(57)【要約】【課題】定量基板で定量された粒子を適切に被転写基板に転写することができる画像表示媒体の製造における粒子転写方法を提供する。【解決手段】混合粒子が充填された定量基板２６を定量基板支持部材３８上に固定し、被転写基板支持部材４４上の弾性部材４６上に、間隙部材１６が形成された背面基板１４を固定する。定量基板２６が固定された定量基板支持装置３６を反転させ、カラー５０を定量基板支持部材３８と被転写基板支持部材４４との間に挟んで、ボルト５４をねじ穴５２にねじ込んで固定し、定量基板２６と背面基板１４とを密着させる。そして、振動装置４０により、定量基板支持部材３８に振動を加え、定量基板２６上の混合粒子３０を落下させて背面基板１４側へ転写する。【選択図】        図６
2005010647.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対向して配置される一対の基板と、前記一対の基板間に印加される電圧により形成される電界に応じて移動可能に前記一対の基板間に封入された少なくとも１種類の粒子群と、前記一対の基板間の間隔を保持すると共に前記一対の基板間を複数のセルに区画する間隙部材と、を備えた画像表示媒体の製造における粒子転写方法であって、
所定形状の第１の凹部が形成された定量基板を粒子充填用テーブルに保持し、
所定量の前記粒子群を前記粒子充填用テーブルの所定位置に供給し、
粒子充填用ブレードを、前記定量基板に対して所定角度で当接させて前記定量基板上を所定速度で移動させることにより前記第１の凹部に前記粒子群を充填し、
前記粒子群が充填された前記定量基板を定量基板支持部材に固定し、
前記一対の基板のうち前記間隙部材が形成された被転写基板を、被転写基板支持部材に固定し、
前記定量基板に形成された前記第１の凹部と、前記被転写基板及び前記間隙部材により形成されたの第２の凹部とを対峙させて前記定量基板及び前記被転写基板を固定し、
前記定量基板に振動を加えることにより、前記粒子群を前記定量基板側から前記被転写基板側へ転写することを特徴とする粒子転写方法。
【請求項２】
前記定量基板と前記被転写基板とを密着させて固定し、前記定量基板に振動を加えることを特徴とする請求項１記載の粒子転写方法。
【請求項３】
前記定量基板と前記被転写基板とを所定距離離間させて固定し、前記定量基板に振動を加えることを特徴とする請求項１記載の粒子転写方法。
【請求項４】
前記粒子群の安息角が、３０度〜６０度であることを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか１項に記載の粒子転写方法。
【請求項５】
前記所定量は、前記第１の凹部に充填すべき必要充填量の２倍以上であることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか１項に記載の粒子転写方法。
【請求項６】
前記定量基板の凹部の底面の短い方の一辺の長さと前記凹部の深さとのアスペクト比が、５：１〜５０：１であることを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れか１項に記載の粒子転写方法。
【請求項７】
前記所定角度が、５度〜４５度であることを特徴とする請求項１乃至請求項６の何れか１項に記載の粒子転写方法。
【請求項８】
前記所定速度が、０．５〜１０ｍｍ／ｓｅｃであることを特徴とする請求項１乃至請求項７の何れか１項に記載の粒子転写方法。
【請求項９】
前記第１の凹部の開口形状が、前記第２の凹部の開口形状よりも小さいことを特徴とする請求項１乃至請求項８の何れか１項に記載の粒子転写方法。
【請求項１０】
前記定量基板の側面側から振動を加えることを特徴とする請求項１乃至請求項９の何れか１項に記載の粒子転写方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は画像表示媒体に製造における粒子転写方法に係り、特に、基板間に画像に応じた電圧を印加することにより着色粒子を移動させて画像表示する繰り返し書換えが可能な画像表示媒体の製造における粒子転写方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、透明表示基板と背面基板の間に着色粒子を封入し、画像に応じた電圧を基板間に印加して着色粒子を移動させることにより画像を表示する画像表示媒体が提案されている（例えば特許文献１参照）。このような画像表示媒体を製造する際には、適切な量の粒子を基板間に封入することが重要となる。
【０００３】
