搬送装置および、これを用いた基板搬送方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
この種の例えばガラス基板として、フラットパネルディスプレイと言われる液晶テレビジョン装置には、一辺が２ｍ近くの大きさで、かつ、その厚みが１ｍｍよりも薄いガラス基板が用いられている。このような大型で極薄なガラス基板は、容易に破損したり、撓んだりするため、その取扱いが非常に難しく、各液晶テレビジョン製造装置内や製造装置間でガラス基板を搬送する際には、多くの注意が払われている。
【０００３】
また、ガラス基板に対してマイクロメータサイズの微粒子が付着すると、製品歩留まりが悪化することが知られており、ガラス基板を搬送する際に搬送装置自体から発塵した微粒子によってガラス基板が汚染されることがないように、基板搬送装置に対して配慮が望まれている。
【０００４】
現在、大型で極薄なガラス基板は、一本の軸に複数個のローラが軸方向に配置した搬送ローラを搬送方向に対して複数本並べた基板搬送装置を用いて、全搬送ローラの軸を同方向に回転させることにより搬送されている。このような搬送ローラを用いることにより、ガラス基板を水平姿勢で搬送するだけではなく、ガラス基板を傾斜姿勢のまま搬送可能であることが例えば特許文献１に開示されている。
【０００５】
しかしながら、上記搬送ローラを用いた基板搬送装置では、ガラス基板とローラとの接触によりガラス基板に対して特異的な集中応力がかかるため、搬送中のガラス基板が破損するという問題がある。また、ローラ駆動部の摺動部から発塵する微粒子に起因してガラス基板が微粒子に汚染されるという問題もある。さらに、ローラとガラス基板との摺接によりガラス基板表面が微粒子に汚染されるという問題もある。
【０００６】
最近では、上記問題を解決するために、気体や液体などの流体の流れにより発生する圧力を利用してガラス基板を浮上させて搬送・移戴する基板搬送装置が開発されており、例えば特許文献２に開示されている。この基板搬送装置では、ガラス基板の裏面と搬送装置面との間に流体の流れを発生させ、その領域の圧力を大気圧よりも少し高めに維持することにより、ガラス基板を浮上させるというものである。この方法によれば、ガラス基板が非接触で搬送されるため、ローラ搬送時に見られるようなガラス基板の表面の微粒子による汚染を回避することができる。
【０００７】
しかしながら、上記流体の流れを用いた搬送方法では、ガラス基板の裏面側に流体の流れが発生しているため、ガラス基板の裏面側にプロセス処理を行うことが不可能である。例えば、ガラス基板の洗浄工程では、元来存在しているガラス基板の裏面の微粒子を除去することが不可能である。
【０００８】
そこで、上記問題を解決するために、例えば特許文献３には、ガラス基板を垂直姿勢で吊るし、ガラス基板両面のプロセス処理を可能とした搬送装置が開示されている。この搬送装置では、ハンガーと呼ばれるガラス基板などの矩形基板が３方向または４方向から複数個のクリップで挟まれて保持され、ハンガーごと搬送されている。このような大型で極薄なガラス基板で問題となる基板の撓みについては、上記ハンガーにガラス基板を保持する前にガラス基板の撓みを矯正する装置にて付勢し、付勢した状態でクリップで挟むことにより、ガラス基板を撓みなくハンガーに保持できるようにしている。
【０００９】
この方法によれば、ガラス基板の撓みを矯正する装置が必要ではあるが、ガラス基板の撓みによりガラス基板が破損することなく、ガラス基板を位置精度良く搬送することができる。さらに、ガラス基板を垂直に吊るした状態でガラス基板の両面を同時に処理することができ、かつ、ガラス基板に対して非接触で搬送するために、ガラス基板面が微粒子により汚染されるおそれも少ない。
【００１０】
しかしながら、クリップによって大型で極薄なガラス基板を保持する場合には、ガラス基板処理面に対してクリップが少なからず接触することになり、クリップとの接触によるガラス基板表面の微粒子汚染が懸念される。また、クリップという局所的な保持方法では、ガラス基板に局所的に応力が集中することが考えられ、ガラス基板の破損につながる危険性がある。また、ガラス基板に対してウエット処理を行う場合、クリップ部がウエット処理の妨げになるおそれもある。
【特許文献１】特許第３３８４６６６号
【特許文献２】特開２００１−２１３５１７号公報
【特許文献３】特開２００１−２８９５６３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
上述したように、搬送ローラを用いた特許文献１に記載の従来の基板搬送装置では、ガラス基板とローラとの接触によりガラス基板が破損したり、ローラ駆動部の摺動部から発塵する微粒子やローラとガラス基板との摺接によりガラス基板が微粒子に汚染されるという問題がある。
【００１２】
また、流体流れを用いた特許文献２に記載の従来の基板搬送装置では、ガラス基板の裏面側にプロセス処理を行うことが不可能であり、ガラス基板の裏面側の微粒子を除去することが不可能である。
【００１３】
さらに、クリップによってガラス基板を挟んで保持する特許文献３に記載の従来の基板搬送装置では、クリップとの接触によりガラス基板面が微粒子に汚染されたり、クリップによる局所的な保持によりガラス基板が破損したり、クリップ部がガラス基板のウエット処理の妨げになるという問題がある。
【００１４】
本発明は、上記従来の問題を解決するもので、基板両面を容易にプロセス処理できて、大型で薄型な基板の破損や微粒子汚染を防止できる基板搬送装置および、これを用いた基板搬送方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明の基板搬送装置は、基板形状に対応した正方形状、矩形状または円形状の枠体からなる基板保持部と、該基板保持部の枠体内周側に配置され、該基板の端面または外周縁部を吸着格納可能とする基板吸着ユニットと、該基板保持部を、該基板を吸着保持した基板吸着ユニットと共に搬送可能とする搬送ユニットとを備え、そのことにより上記目的が達成される。
【００１６】
また、好ましくは、本発明の基板搬送装置における基板吸着ユニットは、前記基板保持部の枠体内周側に嵌合する吸着部材を有し、該嵌合部において該吸着部材が該基板保持部に対して基板外側および内側にスライド自在に構成されている。
【００１７】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における基板保持部と吸着部材との嵌合部に、該吸着部材を基板外側または内側に付勢可能とする弾性体が設けられ、該弾性体の両端がそれぞれ該基板保持部と吸着部材にそれぞれ固定されて該基板保持部と吸着部材とが該弾性体によって相互に結合されている。
【００１８】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における基板保持部と吸着部材との嵌合部内を給排気するための給排気経路を有し、該給排気経路を介して該嵌合部内が減圧または加圧制御可能とされている。
【００１９】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における基板吸着ユニットには、前記吸着部材の前記嵌合部側とは反対側の基板側に形成された溝内に、該基板の端面または外周縁部を吸着格納可能とする凹部と、該凹部内を給排気可能とする給排気経路とを有する吸着パッド部材が配置され、該給排気経路によって該凹部内を減圧して該基板が該凹部内に吸着保持可能とされる。
【００２０】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における基板保持部の内部を通るか、または前記基板保持部の表面に接して、前記給排気経路と連通した排気ラインを有する。
【００２１】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における基板保持部は、前記基板の面を垂直方向にして該基板を保持する。