特許文献１に記載された画像表示媒体の製造方法では、まず、所定パターンの凹部が形成された定量基板上に例えば黒粒子及び白粒子が混合された混合粒子を供給し、ブレードにより定量基板上の余分な粒子を掻きならすようにして除去する。これにより、図１７（Ａ）に示すように、定量基板１００の凹部にのみ混合粒子が残る。そして、図１７（Ｂ）に示すように、定量基板１００と同様の凹部を備えた被転写基板１０４上に、定量基板１００の混合粒子１０２が供給された面を下にして重ね合わせ、図１８に示すように、加振装置１０６により振動１０８又は撃力を加えることにより、定量基板１００の凹部内の混合粒子１０２を被転写基板１０４に転写する。
【０００４】
【特許文献１】
特開２００２−２４４１６５号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来技術では、定量基板１００と被転写基板１０４を単に重ね合わせるだけで基板に振動を加えて粒子の転写を行おうとすると、図１９に示すように、定量基板１００と被転写基板１０４との位置にズレが発生し、混合粒子１０２を適切に被転写基板１０４に転写することができない場合がある。また、定量基板１００に十分な剛性が無いと、図１７（Ｃ）に示すように、定量基板１００が撓み、気流が発生して図１７（Ｄ）に示すように、隣りのセル（凹部）や基板外に混合粒子１０２が広がってしまい、粒子を均一に供給することができない、という問題があった。
【０００６】
本発明は、上記問題点を解決すべく成されたものであり、定量基板で定量された粒子を適切に被転写基板に転写することができる画像表示媒体の製造における粒子転写方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、請求項１記載の発明は、対向して配置される一対の基板と、前記一対の基板間に印加される電圧により形成される電界に応じて移動可能に前記一対の基板間に封入された少なくとも１種類の粒子群と、前記一対の基板間の間隔を保持すると共に前記一対の基板間を複数のセルに区画する間隙部材と、を備えた画像表示媒体の製造における粒子転写方法であって、所定形状の第１の凹部が形成された定量基板を粒子充填用テーブルに保持し、所定量の前記粒子群を前記粒子充填用テーブルの所定位置に供給し、粒子充填用ブレードを、前記定量基板に対して所定角度で当接させて前記定量基板上を所定速度で移動させることにより前記凹部に前記粒子群を充填し、前記粒子群が充填された前記定量基板を定量基板支持部材に固定し、前記一対の基板のうち前記間隙部材が形成された被転写基板を、被転写基板支持部材に固定し、前記定量基板に形成された前記第１の凹部と、前記被転写基板及び前記間隙部材により形成されたの第２の凹部とを対峙させて前記定量基板及び前記被転写基板を固定し、前記定量基板に振動を加えることにより、前記粒子群を前記定量基板側から前記被転写基板側へ転写することを特徴とする。
【０００８】
この発明によれば、所定形状の第１の凹部が形成された定量基板を粒子充填用テーブルに保持する。第１の凹部は、例えば複数設けられ、一対の基板間に封入される粒子の必要充填量に応じた容積となるように形成される。
【０００９】
そして、所定量の粒子群を粒子充填用テーブルの所定位置に供給し、粒子充填用ブレードを、定量基板に対して所定角度で当接させて定量基板上を所定速度で移動させることにより、第１の凹部に粒子群を充填する。
【００１０】
次に、粒子群が充填された定量基板を定量基板支持部材に固定し、一対の基板のうち間隙部材が形成された被転写基板を、被転写基板支持部材に固定する。
【００１１】
次に、定量基板に形成された第１の凹部と、被転写基板及び間隙部材により形成されたの第２の凹部とを対峙させて定量基板及び被転写基板を固定する。すなわち、第１の凹部の開口部と第２の凹部の開口部とが対峙した状態で定量基板及び被転写基板を固定する。
【００１２】
そして、固定された定量基板に振動を加えることにより、粒子群を定量基板側から被転写基板側へ転写する。
【００１３】
このように、定量基板と被転写基板とを対峙させて固定した状態で定量基板全体を加振して粒子を被転写基板側へ転写するため、定量基板が撓んだり、定量基板と被転写基板との位置がずれることがなく、被転写基板上に形成された第２の凹部に均一に粒子を転写することができる。
【００１４】
具体的には、例えば請求項２に記載したように、前記定量基板と前記被転写基板とを密着させて固定し、前記定量基板に振動を加えるようにすることができる。
【００１５】
これにより、定量基板が撓んだり、定量基板と被転写基板との位置がずれることがなく、被転写基板上に形成された第２の凹部に均一かつ確実に粒子を転写することができる。
【００１６】
また、請求項３に記載したように、前記定量基板と前記被転写基板とを所定距離離間させて固定し、前記定量基板に振動を加えるようにしてもよい。
【００１７】
ここで、所定距離は、粒子が定量基板と被転写基板との間に入り込まない程度の間隔に設定される。このように定量基板と被転写基板とを所定距離離間させて固定し、定量基板に振動を加えるようにすることにより、被転写基板上に形成された第２の凹部に均一かつ確実に粒子を転写することができると共に、誤って定量基板や被転写基板を傷つけたり破損したりするのを防ぐことができる。