【００２２】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における搬送ユニットは、前記基板の面に沿った方向が搬送方向となるように、該基板を前記基板吸着ユニットおよび基板保持部と共に搬送する。
【００２３】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における搬送ユニットには、前記基板保持部の上方に配置され、該基板保持部の下方に、該基板の面に沿った方向が搬送方向となるように該基板を該基板保持部および前記基板吸着ユニットと共に案内可能とする搬送ガイドが配設されている。
【００２４】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における搬送ユニットは、上部連結棒によって前記基板保持部の上部と着脱自在に連結され、前記搬送ガイドは、下部連結棒によって該基板保持部の下部と着脱自在に連結されている。
【００２５】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における基板保持部に保持される基板面の仮想的な延長面に対して垂直方向に離間して、前記搬送ユニットとして搬送駆動部および搬送レールが配置され、該搬送駆動部が該搬送レール上で駆動可能とされている。
【００２６】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における搬送ユニットの上方にフィルタユニットが配設され、搬送中の前記基板の面に沿った方向に平行に、該フィルタユニットを通過した清浄な気体が該基板面側に供給されている。
【００２７】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における搬送駆動部と基板保持部間の上方位置でかつ、前記基板保持部の枠面に沿った水平方向に平行に、液体または気体を吐出可能とする一または複数のノズルが配設され、該一または複数のノズルは、該基板保持部の枠面に沿った垂直方向にカーテン状で液体膜または気体膜状に液体または気体を吐出する。
【００２８】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における一または複数のノズルは、吐出した前記液体または気体により前記搬送駆動部に対して前記基板の両面側をそれぞれ覆う位置にそれぞれ配設されている。
【００２９】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における基板保持部の枠面に沿った水平方向に平行に一または複数の洗浄液吐出ノズルが配設され、該一または複数の洗浄液吐出ノズルは、前記基板保持部に保持される基板面に洗浄液を吐出可能とする。
【００３０】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における洗浄液吐出ノズルは、前記基板保持部の上方位置に配設されている。
【００３１】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における洗浄液吐出ノズルは、前記基板保持部の上方から下方まで移動可能な移動部に保持されている。
【００３２】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における洗浄液吐出ノズルは、前記基板の両面側に配設されている。
【００３３】
本発明の基板搬送方法は、基板保持部の枠体内周側に該基板保持部に対して基板外側および内側にスライド自在に連結した基板吸着ユニットにより基板各辺の端面または外周縁部をそれぞれ吸着格納し、該基板外側に付勢力を付与して該基板の撓みを取り除きつつ、該基板吸着ユニットにより基板面を非接触で垂直方向に保持した状態で、該基板面に沿った方向に、該基板保持部を、該基板を吸着保持した基板吸着ユニットと共に搬送するものであり、そのことにより上記目的が達成される。
【００３４】
上記構成により、以下に、本発明の作用について説明する。
【００３５】