【００１８】
なお、請求項４に記載したように、前記粒子の安息角が、３０度〜６０度であることが好ましい。
【００１９】
また、請求項５に記載したように、前記所定量は、前記第１の凹部に充填すべき必要充填量の２倍以上であることが好ましい。
【００２０】
また、請求項６に記載したように、前記定量基板の凹部の底面の短い方の一辺の長さと前記凹部の深さとのアスペクト比が、５：１〜５０：１であることが好ましい。
【００２１】
また、請求項７に記載したように、前記所定角度が、５度〜４５度であることが好ましい。
【００２２】
また、請求項８に記載したように、前記所定速度が、０．５〜１０ｍｍ／ｓｅｃであることが好ましい。
【００２３】
また、請求項９に記載したように、前記第１の凹部の開口形状が、前記第２の凹部の開口形状よりも小くなるようにしてもよい。
【００２４】
これにより、定量基板と被転写基板とを重ね合わせたときに多少位置がずれた場合でも、粒子の転写時に、間隙部材上に粒子が載ってしまうのを防ぐことができ、確実に粒子を転写することができる。
【００２５】
また、請求項１０に記載したように、前記定量基板の側面側から振動を加えるようにしてもよい。
【００２６】
これにより、定量基板が撓むのを防ぐことができると共に、粒子が重力方向へ余分に加速されてしまうのを防ぐことができるため、粒子の落下時に衝撃によって粒子が広がってしまうのを抑えることができる。
【００２７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００２８】
（第１実施形態）
図１には、本実施形態に係る画像表示媒体１０の断面図を示した。画像表示媒体１０は、透明な表示基板１２及び背面基板１４を備えており、表示基板１２と背面基板１４とは対向して配置されている。
【００２９】
表示基板１２と背面基板１４との間には、例えば図２に示すように、平面視した場合に格子状である間隙部材１６が形成されている。この間隙部材１６によって、表示基板１２と背面基板１４との基板間の距離が保持されると共に、基板間が複数のセル１８に区切られる。
【００３０】
基板間に形成されたセル１８内には、例えば正に帯電された黒粒子２０及び負に帯電された白粒子２２が封入されている。
【００３１】
このような画像表示媒体１０では、例えば表示基板側及び背面基板側に外部電極を配置し、背面基板側を基準として表示基板側の外部電極に正の所定電圧を印加することにより、負に帯電した白粒子２２が表示基板１２側へ移動すると共に、正に帯電した黒粒子２０が背面基板１４側へ移動し、白表示される。なお、表示基板１２及び背面基板１４自体に電極を設けてもよい。
【００３２】
また、背面基板側を基準として表示基板側の外部電極に負の所定電圧を印加することにより、正に帯電した黒粒子２０が表示基板１２側へ移動すると共に、負に帯電した白粒子２２が背面基板１４側へ移動し、黒表示される。
【００３３】
従って、画像に応じた電圧を基板間に印加することで画像に応じて粒子を移動させ、所望の画像を表示することができる。
【００３４】
なお、電圧の印加を停止した後も、鏡像力等によって粒子は基板に付着したままとなり、表示が維持される。
【００３５】
次に、画像表示媒体１０の製造方法について、特に、黒粒子２０及び白粒子２２の被転写基板への転写方法について説明する。
【００３６】
まず、図３に示すように、背面基板１４上に間隙部材１６を形成する。例えば、背面基板１４にドライレジストフィルム等を固定し、周知のフォトリソグラフィ法により、所望のパターン、例えば平面視した場合に格子状となるパターンを形成することができる。なお、フォトリソグラフィ法に限らずスクリーン印刷法等を用いて間隙部材１６を背面基板１４上に形成してもよい。背面基板１４上に間隙部材１６が形成されることにより、複数の凹部１７が形成される。
【００３７】
次に、図４（Ａ）に示すように、粒子充填用テーブル２４に、背面基板１４に対応した定量基板２６を載置して固定する。この定量基板２６は、平面視した場合の形状が図２に示したような間隙部材１６を平面視した場合の形状と略同一形状であり、図５に示すように、背面基板１４上に形成された凹部１７と対応した凹部２８が形成されている。
【００３８】
本実施形態では、例えば縦横のサイズが３３０ｍｍ×２５０ｍｍで且つ厚さが２．４ｍｍのガラスエポキシ基板上に、所望の厚さの感光性レジスト膜を形成し、フォトエッチング法により所望の形状のパターンにエッチングを行うことにより、複数の凹部２８が形成された定量基板２６を作成した。本実施形態では、例えば縦横のサイズが０．８９９×０．８９９ｍｍで且つ深さ０．２ｍｍの凹部２８を、０．９９９ｍｍピッチで３２０×２４０個設けた定量基板２６を用いた。
【００３９】