本発明にあっては、例えば矩形状の枠体からなる基板保持部の内周側に配置されている基板吸着ユニットによってガラス基板などの基板の端面または外周縁部を吸着格納することにより、基板保持部ごと基板を搬送する。このように、基板の端面または外周縁部を吸着格納し、基板外側に付勢力を付与して基板の撓みを取り除きつつ、基板を非接触で垂直方向に保持することにより、大型で薄型な基板であっても、撓みによる破損や基板面の微粒子汚染を防ぐことができ、基板の両面を同時にウエット処理などのプロセス処理することも可能とある。
【００３６】
基板面を搬送方向と略平行とし、例えば搬送方向を水平方向とすることによって、基板面で受ける空気抵抗が低減されるため、必要な搬送駆動力を小さくすると共に、空気抵抗から受ける基板の応力を小さくして破損を防ぐことが可能となる。
【００３７】
搬送駆動部や搬送レールを基板の仮想的な延長面に対して垂直方向に離間して配置することにより、搬送駆動部による摺動部や搬送駆動部と搬送レールとの摺接部などからの発塵微粒子によって基板面が汚染されることを防ぐことが可能となる。
【００３８】
基板保持部上方にフィルタユニットを設けることにより、フィルタユニットからの清浄な気体によって基板保持部雰囲気の清浄度を向上させることが可能となる。
【００３９】
液体吐出ノズルまたは気体吐出ノズルを設けて、ノズルから基板保持部の枠面と略平行にカーテン状で液体膜または気体膜状の液体または気体を吐き出させることによって、搬送駆動部による摺動部や搬送駆動部と搬送レールとの摺接部などからの発塵微粒子が拡散して基板面が汚染されることを防ぐことが可能となる。
【００４０】
洗浄液吐出ノズルから洗浄液を吐き出させることによって、基板面を洗浄することが可能となる。例えば、ノズルを基板保持部の上方に配設した場合、基板表面に沿って洗浄液が流れて基板が洗浄される。また、ノズルを基板保持部の上方から下方にかけて移動させることにより、基板の上方から下方まで効果的に洗浄することが可能となる。
【発明の効果】
【００４１】
本発明によれば、大型で薄型なガラス基板などの基板を搬送する際に、基板吸着ユニットにより、基板外側に付勢力を付与して撓みを取り除きつつ、基板表面を基板保持部の内周に非接触保持して微粒子汚染や破損を防ぎ、基板両面を同時にプロセス処理することができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００４２】
以下に、本発明の基板搬送装置をガラス基板搬送装置に適用した場合の実施形態１〜３について、図面を参照しながら説明する。
（実施形態１）
図１Ａは、本実施形態１のガラス基板搬送装置をガラス基板Ｇ面に対して垂直な方向から見た側面図であり、図１Ｂは、図１Ａのガラス基板搬送装置をガラス基板Ｇ面に沿った平行な方向から見た正面図であり、図１Ｃは図１Ａのガラス基板搬送装置をガラス基板Ｇ面に対して平行な方向から見た要部断面図である。
【００４３】
図１Ａ〜図１Ｃに示すように、ガラス基板搬送装置１は、矩形状の枠体からなる基板保持部１０と、基板保持部１０の枠体内周側に配置され、斜線部分で示すガラス基板Ｇの端面部または外周縁部を吸着格納する基板吸着ユニット２０と、基板保持部１０を、ガラス基板Ｇが保持された基板吸着ユニット２０と共に搬送する搬送ユニット３０ａおよび搬送ガイド３０ｂと、清浄な気体を下方に供給するフィルタユニット４０とを備えている。
【００４４】
ガラス基板Ｇは、基板保持部１０の矩形状枠の内周側に基板吸着ユニット２０を介して基板面が垂直方向になるように保持されている。このガラス基板Ｇは、基板保持部１０の上方に設けられた搬送ユニット３０ａと、ガラス基板保持部２０の下方に設けられた搬送ガイド３０ｂとによって、基板保持部１０ごと搬送されるようになっている。
【００４５】
基板吸着ユニット２０は、図２（ａ）〜図２（ｃ）に示すように、ステンレスなどの金属材料や高分子樹脂などからなる吸着部材２１と、ゴムや高分子樹脂などからなる吸着パッド部材としての吸着パッド２２とを有している。
【００４６】