なお、凹部２８の縦横のサイズ及び深さは、被転写基板に供給すべき粒子量に応じて適宜変更することにより、被転写基板に転写する粒子の量を容易に最適にすることができる。また、定量基板２６は、放電加工やレーザーアブレーション、スクリーン印刷等の方法によっても作成する事ができ、凹部２８の容積により粒子の転写量を調整することができる。
【００４０】
次に、図４（Ｂ）に示すように、粒子充填用テーブル２４上に、安息角度が４５度の黒粒子２０及び白粒子２２が重量比１：２で混合された混合粒子３０を粒子供給装置３２により２０ｇ供給する。ここで、安息角とは、一般的には粉体を水平な面に漏斗のようなもので静かに落下させた時に生ずる円錐体の母線と水平面とのなす角度をいう。なお、混合粒子３０の供給量は、例えば定量基板２６に供給すべき必要供給量の２倍以上の供給量とする。
【００４１】
次に、図４（Ｃ）に示すように、定量基板２６に対して２５度の当接角度で固定したブレード３４を、５ｍｍ／ｓｅｃの移動速度で図示しない一軸ステージにより図中矢印Ａ方向へ駆動し、定量基板２６の凹部２８に混合粒子３０を充填する。
【００４２】
これにより、図４（Ｄ）に示すように、定量基板２６に均一に混合粒子３０が充填される。
【００４３】
次に、粒子充填用テーブル２４から定量基板２６を取り外し、図６（Ａ）に示すような定量基板支持装置３６の定量基板支持部材３８上に固定する。定量基板支持部材３８は、例えば厚さが１０ｍｍのアルミ板からなり、脚部３９が取り付けられている。また、図６では図示は省略したが、定量基板支持部材３８には、定量基板２６を所定位置に位置決めして固定するための位置決め部材が設けられており、この位置決め部材によって定量基板２６が定量基板支持部材３８上に固定される。また、定量基板支持部材３８には、後述するボルトを通すための開口が複数設けられている。また、定量基板支持部材３８の定量基板２６が載置される側の面と反対側の面には、振動装置４０が取り付けられている。
【００４４】
次に、図６（Ｂ）に示すような被転写基板支持装置４２の被転写基板支持部材４４上に取り付けられた弾性部材４６上に、間隙部材１６が形成された背面基板１４を固定する。被転写基板支持部材４４は、例えば厚さが１０ｍｍのアルミ板からなり、脚部４８が取り付けられている。また、被転写基板支持部材４４上に設けられた弾性部材４６は、例えば厚さが５ｍｍの発泡ウレタンから成る。また、図６では図示は省略したが、被転写基板支持部材４４には、被転写基板、すなわち背面基板１４を定量基板２６に対応した所定位置に位置決めして固定するための位置決め部材が設けられており、この位置決め部材によって背面基板１４が被転写基板支持部材４４上に固定される。また、被転写基板支持部材４４には、後述するボルトを固定するための複数のねじ穴が設けられている。
【００４５】
次に、図６（Ｃ）に示すように、定量基板支持装置３６を反転させ、定量基板支持部材３８と被転写基板支持部材４４との間隔を規制するための円筒形状のカラー５０を被転写基板支持部材４４に設けられたねじ穴５２に合わせて定量基板支持部材３８と被転写基板支持部材４４との間に挟み、ボルト５４をねじ穴５２にねじ込んで固定する。なお、本実施形態では、カラー５０の高さを６ｍｍとした。このカラー５０の高さは、定量基板２６、背面基板１４、弾性部材４６の高さの合計よりも低い高さに設定される。これにより、ボルト５４で固定したときに、定量基板２６側から背面基板１４側に加重され、定量基板２６と背面基板１４とが密着して固定される。なお、ボルト５４により固定したときに、定量基板２６の凹部２８と背面基板１４の凹部１７とが対応するように、定量基板２６又は背面基板１４は、定量基板支持部材３８上又は被転写基板支持部材４４上に予め位置決めされる。
【００４６】
次に、図７（Ａ）に示すように、振動装置４０により、振動５６を定量基板支持部材３８に加える。なお、図８（Ａ）には、定量基板２６及び背面基板１４の拡大図を示した。振動装置４０は、例えば振動子やソレノイドを用いて構成することができる。本実施形態では、振動子を用い、プッシュ型ＤＣソレノイドを電圧８０Ｖ、周波数０．５Ｈｚ、デューティ比１／４で３０秒間駆動し、固定鉄心を定量基板支持部材３８に突き当てることにより加振した。振動子の数は、定量基板支持部材３８の面積に応じて複数個使用し、電気的に連動させて使用した。
【００４７】
このようにして振動子による振動やソレノイドによる打撃力を加えることにより、図８（Ｂ）に示すように、定量基板２６の凹部２８内の混合粒子３０が背面基板１４上に形成された凹部１７に落下し、転写される。このように、定量基板２６と背面基板１４とを密着させて固定し、定量基板２６全体を加振することにより混合粒子３０を転写するため、定量基板２６が撓んだり、定量基板２６と背面基板１４との位置がずれることがなく、背面基板１４上に形成された凹部１７に均一に粒子を転写することができる。
【００４８】
そして、図７（Ｂ）に示すように、ボルト５４を外して定量基板支持装置３６を、被転写基板支持部材４４から取り外す。これにより、図７（Ｃ）に示すように、混合粒子３０が充填された背面基板１４が得られる。
【００４９】
この後、背面基板１４に表示基板１２を重ね合わせることにより、画像表示媒体１０が作製される。なお、上記の工程を全て自動的に行うようにしてもよい。
【００５０】
ところで、粒子の流動性は、安息角によって表すことができ、あまり流動性が悪くては定量基板２６に形成された凹部２８へ均一に粒子を充填するのが困難である。また、定量基板２６は、粒子を充填した状態で反転させて背面基板１４と対向させて配置する必要があり、この際、流動性が良すぎると粒子が自重により落下し、転写を良好に行うことができない。
【００５１】
そこで、本発明者らは、安息角を様々に変更して粒子の均一性、流動性、保持性、離脱性について実験した。以下に結果を示す。
【００５２】
【表１】
2005010647.tif 000003
【００５３】
なお、均一性は、図９に示すように、縦横のサイズが３３０×２５０ｍｍの定量基板２６の充填領域（３００×２００ｍｍ）の４隅及び中央の所定領域５８（縦横のサイズが２０×２０ｍｍの領域）において、定量基板２６の凹部２８内に定量された粒子が、定量目標値±５％の範囲内に収まるか否かにより評価した。範囲内であれば○、範囲外であれば×で示している。
【００５４】
流動性は、安息角が小さいと良く、安息角が大きいと悪くなる。安息角が６０度を超えると粒子の流動性が非常に悪くなるため、粒子供給時に粒子が団子状になってしまい、扱いにくい。
【００５５】
保持性は、ブレード３４により定量基板２６の凹部２８（縦横のサイズが０．７×０．７ｍｍ、深さが０．０５ｍｍ）に押し込まれて充填された粒子が、定量基板支持部材３８を反転させても凹部２８内に留まっているか否か、すなわち振動等を加えない状態で凹部２８から粒子が落下するか否かで判断した。凹部２８内に留まっていれば○、粒子が落下した場合には×で示した。その結果、安息角が３０度未満の粒子では凝集力が小さく落下する凹部があった。３０度以上ではほとんど落下が見られなかった。
【００５６】
離脱性は、定量基板２６の凹部２８に充填された粒子が、背面基板１４への転写時に、転写不良なく凹部２８から離脱するか否かで判断した。全部の凹部２８対して９８％以上の凹部２８で転写不良なく転写された場合は○、９５％以上で且つ９８％未満は△、９５％未満は×とした。
【００５７】
なお、粒子を定量基板２６に供給する際に、図９に示す粒子充填用テーブル２４の粒子配置領域６０に供給する粒子の量は、定量基板２６に供給すべき必要充填量の２倍とした。また、ブレード３４の定量基板２６に対する当接角度は２０度、凹部２８の底面の一辺の長さと凹部２８の深さとのアスペクト比は、１４：１であり、ブレード３４の移動速度は１０ｍｍ／ｓｅｃとした。
【００５８】
上記の結果から、安息角は３０度〜６０度が好ましい。
【００５９】
また、定量基板２６に粒子を充填する際、粒子が凹部２８内に充填されていくにしたがって、ブレード３４と定量基板２６との間の粒子が減少していき、これにより凹部２８に対する押し込み圧も減少していく。最初に粒子充填用テーブル２４の粒子配置領域６０に供給する粒子の量が少ないと、押し込み圧の減少により粒子が適切に充填されない場合がある。従って、粒子の必要充填量に対して粒子の供給量を増やすことにより、押し込み圧の減少を抑える必要がある。
【００６０】
そこで、本発明者らは、粒子充填用テーブル２４の粒子配置領域６０に供給する粒子の量を様々に変更して粒子の均一性、充填性について実験した。以下に結果を示す。
【００６１】
【表２】
2005010647.tif 000004
【００６２】
均一性の評価は、上記の安息角の場合と同様である。また、充填性は、ブレード３４により粒子が引きずられたり、乱れたりすること無く、定量基板２６の凹部２８に粒子が充填されたか否かで判断した。全ての凹部２８に対して９８％以上の凹部２８で粒子が引きずられたり、乱れたりすることなく充填された場合を○、９５％以上で且つ９８％未満の凹部２８で粒子が引きずられたり、乱れたりすることなく充填された場合を△、９５％未満の凹部２８で粒子が引きずられたり、乱れたりすることなく充填された場合を×とした。
【００６３】
図９における粒子配置領域６０は、定量基板２６の凹部２８の左端部よりブレード３４の進行方向上流側３０ｍｍの地点に設けられ、幅は２０ｍｍ、長さは、定量基板２６の上端部及び下端部からそれぞれ２０ｍｍずつ広げた長さとした。このような粒子配置領域６０に、メッシュ数が２００のふるいによって粒子をふるい掛けして配置した。
【００６４】
なお、粒子の安息角は４０〜４５度、ブレード３４の定量基板２６に対する当接角度は２０度、アスペクト比は１４：１、ブレード３４の移動速度は１０ｍｍ／ｓｅｃとした。
【００６５】
上記の結果から、粒子充填用テーブル２４の粒子配置領域６０に供給する粒子の量は、定量基板２６の凹部２８への必要充填量の２倍以上の量であることが好ましい。