吸着部材２１は、その凸部２１ａが基板保持部１０の凹部１０ａ内に嵌合されるようになっており、基板保持部１０に対して吸着部材２１が基板外側または内側にスライド可能とする構造になっている。
【００４７】
基板保持部１０の凹部１０ａと吸着部材２１の凸部２１ａとの嵌合部には弾性体としてのバネ１１が設けられ、このバネ１１の両端部分はそれぞれ、基板保持部１０の凹部１０ａ内と吸着部材２１の凸部２１ａにそれぞれ固定されて、基板保持部１０と吸着部材２１とがバネ１１によって相互に結合されている。基板保持部１０には、基板保持部１０と吸着部材２１の嵌合部内を給排気する給排気経路として加減圧孔１２が設けられている。
【００４８】
また、吸着パッド２２は、吸着部材２１の基板側に形成された溝内に収容配置されている。吸着パッド２２には、ガラス基板Ｇの端面または外周縁部を吸着格納する凹部２２ａと、その凹部２２ａ内を排気する排気経路として、外部に開口する減圧孔２４が吸着パッド２２の中央部から吸着部材２１に設けられている。
【００４９】
図１Ａ〜図１Ｃに示すように、搬送ユニット３０ａは、支持部３１と搬送駆動部３２と搬送レール３３ａとを有しており、支持部３１の両側に設けられた搬送駆動部３２が搬送レール３３ａ上を移動可能に配置されている。また、搬送ガイド３０ｂは、ガイド部３５と搬送レール３３ｂとを有しており、搬送ユニット３０ａの移動にしたがって、ガイド部３５が搬送レール３３ｂに沿って案内可能に配置されている。搬送ユニット３０ａは、上部連結棒３４ａによって基板保持部１０と接続（連結）されており、搬送ガイド３０ｂは、下部連結棒３４ｂによって基板保持部１０と接続（連結）されている。なお、上部連結棒３４ａおよび下部連結棒３４ｂは、基板保持部１０の上部と搬送ユニット３０ａ、および基板保持部１０の下部と搬送ガイド３０ｂを常時連結するものではなく、搬送形態によっては基板保持部１０の上部と搬送ユニット３０ａと、および基板保持部１０の下部と搬送ガイド３０ｂを脱着可能としてもよい。
【００５０】
フィルタユニット４０は、基板保持部１０および搬送ユニット３０ａの上方に設けられており、ガラス基板Ｇの基板面に沿って略平行にフィルタユニット４０を通過した清浄な気体がガラス基板Ｇに供給されることによって、基板保持部１０の雰囲気の清浄度を高め、ガラス基板Ｇの微粒子汚染を防ぐ機能を有している。
【００５１】
上記構成により、以下に、本実施形態１のガラス基板搬送装置１の動作について説明する。
【００５２】
まず、基板吸着ユニット２０がガラス基板Ｇの端面または外周縁部を吸着格納する動作について説明する。
【００５３】
図２（ａ）〜図２（ｃ）はそれぞれ、基板吸着ユニット２０の周辺部分の動作を説明するための断面図である。
【００５４】
まず、図２（ａ）に示すように、加減圧孔１２から空気を排気して嵌合部内を減圧することにより、バネ１１を縮めると共に、吸着部材２１の凸部２１ａを基板保持部１０の凹部１０ａ内で（基板外側に）スライドさせる。このとき、ガラス基板Ｇは、吸着部材２１の溝内に設けられている吸着パッド２２の内面と平行な位置に配置されている。
【００５５】
次に、図２（ｂ）に示すように、基板保持部１０の加減圧孔１２から空気を供給して嵌合部内（凹部１０ａ内）を加圧することにより、バネ１１を自然長よりも伸ばすと共に、吸着部材２１をガラス基板Ｇに向けて（基板内側に）スライドさせて、吸着パッド２２の凹部２２ａ内をガラス基板Ｇの端面または外周縁部に当接させる。さらに、吸着パッド２２からの減圧孔２４から凹部２２ａ内の空気を排気して凹部２２ａ内を減圧することにより、ガラス基板Ｇの端面または外周縁部を基板吸着部ユニット２０の吸着パッド２２の凹部２２ａ内にに吸着格納させる。
【００５６】
その後、図２（ｃ）に示すように、ガラス基板Ｇを吸着パッド２２の凹部２２ａ内に吸着させたまま、基板保持部１０の加減圧孔１２を大気開放とすることにより、図２（ｂ）では自然長よりも伸びた状態であったバネ１１が図２（ｃ）の釣り合い状態まで戻して縮ませる。これにより、バネ１１の付勢力による四方からの一定の張力（基板外側への力）によってガラス基板Ｇの撓みが矯正される。
【００５７】
このように、空気の加減圧によってガラス基板Ｇを基板吸着ユニット２０により吸着保持するためには、ガラス基板搬送装置１に給排気ラインとして真空ラインを付設する必要がある。
【００５８】
図３は、本実施形態１のガラス基板搬送装置１における真空ラインの付設経路例を示す図である。
【００５９】
図３に示すように、真空ラインＶは、基板保持部１０の加減圧孔１２用と、吸着パッド２２の減圧孔２４用の２系統のラインを有しており、それぞれ、上部連結棒３４ａの長手方向から基板保持部１０の内部を通るか、または基板保持部１０の表面に接するように設けられている。
【００６０】
この真空ラインＶを設けることにより、ガラス基板搬送装置１の外部から真空ラインＶを付設する必要がないため、搬送距離を容易に長くすることが可能となる。
【００６１】
以上のように、基板吸着ユニット２０に吸着格納されて基板保持部１０の内周に保持されたガラス基板Ｇは撓みがなく、また、ガラス基板Ｇの表裏面とも非接触状態であることから、ガラス基板Ｇの表裏面を同時に各種処理することが可能となる。また、ガラス基板Ｇの外周縁部または端面のみを基板吸着ユニット２０で吸着格納するため、ガラス基板Ｇの処理面内が被覆されることもなく、ガラス基板Ｇの処理面全面にウエット処理を施すことが可能となる。
【００６２】
次に、搬送ユニット３０ａおよび搬送ガイド３０ｂの動作について説明する。
【００６３】
以上のようにして、基板吸着ユニット２０に吸着格納されて基板保持部１０に保持されたガラス基板Ｇは、図１の基板保持部１０の上方に配置された搬送ユニット３０ａと、基板保持部１０の下方に配置された搬送ガイド３０ｂとによって、基板保持部１０ごと搬送される。
【００６４】
搬送ユニット３０ａは、支持部３１の両側に設けられた各搬送駆動部３２が搬送レール３３ａ上を駆動することによって搬送方向に移動する。また、搬送ガイド３０ｂは、搬送ユニット３０ａの移動にしたがって、ガイド部３５が搬送レール３３ｂに沿って案内されて移動する。
【００６５】
ここで、搬送駆動部３２および搬送レール３３ａは、基板保持部１０に保持されるガラス基板Ｇの仮想的な延長面に対して垂直方向に所定距離だけ離間して配置することが好ましい。これは、ガラス基板Ｇの搬送中に搬送駆動部３２による摺動部や、搬送駆動部３２と搬送レール３３ａの摺接部などからの発塵微粒子によってガラス基板Ｇが汚染されないようにするためである。
【００６６】
また、ガラス基板Ｇの搬送方向は、基板保持部１０の枠面（ガラス基板面）と略平行で、かつ、水平方向とすることが好ましい。これは、上記方向に搬送方向を設定することにより、ガラス基板Ｇの表面で受ける空気抵抗が低減されるため、必要な搬送駆動力を小さくすることができるからである。また、空気抵抗から受けるガラス基板Ｇの応力が低減されるため、ガラス基板Ｇが受ける空気抵抗に起因する破損などを防止することができるからである。
【００６７】
以上のように、本実施形態１のガラス基板搬送装置１によれば、ガラス基板Ｇに外側への聴力を付与することによりガラス基板Ｇを撓みなく、かつ、表裏面とも非接触状態で搬送して、破損や汚染を防ぎながら、ガラス基板Ｇの表裏面を同時に各種処理することが可能となる。
（実施形態２）
本実施形態２が上記実施形態１の場合と異なる点は、発塵微粒子拡散防止用の例えば超純水などの液体吐出ノズルとしてスリットノズルを上方位置に設けたことである。
【００６８】
図４（ａ）は、本実施形態２のガラス基板搬送装置をガラス基板Ｇ面に対して垂直な方向から見た側面図であり、図４（ｂ）は本実施形態２のガラス基板搬送装置をガラス基板Ｇ面に対して平行な方向から見た正面図である。
【００６９】
図４（ａ）および図４（ｂ）に示すように、ガラス基板搬送装置２において、スリットノズル５０は、基板保持部１０の枠面の仮想的な延長面と垂直方向に所定距離だけ離間した位置であって、搬送駆動部３２の内側と基板保持部１０の枠面との間に位置し、かつ、搬送ユニット３０ａよりも上方位置に設けれている。ここでは、スリットノズル５０は、搬送駆動部３２から基板保持部１０の両枠面側をそれぞれ覆うように設けれている。