【００６６】
また、定量基板２６の凹部２８の底面の短い方の一辺と凹部２８の深さとのアスペクト比については、アスペクト比が大きければ粒子が転写されにくい。すなわち粒子の離脱性が悪い。逆にアスペクト比が小さければ粒子が重力で落下してしまい、良好に転写を行う事ができない。
【００６７】
そこで、本発明者らは、アスペクト比を様々に変更して粒子の均一性、充填性、保持性、保持性、離脱性について実験した。以下に結果を示す。
【００６８】
【表３】
2005010647.tif 000005
【００６９】
均一性、充填性、保持性、離脱性の評価は、上記の安息角及び粒子配置量の場合と同様である。なお、離脱性について、アスペクト比が１００：１のときは、粒子を転写する前に粒子が落下してしまったため、評価不能とした。
【００７０】
なお、粒子の安息角は４０〜４５度、粒子配置量は、必要充填量の２倍、ブレード３４の定量基板２６に対する当接角度は２０度、ブレード３４の移動速度は１０ｍｍ／ｓｅｃとした。
【００７１】
上記の結果から、アスペクト比は、５：１から５０：１であることが好ましい。
【００７２】
また、ブレード３４の定量基板２６に対する当接角度は、予め定めたブレード３４の設定角度及びブレード３４の材料の弾性率、及びブレード３４に対する荷重を調整することにより決定され、ブレード３４の設定角度を小さくすれば押し込み圧が増大するが、ブレード３４からの粒子のすり抜けが発生して充填性が悪化する。一方、ブレード３４の設定角度を大きくすれば押し込み圧が減少し、ブレード３４と定量基板２６との摩擦により、ブレード３４が定量基板２６の凹部２８による段差にひっかかったりする。また、当接角度を９０度に近づけるに従って、ブレード３４が振動したり、よれたりしてしまい、充填性が悪化する。
【００７３】
そこで、本発明者らは、ブレード３４の定量基板２６に対する当接角度を様々に変更して粒子の均一性、充填性について実験した。以下に結果を示す。
【００７４】
【表４】
2005010647.tif 000006
【００７５】
均一性、充填性の評価は、上記の粒子配置量の場合と同様である。なお、ブレード３４の材料は、適度な弾性を持ったものが好ましく、ゴム部材やステンレスの薄板（スクレーパー）を使用することが出来る。ただし定量基板２６の材料の耐久性を考慮すると、ポリウレタンエラストマーゴムが好ましく、本実験ではこれを用いた。
【００７６】
なお、当接角度が進行方向に対して９０度以上（所謂ドクターブレード）とした場合では、定量基板２６の凹部２８による段差にブレードが引っかかったり、、ブレード３４が跳ねたりしてしまい、満足な性能が得られなかった。
【００７７】
また、粒子の安息角は４０〜４５度、粒子配置量は、必要充填量の２倍、アスペクト比は１４：１、ブレード３４の移動速度は１０ｍｍ／ｓｅｃとした。
【００７８】
上記の結果から、ブレード当接角度は、５度から４５度であることが好ましい。
【００７９】
また、ブレード３４の移動速度は、速くすればブレード３４が飛び跳ねたりして充填に乱れが生じ、遅くすれば充填性は向上するが生産性を低下させることとなるため、むやみやたらに遅くすることはできない。
【００８０】
そこで、本発明者らは、ブレード３４の移動速度を様々に変更して粒子の均一性、粒子充填の所要時間について実験した。以下に結果を示す。
【００８１】
【表５】
2005010647.tif 000007
【００８２】
均一性の評価は、上記の安息角等の場合と同様である。所要時間は、サイズが３００×２００ｍｍのブレード３４を、長辺側が定量基板２６と接するようにして、一軸ステージにより定量基板２６の一方の端部から他方の端部へスキャンしていった場合に、充填にかかる時間を所要時間として測定した。３０分以上の場合を×とし、１０分以上で且つ３０分未満の場合を△とし、１０分未満の場合を○として評価した。
【００８３】
なお、粒子の安息角は４０〜４５度、粒子配置量は、必要充填量の２倍、ブレード３４の定量基板２６に対する当接角度は２０度、アスペクト比は１４：１とした。
【００８４】
上記の結果から、ブレード３４の移動速度は０．５〜１０．０ｍｍ／ｓｅｃであることが好ましい。
【００８５】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について説明する。なお、第１実施形態と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【００８６】
本実施形態では、定量基板２６への粒子の供給方法については第１実施形態と同様であるので説明は省略し、定量基板２６側から背面基板１４側へ粒子を転写する方法について説明する。
【００８７】
まず、粒子充填用テーブル２４から定量基板２６を取り外し、図１０（Ａ）に示すように、定量基板支持装置３６の定量基板支持部材３８上に固定する。