【００７０】
このスリットノズル５０からは、基板保持部１０の枠面と略平行にカーテン状の液体膜５０ａ（例えば超純水の液体膜）として液体が吐出される。この液体膜５０ａにより、搬送駆動部３２による摺動部や、搬送駆動部３２と搬送レール３３ａの摺接部などからの発塵微粒子がガラス基板Ｇの周辺に拡散することを防いで、基板保持部１０の雰囲気の清浄度を高め、ガラス基板Ｇが汚染されることを更に防ぐことができる。
【００７１】
なお、スリットノズル５０として、液体吐出ノズルの代りに気体吐出ノズルを設けて、液体膜の代りに基板保持部１０の枠面と略平行にカーテン状の気体膜（空気膜）を配置しても、同様の効果を得ることができる。
（実施形態３）
本実施形態３が上記実施形態２の場合と異なる点は、ガラス基板Ｇ面に対して洗浄液吐出用の洗浄ユニットを設けたことである。
【００７２】
図５（ａ）は、本実施形態３のガラス基板搬送装置をガラス基板Ｇ面に対して垂直な方向から見た側面図であり、図５（ｂ）は図５（ａ）のガラス基板搬送装置をガラス基板Ｇ面に対して平行な方向から見た正面図である。
【００７３】
図５（ａ）および図５（ｂ）に示すように、ガラス基板搬送装置３は、ガラス基板Ｇを洗浄するための洗浄液６０ａを吐出する洗浄ノズル６１、この洗浄ノズル６１を基板保持部１０の枠面と略平行でかつ、水平方向に配置し、上下に移動させるための一軸駆動装置付きアーム６２、およびこの一軸駆動装置付きアーム６２のためのガイド軸６３からなる洗浄ユニット６０を有している。洗浄ユニット６０は、ガラス基板Ｇの両面側にそれぞれ配設されている。
【００７４】
洗浄ノズル６１には、洗浄液が供給される洗浄液供給部（図示せず）が設けられており、洗浄液の液圧により洗浄ノズル６１から洗浄液６０ａが吐出され、ガラス基板Ｇ面上に供給される。
【００７５】
以下に、ガラス基板搬送装置３にガラス基板Ｇを保持したまま、プロセス処理としてウエット処理（洗浄処理）を行う場合の具体的な処理手順について説明する。
【００７６】
図５（ａ）および図５（ｂ）に示すように、ガラス基板Ｇを保持したガラス基板搬送装置３が、洗浄ユニット６０の正面位置に配置されるように停止させる。このとき、洗浄ノズル６１が基板保持部１０の上方に配置されるように、一軸駆動装置付きアーム６２を移動させておく。その後、ガラス基板搬送装置３を停止させたまま、一軸駆動装置付きアーム６２をガイド軸６３に沿って下方に移動させて、基板保持部１０の上方から下方まで洗浄ノズル６１を移動させる。このとき、ガラス基板Ｇに洗浄液６０ａを吐出し続けて、ガラス基板Ｇ両面の洗浄を行う。
【００７７】
したがって、ガラス基板Ｇの洗浄を行うことにより、垂直方向に保持されたガラス基板Ｇによって、微粒子を含んだ洗浄液は速やかにガラス基板Ｇの下方に排出され、ガラス基板Ｇ面への微粒子の再付着を防ぐことができる。また、ガラス基板Ｇの最上位置に洗浄ノズル６１を固定して、その一箇所に洗浄液を吐出し、ガラス基板Ｇ面に沿って流れる洗浄液によりガラス基板Ｇ面を洗浄するよりも、洗浄ノズル６１を基板保持部１０の上方から下方まで移動させることにより、ガラス基板Ｇの洗浄面に対して、より効果的に洗浄液を供給することが可能となる。
【００７８】
以上により、本実施形態１〜３によれば、矩形状の枠からなるガラス基板保持部１０の内周側に保持されているガラス基板吸着ユニット２０により搬送駆動部３２端面または外周縁部を吸着格納してガラス基板Ｇを保持する。よって、ガラス基板Ｇをガラス基板保持部１０に非接触で撓みなく保持でき、搬送ユニット３０ａおよび搬送ガイド３０ｂによりガラス基板保持部１０ごと搬送する。したがって、大型で薄型のガラス基板Ｇなどを搬送する際に、清浄な雰囲気で基板両面を撓むことなく非接触で保持し、搬送駆動部３２両面を同時にウエット処理などのプロセス処理が可能な基板搬送装置１〜３とすることができる。
【００７９】