【００８８】
次に、図１０（Ｂ）に示すような被転写基板支持装置６２のアルミから成る厚さ１０ｍｍのＸＹＺθステージ６４上に、間隙部材１６が形成された背面基板１４を固定する。ＸＹＺθステージ６４は、その駆動部６５が支持台６６上に固定され、互いに直交するＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向に移動することができると共に、回転することが可能である。支持台６６には、定量基板支持装置３６を支持するための支持部材６８が立てられている。支持部材６８の先端部６８Ａは、凸形状となっており、定量基板支持部材３８には、支持部材６８の先端部６８Ａに対応した形状の図示しない凹部が設けられている。
【００８９】
次に、図１１（Ａ）に示すように、定量基板支持装置３６を反転させ、定量基板支持部材３８の図示しない凹部と、被転写基板支持装置６２の支持部材６８の先端部６８Ａとを嵌め合わせるにして、定量基板支持装置３６を被転写基板支持装置６２に固定する。
【００９０】
次に、図１１（Ｂ）に示すように、ＸＹＺθステージ６４を上昇させると共に、すなわちＺ方向に移動させると共に、定量基板２６の凹部２８と背面基板１４上に形成された凹部１７とが対応するように、Ｘ方向、Ｙ方向にＸＹＺθステージ６４を移動させると共に必要に応じて回転させ、位置決めする。本実施形態では、定量基板２６と背面基板１４との間隔が０．２５ｍｍとなるように位置決めした。
【００９１】
次に、図１１（Ｃ）に示すように、振動装置４０により、振動５６を定量基板支持部材３８に加える。なお、図１２（Ａ）には、定量基板２６及び背面基板１４の拡大図を示した。
【００９２】
このようにして、振動装置４０により定量基板支持部材３８に振動を加えることにより、図１２（Ｂ）に示すように、定量基板２６の凹部２８内の混合粒子３０が背面基板１４上に形成された凹部１７に落下し、転写される。このように、ＸＹＺθステージ６４を移動させることにより定量基板２６と背面基板１４とが対応するように位置決めし、定量基板２６を加振することにより混合粒子３０を転写するため、定量基板２６が撓んだり、定量基板２６と背面基板１４との位置がずれることがなく、背面基板１４上に形成された凹部１７に均一に粒子を転写することができる。また、定量基板２６と背面基板１４とを若干離間させた状態で粒子を転写するため、定量基板２６や背面基板１４が傷ついたり破損したりするのを防ぐことができる。
【００９３】
（第３実施形態）
次に、本発明の第３実施形態について説明する。なお、上記実施形態と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【００９４】
本実施形態では、図１３（Ａ）に示すように、定量基板２６の凹部２８の開口形状が、図１３（Ｂ）に示すように、背面基板１４上に形成された凹部１７の開口形状と相似であると共に、凹部２８の開口面積が、凹部１７の開口面積とよりも小さくなっている。
【００９５】
これにより、図１４（Ａ）に示すように、定量基板２６と背面基板１４とを重ね合わせるときには、凹部２８の開口部分が、背面基板１４の開口部分の内側に位置することとなる。具体的には、本実施形態では、例えば開口部のサイズが０．６９９×０．６９９ｍｍで且つ深さが０．０５ｍｍの凹部２８を、０．９９９ｍｍピッチで３２０×２４０個設けた定量基板２６を用いた。
【００９６】
そして、第１実施形態又は第２実施形態で説明した方法により、定量基板２６を、図１４（Ｂ）に示すように背面基板１４に重ね合わせ、定量基板２６に振動を加える。
【００９７】
これにより、図１４（Ｃ）に示すように、定量基板２６の凹部２８内の混合粒子３０が、背面基板１４上の凹部１７内に落下し、転写される。このとき、定量基板２６が多少ずれて背面基板１４に重ね合わされたとしても、定量基板２６の凹部２８の開口形状が、背面基板１４上に形成された凹部１７の開口形状よりも小さくなっているため、粒子の転写の際に、間隙部材１６の上に粒子が載ってしまうのを防ぐことができる。これにより、確実に粒子を背面基板１４側に転写することができる。なお。背面基板１４上の１つの凹部１７に対して、定量基板２６の凹部２８が複数個配置されるようにしてもよい。
【００９８】
（第４実施形態）
次に、本発明の第４実施形態について説明する。なお、上記実施形態と同一部分には同一符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【００９９】
本実施形態では、図１５に示すように、定量基板支持部材３８上に、振動装置４０が取り付けられている。また、振動装置４０は、定量基板２６の位置決め部材としても機能し、定量基板２６は振動装置４０により側面が支持され、定量基板支持部材３８上に固定される。
【０１００】