なお、上記実施形態１〜３では、矩形状のガラス基板Ｇを対象に基板搬送装置１〜３について説明したが、ガラス基板Ｇの他に、半導体基板やプラスチック基板などであってもよいし、基板形状が正方形状や円形状などであってもよい。
【００８０】
以上のように、本発明の好ましい実施形態１〜３を用いて本発明を例示してきたが、本発明は、この実施形態１〜３に限定して解釈されるべきものではない。本発明は、特許請求の範囲によってのみその範囲が解釈されるべきであることが理解される。当業者は、本発明の具体的な好ましい実施形態１〜３の記載から、本発明の記載および技術常識に基づいて等価な範囲を実施することができることが理解される。本明細書において引用した特許、特許出願および文献は、その内容自体が具体的に本明細書に記載されているのと同様にその内容が本明細書に対する参考として援用されるべきであることが理解される。
【産業上の利用可能性】
【００８１】
本発明は、例えば液晶テレビジョン装置などの製造において、例えばガラス基板や半導体基板、プラスチック基板などの大型で薄い基板を搬送するために用いられる基板搬送装置の分野において、大型で薄型のガラス基板や半導体基板、プラスチック基板などを搬送する際に利用して、基板が破損したり、汚染されたりすることなく、基板両面をプロセス処理することができる。本発明の基板半導体装置は、液晶テレビジョン装置などのディスプレイ装置やこのようなディスプレイ装置を表示部に用いた電子情報機器、さらには基板上にＴＦＴなどの半導体素子が構成された半導体装置などの製造において、製造装置内や製造装置間の基板搬送時に広く利用することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００８２】
【図１Ａ】本実施形態１のガラス基板搬送装置をガラス基板面に対して垂直な方向から見た側面図である。
【図１Ｂ】図１Ａのガラス基板搬送装置をガラス基板面に対して平行な方向から見た正面図である。
【図１Ｃ】図１Ａのガラス基板搬送装置をガラス基板面に対して平行な方向から見た要部断面図である。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は、基板吸着ユニットによる基板吸着動作を説明するための各状態をそれぞれ示す要部断面図である。
【図３】本実施形態１のガラス基板搬送装置における真空ラインの付設経路例を示す図である。
【図４】（ａ）は、本実施形態２のガラス基板搬送装置をガラス基板Ｇ面に対して垂直な方向から見た側面図であり、（ｂ）は（ａ）のガラス基板搬送装置をガラス基板Ｇ面に対して平行な方向から見た正面図である。
【図５】（ａ）は、本実施形態３のガラス基板搬送装置をガラス基板Ｇ面に対して垂直な方向から見た側面図であり、（ｂ）は、（ａ）のガラス基板搬送装置をガラス基板Ｇ面に対して平行な方向から見た正面図である。
【符号の説明】
【００８３】
１〜３  ガラス基板搬送装置
１０  基板保持部  
１１  バネ
１２  基板保持部の加減圧孔
２０  基板吸着ユニット
２１  吸着部材
２２  吸着パット
２３  吸着パッドの凹部（吸着用空間）
２４  吸着パッドの減圧孔
３０ａ  搬送ユニット
３０ｂ  搬送ガイド
３１ 支持部
３２  搬送駆動部
３３ａ、３３ｂ  搬送レール  
３４ａ  上部連結棒
３４ｂ  下部連結棒
３５ ガイド部
４０  フィルタユニット  
５０  スリットノズル  
５０ａ  液体膜
６０  洗浄ユニット
６０ａ 洗浄液
６１  洗浄ノズル  
６２  一軸駆動装置付きアーム  
６３  ガイド軸
Ｇ  ガラス基板  
Ｖ  真空ライン
【図１Ａ】
2005272113.tif 000003
【図１Ｂ】
2005272113.tif 000004
【図１Ｃ】
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【図２】
2005272113.tif 000006
【図３】
2005272113.tif 000007
【図４】
2005272113.tif 000008
【図５】
2005272113.tif 000009