そして、図１６（Ａ）に示すように、定量基板２６が固定された定量基板支持部材３８を反転させ、図１０（Ｂ）に示したのと同様の被転写基板支持装置６２に固定する。定量基板支持部材３８には、支持部材６８の先端部６８Ａに対応した形状の図示しない凹部が設けられており、これと被転写基板支持装置６２の支持部材６８の先端部６８Ａとを嵌め合わせることにより、定量基板支持装置３６を被転写基板支持装置６２に固定することができる。
【０１０１】
次に、図１６（Ｂ）に示すように、第２実施形態と同様に、定量基板２６の凹部２８と背面基板１４上に形成された凹部１７とが対応するように、ＸＹＺθステージ６４を必要に応じてＸＹＺ方向に移動させると共に回転させ、位置決めする。
【０１０２】
次に、図１６（Ｃ）に示すように、振動装置４０により、振動５６を定量基板２６の側面側から加える。
【０１０３】
このようにして、振動装置４０により定量基板２６の側面側から振動を加えることにより、定量基板２６の凹部２８内の混合粒子３０が背面基板１４上に形成された凹部１７に落下し、転写される。
【０１０４】
このように、定量基板２６の側面側から振動を加えることにより、定量基板２６が撓むのを防ぐことができると共に、粒子が重力方向へ余分に加速されてしまうのを防ぐことができるため、落下時に衝撃による粒子の広がりを抑えることができる。
【０１０５】
なお、上記各実施形態では、背面基板１４上に粒子を転写する場合について説明したが、間隙部材１６を表示基板１２上に形成し、表示基板１２上に粒子を転写するようにしてもよい。
【０１０６】
また、上記実施形態で説明した技術を、各々組み合わせて使用するようにしてもよい。
【０１０７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、定量基板で定量された粒子を適切に被転写基板に転写することができる、という優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施形態に係る画像表示媒体の断面図である。
【図２】間隙部材が形成された背面基板の平面図である。
【図３】図２のＡ−Ａ断面図である。
【図４】粒子の供給工程について説明するための図である。
【図５】定量基板の断面図である。
【図６】粒子の転写工程について説明するための図である。
【図７】粒子の転写工程について説明するための図である。
【図８】定量基板と背面基板とを重ね合わせたときの断面図である。
【図９】粒子充填用テーブルに定量基板が載置された状態の平面図である。
【図１０】第２実施形態に係る粒子の転写工程について説明するための図である。
【図１１】第２実施形態に係る粒子の転写工程について説明するための図である。
【図１２】定量基板と背面基板とを重ね合わせたときの断面図である。
【図１３】（Ａ）は定量基板の平面図、（Ｂ）は背面基板の平面図である。
【図１４】第３実施形態に係る粒子の転写工程について説明するための図である。
【図１５】第４実施形態に係る粒子の転写工程について説明するための図である。
【図１６】第４実施形態に係る粒子の転写工程について説明するための図である。
【図１７】従来における粒子の転写工程について説明するための図である。
【図１８】従来における粒子の転写工程について説明するための図である。
【図１９】従来における粒子の転写工程について説明するための図である。
【符号の説明】
１０  画像表示媒体
１２  表示基板
１４  背面基板
１６  間隙部材
１７  凹部（第２の凹部）
１８  セル
２０  黒粒子
２２  白粒子
２４  粒子充填用テーブル
２６  定量基板
２８  凹部（第１の凹部）
３０  混合粒子
３２  粒子供給装置
３４  ブレード
３６  定量基板支持装置
４０  振動装置
４２  被転写基板支持装置
【図１】
2005010647.tif 000008
【図２】
2005010647.tif 000009
【図３】
2005010647.tif 000010
【図４】
2005010647.tif 000011
【図５】
2005010647.tif 000012
【図６】
2005010647.tif 000013
【図７】
2005010647.tif 000014
【図８】
2005010647.tif 000015
【図９】
2005010647.tif 000016
【図１０】
2005010647.tif 000017
【図１１】
2005010647.tif 000018
【図１２】
2005010647.tif 000019
【図１３】
2005010647.tif 000020
【図１４】
2005010647.tif 000021
【図１５】
2005010647.tif 000022
【図１６】
2005010647.tif 000023
【図１７】
2005010647.tif 000024
【図１８】
2005010647.tif 000025
【図１９】
2005010647.tif 000026